(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板支持台上に固定されたカラーフィルタ基板上の着色領域をインクジェット方式により着色する工程と、前記基板支持台上に固定されたカラーフィルタ基板を加熱する工程とをこの順に有するカラーフィルタの着色ムラ低減方法において、
前記カラーフィルタ基板はガラス基板であり、
前記基板支持台が有する複数の吸着穴から空気を吸引することで前記カラーフィルタ基板を固定し、前記複数の吸着穴の面積が、いずれも０．０３ｍｍ２以上９ｍｍ２以下であることを特徴とするカラーフィルタの着色ムラ低減方法。
【請求項２】
前記複数の吸着穴の面積が、いずれも７．１ｍｍ２以下である請求項１に記載のカラーフィルタの着色ムラ低減方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、インクジェット記録方式を用いてカラーフィルタ基板上にインクを付与する、カラーフィルタの着色ムラ低減方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、インクジェット記録方式は、情報処理システムの出力手段、例えば、複写機、ファクシミリ、電子タイプライター、ワードプロセッサ、ワークステーション等の出力端末としてのプリンタ、或いはパーソナルコンピュータ、ホストコンピュータ、光ディスク装置、ビデオ装置等に具備されるハンディまたはポータブルプリンタの記録方法として利用されている。
【０００３】
このインクジェット方式は、インクをノズル（吐出口とも言う）より被着色部に付与し、文字や図形等の記録を行うもので、高精細な画像の出力、高速記録の手段として優れた利点を有する。また、該方法を適用した記録装置（インクジェット記録装置）はノンインパクト型の記録装置であって騒音が少ないこと、多色のインクを使うことによってカラー画像記録も容易であること、さらに装置本体の小型化や、画像の高密度化も容易であるなどの特徴を有しており、近年急速に普及しつつあるものである。
【０００４】
また、近年、パーソナルコンピュータの発達、特に携帯用のパーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶ディスプレイ、とりわけカラー液晶ディスプレイの需要が増加する傾向にある。しかしながら、さらなる普及のためには液晶ディスプレイのコストダウンが必要であり、特にコスト的に比重の高いカラーフィルタのコストダウンに対する要求が高まっている。従来から、カラーフィルタの要求特性を満足しつつ上記の要求に応えるべく種々の方法が試みられているが、未だ全ての要求特性を満足する方法は確立されていない。以下にそれぞれの方法を説明する。
【０００５】
第１の方法は染色法である。染色法は、ガラス基板上に染色用の材料である水溶性高分子材料を塗布し、これをフォトリソグラフィ工程により所望の形状にパターニングした後、得られたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパターンを得る。これを３回繰り返すことにより、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のカラーフィルタ層を得るものである。
【０００６】
第２の方法は顔料分散法であり、近年最も多く用いられている方法である。この方法は、基板上に顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニングすることにより単色のパターンを得る。さらにこの工程を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ層を形成するものである。
【０００７】
第３の方法としては電着法がある。この方法は、基板上に透明電極をパターニングし、顔料、樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第１の色を電着する。この工程を３回繰り返してＲ、Ｇ、Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることによりカラーフィルタ層を形成するものである。
【０００８】
第４の方法としては印刷法がある。この方法は、熱硬化型の樹脂に顔料を分散させ、印刷を３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることによりカラーフィルタ層を形成するものである。また、いずれの方法においてもカラーフィルタ層の上に保護層を形成するのが一般的である。
