(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素領域と周辺領域とにおいて液晶層が設けられている液晶パネルと、
前記画素領域と前記周辺領域とに対面している反射型の偏光板と、
前記周辺領域において前記液晶層と前記偏光板との間に介在しており、前記偏光板を透過した光を前記偏光板の側へ反射することによって遮光する遮光部と
を有し、前記偏光板を透過した光が前記画素領域に入射されることによって画像の表示が実施される液晶表示装置であって、
前記液晶パネルは、
前記偏光板に対面している第１基板と、
前記第１基板を介して前記偏光板に対面すると共に、前記第１基板から間隔を隔てて対面している第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板とを前記周辺領域において貼り合わせるシール部材と
を有し、前記液晶層が前記第１基板と前記第２基板との間において挟まれており、前記第１基板と前記第２基板とが対面する面に前記画素領域と前記周辺領域とが設けられており、
前記シール部材は、光が照射されることによって硬化された光硬化性材料により形成されており、
前記遮光部は、
前記周辺領域において前記シール部材が配置される面に対応するシール領域以外の一部の領域であって、前記画素領域に近接する画素近接領域を被覆する第１の遮光部と、
前記周辺領域において前記第１の遮光部が被覆する領域以外の領域を少なくとも被覆する第２の遮光部と
を含み、前記第１の遮光部が前記第２の遮光部よりも前記液晶層の近くに位置している
液晶表示装置。
【請求項２】
前記第２の遮光部は、光の照射により光硬化性材料が硬化されることによって前記シール部材が形成された後に設けられた、
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第１の遮光部が、前記第１基板に設けられている、
請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第１の遮光部と前記第２の遮光部とのそれぞれは、前記周辺領域において互いの間隔の距離が５０μｍ以下である、
請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記第１の遮光部は、前記周辺領域において前記シール領域の端部から１００μｍ以上の距離が離れている、
請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記液晶パネルは、前記周辺領域において前記第１基板と前記第２基板とが挟持している前記液晶層に電圧を印加するように周辺電極が設けられている、
請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記遮光部は、
前記周辺領域において前記第２基板に形成されており、前記液晶層を介して入射する光を反射することによって遮光する第３の遮光部
を有する、
請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記偏光板を介して前記液晶パネルに光を照射する光源と、
前記光源によって光が照射された前記液晶パネルにおいて、前記画素領域から出射される光を投影する投影レンズと
を有する、
請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記第１基板と前記偏光板との間に配置され、光を透過する第３基板
を含み、
前記第２の遮光部が、前記第３基板に設けられている、
請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
画素領域と周辺領域とにおいて液晶層が設けられており、反射型の偏光板が前記画素領域と前記周辺領域とに対面していると共に、前記偏光板を透過した光を前記偏光板の側へ反射することによって遮光する遮光部が、前記周辺領域において前記液晶層と前記偏光板との間に介在している液晶パネルであって、
前記偏光板に対面している第１基板と、
前記第１基板を介して前記偏光板に対面すると共に、前記第１基板から間隔を隔てて対面している第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板とを前記周辺領域において貼り合わせるシール部材と
を有し、
前記液晶層が前記第１基板と前記第２基板との間において挟まれており、前記第１基板と前記第２基板とが対面する面に前記画素領域と前記周辺領域とが設けられており、
前記シール部材は、光が照射されることによって硬化された光硬化性材料により形成されており、
前記遮光部は、
前記周辺領域において前記シール部材が配置される面に対応するシール領域以外の一部の領域であって、前記画素領域に近接する画素近接領域を被覆する第１の遮光部と、
前記周辺領域において前記第１の遮光部が被覆する領域以外の領域を少なくとも被覆する第２の遮光部と
を含み、前記第１の遮光部が前記第２の遮光部よりも前記液晶層に近くに位置している
液晶パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置および液晶パネルに関する。特に、本発明は、反射型偏光板を偏光板として用い、その偏光板を透過した光が液晶パネルの画素領域に入射されることによって、画像の表示が実施される液晶表示装置に関する。また、本発明は、上記の液晶表示装置において用いられる液晶パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、一対の基板の間に液晶層が封入された液晶パネルを有しており、液晶パネルにおいて画素が設けられた画素領域において、画像の表示が実施される。たとえば、透過型の液晶パネルにおいては、液晶パネルの両面の側に、偏光板が配置されており、一方の偏光板を透過した光を、液晶パネルが変調し、その変調された光が他方の偏光板へ出射されることによって、画像の表示が実施される。
【０００３】
上記の液晶パネルは、たとえば、アクティブマトリクス方式であり、画素スイッチング素子として機能する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）が画素領域に形成されているＴＦＴアレイ基板と、そのＴＦＴアレイ基板から間隔を隔てて対面するように配置される対向基板とを有している。
【０００４】
液晶パネルにおいてＴＦＴアレイ基板と対向基板とのそれぞれは、周辺領域においてシール部材によって貼り合わされており、そのＴＦＴアレイ基板と対向基板との間の間隔には、液晶が充填されることによって液晶層が設けられている。
【０００５】
この液晶パネルにおいては、液晶層にイオン性不純物が混入することによって、表示画像の画像品質が低下する場合がある。イオン性不純物は、たとえば、シール部材から溶出することによって液晶層に混入する場合があり、液晶層において拡散または凝集することによって、液晶パネルの表示特性が劣化する場合がある。特に、光硬化性材料でなく、熱硬化性材料を用いてシール部材を形成した場合には、熱硬化時に発生するアウトガスによって、この不具合が顕在化する場合がある。このような不具合の発生を抑制するために、さまざまな方法が提案されている。
【０００６】
たとえば、画素領域の周辺に位置する周辺領域に、周辺電極を設ける方法が提案されている。ここでは、画素領域の周囲を額縁状に囲うように周辺電極を形成し、その周辺電極を用いて周辺領域に位置する液晶層に電圧を印加する。これによって、その周辺領域において、液晶層中に含まれる不純物イオンを電気的に吸着し、画素領域に不純物イオンが拡散することを防止している（たとえば、特許文献１，特許文献２参照）。
【０００７】
そして、この液晶パネルのＴＦＴアレイ基板においては、周辺領域において液晶層を介して入射する光を遮光するように遮光部が形成されている。ここでは、画素領域の周囲を額縁状に囲うように遮光層が形成されており、周辺領域に形成されている周辺回路へ入射する光を、その遮光層が反射することによって遮光している（たとえば、特許文献３，特許文献４参照）。
【０００８】
ところで、上記のような液晶表示装置において、液晶プロジェクタは、液晶パネルの画素領域に光を照射し、画素領域を透過した光を投影レンズがスクリーンに投影することによって、画像を表示している。
【０００９】
たとえば、カラー画像を表示する３板式の液晶プロジェクタにおいては、光源が照明した白色光を、ダイクロイックミラーを用いて、３原色の光束のそれぞれに分離する。そして、その分離された３原色の光束のそれぞれを、３つの液晶パネルの画素領域のそれぞれに照射する。その３つの液晶パネルの画素領域のそれぞれにおいては、３原色の光束のそれぞれが変調される。そして、その３つの液晶パネルの画素領域において変調された光束のそれぞれを、ダイクロイックプリズムを用いて合成し、投影レンズへ出射する。その後、その合成された光束を投影レンズが拡大するように投影することによって、画像を表示する。つまり、液晶パネルは、ライトバルブとして機能する。
【００１０】
このような液晶表示装置においては、表示画像の表示品質を向上させるために、液晶パネルに照射する光強度が増加してきている。特に、上記の液晶プロジェクタの場合においては、拡大して画像を投影表示するために、液晶パネルに照射する光強度の増加が著しい。このため、液晶表示装置においては、耐光性，耐熱性に優れた部材が適用されている。
【００１１】
たとえば、偏光板については、金属格子などのように光を反射する材料を用いた反射型偏光板が利用されている（たとえば、特許文献５参照）。
【００１２】
この反射型偏光板は、入射された光において、液晶パネルへ透過させる偏光成分以外の偏光成分に対応する偏光光を反射することによって、液晶パネルへ出射させるために必要な偏光成分の偏光光が透過するように構成されている。この反射型偏光板は、たとえば、金属膜を微細な格子状に加工することによって形成されている。このため、反射型偏光板は、耐光性，耐熱性に優れている。
【００１３】
【特許文献１】特開２０００−３３８５１０号公報
【特許文献２】特開２００２−１９６３５５号公報
【特許文献３】特開２００１−９１９４１号公報
【特許文献４】特開２００３−２７７４８号公報
【特許文献５】特開２００３−２０２５５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
しかしながら、液晶表示装置において、液晶パネルにて光が入射される面に反射型偏光板を対面させて配置した場合には、表示画像の画像品質が低下する場合がある。
