(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
筒状のカバーと、前記カバーの両端開口部に対して着脱可能なエンドキャップとを備えたエレメント収容体の内部にある空間に、気体を濾過するためのフィルタエレメントを収容するとともに、前記空間に連通する第１ポート及び第２ポートを前記収容体にそれぞれ設け、真空発生時に第２ポート側から前記フィルタエレメントを経由して第１ポート側へ気体が流れる第１の経路と、真空破壊時に第１ポート側から前記フィルタエレメントを経由して第２ポート側へ気体が流れる第２の経路とから構成された真空用フィルタにおいて、
前記空間内には、弾性体からなる環状部材であって、内周面に所定方向に傾斜する第１リップ部を有し、かつ外周面に前記第１リップ部と反対方向に傾斜する第２リップ部を有するリップパッキンを構成要素とするチェック弁を設け、該チェック弁は前記第１リップ部及び前記第２リップ部が前記空間内の周面に圧接するように配設されるとともに、真空発生時には前記第１リップ部または第２リップ部のいずれか一方を押圧することにより第１の経路を介して気体が流れ、真空破壊時には前記第１リップ部または第２リップ部のいずれか他方を押圧することにより第２の経路を介して気体が流れることを特徴とする真空用フィルタ。
【請求項２】
前記フィルタエレメントは、前記第１の経路の途上に位置する第１エレメント部材と、前記第２の経路の途上に位置する第２エレメント部材とからなり、両エレメント部材は互いに分離可能であることを特徴とする請求項１に記載の真空用フィルタ。
【請求項３】
前記フィルタエレメントは前記両経路の途上に位置するとともに、前記フィルタエレメントを通過する際の気体の流れ方向は常に―定であることを特徴とする請求項１に記載の真空用フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、真空用フィルタに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
通常、真空ポンプやエジェクタ等の真空源と、吸着パッド等の吸引部とを接続する配管の途中には真空用フィルタが配設される。
【０００３】
図７（ａ）及び図７（ｂ）に示すように、真空用フィルタ９１としてのエレメント収容体９２の内部にある空間９３には、エアを濾過するためのフィルタエレメント９４が収容されている。エレメント収容体９２には、前記空間９３に連通する第１ポート９５及び第２ポート９６がそれぞれ設けられている。
【０００４】
図７（ａ）に示すように、真空発生時には、エアが第２ポート９６側からフィルタエレメント９４の濾過部を経由して第１ポート９５側へ流れるようになっている。その結果、吸着パッドから吸い込まれた塵埃９７が除去される。また、図７（ｂ）に示すように、真空破壊時には、エアが第１ポート９５側からフィルタエレメント９４の濾過部を経由して第２ポート９６側へ流れるようになっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、真空用フィルタ９１におけるエアの流れは、真空発生時と真空破壊時とでは逆になっている。即ち、真空発生時においては、エアが濾過部を外周面側から内周面側に抜けるようにして通過する。真空破壊時においては、エアがフィルタエレメント９４を通過する。よって、真空発生時に吸い取った塵埃９７が、真空破壊時には図示しないワーク側へ吹き飛ばされてしまうという問題がある。その結果、塵埃９７が半導体チップ等のワークに付着するおそれがある。
【０００６】
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、塵埃がワークに付着するのを防止する真空用フィルタを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、請求項１に記載の発明では、  筒状のカバーと、前記カバーの両端開口部に対して着脱可能なエンドキャップとを備えたエレメント収容体の内部にある空間に、気体を濾過するためのフィルタエレメントを収容するとともに、前記空間に連通する第１ポート及び第２ポートを前記収容体にそれぞれ設け、真空発生時に第２ポート側から前記フィルタエレメントを経由して第１ポート側へ気体が流れる第１の経路と、真空破壊時に第１ポート側から前記フィルタエレメントを経由して第２ポート側へ気体が流れる第２の経路とから構成された真空用フィルタにおいて、前記空間内には、弾性体からなる環状部材であって、内周面に所定方向に傾斜する第１リップ部を有し、かつ外周面に前記第１リップ部と反対方向に傾斜する第２リップ部を有するリップパッキンを構成要素とするチェック弁を設け、該チェック弁は前記第１リップ部及び前記第２リップ部が前記空間内の周面に圧接するように配設されるとともに、真空発生時には前記第１リップ部または第２リップ部のいずれか一方を押圧することにより第１の経路を介して気体が流れ、真空破壊時には前記第１リップ部または第２リップ部のいずれか他方を押圧することにより第２の経路を介して気体が流れることを要旨とする。
