(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のノズルアセンブリを含むインクジェット印刷ヘッドノズルアレイであって、
各ノズルアセンブリが、
インク噴出ノズルと、
熱湾曲アクチュエータと、
前記ノズルとそのアクチュエータとを相互接続する接続部材とを含み、
前記ノズルアセンブリは、１つの行のアセンブリのノズルが、他の行の隣接ノズルアセンブリの前記接続部材間に入れ子になるよう行に配置され、
両方の行のアセンブリのアクチュエータは、前記行の同じ側に配置されており、
それぞれの接続部材は、１つの端部と反対側端部とを有するアームであり、
前記１つの端部は、関連した前記アクチュエータに接続され且つ関連した前記アクチュエータから延びており、
前記反対側端部は、関連した前記ノズルに接続されており、
前記アーム及び前記接続されたノズルは、前記アクチュエータの熱湾曲によって移動する、
インクジェット印刷ヘッドノズルアレイ。
【請求項２】
前記他の行のアクチュエータが、前記１つの行の接続部材間に収容される、請求項１のアレイ。
【請求項３】
前記アセンブリのノズルが、前記ノズルの密な配置を容易にするような形状にされる、請求項１のアレイ。
【請求項４】
前記ノズルが実質的に六角形状である、請求項３のアレイ。
【請求項５】
前記印刷ヘッドが多色印刷ヘッドであり、各色が、それと関連した２行のノズルアセンブリを有し、前記行の全てのアクチュエータが同じ方向に延びている、請求項１のアレイ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の技術分野】
本発明は、インクジェット印刷ヘッドに関する。より詳細には、本発明は、インクジェット印刷ヘッドノズルアレイに関する。
【０００２】
【同時係属出願】
本発明に関する様々な方法、システムおよびデバイスは、本発明の出願人あるいは譲受人によって本発明と同時に出願された下記の同時係属出願に開示されている：
ＰＣＴ／ＡＵ００／００５１８、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５１９、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５２０、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５２１、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５２２、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５２３、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５２４、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５２５、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５２６、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５２７、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５２８、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５２９、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５３０、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５３１、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５３２、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５３３、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５３４、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５３５、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５３６、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５３７、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５３８、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５３９、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５４０、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５４１、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５４２、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５４３、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５４４、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５４５、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５４７、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