(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定間隔離隔して対向合着された第１及び第２基板と、
前記合着された第１及び第２基板上に定義された画像表示部及び前記画像表示部の周縁部に定義されたダミー領域と、
前記第１基板上の画像表示部における複数のゲート配線及びデータ配線と、前記複数のゲート配線及びデータ配線は相互に所定間隔離隔されて前記ダミー領域へ延伸し、
前記延伸した複数のゲート配線を分離する前記ダミー領域上のみに前記データ配線と同じ金属を選択的にパターン化することにより形成された複数のダミー配線（ＳＬ１１〜ＳＬ１ｐ）と、
前記延伸した複数のデータ配線を分離する前記ダミー領域上のみに前記ゲート配線と同じ金属を選択的にパターン化することにより形成された他の複数のダミー配線（ＳＬ２１〜ＳＬ２ｑ）とを含んで構成され、
前記複数のゲート配線及びデータ配線、及び前記複数のダミー配線は、前記第１基板上の異なる層に互いに形成され、
前記第２の基板上のブラックマトリックスは、前記複数のダミー配線（ＳＬ１１〜ＳＬ１ｐ、ＳＬ２１〜ＳＬ２ｑ）と対面する
ことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
前記合着された第１及び第２基板の離隔空間に形成された液晶層を更に具備して構成されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項３】
前記液晶層は、少なくとも一つの第１及び第２母基板に液晶を滴下する液晶滴下方式により形成されることを特徴とする請求項２記載の液晶表示パネル。
【請求項４】
前記少なくとも一つの第１及び第２母基板にシール材が具備されることを特徴とする請求項３記載の液晶表示パネル。
【請求項５】
前記第１母基板には、薄膜トランジスタ・アレイが具備され、  第２母基板には、カラーフィルタ・アレイが具備されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項６】
画像表示部及び複数の前記画像表示部上に定義されたダミー領域を有する第１基板を提供する工程、
前記第１基板の画像表示部上に複数のゲート配線及びデータ配線を形成する行程、ここで、前記複数のゲート配線及びデータ配線は相互に所定間隔離隔されて前記ダミー領域へ延伸し、
前記複数のゲート配線及びデータ配線を有する前記第１基板上に第１絶縁層を形成する工程、
前記延伸した複数のゲート配線を分離する前記ダミー領域上のみに前記データ配線と同じ金属を選択的にパターン化することにより複数のダミー配線（ＳＬ１１〜ＳＬ１ｐ）を形成する工程、
前記延伸した複数のデータ配線を分離する前記ダミー領域上のみに前記ゲート配線と同じ金属を選択的にパターン化することにより他の複数のダミー配線（ＳＬ２１〜ＳＬ２ｑ）を形成する工程、ここで、前記複数のゲート配線及びデータ配線及び前記複数のダミー配線は、それぞれ前記第１基板上の異なる層に形成され、
前記第１絶縁層上に第２絶縁層を形成する工程、
第２基板上にブラックマトリックス層を形成する工程、
前記第１及び第２基板間で所定間隔離隔されて前記第２基板を前記第１基板へ合着する工程を含み、ここで、前記第１基板の第２絶縁層は前記第２基板のブラックマトリックスと対面する
ことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項７】
前記第１絶縁膜を形成する工程は、前記画像表示部にゲート絶縁膜を形成する時、ダミー領域に同時に形成することを特徴とする請求項６記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項８】
前記第２絶縁膜を形成する工程は、前記画像表示部に保護膜を形成する時、ダミー領域に同時に形成することを特徴とする請求項６記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項９】
前記第１及び第２基板の離隔空間に液晶層を形成する工程を更に行うことを特徴とする請求項６記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１０】
