(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｔダイもしくはコートハンガーダイから溶融押し出された熱可塑性高分子シートを、表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）が０．１μｍ以下で、溶融押し出された熱可塑性高分子シートの流れ方向に対し、曲率のない形で接触している時間が２０秒以上ある長さの金属ベルトを用いて冷却シート化する熱可塑性高分子シートの製造方法において、
前記熱可塑性高分子シートがポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルイミド、高耐熱ポリカーボネート、ノルボルネン系高分子またはこれらの混合物またはイミドで変性した高分子からなり、
かつ前記熱可塑性高分子シートが金属ベルトに接触する最初の部分の金属ベルトの温度（Ｖ１）が前記熱可塑性高分子のガラス転移点（Ｔｇ）に対し、Ｔｇ−２０≦Ｖ１≦Ｔｇ＋１００（℃）の範囲にあり、熱可塑性高分子シートの流れ方向に対し曲率のない部分の金属ベルトの温度（Ｖ２）が、Ｔｇ−３０≦Ｖ２≦Ｔｇ＋３０（℃）の範囲にあり、冷却された熱可塑性高分子シートが、金属ベルトから離れる部分の金属ベルトの温度（Ｖ３）が、Ｖ３＜Ｔｇ−１００（℃）であり、且つ、Ｖ３＜Ｖ２≦Ｖ１（℃）の範囲にあることを特徴とする熱可塑性高分子シートの製造方法。
【請求項２】
金属ベルトに接触している側の熱可塑性高分子シートの表面温度と熱可塑性高分子シートの反対側の表面温度を同じ温度である請求項１記載の熱可塑性高分子シートの製造方法。
【請求項３】
Ｔダイもしくはコートハンガーダイの熱可塑性高分子が通過する面の表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）が、０．５μｍ以下であり、ダイスのリップ間隙が熱可塑性高分子シートの厚みに対し、３倍以上５０倍以下である請求項１又は２記載の熱可塑性高分子シートの製造方法。
【請求項４】
Ｔダイもしくはコートハンガーダイから溶融押し出される熱可塑性高分子シートが光学用シートであり、熱可塑性高分子シートのガラス転移点が１５０℃以上であり、シート厚みが５０μｍ以上１０００μｍ以下であり、平面に於けるリタデーションが２０ｎｍ以下であり、少なくともシートの片面の表面の粗さが０．１μｍ以下であり、且つ３００ｍｍ角のシートの反り量が５ｍｍ以下である請求項１〜３記載の熱可塑性高分子シートの製造方法。
【請求項５】
熱可塑性高分子シートがガラス転移温度１５０℃以上の非晶質樹脂である請求項１〜４記載の熱可塑性高分子シートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、熱可塑性高分子シートの製造方法において、平面のリタデーションが小さく、平面平滑性に優れ、シートの反りが少ない熱可塑性高分子シートを生産性良く製造する方法に関するもので、この様なシートは光学用シートに適している。
【０００２】
【従来の技術】
従来、液晶表示素子用透明電極基板にはガラス基板が採用されてきたが、ガラス基板を用いた液晶表示素子においては、ガラス基板自体が厚いため液晶表示素子自体の薄型化が困難であると共に、軽量化しにくいという欠点があり、更に、可とう性、耐衝撃性の点で問題があった。
このガラス基板液晶表示素子のもつ欠点を改善する方法として、プラスチックフィルムを用いて液晶パネルを作製することにより、液晶パネルの軽量化、耐衝撃性の向上が検討されている。
例えば、特開昭５３−６８０９９号公報及び特開昭５４−１２６５５９号公報には、ガラス基板の代わりに導電性酸化金属物質を蒸着した長尺のポリエステルフィルムを用いて液晶表示素子パネルを連続して製造することが示されているが、光学的特性において優れているとは言い難いものであった。