５４６、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５５４、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５５６、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５５７、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５５８、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５５９、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５６０、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５６１、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５６２、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５６３、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５６４、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５６５、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５６６、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５６７、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５６８、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５６９、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５７０、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５７１、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５７２、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５７３、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５７４、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５７５、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５７６、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５７７、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５７８、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５７９、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５８１、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５８０、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５８２、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５８７、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５８８、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５８９、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５８３、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５９３、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５９０、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５９１、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５９２、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５８４、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５８５、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５８６、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５９４、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５９５、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５９６、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５９７、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５９８、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５１６、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５１７、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５１１、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５０１、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５０２、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５０３、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５０４、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５０５、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５０６、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５０７、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５０８、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５０９、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５１０、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５１２、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５１３、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５１４、ＰＣＴ／ＡＵ００／００５１５
これらの同時係属出願の開示は、相互参照によってここに組み込まれる。
【０００３】
【発明の背景】
インクジェット印刷ヘッドでは、アレイのノズルがより密に配置されればされるほど、ますます印刷品質はより良くなる。
【０００４】
さらに、ノズルが静止して、アクチュエータがインクをノズルから噴出するために使用される場合、このようなインクはほぼ基板に垂直に噴出される。しかしながら、ノズルが変位可能である場合、インクは小さい角度でノズルから噴出される。アレイのノズルが反対方向に、すなわち互いの鏡像として変位されるように向けられる場合、このようなノズルから噴出されるインク液滴は、より大きな程度まで垂直線に対してずらされる。これは印刷品質の低下を生じ得る。
【０００５】
【発明の概要】
本発明によれば、複数のノズルアセンブリを含むインクジェット印刷ヘッドノズルアレイが備えられ、各ノズルアセンブリは、インク噴出ノズルと、アクチュエータと、ノズルをそのアクチュエータと相互接続する接続部材とを含み、このノズルアセンブリは、他の行の隣接ノズルアセンブリの接続部材間に収める１行のアセンブリのノズルに対して行で配置され、両方の行のアセンブリのアクチュエータは、行の同じ側に配置されている。
【０００６】
本出願では、用語「ノズル」は、開口を画定する要素として理解されるべきであって、開口そのものを画定する要素として理解されるべきではない。
【０００７】
各アセンブリのノズルは、移動可能であってもよいし、インク噴出を行うためのその関連アクチュエータによって変位されてもよい。
【０００８】
各アセンブリのアクチュエータは熱湾曲アクチュエータであってもよく、接続部材は、アクチュエータに接続されると共に、アクチュエータから延びる１つの端部を有し、反対側端部に有す高速に移動可能なノズルを有するアームの形である。
【０００９】
前記他の行のアクチュエータは、前記１つの行の接続部材間に収容されてもよい。
【００１０】
アセンブリのノズルは、さらにノズルの密な配置を容易にするための形状にされる。ノズルはほぼ六角形の形状であるのが好ましい。
【００１１】
印刷ヘッドは多色印刷ヘッドであってもよく、各色は、それに関連した２行のノズルアセンブリを有し、この行の全てのアクチュエータは同じ方向に延びてもよい。
【００１２】
ここで本発明を例として添付概略図を参照して説明する。
【００１３】
【図面の簡単な説明】
最初に図面の図１を参照すると、本発明によるノズルアセンブリは、一般的に参照番号１０によって示される。インクジェット印刷ヘッドは、シリコン基板１６上のインクアレイ１４（図５および図６）に配置された複数のノズルアセンブリを有する。アレイ１４は下記により詳細に説明される。
【００１４】
アセンブリ１０は、絶縁層１８が堆積されるシリコン基板あるいはウェハ１６を含む。ＣＭＯＳパッシベーション層２０は絶縁層１８上に堆積される。
【００１５】
各ノズルアセンブリ１２は、ノズル開口部２４を画定するノズル２２と、レバーアーム２６の形の接続部材と、アクチュエータ２８とを含む。レバーアーム２６は、アクチュエータ２８をノズル２２に接続する。
【００１６】
図面の図２から図４でより詳細に示されるように、ノズル２２は、クラウン部３０から垂れ下がるスカート部３２を有するクラウン部３０を含む。このスカート部３２は、ノズル室３４の周壁の一部を形成する（図面の図２から図４）。ノズル開口部２４は、ノズル室３４と流体で連通している。ノズル開口部２４が、ノズル室３４のインクの本体４０のメニスカス３８（図２）を「固定する」隆起リム３６によって囲まれることに注目すべきである。
【００１７】
インク入口アパーチャ４２（図面の図６に最も明瞭に示されている）は、ノズル室３４の床面４６に画定されている。アパーチャ４２は、基板１６を貫通するように画定されるインク入口経路４８と流体で連通されている。
