(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（３）
【化１】
0004377992.tif 000101
（式中、Ｘ１、Ｘ２はそれぞれ独立して、ハロゲン原子を表し、Ｒ５はＣ１−６アルキル基を表し、Ｒ６は、水素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシＣ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルキルチオＣ１−６アルキル基、又は、Ｃ１−６アルキルスルホニルＣ１−６アルキル基を表し、Ｑは、水素原子、又は、炭素原子でベンゼン環部と結合する、Ｎ、Ｏ若しくはＳ原子を１〜４個含む飽和或いは不飽和の５若しくは６員へテロ環基を表し、該ヘテロ環基は置換基を有していてもよい。）で表される化合物と、式：ＲＳＨ（ＲはＣ１−６アルキル基を表す。）で表されるアルカンチオール及び塩基、又は、式：ＲＳＨ（Ｒは前記と同じ意味を表す。）で表されるアルカンチオールの塩とを、場合によっては、太陽光、蛍光灯、水銀燈、アーク燈又は白熱燈を光源とする光照射下で、反応させることを特徴とする、一般式（４）
【化２】
0004377992.tif 000102
（式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｑ及びＲは前記と同じ意味を表す。）で表される芳香族チオエーテル化合物の製造方法。
【請求項２】
前記Ｑは、次のＱ１、Ｑ２、Ｑ３、Ｑ４、Ｑ５、Ｑ６、Ｑ７、Ｑ８及びＱ９
【化３】
0004377992.tif 000103
（式中、Ｒ１１は、Ｃ１−６アルキル基又はＣ１−６ハロアルキル基を表し、ｍは、０、１又は２を表す。また、Ｒ１２は、水素原子又はＣ１−６アルキル基を表す。）からなる群から選ばれる基のいずれか１種である請求項１に記載の芳香族チオエーテル化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、農薬、医薬の製造中間体として有用な芳香族チオエーテル化合物の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
４−アルキルチオ安息香酸誘導体等のベンゼン環にアルキルチオ基が置換した芳香族チオエーテル化合物は、農薬、医薬の製造中間体として重要であり、該化合物を簡便かつ工業的に有利に製造できる方法の開発が望まれている。
【０００３】
従来、ベンゼン環等の芳香環にアルキルチオ基を導入する方法としては、例えば、（１）メルカプト基をアルキルチオ基に変換する方法、（２）ハロゲン原子をアルキルチオ基に変換する方法等が知られている。
【０００４】
上記した方法のうち、（１）のメルカプト基からアルキルチオ基への変換する方法は、芳香族チオールを塩基の存在下にアルキルハライドを作用させることにより行うものである。
【０００５】
しかし、この方法は簡便且つ高収率であるが、原料となる芳香族チオールの入手が困難である場合が多い。例えば、芳香族チオールの合成法としては、▲１▼芳香族スルホニルクロリドを還元する方法、▲２▼芳香族ジスルフィドを還元する方法、▲３▼芳香族スルホンアミドを還元する方法、▲４▼キサントゲン酸エステルをアルカリ加水分解する方法、▲５▼アニリン類をジアゾ化したのち、キサントゲン酸塩を作用させ、加水分解する方法、▲５▼フェノール類に五硫化二リンを作用させる方法等が知られているが、一般的に製造コストは高いものであり、しかも、他の置換基の種類やメルカプト基の置換位置によっては、合成が困難な場合がある。
【０００６】
一方、（２）の方法は、芳香族ハロゲン化物を出発原料とし、ハロゲン原子をアルキルチオ基に変換するものである。芳香族ハロゲン化物はこれまでに数多くのものが合成され、工業的に入手容易なものも多い。従って、芳香族ハロゲン化物を出発原料として、簡便且つ高収率な芳香族チオエーテル化合物を製造する方法を見い出すことができれば、工業的に有利な製造方法となり得る。
【０００７】
また、本発明に関連するものとして、ＵＳＰ．３，８６７，４３３号公報には、下記の反応式に示すような４−ハロゲノ安息香酸誘導体の４位のハロゲン原子を、塩基の存在下にアルカンチオールを作用させることによって、４−アルキルチオ安息香酸誘導体に導く方法が記載されている。
【０００８】
【化６】
0004377992.tif 000002
【０００９】
さらに、芳香族ハロゲン化物の脱ハロゲン化としては、例えば、新実験化学講座  １４巻  有機化合物の合成と反応［Ｉ］２２−３０頁（日本化学会編  丸善）に記載されているように、パラジウム−カーボンあるいはラネーニッケルを触媒として用いる接触水素化分解による方法、リチウム、ナトリウムなどの金属および金属塩を用いる方法、スズ水素化物による水素化還元法、水素化アルミニウムリチウムなどの金属水素錯化合物による還元法や電解還元法等が知られている。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、農薬・医薬など、特に除草活性を有する化合物の中間体として有用な４−アルキルチオ安息香酸誘導体等の芳香族チオエーテル化合物を、より簡便かつ高収率で得ることができる工業的に有利な製造方法を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、４，５−ジクロロ安息香酸誘導体に、塩基の存在下、メタンチオール等のアルカンチオールを作用させると、４位の塩素原子がアルキルチオ基に置換され、更に５位の塩素原子が脱クロル化されて、４−アルキルチオ安息香酸誘導体が高収率で得られることを見い出した。
【００１２】
さらに、本発明者らはこの方法の一般化を試みた。即ち、芳香環（ベンゼン環）に結合したある種の置換基Ｗと、該置換基Ｗと所定の位置関係を有し、該芳香環に隣接して結合する少なくとも２個のハロゲン原子（Ｘ1 ，Ｘ2 ）とを有する芳香族ハロゲン化物に、アルカンチオール（ＲＳＨ）を塩基の存在下に、或いはアルカンチオールの塩と反応させることによって、前記２個のハロゲン原子のうち、置換基Ｗと特定の位置関係を有するハロゲン原子がアルキルチオ基（ＳＲ基）と置換され、他の一つのハロゲン原子が水素原子と置換される（脱ハロゲン化）ことにより、芳香族チオエーテル化合物が高収率で得られることを見い出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、一般式（２）
【００１３】
【化７】
0004377992.tif 000003
【００１４】
〔式中、Ｘ1 ，Ｘ2 は、それぞれ独立してハロゲン原子を表し、
Ｗは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ハロゲン原子、Ｃ1-6 アルキル基、Ｃ1-6 ハロアルキル基、Ｃ1-6 アルコキシ基、Ｃ1-6 アルコキシカルボニル基、Ｃ1-6 アルキルカルボニル基、ＣＯＮＲ1 Ｒ2 （Ｒ1 及びＲ2 は、それぞれ独立して水素原子又はＣ1-6 アルキル基を表す。また、Ｒ1 及びＲ2 はＮと一緒になって環を形成してもよい。）、Ｃ1-6 アルキルスルホニル基、又はＳＯ2 ＮＲ3 Ｒ4 （Ｒ3 及びＲ4 は、それぞれ独立して水素原子又はＣ1-6 アルキル基を表す。また、Ｒ3 及びＲ4 はＮと一緒になって環を形成してもよい。）を表す。
Ｙは、ベンゼン環の置換基を表す。
ｎは、０又は１−３の整数を表す。〕
