(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
主にポタリー原型をシリカゲル型を用い複製した樹脂原型、該樹脂原型を用い複製、鋳造したシリカゲル型、該シリカゲル型を用い鋳造した泥状物ポタリーを含み、
該ポタリー原型をシリカゲル型を用い複製した樹脂原型は、表面を微少なエッジとコーナーで密に覆うポタリー原型を用い、該ポタリー原型表面にシリカゲルを均一に塗布し、容器中に入れ定位し、該容器中に適量のシリカゲルを注入し、該ポタリー原型を該容器のシリカゲル液に完全に埋没させ、シリカゲルの凝固後、切り口を切り出し、該ポタリー原型を取り出し、
該シリカゲル型中に適量の樹脂を注入、或いは流し込み、樹脂の凝固後取り出し、樹脂原型を完成し、
該樹脂原型を用い複製、鋳造したシリカゲル型は該樹脂原型と石膏ガード板を結合し、予め鋳造された上半部樹脂原型は平直分割線の上方に位置し、
該石膏ガード板をサポートブロック上に平坦に設置し、露出する上半部樹脂原型の表面にシリカゲルを数回塗布し、こうしてシリカゲルは該樹脂原型の表面において適当な厚さのシリカゲル型を形成し、
該石膏ガード板の周囲をガード板により囲み、適量のシリカゲルを注入し、シリカゲルの凝固後、第一シリカゲル型けい質型鋳造作業を完了し、
該けい質型上面において周囲を取り囲んだガード板の内部空間に適量の石膏泥状物を注入し、石膏泥状物の凝結後、底型を形成し、
該底型周囲のガード板を取り除き、該底型、該けい質型、該石膏ガード板の全体を製造し、該石膏ガード板を取り外し、該樹脂原型上に粘着する充填料を除去し、
該シリカゲル型の底型を平板上に置き、該けい質型上面に脱型剤を塗布し、該けい質型上において上半部樹脂原型の表面を露出させ、シリカゲルを数回塗布し、シリカゲルは該樹脂原型表面において適当な厚さのシリカゲル型を形成し、該ガード板により囲み、適量のシリカゲルを注入し、シリカゲルの凝固後、第二シリカゲル型けい質型鋳造作業を完了し、
該けい質型上面において周囲を取り囲んだガード板の内部空間に適量の石膏泥状物を注入し、石膏泥状物の凝結後、底型を形成し、
該二個のけい質型の底型を除去し、該二個のけい質型中の樹脂原型を取り出し、
該二個のシリカゲル型の底型と該けい質型をそれぞれ合併し、該けい質型の型孔において適当な厚みの木節土を充填し、周囲を囲んだ後、適量の石膏泥状物を注入し、石膏泥状物の凝結後、上型を形成し、
該ガード板を取り除き、該上型を除去し、該けい質型の型孔中の木節土を清除し、型孔をきれいにし、
該シリカゲル型を用い鋳造した泥状物ポタリーは、それぞれ該シリカゲル型を平台上に置き、該けい質型の型孔を上向きにし、該けい質型の型孔に適量の泥状物を注入し、続いて該上型と該けい質型を合併、挟固し、
注入した泥状物は上型の内型ブロックに押され、泥状物の十分な乾燥後、上型を除去し、二個の厚みが均一な半面状ポタリーが完成し、
該けい質型の型孔中に付着する二個のポタリーは、接合線位置において泥状物を塗布し、該二個のけい質型を結合し、接合線位置の泥状物の乾燥後、表面を微少なエッジとコーナーで密に覆う造形ポタリーが完成し、
該造形ポタリーを窯に入れ、高温で焼成し、焼成後の素焼きポタリーの表面には微少なエッジやコーナー、及び装飾模様が密に敷設されることを特徴とするポタリー表面を微少なエッジとコーナーで密に覆う陶器装飾品の製造法。
【請求項２】
前記樹脂原型と前記石膏ガード板を結合し、前記樹脂原型上半部周囲において、柱形で取り囲んだ凹孔、及び定位槽を設置し、前記第一シリカゲル型のけい質型においてシリカゲルを注入し成型後、突出し、型孔周囲を取り囲んだ定位フランジを形成し、
前記第二シリカゲル型のけい質型においてシリカゲルを注入し成型後、前記けい質型の型孔周囲において、前記第一けい質型の定位フランジと嵌合する凹孔、及び定位槽を形成することを特徴とする請求項１記載のポタリー表面を微少なエッジとコーナーで密に覆う陶器装飾品の製造法。
【請求項３】
前記製造工程中のシリカゲル型の複製は、直接、前記ポタリー原型と前記石膏ガード板により、前記シリカゲル型の構成部品を直接複製することを特徴とする請求項１記載のポタリー表面を微少なエッジとコーナーで密に覆う陶器装飾品の製造法。
【請求項４】
