(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に所定のパターン形状を有する薄膜を形成する真空成膜装置であって、
支持体を走行せしめる走行手段と、
薄膜を構成する蒸発物質を含む蒸発源と、
前記蒸発源から前記支持体への前記蒸発物質の移動を間歇的に遮断する遮断手段と、
前記蒸発源と前記支持体との間であり、前記遮断手段が遮断する位置よりも前記支持体側に設けられ、前記支持体側に形成された開口部を介して前記蒸発源から前記支持体へ前記蒸発物質を導く、前記支持体側に凸状の遮蔽部材と、
を備えたことを特徴とする真空成膜装置。
【請求項２】
請求項１に記載の真空成膜装置において、
前記遮断手段を複数備えたことを特徴とする真空成膜装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の真空成膜装置において、
異なる前記蒸発物質を含む複数種類の前記蒸発源を備えたことを特徴とする真空成膜装置。
【請求項４】
請求項１乃至３いずれかに記載の真空成膜装置において、
前記遮蔽部材の前記開口部がスリット状であることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項５】
支持体を巻き出すための巻き出しローラーと、
前記巻き出しローラーから送り出される前記支持体を巻き取るための巻き取りローラーと、
前記支持体上に真空成膜を施すための蒸発物質を含む蒸発源と、
前記蒸発源と前記支持体との間であり、前記支持体側に形成された開口部を介して前記蒸発源から前記支持体へ前記蒸発物質を導く、前記支持体側に凸状の遮蔽部材と、
前記遮蔽部材と前記蒸発源との間に設けられ、前記蒸発源から前記支持体上への前記蒸発物質の移動を間歇的に遮断する、遮断手段としてのシャッター機構と、
を備え、
前記遮蔽部材は、前記シャッター機構が遮断する位置よりも前記支持体側に設けられたことを特徴とする真空成膜装置。
【請求項６】
請求項５に記載の真空成膜装置において、
前記遮蔽部材の前記開口部がスリット状であることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項７】
請求項５または６に記載の真空成膜装置において、
前記遮蔽部材または前記シャッター機構に加熱手段が設けられたことを特徴とする真空成膜装置。
【請求項８】
請求項５乃至７いずれかに記載の真空成膜装置において、
前記巻き出しローラーと前記巻き取りローラーとの間に、ガイドローラーを備えたことを特徴とする真空成膜装置。
【請求項９】
請求項５乃至８いずれかに記載の真空成膜装置において、
前記巻き出しローラーと前記巻き取りローラーとの間に、ダンサローラーを備えたことを特徴とする真空成膜装置。
【請求項１０】
請求項５乃至９いずれかに記載の真空成膜装置において、
前記巻き出しローラーと前記巻き取りローラーとの間に、前記支持体の位置を決定する位置検出器を備えたことを特徴とする真空成膜装置。
【請求項１１】
請求項６乃至１０いずれかに記載の真空成膜装置において、
前記遮蔽部材が複数のスリット状の前記開口部を有し、各スリット状の前記開口部に対応して前記シャッター機構を設けたことを特徴とする真空成膜装置。
【請求項１２】
請求項５乃至１１いずれかに記載の真空成膜装置において、
異なる前記蒸発物質を含む複数種類の前記蒸発源を備えたことを特徴とする真空成膜装置。
【請求項１３】
請求項１乃至１２いずれかに記載の真空成膜装置において、
前記蒸発源と前記遮断手段とを囲い、前記遮蔽部材に連結する開口が設けられている防着板をさらに備えていることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項１４】
走行させた状態の支持体上に、蒸発源から発生した蒸発物質を導くことにより成膜を行う真空成膜方法であって、
前記成膜の際、
前記蒸発源と前記支持体との間であり、前記支持体側に形成された開口部を介して前記蒸発源から前記支持体へ前記蒸発物質を導く、前記支持体側に凸状の遮蔽部材と、前記遮蔽部材と前記蒸発源との間に設けられ、前記蒸発源から前記支持体上への前記蒸発物質の移動を間歇的に遮断する遮断手段と、により、前記蒸発源から前記支持体への前記蒸発物質の移動を間歇的に遮断することで所定のパターン形状を有する薄膜を形成し、
前記遮蔽部材は、前記遮断手段が遮断する位置よりも前記支持体側に設けられたことを特徴とする真空成膜方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の真空成膜方法において、
前記遮断手段がシャッター機構であることを特徴とする真空成膜方法。
【請求項１６】
請求項１４または１５に記載の真空成膜方法において、
前記遮断手段を複数設け、一の前記遮断手段を用いて成膜した後、連続的に他の前記遮断手段を用いて重ねて成膜することにより、前記薄膜を形成することを特徴とする真空成膜方法。
【請求項１７】
走行させた状態の導電性支持体上に、蒸発源から発生した活物質を導くことにより活物質層を形成する電池用電極の製造方法であって、
前記活物質層を形成する際、
前記蒸発源と前記支持体との間であり、前記支持体側に形成された開口部を介して前記蒸発源から前記支持体へ前記活物質を導く、前記支持体側に凸状の遮蔽部材と、前記蒸発源から前記遮蔽部材への前記活物質の移動を間歇的に遮断する遮断手段と、により、前記蒸発源から前記支持体への前記活物質の移動を間歇的に遮断することで所定のパターン形状を有する前記活物質層を形成し、
前記遮蔽部材は、前記遮断手段が遮断する位置よりも前記支持体側に設けられたことを特徴とする電池用電極の製造方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の電池用電極の製造方法において、
前記遮断手段がシャッター機構であることを特徴とする電池用電極の製造方法。
【請求項１９】
請求項１７または１８に記載の電池用電極の製造方法において、
前記遮断手段を複数設け、一の前記遮断手段を用いて層形成した後、連続的に他の前記遮断手段を用いて重ねて層形成することにより、前記活物質層を形成することを特徴とする電池用電極の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空中で支持体を走行させながら上記支持体に薄膜のパターニングを行うための、真空成膜装置および真空成膜方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
