(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を回転させつつ電子ビームを照射して前記基板上に同心円状に複数の円を描画する電子ビーム描画装置であって、
前記電子ビームを偏向して前記電子ビームの照射位置を変化させるビーム偏向部と、
前記基板の回転に同期した同期信号を生成する同期信号生成部と、
１の円の描画から他の円の描画への移行に際し、前記同期信号に基づいて前記ビーム偏向部を制御して前記電子ビームを前記基板の回転半径方向に偏向させるとともに、前記基板の回転接線方向で前記基板の回転方向に偏向させるコントローラと、
前記電子ビームを前記回転半径方向に偏向させている期間に亘って前記基板への前記電子ビームの照射を遮断するビーム遮断部と、を有することを特徴とするビーム描画装置。
【請求項２】
前記コントローラは、前記１の円の描画から前記他の円の描画への移行の直前若しくは直後に前記電子ビームを前記基板の回転接線方向で前記基板の移動と逆方向に偏向させることを特徴とする請求項１に記載のビーム描画装置。
【請求項３】
前記コントローラは、前記円の描画接続位置を含む円周部を重ね書きするように前記電子ビームを前記回転接線方向に偏向させることを特徴とする請求項１に記載のビーム描画装置。
【請求項４】
前記ビーム遮断部は、前記電子ビームを前記回転半径方向に偏向させている期間の前又は当該期間の後のいずれかにおいて前記基板への前記電子ビームの照射強度を所定の変化率で変化させることを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム描画装置。
【請求項５】
基板を回転させつつ電子ビームを照射して前記基板上に同心円状に複数の円を描画する電子ビーム描画方法であって、
１の円の描画から他の円の描画への移行に際し、前記電子ビームを前記基板の回転半径方向に偏向させるとともに、前記基板の回転接線方向で前記基板の回転方向に偏向させる移行制御ステップと、
前記電子ビームを前記回転半径方向に偏向させている期間に亘って前記基板への前記電子ビームの照射を遮断するビーム遮断ステップと、を有することを特徴とする電子ビーム描画方法。
【請求項６】
前記移行制御ステップは、前記１の円の描画から前記他の円の描画への移行
の直前若しくは直後に前記電子ビームを前記基板の回転接線方向で前記基板の移動と逆方向に偏向させるステップを含むことを特徴とする請求項５に記載の電子ビーム描画方法。
【請求項７】
前記移行制御ステップは、前記円の描画接続位置を含む円周部を重ね書きするように前記電子ビームを前記回転接線方向に偏向させることを特徴とする請求項５に記載の電子ビーム描画方法。
【請求項８】
前記電子ビームを前記回転半径方向に偏向させている期間の前又は当該期間の後のいずれかにおいて前記基板ヘの前記電子ビームの照射強度を所定の変化率で変化させるステップを有することを特徴とする請求項５に記載の電子ビーム描画方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】  本発明は、原盤を製造するためのビーム描画装置、特に、同心円状に円を描画するのに用いられる電子ビーム描画装置に関する。
【背景技術】  磁気ディスク又はハードディスク（ＨＤ：Ｈａｒｄ  Ｄｉｓｋ）は、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）の記憶装置、モバイル機器，車載機器等に用いられている。近年、さらにその用途も著しく拡大しているとともに、面記録密度も急速に向上している。