前記ポタリー製造に使用する各シリカゲル型は、けい質型、底型、上型を含み、
該けい質型は中央に該ポタリー成型の型孔を形成し、該型孔表面は表面を微少なエッジとコーナーで密に覆う原型により複製し、該けい質型の型孔周囲には適当な厚さのシリカゲル面を設置し、
該底型は該けい質型の下方に設置し、鋳造の方式により成型し、該底型周囲には多数の定位凹孔を位置し、該けい質型シリカゲル面延伸体と結合し、
該上型は石膏泥状物注入により該けい質型上面において形成し、該上型と該けい質型の型孔は隣り合った位置にあり、突出した内型ブロックを設置し、該内型ブロックと該型孔間には前記ポタリー鋳造成型のための間隙を留保し、該型孔中の泥状物を該間隙に充満させ、該突出した内型ブロックにより泥状物の水分を吸収することを特徴とする請求項１記載のポタリー表面を微少なエッジとコーナーで密に覆う陶器装飾品の製造法。
【請求項５】
前記シリカゲル型の上型と該けい質型の型孔間において、該上型には予め注入口を残し、該注入口の底縁と該けい質型の型孔上面は相互に通じ、該けい質型の型孔面と該上型の内型ブロック間の注入空間に泥状物を該注入口より注入することを特徴とする請求項１記載のポタリー表面を微少なエッジとコーナーで密に覆う陶器装飾品の製造法。
【請求項６】
前記シリカゲル型の上型と前記けい質型の型孔間の空間は、泥状物の注入前においては、前記けい質型の型孔面において、予め泥状物を薄く塗布し、その後、泥状物を前記上型と前記けい質型間の注入空間に注入することを特徴とする請求項１記載のポタリー表面を微少なエッジとコーナーで密に覆う陶器装飾品の製造法。
【請求項７】
前記シリカゲル型を用い複製したポタリーは平板面とすることができ、該ポタリー平板面上は微少なエッジやコーナー、或いは微細な模様で密に覆い、単一組のシリカゲル型により複製、及び鋳造成型を行うことを特徴とする請求項１記載のポタリー表面を微少なエッジとコーナーで密に覆う陶器装飾品の製造法。
【請求項８】
前記シリカゲル型を用い複製したポタリーは多数の完全なポタリーにより陶器装飾品を合成可能で、該各ポタリーは前記シリカゲル型の構成部品により制作を完成し、泥状物を用い接着し、完全なポタリーを組合せ完成することを特徴とする請求項１記載のポタリー表面を微少なエッジとコーナーで密に覆う陶器装飾品の製造法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は一種の陶器装飾品の製造法に関する。特に一種のポタリー表面を微少なエッジとコーナーで密に覆う陶器装飾品の製造法に係る。
【０００２】
【従来の技術】
周知のように、陶器装飾品はポタリー原型を利用する。該ポタリー原型を利用し、石膏を用い型を製造し、該石膏型に泥状物を注入する。泥状物の水分が石膏に吸収され、ポタリーが適当な厚さになった時、内部の泥状物を流し出す。該ポタリーが十分乾燥した所で、石膏型中より取り出し、完全な陶器装飾品ポタリーを形成する。該ポタリーは焼成を経て陶器装飾品の素焼きポタリーと成る。
該陶器装飾品は石膏を用い型を製造するため、型の製造時、ポタリー原型のエッジ及びコーナーを避け、型の合併線位置を確定しなければならない。物によっては、数本の分割線によりエッジ及びコーナーを避けなければならない時もある。表面に微少なエッジ及びコーナーを敷設したポタリーでは、公知の石膏型方式での生産は不可能である。
【０００３】
表面に微少なエッジ及びコーナーを敷設したポタリーに対しては、シリカゲル材料を用い型を作成する。ポタリーの表面に薄いシリカゲル液を塗り、ポタリー表面を完全にシリカゲルで覆い、気泡の発生を防止する。続いて、適当な大きさの開放式容器中に入れ、定位し、大量のシリカゲル液を入れる。この時、気泡を抜く作業を平行し行う。シリカゲル液の固定化を待ち、刃物で適当な大きさに切り分け、ポタリーを取り出す。こうして、泥状物を注入可能なシリカゲル型を製造する。該シリカゲル型は石膏、樹脂類の泥状物の注入に用いることができ、泥状物の固定化後、取り出し、石膏装飾品、樹脂ポタリーの複製が完成する。
該シリカゲル型の使用は、泥状物そのものをけい質型に注入後、直接、材料の物性により凝固を待つものである。石膏を利用した場合には、その材料の永久乾燥状態、水に対する親和力の出現を利用し、水と混合し硬化作用を生じる。樹脂の場合には、硬化剤を用い主要材料と混合し、硬化作用を生じる。
