(57)【要約】  本開示は、ナノ構造化光抽出カラーフィルター積層体、並びに、ナノ構造を含むＯＬＥＤの製造のために積層技術を用いて、ナノ構造化光抽出カラーフィルター積層体を使用する物品及び方法を説明する。ナノ構造化ＯＬＥＤデバイスは、増大した光抽出効率を呈すことができる。本方法は、例えば頂部発光又は底部発光アクティブマトリクスＯＬＥＤ（ＴＥ−ＡＭＯＬＥＤ又はＢＥ−ＡＭＯＬＥＤ）デバイスにおいて、ＯＬＥＤの発光面と光学的に接触しているナノ構造化表面を得るために、フィルム、層、若しくはコーティングの転写及び／又は複製を伴う。増大した光抽出効率を有する物品は、白色光スペクトルＯＬＥＤをカラーフィルターアレイとともに使用する、白色（color-by-white）（ＣＢＷ）ＯＬＥＤディスプレイに特に使用することができる。
2017508258.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面を有し、前記上面を通じて光の白色スペクトルを発することができる、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）基材と、
カラーフィルター基材であって、
支持基材と、
前記支持基材と屈折率が整合し、前記支持基材に接触する平面及び反対側のナノ構造化表面を有する、ナノ構造化転写層と、
前記転写層の前記ナノ構造化表面に一致し、前記ナノ構造化表面を平坦化し、反対側の平面を有する、高屈折率転写層平坦化層と、
前記高屈折率転写層平坦化層の前記平面に接触する、高屈折率カラーフィルター層と、
前記高屈折率カラーフィルター層に接触する、高屈折率カラーフィルター平坦化層と、
を含む、カラーフィルター基材と、
ＯＬＥＤの前記上面と接触し、前記高屈折率カラーフィルター平坦化層に接触する反対側の平面を有する、光結合層（ＯＣＬ）と、
を備える、白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイ。
【請求項２】
前記ＯＣＬと前記高屈折率カラーフィルター平坦化層との間に配置された補助層を更に備える、請求項１に記載のＣＢＷ画像ディスプレイ。
【請求項３】
前記補助層が、透明導電酸化物を含む、請求項２に記載のＣＢＷ画像ディスプレイ。
【請求項４】
前記ＯＣＬが、ハイブリッド材料を含む、請求項１に記載のＣＢＷ画像ディスプレイ。
【請求項５】
前記ハイブリッド材料が、ナノ粒子充填アクリレート又はナノ粒子充填シルセスキオキサンを含む、請求項４に記載のＣＢＷ画像ディスプレイ。
【請求項６】
上面を有し、前記上面を通じて光の白色スペクトルを発することができる、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）基材と、
カラーフィルター基材であって、
平面を有する支持基材と、
前記支持基材の前記平面に接触する、カラーフィルター層と、
ナノ構造化転写層と、
前記転写層の前記ナノ構造化表面に一致し、前記ナノ構造化表面を平坦化し、反対側の平面を有する、高屈折率転写層平坦化層と、
を含む、カラーフィルター基材と、
ＯＬＥＤの前記上面と接触し、前記転写層平坦化層に接触する反対側の平面を有する、光結合層（ＯＣＬ）と、
を備える、白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイ。
【請求項７】
前記高屈折率転写層平坦化層と前記ＯＣＬとの間に配置された補助層を更に備える、請求項６に記載のＣＢＷ画像ディスプレイ。
【請求項８】
前記補助層が、透明導電酸化物を含む、請求項７に記載のＣＢＷ画像ディスプレイ。
【請求項９】
前記ＯＣＬが、ハイブリッド材料を含む、請求項６に記載のＣＢＷ画像ディスプレイ。
【請求項１０】
前記ハイブリッド材料が、ナノ粒子充填アクリレート又はナノ粒子充填シルセスキオキサンを含む、請求項９に記載のＣＢＷ画像ディスプレイ。
【請求項１１】
前記カラーフィルターに接触する、カラーフィルター平坦化層を更に備え、前記ナノ構造化転写層が、前記カラーフィルター平坦化層と屈折率が整合しており、前記ナノ構造化転写層が、前記カラーフィルター平坦化層に接触する平面及び反対側のナノ構造化表面を有する、請求項６に記載のＣＢＷ画像ディスプレイ。
【請求項１２】
上面を有し、前記上面を通じて光の白色スペクトルを発することができる、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）基材と、
カラーフィルター基材であって、
平面を有する支持基材と、
平面を有する前記支持基材の前記平面に接触する平面、及び反対側のナノ構造化表面を有する、カラーフィルター層と、
前記カラーフィルター層に接触し、前記カラーフィルター層の前記ナノ構造化表面と一致し、前記ナノ構造化表面を平坦化し、反対側の平面を有する、高屈折率カラーフィルター層平坦化層又は高屈折率転写層平坦化層と、
を更に含む、カラーフィルター基材と、
ＯＬＥＤの前記上面と接触し、前記転写層平坦化層に接触する反対側の平面を有する、光結合層（ＯＣＬ）と、
を備える、白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイ。
【請求項１３】
前記高屈折率カラーフィルター層平坦化層と前記ＯＣＬとの間に配置された補助層を更に備える、請求項１２に記載のＣＢＷ画像ディスプレイ。
【請求項１４】
前記補助層が、透明導電酸化物を含む、請求項１３に記載のＣＢＷ画像ディスプレイ。
【請求項１５】
前記ＯＣＬが、ハイブリッド材料を含む、請求項１２に記載のＣＢＷ画像ディスプレイ。
【請求項１６】
前記ハイブリッド材料が、ナノ粒子充填アクリレート又はナノ粒子充填シルセスキオキサンを含む、請求項１５に記載のＣＢＷ画像ディスプレイ。
【請求項１７】
上面を有し、前記上面を通じて光の白色スペクトルを発することができる、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）基材と、
カラーフィルター基材であって、
平面を有する支持基材と、
前記支持基材の前記平面に接触する、カラーフィルター層と、
ナノ構造化転写層と、
を更に含む、カラーフィルター基材と、
ＯＬＥＤの前記上面と接触し、前記転写層の前記ナノ構造化表面と一致する反対側のテクスチャー加工された表面を有する、光結合層（ＯＣＬ）と、
を備える、白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイ。
【請求項１８】
前記ＯＣＬが、ハイブリッド材料を含む、請求項１７に記載のＣＢＷ画像ディスプレイ。
【請求項１９】
前記ハイブリッド材料が、ナノ粒子充填アクリレート又はナノ粒子充填シルセスキオキサンを含む、請求項１８に記載のＣＢＷ画像ディスプレイ。
【請求項２０】
前記カラーフィルターに接触する、カラーフィルター平坦化層を更に備え、前記ナノ構造化転写層が、前記カラーフィルター平坦化層と屈折率が整合しており、前記ナノ構造化転写層が、前記カラーフィルター平坦化層に接触する平面及び反対側のナノ構造化表面を有する、請求項１７に記載のＣＢＷ画像ディスプレイ。
【請求項２１】
前記カラーフィルター平坦化層と前記ナノ構造化転写層との間に配置された補助層を更に備える、請求項２０に記載のＣＢＷ画像ディスプレイ。
【請求項２２】
前記補助層が、透明導電酸化物を含む、請求項２１に記載のＣＢＷ画像ディスプレイ。
【請求項２３】
下面を有し、前記下面を通じて光の白色スペクトルを発することができる、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）基材を備え、前記ＯＬＥＤ基材は、
カラーフィルター基材であって、
平面を有するＯＬＥＤ支持体と、
前記ＯＬＥＤ支持体の前記平面に接触する、カラーフィルター層と、
前記カラーフィルター平坦化層と屈折率が整合し、前記カラーフィルター層に接触する平面及び反対側のナノ構造化表面を有する、ナノ構造化転写層と、
前記転写層の前記ナノ構造化表面に一致し、前記ナノ構造化表面を平坦化し、反対側の平面を有する、高屈折率転写層平坦化層と、
を更に含む、カラーフィルター基材と、
ＯＬＥＤ副構造体であって、
高屈折率転写層平坦化層の前記平面上に配置された、画素回路と、
高屈折率転写層平坦化層の前記平面及び画素回路の少なくとも一部分を覆って上に最初に配置された、画素回路平坦化層と、
前記画素回路平坦化層を貫通する、少なくとも１つのビアと、
前記画素回路平坦化層の一部分上に配置された、少なくとも１つの底部電極と、
前記画素回路平坦化層及び前記少なくとも１つの底部電極のそれぞれの一部分の上に配置された、画素画定層と、
光の白色スペクトルを発することができ、前記少なくとも１つの底部電極及び前記画素画定層の一部分の上に配置された、ＯＬＥＤと、
前記ＯＬＥＤ及び前記画素画定層の上に配置された、透明頂部電極と、
前記透明頂部電極上に配置された、任意選択の薄膜封入層と、
を更に含む、ＯＬＥＤ副構造体と、
を含み、
前記少なくとも１つのビアは、前記少なくとも１つの底部電極に電気的接続を提供する、白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイ。
【請求項２４】
平面を有するＯＬＥＤ支持体と、
前記ＯＬＥＤ支持体上に配置された、画素回路と、
平面を有し、前記ＯＬＥＤ支持体の前記平面及び画素回路の少なくとも一部分を覆って上に最初に配置された、画素回路平坦化層と、
前記画素回路平坦化層の前記平面に接触する、カラーフィルター層と、
前記カラーフィルター平坦化層と屈折率が整合し、前記カラーフィルター層に接触する平面及び反対側のナノ構造化表面を有する、ナノ構造化転写層と、
前記転写層の前記ナノ構造化表面に一致し、前記ナノ構造化表面を平坦化し、反対側の平面を有する、高屈折率転写層平坦化層と、
を備える、白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイのためのカラーフィルター基材。
【請求項２５】
下面を有し、前記下面を通じて光の白色スペクトルを発することができる、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）基材を備え、前記ＯＬＥＤ基材は、
カラーフィルター基材であって、
平面を有するＯＬＥＤ支持体と、
前記ＯＬＥＤ支持体上に配置された、画素回路と、
平面を有し、前記ＯＬＥＤ支持体の前記平面及び画素回路の少なくとも一部分を覆って上に最初に配置された、画素回路平坦化層と、
前記画素回路平坦化層の前記平面に接触する、カラーフィルター層と、
前記カラーフィルター平坦化層と屈折率が整合し、前記カラーフィルター層に接触する平面及び反対側のナノ構造化表面を有する、ナノ構造化転写層と、
前記転写層の前記ナノ構造化表面に一致し、前記ナノ構造化表面を平坦化し、反対側の平面を有する、高屈折率転写層平坦化層と、
を更に含む、カラーフィルター基材と、
ＯＬＥＤ副構造体であって、
前記高屈折率転写層平坦化層、ナノ構造化転写層、カラーフィルター層、及び画素回路平坦化層を貫通する、少なくとも１つのビアと、
高屈折率転写層平坦化層の一部分上に堆積された、少なくとも１つの底部電極と、
前記画素回路平坦化層及び底部電極のそれぞれの一部分の上に配置された、画素画定層と、
光の白色スペクトルを発することができ、前記底部電極及び前記画素画定層の一部分の上に配置された、ＯＬＥＤと、
前記ＯＬＥＤ及び画素画定層の上に配置された、透明頂部電極と、
前記透明頂部電極上に配置された、任意選択の薄膜封入層と、
を更に含む、ＯＬＥＤ副構造体と、
を含み、
前記少なくとも１つのビアは、前記少なくとも１つの底部電極に電気的接続を提供する、白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイ。
【請求項２６】
支持基材と、
前記支持基材と屈折率が整合し、前記支持基材に接触する平面及び反対側のナノ構造化表面を有する、ナノ構造化転写層と、
前記転写層の前記ナノ構造化表面に一致し、前記ナノ構造化表面を平坦化し、反対側の平面を有する、高屈折率転写層平坦化層と、
前記高屈折率転写層平坦化層の前記平面に接触する、高屈折率カラーフィルター層と、
前記高屈折率カラーフィルター層に接触する、高屈折率カラーフィルター平坦化層と、
を備える、光抽出カラーフィルター積層体。
【請求項２７】
前記高屈折率カラーフィルター平坦化層に隣接する補助層を更に備える、請求項２６に記載の光抽出カラーフィルター積層体。
【請求項２８】
前記補助層が、透明導電酸化物を含む、請求項２７に記載の光抽出カラーフィルター積層体。
【請求項２９】
平面を有する支持基材と、
前記支持基材の前記平面に接触する、カラーフィルター層と、
平面及び反対側のナノ構造化表面を有する、ナノ構造化転写層と、
前記転写層の前記ナノ構造化表面に一致し、前記ナノ構造化表面を平坦化し、反対側の平面を有する、高屈折率転写層平坦化層と、
を備える、光抽出カラーフィルター積層体。
【請求項３０】
前記カラーフィルター層と前記ナノ構造化転写層との間に配置されたカラーフィルター平坦化層を更に備え、前記ナノ構造化転写層が、前記カラーフィルター平坦化層と屈折率が整合している、請求項２９に記載の光抽出カラーフィルター積層体。
【請求項３１】
前記高屈折率転写層平坦化層に隣接する補助層を更に備える、請求項３０に記載の光抽出カラーフィルター積層体。
【請求項３２】
前記補助層が、透明導電酸化物を含む、請求項３１に記載の光抽出カラーフィルター積層体。
【請求項３３】
平面を有する支持基材と、
前記支持基材の前記平面に接触する、カラーフィルター層と、
前記カラーフィルター平坦化層に接触する平面及び反対側のナノ構造化表面を有する、ナノ構造化転写層と、
を備える、光抽出カラーフィルター積層体。
【請求項３４】
前記カラーフィルター層とナノ構造化転写層との間に配置され、前記カラーフィルター層に接触する、カラーフィルター平坦化層を更に備え、前記ナノ構造化転写層が、前記カラーフィルター平坦化層と屈折率が整合している、請求項３３に記載の光抽出カラーフィルター積層体。
【請求項３５】
前記カラーフィルター平坦化層とナノ構造化転写層との間に配置された補助層を更に備える、請求項３４に記載の光抽出カラーフィルター積層体。
【請求項３６】
前記補助層が、透明導電酸化物を含む、請求項３５に記載の光抽出カラーフィルター積層体。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
ナノ構造及びミクロ構造は、ディスプレイデバイス、照明デバイス、アーキテクチャデバイス、及び光起電力デバイスにおける様々な用途に使用されている。有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）デバイスを含むディスプレイデバイスにおいて、この構造は、光の抽出又は光の分配のために使用することができる。照明デバイスにおいては、光の抽出、光の分配、及び装飾効果のためにそれらの構造を使用することができる。光起電デバイスにおいては、太陽光集光及び反射防止のためにそれらの構造を使用することができる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００２】
大きい基材上にナノ構造及びミクロ構造をパターニングすること、又は別の方法で得ることは、困難であり、コスト効率が悪い場合がある。
【課題を解決するための手段】
【０００３】
本開示は、ナノ構造化光抽出カラーフィルター積層体、並びに、ナノ構造を含むＯＬＥＤの製造のために積層技術を用いて、ナノ構造化光抽出カラーフィルター積層体を使用する物品及び方法を説明する。ナノ構造化ＯＬＥＤデバイスは、増大した光抽出効率を呈すことができる。本方法は、例えば頂部発光又は底部発光アクティブマトリクスＯＬＥＤ（ＴＥ−ＡＭＯＬＥＤ又はＢＥ−ＡＭＯＬＥＤ）デバイスにおいて、ＯＬＥＤの発光面と光学的に接触しているナノ構造化表面を得るために、フィルム、層、若しくはコーティングの転写及び／又は複製を伴う。増大した光抽出効率を有する物品は、白色光スペクトルＯＬＥＤをカラーフィルターアレイとともに使用する、白色（color-by-white）（ＣＢＷ）ＯＬＥＤディスプレイに特に使用することができる。
【０００４】
１つの態様では、本開示は、上面を有し、上面を通じて光の白色スペクトルを発することができる、少なくとも１つの有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）、上面に接触しＯＬＥＤの上面と反対側のナノ構造化表面を有する、高屈折率光結合層（ＯＣＬ）、及びナノ構造化表面に接触し基材上に配置されたカラーフィルターに隣接する、ナノ構造化テンプレート層を含み、ナノ構造化テンプレート層の屈折率が高屈折率ＯＣＬの屈折率より低い、白色（ＣＢＷ）画像ディスプレイを提供する。
【０００５】
別の態様では、本開示は、上面を有し、上面を通じて光の白色スペクトルを発することができる、少なくとも１つの有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）、上面に接触し反対側の平面を有する高屈折率光結合層（ＯＣＬ）、高屈折率ＯＣＬの反対側の平面に隣接して配置され、高屈折率ＯＣＬの反対側の平面と反対側にナノ構造化表面を有する、高屈折率ナノ構造化転写層、及びナノ構造化表面に接触し、基材上に配置されたカラーフィルターに隣接する、ナノ構造化テンプレート層を含み、ナノ構造化テンプレート層の屈折率が高屈折率ナノ構造化転写層の屈折率より低い、白色（ＣＢＷ）画像ディスプレイを提供する。
【０００６】
更に別の態様では、本開示は、上面を有し、上面を通じて光の白色スペクトルを発することができる、少なくとも１つの有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）、上面に接触し反対側の平面を有する、高屈折率光結合層（ＯＣＬ）、及び高屈折率ＯＣＬに隣接する、任意選択の高屈折率カラーフィルター平坦化層を含む、白色（ＣＢＷ）画像ディスプレイを提供する。ＣＢＷ画像ディスプレイは、任意選択の高屈折率カラーフィルター平坦化層上に配置され、高屈折率ＯＣＬの反対側の平面と反対側の、高屈折率カラーフィルター層、カラーフィルター層に隣接して配置され、カラーフィルター層と反対側のナノ構造化表面を有する、高屈折率ナノ構造化転写層、及びナノ構造化表面に接触し、基材に隣接する、ナノ構造化テンプレート層を更に含み、ナノ構造化テンプレート層の屈折率は、高屈折率ナノ構造化転写層の屈折率より低い。
