(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルム法線方向に光学軸を有する光学的に正の一軸性を示す液晶表示素子用光学フィルムであって、当該フィルムがビニルカルバゾール系高分子からなることを特徴とする液晶表示素子用光学フィルム。
【請求項２】
ビニルカルバゾール系高分子溶液を基板上に塗布し、溶媒を乾燥して製造されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子用光学フィルム。
【請求項３】
フィルム法線方向に光学軸を有する光学的に正の一軸性フィルムであって、当該フィルムがビニルカルバゾール系高分子からなる光学フィルムを備えていることを特徴とする液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学的に正の一軸性を示す液晶表示素子用光学フィルムおよび当該フィルムを備えた液晶表示素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）−ＬＣＤ（Liquid Crystal Display）、ＴＦＴ(Thin Film Transistor)−ＬＣＤ等に代表される液晶表示素子は、薄型、軽量、低電圧駆動、低消費電力等の特徴を有するが故に、ブラウン管に代わる高性能のディスプレイとして、携帯用テレビ、デジタルカメラ、液晶付きビデオカメラなどの携帯用電子機器やノート型パソコン、液晶モニターなどに広く使われている。これら液晶表示素子の多くは、液晶セルの複屈折性に起因する表示の着色や、コントラストの低下の問題、あるいは視野角特性の問題を改善するため、ポリマー材料や液晶材料からなる複屈折性の光学フィルムが備えている。
現在製造あるいは開発されている複屈折性光学フィルムは、一軸性の屈折率構造を有するものがあり、この種の光学フィルムは光学軸がフィルム面内にあるものとフィルム法線方向にあるものとに分類され、さらに軸性が正のものと負の物とに分類される。
光学軸がフィルム面内にあるものとしては、ＳＴＮ−ＬＣＤに用いられている色補償用の光学フィルムが一般的な例として挙げられる。色補償用の光学フィルムは、ポリマーフィルムを延伸処理する方法で通常製造され、このものは光学的に正の一軸性を示すフィルムとして知られている。また、光学軸がフィルム法線方向にあるものの例としては、Ｈａｒｒｉｓらの光学的に負の一軸性を示す光学フィルムが挙げられる。このフィルムは、ポリマー溶液を適当な基板に塗布して乾燥させ、ポリマーを面配向させて製造されている。こうして製造されるフィルムは、ＴＦＴ−ＬＣＤの視野角改良用の光学フィルムとして使用することができる(例えば、米国特許第５３４４９１６、５４８０９６４、５５８０９５０号等参照）。そして、Ｈａｒｒｉｓらは、光学軸をフィルム法線方向に有する光学的に負の一軸性を示すフィルム材料として、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド等を開示している。しかし、光学軸をフィルム法線方向に有し、かつ光学的に正の一軸性を示すフィルムやその製法について、Ｈａｒｒｉｓらはこれを少しも教示していない。
一方、光学軸をフィルム法線方向に有し、かつ光学的に正の一軸性フィルムとしては、液晶材料をホメオトロピック配向させた後、その配向を固定化した光学フィルムが知られている（例えば、特開平６−３３１８２６号公報や特許第２８５３０６４号等参照）。しかしながら、この種の光学フィルムを製造する従来法では、使用する液晶材料の複屈折性が大きいため、少しでも膜厚ムラが生じると、それがそのまま厚み方向のリターデーションムラになりやすいという問題があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、ビニルカルバゾール系高分子を用いた、耐熱性に優れかつ均一性の高く、フィルム法線方向に光学軸を有する正の一軸性光学フィルムを提供することにある。
本発明の別の目的は、屈折率分布の制御が容易で均一性が高く、フィルム法線方向に光学軸を有する光学的に正の一軸性を示す光学フィルムを製造する方法を提供することにある。
本発明のさらに別の目的は、液晶ディスプレイの複屈折性を補償できる結果、色味や視野角特性が良好で、しかも製造が容易な液晶表示素子を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明の液晶表示素子用光学フィルムは、フィルム法線方向に光学軸を有する光学的に正の一軸性を示し、その素材がビニルカルバゾール系高分子からなることを特徴とする。
上記の液晶表示素子用光学フィルムは、ビニルカルバゾール系高分子溶液を基板上に塗布した後、その塗布膜を乾燥させることにより製造することができる。
