(57)【要約】拡張コールドミラーが提供される。このミラーは、基板と、基板上に堆積されたコーティングとを備えている。このコーティングは、低屈折率金属酸化物コーティング層および高屈折率金属酸化物コーティング層の少なくとも１つの周期を備えた、第１のコーティングスタックと、低屈折率金属フッ化物コーティング層および高屈折率金属酸化物コーティング層の少なくとも１つの周期を備えた、第２のコーティングスタックと、低屈折率金属フッ化物コーティング層および高屈折率金属フッ化物コーティング層の少なくとも１つの周期を備えた、第３のコーティングスタックとを含む。
2017510835.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
拡張コールドミラーにおいて、
基板、および、
前記基板上に堆積されたコーティングであって、
低屈折率金属酸化物コーティング層および高屈折率金属酸化物コーティング層の少なくとも１つの周期を備えた、第１のコーティングスタックと、
低屈折率金属フッ化物コーティング層および高屈折率金属酸化物コーティング層の少なくとも１つの周期を備えた、第２のコーティングスタックと、
低屈折率金属フッ化物コーティング層および高屈折率金属フッ化物コーティング層の少なくとも１つの周期を備えた、第３のコーティングスタックと、
を含むコーティング、
を備えていることを特徴とする拡張コールドミラー。
【請求項２】
前記低屈折率金属酸化物が、ＳｉＯ2、Ｆ−ＳｉＯ2、ＮドープＳｉＯ2、およびＡｌドープＳｉＯ2、から成る群から選択されることを特徴とする請求項１記載の拡張コールドミラー。
【請求項３】
前記高屈折率金属酸化物が、Ａｌ2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ5、Ｎｂ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＨｆＯ2、およびＳｃ2Ｏ3、から成る群から選択されることを特徴とする請求項１または２記載の拡張コールドミラー。
【請求項４】
前記低屈折率金属フッ化物が、ＡｌＦ3、ＭｇＦ2、ＣａＦ2、ＢａＦ2、ＳｒＦ2、およびＮａ3ＡｌＦ6、から成る群から選択されることを特徴とする請求項１から３いずれか１項記載の拡張コールドミラー。
【請求項５】
前記高屈折率金属フッ化物が、ＬaＦ3、ＧｄＦ3、ＰｒＦ3、ＮｄＦ3、ＰｍＦ3、ＳｍＦ3、ＥｕＦ3、ＤｙＦ3、およびＨｏＦ3、から成る群から選択されるランタニド金属のフッ化物であることを特徴とする請求項１から４いずれか１項記載の拡張コールドミラー。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の説明】
【０００１】
本出願は、その内容が引用されその全体が参照することにより本書に組み込まれる、２０１４年１月３１日に出願された米国仮特許出願第６１／９３４，３５１号の優先権の利益を米国特許法第１１９条の下で主張するものである。
【技術分野】
【０００２】
本開示は、深紫外線（ＤＵＶ）リソグラフィ用途のためのコーティングされたミラーに関し、特にＵＶ−ＤＵＶ領域において広範な波長帯に亘り高反射率を有する、赤外線透過コールドミラーに関する。
【背景技術】
【０００３】
レーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）は、極紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィ産業用の潜在的な高出力光源として広く研究されてきた。一般にＬＰＰでは、高出力赤外レーザを用いて金属または気体のターゲットを照射してＥＵＶ放射を放出するプラズマを発生させ、次いでこの放射をＥＵＶコレクタミラーによって集める。類似した概念を用いて、広帯域ＵＶ−ＶＩＳ光源、特にレーザ駆動光源（例えば、マサチューセッツ州ウォバーン所在のエナジェティックテクノロジー社（Energetiq Technology Inc.）から市販されているＬＤＬＳ（商標）など）を開発した。
