(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ピペロニル基で封鎖される分子の末端を有するパーフルオロポリエーテルを含みつつ記録媒体の表面に形成される潤滑剤膜に向けて紫外線を照射し、シュウ酸を生成する工程と、紫外線の照射後に塩基に前記記録媒体を曝す工程とを備えることを特徴とする記録媒体の表面処理方法。
【請求項２】
請求項１に記載の記録媒体の表面処理方法において、前記塩基は脂肪族アミン化合物であることを特徴とする記録媒体の表面処理方法。
【請求項３】
請求項１に記載の記録媒体の表面処理方法において、塩基に前記記録媒体を曝すにあたって、前記記録媒体は塩基含有溶液に浸漬されることを特徴とする記録媒体の表面処理方法。
【請求項４】
請求項３に記載の記録媒体の表面処理方法において、前記塩基含有溶液の溶媒はハイドロフルオロエーテル化合物であることを特徴とする記録媒体の表面処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えばハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）に組み込まれる磁気ディスクといった記録媒体に関し、特に、記録媒体の表面に潤滑剤膜を形成する記録媒体の表面処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えばＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）層といった磁気ディスクの表面や、磁気ディスクの表面に形成される潤滑剤膜中には、多かれ少なかれシュウ酸や酢酸といった有機酸が存在する。こういった有機酸は、磁気ディスク表面の水分に溶融して磁気ディスクの腐食（さび）を誘引する。磁気ディスクの表面にはいわゆる腐食痕が形成されてしまう。腐食痕は磁気ディスクの表面から盛り上がる。
【０００３】
例えば、磁気ディスクの製造過程で潤滑剤膜には紫外線が照射される。こうして紫外線が照射されると、潤滑剤膜は磁気ディスクの表面に満遍なく広がることができる。しかも、磁気ディスクの表面では撥水性は高められることができる。磁気ディスクの摩擦力は弱められることができる。その一方で、紫外線の照射は、磁気ディスクの表面や潤滑剤膜中に比較的に多量の有機酸を生成させてしまう。磁気ディスクの腐食は促進されてしまう。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
例えばハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）では、高密度な磁気記録の実現にあたってヘッドスライダの浮上量は低減されていく傾向にある。こうして浮上量が低減されると、磁気ディスクの回転中にヘッドスライダが腐食痕に衝突する確立は上昇する。こうしてヘッドスライダが腐食痕に衝突すると、ヘッドスライダの破損が懸念される。
【０００５】
本発明は、上記実状に鑑みてなされたもので、記録媒体上でできる限り腐食痕の発生を抑制することができる記録媒体の表面処理方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、第１発明によれば、記録媒体の表面に形成される潤滑剤膜に向けて紫外線を照射する工程と、紫外線の照射後に塩基に記録媒体を曝す工程とを備えることを特徴とする記録媒体の表面処理方法が提供される。
【０００７】
一般に、記録媒体上の潤滑剤膜に紫外線が照射されると、潤滑剤膜は記録媒体の表面に満遍なく広がることができる。同時に、記録媒体の表面では撥水性は高められることができる。記録媒体の摩擦力は弱められることができる。
【０００８】
しかも、記録媒体が塩基に曝されると、記録媒体の表面や潤滑剤膜中に存在する有機酸は塩に変換されることができる。有機酸は消費される。こうして記録媒体の表面や潤滑剤膜中から有機酸は除去されることができる。こういった有機酸の減少は長期間にわたって腐食痕の発生を防止することに大いに役立つ。前述のような紫外線の照射は、記録媒体の表面や潤滑剤膜中に比較的に多量の有機酸を生成させてしまう。こういった場合でも、塩基の働きによれば、記録媒体の表面や潤滑剤膜中に存在する有機酸は劇的に減少することが確認された。
【０００９】
塩基含有溶液に含まれる塩基は弱塩基であればよい。特に、こういった塩基はアミン化合物であればよい。アミン化合物には、例えば脂肪族アミン化合物が含まれることができる。
【００１０】
塩基に記録媒体を曝すにあたっては、記録媒体は塩基含有溶液に浸漬されればよい。塩基含有溶液では、例えばハイドロフルオロエーテル化合物といった溶媒に前述の塩基が溶かし込まれればよい。
【００１１】
潤滑剤膜は例えばパーフルオロエーテル化合物であればよい。特に、こういったパーフルオロポリエーテル化合物では、分子の末端がピペロニル基で封鎖されることが望まれる。
