(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録トラックに沿ってグルーブが形成され、波長λの光が照射されて記録及び／又は再生がなされる光記録媒体であって、
上記グルーブとして、第１のグルーブと第２のグルーブとが第１の深さｘで２重螺旋を描くように形成され、且つ、２重螺旋を描く第１のグルーブと第２のグルーブとの各底面から光入射面に向かって略台形状に突出され、上記第１の深さｘよりも浅い第２の深さｙとする第３のグルーブが形成され、
上記第１のグルーブと第２のグルーブは、一方が少なくとも一部が蛇行するように形成されたウォブリンググルーブであり、他方がストレートグルーブであり、
光入射面から上記第１のグルーブ及び第２のグルーブに至る媒質の屈折率をｎｘとしたときに、ｘ×ｎｘ／λで表される当該第１のグルーブ及び第２のグルーブの位相深さをＸとし、
光入射面から上記第３のグルーブに至る媒質の屈折率をｎｙとしたときに、ｙ×ｎｙ／λで表される当該第３のグルーブの位相深さをＹとしたとき、
上記第１のグルーブ、第２のグルーブ及び第３のグルーブは、下記に示す式（１）及び式（２）（但し、下記に示す式（５）、式（６）及び式（７）で囲まれる領域を除く）、或いは、下記に示す式（３）及び式（４）を満たすように形成されていること
を特徴とする光記録媒体。
【数１】
0004320916.tif 000039
【数２】
0004320916.tif 000040
【数３】
0004320916.tif 000041
【数４】
0004320916.tif 000042
【請求項２】
記録及び／又は再生に使用される対物レンズの開口数をＮＡとしたときに、２×ＮＡ／λで表されるカットオフ周波数よりも、トラックピッチの空間周波数が大きいこと
を特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項３】
記録トラックに沿ってグルーブが形成され、波長λの光が照射されて記録及び／又は再生がなされる光記録媒体を製造する際に使用される光記録媒体製造用原盤であって、
上記グルーブに対応した凹凸パターンとして、第１のグルーブパターンと第２のグルーブパターンとが第１の深さｘで２重螺旋を描くように形成され、且つ、２重螺旋を描く第１のグルーブパターンと第２のグルーブパターンとの各底面から光入射面に向かって略台形状に突出され、上記第１の深さｘよりも浅い第２の深さｙとする第３のグルーブパターンが形成され、
上記第１のグルーブパターンと第２のグルーブパターンは、一方が少なくとも一部が蛇行するように形成されるウォブリンググルーブに対応した凹凸パターンであり、他方がストレートグルーブに対応した凹凸パターンであり、
上記光記録媒体の光入射面から第１のグルーブ及び第２のグルーブに至る媒質の屈折率をｎｘとしたときに、ｘ×ｎｘ／λで表される上記第１のグルーブパターン及び第２のグルーブパターンの位相深さをＸとし、
上記光記録媒体の光入射面から上記第３のグルーブに至る媒質の屈折率をｎｙとしたときに、ｙ×ｎｙ／λで表される上記第３のグルーブパターンの位相深さをＹとしたとき、
上記第１のグルーブパターン、第２のグルーブパターン及び第３のグルーブパターンは、下記に示す式（１）及び式（２）（但し、下記に示す式（５）、式（６）及び式（７）で囲まれる領域を除く）、或いは、下記に示す式（３）及び式（４）を満たすように形成されていること
を特徴とする光記録媒体製造用原盤。
【数８】
0004320916.tif 000043
【数９】
0004320916.tif 000044
【数１０】
0004320916.tif 000045
【数１１】
0004320916.tif 000046
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、記録トラックに沿ってグルーブが形成されてなる光記録媒体に関する。また、本発明は、そのような光記録媒体を製造する際に使用される光記録媒体製造用原盤に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光記録媒体として、円盤状に形成されてなり、光学的に記録及び／又は再生が行われる光ディスクが実用化されている。このような光ディスクには、データに対応したエンボスピットがディスク基板に予め形成されてなる再生専用の光ディスクや、磁気光学効果を利用してデータの記録を行う光磁気ディスク、記録膜の相変化を利用してデータの記録を行う相変化型光ディスク等がある。
【０００３】
これらの光ディスクのうち、光磁気ディスクや相変化型光ディスクのように書き込みが可能な光ディスクでは、通常、記録トラックに沿ったグルーブがディスク基板に形成されている。ここで、グルーブとは、主にトラッキングサーボを行えるようにするために、記録トラックに沿って形成される、いわゆる案内溝のことである。なお、グルーブとグルーブの間の部分は、ランドと称される。
【０００４】
そして、グルーブが形成されてなる光ディスクでは、通常、グルーブで反射回折された光から得られるプッシュプル信号に基づいて、トラッキングサーボがなされる。ここで、プッシュプル信号は、グルーブで反射回折された光を、トラック中心に対して対象に配置された２つの光検出器により検出し、それら２つの光検出器からの出力の差をとることにより得られる。
【０００５】
ところで、従来、これらの光ディスクでは、再生装置に搭載される光ピックアップの再生分解能を向上することで、高記録密度化を達成してきた。そして、光ピックアップの再生分解能の向上は、主に、データの再生に使用するレーザー光の波長λを短くしたり、光ディスク上にレーザー光を集光する対物レンズの開口数ＮＡを大きくしたりすることにより、実現されてきた。
【０００６】
ここで、ＣＤ、ＭＤ、ＭＤＤａｔａ２、ＤＶＤ＋ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＯＭについて、データの再生に使用するレーザー光の波長λ、対物レンズの開口数ＮＡ、トラックピッチの値を表１に示す（ＣＤ、ＭＤ、ＭＤＤａｔａ２、ＤＶＤ＋ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＯＭは、何れも光ディスクの商標）。
【０００７】
【表１】
0004320916.tif 000002
【０００８】
表１に示すように、従来の光ディスクでは、レーザー光の波長λを短くしたり、対物レンズの開口数ＮＡを大きくしたりすることにより、狭トラック化が実現され、これにより、高記録密度化が達成されている。
【０００９】
ところで、従来の光ディスクにおいて、トラックピッチは、再生装置の光ピックアップのカットオフ周波数の１／２〜２／３程度とされている。ここで、カットオフ周波数とは、再生信号振幅がほぼ０となる周波数のことであり、データの再生に使用するレーザー光の波長をλとし、光ディスク上にレーザー光を集光する対物レンズの開口数をＮＡとしたとき、２ＮＡ／λで表される。
【００１０】
このようにトラックピッチがカットオフ周波数の１／２〜２／３程度とされるのは、安定したトラッキングサーボやトラックのシークを実現するために、トラッキングサーボやシークに必要な信号を十分なレベルにて得られるようにする必要があるからである。
【００１１】
例えば、近年の高密度光ディスクでは、トラッキングエラー信号としてプッシュプル信号が用いられているが、トラッキングサーボを安定に行うには、プッシュプル信号振幅比が０．０６程度以上である必要がある。また、シーク時のトラバースカウントやトラックの半径位置検出にクロストラック信号が使用されるが、シークを安定に行うには、クロストラック信号振幅が０．１４程度以上である必要がある。そして、従来の光ディスクでは、プッシュプル信号振幅比を０．０６以上とし、且つ、クロストラック信号振幅を０．１４以上とするには、トラックピッチをカットオフ周波数の１／２〜２／３程度とする必要があった。
【００１２】
なお、プッシュプル信号は、図７に示すように、グルーブで反射回折された光をトラック中心に対して対象に配置された２つの光検出器Ａ，Ｂにより検出し、それら２つの光検出器Ａ，Ｂからの出力の差（Ａ−Ｂ）をとることにより得られる。また、クロストラック信号は、それら２つの光検出器Ａ，Ｂからの出力の和（Ａ＋Ｂ）をとることにより得られる。
【００１３】
そして、プッシュプル信号振幅比は、図８に示すようにプッシュプル信号の最大振幅をＣとしたときに、Ｃ／Ｍmaxで表される。また、クロストラック信号振幅比は、図８に示すようにクロストラック信号の最大振幅をＤとしたときに、Ｄ／Ｍmaxで表される。ここで、Ｍmaxは、２つの光検出器Ａ，Ｂからの和信号をＭとしたとき、当該和信号Ｍの最大値、すなわちディスク鏡面での和信号Ｍの値を示している。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、光記録媒体の高記録密度化に対する要求はとどまるところを知らず、光ディスク等の光記録媒体には更なる高記録密度化が望まれている。光記録媒体の高記録密度化を図るには、例えば、隣接するグルーブの間隔を狭くして、トラックピッチを狭くしてやればよい。しかしながら、従来の光記録媒体では、トラックピッチを余りに狭くすると、トラッキングサーボやシークに必要な信号を十分なレベルで得ることができなくなってしまい、安定にトラッキングサーボやシークを行うことができなくなってしまうという問題があった。
【００１５】