【０００４】
ＬＤＬＳの概念は、ＥＵＶ放射のための光源としてのＬＰＰに非常に類似している。集束された高出力赤外（ＩＲ）レーザが、コレクタミラーの中心の孔を通過する。この構成は、ＩＲ透過のＤＵＶ−ＶＩＳ高反射ミラー、またはＵＶ−ＤＵＶ拡張コールドミラーがないことによる。従来のコールドミラーに代わるものとして、アルミニウムベースのミラーが使用されてきた。しかしながらアルミニウムベースのミラーはＩＲ領域で不透明であり、従ってＩＲレーザからの光を透過しない。結果として、ＩＲレーザからの光を通過させることができるよう、ミラーの中心孔が通常必要である。さらに、アルミニウムベースのミラーの損傷閾値は低く、これがアルミニウムベースのミラーを、高出力光源と適合性が低いものにしている。
【０００５】
コールドミラーは、光源に近い位置の反射体に適用されることが多い。図１Ａは入射角０°のコールドミラーを示している。図１Ｂは、図１Ａのコールドミラーでの反射率対波長のグラフであり、ＶＩＳ−ＩＲ範囲での動作時に、コールドミラーが約４００ｎｍから約６５０ｎｍの波長で高反射率を有することを示している。同様に、図１Ｃは入射角４５°のコールドミラーを示している。図１Ｃのコールドミラーでの反射率対波長のグラフである図１Ｄは、ＶＩＳ−ＩＲ範囲での動作時に、コールドミラーが約４００ｎｍから約６５０ｎｍの波長で高反射率を有することを示している。これらのコールドミラーは、可視光の約９０％を反射し、赤外線放射／エネルギー（熱）の約８０％を透過するように設計され、例えば競技場用の照明、投影照明、スタジオセット、医療用途などの照明用途に、反射熱の量も低減しながら可視光を提供するために使用することができる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来のコールドミラーを、ＮＩＲ範囲で高透過率を実現するように改良することはできるが、このミラーのＤＵＶ範囲における高反射帯域は限定される。例えば図２に示されているように、入射角０°で動作している従来のコールドミラーでのＤＵＶ範囲における高反射帯域は約１５ｎｍである。同様に図３に示されているように、入射角４５°で動作している従来のコールドミラーでのＤＵＶ範囲における高反射帯域は約１０ｎｍである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示の実施形態によれば、拡張コールドミラーが提供される。このミラーは、基板と、基板上に堆積されたコーティングとを備えている。コーティングは、低屈折率金属酸化物コーティング層および高屈折率金属酸化物コーティング層を含む少なくとも１つの周期を備えた、第１のコーティングスタックと、低屈折率金属フッ化物コーティング層および高屈折率金属酸化物コーティング層を含む少なくとも１つの周期を備えた、第２のコーティングスタックと、低屈折率金属フッ化物コーティング層および高屈折率金属フッ化物コーティング層を含む少なくとも１つの周期を備えた、第３のコーティングスタックとを含む。
【０００８】
さらなる特徴および利点は以下の詳細な説明の中に明記され、ある程度は、その説明から当業者には容易に明らかになるであろうし、あるいは、以下の詳細な説明、請求項、並びに添付の図面を含め、本書で説明されたように実施形態を実施することにより認識されるであろう。
【０００９】
前述の一般的な説明および以下の詳細な説明は単なる例示であり、請求項の本質および特徴を理解するための概要または構成を提供することを意図したものであることを理解されたい。添付の図面はさらなる理解を提供するために含まれ、本明細書に組み込まれかつその一部を構成する。図面は１以上の実施形態を示し、そしてその説明とともに、種々の実施形態の原理および動作の説明に役立つ。
