(57)【要約】  超低膨張チタニア−シリカガラス。本ガラスは、高ヒドロキシル含有量を有し、かつ任意選択的に、１種またはそれ以上のドーパントを含む。代表的な任意選択のドーパントとしては、ホウ素、アルカリ元素、アルカリ土類元素、またはＮｂ、Ｔａ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｓｎ、ＣｕおよびＳｎなどの金属が含まれる。本ガラスは、ヒドロキシル含有量を増加させるための蒸気圧密を含むプロセスによって調製される。高ヒドロキシル含有量またはドーパントと高ヒドロキシル含有量との組合せによって、ガラスの仮想温度が低下し、非常に低い熱膨張係数（ＣＴＥ）、低い仮想温度（Ｔｆ）および低い膨脹率勾配を有するガラスが提供される。
2017537050.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；
８４．０重量％〜９１．０重量％のＳｉＯ２と；
９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと
を含んでなることを特徴とする、ガラス。
【請求項２】
９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、８４．０重量％〜９０．５重量％のＳｉＯ２とを含んでなることを特徴とする、請求項１に記載のガラス。
【請求項３】
１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨを含んでなることを特徴とする、請求項１または２に記載のガラス。
【請求項４】
８２５℃未満の仮想温度、０℃〜１００℃のクロスオーバー温度、１０℃〜９５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および１．２ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨脹率勾配を有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載のガラス。
【請求項５】
７５０℃未満の仮想温度、０℃〜８０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜６０℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．７ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨脹率勾配を有することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載のガラス。
【請求項６】
１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と、８５．０重量％〜９０．０重量％のＳｉＯ２とを含んでなることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載のガラス。
【請求項７】
１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と、８６．０重量％〜８９．０重量％のＳｉＯ２とを含んでなることを特徴とする、請求項１〜５に記載のガラス。
【請求項８】
前記ガラスのＴｆが、少なくとも４００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±１℃未満変動することを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載のガラス。
【請求項９】
０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントをさらに含んでなることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載のガラス。
【請求項１０】
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、８４．０重量％〜９１．０重量％のＳｉＯ２とを含んでなるスートブランクを調製するステップと；
０．１気圧〜１０気圧の範囲の圧力において第１の蒸気含有雰囲気中、２００℃〜９００℃の範囲の温度において前記スートブランクを加熱するステップを含む、前記スートブランクを第１の蒸気含有雰囲気に暴露するステップを含む、前記スートブランクに蒸気を装填して、蒸気装填スートブランクを形成するステップと；
９００℃〜１５００℃の範囲の温度において第２の蒸気含有雰囲気中、前記蒸気装填スートブランクを加熱するステップを含む、前記蒸気装填スートブランクを第２の蒸気含有雰囲気に暴露するステップを含む、前記蒸気装填スートブランクを圧密化して、圧密化スートブランクを形成するステップと；
前記圧密化スートブランクを、少なくとも８５０℃の焼なまし温度において維持するステップを含む、前記圧密化スートブランクを焼なましするステップと；
０．１℃／時間〜３０℃／時間の速度において、前記焼なまし温度から、７５０℃未満の温度まで、前記圧密化スートブランクを冷却させるステップと
を含んでなることを特徴とする、チタニア−シリカガラスの調製方法。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の相互参照】
【０００１】
本出願は、米国特許法第１１９条の下、２０１４年１１月１９日出願の米国仮特許出願第６２／０８１，６４１号からの優先権の利益を主張する。上記米国仮特許出願の内容は、依拠され、かつ全体として参照によって本明細書に組み込まれる。
【技術分野】
【０００２】
本記載は、ＥＵＶリソグラフィに適切な、チタニア−シリカガラスに関する。より特に、本記載は、高ヒドロキシル含有量を有し、かつ任意選択的に１種またはそれ以上のドーパントを有する、チタニア−シリカガラスに関する。このガラスは、低い熱膨張係数および低い膨脹率勾配を有する。
【背景技術】
【０００３】
２２ｎｍノード用であり、かつＭＰＵ／ＤＲＡＭ［ＭＰＵ−ミクロプロセッシングユニット  ＆  ＤＲＡＭ−ダイナミックランダムアクセスメモリ］を超える、極端紫外線リソグラフィ（ＥＵＶＬ）は、新たに出現したリソグラフィ技術である。ＥＵＶリソグラフィを支持するために必要とされるスキャナーが開発されおり、そして現在は、この新技術の可能性を実証するための限定的スケールで使用されている。ＥＵＶＬスキャナーの重要な構成要素としては、シリコンウエハ上で特徴をパターン化することを可能にするために、ＥＵＶ源からの露光を方向づけし、そして制御するための反射光学系が含まれる。反射光学素子には、典型的に、一連のコーティング層を有する基体が含まれる。ＥＵＶ露光の短波長（例えば、１３．５ｎｍ）、およびウエハの高生産性プロセッシングのために必要とされる高パワーのため、反射光学素子の有意な加熱が生じる可能性がある。ウエハに転移されたパターンの変形を回避するために、反射光学素子は、広範囲の温度において、一定の性能を維持することが必要とされる。温度安定性性能のための必要条件は、ＥＵＶＬスキャナーにおける光学系用の基体材料として使用するための低い熱膨張材料の開発の動機を与えた。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
最初に、ガラスセラミック材料が、ＥＵＶ光学系用の基体材料として考察された。しかしながら、ガラスセラミック材料は、不適切であることが証明され、かつ（Ｃｏｒｎｉｎｇ  ＩｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄからのＵＬＥ（登録商標）ガラスなどの）低膨張チタニア−シリカガラスによって置き換えられている。ＵＬＥ（登録商標）チタニア−シリカガラスの利点は、極めて平坦な仕上げへの研磨性、低い熱膨張係数（ＣＴＥ）および温度範囲における寸法安定度が含まれる。半導体技術のためのロードマップは、これまで、特徴径を減少させことを要求し、そしてこれまで、リソグラフィ系における要求を増加させてきた。リソグラフィ系の能力を推進するために必要な課題を克服するために、熱の影響をますます受けないスキャナー光学系用の新規材料を開発することが必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示は、ＥＵＶＬ光学的系用の改良されたガラスを提供する。このガラスは、低いＣＴＥ（熱膨張係数）および低いＣＴＥ勾配を特徴とする。このガラスのＣＴＥおよびＣＴＥ勾配は、現在ＥＵＶＬ光学的系で使用されている従来の二成分チタニア−シリカガラス（ＴｉＯ２−ＳｉＯ２）のＣＴＥおよびＣＴＥ勾配以上の有意な改善を表す。本開示のガラスは、高ヒドロキシル（ＯＨ）濃度を含む変性チタニア−シリカガラスである。ガラスは、任意選択的に、１種またはそれ以上のドーパントをさらに含み得る。本変性チタニア−シリカガラスにおいて観察されるＣＴＥおよびＣＴＥ勾配における改善は、焼なましサイクルのみの調整を通しての従来のチタニア−シリカガラスに関して可能な改善を超過する。あるいは、ＣＴＥ勾配の目標とされる減少は、従来のチタニア−シリカガラスによって可能であるものよりも少ないか、または迅速な焼なましサイクルにおいて、本変性チタニア−シリカによって得ることが可能である。結果として、製造費および時間が大いに削減される。
【０００６】
本ガラスの改善された熱特性は、組成的および構造的変化の組合せによって達成される。組成的に、本ガラスは、高濃度のヒドロキシル基を含むように変性されたチタニア−シリカガラスである。高濃度のヒドロキシル基は、蒸気含有雰囲気中でのチタニア−シリカのスートブランクの圧密化によって達成される。蒸気含有雰囲気としては、蒸気のみ、または他の気体と組み合わせられた蒸気が含まれ得る。他の気体としては、Ｈｅおよび／またはＯ２が含まれ得る。存在する場合、蒸気含有雰囲気中のＯ２の部分圧は、０．２気圧未満、または０．１気圧未満、または０．０５気圧未満、または０．０２気圧未満である。
【０００７】
蒸気含有雰囲気が蒸気のみを含む場合、蒸気の圧力は、１０気圧まで、例えば、０．１気圧〜１０気圧の圧力、または０．５気圧〜５．０気圧の圧力、または０．７気圧〜２．５気圧の圧力、または０．９気圧〜１．３気圧の圧力であり得る。蒸気含有雰囲気が、１種またはそれ以上の他の気体との組合せで蒸気を含む場合、蒸気含有雰囲気の全圧力は、１０気圧まで、例えば、１０気圧以下の全圧力、または７．５気圧以下の全圧力、または５．０気圧以下の全圧力、または２．５気圧以下の全圧力、または１．５気圧以下の全圧力、または１．０気圧以下の全圧力であり得る。蒸気含有雰囲気が、他の気体との組合せで蒸気を含む場合、蒸気含有雰囲気の全圧力は、１０気圧までであり得、かつ上記の部分圧は、０．１気圧〜９．５気圧、または１．５気圧〜５．０気圧、または０．７気圧〜２．５気圧、または０．９気圧〜１．３気圧であり得る。蒸気含有雰囲気が、他の気体との組合せで蒸気を含む場合、蒸気含有雰囲気の全圧力は、なくとも１０体積％の蒸気、または少なくとも２５体積％の蒸気、または少なくとも５０体積％の蒸気、または少なくとも７５体積％の蒸気、または少なくとも９０体積％の蒸気、または９０体積％〜９９体積％の蒸気を含み得る。一実施形態において、蒸気含有雰囲気は、１０気圧までの圧力にあり、かつ１０体積％の蒸気を含む。他の実施形態において、蒸気含有雰囲気は、１０気圧までの圧力にあり、かつ５０体積％の蒸気を含む。なお他の実施形態において、蒸気含有雰囲気は、１０気圧までの圧力にあり、かつ７５体積％の蒸気を含む。さらに他の実施形態において、蒸気含有雰囲気は、０．９気圧〜１．３気圧の圧力にあり、かつ９０体積％〜１００体積％の蒸気を含む。
【０００８】
ガラスは任意選択的に１種またはそれ以上のドーパントを含み得る。代表的なドーパントとしては、Ｂ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｌ、Ｃｕ、ＳｎおよびＭｎが含まれる。ガラス中の１種またはそれ以上のドーパントの組み合わせた濃度は、０．１重量％〜２．０重量％、または０．１重量％〜７．０重量％、または０．２重量％〜５．０重量％であり得る。１種またはそれ以上のドーパントＬｉ、ＮａおよびＫの組み合わせた濃度は、０．１重量％〜２．０重量％であり得る。１種またはそれ以上のドーパントＢ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｌ、Ｃｕ、ＳｎおよびＭｎの組み合わせた濃度は、０．１重量％〜７．０重量％または０．２重量％〜５．０重量％であり得る。
【０００９】
構造的に、焼なましサイクルは、望ましいガラス構造および望ましい仮想温度を得るために制御される。焼なましは、少なくとも８５０℃、または少なくとも９００℃、または少なくとも９５０℃、または少なくとも１０００℃の高温における少なくとも１時間の加熱を含み得る。高温での加熱後、ガラスは、０．１℃／時間〜３０℃／時間、または０．２℃／時間〜２０℃／時間、または０．３℃／時間〜１０℃／時間、または０．３℃／時間〜５℃／時間、または０．１℃／時間〜５℃／時間、または０．１℃／時間〜３℃／時間、または０．１℃／時間〜１．５℃／時間の制御された速度において、７５０℃未満、または７００℃未満、または６５０℃未満の温度まで冷却され得る。７５０℃未満、または７００℃未満、または６５０℃未満の温度までの制御された速度における冷却後、ガラスは自然に室温までさらに冷却されてもよい。
【００１０】
本開示は、
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；８４．０重量％〜９１．０重量％のＳｉＯ２と；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨ、または１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨ、または１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと
を含んでなるガラスに関する。
【００１１】
本開示は、
９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；８４．０重量％〜９０．５重量％のＳｉＯ２と；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨ、または１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨ、または１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと
を含んでなるガラスに関する。
【００１２】
本開示は、
１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；８５．０重量％〜９０．０重量％のＳｉＯ２と；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨ、または１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨ、または１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと
を含んでなるガラスに関する。
【００１３】
本開示は、
１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；８６．０重量％〜８９．０重量％のＳｉＯ２と；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨ、または１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨ、または１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと
を含んでなるガラスに関する。
【００１４】
本開示は、
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜７．０重量％または０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨ、または１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨ、または１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２と
を含んでなるガラスに関する。
【００１５】
本開示は、
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜７．０重量％または０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨ、または１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨ、または１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２と
を含んでなるガラスに関する。
【００１６】
本開示は、
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜２．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｌｉ、ＮａおよびＫからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨ、または１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨ、または１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２と