【０００９】
これらの方法に共通している点は、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色を着色するために同一の工程を３回繰り返す必要があり、コスト高になることである。また工程が多い程歩留が低下するという問題を有している。さらに、電着法においては、形成可能なパターン形状が限定されるため、現状の技術ではＴＦＴ（薄型トランジスタ）を用いたアクティブマトリクスタイプ（いわゆるＴＦＴ型）のカラー液晶ディスプレイには適用できない。また、印刷法は、解像性、平滑性が悪いためファインピッチのパターンは形成できない。
【００１０】
これらの欠点を補うべく、特開昭５９−７５２０５号公報、特開昭６３−２３５９０１号公報、特開昭６３−２９４５０３号公報、或いは、特開平１−２１７３０２号公報には、インクジェット方式を用いてカラーフィルタを製造する方法が記載されている。具体的には、透明基板上に所定の規則性がある開口部を有するように遮光膜を設け、この開口部にインクジェット方式によりインクを付与して着色部を形成する方法などが記載されている。
【００１１】
インクジェット方式によるカラーフィルタの製造方法は、必要な部分にのみ着色部を形成するため材料コストを低減することができ、さらに、３色同時に着色することが可能であるため、製造工程が短く、ごみの影響を受けにくい。また、製造装置にかかるコストを抑えることができるなどの理由から、低材料費、高歩留が期待でき、他の製造方法に比較してより低コストでカラーフィルタを製造することが可能である。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
インクジェット方式によるカラーフィルタ製造装置には、通常のプリンタの場合と異なり、透明基板上の所定位置に所定量のインクを付与するため、インクの着弾精度及び着色時の色むらについて一般のプリンタの場合に比較してほぼ一桁高い精度が要求される。
【００１３】
そのため、通常のインクジェット方式のプリンタではインクジェットヘッドを往復走査しながらインクを付与して画像の記録を行うのに対し、カラーフィルタ製造装置ではその要求される精度から、インクジェットヘッドを固定し、透明基板をＸ−Ｙ方向に走査させながらインクの付与を行うように構成されている。当該装置においては、透明基板とインクジェットヘッドとの距離を一定に保つために、高精度な基板チャックに透明基板を吸着させるように構成されている。
【００１４】
しかしながら、着色むらを抑えるためにさらに高精度に着色し得る装置が望まれていた。
【００１５】
本発明は、着色ムラを低減したカラーフィルタを製造することのできる、カラーフィルタの着色ムラ低減方法を提供することを目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、基板支持台上に固定されたカラーフィルタ基板上の着色領域をインクジェット方式により着色する工程と、前記基板支持台上に固定されたカラーフィルタ基板を加熱する工程とをこの順に有するカラーフィルタの着色ムラ低減方法において、前記カラーフィルタ基板はガラス基板であり、前記基板支持台が有する複数の吸着穴から空気を吸引することで前記カラーフィルタ基板を固定し、前記複数の吸着穴の面積が、いずれも０．０３ｍｍ２以上９ｍｍ２以下であることを特徴とするカラーフィルタの着色ムラ低減方法である。
【００１９】
【発明の実施の形態】
本発明者は、インクジェット方式により製造されたカラーフィルタの着色むらの一因が、製造装置において基板を保持する基板支持台の構造にあることを見出し、本発明を達成した。
【００２０】
まず、本発明の製造装置を用いたカラーフィルタの製造方法について説明する。本発明によるカラーフィルタの製造方法としては、大別して２種類ある。その一つは、黒色樹脂等からなるブラックマトリクスを透明基板上に形成し、該ブラックマトリクスの開口部に樹脂成分と着色材とを含むインクをインクジェット記録装置より付与して着色部を形成する方法である。他の一つは、光照射或いは光照射と熱処理によりインク吸収性が低下或いは増加する樹脂組成物層を透明基板上に形成し、パターン露光することによりインク吸収性が高い部分と低い部分を形成し、該被着色部にインクジェット記録装置よりインクを付与して着色することにより着色部を形成する方法である。前者の方法の各工程を図１に、後者の方法の各工程を図２に示してそれぞれ説明する。