【００１０】
本開示は、以下の説明から、また単に非限定的な例を用いて与えられる添付の図から、より明確に理解されるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１Ａ】入射角０°で動作している従来のコールドミラーを示した図
【図１Ｂ】図１Ａのコールドミラーでの、反射率および透過率対波長を示したグラフ
【図１Ｃ】入射角４５°で動作している従来のコールドミラーを示した図
【図１Ｄ】図１Ｃのコールドミラーでの、反射率および透過率対波長を示したグラフ
【図２】入射角０°で動作している従来のＤＵＶコールドミラーでの、反射率対波長を示したグラフ
【図３】入射角４５°で動作している従来のＤＵＶコールドミラーでの、反射率対波長を示したグラフ
【図４】本開示の実施形態によるコールドミラーの概略図
【図５】本開示の実施形態によるコールドミラーの概略図
【図６】本開示の実施形態によるコールドミラーの概略図
【図７】本開示の実施形態によるコールドミラーでの、反射率対波長を示したグラフ
【図８】本開示の実施形態によるコールドミラーでの、反射率対波長を示したグラフ
【図９】本開示の実施形態によるコールドミラーでの、反射率対波長を示したグラフ
【発明を実施するための形態】
【００１２】
ここで本実施形態を詳細に参照し、その例を添付の図面に示す。可能な限り、図面を通じて、同じまたは同様の部分の参照に同じ参照番号を使用する。
【００１３】
文脈が明らかに他に指示していなければ、単数形は複数の指示対象を含む。同じ特性を説明する全ての範囲の端点は、独立して組合せ可能であり、また説明された端点を含む。全ての参考文献は、参照することにより本書に組み込まれる。
【００１４】
本書では以下の用語は異なる光域を称し、すなわち近赤外（ＮＩＲ）光は約７５０ｎｍから約１４００ｎｍの範囲、可視（ＶＩＳ）光は約４００ｎｍから約７５０ｎｍの範囲、紫外線（ＵＶ）光は約３００ｎｍから約４００ｎｍの範囲、中間紫外線光は約２００ｎｍから約３００ｎｍの範囲、および深紫外線（ＤＵＶ）光は約１２２ｎｍから約２００ｎｍの範囲である。本書ではＵＶ−ＤＵＶ範囲は、約１２２ｎｍから約４００ｎｍの間である。さらに本書では「コールドミラー」という用語は、赤外光を透過しながら可視光を反射するミラーを称する。
【００１５】
本書では「周期」という用語は、周期的な多層構造を形成するように繰り返す、コーティング層の組を称する。さらに本書では「スタック」という用語は、複数のこの層を称する。周期は本開示全体を通じて、「Ｌo／Ｈo」、「Ｌf／Ｈo」、および「Ｌf／Ｈf」など、低屈折率対高屈折率の形式を用いて説明され、ここでＬoは低屈折率金属酸化物、Ｈoは高屈折率金属酸化物、Ｌfは低屈折率金属フッ化物、およびＨfは高屈折率金属フッ化物である。
【００１６】
本開示の実施形態は、ＵＶ−ＤＵＶ領域で広範な波長帯に亘り高反射率を有する、ＩＲ透過コールドミラーに関し、さらに少なくとも１つのコーティングを拡張コールドミラーに形成する方法に関する。
【００１７】
本書で開示される拡張コールドミラーは、基板を含む。基板は例えば、限定するものではないが、ＣａＦ2、ＳｉＯ2、Ｆ−ＳｉＯ2、溶融シリカ、例えばＨＰＦＳ（登録商標）（ニューヨーク州コーニング所在のコーニング社から市販されている）および石英でもよい。拡張コールドミラーは、基板上に堆積された少なくとも１つのコーティングをさらに含む。少なくとも１つのコーティングは、少なくとも１つのコーティング材料を含む。本開示の実施形態によれば、少なくとも１つのコーティングは、少なくとも３つのコーティングスタックを成して堆積される、少なくとも５つのコーティング材料を含み得る。
【００１８】