例えば、ＭＤＤａｔａ２では、トラックピッチが０．９５μｍとなるストレートグルーブとウォブリンググルーブとがダブルスパイラル状に形成されており、これらグルーブの間のランド部分が信号記録領域とされている。この場合、プッシュプル信号振幅比は０．２５程度であり、クロストラック振幅比は０．１９程度である。したがって、プッシュプル信号振幅比及びクロストラック振幅比は十分に大きく、シーク時にトラバースカウントするのに必要な信号を十分なレベルで得ることができ、安定なシークやトラッキングサーボが実現可能である。
【００１６】
しかし、ＭＤＤａｔａ２と同様な構成において、トラックピッチを０．７５μｍとすると、プッシュプル信号振幅比が０．０６程度にまで低下し、また、クロストラック振幅比が０．０５程度にまで低下してしまう。これでは、プッシュプル信号振幅比及びクロストラック振幅比が小さすぎ、安定なトラッキングサーボやシークが実現不可能となってしまう。
【００１７】
このように、従来の光記録媒体では、トラックピッチを余りに狭くすると、トラッキングサーボやシークに必要な信号を十分なレベルで得ることができなくなってしまい、安定にトラッキングサーボやシークを行うことができなくなってしまうという問題があった。このため、従来の光記録媒体では、更なる高記録密度化を進めることが困難であった。
【００１８】
本発明は、以上のような従来の実情に鑑みて提案されたものであり、トラックピッチを非常に狭くしても、安定にトラッキングサーボやシークを行うことができ、更なる高記録密度化を進めることが可能な光記録媒体を提供することを目的とする。また、本発明は、そのような光記録媒体を製造することが可能な光記録媒体製造用原盤を提供することを目的とする。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
この目的を達成する本発明に係る光記録媒体は、記録トラックに沿ってグルーブが形成され、波長λの光が照射されて記録及び／又は再生がなされる光記録媒体である。そして、グルーブとして、第１のグルーブと第２のグルーブとが第１の深さｘで２重螺旋を描くように形成され、且つ、２重螺旋を描く第１のグルーブと第２のグルーブとの各底面から光入射面に向かって略台形状に突出され、上記第１の深さｘよりも浅い第２の深さｙとする第３のグルーブが形成され、上記第１のグルーブと第２のグルーブは、一方が少なくとも一部が蛇行するように形成されたウォブリンググルーブであり、他方がストレートグルーブであり、光入射面から第１のグルーブ及び第２のグルーブに至る媒質の屈折率をｎｘとしたときに、ｘ×ｎｘ／λで表される当該第１のグルーブ及び第２のグルーブの位相深さをＸとし、光入射面から第３のグルーブに至る媒質の屈折率をｎｙとしたときに、ｙ×ｎｙ／λで表される当該第３のグルーブの位相深さをＹとしたとき、第１のグルーブ、第２のグルーブ及び第３のグルーブは、下記に示す式（１）及び式（２）（但し、下記に示す式（５）、式（６）及び式（７）で囲まれる領域を除く）、或いは、下記に示す式（３）及び式（４）を満たすように形成されていることを特徴とする。
【００２０】
【数２２】
0004320916.tif 000003
【００２１】
【数２３】
0004320916.tif 000004
【００２２】
【数２４】
0004320916.tif 000005
【００２３】
【数２５】
0004320916.tif 000006
【００２４】
この光記録媒体では、第１のグルーブ、第２のグルーブ及び第３のグルーブが、上記式（１）及び式（２）、或いは、上記式（３）及び式（４）を満たすように形成されているので、トラックピッチを狭くしても、トラッキングサーボやシークに必要な信号を十分なレベルで得ることができる。
【００３０】
なお、これら光記録媒体において、第１のグルーブと第２のグルーブのうちの少なくとも一方は、少なくとも一部が蛇行するように形成されたウォブリンググルーブであることが好ましい。これにより、グルーブ自体にアドレス情報を付加することが可能となる。
【００３１】
また、この目的を達成する本発明に係る光記録媒体製造用原盤は、記録トラックに沿ってグルーブが形成され、波長λの光が照射されて記録及び／又は再生がなされる光記録媒体を製造する際に使用される光記録媒体製造用原盤である。そして、グルーブに対応した凹凸パターンとして、第１のグルーブパターンと第２のグルーブパターンとが第１の深さｘで２重螺旋を描くように形成され、且つ、２重螺旋を描く第１のグルーブパターンと第２のグルーブパターンとの各底面から光入射面に向かって略台形状に突出され、第１の深さｘよりも浅い第２の深さｙとする第３のグルーブパターンが形成され、上記第１のグルーブパターンと第２のグルーブパターンは、一方が少なくとも一部が蛇行するように形成されるウォブリンググルーブに対応した凹凸パターンであり、他方がストレートグルーブに対応した凹凸パターンであり、光記録媒体の光入射面から第１のグルーブ及び第２のグルーブに至る媒質の屈折率をｎｘとしたときに、ｘ×ｎｘ／λで表される第１のグルーブパターン及び第２のグルーブパターンの位相深さをＸとし、光記録媒体の光入射面から第３のグルーブに至る媒質の屈折率をｎｙとしたときに、ｙ×ｎｙ／λで表される第３のグルーブパターンの位相深さをＹとしたとき、第１のグルーブパターン、第２のグルーブパターン及び第３のグルーブパターンは、下記に示す式（１）及び式（２）（但し、下記に示す式（５）、式（６）及び式（７）で囲まれる領域を除く）、或いは、下記に示す式（３）及び式（４）を満たすように形成されていることを特徴とする。
【００３２】
【数２９】
0004320916.tif 000007
【００３３】
【数３０】
0004320916.tif 000008
【００３４】
【数３１】
0004320916.tif 000009
【００３５】
【数３２】
0004320916.tif 000010
【００３６】
この光記録媒体製造用原盤では、第１のグルーブパターン、第２のグルーブパターン及び第３のグルーブパターンが、上記式（１）及び式（２）、或いは、上記（３）及び式（４）を満たすように形成されているので、この光記録媒体製造用原盤を用いることにより、上記式（１）及び式（２）、或いは、上記式（３）及び式（４）を満たす第１のグルーブ、第２のグルーブ及び第３のグルーブが形成されてなる光記録媒体を製造することができる。したがって、この光記録媒体製造用原盤によれば、トラックピッチを狭くしても、トラッキングサーボやシークに必要な信号を十分なレベルで得ることが可能な光記録媒体を製造することができる。
【００４２】
なお、これら光記録媒体製造用原盤において、第１のグルーブパターンと第２のグルーブパターンのうちの少なくとも一方は、少なくとも一部が蛇行するように形成されるウォブリンググルーブに対応した凹凸パターンであることが好ましい。
【００４３】
これにより、第１のグルーブと第２のグルーブのうちの少なくとも一方が、少なくとも一部が蛇行するウォブリンググルーブとなる光記録媒体を製造することができる。そして、このように作製された光記録媒体では、グルーブ自体にアドレス情報を付加することが可能となる。
【００５６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下の説明では、グルーブの蛇行のことをウォブリングと称し、ウォブリングするように形成されたグルーブのことをウォブリンググルーブと称する。また、ウォブリンググルーブに対して、蛇行することなく形成されたグルーブのことをストレートグルーブと称する。
【００５７】
＜光磁気ディスク＞
本発明を適用した光磁気ディスクについて、要部を拡大した断面図を図１に示し、記録領域の一部を拡大した平面図を図２に示す。
【００５８】
この光磁気ディスク１は、円盤状に形成されてなり、磁気光学効果を利用してデータの記録が行われる。そして、この光磁気ディスク１は、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）やポリカーボネート（ＰＣ）等からなるディスク基板２上に、光磁気記録がなされる記録層３と、この記録層３を保護する保護層４とが形成されてなる。ここで、記録層３は、例えば、ＳｉＮ等からなる誘電体膜と、ＴｅＦｅＣｏ合金等からなる垂直磁気記録膜と、ＳｉＮ等からなる誘電体膜と、Ａｌ等からなる反射膜とが順次積層されてなる。また、保護層４は、例えば、記録層３の上に紫外線硬化樹脂がスピンコートされてなる。なお、本発明において、記録層３や保護層４の構成は任意であり、本例に限定されるものではない。
【００５９】
この光磁気ディスク１には、ディスク基板２の記録層３及び保護層４が形成される側の面上に、案内溝であるウォブリンググルーブ５とストレートグルーブ６とが同一の深さ（以下、第１の深さｘと称する。）で２重螺旋を描くように、すなわちダブルスパイラル状に形成されている。
【００６０】
このウォブリンググルーブ５は、±１０ｎｍの振幅にて一定の周期で蛇行するように形成されている。このように、光磁気ディスク１では、一方のグルーブ（ウォブリンググルーブ５）を±１０ｎｍの振幅にてウォブリングさせることにより、グルーブにアドレス情報を付加している。
【００６１】
また、光磁気ディスク１には、２重螺旋を描くウォブリンググルーブ５とストレートグルーブ６との間の部分であって、ディスクの内周側がウォブリンググルーブ５となっている部分に、これらウォブリンググルーブ５及びストレートグルーブ６の深さよりも浅い深さ（以下、第２の深さｙと称する。）とされたシャローグルーブ７が形成されている。
【００６２】
なお、光磁気ディスク１では、ウォブリンググルーブ５とストレートグルーブ６との間であって、ディスクの内周側がストレートグルーブ６となっている部分がランド８となる。
【００６３】