この問題を解決するため、光学等方性に優れた熱可塑性樹脂シートをこれらの用途に応用すべく研究を重ねたところ、溶融押し出し製膜工程において発生する分子配向に起因するシートのリタデーションが重大な欠点となることが分かった。例えば、ＴＮ（Twisted Nematic）型液晶表示素子では偏光板により直線偏光された入射光が、透明電磁シートの複屈折性及びそのシート面内の偏差から部分的に異なる楕円偏光になるため、コントラストの低下、表示ムラを生じさせている。  更に、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）型液晶表示素子では、透明電磁シートの複屈折性より発現する光学的位相差からＴＮ型液晶表示素子以上に高精細な表示が得られないばかりでなく、液晶分子より発生するリターゼイションもあることから、光学的位差を補償するための偏光板、位相差板及び透明電極シートによる液晶セルの組み合わせの最適化が非常に煩雑なものとなっている。
【０００３】
更に、熱可塑性樹脂シートを用いた液晶セルが実用化されるにつれて、表示面積が大型化し、電極同志を均一間隔に保つ、いわゆるギャップ維持のため、基材として変形し難いことが要求されている。基材厚みは当初の１００μｍ厚から３００μｍを越える場合が出てきており、高分子シートを用いた開発も行われているが、平面のリタデーションによる液晶表示のコントラストの問題、表面性、平面平滑性が原因である表示欠点の問題、反りによる液晶封子部の剥がれ、及び素子の変形が課題となっており、早急な改善が望まれている。
光学用材料の位相差を改善する方法として、特殊な２価フェノールを構造単位とする特殊ポリカーボネートを用いる方法（特開昭６３−１０８０２３号公報）、固有複屈折が正の材料と負の材料をブレンドする方法（T.Inoue et al.,Journalof Polymer Science ,Part B,25,1629(1987).）、固有複屈折が正のポリカーボネートと負のポリスチレンをグラフト共重合させる方法（日経ニューマテリアル、１９８８年９月２６日号、６０〜６２頁の記事）、極性基を有したノルボルネン系樹脂を用いる方法（機能材料、１９９３年１月号、４０〜５２頁の記事）等が提案されているがいずれも実用化には至っていない。
【０００４】
又、押し出し法にて押し出されたシートが冷却ロールで冷却固化され巻き取られるまでの短時間の間に、ダイス内で生じるせん断応力や、ダイスリップから出た樹脂が延伸されることによる流れ方向及び厚み方向に生じる温度分布によりシート内で発生する面内及び厚み方向での分子配向を避けることが出来なかった。この傾向はシートが厚くなればなるほど顕著になる性質があり、表示画面の大型化に伴い重大な欠点となっていた。
表面平滑性については、一般的に知られているＴダイやコートハンガーダイを使用した溶融押し出し法では、熱可塑性樹脂高分子の通る流路内でのせん断応力や滞留、更には、ダイスの面やリップの精度により生じるとされているダイラインと呼ばれる筋がシート面に発生し、表面の平滑性を低下させている。表面平滑性を向上させる手段として、熱可塑性高分子を溶剤に溶解させ、フィルムもしくは金属ベルト等にコーティングし乾燥させる溶剤キャスト法が知られているが、シート厚みが厚くなった場合の生産性及びシート中の残留溶剤が問題となる。
【０００５】
他方、表面を高精度に仕上げたロールとロール、金属ベルトとロール、又は金属ベルトと金属ベルトの間で溶融押し出した熱可塑性高分子をニップし、ロール又は金属ベルトの表面を転写させる方法もあるが、挟み込みを行うため光学的歪み、即ち、リタデーションが発生し、光学用のシートとして使用することは困難である。又、表面を高精度に仕上げた金型に熱可塑性高分子を封入して成形する射出成型法もＣＤディスクで知られるようにリタデーションの制御が可能であり、生産性も問題ないことから有力候補と考えられるが、射出成型法では数ｍｍオーダーの厚みのシートが限界であり、数百μｍの厚みには対応できない。
表面性を向上させるために後加工を行うことも知られているが、表面を高精度で仕上げた板でシートをプレスし、表面平滑性を向上させる方法は生産性が悪く、大量生産には向いておらず、又、ＰＥＴフィルムで知られてるような延伸加工を行う方法は、シートの表面は向上するが複屈折が生じるため光学用シートの製造方法としては適さない。
