(57)【要約】  本発明は、表面と水との静的接触角が９０°超であり且つ極性表面エネルギー成分が１．５ｍＪ／ｍ2超である防曇性被膜の前駆体である被膜で被覆された基材を有する光学物品に関する。防汚性をさらに有する防曇性被膜の前駆体は、その表面に界面活性剤膜を適用することにより実際の防曇性被膜に変換される。【特許請求の範囲】
【請求項１】
その表面が、９０°超の水との静的接触角および１．５ｍＪ／ｍ2超の表面エネルギーの極性成分を有することを特徴とする、防曇性被膜用の前駆体被膜で被覆された基材を有する光学物品。
【請求項２】
前記表面エネルギーの極性成分が１．７ｍＪ／ｍ2以上、より好ましくは２ｍＪ／ｍ2以上であることを特徴とする、請求項１に記載の光学物品。
【請求項３】
前記防曇性被膜用の前駆体被膜と水との静的接触角が９５°以上、好ましくは１００°以上であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の光学物品。
【請求項４】
前記防曇性被膜用の前駆体被膜が、フルオロカーボン基とポリオキシアルキレン基とを含有する材料から形成されることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学物品。
【請求項５】
前記防曇性被膜用の前駆体被膜が、少なくとも１種の親水性化合物Ａと少なくとも１種の疎水性化合物Ｂとを堆積することにより形成されることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学物品。
【請求項６】
前記化合物Ａが、少なくとも１個のポリオキシアルキレン基を含み且つ少なくとも１個の加水分解性基を担持した少なくとも１個のケイ素原子を有するオルガノシランであることを特徴とする、請求項５に記載の光学物品。
【請求項７】
前記化合物Ｂが、少なくとも１個のフルオロカーボン基を含み且つ少なくとも１個の加水分解性基を担持した少なくとも１個のケイ素原子を有するオルガノシランであることを特徴とする、請求項５又は６に記載の光学物品。
【請求項８】
前記防曇性被膜用の前駆体被膜が界面活性剤膜で被覆されることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の光学物品。
【請求項９】
前記防曇性被膜用の前駆体被膜が２５ｍＪ／ｍ2以下の表面エネルギーを有することを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の光学物品。
【請求項１０】
眼用レンズを構成することを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の光学物品。
【請求項１１】
ａ）少なくとも１つの主表面を有する基材を提供する工程と、
ｂ）表面と水との静的接触角が９０°超であり且つ表面エネルギーの極性成分が１．５ｍＪ／ｍ2超である防曇性被膜用の前駆体被膜が得られるように、前記基材の前記主表面に少なくとも１種の親水性化合物Ａ及び少なくとも１種の疎水性化合物Ｂを堆積する工程と、
を含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光学物品の作製プロセス。
【請求項１２】
前記化合物Ａ及びＢが真空蒸発により堆積されることを特徴とする、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記化合物Ａが、ジュール効果熱源を用いて真空蒸発により堆積され、且つ前記化合物Ｂが、電子銃を用いて真空蒸発により堆積されることを特徴とする、請求項１２に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記防曇性被膜用の前駆体被膜が、化合物Ｂ、次いで化合物Ａを逐次堆積することにより形成されることを特徴とする、請求項１１〜１３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１５】
その表面が、９０°超の水との静的接触角および１．５ｍＪ／ｍ2超の表面エネルギーの極性成分を有することを特徴とする、防曇性被膜用の前駆体被膜で被覆された基材を有する光学物品と、
好ましくは親水性親油性バランス（ＨＬＢ）≧５を有する界面活性剤と、
を含む、集合体。
【請求項１６】
前記光学物品と前記界面活性剤で含浸された布とを含む、請求項１５に記載の集合体。
【請求項１７】
前記光学物品と前記界面活性剤で含浸されたマイクロ繊維布を含むドライワイプとを含む、請求項１５又は１６に記載の集合体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一時的防曇性溶液の適用後に防汚性を有すると同時に効果的且つ長期持続的な防曇効果を有するように表面が改質された光学物品、より特定的には眼用レンズを得ることに関する。本発明は、斯かる物品、斯かる物品の作製プロセス、及び斯かる物品と界面活性剤又は斯かる界面活性剤で含浸された布との組合せによる防曇性の付与に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラスチックやガラスなどの多くの支持体は、それらの表面の温度が周囲空気の露点未満に低下した時に曇りで覆われた状態になるという欠点を呈する。このことは、特に、輸送車両又は建築物の窓、鏡、眼用レンズ、例えば、眼鏡レンズなどを形成するために使用されるガラスの場合に当てはまる。これらの表面に曇りを生じると水滴による光の散乱により透明度が減少するので、かなりの妨害の原因となりうる。
【０００３】
多湿環境での曇りの生成、すなわち、支持体上での微小な水滴の凝縮を防止するために、この支持体の外表面に水との静的接触角が小さい（典型的には１０°以下の）親水性被膜を堆積することが可能である。この永久的防曇性被膜は、その親水性が他の被膜又は支持体に永久的に結合された親水性化合物からもたらされ、曇りに対してスポンジとして作用し、透明感を与える非常に薄い膜を形成することにより支持体表面への水滴の接着を可能にする。水吸収の結果として、それは、膨張し、軟化し、そして機械的により弱くなる。
【０００４】
他の解決策は、部分的に界面活性剤で構成された低屈折率の多孔性薄層を用いて層に永久的防曇性を持たせることである。
【０００５】
永久的防曇性被膜のより有利な代替手段は、防曇性被膜用の前駆体被膜の表面に一時的親水性溶液を適用することにより防曇性被膜を得ることである。
【０００６】
国際特許出願の国際公開第２０１１／０８０４７２号パンフレット、国際公開第２０１２／１５３０７２号パンフレット、及び国際公開第２０１３／０１３９２９号パンフレットには、ポリオキシアルキレン基、特に式ＣＨ3Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）6〜9−（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3（ＩＩＩ）で示されるオルガノシランを有する化合物をグラフトすることにより得られる防曇性被膜用の前駆体被膜を表面にシラノール基を含む被膜で被覆された光学物品の外表面に堆積するという記載がなされている。防曇性被膜用のこの前駆体被膜は、１０°〜５０°の範囲内に水との静的接触角を有するので親水性である。一時的被膜である実際の防曇性被膜は、前駆体被膜の表面に界面活性剤組成物の膜を液体形態で直接に又は前記組成物を含むドライワイプ若しくはウェットワイプにより適用した後に得られる。
【０００７】
これらの出願に記載の防曇性被膜用の前駆体は、非常に効率的な防曇性被膜の利用を可能にするが、その清浄性を改善することが望ましい。後者は、「疎水性及び／又は疎油性被膜」としても参照され、フルオロシラン又はフルオロシラザン、すなわち、フッ素原子を含有するシラン又はシラザンから一般に製造されるので、当然ながら防曇性を付与することはできない。斯かる防汚性被膜を得るために使用可能な化合物は、特開２００５−１８７９３６号公報及び米国特許第６１８３８７２号明細書に記載されている。
【０００８】
日本出願の特開２００４−３１７５３９号公報には、反射防止被膜と、フッ素化疎水性基、ポリオキシエチレン基を含む親水性基、及び基材の表面と反応可能な基を含む化合物、例えば、式Ｃ8Ｆ17Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）2ＣＯＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3で示される化合物を堆積することにより形成された被膜と、で被覆されたレンズが記載されている。こうして形成された被膜は、水との接触角が５０°〜９０°でさまざまであり、その表面への界面活性剤の適用後に防曇性被膜の利用を可能にする。
【０００９】
日本出願の特開２００５−２８１１４３号公報には、水との接触角が６０〜６５°程度であるポリオキシエチレン基を有する非フッ素化シランに基づく光学レンズ用の他の被膜が記載されており、これは、その表面に界面活性剤が適用されると防曇性を呈する。
【００１０】
国際出願の国際公開第２００６／０４９０２０号パンフレットには、フッ素化重合性シラン、及び親水性基（特にオキシアルキレン基）を有する重合性シラン、及び／又はこれらのシランの加水分解物を含む、光学レンズの表面への防汚性被膜の形成を可能にする組成物が記載されている。この被膜は、水との接触角度が１００°程度である。
【００１１】
国際出願の国際公開第２０１３／００５７１０号パンフレットには、ポリオキシエチレン鎖を有するアクリル樹脂系又はウレタン樹脂系の水吸収可能層と、アミノ変性シラン系又はメルカプト変性シラン系の疎水性層と、で逐次的に被覆された光学物品が記載されている。こうして、物品の外表面は、水との接触角が１００°以上である。
