(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種類のAg合金膜が基板上に他層を介することなく形成され、更に該Ag合金膜の上に純Ag膜が他層を介することなく形成されている積層膜において、基板側のAg合金膜がその上層の純Ag膜よりも高い耐熱性を有することを特徴とするAg合金積層膜。
【請求項２】
少なくとも２種類のAg合金膜を基板上に他層を介することなく順次積層したAg合金積層膜において、基板側のAg合金膜がその上層のAg合金膜よりも高い耐熱性を有することを特徴とするAg合金積層膜。
【請求項３】
前記基板側のAg合金膜が希土類元素の１種以上を合計で0.1 〜3.0 原子％含有する請求項１または２記載のAg合金積層膜。
【請求項４】
前記希土類元素がNdおよび／またはＹである請求項３記載のAg合金積層膜。
【請求項５】
前記基板側のAg合金膜の上層のAg合金膜がCu、Au、Pd、Bi、Sbの１種以上を含む請求項２〜４のいずれかに記載のAg合金積層膜。
【請求項６】
前記基板側のAg合金膜の上層のAg合金膜が、Au、Cuの１種以上を合計で0.3 〜5.0 原子％、及び／又は、Pdを0.3 〜3.0 原子％、及び／又は、Biを0.01〜0.5 原子％含む請求項５記載のAg合金積層膜。
【請求項７】
前記基板側のAg合金膜の上層のAg合金膜または純Ag膜の膜厚が５〜70nmである請求項１〜６のいずれかに記載のAg合金積層膜。
【請求項８】
前記基板側のAg合金膜とその上層のAg合金膜または純Ag膜とが、結晶構造の異なる異相界面層を介することなく連続的に形成されている請求項１〜７のいずれかに記載のAg合金積層膜。
【請求項９】
前記基板がガラス基板である請求項１〜８のいずれかに記載のAg合金積層膜。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載のAg合金積層膜が基板上に形成されていることを特徴とする光反射体。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれかに記載のAg合金積層膜を反射層として用いた光情報記録媒体。
【請求項１２】
請求項１〜９のいずれかに記載のAg合金積層膜を反射電極および／または反射体として用いたフラットパネルディスプレイ素子。
【請求項１３】
請求項１〜９のいずれかに記載のAg合金積層膜を反射層として用いた車載用および／または照明用リフレクター。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、Ag合金積層膜、光反射体、光情報記録媒体、フラットパネルディスプレイ素子およびリフレクターに関する技術分野に属し、特には、CD、DVD 等の光情報記録媒体やフラットパネルディスプレイ素子用反射電極、各種リフレクターに用いられる高耐久性かつ高反射率を有するAg合金積層膜およびそれを用いた光反射体に関する技術分野に属するものである。
【０００２】
【従来の技術】
光情報記録媒体やフラットパネルディスプレイ素子用反射電極には、その高い反射率からAg系の反射材料が用いられてきつつある。
【０００３】
光情報記録媒体には、読み出し専用ディスク、追記型ディスク、書き換え型ディスクがあるが、これらのディスクは何れもAg、Al、Au等を母材とする反射膜層を設けた構造を有しており、データ読み出し時にはディスクに照射されたレーザー光の位相差や反射差を検出する事により、データの再生を行う。
【０００４】
また、フラットパネルディスプレイ素子では、反射型液晶ディスプレイの電極等にAg、Alを母材とする反射膜が設けられている。
【０００５】
Agを主成分とする反射膜では、恒温恒湿試験や耐熱性試験において、AuやAl合金系の薄膜より劣るものの、実用波長領域の400 〜800nm で最も高い反射率を示すことから実用化が進められている。
【０００６】
