(57)【要約】  歯列矯正歯調整促進システムは、制御回路と、電源と、歯槽骨の舌側と並置されるように適合され、かつ歯槽骨内の複数の歯槽のうちの特定の１つに関連付けられた複数の舌側電極と、歯槽骨の頬側と並置されるように適合され、かつ歯槽骨内の複数の歯槽のうちの特定の１つに関連付けられた複数の頬側電極とを備え、制御回路及び電源に応答して、第１タイプの電流が、複数の舌側電極の各々と複数の頬側電極のうちの特定の１つとの間に生成され、又は第２タイプの電流が、複数の舌側電極の隣接するものの各々の間及び複数の頬側電極の隣接するものの間に生成され、各電流は、制御回路に応答して別個に制御される。【選択図】図３Ｂ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
歯列矯正歯調整促進システムであって、
制御回路と、
電源と、
複数の舌側電極であって、前記複数の舌側電極の各々は、歯槽骨の舌側と並置されるように適合され、かつ前記歯槽骨内の複数の歯槽のうちの特定の１つに関連付けられた、複数の舌側電極と、
複数の頬側電極であって、前記複数の電極の各々は、前記歯槽骨の頬側と並置されるように適合され、かつ前記歯槽骨内の前記複数の歯槽のうちの特定の１つに関連付けられた、複数の頬側電極と
を備え、
前記制御回路及び前記電源に応答して、第１タイプの電流が、前記複数の舌側電極の各々と前記複数の頬側電極のうちの特定の１つとの間に生成され、又は第２タイプの電流が、前記複数の舌側電極の隣接するものの各々の間、及び前記複数の頬側電極の隣接するものの間に生成され、
前記生成される第１タイプの電流の各々、又は前記生成される第２タイプの電流の各々は、前記制御回路に応答して別個に制御される、システム。
【請求項２】
前記生成される第１タイプの電流の各々の方向、又は前記生成される第２タイプの電流の各々の方向は、前記それぞれの歯槽内に配置された歯に加えられる歯列矯正力に応答してもたらされる骨吸収、又は沈着を促進するように構成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記複数の歯槽内に配置された複数の歯の各々に前記歯列矯正力を加えるように構成された第１歯列矯正装置をさらに備える、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記制御回路及び前記電源に応答して、複数の前記第１タイプの電流、及び複数の前記第２タイプの電流が生成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記歯槽骨の前記舌側にわたって歯肉の輪郭にフィットするように構成された舌側部材であって、前記複数の舌側電極は前記舌側部材上に配置されている、舌側部材と、
前記歯槽骨の前記頬側にわたって前記歯肉の前記輪郭とフィットするように構成された頬側部材であって、前記複数の頬側電極は前記頬側部材上に配置されている、頬側部材と
をさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
互いに絶縁された複数の電路をさらに備え、前記制御回路は、前記複数の電路のうちのそれぞれ１つを介して、前記複数の舌側電極の各々と、又は前記複数の頬側電極の各々と電気通信する、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記制御回路は、電流極性選択ユーザ入力を受け取るように構成されたユーザ入力モジュールを備え、
前記ユーザ入力モジュールで受け取られた特定の電流極性選択ユーザ入力に応答して、前記複数の舌側電極のうちの第１舌側電極と前記複数の頬側電極のうちの第１頬側電極との間における前記生成される第１タイプの電流の方向は、前記複数の舌側電極のうちの第２舌側電極と前記複数の頬側電極のうちの第２頬側電極との間における前記生成される第１タイプの電流の方向と反対であり、又は
前記複数の舌側電極の隣接するものの対の間における前記生成される第２タイプの電流の方向は、前記複数の舌側電極の前記隣接するものに関連付けられた前記複数の頬側電極の隣接するものの対の間における前記生成される第２タイプの電流の方向と反対である、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記制御回路は、電極選択ユーザ入力を受け取るように構成されたユーザ入力モジュールを備え、
前記ユーザ入力モジュールにおいて受け取られた特定の電極選択ユーザ入力に応答して、第１タイプの電流が、前記複数の舌側電極のうちの第１舌側電極と前記複数の頬側電極のうちの第１頬側電極との間で生成され、第１タイプの電流は、前記複数の舌側電極のうちの第２舌側電極と前記複数の頬側電極のうちの第２頬側電極との間では生成されず、又は
第２タイプの電流が、前記複数の舌側電極の隣接するものの第１対の間、及び前記複数の頬側電極の隣接するものの第１対の間に生成され、第２タイプの電流は、前記複数の舌側電極の隣接するものの第２対の間、及び前記複数の頬側電極の隣接するものの第２対の間では生成されない、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記複数の舌側電極のうちの第３舌側電極は、特定の歯槽の第１側と並置されるように適合され、前記複数の舌側電極のうちの第４舌側電極は、前記特定の歯槽の第２側と並置されるように適合され、前記歯槽の前記第２側は前記歯槽の前記第１側と反対側であり、
前記複数の舌側電極のうちの前記第３舌側電極に関連付けられた前記複数の頬側電極のうちの第３頬側電極は、前記特定の歯槽の前記第１側に並置されるように適合され、前記複数の舌側電極のうちの前記第４舌側電極に関連付けられた前記複数の頬側電極のうちの第４頬側電極は、前記特定の歯槽の前記第２側と並置されるように適合されており、
前記複数の舌側電極のうちの前記第３舌側電極と前記複数の頬側電極のうちの前記第３頬側電極との間に生成される前記第１タイプの電流の方向は、前記複数の舌側電極のうちの前記第４舌側電極と前記複数の頬側電極のうちの前記第４頬側電極との間に生成される前記第１タイプの電流の方向と反対であり、又は前記舌側電極のうちの前記第３舌側電極と前記第４舌側電極との間に生成される前記第２タイプの電流の方向は、前記第３頬側電極と前記第４頬側電極との間に生成される前記第２タイプの電流の方向と反対である、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
前記特定の歯槽内に歯根を有する歯に回転力を提供するように構成された第２歯列矯正装置をさらに備え、前記回転歯列矯正力は、前記歯の回転運動を生成するように構成され、前記生成される回転運動は、
前記歯の第１側の一部における第１方向の第１運動ベクトルと、
前記歯の第２側の一部における、前記第１方向とは反対の第２方向の第２運動ベクトルであって、前記歯の前記第２側は前記歯の前記第１側と反対側である、第２運動ベクトルと
を画定し、
前記複数の舌側電極のうちの前記第３舌側電極と前記複数の頬側電極のうちの前記第３頬側電極との間に延在する第１軸は、前記第１運動ベクトルと平行でありかつ整列し、又は前記複数の舌側電極のうちの前記第３舌側電極と前記第４舌側電極との間に延在する第２軸は、前記第１運動ベクトルと平行でありかつ整列し、
前記複数の舌側電極のうちの前記第４舌側電極と前記複数の頬側電極のうちの前記第４頬側電極との間に延在する第３軸は、前記第２運動ベクトルと平行でありかつ整列し、又は前記複数の頬側電極のうちの前記第３頬側電極と前記第４頬側電極との間に延在する第４軸は、前記第２運動ベクトルと平行でありかつ整列し、
前記複数の舌側電極のうちの前記第３舌側電極と前記複数の頬側電極のうちの前記第３頬側電極との間で生成される前記第１タイプの電流の方向と、前記複数の舌側電極のうちの前記第４舌側電極と前記複数の頬側電極のうちの前記第４頬側電極との間で生成される前記第１タイプの電流の方向は、前記提供された回転歯列矯正力に応答してもたらされる骨吸収及び沈着を促進するように構成され、又は前記第３舌側電極と前記第４舌側電極との間で生成される前記第２タイプの電流の方向と、前記第３頬側電極と前記第４頬側電極との間に生成される前記第２タイプの電流の方向は、前記提供された回転歯列矯正力に応答してもたらされる骨吸収及び沈着を促進するように構成されている、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記生成される第１タイプの電流又は前記生成される第２タイプの電流の各々に対して、前記制御回路は、前記生成される第１タイプの電流又は前記生成される第２タイプの電流が、交互に、所定作動期間にわたって提供され、所定静止期間にわたって提供されないように構成され、前記所定作動期間は３〜５時間である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１２】
複数の調整可能圧力素子をさらに備え、前記調整可能圧力素子の各々は、前記複数の舌側電極及び前記複数の頬側電極のうちのそれぞれ１つに調整可能な量の圧力を加えるように構成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記調整可能圧力素子の各々は、その内部に注入されている空気に応答して拡張するように構成され、前記調整可能な量の圧力は、前記注入された空気に応答して加えられる、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記調整可能圧力素子の各々は、その内部に挿入されている圧力部材に応答して拡張するように構成され、前記調整可能な量の圧力は、前記挿入された圧力部材に応答して加えられる、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１５】
