(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
食品調理装置に取り付けられ、被調理食品をスチーム調理するために過熱スチームを生成する過熱スチーム生成ユニットであって、
水貯留部と、
前記水貯留部から上方に延びるスチーム上昇路と、
前記水貯留部に貯留された水を加熱してスチームを生成し、かつ、生成されたスチームが前記スチーム上昇路を上昇するときにこのスチームを加熱して過熱スチームにするためのヒータと、
前記スチーム上昇路の上部に形成され、過熱スチームを噴射するための上噴射ノズルと、
前記スチーム上昇路の上部に連通され、前記スチーム上昇部の上部に昇った過熱スチームを下方へ導くための誘導路であって、前記誘導路を通るスチームが前記ヒータで再加熱されるように前記ヒータに近接して配置されているスチーム誘導路と、
前記スチーム誘導路の下部に形成され、過熱スチームを噴射するための下噴射ノズルと、
を含むことを特徴とする過熱スチーム生成ユニット。
【請求項２】
前記スチーム生成ユニットは、ダイカスト成形された第１、第２、第３の金属体がこの順に３層に重ね合わされた構成を有し、
前記第１の金属体と前記第２の金属体との間に前記水貯留部および前記スチーム上昇路が形成されており、
前記第２の金属体と前記第３の金属体との間に前記スチーム誘導路が形成されており、
前記第２の金属体には前記ヒータが埋設されていることを特徴とする、請求項１記載の過熱スチーム生成ユニット。
【請求項３】
前面以外は区画面で区画され、前面は扉で開閉される被調理食品を収容するための加熱室と、
前記区画面に少なくとも上下２段に配置され、調理用過熱スチームを噴出するために少なくとも設けられる上噴射ノズルおよび下噴射ノズルと、
前記上噴射ノズルおよび前記下噴射ノズルに過熱スチームを供給するための１つの過熱スチーム生成ユニットであって、前記上噴射ノズルへ過熱スチームを供給する供給路および前記下噴射ノズルへ過熱スチームを供給する供給路の両方を加熱するための共用ヒータを有する過熱スチーム生成ユニットと、
を有することを特徴とする食品調理装置。
【請求項４】
前記過熱スチーム生成ユニットは、請求項１または２記載の構成を有することを特徴とする、請求項３記載の食品調理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、調理用の過熱スチームを生成する過熱スチーム生成ユニット、および、この過熱スチーム生成ユニットを備える食品調理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、約１００℃の通常のスチームよりも高温の過熱スチームを用いて被調理食品を加熱する食品調理装置が知られている。被調理食品を過熱スチームで加熱することにより、被調理食品を良好に脱脂および脱塩することができる。
たとえば、特許文献１に記載の加熱調理器では、被調理食品を収容する加熱室の内側面に、蒸気発生容器が配設されている。蒸気発生容器には、蒸気用ヒータが設けられている。蒸気発生容器内に供給された水は、蒸気用ヒータによって加熱されてスチームとなり、蒸気発生容器において加熱室側に設けられた蒸気吹出口（噴射ノズルに相当する。）から加熱室内に噴射される。この加熱調理器には、加熱室内に熱風を循環させる熱風循環機構が設けられており、加熱室内に噴射されたスチームは、熱風循環機構によって循環される熱風により加熱されて、過熱スチームとなる。
【特許文献１】特開２００６−３００４８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
過熱スチームによる被調理食品の加熱を実現するためには、蒸気発生容器において、スチームを、噴射ノズルから噴射されるまで維持しておかねばならない。一度水滴になった水分を加熱室で再びスチームにするのに時間が掛かるからである。また、特許文献１に記載の蒸気発生容器が過熱スチームを生成できるのであれば、蒸気発生容器において、過熱スチームを、噴射ノズルから噴射されるまで維持できるのが好ましい。
【０００４】
この発明は、このような背景のもとでなされたもので、噴射ノズルから噴射されるまで過熱スチームを維持することができる過熱スチーム生成ユニット、および、この過熱スチーム生成ユニットを備える食品調理装置を提供することを主たる目的とする。
この発明は、１つのユニットによって少なくとも上下２段に過熱スチームを噴射できる過熱スチーム生成ユニットを提供することを他の目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
請求項１記載の発明は、食品調理装置に取り付けられ、被調理食品をスチーム調理するために過熱スチームを生成する過熱スチーム生成ユニットであって、水貯留部と、前記水貯留部から上方に延びるスチーム上昇路と、前記水貯留部に貯留された水を加熱してスチームを生成し、かつ、生成されたスチームが前記スチーム上昇路を上昇するときにこのスチームを加熱して過熱スチームにするためのヒータと、前記スチーム上昇路の上部に形成され、過熱スチームを噴射するための上噴射ノズルと、前記スチーム上昇路の上部に連通され、前記スチーム上昇部の上部に昇った過熱スチームを下方へ導くための誘導路であって、前記誘導路を通るスチームが前記ヒータで再加熱されるように前記ヒータに近接して配置されているスチーム誘導路と、前記スチーム誘導路の下部に形成され、過熱スチームを噴射するための下噴射ノズルと、を含むことを特徴とする過熱スチーム生成ユニットである。
【０００６】
請求項２記載の発明は、前記スチーム生成ユニットは、ダイカスト成形された第１、第２、第３の金属体がこの順に３層に重ね合わされた構成を有し、前記第１の金属体と前記第２の金属体との間に前記水貯留部および前記スチーム上昇路が形成されており、前記第２の金属体と前記第３の金属体との間に前記スチーム誘導路が形成されており、前記第２の金属体には前記ヒータが埋設されていることを特徴とする、請求項１記載の過熱スチーム生成ユニットである。
【０００７】
請求項３に記載の発明は、前面以外は区画面で区画され、前面は扉で開閉される被調理食品を収容するための加熱室と、前記区画面に少なくとも上下２段に配置され、調理用過熱スチームを噴出するために少なくとも設けられる上噴射ノズルおよび下噴射ノズルと、前記上噴射ノズルおよび前記下噴射ノズルに過熱スチームを供給するための１つの過熱スチーム生成ユニットであって、前記上噴射ノズルへ過熱スチームを供給する供給路および前記下噴射ノズルへ過熱スチームを供給する供給路の両方を加熱するための共用ヒータを有する過熱スチーム生成ユニットと、を有することを特徴とする食品調理装置である。
【０００８】
請求項４記載の発明は、前記過熱スチーム生成ユニットは、請求項１または２記載の構成を有することを特徴とする、請求項３記載の食品調理装置である。
【発明の効果】
【０００９】
請求項１記載の発明によれば、この過熱スチーム生成ユニットでは、上噴射ノズルおよび下噴射ノズルを２段に備えるので、比較的多量の過熱スチームを供給することができる。
