(57)【要約】  本発明は、一般式（Ｉ）2017528451.tif 000007（式中：−  Ｒが、１つまたは複数のヘテロ原子を任意選択的に含み、かつ１つまたは複数の置換基を任意選択的に含む脂肪族または芳香族二価基であり、および−ＸおよびＹが、独立して、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−および−ＮＲ’−から選択され、ここで、Ｒ’が、１つまたは複数のヘテロ原子を任意選択的に含む一価基である）を有する複素環式水素ホスフィンオキシドの合成のための方法であって、ａ）一般式ＨＸ−Ｒ−ＹＨを有する化合物および六酸化四リンを混合することによって、反応混合物を形成する工程と；ｂ）複素環式水素ホスフィンオキシドを含む得られる化合物を回収する工程とを含む方法に関する。
2017528451.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式：
【化１】
2017528451.tif 000006
（式中：
−  Ｒが、１つまたは複数のヘテロ原子を任意選択的に含み、かつ１つまたは複数の置換基を任意選択的に含む脂肪族または芳香族二価基であり、および
−  ＸおよびＹが、独立して、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−および−ＮＲ’−から選択され、
ここで、Ｒ’が、１つまたは複数のヘテロ原子を任意選択的に含む一価基である）
を有する複素環式水素ホスフィンオキシドの合成のための方法であって、
ａ）一般式ＨＸ−Ｒ−ＹＨを有する化合物および六酸化四リンを混合することによって、反応混合物を形成する工程と；
ｂ）前記複素環式水素ホスフィンオキシドを含む前記得られる化合物を回収する工程と
を含む方法。
【請求項２】
六酸化四リンに対する前記一般式ＨＸ−Ｒ−ＹＨの前記化合物のモル比が、５．０〜２．０、好ましくは、４．５〜２．５、より好ましくは、４．０〜３．０に含まれる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記一般式ＨＸ−Ｒ−ＹＨの前記化合物は、
−  ＸおよびＹが、独立して、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−および−ＮＲ’−から選択され、ここで、Ｒ’が、酸素、窒素、硫黄およびリンからなる群から選択される１つまたは複数のヘテロ原子を任意選択的に含み、かつアルコキシ、アルカン酸アルキル、カルボン酸アルキル、ニトリル、カルバモイル、スルファニルおよびハロゲンからなる群から選択される１つまたは複数の置換基を任意選択的に含む、１〜１０個の炭素原子を有するアルキル、アルケニルまたはアルキニル基であり；
−  Ｒが、２〜２０個の炭素原子を有し、および酸素、窒素、リンおよび硫黄からなる群から選択される１つまたは複数のヘテロ原子を任意選択的に含み、かつアリール、アルカリール、アルケンアリール、アルキンアリール、アルコキシ、アルカン酸アルキル、カルボン酸アルキル、ニトリル、カルバモイル、スルファニルおよびハロゲンからなる群から選択される１つまたは複数の置換基を任意選択的に含むアルキレン、アルケニレンまたはアルキニレン基であり、または
−  Ｒが、酸素、窒素、リンおよび硫黄からなる群から選択される１つまたは複数のヘテロ原子を任意選択的に含み、かつ１つまたは複数の置換基Ｒ’を任意選択的に含むアリールまたはビアリール基であり；
−  ＸおよびＹが、１０個以下の炭素−炭素および／または炭素−ヘテロ原子単結合および／または二重結合および／または三重結合で隔てられ、それにより、環状脂肪族または芳香族化合物の場合、最小数の結合が意図される
ことを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
工程ａ）が、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジクロロメタンおよびそれらの混合物からなる群から選択される溶媒を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
工程ａ）が、有機脱水剤、好ましくは、無水酢酸、トリフルオロ酢酸無水物およびそれらの混合物からなる群から選択される酸無水物；オルトギ酸トリメチルなどのオルトエステルまたはＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミドなどのカルボジイミドからなる群から選択される脱水剤を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
工程ａ）が、無機脱水剤、好ましくは、４Åの細孔径を有するゼオライトからなる群から選択される脱水剤を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記脱水剤が前記反応剤と反応せず、前記脱水剤が反応の最初から添加される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
六酸化四リンが、５分間〜２時間に含まれる期間にわたり、前記溶媒を含む一般式ＨＸ−Ｒ−ＹＨの前記化合物に添加され、１０℃〜８０℃に含まれる温度で静置される、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
工程ａ）が、前記六酸化四リンの添加の完了後、１０分間〜２０時間に含まれる期間にわたり、１０℃〜８０℃に含まれる温度に維持される、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記複素環式水素ホスフィンオキシドを含む前記得られる化合物が、前記溶媒の留去によって工程ｂ）において回収される、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記複素環式水素ホスフィンオキシドを含む前記得られる化合物が、結晶化によって工程ｂ）において回収される、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