【００１５】
たとえば、「迷光」と呼ばれる光が、液晶パネルの画素領域に入射されることによって、表示画像の画像品質が低下する場合がある。
【００１６】
具体的には、反射型偏光板を透過した光は、周辺領域に設けられた遮光層によって反射型偏光板の側へ反射されて遮光されるため、その遮光層によって反射型偏光板の側へ反射した光が反射型偏光板へ進行し、再度、反射型偏光板によって画素領域へ反射される場合がある。よって、その反射型偏光板によって画素領域へ反射された光が、表示画像に「迷光」として混入し、表示画像の画像品質が低下する場合がある。
【００１７】
特に、上述したように、周辺電極を設けた場合には、この不具合が顕在化する場合がある。すなわち、反射型偏光板を透過した光は、液晶層を介して遮光層に入射され、再度、液晶層を介して反射型偏光板の側へ反射されるため、周辺電極を用いて駆動された液晶層によって、反射型偏光板を透過した光は、遮光層によって反射された光と偏光状態が異なる場合がある。このため、反射型偏光板において、再度、反射され、画素領域に混入するケースが顕著になる場合が生ずるために、上記の不具合の発生が顕在化することが見出されている。
【００１８】
反射型偏光板を透過した光が周辺領域において液晶層に入射されないように、遮光膜を液晶パネルに設けることによって、上記の不具合の発生を抑制することが可能となる。しかしながら、この遮光膜を１つの構造体により実現する手法においては、遮光膜の位置精度を確保する観点、液晶表示装置を構成する片側基板の内面上に遮光層を配置し、且つ、完全に遮光するという観点から、有効表示領域端部から基板端部まで、シール部分を覆うように延伸して遮光部を配置することになる為にシール部材に光を照射させることが容易ではない。このため、光硬化性材料をシール部材に用いることが困難であり、熱硬化性材料を用いる必要があるため、その熱硬化時に発生するアウトガスによって、液晶層を汚染し、信頼性が低下する場合がある。また、遮光膜を片側基板の内面と外面という２箇所に設置する手法では、液晶表示装置を組み立てた後に、その外面に遮光膜を形成する工程を実施する必要があり、組み立てた液晶表示素子へのダメージを避けるために、多くの工程が必要になる。
【００１９】
このように、液晶表示装置においては、反射型偏光板を用いることに起因して、表示画像の画像品質が低下する場合がある。また、製造工程が複雑化し、製造効率を向上させることが困難な場合がある。
【００２０】
したがって、本発明においては、反射型偏光板を用いた場合において、表示画像の画像品質を向上することが可能であって、製造効率の向上が可能な液晶表示装置および液晶パネルを提供する。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
本発明は、画素領域と周辺領域とにおいて液晶層が設けられている液晶パネルと、前記画素領域と前記周辺領域とに対面している反射型の偏光板と、前記周辺領域において前記液晶層と前記偏光板との間に介在しており、前記偏光板を透過した光を前記偏光板の側へ反射することによって遮光する遮光部とを有し、前記偏光板を透過した光が前記画素領域に入射されることによって画像の表示が実施される液晶表示装置であって、前記液晶パネルは、前記偏光板に対面している第１基板と、前記第１基板を介して前記偏光板に対面すると共に、前記第１基板から間隔を隔てて対面している第２基板と、前記第１基板と前記第２基板とを前記周辺領域において貼り合わせるシール部材とを有し、前記液晶層が前記第１基板と前記第２基板との間において挟まれており、前記第１基板と前記第２基板とが対面する面に前記画素領域と前記周辺領域とが設けられており、前記シール部材は、光が照射されることによって硬化された光硬化性材料により形成されており、前記遮光部は、前記周辺領域において前記シール部材が配置される面に対応するシール領域以外の一部の領域であって、前記画素領域に近接する画素近接領域を被覆する第１の遮光部と、前記周辺領域において前記第１の遮光部が被覆する領域以外の領域を少なくとも被覆する第２の遮光部とを含み、前記第１の遮光部が前記第２の遮光部よりも前記液晶層の近くに位置している。
【００２２】
本発明は、画素領域と周辺領域とにおいて液晶層が設けられており、反射型の偏光板が前記画素領域と前記周辺領域とに対面していると共に、前記偏光板を透過した光を前記偏光板の側へ反射することによって遮光する遮光部が、前記周辺領域において前記液晶層と前記偏光板との間に介在している液晶パネルであって、前記偏光板に対面している第１基板と、前記第１基板を介して前記偏光板に対面すると共に、前記第１基板から間隔を隔てて対面している第２基板と、前記第１基板と前記第２基板とを前記周辺領域において貼り合わせるシール部材とを有し、前記液晶層が前記第１基板と前記第２基板との間において挟まれており、前記第１基板と前記第２基板とが対面する面に前記画素領域と前記周辺領域とが設けられており、前記シール部材は、光が照射されることによって硬化された光硬化性材料により形成されており、前記遮光部は、前記周辺領域において前記シール部材が配置される面に対応するシール領域以外の一部の領域であって、前記画素領域に近接する画素近接領域を被覆する第１の遮光部と、前記周辺領域において前記第１の遮光部が被覆する領域以外の領域を少なくとも被覆する第２の遮光部とを含み、前記第１の遮光部が前記第２の遮光部よりも前記液晶層に近くに位置している。
【００２３】
本発明においては、周辺領域にて反射型偏光板である偏光板を透過した偏光光が液晶層へ入射されずに、その偏光板へ反射されるように、遮光部が、その偏光板を透過した偏光光を周辺領域において遮光する。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、反射型偏光板を用いた場合において、表示画像の画像品質を向上することが可能であって、製造効率の向上が可能な液晶表示装置および液晶パネルを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下より、本発明にかかる実施形態の一例について説明する。
【００２６】
＜実施形態１＞
以下より、本発明にかかる実施形態１の液晶表示装置について説明する。
【００２７】
図１は、本発明にかかる実施形態１において、液晶表示装置を示す上面図である。
【００２８】
図１に示すように、本実施形態の液晶表示装置５００は、３板式の液晶プロジェクタであり、光源５０１と、第１レンズアレイ５０３と、第１反射ミラー５０４と、第２レンズアレイ５０５と、ＰＳ合成素子５０６と、第１ダイクロイックミラー５１１と、第２反射ミラー５１２と、第２ダイクロイックミラー５２１と、第１リレーレンズ５３１と、第３反射ミラー５３２と、第２リレーレンズ５３３と、第４反射ミラー５３４と、第１液晶表示部５４１Ｒと、第２液晶表示部５４１Ｇと、第３液晶表示部５４１Ｂと、第１コンデンサレンズ５５１Ｒと、第２コンデンサレンズ５５１Ｇと、第３コンデンサレンズ５５１Ｂと、ダイクロイックプリズム５６１と、投射レンズユニット５７１とを有し、スクリーン５８０にカラー画像を投影して表示するように構成されている。
【００２９】
本実施形態の液晶表示装置５００の各部について、順次、説明する。
【００３０】
光源５０１は、図１に示すように、ランプ５０１ａとリフレクター５０１ｂとを有する。ランプ５０１ａは、たとえば、メタルハライドランプを用いて構成されており、白色光を出射する。その他、超高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ等のランプが使用可能である。リフレクター５０１ｂは、光を反射する反射面を有しており、その反射面がランプ５０１ａが照射した光を反射する。リフレクター５０１ｂは、たとえば、回転楕円鏡や回転放物面のように、回転対称な凹面形状に形成されている。そして、ランプ５０１ａの発光体の発光点が、リフレクター２０１ｂの焦点位置になるように配置されている。そして、光源５０１は、各部を介して、第１液晶表示部５４１Ｒと第２液晶表示部５４１Ｇと第３液晶表示部５４１Ｂとのそれぞれに光を照射する。
【００３１】
第１レンズアレイ５０３は、複数のレンズがマトリクス状に配列されるように構成されており、光源５０１から出射された光を複数の光束に分割し、第１反射ミラー５０４の側へ出射するように設けられている。
【００３２】
第１反射ミラー５０４は、第１レンズアレイ５０３を透過した光を、第２レンズアレイ５０５へ反射するように設けられている。
【００３３】
第２レンズアレイ５０５は、第１レンズアレイ５０３と同様な構成であり、複数のマイクロレンズがマトリクス状に配列されており、第１反射ミラー５０４から出射された光を、第１ダイクロイックミラー５１１に出射する。
【００３４】
ＰＳ合成素子５０６は、第２レンズアレイ５０５から出射された光に含まれるＰ偏光成分とＳ偏光成分とを、いずれか一方の偏光成分に合成して出射するように、構成されている。具体的には、ＰＳ合成素子５０６は、第２レンズアレイ５０５において隣り合うマイクロレンズの間に対応する位置に、たとえば、１／２波長板である位相差板（図示なし）が設けられており、第２レンズアレイ５０５から出射された光を、Ｐ偏光成分とＳ偏光成分とに分離後、その分離したＰ偏光成分とＳ偏光成分とのうち、一方の偏光成分（たとえば、Ｐ偏光成分）を、その偏光方向を保持したまま出射し、他方の偏光成分（たとえば、Ｓ偏光成分）を、位相差板の作用により、その一方の偏光成分（たとえば、Ｐ偏光成分）に変換して出射する。そして、そのＰＳ合成素子５０６から出射された光が、コンデンサレンズ５０７によって集光されて、第１ダイクロイックミラー５１１に入射される。
【００３５】
第１ダイクロイックミラー５１１は、第２レンズアレイ５０５から出射された光において、青色成分の光Ｂと緑色成分の光Ｇとを反射し、赤色成分の光Ｒを透過することによって、第２レンズアレイ５０５から出射された白色光を、複数の異なる波長帯域の光に分離するように構成されている。第１ダイクロイックミラー５１１を透過した赤色成分の光Ｒは、第２反射ミラー５１２に出射され、第１ダイクロイックミラー５１１によって反射された青色成分の光Ｂと緑色成分の光Ｇは、第２ダイクロイックミラー５２１へ出射される。
【００３６】
第２反射ミラー５１２は、第１ダイクロイックミラー５１１を透過した赤色成分の光Ｒを反射することによって、第１コンデンサレンズ５５１Ｒを介して第１液晶表示部５４１Ｒに出射するように設けられている。
【００３７】