そして、この過熱スチーム生成ユニットでは、水貯留部に貯留された水がヒータによって加熱されてスチームとなり、このスチームがスチーム上昇路を上昇するときにヒータによって再加熱されることで過熱スチームが生成される。生成された過熱スチームのうち、一部は、上噴射ノズルで噴射されるが、残りの過熱スチームは、スチーム誘導路を下降して下噴射ノズルへ向かう。ここで、スチーム誘導路は、ヒータに近接して配置されているので、スチーム誘導路を下降する過熱スチームは再加熱され、この過熱スチームの温度低下を抑制することができる。
【００１０】
その結果、ノズルから噴出されるまで過熱スチームを維持することができる。
請求項２記載の発明によれば、スチーム生成ユニットは、ダイカスト成形された第１、第２、第３の金属体をこの順に３層に重ね合わせることで簡易に構成することができる。
ヒータが埋設された第２の金属体は、熱伝導性の良好な材料で形成されているので、第１の金属体と第２の金属体との間に形成された水貯留部およびスチーム上昇路、ならびに、第２の金属体と第３の金属体との間に形成されるスチーム誘導路に対して、良好にヒータの熱を供給することができる。なお、金属体に代えて、セラミック体などで形成することもできる。
【００１１】
請求項３記載の発明によれば、この食品調理装置では、区画面に上下２段に配置される上噴射ノズルおよび下噴射ノズルを少なくとも設けることによって、加熱室内に比較的多量の過熱スチームを供給することができる。これにより、加熱室内に過熱スチームを比較的速やかに充満させることができ、被調理食品の調理時間の短縮を図ることができる。
また、１つの過熱スチーム生成ユニットで上噴射ノズルおよび下噴射ノズルの両方に過熱スチームを供給することにより、部品点数の削減を図ることができる。さらに、この過熱スチーム生成ユニットでは、上噴射ノズルへ過熱スチームを供給する供給路および下噴射ノズルへ過熱スチームを供給する供給路の両方を共用ヒータで加熱するので、構成の簡素化を図ることができる。
【００１２】
請求項４記載の発明によれば、過熱スチーム生成ユニットが、請求項１または２記載の構成を有しているので、ノズルから噴出されるまで過熱スチームを維持することができ、または、スチーム生成ユニットを簡易に構成して、水貯留部とスチーム上昇路とスチーム誘導路とに対して良好にヒータの熱を供給することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下には、図面を参照して、この発明の実施形態として、電子レンジ（スチーム機能付電子オーブンレンジ）を例にとって具体的に説明をする。
＜電子レンジの基本構成＞
図１は、この発明の一実施形態に係る食品調理装置としての電子レンジ１の正面右側斜視図である。図２は、図１において、扉２を開いた状態を示す。図３は、電子レンジ１の底面図である。図４は、扉２および化粧板３（外カバー板）を取り除いた状態にあるケーシング４の正面上側斜視図である。図５は、加熱室１１の底である凹部１６の平面図であって、回転アンテナ２０Ａ、２０Ｂの配置および形状を示す図である。図６（ａ）は、拡散モード、図６（ｂ）は、集中モードにおけるマイクロ波放射のイメージ図である。図７は、調理状況検知手段としての赤外線センサ３０の揺動に伴って視野３２が加熱室１１内で移動する様子を説明するための模式図であって、図７（ａ）は、本実施例を適用した場合を示し、図７（ｂ）は、比較例を適用した場合を示す。図８は、扉２を取り除いた状態にあるケーシング４の正面図である。図９は、後ヒータ２３を一部抜き出して示した図である。図１０は、加熱循環室７４内を示す試作品の写真である。図１１は、扉２および化粧板３（外カバー板）を取り除いた状態にあるケーシング４の右側断面図である。図１２（ａ）は、電子レンジ１の予熱工程に係る電気的構成を示すブロック図であり、図１２（ｂ）は、予熱工程を説明するためのフローチャートである。図１３は、扉２および化粧板３（外カバー板）を取り除いた状態にあるケーシング４の正面左側斜視図である。図１４は、扉２および化粧板３（外カバー板）を取り除いた状態にあるケーシング４の正面右側斜視図である。図１５は、過熱スチーム生成ユニット５１の正面右側斜視図である。図１６は、図１５に示す過熱スチーム生成ユニット５１の分解斜視図である。図１７は、正面左側から見た過熱スチーム生成ユニット５１の分解斜視図である。図１８は、図８に角皿２５および金網７を追加した図である。図１９は、変形例に係る過熱スチーム生成ユニット５１の右側面図である。
【００１４】
以下、説明の便宜上、図１において扉２が設けられた側を前方（正面側）とし、電子レンジ１を正面側から見たときを基準として、電子レンジ１の方向を特定する（図示方向矢印参照）。なお、左右方向は、幅方向と同義である。
電子レンジ１は、その外殻をなすケーシング４を有している。ケーシング４は、図２に示すように、前面が開放された（この部分を開口８という。）中空のボックス状をした金属製のフレーム１２と、フレーム１２の外側（左右外側面および上外表面）を覆う化粧板３（外カバー板）とを備えている。フレーム１２によって加熱室１１が形成されている。加熱室１１は、フレーム１２の左右側壁、天壁、底壁および後壁によって区画された横長の略直方体形状の空間であり、前面に開口８を有している。底壁は、そのほぼ全域に亘って窪む凹部１６を形成している（図４参照）。そして、凹部１６を上から塞ぐように、平板状の底板６が載置されている。つまり、加熱室１１の底面は、被調理食品が載置される底板６と、その下に窪まされた凹部１６という二重構造を有している。
【００１５】
左右側壁の各内面には、前後方向に延びるレール２４が、上下方向に一定の間隔を隔てて複数（この実施例では３つ）設けられている。以下では、説明の便宜上、これらのレール２４を、上から順にレール２４Ｕ、レール２４Ｍ、レール２４Ｌと区別することがある。レール２４は、加熱室１１内へ突出している。図１８に示すように、左側のレール２４と、このレール２４と対向する右側のレール２４とによって、トレイ状の角皿２５を、底板６から浮いた状態で保持することができる。角皿２５にも被調理食品を載置することができる。
【００１６】
角皿２５には、金網７を載置することができる。金網７は、水平方向に延びる平坦部２６と、平坦部２６の幅方向両端から下方へ延びる脚部２７とを備えている。角皿２５に金網７を載置すると、金網７は、脚部２７が角皿２５に嵌り、かつ、平坦部２６が角皿２５の底面から浮くように、保持される。金網７にも被調理食品を載置することができる。その場合、被調理食品は、平坦部２６に載置され、加熱された被調理食品から染み出した塩分や油脂などは、平坦部２６の下方の角皿２５に受け止められる。
【００１７】
