(57)【要約】  個々のウエハをその中に支持するためのウエハ支持リングを利用するウエハシッパーである。ウエハ支持リングは、積層部の高さに影響を与えることなく、さまざまな厚さのウエハを支持し、衝撃事象の間に、リングの中への滞在ウエハの封じ込めを提供することが可能である。ウエハ及びリングは、ウエハ間に空隙部を画定するように協働し、それは、衝撃事象の間にウエハに付与されるショックを減衰させるために、衝撃事象のときのクッションとしての役割を果たす。同様に、いくつかの実施形態は、衝撃の効果を減衰させるために、積層部の最上のウエハと最下のウエハとの間に囲まれたガス・ポケットを画定する構造を含んでなる。さまざまな実施形態は、ウエハが衝撃事象の間にウエハ支持リングから外へ「飛び越える」ことを防止する構造を含む。いくつかの実施形態は、ウエハ・フラットを支持するための構造を含む。
2017508291.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウエハ出荷システムにおいて、該ウエハ出荷システムは複数のウエハ支持リングからなり、
それぞれのウエハ支持リングは、
中心軸線の周りに同心円状のフランジ部分であって、該フランジ部分は、第１の軸線方向面及び第２の軸線方向面を含んでなり、該第２の軸線方向面は、前記第１の軸線方向面の反対側にある、フランジ部分と、
前記フランジ部分の前記第１の軸線方向面から、前記中心軸線に対して平行な軸線方向に突出するリッジ部分と、
前記第２の軸線方向面にチャネルを画定する構造とからなり、
前記複数のウエハ支持リングのうちの第１のウエハ支持リングは、前記複数のウエハ支持リングのうちの第２のウエハ支持リングの上に積層されており、前記第２のウエハ支持リングの前記リッジ部分の遠位エッジが、前記第１のウエハ支持リングの前記チャネルの中に位置合わせされるようになっており、第１及び第２のウエハ支持リングは、それらの間に間隙を画定しており、前記間隙は、ウエハを含有するように構成されており、前記第１のウエハ支持リングに働かされる軸線方向の力が、前記ウエハに力を伝達することなく、前記第２のウエハ支持リングに伝達されるようになっている、ウエハ出荷システム。
【請求項２】
前記チャネルは、前記中心軸線に対して内側半径を画定する内側の半径方向壁部と、前記中心軸線に対して外側半径を画定する外側の半径方向壁部とを含んでなり、
前記複数のウエハ支持リングのそれぞれの前記リッジ部分及び前記チャネルは、前記チャネルによって画定される前記内側半径及び前記外側半径の中に前記リッジ部分があるように、軸線方向に整合させられている、請求項１に記載のウエハ出荷システム。
【請求項３】
前記チャネルは連続的である、請求項１に記載のウエハ出荷システム。
【請求項４】
前記リッジ部分は、連続的であり、前記第１のウエハ支持リングと第２のウエハ支持リングとの間に画定される前記間隙を取り囲んでいる、請求項３に記載のウエハ出荷システム。
【請求項５】
実質的に連続的な接触バンドは、前記リッジ部分の前記遠位エッジと前記チャネルとの間に画定されている、請求項４に記載のウエハ出荷システム。
【請求項６】
前記複数のウエハ支持リングのそれぞれの前記フランジ部分の前記第１の軸線方向面は、平面的な表面部分を含んでなり、前記平面的な表面部分は、前記リッジ部分に隣接して、前記リッジ部分から半径方向に内側にセットされており、前記平面的な表面部分は、ウエハのための位置合わせ平面を画定している、請求項５に記載のウエハ出荷システム。
【請求項７】
前記第１のウエハ支持リングは、前記第１のウエハと前記第１のウエハ支持リングの前記平面的な表面部分との間に実質的に連続的な接触バンドを提供するために、第１のウエハに係合するように構成されており、
前記第２のウエハ支持リングは、前記第２のウエハと前記第２のウエハ支持リングの前記平面的な表面部分との間に実質的に連続的な接触バンドを提供するために、第２のウエハに係合するように構成されており、
それによって、前記第１のウエハが前記第１のウエハ支持リングの中に配設され、前記第２のウエハが前記第２のウエハ支持リングの中に配設されているときに、前記第１のウエハ支持リング及び前記第２のウエハ支持リングは、囲まれた空隙部を画定するように構成されている、請求項６に記載のウエハ出荷システム。
【請求項８】
ウエハは、前記間隙の中に含有されている、請求項１に記載のウエハ出荷システム。
【請求項９】
前記ウエハ出荷システムは、
レセプタクル部分と、
前記レセプタクル部分の閉鎖を提供するように構成されているカバー部分と、
を備え、
前記複数のウエハ支持リングは、積層部の中に配置されており、前記積層部は、前記レセプタクル部分の中に配設されており、前記カバー部分は、前記カバー部分が前記レセプタクル部分との閉鎖状態にあるときに、前記積層部に接触し、前記カバー部分と前記レセプタクル部分との間に前記積層部を固定する、請求項１乃至８のいずれか１項に記載のウエハ出荷システム。
【請求項１０】
前記ウエハ出荷システムは、
レセプタクル部分と、
前記レセプタクル部分の閉鎖を提供するように構成されているカバー部分と、
を備え、
前記複数のウエハ支持リングは、積層部の中に配置されており、前記積層部は、前記レセプタクル部分のベース部分の上に着座させられており、前記カバー部分は、前記カバー部分が前記レセプタクル部分との閉鎖状態にあるときに、前記積層部に接触し、前記カバー部分と前記ベース部分との間に前記積層部を固定し、
前記積層部は、最下のウエハ支持リングを含んでなり、前記最下のウエハ支持リングは、前記レセプタクル部分の前記ベース部分に係合し、それらの間に実質的に連続的な接触バンドを画定しており、前記最下のウエハ支持リングは、最下のウエハ及び前記最下のウエハ支持リングの前記平面的な表面部分との間に実質的に連続的な接触バンドを提供するために、前記最下のウエハに係合するように構成されており、
それによって、前記最下のウエハ支持リング及び前記ベース部分は、前記最下のウエハが前記最下のウエハ支持部部分の中に配設されているときに、囲まれたガス・ポケットを画定するように構成されている、請求項６又は請求項７に記載のウエハ出荷システム。
【請求項１１】
前記カバー部分は、ストッパー部分を含んでなり、前記ストッパー部分は、前記カバー部分の中へ軸線方向に延在しており、前記ストッパー部分は、連続的な軸線方向面を画定しており、
前記積層部は、最上のウエハ支持リングを含んでなり、前記最上のウエハ支持リングは、前記ストッパー部分の前記連続的な軸線方向面に係合し、それらの間に実質的に連続的な接触バンドを画定しており、前記最上のウエハ支持リングは、最上のウエハ及び前記最上のウエハ支持リングの前記平面的な表面部分との間に実質的に連続的な接触バンドを提供するために、前記最上のウエハに係合するように構成されており、
それによって、前記最上のウエハ支持リング及び前記カバー部分は、前記最上のウエハが前記最上のウエハ支持リングの中に配設されているときに、囲まれたガス・ポケットを画定するように構成されている、請求項１０に記載のウエハ出荷システム。
【請求項１２】
前記ストッパー部分は、前記カバー部分の上部部分に従属しており、前記ストッパー部分は、複数の半径方向に延在するリブを含んでなり、前記複数の半径方向に延在するリブは、前記上部部分の中心軸線の近位から半径方向外向きに延在している、請求項１１に記載のウエハ出荷システム。
【請求項１３】
前記カバー部分は、ストッパー部分を含んでなり、前記ストッパー部分は、前記カバー部分の中へ軸線方向に延在しており、前記ストッパー部分は、連続的な軸線方向面を画定しており、
前記積層部は、最上のウエハ支持リングを含んでなり、前記最上のウエハ支持リングは
、前記ストッパー部分の前記連続的な軸線方向面に係合し、それらの間に実質的に連続的な接触バンドを画定しており、前記積層部は、前記最上のウエハ支持リングに接触している隣接するウエハ支持リングを含んでなり、前記隣接するウエハ支持リングは、最上のウエハ及び前記隣接するウエハ支持リングの前記平面的な表面部分との間に実質的に連続的な接触バンドを提供するために、前記最上のウエハに係合するように構成されており、
それによって、前記最上のウエハ支持リング、前記隣接するウエハ支持リング、及び前記カバー部分は、最上のウエハが前記隣接するウエハ支持リングの中に配設されているときに、囲まれたガス・ポケットを画定するように構成されている、請求項１０に記載のウエハ出荷システム。
【請求項１４】
前記間隙は、３００ｍｍウエハを収容するように構成されている、請求項１に記載のウエハ出荷システム。
【請求項１５】
ウエハ支持リングにおいて、前記ウエハ支持リングは、
中心軸線の周りに同心円状の連続的なフランジ部分であって、前記連続的なフランジ部分は、第１の軸線方向面及び第２の軸線方向面を含んでなり、前記第２の軸線方向面は、前記第１の軸線方向面の反対側にある、フランジ部分と、
前記連続的なフランジ部分の前記第１の軸線方向面から、前記中心軸線に対して平行な軸線方向に突出する連続的なリッジ部分と、
前記第２の軸線方向面に連続的なチャネルを画定する構造と、
からなり、
前記連続的なフランジ部分の前記第１の軸線方向面は、平面的な表面部分を含んでなり、前記平面的な表面部分は、前記連続的なリッジ部分に隣接して、前記連続的なリッジ部分から半径方向に内側にセットされており、前記平面的な表面部分は、ウエハのための位置合わせ平面を画定しており、前記連続的なリッジ部分は、前記位置合わせ平面に対して均一な軸線方向寸法のものである、ウエハ支持リング。
【請求項１６】
前記連続的なチャネルは、前記中心軸線に対して内側半径を画定する内側の半径方向壁部と、前記中心軸線に対して外側半径を画定する外側の半径方向壁部とを含んでなり、
前記連続的なリッジ部分及び前記連続的なチャネルは、前記連続的なチャネルによって画定される前記内側半径及び前記外側半径の中に前記連続的なリッジ部分があるように、軸線方向に整合させられている、請求項１５に記載のウエハ支持リング。
【請求項１７】
前記連続的なチャネルは、前記内側の半径方向壁部と前記外側の半径方向壁部との間で半径方向に延在する凹んだ軸線方向面を与えており、
前記フランジ部分は、前記凹んだ軸線方向面と前記位置合わせ平面との間に画定される軸線方向厚さを有する、請求項１６に記載のウエハ支持リング。
【請求項１８】
前記連続的なリッジ部分は、均一な半径方向厚さを画定している、請求項１５に記載のウエハ支持リング。
【請求項１９】
前記連続的なリッジ部分は、第１の半径方向厚さ及び第２の半径方向厚さを画定しており、前記第２の半径方向厚さは、前記第１の半径方向厚さよりも大きくなっている、請求項１５に記載のウエハ支持リング。
【請求項２０】
前記連続的なリッジ部分は、複数のリッジ・セクションを含んでなり、それぞれのリッジ・セクションは、前記第１の半径方向厚さの第１の円弧セグメントと、前記第２の半径方向厚さを有する第２の円弧セグメントと、を含んでなる、請求項１９に記載のウエハ支持リング。
【請求項２１】
前記連続的なリッジ部分は、前記第１の半径方向厚さと前記第２の半径方向厚さとの間に少なくとも１つの移行部を含んでなり、前記少なくとも１つの移行部は、前記第２の円弧セグメントの中に含まれている、請求項１９に記載のウエハ支持リング。
【請求項２２】
前記複数の前記第２の円弧セグメントのそれぞれは、対応するポストを含んでなり、複数のポストを与えており、それぞれのポストは、前記第２の円弧セグメントによって画定されている、請求項２０又は請求項２１に記載のウエハ支持リング。
【請求項２３】
前記複数のポストは、前記中心軸線の周りに角度的に均一に分配されている、請求項２２に記載のウエハ支持リング。
【請求項２４】
前記複数のポストは、少なくとも３つのポストであり、かつ、１２個以下のポストである、請求項２２に記載のウエハ支持リング。
【請求項２５】
前記複数のポストは、少なくとも４つのポストであり、かつ、１０個以下のポストである、請求項２４に記載のウエハ支持リング。
【請求項２６】
前記複数のポストは、少なくとも６つのポストであり、かつ、８つ以下のポストである、請求項２５に記載のウエハ支持リング。
【請求項２７】
前記第１の半径方向厚さに対する前記第２の半径方向厚さの比率は、境界を含んで１．２から３の範囲の中にある、請求項２０又は請求項２１に記載のウエハ支持リング。
【請求項２８】
前記第１の半径方向厚さに対する前記第２の半径方向厚さの比率は、境界を含んで１．３から２の範囲の中にある、請求項２７に記載のウエハ支持リング。
【請求項２９】
前記第１の半径方向厚さに対する前記第２の半径方向厚さの比率は、境界を含んで１．４から１．８の範囲の中にある、請求項２８に記載のウエハ支持リング。
【請求項３０】