【００２１】
図１において、（ａ）〜（ｄ）は下記工程−ａ〜ｄに対応する。尚、図１中、１１は透明基板、８はブラックマトリクス、９はインク、１７はインクジェット記録装置、１８は着色部、１９は保護層である。
【００２２】
工程−ａ
基板１１上に隔壁部を形成する。隔壁部は後述する工程−ｂにおいてインクを付与した際に、隣接する異なる色のインク同士での混色を避けるための部材であり、図１の工程では遮光層を兼ねたブラックマトリクス８としている。ブラックマトリクス８としては、好ましくは黒色顔料含有レジストを用い、一般的なフォトリソグラフィ法によりパターニングする。該ブラックマトリクス８は上記混色防止効果を高めるため好ましくは撥インク性を付与しておく。また、ブラックマトリクス８の厚さは、隔壁作用及び遮光作用を考慮すると０．５μｍ以上が好ましい。
【００２３】
工程−ｂ
インクジェット記録装置１７を用いて、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色のインク９をブラックマトリクス８の開口部を埋めるように付与する。ここで用いられるインクは、直接硬化して着色部を形成するため、着色材とエネルギー付与により硬化する樹脂とを含有した樹脂組成物等が好ましく用いられる。
【００２４】
上記着色材としては、直接染料、酸性染料、反応性染料、分散染料、油溶性染料等などが好ましく用いられる。
【００２５】
また、エネルギー付与により硬化する樹脂としては、例えば熱、光或いは熱と光の併用により硬化するものが好ましい。具体的には、熱硬化型の樹脂として、公知の樹脂と架橋剤との組み合わせが使用できる。例えば、メラミン樹脂、水酸基或いはカルボキシル基含有ポリマーとメラミン、水酸基或いはカルボキシル基含有ポリマーと多官能エポキシ化合物、水酸基或いはカルボキシル基含有ポリマーを繊維素反応型化合物、エポキシ樹脂とレゾール型樹脂、エポキシ樹脂とアミン類、エポキシ樹脂とカルボン酸又は酸無水物、エポキシ化合物などが挙げられる。また、光硬化型の樹脂としては、公知の光硬化型樹脂、例えば市販のネガ型レジストが好適に用いられる。
【００２６】
また、上記インクには、種々の溶媒を用いることができる。特にインクジェット方式に用いる場合の吐出性の面から、水及び水溶性有機溶剤の混合溶媒が好ましく用いられる。
【００２７】
さらに、上記成分の他に必要に応じて所望の特性を持たせるために、界面活性剤、消泡剤、防腐剤等を添加することができ、さらに、市販の水溶性染料などを添加することもできる。
【００２８】
工程−ｃ
ブラックマトリクス８の開口部に付与したインク９を必要に応じて乾燥工程を経て、光照射、熱処理等必要な処理を施して硬化させ、着色部１８を形成する。
【００２９】
工程−ｄ
必要に応じて、着色部１８上に保護層１９を形成する、保護層１９は、光硬化型、熱硬化型、或いは熱・光併用硬化型の樹脂組成物層、或いは、蒸着、スパッタ等によって形成された無機膜等を用いることができる。いずれの場合もカラーフィルタとしての透明性を有し、その後のＩＴＯ形成工程、配向膜形成工程等に耐えるものであれば使用できる。
【００３０】
図２は光照射により樹脂組成物が硬化してインク吸収性が低下するタイプのインク受容層を用いた場合の工程図であり、図中の（ａ）〜（ｆ）は下記工程ａ〜ｆに対応する。また、図中、１２はブラックマトリクス、１３はインク受容層、１４はフォトマスク、１５は非着色部、１７はインクジェット記録装置、１８は着色部、１９は保護層である。各工程を以下に説明する。
【００３１】
工程−ａ
基板１１上にブラックマトリクス１２を形成する。本発明において、基板としては一般にガラス基板が用いられるが、カラーフィルタとしての透明性、機械的強度等の必要特性を有するものであればガラス基板に限定されるものではない。
【００３２】
図２に示す形態においては、基板上にブラックマトリクス１２が形成されているが、ブラックマトリクスは後述するインク受容層１３を形成した後、或いはインク受容層１３を着色後に該インク受容層上に形成しても良い。またその形成方法としては、スパッタもしくは蒸着により金属薄膜を形成し、フォトリソ工程によりパターニングする方法が一般的であるが、それに限定されるものではない。
【００３３】
工程−ｂ