図２に示すように、ケーシング４の正面には、開口８を開閉する扉２が設けられている。扉２は、その下端において幅方向に延びる回動軸を中心に、起立して開口８を塞ぐ閉位置（図１参照）と、閉位置から前側へ傾倒して開口８を開放し、扉２の内面が底板６と略面一になる開位置（図２参照）との間で回動する。図１に示すように、扉２の正面において、上端には取っ手９が設けられ、下端には操作パネル１０が設けられている。取っ手９を掴むことにより、扉２を、上述した開位置と閉位置との間で回動させることができる。操作パネル１０を操作することにより、ケーシング４内に内蔵された図示しない制御部に対して、調理条件の設定や調理開始の指示を行うことができる。また、操作パネル１０には、調理状況が表示される。
【００１８】
図３に示すように、ケーシング４の底面には、マイクロ波を発生するマグネトロン１３と、マイクロ波をガイドする導波管１４（分岐導波管）とが設けられている。マグネトロン１３は、ケーシング４（フレーム１２）の底面の後端部の幅方向中央において、加熱室１１の近傍に配置されている（図１１も参照）。導波管１４は、マグネトロン１３のアンテナ２９を収容し、マグネトロン１３から前側に延びた後に左右へ分岐する底面視Ｔ字状である。なお、導波管１４の左右２つの分岐部分を、それぞれ、分路１８という。マグネトロン１３から放射されるマイクロ波は、導波管１４によって各分路１８へ案内される。導波管１４の内側壁面には、分岐位置に、導波管１４内へ膨出する半球状の突起２８が形成されている（図１１も参照）。マグネトロン１３のアンテナ２９から導波管１４の分岐位置まで到達したマイクロ波は、突起２８に当たることによって、マグネトロン１３側へほとんど反射することなく、図示矢印で示すように、各分路１８へと円滑に分散される。つまり、導波管１４の分岐位置に半球状の突起２８を設けることにより、分岐位置でのマイクロ波のインピーダンス整合を改善して、マグネトロン１３から出力されたマイクロ波がマグネトロン１３側へ反射するのを抑えることができる。これにより、マグネトロン１３で発生されるマイクロ波を、導波管１４を通じて各分路１８へ案内する際に、導波管１４内のマイクロ波を各分路１８（後述するアンテナ部１５）へ良好に案内することができる。この結果、マグネトロン１３側へ反射するマイクロ波がマグネトロン１３のアンテナ２９付近等で放電を生じさせる等の不具合を防止することができる。
【００１９】
導波管１４の各分路１８には、導波管１４によって案内されてきたマイクロ波を加熱室１１内へ放射するアンテナ部１５（マイクロ波放射手段）が設けられている。これら２つのアンテナ部１５は、対をなし、導波管１４の分岐位置（突起２８、さらには加熱室１１の左右方向中央部）を基準として幅方向に対称となるように、左右に配置されている。アンテナ部１５は、モータ１９と、回転式マイクロ波放射アンテナとしての回転アンテナ２０（図４参照）とを備えている。モータ１９は、分路１８に対して下側から取付けられている。また、図４に示すように、モータ１９の回転軸は、回転アンテナ２０の回転軸２１と結合し、この回転軸２１は、分路１８内を上方へ凹部１６内まで延びている。左右の回転軸２１は、導波管１４の分岐位置（後述する基準面Ｘ）を基準として幅方向に対称となるように配置されている。回転アンテナ２０は、凹部１６内において、回転軸２１に取付けられている。回転アンテナ２０は、図示では細長い矩形薄板状であって、長手方向において中央から外れた位置において回転軸２１に取付けられている。なお、回転アンテナ２０は、上述した形状に限らず、たとえば、略円盤形状であって、回転軸２１に対して水平に非対称に張り出したものとしてもよい。回転アンテナ２０は、モータ１９の駆動力を受けて、回転軸２１を中心に底板６の下面に沿って回転する。
【００２０】
導波管１４によって各分路１８（図３参照）へ案内されたマイクロ波は、左右一対のアンテナ部１５において、回転アンテナ２０の回転軸２１を経て回転アンテナ２０に到達し、回転する回転アンテナ２０から放射される。そして、このマイクロ波は、図２に示す底板６を透過して、加熱室１１内へ供給される。底板６は、セラミック板等の、マイクロ波が透過する材料で形成されている。アンテナ部１５によってマイクロ波が加熱室１１内へ放射されることで、マイクロ波運転が実行され、マイクロ波加熱（誘電加熱）によって、加熱室１１内の被調理食品が調理される。なお、一対のアンテナ部１５は、たとえば加熱室１１の左右側面からマイクロ波を放射するように設置することもできるが、本実施例のように、加熱室１１の底板６の下方に左右に設けることにより、良好にマイクロ波加熱を行うことができる。また、回転アンテナ２０を用いることにより、加熱室１１内へほぼ均等にマイクロ波を放射、攪拌することができる。
【００２１】
回転アンテナ２０は、図４に示すものに代えて、図５に示す回転アンテナ２０Ａ、２０Ｂとしてもよい。
図５に示す回転アンテナ２０Ａ、２０Ｂは、薄い金属板で形成され、互いに等しい平面形状をした大型の平板アンテナである。すなわち、回転アンテナ２０Ａ、２０Ｂは、それぞれ、回転軸２１から所定の角度方向に張り出した幅の広い矩形主張出し部２１１、その両側に張り出した幅の狭い一対の矩形副張出し部２１２、２１３、矩形主張出し部２１１の張り出し方向と反対の角度方向に張り出した半リング状張出し部２１４、および、半リング状張出し部２１４の内側に形成された椀形張出し部２１５を有している。
【００２２】
このような大型の平板アンテナを左右一対に備えた大型Ｗアンテナ構造とすることによって、電子レンジ１に次のようなマイクロ波加熱を行わせることができる。
まず、拡散モードとして、２つの回転アンテナ２０Ａ、２０Ｂを互いに逆方向に一定速度で回転させながらマイクロ波加熱を行う。拡散モードでは、大型のＷアンテナ２０Ａ、２０Ｂからマイクロ波が拡散され、加熱室１１の隅々までマイクロ波が行き渡り、食品の加熱ムラを抑えておいしく調理できる。
【００２３】
また、集中モードとして、２つの回転アンテナ２０Ａ、２０Ｂの回転を図５に示す位置で停止させ、マイクロ波加熱を行う。集中モードは、たとえば、ごはん一膳を素早くあたためたい、おかず一品を素早くあたためたい、という欲求に応えられるスピード加熱モードである。
回転アンテナ２０Ａ、２０Ｂの矩形主張出し部２１１、２１１は、マイクロ波を強く放射する部分であり、図５の位置で回転アンテナ２０Ａ、２０Ｂを停止させ、マイクロ波を放射させると、加熱室１１の中央部へマイクロ波が強く放射される。よって、加熱室１１の中央部に置いた食品を素早く加熱できる。
【００２４】
図６（ａ）、（ｂ）は、上記拡散モードおよび集中モードのマイクロ波放射のイメージ図である。図６（ａ）が拡散モード、図６（ｂ）が集中モードを表わしている。回転アンテナ２０Ａ、２０Ｂを用いることによって、拡散モードと集中モードとを必要に応じて切り換えられる。
＜赤外線センサ＞
図４および図１１に示すように、ケーシング４（フレーム１２）の背面上端部には、赤外線センサ３０が、加熱室１１の左右方向中央部の背面上方から底板６を臨むように、取付けられている。また、赤外線センサ３０に対応して、ケーシング４の背面上端部には、図８に示すように、検出窓３１が形成されている。
【００２５】