第２ダイクロイックミラー５２１は、第１ダイクロイックミラー５１１が反射した青色成分の光Ｂと緑色成分の光Ｇとのうち、青色成分の光Ｂを透過し、緑色成分の光Ｇを反射することによって、第１ダイクロイックミラー５１１が反射した光を分離する。第２ダイクロイックミラー５２１によって反射された緑色成分の光Ｇは、第２コンデンサレンズ５５１Ｇを介して第２液晶表示部５４１Ｇに出射される。一方、第２ダイクロイックミラー５２１を透過した青色成分の光Ｂは、第１リレーレンズ５３１を透過後、第３反射ミラー５３２に出射される。
【００３８】
第１リレーレンズ５３１は、第２ダイクロイックミラー５２１を透過した青色成分の光Ｂが、第３反射ミラー５３２に透過するように設けられている。この第１リレーレンズ５３１は、他の色の光よりも光路長が長い青色成分の光Ｂの利用効率を向上させるために設けられている。
【００３９】
第３反射ミラー５３２は、第１リレーレンズ５３１を透過した青色成分の光Ｂを、第２リレーレンズ５３３へ反射するように設けられている。
【００４０】
第２リレーレンズ５３３は、第３反射ミラー５３２が反射した青色成分の光Ｂを、第４反射ミラー５３４に透過するように設けられている。第２リレーレンズ５３３は、前述の第１リレーレンズ５３１と同様に、他の色の光よりも光路長が長い青色成分の光Ｂの利用効率を向上させるために設けられている。
【００４１】
第４反射ミラー５３４は、第２リレーレンズ５３３を透過した青色成分の光Ｂを、第３コンデンサレンズ５５１Ｂを介して第３液晶表示部５４１Ｂへ出射するように設けられている。
【００４２】
第１，第２および第３の液晶表示部５４１Ｒ，５４１Ｇ，５４１Ｂは、ダイクロイックプリズム５６１において光が入射される入射面に、それぞれが対面するように配置されている。詳細については後述するが、第１，第２および第３の液晶表示部５４１Ｒ，５４１Ｇ，５４１Ｂは、それぞれが液晶パネルを有する。
【００４３】
ここでは、第１液晶表示部５４１Ｒは、液晶パネルのそれぞれの面に、一対の偏光板５４２Ｒ，５４３Ｒが配置されており、入射側に設けられた一方の偏光板５４２Ｒを介して第１コンデンサレンズ５５１Ｒから入射する赤色成分の光Ｒを、液晶パネルが変調する。そして、出射側に設けられた他方の偏光板５４３Ｒを介して、その変調した光がダイクロイックプリズム５６１へ出射される。
【００４４】
また、第２液晶表示部５４１Ｇは、第１液晶表示部５４１Ｒと同様に、液晶パネルのそれぞれの面に一対の偏光板５４２Ｇ，５４３Ｇが配置されており、入射側に設けられた一方の偏光板５４２Ｇを介して第２コンデンサレンズ５５１Ｇから入射する緑色成分の光Ｇを液晶パネルが変調する。そして、出射側に設けられた他方の偏光板５４３Ｇを介して、その変調した光がダイクロイックプリズム５６１へ出射される。
【００４５】
そして、第３液晶表示部５４１Ｂは、第１液晶表示部５４１Ｒと第２液晶表示部５４１Ｇと同様に、液晶パネルのそれぞれの面に一対の偏光板５４２Ｂ，５４３Ｂが配置されており、入射側に設けられた一方の偏光板５４２Ｂを介して、第３コンデンサレンズ５５１Ｂから入射する青色成分の光Ｂを液晶パネルが変調する。そして、出射側に設けられた他方の偏光板５４３Ｂを介して、その変調された光がダイクロイックプリズム５６１へ出射される。
【００４６】
本実施形態においては、第１，第２および第３の液晶表示部５４１Ｒ，５４１Ｇ，５４１Ｂにおいて光が入射される側に設置された偏光板５４２Ｒ，５４２Ｇ，５４２Ｂのそれぞれは、いわゆる反射型偏光板である。すなわち、各偏光板５４２Ｒ，５４２Ｇ，５４２Ｂは、金属膜を微細な格子状に加工することによって形成されており、入射された光において、液晶パネルへ透過させる偏光成分以外の偏光成分に対応する偏光光を反射することによって、液晶パネルへ透過させる偏光成分の偏光光が透過するように構成されている。そして、液晶パネルにおいて画素領域と周辺領域とに対面するように配置されており、入射された光において、所定の偏光成分に対応する偏光光が画素領域と周辺領域とに透過するように構成されている。
【００４７】
一方で、第１，第２および第３の液晶表示部５４１Ｒ，５４１Ｇ，５４１Ｂにおいて光が出射される側に設置された偏光板５４３Ｒ，５４３Ｇ，５４３Ｂのそれぞれは、いわゆる吸収型偏光板である。すなわち、各偏光板５４３Ｒ，５４３Ｇ，５４３Ｂは、入射された光において透過させる偏光成分以外の偏光成分に対応する偏光光を吸収することによって、必要な偏光成分の偏光光が透過するように構成されている。そして、各液晶表示部５４１Ｒ，５４１Ｇ，５４１Ｂにおいて、光が入射される側に設けられた入射側の偏光板５４２Ｒ，５４２Ｇ，５４２Ｂと、光が出射される側に設けられた出射側の偏光板５４３Ｒ，５４３Ｇ，５４３Ｂとは、クロスニコル状態になるように配置されている。また、詳細については後述するが、第１，第２および第３の液晶表示部５４１Ｒ，５４１Ｇ，５４１Ｂを構成する液晶パネルの液晶モードがＶＡモードであり、本実施形態においては、第１，第２および第３の液晶表示部５４１Ｒ，５４１Ｇ，５４１Ｂは、いわゆるノーマリブラック方式にて画像表示を実施するように構成されている。
【００４８】
なお、第１，第２および第３の液晶表示部５４１Ｒ，５４１Ｇ，５４１Ｂの詳細については、後述する。
【００４９】
ダイクロイックプリズム５６１は、第１，第２および第３の液晶表示部５４１Ｒ，５４１Ｇ，５４１Ｂを透過した各色成分の光を合成してカラー画像を生成する。そして、その生成したカラー画像が、投射レンズユニット５７１へ出射される。
【００５０】
投射レンズユニット５７１は、ダイクロイックプリズム５６１により生成されたカラー画像をスクリーン５８０に拡大投射して表示するように設けられている。すなわち、投射レンズユニット５７１は、光源５０１によって光が照射された液晶パネルにおいて、画素領域から出射される光を投影する。ここでは、投射レンズユニット５７１は、複数のレンズを含み、ズーム機能やピント合わせ機能によって、投射する画像の大きさを調整する。
【００５１】
以下より、上記の液晶表示装置５００に含まれる第１液晶表示部５４１Ｒと、第２液晶表示部５４１Ｇと、第３液晶表示部５４１Ｂとの詳細内容について、説明する。第１液晶表示部５４１Ｒと第２液晶表示部５４１Ｇと第３液晶表示部５４１Ｂとは、いずれも同様な構成である。このため、第１液晶表示部５４１Ｒを代表として説明する。
【００５２】
図２および図３は、本発明にかかる実施形態１において、第１液晶表示部５４１Ｒの構成を示す図である。
【００５３】
ここで、図２は、本発明にかかる実施形態１において、第１液晶表示部５４１Ｒを示す平面図である。また、図３は、本発明にかかる実施形態１において、第１液晶表示部５４１Ｒを示す断面図である。図３においては、図２に示すＡ１−Ａ２部分の断面において、第１液晶表示部５４１Ｒを構成する要部を模式的に示している。
【００５４】
図２に示すように、第１液晶表示部５４１Ｒは、液晶パネル６０１と、遮光板６０２と、ＦＰＣ基板６１１とを有すると共に、図３に示すように、第１の防塵ガラス基板６２１と、第２の防塵ガラス基板６２２と、フレーム６０３とを、さらに有する。この第１液晶表示部５４１Ｒにおいては、上述したように、偏光板５４２Ｒを透過した赤色成分の光Ｒが液晶パネル６０１に入射され透過される。各部について順次説明する。
【００５５】
第１液晶表示部５４１Ｒを構成する液晶パネル６０１について説明する。
【００５６】
液晶パネル６０１は、図２に示すように、画素領域ＰＲと、その画素領域ＰＲの周辺に位置する周辺領域ＳＲとが設けられており、周辺領域ＳＲの周囲を囲うように、遮光板６０２が配置されている。
【００５７】
図４，図５，図６は、液晶パネル６０１を示す図である。
【００５８】
ここで、図４は、本発明にかかる実施形態１において、液晶パネル６０１を示す断面図である。また、図５は、本発明にかかる実施形態１において、液晶パネル６０１の平面図である。そして、図６は、本発明にかかる実施形態１において、液晶パネル６０１の回路図である。
【００５９】
液晶パネル６０１は、アクティブマトリクス型であって、図４に示すように、対向基板１と、ＴＦＴアレイ基板１１と、液晶層３１と、シール部材５１とを有している。液晶パネル６０１は、透過型であり、偏光板５２４Ｒを透過した赤色成分の光Ｒ（図１参照）を、対向基板１の側から受けた後に、液晶層３１を介して、ＴＦＴアレイ基板１１の側へ出射するように構成されている。
【００６０】
液晶パネル６０１において、対向基板１とＴＦＴアレイ基板１１とのそれぞれは、図４に示すように、互いが間隔を隔てて対面するように対向しており、シール部材５１によって貼り合わされている。そして、対向基板１とＴＦＴアレイ基板１１との間の間隔には、液晶層３１が注入されている。
【００６１】
ここでは、図５に示すように、対向基板１とＴＦＴアレイ基板１１とのそれぞれは、互いが対面している面の周端において、シール部材５１によって貼り合わされている。そして、図４および図５に示すように、対向基板１とＴＦＴアレイ基板１１とが対面している面に、画素領域ＰＲと周辺領域ＳＲとが設けられている。
【００６２】
液晶パネル６０１において画素領域ＰＲは、いわゆる有効画素領域であって、図５に示すように、画素Ｐがマトリクス状に配列されるように複数設けられている。つまり、図５に示すように、ｘ方向とｙ方向とのそれぞれに、複数の画素Ｐが並ぶように配置されている。ここでは、画素ピッチが、たとえば、２０μｍ以下になるように、画素Ｐが設けられており、複数の画素Ｐの間においては、複数の画素Ｐを区画するように、光を遮光する遮光層が設けられている。
【００６３】
また、図５に示すように、液晶パネル６０１は、端子部６１を有している。端子部６１は、上述したＦＰＣ基板６１１に接続される。そして、液晶パネル６０１は、ＦＰＣ基板６１１を介して端子部６１から供給される電気信号に基づいて、画素領域ＰＲにおいて画像表示動作が実行される。
【００６４】
この画素領域ＰＲにおいては、図６に示すように、複数の画素Ｐのそれぞれに対応するように、対向電極２３と画素電極１１１と画素スイッチング素子１１２と保持容量素子１１３とが設けられている。そして、さらに、この画素領域ＰＲにおいては、走査配線２１１と、信号配線２１２と、保持容量配線２１３とが画素領域ＰＲに設けられている。
【００６５】
そして、画素領域ＰＲにおいては、図４に示すように、対向基板１の側から入射された赤色成分の光Ｒが、液晶層３１を介して、ＴＦＴアレイ基板１１の側に出射されるように構成されており、この赤色成分の光Ｒによって画像表示が実施される。
