(57)【要約】弁座と、主に閉鎖方向に沿って伸びる弁ニードルと、を備えた弁、特に噴射弁であって、弁座は、弁座面を有し、弁閉鎖体が、弁ニードルの、弁座の方を向いた末端に固定され、弁閉鎖体は、開放ポジションと閉鎖ポジションとの間で移動可能であり、弁閉鎖体は、閉鎖ポジションにおいて、弁座面と共にシール座を形成し、弁閉鎖体は、弁座面よりも高い内部硬度及び／又は表面硬度を有する、上記弁が提案される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
弁座（１０）と、主に閉鎖方向（１０１）に沿って伸びる弁ニードル（２０）と、を備えた弁（１）、特に噴射弁であって、
前記弁座（１０）は、弁座面（１１）を有し、弁閉鎖体（２１）が、前記弁ニードル（２０）の、前記弁座（１０）の方を向いた末端に固定され、前記弁閉鎖体（２１）は、開放ポジションと閉鎖ポジションとの間で移動可能であり、前記弁閉鎖体（２１）は、前記閉鎖ポジションにおいて、前記弁座面（１１）と共にシール座を形成する、前記弁（１）において、
前記弁閉鎖体（２１）は、前記弁座面（１１）よりも高い内部硬度及び／又は表面硬度を有することを特徴とする、弁（１）。
【請求項２】
前記弁座面（１１）は、前記弁閉鎖体（２１）の形状に対して適合され、前記弁閉鎖体（２１）は、特に球形状をしていることを特徴とする、請求項１に記載の弁（１）。
【請求項３】
前記弁閉鎖体（２１）は、表面領域（２１’）を有し、前記弁閉鎖体（２１）は、前記閉鎖ポジションにおいて、前記表面領域（２１’）で前記弁座面（１１）と接触し、前記弁閉鎖体（２１）は、前記表面領域（２１’）では、前記弁座面（１１）よりも高い表面硬度を有することを特徴とする、請求項１〜２のいずれか１項に記載の弁（１）。
【請求項４】
前記弁閉鎖体（２１）の前記表面領域（２１’）は、拡散層（２２）を含み、前記拡散層（２２）は、特に、前記弁座面（１１）よりも高い表面硬度を有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の弁（１）。
【請求項５】
前記表面領域（２１’）は、コーティング材料から成る膜（２３）を含み、前記膜（２３）は、特に、前記弁座面（１１）よりも高い表面硬度を有し、前記膜（２３）は、特に、非晶質炭素膜であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の弁（１）。
【請求項６】
前記弁閉鎖体（２１）の表面は、少なくとも部分的に、好適に完全に、前記膜（２３）で構成されることを特徴とする、請求項５に記載の弁（１）。
【請求項７】
前記膜（２３）は、膜厚が、０〜５０マイクロメートル、好適に１〜２０マイクロメートル、特に好適に１．５〜５マイクロメートルであることを特徴とする、請求項６又は７に記載の弁（１）。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の弁（１）を製造する方法であって、
第１の製造工程において、前記弁閉鎖体（２１）が、基部材料から成形され、第２の製造工程において、前記弁閉鎖体（２１）が窒化され、第３の製造工程において、前記弁閉鎖体（２１）がホウ化されることを特徴とする、方法。
【請求項９】
第４の製造工程において、前記弁閉鎖体（２１）に前記コーティング材料が塗布され、従って、前記コーティング材料から成る膜（２３）が、前記弁閉鎖体（２１）の前記表面領域（２１’）に形成されることを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記第２の製造工程において、前記弁閉鎖体（２１）は、窒化層深さが１〜１００マイクロメートル、好適に５〜５０マイクロメートル、特に好適に１０〜２０マイクロメートルであるように、窒化されることを特徴とする、請求項８又は９に記載の方法。
【請求項１１】