前記歯槽骨の歯肉の温度を検知するように構成された温度センサと、
前記検知された温度に応答して、前記歯槽骨の前記歯肉を加熱するように構成された加熱素子と
をさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項１６】
前記歯槽骨の歯肉のｐＨレベルを検知するように構成されたｐＨセンサをさらに備え、
前記第１タイプの電流又は前記第２タイプの電流の大きさは、前記検知ｐＨレベルに応答して調整される、請求項１に記載のシステム。
【請求項１７】
歯列矯正歯調整を促進する方法であって、
複数の舌側電極の各々と複数の頬側電極のうちの特定の１つとの間の第１タイプの電流、又は前記複数の舌側電極の隣接するものの各々の間及び複数の頬側電極の隣接するものの間の第２タイプの電流を生成するステップであって、前記複数の舌側電極の各々は、歯槽骨の舌側と並置されるように適合され、かつ前記歯槽骨内の複数の歯槽のうちの特定の１つに関連付けられ、前記複数の頬側電極の各々は、前記歯槽骨の頬側と並置されるように適合され、かつ前記歯槽骨内の前記複数の歯槽のうちの特定の１つに関連付けられたステップ
を含み、
前記生成される第１タイプの電流の各々、又は前記生成される第２タイプの電流の各々は、制御回路に応答して別個に制御される、方法。
【請求項１８】
前記生成される第１タイプの電流の各々の方向、又は前記生成される第２タイプの電流の各々の方向は、前記それぞれの歯槽内に配置された歯に加えられる歯列矯正力に応答してもたらされる骨吸収又は沈着を促進するように構成される、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記歯列矯正力を生成するステップをさらに含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
複数の前記第１タイプの電流及び複数の前記第２タイプの電流が生成される、請求項１７に記載の方法。
【請求項２１】
前記制御回路による前記別個の制御は、互いに絶縁された複数の電路を介する、請求項１７に記載の方法。
【請求項２２】
特定の電流極性選択ユーザ入力を受け取るステップをさらに含み、
受け取られた特定の電流極性選択ユーザに応答して、前記複数の舌側電極のうちの第１舌側電極と前記複数の頬側電極のうちの第１頬側電極との間における前記生成される第１タイプの電流の方向は、前記複数の舌側電極のうちの第２舌側電極と前記複数の頬側電極のうちの第２頬側電極との間における前記生成される第１タイプの電流の方向と反対であり、又は
前記複数の舌側電極の隣接するものの間における前記生成される第２タイプの電流の方向は、前記複数の舌側電極の前記隣接するものに関連付けられた前記複数の頬側電極の隣接するものの間における前記生成される第２タイプの電流の方向と反対である、請求項１７に記載の方法。
【請求項２３】
特定の電極選択ユーザ入力を受け取るステップをさらに含み、
前記受け取られた特定の電極選択ユーザ入力に応答して、第１タイプの電流が、前記複数の舌側電極のうちの第１舌側電極と前記複数の頬側電極のうちの第１頬側電極との間で生成され、第１タイプの電流は、前記複数の舌側電極のうちの第２舌側電極と前記複数の頬側電極のうちの第２頬側電極との間では生成されず、又は
第２タイプの電流が、前記複数の舌側電極の隣接するものの第１対の間及び前記複数の頬側電極の隣接するものの第１対の間に生成され、第２タイプの電流は、前記複数の舌側電極の隣接するものの第２対の間及び前記複数の頬側電極の隣接するものの第２対の間では生成されない、請求項１７に記載の方法。
【請求項２４】
前記生成される第１タイプの電流のうちの第１の生成される第１タイプの電流は、前記複数の歯槽のうちの特定の１つの第１側に関連付けられ、前記生成される第１タイプの電流のうちの第２の生成される第１タイプの電流は、前記複数の歯槽のうちの前記特定の１つの前記第１側とは反対の、前記複数の歯槽のうちの前記特定の１つの第２側に関連付けられ、前記生成される第１タイプの電流のうちの前記第２の生成される第１タイプの電流の方向は、前記生成される第１タイプの電流のうちの前記第１の生成される第１タイプの電流の方向と反対であり、又は
前記生成される第２タイプの電流のうちの第１の生成される第２タイプの電流は、前記複数の歯槽のうちの前記特定の１つの第３側に関連付けられ、前記生成される第２タイプの電流のうちの第２の生成される第２タイプの電流は、前記複数の歯槽のうちの前記特定の１つの前記第３側とは反対の、前記複数の歯槽のうちの前記特定の１つの第４側に関連付けられ、前記生成される第２タイプの電流のうちの前記第２の生成される第２タイプの電流の方向は、前記生成される第２タイプの電流のうちの前記第１の生成される第２タイプの電流の方向と反対である、請求項１７に記載の方法。
【請求項２５】
前記特定の歯槽内に歯根を有する歯に回転歯列矯正力を提供するステップをさらに含み、前記回転歯列矯正力は、前記歯の回転運動を生成するように構成され、前記生成される回転運動は、
前記歯の第１側の一部における第１方向の第１運動ベクトルであって、前記生成される第１タイプの電流のうちの前記第１の生成される第１タイプの電流、又は前記生成される第２タイプの電流のうちの前記第１の生成される第２タイプの電流は、前記第１運動ベクトルと平行でありかつ整列する、第１運動ベクトルと、
前記歯の第２側の一部における、前記第１方向と反対の第２方向の第２運動ベクトルであって、前記歯の前記第２側は前記歯の前記第１側の反対側であり、前記生成される第１タイプの電流のうちの前記第２の生成される第１タイプの電流、又は前記生成される第２タイプの電流のうちの前記第２の生成される第２タイプの電流は、前記第２運動ベクトルと平行でありかつ整列する、第２運動ベクトルと
を画定する、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
前記生成される第１タイプの電流又は前記生成される第２タイプの電流の各々は、交互に、所定作動期間にわたって提供され、所定静止期間にわたって提供されず、前記所定作動期間は３〜５時間である、請求項１７〜２５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２７】
前記複数の舌側電極及び前記複数の頬側電極の組に調整可能な量の圧力を加えるステップをさらに含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項２８】
複数の調整可能圧力素子の各々に空気を注入するステップであって、前記調整可能な量の圧力は前記注入される空気に応答して加えられる、ステップをさらに含む、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
複数の調整可能圧力素子の各々に圧力部材を挿入するステップであって、前記調整可能な量の圧力は、前記挿入される圧力部材に応答して加えられる、ステップをさらに含む、請求項２７に記載の方法。
【請求項３０】
前記歯槽骨の歯肉の温度を検知するステップと、
前記検知された温度に応答して前記歯肉の前記温度を調整するステップと
をさらに含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項３１】
前記歯槽骨の前記歯肉のｐＨレベルを検知するステップと、
前記検知したｐＨレベルに応答して、前記生成される第１タイプの電流又は前記第２タイプの電流の大きさを調整するステップと
をさらに含む、請求項１７に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本出願は、２０１４年２月１１日に出願された「Ｍｅｔｈｏｄ  ｔｏ  ｅｎｈａｎｃｅ  ｏｒｔｈｏｄｏｎｔｉｃ  ｔｏｏｔｈ  ｍｏｖｅｍｅｎｔ」という名称の米国特許出願第１４／１７７，５７３号明細書に対する優先権を主張し、その出願の内容全体は参照により本明細書に組み込まれる。
【０００２】
本発明は、概して、歯列矯正歯の移動の分野に関し、特に、歯列矯正歯調整促進システム及び方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
過去２５世紀にわたり、歯列矯正医は、歯を不完全な配置、すなわち「不正咬合」からより健康でかつ、より審美的な配置に再配置するプロセスに取り組んできた。歯を移動させるためには、一般に３つの要素、すなわち１）力、２）時間及び３）スペースが必要である。口は、歯根の周囲で歯槽骨を再配置する、すなわち「リモデリング」することによって歯にかけられる維持力に反応する。特に、破骨細胞は、歯に対してスペースをあけるために、その歯が移動している移動先の領域において骨を破壊する。その結果、歯は、それに加えられる力の方向に移動することができる。さらに、骨芽細胞は、歯が移動している移動元の領域において、新たな骨組織を形成する。
【０００４】