で表される芳香族ハロゲン化物と、式ＲＳＨ（Ｒは、Ｃ1-6 アルキル基を表す。）で表されるアルカンチオール及び塩基、又は式ＲＳＨ（Ｒは前記と同じ意味を表す。）で表されるアルカンチオールの塩とを反応させることを特徴とする、一般式（１）
【００１５】
【化８】
0004377992.tif 000004
【００１６】
（式中、Ｗ，Ｙ，Ｒ及びｎは、前記と同じ意味を表す。）
で表される芳香族チオエーテル化合物の製造方法である。
【００１７】
前記本発明の製造方法においては、前記一般式（２）で表される芳香族ハロゲン化物と、式ＲＳＨ（ＲはＣ1-6 アルキル基を表す。）で表されるアルカンチオール及び塩基、又は式ＲＳＨ（Ｒは前記と同じ意味を表す。）で表されるアルカンチオールの塩とを、所定波長の光照射下に反応させるのが好ましい。
【００１８】
前記本発明の製造方法は、前記一般式（１）で表される化合物のうち、Ｗがカルボキシル基又はＣ1-6 アルコキシカルボニル基である安息香酸誘導体の製造方法であるのが好ましい。
【００１９】
また、前記一般式（２）で表される化合物は、好ましくは、一般式（３）
【００２０】
【化９】
0004377992.tif 000005
【００２１】
〔式中、Ｘ1 ，Ｘ2 は、それぞれ独立してハロゲン原子を表し、
Ｒ5 は、水素原子又はＣ1-6 アルキル基を表し、
Ｒ6 は、水素原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、ホルミル基、ハロゲン原子、Ｃ1-6 アルキル基、Ｃ1-6 ハロアルキル基、Ｃ1-6 アルコキシ基、Ｃ1-6 ハロアルコシ基、Ｃ1-6 アルコキシカルボニル基、Ｃ1-6 アルキルチオ基、Ｃ1-6 アルキルスルホニル基、Ｃ1-6 アルコキシＣ1-6 アルキル基、Ｃ1-6 アルキルチオＣ1-6 アルキル基、Ｃ1-6 アルキルスルホニルＣ1-6 アルキル基、Ｃ1-6 アルコキシＣ1-6 アルコキシ基、Ｃ1-6 アルキルチオＣ1-6 アルコキシ基、Ｃ1-6 アルキルスルフィニルＣ1-6 アルコキシ基、Ｃ1-6 アルキルスルホニルＣ1-6 アルコキシ基、Ｃ1-6 アルキルカルボニル基、ＣＯＮＲ7 Ｒ8 （Ｒ7 ，Ｒ8 は、それぞれ独立して水素原子又はＣ1-6 アルキル基を表す。）で表される基、ＮＲ9 Ｒ10（Ｒ9 ，Ｒ10は、それぞれ独立して水素原子、ホルミル基、Ｃ1-6 アルキル基、Ｃ1-6 アルキルカルボニル基、Ｃ1-6 アルキルスルホニル基、Ｃ1-6 アルコキシカルボニル基を表す。）を表す。
【００２２】
Ｑは、水素原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、ハロゲン原子、Ｃ1-6 アルキル基、Ｃ1-6 アルコキシ基、Ｃ1-6 ハロアルキル基、Ｃ1-6 ハロアルコキシ基、Ｃ1-6 アルコキシカルボニル基、ＣＯＮＲ11Ｒ12（Ｒ11，Ｒ12は、それぞれ独立して水素原子又はＣ1-6 アルキル基を表す。）、ＣＨ（ＯＲ13）ＯＲ14（Ｒ13，Ｒ14はそれぞれ独立してＣ1-6 アルキル基を表す。また、Ｒ13とＲ14は結合して、Ｃ2-3 アルキレン基を形成してもよい。）、Ｃ1-6 アルキルチオ基、Ｃ1-6 アルキルスルホニル基、Ｃ1-6 アルコキシＣ1-6 アルキル基、Ｃ1-6 アルキルチオＣ1-6 アルキル基、Ｃ1-6 アルキルスルホニルＣ1-6 アルキル基、Ｃ1-6 アルコキシＣ1-6 アルコキシ基、Ｃ1-6 アルキルチオＣ1-6 アルコキシ基、Ｃ1-6 アルキルスルフィニルＣ1-6 アルコキシ基、Ｃ1-6 アルキルスルホニルＣ1-6 アルコキシ基、Ｃ1-6 アルキルカルボニル基、ＣＯＮＲ15Ｒ16（Ｒ15，Ｒ16は、それぞれ独立して水素原子又はＣ1-6 アルキル基を表す。）で表される基、ＮＲ17Ｒ18（Ｒ17，Ｒ18は、それぞれ独立して水素原子、ホルミル基、Ｃ1-6 アルキル基、Ｃ1-6 アルキルカルボニル基、Ｃ1-6 アルキルスルホニル基、Ｃ1-6 アルコキシカルボニル基を表す。）、又は、
【００２３】
炭素原子でベンゼン環部と結合する、Ｎ，Ｏ若しくはＳ原子を１〜４個含む置換基を有していてもよい飽和或いは不飽和の５若しくは６員ヘテロ環基を表す。
また、前記Ｒ6 とＱは一緒になって、それぞれが置換しているベンゼン環を含めて５又は６員環を形成してもよい。〕
で表される４，５−ジハロゲノ安息香酸誘導体と、式ＲＳＨ（Ｒは前記と同じ意味を表す。）で表されるアルカンチオール及び塩基、又は式ＲＳＨ（Ｒは前記と同じ意味を表す。）で表されるアルカンチオールの塩とを反応させることを特徴とする、一般式（４）
【００２４】
【化１０】
0004377992.tif 000006
【００２５】
（式中、Ｒ5 ，Ｒ6 ，Ｑ及びＲは、前記と同じ意味を表す。）
で表される安息香酸誘導体の製造方法であるのが好ましい。
【００２６】
また、前記一般式（３）で表される４，５−ジハロゲノ安息香酸誘導体と、式ＲＳＨ（ＲはＣ1-6 アルキル基を表す。）で表されるアルカンチオール及び塩基、又は式ＲＳＨ（Ｒは前記と同じ意味を表す。）で表されるアルカンチオールの塩とを、所定波長の光照射下に反応させるのが好ましい。
【００２７】
前記一般式（３）及び（４）で表される化合物において、前記Ｑは、次のＱ１，Ｑ２，Ｑ３，Ｑ４，Ｑ５，Ｑ６，Ｑ７，Ｑ８及びＱ９
【００２８】
【化１１】
0004377992.tif 000007
【００２９】
（式中、Ｒ11は、Ｃ1-6 アルキル基又はＣ1-6 ハロアルキル基を表し、ｍは、０１又は２を表す。また、Ｒ12は、水素原子又はＣ1-6 アルキル基を表す。）からなる群から選ばれる基のいずれか１種であるのが好ましい。
【００３０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の製造方法について詳細に説明する。
本発明に係る前記一般式（１）及び（２）で表される化合物において、Ｘ1 及びＸ2 は、それぞれ独立して、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子を表す。
【００３１】
Ｗは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル基等のＣ1-6 アルキル基、
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ基等のＣ1-6 アルコキシ基、
トリクロロメチル、トリフルオロメチル、トリブロモメチル、トリフルオロエチル、トリクロロエチル、ペンタフルオロエチル基等のＣ1-6 ハロアルキル基、
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基等のＣ1-6 アルコキシカルボニル基、
アセチル基、プロピオニル基等のＣ1-6 アルキルカルボニル基、
ホルミル基、ベンゾイル基、
【００３２】
カルバモイル基、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、メチルエチルカルバモイル、フェニルカルバモイル、フェニルメチルカルバモイル基等のＣＯＮＲ1 Ｒ2 で表される基、
メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル、ｔ−ブチルスルホニル基等のＣ1-6 アルキルスルホニル基、
スルホンアミド、Ｎ−メチルスルホンアミド、Ｎ−エチルスルホンアミド、Ｎ−プロピルスルホンアミド、Ｎ−ブチルスルホンアミド、Ｎ−フェニルスルホンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルホンアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルスルホンアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルスルホンアミド基等のＳＯ2 ＮＲ3 Ｒ4 で表される基等を表す。
