(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にカソード電極と、アノード電極と、前記カソード電極及び前記アノード電極間に設けられた発光層と、備えた発光部を有する発光素子を製造するための転写体の製造方法において、
前記発光部は、前記カソード電極を含む第１層と、前記発光層を含む第２層と、前記アノード電極を含む他の層と、を有する複数の層により構成され、
内部に前記発光部の複数の層のうちの第１層を蒸着する第１蒸着装置及び前記発光部の複数の層のうちの第２層を蒸着する第２蒸着装置を配置し、前記第１蒸着装置及び第２蒸着装置の上方に支持体を配置した蒸着炉を設け、
前記支持体の下面に前記第１蒸着装置により前記第１層を蒸着する第１層形成工程と、
前記第１層が形成された前記支持体を移動する移動工程と、
前記第１層が形成された前記支持体の移動後又は移動中に、引き続き前記支持体の下面に前記第１層を連続して蒸着する第１層連続形成工程と、
第１層連続形成工程中に、前記第１層形成工程で形成された前記第１層に前記第２蒸着装置により第２層を蒸着する第２層形成工程と、
により、前記支持体と、前記支持体の下面の前記第１層と、前記第１層の下面の前記第２層と、を有する転写体を製造することを特徴とする発光素子を製造するための転写体の製造方法。
【請求項２】
前記請求項１記載の発光素子を製造するための転写体の製造方法によって製造された前記転写体を、前記複数の層のうちの前記他の層を積層した基板に、前記第１層及び第２層が前記他の層の上に積層するように重ねた後に、
前記支持体の所定箇所を加熱及び押圧することにより、前記第１層及び第２層の所定箇所を前記他の層の上に転写する工程を含むこと、
を特徴とする請求項１記載の発光素子を製造するための転写体の製造方法。
【請求項３】
前記他の層は、接着樹脂を含む層間絶縁膜を有することを特徴とする請求項２に記載の発光素子を製造するための転写体の製造方法。
【請求項４】
前記発光素子は、有機エレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の発光素子を製造するための転写体の製造方法。
【請求項５】
前記移動工程は、前記支持体が巻かれた第１ロールと、前記支持体を巻き取る第２ロールと、を回転して前記支持体を移動することを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれかに記載の発光素子を製造するための転写体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子と記載）の製造に好適な、発光素子を製造するための転写体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
所定の光を発光する発光素子の中には、電圧を印加することにより内部に電子と正孔が再結合して発光する有機エレクトロルミネッセンス層（以下、有機ＥＬ層と記載）と、有機ＥＬ層を挟むアノード電極並びにカソード電極とを有する有機ＥＬ素子がある。
有機ＥＬ層は、例えば正孔輸送層、電子輸送層等の複数の有機材料からなる薄膜で構成され、無機ＥＬ層より薄く成膜することができるので、素子自体を薄くかつ軽量にすることができる。
【０００３】
これらの各構成要素を形成する一般的な方法は、メタルマスクを併用した真空蒸着法である。すなわち、アノード電極をパターン形成した基板に、正孔輸送層と、電子輸送層とを同じパターンに形成し、さらに、カソード電極を別のパターンに形成する。
また、特開平９−１６７６８４号に開示された方法によれば、予めインクシート上に正孔輸送層の材料，有機ＥＬ層の材料，電子輸送層の材料をそれぞれ別個に形成し、これら各材料を、予めアノード電極をパターン形成した基板に、順次昇華転写した後に、カソード電極をメタルマスクを用いた真空蒸着法により形成することにより、有機ＥＬ素子の発光部を形成する。
さらに、特開平９−７７６３号に開示された方法によれば、アノード電極と正孔輸送層を一方の基板上に形成し、有機ＥＬ層と電子輸送層を他方の基板上に形成し、前記一方の基板と前記他方の基板とを貼り合わせることにより、有機ＥＬ素子の発光部を形成する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上述した方法を用いて前記複数の薄膜を所定のパターンに形成するには、真空中においてメタルマスクを用いる必要があった。
