(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一ポート（３０）と第二ポート（３２）間のチャンネル（２８）を形成するハウジング（１２）と、
前記ハウジング（１２）内部に配置され、前記第一ポート（３０）と前記第二ポート（３２）間の連絡を可能にする収容位置と、前記第一ポート（３０）と前記第二ポート（３２）間を分断する展開位置との間を移動可能なゲート（１４）と、
を備え、
前記ゲート（１４）は、
第一及び第二密閉部材（３６Ａ，３６Ｂ）と、
第一直立部（６４Ａ）と、前記第一密閉部材（３６Ａ）と前記第二密閉部材（３６Ｂ）との間に位置して前記第一直立部（６４Ａ）と結合した第一中央ブロック（９０Ａ）と、第二直立部（６４Ｂ）と、前記第一密閉部材（３６Ａ）と前記第二密閉部材（３６Ｂ）との間に位置して前記第二直立部（６４Ｂ）と結合した第二中央ブロック（９０Ｂ）と、
前記第一及び第二密閉部材（３６Ａ，３６Ｂ）を第一及び第二中央ブロック（９０Ａ，９０Ｂ）へ偏らせる少なくとも一つのばね（１０６）と、
前記第一と前記第二中央ブロック（９０Ａ，９０Ｂ）との間、且つ、前記第一と前記第二密閉部材（３６Ａ，３６Ｂ）との間に配置されると共に、前記ゲート（１４）が前記収容位置と前記展開位置との間を移動可能な第一状態から、前記ゲート（１４）が前記展開位置に位置した状態において該拡張可能部材（８２）が膨張することにより第一及び第二密閉部材（３６Ａ，３６Ｂ）を互いに離して偏らせ前記第一密閉部材（３６Ａ）を前記第一ポート（３０）に噛合わせて密閉させる第二状態へ膨張可能とされた拡張可能部材（８２）と、
を有するアイソレーションバルブ。
【請求項２】
前記第二状態において、前記第二密閉部材（３６Ｂ）は前記第二ポート（３２）に噛合い密閉する、請求項１に記載のバルブ。
【請求項３】
前記第一及び前記第二密閉部材（３６Ａ，３６Ｂ）を互いにほぼ平行に配置する、請求項１に記載のバルブ。
【請求項４】
前記第一及び前記第二密閉部材（３６Ａ，３６Ｂ）が略平らなプレートを含む、請求項１に記載のバルブ。
【請求項５】
前記拡張可能部材（８２）が膨張可能部材を含む、請求項１に記載のバルブ。
【請求項６】
前記拡張可能部材（８２）が弾性空気袋又はベローズを含む、請求項５に記載のバルブ。
【請求項７】
前記第一密閉部材（３６Ａ）が第一ガスケット（４８Ａ）を含み、前記第二密閉部材（３６Ｂ）が第二ガスケット（４８Ｂ）を含む、請求項１に記載のバルブ。
【請求項８】
前記第二状態において、
前記第一ポート（３０）と前記チャンネル（２８）との間の流体の連絡、および、
前記第一ポート（３０）と前記第二ポート（３２）との間の流体の連絡、
のうち少なくとも一方が、阻止されている、請求項１に記載のバルブ。
【請求項９】
複数の前記ばね（１０６）が前記第一及び前記第二密閉部材（３６Ａ，３６Ｂ）を前記第一及び前記第二中央ブロック（９０Ａ，９０Ｂ）の方へ偏らせる、請求項１に記載のバルブ。
【請求項１０】
少なくとも一対のばね（１０６Ａ，１０６Ｂ）を含み、前記一対のばねのうち一方の第一ばね（１０６Ａ）は前記第一密閉部材（３６Ａ）をセンタリング機構（１００）に結合し、前記一対のばねのうち第二ばね（１０６Ｂ）は前記第一密閉部材（３６Ｂ）を前記センタリング機構（１００）に結合する、請求項９に記載のバルブ。
【請求項１１】
前記収容位置と前記展開位置間に前記ゲート（１２）を選択的に移動させるアクチュエータ（１６）を含む、請求項１に記載のバルブ。
【請求項１２】
前記アクチュエータ（１６）を前記ゲート（１４）に結合するフレーム（６２）であって、前記アクチュエータ（１６）に結合し、前記第一及び前記第二直立部（６４Ａ，６４Ｂ）がそれぞれ結合された第一及び第二端部を有する横断交差部材（６０）を有するフレーム（６２）を備えた、請求項１１に記載のバルブ。
【請求項１３】
前記交差部材（６０）に固定された下側エッジ（５４Ａ）と第一密閉部材（３６Ａ）に固定された上側エッジ（５２Ａ）とを有する第一湾曲部（５０Ａ）と、前記交差部材（６０）に固定された下側エッジ（５４Ｂ）と第二密閉部材（３６Ｂ）に固定された上側エッジ（５２Ｂ）とを有する第二湾曲部（５０Ｂ）と、を備える、請求項１２に記載のバルブ。
【請求項１４】
前記第一及び前記第二湾曲部（５０Ａ，５０Ｂ）間に配置され、前記拡張可能部材（８２）を膨張させるための第一導管（１１０）と、
前記第一及び前記第二湾曲部（５０Ａ，５０Ｂ）間に配置され、前記拡張可能部材（８２）を収縮させるための第二導管（１１０）、
の両方又は一方を含む、請求項１３に記載のバルブ。
【請求項１５】
前記ハウジング（１２）は、
流体源（１１６）に接続され前記ハウジング（１２）の加圧及び減圧を可能とする導管（１１４）を含むか、又は、通気され当該ハウジング（１２）内の圧力が周囲の圧力となる、請求項１に記載のバルブ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本出願は、１９９７年１０月８日に出願の同時継続米国特許出願、発明の名称「モジュラーオンライン処理装置」出願番号08/946,922、及び本出願と共に係属中の出願のＰＣＴ公開公報;（１）ＷＯ９９／４０６１２；（２）ＷＯ９９／６０４６９；（３）ＷＯ９９／４０６１０；（４）ＷＯ９９／６１３５０；（５）ＷＯ９９／５９９２６；（６）ＷＯ９９／４０４１１；（７）ＷＯ９９／１８６０３に関連する。
【０００２】
本明細書は、本出願の譲受人に譲渡された上記特許出願の内容を援用している。
【０００３】
【発明の背景】
本発明は、基板処理装置、特に、基板処理装置のアイソレーションバルブに関する。
【０００４】
ガラス基板は、アクティブマトリクステレビジョンやコンピュータディスプレィ等の用途に使用されている。各ガラス基板は、各モニタが百万個以上の薄膜トランジスタを含む多重ディスプレィモニタを形成できる。
【０００５】
大型ガラス基板の処理は多数の連続工程の実行；例えば、化学堆積法（ＣＶＤ）、物理堆積法（ＰＶＤ）やエッチングプロセスの実行を必要とする。このようなプロセスを行うために、ガラス基板処理装置は一つ以上のプロセスチャンバを持つことができる。
