(57)【要約】  緩衝構造は、第１の表面及び第２の表面を有するポリマー層を含む。第１の表面は複数の微細構造を含み、微細構造のそれぞれは約４００マイクロメートル未満の幅を有する。ポリマー層の弾性率は２５℃で約０．１ＭＰａを超え約５ＧＰａ未満である。ポリマー層は非粘着性である。【選択図】図１Ａ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の表面及び第２の表面を有するポリマー層を含む緩衝構造であって、前記第１の表面が複数のミクロ構造を含み、それぞれの前記ミクロ構造が約４００マイクロメートル未満の幅を有し、
前記ポリマー層の弾性率が２５℃で約０．０１ＭＰａを超え約５ＧＰａ未満であり、前記ポリマー層が非粘着性である、緩衝構造。
【請求項２】
前記複数のミクロ構造が、突出部、窪み又はこれらの組み合わせを備える、請求項１に記載の緩衝構造。
【請求項３】
前記突出部及び窪みが、不連続、連続又はこれらの組み合わせである、請求項２に記載の緩衝構造。
【請求項４】
前記ミクロ構造が、前記第１の表面の平面内において緩衝層の全長に沿って延在する連続する窪みを形成する、請求項１に記載の緩衝構造。
【請求項５】
前記ポリマー層が、アクリル、ポリオレフィン、天然若しくは合成エラストマー及びポリウレタンからなる群から選択されるポリマーである、請求項１に記載の緩衝構造。
【請求項６】
前記ポリマー層が固体フィルムである、請求項１に記載の緩衝構造。
【請求項７】
前記ポリマー層が発泡体である、請求項１に記載の緩衝構造。
【請求項８】
前記ポリマー層が、連続気泡フォーム又は独立気泡フォームのうちの１つである、請求項７に記載の緩衝構造。
【請求項９】
前記第２の表面も複数のミクロ構造を含み、それぞれの前記ミクロ構造が約４００マイクロメートル未満の幅を有する、請求項１に記載の緩衝構造。
【請求項１０】
第１の表面及び第２の表面を有する第１の感圧性接着剤層を更に含み、前記ポリマー層の前記第２の表面は、前記感圧性接着剤層の前記第２の表面に隣接して位置付けされ、前記第１の感圧性接着剤層の前記第１の表面は複数のミクロ構造を備える、請求項１に記載の緩衝構造。
【請求項１１】
前記ポリマー層と前記第１の感圧性接着剤との間に位置付けされた第２の感圧性接着剤を更に含む、請求項１０に記載の緩衝構造。
【請求項１２】
前記ポリマー層が、約５を超えるモース硬度を有する無機粒子を実質的に含まない、請求項１に記載の緩衝構造。
【請求項１３】
第１及び第２の表面を有するポリマー層であって、少なくとも前記第１の表面が、不連続な窪みを有する複数のトポグラフィー形成部を備える、ポリマー層と、
前記複数のトポグラフィー形成部を備える前記第１の表面に隣接して位置付けされたシール層であって、前記シール層が前記窪みの少なくとも一部を封止し、その中にガスを閉じ込めるシール層、を備える緩衝構造。
【請求項１４】
前記第１及び第２の表面が、複数のトポグラフィー形成部を備える、請求項１３に記載の緩衝構造。
【請求項１５】
第１の表面及び第２の表面を有する感圧性接着剤層を更に含み、基板の第２の表面は前記感圧性接着剤層の前記第２の表面に被着され、前記感圧性接着剤層の前記第１の表面は複数のトポグラフィー形成部を備える、請求項１３に記載の緩衝構造。
【請求項１６】
導電性粒子及び導電性相互接続層のうちの少なくとも１つを更に備える、請求項１又は１３に記載の緩衝構造。
【請求項１７】
熱伝導性粒子及び熱伝導性相互接続層のうちの少なくとも１つを更に備える、請求項１又は１３に記載の緩衝構造。
【請求項１８】
ＥＭＩ吸収粒子、ＥＭＩシールド粒子、ＥＭＩ吸収性相互接続層及びＥＭＩシールド相互接続層のうちの少なくとも１つを更に備える、請求項１又は１３に記載の緩衝構造。
【発明の詳細な説明】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
［発明の分野］
本発明は、概ね、ミクロ構造化した薄膜に関連する。特に、本発明は、緩衝性能の改善を提供するミクロ構造化した薄膜に関連する。
【０００２】
［背景］