かかる高記録密度ハードディスクの製造のため、電子ビームマスタリング技術が広範に研究されている。電子ビーム描画露光装置においては、電子銃から射出され電子レンズによって集束された電子ビームスポットがレジストを塗布した基板上に照射される。かかる電子ビームスポットは、ブランキング制御系およびビーム偏向制御系によってその照射位置が制御され、所望のビームパターンが描画される。例えば、電子ビーム露光装置としては、光ディスクなどの記録媒体の原盤を精度良く作成するための装置が開発されている（例えば、特開２００２−３６７１７８号公報参照）。
従って、高記録密度の電子ビーム描画を行うには、高精度に電子ビームスポットの照射位置制御をなす必要がある。近年のハードディスクでは、光ディスク等に採用されているスパイラルパターンではなく、同心円状のパターンが用いられている。同心円状に電子ビーム描画を行う場合には、円（トラック）の始端と終端で精度良く繋がった円を描画する必要があり、高精度に同心円状に描画可能な装置の実現が望まれている。
従来のｘ−θ系描画装置等において同心円状に電子ビーム描画を行う場合、基板の回転に同期したランプ（傾斜）波で電子ビームをラジアル方向に偏向していた。従って、円の繋ぎ合わせ部分の形状が乱れ、さらにランド部に露光される部分ができる等の不具合が生じていた。また、回転ステージに回転むらが存在した場合には、ラインが繋がらない場合も起こる。また、ブランキングを使用するとランドの露光部は無くなるが、ラインが繋がらないという不具合が生じる。従って、高精度に円を描画することが可能なビーム描画装置の実現が望まれていた。
【発明の開示】
本発明が解決しようとする課題には、同心円状に電子ビーム描画を行う場合に、円の始端と終端で高精度に接続された円を描画することができる電子ビーム描画装置を提供することが一例として挙げられる。
本発明による電子ビーム描画装置は、基板を回転させつつ電子ビームを照射して基板上に同心円状に複数の円を描画する電子ビーム描画装置であって、電子ビームを偏向して電子ビームの照射位置を変化させるビーム偏向部と、基板の回転に同期した同期信号を生成する同期信号生成部と、１の円の描画から他の円の描画への移行に際し、上記同期信号に基づいてビーム偏向部を制御して電子ビームを基板の回転半径方向及び基板の回転接線方向で基板の回転とは反対方向に偏向させるコントローラと、電子ビームを回転半径方向に偏向させている期間に亘って基板への電子ビームの照射を遮断するビーム遮断部と、を有することを特徴としている。
また、本発明による電子ビーム描画方法は、基板を回転させつつ電子ビームを照射して基板上に同心円状に複数の円を描画する電子ビーム描画方法であって、１の円の描画の間に、電子ビームを基板へ照射することを遮断する遮断行程と、遮断中に、電子ビームを基板の少なくとも回転半径方向に偏向させ、他の円の描画を開始する描画開始行程と、を有することを特徴としている。
【図面の簡単な説明】  図１は、本発明の実施例１である電子ビーム描画装置の構成を模式的に示すブロック図である。
図２は、ディスクのスパイラルパターン（破線）、及び同心円パターン（実線）を示す平面図である。
図３は、基板上に複数の同心円パターンを描画する場合を説明する模式的な平面図である。
図４は、実施例１における同心円１５Ａ及び１５Ｂの描画を行う場合を説明する模式的な平面図である。
図５は、図４に対応する図であり、ブランキング制御信号及びＸ方向及びＹ方向の偏向制御信号を示す図である。
図６は、図４及び図５に示す描画の手順を示すフローチャートである。
図７は、ブランキングにより電子ビームＥＢを遮断（ビーム：ＯＦＦ）する場合を模式的に示す図である。
図８は、実施例２において、円１５Ａから円１５Ｂへの描画の移行の際における偏向制御を説明するための模式的な平面図である。
図９は、図８に対応する図であり、ブランキング制御信号及びＸ方向及びＹ方向の偏向制御信号を示す図である。
図１０は、実施例３において、円１５Ａから円１５Ｂへの描画の移行の際における偏向制御を説明するための模式的な平面図である。
図１１は、図１０に対応する図であり、ブランキング制御信号及びＸ方向及びＹ方向の偏向制御信号を示す図である。