図４に示すように、赤外線センサ３０および検出窓３１は、上述した左右２つのアンテナ部１５（詳しくは回転アンテナ２０の回転中心である回転軸２１）に対して等しい距離の位置にある基準面Ｘ上に位置する。詳しくは、基準面Ｘには、左右の回転アンテナ２０の回転中心同士を結んだ線Ｙの中央位置Ｚが含まれ、基準面Ｘは、ケーシング４（フレーム１２）の幅方向中央を通っている。言い換えれば、赤外線センサ３０および検出窓３１は、１対のアンテナ部１５の対称中心に配置されている。
【００２６】
赤外線センサ３０は、検出窓３１を介して、加熱室１１内の被調理食品から生じる赤外線を検知する。詳しくは、赤外線センサ３０は、図１１に示すように、加熱室１１内において右側面視で前後方向に連続して並ぶ複数（本実施例ではたとえば８つ）の視野３２を有している。さらに詳しくは、赤外線センサ３０は、視野３２を有する赤外線検出素子（図示せず）を複数（本実施例では８つ）備えている。各視野３２の視野角θは、等しく設定されている。赤外線センサ３０は、後述するように左右に揺動可能に設けられており、ホームポジション（基本位置）では、８つの視野３２によって底板６の左右方向中央部を、その前端から後端まで検知することができる。つまり、赤外線センサ３０が基本位置にある場合、８つの視野３２は、一対のアンテナ部１５の対称中心（図４に示す基準面Ｘ）にある。そして、赤外線センサ３０には、揺動機構８７が設けられている。揺動機構８７によって、赤外線センサ３０は、前側へ傾斜した方向に延びる揺動軸３３を中心に、上述した基本位置から左右へ向けて揺動可能であり、赤外線センサ３０の揺動に応じて、複数の視野３２は、底板６上を左右へ移動する。これにより、視野３２は、加熱室１１内において、底板６のほぼ全面を検知することができる。そのため、赤外線センサ３０は、底板６上に収容された被調理食品を上方から臨み、加熱される被調理食品の表面から生じる赤外線を視野３２において検知する。そして、その検知結果をもとに、図示しない制御部が被調理食品の現時点での温度を判断する。これにより調理の進捗状況を検知することができる。また、上述したように、赤外線センサ３０は、加熱室１１の底板６のほぼ全面を検知視野としているので、収容された食品の調理状況を正確に検知することができる。そして、制御部（図示せず）は、被調理食品の現時点での温度に応じて、マイクロ波の供給時間を制御する。つまり、マイクロ波加熱時間が自動制御される。
【００２７】
そして、上述したように、また、図７（ａ）で模式的に示すように、赤外線センサ３０は、２つの回転アンテナ２０の回転中心から等しい距離を隔てた位置（基準面Ｘ上）にある。つまり、赤外線センサ３０の揺動軸３３と基準面Ｘとが一致している。さらに換言すれば、赤外線センサ３０は、上述した一対のアンテナ部１５の対称中心にあるので、赤外線センサ３０の視野３２に対して対称な位置に一対のアンテナ部１５が配置されているといえる。この場合、赤外線センサ３０を左右へ等しく揺動させたとき、視野３２は、基準面Ｘを基準として左右対称となるように左右へ等しく移動し、また、その大きさ（図７（ａ）における範囲Ｗ）は、左右の回転アンテナ２０側で等しい。つまり、赤外線センサ３０は、一対のアンテナ部１５に対して均等な視野範囲を有することになる。これにより、赤外線センサ３０は、左右の回転アンテナ２０のいずれかの側へ偏ることなく、正確に赤外線を検知することができる。そのため、上述した制御部（図示せず）では、被調理食品の正確な温度判断が可能となり、一対のアンテナ部１５によるマイクロ波加熱の調理状況を自動制御する場合において安定した仕上がりが達成されるように、調理状況を正確に検知することができる。そして、赤外線センサ３０は、一対のアンテナ部１５の対称中心（上述した基本位置）からその視野３２を左右へ移動するようにして調理状況を検知するため、マイクロ波加熱される食品の調理状況を、食品の位置によってばらつくことなく、公平に、正しく、かつ安定して検知することができる。
【００２８】
これに対し、図７（ｂ）に示すように、赤外線センサ３０が左右の回転アンテナ２０の回転中心から等しい距離を隔てた位置（基準面Ｘ上）にない場合には、赤外線センサ３０を左右へ揺動させても、視野３２は、基準面Ｘを基準として左右対称に移動せず、その大きさ（範囲Ｗ）は、左右の回転アンテナ２０側で異なる。図７（ｂ）は、赤外線センサ３０を基準面Ｘから右側にずらして配置した例を示しており、視野３２の範囲Ｗは、左の回転アンテナ２０側では広くなる一方で、右の回転アンテナ２０側では狭くなり、検知精度が異なる（左の回転アンテナ２０の方が精度が低い。）。そのため、赤外線センサ３０は、左右の回転アンテナ２０側で偏って赤外線を検知することとなり、正確な赤外線の検知が困難である。
【００２９】
また、図１１に示すように、加熱室１１の背面上方から底板６を望むように赤外線センサ３０を配置することにより、赤外線センサ３０は、加熱室１１に収容された食品の調理状況を上方から良好に把握できる。加熱室１１の背面上方は、加熱される食品が吹き上がった際等に、その吹き上がりが到達しにくい位置であり、赤外線センサ３０が食品等によって汚れにくい。
＜ヒータ＞
主として図１１を参照して、加熱室１１の上方および後方には、通電されることによって輻射熱を発生するヒータが配置されている。なお、上方のヒータを上ヒータ２２といい、後方のヒータを後ヒータ２３という。この電子レンジ１では、上述したマイクロ波運転に加えて、上ヒータ２２および後ヒータ２３が発生する熱を用いて被調理食品を加熱するヒータ運転（オーブン加熱）が実行される。
【００３０】
図１１および図１３を参照して、上ヒータ２２は、通電されることによって発熱するニクロム線（図示せず）をマイカ（雲母）で形成された２枚の平板で挟みこむことによって形成されている。上ヒータ２２は、加熱室１１内の被調理食品に対して上方から対向するので、被調理食品の上側表面に焦げ目を付けることができる。
図８および図１１を参照して、後ヒータ２３は、フレーム１２の後側壁に内蔵されている。言い換えれば、フレーム１２の後側壁は、外部に面する外壁（図１１では表れていない。）と加熱室１１に面する内壁４１（壁面）とを含む２重構造であり、後ヒータ２３は、上述した外壁と内壁４１との間の空間（加熱循環室７４という。）に配置されている。加熱循環室７４は、加熱室１１に対して後側から隣接しており、内壁４１によって、加熱室１１と加熱循環室７４とが区画されている。加熱循環室７４には、図８に示すように、後ヒータ２３に加えて、ファン３５が備えられている。ファン３５は、正面視において、加熱循環室７４の略中央位置に配置されている。ファン３５は、前後方向に延びる回転軸を中心に、正面視反時計回りの方向（図示矢印参照）へ回転する。ファン３５は、その周辺に沿って１６枚の羽根を有し、中央前方から取り込んだ空気を１６枚の羽根できめ細かく周囲へ送り出す。ファン３５の回転数は、通常回転で、たとえば、約２１００ｒｐｍである。
【００３１】