電子デバイス（例えば、携帯電話及びタブレット）がますます薄くなっていることから、落下及び衝撃吸収を提供する緩衝層は、典型的には厚さ約２０ミリメートル未満でなければならない。音、振動及び衝撃吸収を必要とする用途において、緩衝層は、ポリウレタン、ポリオレフィン及びアクリルのような異なる化学的性質に基づく発泡体から作製されてよい。これらの発泡体の緩衝性能は、発泡体の気泡構造の化学的性質、並びにサイズ及び種類によって大きく決まる。より薄いディスプレイデバイス及びより薄いボンドラインの需要の増大に伴い、発泡体は、より低い厚さの値で、ほぼ同じか又はより優れた緩衝特性を提供することが要求される。
【０００３】
現在の緩衝層は、アクリル、ポリオレフィン、天然若しくは合成エラストマー又はポリウレタンの連続若しくは独立気泡フォームのいずれかをベースとする。発泡体気泡構造のガスは、様々な機械的プロセスの間に発生する応力を吸収する効果がある。しかしながら、必要なレベルの応力吸収を付与するには、大きな気泡体体積（典型的には、約３０〜４０体積％）が必要とされる。ディスプレイの厚さの減少がますます重視されていることから、緩衝層の厚さは、２００μｍ未満まで低減されている。上記の厚さ値の発泡体は、凝集力が低いために、プロセス操作及び再加工性において、複数の欠点を有する可能性がある。
【０００４】
［概要］
一実施形態において、本発明は、第１の表面及び第２の表面を有するポリマー層を含む緩衝構造である。第１の表面は複数の微細構造体を含み、それぞれの微細構造体は約４００マイクロメートル未満の幅を有する。ポリマー層の弾性率は、２５℃で約０．１ＭＰａを超え５ＧＰａ未満である。ポリマー層は、非粘着性である。
【０００５】
別の実施形態において、本発明は、ポリマー層とシール層とを含む緩衝構造である。ポリマー層は、第１及び第２の表面を有する。表面のうちの少なくとも１つは、別個の窪みを有する複数のトポグラフィー形成部を含む。シール層は、複数のトポグラフィー形成部を有する表面に隣接される。シール層は、窪みの少なくとも一部を封止し、ガスをその内部に閉じ込める。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１Ａ】本発明の緩衝構造の第１の実施形態を含む成形構成体の断面図である。
【図１Ｂ】本発明の緩衝構造の第１の実施形態の断面図である。
【図１Ｃ】本発明の積層体の緩衝構造の第１の実施形態の平面図である。
【図２Ａ】本発明の緩衝構造の第２の実施形態を含む成形構成体の断面図である。
【図２Ｂ】本発明の緩衝構造の第２の実施形態の断面図である。
【図３Ａ】本発明の緩衝構造の第３の実施形態を含む成形構成体の断面図である。
【図３Ｂ】本発明の緩衝構造の第３の実施形態の断面図である。
【図４Ａ】本発明の緩衝構造の第４の実施形態を含む成形構成体の断面図である。
【図４Ｂ】本発明の緩衝構造の第４の実施形態の断面図である。
【図５Ａ】本発明の緩衝構造の第５の実施形態を含む成形構成体の断面図である。
【図５Ｂ】本発明の緩衝構造の第５の実施形態の断面図である。
【図５Ｃ】本発明の緩衝構造の第５の実施形態の断面図である。
【図５Ｄ】シール層を有する本発明の緩衝構造の第５の実施形態の平面図である。
【０００７】
これらの図は、正確な縮尺では描かれておらず、単に例示の目的を意図するものに過ぎない。
【０００８】
［詳細な説明］
本発明の緩衝構造は、フィルム及び／又は発泡体のような薄層の緩衝性能又は衝撃吸収を改善する。緩衝構造は、第１の表面及び第２の対向する表面を有するポリマー層を含む。ミクロ構造化した窪み、例えば、チャネル又はポケット、及び／又は突出部（集合的なミクロ構造体）は、ポリマー層の第１及び第２の表面のうちの少なくとも１つに組み込まれ、それらの緩衝効果により製品操作性を改善する働きをする。ミクロ構造は、トポグラフィー表面を提供し、ポリマー層内の機械的特性に大きな影響を与えることなくポリマー層の空気体積を増大させる発泡に対する代替経路である。衝撃吸収の改善に加えて、本発明のミクロ構造、即ち、緩衝構造は、再配置可能性、表面湿潤、層適用及び操作性を改善した。更に、ミクロ構造化したポリマー層の形状及び寸法は、積層中に微細構造要素における局部圧力の量を変える能力を与える。
【０００９】
