(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
接着剤層を介して、導電性金属が透明プラスチック支持体に貼り合わされている構成体において、透明プラスチック支持体上の導電性金属上に小面積のオフセット印刷を複数回施すことにより、大面積の印刷インクレジストの幾何学図形を導電性金属上に形成した後、導電性金属をエッチングすることを特徴とする電磁波シールド性接着フィルムの製造方法。
【請求項２】
導電性金属上に金属めっきが施されていることを特徴とする請求項１に記載の電磁波シールド性接着フィルムの製造方法。
【請求項３】
エッチングする際の印刷インクレジストが黒色の印刷インクレジストである請求項１または請求項２に記載の電磁波シールド性接着フィルムの製造方法。
【請求項４】
導電性金属が黒化処理された導電性金属であることを特徴とする請求項１記載の電磁波シールド性接着フィルムの製造方法。
【請求項５】
オフセット印刷法が、紫外線（ＵＶ）または熱で硬化する印刷インクレジストを導電性金属上に形成し、紫外線または熱で硬化させる工程を含む請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルムの製造方法。
【請求項６】
導電性金属で描かれた幾何学図形のライン幅が４０μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ以上、ライン厚さが４０μｍ以下である請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルムの製造方法。
【請求項７】
透明プラスチック支持体が、プライマ塗布、プラズマ処理及びコロナ放電処理のうち少なくとも１つの方法を用いて表面処理された透明プラスチック支持体である請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルムの製造方法。
【請求項８】
透明プラスチック支持体がポリエチレンテレフタレートフィルムまたはポリカーボネートフィルムである請求項１ないし請求項７のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＣＲＴ、ＰＤＰ（プラズマ）、液晶、ＥＬなどのディスプレイ前面から発生する電磁波のシールド性を有する電磁波シールド性接着フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＣＲＴ、ＰＤＰなどのディスプレイ前面より発生する電磁波ノイズのシールド方法として、透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着して薄膜導電層を形成する方法（特開平１−２７８８００号公報、特開平５−３２３１０１号公報参照）が提案されている。
一方、良導電性繊維を透明基材に埋め込んだ電磁波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報、特開平５−２６９９１２号公報参照）や金属粉末等を含む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シールド材料（特開昭６２−５７２９７号公報、特開平２−５２４９９号公報参照）、さらには、ポリカーボネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成し、その上に無電解めっき法により銅のメッシュパターンを形成した電磁波シールド材料（特開平５−２８３８８９号公報参照）が提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
電磁波シールド性と透明性を両立させる方法として、特開平１−２７８８００号公報、特開平５−３２３１０１号公報に示されている透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着して薄膜導電層を形成する方法は、透明性が達成できる程度の膜厚（数１００Å〜２、０００Å）にすると導電層の表面抵抗が大きくなりすぎるため、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚで要求される３０ｄＢ以上、好ましくは５０ｄＢ以上のシールド効果に対して２０ｄＢ以下と不十分であった。
良導電性繊維を透明基材に埋め込んだ電磁波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報、特開平５−２６９９１２号公報）では、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚの電磁波シールド効果は４０〜５０ｄＢであるが、視認性に問題のない繊維径が２５μｍのとき、導電性繊維を規則配置させるために必要なピッチが５０μｍ以下となり、開口率が低下して透明性が損なわれ、ディスプレイ用途には適したものではなかった。
また、特開昭６２−５７２９７号公報、特開平２−５２４９９号公報の金属粉末等を含む導電性樹脂を透明基板上に直接スクリーン印刷法などによって印刷した電磁波シールド材料の場合も同様に、印刷精度の限界からライン幅は、５０〜１００μｍ前後となり透明性の低下やラインの視認性が発現するため前面フィルターとして適したものではなかった。一方凹版オフセット印刷法を使用した特許として、特公昭５９−１７５５５号公報があるが、これは導電膜を直接印刷で形成するもので、これでは所望の電磁波シールド性は得られなかった。
