(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
クリーンガスの供給路における上流部分の管端部と下流側部分の管端部とを、一方の管端部に他方の管端部が挿入されて両管端部の対向周面間に当該供給路に連通する排気空間が形成される状態で、連結し、前記一方の管端部に、当該供給路を流動するクリーンガスの一部を、常時、排気空間から当該供給路外へと漏出させる排気口を設けてあることを特徴とするクリーンガスの供給路における管継手構造。
【請求項２】
下流側部分の管端部がこれより大径とした上流側部分の管端部に同心状に挿入されていることを特徴とする、請求項１に記載するクリーンガスの供給路における管継手構造。
【請求項３】
下流側部分におけるクリーンガスの流速が５０ｍ／ｓｅｃ以上であることを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載するクリーンガスの供給路における管継手構造。
【請求項４】
排気口が、排気空間に連通し且つ当該供給路外に開口された細管で構成されていることを特徴とする、請求項１、請求項２、又は、請求項３に記載するクリーンガスの供給路における管継手構造。
【請求項５】
上流側部分の管端部がフィルタの二次側出口部であることを特徴とする、請求項１、請求項２、請求項３、又は、請求項４に記載するクリーンガスの供給路における管継手構造。
【請求項６】
下流側部分が、ドライブガス供給口部から供給されたクリーンガスをドライブガスとして洗浄液を噴出させる洗浄ノズルであり、下流側部分の管端部が当該洗浄ノズルのドライブガス供給口部であることを特徴とする、請求項１、請求項２、請求項３、請求項４、又は、請求項５に記載するクリーンガスの供給路における管継手構造。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハ，液晶の洗浄等に使用されるクリーンガス（窒素，空気，不活性ガス等）の供給路における管継手構造に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、クリーンガスの供給路においてフィルタとその二次側配管とを連結する場合、一般に、図３及び図４に示す管継手構造（以下「 第１従来構造」 という）や図５に示す管継手構造（以下「 第２従来構造」 という）が採用されている。
【０００３】
第１従来構造は、図３及び図４に示す如く、フィルタ２２と二次側配管２３とを食い込み式継手により連結したものである。すなわち、フィルタ２２の二次側出口部２４に二次側配管２３の管端部２５を差し込んだ上、二次側出口部２４に螺合させたナット部材２７ａを締め付けて、二次側出口部２４の先端テーパ面２４ａに衝合させた食い込みリング２７ｂを二次側配管２３の外周面に圧接又は食い込ませることにより、二次側出口部２４と二次側配管２３とを食い込みリング２７によるシール状態で連結している。そして、二次側出口部２４の先端部内周面に形成した環状凹部２４ｂに二次側配管２３の管端部２４を嵌合させることにより、二次側出口部２４の内周面と二次側配管２３の内周面とが面一状に連なるように工夫している。
【０００４】
また、第２従来構造は、図５に示す如く、フィルタ３２と二次側配管３３とをシール式継手により連結したものである。すなわち、フィルタ３２の二次側出口部３４の内径を二次側配管３３の内径とを同一として、両者３３，３４の先端面を環状のパッキン３７を介在した状態で突き合わせ、二次側配管３３の管端部３５に係合保持させたナット部材３８を二次側出口部３４の外周部に設けたねじ部３４ａに螺合させて、締め付けることにより、二次側出口部３４と二次側配管３３とをパッキン３７によるシール状態で連結している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、第１従来構造にあっては、二次側配管２３の管端部２５を二次側出口部２４の環状凹部２４ｂに嵌合させることにより、両部２３，２４の内周面が面一状に連なるように工夫しているものの、二次側配管２３の管端部２５を二次側出口部２４に差し込む構造である以上、管端部２５と環状凹部２４ｂとを完全に密接させておくことはできず、図４に示す如く、両部２４，２５間に隙間２６が生じる。