(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁体上にＴＦＴを形成し、
前記ＴＦＴを覆って平坦化膜を形成し、
前記平坦化膜の上に遮蔽膜を形成し、
前記遮蔽膜を覆う絶縁物を形成し、
前記絶縁物の上に樹脂からなる絶縁膜を形成して前記絶縁物のピンホールを充填し、
前記樹脂からなる絶縁膜をパターニングしてスペーサおよび前記絶縁物のピンホールを充填する領域を同時に形成し、
前記ＴＦＴに接続し、且つ、前記絶縁物に接して前記遮蔽膜と重なる画素電極を形成することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項２】
請求項１において、前記樹脂からなる絶縁膜を酸素雰囲気中におけるプラズマ処理により除去することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１において、前記樹脂からなる絶縁膜をフォトリソグラフィによる現像処理により除去することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、前記絶縁物は、前記遮蔽膜の陽極酸化物であることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至３のいずれか一項において、前記絶縁物はプラズマＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法またはスパッタ法により形成されたことを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項において、前記スペーサは前記遮蔽膜上に形成されていることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項において、前記遮蔽膜と前記絶縁物と前記画素電極で容量を形成することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項において、前記遮蔽膜はアルミニウムであることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一項において、前記画素電極は、アルミニウムまたは銀であることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項において、前記スペーサは、テーパー形状を有することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は絶縁表面を有する絶縁体（基板）上に薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴという）で形成された回路を有する半導体装置およびその作製方法に関する。特に本発明は、画素部とその周辺に設けられる駆動回路を同一絶縁体上に設けた液晶表示装置に代表される電気光学装置およびその電気光学装置を搭載した電気器具（電子装置）に関する。尚、本願明細書において半導体装置とは、半導体特性を利用することで機能する装置全般を指し、上記電気光学装置およびその電気光学装置を搭載した電気器具も半導体装置に含む。
【０００２】
【従来の技術】
絶縁表面を有する基板上にＴＦＴで形成した大面積集積回路を有する半導体装置の開発が進んでいる。液晶表示装置、ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置、および密着型イメージセンサはその代表例として知られている。特に、ポリシリコン膜（多結晶シリコン膜）を能動層にしたＴＦＴ（以下、ポリシリコンＴＦＴと記す）は電界効果移動度が高いことから、いろいろな機能を有する回路に使用できる。
【０００３】
例えば、アクティブマトリクス型液晶表示装置には、画像表示を行う画素部や、ＣＭＯＳ回路を基本としたシフトレジスタ、レベルシフタ、バッファ、サンプリング回路などを含む駆動回路が同一基板上に形成される。また、密着型イメージセンサでは、サンプルホールド回路、シフトレジスタ、マルチプレクサなどの画素部を制御するための駆動回路がＴＦＴを用いて形成されている。
【０００４】
また、アクティブマトリクス型液晶表示装置の画素部には、数十から数百万個の各画素にＴＦＴ（以下、画素ＴＦＴという）が配置され、その画素ＴＦＴのそれぞれには画素電極が設けられている。液晶を挟んだ対向基板側には対向電極が設けられており、液晶を誘電体とした一種のコンデンサを形成している。そして、各画素に印加する電圧を画素ＴＦＴのスイッチング機能により制御して、このコンデンサへの電荷を制御することで液晶を駆動し、透過光量を制御して画像を表示する仕組みになっている。
【０００５】
ところが、このコンデンサは画素ＴＦＴのオフ電流（ＴＦＴがスイッチとしてオフ状態にあるにも拘わらず流れてしまうドレイン電流）等に起因するリーク電流により次第にその蓄積容量が減少するため、透過光量が変化して画像表示のコントラストを低下させる原因となっていた。そのため、従来、液晶を誘電体とするコンデンサとは別のコンデンサ（保持容量）を並列に設け、液晶を誘電体とするコンデンサが損失する容量を補っていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
電気光学装置の画素部に設ける保持容量の例として、本出願人は特願平１１−０４５５５８号、特願平１１−０５３４２４号、特願平１１−０５９４５５号を既に出願している。これらの出願では、遮蔽膜（又は遮光膜）、該遮蔽膜の表面に形成された酸化物及び画素電極で保持容量を形成する発明が開示されている。
【０００７】
しかしながら、それらの出願で開示されている保持容量では、以下のような問題を生じる可能性が危惧される。その点について説明する。
【０００８】
図３において、３０１は樹脂材料からなる絶縁膜であり、その上に遮光性を有する金属膜からなる遮蔽膜３０２、遮蔽膜３０２の表面に陽極酸化法により形成された陽極酸化物３０３、画素電極３０４が形成されて保持容量が形成されている。しかし陽極酸化物３０３を形成するとき、遮蔽膜３０２にゴミ等が付着していると、その部分だけ陽極酸化されず微小な孔（以下、ピンホールという）３０５が生じる場合がある。
【０００９】
そして、ピンホール３０５が形成されてしまった状態で画素電極３０４を形成してしまうと、ピンホール３０５を介して遮蔽膜３０２と画素電極３０４とが短絡（ショート）するという不具合が発生する。即ち、一対の電極間に電気的リークまたはショートの原因となる領域が形成されてしまう。
【００１０】
また、図４において、４０１は樹脂材料からなる絶縁膜であり、その上には遮蔽膜４０２、陽極酸化物４０３及び画素電極４０４からなる保持容量が形成されている。なお、４０５は配向膜である。そして、４０６は対向基板、４０７は対向電極、４０８は配向膜であり、配向膜４０５と配向膜４０８との間には、スペーサ４０９を介して液晶４１０が保持される。スペーサ４０９は液晶セルのセルギャップを確保するために設けられる。
【００１１】
このとき、樹脂材料からなる絶縁膜４０１の平坦度が十分でないと、ＴＦＴ４１１の上は他の領域よりも高くなる。さらに、その上には保持容量が形成されるためさらに高くなり、セルギャップには高さ（Ｈ）の差が生じてしまう。そのため、偶発的に保持容量の上にスペーサ４０９が乗ってしまうと、液晶セルの貼り合わせ工程でスペーサが圧迫され、保持容量をつぶして破壊してしまう恐れがある。特にシリカ球などのビーズ状スペーサはかなり硬度がある上、点で力が加わるため、容易に画素電極にクラックを発生させる。
【００１２】
以上、図３、図４で説明したような不具合は必ずしも起こるというものではないが、歩留まりを低下させる要因となりうる。本発明は以上のような問題点を解決するための手段を提供することを課題とする。
【００１３】
即ち、本発明は上記出願明細書に記載された保持容量に関する発明をさらに改良することを課題とし、以て半導体装置の動作性能と信頼性を向上させることを課題とするものである。また、そのような半導体装置を実現するための作製方法を提供することを課題とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための手段として、本発明では上記出願明細書に記載された保持容量を形成するにあたって、保持容量の下部電極となる導電膜の表面に形成された陽極酸化物を一旦絶縁物で覆い、陽極酸化物に形成されたピンホールを、その絶縁物で充填して塞ぐことを特徴とする。
【００１５】
その様子を図１に示す。図１において、下地となる絶縁膜１０１上には、第１導電膜（具体的には遮蔽膜）１０２、その表面に形成された誘電体（具体的には遮蔽膜の酸化物）１０３及び第２導電膜（具体的には画素電極）１０４からなる保持容量１０５が形成されている。このとき、陽極酸化物１０３に形成されたピンホール１０６は絶縁材料からなる充填物１０７で塞がれている。
【００１６】
充填物１０７としては、樹脂材料からなる絶縁物（絶縁膜）が望ましい。樹脂材料からなる絶縁膜は溶液を塗布して形成することができるが、溶液塗布系の絶縁膜は微小な孔を充填する上で非常に好適である。もちろん、溶液を塗布して形成する酸化シリコン膜などを用いても構わない。
【００１７】
また、樹脂材料からなる絶縁膜を用いる場合、光重合型絶縁膜でも良いし、熱重合型絶縁膜でも良い。また、ネガ型感光性をもっていてもポジ型感光性をもっていても構わないが、光劣化を避けるためにネガ型感光性をもつ樹脂材料を用いることが望ましい。
【００１８】
また、図４で説明したスペーサ圧による保持容量の短絡に関しては、樹脂材料からなるスペーサを用いることで回避することができる。樹脂材料からなるスペーサは弾力性に富むため、圧力を適当に吸収し、さらに、ビーズ状スペーサと違って面で素子と接するため圧力が分散し、一点に過剰な圧力がかかるようなことがないためである。
【００１９】
図２（Ａ）において、基板２０１上には、画素ＴＦＴ２０２、画素ＴＦＴが形成する段差を平坦化するための平坦化膜（層間絶縁膜）２０３、遮蔽膜２０４、遮蔽膜を酸化して得られた酸化物２０５および画素電極２０６が形成されている。なお、酸化物２０５を挟んで遮蔽膜２０４と画素電極２０６とが重なる領域が保持容量を形成する。
【００２０】
さらに、酸化物２０５の上には樹脂材料からなるスペーサ２０７がパターニング（フォトリソグラフィ）により形成される。その上は配向膜２０８で覆われている。なお、２０９は対向基板、２１０は対向電極、２１１は対向側の配向膜であり、配向膜２０８と２１１との間には液晶２１２が保持される。
【００２１】
図２（Ａ）の特徴は、単に樹脂材料からなるスペーサを用いただけでなく、スペーサを形成する際に塗布する樹脂材料を、酸化物２０５のピンホールの孔埋めに積極的に用いる点にある。一旦ピンホールに充填された樹脂材料は、スペーサを形成する際のパターニングにおいてもピンホールの中にエッチャントが入り込めないため、除去されずに残ると考えられる。
【００２２】
ここで図２（Ａ）において２１３で示される点線で囲んだ領域の拡大図を図２（Ｂ）に示す。図２（Ａ）では図示されていないが、実際は酸化物２０５に偶発的に形成されてしまったピンホール２１４が樹脂材料からなる充填物２１５で埋め込まれている、もしくはスペーサ２０７によって塞がれている。換言すれば、酸化物２０５は樹脂材料からなる絶縁物が充填された領域を有するとも言える。
【００２３】
以上のように、本発明では、まず保持容量の誘電体に意図せず形成されてしまうピンホールによるショートを防ぐために、このピンホールを絶縁物で埋め込むことによって保持容量の形成に起因する不良を防ぐ。さらに、スペーサを樹脂材料からなる絶縁膜で形成することにより、保持容量上のスペーサからかかる圧力によって素子が破壊されることを防ぐ。
【００２４】
さらに、本発明では保持容量の誘電体に形成されたピンホールの孔埋めを、樹脂材料からなるスペーサの形成と同時に達成することも可能である。即ち、特別な工程を増やすことなく、保持容量に関する不良をなくし、製造プロセスにおける歩留まりの向上を図ることができる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態について、以下に示す実施例でもって詳細な説明を行うこととする。
【００２６】
[実施例１]
本発明の実施例について図５〜図８を用いて説明する。ここでは、画素部とその周辺に設けられる駆動回路を同時に作製する方法について説明する。但し、説明を簡単にするために、駆動回路に関しては、シフトレジスタ、バッファ等の基本回路であるＣＭＯＳ回路と、サンプリング回路（トランスファゲート）を形成するｎチャネル型ＴＦＴとを図示することとする。
【００２７】
