(57)【要約】エレクトロウェッティング表示デバイスは、画素を含む。画素に入射するための入射放射線を受けるための表面がある。第１の流体及び当該第１の流体と混合しない第２の流体は、表示効果をもたらすために使用可能である。当該第１の流体または当該第２の流体のうちの少なくとも１つは、少なくとも１つの既定の波長の放射線への暴露による劣化の影響を受けやすい。支持板は、当該表面と当該第１または第２の流体のうちの少なくとも１つとの間に位置する。当該支持板は、当該少なくとも１つの既定の波長の放射線をフィルタリングするように構成される放射線フィルタを含む層を含む。【選択図】図１
2017532610.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素を備えるエレクトロウェッティング表示デバイスであって、
前記画素に入射する入射放射線を受けるための表面、第１の流体、及び前記第１の流体と混合しない第２の流体と、
表示エリアを有する支持板であって、前記表示エリアの一部のサイズは、印加電圧に応じて前記第１の流体に隣接され、前記第１の流体または前記第２の流体のうちの少なくとも１つは、少なくとも１つの既定の波長の放射線への暴露による劣化の影響を受けやすい、前記支持板とを含み、
前記画素の前記支持板または別の支持板のうちの１つは、前記表面と前記第１または第２の流体のうちの少なくとも１つとの間に位置し、前記支持板または前記別の支持板のうちの前記１つは、前記少なくとも１つの既定の波長の前記放射線の少なくとも一部をフィルタリングするように構成される放射線フィルタを備える層を含む、少なくとも１つの層を備える、前記エレクトロウェッティング表示デバイス。
【請求項２】
前記第１及び第２の流体は、複数の構成に対して構成可能であり、前記放射線フィルタに重なる前記第１または第２の流体のうちのある割合の少なくとも１つのものは、前記複数の構成の異なるものによって異なる、請求項１に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【請求項３】
前記画素に非ゼロ電圧の大きさを伴う第１の電圧を含む異なる大きさの複数の電圧のうちの１つを選択的に印加するために構成される制御システムをさらに備える、システムの一部であり、
前記放射線フィルタは、前記第１の電圧が前記画素に印加されるとき、前記第１の流体を実質的に覆う前記表示エリアの平面に対して平行である平面内の範囲を有する、請求項１に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【請求項４】
前記第１の電圧は、前記制御システムが前記画素に印加するように構成される最大電圧である、請求項３に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【請求項５】
前記第１の電圧の前記非ゼロ電圧の大きさは、前記第１及び第２の流体の構成に対応し、前記第１の流体が収縮され、前記第１の流体に隣接する前記表示エリアの前記一部の前記サイズは、前記画素の白色表示効果をもたらすために、前記制御システムが前記第１の流体を隣接させるように制御するように構成される、前記表示エリアの前記一部の最小サイズである、請求項３に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【請求項６】
前記表示エリアの平面に対して平行である平面内の前記放射線フィルタの範囲は、前記表示エリアの最大２０％、最大３０％、最大４０％、最大約５０％または最大５０％のうちの１つを覆う、請求項１に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【請求項７】
前記少なくとも１つの既定の波長は、約１００〜約３８０ナノメートルの範囲の少なくとも１つの波長、約３８０〜約７００ナノメートルの範囲の少なくとも１つの波長、または約７００〜約１０００ナノメートルの範囲の少なくとも１つの波長のうちの１つ以上の波長を備える、請求項１に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【請求項８】
前記放射線フィルタは、前記少なくとも１つの既定の波長の前記放射線の前記少なくとも前記一部をフィルタリングするための化合物と、前記少なくとも１つの既定の波長の前記放射線の前記少なくとも前記一部をフィルタリングするための材料の層と、前記少なくとも１つの既定の波長の前記放射線の前記少なくとも前記一部をフィルタリングするための及び実質的に均一の厚さまたは非流体材料を有する材料の層とのうちの少なくとも１つを備える、請求項１に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【請求項９】
前記支持板は、前記印加電圧を前記画素に印加するために使用される少なくとも１つの電子的構成要素を含み、前記少なくとも１つの電子的構成要素は、トランジスタ、キャパシタ、または制御線のうちの１つ以上を含み、前記放射線フィルタの範囲は、前記少なくとも１つの電子的構成要素の範囲を実質的に覆い、前記放射線フィルタの前記範囲及び前記少なくとも１つの電子的構成要素の前記範囲は、互いに実質的に平行である、請求項１に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【請求項１０】
前記画素は、
前記表示エリアの外周を形成し前記第１の流体を前記画素内部に閉じ込める少なくとも１つの壁部をさらに備え、前記放射線フィルタは、前記表示エリアと、前記少なくとも１つの壁部の実質的に全て、前記少なくとも１つの壁部の一部、または前記少なくとも１つの壁部ではない部分のうちの１つとを少なくとも部分的に覆う、請求項１に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【請求項１１】
前記放射線フィルタは、第１の部分及び第２の部分を有し、前記第１の部分は、前記第２の部分よりも少ない量の前記少なくとも１つの既定の波長の前記放射線をフィルタリングするように構成される、請求項１に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【請求項１２】
前記放射線フィルタは、フォトクロミック材料の層、実質的に均一の厚さを有するフォトクロミック材料の層、またはスピロオキサジン、フルギド、ビアントロン、アゾ染料、スピロピラン、ジアリールエテン、ハロゲン化銀、もしくはハロゲン化亜鉛のうちの少なくとも１つを備えるフォトクロミック材料のうちの少なくとも１つを備える、請求項１に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【請求項１３】
ポータブル装置であって、
画素を備えるエレクトロウェッティング表示デバイスであって、
前記画素に入射するための入射放射線を受けるための表面と、
第１の流体及び前記第１の流体と混合しない第２の流体と、
表示エリアを有する支持板であって、前記表示エリアの一部のサイズは、印加電圧に応じて前記第１の流体に隣接され、前記第１の流体または前記第２の流体のうちの少なくとも１つは、少なくとも１つの既定の波長の放射線への暴露による劣化の影響を受けやすい、前記支持板と、
前記画素の前記支持板または別の支持板のうちの１つは、前記表面と前記第１または第２の流体のうちの少なくとも１つとの間に位置し、前記支持板または前記別の支持板のうちの前記１つは、前記少なくとも１つの既定の波長の前記放射線の少なくとも一部をフィルタリングするように構成される放射線フィルタを備える層を含む、少なくとも１つの層を備え、
少なくとも１つのプロセッサと、
コンピュータプログラム命令を含む少なくとも１つのメモリであって、前記少なくとも１つのメモリ及び前記コンピュータプログラム命令は、前記少なくとも１つのプロセッサを用いて、前記エレクトロウェッティング表示デバイスによって提供される表示効果を制御するように構成される、前記少なくとも１つのメモリと、
を含む前記エレクトロウェッティング表示デバイスを備える、前記ポータブル装置。
【請求項１４】
前記放射線フィルタは、前記表示エリアの全てよりも小さい部分を覆う、請求項１３に記載のポータブル装置。
【請求項１５】
前記放射線フィルタの範囲は、第１の電圧が前記エレクトロウェッティング表示デバイスの前記画素に印加されるとき、前記第１の流体を実質的に覆い、前記第１の電圧は、非ゼロ電圧である、請求項１３に記載のポータブル装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射線フィルタを備えるエレクトロウェッティング表示デバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
少なくとも１つの流体を含むエレクトロウェッティング表示デバイスが知られている。そのような流体は、例えば、いくつかの既知のデバイス内で、光退色の影響を受けやすい染色を含む場合があり、したがって、デバイスの寿命を短くする場合がある。光退色へのより大きい耐性がある染色を使用することによって、エレクトロウェッティング表示デバイスの寿命を改善することが知られている。
【０００３】
エレクトロウェッティング表示デバイスの寿命を改善することが望ましい。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００４】
エレクトロウェッティング表示デバイスは、画素を含む。画素に入射するための入射放射線を受けるための表面がある。第１の流体及び当該第１の流体と混合しない第２の流体は、表示効果をもたらすために使用可能である。当該第１の流体または当該第２の流体のうちの少なくとも１つは、少なくとも１つの既定の波長の放射線への暴露による劣化の影響を受けやすい。支持板は、当該表面と当該第１または第２の流体のうちの少なくとも１つとの間に位置する。当該支持板は、当該少なくとも１つの既定の波長の放射線をフィルタリングするように構成される放射線フィルタを含む層を含む。
【図面の簡単な説明】
【０００５】
【図１】例示的エレクトロウェッティング表示デバイスの画素の断面を概略的に示す。
【図２】図１の画素の平面図を概略的に示す。
【図３】図１の画素を含むエレクトロウェッティング画素の例示的配列の平面図を概略的に示す。
【図４】エレクトロウェッティング表示デバイスを含む例示的装置の概略系統図を示す。
【発明を実施するための形態】
【０００６】