Ag合金膜の耐久性を高める方法としては、例えば、米国特許第6007889 号明細書（特許文献１）や、特開平6-208732号公報（特許文献２）には、AgにAu、Cu、Pd、Rh等の元素を添加し、化学的安定性を高める方法が示されている。しかし、これらのAg合金膜においては、Ag基合金薄膜の耐食性の改善はなされるものの、Ag合金膜の加熱時の構造変化を抑制するには不十分であり、実用上の課題が残されている。また、特許第3365762 号公報（特許文献３）においては、AgにNdを添加することにより大きく耐熱性を改善したAg合金膜が提案されている。さらにAg-Nd にAuやPdを添加して、化学的安定性と耐熱性を同時に向上させる方法も提案されている。また、液晶ディスプレイ用反射電極では、保護膜としてITO 、SiO2、TiO2などの酸化物系誘電体材料を積層して耐久性を高める方法が提示されている。
【０００７】
しかしながら、これらの何れの方法においても、耐久性を高めるためには、添加元素の量を増加させる必要があり、その結果、特に波長400nm 前後の短波長側で反射率が低下するという問題点があった。また、酸化物系誘電体材料を積層した場合も、酸化膜の吸収や散乱により、反射率が大きく低下する。このため、Agが有する高い反射率を維持させながら耐久性を向上すること、即ち、高い反射率と優れた耐久性〔化学的安定性（耐食性）、耐熱性（加熱時の構造変化が起り難いこと）〕を両立することは、非常に難しい課題であった。
【０００８】
【特許文献１】
米国特許第６００７８８９号明細書
【特許文献２】
特開平６−２０８７３２号公報
【特許文献３】
特許第３３６５７６２号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
以上述べたように、光情報記録媒体やフラットパネルディスプレイ素子に用いられる反射膜には、高い反射率と同時に高い耐久性（化学的安定性と耐熱性）が要求される。しかしながら、これらの要求特性の全てを満足する金属薄膜は、未だ得られていない。
【００１０】
本発明はこのような事情に着目してなされたものであって、その目的は、反射率が高く、且つ、耐久性（化学的安定性、耐熱性）に優れた金属膜を提供し、また、このように優れた特性を有する金属膜を用いた光反射体、光情報記録媒体、フラットパネルディスプレイ素子およびリフレクターを提供しようとするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記目的を達成するため、鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成するに至った。本発明は、反射率が高く、且つ、耐久性（化学的安定性、耐熱性）に優れたAg合金積層膜、および、このAg合金積層膜を用いた光反射体、光情報記録媒体、フラットパネルディスプレイ素子およびリフレクターであり、上記目的を達成できるものである。
【００１２】
このようにして完成され、上記目的を達成することのできた本発明は、Ag合金積層膜、および、このAg合金積層膜を用いた光反射体、光情報記録媒体、フラットパネルディスプレイ素子ならびにリフレクターに係わり、請求項１〜９記載のAg合金積層膜（第１〜９発明に係るAg合金積層膜）、請求項10記載の光反射体、請求項11記載の光情報記録媒体、請求項12記載のフラットパネルディスプレイ素子、請求項13記載のリフレクターであり、それは次のような構成としたものである。
【００１３】
即ち、請求項１記載のAg合金積層膜は、少なくとも１種類のAg合金膜が基板上に他層を介することなく形成され、更に該Ag合金膜の上に純Ag膜が他層を介することなく形成されている積層膜において、基板側のAg合金膜がその上層の純Ag膜よりも高い耐熱性を有することを特徴とするAg合金積層膜である〔第１発明〕。
【００１４】
請求項２記載のAg合金積層膜は、少なくとも２種類のAg合金膜を基板上に他層を介することなく順次積層したAg合金積層膜において、基板側のAg合金膜がその上層のAg合金膜よりも高い耐熱性を有することを特徴とするAg合金積層膜である〔第２発明〕。