該シリカゲル型は吸水性を具えないため、泥状物の注入には適さない。該シリカゲル型中に注入される泥状物の水分は吸収されることがないため、泥状物は該シリカゲル型を利用し、注入可能なポタリーを生産することはできない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上記公知構造の欠点を解決するため、本発明はポタリー表面を微少なエッジとコーナーで密に覆う陶器装飾品の製造法の提供を課題とする。
それは、樹脂原型と石膏ガード板を結合し、樹脂原型の上半部周囲において柱形で取り囲んだ凹孔、及び定位槽を設置し、第一シリカゲル型のけい質型においてシリカゲルを注入し成型後、突出し、型孔周囲を取り囲んだ定位フランジを形成し、けい質型の型孔周囲において、第一けい質型の定位フランジと嵌合する凹孔、及び定位槽を形成する。
その製造工程中のシリカゲル型の複製は、直接、ポタリー原型と石膏ガード板により、シリカゲル型の構成部品を直接複製する。
さらに本考案ポタリーが使用するシリカゲル型は、けい質型、底型、上型を含み、該けい質型は中央に該ポタリー成型の型孔を形成し、該型孔表面は表面を微少なエッジとコーナーで密に覆う原型により複製し、該けい質型の型孔周囲には適当な厚さのシリカゲル面を設置し、該底型は該けい質型の下方に設置し、鋳造の方式により成型し、該底型周囲には多数の定位凹孔を位置し、該けい質型シリカゲル面延伸体と結合し、該上型は石膏泥状物注入により該けい質型上面において形成し、該上型と該けい質型の型孔は隣り合った位置にあり、突出した内型ブロックを設置し、該内型ブロックと該型孔間にはポタリー鋳造成型のための間隙を留保し、該型孔中の泥状物を該間隙に充満させ、該突出した内型ブロックにより泥状物の水分を吸収する。
またそれは、シリカゲル型の上型と該けい質型の型孔間において、該上型には予め注入口を残し、該注入口の底縁と該けい質型の型孔上面は相互に通じ、該けい質型の型孔面と該上型の内型ブロック間の注入空間に泥状物を該注入口より注入する。
加えてそれは、シリカゲル型の上型とけい質型の型孔間の空間に泥状物の注入前においては、けい質型の型孔面において、予め泥状物を薄く塗布し、その後、泥状物を上型とけい質型間の注入空間に注入する
またそれは、シリカゲル型を用い複製したポタリーは平板面とすることができ、該ポタリー平板面上は微少なエッジやコーナー、或いは微細な模様で密に覆い、単一組のシリカゲル型により複製、及び鋳造成型を行う。
シリカゲル型を用い複製したポタリーは多数の完全なポタリーにより陶器装飾品を合成可能で、該各ポタリーはシリカゲル型の構成部品により制作を完成し、泥状物を用い接着し、完全なポタリーを組合せ完成する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は下記のポタリー表面を微少なエッジとコーナーで密に覆う陶器装飾品の製造法を提供する。
それは主にポタリー原型をシリカゲル型を用い複製した樹脂原型、該樹脂原型を用い複製、鋳造したシリカゲル型、該シリカゲル型を用い鋳造した泥状物ポタリーを含む。
該ポタリー原型をシリカゲル型を用い複製した樹脂原型は、表面を微少なエッジとコーナーで密に覆うポタリー原型を用い、該ポタリー原型表面にシリカゲルを均一に塗布し、容器中に入れ定位し、該容器中に適量のシリカゲルを注入し、該ポタリー原型を該容器のシリカゲル液に完全に埋没させ、シリカゲルの凝固後、切り口を切り出し、該ポタリー原型を取り出す。該シリカゲル型中に適量の樹脂を注入、或いは流し込み、樹脂の凝固後取り出し、樹脂原型を完成する。