さらに特開平５−２８３８８９号公報に記載のポリカーボネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成し、その上に無電解めっき法により銅のメッシュパターンを形成したシールド材料では、無電解めっきの密着力を確保するために、透明基板の表面を粗化する工程が必要であることや、基板が無電解めっき工程でダメージを受けてはならないなどの制約があった。さらに透明基板が厚いと、ディスプレイに密着させることができないため、そこから電磁波の漏洩が大きくなる等の問題があった。また仮にこの方法により、電磁波シールド性と透明性は達成できたとしても、製造面においては、電磁波シールドテープのようにシールド材料を巻物にすることができないため嵩高くなることや自動化に適していないために製造コストがかさむという欠点もあった。
さらに特願平１０−１７９４８９号に示したように、凹版オフセット印刷で幾何学図形を描いた場合、一般にＰＤＰは大画面であることが多いため、一回の印刷では印刷ムラやにじみ・かすれが発生しやすく均一な図形を描くことが困難である場合があった。
【０００４】
ディスプレイ前面から発生する電磁波のシールド性については、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚにおける３０ｄＢ以上、好ましくは５０ｄＢ以上の電磁波シールド機能の他に、良好な可視光透過性、さらに可視光透過率が大きいだけでなく、シールド材の存在を肉眼で確認することができない特性である非視認性も必要とされる。電磁波シールド性、透明性、非視認性や被着体への簡易な接着性を有する電磁波シールド性接着フィルムとしては、これまで満足なものは得られていなかった。
本発明はかかる点に鑑み、電磁波シールド性と透明性・非視認性及び被着体への簡易な接着性を有し、オフセット印刷で幾何学図形を描いた場合の印刷ムラやにじみ・かすれの発生を防止した幾何学図形を描くことができる電磁波シールド性接着フィルムの製造方法を提供することを課題とする。
【０００５】
【問題を解決するための手段】
本発明は、次のものに関する。
１．  接着剤層を介して、導電性金属が透明プラスチック支持体に貼り合わされている構成体において、透明プラスチック支持体上の導電性金属上に小面積のオフセット印刷を複数回施すことにより、大面積の印刷インクレジストの幾何学図形を導電性金属上に形成した後、導電性金属をエッチングすることを特徴とする電磁波シールド性接着フィルムの製造方法。
２．  導電性金属上に金属めっきが施されていることを特徴とする項１に記載の電磁波シールド性接着フィルムの製造方法。
３．  エッチングする際の印刷インクレジストが黒色の印刷インクレジストである請求項１または項２に記載の電磁波シールド性接着フィルムの製造方法。
４．  導電性金属が黒化処理された導電性金属であることを特徴とする項１記載の電磁波シールド性接着フィルムの製造方法。
５．  オフセット印刷法が、紫外線（ＵＶ）または熱で硬化する印刷インクレジストを導電性金属上に形成し、紫外線または熱で硬化させる工程を含む項１ないし項４のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルムの製造方法。
６．  導電性金属で描かれた幾何学図形のライン幅が４０μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ以上、ライン厚さが４０μｍ以下である項１ないし項５のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルムの製造方法。
７．  透明プラスチック支持体が、プライマ塗布、プラズマ処理及びコロナ放電処理のうち少なくとも１つの方法を用いて表面処理された透明プラスチック支持体である項１ないし項６のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルムの製造方法。
８．  透明プラスチック支持体がポリエチレンテレフタレートフィルムまたはポリカーボネートフィルムである項１ないし項７のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルムの製造方法。
【０００６】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を詳細に説明する。