図４は、本開示の実施形態によるコールドミラー１０の概略図である。図示のようにコールドミラー１０は、基板１００と、基板１００上に堆積されたコーティング１１０とを含む。コーティング１１０は、第１のコーティングスタック２００、第２のコーティングスタック３００、および第３のコーティングスタック４００を含む。図示のように第１のコーティングスタックは、第１の層２１０および第２の層２２０を含む、少なくとも１つの周期を含む。第２のコーティングスタックは、第１の層３１０および第２の層３２０を含む、少なくとも１つの周期を含む。第３のコーティングスタックは、第１の層４１０および第２の層４２０を含む、少なくとも１つの周期を含む。
【００１９】
第１のコーティングスタック２００は、基板１００上に堆積される。第１のコーティングスタック２００は、第１の層２１０および第２の層２２０の少なくとも１つの周期を含み得る。第１の層２１０は高屈折率金属酸化物でもよく、第２の層２２０は低屈折率金属酸化物でもよい。高屈折率金属酸化物は、限定するものではないが、Ａｌ2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ5、Ｎｂ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＨｆＯ2、およびＳｃ2Ｏ3でもよい。低屈折率金属酸化物は、限定するものではないが、ＳｉＯ2、Ｆ−ＳｉＯ2、ＮドープＳｉＯ2、およびＡｌドープＳｉＯ2でもよい。例えば少なくとも１つの周期はＳｉＯ2／ＨｆＯ2を含み得、ここでＳｉＯ2は低屈折率金属酸化物であり、ＨｆＯ2は高屈折率金属酸化物である。少なくとも１つの周期は、限定するものではないが、ＳｉＯ2／Ｓｃ2Ｏ3などの他の高屈折率金属酸化物および低屈折率金属酸化物の組を含み得る。少なくとも１つの周期は、基板１００上に堆積されたＳｉＯ2／Ｔａ2Ｏ5、ＳｉＯ2／Ｎｂ2Ｏ5、またはＳｉＯ2／ＴｉＯ2と、少なくとも１つの第１の周期上に堆積された、ＳｉＯ2／ＨｆＯ2またはＳｉＯ2／Ｓｃ2Ｏ3の少なくとも１つの第２の周期とをさらに含んでもよい。第１のコーティングスタック２００は少なくとも１つのコーティング１１０に、ＵＶ領域からＶＩＳ領域まで高反射率を提供する。本書では「高反射率」という用語は、約９５％を超える％の反射率を称する。例えば入射角４５°では、第１のコーティングスタック２００は約２５０ｎｍから約７６０ｎｍの間で高反射率を有する。
【００２０】
第２のコーティングスタック３００は、第１のコーティングスタック２００上に堆積される。第２のコーティングスタック３００は、第１の層３１０および第２の層３２０の少なくとも１つの周期を含み得る。第１の層３１０は低屈折率金属フッ化物の層でもよく、第２の層３２０は高屈折率金属酸化物の層でもよい。高屈折率金属酸化物は、限定するものではないが、Ａｌ2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ5、Ｎｂ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＨｆＯ2、およびＳｃ2Ｏ3でもよい。低屈折率金属フッ化物は、限定するものではないが、ＡｌＦ3、ＭｇＦ2、ＣａＦ2、ＢａＦ2、ＳｒＦ2、およびＮａ3ＡｌＦ6でもよい。例えば少なくとも１つの周期はＡｌＦ3／Ａｌ2Ｏ3でもよく、ここでＡｌＦ3は低屈折率金属フッ化物であり、Ａｌ2Ｏ3は高屈折率金属酸化物である。少なくとも１つの周期は、限定するものではないが、ＭｇＦ2／Ａｌ2Ｏ3またはＮａ3ＡｌＦ6／Ａｌ2Ｏ3などの他の低屈折率金属フッ化物および高屈折率金属酸化物の組を含み得る。第２のコーティングスタック３００は少なくとも１つのコーティング１１０に、ＵＶ領域での高反射率をさらに提供する。例えば入射角４５°で、第１のコーティングスタック２００上に堆積された第２のコーティングスタック３００は、第１のコーティングスタック２００での約２５０ｎｍから約７６０ｎｍの間の高反射率を、第１のコーティングスタック２００および第２のコーティングスタック３００の組合せで、約２００ｎｍから約７６０ｎｍの間に拡張する。