一般式ＨＸ−Ｒ−ＹＨの前記化合物が、エチレングリコール；１，２−プロパンジオール；２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール；２−フェニル−１，２−プロパンジオール；３−アリルオキシ−１，２−プロパンジオール；３−クロロ−１，２−プロパンジオール；１，３−ブタンジオール；２，３−ブタンジオール；２，３−ジメチル−２，３−ブタンジオール；１，１，２，２−テトラフェニル−１，２−エタンジオール；トリエチレングリコール；１，１０−デカンジオール；２，２’−ビフェノール、および１，１’−ビス−２−ナフトール；２−ヒドロキシ安息香酸；ピナンジオールおよび（Ｓ）−（−）−α，α−ジフェニル−２−ピロリジンメタノールからなる群から選択される、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
工程ａ）における反応剤の総量に対する溶媒の重量比が０．５〜５に含まれる、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複素環式水素ホスフィンオキシドの合成のための方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ヘテロ原子置換ホスフィンオキシド、特に環状ホスファイトを含むホスファイトの調製で知られている従来の方法は、一般に、
−  亜リン酸アリールおよび／亜リン酸アルキルとポリオールとのエステル交換、
−  三ハロゲン化リンとポリオールとの反応、および
−  ポリオールとホスホン酸との反応、
−  酸素の存在下におけるポリオールとリン元素との反応
に分類され得る。
【０００３】
（特許文献１）には、１５ｍｇのＫＯＨ／ｇ未満の酸価および１５０ｍｇのＫＯＨ／ｇ未満のヒドロキシル価によって特徴付けられるポリアルキレングリコールアルキルまたはハロアルキルポリホスホネートを調製する方法であって、アルブーゾフ転位触媒の存在下で、および好ましくは、ハロゲン化アルキル−またはハロゲン化アラルキルの存在下で、１６０℃〜２３０℃の範囲の温度で、ポリアルキレングリコールアルキルまたはハロアルキルポリホスファイトを加熱する工程を含む方法が開示される。ポリアルキレングリコールアルキルまたはハロアルキルポリホスファイトは、ポリアルキレングリコールとの第三級ホスファイトのエステル交換反応から得られる。ポリアルキレングリコールアルキルまたはハロアルキルポリホスホネートは、共重合によって、主にポリウレタン発泡体において難燃剤として使用される。
【０００４】
（特許文献２）には、複素環式ホスファイトおよび第三級アルキル、アリールまたはハロアリールホスファイトの反応から得られる新規なテトラホスファイトが開示され、前記複素環式ホスファイトは、ポリアルキレングリコールと第三級ホスファイトとの反応から得られる。テトラホスファイトは、幅広いポリマー系において安定剤および防火剤および難燃剤として使用される。
【０００５】
（特許文献３）には、新規なポリオールアルキル水素ホスファイトおよびそれらの製造方法が開示され、ここで、好ましくは、１モルの多価アルコールおよび２モルの亜リン酸水素ジアルキルが一緒に混合され、約１００℃以上の温度に加熱される。ポリオールホスファイトの非環状特性は、ポリオールホスファイト生成物におけるより高いリン含量を可能にする。ポリオールアルキル水素ホスファイトは、エポキシまたはポリウレタン樹脂などの樹脂における難燃剤および自己消火性成分として有用である。
【０００６】
（特許文献４）には、特定の二環式ホスファイトおよびホスフェートおよびそれらを調製するための方法が開示され、ここで、亜リン酸トリアリールまたは亜リン酸トリハロアリールが、トリメチロールアルカンまたはペンタエリトリトールと反応される。この化合物は、ハロゲン化ビニル樹脂における熱安定剤としてならびに天然および合成ゴム、油脂における酸化防止剤として有用である。
【０００７】
（特許文献５）には、亜リン酸水素ジアルキルまたは亜リン酸水素ジアリールおよび特定のグリコールから誘導されるポリマーの合成のための方法が開示され、ここで、ヒドロキシル基は、４個以上の炭素原子またはジヒドロキシ芳香族化合物で隔てられている。ヒドロキシル基が３個以下の炭素原子で隔てられたグリコールでは、有機リンポリマーの代わりに環状有機リン化合物が一般に形成される。同様に、ジヒドロキシ芳香族化合物では、ヒドロキシル基が、化合物においてパラ位またはメタ位にあるのが望ましい。ヒドロキシル基がオルト位にある場合、有機リンポリマーの代わりに環状有機リン化合物が一般に形成される。本方法は、１〜１６時間の範囲内の反応期間にわたる０℃〜３５０℃の範囲内の温度でのエステル交換を含み、それにより、実質的に等モル比のホスファイトおよびジヒドロキシ化合物が反応される。
【０００８】
（特許文献６）には、環状水素ホスファイトの調製のための改良された方法であって、触媒の非存在下で、１０℃〜１８０℃の温度でおよび１ｍｍ  Ｈｇ〜５気圧の圧力で、亜リン酸水素ジアルキル、亜リン酸水素ジアリールおよび亜リン酸水素アルキルアリールからなる群から選択される材料を、１，２−グリコール、１，３−グリコール、隣接グリコール、およびα，ω−グリコールからなる群から選択される材料と反応させる工程と、反応中に形成されるアルコールを除去する工程とを含む方法が開示される。この方法では、リン材料１モル当たり０．７〜１．３モルのグリコールのモル比を用いるのが好ましい。
【０００９】
（特許文献７）には、環状ホスホロハライダイト（ｐｈｏｓｐｈｏｒｏｈａｌｉｄｉｔｅ）の調製のための方法であって、ジオキサンおよびテトラヒドロフランからなる群から選択される溶媒の存在下で、グリコールを三ハロゲン化リンと反応させる工程を含む方法が開示される。副生成物として形成される塩化水素ならびに溶媒が、その後、減圧下でホスホロハライダイト反応生成物から除去される。次に、ホスホロハライダイトは、エポキシドとさらに反応されて、ハロゲン化複素環式ホスファイトが形成され、それは、その後、硫黄と反応されて、ハロゲン化複素環式ホスホロチオネートが形成される。ハロゲン化複素環式ホスホロチオネートは、ポリウレタン発泡体などのプラスチックおよび樹脂における添加剤型の難燃剤として利用される。
【００１０】
（特許文献８）には、新規な環状ホスホナイトおよびそれらを調製するための方法が開示され、ここで、アルキル−またはアリール−亜ホスホン酸二ハロゲン化物（ｐｈｏｓｐｈｏｎｏｕｓ  ｄｉｈａｌｉｄｅ）が、例えば第三級アミンなどの酸受容体物質（ハロゲン化水素捕捉剤）の存在下で、−５０℃〜１００℃の温度で、飽和脂肪族二価アルコールと反応される。
【００１１】
（特許文献９）には、特定のハロゲン化リンエステル、ならびに臭素、および三塩化リンおよび１，２−ジオールまたは１，３−ジオールのそれぞれの反応から得られる２−クロロ−１，３，２−ジオキサホスホランまたは２−クロロ−１，３，２−ジオキサホスホリナンを反応させることによるそれらを調製するための方法が開示される。