【００６６】
詳細については後述するが、この画素領域ＰＲにおいては、図３に示したように、対向電極２３と画素電極１１１とが、液晶層３１を挟んで対面するように設けられており、対向電極２３と画素電極１１１との間において電位差が生ずるように駆動され、画素領域ＰＲに設けられている液晶層３１に電圧が印加される。そして、これにより、赤色成分の光Ｒが画素領域ＰＲにおいて透過する割合が制御されるため、画像表示が実施される。
【００６７】
一方で、液晶パネル６０１の周辺領域ＳＲにおいては、図３に示したように、周辺電極１１１ａと、第１遮光層７０１と第２遮光層７０２とが形成されている。また、周辺領域ＳＲにおいては、図３では図示を省略しているが、図６に示すように、ゲートドライバ３０１，ソースドライバ３０２，電圧制御回路３０３などの周辺回路が設けられている。
【００６８】
詳細については後述するが、周辺領域ＳＲにおいては、図３に示すように、対向電極２３がＴＦＴアレイ基板１１において画素領域ＰＲから周辺領域ＳＲに渡って延在するように形成されており、周辺電極１１１ａは、そのＴＦＴアレイ基板１１において周辺領域ＳＲに形成された対向電極２３に、液晶層３１を介して対面するように設けられている。そして、対向電極２３と周辺電極１１１ａとの間において電位差が生ずるように駆動させることによって、周辺領域ＳＲにおいて挟まれている液晶層３１に電圧が印加される。これにより、液晶層３１に含まれる不純物イオンが電気的に吸着されるため、画素領域ＰＲにおいて、その不純物イオンが拡散することが防止可能となる。また、周辺領域ＳＲにおいては、第１遮光層７０１が対向基板１に設けられ、第２遮光層７０２がＴＦＴアレイ基板１１に設けられていると共に、液晶パネル６０１において対向基板１の側に遮光板６０２が設けられており、偏光板５４２Ｒを介して入射する赤色成分の光Ｒが、その第１遮光層７０１と第２遮光層７０２と遮光板６０２とのそれぞれによって遮光されるように構成されている。
【００６９】
液晶パネル６０１を構成する各部について説明する。
【００７０】
液晶パネル６０１において対向基板１は、光を透過する絶縁体の基板であり、たとえば、石英、ガラス、プラスチックなどの材料により形成されている。対向基板１は、上述したように、ＴＦＴアレイ基板１１に間隔を隔てるように対面しており、そのＴＦＴアレイ基板１１に対面する側の面には、図３に示すように、対向電極２３と、第１遮光層７０１とが形成されている。一方で、対向基板１においてＴＦＴアレイ基板１１に対面する側の面に対して反対側の面には、図３および図４に示すように、第１の防塵ガラス基板６２１が設けられている。
【００７１】
ここで、対向基板１において対向電極２３は、たとえば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いて形成された透明電極であって、図３に示すように、対向基板１においてＴＦＴアレイ基板１１に対面する側の面に、層間絶縁膜ＩＳａを介して形成されている。ここでは、対向電極２３は、画素領域ＰＲにおいては、図３に示すように、ＴＦＴアレイ基板１１に設けられた複数の画素電極１１１に対面するように設けられている。一方で、周辺領域ＳＲにおいては、対向電極２３は、図３に示すように、ＴＦＴアレイ基板１１に設けられた周辺電極１１１ａに対面するように設けられている。すなわち、対向電極２３は、複数の画素電極１１１および周辺電極１１１ａに共通する共通電極として、対向基板１の全面にベタ状に形成されている。
【００７２】
また、対向基板１において第１遮光層７０１は、図３に示すように、対向基板１においてＴＦＴアレイ基板１１に対面する側の面に形成されている。そして、その表面には、層間絶縁膜ＩＳａが被覆されており、表面が平坦化されている。ここでは、画素領域ＰＲの周囲を額縁状に囲うように形成されている。第１遮光層７０１は、周辺領域ＳＲに対応するように設けられており、偏光板５４２Ｒを透過した赤色成分の光Ｒを、その偏光板５４２Ｒの側へ反射することによって遮光するように構成されている。すなわち、遮光層７０１は、偏光板５４２Ｒを透過した光を液晶層３１に入射する前に、偏光板５４２Ｒの側へ反射するように、偏光板５４２Ｒと液晶層３１との間に介在している。本実施形態においては、第１遮光層７０１は、偏光板５４２Ｒを透過した光が液晶層３１へ入射せずに偏光板５４２Ｒへ反射するように、液晶層３１よりも対向基板１の側になるように設けられている。また、第１遮光層７０１は、遮光板６０２よりも液晶層３１に近くに位置するように設けられている。たとえば、第１遮光層７０１は、アルミニウムなどのように光を反射する金属材料を用いて形成されており、周辺領域ＳＲに設けられた周辺回路へ光が入射することを防止している。第１遮光層７０１は、たとえば、金属材料を用いて金属膜を堆積後、リソグラフィ技術を用いてパターン加工することによって形成される。
【００７３】
また、図３に示すように、第１遮光層７０１は、周辺領域ＳＲにおいてシール部材５１が配置される面に対応するシール領域ＳＲ１以外の一部の領域であって、画素領域ＰＲに近接する画素近接領域ＳＲ２を被覆するように対向基板１に形成されている。ここでは、第１遮光層７０１は、周辺領域ＳＲにおいて、シール領域ＳＲ１の端部から画素領域ＰＲの側へ１００μｍ以上の距離Ｄ１だけ離れている領域である画素近接領域ＳＲ２を被覆するように形成されている。
【００７４】
液晶パネル６０１においてＴＦＴアレイ基板１１は、たとえば、石英、ガラス、プラスチックなどの材料により形成され、光を透過する絶縁体の基板により構成されている。ＴＦＴアレイ基板１１は、上述したように、対向基板１に間隔を隔てるように対面しており、その対向基板１に対面する側の面には、図３に示すように、画素電極１１１と、周辺電極１１１ａと、第２遮光層７０２とが形成されている。また、上記のほかに、図３においては図示を省略しているが、図６に示した構成要素において、画素スイッチング素子１１２と、保持容量素子１１３と、走査配線２１１と、信号配線２１２と、保持容量配線２１３とが、ＴＦＴアレイ基板１１において対向基板１に対面する側の面において画素領域ＰＲに形成されている。そして、周辺領域ＳＲにおいては、ゲートドライバ３０１，ソースドライバ３０２，電圧制御回路３０３が設けられている。一方で、ＴＦＴアレイ基板１１において対向基板１に対面する側の面に対して反対側の面には、図３および図４に示すように、第２の防塵ガラス基板６２２が設けられている。
【００７５】
ＴＦＴアレイ基板１１において画素電極１１１は、たとえば、ＩＴＯを用いて形成された透明電極であり、図３に示すように、ＴＦＴアレイ基板１１において対向基板１に対面する側の面に設けられている。ここでは、画素電極１１１は、画素領域ＰＲにおいて、対向基板１に設けられた対向電極２３に対面するように複数が設けられており、複数の画素電極１１１は、互いに間隔を隔てるように形成されている。また、複数の画素電極１１１は、図６に示すように、ｘ方向と、そのｘ方向に略直交するｙ方向とに、複数がマトリクス状に並ぶように形成されている。そして、複数の画素電極１１１は、それぞれに対応するように画素スイッチング素子１１２が形成され、画素スイッチング素子１１２のドレイン電極に接続されており、画素スイッチング素子１１２を介して信号配線２１２から供給されるデータ信号を、表示電圧として液晶層３１に印加するように構成されている。
【００７６】
ＴＦＴアレイ基板１１において周辺電極１１１ａは、たとえば、ＩＴＯを用いて形成された透明電極であり、図３に示すように、ＴＦＴアレイ基板１１において対向基板１に対面する側の面に設けられている。ここでは、周辺電極１１１ａは、周辺領域ＳＲにおいて、対向基板１に設けられた対向電極２３に対面するように設けられている。また、図６に示すように、周辺電極１１１ａは、画素領域ＰＲの周囲を連続的に囲って延在するように、周辺領域ＳＲに形成されている。つまり、矩形形状の面になるように設けられた画素領域ＰＲの各辺に対して平行であって、矩形形状を描くように、周辺電極１１１ａが額縁状に形成されている。また、周辺電極１１１ａは、電圧制御回路３０３に接続されており、対向電極２３と周辺電極１１１ａとの間において電位差が生ずるように電圧制御回路３０３から所定の電位が印加されることによって、周辺領域ＳＲにおいて挟まれている液晶層３１に電圧を印加する。これにより、周辺電極１１１ａは、液晶層３１に含まれる不純物イオンを電気的に吸着させて、画素領域ＰＲにおいて、その不純物イオンが拡散することを防止する。
【００７７】
ＴＦＴアレイ基板１１において画素スイッチング素子１１２は、図６に示すように、複数の画素電極１１１のそれぞれに対応するように、ｘ方向とｙ方向とにマトリクス状に複数が設けられている。画素スイッチング素子１１２は、たとえば、ＴＦＴであって、たとえば、チャネル領域が多結晶シリコンの半導体の薄膜で形成されている。この画素スイッチング素子１１２であるＴＦＴにおいては、ゲート電極が走査配線２１１に接続されており、ゲートドライバ３０１から、走査配線２１１を介して、走査信号がゲート電極に入力され、画素スイッチング素子１１２が駆動制御される。また、ソース電極が信号配線２１２に接続されており、信号配線２１２を介してソースドライバ３０２からソース電極１１２ｄにデータ信号が供給される。また、さらに、画素スイッチング素子１１２は、ドレイン電極が画素電極１１１と保持容量素子１１３とに接続されており、ゲート電極に走査信号が印加されてオン状態になった場合には、ドレイン電極から画素電極１１１と保持容量素子１１３とにデータ信号を印加する。
【００７８】
ＴＦＴアレイ基板１１において保持容量素子１１３は、図６に示すように、複数の画素電極１１１のそれぞれに対応するように、ｘ方向とｙ方向とに複数がマトリクス状に形成されている。ここでは、保持容量素子１１３は、一対の電極で誘電体膜を挟むように構成されており、一方の電極が画素スイッチング素子１１２のドレイン電極に接続され、他方の電極が保持容量配線２１３に接続されている。保持容量素子１１３は、液晶層３１による静電容量と並列になるように形成されており、液晶層３１に印加されるデータ信号による電荷を保持する。
【００７９】
ＴＦＴアレイ基板１１において走査配線２１１は、図６に示すように、ｘ方向に延在するように形成されており、ｘ方向に並ぶ画素スイッチング素子１１２に接続している。また、走査配線２１１は、ｙ方向に並ぶ画素スイッチング素子１１２に対応するように、複数がｙ方向に間隔を隔てて並んで形成されている。そして、走査配線２１１は、ゲートドライバ３０１に接続されており、画素電極１１１の行を順次、時分割で選択するように、ゲートドライバ３０１から出力される走査信号を画素スイッチング素子１１２に供給する。
