(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
改良すべき地盤にボーリング孔を掘削し、そのボーリング孔に噴射ノズルを有するロッドを挿入して地盤中に改良体（１０）を造成する地盤改良工法において、交差噴流で地盤を切削するための第１の噴射ノズル（Ｎ１）と第２の噴射ノズル（Ｎ２）と地盤改良材を噴射する第３の噴射ノズル（Ｎ３）とを先端に設けたロッド（２０）を準備し、そのロッド（２０）に設けた第１の長孔（２２）内には第１の噴射ノズル（Ｎ１）がまた第２の長孔（２４）内には第２の噴射ノズル（Ｎ２）がそれぞれロッド（２０）の軸線方向に移動可能に設けられており、第１および第２のノズル（Ｎ１、Ｎ２）から交差噴流を噴射して地盤を切削すると共に第３のノズル（Ｎ３）から地盤改良材を噴射すると同時にロッド（２０）を回転しながら引き上げ、その際に第１および第２のノズル（Ｎ１、Ｎ２）を前記長孔（２２、２４）内を移動させ、地盤を改良する領域の断面形状が非円形の閉じた形状となるように第１および第２のノズル（Ｎ１、Ｎ２）の間隔を規則的に変化することを特徴とする地盤改良工法。
【請求項２】
改良すべき地盤にボーリング孔を掘削し、そのボーリング孔にロッドを挿入して地盤中に改良体（１０）を造成する地盤改良工法において、第１の噴射ノズル（Ｎ１）を有する上部モニタ（２０Ｕ）と第２の噴射ノズル（Ｎ２）を有する下部モニタ（２０Ｌ）と両モニタ（２０Ｕ、２０Ｌ）を連結する外筒（３０）とよりなるモニタを先端に設けたロッドを準備し、その下部モニタ（２０Ｌ）は外筒（３０）の下部に固着されそして上部モニタ（２０Ｕ）は外筒（３０）の上部とスプライン結合されて長手方向に摺動可能であるが相互に回転しないように構成され、外筒（３０）の上端に設けたスイベル式吊り具（２６）にはワイヤ（Ｗ）が接続されており、第１および第２のノズル（Ｎ１、Ｎ２）から交差噴流を噴射させて地盤を切削すると同時にロッドを回転しながら引き上げ、その際に前記ワイヤ（Ｗ）を巻き上げることにより下部モニタ（２０Ｌ）を上昇させ、又は外筒（３０）の内面と上部モニタ（２０Ｕ）の下面と下部モニタ（２０Ｌ）の上面とで構成される空間（３８）に高圧流体を供給することにより外筒（３０）と共に下部モニタ（２０Ｌ）を下方に移動させ、以って第１および第２のノズル（Ｎ１、Ｎ２）の間隔を変化させ、該ノズルからの交差噴流により地盤を改良する領域の断面形状を非円形の閉じた形状にすることを特徴とする地盤改良工法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、地盤中に改良体を造成する事により地盤を改良する地盤改良工法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
その様な地盤改良について非常に有効な工法として、所謂「ジェットグラウト工法」が良く知られている。この工法（以下、「地盤改良工法」或いは「従来の工法」等と記載する）は、改良するべき地盤にボーリング孔を切削し、先端にモニタを設けたロッドをボーリング孔内に挿入し、モニタに設けたノズルから水平方向に地盤改良材（を含む）ジェットを噴射して、地盤の切削と改良材との混合を行う。そして地盤の切削・改良材との混合を行いつつ、ロッドを回転しながら地上側へ引き上げる。これにより、地盤と地盤改良材との混合物からなり、ジェット到達距離と等しい半径方向寸法を有する円柱形の改良体を造成する事が出来る。
【０００３】