【０００６】
シートの反りについては、一般的に知られている冷却ロールでの冷却方法は、冷却固化時に冷却ロールの円周を形取ることによりシートの反りが発生すると考えられているが、その解決方法として極めて大きな冷却ロールを使用し曲率半径を増加させることが考えられるが経済的に適さない。
又、曲率のない平板上で高分子シートを冷却固化させることにより解決が見いだされると考えられるが、冷却面に接触している高分子シートの表面温度と高分子シートの反対側の表面温度との差によりシートに反りが発生しやすくなる。
他方、射出成型法、板によるプレス法、金属ベルトによるニップ法等はシートに反りを生じさせない製法であるが、前述のように光学用シートとしては平面のリタデーションの点で問題がある。
【０００７】
本発明者らは、これら問題点を解決するため検討を行い、特願平１１−３７８２３号、特願平１１−５１４２３号を出願し、溶融押し出した熱可塑性高分子シートを金属ベルト上に接触させ、金属ベルトの各部分の温度条件を制御させることにより表面平滑性に優れ、複屈折率が小さく、且つシートの反りの少ない目的とする熱可塑性高分子シートを得ることは可能となった。しかし、高分子シートを金属ベルトから引き離す際に、高分子シートと金属ベルト溶融密着し、外観不良を生じ易く、連続生産性に問題が残っていた。
このように、表面平滑性に優れ、複屈折率が小さく、シートの反りが小さく、且つ安定して連続生産可能な熱可塑性高分子シートの製法は現状技術では困難であった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的とするところは、高分子シートの表面平滑性が優れ、複屈折率が小さい、つまり光学的位相差の小さいシートであり、更に高分子シートの反りが小さく、液晶表示パネル用として問題なく使用出来る熱可塑性高分子シートの連続生産可能な製造方法を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、Ｔダイもしくはコートハンガーダイから溶融押し出された熱可塑性高分子シートを、表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）が０．１μｍ以下で、溶融押し出された熱可塑性高分子シートの流れ方向に対し、曲率のない形で接触している時間が２０秒以上ある長さの金属ベルトを用いて冷却シート化する熱可塑性高分子シートの製造方法において、熱可塑性高分子シートが金属ベルトに接触する最初の部分の金属ベルトの温度（Ｖ１）が熱可塑性高分子のガラス転移点（Ｔｇ）に対し、Ｔｇ−２０≦Ｖ１≦Ｔｇ＋１００（℃）の範囲にあり、熱可塑性高分子シートの流れ方向に対し曲率のない部分の金属ベルトの温度（Ｖ２）が、Ｔｇ−３０≦Ｖ２≦Ｔｇ＋３０（℃）の範囲にあり、冷却された熱可塑性高分子シートが、金属ベルトから離れる部分の金属ベルトの温度（Ｖ３）が、Ｖ３＜Ｔｇ−１００（℃）であり、且つ、Ｖ３＜Ｖ２≦Ｖ１（℃）の範囲にある熱可塑性高分子シートの製造方法である。
好ましい実施形態としては、金属ベルトに接触している側の熱可塑性高分子シートの表面温度と熱可塑性高分子シートの反対側の表面温度を同じ温度であり、Ｔダイもしくはコートハンガーダイの熱可塑性高分子が通過する面の表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）が、０．５μｍ以下であり、ダイスのリップ間隙が熱可塑性高分子シートの厚みに対し、３倍以上５０倍以下である前記熱可塑性高分子シートの製造方法である。
また、本発明は、Ｔダイもしくはコートハンガーダイから溶融押し出される熱可塑性高分子シートが光学用シートであり、熱可塑性高分子シートのガラス転移点が１５０℃以上であり、シート厚みが５０μｍ以上１０００μｍ以下であり、平面に於けるリタデーションが２０ｎｍ以下であり、少なくともシートの片面の表面の粗さが０．１μｍ以下であり、且つ３００ｍｍ角のシートの反り量が５ｍｍ以下である前記熱可塑性高分子シートの製造方法である。
