(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板間に、少なくとも陰極と、発光層と、陽極とをこの順で積層して含む発光部を具備する照明装置の製造方法であって、
第１の基板上に、少なくとも透明電極を該基板面内に所定形状にパターニングする陽極形成工程と、形成した陽極上に発光層を積層する発光層形成工程と、形成した発光層上に陰極の構成部材の一部としてアルカリ土類金属層を前記陽極の全体に跨るように積層するアルカリ土類金属層形成工程とを含む第１基板形成工程と、
第２の基板上に、少なくとも陰極の構成部材の残余の層を前記透明電極に略一致する形状にパターニングする陰極形成工程を含む第２基板形成工程と、
前記第１基板形成工程にて形成された第１基板と、前記第２基板形成工程にて形成された第２基板とを貼り合わせる基板貼合せ工程とを具備し、
前記残余の層は、前記基板貼合せ工程時に、平面視した状態で前記透明電極に重なるように配置されることを特徴とする照明装置の製造方法。
【請求項２】
前記陽極形成工程において、前記透明電極を前記基板面内で複数の線状にパターニング形成することを特徴とする請求項１に記載の照明装置の製造方法。
【請求項３】
前記発光層形成工程及び前記アルカリ土類金属層形成工程において、前記発光層及び前記アルカリ土類金属層は、前記線状にパターニングされた陽極全体に跨って形成することを特徴とする請求項２に記載の照明装置の製造方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の照明装置の製造方法を用いて製造された照明装置を光源として備えることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の照明装置の製造方法を用いて製造された照明装置を光源として備える表示装置であって、被照明体の当該表示装置の表示視認側に前記照明装置を配設してなることを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は照明装置と照明装置の製造方法、及び照明装置を用いた表示装置とに係り、特に、表示装置の観測側に配置されるフロントライトとして適用可能な照明装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から液晶表示装置等の電気光学表示装置において、太陽光などの外光を観察者側から液晶パネル等の電気光学パネル内に入射し、入射光のうち電気光学パネル内において反射される反射光を観察者側に出射する形式の反射型表示装置が知られている。しかしながら、反射型表示装置は、暗所では表示が視認困難となる場合があるため、電気光学パネルの観察者側（観察側又は視認側）にフロントライトとして照明装置を備えた反射型表示装置が提案されている。
【０００３】
このようなフロントライトとしては、光源を電気光学パネルの側方に配置する側方配置型と光源を電気光学パネルの視認側に配置する前方配置型とが知られている。このうち、前者の側方配置型のフロントライトは、電気光学パネルの視認側の側方に配置される光源と、電気光学パネルの視認側に配置され、光源から出射された光を電気光学パネル側に照射するための導光板とを備えて構成されている。一方、後者の前面配置型のフロントライトは、透明基板に設けられた発光素子からなる発光部を有し、発光素子の発光方向を電気光学パネル側に向けた構造を有している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、このようなフロントライトに適用される照明装置としては、発光部が、例えば陰極と陽極との間に介在する発光層を具備してなるものがあり、具体的には、発光層がＥＬ等の電界発光材料を主体として構成され、陰極と陽極との間に電界を発生させることで発光層における発光を実現している。このように発光部にて発光された光は、上述した電気光学パネルに入射された後、この電気光学パネルにて反射され、反射光が、例えばストライプ状に形成された発光部の間隙を介して観察者側に出射される。したがって、このように発光部をストライプ状に配設したフロントライトは前面配置型として適用可能となる。
【０００５】