図５（Ａ）において、基板５０１には、ガラス基板や石英基板を使用することが望ましい。その他にもシリコン基板、金属基板またはステンレス基板の表面に絶縁膜を形成したものを基板としても良い。耐熱性が許せばプラスチック基板を用いることも可能である。
【００２８】
そして、基板５０１のＴＦＴが形成される表面には、珪素（シリコン）を含む絶縁膜（本明細書中では酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、または窒化酸化シリコン膜の総称を指す）からなる下地膜５０２をプラズマＣＶＤ法やスパッタ法で１００〜４００ｎｍの厚さに形成する。
【００２９】
なお、本明細書中において窒化酸化シリコン膜とはＳｉＯxＮyで表される絶縁膜であり、珪素、酸素、窒素を所定の割合で含む絶縁膜を指す。本実施例では、下地膜５０２として、窒素を２０〜５０atomic％（典型的には２０〜３０atomic％）で含む１００ｎｍ厚の窒化酸化シリコン膜と、窒素を１〜２０atomic％（典型的には５〜１０atomic％）で含む２００ｎｍ厚の窒化酸化シリコン膜との積層膜を用いる。なお、厚さはこの値に限定する必要はない。また、窒化酸化シリコン膜に含まれる窒素と酸素の含有比（atomic％比）は３：１〜１：３（典型的には１：１）とすればよい。また、窒化酸化シリコン膜は、ＳｉＨ4とＮ2ＯとＮＨ3を原料ガスとして作製すればよい。
【００３０】
なお、この下地膜５０２は基板からの不純物汚染を防ぐために設けられるものであり、石英基板を用いた場合には必ずしも設けなくても良い。
【００３１】
次に下地膜５０２の上に３０〜１２０ｎｍ（好ましくは５０〜７０ｎｍ）の厚さの、非晶質構造を含む半導体膜（本実施例では非晶質シリコン膜（図示せず））を公知の成膜法で形成する。なお、非晶質構造を含む半導体膜としては、非晶質半導体膜、微結晶半導体膜があり、さらに非晶質シリコンゲルマニウム膜などの非晶質構造を含む化合物半導体膜も含まれる。また、上記膜厚で形成しておけば、最終的にＴＦＴが完成した時点の活性層の膜厚は１０〜１００ｎｍ（好ましくは３０〜５０ｎｍ）となる。
【００３２】
そして、特開平７−１３０６５２号公報（ＵＳＰ５，６４３，８２６号に対応）に記載された技術に従って、結晶構造を含む半導体膜（本実施例では結晶質シリコン膜）５０３を形成する。同公報記載の技術は、非晶質シリコン膜の結晶化に際して、結晶化を助長する触媒元素（ニッケル、コバルト、ゲルマニウム、錫、鉛、パラジウム、鉄、銅から選ばれた一種または複数種の元素、代表的にはニッケル）を用いる結晶化手段である。
【００３３】
具体的には、非晶質シリコン膜表面に触媒元素を保持させた状態で加熱処理を行い、非晶質シリコン膜を結晶質シリコン膜に変化させるものである。本実施例では同公報の実施例１に記載された技術を用いるが、実施例２に記載された技術を用いても良い。なお、結晶質シリコン膜には、いわゆる単結晶シリコン膜も多結晶シリコン膜も含まれるが、本実施例で形成される結晶質シリコン膜は結晶粒界を有するシリコン膜である。（図５（Ａ））
【００３４】
非晶質シリコン膜は含有水素量にもよるが、好ましくは４００〜５５０℃で数時間加熱して脱水素処理を行い、含有水素量を５atom％以下として、結晶化の工程を行うことが望ましい。また、非晶質シリコン膜をスパッタ法や蒸着法などの他の作製方法で形成しても良いが、膜中に含まれる酸素、窒素などの不純物元素を十分低減させておくことが望ましい。
【００３５】
ここでは、下地膜と非晶質シリコン膜とは、同じ成膜法で形成することが可能であるので両者を連続形成しても良い。下地膜を形成後、一旦大気雰囲気にさらされないようにすることで表面の汚染を防ぐことが可能となり、作製されるＴＦＴの特性バラツキを低減させることができる。
【００３６】
次に、結晶質シリコン膜５０３に対してレーザー光源から発する光（レーザー光）を照射（以下、レーザーアニールという）して結晶性の改善された結晶質シリコン膜５０４を形成する。レーザー光としては、パルス発振型または連続発振型のエキシマレーザー光が望ましいが、連続発振型のアルゴンレーザー光やＮｄ：ＹＡＧレーザー光でも良い。また、レーザー光のビーム形状は線状であっても矩形状であっても構わない。（図５（Ｂ））
【００３７】
また、レーザー光の代わりにランプから発する光（以下、ランプ光という）を照射（以下、ランプアニールという）しても良い。ランプ光としては、ハロゲンランプ、赤外ランプ等から発するランプ光を用いることができる。
【００３８】
なお、このようにレーザー光またはランプ光により熱処理（アニール）を施す工程を光アニール工程という。光アニール工程は短時間で高温熱処理が行えるため、ガラス基板等の耐熱性の低い基板を用いる場合にも効果的な熱処理工程を高いスループットで行うことができる。勿論、目的はアニールであるので電熱炉を用いたファーネスアニール（熱アニールともいう）で代用することもできる。
【００３９】
本実施例では、パルス発振型エキシマレーザー光を線状に加工してレーザーアニール工程を行う。レーザーアニール条件は、励起ガスとしてＸｅＣｌガスを用い、処理温度を室温、パルス発振周波数を３０Ｈｚとし、レーザーエネルギー密度を２５０〜５００mJ/cm2（代表的には３５０〜４００mJ/cm2）とする。
【００４０】
上記条件で行われたレーザーアニール工程は、熱結晶化後に残存した非晶質領域を完全に結晶化すると共に、既に結晶化された結晶質領域の欠陥等を低減する効果を有する。そのため、本工程は光アニールにより半導体膜の結晶性を改善する工程、または半導体膜の結晶化を助長する工程と呼ぶこともできる。このような効果はランプアニールの条件を最適化することによっても得ることが可能である。本明細書中ではこのような条件を第１の光アニールと呼ぶことにする。
【００４１】
次に、結晶質シリコン膜５０４をパターニングして島状の半導体膜（以下、活性層という）５０５〜５０８を形成する。なお、このとき同時に、今後のパターニング時の位置合わせに用いるアライメントマーカーを、結晶質シリコン膜を用いて形成する。本実施例の場合、活性層の形成と同時にアライメントマーカーを形成することができるため、アライメントマーカーを別途形成する手間（マスク数の増加）を防ぐことができる。
【００４２】
次に、活性層５０５〜５０８上に後の不純物添加時のために保護膜５０９を形成する。保護膜５０９は１００〜２００ｎｍ（好ましくは１３０〜１７０ｎｍ）の厚さの窒化酸化シリコン膜または酸化シリコン膜を用いる。この保護膜５０９は不純物添加時に結晶質シリコン膜が直接プラズマに曝されないようにするためと、微妙な濃度制御を可能にするための意味がある。（図５（Ｃ））
【００４３】
そして、その上にレジストマスク５１０を形成し、保護膜５０９を介してｐ型を付与する不純物元素（以下、ｐ型不純物元素という）を添加する。ｐ型不純物元素としては、代表的には１３族に属する元素、典型的にはボロンまたはガリウムを用いることができる。この工程（チャネルドープ工程という）はＴＦＴのしきい値電圧を制御するための工程である。なお、ここではジボラン（Ｂ2Ｈ6）を質量分離しないでプラズマ励起したイオンドープ法でボロンを添加する。勿論、質量分離を行うイオンインプランテーション法を用いても良い。
【００４４】
こうして１×１０15〜１×１０18atoms/cm3（代表的には５×１０16〜５×１０17atoms/cm3）の濃度でｐ型不純物元素（本実施例ではボロン）が添加された活性層５１１〜５１３が形成される。この活性層５１１〜５１３は後のｎチャネル型ＴＦＴの活性層となる。但し、本明細書中で記載する濃度は全てＳＩＭＳ（質量二次イオン分析）による測定値である。
【００４５】
なお、本明細書中では少なくとも上記濃度範囲でｐ型不純物元素を含む不純物領域（但し、１×１０16atoms/cm3の濃度でｎ型を付与する不純物元素、典型的にはリン又は砒素が添加された領域を除く）をｐ型不純物領域（ｂ）と定義する。（図５（Ｄ））
【００４６】
次に、レジストマスク５１０を除去し、新たにレジストマスク５１４a〜５１４dを形成する。そして、ｎ型を付与する不純物元素（以下、ｎ型不純物元素という）を添加してｎ型を呈する不純物領域５１５〜５１７を形成する。なお、ｎ型不純物元素としては、代表的には１５族に属する元素、典型的にはリンまたは砒素を用いることができる。（図５（Ｅ））
【００４７】
この低濃度不純物領域５１５〜５１７は、後にＣＭＯＳ回路およびサンプリング回路のｎチャネル型ＴＦＴにおいて、ＬＤＤ領域として機能させるための不純物領域である。なお、ここで形成された不純物領域にはｎ型不純物元素が２×１０16〜５×１０19atoms/cm3（代表的には５×１０17〜５×１０18atoms/cm3）の濃度で含まれている。本明細書中では上記濃度範囲でｎ型不純物元素を含む不純物領域をｎ型不純物領域（ｂ）と定義する。
【００４８】
なお、ここではフォスフィン（ＰＨ3）を質量分離しないでプラズマ励起したイオンドープ法でリンを１×１０18atoms/cm3の濃度で添加する。勿論、質量分離を行うイオンインプランテーション法を用いても良い。この工程では、保護膜５０９を介して結晶質シリコン膜にリンを添加する。
【００４９】
次に、レジストマスク５１４a〜５１４d及び保護膜５０９を除去し、再びレーザー光の照射工程を行う。ここでもレーザー光としては、パルス発振型または連続発振型のエキシマレーザー光が望ましいが、連続発振型のアルゴンレーザー光でも良い。また、レーザー光のビーム形状は線状であっても矩形状であっても構わない。但し、添加された不純物元素の活性化が目的であるので、結晶質シリコン膜が溶融しない程度のエネルギーで照射することが好ましい。また、保護膜５０９をつけたままレーザーアニール工程を行うことも可能である。（図５（Ｆ））
【００５０】
本実施例では、パルス発振型エキシマレーザー光を線状に加工してレーザーアニール工程を行う。レーザーアニール条件は、励起ガスとしてＫｒＦガスを用い、処理温度を室温、パルス発振周波数を３０Ｈｚとし、レーザーエネルギー密度を１００〜３００mJ/cm2（代表的には１５０〜２５０mJ/cm2）とする。
【００５１】
上記条件で行われた光アニール工程は、添加されたｎ型またはｐ型を付与する不純物元素を活性化すると共に、不純物元素の添加時に非晶質化した半導体膜を再結晶化する効果を有する。なお、上記条件は半導体膜を溶融させることなく原子配列の整合性をとり、且つ、不純物元素を活性化することが好ましい。また、本工程は光アニールによりｎ型またはｐ型を付与する不純物元素を活性化する工程、半導体膜を再結晶化する工程、またはそれらを同時に行う工程と呼ぶこともできる。このような効果はランプアニールの条件を最適化することによっても得ることが可能である。本明細書中ではこのような条件を第２の光アニールと呼ぶことにする。なお、第２の光アニールは省略することも可能である。
【００５２】
この工程によりｎ型不純物領域（ｂ）５１５〜５１７の境界部、即ち、ｎ型不純物領域（ｂ）の周囲に存在する真性な領域（ｐ型不純物領域（ｂ）も実質的に真性とみなす）との接合部が明確になる。このことは、後にＴＦＴが完成した時点において、ＬＤＤ領域とチャネル形成領域とが非常に良好な接合部を形成しうることを意味する。
【００５３】
なお、このレーザー光による不純物元素の活性化に際して、電熱炉を用いた熱処理（ファーネスアニール）による活性化を併用しても構わないし、ファーネスアニールのみで活性化を行っても良い。熱処理による活性化を行う場合は、基板の耐熱性を考慮して４５０〜６５０℃（好ましくは５００〜５５０℃）の熱処理を行えば良い。
【００５４】
次に、活性層５０５、５１１〜５１３を覆ってゲート絶縁膜５１８を形成する。ゲート絶縁膜５１８は、１０〜２００ｎｍ、好ましくは５０〜１５０ｎｍの厚さに形成すれば良い。本実施例では、プラズマＣＶＤ法でＮ2ＯとＳｉＨ4を原料とした窒化酸化シリコン膜を１１５ｎｍの厚さに形成する。（図６（Ａ））
【００５５】
次に、ゲート配線となる導電膜を形成する。なお、ゲート配線は単層の導電膜で形成しても良いが、必要に応じて二層、三層といった積層膜とすることが好ましい。本実施例では、第１導電膜５１９と第２導電膜５２０とからなる積層膜を形成する。（図６（Ｂ））
【００５６】
ここで第１導電膜５１９、第２導電膜５２０としては、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）、クロム（Ｃｒ）、ニオブ（Ｎｂ）、シリコン（Ｓｉ）から選ばれた元素を含む金属膜、または前記元素を主成分とする金属化合物膜（代表的には窒化タンタル膜、窒化タングステン膜、窒化チタン膜）、または前記元素を組み合わせた合金膜（代表的にはＭｏ−Ｗ合金膜、Ｍｏ−Ｔａ合金膜、タングステンシリサイド膜）、若しくはそれらの薄膜を積層した積層膜を用いることができる。
【００５７】
