(57)【要約】本発明は、一つの面（１１）が、赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する薄膜積層体（１４）で覆われる基板（１０）であり、該積層体が、特に銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースである単一の金属機能膜（１４０）と二つの反射防止コーティング（１２０、１６０）とを有し、前記コーティングがそれぞれ、少なくとも一つの誘電体膜（１２２、１６４）を有し、前記機能膜（１４０）が、二つの反射防止コーティング（１２０、１６０）の間に配置されている基板であって、前記反射防止コーティング（１２０、１６０）のうちの少なくとも一つが、０．０５＜ｘ＜０．３である酸化亜鉛Ｚｎ1Ｏ1+xを含む、０．５ｎｍ〜２０ｎｍ、さらには２．５ｎｍ〜１０ｎｍの物理的な厚さを有する中間膜を有することを特徴とする基板に関する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一つの面（１１）が、赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する薄膜積層体（１４）で覆われている基板（１０）であり、該積層体が、特に銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースである単一の金属機能膜（１４０）と二つの反射防止コーティング（１２０、１６０）とを有し、前記コーティングがそれぞれ、少なくとも一つの誘電体膜（１２２、１６４）を有し、前記機能膜（１４０）が、二つの反射防止コーティング（１２０、１６０）の間に配置されている基板であって、前記反射防止コーティング（１２０、１６０）のうちの少なくとも一つが、０．０５＜ｘ＜０．３である酸化亜鉛Ｚｎ1Ｏ1+xを含む、０．５ｎｍ〜２０ｎｍ、さらには２．５ｎｍ〜１０ｎｍの物理的な厚さを有する中間膜を有することを特徴とする基板。
【請求項２】
前記中間膜が、０．１＜ｘ＜０．３、さらには０．１５＜ｘ＜０．２５である酸化亜鉛Ｚｎ1Ｏ1+xを含むことを特徴とする、請求項１に記載の基板（１０）。
【請求項３】
前記中間膜が、機能膜（１４０）より上方の反射防止コーティング（１６０）内に、好ましくは前記機能膜（１４０）の上に直接位置する上方阻止コーティング（１５０）の上に直接位置することを特徴とする、請求項１または２に記載の基板（１０）。
【請求項４】
前記中間膜が、前記金属機能膜（１４０）の下に配置される前記誘電体コーティング（１２０）内に、好ましくは前記機能膜（１４０）の下に直接位置することを特徴とする、請求項１から３のいずれか一つに記載の基板（１０）。
【請求項５】
前記中間膜が、別の一つの面で、１０〜１５ｎｍの物理的な厚さを有する窒化物ベースの誘電体膜と直接接触して位置しており、この膜が好ましくは窒化ケイ素Ｓｉ3Ｎ4ベースであることを特徴とする、請求項３または４に記載の基板（１０）。
【請求項６】
前記金属機能膜（１４０）の下に配置される前記反射防止コーティング（１２０）が、２．３〜２．７の屈折率を有する材料製の高屈折率膜（１２４）を有し、この膜が好ましくは酸化物ベースであることを特徴とする、請求項１から５のいずれか一つに記載の基板（１０）。
【請求項７】
前記高屈折率膜（１６４）が、５〜２５ｎｍの物理的な厚さを有することを特徴とする、請求項６に記載の基板（１０）。
【請求項８】
シャーシ構造（９０）によって一つにまとめて保持される、少なくとも二つの基板（１０、３０）を有する複層グレージングユニット（１００）であって、前記グレージングユニットが、外部空間（ＥＳ）と内部空間（ＩＳ）との間の仕切りを実現するものであり、該グレージングユニットの中には、少なくとも一つのガスの中間層（１５）が二つの基板の間に配置され、一つの基板（１０）が請求項１から７のいずれか一つに記載のものである複層グレージングユニット。
【請求項９】
一つの面（１１）が、特に銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースである単一の金属機能膜（１４０）と二つの反射防止コーティング（１２０、１６０）を有する、赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する薄膜積層体（１４）で覆われている、基板（１０）の獲得方法であって、以下の工程を順番に含む方法：
−請求項１から７のいずれか一つに記載の、特に銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースである単一金属機能膜（１４０）と二つの反射防止コーティング（１２０、１６０）を有する、赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する薄膜積層体（１４）の、前記基板（１０）の一つの面（１１）への堆積、