この光磁気ディスク１では、ウォブリンググルーブ５とストレートグルーブ６の部分に、光磁気記録によるデータの記録が行われる。すなわち、ウォブリンググルーブ５及びストレートグルーブ６には、情報信号が記録される記録トラックが形成されることとなる。
【００６４】
そして、この光磁気ディスク１において、トラックピッチ（Track Pitch）は０．５０μｍとされている。ここで、トラックピッチ（Track Pitch）は、２重螺旋を描くウォブリンググルーブ５とストレートグルーブ６の中心位置の間隔に相当する。すなわち、この光磁気ディスク１において、ウォブリンググルーブ５とストレートグルーブ６の中心位置の間隔は、０．５０μｍとされている。
【００６５】
なお、以下の説明では、隣接するストレートグルーブ６の中心位置の間隔のことをトラックピリオド（Track Period）と称する。このトラックピリオド（Track Period）は、トラックピッチ（Track Pitch）の２倍に相当するものであり、この光磁気ディスク１において、トラックピリオド（Track Period）は、１．００μｍとなる。
【００６６】
なお、ここでは、ダブルスパイラル状に形成されてなる２つのグルーブがウォブリンググルーブ５とストレートグルーブ６とからなる例を挙げたが、本発明を適用した光記録媒体では、これらの２つのグルーブは、両方ともストレートグルーブであってもよく、また、両方ともウォブリンググルーブであってもよい。但し、グルーブをウォブリングさせた場合には、グルーブ自体にアドレス情報を付加することができるという利点がある。しかも、本例のように、一方のグルーブをウォブリンググルーブとして、他方のグルーブをストレートグルーブとした場合には、両方のグルーブをウォブリンググルーブにした場合に比べて、狭トラック化を図りやすいので、更なる高記録密度化を実現できる。
【００６７】
また、ここでは、ウォブリンググルーブ５とストレートグルーブ６の部分に記録トラックが形成された例を挙げたが、本発明を適用した光記録媒体では、シャローグルーブ７やランド８の部分に、記録トラックが形成されるようにしてもよく、また、ランド・グルーブ記録のように、ランド及びグルーブ部分に記録トラックが形成されるようにしてもよい。
【００６８】
本発明を適用した光磁気ディスク１は、上述したように、ウォブリンググルーブ５及びストレートグルーブ６の第１の深さｘが同一とされており、この第１の深さｘよりもシャローグルーブ７の第２の深さｙが浅くなるように、これらグルーブが形成されている。
【００６９】
このため、光磁気ディスク１では、シャローグルーブ７の底面がほぼフラットな形状となる。換言すると、このシャローグルーブ７は、ウォブリンググルーブ５及びストレートグルーブ６の底面から略矩形台形状に突出形成されており、超解像に対応した良好な形状となっている。したがって、この光磁気ディスク１では、トラッキングサーボやシークに必要な信号を良好に得ることができる。
【００７０】
なお、以下の説明では、必要に応じてウォブリンググルーブ５及びストレートグルーブ６のことをまとめて、シャローグルーブ７に対して、ディープグルーブ９と称する。
【００７１】
そして、本発明を適用した光磁気ディスク１では、この光磁気ディスク１に対する記録再生時に使用されるレーザー光の波長をλとし、この光磁気ディスク１の光入射面からディープグルーブ９に至る媒質の屈折率をｎxとしたときに、ｘ×ｎx／λで表される当該ディープグルーブ９の位相深さをＸとし、一方、この光磁気ディスク１の光入射面からシャローグルーブ７に至る媒質の屈折率をｎyとしたときに、ｙ×ｎy／λで表される当該シャローグルーブ７の位相深さＹをとしたとき、これらディープグルーブ９及びシャローグルーブ７が、下記式（１−１）及び式（１−２）、或いは、下記式（１−３）及び式（１−４）を満たすように形成されている。
【００７２】
【数４３】
0004320916.tif 000011
【００７３】
【数４４】
0004320916.tif 000012
【００７４】
【数４５】
0004320916.tif 000013
【００７５】
【数４６】
0004320916.tif 000014
【００７６】
なお、光磁気ディスク１の光入射面からディープグルーブ９に至る媒質及び光磁気ディスク１の光入射面からシャローグルーブ７に至る媒質は、何れもディスク基板２である。したがって、ディスク基板２の屈折率をｎとすると、ｎx＝ｎy＝ｎである。
【００７７】
以上のような光磁気ディスク１では、後述する実験結果からも分かるように、ディープグルーブ９及びシャローグルーブ７が上記式（１−１），式（１−２）及び式（１−３）、或いは、上記式（１−４）及び式（１−５）を満たすように形成されているので、トラッキングサーボやシークに必要な信号を十分なレベルで得ることができる。
【００７８】
さらに、本発明を適用した光磁気ディスク１では、これらディープグルーブ９及びシャローグルーブ７が、下記式（１−５），式（１−６）及び式（１−７）を満たすように形成されていることが好ましい。
【００７９】
【数４７】
0004320916.tif 000015
【００８０】
【数４８】
0004320916.tif 000016
【００８１】
【数４９】
0004320916.tif 000017
【００８２】
以上のような光磁気ディスク１では、後述する実験結果からも分かるように、ディープグルーブ９及びシャローグルーブ７が上記式（１−５），式（１−６）及び式（１−７）を満たすように形成されているので、トラッキングサーボやシークに必要な信号をさらに十分なレベルで得ることができる。
【００８３】
＜レーザーカッティング装置＞
以上のような光磁気ディスク１を製造する際には、この光磁気ディスク１の原盤となる記録媒体製造用原盤の作製にレーザーカッティング装置が使用される。以下、記録媒体製造用原盤の作製に使用されるレーザーカッティング装置の一例について、図３を参照して詳細に説明する。
【００８４】
図３に示したレーザーカッティング装置１０は、ガラス基板１１の上に塗布されたフォトレジスト１２を露光して潜像を形成するためのものである。このレーザーカッティング装置１０でフォトレジスト１２に潜像を形成する際、フォトレジスト１２が塗布されたガラス基板１１は、移動光学テーブル上に設けられた回転駆動装置に取り付けられる。そして、フォトレジスト１２を露光する際に、ガラス基板１１は、フォトレジスト１２の全面に亘って所望のパターンでの露光がなされるように、図中矢印Ｃ１に示すように回転駆動装置によって回転駆動されるとともに、移動光学テーブルによって平行移動される。
【００８５】
このレーザーカッティング装置１０は、３つの露光ビームによってフォトレジスト１２を露光することが可能となっており、ウォブリンググルーブ５に対応した潜像と、ストレートグルーブ６に対応した潜像と、シャローグルーブ７に対応した潜像とを、それぞれの露光ビームにより形成する。具体的に、このレーザーカッティング装置１０では、第１の露光ビームによってシャローグルーブ７に対応した潜像を形成し、第２の露光ビームによってウォブリンググルーブ５に対応した潜像を形成し、第３の露光ビームによってストレートグルーブ６に対応した潜像を形成する。
【００８６】
このレーザーカッティング装置１０は、レーザー光を出射する光源１３と、光源１３から出射されたレーザー光の光強度を調整するための電気光学変調器（ＥＯＭ：Electro Optical Modulator）１４と、電気光学変調器１４から出射されたレーザー光の光軸上に配された検光子１５と、検光子１５を透過してきたレーザー光を反射光と透過光とに分離する第１のビームスプリッタ１６と、第１のビームスプリッタ１６を透過してきたレーザー光を反射光と透過光とに分離する第２のビームスプリッタ１７と、第２のビームスプリッタ１７を透過してきたレーザー光を反射光と透過光とに分離する第３のビームスプリッタ１８と、第３のビームスプリッタ１８を透過してきたレーザー光を検出するフォトディテクタ（ＰＤ：Photo Detector）１９と、電気光学変調器１４に対して信号電界を印加して当該電気光学変調器１４から出射されるレーザー光の光強度を調整するオートパワーコントローラ（ＡＰＣ：Auto Power Controller）２０とを備えている。
【００８７】
このレーザーカッティング装置１０において、光源１３から出射されたレーザー光は、先ず、オートパワーコントローラ２０から印加される信号電界によって駆動される電気光学変調器１４によって所定の光強度とされた上で検光子１５に入射する。ここで、検光子１５はＳ偏光だけを透過する検光子であり、この検光子１５を透過してきたレーザー光はＳ偏光となる。
【００８８】
なお、光源１３には、任意のものが使用可能であるが、比較的に短波長のレーザー光を出射するものが好ましい。具体的には、例えば、波長λが４１３ｎｍのレーザー光を出射するＫｒレーザーや、波長λが４４２ｎｍのレーザー光を出射するＨｅ−Ｃｄレーザーなどが、光源１３として好適である。
【００８９】
そして、検光子１５を透過してきたＳ偏光のレーザー光は、先ず、第１のビームスプリッタ１６によって反射光と透過光とに分けられ、さらに、第１のビームスプリッタ１６を透過したレーザー光は、第２のビームスプリッタ１７によって反射光と透過光とに分けられ、さらに、第２のビームスプリッタ１７を透過したレーザー光は、第３のビームスプリッタ１８によって反射光と透過光とに分けられる。
【００９０】
なお、このレーザーカッティング装置１０では、第１のビームスプリッタ１６によって反射されたレーザー光が第１の露光ビームとなり、第２のビームスプリッタ１７によって反射されたレーザー光が第２の露光ビームとなり、第３のビームスプリッタ１８によって反射されたレーザー光が第３の露光ビームとなる。
【００９１】