携帯電話やノートパソコン等のモバイル端末の普及により、その電力源となる二次電池の役割が重要視されている。そして、大容量高速通信、カラー動画の高速通信等の要求に伴って二次電池には、より小型・軽量でかつ高容量であることが求められている。
【０００３】
これら二次電池の高容量化を実現する手段として電極特に負極活物質の開発が重要である。負極活物質として高エネルギー密度という観点から銅箔等の導電性支持体上に真空成膜法により金属リチウム箔上に保護膜を形成したリチウムイオン二次電池や、炭素を主成分とする層の上にシリコンなど理論容量の大きい活物質を真空成膜により形成した複合負極において高容量の二次電池が試作されている。このように、高容量の二次電池を得るために高容量化が可能な活物質層を、真空成膜技術を用いて形成し、電極を作成する方法が試みられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
前述した真空成膜技術を用いて大量の二次電池用電極を形成する場合、銅箔等の導電性支持体を連続供給して連続真空成膜する必要がある。また、導電性支持体とタブとのコンタクトを確保するためには、導電性基体のタブが形成される部分は非蒸着部であることが望ましく、連続のパターニング成膜技術が必要である。
【０００５】
金属帯条に連続して薄膜パターンを形成する試みとして、開口部が長手方向に一定の間隔をおいて形成された帯条マスクと金属帯条とを密着させて走行し、前記マスクの開口部を通して目的の被着物を金属帯条に形成し、この金属帯条と前記マスクをそれぞれ別個に巻き取る方法が開示されている（特開昭59-6372号公報、特開昭59-84516号公報、特開2000-183500号公報）。しかし、特開昭59-6372号公報に示される方法では、重力やスプロケットによる張力の影響を受け、マスクや金属帯条が弛みや撓みを生じる可能性が大きく金属帯条の目的の位置に蒸発物を被着させることが難しい。これらを避けるためにスプロケットによる引張りを強くすると、マスクの開口部が変形したり、成膜中に金属帯条が切れる可能性が高い。特に、巻き出し及び巻き取り以外の金属帯条に成膜される過程（同公報（６）頁、第６図の加熱ヒーターの上部）では、金属帯条とマスクを適度に押さえる機構（例えばガイドロールやキャンロール）がないので、前記影響を特に受け易い。特開2000-183500号公報に示される方法では、ガイドロール（蒸着ロール）に沿うようにマスクと支持体を走行させパターニング成膜をしているものの、成膜を繰り返す過程で、マスク上に蒸発物質が堆積し、この堆積した蒸着物質が走行中に剥がれコンタミや汚染の原因となる場合がある。また、マスクが走行中に位置ずれを生じ易い、撓み易いなど特開昭59-6372号公報に示された技術と同様の問題がある。
さらに、これらのマスクを通してパターニングする場合、さらに、成膜後、マスクと金属帯条が離れる段階において、薄膜の一部が剥離するという問題がある。
これらのいずれの場合もマスクを巻き取るための機構を真空槽内に設ける必要があるため装置容積が大きくなる、装置の構造が複雑になるなどの問題があった。また、大量に生産する際には、上記したようにマスク上には蒸発物質が堆積するため、マスクを交換するか、あるいはマスクを洗浄して再利用する必要があり、作業性が低下することが課題となっている。
【０００６】
以上のように、従来の真空成膜装置及び成膜方法を用いて銅箔等の導電性支持体に二次電池用の電極活物質を連続してパターン形成し、二次電池用の電極を大量に製造することは、きわめて困難であった。
【０００７】
こうした状況に鑑み、本発明は、所定のパターン形状を有する薄膜を制御性良く安定的に形成する技術を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、支持体上に所定のパターン形状を有する薄膜を形成する真空成膜装置であって、支持体を走行せしめる走行手段と、薄膜を構成する蒸発物質を含む蒸発源と、前記蒸発源から前記支持体への前記蒸発物質の移動を間歇的に遮断する遮断手段と、前記蒸発源と前記支持体との間であり、前記遮断手段が遮断する位置よりも前記支持体側に設けられ、前記支持体側に形成された開口部を介して前記蒸発源から前記支持体へ前記蒸発物質を導く、前記支持体側に凸状の遮蔽部材と、を備えたことを特徴とする真空成膜装置が提供される。
【０００９】
本発明においては、遮断手段が、蒸発源から支持体への蒸発物質の移動を間歇的に遮断する。この結果、所定のパターン形状を有する薄膜が制御性良く安定的に形成される。本発明においては、従来技術において利用されていたマスクに代え、支持体と離間して設けられた遮断手段を用いる。これにより、従来技術において生じていた、膜の位置ずれ、マスクに付着した蒸着物質が走行中に剥がれることにより生じる汚染を防止することができる。また、マスクの交換や洗浄の必要がなくなる。さらに、マスクを巻き取るための機構を設ける必要がないため、装置の構造を簡便なものとすることができる。
【００１０】
さらに、遮断手段が支持体と離間して設けられていることにより、従来技術で問題であった、薄膜の剥離を有効に防止できる。
【００１１】
また、従来技術においては、マスクを密着させるため支持体に対して大きな張力を与えることが必要であったが、本発明においては、遮断手段が支持体と離間して設けられているため、そのような必要がなくなる。この結果、成膜中の支持体の切断等の問題を解消できる。
【００１２】
本発明において、蒸発源と支持体との間に蒸発物質を支持体に導く蒸発物質供給部を設けてもよい。この場合、遮断手段は、蒸発物質供給部の一部に配設され、蒸発源から支持体への蒸発物質の移動を間歇的に遮断する構成とする。このようにすれば、遮断手段が支持体から確実に離間して配設されることとなり、薄膜の一部の剥離や成膜中の支持体の切断をより確実に防止できる。
蒸発物質供給部は、支持体側に所定の形状の開口部を有し、この開口部の形状にしたがって支持体への蒸発物質の供給量および供給範囲が規制される構成とすることができる。開口部の形状は、たとえばスリット状とすることが好ましい。支持体への蒸発物質の供給をより精密に制御でき、所望のパターンの薄膜を制御性良く形成することができるからである。
【００１３】
上記真空成膜装置において、遮断手段を複数備えた構成とすることができる。このようにすれば、同種または異種の材料からなる積層構造を、高い生産性で製造することができる。また、上記真空成膜装置において、異なる蒸発物質を含む複数種類の蒸発源を備えた構成とすることができる。このようにすれば、連続工程により支持体上に複数の材料を蒸着させることができ、多層構造の薄膜を高い生産性で製造することができる。