すなわち、通常の真空蒸着法においては、有機ＥＬ層や正孔輸送層、電子輸送層、カソード電極を形成する際に、基板にメタルマスクを用いる必要があった。
また、特開平９−１６７６８４や特開平９−７７６３においても、アノード電極およびカソード電極の双方を形成する際にはメタルマスクを用いる必要があった。
このため、従来の方法においては、一つの層を所定のパターンに形成する度に、メタルマスクの位置合わせや基板の移動を高精度に行う必要があり、スループットが低かった。
さらに、これらの各層の積層工程では、積層する度に、通常減圧された炉内に蒸着装置が配置された蒸着炉から減圧炉を介し次の蒸着炉に基板を移送して行われる。したがって、各層の成膜毎に一旦減圧炉に基板を移送しなければならずスループットが低いという問題があった。従って、生産装置一つあたりの単位時間あたりの生産量、すなわちスループットを上げてコストを削減することが困難であった。
【０００５】
本発明は、上記問題点を解決するためのものであり、スループットの良好な発光素子を製造するための転写体の製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記問題点を解決するため、請求項１記載の発明は、
基板上にカソード電極と、アノード電極と、前記カソード電極及び前記アノード電極間に設けられた発光層と、備えた発光部を有する発光素子を製造するための転写体の製造方法において、
前記発光部は、前記カソード電極を含む第１層と、前記発光層を含む第２層と、前記アノード電極を含む他の層と、を有する複数の層により構成され、
内部に前記発光部の複数の層のうちの第１層を蒸着する第１蒸着装置及び前記発光部の複数の層のうちの第２層を蒸着する第２蒸着装置を配置し、前記第１蒸着装置及び第２蒸着装置の上方に支持体を配置した蒸着炉を設け、
前記支持体の下面に前記第１蒸着装置により前記第１層を蒸着する第１層形成工程と、
前記第１層が形成された前記支持体を移動する移動工程と、
前記第１層が形成された前記支持体の移動後又は移動中に、引き続き前記支持体の下面に前記第１層を連続して蒸着する第１層連続形成工程と、
第１層連続形成工程中に、前記第１層形成工程で形成された前記第１層に前記第２蒸着装置により第２層を蒸着する第２層形成工程と、
により、前記支持体と、前記支持体の下面の前記第１層と、前記第１層の下面の前記第２層と、を有する転写体を製造することを特徴とする。
【０００７】
この請求項１に記載の発明によれば、発光素子の発光部を構成する複数の層のうち、第１層及び第２層を蒸着炉内で支持体に連続して形成することができるので、各層の蒸着工程毎に、蒸着工程の前工程である減圧炉での減圧工程を行わなくて良い。
従って、発光素子を製造するための転写体の製造において、スループットを高くできる。
【０００８】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発光素子を製造するための転写体の製造方法において、前記請求項１記載の発光素子を製造するための転写体の製造方法によって製造された前記転写体を、前記複数の層のうちの前記他の層を積層した基板に、前記第１層及び第２層が前記他の層の上に積層するように重ねた後に、前記支持体の所定箇所を加熱及び押圧することにより、前記第１層及び第２層の所定箇所を前記他の層の上に転写する工程を含むこと、を特徴とする。
【０００９】
ここで、前記他の層としては、単層であっても複層であってもよい。
【００１０】
この請求項２記載の発明によれば、前記第１層及び第２層は、前記支持体の上にパターンを有さない膜として連続して積層されることができるため、メタルマスクを用いない真空プロセスにて製造することができる。また、前記第１層及び第２層は、パターンとして必要な箇所を押圧することにより、ある程度パターンを形成して前記基板の他の層の上に積層することができる。従って、発光素子の製造工程において、メタルマスクを用いる回数は減少するため、高精度な位置合わせを行う回数は減少も減少する。従って、生産装置一つあたりの単位時間あたりの生産量、すなわちスループットは従来と比べて大幅に向上するため、発光素子の製造コストは下がる。
また、転写工程では、例えばサーマルヘッドで前記支持体への加熱圧着する場合は、該サーマルヘッドの形状に合わせて基板上に第１及び第２層をパターニングできる。また、この場合、前記支持体のサーマルヘッドとの接触面に耐熱潤滑層を設けると、熱が前記支持体に与える影響は緩和されるため、前記所定箇所への加熱は容易となる。