電磁波シールド性接着フィルムを構成する接着剤層の材料は、屈折率が１．４０〜１．７０の範囲にあるもの、より好ましくは１．４５〜１．７０の範囲にあるもので、主に以下に示す熱可塑性樹脂がその代表的なものとしてあげられる。たとえば天然ゴム（屈折率ｎ=1.52）、ポリイソプレン（ｎ=1.521）、ポリ−１，２−ブタジエン（ｎ=1.50）、ポリイソブテン（ｎ=1.505〜1.510）、ポリブテン（ｎ=1.513）、ポリ−２−ヘプチル−１，３−ブタジエン（ｎ=1.50）、ポリ−２−ｔ−ブチル−１、３−ブタジエン（ｎ=1.506）、ポリ−１，３−ブタジエン（ｎ=1.515）などの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン（ｎ=1.456）、ポリオキシプロピレン（ｎ=1.450）、ポリビニルエチルエーテル（ｎ=1.454）、ポリビニルヘキシルエーテル（ｎ=1.459）、ポリビニルブチルエーテル（ｎ=1. 456）などのポリエーテル類、ポリビニルアセテート（ｎ=1.467）、ポリビニルプロピオネート（ｎ=1.467）などのポリエステル類やポリビニルブチラール樹脂（ｎ=1.52）、ＥＶＡ樹脂（ｎ=1.48〜1.49）、ポリ酢酸ビニル樹脂（ｎ=1.5）、ポリウレタン（ｎ=1.5〜1.6）やポリエステルポリウレタン（ｎ=1.5〜1.6）、エチルセルロース（ｎ=1.479）、ポリ塩化ビニル（ｎ=1.54〜1.55）、ポリアクリロニトリル（ｎ=1.52）、ポリメタクリロニトリル（ｎ=1.52）、ポリスルホン（ｎ=1.633）、ポリスルフィド（ｎ=1.6）、フェノキシ樹脂（ｎ=1.5〜1.6）、ポリエチルアクリレート（ｎ=1.469）、ポリブチルアクリレート（ｎ=1.466）、ポリ−２−エチルヘキシルアクリレート（ｎ=1.463）、ポリ−ｔ−ブチルアクリレート（ｎ=1.464）、ポリ−３−エトキシプロピルアクリレート（ｎ=1.465）、ポリオキシカルボニルテトラメタクリレート（ｎ=1.465）、ポリメチルアクリレート（ｎ=1.472〜1.480）、ポリイソプロピルメタクリレート（ｎ=1.473）、ポリドデシルメタクリレート（ｎ=1.474）、ポリテトラデシルメタクリレート（ｎ=1.475）、ポリ−ｎ−プロピルメタクリレート（ｎ=1.484）、ポリ−３，３，５−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート（ｎ=1.484）、ポリエチルメタクリレート（ｎ=1.485）、ポリ−２−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリレート（ｎ=1.487）、ポリ−１，１−ジエチルプロピルメタクリレート（ｎ=1.489）、ポリメチルメタクリレート（ｎ=1.489）などのポリ（メタ）アクリル酸エステルが使用可能である。これらのアクリルポリマーは必要に応じて、２種以上共重合してもよいし、２種類以上をブレンドして使うことも可能である。
【０００７】
さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共重合樹脂としてはエポキシアクリレート（ｎ=1.48〜1.60）、ウレタンアクリレート（ｎ=1.5〜1.6）、ポリエーテルアクリレート（ｎ=1.48〜1.49）、ポリエステルアクリレート（ｎ=1.48〜1.54）なども使用することもできる。特に接着性の点から、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートが優れており、エポキシアクリレートとしては、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、アリルアルコールジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル等の（メタ）アクリル酸付加物が挙げられる。エポキシアクリレートなどのように分子内に水酸基を有するポリマーは接着性向上に有効である。これらの共重合樹脂は必要に応じて、２種以上併用することができる。一方、ポリマーの重量平均分子量は、５００以上のものが好ましく使用される。分子量が５００未満では接着剤組成物の凝集力が低すぎるために被着体への密着性が低下することがある。
本発明で使用する接着剤層の樹脂組成物には必要に応じて、希釈剤、可塑剤、チクソトロピー性付与剤、レベリング剤、消泡剤、酸化防止剤、金属不活性化剤、カップリング剤、紫外線吸収剤、防眩剤、赤外線吸収剤、導電性金属、充填剤や粘着付与剤などの添加剤を配合してもよい。
【０００８】
本発明で用いる接着剤層の屈折率しては１．４０〜１．７０のもの、より好ましくは１．４５〜１．７０のものを使用することが好ましい。これは本発明で使用するプラスチック支持体と接着剤層の屈折率が異なると可視光透過率が低下するためであり、屈折率が１．４０〜１．７０、好ましくは１．４５〜１．７０であると可視光透過率の低下が少なく良好で上述したポリマーの屈折率はこの範囲内にある。
これらの接着剤は通常の汎用溶剤に溶解させるか、または無溶剤のまま他の添加剤と共に攪拌・混合・溶解して使用することができる。
【０００９】
本発明で使用する導電性金属としては、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、白金、タングステン、クロム、チタン、スズ、鉛、パラジウムなどが挙げられ、それらの１種または２種以上を組み合わせて含むステンレス、半田などの合金も使用することができる。導電性、価格の点から銀、銅またはニッケルが適している。一方導電性金属として、常磁性金属である、鉄、ニッケル、コバルトを使用すると、電界に加えて、特に磁界の遮蔽性を向上させることも可能である。
【００１０】