更に本発明は、熱可塑性高分子シートがガラス転移点温度１５０℃以上の非晶質樹脂であり、好ましくは熱可塑性高分子シートがポリエーテルサルホンである前記熱可塑性高分子シートの製造方法である。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明に使用する熱可塑性高分子のガラス転移点（Ｔｇ）は、１５０℃以上が好ましく、更に好ましくは１８０℃以上である。熱可塑性高分子のガラス転移点（Ｔｇ）が１５０℃未満になると液晶組立工程の熱処理、例えば、配向膜焼成及びシール硬化温度にてシートが軟化して不具合が生じてしまう。
本発明に於けるＴｇが１５０℃以上の熱可塑性高分子としては、例えば、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルイミド、高耐熱ポリカーボネート、ノルボルネン系高分子及びこれをブレンドした樹脂をあげることができるが、中でもポリエーテルサルホンが好ましい。又イミドで変性した高分子、例えばイミド変性ポリメチルメタクリレート等も用いることができる。
【００１１】
本発明の熱可塑性高分子シートの厚みは、５０μｍ以上１０００μｍ以下が好ましく、更に好ましくは１５０μｍ以上５００μｍ以下である。高分子シートの厚みが５０μｍ未満であるとガラスのラインに転用した場合に取り扱いが困難であり、又、液晶のセルギャップ保持が難しく、特に、大面積の液晶表示素子ではセルギャップ保持することは出来ない。１０００μｍを越えると液晶表示がダブルイメージと呼ばれる表示不良を起こし、更に液晶表示素子の厚みが厚くなり機能上好ましくない。
【００１２】
本発明の熱可塑性高分子シートの平面のリタデーションは、好ましくは２０ｎｍ以下、更に好ましくは１０ｎｍ以下である。平面のリタデーションとは、Ｒｅ＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄで表されるもので、Ｎｘは高分子シート内面の最大屈折率であり、Ｎｙは高分子シート内面の最小屈折率である。ｄはシートの厚みである。リタデーションが２０ｎｍを越えると液晶表示のコントラストの低下が発生し、表示が明瞭に見えなくなる。
【００１３】
本発明の熱可塑性高分子シートの表面粗さ（Ｒｍａｘ）は０．１μｍ以下が好ましく、更に好ましくは０．０５μｍ以下である。表面の粗さの最大が０．１μｍを超えると、液晶のセルギャップ異常が発生し表示不良となる。熱可塑性高分子シートの反りは、３００ｍｍ角の大きさで５ｍｍ以下が好ましく、更に好ましくは３ｍｍ以下で、より好ましくは１ｍｍ以下である。高分子シートの反りが５ｍｍを越えると液晶表示のセルギャップの保持が難しく、表示不良になるばかりか、シートの反りによる応力により液晶セルが変形し、シール部が剥離するといった信頼性の低下につながる。
【００１４】
熱溶融された熱可塑性高分子が通過するダイス面の表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）は、０．５μｍ以下が好ましく、更に好ましくは０．３μｍ以下である。表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）が０．５μｍを越えると、ダイスより押し出された高分子シートの表面は、ダイスの表面性の影響を受けダイラインと呼ばれる筋、つまり、シートの表面に凹凸の筋が発生し、金属ベルトを通しても消す去ることは困難である。
【００１５】
ダイスのリップ間隔は、シート厚みに対し３倍以上５０倍以下であることが好ましく、更に好ましくは５倍以上４０倍以下である。ダイスリップの間隔がシートの厚みに対し３倍未満であるとダイスより溶融押し出された高分子シートを引き延ばす作用が少なくなり、高分子シートの表面粗さが悪化する。ダイス表面の表面粗さを向上させることにより改善は出来るが技術的にも経済的にも問題がある。５０倍を越えると高分子シートの表面粗さに関しては、改善の方向であるが、厚み調整が難しく、厚みのバラツキが大きくなる等の他に、高分子シートに延伸作用が働き、高分子シートのリタデーションが悪化する原因ともなる。