なお、第１導電膜５１９は１０〜５０ｎｍ（好ましくは２０〜３０ｎｍ）とし、第２導電膜５２０は２００〜４００ｎｍ（好ましくは２５０〜３５０ｎｍ）とすれば良い。本実施例では、第１導電膜５１９として、５０ｎｍ厚の窒化タンタル（ＴａＮ）膜を、第２導電膜５２０として、３５０ｎｍ厚のタンタル（Ｔａ）膜を用いる。
【００５８】
このほか、窒化タングステン膜とタングステン膜との積層膜、窒化タンタル膜のみの単層膜、タングステンシリサイド膜も好適である。また、第１導電膜５１９の下にシリコン膜を２〜２０ｎｍ程度の厚さで形成する構造（ポリサイド構造）とすると、シリコン膜上に形成された導電膜の密着性を向上させると同時に、導電膜の酸化を抑制することができる。
【００５９】
また、本実施例のように第２導電膜５２０として金属膜を用いた場合、その表面をアンモニアガスまたは窒素ガスを用いたプラズマ雰囲気に曝すことで窒化することも有効である。こうすることで、金属膜表面の酸化を抑制することが可能である。
【００６０】
次に、第１導電膜５１９と第２導電膜５２０とを一括でエッチングして４００ｎｍ厚のゲート配線（ゲート電極とも言える）５２１〜５２４a、５２４bを形成する。この時、駆動回路に形成されるゲート配線５２２、５２３はｎ型不純物領域（ｂ）５１５〜５１７の一部とゲート絶縁膜を介して重なるように形成する。なお、ゲート配線５２４a、５２４bは断面では二つに見えるが、実際は連続的に繋がった一つのパターンから形成されている。（図６（Ｃ））
【００６１】
次に、ゲート配線５２１〜５２４をマスクとして自己整合的にｎ型不純物元素（本実施例ではリン）を添加する。こうして形成された不純物領域５２５〜５３０には前記ｎ型不純物領域（ｂ）の１／２〜１／１０（代表的には１／３〜１／４）の濃度（但し、前述のチャネルドープ工程で添加されたボロン濃度よりも５〜１０倍高い濃度、代表的には１×１０16〜５×１０18atoms/cm3、典型的には３×１０17〜３×１０18atoms/cm3、）でリンが添加されるように調節する。なお、本明細書中では上記濃度範囲でｎ型不純物元素を含む不純物領域をｎ型不純物領域（ｃ）と定義する。（図６（Ｄ））
【００６２】
なお、ｎ型不純物領域（ｃ）５２７〜５３０には既にチャネルドープ工程で１×１０15〜１×１０18atoms/cm3の濃度のボロンが添加されているが、この工程ではｐ型不純物領域（ｂ）に含まれるボロンの５〜１０倍の濃度でリンが添加されるので、ボロンの影響は無視して良い。
【００６３】
但し、厳密にはｎ型不純物領域（ｂ）５１５〜５１７のうちゲート配線に重なった部分のリン濃度が２×１０16〜５×１０19atoms/cm3のままであるのに対し、ゲート配線に重ならない部分はそれに１×１０16〜５×１０18atoms/cm3の濃度のリンが加わっており、若干高い濃度でリンを含むことになる。
【００６４】
次に、ゲート配線５２１〜５２４をマスクとして自己整合的にゲート絶縁膜５１８をエッチングする。エッチングはドライエッチング法を用い、エッチングガスとしてはＣＨＦ3ガスを用いれば良い。但し、エッチングガスはこれに限定する必要はない。こうしてゲート配線下にゲート絶縁膜５３１〜５３４a、５３４bが形成される。（図６（Ｅ））
【００６５】
このように活性層を露呈させることによって、次に不純物元素の添加工程を行う際に加速電圧を低くすることができる。そのため、また必要なドーズ量が少なくて済むのでスループットが向上する。勿論、ゲート絶縁膜をエッチングしないで残し、スルードーピングによって不純物領域を形成しても良い。
【００６６】
次に、ゲート配線を覆う形でレジストマスク５３５a〜５３５dを形成し、ｎ型不純物元素（本実施例ではリン）を添加して高濃度にリンを含む不純物領域５３６〜５４４を形成する。ここでも、フォスフィン（ＰＨ3）を用いたイオンドープ法（勿論、イオンインプランテーション法でも良い）で行い、この領域のリンの濃度は１×１０20〜１×１０21atoms/cm3（代表的には２×１０20〜５×１０20atoms/cm3）とする。（図６（Ｆ））
【００６７】
なお、本明細書中では上記濃度範囲でｎ型不純物元素を含む不純物領域をｎ型不純物領域（ａ）と定義する。また、不純物領域５３６〜５４４が形成された領域には既に前工程で添加されたリンまたはボロンが含まれるが、十分に高い濃度でリンが添加されることになるので、前工程で添加されたリンまたはボロンの影響は考えなくて良い。従って、本明細書中では不純物領域５３６〜５４４はｎ型不純物領域（ａ）と言い換えても構わない。
【００６８】
次に、レジストマスク５３５a〜５３５dを除去し、新たにレジストマスク５４５を形成する。そして、ｐ型不純物元素（本実施例ではボロン）を添加し、高濃度にボロンを含む不純物領域５４６、５４７を形成する。ここではジボラン（Ｂ2Ｈ6）を用いたイオンドープ法（勿論、イオンインプランテーション法でも良い）により３×１０20〜３×１０21atoms/cm3（代表的には５×１０20〜１×１０21atoms/cm3）濃度でボロンを添加する。なお、本明細書中では上記濃度範囲でｐ型不純物元素を含む不純物領域をｐ型不純物領域（ａ）と定義する。（図７（Ａ））
【００６９】
なお、不純物領域５４６、５４７の一部（前述のｎ型不純物領域（ａ）５３６、５３７）には既に１×１０20〜１×１０21atoms/cm3の濃度でリンが添加されているが、ここで添加されるボロンはその少なくとも３倍以上の濃度で添加される。そのため、予め形成されていたｎ型の不純物領域は完全にＰ型に反転し、Ｐ型の不純物領域として機能する。従って、本明細書中では不純物領域５４６、５４７をｐ型不純物領域（ａ）と言い換えても構わない。
【００７０】
次に、レジストマスク５４５を除去した後、第１層間絶縁膜５４８を形成する。第１層間絶縁膜５４８としては、珪素を含む絶縁膜、具体的には窒化シリコン膜、酸化シリコン膜、窒化酸化シリコン膜またはそれらを組み合わせた積層膜で形成すれば良い。また、膜厚は５０〜４００ｎｍ（好ましくは１００〜２００ｎｍ）とすれば良い。
【００７１】
本実施例では、プラズマＣＶＤ法でＳｉＨ4、Ｎ2Ｏ、ＮＨ3を原料ガスとし、２００ｎｍ厚の窒化酸化シリコン膜（但し窒素濃度が２５〜５０atomic%）を用いる。この第１層間絶縁膜５４８は次に行われる熱処理工程（活性化工程）において、ゲート配線５２１〜５２４a、５２４bが酸化されて抵抗値が増加するのを防ぐ効果を有する。
【００７２】
その後、それぞれの濃度で添加されたｎ型またはｐ型不純物元素を活性化するために熱処理工程を行う。この工程はファーネスアニール法、レーザーアニール法、またはラピッドサーマルアニール法（ＲＴＡ法）で行うことができる。ここではファーネスアニール法で活性化工程を行う。この熱処理工程は、窒素雰囲気中において３００〜６５０℃、好ましくは４００〜５５０℃、ここでは５５０℃、４時間の熱処理を行う。（図７（Ｂ））
【００７３】
この時、本実施例において非晶質シリコン膜の結晶化に用いた触媒元素（本実施例ではニッケル）が、矢印で示す方向に移動して、前述の図６（Ｆ）の工程で形成された高濃度にリンを含む領域に捕獲（ゲッタリング）される。これはリンによる金属元素のゲッタリング効果に起因する現象であり、この結果、後のチャネル形成領域５４９〜５５３は前記触媒元素の濃度が１×１０17atoms/cm3以下となる。但し、ニッケルの場合、１×１０17atoms/cm3以下はＳＩＭＳの測定下限となるため、現状の技術では測定不能である。
【００７４】
また、逆に触媒元素のゲッタリングサイトとなった領域（図６（Ｆ）の工程で不純物領域５３６〜５４４が形成された領域）は高濃度に触媒元素が偏析して５×１０18atoms/cm3以上（代表的には１×１０19〜５×１０20atoms/cm3）濃度で存在するようになる。しかし、このゲッタリングサイトとなった領域はソース領域またはドレイン領域として機能すれば良いので、ニッケルの有無は問題とはならないと考えられる。
【００７５】
次に、３〜１００％の水素を含む雰囲気中で、３００〜４５０℃で１〜１２時間の熱処理を行い、活性層を水素化する工程を行う。この工程は熱的に励起された水素により半導体層のダングリングボンドを終端する工程である。水素化の他の手段として、プラズマ水素化（プラズマにより励起された水素を用いる）を行っても良い。
【００７６】
活性化工程を終えたら、第１層間絶縁膜５４８の上に５００ｎｍ〜１．５μm厚の第２層間絶縁膜５５４を形成する。本実施例では第２層間絶縁膜５５４として８００ｎｍ厚の酸化シリコン膜をプラズマＣＶＤ法により形成する。こうして第１層間絶縁膜（窒化酸化シリコン膜）５４８と第２層間絶縁膜（酸化シリコン膜）５５４との積層膜からなる１μm厚の層間絶縁膜を形成する。
【００７７】
なお、第２層間絶縁膜５５４として、ポリイミド、アクリル、ポリアミド、ポリイミドアミド、ＢＣＢ（ベンゾシクロブテン）等の有機樹脂絶縁膜を用いることも可能である。
【００７８】
その後、それぞれのＴＦＴのソース領域またはドレイン領域に達するコンタクトホールが形成され、ソース配線５５５〜５５８と、ドレイン配線５５９〜５６２を形成する。なお、図示されていないがＣＭＯＳ回路を形成するためにドレイン配線５５９、５６０は同一配線で形成されている。また、本実施例ではこの電極を、Ｔｉ膜を１００ｎｍ、Ｔｉを含むアルミニウム膜３００ｎｍ、Ｔｉ膜１５０ｎｍをスパッタ法で連続して形成した３層構造の積層膜とする。
【００７９】
次に、パッシベーション膜５６３として、窒化シリコン膜、酸化シリコン膜、または窒化酸化シリコン膜で５０〜５００ｎｍ（代表的には２００〜３００ｎｍ）の厚さで形成する。（図７（Ｃ））
【００８０】
この時、膜の形成に先立ってＨ2、ＮＨ3等水素を含むガスを用いてプラズマ処理を行い、成膜後に熱処理を行うことは有効である。この前処理により励起された水素が第１、第２層間絶縁膜中に供給される。、この状態で熱処理を行うことで、パッシベーション膜５６３の膜質を改善するとともに、第１、第２層間絶縁膜中に添加された水素が下層側に拡散するため、効果的に活性層を水素化することができる。
【００８１】
また、パッシベーション膜５６３を形成した後に、さらに水素化工程を行っても良い。例えば、３〜１００％の水素を含む雰囲気中で、３００〜４５０℃で１〜１２時間の熱処理を行うと良く、あるいはプラズマ水素化法を用いても同様の効果が得られた。
【００８２】
なお、ここで後に画素電極とドレイン配線を接続するためのコンタクトホールを形成する位置において、パッシベーション膜５６３に開口部を形成しておいても良い。
【００８３】
その後、図７（Ｄ）に示すように、樹脂材料（又は有機材料ともいう）からなる絶縁膜（以下、樹脂絶縁膜という）からなる第３層間絶縁膜（本明細書中では平坦化膜と呼ぶ場合もある）５６４を約１〜３μm（典型的には１．５〜２μm）の厚さに形成する。
【００８４】
樹脂材料としては、ポリイミド、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリイミドアミド、ＢＣＢ（ベンゾシクロブテン）もしくはシクロテンを使用することができる。樹脂絶縁膜を用いることの利点は、極めて平坦性に優れる点、比誘電率が低い点などが上げられる。なお上述した以外の樹脂絶縁膜や有機系ＳｉＯ化合物などを用いることもできる。また、平坦性さえ高ければ無機材料からなる絶縁膜を用いることも可能である。
【００８５】
なお、ここでは、基板に塗布後、熱で重合するタイプのアクリル膜を用いるが、光照射により重合するタイプを用いても良い。勿論、ポジ型またはネガ型の感光性材料であっても良い。
【００８６】
また、第３層間絶縁膜５６４の一部の層として、顔料等で着色した樹脂絶縁膜を設け、カラーフィルターとして用いることも可能である。
【００８７】
次に、画素部において、樹脂材料からなる第３層間絶縁膜（平坦化膜）５６４上に遮蔽膜５６５を形成する。なお、本明細書中において遮蔽膜とは、光若しくは電磁波を遮断する性質を有する導電膜を指す。
【００８８】
遮蔽膜５６５はあらゆる金属膜を用いることができるが、公知のバリアメタルと呼ばれる金属膜、代表的にはアルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）から選ばれた元素からなる金属膜または前記いずれかの元素を主成分（本明細書中では５０重量％以上で含む場合に主成分とみなす）とする金属膜が好ましく、膜厚は１００〜３００ｎｍとすれば良い。本実施例では1wt%のチタンを含有させたアルミニウム膜を１２５ｎｍの厚さに形成する。なお、本明細書中ではこの遮蔽膜を第「１導電膜」と呼ぶ場合がある。
【００８９】
なお、本実施例では遮蔽膜５６５を形成する前に酸化シリコン膜を５〜５０ｎｍ（典型的には２０〜３０ｎｍ）の厚さに形成している。そして、その上に遮蔽膜５６５を形成し、遮蔽膜５６５をマスクとして上記絶縁膜のエッチング処理を行い、５６６で示される酸化シリコン膜が形成される。
【００９０】