図１Ａは、ポリマー層１２、ミクロ構造化したライナー１４、及び剥離ライナー１６を含む本発明の緩衝構造１０の第１の実施形態の成形構成体の断面図を示す。ポリマー層１２は、第１の表面１８及び第２の表面２０を含み、ミクロ構造化したライナー１４は第１の表面２２及び第２の表面２４を含み、剥離ライナー１６は第１の表面２６及び第２の表面２８を含む。ライナー１４、１６をポリマー層１２から除去した後、ポリマー層１２はミクロ複製した層となり、緩衝層として作用する。緩衝特性の改善は、ミクロ構造化したライナー１４のトポグラフィー表面の結果である。
【００１０】
ポリマー層１２は、約５未満、具体的には約３未満のモース硬度を有する無機粒子を実質的に含まない、任意の非粘着性ポリマー層であってもよい。無機粒子を実質的に含まないとは、約５％未満、具体的には約３％未満、より具体的には約１％未満の無機粒子を意味する。いくつかの実施形態では、ポリマー層１２は、無機粒子を含まない。ポリマー層１２は、動的機械的熱分析（ＤＭＴＡ）で測定したときに、少なくとも約０．３、具体的には少なくとも約０．５、より具体的には少なくとも約０．７のｔａｎδにピークを有する。ＤＭＴＡ試験を、任意の従来のＤＭＴＡ法を用いて実施してもよい。ＤＭＴＡを、引張モードのコンフィギュレーションで実施してもよい。使用する周波数は、０．１〜１，０００Ｈｚであってもよく、１Ｈｚが一般的である。ＤＭＴＡスキャンは、ｔａｎδのピークよりも少なくとも約４０℃高い温度と４０℃低い温度との温度範囲にわたって実施されてもよく、ＤＭＴＡ中の昇温は、約０．１℃／分〜約１０℃／分の範囲で選択されてもよい。試験用のポリマー層１２の厚さは、約５０マイクロメートル〜約５ｍｍの範囲であってもよい。試料の幅は、約１ｍｍ〜約１０ｍｍの範囲であってもよい。ゲージの長さは、約１０ｍｍ〜３０ｍｍの範囲であってもよい。試験中の試料のひずみは、ゲージの長さの約０．０１〜２倍の範囲であってもよい。
【００１１】
一実施形態において、ポリマー層１２は、２５℃において、約０．０１ＭＰａ以上、０．１ＭＰａ以上、０．５ＭＰａ以上又は更には１ＭＰａ以上の弾性率を有する。弾性率は、約５ＧＰａ以下、約１ＧＰａ以下又は更には約０．５ＧＰａ以下であってもよい。ポリマー層１２は、フィルム又は発泡体であってもよい。好適なポリマーの例としては、アクリル、ポリオレフィン、天然若しくは合成エラストマー及びポリウレタンが挙げられるがそれらに限定されない。ポリウレタンは、ポリマー層として特に好適である。ポリマー層１２は、任意に、導電性、熱伝導性、電磁干渉（ＥＭＩ）シールド、ＥＭＩ吸収、又はこれらの組み合わせを改善する機能性を有する材料を含有してもよい。いくつかの実施形態において、ポリマー層１２及び／又は接着剤層は、存在する場合、導電性粒子及び導電性相互接続層のうちの少なくとも１つを含んでもよい。いくつかの実施形態において、ポリマー層１２及び／又は接着剤層は、存在する場合、熱伝導性粒子又は熱伝導性相互接続層のうちの少なくとも１つを含んでもよい。いくつかの実施形態において、ポリマー層１２及び／又は接着剤層は、存在する場合、ＥＭＩ吸収粒子、ＥＭＩシールド粒子、ＥＭＩ吸収相互接続層及びＥＭＩシールド相互接続層のうちの少なくとも１つを含んでもよい。ポリマー層１２の表面に形成された窪み及び／又は突出部は、空気がこの層を通って流出できるので、応力を消散する。窪み及び／又は突出部の形状及び寸法は、ミクロ構造化したライナー１４のトポグラフィー表面を変えることによって制御される。ポリマー層１２の第１の表面１８のトポグラフィーは、ミクロ構造化したライナー１４の反転のトポグラフィーを有する。
【００１２】
ミクロ構造化したライナー１４の第２の表面２４は、ポリマー層１２における窪み及び／又は突出部（ミクロ構造３２）を同様に形成する形状及び寸法を有する複数の形成部３０によって作られたトポグラフィーを含む。トポグラフィーは、主要表面のうちの少なくとも１つのｘ、ｙ面の少なくとも１つの寸法において、好ましくは少なくとも２つの寸法において、相互接続した突起部及び／又は窪みのような形成部を含んでもよい。この場合、同様にして形成されるポリマー層１２のミクロ構造３２は、ミクロ構造化したライナー１４の反転のミクロ構造３０を有し、空気流出が可能なチャネルであってもよい。ミクロ構造化したライナー１４が、不連続の突出部のみを含むトポグラフィーを含む場合、同様にして形成されるポリマー層１２のミクロ構造３２は、流体（例えば、ガス）の閉じ込めを可能にする不連続の窪み又はポケットであってもよい。