図１２は、実施例４において、円１５Ａから円１５Ｂへの描画の移行の際における偏向制御を説明するための模式的な平面図である。
図１３は、図１２に対応する図であり、ブランキング制御信号及びＸ方向及びＹ方向の偏向制御信号を示す図である。
【発明を実施するための最良の形態】  以下、本発明の実施例について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、以下に示す実施例において、等価な構成要素には同一の参照符を付している。
【実施例１】  図１は、本発明の実施例１である電子ビーム描画装置１０の構成を模式的に示すブロック図である。電子ビーム描画装置１０は、電子ビームを用い、磁気ディスク製造用の原盤を作成するマスタリング装置である。
電子ビーム描画装置１０は、真空チャンバ１１、及び真空チャンバ１１内に配された基板を載置及び回転、並進移動する駆動装置、及び真空チャンバ１１に取り付けられた電子ビームカラム２０、及び基板の駆動制御及び電子ビーム制御等をなす種々の回路、制御系が設けられている。
より詳細には、ディスク原盤用の基板１５は、ターンテーブル１６上に載置されている。ターンテーブル１６は、基板１５を回転駆動する回転駆動装置であるスピンドルモータ１７によってディスク基板主面の垂直軸に関して回転駆動される。スピンドルモータ１７は送りステージ（以下、単にステージと称する）１８上に設けられている。ステージ１８は、移送（並進駆動）装置である送りモータ１９に結合され、スピンドルモータ１７及びターンテーブル１６を基板１５の主面と平行な面内の所定方向に移動することができるようになっている。
ターンテーブル１６は誘電体、例えば、セラミックからなり、静電チャッキング機構（図示しない）を有している。かかる静電チャッキング機構は、ターンテーブル１６（セラミック）とターンテーブル１６内に設けられ静電分極を生起させるための導体からなる電極とを備えて構成されている。当該電極には高電圧電源（図示しない）が接続され、高電圧電源から当該電極に電圧が印加されることにより基板１５を吸着保持している。
ステージ１８上には、後述するレーザ測長システム３５の一部である反射鏡３５Ａ、干渉計などの光学要素が配されている。
真空チャンバ１１は、エアーダンパなどの防振台（図示しない）を介して設置され、外部からの振動の伝達が抑制されている。また、真空チャンバ１１は、真空ポンプ（図示しない）が接続されており、これによってチャンバ内を排気することによって真空チャンバ１１の内部が所定圧力の真空雰囲気となるように設定されている。
電子ビームカラム２０内には、電子ビームを射出する電子銃（エミッタ）２１、収束レンズ２２、ブランキング電極２３、アパーチャ２４、ビーム偏向コイル２５、アライメントコイル２６、偏向電極２７、フォーカスレンズ２８、対物レンズ２９がこの順で配置されている。
電子銃２１は、加速高圧電源（図示しない）から供給される高電圧が印加される陰極（図示しない）により数１０ＫｅＶに加速された電子ビーム（ＥＢ）を射出する。収束レンズ２２は、射出された電子ビームを収束する。ブランキング電極２３は、ブランキング制御部３１からの変調信号に基づいて電子ビームのオン／オフ切換（ＯＮ／ＯＦＦ）を行う。すなわち、ブランキング電極２３間に電圧を印加して通過する電子ビームを大きく偏向させることにより、電子ビームがアパーチャ２４を通過するのを阻止し、電子ビームをオフ状態とすることができる。
アライメントコイル２６は、ビーム位置補正器３２からの補正信号に基づいて電子ビームの位置補正を行う。偏向電極２７は、偏向制御部３３からの制御信号に基づいて電子ビームを高速で偏向制御することができる。かかる偏向制御により、基板１５に対する電子ビームスポットの位置制御を行う。フォーカスレンズ２８は、フォーカス制御部３４からの制御信号に基づいて電子ビームのフォーカス制御を行う。