図１は、複数のエレクトロウェッティング画素またはディスプレイ要素２（これらのうちの１つが図に示され、また、エレクトロウェッティングセルとして言及され得る）を含む表示デバイスとして言及され得る、エレクトロウェッティング表示デバイス１の実施例の一部の図式的断面を示す。ディスプレイ要素の側方範囲は、２本の破線３、４によって図中に示される。ディスプレイ要素は、第１の支持板５と、別の支持板として本明細書に別様に言及される第２の支持板６とを備える。これらの支持板は、各表示素子の別個の部分であり得るが、複数の表示素子によって共有されてもよい。支持板はそれぞれ、ガラスまたはポリマー基質７ａ、７ｂを含んでもよく、剛性または可撓性であってもよい。
【０００７】
表示デバイスは、表示デバイスによって形成される画像またはディスプレイ効果が視認されることができる視認側８と、後側９とを有する。図中では、第１の支持板５の表面（本実施例では、その表面が基板７ａの表面）は、後側９を画定し、第２の支持板６の表面（本実施例では、その表面が基板７ｂの表面）は、視認側８を画定し、代替として、他の実施例では、第１の支持板の表面は、視認側を画定してもよい。表示デバイスは、反射性、透過性、または半透過性タイプであってもよい。表示デバイスは、アクティブマトリクス駆動表示デバイスであってもよい。複数の表示素子は、モノクロであってもよい。カラー表示デバイスに関して、表示素子は、グループに分割されてもよく、各グループは、異なる色を有し、代替として、個々の表示素子は、異なる色を示すことが可能であり得る。視認側は、表示素子（すなわち、画素）に入射するための入射放射線を受けるための表面の実施例であり、そのような表面は、例えば、第２の支持板の層の１つの表面である。
【０００８】
第２の支持板６は、第１の流体１１及び第２の流体１２がスペース１０内で第１の支持板５と第２の支持板６との間に位置するように位置付けられる。第１及び第２の流体のうちの少なくとも１つは、液体であってもよい。第２の流体は、第１の流体と混合しない。したがって、第１の流体及び第２の流体は、互いに実質的に混合しなく、いくつかの実施例では、ある程度まで互いに混合しない。第１及び第２の流体の非混和性は、第１及び第２の流体の特性（例えば、それらの化学成分）に起因し、第１及び第２の流体は、互いに分離されたままの状態になる傾向があり、したがって、第１及び第２の流体の均一混合物を形成するために一緒に混合しない傾向がある。この非混和性に起因して、第１及び第２の流体は、第１の流体の体積と第２の流体の体積との間に境界を画定する界面で互いに接触し、この界面または境界は、メニスカスとして言及されてもよい。第１及び第２の流体は互いに実質的に混合しないことが前提にあり、いくつかの実施例では、第１及び第２の流体のある程度の混合があり得るが、第１の流体の大部分の体積が第２の流体の大部分の体積と混合しない点で無視できるものとして考慮されることが想定される。
【０００９】
第２の流体は、導電性または極性があり、水、または水中の塩化カリウムの溶液等の食塩水であってもよい。実施例では、第２の流体は、極性があり、いくつかの実施例では、導電性があるが、他の実施例では、導電性はない。第２の流体は、透明であってもよく、その代わりに、着色または吸収されてもよい。第１の流体は、非導電性であり、例えば、ヘキサデカン等のアルカンであってもよく、またはシリコーン油等の油であってもよい。したがって、第１の流体は、少なくともいくつかの実施例では、非極性である。
【００１０】
第１の流体は、光スペクトルの少なくとも一部を吸収してもよい。第１の流体は、光スペクトルの一部に対して透過性があり、カラーフィルタを形成してもよい。この目的のために、第１の流体は、色素粒子または染色の添加によって着色されてもよい。代替として、第１の流体は、黒であってもよく、すなわち、可視スペクトルの全ての部分を実質的に吸収しまたは反射する。反射性のある第１の流体は、可視スペクトル全体を反射し、層またはその一部を白に見せ、層に色を持たせてもよい。下記に説明されるいくつかの実施例では、第１の流体は、黒であって、したがって、例えば、可視光スペクトル内の光スペクトルの全ての部分を実質的に吸収する。他の実施例では、第１の流体は、黒以外の別のカラーであり、光スペクトルの別の一部、例えば、可視スペクトル内の波長の部分的範囲を吸収する。他の実施例では、表示デバイスは、赤、緑もしくは青、またはシアン、マゼンダ及び黄色である第１の流体を有する画素を含み、完全カラー表示を提供する。用語「ａｂｓｏｒｂｓ  ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ  ａｌｌ（全てを実質的に吸収する）」は、ある程度の変形例を含み、したがって、第１の流体は、全ての波長を吸収しないが、素子内の第１の流体の機能を果たすように、可視スペクトル等の所与のスペクトル内の大部分の波長を吸収し得る。したがって、第１の流体は、第１の流体上に入射する全ての光を実質的に吸収するように構成される。例えば、第１の流体は、可視スペクトル内及び第１の流体上に入射する９０％以上の光を吸収してもよい。さらに、第１及び第２の流体の特性は、下記に説明される。
【００１１】
支持板５は、絶縁層１３を含む。絶縁層は、透明または反射性であってもよい。絶縁層１３は、表示素子２の壁部２０の間を延在してもよい。第２の流体１２と絶縁層下に配列される電極との間で短絡を回避するために、絶縁層の複数の層は、図に示されるように、複数の表示素子２にわたって途切れなく延在してもよい。絶縁層は、表示素子２のスペース１０に対面する表面１４を有する。本実施例では、表面１４は、疎水性がある。絶縁層の厚さは、２マイクロメートル未満であってもよく、１マイクロメートル未満であってもよい。
【００１２】
絶縁層は、疎水性層であってもよく、代替として、図に示されるように、疎水性層１５及び既定の誘電特性を伴う障壁層１６を含んでもよく、疎水性層１５は、スペース１０に対面する。疎水性層は、図１に概略的に例証され、テフロン（登録商標）ＡＦ１６００から形成されてもよい。障壁層１６は、５ナノメートル〜数マイクロメートル、例えば、５０ナノメートル〜２または３マイクロメートルである基板の平面に対して垂直方向に沿った厚さを有してもよい。他の実施例では、その厚さは、５０ナノメートル〜５００ナノメートルであってもよい。障壁層は、酸化シリコンまたは窒化シリコン等の無機材料から作製されてもよい。
【００１３】
第１の流体が第２の流体１２よりも絶縁層１３の表面に対してより高い湿潤性を有するため、表面１４の疎水性特徴は、第１の流体１１を絶縁層１３に優先的に付着させる。湿潤性は、固体の表面に対する流体の相対的親和力に関する。湿潤性は、流体と固体の表面との間の接触角度によって測定されてもよい。接触角度は、流体−固体境界における流体と固体との間の表面張力の差によって決定されてもよい。例えば、表面張力の大きい差は、疎水性特性を示すことができる。
【００１４】
各表示素子２は、支持板５の一部として第１の電極１７を含む。示される実施例では、１素子あたりそのような１つの電極１７がある。電極１７は、絶縁層１３によって第１及び第２の流体から電気的に絶縁され、近接の表示素子の電極は、非導電層によって分離される。いくつかの実施例では、別の層は、絶縁層１３と電極１７との間に配列されてもよい。電極１７は、任意の所望の形状または形態であることができる。実施例では、各表示素子２は、支持板５の一部として１つ以上のそのような電極を含んでもよい。表示素子の電極１７は、図に概略的に示されるような、信号線１８によって電圧信号が供給される。
【００１５】
第２の信号線１９は、導電性の第２の流体１２と接触する電極に接続される。この電極は、壁部によって遮断されない第２の流体によって全ての要素が流体的に相互接続されそれを共有するとき、その全ての要素に共通してもよい。表示素子２は、信号線１８と信号線１９との間に印加される電圧Ｖ（したがって、画素に印加される電圧）によって制御されることができる。基板７ａ上の電極１７は、制御システムに結合される。マトリクス形態に配列される画素を有する表示デバイス内では、電極は、基板７ａ上の制御線のマトリクスに結合されることができる。
【００１６】
本実施例における第１の流体１１は、表示素子の断面に続く壁部によって、表示素子に閉じ込められる。破線３及び破線４によって示される表示素子の範囲は、壁部の中心によって画定される。破線２１及び破線２２によって示される表示素子の壁部間の表面１４のエリアは、表示効果が生じる表示エリア２３と呼ばれる。表示効果は、上記に説明される印加電圧Ｖの大きさに基づいて、第１及び第２の流体が表示エリアによって画定される表面に隣接する範囲によって決まる。したがって、印加電圧Ｖの大きさによって、エレクトロウェッティング素子内部の第１及び第２の流体の構成が決定される。言い換えれば、表示効果は、構成が表示素子の電極間に印加される電圧の大きさによって決まる、表示素子内の第１及び第２の流体の構成によって決まる。例えば、第１及び第２の流体の構成を制御するために、定電位は、導電性の第２の流体１２と接触する電極に印加されてもよく、基板７上の電極１７に印加される電位の大きさは、制御されてもよい。表示効果は、表示デバイスを見る観察者のために表示素子の表示状態を生じさせる。ある流体構成と異なる流体構成にエレクトロウェッティング素子を切り替えると、それぞれ、表示エリア表面に隣接する第２の流体の範囲は、増加または減少し得、表示エリア表面に隣接する第１の流体の範囲は、減少または増加する。
【００１７】
したがって、第１の流体１１は、表示エリア２３の少なくとも一部に隣接する。第１の流体に隣接する表示エリアの一部のサイズは、画素の電極の間に印加される電圧によって決まる。本明細書に説明される実施例では、ゼロまたは実質的にゼロ電圧が電極間に印加されるとき、すなわち、エレクトロウェッティング素子がオフ状態であるとき、第１の流体１１は、図１に示されるように、壁部間に層を形成する。実施例では、用語「ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ  ｚｅｒｏ（実質的にゼロ）」は、最小である電圧、例えば、第１の流体が表示エリア２３の最大範囲に隣接するようなゼロに近いような電圧を指す。電圧の印加は、例えば、図１の破線形状２４によって示されるような壁部に対して第１の流体を収縮するであろう。第１の流体の制御可能形状は、印加電圧の大きさに基づいて、光弁として画素を動作させるために使用され、表示エリア２３にわたって表示効果をもたらす。例えば、表示エリア２３を伴う第２の流体１２の隣接部を増加させるための流体の切替が、要素によってもたらされる表示効果の輝度を増加させてもよい。
【００１８】
この表示効果は、観察者が表示デバイスの視認側に向かって見ているときに確認するであろう画素の表示状態を決定する。表示デバイスは、任意の中間のグレイ状態を含めて、黒から白に表示状態をもたらすことが可能であり、カラー表示デバイス内では、表示状態はまた、カラーを含んでもよい。
【００１９】