さらに詳細には、図１Ａ及び図１Ｂは、歯槽骨の「リモデリング」を示す。図１Ａに示すように、歯は、歯冠０及び歯根１からなる。歯冠は、口内で見えるが、歯根は歯根膜（ＰＤＬ）３として知られる軟質結合組織繊維状メッシュで覆われており、ＰＤＬ３は歯槽骨４で包囲されているため、歯根は見えない。歯槽骨４は、一方の側ではＰＤＬ３に面し、他方の側では歯肉及び粘膜組織（歯肉）５によって覆われている。ＰＤＬ３、歯槽骨４及び歯肉５は、歯列矯正力に応答してこれら組織すべてのリモデリングに関与している生体細胞を含む。このリモデリングプロセスは、矯正的歯の移動を容易にする機構である。
【０００５】
図１Ｂに示すように、物理的変化は、歯列矯正力を歯の歯冠０に加えることによってもたらされる。機械的力及びモーメントは、所望のタイプの歯の移動に作用するように加えられる。したがって、歯を押し出し、押し入れ、回転させ、傾斜させ、又は並進させることができる。図１Ｂは、並進力７と、歯根１の頂部の近くに位置する回転中心、すなわち支点を中心とする歯冠０の回転６とからもたらされる直進移動を示す。直進移動を確実にするために、回転力６に対して反対に偶力が発生する。（歯列矯正器の場合、ブラケットとアーチワイヤとの間、及びアライナ装置の場合はアタッチメントとアライナとの間の相互作用によって生成される）この偶力により、回転中心を頂部から無限に伸ばして歯冠０とともに歯根１を移動させるモーメントがもたらされる。並進力７は、加力点とは反対に、歯槽骨４に対して歯根１を押して、ＰＤＬ３の部分９を圧縮する。同様に、歯の力７が加えられている側において、ＰＤＬ３の部分８が引き伸ばされている。歯根１は、歯槽骨４の歯槽内で変位し、ＰＤＬ３は、拡大部分８及び圧縮部分９によって応答する。圧縮部分９では、除去（吸収）が発生し、伸張部分８では、古い歯槽骨４の表面に新しい骨の層が沈着する。経時的に、歯槽骨４はリモデリングし、歯が、並進力７によって移動した場所において新たな位置となることができる。このリモデリングは、ＰＤＬ３及び並置された歯槽骨４における圧縮／吸収及び伸張／沈着作用の直接の結果であり、かつそれと一貫する。並進力７が歯を圧迫し、ＰＤＬ３が圧縮するときに発生するように、歯槽骨４が押圧されると、歯槽骨４の基質にわたって一時的な電気スパイクを測定することができる。これは、圧電効果として知られ、電位のマイナス側が屈曲した骨の凹状側で検出され、電位のプラス側が凸状側で検出されることを特徴とする。さらに、機械的応力により、組織流体が移動する。これらの流体は、細胞電気極性を変化させる電荷を含み、細胞に対してそれらの周囲の基質をリモデリングするように刺激する。これらの応力起因流動電位（ｓｔｒｅｓｓ−ｇｅｎｅｒａｔｅｄ  ｓｔｒｅａｍｉｎｇ  ｐｏｔｅｎｔｉａｌ）（ＳＧＰ）は、約２０〜３０分間続く。骨が屈曲状態で保持されるとき、凹状側では骨沈着が起こり、凸状側では骨吸収が起こる。骨が屈曲状態で保持される限り、このプロセスは、事前に屈曲した骨が非屈曲状態又は直線に見えるまで経時的に続く。
【０００６】
長年にわたり、歯列矯正医は、臨床医が持続的な力を歯に与えることができるようにする、一般に「アプライアンス」と呼ばれる装置を発明してきた。歯列矯正器、すなわち「歯列矯正ブラケット及びアーチワイヤ」は、すべてとは言わないまでも大部分の歯列矯正医が使用する伝統的なアプライアンスである。これらの力は、歯の歯冠に加えられ、その後、歯根に伝達され、そこから、歯根膜、すなわち各歯根を包囲して周囲の歯槽骨から歯根を分離する薄い軟組織スリーブからなる、歯根を包囲する組織に伝達される。外側では、歯槽骨は歯肉によって覆われている。歯列矯正治療された歯が顎の新たな位置に移動することができるために、これらのすべての組織をリモデリングしなければならない。歯列矯正器は、歯の歯冠に接着される、すなわち「結合される」小さいブラケットから構成され、ワイヤが、それらのブラケットのスロット内に挿入され、リガチャー又はクリップによって適所に保持される。ブラケットは、それ自体では力を生成せず、むしろ、ブラケットのスロットに挿入されリガチャーによって適所に保持される、偏向されたワイヤから歯に力を伝達する。ワイヤは、「記憶」、すなわち、ワイヤがその元の形状に戻る傾向がある特徴を有し、そうする際、ブラケットに力をかけ、その力が歯に伝達される。さまざまなタイプ、形状及びサイズのワイヤを適用することにより、歯は、最終的に、歯列弓において所望の位置に整列する。歯列矯正医の間で歯列矯正器について述べるために用いる技術用語は、「包括的固定装置（ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  ｆｉｘｅｄ  ａｐｐｌｉａｎｃｅ）」である。歯の移動は、ウォルフ（Ｗｏｌｆｆ）の法則によって明らかにされ、それは、実質的に、機械的応力がかかっている骨は、応力に適応しかつそれを低減させるようにリモデリングされると述べている。
【０００７】
骨細胞は、さまざまな物理的因子及び化学的因子、特に機械的な力及び電気に反応する。骨におよそ２０μＡの直流が印加されると、カソードの近くで新たな骨基質の沈着が発生し、アノードの近くで古い骨の破壊が見つかる。この特徴は、骨細胞が力及び電気に同時に反応することができることとともに、骨リモデリングの割合、したがって歯の移動の速度を加速する好ましい環境をもたらす。加えられる力と印加される電気との間に相乗的な関係があるため、力及び電気両方が同時に印加されるとき、各々のうちの小さい方は、骨から最適に向上した骨形成反応を達成する必要がある。
【０００８】
典型的な歯列矯正装置では、所望の結果を達成するために、患者は、長期間、多くの場合数年間以上、装着しなければならない。計画された歯の移動を達成するために連続して力を加える必要がある伝統的な歯列矯正治療は、必要な経過を達成するために、異なる歯に加えられる力の大きさ及び方向を頻繁に変更する必要があり、治療している歯列矯正医による頻繁な調整が必要であるため、高価である。さらに、「歯列矯正器」として知られる機械的固定具を装着することにより、患者に対して相当な不快をもたらし、同時に、この状況により、患者に対して審美的懸念ももたらし、それは、金属固定具（歯列矯正器）が他の人に見えるためである。さらに、歯列矯正器は、歯及びそれらの周囲の組織に対して有害な細菌及びウイルスの蓄積を促進する。
【０００９】
上記の不都合のうちのいくつかを克服するために、患者が挿入しかつ取り外すことができ、短時間装着することができる歯列矯正装置が開発された。無数の取外し可能な装置が長年にわたり開発されてきたが、それらの大部分は、本質的に「包括的」ではなく、すなわち、取外し可能な装置は、所定の移動又は不正咬合に対処し、ある一定の限られた期間しか使用されない。取外し可能な装置による治療は、歯列矯正器又は他の装置とともに使用されることが多い。
【００１０】
内容全体が参照により本明細書に組み込まれる、Ｋｏｒｏｓｔｏｆｆらの１９７９年５月８日に発行された米国特許第４，１５３，０６０号明細書は、ヒトの口内で歯槽骨リモデリング及び歯の移動を電気的に刺激する方法及び装置を教示している。吸収されるべき骨構造に隣接する歯肉表面に正極が配置される。融合するか又は蓄積するべき骨組織に隣接する歯肉表面に負極が配置される。所定の方向に骨成長を刺激する効果を有する電極の間に小電流が流れるように、電流源が接続される。特定の構成では、歯に隣接する歯肉表面に電極が配置され、すなわち、歯が移動するべき移動先の側に正極が配置され、歯が移動する移動元の側に負極が配置される。電極に小電流を印加することにより、通常の歯列矯正の実施とともに、歯の再配置が促進される。しかしながら、Ｋｏｒｏｓｔｏｆｆは、歯列矯正治療時間を短縮する包括的かつ有効なシステムは提供していない。さらに、Ｋｏｒｏｓｔｏｆｆの電極は、歯肉の過剰な刺激をもたらす傾向がある。数十年が経過したが、Ｋｏｒｏｓｔｏｆｆの方法は、歯列矯正医によって広範囲に使用されるようには至っていない。
【００１１】
Ｂｅａｒｄらの１９８９年８月８日に発行された米国特許第４，８５４，８６５号明細書は、生体適合性アノードであって、破骨細胞又は骨芽細胞の作用する領域においてアノードと上皮歯肉との間の電解質ゲルと接触する生体適合性アノードと、生体適合性カソードであって、破骨細胞又は骨芽採用の作用する領域においてカソードと上皮歯肉との間の異なるタイプの電解質ゲルと接触する生体適合性カソードとを用いる、歯列矯正電気−骨形成の改良された方法を教示している。したがって、骨形成を刺激するためにアノードとカソードとにわたって電流が印加される。この方法は、歯の移動において重要な要素である骨形成を刺激するが、所望の結果をいかに達成するかを論証すること、又はより短い時間で歯列矯正治療を完了するのを可能にすることができない。
【００１２】
内容全体が参照により本明細書に組み込まれる、Ｌｏｗｅらの２０１４年１月２３日に公開された米国特許出願公開第２０１４／００２３９８３号明細書は、歯肉及び歯に対して制御された電流を印加することにより矯正的歯の移動を加速させ、したがって骨形成を刺激するのに役立つ電気−歯列矯正装置に関する。Ｌｏｗｅは、複数の治療状況において、複数の歯の歯体移動及び傾斜移動の組合せを含む、矯正的歯の移動を促進する包括的な解決法を提供していない。さらに、Ｌｏｗｅのシステムは、歯根の表面に存在する細胞の刺激のために歯根吸収を引き起こし、それは望ましくない。
【００１３】
内容全体が参照により本明細書に組み込まれる、Ｎｅｍｅｈらの２００９年５月７日に公開された米国特許出願公開第２００９／０１１７５１３号明細書は、口の歯肉組織に印加される直流電気を利用して全体的な歯の衛生を促進しながら、複数の口腔疾患及び欠損を同時に治療する方法及び装置に関する。Ｎｅｍｅｈは、歯列矯正治療を改善するためにこの電気を利用するシステム又は方法を提供していない。したがって、本開示の目的は、従来技術の不都合のうちの少なくとも一部を克服することである。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【００１４】