ところで、ストライプ状の微細構造を具備した発光部を実現するために、例えば陰極をストライプ状に微細パターン化する構成が考えられるが、陰極材料として例えば陰極から発光層への電子注入効率を高め、陰極としての安定性を保ち、反射率を確保するために、仕事関数の小さいＣａ等のアルカリ土類金属を含む場合、アルカリ土類金属の反応性が極めて高いため、フォトエッチングによる微細パターン化は極めて困難である。そこで、マスク蒸着により陰極等を微細パターン化させる手法があるが、ストライプの線幅が少なくとも６０μｍ程度と大きくなり、例えば前面配置型のフロントライトとして用いると、ストライプ状の影が視認される場合があり、良好な表示が得られなくなる場合がある。
【０００６】
本発明は上述の問題点に鑑みてなされたものであり、被照明体として液晶表示装置等の電気光学表示装置を照明するのに好適な照明装置であって、特に電気光学表示装置のフロントライトとして好適な照明装置を提供することを目的とする。また、本発明はこのような照明装置を製造するのに適した製造方法と、さらには、この照明装置を備えた液晶表示装置等の表示装置とを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明の照明装置は、一対の基板間に発光部を具備する照明装置であって、発光部は、少なくとも陰極と、発光層と、陽極とをこの順で積層して含み、陰極はアルカリ土類金属を主体とするアルカリ土類金属層を備え、陽極は透明電極であって、基板面内で所定形状にパターニングされていることを特徴とする。
【０００８】
この場合、基板面内で所定形状にパターニングされた陽極に従って、発光部を所定形状にパターニングさせることが可能となり、例えば被照明体のフロントライトとして用いることが可能となる。すなわち、パターニング形成された陽極（発光部）の間隙から被照明体の反射光をフロント側、つまり当該照明装置の被照明体とは反対側に反射光を出射させ、表示に供させることが可能となる。また、この場合、陽極は例えばＩＴＯ（Indium-Tin-Oxide）又はＩＺＯ（Indium-Zinc-Oxide）等の透明電極であるため、フォトプロセスによるパターニングが可能で、微細なパターン形成が可能となる。つまり、フォトプロセスが困難なＣａ，Ｍｇ等のアルカリ土類金属層を例えばマスク蒸着によりパターン形成する場合や、発光層を例えば塗布によりパターン形成する場合に比して、確実に微細な、例えば５０μｍ以下のパターン形成を実現することができる。したがって、例えば当該照明装置を被照明体のフロントライトとして用い、被照明体からの反射光をパターン形成された陽極（発光部）の間隙から出射させて表示を行う場合にも、例えばパターン形状の影が視認されてしまう等の不具合が生じ難くなる。
【０００９】
上記陽極は、基板面内で複数の線状にパターニングされているものとすることができる。この場合、当該照明装置を被照明体のフロントライトとして用い、被照明体からの反射光を、複数の線状にパターン形成された陽極の間隙から出射させて表示を行うことができるが、この場合も、上述した通り線状の影が視認されてしまう等の不具合が生じ難くなる。なお、具体的に陽極は、線幅５〜２０μｍの線状にパターニングすることができ、例えばアルカリ土類金属層をマスク蒸着によりパターン形成した場合（線幅は小さくても約６０μｍ）に比して、大幅に微細化させることが可能となる。また、本発明においては、発光部におけるパターニング形成の面積率、すなわちパターニング形成された要素の基板面に対する割合は、５〜２０％程度となるように形成されている。これにより、十分な発光部における発光と、反射光の透過とを実現することが可能となる。
【００１０】
また、上記発光層は、陽極と陰極との間に、正孔輸送層と、発光本体層と、バッファ層とを少なくともこの順で積層して含むものとすることができる。このような正孔輸送層、発光本体層、バッファ層は微細にパターン形成するのが困難な場合が多いものの、本発明では、陽極をパターン形成しているために、フロントライトとして用いた場合にも視認されるに至らない微細なパターンの発光部を実現することが可能とされている。
【００１１】