【００８０】
ＴＦＴアレイ基板１１において信号配線２１２は、図６に示すように、ｙ方向に延在するように形成されており、ｙ方向に並ぶ画素スイッチング素子１１２に接続している。また、信号配線２１２は、ｘ方向に並ぶ画素スイッチング素子１１２に対応するように、複数がｘ方向に間隔を隔てて並んで形成されている。そして、信号配線２１２は、ソースドライバ３０２に接続されており、ソースドライバ３０２から出力されるデータ信号を画素電極１１１に画素スイッチング素子１１２を介して供給する。
【００８１】
ＴＦＴアレイ基板１１において保持容量配線２１３は、図６に示すように、ｘ方向に延在するようにＴＦＴアレイ基板１１に形成されており、保持容量素子１１３に接続している。保持容量配線２１３は、ｙ方向に並ぶ保持容量素子１１３に対応するように、複数がｙ方向に間隔を隔てて並んで形成されている。そして、保持容量配線２１３は、一端が保持容量素子１１３に接続されており、他端が対向電極２３に接続されている。
【００８２】
ＴＦＴアレイ基板１１において第２遮光層７０２は、図３に示すように、ＴＦＴアレイ基板１１において対向基板１に対面する側の面に形成されている。そして、その表面には層間絶縁膜ＩＳｂが被覆されており、表面が平坦化されている。本実施形態においては、第２遮光層７０２は、アルミニウムなどのように、光を反射する金属材料を用いて形成されており、図３に示すように、偏光板５４２Ｒを介して対向基板１に入射し、液晶層３１を透過した赤色成分の光Ｒを反射することによって遮光するように、周辺領域ＳＲに設けられている。つまり、画素領域ＰＲの周囲を額縁状に囲うように形成されている。具体的には、図３に示すように、第２遮光層７０２は、周辺領域ＳＲにおいてシール領域ＳＲ１以外の領域ＳＲ２，ＳＲ３に対応するように形成されており、周辺領域ＳＲに設けられた周辺回路（図示なし）へ光が入射することを防止している。第２遮光層７０２は、たとえば、金属材料を用いて金属膜を堆積後、リソグラフィ技術を用いてパターン加工することによって形成される。
【００８３】
液晶パネル６０１において液晶層３１は、図３に示すように、対向基板１とＴＦＴアレイ基板１１との間に挟まれるように設けられている。液晶層３１は、たとえば、誘電率異方性が負である液晶材料であって、Δｎが０．１０以上のものを用いている。そして、液晶層３１は、ＴＦＴアレイ基板１１と対向基板１との間において、ＴＦＴアレイ基板１１と対向基板１とが互いに対面する面に対して液晶分子の長軸が垂直に向くように、垂直配向されている。ここでは、液晶層３１は、ＴＦＴアレイ基板１１と対向基板１とが互いに対面する面に、シリコン酸化膜などの無機材料を用いて形成された配向膜（図示無し）によって配向されている。
【００８４】
そして、画素領域ＰＲにおいては、液晶層３１は、ＴＦＴアレイ基板１１の画素電極１１１と、対向基板１の対向電極２３との間において印加される電圧に基づいて、配向状態が変化し、光を透過する光学特性が変調されるように構成されている。具体的には、ＴＦＴアレイ基板１１と対向基板１とが互いに対面する面に対して液晶分子の長軸が垂直に向くように配向されている液晶層３１は、電圧が印加されることによって、液晶分子の長軸がＴＦＴアレイ基板１１と対向基板１とが互いに対面する面に対して水平に沿うように向きが変わる。つまり、画素領域ＰＲにおいては、液晶層３１は、印加電圧に応じて垂直配向状態と非垂直配向状態との間において変化するように駆動される。
【００８５】
一方、周辺領域ＳＲにおいては、液晶層３１は、対向電極２３と周辺電極１１１ａとの間において電圧が印加されることによって、液晶層３１に含まれる不純物イオンが電気的に吸着され、画素領域ＰＲにおいて、その不純物イオンが拡散することが防止される。このため、周辺領域ＳＲにおいては、液晶層３１は、電圧が印加されて、非垂直配向状態を維持するように駆動される。
【００８６】
液晶パネル６０１においてシール部材５１は、対向基板１とＴＦＴアレイ基板１１とを周辺領域ＳＲにおいて貼り合わせている。本実施形態においては、シール部材５１は、光が照射されることによって硬化された光硬化性のシール材料によって形成されている。具体的には、シール部材５１は、たとえば、紫外線の照射にて硬化する紫外線硬化性樹脂を光硬化性材料として用い、その光硬化性材料に紫外線を照射して硬化させることで、形成される。
【００８７】
第１液晶表示部５４１Ｒを構成する遮光板６０２について説明する。
【００８８】
遮光板６０２は、図２に示すように、液晶パネル６０１において周辺領域ＳＲにおいて、その周辺領域ＳＲの一部を囲うように設けられている。つまり、画素領域ＰＲの周囲を額縁状に囲うように形成されている。ここでは、遮光板６０２は、図３に示すように、液晶パネル６０１の外部に設けられており、偏光板５４２Ｒを透過した光を、その偏光板５４２Ｒの側へ反射することによって遮光するように構成されている。遮光板６０２は、偏光板５４２Ｒを透過し、偏光された偏光光が液晶層３１へ入射せずに、偏光板５４２Ｒの側へ反射するように、液晶層３１よりも対向基板１の側になるように設けられている。すなわち、遮光板６０２は、偏光板５４２Ｒを透過した光を液晶層３１に入射する前に、偏光板５４２Ｒの側へ反射するように設置されている。たとえば、遮光板６０２は、アルミニウムなどの金属材料を用いて形成されており、フレーム６０３に設置されている。そして、遮光板６０２は、周辺領域ＳＲにおいて第１遮光層７０１が被覆するように形成された領域以外の領域を少なくとも被覆するように設けられている。また、遮光板６０２は、詳細については後述するが、光の照射により光硬化性材料が硬化されることによってシール部材５１が形成された後に設けられる。
【００８９】
本実施形態においては、遮光板６０２は、図３に示すように、第１の遮光部材６０２ａと、第２の遮光部材６０２ｂとを含む。
【００９０】
遮光板６０２において第１の遮光部材６０２ａは、図３に示すように、板状体であって、液晶パネル６０１に対面するように配置されている。ここでは、第１の遮光部材６０２ａは、第１の防塵ガラス基板６２１を介して対向基板１に対面するように配置されており、偏光板５４２Ｒと液晶層３１との間に介在している。また、図３に示すように、第１の遮光部材６０２ａは、周辺領域ＳＲにおいて第１遮光層７０１が被覆するように形成された領域ＳＲ２以外の領域ＳＲ１，ＳＲ３を少なくとも被覆するように設けられており、第１遮光層７０１よりも液晶層３１から遠くに位置するように設けられている。また、第１の遮光部材６０２ａは、図３に示すように、液晶パネル６０１の画素領域ＰＲと周辺領域ＳＲとの間である境界部分から、周辺領域ＳＲの側に間隔を隔てるように設けられている。具体的には、第１の遮光部材６０２ａにおいて液晶パネル６０１の画素領域ＰＲの側に位置する端部と、液晶パネル６０１の画素領域ＰＲと周辺領域ＳＲとの間の境界部との距離Ｄ２が、１２０μｍ以上になるように設けられている。つまり、第１の遮光部材６０２ａは、画素領域ＰＲの端部から周辺領域ＳＲにおいて所定の距離Ｄ１を隔てた画素近接領域ＳＲ２の一部を、重複して被覆するように延在している。
【００９１】
一方で、遮光板６０２において第２の遮光部材６０２ｂは、図３に示すように、板状体であって、液晶パネル６０１の側面に対面するように設けられており、フレーム６０３に固定されている。具体的には、第２の遮光部材６０２ｂは、第１の遮光部材６０２ａにおいて液晶パネル６０１に対面する面に対して面が垂直に立つように設けられている。そして、第２の遮光部材６０２ｂは、液晶パネル６０１の側面に対面する面がフレーム６０３に、たとえば、接着剤を用いて接着されることによって固定されている。
【００９２】
第１液晶表示部５４１Ｒを構成するＦＰＣ基板６１１は、図２に示すように、フィルム状の絶縁性樹脂の基板に配線回路がプリントされている。そして、上述したように、一端が液晶パネル６０１の端子部６１に接続され、他端が電源（図示なし）や制御回路（図示なし）などの機器に接続される。そして、周辺回路に電気信号を送信する。
【００９３】
第１液晶表示部５４１Ｒを構成する第１の防塵ガラス基板６２１は、図３に示すように、液晶パネル６０１に対面するように設けられている。ここでは、第１の防塵ガラス基板６２１は、液晶パネル６０１を構成する対向基板１において、ＴＦＴアレイ基板１１に対面する側の面に対して反対側の面に対面するように設けられている。すなわち、第１の防塵ガラス基板６２１は、対向基板１と偏光板５４２Ｒとの間に配置されている。第１の防塵ガラス基板６２１は、たとえば、ガラスのように、光を透過する光透過性材料を用いて形成されている。そして、第１の防塵ガラス基板６２１は、第１の防塵ガラス基板６２１において液晶パネル６０１が配置された側の面に対して反対側の面に、埃が付着した場合であっても、画像表示において、その埃による画像がデフォーカスされる厚みになるように構成されている。
【００９４】
第１液晶表示部５４１Ｒを構成する第２の防塵ガラス基板６２２は、図３に示すように、液晶パネル６０１に対面するように設けられている。具体的には、第２の防塵ガラス基板６２２は、液晶パネル６０１を構成するＴＦＴアレイ基板１１において、対向基板１に対面する側の面に対して反対側の面に対面するように設けられている。第２の防塵ガラス基板６２２は、たとえば、ガラスのように、光を透過する光透過性材料を用いて形成されている。そして、第２の防塵ガラス基板６２２は、第２の防塵ガラス基板６２２において液晶パネル６０１が配置された側の面に対して反対側の面に、埃が付着した場合であっても、画像表示において、その埃による画像がデフォーカスされる厚みになるように構成されている。
【００９５】
第１液晶表示部５４１Ｒを構成するフレーム６０３は、図３に示すように、第１の防塵ガラス基板６２１と第２の防塵ガラス基板６２２とが両面に設置された液晶パネル６０１を収容空間において収容し支持するように構成されている。また、フレーム６０３は、図３に示すように、液晶パネル６０１において対向基板１の側から照射され、ＴＦＴアレイ基板１１を透過した赤色成分の光Ｒが、画素領域ＰＲにおいて透過するように、開口部ＡＰが形成されている。この開口部ＡＰを透過した赤色成分の光Ｒは、図１に示すように、偏光板５４３Ｒを介して、ダイクロイックプリズム５６１へ出射される。
【００９６】
（製造方法）