基板１１上に、光照射或いは光照射と熱処理によって硬化し、光照射部分のインク吸収性が低下する樹脂組成物を塗布し、必要に応じてプリベークを行って、インク受容層１３を形成する。このような樹脂組成物の基材樹脂としては、アクリル系、エポキシ系、アミド系などの樹脂が用いられるが、特にこれらに限定されるものではない。これらの樹脂で、光或いは光と熱の併用によって架橋反応を進行させるために、光開始剤（架橋剤）を用いることも可能である。光開始剤としては、重クロム酸塩、ビスアジド化合物、ラジカル系開始剤、カチオン系開始剤、アニオン系開始剤等が使用可能である。尚、架橋反応をより進行させるために、光照射後に熱処理を施しても良い。
【００３４】
また、インク受容層１３の形成には、スピンコート、ロールコート、バーコート、スプレーコート、ディップコート等の塗布方法を用いることができ、特に限定されるものではない。
【００３５】
工程−ｃ
フォトマスク１４を用いて、ブラックマトリクス１２上の樹脂組成物層にパターン露光を行うことにより、硬化させてインク吸収性を低下させ、非着色部１５を形成する。インク受容層１３中にインク吸収性の低い非着色部５を形成することによって、隣接する着色部間での混色が防止される。
【００３６】
工程−ｄ
インクジェット記録装置１７を用い、非着色部１５間にＲ、Ｇ、Ｂの各色のインクを所定の着色パターンに応じて付与し、着色部１８を形成する。着色に用いるインクとしては、色素系、顔料系共に用いることが可能であり、また、液状インク、ソリッドインク共に使用可能であるが、水性インクを用いる場合には、インク受容層１３を吸水性の高い樹脂組成物で形成しておくことが好ましい。さらに、インクジェット方式としては、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェットタイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾジェットタイプ等が使用可能であり、着色面積及び着色パターンは任意に設定することができる。
【００３７】
工程−ｅ
必要に応じてインクの乾燥を行った後、基板全面に光照射して着色部１８を硬化させる。光照射の代わりに熱処理を施しても良い。
【００３８】
工程−ｆ
必要に応じて保護層１９を形成する。保護層としては、光硬化タイプ、熱硬化タイプ或いは光熱併用タイプの樹脂層や、蒸着、スパッタ等によって形成される無機膜等を用いることができ、カラーフィルタとした場合の透明性を有し、その後のＩＴＯ形成プロセス、配向膜形成プロセス等に耐え得るものであれば使用可能である。
【００３９】
図２においては、インク受容層に光照射によってインク吸収性が低下するタイプの樹脂組成物を用いた例を示したが、光照射或いは光照射と熱処理によってインク吸収性が増加するタイプを用いる場合には、この樹脂組成物としては、具体的には化学増幅による反応を利用する系が好ましく、このような樹脂としては、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等のセルロース誘導体の水酸基をエステル化したもの或いはアセチル基等によってブロックしたもの（例：酢酸セルロール系の化合物など）；ポリビニルアルコール等の高分子アルコール及びそれらの誘導体の水酸基をエステル化したもの或いはアセチル基等でブロックしたもの（例：ポリ酢酸ビニル系の化合物など）；クレゾールノボラック等のノボラック樹脂、ポリパラヒドロキシチレン及びそれらの誘導体の水酸基を例えばトリメチルシリル基でブロックしたもの等が用いられる。また、このような樹脂組成物を用いた場合には、ブラックマトリクスをフォトマスクの代わりとして用い、透明基板の裏面よりパターン露光して露光部分のインク吸収性を増加させて非着色部を形成することもできる。
【００４０】
次に、本発明のカラーフィルタの着色部の配置の一例を図３に示す。それぞれＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のインクにより着色された着色部が一つのフィルタエレメントであり、ほぼ長方形をしている。一つの画素の長手方向をＸ方向、該Ｘ方向と直角な方向をＹ方向とすると、フィルタエレメントの大きさは例えば全て同じで１５０μｍ×６０μｍであり、Ｘ方向のピッチが３００μｍ、Ｙ方向のピッチが１００μｍである。そしてＸ方向には同じ色のフィルタエレメントが一直線に配列され、Ｙ方向には隣り合うフィルタエレメントの色が異なるようにそれぞれのフィルタエレメントが配列されている。フィルタエレメントの個数は例えばＸ方向に４８０個、Ｙ方向に１９２０個（各色６４０個）で、画面の大きさが１４４ｍｍ×１９２ｍｍ、対角線の長さが２４０ｍｍの９．４インチサイズの液晶パネル用に対応している。尚、本発明のカラーフィルタは上記配置及びサイズに限定されるものではない。