該樹脂原型を用い複製、鋳造したシリカゲル型は該樹脂原型と石膏ガード板を結合し、予め鋳造された上半部樹脂原型は平直分割線の上方に位置する。該石膏ガード板をサポートブロック上に平坦に設置し、露出する上半部樹脂原型の表面にシリカゲルを数回塗布し、こうしてシリカゲルは該樹脂原型の表面において適当な厚さのシリカゲル型を形成する。該石膏ガード板の周囲をガード板により囲み、適量のシリカゲルを注入する。シリカゲルの凝固後、第一シリカゲル型けい質型鋳造作業を完了する。該けい質型上面において周囲を取り囲んだガード板の内部空間に適量の石膏泥状物を注入し、石膏泥状物の凝結後、底型を形成する。該底型周囲のガード板を取り除き、該底型、該けい質型、該石膏ガード板の全体を製造し、該石膏ガード板を取り外し、該樹脂原型上に粘着する充填料を除去する。該シリカゲル型の底型を平板上に置き、該けい質型上面に脱型剤を塗布し、該けい質型上において上半部樹脂原型の表面を露出させ、シリカゲルを数回塗布し、シリカゲルは該樹脂原型表面において適当な厚さのシリカゲル型を形成する。該ガード板により囲み、適量のシリカゲルを注入し、シリカゲルの凝固後、第二シリカゲル型けい質型鋳造作業を完了する。該けい質型上面において周囲を取り囲んだガード板の内部空間に適量の石膏泥状物を注入し、石膏泥状物の凝結後、底型を形成する。該二個のけい質型の底型を除去し、該二個のけい質型中の樹脂原型を取り出す。該二個のシリカゲル型の底型と該けい質型をそれぞれ合併し、該けい質型の型孔において適当な厚みの木節土を充填する。周囲を囲んだ後、適量の石膏泥状物を注入し、石膏泥状物の凝結後、上型を形成する。該ガード板を取り除き、該上型を除去し、該けい質型の型孔中の木節土を清除し、型孔をきれいにする。
該シリカゲル型を用い鋳造した泥状物ポタリーは、それぞれ該シリカゲル型を平台上に置き、該けい質型の型孔を上向きにし、該けい質型の型孔に適量の泥状物を注入し、続いて該上型と該けい質型を合併、挟固する。注入した泥状物は上型の内型ブロックに押され、泥状物の十分な乾燥後、上型を除去し、二個の厚みが均一な半面状ポタリーが完成する。該けい質型の型孔中に付着する二個のポタリーは、接合線位置において泥状物を塗布し、該二個のけい質型を結合し、接合線位置の泥状物の乾燥後、表面を微少なエッジとコーナーで密に覆う造形ポタリーが完成する。該造形ポタリーを窯に入れ、高温で焼成し、焼成後の素焼きポタリーの表面には微少なエッジやコーナー、及び装飾模様が密に敷設される。
【０００６】
【発明の実施の形態】
図４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３が示すように、本発明は主に表面を微少なエッジとコーナーで密に覆うポタリー原型１１において、シリカゲル型１２を用い樹脂原型１３を製造する。さらに、該樹脂原型１３を利用し、上下二個の泥状物注入のシリカゲル型１４、１５を製造する。該二個のシリカゲル型１４、１５はそれぞれ底型４１、５１、けい質型４２、５２、上型４３、５３等の型により構成する。該けい質型４２、５２と該底型４１、５１は結合し、該けい質型４２、５２の型孔２４より適量の泥状物を注入する。該上型４３、５３を組合せ、固定し、該けい質型４２、５２の型孔２４より注入した泥状物は、吸水作用を具えた石膏材料により製造された該上型４３、５３により、水分を吸収される。乾燥が十分となり型を外す時、該シリカゲル型１４、１５の上型４３、５３を取り外し、該二個のけい質型４２、５２上のポタリー３１の接合線において、泥状物を塗布後、合体させる。泥状物の乾燥後、両半面状態のポタリー３１を一体に結合させ、合体型の二個の底型４１、５１を取り外し、該二個のけい質型４２、５２とデザインを形成したポタリーを分離し、表面を微少なエッジとコーナーで密に覆うポタリーを完成する。該完成したデザインを形成したポタリーは高温で焼成され、表面を微少なエッジとコーナー、及び装飾模様で密に覆われた素焼きポタリーを完成する。
【０００７】
図１が示すように、テディベアの製造方法を例にとり説明する。
該テディベアの全体的な形状は、二個の型により直接複製することはできない。身体４５、及び四肢４６等の部分について、それぞれ型を製造し、各構成部分のポタリーの完成を待って、泥状物を用い接合し一体と成す。
公知の製法で使用する型に関して、石膏材料を基材とし製造される生産型は、組合せ複製時、泥状物を型中に注入する。石膏基材は吸水特性を具えるため、型中の泥状物の水分を吸収し、適当な厚さになる。それを待ち、型内部の泥状物を排出させ、ポタリーが十分に乾燥した所で、型を外しポタリーを取り出す。
公知の石膏を基材とする型を用いテディベアを製造する時には、熊の毛の部分について平滑な模様を表現することができる。しかし、図２、３が示すように、本発明を利用すれば、該テディベアの毛部分５５において、微少なコーナーやエッジがびっしりと表現されている。公知の石膏を基材とする型を用いたのでは、微少なコーナーやエッジが密に分布した型を取り外すことは困難である。