そして、この隙間２６は、二次側出口部２４の内周面と二次側配管２３の内周面との境界部分から食い込みリング２７ｂによるシール部分に至る空間を構成し、クリーンガス２９がフィルタ２２から二次側配管２３へと流動する上でのデッドスペースとなっている。
【０００６】
また、第２従来構造にあっては、二次側出口部３４と管端部３５とをそれらの先端面を突き合わせた状態で連結しているため、上記のような隙間２６は生じない。しかし、両部３４，３５の先端面には、一般に、図５に示す如く、パッキン３７の締付面圧を増大してシール機能を向上させるために、環状突起３４ａ，３５ｂが形成されていることから、両部３４，３５の先端にはそれらの内周面との間に段差が生じている。また、環状のパッキン３７を、その内周面を両部３４，３５の内周面と合致させた状態でセットしておくことは困難である。また、仮に、このような状態でセットしておくことができたとしても、ナット部材３６の締め付けによりパッキン３７が圧縮されることにより、その内径が変化して、パッキン内周面が両部３４，３５の内周面に合致しなくなる。したがって、これらのことから、二次側配管３３の内周面と二次側出口部３４の内周面との境界部分には、図５に示す如く、必然的に又は不可避的に凹部３６が生じる。そして、この凹部３６は、上記した隙間２６と同様に、クリーンガス３９がフィルタ３２から二次側配管３３へと流動する上でのデッドスペースとなっている。
【０００７】
したがって、第１及び第２従来構造にあっては、管端部２５の二次側出口部３４への差込み時に発生する摩耗粉やパッキン３７のセット時，締め付け時に発生する塵埃等のダストがデッドスペース２６，３６に滞留し、これらのダストがフィルタ２２，３２から二次側配管２３，３３へと流動するクリーンガス２９，３９に同伴して、クリーンガス２９，３９を汚染してしまう虞れがある。このため、二次側配管２３，３３の連結後、クリーンガス２９，３９の供給を開始する前に、予め、フィルタ２２，３２から二次側配管２３，３３へとクリーンガス２９，３９を流動させて、デッドスペース２６，３６に滞留するダストを排除させるブロー工程を行う必要がある。また、長時間のブロー工程を行っても、管継手構造の組み立て時にデッドスペース２６，３６に滞留するダストや大気（クリーンガスに比して汚染された空気であり、以下「汚染空気」 という）を完全に排除することは困難である。特に、加圧されたクリーンガス２９，３９を高速（一般に５０ｍ／ｓｅｃ以上）で流動させる場合には、二次側出口部２４，３４と管端部２５，３５との内周面境界部分における隙間２６や凹部３６の開口部にクリーンガス２９，３９が衝突することにより、当該開口部における微細なバリが剥がれる等により、デッドスペース２６，３６が新たなダスト発生源となり、長時間のブロー工程を行った後においてもクリーンガス汚染を完全に回避することができない。
【０００８】
本発明は、このような点に鑑みてなされたもので、長時間のブロー工程を行う必要がなく、クリーンガスを汚染させることになく良好に供給することができるクリーンガスの供給路における管継手構造を提供することを目的とするものであえる。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明のクリーンガスの供給路における継手構造にあっては、上記の目的を達成すべく、クリーンガスの供給路における上流部分の管端部と下流側部分の管端部とを、一方の管端部に他方の管端部が挿入されており且つ両管端部の対向周面間に当該供給路に連通する排気空間が形成された状態で、連結し、前記一方の管端部に、当該供給路を流動するクリーンガスの一部を、常時、排気空間から当該供給路外へと漏出させる排気口を設けておくことを提案する。