ここで、比較的広い範囲に亘って地盤改良を行う必要がある場合には、図６で示す様に、複数の改良体１、２、３を造成する事により、従来の技術では対応してきた。その際に、未改良個所が発生しない様に、改良体１、２、３の一部分（一部領域）をオーバーラップさせて施工するのが一般的である。
【０００４】
しかし、図６においてハッチングを付して示す領域（オーバーラップ領域）においては、一度造成された改良体をジェットにより切削・混合して再度改良することになる。そして、特に、符号１２３で示す中央の領域では、合計３回改良される事になる。この様に、同じ領域を複数回改良するという事は、地盤改良材を余計に消費する事を意味するので、施工コストを高騰させる原因となる。
【０００５】
また、造成された改良体のオーバーラップ領域をジェットにより切削する際に、改良体は地盤改良材の混合物であるため、ジェットにより切削の際に発生するスラリーは産業廃棄物として処理しなければならない。ここで、産業廃棄物の処理にはコストが嵩み、施工費用を増加させる原因となってしまう、という問題も存在する。
【０００６】
これに対して、図７で示す様に、造成された改良体１、２、３、４がオーバーラップしない様に施工し、符号６、７で示す未改良の領域のみを別工程にて改良する事も可能である。
【０００７】
しかし、図７で示す様な技術では、改良体１、２、３、４にオーバーラップ領域が発生しない様に造成する事がかなり困難である。また、未改良領域６、７のみを改良する様に施工する事も、困難であり、特別な機器等を必要とする。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上述した従来技術の問題点に鑑みて提案されたものであり、上述した様なオーバーラップする領域を発生させる事無く、しかも、未改良の領域を発生させること無く、複数の改良体を造成し、以って、広い範囲に亘る地盤改良を可能ならしめる地盤改良工法の提供を目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、改良すべき地盤にボーリング孔を掘削し、そのボーリング孔に噴射ノズルを有するロッドを挿入して地盤中に改良体（１０）を造成する地盤改良工法において、交差噴流で地盤を切削するための第１の噴射ノズル（Ｎ１）と第２の噴射ノズル（Ｎ２）と地盤改良材を噴射する第３の噴射ノズル（Ｎ３）とを先端に設けたロッド（２０）を準備し、そのロッド（２０）に設けた第１の長孔（２２）内には第１の噴射ノズル（Ｎ１）がまた第２の長孔（２４）内には第２の噴射ノズル（Ｎ２）がそれぞれロッド（２０）の軸線方向に移動可能に設けられており、第１および第２のノズル（Ｎ１、Ｎ２）から交差噴流を噴射して地盤を切削すると共に第３のノズル（Ｎ３）から地盤改良材を噴射すると同時にロッド（２０）を回転しながら引き上げ、その際に第１および第２のノズル（Ｎ１、Ｎ２）を前記長孔（２２、２４）内を移動させ、地盤を改良する領域の断面形状が非円形の閉じた形状となるように第１および第２のノズル（Ｎ１、Ｎ２）の間隔を規則的に変化するようになっている。
【００１２】
かかる構成を具備する本発明によれば、前記ジェット噴射工程で噴射される流体が交差噴流となる様に前記噴射ノズルは前記ロッドに少なくとも一対設けられており、前記ジェット噴射工程では、噴射ノズルの各々がロッド軸線方向に移動して交差噴流を噴射する一対のノズルの間隔が規則的に変化する様に構成されている。ここで、交差噴流を噴射する一対のノズルの間隔が変化すれば、交差噴流の衝突点（交差箇所）とノズルとの水平方向距離も変化する。そして、交差噴流の衝突点とノズルとの水平方向距離は、地盤を切削して改良材と混合する領域の断面における半径方向寸法に相当し、当該断面における半径方向寸法が変化すれば、当該断面の形状は非円形となる。すなわち本発明によれば、地盤を切削して改良材と混合する領域の断面形状を非円形の閉じた形状とすることが出来るのである。