【００２１】
第３のコーティングスタック４００は、第２のコーティングスタック３００上に堆積される。第３のコーティングスタック４００は、第１の層４１０および第２の層４２０の少なくとも１つの周期を含み得る。第１の層４１０は高屈折率金属フッ化物でもよく、また第２の層４２０は低屈折率金属フッ化物でもよい。低屈折率金属フッ化物は、限定するものではないが、ＡｌＦ3、ＭｇＦ2、ＣａＦ2、ＢａＦ2、ＳｒＦ2、およびＮａ3ＡｌＦ6でもよい。高屈折率金属フッ化物は、限定するものではないが、ＬaＦ3、ＧｄＦ3、ＰｒＦ3、ＮｄＦ3、ＰｍＦ3、ＳｍＦ3、ＥｕＦ3、ＤｙＦ3、およびＨｏＦ3などの、ランタニド金属のフッ化物でもよい。例えば少なくとも１つの周期はＡｌＦ3／ＧｄＦ3でもよく、ここでＡｌＦ3は低屈折率金属フッ化物であり、ＧｄＦ3は高屈折率金属フッ化物である。少なくとも１つの周期は、限定するものではないが、ＭｇＦ2／ＬaＦ3、Ｎａ3ＡｌＦ6／ＬaＦ3、Ｎａ3ＡｌＦ6／ＧｄＦ3、またはＭｇＦ2／ＧｄＦ3などの他の高屈折率金属フッ化物および低屈折率金属フッ化物の組を含み得る。図５に示されているように第３のコーティングスタック４００は、第３のコーティングスタック４００の周期間に少なくとも１つの中間層４３０をさらに含み得る。中間層４３０は、界面の平滑化を提供するために堆積された、フッ化物をドープしたシリカ（Ｆ−ＳｉＯ2）層でもよい。さらに図６に示されているように、第３のコーティングスタック４００はキャッピング層４４０をさらに含み得る。キャッピング層は、少なくとも１つのコーティング１１０を密封する上面または層として、第３のコーティングスタック４００の最も外側の層の上に堆積された、Ｆ−ＳｉＯ2層でもよい。第３のコーティングスタック４００は、少なくとも１つのコーティング１１０に、ＤＵＶ領域での高反射率をさらに提供する。例えば入射角４５°で、第２のコーティングスタック３００上に堆積された第３のコーティングスタック４００は、第１のコーティングスタック２００および第２のコーティングスタック３００での約２００ｎｍから約７６０ｎｍの間の高反射率を、第１のコーティングスタック２００と第２のコーティングスタック３００と第３のコーティングスタック４００との組合せで、約１８０ｎｍから約７６０ｎｍの間に拡張する。第１のコーティングスタック２００と第２のコーティングスタック３００と第３のコーティングスタック４００との組合せは、少なくとも１つのコーティング１１０に、ＮＩＲ領域での反射防止特性をさらに提供する。
【００２２】
図４〜６に示したような異なる層は、理解を簡単にするために、本書で開示されるコールドミラーのほんのいくつかの実施形態を説明したに過ぎないことを理解されたい。コーティングスタックの夫々の、いくつかまたは全ての周期における層の構成は、逆にしてもよいことを理解されたい。例えば、第１のコーティングスタック２００の第１の層２１０および第２の層２２０を逆にして、第１の層２１０が低屈折率金属酸化物に、また第２の層２２０が高屈折率金属酸化物になるようにしてもよい。さらに、図４〜６の点線は、各コーティングスタックが２以上の周期を含み得ることを示すよう意図されていることを理解されたい。
【００２３】
本開示の実施形態の反射率を、４５°の入射角に関して上で論じたが、本書で論じられるコールドミラーはさらに、入射角が３０°、４０°、またはさらには６０°である場合に約２５０ｎｍから約７６０ｎｍの間で高反射率を有し、入射角が３０°、４０°、またはさらには６０°である場合に約２００ｎｍから約７６０ｎｍの間で約９０％を超える反射率を有する。
【００２４】