後ヒータ２３は、図９に示すように、発熱体としてのたとえばニクロム線３６と、ニクロム線３６の外周を覆う金属製の外皮３７と、ニクロム線３６と外皮３７との間に充填された絶縁粉末３４とを備える、いわゆるシーズヒータである。そして、後ヒータ２３は、さらに、外皮３７の外周面から張り出した放熱フィン３８を備えている。放熱フィン３８は、熱伝導率の高い素材で形成され、外皮３７の周面に、その長さ方向（軸方向）に亘って螺旋状に連続するように突設されている。この放熱フィン３８は、外皮３７に対して、たとえば、かしめ止められている。このように、放熱フィン３８を、外皮３７の軸方向に連続した螺旋状に、外皮３７の外周面から張り出す形状とすることにより、放熱フィン３８を簡単に作成できる。また、放熱フィン３８が付いた後ヒータ２３を容易に作成することができる。そして、ニクロム線３６に通電すると、ニクロム線３６が発熱し、その熱が外皮３７を介して放熱フィン３８に伝えられる。放熱フィン３８に伝えられた熱によって、放熱フィン３８の周囲の空気が加熱される。後ヒータ２３は、放熱フィン３８を備えていることにより、通常のシーズヒータ(放熱フィンのないもの)と比較して、約８倍の表面積で熱を効率よく放出する。
【００３２】
図８、図１０および図１１を参照して、後ヒータ２３は、正面視において、ファン３５を取り囲むように延びている。詳しくは、後ヒータ２３は、内壁４１の左側下端部付近を開始位置３９として上方へ延び、相対的に大きな曲率で屈曲してから右側へ延び、その後、相対的に小さな曲率で屈曲して下方へ延び、さらに相対的に小さな曲率で屈曲して左側へ延び、上述した開始位置３９の右側において逆Ｓ字を描くように屈曲してから下方の終了位置４０へと延びている。このように、後ヒータ２３は、開始位置３９および終了位置４０の近傍において密集（配置密度が他の部分より高い）しており、この密集部分では、他の部分に比べて発熱量が大きい。ファン３５は、屈曲配置された後ヒータ２３の内側に配置されている。
【００３３】
また、図８に示すように、内壁４１には、多数の貫通穴４２（吹き出し孔）が形成されている。詳しくは、内壁４１における第１位置４３、第２位置４４、第３位置４５、第４位置４６、第５位置４７および第６位置４８のそれぞれに貫通穴４２が複数形成されている。第１位置４３は、ファン３５の中心に対向する位置である。第２位置４４は、後ヒータ２３における上述した密集部分に対向する位置であり、第１位置４３の左側にある。第３位置４５、第４位置４６、第５位置４７は、後ヒータ２３におけるファン３５より上側部分、右側部分および下側部分にそれぞれ対向する位置である。第６位置４８は、内壁４１の左側上端部近傍である。
【００３４】
上述したようにファン３５が正面視反時計回りの方向（図示矢印参照）へ回転すると、加熱室１１内の空気が、第１位置４３の貫通穴４２を介して、加熱循環室７４内に取り込まれる。取り込まれる空気は、ファン３５の中心から放射状に周囲の後ヒータ２３へと放出され、ファン３５の周りを正面視反時計回りの方向へ流れながら、加熱循環室７４内において、後ヒータ２３によって加熱される。詳しくは、ファン３５によって後ヒータ２３へ放出された空気が外皮３７および放熱フィン３８を通過する。放熱フィン３８を有することにより、外皮３７だけの場合と比べて、通過する空気との接触面積が増大し、空気が効率良く加熱される。加熱された空気（加熱空気）は、ファン３５によって、第２位置４４、第３位置４５、第４位置４６、第５位置４７および第６位置４８の各貫通穴４２を介して、加熱室１１内へ送り出され、加熱室１１内の被調理食品を加熱する。このように、加熱室１１内の空気が、ファン３５および後ヒータ２３によって、加熱室１１と加熱循環室７４との間で循環されながら加熱され、この空気によって加熱室１１内の被調理食品が加熱される。たとえば、複数の角皿２５（図１８参照）を上下方向に並べて配置した場合において、上ヒータ２２（図４参照）のみを駆動しても、最上位置にある角皿２５の被調理食品しか十分に加熱できない。最上位置にある角皿２５より下方の角皿２５まで上ヒータ２２の熱が届き難いからである。これに対し、本実施例のように空気を加熱および循環させることによって、複数の角皿２５のすべての被調理食品に熱を行き届かせ、これらの被調理食品を十分に加熱することができる。このように空気を加熱循環させるタイプの後ヒータ２３は、コンベクションヒータと呼ばれる。そして、上述したように、加熱室１１の空気を加熱循環室７４へ取り込み、取り込んだ空気を加熱して加熱室１１へ送り出す際に、後ヒータ２３が放熱フィン３８（図９参照）を備えたシーズヒータであるから、後ヒータ２３の加熱効率が極めて良好で、高温の空気を加熱室１１へ送り出すことができる。よって、高出力で一気に食品を調理でき、食品本来のおいしさを引き出すことができる。また、調理時間も短縮できる。また、放熱フィン３８を設けることにより、後ヒータ２３表面（外皮３７）の温度が過加熱状態になることを防止でき、後ヒータ２３自体の寿命を長くすることが可能になる。
【００３５】
ここで、後ヒータ２３において、上述した密集部分（開始位置３９および終了位置４０の近傍）で加熱された空気は、それ以外の部分で加熱された空気よりも温度が高く、上述したように正面視反時計回りの方向へ流れて第５位置４７の貫通穴４２（特定吹き出し孔）を介して、加熱室１１の下部へ吹き出される。換言すれば、加熱循環室７４内で第５位置４７の貫通穴４２へ向かう空気の流路８５に、後ヒータ２３の密集部分が配置されている。これにより、後ヒータ２３によって加熱された空気のうち、第５位置４７の貫通穴４２から加熱室１１の下部（底板６）へ送り出される熱風を特に高温にすることができる。そのため、底板６に載置された被調理食品を確実に加熱することができ、また、角皿２５（図１８参照）に載置されることで底板６から浮いた位置に配置された被調理食品を下側から加熱（オーブン加熱）する際に、下火効果を高めることができる。
【００３６】
また、図１１に示すように、後ヒータ２３は、放熱フィン３８が内壁４１に接した状態で設けられていることが望ましい。これにより、後ヒータ２３の熱は、通過する空気を加熱するのみでなく、放熱フィン３８を通して加熱室１１の内壁４１も加熱するから、内壁４１自体が加熱されることにより、加熱室１１内の温度をより高温にすることができ、短時間で良好な加熱調理を実現することができる。
【００３７】
上述した加熱循環室７４の放熱フィン３８付の後ヒータ２３、多枚数の羽根を有する大型ファン３５を具備する構成は、高出力のオーブン調理を実現でき、ジェットヒートエンジンと称することができる。
なお、内壁４１を除く加熱室１１および加熱循環室７４の壁面は、たとえば、空気層、断熱板、断熱材、断熱板を挟んだ多層断熱鋼板で形成するのが好ましく、これによって、加熱室１１内の熱を閉じ込めてよりスムーズな高火力調理を実現できる。
【００３８】
また、通常、被調理食品の調理工程に先立って加熱室１１内を予め加熱する工程（予熱工程）が実施される。予熱工程では、図８に示すファン３５の回転数は、上述した通常回転数（約２１００ｒｐｍ）よりも低くされる。