【００１２】
（特許文献１０）には、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール環状水素ホスファイトの調製のための方法であって、０℃〜１００℃の範囲の温度で、実質的に等モル比の２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、三塩化リンおよび１〜８個の炭素原子を含有する飽和脂肪族アルコールを反応させる工程を含む方法が開示される。
【００１３】
三塩化リンおよび脂肪族グリコールから出発する環状Ｈ−ホスホネートの合成のための一般的な方法が、（非特許文献１）に記載されている。４−メチル−２−オキソ−２−ヒドロキシ−１，３，２−ジオキサホスホランが２段階で得られた。第１の段階において、１，２−プロパンジオールが三塩化リンと反応して、２−クロロ−４−メチル−１，３，２−ジオキサホスホランが得られ、第２の段階において、それが加水分解されて、４−メチル−２−オキソ−２−ヒドロキシ−１，３，２−ジオキサホスホランが得られる。トリエチルアミンの存在下で、水と１，４−ジオキサンとの混合物を用いて、ジクロロメタン溶液中で加水分解を行った。２−オキソ−２−ヒドロキシ−１，３，２−ジオキサホスホリナンまたは４−メチル−２−オキソ−２−ヒドロキシ−１，３，２−ホスホリナンが、１，３−プロパンジオールまたは１，３−ブタンジオールから出発して同じ手順にしたがって得られた。
【００１４】
テトラヒドロフラン中のジシクロヘキシルカルボジイミドの存在下における、ホスホン酸と様々なヒドロキシ化合物との直接の反応によるホスホン酸ジエステルのワンポット合成が、（非特許文献２）に記載されている。乾燥テトラヒドロフラン中の乾燥ホスホン酸の溶液が、乾燥テトラヒドロフラン中のヒドロキシル化合物とカルボジイミドとの混合物に迅速に添加される。３１Ｐ  ＮＭＲを用いて、著者は、リン無水物に対応するピークによるホスホン酸シグナルの即時の置き換え（ｉｍｍｅｄｉａｔｅ  ｒｅｐｌａｃｅｍｅｎｔ）を示す。Ｐ−Ｏ−Ｐ含有部分を含有するホスホン酸の部分的に脱水された形態が、徐々に形成され得ることが予測される代わりに、リン化学の当業者が、ホスホン酸からＰ４Ｏ６への脱水が単一工程で起こり得ることを想像するのは難しい。ヒドロキシル基の存在下で、これらのＰ−Ｏ−Ｐ含有部分はヒドロキシル化合物と反応するであろう。ヒドロキシル含有化合物の非存在下でのみ、ホスホン酸とカルボジイミドとの反応がＰ４Ｏ６をもたらすことが予測され得る。ヒドロキシルの存在下でも、化合物が前記潜在的なＰ４Ｏ６形成を防ぐことが予測され、これは、Ｐ−Ｏ−Ｐ含有部分が一旦形成されるとヒドロキシル化合物と反応し、Ｐ４Ｏ６へとさらに脱水されないためである。ホスホン酸は、Ｐ−Ｏ−Ｐ含有部分のさらなる形成および前記Ｐ−Ｏ−Ｐ含有部分とヒドロキシル基含有化合物との反応によって、ホスホン酸ジエステルになるであろう。刊行物には、Ｐ４Ｏ６およびヒドロキシル化合物から出発するホスホン酸ジエステルの合成は開示されておらず、刊行物には、前記出発試薬の使用についてまたは適切な方法でそれらを使用する方法について示唆または動機さえも全く与えられていない。
【００１５】
（特許文献１１）には、亜リン酸アルキルの調製のための方法が開示され、ここで、白リンおよび酸素が、４０℃〜７５℃に含まれる温度で第一級アルカノールと反応される。
【００１６】
（特許文献１２）には、第一級または第二級（環状）脂肪族または芳香族アミンと酸化リン（ＩＩＩ）との反応による、ホスホン酸の（環状）脂肪族または芳香族モノ−およびジアミドの製造のための方法が開示される。（特許文献１２）では、モノ−アミンのみが権利請求されており、複素環式水素ホスフィンオキシドに言及していない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１７】
【特許文献１】米国特許第４，０９２，３７７号明細書
【特許文献２】米国特許第３，４４１，６３３号明細書
【特許文献３】米国特許第３，３５２，９４７号明細書
【特許文献４】米国特許第３，２９３，３２７号明細書
【特許文献５】米国特許第３，２７１，３２９号明細書
【特許文献６】米国特許第３，１５２，１６４号明細書
【特許文献７】米国特許第３，６４１，２２５号明細書
【特許文献８】米国特許第３，２７０，０９２号明細書
【特許文献９】米国特許第３，１３２，１６９号明細書
【特許文献１０】米国特許第２，９１６，５０８号明細書
【特許文献１１】米国特許第２，６６１，３６４号明細書
【特許文献１２】旧東ドイツ特許第１００４７５号明細書
【非特許文献】
【００１８】
【非特許文献１】Ｈ．Ｊ．Ｌｕｃａｓ，Ｆ．Ｗ．Ｍｉｔｃｈｅｌｌ，Ｃ．Ｎ．Ｓｃｕｌｌｙ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９５０，７２，５４９１
【非特許文献２】Ａ．Ｍｕｎｏｒ，Ｃ．Ｈｕｂｅｒｔ  ａｎｄ  Ｊ−Ｌ．Ｌｕｃｈｅ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９９６，６１，６０１５−６０１７
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１９】
本発明は、従来技術の方法の欠点を示さない、ヘテロ原子置換ホスフィンオキシド、特に、複素環式水素ホスフィンオキシドの合成のための方法を提供することを目的としている。
【００２０】
特に、本発明の目的は、高純度および高収率で優れた化合物グレードを選択的に供給することができる方法を提供することである。
【００２１】
本発明の別の目的は、短縮され、エネルギー効率が高くかつ経済的に魅力のある方法で複素環式水素ホスフィンオキシドを合成することである。
【００２２】
有利には、本発明の方法は、環境に優しく、かつ安全である。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
本発明は、一般式：
【化１】
2017528451.tif 000003
（式中：
−  Ｒが、１つまたは複数のヘテロ原子を任意選択的に含み、かつ１つまたは複数の置換基を任意選択的に含む脂肪族または芳香族二価基であり、および
−  ＸおよびＹが、独立して、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−および−ＮＲ’−から選択され、
ここで、Ｒ’が、１つまたは複数のヘテロ原子を任意選択的に含む一価基である）