本開示の実施形態によれば、高反射帯域の幅広さは、様々な意図されている用途に基づいてＶＩＳ−ＤＵＶ領域からＤＵＶ領域まで調節することができる。図７は、約１８０ｎｍから約２９０ｎｍの間で入射角４５°で高反射率を有する、ＵＶ−ＤＵＶコールドミラーでの反射率対波長のグラフである。図８は、約１９０ｎｍから約３００ｎｍの間で入射角３０°で高反射率を有する、ＵＶ−ＤＵＶコールドミラーでの反射率対波長のグラフである。図９は、約１８５ｎｍから約２７０ｎｍの間で入射角６０°で高反射率を有する、ＵＶ−ＤＵＶコールドミラーでの反射率対波長のグラフである。
【００２５】
本開示の実施形態によれば、基板１００上に少なくとも１つのコーティング１１０を形成する方法が提供される。この方法は、基板１００上に第１のコーティングスタック２００を堆積するステップを含む。基板１００上に第１のコーティングスタック２００を堆積するステップは、電子ビーム蒸着技術を用いて交互周期層を堆積するステップを含む。第１のコーティングスタック２００を堆積するステップは、改良されたプラズマイオンアシスト電子ビーム蒸着技術を用いて、高密度かつ滑らかな第１のコーティングスタック２００を形成するステップをさらに含み得る。基板１００上に第１のコーティングスタック２００を堆積するステップは、約１２０℃から約１５０℃の間の温度で完成され得る。
【００２６】
この方法は、第１のコーティングスタック２００上に第２のコーティングスタック３００を堆積するステップをさらに含む。第１のコーティングスタック２００上に第２のコーティングスタック３００を堆積するステップは、熱ボート蒸着技術を用いてフッ化物層を堆積し、電子ビーム蒸着技術を用いて酸化物層を堆積して、交互周期層を堆積するステップを含む。第１のコーティングスタック２００上に第２のコーティングスタック３００を堆積するステップは、第２のコーティングスタック３００の緻密化を確実にするのに十分な温度で完成され得る。この温度は約２５０℃から約４００℃の間でもよく、あるいは約２８０℃から約３２０℃でもよい。
【００２７】
この方法は、第２のコーティングスタック３００上に第３のコーティングスタック４００を堆積するステップをさらに含む。第２のコーティングスタック３００上に第３のコーティングスタック４００を堆積するステップは、熱ボート蒸着技術を用いて交互周期層を堆積するステップを含む。例えば、堆積の角度を制限するのに十分な深さの２つの熱ボートを用いて、交互周期層を堆積してもよい。第２のコーティングスタック３００上に第３のコーティングスタック４００を堆積するステップは、第３のコーティングスタック４００の緻密化を確実にするのに十分な温度で完成され得る。この温度は約２５０℃から約４００℃の間でもよく、あるいは約２８０℃から約３２０℃でもよい。
【００２８】
第２のコーティングスタック３００上に第３のコーティングスタック４００を堆積するステップは、交互周期層の周期間に、フッ化物をドープしたシリカ層である少なくとも１つの中間層４３０を堆積するステップをさらに含んでもよい。さらに、第２のコーティングスタック３００上に第３のコーティングスタック４００を堆積するステップは、第３のコーティングスタック４００の最も外側の層の上に、フッ化物をドープしたシリカ層であるキャッピング層４４０を堆積するステップをさらに含んでもよい。少なくとも１つの中間層４３０およびキャッピング層４４０を、改良されたプラズマイオンアシスト電子ビーム蒸着技術を用いて堆積して、高密度かつ滑らかなコーティング表面を形成することができる。
【００２９】
電子ビーム蒸着技術を用いた酸化物層の堆積は、堆積の角度を制限するために、酸化物蒸着ソースの上方に反転マスクを設置するステップを含み得る。反転マスクの形状は、コーティングの均一性を向上させるようにも選択され得る。同様に熱ボート蒸着技術を用いたフッ化物の堆積は、堆積の角度を制限するのに十分な深さの熱ボートを提供するステップを含み得る。
【００３０】
本書で論じた様々な堆積温度は、異なるコーティングスタック間の界面応力を最小限にするように選択される。従って、第１のコーティングスタック２００を堆積するときに比較的低い堆積温度が使用され得、また第２のコーティングスタック３００および第３のコーティングスタック４００を堆積するときに比較的高い堆積温度が使用され得る。