【００１２】
これらの種々の出願に開示された被膜は、改善しうる防汚性又は改善しうる不十分な防曇性のいずれかを有する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は、公知の前駆体被膜と対比して防汚性が改善される防曇性被膜用の前駆体被膜を含む光学物品を得ることを目的とする。本発明者らは、親水性官能基及び疎水性官能基の両方を有する「混合」表面を利用することにより被膜清浄能を有意に改善しつつ満足すべき防曇性能を維持しうることを発見した。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の目的は、表面と水との静的接触角が９０°超であり且つ表面エネルギーの極性成分が１．５ｍＪ／ｍ2超である防曇性被膜用の前駆体被膜で被覆された基材を有する光学物品により達成される。
【００１５】
本発明はまた、
ａ）少なくとも１つの主表面を有する基材を提供する工程と、
ｂ）表面と水との静的接触角が９０°超であり且つ表面エネルギーの極性成分が１．５ｍＪ／ｍ2超である防曇性被膜用の前駆体被膜が得られるように、基材の前記主表面に少なくとも１種の親水性化合物Ａ及び少なくとも１種の疎水性化合物Ｂを堆積する工程と、
を含む斯かる光学物品の作製プロセスに関する。
【００１６】
発明はまた、以上に定義された光学物品と界面活性剤とを含む集合体に関する。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、実施例７、比較例１、８の結果を示す図である。
【図２】図２は、実施例７、比較例１、８の結果を示す図である。
【図３】図３は、実施例７、比較例８の結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
逐次クリーニングサイクルの作用下で先行技術の光学物品と比較して本発明に係る光学物品から汚れを除去する速度を表す図１〜３を参照しながら、本発明をより詳細に説明する。
【００１９】
本特許出願では、基材／被膜「上」に存在する被膜又は基材／被膜「上」に堆積された被膜とは、（ｉ）基材／被膜の上に位置決めされた被膜、（ｉｉ）必ずしも基材／被膜に接触しているとはかぎらない被膜、すなわち、基材／被膜と当該被膜との間に１つ以上の中間被膜が位置決めされていてもよい被膜（しかしながら、好ましくは前記基材／被膜に接触している）、及び（ｉｉｉ）必ずしも基材／被膜を完全に覆っているとはかぎらない被膜として定義されるものである。「層１が層２の下に位置決めされる場合」、層２は層１よりも基材から離れていると理解されるものとする。同様に、「外」層は「内」層よりも基材から離れている。
【００２０】
「防曇性被膜」という用語は、本特許出願では、この被膜で被覆された透明ガラス基材が、前記被膜を備えていない前記基材上に曇りを生じる条件下に置かれた時、５メートルの距離に位置する視力表を被覆ガラスを通して観察している観察者に対して＞６／１０の視力をただちに可能にする被膜を意味するものと理解される。被膜の防曇性の評価を可能にする試験は、実験の節に記載されている。曇りを生じる条件下で、防曇性被膜は、その表面に曇りを生じないか（理想的な場合では視覚の歪みを生じないか、さもなければ視覚の歪みを生じるが上述した測定条件下で＞６／１０の視力を呈する）、又はその表面に曇りを生じるがそれでもなお曇りにより引き起こされる視力の乱れにもかかわらず上述した測定条件下で＞６／１０の視力を可能にするか、のいずれかでありうる。非防曇性被膜は、上述した測定条件下で＞６／１０の視力を可能にしないうえに曇りを生じる条件に付されると一般に凝縮体のベールを呈する。
【００２１】
「防曇性ガラス」という用語は、本特許出願では、以上に定義された「防曇性被膜」を備えたガラスを意味するものと理解される。
【００２２】
「防曇性被膜用の前駆体」という用語は、本特許出願では、界面活性剤を含有する組成物を膜が形成されるように表面に適用することにより本発明の趣旨の範囲内の防曇性被膜となる被膜を意味するものと理解される。界面活性剤を含む組成物は、光学物品上に直接適用される液体溶液又はワイプに含浸させる組成物でありうるとともに、このワイプは、場合によりウェット又はドライ（溶媒不在）であり、例えば、国際特許出願公開第２０１３／０１３９２９号パンフレットに記載されているようにＣａｐｓｔｏｎｅ（商標）ＦＳ３１００で含浸されたＣＥＭＯＩ（商標）ドライワイプである。
【００２３】
防曇性膜の形成を可能にする界面活性剤は、好ましくはフルオロカーボン基と少なくとも１つのポリオキシアルキレンユニットとを含む。前駆体被膜と界面活性剤系溶液の膜とにより形成された集合体は、実際の防曇性被膜となる。
【００２４】
したがって、疎水性表面を有する被膜である本発明に係る防曇性被膜用の前駆体は、本発明の趣旨の範囲内の防曇性被膜であるとはみなされない。実際に、防曇性被膜用のこの前駆体は、上述した測定条件下で＞６／１０の視力を可能にしない。
【００２５】
「一時的防曇性被膜」という用語は、前記防曇性被膜用の前駆体被膜の表面に防曇性を付与する少なくとも１種の作用剤、好ましくは界面活性剤を含有する液体溶液の適用後に得られる防曇性被膜を意味すると理解される。界面活性剤分子は、被膜の表面に永久的に装着されているのではなく、多かれ少なかれ持続的に吸着されているにすぎないので、一時的防曇性被膜の耐久性は、一般にその表面を払拭する作用により制限される。
【００２６】
本発明に従って作製される光学物品は、前側主面と後側主面とを有する基材、好ましくは透明基材（８５％超、より好ましくは９０％超、さらにより好ましくは９５％超、最適には９７％超のＴｖ。Ｔｖ率は、標準国際定義（ＩＳＯ１３６６６：１９９８規格であり、ＩＳＯ８９８０−３規格に準拠して測定される）に対応する。それは、３８０〜７８０ｎｍにわたる波長範囲で定義される。）を含み、前記主面の少なくとも一方、好ましくは両方の主要面が、防曇性被膜用の前駆体被膜を少なくとも１つ含む。基材の「後面」（後面は一般に凹である）は、物品が使用された時に着用者の眼に最も近い面であると理解される。反対に、基材の「前面」（前面は一般に凸である）は、物品が使用された時に着用者の眼から最も離れた面であると理解される。
【００２７】
本発明に係る物品は、曇りの生成に直面する可能性のある任意の光学物品、例えば、スクリーン、自動車産業用若しくは建設産業用の窓、又は鏡でありうるが、好ましくは光学レンズ、より好ましくは眼鏡用の眼用レンズ、又は光学レンズ用若しくは眼用レンズ用のブランクである。これには、曇りの生成の問題に本質的に直面しない生組織に接触する眼内レンズやコンタクトレンズなどの物品は含まれない。
【００２８】
防曇性被膜の前駆体被膜は、基材の主表面又は基材の前記主表面が第１の被膜で被覆されている場合には第１の被膜のいずれかに直接接触する。本発明に係る第１の被膜、好ましくはその表面にシラノール基を含むものは、ベア基材すなわち非被覆基材の主面の少なくとも一方又は１つ以上の機能性被膜ですでに被覆された基材の主面の少なくとも一方に形成されうる。
【００２９】
本出願の残りの部分では、これらの層を光学物品上に直接堆積することにより層の作製を説明する。
【００３０】
本発明はまた、前記被膜を含む面と光学物品の表面に接着結合させることが意図された面とを有する膜上で層のすべて又はその一部の堆積が行われる実施形態を包含する。
【００３１】
接着結合以外に、最終物品上に出現しうるものと逆の順序で被膜が堆積された支持体から所望の被膜を移動させてもよい。
【００３２】
少なくとも１つの主表面を含む本発明に係る光学物品の基材は、無機ガラス又は有機ガラス、例えば、熱可塑性又は熱硬化性プラスチックで作製された有機ガラスでありうる。
【００３３】
特に好ましい基材のクラスは、ポリ（チオウレタン）、ポリエピスルフィド、及びアルキレングリコールビス（アリルカーボネート）の重合又は（共）重合により得られる樹脂である。後者は、例えば、ＰＰＧ  ＩｎｄｕｓｔｒｉｅｓによりＣＲ−３９（登録商標）という商品名で販売されている（Ｏｒｍａ（登録商標）レンズ、Ｅｓｓｉｌｏｒ）。
【００３４】
本発明に関連する範囲内で使用可能な他の基材は、熱硬化性タイプのアクリル基材、熱可塑性基材、例えば、Ｎｙｌｏｎ（商標）系、ポリカーボネート系、及びＰＭＭＡ系の基材である。
【００３５】
いくつかの用途では、第１の被膜の堆積前に基材の主表面を１つ以上の機能性被膜で被覆することが好ましい。光学品で従来から使用されているこれらの機能性被膜は、限定されるものではないが、耐衝撃性プライマー層、耐摩耗性及び／若しくは耐引掻き被膜、偏光被膜、フォトクロミック被膜、又は着色被膜、特に、耐摩耗性及び／又は耐引掻き性層で被覆された耐衝撃性プライマー層である。
【００３６】
第１の被膜は、耐摩耗性及び／又は耐引掻き性被膜上に堆積されうる。耐摩耗性及び／又は耐引掻き性被膜は、眼用レンズの分野で耐摩耗性及び／又は耐引掻き性被膜として従来から使用されている任意の層でありうる。
【００３７】
耐摩耗性及び／又は耐引掻き性被膜は、好ましくは、硬化したら被膜の硬度及び／又は屈折率が増加するように意図された１種以上の無機充填剤を一般に含むポリ（メタ）アクリレート系又はシラン系の硬質被膜である。それらは、国際出願公開第２０１１／０８０４７２号パンフレットにより詳細に記載されている。
【００３８】
耐摩耗性及び／又は耐引掻き性被膜の堆積前に、最終製品で後続層の耐衝撃性及び／又は接着性を改善するプライマー被膜を基材上に堆積することが可能である。これらの被膜は、眼用レンズなどの透明ポリマー材料で作製された物品で従来から使用されている任意の耐衝撃性プライマー層でありうるとともに、国際出願公開第２０１１／０８０４７２号パンフレットにより詳細に記載されている。
