(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｆｅ基である軟磁性粉末を主体として成る圧粉磁心において、前記軟磁性粉末のアスペクト比が１〜1.5であり、この軟磁性粉末の体積比率が４０〜６０％で、残部が絶縁バインダと空隙を主体とするものであり、かつ、初透磁率μ０が６≦μ０≦２０であり、印加磁界が２４kA／ｍのときの透磁率をμとすると、μ0とμの間には、μ／μ0≧０.５の関係が成立していることを特徴とする圧粉磁心。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は圧粉磁心に関し、更に詳しくは、初透磁率を低くすることにより、高磁界を印加しても高い透磁率を示し、結果として優れた直流重畳特性を発揮するように設計された圧粉磁心に関する。
【０００２】
【従来の技術】
圧粉磁心は、対象製品が小型・複雑な形状であっても高い歩留まりで製造することができるので、従来の磁心の主流であるケイ素鋼板を用いた積層型磁心に取って代わって広く用いられはじめている。具体的には、例えば、電気自動車やハイブリッドカーに搭載されるバッテリー充電用のトランスのコア、ＵＰＳ（無停電電源）に用いられるインダクターなどの用途があげられる。
【０００３】
この圧粉磁心は、一般に、次のようにして製造されている。
すなわちまず、所定組成の軟磁性合金に対して機械粉砕やアトマイズ法を適用して所定の粒度分布を有する粉末（軟磁性粉末）を製造する。
ついで、この軟磁性粉末に、所定量の絶縁材料とバインダ成分を均一に混合して、製造目的の圧粉磁心の電気抵抗率を高くするための処置が施される。このときに用いる絶縁材料としては例えばＡｌ2Ｏ3粉末，ＳｉＯ2粉末などの酸化物粉末や、ＡｌＮ，Ｓｉ3Ｎ4，ＢＮのような窒化物粉末が用いられ、またバインダ成分としては電気絶縁性も備えている水ガラスや、シリコーン樹脂などの有機高分子が用いられている。
【０００４】
なお、以後の説明においては、上記した絶縁材料とバインダ成分を一括して「絶縁バインダ」と呼ぶ。
ついで、この混合物を金型に充填したのち所定の圧力で成形して圧粉磁心のグリーン体が製造される。なお、このとき成形性を高めるために、通常は、上記した混合物に更にステアリン酸亜鉛のような潤滑剤の所定量が混合される。
【０００５】
そして最後に上記グリーン体に熱処理を行って、成形時に蓄積された成形歪みを解放し、目的とする圧粉磁心にする。
ところで、このようにして製造された圧粉磁心は、一般に、直流磁界（印加磁界）が強くなるにつれて磁束密度が次第に高くなっていき、そしてある強さの印加磁界で磁束密度が飽和に達するという磁化曲線（Ｂ−Ｈ曲線）を描く。そして、磁束密度が高くなっていく過程において、ある直流磁界に交流微小磁界を重畳して磁界を微小変化させたときの磁束密度の変化量を前記磁界の微小変化量で除算した値をもって、その磁界における透磁率（微分比透磁率）が定義されている。したがって、Ｂ−Ｈ曲線の傾きが小さくなる、すなわち印加磁界が強くなるにつれて、上記微分比透磁率は小さくなるので透磁率は低くなり、飽和磁化に達した以降では、透磁率は事実上１となる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、原料としてセンダスト粉末のような軟磁性粉末を用いて製造した高透磁率の圧粉磁心の場合、大電流通電の状態で使用すると、強い直流磁界が印加されることになるため、当該圧粉磁心の磁束密度は急速に飽和に近づき、その結果、透磁率は１に向かって低下するという問題が発生する。すなわち、このような高透磁率の圧粉磁心は、直流重畳特性が悪い。
【０００７】