【００３３】
Ｙは、ベンゼン環に置換する任意の基、好ましくは、後述するＲ6 やＱと同じ意味を表す。又、ｎが２以上を表すとき、Ｙは同一でも相異なっていてもよい。
【００３４】
Ｒは、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ｎ−ブチル，イソブチル，ｓ−ブチル，ｔ−ブチル，ペンチル，ヘキシルなどのＣ1-6 アルキル基を表す。
【００３５】
前記一般式（３）において、Ｘ1 ，Ｘ2 は、それぞれ独立して、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子を表し、
Ｒ5 は、水素原子、又は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル基等のＣ1-6 アルキル基を表し、
Ｒ6 は、水素原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、ホルミル基、
フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、
メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ｎ−ブチル，ｔ−ブチル基等のＣ1-6 アルキル基、
トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル基等のＣ1-6 ハロアルキル基、
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ基等のＣ1-6 アルコキシ基、
トリフルオロメトキシ基等のＣ1-6 ハロアルコキシ基、
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル基等のＣ1-6 アルコキシカルボニル基、
メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、ｔ−ブチルチオ基等のＣ1-6 アルキルチオ基、
メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル基等のＣ1-6 アルキルスルホニル基、
【００３６】
メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、プロポキシエチル、メトキシプロピル、エトキシプロピル基等のＣ1-6 アルコキシＣ1-6 アルキル基、
メチルチオメチル、エチルチオメチル、プロピルチオメチル、メチルチオエチル、エチルチオエチル、プロピルチオエチル基等のＣ1-6 アルキルチオＣ1-6 アルキル基、
メチルスルフィニルメチル、エチルスルフィニルメチル、プロピルスルフィニルメチル、メチルスルフィニルエチル基等のＣ1-6 アルキルスルホニルＣ1-6 アルキル基、
【００３７】
メトキシメトキシ、メトキシエトキシ、メトキシプロポキシ、メトキシブトキシ、エトキシメトキシ、エトキシエトキシ、イソプロポキシメトキシ基等のＣ1-6 アルコキシＣ1-6 アルコキシ基、
メチルチオメトキシ、メチルチオエトキシ、エチルチオメトキシ、エチルチオエトキシ、プロピルチオメトキシ、プロピルチオエトキシ基等のＣ1-6 アルキルチオＣ1-6 アルコキシ基、
メチルスルフィニルメトキシ、エチルスルフィニルエトキシ、プロピルスルフィニルメトキシ基等のＣ1-6 アルキルスルフィニルＣ1-6 アルコキシ基、
メチルスルホニルメトキシ、メチルスルホニルエトキシ、メチルスルホニルプロポキシ、エチルスルホニルエトキシ基等のＣ1-6 アルキルスルホニルＣ1-6 アルコキシ基、
【００３８】
アセチル、プロピオニル基等のＣ1-6 アルキルカルボニル基、
カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−ベンジルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルカルバモイル等のＣＯＮＲ7 Ｒ8 で表される基、
アミノ、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ブチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ベンジルアミノ、ジベンジルアミノ、アセチルアミノ、ホルミルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ベンゾイルアミノ、メチルアセチルアミノ基等のＮＲ9 Ｒ10で表される基を表す。
【００３９】
Ｑは、水素原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、
フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル基等のＣ1-6 アルキル基、
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ基等のＣ1-6 アルコキシ基、
トリフルオロメチル、トリフルオロエチル、ペンタフルオロエチル基等のＣ1-6 ハロアルキル基、
トリフルオロメトキシ基等のＣ1-6 ハロアルコキシ基、
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル基等のＣ1-6 アルコキシカルボニル基、
カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−ベンジルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルカルバモイル等のＣＯＮＲ11Ｒ12で表される基、
【００４０】
ジメトキシメチル、ジエトキシメチル、１，３−ジオキソラン−２−イル、４，４−ジメチル−１，３−ジオキソラン−２−イル、１、３−ジオキサン−２−イル、５，５−ジメチル−１，３−ジオキソラン−２−イル基等のＣＨ（ＯＲ13）ＯＲ14で表される基、
メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオ基等のＣ1-6 アルキルチオ基、
メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル基等のＣ1-6 アルキルスルホニル基、
メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、メトキシエチル、メトキシプロピル、エトキシエチル基等のＣ1-6 アルコキシＣ1-6 アルキル基、
メチルチオメチル、メチルチオエチル、メチルチオプロピル、エチルチオメチル、エチルチオエチル、プロピルチオエチル基等のＣ1-6 アルキルチオＣ1-6 アルキル基、
メチルスルホニルメチル、メチルスルホニルエチル、メチルスルホニルプロピル、エチルスルホニルメチル、エチルスルホニルエチル基等のＣ1-6 アルキルスルホニルＣ1-6 アルキル基、
メトキシメトキシ、メトキシエトキシ、メトキシプロポキシ、エトキシメトキシ、エトキシエトキシ、プロポキシエトキシ基等のＣ1-6 アルコキシＣ1-6 アルコキシ基、
【００４１】
メチルチオメトキシ、エチルチオメトキシ、プロピルチオメトキシ、メチルチオエトキシ、エチルチオエトキシ、プロピルチオエトキシ基等のＣ1-6 アルキルチオＣ1-6 アルコキシ基、