−放射源、特に赤外放射源を使った、前記薄膜積層体（１４）の処理。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シャーシ構造によって一つにまとめて保持される、ガラス基板タイプの少なくとも二つの基板を有する複層グレージングユニットに関しており、前記グレージングユニットは、外部空間と内部空間との間の仕切りを実現するものであり、該グレージングユニットの中には、少なくとも一つのガスの中間層が二つの基板の間に配置されている。
【０００２】
既知の方法では、基板のうちの一つは、ガスの中間層と接触している内側面が、特に銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースである単一の金属機能膜と二つの反射防止コーティングとを有する、赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する薄膜積層体で覆われ得、前記コーティングはそれぞれ、少なくとも一つの誘電体膜を有し、前記機能膜は、二つの反射防止コーティングの間に配置されている。
【０００３】
本発明はより詳細には、断熱グレージングユニットおよび／またはサンプロテクショングレージングユニットを製造するためのそのような基板の使用に関する。これらのグレージングユニットは建物に取り付けられるためのものであり得、空気調節のための労力を減少させること、および／または極端な過熱を防ぐこと（いわゆる「ソーラーコントロール」グレージングユニット）、および／または建物において増え続けている多数のガラス面によってもたらされる、外部へ消散するエネルギー量を減少させること（いわゆる「低放射」グレージングユニット）を特に目的としている。
【０００４】
また、これらのグレージングユニットは、例えば電熱グレージングユニットまたはエレクトロクロミックグレージングユニットのような、特定の機能性を有するグレージングユニット内に組み込まれ得る。
【０００５】
そのような特性を基板に付与することで知られているタイプの膜積層体は、赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する金属機能膜、特に銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースの金属機能膜を有する。
【０００６】
このタイプの積層体において、機能膜はこのように二つの反射防止コーティングの間に配置されており、該二つの反射防止コーティングは、一般にそれぞれ複数の膜を有し、該複数の膜は、それぞれが窒化物タイプ、特に窒化ケイ素または窒化アルミニウム、または酸化物タイプの誘電体材料製である。光学的観点において、金属機能膜を挟むこれらのコーティングの目的は、この金属機能膜の「反射を防止する」ことである。
【０００７】
ただし阻止コーティングが、一つまたは各々の反射防止コーティングと金属機能膜との間に挿入されることが時としてあり、基板の方向にある機能膜の下に配置される阻止コーティングは、場合によっては行われ得る型押しおよび／または焼入れタイプの高温での熱処理の際に該膜を保護し、また基板とは反対側にある機能膜の上に配置される阻止コーティングは、上方誘電体コーティングの堆積の際、また場合によっては行われ得る型押しおよび／または焼入れタイプの高温での熱処理の際に、場合によっては起こり得る損傷からこの膜を保護する。
【０００８】
本発明はより詳細には、積層体の内部で中間膜を使用すること、および完全な薄膜積層体を放射源、特に赤外放射源を使って処理することに関する。
【０００９】
特に国際公開第２０１０／１４２９２６号により、積層体の吸収性中間膜を準備すること、および低放射積層体の放射率を低減するためまたは光学特性を改善するために積層体の堆積後の処理を行うことが知られている。処理は、金属機能膜の質を改善すること、したがって放射率（シート抵抗に直接結びつくもの）を低減することを可能にし、また吸収性中間膜の使用は、処理中の積層体の吸収を増大させ、処理が短くても効果的になることを可能にする。吸収性中間膜が処理の際に透明になるため、処理後の積層体の光学特性は興味深いものである（高い光線透過を特に得ることができる）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】国際公開第２０１０／１４２９２６号
【００１１】
しかしながら、この解決案は完全に満足すべきものではなく、というのも、金属機能膜の質がさらに改善されること、したがってシート抵抗がさらに低減されることが望まれているからである。