この酸化シリコン膜５６６は第３層間絶縁膜５６４と遮蔽膜５６５の密着性を高めるために設けるが、遮蔽膜が存在する以外の領域では、後に第３層間絶縁膜にコンタクトホールを形成する際の障害になるため除去することが望ましい。なお、第３層間絶縁膜５６４の表面にＣＦ4ガスを用いたプラズマ処理を施すことによっても、表面改質により膜上に形成する遮蔽膜の密着性を向上させることができる。
【００９１】
また、このチタンを含有させたアルミニウム膜を用いて、遮蔽膜だけでなく他の接続配線を形成することも可能である。例えば、駆動回路内で回路間をつなぐ接続配線を形成できる。但し、その場合は遮蔽膜または接続配線を形成する材料を成膜する前に、予め第３層間絶縁膜にコンタクトホールを形成しておく必要がある。
【００９２】
次に、遮蔽膜５６５の表面に公知の陽極酸化法又はプラズマ酸化法（本実施例では陽極酸化法）により２０〜１００ｎｍ（好ましくは３０〜５０ｎｍ）の厚さの酸化物を形成する。本実施例では遮蔽膜５６５としてアルミニウムを主成分とする膜を用い、陽極酸化法を用いるため、陽極酸化物５６７として酸化アルミニウム膜（アルミナ膜）が形成される。この陽極酸化物５６７が本実施例の保持容量の誘電体となる。
【００９３】
また、ここでは陽極酸化法を用いて遮蔽膜表面のみに絶縁物を設ける構成としたが、他の絶縁物（絶縁膜）をプラズマＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法またはスパッタ法などの気相法によって形成しても良い。その場合も膜厚は２０〜１００ｎｍ（好ましくは３０〜５０ｎｍ）とすることが好ましい。
【００９４】
次に、図８（Ａ）に示すように、４μm厚の樹脂絶縁膜（本実施例ではネガ型アクリル系樹脂膜）を形成し、パターニングを行うことによりスペーサ５６８を形成する。このとき、たとえ陽極酸化物５６７にピンホールが存在したとしても、図２を用いて説明したように、スペーサ５６８を形成する際にスペーサ５６８と同一材料の樹脂絶縁膜で塞がれる。
【００９５】
また、スペーサ５６８の形状はどのようなものであっても良いが、本実施例の場合はなるべくテーパー形状にしておくことが望ましい。本実施例の構造の場合、必然的にスペーサ５６８の上に配向膜が形成され、ラビング処理が行われるが、スペーサ５６８が急峻な段差であるとスペーサの影になってラビングが適切に行われない領域が発生する恐れがある。それを避けるためにもスペーサ５６８をテーパー形状にしておくことは有効である。例えば、テーパーの角度を４０〜９０°（好ましくは５０〜７０°）とすれば良い。
【００９６】
次に、第３層間絶縁膜５６４、パッシベーション膜５６３にドレイン配線５６２に達するコンタクトホールを形成し、画素電極５６９を形成する。なお、画素電極５７０、５７１はそれぞれ隣接する別の画素の画素電極である。本実施例では画素電極５６９〜５７１として透明導電膜を用い、具体的には酸化インジウムと酸化スズとの化合物（ＩＴＯ）膜を１１０ｎｍの厚さにスパッタ法で形成する。なお、本明細書中では画素電極を「第２導電膜」と呼ぶ場合がある。
【００９７】
なお、反射型の液晶表示装置とする場合には画素電極の材料としてアルミニウム膜や銀薄膜といった金属膜を用いれば良い。
【００９８】
また、この時、画素電極５６９と遮蔽膜５６５とが陽極酸化物５６７を介して重なり、保持容量（キャパシタンス・ストレージ又はコンデンサ）５７２を形成する。なお、保持容量５７２しか符号を付していないが、遮蔽膜と画素電極とが重なる領域は全て保持容量として機能する。
【００９９】
また、この場合、遮蔽膜５６５をフローティング状態（電気的に孤立した状態）か固定電位、好ましくはコモン電位（データとして送られる画像信号の中間電位）に設定しておくことが望ましい。
【０１００】
こうして同一基板上に、駆動回路と画素部とを有した基板（以下、アクティブマトリクス基板という）が完成する。なお、図８（Ｂ）においては、駆動回路にはｐチャネル型ＴＦＴ７０１、ｎチャネル型ＴＦＴ７０２、７０３が形成され、画素部にはｎチャネル型ＴＦＴからなる画素ＴＦＴ７０４が形成される。
【０１０１】
なお、本実施例の工程順序は適宜変更しても構わない。どのような順序としても、最終的に形成されるＴＦＴの構造が図８（Ｂ）のような構造であればアクティブマトリクス基板の基本的な機能は変化せず、本発明の効果を損なうものではない。
【０１０２】
駆動回路のｐチャネル型ＴＦＴ７０１には、チャネル形成領域６０１およびｐ型不純物領域（ａ）で形成されたソース領域６０２、ドレイン領域６０３がそれぞれ形成される。但し、実際にはソース領域またはドレイン領域の一部に１×１０20〜１×１０21atoms/cm3の濃度でリンを含む領域が存在する。また、その領域には図７（Ｂ）の工程でゲッタリングされた触媒元素が５×１０18atoms/cm3以上（代表的には１×１０19〜５×１０20atoms/cm3）濃度で存在する。
【０１０３】
また、ｎチャネル型ＴＦＴ７０２には、チャネル形成領域６０４、ソース領域６０５、ドレイン領域６０６が形成され、チャネル形成領域の片側（ドレイン領域側）に、ゲート絶縁膜を挟んでゲート配線と重なったＬＤＤ領域（本明細書中ではこのような領域をＬov領域という。なお、ovはoverlapの意味で付した。）６０７が形成される。この時、Ｌov領域６０７は２×１０16〜５×１０19atoms/cm3の濃度でリンを含み、且つ、ゲート配線と全部重なるように形成される。
【０１０４】
また、ｎチャネル型ＴＦＴ７０３には、チャネル形成領域６０８、ソース領域６０９、ドレイン領域６１０、そしてチャネル形成領域の両側にＬＤＤ領域６１１、６１２が形成される。なお、この構造ではＬＤＤ領域６１１、６１２の一部がゲート配線と重なるように配置されたために、ゲート絶縁膜を挟んでゲート配線と重なったＬＤＤ領域（Ｌov領域）とゲート絶縁膜を挟んでゲート配線と重ならないＬＤＤ領域（本明細書中ではこのような領域をＬoff領域という。なお、offはoffsetの意味で付した。）が形成されている。
【０１０５】
ここで図９に示す断面図は図８（Ｂ）に示したｎチャネル型ＴＦＴ７０３を図７（Ｂ）の工程まで作製した状態を示す拡大図である。ここに示すように、ＬＤＤ領域６１１はさらにＬov領域６１１a、Ｌoff領域６１１bに、ＬＤＤ領域６１２はさらにＬov領域６１２a、Ｌoff領域６１２bに区別できる。また、前述のＬov領域６１１a、６１２aには２×１０16〜５×１０19atoms/cm3の濃度でリンが含まれるが、Ｌoff領域６１１b、６１２bはその１〜２倍（代表的には１．２〜１．５倍）の濃度でリンが含まれる。
【０１０６】
また、画素ＴＦＴ７０４には、チャネル形成領域６１３、６１４、ソース領域６１５、ドレイン領域６１６、Ｌoff領域６１７〜６２０、Ｌoff領域６１８、６１９に接したｎ型不純物領域（ａ）６２１が形成される。この時、ソース領域６１５、ドレイン領域６１６はそれぞれｎ型不純物領域（ａ）で形成され、Ｌoff領域６１７〜６２０はｎ型不純物領域（ｃ）で形成される。
【０１０７】
本実施例によれば、画素部および駆動回路が求める性能に応じて回路または素子を形成するＴＦＴの構造を最適化し、半導体装置の動作性能および信頼性を向上させることができる。具体的には、ｎチャネル型ＴＦＴは回路仕様に応じてＬＤＤ領域の配置を異ならせ、Ｌov領域またはＬoff領域を使い分けることによって、同一基板上に高速動作またはホットキャリア対策を重視したＴＦＴ構造と低オフ電流動作を重視したＴＦＴ構造とを実現しうる。
【０１０８】
例えば、アクティブマトリクス型液晶表示装置の場合、ｎチャネル型ＴＦＴ７０２は高速動作を重視するシフトレジスタ、信号分割回路、レベルシフタ、バッファなどの駆動回路に適している。即ち、チャネル形成領域の片側（ドレイン領域側）のみにＬov領域を配置することで、できるだけ抵抗成分を低減させつつホットキャリア注入による劣化に強い動作を達成しうる。これは上記回路の場合、ソース領域とドレイン領域の機能が変わらず、キャリア（電子）の移動する方向が一定だからである。但し、必要に応じてチャネル形成領域の両側にＬov領域を配置することもできる。
【０１０９】
また、ｎチャネル型ＴＦＴ７０３はホットキャリア対策と低オフ電流動作の双方を重視するサンプリング回路（トランスファゲート）に適している。即ち、Ｌov領域を配置することでホットキャリア対策とし、さらにＬoff領域を配置することで低オフ電流動作を達成しうる。また、サンプリング回路はソース領域とドレイン領域の機能が反転してキャリアの移動方向が１８０°変わるため、ゲート配線を中心に線対称となるような構造としなければならない。なお、場合によってはＬov領域のみとすることもありうる。
【０１１０】
また、ｎチャネル型ＴＦＴ７０４は低オフ電流動作を重視した画素部もしくはサンプリング回路に適している。即ち、オフ電流値を増加させる要因となりうるＬov領域を配置せず、Ｌoff領域のみを配置することで低オフ電流動作を達成しうる。また、駆動回路のＬＤＤ領域よりも低い濃度のＬＤＤ領域をＬoff領域として用いることで、多少オン電流値が低下するが徹底的にオフ電流値を低減することができる。さらに、ｎ型不純物領域（ａ）６２１はオフ電流値を低減する上で非常に有効である。
【０１１１】
また、ｎチャネル型ＴＦＴ７０２のＬov領域６０７の長さ（幅）は０．１〜３．０μｍ、代表的には０．２〜１．５μｍとすれば良い。また、ｎチャネル型ＴＦＴ７０３のＬov領域６１１a、６１２aの長さ（幅）は０．１〜３．０μｍ、代表的には０．２〜１．５μｍ、Ｌoff領域６１１b、６１２bの長さ（幅）は１．０〜３．５μｍ、代表的には１．５〜２．０μｍとすれば良い。また、画素ＴＦＴ７０４に設けられるＬoff領域６１７〜６２０の長さ（幅）は０．５〜３．５μｍ、代表的には２．０〜２．５μｍとすれば良い。
【０１１２】
また、本実施例では保持容量の誘電体として比誘電率が７〜９と高いアルミナ膜を用いたことで、必要な容量を形成するための面積を少なくすることを可能としている。さらに、本実施例のように画素ＴＦＴ上に形成される遮蔽膜を保持容量の一方の電極とすることで、アクティブマトリクス型液晶表示装置の画像表示部の開口率を向上させることができる。
【０１１３】
次に、アクティブマトリクス基板から、アクティブマトリクス型液晶表示装置を作製する工程を説明する。まず図８（Ｂ）に示した構造のアクティブマトリクス基板に対し、配向膜５７３を形成する。本実施例では配向膜としてポリイミド膜を用いる。また、対向基板５７４には、透明導電膜からなる対向電極５７５と、配向膜５７６とを形成する。なお、対向基板には必要に応じてカラーフィルターや遮蔽膜を形成しても良い。
【０１１４】
次に、配向膜を形成した後、ラビング処理を施して液晶分子がある一定のプレチルト角を持って配向するように調節する。そして、画素部と、駆動回路が形成されたアクティブマトリクス基板と対向基板とを、公知のセル組み工程によってシール材を用いて貼りあわせる。
【０１１５】
その後、両基板の間に液晶５７８を注入し、封止剤（図示せず）によって完全に封止する。液晶には公知の液晶材料を用いれば良い。このようにして図８（Ｂ）に示すアクティブマトリクス型液晶表示装置が完成する。
【０１１６】
本願発明を実施することにより、保持容量の誘電体に偶発的に形成されてしまったピンホールを絶縁物で塞ぐことが可能となり、遮蔽膜と画素電極との間でショートが起こるといった不具合を解決することができる。即ち、製造プロセスの歩留まりを大幅に向上することができる。
【０１１７】
なお、ピンホールの孔埋めにおいて、本実施例のように樹脂材料を用いる場合、ピンホール自体の検出は困難であるが、ピンホールが存在した位置に他の領域よりも多くの樹脂材料が存在することになる。このことは、保持容量の誘電体において部分的に炭素濃度の高い領域が存在することを意味する。誘電体中の炭素濃度の分布を調べるには、ＳＩＭＳ分析（質量二次イオン分析）やＥＤＸ（エネルギー分散型Ｘ線検出器）等、公知の分析手段を用いれば良い。
【０１１８】
また、本実施例では弾力性に富んだ樹脂材料からなるスペーサを用いているため、図４を用いて説明したプレス工程で保持容量にかかる圧力を吸収（緩和）することができる。また、本実施例のスペーサは素子に対する接触面積がビーズ状スペーサのそれより大きいため、特定部分に過剰な圧力がかかるようなことがない。
【０１１９】
また、形成位置を自由に設計することができるので、画像表示領域を有効に活用することができる。本願発明の場合、遮蔽膜やソース配線上など画像表示領域として用いない領域に形成すれば良い。勿論、樹脂材料に限らず無機材料でスペーサを形成しても良いし、スペーサをテーパー状に形成して配向膜（または画素電極）との接触面積を広くして圧力を分散させることも有効である。
【０１２０】
［実施例２］