を含んでなるガラスに関する。
【００１７】
本開示は、
９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜７．０重量％または０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨ、または１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨ、または１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２と
を含んでなるガラスに関する。
【００１８】
本開示は、
９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜７．０重量％または０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨ、または１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨ、または１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２と
を含んでなるガラスに関する。
【００１９】
本開示は、
９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜２．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｌｉ、ＮａおよびＫからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨ、または１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨ、または１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２と
を含んでなるガラスに関する。
【００２０】
本開示は、
１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜７．０重量％または０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨ、または１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨ、または１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２と
を含んでなるガラスに関する。
【００２１】
本開示は、
１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜７．０重量％または０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨ、または１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨ、または１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２と
を含んでなるガラスに関する。
【００２２】
本開示は、
１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜２．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｌｉ、ＮａおよびＫからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨ、または１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨ、または１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２と
を含んでなるガラスに関する。
【００２３】
本開示は、
１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜７．０重量％または０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨ、または１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨ、または１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２と
を含んでなるガラスに関する。
【００２４】
本開示は、
１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜７．０重量％または０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨ、または１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨ、または１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２と
を含んでなるガラスに関する。
【００２５】
本開示は、
１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜２．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｌｉ、ＮａおよびＫからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨ、または１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨ、または１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２と
を含んでなるガラスに関する。
【００２６】
本開示は、
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、８４．０重量％〜９１．０重量％のＳｉＯ２とを含んでなるスートブランクを調製するステップと；
０．１気圧〜１０気圧の範囲の圧力において蒸気含有雰囲気中、２００℃〜１７００℃の範囲の温度において上記スートブランクを加熱するステップを含む、上記スートブランクを圧密化し、圧密化スートブランクを形成するステップと；
上記圧密化スートブランクを、少なくとも９００℃の焼なまし温度において維持するステップを含む、上記圧密化スートブランクを焼なましするステップと；
０．１℃／時間〜３０℃／時間の速度において、上記焼なまし温度から、７５０℃未満の温度まで、上記スートブランクを冷却させるステップと
を含んでなる、チタニア−シリカガラスの調製方法に関する。
【００２７】
本開示は、
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと、残部ＳｉＯ２とを含んでなるスートブランクを調製するステップと；
０．１気圧〜１０気圧の範囲の圧力において蒸気含有雰囲気中、２００℃〜１７００℃の範囲の温度において上記スートブランクを加熱するステップを含む、上記スートブランクを圧密化し、圧密化スートブランクを形成するステップと；
上記圧密化スートブランクを、少なくとも９００℃の焼なまし温度において維持するステップを含む、上記圧密化スートブランクを焼なましするステップと；
０．１℃／時間〜３０℃／時間の速度において、上記焼なまし温度から、７５０℃未満の温度まで、上記スートブランクを冷却させるステップと
を含んでなる、チタニア−シリカガラスの調製方法に関する。
【００２８】
本開示は、
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、８４．０重量％〜９１．０重量％のＳｉＯ２とを含んでなるスートブランクを調製するステップと；
０．１気圧〜１０気圧の範囲の圧力において蒸気含有雰囲気中、２００℃〜９００℃の範囲の温度において上記スートブランクを加熱するステップを含む、上記スートブランクを圧密化し、圧密化スートブランクを形成するステップと；
上記圧密化スートブランクを、少なくとも９００℃の焼なまし温度において維持するステップを含む、上記圧密化スートブランクを焼なましするステップと；
０．１℃／時間〜３０℃／時間の速度において、上記焼なまし温度から、７５０℃未満の温度まで、上記スートブランクを冷却させるステップと
を含んでなる、チタニア−シリカガラスの調製方法に関する。
【００２９】
本開示は、
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと、残部ＳｉＯ２とを含んでなるスートブランクを調製するステップと；
０．１気圧〜１０気圧の範囲の圧力において蒸気含有雰囲気中、２００℃〜９００℃の範囲の温度において上記スートブランクを加熱するステップを含む、上記スートブランクを圧密化し、圧密化スートブランクを形成するステップと；
上記圧密化スートブランクを、少なくとも９００℃の焼なまし温度において維持するステップを含む、上記圧密化スートブランクを焼なましするステップと；
０．１℃／時間〜３０℃／時間の速度において、上記焼なまし温度から、７５０℃未満の温度まで、上記スートブランクを冷却させるステップと
を含んでなる、チタニア−シリカガラスの調製方法に関する。
【００３０】
本開示は、
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと、残部ＳｉＯ２とを含んでなるスートブランクを調製するステップと；
室温〜９００℃の範囲の温度を有する、蒸気を含まない雰囲気中、上記スートブランクを加熱するステップと；
９００℃未満の温度を有する、蒸気を含有する雰囲気に、上記スートブランクを暴露するステップと；
少なくとも１０００℃の温度まで、上記蒸気を含有する雰囲気中、上記スートブランクを加熱するステップと
を含んでなる、チタニア−シリカガラスの調製方法に関する。
【００３１】
本開示は、
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと、残部ＳｉＯ２とを含んでなるスートブランクを調製するステップと；
１００℃〜６００℃の範囲の温度を有する、蒸気を含まない雰囲気中、上記スートブランクを加熱するステップと；
９００℃〜１３００℃の範囲の温度を有する、蒸気を含有する雰囲気に、上記スートブランクを暴露するステップと
を含んでなる、チタニア−シリカガラスの調製方法に関する。
【００３２】
追加的な特徴および利点は、以下の詳細な説明で明らかにされ、そして一部は、説明から当業者にとって容易に明白となるか、または記載された説明およびそれらの請求の範囲、ならびに添付の図面に記載される実施形態を実施することによって認識されるであろう。
【００３３】
上記の一般的な説明および以下の詳細な説明は、両方とも単なる例示であり、かつ請求の範囲の性質および特徴を理解するための概観またはフレーム構造を提供するように意図されることは理解されるはずである。
【００３４】
添付の図面は、さらなる理解を提供するために含まれ、かつ本明細書の一部に組み込まれ、かつそれを構成する。図面は、本記載の選択された態様を説明し、そして明細書と一緒に、本記載によって包括される方法、製品および組成物の原理および操作を説明するために有用である。図面に描写される特徴は、本記載の選択された実施形態を説明するが、必ずしも適切な縮尺で描写されていない。
【００３５】
本明細書は、本記載の対象を特に示し、かつ明らかに主張する請求の範囲によって完結するが、本記載は、添付の図面と関連して考察される場合、以下の明細書からより良好に理解されるであろうことが考えられる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】一連のチタニア−シリカガラスのヒドロキシル（ＯＨ）濃度に対する歪み点（■）および焼なまし点（◆）の依存性を示す。
【図２】３０℃／時間において冷却された一連のチタニア−シリカガラスのヒドロキシル（ＯＨ）濃度に対する仮想温度（Ｔｆ）の依存性を示す。
【図３】様々なヒドロキシル濃度を有する一連のチタニア−シリカガラスの焼なましの間の冷却速度に対する仮想温度の依存性を示す。
【図４】２０℃におけるＵＬＥ（登録商標）ガラスの仮想温度に対するＣＴＥ勾配の依存性を示す。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
低いＣＴＥ（本明細書中、膨脹率とも記載される熱膨張係数）および低いＣＴＥ勾配（本明細書中、膨脹率勾配とも記載される、温度に対するＣＴＥの関数依存性の勾配）は、ＥＵＶＬステッパー用の光学系のミラーおよびフォトマスク用のブランク（基体）として使用される材料に関して、重要な必要条件である。低下したＣＴＥ勾配を有する材料は、改善された熱および形状安定性を提供し、したがって、ＥＵＶＬシステムにおけるより高パワーの使用を可能にする。より高パワーのＥＵＶ暴露供給源は、ＥＵＶＬ加工におけるより高い生産性（ウエハ処理量）を導くであろう。
【００３８】
例示された実施形態は、低いＣＴＥ勾配、ならびに仮想温度（Ｔｆ）、ＣＴＥ、ＣＴＥ勾配および／またはゼロクロスオーバー温度（Ｔｚｃ）の高い空間的均一性を特徴とする変性チタニア−シリカガラスを提供する。変性チタニア−シリカガラスは、ＥＵＶＬプロセッシングシステム、ならびに材料の優れた熱および寸法安定性が必要とされる他の用途におけるミラー、他の光学系およびフォトマスク用に、優れた基体材料である。加えて、変性チタニア−シリカガラスは、より少ない体積で配置され、そして投影光学系用のミラーブランクの臨界領域におけるインサートとして使用することができる。投影光学系で使用されるミラーは、１０ｃｍ〜６０ｃｍの範囲の直径を有することが可能であり、将来的にはさらにより大きくなり得る。ミラーの全費用は、ミラー基体の臨界領域を識別し、そしてより専門化された低ＣＴＥ材料の使用を、性能に対して不可欠の基体の限定部分に限定することによって、減少させることができる。基体のバランスは、従来のチタニア−シリカガラスと同様に維持することができる。ＥＵＶＬシステム素子の臨界領域でのインサートの使用は、一般に、所有の米国特許出願公開第２０１３／００４７６６９Ａ１号明細書および同第２０１３／００５２３９１Ａ１号明細書に開示されている。上記特許出願公開の開示は、本明細書に参照によって組み込まれる。
【００３９】
本開示は、ＥＵＶＬ光学システム用の改良されたガラスを提供する。このガラスは、低ＣＴＥおよび低ＣＴＥ勾配を特徴とする。このガラスのＣＴＥおよびＣＴＥ勾配は、現在ＥＵＶＬ光学的系で使用されている従来の二成分チタニア−シリカガラス（ＴｉＯ２−ＳｉＯ２）のＣＴＥおよびＣＴＥ勾配以上の有意な改善を表す。本開示のガラスは、高ヒドロキシル（ＯＨ）濃度を含む変性チタニア−シリカガラスである。ガラスは、任意選択的に、１種またはそれ以上のドーパントをさらに含み得る。本変性チタニア−シリカガラスにおいて観察されるＣＴＥおよびＣＴＥ勾配における改善は、焼なましサイクルのみの調整を通しての従来のチタニア−シリカガラスに関して可能な改善を超過する。あるいは、ＣＴＥ勾配の目標とされる減少は、従来のチタニア−シリカガラスによって可能であるものよりも少ないか、または迅速な焼なましサイクルにおいて、本変性チタニア−シリカによって得ることが可能である。結果として、製造費および時間が大いに削減される。
【００４０】
本ガラスの改善された熱特性は、組成的および構造的変化の組合せによって達成される。組成的に、本ガラスは、高濃度のヒドロキシル基を含むように変性されたチタニア−シリカガラスである。ガラスは任意選択的に１種またはそれ以上のドーパントを含み得る。代表的なドーパントとしては、Ｂ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｌ、Ｃｕ、ＳｎおよびＭｎが含まれる。本ガラス組成物の成分の濃度は、本明細書中、重量パーセント（重量％）または重量によるパーツ・パー・ミリオン（ｐｐｍ）で表される。
【００４１】
構造的に、焼なましサイクルは、望ましいガラス構造および望ましい仮想温度を得るために制御される。焼なましが、従来のチタニア−シリカガラスにおいて、４０％までの膨脹率勾配の減少を導く構造的改良を提供することが可能であることは知られている。膨脹率勾配のさらなる減少は、本開示の組成的に変性されたチタニア−シリカガラスの焼なまし時に可能である。さらに、焼なましサイクルの制御を通して、変性チタニア−シリカガラスの仮想温度（Ｔｆ）、ＣＴＥおよびクロスオーバー温度（ＴＺＣ）の非常に均一な空間的分布を得ることが可能である。
【００４２】
以下の記載は、指定された加熱もしくは冷却速度において、および／または指定された時間に、指定された温度から、もしくは指定された温度に、もしくは指定された温度間での加熱および冷却のステップを含む、種々の熱処理を示す。他に指定されない限り、温度および加熱もしくは冷却速度は、熱処理が生じる炉の作動条件を示す。特定の温度まで加熱する（または冷却する）およびガラスを加熱する（またはガラスを冷却する）という記載は、炉の条件が、特定の温度を提供するように設定されることを意味する。同様に、特定の加熱速度（もしくは加熱の速度）または冷却速度（もしくは冷却の速度）という記載は、炉の条件が、特定の加熱速度または特定の冷却速度を提供するように設定されることを意味する。しかしながら、炉の温度または加熱もしくは冷却速度の設定と、ガラスの条件が炉の設定に適合する時間との間にラグタイムがあり得ることを当業者は理解および認識する。結果として、ガラスにおける実際の条件は、炉の条件によって相違し得る。
【００４３】