【０００７】
更に別の態様では、本開示は、上面、反対側の下面を有し、反対側の下面を通じて光の白色スペクトルを発することができる、少なくとも１つの有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）、反対側の下面に隣接する高屈折率回路平坦化層、高屈折率回路平坦化層に接触し、高屈折率回路平坦化層と反対側のナノ構造化表面を有する、高屈折率ナノ構造化転写層、及びナノ構造化表面に接触し、基材上に配置されたカラーフィルター層に隣接する、ナノ構造化テンプレート層を含み、ナノ構造化テンプレート層の屈折率が高屈折率ナノ構造化転写層の屈折率より低い、白色（ＣＢＷ）画像ディスプレイを提供する。
【０００８】
更に別の態様では、本開示は、上面、反対側の下面を有し、反対側の下面を通じて光の白色スペクトルを発することができる、少なくとも１つの有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）、反対側の下面に接触し、反対側の下面と反対側のナノ構造化表面を有する、高屈折率ナノ構造化転写層、ナノ構造化表面に接触し、カラーフィルター層上に配置された、ナノ構造化テンプレート層、及びカラーフィルター層と基材との間に配置された、画素回路平坦化層を含み、ナノ構造化テンプレート層の屈折率が高屈折率ナノ構造化転写層の屈折率より低い、白色（ＣＢＷ）画像ディスプレイを提供する。
【０００９】
更に別の態様では、本開示は、上面を有し、上面を通じて光の白色スペクトルを発することができる、少なくとも１つの有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）、上面に接触し、反対側の平面を有する、高屈折率光結合層（ＯＣＬ）、高屈折率ＯＣＬの平面に隣接し、高屈折ＯＣＬと反対側の面上にナノ構造化表面を有する、高屈折率カラーフィルター平坦化層、及び高屈折率カラーフィルター平坦化層上に配置され、高屈折率ＯＣＬの反対側の平面と反対側の、高屈折率カラーフィルター層を含み、高屈折率カラーフィルター層の屈折率が高屈折率カラーフィルター平坦化層の屈折率以上で、高屈折率カラーフィルター平坦化層の屈折率が高屈折率ＯＣＬの屈折率以上である、白色（ＣＢＷ）画像ディスプレイを提供する。
【００１０】
更に別の態様では、本開示は、上面を有し、上面を通じて光の白色スペクトルを発することができる、少なくとも１つの有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）、上面に接触し、反対側の平面を有する、高屈折率光結合層（ＯＣＬ）、高屈折率ＯＣＬの反対側の平面に隣接する、高屈折率カラーフィルター平坦化層、及び高屈折率カラーフィルター平坦化層上に配置され、高屈折率ＯＣＬの反対側の平面と反対側の、高屈折率カラーフィルター平坦化層に隣接する側にナノ構造化表面を有する、高屈折率カラーフィルター層を含み、高屈折率カラーフィルター層の屈折率が高屈折率カラーフィルター平坦化層の屈折率以上で、高屈折率カラーフィルター平坦化層の屈折率が高屈折率ＯＣＬの屈折率以上である、白色（ＣＢＷ）画像ディスプレイを提供する。
【００１１】
更に別の態様では、本開示は、白色（ＣＢＷ）ＯＬＥＤアレイの上面上に光結合層（ＯＣＬ）前駆体をコーティングすることと、平坦化されたＯＣＬ前駆体表面を得ることと、ナノ構造化表面を有する光抽出カラーフィルター積層体を、ＯＣＬ前駆体がナノ構造化表面を少なくとも部分的に充填するようにＯＣＬ前駆体表面上に積層することと、ナノ構造化高屈折率ＯＣＬを得るようにＯＣＬ前駆体を重合することと、を含む方法を提供する。
【００１２】
更に別の態様では、本開示は、白色（ＣＢＷ）ＯＬＥＤアレイの上面上に光結合層（ＯＣＬ）前駆体をコーティングすることと、平坦化されたＯＣＬ前駆体表面を得ることと、光抽出カラーフィルター積層体の転写層の外側平面がＯＣＬ前駆体表面に接触するように、埋め込まれたナノ構造化表面を含む光抽出カラーフィルター積層体をＯＣＬ前駆体表面上に積層することと、高屈折率ＯＣＬを得て、転写層の外側平面を高屈折率ＯＣＬに接着するようにＯＣＬ前駆体を重合することと、を含む方法を提供する。
【００１３】
更に別の態様では、本開示は、基材、カラーフィルターアレイ、及び埋め込まれたナノ構造を有する外側転写層を有する光抽出カラーフィルター積層体を供給することと、カラーフィルターアレイに合わせて底部発光ＯＬＥＤアレイを外側転写層上に得ることと、を含む方法を提供する。
【００１４】
更に別の態様では、本開示は、主表面上に配置され主表面と反対側のナノ構造化表面を有するナノ構造化テンプレート層を有する支持体、ナノ構造化表面を充填しナノ構造化表面と反対側の平面を有する高屈折率埋め戻し層、及び平面上に配置されたカラーフィルターアレイを含む、光抽出カラーフィルター積層体を提供する。
【００１５】
更に別の態様では、本開示は、主表面上に配置されたカラーフィルターアレイを有する支持体、カラーフィルターアレイに隣接して配置され支持体と反対側のナノ構造化表面を有するナノ構造化テンプレート層、ナノ構造化表面を充填しナノ構造化表面と反対側の平面を有する高屈折率埋め戻し層を含む、光抽出カラーフィルター積層体を提供する。
【００１６】
更に別の態様では、本開示は、主表面上に配置されたカラーフィルターアレイを有する支持体、及びカラーフィルターアレイに隣接して配置され支持体と反対側のナノ構造化表面を有するナノ構造化テンプレート層を含む、光抽出カラーフィルター積層体を提供する。
【００１７】
別の態様では、本開示は、上面を有し、上面を通じて光の白色スペクトルを発することができる、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）基材、カラーフィルター基材、及び光結合層（ＯＣＬ）を含む、白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイを提供する。カラーフィルター基材は、支持基材、支持基材と屈折率が整合し、支持基材に接触する平面及び反対側のナノ構造化表面を有する、ナノ構造化転写層、転写層のナノ構造化表面に一致し、ナノ構造化表面を平坦化し、反対側の平面を有する、高屈折率転写層平坦化層、高屈折率転写層平坦化層の平面に接触する、高屈折率カラーフィルター層、及び高屈折率カラーフィルター層に接触する、高屈折率カラーフィルター平坦化層を含む。光結合層（ＯＣＬ）は、ＯＬＥＤの上面と接触しており、高屈折率カラーフィルター平坦化層に接触し得る反対側の平面を有する。転写層のナノ構造化表面は、高屈折率材料と低屈折率材料との間の境界面を形成することができる。
【００１８】
更に別の態様では、本開示は、上面を有し、上面を通じて光の白色スペクトルを発することができる、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）基材、カラーフィルター基材、及び光結合層（ＯＣＬ）を含む、白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイを提供する。カラーフィルター基材は、平面を有する支持基材、支持基材の平面に接触するカラーフィルター層、ナノ構造化転写層、及び転写層のナノ構造化表面に一致し、ナノ構造化表面を平坦化し、反対側の平面を有する高屈折率転写層平坦化層を含む。光結合層（ＯＣＬ）は、ＯＬＥＤの上面と接触しており、転写層平坦化層に接触し得る反対側の平面を有する。転写層のナノ構造化表面は、高屈折率材料と低屈折率材料との間の境界面を形成することができる。
【００１９】
更に別の態様では、本開示は、上面を有し、上面を通じて光の白色スペクトルを発することができる、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）基材、カラーフィルター基材、及び光結合層（ＯＣＬ）を含む、白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイを提供する。カラーフィルター基材は、平面を有する支持基材、平面を有する支持基材の平面に接触する平面及び反対側のナノ構造化表面を有する、カラーフィルター層、及びカラーフィルター層に接触し、カラーフィルター層のナノ構造化表面に一致し、ナノ構造化表面を平坦化し、反対側の平面を有する、高屈折率カラーフィルター層平坦化層又は高屈折率転写層平坦化層を含む。光結合層（ＯＣＬ）は、ＯＬＥＤの上面と接触しており、転写層平坦化層に接触し得る反対側の平面を有する。カラーフィルター層のナノ構造化表面は、高屈折率材料と低屈折率材料との間の境界面を形成することができる。
【００２０】
更に別の態様では、本開示は、上面を有し、上面を通じて光の白色スペクトルを発することができる、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）基材、カラーフィルター基材、及び光結合層（ＯＣＬ）を含む、白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイを提供する。カラーフィルター基材は、平面を有する支持基材、支持基材の平面に接触するカラーフィルター層、及びナノ構造化転写層を含む。光結合層（ＯＣＬ）は、ＯＬＥＤの上面と接触しており、転写層のナノ構造化表面に一致する、反対側のテクスチャー加工された表面を有する。転写層のナノ構造化表面は、高屈折率材料と低屈折率材料との間の境界面を形成することができる。必要に応じて、カラーフィルター基材は、カラーフィルター層とナノ構造化転写層との間に配置されたカラーフィルター平坦化層を更に含むことができる。更に別の態様では、本開示は、下面を有し、下面を通じて光の白色スペクトルを発することができ、カラーフィルター基材及びＯＬＥＤ副構造体を含む、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）基材を含む、白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイを提供する。カラーフィルター基材は、平面を有するＯＬＥＤ支持体、ＯＬＥＤ支持体の平面に接触するカラーフィルター層、カラーフィルター平坦化層に屈折率が整合し、カラーフィルター層に接触する平面及び反対側のナノ構造化表面を有する、ナノ構造化転写層、及び転写層のナノ構造化表面に一致し、ナノ構造化表面を平坦化し、反対側の平面を有する、高屈折率転写層平坦化層を含む。ＯＬＥＤ副構造体は、高屈折率転写層平坦化層の平面上に配置された画素回路、高屈折率転写層平坦化層の平面及び画素回路の少なくとも一部分を覆って上に最初に配置された画素回路平坦化層、画素回路平坦化層を貫通する少なくとも１つのビア、画素回路平坦化層の一部分上に配置された少なくとも１つの底部電極、画素回路平坦化層及び少なくとも１つの底部電極のそれぞれの一部分上に配置された画素画定層、光の白色スペクトルを発することができ、少なくとも１つの底部電極及び画素画定層の一部分の上に配置されたＯＬＥＤ、ＯＬＥＤ及び画素画定層上に配置された透明頂部電極、及び透明頂部電極上に配置された任意選択の薄膜封入層を含む。少なくとも１つのビアは、少なくとも１つの底部電極に電気的接続を提供する。
【００２１】
更に別の態様では、本開示は、平面を有するＯＬＥＤ支持体、ＯＬＥＤ支持体上に配置された画素回路、平面を有しＯＬＥＤ支持体の平面及び画素回路の少なくとも一部分を覆って上に最初に配置された画素回路平坦化層、画素回路平坦化層の平面に接触するカラーフィルター層、カラーフィルター平坦化層に屈折率が整合し、カラーフィルター層に接触する平面及び反対側のナノ構造化表面を有するナノ構造化転写層、及び転写層のナノ構造化表面に一致し、ナノ構造化表面を平坦化し、反対側の平面を有する高屈折率転写層平坦化層を含む、白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイのためのカラーフィルター基材を提供する。
【００２２】
更に別の態様では、本開示は、下面を有し、下面を通じて光の白色スペクトルを発することができ、カラーフィルター基材及びＯＬＥＤ副構造体を含む、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）基材を含む、白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイを提供する。カラーフィルター基材は、平面を有するＯＬＥＤ支持体、ＯＬＥＤ支持体上に配置された画素回路、平面を有しＯＬＥＤ支持体の平面及び画素回路の少なくとも一部分を覆って上に最初に配置された画素回路平坦化層、画素回路平坦化層の平面に接触するカラーフィルター層、カラーフィルター平坦化層に屈折率が整合し、カラーフィルター層に接触する平面及び反対側のナノ構造化表面を有するナノ構造化転写層、及び転写層のナノ構造化表面に一致し、ナノ構造化表面を平坦化し、反対側の平面を有する高屈折率転写層平坦化層を含む。ＯＬＥＤ副構造体は、高屈折率転写層平坦化層、ナノ構造化転写層、カラーフィルター層、及び画素回路平坦化層を貫通する少なくとも１つのビア、高屈折率転写層平坦化層の一部分上に配置された少なくとも１つの底部電極、画素回路平坦化層及び底部電極のそれぞれの一部分上に配置された画素画定層、光の白色スペクトルを発することができ、底部電極及び画素画定層の一部分上に配置されたＯＬＥＤ、ＯＬＥＤ及び画素画定層上に配置された透明頂部電極、及び透明頂部電極上に配置された任意選択の薄膜封入層を含む。少なくとも１つのビアは、少なくとも１つの底部電極に電気的接続を提供する。
【００２３】
別の態様では、本開示は、支持基材、支持基材と屈折率が整合し、支持基材に接触する平面及び反対側のナノ構造化表面を有する、ナノ構造化転写層、転写層のナノ構造化表面に一致し、ナノ構造化表面を平坦化し、反対側の平面を有する、高屈折率転写層平坦化層、高屈折率転写層平坦化層の平面に接触する、高屈折率カラーフィルター層、及び高屈折率カラーフィルター層に接触する、高屈折率カラーフィルター平坦化層を含む、光抽出カラーフィルター積層体を提供する。
【００２４】
更に別の態様では、本開示は、平面を有する支持基材、支持基材の平面に接触するカラーフィルター層、平面及び反対側のナノ構造化表面を有するナノ構造化転写層、及び転写層のナノ構造化表面に一致し、ナノ構造化表面を平坦化し、反対側の平面を有する高屈折率転写層平坦化層を含む、光抽出カラーフィルター積層体を提供する。光抽出カラーフィルター積層体は、カラーフィルター層とナノ構造化転写層との間に配置されたカラーフィルター平坦化層を更に含み、ナノ構造化転写層は、カラーフィルター平坦化層と屈折率が整合している。
【００２５】
更に別の態様では、本開示は、平面を有する支持基材、支持基材の平面に接触するカラーフィルター層、及びカラーフィルター平坦化層に接触する平面及び反対側のナノ構造化表面を有するナノ構造化転写層を含む、光抽出カラーフィルター積層体を提供する。光抽出カラーフィルター積層体は、カラーフィルター層とナノ構造化転写層との間に配置されたカラーフィルター平坦化層を更に含み、ナノ構造化転写層は、カラーフィルター平坦化層と屈折率が整合している。
【００２６】
光抽出カラーフィルター積層体は、補助層を更に含むことができる。補助層は、透明導電酸化物であってよい。
【００２７】
別の態様では、本開示は、白色（ＣＢＷ）ＯＬＥＤアレイの上面上に光結合層（ＯＣＬ）前駆体をコーティングすることと、平坦化されたＯＣＬ前駆体表面を得ることと、ＯＣＬ前駆体がナノ構造化表面を少なくとも部分的に充填するようにＯＣＬ前駆体表面上にナノ構造化表面を有する光抽出カラーフィルター積層体を積層することと、ナノ構造化高屈折率ＯＣＬを得るようにＯＣＬ前駆体を重合することと、を含む、白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイを製造する方法を提供する。白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイを製造する方法では、重合することは、化学線硬化、熱硬化、又はこれらの組み合わせを含むことができる。白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイを製造する方法では、化学線は、紫外線又は電子ビーム照射を含むことができる。白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイを製造する方法では、光抽出カラーフィルター積層体は、カラーフィルターアレイを含むことができる。白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイを製造する方法では、光抽出カラーフィルター積層体は、ガラス基材を含むことができる。白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイを製造する方法では、ＣＢＷ  ＯＬＥＤアレイの上面は、接着促進プライマーを含むことができる。
【００２８】
更に別の態様では、本開示は、白色（ＣＢＷ）ＯＬＥＤアレイの上面上に光結合層（ＯＣＬ）前駆体をコーティングすることと、平坦化されたＯＣＬ前駆体表面を得ることと、光抽出カラーフィルター積層体の転写層の外側平面がＯＣＬ前駆体表面に接触するように、埋め込まれたナノ構造化表面を含む光抽出カラーフィルター積層体をＯＣＬ前駆体表面上に積層することと、高屈折率ＯＣＬを得て転写層の外側平面を高屈折率ＯＣＬに接着するようにＯＣＬ前駆体を重合することと、を含む、白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイを製造する方法を提供する。白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイを製造する方法では、重合することは、化学線硬化、熱硬化、又はこれらの組み合わせを含むことができる。白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイを製造する方法では、化学線は、紫外線又は電子ビーム照射を含むことができる。白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイを製造する方法では、光抽出カラーフィルター積層体は、カラーフィルターアレイを含むことができる。白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイを製造する方法では、光抽出カラーフィルター積層体は、ガラス基材を含むことができる。白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイを製造する方法では、ＯＬＥＤアレイの上面、平坦化されたＯＣＬ前駆体、及び外側平面の少なくとも１つは、接着促進プライマーを含むことができる。