本発明で使用する透明プラスチック支持体としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡなどのポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂などのプラスチックからなるフィルムで無色あるいは有色を含め全可視光透過率が７０％以上で厚さが１ｍｍ以下のものが好ましい。これらは単層で使用することもできるが、２層以上を組み合わせた多層フィルムとして使用してもよい。このうち透明性、耐熱性、取り扱いやすさ、価格の点からポリエチレンテレフタレートフィルムまたはポリカーボネートフィルムが好ましい。プラスチックフィルムの厚さは、５〜５００μｍがより好ましい。５μｍ未満だと取り扱い性が悪くなり、５００μｍを超えると可視光の透過率が低下してくる。１０〜２００μｍがさらに好ましい。
プラスチック支持体の少なくとも片面には、真空蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法、スプレー法、プリント印刷法などの方法で金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、コバルト、クロム、スズ、チタンなどやこれらの合金、あるいは酸化インジウム、酸化スズ、およびその混合物（以下ＩＴＯ）をはじめ、酸化チタン、酸化第二スズ、酸化カドミウムやこれらの混合物を用いて、導電性の薄膜層を形成してあってもよい。
また、透明プラスチック支持体の外層に、反射防止層を設けたり、近赤外線遮蔽層を形成したり、内包してもよい。
【００１１】
本発明で幾何学図形を描く際に用いられるオフセット印刷法としては凹版オフセット印刷が適している。これは通常のスクリーン印刷法や平版オフセット印刷法に比べて、５０μｍ以下の高精度の印刷性に優れているためである。凹版オフセット印刷法は、版の凹部に印刷インクレジストを詰め、一旦ブランケットに移し、これから被着体に印刷する方法である。本発明において複数回繰返すオフセット印刷とは、大面積の幾何学図形を描くために少なくとも２回以上の小面積の印刷を行うことを意味する。その際小面積に分割して幾何学図形を描くことにより、小型印刷機で印刷が可能である上、面内で印刷パターンのライン幅バラツキや印刷ムラ、にじみ・かすれなどを最小限に抑えることができる。
ここでいう大面積とは、１００ｍｍ×１００ｍｍ以上のものを指すが、本発明では特に５００ｍｍ×５００ｍｍ以上の幾何学図形、特に１０００ｍｍ×１０００ｍｍ以上の幾何学図形を描く際に有効である。一方、本発明でいう小面積とは１０００ｍｍ×１０００ｍｍ以下で、通常最も有効な小面積は５００ｍｍ×５００ｍｍ以下の場合である。
【００１２】
印刷インクレジストのバインダポリマーとしては、以下に示すものが挙げられる。天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−１，２−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−２−ヘプチル−１，３−ブタジエン、ポリ−２−ｔ−ブチル−１、３−ブタジエン、ポリ−１、３−ブタジエンなどの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテル、ポリビニルブチルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルホン、ポリスルフィド、ポリエチルアクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリ−２−エチルヘキシルアクリレート、ポリ−ｔ−ブチルアクリレート、ポリ−３−エトキシプロピルアクリレート、ポリオキシカルボニルテトラメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリイソプロピルメタクリレート、ポリドデシルメタクリレート、ポリテトラデシルメタクリレート、ポリ−ｎ−プロピルメタクリレート、ポリ−３，３，５−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリ−２−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリレート、ポリ−１，１−ジエチルプロピルメタクリレート、ポリメチルメタクリレートなどのポリ（メタ）アクリル酸エステルを挙げることができる。
さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共重合可能なモノマーとしては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレートなども使用できる。特に支持体への密着性の点から、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートが優れており、エポキシアクリレートとしては、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、アリルアルコールジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル等の（メタ）アクリル酸付加物が挙げられる。エポキシアクリレートなどのように分子内に水酸基を有するポリマーは被着体への密着性向上に有効である。これらのほかにも、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂のような熱硬化系樹脂などが適用可能で、これらのポリマーは必要に応じて、２種以上共重合してもよいし、２種類以上をブレンドして使用することも可能である。