前記複数のリッジ・セクションのうちの少なくとも１つの前記第１の円弧セグメントは、前記複数のリッジ・セクションのうちの前記少なくとも１つの対応する１つの円弧長さの一部であり、前記一部は、境界を含んで７０％から９５％の範囲にある、請求項２０又は請求項２１に記載のウエハ支持リング。
【請求項３１】
前記一部は、境界を含んで７５％から９５％の範囲にある、請求項３０に記載のウエハ支持リング。
【請求項３２】
前記一部は、境界を含んで７５％から８５％の範囲にある、請求項３１に記載のウエハ支持リング。
【請求項３３】
前記凹んだ軸線方向面と前記位置合わせ平面との間の前記軸線方向厚さに対する前記第１の円弧セグメントの前記第１の半径方向厚さの比率は、境界を含んで０．１から１．５の範囲にある、請求項２０又は請求項２１に記載のウエハ支持リング。
【請求項３４】
前記軸線方向厚さに対する前記第１の半径方向厚さの前記比率は、境界を含んで０．５から１．２である、請求項３３に記載のウエハ支持リング。
【請求項３５】
前記軸線方向厚さに対する前記第１の半径方向厚さの前記比率は、境界を含んで０．８から１．１である、請求項３４に記載のウエハ支持リング。
【請求項３６】
ウエハ支持システムにおいて、前記ウエハ支持システムは、
複数のウエハ支持リングであって、前記複数のウエハ支持リングは、それぞれ、中心軸線を画定し、フランジ部分及び外側リム部分を含んでなり、前記外側リム部分は、前記フランジ部分の第１の面から、前記中心軸線に対して平行な軸線方向に突出しており、前記フランジ部分の前記第１の面は、平面的な表面部分を含んでなり、前記平面的な表面部分は、前記外側リム部分に隣接して、前記外側リム部分から半径方向に内側にセットされている、複数のウエハ支持リング
からなり、
前記複数のウエハ支持リングのそれぞれは、ウエハ・フラット支持構造を含んでなり、前記ウエハ・フラット支持構造は、前記フランジ部分から半径方向内向きに延在しており、前記ウエハ・フラット支持構造は、第１の面を含んでなり、前記第１の面は、前記フランジ部分の前記平面的な表面部分から半径方向に内側にセットされている平面的な表面部分を含んでなり、前記ウエハ・フラット支持構造の前記平面的な表面部分は、線形のエッジを画定しており、前記線形のエッジは、前記ウエハ・フラット支持構造の前記平面的な表面部分の前記中心軸線から最小半径を画定しており、前記線形のエッジは、前記中心軸線に対して実質的に直交して、かつ、前記最小半径に対して実質的に垂直に延在しており、
前記複数のウエハ支持リングのそれぞれは、第１のタブ部分をさらに含んでなり、前記第１のタブ部分は、前記外側リム部分から半径方向外向きに、前記外側リム部分の第１の接線方向長さに沿って延在しており、
前記フランジ部分及び前記ウエハ・フラット支持構造の前記平面的な表面部分が、位置合わせ平面を画定している、ウエハ支持システム。
【請求項３７】
前記ウエハ・フラット支持構造のそれぞれは、前記中心軸線に対して平行な軸線方向に突出するリブを含んでなり、前記リブは、前記外側リム部分から半径方向に内側にセットされており、前記ウエハ・フラット支持構造の前記平面的な表面部分から半径方向に外側にセットされており、前記リブは、線形の部分を含んでなり、前記線形の部分は、前記ウエハ・フラット支持構造の前記平面的な表面部分の前記線形のエッジに対して平行に延在している、請求項３６に記載のウエハ支持システム。
【請求項３８】
前記リブ及び前記外側リム部分は、同じ軸線方向に突出しており、前記リブは、前記ウエハ・フラット支持構造の前記第１の面から延在している、請求項３７に記載のウエハ支持システム。
【請求項３９】
前記ウエハ・フラット支持構造の前記第１の面は、傾斜した部分を含んでなり、前記傾斜した部分は、前記ウエハ・フラット支持構造の前記平面的な表面部分の前記線形のエッジから半径方向内向きに延在しており、前記傾斜した部分は、前記中心軸線に向けて、前記位置合わせ平面から離れて延在している、請求項３６に記載のウエハ支持システム。
【請求項４０】
前記フランジ部分の前記第１の面は、傾斜した部分を含んでなり、前記傾斜した部分は、前記フランジ部分の前記平面的な表面部分から半径方向内向きに延在しており、前記傾斜した部分は、前記中心軸線に向けて、前記位置合わせ平面から離れて延在している、請求項３９に記載のウエハ支持システム。
【請求項４１】
前記ウエハ支持システムは、
ベース部分及び少なくとも１つのアーチ形の壁部部分を含んでなるレセプタクル部分であって、前記ベース部分は、装着軸線に対して実質的に垂直になっており、前記少なくとも１つのアーチ形の壁部部分は、前記ベース部分から延在しており、前記少なくとも１つのアーチ形の壁部部分は、前記装着軸線の周りに中心を合わせられ、前記装着軸線に対して実質的に平行になっており、前記少なくとも１つのアーチ形の壁部部分は、第１の水平
方向の開口部のうちの１つを画定しており、第１の水平方向の凹部は、前記ウエハ支持リングの前記第１のタブ部分を受け入れるように寸法決めされている、レセプタクル部分
をさらに備える、請求項３６に記載のウエハ支持システム。
【請求項４２】
前記ウエハ支持リングは、第２のタブ部分を含んでなり、前記第２のタブは、前記外側リム部分から半径方向外向きに、前記外側リム部分の第２の接線方向長さに沿って延在しており、前記第２の接線方向長さは、前記第１のタブ部分の前記第１の接線方向長さとは異なる寸法のものであり、
前記少なくとも１つのアーチ形の壁部部分は、第２の水平方向の開口部のうちの１つをさらに画定しており、第２の水平方向の凹部は、前記ウエハ支持リングの前記第２のタブ部分を受け入れるように位置付け及び寸法決めされている、請求項４１に記載のウエハ支持システム。
【請求項４３】
前記第１のタブ部分は、前記第２のタブ部分の直径方向反対側にある、請求項４２に記載のウエハ支持システム。
【請求項４４】
前記少なくとも１つのアーチ形の壁部部分は、対向するアーチ形の壁部部分の対からなり、前記対向するアーチ形の壁部部分は、前記装着軸線の周りに中心を合わせられており、前記対向するアーチ形の壁部部分の対は、それらの間に前記第１の開口部及び前記第２の開口部を画定している、請求項４２に記載のウエハ支持システム。
【請求項４５】
前記ウエハ支持リングは、第３のタブ部分を含んでなり、前記第３のタブ部分は、前記外側リム部分から半径方向外向きに、前記外側リム部分の第３の接線方向長さに沿って延在しており、前記少なくとも１つのアーチ形の壁部部分は、第３の水平方向の開口部及び第３の水平方向の凹部のうちの１つをさらに画定しており、前記第３の水平方向の凹部は、前記ウエハ支持リングの前記第３のタブ部分を受け入れるように位置付け及び寸法決めされている、請求項４２に記載のウエハ支持システム。
【請求項４６】
前記第３の接線方向長さは、前記第１の接線方向長さ及び前記第２の接線方向長さとは異なる寸法のものである、請求項４５に記載のウエハ支持システム。
【請求項４７】
前記第１のタブ部分、前記第２のタブ部分、及び前記第３のタブ部分は、前記中心軸線の周りに非対称的に配設されている、請求項４５に記載のウエハ支持システム。
【請求項４８】
前記ウエハ支持リングは、第４のタブ部分を含んでなり、前記第４のタブ部分は、前記外側リム部分から半径方向外向きに、前記外側リム部分の第４の接線方向長さに沿って延在しており、前記第４のタブ部分は、前記中心軸線の周りに前記第３のタブ部分の直径方向反対側にあり、
前記少なくとも１つのアーチ形の壁部部分は、第４の水平方向の開口部及び第４の水平方向の凹部のうちの１つをさらに画定しており、前記第４の水平方向の凹部は、前記ウエハ支持リングの前記第３のタブ部分を受け入れるように位置付け及び寸法決めされている、請求項４７に記載のウエハ支持システム。
【請求項４９】
前記第３のタブ部分及び前記第４のタブ部分は、実質的に同じ形状及び実質的に同じ寸法の第１の平面図プロファイルをそれぞれ画定している、請求項４８に記載のウエハ支持システム。
【請求項５０】
前記第１の平面図プロファイルの形状は、半円形を近似している、請求項４９に記載のウエハ支持システム。
【請求項５１】
前記ウエハ支持リングは、第５のタブ部分を含んでなり、前記第５のタブ部分は、前記外側リム部分から半径方向外向きに、前記外側リム部分の第５の接線方向長さに沿って延在しており、
前記少なくとも１つのアーチ形の壁部部分は、第５の水平方向の開口部及び第５の水平方向の凹部のうちの１つをさらに画定しており、前記第５の水平方向の凹部は、前記ウエハ支持リングの前記第５のタブ部分を受け入れるように位置付け及び寸法決めされており、
前記ウエハ支持リングは、第６のタブ部分を含んでなり、前記第６のタブ部分は、前記外側リム部分から半径方向外向きに、前記外側リム部分の第６の接線方向長さに沿って延在しており、前記第６のタブ部分は、前記中心軸線の周りに前記第５のタブ部分の直径方向反対側にあり、
前記少なくとも１つのアーチ形の壁部部分は、第６の水平方向の開口部及び第６の水平方向の凹部のうちの１つをさらに画定しており、前記第６の水平方向の凹部は、前記ウエハ支持リングの前記第６のタブ部分を受け入れるように位置付け及び寸法決めされている、請求項４９に記載のウエハ支持システム。
【請求項５２】
前記第５のタブ部分及び前記第６のタブ部分は、実質的に同じ形状及び実質的に同じ寸法の第２の平面図プロファイルをそれぞれ画定しており、前記第２の平面図プロファイルは、前記第１の平面図プロファイルとは異なる形状及び異なる寸法のうちの少なくとも１つである、請求項５１に記載のウエハ支持システム。
【請求項５３】
前記第３のタブ部分、前記第４のタブ部分、前記第５のタブ部分、及び前記第６のタブ部分は、真空パッドとの係合のための平坦な表面をそれぞれ含んでなる、請求項５２に記載のウエハ支持システム。
【請求項５４】
前記平坦な表面のうちの少なくとも１つが、前記外側リム部分を通って半径方向内向きに延在している、請求項５３に記載のウエハ支持システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、ウエハシッパー、すなわちウエハ出荷用輸送容器一般に関し、より詳細には、ウエハ支持リングを利用するウエハシッパーに関する。
【背景技術】
【０００２】
ウエハシッパーは、ウエハ支持リングの中にそれぞれ配設された複数のウエハの輸送及び貯蔵のために開発されてきた。リングは、ウエハシッパー内で積層された配置に設けられている。この種類の従来のウエハシッパーを使用して取り扱われ及び出荷されるウエハは、たとえば、ウエハシッパーが有意の高さから落下されるとき、又は、ウエハシッパーがその中に収納されている容器又は梱包箱が、落下され、誤って取り扱われ、又は、衝突を受けるときなどの衝撃事象の間に、内部に存在するウエハが損傷を受けることが知られている。損傷に関するメカニズムとしては、隣接するウエハ間での接触、ウエハが積層されたアレイの「飛び越え」、隣接したウエハ支持リング間に引っ掛かり、及び、ウエハ・フラットを含むウエハの場合、ウエハの割れ目がウエハ・フラットに起因することが含まれ得る。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
輸送及び取り扱いの間に起こるそのような損傷を軽減するウエハシッパーが、待ち望まれることとなる。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本開示のさまざまな実施形態では、個々のウエハをその中に支持するためのウエハ支持リングを利用するウエハシッパーが開示されている。ウエハ支持リングは、積層部の高さに影響を与えることなく、さまざまな厚さのウエハを支持し、衝撃事象の間に、収容ウエハのリング内への封じ込めを提供することが可能である。いくつかの実施形態では、ウエハ及びリングは、ゆっくりと漏洩する空気クッションをウエハ間に効果的に画定するように協働し、それは、衝撃事象の間のウエハのショック吸収を提供する。すなわち、積層部がウエハをその中に備えた状態で組み立てられるときに、空隙部が、隣接するウエハ間に画定され、それぞれの空隙部は、ガス・スプリング又はクッションとしての役目を果たし、それは、ウエハが調和して移動することを引き起こし、また、ショック事象の間に生じた力を減衰させる。実質的に連続的な接触バンドが、隣接したウエハ支持リングの境界面に画定され、また、ウエハ支持リングとその中に滞在している任意のウエハとの間に画定されている。実質的に連続的な接触バンドは、空隙部の中へ流入するか又は空隙部から外へ流出するガスのための流量制限を提供し、それによって、衝撃事象の間に減衰効果を提供する。
【０００５】
いくつかの実施形態では、最上のウエハ及び最上のウエハ支持リングは、ウエハシッパーのカバー部分と協働し、上側ガス・ポケットを提供し、上側ガス・ポケットは、積層部の空隙部と同様に、ゆっくりと漏洩しており、したがって、ガス・ポケットの突然の圧縮又は排出に対抗して減衰を提供する。同様に、最下のウエハ及び最下のウエハ支持リングは、ウエハシッパーのレセプタクル部分と協働し、下側ガス・ポケットを提供することが可能であり、下側ガス・ポケットは、ゆっくりと漏洩しており、同様の減衰を提供する。