【００１３】
そして、断面が非円形の閉じた形状の改良体、例えば矩形状断面を有する改良体が造成されれば、複数箇所にわたって改良体を造成する際に、重複して改良される領域（オーバーラップ領域）が発生しない。そのため、少なくともオーバーラップ領域に使用される分の地盤改良材の使用量が節約される。また、ジェット噴射により地盤を切削する際に、オーバーラップ箇所を切削する必要が無いので、オーバーラップ箇所の切削により発生する産業廃棄物を処理する必要が無くなり、その分だけ産業廃棄物処理コストが節約できる。
【００１４】
また本発明によれば、改良すべき地盤にボーリング孔を掘削し、そのボーリング孔にロッドを挿入して地盤中に改良体（１０）を造成する地盤改良工法において、第１の噴射ノズル（Ｎ１）を有する上部モニタ（２０Ｕ）と第２の噴射ノズル（Ｎ２）を有する下部モニタ（２０Ｌ）と両モニタ（２０Ｕ、２０Ｌ）を連結する外筒（３０）とよりなるモニタを先端に設けたロッドを準備し、その下部モニタ（２０Ｌ）は外筒（３０）の下部に固着されそして上部モニタ（２０Ｕ）は外筒（３０）の上部とスプライン結合されて長手方向に摺動可能であるが相互に回転しないように構成され、外筒（３０）の上端に設けたスイベル式吊り具（２６）にはワイヤ（Ｗ）が接続されており、第１および第２のノズル（Ｎ１、Ｎ２）から交差噴流を噴射させて地盤を切削すると同時にロッドを回転しながら引き上げ、その際に前記ワイヤ（Ｗ）を巻き上げることにより下部モニタ（２０Ｌ）を上昇させ、又は外筒（３０）の内面と上部モニタ（２０Ｕ）の下面と下部モニタ（２０Ｌ）の上面とで構成される空間（３８）に高圧流体を供給することにより外筒（３０）と共に下部モニタ（２０Ｌ）を下方に移動させ、以って第１および第２のノズル（Ｎ１、Ｎ２）の間隔を変化させ、該ノズルからの交差噴流により地盤を改良する領域の断面形状を非円形の閉じた形状にするようになっている。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面の図１−図５、図８−図１１を参照しつつ、本発明の実施形態について説明する。
【００１６】
図１は、本発明の１実施形態による地盤改良工法の施工の概要を示している。図１から明らかように、本発明の実施形態にかかる地盤改良工法によれば、断面正方形の改良体１０（地盤を切削して改良材と混合する領域）が造成される。そして図１において点線で示す様に、改良体１０を複数造成したとしても、改良体１０の断面が正方形であるため、図６の従来技術のように地盤改良個所が重複してしまう事は無い。また、正方形断面を有する改良体同士が隣接する様に造成すれば、図７で示す従来技術のような未改良領域（図７においてハッチングを付して示す領域６、７）の残存、という問題を解消することが出来る。
【００１７】
図１において、符号２０で示すのはロッドであり、ロッド２０からは地盤改良材を含むジェットＪ１、Ｊ２、Ｊ３が噴射される。ここでジェットＪ１、Ｊ２、Ｊ３については、図２、図３を参照して後述されている。そして、ジェットＪ１、Ｊ２により改良すべき地盤を切削し、Ｊ３により地盤改良材と混合する。但し、ジェットＪ１、Ｊ２を地盤改良材の噴流で構成し、ジェットＪ１、Ｊ２により地盤の切削及び地盤改良材との混合を同時に行うことも可能である。
【００１８】