この電子レンジ１では、図１２（ａ）に示すように、制御部１７（ファン制御手段）が、操作パネル１０、ファン３５および後ヒータ２３のそれぞれに対して電気的に接続されている。操作パネル１０の操作による予熱工程の実施指令に応じて、制御部１７は、ファン３５および後ヒータ２３をそれぞれ駆動させる。
【００３９】
予熱工程では、図１２（ｂ）に示すように、制御部１７は、操作パネル１０の操作に応じて予熱行程を実施するか否かを判断する（ステップＳ１）。予熱行程を実施する場合には（ステップＳ１のＹＥＳ）、制御部１７は、後ヒータ２３に通電し、ファン３５を、たとえば約９００ｒｐｍで低速回転させる（ステップＳ２）。このように、予熱工程において、ファン３５の回転数を相対的に低速にすることにより、加熱空気の循環速度を比較的低くできる。そのため、より高温の加熱空気が加熱室１１内へゆるやかに供給されて加熱室１１内に留まり、加熱室１１を短時間で温めることができる。よって、予熱時間の短縮を図ることができる。一方、予熱工程を実施しない場合、たとえば、予熱工程後の調理工程では（ステップＳ１のＮＯ）、後ヒータ２３に通電し、上述した通常回転数（約２１００ｒｐｍ）でファン３５を回転させる（ステップＳ３）。
＜過熱スチーム生成装置＞
図１３に示すように、加熱室１１の左外側には、調理用の過熱スチームを生成する過熱スチーム生成装置５の過熱スチーム生成ユニット５１が配置されている。この電子レンジ１では、上述したマイクロ波運転およびヒータ運転に加えて、過熱スチーム生成装置５が生成する過熱スチームで被調理食品を加熱するスチーム運転が実行される。加熱室１１内に過熱スチームを供給して被調理食品を過熱スチームで加熱することにより、被調理食品の脱塩や脱脂を図ることができる。なお、通常のスチームの温度が約１００℃であるのに対し、過熱スチームの温度は約１３０℃である。スチーム運転おいて、上ヒータ２２および／または後ヒータ２３を連動させることにより、これらのヒータが生じる熱によって加熱室１１内の過熱スチームを加熱することで、加熱室１１内の過熱スチームの温度を３５０℃〜４００℃に上昇させることもできる。
【００４０】
過熱スチーム生成装置５は、タンク４９（図１参照）と、パイプ５０と、図示しないポンプと、１つの過熱スチーム生成ユニット５１とを含んでいる。
タンク４９は、水を収容し、図１に示すように、ケーシング４の正面下部に対して、いわゆるカセット方式として、着脱可能に装着される。
図１３に示すように、過熱スチーム生成ユニット５１は、フレーム１２の左側壁外面に取り付けられている。また、過熱スチーム生成ユニット５１は、上下の噴射ノズルを備えていて、図１４に示すように、左側壁の内面８６（区画面）に、それら上噴射ノズル５２および下噴射ノズル５３が上下２段に表れている。上噴射ノズル５２および下噴射ノズル５３は、それぞれ、前後方向に並んで複数（本実施例では３つ）設けられている。上噴射ノズル５２は、最上位置のレール２４Ｕの上方において、内面８６から加熱室１１内を臨んでおり、下噴射ノズル５３は、最上位置のレール２４Ｕと最上位置から２番目のレール２４Ｍとの間において、内面８６から加熱室１１内を臨んでいる。上噴射ノズル５２および下噴射ノズル５３については、以降で詳説する。
【００４１】
図１３に戻って、過熱スチーム生成ユニット５１と、図１３で図示されていないタンク４９とは、パイプ５０で連結されている。パイプ５０の途中（詳しくは、タンク４９の近傍）には、ポンプ（図示せず）が備えられており、このポンプが駆動されると、タンク４９内の水が、パイプ５０を介して、過熱スチーム生成ユニット５１へ供給される。この水は、過熱スチーム生成ユニット５１によって加熱されて過熱スチームとなり、図１４に示す上噴射ノズル５２および下噴射ノズル５３から加熱室１１内に噴射される。ここで、図１８に示すように、最上位置から２番目の左右のレール２４Ｍで角皿２５を保持し、さらに、角皿２５に金網７を載置する場合において、金網７の平坦部２６が上下方向において上噴射ノズル５２と下噴射ノズル５３との間に配置されるように、脚部２７の長さが設定されている。これにより、平坦部２６に載置された被調理食品は、上噴射ノズル５２および下噴射ノズル５３のそれぞれから噴射される過熱スチーム（図示矢印参照）によって上下方向から挟まれることになり、過熱スチームに効率的に晒され、加熱調理が行われ、その際に、上述した脱塩および脱脂効果を促進することができる。このように、この過熱スチーム生成ユニット５１では、上噴射ノズル５２および下噴射ノズル５３を２段に備えるので、加熱室１１内へ立体的に過熱スチームを供給することができる。これにより、加熱室１１内に過熱スチームを比較的速やかに充満させることができ、かつ、食品に対して多面的に過熱スチームを付与でき、被調理食品を良好に加熱できるとともに、調理時間の短縮を図ることができる。なお、噴射ノズルは２段に限らず、３段以上としてもよい。
【００４２】
次に、過熱スチーム生成ユニット５１について詳説する。
図１５に示すように、過熱スチーム生成ユニット５１は、右側面視において略矩形の薄板形状をしている。図１６および図１７に示すように、過熱スチーム生成ユニット５１は、本体５４と左蓋５５と右蓋５６とに３分割される。本体５４、左蓋５５および右蓋５６は、熱伝導性の良好な、たとえばアルミニウムでダイカスト成形された金属体である。なお、金属体に代えて、セラミック体でもよい。過熱スチーム生成ユニット５１は、左蓋５５（第１の金属体）、本体５４（第２の金属体）および右蓋５６（第３の金属体）が、左からこの順で３層に重ね合わせられて構成されており、本体５４が中央に配置される。
【００４３】
図１６に示すように、略矩形の薄板形状をした本体５４の右側面の前後方向中央には、右側へ突出する凸条（本体右凸条５７という。）が設けられている。本体右凸条５７は、右側面視において矩形状をなし、その内側には、窪み（本体右窪み５８という。）が形成されている。本体右窪み５８の上端には、本体５４を幅方向に貫通する小孔（上小孔５９という。）が前後方向に並んで３つ形成されている。前側２つの上小孔５９は、互いに隣接している。上小孔５９の下側には、本体５４を幅方向に貫通する小孔（下小孔６０という。）が前後方向に並んで３つ形成されている。３つの下小孔６０は、等間隔で配置されている。本体右窪み５８には、各下小孔６０を取り囲むように右側へ延びる管が設けられている。この管が、上述した上噴射ノズル５２である。
【００４４】
図１７に示すように、本体５４の左側面には、左側へ突出する凸条（本体第１左凸条６１という。）が設けられている。本体第１左凸条６１は、左側面視において上向きに突出する凸形状をなし、その内側には、窪み（本体左窪み７８という。）が形成されている。本体左窪み７８は、下方に位置する相対的に容量の大きな水貯留部７６と、水貯留部７６の上方につながった、前後方向（左側面視において左右方向）に幅が狭いスチーム上昇路７７とを含んでいる。さらに、本体５４の左側面には、本体第１左凸条６１の外側において、本体第１左凸条６１に沿い、左側へ突出する凸条（本体第２左凸条６２という。）が設けられている。本体第１左凸条６１と本体第２左凸条６２との間には、本体第１左凸条６１および本体第２左凸条６２に沿う溝（本体左溝６３という。）が形成されている。本体左窪み７８の上端には、上述した上小孔５９および下小孔６０が位置している。本体左窪み７８には、左側に突出する複数のリブが設けられている。これらのリブには、傾斜リブ６４と上下方向リブ６５とが含まれる。傾斜リブ６４は、各下小孔６０の下方において、やや下向きに傾斜して延びている。上下方向リブ６５は、傾斜リブ６４の下方において、略上下方向に沿って延びている。
