(57)【要約】  間に低圧空間を有する、第１及び第２の板ガラス材料のシートを含む、複層ガラスユニットが説明される。低圧空間に面しない第２の板ガラス材料のシートの主面は、少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層をその上に含む低放射率被覆を有する。低放射率被覆と第２の板ガラス材料のシートとの間に第１の虹色抑制被覆がある。さらに、板ガラス材料の第１及び第２のシート間に低圧空間を有し、第１及び第３の板ガラス材料のシート間に第２の空間を有する、板ガラス材料の３つの（第１、第２、及び第３の）シートを含む複層ガラスユニットが説明される。低圧空間に面する１つまたは両方の主面上に低放射率被覆がある。第３の板ガラス材料のシートは、その対向する両主面上に低放射率被覆を有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の板ガラス材料のシートと、第２の板ガラス材料のシートとを備える、複層ガラスユニットであって、前記第１の板ガラス材料のシートと前記第２の板ガラス材料のシートとの間に第１の空間があり、前記第１の板ガラス材料のシートは、第１の主面と、対向する第２の主面とを有し、前記第２の板ガラス材料のシートは、第１の主面と、対向する第２の主面とを有し、前記第１の板ガラス材料のシートの前記第２の主面と、前記第２の板ガラス材料のシートの前記第１の主面とは、前記第１の空間に面し、前記第１の空間は、気圧未満の圧力を有する低圧空間であり、前記第１の空間に配置された複数のスペーサがあり、前記第２の板ガラス材料のシートの前記第２の主面が、低放射率被覆をその上に有することを特徴とし、前記低放射率被覆は少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を備え、前記低放射率被覆と前記第２の板ガラス材料のシートとの間に第１の虹色抑制被覆がある、複層ガラスユニット。
【請求項２】
フッ素ドープ酸化錫の前記少なくとも１つの層の幾何学的厚さが、１００ｎｍ〜６００ｎｍである、請求項１に記載の複層ガラスユニット。
【請求項３】
フッ素ドープ酸化錫の前記少なくとも１つの層の幾何学的厚さが、１００ｎｍ〜３００ｎｍ、好ましくは１００ｎｍ〜２９０ｎｍ、より好ましくは１００ｎｍ〜２５０ｎｍである、請求項１または請求項２に記載の複層ガラス。
【請求項４】
フッ素ドープ酸化錫の前記少なくとも１つの層の幾何学的厚さが、２５０ｎｍ〜３５０ｎｍである、請求項１または請求項２に記載の複層ガラスユニット。
【請求項５】
フッ素ドープ酸化錫の前記少なくとも１つの層の幾何学的厚さが、３００ｎｍ〜４００ｎｍ、好ましくは３００ｎｍ〜３５０ｎｍである、請求項１または請求項２に記載の複層ガラスユニット。
【請求項６】
フッ素ドープ酸化錫の前記少なくとも１つの層の幾何学的厚さが、４００ｎｍ〜６００ｎｍ、好ましくは５００ｎｍ〜５８０ｎｍである、請求項１または請求項２に記載の複層ガラスユニット。
【請求項７】
前記第１の虹色抑制被覆が第１の層と第２の層とを備え、前記第１の虹色抑制被覆の前記第１の層が、前記第１の虹色抑制被覆の前記第２の層よりも高い屈折率を有し、前記第１の虹色抑制被覆の前記第２の層が、前記第１の虹色抑制被覆の前記第１の層と前記低放射率被覆との間にある、請求項１〜６のいずれかに記載の複層ガラスユニット。
【請求項８】
前記第１の虹色抑制被覆の前記第１の層が酸化錫を含む、請求項７に記載の複層ガラスユニット。
【請求項９】
前記第１の虹色抑制被覆の前記第２の層がシリカを含む、請求項７または請求項８に記載の複層ガラスユニット。
【請求項１０】
前記第１の虹色抑制被覆の前記第１の層が、１０ｎｍ〜５０ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ〜３５ｎｍの幾何学的厚さを有する、請求項７〜９のいずれかに記載の複層ガラスユニット。
【請求項１１】
前記第１の虹色抑制被覆の前記第２の層が、１０ｎｍ〜５０ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ〜３５ｎｍの幾何学的厚さを有する、請求項７〜１０のいずれかに記載の複層ガラスユニット。
【請求項１２】
前記第２の板ガラス材料のシートと前記第１の虹色抑制被覆との間に第１のヘイズ低減層をさらに備える、請求項１〜１１のいずれかに記載の複層ガラスユニット。
【請求項１３】
前記第１のヘイズ低減層がシリカを含む、請求項１２に記載の複層ガラスユニット。
【請求項１４】
前記第１のヘイズ低減層の幾何学的厚さが、５ｎｍ〜５０ｎｍ、好ましくは５ｎｍ〜２５ｎｍである、請求項１２または請求項１３に記載の複層ガラスユニット。
【請求項１５】
前記第１の板ガラス材料のシートの前記第２の主面上に低放射率被覆があり、かつ／または前記第２の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上に低放射率被覆がある、請求項１〜１４のいずれかに記載の複層ガラスユニット。
【請求項１６】
前記第１の板ガラス材料のシートの前記第２の主面上の前記低放射率被覆、及び／または前記第２の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の低放射率被覆が、少なくとも１つの銀層、及び／または少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層を備える、請求項１５に記載の複層ガラスユニット。
【請求項１７】
前記第１の板ガラス材料のシートの前記第２の主面上の前記低放射率被覆、及び／または前記第２の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆が、５ｎｍ〜２０ｎｍの幾何学的厚さを有する少なくとも１つの銀層を備える、請求項１６に記載の複層ガラスユニット。
【請求項１８】
前記第１の板ガラス材料のシートの前記第２の主面上の前記低放射率被覆、及び／または前記第２の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆が、１００ｎｍ〜６００ｎｍの幾何学的厚さを有する少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層を備える、請求項１６または請求項１７に記載の複層ガラスユニット。
【請求項１９】
前記第１の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上に低放射率被覆を備える、請求項１〜１８のいずれかに記載の複層ガラスユニット。
【請求項２０】
前記第１の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆と、前記第１の板ガラス材料のシートとの間に第２の虹色抑制被覆を備える、請求項１９に記載の複層ガラスユニット。
【請求項２１】
前記第２の虹色抑制被覆が、第１の層と、第２の層とを備え、前記第２の虹色抑制被覆の前記第１の層が、前記第２の虹色抑制被覆の前記第２の層よりも高い屈折率を有し、前記第２の虹色抑制被覆の前記第２の層が、前記第２の虹色抑制被覆の前記第１の層と、前記第１の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆との間にある、請求項２０に記載の複層ガラスユニット。
【請求項２２】
前記第１の板ガラス材料のシートと、前記第２の虹色抑制被覆との間に第２のヘイズ低減層をさらに備える、請求項２０または請求項２１に記載の複層ガラスユニット。
【請求項２３】
前記第１の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆が、少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を備える、請求項１９〜２２のいずれかに記載の複層ガラスユニット。
【請求項２４】
前記第１の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆の前記少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さが、１００ｎｍ〜６００ｎｍである、請求項２３に記載の複層ガラスユニット。
【請求項２５】
前記第１の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆の前記少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さが、１００ｎｍ〜３００ｎｍ、好ましくは１００ｎｍ〜２９０ｎｍ、より好ましくは１００ｎｍ〜２５０ｎｍである、請求項２３または請求項２４に記載の複層ガラスユニット。
【請求項２６】
前記第１の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆の前記少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さが、３００ｎｍ〜４００ｎｍ、好ましくは３００ｎｍ〜３５０ｎｍである、請求項２３または請求項２４に記載の複層ガラスユニット。
【請求項２７】
前記第１の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆の前記少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さが、４００ｎｍ〜６００ｎｍ、好ましくは５００ｎｍ〜５８０ｎｍである、請求項２３または請求項２４に記載の複層ガラスユニット。
【請求項２８】
前記第１の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆上に、シリカの層またはチタニアの層がある、請求項１９〜２７のいずれかに記載の複層ガラスユニット。
【請求項２９】
前記第１の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆上に、反射防止被覆がある、請求項１９〜２８のいずれかに記載の複層ガラスユニット。
【請求項３０】
前記第１の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆上に他の層がない、請求項１９〜２７のいずれかに記載の複層ガラスユニット。
【請求項３１】
前記第１の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆が、２０ｎｍ未満、好ましくは３ｎｍ〜１５ｎｍ、より好ましくは５ｎｍ〜１２ｎｍの粗さを有する、請求項１９〜３０のいずれかに記載の複層ガラスユニット。
【請求項３２】
前記第２の板ガラス材料のシートの前記第２の主面上の前記低放射率被覆上に、シリカの層またはチタニアの層がある、請求項１〜３１のいずれかに記載の複層ガラスユニット。
【請求項３３】
前記第２の板ガラス材料のシートの前記第２の主面上の前記低放射率被覆上に、反射防止被覆がある、請求項１〜３２のいずれかに記載の複層ガラスユニット。
【請求項３４】
前記第２の板ガラス材料のシートの前記第２の主面上の前記低放射率被覆上に、他の層がない、請求項１〜３１のいずれかに記載の複層ガラスユニット。
【請求項３５】
前記第２の板ガラス材料のシートの前記第２の主面上の前記低放射率被覆が、２０ｎｍ未満、好ましくは３ｎｍ〜１５ｎｍ、より好ましくは５ｎｍ〜１２ｎｍの粗さを有する、請求項１〜３４のいずれかに記載の複層ガラス。
【請求項３６】