次に図２−図５を参照して、断面正方形の改良体１０を造成する技術について説明する。
先ず、図示はされていないが、改良するべき地盤にボーリング孔を切削し、該ボーリング孔内に噴射ノズルＮ１、Ｎ２、Ｎ３（図２）を設けたロッド２０を挿入する。そして、噴射ノズルＮ１、Ｎ２、Ｎ３からは、それぞれ、ジェットＪ１、Ｊ２、Ｊ３が噴射される。
【００１９】
ここで、上述した様に、ジェットＪ１、Ｊ２は改良すべき地盤を切削するための切削用流体ジェット（例えば高圧水ジェット、或いは、高圧水ジェットを圧縮エアのジェットで包囲した複合構造を有するジェット）である。そして、造成されるべき改良体の断面寸法、断面形状等を高精度に造成するため、ジェットＪ１、Ｊ２は、到達距離を高精度にて制御することが出来る交差噴流を構成している。換言すれば、ノズルＮ１、Ｎ２は、交差噴流を噴射する一対のノズルを構成する。図２中、符号Ｐは、交差噴流Ｊ１、Ｊ２の衝突点（交差箇所）を示している。
【００２０】
一方、ジェットＪ３は地盤改良材のジェットであり、ジェットＪ１、Ｊ２により切削された地盤と地盤改良材とを混合する作用を奏する。前記ジェット噴射工程は、図２の例では、ジェットＪ１、Ｊ２、Ｊ３により行われる。
【００２１】
しかしながら、図３で示す様に、ロッド２０には交差噴流を構成するジェットＪ１、Ｊ２を噴射するノズルＮ１、Ｎ２のみを設け、ジェットＪ１、Ｊ２を地盤改良材の噴流で構成しても良い。すなわち、図３の実施形態では、ジェットＪ１、Ｊ２により地盤の切削及び地盤改良材との混合を同時に行うことも可能である。そして図３の場合、前記ジェット噴射工程は、当該ジェットＪ１、Ｊ２で行われる。
【００２２】
図１−図５において、地盤を切削するためのジェットＪ１、Ｊ２を構成する流体としては、例えば高圧水その他を使用する。ここで、ジェットＪ１、Ｊ２を地盤改良材で構成し、当該地盤改良材により地盤を切削する様に構成することも可能である。
【００２３】
次に図４、図５を参照して、改良するべき地盤を非円形（例えば正方形）に切削する態様について説明する。なお、図４、図５においては、ジェットＪ１、Ｊ２のみが示されているが、図３の実施形態に限定する訳ではない。図２及び図３の双方の実施形態においても、図４、図５で示すような態様で、非円形断面に切削されるのである。
【００２４】
図４において、ロッド２０には長孔２２、２４が形成されている。そして、図８−図１１を参照して後述される機構により、長孔２２内では噴射ノズルＮ１がロッド２０の軸線方向（矢印Ｖで示す方向）に移動する。そして、長孔２４内では噴射ノズルＮ２がロッド２０の軸線方向（矢印Ｖで示す方向）に移動する様に構成されている。
【００２５】
ここで、噴射ノズルＮ１、Ｎ２の各々が長孔２２、２４内を軸線方向Ｖへ移動するに際しては、ノズルＮ１から噴射するジェットＪ１と、ノズルＮ２から噴射するジェットＪ２とが交差点（衝突箇所）Ｐで衝突して交差噴流を構成する様に、同期して移動する。すなわち、図４において実線で示す様なジェットＪ１、Ｊ２が噴射される場合（交差点は符号Ｐで示されている）であっても、点線で示す様なジェットＪ１Ａ、Ｊ２Ａが噴射される場合（交差点は符号ＰＡで示されている）であっても、掘削距離（図４ではそれぞれ符号Ｌ１、Ｌ２で示す）を高精度に制御出来る様に、必ず交差噴流となるべく、噴射ノズルの位置が決定される。
【００２６】