これらのバインダポリマは通常、印刷インクとともに、汎用溶剤に溶解させるか、または無溶剤のまま上記の他の添加剤などとともに攪拌・混合・溶解して使用することができる。本発明で使用する印刷インクレジストには、バインダポリマーの他、必要に応じて、分散剤、チクソトロピー性付与剤、消泡剤、レベリング剤、希釈剤、可塑化剤、酸化防止剤、金属不活性化剤、カップリング剤、充填剤、導電性粒子などの添加剤を配合しても良い。そして、印刷インクレジストには、紫外線（ＵＶ）または熱で硬化するレジストを用いることが、レジストの取扱性、エッチング時の耐薬品性、レジストを設けて使用する場合に有利であるので好ましい。印刷配線板分野で使用されている感光性樹脂や導電性ペーストなどの組成を変形させて適用することができる。
【００１３】
本発明で用いる導電性金属上に金属めっきを施すことによって、さらに電磁波シールド性を向上させることができる。金属めっきを施す方法として常法による電解めっき、無電解めっき、蒸着等のいずれの方法、組合せでも可能である。めっき金属の種類は金、銀、銅、ニッケル、アルミ等が可能であるが、導電性、価格の点から銅、またはニッケルが最も適している。めっき厚みの範囲は０．１〜１００μｍが適当で、０．１μｍ未満では導電性が不十分なため、十分なシールド性が発現しないおそれがある。まためっき厚みが１００μｍを超えると、視野角が狭くなるため好ましくない。０．５〜５０μｍがさらに好ましい。
本発明においては、導電性金属を黒化処理した導電性金属を用いることが好ましい。幾何学図形を形成する前の導電性金属を黒化処理する場合、幾何学図形を形成した後に黒化処理する場合の何れでも良く、この場合コントラストを高めることができて好ましい。また経時的に酸化され退色されることが防止できる。黒化処理は、例えば、プリント配線板分野で行われている方法を用いて行うことができ、導電性金属が銅である場合、亜塩素酸ナトリウム（３１ｇ／ｌ）、水酸化ナトリウム（１５ｇ／ｌ）、燐酸三ナトリウム（１２ｇ／ｌ）の水溶液中、９５℃で２分間処理することにより行うことができる。
【００１４】
印刷インクレジストを黒色化する方法としては、印刷インクレジストに黒色色素を添加したり、カーボンブラック等の黒色添加剤を使用する方法がある。これらの黒色添加剤は通常、バインダポリマ１００重量部に対して、０．００１重量部以上の添加でコントラストの向上を図ることができるが、０．０１重量部以上の添加がさらに好ましい。黒色の印刷インクレジストは、導電性金属をエッチングした後も幾何学図形の上に残して電磁波シールド性接着フィルムとしてディスプレイに用いた場合、コントラストの向上を図ることができる。
【００１５】
本発明では、印刷インクレジストを用いて幾何学図形を導電性金属上に形成し、エッチングすることにより幾何学図形を形成する。この幾何学図形とは、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、ひし形、平行四辺形、台形などの四角形、（正）六角形、（正）八角形、（正）十二角形、（正）二十角形などの（正）ｎ角形、円、だ円、星型などを組み合わせた模様であり、これら単位の単独の繰り返し、あるいは２種類以上組み合わせで使用することも可能である。電磁波シールド性の観点からは三角形が最も有効であるが、可視光透過性の点からは同一のライン幅なら（正）ｎ角形のｎ数が大きいほど開口率が上がるが、可視光透過性の点から開口率は５０％以上が必要で、６０％以上がさらに好ましい。開口率は、電磁波シールド性接着フィルムの有効面積に対する有効面積から導電性金属で描かれた幾何学図形の導電性金属の面積を引いた面積の比の百分率である。ディスプレイ画面の面積を電磁波シールド性接着フィルムの有効面積とした場合、その画面が見える割合となる。
【００１６】
このような幾何学図形のライン幅は４０μｍ以下、ライン間隔は１００μｍ以上、ライン厚みは４０μｍ以下の範囲とするのが好ましい。また幾何学図形の非視認性の観点からライン幅は２５μｍ以下、可視光透過率の点からライン間隔は１２０μｍ以上、ライン厚み１８μｍ以下がさらに好ましい。ライン間隔は、大きいほど開口率は向上し、可視光透過率は向上するが、電磁波シールド性が低下するため、ライン幅は１ｍｍ以下とするのが好ましい。なお、ライン間隔は、幾何学図形等の組合せで複雑となる場合、繰り返し単位を基準として、その面積を正方形の面積に換算してその一辺の長さをライン間隔とする。
【００１７】
接着剤層と透明プラスチック支持体の接着性を向上させるため、透明プラスチック支持体上へ種々の表面処理を施すことが好ましい。その方法としては、プライマの塗布による処理、プラズマ処理、コロナ放電処理のうち少なくとも１つ以上の方法が好ましい。これらの処理により処理後のプラスチック支持体の臨界表面張力が３５dyn/cm以上、好ましくは４０dyn/cm以上になることがさらに好ましい。臨界表面張力が３５dyn/cm未満だと接着剤層との接着性が低下してくる場合がある。
【００１８】