【００１５】
請求項３記載のAg合金積層膜は、前記基板側のAg合金膜が希土類元素の１種以上を合計で0.1 〜3.0 原子％含有する請求項１または２記載のAg合金積層膜である〔第３発明〕。
【００１６】
請求項４記載のAg合金積層膜は、前記希土類元素がNdおよび／またはＹである請求項３記載のAg合金積層膜である〔第４発明〕。
【００１７】
請求項５記載のAg合金積層膜は、前記基板側のAg合金膜の上層のAg合金膜がCu、Au、Pd、Bi、Sbの１種以上を含む請求項２〜４のいずれかに記載のAg合金積層膜である〔第５発明〕。
【００１８】
請求項６記載のAg合金積層膜は、前記基板側のAg合金膜の上層のAg合金膜が、Au、Cuの１種以上を合計で0.3 〜5.0 原子％、及び／又は、Pdを0.3 〜3.0 原子％、及び／又は、Biを0.01〜0.5 原子％含む請求項５記載のAg合金積層膜である〔第６発明〕。
【００１９】
請求項７記載のAg合金積層膜は、前記基板側のAg合金膜の上層のAg合金膜または純Ag膜の膜厚が５〜70nmである請求項１〜６のいずれかに記載のAg合金積層膜である〔第７発明〕。
【００２０】
請求項８記載のAg合金積層膜は、前記基板側のAg合金膜とその上層のAg合金膜または純Ag膜とが、結晶構造の異なる異相界面層を介することなく連続的に形成されている請求項１〜７のいずれかに記載のAg合金積層膜である〔第８発明〕。請求項９記載のAg合金積層膜は、前記基板がガラス基板である請求項１〜８のいずれかに記載のAg合金積層膜である〔第９発明〕。
【００２１】
請求項10記載の光反射体は、請求項１〜９のいずれかに記載のAg合金積層膜が基板上に形成されていることを特徴とする光反射体である〔第10発明〕。
【００２２】
請求項11記載の光情報記録媒体は、請求項１〜９のいずれかに記載のAg合金積層膜を反射層として用いた光情報記録媒体である〔第11発明〕。
【００２３】
請求項12記載のフラットパネルディスプレイ素子は、請求項１〜９のいずれかに記載のAg合金積層膜を反射電極および／または反射体として用いたフラットパネルディスプレイ素子である〔第12発明〕。
【００２４】
請求項13記載のリフレクターは、請求項１〜９のいずれかに記載のAg合金積層膜を反射層として用いた車載用および／または照明用リフレクターである〔第13発明〕。
【００２５】
【発明の実施の形態】
本発明者らは、Agに種々の元素を添加したAg合金スパッタリングターゲットを製作し、これらターゲットまたは純Agスパッタリングターゲット上に種々の元素のチップを配置したものを使用してスパッタリング法により種々の成分・組成のAg合金膜（Ag合金薄膜）を形成し、その組成及び反射膜としての特性を調べた。特に、環境試験（一般的には温度約80℃、湿度約90％RHの環境下で数10〜数100 時間放置する）後に反射率等の低下が認められる原因について、従来より検討されてきた化学的安定性に加え、薄膜の微細構造変化という観点からAg合金膜を２層積層した積層膜〔Ag合金積層膜（２層膜）〕について検討を行い、以下のことを見いだした。
【００２６】
(1) 基板（以下、基体ともいう）上にAg-Nd 系Ag合金膜（下部層）を形成し、その上に、単層では耐熱性を持たない純Ag膜や Ag-他元素（Pt，Au，Pd，Rh，Ru，Cu，Bi，Sb）系Ag合金膜（上部層）を積層したAg合金積層膜（２層膜）は、前記環境試験の試験環境下において、粒成長などの構造変化を起こさない（耐熱性に優れている）。なお、純Ag膜や Ag-他元素（Pt，Au，Pd，Rh，Ru，Cu，Bi，Sb）系Ag合金膜からなる前記上部層を説明するにあたり、当該上部層が純Ag膜である場合も含め、代表してAg合金膜ということがある。
【００２７】
ここで、上記下部層のAg合金膜（以下、下部Ag合金層ともいう）は、その上部層のAg合金膜（以下、上部Ag合金層ともいう）よりも高い耐熱性を有する。従って、上記のことは、下部層に耐熱性の高い層を用いることによって、膜全体の耐熱性が向上すると換言することができる〔第１、第２発明に関係する事項〕。