前記第１の板ガラス材料のシートに面し、第２の空間によって前記第１の板ガラス材料のシートから離される、第３の板ガラス材料のシートを備え、前記第３の板ガラス材料のシートが、第１の主面と第２の主面とを有し、前記複層ガラスユニットは、前記第３の板ガラス材料のシートの前記第２の主面と前記第１の板ガラス材料のシートの前記第１の主面とが、前記第２の空間に面するように構成される、請求項１〜３５のいずれかに記載の複層ガラス。
【請求項３７】
前記第３の板ガラス材料のシートの前記第１の主面、及び／または前記第３の板ガラス材料のシートの前記第２の主面が、その上に低放射率被覆を有する、請求項３６に記載の複層ガラスユニット。
【請求項３８】
前記第３の板ガラス材料のシートの前記第１の主面が、その上に少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を備える低放射率被覆を有する、請求項３７に記載の複層ガラスユニット。
【請求項３９】
前記第３の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上のフッ素ドープ酸化錫の前記少なくとも１つの層の幾何学的厚さが、１００ｎｍ〜６００ｎｍである、請求項３８に記載の複層ガラスユニット。
【請求項４０】
前記第２の板ガラス材料のシートの前記第２の主面上の前記低放射率被覆が、前記複層ガラスユニットの面６上にある、請求項３６〜３９のいずれかに記載の複層ガラスユニット。
【請求項４１】
前記第２の板ガラス材料のシートの前記第２の主面上の前記低放射率被覆が、前記複層ガラスユニットの面４上にある、請求項１〜３５のいずれかに記載の複層ガラスユニット。
【請求項４２】
第１の板ガラス材料のシートと、第２の板ガラス材料のシートとを備える、複層ガラスユニットであって、前記第１の板ガラス材料のシートと前記第２の板ガラス材料のシートとの間に第１の空間があり、前記第１の板ガラス材料のシートは、第１の主面と、対向する第２の主面とを有し、前記第２の板ガラス材料のシートは、第１の主面と、対向する第２の主面とを有し、前記第１の板ガラス材料のシートの前記第２の主面と、前記第２の板ガラス材料のシートの前記第１の主面とは、前記第１の空間に面し、前記第１の空間は、気圧未満の圧力を有する低圧空間であり、前記第１の空間に配置された複数のスペーサがあり、前記第２の板ガラス材料のシートの前記第１の主面、及び／または前記第１の板ガラス材料のシートの前記第２の主面が、その上に低放射率被覆を有し、前記複層ガラスユニットが、前記第１の板ガラス材料のシートに面し、第２の空間によって前記第１の板ガラス材料のシートから離される、第３の板ガラス材料のシートをさらに備え、前記第３の板ガラス材料のシートが、第１の主面と第２の主面とを有し、前記第３の板ガラス材料のシートの前記第２の主面と、前記第１の板ガラス材料のシートの前記第１の主面とが、前記第２の空間に面し、前記第３の板ガラス材料のシートの前記第２の主面がその上に低放射率被覆を有し、前記第３の板ガラス材料のシートの前記第１の主面がその上に低放射率被覆を有することを特徴とする、複層ガラスユニット。
【請求項４３】
前記第３の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆が、少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を備える、請求項４２に記載の複層ガラスユニット。
【請求項４４】
前記第３の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆のフッ素ドープ酸化錫の前記少なくとも１つの層の幾何学的厚さが、１００ｎｍ〜６００ｎｍである、請求項４３に記載の複層ガラスユニット。
【請求項４５】
前記第３の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆のフッ素ドープ酸化錫の前記少なくとも１つの層の幾何学的厚さが、１００ｎｍ〜３００ｎｍ、好ましくは１００ｎｍ〜２９０ｎｍ、より好ましくは１００ｎｍ〜２５０ｎｍである、請求項４３または請求項４４に記載の複層ガラスユニット。
【請求項４６】
前記第３の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆のフッ素ドープ酸化錫の前記少なくとも１つの層の幾何学的厚さが、３００ｎｍ〜４００ｎｍ、好ましくは３００ｎｍ〜３５０ｎｍである、請求項４３または請求項４４に記載の複層ガラスユニット。
【請求項４７】
前記第３の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆のフッ素ドープ酸化錫の前記少なくとも１つの層の幾何学的厚さが、４００ｎｍ〜６００ｎｍ、好ましくは５００ｎｍ〜５８０ｎｍである、請求項４３または請求項４４に記載の複層ガラスユニット。
【請求項４８】
前記第３の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆のフッ素ドープ酸化錫の前記少なくとも１つの層の幾何学的厚さが、２５０ｎｍ〜３５０である、請求項４３または請求項４４に記載の複層ガラスユニット。
【請求項４９】
前記板ガラス材料のシートのうちの１つ以上が、ガラス、好ましくはソーダ石灰シリカガラスまたはホウケイ酸ガラスのシートである、請求項１〜４８のいずれかに記載の複層ガラスユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、断熱性能が改善された複層ガラスユニットに関する。
【０００２】
少なくとも２つの離間したガラスのシートを含む複層ガラスユニットが、知られている。１つのこのようなタイプの複層ガラスユニットは、周辺シールによって離間した２つのガラスのシートを含み、二重ガラスユニットとして従来知られている。
【０００３】
別のタイプの複層ガラスユニットは、減圧空間によって離間した２つのガラスのシートを含む。２つのガラスのシート間で約０．２ｍｍの空間を維持するための複数のスペーサが、減圧空間に配置される。２つのガラスのシートの周辺は、例えば、欧州特許第０８６０４０６Ｂ１号に説明されるように、はんだガラスによって封止されてもよく、または、欧州特許出願第１６３０３４４Ａ１号に説明されるように有機材料によって封止されてもよい。このタイプの複層ガラスユニットは、しばしば真空複層ガラスユニット、即ち、ＶＩＧと称される。ＶＩＧは、国際特許出願第９５／１５２９６Ａ１号及び欧州特許出願０９９９３３０Ａ１号でも説明される。
【０００４】
ＶＩＧは、例えば、欧州特許０８６０４０Ｂ１号、欧州特許出願１０３０２３Ａ１号、及び米国特許８，３７７，５２４Ｂ２号で説明されるように、１枚の二重ガラスユニットであってもよいことも知られる。ＶＩＧは、ガラスシートなどの別のガラス板から離間する。このタイプの複層ガラスユニットは、減圧された低圧空間及び空隙（典型的に、アルゴンまたはクリプトンなどの不活性ガスが充填される）を有する。
【０００５】
二重ガラスユニットなどの複層ガラスユニットの外面は、外面上に結露を形成するため、曇り得るということが知られている。これは、外側のガラスからの熱の放射の結果である。外部に面する二重ガラスユニットの面、即ち外面のために、不十分な熱が内部空間から外面に流れると、低いＵ値を有する複層ガラスユニットの場合のように、外面の温度が降下する。十分に高い相対外部大気湿度がある場合、これが、露点温度を下回って下がる外面の温度の結果として、曇り、即ち、結露または着霜をもたらす。
【０００６】
本発明は、改善された熱性能を有する複層ガラスユニットを提供する。
【０００７】
第１の態様に従って、本発明は、第１の板ガラス材料のシートと、第２の板ガラス材料のシートとを含み、第１の板ガラス材料のシートと第２の板ガラス材料のシートとの間に第１の空間があり、第１の板ガラス材料のシートが、第１の主面と、対向する第２の主面とを有し、第２の板ガラス材料のシートが、第１の主面と、対向する第２の主面とを有し、第１の板ガラス材料のシートの第２の主面と、第２の板ガラス材料のシートの第１の主面とが、第１の空間に面し、第１の空間が大気圧よりも低い圧力を有する低圧空間であり、複数のスペーサが第１の空間に配置され、第２の板ガラス材料のシートの第２の主面が、その上に低放射率被覆を有することを特徴とし、低放射率被覆が、少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含み、低放射率被覆と第２の板ガラス材料のシートとの間に第１の虹色抑制被覆がある、複層ガラスユニットを提供する。
【０００８】
第２の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆の提供は、複層ガラスユニットのＵ値を、第２の板ガラス材料のシートの第２の主面上に低放射率被覆を有しない同じ複層ガラスユニットと比較して、減少させる。
【０００９】
このような複層ガラスユニットは、建物に設置されてもよい。建物に設置される場合、第１の板ガラス材料のシートの第１の主面が建物の外部に面し、第２の板ガラス材料のシートの第２の主面が建物の内部に面することが好ましい。代替的に、複層ガラスユニットは、第１の板ガラス材料のシートの第１の主面が建物の内部に面し、第２の板ガラス材料のシートの第２の主面が建物の外部に面するように建物に設置されてもよい。複層ガラスユニットが、第２の板ガラス材料のシートの第２の主面が、複層ガラスユニットが設置される建物の外部に面するように構成される場合、第２の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆の提供は、第２の板ガラス材料のシートの温度が上昇させられ得るため、第２の板ガラス材料のシートの第２の主面上の結露の形成を減少させるのに役立つ。
【００１０】
好適には、第１の板ガラス材料のシートは、第２の板ガラス材料のシートから１ｍｍ未満、好ましくは０．０５ｍｍ〜０．５ｍｍ、より好ましくは０．１ｍｍ〜０．３ｍｍ離間する。
【００１１】
好適には、板ガラス材料の第１及び第２のシートの各々の周辺の周りに延在する気密シールは、第１の板ガラス材料のシートを第２の板ガラス材料のシートに接合する。気密シールは、第１の空間が好適に低圧に維持されることを確実にする。第１の空間に配置されるスペーサは、第１の板ガラス材料のシートの第２の主面が、第２の板ガラス材料のシートの第１の主面と接触することを防止する。
【００１２】
被覆が層Ｂ上に層Ａを有する場合、１つ以上の他の層、即ち、層Ａと層Ｂとの間に層Ｃ、Ｄ、Ｅなどがある可能性を除外しないことが、本発明の文脈内で理解されるべきである。同様に、板ガラス材料のシートの面がその上に層Ａ’を有する場合、１つ以上の他の層、即ち、層Ａと板ガラス材料のシートの面との間に層Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅなどがある可能性を除外しない。
【００１３】
明確性のために、第１の板ガラス材料のシートの第１の主面は、複層ガラスユニットの面ｉとも称される。明確性のために、第１の板ガラス材料のシートの第２の主面は、複層ガラスユニットの面ｉｉとも称される。明確性のために、第２の板ガラス材料のシートの第１の主面は、複層ガラスユニットの面ｉｉｉとも称される。明確性のために、第１の板ガラス材料のシートの第２の主面は、複層ガラスユニットの面ｉｖとも称される。
【００１４】
板ガラス材料のシートの主面を指すこの表記を使用することで、及び、疑義を避けるために、本発明の第１の態様による複層ガラスユニットは、面ｉｖ上に低放射率被覆を有する。
【００１５】
再び疑義を避けるために、複層ガラスユニットの方位に依存して、建物などに設置される場合、面ｉは建物の内部または建物の外部のいずれかに面してもよい。
【００１６】