また、真空チャンバ１１には、基板１５の主面の高さを検出するための光源３６Ａ及び光検出器３６Ｂが設けられている。さらに、電子ビーム描画装置１０には高さ検出部３６が設けられている。光検出器３６Ｂは、例えば、ポジションセンサやＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ）などを含み、光源３６Ａから射出され、基板１５の表面で反射された光ビームを受光し、その受光信号を高さ検出部３６に供給する。高さ検出部３６は、受光信号に基づいて基板１５の主面の高さを検出し、検出信号を生成する。基板１５の主面の高さを表す検出信号は、フォーカス制御部３４に供給され、フォーカス制御部３４は当該検出信号に基づいて電子ビームのフォーカス制御を行う。
レーザ測長システム３５は、レーザ測長システム３５内の光源からの測距用レーザ光を用いてステージ１８までの距離を測距し、その測距データ、すなわちステージ１８の位置データを位置制御部３７に送る。位置制御部３７は、位置データからビーム位置を補正するための位置補正信号を生成し、ビーム位置補正器３２に送出する。上記したように、この補正信号に基づいてビーム位置補正器３２は電子ビームの位置補正を行う。また、位置制御部３７は、送りモータ１９の制御を行う位置制御信号を生成して送りモータ１９に供給する。
スピンドルモータ１７の回転は回転制御部３８によって制御される。また、回転制御部３８は、スピンドルモータ１７の回転同期信号を描画コントローラ３９に送出する。当該回転同期信号は、基板１５の基準回転位置を表す信号、及び基準回転位置からの所定回転角ごとのパルス信号を含んでいる。回転制御部３８は、当該回転同期信号により基板１５の回転角、回転速度、回転周波数等を得る。描画コントローラ３９は、ブランキング制御部３１及び偏向制御部３３にそれぞれブランキング制御信号及び偏向制御信号を送出し、描画制御を行う。かかる描画制御は、後述するように、上記したスピンドルモータ１７の回転信号に同期して行われる。なお、ブランキング制御部３１、ビーム位置補正器３２、偏向制御部３３、フォーカス制御部３４、位置制御部３７及び回転制御部３８に関して主たる信号線について示したが、これら各構成部は描画コントローラ３９に双方的に接続されている。また、電子ビーム描画装置１０の各構成部は装置全体の制御をなす図示しないシステムコントローラに適宜接続され、必要な信号を送受信するように構成されている。
次に、電子ビーム描画装置１０によりハードディスク原盤の同心円状パターンを描画（電子ビーム露光）する場合について以下に詳細に説明する。
現在広く使われているハードディスクのトラックは、図２に示すように、ＣＤやＤＶＤ等の光ディスクで採用されているスパイラルパターン（破線で示す）ではなく、同心円パターン（実線で示す）である。かかる装置（ｘ−θ系描画装置）で同心円パターン（図２の１５Ａ、１５Ｂ、１５Ｃ・・等）を順次描画する場合を例に説明する。
図３は、ハードディスクの原盤となる基板１５上に複数の同心円パターンを描画する場合を模式的に示す平面図である。レジストを塗布した基板１５上に、図に示すように同心円状に電子ビーム描画（電子ビーム露光）を行い、同心円の始端と終端で精度良く繋がった円（トラック）を描画する。すなわち、まず円１５Ａの始端１５Ｘから電子ビーム描画を開始し、描画終了点（円１５Ａの終端）において描画開始点である１５Ｘに繋がるように円を描画する。なお、図においては円１５Ａの始端及び終端（接続点）１５Ｘの位置を説明の便宜上、黒丸（●）で示している。次に、円１５Ａの描画接続点１５Ｘの半径（ラジアル）方向外側の点１５Ｙを描画接続点として円１５Ａと同心円である円１５Ｂを同様に描画する。さらに、描画接続点１５Ｙの半径（ラジアル）方向外側の点１５Ｚを描画接続点として円１５Ａ、１５Ｂと同心円である同心円１５Ｃを同様にして描画する。描画接続点１５Ｘ、１５Ｙ、１５Ｚは、それぞれ同心円１５Ａ、１５Ｂ、１５Ｃにおける同一の半径方向の直線上にある。なお、ラジアル方向内側に同心円を描画していく場合も同様である。