【０００６】
ガラス基板は、例えば、５５０ｍｍ×６５０ｍｍの寸法を持つ。基板上に多くのディスプレィを形成したり、大型ディスプレィを生産するように、６５０ｍｍ×８３０ｍｍ又はそれ以上の大きな基板寸法にさえ向かう傾向にある。処理装置の機能に対して大型寸法への要望が増している。
【０００７】
大型ガラス基板上に薄膜を堆積する基本的なプロセス技術の幾つかは、例えば、半導体ウェーハのプロセスに使用するものと同じである。しかし、幾つかの類似点にもかかわらず、大型ガラス基板のプロセスにおいて、半導体ウェーハと小さいガラス基板用に現に使用されている技術では実用上とコスト面で巧く克服できない多数の困難に遭遇してきた。
【０００８】
例えば、効率的な生産ラインプロセスでは、ガラス基板をワークステーション間、及び真空環境と大気環境間で素早く移動させる必要がある。ガラス基板の寸法と形状が大きくなると、基板をプロセス装置内のある位置から別の位置に転送することが難しくなる。結果的に、最大５５０ｍｍ×６５０ｍｍ基板のような小さなガラス基板又は半導体ウェーハの真空プロセスに適したクラスタ工具は、６５０ｍｍ×８３０ｍｍ又はそれ以上の大型ガラス基板の同じプロセスではうまく適さない。更に、クラスタ工具は比較的大きなフロアスペースを必要とする。
【０００９】
同じく、比較的小さな半導体ウェーハのプロセス用に設計されたチャンバ構造は、これらの大型ガラス基板のプロセスには特にけ適さない。大型基板をチャンバに出し入れできるようにチャンバは十分な大きさの開口部を持つ必要がある。更に、プロセスチャンバ内で基板の処理を一般的に真空中や低圧下で行う必要がある。従って、プロセスチャンバ間に基板を動かすには、耐真空封着を作るように特に広い開口部を閉じることができ、また、汚染を最小にする必要のあるバルブ機構を用いる必要がある。
【００１０】
更に、欠陥が比較的ほとんど無いと、基板上に形成したモニタ全体が拒絶される。それゆえに、基板をある位置から別の位置に転送する場合に、ガラス基板内の欠陥の発生を減らすことが重要である。同じく、基板を処理装置内に転送し、配置する時に生じる基板の不整合が原因で、いったんガラスをディスプレィ内に形成すると、ガラス基板の一端が電気的に機能しなくなる程度に妥協したプロセスの均一性になる。もし、この不整合が充分に厳しければ、それにより基板が真空チャンバ内部で構造物に当たったり、破壊することになる。
【００１１】
大型ガラス基板の処理に関係する他の問題は、ガラス基板の固有の熱特性により生じる。例えば、ガラスの比較的低い熱伝導率が、基板を均一に加熱したり、冷却することを難しくする。特に、どのような大面積で薄い基板もその端部近くの熱損失は、基板の中心近くの熱損失よりも大きい傾向にあり、それが基板上の不均一な温度勾配をもたらすことになる。それゆえ、ガラス基板の熱特性はその寸法と相まって、処理基板の表面の種々の部分に形成した電子部品の均一な特性を得ることを難しくする。更に、基板の熱伝導性が劣る結果として、基板を素早く、且つ均一に加熱及び冷却することは難しく、それゆえに、装置は高いスループットを得られなくなる。
【００１２】
これまでに、多様なアイソレーションバルブを用いて二つの領域を互いに分離していた。代表的な構造では、ゲートはスライドしてパスに出入りし、パスを横切ってバルブを開閉する。ゲートが閉じた位置では、ゲートとバルブシート間にシールを形成してバルブへの流れを阻止する。スライドバルブは特に簡潔で、すなわち、流路に沿う方向にサイズを小さくしている。
【００１３】
大型ガラス基板の処理用に最近提案された装置は、モジュラインライン処理装置で、これは先述の米国特許出願番号08/946/,922に記述した装置である。このような装置はＣＶＤや他の熱基板処理用に使用され、基板を転送する多重連続チャンバを持つ。プロセスチャンバは一般的に真空や非常に低い圧力の下で動作する。それゆえ、チャンバ間に比較的均一な圧力分布ができ、ゲートとバルブシート間に気密なシールを作るにはそれ自体では不十分である。
【００１４】
【概要】
一般に、本発明は、さまざまな改良アイソレーションバルブを開示する。ある観点では、第一領域を第二領域から選択的に密閉するアイソレージョンバルブはハウジングを持つ。このハウジングは第一領域と第二領域間にチャンネルを形成し、このチャンネルは少なくとも第一ポートと第二ポート間に延びる。このバルブはまた、ゲートをハウジング内部に配設する。第一領域と第二領域間の連絡を可能にする積め込み位置と、ゲートがチャンネルに広がる展開位置との間でゲートは移動可能である。
【００１５】
ゲートは第一及び第二密閉部材を持ち、各部材は外向き面を持つ。更に、ゲートは第一密閉部材と第二密閉部材間に拡張可能部材を配設し、ゲート内で拡張部材は第一状態から第二状態に拡張でき、第二状態から第一状態に収縮される。
【００１６】
第一状態では、ゲートは収容位置と展開位置間に移動できる。第二状態で、ゲートが展開位置にあると、拡張可能部材の拡張により、第一及び第二密閉部材は互いに偏って離れるので、第一密閉部材の外向き面は、第一領域を第二領域から密閉するように第一ポートに噛合って密閉する。第二密閉部材の外向き面はハウジングに噛合う。
【００１７】
ある実施形態では、二つ以上のプロセスチャンバを連続して配置し、両密閉部材は夫々のポートに噛合って、第一領域を第二領域から密閉する。
【００１８】
種々の実施形態では、拡張可能部材はベローズ、すなわち膨張部材、例えば弾性空気袋のようなものを持つ。
【００１９】
別の観点では、アイソレーションバルブは第一チャンバと第二チャンバの間にチャンネルを形成するハウジングを持ち、このハウジング内にゲートアセンブリを配設する。このバルブはまた、第一チャンバに通じる第一ポートと第二チャンバに通じる第二ポートとの間にゲートアセンブリを配置する手段を持つ。更に、このバルブはゲートアセンブリを第一ポートに噛合わせる手段を持ち、まず、第一チャンバを第二チャンバから密閉する。更に、このバルブはハウジング内部の圧力を変える手段をもち、第一チャンバを第二チャンバから更に密閉する。第一チャンバを第二チャンバから密閉する方法も開示する。