通常、各種の用途分野では、初透磁率が６０〜１２５程度の圧粉磁心が実用されているが、このような圧粉磁心の場合、例えば１６kA／ｍ以上の高磁界が印加されると、その透磁率は極めて低くなり、実使用に耐え得ないという問題が発生している。とくに、最近、前述した電気自動車、ハイブリッドカーなどはますます高電流化されており、それに伴って、それらに搭載されるコアに印加される磁界も増加する傾向にある。したがって、圧粉磁心に対しても大電流使用に耐えうることが要求されている。
【０００８】
したがって、例えば１６kA／ｍ以上の高磁界が印加された場合であっても、必要水準の透磁率を確保せしめて直流重畳特性の劣化を抑制するためには、対象とする圧粉磁心の初透磁率を低めることが効果的である。
そして、一般に、透磁率は圧粉磁心の密度の関数であることが知られている。すなわち、低密度の圧粉磁心は低い透磁率を示すということを考えると、圧粉磁心の初透磁率を低めるという上記した課題を解決するためには、圧粉磁心を低密度化することが効果的であるといえる。
【０００９】
その場合に考慮すべきことは、その圧粉磁心は、印加磁界が強くなっていくにつれて磁束密度は高まり、最終的には飽和磁化にまで到達するという磁気特性を備えていることであり、また、仮に初透磁率は低くても、その圧粉磁心の飽和磁束密度は実使用上の必要水準を満たしていなければならないということであり、更には、工業的に高い歩留まりでの製造が可能であるという観点である。
【００１０】
本発明は、上記した観点に立って開発された圧粉磁心であって、高磁界が印加されても透磁率の低下が起こりにくく、高い印加磁界に至るまで実使用が可能である新規な圧粉磁心の提供を目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記した目的を達成するために、本発明者らは、初透磁率の最適値に着目して検討を重ねた結果、初透磁率を20以下の所定範囲に設定したときに、高磁界を印加した際の透磁率低下を抑制しうるという知見を得た。さらに、初透磁率を上記の所定範囲の値にするための軟磁性粉末の体積比率を見出して本発明を完成するに至った。
【００１２】
すなわち、本発明においては、Ｆｅ基である軟磁性粉末を主体として成る圧粉磁心において、前記軟磁性粉末のアスペクト比が１〜1.5であり、この軟磁性粉末の体積比率が４０〜６０％で、残部が絶縁バインダと空隙を主体とするものであり、かつ、初透磁率μ０が６≦μ０≦２０であり、印加磁界が２４kA／ｍのときの透磁率をμとすると、μ0とμの間には、μ／μ0≧０.５の関係が成立している圧粉磁心が提供される。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明の圧粉磁心は、後述する形状特性を有する軟磁性粉末と、同じく後述する絶縁バインダとを成形し、更に熱処理して製造され、ある密度を有するバルク体である。したがって、この圧粉磁心は、軟磁性粉末が絶縁バインダで被覆され、同時に前記絶縁バインダによって相互に結着された骨格構造を有し、そして内部には空隙として微細な孔が分布する組織構造になっている。
【００１４】
そして、本発明の圧粉磁心では、上記した組織構造において、軟磁性粉末が占有する体積比率は４０〜６０体積％の範囲に設定されている。したがって、残部の絶縁バインダを主体とする成分と、前記微細孔よりなる空隙の全体体積を合量した体積の比率は、４０〜６０体積％になっている。
まず、本発明の圧粉磁心は、その初透磁率をμ0としたときに、６≦μ0≦２０であり、さらに、印加磁界が２４kA／ｍのときの透磁率をμとしたとき、μ0とμの間には、μ／μ0≧０.５の関係が成立するような磁気特性を有している。
【００１５】
すなわち、初透磁率μ0は低いけれども、高磁界が印加されても、透磁率の低下は少なく、具体的には、２４kA／ｍという高磁界が印加されても、その時点において、初透磁率（μ0）に対して５０％以上の透磁率（μ）が確保されている圧粉磁心である。
６≦μ0≦２０の関係は、μ／μ0≧０.５の関係を実現するために必須のものであり、初透磁率μ0がこの範囲を逸脱すると、μ／μ0が０．５未満となってしまう、すなわち、μの低下が著しく実用に供することができない。