前記第３の製造工程において、ホウ化物層が生成され、従って、前記ホウ化物層は、当該ホウ化物層の厚さが、１〜１００マイクロメートル、好適に５〜９０マイクロメートル、特に好適に１５〜３０マイクロメートルであることを特徴とする、請求項８〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、請求項１の導入部に記載の弁に関する。
【背景技術】
【０００２】
このような弁は一般に公知である。例えば、このような弁は、ガソリンの直接噴射のために利用され、その際には、弁が開放又は閉鎖されるように、ボール弁が弁座と協働する。ボール弁は、ニードルに接合されており、アクチュエータ（例えば電磁石）によって、閉鎖ばねに抗して、所定量の燃料が燃焼室へと適切に導入されるように制御される。この弁座の欠点は、弁の摩耗によって弁座の液密度が損なわれることである。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の課題は、閉鎖要素、即ち特に球体及び弁座の摩耗が、従来技術に対して低減されて液密性が高められ、従って、弁の寿命が比較的効果的なやり方で延ばされる弁及び弁を製造する方法を提案することである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
従来技術に対して、同等の独立請求項に係る本発明に係る弁及び弁を製造するための本発明に係る方法は、弁座の液密度が従来技術に比べて改善され、従って、特に弁の比較的長い駆動時間後にも、閉鎖ポジションにおいて燃料が漏れないという利点がある。これにより有利に、燃料室への燃焼していない残留燃料の漏れ、及び／又は、燃焼室から弁へのガス又は空気の進入が回避される。さらに、例えば噴霧を形成する弁孔等の他の構成要素が摩耗することが、弁閉鎖体の内部硬度及び／又は表面硬度が比較的高いことに基づき回避される。というのは、弁の駆動中に、特に弁座の形状が十分に維持されるからである。好適に、弁閉鎖体及び弁座面によって、材料の組み合わせが最適化された摩擦抗力システム（ｔｒｉｂｏｌｏｇｉｓｃｈｅｓ  Ｓｙｓｔｅｍ）、即ち特に、所定の硬度差がある材料の組み合わせが実現される。シール座での弁座面及び弁閉鎖体の摩擦的（ｔｒｉｂｏｌｏｇｉｓｃｈ）接触対象は、好適に、弁座面（本明細書では移動しない接触対象ともいう）が弁閉鎖体（移動する接触対象ともいう）よりも表面硬度及び／又は内部硬度が低いように、構成される。例えば、弁は、燃料、即ち特にガソリンの筒内噴射又は直接噴射のための噴射弁である。
【０００５】
本発明の好適な構成及び発展形態は、従属請求項及び明細書の記載から図面を参照して分かる。
【０００６】
好適な発展形態によれば、弁座面は、弁閉鎖体の形状に対して適合され、弁閉鎖体は、特に球形状をしていることが構想される。
【０００７】
これにより、本発明に基づいて好適に、比較的硬い弁閉鎖体が弁座の閉鎖形状に嵌め込まれ表面同士が互いに適合されることにより、シール座の密封効果が従来技術に対して高められるということが可能である。その際に特に、弁閉鎖体の形状は、（弁座面にほぼ影響を受けずに）予め設定されており、従って、弁座面が、弁閉鎖体の所定の形状に対して適合される。
【０００８】
他の好適な発展形態によれば、弁閉鎖体は、表面領域を有し、弁閉鎖体は、閉鎖ポジションにおいて、表面領域で弁座面と接触し、弁閉鎖体は、表面領域では、弁座面よりも高い表面硬度を有することが構想される。
【０００９】
これにより、本発明に基づいて好適に、弁座の弁座面の領域での、予め決められた又は所定の摩耗が実現されるということが可能であり、その際には、特に弁座面は、弁ニードルの初期の進入によって、予め決められた規模で変わる。
【００１０】
更なる別の好適な発展形態によれば、弁閉鎖体の表面領域は、拡散層を含み、拡散層は、特に、弁座面よりも高い表面硬度を有することが構想される。
【００１１】
これにより、本発明に基づいて好適に、弁座面に対する、弁閉鎖体の比較的大きな硬度の増大を実現することが可能である。
【００１２】
更なる別の好適な発展形態によれば、表面領域は、コーティング材料から成る膜を含み、上記膜は、特に、弁座面よりも高い表面硬度を有し、上記膜は、特に、非晶質炭素膜であるということが構想される。更なる別の好適な発展形態によれば、弁閉鎖体の表面は、少なくとも部分的に、好適には完全に、上記膜で構成されることが構想される。