【０００８】
本発明の製造方法は、該テディベアの身体部分に微少なコーナーやエッジを密に分布した毛部分５５を表現した完璧なデザイン形成ポタリーを製造し、高温焼成を経て素焼きポタリーを完成する。
該テディベアの身体４５、四肢４６等の部分は、別々に型を製造し、最後に組合せ完成する。各一組の製造方法について、下記に説明する。
先ず、ポタリー原型１１を用い樹脂原型を製造する。
図４が示すように、表面を微少なエッジとコーナーで密に覆うポタリー原型１１表面に、シリカゲルを均一に塗布する。容器中に入れ、定位し、適量のシリカゲルを注ぎ、該ポタリー原型１１を完全に容器中のシリカゲル液中に埋没させる。該ポタリー原型１１にシリカゲルを均一に塗布するにあたり、該ポタリー原型１１表面の気泡の発生を防止する。シリカゲルの凝固を待ち、刃物を用い該ポタリー原型１１を取り出す切り口を開け、シリカゲル型中の該ポタリー原型１１を取り出す。こうして、注入可能なシリカゲル型１２を完成する。該ポタリー原型１１の適当な位置において、注入口を残しておくため、成型後のシリカゲル型１２は注入口を具える。適量の樹脂を該シリカゲル型１２中に注入、或いは流し込み、樹脂の凝固後、樹脂原型１３を完成する。
【０００９】
次に、樹脂原型１３を用いシリカゲル型を製造する。
樹脂原型１３の最良な分割線位置を見極め、該樹脂原型１３と石膏ガード板１６を予め設置した結合孔１７において結合する。図５が示すように、上半部樹脂原型１３を平直分割線の上方に設置し、該結合孔１７と該樹脂原型１３間の間隙において充填料１８を用い密封する。
該石膏ガード板１６をサポートブロック１９上に平坦に設置し、露出する上半部樹脂原型１３の表面にシリカゲルを数回塗布する。こうして、シリカゲルは該樹脂原型１３の表面において適当な厚さのシリカゲル型３７を形成する。
該石膏ガード板１６の周囲においてガード板２０により囲み、囲んだ内縁空間において適量のシリカゲルを注入する。これにより、該石膏ガード板１６上方は適当な厚さのシリカゲル面２６を具える。シリカゲルの凝固後、上シリカゲル型１４のけい質型４２構成部品を形成する。シリカゲルの注入前において、該石膏ガード板１６は該樹脂原型１３の上半部周囲において、柱形で取り囲んだ凹孔、及び定位槽２５を設置する。シリカゲルの凝固後、突出し取り囲んだ型孔２４周囲において定位フランジ２７を形成する。
該けい質型４２上面において、周囲を取り囲んだガード板２０内部空間に、適量の石膏泥状物を注入し、石膏泥状物の凝固により底型４１を形成する。
該底型４１周囲のガード板２０を取り除き、該底型４１、該けい質型４２、該石膏ガード板１６の全体を製造する。この時、既に製造された石膏底型４１  は下方にある。ゆっくりと該石膏ガード板１６を取り外し、該樹脂原型１３上に粘着する充填料１８を除去し、完全に清除する。
【００１０】
該上シリカゲル型１４の底型４１を平板上に置き、該けい質型４２を上向きに置く。該けい質型４２上面に脱型剤を塗布し、該けい質型４２上において上半部樹脂原型１３を露出させる。図６が示すように、シリカゲルを数回塗布後、シリカゲルは該樹脂原型１３表面において適当な厚さのシリカゲル型３８を形成する。さらに、ガード板２８により囲み、囲んだ内部空間に適量のシリカゲルを注入する。リカゲルの凝固によりシリカゲル面２９の厚さとけい質型４２上方のシリカゲル面２６の厚さは均等、或いはやや厚くなり、下シリカゲル型１５けい質型５２の注入を完成する。樹脂原型１３周囲において、該けい質型４２と定位フランジ２７を嵌合する凹孔、及び定位槽３０を形成する。
該けい質型５２上縁面、周囲を囲むガード板２８の内部空間に、適量の石膏泥状物を流し込み、該石膏泥状物の凝固後、底型５１を形成する。
【００１１】
二個のシリカゲル型１４、１５の底型４１、５１とけい質型４２、５２はそれぞれ完成後、分離作業において、該ガード板２８を除去後、シリカゲル型１４の底型４１、及びシリカゲル型１５の底型５１を除去し、該樹脂原型１３周囲を覆う二個のけい質型４２、５２が残る。該樹脂原型１３周囲を覆うシリカゲルの厚さは非常に厚い訳ではないため、表面に微少なエッジ、及びコーナーを敷設した樹脂原型１３と容易に分離することができる。