【００４１】
図４に前述のカラーフィルタの製造方法を実施する本発明のカラーフィルタの製造装置の全体構成を示す。図中、２１は装置搭載用の定盤、２２は定盤２１を支持し、外部振動を遮断するための除振台、２３は定盤２１上に設けられ、大ストローク移動を行うＸＹステージ、２４はＸＹステージ２３上に搭載された、θ，Ｚ，チルトアライメント合わせ用のθ，Ｚ，チルトステージ、２５はθ，Ｚ，チルトステージ２４に搭載された透明基板、２６はインクジェットヘッド、２７は透明基板２１のＸ，Ｙ，θ方向のアライメント検出用光学系、２８はＺ検出用光学系、２９はインクジェットヘッド２６が付与するインクの着弾位置検出用の光学系である。
【００４２】
上記構成において、装置の組立等にはダミー基板を搭載し、アライメント検出系２７で評価用のパターンを描画する。さらに、ＸＹステージ２３を移動し、着弾位置検出系２９により着弾位置を測定する。このことによりアライメント検出系２７の座標と描画ヘッド２６の着弾位置の座標を正確に測定することができる。この座標値は、別の基板を搭載しても変化しないので、装置組立時、描画ヘッド交換時等のシステムパラメータが変化した時に行えば良い。また、着弾位置は、他の装置で測定しておき、この測定値がカラーフィルタ製造装置に再現されるようにしても良い。
【００４３】
次に、図５にステージ上に透明基板５を搭載する構成を示す。図５は図４の透明基板５周辺の拡大図であり、３１は大ストローク移動を行うＹステージ、３２は大ストローク移動を行うＸステージ、３４は透明基板５を保持するための基板支持台である。基板支持台はアルミニウム、セラミックなどの材質で形成される。
【００４４】
基板支持台３４の支持面３４ａには、図６に示すように吸着穴４が複数形成されている。吸着穴４から空気を吸引することにより、支持面３４ａ上に配置された透明基板５を確実に固定することができる。透明基板５は、上下駆動機構のついたハンド（図示せず）により支持面３４ａ上に置かれ、あるいは別の場所に移される。ハンドが透明基板５を運ぶ際にハンドと基板支持台とが干渉しないように基板支持台３４には切り欠き３が形成されている。
【００４５】
破線で示された領域６は、カラーフィルタの着色部が形成される着色領域である。図６に示す例では、最終的に２個のカラーフィルタが取り出される。
【００４６】
図７に示すように、基板支持台３５にリフトピン用の穴７を設けて、穴７からリフトピン（図示せず）が突出するようにしてもよい。リフトピンが穴７から突出することにより透明基板５が支持面３５ａから離れてハンドにより把持されることが可能になる。図７では、基板支持台３５に形成されている吸着穴が省略されている。
【００４７】
さて、透明基板５を基板支持台に置いたとき、吸着穴４、切り欠き３あるいはリフトピン用の穴７の部分は、透明基板５に何も接触しない非接触部となる。着色領域６内で非接触部の面積が大きいと、透明基板５と基板支持台３５とが接触している部分と、非接触部とで着色濃度が異なり着色ムラが発生した。１つの非接触部の面積をいろいろと変えて検討した結果、１つ非接触部の面積が９ｍｍ2 以下であれば着色ムラの発生を防ぐことができることが判明した。
【００４８】
着色ムラの原因は明確にはわからないが、非接触部では熱が逃げにくく、基板５と基板支持台とが接触している部分では熱が逃げ易いため、基板５上で着色剤の拡散に差が生じるものと思われる。
【００４９】
着色領域内で１つの非接触部のより好ましい面積は、７．１ｍｍ2 以下である。また吸着穴の面積が小さすぎると基板支持台上に基板をしっかりと固定できなくなるため、１つの吸着穴の面積は０．０３ｍｍ2 以上が好ましい。吸着穴は規則的に配置するよりも不規則に配置する方が好ましい。基板支持台の動きが遅い場合には吸着穴のない基板支持台を利用することも可能である。
【００５０】
図８に示す基板支持台３６は、基板搬送用のハンドとの干渉を避けるために、基板支持台３６の四角に切り欠き５０が形成されている。切り欠き５０は着色領域６の外になるように形成されている。
【００５１】