本発明の電磁波遮蔽体において使用する透明基材は、ガラスやプラスチック等からなる板であり、具体的には、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂・ポリエチレンテレフタレート樹脂などの熱可塑性ポリエステル樹脂、酢酸セルロース樹脂、フッ素樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリウレタン樹脂、フタル酸ジアリル樹脂などの熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂が挙げれれる。これらの中でも透明性に優れるポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂が好適に用いられる。本発明で使用する透明基材の厚みは、０．５ｍｍ〜５ｍｍがディスプレイの保護や強度、取扱性から好ましい。
電磁波遮蔽体は、上記の透明基材と電磁波シールド性接着フィルムから構成され、透明基材の少なくとも片面に接着剤あるいは電磁波シールド性接着フィルムの接着剤層を導電性金属で描かれた幾何学図形の開口面を流動させることにより透明基材に接着して一体化する。これには、プレス、ラミネート等により積層成形する成形法を用いることができる。ディスプレイには、その実施形態として、例えば、電磁波シールド性接着フィルムをその画面に貼り付け使用できる。また、電磁波遮蔽体をディスプレイに取付けて使用することができる。
【００１９】
【実施例】
次に実施例に於いて本発明を具体的に述べるが、本発明はこれに限定されるものではない。
（実施例１）
縦１０００ｍｍ、横１０００ｍｍで厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（Ａ−４１００：東洋紡績株式会社製商品名）を用い、その表面にプライマ（ＨＰ−１：日立化成工業株式会社製商品名、塗布厚  １μｍ）を塗布し、さらにその上に接着剤層として、ポリビニルブチラール樹脂（＃６０００ＥＰ：電気化学工業株式会社製商品名、軟化点７２℃、分子量２４００、ｎ＝１．５２）を乾燥塗布厚が２０μｍになるように塗布した。その接着剤面に厚さ１８μｍの電解銅箔（ＪＴＣ：ジャパンエナジー株式会社製商品名）の粗化面を貼り合わせた。その後銅箔の光沢面に、凹版オフセット印刷法を用いて印刷インクレジスト（ＲＡＹＣＡＳＴ：日立化成工業株式会社製商品名）を一回の印刷につき縦４００ｍｍ、横４５０ｍｍの面積で印刷し、格子パターン（ライン幅２５μｍ、ライン間隔（ピッチ)２５０μｍ）を形成した。この印刷工程を残りの未印刷部に位置合わせして３回繰返すことにより、縦８００ｍｍ、横９００ｍｍの印刷パターンを銅箔の光沢面に形成した。その後、９０℃で１５分間プリべークした後、高圧水銀ランプで紫外線を９０ｍＪ/ｃｍ2照射した。その後、銅箔エッチング、レジスト剥離の工程を経て、電磁波シールド性接着フィルムを作製した。本フィルムの開口率は８１％であった。
【００２０】
（実施例２）
縦１０００ｍｍ、横１０００ｍｍで厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（Ａ−４１００：東洋紡績株式会社製商品名）を用い、その表面にプライマ（ＨＰ−１：日立化成工業株式会社製商品名塗布厚  １μｍ）を塗布し、さらにその上に接着剤層として、ポリ酢酸ビニル樹脂（ＳＮ-１０：電気化学工業株式会社製商品名、軟化点５５℃、重合度１２００〜１５００、ｎ＝１．５）を乾燥塗布厚が３０μｍになるように塗布した。その接着剤面に厚さ１２μｍの電解銅箔（ＮＤＧＥ：日本電解株式会社製商品名）の粗化面を貼り合わせた。その後銅箔の光沢面に、凹版オフセット印刷法を用いて黒色色素（Ｋａｙａｓｅｔ  ＢｌａｃｋＧ：日本化薬株式会社製商品名）を０．５重量％含有する印刷インクレジスト（ＰＨＯＴＯ  ＦＩＮＥＲ：太陽インキ株式会社製商品名）を一回の印刷につき縦４００ｍｍ、横４５０ｍｍの面積で印刷し、格子パターン（ライン幅２０μｍ、ライン間隔（ピッチ）２８６μｍ）を形成した。この印刷工程を残りの未印刷部に繰返すことにより、縦８００ｍｍ、横９００ｍｍの印刷パターンを銅箔の光沢面に形成した。その後、８０℃で１５分間プリべークした後、高圧水銀ランプで紫外線を７０ｍＪ/ｃｍ2照射した。その後、銅箔エッチング工程を経て、印刷インクレジストを剥離しないで電磁波シールド性接着フィルムを作製した。本フィルムの開口率は８６％であった。
【００２１】
（実施例３）
縦１０００ｍｍ、横１０００ｍｍで厚さ５０μｍのポリカーボネートフィルム（レキサン：旭硝子株式会社製商品名）を用い、そのコロナ処理面（臨界表面張力５４dyn/cm)に接着剤層として、ポリエステルポリウレタン樹脂（バイロンＵＲ−１４００：東洋紡株式会社製商品名、軟化点８３℃、平均分子量４００００、ｎ＝１．５）を乾燥塗布厚が２５μｍになるように塗布した。その接着剤面に厚さ１２μｍの電解銅箔（ＳＱ-ＶＬＰ：三井金属株式会社製商品名）の粗化面を貼り合わせた。その後銅箔の光沢面に、凹版オフセット印刷法を用いて下記の感光性樹脂を一回の印刷につき縦３５０ｍｍ、横４００ｍｍの面積で印刷し、格子パターン（ライン幅３０μｍ、ライン間隔（ピッチ）１２７μｍ）状に形成した。この印刷工程を残りの未印刷部に繰返すことにより、縦７００ｍｍ、横８００ｍｍの印刷パターンを銅箔の光沢面に形成した。高圧水銀ランプで紫外線を１０００ｍＪ/ｃｍ2照射し、さらに１２０℃で５分間加熱硬化させた。その後、銅箔エッチング、レジスト剥離の工程を経て、電磁波シールド性接着フィルムを作製した。本フィルムの開口率は５８％であった。