また、本発明の液晶表示素子は、フィルム法線方向に光学軸を有する光学的に正の一軸性フィルムであって、ビニルカルバゾール系高分子からなる光学フィルムを備えていることを特徴とする。
【０００５】
【発明の実施の形態】
本発明の光学フィルムは、光学軸をフィルム法線方向に有する正の一軸性フィルムである。光学軸をフィルム法線方向に有する正の一軸性フィルムとは、光学軸がｚ軸方向にあるフィルムで、主屈折率ｎｘ及びｎｙがほぼ同一であり、且つｎｚがｎｘ、ｎｙよりも大きい関係を満たすフィルムである（ポジティブＣフィルムとも呼ばれる）。
本発明においては、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれｘ方向、ｙ方向およびｚ方向の３方向の主屈折率を意味し、ｘ方向とｙ方向とは互いに直交するフィルム面内方向、ｚ方向はフィルム膜厚方向とするものである。
主屈折率ｎｘ、ｎｙおよびｎｚの値は、用いるビニルカルバゾール系高分子材料やフィルム膜厚およびフィルム製造条件に依存してほぼ決まってくる値である。従って、それら材料や膜厚、製造条件を調節することにより、光学的に重要なパラメータである厚み方向のリターデーション値（（ｎｚ−ｎｘ）と膜厚ｄの積で得られる値）を、適宜制御することができる。
本発明の光学フィルムは、厚み方向の屈折率と面内方向の屈折率との差、すなわち、ｎｚ−ｎｘ（またはｎｚ−ｎｙ）は、ある程度大きいことが好ましく、通常０．００１以上、好ましくは０．００２以上、さらに好ましくは０．００４以上であることが望ましい。該屈折率差が小さい場合には、厚み方向のリターデーション値を所望値とするために、フィルムの膜厚を厚くしなければならなくなる。このため、例えば、液晶表示素子等へ付設する際にフィルム厚みが問題になる可能性がある。
本発明の光学フィルムでは、厚み方向のリターデーション値、すなわち、（ｎｚ−ｎｘ）×ｄで与えられる値は特に限定されるものではないが、通常１０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下、さらに好ましくは１００ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが望ましい。１０ｎｍ未満の場合には、光学フィルムとしての機能に欠ける恐れがある。また、２０００ｎｍを越える光学フィルムの製造は不可能でないが、塗布膜の作成時及びその乾燥時にムラが発生する恐れがあり、これに原因してフィルムの厚み方向のリターデーション値が不均一になる恐れがある。
本発明の光学フィルムの膜厚は、通常０．２μｍ以上２００μｍ以下、好ましくは０．５μｍ以上１００μｍ以下、さらに好ましくは１μｍ以上５０μｍ以下であることが望ましい。フィルム膜厚が０．２μｍ未満の場合には、フィルムの複屈折値（ｎｚ−ｎｘ）にもよるが、概してリターデーション値が小さくなるため、光学フィルムとしての機能に欠ける恐れがある。また、２００μｍを越えるフィルムの作成した場合は、フィルムの膜厚が不均一になる恐れがある。
【０００６】
上記の如き光学パラメーターを有する本発明の光学フィルムは、ビニルカルバゾール系高分子から形成される。ビニルカルバゾール系高分子は、ガラス転移温度が高く、耐熱性の高い光学フィルムを得ることが可能である。
本発明で言うビニルカルバゾール系高分子とは、ビニルカルバゾール又はビニルカルバゾール誘導体のホモポリマー、ビニルカルバゾール及び／又はビニルカルバゾール誘導体を含むコポリマー、上記のホモポリマー及び／又はコポリマーと他のポリマーとのブレンド物をそれぞれ意味する。
そして、ビニルカルバゾールとは、カルバゾールにビニル基が結合した化合物を意味し、これには、１−ビニルカルバゾール、２−ビニルカルバゾール、３−ビニルカルバゾール、４−ビニルカルバゾール、あるいは９−ビニルカルバゾール（またはＮ−ビニルカルバゾール）が包含される。また、ビニルカルバゾール誘導体とは、１位、２位、３位又は４位にビニル基を有する各ビニルカルバゾールにおいて、それぞれのＮ位に、例えば、炭素数が１から１８のアルキル置換基やフェニル基に代表される芳香族系置換基を有するビニルカルバゾール誘導体並びに上記した各ビニルカルバゾールにおいて、そのビニル基以外の任意に水素に置換基が結合したビニルカルバゾール誘導体を意味し、上記した置換基としては、メチル、エチル等炭素数が１から１８のアルキル基、フェニル基等の芳香族系置換基、ニトロ基、フルオロ、クロロ、ブロモ等のハロゲン系置換基、カルボキシル基、アミノ基等が挙げられる。  なお、本発明はこれらに何ら制限されるものではない。