当該技術分野において従来的であるように、複層ガラスユニットが設置された構造の外部環境に直接面するように構成された複層ガラスユニットの面は、面１と称される。面１に対向する面は、面２と称され、即ち、面１は、ガラス板の１つの主面であり、面２は、ガラス板の対向する主面である。複層ガラスユニットの面２に対向する面は面３と称される。面３に対向する面は面４と称され、追加のガラス板についても同様である。例えば、２つの離間したガラス板、即ちガラスを有する複層ガラスユニットに関して、複層ガラスユニットの面１は、複層ガラスユニットが設置される構造の外部に面し、面４は、複層ガラスユニットが設置される構造の内部に面する。本出願において採用される命名規則に関連して、本発明の第１の態様の複層ガラスユニットの面ｉまたは面ｉｖは、面１であってもよい。
【００１７】
好ましくは、面ｉｖ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ〜６００ｎｍである。
【００１８】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉｖ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ〜３００ｎｍ、より好ましくは１００ｎｍ〜２９０ｎｍ、さらにより好ましくは１００ｎｍ〜２５０ｎｍである。
【００１９】
フッ素ドープ酸化錫の薄い層を有することによって、被覆の粗さが低くなるため、低放射率被覆が表面損傷を受けにくい。また、結露防止性能を達成するために必要な被覆が少ないため、費用が減少する。さらに、複層ガラスユニットのＧ値が、フッ素ドープ酸化錫のより厚い層を有する同じ複層ガラスユニットと比較して、より高い。
【００２０】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉｖ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ〜４００ｎｍ、より好ましくは、３００ｎｍ〜３５０ｎｍである。
【００２１】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉｖ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ〜６００ｎｍ、より好ましくは、５００ｎｍ〜５８０ｎｍである。
【００２２】
好ましくは、第１の虹色抑制層は、第１の層と第２の層とを含み、第１の虹色抑制層の第１の層は、第１の虹色抑制層の第２の層よりも高い屈折率を有し、第１の虹色抑制層の第２の層は、第１の虹色抑制層の第１の層と第１の低放射率被覆との間にある。
【００２３】
好ましくは、第１の虹色抑制層の第１の層は、酸化錫を含む。
【００２４】
好ましくは、第１の虹色抑制層の第２の層は、シリカを含む。
【００２５】
好ましくは、第１の虹色抑制層の第１の層は、１０ｎｍ〜５０ｎｍ、好ましくは、１５ｎｍ〜３５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【００２６】
好ましくは、第１の虹色抑制層の第２の層は、１０ｎｍ〜５０ｎｍ、好ましくは、１５ｎｍ〜３５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【００２７】
好ましくは、第２の板ガラス材料のシートと第１の虹色抑制層との間に第１のヘイズ低減層がある。
【００２８】
好ましくは、第１のヘイズ低減層は、シリカを含む。
【００２９】
好ましくは、第１のヘイズ低減層の幾何学的厚さは、５ｎｍ〜５０ｎｍ、より好ましくは５ｎｍ〜２５ｎｍである。
【００３０】
いくつかの実施形態では、面ｉｉｉ上に低放射率被覆がある。
【００３１】
好ましくは、面ｉｉｉ上の低放射率被覆と第２の板ガラス材料のシートとの間に虹色抑制被覆がある。
【００３２】
面ｉｉｉ上の低放射率被覆と第２の板ガラス材料のシートとの間の虹色抑制被覆は、第１の虹色抑制被覆に関して上述したのと同じ好ましい特徴を有する。
【００３３】
好ましくは、面ｉｉｉ上の低放射率被覆は、少なくとも１つの銀層、及び／または少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層を含む。
【００３４】
面ｉｉｉ上の低放射率被覆が少なくとも１つの銀層を含む場合、好ましくは、少なくとも１つの銀層の幾何学的厚さは、５ｎｍ〜２０ｎｍである。
【００３５】
面ｉｉｉ上の低放射率被覆が少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層を含む場合、好ましくは、面ｉｉｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ〜６００ｎｍである。
【００３６】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉｉｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ〜３００ｎｍ、より好ましくは１００ｎｍ〜２９０ｎｍ、さらにより好ましくは１００ｎｍ〜２５０ｎｍである。
【００３７】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉｉｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、２５０ｎｍ〜３５０ｎｍである。
【００３８】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉｉｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ〜４００ｎｍ、より好ましくは３００ｎｍ〜３５０ｎｍである。
【００３９】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉｉｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ〜６００ｎｍ、より好ましくは５００ｎｍ〜５８０ｎｍである。
【００４０】
面ｉｉｉ上の低放射率被覆が少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層を含む場合、好ましくは、面３上の低放射率被覆と第２の板ガラス材料のシートとの間にＳｉＣＯｘの虹色抑制層がある。好ましくは、ＳｉＣＯｘ層は、５０ｎｍ〜１００ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【００４１】
いくつかの実施形態では、面ｉｉ上に低放射率被覆がある。
【００４２】
好ましくは、面ｉｉ上の低放射率被覆と第１の板ガラス材料のシートとの間に虹色抑制被覆がある。
【００４３】
面ｉｉ上の低放射率被覆と第１の板ガラス材料のシートとの間の虹色抑制被覆は、第１の虹色抑制被覆に関連して上述したのと同じ好ましい特徴を有する。
【００４４】
好ましくは、面ｉｉ上の低放射率被覆は、少なくとも１つの銀層、及び／または少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層を含む。
【００４５】
面ｉｉ上の低放射率被覆が少なくとも１つの銀層を含む場合、好ましくは、少なくとも１つの銀層の幾何学的厚さが、５ｎｍ〜２０ｎｍである。
【００４６】
面ｉｉ上の低放射率被覆は、少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層を含み、好ましくは、面ｉｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ〜６００ｎｍである。いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ〜３００ｎｍ、より好ましくは１００ｎｍ〜２９０ｎｍ、さらにより好ましくは１００ｎｍ〜２５０ｎｍである。
【００４７】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、２５０ｎｍ〜３５０ｎｍである。
【００４８】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ〜４００ｎｍ、より好ましくは、３００ｎｍ〜３５０ｎｍである。
【００４９】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ〜６００ｎｍ、より好ましくは、５００ｎｍ〜５８０ｎｍである。
【００５０】
面ｉｉ上の低放射率被覆が少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層を含む場合、好ましくは、面ｉｉ上の低放射率被覆と第１の板ガラス材料のシートとの間のＳｉＣＯｘの虹色抑制層がある。好ましくは、ＳｉＣＯｘ層は、５０ｎｍ〜１００ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【００５１】
いくつかの実施形態では、面ｉ上に低放射率被覆がある。
【００５２】
複層ガラスユニットが、第１の板ガラス材料のシートの第１の主面（即ち、面ｉ）が、複層ガラスユニットが設置される建物の外部に面するように構成される場合、第１の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆の提供は、第１の板ガラス材料のシートの温度が上昇させられ得るため、第１の主面上の結露の形成を減少させるのに役立つ。
【００５３】
好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆と第１の板ガラス材料のシートとの間に虹色抑制被覆がある。
【００５４】
面ｉ上の低放射率被覆と第１の板ガラス材料のシートとの間の虹色抑制被覆は、第１の虹色抑制被覆に関連して上述されたのと同じ好ましい特徴を有する。
【００５５】
いくつかの実施形態では、少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む面ｉ上の低放射率被覆がある。
【００５６】
好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ〜６００ｎｍである。
【００５７】
好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ〜３００ｎｍ、より好ましくは１００ｎｍ〜２９０ｎｍ、さらにより好ましくは１００ｎｍ〜２５０ｎｍである。
【００５８】
フッ素ドープ酸化錫の薄い層を有することによって、被覆の粗さが低くなるため、低放射率被覆が表面損傷を受けにくい。また、結露防止性能を達成するために必要な被覆が少ないため、費用が減少する。さらに、複層ガラスユニットのＧ値が、フッ素ドープ酸化錫のより厚い層を有する同じ複層ガラスユニットと比較して、より高い。
【００５９】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ〜４００ｎｍ、より好ましくは３００ｎｍ〜３５０ｎｍである。
【００６０】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ〜６００ｎｍ、より好ましくは５００ｎｍ〜５８０ｎｍである。
【００６１】
本発明の第１の態様による複層ガラスユニットは、他の好ましい特徴を有する。
【００６２】
いくつかの実施形態では、面ｉｖ上の低放射率被覆上に他の層がない。
【００６３】
いくつかの実施形態では、面ｉｖ上の低放射率被覆に層がある。好ましくは、面ｉｖ上の低放射率被覆上のシリカの層は、５ｎｍ〜５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【００６４】