【００１４】
また、本発明によれば、支持体を巻き出すための巻き出しローラーと、前記巻き出しローラーから送り出される前記支持体を巻き取るための巻き取りローラーと、前記支持体上に真空成膜を施すための蒸発物質を含む蒸発源と、前記蒸発源と前記支持体との間であり、前記支持体側に形成された開口部を介して前記蒸発源から前記支持体へ前記蒸発物質を導く、前記支持体側に凸状の遮蔽部材と、前記遮蔽部材と前記蒸発源との間に設けられ、前記蒸発源から前記支持体上への前記蒸発物質の移動を間歇的に遮断するシャッター機構と、を備え、前記遮蔽部材は、前記シャッター機構が遮断する位置よりも前記支持体側に設けられたことを特徴とする真空成膜装置が提供される。
【００１５】
本発明においては、蒸発源から発生した蒸発物質がスリット状開口部を経由して支持体上に導かれ、成膜が行われる。蒸発物質の供給がスリット状開口部により規制され、かつ、シャッター機構が蒸発源から支持体への蒸発物質の移動を間歇的に遮断するように構成されているため、所定のパターン形状を有する薄膜が制御性良く形成される。本発明においては、従来技術において利用されていたマスクに代え、シャッター機構を用いる。このシャッター機構は支持体と離間して設けられているため、従来技術において生じていた、膜の位置ずれ、マスクに付着した蒸着物質が走行中に剥がれることにより生じる汚染を防止することができる。また、マスクの交換や洗浄の必要がなくなる。さらに、マスクを巻き取るための機構を設ける必要がないため、装置の構造を簡便なものとすることができる。また、薄膜の剥離や、成膜中における支持体の切断等の問題を有効に解消できる。
【００１６】
本発明において、遮蔽部材またはシャッター機構に加熱手段を設けても良い。加熱手段としては、ヒーター機構等を用いることができる。こうすることにより、遮蔽部材またはシャッター機構に付着した蒸発物質を加温し、液体とすることができる。その結果、上記付着した蒸発物質を回収し、再利用することが可能となる。
【００１７】
また、上記の真空成膜装置において、上記巻き出しローラーと上記巻き取りローラーとの間に、目的の位置に正確に成膜することを可能にするためのガイドローラーを具備することができる。
【００１８】
また、上記の真空成膜装置において、上記巻き出しローラーと上記巻き取りローラーとの間に、ダンサローラーを具備することができる。ダンサローラーを具備することにより、同一工程で、最初に成膜した面のもう一方の面の目的の位置に正確に成膜することが可能となり、生産効率が上昇する。
【００１９】
また、上記の真空成膜装置において、上記巻き出しローラーと上記巻き取りローラーとの間に、上記支持体の位置を決定する位置検出器を具備することができる。位置検出器を具備することにより、支持体上の成膜すべき位置を正確に検出することが可能となる。その結果、高精度で成膜することができる。
【００２０】
本発明において、遮蔽部材が複数のスリット状開口部を有し、各スリット状開口部に対応してシャッター機構を設けた構成とすることができる。この構成においては、スリット状開口部を経由する蒸発物質の供給が、各スリット状開口部に対応して設けられたシャッター機構により規制される。各スリット状開口部から供給された蒸発物質により、同種または異種の材料からなる積層構造を、高い生産性で製造することができる。
【００２１】
また本発明において、異なる蒸発物質を含む複数種類の蒸発源を備えた構成とすることができる。このようにすれば、連続工程により支持体上に複数の材料を蒸着させることができ、多層構造の薄膜を高い生産性で製造することができる。
【００２２】
本発明によれば、走行させた状態の支持体上に、蒸発源から発生した蒸発物質を導くことにより成膜を行う真空成膜方法であって、前記成膜の際、前記蒸発源と前記支持体との間であり、前記支持体側に形成された開口部を介して前記蒸発源から前記支持体へ前記蒸発物質を導く、前記支持体側に凸状の遮蔽部材と、前記遮蔽部材と前記蒸発源との間に設けられ、前記蒸発源から前記支持体上への前記蒸発物質の移動を間歇的に遮断する遮断手段と、により、前記蒸発源から前記支持体への前記蒸発物質の移動を間歇的に遮断することで所定のパターン形状を有する薄膜を形成し、前記遮蔽部材は、前記遮断手段が遮断する位置よりも前記支持体側に設けられたことを特徴とする真空成膜方法が提供される。
【００２３】
本発明においては、遮断手段が、蒸発源から支持体への蒸発物質の移動を間歇的に遮断する。この結果、所定のパターン形状を有する薄膜が制御性良く安定的に形成される。本発明においては、従来技術において利用されていたマスクに代え、支持体と離間して設けられた遮断手段を用いる。これにより、従来技術において生じていた、膜の位置ずれ、マスクに付着した蒸着物質が走行中に剥がれることにより生じる汚染、成膜中の支持体の切断等の問題を解消することができる。また、マスクの交換や洗浄の必要がなくなる。さらに、マスクを巻き取るための機構を設ける必要がないため、装置の構造を簡便なものとすることができる。
【００２４】
この真空成膜方法において、遮断手段としては、たとえばシャッター機構を用いることができる。また、遮断手段を複数設け、一の遮断手段を用いて成膜した後、連続的に他の遮断手段を用いて重ねて成膜することにより、上記薄膜を形成するようにすることもできる。このようにすれば、同種または異種の材料からなる積層構造を、高い生産性で製造することができる。
【００２５】
本発明によれば、  走行させた状態の導電性支持体上に、蒸発源から発生した活物質を導くことにより活物質層を形成する電池用電極の製造方法であって、前記活物質層を形成する際、前記蒸発源と前記支持体との間であり、前記支持体側に形成された開口部を介して前記蒸発源から前記支持体へ前記蒸発物質を導く、前記支持体側に凸状の遮蔽部材と、前記蒸発源から前記遮蔽部材への前記蒸発物質の移動を間歇的に遮断する遮断手段と、により、前記蒸発源から前記支持体への前記活物質の移動を間歇的に遮断することで所定のパターン形状を有する活物質層を形成し、前記遮蔽部材は、前記遮断手段が遮断する位置よりも前記支持体側に設けられたことを特徴とする電池用電極の製造方法が提供される。
【００２６】
本発明においては、遮断手段が、蒸発源から支持体への蒸発物質の移動を間歇的に遮断する。この結果、所定のパターン形状を有する活物質層が制御性良く安定的に形成される。本発明においては、従来技術において利用されていたマスクに代え、支持体と離間して設けられた遮断手段を用いる。これにより、従来技術において生じていた、膜の位置ずれ、マスクに付着した蒸着物質が走行中に剥がれることにより生じる汚染、成膜中の支持体の切断等の問題を解消することができる。また、マスクの交換や洗浄の必要がなくなる。さらに、マスクを巻き取るための機構を設ける必要がないため、装置の構造を簡便なものとすることができる。