【００１６】
金属ベルトの表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）０．１μｍ以下が好ましく、更に好ましくは０．０５μｍ以下である。高分子シートは金属ベルトの面を転写するため、金属ベルトの表面性が０．１μｍを越えると高分子シートの表面粗さの最大も０．１μｍ以上となるため光学用シートとしては問題となる。
【００１７】
金属ベルトの長さは、高分子シートの流れ方向に対し曲率がない位置での冷却時間が２０秒以上であることが必要であり、好ましくは３０秒以上である。冷却時間が２０秒未満となる金属ベルトを使用すると高分子シートが十分に冷却されず、シートの反りが発生する原因となり、また、十分に冷却されないと高分子シートのリタデーションが悪化する。
【００１８】
ダイスリップから溶融押し出された熱可塑性高分子シートが最初に接触する部分の金属ベルトの温度（Ｖ１）は、熱可塑性高分子のガラス転移点（Ｔｇ）に対し、Ｔｇ−２０≦Ｖ１≦Ｔｇ＋１００（℃）の範囲であり、好ましくはＴｇ−１０≦Ｖ１≦Ｔｇ＋８０（℃）である。Ｖ１がＴｇ−２０（℃）未満であるとダイスより溶融押し出された高分子シートが急冷され、急冷と呼ばれる外観不良となる。また、Ｖ１がＴｇ＋１００（℃）以上であるとダイス温度より高い温度で冷却する不具合の他、高分子シートが熱分解する可能性がある。
【００１９】
シートの流れ方向に対し曲率のない部分の金属ベルトの温度（Ｖ２）は、Ｔｇ−３０≦Ｖ２≦Ｔｇ＋３０（℃）の範囲であり、好ましくは、Ｔｇ−２０≦Ｖ２≦Ｔｇ２０（℃）である。Ｖ２の温度がＴｇ−３０（℃）未満であるとＶ１の温度と同様に冷却シワが発生してしまい、Ｔｇ＋３０（℃）を越えると、高分子シートの固化が十分に行われず、シートに反りが発生することと、高分子シートのリタデーションが悪化してしまうことが問題となる。Ｖ２の温度条件は、曲率のない金属ベルト上でシートの流れに対し、温度が低くなるように変化を付けることも可能である。
【００２０】
金属ベルトにより冷却された高分子シートが金属ベルトから離れる部分の金属ベルトの温度（Ｖ３）は、Ｖ３＜Ｔｇー１００（℃）である。熱可塑性高分子シートの分子構造はＶ１、Ｖ２の条件で決定されており、即ち平面の平滑性、平面のリタデーションも変わることがないため、金属ベルトから離れる時点で如何に安定して引き離せるかが連続生産性のポイントとなる。Ｖ３≧Ｔｇ−１００（℃）の場合高分子シートが金属ベルトより離れる際に高分子シートが金属ベルトに溶融密着することがあり、外観不良を引き起こし高分子シートの安定した連続生産の問題となる。Ｖ３＜Ｔｇ−１００（℃）の場合、高分子シートの厚み方向の温度分布が均一な条件下では、すでに一定化した物性の高分子シートが安定した収縮を開始し、金属ベルトの収縮との差が拡大するため、特に冷却シワを発生することなく、安定して金属ベルトより離すことが可能となり、反りの少ない熱可塑性高分子シートの連続生産が可能となる。
更に、Ｖ１、Ｖ２，Ｖ３の温度はＶ３＜Ｖ２≦Ｖ１（℃）の関係にあるのが必要であり、この関係にないと効率のよい高分子シートの生産は行われない。
【００２１】
又、高分子シートの金属ベルトと接触している面とは反対側の高分子シート面を金属ベルトと同じ温度にすることが好ましく、これにより高分子シートの厚み方向の温度分布を低減し、熱履歴による高分子シートの反りを改善できる。金属ベルト及び高分子シートの反対面を加熱する方法としては、赤外線ヒーター加熱、遠赤外線ヒーター加熱、熱媒オイル、水蒸気などの加熱方法が考えられるがいずれであっても支障がない。
ダイスから溶融押し出された高分子シートを金属ベルトに密着させるために、金属ベルトと同様の温度に制御されたエアーを吹き付けたり、帯電固定により密着させたりしてもよい。
この様な生産方法により製造された高分子シートを用い、液晶表示素子を作成することによって、表示欠点のない、フラットな液晶表示が得られる。
【００２２】
【実施例】
以下本発明を実施例、比較例によって説明する。