【００２９】
更に別の態様では、本開示は、基材、カラーフィルターアレイ、及び埋め込まれたナノ構造を有する外側転写層を有する光抽出カラーフィルター積層体を供給することと、カラーフィルターアレイに合わせて外側転写層上に底部発光ＯＬＥＤアレイを得ることと、を含む、白色（ＣＢＷ）有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）画像ディスプレイを製造する方法を提供する。
【００３０】
上記概要は、本発明の開示した各々の実施形態又は全ての実現形態を説明することを意図したものではない。以下の図面及び詳細な説明により、例示的実施形態をより詳細に例示する。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
本明細書の全体を通じ、同様の参照符合が同様の要素を示す添付の図面を参照されたい。
【図１Ａ】ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイスの一部分の概略断面図を示す。
【図１Ｂ】ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイスの一部分の概略断面図を示す。
【図１Ｃ】ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイスの一部分の概略断面図を示す。
【図１Ｄ】ナノ構造化ＢＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイスの一部分の概略断面図を示す。
【図１Ｅ】ナノ構造化ＢＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイスの一部分の概略断面図を示す。
【図１Ｆ】ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイスの一部分の概略断面図を示す。
【図１Ｇ】ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイスの一部分の概略断面図を示す。
【図１Ｈ】ナノ構造化ＢＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイスの一部分の概略断面図を示す。
【図１Ｉ】ナノ構造化ＢＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイスの一部分の概略断面図を示す。
【００３２】
図の縮尺は必ずしも正しくない。図中用いられる同様の数字は、同様の要素を示す。しかしながら、ある図面のある要素を指した数字の使用は、同じ数字で示された別の図の要素を限定するものではないことは理解されよう。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
白色ＯＬＥＤデバイスの例は、２０１４年３月１９日に出願された、米国特許出願第６１／９５５５５６号、名称「Ｎａｎｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅｓ  ｆｏｒ  Ｃｏｌｏｒ−ｂｙ−Ｗｈｉｔｅ  ＯＬＥＤ  Ｄｅｖｉｃｅｓ」に開示されており、当該出願は本明細書で完全に記載されたかのように参照により本明細書に組み込まれる。
【００３４】
本開示は、ナノ構造化光抽出カラーフィルター積層体、並びに、ナノ構造を含むＯＬＥＤの製造のために積層技術を用いて、ナノ構造化光抽出カラーフィルター積層体を使用する物品及び方法を説明する。ナノ構造化ＯＬＥＤデバイスは、増大した光抽出効率を呈すことができる。本方法は、例えば頂部発光又は底部発光アクティブマトリクスＯＬＥＤ（ＴＥ−ＡＭＯＬＥＤ又はＢＥ−ＡＭＯＬＥＤ）デバイスにおいて、ＯＬＥＤの発光面と光学的に接触しているナノ構造化表面を得るために、フィルム、層、若しくはコーティングの転写及び／又は複製を伴う。増大した光抽出効率を有する物品は、フルカラーディスプレイを生産するために、白色光スペクトルＯＬＥＤをカラーフィルターアレイとともに使用する、白色（ＣＢＷ）ＯＬＥＤディスプレイに特に使用することができる。
【００３５】
結果としてできるナノ構造化ＯＬＥＤは、薄く製造し易い設計でデバイスから発光される光の向上した出力結合を呈す。説明される方法の１つの具体的な利点は、例えばレジストコーティング、レジスト現像、及びレジストストリッピング工程を含む、従来のナノ構造のフォトリソグラフィーパターニングに必要とされ得る溶剤工程を伴わずに、完成したデバイスのナノパターニングを可能にすることである。
【００３６】
以下の説明文では、本明細書の一部を構成し、例として示した添付の図面を参照する。本開示の範囲及び趣旨から逸脱することなく、他の実施形態が想到され、実施されうる点は理解されるはずである。したがって、以下の詳細な説明は、限定的な意味で解釈されるべきではない。
【００３７】
本明細書で使用する全ての科学用語及び専門用語は、別に指定がない限り、当該技術分野において一般的に使用される意味を有する。本明細書にて提供される定義は、本明細書でしばしば使用される幾つかの用語の理解を容易にしようとするものであり、本開示の範囲を限定するものではない。
【００３８】
他に指示がない限り、本明細書及び特許請求の範囲で使用される形状、量、物理特性を表す数字は全て、どの場合においても用語「約」によって修飾されるものとして理解されるべきである。それ故に、そうでないことが示されない限り、前述の明細書及び添付の「特許請求の範囲」で示される数値パラメーターは、当業者が本明細書で開示される教示内容を用いて、目標対象とする所望の特性に応じて、変化し得る近似値である。終点による数の範囲の使用は、その範囲内（例えば、１〜５は、１、１．５、２、２．７５、３、３．８０、４、及び５を含む）の全ての数及びその範囲内の任意の範囲を含む。
【００３９】
本明細書及び添付の「特許請求の範囲」において使用するところの単数形「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」には、その内容によって明らかに示されない限りは複数の指示対象物を有する実施形態が含まれる。内容によってそうでないことが明らかに示されない限り、本明細書及び添付の「特許請求の範囲」において使用するところの「又は」なる語は、「及び／又は」を含めた意味で広く用いられる。
【００４０】
これらに限定されるものではないが、「下側」、「上側」、「下」、「下方」、「上方」、及び「〜の上」などの空間的に関連した語は、本明細書において用いられる場合、ある要素の別の要素に対する空間的関係を述べるうえで説明を容易にする目的で用いられる。そのような空間に関する用語は、図に示し本明細書で説明した特定の向きに加えて、使用又は動作中の装置の種々の向きを包含する。例えば、図に示された対象物が逆転又は反転した場合は、それ以前に他の要素の下又は下方として記した部分は、この他の要素の上方になるであろう。
【００４１】
本明細書で使用されるとき、ある要素、部材若しくは層が、例えば別の要素、部材若しくは層と「一致する境界面」を得る、これらの「上にある」、これらと「接続される」、「結合される」、若しくは「接触する」として述べられる場合、その要素、部材若しくは層は、例えば、特定の要素、部材若しくは層の直接上にあるか、これらと直接接続されるか、直接結合されるか、直接接触してよく、又は介在する要素、部材若しくは層が特定の要素、部材若しくは層の上にあるか、これらと接続されるか、結合されるか、若しくは接触しうる。ある要素、部材又は層が、例えば、別の要素の「直接上にある」、別の要素に「直接接続される」、「直接結合する」、又は「直接接触する」で始まる表現で表される場合、介在する要素、部材又は層は存在しない。
【００４２】
本明細書で使用されるとき、「有する（have、having）」、「含む（include、including、comprise、comprising）」などは、非限定的（open ended）な意味で用いられており、一般に「含むが、これらに限定されない」ことを意味する。用語「からなる（consisting of）」及び「から本質的になる（consisting essentially of）」は、「含む（comprising）」等の用語に包含されることが理解されよう。
【００４３】
「ＯＬＥＤ」という用語は、有機発光デバイスを指す。ＯＬＥＤ装置は、カソードとアノードとの間に挟まれたエレクトロルミネセント有機材料の薄膜を含み、これらの電極の一方又は両方は透明な伝導体である。電圧がこれらのデバイスに印加されると、電子及び正孔は、それぞれ対応する電極から注入されて、放射性励起子の中間生成物を介してエレクトロルミネセント有機材料内に再結合する。用語「ＡＭＯＬＥＤ」は、アクティブマトリクスＯＬＥＤを指し、本明細書で説明される技術は、一般に、ＯＬＥＤデバイス及びＡＭＯＬＥＤデバイスの両方に適用することができる。
【００４４】
「構造化光フィルム」は、ＯＬＥＤデバイスからの光出力結合を改善する、及び／又はＯＬＥＤの角度輝度又は／及び色均一性を改善する、フィルム又は層を指す。光抽出機能及び角度輝度／色改善機能も、１つの構造化フィルムに組み合わせることができる。構造化光フィルムは、周期的、準周期的、又はランダムな設計されたナノ構造（例えば、以下で説明される光抽出フィルム）を含むことができ、及び／又は構造化光フィルムは、１μｍ以上の構造化特徴サイズを有する周期的、準周期的、又はランダムな設計されたナノ構造を含むことができる。
【００４５】
用語「ナノ構造（単数又は複数）」は、２マイクロメートル未満、より好ましくは１マイクロメートル未満の、少なくとも１つの寸法（例えば、高さ、長さ、幅、又は直径）を有する構造を指す。ナノ構造体は、粒子及び設計された形状を含むが、これらに必ずしも限定されない。粒子及び設計された形状は、例えば規則的又は不規則的な形状を有することができる。かかる粒子は、ナノ粒子とも呼ばれる。用語「ナノ構造化」は、ナノ構造を有する材料又は層を指し、用語「ナノ構造化ＡＭＯＬＥＤデバイス」は、ナノ構造を組み込むＡＭＯＬＥＤデバイスを意味する。
【００４６】
用語「化学線」は、ポリマーを架橋する、又は硬化させることができる発光波長を指し、紫外線波長、可視波長、及び赤外線波長を含むことができ、ラスタ化レーザーによるデジタル露光、熱デジタル撮像、及び電子ビーム走査を含むことができる。
【００４７】
「高インデックス」又は「高屈折率」は、約１．６５から約２．２０の屈折率を有する材料、層、又はコーティングを意味する。高インデックス若しくは高屈折率の材料、層、又はコーティングに対する特に有用な範囲は、約１．６５から約２．０である。いくつかの実施形態では、用語「高インデックス」又は「高屈折率」は、約１．７の屈折率を有する材料、層、又はコーティングを意味し、約１．５の屈折率を有する一般的な高分子材料又はガラス質材料と一般的に区別される。「低インデックス」又は「低屈折率」は、約１．３０から約１．６５未満の屈折率を有する材料、層、又はコーティングを意味する。低インデックス若しくは低屈折率の材料、層、又はコーティングに対する特に有用な範囲は、約１．４０から約１．５５である。
【００４８】
積層技術を使用して、ナノ構造化固体表面を有するＯＬＥＤの製造を可能にする、ナノ構造化光抽出カラーフィルター積層体及び方法が説明される。本方法は、発光デバイスからの光抽出効率を改善するように設計されるナノ構造化光結合層（ＯＣＬ）を得るために、フィルム、層、若しくはコーティングの転写及び／又は複製を含む。本開示において有用な積層転写フィルム、パターン化構造化テープ、及びナノ構造化テープを使用する方法は、例えば、出願人の係属中の出願で、２０１２年７月２０日に出願された米国特許出願第１３／５５３，９８７号、名称「ＳＴＲＵＣＴＵＲＥＤ  ＬＡＭＩＮＡＴＩＯＮ  ＴＲＡＮＳＦＥＲ  ＦＩＬＭＳ  ＡＮＤ  ＭＥＴＨＯＤＳ」、２０１２年１２月２１日に出願された同第１３／７２３，７１６号、名称「ＰＡＴＴＥＲＮＥＤ  ＳＴＲＵＣＴＵＲＥＤ  ＴＲＡＮＳＦＥＲ  ＴＡＰＥ」、２０１２年１２月２１日に出願された同第１３／７２３，６７５号、名称「ＭＥＴＨＯＤＳ  ＯＦ  ＵＳＩＮＧ  ＮＡＮＯＳＴＲＵＣＴＵＲＥＤ  ＴＲＡＮＳＦＥＲ  ＴＡＰＥ  ＡＮＤ  ＡＲＴＩＣＬＥＳ  ＭＡＤＥ  ＴＨＥＲＦＲＯＭ」、及び２０１３年１１月１１日に出願された同第６１／９０２，４３７号、名称「ＮＡＮＯＳＴＲＵＣＴＵＲＥＳ  ＦＯＲ  ＯＬＥＤ  ＤＥＶＩＣＥＳ」で説明されている。
【００４９】
いくつかの実施形態において、一般的に化学線（典型的には紫外線）への曝露に応じて光硬化可能な光硬化可能なプレポリマー溶液は、ミクロ複製原型に対して流延され、次いで、ミクロ複製原型と接触している間に化学線に曝露して、テンプレート層を得ることができる。光硬化可能なプレポリマー溶液は、ミクロ複製原型と接触している間に、光重合する前、光重合している間、更には光重合した後に、ＯＬＥＤの表面上に流延され得る。
【００５０】
いくつかの実施形態では、ナノ構造体は、そのような構造体を生産するために当技術分野で知られている方法により、赤、緑、若しくは青のカラーフィルター、又はカラーフィルター平坦化層の表面上に直接付与することができる。方法は、電子ビームフォトリソグラフィ、ナノインプリントリソグラフィなどの「ソフトリソグラフィ技術」、レーザー干渉リソグラフィ、ナノ粒子リソグラフィ、及びブロック共重合体リソグラフィを含むがこれらに限定されない。
【００５１】
赤、緑、若しくは青のカラーフィルター、又はカラーフィルター平坦化層の表面上に直接付与されたナノ構造体はまた、国際公開第２０１３１４８０３１号、名称「ＮＡＮＯＳＴＲＵＣＴＵＲＥＤ  ＭＡＴＥＲＩＡＬ  ＡＮＤ  ＭＥＴＨＯＤ  ＯＦ  ＭＡＫＩＮＧ  ＴＨＥ  ＳＡＭＥ」、国際公開第２０１３２５６１４号、名称「ＮＡＮＯＳＴＲＵＣＴＵＲＥＤ  ＡＲＴＩＣＬＥＳ  ＡＮＤ  ＭＥＴＨＯＤＳ  ＴＯ  ＭＡＫＥ  ＴＨＥ  ＳＡＭＥ」、米国特許出願公開第２０１３０３４４２９０号、名称「ＮＡＮＯＳＴＲＵＣＴＵＲＥＤ  ＡＲＴＩＣＬＥＳ」、米国特許出願公開第２０１４０００４３０４号、名称「ＭＵＬＴＩＬＡＹＥＲ  ＮＡＮＯＳＴＲＵＣＴＵＲＥＤ  ＡＲＴＩＣＬＥＳ」、米国特許出願公開第２０１３００３８９４９号、名称「ＭＥＴＨＯＤ  ＯＦ  ＭＡＫＩＮＧ  Ａ  ＮＡＮＯＳＴＲＵＣＴＵＲＥ」、米国特許出願公開第２０１２０３２８８２９号、名称「ＣＯＭＰＯＳＩＴＥ  ＷＩＴＨ  ＮＡＮＯ−ＳＴＲＵＣＴＵＲＥＤ  ＬＡＹＥＲ」、米国特許出願公開第２０１１０２８１０６８号、名称「ＮＡＮＯＳＴＲＵＣＴＵＲＥＤ  ＡＲＴＩＣＬＥＳ  ＡＮＤ  ＭＥＴＨＯＤＳ  ＯＦ  ＭＡＫＩＮＧ  ＮＡＮＯＳＴＲＵＣＴＵＲＥＤ  ＡＲＴＩＣＬＥＳ」、米国特許出願公開第２０１２００１２５５７号、名称「ＭＥＴＨＯＤ  ＦＯＲ  ＭＡＫＩＮＧ  ＮＡＮＯＳＴＲＵＣＴＵＲＥＤ  ＳＵＲＦＡＣＥＳ」、米国特許出願公開第２００９０２６３６６８号、名称「ＤＵＲＡＢＬＥ  ＣＯＡＴＩＮＧ  ＯＦ  ＡＮ  ＯＬＩＧＯＭＥＲ  ＡＮＤ  ＭＥＴＨＯＤＳ  ＯＦ  ＡＰＰＬＹＩＮＧ」、又は米国特許出願公開第２０１００２３９７８３号、名称「ＭＥＴＨＯＤＳ  ＯＦ  ＦＯＲＭＩＮＧ  ＭＯＬＤＳ  ＡＮＤ  ＭＥＴＨＯＤＳ  ＯＦ  ＦＯＲＭＩＮＧ  ＡＲＴＩＣＬＥＳ  ＵＳＩＮＧ  ＳＡＩＤ  ＭＯＬＤＳ」の１つ以上に記載されたスパッタ／エッチング又は反応性イオンエッチング工程により得ることができる。
【００５２】
本明細書で説明される構造化光フィルム又は非偏光保存素子は、ＯＬＥＤデバイスに適用される別個のフィルムであり得る。例えば、光結合層（ＯＣＬ）は、構造化光フィルム又は非偏光保存素子をＯＬＥＤデバイスの光出力表面に光学的に結合するために使用することができる。光結合層は、構造化光フィルム若しくは非偏光保存素子、ＯＬＥＤデバイス、又はどちらにも適用することができ、構造化光フィルム又は非偏光保存素子のＯＬＥＤデバイスへの適用を容易にするために、接着剤によって実現することができる。光結合層、及び光結合層を使用して光抽出フィルムをＯＬＥＤデバイスに積層するためのプロセスの例は、２０１１年３月１７日に出願された米国特許出願第１３／０５０，３２４号、名称「ＯＬＥＤ  ＬＩＧＨＴ  ＥＸＴＲＡＣＴＩＯＮ  ＦＩＬＭＳ  ＨＡＶＩＮＧ  ＮＡＮＯＰＡＲＴＩＣＬＥＳ  ＡＮＤ  ＰＥＲＩＯＤＩＣ  ＳＴＲＵＣＴＵＲＥＳ」で説明されており、同出願は、完全に記載されたかのように参照により本明細書に組み込まれる。
【００５３】
光結合材料／層は、ＯＬＥＤデバイスと抽出素子（ナノ粒子及び周期構造）との間で中間層／「接着剤」として使用することができる。光結合材料／層は、光出力を強化するために、光源（ＯＬＥＤ）からナノ構造化フィルムへの出力結合光モードを補助することができる。光結合層の材料は、好ましくは、ＯＬＥＤの有機層及び無機層（例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ））の屈折率に匹敵する、少なくとも１．６５又は１．７０、更には最高で２．２の高い屈折率を有する。ＯＣＬは、必要に応じて、ＵＶ又は熱硬化法を使用して硬化させることができるが、ＵＶ硬化が望ましくなり得る。この材料は、例えば、ｎが１．７を超える高屈折率アクリル樹脂＃６２０５（ＮＴＴアドバンステクノロジ（日本、東京）から入手可能）などの１００パーセント純粋な樹脂、又は米国特許出願公開第２００２／０３２９９５９号で説明されるもの等の、樹脂系の中に分散させた表面改質高屈折率粒子（ＴｉＯ２又はＺｒＯ２）の混合物であり得る。ＯＣＬは、例えば、対応するＯＬＥＤ及びカラーフィルターの所望の構造により、様々な厚さの範囲内で使用することができる。