なお、正孔輸送層としては例えばＰＥＤＴ（ポリエチレンジオキシチオフェン）等の導電性ポリマーを、発光本体層としては例えば高分子ＥＬを、バッファ層としては例えばＬｉＦを主体として構成することができる。この場合、正孔輸送層及び発光本体層は例えばスピンコート、印刷等による塗布により、バッファ層は例えば真空蒸着等によるマスク蒸着により形成することができる。
【００１２】
また、正孔輸送層、発光本体層、バッファ層、及びアルカリ土類金属層は、パターニングされた個々の陽極に跨って形成されているものとすることができる。すなわち、陽極を線状等にパターニング形成する一方、正孔輸送層、発光本体層、バッファ層、及びアルカリ土類金属層を基板面内にパターン形成せず、面内ベタ状に非パターン形成したため、簡便な構成にて発光部を微細にパターン化させることが可能となる。なお、正孔輸送層、発光本体層、バッファ層、及びアルカリ土類金属層が、照明領域全域に跨って略板状に形成されているものとすることもできる。
【００１３】
さらに、陰極は、例えばＣａ，Ｍｇ等を主体として構成されるアルカリ土類金属層と、Ａｌ又はＡｇを主体とする反射電極層とが積層された構成を具備し、アルカリ土類金属層が反射電極層よりも陽極側に形成されるとともに、反射電極層が陽極と略同一の形状にて基板面内でパターニングされているものとすることができる。このように反射電極層を具備させることにより、被照明体に対する光の照射効率が向上するが、反射電極層は非透明性であるために、上記陽極と略同一の形状にて基板面内でパターニングする必要が生じ、このような反射電極層のパターニングによりパターン化した発光部を形成することが可能となる。なお、アルカリ土類金属層は、層厚を２〜４０ｎｍとすることができる。このような層厚とすることにより、アルカリ土類金属層を透明に形成することが可能となり、好ましくは層厚を２〜１０ｎｍとするのがよい。
【００１４】
なお、反射電極層は例えばＡｌとＡｇとの合金を主体として構成することができる。また、陰極と基板との間には、例えば樹脂ブラック層又はクロム層等からなる光吸収層を形成することができ、この場合、例えば陰極による観察者側への反射光を防止することが可能となり視認性が向上する。
【００１５】
次に、以上のような照明装置は以下の方法にて製造することができる。すなわち、本発明の照明装置の製造方法は、一対の基板間に、少なくとも陰極と、発光層と、陽極とをこの順で積層して含む発光部を具備する照明装置の製造方法であって、
第１の基板上に、少なくとも透明電極を基板面内に所定形状にパターニングして形成する陽極形成工程と、形成した陽極上に発光層を積層する発光層形成工程と、形成した発光層上に陰極の構成部材の一部としてアルカリ土類金属層を積層するアルカリ土類金属層形成工程とを含む第１基板形成工程と、
第２の基板上に、少なくとも陰極の構成部材の残余の層を形成する陰極形成工程を含む第２基板形成工程と、
第１基板形成工程にて形成された第１基板と、第２基板形成工程にて形成された第２基板とを貼り合わせる基板貼合せ工程とを具備することを特徴とする。
【００１６】
このような製造方法により、陽極を所定形状にパターニングした上記構成の照明装置を簡便に提供することが可能となる。この場合、陽極形成工程においては、透明電極を真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等にて成膜した後に、フォトエッチングにて所定形状のパターニングを行うものとすることができる。なお、この場合のエッチング又はレジスト剥離は、ウェット或いはドライのいずれでも行うことが可能である。
【００１７】
また、発光層形成工程においては、例えば導電性ポリマーを主体として構成される正孔輸送層を形成する正孔輸送層形成工程と、高分子ＥＬを主体として構成される発光本体層を形成する発光本体層形成工程と、ＬｉＦを主体として構成されるバッファ層を形成するバッファ層形成工程とを含むものとすることができる。正孔輸送層形成工程及び発光本体層形成工程においては、スピンコート又は印刷にて各層を形成することができ、バッファ層形成工程においては、ＬｉＦの真空蒸着にてバッファ層を形成することができる。さらに、アルカリ土類金属層形成工程においては、アルカリ土類金属の真空蒸着によりアルカリ土類金属層を形成することができる。なお、各層を形成した第１基板は、例えば腐食防止のため、不活性ガス雰囲気、又は真空雰囲気にて保管することが好ましい。