を有する複素環式水素ホスフィンオキシドの合成のための方法であって、
ａ）一般式ＨＸ−Ｒ−ＹＨを有する化合物および六酸化四リンを混合することによって、反応混合物を形成する工程と；
ｂ）複素環式水素ホスフィンオキシドを含む得られる化合物を回収する工程と
を含む方法を開示する。ここで、
−  脂肪族または芳香族二価基が、アルカン、アルケンまたはアルキンの異なる炭素原子からの２個の水素原子の除去またはアレーンまたはビアレーン（ｂｉａｒｅｎｅ）の芳香環の炭素原子からの２個の水素の除去から得られる炭化水素として定義され；
−  一価基が、アルカン、アルケンまたはアルキンからの１個の水素原子の除去から得られる炭化水素として定義される。
【００２４】
本発明の好ましい実施形態は、以下の特徴の１つまたは複数を開示する：
−  六酸化四リンに対する一般式ＨＸ−Ｒ−ＹＨの化合物のモル比は、５．０〜２．０、好ましくは、４．５〜２．５、より好ましくは、４．０〜３．０に含まれ；
−  一般式ＨＸ−Ｒ−ＹＨの化合物は、
−  ＸおよびＹが、独立して、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−および−ＮＲ’−から選択され、ここで、Ｒ’が、酸素、窒素、硫黄およびリンからなる群から選択される１つまたは複数のヘテロ原子を任意選択的に含み、かつアルコキシ、アルカン酸アルキル、カルボン酸アルキル、ニトリル、カルバモイル、スルファニルおよびハロゲンからなる群から選択される１つまたは複数の置換基を任意選択的に含む、１〜１０個の炭素原子を有するアルキル、アルケニルまたはアルキニル基であり；
−  Ｒが、２〜２０個の炭素原子を有し、および酸素、窒素、リンおよび硫黄からなる群から選択される１つまたは複数のヘテロ原子を任意選択的に含み、かつアリール、アルカリール、アルケンアリール（ａｌｋｅｎａｒｙｌ）、アルキンアリール（ａｌｋｙｎａｒｙｌ）、アルコキシ、アルカン酸アルキル、カルボン酸アルキル、ニトリル、カルバモイル、スルファニルおよびハロゲンからなる群から選択される１つまたは複数の置換基を任意選択的に含むアルキレン、アルケニレンまたはアルキニレン基であり、または
−  Ｒが、酸素、窒素、リンおよび硫黄からなる群から選択される１つまたは複数のヘテロ原子を任意選択的に含み、かつ１つまたは複数の置換基Ｒ’を任意選択的に含むアリールまたはビアリール基であり；
−  ＸおよびＹが、１０個以下の炭素−炭素および／または炭素−ヘテロ原子単結合および／または二重結合および／または三重結合で隔てられ、それにより、環状脂肪族または芳香族化合物の場合、最小数の結合が意図される
ことを特徴とし；
−  工程ａ）が、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジクロロメタンおよびそれらの混合物からなる群から選択される溶媒を含み；
−  工程ａ）が、有機脱水剤、好ましくは、無水酢酸、トリフルオロ酢酸無水物およびそれらの混合物からなる群から選択される酸無水物；オルトギ酸トリメチルなどのオルトエステルまたはＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミドなどのカルボジイミドからなる群から選択される脱水剤を含み；
−  工程ａ）が、無機脱水剤、好ましくは、４Åの細孔径を有するゼオライトからなる群から選択される脱水剤を含み；
−  前記脱水剤が反応剤と反応しない場合、脱水剤は反応の最初から添加され；
−  六酸化四リンが、５分間〜２時間に含まれる期間にわたり、溶媒を含む一般式ＨＸ−Ｒ−ＹＨの化合物に添加され、１０℃〜８０℃に含まれる温度で静置され；
−  工程ａ）が、六酸化四リンの添加の完了後、１０分間〜２０時間に含まれる期間にわたり、１０℃〜８０℃に含まれる温度に維持され；
−  複素環式水素ホスフィンオキシドを含む得られる化合物は、溶媒の留去によって工程ｂ）において回収され；
−  複素環式水素ホスフィンオキシドを含む得られる化合物は、結晶化によって工程ｂ）において回収され；
−  一般式ＨＸ−Ｒ−ＹＨの化合物は、エチレングリコール；１，２−プロパンジオール；２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール；２−フェニル−１，２−プロパンジオール；３−アリルオキシ−１，２−プロパンジオール；３−クロロ−１，２−プロパンジオール；１，３−ブタンジオール；２，３−ブタンジオール；２，３−ジメチル−２，３−ブタンジオール；１，１，２，２−テトラフェニル−１，２−エタンジオール；トリエチレングリコール；１，１０−デカンジオール；２，２’−ビフェノール、および１，１’−ビス−２−ナフトール；２−ヒドロキシ安息香酸；ピナンジオールおよび（Ｓ）−（−）−α，α−ジフェニル−２−ピロリジンメタノールからなる群から選択され；
−  工程ａ）における反応剤の総量に対する溶媒の重量比が０．５〜５に含まれ、
−  本発明の方法によって得られる複素環式水素ホスフィンオキシドは、防火剤および難燃剤、熱安定剤および酸化防止剤として使用され；
−  本発明の方法によって得られる複素環式水素ホスフィンオキシドは、酸化状態（＋ＩＩＩ）におけるリンを含む化学物質またはポリマーの合成のための機能的な構成単位として使用され；
−  本発明の方法によって得られる複素環式水素ホスフィンオキシドは、ホモポリマーおよびコポリマーの合成のためのモノマーとして使用され；
−  本発明の方法によって得られる複素環式水素ホスフィンオキシドは、遷移金属を用いた立体選択的触媒反応のためのリガンドとして使用され；
−  本発明の方法によって得られる複素環式水素ホスフィンオキシドは、官能化ホスホン酸アルキルまたはそのエステルの合成に使用される。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
本発明は、ヘテロ原子置換ホスフィンオキシド、特に、複素環式水素ホスフィンオキシドの合成のための、安全で、経済的でかつ環境に優しい改良された方法を提供する。
【００２６】
本発明は、特に、有機または無機塩基を必要とせずに、非毒性または低毒性の溶媒が利用され、非毒性の副生成物が形成される方法、簡潔に述べると、先行技術の方法より魅力的な方法を提供する。
【００２７】
本方法は、
−  ８０℃以下の値、好ましくは、約２０℃〜約５０℃に含まれる値に温度を制御しながら、溶媒の存在下で、一般式ＨＸ−Ｒ−ＹＨを有する化合物に徐々に添加される六酸化四リンと、一般式ＨＸ−Ｒ−ＹＨを有する化合物とを反応させて、５０％以上、好ましくは、少なくとも７０％、より好ましくは、少なくとも９０％の収率で、複素環式水素ホスフィンオキシドを含む溶液を形成する工程と；