【００２０】
別の実施形態では、アイソレーションバルブは、基板を転送できる通路を有するハウジングを持つ。この通路の外周に沿う面はシートを構成してゲートを噛合わせる。また、このバルブはハウジング内部に配設したゲートを持ち、ハウジング内で、通路が開く第一位置と、ゲートがシートに噛合って通路を密閉する第二位置を持つ。このバルブはまた、ゲートに結合したリフト機構を持ち、その第一位置と通路に対向する中間位置との間のゲートの動きを制御する。このバルブはまた、ゲートに結合した回転機構を持ち、その中間位置とその第二位置との間のゲートの動きを制御する。
【００２１】
ゲートがその第二位置にあると、ゲートを通路に対して密閉する水平力成分が作成できる。ある実施形態では、回転機構は一つ以上のプッシュシリンダを持ち、各シリンダはそれぞれ第一及び第二位置を持つ。プッシュシリンダがその第一位置と第二位置の間を動くと、ゲートはその中間上昇位置と通路を密閉するその第二位置の間で回転する。
【００２２】
種々の実施形態では、二つ以上の基板処理チャンバを連続して配置する。二重密閉アイソレーションバルブ、すなわち独立に制御可能なアイソレーションバルブを、例えば処理中にチャンバ間に具備し、チャンバを密閉する。
【００２３】
バルブハウジングをチャンバから別々に形成し、その後に適所に固定する。別の例では、バルブハウジングをチャンバ付き単一一体ユニットとして形成する。
【００２４】
本発明によるバルブの長所には、設計の柔軟性がある。例えば、実験室や生産現場で、ガラス基板や他の物を通すことのできるドアやゲートとしてこのバルブを使用できる。このような状況で、バルブを通過する物を収容できるバルブ幾何学形状（寸法、断面積プロファイル等）と他の環境因子を選択できる長所がある。このことは、バルブを操作するプロセスや物を利用可能なバルブの幾何学形状と寸法に合致させるのに好ましい。
【００２５】
実施形態では、フラットパネルディスプレィ用ガラス基板のような平らな物体の製作と処理には、相対的に低いプロファイル、すなわち高さが低く、幅が広いプロセスチャンバが使用できる。空間効率を考慮すると、チャンバを密閉するバルブは、物の出入りに適応できるように同様に低いプロファイルを持つことのみが必要である。
【００２６】
バルブプレートを分離するために膨張可能部材を用いると、単なる機構系におけるよりもバルブプレート間の密閉力の分布をより均等にできる。それゆえ、細長いゲートの場合に、密閉力をゲートに沿ってほぼ連続的に分布させることができる。しかしながら、所望のゲートプロファイルがどのようであっても、適切な膨張部材は容易に形成され、ストック膨張装置を使用できる。この特徴は、各ゲートプロファイルに対して特別に形成された複数の複雑な機械的連結の必要性を減らすことになりコスト節約になる。
【００２７】
別の長所は、バルブを完全なバルブシート以下に収納できる能力である。膨張可能部材は著しい柔軟性を持ち、それゆえ、平行関係の減少、シート分離の変化、あるいは平坦性の減少にも関わらず充分な密閉を作ることができる。機械的駆動バルブでは、装着表面の磨耗や汚染がプレートに印加された力を大いに変えることになる。膨張部材では、この力はチャンバに印加した圧力に単に関係する。性能は、破裂や漏れの極端な場合を除いては、磨耗に対して敏感でない。
【００２８】
更に、シートの変化や不ぞろいを収納したり、カム機構の磨耗の影響を収納するカム機構の能力不足を補償するために、高圧縮柔軟密閉をカム型バルブに利用する。このような密閉は必然的に比較的高い変形を被ることになり、それゆえ、磨耗や故障を受ける。本発明では、チャンバは著しい追従性（compliance）を備えるので、同じ追従性が密閉に存在する必要はない。それゆえ、密閉は少し変形を受ける。機械的連結が摩耗すると、バルブの動作やバルブを用いる格納装置の動作を妨害し、バルブを通過する流体を密閉し、汚染する汚染微粒子を作ることになる。
【００２９】
別の実施形態では、多重チャンバを互いに隣接して並べたモジュラ装置に特に適した機械的アイソレーションバルブを開示する。各チャンバは、チャンバの向かい合った両側に通路を備える。この通路は、基板を通路に出し入れするために用いるもので、互いに独立して制御され、それによりさらなる柔軟性を備えたそれぞれのゲートにより開かれ、密閉される。機械的アイソレーションバルブはコンパクトで、比較的簡単な構造であり、従って、製造コストを減らすのに役立つ。
【００３０】
機械的バルブはまた、チャンバ間を密閉する改良した手段になり、種々のチャンバ内で用いるプロセスガスからの相互汚染を阻止するのに役立つ。ゲートが通路の方向に機械的に回転すると密閉が起こり、ガラス基板の処理時に必要とされる密閉を改良する側圧を作成する。
【００３１】
二つのチャンバを互いに隣接して並べると、チャンバ間の領域は、バッファチャンバを有効に形成するチャンバ内部の一方、あるいは両方のどちらかから分離される。それゆえ、チャンバ間の領域は、例えば、そのあるものは腐食性であるプロセスガス、から保護される。チャンバ間の領域をチャンバ内部から分離することによって、プロセスチャンバの外側の装置の他の構成成分を腐食性ガスや、基板処理中にチャンバ内部で使用される他の有害材料との接触から保護する。更に、チャンバ間の領域の圧力を、チャンバ内部の一方、あるいは両方のどちらかの圧力から独立して制御する。
【００３２】
他の特徴及び利点は、詳細な説明、図面及び請求項から明らかになろう。
【００３３】
【詳細な説明】
図１と図２に示すように、バルブ１０はハウジング１２、ゲート１４及びアクチュエータ１６を含む。ハウジング１２は内部を第一及び第二の垂直に延びる側面１８Ａと１８Ｂ、上部２０、底部２２、端部２４Ａと２４Ｂにより限定する。一般に、例えば、あるプロセスチャンバを別のプロセスチャンバから分離、すなわち種々の領域を互いに分離するのにバルブを使用できる。
【００３４】