シートの光学的物性は次の方法により測定した。
（１）シート厚み
接触式ダイヤルゲージで高分子シートの幅方向に２０ｍｍ間隔で測定した平均値。
（２）高分子シートの表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）
接触式の精密段差計（ＴＥＮＣＯＲ  ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴＳ製  ＡＬＰＨＡ−ＳＴＥＰ２００）により、高分子シートの幅方向に２ｍｍのスキャン幅にて全幅を測定した凹凸の最大値。
（３）高分子シートのリタデーション
オリンパス（株）製偏光顕微鏡ＢＨ２とベレックコンペンセーターを用い、波長５５０ｎｍでのリタデーションを測定した。
（４）高分子シートの反り
高分子シートの流れ方向に３００ｍｍ長さ、幅方向に３００ｍｍ長さに切り取った正方形のサンプルを、定盤に対して、高分子シートの表側を上にした場合と下にした場合の、定盤の面から最大に離れた高分子シートの高さを測定し、その最大値をシートの反りとした。
（５）金属ベルトの表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）
接触式表面粗さ計（（株）ミツトヨ製のサーフテスト３０１）により、金属ベルトの幅方向にカットオフ長さ０．８ｍｍにて全幅を測定したときの凹凸の最大値。
（６）ダイスの表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）
接触式表面粗さ計（（株）ミツトヨ製のサーフテスト３０１）により、ダイスの幅方向にカットオフ長さ０．８ｍｍにて全幅を測定したときの凹凸の最大値。
【００２３】
《実施例１》
住友化学工業（株）のポリエーテルサルホン樹脂：ビクトレックスＰＥＳ４１００（Ｔｇ＝２２６℃）を表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）が０．４μｍ、リップ間隙が３ｍｍのダイスを用い、表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）が０．１μｍ、ダイから押し出された高分子シートが流れ方向に対し曲率のない形で接触している時間が２２秒となる金属ベルトを使用し、金属ベルトの温度（Ｖ１）を２５０℃、（Ｖ２）の温度を２１０℃、（Ｖ３）の温度が１１０℃、高分子シートの金属ベルトが接触している面とは反対側の面を赤外線ヒーターにより、金属ベルト側のシート表面温度と同じ温度にして、厚みが４００μｍシートを作成した。その結果、平面に於けるリタデーションが１５ｎｍであり、且つ、金属ベルト面に節した高分子シートの表面の粗さの最大（Ｒｍａｘ）が０．０６μｍ、３００ｍｍ角の高分子シートの最大反り量が２ｍｍである高分子シートを安定して、連続的に得ることができた。
実施例１で得られた４００μｍ厚みのシートを用い、分子量１５４０、融点７０℃のエポキシアクリレートプレポリマー（昭和高分子製、ＶＲ−６０）１００重量部、酢酸ブチル４００重量部、セロソルブアセテート１００重量部、ベンゾインエチルエーテル２重量部を５０℃にて撹拌、溶解して均一な溶液としたものをグラビヤロールコーターで塗布し、８０℃で１０分間加熱して溶媒を除去し、８０ｗ／ｃｍの高圧水銀灯により１５ｃｍの距離で３０秒間照射して樹脂を硬化させ、０．５μｍ厚の有機層を両面に形成した。
次にこのシートの上にＤＣマグネトロン法により初期真空度３×１０-4Ｐａに引き、酸素／アルゴンガス９％の混合ガスを導入、３×１０-1Ｐａの条件下において無機層を製膜し５００Å厚のＳｉＯ2を得た。この無機膜の酸素バリヤー性はモコン法により測定したところ１ｃｃ／２４ｈｒ・ｍ2であり、表面抵抗率を測定したところ８．１×１０12Ωであった。
次に透明導電膜として、同じくＤＣマグネトロン法により初期真空度３×１０-4Ｐａに引き、酸素／アルゴンガス４％の混合ガスを導入し、１×１０-1Ｐａの条件下に於いて製膜し、Ｉｎ／Ｉｎ＋Ｓｎの原子比が０．９８であるＩｎ2Ｏ3からなる透明導電膜を得た。測定の結果、膜厚は１６００Å、非抵抗は４×１０-4Ω−ｃｍであった。