図９に示す基板支持台３７は、透明基板５よりも巾が若干小さく形成されており、基板支持台３７より突出した箇所を利用して透明基板５をハンドにより搬入・搬出させるものである。このようにすると、切り欠きを形成する必要がない。
【００５２】
次に、図１０を参照して本発明のカラーフィルタ製造装置を用いて製造したカラーフィルタを利用したアクティブマトリクス型液晶素子について説明する。図１０において、４１は共通電極、４２は配向膜、４３は基板、４４は画素電極、４５は配向膜、４６は液晶化合物である。
【００５３】
カラー表示の液晶素子は、一般的にカラーフィルタ側基板（１１）と対向基板である。ＴＦＴ基板（４３）とを合わせ込み、液晶化合物４６を封入することにより形成される。液晶素子の一方の基板の内側に、ＴＦＴ（不図示）と透明な画素電極４４がマトリクス状に形成される。また、もう一方の基板１１の内側には、画素電極４４に対向する位置にＲ、Ｇ、Ｂの各着色部１８が配列するようにカラーフィルタ層が設置され、その上に透明な共通電極４１が一面に形成される。ブラックマトリクス１２は、通常カラーフィルタ側に形成されるが、ＢＭオンアレイタイプの液晶素子においては、ＴＦＴ基板側に形成される。さらに、両基板の面内には配向膜４２、４５が形成されており、これらをラビング処理することにより液晶分子を一定方向に配列させることができる。
【００５４】
基板１１、４３の外側にはそれぞれ偏光板（不図示）が接着され、バックライトとして一般的に蛍光灯（不図示）と散乱板（不図示）の組み合わせを用い、液晶化合物をバックライト光の透過率を変化させる光シャッターとして機能させることにより表示を行う。
【００５５】
本発明のカラーフィルタ製造装置によれば、着色ムラのないカラーフィルタをインクジェット方式により効率よく製造することができる。
【００５６】
以下、実施例を用いて本発明のカラーフィルタ装置をより具体的に説明する。
【００５７】
実施例１
クロムのブラックマトリクスの形成されたガラス基板（コーニング社製１７３７）上に、下記に示す組成から成るアクリル系共重合体
メチルメタクリレート                                    ５０重量部
ヒドロキシエチルメタクリレート                          ３０重量部
Ｎ−メチロールアクリルアミド                            ２０重量部
９７重量部およびトリフェニルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート３重量部をエチルセルソロブに溶解してなる樹脂組成物を膜厚１μｍとなるようスピンコートし、９０℃で２０分間のプリベークを行ってインク受容層を形成した。
【００５８】
次いで、ブラックマトリクスの幅よりも狭いストライプ状の開口部を有するフォトマスクを介してブラックマトリクス上の樹脂層の一部をストライプ状にパターン露光し、さらに１２０℃のホットプレート上で１分間の熱処理を施した。次いで、未露光部に対して、図４に示すカラーフィルタ製造装置によってＲ、Ｇ、Ｂの染料インクを付与してインク受容層をストライプ状に着色した。
【００５９】
基板支持台には、図９に示すものを用いた。吸着穴は直径３ｍｍ（面積７．１ｍｍ2 ）で、隣り合う吸着穴の中心の間隔がほぼ２０ｍｍとなるように配置されている。透明基板は基板支持台の両端から２０ｍｍずつはみ出すように基板支持台上に配置されている。
【００６０】
着色後、１０分放置し、９０℃で１０分間のインク乾燥を行った。引き続き２３０℃で３０分間の熱処理を行ってインク受容層を硬化させた。
【００６１】
こうして作成したカラーフィルタの着色状態を、目視により確認したところ、着色ムラのない良好なものであった。
【００６２】
実施例２
ガラス基板（コーニング社製１７３７）上に、黒色レジスト（新日鉄化学製）を塗布し、所定の露光、現像を行って格子状ブラックマトリクスを有する基板に作成した。
【００６３】
下記に示す組成から成るアクリル系共重合体を熱硬化成分として用い、以下の組成にてＲＧＢの各インクを調製した。
【００６４】
メチルメタクリレート            ：５０重量部
ヒドロキシエチルメタクリレート  ：３０重量部
Ｎ−メチロールアクリルアミド    ：２０重量部
Ｒインク
Ｃ．Ｉ．Ａｃｉｄ  ｏｒａｎｇｅ  １４８  ：３．５重量部
Ｃ．Ｉ．Ａｃｉｄ  ｒｅｄ  ２８９        ：０．５重量部
ジエチレングリコール                    ：  ３０重量部