【００２８】
なお、従来技術では、耐熱性の高い層で表面を保護する方法が一般的であり、上記のように下部層に耐熱性の高い層を用いることによって、膜全体の耐熱性を向上させる方法は新規である。
【００２９】
(2) 上部Ag合金層を、Au，Pd，Cu，Pt，Ru，Rh，Bi，Sbの１種以上を含有させたAg合金膜とすることにより、Ag-Nd 系Ag合金膜（単層）では困難であった化学的安定性（特にハロゲン元素に対する耐食性）を向上させることが可能である〔第５発明に関係する事項〕。
【００３０】
(3) 上部Ag合金層の膜厚は５〜70nmがよい〔第７発明に関係する事項〕。５nm未満の場合は、反射率の点で下部層のAg-Nd 系Ag合金膜との有意差が無くなる。70nm超の場合は、上部Ag合金層の構造変化が相対的に顕著になり、耐熱性が低下する。耐熱性を重視する場合は、上部Ag合金層の膜厚は５〜30nmが特に良い。高反射率を重視する場合には、上部Ag合金層の膜厚は20〜50nmが特に良い。
【００３１】
(4) 上部Ag合金層と下部Ag合金層との間に結晶構造の異なる異相界面層（界面層、酸化膜等）がなく、結晶粒が連続していると、特に耐熱性向上の効果が大きい。即ち、下部Ag合金層と上部Ag合金層とが異相を介することなく連続的に形成されていると、特に耐熱性向上の効果が大きい〔第８発明に関係する事項〕。これは、上部Ag合金層と下部Ag合金層が連続した結晶粒を形成することにより、これら２層は金属結合となるため、これらの結合を破壊して上部Ag合金層が独立に形態変化を起こすことが困難となるからである。このような膜は、下部Ag合金層と上部Ag合金層を連続的に成膜して積層すること（下部Ag合金層の成膜に連続して上部Ag合金層の成膜を行うこと）により、形成することができる。
【００３２】
(5) 下部Ag合金層は、希土類元素を0.1 〜3.0 原子％（以下、at％ともいう）含有するAg合金膜であることが望ましく、特にNd、Ｙの１種以上を合計で0.1 〜3.0 at％含有するAg合金膜であることがより望ましい〔第３発明、第４発明に関係する事項〕。
【００３３】
(6) 上部Ag合金層としては、反射率の点では、純Ag膜が良好である。ただし、純Ag膜よりも化学的安定性を高めるために、AgにCu、Au、Pd、Bi、Sb、Pt，Ru，Rhを加えてもよい〔第５発明に関係する事項〕。特に、AuもしくはPdの添加が効果的である。なお、Ag-Pd 系Ag合金膜（単層）では、前述のように耐熱性が低く、容易に構造変化が起こる。
【００３４】
このとき、Au，Pdの添加量は 0.3〜3.0 at％がよい。 0.3at％未満では耐食性向上の効果が少なく、3.0 at％超では反射率が低下するからである〔第６発明に関係する事項〕。
【００３５】
Bi、Sbの添加量は0.01〜0.5 at％が望ましい。0.01at％未満では耐食性向上の効果が少なく、0.5 at％超では反射率が低下するからである〔第６発明に関係する事項〕。
【００３６】
本発明は、上記のような知見に基づき完成されたものである。このようにして完成された本発明に係るAg合金積層膜は、請求項１〜９記載のAg合金積層膜（第１〜９発明に係るAg合金積層膜）であり、反射率が高く、且つ、耐久性（化学的安定性、耐熱性）に優れている。
【００３７】
この中、第１発明、第２発明に係るAg合金積層膜が基本的なものである。これらの発明に係るAg合金積層膜は、少なくとも２種類のAg合金膜（上部層が純Ag膜である場合を含む）を基板上に他層を介することなく順次積層したAg合金積層膜において、基板側のAg合金膜がその上層のAg合金膜よりも高い耐熱性を有することを特徴とするAg合金積層膜であることとしている。このAg合金積層膜は、従来の単層膜や誘電体保護膜を積層した反射膜では得られない高反射率および優れた耐久性（化学的安定性、耐熱性）を有することができる。