かかる管継手構造にあっては、一般に、下流側部分の管端部がこれより大径とした上流側部分の管端部に同心状に挿入されることになる。また、本発明の管継手構造は、上流側部分の管端部がフィルタの二次側出口部である場合、下流側部分が、ドライブガス供給口部から供給されたクリーンガスをドライブガスとして洗浄液を噴出させる洗浄ノズルであり、下流側部分の管端部が当該洗浄ノズルのドライブガス供給口部である場合、また加圧されたクリーンガスが５０ｍ／ｓｅｃ以上の高速で下流側部分を流動する場合において、好適に使用される。また排気口は、排気空間に連通し且つ当該供給路外に開口された細管で構成されていることが好ましい。
【００１０】
本発明の管継手構造にあっては、常時、上流側部分から下流側部分へと流動するクリーンガスの一部が両部分の連結部分に形成される排気空間から漏出されることから、つまりクリーンガスの供給路から排気空間を経て当該供給路外へと向かうガス流が発生することから、上流側部分と下流側部分との連結部分にダストが滞留するような澱み（デッドスペース）が生じない。したがって、管継手構造の組み立て時に当該連結部分にダスト（管端部等に付着している塵埃や汚染空気等）が存在していたとしても、かかるダストはクリーンガスの供給に伴って完全に排気口から排除されて、クリーンガスを汚染するようなことがない。また、加圧されたクリーンガスが高速で流動する場合にも、当該連結部分が新たなダスト発生源となってクリーンガスを汚染するようなことがない。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の構成を図１又は図２に示す実施の形態に基づいて具体的に説明する。
【００１２】
図１は第１の実施の形態を示すもので、この実施の形態は、半導体の製造装置等に使用されるクリーンガスの供給路１における管継手構造に本発明を適用したものであり、上流側部分を構成するフィルタ２とその下流側部分を構成する二次側配管３とを次のように連結している。
【００１３】
すなわち、この実施の形態における本発明に係る管継手構造（以下「第１管継手構造」という）にあっては、図１に示す如く、上流側部分の管端部であるフィルタ２の二次側出口部４と下流側部分である二次側配管３の管端部（以下「 配管端部」 という）５とを、二次側出口部４にこれより小径の配管端部５を同心状に挿入して両部４，５の対向周面間に当該供給路１に連通する排気空間６が形成される状態で、連結すると共に、二次側出口部４に、フィルタ２から二次側配管３に流入するクリーンガス７の一部７ａを、常時、排気空間６から当該供給路１外へと微量漏出させる排気口８を設けてある。
【００１４】
フィルタ２は、フィルタハウジング９内を、適宜のフィルタ部材９ｃにより、図示しない一次側配管から使用目的に応じた加圧ガス（窒素，空気，不活性ガス等）７ｂが流入する一次側空間９ａと、フィルタ部材９ｃを通過した加圧ガス７ｂつまりフィルタ部材９ｃにより清浄化処理（含有パーティクルの除去等）を施されたクリーンガス７が流出する二次側空間９ｂとに区画してなるものである。
【００１５】
フィルタ２の二次側出口部４は、図１に示す如く、円筒状をなすもので、フィルタハウジング９に一体形成されて二次側空間９ｂに連通する円筒状の口金４ａと、口金４ａの先端外周部に固着された連結リング４ｂと、口金４ａ及び連結リング４ｂの先端面に固着された排気筒４ｃと、排気筒４ｃの先端部に一体形成された継手リング４ｄとからなる。口金４ａの内周面と排気筒４ｃの内周面は面一状に連なっており、それらの内径は二次側配管３の外径より所定量大径とされている。継手リング４ｄは、外周面にねじ部を形成すると共に先端面を内方へ窄まる円錐状のカム面４ｅに構成したものである。