一方、第３のビームスプリッタ１８を透過したレーザー光は、フォトディテクタ１９によって、その光強度が検出され、この光強度に応じた信号がフォトディテクタ１９からオートパワーコントローラ２０に送られる。そして、フォトディテクタ１９から送られてきた信号に応じて、オートパワーコントローラ２０は、フォトディテクタ１９によって検出される光強度が所定のレベルにて一定となるように、電気光学変調器１４に対して印加する信号電界を調整する。これにより、電気光学変調器１４から出射するレーザー光の光強度が一定となるように、自動光量制御（ＡＰＣ：Auto Power Control）が施され、ノイズの少ない安定したレーザー光が得られる。
【００９２】
また、このレーザーカッティング装置１０は、第１のビームスプリッタ１６によって反射されたレーザー光を光強度変調するための第１の変調光学系２１と、第２のビームスプリッタ１７によって反射されたレーザー光を光強度変調するための第２の変調光学系２２と、第３のビームスプリッタ１８によって反射されたレーザー光を光強度変調するための第３の変調光学系２３と、第１乃至第３の変調光学系２１，２２，２３によって光強度変調が施された各レーザー光を再合成してフォトレジスト１２上に集光するための光学系２４とを備えている。
【００９３】
そして、第１のビームスプリッタ１６によって反射されてなる第１の露光ビームは、第１の変調光学系２１に導かれ、第１の変調光学系２１によって光強度変調が施される。同様に、第２のビームスプリッタ１７によって反射されてなる第２の露光ビームは、第２の変調光学系２２に導かれ、第２の変調光学系２２によって光強度変調が施される。同様に、第３のビームスプリッタ１８によって反射されてなる第３の露光ビームは、第３の変調光学系２３に導かれ、第３の変調光学系２３によって光強度変調が施される。
【００９４】
具体的に、第１の変調光学系２１に入射した第１の露光ビームは、集光レンズ２５によって集光された上で音響光学変調器（ＡＯＭ：Acousto Optical Modulator）２６に入射し、この音響光学変調器２６によって、所望する露光パターンに対応するように光強度変調される。ここで、音響光学変調器２６に使用される音響光学素子としては、例えば、酸化テルル（ＴｅＯ2）からなる音響光学素子が好適である。そして、音響光学変調器２６によって光強度変調された第１の露光ビームは、コリメートレンズ２７によって平行光とされた上で、第１の変調光学系２１から出射される。
【００９５】
ここで、音響光学変調器２６には、当該音響光学変調器２６を駆動するための駆動用ドライバ２８が取り付けられている。そして、フォトレジスト１２の露光時には、所望する露光パターンに応じた信号Ｓ１が駆動用ドライバ２８に入力され、当該信号Ｓ１に応じて駆動用ドライバ２８によって音響光学変調器２６が駆動され、第１の露光ビームに対して光強度変調が施される。
【００９６】
具体的には、例えば、一定の深さのシャローグルーブ７に対応したグルーブパターンの潜像をフォトレジスト１２に形成するような場合には、一定レベルのＤＣ信号が駆動用ドライバ２８に入力され、当該ＤＣ信号に応じて駆動用ドライバ２８によって音響光学変調器２６が駆動される。これにより、所望するグルーブパターンに対応するように、第１の露光ビームに対して光強度変調が施される。
【００９７】
また、第２の変調光学系２２に入射した第２の露光ビームは、集光レンズ２９によって集光された上で音響光学変調器３０に入射し、この音響光学変調器３０によって、所望する露光パターンに対応するように光強度変調される。ここで、音響光学変調器３０に使用される音響光学素子としては、例えば、酸化テルル（ＴｅＯ2）からなる音響光学素子が好適である。そして、音響光学変調器３０によって光強度変調された第２の露光ビームは、コリメートレンズ３１によって平行光とされた上で、第２の変調光学系２２から出射される。
【００９８】
ここで、音響光学変調器３０には、当該音響光学変調器３０を駆動するための駆動用ドライバ３２が取り付けられている。そして、フォトレジストの露光時には、所望する露光パターンに応じた信号Ｓ２が駆動用ドライバ３２に入力され、当該信号Ｓ２に応じて駆動用ドライバ３２によって音響光学変調器３０が駆動され、第２の露光ビームに対して光強度変調が施される。
【００９９】
具体的には、例えば、一定の深さのウォブリンググルーブ５に対応したグルーブパターンの潜像をフォトレジスト１２に形成するような場合には、一定レベルのＤＣ信号が駆動用ドライバ３２に入力され、当該ＤＣ信号に応じて駆動用ドライバ３２によって音響光学変調器３０が駆動される。これにより、所望するグルーブパターンに対応するように、第２の露光ビームに対して光強度変調が施される。
【０１００】
また、第３の変調光学系２３に入射した第３の露光ビームは、集光レンズ３３によって集光された上で音響光学変調器３４に入射し、この音響光学変調器３４によって、所望する露光パターンに対応するように光強度変調される。ここで、音響光学変調器３４に使用される音響光学素子としては、例えば、酸化テルル（ＴｅＯ2）からなる音響光学素子が好適である。そして、音響光学変調器３４によって光強度変調された第３の露光ビームは、コリメートレンズ３５によって平行光とされるとともに、λ／２波長板３６を透過することにより偏光方向が９０°回転させられた上で、第３の変調光学系２３から出射される。
【０１０１】
ここで、音響光学変調器３４には、当該音響光学変調器３４を駆動するための駆動用ドライバ３７が取り付けられている。そして、フォトレジスト１２の露光時には、所望する露光パターンに応じた信号Ｓ３が駆動用ドライバ３７に入力され、当該信号Ｓ３に応じて駆動用ドライバ３７によって音響光学変調器３４が駆動され、第３の露光ビームに対して光強度変調が施される。
【０１０２】
具体的には、例えば、一定の深さのストレートグルーブ６に対応したグルーブパターンの潜像をフォトレジスト１２に形成するような場合には、一定レベルのＤＣ信号が駆動用ドライバ３７に入力され、当該ＤＣ信号に応じて駆動用ドライバ３７によって音響光学変調器３４が駆動される。これにより、所望するグルーブパターンに対応するように、第３の露光ビームに対して光強度変調が施される。
【０１０３】
なお、音響光学変調器（ＡＯＭ：Acousto Optical Modulator）２６，３０，３４は、ブラッグ回折における一次回折光の光強度が超音波パワーにほぼ比例することを利用したものであり、超音波パワーを記録信号に基づいて変調し、レーザー光の光変調を行う。そして、ブラッグ回折がブラッグ条件２ｄsinθ＝ｎλ（ｄ：格子間隔，λ：レーザー光波長，θ：レーザー光と格子面とのなす角，整数）を満たすように、これら音響光学変調器２６，３０，３４及び光源１３を配置する。
【０１０４】
以上のようにして、第１の露光ビームは第１の変調光学系２１によって光強度変調が施され、第２の露光ビームは第２の変調光学系２２によって光強度変調が施され、第３の露光ビームは第３の変調光学系２３によって光強度変調が施される。このとき、第１の変調光学系２１から出射された第１の露光ビーム及び第２の変調光学系２２から出射された第２の露光ビームは、Ｓ偏光のままであるが、第３の変調光学系２３から出射された第３の露光ビームは、λ／２波長板３６を透過することにより偏光方向が９０°回転させられているので、Ｐ偏光となっている。
【０１０５】
そして、第１の変調光学系２１から出射された第１の露光ビームは、ミラー４０によって反射され、移動光学テーブル上に水平且つ平行に導かれる。同様に、第２の変調光学系２２から出射された第２の露光ビームは、ミラー４１によって反射され、移動光学テーブル上に水平且つ平行に導かれる。同様に、第３の変調光学系２３から出射された第３の露光ビームは、ミラー４２によって反射され、移動光学テーブル上に水平且つ平行に導かれる。
【０１０６】
そして、第１の変調光学系２１から出射され、移動光学テーブル上に水平且つ平行に導かれた第１の露光ビームは、ミラー４３によって反射されて進行方向が９０°曲げられた上で、ハーフミラー４４を介して偏光ビームスプリッタ４５に入射する。また、第２の変調光学系２２から出射され、移動光学テーブル上に水平且つ平行に導かれた第２の露光ビームは、偏向光学系４６によって光学偏向が施された上で、ハーフミラー４４によって反射されて進行方向が９０°曲げられた上で偏光ビームスプリッタ４５に入射する。また、第３の変調光学系２３から出射され、移動光学テーブル上に水平且つ平行に導かれた第３の露光ビームは、そのまま偏光ビームスプリッタ４５に入射する。
【０１０７】
ここで、偏向光学系４６は、ウォブリンググルーブ５のウォブリングに対応するように、第２の露光ビームに対して光学偏向を施すためのものである。すなわち、第２の変調光学系２２から出射され偏向光学系４６に入射した第２の露光ビームは、ウエッジプリズム４７を介して音響光学偏向器（ＡＯＤ：Acousto Optical Deflector）４８に入射し、この音響光学偏向器４８によって、所望する露光パターンに対応するように光学偏向が施される。ここで、音響光学偏向器４８に使用される音響光学素子としては、例えば、酸化テルル（ＴｅＯ2）からなる音響光学素子が好適である。そして、音響光学偏向器４８によって光学偏向が施された第２の露光ビームは、ウエッジプリズム４９を介して偏向光学系４６から出射される。
【０１０８】
なお、ウエッジプリズム４７，４９は、音響光学偏向器４８の音響光学素子の格子面に対してブラッグ条件を満たすように第２の露光ビームが入射するようにするとともに、音響光学偏向器４８によって第２の露光ビームに対して光学偏向を施したとしてもビーム水平高さが変わらないようにするためのものである。換言すれば、ウエッジプリズム４７、音響光学偏向器４８及びウエッジプリズム４９は、音響光学偏向器４８の音響光学素子の格子面が第２の露光ビームに対してブラッグ条件を満たし、且つ、偏向光学系４６から出射される第２の露光ビームのビーム水平高さが変わらないように配置される。