図１の実施例における第２の支持板６は、少なくとも１つの層を備える。少なくとも１つの層は、下記により詳細に説明される、例えば、層と、放射線フィルタ２５を備える層として、例えば、カラーフィルタＣＦを含む。カラーフィルタＣＦは、例えば、可視スペクトル内で、光の少なくとも１つの波長を吸収し、したがって、カラーフィルタを通る光をフィルタリングし、着色表示状態をもたらす。これは、第１の流体が黒である実施例における場合であり得る。カラーフィルタは、カラーフィルタ特性を有する材料から形成されてもよく、またはカラーフィルタとして作用するコーティングとともに、例えば、可視スペクトル内で、実質的に全ての光の波長、例えば、９０％以上の波長のための透過性材料の層を備えてもよい。図１の実施例におけるカラーフィルタＣＦは、放射線フィルタ２５とスペース１０との間に位置付けられ、例えば、表示エリアの全てを実質的に覆う。他の実施例では、カラーフィルタＣＦは、放射線フィルタ２５がカラーフィルタＣＦとスペース１０との間にあるように、放射線フィルタ２５上で横になってもよい。さらなる実施例は、カラーフィルタ及び放射線フィルタの機能を果たし、ひいては、カラーフィルタ及び放射線フィルタの組み合わせである、単一のフィルタ要素を含む。そのような実施例は、放射線フィルタではなくカラーフィルタとして作用する領域と、カラーフィルタではなく放射線フィルタとして作用する異なる領域とを備えてもよい。他の実施例では、単一のフィルタ要素は、いくつかのさらなる実施例における別個のカラーフィルタ領域及び放射線フィルタリング領域に加えたものであり得る、カラーフィルタと放射線フィルタとの両方の機能を果たす領域を有してもよい。他の実施例における第２の支持板６は、表示状態のカラーを提供するために、例えば、染色または顔料の追加に起因して、例えば、第１の流体１１が適切に着色される場合、カラーフィルタを含まない。カラーフィルタの表示素子の着色の表示状態をもたらす使用は、図３を参照して、下記にさらに説明される。
【００２０】
第１の流体１１または第２の流体１２のうちの少なくとも１つは、少なくとも１つの既定の波長の放射線への暴露による劣化の影響を受けやすい。劣化は、第１の流体の及び／または第２の流体（例えば、第１及び／または第２の流体の成分）のいずれかのタイプの物理的または化学的劣化、分裂、または分解であり得る。実施例における放射線への暴露は、例えば、第１及び／または第２の流体が放射線によって照射されるように、第１及び／または第２の流体上に入射する放射線を指す。第１の流体または第２の流体のうちの少なくとも１つは、ある持続時間または長期間にわたって、例えば、１日以上の表示デバイスの動作周期にわたって、ある連続期間または１日以上の全期間を伴う複数の期間のいずれか一方にわたって、放射線への暴露の影響を受けやすい場合がある。代替として、第１の流体または第２の流体のうちの少なくとも１つは、例えば、１時間以下の放射線の短いバーストへの暴露の影響を受けやすい場合がある。
【００２１】
実施例では、第１の流体または第２の流体のうちの少なくとも１つは、少なくとも１つの既定の波長の放射線への暴露による劣化の影響を受けやすい添加物を備える。その添加物は、例えば、流体及び／または固体粒子であり、またはそれらを備えてもよい。その劣化は、添加物の分解、または、添加物が上記に説明されるような染色または顔料等の着色剤であり、例えば、その着色剤の化学的構造の分解に起因する着色剤のカラーの変化のうちの１つ以上であり得る。そのようなカラーの変化は、例えば、放射線への暴露の光脱色反応に起因する脱色、例えば、漂白であってもよい。実施例では、脱色は、その原色と異なるカラーに変化する着色をもたらし得る。実施例における着色剤のカラーの変化は、原色、すなわち、所望のカラーを有する着色剤の量を少なくする。そのような実施例では、原色を伴う着色剤の量または濃度は、着色剤の初期量または初期濃度と比較して少なくなり、脱色をもたらす。
【００２２】
いくつかの実施例では、第１または第２の流体のうちの少なくとも１つの劣化は、例えば、流体の成分の化学的構造の分解からのイオン形成に起因する、流体の電気的特性の変化であり得る。第１または第２の流体のうちの少なくとも１つの劣化は、例えば、第１の流体または第２の流体のうちの少なくとも１つの機能または性能の低下のような、変化を引き起こす可能性がある。例えば、劣化は、例えば、第１及び第２の流体の一方または両方のスイッチング性能の低下のような、変化を引き起こし得る。
【００２３】
放射線による劣化または損傷の影響を受けにくい流体成分を使用することによって、例えば、光脱色に化学的に感受性が低い染色を使用することによって、放射線暴露に起因する第１または第２の流体の劣化を少なくすることが知られている。エレクトロウェッティング表示デバイス内の流体の多くの動作要件を前提すると、劣化の影響を受けにくい好適な代替の化合物を識別することは、複雑なタスクである。発明者は、放射波長（複数可）による劣化の影響を受けやすい第１及び／または第２の流体に関して構成される放射線フィルタは、容認可能な表示品質をもたらしながら、放射線を損傷させる第１または第２の流体の暴露を少なくするために使用されてもよいことを理解している。
【００２４】
図１の実施例では、第２の支持板６は、第１の流体または第２の流体のうちの少なくとも１つが劣化の影響を受けやすい少なくとも１つの既定の波長の放射線の少なくともいくつかのもの、すなわち、少なくとも一部をフィルタリングするように構成される、放射線フィルタ２５を備える層（例えば、放射線フィルタ層）を備える。例えば、実施例における放射線フィルタ２５は、少なくとも１つの既定の波長の放射線が放射線フィルタを通して伝送されないように、例えば、放射線を吸収または反射することによって、少なくとも１つの既定の波長の放射線を選択的に遮る。実施例では、少なくとも１つの既定の波長のうちの１つではない波長を伴う放射線の一部または全ては、放射線フィルタを通して、伝送されまたは少なくとも部分的に伝送される。放射線フィルタは、例えば、実質的に均一の厚さ（「ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ（実質的に）」は、容認可能な製造公差の範囲内を意味する）を有し得る層である。当業者が容易に認識するであろうように、ある実施例における放射線フィルタは、例えば、染色または顔料または有機材料を含む、少なくとも１つの既定の波長をフィルタリングするための好適な材料または化合物から形成される、または、それを備える。つまり、特定材料は、特定の波長または少なくとも部分的にフィルタリングされる波長の範囲によって決まるであろう。実施例における放射線フィルタは、例えば、可撓性または剛性であり得る固形プラスチック材料である非流体材料から形成される。この非流体材料は、流体材料を塗布し、次にそれを硬化または凝固させることによって形成されてもよい。
【００２５】
放射線フィルタ２５は、表示デバイス１の視認側８と第１の流体１１及び第２の流体１２との間に位置付けられるため、放射線フィルタ２５は、したがって、少なくとも１つの既定の波長の入射放射線（例えば、表示デバイス１の視認側８から第２の支持板６上に入射する周囲の放射線）が、放射線が入射する放射線フィルタ２５側（例えば、視認側８に最も近い放射線フィルタ２５側）から、他の側、例えば、放射線フィルタ２５の反対側（例えば、第２の流体１２に最も近い放射線フィルタ２５側）まで、伝送されることを防止または少なくする。これは、放射線フィルタ２５の下にある（すなわち、それによって覆われる）第１の流体１１及び第２の流体１２の部分が、少なくとも１つの既定の波長の放射線によって暴露される（または、例えば、照射される）ことを防止する。このように、放射線フィルタ２５によって放射線から保護される第１の流体１１及び第２の流体１２の部分は、したがって、放射線フィルタの下にある状態の間の放射線への暴露によって劣化されない、または、それによる劣化の減少をもたらす。これは、第１及び第２の流体の一方または両方の有効な寿命を長くさせることによって、表示デバイス１の寿命を長くする。
【００２６】
いくつかの実施例では、放射線フィルタは、例えば、放射線フィルタが後に説明されるようなフォトクロミック材料を含む表示エリアの全てを実質的に覆ってもよい。る実施例における用語「ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ  ａｌｌ（実質的に全て）」は、ある程度の変形例を含み、例えば、放射線フィルタは、表示エリアの大部分（例えば、表示エリアの５０％、６０％、７０％、８０％、もしくは９０％を上回る部分、または表示エリアの全ての部分）を覆ってもよい。他の実施例では、放射線フィルタは、表示エリアの全てよりも小さい部分を覆う。
【００２７】
ここで使用される用語「ｃｏｖｅｒ（覆う）」は、放射線フィルタが表示エリアの平面に対して平行である平面内にあるように表示エリアの少なくとも一部の上部にわたって位置付けられ、放射線フィルタの平面が表示エリアの平面に重なる、放射線フィルタを指す。放射線フィルタは、分離されてもよく、ひいては、表示エリアまたは第１の流体に接触する必要はない。例えば、放射線フィルタによって覆われた表示エリアの一部は、表示エリアの覆われた部分と一致するように（すなわち、その部分と同一のエリアを占めるように）、表示エリアの一部を覆う放射線フィルタの範囲が表示エリアの平面内に突出されるとき、放射線フィルタに重なることが考えられ得る。第１の電圧が印加されると放射線フィルタが第１の流体を実質的に覆うため、放射線フィルタが放射線フィルタに重なる第１の流体に到達してから少なくとも１つの既定の波長の放射線の少なくとも一部をフィルタリングすることができるように、放射線フィルタは、例えば、放射線フィルタに重なる第１の流体の一部の上方に位置する。例えば、第１の流体に隣接する表示エリアの一部の形状及び／またはサイズは、放射線フィルタの形状及び／またはサイズに同等なものであり、またはそれらよりも小さい。
【００２８】
図１の実施例では、放射線フィルタは、表示エリアの範囲の約２０％を覆う。これは、図１の画素の平面図を概略的に示す図２に示される。図２は、下記により詳細に説明される。さらなる実施例では、表示エリアの平面に対して平行である平面内の放射線フィルタの範囲（例えば、エリア）は、表示エリアの最大２０％、最大３０％、最大４０％、最大約５０％、または最大５０％のうちの１つを覆う。そのような実施例では、平坦化層２５ａは、例えば、平坦化層２５ａを覆う基板７ｂ及びその下にあるカラーフィルタＣＦに隣接するための支持板内部の平面を提供するように、放射線フィルタに隣接して使用されてもよい。
【００２９】