【００１８】
なお、上記陽極形成工程において、透明電極を基板面内で複数の線状にパターニング形成することで、上述した線状にパターン化した陽極を形成することができる。また、発光層形成工程及びアルカリ土類金属層形成工程において、発光層及びアルカリ土類金属層は、線状にパターニングされた陽極全体に跨って形成するものとすることができ、これにより面内ベタ状の非パターン化した各層を形成することが可能となる。
【００１９】
また、第２の基板上に形成する陰極は、陽極のパターン形状に略一致させてパターン形成するものとすることができる。これにより、陰極をＡｌ又はＡｇ等の反射電極にて構成した場合にも、パターン化した発光部を得ることが可能となる。陰極形成工程においては、Ａｌ又はＡｇを主体とする成分又はこれらの合金を真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等にて成膜し、フォトエッチングにて所定形状にパターニングするものとすることができる。なお、第２の基板上に上述した光吸収層を形成する場合にも、所定形状にパターン形成することで、パターン化した発光部を得ることが可能となる。この場合、光吸収層は、例えば樹脂ブラックを主体として形成する場合、樹脂ブラックを塗布した後に、マスク露光、現像、ポストベークを行うことで、所定形状にパターン形成することができる。なお、陰極形成後の第２基板も、例えば腐食防止のため、不活性ガス雰囲気、又は真空雰囲気にて保管することが好ましい。
【００２０】
なお、基板貼合せ工程は、真空ないし減圧下、又は不活性ガス雰囲気にて行い、両基板周辺部をエポキシ樹脂等の封止材にて封止するものとすることができる。
【００２１】
次に、本発明の表示装置は、上述した構成の照明装置を光源として備えることを特徴とする。このように本発明の照明装置を光源として備える表示装置は、例えば光源をフロントライトとして用い、被照明体から反射光を反射表示する構成とした場合に、微細な影等が視認されることのない良好な表示特性を実現することが可能となる。
【００２２】
すなわち、本発明の照明装置は、例えば被照明体の表示装置の表示視認側に光源として配設することが好ましく、この場合、フロントライト型の表示装置を提供することができる。このような表示装置は、例えば被照明体の当該表示装置の表示視認側に光源たる照明装置を配設して、被照明体からの反射光にて反射表示を行うことが可能となる。この場合、被照明体としては、液晶表示装置等の電気光学表示装置を例示することができる。さらに、本発明の照明装置は、例えば額内に絵画、写真等を収めた展示物の光源として用いることもできる。
【００２３】
なお、本明細書において、「主体とする」成分とは、構成成分のうち最も含有量の多い成分のことを言うものとする。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
まず、図１〜図３に基づいて、本発明に係る実施形態の照明装置を備えた液晶表示装置の構造について説明する。図１は本実施形態の液晶表示装置を分解した概略斜視図、図２は本実施形態の液晶表示装置の部分概略断面図である。本実施形態では、液晶表示装置の一例として、ＴＦＴ素子をスイッチング素子として用いたアクティブマトリクス型の反射型液晶表示装置を取り上げて説明する。また、各図において、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００２５】
はじめに、図１、図２に基づいて、本実施形態の照明装置を備えた液晶表示装置の全体構造について説明する。図１、図２において、符号１０が本実施形態の液晶表示装置、符号２０が液晶パネル（被照明体）、符号３０が本実施形態の照明装置を示している。図１、図２において、液晶パネル２０（液晶表示装置１０）の図示上側が表示を視認する側（視認側、即ち観測者側）であり、本実施形態の照明装置３０は液晶パネル２０の視認側に備えられ、液晶パネル２０と照明装置３０とが一体化されて液晶表示装置１０が構成されている。すなわち、本実施形態において、照明装置３０は、視認側から液晶パネル２０を照明するフロントライトとして構成されている。