【０００６】
さまざまな実施形態では、ウエハ支持リングは、衝撃事象の間にウエハを「飛び越える」ことを防止する構造も含む。多くの場合では、ウエハシッパーは、衝撃事象の間に瞬時にゆがめられ、積層部の中の支持リングが、一瞬の時間で分離するようになっている。こ
の分離の間に、従来のウエハ・キャリアでは、ウエハは、分離するようにスリップし、又は「飛び越える」可能性があり、また、積層部が衝撃前の構成を回復するとき、又は、衝撃前の構成を回復しようと試みるときに、損傷を受ける可能性がある。本開示のさまざまな実施形態に関して、ウエハ支持リングは、ウエハのそのような飛び越えを軽減する構造を提供し、積層部が、ウエハに対する損傷なしで、衝撃前の構成を信頼性高く回復することができるようになっている。
【０００７】
本開示のさまざまな実施形態は、ウエハ厚さにかかわらず同じ出荷容量を提供し、ウエハのエッジ除外領域を保護し、及び／又は、従来のスペーサ・リング（たとえば、ＴＹＶＥＫ又は発泡材）の粒子寄与を回避する。開示されている実施形態は、安全なウエハの出荷を可能にし、業界標準テスト仕様（ＩＳＴＡ−２Ａ）、及び、より厳しい可能性がある顧客特有の出荷・テストを満足することが可能である。
【０００８】
従来のウエハシッパーは、典型的に、リング・スペーサを利用しており、リング・スペーサは、ウエハ間に適合し、ウエハのエッジを捕捉していない。そのような従来の出荷用保持具の１つの不利益は、リング・スペーサを通過してスライドするウエハによってウエハのエッジ除外領域が侵害され得るということである。別の不利益は、合計の積層部高さが、出荷されているウエハの厚さに依存するということである。したがって、所与の出荷用保持具は、すべてのウエハ厚さに関してフル容量になっていない可能性があり、より低い容量を補うための余剰の機構を必要とする。これらの従来のウエハシッパーの追加的な欠点は、このタイプの解決策では、（たとえば、衝撃事象に起因して）キャリアを通して作用する力が、ウエハを通して伝達されるということである。また、帯電防止特性が望まれる場合に、従来のスペーサ・リング材料（たとえば、ＴＹＶＥＫ）は、実質的に高い相対湿度を必要とする可能性がある。
【０００９】
開示されているシステムのさまざまな実施形態は、ウエハ支持リングを含み、ウエハ支持リングは、滞在ウエハがその中に捕捉されている隣接するウエハ支持リング間の間隙を提供する様式で、互いの上に積層している。さまざまな厚さのウエハが、積層部の高さに影響を与えることなく、同じ合計量を備える同じ出荷用保持具の中に収容され得る。そのうえ、ウエハ支持リングは、リッジを含むことが可能であり、リッジは、ウエハの周辺部の近位に配設され、ウエハ・エッジに対するバリアとしての役目を果たし、ウエハ・エッジ除外領域が侵害されないようになっている。また、ウエハシッパーにかかる力は、ウエハを通してではなく、ウエハ支持リングを通して伝達される。リングに関する材料は、導電性プラスチックであることが可能であり、従来のウエハシッパー（たとえば、ＴＹＶＥＫ）における湿度制約が回避されるようになっている。ウエハ支持リングは、真空カップを介した自動ハンドリングに適切な幅の広い内側フランジを利用することが可能である。
【００１０】
特定の実施形態が、そうでなければ衝撃事象の間に支持されないこととなる、ウエハ・フラットへの適応をさらに提供する。
構造的に、ウエハ出荷システムが、１つの実施形態に関して開示されており、ウエハ出荷システムは、複数のウエハ支持リングからなり、それぞれのウエハ支持リングは、中心軸線の周りに同心円状のフランジ部分であって、フランジ部分は、第１の軸線方向面及び第２の軸線方向面を含み、第２の軸線方向面は、第１の軸線方向面の反対側にある、フランジ部分と、フランジ部分の第１の軸線方向面から、中心軸線に対して平行な軸線方向に突出するリッジ部分と、第２の軸線方向面にチャネルを画定する構造と、からなる。この実施形態では、複数のウエハ支持リングのうちの第１のウエハ支持リングは、複数のウエハ支持リングのうちの第２のウエハ支持リングの上に積層されており、第２のウエハ支持リングのリッジ部分の遠位エッジが、第１のウエハ支持リングのチャネルの中に位置合わせされるようになっており、第１及び第２のウエハ支持リングは、それらの間に間隙を画定しており、間隙は、ウエハを含有するように構成されており、第１のウエハ支持リング
に働かされる軸線方向の力が、ウエハに力を伝達することなく、第２のウエハ支持リングに伝達されるようになっている。１つの実施形態では、チャネルは、中心軸線に対して内側半径を画定する内側の半径方向壁部と、中心軸線に対して外側半径を画定する外側の半径方向壁部と、を含む。また、この実施形態では、複数のウエハ支持リングのそれぞれのリッジ部分及びチャネルは、チャネルによって画定される内側半径及び外側半径の中にリッジ部分があるように、軸線方向に整合させられている。随意的に、チャネルは連続的である。また、リッジ部分は、連続的であることが可能であり、第１のウエハ支持リングと第２のウエハ支持リングとの間に画定される間隙を取り囲むことが可能である。したがって、実質的に連続的な接触バンドは、リッジ部分の遠位エッジとチャネルとの間に画定され得る。
【００１１】
さまざまな実施形態では、複数のウエハ支持リングのそれぞれのフランジ部分の第１の軸線方向面は、平面的な位置合わせ表面を含み、平面的な位置合わせ表面は、リッジ部分に隣接して、リッジ部分から半径方向に内側にセットされており（ｉｎｓｅｔ）、平面的な表面部分は、ウエハのための位置合わせ平面を画定している。１つの実施形態では、第１のウエハ支持リングは、第１のウエハと第１のウエハ支持リングの平面的な表面部分との間に実質的に連続的な接触バンドを提供するために、第１のウエハに係合するように構成されており、第２のウエハ支持リングは、第２のウエハと第２のウエハ支持リングの平面的な表面部分との間に実質的に連続的な接触バンドを提供するために、第２のウエハに係合するように構成されており、それによって、第１のウエハが第１のウエハ支持リングの中に配設され、第２のウエハが第２のウエハ支持リングの中に配設されているときに、第１のウエハ支持部及び第２のウエハ支持部は、囲まれた空隙部を画定するように構成されている。１つの本開示の実施形態では、ウエハは、間隙の中に含有されている。
【００１２】
ウエハ出荷システムは、レセプタクル部分と、レセプタクル部分の閉鎖を提供するように構成されているカバー部分と、をさらに含むことが可能である。１つの実施形態では、複数のウエハ支持リングは、積層部の中に配置されており、積層部は、レセプタクル部分の中に配設されており、カバー部分は、カバー部分がレセプタクル部分との閉鎖状態にあるときに、積層部に接触し、カバー部分とレセプタクル部分との間に積層部を固定する。いくつかの実施形態では、複数のウエハ支持リングは、積層部の中に配置されており、積層部は、レセプタクル部分のベースの上に着座させられており、カバー部分は、カバー部分がレセプタクル部分との閉鎖状態にあるときに、積層部に接触し、カバー部分とベース部分との間に積層部を固定する。１つの実施形態では、積層部は、最下のウエハ支持リングを含み、最下のウエハ支持リングは、レセプタクル部分のベースに係合し、それらの間に実質的に連続的な接触バンドを画定しており、最下のウエハ支持リングは、最下のウエハ及び最下のウエハ支持リングの平面的な表面部分との間に実質的に連続的な接触バンドを提供するために、最下のウエハに係合するように構成されており、それによって、最下のウエハ支持部及びベースは、最下のウエハが最下のウエハ支持部の中に配設されているときに、囲まれたガス・ポケットを画定するように構成されている。
【００１３】
カバー部分は、ストッパー部分を含むことが可能であり、ストッパー部分は、カバー部分の中へ軸線方向に延在しており、ストッパー部分は、連続的な軸線方向面を画定している。積層部は、最上のウエハ支持リングを含むことが可能であり、最上のウエハ支持リングは、ストッパー部分の連続的な軸線方向面に係合し、それらの間に実質的に連続的な接触バンドを画定しており、最上のウエハ支持リングは、最上のウエハ及び最上のウエハ支持リングの平面的な表面部分との間に実質的に連続的な接触バンドを提供するために、最上のウエハに係合するように構成されており、それによって、最上のウエハ支持部及びカバー部分は、最上のウエハが最上のウエハ支持部の中に配設されているときに、囲まれたガス・ポケットを画定するように構成されている。１つの実施形態では、ストッパー部分は、カバー部分の上部部分に従属しており、ストッパー部分は、複数の半径方向に延在す
るリブを含み、複数の半径方向に延在するリブは、上部部分の中心軸線の近位から半径方向外向きに延在している。
【００１４】
いくつかの実施形態では、カバー部分は、ストッパー部分を含み、ストッパー部分は、カバー部分の中へ軸線方向に延在しており、ストッパー部分は、連続的な軸線方向面を画定している。この実施形態では、積層部は、最上のウエハ支持リングを含み、最上のウエハ支持リングは、ストッパー部分の連続的な軸線方向面に係合し、それらの間に実質的に連続的な接触バンドを画定している。また、積層部は、最上のウエハ支持リングに接触している隣接するウエハ支持リングを含むことが可能であり、隣接するウエハ支持リングは、最上のウエハ及び隣接するウエハ支持リングの平面的な表面部分との間に実質的に連続的な接触バンドを提供するために、最上のウエハに係合するように構成されており、それによって、最上のウエハ支持部、隣接するウエハ支持部、及びカバー部分は、最上のウエハが隣接するウエハ支持部の中に配設されているときに、囲まれたガス・ポケットを画定するように構成されている。さまざまな実施形態では、間隙は、３００ｍｍウエハを収容するように構成されている。
【００１５】
本開示のさまざまな実施形態では、ウエハ支持リング開示されており、ウエハ支持リングは、中心軸線の周りに同心円状の連続的なフランジ部分であって、連続的なフランジ部分は、第１の軸線方向面及び第２の軸線方向面を含み、第２の軸線方向面は、第１の軸線方向面の反対側にある、フランジ部分と、連続的なフランジ部分の第１の軸線方向面から、中心軸線に対して平行な軸線方向に突出する連続的なリッジ部分と、第２の軸線方向面に連続的なチャネルを画定する構造と、からなる。この実施形態では、複数のウエハ支持リングのそれぞれの連続的なフランジ部分の第１の軸線方向面は、平面的な位置合わせ表面を含み、平面的な位置合わせ表面は、連続的なリッジ部分に隣接して、連続的なリッジ部分から半径方向に内側にセットされており、平面的な表面部分は、ウエハのための位置合わせ平面を画定しており、連続的なリッジ部分は、位置合わせ平面に対して均一な軸線方向寸法のものである。いくつかの実施形態では、連続的なチャネルは、中心軸線に対して内側半径を画定する内側の半径方向壁部と、中心軸線に対して外側半径を画定する外側の半径方向壁部と、を含み、複数のウエハ支持リングのそれぞれの連続的なリッジ部分及び連続的なチャネルは、連続的なチャネルによって画定される内側半径及び外側半径の中に連続的なリッジ部分があるように、軸線方向に整合させられている。いくつかの実施形態では、連続的なチャネルは、内側の半径方向壁部と外側の半径方向壁部との間で半径方向に延在する凹んだ軸線方向面を与えており、フランジ部分は、凹んだ軸線方向面と位置合わせ平面との間に画定される軸線方向厚さを含む。
【００１６】
１つの実施形態では、連続的なリッジ部分は、均一な半径方向厚さを画定している。
他の実施形態では、連続的なリッジ部分は、第１の半径方向厚さ及び第２の半径方向厚さを画定しており、第２の半径方向厚さは、第１の半径方向厚さよりも大きくなっている。これらの実施形態では、連続的なリッジ部分は、複数のリッジ・セクションを含むことが可能であり、それぞれのリッジ・セクションは、第１の半径方向厚さの第１の円弧セグメントと、第２の半径方向厚さを含む第２の円弧セグメントと、を含む。連続的なリッジ部分は、第１の半径方向厚さと第２の半径方向厚さとの間に少なくとも１つの移行部を含むことが可能であり、少なくとも１つの移行部は、第２の円弧セグメントの中に含まれている。複数の円弧セグメントのそれぞれは、対応するポストを含み、複数のポストを与えるものとして特徴付けられ得、それぞれのポストは、第２の円弧セグメントによって画定されている。
【００１７】
いくつかの実施形態では、複数のポストは、中心軸線の周りに角度的に均一に分配されている。複数のポストは、少なくとも３つのポストであり、かつ、１２個以下のポストであることが可能であり；少なくとも４つのポストであり、かつ、１０個以下のポストであ