−  溶媒の留去によって前記溶液をさらに処理し、または前記溶液を冷却して結晶化を引き起こし、複素環式水素ホスフィンを回収する工程と
を含む。
【００２８】
本発明の範囲内で使用される六酸化四リンは、少なくとも８５％、好ましくは、９０％超、より好ましくは、少なくとも９５％、および特定の一実施形態において、少なくとも９７％のＰ４Ｏ６を含有する実質的に純粋な化合物によって表され得る。本発明に関連して使用するのに好適な六酸化四リンは、任意の公知の技術によって製造され得る一方、「Ｐｒｏｃｅｓｓ  ｆｏｒ  ｔｈｅ  ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅ  ｏｆ  Ｐ４Ｏ６  ｗｉｔｈ  ｉｍｐｒｏｖｅｄ  ｙｉｅｌｄ」と題された項で、国際公開第２００９／０６８６３６号パンフレットおよび／または国際公開第２０１０／０５５０５６号パンフレットに記載されている方法にしたがって調製されるのが好ましい。詳細には、酸素、または酸素と不活性ガスとの混合物、および気体または液体リンは、約０．５〜約６０秒間の好ましい滞留時間を保ちながら、リンおよび酸素の発熱反応によって生成される熱を取り除くことによって、約１６００〜約２０００Ｋの範囲の温度で、反応ユニット中で実質的に化学量論量で反応され、その後、７００Ｋ未満の温度で反応生成物をクエンチし、蒸留によって粗反応生成物を精製する。そのように調製された六酸化四リンは、通常、少なくとも９７％の酸化物を含有する純粋な生成物である。
【００２９】
そのように生成されたＰ４Ｏ６は、特に、低レベルの、１００％のＰ４Ｏ６に対して表される好ましくは１０００ｐｐｍ未満のリン元素、Ｐ４を含有する高純度の液体材料によって一般に表される。好ましい滞留時間は、約５〜約３０秒間、より好ましくは、約８〜約３０秒間である。反応生成物は、好ましい一実施形態において、３５０Ｋ未満の温度になるまでクエンチされ得る。
【００３０】
２４℃（融解温度）〜２００℃の温度での反応に関与するＰ４Ｏ６は、必然的に液体または気体であると仮定されるが、学究的に述べると、固体種が反応媒体の調製に使用され得る。
【００３１】
便宜上および操作上の専門技術（ｏｐｅｒａｔｉｏｎａｌ  ｅｘｐｅｒｔｉｓｅ）のため、Ｐ４Ｏ６によって表される六酸化四リンは、非常に低レベルの、１００％のＰ４Ｏ６に対して表される１０００ｐｐｍ未満、通常、５００ｐｐｍ未満、好ましくは、２００ｐｐｍ以下のレベルの不純物、特に、リン元素、Ｐ４を含有する高純度のものである。
【００３２】
一般式ＨＸ−Ｒ−ＹＨの化合物は、
・ＸおよびＹが、独立して、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−および−ＮＲ’−から選択され、ここで、Ｒ’が、酸素、窒素、硫黄およびリンからなる群から選択される１つまたは複数のヘテロ原子を任意選択的に含み、かつアルコキシ、アルカン酸アルキル、カルボン酸アルキル、ニトリル、カルバモイル、スルファニルおよびハロゲンからなる群から選択される１つまたは複数の置換基を任意選択的に含む、１〜１０個の炭素原子を有するアルキル、アルケニルまたはアルキニル基であり；
・Ｒが、２〜２０個の炭素原子を有し、および酸素、窒素、リンおよび硫黄からなる群から選択される１つまたは複数のヘテロ原子を任意選択的に含み、かつアリール、アルカリール、アルケンアリール、アルキンアリール、アルコキシ、アルカン酸アルキル、カルボン酸アルキル、ニトリル、カルバモイル、スルファニルおよびハロゲンからなる群から選択される１つまたは複数の置換基を任意選択的に含むアルキレン、アルケニレンまたはアルキニレン基であり、または
・Ｒが、酸素、窒素、リンおよび硫黄からなる群から選択される１つまたは複数のヘテロ原子を任意選択的に含み、かつ１つまたは複数の置換基Ｒ’を任意選択的に含むアリールまたはビアリール基であり；
・ＸおよびＹが、１０個以下の炭素−炭素および／または炭素−ヘテロ原子単結合および／または二重結合および／または三重結合で隔てられ、環状脂肪族または芳香族化合物が考えられる場合、前記隔置により、最低数の結合が意図されることが明らかである
ことを特徴とする。
【００３３】
一般式ＨＸ−Ｒ−ＹＨの化合物は、好ましくは、エチレングリコール；１，２−プロパンジオール；２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール；２−フェニル−１，２−プロパンジオール；３−アリルオキシ−１，２−プロパンジオール；３−クロロ−１，２−プロパンジオール；１，３−ブタンジオール；２，３−ブタンジオール；２，３−ジメチル−２，３−ブタンジオール；１，１，２，２−テトラフェニル−１，２−エタンジオール；トリエチレングリコール；１，１０−デカンジオール；２，２’−ビフェノール；１，１’−ビス−２−ナフトール；２−ヒドロキシ安息香酸；ピナンジオールおよび（Ｓ）−（−）−α，α−ジフェニル−２−ピロリジンメタノールからなる群から選択される。
【００３４】
本発明の方法において、六酸化四リンに対する一般式ＨＸ−Ｒ−ＹＨの化合物のモル比は、５．０〜２．０、好ましくは、４．５〜２．５、より好ましくは、４．０〜３．０に含まれる。
【００３５】
一般式ＨＸ−Ｒ−ＹＨの化合物は、溶媒に溶解され、ここで、反応剤の総重量に対する溶媒の重量比は０．５〜５．０に含まれる。
【００３６】
本発明に係る方法に任意選択的に使用される、好適な溶媒の典型例は、アニソール、フルオロベンゼン、クロロベンゼン、テトラクロロエタン、テトラクロロエチレン、ジクロロエタン、ジクロロメタン、ジグリム、グリム、ジフェニルオキシド、キャッピングされたＯＨ基を有するポリアルキレングリコール誘導体、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ジブチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジペンチルエーテル、ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、ジオキサン、テトラヒドロピラン；シクロペンチルメチルエーテル、スルホラン、トルエン、ベンゼン、キシレン、酢酸エチル、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ポリメチルフェニルシロキサンまたはそれらの混合物ならびに１−ｎ−ブチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、および１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドのような非反応性イオン性液体またはそれらの混合物である。