【００３１】
本書で説明されるコールドミラーは、低損失特性を有する耐レーザ損傷性設計を提供し、さらにＵＶ−ＤＵＶ範囲で環境的に安定している。本書で説明されるミラーは、広帯域ＶＩＳ−ＤＵＶレーザ駆動光源と共に、また広帯域ＵＶ−ＤＵＶレーザ駆動光源と共に、使用することができる。ミラーは、プラズマ生成のためのＩＲ駆動レーザ放射を透過し、対応するＶＩＳ−ＤＵＶ発光を集める。さらに、本書で説明されるコールドミラーは、従来のアルミニウムベースのミラーに比べて、設計の複雑さを低減させることができ、またレーザ駆動光源の寿命を増加させることができる。
【００３２】
本発明を、限られた数の実施形態に関して説明してきたが、本書で開示される本発明の範囲から逸脱しない他の実施形態が考案可能であることは、本開示の利益を得る当業者には明らかであろう。従って本発明の範囲は、添付の請求項によってのみ制限されるべきである。
【００３３】
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
【００３４】
実施形態１
拡張コールドミラーにおいて、
基板、および、
前記基板上に堆積されたコーティングであって、
低屈折率金属酸化物コーティング層および高屈折率金属酸化物コーティング層の少なくとも１つの周期を備えた、第１のコーティングスタックと、
低屈折率金属フッ化物コーティング層および高屈折率金属酸化物コーティング層の少なくとも１つの周期を備えた、第２のコーティングスタックと、
低屈折率金属フッ化物コーティング層および高屈折率金属フッ化物コーティング層の少なくとも１つの周期を備えた、第３のコーティングスタックと、
を含むコーティング、
を備えていることを特徴とする拡張コールドミラー。
【００３５】
実施形態２
前記第１のコーティングスタックが前記基板上に堆積され、前記第２のコーティングスタックが前記第１のコーティングスタック上に堆積され、さらに前記第３のコーティングスタックが前記第２のコーティングスタック上に堆積されていることを特徴とする実施形態１記載の拡張コールドミラー。
【００３６】
実施形態３
前記基板が、ＣａＦ2、ＳｉＯ2、Ｆ−ＳｉＯ2、溶融石英、および石英、から成る群から選択されることを特徴とする実施形態１または２記載の拡張コールドミラー。
【００３７】
実施形態４
前記低屈折率金属酸化物が、ＳｉＯ2、Ｆ−ＳｉＯ2、ＮドープＳｉＯ2、およびＡｌドープＳｉＯ2、から成る群から選択されることを特徴とする実施形態１から３いずれか１項記載の拡張コールドミラー。
【００３８】
実施形態５
前記高屈折率金属酸化物が、Ａｌ2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ5、Ｎｂ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＨｆＯ2、およびＳｃ2Ｏ3、から成る群から選択されることを特徴とする実施形態１から４いずれか１項記載の拡張コールドミラー。
【００３９】
実施形態６
前記低屈折率金属フッ化物が、ＡｌＦ3、ＭｇＦ2、ＣａＦ2、ＢａＦ2、ＳｒＦ2、およびＮａ3ＡｌＦ6、から成る群から選択されることを特徴とする実施形態１から５いずれか１項記載の拡張コールドミラー。
【００４０】
実施形態７
前記高屈折率金属フッ化物が、ＬaＦ3、ＧｄＦ3、ＰｒＦ3、ＮｄＦ3、ＰｍＦ3、ＳｍＦ3、ＥｕＦ3、ＤｙＦ3、およびＨｏＦ3、から成る群から選択されるランタニド金属のフッ化物であることを特徴とする実施形態１から６いずれか１項記載の拡張コールドミラー。
【００４１】
実施形態８
前記高屈折率金属フッ化物が、ＧｄＦ3およびＬaＦ3のうちの一方であることを特徴とする実施形態７記載の拡張コールドミラー。
【００４２】
実施形態９