【００１８】
壁部５０は、アパーチャ４２に境界をつけ、床面４６から上方へ延びる。ノズル２２の上記に示されるようにスカート部３２は、ノズル室３４の周壁の第１の部分を画定し、壁部５０は、ノズル室３４の周壁の第２の部分を画定する。
【００１９】
下記でより詳細に説明されるように、壁部５０は、ノズル２２が変位される場合、インクの漏れを禁止する流体シールとして働く内側に向けられたリップ５２をその自由端に有する。インク４０の粘度およびリップ５２とスカート部３２との間の小さい寸法の間隔のために、内側に向けられたリップ５２および表面張力は、ノズル室３４からのインクの漏れを禁止する有効なシールの機能を果たすことが分かる。
【００２０】
アクチュエータ２８は、熱湾曲アクチュエータであり、基板１６すなわちより詳細にはＣＭＯＳパッシベーション層２０から上方に延びるアンカー５４に接続される。アンカー５４は、アクチュエータ２８との電気的接続を形成する導電パッド５６に取り付けられる。
【００２１】
アクチュエータ２８は、第２のパッシブ梁６０上に配置されている第１のアクティブ梁５８を含む。好ましい実施形態では、梁５８および６０の両方は、窒化チタン（ＴｉＮ）のような導電材料セラミック材のものであるかあるいは窒化チタン（ＴｉＮ）のような導電材料セラミック材を含む。
【００２２】
梁５８および６０の両方は、アンカー５４に固定されたその第１の端部およびアーム２６に接続されたその反対側端部を有する。電流がアクティブ梁５８を通って流されると、梁５８の熱膨張が生じる。電流が流れないパッシブ梁６０は同じ速度で膨張しないので、アーム２６、したがってノズルが図面の図３に示されるように、基板１６の方へ下方に変位させる曲げモーメントが、生成される。これは、図面の図３の６２で示されるように、ノズル開口部２４を通るインクの噴出を引き起こす。熱源が、アクティブ梁５８から、すなわち電流を停止することによって取り除かれる場合、ノズル２２は、図面の図４に示されるようにその静止位置に戻る。ノズル２２がその静止位置に戻る場合、インク液滴は、図面の図４の６６に示されるようにインク液滴６４は、インク液滴のくびれの破壊の結果として形成される。したがって、インク液滴６４は、一枚の紙のような印刷媒体上に移動する。インク液滴６４の形成の結果として、「逆」メニスカスは図面の図４の６８に示されるように形成される。この「逆」メニスカス６８は、新しいメニスカス３８（図２）がノズルアセンブリ１０からの次のインク液滴噴出のための準備で形成されるようにノズル室３４の中へのインク４０の流入を生じる。
【００２３】
次に図面の図５および図６を参照すると、ノズルアレイ１４はより詳細に説明される。アレイ１４は４色印刷ヘッドのためのものである。したがって、各色に対して１つのグループの４グループ７０のノズルアセンブリを含む。各グループ７０は、２つの行７２および７４に配置されたそのノズルアセンブリ１０を有する。グループ７０の１つは図面の図６により詳細に示されている。
【００２４】
行７２および７４のノズルアセンブリ１０の密な配置を容易にするために、行７４のノズルアセンブリ１０は、行７２のノズルアセンブリ１０に対してずらされるかあるいは互い違いに配置される。さらに、行７２のノズルアセンブリ１０は、行７４のノズルアセンブリ１０のレバーアーム２６が行７２のアセンブリ１０の隣接ノズル２２間を通ることができるように互いから十分遠く離間されている。行７２のノズル２２がノズル２２と行７４の隣接ノズルアセンブリ１０のアクチュエータ２８との間に入れ子になるように各ノズルアセンブリ１０がほぼダンベル状にされることに注目すべきである。
【００２５】
さらに、行７２および７４のノズル２２の密な配置を容易にするために、各ノズル２２はほぼ六角形状にされる。
【００２６】
ノズル２２がノズル室３４に対して小さい角度であるノズル開口部２４のために使用中基板１６の方へ変位される場合、インクは垂直線をわずかに離れて噴出されることが当業者には理解されるだろう。行７２および７４のノズルアセンブリ１０のアクチュエータ２８が行７２および７４の片側に同じ方向に延びることは、図面の図５および図６に示された配置の長所である。したがって、行７２のノズル２２から噴出されるインクおよび行７４のノズル２２から噴出されるインクは、同じ角度だけ互いに対してずらされ、改良された印刷品質が得られる。
【００２７】
さらに、図面の図５に示されるように、基板１６は、パッド５６を介してノズルアセンブリ１０のアクチュエータ２８への電気接続を行う、上に配置されたボンドパッド７６を有する。これらの電気接続は、ＣＭＯＳ層（図示せず）を介して形成される。
【００２８】
図の図７を参照すると、本発明の発展型が示されている。前述の図面を参照すると、同じ参照番号は、特段の指定がない限り、同じ部品を示す。
【００２９】
この発展型では、ノズルガード８０はアレイ１４の基板１６上に取り付けられる。ノズルガード８０は、中を貫通するように画定された複数の通路８４を有する本体部材８２を含む。通路８４は、インクがノズル開口部２４のいずれかから噴出される場合にインクが印刷媒体に当たる前に関連通路を通過するようにアレイ１４のノズルアセンブリ１０のノズル開口部２４と位置合わせされている。
【００３０】
本体部材８２は、突出部あるいは支柱８６によってノズルアセンブリ１０に対して間隔をあけられた関係で取り付けられる。支柱８６の１つは中に画定された空気入口開口部８８を有する。
【００３１】
使用中、アレイ１４が動作中である場合、空気は、通路８４を通って移動するインクとともに通路８４を強制的に通過されるように入口開口部８８を通して満たされる。
【００３２】