前記液晶層を形成する工程は、各薄膜トランジスタ・アレイ基板が形成された第１母基板または各カラーフィルタ基板が形成された第２母基板のうちの何れか一つの母基板に液晶を滴下する段階と、前記第１母基板または第２母基板のうちの何れか一つの母基板にシール材を形成する段階と、前記第１及び第２母基板を合着する段階と、を行うことを特徴とする請求項９記載の液晶表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示パネル及びその製造方法に係るもので、詳しくは、単位液晶表示パネルの画像が表示される画像表示部の周辺部分で輝点不良（ spot degradation ）が発生することを防止するのに適当な液晶表示パネル及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【関連技術】
一般に、液晶表示装置は、マトリックス状に配列された各液晶セルに画像情報に係るデータ信号を個別的に供給し、それら液晶セルの光透過率を調節することで、所望の画像を表示し得るようにした表示装置である。
【０００３】
従って、液晶表示装置は、画素単位の各液晶セルがマトリックス状に配列される液晶表示パネルと、前記各液晶セルを駆動するためのドライバ集積回路とを具備している。
【０００４】
前記液晶表示パネルは、相互に間隔をおいて対向するカラーフィルタ基板及び薄膜トランジスタ・アレイ基板と、そのカラーフィルタ基板及び薄膜トランジスタ・アレイ基板の間に充填された液晶層と、を含んで構成されている。
【０００５】
そして、前記液晶表示パネルの薄膜トランジスタ・アレイ基板上には、データドライバ集積回路から供給されるデータ信号を各液晶セルに伝送するための各データ配線と、ゲートドライバ集積回路から供給される走査信号を各液晶セルに伝送するための各ゲート配線が相互に直交し、これら各データ配線と各ゲート配線の交差部毎に液晶セルが夫々定義される。また、前記各データ配線と各ゲート配線の一端部には、前記データドライバ集積回路とゲートドライバ集積回路からデータ信号と走査信号が印加されるデータパッド及びゲートパッドが具備されている。
【０００６】
前記ゲートドライバ集積回路は、各ゲート配線に順次的に走査信号を供給することで、マトリックス状に配列された各液晶セルが一つのラインずつ順次選択されるようにし、該選択された一つのラインの各液晶セルにはデータドライバ集積回路からデータ信号が供給される。
【０００７】
一方、前記カラーフィルタ基板及び薄膜トランジスタ・アレイ基板の対向する内側面には共通電極と画素電極が形成されていて、前記液晶層に電界を印加する。この時、画素電極は薄膜トランジスタ・アレイ基板上に液晶セル別に形成される反面、共通電極はカラーフィルタ基板の全面に一体化して形成される。よって、共通電極に電圧を印加した状態で画素電極に印加される電圧を制御することで、各液晶セルの光透過率を個別的に調節し得る。
【０００８】
また、それぞれの液晶セルには、スイッチング素子として使用される薄膜トランジスタが形成される。前記各ゲート配線を通して薄膜トランジスタのゲート電極に走査信号が供給された各液晶セルでは、その薄膜トランジスタのソース電極とドレイン電極間に導電チャンネルが形成され、この時、前記各データ配線を通して薄膜トランジスタのソース電極に供給されたデータ信号が薄膜トランジスタのドレイン電極を経由して画素電極に供給されることで、該当の液晶セルの液晶層に電界が印加される。
【０００９】
以下、このような単位液晶表示パネルについて、図面を用いて説明する。
【００１０】
図４は、液晶表示装置の薄膜トランジスタ・アレイ基板とカラーフィルタ基板とが対向して合着された単位液晶表示パネルの概略的な平面構造を示した例示図である。
【００１１】
図示されたように、単位液晶表示パネル１０は、各液晶セルがマトリックス状に配列される画像表示部１３と、該画像表示部１３の各ゲート配線（GL1〜GLm）をゲート信号が印加されるゲートドライバ集積回路（図示せず）と接続させるためのゲートパッド部１４と、前記画像表示部１３の各データ配線（DL1〜DLn）を画像情報が印加されるデータドライバ集積回路（図示せず）と接続させるためのデータパッド部１５と、を含んで構成されている。この時、ゲートパッド部１４とデータパッド部１５は、カラーフィルタ基板２に比べて片側短辺及び片側長辺が突出した薄膜トランジスタ・アレイ基板１の縁部領域に形成される。
【００１２】