いくつかの実施形態では、面ｉｖ上の低放射率被覆上にチタニアの層がある。好ましくは、面ｉｖ上の低放射率被覆上のチタニアの層は、５ｎｍ〜５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【００６５】
面ｉ上に低放射率被覆がある、実施形態では、好ましくは、面ｉ上に低放射率被覆上のシリカの層がある。好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆上のシリカの層は、５ｎｍ〜５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【００６６】
面ｉ上に低放射率被覆がある実施形態では、好ましくは、面ｉ上に低放射率被覆上のチタニアの層がある。好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆上のチタニアの層は、５ｎｍ〜５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【００６７】
面ｉ上に低放射率被覆がある実施形態では、好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆上に他の層がない。
【００６８】
いくつかの実施形態では、面ｉｖ上の低放射率被覆上に虹色抑制被覆がある。
【００６９】
好ましくは、面ｉｖ上の低放射率被覆上の虹色抑制被覆は、少なくとも４つの層を含む。
【００７０】
好ましくは、面ｉｖ上の低放射率被覆上の虹色抑制被覆は、順に、第１の酸化錫の層と、第２のシリカの層と、第３のフッ素ドープ酸化錫の層と、第４のシリカの層とを含み、第１の酸化錫の層が、第２のシリカの層と、面ｉｖ上の低放射率被覆との間にある。
【００７１】
好ましくは、面ｉｖ上の低放射率被覆上の反射防止被覆の第１の酸化錫の層は、１０ｎｍ〜１５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【００７２】
好ましくは、面ｉｖ上の低放射率被覆上の反射防止被覆の第２のシリカの層は、２０ｎｍ〜３０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【００７３】
好ましくは、面ｉｖ上の低放射率被覆上の反射防止被覆の第３のフッ素ドープ酸化錫の層は、１００ｎｍ〜１５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【００７４】
好ましくは、面ｉｖ上の低放射率被覆上の反射防止被覆の第４のシリカの層は、８０ｎｍ〜１００ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【００７５】
面ｉ上に低放射率被覆がある実施形態では、好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆上に反射防止被覆がある。
【００７６】
好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆上の反射防止被覆は、少なくとも４つの層を含む。
【００７７】
好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆上の反射防止被覆は、順に、第１の酸化錫の層と、第２のシリカの層と、第３のフッ素ドープ酸化錫の層と、第４のシリカの層とを含み、第１の酸化錫の層が、第２のシリカの層と、面１上の低放射率被覆との間にある。
【００７８】
好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆上の反射防止被覆の第１の酸化錫の層は、８ｎｍ〜１５ｎｍ、より好ましくは１１ｎｍ〜１３ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【００７９】
好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆上の反射防止被覆の第２のシリカの層は、２０ｎｍ〜３０ｎｍ、より好ましくは２２ｎｍ〜２７ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【００８０】
好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆上の反射防止被覆の第３のフッ素ドープ酸化錫の層は、１００ｎｍ〜１５０ｎｍ、より好ましくは１２０ｎｍ〜１４０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【００８１】
好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆上の反射防止被覆の第４のシリカの層は、７０ｎｍ〜１２０ｎｍ、より好ましくは８０ｎｍ〜１００ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【００８２】
いくつかの実施形態では、面ｉｖ上の低放射率被覆の粗さは、２０ｎｍ未満であり、より好ましくは３ｎｍ〜１５ｎｍ、さらにより好ましくは５ｎｍ〜１２ｎｍである。
【００８３】
面ｉ上に低放射率被覆がある実施形態では、好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆の粗さは、２０ｎｍ未満であり、より好ましくは３ｎｍ〜１５ｎｍ、さらにより好ましくは５ｎｍ〜１２ｎｍである。
【００８４】
本発明の第１の態様のいくつかの実施形態では、複層ガラスユニットは、第１の板ガラス材料のシートに面し、第２の空間によって第１の板ガラス材料のシートから離される第３の板ガラス材料のシートを含み、第３の板ガラス材料のシートは、第１の主面と第２の主面とを有し、複層ガラスユニットは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面と第１の板ガラス材料のシートの第１の主面（即ち、面ｉ）とが、第２の空間に面するように構成される。
【００８５】
好ましくは、第２の空間は、空隙である。
【００８６】
好ましくは、第２の空間は、アルゴンまたはクリプトンなどの不活性ガスが充填される。
【００８７】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートは、第１の板ガラス材料のシートから２ｍｍ以上、好ましくは５ｍｍ〜５０ｍｍ、より好ましくは５ｍｍ〜２５ｍｍ離間する。
【００８８】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面は、その上に低放射率被覆を有する。
【００８９】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面は、その上に低放射率被覆を有する。好ましくは、第３の板ガラス材料の第２の主面上のシート上の低放射率被覆は、少なくとも１つの銀の層、及び／または少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫を含む。
【００９０】
第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上に低放射率被覆を有する第３の板ガラス材料のシートを有する本発明の第１の態様の実施形態は、他の好ましい特徴を有する。
【００９１】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆と、第３の板ガラス材料のシートとの間に虹色抑制被覆がある。
【００９２】
好ましくは、虹色抑制層は、第１の層と第２の層とを含み、虹色抑制層の第１の層は、虹色抑制層の第２の層よりも高い屈折率を有し、虹色抑制層の第２の層は、虹色抑制層の第１の層と、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆との間にある。
【００９３】
好ましくは、虹色抑制層の第１の層は、酸化錫を含む。
【００９４】
好ましくは、虹色抑制層の第２の層は、シリカを含む。
【００９５】
好ましくは、虹色抑制層の第１の層は、１０ｎｍ〜５０ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ〜３５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【００９６】
好ましくは、虹色抑制層の第２の層は、１０ｎｍ〜５０ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ〜３５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【００９７】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートと、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の虹色抑制被覆との間にヘイズ低減層がある。
【００９８】
好ましくは、ヘイズ低減層は、シリカを含む。
【００９９】
好ましくは、ヘイズ低減層の厚さは、５ｎｍ〜５０ｎｍ、より好ましくは５ｎｍ〜２５ｎｍである。
【０１００】
第３の板ガラス材料のシートの第１の主面がその上に低放射率被覆を有する場合、好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆は、少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。
【０１０１】
好ましくは、第３の板ガラス材料の第１の主面上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ〜６００ｎｍである。
【０１０２】
好ましくは、第３の板ガラス材料の第１の主面上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ〜３００ｎｍ、より好ましくは１００ｎｍ〜２９０ｎｍ、さらにより好ましくは１００ｎｍ〜２５０ｎｍである。
【０１０３】
フッ素ドープ酸化錫の薄い層を有することによって、被覆の粗さが低くなるため、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆が表面損傷を受けにくい。また、結露防止性能を達成するために必要な被覆が少ないため、費用が減少する。さらに、複層ガラスユニットのＧ値が、フッ素ドープ酸化錫のより厚い層を有する同じ複層ガラスユニットと比較して、より高い。
【０１０４】
好ましくは、第３の板ガラス材料の第１の主面上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ〜４００ｎｍ、より好ましくは３００ｎｍ〜３５０ｎｍである。
【０１０５】
好ましくは、第３の板ガラス材料の第１の主面上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ〜６００ｎｍ、より好ましくは５００ｎｍ〜５８０ｎｍである。
【０１０６】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上に他の層がない。