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シクロヘキサノン／メチルエチルケトン(1/1重量比)の45重量％ワニスとした。
【００２２】
（実施例４）
縦１０００ｍｍ、横１０００ｍｍで厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（Ａ−４１００：東洋紡績株式会社製商品名）を用い、その表面にプライマ（ＨＰ−１：日立化成工業株式会社製商品名、塗布厚  １μｍ）塗布し、さらにその上に接着剤層として、アクリル樹脂（ＨＴＲ−８１１：帝国化学産業株式会社製商品名、軟化点−４３℃、平均分子量４２万、ｎ＝１．５２）を乾燥塗布厚が２０μｍになるように塗布した。その接着剤面に厚さ１８μｍの電解銅箔（ＪＴＣ：ジャパンエナジー株式会社製商品名）の粗化面を貼り合わせた。その後銅箔の光沢面に、凹版オフセット印刷法を用いて黒色色素（Ｋａｙａｓｅｔ  ＢｌａｃｋＧ：日本化薬株式会社製商品名）を０．５重量％含有する印刷インクレジスト（ＣＩＲ７０７：日本合成ゴム株式会社製商品名）を一回の印刷につき縦４００ｍｍ、横４５０ｍｍの面積で印刷し、格子パターン（ライン幅２０μｍ、ライン間隔（ピッチ）２５０μｍ）状に形成した。この印刷工程を残りの未印刷部に繰返すことにより、縦８００ｍｍ、横９００ｍｍの印刷パターンを銅箔の光沢面に形成した。その後、８０℃で１５分間プリべークした後、高圧水銀ランプで紫外線を１００ｍＪ/ｃｍ2照射した。その後、銅箔エッチング工程を経て、印刷インクレジストを剥離することなく電磁波シールド性接着フィルムを作製した。本フィルムの開口率は８４％であった。
【００２３】
（実施例５）
縦１０００ｍｍ、横１０００ｍｍで厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（Ａ−４１００：東洋紡績株式会社製商品名）を用い、その表面にプライマ（ＨＰ−１：日立化成工業株式会社製商品名、塗布厚  １μｍ）を塗布し、さらにその上に接着剤層として、ポリビニルブチラール樹脂（＃６０００ＥＰ：電気化学工業株式会社製商品名、軟化点７２℃、分子量２４００、ｎ＝１．５２）を乾燥塗布厚が２０μｍになるように塗布した。その接着剤面に厚さ１２μｍの電解銅箔（ＳＱ−ＶＬＰ：三井金属株式会社製商品名）の粗化面を貼り合わせた。その後銅箔の光沢面に、凹版オフセット印刷法を用いてカーボンブラック（ケッチェンブラックＥＣ−６００：ライオン株式会社製商品名、平均粒径０．０３μｍ）を１．０重量％含有する印刷インクレジスト（ＲＡＹＣＡＳＴ：日立化成工業株式会社製商品名）を一回の印刷につき縦４００ｍｍ、横４５０ｍｍの面積で印刷し格子パターン（ライン幅２０μｍ、ライン間隔（ピッチ）２５０μｍを形成した。この印刷工程を残りの未印刷部に繰返すことにより、縦８００ｍｍ、横９００ｍｍの印刷パターンを銅箔の光沢面に形成した。その後、９０℃で１５分間プリべークした後、高圧水銀ランプで紫外線を９０ｍＪ/ｃｍ2照射した。その後、銅箔エッチング工程を経て、印刷インクレジストを剥離することなく電磁波シールド性接着フィルムを作製した。本フィルムの開口率は８４％であった。
【００２４】
（実施例６）
実施例１で得られた電磁波シールド性接着フィルムの幾何学図形を形成した面を厚さ３ｍｍの市販のソーダライムガラスに、そして電磁波シールド性接着フィルムの反対側面を接着フィルム（エスレック：積水化学工業株式会社製商品名、厚さ２５０μｍ）を介して市販のアクリル板（コモグラス：株式会社クラレ製商品名、厚み３ｍｍ）に熱プレス機を使用し、１１０℃、２０Ｋｇｆ／ｃｍ2、１５分の条件で加熱圧着し電磁波遮蔽体を得た。
【００２５】
（比較例１）
実施例１において、一回の印刷面積を縦８００ｍｍ、横９００ｍｍにして、一回だけの印刷で印刷インクレジストを形成した以外は実施例１と同様にして電磁波シールド性接着フィルムを作製した。
【００２６】
（比較例２）
実施例２において、一回の印刷面積を縦８００ｍｍ、横９００ｍｍにして、一回だけの印刷で印刷インクレジストを形成した以外は実施例２と同様にして電磁波シールド性接着フィルムを作製した。
【００２７】
（比較例３）
実施例３において、一回の印刷面積を縦７００ｍｍ、横８００ｍｍにして、一回だけの印刷で印刷インクレジストを形成した以外は実施例３と同様にして電磁波シールド性接着フィルムを作製した。
【００２８】
（比較例４）
実施例４において、一回の印刷面積を縦８００ｍｍ、横９００ｍｍにして、一回だけの印刷で印刷インクレジストを形成した以外は実施例４と同様にして電磁波シールド性接着フィルムを作製した。
【００２９】
（比較例５）
実施例５において、一回の印刷面積を縦８００ｍｍ、横９００ｍｍにして、一回だけの印刷で印刷インクレジストを形成した以外は実施例５と同様にして電磁波シールド性接着フィルムを作製した。
【００３０】
以上のようにして得られた電磁波シールド性接着フィルムの外観（印刷パターンの異常の有無）、と導電性金属で描かれた幾何学図形の開口率、電磁波シールド性（３００ＭＨｚ）、可視光透過率、非視認性、コントラスト、ガラス板への接着性を測定した。その測定結果を表１に示した。