この時、図示されてないが、前記薄膜トランジスタ・アレイ基板１の各データ配線（DL1〜DLn）と各ゲート配線（GL1〜GLm）とが直角に交差する領域には、各液晶セルをスイッチングするための薄膜トランジスタが具備され、該薄膜トランジスタに接続されて各液晶セルに電界を印加するための画素電極と、このような各データ配線（DL1〜DLn）、各ゲート配線（GL1〜GLm）、各薄膜トランジスタ及び各電極を保護するために全面に形成された保護膜が具備される。
【００１３】
そして、前記カラーフィルタ基板２には、ブラックマトリックスによりセル領域別に分離されて塗布された各カラーフィルタと、前記薄膜トランジスタ・アレイ基板１に形成された画素電極の対向電極である共通電極が具備される。
【００１４】
このように構成された薄膜トランジスタ・アレイ基板１とカラーフィルタ基板２は、対向して所定間隔離隔するようにセル・ギャップが設けられ、画像表示部１３の外郭に形成されたシーリング部（図示せず）により合着され、薄膜トランジスタ・アレイ基板１とカラーフィルタ基板２の離隔された空間に液晶層（図示せず）が形成される。
【００１５】
一方、前記画像表示部１３の外郭には、単位液晶表示パネル１０とバックライトアセンブリーや外装フレームを結合させるために、所定のマージンを有するようにダミー領域１６が具備される。
【００１６】
前記バックライトアセンブリーから発生した光がダミー領域１６を透過する場合、単位液晶表示パネル１０の縁部から光が漏れるため、これを防止するために、ダミー領域１６にはブラックマトリックスのような物質が塗布される。
【００１７】
図５は、図４のダミー領域１６を単位液晶表示パネル１０の短辺と平行な方向に切断したI−I′線の断面を示した例示図である。通常、単位液晶表示パネル１０の片側短辺にはゲートパッド部１４が形成される。
【００１８】
従って、図５に示されたように、薄膜トランジスタ・アレイ基板１１は、第１基板２１の上部に所定間隔離隔するようにパターニングされたゲート配線（GL11、GL12）と、それらゲート配線（GL11、GL12）を含んだ第１基板２１の上部全面に形成されたゲート絶縁膜２２と、該ゲート絶縁膜２２の上部に形成された保護膜２３と、を具備している。
【００１９】
そして、カラーフィルタ基板１２には、第２基板３１に形成されたブラックマトリックス３２が前記薄膜トランジスタ・アレイ基板１１の保護膜２３と対向するように具備されている。
【００２０】
前記薄膜トランジスタ・アレイ基板１１とカラーフィルタ基板１２は、所定のセル・ギャップにより離隔されて対向合着され、その離隔された空間に液晶層１７が形成される。
【００２１】
一方、図６は、図４のダミー領域１６を単位液晶表示パネル１０の長辺と平行な方向に切断したII−II′線の断面を示した例示図である。通常、単位液晶表示パネル１０の片側長辺にはデータパッド部１５が形成される。
【００２２】
従って、図６に示されたように、薄膜トランジスタ・アレイ基板１１は、第１基板２１の上部全面に形成されたゲート絶縁膜２２と、該ゲート絶縁膜２２の上部に相互に所定間隔離隔するようにパターニングされた各データ配線（DL11、DL12）と、それらデータ配線（DL11、DL12）を含んだ第１基板２１の上部全面に形成された保護膜２３と、を具備している。
【００２３】
そして、カラーフィルタ基板１２は、第２基板３１に形成されたブラックマトリックス３２が前記薄膜トランジスタ・アレイ基板１１の保護膜２３と対向するように具備されている。
【００２４】
前記薄膜トランジスタ・アレイ基板１１とカラーフィルタ基板１２は、所定のセル・ギャップにより離隔して対向合着され、その離隔した空間に液晶層１７が形成される。
【００２５】
このような関連技術の単位液晶表示パネル１０は、薄膜トランジスタ・アレイ基板１１の底面に設けられるバックライトアセンブリー（図示せず）から発生された光がダミー領域１６を透過しないように、カラーフィルタ基板１２に具備されたブラックマトリックス３２を通して遮断している。
【００２６】
【発明が解決しようとする課題】
然るに、このような関連技術の液晶表示パネルにおいては、カラーフィルタ基板にブラックマトリックスを形成して、薄膜トランジスタ・アレイ基板の底面に設けられるバックライトアセンブリーから発生された光がダミー領域を透過しないように遮断しているが、ブラックマトリックスのスクラッチが存在するか、またはブラックマトリックス上に異質物が付着したような場合、液晶表示パネルのダミー領域で輝点不良が発生して表示品位を低下させるという不都合な点があった。