【００５４】
構造化光フィルム又は非偏光保存要素（例えば、光抽出フィルム）のナノ構造は、基材と一体的に得られるか、又は基材に適用される層の中に得られ得る。例えば、ナノ構造は、材料を基材に適用し、続いて材料を構造化することによって基材上に得られ得る。ナノ構造は、約２ミクロン未満、更には約１ミクロン未満の幅などの少なくとも１つの寸法を有する構造である。
【００５５】
ナノ構造体は、粒子及び設計された形状を含むが、これらに必ずしも限定されない。粒子及び設計された形状は、例えば規則的又は不規則的な形状を有することができる。かかる粒子は、ナノ粒子とも呼ばれる。設計されたナノ構造は、個々の粒子ではないが、設計されたナノ構造を得るナノ粒子で構成することができ、ナノ粒子は、設計された構造の全体的な寸法よりも大幅に小さい。
【００５６】
構造化光フィルム又は非偏光保存要素（例えば、光抽出フィルム）のナノ構造は、一次元（１Ｄ）であり得、該ナノ構造が１つの次元だけにおいて周期的であることを意味し、すなわち、最近傍の特徴は、直交方向に沿ってではなく、表面に沿って１つの方向に等間隔である。１Ｄの周期的なナノ構造の場合には、隣接する周期的な特徴間の間隔は、２ミクロン未満であり、更には、１ミクロン未満であり得る。一次元の構造体としては、例えば、連続的若しくは細長いプリズム若しくはリッジ、又は線形格子が挙げられる。
【００５７】
構造化光フィルム又は非偏光保存要素（例えば、光抽出フィルム）のナノ構造はまた、２次元（２Ｄ）であってもよく、該ナノ構造が２つの次元において周期的であることを意味し、すなわち、最近傍の特徴は、表面に沿って２つの異なる方向に等間隔である。２Ｄのナノ構造の場合には、両方の方向の間隔が１マイクロメートル未満である。２つの異なる方向の間隔は異なってもよいことに留意されたい。二次元の構造としては、例えば、回折光学構造、ピラミッド、台形、円形、若しくは正方形の柱、又はフォトニック結晶構造が挙げられる。二次元の構造の他の例としては、米国特許出願公開第２０１０／０１２８３５１号で説明される湾曲側面を有する円錐構造が挙げられ、同公開は、完全に記載されたかのように参照により本明細書に組み込まれる。
【００５８】
光抽出フィルム用の基材、多周期構造、及び転写層のための材料は、上で確認された特許出願公開において提供される。例えば、基材には、ガラス、ＰＥＴ、ポリイミド、ＴＡＣ、ＰＣ、ポリウレタン、ＰＶＣ、又は可撓性ガラスで実装することができる。光取り出しフィルムを作製する工程もまた、上述の公開された特許出願内に記載される。必要に応じて、光取り出しフィルムを組み入れるデバイスを湿気又は酸素から保護するために、基材にはバリアフィルムを実装することができる。バリアフィルムの例は、米国特許出願公開第２００７／００２０４５１号及び米国特許第７，４６８，２１１号において開示され、どちらも完全に記載されたかのように参照により本明細書に組み込まれる。
【００５９】
図１Ａは、本開示の一態様による、ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ａの一部分の概略断面図を示す。当業者に知られているように、ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ａは、ＯＬＥＤ支持体１１０、ＯＬＥＤ支持体１１０上に配置される画素回路１２０、並びにＯＬＥＤ支持体１１０及び画素回路１２０全体を覆って最初に堆積される画素回路平坦化層１３０を有する、ＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００を含む。ＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００は更に、画素回路平坦化層１３０を貫通し、画素回路平坦化層１３０の一部分の上に堆積された少なくとも１つの底部電極１５０への電気的接続を提供する、少なくとも１つのビア１４０を含む。個々の画素を画定し、電気的に絶縁するために、画素回路平坦化層１３０及び各底部電極１５０の一部分の上には、画素画定層１６０が堆積される。底部電極１５０及び画素画定層１６０の一部分の上には、光の白色スペクトルを発することができる、複数の既知の層（図示せず）を有するＯＬＥＤ１７０が堆積され、ＯＬＥＤ１７０及び画素画定層１６０の上には、透明頂部電極１８０が堆積され、環境から、更には任意のその後のプロセス工程から、水分及び酸素に敏感なデバイスを保護するために、任意選択の薄膜封入層１９０が堆積される。層１９０は、例えば、米国特許第７，５１０，９１３号に記載された技術により作製することができる。
【００６０】
ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ａは、ＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００の上面１０１上に（すなわち、薄膜封入層１９０の上に）配置され、ＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００と反対側の平面を含む、高屈折率高分子光結合層（ＯＣＬ）１１２を更に含む。基材１２２を含む光抽出カラーフィルター積層体１０２は、基材１２２及びＯＬＥＤ支持体１１０がＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ａの外面を画定し、環境から水分及び酸素に敏感なデバイス要素を封入するように、高屈折率ＯＣＬ１１２に積層され付着される。場合により、高屈折率ＯＣＬ１１２を、他で説明したようにその後薄膜封入層１９０に積層し付着することができる光抽出カラーフィルター積層体１０２の上面として、代わりに含むことができる。
【００６１】
光抽出カラーフィルター積層体１０２は、基材１２２と反対側のナノ構造化表面１２１を含む、ナノ構造化テンプレート層１２４を有する基材１２２を含む。高屈折率埋め戻し層１２６（高屈折率ナノ構造化転写層１２６とも呼ばれる）は、ナノ構造化表面１２１上に堆積され、上に高屈折率カラーフィルターアレイ１２７が堆積される平面を得る。高屈折率カラーフィルターアレイ１２７は、当業者に知られているように、赤フィルター１２７ｒ、緑フィルター１２７ｇ、青フィルター１２７ｂ、及び隣接するカラーフィルターを分離する黒マトリックス１２７ｂｋを含む。赤、緑、青フィルター（１２７ｒ、１２７ｇ、１２７ｂ）のそれぞれは、個々のＯＬＥＤの副画素に合わせて配置される。任意選択の高屈折率カラーフィルター平坦化層１２８は、他で説明したようにＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００の上面１０１に隣接する高屈折率ＯＣＬ１１２に積層することができる、光抽出カラーフィルター積層体１０２の上平面を提供する。特定の一実施形態では、任意選択の高屈折率カラーフィルター平坦化層１２８は、高屈折率ＯＣＬ１１２と同じ材料を含むことができる。任意選択の補助層１２９は、任意選択の高屈折率カラーフィルター平坦化層１２８と高屈折率ＯＣＬ１１２との間に、又は層１１２と１２７との間のどこにでも配置することができ、場合により、任意選択の補助層１２９は、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）などの透明導電酸化物（ＴＣＯ）を含むことができる。任意選択の補助層１２９は、光抽出カラーフィルター積層体１０２又は高屈折率ＯＣＬ１１２のいずれかの上面上に、これら２つのフィルムの積層の前に、配置することができる。
【００６２】
場合により、高屈折率ナノ構造化転写層１２６の屈折率は、ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ａからの効率的な光抽出のために、高屈折率ＯＣＬ１１２の屈折率より大きくすることができる、任意選択の高屈折率カラーフィルター平坦化層１２８の屈折率以上とすることができる、高屈折率カラーフィルターアレイ１２７の屈折率より大きく又は好ましくは等しくすることができる。特定の一実施形態では、高屈折率ナノ構造化転写層１２６、任意選択の高屈折率カラーフィルター平坦化層１２８、及び高屈折率ＯＣＬ１１２の少なくとも２つは、同じ材料を含むことができる。
【００６３】
ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ａは、同時係属の２０１３年１１月１１日に出願された米国特許出願第６１／９０２，４３７号、名称「ＮＡＮＯＳＴＲＵＣＴＵＲＥＳ  ＦＯＲ  ＯＬＥＤ  ＤＥＶＩＣＥＳ」に記載された技術により作製することができ、同出願の開示は、全体が参照により本明細書に含まれる。一般的に、この技術は、ＯＣＬ前駆体をＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００アレイの上面１０１上にコーティングし、それにより平坦化されたＯＣＬ前駆体表面を得る工程を含む。次に、埋め込まれたナノ構造化表面１２１を含む光抽出カラーフィルター積層体１０２は、光抽出カラーフィルター積層体１０２の外平面がＯＣＬ前駆体表面に接触するように、ＯＣＬ前駆体表面上に積層される。次に、ＯＣＬ前駆体は、高屈折率ＯＣＬ１１２を得、光抽出カラーフィルター積層体１０２の外平面を高屈折率ＯＣＬ１１２に接着するように、重合される。光抽出カラーフィルター積層体１０２及びＯＣＬ前駆体は、化学線、例えば、可視光線、紫外線、電子ビーム線、熱、及びそれらの組み合わせを使用して硬化されるモノマーを含む重合性組成物をともに含むことができる。
【００６４】
図１Ｂは、本開示の一態様による、ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｂの一部分の概略断面図を示す。当業者に知られているように、ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｂは、ＯＬＥＤ支持体１１０、ＯＬＥＤ支持体１１０上に配置される画素回路１２０、並びにＯＬＥＤ支持体１１０及び画素回路１２０全体を覆って最初に堆積される画素回路平坦化層１３０を有する、ＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００を含む。ＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００は更に、画素回路平坦化層１３０を貫通し、画素回路平坦化層１３０の一部分の上に堆積された少なくとも１つの底部電極１５０への電気的接続を提供する、少なくとも１つのビア１４０を含む。個々の画素を画定し、電気的に絶縁するために、画素回路平坦化層１３０及び各底部電極１５０の一部分の上には、画素画定層１６０が堆積される。底部電極１５０及び画素画定層１６０の一部分の上には、光の白色スペクトルを発することができる、複数の既知の層（図示せず）を有するＯＬＥＤ１７０が堆積され、ＯＬＥＤ１７０及び画素画定層１６０の上には、透明頂部電極１８０が堆積され、環境から、更には任意のその後のプロセス工程から、水分及び酸素に敏感なデバイスを保護するために、任意選択の薄膜封入層１９０が堆積される。
【００６５】
ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｂは、ＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００の上面１０１上に（すなわち、薄膜封入層１９０の上に）配置され、ＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００と反対側の平面を含む、高屈折率高分子光結合層（ＯＣＬ）１１２を更に含む。基材１２２を含む光抽出カラーフィルター積層体１０３は、基材１２２及びＯＬＥＤ支持体１１０がＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｂの外面を画定し、環境から水分及び酸素に敏感なデバイス要素を封入するように、高屈折率ＯＣＬ１１２に積層され付着される。場合により、高屈折率ＯＣＬ１１２を、他で説明したようにその後薄膜封入層１９０に積層し付着することができる光抽出カラーフィルター積層体１０２の上面として、代わりに含むことができる。
【００６６】
光抽出カラーフィルター積層体１０３は、表面上に配置されたカラーフィルターアレイ１２７を有する基材１２２を含む。カラーフィルターアレイ１２７は、当業者に知られているように、赤フィルター１２７ｒ、緑フィルター１２７ｇ、青フィルター１２７ｂ、及び隣接するカラーフィルターを分離する黒マトリックス１２７ｂｋを含む。赤、緑、青フィルター（１２７ｒ、１２７ｇ、１２７ｂ）のそれぞれは、個々のＯＬＥＤの副画素に合わせて配置される。任意選択のカラーフィルター平坦化層１２８は、基材１２２と反対側のナノ構造化表面１２１を含むナノ構造化テンプレート層１２４を上に配置することができる上平面を提供する。高屈折率埋め戻し層１２６（高屈折率ナノ構造化転写層１２６とも呼ばれる）は、ナノ構造化表面１２１上に配置され、他で説明したようにＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００の上面１０１に隣接する高屈折率ＯＣＬ１１２に積層することができる、光抽出カラーフィルター積層体１０３の平面を得る。任意選択の補助層１２９は、高屈折率ナノ構造化転写層１２６と高屈折率ＯＣＬ１１２との間に配置することができ、場合により、任意選択の補助層１２９は、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）などの透明導電酸化物（ＴＣＯ）を含むことができる。任意選択の補助層１２９は、光抽出カラーフィルター積層体１０３又は高屈折率ＯＣＬ１１２のいずれかの上面上に、これら２つのフィルムの積層の前に、配置することができる。
【００６７】
場合により、高屈折率ナノ構造化転写層１２６の屈折率は、ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｂからの効率的な光の抽出のために、高屈折率ＯＣＬ１１２の屈折率と好ましくは等しくすることができる。特定の一実施形態では、高屈折率ナノ構造化転写層１２６及び高屈折率ＯＣＬ１１２の両方は、同じ材料を含むことができる。
【００６８】
ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｂは、同時係属の２０１３年１１月１１日に出願された米国特許出願第６１／９０２，４３７号、名称「ＮＡＮＯＳＴＲＵＣＴＵＲＥＳ  ＦＯＲ  ＯＬＥＤ  ＤＥＶＩＣＥＳ」に記載された技術により作製することができ、同出願の開示は、全体が参照により本明細書に含まれる。一般的に、この技術は、ＯＣＬ前駆体をＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００アレイの上面１０１上にコーティングし、それにより平坦化されたＯＣＬ前駆体表面を得る工程を含む。次に、埋め込まれたナノ構造化表面１２１を含む光抽出カラーフィルター積層体１０３は、光抽出カラーフィルター積層体１０３の外平面がＯＣＬ前駆体表面に接触するように、ＯＣＬ前駆体表面上に積層される。次に、ＯＣＬ前駆体は、高屈折率ＯＣＬ１１２を得、光抽出カラーフィルター積層体１０３の外平面を高屈折率ＯＣＬ１１２に接着するように、重合される。光抽出カラーフィルター積層体１０３及びＯＣＬ前駆体は、化学線、例えば、可視光線、紫外線、電子ビーム線、熱、及びそれらの組み合わせを使用して硬化されるモノマーを含む重合性組成物をともに含むことができる。
【００６９】
図１Ｃは、本開示の一態様による、ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｃの一部分の概略断面図を示す。当業者に知られているように、ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｃは、ＯＬＥＤ支持体１１０、ＯＬＥＤ支持体１１０上に配置される画素回路１２０、並びにＯＬＥＤ支持体１１０及び画素回路１２０全体を覆って最初に堆積される画素回路平坦化層１３０を有する、ＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００を含む。ＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００は更に、画素回路平坦化層１３０を貫通し、画素回路平坦化層１３０の一部分の上に堆積された少なくとも１つの底部電極１５０への電気的接続を提供する、少なくとも１つのビア１４０を含む。個々の画素を画定し、電気的に絶縁するために、画素回路平坦化層１３０及び各底部電極１５０の一部分の上には、画素画定層１６０が堆積される。底部電極１５０及び画素画定層１６０の一部分の上には、光の白色スペクトルを発することができる、複数の既知の層（図示せず）を有するＯＬＥＤ１７０が堆積され、ＯＬＥＤ１７０及び画素画定層１６０の上には、透明頂部電極１８０が堆積され、環境から、更には任意のその後のプロセス工程から、水分及び酸素に敏感なデバイスを保護するために、任意選択の薄膜封入層１９０が堆積される。
【００７０】
ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｃは、ＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００の上面１０１上に（すなわち、薄膜封入層１９０の上に）配置され、ＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００と反対側の平面を含む、高屈折率高分子光結合層（ＯＣＬ）１１２を更に含む。基材１２２を含む光抽出カラーフィルター積層体１０４は、基材１２２及びＯＬＥＤ支持体１１０がＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｃの外面を画定し、環境から水分及び酸素に敏感なデバイス要素を封入するように、高屈折率ＯＣＬ１１２に積層され付着される。場合により、高屈折率ＯＣＬ１１２を、他で説明したようにその後薄膜封入層１９０に積層し付着することができる光抽出カラーフィルター積層体１０２の上面として、代わりに含むことができる。