上記したビニルカルバゾールおよびビニルカルバゾール誘導体のそれぞれのホモポリマーは、本発明で言うビニルカルバゾール系高分子の一つである。
また、ビニルカルバゾール及び／又はビニルカルバゾール誘導体を含むコポリマーには、上記したビニルカルバゾール及び／又はビニルカルバゾール誘導体から選ばれる任意のモノマーをＶＣｚで表示すると、ＶＣｚ／アクリル酸、ＶＣｚ／アクリル酸メチル、ＶＣｚ／アクリル酸エチル、ＶＣｚ／メタクリル酸、ＶＣｚ／メタクリル酸メチル、ＶＣｚ／メタクリル酸エチル、ＶＣｚ／アクリロニトリル、ＶＣｚ／メタクリロニトリル、ＶＣｚ／無水マレイン酸、ＶＣｚ／Ｎ−フェニルマレイミド、ＶＣｚ／スチレン、ＶＣｚ／α−メチルスチレン、ＶＣｚ／２−メチルスチレン、ＶＣｚ／３−メチルスチレン、ＶＣｚ／４−メチルスチレン、ＶＣｚ／４−メトキシスチレン、ＶＣｚ／４−クロロスチレン、ＶＣｚ／４−ニトロスチレン、ＶＣｚ／４−アミノスチレン、ＶＣｚ／４−カルボキシルスチレン、ＶＣｚ／４−フェニルスチレン、ＶＣｚ／２、５−ジクロロスチレン、ＶＣｚ／ビニルナフタレン、ＶＣｚ／ビニルシンナメート、ＶＣｚ／ビニルピリジン、ＶＣｚ／ビニルピロリドン、ＶＣｚ／ビニルイミダゾール、ＶＣｚ／Ｎ−ビニルフタルイミド、ＶＣｚ／ビニルフェノール、ＶＣｚ／ブタジエン、ＶＣｚ／イソプレン等で例示される２元系コポリマー、種類の異なる２種のＶＣｚからなる２元系コポリマー、さらには、ＶＣｚ／スチレン／無水マレイン酸、ＶＣｚ／スチレン／アクリロニトリル、ＶＣｚ／α−メチルスチレン／メチルメタクリレート等で例示される３元系以上のコポリマーが含まれる。各コポリマーは、ランダム共重合体であるか、ブロック共重合体であるか、グラフト共重合体であるか、交互共重合体であるかを問わない。
また、本発明のビニルカルバゾール系高分子として使用できるブレンド物には、上記したホモポリマー同士のブレンド物、コポリマー同士のブレンド物、ホモポリマーとコポリマーのブレンド物、ホモポリマー及び／又はコポリマーと別の種類のポリマーとのブレンド物が含まれる。そして、別の種類のポリマーとしては、ポリスチレン、ポリ（α−メチルスチレン）、ポリ（４−フェニルスチレン）、ポリ（２，５−ジクロロスチレン）、ポリビニルナフタレン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルシンナメート、ポリビニルイミダゾール、ポリ（Ｎ−ビニルフタルイミド）などが例示できる。
これらブレンド物は、微視的には相分離していても、巨視的には透明であって、フィルム法線方向に光軸を持つ正の一軸性を示すフィルムを与える限り、いずれも本発明のビニルカルバゾール系高分子として使用可能である。
【０００７】
本発明の光学フィルムは、ビニルカルバゾール系高分子を溶剤に溶かした溶液を基板上に塗布し、塗膜を乾燥させることによって製造することができる。
ちなみに、塗膜から溶剤が蒸発する過程では、フィルム面内に異方性は生じないが、溶剤の蒸発によって膜厚方向に大きく塗膜が収縮が起こるため、面内と膜厚方向とで異方性が生じ、結果的にフィルム法線方向に光学軸を有する正の一軸性が発現する。
ビニルカルバゾール系高分子を溶解させる溶媒は、ビニルカルバゾール系高分子を溶解できるものであれば特に制限はなく、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリトリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類、フェノール、パラクロロフェノールなどのフェノール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、1、2-ジメトキシベンゼンなどの芳香族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、t-ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、2-メチル-2、4-ペンタンジオール、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、2-ピロリドン、N-メチル-2-ピロリドン、ピリジン、トリエチルアミン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、ブチロニトリル、二硫化炭素などの単独溶媒又はこれらの混合溶媒が使用可能である。
溶液中のビニルカルバゾール系高分子の濃度は、通常０．５重量％%以上４０重量％以下、好ましくは１重量％以上３０重量％以下、さらに好ましくは２重量％以上２０重量％以下である。