表示エリアの範囲を覆い、ひいては、第２の支持板を通して伝送される可能性がある放射線の量を少なくする放射線フィルタにもかかわらず、発明者は、表示効果の容認可能な品質がまた有害な放射線から第１及び／または第２の流体を保護もしながら取得可能であり、したがってデバイス寿命を長くすることを発見していた。
【００３０】
ある実施例では、第２の支持板は、観察人が画素によってもたらされる表示効果を視認する第１及び第２の流体から最も遠い側を有し、第１及び第２の流体は、複数の構成に対して構成可能であり、第１の流体に隣接する表示エリアの一部のサイズ（すなわち、放射線フィルタに重なるある割合の第１の流体）は、第１及び第２の流体から最も遠い第２の支持板側を通して通過する少なくとも１つの既定の波長の放射線によって照射される第１または第２の流体のうちのある割合の少なくとも１つのものを制御するために、複数の構成の異なるものによって異なる。そのような実施例は、図１に示され、第１及び第２の流体から最も遠い側は、観察人が表示デバイス１を観察することができる視認側８であることも図１に示される。図１の実施例では、第１の流体１１及び第２の流体１２の構成は、前述に説明されるように、信号線１８と信号線１９との間に印加される電圧に基づいて制御可能である。異なる電圧を印加することによって、第１の流体１１は、表示エリア２３の異なる範囲に隣接する。信号線１８と信号線１９との間に印加される電圧の大きさが大きくなるにつれて、第１の流体が完全に収縮されるまで、第１の流体１１に隣接する表示エリア２３の一部のサイズは小さくなる。したがって、印加電圧の大きさが大きくなるにつれて、第１の流体１１がより収縮される。
【００３１】
第１の流体１１の収縮を制御することによって、また、放射線フィルタ２５の下に配設される、すなわち、それによって覆われる第１の流体１１の割合も制御する。第１の流体１１の収縮が大きくなるつれて、放射線フィルタ２５の下部にありそれによって覆われる第１の流体１１の割合が大きくなる。したがって、ある実施例では、第１の流体１１は、放射線フィルタ２５によって完全に覆われるように、放射線フィルタの下部で収縮されてもよい。したがって、第１の流体１１のより大きい割合が放射線フィルタの下部で収縮され、第１の流体１１に向かう方向の支持板の視認側８を通る放射線によって照射される第１の流体１１の割合がより小さくなる。これは、放射線フィルタ２５が既定の波長（複数可）の入射放射線の少なくとも一部をフィルタリングし、それによって、放射線が視認側８から放射線フィルタの２５の下部にある第１の流体１１の一部まで通ることを防止するように配列され、その放射線による照射からその第１の流体１１の一部を保護するためである。しかしながら、放射線フィルタ２５によって覆われないその第１の流体１１の一部は、視認側８から放射線によって照射される。したがって、第１の流体１１のより大きい割合が放射線フィルタの下部で収縮され、第１の流体が既定の波長の放射線に暴露されることがより少なくなり、ひいては、第１の流体の劣化が生じることがより少なくなる。
【００３２】
発明者は、第１の流体１１の一部が放射線フィルタ２５によって覆われない場合でさえも、放射線フィルタ２５は、第１の流体１１への放射線障害をさらに少なくし、表示デバイス寿命の改善を十分にもたらすことができることを発見していた。同様に、第２の流体１２が少なくとも１つの既定の波長の放射線への暴露による劣化の影響を受けやすい実施例では、発明者は、放射線フィルタ２５が第２の流体１２を少なくとも部分的に覆うように表示デバイス１を構成することが、表示デバイスが既知の表示デバイスと比較して寿命が延びるように、第２の流体１２への放射線障害の範囲を小さくすることを理解している。
【００３３】
さらなる実施例では、第１及び第２の流体の移動を制御することにより、放射線フィルタによって覆われる第１の流体及び／または第２の流体の少なくとも一部を収縮するために、流体に対して異なる湿潤性を伴う複数の電極及び／または表面を使用して達成され得ることが想定される。
【００３４】
第２の支持板の一部として放射線フィルタを配列することは、実施例では、例えば、第１及び／または第２の流体に隣接する第２の支持板の平面を維持することによって、放射線フィルタが画素内部の流体運動に影響を及ぼさない、またはそれと干渉しないことを確実にする。
【００３５】
さらなる実施例では、エレクトロウェッティング表示デバイスは、画素に、非ゼロ電圧の大きさを伴う第１の電圧を含む異なる大きさの複数の電圧のうちの１つをを選択的に印加するための、例えば、下記に説明される表示デバイス制御サブシステムのような制御システムを含む装置の一部である。流体構成を制御するために、これらの電圧が画素に印加されるために使用される。そのような実施例では、放射線フィルタは、第１の電圧が画素に印加されると第１の流体を実質的に覆う、表示エリアの平面に対して平行である平面内の範囲を有する。これらの実施例では、視認側から放射線フィルタ上に入射する放射線が、放射線フィルタを通ること及び第１の電圧が画素に印加されるとき放射線フィルタの下にある第１の流体を照射することが防止される。例えば、放射線フィルタは、例えば、少なくとも１つの波長における割合が放射線の全てまたは大部分であり得る、少なくとも１つの波長のある割合の放射線の伝送を防止するように配列されてもよい。用語「ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ  ｃｏｖｅｒｓ（実質的に覆う）」は、実施例では、放射線フィルタが第１の流体の少なくとも５０％の体積を覆うことを指し、すなわち、第１の流体の少なくとも５０％の体積が放射線フィルタの下にあり、または表示エリアの少なくとも５０％のエリアが第１の流体に隣接することを指す。
【００３６】
そのような実施例は、図１及び図２に示される。図１及び図２では、制御システム（例えば、後に説明される表示デバイス制御サブシステム）は、信号線１８及び１９を介して、複数の異なる電圧のうちの１つを画素２に印加する。当業者が理解するであろうように、本制御システムは、少なくとも１つのプロセッサを含むコントローラを含んでもよい。このプロセッサは、汎用プロセッサ、マイクロプロセッサ、デジタルシグナルプロセッサ（ＤＳＰ）、特定用途集積回路（ＡＳＩＣ）、フィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）もしくは他のプログラマブル論理デバイス、別々のゲート論理もしくはトランジスタ論理、別々のハードウェア構成要素、または本明細書に説明される機能を果たすために設計されたそれらの任意の好適な組み合わせであってもよい。プロセッサはまた、例えば、ＤＳＰ及びマイクロプロセッサ、複数のマイクロプロセッサ、ＤＳＰコアと連結する１つ以上のマイクロプロセッサ、またはそのような任意の他の構成の組み合わせのような、コンピューティングデバイスの組み合わせとして実装されてもよい。プロセッサは、例えば、図４を参照して後に説明されるもののように、１つ以上のメモリから情報を読み取りまたはそれらに情報を書き込むために、１つ以上のバスを介して結合されてもよい。プロセッサは、加えてまたは代替として、プロセッサレジスタ等のメモリを含有してもよい。これらのメモリのいずれかは、表示に関する所望の表示効果と対応する表示効果データを記憶してもよい。そのようなメモリはまた、コンピュータ可読命令を有する非一過性コンピュータ可読ストレージ媒体、すなわち、コンピュータソフトウェアであってもよい。１つ以上のメモリは、異なる能力及びアクセス速度を有する異なるレベルであるマルチレベル階層的キャッシュを含む、プロセッサキャッシュを含んでもよい。メモリはさらに、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）及び他の揮発性ストレージデバイスを含んでもよい。破線２４は、第１の電圧（第１の電圧は非ゼロ電圧である）が画素２に印加されるときの第１の流体１１の形状を示す。本実施例における放射線フィルタ２５は、第１の電圧が印加されるとき、第１の流体１１の全てを覆う。いくつかの実施例では、放射線フィルタは、第１の電圧が印加されるとき、第１の流体の約８０％（例えば、８０％）を覆う。他の実施例では、放射線フィルタは、第１の電圧が印加されるとき、第１の流体１１の全てを大体覆う。実施例では、用語「ａｐｐｒｏｘｉｍａｔｅｌｙ（大体）」は、第１の電圧が印加されるとき、放射線フィルタ２５が容認可能な製造公差の範囲内で第１の流体１１の全てを覆いまたは第１の流体によって占められるスペース１０の範囲もしくはその体積の９０％以上を覆うように、ある程度の変形例を含む。
【００３７】
これは、第１の支持板の疎水性層の平面図で図１の画素を示す図２で見ることができる。図１の画素２の破線３及び破線４に対応する図２の画素の中心の寸法は、破線２６によって示される。線２７は、壁部の内側境界を示し、その線はまた、表示エリア２３の縁、すなわち、外周である。破線２４は、第１の電圧が画素２に印加されるときの第１の流体１１と第２の流体１２との間の境界を示す。放射線フィルタ２５は、第１の電圧が印加されるとき、第１の流体１１に隣接する表示エリア２３のエリアよりも表示エリア２３のわずかに大きい量（すなわち、エリアまたは範囲）を覆う。他の実施例では、放射線フィルタは、上記に説明されるように、第１の電圧が印加されるとき、第１の流体に隣接する表示エリアのエリアと同一の表示エリアのエリアまたは範囲を大体覆う。
【００３８】
実施例では、画素は、例えば、内容が参照することによって本明細書に組み込まれる国際特許出願第ＷＯ２００７／１４１２１８号に説明されるように、画素への電圧の印加に応じて、第１の流体の運動の優先方向を決定するように構成されてもよい。さらなる実施例では、国際特許出願第ＷＯ２００４／１０４６７１号に説明されるように、第１の支持板の一部において、電圧が画素に印加されるとき、第１の流体がこの一部に向かって移動する傾向があるように存在する電極がない。例えば、画素は、電圧（例えば、本制御システムが画素に印加されるように構成される非ゼロ電圧または最大電圧）が画素に印加されるとき、第１の流体１１が表示エリア２３の既定のエリアに優先的に隣接するように、配列されてもよい。ある実施例では、これは、第１の流体が電圧の印加に応じて既定のエリアに向かって移動する傾向があるためである。既定のエリアは、第１の流体１１の集合エリアとして作用するように考えられ得る。
【００３９】