さらに、例えば液晶表示装置のバックライトなど、微細構造を有さない発光素子の発光部を作製する場合は、前記他の層は印刷によって作製可能であるため、メタルマスクを全く用いずに発光部を作製することもできる。
【００１３】
また、請求項３記載の発明は、請求項２に記載の発光素子を製造するための転写体の製造方法において、前記他の層は、接着樹脂を含む層間絶縁膜を有することを特徴とする。
【００１４】
ここで、前記接着樹脂としては、熱軟化性樹脂が好適である。
【００１５】
この請求項３記載の発明によれば、前記支持体と前記基板とを貼り合わせる際に、例えば加圧や加熱などにより前記接着樹脂は接着性を発揮するので、前記第１層及び第２層と前記他の層および前記基板とは該接着樹脂により接着される。従って、より確実に前記他の層は前記第１層及び第２層上に接合される。
【００１６】
また、請求項４記載の発明は、請求項１〜請求項３のいずれかに記載の発光素子を製造するための転写体の製造方法において、前記発光素子は、有機エレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする。
【００１７】
この請求項４記載の発明によれば、有機ＥＬ素子の製造方法において、一つの装置あたりのスループットは向上するので、有機ＥＬ素子の製造コストは下がる。
【００１８】
また、請求項５記載の発明は、請求項１〜請求項４のいずれかに記載の発光素子を製造するための転写体の製造方法において、
前記移動工程は、前記支持体が巻かれた第１ロールと、前記支持体を巻き取る第２ロールと、を回転して前記支持体を移動することを特徴とする。
【００１９】
この請求項５に記載の発明によれば、蒸着炉内における支持体及び第１層及び第２層が形成された支持体の専有体積を最小限にすることができる。
ここで、前記支持体としては、例えばロール状に巻くことが可能なＰＥＴフィルムが好適である。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、図を参照して、本発明の実施の形態例である有機ＥＬ発光部１の製造方法について、図１〜図３を用いて詳細に説明する。
ここで、有機ＥＬ発光部１は、例えばバックライトなどに用いられるラフパターンとする。
図１は、支持体１５の一面に、カソード電極１１（第１層），電子輸送層１２（第２層），発光層１３，正孔輸送層１４を形成する薄膜連続形成装置２（蒸着炉）の構成および動作を説明する概略図である。ここで、カソード電極１１，電子輸送層１２，発光層１３は、それぞれ、単層である場合と複数の層から形成される場合とがある。
図２は、支持体１５の表部に形成された、カソード電極１１，電子輸送層１２，発光層１３，正孔輸送層１４を、アノード電極１０１（他の層）及び層間絶縁膜１０２（他の層）を有する基板１０の上に転写する方法を説明する概略図である。
図３は、有機ＥＬ発光部１の積層構造を説明する概略図である。
【００２１】
まず、薄膜連続形成装置２の構成について、図１を用いて説明する。
図１に示すように、連続薄膜形成装置２は、減圧された真空チャンバー１００の中に、カソード電極蒸着装置１１１と、電子輸送層蒸着装置１２１と、発光層蒸着装置１３１と、正孔輸送層蒸着装置１４１と、ロール状に巻かれた支持体１５をカソード電極蒸着装置１１１，電子輸送層蒸着装置１２１，発光層蒸着装置１３１，正孔輸送層蒸着装置１４１上に支持するとともに所定方向に移動させるロール１６，１６と、を設けた構成とする。
なお、カソード電極蒸着装置１１１と電子輸送層蒸着装置１２１の間と、電子輸送層蒸着装置１２１と発光層蒸着装置１３１の間と、発光層蒸着装置１３１と正孔輸送層蒸着装置１４１との間には、それぞれの蒸着源の侵入を防ぐための隔壁１７，１７，１７が、それぞれ設けられる。さらに、真空チャンバー１００は配管（図示省略）を介して真空排気系（図示省略）に接続されている。
【００２２】
カソード電極蒸着装置１１１は、カソード電極１１を構成するカソード電極材料を適量入れることができ、上方に開口部を有する坩堝と、カソード電極材料を蒸発させるために坩堝を所定の温度に加熱することができる加熱手段と、により構成される。すなわち、通常の真空蒸着に用いられる薄膜源と概略同じ構成である。
カソード電極蒸着装置１１１の坩堝内にはカソード電極材料がＡｌ−Ｌｉ合金が入れられている。カソード電極材料としては他に、例えばＡｌ−Ｌｉ合金の他にＭｇ、ＭｇＡｇ、ＭｇＩｎ、Ａｌが適用可能な場合もある。