【００２７】
且つ、前記輝点不良は、ダミー領域上に不規則に分布するため、これを検査することが難しく、検査に要する時間が長引いて生産性を低下させるという不都合な点があった。
【００２８】
本発明は、このような関連技術の課題に鑑みてなされたもので、液晶表示パネルのダミー領域で発生する輝点不良を防止し得る液晶表示パネル及びその製造方法を提供することを目的とする。
【００２９】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するため、本発明に係る液晶表示パネルの第１実施形態においては、所定間隔離隔して対向合着された第１及び第２基板と、前記合着された第１及び第２基板上に定義された画像表示部及びダミー領域と、前記第１基板上部のダミー領域に相互に所定間隔離隔するようにパターニングされた各導電性配線と、前記各導電性配線と離隔した領域にパターニングされた各ダミー配線と、を含んで構成されることを特徴とする。
【００３０】
且つ、本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の第１実施形態においては、画像表示部とダミー領域が定義された第１基板のダミー領域上に相互に所定間隔離隔するように各導電性配線を形成する工程と、前記各導電性配線を含む第１基板上部に第１絶縁膜を形成する工程と、前記各導電性配線と離隔した領域の第１絶縁膜上部に各ダミー配線を形成する工程と、前記各ダミー配線を含む第１絶縁膜上部に第２絶縁膜を形成する工程と、を行うことを特徴とする。
【００３１】
且つ、本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の、他の実施形態においては、画像表示部とダミー領域が定義された第１基板のダミー領域上部に相互に所定間隔離隔するように各ダミー配線を形成する工程と、前記各ダミー配線を含む第１基板上部に第１絶縁膜を形成する工程と、前記各ダミー配線と離隔した領域の第１絶縁膜上部に各導電性配線を形成する工程と、前記各導電性配線を含む第１絶縁膜上部に第２絶縁膜を形成する工程と、を行うことを特徴とする。
【００３２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。
【００３３】
図１は、本発明に係る単位液晶表示パネルの第１実施形態の概略的な平面構造を示した例示図である。
【００３４】
図示されたように、単位液晶表示パネル１００は、各液晶セルがマトリックス状に配列される画像表示部１１３と、該画像表示部１１３の各ゲート配線（GL1〜GLm）をゲート信号が印加されるゲートドライバ集積回路（図示せず）と接続させるためのゲートパッド部１１４と、前記画像表示部１１３と各データ配線（DL1〜DLn）を画像情報が印加されるデータドライバ集積回路（図示せず）と接続させるためのデータパッド部１１５と、を含んで構成されている。この時、ゲートパッド部１１４及びデータパッド部１１５は、カラーフィルタ基板１１２に比べて片側短辺及び片側長辺が突出した薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１の縁部領域に形成される。
【００３５】
この時、図示されてないが、前記薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１の各データ配線（DL1〜DLn）と各ゲート配線（GL1〜GLm）とが直角に交差する領域には、各液晶セルをスイッチングするための薄膜トランジスタが具備され、該薄膜トランジスタに接続されて各液晶セルに電界を印加するための画素電極と、このような各データ配線（DL1〜DLn）、各ゲート配線（GL1〜GLm）、各薄膜トランジスタ及び各電極を保護するために全面に形成された保護膜と、が具備される。
【００３６】
そして、前記カラーフィルタ基板１１２には、ブラックマトリックスによりセル領域別に分離されて塗布された各カラーフィルタと、前記薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１に形成された画素電極の対向電極である共通電極と、が具備される。
【００３７】