ハウジングは、入口３０からハウジングを介して出口３２へのパスに沿って延びる通路２８を画成する。種々の実施形態では、入口３０と出口３２の役割は基板がバルブを通じてどちらの方向にも進むので逆転可能である。チャネルは縦軸２００を持つ。入口３０と出口３２は軸２００に横切って延び、細長く、一般的に形状は長方形である。第一及び第二領域、すなわちチャンバ２０２、２０４をそれぞれ、入口３０と出口３２に隣接して置く。外部領域を２０６として示す。代表的実施形態では、ハウジング１２は一般的に垂直横断中心面２０８に関して対称である。
【００３５】
バルブが開いた状態では、図１と図２に示すように、ゲート１４は下降すなわち収容位置にあり、ハウジングのベイ３４内に備わっている。ゲート１４は密閉プレート３６Ａ、３６Ｂのような第一及び第二密閉部材をそれぞれ持つ（図２）。各密閉プレート３６Ａ、３６Ｂは縦方向の外側プレート３８Ａ、３８Ｂ、及び縦方向の内側プレート４０Ａ、４０Ｂを持つ。各外側プレート３８Ａ、３８Ｂを片落しネジ４２を用いて関連内側プレート４０Ａ、４０Ｂに対して平らに保持する。外側プレート３８Ａ、３８Ｂの外側面４４Ａ、４４Ｂはそれぞれ領域２０２、２０４に向き、各々は、ガスケット４８Ａ、４８Ｂを運ぶ通常長方形のスロットを支える。内側プレート４０Ａ、４０Ｂの内側面４６Ａ、４６Ｂはそれぞれ領域２０４、２０２の方に向かい、それぞれ密閉プレート３６Ａ、３６Ｂの内側面を形成する。
【００３６】
湾曲部、すなわち板ばね５０Ａ、５０Ｂはそれぞれ密閉プレート３６Ａ、３６Ｂの下側端部から決まる。各湾曲部５０Ａ、５０Ｂをその上側端５２Ａ、５２Ｂで関連内側プレート４０Ａ、４０Ｂの下側端部に取付ける。各湾曲部５０Ａ、５０Ｂの底端部５４Ａ、５４Ｂをフレーム６２の横に延びる交差部材６０に固定する（図１）。
【００３７】
フレーム６２は更に交差部材の向かい合う両端で交差部材６０から上側に延びる一対の柱、すなわち直立部６４Ａ、６４Ｂ（図１）を持つ。一対の外側に向かうチャンネル部材６６Ａ、６６Ｂはそれぞれ直立部６４Ａと６４Ｂの横方向の外側面に沿って延びる。このチャンネル部材は開いた長方形部である。
【００３８】
ハウジングの向かい合う両側で、対の上側と下側の低摩擦ガイド６８Ａ、６８Ｂはそれぞれの側面１８Ａ、１８Ｂから内側に延びる。このガイドを関連チャンネル部材６６Ａ、６６Ｂ内部に収納することにより、チャンネル部材とゲート１４は、図１と図２に示す開位置と図４と図５に示す閉位置の間を垂直にスライドする。
【００３９】
図３において、膨張する拡張可能チャンバ、すなわち容積８０をハウジング内部に配設する。チャンバ８０は、密閉プレート３６Ａ、３６Ｂの間に配置された膨張可能弾性空気袋８２すなわちベローズのような拡張可能部材で境界を付けられる。図示の実施形態では、空気袋８２は密閉プレート３６Ａ、３６Ｂと連続して横方向に同一の広がりを持ち、このプレートの上側、下側及び横方向端部からわずかにくぼんでいる。空気袋はチャンバ８０を囲む内面８４と密閉プレートの内側面４６Ａ、４６Ｂに噛合う外面８６を持つ。
【００４０】
ゲート１４の片側で、中央ブロック９０Ａ、９０Ｂ（図１も参照）は関連直立部６４Ａ、６４Ｂに堅く固着され、密閉部３６Ａ、３６Ｂの側部両端をわずかに超えて側面内側に延びる。密閉プレート３６Ａ、３６Ｂの内側面４６Ａ、４６Ｂとブロックの隣接側面９２Ａ、９２Ｂとの接触が密閉プレートの内側の縦方向の動きを制約する。
【００４１】
センタリング機構１００は各中央ブロック９０Ａ，９０Ｂの上と下にある（図１と図３）。各センタリング機構１００は密閉プレート３６Ａの関連側面から横方向に外側に延びる第一ピン１０４Ａ（図３）と、密閉プレート３６Ｂの関連側面から横方向に外側に延びる第二ピン１０４Ｂを持つ。コイル型引張ばね１０６は第一ピン１０４Ａを第二ピン１０４Ｂに接続する。従って、集中的に、センタリング機構１００のばね１０６は二つの密閉プレート３６Ａ、３６Ｂを互いの方に、従って横断垂直中心面２０８の方に偏らせる。
【００４２】
図６に示す別の実施形態では、各センタリング機構は、関連直立部６４Ａ、６４Ｂから横方向に内側に延びるセンターピン１０２から成る。上流コイル型引張りばね１０６Ａは第一ピン１０４Ａをセンターピン１０２に接続し、下流コイル型引張りばね１０６Ｂは第二ピン１０４Ｂをセンターピン１０２に接続する。ばね１０６Ａ、１０６Ｂは密閉プレート３６Ａ、３６Ｂを横断垂直中心面２０８の方に偏る。
【００４３】
図３で、膨張／収縮導管１１０は空気袋８２を通じてチャンバ８０に延びる。この導管１１０は湾曲部５０Ａ、５０Ｂの間に向かい、アクチュエータ１６を介して遠隔源１１２に出る（図１）。代表的な実施形態では、遠隔源１１２は関連バルブと制御装置を加えた適切なポンプの形態を取り、導管１１０を通じてチャンバ８０にガスを選択的に導入したり、導管１１０を通じてチャンバ８０からガスを取出し、チャンバを膨張したり収縮させる。導管１１４（図１）はハウジングを介して空洞３４に延びる。導管１１４を遠隔源１１２に類似した源１１６に接続する。源１１６はチャンバ８０の外側のハウジングの加圧と減圧を選択的に促進する。
【００４４】
バルブを閉じるために、アクチュエータ１６を制御してゲート１４を下降すなわち収容位置（図１と図２）から上昇すなわち展開位置（図４と図５）に持ち上げる。展開位置で、密閉プレート３６Ａ、３６Ｂをそれぞれ、入口ポートと出口ポート３０、３２に揃えて、向かい合わせる。バルブシート１２０Ａ，１２０Ｂをそれぞれ、入口及び出口ポート３０、３２を囲むハウジング内に形成する。バルブシートは、領域２０４、２０２の方にそれぞれ、一般的に向かい合うシート面１２２Ａ、１２２Ｂを持つ。シート面１２２Ａ、１２２Ｂはそれぞれ向かい合い、ゲート１４が展開位置にある場合に、ガスケット４８Ａ、４８Ｂに並ぶ。
【００４５】