図４においては、実線で示す様な交差噴流Ｊ１、Ｊ２が噴射される場合のノズルの位置が、それぞれ符号Ｎ１、Ｎ２で示されている。一方、点線で示す様な交差噴流Ｊ１Ａ、Ｊ２Ａが噴射される場合におけるノズルの位置は、それぞれ符号Ｎ１Ａ、Ｎ２Ａで示されている。そして、実線で示す交差噴流Ｊ１、Ｊ２が噴射される場合のノズルＮ１、Ｎ２の軸線方向Ｖの間隔（交差噴流を噴射する一対のノズルの間隔）は符号Ｓ１で示されており、その到達距離が符号Ｌ１で示されている。一方、点線で示すジェットＪ１Ａ、Ｊ２Ａが噴射される場合におけるノズルＮ１Ａ、Ｎ２Ａの軸線方向Ｖの間隔（交差噴流を噴射する一対のノズルの間隔）が符号Ｓ２で示されており、その到達距離が符号Ｌ２で示されている。
【００２７】
図４を参照すれば明らかなように、軸線方向Ｖにおけるノズル間の間隔Ｓ１、Ｓ２と、交差噴流の到達距離Ｌ１、Ｌ２とは、１：１の対応をしている。従って、図示しない機構により軸線方向Ｖにおけるノズル同士の間隔を制御すれば、交差噴流の到達距離、すなわち改良すべき地盤の掘削距離が、制御される事となる。
【００２８】
図示しないボーリング孔にロッド２０を挿入し、図示しない手段によりロッド２０を回転しつつ、ジェットＪ１、Ｊ２（Ｊ３）を噴射しながら引き上げる事により、改良体は造成される。このロッド２０を回転する際に、軸線方向Ｖにおけるノズル同士の間隔を変化させれば、非円形の閉じた断面形状の改良体を造成できる。ここで、造成される改良体の断面形状を、例えば正方形にする場合について、主として図４及び図５参照して説明する。
【００２９】
図５において、断面正方形の改良体１０を造成するため、改良すべき地盤を正方形断面（符号１０）に掘削するに際しては、中央のロッド２０からの掘削距離は、正方形の各辺の中央（例えば図５において交差噴流Ｊ１Ａ、Ｊ２Ａの交差点ＰＡで示す箇所）が最も短く、正方形の頂点部分（例えば図５において交差噴流Ｊ１、ＪＡの交差点Ｐで示す箇所）が最も長い。
【００３０】
従って、ノズル間の軸方向Ｖ間隔を調節する機構（図８−図１１：後述）により、噴流が正方形の頂点に向けて噴射される時点においては、ノズルＮ１、Ｎ２の軸方向Ｖ間隔を図４において符号Ｓ１で示す距離とする。一方、噴流が正方形の各辺の中央に向けて噴射される時点においては、ノズル（Ｎ１Ａ、Ｎ２Ａ）の軸方向Ｖ間隔を図４において符号Ｓ２で示す距離とすれば良い。そして、正方形の各頂点と各辺中央との間の領域については、ロッド２０のノズルから正方形の当該部分までの距離に対応して、ノズル間の軸方向Ｖ間隔を調節すれば良いのである。
【００３１】
次に、図８−図１１を参照しつつ、ノズルＮ１、Ｎ２（Ｎ１Ａ、Ｎ２Ａ）間の軸方向Ｖ間隔を調節する機構について説明する。
図１−図６において、全体を符号２０で示すモニタは、図８−図１１で示す様に、モニタ上部２０Ｕとモニタ下部２０Ｌとに分割して構成されている。そして、モニタ上部２０Ｕには上方に位置する噴射ノズルＮ１が設けられており、モニタ下部２０Ｌには下方のノズルＮ２が設けられている。
【００３２】
明確には図示されていないが、モニタ下部２０Ｌの上端部近傍は、溶接その他の手法により、外筒３０の下端部近傍へ一体的に固着されている。この外筒３０は中空に構成されており、その内部空間には、モニタ上端部２０Ｕが挿入されている。
また、外筒３０とモニタ上部２０Ｕとはスプライン結合がされており（明確には図示せず）、長手方向に摺動可能ではあるが、相互に回転する事は無い様に構成されている。
【００３３】
外筒３０の上端には、スイベル式吊り具２６が取りつけられており、スイベル式吊り具２６にはワイヤＷが接続している（符号２７参照）。そしてワイヤＷは、地上側の図示しないウインチ等により巻き取られ或いは引き出される様になっている。
なお、スイベル式吊り具２６は、ワイヤＷが絡み付いてしまう事を防止するために設けられている。