図７が示すように、それぞれ二個のシリカゲル型１４、１５のけい質型４２、５２型孔２４位置において、適度な厚さの木節土４０を該型孔２４中に充填し、端縁と型孔２４を平坦にする。
図８が示すように、該シリカゲル型１５の底型５１周囲において、再びガード板３５を用い囲み、適量の石膏泥状物を流し込み、石膏の凝固を待ち、下シリカゲル型１５上型５３の作業を完成させる。
図９、１０が示すように該シリカゲル型１４、１５の上型４３、５３は、石膏を流し込む前に、木節土４０を上端口の適当な位置において、注入部品５６を用い、該木節土４０と接触させる。さらに、石膏泥状物を流し込み、石膏の凝固を待ち、注入口５７を形成し、上型４３、５３を製造する。
囲んでいたガード板３５をそれぞれ除去し、上型４３、５３、及び注入部品５６を取り外し、型孔２４中に木節土４０が残留し、表面に微少なエッジ、及びコーナーを敷設した製品の製造作業への悪影響を防ぐため、けい質型４２、５２型孔２４中の木節土４０を取り除き、清除処理作業を行う。注入口５７を形成した上型４３、５３は、注入口５７の修正を行う。こうして、シリカゲル型１４、１５は完成する。
【００１２】
該シリカゲル型１４、１５構成部品間の定位性を強化するために、底型４１、５１とけい質型４２、５２の接触面の外端角位置において、図１１、１２が示すように適当な大きさの凹孔３９を開設する。該凹孔３９にはそれぞれシリカゲルを注入し、さらに、該シリカゲル型の三個の構成部品を結合させる。該凹孔３９に注入するシリカゲルとけい質型４２、５２周囲の板面間には圧迫接触を形成し、凹孔３９中のシリカゲルの凝固後、けい質型４２、５２の板面と一体に結合する。こうして形成した突起ブロック５８は該けい質型４２、５２と底型４１、５１間の定位能力を強化する。
【００１３】
次に、該シリカゲル型１４、１５を用い、ポタリー３１に泥状物を注入し鋳造する。
図１１、１２が示すように、該シリカゲル型１４、１５の底型４１、５１は該けい質型４２、５２を定位するための型で、該けい質型４２、５２は中央の型孔２４を利用し泥状物を注入し鋳造する。型を外す時には、該ポタリー３１表面の微少なエッジやコーナーは影響を受けない。該上型４３、５３は石膏により製造し、内型ブロック３６と該けい質型４２、５２の型孔２４により一定の距離を保持する。石膏の吸水特性を利用し、型孔２４位置の泥状物の水分を吸収し、十分な乾燥状態となった所で該ポタリー３１を取り外す。こうして、該ポタリー３１は予期の厚みと均一度を達成する。
該けい質型４２、５２の型孔２４に泥状物を注入する前においては、表面に微少なエッジやコーナーを敷設する製品の成型への悪影響を避けるために、該けい質型４２、５２の型孔２４面は清潔を保持する必要がある。同時に、該上型４３、５３は乾燥させる必要がある。
【００１４】
泥状物の注入時、先ず該底型４１、５１を平板上に平坦に置き、該けい質型４２、５２を定位し、該けい質型４２、５２の型孔２４に少量の泥状物を塗布する。続いて、該上型４３、５３と該けい質型４２、５２を合併する。該けい質型４２、５２への泥状物の注入時、図８が示すようにシリカゲル型を製造するが、口の無い設計であるため、型孔２４中へ注入する泥状物の量は予め測量しておく必要がある。泥状物の前において、少量の泥状物を型孔２４の表面に塗布し、型孔２４が泥状物の注入後、微少なエッジやコーナー位置において気泡が発生することを防止する。
該けい質型４２、５２の型孔２４Ａ、Ｂ中に泥状物を注入し、該上型４３、５３と該けい質型４２、５２を合併する。型孔２４中の泥状物は内型ブロック３６に押され、型孔２４の端口位置において外に溢れ出して来る量は非常に少ないため、型の挟固には影響が及ばない。該けい質型４２、５２シリカゲル面と上型４３、５３間に残留する泥状物の層は薄いため、上型４３、５３により水分は吸収され乾燥し、型を外す時、ポタリー３０と分離される。
図１１、１２が示すように、該シリカゲル型１４、１５の上型４３、５３は注入口５７を残し、該けい質型４２、５２の型孔２４Ａ、Ｂにおいて少量の泥状物を塗布する。該上型４３、５３と該けい質型４２、５２を合併し、挟固し、該注入口５７位置より泥状物５９を該型孔２４Ａ、Ｂと該内型ブロック３６Ａ、Ｂ間の空間に流し込む。泥状物５９中の水分は石膏基材により製造された該内型ブロック３６Ａ、Ｂにより吸収され、該泥状物５９中の水分が型除去のプロセスに至るに十分な状態に至ると、厚さが均一な半面状ポタリー３１が完成する。