【００１６】
而して、二次側出口部４と配管端部５とは、図１に示す如く、継手リング４ｄに断面楔状の食い込みリング１０ｂを内装したユニオンナット１０ａを螺合させると共に、配管端部５をユニオンナット１０ａ及び食い込みリング１０ｂを貫通して二次側出口部４に同心状に挿入させた上、ユニオンナット１０ａを締め付けて、食い込みリング１０ｂを継手リング４ｄのカム面４ｅにより縮径変形させて二次配管３の外周面に圧接させ若しくは食い込ませることにより、軸線方向に相対変位不能に連結されている。かかる食い込みリング１０ｂによる連結構造は、冒頭で述べた第１従来構造における食い込みリング２７ｂによる連結構造と同一である。また、配管端部５は、二次側出口４を貫通して、フィルタハウジング９の二次側空間９ｂに若干突入されている。このように、二次側出口部４と配管端部５とは、二次側出口部４の内周面と配管端部５の外周面との間に当該供給路１（より具体的には、二次側空間９ｂ）に連通する環状の排気空間６を形成させた状態で、連結されている。なお、この例では、供給路１におけるクリーンガス供給条件を、クリーンガス７が二次側配管４を５０ｍ／ｓｅｃ以上の所定流速で流動するように、設定してある。
【００１７】
排気口８は、図１に示す如く、二次側出口部４の排気部４ｃに設けた適宜長さの細管で構成されている。この排気口たる細管８は、一端部が排気空間６に連通し且つ他端部が当該供給路１外に開口するものであり、二次側空間９ｂから二次側配管３へと流入するクリーンガス７の一部７ａを排気空間６から当該供給路１外へと漏出（排気）させるものである。排気口（細管）８には、図示していないが、漏洩ガス７ａの排出管が接続される。排気口８から漏出されるクリーンガス７ａの流量（以下「漏出量」という）は、排気口８の径（細管の内径）又は排出管に設けた流量制御弁（例えばニードル弁）によって制御することができ、フィルタ２から二次側配管３へのクリーンガス流入量ないし二次側配管３におけるクリーンガス流量（以下「主流量」という）が排気口８からの漏出により所定の設定範囲を下回るようなことがないように（つまり、漏出量が主流量に悪影響を与える程度にまで大きくならないように）、上記設定範囲等のクリーンガス使用条件に応じて適宜に設定される。一般には、漏出量は、主流量に比して微量（数ｌ／ｍｉｎ〜数十ｌ／ｍｉｎ）となるように設定しておくことが好ましい。この例では、漏出量を５ｌ／ｍｉｎ程度に設定してある。
【００１８】
また、図２は第２の実施の形態を示すもので、この実施の形態は、半導体ウエハ，液晶等の洗浄装置に使用されるクリーンガスの供給路１１における管継手構造に本発明を適用した例に関し、クリーンガスの供給路１１における上流側部分を構成するフィルタ１２とその下流側部分を構成する洗浄ノズル１３とを次のように連結している。
【００１９】
すなわち、この実施の形態における本発明に係る管継手構造（以下「第２管継手構造」という）にあっては、図２に示す如く、上流側部分の管端部であるフィルタ１２の二次側出口部１４と下流側部分の管端部である洗浄ノズル１３のドライブガス供給口部１５とを、第１継手構造におけると同様に、二次側出口部１４にドライブガス供給口部１５を挿入して両者１４，１５の対向周面間に当該供給路１１に連通する排気空間１６が形成される状態で、連結すると共に、二次側出口部１４に、フィルタ１２から二次側配管１３に流入するクリーンガス１７の一部１７ａを、常時、排気空間１６から当該供給路１１外へと微量漏出させる排気口１８を設けてある。
【００２０】
フィルタ１２は、フィルタハウジング１９内を、適宜のフィルタ部材１９ｃにより、図示しない一次側配管から被処理ガス（窒素，空気等）１７ｂが供給される一次側空間１９ａと、フィルタ部材１９ｃを通過した被処理ガス１７ｂつまりフィルタ部材１９ｃにより清浄化処理（含有パーティクルの除去等）を施されたクリーンガス１７が流入する二次側空間１９ｂとに区画してなるものである。