本実施例では、実施例１に示したアクティブマトリクス型液晶表示装置の構成を、図１０の斜視図を用いて説明する。アクティブマトリクス基板は、ガラス基板８０１上に形成された、画素部８０２と、ゲート側駆動回路８０３と、ソース側駆動回路８０４で構成される。画素部の画素ＴＦＴ８０５（図８（Ｂ）の画素ＴＦＴ７０４に相当する）はｎチャネル型ＴＦＴであり、画素電極８０６及び保持容量８０７（図８（Ａ）の保持容量５７２に相当する）に接続される。
【０１２１】
また、周辺に設けられる駆動回路はＣＭＯＳ回路を基本として構成されている。ゲート側駆動回路８０３と、ソース側駆動回路８０４はそれぞれゲート配線８０８とソース配線８０９で画素部８０２に接続されている。また、ＦＰＣ８１０が接続された外部入出力端子８１１には駆動回路まで信号を伝達するための入出力配線（接続配線）８１２、８１３が設けられている。また、８１４は対向基板である。
【０１２２】
なお、本明細書中では図１０に示した半導体装置をアクティブマトリクス型液晶表示装置と呼んでいるが、図１０に示すようにＦＰＣまで取り付けられた液晶パネルのことを一般的には液晶モジュールという。従って、本実施例でいうアクティブマトリクス型液晶表示装置を液晶モジュールと呼んでも差し支えない。
【０１２３】
［実施例３］
本実施例では、実施例２で示した液晶表示装置の回路構成の一例を図１１に示す。本実施例の液晶表示装置は、ソース側駆動回路９０１、ゲート側駆動回路（Ａ）９０７、ゲート側駆動回路（Ｂ）９１１、プリチャージ回路９１２、画素部９０６を有している。なお、本明細書中において、駆動回路とはソース側処理回路およびゲート側駆動回路を含めた総称である。
【０１２４】
ソース側駆動回路９０１は、シフトレジスタ９０２、レベルシフタ９０３、バッファ９０４、サンプリング回路９０５を備えている。また、ゲート側駆動回路（Ａ）９０７は、シフトレジスタ９０８、レベルシフタ９０９、バッファ９１０を備えている。ゲート側駆動回路（Ｂ）９１１も同様な構成である。
【０１２５】
ここでシフトレジスタ９０２、９０８は駆動電圧が５〜１６Ｖ（代表的には１０Ｖ）であり、回路を形成するＣＭＯＳ回路に使われるｎチャネル型ＴＦＴは図８（Ｂ）の７０２で示される構造が適している。
【０１２６】
また、レベルシフタ９０３、９０９、バッファ９０４、９１０は、駆動電圧は１４〜１６Ｖと高くなるが、シフトレジスタと同様に、図８（Ｂ）のｎチャネル型ＴＦＴ７０２を含むＣＭＯＳ回路が適している。なお、ゲート配線をダブルゲート構造、トリプルゲート構造といったマルチゲート構造とすることは、各回路の信頼性を向上させる上で有効である。
【０１２７】
また、サンプリング回路９０５は駆動電圧が１４〜１６Ｖであるが、ソース領域とドレイン領域が反転する上、オフ電流値を低減する必要があるので、図８（Ｂ）のｎチャネル型ＴＦＴ７０３を含むＣＭＯＳ回路が適している。なお、図８（Ｂ）ではｎチャネル型ＴＦＴしか図示されていないが、実際にサンプリング回路を形成する時はｎチャネル型ＴＦＴとｐチャネル型ＴＦＴとを組み合わせて形成することになる。
【０１２８】
また、画素部９０６は駆動電圧が１４〜１６Ｖであり、サンプリング回路９０５よりもさらにオフ電流値が低いことを要求するので、オフ電流の増加を招くＬov領域を配置しない構造とすることが望ましく、図８（Ｂ）のｎチャネル型ＴＦＴ７０４を画素ＴＦＴとして用いることが望ましい。
【０１２９】
なお、本実施例の構成は、実施例１に示した作製工程に従ってＴＦＴを作製することによって容易に実現することができる。また、本実施例では画素部と駆動回路の構成のみ示しているが、実施例１の作製工程に従えば、その他にも信号分割回路、Ｄ／Ａコンバータ、オペアンプ、γ補正回路など駆動回路以外の論理回路（信号処理回路）を同一基板上に形成することが可能であり、さらにはメモリ部やマイクロプロセッサ等を形成しうる。
【０１３０】
［実施例４］
本実施例では、画素部を形成する複数の画素の構造に関する一実施例を示す。説明には図１２を用いる。
【０１３１】
まず、図１２（Ａ）において、１１は活性層、１２はゲート配線（ゲート電極を含む）、１３はソース配線、１４はドレイン配線、１５、１６はそれぞれソース配線１３とドレイン配線１４が活性層１１と接続するコンタクト部である。この状態は実施例１において図７（Ｃ）の工程まで終了した時点での上面図に相当する。
【０１３２】
さらに、図１２（Ｂ）に示すように、遮蔽膜１７、遮蔽膜１７の表面に形成された酸化物（図示せず）、前記酸化物の上に形成された樹脂材料からなるスペーサ１８、画素電極１９が形成される。２０はドレイン配線１４と画素電極１９とのコンタクト部である。この状態は実施例１において図８（Ｂ）の工程まで終了した時点での上面図に相当する。
【０１３３】
このとき、上述の遮蔽膜１７、図示しない酸化物及び画素電極１９とが重なる領域が保持容量となる。図１２（Ｂ）では、２１a〜２１cで示された領域が保持容量である。なお、画素電極１９は画素の外周部において遮蔽膜１７と重なっており、当然その部分にも保持容量が形成される。
【０１３４】
以上のように、本発明を用いることで小さい面積で大きな容量を確保しうる保持容量を形成することができる。また、スペーサ１８を遮蔽膜１７の上に設けることで画像表示領域２２を狭くするようなことがない。
【０１３５】
なお、画素構造は本実施例の構造に限定されるものではない。また、本実施例の構造は実施例１の作製工程によって作製することが可能であり、実施例２、３に示した液晶表示装置の画素として用いることができる。
【０１３６】
［実施例５］
本実施例では、実施例１とは異なる構造の画素部を有するアクティブマトリクス型液晶表示について図１３を用いて説明する。なお、基本的な構造は図８（Ｂ）と同じであるので変更点のみを説明する。従って、その他の部分については図８（Ｂ）で説明した通りである。
【０１３７】
図１３の構造では画素部を形成する画素ＴＦＴ（ｎチャネル型ＴＦＴ）７０５の構造が実施例２と異なる。具体的には、本実施例の場合、チャネル形成領域２６、２７とｎ型不純物領域（ｃ）からなるＬＤＤ領域（Ｌoff領域）２８〜３１との間に、オフセット領域３２〜３５が形成されている点で異なる。
【０１３８】
なお、オフセット領域とは、３２〜３５で示されるようにチャネル形成領域と同一組成の半導体層（含まれる不純物元素がチャネル形成領域と同一であるという意味）で、ゲート電極と重ならない領域を指す。このオフセット領域３２〜３５は単なる抵抗として機能し、オフ電流値を低減する上で非常に効果がある。
【０１３９】
このような構造を実現するには、例えば実施例１の図６（Ｄ）の工程においてｎ型不純物元素を添加する前に、厚さ２０〜２００ｎｍ（好ましくは２５〜１５０ｎｍ）の珪素を含む絶縁膜を、ゲート配線等を覆って形成しておけば良い。
【０１４０】
こうすることでゲート電極５２４a、５２４bの側壁に絶縁膜が形成された状態で不純物元素が添加されるので、その部分がマスクとなってオフセット領域３２〜３５が形成される。従って、こうして形成されるオフセット領域３２〜３５の長さは前記絶縁膜の膜厚にほぼ一致し、２０〜２００ｎｍ（好ましくは２５〜１５０ｎｍ）となる。
【０１４１】
この絶縁膜はとしてはゲート絶縁膜の材料と同一のものを用いることが好ましい。そうすると、図６（Ｅ）の工程でゲート絶縁膜と同時に除去することができる。
【０１４２】
なお、本実施例の構造は実施例１の工程の一部を変更することで実現可能であり、実施例２〜４のいずれの構成とも自由に組み合わせることができる。
【０１４３】
［実施例６］
画素部の各画素に設けられる保持容量は画素電極に接続されていない方の電極（本発明の場合は遮蔽膜）を固定電位としておくことで保持容量を形成することができる。その場合、遮蔽膜をフローティング状態（電気的に孤立した状態）かコモン電位（データとして送られる画像信号の中間電位）に設定しておくことが望ましい。
【０１４４】
そこで本実施例では遮蔽膜をコモン電位に固定する場合の接続方法について図１４を用いて説明する。なお、基本構造は図８（Ｂ）で説明した画素部と同様であるので、同一部位には同じ符号を用いて説明する。
【０１４５】
図１４（Ａ）において、７０４は実施例１と同様にして作製された画素ＴＦＴ（ｎチャネル型ＴＦＴ）であり、５６５は保持容量の一方の電極として機能する遮蔽膜である。画素部の外側に延在した遮蔽膜３６は第３層間絶縁膜５６４、パッシベーション膜５６３に設けられたコンタクトホール３７を介してコモン電位を与える電源供給線３８と接続している。この電源供給線３８はソース配線またはドレイン配線と同時に形成しておけば良い。
【０１４６】
このように画素部の外側において、遮蔽膜３６とコモン電位を与える電源供給線３８とを電気的に接続することで、遮蔽膜５６５をコモン電位に保持することができる。
【０１４７】
次に、図１４（Ｂ）において、７０４は実施例１と同様にして作製された画素ＴＦＴであり、５６５は保持容量の一方の電極として機能する遮蔽膜である。画素部の外側まで延在した遮蔽膜３９は、４０で示される領域において導電膜４１と酸化物４２を挟んで重なる。この導電膜４１は画素電極５６９と同時に形成される。
【０１４８】
そして、この導電膜４１はコンタクトホール４３を介してコモン電位を与える電源供給線４４と接続している。この時、領域４０では遮蔽膜３９、酸化物４２、及び導電膜４１からなるコンデンサが形成される。このコンデンサの容量が十分に大きい（１走査ライン分の全画素に接続された全保持容量の合計容量の１０倍程度）場合、領域４０で形成された静電結合によって遮蔽膜３９及び５６５の電位変動を低減することができる。
【０１４９】
また、図１４（Ｂ）の構造を採用する場合は、アクティブマトリクス型液晶表示装置の駆動方法としてはソースライン反転駆動を採用することが好ましい。ソースライン反転駆動ならば画素電極に印加される電圧極性が１フレーム毎に反転するので、時間的に平均化すれば遮蔽膜５６５に蓄積される電荷量は殆どゼロとなる。即ち、非常に電位変動の小さい状態を維持できるので、安定した保持容量を形成することができる。
【０１５０】
このように図１４（Ｂ）の構造を採用することで、工程数を増やすことなく遮蔽膜をコモン電位に保持することが可能となる。
【０１５１】
なお、本実施例の構成は、実施例１の作製工程を一部変更するだけで実現可能であり、その他の工程は実施例１と同様の工程で良い。また、実施例２〜５に示したいずれの構成とも自由に組み合わせることが可能である。
【０１５２】
［実施例７］
本実施例では、実施例１において陽極酸化物５６７を形成する際の陽極酸化方法の一例を示す。
【０１５３】
本実施例では、まず十分にアルカリイオン濃度の小さい酒石酸エチレングリコール溶液を作製する。これは１５％の酒石酸アンモニウム水溶液とエチレングリコールとを２：８で混合した溶液であり、これにアンモニア水を加え、ｐＨが７±０．５となるように調節する。そして、この溶液中に陰極となる白金電極を設け、遮蔽膜５６５が形成されている基板を１０℃の溶液に浸し、遮蔽膜５６５を陽極として、一定の直流電流を流す。なお、直流電流の量は陽極酸化対象となる遮蔽膜５６５の表面積によって変わるが、３０〜１００μＡ／ｃｍ2（好ましくは５０〜７０μＡ／ｃｍ2とすればよい。本実施例では６０μＡ／ｃｍ2とする。
【０１５４】
溶液中の陰極と陽極との間の電圧は陽極酸化物の成長に従い時間と共に変化するが、定電流のまま１００Ｖ／ｍｉｎの昇圧レートで電圧を上昇させて、到達電圧４５Ｖに達したところで陽極酸化処理を終了させる。このようにして遮蔽膜５６５の表面には厚さ約５０ｎｍの陽極酸化物５６７を形成することができる。また、その結果、遮蔽膜５６５の膜厚は９０ｎｍとなる。なお、ここで示した陽極酸化法に係わる数値は一例にすぎず、作製する素子の大きさ等によって当然最適値は変化しうるものである。
【０１５５】
以上のような工程で陽極酸化処理を行うことにより、樹脂材料からなる第３層間絶縁膜５６４上に直接遮蔽膜５６５を形成しても、遮蔽膜５６５の密着性の悪さが問題とならない。即ち、図７（Ｄ）の工程において、酸化シリコン膜５６６を形成する工程を省略することができる。
【０１５６】
なお、本実施例は実施例１の陽極酸化処理の条件を変更しただけであり、実施例２〜６のいずれの構成とも自由に組み合わせることが可能である。
【０１５７】
［実施例８］
実施例１では、図５（Ｂ）に示す工程が終わった後に結晶質シリコン膜５０４をパターニングし、活性層５０５〜５０８を形成してからｐ型不純物領域（ｂ）の形成工程、ｎ型不純物領域（ｂ）の形成工程を行っているが、本願発明は結晶質シリコン膜５０４をパターニングする前にｐ型不純物領域（ｂ）の形成工程、ｎ型不純物領域（ｂ）の形成工程を行っても良い。
【０１５８】