メチルスルフィニルメトキシ、エチルスルフィニルエトキシ、エチルスルフィニルメトキシ、エチルスルフィニルエトキシ基等のＣ1-6 アルキルスルフィニルＣ1-6 アルコキシ基、
メチルスルホニルメトキシ、エチルスルホニルメトキシ、プロピルスルホニルメトキシ、メチルスルホニルエトキシ、エチルスルホニルエトキシ、プロピルスルホニルエトキシ基等のＣ1-6 アルキルスルホニルＣ1-6 アルコキシ基、
アセチル、プロピオニル基等のＣ1-6 アルキルカルボニル基、
アミノ、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ブチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ベンジルアミノ、ジベンジルアミノ、アセチルアミノ、ホルミルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ベンゾイルアミノ、メチルアセチルアミノ基等のＮＲ17Ｒ18で表される基、
又は、炭素原子でベンゼン環部と結合する、Ｎ，Ｏ若しくはＳ原子を１〜４個含む置換基を有していてもよい飽和或いは不飽和の５若しくは６員ヘテロ環基を表す。
【００４２】
Ｑの好ましいヘテロ環基としては、前記Ｑ１，Ｑ２，Ｑ３，Ｑ４，Ｑ５，Ｑ６，Ｑ７，Ｑ８又はＱ９で表される基を挙げることができる。前記Ｑ１〜Ｑ９中、Ｒ11は、Ｃ1-6 アルキル基又はＣ1-6 ハロアルキル基を表し、ｍは、０、１又は２を表す。Ｒ12は、水素原子又はＣ1-6 アルキル基を表す。
【００４３】
前記Ｑ１〜Ｑ９のＲ11のＣ1-4 アルキル基としては、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ｎ−ブチル，イソブチル，ｓ−ブチル，ｔ−ブチルなどが、Ｃ1-4 ハロアルキル基としては、クロロメチル，ジクロロメチル，トリクロロメチル，フルオロメチル，ジフルオロメチル，トリフルオロメチル，１−フルオロエチル，１，１−ジフルオロエチル，２，２，２−トリフルオロエチル，ペンタフルオロエチル等をそれぞれ例示することができる。
【００４４】
Ｑのより好ましいヘテロ環基としては、例えば、
２−フリル、３−フリル、
２−チエニル、３−チエニル、
２，３−ジヒドロフラン−２−イル、２，３−ジヒドロフラン−３−イル、２，３−ジヒドロフラン−４−イル、２，３−ジヒドロフラン−５−イル、２，５−ジヒドロフラン−２−イル、２，５−ジヒドロフラン−３−イル、
２，３−ジヒドロチオフェン−２−イル、２，３−ジヒドロチオフェン−３−イル、２，３−ジヒドロチオフェン−４−イル、２，３−ジヒドロチオフェン−５−イル、２，５−ジヒドロチオフェン−２−イル、２，５−ジヒドロチオフェン−３−イル、
【００４５】
ピロール−２−イル、ピロール−３−イル、
イミダゾール−２−イル、イミダゾール−４−イル、イミダゾール−５−イル、２−イミダゾリン−２−イル、２−イミダゾリン−４−イル、２−イミダゾリン−５−イル、
ピラゾール−３−イル、ピラゾール−４−イル、ピラゾール−５−イル、
オキサゾール−２−イル、オキサゾール−４−イル、オキサゾール−５−イル、イソオキサゾール−３−イル、イソオキサゾール−４−イル、イソオキサゾール−５−イル、
１，２，４−オキサジアゾール−３−イル、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル、１，２，３−オキサジアゾール−４−イル、１，２，３−オキサジアゾール−５−イル、１，２，５−オキサジアゾール−３−イル、
【００４６】
２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チアゾリル、
イソチアゾール−３−イル、イソチアゾール−４−イル、イソチアゾール−５−イル，
１，２，４−チアジアゾール−３−イル、１，２，４−チアジアゾール−５−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１，２，３−チアジアゾール−４−イル、１，２，３−チアジアゾール−５−イル、１，２，５−チアジアゾール−３−イル、
１，２，４−トリアゾール−３−イル、１，２，４−トリアゾール−５−イル、１，３，４−トリアゾール−２−イル、１，２，３−トリアゾール−４−イル、１，２，３−トリアゾール−５−イル、テトラゾール−５−イル、
【００４７】
２−ピロリン−１−イル、２−ピロリン−２−イル、２−ピロリン−３−イル、２−ピロリン−４−イル、２−ピロリン−５−イル、
２−オキサゾリン−２−イル、２−オキサゾリン−４−イル、２−オキサゾリン−５−イル、３−オキサゾリン−２−イル、３−オキサゾリン−４−イル、３−オキサゾリン−５−イル、４−オキサゾリン−２−イル、４−オキサゾリン−４−イル、４−オキサゾリン−５−イル、
２−イソオキサゾリン−３−イル、２−イソオキサゾリン−４−イル、２−イソオキサゾリン−５−イル、３−イソオキサゾリン−３−イル、３−イソオキサゾリン−４−イル、３−イソオキサゾリン−５−イル、
４−イソオキサゾリン−３−イル、４−イソオキサゾリン−４−イル、４−イソオキサゾリン−５−イル、
【００４８】
２−チアゾリン−２−イル、４−チアゾリン−４−イル、４−チアゾリン−５−イル、
２−イソチアゾリン−２−イル、２−イソチアゾリン−４−イル、２−イソチアゾリン−５−イル、
３−イソチアゾリン−３−イル、３−イソチアゾリン−４−イル、３−イソチアゾリン−５−イル、
４−イソチアゾリン−３−イル、４−イソチアゾリン−４−イル、４−イソチアゾリン−５−イル、
１−ピラゾリン−３−イル、１−ピラゾリン−４−イル、１−ピラゾリン−５−イル、
２−ピラゾリン−３−イル、２−ピラゾリン−４−イル、２−ピラゾリン−５−イル、
３−ピラゾリン−３−イル、３−ピラゾリン−４−イル、３−ピラゾリン−５−イル等のＮ，Ｏ若しくはＳ原子を１〜４個含む５員環ヘテロ環基、
【００４９】
２−ピロリジニル、３−ピロリジニル、
２−テトラヒドロフラニル、３−テトラヒドロフラニル、
２−テトラヒドロチエニル、３−テトラヒドロチエニル、
２−オキサゾリジニル、４−オキサゾリジニル、５−オキサゾリジニル、
３−オキサゾリジニル、４−オキサゾリジニル、５−オキサゾリジニル、
３−イソオキサゾリジニル、４−イソオキサゾリジニル、５−イソオキサゾリジニル、
２−チアゾリジニル、４−チアゾリジニル、５−イソチアゾリジニル，
３−イソチアゾリジニル、４−イソチアゾリジニル、５−イソチアゾリジニル、
２−イミダゾリジニル、４−イミダゾリジニル、
１，２，４−オキサジアゾリジン−３−イル、１，２，４−オキサジアゾリジン−５−イル、１，３，４−オキサジアゾリジン−２−イル、
【００５０】
１，２，４−チアジアゾリジン−３−イル、１，２，４−チアジアゾリジン−５−イル、１，３，４−チアジアゾリジン−２−イル、
１，３，４−トリアゾリジン−２−イル、
１，３−ジオキソラン−２−イル、１，３−ジオキソラン−４−イル、１，３−ジチオラン−２−イル、１，３−ジチオラン−４−イル、
１，３−オキサチオラン等のＮ，Ｏ若しくはＳ原子を１〜４個含む飽和の５員環ヘテロ環基、
【００５１】
２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、
３−ピリダジニル、４−ピリダジニル、
２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニル、
ピラジン−２−イル、