【０００８】
請求項２に記載の発明では、請求項１において、前記フィルタエレメントは、前記第１の経路の途上に位置する第１エレメント部材と、前記第２の経路の途上に位置する第２エレメント部材とからなり、両エレメント部材は互いに分離可能であることを要旨とする。
【０００９】
請求項３に記載の発明では、請求項１において、前記フィルタエレメントは前記両経路の途上に位置するとともに、前記フィルタエレメントを通過する際の気体の流れ方向は常に―定であることを要旨とする。
【００１０】
以下、本発明の「作用」について説明する。
請求項１に記載の発明によると、真空発生時には、気体が第１の経路に設けられたフィルタエレメントを通過する。また、真空破壊時には、気体が第２の経路に設けられたフィルタエレメントを通過する。よって、真空発生時に吸い取った塵埃が、真空破壊時にワーク側へ吹き飛ばされてしまうことはない。従って、塵埃はワークに付着しにくくなる。
【００１１】
請求項２に記載の発明によると、カバーは筒状に形成され、エンドキャップは、カバーの両端開口部に対して着脱可能なので、真空用フィルタを分解してフィルタエレメントを取り出すことができる。第１エレメント部材と第２エレメント部材とは、互いに分離可能になっている。従って、第１エレメント部材及び第２エレメント部材の濾過度をそれぞれ選ぶことができる。また、第１エレメント部材または第２エレメント部材のどちらか片方に目詰まりが発生した場合において、片方だけを適切な時期に交換することができる。
【００１２】
請求項３に記載の発明によると、濾過部は、第１の経路と第２の経路との両方において、同じ箇所に配置される。濾過部を通過する気体の流れ方向は常に一定になっている。よって、フィルタエレメントが２つの部材によって構成されていなくてもよい。従って、フィルタエレメントを構成する部品の数が少なくなるため、真空用フィルタを小さくすることができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
（第１実施形態）
以下、本発明を具体化した第１実施形態の真空用フィルタを図１〜図５に基づき詳細に説明する。
【００１４】
図１及び図２に示すように、真空用フィルタ１１の外部をなすエレメント収容体１２は、筒状のカバー１３に同カバー１３の両端開口部に対して着脱可能なエンドキャップ１４ａ，１４ｂを嵌め合せることによって構成されている。エンドキャップ１４ａ，１４ｂは、図示しない取付部によってカバー１３に嵌合されている。これらカバー１３及びエンドキャップ１４ａ，１４ｂによって空間１５が形成されている。
【００１５】
エンドキャップ１４ａは、カバー１３の上側開口部に対して着脱可能に取り付けられている。エンドキャップ１４ａの中心には、カバー１３の軸線方向に沿って第１ポート１７が形成されている。第１ポート１７の上半分には、ネジ部１８が形成されている。ネジ部１８の下側の内径は、同ネジ部１８の内径よりも小さくなっている。この第１ポート１７は、前記空間１５に連通している。
【００１６】
第１ポート１７の下方には、円柱状の突出部１９が設けられ、その先端は空間１５内に突出されている。突出部１９は、円筒状の第１接続部２０によって前記エンドキャップ１４ａに接続されている。第１接続部２０の側面には、第１連通孔２１が一定間隔に数箇所（図示されていない）形成されている。第１接続部２０の外周付近には、第２接続部２２がエンドキャップ１４ａの下面から突設されている。第２接続部２２の下端部は、断面凸状に形成されている。第２接続部２２には、第２連通孔２３が一定間隔に数箇所（図示されていない）形成されている。第２接続部２２の外側には、第３接続部２４が前記エンドキャップ１４ａの下面から突設されている。第３接続部２４の下端部は、断面凹状に形成されている。
【００１７】