【００１２】
本発明の目的は、単一機能膜を有する膜積層体の新しいタイプ、すなわち処理後にさらにより低いシート抵抗（つまりさらにより低い放射率）を有する積層体を開発することによって、先行技術の不都合の解決に至ることである。
【００１３】
本発明はこのように、その最も広い意味において、一つの面が、赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する薄膜積層体で覆われている、請求項１による基板を目的としている。この積層体は、特に銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースである単一の金属機能膜と二つの反射防止コーティングとを有し、前記コーティングはそれぞれ、少なくとも一つの誘電体膜を有し、前記機能膜は、二つの反射防止コーティングの間に配置されている。
【００１４】
本発明によると、前記反射防止コーティングのうちの少なくとも一つは、０．０５＜ｘ＜０．３である酸化亜鉛Ｚｎ1Ｏ1+xを含む、０．５ｎｍ〜２０ｎｍ、さらには２．５ｎｍ〜１０ｎｍ、またさらには２．５ｎｍ〜４ｎｍの物理的な厚さを有する中間膜を有する。
【００１５】
実際、超化学量論的な酸化亜鉛ベースの中間膜が、放射源を使った処理の後に、さらにより低いシート抵抗を得ることを可能にすることを発見した。
【００１６】
本発明の趣旨での「コーティング」とは、コーティング内に単一の膜または異なる材料の複数の膜があり得ることを理解しなければならない。
【００１７】
通例通り、本発明の趣旨での「誘導体膜」とは、その性質の観点から、膜の材料が「非金属」であること、すなわち金属ではないことを理解しなければならない。本発明の文脈において、この用語は、可視光波長域（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）の全範囲に渡って５以上であるｎ／ｋ比率を有する材料を示す。
【００１８】
本明細書において示される屈折率の値は、通例通り５５０ｎｍの波長で測定される値である。
【００１９】
本発明の趣旨での「〜ベースの膜」とは、膜が、言及される材料を５０原子％より多く含むことを理解しなければならない。
【００２０】
前記中間膜は、０．１＜ｘ＜０．３、さらには０．１５＜ｘ＜０．２５である酸化亜鉛Ｚｎ1Ｏ1+xを好ましくは含む。
【００２１】
特定の一つのバージョンにおいて、前記中間膜は酸化亜鉛Ｚｎ1Ｏ1+xから成り、いかなる他の元素も含まない。
【００２２】
本発明の特定の一つのバージョンにおいて、前記中間膜は、基板を起点として考えて、機能膜より上方の反射防止コーティング内に、好ましくは前記機能膜の上に直接位置する上方阻止コーティングの上に直接位置する。
【００２３】
機能膜より上方の反射防止コーティング内に位置する中間層が、この機能膜が基板の方向に、下に位置することから、この機能膜の質についての有益な効果をもたらすことができること、またしたがって積層体のシート抵抗についての有益な効果をもたらすことができることは、とりわけ驚くべきことである。
【００２４】
本発明の別の特定の一つのバージョンにおいて、前記中間膜は、前記金属機能膜の下に配置される前記誘電体コーティング内に、好ましくは前記機能膜の下に直接位置する。
【００２５】
上記のバージョンのいずれにせよ、前記中間膜は、好ましくは別の面で、１０ｎｍ〜５０ｎｍの物理的な厚さを有する窒化物ベースの誘電体膜と直接接触して位置しており、この膜は好ましくは窒化ケイ素Ｓｉ3Ｎ4ベースである。
【００２６】
前記金属機能膜の下に配置される前記反射防止コーティングは、好ましくは、２．３〜２．７の屈折率を有する材料製の高屈折率膜を有し、この膜は好ましくは酸化物ベースである。
【００２７】
この高屈折率膜は、積層体の可視光線の高透過率を最大にすることを可能にし、また透過色においても反射色においても、中性色の獲得について有利な影響を及ぼす。
【００２８】
この高屈折率膜は、好ましくは５ｎｍ〜２５ｎｍの物理的な厚さを有する。
【００２９】
本発明の別の特定の一つのバージョンにおいて、基板から最も離れた膜である、上方誘電体コーティングの最後の膜は、好ましくは準化学量論的に堆積される酸化物ベースであり、特に酸化チタン（ＴｉＯx）ベースである。
【００３０】
積層体はこのように、好ましくは準化学量論的に堆積される最後の膜（英語で「ｏｖｅｒｃｏａｔ」）、すなわち保護膜を有し得る。この膜は、堆積後の積層体において、化学量論的に大部分が酸化された状態である。
【００３１】
０．０５＜ｘ＜０．３である酸化亜鉛Ｚｎ1Ｏ1+xを含む、０．５ｎｍ〜２０ｎｍ、さらには２．５ｎｍ〜１０ｎｍ、またさらには２．５ｎｍ〜４ｎｍの物理的な厚さを有する本発明による膜を、単一機能膜を有する薄膜積層体の反射防止コーティング内の中間膜として使用することを想定することがさらに可能である。