【００３９】
本発明に係る第１の被膜は、特に耐摩耗性及び／又は耐引掻き性被膜でありうるか、又は好ましい実施形態によれば単層反射防止被膜若しくは多層反射防止被膜でありうる。この第１の被膜は、好ましくはその表面にシラノール基を含む。
【００４０】
「表面にシラノール基を含む被膜」という表現は、天然で表面にシラノール基を有する被膜、さもなければ表面活性化処理に付された後で形成されたシラノール基を有する被膜を意味するものと理解される。この被膜は、好ましくはシロキサン系又はシリカ系の被膜、例えば、限定されるものではないが、シリカ層、ゾル−ゲル被膜、特にアルコキシシランなどのオルガノシラン系被膜又はシリカコロイド系被膜である。それは、特に耐摩耗性及び／又は耐引掻き性被膜又は単層反射防止被膜又は多層反射防止被膜でありうるとともに、その外層は、その表面にシラノール基を有する。「スタックの外層」という表現は、基材から最も離れた層を意味するものと理解される。
【００４１】
シラノール基を形成するために又は少なくとも被膜の表面のその割合を増加させるために任意選択で利用される表面活性化処理は、一般に真空下で行われる。それは、高エネルギー種及び／又は反応性種、例えば、イオンビーム（イオンプレクリーニング若しくはＩＰＣ）又は電子ビームによる衝撃、コロナ放電処理、グロー放電処理、ＵＶ処理、又は真空プラズマ処理でありうる。それはまた、酸若しくは塩基による表面処理及び／又は溶媒による処理でありうる。これらの処理のいくつかを組み合わせてもよい。
【００４２】
高エネルギー（及び／又は反応性）種とは、１〜３００ｅＶ、好ましくは１〜１５０ｅＶ、より好ましくは１０〜１５０ｅＶ、さらにより好ましくは４０〜１５０ｅＶの範囲内のエネルギーを有するイオン種を特に意味するものと理解される。高エネルギー種は、イオンやラジカルなどの化学種又は光子や電子などの種でありうる。
【００４３】
好ましくは、表面にシラノール基を含む被膜は、酸化ケイ素系、好ましくはシリカ系（シリカを含む）の低屈折率層であり、理想的には、気相堆積により一般に得られるシリカ（ＳｉＯ2）層からなる。好ましくは、前記シリカ系層は、５００ｎｍ以下、より好ましくは２〜１１０ｎｍ、優先的には５〜１００ｎｍの範囲内の厚さを有する。
【００４４】
好ましくは、表面にシラノール基を含む被膜は、少なくとも７０重量％のＳｉＯ2、より好ましくは少なくとも８０重量％、さらにより好ましくは少なくとも９０重量％のＳｉＯ2を含む。上述したように、最適な実施形態では、それは１００重量％のシリカを含む。
【００４５】
表面にシラノール基を含む被膜はまた、国際出願公開第２０１２／１５３０７２号パンフレットにより詳細に記載されているように、コロイド酸化物を任意選択で含むアルコキシシランやオルガノシランなどのシラン系ゾル−ゲル被膜でありうる。
【００４６】
本発明の一実施形態によれば、表面にシラノール基を含む被膜は、耐摩耗性被膜上に堆積された、好ましくはこの耐摩耗性被膜上に直接堆積されたシリカ系層である。
【００４７】
好ましい実施形態を構成する本発明の別の実施形態によれば、本発明に係る光学物品は、反射防止被膜を含む。斯かる被膜が存在する場合、それは、一般に本発明の趣旨の範囲内の第１の被膜を構成する。この反射防止被膜は、光学分野、特に眼光学分野で従来から使用されている任意の反射防止被膜でありうる。
【００４８】
「反射防止被膜」とは、最終光学物品の反射防止性を改善する、光学物品の表面に堆積された被膜として定義される。それは、可視スペクトルの比較的広い領域にわたり物品／空気界面での光反射の低減を可能にする。
【００４９】
同様に周知のように、反射防止被膜は、従来的には誘電体材料の単層又は多層スタックを含む。これは、好ましくは、高屈折率（ＨＩ）の層と低屈折率（ＬＩ）の層とを含む多層被膜である。これらの被膜の組成、それらの厚さ、及びそれらの堆積方法は、特に国際出願公開第２０１０／１０９１５４号パンフレット及び国際出願公開第２０１２／１５３０７２号パンフレットに記載されている。
【００５０】
第１の被膜上又はベア基材上に防曇性被膜用の前駆体を形成する前に、この第１の被膜又は基材の表面を防曇性被膜用の前駆体の接着を増加させることが意図された物理的又は化学的活性化処理に付すことが一般的である。これらの処理は、表面にシラノール基を含む被膜を活性化するための以上に記載のものから選択可能である。
【００５１】
本発明によれば、第１の被膜は、存在する場合、防曇性被膜用の前駆体被膜に直接接触する。別の実施形態によれば、基材自体が防曇性被膜用の前駆体被膜に直接接触する。これについて次に説明する。
【００５２】
防曇性被膜用の前駆体被膜は、水との静的接触角が９０°超であり且つこの表面エネルギーの極性成分が１．５ｍＪ／ｍ2超である表面を有する。
【００５３】
表面エネルギー特性（ｍＪ／ｍ2単位）、すなわち、この表面エネルギーの分散成分及び極性成分は、参照文献：“Ｅｓｔｉｍａｔｉｏｎ  ｏｆ  ｔｈｅ  ｓｕｒｆａｃｅ  ｆｒｅｅ  ｅｎｅｒｇｙ  ｏｆ  ｐｏｌｙｍｅｒｓ”ＯＷＥＮＳ  Ｄ．Ｋ，ＷＥＮＤＴ  Ｒ．Ｇ．（１９６９）Ｊ．ＡＰＰＬ．ＰＯＬＹＭ．ＳＣＩ．，１３，１７４１−１７４７に記載のオーエンス・ウェント法により決定される。液体又は固体の表面エネルギーＥTは、分散成分ＥD及び極性成分ＥPで構成されると考えられる。それは、ＥT＝ＥD＋ＥPという形で記される。
【００５４】
光学物品の外側被覆は、表面エネルギーの極性成分が好ましくは１．７ｍＪ／ｍ2以上、より好ましくは１．９ｍＪ／ｍ2以上、さらに好ましくは２ｍＪ／ｍ2以上、さらにより好ましくは２．３ｍＪ／ｍ2以上である。一実施形態では、防曇性被膜用の前駆体被膜は、表面エネルギーの極性成分が４ｍＪ／ｍ2以下である。別の実施形態では、防曇性被膜用の前駆体被膜は、表面エネルギーの極性成分が３．５ｍＪ／ｍ2以下、より好ましくは３ｍＪ／ｍ2以下である。防曇性被膜用の前駆体被膜は、水との静的接触角が好ましくは９５°以上、より好ましくは１００°以上、さらにより好ましくは１０２°以上、理想的には１０５°以上である。水との静的接触角は、好ましくは１２０°未満である。
【００５５】
防曇性被膜用の前駆体被膜は、フルオロカーボン基とポリオキシアルキレン基とを含有する材料から一般に形成される。すなわち、親水性ユニット及び疎水性ユニットの両方を含む。
【００５６】
好ましい一実施形態によれば、防曇性被膜用の前駆体被膜は、少なくとも１種の疎水性化合物Ｂと少なくとも１種の親水性化合物Ａとを十分量で好ましくは気相中で、より好ましくは蒸発により第１の被膜上又は基材上に堆積した後でグラフトすることにより形成される。化合物Ａ及びＢは膜形成化合物である。
【００５７】
「親水性化合物」という用語は、基材の表面に形成された膜と水との静的接触角が６０°以下、好ましくは５５°以下、より好ましくは５０°以下である化合物を意味するものと理解される。本出願では、接触角は、国際出願公開第２００８／０５３０２０号パンフレットに記載の方法で測定される。
【００５８】
「疎水性化合物」という用語は、基材の表面に形成された膜と水との静的接触角が７５°以上、好ましくは９０°以上、より好ましくは１００°以上、さらにより好ましくは１１０°以上である化合物を意味するものと理解される。好ましくは、基材の表面に形成された膜と水との静的接触角は、１１７°以下、より好ましくは１１６°以下、１１５°、１１４°、１１３°である。
【００５９】
親水性化合物Ａは、少なくとも１個の親水性基を有する。「親水性」基とは、本発明に関連する範囲内では、特に水素結合により水分子に結合可能な原子の組合せを意味するものと理解される。これは、一般に、荷電原子を含みうる極性有機基である。化合物Ａは、好ましくは、ポリオキシアルキレン基、ポリアミン基、ポリオール基（ポリヒドロキシル化基、例えば、多糖基又はポリグリセロール基）、及びポリエーテル基（例えばポリオールエーテル基）、好ましくはポリオキシアルキレン基から選択される少なくとも１個の基を含む。化合物Ａは、一般に、基材若しくはそれにグラフトされる第１の被膜の外表面に存在するか又は化合物Ｂに存在する官能基と共有結合を形成可能な少なくとも１個の基を含み、第１の被膜が存在する場合、前記官能基は好ましくはシラノール基である。この基は、反応性基であり、限定されるものではないが、次の基、すなわち、イソシアネート基、アクリレート基、メタクリレート基、ハロアルキル基、カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基若しくはそのエステル基、アシルクロリド基、クロロスルホニル基、クロロホルメート又はエステル基、少なくとも１個の加水分解性基を担持したケイ素原子、又はグリシジル基などのエポキシ官能基を含有する基を担持したケイ素原子、好ましくは少なくとも１個の加水分解性基、特にシラノール基若しくはその前駆体を担持したケイ素原子のうちの１つでありうる。
【００６０】
化合物Ａは、好ましくはオルガノシラン化合物、より好ましくは少なくとも１個の加水分解性基を担持した少なくとも１個のケイ素原子を有するオルガノシラン化合物、さらにより好ましくはポリオキシアルキレン基と少なくとも１個の加水分解性基を担持した少なくとも１個のケイ素原子とを有するオルガノシラン化合物である。
【００６１】
好ましくは、そのポリオキシアルキレン鎖は、一方のみの末端又はその末端の両方、理想的には一方のみの末端が、少なくとも１個の加水分解性基を担持した少なくとも１個のケイ素原子を含む少なくとも１個、好ましくは丁度１個の基により官能基化される。好ましくは、このオルガノシラン化合物は、少なくとも２個の加水分解性基、好ましくは３個の加水分解性基を担持したケイ素原子を含む。それは、好ましくは式：