【００２６】
図１、図２に示すように、液晶パネル２０は、内面にＴＦＴ素子２８、画素電極２９等が形成された素子基板（下側基板）２１と、内面に共通電極２４が形成された対向基板（上側基板）２２とが対向配置され、素子基板２１と対向基板２２との間に液晶層（電気光学材料層）２３が挟持された構造を基本構成とし、対向基板２２の図示上側に偏光板等の偏光子２５が取り付けられている。なお、液晶層２３が基板２１、２２間に挟持される基本構成としては、基板２１、２２の周縁部側に図示略のシール材が介在され、実際には基板２１、２２とシール材とに囲まれて液晶層２３が挟持されている。一方、図１においては、偏光子２５と液晶層２３の表示は省略している。また、図２においては、素子基板２１、対向基板２２の内面に形成されたＴＦＴ素子２８、画素電極２９、共通電極２４等の表示を省略している。
【００２７】
次に、本実施形態において、素子基板２１、対向基板２２の「内面」とは、素子基板２１、対向基板２２の「液晶層側の面」を意味しているものとする。図１に示すように、素子基板２１の内面には、多数のソース線２６（データ線）および多数のゲート線２７（走査線）が互いに交差するようにマトリクス状に設けられている。各ソース線２６と各ゲート線２７の交差点の近傍にはＴＦＴ素子２８が形成されており、各線には各ＴＦＴ素子２８を介して画素電極２９が接続されている。一方、対向基板２２の内面側には、表示領域に対応するようにＩＴＯ（インジウム錫酸化物）などからなる透明の共通電極２４が形成されている。
【００２８】
液晶パネル２０において、個々の画素電極２９が形成された領域が画素２とされる。また、通常の液晶表示装置では、素子基板２１の内面に、赤、緑、青を表示するためのカラーフィルターが設けられるが、本実施形態ではカラーフィルタは略されて、液晶パネル２０は白黒表示タイプとして構成されている。
【００２９】
本実施形態では、画素電極２９は光反射性の金属材料からなり、反射電極として機能する。そして、使用場所が明所では、照明装置３０を点灯せず、太陽光や蛍光灯等の外光を視認側から液晶パネル２０内に入射し、素子基板２１の内面に形成された画素電極２９により反射させて再び観察者側（視認側：図示上方）に出射させることにより表示が行われるようになっている。一方、使用場所が暗所では、照明装置３０を点灯し、照明装置３０により液晶パネル２０側に照射された光を素子基板２１の内面に形成された画素電極２９により反射させて、再び照明装置３０を通過させて観察者側（視認側：図示上方）に出射させ、表示が行われるようになっている。なお、画素電極２９を反射層とする代わりに、画素電極２９とは別に素子基板２１の内面に反射層を設ける構成としてもよいのは勿論である。
【００３０】
次に、液晶表示装置１０に備えられた本実施形態の照明装置３０の構造について説明する。図１、図２に示すように本実施形態の照明装置３０は、ガラス、透明樹脂等からなる一対の透明の基板３０１，３０２と、これら基板３０１，３０２間に挟持された発光部３００とから概略構成されている。なお、一対の基板のうち、液晶パネル２０側（図示下側）に配設された基板３０１を下側基板、液晶表示装置１０の視認側（図示上側）に配設された基板３０２を上側基板とする。
【００３１】
発光部３００は、下側基板３０１側から陽極３０３と、発光層３１１と、陰極３１０とをこの順で積層して含んでいる。陽極３０３は、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）からなる透明電極にて構成され、基板３０１を平面視した場合に複数の線状となるべくパターニングされている。本実施形態の場合、パターニングされた陽極３０３の線幅は５〜２０μｍ程度とされ、照明領域全域の面積に対し、線状の陽極３０３の総面積が５〜２０％程度とされている。
【００３２】
また、発光層３１１は、陽極３０３側から正孔輸送層３０４と、発光本体層３０５と、バッファ層３０６とをこの順で積層して含んでおり、複数の線状にパターニングされた陽極３０３の各々に跨って形成されている。さらに詳しくは、本実施形態の照明装置３０の照明領域全域に跨って、正孔輸送層３０４、発光本体層３０５、バッファ層３０６が平面視ベタ状に形成されている。