【００３２】
本発明は、一つの面が、特に銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースである単一の金属機能膜と二つの反射防止コーティングを有する、赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する薄膜積層体で覆われている、基板の獲得方法にさらに関しており、該方法は以下の工程を順番に含む：
−特に銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースである単一の金属機能膜と二つの反射防止コーティングを有する、赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する本発明による薄膜積層体の、前記基板の一つの面への堆積、次いで
−放射源、特に赤外放射源を使った、前記薄膜積層体の処理。
【００３３】
本発明は、シャーシ構造によって一つにまとめて保持される少なくとも二つの基板を有する複層グレージングユニットにさらに関しており、前記グレージングユニットは、外部空間と内部空間との間の仕切りを実現するものであり、該グレージングユニットの中には、少なくとも一つのガスの中間層が二つの基板の間に配置され、一つの基板は本発明によるものである。
【００３４】
好ましくは、少なくとも二つの基板を有する複層グレージングユニット、または少なくとも三つの基板を有する複層グレージングユニットの単一の基板のみが、ガスの中間層と接触している内側面で、赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する本発明による薄膜積層体によって覆われている。
【００３５】
本発明によるグレージングユニットは、本発明による積層体を備える基板を少なくとも包含するが、該積層体は場合によっては少なくとも別の一つの基板に結びついている。各基板は、クリアであるかまたは着色されていてよい。少なくとも基板のうちの一つは特に、全体が着色されたガラス製であってよい。着色タイプの選択は、製造完了後のグレージングユニットに求められる光線透過レベル、および／または比色定量アスペクトに依るであろう。
【００３６】
本発明によるグレージングユニットは積層構造を有することができ、該積層構造は、少なくとも一つの熱可塑性ポリマーフィルムによって少なくとも二つのガラスタイプの硬質基板を特に結びつけて、ガラス／薄膜積層体／シート（単数または複数）／ガラス／ガスの中間層／ガラスシートのタイプの構造を示す。ポリマーは特に、ポリビニルブチラールＰＶＢ、エチレン酢酸ビニルＥＶＡ、ポリエチレンテレフタレートＰＥＴ、ポリ塩化ビニルＰＶＣベースであり得る。
【００３７】
有利には本発明はこうして、放射源を使った処理の後に、透明基板上に堆積された状態で、さらにより低いシート抵抗を有する単層機能膜の薄膜積層体を実現することができる。
【００３８】
有利には、放射源を使った処理とは、基板と積層体から成るセット全体の高温熱処理ではない。つまり基板は、放射源を使ったこの処理によって熱処理されない（型押し、焼入れ、または焼きなましではない）。
【００３９】
本発明の詳細および有利な特徴は、以下のような添付の図面を使って説明される、後続の非限定例から明らかになる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明による単層機能膜の積層体であって、機能膜は、下方阻止コーティングの上に直接、また上方阻止コーティングの下に直接堆積され、積層体は、放射源を使った処理が図示されている。
【図２】単層機能膜の積層体を組み入れる二重グレージングユニットの一解決案。
【００４１】
これらの図において、様々な膜または様々な構成要素の厚さ間の比は、それらの読み取りを容易にするために厳密には順守されていない。
【発明を実施するための形態】
【００４２】
図１は、透明なガラス基板１０の上に堆積される、先行技術の単層機能膜の積層体の構造を示しており、該構造において、特に銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースの単一の機能膜１４０は、二つの誘電体コーティング、すなわち、基板１０の方向にある機能膜１４０の下方に位置する下方誘電体コーティング１２０と、基板１０とは反対側にある機能膜１４０の上方に配置される上方誘電体コーティング１６０との間に配置されている。
【００４３】
これらの二つの誘電体コーティング１２０、１６０はそれぞれ、少なくとも二つの誘電体膜１２２、１２６、１２８また１６２、１６４を有する。
【００４４】