図４は、上記した描画接続点において精度良く円が繋がるように同心円１５Ａ及び１５Ｂの描画を行う場合を説明するための模式的な平面図であり、描画接続点（開始点、終了点）近傍を拡大して示している。図５は、図４に対応する図であり、ブランキング制御信号及びＸ方向及びＹ方向の偏向制御信号を示す図である。また、図６は、かかる描画の手順を示すフローチャートである。なお、基板１５が一定線速度（ＣＬＶ）Ｖで回転制御された場合を例に説明する。
ラジアル方向、すなわち図中Ｘ方向の偏向制御信号（以下、Ｘ偏向信号という）はスピンドルモータ１７の回転周波数と同じ周期を有するランプ（傾斜）波であり、このランプ波形を有するＸ偏向信号により円（トラック）１５Ａの描画を開始し（ステップＳ１１）、描画開始点１５Ｘの近傍であって描画開始点１５Ｘまで達していない位置Ａ（図３及び図４）まで円１５Ａを描画する。位置Ａにおいてランプ波形を有するＹ偏向信号により基板１５の回転方向（−Ｙ方向）とは反対方向で、タンジェンシャル方向（すなわち、＋Ｙ方向）に電子ビームの偏向を開始する（ステップＳ１２）。電子ビームが位置Ｂ（すなわち、円１５Ａの描画開始点１５Ｘ）に到達した時点でブランキング信号により電子ビームを遮断する（ステップＳ１３）。図７に示すように、ブランキング電極２３へのブランキング電圧の印加によって電子ビームＥＢはアパーチャ２４の絞り孔から大きく偏向され電子ビームＥＢがアパーチャ２４を通過しない状態（ビーム：ＯＦＦ）となり、電子ビームを遮断することができる。この状態で円１５Ａ上の位置Ｃまでさらに電子ビームを偏向（基板１５の回転方向とは逆方向への偏向）させる（ステップＳ１４）。なお、位置Ｃは位置Ｂから＋Ｙ方向へ距離ＤＹ／２の位置としている。
電子ビームが円１５Ａ上の位置Ｃに到達した時点で、これまでとは反対方向（基板１５の回転方向でタンジェンシャル方向、すなわち図中、−Ｙ方向）に電子ビームを偏向するとともに、ラジアル方向（すなわち、図中、＋Ｘ方向）に電子ビームを偏向させ、円１５Ｂ上の位置Ｄへ電子ビームを高速で切換え、移送する（ステップＳ１５）。次に、位置Ｄから回転方向とは反対方向で、タンジェンシャル方向（図中、＋Ｙ方向）に電子ビームをランプ波形のＹ偏向信号により偏向する（ステップＳ１６）。
電子ビームが円１５Ｂ上の位置Ｅ（すなわち、位置１５Ｙ）に到達した時点で、ブランキング電極２３のブランキングを解除（ビーム：ＯＮ）して（ステップＳ１７）、電子ビームＥＢがアパーチャ２４を通過するようにする。なお、位置Ｄは位置Ｅから−Ｙ方向へ距離ＤＹ／２の位置としている。これにより位置Ｅから再び描画（露光）が開始される。従って、円１５Ａの位置Ｂから位置Ｃまでの期間、円１５Ａの位置Ｃから円１５Ｂの位置ＤまでのＸ偏向及びＹ偏向を行う期間、及び円１５Ｂの位置Ｄから位置Ｅまでの期間は、電子ビームはブランキングされた（ビーム：ＯＦＦ）状態であり、描画（露光）はなされない。また、本実施例においては、位置Ｂ及び位置Ｅは各円の描画開始点であり、描画接続点でもある。また、位置Ｂ及び位置Ｅは描画の基準となる同一の半径方向の直線（以下、基準半径直線ともいう）上にあり、それぞれ同心円１５Ａ及び１５Ｂの基準位置である。この基準半径直線は、例えば、各円の描画接続位置が当該基準半径直線上になるように、あるいは後述するように、重ね書きをする場合には、重ね書きの中央位置となるように定めることができる。これに限らず、基準半径直線は適宜定めることができる。
円１５Ｂ上において位置Ｅから位置Ｆまで電子ビームを＋Ｙ方向にランプ波形のＹ偏向信号により偏向して描画を行う（ステップＳ１８）。すなわち、位置Ｆにおいてランプ波形のＹ偏向信号による偏向を終了し、円１５Ｂの描画を続行する。