２Ｈ−ピラン−３−イル、２Ｈ−チオピラン−３−イル、
２−ピペリジニル、３−ピペリジニル、４−ピペリジニル、
２−ピペラジニル、
２−モルホリニル、３−モルホリニル、
５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−チアジン−２−イル、
２−テトラヒドロピラニル、３−テトラヒドロピラニル、４−テトラヒドロピラニル、
２−テトラヒドロチオピラニル、３−テトラヒドロチオピラニル、４−テトラヒドロチオピラニル等のＮ，Ｏ若しくはＳ原子を１〜４個含む６員環ヘテロ環基を例示することができる。
【００５２】
また、前記Ｒ6 とＱは一緒になって、それぞれが置換しているベンゼン環を含めて５又は６員環を形成してもよい。
【００５３】
かかる縮合環を有する前記一般式（３）及び（４）で表される化合物としては、以下の化合物を例示することができる。
【００５４】
【化１２】
0004377992.tif 000008
【００５５】
（式中、Ｗ，Ｘ1 及びＸ2 は、前記と同じ意味を表し、Ｒ19は、Ｃ1-6 アルキル基、Ｃ1-6 アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基等を表し、ｌは、０又は１〜４の整数を表す。）
【００５６】
次に、本発明の製造方法について詳細に説明する。
【００５７】
【化１３】
0004377992.tif 000009
【００５８】
（式中、Ｘ1 ，Ｘ2 ，Ｗ，Ｙ，Ｒ及びｎは、前記と同じ意味を表す。）
【００５９】
即ち、一般式（２）で表される芳香族ハロゲン化物を、適当な不活性溶媒中、塩基の存在下、過剰量の式ＲＳＨ（Ｒは前記と同じ意味を表す。）で表されるアルカンチオールと反応させることによって、一般式（１）で表される芳香族チオエーテル化合物を製造することができる。
【００６０】
なお、この反応においては、芳香族ハロゲン化物（２）に対して、０．１〜５倍当量の水を添加することによって、反応がより円滑に進行する場合がある。
【００６１】
またこの反応においては、光（所定波長の光）照射下で行うと反応がより円滑に進行する。光源としては、太陽光、蛍光灯、水銀燈、アーク燈、白熱燈等の種々の光源を用いることができる。
【００６２】
この反応において用いられる溶媒としては、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ），Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド，Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類が特に好ましいが、これに限定されるものではない。
【００６３】
用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム，水酸化カリウムなどの水酸化物、炭酸ナトリウム，炭酸水素ナトリウム，炭酸カリウム，炭酸水素カリウムなどの炭酸塩類、ナトリウムメチラート，ナトリウムエチラート，カリウムｔ−ブトキシドなどの金属アルコラート類などが挙げられる。
【００６４】
又、この場合、予めアルカンチオールと塩基からアルカンチオールのナトリウム塩やカリウム塩等のアルカンチオールの塩を調製し、反応に用いることもできる。
【００６５】
用いられる塩基およびアルカンチオールの量は、芳香族ハロゲン化物（２）に対して、２〜２０当量が好ましい。
【００６６】
一般式（１）で表される化合物のうち、ＷがＣＯ2 Ｒ5 である安息香酸誘導体は、下記反応式に示すように、ＳＲ基の酸化反応により対応するＳＯ2 Ｒ体（５）に誘導することができる。この酸化反応は、例えば、水、メタノール、エタノール等のアルコール類、酢酸などの有機酸、ジクロロメタン，クロロホルム，四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素などの不活性溶媒中、過酸化水素，過酢酸，過安息香酸，ｍ−クロロ過安息香酸などの過酸、次亜塩素酸ナトリウム，次亜塩素酸カリウムなどの次亜塩素酸などの酸化剤を使用して行うことができる。反応は、０℃から用いられる溶媒の沸点までの温度範囲で円滑に進行する。
【００６７】
【化１４】
0004377992.tif 000010
【００６８】
なお、前記ＳＯ2 Ｒ体（５）のうち、ベンゼン環の２位の置換基がＲ6 であり、３位の置換基がＱである化合物（５’）は、以下に示す製造法によっても製造することができる。
【００６９】
【化１５】
0004377992.tif 000011
【００７０】
一般式（６）で表される化合物は、一般式（３’）で表される化合物に、一般式（３’）で表される化合物１当量に対し、１〜３当量程度の式ＲＳＨ（Ｒは前記と同じ意味を表す。）で表されるメルカプタンを、不活性溶媒中、適当な塩基の存在下に反応させることにより得ることができる。
【００７１】
この反応に用いられる塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、ｔ−ブトキシカリウム等のアルコキシド、トリエチルアミン、ジエチルイソプロピルアミン、ピリジン等の有機塩基を挙げることができる。
【００７２】
また、この反応に用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコール類、アセトニトリル、ＤＭＳＯ、ＤＭＦ、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、及びこれらの混合溶媒を挙げることができる。反応は、０℃〜用いられる溶媒の沸点までの温度範囲で円滑に進行する。
【００７３】
一般式（７）で表される化合物は、一般式（６）で表される化合物を酸化させることにより製造することができる。この酸化反応は、例えば、水、メタノール、エタノール等のアルコール類、酢酸などの有機酸、ジクロロメタン，クロロホルム，四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素などの不活性溶媒中、過酸化水素，過酢酸，過安息香酸，ｍ−クロロ過安息香酸などの過酸、次亜塩素酸ナトリウム，次亜塩素酸カリウムなどの次亜塩素酸などの酸化剤を使用して行われる。反応は、０℃から用いられる溶媒の沸点までの温度範囲で円滑に進行する。
【００７４】
次の一般式（５’）で表される化合物は、一般式（７）で表される化合物を脱クロル化することにより製造することができる。この脱クロル化は、例えば、新実験化学講座  第１４巻  有機化合物の合成と反応［Ｉ］２２−３０頁（日本化学会編  丸善）に記載されているラネーニッケルを触媒として用いる接触水素化分解による方法、リチウム，ナトリウムなどの金属および金属塩を用いる方法、スズ水素化物による水素化還元法、水素化アルミニウムリチウム等の金属水素錯化合物による還元法あるいは電解還元法などによって行われる。
【００７５】
反応生成物は、反応終了後、通常の後処理を行うことにより、目的物を得ることができる。また、本発明に係る化合物等の構造は、ＩＲ，ＮＭＲおよびＭＳなどから決定した。
【００７６】
【実施例】
次に実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。
【００７７】
実施例１
エチル  ４−メチルチオベンゾエート（化合物番号１−２２９）の製造
【００７８】
【化１６】
0004377992.tif 000012
【００７９】