【００２７】
この電池用電極の製造方法において、遮断手段としては、たとえばシャッター機構を用いることができる。また、遮断手段を複数設け、一の遮断手段を用いて層形成した後、連続的に他の遮断手段を用いて重ねて層形成することにより、前記活物質層を形成するようにすることもできる。このようにすれば、同種または異種の材料からなる積層構造を、高い生産性で製造することができる。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。この実施の形態は、本発明に係る真空成膜装置の構成と薄膜製造方法を説明するものである。
【００２９】
図1は、フレキシブル支持体に薄膜をパターニングするための真空成膜装置の内部構成を示した概略図である。蒸発源（６a、６ｂ）からの蒸発物をフレキシブル支持体１の目的の位置に真空成膜する際、シャッター（８a、８ｂ）を開閉させ、遮蔽部材（９a、９b）の開口部を経由する蒸発物の移動を遮断する。これにより、所定の形状のパターンを有する薄膜をフレキシブル支持体１上に形成するように構成されている。
【００３０】
フレキシブル支持体１の巻き出しから巻き取りまでは、フレキシブル支持体１を巻き出すための巻き出しローラー２ａ、フレキシブル支持体１を高精度に移動させ、蒸発源（６a、６ｂ）からの蒸発物をフレキシブル支持体１の目的の位置に成膜するために設けられた二つのガイドローラー３ａ、ガイドローラー３aから送られてくる薄膜がパターニングされたフレキシブル支持体１を巻き取るための巻き取りローラー２ｂから構成されている。また、フレキシブル支持体１の所定の位置に正確に成膜するために、成膜前の工程において位置検出器７aを使ってフレキシブル支持体１の位置を把握しておく必要がある。
【００３１】
次に、本発明の薄膜のパターニング方法を説明する。図２は図１のガイドローラー３aを介し、シャッター（８a、８ｂ）を開閉させ、遮蔽部材（９a、９b）を通して行われるパターニングの原理を示した説明図である。図中の実線（例えば線ａ−ｂ）はフレキシブル支持体1の断面であり薄膜を形成する部分を示す（薄膜が形成される長さは全て同じ）。また、実線が途切れている部分（例えばｂ−ｃ間）は薄膜を形成しない部分（スペース）を示すものである（スペースの長さは全て同じ）。尚、ａ−ｃ間の長さをピッチと呼ぶことにする。ここでは、一例として二つの蒸発源６ａ、６ｂ（二回の蒸着）を用いて目的とする膜厚まで成膜するように設計されており、その上部にある二つの遮蔽部材（９ａ、９ｂ）のピッチは、フレキシブル支持体1の薄膜を形成する長さ（例えば線ａ−ｂ）と等しい。遮蔽部材9aの上部は開状態であり、蒸発物が通る領域である。高精度パターニングを達成するためには、遮蔽部材9aとフレキシブル支持体１間の距離は小さい方が好ましく、例えば数ｍｍ以下とすることが効果的である。フレキシブル支持体１が▲１▼の状態（a点が遮蔽部材開口部の左端）になると、第１シャッター８ａが開状態になる。ここで、位置検出器7aによるフレキシブル支持体上のａ点の検出とフレキシブル支持体１の走行速度の関係が分かっていれば、正確にシャッターの開閉が可能となる。フレキシブル支持体１は制御された速度で移動（図中右から左）しているため▲２▼の状態に示すように蒸発物が遮蔽部材の開口部を通して支持体のａ−ｂ上に順次成膜される。b点が遮蔽部材の右端に移動した時（▲３▼の状態）に第１シャッター８ａを閉じる。次に、c点が遮蔽部材開口部の左端に移動した時（▲４▼の状態）に第一シャッター８ａを開にする。この時、第二シャッター８ｂも開にすると▲５▼に示すようにa―b間に二回目の成膜が、同時にｃ−ｄ間にも一回目の成膜が実行される。更にb点とd点がそれぞれの遮蔽部材（9a、9b）の開口部の右端に移動した時（▲６▼）にa―b上には目的の膜厚で成膜が完了する。二つのシャッター（8a、8b）を閉め、c点とe点が各々の遮蔽部材開口部の左端部に移動した時に二つのシャッター（8a、8b）を開にすることでｃ―ｄ上（二回目）、e―f上（一回目）への成膜が実行される。この工程を繰り返すことでフレキシブル支持体１上への高精度マスクレスパターニングが達成される。ヒーターにより、遮蔽部材（9ａ、９ｂ）、チャンバー内の防着版10、シャッター（8a、8b）などを所望の温度に設定しておくことで、付着物を溶かし回収容器１１への回収も可能となる。
【００３２】
上記のようにフレキシブル支持体１に真空成膜する際、二つのガイドローラー3aを使ってフレキシブル支持体１を直線上（平面上）に張って成膜を施したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば図３に示すように、ガイドローラー3aの曲面に沿うようにフレキシブル支持体１をガイドローラー3aと共に移動させ、遮蔽板の長さが異なる遮蔽部材（9a、9b）をガイドローラー3a下の所定の位置に配置することで同様のパターニングが達成できる。
【００３３】
本発明の実施の形態においては、蒸発物質の移動を間歇的に遮断する機構として、シャッター機構を備えた例を示したが、シャッター機構に限られるものではなく、他の機構でも本発明の実施が可能である。例えば、蒸発源の加熱を間歇的に停止させる機構を採用することにより、蒸発物質の移動を間歇的に遮断することが可能となる。
【００３４】
また、本発明の実施の形態においては、二つのスリット開口部を設けた例で説明したが、一つの開口部でも同様なパターニングが達成できる。
スリット開口部を二つ以上設けることにより、目的とする膜厚までの成膜時間が短くなる、フレキシブル支持体の走行速度を下げることが可能となりフレキシブル支持体が破れにくくなる、一つあたりの蒸発源からの蒸発速度を小さくすることができるので蒸発源からの輻射熱を減らすことができる。この結果、支持体や支持体にあらかじめ形成された薄膜への悪影響を抑えられる、などの効果が得られる。
【００３５】
さらに、二種以上の薄膜を積層する場合には、スリット開口部を二つ以上設け、かつ、各々のスリット開口部に対応する蒸発源からの蒸発物質を二種以上とすることにより、薄膜の積層が一工程で可能となり、生産効率の上昇効果が得られる。また、従来のマスクを用いる方法で二種以上の薄膜を積層する場合には、マスク上に付着した蒸発物質が、他の蒸発物質の積層中に当該他の蒸発物質の蒸発源に混入してしまうおそれがあるが、本発明においては、マスクを使用しないため、上記した不具合がないという利点を有する。