前記第３のコーティングスタックが、２つの前記周期の間に少なくとも１つの中間層をさらに備えていることを特徴とする実施形態１から８いずれか１項記載の拡張コールドミラー。
【００４３】
実施形態１０
前記少なくとも１つの中間層がＦ−ＳｉＯ2を含むことを特徴とする実施形態９記載の拡張コールドミラー。
【００４４】
実施形態１１
前記第３のコーティングスタックが、キャッピング層をさらに備えていることを特徴とする実施形態１から１０いずれか１項記載の拡張コールドミラー。
【００４５】
実施形態１２
前記キャッピング層がＦ−ＳｉＯ2を含むことを特徴とする実施形態１１記載の拡張コールドミラー。
【００４６】
実施形態１３
前記金属フッ化物コーティング層が熱ボート蒸着層を含むことを特徴とする実施形態１から１２いずれか１項記載の拡張コールドミラー。
【００４７】
実施形態１４
前記金属酸化物コーティング層が電子ビーム蒸着層を含むことを特徴とする実施形態１から１３いずれか１項記載の拡張コールドミラー。
【００４８】
実施形態１５
前記第１のコーティングスタックの前記低屈折率金属酸化物コーティング層がＳｉＯ2層を含み、かつ前記第１のコーティングスタックの前記高屈折率金属酸化物コーティング層がＨｆＯ2層を含み、
前記第２のコーティングスタックの前記低屈折率金属フッ化物コーティング層がＡｌＦ3層を含み、かつ前記第２のコーティングスタックの前記高屈折率金属酸化物コーティング層がＡｌ2Ｏ3層を含み、さらに、
前記第３のコーティングスタックの前記低屈折率金属フッ化物コーティング層がＡｌＦ3層を含み、かつ前記第３のコーティングスタックの前記高屈折率金属フッ化物コーティング層がＧｄＦ3層を含むことを特徴とする、実施形態１から１４いずれか１項記載の拡張コールドミラー。
【００４９】
実施形態１６
前記ミラーの反射率が、入射角４５°で、約２００ｎｍから約７６０ｎｍの波長範囲で約９５％を超えることを特徴とする実施形態１から１５いずれか１項記載の拡張コールドミラー。
【００５０】
実施形態１７
前記ミラーの反射率が、入射角３０°、４０°、および６０°で、約２００ｎｍから約７６０ｎｍの波長範囲で約９０％を超え、約２５０ｎｍから約７６０ｎｍの波長範囲で約９５％を超えることを特徴とする実施形態１から１６いずれか１項記載の拡張コールドミラー。
【００５１】
実施形態１８
前記ミラーの反射率が、入射角４５°で、約１８０ｎｍから約２９０ｎｍの波長範囲で約９５％を超えることを特徴とする実施形態１から１５いずれか１項記載の拡張コールドミラー。
【００５２】
実施形態１９
前記ミラーの反射率が、入射角３０°で、約１９０ｎｍから約３００ｎｍの波長範囲で約９５％を超えることを特徴とする実施形態１から１５いずれか１項記載の拡張コールドミラー。
【００５３】
実施形態２０
前記ミラーの反射率が、入射角６０°で、約１８５ｎｍから約２７０ｎｍの波長範囲で約９５％を超えることを特徴とする実施形態１から１５いずれか１項記載の拡張コールドミラー。
【符号の説明】
【００５４】
１０    コールドミラー
１００    基板
１１０    コーティング
２００    第１のコーティングスタック
２１０、３１０、４１０    第１の層
２２０、３２０、４２０    第２の層
３００    第２のコーティングスタック
４００    第３のコーティングスタック
４３０    中間層
４４０    キャッピング層
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図１Ｃ】
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【図１Ｄ】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【国際調査報告】
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