これらの突起部及び／又は窪みの形状及びサイズは、構造化したライナーのトポグラフィー表面にわたって規則的又は不規則的であり得る。同様に、相互接続は、構造化したライナーの主表面のうちの少なくとも１つのｘ、ｙ面の少なくとも１つの寸法において、規則的又は不規則的なパターンに従ってもよい。ミクロ構造化したライナー１４のミクロ構造化した形成部３０の全ての主要寸法（例えば、高さ、幅、形状、及び間隔）は、ポリマー層の表面で望まれる最終的なトポグラフィーに基づいて選択される。一実施形態において、それぞれの形成部３０は、約５〜２００マイクロメートル、具体的には約５〜２５マイクロメートルの高さ、及び約１５〜約４００マイクロメートル、具体的には約５０〜約３００マイクロメートルの間の幅を有する。別の実施形態において、それぞれの形成部３０は、約１０〜約２００マイクロメートル、具体的には約２５マイクロメートル〜約７５マイクロメートルの高さ／深さを有する。一実施形態において、それぞれの突出部間又はそれぞれの窪み間の中心間距離は、約２０〜約５００マイクロメートル、具体的には約２０〜約１００マイクロメートルである。一実施形態において、厚さ１００マイクロメートルのポリマー層の場合、上記形成部は、２０〜５０マイクロメートルの高さを有する。別の実施形態において、厚さ１００マイクロメートルのポリマー層の場合、上記形成部は、３０〜４５マイクロメートルの高さを有する。
【００１３】
ミクロ構造化したライナー１４のトポグラフィー表面は、本発明の意図する範囲から逸脱することなく、当業者に既知の任意の形状形成部を含んでもよい。例えば、ミクロ構造化したライナー１４のミクロ構造化した形成部３０は、限定されるものではないが、柱、角錐形、台形、チャネル等が挙げられる。更に、ミクロ構造は、直線又は交差パターンのような規則的又は繰り返しパターンに配列される必要はない。ミクロ構造３０はまた、無作為なパターンであってもよい。一実施形態において、ミクロ構造３０は、チャンネル、ポケット、又はこれらの組み合わせを形成する。
【００１４】
本発明の実施形態において、ミクロ構造化したポリマー層、即ち、ミクロ構造化したポリマー層を作製する。図１Ａに示す第１の実施形態では、第１のミクロ構造化した表面１８及び第２の表面２０を有するミクロ構造化したポリマー層１２が、ポリマー層１２の第１の表面１８に隣接するミクロ構造化したライナー１４及びポリマー層１２の第２の表面２０に隣接する第２の剥離ライナー１６と共に示されている。前述のように、ミクロ構造化したライナー１４の第２の表面２４は、複数のトポグラフィー形成部３０を有するミクロ構造化した表面を含む。この実施形態では、ミクロ構造化した表面２４は、ミクロ構造化したライナー１４の長さに沿って延在する複数の切頂角錐形を含む。製造中に、ミクロ構造化したライナー１４のミクロ構造化した表面２４は、ポリマー前駆体と接触して配置され、ミクロ構造化した表面２４のパターンがポリマー前駆体に転写される。ポリマー前駆体が硬化すると、ポリマー層１２を形成し、ミクロ構造化した表面１８をポリマー層１２に作製する。そして、このミクロ構造化した表面１８は、ミクロ構造化したライナー１４のミクロ構造化した表面２４の反転である。形成されたポリマーとミクロ構造化したライナー１４のミクロ構造化した表面２４の接触は、ランド領域並びに窪み及び／又は突出部を生成する。いくつかの実施形態において、窪み及び／又は突出部がチャネルを形成する場合、空気流出を可能にするミクロ構造化した表面１８を有するポリマー層１２を作製する。
【００１５】
図１Ｂ及び図１Ｃは、それぞれ、ライナー１４、１６が除去された後で形成されたミクロ構造化したポリマー層１２ａの断面図及び平面図を示す。見てわかるとおり、ミクロ構造化したライナー１４がポリマー層１２から除去されると、チャンネル３４をポリマー層１２の第１の表面１８に組み込み、そして、それにより空気流出が可能になる。
【００１６】