そのような実施例による実施例では、放射線フィルタ２５は、集合エリアの少なくとも一部を覆う。いくつかの実施例では、放射線フィルタ２５は、例えば、表示エリアをさらに覆うことなく、実質的に全ての集合エリアを覆う。実施例では、用語「ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ  ａｌｌ（実質的に全て）」は、表示エリアの放射線フィルタの被覆に関して上記に定義されるようなものである。放射線フィルタ２５が上記に議論されるような集合エリアを覆った状態で、最小電圧（例えば、ゼロ電圧）が画素に印加されるとき第１の流体１１が実質的に全ての表示エリアに隣接するため、及び非ゼロ電圧が印加されるとき第１の流体が集合エリアに隣接するため、いくつかの実施例では、放射線フィルタ２５による第１の流体１１の被覆は、放射線フィルタが表示エリアの異なる一部を覆う場合よりも範囲が大きくなり得る。これは、放射線フィルタ２５の他の配列と比較して、少なくとも１つの既定の波長の放射線への第１の流体の暴露を少なくし、放射線障害に起因する第１の流体の劣化を少なくする。これは、表示デバイスの寿命を長くする。
【００４０】
実施例では、放射線フィルタの範囲は、第１の電圧が画素に印加されるとき、第１の流体の最大５０％、最大６０％、最大７０％、最大８０％、最大９０％、最大９５％、最大約１００％、または最大１００％のうちの１つを覆う。例えば、第１の電圧が画素に印加されるとき、放射線フィルタが第１の流体の５０％以上を覆う場合、第１の流体の放射線劣化は、表示デバイスが既知の表示デバイスと比較して寿命を延ばすように十分に少なくなる。
【００４１】
上記に説明されるものを含む実施例では、放射線フィルタは、第１の電圧が画素に印加されるとき、第１の流体に隣接されない表示エリアの一部を実質的に覆わないような、放射線フィルタの範囲（例えば、エリア）がある。図１及び図２は、このタイプの実施例を示す。図１及び図２では、放射線フィルタ２５は、第１の電圧が印加されるとき、第１の流体１１によって覆われない表示エリア２３の一部（すなわち、第１の流体１１の滴状形状２４の右の表示エリア２３の一部）を覆わない。用語「ｄｏｅｓ  ｎｏｔ  ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ  ｃｏｖｅｒ（実質的に覆わない）」は、実施例では、放射線フィルタが第１の流体の体積の多くても５０％を覆わないような範囲を有することを指し、すなわち、第１の流体の体積の多くても５０％が放射線フィルタの下になく、または表示エリアの多くても５０％のエリアが第１の流体に隣接しないことを指す。用語「実質的に覆わない」に関連して使用される用語「覆わない」は、実施例では、放射線フィルタが表示エリアの一部にわたって横にならない（すなわち、それに重さならない）ように位置付けられることを意味する。したがって、放射線フィルタによって重複されないまたは覆われない第１の流体は、要素に入射する入射光に暴露され得る。
【００４２】
図１及び図２の実施例では、第１の電圧が印加されるとき、放射線フィルタ２５が、第１の流体１１が収縮される（すなわち、集合される）表示エリアの領域を覆うように第２の支持板内に成形され及びそこに位置する。本実施例における放射線フィルタ２５は、長方形を有し、しかしながら、他の実施例では、放射線フィルタ２５は、異なる形状を有し得る。例えば、第１の流体の集合エリアは、表示エリアの角部に位置する１／４円状であり、放射線フィルタはまた、集合エリアと同一の表示エリアの角部を覆うように位置してもよく、第１の流体が収縮する領域を覆うように、１／４円または他の形状、例えば、長方形または正方形を有してもよい。さらなる実施例における集合エリアは、表示エリアの縁部または角部になく、例えば、表示エリアの中心にあり、またはそれに近接し得る。そのような実施例では、放射線フィルタは、第１の電圧が印加されるとき第１の流体が集合する表示エリアの一部を覆うように位置してもよく、したがって、放射線フィルタは、表示エリアの縁部または角部領域を覆わない場合がある。
【００４３】
いくつかの実施例では、放射線のフィルタリングの量は、放射線フィルタ内部の異なる場所で変化する。例えば、放射線フィルタは、第１の部分及び第２の部分を有してもよく、第１の部分は、第２の部分よりも少なくとも１つの既定の波長の放射線の少ない量（すなわち、より小さい割合、すなわち、より少ない度合い）をフィルタリングするように構成される。実施例においてフィルタリングされる放射線の割合は、放射線フィルタ上に入射する少なくとも１つの既定の波長の放射線の量に対して、吸収されるまたは別様に視認側から流体まで放射線フィルタを通らない少なくとも１つの既定の波長の放射線の量の比率である。その量は、例えば、光子計数、または放射強度もしくは放射束の別の測定の数を指す場合がある。一部は、例えば、放射線フィルタの領域、エリア、または点である場合がある。
【００４４】
図１に示されるように、第１の電圧が画素に印加されるとき、本実施例における第１の流体１１は、滴状形状２４を形成する。滴状形状の中心領域は、滴状形状の縁領域よりも厚くなり、その厚さは、表示エリアの平面に対して垂直方向に沿ったものである。放射線フィルタが異なる量の放射線をフィルタリングする異なる部分を有する実施例では、放射線フィルタ２５の第２の部分は、収縮されるとき第１の流体のより厚い中心領域を覆うように、位置し及び／または成形されてもよい。放射線フィルタ２５の第１の部分は、収縮されるとき、第１の流体の縁領域を覆うように、位置し及び／または成形されてもよい。したがって、いくつかの実施例では、第２の部分は、第１の部分によって覆われる第１の流体のより大きい量を仮定して、第１の部分よりも大きい割合の放射線をフィルタリングしてもよく、他の実施例では、例えば、第１の流体のより厚い領域が劣化の影響を受けにくい場合、第２の部分は、第１の部分よりも少ない割合の放射線をフィルタリングしてもよい。したがって、放射線フィルタ内部の第１及び第２の部分の側方位置は、要求されるフィルタリングの量に応じて、選択されてもよい。
【００４５】
上記の実施例のいずれかの特徴は、組み合わせられてもよい。例えば、放射線フィルタの範囲は、第１の電圧が画素に印加されるとき、第１の流体の最大５０％、最大６０％、最大７０％、最大８０％、最大９０％、最大９５％、最大約１００％、または最大１００％のうちの１つを覆ってもよく、また、第１の電圧が画素に印加されるとき、第１の流体に隣接されない表示エリアの一部を実質的に覆わない場合がある。
【００４６】
実施例における第１の電圧は、本制御システムが画素に印加されるように構成される最大電圧である。例えば、本制御システムは、複数の別々の電圧のうちの１つを画素に印加するために、配列されてもよい、例えば、プログラムされてもよい。ある実施例における最大電圧は、最大絶対値を伴う複数の別々の電圧レベルの電圧である。
【００４７】
第１の電圧がそのような最大電圧である実施例では、放射線フィルタは、第１の電圧が画素に印加されるとき、すなわち、第１の流体が完全に収縮され、本制御システムが印加するためにプログラムされる複数の別々の電圧から達成可能である表示エリア２３の最小エリア（すなわち、一部の最小サイズのもの）に隣接するとき、第１の流体を実質的に覆う。そのような実施例では、放射線フィルタ２５は、表示デバイス１の視認側８からの放射線が、実質的にゼロ電圧が画素２に印加されるとき放射線フィルタ２５によって覆われる第１の流体１１の一部を照射することを防止する（ここで、本実施例における「ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ  ｚｅｒｏ（実質的にゼロ）」は、上記に定義されるようなものである）。放射線フィルタ２５はまた、表示デバイス１の視認側８からの放射線が、第１の電圧が印加されるとき第１の流体１１の実質的に全てを照射することを防止する。実施例では、用語「ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ  ａｌｌ（実質的に全て）」は、表示エリアの放射線フィルタの被覆に関して上記に定義されるようなものである。したがって、第１の流体１１の高い割合が、放射線による照射から保護され得る。
【００４８】
第１の電圧の非ゼロ電圧の大きさは、第１及び第２の流体の構成に対応し、実施例において画素の白色表示効果をもたらすために、第１の流体が収縮される。そのような実施例では、本制御システムが画素に印加されるように構成される最大電圧は、白色表示効果に対応する。例えば、白色表示効果は、画素が表示するように構成される高輝度表示効果である。実施例における用語「ｂｒｉｇｈｔｅｓｔ（高輝度）」は、（例えば、透過型表示のために）最高割合の光が後側から視認側に伝送される、または、（例えば、反射型表示のために）後側から視認側に戻って反射される、表示効果を指す。実施例では、白色表示効果または高輝度表示効果は、第１の流体が本制御システムを使用して取得され得る表示エリアの最小範囲またはエリアに隣接するとき、達成される表示効果である。
【００４９】
実施例では、第１の流体または第２の流体のうちの少なくとも１つは、約１００〜約３８０ナノメートルの範囲の少なくとも１つの波長、約３８０〜約７００ナノメートルの範囲の少なくとも１つの波長、または約７００ナノメートル〜約１０００ナノメートルの範囲の少なくとも１つの波長のうちの１つ以上の波長の少なくとも１つの既定の波長による劣化の影響を受けやすい。用語「ａｂｏｕｔ（約）」は、ある程度の変形例を含み、したがって、少なくとも１つの波長は、容認可能な測定不確実性の範囲内における波長の範囲内（例えば、波長の範囲の上限または下限の１０％の範囲内）であってもよい。ある実施例では、少なくとも１つの既定の波長は、電磁スペクトルの紫外線範囲（例えば、１００〜３８０ナノメートルの範囲内）の少なくとも１つの波長、電磁スペクトルの可視範囲（例えば、３８０〜７００ナノメートルの範囲内）の少なくとも１つの波長、または電磁スペクトル赤外線範囲（例えば、７００〜１０００ナノメートルの範囲内）の少なくとも１つの波長のうちの１つ以上である。ある実施例では、放射線フィルタ２５は、複数の波長（例えば、電磁スペクトルの紫外線範囲、可視範囲、または赤外線範囲のうちの１つ以上の範囲の複数の波長）の放射線をフィルタリングする。さらなる実施例では、放射線フィルタ２５は、紫外線及び可視放射、紫外線及び赤外線放射、可視放射及び赤外線放射または紫外線、可視放射及び赤外線放射をフィルタリングする。
【００５０】