【００４５】
本体５４には、ヒータ６６（共用ヒータ）が取付けられている。ヒータ６６は、上下方向に間隔を隔てて前後に延びる２本のシーズヒータであり、端部以外が本体５４に埋設されるように、本体５４に取付けられている。なお、説明の便宜上、上側を上ヒータ６６Ｕといい、下側を下ヒータ６６Ｌという。上ヒータ６６Ｕは、下小孔６０のやや下側（傾斜リブ６４および上下方向リブ６５の近傍）に位置し、下ヒータ６６Ｌは、本体左窪み７８では下端部に位置し、本体右窪み５８では、その上下方向中央からやや下側（図１６参照）に位置している。各ヒータ６６は、通電されることで発熱し、本体左窪み７８および本体右窪み５８（図１６参照）では、各ヒータ６６の周囲が加熱される。
【００４６】
左蓋５５は、左側面視において上向きに突出する凸形状の薄板形状に形成されている。左蓋５５の前後方向における略中央には、左蓋５５を幅方向に貫通する小孔（左蓋小孔６７という。）が形成されている。左蓋５５の左側面には、左蓋小孔６７を取り囲むように左側へ延びる管（ジョイントパイプ６８という。）が設けられている。
図１６に示すように、左蓋５５の右側面（内面）には、左蓋５５の周縁の全てに沿って右側へ突出する凸条（左蓋凸条６９という。）が設けられている。左蓋凸条６９の内側には、窪み（左蓋窪み７９という。）が形成されている。左蓋小孔６７は、左蓋凸条６９内に配置されている。
【００４７】
右蓋５６は、右側面視において略矩形の薄板状に形成されている。右蓋５６の上端部には、右蓋５６を幅方向に貫通する穴（右壁穴７０という。）が、前後方向に等しい間隔を隔てて３つ形成されている。また、右蓋５６の下端部には、右蓋５６を幅方向に貫通する小孔（右壁小孔８３という。）が、前後方向に等しい間隔を隔てて３つ形成されている。さらに、右蓋５６には、各右壁小孔８３を取り囲むように右側へ延びる管が設けられている。この管が、上述した下噴射ノズル５３である。
【００４８】
図１７に示すように、右蓋５６の左側面（内面）には、右蓋５６の周縁の全てに沿って左側へ突出する凸条（右蓋第１凸条７１という。）が設けられている。さらに、右蓋５６の左側面には、右蓋第１凸条７１の内側において、右蓋第１凸条７１に沿い、左側へ突出する凸条（右蓋第２凸条７２という。）が設けられている。右蓋第１凸条７１と右蓋第２凸条７２との間には、右蓋第１凸条７１および右蓋第２凸条７２に沿う溝（右蓋溝７３という。）が形成されている。右蓋第２凸条７２の内側には、窪み（右蓋窪み８０という。）が形成されている。３つの右壁穴７０において、前端の右壁穴７０は、右蓋溝７３の前側上端部に位置し、後端の右壁穴７０は、右蓋溝７３の後側上端部に位置し、中央の右壁穴７０は、右蓋窪み８０内に位置している。これに対し、全ての右壁小孔８３は、右蓋窪み８０内に位置している。
【００４９】
本体５４に対して、左蓋５５および右蓋５６が取付けられる。
左蓋５５は、本体５４に対して、左側から取付けられる。このとき、左蓋凸条６９（図１６参照）が本体左溝６３に嵌めこまれる。ここで、予め本体左溝６３に流し込まれた耐熱性の接着剤、たとえばシリコンの接着剤によって、左蓋凸条６９と本体左溝６３との間は塞がれる。そして、本体５４および左蓋５５のそれぞれの周縁に設けられた各ねじ部８１をねじ（図示せず）で連結することによって、本体５４に対する左蓋５５の取付けが完了する。なお、各ねじ部８１のうち、左蓋５５および本体５４の上端中央寄りの２つのねじ部８１は、右蓋５６の上端にある２つのねじ部８１と共締めされる。この状態において、本体左窪み７８と左蓋窪み７９（図１６参照）とは、互いに連通する。ここで、本体５４と左蓋５５との間で互いに連通状態にある本体左窪み７８および左蓋窪み７９において、上下方向リブ６５より下側の部分に、前述した水貯留部７６が形成され、上下方向リブ６５以上の部分に、幅（前後の幅）が狭いスチーム上昇路７７（供給路）が形成されている。スチーム上昇路７７は、水貯留部７６から上方に延びている。なお、説明の便宜上、水貯留部７６およびスチーム上昇路７７を、本体左窪み７８に示している。また、左蓋小孔６７は、水貯留部７６に連通し、上小孔５９および下小孔６０は、スチーム上昇路７７の上部に連通している。なお、下小孔６０に対応する上噴射ノズル５２（図１６参照）は、スチーム上昇路７７の上部に形成されているといえる。
【００５０】
一方、右蓋５６は、本体５４に対して、右側から取付けられる。このとき、本体右凸条５７（図１６参照）が右蓋溝７３に嵌めこまれる。ここで、予め右蓋溝７３に流し込まれたたとえばシリコンの接着剤によって、本体右凸条５７と右蓋溝７３との間は塞がれる。そして、本体５４および右蓋５６のそれぞれの周縁に設けられた各ねじ部８１をねじ（図示せず）で連結することによって、本体５４に対する右蓋５６の取付けが完了する。この状態において、本体右窪み５８（図１６参照）と右蓋窪み８０とは、互いに連通する。以下では、本体５４と右蓋５６との間で連通状態にある本体右窪み５８および右蓋窪み８０をまとめてスチーム誘導路８２（供給路）という。なお、説明の便宜上、スチーム誘導路８２を、本体右窪み５８に示している（図１６参照）。また、各上噴射ノズル５２は、対応する右壁穴７０に挿通され、右側に露出される（図１５参照）。そして、図１６に示すように、上小孔５９は、スチーム誘導路８２の上部に連通し、右壁小孔８３は、スチーム誘導路８２の下部に連通している。なお、右壁小孔８３に対応する下噴射ノズル５３は、スチーム誘導路８２の下部に形成されているといえる。また、スチーム誘導路８２は、上小孔５９を介して、スチーム上昇路７７（図１７参照）の上部に連通している。そして、各ヒータ６６がスチーム誘導路８２内まで膨出していることから、スチーム誘導路８２は、各ヒータ６６に近接して配置されているといえる。
【００５１】
以上により、図１５に示すように、過熱スチーム生成ユニット５１が完成する。なお、図１７に示すジョイントパイプ６８には、上述したパイプ５０（図１３参照）が取付けられる。
この状態において、上述したポンプ（図示せず）を駆動して、タンク４９（図１参照）の水を、パイプ５０（図１３参照）を介して過熱スチーム生成ユニット５１に供給する。
【００５２】