【００３７】
溶媒は、好ましくは、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジクロロメタンおよびそれらの混合物からなる群から選択され、好ましくは、実質的に無水である。一般に、実質的に無水の溶媒は、任意選択的に、好ましくは、４Åの細孔径を有する分子篩の添加によって得られる。
【００３８】
六酸化四リンは、強い発熱を制御し、約１０℃〜８０℃、好ましくは、２０℃〜５０℃に含まれる値に反応の温度を制御するために、一般式ＨＸ−Ｒ−ＹＨの化合物および溶媒、好ましくは、無水溶媒を含む混合物に徐々に添加される。
【００３９】
六酸化四リンは、特に、反応器の熱交換手段の性能および反応剤のそれぞれの量に応じて、約５分間〜約２時間に含まれる期間にわたって添加される。
【００４０】
六酸化四リンの添加の完了後、脱水剤が、好ましくは、反応混合物に添加され、それが、約１０℃〜約８０℃、好ましくは、約２０℃〜約５０℃に含まれる温度で、約１０分間〜約２０時間に含まれるさらなる期間にわたり、さらに撹拌および反応される。
【００４１】
本発明の方法に好ましくは使用される脱水剤は、無水酢酸、酢酸ギ酸無水物、無水酪酸、３−クロロフタル酸無水物、４−クロロフタル酸無水物、二硫酸、ドデセニルコハク酸無水物、エチレンテトラカルボン酸二無水物、無水マレイン酸、無水マロン酸、無水メリト酸、メタンスルホン酸無水物、無水フタル酸、無水プロピオン酸、無水コハク酸、トリフルオロ酢酸無水物、トリフルオロメタンスルホン酸無水物およびそれらの混合物からなる群から選択される酸無水物などの有機脱水剤；例えばオルトギ酸トリメチルなどのオルトエステルまたは例えばＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミドなどのカルボジイミドまたは硫酸カルシウム、硫酸ナトリウム、硫酸マグネシウム、塩化カルシウム、酸化アルミニウム（全て、それらの無水形態における）およびアルミノシリケート鉱物からなる群から選択される無機脱水剤である。
【００４２】
本発明の方法に関連して、無水酢酸およびトリフルオロ酢酸無水物は、好ましい有機脱水剤である。
【００４３】
脱水剤は、好ましくは、六酸化四リンのモルに対する脱水剤の当量の比率が約２．０である量で添加される。
【００４４】
初期の反応剤、すなわち、ＨＸ−Ｒ−ＹＨ化合物およびＰ４Ｏ６に対して非反応性の脱水剤が、反応の開始時に、すなわち、ＨＸ−Ｒ−ＹＨ化合物および溶媒とともに添加され得る。一般に、これは、無機脱水剤の場合である。
【００４５】
本発明の好ましい実施形態において、４Åの細孔径を有する分子篩が、脱水剤として使用され、プロセスの開始時に添加される。一般に、４Å分子篩が、ＨＸ−Ｒ−ＹＨ化合物の約５０重量％の量で添加される。
【００４６】
工程ａ）を完了させた後、複素環式水素ホスフィンオキシドを含む溶液が、工程ｂ）において、室温以下に冷却され、その直後に、複素環式水素ホスフィンオキシドの結晶化が開始され得る。次に、沈殿物が、当該技術分野において周知の従来のろ過技術を用いてろ液から分離される。
【００４７】
その後単離される沈殿物は、工程ａ）を行うのに好適な溶媒として列挙されるこれらの中から選択される溶媒を用いて洗浄され、任意選択的に再結晶化され得る。
【００４８】
別の手法において、工程ａ）の完了後、溶媒は、工程ｂ）において留去され、その直後に、このように回収される生成物は、工程ａ）を行うのに好適な溶媒として列挙されるこれらの中から選択される溶媒を用いて再結晶化され得る。適切な溶媒の選択は、工程ａ）において調製される複素環式水素ホスフィンオキシドのタイプに応じて決まり、当業者にとって一般的な作業である。
【００４９】
本発明の方法によって得られる複素環式水素ホスフィンオキシドは、一般式：
【化２】
2017528451.tif 000004
（式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ’およびＲが、［００３０］に開示されているものなどのＨＸ−Ｒ−ＹＨ化合物についての意味と同じ意味を有する）
によって特徴付けられる。
【００５０】
本発明に係る方法を用いて調製される複素環式水素ホスフィンオキシドの典型的で好ましい例は、２−オキソ−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサホスホラン；２，４−ジオキソ−５，６−ベンゾ−１，３，２−ジオキサホスホリナン；２−オキソ−４，４，５，５−テトラフェニル−１，３，２−ジオキサホスホラン；２−ヒドロ−５，５−ジメチル−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホスホリナン；２−ヒドロ−４，５−ジメチル−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホスホラン；２−ヒドロ−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホスホリナン；亜リン酸２−２，２’−ビフェニル；亜リン酸２−２，２’−ビナフチル；２−オキソ−４−アリルオキシメチル−１，３，２−ジオキサホスホラン；２−オキソ−４−メチル−４−フェニル−１，３，２−ジオキサホスホラン；２−オキソ−４−メチル−１，３，２−ジオキサホスホラン；２−オキソ−４−クロロメチル−１，３，２−ジオキサホスホラン；（２Ｒ，３ａＲ，４Ｒ，６Ｒ，７ａＳ）−３ａ，５，５−トリメチルヘキサヒドロ−４，６−メタノベンゾ［ｄ］［１，３，２］ジオキサホスホル（ｄｉｏｘａｐｈｏｓ  ｐｈｏｌｅ）２−オキシド−ｒｅｌ−；（３Ｓ）−３，３−ジフェニルヘキサヒドロピロロ［１，２−ｃ］［１，２，３］オキサザホスホリジン（ｏｘａｚａｐｈｏｓｐｈｏｌｉ  ｄｉｎｅ）である。
【実施例】
【００５１】
以下の実施例は本発明を示し、本発明を例示することを意図するに過ぎず、本発明の範囲を限定または他に規定するものではない。
【００５２】
後述される実施例に使用されるガラス製品を、反応に使用される前に数時間（６０℃）にわたってオーブン中で乾燥させた。分子篩を２２０℃で２〜４時間活性化し、その後、デシケータ中においてＰ２Ｏ５上で室温に保った。