このように構成された薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１とカラーフィルタ基板１１２は、対向して所定間隔離隔するようにセル・ギャップが設けられ、画像表示部１１３の周辺部分に形成されたシーリング部（図示せず）により合着され、薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１とカラーフィルタ基板１１２の離隔された空間に液晶層（図示せず）が形成される。
【００３８】
該液晶層は、各薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１が形成された第１母基板と各カラーフィルタ基板１１２が形成された第２母基板とを合着した後、液晶を注入する方式で形成するか、若しくは、前記第１母基板または第２母基板中何れか一つの基板に液晶を滴下した後、第１母基板と第２母基板とを真空合着して形成することができる。
【００３９】
また、前記第１及び第２母基板を合着するために、シール材（図示せず）を液晶が滴下された基板に形成するか、若しくは、液晶が滴下されてない基板に形成することができる。
【００４０】
一方、前記画像表示部１１３の周辺部分には、単位液晶表示パネル１００とバックライトアセンブリーや外装フレームを結合させるために、所定のマージンを有するようにダミー領域１１６が具備される。
【００４１】
前記バックライトアセンブリーから発生した光がダミー領域１１６を透過する場合、単位液晶表示パネル１００の縁部から光が漏れるため、これを防止するために、前記ダミー領域１１６にはブラックマトリックスのような物質が塗布されている。また、前記画像表示部１１３で直角に交差する各ゲート配線（GL1〜GLm）及び各データ配線（DL1〜DLn）が延長形成される。この時、各ゲート配線（GL1〜GLm）及び各データ配線（DL1〜DLn）は、通常、光を遮断する不透明な材質の金属が適用される。
【００４２】
一方、本発明の第１実施形態においては、前記ダミー領域１１６まで延長形成された各ゲート配線（GL1〜GLm）と離隔した領域に各ダミー配線（SL11〜SL1p）が形成され、前記各データ配線（DL1〜DLn）と離隔した領域に各ダミー配線（SL21〜SL2q）が形成される。
【００４３】
前記各ゲート配線（GL1〜GLm）と離隔した領域に形成される各ダミー配線（SL11〜SL1p）は、前記各データ配線（DL1〜DLn）と同様な金属配線を選択的にパターニングして適用することができ、また、前記各データ配線（DL1〜DLn）と離隔した領域に形成される各ダミー配線（SL21〜SL2q）は、前記各ゲート配線（GL1〜GLm）と同様な金属配線を選択的にパターニングして適用することができる。
【００４４】
従って、前記各ゲート配線（GL1〜GLm）、各データ配線（DL1〜DLn）及び各ダミー配線（SL11〜SL1p、SL21〜SL2q）は、不透明な材質の金属が適用されることで、光が透過することを遮断し得るため、前記ダミー領域１１６に形成されたブラックマトリックスのスクラッチや異質物の付着によりダミー領域１１６で輝点不良が発生することを防止し得る。
【００４５】
一方、図２は、図４のダミー領域１１６を単位液晶表示パネル１００の短辺と平行な方向に切断したIII−III′線の断面を示した例示図である。通常、単位液晶表示パネル１００の片側短辺にはゲートパッド部１１４が形成される。
【００４６】
従って、図２に示されたように、薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１は、第１基板１２１の上部に相互に所定間隔離隔するようにパターニングされた各ゲート配線（GL11、GL12）と、それらゲート配線（GL11、GL12）を含んで第１基板１２１の上部全面に形成されたゲート絶縁膜１２２と、前記各ゲート配線（GL11、GL12）と離隔した領域のゲート絶縁膜１２２上部に形成された各ダミー配線（SL31、SL32）と、それらダミー配線（SL31、SL32）を含んで前記ゲート絶縁膜１２２の上部に形成された保護膜１２３と、を具備している。
【００４７】
そして、カラーフィルタ基板１１２には、第２基板１３１に形成されたブラックマトリックス１３２が前記薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１の保護膜１２３と対向するように具備されている。
【００４８】