ビニルカルバゾール系高分子の溶液には、本発明の効果を損なわない範囲において例えば界面活性剤、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、染料、顔料、密着性向上剤等の各種添加剤を加えることもできる。
【０００８】
ビニルカルバゾール系高分子溶液が塗布される基板は、最終的に得られる光学フィルムが光学的に正の一軸性を示すフィルムとなる基板であれば特に限定されない。ガラス基板、プラスチックフィルム等のプラスチック基板、ステンレスベルトやステンレスドラム等の金属基板等を用いることができる。中でも後に述べる偏光板との貼り合わせを考えると、プラスチック基板またはステンレスベルトやステンレスドラムを用いることが望ましい。
プラスチックフィルムとして、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ（４−メチルペンテン−１）などのポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、セルロース系プラスチックス、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等から形成されるフィルムを挙げることができる。これらプラスチックフィルムは、光学的に等方性であっても、異方性であっても差し支えない。
基板に使用されるプラスチックフィルムの中でも、耐溶剤性や耐熱性の観点からポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートの各フィルムが特に望ましい。
基板となるプラスチックフィルムの厚みは、通常２０μｍ以上、好ましくは２５μｍ以上、特に好ましくは５０μｍ以上である。２０μｍより薄い場合は基板となるフィルム強度が弱いために製造時に切れてしまう等の問題が発生する恐れがある。
基板上にビニルカルバゾール系高分子溶液を塗布する方法としては、当該分野で公知の手法を適宜採用することができ、例えば、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、マイヤーバーコート法、ドクターブレード法、ナイフコート法、ダイコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、オフセットグラビアコート法、リップコート法、スプレーコート法等を採用することができる。これらの塗布方法によりビニルカルバゾール系高分子溶液を、所望するフィルム膜厚となるように基板上に塗布し、乾燥させることによって本発明の光学フィルムを得ることができる。乾燥温度は、ビニルカルバゾール系高分子や溶媒の種類等に応じて適宜選択され、一概に規定することはできないが、通常４０℃以上２５０℃以下、好ましくは５０℃以上２００℃以下である。塗膜の乾燥は、一定温度下において行っても良いし、段階的に温度を上昇させながら行っても良い。乾燥時間も適宜選択されるとこではあるが、通常１０秒以上３０分以下、好ましくは３０秒以上２０分以下、さらに好ましくは２分以上１５分以下である。
【０００９】
以上の工程により得られる本発明の光学フィルムは、フィルム自体が自己支持性を有するものであれば基板から剥離し、そのまま光学フィルムとして各種の用途に用いることができる。また自己支持性を持っていない場合には、製造工程において用いた基板が透明であれば、その基板付きの光学フィルムとして使用することができる。また、フィルム製造時に使用した基板から別の基板（以下、第２の基板という）にフィルムを転写し、第２の基板付き光学フィルムとして使用することもできる。フィルムの転写は、通常、基板上に形成されている光学フィルムと第２の基板とを、接着剤又は粘着剤を介して貼り合わせた後、フィルム製造時に用いた基板をフィルム面から剥離除去する方法で行われる。
転写に用いられる第２の基板は、適度な平面性を有するものであれば特に限定されないが、透明なガラスやプラスチックフィルム等が望ましい。透明プラスチックフィルムの例としては、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリオレフィン、トリアセチルセルロース、ノルボルネン系樹脂、エポキシ樹脂等のフィルムを挙げることができる。第２の基板は光学的に等方性であることが好ましいが、光学フィルムの用途によっては、光学的異方性を有する基板を第２の基板に用いることができる。このような光学的異方性を有する第２の基板の例としては、上記したプラスチックフィルムを延伸処理等して得られる位相差フィルムが挙げられる。また、液晶配向が固定化された液晶フィルム、光散乱性を有する光散乱フィルム、回折能を有する回折フィルムまたは偏光フィルム等を第２の基板としても用いることもできる。
【００１０】