一実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、８４．０重量％〜９１．０重量％のＳｉＯ２と、９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨとを含有する。別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、８４．０重量％〜９１．０重量％のＳｉＯ２と、１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨとを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、８４．０重量％〜９１．０重量％のＳｉＯ２と、１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨとを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、８４．０重量％〜９１．０重量％のＳｉＯ２と、１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨとを含有する。
【００４４】
一実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、８４．０重量％〜９０．５重量％のＳｉＯ２と、９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨとを含有する。別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、８４．０重量％〜９０．５重量％のＳｉＯ２と、１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨとを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、８４．０重量％〜９０．５重量％のＳｉＯ２と、１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨとを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、８４．０重量％〜９０．５重量％のＳｉＯ２と、１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨとを含有する。
【００４５】
一実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と、８５．０重量％〜９０．０重量％のＳｉＯ２と、９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨとを含有する。別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と、８５．０重量％〜９０．０重量％のＳｉＯ２と、１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨとを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と、８５．０重量％〜９０．０重量％のＳｉＯ２と、１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨとを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と、８５．０重量％〜９０．０重量％のＳｉＯ２と、１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨとを含有する。
【００４６】
一実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と、８６．０重量％〜８９．０重量％のＳｉＯ２と、９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨとを含有する。別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と、８６．０重量％〜８９．０重量％のＳｉＯ２と、１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨとを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と、８６．０重量％〜８９．０重量％のＳｉＯ２と、１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨとを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と、８６．０重量％〜８９．０重量％のＳｉＯ２と、１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨとを含有する。
【００４７】
一実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと、残部のＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと、残部のＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと、残部のＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと、残部のＳｉＯ２とを含有する。
【００４８】
一実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と、９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと、残部のＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と、１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと、残部のＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と、１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと、残部のＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と、１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと、残部のＳｉＯ２とを含有する。
【００４９】
一実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と、９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと、残部のＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と、１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと、残部のＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と、１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと、残部のＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と、１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと、残部のＳｉＯ２とを含有する。
【００５０】
高ヒドロキシル濃度を含むように組成物を変性することによって、粘度の減少が導かれる。粘度の減少によって、冷却時により完全な構造的弛緩が促進され、そしてより低い仮想温度を有するガラスが提供される。チタニア−シリカガラスの仮想温度は、膨脹率勾配と関連すると考えられる。低い仮想温度は、低い膨脹率勾配を導く。したがって、低い仮想温度を有する状態まで焼なましされるか、または他の加工が可能であるガラス組成物を識別することが望ましい。
【００５１】
特定の実施形態において、高ヒドロキシルチタニア−シリカガラスが、ドーパントを含むようにさらに変性される場合、粘度および仮想温度の追加的減少が生じ得る。代表的なドーパントとしては、Ｂ、Ａｌ、アルカリ元素（例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）、アルカリ土類元素（例えば、Ｍｇ、Ｃａ）、遷移金属元素（例えば、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｓｎ）が含まれる。ガラスは、単一のドーパントまたは２種以上のドーパントの組合せを含み得る。
【００５２】
一実施形態において、本明細書に開示されるヒドロキシル含有チタニア−シリカガラスのいずれも、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される単一ドーパントを含み、かつドーパントの濃度は、０．１重量％〜７．０重量％、または０．２重量％〜５．０重量％、または０．３重量％〜３．０重量％である。
【００５３】
別の実施形態において、本明細書に開示されるヒドロキシル含有チタニア−シリカガラスのいずれも、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される単一ドーパントを含み、かつドーパントの濃度は、０．１重量％〜７．０重量％、または０．２重量％〜５．０重量％、または０．３重量％〜３．０重量％である。
【００５４】
なお別の実施形態において、本明細書に開示されるヒドロキシル含有チタニア−シリカガラスのいずれも、Ｌｉ、ＮａおよびＫからなる群から選択される単一ドーパントを含み、かつドーパントの濃度は、０．１重量％〜２．０重量％、または０．２重量％〜１．０重量％である。
【００５５】
一実施形態において、本明細書に開示されるヒドロキシル含有チタニア−シリカガラスのいずれも、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される２種以上のドーパントの組合せを含み、かつ２種以上のドーパントの組み合わせた濃度は、０．１重量％〜７．０重量％、または０．２重量％〜５．０重量％、または０．３重量％〜３．０重量％である。
【００５６】
一実施形態において、本明細書に開示されるヒドロキシル含有チタニア−シリカガラスのいずれも、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される２種以上のドーパントの組合せを含み、かつ２種以上のドーパントの組み合わせた濃度は、０．１重量％〜７．０重量％、または０．２重量％〜５．０重量％、または０．３重量％〜３．０重量％である。
【００５７】
一実施形態において、本明細書に開示されるヒドロキシル含有チタニア−シリカガラスのいずれも、Ｌｉ、ＮａおよびＫからなる群から選択される２種以上のドーパントの組合せを含み、かつ２種以上のドーパントの組み合わせた濃度は、０．１重量％〜２．０重量％、または０．２重量％〜１．０重量％である。
【００５８】
一実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００５９】
一実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００６０】
一実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜２．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｌｉ、ＮａおよびＫからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜２．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｌｉ、ＮａおよびＫからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜２．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｌｉ、ＮａおよびＫからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜２．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｌｉ、ＮａおよびＫからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００６１】
一実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００６２】
一実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００６３】
一実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜２．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｌｉ、ＮａおよびＫからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜２．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｌｉ、ＮａおよびＫからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜２．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｌｉ、ＮａおよびＫからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜２．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｌｉ、ＮａおよびＫからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００６４】
一実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００６５】
一実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００６６】
一実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜２．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｌｉ、ＮａおよびＫからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜２．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｌｉ、ＮａおよびＫからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜２．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｌｉ、ＮａおよびＫからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜２．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｌｉ、ＮａおよびＫからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００６７】
一実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００６８】
一実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００６９】
一実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；０．１重量％〜２．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｌｉ、ＮａおよびＫからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜２．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｌｉ、ＮａおよびＫからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜２．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｌｉ、ＮａおよびＫからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．１重量％〜２．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｌｉ、ＮａおよびＫからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００７０】
一実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００７１】
一実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００７２】
一実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００７３】
一実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００７４】
一実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００７５】