以上の動作を繰り返し行うことによって同心円パターンの描画を行うことができる。ここで、描画するラインが円の始点と終点とで一致する条件は、基板の移動速度をＶ、位置Ｃ及び位置Ｄ間のＹ偏向信号の偏向量をＤＹ、位置Ａ及び位置Ｆ間の期間をＴｙ、ブランキング時間をＴｂとすると、Ｖ＝ＤＹ／Ｔｂ（１−Ｔｂ／Ｔｙ）で表される。
上記したように、本発明によれば、１の円の描画から他の円の描画への移行に際し、電子ビームを回転半径方向（ラジアル）方向のみならず基板の回転（移動）とは反対方向の回転接線方向にも偏向させている。また、円の描画接続部においても回転接線方向に偏向させている。従って、始端と終端で精度良く繋がった円（トラック）を描画することができる。また、回転ステージに回転むらがある場合であっても、高精度に円を繋ぎ合わせることができる。
【実施例２】  以下に本発明の実施例２について図面を参照しつつ説明する。
図８は、円１５Ａから円１５Ｂへの描画の移行の際における偏向制御を説明するための模式的な平面図であり、描画接続点（開始点、終了点）近傍を拡大して示している。図９は、図８に対応する図であり、ブランキング制御信号及びＸ方向及びＹ方向の偏向制御信号を示す図である。
円１５Ａの基準位置ＲＡの近傍の位置Ａにおいてランプ波形を有するＹ偏向信号により基板１５の回転（移動）方向とは反対方向で、タンジェンシャル方向（図中、＋Ｙ方向）に電子ビームの偏向を開始する点は上記実施例１と同様である。本実施例においては、＋Ｙ方向への偏向を開始後、位置Ｂ（例えば、基準位置ＲＡ）から偏向速度を増加させ、基準位置ＲＡを通過した位置Ｃにおいてブランキング信号により電子ビームをブランキングして電子ビームを遮断（ビーム：ＯＦＦ）する。
さらに、位置Ｄまで偏向を行いつつ移動した後、これまでとは逆方向（図中、−Ｙ方向）に電子ビームを偏向するとともに、次の円（トラック）１５Ｂの方向（図中、＋Ｘ方向）に電子ビームを偏向させ、円１５Ｂ上の位置Ｅへ電子ビームを高速で移送する。次に、位置Ｆに達するまでタンジェンシャル方向（図中、＋Ｙ方向）に電子ビームをランプ波形のＹ偏向信号により偏向する。なお、位置Ｆは、円１５Ｂにおける基準半径直線上の基準位置ＲＢに達する以前の位置として設定される。位置Ｆにおいてブランキングを解除して、電子ビームＥＢが基板１５に照射される（ビーム：ＯＮ）ようにする。円１５Ｂ上の位置Ｇ（例えば、基準半径直線上の位置ＲＢ）において偏向速度を減小させ、位置Ｈにおいてランプ波形Ｙ偏向信号による偏向を終了する。
以上の動作を繰り返し行うことによって同心円パターンの描画を行うことができる。実施例１においては、描画開始点及び描画終了点が基準位置であり、重ね書きが生じないようにブランキング制御を行ったが、上記した手順で繰り返し同心円の描画を行った場合、重ね書きの領域が生じる。すなわち、円１５Ｂを例に説明すれば、円１５Ｂに続いて上記と同様に円１５Ｃを描画した場合には、円１５Ｂの位置Ｆから円１５Ｂの描画終了位置Ｃ’（位置Ｃに対応する円１５Ｂ上の位置）までの区間は重ね書き部分（ＷＯ）となる。すなわち、円１５Ａ及び円１５Ｂ上の基準位置（ＲＡ、ＲＢ）を中心として重ね書き部分（ＷＯ）が生じるように偏向及びブランキング制御がなされている。
従って、始端と終端で高精度に接続された円を描画することができる。また、回転ステージに回転むらがある場合であっても、高精度に円を繋ぎ合わせることができる。
【実施例３】  以下に本発明の実施例３について図面を参照しつつ説明する。
図１０は、円１５Ａから円１５Ｂへの描画の移行の際における偏向制御を説明するための模式的な平面図であり、描画接続点近傍を拡大して示している。図１１は、図１０に対応する図であり、ブランキング制御信号及びＸ方向及びＹ方向の偏向制御信号を示す図である。