【０１０９】
ここで、音響光学偏向器４８には、当該音響光学偏向器４８を駆動するための駆動用ドライバ５０が取り付けられており、当該駆動用ドライバ５０には、電圧制御発振器（ＶＣＯ：Voltage Controlled Oscillator）５１からの高周波信号が、アドレス情報を含む制御信号Ｓ４によりＦＭ変調され供給される。そして、フォトレジスト１２の露光時には、所望する露光パターンに応じた信号が、電圧制御発振器５１から駆動用ドライバ５０に入力され、当該信号に応じて駆動用ドライバ５０によって音響光学偏向器４８が駆動され、これにより、第２の露光ビームに対して光学偏向が施される。
【０１１０】
具体的には、例えば、周波数８４．６７２ｋＨｚにてグルーブをウォブリングさせることにより、グルーブにアドレス情報を付加するような場合には、例えば中心周波数が２２４ＭＨｚの高周波信号を周波数８４．６７２ｋＨｚの制御信号にてＦＭ変調した信号を、電圧制御発振器５１から駆動用ドライバ５０に供給する。そして、この信号に応じて、駆動用ドライバ５０によって音響光学偏向器４８を駆動し、当該音響光学偏向器４８の音響光学素子のブラッグ角を変化させ、これにより、周波数８４．６７２ｋＨｚのウォブリングに対応するように、第２の露光ビームに対して光学偏向を施す。
【０１１１】
そして、このような偏向光学系４６によって、ウォブリンググルーブ５のウォブリングに対応するように光学偏向が施された第２の露光ビームは、上述したように、ハーフミラー４４によって反射されて進行方向が９０°曲げられた上で偏光ビームスプリッタ４５に入射する。
【０１１２】
ここで、偏光ビームスプリッタ４５は、Ｓ偏光を反射し、Ｐ偏光を透過するようになされている。そして、第１の変調光学系２１から出射された第１の露光ビーム、並びに第２の変調光学系２２から出射され偏向光学系４６によって光学偏向が施された第２の露光ビームは、Ｓ偏光であり、また、第３の変調光学系２３から出射された第３の露光ビームはＰ偏光である。したがって、第１及び第２の露光ビームは、この偏光ビームスプリッタ４５によって反射され、また、第３の露光ビームは、この偏光ビームスプリッタ４５を透過する。これにより、第１の変調光学系２１から出射された第１の露光ビームと、第２の変調光学系２２から出射され偏向光学系４６によって光学偏向が施された第２の露光ビームと、第３の変調光学系２３から出射された第３の露光ビームとは、進行方向が同一方向となるように再合成される。
【０１１３】
そして、進行方向が同一方向となるように再合成されて偏光ビームスプリッタ４５から出射した第１乃至第３の露光ビームは、拡大レンズ５２によって所定のビーム径とされた上でミラー５３によって反射されて対物レンズ５４へと導かれ、当該対物レンズ５４によってフォトレジスト１２上に集光される。これにより、フォトレジスト１２が露光され、フォトレジスト１２に潜像が形成されることとなる。
【０１１４】
このとき、フォトレジスト１２が塗布されているガラス基板１１は、上述したように、フォトレジスト１２の全面に亘って所望のパターンでの露光がなされるように、図中矢印Ｃ１に示すように回転駆動装置によって回転駆動されるとともに、移動光学テーブルによって平行移動される。この結果、第１乃至第３の露光ビームの照射軌跡に応じた潜像が、フォトレジスト１２の全面に亘って形成されることとなる。
【０１１５】
なお、露光ビームをフォトレジスト１２の上に集光するための対物レンズ５４は、より微細なピットパターンやグルーブパターンを形成できるようにするために、開口数ＮＡが大きい方が好ましく、具体的には、開口数ＮＡが０．９程度の対物レンズが好適である。
【０１１６】
また、このように第１乃至第３の露光ビームをフォトレジスト１２に照射する際は、必要に応じて、拡大レンズ５２によって第１乃至第３の露光ビームのビーム径を変化させ、対物レンズ５４に対する有効開口数を調整するようにしてもよい。これにより、フォトレジスト１２の表面に集光される第１乃至第３の露光ビームのスポット径を変化させることができる。
【０１１７】
ところで、偏光ビームスプリッタ４５に入射した第２の露光ビームは、この偏光ビームスプリッタ４５の反射面にて、第３の露光ビームと合成される。ここで、偏光ビームスプリッタ４５は、その反射面が、当該反射面で合成されて出射される光の進行方向に対して適度な反射角をなすように配される。
【０１１８】
具体的には、偏光ビームスプリッタ５４の反射面の反射角は、第２の露光ビームに対応するスポットと、第３の露光ビームに対応するスポットとの、ガラス基板１１の半径方向における間隔が、トラックピッチ（Track Pitch）に対応するように設定しておく。これにより、第２の露光ビームによりウォブリンググルーブ５に対応する部分を露光し、同時に、第３の露光ビームによりストレートグルーブ６に対応する部分を露光することが可能となる。
【０１１９】
さらに、ミラー４３により反射された第１の露光ビームは、ハーフミラー４４を介して偏光ビームスプリッタに入射し、この偏光ビームスプリッタ４５の反射面にて、第２及び第３の露光ビームと合成される。ここで、ミラー４３は、その反射面が、当該反射面で合成されて出射される光の進行方向に対して適度な反射角をなすように配される。
【０１２０】
具体的には、ミラー４３の反射面の反射角は、第２の露光ビームに対応するスポットと、第３の露光ビームに対応するスポットとの間に位置するように設定しておく。これにより、第１の露光ビームによりシャローグルーブ７に対応する部分、すなわち第２の露光ビームにより露光されたウォブリンググルーブ５対応する部分と、第３の露光ビームにより露光されたストレートグルーブ６に対応した部分の間を露光することが可能となる。
【０１２１】
以上のようなレーザーカッティング装置１０では、シャローグルーブ７に対応した潜像を形成するための第１の露光ビームに対応した光学系と、ウォブリンググルーブ５に対応した潜像を形成するための第２の露光ビームに対応した光学系と、ストレートグルーブ６に対応した潜像を形成するための第３の露光ビームに対応した光学系とを備えているので、このレーザーカッティング装置１０だけで、シャローグルーブ７に対応した潜像と、ウォブリンググルーブ５に対応した潜像と、ストレートグルーブ６に対応した潜像とをまとめて形成することができる。しかも、このレーザーカッティング装置１０では、第１の乃至第３の露光ビームとを合成するための偏向ビームスプリッタ４５の向き、及び、第１の露光ビームを反射するためのミラー４３の向きを調整することにより、第１乃至第３の露光ビームの照射位置を容易に調整することができる。
【０１２２】
また、このレーザーカッティング装置１０において、第１乃至第３の露光ビームによってフォトレジスト１２を露光する際は、駆動用ドライバ２８，３２，３７に入力するＤＣ信号のレベルを調整して、第１乃至第３の露光ビームのパワーをそれぞれ調節する。具体的には、第１の露光ビームのパワーが、第２及び第３の露光ビームのパワーよりも弱くなるように設定しておく。これにより、シャローグルーブ７に対応した潜像の深さを、ウォブリンググルーブ５及びストレートグルーブ６に対応した潜像の深さよりも浅くすることができる。
【０１２３】
そして、シャローグルーブ７に対応した潜像の底面は、ほぼフラットな形状となる。換言すると、このシャローグルーブ７に対応した潜像は、ウォブリンググルーブ５及びストレートグルーブ６に対応した潜像の底面から略矩形台形状に突出形成されており、超解像に対応した良好な形状となっている。
【０１２４】
なお、駆動用ドライバ２８，３２，３７に入力するＤＣ信号のレベルを調整することにより、ウォブリンググルーブ５、ストレートグルーブ６及びシャローグルーブ６に対応した潜像の幅を調節することも可能である。
【０１２５】
＜光磁気ディスクの製造方法＞
次に、図１及び図２に示した光磁気ディスク１の製造方法について、具体的な一例を挙げて詳細に説明する。
【０１２６】
光磁気ディスク１を作製する際は、先ず、原盤工程として、ウォブリンググルーブ５、ストレートグルーブ６及びシャローグルーブ７に対応した凹凸パターンを有する記録媒体製造用原盤を作製する。
【０１２７】
この原盤工程においては、先ず、表面を研磨した円盤状のガラス基板１１を洗浄し、乾燥させた後、このガラス基板１１上に感光材料であるフォトレジスト１２を塗布する。次に、このフォトレジスト１２を上述したレーザーカッティング装置１０によって露光し、ウォブリンググルーブ５、ストレートグルーブ６及びシャローグルーブ７に対応した潜像をフォトレジスト１２に形成する。
【０１２８】
なお、後述する評価用光磁気ディスクを作製する際には、レーザーカッティング装置１０の光源１３として、波長λが４１３ｎｍとなるレーザー光を出射するＫｒレーザーを使用し、また、第１乃至第３の露光ビームをフォトレジスト１２上に集光するための対物レンズ５４として、開口数ＮＡが０．９のものを使用した。また、焦点距離が８０ｍｍとなる集光レンズ２５，２９，３３、焦点距離が１２０ｍｍとなるコリメートレンズ２７，３１，３５、及び、焦点距離が８０ｍｍとなる拡大レンズ５２を使用した。
【０１２９】
そして、フォトレジスト１２を上述したレーザーカッティング装置１０によって露光する際は、先ず、第１乃至第３の露光ビームによってフォトレジスト１２を露光することにより、ウォブリンググルーブ５、ストレートグルーブ６及びシャローグルーブ７に対応した潜像をフォトレジスト１２に形成する。