【００３６】
尚、遮蔽部材の形状は図１のような凸状に限らず、平面状に開口部を設けた形状など適宜選択できる。
【００３７】
本発明の実施の形態においては、支持体としてフレキシブル支持体の例を示して説明したが、本発明はフレキシブル支持体に限るものではなく、支持体はガラス板、金属板、プラスチック板などを用いてもよい。
また、本発明の実施の形態においては、支持体走行手段として、巻き出し機構および巻き取り機構を備えた例を示して説明したが、巻き出し機構または巻き取り機構は必ずしも必要とされるものではなく、他の手段、例えばベルトコンベヤー等によっても本発明の実施が可能である。
【００３８】
以上のような真空成膜装置と薄膜製造方法は、電池、二次電池、各種包装フィルム、各種封止用フィルム、コーティングガラス、磁気記録媒体、有機ＥＬデバイス、無機薄膜ＥＬデバイス、薄膜コンデンサーなどの製造装置や製造方法の一部として活用できる。
【００３９】
【実施例】
（実施例１）
本実施例１においては非水電解液二次電池用の負極として、パターニングされたグラファイト上にシリコン−リチウム合金（ＳｉＬｉ）からなる薄膜層を図１の真空成膜装置を用いて負極集電体（銅箔）の片面ずつパターニングする方法を説明する。なお、以下に示す実施例および比較例では、シリコン−リチウム合金（ＳｉＬｉ）を含有する蒸発源（６ａ〜６ｄ）を用いた。
【００４０】
図４に示すようにフレキシブル支持体である負極集電体には長さ約2000ｍ、厚み10μｍの銅箔２０を用い、この上にグラファイトからなる層21ａを堆積させた。このグラファイトからなる層21ａは、黒鉛粉末に結着材としてN-メチル-2-ピロリドンに溶解したポリフッ化ビニリデンと導電付与材を混合しペースト状にしたものを銅箔２０の両面に塗布し、乾燥させたものである。乾燥後、グラファイトが塗布された銅箔２０を、圧縮しながら巻き取った。グラファイト層２１aの厚さは７０μｍである。図４に示すように、銅箔２０の表面側には左端部７ｍ、右端部６．４２ｍの未塗布部がある。グラファイト層２１aは左端部７ｍの位置から０．４３ｍピッチ（塗布部：０．４１ｍ、スペース：０．０２ｍ）で形成されており、４６２０個存在する。一方、裏面側には左端部７ｍ、右端部６．４８ｍの未塗布部がある。グラファイト塗布部は左端部７ｍの位置から０．４３ｍピッチ（塗布部：０．３５ｍ、スペース：０．０８ｍ）で形成されており、４６２０個存在する。
【００４１】
銅箔２０の表面側をパターニングするため、図１の遮蔽部材（9aと9b）のピッチを０．４３ｍ、スリット（開口部）は銅箔の進行方向に５ｃｍ幅、進行方向に対し垂直方向に０．１６ｍ幅になるように構成した。
【００４２】
上記パターニングされたグラファイト層２１ａの上に、真空蒸着法によりＳｉＬｉ層（厚さ３μｍ）２１ｂをパターニング成膜する。銅箔２０の初期設置状態として、図１に示す真空成膜装置の巻き出しローラー２ａに先に作成した銅箔２０を取り付け、同時に銅箔２０をガイドローラー３ａに沿って銅箔２０を移動させ、銅箔２０の先端を巻き取りローラー２ｂに取り付け、全部又は一部のローラーを駆動させて銅箔２０に適度なテンションを与え、銅箔２０を弛みや撓みを生じることなく蒸発源（６ａ、６ｂ）上に平面状に設置した。遮蔽部材（9a、9b）と銅箔２０の隙間は０．５ｍｍとした。蒸発源（６ａ、６ｂ）と銅箔２０との距離は、25cmとした。
【００４３】
真空排気装置18を作動させ、真空チャンバー内を1ｘ10-４Paの真空度まで排気した後、成膜を行った。
【００４４】
全てのローラーを駆動させることで、任意の速度で銅箔２０を走行させた。銅箔２０の表面側のグラファイト層２１ａ上へのＳｉＬｉ層（厚さ３μｍ）２１ｂの正確な成膜は、銅箔２０の走行に伴い、銅箔２０の表面上のグラファイト層２１ａの端部を位置検出器７ａで認識し走行スピードを制御し、先に説明したシャッター（８ａ、８ｂ）を開閉する成膜方法にて行った。成膜後、ガス導入バルブ19を用いてArガスをチャンバー内に導入しチャンバーを開け、巻き取りローラー２ｂに巻き取られた銅箔２０を取り出した。
【００４５】
次に上記取り出した銅箔２０の裏面側にパターニングを行う。銅箔２０の裏面側をパターニングするために遮蔽部材（9cと9d）のピッチを０．４３ｍ、スリット（開口部）は銅箔の進行方向に５ｃｍ幅、進行方向に対し垂直方向に０．１６ｍ幅になるように構成した。
【００４６】
真空排気装置18を作動させ、真空チャンバー内を1ｘ10-４Paの真空度まで排気した後、成膜を行った。
【００４７】
銅箔２０の裏面側のグラファイト層２１ａへのＳｉＬｉ層（厚さ３μｍ）２１ｂの正確な成膜は銅箔２０の走行に伴い、銅箔２０の裏面上のグラファイト層２１ａの端部を位置検出器７ｂで認識し走行スピードを制御し、先に説明したシャッター（８ａ、８ｂ）を開閉する成膜方法にてＳｉＬｉ合金層（厚さ３μｍ）２１ｂをグラファイト層２１ａの上にパターニング成膜し、巻き取りローラー２ｂを使って銅箔20を巻き取った。成膜後、ガス導入バルブ19を用いてArガスをチャンバー内に導入しチャンバーを開け、巻き取りローラー２ｂに巻き取られた銅箔２０を取り出した。
【００４８】
上記のように作製した銅箔上の負極パターンの状態を図５に示す。銅箔20の表面側には設計通り左端部７ｍ、右端部６．４２ｍの未蒸着部を確認した。ＳｉＬｉ層（厚さ３μｍ）21ｂはグラファイト層21a上に正確に形成され、左端部７ｍの位置から０．４３ｍピッチ（塗布部：０．４１ｍ、スペース：０．０２ｍ）であり、全ての負極のパターニング（４６２０個）が達成できたことを確認した。一方、裏面側には設計通り左端部７ｍ、右端部６．４８ｍの未蒸着部を確認した。ＳｉＬｉ層（厚さ３μｍ）21ｂはグラファイト層21a上に正確に形成され左端部７ｍの位置から０．４３ｍピッチ（塗布部：０．３５ｍ、スペース：０．０８ｍ）で形成されており、全ての負極のパターニング（４６２０個）が達成できたことを確認した。
【００４９】
（比較例１）
比較例１では、パターンマスクと銅箔を重ね同期させながら走行させ、パターンマスクの開口部を通して銅箔上に電極のパターニングを試みた。
グラファイトが形成された銅箔20は、実施例１に用いたものを適用した。尚、パターンマスクとの位置合わせを行うために合マーク22（穴）が適宜設けられている。また、パターンマスクは厚さ約２０ミクロン、幅０．２４ｍ、長さ約２０００ｍの銅箔から開口部22を作成し、表面にニッケルメッキしたNiメッキ銅箔２４を用いた。図６（ａ）に銅箔表面側のグラファイト層のパターン及び図６（ｂ）に銅箔の表面側にパターニングするためのパターンマスクの概略を示す。パターンマスクにも銅箔２０との位置合わせ用の合マーク２２が設けられている。図７（ａ）に銅箔２０の裏面側のグラファイト層２１ａのパターン及び図７（ｂ）に銅箔２０の裏面側にパターニングするためのパターンマスクの概略を示す。パターンマスクにも銅箔２０との位置合わせ用の合マーク２２が設けられている。