円１５Ａ上の位置ＡからＹ偏向信号による偏向を開始し、円１５Ａ上の位置Ｂから所定の増加率のブランキング電圧を印加する。すなわち、ブランキング電圧をランプ状に印加することで基板に照射されるビームの強度を調整することができる。基準位置を超えた位置Ｃにおいてブランキング電圧を急峻に増加させ、完全に電子ビームをブランキングして電子ビームを遮断（ビーム：ＯＦＦ）する。つまり、位置Ｂから位置Ｃまではビーム強度が徐々に減少し、位置Ｃにおいて完全にゼロとなる。次に、位置Ｄまで移動した後、−Ｙ方向に電子ビームを偏向するとともに、＋Ｘ方向に電子ビームを偏向させ、円１５Ｂ上の位置Ｅへ電子ビームを高速で移送する。
円１５Ｂ上の基準位置ＲＢに達しない位置Ｆにおいてブランキング電圧を所定電圧まで急峻に低下させ、完全にＯＮ状態よりは低いビーム強度の電子ビームが照射されるようにする。その後、ブランキング電圧を所定の減小率で低下させ、基準位置を超えた位置Ｇ（円１５Ａ上の位置Ｃに対応）において完全にビームをＯＮ状態とする。その後、位置Ｈにおいてランプ波形Ｙ偏向信号による偏向を終了する。
以上の動作を繰り返し行うことによって複数の同心円の描画を行うことができる。従って、始端と終端で高精度に接続された円を描画することができる。また、回転ステージに回転むらがある場合であっても、高精度に円を繋ぎ合わせることができる。なお、上記した手順で繰り返し同心円の描画を行った場合、重ね書きの領域が生じる。すなわち、円１５Ａ及び円１５Ｂの基準位置ＲＡ、ＲＢを中心として重ね書き部分（ＷＯ）が生じるように偏向及びブランキング制御がなされている。
なお、電子ビームをラジアル方向に偏向させている期間の前又は当該期間の後の少なくともいずれか一方においてビームの照射強度を所定の変化率で変化させるようにしてもよい。
【実施例４】  以下に本発明の実施例４について図面を参照しつつ説明する。
図１２は、円１５Ａから円１５Ｂへの描画の移行の際における偏向制御を説明するための模式的な平面図であり、描画接続点近傍を拡大して示している。図１３は、図１２に対応する図であり、ブランキング制御信号及びＸ方向及びＹ方向の偏向制御信号を示す図である。
本実施例の描画方法が上記した実施例１の描画方法と異なるのは、Ｙ方向の偏向制御信号がランプ状信号に正弦波状信号を重畳している点である。なお、その他の点は実施例１の描画方法と同様である。
より詳細には、位置Ａから位置Ｃまでの期間に亘り、正弦波状のＹ偏向信号によりタンジェンシャル方向（図中、±Ｙ方向）に電子ビームの偏向を行う。位置Ｃからタンジェンシャル方向（図中、−Ｙ方向）に電子ビームを偏向するとともに、ラジアル方向（図中、＋Ｘ方向）にも電子ビームを偏向させ、位置Ｄへ電子ビームを高速で移送する。次に、位置Ｄから位置Ｆまでの期間に亘り、正弦波状のＹ偏向信号によりタンジェンシャル方向（図中、±Ｙ方向）に電子ビームの偏向を行う。なお、描画接続点である位置Ｂから位置Ｅまでの期間に亘り、電子ビームをブランキングして電子ビームを遮断（ビーム：ＯＦＦ）している点は実施例１の場合と同様であるが、重ね書きをするように電子ビームの遮断期間を設定してもよい。
以上詳細に説明したように、本発明によれば、１の円の描画から他の円の描画への移行に際し、電子ビームを回転半径方向（ラジアル）方向のみならず、基板の回転（移動）の回転接線（タンジェンシャル）方向にも偏向させている。また、円の描画接続部においても、基板の回転とは反対方向の回転接線方向に偏向させている。従って、始端と終端で精度良く繋がった円（トラック）を描画することができる。また、回転ステージに回転むらがある場合であっても、高精度に円を繋ぎ合わせることができる。
なお、上記した実施例においては、電子ビームにより同心円の描画（露光）を行う場合について説明したが、電子ビームに限らず光ビームなどのビームを用いて描画を行う場合にも適用することができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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