第３接続部２４の外周面における上端部には、Ｏリング挿入溝２５ａが円周方向に沿って形成されている。Ｏリング挿入溝２５ａには、ゴム製のＯリング２８が挿入されている。このＯリング２８によって、カバー１３の内壁面とエンドキャップ１４ａとが密着される。エンドキャップ１４ａの張り出し２６ａは、基端部１６ａよりも突出した状態で形成されている。張り出し２６ａの下面がカバー１３の開口端に接触することにより、エンドキャップ１４ａの位置決めがなされるようになっている。
【００１８】
エンドキャップ１４ｂは、カバー１３の下側開口部に対して着脱可能に取り付けられている。エンドキャップ１４ｂの上面には、環状の嵌合突部３９が形成されている。エンドキャップ１４ｂの中心には、カバー１３の軸線方向に沿って第２ポート２９が形成されている。第２ポート２９の下半分には、ネジ部１８が形成されている。第２ポート２９の内周面には、連通孔３０が外周方向に設けられている。連通孔３０は、一定間隔に数箇所配置されている。つまり、この第２ポート２９は、連通孔３０を介して前記空間１５に連通している。
【００１９】
エンドキャップ１４ｂの外周面に形成された張り出し２６ｂには、Ｏリング挿入溝２５ｂが円周方向に形成されている。Ｏリング挿入溝２５ｂには、前記Ｏリング２８が挿入されている。このＯリング２８によって、カバー１３の内壁面とエンドキャップ１４ｂとが密着される。張り出し２６ｂの上面が、カバー１３の下側開口端に接触することによりエンドキャップ１４ｂの位置決めがなされる。
【００２０】
エレメント収容体１２の内部にある空間１５には、合成樹脂製の枠付フィルタエレメント３１が収容されている。枠付フィルタエレメント３１の下端部には、円板状の基台部３２が形成されている。基台部３２の中心には、円形状の貫通孔３３が形成されている。基台部３２の下端には、環状の嵌合溝３４が形成されている。嵌合溝３４には、前記嵌合突部３９が嵌め込まれている。基台部３２の上面には、壁３５ａが突設されている。壁３５ａの先端部は、断面凸状に形成されている。基台部３２の外周部には、枠体３５ｂが突設されている。枠体３５ｂの側面には、第３連通孔３６が一定間隔に数箇所形成されている。
【００２１】
第３連通孔３６において、枠体３５ｂの内周側には、エアを濾過するための第１エレメント部材３７ａが設けられている。第１エレメント部材３７ａは、枠体３５ｂと一体に形成されている。また、前記基台部３２の下側には、前記貫通孔３３を覆うように、第２エレメント部材３７ｂが設けられている。第２エレメント部材３７ｂの下端面は、基台部３２の下端面と面一になっている。第２エレメント部材３７ｂの外径は、前記壁３５ａの内径とほぼ同じ大きさになっている。第２エレメント部材３７ｂの厚さは、基台部３２の厚さの約半分の大きさになっている。第２エレメント部材３７ｂは、前記枠付フィルタエレメント３１から分離可能に形成されている。尚、本実施形態では、第１エレメント部材３７ａと第２エレメント部材３７ｂとによってフィルタエレメントが構成されている。
【００２２】
前記第２接続部２２の下端部と前記壁３５ａの上端部との間には、ゴム製の双方向チェック弁４１が挟持された状態で固定されている。図２及び図５に示すように、この双方向チェック弁４１はリング状に形成されている。双方向チェック弁４１の環状部材４２は、断面略長方形状に形成されている。環状部材４２の上端部及び下端部は、断面凹状に形成されている。環状部材４２の外周部には、第２リップ部４３が斜め上方に向けて突出されている。また、双方向チェック弁４１の内周部には、第１リップ部４４が斜め下方に向けて突出されている。第２リップ部４３の外径は、前記エンドキャップ１４ａの第３接続部２４における内径よりもやや大きく形成されている。よって、第２リップ部４３の外周面における上端部は、第３接続部２４の内周面に圧接されるようになっている。また、第１リップ部４４の内径は、前記突出部１９の外径よりもやや小さく形成されている。よって、第１リップ部４４の内周面における下端部は、突出部１９の外周面に圧接されるようになっている。
【００２３】
図２に示すように、前記エレメント収容体１２の前記空間１５は第１領域５１、第２領域５２及び第３領域５３に分けられている。第１領域５１は、前記突出部１９、前記基台部３２、前記壁３５ａ、前記第２エレメント部材３７ｂ及び前記双方向チェック弁４１に囲まれることによって形成されている。第２領域５２は、基台部３２、前記枠体３５ｂ、前記第１エレメント部材３７ａ及び双方向チェック弁４１に囲まれることによって形成されている。第３領域５３は、エレメント収容体１２の内部において、第１領域５１及び第２領域５２の外側に位置している。