【００１２】
前述のような紫外線は例えば２００ｎｍ以下の波長の紫外線を含むことが望まれる。こういった波長の紫外線は効率的に酸素分子からオゾンを作り出すことができる。したがって、記録媒体の表面では酸化反応は促進されることができる。こういった酸化反応の働きで、記録媒体の表面で潤滑剤膜は記録媒体の表面に満遍なく広がることができる。
【００１３】
また、第２発明によれば、記録媒体の表面に潤滑剤膜を形成する工程と、塩基に記録媒体を曝す工程とを備えることを特徴とする記録媒体の表面処理方法が提供される。
【００１４】
記録媒体が塩基に曝されると、記録媒体の表面や潤滑剤膜中に存在する有機酸は塩に変換されることができる。有機酸は消費される。こうして記録媒体の表面や潤滑剤膜中から有機酸は除去されることができる。こういった有機酸の減少は長期間にわたって腐食痕の発生を防止することに大いに役立つ。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照しつつ本発明の一実施形態を説明する。
【００１６】
図１は記録媒体向け表面処理システムの構成を概略的に示す。この表面処理システム１１は潤滑剤塗布装置１２を備える。潤滑剤塗布装置１２の液漕１３は潤滑剤含有液１４で満たされる。潤滑剤含有液１４では、例えばフッ素系溶剤にパーフルオロエーテル系化合物すなわち潤滑剤が溶かし込まれる。フッ素系溶剤には例えば０．００５〜０．０５重量％程度で潤滑剤が含まれればよい。特に、潤滑剤には、両末端にピペロニル基を備えるパーフルオロポリエーテルが用いられればよい。
【００１７】
表面処理システム１１には紫外線照射装置１５が組み込まれる。この紫外線照射装置１５は、例えば複数個の紫外線ランプ１６を収容するチャンバ１７を備える。紫外線ランプ１６は、例えば２００ｎｍ以下の波長（例えば１８５ｎｍ）の紫外線と、２００ｎｍを超える波長（例えば２５４ｎｍ）の紫外線とを出力することができる。チャンバ１７内では、酸素を含む雰囲気が確立されればよい。チャンバ１７内は例えば大気で満たされればよい。
【００１８】
表面処理システム１１にはさらに洗浄装置１８が組み込まれる。洗浄装置１８は、塩基含有溶液１９で満たされる液漕２１を備える。塩基含有溶液１９では、例えばハイドロフルオロエーテルといったフッ素系溶剤に弱塩基すなわちアミン化合物が溶かし込まれる。フッ素系溶剤には例えば０．００１〜１重量％程度で脂肪族第１級アミンが含まれればよい。
【００１９】
次に、以上のような表面処理システム１１で実現される記録媒体の表面処理方法を詳述する。まず、図２に示されるように、磁気ディスク２２は潤滑剤含有液１４に浸される。潤滑剤含有溶液１４中で磁気ディスク２２の表面には潤滑剤すなわちパーフルオロポリエーテル２３が付着する。こうして磁気ディスク２２の表面には潤滑剤膜が形成される。ピペロニル基２４は磁気ディスク２２の表面に成膜されるＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）に優れた親和性を発揮する。パーフルオロポリエーテル２３は磁気ディスク２２の表面に高い安定度で付着することができる。
【００２０】
こうした潤滑剤膜の形成に先立って磁気ディスク２２は洗浄液（図示せず）に浸されてもよい。こういった洗浄液には、例えば水や低級アルコール、アセトンといった有極性液体が用いられればよい。こうした有極性液体は、磁気ディスク２２の表面から例えば硝酸イオンやリン酸イオン、硫酸イオン、シュウ酸イオンといった親水性のイオン系コンタミネーションを洗い落とすことができる。その他、洗浄液にはトルエンやヘキサンといった有機溶剤が用いられてもよい。こういった有機溶剤は、磁気ディスク２２の表面から例えばシリコン含有有機化合物といった疎水性の有機物コンタミネーションを洗い落とすことができる。
【００２１】
その後、磁気ディスク２２は紫外線照射装置１５に送り込まれる。磁気ディスク２２はチャンバ１７内に放り込まれる。チャンバ１７内で紫外線ランプ１６が点灯されると、図３に示されるように、チャンバ１７内に漂う酸素分子２６は紫外線２７の働きでオゾン２８に変換される。生成されたオゾン２８は磁気ディスク２２の表面で酸化反応を促す。こうした酸化反応の影響で、磁気ディスク２２の表面とパーフルオロポリエーテル２３との親和性は高められる。パーフルオロポリエーテル２３は磁気ディスク２２の表面に満遍なく広がることができる。特に、波長２００ｎｍ以下の紫外線２７はオゾン２８の発生を助長すると考えられる。
【００２２】
磁気ディスク２２の表面でパーフルオロポリエーテル２３に紫外線が照射されると、パーフルオロポリエーテル２３の分子は高分子化される。こうした高分子化は潤滑剤膜の撥水性を高める。同時に、高分子化に基づき、潤滑剤膜の摩擦力は低減される。特に、２００ｎｍを超える波長の紫外線２７は化合物分子の高分子化を助長すると考えられる。