ゲート１４が展開位置にあると、チャンバ８０は膨張すなわち加圧され、密閉プレート３６Ａ、３６Ｂ上に縦方向の外側に向かう力を作り出す。チャンバ８０内の圧力が十分であると、この圧力がばね１０６の張力に打ち勝ち、密閉プレート３６Ａ、３６Ｂを縦方向の外側に駆動してゲート１４を拡張状態にする。密閉プレート３６Ａ、３６Ｂが縦に外側に動くと、ガスケットが密閉面１２２Ａ、１２２Ｂとそれぞれ噛合って密閉される（図５）。このように、密閉プレート３６Ａ、３６Ｂはそれぞれの入口及び出口ポート３０、３２のシート１２２Ａ、１２２Ｂに噛合って密閉され、流体がポートに流れるのを阻止する。この方法で、領域、すなわちチャンバ２０２、２０４をバルブハウジング内の通路２８からと、お互いから分離する。
【００４６】
バルブを開くために、チャンバ８０を収縮、すなわち減圧して、密閉プレート３６Ａ、３６Ｂに作用する縦方向の外側力を減らす。チャンバ８０内の圧力が十分に減少すると、ばね１０６の張力がそれぞれのプレート３６Ａ、３６Ｂ上の圧力差に打ち勝ち、ガスケット４８Ａ、４８Ｂの付着にも打ち勝つので、密閉プレートとガスケットをシート１２２Ａ、１２２Ｂから切り離す。チャンバ８０はガス抜きにより大気圧に減圧されるが、源１１２によりチャンバを真空にすることで、圧力低下が、ばね１０６がプレートを共に引き寄せるのを支援する。チャンバ８０が非拡張状態に戻ると、アクチュエータ１６を制御してゲート１４を展開位置から収容位置に下降し、それにより、チャンネル２８を清掃する。
【００４７】
バルブ１０の構造に用いる代表的材料にはハウジング１２とプレート３６Ａ、３６Ｂ用のアルミニウムがある。その他に、アルミニウムに反応する化学薬品に触れる場合にステンレス鋼を用いる。ガスケット４８を、E.I.du Pont de Nemours社により商標ＶＩＴＯＮで販売されたフロロエラストマーで作成できる。このガスケット４８を、接着剤を付着したり、あるいはドーブテール、すなわち類似プロファイルを持つ溝を形成することにより関連溝内に固着し、ガスケットを捕える。湾曲部５０Ａ、５０Ｂをステンレス鋼シートで作成できる。
【００４８】
バルブ１０の大きさは、バルブを用いることになる特殊用途に基づいて選択できる。代表的な用途は大型ガラス基板処理（例えば、ロードロックチャンバをプロセスチャンバから分離する）に用いるチャンバの密閉がある。このような用途では、チャンバ間の基板の通過に適応するようにバルブを構成する。1平方メートルの面積を持つ基板のような大型ガラス基板に適した代表的実施形態では、ポート３０、３２は高さ約５〜６インチと幅約５０インチである。プレート３６Ａ、３６Ｂはポート３０、３２よりも幅と高さが約１インチ大きく、空気袋８２はポートよりも幅と高さが約０．５インチ大きい。
【００４９】
両プレートを両者のそれぞれのポートに噛合わせて密閉すると、ハウジング内の圧力は隣接プロセスチャンバ内の圧力よりも大きくなる。ハウジング内の圧力は周囲圧力である。
【００５０】
更に、チャンバ８０の外側のハウジング１２を加圧し、減圧する能力はユーザに多数の選択肢を与える。チャンバ８０内の圧力をＰ3（源１１２経由で制御される）と周囲圧力をＰAと指定すると、ハウジング内の圧力Ｐ4をどのＰA、Ｐ3と、領域２０２、２０４内の圧力Ｐ1、Ｐ2とに関してそれぞれ、制御できる。Ｐ1とＰ2間の差が大きい場合に特に有効な選択肢では、ハウジング１２とチャンバ８０を同時に加圧できる。空気袋８２の強度は、Ｐ3がＰ4を超える量に制限するので、Ｐ4が増加すればするほど、Ｐ3も増加して密閉力を高める。更に、チャンバ８０がゲート１４の領域全体に及ばない程度に、Ｐ4によりチャンバの外側のゲートの領域に印加された力はバルブを密閉するのに役立つ。これは、多数の個々のチャンバ、例えば金属ベローズにより形成されたものを利用する場合に特に有効である。高圧チャンバ、すなわち領域から低圧プロセスチャンバを密閉するのにバルブを用いる状況では、汚染を防止することが特に望まれる。このような状況では、ハウジング１２を真空にして圧力Ｐ4を減らすと、高圧チャンバからのガス漏れが導管１１４を介して吸い出される。
【００５１】
図７は、図１〜図６のプレート３６Ａ、３６Ｂに一般的に類似する一つの密閉プレート３６Ｂ’を持つ別のバルブを示す。代表的用途では、入口３０’を不活性ガスで加圧される低圧チャンバに結合する。第二ポート３２’をプロセスチャンバに接続して反応性ガス環境内で低圧処理を行う。不活性ガスはプレート３６Ａ’内の穴３７に流れ、ハウジングを満たす。不活性ガスからの圧力は上述のハウジング加圧と同じ方式で密閉を増大させる。
【００５２】
バルブプレート３６Ａ、３６Ｂを分離し、バルブ１０を密閉するために膨張可能チャンバ８０を用いると、十分に柔軟性のあるバルブ設計ができる。プレート３６Ａ、３６Ｂを分離する力（圧力分布）は、単なる機械的装置におけるよりもより均等に分布される。例えば、細長いゲート部材に沿って力を実質連続的に分布できる。図１〜図７に記述、図示したバルブはコスト、重量、寸法、複雑性を節約できる。
【００５３】
上述の実施に対する多様な変更を行うことができる。例えば、図示の実施形態では、チャンバ８０を一般的に長方形の連続弾性空気袋８２で形成するけれど、他の幾何学的形状の一つ以上の空気袋を用いることもできる。チャンバ８０を弾性空気袋による以外に、例えば一つ以上のベローズにより形成できる。一般に、チャンバ８０は、第一状態から第二状態に拡張可能で、第二状態から第一状態に収縮される拡張可能部材を持つ。第一状態では、ゲートを収容位置と展開位置の間に移動でき、第二状態では、ゲートが展開位置にあり、第一及び第二密閉部材を拡張可能部材の膨張により互いに離れて偏るので、少なくとも一つの密閉部材の外側に向き合う面はポートのそれぞれ一つに噛合って密閉し、第一領域を第二領域から密閉する。
【００５４】
更に、図１〜図６に示したバルブは、その横断中央面に関してほぼ対称的であるが、非対称バルブも作成できる。種々のアクチュエータ及びゲートの幾何学的形状を用いることができ、バルブの多くの固有特性は、バルブを選定し、改造する特殊な用途によって影響されたり、左右される。
【００５５】
図１〜図６に関して上記の実施形態では、密閉プレート３６Ａ、３６Ｂをほぼ同時に制御して、それぞれのシート１２２Ａ、１２２Ｂを噛合わせ、領域２０２、２０４を分離する。