【００２３】
同様に、電子輸送層蒸着装置１２１は、電子輸送層１２を構成する電子輸送層材料を適量入れることができ、上方に開口部を有する坩堝と、電子輸送層材料を蒸発させるために坩堝を所定の温度に加熱することができる加熱手段と、により構成される。
電子輸送層蒸着装置１２１の坩堝内にはトリス(8-キノリノレート)アルミニウム錯体（以下、Ａｌｑ３）が入れられている。
【００２４】
発光層蒸着装置１３１は、発光層１３を構成する発光層材料を適量入れることができ、上方に開口部を有する坩堝と、発光層材料を蒸発させるために坩堝を所定の温度に加熱することができる加熱手段と、により構成される。
発光層蒸着装置１３１の坩堝内には4,4'-ビス(2,2-ジフェニルビニレン)ビフェニル（以下、ＤＰＶＢｉ）９６ｗｔ％と4,4'-ビス(2-カルバゾールビニレン)ビフェニル（以下、ＢＣｚＶＢｉ）４ｗｔ％の混合物が入れられている。
【００２５】
正孔輸送層蒸着装置１４１は、正孔輸送層１４を構成する正孔輸送層材料を適量入れることができ、上方に開口部を有する坩堝と、正孔輸送層材料を蒸発させるために坩堝を所定の温度に加熱することができる加熱手段と、により構成される。
正孔輸送層蒸着装置１４１の坩堝内にはN,N'-ジ(α-ナフチル)-N,N'-ジフェニル-1,1'-ビフェニル-4,4'-ジアミン（以下、α−ＮＰＤ）が入れられている。
【００２６】
ロール１６は、真空チャンバー１００外部に設けられたモータなどの駆動源（図示省略）から伝達される動力により、ロール状に巻かれた支持体１５をカソード電極蒸着装置１１１，電子輸送層蒸着装置１２１，発光層蒸着装置１３１，正孔輸送層蒸着装置１４１の上方にさらした後に再びロール状に巻き取る。
【００２７】
次に、有機ＥＬ発光部１の製造方法について、順を追って説明する。なお、ここで用いる支持体１５としては、裏面に耐熱滑性層１５ａを有するＰＥＴ（polyethylene terephthalate）フィルムが、好適に用いられる。
【００２８】
まず、以下のように、薄膜連続形成装置２を用いて、支持体１５の、先端部と終端部を除いた表面全面に、カソード電極１１，電子輸送層１２，発光層１３，正孔輸送層１４を連続的に積層させる。
【００２９】
すなわち、ロール１６を用いて、支持体１５を図１の矢印に示す方向に動かす。このため、支持体１５は、下面をカソード電極蒸着装置１１１，電子輸送層蒸着装置１２１，発光層蒸着装置１３１，正孔輸送層蒸着装置１４１に、この順序の通りにさらされる。
【００３０】
ここで、支持体１５のうち、下方にカソード電極蒸着装置１１１が配置される箇所には、カソード電極蒸着装置１１１より蒸発したカソード電極材料を表面にそれぞれ捕捉する。従って、支持体１５の表部にはカソード電極１１が一定厚さほど堆積する。蒸着の間、支持体１５はロール１６、１６により図１中の矢印方向に進行しても良いし、停止していてもよい。
【００３１】
この間、支持体１５のうち、カソード電極蒸着装置１１１により既にカソード電極１１が蒸着された箇所は、電子輸送層蒸着装置１２１上に位置し、電子輸送層蒸着装置１２１上から蒸発した電子輸送層材料をカソード電極１１の表面にそれぞれ捕捉し、電子輸送層１２が所定の厚さに堆積する。
【００３２】
またこの間、支持体１５のうち、電子輸送層蒸着装置１２１により既に電子輸送層１２が蒸着された箇所は、発光層蒸着装置１３１上に位置し、発光層蒸着装置１３１から蒸発した発光層材料を電子輸送層１２の表面にそれぞれ捕捉し、発光層１３が所定の厚さに堆積する。
【００３３】
さらにこの間、支持体１５のうち、発光層蒸着装置１３１により既に発光層１３が蒸着された箇所は、正孔輸送層蒸着装置１４１上に位置し、正孔輸送層蒸着装置１４１から蒸発した発光層材料を発光層１３の表面にそれぞれ捕捉し、正孔輸送層１４が所定の厚さに堆積する。
【００３４】
上述した工程によりカソード電極蒸着装置１１１，電子輸送層蒸着装置１２１，発光層蒸着装置１３１，及び正孔輸送層蒸着装置１４１が、それぞれカソード電極１１，電子輸送層１２，発光層１３，正孔輸送層１４をそれぞれ所定の厚さに成膜し終えれば、ロール１６、１６により支持体１５は矢印方向に移動し、支持体１５には、カソード電極１１，電子輸送層１２，発光層１３，及び正孔輸送層１４が連続して成膜される。
【００３５】
このように、１つの支持体１５に連続してカソード電極蒸着装置１１１，電子輸送層蒸着装置１２１，発光層蒸着装置１３１，及び正孔輸送層蒸着装置１４１で同時に蒸着することにより、従来のように各蒸着装置で、別々の期間に蒸着する製造方法に比べてスループットを向上することができる。