したがって、本発明の主な目的は、矯正的歯の移動の従来技術による方法及び構成の不都合を克服することである。一実施形態では、歯列矯正歯調整促進システムであって、制御回路と、電源と、複数の舌側電極であって、複数の舌側電極の各々は、歯槽骨の舌側と並置されるように適合され、かつ歯槽骨内の複数の歯槽のうちの特定の１つに関連付けられた複数の舌側電極と、複数の頬側電極であって、複数の電極の各々は、歯槽骨の頬側と並置されるように適合され、かつ歯槽骨内の複数の歯槽のうちの特定の１つに関連付けられた複数の頬側電極とを備え、制御回路及び電源に応答して、第１タイプの電流が、複数の舌側電極の各々と複数の頬側電極のうちの特定の１つとの間に生成され、又は第２タイプの電流が、複数の舌側電極の隣接するものの各々の間及び複数の頬側電極の隣接するものの間に生成され、生成される第１タイプの電流の各々又は生成される第２タイプの電流の各々は、制御回路に応答して別個に制御される、システムが提供される。
【００１５】
一実施形態では、生成される第１タイプの電流の各々の方向、又は生成される第２タイプの電流の各々の方向は、それぞれの歯槽内に配置された歯に加えられる歯列矯正力に応答してもたらされる骨吸収又は沈着を促進するように構成されている。１つのさらなる実施形態では、システムは、複数の歯槽内に配置された複数の歯の各々に歯列矯正力を加えるように構成された第１歯列矯正装置をさらに備える。別の実施形態では、制御回路及び電源に応答して、複数の第１タイプの電流、及び複数の第２タイプの電流が生成される。
【００１６】
一実施形態では、システムは、歯槽骨の舌側にわたって歯肉の輪郭にフィットするように構成された舌側部材であって、複数の舌側電極は舌側部材上に配置されている、舌側部材と、歯槽骨の頬側にわたって歯肉の輪郭とフィットするように構成された頬側部材であって、複数の頬側電極は頬側部材上に配置されている、頬側部材とをさらに備える。別の実施形態では、システムは、互いに絶縁された複数の電路をさらに備え、制御回路は、複数の電路のうちのそれぞれ１つを介して、複数の舌側電極の各々と、又は複数の頬側電極の各々と電気通信する。
【００１７】
一実施形態では、制御回路は、電流極性選択ユーザ入力を受け取るように構成されたユーザ入力モジュールを備え、ユーザ入力モジュールで受け取られた特定の電流極性選択ユーザ入力に応答して、複数の舌側電極のうちの第１舌側電極と複数の頬側電極のうちの第１頬側電極との間における生成される第１タイプの電流の方向は、複数の舌側電極のうちの第２舌側電極と複数の頬側電極のうちの第２頬側電極との間における生成される第１タイプの電流の方向と反対であり、又は複数の舌側電極の隣接するものの対の間における生成される第２タイプの電流の方向は、複数の舌側電極の隣接するものに関連付けられた複数の頬側電極の隣接するものの対の間における生成される第２タイプの電流の方向と反対である。別の実施形態では、制御回路は、電極選択ユーザ入力を受け取るように構成されたユーザ入力モジュールを備え、ユーザ入力モジュールにおいて受け取られた特定の電極選択ユーザ入力に応答して、第１タイプの電流が、複数の舌側電極のうちの第１舌側電極と複数の頬側電極のうちの第１頬側電極との間で生成され、第１タイプの電流は、複数の舌側電極のうちの第２舌側電極と複数の頬側電極のうちの第２頬側電極との間では生成されず、又は第２タイプの電流が、複数の舌側電極の隣接するものの第１対の間及び複数の頬側電極の隣接するものの第１対の間に生成され、第２タイプの電流は、複数の舌側電極の隣接するものの第２対の間及び複数の頬側電極の隣接するものの第２対の間では生成されない。
【００１８】
一実施形態では、複数の舌側電極のうちの第３舌側電極は、特定の歯槽の第１側と並置されるように適合され、複数の舌側電極のうちの第４舌側電極は、特定の歯槽の第２側と並置されるように適合され、歯槽の第２側は歯槽の第１側と反対側であり、複数の舌側電極のうちの第３舌側電極に関連付けられた複数の頬側電極のうちの第３頬側電極は、特定の歯槽の第１側に並置されるように適合され、複数の舌側電極のうちの第４舌側電極に関連付けられた複数の頬側電極のうちの第４頬側電極は、特定の歯槽の第２側と並置されるように適合されており、複数の舌側電極のうちの第３舌側電極と複数の頬側電極のうちの第３頬側電極との間に生成される第１タイプの電流の方向は、複数の舌側電極のうちの第４舌側電極と複数の頬側電極のうちの第４頬側電極との間に生成される第１タイプの電流の方向と反対であり、又は舌側電極のうちの第３舌側電極と第４舌側電極との間に生成される第２タイプの電流の方向は、第３頬側電極と第４頬側電極との間に生成される第２タイプの電流の方向と反対である。１つのさらなる実施形態では、システムは、特定の歯槽内に歯根を有する歯に回転力を提供するように構成された第２歯列矯正装置をさらに備え、回転歯列矯正力は、歯の回転運動を生成するように構成され、生成される回転運動は、歯の第１側の一部における第１方向の第１運動ベクトルと、歯の第２側の一部における、第１方向とは反対の第２方向の第２運動ベクトルであって、歯の第２側は歯の第１側と反対側である、第２運動ベクトルとを画定し、複数の舌側電極のうちの第３舌側電極と複数の頬側電極のうちの第３頬側電極との間に延在する第１軸は、第１運動ベクトルと平行でありかつ整列し、又は複数の舌側電極のうちの第３舌側電極と第４舌側電極との間に延在する第２軸は、第１運動ベクトルと平行でありかつ整列し、複数の舌側電極のうちの第４舌側電極と複数の頬側電極のうちの第４頬側電極との間に延在する第３軸は、第２運動ベクトルと平行でありかつ整列し、又は複数の頬側電極のうちの第３頬側電極と第４頬側電極との間に延在する第４軸は、第２運動ベクトルと平行でありかつ整列し、複数の舌側電極のうちの第３舌側電極と複数の頬側電極のうちの第３頬側電極との間で生成される第１タイプの電流の方向と、複数の舌側電極のうちの第４舌側電極と複数の頬側電極のうちの第４頬側電極との間で生成される第１タイプの電流の方向は、提供された回転歯列矯正力に応答してもたらされる骨吸収及び沈着を促進するように構成され、又は第３舌側電極と第４舌側電極との間で生成される第２タイプの電流の方向と、第３頬側電極と第４頬側電極との間に生成される第２タイプの電流の方向は、提供された回転歯列矯正力に応答してもたらされる骨吸収及び沈着を促進するように構成されている。
【００１９】
別の実施形態では、生成される第１タイプの電流又は生成される第２タイプの電流の各々に対して、制御回路は、生成される第１タイプの電流又は生成される第２タイプの電流が、交互に、所定作動期間にわたって提供され、所定静止期間にわたって提供されないように構成され、所定作動期間は３〜５時間である。
【００２０】
一実施形態では、システムは、複数の調整可能圧力素子をさらに備え、調整可能圧力素子の各々は、複数の舌側電極及び複数の頬側電極のうちのそれぞれ１つに調整可能な量の圧力を加えるように構成されている。１つのさらなる実施形態では、調整可能圧力素子の各々は、その内部に注入されている空気に応答して拡張するように構成され、調整可能な量の圧力は、注入された空気に応答して加えられる。別のさらなる実施形態では、調整可能圧力素子の各々は、その内部に挿入されている圧力部材に応答して拡張するように構成され、調整可能な量の圧力は、挿入された圧力部材に応答して加えられる。
【００２１】
一実施形態では、システムは、歯槽骨の歯肉の温度を検知するように構成された温度センサと、検知された温度に応答して、歯槽骨の歯肉を加熱するように構成された加熱素子とをさらに備える。別の実施形態では、システムは、歯槽骨の歯肉のｐＨレベルを検知するように構成されたｐＨセンサをさらに備え、第１タイプの電流又は第２タイプの電流の大きさは、検知ｐＨレベルに応答して調整される。
【００２２】
１つの独立した実施形態では、歯列矯正歯調整を促進する方法が提供され、方法は、複数の舌側電極の各々と複数の頬側電極のうちの特定の１つとの間の第１タイプの電流、又は複数の舌側電極の隣接するものの各々の間及び複数の頬側電極の隣接するものの間の第２タイプの電流を生成するステップであって、複数の舌側電極の各々は、歯槽骨の舌側と並置されるように適合され、かつ歯槽骨内の複数の歯槽のうちの特定の１つに関連付けられ、複数の頬側電極の各々は、歯槽骨の頬側と並置されるように適合され、かつ歯槽骨内の複数の歯槽のうちの特定の１つに関連付けられたステップを含み、生成される第１タイプの電流の各々、又は生成される第２タイプの電流の各々は、制御回路に応答して別個に制御される。
【００２３】
一実施形態では、生成される第１タイプの電流の各々の方向、又は生成される第２タイプの電流の各々の方向は、それぞれの歯槽内に配置された歯に加えられる歯列矯正力に応答してもたらされる骨吸収又は沈着を促進するように構成される。１つのさらなる実施形態では、方法は、歯列矯正力を生成するステップをさらに含む。別の実施形態では、複数の第１タイプの電流及び複数の第２タイプの電流が生成される。
【００２４】