インクは、空気がインク液滴６４の速度とは異なる速度で通路８４を通って満たされるので空気に巻き込まれない。例えば、インク液滴６４は、約３ｍ／ｓの速度でノズル２２から噴出される。空気は、約１ｍ／ｓの速度で通路８４を通って満たされる。
【００３３】
空気の目的は、通路８４を異物粒子がないように保持することにある。その動作に悪影響を及ぼす塵芥粒子のようなこれらの異物粒子がノズルアセンブリ１０上に当たり得る危険が存在する。ノズルガード８０の空気入口開口部８８を設けることで、この問題は大幅に解消される。
【００３４】
次に、図面の図８から図１０を参照すると、ノズルアセンブリ１０を製造するプロセスが説明される。
【００３５】
シリコン基板あるいはウェハ１６で始めると、絶縁層１８はウェハ１６の表面上に堆積される。絶縁層１８は、約１５ミクロンのＣＶＤ酸化膜の形である。レジストは、層１８上にスピンされ、層１８はマスク１００まで露光され、その後現像される。
【００３６】
現像された後、層１８は、シリコン層１６まで下方にプラズマエッチングされる。次に、このレジストは剥離され、層１８は洗浄される。このステップはインク入口アパーチャ４２を画定する。
【００３７】
図面の図８ｂでは、約０．８ミクロンのアルミニウム１０２は層１８上に堆積される。レジストは、スピンされ、アルミニウム１０２は、マスク１０４まで露光され、現像される。アルミニウム１０２は、酸化層１８まで下方にプラズマエッチングされ、レジストは剥離され、デバイスは洗浄される。このステップは、ボンドパッドを設け、インクジェットアクチュエータ２８に相互接続する。この相互接続は、ＮＭＯＳ駆動トランジスタおよびＣＭＯＳ層（図示せず）に形成される接続部を有する電源プレーンに対してである。
【００３８】
約０．５ミクロンのＰＥＣＶＤ窒化膜は、ＣＭＯＳパッシベーション層２０として堆積される。レジストは、スピンされ、層２０は、マスク１０６まで露光され、その後、現像される。現像後、窒化膜は、アルミニウム層１０２および入口アパーチャ４２の領域のシリコン層１６まで下方にプラズマエッチングされる。レジストは、剥離され、このデバイスは洗浄される。
【００３９】
犠牲材料の層１０８は層２０上にスピンされる。層１０８は、６ミクロンの感光性ポリイミドあるいは約４μｍの高温レジストである。層１０８は、ソフトベークされ、次にマスク１１０まで露光され、その後現像される。次に、層１０８は、層１０８がポリイミドで構成される場合１時間４００℃で、あるいは層１０８が高温レジストである場合３００℃以上でハードベークされる。収縮によって引き起こされるポリイミド層１０８のパターン依存歪みがマスク１１０の設計で考慮されることが図面で注目されるべきである。
【００４０】
図面の図８ｅで示された次のステップでは、第２の犠牲層１１２が塗布される。層１１２は、スピンされる２μｍの感光性ポリイミドあるいは約１．３μｍの高温レジストのいずれかである。層１１２は、ソフトベークされ、マスク１１４まで露光される。マスク１１４までの露光後、層１１２は現像される。ポリイミドである層１１２の場合、層１１２は、約１時間４００℃でハードベークされる。層１１２がレジストである場合、層１１２は、約１時間３００℃以上でハードベークされる。
【００４１】
次に０．２ミクロン多層金属層１１６が堆積される。この層１１６の一部は、アクチュエータ２８のパッシブ梁６０を形成する。
【００４２】
層１１６は、約３００℃で１，０００Åの窒化チタン（ＴｉＮ）をスパッタリングするのに続いて５０Åの窒化タンタル（ＴａＮ）をスパッタリングすることによって形成される。更なる１，０００ÅのＴｉＮがスパッタリングされ、５０ÅのＴａＮおよび更なる１，０００ÅのＴｉＮがあとに続く。
【００４３】
ＴｉＮの代わりに使用できる他の材料は、ＴｉＢ2、ＭｏＳｉ2あるいは（Ｔｉ、Ａｌ）Ｎである。
【００４４】
次に、層１１６は、マスク１１８まで露光され、層１１２まで下方にプラズマエッチングされ、その後層１１６のために塗布されるレジストは、硬化層１０８あるいは１１２を取り除かないように注意して剥離される。
【００４５】
第３の犠牲層１２０は、４μｍの感光性ポリイミドあるいは約２．６μｍの高温レジスト上にスピンすることによって塗布される。層１２０は、ソフトベークされ、その後マスク１２２まで露光される。次いで、露光層が現像されて、続いてハードベークされる。ポリイミドの場合、層１２０は、約１時間４００℃であるいは層１２０がレジストを構成する場合３００℃以上でハードベークされる。
【００４６】
第２の多層金属層１２４は層１２０に塗布される。層１２４の成分は、層１１６と同じであり、同じように塗布される。層１１６および１２４の両方が導電性層であることが分かる。
【００４７】
層１２４は、マスク１２６まで露光され、次に現像される。層１２４は、ポリイミドあるいはレジスト層１２０まで下方にプラズマエッチングされ、その後層１２４のために塗布されるレジストは、硬化層１０８、１１２あるいは１２０を取り除かないように注意して湿式剥離される。層１２４の残りの部分がアクチュエータ２８のアクティブ梁５８を画定することに注目されたい。
【００４８】
第４の犠牲層１２８は、４μｍの感光性ポリイミドあるいは約２．６μｍの高温レジスト上にスピンすることによって塗布される。層１２８は、ソフトベークされ、マスク１３０まで露光され、次に図面の図９ｋに示されるようにアイランド部を残すように現像される。層１２８の残りの部分は、ポリイミドの場合約１時間４００℃であるいはレジストに対して３００℃以上でハードベークされる。
【００４９】
図面の図８Ｉに示されるように、高ヤング係数絶縁層１３２が堆積される。層１３２は、約１μｍの窒化シリコンあるいは酸化アルミニウムによって構成される。層１３２は、犠牲層１０８、１１２、１２０、１２８をハードベークした温度以下の温度で堆積される。この絶縁層１３２に必要とされる主要特性は、高弾性係数であり、化学的に不活性であることであり、ＴｉＮに良好な密着性である。