一実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００７６】
一実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００７７】
一実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．２重量％〜５．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００７８】
一実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００７９】
一実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００８０】
一実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００８１】
一実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００８２】
一実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００８３】
一実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００８４】
一実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００８５】
一実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；残部ＳｉＯ２とを含有する。別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。なお別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；１１００ｐｐｍ〜１８００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と；１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨと；０．３重量％〜３．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；残部ＳｉＯ２とを含有する。
【００８６】
変性チタニア−シリカガラスのヒドロキシル含有量の増加は、蒸気圧密化プロセスにおいて達成することが可能である。典型的なプロセスにおいて、スートブランクが調製され、そしてその後、蒸気中で密圧化される。スートブランクは、ドープされていないチタニア−シリカスート、あるいは１種またはそれ以上のドーパントを含有するチタニア−シリカスートから形成され得る。密圧化スートブランクは、その後、焼なましされ、そして冷却されて、ガラスが提供される。
【００８７】
スートブランクの調製は、特定のプロセスに限定されない。スートブランクは、限定されないが、ゾル−ゲル、ゲルキャスティング、（湿潤もしくは乾燥）スート加圧、バッチング、熱分解、噴霧熱分解、外部蒸着、軸蒸着、直接プロセス、プラズマプロセス、化学蒸着および当該技術において既知の他のプロセスを含む、多くの調製技術によって製造可能である。任意選択のドーピングは、ゲル化の前にゾル−ゲルスラリーにドーピング前駆体を添加することによって、またはＯＶＤ／ＡＶＤプロセスまたは直接プロセスにおける配置の間に噴霧乾燥することによって、あるいは密圧化の間にドーピング前駆体を提供することによってなど、多くの様式で達成可能である。ドープされたチタニア−シリカスートは、ドーパント、ＴｉおよびＳｉの前駆体の混合蒸気の火炎加水分解または酸化によっても調製することができる。次いで、このスートを、軸方向加圧、放射方向加圧または冷間等方圧加圧によって物品へと形成することが可能である。
【００８８】
中でも、スートブランクの形成方法は、以下の通りである。
【００８９】
（１）スートブランクが、シリカ前駆体、チタニア前駆体および任意選択の１種またはそれ以上のドーピング前駆体の燃焼によってバーナー中で製造され、そしてスートがマンドレル上に回収されるＯＶＤ（外部蒸着）プロセス。代わりに、ドーピング前駆体は、燃焼プロセスから排除されてよく、そして圧密化の間に提供されて、ドープされたチタニア−シリカガラスが形成されてもよい。
【００９０】
（２）シリカ前駆体、チタニア前駆体および任意選択の１種またはそれ以上のドーピング前駆体の燃焼によってバーナー中で製造されたスートのスート加圧。代わりに、１種またはそれ以上のドーピング前駆体は、燃焼段階の間に含まれる代わりに、圧密化段階の間に提供されてもよい。
【００９１】
（３）チタニア−シリカスートが、任意選択的に１種またはそれ以上のドーピング前駆体が溶解されるか、または分散された溶媒を使用してゾルへと製造され、そしてゾルのゲル化によって形状に形成されて、そして乾燥されて、多孔性のドープされたか、またはドープされていない、次いで密圧化されるチタニア−シリカ物品が形成される、ゾルゲルプロセス。別の実施形態において、ゾルゲルプロセスで使用されるスートは、項目（２）に上記されたチタニア−シリカスートの形成の間に、１種またはそれ以上のドーピング前駆体が添加されるものである。あるいは、ドーピング前駆体は、調製のゾル段階の間に提供されてもよく、そして多孔性のドープされたチタニア−シリカ物品を形成するためのゲル化反応に関与し得る。
【００９２】
バーナープロセスのための代表的なケイ素前駆体としては、ＳｉＣｌ４およびＯＭＣＴＳ（オクタメチルシクロテトラシロキサン）が含まれる。バーナープロセスのための代表的なチタン前駆体としては、ＴｉＣｌ４およびチタンテトライソプロポキシドが含まれる。バーナープロセスのための代表的なドーピング前駆体としては、トリ−イソプロプルボレート、トリエチルボレート、トリメチルボレート、アルカリ金属（例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）、アルカリ土類金属（例えば、Ｃａ、Ｍｇ）、遷移金属（例えば、Ｍｎ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｃｕ）および遷移後金属（例えば、Ａｌ、Ｓｎ）のアルコキシドが含まれる。
【００９３】
ゾル−ゲルプロセスのケイ素、チタンおよびドーパントの代表的な前駆体としては、アルコキシドが含まれる。例としては、Ｓｉ（ＯＣＨ３）４、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４、Ｓｉ（ＯＲ）４（Ｒはアルキル基である）、Ｔｉ（ＯＲ）４およびＭ（ＯＲ）ｘ（Ｒはアルキル基であり、Ｍは金属であり、かつｘは、金属の配位数に対応する整数である）が含まれる。
【００９４】
スートブランクは、本開示のガラスを形成するために加工される。加工には、蒸気を含まない雰囲気中でスートブランクを熱処理すること、熱処理されたスートブランクを蒸気暴露することに、熱処理されたスートブランクを、蒸気含有雰囲気中で密圧化すること、および焼なましすることを含む。
【００９５】
蒸気を含まない雰囲気中での熱処理は、ブランクからの気体のパージおよび分離を可能にさせ、かつ好ましくは、スートブランクを蒸気に暴露する前に完了される。蒸気がない状態での熱処理は、不活性気体を含む雰囲気で生じ得る。蒸気がない状態での熱処理は、１００℃〜９００℃の範囲、または２００℃〜７００℃の範囲、または３００℃〜６００℃の範囲の温度の蒸気を含まない雰囲気において生じ得る。蒸気がない状態での熱処理は、少なくとも１００℃または少なくとも２００℃、あるいは１００℃〜６００℃の範囲、または１００℃〜５００℃の範囲、または１００℃〜４００℃の範囲、または１００℃〜３００℃の範囲、または１５０℃〜６００℃の範囲、または１５０℃〜５００℃の範囲、または１５０℃〜４００℃の範囲、または１５０℃〜３００℃の範囲、または２００℃〜６００℃の範囲、または２００℃〜５００℃の範囲、または２００℃〜４００℃の範囲、または２００℃〜３００℃の範囲までスートブランクの中間温度を増加させるために十分な時間で生じ得る。本明細書で使用される場合、中間温度は、公称炉温度またはスートブランクが位置する雰囲気の温度とは異なり得る、スートブランク自体の温度を意味する。
【００９６】
蒸気を含まない雰囲気での熱処理後、スートブランクは、スートブランクにヒドロキシル（ＯＨ）基を装填するために、蒸気含有雰囲気に暴露される。ヒドロキシル装填のための蒸気含有雰囲気は、蒸気のみ、または他の気体と組み合わせた蒸気を含み得る。他の気体としては、Ｈｅおよび／またはＯ２が含まれ得る。存在する場合、蒸気含有ヒドロキシル装填雰囲気中のＯ２の部分圧は、０．２気圧未満、または０．１気圧未満、または０．０５気圧未満、または０．０２気圧未満である。Ｏ２の低濃度を維持することは、圧密化プロセスの間のブランク中の空隙の形成（捕捉気体）を抑制する。
【００９７】
蒸気含有ヒドロキシル装填雰囲気が蒸気のみを含む場合、蒸気の圧力は、１０気圧まで、例えば、０．１気圧〜１０気圧の圧力、または０．５気圧〜５．０気圧の圧力、または０．７気圧〜２．５気圧の圧力、または０．９気圧〜１．３気圧の圧力であり得る。蒸気含有ヒドロキシル装填雰囲気が、１種またはそれ以上の他の気体との組合せで蒸気を含む場合、蒸気含有ヒドロキシル装填雰囲気の全圧力は、１０気圧まで、例えば、１０気圧以下の全圧力、または７．５気圧以下の全圧力、または５．０気圧以下の全圧力、または２．５気圧以下の全圧力、または１．５気圧以下の全圧力、または１．０気圧以下の全圧力であり得る。蒸気含有ヒドロキシル装填雰囲気が、他の気体との組合せで蒸気を含む場合、蒸気含有ヒドロキシル装填雰囲気の全圧力は、１０気圧までであり得、かつ上記の部分圧は、０．１気圧〜９．５気圧、または１．５気圧〜５．０気圧、または０．７気圧〜２．５気圧、または０．９気圧〜１．３気圧であり得る。蒸気含有ヒドロキシル雰囲気が、他の気体との組合せで蒸気を含む場合、蒸気含有ヒドロキシル装填雰囲気の全圧力は、なくとも１０体積％の蒸気、または少なくとも２５体積％の蒸気、または少なくとも５０体積％の蒸気、または少なくとも７５体積％の蒸気、または少なくとも９０体積％の蒸気、または９０体積％〜９９体積％の蒸気を含み得る。一実施形態において、蒸気含有ヒドロキシル装填雰囲気は、１０気圧までの圧力にあり、かつ少なくとも１０体積％の蒸気を含む。他の実施形態において、蒸気含有ヒドロキシル装填雰囲気は、１０気圧までの圧力にあり、かつ少なくとも５０体積％の蒸気を含む。なお他の実施形態において、蒸気含有ヒドロキシル装填雰囲気は、１０気圧までの圧力にあり、かつ少なくとも７５体積％の蒸気を含む。さらに他の実施形態において、蒸気含有ヒドロキシル装填雰囲気は、０．９気圧〜１．３気圧の圧力にあり、かつ９０体積％〜１００体積％の蒸気を含む。
【００９８】
スートブランクが蒸気含有ヒドロキシル装填雰囲気に暴露される温度は、２００℃〜９００℃の範囲または３００℃〜７００℃の範囲であり得る。蒸気含有ヒドロキシル装填雰囲気へのスートブランクの暴露温度は、好ましくは、高密度化または圧密化を誘導する温度未満である。蒸気含有ヒドロキシル装填雰囲気へのスートブランクの暴露時間は、スートブランクに組み込まれたＯＨの濃度が制御されるように調整され得る。暴露時間が長いほど、ＯＨ濃度は高くなる。スートブランク全体でＯＨドーピングの均一性を提供するために十分長い時間で、蒸気含有ヒドロキシル装填雰囲気にスートブランクを暴露することも好ましい。９００℃未満の温度における蒸気含有ヒドロキシル装填雰囲気への暴露時間は、少なくとも０．５時間、または少なくとも１時間、または少なくとも２時間、または少なくとも５時間であり得る。８００℃未満の温度における蒸気含有ヒドロキシル装填雰囲気への暴露時間は、少なくとも０．５時間、または少なくとも１時間、または少なくとも２時間、または少なくとも５時間であり得る。７００℃未満の温度における蒸気含有ヒドロキシル装填雰囲気への暴露時間は、少なくとも０．５時間、または少なくとも１時間、または少なくとも２時間、または少なくとも５時間であり得る。
【００９９】
蒸気含有ヒドロキシル装填雰囲気へのスートプレフォームの暴露語、スートブランクは、蒸気の存在下、密圧化される。蒸気含有圧密化雰囲気は、蒸気含有ヒドロキシル装填雰囲気と同一組成物を有してもよく、かつ蒸気含有ヒドロキシル装填雰囲気へのスートブランクの暴露の直後に生じ得る。圧密化は、細孔の閉鎖によって、スートブランクの高密度化を導く。蒸気含有圧密化雰囲気中でのスートブランクの圧密化が、多孔体から細孔が閉鎖した本体へとスートブランクを変換するために十分な時間で、温度または温度範囲において生じ得る。一実施形態において、全ての細孔は完全閉鎖する。蒸気密圧化の温度は、９００℃〜１８５０℃の範囲、または９００℃〜１７００℃の範囲、または９００℃〜１５００℃の範囲、または９００℃〜１３００℃の範囲であり得る。蒸気含有密圧化雰囲気へのスートブランクの暴露時間は、少なくとも０．５時間、または少なくとも１時間、または少なくとも２時間、または少なくとも５時間であり得る。
【０１００】
一実施形態において、蒸気密圧化は、蒸気含有密圧化雰囲気中で、９００℃から１５００℃まで、０．５℃／分〜１００℃／分の速度においてスートブランクを加熱するステップと、少なくとも０．５℃／分の速度において、１５００℃から１６００℃より高い温度まで加熱するステップとを含む。別の実施形態において、蒸気密圧化は、蒸気含有密圧化雰囲気中で、９００℃から１５００℃まで、３℃／分〜５０℃／分の速度においてスートブランクを加熱するステップと、少なくとも３℃／分の速度において、１５００℃から１６００℃より高い温度まで加熱するステップとを含む。
【０１０１】
なお別の実施形態において、蒸気密圧化は、蒸気含有密圧化雰囲気中で、９００℃から１３００℃まで、０．５℃／分〜１００℃／分の速度においてスートブランクを加熱するステップと、少なくとも０．５℃／分の速度において、１３００℃から１４００℃より高い温度まで加熱するステップとを含む。さらに別の実施形態において、蒸気密圧化は、蒸気含有密圧化雰囲気中で、９００℃から１３００℃まで、３℃／分〜５０℃／分の速度においてスートブランクを加熱するステップと、少なくとも３℃／分の速度において、１３００℃から１４００℃より高い温度まで加熱するステップとを含む。
【０１０２】
蒸気密圧化は、あらかじめ決定された時間、固定温度においてスートブランクを保持するステップを含み得る。固定温度は、本明細書中、保持温度を意味し得、そして保持温度においてスートブランクが保持される、あらかじめ決定された時間は、本明細書中、保持時間を意味し得る。一実施形態において、保持温度は、１０００℃〜１２００℃の温度であり、かつ保持時間は、少なくとも１時間、または１時間〜６０時間、または４時間〜２０時間である。別の実施形態において、保持温度は、１１５０℃〜１２００℃の温度であり、かつ保持時間は、少なくとも５時間、若しくは少なくとも１０時間、または５時間〜６０時間、または１０時間〜６０時間である。等温保持を含む実施形態において、等温保持は、完全圧密化を保証するために、その後、上記された条件下で少なくとも１５００℃の温度まで加熱される。
【０１０３】
蒸気密圧化によって、スートブランクはガラスへと変換される。蒸気密圧化の後、ガラスは焼なましされる。蒸気密圧化後および焼なまし前に、ガラスは室温まで戻されなければならない。室温にある間、焼なましプロセスを開始する前に、ガラスに機械加工または他の加工を実施してもよい。焼なまし雰囲気は、空気、Ｎ２または不活性気体（例えば、Ｈｅ、Ａｒ）であってよく、そして蒸気を含有していても、していなくてもよい。
【０１０４】
一実施形態において、焼なましは、少なくとも１時間、少なくとも７５０℃、または少なくとも８００℃、少なくとも８５０℃、または少なくとも９００℃、または少なくとも９５０℃、または少なくとも１０００℃の高温で加熱するステップを含み得る。高温での加熱後、ガラスは、０．１℃／時間〜３０℃／時間、または０．２℃／時間〜２０℃／時間、または０．３℃／時間〜１０℃／時間、または０．３℃／時間〜５℃／時間、または０．１℃／時間〜５℃／時間、または０．１℃／時間〜３℃／時間、または０．１℃／時間〜１．５℃／時間の制御された速度で、７５０℃未満、または６５０℃未満、または５５０℃未満の中間温度まで冷却され得る。制御された速度での、７５０℃未満、または６５０℃未満、または５５０℃未満の中間温度までの冷却後、ガラスは、１℃／時間〜５０℃、または３℃／時間〜４０℃／時間の制御された速度で、中間温度よりも少なくとも５０℃低い、または少なくとも１００℃低い、または少なくとも１５０℃低い焼なまし終点温度まで冷却され得る。焼なまし終点温度まで冷却後、ガラスは自然に室温まで冷却され得る。本明細書で使用される場合、自然冷却とは、制御されていない速度における冷却であり、かつ例えは、ガラスを空気中または未制御の炉中に放置させることによって達成され得る。
【０１０５】
別の実施形態において、焼なましステップは、ガラスを高温まで加熱するステップと、中間温度まで冷却するステップと、中間温度から焼なまし終点温度まで冷却するステップと、焼なまし終点温度から室温まで自然冷却するステップとを含み得る。高温は、少なくとも７５０℃、または少なくとも８００℃、または少なくとも８５０℃、または少なくとも９００℃、または少なくとも９５０℃、または少なくとも１０００℃の温度、あるいは７５０℃〜１０００℃の温度、または８００℃〜９５０℃の温度であり得る。中間温度は、高温より低い温度である。中間温度は、少なくとも６５０℃、または少なくとも７００℃、または少なくとも７５０℃、または少なくとも８００℃、または少なくとも８５０℃、または少なくとも８７５℃の温度、あるいは６５０℃〜８７５℃の温度、または７００℃〜８５０℃の温度、または７５０℃〜８００℃の温度であり得る。高温から中間温度までの冷却速度は、少なくとも１．０℃／時間、または少なくとも０．２℃／時間、または少なくとも０．０５℃／時間であり得る。焼なまし終点温度は、中間温度よりも低く、かつ室温よりも高い温度である。焼なまし終点温度は、少なくとも５５０℃、または少なくとも６００℃、または少なくとも６５０℃、または少なくとも７００℃、または少なくとも７５０℃、あるいは５５０℃〜７５０℃の温度、または５５０℃〜６５０℃の温度、または６００℃〜７００℃の温度、または６００℃〜６５０℃の温度、または６５０℃〜７００℃の温度であり得る。中間温度から焼なまし終点温度までの冷却は、少なくとも１０℃／時間、または少なくとも３℃／時間、または少なくとも１℃／時間の速度で生じ得る。焼なまし終点温度から室温までの冷却は、自然速度で生じ得る。