この場合、ｐ型不純物領域（ｂ）及びｎ型不純物領域（ｂ）を活性化する工程（実施例１では図５（Ｆ）のレーザーアニール工程に相当する）を、結晶質シリコン膜をパターニングする前に済ませることができる。そのため、レーザーアニール工程の最適条件がパターン設計（活性層の位置や形状等）によって変化するといった不具合を防止することができる。即ち、ＴＦＴ形成時の設計の自由度が向上するという利点がある
【０１５９】
なお、本実施例は実施例１の工程順序を変更しただけであり、実施例２〜７のいずれの構成とも自由に組み合わせることが可能である。
【０１６０】
［実施例９］
実施例１に示した作製工程においては、ｎチャネル型ＴＦＴとなる領域のみにチャネルドープ工程を行ってしきい値電圧を制御する例を示しているが、ｎチャネル型ＴＦＴやｐチャネル型ＴＦＴの区別なしに全面にチャネルドープ工程を行うことも可能である。その場合、作製工程のフォトマスク数が減るので工程のスループットおよび歩留まりの向上が図れる。
【０１６１】
また、場合によっては全面にチャネルドープ工程を施して、ｎチャネル型ＴＦＴまたはｐチャネル型ＴＦＴのどちらか一方に、全面に添加した不純物元素と逆の導電型を付与する不純物元素を添加する場合もありうる。
【０１６２】
なお、本実施例の構成は、実施例１〜８に示したいずれの構成とも自由に組み合わせることが可能である。
【０１６３】
［実施例１０］
実施例１の作製工程では、結晶構造を含む半導体膜の形成方法として、結晶化を助長する触媒元素を用いる例を示したが、本実施例では、そのような触媒元素を用いずに熱結晶化またはレーザー結晶化によって結晶構造を含む半導体膜を形成する場合を示す。
【０１６４】
熱結晶化による場合、非晶質構造を含む半導体膜を形成した後、６００〜６５０℃の温度で１５〜２４時間の熱処理工程を行えば良い。即ち、６００℃を超える温度で熱処理を行うことにより自然核が発生し、結晶化が進行する。
【０１６５】
また、レーザー結晶化による場合、非晶質構造を含む半導体膜を形成した後、実施例１に示した第１アニール条件でレーザーアニール工程を行えば良い。これにより短時間で結晶構造を含む半導体膜を形成することができる。勿論、レーザーアニールの代わりにランプアニールを行っても良い。
【０１６６】
以上のように、ＴＦＴに用いる結晶構造を含む半導体膜は、公知のあらゆる手段を用いて形成することができる。なお、本実施例は実施例１〜９のいずれの構成とも自由に組み合わせることができる。
【０１６７】
［実施例１１］
本実施例ではＴＦＴの活性層となる結晶質シリコン膜の作製方法として、特願平１１−７６９６７号出願明細書の実施例１に記載された技術を用いる。同出願明細書の実施例１の作製工程によれば、特異な結晶構造の結晶質シリコン膜を得ることができる。
【０１６８】
なお、この結晶質シリコン膜に関する詳細は、本出願人による特願平１０−０４４６５９号、特願平１０−１５２３１６号、特願平１０−１５２３０８号または特願平１０−１５２３０５号の出願を参照すれば良い。以下、本出願人が実験的に調べた結晶構造の特徴について概略を説明する。なお、この特徴は、本実施例を実施して完成されたＴＦＴの活性層を形成する半導体層の特徴と一致すると考えて良い。
【０１６９】
上記結晶質シリコン膜は、微視的に見れば複数の針状又は棒状の結晶（以下、棒状結晶と略記する）が集まって並んだ結晶構造を有する。このことはＴＥＭ（透過型電子顕微鏡法）による観察で容易に確認できる。
【０１７０】
また、電子線回折を利用すると結晶質シリコン膜の表面（チャネルを形成する部分）に、結晶軸に多少のずれが含まれているものの配向面として｛１１０｝面を確認することができる。このことはスポット径約１．３５μmの電子線回折写真を観察した際、｛１１０｝面に特有の規則性をもった回折斑点が現れていることから確認される。また、各斑点は同心円上に分布を持っていることも確認されている。
【０１７１】
また、Ｘ線回折法（厳密にはθ−２θ法を用いたＸ線回折法）を用いて配向比率を算出してみると｛２２０｝面の配向比率が０．７以上（典型的には０．８５以上）であることが確認されている。なお、配向比率の算出方法は特開平７−３２１３３９号公報に記載された手法を用いる。
【０１７２】
また、個々の棒状結晶が接して形成する結晶粒界をＨＲ−ＴＥＭ（高分解能透過型電子顕微鏡法）により観察すると、結晶粒界において結晶格子に連続性があることを確認できる。これは観察される格子縞が結晶粒界において連続的に繋がっていることから容易に確認することができる。
【０１７３】
なお、結晶粒界における結晶格子の連続性は、その結晶粒界が「平面状粒界」と呼ばれる粒界であることに起因する。本明細書における平面状粒界の定義は、「Characterization of High-Efficiency Cast-Si Solar Cell Wafers by MBIC Measurement ；Ryuichi Shimokawa and Yutaka Hayashi，Japanese Journal of Applied Physics vol.27，No.5，pp.751-758，1988」に記載された「Planar boundary 」である。
【０１７４】
上記論文によれば、平面状粒界には双晶粒界、特殊な積層欠陥、特殊なtwist 粒界などが含まれる。この平面状粒界は電気的に不活性であるという特徴を持つ。即ち、結晶粒界でありながらキャリアの移動を阻害するトラップとして機能しないため、実質的に存在しないと見なすことができる。
【０１７５】
特に結晶軸（結晶面に垂直な軸）が〈１１０〉軸である場合、｛２１１｝双晶粒界はΣ３の対応粒界とも呼ばれる。Σ値は対応粒界の整合性の程度を示す指針となるパラメータであり、Σ値が小さいほど整合性の良い粒界であることが知られている。実際に本実施例の結晶質シリコン膜を詳細にＴＥＭを用いて観察すれば、結晶粒界の殆ど（９０％以上、典型的には９５％以上）がΣ３の対応粒界、典型的には｛２１１｝双晶粒界であることが判る。
【０１７６】
二つの結晶粒の間に形成された結晶粒界において、両方の結晶の面方位が｛１１０｝である場合、｛１１１｝面に対応する格子縞がなす角をθとすると、θ＝70.5°の時にΣ３の対応粒界となることが知られている。本実施例の結晶質シリコン膜は、結晶粒界において隣接する結晶粒の各格子縞がまさに約70.5°の角度で連続しており、その事からこの結晶粒界はΣ３の対応粒界であると言える。
【０１７７】
なお、θ＝ 38.9 °の時にはΣ９の対応粒界となるが、この様な他の対応粒界も存在する。いずれにしても不活性であることに変わりはない。
【０１７８】
この様な結晶構造（正確には結晶粒界の構造）は、結晶粒界において異なる二つの結晶粒が極めて整合性よく接合していることを示している。即ち、結晶粒界において結晶格子が連続的に連なり、結晶欠陥等に起因するトラップ準位を非常に作りにくい構成となっている。従って、この様な結晶構造を有する半導体薄膜は実質的に結晶粒界が存在しない見なすことができる。
【０１７９】
またさらに、８００〜１１５０℃という高い温度での熱処理工程（熱酸化工程や不純物元素の活性化工程）によって結晶粒内に存在する欠陥が殆ど消滅していることがＴＥＭ観察によって確認される。これはこの熱処理工程の前後で欠陥数が大幅に低減されていることからも明らかである。
【０１８０】
この欠陥数の差は電子スピン共鳴分析（Electron Spin Resonance ：ＥＳＲ）によってスピン密度の差となって現れる。現状では本実施例の結晶質シリコン膜のスピン密度は少なくとも 5×1017spins/cm3以下（好ましくは 3×1017spins/cm3以下）であることが判明している。ただし、この測定値は現存する測定装置の検出限界に近いので、実際のスピン密度はさらに低いと予想される。
【０１８１】
以上の事から、本実施例の結晶質シリコン膜は結晶粒内の欠陥が極端に少なく、結晶粒界が実質的に存在しないと見なせるため、単結晶シリコン膜又は実質的な単結晶シリコン膜と考えて良い。
【０１８２】
本実施例を実施することで、上記のような特異な結晶構造の結晶質シリコン膜をＴＦＴの活性層として用いることが可能である。これにより非常に優れた電気特性を示すＴＦＴを形成することができ、さらに半導体装置の動作性能を向上させることが可能となる。
【０１８３】
なお、本実施例の構成は、実施例１の一部の工程を変更するだけで実施することが可能である。また、実施例２〜１０のいずれの構成とも自由に組み合わせることが可能である。
【０１８４】
［実施例１２］
本実施例では、実施例１と異なる工程により保持容量の誘電体に形成されたピンホールを埋め込む例について説明する。まず、図１５（Ａ）は本実施例の画素構造であり、図２と同様に、ＴＦＴ２０２上に平坦化膜２０３を介して遮蔽膜２０４、酸化物２０５が設けられている。
【０１８５】
そして、酸化物２０５を介して遮蔽膜２０４と重なるように設けられた画素電極４６、画素電極を覆う配向膜４７、配向膜の上に形成された樹脂材料からなるスペーサ４８が設けられる。なお、図１５（Ｂ）は図１５（Ａ）の点線４９で示される領域の拡大図である。図１５（Ｂ）に示すように、酸化物２０５に形成されてしまったピンホール２１４は充填物５０によって塞がれている。
【０１８６】
実施例１では樹脂材料からなるスペーサを形成すると同時に、スペーサの材料を用いて保持容量の誘電体のピンホールを埋め込む例を示しているが、本実施例の場合は、画素電極４６を形成する前に前もってピンホールの埋め込みを行っておき、その上で画素電極４６、配向膜４７、スペーサ４８の形成を行う点に特徴がある。
【０１８７】
ここで、本実施例で用いるピンホールの埋め込む工程について図１６、図１７を用いて説明する。
【０１８８】
まず、実施例１の作製工程に従って図７（Ｄ）の工程までを終了させる。このとき、陽極酸化物５６７には陽極酸化時のゴミの付着等によりピンホール５１a、５１bが形成されてしまったとする。
【０１８９】
その上に樹脂絶縁膜（本実施例ではポリイミド膜）５２を０．１〜１μm（代表的には０．２〜０．３μm）の厚さで形成する。この時点でピンホール５１a、５１bは樹脂絶縁膜５２によって塞がれる。（図１６（Ａ））
【０１９０】
次に、酸素ガスを用いてプラズマを形成し、そのプラズマ中に処理基板を曝すことにより樹脂絶縁膜５２をエッチングする。このエッチング技術は樹脂材料のアッシング（灰化）工程として知られている。（図１６（Ｂ））
【０１９１】
この工程では、陽極酸化物５６７上に形成された樹脂絶縁膜５２はすべて除去されるが、ピンホール５１a、５１bの内部に埋め込まれた一部の樹脂絶縁膜は除去されずに残ると考えられる。即ち、図１６（Ｂ）に示したように、ピンホール５１a、５１bが樹脂絶縁膜５２の一部（充填物５３a、５３b）によって塞がれた状態を得ることができる。
【０１９２】
また、図１７のような工程を用いることもできる。まず、実施例１の作製工程に従って図７（Ｄ）の工程までを終了させる。このとき、陽極酸化物５６７には陽極酸化時のゴミの付着等によりピンホール５４a、５４bが形成されてしまったとする。
【０１９３】
その上に樹脂絶縁膜（本実施例ではポジ型の感光性をもつアクリル膜）５５を０．１〜１μm（代表的には０．２〜０．３μm）の厚さで形成する。この時点でピンホール５４a、５４bは樹脂絶縁膜５５によって塞がれる。（図１７（Ａ））
【０１９４】
次に、通常の露光条件で樹脂絶縁膜５５を露光して感光させる。そして、通常の現像工程により感光された樹脂絶縁膜５５を除去する。この工程では、陽極酸化物５６７上に形成された樹脂絶縁膜５５はすべて除去されるが、ピンホール５４a、５４bの内部に埋め込まれた一部の樹脂絶縁膜は光が届かずに感光されないまま残り、結果的に除去されずに残ると考えられる。即ち、図１７（Ｂ）に示したように、ピンホール５４a、５４bが樹脂絶縁膜５５の一部（充填物５６a、５６b）によって塞がれた状態を得ることができる。
【０１９５】
こうして図１６（Ｂ）または図１７（Ｂ）の状態が得られたら、画素電極４６、配向膜４７、スペーサ４８を形成していけば良い。そのあとはセル組み工程を行うことにより図１５（Ａ）の画素構造を得ることができる。
【０１９６】
なお、本実施例の構成は、実施例２〜１１のいずれの構成とも自由に組み合わせることが可能である。
【０１９７】
［実施例１３］
本実施例では、図１５で説明した画素構造とは別の位置に樹脂材料からなるスペーサを形成する例を示す。なお、図１８（Ａ）に示す構造は、スペーサの形成位置が異なるだけで画素構造自体は図１５（Ａ）と同一である。また、図１８（Ｂ）は点線６１で囲んだ部分の拡大図である。
【０１９８】
本実施例では画素ＴＦＴ２０２と画素電極６２とが電気的に接続するコンタクト部の上にスペーサ６３を設ける。本実施例の構造とすることで、コンタクト部に形成される段差（層間絶縁膜２０３の膜厚分）を埋め込むことが可能となり、段差に起因する液晶分子の配向不良を防止することができる。
【０１９９】