一実施形態では、制御回路による別個の制御は、互いに絶縁された複数の電路を介する。別の実施形態では、方法は、特定の電流極性選択ユーザ入力を受け取るステップをさらに含み、受け取られた特定の電流極性選択ユーザに応答して、複数の舌側電極のうちの第１舌側電極と複数の頬側電極のうちの第１頬側電極との間における生成される第１タイプの電流の方向は、複数の舌側電極のうちの第２舌側電極と複数の頬側電極のうちの第２頬側電極との間における生成される第１タイプの電流の方向と反対であり、又は複数の舌側電極の隣接するものの間における生成される第２タイプの電流の方向は、複数の舌側電極の隣接するものに関連付けられた複数の頬側電極の隣接するものの間における生成される第２タイプの電流の方向と反対である。
【００２５】
一実施形態では、方法は、特定の電極選択ユーザ入力を受け取るステップをさらに含み、受け取られた特定の電極選択ユーザ入力に応答して、第１タイプの電流が、複数の舌側電極のうちの第１舌側電極と複数の頬側電極のうちの第１頬側電極との間で生成され、第１タイプの電流は、複数の舌側電極のうちの第２舌側電極と複数の頬側電極のうちの第２頬側電極との間では生成されず、又は第２タイプの電流が、複数の舌側電極の隣接するものの第１対の間及び複数の頬側電極の隣接するものの第１対の間に生成され、第２タイプの電流は、複数の舌側電極の隣接するものの第２対の間及び複数の頬側電極の隣接するものの第２対の間では生成されない。別の実施形態では、生成される第１タイプの電流のうちの第１の生成される第１タイプの電流は、複数の歯槽のうちの特定の１つの第１側に関連付けられ、生成される第１タイプの電流のうちの第２の生成される第１タイプの電流は、複数の歯槽のうちの特定の１つの第１側とは反対の、複数の歯槽のうちの特定の１つの第２側に関連付けられ、生成される第１タイプの電流のうちの第２の生成される第１タイプの電流の方向は、生成される第１タイプの電流のうちの第１の生成される第１タイプの電流の方向と反対であり、又は生成される第２タイプの電流のうちの第１の生成される第２タイプの電流は、複数の歯槽のうちの特定の１つの第３側に関連付けられ、生成される第２タイプの電流のうちの第２の生成される第２タイプの電流は、複数の歯槽のうちの特定の１つの第３側とは反対の、複数の歯槽のうちの特定の１つの第４側に関連付けられ、生成される第２タイプの電流のうちの第２の生成される第２タイプの電流の方向は、生成される第２タイプの電流のうちの第１の生成される第２タイプの電流の方向と反対である。
【００２６】
１つのさらなる実施形態では、方法は、特定の歯槽内に歯根を有する歯に回転歯列矯正力を提供するステップをさらに含み、回転歯列矯正力は、歯の回転運動を生成するように構成され、生成される回転運動は、歯の第１側の一部における第１方向の第１運動ベクトルであって、生成される第１タイプの電流のうちの第１の生成される第１タイプの電流、又は生成される第２タイプの電流のうちの第１の生成される第２タイプの電流は、第１運動ベクトルと平行でありかつ整列する、第１運動ベクトルと、歯の第２側の一部における、第１方向と反対の第２方向の第２運動ベクトルであって、歯の第２側は歯の第１側の反対側であり、生成される第１タイプの電流のうちの第２の生成される第１タイプの電流、又は生成される第２タイプの電流のうちの第２の生成される第２タイプの電流は、第２運動ベクトルと平行でありかつ整列する、第２運動ベクトルとを画定する。
【００２７】
一実施形態では、生成される第１タイプの電流又は生成される第２タイプの電流の各々は、交互に、所定作動期間にわたって提供され、所定静止期間にわたって提供されず、所定作動期間は３〜５時間である。別の実施形態では、方法は、複数の舌側電極及び複数の頬側電極の組に調整可能な量の圧力を加えるステップをさらに含む。
【００２８】
１つのさらなる実施形態では、方法は、複数の調整可能圧力素子の各々に空気を注入するステップであって、調整可能な量の圧力は注入される空気に応答して加えられる、ステップをさらに含む。別のさらなる実施形態では、方法は、複数の調整可能圧力素子の各々に圧力部材を挿入するステップであって、調整可能な量の圧力は、挿入される圧力部材に応答して加えられる、ステップをさらに含む。
【００２９】
一実施形態では、方法は、歯槽骨の歯肉の温度を検知するステップと、検知された温度に応答して歯肉の温度を調整するステップとをさらに含む。別の実施形態では、方法は、歯槽骨の歯肉のｐＨレベルを検知するステップと、検知したｐＨレベルに応答して、生成される第１タイプの電流又は第２タイプの電流の大きさを調整するステップとをさらに含む。
【００３０】
本発明の追加の特徴及び利点は、以下の図面及び説明から明らかとなるであろう。
【００３１】
本発明がよりよく理解されるために、かつ本発明をいかに実施することができるかを示すために、ここで、全体を通して同様の数値が対応する要素又は部分を示す添付図面を、単に例として参照する。
【００３２】
ここで具体的に図面を詳細に参照すると、図示する項目は、例としてのものであり、単に本発明の好ましい実施形態を例示的に考察する目的のものであって、本発明の原理及び概念的態様の最も有用かつ容易に理解される説明であると考えられるものを提供するために提示することを強調する。これに関して、本発明の基本的な理解に必要であるよりも詳細に本発明の構造的細部を示すようには企図されておらず、図面とともに説明は、本発明のいくつかの形態をいかに実際に具現化することができるかを当業者に明らかにしている。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１Ａ】歯に加えられる歯列矯正装置の圧力に応答する歯槽骨の骨「リモデリング」を示す。
【図１Ｂ】歯に加えられる歯列矯正装置の圧力に応答する歯槽骨の骨「リモデリング」を示す。
【図２Ａ】ある実施形態による、歯列矯正歯調整促進システムの第１実施形態の概略図を示す。
【図２Ｂ】ある実施形態による、歯列矯正歯調整促進システムの第１実施形態の他の概略図を示す。
【図２Ｃ】ある実施形態による、歯列矯正歯調整促進システムの第１実施形態の他の概略図を示す。
【図２Ｄ】ある実施形態による、歯列矯正歯調整促進システムの第１実施形態の他の概略図を示す。
【図３Ａ】ある実施形態による、歯列矯正歯調整促進システムの第２実施形態の概略図を示す。
【図３Ｂ】ある実施形態による、歯列矯正歯調整促進システムの第２実施形態の他の概略図を示す。
【図３Ｃ】ある実施形態による、歯列矯正歯調整促進システムの第２実施形態の他の概略図を示す。
【図３Ｄ】ある実施形態による、歯列矯正歯調整促進システムの第２実施形態の他の概略図を示す。
【図４】ある実施形態による、歯列矯正歯調整促進システムの第３実施形態の概略斜視図を示す。
【図５】歯列矯正歯調整促進システムの第４実施形態の斜視図を示す。
【図６Ａ】ある実施形態による、歯列矯正歯調整を促進する方法の概略フローチャートを示す。
【図６Ｂ】ある実施形態による、歯列矯正歯調整を促進する方法の概略フローチャートを示す。
【００３４】
【００３５】
【００３６】
【００３７】
【００３８】
【発明を実施するための形態】
【００３９】
本発明の少なくとも１つの実施形態を詳細に説明する前に、本発明は、その応用が、以下の説明に示すか又は図面に示す構造の詳細及び要素の構成に限定されないことが理解されるべきである。本発明は、他の実施形態に適用可能であり、又はさまざまな方法で実施若しくは実行することができる。また、本明細書で採用する専門語及び術語は、説明のためのものであり、限定するものと見なされるべきではないことが理解されるべきである。
【００４０】
図２Ａ及び図２Ｂは、いくつかの実施形態による、歯列矯正歯調整促進システム１０のさまざまな概略斜視図を示す。歯列矯正歯調整促進システム１０は、制御回路２０、電源３０、複数の舌側電極４０及び複数の頬側電極５０を備えている。一実施形態では、電源３０は充電式である。１つのさらなる実施形態では、電源３０は、ニッケル−カドミウム充電池を含む。別のさらなる実施形態では、電源３０はリチウム充電池を含む。
【００４１】
各舌側電極４０は、歯槽骨７０の舌側６０と並置されるように適合されている。一実施形態では、後述するように、複数の舌側電極４０は、歯槽骨７０の舌側６０にわたって歯肉８０の輪郭にフィットするように構成された舌側部材（図示せず）上に配置されている。各舌側電極４０は、歯槽骨７０内の複数の歯槽９０のうちの特定の１つに関連付けられている。特に、１つの図示する実施形態では、各舌側電極４０は、２つの隣接する歯槽９０の間、すなわち、２つの隣接する歯１００の間に配置されている。別の実施形態（図示せず）では、隣接する歯槽９０の各対の間に、舌側電極４０の対、すなわち、隣接する歯槽９０の対のうちの第１歯槽９０に近接する舌側電極４０の対のうちの第１舌側電極４０、及び隣接する歯槽９０の対のうちの第２歯槽９０に近接する舌側電極４０の対のうちの第２舌側電極４０が配置される。
【００４２】
各頬側電極５０は、歯槽骨７０の頬側６５と並置されるように適合されている。一実施形態では、後述するように、複数の頬側電極５０は、歯槽骨７０の頬側６５にわたって歯肉８０の輪郭にフィットするように構成された頬側部材（図示せず）上に配置されている。各頬側電極５０は、歯槽９０のうちの特定の１つに関連付けられている。特に、１つの図示する実施形態では、各頬側電極５０は、２つの隣接する歯槽９０の間、すなわち、２つの隣接する歯１００の間に配置されている。別の実施形態（図示せず）では、隣接する歯槽９０の各対の間に、頬側電極５０の対、すなわち、隣接する歯槽９０の対のうちの第１歯槽９０に近接する頬側電極５０の対のうちの第１頬側電極５０、及び隣接する歯槽９０の対のうちの第２歯槽９０に近接する頬側電極５０の対のうちの第２頬側電極５０が配置される。