以下より、上記の第１液晶表示部５４１Ｒの製造方法において、シール部材５１を形成する工程以後の製造工程について説明する。
【００９７】
図７は、本発明にかかる実施形態１おいて、第１液晶表示部５４１Ｒを製造する際にシール部材５１を形成する以後の各工程における断面図である。図７においては、（Ａ），（Ｂ）の順にて各工程における断面図を示している。
【００９８】
まず、図７（Ａ）に示すように、シール部材５１の形成領域に設けた光硬化性材料に光を照射し、シール部材５１を形成する。
【００９９】
ここでは、図７（Ａ）に示すように、各部を設けた対向基板１とＴＦＴアレイ基板１１とを対面させ、光硬化性の接着材料を用いて貼り合わせた後に、シール部材５１の形成領域に設けた光硬化性の接着材料に光Ｈ１を照射する。具体的には、図７（Ａ）に示すように、対向基板１において液晶層３１が設けられた面に対して反対側の面から、シール部材５１の形成領域に設けた光硬化性の接着材料に照射することによって、シール部材５１を形成する。そして、液晶注入などを実施し、液晶パネル６０１を完成させる。
【０１００】
つぎに、図７（Ｂ）に示すように、第１の防塵ガラス基板６２１と第２の防塵ガラス基板６２２とのそれぞれを設置する。
【０１０１】
ここでは、図７（Ｂ）に示すように、液晶パネル６０１を構成する対向基板１において、ＴＦＴアレイ基板１１に対面する側の面に対して反対側の面に対面するように第１の防塵ガラス基板６２１を設置する。また、液晶パネル６０１を構成するＴＦＴアレイ基板１１において、対向基板１に対面する側の面に対して反対側の面に対面するように、第２の防塵ガラス基板６２２を設置する。
【０１０２】
その後、図３に示したように、遮光板６０２とフレーム６０３とのそれぞれを設置する。
【０１０３】
ここでは、図３に示したように、第１の防塵ガラス基板６２１と第２の防塵ガラス基板６２２とが両面に設置された液晶パネル６０１を、フレーム６０３の収容空間において収容し、支持させる。そして、図３に示したように、液晶パネル６０１の周辺領域ＳＲの一部を囲うように遮光板６０２を設置する。具体的には、遮光板６０２において第１の遮光部材６０２ａが第１の防塵ガラス基板６２１を介して対向基板１に対面するように、遮光板６０２を配置する。
【０１０４】
（動作）
以下より、上記の第１液晶表示部５４１Ｒにおいて画像表示が実施される際の動作について説明する。
【０１０５】
図８は、本発明にかかる実施形態１において、第１液晶表示部５４１Ｒにて画像表示が実施される際の動作を示す断面図である。一方、図９は、本発明にかかる実施形態１の第１液晶表示部５４１Ｒに対して、遮光板６０２と第１遮光層７０１とを設けない場合に画像表示が実施される際の動作を示す断面図である。
【０１０６】
上述したように、画像表示を実施する際には、画素領域ＰＲにおいては、液晶層３１は、印加電圧に応じて垂直配向状態と非垂直配向状態との間において変化するように駆動される。一方、周辺領域ＳＲにおいては、液晶層３１に含まれる不純物イオンが電気的に吸着され、画素領域ＰＲにおいて、その不純物イオンが拡散することを防止するために、液晶層３１は、対向電極２３と周辺電極１１１ａとの間において、常時、電圧が印加され、非垂直配向状態を維持するように駆動される。
【０１０７】
このため、図８に示すように、本実施形態の第１液晶表示部５４１Ｒにおいては、第２反射ミラー５１２によって反射された赤色成分の光Ｒは、部分偏光状態で偏光板５４２Ｒへ照射された後、偏光板５４２Ｒを透過することによって、直線偏光状態の偏光光Ｒ１Ｌになる。
【０１０８】
そして、その直線偏光状態の偏光光Ｒ１Ｌは、画素領域ＰＲにおいて液晶層３１に電圧が印加されない場合には、図８に示すように、その直線偏光状態を保持して液晶層３１を透過し、出射側に配置された偏光板５４３Ｒに到達する。そして、出射側に配置された偏光板５４３Ｒがクロスニコルになるように設けられているために、その直線偏光状態の偏光光Ｒ１Ｌは、偏光板５４３Ｒを透過しない。よって、画素領域ＰＲにおいては、いわゆる黒表示が実施される。
【０１０９】
一方、周辺領域ＳＲにおいては液晶層３１に電圧が印加されているが、その直線偏光状態の偏光光Ｒ１Ｌは、図８に示すように、液晶層３１に入射されずに、遮光板６０２の第１の遮光部材６０２ａおよび第１遮光層７０１によって、入射側の偏光板５４２Ｒの側へ反射される。ここでは、図８に示すように、直線偏光状態の偏光光Ｒ１Ｌは、液晶層３１を透過していないために、直線偏光状態を保持した状態にて入射側の偏光板５４２Ｒの側へ反射される。このため、第１の遮光部材６０２ａおよび第１遮光層７０１によって、入射側の偏光板５４２Ｒの側へ反射された偏光光Ｒ２Ｌは、入射側に設置された反射型偏光板である偏光板５４２Ｒにおいて反射されずに、そのまま透過する。よって、入射側の偏光板５４２Ｒの側へ反射された偏光光Ｒ２Ｌは、反射型偏光板である偏光板５４２Ｒによって画素領域ＰＲへ反射されないために、画素領域ＰＲにおいて実施されている黒表示に、「迷光」が混入しない。
【０１１０】
これに対して、図９に示すように、本実施形態の第１液晶表示部５４１Ｒにおいて遮光板６０２と第１遮光層７０１とを設けない場合には、直線偏光状態の偏光光Ｒ１Ｌは、周辺領域ＳＲにおいて、本実施形態の第１液晶表示部５４１Ｒと異なり、液晶層３１を透過し、ＴＦＴアレイ基板１１に設けられた第２遮光層７０２に到達して反射され、再度、液晶層３１を透過して、入射側の偏光板５４２Ｒの側へ進行する。このとき、この周辺領域ＳＲでは、液晶層３１に電圧が印加されているため、第２遮光層７０２によって入射側の偏光板５４２Ｒの側へ反射された偏光光Ｒ２Ｅは、直線偏光状態ではなく、楕円偏光状態の偏光光として、入射側の偏光板５４２Ｒの側へ進行する。よって、入射側の偏光板５４２Ｒの側へ反射された偏光光Ｒ２Ｅは、反射型偏光板である偏光板５４２Ｒによって、その一部が画素領域ＰＲへ、直線偏光状態の偏光光Ｒ３Ｌｂとして反射される。この反射型偏光板である偏光板５４２Ｒは、第２遮光層７０２によって反射された楕円偏光状態の偏光光Ｒ２Ｅにおいて、最初に透過した直線偏光状態の偏光光Ｒ１Ｌと同じ向きである直線偏光状態の偏光光Ｒ３Ｌａが透過される。そして、最初に透過した直線偏光状態の偏光光Ｒ１Ｌの向きに対して直交するように向いている直線偏光状態の偏光光として、反射型偏光板である偏光板５４２Ｒが、偏光光Ｒ３Ｌｂを反射する。このため、画素領域ＰＲにおいて、この直線偏光状態の偏光光Ｒ３Ｌｂが透過することになるため、「迷光」が生ずる。
【０１１１】
図１０は、本発明にかかる実施形態１において、第１液晶表示部５４１Ｒにて表示される画像と、実施形態１の第１液晶表示部５４１Ｒに対して遮光板６０２と第１遮光層７０１とを設けない場合において表示される画像とを示す図である。図１０においては、左側部分ＬＳが、実施形態１の第１液晶表示部５４１Ｒにおいて表示される画像Ｇ１であり、右側部分ＲＳが、実施形態１の第１液晶表示部５４１Ｒに対して遮光板６０２と第１遮光層７０１とを設けない場合において表示される画像Ｇ２である。
【０１１２】
図１０に示すように、本実施形態の第１液晶表示部５４１Ｒが表示する画像Ｇ１においては、「迷光」が混入していない。一方、本実施形態の第１液晶表示部５４１Ｒに対して遮光板６０２と第１遮光層７０１とを設けない場合において表示される画像Ｇ２においては、点線で示す部分Ｐ１において縞状な濃淡が現れており、「迷光」が混入している。
【０１１３】
本実施形態においては、液晶パネル６０１において光が入射される側に配置する偏光板５４２Ｒとして反射型偏光板を用いている。具体的には、入射された光Ｒにおいて直線偏光成分以外の偏光成分に対応する偏光光を反射することによって、その直線偏光状態の偏光光が透過するように構成されている反射型偏光板を用いている。しかし、周辺領域ＳＲにおいては、その偏光板５４２Ｒを透過した直線偏光状態の偏光光Ｒ１Ｌが液晶層３１へ入射せずに偏光板５４２Ｒへ反射するように、遮光板６０２と第１遮光層７０１とのそれぞれが、液晶層３１よりも対向基板１の側に設けられている。このため、上述したように、表示画像に「迷光」が混入することを防止することができる。その他、不要な光が液晶層３１に入射しないため、耐光性が向上する。
【０１１４】
したがって、本実施形態は、表示画像の画像品質を向上させることができる。
【０１１５】
また、本実施形態では、上記のように、周辺領域ＳＲにおいてシール部材５１が配置される面に対応するシール領域ＳＲ１以外の一部の領域であって、画素領域ＰＲに近接する画素近接領域ＳＲ２を被覆するように、第１遮光層７０１を形成している。つまり、液晶パネル６０１の周辺領域ＳＲにおいては、シール領域ＳＲ１以外の領域に、第１遮光層７０１のみが遮光部材として形成されている。そして、さらに、第１遮光層７０１は、周辺領域ＳＲにおいて、シール領域ＳＲ１の端部から画素領域ＰＲの側へ１００μｍ以上の距離Ｄ１だけ離れている領域である画素近接領域ＳＲ２を被覆するように形成されている。このため、本実施形態は、シール領域ＳＲ１において対向基板１から入射する光を遮光する部材が、シール領域ＳＲ１の近傍にて形成されていないために、シール領域ＳＲ１に設けた光硬化性材料に光を的確に照射することができる。
【０１１６】
図１１は、本発明にかかる実施形態１において、周辺領域ＳＲにおいてシール領域ＳＲ１の端部から第１遮光層７０１との間の距離と、シール部材５１の硬化度との関係を示す図である。図１１においては、シール部材５１が硬化した度合いを示す硬化度として、シール際液晶配向不良幅Ｌ（μｍ）が、その指標になるため、シール領域ＳＲ１の端部から第１遮光層７０１との間の距離Ｄ１と、シール際液晶配向不良幅Ｌ（μｍ）との関係を示している。すなわち、シール際液晶配向不良幅Ｌ（μｍ）は、シール部材５１の未硬化成分が液晶層３１に溶出し、液晶の配向性が低下することにより生じ、その溶出した量によってその巾Ｌが増加するため、巾Ｌを硬化度合いの指標として用いることが出来る。
【０１１７】
シール際液晶配向不良幅Ｌ（μｍ）が、１５０μｍ以下であるときは、溶出する未硬化成分量が少なく、液晶パネルの信頼性が確保されているために、好適であり、一方で、１５０μｍを超える場合には、溶出する未硬化成分量が多く、液晶パネルの信頼性を著しく損なうことが確認されているために、好適でない。このため、シール際液晶配向不良幅Ｌ（μｍ）が、１５０μｍ以下になるように形成する必要がある。
【０１１８】