【００３６】
本実施形態では、支持体１５が、カソード電極蒸着装置１１１，電子輸送層蒸着装置１２１，発光層蒸着装置１３１，及び正孔輸送層蒸着装置１４１の上方をロール１６、１６により移動する速度は同じであるため、蒸着の間に支持体１５を移動している場合は、蒸着する材料の蒸着速度に応じてカソード電極蒸着装置１１１，電子輸送層蒸着装置１２１，発光層蒸着装置１３１，正孔輸送層蒸着装置１４１のそれぞれの蒸着面の矢印方向の距離を設定すればよい。
例えばカソード電極蒸着装置１１１がカソード電極１１を所定の膜厚にするための蒸着速度が、電子輸送層蒸着装置１２１が電子輸送層１２を所定の膜厚にするための蒸着速度の半分の場合は、カソード電極蒸着装置１１１の支持体１５への蒸着面の矢印方向の距離を電子輸送層蒸着装置１２１の支持体１５への蒸着面の矢印方向の距離の二倍にすれば、カソード電極１１及び電子輸送層１２をそれぞれ最適の厚さに成膜することができる。
【００３７】
なお、基板１０の通過速度はすべての箇所で一定であるため、カソード電極蒸着装置１１１，電子輸送層蒸着装置１２１，発光層蒸着装置１３１，正孔輸送層蒸着装置１４１の各加熱手段の出力を調節することにより坩堝の厚さを制御してカソード電極１１，電子輸送層１２，発光層１３，正孔輸送層１４はそれぞれ所定の厚さに堆積してもよい。
【００３８】
次に、以下の方法に従って、支持体１５上の各層を基板１０上に転写する。
【００３９】
すなわち、ＰＥＴなどから作製される基板１０には予め、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やIn2O3(ZnO)ｘ（ｘ＞０）等の可視光に対して十分な透過性を示す材料からなっていて所定のパターンを有するアノード電極１０１と、熱軟化性樹脂などの樹脂粒を分散させた絶縁物質からなっていてアノード電極１０１の周縁部上を覆うとともにその一部は基板１０と接する層間絶縁膜１０２と、を設ける。
ここで、有機ＥＬ発光部１を液晶表示装置のバックライトに適用する場合は面発光でよいので、有機ＥＬ発光部１はラフパターンになり、アノード電極１０１と層間絶縁膜１０２とは、メタルマスクを用いた真空プロセスではなく、印刷により形成してもよい。
また、層間絶縁膜１０２は、アノード電極１０１とカソード電極１１とが短絡することを防ぐための層でもあるため、図３（Ｂ）に示すように、後にサーマルヘッド２１により該層間絶縁膜１０２の上に転写されるカソード電極１１，電子輸送層１２，発光層１３，正孔輸送層１４より大きく形成される。さらに、層間絶縁膜１０２には、アノード電極１０１をリード線などの外部端子と接続するためのアノード電極取り出し孔１０２ａを設ける。
【００４０】
次に、支持体１５と基板１０とを、それぞれの上にすでに形成した各層が対向するように配置する。
次に、支持体１５と基板１０の所定箇所を、サーマルヘッド２１とローラー２２との間に挟む。
ここで、支持体１５およびカソード電極１１はサーマルヘッド２１によって加熱されるため、相互に解離しやすくなる。また、正孔輸送層１４と層間絶縁膜１０２とは、サーマルヘッド２１とローラー２２との間で圧接されるため、層間絶縁膜１０２中の樹脂粒により接着される。なお、耐熱滑性層１５ａの存在により、支持体１５はサーマルヘッド２１には付着しない。
従って、カソード電極１１，電子輸送層１２，発光層１３，正孔輸送層１４は、サーマルヘッド２１により加熱された部分のみ基板１０上に転写される。以上の工程により、有機ＥＬ発光部１は完成する。
【００４１】
この結果、図３に示すように、有機ＥＬ発光部１は、同図（Ｃ）に示す基板１０上に、同図（Ｂ）に示す、アノード電極１０１と、層間絶縁膜１０２と、同図（Ａ）に示す支持体１５からサーマルヘッド２１により加熱されて転写された正孔輸送層１４，発光層１３，電子輸送層１２，カソード電極１１と、を積層した構造となる。
【００４２】
以上より、本発明の実施の形態例によれば、支持体１５の上に、カソード電極１１，電子輸送層１２，発光層１３，正孔輸送層１４を、この順序で、メタルマスクを用いない真空蒸着法にて積層する。別途、基板１０の上にアノード電極１０１，層間絶縁膜１０２を印刷により形成する。続いて、支持体１５と基板１０とを、それぞれの表部に形成した膜が対向する方向に貼り合わせ、サーマルヘッド２１を用いてパターンとして必要な箇所に熱を加えることにより、基板１０のアノード電極１０１，層間絶縁膜１０２の上に、正孔輸送層１４，発光層１３，電子輸送層１２，カソード電極１１を、この順序通りに転写して、有機ＥＬ発光部１を作製する。すなわち、有機ＥＬ発光部１の作製工程において、メタルマスクを真空中にて用いないため、高精度な位置合わせを行う必要はなく、従って、生産装置一つあたりの単位時間あたりの生産量、すなわちスループットは従来と比べて大幅に向上するため、有機ＥＬ素子の製造コストは下がる。