５０ｍｌナス型フラスコに、メチルメルカプタン０．７８ｇのＤＭＦ７ｍｌ溶液、水０．０５８５ｇ及びＤＭＦ２ｍｌを入れ、次いで、炭酸カリウム１．１２ｇ及びエチル  ３，４−ジクロロベンゾエート０．７１２ｇを加えた。この混合物を４０Ｗ蛍光灯照射下に、マグネチックスターラーを使用して室温で３時間攪拌した。
【００８０】
反応液を氷水４０ｍｌ中に注ぎ、ジエチルエーテル４０ｍｌで抽出し、有機層を水洗したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９５／５）により精製し、無色透明油状物質として、表記化合物０．４３８ｇを得た。
【００８１】
実施例２
エチル  ２−メチル−３−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−４−メチルチオベンゾエート（化合物番号１−３）の製造
【００８２】
【化１７】
0004377992.tif 000013
【００８３】
エチル  ４，５−ジクロロ−２−メチル−３−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）ベンゾエート０．５０ｇと炭酸カリウム４．４０ｇをＤＭＦ１５ｍｌに加え、室温下にＤＭＦ５ｍｌに、メタンチオール１．５３ｇを溶解した溶液を滴下し、さらに１９．５時間攪拌した。次いで、反応液を氷水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗、次いで飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮後、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、白色結晶として表記化合物０．４２ｇを得た。
融点  ７２−７４℃
【００８４】
実施例３
エチル  ２−メチル−３−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−４−メチルチオベンゾエート（化合物番号１−３）の製造
【００８５】
【化１８】
0004377992.tif 000014
【００８６】
エチル  ４，５−ジクロロ−２−メチル−３−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）ベンゾエート０．５０ｇ、炭酸カリウム１．１０ｇ及び水０．１５ｇをＤＭＦ１５ｍｌに加え、さらに、ＤＭＦ５ｍｌにメタンチオール０．３８ｇを溶解した溶液を室温下で滴下し、室温で２３時間攪拌した。実施例１と同様の操作により、白色結晶として表記化合物０．４２ｇを得た。融点  ７２−７４℃
【００８７】
実施例４
エチル  ２−メチル−３−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−４−メチルチオベンゾエート（化合物番号１−３）の製造
【００８８】
【化１９】
0004377992.tif 000015
【００８９】
エチル  ４，５−ジクロロ−２−メチル−３−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）ベンゾエート４．４８ｇ及び炭酸カリウム３．００ｇをＤＭＦ１００ｍｌに加え、メタンチオールガス２．１ｇを反応系中に室温で吹き込んだ。さらに室温で１５時間攪拌した後、反応液を氷水にあけ、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗、次いで、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮して白色結晶として、エチル  ５−クロロ−２−メチル−３−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−４−メチルチオベンゾエート４．４０ｇを得た。融点  ７９−８２℃
【００９０】
得られたエチル  ５−クロロ−２−メチル−３−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−４−メチルチオベンゾエート０．５０ｇと炭酸カリウム１．０６ｇをＤＭＦ１５ｍｌに加え、さらにＤＭＦ５ｍｌにメタンチオール０．３６ｇを溶解した溶液を室温で滴下し、室温で２３時間攪拌した。実施例１と同様の操作により、白色結晶として表記化合物０．２９ｇを得た。また、エチル  ５−クロロ−２−メチル−３−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−４−メチルチオベンゾエート０．０８ｇを回収した。
【００９１】
実施例５
ｔ−ブチル  ２−メチル−３−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−４−メチルチオベンゾエート（化合物番号１−４）の製造
【００９２】
【化２０】
0004377992.tif 000016
【００９３】
ＤＭＦ１０ｍｌに水２７ｍｇを加え、メチルメルカプタン３６０ｍｇを吹き込んだ後、反応系を窒素置換した。次いで、この溶液中に炭酸カリウム５１８ｍｇ及びｔｅｒｔ−ブチル  ４，５−ジクロロ−２−メチル−３−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）ベンゾエート５１３ｍｇを加えて、室温で２０時間攪拌した。反応液を氷水２５ｍｌに注ぎ、エーテル２５ｍｌで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９５／５）により精製して、純度８３％の表記化合物の白色固体４８４ｍｇを得た（純度はＮＭＲスペクトル測定により決定した。）。再度シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、白色結晶として表記化合物を得た。
融点  １０２−１０３℃
【００９４】
実施例６
エチル  ３−（４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）−２−メチル−４−メチルチオベンゾエート（化合物番号１−２２）の製造
【００９５】
【化２１】
0004377992.tif 000017
【００９６】
窒素置換した１０ｍｌのナス型フラスコ中に、水７．９ｍｇ、ＤＭＦ１．１ｍｌ及びメチルメルカプタン１０５ｍｇのＤＭＦ１．５ｍｌ溶液を加え、次いで、炭酸カリウム１５１ｍｇ及びエチル  ４，５−ジクロロ−３−（４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）−２−メチルベンゾエート１３２ｍｇを加えた。ここで用いたＤＭＦは予め窒素置換したものを用いた。この混合物を４０Ｗ蛍光灯照射下にマグネチックスターラーを使用して室温で３時間４５分攪拌した。
【００９７】
反応液を氷水２０ｍｌ中に注ぎ、ジエチルエーテル２０ｍｌで抽出し、有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた粗精製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９５／５）により精製して、白色結晶として表記化合物８７．８ｍｇを得た。
融点  ９３−９４℃
【００９８】
実施例７
エチル  ４−エチルチオ−２−メチル−３−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）ベンゾエート（化合物番号１−７）の製造
【００９９】
【化２２】
0004377992.tif 000018
【０１００】