【００３８】
このメカニズムについて、以下説明する。
純Ag膜や Ag-他元素（Au，Pd，Cu，Pt，Ru，Rh，Bi，Sb) 系Ag合金膜は、高い反射率や優れた耐食性を有するが、耐熱性が非常に劣る。一方、Ag-Nd 系Ag合金膜は、優れた耐熱性を有するものの、反射率や耐食性で相対的に劣る。
【００３９】
Ag-Nd 系Ag合金膜の上に、純Ag膜や、 Ag-他元素（Au，Pd，Cu，Pt，Ru，Rh，Bi，Sb) 系Ag合金膜を連続的に成膜して積層すると、前者の下部Ag合金層と後者の上部Ag合金層は同じAg主成分の合金であり、かつ、Al合金のように表面に酸化被膜が出来ないことから、結晶粒が連続して成長した（境界がなく成長した）構造の２層膜を得ることができる。
【００４０】
このような膜では、下部層に用いたAg-Nd 系Ag合金膜は耐熱性が高いので、加熱によって結晶粒径が増大したり表面粗度が増加したりすることがなく、このため、上部層のAg合金膜〔本来は（このAg合金膜が単層の場合には）加熱により構造変化を起こす〕も下地（下部層のAg合金膜）に固定されて、動かないので、加熱により構造変化を起こすことがなくなる。従って、膜全体の耐熱性が向上し、優れた耐熱性を有することとなる。
【００４１】
一方、反射特性（反射率）については、膜の表層部の光学特性によって決まるため、上部層として高い反射率を有するAg合金膜を形成することにより、高反射率が得られる。なお、上部層の膜厚が薄い（30nm以下）場合には、入射光が上部層を透過し、下部層にいたるため、上部層の厚みに応じて反射率が変化する。
【００４２】
なお、上記メカニズムは、下部層としてAg-Nd 系Ag合金膜を用い、上部層として純Ag膜や Ag-他元素（Au，Pd，Cu，Pt，Ru，Rh，Bi，Sb) 系Ag合金膜を用いた場合について説明したが、これらに限定されるものではなく、他のAg合金膜を用いた場合も同様である。
【００４３】
下部Ag合金層（耐熱性Ag合金膜）としては、Ag-Nd 系が望ましいが、希土類（含むＹ）やTiなどでも効果はある。
【００４４】
特開2002-245674 号公報等には、反射体において２種類の薄膜を積層するという技術が記載されているが、この技術は異種の材料を積層して、意図的に異相界面を形成させて結晶粒の微細化をはかるものであり、本発明とは異なる発明である。
【００４５】
本発明に係る光反射体、光情報記録媒体、フラットパネルディスプレイ素子、リフレクターは、上記のような優れた特性を有する本発明に係るAg合金積層膜を反射層、反射膜、反射電極等として用いているので、優れた反射率が得られて機能の向上がはかれ、また、耐久性の向上がはかれる。
【００４６】
【実施例】
本発明の実施例および比較例を以下説明する。なお、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に含まれる。以下、合金での％は原子％（at％）のことである〔合金においては原子％（at％）を％という〕。
【００４７】
〔実施例１、比較例１〕
本実施例においては、下部Ag合金層としてAg-0.7%Nd-0.9%Cu合金よりなるAg合金膜を成膜し、上部Ag合金層として純Ag膜またはAg-1.0%Pd 合金あるいはAg-1.0%Au 合金よりなるAg合金膜を成膜したAg合金積層膜（２層膜）について、環境試験前後の表面粗さの変化を原子間力顕微鏡（AFM ）を用いて観察した。また、波長650nm 、400nm における反射率の測定を行った。
【００４８】
このとき、基板としてはガラス基板（コーニング＃1737、基板サイズ：直径50mm、厚さ 0.5mm）を用いた。スパッタ装置としてＤＣマグネトロンスパッタ装置を用い、前記ガラス基板上に厚さ150nm の下部Ag合金層（Ag-0.7%Nd-0.9%Cu合金）を成膜し、これに引き続き、上部Ag合金層（純Ag、Ag-1.0%Pd 又はAg-1.0%Au 合金）を連続的に成膜して、Ag合金積層膜（２層膜）を作製した。そして、このAg合金積層膜を試料（試験材）として用いた。