【００３４】
図８及び図１０で特に明確に示されている様に、外筒３０の内側には、モニタ上部２０Ｕとモニタ下部２０Ｌとにより挟まれている空間３８が存在する。換言すれば、空間３８は、外筒３０の内面、モニタ上部２０Ｕの下面、モニタ下部２０Ｌの上面により包囲されている。
【００３５】
図１１で特に明確に示されている様に、空間３８には複数の輸送管３４（図示の実施形態では３本）が設けられており、（その内の）１本の輸送管３４の空間３８に相当する位置には、連絡口３６が開口している。
この輸送管３４は、モニタ上部２０Ｕ内に形成された流体輸送用の輸送通路３２Ｕ、３２Ｕと、モニタ下部２０Ｌ内の対応する輸送通路３２Ｌ、３２Ｌとを接続するものである。
【００３６】
なお図１０において、符号４０はシールリングを示しており、該シールリング４０は、輸送管３４とモニタ下部２０Ｌ内の輸送通路３２Ｌとの接続箇所から高圧流体が漏出する事を防止するために設けられている。
【００３７】
なお、空間３８は「モニタ上部の下面と外筒の内面とモニタ下部の上面とにより」画定される空間であり、輸送管３４及び連絡口３６は「該空間（３８）に対して圧力流体を供給し或いは排出する機構」を構成し、図示しないウインチ等、ワイヤＷ、スイベル式吊り具２６、空間３８、連絡口３６から供給・排出される高圧流体は、「前記外筒を軸方向に移動する機構」を構成する。
【００３８】
次に図８−図１１で示す機構の作用について説明する。
図９で示す収縮状態から、図８で示す伸長状態まで伸長せしめる場合には、先ず、図示しない地上部のウインチ等から、ワイヤＷを繰り出す。ここで、明確には図示されていないが、輸送管３４には高圧水或いは高圧エア、その他の高圧流体が流過しており、当該高圧流体（図示せず）が、連絡口３６を介して前記空間３８内に流出する。流出した高圧流体は、空間３８を構成している面（外筒３０の内面、モニタ上部２０Ｕの下面、モニタ下部２０Ｌの上面）を押圧し、その結果、モニタ上部２０Ｕと外筒３０の内面とが相対的に摺動して、外筒３０はモニタ下部２０Ｌと共に下方へ移動して、図８で示す伸長状態となる。
なお、上述した通り、ワイヤＷは繰り出されているため、外筒３０及びモニタ下部２０Ｌが下方へ移動するのを妨げない。
【００３９】
図９と図８とを比較すれば明らかな様に、モニタ下部２０Ｌが下方へ移動すれば、ノズルＮ１、Ｎ２の軸方向寸法（図４において符号Ｓ１、Ｓ２で示す寸法）は長くなり、交差噴流の交差点の到達距離も長くなるのである。
【００４０】
一方、図８で示す伸長状態から図９で示す収縮状態まで収縮する場合には、図示しないウインチ等によりワイヤＷを巻き取り方向に回転すれば、モニタ下部２０Ｌを図８で示す状態よりも上方へ移動せしめる力が作用する。モニタ下部２０Ｌを（外筒３０と共に）上方へ移動せしめる力が作用すれば、空間３８の容積を小さくする作用が生じ、空間３８内に溜まった高圧流体が圧縮され、連絡口３６を介して輸送管３４内に戻される。そして、モニタ下部２０Ｌ及び外筒３０は、図９で示すように収縮位置に戻る。
【００４１】
図８と図９とを比較すれば、モニタ下部２０Ｌが上方へ移動すると、ノズルＮ１、Ｎ２の軸方向寸法は短くなり、交差噴流の交差点の到達距離も短くなる。
換言すれば、ワイヤＷの繰り出しと巻き取りとを規則的に繰り返せば、「交差噴流を噴射する一対のノズルの間隔が規則的に変化」して、所望の断面形状の地中固結体が造成されるのである。
【００４２】