ることが可能であり；又は、少なくとも６つのポストであり、かつ、８つ以下のポストであることが可能である。
【００１８】
いくつかの実施形態では、第１の半径方向厚さに対する第２の半径方向厚さの比率は、境界を含んで１．２から３の範囲；境界を含んで１．３から２の範囲；又は、境界を含んで１．４から１．８の範囲の中にある。
【００１９】
いくつかの実施形態では、複数のリッジ・セクションのうちの少なくとも１つの第１の円弧セグメントは、複数のリッジ・セクションのうちの少なくとも１つの対応する１つの円弧長さの一部であり、一部は、境界を含んで７０％から９５％の範囲；境界を含んで７５％から９５％の範囲；又は、境界を含んで７５％から８５％の範囲にある。
【００２０】
いくつかの実施形態では、凹んだ軸線方向面と位置合わせ平面との間の軸線方向厚さに対する第１の円弧セグメントの第１の半径方向厚さの比率は、境界を含んで０．１から１．５の範囲；境界を含んで０．５から１．２の範囲；又は、境界を含んで０．８から１．１の範囲にある。
【００２１】
本開示のさまざまな実施形態では、ウエハ支持システムが開示されており、ウエハ支持システムは、複数のウエハ支持リングであって、複数のウエハ支持リングは、それぞれ、中心軸線を画定し、フランジ部分及び外側リム部分を含み、外側リム部分は、フランジ部分の第１の面から、中心軸線に対して平行な軸線方向に突出しており、フランジ部分の第１の面は、平面的な表面部分を含み、平面的な表面部分は、外側リム部分に隣接して、外側リム部分から半径方向に内側にセットされている、複数のウエハ支持リングからなる。この実施形態では、複数のウエハ支持リングのそれぞれは、ウエハ・フラット支持構造を含み、ウエハ・フラット支持構造は、フランジ部分から半径方向内向きに延在しており、ウエハ・フラット支持構造は、第１の面を含み、第１の面は、フランジ部分の平面的な表面部分から半径方向に内側にセットされている平面的な表面部分を含み、ウエハ・フラット支持構造の平面的な表面部分は、線形のエッジを画定しており、線形のエッジは、ウエハ・フラット支持構造の平面的な表面部分の中心軸線から最小半径を画定しており、線形のエッジは、中心軸線に対して実質的に直交して、かつ、最小半径に対して実質的に垂直に延在している。また、複数のウエハ支持リングのそれぞれは、第１のタブ部分をさらに含むことが可能であり、第１のタブ部分は、リム部分から半径方向外向きに、リム部分の第１の接線方向長さに沿って延在している。フランジ部分及びウエハ・フラット支持構造の平面的な表面部分が、位置合わせ平面を画定することが可能である。いくつかの実施形態では、ウエハ・フラット支持構造のそれぞれは、中心軸線に対して平行な軸線方向に突出するリブを含み、リブは、外側リム部分から半径方向に内側にセットされており、ウエハ・フラット支持構造の平面的な表面部分から半径方向に外側にセットされており（ｏｕｔｓｅｔ）、リブは、線形の部分を含み、線形の部分は、ウエハ・フラット支持構造の平面的な表面部分の線形のエッジに対して平行に延在している。また、リブ部分及び外側リム部分は、同じ軸線方向に突出していることが可能であり、リブ部分は、ウエハ支持構造の第１の面から延在している。１つの実施形態では、ウエハ・フラット支持構造の第１の面は、傾斜した部分を含み、傾斜した部分は、ウエハ・フラット支持構造の平面的な表面部分の線形のエッジから半径方向内向きに延在しており、傾斜した部分は、中心軸線に向けて、位置合わせ平面から離れて延在している。いくつかの実施形態では、フランジ部分の第１の面は、傾斜した部分を含み、傾斜した部分は、フランジ部分の平面的な表面部分から半径方向内向きに延在しており、傾斜した部分は、中心軸線に向けて、位置合わせ平面から離れて延在している。
【００２２】
１つの実施形態では、ウエハ支持システムは、ベース部分及び少なくとも１つのアーチ形の壁部部分を含むレセプタクル部分であって、ベース部分は、装着軸線に対して実質的
に垂直になっており、少なくとも１つのアーチ形の壁部部分は、ベース部分から延在しており、少なくとも１つのアーチ形の壁部部分は、装着軸線の周りに中心を合わせられ、装着軸線に対して実質的に平行になっており、少なくとも１つのアーチ形の壁部部分は、第１の水平方向の開口部のうちの１つを画定しており、第１の水平方向の凹部は、ウエハ支持リングの第１のタブ部分を受け入れるように寸法決めされている、レセプタクル部分をさらに含む。
【００２３】
さまざまな実施形態では、ウエハ支持リングは、第２のタブ部分を含み、第２のタブは、リム部分から半径方向外向きに、リム部分の第２の接線方向長さに沿って延在しており、第２の接線方向長さは、第１のタブ部分の第１の接線方向長さとは異なる寸法のものであり、少なくとも１つのアーチ形の壁部部分は、第２の水平方向の開口部のうちの１つをさらに画定しており、第２の水平方向の凹部は、ウエハ支持リングの第２のタブ部分を受け入れるように位置付け及び寸法決めされている。第１のタブ部分は、第２のタブ部分の直径方向反対側にあることが可能である。少なくとも１つのアーチ形の壁部部分は、対向するアーチ形の壁部部分の対からなることが可能であり、対向するアーチ形の壁部部分は、装着軸線の周りに中心を合わせられており、対向するアーチ形の壁部部分の対は、それらの間に第１の開口部及び第２の開口部を画定している。
【００２４】
１つの実施形態では、ウエハ支持リングは、第３のタブ部分を含み、第３のタブ部分は、リム部分から半径方向外向きに、リム部分の第３の接線方向長さに沿って延在しており、少なくとも１つのアーチ形の壁部部分は、第３の水平方向の開口部及び第３の水平方向の凹部のうちの１つをさらに画定しており、第３の水平方向の凹部は、ウエハ支持リングの第３のタブ部分を受け入れるように位置付け及び寸法決めされている。第３の接線方向長さは、第１の接線方向長さ及び第２の接線方向長さとは異なる寸法のものであることが可能である。第１のタブ部分、第２のタブ部分、及び第３のタブ部分は、中心軸線の周りに非対称的に配設され得る。
【００２５】
いくつかの実施形態では、ウエハ支持リングは、第４のタブ部分を含み、第４のタブ部分は、リム部分から半径方向外向きに、リム部分の第４の接線方向長さに沿って延在しており、第４のタブ部分は、中心軸線の周りに第３のタブ部分の直径方向反対側にあり、少なくとも１つのアーチ形の壁部部分は、第４の水平方向の開口部及び第４の水平方向の凹部のうちの１つをさらに画定しており、第４の水平方向の凹部は、ウエハ支持リングの第３のタブ部分を受け入れるように位置付け及び寸法決めされている。第３のタブ部分及び第４のタブ部分は、実質的に同じ形状及び実質的に同じ寸法の第１の平面図プロファイルをそれぞれ画定することが可能である。１つの実施形態では、第１の平面図プロファイルの形状は、半円形を近似している。
【００２６】
いくつかの実施形態では、ウエハ支持リングは、第５のタブ部分を含み、第５のタブ部分は、リム部分から半径方向外向きに、リム部分の第５の接線方向長さに沿って延在している。少なくとも１つのアーチ形の壁部部分は、第５の水平方向の開口部及び第５の水平方向の凹部のうちの１つをさらに画定することが可能であり、第５の水平方向の凹部は、ウエハ支持リングの第５のタブ部分を受け入れるように位置付け及び寸法決めされており、ウエハ支持リングは、第６のタブ部分を含むことが可能であり、第６のタブ部分は、リム部分から半径方向外向きに、リム部分の第６の接線方向長さに沿って延在しており、第６のタブ部分は、中心軸線の周りに第５のタブ部分の直径方向反対側にある。少なくとも１つのアーチ形の壁部部分は、第６の水平方向の開口部及び第６の水平方向の凹部のうちの１つをさらに画定することが可能であり、第６の水平方向の凹部は、ウエハ支持リングの第６のタブ部分を受け入れるように位置付け及び寸法決めされている。
【００２７】
第５のタブ部分及び第６のタブ部分は、実質的に同じ形状及び実質的に同じ寸法の第２
の平面図プロファイルをそれぞれ画定することが可能であり、第２の平面図プロファイルは、第１の平面図プロファイルとは異なる形状及び異なる寸法のうちの少なくとも１つである。１つの実施形態では、第３のタブ部分、第４のタブ部分、第５のタブ部分、及び第６のタブ部分は、真空パッドとの係合のための平坦な表面をそれぞれ含む。随意的に、平坦な表面のうちの少なくとも１つが、外側リム部分を通って半径方向内向きに延在している。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本開示の実施形態において、ウエハシッパーの部分分解図。
【図２Ａ】図１のウエハシッパーの組み立てられた斜視図。
【図２Ｂ】図１のウエハシッパーの組み立てられた上面図。
【図２Ｃ】図１のウエハシッパーの組み立てられた底面図。
【図２Ｄ】図１のウエハシッパーの組み立てられた前方側面図。
【図２Ｅ】図１のウエハシッパーの組み立てられた右側面図。
【図２Ｆ】図１のウエハシッパーの組み立てられた後方側面図。
【図２Ｇ】図１のウエハシッパーの組み立てられた左側面図。
【図３】本開示の実施形態において、図１のウエハシッパーのカバー部分の下側斜視図。
【図４】図２の組み立てられたウエハシッパーの断面図。
【図４Ａ】図３の組み立てられたウエハシッパーのカバー部分及び積層部の拡大部分断面図。
【図４Ｂ】本開示の実施形態において、代替的なカバー部分の拡大部分断面図。
【図５】図２の組み立てられたウエハシッパーのカバー部分、レセプタクル部分、及び積層部の拡大部分断面図。
【図６】本開示の実施形態において、ウエハ支持リングの斜視図。
【図７】図６のウエハ支持リングの拡大部分断面図。
【図８】本開示の実施形態において、滞在ウエハを備える図６のウエハ支持リングの拡大部分断面図。
【図９】本開示の実施形態において、例示的な滞在ウエハを備えるウエハ支持リングの積層部の部分断面図。
【図１０】本開示の実施形態において、複数のポストを画定するウエハ支持リングの斜視図。
【図１０Ａ】図１０のポストの拡大図。
【図１０Ｂ】本開示の実施形態において、代替的なポスト配置の平面図。
【図１０Ｃ】本開示の実施形態において、代替的なポスト配置の平面図。
【図１０Ｄ】本開示の実施形態において、代替的なポスト配置の平面図。
【図１１】本開示の実施形態において、明確化のために強調されたポストを備える図１０のウエハ支持リングの簡単化された平面図。
【図１２Ａ】図１０のウエハ支持リングの拡大断面図。
【図１２Ｂ】図１０のウエハ支持リングの拡大断面図。
【図１３】本開示の実施形態において、複数のダンパーシステムとして示されており、圧縮力を滞在ウエハに伝達しない積層部を利用するウエハシッパーの概略図。
【図１４】本開示の実施形態において、複数のダンパーシステムとして示されており、圧縮力を滞在ウエハに伝達する積層部を利用するウエハシッパーの概略図。
【図１５】本開示の実施形態において、単一ウエハシッパーの概略図。
【図１６】本開示の実施形態において、ウエハシッパーの部分分解図。
【図１７】図１６のウエハシッパーの組み立てられた斜視図。
【図１８】本開示の実施形態において、ウエハ支持リングの斜視図。
【図１９】図１８のウエハ支持リングの断面図。
【図２０】本開示の実施形態において、滞在ウエハを備える図１８のウエハ支持リングの断面図。
【図２１】図２０の拡大部分図。
【図２２】本開示の実施形態において、例示的な滞在ウエハを備えるウエハ支持リングの積層部の部分断面図。
【図２３】本開示の実施形態において、より長い翼弦長を有する滞在ウエハを備える図１８のウエハ支持リングの断面図。
【図２４】図２３の拡大部分図。
【図２５】本開示の実施形態において、滞在ウエハを備える図１８のウエハ支持リングの部分断面図。
【図２６】図２５の拡大部分図。
【図２７】本開示の実施形態において、図１６及び図１７の出荷用保持具のレセプタクルの斜視図。
【図２８】図２７のレセプタクルの底面斜視図。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
図１〜５を参照する。ウエハシッパー３０が、本開示の実施形態に関して示されている。ウエハシッパー３０は、カバー部分３２及びレセプタクル部分３４を含む。複数のウエハ支持リング３６が、ウエハシッパー３０の中の積層部３８の中に配設されており、積層部３８は、ウエハシッパー３０のカバー部分３２によって画定される装着軸線４２の周りに実質的に同心円状になっている。ウエハ支持リング３６は、外周部４６（図８）を有するウエハ４４を支持するように、それぞれ形状決め及び寸法決めされている。装着軸線４２は、円筒（ｒ−θ−ｚ）座標系４５のｚ軸と同軸になっている。さまざまな実施形態では、実質的に連続的な接触ライン又は接触バンド４８（図５）が、それぞれのウエハ支持リング３６とそれによって支持されているウエハ４４との間に確立されている。
【００３０】