【００１３】
これにより、本発明に基づいて好適に、比較的高い密封効果を実現することが可能である。その際に例えば、追加的に、弁閉鎖体の表面（即ち、弁閉鎖体の膜のみ）が、弁座面の弁座形状に対して適合されている。
【００１４】
更なる別の好適な実施形態によれば、上記膜は、膜厚が、０〜５０マイクロメートル、好適に１〜２０マイクロメートル、特に好適に１．５〜５マイクロメートルであるということが構想される。
【００１５】
これにより、本発明に基づいて好適に、公差が、比較的薄い膜によって補正されるということが可能である。
【００１６】
本発明の更なる別の主題は、本発明の一実施形態に係る弁を製造する方法であって、第１の製造工程において、弁閉鎖体が、基部材料から成形され、第２の製造工程において、弁閉鎖体が窒化され、第３の製造工程において、弁閉鎖体がホウ化されることを特徴とする、上記方法である。
【００１７】
これにより、本発明に基づいて好適に、弁座に対する弁閉鎖体の硬度の増大が実現され、その際に、接合の可能性（例えば、溶接）、耐腐食性、低コスト、堆積物に対する堅牢性（例えば、付着防止効果）、及び、（特に弁座及び／又は、その周りを取り囲む機能領域の）寸法精度の維持等の一般条件が考慮される。好適に、弁は、進入工程において、比較的硬い弁閉鎖体が弁座の閉鎖形状に嵌め込まれ、（弁座面と弁閉鎖体の）表面同士が互いに適合し合うことにより完成される。特に、有利に、弁閉鎖体をまとめて後処理することが可能であり、従って、この後処理は比較的低いコストで実現される。これにより、有利に、閉鎖体の表面硬化処理が実現され、その際に、弁は特に、窒化処理、ホウ化処理、及び／又はコールスタライジング（登録商標）処理によって製造される。弁閉鎖体での窒化は、好適に、ガス窒化、プラズマ窒化、高圧窒化（Ｈｏｃｈｄｒｕｃｋａｕｆｓｔｉｃｋｅｎ）（例えば気体状）によって、又は塩浴で（流体状）で行われる。例えば、コールスタライジング（登録商標）処理（即ち、気体状での炭素の拡散）は、ガス窒化（軟窒化）又はプラズマ窒化（プラズマ軟窒化）と組み合される。
【００１８】
好適に、球体では、プラズマ窒化は１つの良好な選択肢である。窒化層深さは、５〜５０ｐｍで選択可能である。しかしながら、１０〜２０ｐｍの窒化層深さでも十分である。ホウ化は、固体ホウ化法（Ｐｕｌｖｅｒｂｏｒｉｅｒｅｎ）によって、球体に適用可能である。１５〜３０ｐｍの窒化層深さでも、十分な硬度となりうる。
【００１９】
本発明に係る方法の好適な発展形態によれば、第４の製造工程において、弁閉鎖体にコーティング材料が塗布され、従って、コーティング材料から成る膜が、弁閉鎖体の表面領域に形成されるということが構想される。
【００２０】
これにより、本発明に基づいて好適に、比較的高い密封効果が実現され、その際に例えば追加的に、閉鎖体の表面（即ち、特に弁閉鎖体の膜のみ）が、弁座面の弁座形状に適合されるということが可能である。
【００２１】
本発明に係る方法の更なる別の好適な実施形態によれば、第２の製造工程において、弁閉鎖体は、窒化層深さが１〜１００マイクロメートル、好適に５〜５０マイクロメートル、特に好適に１０〜２０マイクロメートルであるように、窒化されるということが構想される。
【００２２】
これにより、本発明に基づいて好適に、弁座面に対して相対的な比較的硬い拡散層が実現されるということが可能である。
【００２３】
本発明に係る方法の更なる別の好適な発展形態によれば、第３の製造工程において、ホウ化物層が生成され、従って、ホウ化物層は、当該ホウ化物層の厚さが、１〜１００マイクロメートル、好適に５〜９０マイクロメートル、特に好適に１５〜３０マイクロメートルであるということが構想される。
【００２４】
これにより、本発明に基づいて好適に、比較的摩耗しにくいホウ化物層が実現されるということが可能である。
【００２５】