場合によっては、一方では機能膜１４０は、下方誘電体コーティング１２０と機能膜１４０との間に配置される下方阻止コーティング１３０の上に直接堆積され得、また他方では機能膜１４０は、機能膜１４０と上方誘電体コーティング１６０との間に配置される上方阻止コーティング１５０の下に直接堆積され得る。
【００４５】
下方阻止膜および／または上方阻止膜は、金属の形態で堆積されまた金属膜のようであるにも拘らず、実際には酸化膜であるということがあり、というのは、それらの機能（特に上方阻止膜について）のうちの一つが、積層体が堆積する間に酸化して機能膜を保護することだからである。
【００４６】
この誘電体コーティング１６０は、とりわけ酸化物ベースの、特に酸素の量が準化学量論的な、任意の保護膜１６８で終わり得る。
【００４７】
図２で示されるように、単層機能膜の積層体が、二重グレージングユニット構造の複層グレージングユニット１００において使用されるとき、このグレージングユニットは、シャーシ構造９０によって一つにまとめて保持され、ガスの中間層１５によって互いに分離されている二つの基板１０、３０を有する。
【００４８】
グレージングユニットは、外部空間ＥＳと内部空間ＩＳとの間の仕切りをこのように実現する。
【００４９】
積層体は、面２（建物内に入り込む太陽光の入射方向を考慮して建物の最も外部側のシートの上、かつガスの層の方に向けられているその面の上）に位置づけされ得る。
【００５０】
図２は、ガスの中間層１５と接触している基板１０の内側面１１の上に位置づけられる薄膜積層体１４の、面２へのこの位置づけを示しており（建物内に入り込む太陽光の入射方向は、二重矢印で示されている）、基板１０のもう一方の面９は、外部空間ＥＳと接触している。
【００５１】
しかしながら、二重グレージングユニットのこの構造において、基板のうちの一つが積層構造を有することもまた検討され得る。
【００５２】
例１〜３の３つの例が実現された。
【００５３】
これらの３つの例について、機能膜１４０より下の反射防止コーティング１２０は、３つの反射防止膜１２２、１２４、１２８を有し、積層体の第一の膜であり面１１と接触している膜１２２は、中屈折率の膜である。該膜は、窒化物Ｓｉ3Ｎ4：Ａｌ製であり、８質量％のアルミニウムをドープされたターゲット金属から堆積される。中屈折率の第一の反射防止膜１２２は、１．９〜２．１、ここで正確には２．０である屈折率を有する。
【００５４】
反射防止コーティング１２０の第二の反射防止膜である膜１２４は、高屈折率の膜である。該膜は、酸化チタンベースであり、２．３〜２．７、ここで正確には２．４６である屈折率を有する。
【００５５】
反射防止コーティング１２０の第三の反射防止膜は、金属機能膜１４０の真下に配置される湿潤膜１２８である。
【００５６】
例において、下方阻止コーティング１３０はない。
【００５７】
これらの例について、反射防止膜１２８は「湿潤膜」と呼ばれる。というのも該膜は、ここでは銀製である金属機能膜１４０の結晶化を改良することを可能にするからであり、これにより、その伝導率は向上する。この反射防止膜１２８は、アルミニウムをドープされた酸化亜鉛ＺｎＯ：Ａｌ製である（２質量％のアルミニウムをドープされた亜鉛から成るターゲット金属から堆積される）。
【００５８】
上方反射防止コーティング１６０は、以下を含む：
−アルミニウムをドープされた酸化亜鉛ＺｎＯ：Ａｌ製である誘電体膜１６２（２質量％のアルミニウムをドープされた亜鉛から成るターゲット金属から堆積される）、
−８質量％のアルミニウムをドープされたターゲット金属から堆積される、窒化ケイ素Ｓｉ3Ｎ4：Ａｌ製の膜である膜１６４、および
−酸化物ベースの保護膜１６８。
【００５９】
以下の全ての例について、膜の堆積条件は以下の通りである。
【００６０】
【表１】
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【００６１】
堆積膜は、このように３つのカテゴリに分類されることができる：
ｉ−可視光波長域の全範囲に渡って５より大きいｎ／ｋ比率を有する、誘電性の材料製膜、すなわちＳｉ3Ｎ4：Ａｌ製、ＴｉＯ2製、ＺｎＯ：Ａｌ製の膜、
ｉｉ−赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する材料製すなわちＡｇ製の金属機能膜、
ｉｉｉ−積層体を堆積する際に機能膜をその性質の変更から保護することを目的とする上方阻止膜および下方阻止膜であり、
それらの光学特性およびエネルギー特性への影響は一般に認められていない。
【００６２】
銀もまた、可視光波長域の全範囲に渡って０より大きく５未満であるｎ／ｋ比率を有するが、しかし固体状態でのその電気抵抗率が、１０-6Ω・ｃｍ未満であることが確認された。
【００６３】