【００５６】
前述の説明とは対照的に、別の実施形態として、図８〜図１９は機械的アイソレーションバルブ付き基板チャンバを示す。以下に説明する実施形態では、隣接チャンバ内の通路が互いに独立して密閉される。更に、以下に説明するバルブは、ゲートとバルブシート間の密閉を強化するように水平力成分を作る機械作動ゲートを持つ。
【００５７】
図８〜図９において、化学堆積法（ＣＶＤ）や他の基板処理チャンバのようなチャンバ３００は側壁３０１Ａ〜３０１Ｄ、上部３０３Ａと底部３０３Ｂを有するフレーム３０２を持つ。バルブハウジング３０４Ａ、３０４Ｂをチャンバ３００の側壁３０１Ａ、３０１Ｂと一体形成するので、バルブハウジングとチャンバが単一ユニットを構成する。バルブハウジングも個別に形成され、ついで、チャンバにボルト止めされるか、さもなくば取付けられる。以下に詳細に説明するように、バルブハウジング３０４Ｂはチャンバ側壁３０１Ｃ、３０１Ｄに平行な方向においてバルブハウジング３０４Ａよりも広い。
【００５８】
開口部、すなわち通路３１２Ｂをチャンバ３００の側壁３０１Ｂ内に形成する。別の開口部、すなわち通路３１２Ａを対向する側壁３０１Ａ内に形成する。通路３１２Ａ、３１２Ｂの大きさを選択でき、通路を通じて基板をチャンバ３００に出し入れ転送できる。通路３１２Ｂの周囲に沿う外側に向かう面は関連ゲート３１０Ｂに噛合うシート３１４Ｂを形成し、類似シートを通路３１２Ａの周囲に沿う外側に向かう面により形成して、関連ゲート３１０Ａを噛合わせる。シート、例えばシート３１４Ｂを形成するそれぞれの表面はチャンバ３４８の内部から離れて向かい合う。ゲート３１０Ａ、３１０Ｂは密閉プレートとして形成される。ある実施では、密閉部材３１０Ａ、３１０Ｂは長さ約５０インチ、高さ約５〜６インチを持つ。このような実施は、例えば１平方メートルのオーダの大型ガラス基板に適する。各バルブハウジング３０４Ａ、３０４Ｂはそれぞれの通路３１２Ａ、３１２Ｂに対向する開側面を持つ。
【００５９】
補強部材３１６Ａ、３１６Ｂをバルブハウジング３０４Ａ、３０４Ｂ上に備えてチャンバフレーム３０２を補強する。それぞれのアクチュエータハウジング、すなわちフレーム３０６Ａ、３０６Ｂをバルブハウジング３０４Ａ、３０４Ｂの下のチャンバ３００にボルト止めするか、さもなくば固定する。アクチュエータハウジング３０６Ａ、３０６Ｂはチャンバに剛性を与える。アクチュエータハウジングが側壁３０１Ｃ、３０１Ｄに平行な方向に、且つ、チャンバ内部３４８から離れてバルブハウジングのわずか外側に延びるようにアクチュエータハウジング３０６Ａとバルブハウジング３０４Ａを構成する。同じく、バルブハウジングが側壁３０１Ｃ、３０１Ｄに平行な方向に、且つ、チャンバ内部３４８から離れてアクチュエータハウジングのわずか外側に延びるようにアクチュエータハウジング３０６Ｂとバルブハウジング３０４Ｂを構成する。このような非対称構成により、図１９に関して更に説明するように多重チャンバは互いに隣接して揃うことになる。
【００６０】
各アクチュエータハウジング３０６Ａ、３０６Ｂはそれぞれのアクチュエータ３０７Ａ、３０７Ｂを含む。各アクチュエータ３０７Ａ、３０７Ｂはそれぞれリフト機構３０８Ａ、３０８Ｂを持ち、バルブハウジング３０４Ａ、３０４Ｂ内部に配設されたゲート３１０Ａ、３１０Ｂの関連の一つを上げ下げする。各アクチュエータハウジング３０７Ａ、３０７Ｂも、ゲート３１０Ａ、３１０Ｂの関連の一つに結合され、且つ、リフト機構の３０８Ａ、３０８Ｂの関連の一つに結合されたそれぞれの回転機構３０９Ａ、３０９Ｂを持つ。
【００６１】
各リフト機構３０８Ａ、３０８Ｂを第一下降位置から中間、すなわち上昇位置に持ち上げる。リフト機構３０８Ａ、３０８Ｂも関連回転機構３０９Ａ、３０９Ｂを作動させることにより中間上昇位置から第二閉位置に回転する。閉位置で、ゲート３１０Ａ、３１０Ｂはそれぞれのシート３１４Ａ、３１４Ｂに噛合い、チャンバ３００をバルブハウジング３０４Ａ、３０４Ｂから密閉する。ゲートがその第二閉位置にあると、ゲートを通路に対して密閉する水平力成分が備わる。
【００６２】
リフト機構３０８Ａ、３０８Ｂもそれらのそれぞれの下降位置に戻すことができる。更に、リフト機構３０８Ａ、３０８Ｂを互いに独立して制御できる。図９に示すように、リフト機構３０８Ｂが第一（下降）位置にあると、ゲート３１０Ｂはそのシートに噛合わない。しかし、リフト機構３０８Ａはその上昇位置に示され、ゲート３１０Ａがシート３１４Ａに噛合い（図８）、チャンバ３００をハウジング３０４Ａから密閉するように回転機構３０９Ａが作動する。
【００６３】
図１０で、各リフト機構、例えばリフト機構３０８Ｂはピボット板３２８に取付けた中央リフトシリンダ３１８を持つ。リフトシリンダ３１８は、その主要軸を介して垂直に延びるピストン棒３１９を持ち、リフト板３２０に結合される。リフト板３２０は外側に向かって横に延びる略水平部３２１を持つ。それぞれのロッドブロック３２２をその横に延びる両端３２１の各々でリフト板３２０に結合する。各ロッドブロック３２２は多重カムフォロワ、すなわちホイール３２４を持ち、それにより、ロッドブロック３２２がハウジング３０６Ｂ内に配設された固定の垂直スロット３２６に沿って垂直上下方向にスライドできる。各ロッドブロック３２２の下降部は垂直スロットを持ち（図１０）、その機能は以下に説明する。
【００６４】
図１０、図１１に示すように、各ロッドブロック３２２は垂直シャフト３３０を支え、シャフトの下部端は固定位置で少なくとも部分的にロッドブロック３２２内に延び、ロッドブロック３２２の主要軸に略平行である。各シャフト３３０の上部端はそれぞれの圧縮性ベローズ３３２を介して延び、その上部端でゲート３１０Ｂに結合される（図１０に図示しない）。シャフト３３０が上方又は下方に移動する時に、ベローズ３３２は圧力、すなわち真空を維持するのに役立つ。ゲート、すなわち密閉プレート３１０Ｂはシャフト３３０の垂直軸３３１に関してわずかにずれる（図１５Ａ）。球状アライメントジョイント３５８（図１５Ａ）は密閉プレート３１０Ｂとシート３１４Ｂの間を所望のアライメントにするのに役立つ。図示の実施では、シャフト３３０の垂直軸３３１と密閉プレート３１０は少なくとも０．５度、例えば約１．３度の角度Ｘを作る（図１５Ａ）。しかし、ある実施では、角度Ｘは０度よりも大きく且つ０．５度未満である。