【０１３０】
ここで、第２の露光ビームによってフォトレジスト１２を露光することにより、ウォブリンググルーブ５に対応した潜像をフォトレジスト１２に形成する際は、第２の露光ビームに対して、第１の変調光学系２２により光強度変調を施すとともに、光学偏向系４６により光学偏向を施す。
【０１３１】
具体的には、先ず、一定レベルのＤＣ信号を駆動用ドライバ３２に入力し、このＤＣ信号に基づいて駆動用ドライバ３２によって音響光学変調器３０を駆動し、これにより、ウォブリンググルーブ５のパターンに対応するように、第２の露光ビームに対して光強度変調を施す。ここで、ウォブリンググルーブ５は一定の深さの連続した溝であるので、ウォブリンググルーブ５に対応した潜像を形成している間は、第２の露光ビームの光強度が一定となるように光強度変調を施す。
【０１３２】
次いで、第２の変調光学系２２によって光強度変調が施された第２の露光ビームに対して、偏向光学系４６により光学偏向を施す。具体的には、電圧制御発振器５１から高周波信号を制御信号にてＦＭ変調して駆動用ドライバ５０に供給し、この信号に基づいて駆動用ドライバ５０によって音響光学偏向器４８を駆動して、当該音響光学偏向器４８の音響光学素子のブラッグ角を変化させ、これにより、第２の露光ビームに対して光学偏向を施す。
【０１３３】
なお、後述する評価用光磁気ディスクを作製する際は、中心周波数２２４ＭＨｚの高周波信号を周波数８４．６７２ｋＨｚの制御信号にてＦＭ変調して、電圧制御発振器５１から駆動用ドライバ５０に供給した。そして、この信号に基づいて、駆動用ドライバ５０によって音響光学偏向器４８を駆動し、当該音響光学偏向器４８の音響光学素子のブラッグ角を変化させ、これにより、フォトレジスト１２上に集光される第２の露光ビームの光スポットの位置が、周波数８４．６７２ｋＨｚ，振幅±１０ｎｍにて、ガラス基板１１の半径方向に振動するように光学偏向を行った。
【０１３４】
そして、このように光強度変調及び光学偏向を施した第２の露光ビームを、対物レンズ５４によってフォトレジスト１２上に集光することにより、フォトレジスト１２を露光し、ウォブリンググルーブ５に対応した潜像をフォトレジスト１２に形成する。
【０１３５】
また、第２の露光ビームによりフォトレジスト１２を露光するのと同時に、第３の露光ビームによってフォトレジスト１２を露光することにより、ストレートグルーブ６に対応した潜像をフォトレジスト１２に形成する。
【０１３６】
第３の露光ビームによってフォトレジスト１２を露光することにより、ストレートグルーブ６に対応した潜像をフォトレジスト１２に形成する際は、第３の露光ビームに対して、第３の変調光学系２３により光強度変調を施す。
【０１３７】
具体的には、一定レベルのＤＣ信号を駆動用ドライバ３７に入力し、このＤＣ信号に基づいて駆動用ドライバ３７によって音響光学変調器３４を駆動し、これにより、ストレートグルーブ６のパターンに対応するように、第３の露光ビームに対して光強度変調を施す。ここで、ストレートグルーブ６は一定の深さの連続した溝であるので、ストレートグルーブ６に対応した潜像を形成している間は、第３の露光ビームの光強度が一定となるように光強度変調を施す。
【０１３８】
そして、このように光強度変調を施した第３の露光ビームを、対物レンズ５４によってフォトレジスト１２上に集光することにより、フォトレジスト１２を露光し、ストレートグルーブ６に対応した潜像をフォトレジスト１２に形成する。
【０１３９】
さらに、第２及び第３の露光ビームによりフォトレジスト１２を露光するのと同時に、第１の露光ビームによってフォトレジスト１２を露光することにより、シャローグルーブ７に対応した潜像をフォトレジスト１２に形成する。
【０１４０】
第１の露光ビームによってフォトレジスト１２を露光することにより、シャローグルーブ７に対応した潜像をフォトレジスト１２に形成する際は、第１の露光ビームに対して、第１の変調光学系２１により光強度変調を施す。
【０１４１】
具体的には、一定レベルのＤＣ信号を駆動用ドライバ２８に入力し、このＤＣ信号に基づいて駆動用ドライバ２８によって音響光学変調器２６を駆動し、これにより、シャローグルーブ７のパターンに対応するように、第１の露光ビームに対して光強度変調を施す。ここで、シャローグルーブ７は、一定の深さの連続した溝であるので、シャローグルーブ７に対応した潜像を形成している間は、第１の露光ビームの光強度が一定となるように光強度変調を施す。
【０１４２】
そして、このように光強度変調を施した第１の露光ビームを、対物レンズ５４によってフォトレジスト１２上に集光することにより、フォトレジスト１２を露光し、シャローグルーブ７に対応した潜像をフォトレジスト１２に形成する。
【０１４３】
ここで、フォトレジスト１２を露光して、ウォブリンググルーブ５、ストレートグルーブ６及びシャローグルーブ７に対応した潜像を形成する際は、フォトレジスト１２が塗布されているガラス基板１１を、所定の回転速度にて回転駆動させるとともに、所定の速度にて平行移動させる。
【０１４４】
具体的には、後述する評価用光磁気ディスクを作製する際に、第１乃至第３の露光ビームによる光スポットとフォトレジスト１２との相対的な移動速度が線速２．００ｍ／ｓｅｃとなるように、ガラス基板１１を回転させた。そして、このガラス基板１１を１回転毎に１．００μｍだけ、すなわちトラックピリオド（Track Period）の分だけ、移動光学テーブルによってガラス基板１１の半径方向に平行移動させた。
【０１４５】
また、第１乃至第３の露光ビームによってフォトレジスト１２を露光する際は、駆動用ドライバ２８，３２，３７に入力するＤＣ信号のレベルを調整して、第１の露光ビームのパワーが、第２及び第３の露光ビームのパワーよりも弱くなるように設定しておく。具体的には、例えば、第２及び第３の露光ビームのパワーを０．８ｍＷ程度とし、第１の露光ビームのパワーを０．１０〜０．４０ｍＷ程度とした。
【０１４６】
これにより、ウォブリンググルーブ５及びストレートグルーブ６に対応した潜像の深さよりも浅い深さとなるシャローグルーブ７に対応した潜像が形成されることとなる。
【０１４７】
そして、シャローグルーブ７に対応した潜像の底面は、ほぼフラットな形状となる。換言すると、このシャローグルーブ７に対応した潜像は、ウォブリンググルーブ５及びストレートグルーブ６に対応した潜像の底面から略矩形台形状に突出形成されており、超解像に対応した良好な形状となっている。
【０１４８】
そして、上述したレーザーカッティング装置１０では、第２の露光ビームによる光スポットと、第３の露光ビームによる光スポットとのガラス基板１１の半径方向における間隔が、トラックピッチ（Track Pitch）に対応するように、偏光ビームスプリッタ４５の反射面の反射角を設定しておく。
【０１４９】
このように、偏光ビームスプリッタ４５の反射面の反射角を設定しておくことにより、第２の露光ビームによってウォブリンググルーブ５に対応した潜像と、第３の露光ビームによってストレートグルーブ６に対応した潜像とがダブルスパイラル状に形成されることとなる。換言すれば、ウォブリンググルーブ５とストレートグルーブ６との相対的な位置決めは、偏向ビームスプリッタ４５の向きを調整することによってなされる。
【０１５０】
さらに、上記レーザーカッティング装置１０では、第１の露光ビームのスポットが、第２の露光ビームに対応するスポットと第３の露光ビームに対応するスポットとの間に位置するように、ミラー４３の反射面の反射角を設定しておく。
【０１５１】
このように、ミラー４３の反射面の反射角を設定しておくことにより、第１の露光ビームによってシャローグルーブ７に対応した潜像が、第２の露光ビームによって形成されたウォブリンググルーブ５に対応した潜像と、第３のビームによって形成されたストレートグルーブ６に対応した潜像との間に形成されることとなる。換言すれば、シャローグルーブ７とディープグルーブ９との相対的な位置決めは、ミラー４３の向きを調整することによってなされる。
【０１５２】
以上のように、第１乃至第３の露光ビームによってフォトレジスト１２を露光することにより、ウォブリンググルーブ５に対応した潜像と、ストレートグルーブ６に対応した潜像と、シャローグルーブ７に対応した潜像とが、ダブルスパイラル状にフォトレジスト１２に形成される。
【０１５３】
そして、以上のようにしてフォトレジスト１２に潜像を形成した後に、フォトレジスト１２が塗布されている面が上面となるように、ガラス基板１１を現像機のターンテーブル上に載置する。そして、このターンテーブルを回転させることによりガラス基板１１を回転させながら、フォトレジスト１２上に現像液を滴下して現像処理を施して、ガラス基板１１上にウォブリンググルーブ５、ストレートグルーブ６及びシャローグルーブ８に対応した凹凸パターンを形成する。
【０１５４】
次に、上記凹凸パターン上に無電界メッキ法によりＮｉ等からなる導電化膜を形成し、その後、導電化膜が形成されたガラス基板１１を電鋳装置に取り付け、電気メッキ法により導電化膜上にＮｉ等からなるメッキ層を、３００±５μｍ程度の厚さとなるように形成する。その後、このメッキ層を剥離し、剥離したメッキをアセトン等を用いて洗浄し、凹凸パターンが転写された面に残存しているフォトレジスト１２を除去する。
【０１５５】
以上の工程により、ガラス基板１１上に形成されていた凹凸パターンが転写されたメッキからなる光記録媒体製造用原盤、すなわち、ウォブリンググルーブ５及びストレートグルーブ６及びシャローグルーブ７に対応した凹凸パターンが形成された光記録媒体製造用原盤が完成する。
【０１５６】