前記薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１とカラーフィルタ基板１１２は、所定のセル・ギャップにより離隔して対向合着され、薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１とカラーフィルタ基板１１２の離隔した空間に液晶層１１７が形成される。
【００４９】
前記したように、液晶層１１７は、各薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１が形成された第１母基板と各カラーフィルタ基板１１２が形成された第２母基板とを合着した後、液晶を注入する方式で形成するか、若しくは、前記第１母基板または第２母基板のうち何れか一つの基板に液晶を滴下した後、第１母基板と第２母基板とを真空合着して形成することができ、前記第１及び第２母基板を合着するために、シール材（図示せず）を液晶が滴下された基板に形成するか、若しくは、液晶が滴下されてない基板に形成することができる。
【００５０】
また、前記各ゲート配線（GL11、GL12）と離隔した領域に形成される各ダミー配線（SL31、SL32）は、図１の各データ配線（DL1〜DLn）と同様な金属配線を選択的にパターニングして適用することができる。
【００５１】
前記各ゲート配線（GL11、GL12）、各データ配線（DL1〜DLn）及び各ダミー配線（SL31、SL32）は、不透明な材質の金属が適用されて光を遮断し得るため、前記単位液晶表示パネル１００の短辺縁部に定義されたダミー領域１１６でブラックマトリックスのスクラッチや異質物の付着により輝点不良が発生することを防止し得る。
【００５２】
以下、このような単位液晶表示パネル１００の短辺縁部に定義されたダミー領域１１６の製造方法について説明する。
【００５３】
まず、第１基板１２１の上部に各ゲート配線（GL11、GL12）を相互に所定間隔離隔するようにパターニングする。この時、各ゲート配線（GL11、GL12）は、ゲートドライバ集積回路（図示せず）からゲートパッド部１１４を通して供給される走査信号を液晶表示パネル１００の画像表示部１１３に伝達する。
【００５４】
そして、前記各ゲート配線（GL11、GL12）を含んで第１基板１２１の上部全面にゲート絶縁膜１２２を形成する。この時、ゲート絶縁膜１２２は、前記単位液晶表示パネル１００の画像表示部１１３に、マトリックス状に配列された各液晶セルに具備される薄膜トランジスタのゲート絶縁膜を形成する時、ダミー領域１１６に同時に形成される。
【００５５】
次いで、前記各ゲート配線（GL11、GL12）と離隔した領域のゲート絶縁膜１２２上部に各ダミー配線（SL31、SL32）を形成する。この時、各ダミー配線（SL31、SL32）は、前記単位液晶表示パネル１００の画像表示部１１３で各ゲート配線（GL11、GL12）と直角に交差する各データ配線（DL1〜DLn）をパターニングする時、ダミー領域１１６に同時に形成することが好ましい。前記各データ配線（DL1〜DLn）は、データドライバ集積回路（図示せず）からデータパッド部１１５を通して供給される画像信号を液晶表示パネル１００の画像表示部１１３に伝達する。
【００５６】
次いで、前記各ダミー配線（SL31、SL32）を含んでゲート絶縁膜１２２の上部に保護膜１２３を形成する。この時、保護膜１２３は、前記単位液晶表示パネル１００の画像表示部１１３に形成された各配線、各薄膜トランジスタ及び各電極の保護膜を形成する時、ダミー領域１１６に同時に形成される。
【００５７】
一方、第２基板１３１の上部には光を遮断するブラックマトリックス１３２を形成し、前記薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１の保護膜１２３と所定間隔離隔して対向するように薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１とカラーフィルタ基板１１２とを合着する。
【００５８】
前記薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１とカラーフィルタ基板１１２の離隔された空間には液晶層１１７が形成されるが、前記したように、液晶層１１７は、各薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１が形成された第１母基板と各カラーフィルタ基板１１２が形成された第２母基板とを合着した後、液晶を注入する方式で形成するか、若しくは、前記第１母基板または第２母基板のうちの何れか一つの基板に液晶を滴下した後、第１母基板と第２母基板とを真空合着して形成することができ、前記第１及び第２母基板を合着するために、シール材（図示せず）を液晶が滴下された基板に形成するか、若しくは、液晶が滴下されてない基板に形成することができる。