イソプロピルアルコール                  ：  ２０重量部
イオン交換水                            ：  ４０重量部
上記硬化成分                            ：    ６重量部
Ｇインク
Ｃ．Ｉ．Ａｃｉｄ  ｙｅｌｌｏｗ  ２３    ：    ２重量部
亜鉛フタロシアニンスルホアミド          ：    ２重量部
ジエチレングリコール                    ：  ３０重量部
イソプロピルアルコール                  ：  ２０重量部
イオン交換水                            ：  ４０重量部
上記硬化成分                            ：    ６重量部
Ｂインク
Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  ｂｌｕｅ  １９９  ：    ４重量部
ジエチレングリコール                    ：  ３０重量部
イソプロピルアルコール                  ：  ２０重量部
イオン交換水                            ：  ４０重量部
上記硬化成分                            ：    ６重量部
【００６５】
上記各インクを、実施例１と同じカラーフィルタ製造装置を用いてブラックマトリクスの開口部に付与した。その後、１０分放置し、９０℃で１０分間のインク乾燥を行った。引き続き２３０℃で３０分間の熱処理を行ってインクを硬化させた。
【００６６】
こうして作成したカラーフィルタの着色状態を、目視により確認したところ、着色ムラのない良好なものであった。
【００６７】
比較例
実施例１で用いた基板支持台を、吸着穴の直径が５ｍｍ（面積１９．６ｍｍ2 ）の基板支持台の物にかえ、その他は実施例１と同様にカラーフィルタを作成した。
【００６８】
こうして作成したカラーフィルタの着色状態を、目視により確認したところ着色ムラが発生していた。
【００６９】
【発明の効果】
本発明によれば、着色むらを低減し、高品質のカラーフィルタを歩留よく製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のカラーフィルタの製造方法の一例を示す工程図である。
【図２】本発明のカラーフィルタの製造方法の他の例を示す工程図である。
【図３】本発明のカラーフィルタの着色部の配置例を示す図である。
【図４】本発明のカラーフィルタ製造装置の一例を示す斜視図である。
【図５】本発明のカラーフィルタ製造装置において、透明基板を支持する一例を示す図である。
【図６】本発明のカラーフィルタ製造装置で用いる基板支持台の一例に透明基板を載置した状態を示す平面図である。
【図７】本発明のカラーフィルタ製造装置で用いる基板支持台の他の例に透明基板を載置した状態を示す平面図である。
【図８】本発明のカラーフィルタ製造装置で用いる基板支持台の他の例に透明基板を載置した状態を示す平面図である。
【図９】本発明のカラーフィルタ製造装置で用いる基板支持台の他の例に透明基板を載置した状態を示す平面図である。
【図１０】本発明のカラーフィルタの製造方法で製造したカラーフィルタを用いた液晶素子の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
４  基板吸着穴
５  透明基板
６  着色領域
７  リフトピン上下用の穴
８  ブラックマトリクス
９  インク
１１  基板
１２  ブラックマトリクス
１３  樹脂組成物層
１４  フォトマスク
１５  非着色部
１７  インクジェット記録装置
１８  着色部
１９  保護層
２１  定盤
２２  徐振台
２３  ＸＹステージ
２４  θ，Ｚ，チルトステージ
２５  透明基板
２６  Ｚ検出用光学系
２７  描画ヘッドユニット
２８  アライメント検出用光学系
２９  描画着弾位置検出用光学系
３１  Ｙステージ
３２  Ｘステージ
３４  基板チャック
４１  共通電極
４２  配向膜
４３  基板
４４  画素電極
４５  配向膜
４６  液晶化合物
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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