放射線フィルタが可視光を実質的に吸収または反射するように構成される実施例では、放射線フィルタは、表示効果の差が流体の構成に基づいて観察されることができるように、光が流体を通り表示デバイスの視認側１まで及び観察者の眼まで届くことを可能にするように、表示エリアの全てよりも小さい部分を覆う。そのような実施例では、放射線フィルタは、約３８０〜約７００ナノメートルの波長の範囲を伴う電磁放射線を実質的に吸収または反射するように構成される。ここで使用される用語「ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ（実質的に）」は、ある程度の変形例を含み、したがって、放射線フィルタは、全ての波長を吸収または反射しない場合があるが、ただし、可視スペクトル内の大部分の波長、例えば、波長の５０％を上回るものを吸収または反射する。実施例における放射線フィルタは、可視スペクトル内の波長のそれぞれまたは一部の１００％未満の割合のもの、例えば、５０％〜９９％の割合のものを吸収または反射する。さらなる実施例では、放射線フィルタは、可視スペクトル内の波長を伴う入射放射線の５０％、７０％、または９０％を上回る割合のものを吸収または反射する。さらに別の実施例では、放射線フィルタは、可視スペクトル内の波長の５０％、７０％、または９０％を上回るものを吸収または反射する。ある実施例では、放射線フィルタは、上記に与えられた定義に従って、黒である。
【００５１】
例えば可視光を吸収することによって放射線フィルタが可視光をフィルタリングするまたは遮る実施例では、放射線フィルタは、第１の電圧が印加されるとき、第１の流体に隣接する表示エリアの一部を覆うように配列される。さらなる実施例では、第１の電圧は、上記に説明されるように、本制御システムが画素に印加されるように構成される最大電圧である。そのような実施例では、第１の流体は、最小電圧（例えば、ゼロ電圧）が印加されるとき及び最大電圧が印加されるとき、放射線フィルタによって覆われた表示エリアの一部に隣接する。放射線フィルタによって覆われた表示エリアの一部と関連付けられる、例えば、観察人によって知覚されるような黒色は、第１の流体が上記に説明されるような黒である実施例において第１の流体と関連付けられる黒色よりも暗くなる（例えば、より多くの可視光が遮られまたは吸収される）。したがって、可視光を実質的にフィルタリングする放射線フィルタ（例えば、実質的に黒の放射線フィルタ）で表示エリアの一部を覆うことは、黒の放射線フィルタを用いないで達成可能であるコントラストと比較して、画素のコントラストを改善するために使用されてもよい。したがって、放射線フィルタは、エレクトロウェッティング表示デバイスの表示品質を改善する。
【００５２】
代替実施例では、放射線フィルタは、約３８０〜約７００ナノメートルの範囲の少なくとも１つの波長を伴う放射線を伝送するように構成される。例えば、放射線フィルタは、電磁スペクトルの可視範囲内（例えば、３８０〜７００ナノメートルの範囲内）の少なくとも１つの波長を伴う放射線を伝送するように構成されてもよい。ある実施例では、放射線フィルタは、実質的に全ての可視光を伝送し、用語「ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ（実質的に）」は、吸収または反射に関して上記に定義されるようなものである。ある実施例では、放射線フィルタは、可視光に対して実質的に透明であり、用語「実質的に」は、吸収または反射に関して上記に定義されるようなものである。
【００５３】
さらなる実施例では、放射線フィルタは、第１及び第２の流体のうちの少なくとも１つを劣化させる放射線に加え可視光を実質的にフィルタリングするまたは遮るように構成される一部、エリア、または範囲と、可視光を実質的に伝送するように構成される一部、エリア、または範囲とを有する。そのような実施例では、可視光を実質的にフィルタリングする放射線フィルタの一部は、第１の電圧が印加されるとき、第１の流体に隣接する表示エリアの一部を覆うように配列され、実施例における第１の電圧は、最大電圧である。可視光を実質的に伝送する放射線フィルタの一部は、第１または第２の流体が、例えば、紫外線及び／または赤外線放射による劣化の影響を受けやすい、少なくともいくつかの他の放射線をフィルタリングするように配列される。
【００５４】
実施例では、第１の支持板は、電圧を画素に印加するために使用される少なくとも１つの電子的構成要素を含み、放射線フィルタが少なくとも１つの電子的構成要素を実質的に覆う。実施例では、少なくとも１つの電子的構成要素は、トランジスタ（例えば、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ））、キャパシタ、または制御線のうちの１つ以上を備える。放射線フィルタが少なくとも１つの電子的構成要素を実質的に覆い（すなわち、放射線フィルタの範囲が少なくとも１つの電子的構成要素の範囲を実質的に覆う）、その範囲は、互いに実質的に平行であり、実施例における第２の支持板の視認側上に入射する周囲の放射線は、放射線フィルタを通ること及び少なくとも１つの電子的構成要素に到達することが少なくとも部分的に防止される。このように、少なくとも１つの電子的構成要素は、周囲の放射線による損傷から保護される。ある実施例では、少なくとも１つの電子的構成要素は、画素への電圧の印加を制御するためのＴＦＴ等のトランジスタであり、また、可視光を実質的に吸収する、トランジスタを覆う放射線フィルタまたはその放射線フィルタの一部である。したがって、放射線フィルタまたはその一部は、可視光がトランジスタに到達することを防止し、トランジスタの漏洩電流を少なくし、表示デバイスの性能を改善する。
【００５５】
実施例における第１の流体は、表示エリアの外周を形成する少なくとも１つの壁部によって画素内部に閉じ込められ、放射線フィルタが少なくとも１つの壁部を少なくとも部分的に覆う。そのような実施例は、図１及び図２に例証され、放射線フィルタ２５は、第１の電圧が印加されるとき、第１の流体１１に隣接する壁部２０の一部を実質的に覆うこともそれらに例証される。他の実施例では、放射線フィルタ２５は、表示エリア２３の平面に対して平行である方向に壁部２０の一部（例えば、壁部２０の幅未満のもの）を覆う。さらなる実施例では、放射線フィルタは、少なくとも１つの壁部を覆わない。
【００５６】
第１の流体が表示エリアの外周を形成する少なくとも１つの壁部によって画素内部に閉じ込められるさらなる実施例では、放射線フィルタは、表示エリアと、少なくとも１つの壁部の実質的に全て、その一部、またはその壁部ではない部分のうちの１つとを少なくとも部分的に覆う。例えば、放射線フィルタは、表示エリアを少なくとも部分的に覆うことと、少なくとも１つの既定の波長の放射線への暴露に起因する第１の流体または第２の流体のうちの少なくとも１つの劣化を少なくすることとの両方を行う、２つの目的のために使用されてもよく、また、少なくとも１つの壁部の一部または実質的に全てを覆うために使用されてもよい。ある実施例では、放射線フィルタは、上記に説明される画素に隣接する別の画素の表示エリアの全てまたは一部を覆うように延在しない。
【００５７】
さらなる実施例では、第２の支持板内の放射線フィルタの場所は、放射線フィルタが複数の画素毎に表示エリアの対応する同一の部分を覆うように、複数の画素パターンを形成する。そのパターンは、複数の画素の第２の支持板内において放射線フィルタの規則的または繰り返し配列であってもよい。他の実施例では、第２の支持板内の放射線フィルタの場所は、複数の画素の不規則パターンを形成する。この不規則パターンは、デバイスの観察人に対する放射線フィルタの視認性を減少させ、またはモアレ等の不要な表示効果を少なくし得る。例えば、２×２画素マトリクス内に配列される４つの画素の長方形配列に関して、視認側から視認されるように、放射線フィルタは、放射線フィルタが４つの画素配列の中心領域に位置するように、上側左の画素の底側右角部、上側右の画素の底側左角部、下側左の画素の上側右角部、及び下側右の画素の上側左角部を覆ってもよい。そのような実施例では、放射線フィルタはまた、画素毎の壁部が４方向の交差点で接触する壁結合点を覆ってもよい。
【００５８】
図３は、さらなる実施例を示す。図１及び図２のものに類似する特徴は、図３に例証され、同一の参照番号が使用され、対応する説明が適用される。
【００５９】
図３に示されるエレクトロウェッティング画素の例示的配列のそれぞれの画素は、異なる色である。図３の上側左角部内の画素では、放射線フィルタ２４を含まない第２の支持板の一部は、第１の電圧が印加されると、視認側８から緑が現れるような緑フィルタ２８ａを備える。図３の上側右角部及び下側左角部内の画素はそれぞれ、第１の電圧が印加されると、これらの画素に視認側８からそれぞれ青及び赤が現れるように、青フィルタ２８ｂ及び赤フィルタ２８ｃを備える。下部右側内の画素では、放射線フィルタ２４を含まない第２の支持板の一部は、可視光に対して実質的に透明である。図３に例証される画素の配列のそれぞれの画素内の第１の流体１１に隣接する表示エリア２３の範囲は、観察人による観察のためにフルスペクトルの色を生成するように制御されることができる。他の実施例では、異なる配列のエレクトロウェッティング画素は、異なるフィルタまたはフィルタの異なる組み合わせ、例えば、異なるカラーフィルタを備えてもよい。放射線フィルタ２５は、上記に説明されるいずれかの実施例に従って、少なくとも１つの放射波長を吸収してもよい。放射線フィルタは、少なくとも１つの隣接する画素に対する表示エリアの類似する部分に重なるように形成されてもよい。さらなる実施例では、異なる画素はそれぞれ、異なる放射線フィルタを備え、例えば、緑色画素に関して、放射線フィルタは、緑色光に対して透過性があってもよいが青色光に対して透過性はなく、一方、青色画素に関して、放射線フィルタは、青色光に対して透過性があってもよいが赤色光に対して透過性はない。
【００６０】
実施例はまた、エレクトロウェッティング表示デバイス用の支持板を製造する方法に関する。
【００６１】
表示デバイスの製造プロセスの間、支持板は、全体的に製造されてもよい、または、部分的または完全に組み立てられた支持板として製造プロセスの間に提供されてもよい。
【００６２】
ある実施例に従って支持板を製造するとき、基板が提供される。その後、少なくとも１つの既定の波長の放射線の少なくとも一部をフィルタリングするように構成される放射線フィルタを形成するための材料が基板上に提供される。実施例において放射線フィルタを形成するために材料を提供することは、当業者によって認識されるであろうように、感光性材料を基板上に塗布することと、その後、マスクによりパターン化された放射線暴露を使用して適切に材料をパターン化することとを含む。
【００６３】
上記の実施例は、例証的実施例として理解されることである。さらなる実施例が想定される。
【００６４】