なお、この光記録媒体製造用原盤は、本発明を適用した光記録媒体製造用原盤である。すなわち、この光記録媒体製造用原盤は、記録トラックに沿ってグルーブが形成されてなる光磁気ディスク１を製造する際に使用される光記録媒体製造用原盤であって、グルーブに対応した凹凸パターンとして、ウォブリンググルーブ５に対応した凹凸パターンである第１のグルーブパターンと、ストレートグルーブ６に対応した凹凸パターンである第２のグルーブパターンとが、第１の深さｘで２重螺旋を描くように形成されており、この２重螺旋を描く第１のグルーブパターンと第２のグルーブパターンとの間を第１の深さｘよりも浅い第２の深さｙとする第３のグルーブパターンが、シャローグルーブ７に対応した凹凸パターンとして形成されている。
【０１５７】
次に、転写工程として、フォトポリマー法（いわゆる２Ｐ法）を用いて、上述した光記録媒体製造用原盤の表面形状が転写されてなるディスク基板を作製する。
【０１５８】
具体的には、先ず、光記録媒体製造用原盤の凹凸パターンが形成された面上に、フォトポリマーを平滑に塗布してフォトポリマー層を形成し、次に、フォトポリマー層に泡やゴミが入らないようにしながら、このフォトポリマー層上に、ベースプレートを密着させる。ここで、ベースプレートには、例えば、１．２ｍｍ厚のポリメチルメタクリレート（屈折率１．４９）からなるベースプレートを使用する。
【０１５９】
その後、紫外線を照射してフォトポリマーを硬化させ、その後、光記録媒体製造用原盤を剥離することにより、この光記録媒体製造用原盤の表面形状が転写されてなるディスク基板２を作製する。
【０１６０】
なお、ここでは、光記録媒体製造用原盤に形成された凹凸パターンがより正確にディスク基板２に転写されるように、２Ｐ法を用いてディスク基板２を作製する例を挙げたが、このようなディスク基板２を量産するような場合には、ポリメチルメタクリレートやポリカーボネート等の透明樹脂材料を用いて射出成形によって、ディスク基板２を作製するようにしてもよい。
【０１６１】
次に、成膜工程として、光記録媒体製造用原盤の表面形状が転写されてなるディスク基板２上に、記録層３及び保護層４を形成する。具体的には、例えば、先ず、ディスク基板２の凹凸パターンが形成された面上に、ＳｉＮ等からなる第１の誘電体膜と、ＴｅＦｅＣｏ合金等からなる垂直磁気記録膜と、ＳｉＮ等からなる第２の誘電体膜とをスパッタリングによって順次成膜し、さらに、第２の誘電体膜上にＡｌ等からなる光反射膜を蒸着によって成膜することにより、第１の誘電体膜、垂直磁気記録膜、第２の誘電体膜及び光反射膜からなる記録層３を形成する。そして、この記録層３上に、紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布し、この紫外線硬化樹脂に対して紫外線を照射し硬化させることにより、保護層４を形成する。
【０１６２】
以上の工程により、光磁気ディスク１が完成する。
【０１６３】
＜光磁気ディスクの評価＞
次に、上述のような製造方法にて、ウォブリンググルーブ５及びストレートグルーブ６（ディープグルーブ９）の第１の深さｘ及びシャローグルーブ７の第２の深さｙがそれぞれ異なる複数の評価用光磁気ディスクを作製し、それらの評価を行った結果について説明する。
【０１６４】
ここで、第１の深さｘの制御は、ガラス基板１１上に形成されるフォトレジスト１２の厚みを変化させることにより行い、第２の深さｙの制御は、第１乃至第３の露光ビームのパワーを制御することにより行った。
【０１６５】
そして、評価用光磁気ディスクの評価を行うにあたっては、第１の深さｘ及び第２の深さを変化させて、複数の光記録媒体製造用原盤を作製し、これらの光記録媒体製造用原盤を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Atomic Force Microscope）にて検査し、ディープグルーブ９に対応した凹凸パターンの幅及び第１の深さｘ及びシャローグルーブ７に対応した凹凸パターンの幅及び第２の深さｙを測定した。
【０１６６】
その結果、ディープグルーブ９では、底面幅が約４００ｎｍ、上幅が約２４０ｎｍ、第１の深さｘが約１４８〜２４１ｎｍとなり、シャローグルーブ７では、ほぼフラットな底面形状となり、その幅が約１００ｎｍ、第２の深さｙが約９７〜１６０ｎｍとなった。
【０１６７】
最後に、これらの光記録媒体製造用原盤を用いて２Ｐ法により評価用光磁気ディスクを作製した。なお、これらの評価用光磁気ディスクのディスク基板の材料には、屈折率１．４９のポリメチルメタクリレートを使用した。
【０１６８】
そして、このように作製した、ディープグルーブ９の第１の深さｘ及びシャローグルーブの第２の深さｙが異なる複数の評価用光磁気ディスクについて、プッシュプル信号及びクロストラック信号の測定を行った。ここで、プッシュプル信号及びクロストラック信号の測定には、レーザー光の波長λが６５０ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡが０．５２の光ピックアップを用いた。
【０１６９】
そして、これらの評価用光磁気ディスクについて、プッシュプル信号振幅比が０．０６以上、且つクロストラック信号振幅比が０．１４以上となるときの上記ディープグルーブ９の位相深さＸと、上記シャローグルーブ７の位相深さＹとを調べた。
【０１７０】
その結果、図４中の点ａ’，ｂ’，ｃ’，ｄ’，ｅ’，ｆ’，ｇ’，ｈ’，ｉ’，ｊ’，ｋ’，ｌ’ｍ’で囲まれた領域、或いは、図５中の点ｎ’，ｏ’，ｐ’，ｑ’，ｒ’，ｓ’で囲まれた領域の範囲内であれば、プッシュプル信号振幅比が０．０６以上、且つクロストラック信号振幅比が０．１４以上となることが分かった。
【０１７１】
なお、図４において、縦軸は、シャローグルーブ７について、当該シャローグルーブ７の位相深さＹを示している。また、横軸は、ウォブリンググルーブ５及びストレートグルーブ６、すなわちディープグルーブ９について、当該ディープグルーブ９の位相深さＸを示している。
【０１７２】
ここで、点ａ’，ｂ’，ｃ’，ｄ’，ｅ’，ｆ’を結ぶ近似直線Ｌ１’は下記式（２−１）で表され、点ａ’，ｇ’，ｈ’，ｉ’，ｊ’，ｋ’，ｌ’ｍ’，ｆ’を結ぶ近似直線Ｌ２’は下記式（２−２）で表される。
【０１７３】
【数５０】
0004320916.tif 000018
【０１７４】
【数５１】
0004320916.tif 000019
【０１７５】
また、点ｎ’，ｏ’，ｐ’，ｑ’を結ぶ近似直線Ｌ３’は下記式（２−３）で表され、点ｎ’，ｒ’，ｓ’，ｑ’を結ぶ近似直線Ｌ４’は下記式（２−４）で表される。
【０１７６】
【数５２】
0004320916.tif 000020
【０１７７】
【数５３】
0004320916.tif 000021
【０１７８】
したがって、点ａ’，ｂ’，ｃ’，ｄ’，ｅ’，ｆ’，ｇ’，ｈ’，ｉ’，ｊ’，ｋ’，ｌ’ｍ’で囲まれた領域は、下記式（３−１）及び式（３−２）を満たす領域として、近似的に表すことができる。
【０１７９】
【数５４】
0004320916.tif 000022
【０１８０】
【数５５】
0004320916.tif 000023
【０１８１】
また、点ｎ’，ｏ’，ｐ’，ｑ’，ｒ’，ｓ’で囲まれた領域は、下記式（３−３）及び式（３−４）を満たす領域として、近似的に表すことができる。
【０１８２】
【数５６】
0004320916.tif 000024
【０１８３】
【数５７】
0004320916.tif 000025
【０１８４】
このことは、換言すれば、ディープグルーブ９の位相深さをＸとし、シャローグルーブ７の位相深さをＹとしたときに、これらディープグルーブ９及びシャローグルーブ７が、上記式（３−１）及び式（３−２）、或いは、上記式（３−３）及び式（３−４）を満たすように形成されていれば、プッシュプル信号振幅比が０．０６以上、且つクロストラック信号振幅比が０．１４以上となり、安定なトラッキングサーボ及びシークが可能であるということである。
【０１８５】
ここで、レーザー光の波長λは６５０ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡは０．５２であるので、光ピックアップのカットオフ周波数２ＮＡ／λは、１６００mm-1である。一方、評価用光磁気ディスクのトラックピッチ（Track Pitch）は０．５０μｍであるので、その空間周波数は２０００mm-1である。このように、評価用光磁気ディスクでは、トラックピッチ（Track Pitch）の空間周波数の方が光ピックアップのカットオフ周波数２ＮＡ／λよりも大きくなっている。
【０１８６】
従来は、このようにトラックピッチ（Track Pitch）の空間周波数の方が光ピックアップのカットオフ周波数２ＮＡ／λよりも大きいと、十分なレベルのプッシュプル信号やクロストラック信号を得ることができず、安定なトラッキングサーボやシークができなくなってしまっていた。
【０１８７】
しかしながら、本発明を適用した光磁気ディスク１では、上述の実験結果からも分かるように、ディープグルーブ９であるウォブリンググルーブ５及びストレートグルーブ６と、このディープグルーブ９よりも浅いシャローグループ７とを上記式（３−１）及び式（３−２）、或いは、上記式（３−３）及び式（３−４）を満たすように形成することにより、十分なレベルのプッシュプル信号やクロストラック信号を確保しつつ、トラックピッチ（Track Pitch）の空間周波数を光ピックアップのカットオフ周波数２ＮＡ／λよりも大きくすることが可能となっている。すなわち、本発明を適用することにより、十分なレベルのプッシュプル信号やクロストラック信号を確保しつつ、トラックピッチ（Track Pitch）を狭くして、記録密度を大幅に向上することが可能となる。
【０１８８】