したがって、図１１に示す結果から判るように、シール領域ＳＲ１の端部から第１遮光層７０１との間の距離Ｄ１は、１００μｍ以上にすることが好ましく、より好ましくは、２００μｍ以上にすることが好ましい。このようにすることによって、シール材料の露光不足に伴って、そのシール材料から未硬化成分が液晶層３１に混入することが抑制される。このため、シール際の液晶層３１の配向不良や、液晶層３１への不純物の混入による信頼性の低下を回避することが出来る。
【０１１９】
また、上記のように構成することによって、シール材料として、熱硬化性材料ではなく、光硬化性材料を使用可能であるため、熱硬化性材料を用いることによって生ずる不具合の発生を防止することができる。すなわち、熱硬化性材料を用いた場合には、硬化時に発生するアウトガスによって液晶層３１が汚染されて、信頼性が低下する場合があった。しかし、本実施形態においては、光硬化性材料を使用可能であるため、改善することができる。
【０１２０】
図１２は、本発明にかかる実施形態１において、シール領域ＳＲ１の端部から第１遮光層７０１との間の距離Ｄ１と、シール際液晶配向不良幅Ｌ（μｍ）との関係を得る際に作製した試料の顕微鏡写真である。
【０１２１】
図１２に示す各試料について、シール領域ＳＲ１の端部から第１遮光層７０１との間の距離Ｄ１と、シール際配向不良幅Ｌとを、反射型偏光顕微鏡とマイクロゲージとを用いて測定した。
【０１２２】
ここでは、液晶層３１が配向不良であるか否かについては、画素領域ＰＲの中央部分の均一な光強度と、周辺領域ＳＲのシール領域ＳＲ１の近傍における光強度とを比較することによって判定した。具体的には、画素領域ＰＲの中央部分において反射した光の光強度と、周辺領域ＳＲのシール領域ＳＲ１の近傍において反射した光の光強度とが同一である場合には、配向不良でないと判定した。一方で、画素領域ＰＲの中央部分の光強度と、周辺領域ＳＲのシール領域ＳＲ１における光強度とが異なる場合には、配向不良であると判定した。そして、図１２に示すように、光強度が異なる領域の画素領域ＰＲ側の境界でシール領域ＳＲ１から最も離れた境界から、シール材の画素領域ＰＲ側の境界の平均線までを、シール際配向不良幅Ｌとして計測した。
【０１２３】
また、本実施形態においては、光硬化性のシール材料を硬化してシール部材５１を形成した後に、遮光板６０２を設けている。ここでは、周辺領域ＳＲにおいて第１遮光層７０１が被覆するように形成された領域以外の領域を少なくとも被覆するように、遮光板６０２を設けている。また、遮光板６０２が第１遮光層７０１よりも液晶層から離れて位置するように設けられている。このため、本実施形態では、周辺領域ＳＲにおいてシール領域ＳＲ１の端部から画素領域ＰＲの側へ１００μｍ以上の距離Ｄ１だけ離れている領域である画素近接領域ＳＲ２を被覆するように、第１遮光層７０１を形成しているが、その第１遮光層７０１が形成されていない領域ＳＲ３を含む領域に入射する光を、遮光板６０２が遮光するため、表示画像に「迷光」が混入することを防止することができる。
【０１２４】
上記のように本実施形態においては、遮光板６０２と第１遮光層７０１とを、周辺領域ＳＲにおいて互いに重複するように設けた場合について説明したが、これに限定されない。遮光板６０２と第１遮光層７０１とを、周辺領域ＳＲの面方向において光が液晶層３１に入射するように、互いの間に間隔を隔ててもよい。周辺領域ＳＲの面方向において光が液晶層３１に入射するように遮光板６０２と第１遮光層７０１とを間隔を隔てて設けることによって、ケラレ抑制の効果を奏することができる。
【０１２５】
図１３は、本発明にかかる実施形態１において、遮光板６０２と第１遮光層７０１とを周辺領域ＳＲの面方向にて互いの間に間隔を設けた際の液晶パネル６０１を示す断面図である。
【０１２６】
図１３に示すように、液晶パネル６０１について、遮光板６０２と第１遮光層７０１とを、周辺領域ＳＲの面方向において互いに重複するように設けずに、周辺領域ＳＲにおいて光が液晶層３１に入射するように遮光板６０２と第１遮光層７０１との間に、所定の距離ｄの間隔Ｇａを隔てた場合においても好適な結果を得ることができる。
【０１２７】
図１４は、本発明にかかる実施形態１において、遮光板６０２と第１遮光層７０１とを周辺領域ＳＲの面方向にて互いの間に設けた間隔Ｇａの距離ｄと、迷光量Ｍとの関係を示す図である。図１４では、縦軸が迷光量Ｍを示しており、横軸が上記の距離ｄを示している。また、横軸において負の値は、遮光板６０２と第１遮光層７０１とが周辺領域ＳＲの面方向にて重複している距離を示している。そして、図１４において、破線で示す曲線Ｃ１は、測定データについて、ｄに対する最大値を結ぶことにより、得られた曲線である。
【０１２８】
ここでは、遮光板６０２の第１の遮光部材６０２ａと第１遮光層７０１とを周辺領域ＳＲの面方向にて互いの間に設けた間隔Ｇａの距離ｄが異なる液晶パネル６０１を、サンプルとして複数準備し、その複数のサンプルについて測定した迷光量Ｍの結果を示している。
【０１２９】
具体的には、液晶パネル６０１として準備したサンプルのそれぞれを液晶表示装置５００にセットし、暗室において画像を投影して、その画像の中央部分の照度ＣＳと、迷光発生部分の照度ＭＳとを測定した。ここでは、図１に示した液晶表示装置５００において第２液晶表示部５４１Ｇを、上記のようにサンプルとして作製した液晶パネル６０１を用いたものに置換すると共に、他の第１液晶表示部５４１Ｒ，第３液晶表示部５４１Ｂへ光が照射されないように第１液晶表示部５４１Ｒ，第３液晶表示部５４１Ｂを構成する液晶パネル６０１の画素領域ＰＲを遮光板を用いて遮光することによって実施した。その後、以下の数式（１）に基づいて、迷光量Ｍを算出した。なお、数式（１）において、ＨＫは、補正係数であり、光学系の面内照度分布を補正するものであり、迷光が発生しないサンプルの照度比（「迷光が発生しないサンプルの画素領域の中央部分にて測定される照度Ａ」と「迷光が発生するサンプルの迷光発生部照度ＭＳ測定位置における、迷光が発生しないサンプルの照度Ｂ」との割合（Ａ／Ｂ））を用いた。
【０１３０】
Ｍ＝ＭＳ／ＣＳ＊ＨＫ        ・・・（１）
【０１３１】
また、迷光量Ｍが１．１を越える場合には「迷光」が表示画像において視認され、迷光量Ｍが１．１以下である場合には「迷光」が表示画像において視認されないことが官能評価によって判定された。
【０１３２】
このため、図１４に示した結果から判るように、遮光板６０２と第１遮光層７０１とのそれぞれを、周辺領域ＳＲにおいて互いの間隔の距離ｄが５０μｍ以下になるように設けることが好ましい。
【０１３３】
一方で、上記の実施形態において示したように、遮光板６０２と第１遮光層７０１とを周辺領域ＳＲにおいて互いに重複するように設けた場合においては、遮光板６０２を構成する第１の遮光部材６０２ａにて液晶パネル６０１の画素領域ＰＲの側に位置する端部と、液晶パネル６０１の画素領域ＰＲと周辺領域ＳＲとの間の境界部との距離Ｄ２を、所定の距離にすることが好ましい。
【０１３４】
図１５は、本発明にかかる実施形態１において、第１の遮光部材６０２ａと画素領域ＰＲの境界部との間の距離Ｄ２と、「けられ」レベルとの関係を示す図である。図１５では、縦軸が「けられ」レベルＫＬを示しており、横軸が上記の距離Ｄ２を示している。また、横軸において負の値は、画素領域ＰＲへ遮光板６０２の第１の遮光部材６０２ａを面方向にて重複させた距離を示している。つまり、画素領域ＰＲと周辺領域ＳＲとの境界部から画素領域ＰＲの中心側へ向かう距離を負とし、逆に、周辺領域ＳＲの周端側へ向かう距離を正として示している。
【０１３５】
ここでは、上記の距離Ｄ２が異なる液晶パネル６０１を、サンプルとして複数準備し、その複数のサンプルについて測定した「けられ」レベルＫＬの結果を示している。「けられ」レベルＫＬの測定方法については、上記の迷光量Ｍの場合と同様に画像表示を実施し、その表示した画像について官能評価することによって計測した。ここでは、「けられ」が確認され、気になる、または悪い、と感じられるように表示された場合に、「けられ」が発生したと判断して、官能評価した。そして、本実施形態においては、以下に示すように、８段階のレベルに分類するように評価を実施し、レベル４以下の場合には、画品位上、許容できないレベルのケラレであるので、レベル０から４を合格範囲とした。
【０１３６】
（「けられ」レベルの判定基準）
レベル０：ケラレが視認できない
レベル１：ケラレがあるか無いか迷うレベル
レベル２：ズームを変化させてケラレが確認できるレベル
レベル３：ズームを変化させずにケラレが薄っすらと確認できるレベル
レベル４：ケラレがはっきりと確認できるレベル
レベル５：ケラレがはっきりと確認され、気になる、または悪いと感じられるレベル
レベル６：ケラレが濃く表示されるレベル
レベル７：ケラレが非常に濃いレベル
【０１３７】
図１５に示した結果から判るように、「けられ」レベルＫＬについて、レベル０から４を実現するために、第１の遮光部材６０２ａにて画素領域ＰＲの側に位置する端部と、画素領域ＰＲと周辺領域ＳＲとの間の境界部との距離Ｄ２を、１２０μｍ以上にすることが好ましく、さらに、２００μｍ以上にすることで、より好適にすることができる。
【０１３８】
＜実施形態２＞
【０１３９】
図１６および図１７は、本発明にかかる実施形態２において、第１液晶表示部５４１Ｒの構成を示す図である。
【０１４０】
ここで、図１６は、本発明にかかる実施形態２において、第１液晶表示部５４１Ｒを示す平面図である。また、図１７は、本発明にかかる実施形態２において、第１液晶表示部５４１Ｒを示す断面図である。図１７においては、図１６に示すＡ１−Ａ２部分の断面において、第１液晶表示部５４１Ｒを構成する要部を模式的に示している。
【０１４１】
図１６および図１７に示すように、本実施形態においては、実施形態１と異なり、遮光板６０２を設けずに、遮光層７０３を設けている。この点を除き、実施形態１と同様である。このため、重複する箇所に関しては、その説明を省略する。
【０１４２】
遮光層７０３は、図１７に示すように、第１の防塵ガラス基板６２１において液晶パネル６０１に対面する側の面に設けられており、絶縁性材料からなる平坦化膜ＩＳｃが被覆されている。遮光層７０３は、アルミニウムなどの金属材料を用いて形成されており、偏光板５４２Ｒを介して入射する赤色成分の光Ｒを反射することによって遮光するように、偏光板５４２Ｒと液晶層３１との間に介在している。たとえば、遮光層７０３は、金属材料を用いて金属膜を堆積後、リソグラフィ技術を用いてパターン加工することによって形成される。ここでは、遮光層７０３は、周辺領域ＳＲに設けられた周辺回路へ光が入射することを防止するように、周辺領域ＳＲの一部を囲うように設けられている。つまり、画素領域ＰＲの周囲を額縁状に囲うように形成されている。