【００５３】
磁気撹拌子を小規模反応に使用し、機械撹拌器を大規模反応に使用した。溶媒および試薬は、分析グレードのものであり、入手した状態で使用した。特定の場合、無水溶媒をそれぞれの実施例において規定されるように使用した。
【００５４】
生成物の特性評価のために、ＮＭＲスペクトルを、溶媒としてＣＤＣｌ３またはＣＤＣｌ３／ＴＦＡ（３／１）を用いてＢｒｕｋｅｒ  Ａｖａｎｃｅ  ４００分光計において記録した。ＴＭＳおよびＨ３ＰＯ４  ８５％を１Ｈ、１３Ｃおよび３１Ｐ核の基準物質として使用した。公知の生成物の場合、ＪＰ−Ｈ結合定数を、Ｈ−ホスホネートを明確に識別するために使用した。
【００５５】
実施例１．
磁気撹拌子を含む乾燥したバイアル中に、Ｎ２下で、５．９ｇのピナコール９７％（５０ｍｍｏｌｅ）および１５ｍｌの無水テトラヒドロフランを連続して添加した。バイアルを閉じ、撹拌溶液に、強い発熱を回避するために、室温で３０分間にわたって２．７５ｇのＰ４Ｏ６（１２．５ｍｍｏｌｅ）をゆっくりと添加した。反応混合物を超音波処理下において室温で一晩撹拌した。揮発性物質を除去し、残渣に３ｍｌの酢酸エチルを添加した。この溶液を４℃で一晩閉じたままにした。所望の生成物は、冷却すると結晶化した。２−オキソ−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサホスホランの収率は、３１Ｐ  ＮＭＲ分析（ＣＤＣｌ３）によって粗生成物において測定した際に７９％であった。目的の化合物を９０％の純度（不純物として１０％のＨ３ＰＯ３）で、６５％の単離収率で単離した。
【００５６】
実施例２．
磁気撹拌子を含む乾燥したバイアル中に、Ｎ２下で、１．１８ｇのピナコール９９％（１０ｍｍｏｌｅ）および１ｍｌの無水テトラヒドロフランを連続して添加した。バイアルを閉じ、撹拌溶液に、強い発熱を回避するために、室温で１０分間にわたって０．６１５ｇのＰ４Ｏ６（２．８ｍｍｏｌｅ）をゆっくりと添加した。Ｐ４Ｏ６の添加を行ってから、１．２ｇのトリフルオロ酢酸無水物（５．７ｍｍｏｌｅ）を脱水剤として添加した。粗混合物を超音波処理下において室温で２時間撹拌した。２−オキソ−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサホスホランの収率は、３１Ｐ  ＮＭＲ分析（ＣＤＣｌ３）によって粗生成物において測定した際に８２．５％であった。
【００５７】
実施例３．
磁気撹拌子を含む乾燥したバイアル中に、１．１８ｇのピナコール９９％（１０ｍｍｏｌｅ）、４Å分子篩（５０％  ｗｔ／ｗｔのジオール）および１ｍｌの２−メチルテトラヒドロフランを連続して添加した。バイアルを閉じ、撹拌溶液に、強い発熱を回避するために、室温で１０分間にわたって０．６６ｇのＰ４Ｏ６（３ｍｍｏｌｅ）をゆっくりと添加した。２時間撹拌した後、懸濁液を穏やかに加熱し、第２のバイアルに移した。所望の生成物は、冷却すると結晶化した。２−オキソ−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサホスホランの収率は、３１Ｐ  ＮＭＲ分析（ＣＤＣｌ３）によって粗生成物において測定した際に９４％であった。
【００５８】
実施例４．
磁気撹拌子を含む乾燥したバイアル中に、Ｎ２下で、６．９ｇのサリチル酸（５０ｍｍｏｌｅ）および１５ｍｌの無水テトラヒドロフランを連続して添加した。バイアルを閉じ、撹拌溶液に、強い発熱を回避するために、室温で３０分間にわたって２．７５ｇのＰ４Ｏ６（１２．５ｍｍｏｌｅ）をゆっくりと添加した。粗生成物を超音波処理下において室温で一晩撹拌した。２，４−ジオキソ−５，６−ベンゾ−１，３，２−ジオキサホスホリナンの収率は、３１Ｐ  ＮＭＲ分析（ＣＤＣｌ３）によって粗生成物において測定した際に８０％であった。目的の化合物を溶媒の蒸発後に単離し、７０％の単離収率および８５％の純度（不純物として１５％のＨ３ＰＯ３）でジエチルエーテルから再結晶化させた。
【００５９】
実施例５．
磁気撹拌子を含む乾燥したバイアル中に、Ｎ２下で、１８．３ｇのベンゾ−ピナコール９７％（５０ｍｍｏｌｅ）および２５ｍｌの無水テトラヒドロフランを連続して添加した。バイアルを閉じ、撹拌溶液に、強い発熱を回避するために、室温で３０分間にわたって２．７５ｇのＰ４Ｏ６（１２．５ｍｍｏｌｅ）をゆっくりと添加した。粗生成物を超音波処理下において室温で一晩撹拌した。２−オキソ−４，４，５，５−テトラフェニル−１，３，２−ジオキサホスホランの収率は、３１Ｐ  ＮＭＲ分析（ＣＤＣｌ３）によって粗生成物において測定した際に４０％であった。
【００６０】
実施例６．
磁気撹拌子を含む乾燥したバイアル中に、１．０４ｇの２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（１０ｍｍｏｌｅ）、４Å分子篩（５０％  ｗｔ／ｗｔのジオール）および１ｍｌの２−メチルテトラヒドロフランを連続して添加した。バイアルを閉じ、撹拌溶液に、強い発熱を回避するために、室温で１０分間にわたって０．６６ｇのＰ４Ｏ６（３ｍｍｏｌｅ）をゆっくりと添加した。２時間撹拌した後、懸濁液を穏やかに加熱し、第２のバイアルに移した。所望の生成物は、冷却すると固化した。２−ヒドロ−５，５−ジメチル−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホスホリナンの収率は、３１Ｐ  ＮＭＲ分析（ＣＤＣｌ３）によって粗生成物において測定した際に６７％であった。
【００６１】
実施例７．
磁気撹拌子を含む２５０ｍｌの乾燥したフラスコ中に、４Å分子篩（５０％  ｗｔ／ｗｔのジオール）、５０ｍｌの２−メチルテトラヒドロフランおよび０．９ｇの２，３−ブタンジオール（１０ｍｍｏｌｅ）を連続して添加した。磁気撹拌を用いて、Ｐ４Ｏ６の添加の前に、完全に分散された溶液を得る。次に、０．６６ｇのＰ４Ｏ６（３ｍｍｏｌｅ）を、強い発熱を回避するために、室温でシリンジを用いてゆっくりと添加する。その後、溶液を約４００ｒｐｍで磁気撹拌を用いて２時間撹拌した。２−ヒドロ−４，５−ジメチル−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホスホランの収率は、３１Ｐ  ＮＭＲ分析（ＣＤＣｌ３）によって粗生成物において測定した際に６２％であった。
【００６２】
実施例８〜１２．
表１中、本発明の方法にしたがって、実施例７の機器、モル量および反応条件を用いて調製される一連の実施例が報告される。
【００６３】
この表中：
列１：実施例の識別番号を示す。