Ｒ1（Ｙ）mＳｉ（Ｘ）3-m  （Ｉ）
（式中、Ｙ基は、同一であるか又は異なり、炭素原子を介してケイ素に結合された１価有機基であり、Ｘ基は、同一であるか又は異なり、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、Ｒ1は、ポリオキシアルキレン官能基を含む基であり、且つｍは、０、１、又は２に等しい整数である。好ましくはｍ＝０。）
で示される化合物である。
【００６２】
Ｘ基は、好ましくは、アルコキシ基−Ｏ−Ｒ3（式中、Ｒ3は、好ましくはＣ1〜Ｃ4、より好ましくはＣ１の線状若しくは分岐状のアルキル基である）、アシルオキシ基−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ4（式中、Ｒ4は、好ましくはＣ1〜Ｃ6の線状若しくは分岐状のアルキル基、好ましくはメチル若しくはエチル、ハロゲン基、例えば、Ｃｌ及びＢｒ、又はトリメチルシロキシ（ＣＨ3）3ＳｉＯ−基、−ＮＨ2基、−ＮＨＳｉＭｅ3基、又は−ＮＨ−アルキル基若しくはジアルキルアミノ基（これらの線状若しくは分岐状のアルキル基は、好ましくはＣ1〜Ｃ6基である（例えば、−Ｎ（ＣＨ3）2及びＮ（Ｃ2Ｈ5）2基））、及びこれらの基の組合せから選択される。好ましくは、Ｘ基は、アルコキシ基、特にメトキシ基又はエトキシ基、より好ましくはエトキシ基である。
【００６３】
Ｙ基は、ｍがゼロでない場合に存在し、好ましくは飽和若しくは不飽和の線状若しくは分岐状の炭化水素基、好ましくはＣ1〜Ｃ10基、より好ましくはＣ1〜Ｃ4基、例えば、メチルやエチルなどのアルキル基、ビニル基、アリール基、例えば、単環式若しくは二環式の芳香族基、例えば、特に１個以上のＣ1〜Ｃ4アルキル基により任意選択で置換されたフェニル基である。好ましくは、Ｙはメチル基を表す。
【００６４】
好ましい実施形態によれば、式（Ｉ）で示される化合物は、トリエトキシシリル基やトリメトキシシリル基などのトリアルコキシシリル基を含む。
【００６５】
オルガノシラン化合物のポリオキシアルキレン基（Ｒ1基）は、好ましくは８０個未満の炭素原子、より好ましくは６０個未満の炭素原子、さらにより好ましくは５０個未満の炭素原子を含む。Ｒ1基は、好ましくは上述の条件を満たす。
【００６６】
Ｒ1基は、一般的には、式−Ｌ−Ｒ2（式中、Ｌは、式Ｉ又はＩＩで示される化合物のケイ素原子に炭素原子を介して結合された二価基であり、且つＲ2は、酸素原子を介してＬ基に結合されたポリオキシアルキレン基を含む基であり、この酸素原子は、Ｒ2基に含まれる）を有する。Ｌ基の例としては、任意選択で置換された線状若しくは分岐状の好ましくはＣ2〜Ｃ15、より好ましくはＣ2〜Ｃ15、さらにより好ましくはＣ2〜Ｃ10のアルキレン基、単環式若しくは二環式のＣ3〜Ｃ10シクロアルキレン基、好ましくは単環式若しくは二環式のＣ3〜Ｃ10アリーレン基、カルボニル基、又はアミド基、或いはこれらの基の組合せ、例えば、シクロアルキレンアルキレン基、ビスシクロアルキレン基、ビスシクロアルキレンアルキレン基、アリーレンアルキレン基、ビスフェニレン基、ビスフェニレンアルキレン基、又はアミドアルキルエン基が挙げられるが、これらに限定されるものではなく、その一例は、ＣＯＮＨ（ＣＨ2）3  基、さもなければ−ＯＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2−基及び−ＮＨＣ（Ｏ）−基である。好ましいＬ基は、好ましくは１０個以下の炭素原子、より好ましくは５個以下の炭素原子を有する好ましくは線状のアルキレン基、例えば、エチレン基及びプロピレン基である。
【００６７】
好ましいＲ2基は、ポリオキシエチレン基−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n−、ポリオキシプロピレン基、又はこれらの基の組合せを含む。
【００６８】
式（Ｉ）で示される好ましいオルガノシランは、以下の式（ＩＩ）：
Ｙm（Ｘ）3-mＳｉ（ＣＨ2）n’−（Ｌ’）m’−（ＯＲ）n−Ｏ−（Ｌ’’）m’’−Ｒ’  （ＩＩ）
（式中、Ｒ’は、水素原子、アシル基、又は線状若しくは分岐状のアルキル基、好ましくはＣ1〜Ｃ10基、より好ましくは１個以上の官能基により任意選択で置換され且つ１個以上の二重結合を追加的に含みうるＣ1〜Ｃ5基であり、Ｒは、線状若しくは分岐状のアルキレン基、好ましくは線状アルキレン基、好ましくは２〜３個のＣを含むもの、例えば、エチレン基又はプロピレン基であり、Ｌ’及びＬ’’は、同一であるか又は異なり、２価基であり、Ｘ、Ｙ、及びｍは、以上に定義されたとおりであり、ｎ’は、１〜１０、好ましくは１〜５の範囲内の整数であり、ｎは、３〜５０、好ましくは４〜５０、より好ましくは４〜３０、より好ましくは５〜２５の範囲内の整数であり、ｍ’は、０又は１、好ましくは０に等しく、且つｍ’’は、０又は１、好ましくは０に等しい。）
で示される化合物である。
【００６９】
Ｌ’基及びＬ’’基は、存在する場合、以上に記載の２価Ｌ基から選択されうるとともに、好ましくは−ＯＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2−基又は−ＮＨＣ（Ｏ）−基を表す。この場合、−ＯＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2−基又は−ＮＨＣ（Ｏ）−基は、それらの酸素原子（−ＯＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2−基に対して）又はそれらの窒素原子（−ＮＨＣ（Ｏ）−基に対して）を介して隣接基（ＣＨ2）ｎ’（Ｌ’基の場合）及びＲ’（Ｌ’’基の場合）に結合される。
【００７０】
−Ｏ−（Ｌ’’）m’’−Ｒ’基は、好ましくはアルコキシ基（ｍ’’＝０、Ｒ’＝アルキル）、理想的にはメトキシ基である。
【００７１】
好ましくは、式（Ｉ）又は（ＩＩ）で示される化合物は、少なくとも１個の加水分解性基を担持した丁度１個のケイ素原子を含む。
【００７２】
一実施形態によれば、ｍ＝０且つ加水分解性基Ｘはメトキシ基又はエトキシ基を表す。ｎ’は、好ましくは３に等しい。別の実施形態によれば、Ｒ’は、５個未満の炭素原子を有するアルキル基、好ましくはメチル基を表す。Ｒ’はまた、脂肪族若しくは芳香族のアシル基、特にアセチル基を表しうる。
【００７３】
最後に、Ｒ’は、トリアルコキシシリルアルキレン基又はトリハロシリルアルキレン基、例えば、−（ＣＨ2）n’’Ｓｉ（Ｒ5）3基を表しうるとともに、Ｒ5基は、同一であるか又は異なり、Ｒ5は、以上に定義されたＸ基などの加水分解性基であり、且つｎ’’は、以上に定義されたｎ’基などの整数である。斯かるＲ’基の例は、−（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3基である。この実施形態では、オルガノシラン化合物は、少なくとも１個の加水分解性基を担持した２個のケイ素原子を含む。
【００７４】
好ましい実施形態によれば、ｎは、３に等しいか、さもなければ６〜９、９〜１２、２１〜２４、又は２５〜５０、好ましくは６〜９の範囲内である。
【００７５】
式（ＩＩ）で示される化合物の例としては、Ｇｅｌｅｓｔ  Ｉｎｃ．又はＡＢＣＲにより販売されている式ＣＨ3Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）6〜9−（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3（ＩＩＩ）及びＣＨ3Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）9〜12−（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3（ＩＶ）で示される２−［メトキシ（ポリエチレンオキシ）プロピル］トリメトキシシラン化合物、式ＣＨ3Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）3−（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3（ＶＩＩａ）で示される化合物、より一般的には式ＣＨ3Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n−（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3（式中、ｎは４〜４５（特にｎ＝２１、２２、２３、又は２４を含む）の範囲内である）で示される化合物、２−［メトキシ（ポリエチレンオキシ）プロピル］トリクロロシラン、式ＣＨ3Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）6〜9−（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3で示される２−［アセトキシ（ポリエチレンオキシ）プロピル］トリメトキシシラン、式ＣＨ3Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）6〜9−（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3で示される２−［アセトキシ（ポリエチレンオキシ）プロピル］トリエトキシシラン、式ＨＯ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）6〜9−（