【０１０６】
一実施形態において、焼なましステップは、密圧化ガラスを１０５０℃の温度まで加熱するステップと、密圧化ガラスを１０５０℃において１時間以上保持するステップと、３０℃／時間以下の制御された速度において６５０℃まで冷却するステップと、未制御の速度で室温まで冷却するステップとを含む。
【０１０７】
本明細書に開示されるプロセス条件下、本明細書に開示される方法によって、本明細書に開示される組成物によって形成されたガラスは、多くの望ましい特性を有する。一実施形態において、ガラスは、０℃〜１２０℃のゼロクロスオーバー温度（Ｔｚｃ）、および２０℃〜９０℃の温度における０に等しい膨脹率勾配を有する。別の実施形態において、ガラスは、０℃〜１００℃のゼロクロスオーバー温度（Ｔｚｃ）、および１５℃〜７０℃の温度における０に等しい膨脹率勾配を有する。なお別の実施形態において、ガラスは、０℃〜８０℃のゼロクロスオーバー温度（Ｔｚｃ）、および１０℃〜６０℃の温度における０に等しい膨脹率勾配を有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、０℃〜６０℃のゼロクロスオーバー温度（Ｔｚｃ）、および５℃〜５５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配を有する。
【０１０８】
一実施形態において、ガラスは、１ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨張率勾配を有する。別の実施形態において、ガラスは、０．８ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨張率勾配を有する。なお別の実施形態において、ガラスは、０．６ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨張率勾配を有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、０．４ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨張率勾配を有する。さらなる実施形態において、ガラスは、０．３ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨張率勾配を有する。
【０１０９】
一実施形態において、ガラスは、０±５０ｐｐｂ／Ｋの２０℃における熱膨張係数（ＣＴＥ）を有する。別の実施形態において、ガラスは、０±３０ｐｐｂ／Ｋの２０℃における熱膨張係数（ＣＴＥ）を有する。なお別の実施形態において、ガラスは、０±１０ｐｐｂ／Ｋの２０℃における熱膨張係数（ＣＴＥ）を有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、０±３ｐｐｂ／Ｋの２０℃における熱膨張係数（ＣＴＥ）を有する。
【０１１０】
一実施形態において、ガラスは、８５０℃未満の仮想温度（Ｔｆ）を有する。別の実施形態において、ガラスは、８００℃未満の仮想温度（Ｔｆ）を有する。なお別の実施形態において、ガラスは、７５０℃未満の仮想温度（Ｔｆ）を有する。さらに別の実施形態において、ガラスは、７００℃未満の仮想温度（Ｔｆ）を有する。
【０１１１】
一実施形態において、ガラスは、８２５℃未満の仮想温度、０℃〜１００℃のクロスオーバー温度、１０℃〜９５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および１．２ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨張率勾配を有する。
【０１１２】
一実施形態において、ガラスは、７５０℃未満の仮想温度、０℃〜８０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜６０℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．７ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨張率勾配を有する。
【０１１３】
一実施形態において、ガラスは、７００℃未満の仮想温度、０℃〜６０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜４５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．４ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨張率勾配を有する。
【０１１４】
一実施形態において、ガラスは、８２５℃未満の仮想温度、０℃〜１００℃のクロスオーバー温度、１０℃〜９５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および１．２ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨張率勾配を有する。
【０１１５】
一実施形態において、ガラスは、７５０℃未満の仮想温度、０℃〜８０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜６０℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．７ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨張率勾配を有する。
【０１１６】
一実施形態において、ガラスは、７００℃未満の仮想温度、０℃〜６０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜４５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．４ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨張率勾配を有する。
【０１１７】
一実施形態において、ガラスは、８２５℃未満の仮想温度、０℃〜１００℃のクロスオーバー温度、１０℃〜９５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および１．２ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨張率勾配を有する。
【０１１８】
一実施形態において、ガラスは、７５０℃未満の仮想温度、０℃〜８０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜６０℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．７ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨張率勾配を有する。
【０１１９】
一実施形態において、ガラスは、７００℃未満の仮想温度、０℃〜６０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜４５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．４ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨張率勾配を有する。
【０１２０】
一実施形態において、ガラスは、８２５℃未満の仮想温度、０℃〜１００℃のクロスオーバー温度、１０℃〜９５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および１．２ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨張率勾配を有する。
【０１２１】
一実施形態において、ガラスは、７５０℃未満の仮想温度、０℃〜８０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜６０℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．７ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨張率勾配を有する。
【０１２２】
一実施形態において、ガラスは、７００℃未満の仮想温度、０℃〜６０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜４５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．４ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨張率勾配を有する。
【０１２３】
一実施形態において、ガラスは、８２５℃未満の仮想温度、０℃〜１００℃のクロスオーバー温度、１０℃〜９５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および１．２ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨張率勾配を有する。
【０１２４】
一実施形態において、ガラスは、７５０℃未満の仮想温度、０℃〜８０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜６０℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．７ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨張率勾配を有する。
【０１２５】
一実施形態において、ガラスは、７００℃未満の仮想温度、０℃〜６０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜４５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．４ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨張率勾配を有する。
【０１２６】
一実施形態において、ガラスは、８２５℃未満の仮想温度、０℃〜１００℃のクロスオーバー温度、１０℃〜９５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および１．２ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨張率勾配を有する。
【０１２７】
一実施形態において、ガラスは、７５０℃未満の仮想温度、０℃〜８０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜６０℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．７ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨張率勾配を有する。
【０１２８】
一実施形態において、ガラスは、７００℃未満の仮想温度、０℃〜６０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜４５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．４ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨張率勾配を有する。
【０１２９】
本記載によるガラスは、ガラスの体積全体で、ＴｆおよびＴｚｃにおける優れた空間的均一性も特徴とする。一実施形態において、ガラスのＴｆは、少なくとも１００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±５℃未満変動する。別の実施形態において、ガラスのＴｆは、少なくとも１００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±２℃未満変動する。なお別の実施形態において、ガラスのＴｆは、少なくとも１００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±１℃未満変動する。
【０１３０】
一実施形態において、ガラスのＴｆは、少なくとも４００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±５℃未満変動する。別の実施形態において、ガラスのＴｆは、少なくとも４００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±２℃未満変動する。なお別の実施形態において、ガラスのＴｆは、少なくとも４００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±１℃未満変動する。
【０１３１】
一実施形態において、ガラスのＴｆは、少なくとも５０００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±５℃未満変動する。別の実施形態において、ガラスのＴｆは、少なくとも５０００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±２℃未満変動する。なお別の実施形態において、ガラスのＴｆは、少なくとも５０００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±１℃未満変動する。
【０１３２】
一実施形態において、ガラスのＴｚｃは、少なくとも１００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±２℃未満変動する。別の実施形態において、ガラスのＴｚｃは、少なくとも１００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±１℃未満変動する。なお別の実施形態において、ガラスのＴｚｃは、少なくとも１００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±０．５℃未満変動する。
【０１３３】
一実施形態において、ガラスのＴｚｃは、少なくとも４００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±２℃未満変動する。別の実施形態において、ガラスのＴｚｃは、少なくとも４００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±１℃未満変動する。なお別の実施形態において、ガラスのＴｚｃは、少なくとも４００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±０．５℃未満変動する。
【０１３４】
一実施形態において、ガラスのＴｚｃは、少なくとも５０００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±２℃未満変動する。別の実施形態において、ガラスのＴｚｃは、少なくとも５０００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±１℃未満変動する。なお別の実施形態において、ガラスのＴｚｃは、少なくとも５０００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±０．５℃未満変動する。
【０１３５】
任意選択的に、本明細書に開示される１種またはそれ以上のドーパントと組み合わせて、蒸気を使用することにより、以下を含む多くの利益が提供される。（１）シードが回避される。蒸気の使用は、高価なヘリウムガスを使用することなく、または減圧圧密化炉を必要とせず、大気圧炉が使用可能であることを意味する；（２）蒸気が、粘度を減少し、低Ｔｆおよび低ＣＴＥ勾配を促進する、ガラス中の高ＯＨの利益を提供する。１種またはそれ以上のドーパントとの組合せで蒸気を使用することによって、さらに粘度が減少され得る；（３）蒸気が、チタニア−シリカガラス中のＴｉ３＋形成を最小化する、酸素の部分圧（ＰＯ２）を提供する。Ｔｉ３＋の形成は、透過性を低下させるように作用し、かつＣＴＥを増加すると考えられることから、抑制することが望ましい時もある；（４）蒸気が、低コストの圧密化法を提供する。従来の炉のＭｏＳｉ２要素は蒸気に耐性を示すことが可能であり、かつ本ガラス組成物は通常の圧力において蒸気圧密化が可能であるため、特別なエンクロージャ（例えば、ガラスマッフル）が必要とされない；（５）蒸気が、多種多様なドーパントと適合性があり、かつ高ＯＨガラスが、種々の組成物に関して得ることが可能である；（６）蒸気が、ＯＶＤ、ＶＡＤ、ＰＳＤ、ゾル−ゲルまたはゲルキャスティング、加圧または乾燥加圧およびバッチングなどの多くの形成方法と適合性がある。
【実施例】
【０１３６】
実施例１