【００２４】
エレメント収容体１２において、図４（ａ）及び図４（ｃ）に示す矢印を第１の経路Ａ１とする。第１の経路Ａ１とは、真空発生時において、エアがエレメント収容体１２内を通過する順路である。また、図４（ｂ）及び図４（ｄ）に示す矢印を第２の経路Ａ２とする。第２の経路Ａ２とは、真空破壊時において、エアがエレメント収容体１２内を通過する順路である。この場合、第１エレメント部材３７ａ，第２エレメント部材３７ｂには、常に一方向からしかエアが流れないようになっている。
【００２５】
図３に示すように、圧力供給源６１は、フィルタ６２、減圧弁６３の順に、配管６４を介して接続されている。減圧弁６３は、配管６４を介してエジェクタユニット６５に接続されている。エジェクタユニット６５は、電磁弁６５ａ、合流点６５ｂ、サイレンサ６５ｃ、圧力スイッチ６５ｄ及び絞り弁６５ｅ等から構成されている。エジェクタユニット６５は、真空用フィルタ１１に配管６４によって接続されている。真空用フィルタ１１は、吸着パッド６７に配管６４によって接続されている。吸着パッド６７の下端は、ワーク６８に密接するようになっている。
【００２６】
次に、この第１実施形態における真空用フィルタ１１の作用を以下に示す。
図３に示すように、真空発生時において、エアは圧力供給源６１からフィルタ６２、減圧弁６３の順に配管６４を介してエジェクタユニット６５に接続されている。エジェクタユニット６５内において、エアは電磁弁６５ａ、合流点６５ｂの順に通過して、サイレンサ６５ｃから排出される。この場合、真空用フィルタ１１及び吸着パッド６７には真空が発生し、ワーク６８が負圧によって吸着パッド６７に吸い付けられる。よって、ワーク６８が移動可能になる。この場合、図４（ｃ）に示すように、エレメント収容体１２内を通過するエアは、第１の経路Ａ１を通る。詳述すると、エアは第２ポート２９から第３領域５３内に導入される。次に、エアが第１エレメント部材３７ａを通過して第３領域５３から第２領域５２へ流れるようになっている。この場合、エア中に含まれる塵埃７１が第１エレメント部材３７ａの外周面に吸着される。第２領域５２に導入されたエアは、前記第２リップ部４３を押圧して第１ポート１７に導かれる。
【００２７】
図３に示すように、真空破壊時において、圧力供給源６１から供給されるエアは電磁弁６５ａ、絞り弁６５ｅ、真空用フィルタ１１、吸着パッド６７の順に通過する。その結果、ワーク６８が吸着パッド６７から離れる。この場合、図４（ｄ）に示すように、エレメント収容体１２内を通過するエアは第２の経路Ａ２を通る。詳述すると、エアは第１ポート１７からエレメント収容体１２内に導入される。次に、エアは、前記第１リップ部４４を押圧して第１領域５１内に導かれる。さらに、エアは第２エレメント部材３７ｂを通過して第３領域５３に導かれる。この場合、エア中に含まれる塵埃７１が第２エレメント部材３７ｂの上面に吸着される。そして、エアは第２ポート２９から配管６４を通過して吸着パッド６７に導かれる。
【００２８】
また、第１エレメント部材３７ａを交換する場合には、カバー１３からエンドキャップ１４ａ，１４ｂを取り外す。次に、第１エレメント部材３７ａと一体になっている枠付フィルタエレメント３１をカバー１３から取り出す。第２エレメント部材３７ｂを交換する場合には、カバー１３からエンドキャップ１４ａ，１４ｂを取り外す。次に、枠付フィルタエレメント３１をカバー１３から取り外す。そして、枠付フィルタエレメント３１から第２エレメント部材３７ｂを取り外す。
【００２９】
従って、この第１実施形態によれば以下のような効果を得ることができる。
（１）真空発生時には、エアが第１の経路Ａ１に設けられた第１エレメント部材３７ａを通過する。また、真空破壊時には、エアが第２の経路Ａ２に設けられた第２エレメント部材３７ｂを通過する。よって、真空発生時に吸い取った塵埃７１が、真空破壊時にワーク６８側へ吹き飛ばされてしまうことはない。従って、塵埃７１はワーク６８に付着しにくくなる。
【００３０】
（２）カバー１３は筒状に形成され、エンドキャップ１４ａ，１４ｂは、カバー１３の両端開口部に対して着脱可能なので、真空用フィルタ１１を分解して第１エレメント部材３７ａ及び第２エレメント部材３７ｂを取り出すことができる。また、第１エレメント部材３７ａと第２エレメント部材３７ｂとは、互いに分離可能になっている。従って、第１エレメント部材３７ａ及び第２エレメント部材３７ｂの濾過度をそれぞれ選ぶことができる。また、第１エレメント部材３７ａ及び第２エレメント部材３７ｂのどちらか片方に目詰まりが発生した場合において、片方だけを適切な時期に交換することができる。