【００３３】
また、陰極３１０は、発光層３１１側からアルカリ土類金属層３０７と、反射電極層３０８と、光吸収層３０９とをこの順で積層して含んでおり、アルカリ土類金属層３０７は複数の陽極３０３に跨って、すなわち照明領域全域に跨って平面視ベタ状に形成されている。一方、反射電極層３０８及び光吸収層３０９は、陽極３０３の線状パターンと略一致する線状にパターン形成されており、基板積層方向に陽極３０３と位置合わせされている。
【００３４】
以下、照明装置３０を構成する各層について詳しく説明する。
まず、陽極３０３は、上述した通りＩＴＯにて構成されており、線状等の所定形状にパターニングされ、パターニングされた線状の各電極の層厚は０．１〜０．２μｍ程度とされている。なお、陽極３０３は、例えばＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）を主体とする透明電極にて構成することも可能である。
【００３５】
正孔輸送層３０４は、陽極３０３から注入される正孔を発光本体層３０５に輸送する機能をなし、例えばポリエチレンジオキシチオフェン（導電性ポリマー）を主体として構成され、その層厚は０．０５〜０．２μｍ程度とされている。
【００３６】
発光本体層３０５は、例えば高分子ＥＬ（エレクトロルミネセンス：有機電界発光物質）を主体とする電界発光材料にて構成され、その層厚は０．０５〜０．２μｍ程度とされている。このような高分子ＥＬにて構成した発光本体層３０５では、低電圧で発光が可能であるとともに、高い輝度の発光を実現できる。なお、高分子ＥＬを構成する高分子材料としては、例えばフルオレン系高分子誘導体や、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体等を用いることができる。
【００３７】
バッファ層３０６は、陰極３１０から発光本体層３０５への電子の注入を促進するための緩衝層として機能しており、ＬｉＦを主体して構成され、その層厚は０．５〜５ｎｍ程度されている。
【００３８】
陰極３１０の一部を構成するアルカリ土類金属層３０７は、Ｃａ又はＭｇを主体として構成されており、透明性を付与するために薄膜形成され、その層厚は０．２〜４０ｎｍ程度（好ましくは０．２〜１０ｎｍ程度）とされている。また、同じく陰極３１０を構成する反射電極層３０８はＡｌを主体として構成されており、その層厚は０．１〜０．２μｍ程度とされている。なお、反射電極層３０８は、例えばＡｌ合金、又はＡｇ、若しくはＡｇ合金等を主体として構成することも可能である。さらに、光吸収層３０９は反射電極３０８からの観察者側への反射光を防止する機能を有しており、樹脂ブラックを主体として構成され、その層厚は０．５〜２μｍ程度とされている。なお、光吸収層３０９は、クロムを主体として構成することも可能である。
【００３９】
このように本実施形態の照明装置３０においては、ＩＴＯを主体として構成される陽極３０３を線状にパターニングして構成し、発光層３１１及びアルカリ土類金属層３０７を照明領域全域に跨って平面視ベタ状に構成するとともに、反射電極層３０８及び光吸収層３０９を陽極３０３の線状パターンに略一致させて構成した。したがって、発光部３００を線状パターンにて構成することが可能となり、これを液晶パネル２０のフロントライトとして用いることで、発光部のパターン形成による線状の影等が視認される等の不具合の生じ難い液晶表示装置１０を実現している。また、陽極３０３、反射電極層３０８及び光吸収層３０９をパターン化する場合はフォトプロセスを用いることが可能で、フォトプロセスを行うことが困難な正孔輸送層３０４、発光本体層３０５、バッファ層３０６、アルカリ土類金属層を線状にパターン化する場合に比して、より線幅の小さいパターニングを実現することが可能となる。したがって、本実施形態の照明装置３０は、一層微細化したパターンの発光部３００を具備する構成となっている。
【００４０】
次に、上記液晶表示装置１０に備えられた本実施形態の照明装置３０の製造方法の一例について説明する。