【００５９】
一方、図３は、図１のダミー領域１１６を単位液晶表示パネル１００の長辺と平行な方向に切断したIV−IV′線の断面を示した例示図である。通常、単位液晶表示パネル１００の片側長辺にはデータパッド部１１５が形成される。
【００６０】
従って、図３に示されたように、薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１は、第１基板１２１の上部に相互に所定間隔離隔するようにパターニングされた各ダミー配線（SL31、SL32）と、それらダミー配線（SL31、SL32）を含んだ第１基板１２１の上部全面に形成されたゲート絶縁膜１２２と、前記各ダミー配線（SL31、SL32）と離隔した領域のゲート絶縁膜１２２上部に形成された各データ配線（DL11、DL12）と、それらデータ配線（DL11、DL12）を含んだゲート絶縁膜１２２の上部全面に形成された保護膜１２３と、を具備している。
【００６１】
そして、カラーフィルタ基板１１２には、第２基板１３１に形成されたブラックマトリックス１３２が前記薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１の保護膜１２３と対向するように具備されている。
【００６２】
前記薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１とカラーフィルタ基板１１２は、所定のセル・ギャップにより離隔して対向合着され、薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１とカラーフィルタ基板１１２の離隔した空間に液晶層１１７が形成される。
【００６３】
前記したように、液晶層１１７は、各薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１が形成された第１母基板と各カラーフィルタ基板１１２が形成された第２母基板とを合着した後、液晶を注入する方式で形成するか、若しくは、前記第１母基板または第２母基板のうちの何れか一つの基板に液晶を滴下した後、第１母基板と第２母基板とを真空合着して形成することができ、前記第１及び第２母基板を合着するために、シール材（図示せず）を液晶が滴下された基板に形成するか、若しくは、液晶が滴下されてない基板に形成することができる。
【００６４】
また、前記各データ配線（DL11、DL12）と離隔した領域に形成される各ダミー配線（SL31、SL32）は、図１の各ゲート配線（GL1〜GLn）と同様な金属配線を選択的にパターニングして適用することができる。
【００６５】
前記各データ配線（DL11、DL12）、各ゲート配線（GL1〜GLn）及び各ダミー配線（SL31、SL32）は、不透明な材質の金属が適用されて光を遮断し得るため、前記単位液晶表示パネル１００の長辺縁部に定義されたダミー領域１１６でブラックマトリックスのスクラッチや異質物の付着により輝点不良が発生することを防止し得る。
【００６６】
以下、このような単位液晶表示パネル１００の長辺縁部に定義されたダミー領域１１６の製造方法について説明する。
【００６７】
まず、第１基板１２１の上部に各ダミー配線（SL31、LS32）を相互に所定間隔離隔するようにパターニングする。この時、各ダミー配線（SL31、SL32）は、前記単位液晶表示パネル１００の画像表示部１１３で各ゲート配線（GL1〜GLn）をパターニングする時、ダミー領域１１６に同時に形成することが好ましく、以後に形成される各データ配線（DL11、DL12）と離隔した領域に形成されるように適切にパターニングすることが好ましい。前記各ゲート配線（GL1〜GLn）は、ゲートドライバ集積回路（図示せず）からゲートパッド部１１４を通して供給される走査信号を液晶表示パネル１００の画像表示部１１３に伝達する。
【００６８】
そして、前記各ダミー配線（SL31、SL32）を含んだ第１基板１２１の上部全面にゲート絶縁膜１２２を形成する。この時、ゲート絶縁膜１２２は、前記単位液晶表示パネル１００の画像表示部１１３にマトリックス状に配列された各液晶セルに具備される薄膜トランジスタのゲート絶縁膜を形成する時、ダミー領域１１６に同時に形成される。