【００４９】
上記成膜の条件は、真空度： 1.0×10-6Torr以下、Arガス圧：２mTorr 、Arガス流量：30sccm、基板温度：23℃、スパッタリングパワー密度：3.31W/cm2 、ターゲット基板間距離：55mmとした。
【００５０】
環境試験の条件は、温度：80℃、湿度：90％RH、時間：48ｈとした。
【００５１】
一方、比較例として、純Ag膜（単層膜）や、Ag-1.0%Pd 合金またはAg-1.0%Au 合金よりなるAg合金膜（単層膜）を作製し、上記と同様の試験を行った。
【００５２】
上記試験の結果を表１に示す。なお、この表１において、上部Ag層は上部Ag合金層を示すものである。下部ANC 層は、Nd含有Ag合金よりなる下部Ag合金層を示すものであり、この場合のNd含有Ag合金はAg-0.7%Nd-0.9%Cu合金である。
【００５３】
この表１からわかるように、比較例に係る純Ag膜（単層膜）は、環境試験前での反射率は高いものの、環境試験前での表面粗度Raが大きく（4.2nm)、環境試験後での表面粗度Raが更に大きく（6.8nm)、環境試験により表面粗度Raが増大しており、また、環境試験後での反射率が低くて環境試験により反射率が低下している。従って、この純Ag膜（単層膜）は、加熱時の構造変化の程度が大きくて耐熱性に劣る。
【００５４】
比較例に係るAg-1.0%Au 合金よりなるAg合金膜（単層膜）およびAg-1.0%Pd 合金よりなるAg合金膜（単層膜）は、環境試験前も環境試験後も反射率は高く、また、環境試験前での表面粗度Raは小さい（それぞれ0.8nm 、0.9nm)ものの、環境試験後での表面粗度Raが大きくなり（それぞれ1.5nm 、1.8nm)、環境試験により表面粗度Raが増大している。従って、このAg合金膜（単層膜）は、加熱時の構造変化の程度が大きくて耐熱性に劣る。
【００５５】
これに対し、本発明の実施例に係るAg合金積層膜（２層膜）は、上部Ag合金層が純Ag膜の場合も、Ag-1.0%Pd 合金膜の場合も、Ag-1.0%Au 合金膜の場合も、環境試験後での表面粗度Raは環境試験前での表面粗度Raと同程度に小さく、環境試験による表面粗度Raの増大がほとんどないか、もしくは該Raの増大の程度が極めて小さい。従って、これらのAg合金積層膜（２層膜）は、加熱時の構造変化がないか、もしくは該構造変化の程度が小さくて耐熱性に優れている。
【００５６】
本発明の実施例に係るAg合金積層膜（２層膜）において、上部Ag合金層の膜厚の影響をみると、上部Ag合金層が純Ag膜の場合も、Ag-1.0%Pd 合金膜の場合も、Ag-1.0%Au 合金膜の場合も、上部Ag合金層の膜厚が増大すると共に、反射率は向上し、30nm以上の膜厚で、比較例に係る純Ag膜（単層膜）の場合とほぼ同様の反射率となることが分かる。一方、表面粗度は、上部Ag合金層の膜厚の増大と共に大きくなっている。これらから、反射率、耐熱性のバランスで最も良好な膜厚は10〜50nm近傍となる。
【００５７】
〔実施例２、比較例２〕
本実施例では、上部Ag合金層の組成を変化させたときの反射率、耐熱性、耐食性の評価を行った。
【００５８】
このとき、下部Ag合金層としてAg-0.7%Nd-0.9%Cu合金よりなるAg合金膜を成膜した。上部Ag合金層として、Ag-Au 系Ag合金（Au含有量：変化）、Ag-Pd 系Ag合金（Pd含有量：変化）またはAg-Bi 系Ag合金（Bi含有量：変化）よりなるAg合金膜を成膜した。下部Ag合金層の膜厚は150nm とし、上部Ag合金層の膜厚は30nmとした。
【００５９】
耐食性の評価については、環境試験後の膜表面および５％NaCl水溶液に５min 浸漬後の膜表面について目視による観察を行い、白点の発生状況で判定した。即ち、この判定に際し、目視で剥離や全面にわたる変色が認められるものは×（不良）、１mm以上の白点が基板上に20個以上見られるものは△（上記×の場合よりは良いが、耐食性不充分）、前記のような白点が５〜20個のものは○（良好）、５個以下のものは◎（上記○の場合よりも優れる）とした。