まず、図３に示すように、下側基板となるガラス基板３０１上に透明電極（陽極）３０３を基板面内で線状にパターン形成する（陽極形成工程）。この場合、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の所定の成膜方法にてＩＴＯ（インジウム錫酸化物）を基板３０１上に成膜した後、レジストを塗布し、マスク露光、現像、エッチング、レジスト除去を行うフォトプロセスを採用している。したがって、パターン化された陽極３０３の線幅は２０μｍ以下と微細なものとなっている。なお、エッチング、レジスト除去工程は、ウェット又はドライのいずれの方式を採用することも可能である。
【００４１】
次に、図４に示すように、線状にパターン化された陽極３０３の各々に跨って平面視ベタ状にポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＴ）を塗布し、正孔輸送層３０４を形成する（正孔輸送層形成工程）。この場合の塗布形成は、スピンコートないし印刷法にて行うものとされている。また、図５に示すように、正孔輸送層３０４の上層には、高分子ＥＬ材料としてフルオレン系高分子誘導体を、スピンコートないし印刷法にて塗布し、発光本体層３０５を形成する（発光本体層形成工程）。また、図６に示すように、発光本体層３０５の上層にＬｉＦを真空蒸着させ、バッファ層３０６を形成する（バッファ層形成工程）。このような正孔輸送層形成工程、発光本体層形成工程、バッファ層形成工程により、発光層３１１が形成される（発光層形成工程）。
【００４２】
さらに、図７に示すように、バッファ層３０６の上層にＣａ（アルカリ土類金属）を真空蒸着させ、アルカリ土類金属層３０７を形成する（アルカリ土類金属層形成工程）。なお、これら正孔輸送層形成工程、発光本体層形成工程、バッファ層形成工程、アルカリ土類金属層形成工程においては、照明領域全域に各層をベタ状に塗布ないし蒸着して成膜するのみとしている。以上の工程により、下側基板３０１、陽極３０３、正孔輸送層３０４、発光本体層３０５、バッファ層３０６、アルカリ土類金属層３０７を含む第１基板が形成される（第１基板形成工程）。なお、形成した第１基板は、不活性ガス雰囲気下、又は真空雰囲気下にて保管される。
【００４３】
一方、図８に示すように、上側基板となるガラス基板３０２に光吸収層たる樹脂ブラック層を基板面内で線状にパターン形成する（光吸収層形成工程）。この場合、樹脂ブラックを塗布した後、マスク露光、現像、ポストベークを行うことで線状のパターンの樹脂ブラックを得ている。
【００４４】
また、図９に示すように、ガラス基板３０２に形成した光吸収層３０９に対しＡｌを積層して反射電極層３０８を形成する。この場合、Ａｌを真空蒸着、スパッタリング等の所定の成膜方法にてガラス基板３０２ないし光吸収層３０９に成膜した後、レジストを塗布し、マスク露光、現像、エッチング、レジスト除去を行うことで、光吸収層３０９に積層された線状のパターンの反射電極層３０８が得られる。なお、エッチング、レジスト除去工程は、ウェット又はドライのいずれの方式を採用することも可能である。以上の工程により、上側基板３０２、光吸収層３０９、反射電極層３０８を含む第２基板が形成される（第２基板形成工程）。なお、形成した第２基板は、不活性ガス雰囲気下、又は真空雰囲気下にて保管される。
【００４５】
以上のような工程により得られた第１基板及び第２基板を、図１０に示すように貼り合せることで照明装置３０を得る。具体的には、貼合せ工程においては、各基板を不活性ガス雰囲気中で圧着し、圧着した各基板の周辺部をエポキシ樹脂等の封止材にて封止することで貼合せが行われている。なお、不活性ガス雰囲気の他、減圧雰囲気中において圧着を行うものとすることも可能である。
【００４６】
このような製造方法により、上記実施形態の照明装置、すなわち微細化したパターンを有する発光部を具備した照明装置を提供することが可能となる。これは、ＩＴＯ等の透明電極からなる陽極をフォトプロセス工程にてパターニングしたためであり、本実施形態の照明装置３０では、この陽極の線状パターン化に基づいて発光部が線状にパターニングされている。
【００４７】