さらなる実施例では、放射線フィルタは、例えば、少なくとも１つの既定の波長の放射線の少なくとも一部をフィルタリングすることに反応するフォトクロミック材料を備える。例えば、放射線フィルタは、例えば、実質的に均一の厚さ（「ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ（実質的に）」は、容認可能な製造公差の範囲内を意味する）を有するフォトクロミック材料の層であり、またはそれを備えてもよい。したがって、そのような実施例では、フィルタリング特性が顔料または染色によってもたらされることの代わりにまたはそれに加えて、例えば、フォトクロミック材料は、フィルタリング機能を提供する。実施例におけるフォトクロミック材料は、少なくとも１つの特定の波長の光への暴露に応じてそのフィルタリング特性を変化させる材料である。実施例における変化は、可逆的である。例えば、日光内に存在する紫外線光及び／または光の波長への暴露に応じて、フォトクロミック材料は、例えば、少なくとも１つの既定の波長の放射線を実質的に吸収しない状態から、少なくとも１つの既定の波長の放射線（第１及び／または第２の流体がそれによる劣化の影響を受けやすい）をフィルタリングする異なる状態に変化させるために変化し得る、すなわち、反応し得る。実施例では、放射線フィルタ内のフォトクロミック材料の濃度は、フォトクロミック材料が反応するとき、放射線フィルタリング能力と放射線伝送特性との間に好適なバランスを取得するように調整される。使用され得るフォトクロミック材料の実施例は、スピロオキサジン、フルギド、ビアントロン（過密なアルケンが考えられ得る）、アゾ染色、スピロピラン、ジアリールエテン、ハロゲン化銀（ＡｇＸ）、またはハロゲン化亜鉛（ＺｎＸ２）を含む（Ｘは、塩素（Ｃｌ）、臭素（Ｂｒ）、フッ素（Ｆ）、またはヨー素（Ｉ）等のハロゲン原子を表す）。好適なフォトクロミック材料のさらなる実施例は、当業者に既知であろう。フォトクロミック材料を備える実施例では、反射防止層はまた、フォトクロミック材料への入射光の伝送を増加させるために使用されてもよい。
【００６５】
放射線フィルタが画素に入射するための入射放射線を受けるための表面と第１または第２の流体のうちの少なくとも１つのものとの間に位置する実施例が、上記に説明される。いくつかの実施例では、上記の実施例による放射線フィルタは、したがって、第２の支持板内に位置し、表示エリアは、第１の支持板の一部である。さらなる実施例では、一方の支持板は、入射光を受けるための表面、表示エリア、及び放射線フィルタを有することが想定される。例えば、図１を使用して上記に説明される実施例を参照すると、第２の支持板は、放射線フィルタを含むことに加えて、第１の支持板について上記に説明される構造を含んでもよく、第１の流体は、第２の支持板の表面である表示エリアの少なくとも一部に隣接するように構成可能である。
【００６６】
図４は、例示的システムの系統図を概略的に示し、例えば、エレクトロウェッティング表示素子２を備える上記に説明されるエレクトロウェッティング表示デバイス１等のエレクトロウェッティング表示デバイスを備える、装置３０を示す。本装置は、例えば、いわゆる「電子ブックリーダ」等の電子リーダデバイス、タブレットコンピューティングデバイス、ラップトップコンピューティングデバイス、移動体通信デバイス、腕時計または衛星ナビゲーションデバイス等のポータブル（すなわち、携帯）デバイスである。本装置は、代替として、表示画面を必要とするいずれかの機械またはデバイス（例えば、家電機器）内に設置されたものの表示画面であってもよい。
【００６７】
その系統図は、装置３０の基本的なハードウェアアーキテクチャの実施例を例証する。本装置は、例えば、表示デバイス制御サブシステム３２、通信サブシステム３４、ユーザ入力サブシステム３６、電力サブシステム３８、及びシステムストレージ４０に接続され、ひいては、それらとデータ通信する、少なくとも１つのプロセッサ３１を含む。表示デバイス制御サブシステムは、表示デバイス１に接続され、ひいては、それとデータ通信する。少なくとも１つのプロセッサ３１は、例えば、汎用プロセッサ、マイクロプロセッサ、デジタルシグナルプロセッサ（ＤＳＰ）、特定用途集積回路（ＡＳＩＣ）、フィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）もしくは他のプログラマブル論理デバイス、別々のゲート論理もしくはトランジスタ論理、別々のハードウェア構成要素、または本明細書に説明される機能を果たすために設計されたそれらの任意の好適な組み合わせである。プロセッサはまた、例えば、ＤＳＰ及びマイクロプロセッサ、複数のマイクロプロセッサ、ＤＳＰコアと連結する１つ以上のマイクロプロセッサ、またはそのような任意の他の構成の組み合わせのような、コンピューティングデバイスの組み合わせとして実装されてもよい。プロセッサは、１つ以上のメモリ（例えば、システムストレージ４０のもの）から情報を読み取りまたはそれらに情報を書き込むために、１つ以上のバスを介して結合されてもよい。少なくとも１つのプロセッサは、加えてまたは代替として、プロセッサレジスタ等のメモリを含有してもよい。
【００６８】
表示デバイス制御サブシステム３２は、例えば、そのような異なる表示素子に対処するために、いずれかのエレクトロウェッティング表示素子に電圧を印加する際の使用のためのエレクトロウェッティング表示素子ドライバ構成要素を含む。実施例では、エレクトロウェッティング表示素子は、アクティブマトリクス構成に従って構成され、表示デバイス制御サブシステムは、エレクトロウェッティング表示素子を制御する回路を介して、表示デバイス１の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等のスイッチング要素を制御するように構成される。回路は、上記に説明されるもの等の信号及び制御線を含んでもよい。
【００６９】
例えば、通信サブシステム３４は、例えば、インターネット、ローカルエリアネットワーク、ワイドエリアネットワーク、電気通信ネットワーク、有線ネットワーク、無線ネットワーク、またはいくつかの他のタイプのネットワーク等のコンピュータネットワークのような、例えば、データネットワークを介したコンピューティングデバイスと通信する本装置のために構成される。通信サブシステム３４は、例えば、ユニバーサルシリアルバス（ＵＳＢ）接続等の入出力（Ｉ／Ｏ）インターフェース、ブルートゥースもしくは赤外線接続、または上記に説明されるいずれかのもののような本装置をデータネットワークに接続するためのデータネットワークインターフェースをさらに備えてもよい。後に説明されるようなコンテンツデータは、通信サブシステムを介して本装置に転送されてもよい。
【００７０】
ユーザ入力サブシステム３６は、例えば、本装置のユーザから入力を受信するための入力デバイスを含んでもよい。例示的入力デバイスは、限定ではないが、キーボード、ローラーボール、ボタン、キー、スイッチ、ポインティングデバイス、マウス、ジョイスティック、遠隔制御、赤外線検出器、音声認識システム、バーコードリーダ、スキャナ、ビデオカメラ（可能性として、例えば、手ぶりまたは顔ジェスチャを検出するためにビデオ処理ソフトウェアと結合される）、動作検出器、マイクロホン（可能性として、例えば、音声命令を検出するために音声処理ソフトウェアに結合される）、またはユーザからデバイスに情報を伝送することが可能である他のデバイスを含む。入力デバイスはまた、ユーザが触れることで表示デバイス上の指示に応答する場合、表示デバイスと関連付けられるタッチスクリーンの形態をとってもよい。ユーザは、キーボードまたはタッチスクリーン等の入力デバイスによって文字情報を入力してもよい。
【００７１】
本装置はまた、例えば、出力を本装置のユーザに提供するための出力デバイスを含む、ユーザ出力サブシステム（例証されない）を含んでもよい。実施例は、限定ではないが、印刷デバイス、音声出力デバイス（例えば、１つ以上のスピーカ、ヘッドホン、イヤホン、アラームを含む）、または触覚出力デバイスを含む。出力デバイスは、イヤホン等の説明される他の出力デバイスのうちの１つに接続するためのコネクタポートポートであってもよい。
【００７２】
電力サブシステム３８は、例えば、本装置によって消費される電力を転送及び制御する際の使用のための電力回路４２を含む。電力は、電力回路を介して、電力供給源によってまたはバッテリ４４から提供されてもよい。電力回路は、電力供給源からバッテリを充電するためにさらに使用されてもよい。
【００７３】
システムストレージ４０は、少なくとも１つのメモリ（例えば、揮発性メモリ４６及び不揮発性メモリ４８のうちの少なくとも１つ）を含み、非トランジスタコンピュータ可読ストレージ媒体を備えてもよい。揮発性メモリは、例えば、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）であってもよい。不揮発性（ＮＶ）メモリは、例えば、フラッシュメモリ等の半導体ドライブ（ＳＳＤ）、または読取専用メモリ（ＲＯＭ）であってもよい。さらなるストレージ技術として、例えば、磁気媒体、光媒体もしくはテープ媒体、コンパクトディスク（ＣＤ）、デジタル多用途ディスク（ＤＶＤ）、ブルーレイ、または他のデータストレージ媒体が使用されてもよい。揮発性及び／または不揮発性メモリは、取り外し可能なものまたは取り外しできないものであってもよい。
【００７４】
いずれかのメモリは、例えば、本装置の構成要素またはサブシステムのような装置を制御するためにデータを記憶してもよい。そのようなデータは、例えば、コンピュータ可読命令及び／または実行可能命令（すなわち、コンピュータプログラム命令）の形態であってもよい。したがって、少なくとも１つのメモリ及びコンピュータプログラム命令は、少なくとも１つのプロセッサを用いて、エレクトロウェッティング表示デバイスによって提供される表示効果を制御するように構成されてもよい。
【００７５】
図４の実施例では、揮発性メモリ４６は、表示デバイス１によって提供される表示効果を示す、例えば、表示デバイスデータ４９を記憶する。表示デバイスから表示効果を提供するために、プロセッサ３１は、表示デバイスデータに基づいて、データを表示デバイス制御サブシステム３２（順に、電圧を表示素子に印加するために信号を表示デバイスに出力する）に伝送してもよい。不揮発性メモリ４８は、例えば、プログラムデータ５０及び／またはコンテンツデータ５２を記憶する。プログラムデータは、本装置または本装置の構成要素もしくはサブシステムに関するアプリケーションまたはプログラムモジュールを実行しある機能もしくはタスクを実施する本装置のための、及び／または本装置の構成要素またはサブシステムを制御するための、例えば、コンピュータソフトウェアの形態の、例えば、コンピュータ実行可能命令を表すデータである。例えば、アプリケーションまたはプログラムモジュールデータは、ルーティン、プログラム、オブジェクト、コンポーネント、データ構造、または類似するもののいずれかを含む。コンテンツデータは、例えば、ユーザのための、例えば、コンテンツを表すデータであり、そのようなコンテンツは、例えば、テキスト、少なくとも１つの画像またはその一部、少なくとも１つのビデオまたはその一部、少なくとも１つの音声もしくは音楽またはその一部のような媒体のいずれかの形態を表してもよい。画像またはその一部を表すデータは、例えば、エレクトロウェッティング表示デバイスの少なくとも１つのエレクトロウェッティング素子によってもたらされる表示効果を表すものである。コンテンツデータは、例えば、書籍、定期刊行物、新聞、映画、ビデオ、音楽、またはポッドキャストのいずれかのライブラリのようなコンテンツライブラリを表すデータを含んでもよく、これらはそれぞれ、例えば、ある書籍またはある映画を表すデータの集合によって表されてもよい。そのようなデータの集合は、あるタイプのコンテンツデータを含んでもよいが、代わりに、異なるタイプのコンテンツデータの混合物を含んでもよく、例えば、ある映画は、少なくとも画像データ及び音声データを含むデータによって表されてもよい。