【００６９】
そして、前記各ダミー配線（SL31、SL32）と離隔した領域のゲート絶縁膜１２２上部に各データ配線（DL11、DL12）を形成する。この時、各データ配線（DL11、DL12）は、データドライバ集積回路（図示せず）からデータパッド部１１５を通して供給される画像情報を液晶表示パネル１００の画像表示部１１３に伝達する。
【００７０】
そして、前記各データ配線（DL11、DL12）を含んでゲート絶縁膜１２２の上部に保護膜１２３を形成する。この時、保護膜１２３は、前記液晶表示パネル１００の画像表示部１１３に形成された各配線、各薄膜トランジスタ及び各電極の保護膜を形成する時、ダミー領域１１６に同時に形成される。
【００７１】
一方、第２基板１３１の上部には光を遮断するブラックマトリックス１３２を形成し、前記薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１の保護膜１２３と所定間隔離隔して対向するように薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１とカラーフィルタ基板１１２とを合着する。
【００７２】
前記薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１とカラーフィルタ基板１１２の離隔空間には液晶層１１７が形成されるが、前記したように、液晶層１１７は、各薄膜トランジスタ・アレイ基板１１１が形成された第１母基板と各カラーフィルタ基板１１２が形成された第２母基板とを合着した後、液晶を注入する方式で形成するか、若しくは、前記第１母基板または第２母基板のうちの何れか一つの基板に液晶を滴下した後、第１母基板と第２母基板とを真空合着して形成することができ、前記第１及び第２母基板を合着するためにシール材（図示せず）を液晶が滴下された基板に形成するか、若しくは、液晶が滴下されてない基板に形成することができる。
【００７３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る液晶表示パネル及びその製造方法においては、液晶表示パネルの画像表示部からダミー領域まで延長形成された各ゲート配線と離隔した領域に、各データ配線と同様な不透明な材質の金属で各ダミー配線を形成し、それらデータ配線と離隔した領域に各ゲート配線と同様な不透明な材質の金属で各ダミー配線を形成して光を遮断することにより、液晶表示パネルのダミー領域に形成されたブラックマトリックスのスクラッチや異質物の付着によりダミー領域に輝点不良が発生することを最小化し、輝点不良の検査に必要な時間を減らすことができ、表示品位と生産性を向上し得るという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明に係る液晶表示パネル第１実施形態の概略的な平面構造を示した例示図である。
【図２】  図１のダミー領域を単位液晶表示パネルの短辺と平行な方向に切断したIII−III′線の断面を示した例示図である。
【図３】  図１のダミー領域を単位液晶表示パネルの長辺と平行な方向に切断したIV−IV′線の断面を示した例示図である。
【図４】  液晶表示装置の薄膜トランジスタ・アレイ基板とカラーフィルタ基板とが対向して合着された単位液晶表示パネルの概略的な平面構造を示した例示図である。
【図５】  図４のダミー領域を単位液晶表示パネルの短辺と平行な方向に切断したI−I′線の断面を示した例示図である。
【図６】  図４のダミー領域を単位液晶表示パネルの長辺と平行な方向に切断したII−II′線の断面を示した例示図である。
【符号の説明】
１００：単位液晶表示パネル
１１１：薄膜トランジスタ・アレイ基板
１１２：カラーフィルタ基板
１１３：画像表示部
１１４：ゲートパッド部
１１５：データパッド部
１１６：ダミー領域
１１７：液晶層
GL1〜GLm：ゲート配線
DL1〜DLn：データ配線
SL11〜SL1p、SL21〜SL2q：ダミー配線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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