【００２３】
その後、磁気ディスク２２は洗浄装置１８に送り込まれる。磁気ディスク２２は塩基含有溶液１９に浸される。図４に示されるように、塩基含有溶液１９中の塩基３１は、磁気ディスク２２の表面や潤滑剤膜中に存在するシュウ酸や酢酸といった有機酸３２に結びつく。こうした結びつきの結果、有機酸３２は塩３３に変換される。有機酸３２は消費される。こうして磁気ディスク２２の表面や潤滑剤膜中に存在する有機酸３２は洗い落とされる。特に、前述のように磁気ディスク２２の表面すなわちＤＬＣ層や潤滑剤膜に紫外線が照射されると、磁気ディスク２２の表面や潤滑剤膜中には比較的に多くの有機酸３２は生成されてしまう。
【００２４】
本発明者は塩基含有溶液１９の洗浄効果を検証した。この検証では、前述のように磁気ディスク２２が塩基含有溶液１９に浸された後に、磁気ディスク２２の表面に残存するシュウ酸の質量が測定された。測定にはイオンクロマトグラフィーが用いられた。検証にあたって、比較例に係る磁気ディスクは用意された。この比較例では、前述のような紫外線２７の照射後にシュウ酸の質量は測定された。比較例に係る磁気ディスクは塩基含有溶液１９に浸されなかった。図５から明らかなように、塩基含有溶液１９に浸された結果、磁気ディスク２２上のシュウ酸は減少することが確認された。
【００２５】
続いて本発明者は、本実施形態に係る磁気ディスク２２の表面と、比較例に係る磁気ディスクの表面とで腐食痕（結露痕）を計数した。計数に先立って、それぞれの磁気ディスクは高温多湿の環境下に放置された。温度は８０℃に設定された。湿度は９５％に設定された。２時間後に各磁気ディスク上の腐食痕は計数された。図６から明らかなように、塩基含有溶液１９に浸された結果、磁気ディスク２２上の腐食痕は劇的に減少することが確認された。
【００２６】
（付記１）  記録媒体の表面に形成される潤滑剤膜に向けて紫外線を照射する工程と、紫外線の照射後に塩基に記録媒体を曝す工程とを備えることを特徴とする記録媒体の表面処理方法。
【００２７】
（付記２）  付記１に記載の記録媒体の表面処理方法において、前記塩基は弱塩基であることを特徴とする記録媒体の表面処理方法。
【００２８】
（付記３）  付記１に記載の記録媒体の表面処理方法において、前記塩基はアミン化合物であることを特徴とする記録媒体の表面処理方法。
【００２９】
（付記４）  付記１に記載の記録媒体の表面処理方法において、前記塩基は脂肪族アミン化合物であることを特徴とする記録媒体の表面処理方法。
【００３０】
（付記５）  付記１に記載の記録媒体の表面処理方法において、塩基に記録媒体を曝すにあたって、記録媒体は塩基含有溶液に浸漬されることを特徴とする記録媒体の表面処理方法。
【００３１】
（付記６）  付記５に記載の記録媒体の表面処理方法において、前記塩基含有溶液の溶媒はハイドロフルオロエーテル化合物であることを特徴とする記録媒体の表面処理方法。
【００３２】
（付記７）  付記１に記載の記録媒体の表面処理方法において、前記潤滑剤膜はパーフルオロエーテル化合物であることを特徴とする記録媒体の表面処理方法。
【００３３】
（付記８）  付記１に記載の記録媒体の表面処理方法において、前記紫外線は２００ｎｍ以下の波長の紫外線を含むことを特徴とする記録媒体の表面処理方法。
【００３４】
（付記９）  記録媒体の表面に潤滑剤膜を形成する工程と、塩基に記録媒体を曝す工程とを備えることを特徴とする記録媒体の表面処理方法。
【００３５】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、記録媒体上でできる限り腐食痕の発生は抑制されることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  表面処理システムの全体構成を概略的に示す概念図である。
【図２】  磁気ディスクの表面に潤滑剤膜が形成される様子を概略的に示す概念図である。
【図３】  磁気ディスクの表面で酸化反応が誘引される様子を概略的に示す概念図である。
【図４】  磁気ディスクの表面から有機酸が洗い落とされる様子を概略的に示す概念図である。
【図５】  磁気ディスク上のシュウ酸の質量を示す棒グラフである。
【図６】  磁気ディスク上の腐食痕の個数を示す棒グラフである。
【符号の説明】
１９  塩基含有溶液、２２  記録媒体としての磁気ディスク、２３  潤滑剤膜としてのパーフルオロポリエーテル、２７  紫外線、３１  塩基。
【図１】
0004389099.tif 000002
【図２】
0004389099.tif 000003
【図３】
0004389099.tif 000004
【図４】
0004389099.tif 000005
【図５】
0004389099.tif 000006
【図６】
0004389099.tif 000007