【００５０】
第５の犠牲層１３４は、２μｍの感光性ポリイミドあるいは約１．３μｍの高温レジスト上にスピンすることによって塗布される。層１３４は、ソフトベークされ、マスク１３６まで露光され、現像される。次に、層１３４の残りの部分は、ポリイミドの場合１時間４００℃であるいはレジストに対して３００℃以上でハードベークされる。
【００５１】
絶縁層１３２は、犠牲層１３４のいずれかを取り除かないように注意して犠牲層１２８まで下方へプラズマエッチングされる。
【００５２】
この工程は、ノズル開口部２４、ノズルアセンブリ１０のレバーアーム２６およびアンカー５４を画定する。
【００５３】
高ヤング係数絶縁層１３８が堆積される。この層１３８は、絶縁層１０８、１１２、１２０および１２８をハードベークした温度以下の温度で０．２μｍの窒化シリコンあるいは窒化アルミニウムを堆積することによって形成される。
【００５４】
次に、図面の図８ｐに示されるように、層１３８は、０．３５ミクロンの深さまで異方性プラズマエッチングされる。このエッチングは、絶縁層１３２および犠牲層１３４の側壁を除いて表面の全てから誘電体を取り除くことを目的としている。この工程は、前述されるように、ノズルリム３６をインクメニスカスを「固定する」ノズル開口部２４の周りに形成する。
【００５５】
紫外線（ＵＶ）放出テープ１４０が用いられる。４μｍのレジストは、シリコンウェハ１６の後部にスピンされる。ウェハ１６は、マスク１４２まで露光され、ウェハ１６をバックエッチングし、インク入口経路４８を画定する。次に、レジストはウェハ１６から剥離される。
【００５６】
他のＵＶ放出テープ（図示せず）は、ウェハ１６の後部に付着され、テープ１４０は取り除かれる。犠牲層１０８、１１２、１２０、１２８および１３４は、図面の図８ｒおよび図９ｒに示されているように最終ノズルアセンブリ１０を設けるように酸素プラズマで剥離される。参照を容易にするために、これらの２つの図面に示された参照番号は、図面の図１の参照番号と同じであり、ノズルアセンブリ１０の関連部品を示す。図１１および図１２は、図８および図９を参照して前述されたプロセスにより製造されたノズルアセンブリ１０の動作を示し、これらの図は図面の図２から図４に対応する。
【００５７】
多数の変更および／または修正が大まかに説明された本発明の精神あるいは範囲から逸脱しないで特定の実施形態に示されたように本発明に対して行われうることが当業者には理解されるだろう。したがって、本実施形態は、全ての点で具体的で、限定的でなく考察されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【図１】  インクジェット印刷ヘッドのためのノズルアセンブリの３次元概略図を示す。
【図２】  図１のノズルアセンブリの動作の３次元概略図を示す。
【図３】  図１のノズルアセンブリの動作の３次元概略図を示す。
【図４】  図１のノズルアセンブリの動作の３次元概略図を示す。
【図５】  インクジェット印刷ヘッドを構成する本発明によるノズルアレイの３次元図を示す。
【図６】  図５のアレイの一部を拡大スケールで示す。
【図７】  ノズルガードを含むインクジェット印刷ヘッドの３次元図を示す。
【図８ａ】  インクジェット印刷ヘッドのノズルアセンブリの製造の工程の３次元図を示す。
【図８ｂ】  インクジェット印刷ヘッドのノズルアセンブリの製造の工程の３次元図を示す。
【図８ｃ】  インクジェット印刷ヘッドのノズルアセンブリの製造の工程の３次元図を示す。
【図８ｄ】  インクジェット印刷ヘッドのノズルアセンブリの製造の工程の３次元図を示す。
【図８ｅ】  インクジェット印刷ヘッドのノズルアセンブリの製造の工程の３次元図を示す。
【図８ｆ】  インクジェット印刷ヘッドのノズルアセンブリの製造の工程の３次元図を示す。
【図８ｇ】  インクジェット印刷ヘッドのノズルアセンブリの製造の工程の３次元図を示す。
【図８ｈ】  インクジェット印刷ヘッドのノズルアセンブリの製造の工程の３次元図を示す。
【図８ｉ】  インクジェット印刷ヘッドのノズルアセンブリの製造の工程の３次元図を示す。
【図８ｊ】  インクジェット印刷ヘッドのノズルアセンブリの製造の工程の３次元図を示す。
【図８ｋ】  インクジェット印刷ヘッドのノズルアセンブリの製造の工程の３次元図を示す。
【図８ｌ】  インクジェット印刷ヘッドのノズルアセンブリの製造の工程の３次元図を示す。
【図８ｍ】  インクジェット印刷ヘッドのノズルアセンブリの製造の工程の３次元図を示す。
【図８ｎ】  インクジェット印刷ヘッドのノズルアセンブリの製造の工程の３次元図を示す。
【図８ｏ】  インクジェット印刷ヘッドのノズルアセンブリの製造の工程の３次元図を示す。
【図８ｐ】  インクジェット印刷ヘッドのノズルアセンブリの製造の工程の３次元図を示す。
【図８ｑ】  インクジェット印刷ヘッドのノズルアセンブリの製造の工程の３次元図を示す。
【図８ｒ】  インクジェット印刷ヘッドのノズルアセンブリの製造の工程の３次元図を示す。
【図９ａ】  製造工程の断面側面図を示す。
【図９ａ】  製造工程の断面側面図を示す。
【図９ｂ】  製造工程の断面側面図を示す。
【図９ｃ】  製造工程の断面側面図を示す。
【図９ｄ】  製造工程の断面側面図を示す。
【図９ｅ】  製造工程の断面側面図を示す。
【図９ｆ】  製造工程の断面側面図を示す。
【図９ｇ】  製造工程の断面側面図を示す。
【図９ｈ】  製造工程の断面側面図を示す。
【図９ｉ】  製造工程の断面側面図を示す。
【図９ｊ】  製造工程の断面側面図を示す。
【図９ｋ】  製造工程の断面側面図を示す。
【図９ｌ】  製造工程の断面側面図を示す。