【００５０】
図８に比較例１に用いた真空成膜装置の内部構成を示す。基本的には銅箔２０の走行機構と上記銅箔と同期させ走行させるマスク移動機構からなる。銅箔２０の巻き出しから巻き取りまでは、銅箔２０を巻き出すための巻き出しローラー２ａ、銅箔２０のキャンローラー１７ａへの誘導のために設けられたガイドローラー１４ａ、銅箔２０とパターンマスク（１２ａ又は１２ｂ）との密着と同期させながら行う成膜精度を上げるためのキャンローラー１７ａ、キャンローラー１７ａから送られる銅箔２０を巻き取りローラーに精度よく走行させるためのガイドローラー１４ｂ、ガイドローラー１４ｂから送られてくる銅箔２０を巻き取るための巻き取りローラー２ｂから構成されている。パターンマスク（１２ａ又は１２ｂ）の巻き出しから巻き取りまでは、上記パターンマスクを巻き出すための巻き出しりローラー１３ａ、上記パターンマスク（１２ａ又は１２ｂ）のキャンローラー１７ａへの誘導のために設けられたガイドローラー１５ａ、ガイドローラー１５aから送られてくる上記パターンマスク（１２ａ又は１２ｂ）を巻き取るための巻き取りローラー１３ｂから構成されている。また、蒸発源6aとキャンローラー17aの最下部との距離は25ｃｍとした。
【００５１】
先ず、上記銅箔の表面側のパターニングされたグラファイト層２１ａの上に、真空蒸着法によりＳｉＬｉ層２１ｂ（厚さ３μｍ）をパターニング成膜する。銅箔２０の初期設置状態として、図８に示す巻き出しローラー２ａに先に作製した銅箔２０の巻心を、パターンマスク巻き出しローラー１３ａに先に作製したパターンマスク１２ａ（表面側用：図６（ｂ））を取り付けた。銅箔２０とパターンマスク１２ａとを合マーク２２を合わせ密着させながらキャンローラー１７ａに沿って移動させ、それぞれガイドローラー（１４ｂ、１５ｂ）を使って、それぞれの巻き取りローラー（２ｂ，１３ｂ）に銅箔２０とパターンマスク１２ａの先端を取り付けた。全部又は一部のローラーを駆動させて銅箔２０とパターンマスク１２ａに適度なテンションを与え、銅箔２０とパターンマスクとを弛みや撓みを生じさせることなく蒸発源６ａ上のキャンローラー１７ａに密着させた。
【００５２】
全てのローラーを駆動させることで、任意の速度で銅箔２０とパターンマスク１２ａとを同期させながら走行させ、シャッター機構を用いることなく蒸発源から連続的にＳｉＬｉを蒸発させた。約１２００ｍ成膜したところで、パターンマスク12aが切れてしまった。成膜後、ガス導入バルブ19を用いてArガスをチャンバー内に導入しチャンバーを開け、巻き取りローラー２ｂに巻き取られた銅箔２０を取り出した。成膜できた部分の銅箔２０上のパターンを観察したところ、グラファイト上の一部分にＳｉＬｉ層のない部分があり、グラファイト上以外の領域にもＳｉＬｉ層が形成されたことが分かった。これは、走行中に銅箔２０とパターンマスク１２ａとがずれを起こしたためである。また、銅箔２０の薄膜層の表面の一部に傷や剥がれが観察された。これは、銅箔２０とパターンマスク１２ａを密着させて走行させているため、ずれを起こした時に薄膜を削っているためである。次に、上記銅箔の裏面側のパターニングされたグラファイト層２１ａの上に、真空蒸着法によりＳｉＬｉからなる活物質をパターニング成膜した。銅箔２０の初期設置状態として、図８に示す巻き出しローラー２ａに先に作製した銅箔２０の巻心を、パターンマスク巻き出しローラー１３ａに先に作製したパターンマスク１２ｂ（裏面側用：図７（ａ））を取り付けた。銅箔２０とパターンマスク１２ａとを合マークを合わせ密着させながらキャンローラー17ａに沿って移動させ、それぞれガイドローラー（１４ｂ、１５ｂ）を使って、それぞれの巻き取りローラー（２ｂ，１３ｂ）に銅箔２０とパターンマスク１２ｂの先端を取り付けた。全部又は一部のローラーを駆動させて銅箔２０とパターンマスク１２ｂに適度なテンションを与え、銅箔２０とパターンマスクとを弛みや撓みを生じさせることなく蒸発源６ａ上のキャンローラー１７ａに密着させた。
【００５３】
真空排気装置18を作動させ、真空チャンバー内を1ｘ10-４Paの真空度まで排気した後、成膜を行った。
【００５４】
全てのローラーを駆動させることで、任意の速度で銅箔２０とパターンマスク１２ａとを同期させながら走行させ、シャッター機構を用いることなく蒸発源から連続的にＳｉＬｉを蒸発させた。約５００メートル成膜したところで、パターンマスクが切れてしまった。成膜後、ガス導入バルブ19を用いてArガスをチャンバー内に導入しチャンバーを開け、巻き取りローラー２ｂに巻き取られた銅箔２０を取り出した。成膜できた部分の銅箔２０上のパターンを観察したところ、グラファイト上の一部分にＳｉＬｉ層のない部分があり、グラファイト上以外の領域にもＳｉＬｉ層が形成されたことが分かった。これは、走行中に銅箔２０とパターンマスク１２ｂとがずれを起こしたためである。また、銅箔２０の薄膜層の膜面の一部に傷や剥がれが観察された。これは、銅箔２０とパターンマスク１２ｂを密着させて走行させているため、ずれを起こした時に薄膜を削っているためである。
【００５５】
以上のように、従来のパターンマスクと銅箔とを同期（走行）させて行う成膜方法では、二次電池用の電極のパターニングは達成できなかった。
【００５６】
従来のパターンマスクと銅箔とを同期（走行）させて行う成膜方法では、支持体用の走行手段に加えて、パターンマスク用の走行手段も真空成膜装置に備える必要があり、装置の構成が煩雑であった。一方、実施例１に係る真空成膜装置においては、パターンマスクを用いないため、パターンマスク用の走行手段を備える必要がなく、装置の構成をより単純化させることが可能となる。
【００５７】
また、従来のパターンマスクと銅箔とを同期（走行）させて行う成膜方法では、支持体およびパターンマスク双方の走行の制御が必要となる。さらに、走行している支持体に対するパターンマスクの位置を確認する必要もある。そのため、所望の位置に精確に成膜することは困難である。一方、実施例１にかかる真空成膜装置においては、遮蔽部材は固定されており、走行する構成要素は支持体のみである。また、支持体上の成膜すべき位置は位置検出器により精確に認識され、その情報に基づいてシャッター機構は制御される。その結果、支持体に精度良く成膜することができる。
【００５８】
（実施例２）