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3で示される２−［ヒドロキシ（ポリエチレンオキシ）プロピル］トリメトキシシラン、式ＨＯ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）6〜9−（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3で示される２−［ヒドロキシ（ポリエチレンオキシ）プロピル］トリエトキシシラン、式ＨＯ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）8〜12−（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3及びＨＯ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）8〜12−（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3で示される化合物、ビス［（３−メチルジメトキシシリル）プロピル］ポリプロピレンオキシド、並びに２個のシロキサンヘッドを含む化合物、例えば、式（Ｖ）で示されるビス［（３−トリエトキシシリルプロポキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ］ポリエチレンオキシド、式（ＶＩ）（式中、ｎ＝１０〜１５）で示されるビス［（Ｎ，Ｎ’−（トリエトキシシリルプロピル）アミノカルボニル］ポリエチレンオキシド、及び式（ＶＩＩ）で示されるビス（トリエトキシシリルプロピル）ポリエチレンオキシドが挙げられうる。
【化１】
2017510825.tif 000002
【００７６】
好ましい式（ＩＩ）で示される化合物のファミリーは、［アルコキシ（ポリアルキレンオキシ）アルキル］トリアルコキシシラン又はそのトリハロ類似体（ｍ＝ｍ’＝ｍ’’＝０、Ｒ’＝アルコキシ）のファミリーであり、好ましい化合物は、式（ＩＩＩ）で示されるものである。
【００７７】
好ましくは、本発明に係る化合物Ａはフッ素原子を有していない。好ましくは、本発明に係る化合物Ａのモル質量は、４００〜４０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは４００〜１５００ｇ／ｍｏｌ、より好ましくは４００〜１２００ｇ／ｍｏｌ、さらにより好ましくは４００〜１０００ｇ／ｍｏｌの範囲内にある。
【００７８】
疎水性化合物Ｂは、少なくとも１個の疎水性基を有する。「疎水性」基とは、本発明に関連する範囲内では、特に水素結合により水分子に結合可能でない原子の組合せを意味するものと理解される。これは、一般に、荷電原子を含まない非極性有機基である。
【００７９】
好ましくは、化合物Ｂは、少なくとも１個のフッ素化基、好ましくは過フッ素化基、典型的にはフルオロカーボン基、好ましくはフルオロアルキル基、フルオロアルケニル基、ペルフルオロアルキル基、ペルフルオロアルケニル基、（ポリ）（フルオロアルキルエーテル）基、（ポリ）（ペルフルオロアルキルエーテル）基、及び（ポリ）フルオロアルコキシ［（ポリ）アルキレンオキシ］アルキル基から選択される基、好ましくはフルオロアルキル基を含む。これらの線状、環状、若しくは分岐状の基は、互いに直接結合されうるか、又は二価基、特にアルキレン基若しくはアルケニレン基、酸素原子、又は窒素架橋（−ＮＨ−、−Ｎ＝）を利用して結合されうる。好ましくは、フルオロカーボン基は、由来する炭化水素基の水素原子の代わりとしてフッ素原子を少なくとも５０％、より好ましくは少なくとも７０％、さらにより好ましくは少なくとも９０％含む。これらの基は、例えば、−ＣＨＦ−、−ＣＨＦ−ＣＨＦ−、−ＣＨ2−Ｃ（ＣＦ3）2−、−ＣＦ2−Ｃ（ＣＦ3）2−、−ＣＦ2−、−ＣＦ2−ＣＦ2−、−ＣＦ2−ＣＦ2−ＣＦ2−、−ＣＦ2−Ｃ（ＣＦ3）2−、−（ＣＨＦ）n−、及び−（ＣＦ2）n−（式中、ｎは３以上の整数を表す）などのユニットを含む。
【００８０】
ポリ（フルオロアルキルエーテル）基とは、フルオロアルコキシユニットの重合により、又はこれらのユニットとアルコキシユニットなどの他のユニットとの共重合により得られる基を意味するものと理解される。斯かる基の例は、−（ＣＨＦ−ＣＨＦ−Ｏ）n−基、−（ＣＨ2−ＣＦ2−Ｏ）n−基、−（ＣＦ2−ＣＦ2−Ｏ）n−基、−（ＣＦ2−ＣＦ2−ＣＦ2−Ｏ）n−基、−（ＣＦ2−ＣＨ（ＣＦ3）−Ｏ）n−基、−（ＣＦ2−ＣＦ（ＣＦ3）−Ｏ）n−基（式中、ｎは、１以上の整数を表す）である。また、斯かる基は、−（ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ）m−、−（ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ）m−及び（ＣＨ2−Ｃ（ＣＨ3）2−Ｏ）m−、（式中、ｍは、１以上の整数を表す）などのポリアルコキシユニットを含みうる。
【００８１】
化合物Ｂは、一般に、基材若しくはそれにグラフトされる第１の被膜の外表面に存在するか又は化合物Ａに存在する官能基と共有結合を形成可能な少なくとも１個の基を含み、第１の被膜が存在する場合、前記官能基は好ましくはシラノール基である。この基は、反応性基であり、限定されるものではないが、次の基、すなわち、イソシアネート基、アクリレート基、メタクリレート基、ハロアルキル基、カルボン酸基、スルホン酸基、アシルクロリド基、クロロスルホニル基、クロロホルメート基、エステル基、少なくとも１個の加水分解性基（ここではヒドロキシ基は加水分解性基であるとみなされる）を担持したケイ素原子、又はグリシジル基などのエポキシ官能基を含有する基を担持したケイ素原子、好ましくは少なくとも１個の加水分解性基、特にシラノール基若しくはその前駆体を担持したケイ素原子のうちの１つでありうる。
【００８２】
加水分解性基の例は、以上に定義されたＸ基である。
【００８３】
化合物Ｂは、好ましくはオルガノシラン化合物（この用語は特にオルガノシラザンを含む）、より好ましくは少なくとも１個の加水分解性基を担持した少なくとも１個（好ましくは１個）のケイ素原子を有するオルガノシラン化合物、さらにより好ましくは少なくとも１個の疎水性基、特にフルオロアルキル基と少なくとも１個の加水分解性基（例えばオルガノアルコキシシラン）とを担持した少なくとも１個のケイ素原子を有するオルガノシラン化合物である。一実施形態によれば、化合物Ｂは、少なくとも１個の−Ｓｉ（Ｒ）3基（式中、Ｒは、加水分解性基、特に−ＯＣＨ3基、−ＯＣ2Ｈ5基、−ＯＨ基、及び−ＮＨ2基から選択されるものを表す）を含む。したがって、化合物Ｂは、例えば、シラザンでありうるか、又はトリアルコキシシリル基を含みうる。好ましくは、Ｂはトリアルコキシシリル基を含む。
【００８４】
好ましくは、その疎水性鎖、例えば、フルオロアルキル鎖は、一方のみの末端又はその末端の両方、理想的には一方のみの末端が、少なくとも１個の加水分解性基を担持した少なくとも１個（好ましくは１個）のケイ素原子を含む少なくとも１個、好ましくはちょうど１個の基により官能基化される。好ましくは、このオルガノシラン化合物は、少なくとも２個の加水分解性基、好ましくは３個の加水分解性基を担持したケイ素原子を含む。好ましくは、化合物Ｂの一方の鎖末端のみがシラノール基又はシラノール基前駆体を含む。
【００８５】
化合物Ｂは、式（ＶＩＩＩ）及び（ＩＸ）：
Ｆ（ＣＦ2）c−（ＣＨ2）d−（ＣＦ2）e−（ＣＨ2）f−Ｓｉ（Ｒ）3  （ＶＩＩＩ）
Ｈ（ＣＨ2）g−（ＣＦ2）h−（ＣＨ2）i−（ＣＦ2）j−Ｓｉ（Ｒ）3  （ＩＸ）
（式中、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ、及びｊのそれぞれは、０〜１０の範囲内の整数を表し、ｃ、ｄ、ｅ、及びｆの少なくとも１つは０以外であり、ｇ、ｈ、ｉ、及びｊの少なくとも１つは０以外であり、且つＲは以上に定義された加水分解性基である）
で示されるシラン（又はシラザン）から選択されうる。好ましくは、５≦ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ≦１５及び／又は５≦ｇ＋ｈ＋ｉ＋ｊ≦１５、より好ましくは５≦ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ≦１２及び／又は５≦ｇ＋ｈ＋ｉ＋ｊ≦１２。
【００８６】
好ましい成分Ｂは、式ＣＦ3−（ＣＦ2）7−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｓｉ（ＮＨ2）3で示されるフルオロアルキルシラザンなどの加水分解性Ｓｉ−Ｎ結合を含むシラザン化合物である。この化合物は、ＯｐｔｒｏｎからＯＦ１１０（商標）という名称で入手可能である。使用可能な他の成分Ｂは、同会社製のフッ素化化合物ＯＦ２１０（商標）及びＫＰ９１１（登録商標）という名称で信越化学工業株式会社により販売されている化合物である。
【００８７】
シリカ（ＳｉＯ2）表面に５ｎｍの単層の形態で堆積された場合、化合物Ｂは、一般に、得られる表面エネルギーが１６ｍＪ／ｍ2以下、より好ましくは１５ｍＪ／ｍ2以下、さらにより好ましくは１４ｍＪ／ｍ2以下の層をもたらす。
【００８８】
好ましくは、本発明に係る化合物Ｂのモル質量は、９００ｇ／ｍｏｌ以下、より好ましくは８００ｇ／ｍｏｌ以下、さらに好ましくは７００ｇ／ｍｏｌ以下、さらにより好ましくは７００ｇ／ｍｏｌ以下である。それは、好ましくは３００〜８００ｇ／ｍｏｌ、より好ましくは３００〜７００ｇ／ｍｏｌ、さらにより好ましくは４００〜６００ｇ／ｍｏｌの範囲内である。
【００８９】