【図９ｍ】  製造工程の断面側面図を示す。
【図９ｎ】  製造工程の断面側面図を示す。
【図９ｏ】  製造工程の断面側面図を示す。
【図９ｐ】  製造工程の断面側面図を示す。
【図９ｑ】  製造工程の断面側面図を示す。
【図９ｒ】  製造工程の断面側面図を示す。
【図１０ａ】  製造工程のいろいろな工程で使用されるマスクのレイアウトを示す。
【図１０ｂ】  製造工程のいろいろな工程で使用されるマスクのレイアウトを示す。
【図１０ｃ】  製造工程のいろいろな工程で使用されるマスクのレイアウトを示す。
【図１０ｄ】  製造工程のいろいろな工程で使用されるマスクのレイアウトを示す。
【図１０ｅ】  製造工程のいろいろな工程で使用されるマスクのレイアウトを示す。
【図１０ｆ】  製造工程のいろいろな工程で使用されるマスクのレイアウトを示す。
【図１０ｇ】  製造工程のいろいろな工程で使用されるマスクのレイアウトを示す。
【図１０ｈ】  製造工程のいろいろな工程で使用されるマスクのレイアウトを示す。
【図１０ｉ】  製造工程のいろいろな工程で使用されるマスクのレイアウトを示す。
【図１０ｊ】  製造工程のいろいろな工程で使用されるマスクのレイアウトを示す。
【図１０ｋ】  製造工程のいろいろな工程で使用されるマスクのレイアウトを示す。
【図１１ａ】  図８および図９の方法により製造されたノズルアセンブリの動作の３次元図を示す。
【図１１ｂ】  図８および図９の方法により製造されたノズルアセンブリの動作の３次元図を示す。
【図１１ｃ】  図８および図９の方法により製造されたノズルアセンブリの動作の３次元図を示す。
【図１２ａ】  図８および図９の方法により製造されたノズルアセンブリの動作の断面側面図を示す。
【図１２ｂ】  図８および図９の方法により製造されたノズルアセンブリの動作の断面側面図を示す。
【図１２ｃ】  図８および図９の方法により製造されたノズルアセンブリの動作の断面側面図を示す。
【図１】
0004373638.tif 000002
【図２】
0004373638.tif 000003
【図３】
0004373638.tif 000004
【図４】
0004373638.tif 000005
【図５】
0004373638.tif 000006
【図６】
0004373638.tif 000007
【図７】
0004373638.tif 000008
【図８ａ】
0004373638.tif 000009
【図９ａ】
0004373638.tif 000010
【図１０ａ】
0004373638.tif 000011
【図８ｂ】
0004373638.tif 000012
【図９ｂ】
0004373638.tif 000013
【図１０ｂ】
0004373638.tif 000014
【図８ｃ】
0004373638.tif 000015
【図９ｃ】
0004373638.tif 000016
【図１０ｃ】
0004373638.tif 000017
【図８ｄ】
0004373638.tif 000018
【図９ｄ】
0004373638.tif 000019
【図１０ｄ】
0004373638.tif 000020
【図８ｅ】
0004373638.tif 000021
【図９ｅ】
0004373638.tif 000022
【図１０ｅ】
0004373638.tif 000023
【図８ｆ】
0004373638.tif 000024
【図９ｆ】
0004373638.tif 000025
【図８ｇ】
0004373638.tif 000026
【図９ｇ】
0004373638.tif 000027
【図１０ｆ】
0004373638.tif 000028
【図８ｈ】
0004373638.tif 000029
【図９ｈ】
0004373638.tif 000030
【図１０ｇ】
0004373638.tif 000031
【図８ｉ】
0004373638.tif 000032
【図９ｉ】
0004373638.tif 000033
【図８ｊ】
0004373638.tif 000034
【図９ｊ】
0004373638.tif 000035
【図１０ｈ】
0004373638.tif 000036
【図８ｋ】
0004373638.tif 000037
【図９ｋ】
0004373638.tif 000038
【図１０ｉ】
0004373638.tif 000039
【図８ｌ】
0004373638.tif 000040
【図９ｌ】
0004373638.tif 000041
【図８ｍ】
0004373638.tif 000042
【図９ｍ】
0004373638.tif 000043
【図１０ｊ】
0004373638.tif 000044
【図８ｎ】
0004373638.tif 000045
【図９ｎ】
0004373638.tif 000046
【図８ｏ】
0004373638.tif 000047
【図９ｏ】
0004373638.tif 000048
【図８ｐ】
0004373638.tif 000049
【図９ｐ】
0004373638.tif 000050
【図８ｑ】
0004373638.tif 000051
【図９ｑ】
0004373638.tif 000052
【図１０ｋ】
0004373638.tif 000053
【図８ｒ】
0004373638.tif 000054
【図９ｒ】
0004373638.tif 000055
【図１１ａ】
0004373638.tif 000056
【図１２ａ】
0004373638.tif 000057
【図１１ｂ】
0004373638.tif 000058
【図１２ｂ】
0004373638.tif 000059
【図１１ｃ】
0004373638.tif 000060
【図１２ｃ】
0004373638.tif 000061