約７．６重量％のＴｉＯ２および約９２．４重量％のＳｉＯ２の組成ならびに種々のヒドロキシル（ＯＨ）濃度を有する一連のチタニア−シリカガラスを調製し、そしてガラスの種々の特性を調査した。ガラス用のスートブランクを、メタン／酸素フレームを通してＳｉＣｌ４およびＴｉＣｌ４前駆体が注入されたＯＶＤ法によって調製し、そしてフレームを回転対陰極に向けた。約７．６重量％のＴｉＯ２および約９２．４重量％のＳｉＯ２の組成を有するスートブランクが得られるように、ＴｉＣｌ４およびＳｉＣｌ４の流速を調整した。重量約４〜８ｋｇのプレフォームが構築されるように、６〜８時間の間、ベイト（ｂａｉｔ）上にＳｉＯ２−ＴｉＯ２スートを配置するために、バーナーを前後に移動させた。
【０１３７】
蒸気中で密圧化された一連のブランクを、様々な濃度のＯＨを含有する密圧化ガラスを得るために、水の部分圧が異なる蒸気含有密圧化雰囲気を使用して、スートブランクから調製した。種々の蒸気含有密圧化雰囲気において使用された水の部分圧（ＰＨ２Ｏ）を、絶対（気圧）または相対（ｐｐｍ、％）の単位で表２に記載する。蒸気含有密圧化雰囲気１〜３は、０．５体積％のＯ２、および１気圧の全圧力を維持するために十分なＨｅを含んだ。Ｏ２は、Ｔｉ３＋の形成を最小化または予防するために含まれた。蒸気含有密圧化雰囲気４は、１気圧の圧力において１００％蒸気であった。雰囲気４には、ＨｅまたはＯ２のいずれも意図的に導入されなかった。
【０１３８】
【表１】
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【０１３９】
圧密化雰囲気１〜３は、導波管炉中で提供された。水は、バブラーを通して、ヘリウムのいくらかをバブリングすることによって導入された。雰囲気１、２および３のピーク圧密化温度は、それぞれ、１４５０℃、１４４０℃および１４３０℃であった。ブランクは、導波管炉の加熱領域を通して移送されて、加熱領域を出た後、炉中で約１２００℃まで冷却され、そして室温まで冷却するために、炉から取り出された。次いで、密圧化ガラスを約１０００℃において保持オーブン中に配置し、ヘリウムを脱気した。
【０１４０】
水を供給するための蒸発器デリバリーシステムを備えた個々の箱形炉中で、蒸気密圧化雰囲気４（純粋な蒸気）を提供した。脱イオン水は、加熱ステンレススチールコイルを通して、約１０ｇ／分（１２ｓｌｐｍ気相水と同等）において、ロタメーターを通してポンプされた。次いで、水を、約５００℃において炉内のコイルに送り、そこで、それは蒸発して、そして箱形炉に配置された７リットルのプラチナボックス中に、加熱ラインを通って輸送された。プラチナボックスは、スートブランクを含有した。スートブランクは、最初に室温から２５０℃に加熱され、２５０℃において６０分間保持された。６０分の保持時間の間、蒸気を出し、そして１気圧の圧力に均衡に保たれた。次に、スートブランクを２５℃／分の速度において、２５０℃から１５００℃まで加熱し、そして２０分間、１５００℃で保持した。次いで、蒸気を止め、窒素流を出し、そしてスートブランクを室温まで冷却した。
【０１４１】
それぞれの密圧化雰囲気に暴露されたスートブランクから得られた密圧化ガラスは、不透明であり、かつ白色または青みがかった白色であった。不透明度および着色は、ガラス中のチタニア沈殿物の存在（白）および減少したチタン（Ｔｉ３＋）の低濃度のためであると考えられた。流動窒素中、１０℃／分の速度において約１６７０℃までガラスを加熱し（保持時間なし）、続いて、約１０００℃まで冷却することによって沈殿物を融解した。次いで、冷却速度およびＯＨ濃度がＴｆに及ぼす影響を試験するため、ガラスを、２℃／時間〜３０℃／時間の制御された速度において、１０００℃から８００℃まで（雰囲気１〜３において密圧化されたブランク）、または７００℃まで（雰囲気４において密圧化されたブランク）冷却した。最終的に、ガラスを５℃／分の速度で室温まで冷却した。いくつかの場合、ガラスは、管状炉内で流動窒素下、約９４０℃まで再加熱され、そして５時間〜８日の期間、等温的に保持され、次いで、急速冷却された。
【０１４２】
ＯＨ濃度、仮想温度、歪み点、焼なまし点およびＣＴＥ勾配を、ガラス試料に関して決定した。ガラス試料のＯＨ濃度は、ＦＴＩＲ分光分析法を使用して測定された。ＯＨ基は、高シリカ含有量を有するガラス中、３６００ｃｍ−１および４５００ｃｍ−１付近に特有の吸収帯を有する。３６００ｃｍ−１吸収帯のピーク付近の透過率を測定し、そして参照透過率に対して比率化した（バックグラウンド強度を考慮するため、４０００ｃｍ−１付近の非吸収波長において）。透過率比は、ＯＨ濃度を得るためのＢｅｅｒ−Ｌａｍｂｅｒｔ則と関連して使用された。焼なまし点および歪み点は、屈曲ビーム粘度技術によって測定された。この技術によって、材料の粘度が測定される。歪み点は、ガラス試料の粘度が１０１４．７ポアズに等しくなる温度として定義され、かつ焼なまし点は、ガラス試料の粘度が１０１３．２ポアズに等しくなる温度として定義された。仮想温度は、２２６０ｃｍ−１付近のＳｉ−Ｏ／Ｔｉ−Ｏ伸長オーバートーン帯のピーク位置を監視するために、ＦＴＩＲ分光分析法を使用して測定された。この帯のピーク位置は、チタニア−シリカガラスの仮想温度と相互関係した。方法についてのさらなる情報は、Ａ．Ｐ．Ｃａｒａｐｅｌｌａ，Ｃ．Ａ．Ｄｕｒａｎ，Ｋ．Ｅ．Ｈｒｄｉｎａ，Ｄ．Ｊ．ＳｅａｒｓおよびＪ．Ｅ．Ｔｉｎｇｌｅｙによる、Ｊ．Ｎｏｎ−Ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ  Ｓｏｌｉｄｓ，ｖｏｌ．３６７，３７−４２（２０１３）に公開された“ＵＬＥ（登録商標）Ｇｌａｓｓ  ｆｏｒ  ＥＵＶＬ  Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ，ａ  Ｆｉｃｔｉｖｅ  Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ  Ｃｏｒｒｅｌａｔｉｏｎ”に見出すことができる。
【０１４３】
図１は、チタニア−シリカガラスのいくつかに関する、ヒドロキシル（ＯＨ）濃度に対する歪み点および焼なまし点の依存性を示す。歪み点データは、正方形の記号によって示され、そして焼なまし点データは、ダイヤモンド形記号によって示される。破線は、データの適合に対応する。この結果は、ガラスのヒドロキシル含有量が増加することで、歪み点および焼なまし点が減少することを示した。図１は、チタニア−シリカガラスの粘度特性が、ガラスのヒドロキシル濃度の制御によって影響されることが可能であることを実証する。
【０１４４】
図２は、ガラスのヒドロキシル濃度に対する仮想温度（Ｔｆ）の依存性を示す。この結果は、ヒドロキシル濃度が増加すると、仮想温度がほぼ直線状に減少することを示した。この結果は、ヒドロキシル濃度を制御することによって、チタニア−シリカガラスの仮想温度を制御する能力を示す。
【０１４５】
図３は、１００ｐｐｍ〜１３５０ｐｐｍの範囲のヒドロキシル濃度を有するガラス試料の焼なましの間の冷却速度に対する仮想温度の依存性を示す。焼なまし間の所与の冷却速度に関して、より高いヒドロキシル濃度を有するガラスは、より低い仮想温度を示した。ヒドロキシル濃度に関係なく、焼なまし間の冷却速度が減少すると、仮想温度の減少が観察された。冷却速度が低いほど、低い仮想温度が導かれた。図３中のデータは、焼なまし間により低速で冷却された、より高いヒドロキシル濃度を有するガラス中で、より低い仮想温度が観察されることを実証する。
【０１４６】
実施例２
本実施例は、仮想温度に対するＣＴＥ勾配の依存性を考察する。本実施例のためのガラス試料は、商業的に入手可能な、Ｃｏｒｎｉｎｇ  ＵＬＥ（登録商標）７９７２ガラスをベースとする。このガラス試料は、７．４重量％のＴｉＯ２および９２．６重量％のＳｉＯ２を有した。それぞれの試料のヒドロキシル濃度は、８８０ｐｐｍであった。ＵＬＥ（登録商標）７９７２ガラス試料は、製造業者（Ｃｏｒｎｉｎｇ，Ｉｎｃ．）から入手され、そして販売用に入手可能な標準的な既製ガラスに対応する。ＵＬＥ（登録商標）７９７２ガラスの１つの試料は、下記のＣＴＥ勾配の測定において基準として使用するために、受け取られた状態で保存された。ＵＬＥ（登録商標）７９７２ガラス基準は、既知の仮想温度（９００℃）および既知のＣＴＥ勾配（１．６０ｐｐｂ／Ｋ２）を有した。ＵＬＥ（登録商標）７９７２ガラスの他の試料は、仮想温度を低下させるために、焼なまし処理を受けた。異なる仮想温度を有する試料は、ＵＬＥ（登録商標）７９７２ガラスの試料を、９００℃より高い温度で少なくとも１時間焼なまし、次いで、０．２℃／時間〜３℃／時間の異なる速度で８００℃まで冷却し、続いて、３０℃／時間において７００℃未満の温度まで冷却し、次いで、室温まで自然冷却することによって調製された。
【０１４７】
ＣＴＥ勾配は、それぞれの焼なまし試料に対して、サンドイッチシール技術を使用して測定された。焼なまし試料を研磨し、そしてＵＬＥ（登録商標）７９７２ガラス基準と一緒にサンドイッチシール中に集積させた。ＵＬＥ（登録商標）７９７２ガラス基準は、焼なまし試料のＣＴＥ勾配の測定において参照として機能した。ＵＬＥ（登録商標）７９７２ガラス基準は、それぞれの焼なまし試料の２片の間に挿入され、そして一連のサンドイッチシールが形成された。サンドイッチシール片は、約１．２５インチ（３．１７５ｃｍ）×１インチ（２．５４ｃｍ）×１／８インチ（０．３１７５ｃｍ）の寸法であった。焼なましＵＬＥ（登録商標）７９７２ガラス試料の２つの周囲の片によって及ぼされる、サンドイッチシールの中央のＵＬＥ（登録商標）７９７２ガラス基準片上の応力は、サンドイッチが−５０℃から＋１５０℃まで加熱された時に測定された。周囲の焼なましＵＬＥ（登録商標）７９７２片および中央のＵＬＥ（登録商標）７９７２ガラス基準片の間のＣＴＥ勾配における差異は、測定された応力から決定された。ＵＬＥ（登録商標）７９７２ガラス基準のＣＴＥ勾配は既知であるため、焼きなましＵＬＥ（登録商標）７９７２ガラス試料のＣＴＥ勾配を決定することができた。
【０１４８】
図４は、仮想温度によるＵＬＥ（登録商標）７９７２ガラス試料のＣＴＥ勾配における変動を示す。Ｔｆ＝９００℃、ＣＴＥ勾配＝１．６ｐｐｂ／Ｋ２におけるデータ点は、ＵＬＥ（登録商標）７９７２ガラス基準に相当し、そして残りのデータ点は、いくつかの焼なましＵＬＥ（登録商標）７９７２ガラス試料に相当する。この測定は、ガラスの仮想温度の減少によって、ＣＴＥ勾配が減少することを示した。
【０１４９】
他に明記されない限り、本明細書に明示されるいずれの方法も、そのステップが特定の順番で実行される必要があるものとして解釈されることは意図されない。したがって、方法請求項は、そのステップが従われる順序を実際に列挙せず、あるいは請求項または明細書において、ステップが特定の順番に限定されることは他に特に記載されず、いずれかの特定の順番が暗示されることも意図されないない。
【０１５０】
例示された実施形態の精神または範囲から逸脱することなく、種々の修正および変更を実施することが可能であることは、当業者に明白であるであろう。例示された実施形態の精神および実体を含む、開示された実施形態の修正、組合せ、部分組合せおよび変更を、当業者は考案し得るため、本明細は、添付の請求の範囲およびそれらの同等物内の全てを含むものとして解釈されるべきである。
【０１５１】
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
【０１５２】
実施形態１
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；
８４．０重量％〜９１．０重量％のＳｉＯ２と；
９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと
を含んでなることを特徴とする、ガラス。
【０１５３】
実施形態２
９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、８４．０重量％〜９０．５重量％のＳｉＯ２とを含んでなることを特徴とする、実施形態１に記載のガラス。
【０１５４】
実施形態３
１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨを含んでなることを特徴とする、実施形態１または２に記載のガラス。
【０１５５】
実施形態４
１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨを含んでなることを特徴とする、実施形態１または２に記載のガラス。
【０１５６】
実施形態５
８２５℃未満の仮想温度、０℃〜１００℃のクロスオーバー温度、１０℃〜９５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および１．２ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨脹率勾配を有することを特徴とする、実施形態１〜４のいずれか一項に記載のガラス。
【０１５７】
実施形態６
７５０℃未満の仮想温度、０℃〜８０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜６０℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．７ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨脹率勾配を有することを特徴とする、実施形態１〜４のいずれか一項に記載のガラス。
【０１５８】
実施形態７
７００℃未満の仮想温度、０℃〜６０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜４５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．４ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨脹率勾配を有することを特徴とする、実施形態１〜４のいずれか一項に記載のガラス。
【０１５９】
実施形態８
１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と、８５．０重量％〜９０．０重量％のＳｉＯ２とを含んでなることを特徴とする、実施形態１〜４のいずれか一項に記載のガラス。
【０１６０】
実施形態９
１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨを含んでなることを特徴とする、実施形態８に記載のガラス。
【０１６１】
実施形態１０
１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨを含んでなることを特徴とする、実施形態８に記載のガラス。
【０１６２】
実施形態１１
８２５℃未満の仮想温度、０℃〜１００℃のクロスオーバー温度、１０℃〜９５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および１．２ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨脹率勾配を有することを特徴とする、実施形態８〜１０のいずれか一項に記載のガラス。
【０１６３】
実施形態１２
７５０℃未満の仮想温度、０℃〜８０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜６０℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．７ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨脹率勾配を有することを特徴とする、実施形態８〜１０のいずれか一項に記載のガラス。
【０１６４】
実施形態１３
７００℃未満の仮想温度、０℃〜６０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜４５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．４ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨脹率勾配を有することを特徴とする、実施形態８〜１０のいずれか一項に記載のガラス。
【０１６５】
実施形態１４
１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と、８６．０重量％〜８９．０重量％のＳｉＯ２とを含んでなることを特徴とする、実施形態１に記載のガラス。
【０１６６】
実施形態１５
１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨを含んでなることを特徴とする、実施形態１４に記載のガラス。
【０１６７】
実施形態１６
１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨを含んでなることを特徴とする、実施形態１４に記載のガラス。
【０１６８】
実施形態１７
８２５℃未満の仮想温度、０℃〜１００℃のクロスオーバー温度、１０℃〜９５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および１．２ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨脹率勾配を有することを特徴とする、実施形態１４〜１６のいずれか一項に記載のガラス。
【０１６９】
実施形態１８
７５０℃未満の仮想温度、０℃〜８０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜６０℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．７ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨脹率勾配を有することを特徴とする、実施形態１４〜１６のいずれか一項に記載のガラス。