本実施例２においては、非水電解液二次電池用の負極としてパターニングされたグラファイト上にシリコン−リチウム合金（ＳｉＬｉ）からなる薄膜層を真空一貫で両面にパターニングするための真空成膜装置とそれを使ったパターニング方法を説明する。
【００５９】
グラファイトが付いた銅箔は、実施例1と同様のものを用いた。図９は、図４の銅箔20の両面の所定の位置（グラファイト層21a）にＳｉＬｉ層21bを形成するための真空蒸着装置の内部構成を示す概略図である。銅箔20の巻き出しから巻き取りまでは、銅箔20を巻き出すための巻き出しローラー２ａ、銅箔20を高精度に移動させ、蒸発源（6a、6b）からの蒸発物を銅箔20の表面側の銅箔20上に正確に成膜するために設けられた二つのガイドローラー３ａ、ガイドローラー３ａから送られてきた銅箔20を高精度に移動させ、銅箔20の裏面側を蒸発源（6c、6d）に向けるために設けた二つのガイドローラー４ａ、ガイドローラー４ａから送られる銅箔20のスピードを変えることが可能で、裏面側の目的の位置に成膜するために設けられたダンサローラー５、ダンサローラー５への銅箔20の送りを担うガイドローラー４ｂ、ダンサローラー５から送られてくる銅箔20をガイドローラー３ｂに正確に送ることを目的とするガイドローラー４ｃ、ダンサローラー５から送られる動箔20の裏面側の目的の位置に成膜するために設けられた二つのガイドローラー３ｂ、ガイドローラー３ｂから送られてくる両面にシリコン薄膜がパターニングされた銅箔20を巻き取るための巻き取りローラー２ｂから構成されている。また、銅箔２０上のグラファイト層２１ａの位置を正確に把握し、グラファイト上に正確に成膜するために、銅箔面とグラファイト塗布面の光の反射率を利用した位置検出器（7a、7b）を成膜前の工程に設置した。銅箔２０の表面側をパターニングするための遮蔽部材（9aと9b）のピッチは０．４３ｍ、スリット幅（開口部）はそれぞれ進行方向に５ｃｍ幅、進行方向に対し垂直方向に0.16ｍ幅になるように構成した。一方、銅箔２０の裏面側をパターニングするための遮蔽部材（9cと9d）のピッチは０．４３ｍ、スリット幅（開口部）はそれぞれ５ｃｍ幅、進行方向に対し垂直方向に0.16ｍ幅になるように設置した。
【００６０】
上記パターニングされたグラファイト層２１ａの上に、真空蒸着法によりＳｉＬｉ層（厚さ３μｍ）21bをパターニング成膜する。銅箔20の初期設置状態として、図９に示す真空成膜装置の巻き出しローラー２ａに先に作成した銅箔２０の巻心を取り付け、同時に銅箔２０をガイドローラー３ａ→ガイドローラー４ａ→ガイドローラー４ｂ→ダンサローラー５→ガイドローラー４ｃ  →ガイドローラー３ｂに沿って銅箔２０を移動させ、銅箔２０の先端を巻き取りローラー２ｂに取り付け、全部又は一部のローラーを駆動させて銅箔２０に適度なテンションを与え、銅箔２０を弛みや撓みを生じることなく蒸発源上に平面状に設置した。遮蔽部材（9a、9b、9c、9d）と銅箔２０の隙間は０．５ｍｍとした。また、蒸発源（6a、6b、6c、6d）と銅箔20間の距離は25cmとした。
【００６１】
真空排気装置18を作動させ、真空チャンバー内を1ｘ10-４Paの真空度まで排気した後、成膜を行った。
【００６２】
全てのローラーを駆動させることで、任意の速度で銅箔２０を走行させた。銅箔２０の表面側のグラファイト層２１ａ上へのＳｉＬｉ層（厚さ３μｍ）２１ｂの正確な成膜は、銅箔２０の走行に伴い、銅箔２０の表面上のグラファイト層２１ａの端部を位置検出器７ａで認識し走行スピードを制御し、先に説明したシャッター（８ａ、８ｂ）を開閉する成膜方法にて行った。銅箔２０の裏面側のグラファイト層２１ａへのＳｉＬｉ層２１ｂの正確な成膜は銅箔２０の走行に伴い、銅箔２０の裏面上のグラファイト層２１ａの端部を位置検出器７ｂで認識し走行スピードを制御し、先に説明したシャッター（８ｃ、８ｄ）を開閉する成膜方法にてＳｉＬｉ層２１ｂをグラファイト層２１ａの上にパターニング成膜し、巻き取りローラー２ｂを使って銅箔20を巻き取った。成膜後、ガス導入バルブ19を用いてArガスをチャンバー内に導入しチャンバーを開け、巻き取りローラー２ｂに巻き取られた銅箔２０を取り出した。
【００６３】
上記のように作製した銅箔上の負極パターンの状態を図6に示す。銅箔の表面側には設計通り左端部７ｍ、右端部６．４２ｍの未蒸着部を確認した。ＳｉＬｉ層（３μｍ）21ｂはグラファイト層21a上に正確に形成され、左端部７ｍの位置から０．４３ｍピッチ（塗布部：０．４１ｍ、スペース：０．０２ｍ）であり、４６２０個のSiLi層２１ｂが形成された負極の存在を確認した。一方、裏面側には設計通り左端部７ｍ、右端部６．４８ｍの未蒸着部を確認した。ＳｉＬｉ層21ｂはグラファイト層２１ａ上に正確に形成され左端部７ｍの位置から０．４３ｍピッチ（塗布部：０．３５ｍ、スペース：０．０８ｍ）で形成されており、４６２０個のSiLi層２１ｂが形成された負極の存在を確認した。
【００６４】
（比較例２）
比較例２においては、比較例１に示パターンマスクと銅箔とを同期させ走行し、真空一貫で銅箔の両面に負極をパターニングすることを試みた。
【００６５】
グラファイトが形成された銅箔とパターンマスクは、比較例１に用いたものを用いた。
【００６６】
図１０に比較例２に用いた真空一貫で銅箔の両面に負極を形成するための真空成膜装置の内部構成を示す。銅箔２０の巻き出しから巻き取りまでは、銅箔２０の巻き出しローラー２ａ、銅箔２０とパターンマスク（１２ａ又は１２ｂ）との密着を保ちながら蒸発源（６ａ、６ｂ）からの蒸発物を成膜するためのキャンローラー１７ａ、キャンローラー１７ａから送られる銅箔２０を高精度に移動させ、銅箔２０の裏面側を蒸発源（6c、6d）に向けるために設けた二つのガイドローラー４ａ、ガイドローラー４ａから送られる銅箔２０のスピードを変えることが可能で、裏面側の目的の位置に成膜するために設けられたダンサローラー５、ダンサローラー５への銅箔２０の送りを担うガイドローラー４ｂ、ダンサローラー５から送られてくる銅箔２０をキャンローラー17bに正確に送ることを目的とするガイドローラー４ｃ、ダンサローラー５から送られる銅箔２０とパターンマスク１２ｂとの密着を保ちながら蒸発源（６ｃ、６ｄ）からの蒸発物を銅箔２０の裏面側に成膜するためのキャンローラー１７ｂ、キャンローラー１７ｂから送られてくる両面にＳｉＬｉ薄膜がパターニングされた銅箔２０を巻き取るための巻き取りローラー２ｂから構成されている。
【００６７】