また、以上に定義された、少なくとも１種の化合物Ａ、好ましくはポリオキシアルキレン基を有するものと、少なくとも１種の化合物Ｂ、好ましくはフルオロカーボン基を有するものと、から形成される本発明に係る防曇性被膜用の前駆体は、防汚性被膜ともなる。それは、一般に、光学物品の表面エネルギーを２５ｍＪ／ｍ2以下に低下させうる。
【００９０】
親水性化合物Ａの不在下では、得られる被膜は、満足すべき防曇性を有しておらず、一方、疎水性化合物Ｂの不在下では、得られる被膜は、満足すべき防汚性を有していない。
【００９１】
本発明の一実施形態によれば、防曇性被膜用の前駆体は、防曇性被膜用の前駆体の全重量を基準にして、８０重量％超、好ましくは９０重量％超の本発明に係る化合物Ａ及びＢを含む。一実施形態によれば、防曇性被膜用の前駆体は、前記化合物Ａ及びＢの層からなる。
【００９２】
好ましくは、本発明に係る防曇性被膜用の前駆体は、被膜の全重量を基準にして５重量％未満の金属酸化物又はメタロイド酸化物（例えば、シリカ又はアルミナ）を含有し、より好ましくは、それを含まない。防曇性被膜の形成に使用されるオルガノシラン化合物が真空下で堆積される場合、好ましくは、欧州特許出願第１３２４０７８号明細書に記載される少なくとも１種の有機化合物と少なくとも１種の無機化合物との共蒸発技術に従って金属酸化物を一緒に共蒸発させない。
【００９３】
本発明によれば、化合物Ａ及びＢを堆積すると、前記化合物Ａ及び／又はＢが第１の被膜（存在する場合）、基材、及び／又は互いに（少なくとも部分的に）永久的に（単なる吸着ではなく共有結合により）グラフトされた内側部分と、洗浄及び／又は払拭により（機械的及び／又は化学的に）除去可能な外側部分と、を含む防曇性被膜用の前駆体被膜が形成される。
【００９４】
斯かる構造に到達するために、第１の被膜又は基材の表面、好ましくはシラノール基を含む表面に過剰の化合物Ａ及び／又はＢ、好ましくは過剰の化合物Ａを堆積することが可能である。斯かる構成に到達するための堆積パラメーターの調整は、当業者の技術の範囲内である。過剰とは、化合物Ｂ及び／又は化合物Ｂの一部の後に堆積された親水性化合物Ａの一定量が遊離状態を維持していること、すなわち、第１の被膜若しくは基材又は化合物Ａ若しくはＢのいずれにも共有結合によりグラフトされていないことを意味するものと理解される。
【００９５】
基材又は第１の被膜の表面への化合物Ａ及びＢのグラフトは、これらの２種の化合物のそれぞれを共有結合で直接グラフトするか、さもなければ、それらの一方のみ、好ましくは化合物Ｂをグラフトする場合を含む。一実施形態によれば、化合物Ａ及び／又はＢがシランであり、そのケイ素原子が少なくとも１個の加水分解性基Ｒを有する場合、化合物Ａ及び／又は化合物ＢのＳｉ−Ｒ基の少なくとも１つは、基材又は第１の被膜のヒドロキシ基に共有結合される。
【００９６】
防曇性被膜用の前駆体被膜は、好ましくは３ｎｍ以上、より好ましくは≧５ｎｍ、さらにより好ましくは≧８ｎｍ、理想的には≧１０ｎｍの厚さ（払拭前）を有するコーティングである。その厚さは、好ましくは１００ｎｍ未満、より好ましくは≦５０ｎｍ、さらにより好ましくは≦２０ｎｍである。それは、典型的には３〜１００ｎｍ、好ましくは５〜５０ｎｍの範囲内である。
【００９７】
本発明に係る第１の被膜又は基材の表面への化合物Ａ及びＢの堆積は、通常の技術に従って、好ましくは気相堆積又は液相堆積、より好ましくは気相堆積により、一般的には真空チャンバー内で実施可能である。
【００９８】
気相堆積は、物理気相堆積（ＰＶＤ）又は化学気相堆積（ＣＶＤ）を、例えば、限定されるものではないが、蒸発、任意選択でイオンビーム蒸発、スパッタリング、又はプラズマ増強化学気相堆積からなりうる。好ましい方法は、物理気相堆積、特に真空蒸発、一般的には蒸発させる化合物の加熱と組み合わせたものである。それは、ジュール効果熱源（ジュール効果は電気抵抗が熱となって現れたものである）や電子銃のようにさまざまな蒸発システムを用いて実現されうるが、当業者に公知の任意の他のデバイスを使用することも可能である。
【００９９】
化合物Ａ及びＢは、蒸発及び堆積の速度をより良好に制御するために蒸発前にあらかじめ溶媒に溶解可能である。
【０１００】
親水性化合物Ａは、好ましくは、ジュール効果熱源を用いて真空蒸発により堆積される。疎水性化合物Ｂは、好ましくは、その気化を引き起こすために電子銃を用いて真空蒸発により堆積される。
【０１０１】
化合物Ａ及びＢは、逐次的に、すなわち、互いの化合物の堆積工程をオーバーラップさせずに、又は同時に（例えば、共蒸発により）、又は部分的に同時に堆積されうる。このために、ジュール効果システム上に位置決めされた金属容器、例えば、銅皿に２種の化合物Ａ及びＢを配置することが可能である。銅皿は、スチールウール又は金属発泡体（好ましくはニッケル発泡体）を含有しうる。一実施形態では、化合物Ａは、スチールウール又は金属発泡体に含浸され、化合物Ｂは、ディッシュに単に注加される。
【０１０２】
これらの化合物は、好ましくは逐次的に堆積される。疎水性化合物Ｂを堆積する工程は、好ましくは、親水性化合物Ａを堆積する工程の前に開始される。最適な実施形態によれば、真空蒸発による本発明に係る防曇性被膜用の前駆体の形成は、好ましくは、疎水性化合物Ｂ及びその後に親水性化合物Ａを逐次堆積することにより行われる。
【０１０３】
堆積プロセス、特に蒸発の持続時間は、所望の被覆厚さが得られるように調整される。
【０１０４】
堆積条件は、化合物Ａ及びＢの堆積後、水との静的接触角が９０°超であり且つ表面エネルギーの極性成分が１．５ｍＪ／ｍ2超である被膜が得られるように選択される。使用される化合物の性質、それらのそれぞれの量（蒸発フローを調整することにより調整されうる）、それらの堆積の順序、及び堆積の持続時間は、所望の性質を有する被膜に到達するために当業者であればいかに変化させるか分かるであろうパラメーターの例である。
【０１０５】
化合物Ａ及びＢは、好ましくは、個別の支持体上に堆積した場合に［化合物Ａの層の物理的厚さ］／［化合物Ｂの層の物理的厚さ］の比が３未満且つ好ましくは０．８超である化合物Ａ及びＢの層が形成されるような量及び条件下で堆積時に使用される。化合物Ａは、防曇性被膜用の前駆体被膜の表面の表面エネルギーの極性成分が１．５ｍＪ／ｍ2超になるように十分な量で使用しなければならない。
【０１０６】
本発明の一実施形態によれば、堆積条件は、単層として測定したときにそのそれぞれの層に対して測定された実際の物理的厚さの範囲が疎水性化合物Ｂから得られた層では１〜１５ｎｍ、且つ親水性化合物Ａから得られた層では４〜５０ｎｍ、好ましくは４〜２５ｎｍになるように選択される。その測定は、多波長エリプソメトリーにより行われうる。
【０１０７】
防曇性被膜用の前駆体被膜は、好適量の化合物Ａ及びＢを直接堆積することにより得られうる。
【０１０８】
しかしながら、過剰の化合物Ａ及びＢ、主に過剰の親水性化合物Ａを光学物品の表面に堆積することにより、且つ同一の所望の最終厚さに到達するために、堆積されたがグラフトされていない過剰のこれらの化合物を除去することにより、防曇性被膜用の前駆体被膜を形成することが好ましいことを、本発明者らは見いだした。この手順は、処理レンズの防曇性能を保証する。前駆体被膜の層を過剰厚さにせずに直接堆積すると、いくつかの場合には、表面が界面活性剤の液体溶液に対して十分な親和性を有していないために所望の防曇性を有していない被膜をもたらす不均一な堆積層及び防曇性被膜用の前駆体被膜が得られる可能性があることを、実際に本発明者らは見いだした。
【０１０９】
本発明に係る化合物Ａ及びＢの堆積後、払拭により除去可能な被膜の外側部分を洗浄及び／又は払拭により除去しうるか、さもなければ一時的層を堆積した場合には一時的層の使用を含む国際公開第２０１２／１５３０７２号パンフレットに記載の除去技術に付しうる。防曇性被膜用の前駆体被膜の外側部分を洗浄及び／又は払拭により除去可能であるということは、特に、スポンジを用いて石鹸水（界面活性剤を含有する）による洗浄に付した後で脱イオン水による洗浄に付すことにより、及び／又はドライであるか若しくは任意選択でアルコール、典型的にはイソプロピルアルコールで含浸されたＣＥＭＯＩ（商標）布、Ｗｙｐａｌｌ（商標）布、若しくはＳｅｌｖｉｔｈ（商標）布を用いて典型的には２０秒以下の払拭に付すことにより、除去しうることを意味する。この払拭操作に続いて、任意選択で脱イオン水によるさらなる濯ぎ及び布片による最終払拭を行うことが可能である。
【０１１０】
堆積された過剰の化合物Ａ及び任意選択で化合物Ｂ、すなわち、払拭により除去可能な防曇性被膜用の前駆体被膜の外側部分を除去した後、実際にグラフトされた化合物Ａ及びＢを含有する防曇性被膜用の前駆体被膜の内側部分のみが、本発明に係る第１の被膜又は基材の表面に残留する。グラフトされていない分子はこうして除去される。前駆体被膜の内側部分は、温和な処理、例えば、布を用いた乾式払拭若しくは類似の処理、さもなければ水、石鹸水、若しくはイソプロピルアルコールなどのアルコールで含浸された布を用いた払拭により除去することはできない。
【０１１１】
本発明はまた、
ａ）少なくとも１つの主表面を有する基材を提供する工程と、
ｂ）前記化合物Ａ及びＢが基材に又は存在する場合には第１の被膜にグラフトされた内側部分と、洗浄及び／又は払拭により除去可能な外側部分と、を含む防曇性被膜用の前駆体被膜が得られるように、基材の前記主表面上又は基材の前記主表面が第１の被膜で被覆されている場合には第１の被膜上に、少なくとも１種の親水性化合物Ａ及び少なくとも１種の疎水性化合物Ｂを、好ましくは真空蒸発により堆積する工程と、
を含む、以上に定義された光学物品、好ましくは眼用レンズの作製プロセスに関する。