【００２１】
フィルタ１２の二次側出口部１４は、図２に示す如く、フィルタハウジング１９に一体形成された円筒状の口金１４ａと、口金１４ａの先端外周部に固着された連結リング１４ｂと、口金１４ａ及び連結リング１４ｂの先端面に固着された排気筒１４ｃとからなる。口金１４ａの内周面と排気筒１４ｃの内周面は面一状に連なっており、それらの内径はドライブガス供給口部１５の外径より所定量大径とされている。排気筒１４ｃの先端部内周面には、テーパ状の雌ねじ部１４ｄが形成されている。
【００２２】
洗浄ノズル１３は、図２に示す如く、ノズル本体１３ａと、ノズル本体１３ａの先端に突設された細管状のノズル部１３ｂと、ノズル本体１３ａの基端に突設された円筒状のドライブガス供給口部１５と、ノズル本体１３ａの基端部外周面にドライブガス供給口部１５と同心をなすテーパ状の雄ねじ部１３ｃと、ノズル本体１３ａを貫通してノズル部１３ｂとドライブガス供給口部１５とを直線状に連通接続する連通孔１３ｄと、ノズル本体１３ａに形成されており、連通孔１３ｄに連通接続された洗浄液供給孔１３ｅとを具備して、クリーンガスであるドライブガス１７をドライブガス供給口１５から連通孔１３ｄへと供給することにより、洗浄液供給孔１３ｅから供給させた洗浄液２０を連通孔１３ｄへと吸引導入させ、洗浄液２０をドライブガス１７と共にノズル部１３ｂから噴出させるようになっている。なお、洗浄液２０としては、超純水等のクリーンな液体が使用される。
【００２３】
而して、二次側出口部１４と洗浄ノズル１３とは、図２に示す如く、ノズル本体１３ａの雄ねじ部１３ｄを排気筒１４ｃの雌ねじ部１４ｄにねじ込むことにより、ドライブガス供給口部１５を二次側出口部１４を同心状に貫通して二次側空間１９ｂに若干突出する状態で連結されている。すなわち、フィルタ１２の二次側出口部１４と洗浄ノズル１３のドライブガス供給口部１５とは、二次側出口部１４の内周面とドライブガス供給口部１５の外周面との間に当該供給路１１（より具体的には、二次側空間１９ｂ）に連通する環状の排気空間１６を形成させた状態で、軸線方向に相対変位不能に且つ密に連結されている。なお、供給路１１におけるクリーンガス供給条件は、洗浄ノズル１３に供給されたクリーンガスたるドライブガス１７により洗浄液２０の連通孔１３ｄへの吸引作用（エジェクタ作用）及びノズル部１３ｂからの噴出作用が良好に行われるように設定されるが、この例では、洗浄ノズル１３内をドライブガス１７が５０ｍ／ｓｅｃ以上の所定流速で流動するように、設定されている。
【００２４】
排気口１８は、図２に示す如く、第１管継手構造におけると同様に、二次側出口部１４の排気部１４ｃに設けた適宜長さの細管で構成されている。すなわち、この排気口たる細管１８は、一端部が排気空間１６に連通し且つ他端部が当該供給路１１外に開口するものであり、二次側空間１９ｂからドライブガス供給口部１５へと流入するドライブガス１７の一部１７ａを排気空間１６から当該供給路１１外へと漏出（排気）させるものである。排気口（細管）１８には、図示していないが、漏洩ガス１７ａの排出管が接続される。排気口１８から漏出されるクリーンガス１７ａの流量（漏出量）は、排気口１８の径（細管の内径）又は排出管に設けた流量制御弁（例えばニードル弁）によって制御することができ、フィルタ１２から洗浄ノズル１３へのドライブガス流入量ないし洗浄ノズル１３内におけるクリーンガス流量（主流量）が排気口１８からの漏出により所定の設定範囲を下回るようなことがないように（つまり、漏出量が主流量をに悪影響を与える程度（ドライブガス１７による上記した吸引作用及び噴出作用が損なわれる程度）にまで大きくならないように）、上記設定範囲等のクリーンガス使用条件に応じて適宜に設定される。一般に、漏出量は、主流量に比して微量（一般に、数ｌ／ｍｉｎ〜数十ｌ／ｍｉｎ）となるように設定しておくことが好ましい。この例では、第１管継手構造におけると同様に、漏出量を５ｌ／ｍｉｎ程度に設定してある。