列２：Ｐ４Ｏ６と反応されるジオールのタイプを示す。
列３：環状ホスファイトのタイプを示す。
列４：３１Ｐ  ＮＭＲ分析（ＣＤＣｌ３）によって粗生成物において測定される、環状ホスファイトの収率（％）を示す。
【００６４】
【表１】
2017528451.tif 000005
【００６５】
実施例１３．
磁気撹拌子を含む２５０ｍｌの乾燥したフラスコ中に、４Å分子篩（５０％  ｗｔ／ｗｔのジオール）、２５ｍｌの２−メチルテトラヒドロフランおよび１．５ｇのトリエチレングリコール（１０ｍｍｏｌｅ）を連続して添加した。溶液を５０℃で加熱し、磁気撹拌を用いて、Ｐ４Ｏ６の添加の前に懸濁液を撹拌する。次に、０．６６ｇのＰ４Ｏ６（３ｍｍｏｌｅ）を、５０℃でシリンジを用いてゆっくりと添加する。約４００ｒｐｍで磁気撹拌を用いて２時間撹拌した後、溶液を３１Ｐ  ＮＭＲ分析（ＣＤＣｌ３）によって試験したところ、３３％の環状ホスファイトの収率を示した。
【００６６】
実施例１４．
磁気撹拌子を含む乾燥したバイアル中に、１．８６ｇの２，２’−ビフェノール（１０ｍｍｏｌｅ）、４Å分子篩（５０％  ｗｔ／ｗｔのジオール）および５ｍｌのアセトニトリルを連続して添加した。バイアルを閉じ、撹拌懸濁液に、強い発熱を回避するために、室温で１０分間にわたって０．６６ｇのＰ４Ｏ６（３ｍｍｏｌｅ）をゆっくりと添加した。２時間撹拌した後、溶液を第２のバイアルに移した。溶媒を蒸発させたところ、黄色の油が得られた。亜リン酸２−２，２’−ビフェニルの収率は、３１Ｐ  ＮＭＲ分析（ＣＤＣｌ３）によって粗生成物において測定した際に７５％であった。
【００６７】
実施例１５．
磁気撹拌子を含む２５０ｍｌの乾燥したフラスコ中に、１．１ｇの３−クロロ−１，２−プロパンジオール（１０ｍｍｏｌｅ）、４Å分子篩（５０％  ｗｔ／ｗｔのジオール）および３５ｍｌの２−メチルテトラヒドロフランを連続して添加した。磁気撹拌を用いて、Ｐ４Ｏ６の添加の前に、完全に分散された溶液を得る。次に、０．５５ｇのＰ４Ｏ６（２．５ｍｍｏｌｅ）を、強い発熱を回避するために、室温でシリンジを用いてゆっくりと添加した。２時間撹拌した後、溶液をバイアルに移した。４５％の環状ホスファイト、３１％の、ＣＨ２およびＣＨモノ−ホスファイトの混合物および１８％のＨ３ＰＯ３が、３１Ｐ  ＮＭＲ分析（ＣＤＣｌ３）によって粗生成物において見られた。
【００６８】
実施例１６．
磁気撹拌子を含む２５０ｍｌの乾燥したフラスコ中に、４Å分子篩（５０％  ｗｔ／ｗｔのジオール）、２５ｍｌの２−メチルテトラヒドロフランおよび０．７６ｇの１，２−プロパンジオール（１０ｍｍｏｌｅ）を連続して添加した。磁気撹拌を用いて、Ｐ４Ｏ６の添加の前に、完全に分散された溶液を得る。次に、０．６６ｇのＰ４Ｏ６（３ｍｍｏｌｅ）を、強い発熱を回避するために、室温でシリンジを用いてゆっくりと添加する。その後、反応混合物を、約４００ｒｐｍで磁気撹拌を用いて２時間撹拌した。２−オキソ−４−メチル−１，３，２−ジオキサホスホランの収率は、３１Ｐ  ＮＭＲ分析（ＣＤＣｌ３）によって粗生成物において測定した際に４６％であった。
【００６９】
実施例１７．
磁気撹拌子を含む乾燥したバイアル中に、０．８６ｇの（−）ピナンジオール（５．０５ｍｍｏｌｅ）、４Å分子篩（５０％  ｗｔ／ｗｔのジオール）および５ｍｌの２−メチルテトラヒドロフランを連続して添加した。バイアルを閉じ、撹拌溶液に、強い発熱を回避するために、室温で１０分間にわたって０．３３ｇのＰ４Ｏ６（１．５ｍｍｏｌｅ）をゆっくりと添加した。２時間撹拌した後、懸濁液をポリ−ビニルピリジン（０．５ｇ）にわたって穏やかに撹拌した。ろ液を回収し、蒸発させた。（２Ｒ，３ａＲ，４Ｒ，６Ｒ，７ａＳ）−３ａ，５，５−トリメチルヘキサヒドロ−４，６−メタノベンゾ［ｄ］［１，３，２］ジオキサホスホル２−オキシド−ｒｅｌ−の収率は、３１Ｐ  ＮＭＲ分析（ＣＤＣｌ３）によって粗生成物において測定した際に５０％であった。ろ過および蒸発の後、油状生成物を５０％の純度（２０％のＨ３ＰＯ３および２１％の半分加水分解されたホスファイト）で単離した。
【００７０】
実施例１８．
磁気撹拌子を含む乾燥したバイアル中に、１ｇの（Ｓ）−（−）−α，α−ジフェニル−２−ピロリジンメタノール（３．９ｍｍｏｌｅ）、４Å分子篩（５０％  ｗｔ／ｗｔのアミノアルコール）および１０ｍｌの溶媒（２−メチルテトラヒドロフラン／アセトニトリル１／１  ｖ／ｖ）を連続して添加した。バイアルを閉じ、撹拌溶液に、強い発熱を回避するために、室温で１０分間にわたって０．２６ｇのＰ４Ｏ６（１．１８ｍｍｏｌｅ）をゆっくりと添加した。２時間撹拌した後、懸濁液を蒸発させた。（３Ｓ）−３，３−ジフェニルヘキサヒドロピロロ［１，２−ｃ］［１，２，３］オキサザホスホリジンが、３１Ｐ  ＮＭＲ分析（ＣＤＣｌ３）によって６４％で検出された（汚染物質は１２％のＨ３ＰＯ３である）。全転化率は７６％である。
【００７１】
実施例１９．
磁気撹拌子を含む乾燥したバイアル中に、０．８６ｇの（−）ピナンジオール（５．０５ｍｍｏｌｅ）、４Å分子篩（５０％  ｗｔ／ｗｔのジオール）および６ｍｌの２−メチルテトラヒドロフランを連続して添加した。バイアルを閉じ、撹拌溶液に、強い発熱を回避するために、室温で１０分間にわたって０．３３ｇのＰ４Ｏ６（１．５ｍｍｏｌｅ）をゆっくりと添加した。溶液を蒸発させた。（２Ｒ，３ａＲ，４Ｒ，６Ｒ，７ａＳ）−３ａ，５，５−トリメチルヘキサヒドロ−４，６−メタノベンゾ［ｄ］［１，３，２］ジオキサホスホル２−オキシド−ｒｅｌ−の収率は、３１Ｐ  ＮＭＲ分析（ＣＤＣｌ３）によって粗生成物において測定した際に５７％であった。全転化率は６７％（１３％のＨ３ＰＯ３）である。
【００７２】
実施例２０．
磁気撹拌子を含む乾燥したバイアル中に、窒素下で、１．１８ｇのピナコール９９％（１０ｍｍｏｌｅ）および１ｍｌの無水テトラヒドロフランを連続して添加した。バイアルを閉じ、撹拌溶液に、強い発熱を回避するために、室温で１０分間にわたって０．６１５ｇのＰ４Ｏ６（２．８ｍｍｏｌｅ）をゆっくりと添加した。Ｐ４Ｏ６の添加を行ってから、０．６１２ｇの無水酢酸（６ｍｍｏｌｅ）を脱水剤として添加した。粗混合物を超音波処理下において室温で２時間撹拌した。２−オキソ−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサホスホランの収率は、３１Ｐ  ＮＭＲ分析（ＣＤＣｌ３）によって粗生成物において測定した際に８２．５％であった。
【国際調査報告】
2017528451.tif 000008
2017528451.tif 000009