【００４３】
一実施形態では、各舌側電極４０及び頬側電極５０は、概して長手方向に成形されており、各歯１００の長手方向軸１０５と略平行な軸に沿って延在している。別の実施形態では、各舌側電極４０及び頬側電極５０は、歯肉縁に対して約１ミリメートル先端から歯肉８０の歯肉歯槽粘膜移行部まで延在し、さらに任意選択的に粘膜組織上に１〜２ミリメートル延在している。１つのさらなる実施形態では、各舌側電極４０及び頬側電極５０は長さが５〜６ミリメートルである。
【００４４】
電力源３０及び制御回路２０は、複数の電路５５のうちのそれぞれ１つを介して複数の舌側電極４０及び複数の頬側電極５０の各々に結合されている。好ましくは、電路３５は互いに絶縁されており、それによって、後述するように、制御回路２０は、各舌側電極４０及び頬側電極５０を別個に制御するように構成されている。一実施形態では、電路３５は、単一の絶縁材料内に合わせて束にされている。一実施形態では、各舌側電極４０及び頬側電極５０は、電力源３０の第１電圧端子及び第２電圧端子に交互に結合されるように構成されている。こうした実施形態では、制御回路２０は、後述するように、電力源３０の電圧端子が結合される各舌側電極４０及び頬側電極５０に対して選択するように構成されている。別の実施形態では、舌側電極４０は、各々、電力源３０の第１電圧端子に結合され、頬側電極５０は、各々、電力源３０の第２電圧端子及び第３電圧端子に交互に結合されるように構成され、第２電圧端子における電位は第１電圧端子における電位より高く、第３端子における電位は第１電圧端子における電位より低い。こうした実施形態では、制御回路２０は、後述するように、電力源３０の電圧端子が結合される各頬側電極５０に対して選択するように構成されている。
【００４５】
別の代替実施形態では、頬側電極５０は、各々、電力源３０の第１電圧端子に結合され、舌側電極４０は、各々、電力源３０の第２電圧端子及び第３電圧端子に交互に結合されるように構成され、第２電圧端子における電位は第１電圧端子における電位より高く、第３電圧端子における電位は第１電圧端子における電位より低い。こうした実施形態では、制御回路２０は、後述するように、電力源３０の電圧端子が結合される各舌側電極４０に対して選択するように構成されている。
【００４６】
簡単化のために、図２Ｂには、制御回路２０及び電力源３０を頬側電極５０に接続する電路３５は示していない。
【００４７】
動作時、歯列矯正器等の歯列矯正装置が、歯１００に接続され、歯１００を直線にするように圧力を加える。正しい位置にない、すなわち、曲がっているか又は歯１００の残りの部分と整列していない各歯１００に対して、歯列矯正装置によって圧力が加えられている。歯列矯正装置によって加えられる圧力により、それぞれの歯１００の各々は、図１Ａ及び図１Ｂに関連して上述したように、適切な位置まで移動する。制御回路２０は、各舌側電極４０に付けられた舌側電極４０又は頬側電極５０との間に電流を生成するように電力源３０を制御するように構成されている。特に、各歯１００には、図２Ｃに示すように、２つの舌側電極４０及び２つの頬側電極５０が関連付けられており、軸１２０が、歯１００の第１側において第１舌側電極４０及び第１頬側電極５０を通過し、軸１３０が、歯１００の第２側において第２舌側電極４０及び第２頬側電極５０を通過している。簡単のために、図２Ｃには、舌側電極４０及び頬側電極５０の単一の対のみを示すが、これは、決して限定するように意図されていない。さらに、図１Ｃにおける歯１００の移動は回転移動として示されているが、これは、決して限定するように意図されていない。
【００４８】
歯１００を舌側に、すなわち舌に向かって移動させる必要がある場合、第１直交電流及び第２直交電流が生成される。本明細書で用いる「直交電流」という用語は、電流が、歯槽骨７０の歯肉線に対して略直交の方向に流れることを意味する。特に、第１直交電流は、軸１２０に沿って第１舌側電極４０から第１頬側電極５０まで流れるように構成され、第２直交電流は、軸１３０に沿って第２舌側電極４０から第２頬側電極５０まで流れるように構成されている。歯列矯正装置によって加えられる力に応答して、それぞれの歯１００の舌側において骨吸収が開始し、歯１００の頬側において骨沈着が開始する。生成される第１直交電流及び第２直交電流は、第１舌側電極４０及び第２舌側電極４０の各々の付近で、すなわち歯１００の舌側において骨吸収を支援しかつ促進し、第１頬側電極５０及び第２頬側電極５０の各々の付近で、すなわち歯１００の頬側において骨沈着をさらに支援しかつ促進する。その結果、歯列矯正装置によってもたらされる骨吸収及び沈着は、生成される第１直交電流及び第２直交電流によってもたらされる骨吸収及び沈着によって強化されかつ促進され、それにより、歯１００の移動が促進される。
【００４９】
歯１００を頬側に、すなわち舌から離れる方向に移動させる必要がある場合、第３直交電流及び第４直交電流が生成される。特に、第３直交電流は、軸１２０に沿って第１頬側電極５０から第１舌側電極４０に流れるように構成されている。第２直交電流は、軸１３０に沿って第２頬側電極５０から第２舌側電極４０に流れるように構成されている。生成される第１直交電流及び第２直交電流に関連して上述したように、生成される第３直交電流及び第４直交電流は、歯１００の舌側における骨吸収と歯１００の頬側における骨沈着を支援しかつ促進する。
【００５０】
歯１００を、歯槽骨７０の歯肉線に沿って移動させる必要がある場合、第１平行電流及び第２平行電流が生成される。本明細書で用いる「平行電流」という用語は、電流が、歯１００の付近で歯槽骨７０の歯肉線に対して略平行な方向に流れることを意味する。第１平行電流は、第１舌側電極４０から第２舌側電極４０まで流れるように構成され、第２平行電流は、第１頬側電極５０から第２頬側電極５０に流れるように構成されている。生成される直交電流に関して上述したように、生成される第１平行電流及び第２平行電流は、歯１００が移動している移動先の方向における歯１００の側において骨吸収を支援しかつ促進し、歯１００が移動している移動元である歯１００の側において骨沈着を支援しかつ促進する。
【００５１】
歯１００を回転させる必要がある場合、一実施形態では、反対の直交電流が生成される。特に、舌側方向、すなわち舌に向かって流れる直交電流は、第１頬側電極５０から第１舌側電極４０まで流れるように構成されている。さらに、頬側方向、すなわち舌から離れる方向に流れる直交電流は、第２舌側電極４０から第２頬側電極５０まで流れるように構成されている。図２Ｃに示すように、回転方向１４０における歯１００の回転は、頬側方向１６０では歯１００の第１側１５０の移動、舌側方向１８０では第１側１５０と反対側の歯１００の第２側１７０の移動として見ることができる。図示するように、軸１２０は、第１舌側電極４０及び第１頬側電極５０を通って延在し、軸１３０は、第２舌側電極４０及び第２頬側電極５０を通って延在している。したがって、第１頬側電極５０から第１舌側電極４０に流れる直交電流は、歯１００の第１側１５０の頬側端部における骨吸収と、歯１００の第１側１５０の舌側端部における骨沈着とを支援しかつ促進する。さらに、第２舌側電極４０から第２頬側電極５０に流れる直交電流は、歯１００の第２側１７０の舌側端部における骨吸収と歯１００の第２側１７０の頬側端部における骨沈着とを支援しかつ促進する。別の実施形態では、舌側電極４０及び頬側電極５０のそれぞれの対の間に各々反対の平行電流が生成される。一実施形態では、上述した直交電流及び平行電流の各々の大きさは、約２０マイクロアンペアである。
【００５２】
このように歯１００の各側に舌側電極４０及び頬側電極５０を提供することにより、歯１００の両側において同時に吸収及び沈着が可能になる。歯１００を傾斜させる、すなわち、歯１００の歯根の中央を通って延在する任意の回転軸を中心に回転させる必要がある場合、歯１００の歯冠は第１方向に移動し、一方で歯１００の歯根の底部は反対方向に移動する。その結果、回転中心の両側において骨吸収及び沈着が同時に発生する。このように歯列矯正歯調整促進システム１０の構成により、歯１００の傾斜移動を強化することができる。
【００５３】
したがって、歯列矯正装置に応答して各歯１００を別個に治療することができ、各歯１００の移動は、それぞれ生成される直交電流及び／又は平行電流に応答して促進される。有利には、歯列矯正歯調整促進システム１０は、複数の歯１００の歯体移動及び傾斜移動の組合せを含む、複数の治療状況のうちの任意のもので歯列矯正歯調整を促進する包括的なシステムを提供する。特に、生成される直交電流及び平行電流の各々は、制御回路２０によって別個に制御される。その結果、各舌側電極４０及び頬側電極５０に対して、制御回路２０は、そこで平行電流が生成されるか又は直交電流が生成されるか、及び特定の電極がアノードとして作用するか、すなわち電流を出力しているか、又はカソードとして作用するか、すなわち電流を受け取っているか、を制御する。
【００５４】