【００７１】
光抽出カラーフィルター積層体１０４は、表面上に配置されたカラーフィルターアレイ１２７を有する基材１２２を含む。カラーフィルターアレイ１２７は、当業者に知られているように、赤フィルター１２７ｒ、緑フィルター１２７ｇ、青フィルター１２７ｂ、及び隣接するカラーフィルターを分離する黒マトリックス１２７ｂｋを含む。赤、緑、青フィルター（１２７ｒ、１２７ｇ、１２７ｂ）のそれぞれは、個々のＯＬＥＤの副画素に合わせて配置される。任意選択のカラーフィルター平坦化層１２８は、基材１２２と反対側のナノ構造化表面１２１を含むナノ構造化テンプレート層１２４を上に配置することができる上平面を提供する。場合により、任意選択のカラーフィルター平坦化層１２８及びナノ構造化テンプレート層１２４は、それぞれの層の屈折率が同じであるように、同じ材料から構成されてもよい。ナノ構造化テンプレート層１２４は、他で説明したように高屈折率ＯＣＬ１１２がナノ構造化表面１２１を充填するように、ＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００の上面１０１に隣接する高屈折率ＯＣＬ１１２に積層され付着される。任意選択の補助層１２９は、ナノ構造化テンプレート層１２４と任意選択のカラーフィルター平坦化層１２８との間に配置することができ、場合により、任意選択の補助層１２９は、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）などの透明導電酸化物（ＴＣＯ）を含むことができる。
【００７２】
ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｃは、同時係属の２０１３年１１月１１日に出願された米国特許出願第６１／９０２，４３７号、名称「ＮＡＮＯＳＴＲＵＣＴＵＲＥＳ  ＦＯＲ  ＯＬＥＤ  ＤＥＶＩＣＥＳ」に記載された技術により作製することができ、同出願の開示は、全体が参照により本明細書に含まれる。一般的に、この技術は、ＯＣＬ前駆体をＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００アレイの上面１０１上にコーティングし、それにより平坦化されたＯＣＬ前駆体表面を得る工程を含む。次に、ナノ構造化表面１２１を有する光抽出カラーフィルター積層体１０４は、光抽出カラーフィルター積層体１０４のナノ構造化表面１２１がＯＣＬ前駆体表面内にエンボス加工されるように、ＯＣＬ前駆体表面上に積層される。次に、ＯＣＬ前駆体は、高屈折率ＯＣＬ１１２を得、光抽出カラーフィルター積層体１０４のナノ構造化表面１２１を高屈折率ＯＣＬ１１２に接着するように、重合される。光抽出カラーフィルター積層体１０４及びＯＣＬ前駆体は、化学線、例えば、可視光線、紫外線、電子ビーム線、熱、及びそれらの組み合わせを使用して硬化されるモノマーを含む重合性組成物をともに含むことができる。
【００７３】
特定の一実施形態では、デバイスの光分配パターンを制御するために、ＯＬＥＤ抽出構造を使用することができる。ＯＬＥＤの光学的スタックにマイクロキャビティが欠如しているＯＬＥＤは、ランバートエミッタである場合があり、半球にかけて滑らかにかつ均等に分配される光の分配パターンを有する。しかしながら、市販のＴＥ  ＡＭＯＬＥＤディスプレイの光分配パターンは、通常、光学スタックのマイクロキャビティの特性を呈する。これらの特徴としては、より狭くより不均一な角度の光分配、及びかなりの角度の色変化が含まれる。ＯＬＥＤディスプレイについては、本明細書で開示される方法を使用して、ナノ構造によって光分配を調整することが望ましい場合がある。ナノ構造は、光抽出を改善する機能、発光された光を再分配する機能、又はそれら両方の機能を果たし得る。構造はまた、基材の内部全反射モードに捕捉された空気内に光を抽出するために、ＯＬＥＤ基材の外面上でも有用であり得る。外部の抽出構造は、マイクロレンズアレイ、マイクロフレネルアレイ、又は他の屈折、回折、若しくはハイブリッドの光学素子であり得る。
【００７４】
ＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００は、高屈折率ＯＣＬ１１２のレセプター基材であり得、支持ウェハなどの支持体上に有機半導体材料で得られ得る。これらのレセプター基材の寸法は、半導体ウェハの主テンプレートの寸法よりも大きくなり得る。現在、生産される最大のウェハは、３００ｍｍの直径を有する。本明細書で開示される方法を使用して生産される光抽出カラーフィルター積層体は、１０００ｍｍを超える横方向寸法及び数百メートルのロール長で作製され得る。いくつかの実施形態において、レセプター基材は、約６２０ｍｍ×約７５０ｍｍ、約６８０ｍｍ×約８８０ｍｍ、約１１００ｍｍ×約１３００ｍｍ、約１３００ｍｍ×約１５００ｍｍ、約１５００ｍｍ×約１８５０ｍｍ、約１９５０ｍｍ×約２２５０ｍｍ、約２２００ｍｍ×約２５００ｍｍ、又はそれ以上の大きさの寸法を有してもよい。長いロール長に対しては、横方向寸法は、約７５０ｍｍより大きく、約８８０ｍｍより大きく、約１３００ｍｍより大きく、約１５００ｍｍより大きく、約１８５０ｍｍより大きく、約２２５０ｍｍより大きく、又は約２５００ｍｍより大きくてもよい。典型的な寸法は、約１４００ｍｍのパターン化された最大幅を有する。大きな寸法は、ロールツーロール加工及び円筒形主テンプレートの組み合わせを使用することにより可能である。これらの寸法を有するフィルムは、大型デジタルディスプレイ（例えば、幅５２インチ（１３２センチメートル）、高さ３１．４インチ（７９．８センチメートル）の寸法を有する、５５インチ（１４０センチメートル）の対角ＡＭＯＬＥＤ  ＨＤＴＶ）の全面にわたってナノ構造を与えるために使用することができる。
【００７５】
このレセプター基材は、光抽出カラーフィルター積層体が適用されたレセプター基材の側面上に任意でバッファ層を含むことができる。バッファ層の例は、米国特許第６，３９６，０７９号（Ｈａｙａｓｈｉら）で開示されており、同特許は、完全に記載されたかのように参照により本明細書に組み込まれる。バッファ層の１つのタイプは、ＳｉＯ２の薄層であり、これは、Ｋ．Ｋｏｎｄｏｈら、Ｊ．ｏｆ  Ｎｏｎ−Ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ  Ｓｏｌｉｄｓ  １７８（１９９４）１８９〜９８、及びＴ−Ｋ．Ｋｉｍら、Ｍａｔ．Ｒｅｓ．Ｓｏｃ．Ｓｙｍｐ．Ｐｒｏｃ．Ｖｏｌ．４４８（１９９７）４１９〜２３で開示されている。
【００７６】
本明細書で開示される転写プロセスの具体的な利点は、ディスプレイマザーガラス又は建築用ガラスなどの大きい表面を有するレセプター表面に構造を付与する能力である。これらのレセプター基材の寸法は、半導体ウェハのマスターテンプレートの寸法より大きい。ロールツーロール加工と円筒形マスターテンプレートの組み合わせの使用が、このような大きい寸法の光抽出カラーフィルター積層体を可能にする。本明細書で開示される転写プロセスの追加的な利点は、平面でないレセプター表面に構造を付与する能力である。レセプター基材は、転写テープの可撓性フォーマットにより、湾曲させる、捻じ曲げることができ、又は凹状若しくは凸状の特徴を有してもよい。レセプター基材としては、例えば、自動車用ガラス、板ガラス、回路化可撓性フィルムなどの可撓性電子基材、ディスプレイバックプレーン、ソーラーガラス、金属、ポリマー、ポリマー複合体、及びガラス繊維が挙げられ得る。
【００７７】
転写層及びｐＯＣＬ材料
転写層は、ナノ構造化テンプレートを充填するために使用することができ、隣接層（例えば、テンプレート層）を実質的に平坦化し、一方で、レセプター層（この層はおそらく平坦又は構造化されている）の表面に一致する（及びおそらく平坦化する）こともできる材料である。いくつかの場合において、転写層は、ナノ構造化転写層であるとして、より正確に説明することができるが、ナノメートルスケール以外の構造も含まれ得る。転写層に使用される材料はまた、他で説明されるように、感光性ＯＣＬ前駆体であるｐＯＣＬ材料としても使用することができる。本明細書で使用されるとき、光結合層前駆体は、ほとんどの場合、一般に、例えば可視光線硬化又は紫外線硬化の使用を通して光結合層（ＯＣＬ）に硬化させることができるので、光結合層前駆体（ｐＯＣＬ）はまた、感光性ＯＣＬとも称され得る。転写層は、代替的に、２つの異なる材料の二層であり得、その場合、二層は、多層構造を有するか、又は該材料の一方が他方の材料の中に少なくとも部分的に埋め込まれる。二層の２つの材料は、所望により、異なる屈折率を有し得る。二層の一方は、所望により、接着促進層を含み得る。
【００７８】
いくつかの実施形態では、構造化層又はナノ構造化層は、別の層により実質的に平坦化される。実質的な平坦化とは、等式（１）によって定義される平坦化の量（Ｐ％）が好ましくは５０％を超える、より好ましくは７５％を超える、最も好ましくは９０％を超えることを意味する。
Ｐ％＝（１−（ｔ１／ｈ１））×１００
等式（１）
式中、ｔ１は、表面層のレリーフ高さであり、ｈ１は、表面層によって覆われる特徴の特徴高さであり、Ｐ．Ｃｈｉｎｉｗａｌｌａ、ＩＥＥＥ  ｔｒａｎｓ．ａｄｖ．Ｐａｃｋａｇｉｎｇ  ２４（Ｉ）、２００１、４１において更に開示されている。
【００７９】
転写層に使用され得る材料としては、ポリシロキサン樹脂、ポリシラザン、ポリイミド、ブリッジ型又はラダー型のシルセスキオキサン、シリコーン、シリコーンハイブリッド材料、及び多くの他のものが挙げられる。ポリシロキサン樹脂の例としては、Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔ（カリフォルニア州Ｃｈｕｌａ  Ｖｉｓｔａ）から入手可能なＰＥＲＭＡＮＥＷ  ６０００  Ｌ５１０−１が挙げられる。これらの分子は、一般的に、高い寸法安定性、機械的強度、及び耐化学性に通じる無機成分と、溶解性及び反応性を補助する有機成分とを有する。これらの材料の市販供給源は多く存在しており、下表１にまとめた。使用し得る他の材料分類は、例えば、ベンゾシクロブテン、可溶性ポリイミド、及びポリシラザン樹脂である。例示的なポリシラザン樹脂としては、ＡＺ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ（ニュージャージー州Ｂｒａｎｃｈｂｕｒｇ）から入手可能な、ＮＡＸ１２０及びＮＬ１２０Ａ無機ポリシラザンなどの、極めて低い温度で硬化する無機ポリシラザンが挙げられる。
【００８０】
転写層は、以前に論じた所望のレオロジー的特性及び物理的特性を有する限り、任意の材料を含むことができる。典型的には、転写層は、化学線、例えば、可視光線、紫外線、電子ビーム線、熱、及びそれらの組み合わせを使用して硬化されるモノマーを含む重合性組成物から作製される。アニオン、カチオン、フリーラジカル、凝結、又は他のものなどの様々な重合技術のいずれかを使用することができ、これらの反応は、光開始、光化学開始、又は熱開始を使用して触媒され得る。これらの開始戦略は、厚さ制限を転写層に課す場合があり、即ち、光トリガ又は熱トリガが、フィルムの体積全体を通して均一に反応することが可能でなければならない。有用な重合性組成物としては、エポキシド、エピスルフィド、ビニル、ヒドロキシル、アリルオキシ、（メタ）アクリレート、イソシアネート、シアノエステル、アセトキシ、（メタ）アクリルアミド、チオール、シラノール、カルボン酸、アミノ、ビニルエーテル、フェノール、アルデヒド、ハロゲン化アルキル、シンナメート、アジド、アジリジン、アルケン、カルバメート、イミド、アミド、アルキン、及びこれらの基の任意の誘導体又は組み合わせなどの、当技術分野で知られている官能基が挙げられる。転写層を調製するために使用されるモノマーは、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート）、及び同類のものなどの任意の適切な分子量の重合性オリゴマー又はコポリマーを含むことができる。反応は、一般に、三次元の高分子ネットワークの形成をもたらし、ネガ型フォトレジストとして当該技術分野で知られており、Ｓｈａｗらの「Ｎｅｇａｔｉｖｅ  ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔｓ  ｆｏｒ  ｏｐｔｉｃａｌ  ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ」、ＩＢＭ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ  ａｎｄ  Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ（１９９７）４１，８１〜９４で検討されている。ネットワークの形成は、共有結合、イオン結合、若しくは水素結合のいずれかを通して、又は鎖のもつれ等の物理架橋機構を通して起こり得る。この反応は、フリーラジカル開始剤、光増感剤、光酸発生剤、光塩基発生剤、又は熱酸発生剤などの１つ以上の中間体種によって開始することもできる。他の分子種、例えば、前述した分子種と反応性である、当該技術分野において既知の２つ以上の官能基を含む架橋性分子なども、ネットワーク形成に同様に伴う場合がある。
【００８１】
強化シリコーンポリマーは、それらの高い化学的安定性と、ガラス及びホウケイ酸ガラスなどのガラス、更には、例えばＯＬＥＤのキャッピング層として使用され得るモリブデンオキシドなどのいくつかの無機オキシドに対する優れた接着性により、転写層に使用することができる。シリコーンはまた、他のポリマーには接着しないことがよく知られており、それは、この材料をミクロ構造化ポリマーツールから直接剥離できるようにするが、もう一方の成分もシリコーンである場合を除いて、２個一組の中の一方の成分として転写することが困難である。１つのそのようなシリコーン配合物は、ＳＹＬＧＡＲＤ  １８４（Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇ（ミシガン州Ｍｉｄｌａｎｄ））として知られており、それは、ヒドロシロキサン及び白金触媒と混合した、ポリジメチルシロキサン及びビニルシロキサンの２成分混合物である。この混合物を僅かに加熱して、白金触媒したヒドロシリル化硬化反応を介してシリコーンネットワークを得る。他のシリコーン及び触媒を使用して、同じ効果を得ることができる。Ｇｅｌｅｓｔ  Ｉｎｃ．（ペンシルベニア州Ｍｏｒｒｉｓｖｉｌｌｅ）は、例えば、種々の反応性基（エポキシ、カルビノール、メルカプト、メタクリルオキシアミノ、シラノール）で官能化される多種多様なシロキサンを製造している。Ｇｅｌｅｓｔはまた、シリコーンネットワークの機械的特性を調整するために、完全縮合シリカナノ粒子又はＭＱ樹脂などの種々の添加剤と予め合成させたこれらのシロキサンも販売している。（トリメチル）メチルシクロペンタデニル白金（ＩＶ）（Ｓｔｒｅｍ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ  Ｉｎｃ．（マサチューセッツ州Ｎｅｗｂｕｒｙｐｏｒｔ））などの、他の白金触媒も使用することができ、それは、紫外線放射を介して活性化するが、それでもその後に熱硬化を必要とする。光硬化可能なシリコーン系は、それらが暗所で保管される限り、温度の上昇とともにそれらの粘度が低下し、気泡を逃がし、ナノ構造化ツールの中へより良好に浸透するので、有利である。
【００８２】
ポリマー樹脂にナノ粒子又は金属酸化物前駆体を組み込むことにより、上記材料の異なる種類を、より高い屈折率のものと合成することができる。Ｓｉｌｅｃｓ  ＳＣ８５０材料は、変性されたシルセスキオキサン（ｎ≒１．８５）であり、Ｂｒｅｗｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅの高屈折率ポリイミドのＯｐｔｉＮＤＥＸ  Ｄ１材料（ｎ≒１．８）は、このカテゴリーの例である。その他の材料としては、メチルトリメトキシシラン（ＭＴＭＳ）とビストリエトキシシリルエタン（ＢＴＳＥ）のコポリマーが挙げられる（Ｒｏら、Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．２００７、１９、７０５〜７１０）。この合成は、シルセスキオキサンの非常に小さい架橋された環状のケージを有する容易に溶解するポリマーを得る。このフレキシブルな構造は、コーティングの充填密度及び機械的強度の増加につながる。これらのコポリマーの比率は、非常に低い熱膨張係数、低い有孔率、及び高い弾性率のために調整することができる。
【００８３】
いくつかの実施形態において、転写層は、ポリビニルシルセスキオキサンポリマーを含むことができる。これらのポリマーは、ビニルトリクロロシラン（Ｉ）の加水分解によって調製され得る。
【００８４】
【化１】
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【００８５】
重合すると、典型的には光開始剤の添加と、その後の紫外線への曝露とによって、多数のビニル基のフリーラジカル重合によって三次元ネットワークが得られる。
【００８６】
転写層材料は、一般的に、複数の要件を満たすことができる。第１に、転写層材料は、転写層材料がコーティングされるテンプレート層の構造化表面に一致することができる。これは、気泡を捉えずに、ごく小さい特徴の中に流れ込むことができるように、コーティング溶液の粘性が十分に低くなくてはならないことを意味し、それは、複製された構造の良好な忠実度につながる。それが溶剤系である場合、下層のテンプレート層を溶解しない、又は膨潤させない溶剤からコーティングされるべきであり、それらは、転写層のクラック、膨潤、又は他の有害な欠陥を生じさせる。溶剤は、テンプレート層のガラス転移温度の沸点よりも低い沸点を有することが望ましい。好ましくは、イソプロパノール、ブチルアルコール、又は他のアルコール溶剤を使用する。第２に、材料は、十分な機械的一体性（例えば、「グリーン強度」）を有して硬化させなければならない。転写層材料が、硬化後に十分なグリーン強度を有しない場合、転写層パターンの特徴が沈み込み、複製の忠実度が低下する場合がある。第３に、いくつかの実施形態の場合、硬化材料の屈折率を調整して、適切な光学効果を生成しなければならない。第４に、転写層材料は、基材の将来のプロセス工程の温度の上位範囲を超える温度で、熱的に安定して（例えば、最小限のクラッキング、ブリスタリング、又はポッピングを示す）いなければならない。この層に使用される材料は、典型的には、コーティング内の収縮及び圧縮応力の蓄積を引き起こす縮合硬化工程を経る。これらの残留応力の形成を最小限にするために使用されるいくつかの材料戦略があり、それらは、上述の全ての基準を満たすいくつかの市販のコーティングに使用されている。