【００４３】
さらに、層間絶縁膜１０２を設けたので、正孔輸送層１４，発光層１３，電子輸送層１２，カソード電極１１の転写位置が多少ずれても、アノード電極１０１とカソード電極１１とは短絡しない。
また、サーマルヘッド２１に微細パターン加工を施すことにより、微細な構造を有する有機ＥＬ発光部の作製できる。
さらに、バックライトの形状によっては、層間絶縁膜１０２を所定のパターンに形成することにより、アノード電極１０１を所定のパターンに形成する必要はなくなる場合もある。
また、曲げると割れる可能性のあるＩＴＯなどを材料として用いるアノード電極１０１は、巻き取る必要のない基板１０上に堆積したので、支持体１５を巻き取る際にアノード電極１０１が割れる可能性もない。
【００４４】
なお、本発明は、上述した実施の形態例に限定されるものではなく、転写時の層間絶縁膜１０２と正孔輸送層１４との密着性を高めるために、正孔輸送層１４の上に、さらに熱接着性層を設けたり、あるいは転写直後にラミネートフィルムを介して再度圧着してもよい。
また、正孔輸送層１４，発光層１３，電子輸送層１２，カソード電極１１を十分正確に転写できる場合は、層間絶縁膜１０２を設ける必要はない。この場合は、アノード電極１０１の周縁部をなだらかなテーパーを有するように加工するほうが好ましい。
さらに、発光素子は有機ＥＬを用いた素子に限定する必要はなく、当然、積層構造を有する他の発光素子に適用することも可能である。
【００４５】
【発明の効果】
本発明によれば、有機ＥＬ素子を製造するための転写体の製造方法において、スループットは向上するので、有機ＥＬ素子の製造コストを下げることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態例の一部である、支持体１５の表部に、カソード電極１１，電子輸送層１２，発光層１３，正孔輸送層１４を形成する、薄膜連続形成装置２の構成および動作を説明する概略図である。
【図２】支持体１５上の各層を、基板１０上に転写する方法を説明する概略図である。
【図３】有機ＥＬ発光部１の積層構造を説明する概略図である。
【符号の説明】
１                                有機ＥＬ発光部（発光部）
２                                薄膜連続形成装置（蒸着炉）
１０                              基板
１１                              カソード電極（第１層）
１２                              電子輸送層（第２層）
１３                              発光層
１４                              正孔輸送層
１５                              支持体
１６                              ロール
２１                              サーマルヘッド
２２                              ローラー
１００                            真空チャンバー
１０１                            アノード電極（他の層）
１０２                            層間絶縁膜（他の層）
１１１                            カソード電極蒸着装置（第１蒸着装置）
１２１                            電子輸送層蒸着装置（第２蒸着装置）
１３１                            発光層蒸着装置
１４１                            正孔輸送層蒸着装置
【図１】
0004288732.tif 000002
【図２】
0004288732.tif 000003
【図３】
0004288732.tif 000004