カバー部分３２は、上部部分５０を有する本体部５４と、それに従属する連続的な側部部分５１と、を含む。上部部分５０は、半径方向に延在するリブ５３を含むことが可能であり、半径方向に延在するリブ５３は、カバー部分３２の装着軸線４２の近位から延在している。示されている実施形態では、半径方向に延在するリブ５３は、装着軸線４２の近位において、カバー部分の上部部分５０の内部にあり、カバー部分３２の側部部分５１の近位において、上部部分５０の外部に移行しており、それぞれの半径方向に延在するリブ５３は、移行部を通して隣接している。１つの実施形態では、撓むことができるコーナ・フランジ５２が、カバー部分３２の本体部５４から片持ち梁のように作られている。それぞれのコーナ・フランジ５２は、アパーチャ５６を画定する構造を含むことが可能である。示されている実施形態では、ラッチング部材５８が、装着軸線４２に実質的に平行にレセプタクル部分３４から延在しており、それぞれが、アパーチャ５６のうちのそれぞれ１つを通過し、それぞれのコーナ・フランジ５２に相互連結するように配置されている。
【００３１】
１つの実施形態では、カバー部分３２は、軸線方向面５９ａを有するストッパー部分５９を含み、軸線方向面５９ａは、ウエハシッパーの中へ延在し、積層部３８に係合し、積層部３８に接触する。ストッパー部分は、軸線方向に延在する突出部５９ｂを含むことが可能であり、軸線方向に延在する突出部５９ｂは、軸線方向面５９ａに従属しており、軸線方向面５９ａの内側半径方向部分を占有している。軸線方向に延在する突出部５９ｂの半径方向の末端部は、半径Ｒｐを画定している。
【００３２】
レセプタクル部分３４は、ベース５５を含む。１つの実施形態では、装着リング５７が、ベース５５から上向きに延在し、最下のウエハ支持リング３６ｚに係合している（図５）。機能的に、半径方向に延在するリブ５３は、カバー部分３２の成形の間に材料の流れを促進させながら、カバー部分３２の上部部分５０に剛性を提供する。コーナ・フランジ５２は、積層部３８の上部に対抗してカバー部分３２のばね荷重を提供し、カバー部分３
２とベース部分３４との間に積層部３８を固定する。軸線方向に延在する突出部５９ｂは、図６に付随して下記に説明されているように、装着軸線４２に対する積層部３８のアライメントを提供する。
【００３３】
図６を参照すると、ウエハ支持リング６０（すなわち、複数のウエハ支持リング３６のうちの１つ）が、本開示の実施形態に関して示されている。ウエハ支持リング６０は、中心軸線６２を画定しており、第１の軸線方向面６６及び第２の軸線方向面６８を有するフランジ部分６４を含み、第２の軸線方向面６８は、第１の軸線方向面６６の反対側にある。ウエハ支持リング６０は、リッジ部分７０及び外側リム部分７２をさらに含む。リッジ部分７０は、中心軸線６２に対して平行な軸線方向７４に、フランジ部分６４の第１の軸線方向面６６から遠位エッジ７５まで突出している。フランジ部分６４の第１の軸線方向面６６は、平面的な表面部分７６を含み、平面的な表面部分７６は、リッジ部分７０に隣接して、リッジ部分７０から半径方向に内側にセットされており、リッジ部分７０の遠位エッジ７５は、平面的な表面部分７６及び位置合わせ平面７８に対して高さ（軸線方向寸法）７７（図７）まで延在している。中心軸線６２は、円筒（ｒ−θ−ｚ）座標系７９のｚ軸と同軸である。
【００３４】
平面的な表面部分７６は、滞在ウエハ４４に関して位置合わせ平面７８（図７及び図８）を画定している。図５を論じる場合に参照される、実質的に連続的な接触ライン又は接触バンド４８は、ウエハ４４と平面的な表面部分７６との間に確立されている（図８）。フランジ部分６４の第１の軸線方向面６６は、傾斜した部分８２を含むことが可能であり、傾斜した部分８２は、フランジ部分６４の平面的な表面部分７６から半径方向内向きに延在しており、傾斜した部分８２は、中心軸線６２に向けて、位置合わせ平面７８から離れて延在している。
【００３５】
さまざまな実施形態では、リッジ部分７０とフランジ部分６４の平面的な表面部分７６との間の接合部８４は、中心軸線６２に対して半径Ｒｍａｘを画定している。半径Ｒｍａｘは、滞在ウエハ４４の外周部４６との精密嵌合を提供するように寸法決めされ得る。また、半径Ｒｍａｘは、リッジ部分７０の内側面８５（図７）の周囲部を画定すると言うことが可能であり、周囲部は、２πＲｍａｘに等しい。平面的な表面部分７６は、滞在ウエハ４４がウエハ支持リング６０の中に位置合わせされるときに、ＩＳＴＡ−２Ａによって規定されるように、滞在ウエハ４４の平坦度適用領域（ＦＱＡ）を侵害しないように寸法決めされ得る。また、さまざまな実施形態では、Ｒｍａｘの寸法は、軸線方向に延在する突出部５９ｂの半径方向の末端部によって画定される半径Ｒｐよりもわずかに大きい。この構成によって、軸線方向に延在する突出部５９ｂは、積層部３８の最上のウエハ支持リング６０のリッジ部分７０（図４Ａの中で最上のウエハ支持リング３６ａとして特定されている）から半径方向内向きに挿入されており、それによって、ウエハシッパー３０を閉鎖するときに、カバー部分３２に対する積層部３８のアライメントを提供する。１つの実施形態では、軸線方向面５９ａの外側部分は、最上のウエハ支持リング３６ａに対抗してストッパー部分５９を着座させるために、軸線方向に延在する突出部５９ｂの半径方向の末端部から半径方向外向きに残っている。
【００３６】
軸線方向に延在する突出部５９ｂに対する代替例が、本開示の実施形態に関して、図４Ｂに示されている。この実施形態では、ストッパー５９は、ステップ５９ｃを画定しており、ステップ５９ｃは、第２の軸線方向面５９ｄに移行しており、第２の軸線方向面５９ｄは、軸線方向面５９ａよりもさらに下向きに（すなわち、レセプタクル部分３４のベース５５に向かってさらに遠くに）延在している。ステップ５９ｃは、図３の軸線方向に延在する突出部５９ｂとおおよそ同じ半径Ｒｐに位置付けされ得、最上のウエハ支持リング３６ａのリッジ部分７０から半径方向内向きに挿入されるようになっている。図４Ｂのこの配置によって、ステップ５９ｃは、図３及び図４Ａの軸線方向に延在する突出部５９ｂ
と同じセンタリング機能を提供することが可能である。
【００３７】
図７及び図８を参照すると、滞在ウエハ４４がない状態の、及び、滞在ウエハ４４がある状態の、ウエハ支持リング６０の断面図が、本開示の実施形態に関してそれぞれ示されている。ウエハ支持リング６０の第２の軸線方向面６８は、溝部又はチャネル９０を画定する構造を含む。チャネル９０は、内側の半径方向壁部９１、外側の半径方向壁部９２、及び、内側の半径方向壁部９１と外側の半径方向壁部９２との間の凹んだ軸線方向面９３によって境界を定められている（図８）。支持リング６０のフランジ部分６４は、凹んだ軸線方向面９３と位置合わせ平面７８との間の軸線方向厚さ９５を画定するものとして特徴付けられ得る。内側の半径方向壁部９１及び外側の半径方向壁部９２は、中心軸線６２に対して、内側半径Ｒｉ及び外側半径Ｒｏをそれぞれ画定している。いくつかの実施形態では、チャネル９０は連続的である。１つの実施形態では、リッジ部分７０は、内側半径Ｒｉと外側半径Ｒｏとの間に画定されている第１の軸線方向面６６の上で環状のバンドΔＲを占有しており、リッジ部分７０がチャネル９０の上に配設されるようになっている。
【００３８】
図９を参照すると、滞在ウエハ４４の対を含有する組み立てられた積層部３８の部分断面図が、本開示の実施形態に関して示されている。示されている実施形態では、第１のウエハ支持リング６０ａは、第２のウエハ支持リング６０ｂの上に積層されており、第２のウエハ支持リング６０ｂのリッジ部分７０ｂの遠位エッジ７５ｂが、第１のウエハ支持リング６０ａのチャネル９０ａの中に位置合わせされ、遠位エッジ７５ｂとチャネル９０ａの凹んだ軸線方向面９３ａとの間に実質的に連続的な接触バンド９４を画定するようになっている。リッジ部分７０ｂがチャネル９０ａの中に位置合わせされているときに、軸線方向寸法９８を有する間隙９６が、第２のウエハ支持リング６０ｂの平面的な表面部分７６ｂとウエハ支持リング６０ａの第２の軸線方向面６８ａとの間に画定されている。空隙部９９が、隣接するウエハ４４の間に画定されており、空隙部９９は、連続して積層されているウエハ・サポーティング・リング６０によって周辺部で結合されている。
【００３９】
組み立て時に、ウエハ４４は、複数のウエハ支持リング３６のそれぞれのウエハ支持リング６０の中へ積み込まれ、ウエハ支持リング３６は、互いの上に位置決めされ、積層部３８を形成する。次いで、カバー部分３２が、レセプタクル部分３４に整合させられ、また、レセプタクル部分３４に連結され、ラッチング部材５８が、アパーチャ５６を介してコーナ・フランジ５２の中に相互連結されるようになっている。さまざまな実施形態では、カバー部分３２は、レセプタクル部分３４に相互連結するときに、ストッパー部分５９が積層部３８にしっかりと係合されるように寸法決めされている。
【００４０】
この係合によって（図４Ａに最も良好に見られる）、実質的に連続的な接触バンド１０２が、ストッパー部分５９と複数のウエハ支持リング３６の最上のウエハ支持リング３６ａとの間に作られる。それによって、上側ガス・ポケット１０４が、カバー部分３２と積層部３８との間に画定され、上側ガス・ポケット１０４は、カバー部分３２、ストッパー部分５９、接触バンド１０２、最上のウエハ支持リング３６ａ、最上のウエハ支持リング３６ａに隣接している隣接ウエハ支持リング３６ｂ、及び最上のウエハ４４ａによって境界を定められている。（上側ガス・ポケット１０４の境界１０６は、図４Ａにおいて、明確化のために、増加された線の太さで示されている。）
あるいは、最上のウエハ４４ａは、図４Ｂに示されているように、最上のウエハ支持リング３６ａの中に配設され得る。図４Ｂの実施形態では、間隙１０７は、第２の軸線方向面５９ｄと最上のウエハ４４ａの位置合わせ平面７８との間に画定されている。間隙１０７は、間隙９６とおおよそ同じ寸法のものであることが可能であり、それによって、間隙９６と同じ保持機能及び捕捉機能を果たす。また、第２の軸線方向面５９ｄは、リッジ部分７０の遠位エッジ７５から軸線方向下向きに位置付けされているので、最上のウエハ４４ａは、最上のウエハ支持部３６ａのリッジ部分７０を「飛び越える」こと、及び、リッ
ジ部分７０とストッパー部分５９の軸線方向面５９ａとの間に捕らわれることに起因して損傷を受けることが防止される。
【００４１】
また、図３及び図４Ａの実施形態は、最上のウエハ支持リング３６ａの中に最上のウエハ４４ａを収容するために構成され得るということがさらに理解される（図示せず）。軸線方向に延在する突出部５９ｂは、それらの下側末端部と位置合わせ平面７８との間に軸線方向クリアランス（図示せず）を提供する軸線方向寸法を有することが可能であり、ウエハ４４が最上のウエハ支持リング３６ａの中に配設されることを可能にする。そのように画定される軸線方向クリアランスは、図４Ｂの間隙１０７と同様に動作することが可能である。
【００４２】
また、組み立て時に、ストッパー部分５９によって積層部３８に付与される荷重に起因して、力は、積層部３８を通して伝達され、最下のウエハ支持リング３６ｚをレセプタクル部分３４のベース５５の装着リング５７にしっかりと係合させる。この係合は、最下リング３６ｚと装着リング５７との間に、実質的に連続的な接触バンド１０８を形成する。それによって、下側ガス・ポケット１０９が画定され、下側ガス・ポケット１０９は、ベース５５、装着リング５７、最下のウエハ支持リング３６ｚ、及び、最下のウエハ支持リング３６ｚの中に配設されている最下のウエハ４４ｚによって境界を定められている。
【００４３】
本明細書で、「実質的に連続的な接触バンド」は、ｒ−θ−ｚ座標（たとえば、座標４５，７９）のθ座標において途切れることのない境界面であり、それは、顕微鏡レベルを除いて境界面にわたって接触を提供しており、顕微鏡レベルでは、表面粗度、ならびに、引っかき傷及び浅いうねなどのようなわずかな表面欠陥が、接触部において不連続性を生成させる可能性がある。したがって、接触部は、顕微鏡的な意味において連続的ではないが、「実質的に連続的」である。
【００４４】
複数のウエハ支持リング３６の製造公差に起因して、積層部３８の高さは、積層部ごとに著しく変化する可能性がある。したがって、いくつかの実施形態では、カバー部分３２がレセプタクル部分３４に相互連結されているときに、ラッチング部材５８が、積層部３８の累積された積み上げの不確かさの範囲内にある積層部３８に関する高さの範囲にわたって軸線方向引張の状態になるように、ウエハシッパー３０は構成されており、可撓性のコーナ・フランジ５２が、積層部３８の積み上げの不確かさを吸収するように撓む。この配置によって、レセプタクル部分３４に対してカバー部分３２を相互連結することは、ストッパー部分５９が積層部３８に圧縮力を働かせることを確実にする。そのような配置は、本出願の出願人によって所有され、本出願と同日付けで出願された、「ウエハ封じ込めに関する一体型コーナ・スプリングを備える水平方向のウエハシッパー」という名称の米国仮出願（代理人整理番号第２２６７．１２７８ＵＳ１号）においてさらに詳細に議論されており、その内容は、その中に含まれている特別の定義を除いて、すべての目的で、その全体が本願明細書に援用されている。