図２Ａは、ポリマー層１０２、第１のミクロ構造化したライナー１０４及び第２のミクロ構造化したライナー１０６を含む本発明の緩衝構造１００の成形構成体の第２の実施形態の断面図を示す。第２の実施形態のポリマー層１０２及び第１のミクロ構造化したライナー１０４は、特性及び機能性で第１の実施形態のポリマー層１２及びミクロ構造化したライナー１４に類似している。第２のミクロ構造化したライナー１０６は、特性及び機能性で第１のミクロ構造化したライナー１０４に類似する。また、第２のミクロ構造化したライナー１０６のミクロ構造化した表面１１６はポリマー層１０２の第２の表面１１０に隣接して位置付けられる。この実施形態では、第２のミクロ構造化したライナー１０６のトポグラフィー表面１１６は、第１のミクロ構造化したライナー１０４のトポグラフィー表面１１４と同じである。図２Ａの実施形態では、ポリマー層１０２の第１の表面１０６のミクロ構造１２０は、ポリマー層１０２の第２の表面１１０のミクロ構造１２２と同じである。他の実施形態では、第２のミクロ構造化したライナー１０６のトポグラフィー表面は、第１のミクロ構造化したライナー１０４のトポグラフィー表面と異なっていてもよい。これらの実施形態では、ポリマー層１０２の第１の表面１０６のミクロ構造は、ポリマー層１０２の第２の表面１１０のミクロ構造と異なる。図２Ｂは、ライナー１０４、１０６を除去した後、ミクロ構造化したポリマー１０２ａ層の断面図を示す。図２Ｂからわかるように、ライナー１０４、１０６を除去すると、ポリマー層１０２ａは、第１及び第２の表面１０８、１１０の両方にチャンネル１２４を含み、それによって両方の表面に沿って空気流出が可能になる。
【００１７】
図３Ａは、本発明の緩衝構造２００の成形構成体の第３の実施形態の断面図である。成形構成体は、ポリマー層２０２、感圧性接着剤２０４、第１のミクロ構造化したライナー２０６及び第２のミクロ構造化したライナー２０８を含む。第３の実施例のポリマー層２０２及び第１のミクロ構造化したライナー２０６は、特性及び機能性で第１及び第２の実施形態のポリマー層１２、１０２及びミクロ構造化したライナー１４、１０４に類似している。第２のミクロ構造化したライナー２０８の第１の表面２２２が感圧性接着剤２０４の第２の表面２１６に隣接して位置付けられることを除いて、第２のミクロ構造化したライナー２０８も、第２の実施形態の第２のミクロ構造化したライナー１０６と特性及び機能性で類似している。感圧性接着剤２０４の第１の表面２１４は、ポリマー層２０２の第２の表面２１２に隣接して位置付けられている。図３Ａの実施形態では、第２のミクロ構造化したライナー２０８のトポグラフィー表面２２２は、第１のミクロ構造化したライナー２０６のトポグラフィー表面２２０と異なる。この実施形態では、ポリマー層２０２の第１の表面２１０のミクロ構造２２６は、感圧性接着剤２０４の第２の表面２２０のミクロ構造２２８と異なる。他の実施形態では、第２のミクロ構造化したライナー２０８のトポグラフィー表面は、第１のミクロ構造化したライナー２０６のトポグラフィー表面と同じであってもよい。これらの実施形態では、ポリマー層２０２の第１の表面２１０のミクロ構造は、感圧性接着剤２０４の第２の表面２１６のミクロ構造と同じである。
【００１８】
図３Ｂは、ライナー２０６、２０８を除去した後、ミクロ構造化したポリマー層及びミクロ構造化した感圧性接着剤積層体の断面図を示す。図からわかるように、いったんライナー２０６、２０８を除去した後と、ポリマー層２０２ａ及び感圧性接着剤２０４ａはミクロ構造化した表面を含み、チャンネル２３０、２３２が生成して、露出面に沿った空気流出が可能になる。
【００１９】
本発明の緩衝構造３００の第４の実施形態は、図４Ａ及び４Ｂの断面図に示すように、第４の実施形態では緩衝構造３００が第１の感圧性接着剤及び第２の接着剤を含むことを除き、ミクロ複製構造の第３の実施形態に類似している。第４の実施形態は、ポリマー層３０２、第１の感圧性接着剤３０４、第２の接着剤３０６、第１のミクロ構造化したライナー３０８及び第２のミクロ構造化したライナー３１０を含む。一実施形態では、第２の接着剤３０６は感圧性接着剤であってもよい。一実施形態において、緩衝構造３００は、感圧性接着剤３０４、３０６の間に位置付けられたプラスチック支持体又はコア３１２を任意に含んでもよい。第４の実施形態のポリマー層３０２、第１の感圧接着剤３０４、第１のミクロ構造化したライナー３０８及び第２のミクロ構造化したライナー３０８は、特性及び機能性で第３の実施形態のポリマー層２０２、第１の感圧接着剤２０４、第１のミクロ構造化したライナー２０６及び第２のミクロ構造化したライナー２０８と類似している。