【００２５】
以上のように構成された第１又は第２管継手構造にあっては、フィルタ２，１２から二次側配管３又は洗浄ノズル１３に供給されるクリーンガス７，１７の一部７ａ，１７ａが、常時、排気空間６，１６に流入して排気口８，１８から漏出される。すなわち、上流側部分たるフィルタ２，１２と下流側部分たる二次側配管３又は洗浄ノズル１３との連結部分には、常時、供給路１，１１（フィルタ２，１２から二次側配管３又はノズル部１３ｂに至るクリーンガス７，１７の流動路）から排気空間６，１６を経て当該供給路１，１１外へと向かうガス流が発生することになる。したがって、両部分２，３又は１２，１３の連結部分にダストが滞留するような澱み（デッドスペース）が生じず、管継手構造の組み立て時に当該連結部分にダスト（管端部等に付着している塵埃や汚染空気等）が存在していたとしても、かかるダストはクリーンガス７，１７の供給に伴って排気口８，１８から完全に排除されることになり、クリーンガス７，１７を汚染するようなことがない。したがって、第１又は第２従来構造による場合のような長時間のブロー工程は全く必要としない。また、加圧されたクリーンガス７，１７が上記した如く５０ｍ／ｓｅｃ以上の高速で流動しても、当該連結部分が新たなダスト発生源となるようなことがなく、クリーンガスを汚染させることなく安定して供給させることができる。ところで、第２管継手構造のように、下流側部分１３を、これにねじ部分１３ｃを形成して、直接、上流側部分１２の管端部１４に螺合連結させるようにすると、第１従来構造のように差し込みにより連結した場合以上に大量のダスト（螺合接触により発生する摩耗粉等）が生じる虞れがあるが、このような場合にもダストは排気口１８から排除されて、或いは排除されないまでも上記ガス流によって供給路１１への侵入を阻止されて、クリーンガス１７を汚染することがない。翻れば、クリーンガス汚染を防止するための格別の工夫を必要とせず、管継手構造設計の自由度が高くなり、第２管継手構造のように洗浄ノズル１３等のクリーンガス使用機器にフィルタ１２を簡便なねじ込み手段により直接に接続しておくことができる。
【００２６】
ところで、上記したクリーンガス汚染防止効果は、次のような実験により確認された。
【００２７】
すなわち、図１に示す第１管継手構造において、その組立後にブロー工程を行うことなく、フィルタ２の一次側空間１９ａに２００Ｎｌ／ｍｉｎの乾燥空気を供給して、フィルタ部材９ｃを通過した乾燥空気（クリーンガス）を、排気口８からの漏出量を１０ｌ／ｍｉｎとした状態で、内径４．３５ｍｍの二次側配管３から半導体ウエハの表面に吹き付けて、ウエハ表面上におけるダスト数を測定した。そして、クリーンガス吹き付け前において測定しておいたウエハ表面上のダスト数との比較を行い、クリーンガス吹き付けによるダスト増加数を求めた。その結果、クリーンガス吹き付けによるダストの増加数は２〜５個であった。
【００２８】
また、上記と同一のフィルタ部材を使用したフィルタに上記と同一条件の乾燥空気（２００Ｎｌ／ｍｉｎ）を供給して、フィルタ部材を通過した乾燥空気を、フィルタの二次側出口部（内径：４．３５ｍｍ）から、直接、半導体ウエハの表面に吹き付けて、ウエハ表面上のダスト数を測定し、乾燥空気吹き付け前におけるウエハ表面上のダスト数との差を求めた。その結果、フィルタから直接吹き付けた場合におけるダスト増加数は２〜５個であった。
【００２９】