【０１０７】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上にシリカの層がある。好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上のシリカの層は、５ｎｍ〜５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【０１０８】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上にチタニアの層がある。好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上のチタニアの層は、５ｎｍ〜５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【０１０９】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上に反射防止被覆がある。
【０１１０】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上の反射防止被覆が、少なくとも４つの層を含む。
【０１１１】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上の反射防止被覆は、順に、第１の酸化錫の層と、第２のシリカの層と、第３のフッ素ドープ酸化錫の層と、第４のシリカの層とを含み、第３の板ガラス材料のシートの場合、第１の酸化錫の層が、第２のシリカの層と、第１の主面上の低放射率被覆との間にある。
【０１１２】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上の反射防止被覆の第１の酸化錫の層は、１０ｎｍ〜１５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【０１１３】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上の反射防止被覆の第２のシリカの層は、２０ｎｍ〜３０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【０１１４】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上の反射防止被覆の第３のフッ素ドープ酸化錫の層は、１００ｎｍ〜１５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【０１１５】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上の反射防止被覆の第４のシリカの層は、８０ｎｍ〜１００ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【０１１６】
第２の主面上に低放射率被覆を有する第３の板ガラス材料のシートを有する本発明の第１の態様の実施形態は、他の好ましい特徴を有する。
【０１１７】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆と、第３の板ガラス材料のシートとの間に虹色抑制被覆がある。
【０１１８】
好ましくは、虹色抑制層が第１の層と第２の層とを含み、虹色抑制層の第１の層が、虹色抑制層の第２の層よりも高い屈折率を有し、虹色抑制層の第２の層が虹色抑制層の第１の層と、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆との間にある。
【０１１９】
好ましくは、虹色抑制層の第１の層が、酸化錫を含む。
【０１２０】
好ましくは、虹色抑制層の第２の層が、シリカを含む。
【０１２１】
好ましくは、虹色抑制層の第１の層が、１０ｎｍ〜５０ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ〜３５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【０１２２】
好ましくは、虹色抑制層の第２の層が、１０ｎｍ〜５０ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ〜３５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【０１２３】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートと、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の虹色抑制被覆との間にヘイズ低減層がある。
【０１２４】
好ましくは、ヘイズ低減層は、シリカを含む。
【０１２５】
好ましくは、ヘイズ低減層の厚さは、５ｎｍ〜５０ｎｍ、より好ましくは５ｎｍ〜２５ｎｍである。
【０１２６】
いくつかの実施形態では、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆は、少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。
【０１２７】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ〜６００ｎｍである。
【０１２８】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ〜３００ｎｍ、より好ましくは１００ｎｍ〜２９０ｎｍ、さらにより好ましくは１００ｎｍ〜２５０ｎｍである。
【０１２９】
フッ素ドープ酸化錫の薄い層を有することによって、被覆の粗さが低くなるため、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆が表面損傷（例えば、輸送されるとき、または複層ガラスユニットの組み立て中に）を受けにくい。また、結露防止性能を達成するために必要な被覆が少ないため、費用が減少する。さらに、複層ガラスユニットのＧ値が、フッ素ドープ酸化錫のより厚い層を有する同じ複層ガラスユニットと比較して、より高い。
【０１３０】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ〜４００ｎｍ、より好ましくは３００ｎｍ〜３５０ｎｍである。
【０１３１】
いくつかの実施形態では、好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ〜６００ｎｍ、より好ましくは５００ｎｍ〜５８０ｎｍである。
【０１３２】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆上に他の層がない。
【０１３３】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆上にシリカの層がある。好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆上のシリカの層は、５ｎｍ〜５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【０１３４】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆上にチタニアの層がある。好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆上のチタニアの層は、５ｎｍ〜５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【０１３５】
第２の態様から、本発明は、第１の板ガラス材料のシートと、第２の板ガラス材料のシートとを含み、第１の板ガラス材料のシートと第２の板ガラス材料のシートとの間に第１の空間があり、第１の板ガラス材料のシートが、第１の主面と、対向する第２の主面とを有し、第２の板ガラス材料のシートが、第１の主面と、対向する第２の主面とを有し、第１の板ガラス材料のシートの第２の主面と、第２の板ガラス材料のシートの第１の主面とが、第１の空間に面し、第１の空間が大気圧よりも低い圧力を有する低圧空間であり、第１の空間に複数のスペーサがあり、第２の板ガラス材料のシートの第１の主面、及び／または板ガラス材料の第１のシートの第２の主面が、その上に低放射率被覆を有し、複層ガラスユニットが、第１の板ガラス材料のシートに面し、第２の空間によって第１の板ガラス材料のシートから離される第３の板ガラス材料のシートをさらに含み、第３の板ガラス材料のシートが第１の主面と第２の主面とを有し、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面と、第１の板ガラス材料のシートの第１の主面とが、第２の空間に面し、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面がその上に低放射率被覆を有し、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面がその上に低放射率被覆を有することを特徴とする、複層ガラスユニットを提供する。
【０１３６】
好適には、第１の板ガラス材料のシートは、第２の板ガラス材料のシートから１ｍｍ未満、好ましくは０．０５ｍｍ〜０．５ｍｍ、より好ましくは０．１〜０．３ｍｍ離間する。
【０１３７】
好ましくは、第２の空間は、空隙である。
【０１３８】
好ましくは、第２の空間は、アルゴンまたはクリプトンなどの不活性ガスが充填される。
【０１３９】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートは、第１の板ガラス材料のシートから２ｍｍ以上、好ましくは５ｍｍ〜５０ｍｍ、より好ましくは５ｍｍ〜２５ｍｍ離間する。
【０１４０】
好ましくは、少なくとも１つの銀の層、及び／または少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫上に含む、第１の板ガラス材料のシートの第２の主面上に低放射率被覆がある。
【０１４１】
好ましくは、少なくとも１つの銀層、及び／または少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫上に含む、第２の板ガラス材料のシートの第１の主面上に低放射率被覆がある。
【０１４２】
好ましくは、第３の板ガラス材料の第１の主面上の低放射率被覆と、第３の板ガラス材料のシートとの間に虹色抑制被覆がある。
【０１４３】
好ましくは、虹色抑制層が第１の層と第２の層とを含み、虹色抑制層の第１の層が、虹色抑制層の第２の層よりも高い屈折率を有し、虹色抑制層の第２の層が虹色抑制層の第１の層と、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆との間にある。
【０１４４】
好ましくは、虹色抑制層の第１の層が、酸化錫を含む。
【０１４５】
好ましくは、虹色抑制層の第２の層が、シリカを含む。
【０１４６】
好ましくは、虹色抑制層の第１の層が、１０ｎｍ〜５０ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ〜３５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【０１４７】
好ましくは、虹色抑制層の第２の層が、１０ｎｍ〜５０ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ〜３５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【０１４８】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートと、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の虹色抑制被覆との間にヘイズ低減層がある。
【０１４９】
好ましくは、ヘイズ低減層は、シリカを含む。
【０１５０】
好ましくは、ヘイズ低減層の厚さは５ｎｍ〜５０ｎｍ、より好ましくは５ｎｍ〜２５ｎｍである。