【０１７０】
実施形態１９
７００℃未満の仮想温度、０℃〜６０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜４５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．４ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨脹率勾配を有することを特徴とする、実施形態１４〜１６のいずれか一項に記載のガラス。
【０１７１】
実施形態２０
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と；
９００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍのＯＨと；
０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと；
残部ＳｉＯ２と
を含んでなることを特徴とする、ガラス。
【０１７２】
実施形態２１
９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２を含んでなることを特徴とする、実施形態２０に記載のガラス。
【０１７３】
実施形態２２
１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨを含んでなることを特徴とする、実施形態２０または２１に記載のガラス。
【０１７４】
実施形態２３
１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨを含んでなることを特徴とする、実施形態２０または２１に記載のガラス。
【０１７５】
実施形態２４
８２５℃未満の仮想温度、０℃〜１００℃のクロスオーバー温度、１０℃〜９５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および１．２ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨脹率勾配を有することを特徴とする、実施形態２０〜２３のいずれか一項に記載のガラス。
【０１７６】
実施形態２５
７５０℃未満の仮想温度、０℃〜８０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜６０℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．７ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨脹率勾配を有することを特徴とする、実施形態２０〜２３のいずれか一項に記載のガラス。
【０１７７】
実施形態２６
７００℃未満の仮想温度、０℃〜６０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜４５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．４ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨脹率勾配を有することを特徴とする、実施形態２０〜２３のいずれか一項に記載のガラス。
【０１７８】
実施形態２７
１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２を含んでなることを特徴とする、実施形態２０に記載のガラス。
【０１７９】
実施形態２８
１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨを含んでなることを特徴とする、実施形態２７に記載のガラス。
【０１８０】
実施形態２９
１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨを含んでなることを特徴とする、実施形態２７に記載のガラス。
【０１８１】
実施形態３０
８２５℃未満の仮想温度、０℃〜１００℃のクロスオーバー温度、１０℃〜９５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および１．２ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨脹率勾配を有することを特徴とする、実施形態２７〜２９のいずれか一項に記載のガラス。
【０１８２】
実施形態３１
７５０℃未満の仮想温度、０℃〜８０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜６０℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．７ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨脹率勾配を有することを特徴とする、実施形態２７〜２９のいずれか一項に記載のガラス。
【０１８３】
実施形態３２
７００℃未満の仮想温度、０℃〜６０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜４５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．４ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨脹率勾配を有することを特徴とする、実施形態２７〜２９のいずれか一項に記載のガラス。
【０１８４】
実施形態３３
１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２を含んでなることを特徴とする、実施形態２０に記載のガラス。
【０１８５】
実施形態３４
１０００ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍのＯＨを含んでなることを特徴とする、実施形態３３に記載のガラス。
【０１８６】
実施形態３５
１１５０ｐｐｍ〜１７００ｐｐｍのＯＨを含んでなることを特徴とする、実施形態３３に記載のガラス。
【０１８７】
実施形態３６
８２５℃未満の仮想温度、０℃〜１００℃のクロスオーバー温度、１０℃〜９５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および１．２ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨脹率勾配を有することを特徴とする、実施形態３３〜３５のいずれか一項に記載のガラス。
【０１８８】
実施形態３７
７５０℃未満の仮想温度、０℃〜８０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜６０℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．７ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨脹率勾配を有することを特徴とする、実施形態３３〜３５のいずれか一項に記載のガラス。
【０１８９】
実施形態３８
７００℃未満の仮想温度、０℃〜６０℃のクロスオーバー温度、１０℃〜４５℃の温度における０に等しい膨脹率勾配および０．４ｐｐｂ／Ｋ２未満の２０℃における膨脹率勾配を有することを特徴とする、実施形態３３〜３５のいずれか一項に記載のガラス。
【０１９０】
実施形態３９
前記１種またはそれ以上のドーパントの前記組み合わせた濃度が、０．２重量％〜５．０重量％であることを特徴とする、実施形態２０〜３８のいずれか一項に記載のガラス。
【０１９１】
実施形態４０
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、８４．０重量％〜９１．０重量％のＳｉＯ２とを含んでなるスートブランクを調製するステップと；
０．１気圧〜１０気圧の範囲の圧力において蒸気含有雰囲気中、２００℃〜９００℃の範囲の温度において前記スートブランクを加熱するステップを含む、前記スートブランクを圧密化し、圧密化スートブランクを形成するステップと；
前記圧密化スートブランクを、少なくとも９００℃の焼なまし温度において維持するステップを含む、前記圧密化スートブランクを焼なましするステップと；
０．１℃／時間〜３０℃／時間の速度において、前記焼なまし温度から、７５０℃未満の温度まで、前記圧密化スートブランクを冷却させるステップと
を含んでなることを特徴とする、チタニア−シリカガラスの調製方法。
【０１９２】
実施形態４１
前記スートブランクが、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、８４．０重量％〜９０．５重量％のＳｉＯ２とを含んでなることを特徴とする、実施形態４０に記載の方法。
【０１９３】
実施形態４２
前記スートブランクが、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と、８５．０重量％〜９０．０重量％のＳｉＯ２とを含んでなることを特徴とする、実施形態４０に記載の方法。
【０１９４】
実施形態４３
前記スートブランクが、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と、８６．０重量％〜８９．０重量％のＳｉＯ２とを含んでなることを特徴とする、実施形態４０に記載の方法。
【０１９５】
実施形態４４
前記圧密化ステップが、少なくとも１時間、０．５気圧〜５．０気圧の圧力において蒸気含有雰囲気中、３００℃〜７００℃の範囲の温度において前記スートブランクを加熱するステップを含むことを特徴とする、実施形態４０〜４３のいずれか一項に記載の方法。
【０１９６】
実施形態４５
前記圧密化ステップが、少なくとも５時間、０．７気圧〜２．５気圧の圧力において蒸気含有雰囲気中、３００℃〜７００℃の範囲の温度において前記スートブランクを加熱するステップを含むことを特徴とする、実施形態４０〜４３のいずれか一項に記載の方法。
【０１９７】
実施形態４６
前記蒸気含有雰囲気が、少なくとも５０体積％の蒸気を含むことを特徴とする、実施形態４０〜４５のいずれか一項に記載の方法。
【０１９８】
実施形態４７
前記蒸気含有雰囲気が、少なくとも７５体積％の蒸気を含むことを特徴とする、実施形態４０〜４５のいずれか一項に記載の方法。
【０１９９】
実施形態４８
前記蒸気含有雰囲気が、少なくとも９５体積％の蒸気を含むことを特徴とする、実施形態４０〜４５のいずれか一項に記載の方法。
【０２００】
実施形態４９
前記焼なまし温度が、少なくとも１０００℃であることを特徴とする、実施形態４０〜４８のいずれか一項に記載の方法。
【０２０１】
実施形態５０
前記７５０℃未満の温度が、７００℃未満の温度であることを特徴とする、実施形態４９に記載の方法。
【０２０２】
実施形態５１
前記冷却速度が、０．２℃／時間〜２０℃／時間であることを特徴とする、実施形態５０に記載の方法。
【０２０３】
実施形態５２
前記密圧化ステップが、ドーパント前駆体の存在下で実行され、前記ドーパント前駆体が、前記密圧化スートブランクにドーパントを提供し、前記ドーパントが、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択され、前記密圧化スートブランクが、０．１重量％〜７．０重量％の前記ドーパントを含有することを特徴とする、実施形態４０〜５１のいずれか一項に記載の方法。
【０２０４】
実施形態５３
前記スートブランクを密圧化するステップが、少なくとも１時間、蒸気含有雰囲気中、前記スートブランクを加熱するステップを含むことを特徴とする、実施形態４０〜５２のいずれか一項に記載の方法。
【０２０５】
実施形態５４
前記スートブランクを焼なましするステップが、前記圧密化スートブランクを、少なくとも１時間、前記焼なまし温度において維持するステップを含むことを特徴とする、実施形態５３に記載の方法。
【０２０６】
実施形態５５
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと、残部ＳｉＯ２とを含んでなるスートブランクを調製するステップと；
０．１気圧〜１０気圧の範囲の圧力において蒸気含有雰囲気中、２００℃〜９００℃の範囲の温度において前記スートブランクを加熱するステップを含む、前記スートブランクを圧密化し、圧密化スートブランクを形成するステップと；
前記圧密化スートブランクを、少なくとも９００℃の焼なまし温度において維持するステップを含む、前記圧密化スートブランクを焼なましするステップと；
０．１℃／時間〜３０℃／時間の速度において、前記焼なまし温度から、７５０℃未満の温度まで、前記圧密化スートブランクを冷却させるステップと
を含んでなることを特徴とする、チタニア−シリカガラスの調製方法。
【０２０７】
実施形態５６
前記スートブランクが、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２を含んでなることを特徴とする、実施形態５５に記載の方法。
【０２０８】
実施形態５７
前記スートブランクが、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２を含んでなることを特徴とする、実施形態５５に記載の方法。
【０２０９】
実施形態５８
前記スートブランクが、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と、８６．０重量％〜８９．０重量％のＳｉＯ２とを含んでなることを特徴とする、実施形態５５に記載の方法。
【０２１０】
実施形態５９
前記１種またはそれ以上のドーパントの組み合わせた濃度が、０．２重量％〜５．０重量％であることを特徴とする、実施形態５５〜５８のいずれか一項に記載の方法。
【０２１１】
実施形態６０
前記密圧化ステップが、少なくとも１時間、０．５気圧〜５．０気圧の圧力において蒸気含有雰囲気中、３００℃〜７００の範囲の温度において、前記スートブランクを加熱するステップを含むことを特徴とする、実施形態５５〜５８のいずれか一項に記載の方法。
【０２１２】
実施形態６１
前記圧密化ステップが、少なくとも５時間、０．７気圧〜２．５気圧の圧力において蒸気含有雰囲気中、３００℃〜７００℃の範囲の温度において前記スートブランクを加熱するステップを含むことを特徴とする、実施形態５５〜５８のいずれか一項に記載の方法。
【０２１３】
実施形態６２
前記蒸気含有雰囲気が、少なくとも５０体積％の蒸気を含むことを特徴とする、実施形態５５〜６１のいずれか一項に記載の方法。
【０２１４】
実施形態６３
前記蒸気含有雰囲気が、少なくとも７５体積％の蒸気を含むことを特徴とする、実施形態５５〜６１のいずれか一項に記載の方法。
【０２１５】
実施形態６４
前記蒸気含有雰囲気が、少なくとも９５体積％の蒸気を含むことを特徴とする、実施形態５５〜６１のいずれか一項に記載の方法。
【０２１６】
実施形態６５
前記焼なまし温度が、少なくとも１０００℃であることを特徴とする、実施形態５５〜６４のいずれか一項に記載の方法。
【０２１７】
実施形態６６
前記７５０℃未満の温度が、７００℃未満の温度であることを特徴とする、実施形態６５に記載の方法。
【０２１８】
実施形態６７
前記冷却速度が、０．２℃／時間〜２０℃／時間であることを特徴とする、実施形態６５に記載の方法。
【０２１９】
実施形態６８
前記スートブランクを密圧化するステップが、少なくとも１時間、蒸気含有雰囲気中、前記スートブランクを加熱するステップを含むことを特徴とする、実施形態５５〜６７のいずれか一項に記載の方法。
【０２２０】
実施形態６９
前記スートブランクを焼なましするステップが、前記圧密化スートブランクを、少なくとも１時間、前記焼なまし温度において維持するステップを含むことを特徴とする、実施形態６８に記載の方法。
【０２２１】
実施形態７０
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと、残部ＳｉＯ２とを含んでなるスートブランクを調製するステップと；
１００℃〜６００℃の範囲の温度を有する、蒸気を含まない雰囲気中、前記スートブランクを加熱するステップと；
９００℃未満の温度を有する、蒸気を含有する雰囲気に、前記スートブランクを暴露するステップと；
少なくとも１０００℃の温度まで、前記蒸気を含有する雰囲気中、前記スートブランクを加熱するステップと
を含んでなることを特徴とする、チタニア−シリカガラスの調製方法。
【０２２２】
実施形態７１
前記蒸気を含まない雰囲気が、１００℃〜４００℃の範囲の温度を有することを特徴とする、実施形態７０に記載の方法。
【０２２３】
実施形態７２
前記スートブランクが、前記蒸気を含まない雰囲気中、前記スートブランクの内部温度を少なくとも１００℃まで増加させるために十分な時間、加熱されることを特徴とする、実施形態７０または７１に記載の方法。
【０２２４】
実施形態７３
前記スートブランクが、前記蒸気を含まない雰囲気中、前記スートブランクの内部温度を少なくとも２００℃まで増加させるために十分な時間、加熱されることを特徴とする、実施形態７０または７１に記載の方法。
【０２２５】
実施形態７４
前記蒸気含有雰囲気中での加熱が、前記スートブランクを第１の温度まで加熱するステップと、前記スートブランクを前記第１の温度で少なくとも１時間保持するステップとを含み、前記第１の温度が、１０００℃〜１２００℃の範囲であることを特徴とする、実施形態７０〜７３のいずれか一項に記載の方法。
【０２２６】
実施形態７５
前記スートブランクが、前記第１の温度に６０時間未満保持されることを特徴とする、実施形態７４に記載の方法。
【０２２７】
実施形態７６
前記第１の温度が、１１５０℃〜１２００℃の範囲であり、かつ前記スートブランクが、前記第１の温度に、少なくとも５時間保持されることを特徴とする、実施形態７４または７５に記載の方法。