本発明の実施例が図面に示され、以下の明細書に記載において詳細に解説される。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の一実施形態に係る弁の概略的な断面図を示す。
【図２】本発明の一実施形態に係る弁の概略的な断面図を示す。
【図３】本発明の一実施形態に係る弁の概略的な断面図を示す。
【図４】本発明の一実施形態に係る弁の概略的な断面図を示す。
【図５】本発明の一実施形態に係る弁の概略的な断面図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
様々な図において、同じ構成要素には同じ符号が常に付され、従って通常は、同じ構成要素はそれぞれ、一度だけ名称が挙げられ又は言及される。
【００２８】
図１には、本発明の一実施形態に係る弁１の概略的な断面図が示されている。ここに示される弁１は、特に、（図示されない）燃料室への燃料噴射のための噴射弁である。弁１は、弁座１０と、主に閉鎖方向１０１に伸びる弁ニードル２０と、を備える。弁ニードル２０の、弁座１０の方を向いた末端には、弁閉鎖体２１、即ち例えば弁閉鎖球体が固定されている。即ち特に、弁ニードル２０は、弁閉鎖体２１と、当該弁閉鎖体２１が溶接された弁ニードル基部２０’と、を備える。弁閉鎖体２１は、開放ポジションと閉鎖ポジションとの間で移動可能である。ここでは、弁閉鎖体２１が閉鎖ポジションにある弁が示されている。弁座１０は、弁座面１１を有し、この弁座面１１は、弁閉鎖体２１が閉鎖ポジションにある状態で、弁閉鎖体２１と共にシール座を形成する。さらに、弁は、特に戻しばね４０を有し、この戻しばね４０は、弁閉鎖体２１が開放ポジションから閉鎖ポジションに移動し弁１のアーマチャ３０が戻しばね４０のばね力に抗して弁ニードル２０を引き上げるまで弁閉鎖体２１が閉鎖ポジションに保たれるように、構成される。弁１が開放されている間は、アーマチャが、好適に最初にアーマチャフリーパス３１に沿って加速され、続いてストッパ要素４１に当たり、従って、弁閉鎖体２１が、閉鎖ポジションから開放ポジションに移動する。さらに、図１には例えば、弁１の閉鎖過程のための他の戻しばね４０’、他のストッパ要素４１’、及び他のアーマチャフリーパス３１’が描かれている。特にこの場合には、弁１は、ばね保持部４２’を有する。
【００２９】
例えば、弁閉鎖体２１はボール弁であり、このボール弁が、円錐形状をしている弁座１０に載って、シール座が形成される。弁閉鎖体２１と弁座１０の弁座面１１との間の接触領域は、ここでは特に線形状をしており、その際に、この接触領域は例えば摩耗により拡張する。
【００３０】
図２には、本発明の一実施形態に係る弁１の概略的な断面図が示されており、その際に、ここで示す実施形態は、図１の実施形態とほぼ同一である。本発明に基づいて、弁閉鎖体２１は、弁座面１１よりも高い内部硬度及び／又は表面硬度を有し、従って、比較的小さな摩耗及び／又は予め決められた摩耗を有する弁１が提供される。これにより、特に有利に、所定の数及び／又は所定の大きさの噴射口１２が、弁座の下流側の、シール座内の摩耗領域まで配置され、それにも関わらず、弁座の摩耗によっては損傷を受けず又は比較的小さな損傷を受ける。図２には、拡散処理工程において製造された、拡散層２２を含む弁閉鎖体２１が示されている。これにより、有利に、弁閉鎖体２１の表面硬化処理が実現され、その際に、拡散処理は、特に、窒化処理、ホウ化処理、及び／又は、コールスタライジング（登録商標）処理を含む。拡散処理工程では、好適に、特定の材料が、気体状、プラズマ状、又は液体状で、弁閉鎖体２１の材料表面に拡散し、比較的硬い拡散層２２を形成する。これにより、特に有利に、所定のやり方で表面硬度及び／又は耐腐食性を実現し、及び、弁ニードル基部２０’への弁閉鎖体２１の適切な溶接の可能性を実現することが可能である。本発明に基づいて、好適に、弁閉鎖体２１は、所定の硬度差がある材料の組み合わせを実現するための硬度（Ｓｔｕｅｔｚｈａｅｒｔｅ）を有し、従って特に、弁閉鎖体２１の硬度は、弁座１０の硬度よりも高い。例えば、弁閉鎖体２１は、比較的硬い固体材料を有し、従って、（少なくともシール座の領域で）弁座１０に対して高い、弁閉鎖体２１の内部硬度及び／又は表面硬度が実現される。例えば、弁閉鎖体基部２１は、チタン、セラミック、タングステンで構成され、又は、チタン、セラミック、若しくはタングステンとの合金で構成され、又は、他の材料で構成される。