過熱スチーム生成ユニット５１に供給された水は、左蓋小孔６７を通過してから、水滴となって落下し、水貯留部７６に貯留される。この水は、水貯留部７６において、下ヒータ６６Ｌによって加熱されて（詳しくは、下ヒータ６６Ｌに加熱された水貯留部７６によって加熱されて）、スチームとなり、図示矢印に示すように、上下方向リブ６５同士の間、傾斜リブ６４同士の間を順に通過しながらスチーム上昇路７７を上昇する。このとき、このスチームは、上下方向リブ６５および傾斜リブ６４から放熱される上ヒータ６６Ｕの熱によってさらに加熱されて過熱スチームとなる。スチーム上昇路７７の上部まで上昇した過熱スチームにおいて、一部は、下小孔６０から上噴射ノズル５２（図１６参照）を流れ、上述したように、加熱室１１内へ噴射される（図１８参照）。
【００５３】
一方で、スチーム上昇路７７の上部まで上昇した過熱スチームにおいて、下小孔６０へ流れる過熱スチーム以外の過熱スチームは、上小孔５９から、図１６に示すスチーム誘導路８２に流入し、スチーム誘導路８２によって下方（図示矢印参照）へ導かれる。ここで、スチーム誘導路８２は、上述したように、ヒータ６６に近接して配置されているので、スチーム誘導路８２を下降する過熱スチームは、上ヒータ６６Ｕおよび下ヒータ６６Ｌを順に通過し、これらのヒータ６６によって再加熱される。これにより、この過熱スチームの温度低下を抑制することができる。また、これらのヒータ６６に到達する以前に過熱スチームが冷えてスチームや水滴になったとしても、これらのヒータ６６によって加熱されるので、再び過熱スチームが生成される。そして、再加熱された過熱スチームは、右壁小孔８３から下噴射ノズル５３を流れ、上述したように、加熱室１１内へ噴射される（図１８参照）。このように、この過熱スチーム生成ユニット５１では、上噴射ノズル５２および下噴射ノズル５３から噴出されるまで過熱スチームを維持することができる。
【００５４】
また、上述したように、ヒータ６６が埋設された本体５４は、熱伝導性の良好な材料で形成されている。そのため、左蓋５５と本体５４との間に形成された水貯留部７６およびスチーム上昇路７７（図１７参照）、ならびに、本体５４と右蓋５６との間に形成されるスチーム誘導路８２に対して、良好にヒータ６６の熱を供給することができる。
また、この電子レンジ１では、１つの過熱スチーム生成ユニット５１で上噴射ノズル５２および下噴射ノズル５３の両方に過熱スチームを供給することにより、部品点数の削減を図ることができる。さらに、この過熱スチーム生成ユニット５１では、ヒータ６６が、上噴射ノズル５２へ過熱スチームを供給するスチーム上昇路７７（図１７参照）と、下噴射ノズル５３へ過熱スチームを供給するスチーム誘導路８２との両方を加熱するので、構成の簡素化を図ることができる。なお、ヒータ６６は、上ヒータ６６Ｕおよび下ヒータ６６Ｌの２本のヒータで構成されているが、これら２本のヒータをコ字状に連結することによって１本化することも可能である。その場合、２本のヒータの連結部分がスチーム誘導路８２内に配置されればよい。
【００５５】
また、変形例として、図１９に示す過熱スチーム生成ユニット５１を用いてもよい。なお、図１９において、上述した部品と共通する部品には共通の符号を付し、その説明を省略する。
変形例に係る過熱スチーム生成ユニット５１では、右蓋５６（図１７参照）が省略され、その代わりに、略Ｓ字状に屈曲するパイプ（ガイドパイプ８４という。）が設けられている。ガイドパイプ８４において、直線部分は、アルミニウムや銅やステンレスなどの金属で形成され、屈曲部分は、シリコンなどで形成されている。もちろん、ガイドパイプ８４は、全部が金属で形成されていてもよいし、全部がシリコンで形成されていてもよい。各ガイドパイプ８４において、一端が、対応する上小孔５９（図１６参照）に接続され、他端には、下噴射ノズル５３が接続されている。そして、各ガイドパイプ８４は、上ヒータ６６Ｕおよび下ヒータ６６Ｌに対して、右側から接触するように、本体５４に取付けられている。そのため、上述したようにスチーム上昇路７７（図１７参照）から上小孔５９（図１６参照）に到達した過熱スチームは、ガイドパイプ８４を流れ、上記した実施例と同様に、上ヒータ６６Ｕおよび下ヒータ６６Ｌによって再加熱される。
【００５６】
この発明は、以上説明した実施形態に限定されるものではなく、請求項記載の範囲内において種々の変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】この発明の一実施形態に係る食品調理装置としての電子レンジ１の正面右側斜視図である。
【図２】図１において、扉２を開いた状態を示す。
【図３】電子レンジ１の底面図である。
【図４】扉２および化粧板３（外カバー板）を取り除いた状態にあるケーシング４の正面上側斜視図である。
【図５】加熱室１１の底である凹部１６の平面図であって、回転アンテナ２０Ａ、２０Ｂの配置および形状を示す図である。
【図６】図６（ａ）は、拡散モード、図６（ｂ）は、集中モードにおけるマイクロ波放射のイメージ図である。
【図７】調理状況検知手段としての赤外線センサ３０の揺動に伴って視野３２が加熱室１１内で移動する様子を説明するための模式図であって、図７（ａ）は、本実施例を適用した場合を示し、図７（ｂ）は、比較例を適用した場合を示す。
【図８】扉２を取り除いた状態にあるケーシング４の正面図である。
【図９】後ヒータ２３を一部抜き出して示した図である。
【図１０】加熱循環室７４内を示す試作品の写真である。
【図１１】扉２および化粧板３（外カバー板）を取り除いた状態にあるケーシング４の右側断面図である。
【図１２】図１２（ａ）は、電子レンジ１の予熱工程に係る電気的構成を示すブロック図であり、図１２（ｂ）は、予熱工程を説明するためのフローチャートである。
【図１３】扉２および化粧板３（外カバー板）を取り除いた状態にあるケーシング４の正面左側斜視図である。
【図１４】扉２および化粧板３（外カバー板）を取り除いた状態にあるケーシング４の正面右側斜視図である。
【図１５】過熱スチーム生成ユニット５１の正面右側斜視図である。
【図１６】図１５に示す過熱スチーム生成ユニット５１の分解斜視図である。
【図１７】正面左側から見た過熱スチーム生成ユニット５１の分解斜視図である。
【図１８】図８に角皿２５および金網７を追加した図である。
【図１９】変形例に係る過熱スチーム生成ユニット５１の右側面図である。
【符号の説明】
【００５８】
１      電子レンジ
２      扉
１１    加熱室
５１    過熱スチーム生成ユニット
５２    上噴射ノズル
５３    下噴射ノズル
５４    本体
５５    左蓋
５６    右蓋
６６    ヒータ
７６    水貯留部
７７    スチーム上昇路
８２    スチーム誘導路
８６    内面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図６】
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【図１０】
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【図１９】
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