しかしながら、第４の実施形態では、第２の接着剤３０６は、ポリマー層３０２と第１の感圧性接着剤３０４との間に位置付けされる。第２の接着剤３０６の第２の表面３２４は、第１のミクロ構造化した感圧性接着剤３０４の第１の表面３１８に隣接して位置付けされ、第２の接着剤３０６の第１の表面３２２は、ポリマー層３０２の第２の表面３１６に隣接して位置付けされる。図４Ａの実施形態では、第２のミクロ構造化したライナー３１０のトポグラフィー表面３３０は、第１のミクロ構造化したライナー３０８のトポグラフィー表面３２８と異なる。この実施形態では、ポリマー層３０２の第１の表面３１４のミクロ構造３３４は、第１の感圧性接着剤３０４の第２の表面３２０のミクロ構造３３６と異なる。他の実施形態では、第２のミクロ構造化したライナー３１０のトポグラフィー表面は、第１のミクロ構造化したライナー３０８のトポグラフィー表面と同じであってもよい。これらの実施形態では、ポリマー層３０２の第１の表面３１４のミクロ構造は、第１の感圧性接着剤３０４の第２の表面３２０のミクロ構造と同じである。図４Ｂからわかるように、ライナー３０８、３１０の除去の後、ポリマー層３０２ａ及び第１の感圧性接着剤３０４ａはそれぞれ、ミクロ構造化したライナー３０８、３１０が前に位置付けされた場所にミクロ複製した表面３１４、３２０を含む。ミクロ複製した表面３１４、３２０は、ポリマー層３０２ａの第１の表面３１４上にチャネル３３８と、第１のミクロ構造化した感圧性接着剤３０４ａの第２の表面３２４上にチャネル３４０をそれぞれ生成し、両方の表面に沿った空気流出を可能にする。第４の実施形態は、ミクロ構造化したポリマー層３０２ａと第１のミクロ構造化した感圧性接着剤３０４ａとの間に位置付けされた第２の接着剤３０６を含む。
【００２０】
図５Ａ、５Ｂ、５Ｃ及び５Ｄは、本発明の緩衝構造４００の第５の実施形態を示す。図５Ａに示すように、緩衝構造４００は、ポリマー層４０２、ポリマー層４０２の第１の表面４０８に隣接して位置付けされたミクロ構造化したライナー４０４、及びポリマー層４０２の第２の表面４１０に隣接して位置付けされた剥離ライナー４０６を含む。第５の実施形態のポリマー層４０２、ミクロ構造化したライナー４０４及び剥離ライナー４０６は、機能性で第１の実施形態のポリマー層１２、ミクロ構造化したライナー１４及び剥離ライナー１６と類似しているが、第５の実施形態において、ポリマー層４０２が発泡体で出来ていてもよく、ミクロ構造化したライナー４０４のトポグラフィー表面４１４の反転であるミクロ構造化した表面４０８は、複数の独立した不連続の切頂正四角錐様の形状の突出部を含む。したがって、図５Ｂの断面図及び図５Ｃの平面図に見られるように、ライナー４０４、４０６を除去した後、ポリマー層４０２ａは、ポリマー層４０２ａの第１の表面４０８上に不連続のポケット又は窪みを有する第１のミクロ構造化した表面４０８を含む。不連続の切頂正四角錐様形状の突出部が図５に示されているが、当該技術分野において既知の任意の形状の別個の窪みが使用されてもよい。
【００２１】
図５Ｄに示すシール層４２２がミクロ構造化したポリマー層４０２ａの第１の表面４０８に対して位置付けされたときに、ポケット４２０は、ミクロ構造化したポリマー層４０２ａ内において空気を捕捉できる。一実施形態において、シール層４２２の厚さは、ミクロ構造化したポリマー層４０２ａのポケット４２０の深さよりも小さい。一実施形態において、シール層４２２は、当該技術分野において既知のプラスチックフィルムである。例えば、プラスチックフィルムは、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリエチレン及びポリプロピレン等のポリオレフィン、又はナイロン６、ナイロン６，６及びナイロン６，１２等のポリアミド、ポリカーボネート等であってもよい。
【００２２】