【００３１】
電磁波シールド性接着フィルムの外観は肉眼観察により行い、外観に異常のないものを「なし」、異常のあるものはその状態を記した。
導電性金属で描かれた幾何学図形の開口率は顕微鏡写真をもとに実測した。
電磁波シールド性は、同軸導波管変換器（ＴＷＣ−Ｓ−０２４：日本高周波株式会社製商品名）のフランジ間に試料を挿入し、スペクトラムアナライザー（８５１０Ｂベクトルネットワークアナライザー：ＹＨＰ製商品名）を用い、周波数３００ＭＨzで測定した。
可視光透過率の測定は、ダブルビーム分光光度計（２００−１０型：株式会社日立製作所製商品名）を用いて、４００〜７００ｎｍの透過率の平均値を用いた。
非視認性及びコントラストは肉眼観察により判定した。非視認性は、電磁波シールド性接着フィルムを０．５ｍ離れた場所から観察し、導電性金属で形成された幾何学図形を認識できないものを良好、認識できるものをＮＧとした。コントラストは、電磁波シールド性接着フィルムをプラズマディスプレイ装置の画面に密着させ、コントラストについて観察し、コントラストに優れているものを良好、そうでないものをＮＧとして評価した。
フィルムのガラスへの密着性は、電磁波シールド性接着フィルムを１１０℃、１０Kgf/cm2で１０分間の条件で接着剤層を流動させることによりガラスに接着させ接着力を測定した。
【００３２】
【表１】
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【００３３】
比較例１〜比較例５は一回の印刷面積を縦７００〜８００ｍｍ、横８００〜９００ｍｍにして、一回だけの印刷で印刷インクレジストを形成したものであるが、面内で印刷パターンのライン幅バラツキや印刷ムラ、にじみ・かすれ、断線などが多数発生した。これらの比較例に対して、本発明の実施例で示した、接着剤層を介して、導電性金属と透明プラスチック支持体からなる構成体において、透明プラスチック支持体上の導電性金属上に小面積のオフセット印刷を複数回施すことにより、大面積の幾何学図形を有する印刷インクレジストを導電性金属上に形成した後、導電性金属をエッチングすることによって得られた電磁波シールド性接着フィルムはラインのにじみ、かすれ、断線がなく、印刷可能な最小ライン幅は２０μｍと良好であった。そして、開口率が高く明るい割に電磁波シールド性を５０ｄＢ以上とすることができる。また、黒化処理することにより、コントラストが良好になり、くっきりした画像を鑑賞できた。
【００３４】
【発明の効果】
本発明に係る電磁波シールド性接着フィルムの製造方法によれば、小面積のオフセット印刷法を複数回、導電性金属上に施すことによって大面積の電磁波シールド性接着フィルムを製造しているため、優れた外観と共に、電磁波シールド性、透明性、非視認性及びガラスなどへの接着性に優れた電磁波シールド性接着フィルムを安価に提供することが可能である。導電性金属上に金属めっきを施すことにより、電磁波シールド性が非常に優れた電磁波シールド性接着フィルムを提供することができる。エッチングする際の印刷インクレジストを黒色の印刷インクレジストにすることにより安価でコントラストの優れた電磁波シールド性接着フィルムを提供することができる。導電性金属が黒化処理された導電性金属とすることによりコントラストの優れた電磁波シールド性接着フィルムを提供することができる。オフセット印刷法において、紫外線（ＵＶ）または熱で硬化する印刷インクレジストにすることにより、安価で信頼性に優れた電磁波シールド性接着フィルムを提供することができる。導電性金属で描かれた幾何学図形のライン幅を４０μｍ以下、ライン間隔を１００μｍ以上、ライン厚さを４０μｍ以下とすることにより、透明性と電磁波シールド性が非常に良好な電磁波シールド性接着フィルムを提供することができる。透明プラスチック支持体をプライマ処理、プラズマ処理及びコロナ放電処理のうち少なくとも１つの方法を使用して表面処理された透明プラスチック支持体とすることにより、接着信頼性に優れた電磁波シールド性接着フィルムを得ることができる。透明プラスチック支持体をポリエチレンテレフタレートフィルムまたはポリカーボネートフィルムとすることにより、透明性の優れた電磁波シールド性接着フィルムを安価に提供することができる。前記電磁波シールド性接着フィルムと透明基材から構成された電磁波遮蔽体とすることにより、透明性を有する電磁波シールド性基板を提供することができる。電磁波シールド性と透明性を有する電磁波シールド性接着フィルムまたは前記電磁波遮蔽体をディスプレイに用いることにより、軽量、コンパクトで透明性に優れ電磁波漏洩が少ないディスプレイを提供することができる。
【００３５】
前記の電磁波シールド性接着フィルムをディスプレイに使用した場合、可視光透過率が大きく、非視認性が良好であるのでディスプレイの輝度を高めることなく通常の状態とほぼ同様の条件下で鮮明な画像を快適に鑑賞することができる。しかも本フィルム自体接着性を有するため、容易に被着体に貼合わせることができる。
前記の電磁波シールド性接着フィルム及び前記の電磁波遮蔽体は、優れた外観を有すると共に、電磁波シールド性や透明性に優れているため、ディスプレイの他に電磁波を発生したり、あるいは電磁波から保護する測定装置、測定機器や製造装置の内部をのぞく窓や筐体、特に透明性を要求される窓のような部位に設けて使用することができる。