以降の全ての例において、薄膜積層体は、ＳＡＩＮＴ−ＧＯＢＡＩＮ社によって供給される、商標Ｐｌａｎｉｌｕｘの厚さ４ｍｍのクリアなソーダ石灰ガラス製の基板の上に堆積される。
【００６４】
これらの積層体について、Ｒは、オームパースクエアで測定される、積層体のシート抵抗を示す。
【００６５】
さらにこれらの例について、積層体を備える基板が二重グレージングユニットの中に組み込まれるとき、二重グレージングユニットは、４−１６−４の構造（Ａｒ９０％）を有する。すなわちそれぞれの厚さが４ｍｍである二つのガラス製基板が、１６ｍｍの厚さを有するアルゴン９０％および空気１０％から成るガスの層によって分離されている。
【００６６】
これらの例は全て、二重グレージングユニットのこの形状において、ＥＮ６７３規格に従って算出されるおよそ１．０Ｗ／（ｍ2・Ｋ）のＵ値またはＫ値に達することを可能にした（これはグレージングユニットを通過する熱貫流率であり、外部空間と接触しているグレージングユニットの面と内部空間と接触しているグレージングユニットの面との間に一度の温度差があるときの、単位あたりの、定常状態の基板を通過する熱量を示すものである）。
【００６７】
３つの例が、図１に示される積層体構造であるが下方阻止コーティング１３０のないものにしたがって実現された。
【００６８】
以下の表１は、一連の例の膜それぞれの、ナノメートルでの幾何学的または物理的な厚さ（つまり光学上の厚さではない）を示す。
【００６９】
【表２】
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【００７０】
例１について、膜１６２を堆積するための酸素流量は、４００ｓｃｃｍであり、これは、この膜の堆積条件において、Ｚｎ1Ｏ1の安定した化学量論を有する膜を堆積することを可能にする流量である。それは、この膜についての通常の割合Ｏ／Ｚｎ＝１を意味し、例１は、したがって本発明の反例である。
【００７１】
例２について、膜１６２を堆積するための酸素流量は、４５０ｓｃｃｍであり、この流量は、Ｚｎ1Ｏ1.125の化学量論を有する膜を堆積することを可能にする。Ｏ／Ｚｎ比は、通常の割合よりも高く、堆積膜はしたがって、酸素の超化学量論を有する。
【００７２】
例３について、膜１６２を堆積するための酸素流量は、５００ｓｃｃｍであり、この流量は、Ｚｎ1Ｏ1.25の安定した化学量論を有する膜を堆積することを可能にする。堆積膜は、例２の膜よりも酸素の量がさらにより超化学量論である。
【００７３】
以下の表２は、積層体の処理後のこれらの例１〜３について測定される、オームパースクエアで表される、シート抵抗Ｒを示す。
【００７４】
【表３】
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【００７５】
このように、中間膜１６２における、１２．５％（例２）および２５％（例３）の酸化増加率によって、積層体のシート抵抗は、積層体の処理後に改善され、つまりシート抵抗は低減する。
【００７６】
積層体の処理は、全ての膜の堆積後に、積層体をダイオードレーザーカーテンの下に通すことから成り、ダイオードは、図１を参照すると積層体の上に位置づけされ、また積層体に向かって発光する。ダイオードは、９８０ｎｍの波長で発光し、それぞれのダイオードは、１２ｍｍの長さおよび５０μｍの幅で発光する。完全な積層体で覆われた基板の通過速度は、７ｍ／分である。
【００７７】
本発明による中間膜が、目的とする超化学量論に達するために必要な酸素を有するセラミックのターゲットから、酸素のない雰囲気において堆積されることも可能であるし、または目的とする超化学量論に達するために必要な酸素すべては有さないセラミックのターゲットから、酸素のある雰囲気において堆積されることも可能であることに注目することが重要である。
【００７８】
本発明は、上記部分において例として記述されている。本発明のさまざまな変形例を当業者が実現することができると理解されるが、だからといって請求項によって定義されているような特許範囲を逸脱するわけではない。
【符号の説明】
【００７９】
１０  基板
１１  面
１４  薄膜積層体
１２０  反射防止コーティング
１２２  誘電体膜
１２８  反射防止膜
１４０  金属機能膜
１６０  反射防止コーティング
１６４  誘電体膜
【図１】
2017537044.tif 000006
【図２】
2017537044.tif 000007
【国際調査報告】
2017537044.tif 000008
2017537044.tif 000009
2017537044.tif 000010
2017537044.tif 000011
2017537044.tif 000012
2017537044.tif 000013