図２Ｄに示すように、制御回路２０は、任意選択的にユーザ入力モジュール１９０を備えている。ユーザ入力モジュール１９０は、任意選択的に外部コンピュータへの接続を介してユーザ入力を受け取るように構成されている。一実施形態では、ユーザ入力モジュール１９０は、電流極性選択ユーザ入力を受け取るように構成されている。上述した生成される直交電流及び平行電流の方向は、受け取られた電流極性選択ユーザ入力に応答する。別の実施形態では、ユーザ入力モジュール１９０は、電極ユーザ入力を受け取るように構成されている。制御回路２０は、いずれの舌側電極４０及びいずれの頬側電極５０が、受け取られた電極ユーザ入力に応答して電流を生成しかつ受け取るように駆動されるべきかを選択するように構成されている。特に、いくつかの歯１００のみに調整が必要である場合、それらの歯１００に関連付けられた電極のみが利用される。一実施形態では、生成される電流の大きさを、ユーザ入力モジュール１９０を介して調整することができる。
【００５５】
一実施形態では、制御回路２０は、所定作動期間、それぞれの直交電流及び平行電流を生成するように構成されている。所定作動期間に続き、制御回路２０は、所定静止期間、それぞれの直交電流及び平行電流を生成しないように構成されている。任意選択的に、所定作動期間は３〜５時間であり、所定静止期間は１９〜２１時間である。有利には、１日の何分の１かのみそれぞれの直交電流及び平行電流を生成することにより、過剰な電気刺激からの歯肉８０に対する損傷が回避される。臨床研究により、１日最大５時間の作動期間により、歯肉８０の刺激はもたらされず、１日３時間未満の作動期間により、矯正的歯の移動が有効に促進されないことが分かった。一実施形態では、所定作動期間及び／又は所定静止期間は、ユーザ入力モジュール１９０を介して調整することができる。
【００５６】
図３Ａ〜図３Ｄは、歯列矯正歯調整促進システム２００のさまざまな概略斜視図を示す。歯列矯正歯調整促進システム２００は、すべての点で、上述した歯列矯正歯調整促進システム１０に類似しているが、例外として、歯列矯正歯調整促進システム２００は、舌側部材２１０及び頬側部材２５０をさらに備えている。一実施形態では、舌側部材２１０及び頬側部材２５０は単一部材である。別の実施形態では、舌側部材２１０及び頬側部材２５０は、各々、プラスチックから構成されている。図３Ａ及び図３Ｂに示す第１歯列矯正歯調整促進システム２００では、舌側部材２１０及び頬側部材２５０は、口の上部にフィットするように構成されている。任意選択的に、第１歯列矯正歯調整促進システム２００は、舌側部材２１０に対して構造的支持を提供するように構成された構造的支持部材２９０をさらに備えている。図３Ｃ及び図３Ｄに示す第２歯列矯正歯調整促進システム２００では、舌側部材２１０及び頬側部材２５０は、口の下部にフィットするように構成されている。
【００５７】
舌側部材２１０に複数の舌側電極４０が配置され、頬側部材２５０に複数の頬側電極５０が配置されている。歯列矯正歯調整促進システム１０に関連して上述したように、舌側部材２１０は、舌側電極４０が歯１００の間に配置されるように、歯槽骨７０の舌側６０にわたって歯肉８０の輪郭にフィットするように構成されており、頬側部材２５０は、頬側電極５０が歯１００の間に配置されるように、歯槽骨７０の頬側６５にわたって歯肉８０の輪郭にフィットするように構成されている。制御回路２０、電力源３０及び電路３５は、舌側部材２１０及び頬側部材２５０上に配置されている。任意選択的に、電力源３０及び電路３５は空洞内に封止され、各々、積層プラスチック（図示せず）の２つの層の間にあり、したがって、口内環境から隔離されている。有利には、口内環境から隔離されることにより、歯列矯正歯調整促進システム２００の電子回路が口内環境から保護され、口内環境が歯列矯正歯調整促進システム２００の電子回路のいかなる毒性からも保護される。一実施形態では、空洞は各々真空を含む。
【００５８】
上述したように、一実施形態では、電源３０は充電式である。こうした実施形態では、歯列矯正歯調整促進システム２００は、充電式電源にフィットするように構成されている。任意選択的に、電源電力３０は、誘導コイルを介して無線で充電されるように構成されている。さらに、一実施形態では、歯列矯正治療中、歯列矯正歯調整促進システム２００は、基板（図示せず）に配置されるように構成され、電源３０は、基板から電力を誘導的に受け取るように構成されている。その結果、電源３０に蓄積された電力は、歯列矯正治療中に無駄にされず、歯列矯正治療は、歯列矯正歯調整促進システム３００に関連して後述するように、制御回路２０を介して治療パラメータを調整し、かつ／又は舌側電極４０及び頬側電極５０に関連付けられたものの間で適切な導電性を検出するために、増大した量の電力を利用することができる。
【００５９】
好ましくは、歯列矯正歯調整促進システム２００は、舌側歯列矯正器又は頬側歯列矯正器等の固定装置、及びＳａｎ  Ｊｏｓｅ，ＣａｌｉｆｏｒｎｉａのＡｌｉｇｎ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  Ｉｎｃ．から販売されているＩｎｖｉｓａｌｉｇｎクリアアライナ等の取外し可能なアライナを含む任意の標準的な歯列矯正装置と協働して動作するように構成されている。
【００６０】
一実施形態では、抜歯部位の骨充填を促進するために、歯列矯正歯調整促進システム２００をさらに利用することができる。特に、歯が抜かれ、抜かれた歯の代わりとなるインプラントが提供されない場合、抜歯部位は空いたままである。好ましくは、空いた抜歯部位を充填するように骨成長が望ましい。舌側電極４０及び頬側電極５０によって生成される電流は、空いた抜歯部位における骨の沈着を支援する。特に、平行電流は、抜歯部位に関連付けられた舌側電極４０及び頬側電極５０の各々によって受け取られ、これらの平行電流は、隣接する舌側電極４０及び頬側電極５０から受け取られる。上述したように、骨沈着は、電流を受け取る電極において発生する。別の実施形態では、インプラントが挿入される場合、舌側電極４０及び頬側電極５０によって生成される電流は、インプラントの周囲の骨の形成を支援する。一実施形態では、上述したように、生成される平行電流によってもたらされる骨沈着に応答して、義歯によってもたらされる歯槽骨喪失を戻すことができる。別の実施形態では、上述したように、生成される平行電流によってもたらされる骨沈着に応答して、歯根膜骨欠損を修復することができる。
【００６１】
このように歯列矯正歯調整促進システム２００は、複数の歯列矯正患者に適合できる、包括的な装置を有利に提供する。特に、上述したように、特定の患者のニーズに対して必要であるように、複数の平行電流及び／又は直交電流を生成することができる。さらに、上述したように、歯列矯正治療プロセスに従って、電流を調整することができかつ／又は新たな電流を生成することができる。
【００６２】
図４は、歯列矯正歯調整促進システム３００の概略斜視開放図を示す。歯列矯正歯調整促進システム３００は、すべての点で歯列矯正歯調整促進システム２００に類似しているが、例外として、歯列矯正歯調整促進システム３００は、複数の調整可能圧力素子３１０をさらに備えている。各調整可能圧力素子３１０は、舌側電極４０及び頬側電極５０のそれぞれ１つと並置されている。一実施形態では、各調整可能圧力素子３１０は可撓性細管を含む。治療プロセス中、歯１００が所望の位置への移動を開始すると、舌側電極４０と歯肉８０との間の接触、及び頬側電極５０と歯肉８０との間の接触は、歯１００の移動のために最適ではなくなる可能性がある。一実施形態では、各調整可能圧力素子３１０内に空気が圧送され、それにより、可撓性細管が拡張し、それぞれの舌側電極４０及び頬側電極５０に圧力が加えられる。加えられた圧力に応答して、それぞれの舌側電極４０及び頬側電極５０は、歯肉８０に対して押され、それにより歯肉８０との接触が改善される。任意選択的に、図示するように、調整可能圧力素子３１０は共通空気チャネル３２０に取り付けられ、空気は、共通空気チャネル３２０を介して調整可能圧力素子３１０に加えられる。別法として、空気の代わりに特定のガスを使用することができる。任意選択的に、共通空気チャネル３２０は、一方向開口部３３０を示し、空気は、一方向開口部３３０を介して共通空気チャネル３２０内に注入される。別の実施形態では、固体圧力部材が各調整可能圧力素子３１０に挿入され、その可撓性細管は、挿入された圧力部材に応答して拡張し、それぞれの舌側電極４０及び頬側電極５０に圧力を加える。任意選択的に、ある範囲の直径の複数の圧力部材が提供され、したがって各々は、舌側電極４０及び頬側電極５０のそれぞれ１つに異なる量の圧力を提供する。
【００６３】
圧力が空気で調整される実施形態では、調整可能圧力素子３１０及び共通空気チャネル３２０は、空気が歯列矯正歯調整促進システム３００から漏出しないように、積層プラスチック（図示せず）の２つの層の間に封入されている。さらに、調整可能圧力素子３１０及び共通空気チャネル３２０は、空気が漏出しないように閉鎖されている。
【００６４】
一実施形態では、制御回路２０は、舌側電極４０及び頬側電極５０の各対の間の導電率又はインピーダンスを測定するように構成されている。特に、各舌側電極４０に関連付けられた頬側電極５０との間で、そこにおける電圧電位に応答して、直交電流が生成される。別法として、隣接する舌側電極４０の間及び隣接する頬側電極５０の間で平行電流が生成される。制御回路２０は、生成される電流の大きさを測定し、任意選択的に、電極の間の抵抗又は導電率を計算するように構成されている。各舌側電極４０及び頬側電極５０に加えられる圧力の量は、所望の所定の抵抗又は導電率に達するように調整される。
【００６５】