【００７６】
例えば、下記に提示する条項に説明されるように、さらなる実施例が想定される。
【００７７】
いずれか１つの実施例に関して説明されるいずれかの特徴は、単独もしくは説明される他の特徴と組み合わせて使用されてもよく、また、他のいずれかの実施例の１つ以上の特徴と組み合わせて使用されてもよく、または他のいずれかの実施例の任意の組み合わせであってもよいことを理解されたい。さらに、上記に説明されない同等物及び修正もまた、付随の請求項の範囲から逸脱することなく採用され得る。
【条項】
【００７８】
１．画素を備えるエレクトロウェッティング表示デバイスであって、
前記画素に入射する入射放射線を受けるための表面、第１の流体、及び前記第１の流体と混合しない第２の流体と、
表示エリアを有する支持板であって、前記表示エリアの一部のサイズは、印加電圧に応じて前記第１の流体に隣接され、前記第１の流体または前記第２の流体のうちの少なくとも１つは、少なくとも１つの既定の波長の放射線への暴露による劣化の影響を受けやすい、前記支持板とを含み、
前記画素の前記支持板または別の支持板のうちの１つは、前記表面と前記第１または第２の流体のうちの少なくとも１つとの間に位置し、前記支持板または前記別の支持板のうちの前記１つは、前記少なくとも１つの既定の波長の前記放射線の少なくとも一部をフィルタリングするように構成される放射線フィルタを備える層を含む、少なくとも１つの層を備える、前記エレクトロウェッティング表示デバイス。
【００７９】
２．前記放射線フィルタは、前記表示エリアの全てよりも小さい部分を覆う、条項１に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【００８０】
３．前記第１及び第２の流体は、複数の構成に対して構成可能であり、前記放射線フィルタに重なる前記第１または第２の流体のうちのある割合の少なくとも１つのものは、前記複数の構成の異なるものによって異なる、条項１に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【００８１】
４．前記画素に非ゼロ電圧の大きさを伴う第１の電圧を含む異なる大きさの複数の電圧のうちの１つを選択的に印加するために構成される制御システムをさらに備える、システムの一部であり、
前記放射線フィルタは、前記第１の電圧が前記画素に印加されるとき、前記第１の流体を実質的に覆う前記表示エリアの平面に対して平行である平面内の範囲を有する、条項１に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【００８２】
５．前記第１の電圧は、前記制御システムが前記画素に印加するように構成される最大電圧である、条項４に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【００８３】
６．前記第１の電圧の前記非ゼロ電圧の大きさは、前記第１及び第２の流体の構成に対応し、前記第１の流体が収縮され、前記第１の流体に隣接する前記表示エリアの前記一部の前記サイズは、前記画素の白色表示効果をもたらすために、前記制御システムが前記第１の流体を隣接させるように制御するように構成される、前記表示エリアの前記一部の最小サイズである、条項４に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【００８４】
７．前記放射線フィルタの前記範囲は、前記第１の電圧が前記画素に印加されるとき、前記第１の流体に隣接されない前記表示エリアの一部を実質的に覆わない、条項４に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【００８５】
８．前記放射線フィルタの前記範囲は、前記第１の電圧が前記画素に印加されるとき、前記第１の流体の最大５０％、最大６０％、最大７０％、最大８０％、最大９０％、最大９５％、最大約１００％、または最大１００％のうちの１つを覆う、条項４に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【００８６】
９．前記表示エリアの平面に対して平行である平面内の前記放射線フィルタの範囲は、前記表示エリアの最大２０％、最大３０％、最大４０％、最大約５０％、または最大５０％のうちの１つを覆う、条項１に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【００８７】
１０．前記少なくとも１つの既定の波長は、約１００〜約３８０ナノメートルの範囲の少なくとも１つの波長、約３８０〜約７００ナノメートルの範囲の少なくとも１つの波長、または約７００〜約１０００ナノメートルの範囲の少なくとも１つの波長のうちの１つ以上の波長を備える、条項１に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【００８８】
１１．前記放射線フィルタは、前記少なくとも１つの既定の波長の前記放射線の前記少なくとも前記一部をフィルタリングするための化合物と、前記少なくとも１つの既定の波長の前記放射線の前記少なくとも前記一部をフィルタリングするための材料の層と、前記少なくとも１つの既定の波長の前記放射線の前記少なくとも前記一部をフィルタリングするための及び実質的に均一の厚さまたは非流体材料を有する材料の層とのうちの少なくとも１つを備える、条項１に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【００８９】
１２．前記放射線フィルタは、可視光に対して実質的に透明である、条項１に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【００９０】
１３．前記支持板は、前記印加電圧を前記画素に印加するために使用される少なくとも１つの電子的構成要素を含み、前記少なくとも１つの電子的構成要素は、トランジスタ、キャパシタ、または制御線のうちの１つ以上を含み、前記放射線フィルタの範囲は、前記少なくとも１つの電子的構成要素の範囲を実質的に覆い、前記放射線フィルタの前記範囲及び前記少なくとも１つの電子的構成要素の前記範囲は、互いに実質的に平行である、条項１に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【００９１】
１４．前記画素は、
前記表示エリアの外周を形成し前記第１の流体を前記画素内部に閉じ込める少なくとも１つの壁部をさらに備え、前記放射線フィルタは、前記表示エリアと、前記少なくとも１つの壁部の実質的に全て、前記少なくとも１つの壁部の一部、または前記少なくとも１つの壁部ではない部分のうちの１つとを少なくとも部分的に覆う、条項１に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【００９２】
１５．前記放射線フィルタは、第１の部分及び第２の部分を有し、前記第１の部分は、前記第２の部分よりも少ない量の前記少なくとも１つの既定の波長の前記放射線をフィルタリングするように構成される、条項１に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【００９３】
１６．前記放射線フィルタは、フォトクロミック材料を備える、条項１に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【００９４】
１７．フォトクロミック材料の層、実質的に均一の厚さを有するフォトクロミック材料の層、またはスピロオキサジン、フルギド、ビアントロン、アゾ染料、スピロピラン、ジアリールエテン、ハロゲン化銀、もしくはハロゲン化亜鉛のうちの少なくとも１つを備えるフォトクロミック材料のうちの少なくとも１つを備える、条項１６に記載のエレクトロウェッティング表示デバイス。
【００９５】
１８．ポータブル装置であって、
画素を備えるエレクトロウェッティング表示デバイスであって、
前記画素に入射するための入射放射線を受けるための表面と、
第１の流体及び前記第１の流体と混合しない第２の流体と、
表示エリアを有する支持板であって、前記表示エリアの一部のサイズは、印加電圧に応じて前記第１の流体に隣接され、前記第１の流体または前記第２の流体のうちの少なくとも１つは、少なくとも１つの既定の波長の放射線への暴露による劣化の影響を受けやすい、前記支持板と、
前記画素の前記支持板または別の支持板のうちの１つは、前記表面と前記第１または第２の流体のうちの少なくとも１つとの間に位置し、前記支持板または前記別の支持板のうちの前記１つは、前記少なくとも１つの既定の波長の前記放射線の少なくとも一部をフィルタリングするように構成される放射線フィルタを備える層を含む、少なくとも１つの層を備え、
少なくとも１つのプロセッサと、
コンピュータプログラム命令を含む少なくとも１つのメモリであって、前記少なくとも１つのメモリ及び前記コンピュータプログラム命令は、前記少なくとも１つのプロセッサを用いて、前記エレクトロウェッティング表示デバイスによって提供される表示効果を制御するように構成される、前記少なくとも１つのメモリと、
を含む前記エレクトロウェッティング表示デバイスを備える、前記ポータブル装置。
【００９６】
１９．前記放射線フィルタは、前記表示エリアの全てよりも小さい部分を覆う、条項１８に記載のポータブル装置。
【００９７】
２０．前記放射線フィルタの範囲は、第１の電圧が前記エレクトロウェッティング表示デバイスの前記画素に印加されるとき、前記第１の流体を実質的に覆い、前記第１の電圧は、非ゼロ電圧である、条項１８に記載のポータブル装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
2017532610.tif 000007
2017532610.tif 000008
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