【００１６】
本発明で規定される磁気特性は、後述する要件を充足せしめることによって実現することができる。
その場合、軟磁性粉末としては、後述するアスペクト比が１〜１.５の範囲にあるものを用いることが必要である。
このアスペクト比が１.５より大きい軟磁性粉末である場合には、当該粉末の反磁界係数が小さくなるため、製造した圧粉磁心の初透磁率（μ0）は高くなり、その結果、高磁界印加時の透磁率低下が引き起こされ、具体的には、μ／μ0≧０.５の関係を成立させることができなくなるからである。
【００１７】
なお、本発明でいうアスペクト比とは、次のようにして測定された値のことをいう。
アスペクト比＝Ｌ2／Ｌ1
ここに、Ｌ1は、図１に示すように粉末Ｐから観察される長軸長さと定義し、Ｌ2は、Ｌ1の中点を通り、長軸Ｌ1に垂直な線が粉末の外周を横切って得られる短軸長さと定義する。
【００１８】
したがって、このアスペクト比が１の粉末とは、それが球であることを意味しており、またアスペクト比が１より小さい値として計算されることはない。
なお、本発明で用いる軟磁性粉末としてはＦｅ基軟磁性合金の粉末で、しかも、上記した形状特性を備えている粉末であれば何であってもよいが、その場合のＦｅ基軟磁性合金としては、例えば、Ｆｅ−３％Ｓｉ、Ｆｅ−６．５％Ｓｉ、Ｆｅ−９．５％Ｓｉ−５．５％Ａｌ（センダスト）、Ｆｅ−４７％Ｎｉ、Ｆｅ−（１〜１８）％Ｃｒ合金（％表示はいずれも質量％）などをあげることができる。
【００１９】
本発明の圧粉磁心において、このような形状特性を有する粉末の体積比率は、４０〜６０体積％の範囲内に規制されている。この規制は、前述した６≦μ0≦２０の関係を実現するために必須のものである。
上記した体積比率が６０体積％より大きい場合には、圧粉磁心の初透磁率（μ0）は２０を超えて高くなり、その結果、高磁界の印加時の透磁率（μ）は低下する。具体的には、μ／μ0≧０.５の関係を成立させることができなくなる。
【００２０】
また、この体積比率が４０体積％より小さい場合には、後述する絶縁バインダなどの成分の相対的な割合が多くなっており、同時に微細孔の全体体積も多くなっている状態であるため、磁気特性の面では、初透磁率μ0は６未満に低下し、さらに飽和磁束密度も低下し、同時に直流重畳特性も劣化するため、高磁界印加時の透磁率（μ）は低下する。すなわち上記と同様、μ／μ0≧０.５の関係を成立させることができなくなる。同時に、圧粉磁心は全体として相対的に多孔質になっているので、充分な強度特性が確保されているとはいいがたい。
【００２１】
次に、絶縁バインダなどに関していえば、本発明で使用可能な絶縁バインダとしては格別限定されるものではなく、例えば、水ガラスやシリコーン樹脂，リン酸，フェノール樹脂，イミド樹脂のように従来から使用されているものを用いればよい。
絶縁バインダの含有量は、上記した軟磁性粉末１００質量部に対し５〜２５質量部に設定されることが好ましい。この値は従来の圧粉磁心の場合に比べて非常に大量となっている。
【００２２】
このように大量に絶縁バインダを含有せしめることにより、本発明の圧粉磁心は低密度になり、その結果、初透磁率（μ0）が小さい値になってくるのである。
この含有量が５質量部より少ない場合には、圧粉磁心の低密度化が不充分となってその初透磁率（μ0）は大きくなり、そのため、高磁界印加時の透磁率（μ）が低下する可能性がある。具体的には、μ／μ0≧０.５の関係を成立させることが困難となる。
【００２３】
また、２５質量部よりも多くすると、圧粉磁心としての低密度化は可能になって初透磁率（μ0）を小さくすることはできるが、他方では、軟磁性粉末の占有割合が少なくなることに基因して、例えば目的とする飽和磁束密度が得にくくなり、また成形時に割れなどの現象が起こって不良品の発生率が高くなる。