成膜後、レジストを塗布、現像し、エッチング液として１０ｖｏｌ％ＨＣＬ、液温４０℃中でパターンエッチングし、対角長さ３インチ、Ｌ／Ｓ＝１５０／５０μｍのアクティブマトリックス用パターンを形成した。パターン形成後、配向膜を塗布し、１５０℃２ｈｒの焼成処理を行った後、ラビング処理を行った。ラビング処理後、スペーサーを散布し、シール剤を塗布し、１５０℃でシール硬化させてセル化し、液晶を注入した。偏光板をコントラストの最大となる位置に貼り合わせ、点灯試験を行ったところ、シートのリタデーションや液晶のセルギャップ異常による表示欠点は見られず、コントラストの良い表示を示した。また、液晶セルの形状は、フラットであり、定盤上での反りは全く確認されなかった。
【００２４】
《比較例１》
実施例１の高分子シート作成の条件の内、高分子シートが金属ベルトより離れるときの金属ベルト温度（Ｖ３）を１４０℃とし、他は実施例１と全て同一条件で高分子シートを作成すると、高分子シートが金属ベルトに溶着して、離れ難く連続生産できなかった。この結果、平面に於けるリタデーションは実施例１と同様１５ｎｍであったが、この時高分子シートの反りは２〜７ｍｍとばらついていた。又この高分子シートを使用し、同様の方法で液晶表示素子を作成したところ、液晶のセルギャップ保持が難しく、表示不良が発生した。
【００２５】
《比較例２》
実施例１の条件の内、Ｖ１の温度を１９０℃としたところ、金属ベルト上で
皺が発生しシートかできなかった。
【００２６】
《比較例３》
実施例１の条件の内、Ｖ２の温度を２６５℃としたところ、高分子シートの反りが１５ｍｍ、平面のリタデーションが７０ｎｍとなった。このシートを用い実施例１と同様に液晶セルを作成したところコントラストが悪く、表示が明瞭に認識できないことが確認できた。
【００２７】
《 比較例４》
実施例１の条件の内、Ｖ２の温度を１８０℃としたところ、高分子シートの平面リタデーションは４０ｎｍとなった。このシートを用い実施例１と同様の液晶セルを作成したところ、セルギャップ異常による表示欠点が確認された。
【００２８】
《比較例５》
実施例１の条件の内、金属ベルトの表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）を０．３μｍとしたところ、シートの表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）は０．５μｍとなった。このシートを用い、実施例１と同様に液晶セルを作成したところセルギャップ異常による表示欠点が確認された。
【００２９】
《比較例６》
実施例１の条件の内、ダイから押し出された高分子シートが流れ方向に対し曲率のない形で接触している時間が１５秒となる金属ベルトを使用したところ、高分子シートの平面のリタデーションが４５ｎｍ、シートの反りが１２ｍｍとなった。
【００３０】
《比較例７》
実施例１の条件の内、高分子シートの金属ベルトに接触している反対側のシート面にある赤外線ヒーターをＯＦＦにしたところ、高分子シートの平面のリタデーションが２５ｎｍ、シートの反りが８ｍｍとなった。このシートを用い、実施例１と同様に液晶セルを作成したところ、コントラストが悪く表示が明瞭でなく、セルギャップ不良による表示ムラが発生し、又液晶セルに反りが発生した。
【００３１】
《比較例８》
実施例１の条件の内、ダイスのリップ間隔を１ｍｍとしたところ、高分子シートの表面粗さの最大値（Ｒｍａｘ）が、１．８μｍとなった。このシートを用い、実施例１と同様に液晶セルを作成したところ、セルギャップ異常による表示欠点が確認された。
【００３２】
【発明の効果】
本発明により平面のリタデーションが小さく、表面平滑性が優れ、基板の反りが少ない熱可塑性高分子シートの安定した連続製造方法が可能になった。また、本発明により得られたシートは光学用シートとして最適で、フレキシブル液晶表示素子用透明電極シートとして液晶表示パネルとして実装した場合表示ムラのない高精細な表示を示した。