【００３１】
図３では、本発明の一実施形態に係る弁１の概略的な断面図が示されており、ここで示される実施形態は、上記の実施形態のうちの１つとほぼ同一であり、ここでは、弁座面１１が弁閉鎖体２１の形状に対して（特に、表面領域２１’内の表面に対して）適合されている。ここでは、進入過程の前及び進入過程の後（符号１１及び１１’参照）の弁１の状態が示されており、この進入過程においては弁閉鎖体２１が、定められた又は予め決められた摩耗が弁座領域で生成されるように、弁座１０に進入する。これにより、有利に、弁座１０によって弁１の閉鎖時に減衰効果が実現され、その際に特に、弁１の閉鎖時の雑音レベルが、従来技術に対して低減される。
【００３２】
図４には、本発明の一実施形態に係る弁１の概略的な断面図が示されており、特に、ここで示される実施形態は、上記の実施形態のうちの１つとほぼ同一であり、その際に、ここでは、弁閉鎖体２１の表面領域２１’に配置された膜２３が示されている。ここでは、膜２３が、弁閉鎖体２１の表面を形成する。例えば、この膜は、非晶質炭素膜（ＤＬＣ：Ｄｉａｍｏｎｄ−ｌｉｋｅ  Ｃａｒｂｏｎ、ダイヤモンド様炭素）又はチタン膜（例えば、窒化チタンアルミニウム膜）である。好適に、膜２３は、当該膜２３自体が摩耗する（即ち、弁座１０の弁座面形状に対して適合される）ように構成され、従って、弁座面１１は、膜２３自体によっては変形しない。これにより有利に、シール座の比較的高い液密度が実現される。ここでは、弁閉鎖体２１の表面の主な部分が、膜２３を有する。
【００３３】
図５には、本発明の一実施形態に係る弁１の概略的な断面図が示されており、特に、ここで示される実施形態は、上記の実施形態のうちの１つとほぼ同一であり、その際に、ここでは、弁閉鎖体２１に部分的に塗装される。好適に、弁閉鎖体２１は、当該弁閉鎖体２１が弁座１０の方を向いた領域に膜２３を有するように、塗装される。特に好適に、弁座１０の方を向いた領域は、（シール座を形成するための）シール領域、及び／又は、ガイド領域、及び／又は、更なる別の摩擦的に（ｔｒｉｂｏｌｏｇｉｓｃｈ）必要な領域を含む。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【手続補正書】
【提出日】平成29年3月1日(2017.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弁座（１０）と、主に閉鎖方向（１０１）に沿って伸びる弁ニードル（２０）と、を備えた弁（１）であって、
前記弁座（１０）は、弁座面（１１）を有し、弁閉鎖体（２１）が、前記弁ニードル（２０）の、前記弁座（１０）の方を向いた末端に固定され、前記弁閉鎖体（２１）は、開放ポジションと閉鎖ポジションとの間で移動可能であり、前記弁閉鎖体（２１）は、前記閉鎖ポジションにおいて、前記弁座面（１１）と共にシール座を形成する、前記弁（１）において、
前記弁閉鎖体（２１）は、前記弁座面（１１）よりも高い内部硬度及び／又は表面硬度を有し、前記弁座面（１１）は、前記弁閉鎖体（２１）の形状に対して適合されていることを特徴とする、弁（１）。
【請求項２】
前記弁（１）が、噴射弁であることを特徴とする、請求項１に記載の弁（１）。
【請求項３】
前記弁閉鎖体（２１）は、球形状であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の弁（１）。
【請求項４】
前記弁閉鎖体（２１）は、表面領域（２１’）を有し、前記弁閉鎖体（２１）は、前記閉鎖ポジションにおいて、前記表面領域（２１’）で前記弁座面（１１）と接触し、前記弁閉鎖体（２１）は、前記表面領域（２１’）では、前記弁座面（１１）よりも高い表面硬度を有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の弁（１）。