【００４５】
機能的に、滞在ウエハ４４は、間隙９６の中に捕捉されており、輸送の厳しさの間に（たとえば、衝撃エピソードの間に）、軸線方向の移動が限定されている。接合部８４と滞在ウエハ４４の外周部４６との間の精密嵌合は、輸送の間の滞在ウエハ４４の水平方向の移動を限定する。チャネル９０ａは、ウエハ４４がリッジ部分７０ｂを「飛び越える」こと、及び、リッジ部分７０ｂと隣接するウエハ支持リング６０ａの第２の軸線方向面６８ａとの間に捕らわれることに起因して、ウエハ４４が損傷を受けることをさらに防止する。
【００４６】
滞在ウエハ４４及び平面的な表面部分７６の位置合わせは、滞在ウエハ４４とウエハ支持リング６０ｂとの間の流量制限をさらに提供する。衝撃エピソードの間に、流量制限は
、空隙部９９からの、及び、他の隣接するウエハと複数のウエハ支持リング３６との間に画定された空隙部からのガスの放出を遅くするダンパーとしての役割を果たすことが可能である。同じ動力学が、上側ガス・ポケット１０４及び下側ガス・ポケット１０９の閉じ込められたガス気泡又は制約されたガス・ポケットに当てはまる。所与の空隙部９９、及び／又は、上側ガス・ポケット１０４及び下側ガス・ポケット１０９の中のガスがゆっくりと放出される（衝撃事象の持続期間に対して「遅い」）効果に起因して、衝撃損傷から滞在ウエハ４４にさらにクッション性を与えるダンピング効果が存在している。
【００４７】
いくつかの実施形態では（図４Ａ）、複数のウエハ支持リング３６の最上のウエハ支持リング３６ａは、占有されていない（すなわち、ウエハを含有していない）。そのような実施形態では、最上のウエハ支持リング３６ａは、隣接するウエハ支持リング３６ｂ（すなわち、ウエハ支持リング３６ａがその上に装着されるウエハ支持リング３６ｂ）の中に配設されている最上のウエハ４４ａを捕捉する役目を果たす。この配置によって、ウエハ支持リング３６ｂの中に滞在している最上のウエハ４４ａは、衝撃事象の間にウエハ支持リング３６ｂから取り外されることを防止される。積層部３８のウエハ支持リング３６ａ及び３６ｂは、ストッパー部分５９によって印加される圧縮力によって固定されているので、最上のウエハ４４ａがその中に滞在している間隙９６が、衝撃事象の間に維持され、また、上記に説明されているクッション効果も維持され、効き目がある。
【００４８】
図１０から図１２を参照すると、ウエハ支持リング１１０が、本開示の実施形態に関して示されている。ウエハ支持リング１１０は、ウエハ支持リング６０と同じコンポーネント及び特徴の多くを含み、それらは、同じ付番をされている参照数字によって示されている。ウエハ支持リングは、リッジ部分１１２を含み、リッジ部分１１２は、フランジ部分６４の第１の軸線方向面６６から、中心軸線６２に対して平行な軸線方向７４に突出している。リッジ部分１１２は、第１の半径方向厚さ１１４及び第２の半径方向厚さ１１６を画定しており、第２の半径方向厚さ１１６は、第１の半径方向厚さよりも大きい。いくつかの実施形態では、１又は複数の移行部１１８が、第１の半径方向厚さ１１４と第２の半径方向厚さ１１６との間に画定されている。第２の半径方向厚さ１１６及び任意の隣接する移行部１１８を含むリッジ部分１１２の一部分は、図１１において、ポスト１２０ａから１２０ｈとして示されており、それらは、本明細書では総称的に又は集合的にポスト１２０と称されている。
【００４９】
示されている実施形態では、リッジ部分１１２は、８つのリッジ・セクション１２２ａから１２２ｈへと分割されており、それらは、総称的に及び集合的にリッジ・セクション１２２と称されている。それぞれのリッジ・セクション１２２は、それぞれの円弧長さを有しており、それらは、図１１において、円弧長さ１２３ａから１２３ｈとして示されており、それらは、本明細書では総称的に又は集合的に円弧長さ１２３と称されている。円弧長さ１２３は、長さ（たとえば、センチメートル）又は角度（たとえば、度）のいずれかの単位で特徴付けられ得る。それぞれのリッジ・セクション１２２は、第１の円弧セグメント１２４及び第２の円弧セグメント１２６を含み、第１の円弧セグメント１２４は、２つの近接するポスト１２０の間に第１の半径方向厚さ１１４を有するリッジ・セクション１２２の一部分として画定されており、第２の円弧セグメント１２６は、第２の半径方向厚さ１１６及びそれに隣接する任意の移行部１１８（すなわち、所与のポスト１２０）を有するリッジ・セクション１２２の一部分として画定されている。（第１の円弧セグメント１２４及び第２の円弧セグメント１２６は、図１１では、リッジ・セクション１２２ｃだけに関して示されているが、すべての円弧セグメント１２２に当てはまる。）随意的に、及び、示されている実施形態に提示されているように、第２の円弧セグメント１２６は、中心軸線６２の周りに角度的に均一に分配されており、それぞれのリッジ・セクション１２２が、同じ角度θに対するようになっている。
【００５０】
さまざまな実施形態では、第１の半径方向厚さ１１４に対する第２の半径方向厚さ１１６の比率は、境界を含んで１．４から１．８の範囲の中にある。他の実施形態では、比率は、境界を含んで１．３から２の範囲の中にある。さらなる他の実施形態では、比率は、境界を含んで１．２から３の範囲の中にある。（本明細書では、「境界を含んで」いると言われる範囲は、その範囲に関して述べられている端点の値を含む。）さまざまな実施形態では、リッジ部分１１２の周囲部の大部分は、第１の半径方向厚さ１１４のものである。いくつかの実施形態では、所与のリッジ・セクション１２２の第１の円弧セグメント１２４は、リッジ・セクション１２２の円弧長さ１２３の７５％から８５％（境界を含む）であり、他の実施形態では、境界を含んで７５％から９５％であり、他の実施形態では、境界を含んで７０％から９５％である。さまざまな実施形態では、ポスト１２０の数は、境界を含んで３から１２の間であり、いくつかの実施形態では、境界を含んで４つから１０個の間のポスト１２０であり、いくつかの実施形態では、境界を含んで６つから８つの間のポスト１２０である。ポスト１２０は、示されているように中心軸線６２の周りに等しく分配され得るが、そうである必要はない。
【００５１】
機能的に、より薄い第１の半径方向厚さ１１４は、特定の射出成形された材料では避けられない第１の円弧セグメント１２４の収縮の影響を低減させ、それによって、支持リング１１０の反りを防止する。すなわち、軸線方向厚さ９５に対して十分に厚い半径方向厚さを組み込むリッジ・セクション１２２に関して、収縮の効果は、フランジ部分６４の上部に半径方向の力を働かせ、それは、フランジ部分が知覚できるくらいに曲がることを引き起こすのに十分である（すなわち、支持リング１１０が特定の平坦度及びうねりの公差から外れることを引き起こす）。半径方向厚さが十分に薄いリッジ・セクション１２２に関して、収縮によって働かされる力は減少させられ得、特定の製造公差が維持されるようになっている。さまざまな実施形態では、反りが十分に弱められ、軸線方向厚さ９５に対する第１の半径方向厚さ１１４の比率は、境界を含んで０．１から１．５の範囲にある。いくつかの実施形態では、軸線方向厚さ９５に対する第１の半径方向厚さ１１４の比率は、境界を含んで０．５から１．２の範囲にあり、いくつかの実施形態では、境界を含んで０．８から１．１の範囲にある。
【００５２】
ポスト１２０は、たとえば、衝撃事象のときに、座屈又は破砕なしにウエハ支持リング１１０を積層するための荷重負担能力を提供する。ポスト１２０は、より厚い半径方向厚さを与えながら、冷却の間に支持リング１１０のかなりの反りを引き起こさないように、支持リング１１０の十分に小さい部分を構成している。１つの実施形態では、高さ７７は、リッジ部分１１２の周囲部の周りで均一であり、それによって、下記に説明されているように、他の支持リングとともに積層されているときに、特定の好ましい動作特性を保持する。
【００５３】
ポスト１２０は、代替的な形状を含むさまざまな設置面積の形状のものであることが可能である。図１０の実施形態では、第２の半径方向厚さ１１６は、移行部１１８と組み合わせて、多角形の形状（図１０Ａ）を有するポスト１２０を画定している。あるいは、ポスト１２０に関するフットプリント形状の非限定的な例は、三角形のプロファイル（図１０Ｂ）、半円形プロファイル（図１０Ｃ）、及び長方形プロファイル（図１０Ｄ）を含む。
【００５４】
図１３を参照すると、ウエハシッパー１３０が、本開示の実施形態に関して概略的に示されている。ウエハシッパー１３０は、ウエハシッパー３０の減衰動力学の議論を促進させるために簡単化されたバージョンのウエハシッパー３０であり、したがって、ウエハシッパー３０の同じコンポーネント及び属性の多くを有しており、それらは、同じ付番をされている参照数字によって示されている。ウエハシッパー１３０は、直列に接続されているダッシュポットとして類似的に表されている減衰チャンバーとして、空隙部９９、上側
ガス・ポケット１０４、及び下側ガス・ポケット１０９を概略的に示している。ダッシュポット１３２は、空隙部９９によって提供される減衰を表しており、ダッシュポット１３２ａは、上側ガス・ポケット１０４によって提供される減衰を表しており、ダッシュポット１３２ｚは、下側ガス・ポケット１０９によって提供される減衰を表している。
【００５５】
衝撃事象の間に、ウエハシッパー１３０は撓ませられ、中のガスを突然に及び瞬時に圧縮させる。空隙部９９、上側ガス・ポケット１０４、及び下側ガス・ポケット１０９は、一連のダッシュポット１３２、１３２ａ、及び１３２ｚに類似しているので、圧縮の効果は、ウエハ４４のすべてにわたって広げられる。カバー３２の上部の内向きの撓みによって生じる圧縮を考える。これは、上側ポケット１０４の中のガスを圧縮するという役割を果たし、そして、それは、最上のウエハ４４ａを下向きに撓ませる。ウエハ４４ａの下向きの撓みは、ウエハ４４ａに隣接している空隙部９９ａの圧縮によって抵抗され、したがって、最上のウエハ４４ａの撓みの大きさを抑制する。空隙部９９ａの圧縮は、隣接するウエハ４４ｂが下向きに撓むことを引き起こし、それは、空隙部９９ｂの圧縮によって抵抗されるなどとなる。撓み／圧縮シーケンスは、積層部３８を通して急速に進行する。
【００５６】
また、上側ポケット１０４の体積を突然に及び効果的に膨張させる最上のウエハ４４ａの撓みを考える（たとえば、ウエハ４４ａとカバー部分３２との間の距離が突然に増加させられる場合）。そのような行為は、上側ガス・ポケット１０４の中の圧力を瞬時に減少させることとなる。瞬間的な圧力の減少は、ウエハに対する部分的な真空力としての役割を果たすことが可能であり、最上のウエハ４４ａ及びカバー３２が互いから離れるように撓む傾向を遅らせる。また、分離を遅らせることは、閉じ込められたガス・ポケット１０４を有していないシステムに対して、最上のウエハ４４ａの撓みを低減させる役割も果たすことが可能である。また、この同じ部分的な真空効果は、互いから分離されているウエハ４４、及び、ウエハ４４ｚによって画定されている空隙部９９、ならびに、下側ガス・ポケット１０９に対しても働く。
【００５７】
したがって、実質的に連続的な接触バンド４８、９４、１０２、及び１０８に起因して、ゆっくりと漏洩するガス・エンクロージャのネットワークが、空隙部９９、ならびに、囲まれた上側ガス・ポケット１０４及び下側ガス・ポケット１０９の間に確立され、それは、衝撃荷重によって引き起こされる圧縮を分配する役割を果たす。すなわち、実質的に連続的な接触バンド４８、９４、１０２、及び１０８は、たとえば、衝撃事象の間に受ける圧縮の間など、空隙部９９、ならびに、囲まれた上側ガス・ポケット１０４及び下側ガス・ポケット１０９が突然に加圧されるときに、それを通る流量制限を生成させる。
【００５８】
とりわけ、ウエハ４４とそのウエハ４４が滞在している間隙９６との間にかなりのクリアランスを残す、より薄いウエハ４４に関して、ウエハ４４が、衝撃事象の間にフランジ部分６４の平面的な表面７６から離れて持ち上がり、そうでなければ実質的に連続的な接触ライン又は接触バンド４８がもはや連続的でなくなるということが予期される。離れるように持ち上がることは、フローの制限をいくらか低下させる可能性があるが、ウエハ４４が持ち上がることは、ウエハ４４と間隙９６との間のクリアランスによって限定され、任意のそのような開口は、小さい寸法に限定され得るようになっている。離れるように持ち上がることの小さい寸法は、依然として、フローを効果的に制限し、衝撃エピソードの持続期間に対して、ゆっくりとしたガスの放出を生成させることが可能である。