次に、上記実施形態の液晶表示装置１０を備えた電子機器の具体例について説明する。図１１（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図１１（ａ）において、符号５００は携帯電話本体を示し、符号５０１は上記実施形態の液晶表示装置１０を用いた液晶表示部を示している。図１１（ｂ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図１１（ｂ）において、符号６００は情報処理装置、符号６０１はキーボードなどの入力部、符号６０３は情報処理装置本体、符号６０２は上記実施形態の液晶表示装置１０を用いた液晶表示部を示している。図１１（ｃ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図１１（ｃ）において、符号７００は時計本体を示し、符号７０１は上記実施形態の液晶表示装置１０を用いた液晶表示部を示している。図１１（ａ）〜（ｃ）に示すそれぞれの電子機器は、上記実施形態の液晶表示装置１０を用いた液晶表示部を備えたものであるので、フロントライトによる常に明るい反射表示を行うことが可能で、特にフロントライトの発光部のパターン形状基づいて、影が視認される等の表示不具合が生じ難いものとなる。
【００４８】
なお、これまで説明した実施形態においては、液晶表示装置に本発明の照明装置を適用した例について述べてきたが、本発明の照明装置は液晶表示装置用の照明装置に限らないのは勿論である。すなわち、例えば額に収めた写真、絵画等の展示物を照明するための照明装置として、本発明の照明装置を単独で他の部材や場所の照明用として適用することができる。
【００４９】
【発明の効果】
以上のように本発明の照明装置は、ＩＴＯ等の透明電極からなる陽極を線状にパターニングして構成し、発光層及びアルカリ土類金属層を照明領域全域に跨って平面視ベタ状に構成するとともに、反射電極層及び光吸収層を陽極の線状パターンに略一致させて構成した。したがって、陽極、発光層、陰極から構成される発光部を線状パターンにて構成することが可能となり、これを液晶パネルのフロントライトとして用いることで、発光部のパターン形成による線状の影等が視認される等の不具合の生じ難い液晶表示装置を実現することが可能となる。
【００５０】
また、陽極、反射電極層及び光吸収層をパターン化する工程においてフォトプロセスを用いることが可能で、正孔輸送層、発光本体層、バッファ層、アルカリ土類金属層を線状にパターン化する場合に比して、より線幅の小さいパターニングを実現することが可能となる。したがって、本発明の照明装置は、一層微細化したパターンの発光部を具備する構成となり、そのパターンに基づく線状の影が視認される等の不具合が一層生じ難いものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明に係る実施形態の照明装置を備えた液晶表示装置の一例について概略を示す分解斜視図。
【図２】  図１の液晶表示装置の部分断面模式図。
【図３】  図１の照明装置の製造方法を示す説明図。
【図４】  図３に続く、照明装置の製造方法を示す説明図。
【図５】  図４に続く、照明装置の製造方法を示す説明図。
【図６】  図５に続く、照明装置の製造方法を示す説明図。
【図７】  図６に続く、照明装置の製造方法を示す説明図。
【図８】  図７に続く、照明装置の製造方法を示す説明図。
【図９】  図８に続く、照明装置の製造方法を示す説明図。
【図１０】  図９に続く、照明装置の製造方法を示す説明図。
【図１１】  上記実施形態の液晶表示装置を備えた電子機器について、幾つかの例を示す斜視図。
【符号の説明】
１０  液晶表示装置
２０  液晶パネル
３０  照明装置
３００  発光部
３０１  下側基板
３０２  上側基板
３０３  陽極
３０４  正孔輸送層
３０５  発光本体層
３０６  バッファ層
３０７  アルカリ土類金属層
３０８  反射電極層
３０９  光吸収層
３１０  陰極
３１１  発光層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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