【０１５１】
本発明の第２の態様のいくつかの実施形態では、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆は、少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。
【０１５２】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ〜６００ｎｍである。
【０１５３】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ〜３００ｎｍ、より好ましくは１００ｎｍ〜２９０ｎｍ、さらにより好ましくは１００ｎｍ〜２５０ｎｍである。
【０１５４】
フッ素ドープ酸化錫の薄い層を有することによって、被覆の粗さが低くなるため、低放射率被覆が表面損傷を受けにくい。また、結露防止性能を達成するために必要な被覆が少ないため、費用が減少する。さらに、複層ガラスユニットのＧ値が、フッ素ドープ酸化錫のより厚い層を有する同じ複層ガラスユニットと比較して、より高い。
【０１５５】
第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さのいくつかの実施形態では、２５０ｎｍ〜３５０ｎｍである。
【０１５６】
いくつかの実施形態では、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ〜４００ｎｍ、より好ましくは３００ｎｍ〜３５０ｎｍである。
【０１５７】
いくつかの実施形態では、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ〜６００ｎｍ、好ましくは５００ｎｍ〜５８０ｎｍである。
【０１５８】
本発明の第２の態様のいくつかの実施形態では、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上に他の層がない。
【０１５９】
本発明の第２の態様のいくつかの実施形態では、好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上にシリカの層がある。好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上のシリカの層は、５ｎｍ〜５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【０１６０】
本発明の第２の態様のいくつかの実施形態では、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上にチタニアの層がある。好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上のチタニアの層は、５ｎｍ〜５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【０１６１】
本発明の第２の態様のいくつかの実施形態では、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上に反射防止被覆がある。
【０１６２】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上の反射防止被覆が、少なくとも４つの層を含む。
【０１６３】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上の反射防止被覆は、順に、第１の酸化錫の層と、第２のシリカの層と、第３のフッ素ドープ酸化錫の層と、第４のシリカの層とを含み、第３の板ガラス材料のシートの場合、第１の酸化錫の層が、第２のシリカの層と、第１の主面上の低放射率被覆との間にある。
【０１６４】
好ましくは、第１の酸化錫の層は、１０ｎｍ〜１５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【０１６５】
好ましくは、第２のシリカの層は、２０ｎｍ〜３０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【０１６６】
好ましくは、第３のフッ素ドープ酸化錫の層は、１００ｎｍ〜１５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【０１６７】
好ましくは、第４のシリカの層は、８０ｎｍ〜１００ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【０１６８】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆と、第３の板ガラス材料のシートとの間に虹色抑制被覆がある。
【０１６９】
好ましくは、虹色抑制層が第１の層と第２の層とを含み、虹色抑制層の第１の層が、虹色抑制層の第２の層よりも高い屈折率を有し、虹色抑制層の第２の層が虹色抑制層の第１の層と、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆との間にある。
【０１７０】
好ましくは、虹色抑制層の第１の層が、酸化錫を含む。
【０１７１】
好ましくは、虹色抑制層の第２の層が、シリカを含む。
【０１７２】
好ましくは、虹色抑制層の第１の層が、１０ｎｍ〜５０ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ〜３５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【０１７３】
好ましくは、虹色抑制層の第２の層が、１０ｎｍ〜５０ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ〜３５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【０１７４】
本発明の第２の態様のいくつかの実施形態では、好ましくは、第３の板ガラス材料のシートと、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の虹色抑制被覆との間にヘイズ低減層がある。
【０１７５】
好ましくは、ヘイズ低減層は、シリカを含む。
【０１７６】
好ましくは、ヘイズ低減層の厚さは５ｎｍ〜５０ｎｍ、より好ましくは５ｎｍ〜２５ｎｍである。
【０１７７】
本発明の第２の態様のいくつかの実施形態では、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆は、少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。
【０１７８】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ〜６００ｎｍである。
【０１７９】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ〜３００ｎｍ、より好ましくは１００ｎｍ〜２９０ｎｍ、さらにより好ましくは１００ｎｍ〜２５０ｎｍである。
【０１８０】
フッ素ドープ酸化錫の薄い層を有することによって、被覆の粗さが低くなるため、低放射率被覆が表面損傷を受けにくい。また、結露防止性能を達成するために必要な被覆が少ないため、費用が減少する。さらに、複層ガラスユニットのＧ値が、フッ素ドープ酸化錫のより厚い層を有する同じ複層ガラスユニットと比較して、より高い。
【０１８１】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ〜４００ｎｍ、より好ましくは３００ｎｍ〜３５０ｎｍである。
【０１８２】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ〜６００ｎｍ、より好ましくは５００ｎｍ〜５８０ｎｍである。
【０１８３】
本発明の第２の態様のいくつかの実施形態では、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆上に他の層がない。
【０１８４】
いくつかの実施形態では、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆上にシリカの層がある。好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆上のシリカの層は、５ｎｍ〜５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【０１８５】
いくつかの実施形態では、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆上にチタニアの層がある。好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆上のチタニアの層は、５ｎｍ〜５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【０１８６】
本発明の第１及び第２の態様の実施形態は、他の好ましい特徴を有する。これらの他の好ましい特徴は、任意の組み合わせで、及び本発明の第１及び／または第２の態様で、使用されてもよくてよい。
【０１８７】
本発明の第１及び第２の態様において、好適な板ガラス材料はガラスであり、特に、ソーダ石灰シリカガラスまたはホウケイ酸ガラスである。典型的なソーダ石灰シリカガラスの組成（重量による）は、ＳｉＯ２  ６９〜７４％、Ａｌ２Ｏ３  ０〜３％、Ｎａ２Ｏ  １０〜１６％、Ｋ２Ｏ  ０〜５％、ＭｇＯ  ０〜６％、ＣａＯ  ５〜１４％、ＳＯ３  ０〜２％、Ｆｅ２Ｏ３  ０．００５〜２％である。
【０１８８】
好ましくは、本発明の第１及び第２の態様において使用される板ガラス材料のシートは、２ｍｍ〜１０ｍｍ、より好ましくは３ｍｍ〜８ｍｍ、さらにより好ましくは３ｍｍ〜６ｍｍの厚さを有する。
【０１８９】
特定の複層ガラスユニットについて、板ガラス材料のシートは、同じ、または異なる厚さを有してもよい。
【０１９０】
特定の複層ガラスユニットについて、板ガラス材料のシートは、同じ、または異なるガラスの組成を有してもよい。
【０１９１】
本発明の第１及び第２の態様による複層ガラスは、３つ以上の板ガラス材料のシートを含んでもよい。
【０１９２】
本発明の第１及び第２の態様による複層ガラスは、２つ以上の低圧空間を含んでもよい。
【０１９３】
本発明の第１及び第２の態様による複層ガラスは、２つまたは真空複層ガラス板を含んでもよい。
【０１９４】
本発明の第１及び第２の態様によるガラスユニットは、建物における窓として使用されてもよく、第２の板ガラス材料のシートの第２の主面が建物の内部に面する。
【０１９５】
本明細書で説明された被覆のいずれも、大気圧化学蒸着（ＡＰＣＶＤ）またはスパッタリングなどの、既知の蒸着技術を使用して蒸着されてもよい。当該技術分野で知られているように、酸化物層は、典型的にＡＰＣＶＤを使用して蒸着される。銀層は、既知のスパッタリング技術を使用して蒸着されてもよい。
【０１９６】
本発明の文脈において、Ｕ値は、ＥＮ１２８９８及びＥＮ６７３に従って判定された。
【０１９７】
本発明の文脈において、粗さの値は、原子間力顕微鏡を使用して判定され、ＩＳＯ／ＤＩＳ  ２５１７８−２（２００７）に従い、パラメータについて定義された。
【０１９８】
ここで、本発明の実施形態を、添付の図面（正寸ではない）を参照して例示の目的のみで説明する。
【図面の簡単な説明】
【０１９９】
【図１】本発明の第１の態様による真空複層ガラスの一部の概略図を示す。
【図２】本発明の第１の態様による別の真空複層ガラスの一部の概略図を示す。
【図３】本発明の第１の態様による複層ガラスユニットの一部の概略図を示す。