また、本実施例の画素構造を上面から見た図を図１９に示す。図１９において、２０４は遮蔽膜であり、その上には図示されていない酸化物２０５を介して画素電極６２が設けられている。このとき、遮蔽膜２０４、酸化物２０５及び画素電極６２で保持容量６４a〜６４cが形成される。
【０２００】
また、画素電極のコンタクト部６５の上に樹脂材料からなるスペーサ６３が形成される。このように樹脂材料からなるスペーサは場所を指定して自由に配置位置を設計することができるという利点がある。
【０２０１】
なお、本実施例に示したスペーサ６３と実施例１２に示したスペーサ４８（図１５（Ａ）参照）とを併用することもできるし、画素の位置によって使い分けることも可能である。また、実施例２〜１２のいずれの構成とも自由に組み合わせることが可能である。
【０２０２】
［実施例１４］
本実施例では、実施例１２で説明した画素構造と異なる構造とした場合の例について図２０を用いて説明する。なお、図１５と同一の部分については同一の符号を用いることとする。
【０２０３】
図２０に示すように、ＴＦＴ２０２上には層間絶縁膜２０３を介して遮蔽膜２０４が設けられ、その表面には酸化物２０５が形成されている。本実施例では、酸化物２０５を形成した後、樹脂絶縁膜６６を形成して遮蔽膜２０４と酸化物２０５とで形成される段差を平坦化する。
【０２０４】
樹脂絶縁膜６６は、一旦十分に厚く（少なくとも遮蔽膜２０４と酸化物２０５とで形成される段差が平坦化されるまで）形成しておき、プラズマ処理によるエッチング工程、機械研磨または電解研磨により膜厚を減じて、残存する樹脂絶縁膜の膜厚と前記段差の高さとが概略一致するところで処理をやめれば良い。
【０２０５】
その後、画素電極６７、配向膜６８を形成し、画素電極のコンタクト部６９の上にパターニングによりスペーサ７０を形成する。
【０２０６】
本実施例を実施すると、遮蔽膜２０４と酸化物２０５とで形成される段差が平坦化される上、さらに画素電極のコンタクト部までも平坦化することができるため、非常に平坦度の高い画素電極が形成できる。従って、液晶７１に形成される電界も非常に均一にすることができ、液晶の配向不良を大幅に低減することができる。即ち、明るく、高精細な画像表示が可能となる。
【０２０７】
なお、本実施例の構成は、実施例２〜１３のいずれの構成とも自由に組み合わせることが可能である。
【０２０８】
［実施例１５］
本実施例では、画素部以外におけるスペーサの配置について図２１を用いて説明する。
【０２０９】
図２１において、１００１は実施例１の工程に従って作製したアクティブマトリクス基板であり、画素部１００２、ゲート側駆動回路１００３、ソース側駆動回路１００４、信号分割回路１００５、外部接続端子（Ｉ／Ｏポート）１００６が形成されている。
【０２１０】
ここで図示しない対向基板は、シール材（封止材ともいう。代表的にはエポキシ系樹脂材料が用いられる。）１００７でアクティブマトリクス基板１００１と貼り合わせられ、シール材１００７で囲まれた領域内に液晶が封入される。シール材１００７にはフィラーと呼ばれる球状または棒状の固いスペーサ（無機材料からなるスペーサ）が予め添加されており、シール材をアクティブマトリクス基板にスクリーン印刷する際に同時に配置される。
【０２１１】
本実施例では、このシール材１００７が形成される位置に対してフォトリソグラフィによりスペーサ（第１スペーサ）１００８が形成される。また、画素部１００２、ゲート側駆動回路１００３、ソース側駆動回路１００４または信号分割回路１００５など各領域間の隙間に、フォトリソグラフィによりスペーサ１００９（第２スペーサ）が形成される。さらに、画素部内には図１２（Ｂ）や図１９に示した位置にフォトリソグラフィによりスペーサ（第３スペーサ）１０１０が形成される。
【０２１２】
また、１０１１で示される領域を拡大して模式的に表したのが図２１（Ｂ）である。基板１０１２上には、シフトレジスタ回路等を形成するＣＭＯＳ回路１０１３、サンプリング回路１０１４及び画素部に形成される画素ＴＦＴ１０１５が形成され、層間絶縁膜１０１６を介して保持容量１０１７と画素電極１０１８が形成されている。
【０２１３】
また、１０１９は対向基板、１０２０は対向電極であり、対向基板とアクティブマトリクス基板との間にはスペーサを介して液晶１０２１が封入される。このとき、シール材１００７の中には、樹脂材料からなるスペーサ（第１スペーサ）１００８と無機材料からなるスペーサ（フィラー）１０２２が含まれている。
【０２１４】
そして、ＣＭＯＳ回路１０１３やサンプリング回路１０１４等で形成される駆動回路と画素部との隙間に樹脂材料からなるスペーサ（第２スペーサ）１００９が形成されている。また、駆動回路の内部においても、例えばシフトレジスタ回路とサンプリング回路の間のように、回路間又は素子間の隙間に樹脂材料からなるスペーサ（第４スペーサ）１０２３を設けることができる。
【０２１５】
また、図２１（Ｂ）では画素ＴＦＴ１０１５と画素電極１０１８とのコンタクト部の上に樹脂材料からなるスペーサ（第３スペーサ）１０１０が形成されている。なお、併用して保持容量１０１７の上にも樹脂材料からなるスペーサを設けることは可能である。また、コンタクト部には設けずに、保持容量１０１７の上にだけ樹脂材料からなるスペーサを設けることも可能である。
【０２１６】
以上のように、樹脂材料からなるスペーサはフォトリソグラフィにて形成するため自由に配置を設計することが可能である。本実施例はその利点を用い、ＴＦＴが形成されない領域に選択的にスペーサを設けることを特徴とする。
【０２１７】
なお、図２１（Ｂ）に図示されたスペーサ１００８〜１０１０、１０２３はすべて同時に用いる必要はなく、単独または組み合わせて用いることができ、その組み合わせは自由である。
【０２１８】
例えば、対角１インチ以下のアクティブマトリクス型液晶表示装置においては、パネルサイズが十分に小さいので、シール材が形成される位置に第１スペーサ１００８を設けるだけでも良い場合がある。勿論、第１スペーサ１００８と第２スペーサ１００９の組み合わせ、第１スペーサ１００８と第４スペーサ１０２３との組み合わせ、若しくは第１スペーサ１００８と第２スペーサ１００９と第４スペーサ１０２３との組み合わせでも良い。
【０２１９】
また、シール材が形成される位置は無機材料からなるスペーサ１０２２だけにしておき、第２スペーサ１００９と第３スペーサ１０１０の組み合わせ、若しくは第４スペーサ１０２３と第３スペーサ１０１０の組み合わせとしても良い。
【０２２０】
また、駆動回路付近にはスペーサを置かず、第１スペーサ１００８と第３スペーサ１０１０の組み合わせとすることもできる。
【０２２１】
また、第１スペーサ１００８と第３スペーサ１０１０と第４スペーサ１０２３の組み合わせ、若しくは第１スペーサ１００８と第２スペーサ１００９と第３スペーサ１０１０の組み合わせでも良い。
【０２２２】
また、本実施例では画素部の構造として図１８で説明した構造を例にしているが、図２の構造としても良い。
【０２２３】
なお、本実施例の構成は、実施例１〜１４のいずれの構成とも自由に組み合わせることが可能である。
【０２２４】
［実施例１６］
本発明は半導体基板を用いた従来のＭＯＳＦＥＴ上に層間絶縁膜を形成し、その上にＴＦＴを形成する際に用いることも可能である。即ち、三次元構造の半導体装置を実現することも可能である。
【０２２５】
また、反射型液晶表示装置を作製する場合に限り、基板としてＳＩＭＯＸ、Ｓｍａｒｔ−Ｃｕｔ（SOITEC社の登録商標）、ＥＬＴＲＡＮ（キャノン株式会社の登録商標）などのＳＯＩ基板を用いることも可能である。勿論、これらのＳＯＩ技術を用いて透明基板上に単結晶半導体薄膜を形成する技術が確立されれば、透過型表示装置に用いることも可能となる。
【０２２６】
なお、本実施例の構成は、実施例１〜１５のいずれの構成とも自由に組み合わせることが可能である。
【０２２７】
［実施例１７］
本願発明はアクティブマトリクス型ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置やアクティブマトリクス型ＥＣ（エレクトロクロミックス）表示装置に対して実施することも可能である。本実施例ではアクティブマトリクス型ＥＬ表示装置に実施した例を図２２に示す。
【０２２８】
図２２はアクティブマトリクス型ＥＬ表示装置の回路図である。８１は画素部を表しており、その周辺にはＸ方向（ソース側）駆動回路８２、Ｙ方向（ゲート側）駆動回路８３が設けられている。また、画素部８１の各画素は、スイッチ用ＴＦＴ８４、コンデンサ８５、電流制御用ＴＦＴ８６、有機ＥＬ素子８７を有し、スイッチ用ＴＦＴ８４にＸ方向（ソース側）信号線８８a（または８８b）、Ｙ方向（ゲート側）信号線８９a（または８９b、８９c）が接続される。また、電流制御用ＴＦＴ８６には、電源線９０a、９０bが接続される。
【０２２９】
本実施例のアクティブマトリクス型ＥＬ表示装置では、Ｘ方向駆動回路８２、Ｙ方向駆動回路８３を図８（Ｃ）のｐチャネル型ＴＦＴ７０１、ｎチャネル型ＴＦＴ７０２または７０３を組み合わせて形成する。また、スイッチ用ＴＦＴ８４を図８（Ｂ）のｎチャネル型ＴＦＴ７０４で形成し、電流制御用ＴＦＴ８６を図８（Ｃ）のｐチャネル型ＴＦＴ７０１で形成する。また、コンデンサ８５として本発明により図８（Ａ）の保持容量５７２を用いて形成する。
【０２３０】
ところで、ＴＦＴの上方に向かって（ＴＦＴを形成した基板を通さずに）光出射を行う動作モードのＥＬ表示装置の場合、画素電極を反射性の電極で形成することになる。ＥＬ表示装置において画素内のどこにＥＬ素子を配置するかは画素構造によっても異なるが、このような動作モードの場合、画素電極の上は全て有効表示領域として用いることができるため、保持容量の上にもＥＬ素子を形成することができる。
【０２３１】
その場合、遮蔽膜（但しこの場合電界遮蔽の効果しかない）に起因する段差があるとＥＬ素子も段差を有するようになり、その部分で発光方向が乱れるので画像表示の明るさや色合いを低下させる原因にもなる。本発明はこのような状況を解決する手段としても有効である。
【０２３２】
なお、本実施例のアクティブマトリクス型ＥＬ表示装置のコンデンサ８５に対して樹脂材料からなる充填物によるピンホールの埋め込みを行うことは有効である。本実施例は、実施例５〜１１、実施例１２（特に図１６または図１７の作製工程）、実施例１４、実施例１６のいずれの構成とも自由に組み合わせることが可能である。
【０２３３】
［実施例１８］
本願発明によって作製された液晶表示装置は様々な液晶材料を用いることが可能である。そのような材料として、ＴＮ液晶、ＰＤＬＣ（ポリマー分散型液晶）、スメクチック液晶が挙げられる。スメクチック液晶としては代表的にＦＬＣ（強誘電性液晶）、ＡＦＬＣ（反強誘性電液晶）、またはＦＬＣとＡＦＬＣの混合物（反強誘電性混合液晶）が挙げられる。
【０２３４】
例えば、「H.Furue et al.;Charakteristics and Drivng Scheme of Polymer-Stabilized Monostable FLCD Exhibiting Fast Response Time and High Contrast Ratio with Gray-Scale Capability,SID,1998」、「T.Yoshida et al.;A Full-Color Thresholdless Antiferroelectric LCD Exhibiting Wide Viewing Angle with Fast Response Time,841,SID97DIGEST,1997」、「S.Inui et al.;Thresholdless antiferroelectricity in liquid crystals and its application to displays,671-673,J.Mater.Chem.6(4),1996」、または米国特許第5,594,569号に開示された材料を用いることができる。
【０２３５】
特に、電場に対して透過率が連続的に変化する電気光学応答特性を示す無しきい値反強誘電性混合液晶（Thresholdless Antiferroelectric LCD：ＴＬ−ＡＦＬＣと略記する）にはＶ字型（またはＵ字型）の電気光学応答特性を示すものがあり、その駆動電圧が約±２．５Ｖ程度（セル厚約１μｍ〜２μｍ）のものも見出されている。ここで、Ｖ字型の電気光学応答を示す無しきい値反強誘電性混合液晶の印加電圧に対する光透過率の特性を示す例を図２３に示す。
【０２３６】
図２３に示すグラフの縦軸は透過率（任意単位）、横軸は印加電圧である。なお、液晶表示装置の入射側の偏光板の透過軸は、液晶表示装置のラビング方向にほぼ一致する無しきい値反強誘電性混合液晶のスメクティック層の法線方向とほぼ平行に設定されている。また、出射側の偏光板の透過軸は、入射側の偏光板の透過軸に対してほぼ直角（クロスニコル）に設定されている。