ここで、外筒３０とモニタ２０Ｕとはスプライン結合されており、相互に摺動可能ではあるが、相対的な回転は行わない。そして、外筒３０とモニタ下部２０Ｌとは一体的に結合されている。従って、ノズルＮ１とノズルＮ２との軸方向における位置関係は変位しても、周方向の位置関係は変化しない。すなわち、ノズルＮ１、Ｎ２間の間隔が変化しても、ノズルＮ１、Ｎ２から噴射された噴流同士は必ず衝突して交差噴流を形成し、その掘削距離（到達距離）が正確に制御される。
【００４３】
そして、交差噴流の噴射方向は、例えば地上側に設置されたボーリングマシン（図示せず）等により正確に制御出来る。
従って、交差噴流の噴射方向と、その到達距離とを適宜制御することにより、造成される地中固結体の断面形状を自在に変化させる事が可能なのである。
【００４４】
なお、図８−図１１で示す機構は例示であり、ノズルＮ１、Ｎ２間の間隔を調節する機構は、図示のもの以外でも採用可能である。
すなわち、図示の実施形態はあくまでも例示であり、本発明の技術的範囲を限定する趣旨の記載では無いのである。
【００４５】
例えば、図示の実施形態おいて、正方形１０の角部には若干のアールがつくが、直角な角部とアールのついた角部との差異は、実際の地盤改良工法施工に際しては無視出来る程度の小さなものである。
【００４６】
また、図示の実施形態では正方形断面を有する改良体を造成するが、ノズルの軸方向間隔を適宜制御する事により、正方形以外の非円形の閉じた断面形状を有する改良体、例えば矩形断面を有する改良体を造成する事も可能である。
【００４７】
【発明の効果】
上述した本発明の作用効果について、以下に列挙する。
（１）  複数箇所にわたって改良体を造成する際に、重複して改良される領域（オーバーラップ領域）が発生しない。
（２）  地盤改良材の使用量が節約される。
（３）  地盤改良材を包含した産業廃棄物の発生量が減少するので、産業廃棄物処理コストが節約できる。
（４）  簡単な機構で実施可能であり、組み立てコスト、施工コストが低減し、地盤改良工法に費やされる労力が節約できる。
（５）  ノズルの軸方向間隔を変更するという簡単な処理により、造成される改良体の断面形状を変化させる事が出来るので、適用範囲が極めて広い。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の１実施形態による地盤改良工法の施工の概要を示す平面図。
【図２】本発明で用いられるロッドの１例を示す正面図。
【図３】本発明で用いられるロッドの他の例を示す正面図。
【図４】本発明における交差噴流到達距離の制御を模式的に示す図。
【図５】本発明における交差噴流到達距離の制御を示す平面図。
【図６】従来の改良工法の問題点を説明する平面図。
【図７】その他の従来の改良工法における問題点を説明する平面図。
【図８】ノズル間の軸方向間隔を調節する機構の一例を示す断面正面図。
【図９】図８で示す機構の収縮時を示す断面正面図。
【図１０】図８、図９で示す機構の要部を拡大して示す拡大断面正面図。
【図１１】図８−図１０で示す機構の断面平面図。
【符号の説明】
１、２、３、４、１０・・・改良体
２０・・・モニタ
２２・・・長孔
Ｊ１、Ｊ２、Ｊ３、Ｊ１Ａ、Ｊ２Ａ・・・ジェット
Ｌ、Ｌ１、Ｌ２・・・ジェット到達距離
２０・・・ロッド
Ｎ１、Ｎ２、Ｎ１Ａ、Ｎ２Ａ・・・ノズル
Ｐ、ＰＡ・・・交差噴流の衝突箇所（交差点）
Ｓ１、Ｓ２・・・軸線方向のノズル間隔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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