【図４】本発明の第１の態様による別の真空複層ガラスの一部の概略図を示す。
【図５】本発明の第２の態様による複層ガラスユニットの一部の概略図を示す。
【図６】本発明の第１または第２の態様による複層ガラスにおける使用用の被覆ガラスシートの概略図を示す。
【０２００】
図１は、本発明の第１の態様による複層ガラスユニットの一部の概略図を示す。この特定の例において、複層ガラスユニットは、真空複層ガラスユニット１（ＶＩＧ）である。ＶＩＧなどの製造が、例えば、欧州特許出願０９９９３３０Ａ１号において説明される。
【０２０１】
ＶＩＧ１は、第１のガラスのシート３と、第２のガラスのシート５とを有する。第１のガラスのシート３は、第１の主面７と、対向する第２の主面（図において標識されていない）とを有する。第２の被覆ガラスのシートは、第１の主面と、対向する第２の主面とを有する（両方とも図において標識されていない）。
【０２０２】
ガラス３、５の各シートは、フロート法を使用して作製されたソーダ石灰シリカ組成物である。各ガラスシート３、５は、３ｍｍの厚さである。
【０２０３】
第１のガラスのシート３は、複数のステンレス鋼のスペーサ１１（そのうち５つのみが図１に示される）によって第２のガラスのシート５から離間される。スペーサは、２つのガラスシート３、５間に空間１２を維持する。空間１２は、ＶＩＧ１の構築中に減圧された低圧空間である。はんだガラスなどの周辺シール１０は、空間１２が低圧のままであることを確実にし、即ち、周辺シール１０は気密シールである。
【０２０４】
第１のガラスのシート３の第２の主面上に、低放射率被覆１３がある。第２のガラスのシート５の第２の主面上に、低放射率被覆１５がある。
【０２０５】
ＶＩＧ１は、使用において、被覆ガラス３の第１のシートの第１の主面７が、ＶＩＧ１が設置される建物の外部に面し、被覆ガラス５の第２のシートの第２の主面（及び結果的に低放射率被覆１５）が、ＶＩＧが設置される建物の内部に面するように構成される。
【０２０６】
ＶＩＧの面についての従来の命名体系を使用して、第１の主面７はＶＩＧの面１であり、第１のガラス３のシートの第２の対向する主面は、ＶＩＧの面２であり、被覆ガラス５の第２のシートの第１の主面は、ＶＩＧの面３であり、第２のガラスシート５の第２の主面上の低放射率被覆１５の外の面は、ＶＩＧの面４である。低放射率被覆１５の外面は、図１において数字９で標識されている。
【０２０７】
本出願において採用される表記を使用して、第１の主面７は、面ｉに対応してもよく、その場合、第２の対向するガラスシート３の主面は、面ｉｉに対応し、被覆ガラス５の第２のシートの第１の主面は、面ｉｉｉ（即ち、空間１２に面する被覆ガラスシート５の面）に対応し、ガラスシート５の対向する主面は、面ｉｖに対応する。
【０２０８】
低放射率被覆１３は、単一のスパッタリングされた銀の層を含むが、スパッタリングされた銀の二重の層または三重の層を含んでもよい。各銀層は、５ｎｍ〜２０ｎｍの厚さを有してもよい。このような被覆の例は、米国特許５，３４４，７１８号及び米国特許５，５５７，４６２号で説明される。代替的に、低放射率被覆１３は、大気圧化学蒸着を使用してガラス面上に蒸着された少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。低放射率被覆１３は、低放射率被覆１５と同じであってもよい。低放射率被覆１３は、７５ｎｍの幾何学的厚さを有するＳｉＣＯｘの下地層と、３２０ｎｍの幾何学的厚さを有するフッ素ドープ酸化錫（ＳｎＯ２：Ｆ）の下地層の上の低放射率層とからなり、即ち、第２の主面上の低放射率被覆１３を有するガラスシート３は、ガラス／ＳｉＣＯｘ（７５ｎｍ）／ＳｎＯ２Ｆ（３２０ｎｍ）の構造を有する。
【０２０９】
低放射率被覆１５は、図６を参照して、より詳細に説明される。
【０２１０】
図１に示される実施形態の代替では、第１のガラスのシート３の第２の主面上に低放射率被覆１３がなく、例えば、ガラスのシート３は被覆されていないガラスのシートであってもよい。
【０２１１】
図１に示される実施形態の別の代替では、ガラスの方位が、第１の被覆ガラスのシート３の第１の主面７が、ＶＩＧ１が設置される建物の内部に面し、第２の被覆ガラスのシート５の第２の主面（及び、結果的に低放射率被覆１５）が、ＶＩＧが設置される建物の外部に面するように変えられ、即ち、低放射率被覆１５が太陽に面する。ＶＩＧがこのように構成される場合、ＶＩＧの主面に面する外部上の低放射率被覆は、ガラス５のシートの温度が上昇させられ得るため、その上の結露の形成を減少させるのに役立つ。この代替において、ガラスシート３は、被覆されていないガラスのシートであってもよい。
【０２１２】
図１に関連して上述された代替のいずれでも、ガラスシート５の第１の主面上に低放射率被覆があってもよく、即ち、ガラスシート５の面は、空間１２に面する。
【０２１３】
図２は、本発明の第１の態様による別の複層ガラスユニットの一部の概略図である。複層ガラスユニットは、真空複層ガラスユニット２１（ＶＩＧ）でもある。
【０２１４】
ＶＩＧ２１は、第１のガラス２３のシートと、第２のガラスのシート２５とを有する。ガラス２３の第１のシートは、第１の主面と、対向する第２の主面とを有する（両方とも図において標識されていない）。第２のガラスのシートは、第１の主面と、対向する第２の主面とを有する（両方とも図において標識されていない）。
【０２１５】
ガラス２３、２５の各シートは、フロート法を使用して作製されたソーダ石灰シリカ組成物である。各ガラスシート３、５は、３ｍｍの厚さであるが、６ｍｍの厚さであってもよい。
【０２１６】
第１のガラス２３のシートは、複数のステンレス鋼スペーサ２２（そのうち５つのみが図２に示され、スペーサ２２は図１におけるスペーサ１１と同じである）によって第２のガラスのシート２５から離間する。スペーサ２２は、２つのガラスシート２３、２５間の空間３２を維持する。空間３２は、ＶＩＧ２１の構築中に減圧された低圧空間である。はんだガラスなどの周辺シール３０が、空間３２が低圧のままであることを確実にし、即ち、周辺シール３０は気密シールである。
【０２１７】
第１のガラスのシート２３の第１の主面上には、低放射率被覆３１がある。第１のガラスのシート２３の第２の主面上には、低放射率被覆３３がある。第２のガラスのシート２５の第２の主面上には、低放射率被覆３５がある。
【０２１８】
ＶＩＧ２１は、使用において、被覆ガラスの第１のシート２３の第１の主面（及び、結果的に低放射率被覆３１）が、ＶＩＧ２１が設置される建物の外部に面し、被覆ガラスの第２のシート２５の第２の主面（及び、結果的に低放射率被覆３５）が、ＶＩＧ２１が設置される建物の内部に面するように構成される。
【０２１９】
低放射率被覆３３は、スパッタリングされた銀の単一の層を含むが、スパッタリングされた銀の二重の層または三重の層を含んでもよい。各銀層は、５ｎｍ〜２０ｎｍの厚さを有してもよい。このような被覆の例は、米国特許５，３４４，７１８号及び米国特許５，５５７，４６２号で説明される。代替的に、低放射率被覆３３は、典型的にガラスがフロート法で製造される場合、大気圧化学蒸着を使用してガラス面上に蒸着された少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。低放射率被覆３３は、低放射率被覆３５と同じであってもよい。低放射率被覆３３は、７５ｎｍの幾何学的厚さを有するＳｉＣＯｘの下地層と、３２０ｎｍの幾何学的厚さを有するフッ素ドープ酸化錫の下地層の上の低放射率層とからなり、即ち、第２の主面上の低放射率被覆３３を有するガラスシート２３は、ガラス／ＳｉＣＯｘ（７５ｎｍ）／ＳｎＯ２：Ｆ（３２０ｎｍ）の構造を有する。
【０２２０】
低放射率被覆３１及び３５は、図６を参照して、より詳細に説明される。
【０２２１】
図３は、複層ガラスユニット４１の一部を示す。複層ガラスユニット４１は、図１を参照して説明されるように、シートの主面上に低放射率被覆４５を有する３ｍｍのソーダ石灰シリカガラス４３のシートと、ＶＩＧ１とを含む。このような複層ガラスユニットは、３つの板ガラス材料のシートと、シート間に２つの空間とがあるため、典型的に、三重複層ガラスユニットと称される。
【０２２２】
ＶＩＧ１は、金属のスペーサ４４と、ポリウレタンなどの周辺シール４１０とによって、被覆ガラスシートから約１２ｍｍ離間し、それによって空間４２を作る。空間４２は、空隙であり、アルゴンまたはクリプトンなどの不活性ガスが充填されてもよい。
【０２２３】
低放射率被覆４５は、空間４２に面するガラスシート４３の主面上にある。
【０２２４】
低放射率被覆４５は、スパッタリングされた銀の単一の層を含むが、スパッタリングされた銀の二重の層または三重の層を含んでもよい。各銀層は、５ｎｍ〜２０ｎｍの厚さを有してもよい。このような被覆の例は、米国特許５，３４４，７１８号及び米国特許５，５５７，４６２号で説明される。代替的に、低放射率被覆４５は、典型的にガラスがフロート法で製造される場合、大気圧化学蒸着を使用してガラス面上に蒸着された少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。低放射率被覆４５は、低放射率被覆１５と同じであってもよい。低放射率被覆４５は、７５ｎｍの幾何学的厚さを有するＳｉＣＯｘの下地層と、３２０ｎｍの幾何学的厚さを有するフッ素ドープ酸化錫の下地層の上の低放射率層とからなってもよく、即ち、第２の主面上の低放射率被覆４５を有するガラスシート４３は、ガラス／ＳｉＣＯｘ（７５ｎｍ）／ＳｎＯ２：Ｆ（３２０ｎｍ）の構造を有する。
【０２２５】
複層ガラスユニット４１は、使用において、ガラスシート４３の被覆されない面が、建物の外部に面するように構成される。これは面１と称される。ガラスシート４３の被覆面は、空隙４２に面し、面２と称される。空隙４２にエイシングするＶＩＧ１のガラスシート３の面は、面３と称される。低圧空間１２に面するＶＩＧ１のガラスシート３の被覆面は、面４と称される。低圧空間１２に面するＶＩＧ１のガラスシート５の被覆されていない面は、面５と称され、ＶＩＧ１のガラスシート５の被覆面は、面６と称され、建物の内部に面する。
【０２２６】
これは、三重複層ガラスユニットの面を命名するための従来の規則である。
【０２２７】
面２、４、及び６上の低放射率被覆４５、１３、及び１５は、複層ガラスユニット４１のＵ値をそれぞれ減少させる。
【０２２８】
図３に示される例の変形では、ガラスのシート４３は、低放射率被覆を有する両方の主面が被覆されてもよく、即ち、面１は低放射率被覆をその上に有する。
【０２２９】
変形では、面１上の低放射率被覆は、低放射率被覆４５と同じであってもよい。空隙に面するガラスシート４３の主面上の低放射率被覆は、少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層を含むことが好ましく、図６を参照して説明された低放射率被覆１５と同じであることが好ましい。好ましくは、面１上の低放射率被覆は、図１及び６を参照して説明される被覆１５と同じである。面１上の低放射率被覆の提供は、ガラスシート４３の温度を上昇させるのに役立ち、それによってその上の結露の形成を減少させるのに役立つ。
【０２３０】
図３に示される複層ガラスの別の変形では、ガラス４３のシートの位置及びＶＩＧ１は逆であってもよい。
【０２３１】
図４は、本発明の第１の態様による別の複層ガラスユニットの概略図である。特定の例では、複層ガラスユニットは、真空複層ガラスユニット５１（ＶＩＧ）であり、上述されたＶＩＧ１及びＶＩＧ２１と同様である。
【０２３２】