本発明の圧粉磁心は、従来と同じように、上記した各成分を混合し、その混合物を成形し、ついで熱処理を行って製造することができる。
【００２４】
なお、上記の成形工程において、空隙率を多くするために比較的低い圧力で成形を行うことが好ましく、例えば、１００〜１０００ＭＰａの範囲が好適である。
【００２５】
【実施例】
実施例１〜１３，比較例１〜７
アトマイズ法により、粒径が１００メッシュ（１５０μｍ）以下で、表１に示した成分組成、アスペクト比を有する各種軟磁性粉末を製造した。
ついで、これら粉末１００質量に対し、水ガラスを４〜２０質量部の範囲内で添加・混合し、さらに０．５質量部のステアリン酸亜鉛（潤滑剤）を混合した。
【００２６】
各混合物を９８〜６８６ＭＰａの圧力でプレス成形して、外径２８mm，内径２０mm，厚み５mmのリング形状の圧粉体を成形し、ついで、Ａｒ雰囲気中において温度６５０℃で１時間保存して歪み取り磁気焼鈍を行って、表１に示したように軟磁性粉末の体積割合が異なる各種の圧粉磁心を作製した。
得られた圧粉磁心に対し、下記の仕様でその特性を調べた。
（１）軟磁性粉末の体積比率（体積％）：プレス成形後の圧粉体の密度を測定し、添加した水ガラス量と空隙量から算出。
（２）初透磁率（μ0）：各圧粉磁心に３５０ターンの巻線を施し、ＹＨＰ社製の４２８４１ＡプレシジョンＬＣＲメータで、印加磁界０．４Ａ／ｍ，周波数２０kHzの交流磁界における比透磁率として測定。
（３）印加磁界２４kA／ｍでの透磁率（μ）：上記のＬＣＲメータで、印加磁界２４kA／ｍ、直流磁界に印加磁界０．４Ａ／ｍ，周波数２０kHzの交流磁界を重畳したときにおける微分比透磁率として測定。
【００２７】
以上の結果を一括して表１に示した。
【００２８】
【表１】
0004336810.tif 000002
【００２９】
表１から次のことが明らかである。
（１）軟磁性粉末の体積比率が本発明で規定する範囲より多い比較例１，５は、初透磁率μ0が本発明で規定する範囲より高くなってしまい、結果として、高磁界印加時における透磁率の低下の度合いが大きくなり、本発明で規定するμ／μ0≧０．５を満足することができない。また、軟磁性粉末の体積割合が本発明で規定する範囲より少ない比較例２，６の場合は、初透磁率が本発明で規定する範囲より低くなり、また同様に透磁率の低下の度合いも大きい。したがって、軟磁性粉末の体積比率は４０〜６０体積％の範囲内に設定すべきであることがわかる。
【００３０】
（２）実施例７と比較例３、ならびに、実施例１０と比較例７を対比して明らかなように、それぞれ同一の鋼種に対して他の要件は同じであっても、アスペクト比が本発明で規定する範囲から外れている比較例３、比較例７の場合は、実施例７、実施例１０の場合に比べて、初透磁率が高くなっており、高磁界印加時の透磁率が低下している。このようなことから、用いる軟磁性粉末のアスペクト比を１〜１.５の範囲内に設定すべきであることがわかる。
【００３１】
（３）軟磁性粉末の体積％、アスペクト比が本発明で規定する範囲内にある実施例１〜１３は鋼種によらず、初透磁率が６〜２０の範囲にあり、高磁界印加時における透磁率の低下が低く抑えられ、μ／μ0≧０．５の関係が成立する。
【００３２】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、本発明の圧粉磁心は、初透磁率は低く設定されているが、しかし、高磁界の印加時にあっても透磁率の低下が抑制されている。したがって、この圧粉磁心は、電気自動車やハイブリッドカー、ＵＰＳ（無停電電源）などに搭載される大電流用のチョークコイルやインダクターのような用途に使用して有用である。
【図面の簡単な説明】
【図１】アスペクト比を算出する長軸Ｌ1，短軸Ｌ2の定義を説明するための軟磁性粉末の平面図である。
【符号の説明】
Ｐ    軟磁性粉末
Ｌ1   長軸
Ｌ2   短軸
【図１】
0004336810.tif 000003