【００８７】
転写層及びＯＣＬ層の両方の屈折率を調整することが有利であり得る。例えば、ＯＬＥＤの光抽出用途において、光抽出カラーフィルター積層体により付与されるナノ構造は、転写層の構造化表面に位置する。転写層は、構造化境界面にある第１の側と、隣接層と一致する第２の側、ＯＣＬとを有する。この用途において、転写層の屈折率は、ＯＣＬ層に整合する屈折率であり得る。表現「屈折率が整合した」は、２つの隣接する材料、層、及び／又はコーティングの屈折率が整合することを意味する。
【００８８】
転写層及びＯＣＬ層の屈折率を調整するために、ナノ粒子を使用することができる。例えば、アクリルコーティングでは、シリカナノ粒子（ｎ≒１．４２）を使用して屈折率を下げることができ、一方、ジルコニアナノ粒子（ｎ≒２．１）を使用して屈折率を上げることができる。ナノ粒子とバインダーの屈折率の差が大きいと、ヘイズがコーティングのバルクの内部に生じるであろう。ヘイズが望ましい属性（例えば、ＯＬＥＤ固体照明素子の一様な光分配）である用途の場合、屈折率整合基準は、一般に緩和することができる。ナノ粒子及びバインダーの比屈折率の制御は、結果として生じる光学特性の制御を提供する。また、粒子の凝集が起こり始める前の樹脂中のナノ粒子の濃度に対する制限もあり、それによって、コーティングの屈折率を調整することができる程度を制限する。
【００８９】
【表１】
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【００９０】
図１Ｄは、本開示の一態様による、ナノ構造化ＢＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｄの一部分の概略断面図を示す。ナノ構造化ＢＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｄは、支持体１１０を有する光抽出カラーフィルター積層体１０５上に構築されたＢＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００を含む。画素回路１２０は、当業者に知られているように、支持体１１０と反対側の光抽出カラーフィルター積層体１０５、及び光抽出カラーフィルター積層体１０５全体を覆って最初に堆積される画素回路平坦化層１３０の上に配置される。ＢＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００は更に、画素回路平坦化層１３０を貫通し、画素回路平坦化層１３０の一部分の上に堆積された少なくとも１つの底部電極１５０への電気的接続を提供する、少なくとも１つのビア１４０を含む。個々の画素を画定し、電気的に絶縁するために、画素回路平坦化層１３０及び各底部電極１５０の一部分の上には、画素画定層１６０が堆積される。底部電極１５０及び画素画定層１６０の一部分の上には、光の白色スペクトルを発することができる、複数の既知の層（図示せず）を有するＯＬＥＤ１７０が堆積され、ＯＬＥＤ１７０及び画素画定層１６０の上には、頂部電極１８０が堆積され、環境から、更には任意のその後のプロセス工程から、水分及び酸素に敏感なデバイスを保護するために、薄膜封入層１９０が堆積される。
【００９１】
光抽出カラーフィルター積層体１０５は、表面上に配置されたカラーフィルターアレイ１２７を有する支持体１１０を含む。カラーフィルターアレイ１２７は、当業者に知られているように、赤フィルター１２７ｒ、緑フィルター１２７ｇ、青フィルター１２７ｂ、及び隣接するカラーフィルターを分離する黒マトリックス１２７ｂｋを含む。赤、緑、青フィルター（１２７ｒ、１２７ｇ、１２７ｂ）のそれぞれは、完成したデバイスで個々のＯＬＥＤの画素に合うように、配置される。支持体１１０と反対側のナノ構造化表面１２１を含むナノ構造化カラーフィルター平坦化層１２４は、カラーフィルターアレイ１２７上に配置される。高屈折率埋め戻し層１２６（高屈折率ナノ構造化転写層１２６とも呼ばれる）は、ナノ構造化表面１２１上に配置され、他で説明したようにＢＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００を上に構築することができる、光抽出カラーフィルター積層体１０５の平面を得る。
【００９２】
ナノ構造化ＢＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｄは、同時係属の２０１３年１１月１１日に出願された米国特許出願第６１／９０２，４３７号、名称「ＮＡＮＯＳＴＲＵＣＴＵＲＥＳ  ＦＯＲ  ＯＬＥＤ  ＤＥＶＩＣＥＳ」に記載された技術により作製することができ、同出願の開示は、全体が参照により本明細書に含まれる。一般的に、この技術は、支持体１１０、カラーフィルターアレイ１２７、及び埋め込まれたナノ構造を有する外側転写層１２６を有する光抽出カラーフィルター積層体１０５を供給する工程と、カラーフィルターアレイ１２７に合わせて底部発光ＯＬＥＤアレイを外側転写層１２６上に得る工程と、を含む。
【００９３】
図１Ｅは、本開示の一態様による、ナノ構造化ＢＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｅの一部分の概略断面図を示す。ナノ構造化ＢＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｅは、支持体１１０を有する光抽出カラーフィルター積層体１０６上に構築されたＢＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００を含む。光抽出カラーフィルター積層体１０６は、表面上に配置された画素回路１２０、及び支持体１１０全体を覆う画素回路平坦化層１３０を有する支持体１１０を含む。カラーフィルターアレイ１２７は、画素回路平坦化層１３０上に配置される。カラーフィルターアレイ１２７は、当業者に知られているように、赤フィルター１２７ｒ、緑フィルター１２７ｇ、青フィルター１２７ｂ、及び隣接するカラーフィルターを分離する黒マトリックス１２７ｂｋを含む。赤、緑、青フィルター（１２７ｒ、１２７ｇ、１２７ｂ）のそれぞれは、完成したデバイスで個々のＯＬＥＤの画素に合うように、配置される。支持体１１０と反対側のナノ構造化表面１２１を含むナノ構造化カラーフィルター平坦化層１２４は、カラーフィルターアレイ１２７上に配置される。高屈折率埋め戻し層１２６（高屈折率ナノ構造化転写層１２６とも呼ばれる）は、ナノ構造化表面１２１上に配置され、ＢＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００が上に配置される光抽出カラーフィルター積層体１０６の平面を得る。
【００９４】
ＢＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００は、高屈折率ナノ構造化転写層１２６、ナノ構造化カラーフィルター平坦化層１２４、カラーフィルターアレイ１２７、及び画素回路平坦化層１３０を貫通する、少なくとも１つのビア１４０を含み、高屈折率ナノ構造化転写層１２６の一部分上に堆積された少なくとも１つの底部電極１５０に電気的接続を提供する。個々の画素を画定し、電気的に絶縁するために、高屈折率ナノ構造化転写層１２６及び各底部電極１５０の一部分の上には、画素画定層１６０が堆積される。底部電極１５０及び画素画定層１６０の一部分の上には、光の白色スペクトルを発することができる、複数の既知の層（図示せず）を有するＯＬＥＤ１７０が堆積され、ＯＬＥＤ１７０及び画素画定層１６０の上には、頂部電極１８０が堆積され、環境から、更には任意のその後のプロセス工程から、水分及び酸素に敏感なデバイスを保護するために、薄膜封入層１９０が堆積される。
【００９５】
ナノ構造化ＢＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｄは、同時係属の２０１３年１１月１１日に出願された米国特許出願第６１／９０２，４３７号、名称「ＮＡＮＯＳＴＲＵＣＴＵＲＥＳ  ＦＯＲ  ＯＬＥＤ  ＤＥＶＩＣＥＳ」に記載された技術により作製することができ、同出願の開示は、全体が参照により本明細書に含まれる。一般的に、この技術は、表面上に配置された画素回路１２０、及び支持体１１０全体を覆って最初に堆積された画素回路平坦化層１３０を有する支持体１１０を供給する工程を含む。カラーフィルターアレイ１２７は、画素回路平坦化層１３０上に配置される。支持体１１０と反対側のナノ構造化表面１２１を含むナノ構造化カラーフィルター平坦化層１２４は、カラーフィルターアレイ１２７上に配置される。高屈折率埋め戻し層１２６（高屈折率ナノ構造化転写層１２６とも呼ばれる）は、ナノ構造化表面１２１上に配置され、ＢＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００を上に構築することができる、光抽出カラーフィルター積層体１０６の平面を得る。
【００９６】
高屈折率ナノ構造化転写層１２６、ナノ構造化カラーフィルター平坦化層１２４、カラーフィルターアレイ１２７、及び画素回路平坦化層１３０を貫通して、少なくとも１つのビア１４０は得られ、高屈折率ナノ構造化転写層１２６の一部分上に堆積された少なくとも１つの底部電極１５０に電気的接続を提供する。個々の画素を画定し、電気的に絶縁するために、高屈折率ナノ構造化転写層１２６及び各底部電極１５０の一部分の上には、画素画定層１６０が堆積される。底部電極１５０及び画素画定層１６０の一部分の上には、光の白色スペクトルを発することができる、複数の既知の層（図示せず）を有するＯＬＥＤ１７０が堆積され、ＯＬＥＤ１７０及び画素画定層１６０の上には、頂部電極１８０が堆積され、環境から、更には任意のその後のプロセス工程から、水分及び酸素に敏感なデバイスを保護するために、薄膜封入層１９０が堆積される。
【００９７】
図１Ｆは、本開示の一態様による、ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｆの一部分の概略断面図を示す。当業者に知られているように、ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｆは、ＯＬＥＤ支持体１１０、ＯＬＥＤ支持体１１０上に配置される画素回路１２０、並びにＯＬＥＤ支持体１１０及び画素回路１２０全体を覆って最初に堆積される画素回路平坦化層１３０を有する、ＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００を含む。ＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００は更に、画素回路平坦化層１３０を貫通し、画素回路平坦化層１３０の一部分の上に堆積された少なくとも１つの底部電極１５０への電気的接続を提供する、少なくとも１つのビア１４０を含む。個々の画素を画定し、電気的に絶縁するために、画素回路平坦化層１３０及び各底部電極１５０の一部分の上には、画素画定層１６０が堆積される。底部電極１５０及び画素画定層１６０の一部分の上には、光の白色スペクトルを発することができる、複数の既知の層（図示せず）を有するＯＬＥＤ１７０が堆積され、ＯＬＥＤ１７０及び画素画定層１６０の上には、透明頂部電極１８０が堆積され、環境から、更には任意のその後のプロセス工程から、水分及び酸素に敏感なデバイスを保護するために、薄膜封入層１９０が堆積される。
【００９８】
ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｆは、ＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００の上面１０１上に（すなわち、薄膜封入層１９０の上に）配置され、ＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００と反対側の平面を含む、高屈折率高分子光結合層（ＯＣＬ）１１２を更に含む。基材１２２を含む光抽出カラーフィルター積層体１０７は、基材１２２及びＯＬＥＤ支持体１１０がＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｆの外面を画定し、環境から水分及び酸素に敏感なデバイス要素を封入するように、高屈折率ＯＣＬ１１２に積層され付着される。場合により、高屈折率ＯＣＬ１１２を、他で説明したようにその後薄膜封入層１９０に積層し付着することができる光抽出カラーフィルター積層体１０２の上面として、代わりに含むことができる。
【００９９】
光抽出カラーフィルター積層体１０７は、表面上に配置されたカラーフィルターアレイ１２７を有する基材１２２を含む。カラーフィルターアレイ１２７は、当業者に知られているように、赤フィルター１２７ｒ、緑フィルター１２７ｇ、青フィルター１２７ｂ、及び隣接するカラーフィルターを分離する黒マトリックス１２７ｂｋを含む。赤、緑、青フィルター（１２７ｒ、１２７ｇ、１２７ｂ）のそれぞれは、個々のＯＬＥＤの画素に合わせて配置される。カラーフィルター平坦化層１２８は、基材１２２と反対側のナノ構造化表面１２１を含む。ナノ構造化表面１２１は、カラーフィルター１２７と好ましくは物理的に接触しており、ナノ構造化表面１２１は、必要に応じて開放面の特徴とすることができる。カラーフィルター平坦化層１２８は、他で説明したようにＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００の上面１０１に隣接する高屈折率ＯＣＬ１１２に積層することができる、ナノ構造化表面１２１と反対側の平面を有する。任意選択の補助層１２９は、カラーフィルター平坦化層１２８と高屈折率ＯＣＬ１１２との間に配置することができ、場合により、任意選択の補助層１２９は、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）などの透明導電酸化物（ＴＣＯ）を含むことができる。任意選択の補助層１２９は、光抽出カラーフィルター積層体１０７又は高屈折率ＯＣＬ１１２のいずれかの上面上に、これら２つのフィルムの積層の前に、配置することができる。
【０１００】
場合により、カラーフィルター平坦化層１２８の屈折率は、ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｆからの効率的な光の抽出のために、高屈折率ＯＣＬ１１２の屈折率以上とすることができる。特定の一実施形態では、カラーフィルター平坦化層１２８及び高屈折率ＯＣＬ１１２の両方は、同じ材料を含むことができる。
【０１０１】
ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｆは、同時係属の２０１３年１１月１１日に出願された米国特許出願第６１／９０２，４３７号、名称「ＮＡＮＯＳＴＲＵＣＴＵＲＥＳ  ＦＯＲ  ＯＬＥＤ  ＤＥＶＩＣＥＳ」に記載された技術により作製することができ、同出願の開示は、全体が参照により本明細書に含まれる。一般的に、この技術は、ＯＣＬ前駆体をＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００アレイの上面１０１上にコーティングし、それにより平坦化されたＯＣＬ前駆体表面を得る工程を含む。次に、埋め込まれたナノ構造化表面１２１を含む光抽出カラーフィルター積層体１０７は、光抽出カラーフィルター積層体１０７の外平面がＯＣＬ前駆体表面に接触するように、ＯＣＬ前駆体表面上に積層される。次に、ＯＣＬ前駆体は、高屈折率ＯＣＬ１１２を得、光抽出カラーフィルター積層体１０７の外平面を高屈折率ＯＣＬ１１２に接着するように、重合される。光抽出カラーフィルター積層体１０７及びＯＣＬ前駆体は、化学線、例えば、可視光線、紫外線、電子ビーム線、熱、及びそれらの組み合わせを使用して硬化されるモノマーを含む重合性組成物をともに含むことができる。
【０１０２】
図１Ｇは、本開示の一態様による、ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｇの一部分の概略断面図を示す。当業者に知られているように、ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｇは、ＯＬＥＤ支持体１１０、ＯＬＥＤ支持体１１０上に配置される画素回路１２０、並びにＯＬＥＤ支持体１１０及び画素回路１２０全体を覆って最初に堆積される画素回路平坦化層１３０を有する、ＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００を含む。ＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００は更に、画素回路平坦化層１３０を貫通し、画素回路平坦化層１３０の一部分の上に堆積された少なくとも１つの底部電極１５０への電気的接続を提供する、少なくとも１つのビア１４０を含む。個々の画素を画定し、電気的に絶縁するために、画素回路平坦化層１３０及び各底部電極１５０の一部分の上には、画素画定層１６０が堆積される。底部電極１５０及び画素画定層１６０の一部分の上には、光の白色スペクトルを発することができる、複数の既知の層（図示せず）を有するＯＬＥＤ１７０が堆積され、ＯＬＥＤ１７０及び画素画定層１６０の上には、透明頂部電極１８０が堆積され、環境から、更には任意のその後のプロセス工程から、水分及び酸素に敏感なデバイスを保護するために、任意選択の薄膜封入層１９０が堆積される。
【０１０３】
ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｇは、ＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００の上面１０１上に（すなわち、薄膜封入層１９０の上に）配置され、ＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００と反対側の平面を含む、高屈折率高分子光結合層（ＯＣＬ）１１２を更に含む。基材１２２を含む光抽出カラーフィルター積層体１０８は、基材１２２及びＯＬＥＤ支持体１１０がＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｇの外面を画定し、環境から水分及び酸素に敏感なデバイス要素を封入するように、高屈折率ＯＣＬ１１２に積層され付着される。場合により、高屈折率ＯＣＬ１１２を、他で説明したようにその後薄膜封入層１９０に積層し付着することができる光抽出カラーフィルター積層体１０２の上面として、代わりに含むことができる。
【０１０４】
光抽出カラーフィルター積層体１０８は、表面上に配置されたカラーフィルターアレイ１２７を有する基材１２２を含む。カラーフィルターアレイ１２７は、当業者に知られているように、赤フィルター１２７ｒ、緑フィルター１２７ｇ、青フィルター１２７ｂ、及び隣接するカラーフィルターを分離する黒マトリックス１２７ｂｋを含む。赤、緑、青フィルター（１２７ｒ、１２７ｇ、１２７ｂ）のそれぞれは、個々のＯＬＥＤの副画素に合わせて配置される。カラーフィルターアレイ１２７は、基材１２２と反対側のナノ構造化表面１２１を含み、ナノ構造化表面１２１は、必要に応じて開放面の特徴とすることができる。カラーフィルター平坦化層１２８は、他で説明したようにＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００の上面１０１に隣接する高屈折率ＯＣＬ１１２に積層することができる、ナノ構造化表面１２１と反対側の上平面を提供し有する。任意選択の補助層１２９は、カラーフィルター平坦化層１２８と高屈折率ＯＣＬ１１２との間に配置することができ、場合により、任意選択の補助層１２９は、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）などの透明導電酸化物（ＴＣＯ）を含むことができる。任意選択の補助層１２９は、光抽出カラーフィルター積層体１０８又は高屈折率ＯＣＬ１１２のいずれかの上面上に、これら２つのフィルムの積層の前に、配置することができる。
【０１０５】
場合により、カラーフィルター平坦化層１２８の屈折率は、ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｇからの効率的な光の抽出のために、高屈折率ＯＣＬ１１２の屈折率より大きく又は好ましくは等しくすることができる。特定の一実施形態では、カラーフィルター平坦化層１２８及び高屈折率ＯＣＬ１１２の両方は、同じ材料を含むことができる。
【０１０６】
ナノ構造化ＴＥ  ＣＢＷ  ＡＭＯＬＥＤデバイス１００ｇは、同時係属の２０１３年１１月１１日に出願された米国特許出願第６１／９０２，４３７号、名称「ＮＡＮＯＳＴＲＵＣＴＵＲＥＳ  ＦＯＲ  ＯＬＥＤ  ＤＥＶＩＣＥＳ」に記載された技術により作製することができ、同出願の開示は、全体が参照により本明細書に含まれる。一般的に、この技術は、ＯＣＬ前駆体をＴＥ  ＡＭＯＬＥＤ１００アレイの上面１０１上にコーティングし、それにより平坦化されたＯＣＬ前駆体表面を得る工程を含む。次に、埋め込まれたナノ構造化表面１２１を含む光抽出カラーフィルター積層体１０８は、光抽出カラーフィルター積層体１０８の外平面がＯＣＬ前駆体表面に接触するように、ＯＣＬ前駆体表面上に積層される。次に、ＯＣＬ前駆体は、高屈折率ＯＣＬ１１２を得、光抽出カラーフィルター積層体１０８の外平面を高屈折率ＯＣＬ１１２に接着するように、重合される。光抽出カラーフィルター積層体１０８及びＯＣＬ前駆体は、化学線、例えば、可視光線、紫外線、電子ビーム線、熱、及びそれらの組み合わせを使用して硬化されるモノマーを含む重合性組成物をともに含むことができる。
【０１０７】
図１Ａ、図１Ｂ、図１Ｃ、図１Ｆ、及び図１Ｇの頂部発光ＯＬＥＤの実施形態に対して、光抽出カラーフィルター積層体は、代わりに、ＯＬＥＤデバイスに適用するための別個の物品内にあってもよい。そのような構造は、ＯＬＥＤ基材、カラーフィルター基材、及びＯＬＥＤ基材とカラーフィルター基材との間で接触するＯＣＬを含むことができる。
【０１０８】
図１Ａに対するこの代替の構造は、上面１０１を有し、上面を通じて光の白色スペクトルを発することができるＯＬＥＤ基材１００、光抽出カラーフィルター基材１０２、及びＯＣＬ１１２を含む。カラーフィルター基材は、支持基材１２２、支持基材と屈折率が整合し、支持基材に接触する平面及び反対側のナノ構造化表面１２１を有する、ナノ構造化転写層１２４、転写層のナノ構造化表面に一致し、ナノ構造化表面を平坦化し、反対側の平面を有する、高屈折率転写層平坦化層１２６、高屈折率転写層平坦化層１２６の平面に接触する、高屈折率カラーフィルター層１２７、及び高屈折率カラーフィルター層に接触する、高屈折率カラーフィルター平坦化層１２８を含む。ＯＣＬ１１２は、ＯＬＥＤの上面１０１と接触しており、高屈折率カラーフィルター平坦化層１２８に接触し得る反対側の平面を有する。転写層のナノ構造化表面は、高屈折率材料と低屈折率材料との間の境界面を形成する。高屈折率カラーフィルター平坦化層１２８とＯＣＬ１１２との間に配置することができる、任意選択の補助層１２９もまた図示される。
【０１０９】
図１Ｂに対するこの代替の構造は、上面１０１を有し、上面を通じて光の白色スペクトルを発することができるＯＬＥＤ基材１００、光抽出カラーフィルター積層体１０３、及びＯＣＬ１１２を含む。カラーフィルター基材は、平面を有する支持基材１２２、支持基材の平面に接触するカラーフィルター層１２７、ナノ構造化転写層１２４、及び転写層１２４のナノ構造化表面に一致し、ナノ構造化表面を平坦化し、反対側の平面を有する高屈折率転写層平坦化層１２６を含む。ＯＣＬ１１２は、ＯＬＥＤの上面１０１と接触しており、転写層平坦化層１２６に接触し得る反対側の平面を有する。必要に応じて、実施形態は、カラーフィルター層１２７と接触するカラーフィルター平坦化層１２８を更に含むことができ、ここで、ナノ構造化転写層１２４は、カラーフィルター平坦化層１２８と屈折率が整合している。ナノ構造化転写層１２４は、カラーフィルター平坦化層１２８に接触する平面及び反対側のナノ構造化表面を有する。転写層のナノ構造化表面は、高屈折率材料と低屈折率材料との間の境界面を形成する。高屈折率転写層平坦化層１２６とＯＣＬ１１２との間に配置することができる、任意選択の補助層１２９もまた図示される。
【０１１０】
白色（ＣＢＷ）画像ディスプレイ１００ｆの図１Ｆに対するこの代替の構造は、上面１０１を有し、上面を通じて光の白色スペクトルを発することができるＯＬＥＤ基材１００、カラーフィルター基材１０７、及びＯＣＬ１１２を含む。カラーフィルター基材は、平面を有する支持基材１２２、支持基材の平面に接触するカラーフィルター層１２７、カラーフィルター層に屈折率が整合し、カラーフィルター層に接触する平面及び反対側のナノ構造化表面を有するナノ構造化転写層１２４、及び転写層に接触し、転写層のナノ構造化表面に一致し、ナノ構造化表面を平坦化し、反対側の平面を有する高屈折率カラーフィルター平坦化層１２８を含む。ＯＣＬは、ＯＬＥＤの上面と接触しており、転写層平坦化層に接触する反対側の平面を有する。転写層のナノ構造化表面は、高屈折率材料と低屈折率材料との間の境界面を形成する。別の実施形態では、高屈折率カラーフィルター平坦化層１２８は、高屈折率転写層平坦化層１２６（図１Ｆに示されない）により置換えることができる。高屈折率カラーフィルター平坦化層１２８とＯＣＬ１１２との間に配置することができる、任意選択の補助層１２９もまた図示される。高屈折率カラーフィルター平坦化層１２８を高屈折率転写層平坦化層１２６により置換え得る場合、任意選択の補助層１２９は、高屈折率転写層平坦化層１２６とＯＣＬ１１２との間に配置することができる。
【０１１１】
白色（ＣＢＷ）画像ディスプレイ１００ｇの図１Ｇに対するこの代替の構造は、上面１０１を有し、上面を通じて光の白色スペクトルを発することができるＯＬＥＤ基材１００、カラーフィルター基材１０８、及びＯＣＬ１１２を含む。カラーフィルター基材は、平面を有する支持基材１２２、平面を有する支持基材の平面に接触する平面及び反対側のナノ構造化表面１２１を有するカラーフィルター層１２７、及びカラーフィルター層に接触し、カラーフィルター層のナノ構造化表面に一致し、ナノ構造化表面を平坦化し、反対側の平面を有する高屈折率カラーフィルター層平坦化層１２８を含む。ＯＣＬは、ＯＬＥＤの上面１０１と接触しており、高屈折率カラーフィルター層平坦化層１２８に接触し得る反対側の平面を有する。転写層のナノ構造化表面は、高屈折率材料と低屈折率材料との間の境界面を形成する。別の実施形態では、高屈折率カラーフィルター平坦化層１２８は、高屈折率転写層平坦化層１２６（図１Ｇに示されない）により置換えることができる。高屈折率転写層平坦化層１２８とＯＣＬ１１２との間に配置することができる、任意選択の補助層１２９もまた図示される。高屈折率カラーフィルター平坦化層１２８が高屈折率転写層平坦化層１２６により置換えられる場合、任意選択の補助層１２９は、高屈折率転写層平坦化層１２６とＯＣＬ１１２との間に配置することができる。
【０１１２】
図１Ｃに対するこの代替の構造は、上面１０１を有し、上面を通じて光の白色スペクトルを発することができるＯＬＥＤ基材１００、光抽出カラーフィルター積層体１０４、及びＯＣＬ１１２を含む。カラーフィルター基材は、平面を有する支持基材１２２、支持基材１２２の平面に接触するカラーフィルター層１２７、及びナノ構造化転写層１２４を含む。ＯＣＬ１１２は、ＯＬＥＤの上面１０１と接触しており、転写層１２４のナノ構造化表面に一致する、反対側のテクスチャー加工された表面を有する。必要に応じて、実施形態は、カラーフィルター層１２７とナノ構造化転写層１２４との間に配置されたカラーフィルター平坦化層１２８を更に含むことができ、ここで、ナノ構造化転写層１２４は、カラーフィルター平坦化層１２８と屈折率が整合している。この実施形態では、ナノ構造化転写層１２４は、カラーフィルター平坦化層１２８に接する平面及び反対側のナノ構造化表面を有し、カラーフィルター平坦化層１２８もまた、カラーフィルター層１２７に接触している。転写層のナノ構造化表面は、高屈折率材料と低屈折率材料との間の境界面を形成する。カラーフィルター平坦化層１２８とナノ構造化転写層１２４との間に配置することができる、任意選択の補助層１２９もまた図示される。
【０１１３】
図１Ａ、図１Ｂ、図１Ｃ、図１Ｆ、及び図１Ｇの頂部発光ＯＬＥＤの実施形態に対して、光抽出カラーフィルター積層体は、代わりに、ＯＬＥＤデバイスに適用するための別個の物品内にあってもよい。そのような構造は、ＯＬＥＤ基材、カラーフィルター基材、及びＯＬＥＤ基材とカラーフィルター基材との間で接触するＯＣＬを含むことができる。
【０１１４】
図１Ｈ及び図１Ｉの底部発光ＯＬＥＤに対して、カラーフィルター積層体は、代わりに、ＯＬＥＤデバイスの製造で支持体として利用するための別個の物品内にあってもよく、前述したＯＬＥＤ基材の少なくとも１つ以上の構成要素、例えばＯＬＥＤ支持体、を含んでもよい。
【０１１５】
白色（ＣＢＷ）画像ディスプレイ１００ｈの図１Ｈの代替の構造は、上面１０１及び下面１０１’を有し、下面１０１’を通じて光の白色スペクトルを発することができるＯＬＥＤ基材１００を含む。ＯＬＥＤ基材１００は、ＯＬＥＤ副構造体１００’及びカラーフィルター基材１０９を含む。カラーフィルター基材１０９は、平面を有するＯＬＥＤ支持体１１０、ＯＬＥＤ支持体１１０の平面に接触するカラーフィルター層１２７、カラーフィルター平坦化層に屈折率が整合し、カラーフィルター層に接触する平面及び反対側のナノ構造化表面１２１を有するナノ構造化転写層１２４、及び転写層１２４のナノ構造化表面１２１に一致し、ナノ構造化表面１２１を平坦化し、反対側の平面を有する高屈折率転写層平坦化層１２６を含む。ＯＬＥＤ副構造体１００’は、当業者に知られるように、高屈折率転写層平坦化層１２６の平面上に配置された画素回路１２０、及び高屈折率転写層平坦化層１２６の平面及び画素回路１２０の少なくとも一部分を覆って最初に堆積された画素回路平坦化層１３０を含む。ＯＬＥＤ副構造体１００’は更に、画素回路平坦化層１３０を貫通し、画素回路平坦化層１３０の一部分の上に堆積された少なくとも１つの底部電極１５０への電気的接続を提供する、少なくとも１つのビア１４０を含む。個々の画素を画定し、電気的に絶縁するために、画素回路平坦化層１３０及び各底部電極１５０の一部分の上には、画素画定層１６０が堆積される。底部電極１５０及び画素画定層１６０の一部分の上には、光の白色スペクトルを発することができる、複数の既知の層（図示せず）を有するＯＬＥＤ１７０が堆積され、ＯＬＥＤ１７０及び画素画定層１６０の上には、透明頂部電極１８０が堆積され、環境から、更には任意のその後のプロセス工程から、水分及び酸素に敏感なデバイスを保護するために、任意選択の薄膜封入層１９０が堆積される。層１９０は、例えば、米国特許第７，５１０，９１３号に記載された技術により作製することができる。
【０１１６】
白色（ＣＢＷ）画像ディスプレイ１００ｉの図１Ｉの代替の構造は、上面１０１及び下面１０１’を有し、下面１０１’を通じて光の白色スペクトルを発することができるＯＬＥＤ基材１００を含む。ＯＬＥＤ基材１００は、ＯＬＥＤ副構造体１００’’及びカラーフィルター基材１１１を含む。カラーフィルター基材１１１は、平面を有するＯＬＥＤ支持体１１０、ＯＬＥＤ支持体１１０上に配置された画素回路１２０、平面を有しＯＬＥＤ支持体１１０の平面及び画素回路１２０の少なくとも一部分を覆って最初に堆積された画素回路平坦化層１３０、画素回路平坦化層１３０の平面に接触するカラーフィルター層１２７、カラーフィルター平坦化層に屈折率が整合し、カラーフィルター層に接触する平面及び反対側のナノ構造化表面１２１を有するナノ構造化転写層１２４、及び転写層１２４のナノ構造化表面１２１に一致し、ナノ構造化表面１２１を平坦化し、反対側の平面を有する高屈折率転写層平坦化層１２６を含む。カラーフィルター基材１１１は、ＯＬＥＤ基材１００の製造のための底部基材としてその後使用することができる。ＯＬＥＤ基材１００は、高屈折率転写層平坦化層１２６、ナノ構造化転写層１２４、カラーフィルター層１２７、及び画素回路平坦化層１３０を貫通する少なくとも１つのビア１４０、高屈折率転写層平坦化層１２６の一部分上に堆積された少なくとも１つの底部電極を更に含むＯＬＥＤ副構造体１００’’を更に含むであろう。少なくとも１つのビアは、高屈折率転写層平坦化層１２６の一部分上に堆積された少なくとも１つの底部電極１５０に電気的接続を提供する。個々の画素を画定し、電気的に絶縁するために、画素回路平坦化層１３０及び各底部電極１５０の一部分の上には、画素画定層１６０が堆積される。底部電極１５０及び画素画定層１６０の一部分の上には、光の白色スペクトルを発することができる、複数の既知の層（図示せず）を有するＯＬＥＤ１７０が堆積され、ＯＬＥＤ１７０及び画素画定層１６０の上には、透明頂部電極１８０が堆積され、環境から、更には任意のその後のプロセス工程から、水分及び酸素に敏感なデバイスを保護するために、任意選択の薄膜封入層１９０が堆積される。層１９０は、例えば、米国特許第７，５１０，９１３号に記載された技術により作製することができる。図１Ｉで、ＯＬＥＤ副構造体１００’’は、ビア１４０を充填する底部電極１５０の一部分を含む。
【０１１７】
図１Ａを参照して、別の実施形態では、本開示は、支持基材１２２、支持基材１２２と屈折率が整合し、支持基材１２２と接触する平面及び反対側のナノ構造化表面１２１を有する、ナノ構造化転写層１２４、転写層１２４のナノ構造化表面１２１に一致し、ナノ構造化表面１２１を平坦化し、反対側の平面を有する、高屈折率転写層平坦化層１２６、高屈折率転写層平坦化層の平面に接触する、高屈折率カラーフィルター層１２７、及び高屈折率カラーフィルター層１２７に接触する、高屈折率カラーフィルター平坦化層１２８を含む、光抽出カラーフィルター積層体１０２に関する。光抽出カラーフィルター積層体１０２は、高屈折率カラーフィルター平坦化層１２８に隣接する任意選択の補助層１２９を更に含むことができる。補助層１２９は、透明導電酸化物を含むことができる。
【０１１８】
図１Ｂを参照して、別の実施形態では、本開示は、平面を有する支持基材１２２、支持基材１２２の平面に接触するカラーフィルター層１２７、平面及び反対側のナノ構造化表面１２１を有するナノ構造化転写層１２４、及び転写層１２４のナノ構造化表面１２１に一致し、ナノ構造化表面１２１を平坦化し、反対側の平面を有する高屈折率転写層平坦化層１２６を含む、光抽出カラーフィルター積層体１０３に関する。光抽出カラーフィルター積層体１０３は、カラーフィルター層とナノ構造化転写層との間に配置された、任意選択のカラーフィルター平坦化層１２８を更に含むことができ、ここでナノ構造化転写層は、カラーフィルター平坦化層と屈折率が整合している。光抽出カラーフィルター積層体１０３は、高屈折率転写層平坦化層１２６に隣接する任意選択の補助層１２９を更に含むことができる。補助層１２９は、透明導電酸化物を含むことができる。
【０１１９】
図１Ｃを参照して、別の実施形態では、本開示は、光抽出カラーフィルター積層体１０４、平面を有する支持基材１２２、支持基材１２２の平面に接触するカラーフィルター層１２７、及び平面及び反対側のナノ構造化表面１２１を有するナノ構造化転写層１２４に関する。光抽出カラーフィルター積層体１０３は、カラーフィルター層１２７とナノ構造化転写層１２４との間に配置され、カラーフィルター層に接触する、任意選択のカラーフィルター平坦化層１２８を更に含むことができ、ここでナノ構造化転写層１２４は、カラーフィルター平坦化層１２８と屈折率が整合している。光抽出カラーフィルター積層体１０４は、カラーフィルター平坦化層１２８とナノ構造化転写層１２４との間に配置された、任意選択の補助層１２９を更に含むことができる。補助層１２９は、透明導電酸化物を含むことができる。
【０１２０】
基材及び支持体
基材１２２及び支持体１１０は、例えば他の層に対する機械的支持を提供することができる熱的に安定な可撓性フィルムを含む、任意の適切なフィルムであり得る。しかし、一般的に、高分子フィルムと比較して、優れた熱的安定性及びバリア特性のため、ガラスフィルムが好ましい。ただし、場合によっては、高分子フィルムを使用してもよい。