【００３１】
（第２実施形態）
次に、本発明の真空用フィルタ１１を具体化した第２実施形態を図６（ａ）〜（ｄ）に基づき詳細に説明する。尚、第１実施形態と同様の機能を果たす部分については共通の部材番号を付した。
【００３２】
図６（ｃ），（ｄ）に示すように、上側のエンドキャップ１４ａにおいて、第１接続部２０の下端からは第１突出部８１が形成されている。第１突出部８１の下端は、カバー１３の中央付近まで延びている。第１突出部８１の下端部には、螺合孔８２が形成されている。
【００３３】
また、下側のエンドキャップ１４ａにおいて、第１接続部２０の上端からは第２突出部８３が形成されている。第２突出部８３の上端は、カバー１３の中央付近まで延びている。第２突出部８３の上端部には、螺合突起８４が形成されている。第２突出部８３は、第１突出部８１と螺合孔８２と螺合突起８４とを介して下側のエンドキャップ１４ａに固定されている。
【００３４】
それぞれのエンドキャップ１４ａにおいて、第２接続部２２の端部には、双方向チェック弁４１が取り付けられている。これら２つの双方向チェック弁４１の間には、フィルタエレメント８５が挟持された状態で固定されている。
【００３５】
ここで、図６（ａ）及び図６（ｃ）に示す矢印Ａ１を第１の経路とする。第１の経路Ａ１とは、真空発生時において、エアがエレメント収容体１２内を通過する順路である。また、図６（ｂ）及び図６（ｄ）に示す矢印Ａ２を第２の経路とする。第２の経路Ａ２とは、真空破壊時において、エアがエレメント収容体１２内を通過する順路である。第１の経路Ａ１及び第２の経路Ａ２の途上にはフィルタエレメント８５が配置されている。そのフィルタエレメント８５を通過する際のエアの流れ方向は常に―定になっている。よって、フィルタエレメント８５の内側だけに塵埃７１が堆積している。
【００３６】
次に、この第２実施形態の真空用フィルタ１１の作用を以下に示す。
真空発生時において、図６（ｃ）に示すように、エレメント収容体１２内を通過するエアは第１の経路Ａ１を通る。詳述すると、エアは第２ポート２９からエレメント収容体１２内に導入される。次に、エアは下側の双方向チェック弁４１の第１リップ部４４を押圧して第１領域５１に導入される。さらに、エアがフィルタエレメント８５を通過して第１領域５１から第２領域５２に流れるようになっている。この場合、エア中に含まれる塵埃７１がフィルタエレメント８５の内周面に吸着される。第２領域５２に導入されたエアは、上側の双方向チェック弁４１の第２リップ部４３を押圧して第１ポート１７に導かれる。
【００３７】
真空破壊時において、図６（ｄ）に示すように、エレメント収容体１２内を通過するエアは第２の経路Ａ２を通る。詳述すると、エアは第１ポート１７からエレメント収容体１２内に導入される。次に、エアは上側の双方向チェック弁４１の第１リップ部４４を押圧して第１領域５１に導入される。さらに、エアがフィルタエレメント８５を通過して第１領域５１から第２領域５２に流れるようになっている。この場合、エア中に含まれる塵埃７１がフィルタエレメント８５の内周面に吸着される。第２領域５２に導入されたエアは、下側の双方向チェック弁４１の第２リップ部４３を押圧して第２ポート２９に導かれる。
【００３８】
従って、この第２実施形態によれば以下のような効果を得ることができる。
（１）真空発生時には、エアがフィルタエレメント８５を通過する。また、真空破壊時には、エアがフィルタエレメント８５を真空発生時と同方向から通過する。よって、真空発生時に吸い取った塵埃７１が、真空破壊時にワーク６８側へ吹き飛ばされてしまうことはない。従って、塵埃７１はワーク６８に付着しにくくなる。
【００３９】
（２）フィルタエレメント８５は、第１の経路Ａ１と第２の経路Ａ２との両方において、同じ箇所に配置される。フィルタエレメント８５を通過するエアの流れ方向は常に一定になっている。よって、フィルタエレメント８５が真空発生時用及び真空破壊時用の２箇所に設けられていなくてもよい。従って、フィルタエレメント８５を構成する部品の数が少なくなるため、真空用フィルタ１１を小さくすることができる。
【００４０】
尚、本発明の実施形態は以下のように変更してもよい。