【０１４３】
本実施形態においては、遮光層７０３は、実施形態１に示した遮光板６０２の第１の遮光部材６０２ａと同様に、周辺領域ＳＲにおいて第１遮光層７０１が被覆するように形成された領域ＳＲ２以外の領域ＳＲ１，ＳＲ３を少なくとも被覆するように設けられており、第１遮光層７０１よりも液晶層３１から遠くに位置するように設けられている。また、遮光層７０３は、図１７に示すように、液晶パネル６０１の画素領域ＰＲと周辺領域ＳＲとの間である境界部分から、周辺領域ＳＲの側に間隔を隔てるように設けられている。具体的には、遮光層７０３において液晶パネル６０１の画素領域ＰＲの側に位置する端部と、液晶パネル６０１の画素領域ＰＲと周辺領域ＳＲとの間の境界部との距離Ｄ２が、１２０μｍ以上になるように設けられている。つまり、遮光層７０３は、画素領域ＰＲの端部から周辺領域ＳＲにおいて所定の距離Ｄ２を隔てた画素近接領域ＳＲ２の一部を、重複して被覆するように延在している。
【０１４４】
本実施形態にて第１液晶表示部５４１Ｒを製造する際には、実施形態１と同様に、シール部材５１の形成領域に設けた光硬化性材料に光を照射し、シール部材５１を形成する。その後、上記のように遮光層７０３が設けられた第１の防塵ガラス基板６２１を設置する。そして、実施形態１と同様に、各部を設置することによって、第１液晶表示部５４１Ｒを完成させる。
【０１４５】
このように、本実施形態は、周辺領域ＳＲにおいては、対向基板１に形成された第１遮光層７０１と、第１の防塵ガラス６２１に形成された遮光層７０３とのそれぞれは、偏光板５４２Ｒを透過した直線偏光状態の偏光光Ｒ１Ｌが液晶層３１へ入射せずに偏光板５４２Ｒへ反射するように設けられている。このため、実施形態１と同様に、表示画像に「迷光」が混入することを防止することができる。
【０１４６】
したがって、本実施形態は、表示画像の画像品質を向上させることができる。
【０１４７】
なお、本発明の実施に際しては、上記した実施形態に限定されるものではなく、種々の変形形態を採用することができる。
【０１４８】
たとえば、上記の実施形態においては、３板式の液晶プロジェクタに本発明を適用する場合に関して説明したが、これに限定されない。たとえば、単板式の液晶プロジェクタについて適用しても、同様な効果を奏することができる。その他、投影型でなく、直視型の液晶表示装置に適用してもよい。
【０１４９】
また、上記の実施形態においては、液晶層３１に入射する光を遮光する遮光部として、２つの部材を設ける場合について説明したが、これに限定されない。たとえば、実施形態１に示した遮光板６０２と、実施形態２にて示した遮光層７０３との両者を適用し、合計で３つの遮光部を設けた場合であっても、好適であり、それを超える遮光部を設けても良い。その他、遮光板６０２と、遮光層７０１，７０３のいずれか１つを遮光部として設けた場合においても、「迷光」が表示画像に混入することを好適に防止することができる。
【０１５０】
また、上記の実施形態においては、液晶パネルに周辺電極を設けた場合について説明したが、これに限定されない。
【０１５１】
また、上記の実施形態においては、ＴＦＴを用いたアクティブマトリックス方式の液晶パネルを適用した場合について説明したが、これに限定されない。たとえば、ＴＦＤを用いたアクティブマトリクス方式の場合に適用しても良い。また、単純マトリクス型も良い。
【０１５２】
また、液晶モードについては、誘電率が負の液晶を垂直配向させたモードであるＶＡモードの場合について説明したが、これに限定されない。誘電率が正の液晶をツイスト配向させたＴＮモードでも良く、正の液晶をアンチパラレル配向したＥＣＢモードのいずれもモードにおいても、同様な効果が期待できる。更に、反射型の液晶パネルを用いた場合であっても、同様の効果が期待できる。
【０１５３】
なお、上記の実施形態において、対向基板１は、本発明の第１基板に相当する。また、本実施形態において、ＴＦＴアレイ基板１１は、本発明の第２基板に相当する。また、本実施形態において、液晶層３１は、本発明の液晶層に相当する。また、本実施形態において、シール部材５１は、シール部材に相当する。また、本実施形態において、周辺電極１１１ａは、本発明の周辺電極に相当する。また、本実施形態において、液晶表示装置５００は、本発明の液晶表示装置に相当する。また、本実施形態において、光源５０１は、本発明の光源に相当する。また、本実施形態において、投射レンズユニット５７１は、本発明の投影レンズに相当する。また、本実施形態において、入射側の偏光板５４２Ｒ，５４２Ｇ，５４２Ｂは、本発明の偏光板に相当する。また、本実施形態において、液晶パネル６０１は、本発明の液晶パネルに相当する。また、本実施形態において、遮光板６０２は、本発明の遮光部、第２の遮光部に相当する。また、本実施形態において、第１の防塵ガラス基板６２１は、本発明の第３基板に相当する。また、本実施形態において、第１遮光層７０１は、本発明の遮光部，第１の遮光部に相当する。また、本実施形態において、第２遮光層７０２は、本発明の第３の遮光部に相当する。また、本実施形態において、遮光層７０３は、本発明の遮光部、第２の遮光部に相当する。また、本実施形態において、画素Ｐは、本発明の画素に相当する。また、本実施形態において、画素領域ＰＲは、本発明の画素領域に相当する。また、本実施形態において、周辺領域ＳＲは、本発明の周辺領域に相当する。
【図面の簡単な説明】
【０１５４】
【図１】図１は、本発明にかかる実施形態１において、液晶表示装置を示す上面図である。
【図２】図２は、本発明にかかる実施形態１において、第１液晶表示部５４１Ｒを示す平面図である。
【図３】図３は、本発明にかかる実施形態１において、第１液晶表示部５４１Ｒを示す断面図である。
【図４】図４は、本発明にかかる実施形態１において、液晶パネル６０１を示す断面図である。
【図５】図５は、本発明にかかる実施形態１において、液晶パネル６０１の平面図である。
【図６】図６は、本発明にかかる実施形態１において、液晶パネル６０１の回路図である。
【図７】図７は、本発明にかかる実施形態１において、第１液晶表示部５４１Ｒを製造する際にシール部材５１を形成する以後の各工程における断面図である。
【図８】図８は、本発明にかかる実施形態１において、第１液晶表示部５４１Ｒにて画像表示が実施される際の動作を示す断面図である。
【図９】図９は、本発明にかかる実施形態１の第１液晶表示部５４１Ｒに対して、遮光板６０２と第１遮光層７０１とを設けない場合に画像表示が実施される際の動作を示す断面図である。
【図１０】図１０は、本発明にかかる実施形態１において、第１液晶表示部５４１Ｒにて表示される画像と、実施形態１の第１液晶表示部５４１Ｒに対して遮光板６０２と第１遮光層７０１とを設けない場合において表示される画像とを示す図である。
【図１１】図１１は、本発明にかかる実施形態１において、周辺領域ＳＲにおいてシール領域ＳＲ１の端部から第１遮光層７０１との間の距離Ｄ１と、シール部材５１の硬化度との関係を示す図である。
【図１２】図１２は、本発明にかかる実施形態１において、シール領域ＳＲ１の端部から第１遮光層７０１との間の距離Ｄ１と、シール際液晶配向不良幅Ｌ（μｍ）との関係を得る際に作製した試料の顕微鏡写真を示す図である。
【図１３】図１３は、本発明にかかる実施形態１において、遮光板６０２と第１遮光層７０１とを周辺領域ＳＲの面方向にて互いの間に間隔を設けた際の液晶パネル６０１を示す断面図である。
【図１４】図１４は、本発明にかかる実施形態１において、遮光板６０２と第１遮光層７０１とを周辺領域ＳＲの面方向にて互いの間に設けた間隔の距離ｄと、迷光量Ｍとの関係を示す図である。
【図１５】図１５は、本発明にかかる実施形態１において、第１の遮光部材６０２ａと画素領域ＰＲの境界部との間の距離Ｄ２と、「けられ」レベルとの関係を示す図である。
【図１６】図１６は、本発明にかかる実施形態２において、第１液晶表示部５４１Ｒを示す平面図である。
【図１７】図１７は、本発明にかかる実施形態２において、第１液晶表示部５４１Ｒを示す断面図である。
【符号の説明】
【０１５５】
１…対向基板（第１基板）、１１…ＴＦＴアレイ基板（第２基板）、２３…対向電極、３１…液晶層（液晶層）、５１…シール部材（シール部材）、１１１…画素電極、１１１ａ…周辺電極（周辺電極）、１１２…画素スイッチング素子、１１３…保持容量素子、２１１…走査配線、２１２…信号配線、２１３…保持容量配線、３０１…ゲートドライバ、３０２…ソースドライバ、３０３…電圧制御回路、５００…液晶表示装置（液晶表示装置）、５０１…光源（光源）、５０３…第１レンズアレイ、５０４…第１反射ミラー、５０５…第２レンズアレイ、５１１…第１ダイクロイックミラー、５１２…第２反射ミラー、５２１…第２ダイクロイックミラー、５３１…第１リレーレンズ、５３２…第３反射ミラー、５３３…第２リレーレンズ、５３４…第４反射ミラー、５４１Ｒ…第１液晶表示部、５４１Ｇ…第２液晶表示部、５４１Ｂ…第３液晶表示部、５５１Ｒ…第１コンデンサレンズ、５５１Ｇ…第２コンデンサレンズ、５５１Ｂ…第３コンデンサレンズ、５６１…ダイクロイックプリズム、５７１…投射レンズユニット（投影レンズ）、５８０…スクリーン、５４２Ｒ，５４２Ｇ，５４２Ｂ…入射側の偏光板（偏光板）、５４３Ｒ，５４３Ｇ，５４３Ｂ…出射側の偏光板、６０１…液晶パネル（液晶パネル）、６０２…遮光板（遮光部、第２の遮光部）、６０２ａ…第１の遮光部材、６０２ｂ…第２の遮光部材、６１１…ＦＰＣ基板、６２１…第１の防塵ガラス基板（第３基板）、６２２…第２の防塵ガラス基板、６０３…フレーム、７０１…第１遮光層（遮光部，第１の遮光部）、７０２…第２遮光層（第３の遮光部）、７０３…遮光層（遮光部、第２の遮光部）、Ｐ…画素（画素）、ＰＲ…画素領域（画素領域）、ＳＲ…周辺領域（周辺領域）
【図１】
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【図２】
0004379507.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１１】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１０】
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【図１２】
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