【００１５】
該けい質型４２、５２の上型４３、５３をそれぞれ取り外し、二個の型の注入位置に残留する泥を切除し、さらに、該シリカゲル型１４、１５、該けい質型４２、５２中の半面状ポタリー３１の接合線位置において泥状物を塗布し、該シリカゲル型１４、１５を結合、挟固する。図１３が示すように、二個の半面状ポタリー３１Ａ、Ｂは接合し一個の完成した造形ポタリーとなる。
該シリカゲル型１４、１５の底型４１、５１を取り外し、さらに、該けい質型４２、５２と該半面状ポタリー３１Ａ、Ｂを分離する。こうして取り出した造形ポタリーの表面には微少なエッジやコーナーが密に敷設され、一切の損壊を受けていない。合併接合位置において、人でによりわずかな修正を加えるだけで良い。
図２、３が示すように、該テディベアの四肢４６の構成部品は上記方式により製造し、それぞれ身体部分４５両側の接合面位置と泥状物を用い接着し一体と成す。次に、窯で高温焼成を経て、表面には微少なエッジやコーナーが密に敷設され、或いは微細な模様を具えた陶器装飾品の素焼きポタリーを製造する。
【００１６】
上記表面に微少なエッジやコーナーが密に敷設された陶器装飾品の素焼きポタリー製造に使用するシリカゲル型１４、１５は、けい質型４２を含み、該けい質型４２中央にはポタリー３１成型の型孔２４を設置し、該型孔２４は原型表面に微少なエッジやコーナーを密に敷設し形状により複製される。
該シリカゲル型１４のけい質型４２は該型孔２４周囲において、突出し、該型孔２４周囲を取り囲んだ定位フランジ２７を形成する。もう一つの該シリカゲル型１５のけい質型５２は該型孔２４周囲において、該けい質型４２周囲の定位フランジ２７に対応し、相互合併し定位する凹孔、及び定位層３０を具える。
該けい質型４２、５２の型孔２４周囲には適当な厚さのシリカゲル面２６を設置する。該けい質型４２、５２の下縁面と底型４１、５１の上縁面は密着する。
該底型４１、５１は該けい質型４２、５２の下縁面形状に対応し、石膏泥状物を用い形成し、適当な厚みを具え、底型４１、５１周囲に多数の定位凹孔３９を設置する。該凹孔３９は該けい質型４２、５２のシリカゲル面２６より延伸し、底型４１、５１と該けい質型４２、５２間を定位する。
上型４３、５３は石膏泥状物を用い該けい質型４２、５２の上縁面において形成する。該上型４３、５３と該けい質型４２、５２型孔２４は隣り合った位置にあり、適当な間隙を留保する。突出した内型ブロック３６を用い設置し、該けい質型４２、５２型孔２４中の泥状物において鋳造し、突出した内型ブロック３６により泥状物中の水分を吸収する。
【００１７】
上記表面に微少なエッジやコーナーが密に敷設された陶器装飾品の素焼きポタリー製造に使用するシリカゲル型１４、１５は、通常は二部分により製造される陶器装飾品が最も望ましく、陶器装飾品の全体造形の定位が容易である。石膏により製造される上型４３、５３の内型ブロック３６により、該けい質型４２、５２型孔２４中の泥状物を圧迫し、該けい質型４２、５２型孔２４中の水分を吸収する。こうして、該型孔２４において、微少なエッジやコーナーを密に敷設したポタリー表面を成型する。該構造は型を取り外す時、損壊の虞がなく、均一かつ予期の厚みを達成することができる。
マグカップ前面の彫塑、レリーフ板等の平面式陶器装飾板の製造時には、該ポタリー３１は単一平板面上に微少なコーナーやエッジ、或いは模様を具える。この場合には、単一組のシリカゲル型を用い複製し、鋳造する。該製造工程では上記方法を運用し製造し、装飾面の表面には微少なコーナーやエッジ、或いは模様を具え、陶器複製品は上記同様に表面に微少なコーナーやエッジ、或いは微細な装飾模様を表現することができる。
【００１８】
【発明の効果】
本発明は表面に微少なコーナーやエッジを密に敷設したポタリー原型を用い、シリカゲル型により樹脂原型を成型し、該樹脂原型を用い、少なくとも二個のシリカゲル型をそれぞれ製造する。各シリカゲル型は定位に用いる底型、泥状物注入用の型孔シリカゲル型、吸水用の上型を具える。