【０１２１】
ナノ構造化テンプレート層
ナノ構造化テンプレート層１２４は、構造をｐＯＣＬ、又はナノ構造化テンプレート層１２４上にコーティングされる任意の他のナノ構造化転写層（図示せず、他で説明される）に付与する層である。ナノ構造化テンプレート層は、テンプレート材料で構成される。ナノ構造化テンプレート層１２４は、例えば、エンボス加工、複製プロセス、押出加工、流延、又は表面構造体化によって得ることができる。ナノ構造化テンプレート層１２４は、一般に、ナノ構造、ミクロ構造、又は階層構造が挙げられ得る構造化面を有してもよい、テンプレート層であり得るが、本明細書では一般にナノ構造が説明されていることを理解されたい。ナノ構造は、１ミクロン以下の少なくとも１つの寸法（例えば、高さ、幅、又は長さ）を有する特徴を備える。ミクロ構造は、１ミリメートル以下の少なくとも１つの寸法（例えば、高さ、幅、又は長さ）を有する特徴を備える。階層構造は、ナノ構造とミクロ構造の組み合わせである。いくつかの実施形態において、テンプレート層は、パターニング、化学線パターニング、エンボス加工、押出加工、及び共押出加工に適合可能であり得る。
【０１２２】
典型的には、テンプレート層は、複製プロセス中に低い粘度を有してもよく、次いで、急速に硬化して、ナノ構造、ミクロ構造、又は階層的構造内に「固定される」永久架橋ポリマーネットワークを得ることができる、光硬化可能な材料を含む。テンプレート層には、光重合の当業者に知られている任意の光硬化可能な樹脂を使用することができる。テンプレート層に使用される樹脂は、架橋されたときに、開示される構造化テープの使用中に転写層から剥離可能でなければならないか、又は剥離層（下記参照）の適用及び剥離層を適用するためのプロセスに適合可能でなければならない。加えて、テンプレート層に使用される樹脂は、好ましくは、他で説明されるように、接着促進層の適用に適合可能である。
【０１２３】
テンプレート層として使用することができるポリマーとしてはまた、スチレンアクリロニトリルコポリマー、スチレン（メタ）アクリレートコポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、スチレン無水マレイン酸コポリマー、有核半結晶性ポリエステル、ポリエチレンナフタレートのコポリマー、ポリイミド、ポリイミドコポリマー、ポリエーテルイミド、ポリスチレン、シンジオクタクチックポリスチレン、ポリフェニレンオキシド、環状オレフィンポリマー、並びにアクリロニトリル、ブタジエン、及びスチレンのコポリマーも挙げられる。好ましい１つのポリマーは、Ｉｎｅｏｓ  ＡＢＳ（ＵＳＡ）Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手可能なＬｕｓｔｒａｎ  ＳＡＮ  Ｓｐａｒｋｌｅ材料である。放射線硬化テンプレート層用のポリマーとしては、多官能性アクリレートなどの架橋アクリレート、又はエポキシ、並びに単官能性及び多官能性モノマーとブレンドされたアクリル化ウレタンが挙げられる。
【０１２４】
パターン化構造化テンプレート層は、曝露面を有する層を提供するために放射線硬化可能な組成物の層を放射線透過性支持体の１つの表面に堆積させることと、遠位表面部分及び隣接する陥凹表面部分を含む正確に成形され、かつ位置付けられる相互作用的な機能的不連続性の三次元ミクロ構造を、該支持体上の放射線硬化可能な組成物の層の曝露面に付与することができるパターンを担持する予備成形表面を有する原型を、十分な接触圧力の下で接触させて、該パターンを該層に付与することと、放射線硬化可能な組成物の層が原型のパターン化表面と接触している間、キャリアを通して該硬化可能な組成物を十分なレベルの放射線に曝露して、該組成物を硬化させることと、によって得ることができる。この流延及び硬化プロセスは、支持体のロールを使用して連続様式で行うことができ、硬化可能な材料の層を支持体上に堆積させ、この硬化可能な材料を原型に対して積層し、化学線を使用して硬化可能な材料を硬化させる。次いで、その上に配置されたパターン化構造化テンプレートを有する、結果として生じる支持体のロールを巻き取ることができる。この方法は、例えば、米国特許第６，８５８，２５３号（Ｗｉｌｌｉａｍｓら）で開示されている。
【０１２５】
押出加工又はエンボス加工したテンプレート層の場合、テンプレート層を構成する材料は、付与される頂部構造化面の特定のトポグラフィーに応じて選択することができる。一般に、材料は、材料が固化する前に構造が完全に複製されるように選択される。これは、押出加工プロセス中に材料が保持される温度、及び頂部構造化面を付与するために使用されるツールの温度、並びに押出加工が実行されているときの速度に部分的に依存する。典型的には、頂部層において使用される押出可能なポリマーは、大部分の動作条件下での押出加工複製及びエンボス加工に適するように、約１４０℃未満のＴｇ、又は約８５℃〜約１２０℃のＴｇを有する。いくつかの実施形態では、支持フィルム及びテンプレート層は、同時に共押出加工することができる。この実施形態は、少なくとも２つの共押出加工層、すなわち、１つのポリマーを有する頂部層と、別のポリマーを有する底部層とを必要とする。頂部層が第１の押出加工可能なポリマーを含む場合、第１の押出可能なポリマーは、約１４０℃未満のＴｇ、又は約８５℃〜約１２０℃のＴｇを有し得る。頂部層が第２の押出可能なポリマーを含む場合、支持層として機能することができる第２の押出可能なポリマーは、約１４０℃未満のＴｇ、又は約８５℃〜約１２０℃のＴｇを有する。分子量及び溶融粘度のようなその他の特性も考慮しなければならず、それらの特性は、用いる特定のポリマー又はポリマー類に左右されることになる。テンプレート層で使用される材料も、該材料が支持体に対する良好な接着性を提供し、よって、光学物品の寿命期間中に２つの層の層間剥離を最小限に抑えるように選択しなければならない。
【０１２６】
押出加工又は共押出加工されたテンプレート層は、テンプレート層にパターン化構造を付与することができる原型ロール上に流延することができる。これは、バッチ式で、又は連続的なロールツーロールプロセスで行うことができる。加えて、ナノ構造化転写層は、押出加工又は共押出加工されたテンプレート層上に押出加工することができる。いくつかの実施形態では、３つの層全て、すなわち、支持層、テンプレート層、及びナノ構造化転写層を、同時に共押出加工することができる。
【０１２７】
テンプレート層ポリマーとして使用され得る有用なポリマーとしては、スチレンアクリロニトリルコポリマー、スチレン（メタ）アクリレートコポリマー、ポリメチルメタクリレート、スチレン無水マレイン酸コポリマー、有核半結晶性ポリエステル、ポリエチレンナフタレートのコポリマー、ポリイミド、ポリイミドコポリマー、ポリエーテルイミド、ポリスチレン、シンジオクタクチックポリスチレン、ポリフェニレンオキシド、並びに、アクリロニトリル、ブタジエン、及びスチレンのコポリマーからなる群から選択される１つ以上のポリマーが挙げられる。第１の押出加工可能なポリマーとして使用することができる特に有用なポリマーとしては、Ｄｏｗ  Ｃｈｅｍｉｃａｌから入手可能なＴＹＲＩＬコポリマーとして知られているスチレンアクリロニトリルコポリマーが挙げられ、例としては、ＴＹＲＩＬ８８０及び１２５が挙げられる。テンプレートポリマーとして使用することができる特に有用な他のポリマーとしては、どちらもＮｏｖａ  Ｃｈｅｍｉｃａｌによる、スチレン無水マレイン酸コポリマーＤＹＬＡＲＫ３３２及びスチレンアクリレートコポリマーＮＡＳ  ３０が挙げられる。ケイ酸マグネシウム、酢酸ナトリウム、又はメチレンビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）酸リン酸ナトリウムなどの核化剤を配合されたポリエチレンテレフタレートもまた有用である。
【０１２８】
頂部スキン層として有用な例示的なポリマーとしては、ＣｏＰＥＮ（ポリエチレンナフタレートのコポリマー）、ＣｏＰＶＮ（ポリビニルナフタレートのコポリマー）、及びポリエーテルイミドを含むポリイミドが挙げられる。適切な樹脂組成物としては、寸法安定性、耐久性、耐候性があり、かつ所望の構成へ容易に成形可能である透明材料が挙げられる。適切な材料の例としては、Ｒｏｈｍ  ａｎｄ  Ｈａａｓ  Ｃｏｍｐａｎｙにより製造されるＰＬＥＸＩＧＬＡＳブランドの樹脂などの約１．５の屈折率を有するアクリル、約１．５９の屈折率を有するポリカーボネート、熱硬化性アクリレート及びエポキシアクリレートなどの反応性材料、Ｅ．Ｉ．Ｄｕｐｏｎｔ  ｄｅ  Ｎｅｍｏｕｒｓ  ａｎｄ  Ｃｏ．，Ｉｎｃ．によりＳＵＲＬＹＮのブランド名で市販されているものなどのポリエチレン系イオノマー、ポリ（エチレン−コ−アクリル酸）、ポリエステル、ポリウレタン、及びセルロースアセテート酪酸塩が挙げられる。テンプレート層は、米国特許第５，６９１，８４６号（Ｂｅｎｓｏｎ）で開示されているように、支持フィルム上に直接流延することによって調製することができる。放射線硬化構造用のポリマーとしては、多官能性アクリレートなどの架橋アクリレート、又はエポキシ、並びに単官能性及び多官能性モノマーとブレンドされたアクリル化ウレタンが挙げられる。
【０１２９】
接着促進層の材料
接着促進層は、光抽出カラーフィルター積層体の性能に実質的に有害な影響を及ぼさずに、レセプター基材への光抽出カラーフィルター積層体の接着力を高める任意の材料を用いて実施され得る。転写層及びＯＣＬ層の例示的な材料はまた、好ましくは高い屈折率を有する接着促進層にも使用することができる。開示される物品及び方法に有用な、有用な接着促進材料としては、フォトレジスト（ポジティブ及びネガティブ）、自己組織化単層、接着剤、シランカップリング剤、及びマクロ分子が挙げられる。いくつかの実施形態では、シルセスキオキサンが接着促進層として機能することができる。例えば、ポリビニルシルセスキオキサンポリマーを接着促進層として使用することができる。他の例示的な材料としては、エポキシド、エピスルフィド、ビニル、ヒドロキシル、アリルオキシ、（メタ）アクリレート、イソシアネート、シアノエステル、アセトキシ、（メタ）アクリルアミド、チオール、シラノール、カルボン酸、アミノ、ビニルエーテル、フェノール系、アルデヒド、アルキルハライド、シンナメート、アジド、アジリジン、アルケン、カルバメート、イミド、アミド、アルキン、及びこれらの基の任意の誘導体又は組み合わせなどの、多種多様な反応性基で官能化される、ベンゾシクロブタン、ポリイミド、ポリアミド、シリコーン、ポリシロキサン、シリコーンハイブリッドポリマー、（メタ）アクリレート、及び他のシラン又はマクロ分子が挙げられ得る。
【０１３０】
剥離ライナー
転写層、ＯＣＬ層、ｐＯＣＬ層、又は転写可能な層は、随意に、一時的な剥離ライナーによって覆うことができる。剥離ライナーは、取り扱い中にパターン化構造化層を保護することができ、構造化層又は構造化層の一部をレセプター基材に転写するために、必要に応じて、容易に除去することができる。開示されたパターン化構造化テープに有用な例示的なライナーは、特許出願公開第ＷＯ  ２０１２／０８２５３６号（Ｂａｒａｎら）で開示されている。
【０１３１】
ライナーは、可撓性であっても剛性であってもよい。好ましくは、それは、可撓性である。好適なライナー（好ましくは、可撓性ライナー）は、典型的には、少なくとも厚さ０．５ｍｉｌ（０．０１ｍｍ）、かつ典型的には、厚さ２０ｍｉｌ（０．５ｍｍ）以下である。ライナーは、その第１の表面上に配置される剥離コーティングを有する裏材であり得る。場合により、剥離コーティングは、その第２の表面上に配置され得る。この裏材がロールの形態である移動物品に使用される場合、第２の剥離コーティングは、第１の剥離コーティングより低い剥離値を有する。剛性ライナーとして機能し得る好適な材料には、金属、金属合金、金属−マトリクス複合材料、金属化プラスチック、無機ガラス及びガラス化された有機樹脂、成形セラミック、並びにポリマーマトリクス補強複合材料（polymer matrix reinforced composites）が挙げられる。
【０１３２】
例示的なライナー材料としては、紙及び高分子材料が挙げられる。例えば、可撓性裏材としては、高密度クラフト紙（Ｌｏｐａｒｅｘ  Ｎｏｒｔｈ  Ａｍｅｒｉｃａ，Ｗｉｌｌｏｗｂｒｏｏｋ，ＩＬから市販されているもの等）、ポリエチレン塗布クラフト紙等のポリコート紙、及び高分子フィルムが挙げられる。好適な高分子フィルムとしては、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン、セルロース、ポリアミド、ポリイミド、ポリシリコーン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、又はそれらの組み合わせが挙げられる。不織布又は織布ライナーも有用であり得る。不織布又は織布ライナーを用いた実施形態は、剥離コーティングを組み込んでもよい。ＣＬＥＡＲＳＩＬ  Ｔ５０剥離ライナー、Ｓｏｌｕｔｉａ／ＣＰ  Ｆｉｌｍｓ（バージニア州Ｍａｒｔｉｎｓｖｉｌｌｅ）から入手可能なシリコーンコーティングした２ｍｉｌ（０．０５ｍｍ）のポリエステルフィルムライナー、及びＬｏｐａｒｅｘ（ウィスコンシン州Ｈａｍｍｏｎｄ）から入手可能なＬＯＰＡＲＥＸ  ５１００剥離ライナー、フルオロシリコーンコーティングした２ｍｉｌ（０．０５ｍｍ）のポリエステルフィルムライナーは、有用な剥離ライナーの例である。
【０１３３】
ライナーの剥離コーティングは、フッ素含有材料、シリコン含有材料、フルオロポリマー、シリコーンポリマー、又は１２〜３０個の炭素原子を有するアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートを含むモノマーから誘導されるポリ（メタ）アクリレートエステルであり得る。一実施形態において、アルキル基は分岐状であってもよい。有用なフルオロポリマー及びシリコーンポリマーの例示の実施例は、米国特許第４，４７２，４８０号（Ｏｌｓｏｎ）、同第４，５６７，０７３号、及び同第４，６１４，６６７号（どちらもＬａｒｓｏｎら）に見出すことができる。有用なポリ（メタ）アクリレートエステルの例示の実施例は、米国特許出願公開第２００５／１１８３５２号（Ｓｕｗａ）に見出すことができる。ライナーの除去は、転写層の表面トポロジーを否定的に変化させてはならない。
【０１３４】
他の添加剤
転写層、ＯＣＬ、ｐＯＣＬ、及び接着促進層に含む他の適切な添加剤は、フィルムの保管、出荷及び取り扱いのプロセス中の時期尚早の硬化を防止するための抗酸化剤、安定剤、オゾン劣化防止剤、及び／又は阻害剤である。時期尚早の硬化を防止することにより、前述した全ての実施形態の積層転写に必要とされる粘着性を維持することができる。抗酸化剤は、電子の移動、及び重合などの連鎖反応につながり得るフリーラジカル種の形成を防止することができる。そのようなラジカルを分解するために、抗酸化剤を使用することができる。好適な抗酸化剤としては、例えば、ＩＲＧＡＮＯＸという商標名の抗酸化剤を挙げることができる。抗酸化剤の分子構造は、典型的には、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールなどのヒンダードフェノール構造、又は芳香族アミンに基づく構造である。ヒドロペルオキシドラジカルを分解するために、ホスファイト又はホスホナイト、有機硫黄含有化合物、及びジチオホスホネートなどの二次抗酸化剤も使用される。典型的な重合阻害剤としては、ヒドロキノン、２，５ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ヒドロキノン、モノメチルエーテルヒドロキノンなどのキノン構造、又は４−ｔｅｒｔブチルカテコールなどのカテコール誘導体が挙げられる。使用される任意の抗酸化剤、安定剤、オゾン劣化防止剤、及び阻害剤は、転写層、ＯＣＬ、及び接着促進層に可溶でなければならない。
【０１３５】
特に明記しない限り、本明細書及び特許請求の範囲で使用されている、特徴のサイズ、量及び物理的性質を表す全ての数は、用語「約」により加減されていることを理解するべきである。それ故に、そうでないことが示されない限り、前述の明細書及び添付の「特許請求の範囲」で示される数値パラメーターは、当業者が本明細書で開示される教示内容を用いて、目標対象とする所望の特性に応じて、変化し得る近似値である。
【０１３６】
本明細書に引用した全ての参照文献及び刊行物は、本開示と直接矛盾しうる場合を除いて、それらの全容を本開示に明確に援用するものである。以上、本明細書において特定の実施形態について図示及び説明してきたが、当業者であれば、本開示の範囲から逸脱することなく、様々な代替的及び／又は同等の実施形態を、図示及び説明した特定の実施形態に置換えることが可能である点は認識されるであろう。本出願は、本明細書において考察した特定の実施形態のあらゆる適合形態又は変形形態を網羅するものである。したがって、本開示は「特許請求の範囲」及びその均等物によってのみ限定されるものとする。
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図１Ｃ】
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【図１Ｄ】
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【図１Ｅ】
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【図１Ｆ】
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【図１Ｇ】
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【図１Ｈ】
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【図１Ｉ】
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【国際調査報告】
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