２５ｍｌのナス型フラスコ中にエチルメルカプタン０．３１１ｇ、水０．０１８ｇ及びＤＭＦ６ｍｌを加え、次いで、炭酸カリウム０．３４６ｇ及びエチル４，５−ジクロロ−２−メチル−３−（３−メチルイソオキサゾール−５−イルベンゾエート０．３１４ｇを加えた。この混合物を４０Ｗの蛍光灯照射下にマグネチックスターラーを用いて室温で６時間攪拌した。
【０１０１】
反応液を氷水２５ｍｌ中に注ぎジエチルエーテル２５ｍｌで抽出した。有機層を水洗したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９５／５〜１／１）により精製して、白色結晶として表記化合物０．１３２ｇを得た。融点  ３９−４０℃
【０１０２】
実施例８
メチル  ３−（２−イソオキサゾリン−３−イル）−２−メチル−４−メチルチオ  ベンゾエート（化合物番号１−１８）の製造
【０１０３】
【化２３】
0004377992.tif 000019
【０１０４】
無色透明ガラス製容器中に脱気したＤＭＦ１０ｍｌを加え、メチルメルカプタン４２０ｍｇを吹き込み溶解させた。次いで、炭酸カリウム６００ｍｇ及び４，５−ジクロロ−３−（２−イソオキサゾリン−３−イル）−２−メチル安息香酸メチル５００ｍｇを順次添加し、窒素雰囲気下、遮光し、室温でテフロン製マグネチックスターラーで攪拌した。１時間攪拌したのち、ＮＭＲスペクトルにより５−クロロ−３−（２−イソオキサゾリン−３−イル）−２−メチル−４−メチルチオ安息香酸メチルが主生成物であることを確認した。
【０１０５】
引き続き、反応系内を白色蛍光灯を照射しながら４０℃で２時間攪拌した。反応液を氷水中に注加し、ジエチルエーテル−クロロホルム（５：１）及びジエチルエーテルで順次抽出し、有機層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９５／５）により精製して、表記目的化合物を白色結晶として４２４ｍｇを得た。融点  １０９−１１１℃
【０１０６】
本発明により製造することができる一般式（１）で表される芳香族チオエーテル化合物の例を第１表〜第７表に示す。なお、第１表〜第７表においては、Ｑのヘテロ環基は下記の記号を用いて示した。記号の意味は次の通りである。
【０１０７】
【化２４】
0004377992.tif 000020
【０１０８】
【化２５】
0004377992.tif 000021
【０１０９】
【表１０１】
0004377992.tif 000022
【０１１０】
【表１０２】
0004377992.tif 000023
【０１１１】
【表１０３】
0004377992.tif 000024
【０１１２】
【表１０４】
0004377992.tif 000025
【０１１３】
【表１０５】
0004377992.tif 000026
【０１１４】
【表１０６】
0004377992.tif 000027
【０１１５】
【表１０７】
0004377992.tif 000028
【０１１６】
【表１０８】
0004377992.tif 000029
【０１１７】
【表１０９】
0004377992.tif 000030
【０１１８】
【表１１０】
0004377992.tif 000031
【０１１９】
【表１１１】
0004377992.tif 000032
【０１２０】
【表２０１】
0004377992.tif 000033
【０１２１】
【表２０２】
0004377992.tif 000034
【０１２２】
【表２０３】
0004377992.tif 000035
【０１２３】
【表２０４】
0004377992.tif 000036
【０１２４】
【表２０５】
0004377992.tif 000037
【０１２５】
【表２０６】
0004377992.tif 000038
【０１２６】
【表２０７】
0004377992.tif 000039
【０１２７】
【表２０８】
0004377992.tif 000040
【０１２８】
【表２０９】
0004377992.tif 000041
【０１２９】
【表２１０】
0004377992.tif 000042
【０１３０】
【表２１１】
0004377992.tif 000043
【０１３１】
【表３０１】
0004377992.tif 000044
【０１３２】
【表３０２】
0004377992.tif 000045
【０１３３】
【表３０３】
0004377992.tif 000046
【０１３４】
【表３０４】
0004377992.tif 000047
【０１３５】
【表３０５】
0004377992.tif 000048
【０１３６】
【表３０６】
0004377992.tif 000049
【０１３７】
【表３０７】
0004377992.tif 000050
【０１３８】
【表３０８】
0004377992.tif 000051
【０１３９】
【表３０９】
0004377992.tif 000052
【０１４０】
【表３１０】
0004377992.tif 000053
【０１４１】
【表４０１】
0004377992.tif 000054
【０１４２】
【表４０２】
0004377992.tif 000055
【０１４３】
【表４０３】
0004377992.tif 000056
【０１４４】
【表４０４】
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【０１４５】
【表４０５】
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【０１４６】
【表４０６】
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【０１４７】
【表４０７】
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【０１４８】
【表４０８】
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【０１４９】
【表４０９】
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【０１５０】
【表４１０】
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【０１５１】
【表４１１】
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【０１５２】
【表５０１】
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【０１５３】
【表５０２】
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【０１５４】
【表５０３】
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【０１５５】
【表５０４】
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【０１５６】
【表５０５】
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【０１５７】
【表５０６】
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【０１５８】
【表５０７】
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【０１５９】
【表５０８】