さらに、これらの評価用光磁気ディスクについて、プッシュプル信号振幅比が０．１４以上、且つクロストラック信号振幅比が０．０６以上となるときの上記ディープグルーブ９の位相深さＸと、上記シャローグルーブ７の位相深さＹとを調べた。
【０１８９】
その結果、図５中の点ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇ，ｈ，ｉ，ｊ，ｋ，ｌで囲まれた領域、或いは、図５中の点ｍ，ｎ，ｏ，ｐ，ｑ，ｒ，ｓ，ｔ，ｕ，ｖ，ｗ，ｚで囲まれた領域の範囲内であれば、プッシュプル信号振幅比が０．１４以上、且つクロストラック信号振幅比が０．０６以上となることが分かった。
【０１９０】
なお、図５において、縦軸は、シャローグルーブ７について、当該シャローグルーブ７の位相深さＹを示している。また、横軸は、ウォブリンググルーブ５及びストレートグルーブ６、すなわちディープグルーブ９について、当該ディープグルーブの位相深さＸを示している。
【０１９１】
ここで、点ａ，ｂ，ｃを結ぶ近似直線Ｌ１は下記式（４−１）で表され、点ａ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇを結ぶ近似直線Ｌ２は下記式（４−２）で表され、点ｃ，ｈ，ｉ，ｊ，ｋ，ｌ，ｇを結ぶ近似直線Ｌ３は下記式（４−３）で表される。
【０１９２】
【数５８】
0004320916.tif 000026
【０１９３】
【数５９】
0004320916.tif 000027
【０１９４】
【数６０】
0004320916.tif 000028
【０１９５】
また、点ｍ，ｎ，ｏ，ｐ，ｑ，ｒ，ｓを結ぶ近似直線Ｌ４は下記式（４−４）で表され、点ｍ，ｔ，ｕ，ｖ，ｗ，ｚ，ｓを結ぶ近似直線Ｌ５は下記式（４−５）で表される。
【０１９６】
【数６１】
0004320916.tif 000029
【０１９７】
【数６２】
0004320916.tif 000030
【０１９８】
したがって、点ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇ，ｈ，ｉ，ｊ，ｋ，ｌで囲まれた領域は、下記式（５−１），式（５−２）及び式（５−３）を満たす領域として、近似的に表すことができる。
【０１９９】
【数６３】
0004320916.tif 000031
【０２００】
【数６４】
0004320916.tif 000032
【０２０１】
【数６５】
0004320916.tif 000033
【０２０２】
また、点ｍ，ｎ，ｏ，ｐ，ｑ，ｒ，ｓ，ｔ，ｕ，ｖ，ｗ，ｚで囲まれた領域は、下記式（５−４）及び式（５−５）を満たす領域として、近似的に表すことができる。
【０２０３】
【数６６】
0004320916.tif 000034
【０２０４】
【数６７】
0004320916.tif 000035
【０２０５】
このことは、換言すれば、ディープグルーブ９の位相深さをＸとし、シャローグルーブ７の位相深さをＹとしたときに、これらディープグルーブ９及びシャローグルーブ７が、上記式（５−１），式（５−２）及び式（５−３）、或いは、上記式（５−４）及び式（５−５）を満たすように形成されていれば、プッシュプル信号振幅比が０．１４以上、且つクロストラック信号振幅比が０．０６以上となり、安定なトラッキングサーボ及びシークが可能であるということである。
【０２０６】
そして、図６に示すように、これらの評価用光磁気ディスクから、プッシュプル信号振幅比が０．１４以上、且つクロストラック信号振幅比が０．１４以上となる領域は、下記式（６−１），式（６−２）及び式（６−３）を満たす領域として、近似的に表すことができる。
【０２０７】
【数６８】
0004320916.tif 000036
【０２０８】
【数６９】
0004320916.tif 000037
【０２０９】
【数７０】
0004320916.tif 000038
【０２１０】
なお、図６は、図４中に示す直線Ｌ１’，Ｌ２’及び図５中に示す直線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３を併せて示す特性図である。
【０２１１】
このことは、換言すれば、ディープグルーブ９の位相深さをＸとし、シャローグルーブ７の位相深さをＹとしたときに、これらディープグルーブ９及びシャローグルーブ７が、上記式（６−１），式（６−２）及び式（６−３）を満たすように形成されていれば、プッシュプル信号振幅比が０．１４以上、且つクロストラック信号振幅比が０．１４以上となり、さらに安定なトラッキングサーボ及びシークが可能であるということである。
【０２１２】
以上、本発明を適用した光記録媒体について、光磁気ディスク１を例に挙げて詳細に説明したが、この光磁気ディスク１は、本発明を適用した光記録再生装置によって記録及び／又は再生が行われる。すなわち、本発明を適用した光記録再生装置は、記録媒体として本発明を適用した光記録媒体を用いる。そして、トラッキングサーボをプッシュプル信号を用いて行い、トラックシークをクロストラック信号を用いて行う。
【０２１３】
具体的に、本発明を適用した光記録再生装置は、例えば、記録媒体として上記光磁気ディスク１を用い、プッシュプル法によりトラッキングサーボを行って、光磁気ディスク１に対する記録及び／又は再生を行う。なお、本発明を適用した記録再生装置は、記録媒体として本発明を適用した光記録媒体を用い、トラッキングサーボをプッシュプル信号を用いて行い、トラックシークをクロストラック信号を用いて行うこと以外は、従来の光記録再生装置と同様に構成される。
【０２１４】
このように、本発明を適用した光記録再生装置では、十分なレベルのプッシュプル信号、クロストラック信号及びピット変調度が得られるので、信号再生を安定に行うことができる。
【０２１５】
なお、本発明は、記録トラックに沿ってグルーブが形成されてなる光記録媒体、並びにその製造に使用される光記録媒体製造用原盤に対して広く適用可能であり、本発明の対象となる光記録媒体は、例えば、再生専用の光記録媒体、繰り返しデータの書き換えが可能な光記録媒体、或いはデータの追記は可能だか消去はできないような光記録媒体の何れでもよい。
【０２１６】
また、データの記録方法も特に限定されるものではなく、本発明の対象となる光記録媒体は、例えば、予めエンボスピット等によりデータが書き込まれている再生専用の光記録媒体、磁気光学効果を利用してデータの記録を行う光磁気記録媒体、或いは記録層の相変化を利用してデータの記録を行う相変化型光記録媒体の何れでもよい。
【０２１７】
また、本発明は、記録領域の少なくとも一部にグルーブが形成されている光記録媒体、並びにその製造に使用される光記録媒体製造用原盤に対して広く適用可能である。すなわち、例えば、記録領域全体にグルーブが形成されていてもよいし、或いは、グルーブが形成されることなくエンボスピットによってデータが記録されているような領域が記録領域内に存在していてもよい。
【０２１８】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、トラックピッチを非常に狭くしても、安定にトラッキングサーボやシークを行うことが可能な光記録媒体を提供することができる。また、そのような光記録媒体を製造することが可能な光記録媒体製造用原盤、並びにそのような光記録媒体の記録及び／又は再生を行う光記録再生装置を提供することができる。したがって、本発明によれば、狭トラック化をさらに進めて、光記録媒体の更なる高記録密度化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を適用した光磁気ディスクの一例について、その要部を拡大して示す断面図である。
【図２】本発明を適用した光磁気ディスクの一例について、その記録領域の一部を拡大して示す平面図である。
【図３】本発明に係る光記録媒体及び光記録媒体製造用原盤を作製する際に使用されるレーザーカッティング装置の一例について、その光学系の概要を示す図である。
【図４】プッシュプル信号振幅比が０．０６以上、且つクロストラック信号振幅比が０．１４以上となる場合について、ディープグルーブの位相深さとシャローグルーブの位相深さとの関係を示す特性図である。
【図５】プッシュプル信号振幅比が０．１４以上、且つクロストラック信号振幅比が０．６以上となる場合について、ディープグルーブの位相深さとシャローグルーブの位相深さとの関係を示す特性図である。
【図６】図４中に示す直線Ｌ１’，Ｌ２’及び図５中に示す直線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３を併せて示すディープグルーブの位相深さとシャローグルーブの位相深さとの関係を示す特性図である。
【図７】プッシュプル信号及びクロストラック信号の検出方法を説明するための図である。
【図８】プッシュプル信号振幅比及びクロストラック信号振幅比を説明するための図である。
【符号の説明】
１  光磁気ディスク、  ２  ディスク基板、  ３  記録層、  ４  保護層、  ５  ウォブリンググルーブ、  ６  ストレートグルーブ、  ７  シャローグルーブ、  ８  ランド、  ９  ディープグルーブ、  １０  レーザーカッティング装置
【図１】
0004320916.tif 000047
【図２】
0004320916.tif 000048
【図３】
0004320916.tif 000049
【図４】
0004320916.tif 000050
【図５】
0004320916.tif 000051
【図６】
0004320916.tif 000052
【図７】
0004320916.tif 000053
【図８】
0004320916.tif 000054