本発明の光学フィルムは、フィルム単独または必要に応じて他の光学フィルム、例えば、他の屈折率構造を有する位相差フィルム、液晶フィルム、光散乱フィルム、回折フィルム、偏光フィルム等と組合せた積層体として各種の光学用途、具体的には、各種液晶表示素子の光学補償部材として利用することができる。例えば、工業的に製造されているヨウ素系や染料系の偏光フィルムと光学フィルムとを組み合わせることにより、液晶表示素子の複屈折性を補償、調整する機能を有する偏光板とすることができる。
ここでいう液晶表示素子には、例えばＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）セル、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）セル、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）セル、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｈｎｅｄ）セル、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｈｎｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）セル、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｈｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）セル、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ  Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ａｌｉｇｈｎｅｄ  Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）セル、強誘電、反強誘電セル及びこれらに規則正しい配向分割を行ったもの、ランダムな配向分割を行ったもの等の、各種のセルが含まれる。本発明の光学フィルムが組み込まれる液晶表示素子は、単純マトリックス方式、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）電極やＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ）電極等を用いたアクティブマトリックス方式、プラズマアドレス方式等のいずれの駆動方式であってもよい。また、本発明の光学フィルムは、バックライトシステムを備えた透過型・半透過型の液晶表示素子や、反射板を備えた反射型の液晶表示素子、さらには投写型の液晶表示素子等にも組み込むことができる。
液晶表示素子における光学フィルムの設置箇所は、特には限定されないが、通常は偏光板と駆動セルとの間であって、駆動セルの上側および／または下側の位置に、一枚若しくは複数枚の光学フィルムを配置するのが一般的である。この場合、光学フィルムは、屈折率構造が異なる位相差フィルム、液晶フィルム、回折フィルム、光散乱フィルム、レンズシート等と組み合わせて設置することも可能である。
【００１１】
【実施例】
以下に実施例を述べるが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお実施例で用いた各分析法は以下の通りである。
(屈折率測定)
アタゴ社製アッベ屈折計 Type-4T を用いて５８９ｎｍ（ナトリウムＤ線）における屈折率を測定した。
(膜厚測定)
ソニー社製デジタルマイクロメーターＭ−３０及び日本真空技術社製表面形状測定装置Ｄｅｋｔａｋ  ３０３０ＳＴ型を併用した。
実施例１
ポリ（９−ビニルカルバゾール）（アルドリッチケミカル製、重量平均分子量約１１０万）をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）に溶解させ、１２重量％となるようポリマー溶液を調製した。なお、界面活性剤として、メガファックＦ−１４４Ｄ（商品名、大日本インキ社製）をポリマーに対して０．１部添加した。このポリマー溶液を厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム基板上にスピンコート法で塗布し、６０℃で１ｈ、１００℃で１５分乾燥することで、ＰＥＴ基板上にポリ（９−ビニルカルバゾール）フィルムを作製した。
このポリ（９−ビニルカルバゾール）フィルム一部をＰＥＴ基板から剥離し、膜厚及び面内、厚み方向の屈折率を測定し、厚み方向のリターデーションを算出したところ、表１に示したように光学軸をフィルム法線方向に有する光学的に正の一軸性を示すフィルムとなっていることが分かった。