銅箔２０の表面側にパターニングするためのパターンマスク１２ａの巻き出しから巻き取りまでは、上記パターンマスクを巻き出すための巻き出しローラー１３ａ、上記パターンマスクのキャンローラー１７ａへの誘導のために設けられたガイドローラー１５ａ、ガイドローラー１５aから送られてくる上記パターンマスク１２ａを巻き取りローラー１３ｂへ誘導するためのガイドローラー１５ｂ、ガイドローラー１５ｂから送られてくるパターンマスクを巻き取るための巻き取りローラー１３ｂから構成されている。銅箔２０の裏面側にパターニングするためのパターンマスク１２ｂの巻き出しから巻き取りまでは、上記パターンマスクを巻き出すための巻き出しローラー１３ｃ、上記パターンマスクのキャンローラー１７ｂへの誘導のために設けられたガイドローラー１６ａ、キャンローラー１７ｂから送られてくる上記パターンマスクを巻き取りローラー１３ｄへ誘導するためのガイドローラー１６ｂ、ガイドローラー１６ｂから送られてくる上記パターンマスクを巻き取るための巻き取りローラー１３ｄから構成されている。
【００６８】
銅箔の両面にパターニングされたグラファイト層２１ａの上に、真空蒸着法によりＳｉＬｉからなる活物質をパターニング成膜した。銅箔２０の初期設置状態として、図１０に示す巻き出しローラー２ａに先に作製した銅箔２０の巻心を取り付け、同時に銅箔２０をキャンローラー１７ａ→ガイドローラー４ａ→ガイドローラー４ｂ→ダンサローラー５→キャンローラー１７ｂに沿って銅箔２０を移動させ、銅箔２０の先端を巻き取りローラー２ｂに取り付けた。
【００６９】
パターンマスク（１２ａ、１２ｂ）の初期状態として、パターンマスク（１２ａ、１２ｂ）をガイドローラー（１５ａ、１６ａ）→キャンローラー（１７ａ、１７ｂ）→ガイドローラー（１５ｂ、１６ｂ）に沿って移動させ、巻き取りローラー（１３ｂ、１３ｄ）に取り付ける。そして、パターンマスク（１２ａ、１２ｂ）の合マーク２２を銅箔２０の合マーク２２に合わせ、テンションをかけ初期状態となる。
【００７０】
真空排気装置18を作動させ、真空チャンバー内を1ｘ10-４Paの真空度まで排気した後、成膜を行った。
【００７１】
全てのローラーを駆動させることで、任意の速度で銅箔２０とパターンマスク１２ａとを同期させながら走行させ、シャッター機構を用いることなく蒸発源から連続的にＳｉＬｉを蒸発させた。銅箔２０の表面側の成膜では約１２００メートル成膜したところで、裏面側の成膜では約１１００ｍ走行させたところでパターンマスクが切れてしまった。成膜後、ガス導入バルブ19を用いてArガスをチャンバー内に導入しチャンバーを開け、巻き取りローラー２ｂに巻き取られた銅箔２０を取り出した。
【００７２】
成膜できた部分の銅箔２０上のパターンを観察したところ、グラファイト上の一部分にＳｉＬｉ層のない部分があり、グラファイト上以外の領域にもＳｉＬｉ層が形成されたことが分かった。これは、走行中に銅箔２０とパターンマスク１２ａとがずれを起こしたためである。また、銅箔２０の薄膜層の膜面の一部に傷や剥がれが観察された。これは、銅箔２０とパターンマスク１２ａを密着させて走行させているため、ずれを起こした時に薄膜を削っているためである。上記５００ｍが成膜され巻き取りローラー２ｂに巻き取られた銅箔２０を取り出した。
【００７３】
以上のように、従来のパターンマスクと銅箔とを同期（走行）させて行う成膜方法では、二次電池用の電極のパターニングは達成できなかった。
【００７４】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、蒸発源から支持体への蒸発物質の移動をシャッター機構等の遮断手段が間歇的に遮断することにより成膜が行われる。この結果、所定のパターン形状を有する薄膜が制御性良く安定的に形成される。遮断手段は支持体と離間して設けられるため、マスクを用いる従来技術において生じていた、膜の位置ずれ、マスクに付着した蒸着物質が走行中に剥がれることにより生じる汚染、成膜中における支持体の切断等の問題を有効に解消することができる。
【００７５】
本発明を電池用電極の製造方法に適用すれば、所望の形状にパターニングされた活物質層を安定的に作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１で用いた真空成膜装置の内部構成の一例を示す概略図である。
【図２】本発明の薄膜のパターニング工程の一例を説明する概念図である。
【図３】ガイドローラーの曲面を介して薄膜のパターニング工程を行うための真空成膜装置の内部構成の一部を示す概略図である。
【図４】実施例１〜２及び比較例１〜２に用いた塗布によりグラファイトがパターニングされた銅箔の概略図である。
【図５】実施例１〜２で得られたグラファイト上に蒸着によりＳｉＬｉがパターニングされた負極の概略図である。
【図６】比較例１〜２に用いた銅箔（表面側）と対応するパターンマスクの概略図である。
【図７】比較例１〜２に用いた銅箔（裏面側）と対応するパターンマスクの概略図である。
【図８】比較例１に用いた真空成膜装置の内部構成の一部を示す概略図である。
【図９】実施例２に用いた真空成膜装置の内部構成の一部を示す概略図である。
【図１０】比較例２に用いた真空成膜装置の内部構成の一部を示す概略図である。
【符号の説明】
1  フレキシブル支持体
2a  巻き出しローラー
2b  巻き取りローラー
3ａ、3b  ガイドローラー
4a、4b、4c  ガイドローラー
5  ダンサローラー
6a、6b、6c、6d  蒸発源
7a、7b  位置検出器
8a  第１シャッター
8b  第２シャッター
8c  第３シャッター
8d  第４シャッター
9a、9b、9c、9d  遮蔽部材
10  防着板
11  回収容器
12a、12b  パターンマスク
13a、13c  パターンマスク巻き出しローラー
13b、13d  パターンマスク巻き取りローラー
14a、14b  ガイドローラー
15a、15b  ガイドローラー
16a、16ｂ  ガイドローラー
17a、17ｂ  キャンローラー
18  真空排気装置
19  ガス導入バルブ
20  銅箔
21a  グラファイト層
21b  SiLi層
22  合マーク
23  パターンマスク開口部
24  Ｎｉメッキ銅箔
【図１】
0004336869.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
0004336869.tif 000008
【図８】
0004336869.tif 000009
【図９】
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【図１０】
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