また、図３及び図４に示す第１従来構造（フィルタ２２のフィルタ部材として上記フィルタ部材９ｃと同一のものを使用し、フィルタ２２の二次側出口部２４及び二次側配管２３の内径を４．３５ｍｍとした）において、その組立後にブロー工程を行うことなく、フィルタ２２に上記と同一条件の乾燥空気（２００Ｎｌ／ｍｉｎ）を供給して、フィルタ２２を通過した乾燥空気を二次側配管２３から半導体ウエハの表面に吹き付けて、ウエハ表面上のダスト数を測定し、乾燥空気吹き付け前におけるウエハ表面上のダスト数との差を求めた。その結果、ダスト増加数は８００〜１０００個であった。さらに、上記と同一条件で乾燥空気をフィルタ２２から二次側配管２３へと２４時間流動させてブロー工程を行った後、引き続き、乾燥空気を二次側配管２３から半導体ウエハの表面に吹き付けて、ウエハ表面上のダスト数を測定し、乾燥空気吹き付け前におけるウエハ表面上のダスト数との差を求めた。その結果、ダスト増加数は１０〜３０個であった。
【００３０】
なお、何れの場合にも、ダストは０．１２μｍ以上のものであり、半導体ウエハとしては８インチ径のものを使用した。
【００３１】
以上の実験結果から明らかなように、第１従来構造にあっては、プロー工程を行わない場合には勿論、長時間（２４時間）のブロー工程を行っても、管継手構造によるクリーンガス汚染が回避できないが、第１管継手構造にあっては、ブロー工程を行わずとも、フィルタから直接ウエハ表面にクリーンガスを吹き付けた場合とダスト増加数が変わらず（２〜５個）であり、管継手構造によるクリーンガス汚染が完全に回避されていることが理解される。
【００３２】
なお、本発明は上記した各実施の形態に限定されるものではなく、本発明の基本原理を逸脱しない範囲において、適宜に改良，変更することができる。
【００３３】
例えば、クリーンガスの供給路における上流側部分（フィルタ，弁，配管等）と下流側部分（配管，洗浄ノズル等のクリーンガス使用機器）との連結手段は、上流側部分の管端部（フィルタ等の二次側出口部，配管の管端部等）と下流側部分の管端部（配管の管端部，クリーンガス使用機器のガス供給口部）との対向周面間に排気空間が形成される二重管構造を確保できるものである限りにおいて、任意であり、格別の制限はない。また、排気口の構成も任意であり、排気空間からクリーンガスを微量漏出させるものであればよい。また、排気空間は、クリーンガス７ａ，１７ａの円滑な流れが生じるものであればよく、必要以上に大きくする必要はない。
【００３４】
【発明の効果】
以上の説明から容易に理解されるように、本発明の管継手構造にあっては、クリーンガスの供給路の上流側部分と下流側部分との連結部分に、排気空間及び排気口を設けて当該供給路の内部から外部へのガス流を生じさせるようにしたから、当該連結部分からクリーンガスへのダスト侵入が効果的に防止され、長時間のプロー工程を行わずとも、クリーンガスを汚染させることなく良好に供給させることができる。また、当該連結部分に冒頭で述べたようなデッドスペースが生じないため、これが新たなダスト発生源となるような不都合もない。したがって、本発明の管継手構造は、高度のクリーン性が要求とされる半導体製造装置等における配管系に好適に使用することができるものであり、その実用的価値極めて大なるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１管継手構造を示す縦断側面図である。
【図２】第２管継手構造を示す縦断側面図である。
【図３】第１従来構造を示す縦断側面図である。
【図４】図３の要部を拡大して示す詳細図である。
【図５】第２従来構造を示す縦断側面図である。
【符号の説明】
１，１１…クリーンガスの供給路、２，１２…フィルタ（クリーンガスの供給路の上流側部分）、３…二次側配管（クリーンガスの供給路の下流側部分）、４，１４…二次側出口部（上流側部分の管端部）、５…配管端部（下流側部分の管端部）、６，１６…排気空間、７，１７…クリーンガス、７ａ，１７ａ…排気口から漏出するクリーンガス、８，１８…排気口。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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