【請求項５】
前記弁閉鎖体（２１）の前記表面領域（２１’）は、拡散層（２２）を含むことを特徴とする、請求項４に記載の弁（１）。
【請求項６】
前記拡散層（２２）は、前記弁座面（１１）よりも高い表面硬度を有することを特徴とする、請求項５に記載の弁（１）。
【請求項７】
前記表面領域（２１’）は、コーティング材料から成る膜（２３）を含むことを特徴とする、請求項４〜６のいずれか１項に記載の弁（１）。
【請求項８】
前記膜（２３）は、前記弁座面（１１）よりも高い表面硬度を有することを特徴とする、請求項７に記載の弁（１）。
【請求項９】
前記膜（２３）は、非晶質炭素膜であることを特徴とする、請求項７又は８に記載の弁（１）。
【請求項１０】
前記弁閉鎖体（２１）の表面は、少なくとも部分的に、前記膜（２３）で構成されることを特徴とする、請求項７〜９のいずれか１項に記載の弁（１）。
【請求項１１】
前記弁閉鎖体（２１）の表面は、完全に前記膜（２３）で構成されることを特徴とする、請求項１０に記載の弁（１）。
【請求項１２】
前記膜（２３）は、膜厚が、０〜５０マイクロメートルであることを特徴とする、請求項７〜１１のいずれか１項に記載の弁（１）。
【請求項１３】
前記膜（２３）は、膜厚が、１〜２０マイクロメートルであることを特徴とする、請求項７〜１１のいずれか１項に記載の弁（１）。
【請求項１４】
前記膜（２３）は、膜厚が、１．５〜５マイクロメートルであることを特徴とする、請求項７〜１１のいずれか１項に記載の弁（１）。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか１項に記載の弁（１）を製造する方法であって、
第１の製造工程において、弁閉鎖体（２１）が、基部材料から成形され、第２の製造工程において、前記弁閉鎖体（２１）が窒化され、第３の製造工程において、前記弁閉鎖体（２１）がホウ化されることを特徴とする、方法。
【請求項１６】
第４の製造工程において、前記弁閉鎖体（２１）にコーティング材料が塗布され、従って、前記コーティング材料から成る膜（２３）が、前記弁閉鎖体（２１）の表面領域（２１’）に形成されることを特徴とする、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記第２の製造工程において、前記弁閉鎖体（２１）は、窒化層深さが１〜１００マイクロメートルであるように、窒化されることを特徴とする、請求項１５又は１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記第２の製造工程において、前記弁閉鎖体（２１）は、窒化層深さが５〜５０マイクロメートルであるように、窒化されることを特徴とする、請求項１５又は１６に記載の方法。
【請求項１９】
前記第２の製造工程において、前記弁閉鎖体（２１）は、窒化層深さが１０〜２０マイクロメートルであるように、窒化されることを特徴とする、請求項１５又は１６に記載の方法。
【請求項２０】
前記第３の製造工程において、ホウ化物層が生成され、従って、前記ホウ化物層は、当該ホウ化物層の厚さが、１〜１００マイクロメートルであることを特徴とする、請求項１６〜１９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２１】
前記第３の製造工程において、ホウ化物層が生成され、従って、前記ホウ化物層は、当該ホウ化物層の厚さが、５〜９０マイクロメートルであることを特徴とする、請求項１６〜１９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２２】
前記第３の製造工程において、ホウ化物層が生成され、従って、前記ホウ化物層は、当該ホウ化物層の厚さが、１５〜３０マイクロメートルであることを特徴とする、請求項１６〜１９のいずれか１項に記載の方法。
【国際調査報告】
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