一実施形態において、本発明の緩衝構造のミクロ構造化した表面は、硬化性ポリマー前駆体を調製し、この前駆体を剥離ライナーの間にコーティングすることによって形成される。剥離ライナーのうちの少なくとも１つは、ポリマー層に所望される表面の反転表面を有するミクロ構造化した表面を含む。コーティング後に、前駆体は、熱又は化学線（例えば、紫外線）によって硬化されて、ポリマー層を形成する。しかしながら、軟質熱可塑性ポリマー又は熱可塑性エラストマーを使用する場合、熱（ガラス転移温度又は軟化点よりも高温）及び圧力（１ポンド毎リニアインチ（ＰＬＩ）を超える）エンボス加工を使用して、ポリマー層のミクロ構造化した表面を形成してもよい。更に、感圧性接着剤を溶媒溶液から出したし後、熱オーブンで乾燥した場合、乾燥感圧性接着剤は、ミクロ構造化した像を生じる。
【実施例】
【００２３】
本発明は、本発明の範囲内の多数の修正例及び変更例が当業者にとって明らかであるために、例証のみを意図する以下の実施例に更に詳しく記載されている。別段の指定がない限り、以下の実施例で報告される全ての部、パーセンテージ、及び比率は、基本重量を基準としたものである。
【００２４】
【表１】
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【００２５】
試験方法、調製手順
ミクロ構造化した剥離ライナー１（ＭＳＲＬ１）の調製
従来の微細エンボス加工技術によってＭＳＬ１を調製した。例えば、参考としてその全体を本明細書に援用する米国特許第６，５２４，６７５号（Ｍｉｋａｍｉ，ｅｔ．ａｌ．）及び米国特許第６，７５９，１１０号（Ｆｌｅｍｍｉｎｇ，ｅｔ．ａｌ．）を参照。剥離ライナーは、エンボス加工をして、前側表面に突出した隆起部のパターンを形成した。ライナーは、概ね、約１２５マイクロメートル厚さの紙製コア、裏側が艶消し仕上げの約２５マイクロメートル厚さのポリエチレン、前側が光沢仕上げの約２５マイクロメートル厚さのポリエチレン、及び光沢ポリエチレン側への市販のシリコーンコーティングを有した。パターンは、彫刻エンボス加工ツールを用いて熱及び圧力下で形成された。ライナーにエンボス加工された最終パターンは、ツールの軸から４５°配向した窪みの正方格子配列を形成する２組の交差する平行隆起部の列であった。隆起部は、台形の断面形状を有した。台形の底部は長さ約１３０マイクロメートルで、台形の頂部は長さ約２６マイクロメートルであった。台形の２つの内側壁と底部との間の角度はいずれも約３０°であった。台形の高さは、約３０マイクロメートルであった。台形断面形状の隆起部の線状の密度は、約１５ライン毎インチで、約１６９３マイクロメートルの繰り返しピッチ（隆起部の中心間距離）を与える。この線状のパターンを作製するために使用したエンボス加工ツールは、このパターンの反転を有した。
【００２６】
ミクロ構造化した剥離ライナー２（ＭＳＲＬ２）の調製
形成部寸法を除き、ＭＳＬ１と同様にしてＭＳＬ２を調製した。ＭＳＬ２は、エンボス加工ツールの軸から４５°配向した、錐台四角錐形の窪みの正方格子配列を有した。これらの窪みは、交差する線状隆起部の対応する列を生成し、この線状隆起部は互いに垂直であった。ライナー内に突出し、窪みの底部を表す角錐の頂部は、長さ約２マイクロメートルであった。角錐の底部は約２８６マイクロメートルであり、角錐の高さ（深さ）は約２５マイクロメートルであった。錐台四角錐形の窪みの線状の密度は、約８７毎インチで、約２９２マイクロメートルの繰り返しピッチ（隆起部の中心間距離）であり、約６マイクロメートルの窪みの間の対応するスペースを与えた。この線状パターンを作製するために使用したエンボス加工ツールは、このパターンの反転を有した。
【００２７】
ミクロ構造化した剥離ライナー３（ＭＳＲＬ３）
ＭＳＬ３は、３Ｍ  Ｋｏｒｅａ，ＬＴＤ．（Ｓｅｏｕｌ，Ｓｏｕｔｈ  Ｋｏｒｅａ）から商品名８３７０３ＢＥで入手可能な市販のライナーであった。８３７０３ＢＥは、コア基板としての黒色ＰＥＴ及び両面感圧性接着剤（ｐｓａ）に隣接する二重剥離ライナーを有するｐｓａ転写テープであった。ｐｓａの主表面のうちの１つは、隣接した剥離ライナーの反転ミクロ構造に対応するミクロ構造化した表面を有した。その他のアクリルｐｓａは、隣接する剥離ライナーの実質的に平坦な主表面に対応する実質的に平坦な主表面を有した。
【００２８】
実施例１〜３及び比較例５（ＣＥ−５）