【００５９】
実質的に連続的な接触バンド４８、９４、１０２、及び１０８によって引き起こされる流量制限がなければ、圧縮荷重は、上記に説明されているように分配されないこととなる。たとえば、上側ポケット１０４の実質的に連続的な接触バンド１０２にわたる流量制限がなければ、最上のウエハ４４ａは、衝撃事象の間に、抑制されない様式で上向きに撓む可能性があり、それは、最上のウエハ４４ａに対する損傷を引き起こす可能性がある。同
様に、最下のウエハ４４ｚが下向きに撓むことを引き起こすこととなる衝撃事象は、減衰効果を提供するための実質的に連続的な接触バンド１０８によって提供される流量制限が下側ポケットに存在しない場合には、損傷を引き起こす可能性がある。
【００６０】
減衰効果は、より大きい直径のウエハ（たとえば、それに限定されないが、３００ｍｍウエハ及び４５０ｍｍウエハ）に関して、とりわけ有益であり、その場合には、支持点同士の間のウエハのスパンは、相当に大きくなっている可能性があり、それは、所与のウエハのかなりの撓みにつながる。また、減衰は、隣接するウエハが撓みの間に互いに衝突することを防止するのを助けることが可能である。すなわち、類似のダッシュポット１３２が直列になっているので、ウエハは、実質的に同じ方向に撓もうとし、任意の２つのウエハがそれらのそれぞれの最大撓み点において衝突する危険性を軽減する。減衰機構のこの態様は、より高密度に詰め込まれた積層部に関して、滞在ウエハの間のより小さい分離を可能にすることができる。
【００６１】
減衰効果は、滞在ウエハ４４の撓みを低減させるだけでなく、減衰効果は、より薄いウエハ４４がそのそれぞれのウエハ支持リング３６から持ち上げられる程度を低減させる。「より薄いウエハ」は、隣接するウエハ支持リング３６同士（たとえば、図９のウエハ支持リング６０ａと６０ｂ）の間の間隙９６を実質的には充填しないウエハである。したがって、外周部４６の近位のウエハ４４を損傷させる可能性がある、衝撃事象の間に、又は、高い振動の期間に、ウエハは、間隙９６の中で変位させられ又は「ガタガタする」可能性がある。空隙部９９ならびにガス・ポケット１０４及び１０９の減衰効果は、変位を低減させるか又は遅らせる（遅くする）役割を果たすことが可能であり、そして、それは、滞在ウエハ４４に対する損傷を防止することが可能である。
【００６２】
積層部３８は、ストッパー部分５９によって働かされる圧縮荷重を、滞在ウエハ４４に力を働かせることなく、複数のウエハ支持リング３６を通して伝達するということがさらに留意される。同じことが、衝撃荷重についても当てはまる。すなわち、積層部３８を通して伝達される任意の衝撃荷重は、いずれの滞在ウエハ４４を通しても伝達されない。
【００６３】
図１４を参照すると、ウエハシッパー１３４が、本開示の実施形態に関して概略的に示されている。ウエハシッパー１３４は、図１３概略図のウエハシッパー１３４と同じコンポーネント及び属性の多くを含み、それらは、同じ付番をされている参照数字によって特定されている。ウエハシッパー１３４に関して、ウエハ支持部３６は、それに隣接している両方のウエハ４４に接触しており、滞在ウエハ４４を通して圧縮力を伝達する積層部１３８を画定している。１つの実施形態では、積層部１３８は、装着リングの上に支持されていない（すなわち、ベース５５から上向きに延在する装着リング５７に似ている突出した構造は存在していない）。むしろ、最下の支持リング３６ｚは、ベース５５の平坦な部分の上に着座させられており、それらの間に実質的に連続的な接触バンド１０８を形成している。空隙部９９及びガス・ポケット１０４、１０９の中のガスによって提供される減衰に起因してウエハ撓みを限定する一般的な原理は、図１３のウエハシッパー１３０に付随して説明されているものと同じである。
【００６４】
図１５を参照すると、単一ウエハシッパー１５０が、本開示の実施形態に関して概略的に示されている。ウエハシッパー１３４は、図１３概略図のウエハシッパー１３４と同じコンポーネント及び属性のいくつかを含み、それらは、同じ付番をされている参照数字によって特定されている。概略的に、ウエハシッパー１５０は、ウエハ支持リング３６及び積層部３８がないウエハシッパー１３０と同じである。上側ガス・ポケット１０４及び下側ガス・ポケット１０９は、図１３に概略的に示されているウエハシッパー１３０の空隙部９９及びガス・ポケット１０４、１０９と同様に、滞在ウエハの撓みに対抗するように動作する。
【００６５】
図１６及び図１７を参照すると、ウエハシッパー２３０が、本開示の実施形態に関して示されている。ウエハシッパー２３０は、カバー部分２３２及びレセプタクル部分２３４を含む。複数のウエハ支持リング２３６が、ウエハシッパー２３０の中の積層部２３８の中に配設されており、積層部２３８は、レセプタクル部分２３４の装着軸線２４２の周りに実質的に同心円状になっている。それぞれのウエハ支持リング２３６は、外周部２４６及びプライマリー・ウエハ・フラット２４８を有するウエハ２４４を支持するように形状決め及び寸法決めされており、プライマリー・ウエハ・フラット２４８は、翼弦２５２を画定している（図２０）。
【００６６】
図１８から図２１を参照すると、複数のウエハ支持リング２３６のウエハ支持リング２６０が、本開示の実施形態に関して示されている。ウエハ支持リング２６０は、中心軸線２６２を画定しており、第１の面２６６及び第２の面２６８を有するフランジ部分２６４を含み、第２の面２６８は、第１の面２６６の反対側にある。ウエハ支持リング２６０は、外側リム部分２７２をさらに含み、外側リム部分２７２は、中心軸線２６２に対して平行な軸線方向２７４に、フランジ部分２６４の第１の面２６６から遠位末端部２７５まで突出している。フランジ部分２６４の第１の面２６６は、平面的な表面部分２７６を含み、平面的な表面部分２７６は、外側リム部分２７２に隣接して、外側リム部分２７２から半径方向に内側にセットされている。
【００６７】
ウエハ支持リング２６０は、ウエハ・フラット支持構造２８０をさらに含み、ウエハ・フラット支持構造２８０は、フランジ部分２６４から半径方向内向きに延在している。ウエハ・フラット支持構造２８０は、平面的な表面部分２８２を有する第１の表面２８１を含み、平面的な表面部分２８２は、フランジ部分２６４の平面的な表面部分２７６から半径方向に内側にセットされており、ウエハ・フラット支持構造２８０の平面的な表面部分２８２は、線形のエッジ２８４を画定している。線形のエッジ２８４は、ウエハ・フラット支持構造２８０の平面的な表面部分２８２の中心軸線２６２から最小半径Ｒｍｉｎを画定しており、線形のエッジ２８４は、中心軸線２６２に実質的に直交して、かつ、最小半径Ｒｍｉｎに対して実質的に垂直に延在している。ウエハ支持リング２６０は、第１のタブ部分２８６をさらに含み、第１のタブ部分２８６は、外側リム部分２７２から半径方向外向きに、かつ、リム部分２７２の第１の接線方向長さ２８８に沿って延在している。
【００６８】
１つの実施形態では、平面的な表面部分２７６及び２８２は、滞在ウエハ４４に関する位置合わせ平面２９０を画定している。平面的な表面部分２７６及び２８２に対抗したウエハ２４４の位置合わせは、ウエハ２４４とウエハ支持リング２６０との間に実質的に連続的な接触バンドを提供することが可能であり、上記に議論されている実質的に連続的な接触バンド４８に関して上記に議論されているような有益な効果を伴う。カバー部分２３２は、積層部２３８の最上の支持リングに嵌合するように構成され得、レセプタクル部分２３４は、積層部２３８の最下の支持リングに嵌合するように構成され得、図１３のガス・ポケット１０４及び１０９に似ているガス・ポケットを画定しており、再び、上記に説明されているような付随する利益を伴う。
【００６９】
さまざまな実施形態では、ウエハ・フラット支持構造２８０は、リブ２９２を含み、リブ２９２は、中心軸線２６２に対して平行な軸線方向２９４に突出しており、リブ２９２は、外側リム部分２７２から半径方向に内側にセットされており、ウエハ・フラット支持構造２８０の平面的な表面部分２８２から半径方向に外側にセットされている。１つの実施形態では、リブ２９２は、ウエハ・フラット支持構造２８０の第１の面２８１から、外側リム部分２７２と同じ軸線方向２７４に突出している。１つの実施形態では、リブ２９２は、線形の部分２９６を含み、線形の部分２９６は、ウエハ・フラット支持構造２８０の平面的な表面部分２８２の線形のエッジ２８４に対して平行に延在している。
【００７０】
１つの実施形態では、ウエハ・フラット支持構造２８０の第１の面２８１は、傾斜した部分３０２を含み、傾斜した部分３０２は、ウエハ・フラット支持構造２８０の平面的な表面部分２８２の線形のエッジ２８４から半径方向内向きに延在しており、傾斜した部分３０２は、中心軸線２６２に向けて、位置合わせ平面２９０から離れて延在している。同様に、フランジ部分２６４の第１の面２６６は、傾斜した部分３０４を含むことが可能であり、傾斜した部分３０４は、フランジ部分２６４の平面的な表面部分２７６のから半径方向内向きに延在しており、傾斜した部分３０４は、中心軸線２６２に向けて、位置合わせ平面２９０から離れて延在している。
【００７１】
さまざまな実施形態では、外側リム部分２７２とフランジ部分２６４の平面的な表面部分２７６との間の接合部３０６は、中心軸線２６２に対して半径Ｒｍａｘを画定しており、半径Ｒｍａｘは、滞在ウエハ４４の外周部４６との精密嵌合を提供している。同様に、リブ２９２の線形の部分２９６とウエハ・フラット支持構造２８０の平面的な表面部分２８２との間の接合部３０８は、滞在ウエハ４４のプライマリー・ウエハ・フラット４８との精密嵌合を提供することが可能である。平面的な表面部分２７６及び２８２は、滞在ウエハ４４がウエハ支持リング２６０の中に位置合わせされるときに、ＩＳＴＡ−２Ａによって規定されるように、滞在ウエハ４４の平坦度適用領域（ＦＱＡ）を侵害しないように寸法決めされ得る。
【００７２】
図２２を参照すると、積層部２３８の部分断面図が、本開示の実施形態に関して示されている。１つの滞在ウエハ４４が、例示目的のために示されている。示されている実施形態では、複数のウエハ支持リング２３６のそれぞれのウエハ支持リング２６０の第２の面２６８は、第１の円形溝部３１２を画定する構造を含み、複数のウエハ支持リング２３６のうちの隣接する１つの外側リム部分２７２が、第１の円形溝部３１２の中に着座させられている。１つの実施形態では、第２の面２６８も、第２の溝部３１４を画定する構造を含み、第２の溝部３１４は、複数のウエハ支持リング２３６のうちの隣接するもののリブを位置合わせするように寸法決め及び形状決めされている。
【００７３】
機能的に、積層部２３８は、滞在ウエハ４４を捕捉しており、衝撃エピソードの間のその軸線方向の移動を限定する。接合部３０６と外周部４６との間の精密嵌合、及び、接合部３０８とリブ２９２の線形の部分２９６との間の精密嵌合は、衝撃エピソードの間の滞在ウエハ４４の水平方向の移動を限定する。溝部３１２及び３１４は、ウエハが外側リム部分２７２及びリブ２９２をそれぞれ「飛び越える」こと、及び、外側リム部分２７２及び／又はリブ２９２と複数のウエハ支持リング２３６のうちの隣接する１つの第２の面２６８との間に捕らわれることに起因して、ウエハが損傷を受けることをさらに防止する。滞在ウエハ４４ならびに平面的な表面部分２７６及び２８２の位置合わせは、滞在ウエハ４４とウエハ支持リング２６０との間の流量制限をさらに提供する。衝撃エピソードの間に、流量制限は、ポケットに捕捉されておりポケットからゆっくりと放出される空気の効果に起因して、複数のウエハ支持リング２３６と滞在ウエハ４４との間に画定されている隣接する「ポケット」間のダンパーとしての役割を果たすことが可能である。ダンピング効果は、衝撃損傷から滞在ウエハ４４にさらにクッション性を与える。
【００７４】
図２３及び図２４を参照すると、滞在ウエハ４４の翼弦２５２よりも長い翼弦３２４を有する滞在ウエハ３２２が、本開示の実施形態に関して、ウエハ支持リング２６０の中に示されている。非限定的な例では、標準的な１５０ｍｍウエハが、４７．５ｍｍ及び５７．５ｍｍの翼弦２５２を備えるプライマリー・フラット４８を有することが可能であるということが留意される。より長い翼弦３２４の長さは、中心軸線２６２と翼弦２５２との間の最小半径Ｒｍｉｎ’を低減させる。いくつかの実施形態では、ウエハ支持リング２６０は、中心軸線２６２のより近くにリブ２９２を配設することによって修正され得る。他
の実施形態では、図２３及び図２４に示されているものなどのように、プライマリー・フラットは、ウエハ・フラット支持構造２８０の傾斜した部分３０２の上に浮かんだままにされている。１つの実施形態では、軸線方向の間隙３２６が、プライマリー・フラット４８と傾斜した部分３０２との間に画定されており、それは、滞在ウエハ３２２がウエハ支持リング２６０の中に位置合わせされているときに、０．０５ｍｍのオーダである。