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【０１６０】
【表５０９】
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【０１６１】
【表５１０】
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【０１６２】
【表５１１】
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【０１６３】
【表６０１】
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【０１６４】
【表６０２】
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【０１６５】
【表６０３】
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【０１６６】
【表６０４】
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【０１６７】
【表６０５】
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【０１６８】
【表６０６】
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【０１６９】
【表６０７】
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【０１７０】
【表６０８】
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【０１７１】
【表６０９】
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【０１７２】
【表６１０】
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【０１７３】
【表６１１】
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【０１７４】
【表７０１】
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【０１７５】
【表７０２】
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【０１７６】
【表７０３】
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【０１７７】
【表７０４】
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【０１７８】
【表７０５】
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【０１７９】
【表７０６】
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【０１８０】
【表７０７】
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【０１８１】
【表７０８】
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【０１８２】
【表７０９】
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【０１８３】
【表７１０】
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【０１８４】
【表７１１】
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【０１８５】
（参考例）
次に、前記４−ＳＯ2 Ｒ体（６）の製造例を参考例により説明する。
参考例１
エチル  ２−メチル−３−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−４−メチルスルホニルベンゾエートの製造
【０１８６】
【化２６】
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【０１８７】
エチル  ５−クロロ−２−メチル−３−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−４−メチルスルホニルベンゾエート  ０．３０ｇをエタノール２０ｍｌに溶解し、反応系内を窒素置換した後、５％パラジウム−カーボン  ０．０２ｇを加え、水素置換し、水素の入ったゴム球を取り付けて、室温で３時間攪拌した。反応液からパラジウム−カーボンをろ別後、溶媒を減圧留去して、白色結晶として表記化合物０．２８ｇを得た。融点  ８３−８６℃
【０１８８】
参考例２
エチル  ５−クロロ−２−メチル−３−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−４−メチルスルホニルベンゾエートの製造
【０１８９】
【化２７】
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【０１９０】
エチル−５−クロロ−２−メチル−３−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−４−メチルチオベンゾエート  ４．４０ｇをクロロホルム５０ｍｌに溶解し、室温下で５５％  ｍ−クロロ過安息香酸１２．７０ｇを添加して、室温で１９時間攪拌した。反応液から析出結晶をろ別し、ろ液を４％水酸化ナトリウム水溶液８０ｍｌで洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去して、白色結晶として表記化合物  ４．４９ｇを得た。
融点１２６−１２９℃
【０１９１】
参考例３
エチル  ５−クロロ−２−メチル−３−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−４−メチルチオベンゾエートの製造
【０１９２】
【化２８】
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【０１９３】
エチル  ４，５−ジクロロ−３−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−４−メチルチオベンゾエート  ４．４８ｇと炭酸カリウム３．００ｇをＤＭＦ１００ｍｌに溶解し、室温でメチルメルカプタンガス２．１ｇを反応系中に吹き込んだ。さらに室温で１５時間攪拌した後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、白色結晶として表記化合物４．４０ｇを得た。
融点７９−８２℃
【０１９４】
この製造法によっても、一般式（６）で表される化合物を簡易かつ工業的に有利に製造することができる。
【０１９５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の製造方法によれば、農薬・医薬の製造中間体、特にＷＯ９６−２６２０６号公報、ＷＯ−９７−４１１１８号公報等に記載された除草剤の製造中間体として有用な一般式（１）で表される芳香族チオエーテル化合物を、安価な原料から容易に得られる芳香族ハロゲン化物を出発原料として、簡易かつ工業的に有利に製造することができる。