【０１１２】
以上で説明したように、本発明に係るプロセスは、一般的には真空チャンバー内で基材の主表面又は第１の被膜を化合物Ａ及び／又は化合物Ｂに暴露して、この又はこれらの化合物の堆積を行う工程を含む。
【０１１３】
本発明に係るプロセスはまた、払拭により除去可能な防曇性被膜用の前駆体被膜の外側部分を除去することにより一時的防曇性被膜の利用を可能にした後に得られた防曇性被膜用の前駆体被膜の表面に少なくとも１種の界面活性剤を堆積する追加の段階を含みうる。この界面活性剤膜は、目に見える曇りが形成されないようにレンズの表面全体に水滴を分散させるのに役立つ一様な層をその表面に形成することにより曇りに対する一時的保護を備えたレンズを提供する。
【０１１４】
一実施形態によれば、界面活性剤は、少なくとも１種の界面活性剤を含有する液体溶液の膜を適用することにより堆積される。界面活性剤溶液の適用は、任意の公知の技術、特にディップ塗布、スピン塗布、又はスプレー塗布により実施可能である。界面活性剤溶液は、好ましくは、この溶液の１滴を防曇性被膜用の前駆体の表面に堆積することにより、及びその後で前記前駆体被膜の好ましくは全体を覆うようにそれを展延することにより、適用される。適用される界面活性剤溶液は、一般的には水性溶液、好ましくは０．５重量％〜１０重量％、より好ましくは２重量％〜８重量％の界面活性剤を含むものである。
【０１１５】
防曇性を付与するための市販の界面活性剤溶液は、Ｅｓｓｉｌｏｒ製のＯｐｔｉｆｏｇ（商標）Ａｃｔｉｖａｔｏｒ溶液である。
【０１１６】
好ましい別の実施形態によれば、界面活性剤は、前記界面活性剤で含浸された布、例えば、ドライワイプ又はウェットワイプ、好ましくは再使用可能なものを用いて前駆体被膜に適用される。それは、理想的にはドライワイプ、すなわち、指触で乾燥しているように感じられるワイプである。
【０１１７】
これらの含浸布は、処理される表面の単純な払拭（前後並進運動及び／又は回転運動）により、基材の表面に界面活性剤を効果的に分配可能である。
【０１１８】
本発明に係る界面活性剤含浸布は、好ましくはマイクロ繊維布、より好ましくは織布又は編布、さらにより好ましくは編布である。本発明で使用される布は、好ましくは少なくとも８０重量％のマイクロ繊維、より好ましくは少なくとも９０重量％のマイクロ繊維、好ましくは少なくとも９５重量％、より好ましくは１００重量％のマイクロ繊維を含む。「マイクロ繊維」という用語は、１．３デシテックス（１．３ｇ／１０ｋｍ）未満の線密度のテキスタイル繊維を意味すると理解される。マイクロ繊維布は、好ましくは、親水性ポリマーマイクロ繊維及び親油性ポリマーマイクロ繊維、特にポリアミドマイクロ繊維及びポリエステルマイクロ繊維、より好ましくは６０重量％〜８５重量％のポリエステルマイクロ繊維及び１５重量％〜４０重量％のポリアミドマイクロ繊維を含む。斯かる布の例は、６９．５重量％のポリエステルマイクロ繊維及び３０．５重量％のポリアミドマイクロ繊維で構成されたＣｅｍｏｉ（商標）布である。
【０１１９】
好ましくは、本発明に係るワイプは、非含浸布の重量を基準にして５重量％〜４０重量％、好ましくは１０重量％〜４０重量％、より好ましくは１５重量％〜３５重量％、最適には２０重量％〜３０重量％の界面活性剤で含浸された布を含む。基材に防曇性を付与するために使用可能な含浸布及びワイプさらには作製方法は、ＦＲ２０１３／５０４５９号明細書で出願された出願により詳細に記載されている。
【０１２０】
使用される界面活性剤は、表面に適用した後に光学物品に防曇性を付与できるものでなければならない。それは、実験の節に記載の熱蒸気試験を行うことにより検証されうる。
【０１２１】
溶液を用いて又はワイプを利用して直接適用するために、多種多様な界面活性剤を使用しうる。これらは、イオン性（陽イオン性、陰イオン性、若しくは両イオン性）又は非イオン性、好ましくは非イオン性又は陰イオン性でありうる。しかしながら、これらの種々のカテゴリーに属する界面活性剤の混合物を想定可能である。使用可能な界面活性剤の例は、国際公開第２０１３／０１３９２９号パンフレット及びＦＲ２０１３／５０４５９号明細書に開示されているものである。ポリエチレングリコールアルキルモノエーテル、ソルビタン環、特にポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステルを有する界面活性剤、２つのエチレンオキシドブロックと１つの中心プロピレンオキシドブロックとを含むトリブロックコポリマー、及びポリエトキシル化フルオロアルキル性の化合物が挙げられうる。
【０１２２】
好ましくはポリオキシアルキレン基、より好ましくは６つ超のオキシアルキレンユニットを有するポリオキシアルキレン基、さらにより好ましくは６つ超のオキシエチレンユニットを有するポリオキシエチレン基を含む界面活性剤が使用される。
【０１２３】
使用される界面活性剤は、好ましくは≧５の親水性親油性バランス（ＨＬＢ）を有し、これは、最適な防曇性が奏効するように、好ましくは１８以下、より好ましくは１６以下、さらにより好ましくは１５以下である。「親水性親油性バランス（ＨＬＢ）」という表現は、当業者に周知であり、界面活性剤の特徴量を表し、水への溶解度が高い界面活性剤の場合、より大きい。本出願では、親水性親油性バランスの理論（計算）値が考慮されるものとする。使用される計算方法は、界面活性剤のカテゴリーに応じて、ＦＲ２０１３／５０４５９号明細書に示されている。
【０１２４】
基材の表面に界面活性剤を適用した後に得られる本発明に係る防曇性被膜は、水との静的接触角が好ましくは１０°以下、より好ましくは５°以下である。それは、一般的には光学物品の外側被覆を構成する。
【０１２５】
本発明はまた、表面と水との静的接触角が９０°超であり且つ表面エネルギーの極性成分が１．５ｍＪ／ｍ2超である防曇性被膜用の前駆体被膜で被覆された基材を有する光学物品と、好ましくは≧５の親水性親油性バランス（ＨＬＢ）を有する界面活性剤と、を含む集合体に関し、集合体は、好ましくは、前記界面活性剤で含浸された布を含み、より好ましくは、前記界面活性剤で含浸されたマイクロ繊維布を含むドライワイプを含む。
【０１２６】
以下の実施例は、本発明をより詳細に例示するものであり、限定を示唆するものではない。特に指定がない限り、本出願に記載の厚さはすべて、堆積後に多波長エリプソメトリーにより測定された物理的厚さである。
【実施例】
【０１２７】
１．使用した材料及び光学物品
防曇性被膜用の前駆体を形成するために実施例で使用した親水性オルガノシラン化合物Ａは、６〜９つのエチレンオキシドユニット及び４５０〜６００ｇ／ｍｏｌのモル質量を有する式（ＩＩＩ）で示される２−［メトキシ（ポリエチレンオキシ）プロピル］トリメトキシシラン（ＣＡＳ番号：６５９９４−０７−２、商品名：ＳＩＭ６４９２．７、供給元Ｇｅｌｅｓｔ，Ｉｎｃ．）、Ｇｅｌｅｓｔ，Ｉｎｃ．により供給された式ＣＨ3Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）9〜12−（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3（ＩＶ）で示される化合物、並びにＧｅｌｅｓｔ（商品名：ＳＩＭ６４９２．７３）により供給された式ＣＨ3Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）21〜24−（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3（ＩＶａ）で示される化合物である。
【０１２８】
防曇性被膜用の前駆体を形成するために実施例で使用した疎水性オルガノシラン化合物Ｂは、Ｏｐｔｒｏｎにより供給されたフッ素化化合物ＯＦ２１０（商標）である。比較例で使用した他の疎水性化合物は、オプツールＤＳＸ（商標）（ダイキン工業株式会社）及びＫＹ−１３０（商標）（信越化学工業株式会社）である。
【０１２９】
種々の層（反射防止層、防曇性被膜用の前駆体被膜）の堆積を可能にする真空蒸発デバイスは、材料蒸発用の２つのシステム、すなわち、電子銃蒸発システム及びジュール効果蒸発システムを有するＳｙｒｕｓ  ＩＩＩ機である。
【０１３０】
本発明に係る実施例で使用したレンズは、ビスフェノールＡポリカーボネートで作製されたレンズ基材（矯正−８．００ディオプター、＋２．００シリンダー）を含み、その各面に１ミクロン程度の厚さを有するポリウレタン耐衝撃性プライマーを含み、そのプライマー自体に３ミクロン程度の厚さを有する耐摩耗性被膜及び５つの層ＺｒＯ2／ＳｉＯ2／ＺｒＯ2／ＩＴＯ／ＳｉＯ2を有する反射防止被膜が被覆されている。これらの種々の被膜、他の堆積条件、及び施された処理は、国際出願公開第２０１２／１５３０７２号パンフレットの実験の節により詳細に記載されている。
【０１３１】
また、類似の眼用レンズを再現するが、ヘイズ測定のために度なしのもの（前（凸）面及び後（凹）面で２つの同一のディオプター）である。
【０１３２】
２．防曇性被膜用の前駆体の気相堆積
防曇性被膜用の前駆体の形成に使用される種々の化学化合物は、ジュール効果又は電子銃による蒸発時に生成物のスプラッシュを抑えるためにスチールウールを備えた銅皿に最初に詰め込まれる。所望の厚さに応じて１００〜３００μＬの化合物を含有する各皿は、蒸発工程前に７０℃のホットプレート上で２分間予備加熱される。これにより任意選択の溶媒の蒸発及び生成物の脱ガスが可能になる。スチールウールを備えた銅皿にあらかじめ詰め込んで使用した化合物ＯＦ２１０（商標）は、予備加熱工程を必要としない。
【０１３３】