【００６０】
上記評価試験の結果を表２に示す。なお、この表２において、上部Ag層は上部Ag合金層を示すものである。下部ANC 層は、Nd含有Ag合金よりなる下部Ag合金層を示すものであり、この場合のNd含有Ag合金はAg-0.7%Nd-0.9%Cu合金である。実施例は実施例２に該当することを示す。比較例は、前記実施例２に対しての比較例であって、この全てが本発明の範囲外のものに該当することを意味するものではない。この比較例の中で、上部Ag合金層：純Ag/ANC積層膜と記載のものは、上部Ag合金層として純Ag膜を成膜したAg合金積層膜のことであり、これは本発明の範囲内のものであるが、前記実施例２に対しての比較例として位置づけている。
【００６１】
この表２からわかるように、下部Ag合金層としてAg-0.7%Nd-0.9%Cu合金よりなるAg合金膜を成膜し、上部Ag合金層として純Ag膜を成膜したAg合金積層膜（表２では、純Ag/ANC積層膜と表示）、Ag-0.7%Nd-0.9%Cu合金よりなるAg合金膜（単層膜）（表２では、ANC 単層膜と表示）では、５％NaCl水溶液浸漬後の膜表面に白点発生が多く認められた。
【００６２】
これに対し、上部Ag合金層としてAg-Au 系Ag合金やAg-Pd 系Ag合金よりなるAg合金膜を成膜したAg合金積層膜（２層膜）において、Au含有量：0.3 ％以上、Pd含有量：0.3 ％以上のものは、ほとんど白点が認められない。ただし、Au含有量：５％以上の場合や、Pd含有量：３％以上の場合、特に波長400nm で反射率が大きく低下した。
【００６３】
上部Ag合金層としてAg-Bi 系Ag合金よりなるAg合金膜を成膜したAg合金積層膜（２層膜）は、Bi含有量：0.01〜0.5 ％において高い耐食性が得られた。
【００６４】
〔実施例３、比較例３〕
本実施例では、下部Ag合金層のAg-Nd 系Ag合金膜のNd含有量を変化させた場合の耐熱性（加熱温度300 ℃まで）の変化について調べた。このために、AFM （原子間力顕微鏡）による表面粗度の観察を行った。
【００６５】
このとき、下部Ag合金層の膜厚は150nm とし、上部Ag合金層の純Ag膜の膜厚は10，30，50nmとした。耐熱性を調べるため、耐熱性試験を行った。この耐熱性試験は、真空熱処理（真空度： 1.0×10-5Torr以下）にて行った。この熱処理での加熱温度は、100 ℃、200 ℃、300 ℃とし、熱処理時間は１時間とした。
【００６６】
上記試験の結果を表３に示す。Nd含有量：0.3 ％で約200 ℃の加熱、Nd含有量：0.5 ％以上で300 ℃の加熱に対しても、表面粗度の変化が少なく、高い耐熱性を示すことが分かった。一方、Ndの添加量が3.0 ％を超えると、反射率の低下が大きく、特に上部Ag合金層のAg膜が薄い場合には、下部Ag合金層の反射率の影響が大きく、膜全体の反射率が低下するため、好ましくない。
【００６７】
【表１】
0004314065.tif 000002
【００６８】
【表２】
0004314065.tif 000003
【００６９】
【表３】
0004314065.tif 000004
【００７０】
【発明の効果】
本発明に係るAg合金積層膜は、反射率が高く、且つ、耐久性（化学的安定性、耐熱性）に優れている。このため、光反射体、光情報記録媒体、フラットパネルディスプレイ素子、リフレクター等の反射層、反射膜、反射電極等として好適に用いることができ、それらの機能の向上および耐久性の向上がはかれる。
【００７１】
本発明に係る光反射体、光情報記録媒体、フラットパネルディスプレイ素子、リフレクターは、上記のような優れた特性を有する本発明に係るAg合金積層膜を反射層、反射膜、反射電極等として用いているので、優れた反射率が得られて機能の向上がはかれ、また、耐久性の向上がはかれる。