ＶＩＧ５１は、第１のガラスのシート５３と、第２のガラスのシート５５とを有する。第１のガラスのシート５３は、第１の主面と、第２の主面とを有する（両方とも図において標識されていない）。被覆ガラスの第２のシートは、第１の主面と、第２の主面とを有する（両方とも図において標識されていない）。
【０２３３】
各ガラスのシート５３、５５は、フロート法を使用して作製されたソーダ石灰シリカ組成物である。各ガラスシート５３、５５は、３ｍｍの厚さである。
【０２３４】
第１のガラスのシート５３は、複数のステンレス鋼のスペーサ５２によって第２のガラスのシート５５から離間する（そのうちの５つのみが図４に示される）。スペーサは、空間６２を約０．２ｍｍの２つのガラスシート５３、５５間に維持する。空間６２は、ＶＩＧ５１の構築中に減圧される低圧空間である。はんだガラスなどの周辺シール６０は、空間６２が低圧のままであることを確実にし、即ち、周辺シール６０は気密シールである。
【０２３５】
ガラスシート５３の第２の主面は、空間６２に面する。ガラスシート５５の第１の主面は、空間６２に面する。
【０２３６】
ガラスシート５３の両方の主面は被覆されない。ガラスシート５５の第１の主面上に、低放射率被覆６３がある。ガラスシート５５の第２の主面上に、低放射率被覆６５がある。
【０２３７】
ＶＩＧ５１は、使用において、第１のシート５３の第１の主面が、ＶＩＧ５１が設置される建物の外部に面し、ガラスの第２のシート５５の第２の主面（及び、結果的に低放射率被覆６５）が、ＶＩＧ５１が設置される建物の内部に面するように構成される。
【０２３８】
低放射率被覆６３は、スパッタリングされた銀の単一の層を含むが、スパッタリングされた銀の二重の層または三重の層を含んでもよい。各銀層は、５ｎｍ〜２０ｎｍの厚さを有してもよい。このような被覆の例は、米国特許５，３４４，７１８号及び米国特許５，５５７，４６２号で説明される。代替的に、低放射率被覆６３は、大気圧化学蒸着を使用してガラス面上に蒸着された少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。低放射率被覆６３は、低放射率被覆６５と同じであってもよい。低放射率被覆６３は、７５ｎｍの幾何学的厚さを有するＳｉＣＯｘの下地層と、３２０ｎｍの幾何学的厚さを有するフッ素ドープ酸化錫の下地層の上の低放射率層とからなってもよく、即ち、ガラスシート５５は、第１の主面上の低放射率被覆６３を有するガラス／ＳｉＣＯｘ（７５ｎｍ）／ＳｎＯ２：Ｆ（３２０ｎｍ）の構造を有する。
【０２３９】
低放射率被覆６５は、図６を参照して、より詳細に説明される。
【０２４０】
図４に示される実施形態の代替では、ＶＩＧ５１の方位は、使用において、即ち、建物に設置される場合、低放射率被覆６５が建物の外部に面し、空間６２に面さない第１のガラスシート５３の被覆されていない主面は、ＶＩＧが設置される建物の内部に面するように、逆であってもよい。
【０２４１】
別の実施形態では、図２、３、及び４を参照して、図３のＶＩＧ１は、図２のＶＩＧ２１または図４のＶＩＧ５１と置き換えられてもよい。
【０２４２】
図５は、本発明の第２の態様による複層ガラスユニット７１の一部の概略図である。
【０２４３】
複層ガラスユニット７１は、金属スペーサ７２によってＶＩＧ８１から１２ｍｍ離間する３ｍｍの厚さのソーダ石灰シリカガラス７３のシートと、周辺シール７４とを含む。ガラスシート７３とＶＩＧ８１との間に空隙７６がある。
【０２４４】
ガラスシート７３は、第１及び第２の対向する主面を有する。ガラスシート７３の第２の主面は、空隙７６に面する。ガラスシート７３の第１の主面上に低放射率被覆７５があり、ガラスシート７３の第２の主面上に低放射率被覆７７がある。
【０２４５】
低放射率被覆７７は、スパッタリングされた銀の単一の層を含むが、スパッタリングされた銀の二重の層または三重の層を含んでもよい。各銀層は、５ｎｍ〜２０ｎｍの厚さを有してもよい。このような被覆の例は、米国特許５，３４４，７１８号及び米国特許５，５５７，４６２号で説明される。代替的に、低放射率被覆７７は、大気圧化学蒸着を使用してガラス面上に蒸着された少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。低放射率被覆７７は、低放射率被覆７５と同じであってもよい。低放射率被覆７７は、７５ｎｍの幾何学的厚さを有するＳｉＣＯｘの下地層と、３２０ｎｍの幾何学的厚さを有するフッ素ドープ酸化錫の下地層の上の低放射率層とからなってもよく、即ち、ＳｉＣＯｘ層は、ガラス面と接触しており、ＳｎＯ２：Ｆ層は、ＳｉＣＯｘ層上にある。
【０２４６】
低放射率被覆７５は、図６を参照して、より詳細に説明される。
【０２４７】
ＶＩＧ８１は、複数のステンレス鋼のスペーサ８２によって、互いから約０．２ｍｍ離間する、第１のガラスのシート８３と、第２のガラスのシート８５とを含む。スペーサは、空間９２を２つのガラスシート８３、８５間に維持する。空間９２は、ＶＩＧ８１の構築中に減圧された低圧空間である。はんだガラスなどの周辺シール８０は、空間９２が低圧のままであることを確実にし、即ち、周辺シール８０は気密シールである。
【０２４８】
ガラスシート８３は、空隙７６に面する第１の主面と、低圧空間９２に面する第２の主面とを有する。ガラスシート８３の第２の主面上に、低放射率被覆９３がある。低放射率被覆は、低放射率被覆７７と同じであってもよい。
【０２４９】
ガラスシート８５は、低圧空間９２に面する第１の主面と、第２の対向する主面とを有する。ガラスシート８５の両方の主面は、被覆されていない。
【０２５０】
使用において、ガラスシート８５の第２の主面は、複層ガラスユニット７１が設置される建物の内部に面する。
【０２５１】
図５において、面１上の追加の低放射率被覆７５は、ガラスシート７３の温度を上昇させるのに役立ち、その上の結露の形成を減少させる。
【０２５２】
図６は、本発明の第１または第２の態様のいずれかによる複層ガラスにおけるガラス板として有用な被覆ガラスの断面を示す。
【０２５３】
図６を参照すると、３ｍｍの厚さの透明フロートガラスのシート１０５を含む被覆ガラス板１０１は、例えば、国際出願９７／４２３５７Ａ１号で説明されるように、フロート炉のフロートバス領域において大気化学蒸着を使用して被覆構造１１５で被覆される。
【０２５４】
ガラスシート１０５の組成物は、Ｆｅ２Ｏ３の０．１１重量％の含有量を有する従来の透明フロートガラス組成物（ソーダ石灰シリカガラス）であるが、別の実施形態では、Ｆｅ２Ｏ３の含有量は０．００１重量％〜０．１重量％であり、典型的には約０．０５重量％であった。別の例では、約０．１８重量％のＦｅ２Ｏ３の含有量を有する、より高いＦｅ２Ｏ３含有量のフロートガラス組成物が使用された。
【０２５５】
ホットフロートガラスリボンは、まず、１５ｎｍの幾何学的厚さを有するＳｉＯ２の層１０２で被覆される。この層１０２は、本発明による被覆ガラスシートが、この層を有しない被覆ガラスシートよりも少ないヘイズを有するようなヘイズ低減層である。例えばＳｉ３Ｎ４などの他のこのような被覆が使用されてもよい。
【０２５６】
次に、２５ｎｍの幾何学的厚さを有するＳｎＯ２の層１０４が、ＳｉＯ２層上に蒸着される。この層は、虹色抑制被覆構造の一部を形成する。次に、３０ｎｍの幾何学的厚さを有するＳｉＯ２の層１０６がＳｎＯ２層１０４上に蒸着される。ＳｎＯ２の２５ｎｍの層とＳｉＯ２の３０ｎｍの層との組み合わせが、虹色抑制被覆である。層１０４は、虹色抑制被覆の第１の層である、層１０６は、虹色抑制被覆の第２の層である。
【０２５７】
最後に、フッ素ドープ酸化錫（ＳｎＯ２：Ｆ）の層１０８は、３０ｎｍの厚さのＳｉＯ２層上に蒸着された。ＳｎＯ２：Ｆ層１０８は、２３０ｎｍの幾何学的厚さを有した。
【０２５８】
層１０２、１０４、１０６、及び１０８は、被覆構造１１５を形成する。被覆構造１１５は、低放射率被覆である。
【０２５９】
被覆構造１１５は、図１における低放射率被覆１５、図２における低放射率被覆３１、及び／または低放射率被覆３５、図４における低放射率被覆６５、及び図５における低放射率被覆７５に対応する。
【０２６０】
ＳｎＯ２：Ｆ層１０８が厚すぎる場合、例えば、取り扱われるとき、または清掃されるときに損傷を受ける傾向がより多い。結果的に、低放射率被覆１０８上のいずれの追加の被覆層を使用する必要もない。他の被覆層が低放射率被覆１０８上に蒸着されてもよいが、これは費用及び製造の複雑さを増加させる。
【０２６１】
低放射率ＳｎＯ２：Ｆ層１０８がより薄くなるため、被覆の耐久性は増加するが、放射率が増加し、これは望ましくない。図６に示される被覆基板について、被覆の放射率は０．２２である。
【０２６２】
ＳｎＯ２：Ｆ層の粗さは、約１０ｎｍであると判定された。粗さは、原子間力顕微鏡を使用して測定され、ＩＳＯ／ＤＩＳ  ２５１７８−２（２００７）に従い、パラメータについて定義された。
【０２６３】
上述と同じ被覆は、３．９２ｍｍの厚さの低鉄フロートガラスのシート上に蒸着された（０．０２重量％のＦｅ２Ｏ３を有する）。この被覆されたシートの可視光線透過率は、ＥＮ４１０（２０１１）／６７３（ＣＥＮ）に従って算出され、８４．６％であった。
【０２６４】
図６に示された被覆構造１１５の代替では、ＳｉＯ２の層１０２がなくてもよく、代わりに層１０４がガラスシート１０５の面に接触している。この実施形態では、ＳｎＯ２の層１０４の幾何学的厚さは、２０ｎｍ〜３０ｎｍであってもよく、層１０４上のＳｉＯ２の層１０６の幾何学的厚さは、１０ｎｍ〜３０ｎｍの幾何学的厚さを有してもよい。ＳｉＯ２層１０６上のフッ素ドープ酸化錫（ＳｎＯ２：Ｆ）の層１０８は、３００ｎｍ〜４００ｎｍの幾何学的厚さを有してもよく、典型的に、約３２０ｎｍである。代替的に、ＳｉＯ２層１０６上のフッ素ドープ酸化錫（ＳｎＯ２：Ｆ）層１０８は、４００ｎｍより大きな幾何学的厚さを有してもよく、典型的に、約６００ｎｍまでであり、即ち、５００〜５８０ｎｍ内である。
【０２６５】
説明されたような被覆構造１１５は、本発明の第１及び第２の態様による、１つ以上の板ガラス材料の主面上の低放射率被覆として使用されてもよい。
【０２６６】
本発明の例は、露出面上に低放射率被覆を有しない等価の複層ガラスユニットと比べて、Ｕ値を減少させた。複層ガラスユニットの外部に面する面（即ち、面１）上の低放射率被覆の提供は、上述の面上の低放射率被覆を上から覆う必要を伴わずに、結露防止の性質を複層ガラスユニットに提供することができるという利点を有する。これは、製造費用及び製造の複雑性を減少させる。比較的薄い低放射率層を使用することによって、被覆は、比較的滑らかであり、外部環境に露出している同様のより厚い被覆に、さもなければ起こり得る損害をより受けにくい。
【０２６７】
要するに、第１の態様から、間に低圧空間を有する板ガラス材料の第１及び第２のシートを含む複層ガラスユニットが、本明細書で説明される。低圧空間に面さない板ガラス材料の第２のシートの主面は、その上に少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層を含む低放射率被覆を有する。低放射率被覆と、板ガラス材料の第２のシートとの間に第１の虹色抑制被覆がある。また、第２の態様から、第１及び第２の板ガラス材料のシート間に低圧空間と、第１及び第３の板ガラス材料のシート間に第２の空間とを有する、板ガラス材料の３つの（第１、第２、及び第３の）シートを含む複層ガラスユニットが本明細書で説明される。第２の態様では、低圧空間に面する１つまたは両方の主面上の低放射率被覆があり、板ガラス材料の第３のシートは、両方の対向する主面上に低放射率被覆を有する。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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