【０２３７】
図２３に示されるように、このような無しきい値反強誘電性混合液晶を用いると、低電圧駆動かつ階調表示が可能となることがわかる。
【０２３８】
そのため、画素部用の電源電圧が５〜８Ｖ程度で済む場合があり、駆動回路と画素部を同じ電源電圧で動作させる可能性が示唆されている。即ち、液晶表示装置全体の低消費電力化を図ることができる。
【０２３９】
また、強誘電性液晶や反強誘電性液晶はＴＮ液晶に比べて応答速度が速いという利点をもつ。本発明で用いるようなＴＦＴは非常に動作速度の速いＴＦＴを実現しうるため、強誘電性液晶や反強誘電性液晶の応答速度の速さを十分に生かした画像応答速度の速い液晶表示装置を実現することが可能である。
【０２４０】
また、一般に、無しきい値反強誘電性混合液晶は自発分極が大きく、液晶自体の誘電率が高い。このため、無しきい値反強誘電性混合液晶を液晶表示装置に用いる場合には、画素に比較的大きな保持容量が必要となってくる。よって、自発分極が小さな無しきい値反強誘電性混合液晶を用いるのが好ましい。そういった意味で本願発明の保持容量は小さい面積で大きな容量を蓄積することができるので好ましい。
【０２４１】
なお、本実施例の液晶表示装置をパーソナルコンピュータ等の表示ディスプレイとして用いることが有効であることは言うまでもない。
【０２４２】
また、本実施例の構成は、実施例１〜１６のいずれの構成とも自由に組み合わせることが可能である。
【０２４３】
［実施例１９］
本発明の電気光学装置は電気器具（電子装置もしくは電子デバイスともいう）の表示部として用いることができる。そのような電気器具としては、ビデオカメラ、デジタルカメラ、プロジェクター、プロジェクションＴＶ、ゴーグル型ディスプレイ（ヘッドマウントディスプレイ）、ナビゲーションシステム、音響再生装置、ノート型パーソナルコンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末（モバイルコンピュータ、携帯電話、携帯型ゲーム機または電子書籍等）、記録媒体を備えた画像再生装置などが挙げられる。それら電気器具の具体例を図２４〜２６に示す。
【０２４４】
図２４（Ａ）は携帯電話であり、本体２００１、音声出力部２００２、音声入力部２００３、表示部２００４、操作スイッチ２００５、アンテナ２００６で構成される。本発明の電気光学装置は表示部２００４に用いることができる。
【０２４５】
図２４（Ｂ）はビデオカメラであり、本体２１０１、表示部２１０２、音声入力部２１０３、操作スイッチ２１０４、バッテリー２１０５、受像部２１０６で構成される。本発明の電気光学装置は表示部２１０２に用いることができる。
【０２４６】
図２４（Ｃ）はモバイルコンピュータ（モービルコンピュータ）であり、本体２２０１、カメラ部２２０２、受像部２２０３、操作スイッチ２２０４、表示部２２０５で構成される。本発明の電気光学装置は表示部２２０５に用いることができる。
【０２４７】
図２４（Ｄ）はゴーグル型ディスプレイであり、本体２３０１、表示部２３０２、アーム部２３０３で構成される。本発明の電気光学装置は表示部２３０２に用いることができる。
【０２４８】
図２４（Ｅ）はリアプロジェクター（プロジェクションＴＶ）であり、本体２４０１、光源２４０２、液晶表示装置２４０３、偏光ビームスプリッタ２４０４、リフレクター２４０５、２４０６、スクリーン２４０７で構成される。本発明は液晶表示装置２４０３に用いることができる。
【０２４９】
図２４（Ｆ）はフロントプロジェクターであり、本体２５０１、光源２５０２、液晶表示装置２５０３、光学系２５０４、スクリーン２５０５で構成される。本発明は液晶表示装置２５０３に用いることができる。
【０２５０】
図２５（Ａ）はパーソナルコンピュータであり、本体２６０１、映像入力部２６０２、表示部２６０３、キーボード２６０４等を含む。本発明の電気光学装置は表示部２６０３に用いることができる。
【０２５１】
図２５（Ｂ）は電子遊戯機器（ゲーム機器）であり、本体２７０１、記録媒体２７０２、表示部２７０３及びコントローラー２７０４を含む。この電子遊技機器から出力された音声や映像は筐体２７０５及び表示部２７０６を含む表示ディスプレイにて再生される。コントローラー２７０４と本体２７０１との間の通信手段または電子遊技機器と表示ディスプレイとの間の通信手段は、有線通信、無線通信もしくは光通信が使える。本実施例では赤外線をセンサ部２７０７、２７０８で検知する構成となっている。本発明の電気光学装置は表示部２７０３、２７０６に用いることができる。
【０２５２】
図２５（Ｃ）はプログラムを記録した記録媒体（以下、記録媒体と呼ぶ）を用いるプレーヤー（画像再生装置）であり、本体２８０１、表示部２８０２、スピーカ部２８０３、記録媒体２８０４及び操作スイッチ２８０５を含む。なお、この画像再生装置は記録媒体としてＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ  ＶｅｒｓａｔｉｌｅＤｉｓｃ）、ＣＤ等を用い、音楽鑑賞や映画鑑賞やゲームやインターネットを行うことができる。本発明の電気光学装置は表示部２８０２に用いることができる。
【０２５３】
図２５（Ｄ）はデジタルカメラであり、本体２９０１、表示部２９０２、接眼部２９０３、操作スイッチ２９０４、受像部（図示せず）を含む。本発明の電気光学装置は表示部２９０２に用いることができる。
【０２５４】
なお、図２４（Ｅ）のリアプロジェクターや図２４（Ｆ）のフロントプロジェクターに用いることのできる光学エンジンについての詳細な説明を図２６に示す。なお、図２６（Ａ）は光学エンジンであり、図２６（Ｂ）は光学エンジンに内蔵される光源光学系である。
【０２５５】
図２６（Ａ）に示す光学エンジンは、光源光学系３００１、ミラー３００２、３００５〜３００７、ダイクロイックミラー３００３、３００４、光学レンズ３００８a〜３００８c、プリズム３０１１、液晶表示装置３０１０、投射光学系３０１２を含む。投射光学系３０１２は、投射レンズを備えた光学系である。本実施例は液晶表示装置３０１０を三つ使用する三板式の例を示したが、単板式であってもよい。また、図２６（Ａ）中において矢印で示した光路には、光学レンズ、偏光機能を有するフィルム、位相差を調節するためのフィルムもしくはＩＲフィルム等を設けてもよい。
【０２５６】
また、図２６（Ｂ）に示すように、光源光学系３００１は、光源３０１３、３０１４、合成プリズム３０１５、コリメータレンズ３０１６、３０２０、レンズアレイ３０１７、３０１８、偏光変換素子３０１９を含む。なお、図２６（Ｂ）に示した光源光学系は光源を２つ用いたが、一つでも良いし、三つ以上としてもよい。また、光源光学系の光路のどこかに、光学レンズ、偏光機能を有するフィルム、位相差を調節するフィルムもしくはＩＲフィルム等を設けてもよい。
【０２５７】
以上の様に、本発明の適用範囲は極めて広く、あらゆる分野の電気器具に適用することが可能である。また、本実施例の電気器具は実施例１〜１８の構成を必要に応じて組み合わせることで実現できる。
【発明の効果】
本願発明を用いることで、１）保持容量の誘電体のピンホールを塞ぐことができる、２）配向膜の平坦度（画素電極の平坦度）が向上する、といった利点が得られる。即ち、１）により保持容量における電極間のショートを防ぐことができ、２）により液晶の配向不良を防ぐことができる。
【０２５８】
また、弾力性に富む樹脂材料からなるスペーサを用いることで、素子にかかる負荷を低減し、素子破壊等による歩留まりの低下、信頼性の低下を防ぐことが可能となる。このように液晶表示装置に代表される電気光学装置の動作性能の向上と信頼性の向上とを達成することができる。
【０２５９】
また、延いてはそのような電気光学装置を表示ディスプレイとして有する電気器具の動作性能と信頼性をも向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】    コンデンサの構造を示す図。
【図２】    液晶表示装置の画素構造を示す図。
【図３】    改善前のコンデンサの構造を示す図。
【図４】    改善前の液晶表示装置の画素構造を示す図。
【図５】    画素部と駆動回路の作製工程を示す図。
【図６】    画素部と駆動回路の作製工程を示す図。
【図７】    画素部と駆動回路の作製工程を示す図。
【図８】    画素部と駆動回路の作製工程を示す図。
【図９】    ｎチャネル型ＴＦＴのＬＤＤ構造を示す図。
【図１０】  アクティブマトリクス型液晶表示装置の斜視図。
【図１１】  アクティブマトリクス型液晶表示装置の回路ブロック図。
【図１２】  画素の構造を示す上面図。
【図１３】  アクティブマトリクス型液晶表示装置の断面図。
【図１４】  画素部及び電源線と遮蔽膜の接続構造を示す断面図。
【図１５】  液晶表示装置の画素構造を示す図。
【図１６】  液晶表示装置の画素構造の作製工程を示す図。
【図１７】  液晶表示装置の画素構造の作製工程を示す図。
【図１８】  液晶表示装置の画素構造を示す図。
【図１９】  画素の構造を示す上面図。
【図２０】  液晶表示装置の画素構造を示す図。
【図２１】  スペーサの形成位置を示す図。
【図２２】  アクティブマトリクス型ＥＬ表示装置の構成を示す図。
【図２３】  無しきい値反強誘電性混合液晶の光透過率特性を示す図。
【図２４】  電気器具の一例を示す図。
【図２５】  電気器具の一例を示す図。
【図２６】  光学エンジンの構成を示す図。
【符号の説明】
５０１    基板
５０２    下地膜
５０３    結晶質シリコン膜
５０４    結晶質シリコン膜
５０５〜５０８    活性層
５０９    保護膜
５１１〜５１３    ｐ型不純物領域（ｂ）が形成された活性層
５１５〜５１７    ｎ型不純物領域（ｂ）
５１８    ゲート絶縁膜
５１９    第１導電膜
５２０    第２導電膜
５２１〜５２４    ゲート配線
５２５〜５３０    ｎ型不純物領域（ｃ）
５３１〜５３４    ゲート絶縁膜
５３６〜５４４    ｎ型不純物領域（ａ）
５４６、５４７    ｐ型不純物領域（ａ）
５４８    第１層間絶縁膜
５４９〜５５３    チャネル形成領域
５５４    第２層間絶縁膜
５５５〜５５８    ソース配線
５５９〜５６２    ドレイン配線
５６３    パッシベーション膜
５６４    第３層間絶縁膜
５６５    遮蔽膜
５６６    酸化シリコン膜
５６７    酸化物
５６８    樹脂材料からなるスペーサ
５６９〜５７１    画素電極
５７２    保持容量
５７３、５７６    配向膜
５７４    対向基板
５７５    対向電極
５７８    液晶
６０１、６０４、６０８、６１３、６１４    チャネル形成領域
６０２、６０５、６０９、６１５    ソース領域
６０３、６０６、６１０、６１６    ドレイン領域
６０７、６１１a、６１２a    Ｌov領域
６１１b、６１２b、６１７〜６２０    Ｌoff領域
６２１    ｎ型不純物領域（ａ）
【図１】
0004298131.tif 000002
【図２】
0004298131.tif 000003
【図３】
0004298131.tif 000004
【図４】
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【図５】
0004298131.tif 000006
【図６】
0004298131.tif 000007
【図７】
0004298131.tif 000008
【図８】
0004298131.tif 000009
【図９】
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【図１０】
0004298131.tif 000011
【図１１】
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【図１２】
0004298131.tif 000013
【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
0004298131.tif 000019
【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
0004298131.tif 000022
【図２２】
0004298131.tif 000023
【図２３】
0004298131.tif 000024
【図２４】
0004298131.tif 000025
【図２５】
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【図２６】
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