けい質型と定位底型を結合し、シリカゲル型の型孔に適量の泥状物を注入し、上型を組合せる。上型は吸水作用を具える石膏材料により製造し、十分乾燥し型を外し、上型をそれぞれ取り外すことができるようになるまで、けい質型の型孔中の泥状物の大部分の水分を吸収する。二個のけい質型中のポタリー接合線は、泥状物を塗布し合併する。こうして、二個の半面状のポタリーは間相互結合し完全な造形ポタリーを成型する。
本発明中の泥状物を注入する型孔シリカゲル型は、型孔面上において微少なコーナーやエッジを密に敷設する。型孔中に注入する泥状物は、上型が型孔中の泥状物が含む水分を吸収し、型を取り外すことができるようになるまで、十分乾燥した時、けい質型と分離可能な強度にまで既に乾燥している。そのため、ポタリー表面に密に敷設された微少なコーナーやエッジは、型を外す時に、一切の損壊を受ける虞はない。
本発明のシリカゲル型より取り出した造形ポタリーは、二個の半面ポタリー接合位置において、泥状物の塗布を利用し合併し、接合位置表面に位置する微少なコーナーやエッジは、泥状物の塗布、及び合併時に成型される。型を外し取り出した後の造形ポタリーは、接合線位置において修正を経て、造形ポタリーの製造作業を完成する。
こうして本発明を利用し、表面に微少なコーナーやエッジ、或いは微細な装飾模様を密に敷設する陶器装飾品を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  公知方式で生産した陶器装飾品の立体図である。
【図２】  本発明を利用し生産した陶器装飾品の立体図である。
【図３】  本発明を利用し生産した陶器装飾品の側面図である。
【図４】  本発明の樹脂原形複製の作業図である。
【図５】  本発明のシリカゲル型複製の作業図である。第一けい質型、及び底型の製造行程を示す。
【図６】  本発明のシリカゲル型複製の作業図である。第二けい質型、及び底型の製造行程を示す。
【図７】  本発明の泥状物流し込みの作業図である。
【図８】  本発明の上型の作業図である。上型の製造行程を示す。
【図９】  本発明の上型の作業図である。上型第一型の実施例を示す。
【図１０】  本発明の上型の作業図である。上型第二型の実施例を示す。
【図１１】  本発明の泥状物流し込みの作業図である。第一シリカゲル型泥状物流し込みの作業図である。
【図１２】  本発明の泥状物流し込みの作業図である。第二シリカゲル型泥状物流し込みの作業図である。
【図１３】  本発明の泥状物流し込みの作業図である。第二シリカゲル型中のポタリーの接合、合併状況を示す。
【符号の説明】
１１  ポタリー原型
１２  シリカゲル型
１３  樹脂原型
１４  上シリカゲル型
１５  下シリカゲル型
１６  石膏ガード板
１７  結合孔
１８  充填料
１９  サポートブロック
２０  ガード板
２４  型孔
２４Ａ  型孔
２４Ｂ  型孔
２５  定位槽
２６  シリカゲル面
２７  定位フランジ
２８  ガード板
２９  シリカゲル面
３０  定位槽
３１  ポタリー
３１Ａ  ポタリー
３１Ｂ  ポタリー
３６  内型ブロック
３６Ａ  内型ブロック
３６Ｂ  内型ブロック
３７  シリカゲル型
３８  シリカゲル型
３９  凹孔
４０  木節土
４１  底型
４２  けい質型
４３  上型
４５  身体
４６  四肢
５１  底型
５２  けい質型
５３  上型
５５  毛部分
５６  注入部品
５７  注入口
５８  突起ブロック
５９  泥状物
【図１】
0004328025.tif 000002
【図２】
0004328025.tif 000003
【図３】
0004328025.tif 000004
【図４】
0004328025.tif 000005
【図５】
0004328025.tif 000006
【図６】
0004328025.tif 000007
【図７】
0004328025.tif 000008
【図８】
0004328025.tif 000009
【図９】
0004328025.tif 000010
【図１０】
0004328025.tif 000011
【図１１】
0004328025.tif 000012
【図１２】
0004328025.tif 000013
【図１３】
0004328025.tif 000014