【００７５】
機能的に、比較的に小さい寸法の間隙３２６が、衝撃エピソードの間のプライマリー・フラット４８の軸線方向の撓みを依然として限定する。比較的に小さい寸法の間隙３２６は、いくらかのフローの制限を依然として提供することが可能であり、それによって、滞在ウエハ３２２間の「ポケット」のクッション効果を促進させる。
【００７６】
特定のウエハ・タイプは、セカンダリー・ウエハ・フラット３３２を含むことが可能であるということがさらに留意される（図２３）。セカンダリー・ウエハ・フラット３３２は、典型的に識別特徴であり、プライマリー・フラット４８に対する位置は、滞在ウエハ４４、３２２のいくつかの特性に依存している。たとえば、セカンダリー・フラット３３２は、３７．５ｍｍの長さのものであることが可能であり、プライマリー・フラット４８の中心から、４５°、９０°、１３５°、及び１８０°の角度に中心を合わせられ得る。いくつかのウエハは、セカンダリー・フラットをまったく有していない。したがって、セカンダリー・フラット３３２は、プライマリー・フラット４８に対して多くの異なる位置に出現することが可能である。
【００７７】
図２５及び図２６を参照すると、ウエハ支持リング２６０の中に位置付けされているようなセカンダリー・フラット３３２を示す例及び非限定的な実施形態が示されている。３７．５ｍｍの翼弦長のセカンダリー・フラット３３２に関して、フランジ部分２６４の傾斜した部分３０４の上の最大間隙３３４は、０．１ｍｍのオーダである。比較的に小さい寸法の最大間隙３３４は、衝撃エピソードの間のプライマリー・フラット４８の軸線方向の撓みを依然として限定する。また、比較的に小さい寸法の最大間隙３３４は、いくらかのフローの制限を依然として提供することが可能であり、それによって、滞在ウエハ３２２間の「ポケット」のクッション効果を促進させる。
【００７８】
再び図１８から図２１を参照すると、ウエハ支持リング２６０は、第２のタブ部分３６２も含むことが可能であり、第２のタブ部分３６２は、リム部分２７２から半径方向外向きに、リム部分２７２の第２の接線方向長さ３６４に沿って延在しており、第２の接線方向長さ３６４は、第１のタブ部分２８６の第１の接線方向長さ２８８とは異なる寸法のものである。第１のタブ部分２８６は、第２のタブ部分３６２の直径方向反対側にあることが可能である。
【００７９】
また、ウエハ支持リング２６０は、第３のタブ部分３６６を含むことが可能であり、第３のタブ部分３６６は、リム部分２７２から半径方向外向きに、リム部分２７２の第３の接線方向長さ３６８に沿って延在している。第３の接線方向長さは、第１の接線方向長さ２８８及び第２の接線方向長さ３６４とは異なる寸法のものであることが可能である。１つの実施形態では、第１のタブ部分２８６、第２のタブ部分３６２、及び第３のタブ部分３６６は、中心軸線２６２の周りに非対称的に配設されている。
【００８０】
さまざまな実施形態では、ウエハ支持リング２６０は、第４のタブ部分３７２を含み、第４のタブ部分３７２は、リム部分２７２から半径方向外向きに、リム部分２７２の第４の接線方向長さ３７４に沿って延在しており、第４のタブ部分３７２は、中心軸線２６２の周りに第３のタブ部分３６６の直径方向反対側にある。１つの実施形態では、第３のタブ部分３６６及び第４のタブ部分３７２は、実質的に同じ形状及び実質的に同じ寸法（たとえば、図１８に示されているように、実質的に半円形の形状）の第１の平面図プロファ
イル３７０をそれぞれ画定している。
【００８１】
いくつかの実施形態では、ウエハ支持リング２６０は、第５のタブ部分３７６を含み、第５のタブ部分３７６は、リム部分２７２から半径方向外向きに、リム部分２７２の第５の接線方向長さ３７８に沿って延在している。いくつかの実施形態では、ウエハ支持リング２６０は、第６のタブ部分３８２を含み、第６のタブ部分３８２は、リム部分２７２から半径方向外向きに、リム部分２７２の第６の接線方向長さ３８４に沿って延在しており、第６のタブ部分３８２は、中心軸線２６２の周りに第５のタブ部分３７６の直径方向反対側にある。１つの実施形態では、第５のタブ部分３７６及び第６のタブ部分３８２は、実質的に同じ形状及び実質的に同じ寸法の第２の平面図プロファイル３８０をそれぞれ画定しており、第２の平面図プロファイル３８０は、第１の平面図プロファイル３７０とは異なる形状及び異なる寸法のうちの少なくとも１つである。
【００８２】
１つの実施形態では、第３のタブ部分３６６、第４のタブ部分３７２、第５のタブ部分３７６、及び第６のタブ部分３８２は、真空パッド（図示せず）に係合するための平坦な表面３８６をそれぞれ含む。また、示されている実施形態では、平坦な表面３８６は、外側リム部分２７２を通って半径方向内向きに延在しており、それによって、真空パッドの係合のためのより大きい領域を提供している。
【００８３】
外側リム部分２７２は、外側リム部分２７２を通って延在する平坦な表面３８６に起因して、さまざまなタブ部分２８６，３６２，３６６，３７２，３７６，３８２において、不連続的であるとして示されている。代替的実施形態では、外側リム部分の遠位エッジ２７５は、連続的であり、平面（図示せず）を画定しており、ウエハ支持リング２３６が図２２に示されているように積層されているときに、実質的に連続的な接触ライン又は接触バンドが、隣接するウエハ支持リング間に画定されるようになっており、それは、図５のウエハ支持リング３６間の実質的に連続的な接触バンド９４に似ており、本明細書で説明されているような利益を伴う。
【００８４】
図２７及び図２８を参照すると、ウエハシッパー２３０のレセプタクル部分２３４が、本開示の実施形態に関して示されている。レセプタクル部分２３４は、ベース部分２０２と、ベース部分から延在する少なくとも１つのアーチ形の壁部部分４０４と、を含み、少なくとも１つのアーチ形の壁部部分４０４は、装着軸線４２の周りに中心を合わせられ、装着軸線４２に対して実質的に平行になっており、少なくとも１つのアーチ形の壁部部分４０４は、第１の水平方向の開口部４０６を画定しており、第１の水平方向の開口部４０６は、ウエハ支持リング２６０の第１のタブ部分２８６を受け入れるように寸法決めされている。あるいは、少なくとも１つのアーチ形の壁部部分４０４は、第１のタブ部分２８６を受け入れるために、第１の水平方向の凹部（図示せず）を画定することが可能である。
【００８５】
示されている実施形態では、少なくとも１つのアーチ形の壁部部分４０４は、対向するアーチ形の壁部部分４０４ａ，４０４ｂの対を含み、対向するアーチ形の壁部部分４０４ａ，４０４ｂは、装着軸線４２の周りに中心を合わせられており、対向するアーチ形の壁部部分４０４ａ，４０４ｂの対は、それらの間に第１の水平方向の開口部４０６及び第２の水平方向の開口部４０８を画定している。第２の水平方向の開口部４０８は、第２のタブ部分１６２を受け入れるように寸法決めされている。あるいは、少なくとも１つのアーチ形の壁部部分４０４は、第２のタブ部分２８６を受け入れるために、第２の水平方向の凹部（図示せず）を画定することが可能である。
【００８６】
また、少なくとも１つのアーチ形の壁部部分４０４は、水平方向の凹部４１０を含むことが可能であり、水平方向の凹部４１０は、ウエハ支持リングのさまざまなタブ部分を受
け入れるように位置付け及び寸法決めされている。あるいは、少なくとも１つのアーチ形の壁部部分４０４は、ウエハ支持リング２６０のさまざまなタブ部分を収容するように位置付け及び寸法決めされている水平方向の凹部の代わりに、水平方向の開口部を画定することが可能である。
【００８７】
機能的に、さまざまなタブ部分は、レセプタクル２３４の中にウエハ支持リング２６０を回転方向に固定しており、また、ウエハ支持リング２６０がレセプタクル２３４の中に逆さまにインストールされないことを確実にするように配置され得る。
【００８８】
１つの実施形態では、ベース部分４０２は、複数のボス４１２を含み、複数のボス４１２は、ベース部分４０２の裏面４１４に配設されている。ボス４１２は、装着軸線４２からのそれらの半径方向の場所、装着軸線４２の周りのそれらの角度の分配、及び／又は、互いに対するそれらのサイズに関して非対称であることが可能である。ボスの位置は、外部機器によって、たとえば、リミットスイッチ又は他の近接スイッチによって感知され、出荷用保持具２３０の適正な配向を確認することが可能である。
【００８９】
本明細書で説明されて示されているさまざまな実施形態は、それに限定されないが、１５０ｍｍ、２００ｍｍ、３００ｍｍ、及び４５０ｍｍウエハの封じ込め及び出荷に適切である。
【００９０】
本明細書で開示されている追加的な図及び方法のそれぞれは、別々に、又は、他の特徴及び方法とともに使用され、それを製造及び使用するための改善されたデバイス及び方法を提供することが可能である。したがって、本明細書で開示されている特徴及び方法の組み合わせは、その最も広い意味で本開示を実施する必要はない可能性があり、その代わりに、とりわけ、単に代表的な及び好適な実施形態を説明するためだけに開示されている。
【００９１】
実施形態に対するさまざまな修正が、本開示を読めば、当業者には明らかになるであろう。たとえば、当業者は、異なる実施形態に関して説明されているさまざまな特徴は、単独で、又は、異なる組み合わせで、他の特徴と適切に組み合わせられ、組み合わせられず、及び、再び組み合わせられ得るということを認識することとなる。同様に、上記に説明されているさまざまな特徴は、本開示の範囲又は精神の限定というよりも、すべて例示的な実施形態としてみなされるべきである。
【００９２】
当業者は、さまざまな実施形態が、上記に説明されている任意の個々の実施形態に図示されているよりも少ない特徴を利用することが可能であるということを認識することとなる。本明細書で説明されている実施形態は、さまざまな特徴が組み合わせられ得る方式の徹底的な提示であるということを意味していない。したがって、当業者によって理解されるように、実施形態は、特徴の相互に排他的な組み合わせではなく、むしろ、特許請求の範囲は、異なる個々の実施形態から選択される異なる個々の特徴の組み合わせを含むことが可能である。
【００９３】
上記の文献の本願明細書への援用は、本明細書での明示的な開示に反する主題は援用されないように限定されている。上記の文献の本願明細書への任意の援用は、その文献の中に含まれている特許請求の範囲が本願明細書に援用されないようにさらに限定されている。上記の文献の本願明細書への任意の援用は、その文献の中で提供されている任意の定義が、本明細書に明示的に含まれていなければ、本願明細書に援用されないようにさらに限定されている。
【００９４】
本明細書に含有されている「実施形態」、「開示」、「本開示」、「本開示の実施形態」、及び「開示されている実施形態」などへの参照は、自認した先行技術ではない本特許
出願の明細書（特許請求の範囲及び図面を含むテキスト）を参照している。
【００９５】
特許請求の範囲を解釈する目的のために、特定の用語「のための手段（ｍｅａｎｓ  ｆｏｒ）」又は「のための工程（ｓｔｅｐ  ｆｏｒ）」がそれぞれの請求項の中に記載されていなければ、米国特許法第１１２条（ｆ）の規定は行使されるべきではないということが、明示的に意図されている。
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図２Ｄ】
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【図２Ｅ】
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【図２Ｆ】
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【図２Ｇ】
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【図３】
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【図４】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
2017508291.tif 000022
【図１０Ｃ】
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【図１０Ｄ】
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【図１１】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【国際調査報告】
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