【００６５】
ある実施では、回転機構３０９Ｂは球状ロッド端３４２によりプッシュ板３３６に結合した少なくとも一つのプッシュシリンダ３３４を持つ（図１０、１２と図１４）。図示の実施形態は一対のプッシュシリンダ３３４を持つ。プッシュ板３３６の遠心端を低摩擦カムフォロワ、すなわちホイール３３８に結合する。プッシュ板の所望の方位を維持するために、プッシュ板３３６を全部で三つのカムフォロワ３３８に結合する。ロッドブロック３２２を垂直に上方又は下方に移動させると、各ロッドブロック３２２の下側部内に配設した垂直スロット３４０は実質的に静止したままのカムフォロワ３３８に沿ってスライドする。
【００６６】
リフトシリンダ３１８がその第一すなわち下降位置にある場合（図１０と図１５Ａ）、密閉部材３１０Ｂをチャンバ３００の内部３４８とバルブハウジング３０４Ｂの間の通路３１２Ｂよりもわずか下に配置する（図１５Ａ）。この第一の下降位置で、密閉プレート３１０Ｂの上部をシート３１４Ｂの下側部からわずか外側に移す。上述のように、図示の実施では、密閉プレート３１０Ｂはシート３１４Ｂの垂直軸３１３からと、シャフト３３０の垂直軸３３１からわずかにずれる。
【００６７】
リフトシリンダ３１８を制御して、下降位置からチャンバ３００への通路に対向する上昇中間位置に密閉プレート３１０Ｂを動かす。特に、リフトシリンダ３１８はピストン棒３１９を垂直上方に動かす（図１２と図１３）。ピストン棒３１９を上側に動かすと全リフト板３２０と取付けロッドブロック３２２を上方に持ち上げる。ロッドブロック３２２を上方に動かすと、シャフト３３０が上方に持ち上がり、それにより密閉プレート３１０Ｂを通路３１２Ｂに対向する上昇位置に動かす（図１５Ｂ）。この中間上昇位置で、密閉プレート３１０Ｂはシート３１４Ｂを、なお密閉しないで、密閉プレートの上部は通路３１２Ｂから離れて傾く。
【００６８】
通路３１２Ｂを密閉、すなわち閉じるために、プッシュシリンダ３３４内の空気圧を逆にして、プッシュシリンダをそれぞれの第一、すなわち拡張位置からそれぞれの第二、すなわち収縮位置に動かす。シリンダ３３４がその収縮位置に移ると、プッシュ板３３６はチャンバ３００から離れて外側にわずかに移動する。プッシュ板３３６が横に外側に動くと、密閉プレート３１０Ｂが通路３１２Ｂを囲むシート３１４Ｂに対して同一平面になるように、リフト板３２０、ロッドブロック３２２、シャフト３３０がわずかに回転する（図１５Ｃ）。特に、図示の実施では、密閉プレート３１０Ｂを約１．３度回転し、それにより密閉プレートをその第二、すなわち閉位置に移し、チャンバ通路３１２Ｂを密閉する。密閉プレート３１０Ｂをシート３１２Ｂに対して同一平面にすると、チャンバ内部３４８とバルブハウジングの内部の間の流体伝達が通路３１２Ｂにより阻止される。
【００６９】
通路３１２Ｂを非密閉、すなわち開き、密閉プレート３１０Ｂをその下降位置に移すために、上記手順を逆にする。再び、プッシュシリンダ３３４内の空気圧を逆にして、プッシュシリンダをそれらのそれぞれの拡張位置に移す。ある実施では、プッシュシリンダ３３４の圧力を略同時に変化させる。他の実施では、密閉プレート３１０Ｂとシート３１４Ｂ間に作る密閉が気密であるときに特に、あるプッシュシリンダ３３４の圧力を変えた後で、他のプッシュシリンダの圧力を変える。密閉が緩むと、密閉プレート３１０Ｂは回転して、密閉プレートがシート３１４Ｂの向かいにあり、接触しないその上昇中間位置に戻る（図１５Ｂ）。次に、リフトシリンダ３１８を制御して密閉プレート３１０Ｂを、密閉プレート３１０Ｂの上部がシート３１４Ｂの下側部すなわち底部の向かいにあるその下降位置に運ぶ図１５Ａ）。つまり、密閉プレート３１０Ｂの上部を少なくとも通路３１２Ｂの底部の低さにほぼできる。密閉プレート３１０Ｂは、密閉プレートが下降位置にあるときでさえ、バルブハウジング３０４Ｂ内部に配設されたままである（図１６）。
【００７０】
密閉プレート３１０Ａとアクチュエータ３０７Ａは、密閉プレート３１０Ｂとアクチュエータ３０７Ｂと略同一方式で動作する。
【００７１】
実施のあるものは、密閉プレート３１０Ｂは関連シャフト３３０の垂直軸３３１からずれる必要はない。むしろ、密閉プレート３１０Ｂと関連シャフト３３０は互いに略平行にする。このような実施では、リフト機構３０８Ｂがその下降位置にあると、密閉プレートの上部がシートから離れて傾くように、関連シャフト３３０はもとより、密閉プレート３１０Ｂをシート３１４Ｂの３１３の垂直軸からわずかにずらす。リフト機構３０８Ｂをその中間上昇位置に移すと、プッシュシリンダ３３４は密閉プレート３１０Ｂとシャフトを回転させて密閉プレートをその閉位置に移し、それによってチャンバ通路３１２Ｂを密閉する。ゲート３１０Ｂがその閉位置にあると、密閉プレート３１０Ｂ，関連シート３３０及びシート３１４Ｂの垂直軸は互いに略平行になる。
【００７２】
図８に戻って、バルブハウジング３０４Ａ、３０４Ｂの各々はチャンバ３００の内部３４８で通路３１２Ｂ、３１２Ａに略垂直である開口部３４４を持つ。密閉プレート３１０Ｂ（あるいは３１０Ａ）がその上昇位置にある場合に、バルブハウジング３０４Ｂ内の開口部３４４が密閉プレートの幅に略平行になるように開口部３４４を構成する（図１７）。開口部３４４の大きさは、密閉プレート３１０Ａ，３１０Ｂの断面積よりもわずかに大きくなるように構成されるので、保守又は検査用に開口部経由で密閉プレートをそれらのそれぞれのハウジング３０４Ａ、３０４Ｂから除去できる。バルブハウジング３０４Ａ、３０４Ｂもそれらのそれぞれの上部面を介して一つ以上の開口部３４６を持つ。開口部３４６は、密閉プレートの除去又は他の保守機能に加えて、密閉プレート３１０Ａ、３１０Ｂのアライメントの目視検査を支援する。
【００７３】