ＰＥＴ基板上のポリ（９−ビニルカルバゾール）フィルムを、アクリル系紫外線硬化型接着剤にて、厚み８０μｍの光学的に等方なトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムと貼り合わせた後、ＰＥＴ基板を取り去ることで、ポリ（９−ビニルカルバゾール）層、接着層、ＴＡＣ層からなる積層体を作成した。
実施例２
ポリ（９−ビニルカルバゾール）（アルドリッチケミカル製、重量平均分子量約１１０万）をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）に溶解させ、１２重量％となるようポリマー溶液を調製した。なお、可塑剤としてジオクチルフタレートをポリマーに対し１０部、界面活性剤として、メガファックＦ−１４４Ｄ（商品名、大日本インキ社製）をポリマーに対して０．１部添加した。このポリマー溶液を厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム基板上にスピンコート法で塗布し、６０℃で１ｈ、１００℃で１５分乾燥することで、ＰＥＴ基板上にポリ（９−ビニルカルバゾール）フィルムを作製した。
このポリ（９−ビニルカルバゾール）フィルム一部をＰＥＴ基板から剥離し、膜厚及び面内、厚み方向の屈折率を測定し、厚み方向のリターデーションを算出したところ、表１に示したように光学軸をフィルム法線方向に有する光学的に正の一軸性を示すフィルムとなっていることが分かった。
実施例３
ポリ（９−ビニルカルバゾール）（アルドリッチケミカル製、重量平均分子量約１１０万）とポリカーボネート（＝ポリ（ビスフェノールＡカーボネート）、アルドリッチケミカル製、重量平均分子量約６４０００）を９：１の比率でＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）に溶解させ、１２重量％となるようポリマーブレンド溶液を調製した。なお、界面活性剤として、メガファックＦ−１４４Ｄ（商品名、大日本インキ社製）をポリマーに対して０．１部添加した。このポリマー溶液を厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム基板上にスピンコート法で塗布し、６０℃で１ｈ、１００℃で１５分乾燥することで、ＰＥＴ基板上にポリ（９−ビニルカルバゾール）／ポリスチレンブレンドフィルムを作製した。
このポリ（９−ビニルカルバゾール）／ポリスチレンブレンドフィルムの一部をＰＥＴ基板から剥離し、膜厚及び面内、厚み方向の屈折率を測定し、厚み方向のリターデーションを算出したところ、表１に示したように光学軸をフィルム法線方向に有する光学的に正の一軸性を示すフィルムとなっていることが分かった。
実施例４
１００ｍｌの三つ口フラスコに精製した９−ビニルカルバゾール（東京化成製）０．１８ｍｏｌとスチレン（東京化成社製）０．０２ｍｏｌ、トルエン８０ｍｌ、ＡＩＢＮ６０ｍｇを加え、窒素中１００℃でラジカル重合させた。２時間後反応溶液をメタノールに注いで沈殿させ、さらに２度再沈殿を繰り返して９−ビニルカルバゾール−スチレン共重合体を得た（重量平均分子量約３０万、ＧＰＣ）。
この共重合体をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）に溶解させ、１２重量％となるようポリマー溶液を調製した。このポリマー溶液を厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム基板上にスピンコート法で塗布し、６０℃で１ｈ、１００℃で１５分乾燥することで、ＰＥＴ基板上にポリ（９−ビニルカルバゾール）／ポリスチレン共重合体フィルムを作製した。
このポリ（９−ビニルカルバゾール）／ポリスチレン共重合体フィルムの一部をＰＥＴ基板から剥離し、膜厚及び面内、厚み方向の屈折率を測定し、厚み方向のリターデーションを算出したところ、表１に示したように光学軸をフィルム法線方向に有する光学的に正の一軸性を示すフィルムとなっていることが分かった。
【００１２】
【表１】
0004347466.tif 000002
【００１３】
【発明の効果】
本発明の光学フィルムは、ビニルカルバゾール系高分子からなり、光学軸をフィルム法線方向に有する光学的に正の一軸性を示すフィルムであるので、位相差フィルム等、各種光学用途への応用展開が可能である等、工業的に極めて有用である。
本発明の光学フィルムの製造法は、製造、屈折率分布の制御が容易で、均一性の高いフィルムを製造することができる。
本発明の液晶表示素子は、前記光学フィルムを含むので、液晶セルの複屈折性が補償され、性能が高く、容易に製造しうる液晶表示素子として有用である。