【０２２８】
実施形態７７
前記蒸気含有雰囲気中での加熱が、０．５℃／分〜１００℃／分の速度で前記スートブランクを前記第１の温度から第２の温度まで加熱するステップをさらに含んでなり、前記第２の温度が、１３００℃〜１７００℃の範囲であることを特徴とする、実施形態７４〜７６のいずれか一項に記載の方法。
【０２２９】
実施形態７８
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと、残部ＳｉＯ２とを含んでなるスートブランクを調製するステップと；
１００℃〜６００℃の範囲の温度を有する、蒸気を含まない雰囲気中、前記スートブランクを加熱するステップと；
９００℃〜１３００℃の範囲の温度を有する、蒸気を含有する雰囲気に、前記スートブランクを暴露するステップと
を含んでなることを特徴とする、チタニア−シリカガラスの調製方法。
【０２３０】
実施形態７９
前記ガラスのＴｆが、少なくとも１００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±２℃未満変動することを特徴とする、実施形態１に記載のガラス。
【０２３１】
実施形態８０
前記ガラスのＴｆが、少なくとも４００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±２℃未満変動することを特徴とする、実施形態１〜４のいずれか一項に記載のガラス。
【０２３２】
実施形態８１
前記ガラスのＴｆが、少なくとも５０００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±２℃未満変動することを特徴とする、実施形態１〜４のいずれか一項に記載のガラス。
【０２３３】
実施形態８２
前記ガラスのＴｚｃが、少なくとも１００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±１℃未満変動することを特徴とする、実施形態１〜４のいずれか一項に記載のガラス。
【０２３４】
実施形態８３
前記ガラスのＴｚｃが、少なくとも４００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±１℃未満変動することを特徴とする、実施形態１〜４のいずれか一項に記載のガラス。
【０２３５】
実施形態８４
前記ガラスのＴｚｃが、少なくとも５０００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±１℃未満変動することを特徴とする、実施形態１〜４のいずれか一項に記載のガラス。
【０２３６】
実施形態８５
前記ガラスのＴｆが、少なくとも１００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±２℃未満変動することを特徴とする、実施形態２０〜２３のいずれか一項に記載のガラス。
【０２３７】
実施形態８６
前記ガラスのＴｆが、少なくとも４００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±２℃未満変動することを特徴とする、実施形態２０〜２３のいずれか一項に記載のガラス。
【０２３８】
実施形態８７
前記ガラスのＴｆが、少なくとも５０００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±２℃未満変動することを特徴とする、実施形態２０〜２３のいずれか一項に記載のガラス。
【０２３９】
実施形態８８
前記ガラスのＴｚｃが、少なくとも１００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±１℃未満変動することを特徴とする、実施形態２０〜２３のいずれか一項に記載のガラス。
【０２４０】
実施形態８９
前記ガラスのＴｚｃが、少なくとも４００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±１℃未満変動することを特徴とする、実施形態２０〜２３のいずれか一項に記載のガラス。
【０２４１】
実施形態９０
前記ガラスのＴｚｃが、少なくとも５０００ｃｍ３の体積全体で、その平均値から±１℃未満変動することを特徴とする、実施形態２０〜２３のいずれか一項に記載のガラス。
【０２４２】
実施形態９１
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、８４．０重量％〜９１．０重量％のＳｉＯ２とを含んでなるスートブランクを調製するステップと；
０．１気圧〜１０気圧の範囲の圧力において蒸気含有雰囲気中、２００℃〜１７００℃の範囲の温度において前記スートブランクを加熱するステップを含む、前記スートブランクを圧密化し、圧密化スートブランクを形成するステップと；
前記圧密化スートブランクを、少なくとも９００℃の焼なまし温度において維持するステップを含む、前記圧密化スートブランクを焼なましするステップと；
０．１℃／時間〜３０℃／時間の速度において、前記焼なまし温度から、７５０℃未満の温度まで、前記圧密化スートブランクを冷却させるステップと
を含んでなることを特徴とする、チタニア−シリカガラスの調製方法。
【０２４３】
実施形態９２
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと、残部ＳｉＯ２とを含んでなるスートブランクを調製するステップと；
０．１気圧〜１０気圧の範囲の圧力において蒸気含有雰囲気中、２００℃〜１７００℃の範囲の温度において前記スートブランクを加熱するステップを含む、前記スートブランクを圧密化し、圧密化スートブランクを形成するステップと；
前記圧密化スートブランクを、少なくとも９００℃の焼なまし温度において維持するステップを含む、前記圧密化スートブランクを焼なましするステップと；
０．１℃／時間〜３０℃／時間の速度において、前記焼なまし温度から、７５０℃未満の温度まで、前記圧密化スートブランクを冷却させるステップと
を含んでなることを特徴とする、チタニア−シリカガラスの調製方法。
【０２４４】
実施形態９３
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、８４．０重量％〜９１．０重量％のＳｉＯ２とを含んでなるスートブランクを調製するステップと；
０．１気圧〜１０気圧の範囲の圧力において第１の蒸気含有雰囲気中、２００℃〜９００℃の範囲の温度において前記スートブランクを加熱するステップを含む、前記スートブランクを第１の蒸気含有雰囲気に暴露するステップを含む、前記スートブランクに蒸気を装填して、蒸気装填スートブランクを形成するステップと；
９００℃〜１５００℃の範囲の温度において第２の蒸気含有雰囲気中、前記蒸気装填スートブランクを加熱するステップを含む、前記蒸気装填スートブランクを第２の蒸気含有雰囲気に暴露するステップを含む、前記蒸気装填スートブランクを圧密化して、圧密化スートブランクを形成するステップと；
前記圧密化スートブランクを、少なくとも８５０℃の焼なまし温度において維持するステップを含む、前記圧密化スートブランクを焼なましするステップと；
０．１℃／時間〜３０℃／時間の速度において、前記焼なまし温度から、７５０℃未満の温度まで、前記圧密化スートブランクを冷却させるステップと
を含んでなることを特徴とする、チタニア−シリカガラスの調製方法。
【０２４５】
実施形態９４
前記スートブランクが、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、８４．０重量％〜９０．５重量％のＳｉＯ２とを含んでなることを特徴とする、実施形態９３に記載の方法。
【０２４６】
実施形態９５
前記スートブランクが、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２と、８５．０重量％〜９０．０重量％のＳｉＯ２とを含んでなることを特徴とする、実施形態９３に記載の方法。
【０２４７】
実施形態９６
前記スートブランクが、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と、８６．０重量％〜８９．０重量％のＳｉＯ２とを含んでなることを特徴とする、実施形態９３に記載の方法。
【０２４８】
実施形態９７
前記装填ステップが、少なくとも１時間、０．５気圧〜５．０気圧の圧力において前記第１の蒸気含有雰囲気中、３００℃〜７００℃の範囲の温度において前記スートブランクを加熱するステップを含むことを特徴とする、実施形態９３〜９６のいずれか一項に記載の方法。
【０２４９】
実施形態９８
前記装填ステップが、少なくとも５時間、０．７気圧〜２．５気圧の圧力において前記第１の蒸気含有雰囲気中、３００℃〜７００℃の範囲の温度において前記スートブランクを加熱するステップを含むことを特徴とする、実施形態９３〜９６のいずれか一項に記載の方法。
【０２５０】
実施形態９９
前記第１の蒸気含有雰囲気が、少なくとも５０体積％の蒸気を含むことを特徴とする、実施形態９３〜９８のいずれか一項に記載の方法。
【０２５１】
実施形態１００
前記第１の蒸気含有雰囲気が、少なくとも７５体積％の蒸気を含むことを特徴とする、実施形態９３〜９８のいずれか一項に記載の方法。
【０２５２】
実施形態１０１
前記第１の蒸気含有雰囲気が、少なくとも９５体積％の蒸気を含むことを特徴とする、実施形態９３〜９８のいずれか一項に記載の方法。
【０２５３】
実施形態１０２
前記焼なまし温度が、少なくとも１０００℃であることを特徴とする、実施形態９３〜１０１のいずれか一項に記載の方法。
【０２５４】
実施形態１０３
前記７５０℃未満の温度が、７００℃未満の温度であることを特徴とする、実施形態１０２に記載の方法。
【０２５５】
実施形態１０４
前記冷却速度が、０．２℃／時間〜２０℃／時間であることを特徴とする、実施形態１０３に記載の方法。
【０２５６】
実施形態１０５
前記装填ステップが、ドーパント前駆体の存在下で実行され、前記ドーパント前駆体が、前記密圧化スートブランクにドーパントを提供し、前記ドーパントが、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択され、前記密圧化スートブランクが、０．１重量％〜７．０重量％の前記ドーパントを含有することを特徴とする、実施形態９３〜１０４のいずれか一項に記載の方法。
【０２５７】
実施形態１０６
前記装填ステップが、少なくとも１時間、前記第１の蒸気含有雰囲気中、前記スートブランクを加熱するステップを含むことを特徴とする、実施形態９３〜１０５のいずれか一項に記載の方法。
【０２５８】
実施形態１０７
前記焼なましステップが、前記圧密化スートブランクを、少なくとも１時間、前記焼なまし温度において維持するステップを含むことを特徴とする、実施形態９３〜１０６のいずれか一項に記載の方法。
【０２５９】
実施形態１０８
前記密圧化ステップが、１６００℃より高い温度において、前記第２の蒸気含有雰囲気中、前記蒸気装填スートブランクを加熱するステップをさらに含んでなることを特徴とする、実施形態９３〜１０７のいずれか一項に記載の方法。
【０２６０】
実施形態１０９
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと、残部ＳｉＯ２とを含んでなるスートブランクを調製するステップと；
０．１気圧〜１０気圧の範囲の圧力において第１の蒸気含有雰囲気中、２００℃〜９００℃の範囲の温度において前記スートブランクを加熱するステップを含む、前記スートブランクを第１の蒸気含有雰囲気に暴露するステップを含む、前記スートブランクに蒸気を装填して、蒸気装填スートブランクを形成するステップと；
９００℃〜１５００℃の範囲の温度において第２の蒸気含有雰囲気中、前記蒸気装填スートブランクを加熱するステップを含む、前記蒸気装填スートブランクを第２の蒸気含有雰囲気に暴露するステップを含む、前記蒸気装填スートブランクを圧密化して、圧密化スートブランクを形成するステップと；
前記圧密化スートブランクを、少なくとも８５０℃の焼なまし温度において維持するステップを含む、前記圧密化スートブランクを焼なましするステップと；
０．１℃／時間〜３０℃／時間の速度において、前記焼なまし温度から、７５０℃未満の温度まで、前記圧密化スートブランクを冷却させるステップと
を含んでなることを特徴とする、チタニア−シリカガラスの調製方法。
【０２６１】
実施形態１１０
前記スートブランクが、９．５重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２を含んでなることを特徴とする、実施形態１０９に記載の方法。
【０２６２】
実施形態１１１
前記スートブランクが、１０．０重量％〜１５．０重量％のＴｉＯ２を含んでなることを特徴とする、実施形態１０９に記載の方法。
【０２６３】
実施形態１１２
前記スートブランクが、１１．０重量％〜１４．０重量％のＴｉＯ２と、８６．０重量％〜８９．０重量％のＳｉＯ２とを含んでなることを特徴とする、実施形態１０９に記載の方法。
【０２６４】
実施形態１１３
前記１種またはそれ以上のドーパントの組み合わせた濃度が、０．２重量％〜５．０重量％であることを特徴とする、実施形態１０９〜１１２のいずれか一項に記載の方法。
【０２６５】
実施形態１１４
前記装填ステップが、少なくとも１時間、０．５気圧〜５．０気圧の圧力において前記第１の蒸気含有雰囲気中、３００℃〜７００℃の範囲の温度において前記スートブランクを加熱するステップを含むことを特徴とする、実施形態１０９〜１１３のいずれか一項に記載の方法。
【０２６６】
実施形態１１５
前記装填ステップが、少なくとも５時間、０．７気圧〜２．５気圧の圧力において前記第１の蒸気含有雰囲気中、３００℃〜７００℃の範囲の温度において前記スートブランクを加熱するステップを含むことを特徴とする、実施形態１０９〜１１３のいずれか一項に記載の方法。
【０２６７】
実施形態１１６
前記第１の蒸気含有雰囲気が、少なくとも５０体積％の蒸気を含むことを特徴とする、実施形態１０９〜１１５のいずれか一項に記載の方法。
【０２６８】
実施形態１１７
前記第１の蒸気含有雰囲気が、少なくとも７５体積％の蒸気を含むことを特徴とする、実施形態１０９〜１１５のいずれか一項に記載の方法。
【０２６９】
実施形態１１８
前記第１の蒸気含有雰囲気が、少なくとも９５体積％の蒸気を含むことを特徴とする、実施形態１０９〜１１５のいずれか一項に記載の方法。
【０２７０】
実施形態１１９
前記焼なまし温度が、少なくとも１０００℃であることを特徴とする、実施形態１０９〜１１８のいずれか一項に記載の方法。
【０２７１】
実施形態１２０
前記７５０℃未満の温度が、７００℃未満の温度であることを特徴とする、実施形態１１９に記載の方法。
【０２７２】
実施形態１２１
前記冷却速度が、０．２℃／時間〜２０℃／時間であることを特徴とする、実施形態１１９に記載の方法。
【０２７３】
実施形態１２２
前記スートブランクを装填する前記ステップが、少なくとも１時間、前記第１の蒸気含有雰囲気中、前記スートブランクを加熱するステップを含むことを特徴とする、実施形態１０９〜１２１のいずれか一項に記載の方法。
【０２７４】
実施形態１２３
前記スートブランクを焼なましするステップが、前記圧密化スートブランクを、少なくとも１時間、前記焼なまし温度において維持するステップを含むことを特徴とする、実施形態１２２のいずれか一項に記載の方法。
【０２７５】
実施形態１２４
前記密圧化ステップが、１６００℃より高い温度において、前記第２の蒸気含有雰囲気中、前記蒸気装填スートブランクを加熱するステップをさらに含んでなることを特徴とする、実施形態１０９〜１２３のいずれか一項に記載の方法。
【０２７６】
実施形態１２５
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、８４．０重量％〜９１．０重量％のＳｉＯ２とを含んでなるスートブランクを調製するステップと；
０．１気圧〜１０気圧の範囲の圧力において蒸気含有雰囲気中、２００℃〜１７００℃の範囲の温度において前記スートブランクを加熱するステップを含む、前記スートブランクを圧密化し、圧密化スートブランクを形成するステップと；
前記圧密化スートブランクを、少なくとも８５０℃の焼なまし温度において維持するステップを含む、前記圧密化スートブランクを焼なましするステップと；
０．１℃／時間〜３０℃／時間の速度において、前記焼なまし温度から、７５０℃未満の温度まで、前記圧密化スートブランクを冷却させるステップと
を含んでなることを特徴とする、チタニア−シリカガラスの調製方法。
【０２７７】
実施形態１２６
９．０重量％〜１６．０重量％のＴｉＯ２と、０．１重量％〜７．０重量％の組み合わせた濃度の、Ｂ、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、ＣｕおよびＳｎからなる群から選択される１種またはそれ以上のドーパントと、残部ＳｉＯ２とを含んでなるスートブランクを調製するステップと；
０．１気圧〜１０気圧の範囲の圧力において蒸気含有雰囲気中、２００℃〜１７００℃の範囲の温度において前記スートブランクを加熱するステップを含む、前記スートブランクを圧密化し、圧密化スートブランクを形成するステップと；
前記圧密化スートブランクを、少なくとも８５０℃の焼なまし温度において維持するステップを含む、前記圧密化スートブランクを焼なましするステップと；
０．１℃／時間〜３０℃／時間の速度において、前記焼なまし温度から、７５０℃未満の温度まで、前記圧密化スートブランクを冷却させるステップと
を含んでなることを特徴とする、チタニア−シリカガラスの調製方法。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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