疎水性化合物、比較化合物、又は本発明に係る化合物を含有する皿は、蒸発時にこれらの化合物への電子銃の直接衝撃を防止するために、Ｓａｔｉｓから入手した穿孔されたタンタルカバーでさらに覆われる。電子束によりカバーを加熱し、それ自体で熱伝導を介して銅皿を加熱する。こうして生成される「オーブン」内の温度を化合物が蒸発するまで上昇させる。
【０１３４】
本発明に係る防曇性被膜用の前駆体の堆積は、レンズの反射防止被膜上に２工程で行われる。最初に、蒸発させる化合物を含有する銅皿が内部に配置された電子ビーム蒸発システムを用いて真空蒸発により疎水性化合物Ｂ（ＯＦ２１０（商標））を堆積し（速度：０ｎｍ／ｓ超〜０．５ｎｍ／ｓの範囲内、一般的には０．２５ｎｍ／ｓ、１〜４ｍＡの範囲内の放出電流、サーキュラー及びブロード電子走査トレース、平均残留圧力：７．９×１０-4Ｐａ）、次いで、ジュール効果熱源を用いて、すなわち、蒸発させる化合物を含有する銅皿を電流が通り抜ける金属ボート内に配置して、真空蒸発により親水性化合物Ａ（式ＩＩＩで示される化合物）を堆積する（速度：０ｎｍ／ｓ超〜０．５ｎｍ／ｓの範囲内、一般的には０．２５ｎｍ／ｓ、２〜５．５Ａの範囲内の加熱電流、平均残留圧力：５．７×１０-4Ｐａ）。
【０１３５】
実施例では、種々の量の化合物Ａ及びＢを蒸発させた。以下の表１に示される厚さの比は、使用した種々の化合物を個別の支持体上に堆積した場合に得られる被膜の厚さに対応する物理的理論厚さを割り算することにより計算されたものである。具体的には、逐次蒸発させる２種の化合物は、互いに反応して、２つの堆積層の理論厚さの和とは異なる実際の厚さを有する最終被膜をもたらしうる。
【０１３６】
防曇性被膜用の前駆体被膜は、１０〜１７ｎｍ程度の厚さ（過剰のシロキサン化合物を含めて多波長エリプソメーターで測定した厚さ）を有して得られる。
【０１３７】
比較例では、２種の化合物は、実施例１のものに匹敵する厚さを有する被膜が形成されるように逐次蒸発される（単一化合物を蒸発させる比較例１及び８を除く）。疎水性化合物（ＯＦ２１０（商標）、オプツールＤＳＸ（商標）、ＫＹ−１３０（商標））は、電子銃を利用して蒸発させ、一方、親水性化合物（ＩＩＩ）は、ジュール効果により蒸発させた。ただし、両方の化合物（疎水性及び親水性）をジュール効果により蒸発させた比較例５を除く。
【０１３８】
蒸発の終了時、堆積した過剰のシロキサン化合物が除去されるように、各レンズの表面を石鹸水、上水、イソプロピルアルコール、上水、次いで脱イオン水で濯いでからドライＣｅｍｏｉ（商標）布で払拭した。Ｃｅｍｏｉ（商標）布は、Ｍｉｃｒｏｆｉｂｒｅ  Ｍ８４０５  ３０×４０という商品名で供給業者Ｆａｃｏｌにより供給された布を表す。
【０１３９】
表１に示される結果を与えるレンズの表面の性質（接触角、表面エネルギー）の測定は、この段階でこうして洗浄及び払拭されたレンズを用いて行われる。表面エネルギー特性は、２種の参照液体（水及びジヨードメタン、０．１５ｍｍの内径の針）を用いて参考文献：“Ｅｓｔｉｍａｔｉｏｎ  ｏｆ  ｔｈｅ  ｓｕｒｆａｃｅ  ｆｒｅｅ  ｅｎｅｒｇｙ  ｏｆ  ｐｏｌｙｍｅｒｓ”Ｏｗｅｎｓ  Ｄ．Ｋ．，Ｗｅｎｄｔ  Ｒ．Ｇ．（１９６９），Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，１３，１７４１−１７４７に記載のオーエンス・ウェント法に従ってＤＩＧＩＤＲＯＰ  ＧＢＸデバイスにより決定された。このデバイスはまた、１滴の液体（この場合は水）の堆積後の所与の時点（３０００ｍｓ）で撮影された写真に基づく静的接触角の決定を可能にする。
【０１４０】
３．一時的防曇性被膜の形成及びその性能の評価
界面活性剤が「負荷」されるようにワイプを用いて中心から縁に向かって螺旋運動を行うことにより、界面活性剤（Ｃａｐｓｔｏｎｅ（登録商標）ＦＳ３１００（３０重量％））で含浸されたＣｅｍｏｉ（商標）布で作製されたワイプを用いてレンズの両面を払拭する。これは１回の適用に対応する。種々の適用レベル、例えば、５、１０、又は２０回の適用を行いうる。
【０１４１】
次いで、温度（２０〜２５℃）及び湿度５０％が調整された環境にレンズを２４時間配置し、次いで、５５℃の水を含有する加熱容器の上に１５秒間配置する（熱蒸気試験）。その直後、５ｍ離れて位置決めされた視力表を試験レンズを通して観察する。１０／１０の視力を有する観察者が眼の前にレンズを配置した状態で１０／１０の視力を達成し（透過方式、５メートル離れて配置されたスネレン視標チャート、ＦＡＸ  ＩＮＴＥＲＮＡＴＩＯＮＡＬから入手可能なＡｒｍａｉｇｎａｃ  Ｔｒｉｄｅｎｔｓ，ｒｅｆ．Ｔ６チャート）、且つ曇りや視覚の歪みが観察されない場合、試験に合格したとみなされる。この試験により、着用者がお茶やコーヒーの入ったカップ又は沸騰水の入ったソースパンの上に顔を置く通常の生活条件をシミュレートすることが可能になる。
【０１４２】
得られた結果は表１にまとめられている。実施例１〜５では、５〜１５回適用の範囲内の界面活性剤適用レベルで防曇性が得られたが、実施例６のレンズでは約２０回の適用が必要であった。比較例１〜５のレンズは、界面活性剤を２０回適用した後でさえも防曇性を示さなかった。
【０１４３】
親水性化合物Ａを使用しないで外側被覆を形成した場合、疎水性化合物Ｂをジュール効果により堆積するか又は電子銃の作用下で堆積するかにかかわらず、このレンズは防汚性を有するが防曇性を有していないことが比較例１から示される。本発明に係る実施例１〜５のレンズのみが防曇性及び防汚性の両方を呈する。
【０１４４】
【表１】
2017510825.tif 000003
【０１４５】
先行技術の眼用レンズ（比較例１及び８のレンズ）と比較して、汚れに対する本発明に係る実施例７の眼用レンズの防汚挙動を以下で詳細に説明する。
＋は、レンズの防汚性が参照として採用した比較例８のレンズと同程度であることを示している。
＋＋＋は、２回転（試験番号１（ＣＥＭＯＩ布）に基づく以下に記載の清浄性プロトコルに準拠）の後、レンズが参照として採用した比較例８のレンズを上回る防汚性（３．９％未満のヘイズレベル）を有することを示している。
【０１４６】
方法
手順／清浄性
試験は、温度が２２℃±３℃且つ周囲湿度が５０％±１０％に調整された室内で行われる。汚れは、人工皮脂（主にオレイン酸からなる）であらかじめ含浸された指からレンズの中心に指紋を適用することにより得られる。得られた汚れ（人工皮脂）は、約２０ｍｍの直径を有する痕跡の形態である。
【０１４７】
次いで、レンズは、機械ロボットに装着された任意選択で含浸されたマイクロ繊維布を利用して７５０ｇの負荷（完全に再現性のある前進後退運動）の下で自動払拭に付される。１回の払拭操作は、布の１回の前進運動又は１回の後退運動に対応する。レンズ上での布の運動時の全移動距離は、４０ｍｍ、すなわち、汚れを中心とする点の片側に２０ｍｍである。テキスタイルは、レンズに対して常に同一方向に適用される。運動は１回目の運動時に中心から開始されるので、一番最初の移動時に挙げられた２という値は実際には１．５である。
【０１４８】
レンズを通した透過方式でのヘイズの値（Ｈにより表される）は、皮脂により覆われた領域全体にわたりレンズの中心で１回目の測定を行ってから、２、５、１０、２０、又は３０回（挙げられた値は、払拭操作の開始からの合計値である）に等しい払拭操作回数の後、Ｈａｚｅｇｕａｒｄ  ＸＬ  ２１１  Ｐｌｕｓデバイスにより測定される。
【０１４９】
ヘイズＨは、レンズを透過した光の全量（Ｉ  ｔｏｔａｌ）及び透過方式で散乱された光の量（Ｉ  ｓｃａｔｔｅｒｅｄ：法線方向に対して２．５°超の角度で偏向されて透過した光の量）を同時に測定することにより、ＡＳＴＭ  Ｄ１００３規格「透明プラスチックのヘイズ及び視感透過率の標準的試験方法」に準拠して得られる。
【数１】
2017510825.tif 000004
【０１５０】
ヘイズＨが急速に減少するほど、清浄化は速くなり、清浄性は良好になる。
【０１５１】
試験番号１：ＣＥＭＯＩ（商標）布を用いて以上のプロトコルに準拠して、本発明に係る実施例７の眼用レンズの清浄性を試験する。
【０１５２】
図１は、以下のことを示している。
−  本発明に係る眼用レンズは、先行技術の防曇性被膜用の前駆体を含む表面を有するレンズである比較例８のレンズよりも汚れの影響が少ない。実際に、指紋は、本発明に係る実施例７の場合よりも比較例８の場合のほうがより多くのヘイズを発生する。
−  本発明に係る眼用レンズは、比較例８に係るレンズよりもかなり急速に清浄化され、且つＯＦ２１０（商標）防汚性被膜のみで被覆された比較例１の眼用レンズとまったく同程度に良好に清浄化される。ヘイズは、最初の清浄化サイクル（２回転）から開始して１／８倍に低減される。
【０１５３】
試験番号２：３０重量％のＣａｐｓｔｏｎｅ（商標）ＦＳ３１００で含浸された乾燥感触ＣＥＭＯＩ（商標）布を使用した以外は試験番号１を再現する。
【０１５４】
図２は、本発明に係る眼用レンズが２つの比較例に係るレンズよりも良好に清浄化され、特に、比較例８のレンズと対比して本発明がより良好であることを示している。
【０１５５】
試験番号３：指紋を適用する前に３０重量％のＣａｐｓｔｏｎｅ（商標）ＦＳ３１００を含む乾燥感触ＣＥＭＯＩ（商標）布を用いて眼用レンズの表面処理（５回転）を行った以外は試験番号２を再現する。したがって、こうして、表面にＣａｐｓｔｏｎｅ（商標）ＦＳ３１００の非常に薄い層を有する防曇性眼用レンズを試験する。
【０１５６】
図３は、本発明に係る眼用レンズが比較例８に係るレンズよりも良好な清浄性を有することを確認したものである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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