７５重量部（ｐｂｗ）のＣａｒｐｏｌ  ＧＰ−１０００、２５ｐｂｗのＣａｒｐｏｌ  ＧＰ−７００、９．５ｐｂｗのＦｙｒｏｌ  ＨＦ−５、２．０ｐｂｗのＲＥＰＩ  ９０３３２  Ｂｌａｃｋ、０．１ｐｂｗのＢｉｃａｔ  ８２１０及び０．２ｐｂｗのＢｉｃａｔ  Ｚを混合することによって、ポリオールプレミックスを調製した。構成成分をＦｌａｃｋＴｅｋ  Ｉｎｃ．（Ｌａｎｄｒｕｍ，Ｓｏｕｔｈ  Ｃａｒｏｌｉｎａ）から入手可能なＤＡＣカップに入れ、ＦｌａｃｋＴｅｋ  Ｉｎｃ．から入手可能なＨａｕｓｃｈｉｉｄ  ＳＰＥＥＤＭＩＸＥＲ  ＤＡＣ  ４００  ＦＶＺを用いて、２１００ｒｐｍで２分間混合した。
【００２９】
９０ｐｂｗのＲｕｂｉｎａｔｅ  １６７０及び１０．５ｐｂｗのＦｙｒｏｌ  ＨＦ−５からイソシアネートプレミックスを作製した。イソシアネートプレミックスの構成成分を、上記のように混合した。
【００３０】
２体積部のポリオールプレミックスと１体積部のイソシアネートプレミックスを用いて、上記２種類のプレミックス溶液を、スタティックミキサーを有する注射器内に組み合わせた。反応性ポリウレタン前駆体溶液を形成するミキサーによって、液体を注射器から分注した。
【００３１】
適切な剥離ライナー間のポリウレタン前駆体のナイフコーティングによって、ポリウレタン薄膜を作製した（表１参照）。全ての実施例及び比較例において、５ｍｉｌ（１２７マイクロメートル）の厚さにポリウレタン前駆体をコーティングした。次いで、ポリウレタン前駆体を１７０°Ｆで２分間硬化し、非粘着性のポリウレタンフィルムを得た。比較例５を除く全ての実施例は、コーティングプロセス及び対応する隣接したミクロ構造化したライナー表面によって作製されたミクロ構造化した表面を有する少なくとも１つの主表面を有した。ポリウレタンフィルムのミクロ構造化した表面は、ミクロ構造した剥離ライナーの表面の反転構造であった。ＭＳＲＬ３を頂部ライナーとして使用した場合、ミクロ構造化したｐｓａ表面に隣接する剥離ライナー（受領したままの両面テープ）をコーティングの前に除去した。次いで、ポリウレタン前駆体を、ＭＳＲＬ３のミクロ構造化したｐｓａ表面に隣接するようにコーティングした。
【００３２】
実施例４
実施例４を、底部剥離ライナーがＭＳＲＬ３であり、頂部剥離ライナーがＭＳＲＬ１であったことを除き、実施例１〜３と同様に調製した。この場合、実質的に平坦表面に隣接する剥離ライナー（受領したままの両面テープＭＳＲＬ３）をＭＳＲＬ３から除去した。コーティング時、ポリウレタン前駆体を、ＭＳＲＬ３のｐｓａの実質的に平坦な表面及びＭＳＲＬ１のミクロ構造化した表面に隣接してコーティングした。ポリウレタン前駆体を硬化した後、ポリウレタンフィルムは、ミクロ構造化したポリウレタンの１つの主表面（ＭＳＲＬ１のミクロ構造化した表面に隣接する表面）を含む積層構成体からなり、他の主表面はＭＳＲＬ３のｐｓａのミクロ構造化した表面であった。構成体は、積層体（ミクロ構造化したポリウレタン及びミクロ構造化したｐｓａ）の２つの外側主表面と接触する剥離ライナーをなおも含み、この剥離ライナーを使用前に除去することができる。
【００３３】
実施例１及び２は、ミクロ構造化されている１つの主表面を含むポリウレタンフィルムを作製した。実施例３及び４は、ミクロ構造化されている両方の主表面を含むポリウレタンフィルムを作製した。比較例５は、ミクロ構造化した表面がなかった。構成体は、ポリウレタンフィルムの２つの外側主表面と接触する剥離ライナーをなおも含み、この剥離ライナーを使用前に取り除くことができる。
【００３４】
【表２】
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【００３５】
好ましい実施形態を参照しながら本発明を説明してきたが、本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく形態及び詳細を変更する可能性があることを、当業者であれば理解できるであろう。
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図１Ｃ】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図５Ｄ】
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【国際調査報告】
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