・前記第１実施形態及び第２実施形態では、双方向チェック弁４１は、ゴムによって一体成形されていた。それに対して、双方向チェック弁４１は、外周側の部材と内周側の部材との２つの部材によって形成されていてもよい。
【００４１】
・前記実施形態では、エレメント収容体１２は、筒状のカバー１３の両端開口部に対して、エンドキャップ１４ａ，１４ｂを着脱可能に嵌め込むことにより構成されていた。それに対して、カバー１３の一端のみを開口する。その状態において、筒状のカバー１３の開口部に対して、エンドキャップ１４ａまたはエンドキャップ１４ｂを着脱可能に嵌め込むことによりエレメント収容体１２を構成してもよい。
【００４２】
・第１エレメント部材３７ａ、第２エレメント部材３７ｂ、フィルタエレメント８５は、樹脂繊維により形成されたものでも、多孔質材料により形成されたものでもよい。
【００４３】
・前記第１実施形態では、枠体３５ｂは第３接続部２４によってエンドキャップ１４ａに接続されていた。その代わりに、枠体３５ｂの外周面に接続部を設け、その接続部をカバー１３の内周面に接続するようにしてもよい。
【００４４】
次に、特許請求の範囲に記載された技術的思想のほかに、前述した実施形態によって把握される技術的思想をその効果とともに以下に列挙する。
【００４６】
（１）請求項１〜３に記載した真空用フィルタを備えることを特徴とする真空吸着システム。
（２）請求項１において、前記フィルタエレメントは、前記枠材における側面部から離間して設けられるとともに、同枠材における下端部に接触して設けられ、前記チェック弁は前記枠材の上端部に接触するように設けられていることを特徴とする真空用フィルタ。
【００４７】
よって、技術的思想（２）では、真空破壊用電磁弁で発生する塵埃とパッドから吸い込む塵埃とを省スペースで捕集することができる。真空発生側と真空破壊側とで濾過度をそれぞれ選ぶことができる。真空発生側と真空破壊側のフィルタエレメントが分かれているので、どちらか片方の目詰まりがひどくても片方だけを適切な時期に交換することができる。
【００４８】
（３）請求項１において、前記フィルタエレメントは、前記枠材における側面部に接触した状態で一体成形されるとともに、前記チェック弁は、同フィルタエレメントの上端部及び下端部のそれぞれに接触するように設けられていることを特徴とする真空用フィルタ。
【００４９】
【発明の効果】
以上詳述したように、請求項１に記載の発明によれば、塵埃はワークに付着しにくくなる。
【００５０】
請求項２に記載の発明によれば、請求項１に記載の発明の効果に加えて、第１エレメント部材及び第２エレメント部材の濾過度をそれぞれ選ぶことができる。また、第１エレメント部材または第２エレメント部材のどちらか片方に目詰まりが発生した場合において、片方だけを適切な時期に交換することができる。
【００５１】
請求項３に記載の発明によれば、請求項１に記載の発明の効果に加えて、フィルタエレメントを構成する部品の数が少なくなるため、真空用フィルタを小さくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  第１実施形態における真空用フィルタの分解斜視図。
【図２】  同じく、真空用フィルタの全体断面図。
【図３】  同じく、真空用フィルタの使用態様を示す概略図。
【図４】  （ａ）及び（ｂ）は、真空用フィルタの真空発生時及び真空破壊時を示す回路図、（ｃ）及び（ｄ）は、真空用フィルタの真空発生時及び真空破壊時を示す全体断面図。
【図５】  リップパッキンの全体斜視図。
【図６】  （ａ）及び（ｂ）は、第２実施形態における真空用フィルタの真空発生時及び真空破壊時を示す回路図、（ｃ）及び（ｄ）は、真空用フィルタの真空発生時及び真空破壊時を示す全体断面図。
【図７】  （ａ）及び（ｂ）は、従来技術における真空発生時及び真空破壊時の真空用フィルタを示す全体断面図。
【符号の説明】
１１…真空用フィルタ、１２…エレメント収容体、１３…カバー、１４ａ、１４ｂ…エンドキャップ、１５…空間、１７…第１ポート、２９…第２ポート、３１…枠付フィルタエレメント、３７ａ…フィルタエレメントとしての第１エレメント部材、３７ｂ…フィルタエレメントとしての第２エレメント部材、４１…双方向チェック弁、Ａ１…第１の経路、Ａ２…第２の経路。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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