上述のように、バルブハウジング３０４Ｂはチャンバ側壁３０１Ｃ、３０１Ｄに平行な方向でバルブハウジング３０４Ａよりも幾分広い。図８と図１８において、バルブハウジング３０４Ｂは、プロセスチャンバ間に基板を転送する基板転送シャトルの駆動機構３５０又は他の基板転送機構（図示しない）の真空フィードスルーとして機能する一つ以上の開口部３５２を持つ。図示の実施では、この開口部３５２を開口部３４４の一つに隣接して置き、駆動機構３５０をバルブハウジング３０４Ｂ内部に配置する。代表的駆動機構３５０と基板転送シャトルの更に詳細な説明はＰＣＴ公開公報ＷＯ９９／１８６０３に記述される。
【００７４】
図１９に示すように、第一チャンバ３００’と第二チャンバ３００”は、それぞれがチャンバ３００に類似の構造であり、一直線に揃うので、基板をあるチャンバから別のチャンバに、また、その逆にも転送できる。チャンバ３００’、３００”の特徴はチャンバ３００の類似番号を付けた特徴を認識する参照数字を意味する。従って、第一チャンバ３００’は内部３４８’、バルブハウジング３０４Ｂ’、アクチュエータハウジング３０６Ｂ’を持つ。バルブハウジング３０４Ｂ’は基板シャトル転送の駆動機構のフィードスルーとして役立つ開口部３５２’を持つ。図１９に示すように、密閉プレート３１０Ｂ’はその下降位置にある。同じく、第二チャンバ３００”は内部３４８”、バルブハウジング３０４Ａ”及びアクユエータハウジング３０６Ａ”を持つ。図１９に示すように、密閉プレート３１０Ａ”はその上昇位置にある。
【００７５】
それぞれのバルブハウジング３０４Ｂ’、３０４Ａ”とアクチュエータフレーム３０６Ｂ’、３０６Ａ”間の非対称性のために、第一チャンバ３００’のバルブハウジング３０４Ｂ’は、チャンバを互いに隣接して配置し、互いに結合する場合に、部分的に第二チャンバ３００”のアクチュエータフレーム３０６Ａ”上に延びる。チャンバ３００’、３００”の構造は、二つ以上のチャンバを多重チャンバを有するモジュラ装置の一部として共に結合できるほどに平易になる。チャンバ構造も装置全体のコンパクト化を高める。
【００７６】
両密閉プレート３１０Ｂ’、３１０Ａ”がそれらのそれぞれの下降位置にあると、基板をチャンバ間に転送できる。両密閉プレート３１０Ｂ’、３１０Ａ”がそれらのそれぞれの上昇及び密閉位置にあると、二つの密閉プレート間の領域をチャンバ３００’、３００”の内部３４８’、３４８”から分離し、バッファチャンバを効果的に形成する。それゆえ、密閉プレート３１０Ｂ’、３１０Ａ”間の領域を、例えばプロセスガス（あるものは腐食性である）から保護する。密閉プレート間の領域をチャンバの内部から分離することにより、基板転送シャトルに関連した駆動機構３５０を、基板処理中にチャンバ内部で使用する腐食性ガス又は他の有害な材料と接触することから保護する。更に、密閉プレート３１０Ｂ’、３１０Ａ”間の領域の圧力は、チャンバ３００’、３００”の一方又は両方の内部３４８’、３４８”内の圧力に関係無く制御できる。例えば、密閉プレート３１０Ｂ’、３１０Ａ”間の領域内の圧力を制御して密閉プレート３１０Ｂ’、３１０Ａ”によって、それぞれのシート３１４Ｂ’、３１４Ａ”に加えられた力を増加してプレートにより作られる密閉性を改善する。同じく、プレート３１０Ｂ’、３１０Ａ”を非密閉にする前に、プレート間の領域内の圧力を制御して、プレートをそれらのそれぞれのシート３１４Ｂ’、３１４Ａ”から非密閉にするのを容易にする。
【００７７】
他の実施は特許請求の範囲内にある。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の一実施形態による開構造に示すバルブの横断面図である。
【図２】  線２−２に沿った図１のバルブの部分縦断面図である。
【図３】  線３−３に沿った図２のバルブの上部断面図である。
【図４】  閉構造に示す図１のバルブの横断面図である。
【図５】  線５−５に沿った図４のバルブの部分縦断面図である。
【図６】  本発明の別の実施形態によるバルブの部分横断面図である。
【図７】  本発明の別の実施形態によるバルブの部分横断面図である。
【図８】  本発明の別の実施形態によるチャンバの部分正面図である。
【図９】  アクチュエータハウジング付き図８のチャンバの側面図である。
【図１０】  リフト機構を下降位置に示す図８のチャンバの側面図である。
【図１１】  図１０のリフト機構の一部を形成するロッドブロックを図示する。
【図１２】  リフト機構を上昇位置に示す図８のチャンバの側面図である。
【図１３】  図１２の線１３−１３に沿ったリフト機構の側面図である。
【図１４】  図１２の線１４−１４に沿ったリフト機構の側面図である。
【図１５Ａ】  下降位置、上昇位置、閉位置それぞれの密閉プレートを図示する。
【図１５Ｂ】  下降位置、上昇位置、閉位置それぞれの密閉プレートを図示する。
【図１５Ｃ】  下降位置、上昇位置、閉位置それぞれの密閉プレートを図示する。
【図１６】  下降位置と上昇位置（あるいは閉位置）それぞれに配置した密閉プレートを持つ図８のチャンバの部分正面側面図である。
【図１７】  下降位置と上昇位置（あるいは閉位置）それぞれに配置した密閉プレートを持つ図８のチャンバの部分正面側面図である。
【図１８】  基板転送シャトルの駆動機構を含む図１６のチャンバの部分正面側面図である。
【図１９】  本発明による互いに隣接して配置した二つのチャンバを図示する。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５Ａ】
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【図１５Ｂ】
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【図１５Ｃ】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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