図５は、歯列矯正歯調整促進システム４００の第４実施形態の斜視図を示す。歯列矯正歯調整促進システム４００は、すべての点で図２Ａ及び図２Ｂの歯列矯正歯調整促進システム１０に類似しているが、各々が制御回路２０と通信する（接続は図示せず）、温度センサ４１０、ｐＨセンサ４２０及び複数の加熱素子４３０が追加されている。一実施形態では、各加熱素子４３０は、赤外線（ＩＲ）発光ダイオード（ＬＥＤ）４３０を含み、本明細書ではそのように記載する。一実施形態では、複数のＩＲ  ＬＥＤ４３０の各々は、舌側電極４０又は頬側電極５０のそれぞれの対の間に配置されている。温度センサ４１０及びｐＨセンサ４２０は、歯槽骨７０の舌側６０の歯肉８０に配置されているように示されているが、これは、決して限定されるように意図されていない。
【００６６】
動作時、温度センサ４１０は、歯１００の付近で温度を検知するように構成されている。さらに、ｐＨセンサ４２０は、歯１００の付近でｐＨレベルを検知するように構成されている。制御回路２０は、ＩＲ  ＬＥＤ４３０が、温度センサ４１０の検知された温度に応答して歯肉８０を加熱するのを可能にするように構成されている。特に、制御回路２０は、温度センサ４１０の出力を分析し、歯１００の付近の平均基準温度を求めるように構成されている。ＩＲ  ＬＥＤ４３０は、温度を、歯肉８０の炎症性反応を増進する所定の平均基準温度の１〜２度高い温度に上昇させるように構成されており、それにより、歯１００の移動中に骨形成反応を増進する。
【００６７】
制御回路２０は、検知されたｐＨレベルに応答して、生成される電流の振幅を調整するように、電力源３０を制御するようにさらに構成されている。生成される電流により、舌側電極４０及び頬側電極５０の周囲の電解効果によってｐＨレベルの低下をもたらすことができる。ｐＨレベルが所定値未満に低下する場合、歯１００を損傷する可能性がある過剰な酸度歯肉８０を回避するために、電流の大きさが低減する。
【００６８】
図６Ａ及び図６Ｂは、歯列矯正歯調整を促進する方法の概略フローチャートを示す。段階１０００では、生成される直交電流に関連して上述したように、複数の舌側電極の各々と複数の頬側電極のうちの特定の１つとの間に、第１タイプの電流が生成される。別法として又はさらに、生成される平行電流に関連して上述したように、複数の舌側電極の隣接するものの各々の間及び複数の頬側電極の隣接するものの間に、第２タイプの電流が生成される。任意選択的に、各々が特定の舌側電極と特定の頬側電極との間にある複数の第１タイプの電流と、各々が隣接する舌側電極又は隣接する頬側電極の間にある複数の第２タイプの電流とが生成される。上述したように、舌側電極は、歯槽骨の舌側において各歯の間に配置され、頬側電極は、歯槽骨の頬側において各歯の間に配置される。生成される第１タイプの電流及び第２タイプの電流の各々は、制御回路によって別個に制御される。任意選択的に、舌側電極及び頬側電極の各々は、複数の電路の残りのものから絶縁された複数の電路のそれぞれ１つを介して、制御回路と通信する。後述するように、制御回路は、各生成される電流の大きさ及び方向を制御するように構成されている。
【００６９】
任意選択的な段階１０１０において、段階１０００の各生成される電流の方向は、電流を生成するそれぞれの電極に関連付けられたそれぞれの歯槽内に配置された歯に加えられる歯列矯正力に応答してもたらされる骨吸収及び／又は沈着を促進するように構成される。さらに任意選択的に、歯列矯正力は、歯列矯正装置によって生成される。
【００７０】
任意選択的な段階１０２０において、特定の電流極性選択ユーザ入力が受け取られる。受け取られた電流極性選択ユーザ入力に応答して、第１舌側電極と第１頬側電極との間の段階１０００の生成される第１タイプの電流の方向は、第２舌側電極と第２頬側電極との間における生成される第１タイプの電流の方向と反対である。別法として又はさらに、受け取られた電流極性選択ユーザ入力に応答して、隣接する舌側電極の間の生成される段階１０００の第２タイプの電流の方向は、隣接する頬側電極の間の生成される第２タイプの電流の方向と反対である。特に、各生成される電流の方向は、ユーザ入力に応答して選択され、それにより、上述したように、広範囲の歯の移動に対する柔軟性が可能になる。
【００７１】
任意選択的な段階１０３０において、特定の電極選択ユーザ入力が受け取られる。受け取られた電極選択ユーザ入力に応答して、第１舌側電極と第１頬側電極との間に段階１０００の第１タイプの電流が生成され、第２舌側電極と第２頬側電極との間には、別の第１タイプの電流は生成されない。別法として又はさらに、隣接する舌側電極の第１対の間及び隣接する頬側電極の第１対の間に、段階１０００の第２タイプの電流が生成され、隣接する舌側電極の第２対の間及び隣接する頬側電極の第２対の間には、別の第２タイプの電流は生成されない。特に、生成される第１タイプの電流及び第２タイプの電流の数は、ユーザ入力に応答して選択される。
【００７２】
任意選択的な段階１０４０において、反対の方向を示す第１タイプの電流及び第２タイプの電流が生成される。第１タイプの電流、すなわち直交電流の各々は、歯槽の反対側に関連付けられる。別法として又はさらに、反対方向を示す第１タイプの電流及び第２タイプの電流が生成される。第２タイプの電流、すなわち平行電流の各々は、歯槽の反対側に関連付けられる。任意選択的な段階１０５０において、歯列矯正装置によって歯列矯正回転力が提供され、歯列矯正回転力は歯の回転運動を生成する。回転運動は、歯の両側において第１及び第２の反対の運動ベクトルを画定する。任意選択的な段階１０４０の反対の第１タイプの電流又は第２タイプの電流は、各々、運動ベクトルのうちのそれぞれ１つと略平行であり、かつ整列する。
【００７３】
任意選択的な段階１０６０において、段階１０００の生成される電流は交互に、所定作動期間にわたって提供され、及び所定静止期間にわたって提供されない。任意選択的に、所定作動期間は３〜５時間であり、所定静止期間は１９〜２１時間である。
【００７４】
任意選択的な段階１０７０において、段階１０００の複数の舌側電極及び頬側電極の各々に、調整可能な量の圧力が加えられる。任意選択的に、調整可能な量の圧力は、可撓性細管内に注入されている空気に応答して加えられ、細管は、注入される空気に応答して拡張し、関連付けられた電極に圧力を加える。任意選択的に、複数の可撓性細管の各々への挿入物である圧力部材に応答して、調整可能な量の圧力が加えられ、細管は、挿入された圧力部材に応答して拡張し、関連付けられた電極に圧力を加える。
【００７５】
任意選択的な段階１０８０において、温度センサによって歯肉の温度が検知され、歯肉の温度は、検知された温度に応答して調整される。一実施形態では、歯肉は、複数のＩＲ  ＬＥＤによって、歯肉の平均基準温度より１〜２度高い温度まで加熱される。上述したように、歯肉を加熱することにより、歯肉の炎症性反応が増進され、それにより、歯の移動中の骨形成反応が増進される。
【００７６】
任意選択的な段階１０９０において、ｐＨセンサによって歯肉のｐＨレベルが検知され、段階１０００の生成される第１電流又は第２電流の大きさは、検知されたｐＨレベルに応答して調整される。特に、ｐＨレベルが所定値未満である場合、電流の大きさは低減する。
【００７７】
明確にするために、別個の実施形態に関連して記載されている本発明のいくつかの特徴を、単一の実施形態で組み合わせて提供することも可能であることが理解される。逆に、簡潔のために、単一の実施形態に関連して記載されている本発明のさまざまな特徴を、別個に又は任意の好適な部分的組合せで提供することも可能である。
【００７８】
別段の定義がない限り、本明細書で用いるすべての技術用語及び科学用語は、本発明が属する技術分野における当業者によって一般に理解されるものと同じ意味を有している。本発明の実施又は試験において、本明細書に記載するものに類似するか又は均等な方法を使用することができるが、本明細書では好適な方法について記載している。
【００７９】
本明細書で言及したすべての刊行物、特許出願、特許及び他の参照文献は、全体として参照により本明細書に組み込まれる。矛盾する場合、定義を含む本特許明細書が優先される。さらに、材料、方法及び例は、単に例示的なものであり、限定するように意図されていない。
【００８０】
本明細書で用いる「含む」、「備える」及び「有する」という用語及びそれらの同根語は、「含むが必ずしも限定されない」を意味する。
【００８１】
本発明は、以上に特に示し記載したものに限定されないことが、当業者には理解されよう。むしろ、本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲によって定義され、上述したさまざまな特徴とともに、上述した記載を読むことで当業者に想到されるその変形形態及び変更形態の組合せ及び部分的組合せの両方を含む。
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
2017508521.tif 000004
【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図２Ｄ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図３Ｄ】
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【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【国際調査報告】
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2017508521.tif 000018