(57)【要約】  本発明は、安全に、火災または爆発の危険性なく、高収率および高純度でトリス（トリアルキルシリル）ホスフィンを調製する方法に関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）ハロゲン化炭化水素とトリＣ1〜5アルキルシリルトリフレートと第三級アミンの混合物を調製する工程、
（２）工程（１）において調製された混合物にホスフィンを加える工程、および
（３）工程（２）において調製された混合物にトリＣ1〜5アルキルシリルトリフレートを加える工程
を含む、トリス（トリＣ1〜5アルキルシリル）ホスフィンを調製する方法。
【請求項２】
前記ハロゲン化炭化水素が、式１
［式１］
ＣaＨbＸc
（式中、
Ｘは、ハロゲン原子であり、
ａは、１≦ａ≦５の整数であり、
ｂは、２ａ−ｃ＋２の整数であり、
ｃは、ｃ≧２ａの整数である）
によって表される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ハロゲン化炭化水素が、大気圧で１０から２００℃の沸点を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ハロゲン化炭化水素が、ジフルオロメタン、トリフルオロメタン、テトラフルオロメタン、テトラフルオロエタン、ペンタフルオロエタン、ヘキサフルオロエタン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、ヘキサクロロエタン、ヘキサクロロプロパン、ヘプタクロロプロパン、オクタクロロプロパン、ジブロモメタン、トリブロモメタン、テトラブロモメタン、テトラブロモエタン、ペンタブロモエタン、およびヘキサブロモエタンからなる群から選択される少なくとも１種である、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記ハロゲン化炭化水素が、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、ヘキサクロロエタン、ヘキサクロロプロパン、ヘプタクロロプロパン、およびオクタクロロプロパンからなる群から選択される少なくとも１種である、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記トリＣ1〜5アルキルシリルトリフレート中のトリＣ1〜5アルキルが、３つのＣ1〜5アルキル基であり、そのそれぞれが、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、２−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、および３−メチルブチルからなる群から独立して選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記トリＣ1〜5アルキルシリルトリフレートが、トリメチルシリルトリフレート、トリエチルシリルトリフレート、トリプロピルシリルトリフレート、トリブチルシリルトリフレート、ジメチルエチルシリルトリフレート、メチルジエチルシリルトリフレート、ジメチルプロピルシリルトリフレート、メチルジプロピルシリルトリフレート、ジメチルブチルシリルトリフレート、メチルジブチルシリルトリフレート、およびジエチルプロピルシリルトリフレートからなる群から選択される、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記第三級アミンが、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、およびフェニルからなる群から選択される少なくとも１つの置換基を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記第三級アミンが、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリフェニルアミン、ジメチルエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルプロピルアミン、メチルジプロピルアミン、メチルエチルプロピルアミン、ジエチルプロピルアミン、エチルジプロピルアミン、およびエチルジイソプロピルアミンからなる群から選択される、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
工程（１）において、前記ハロゲン化炭化水素が、トリＣ1〜5アルキルシリルトリフレート１重量部当たり１から２００重量部の量である、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
工程（１）において調製された混合物を０から１０℃に冷却した後で、工程（２）において、前記ホスフィンを加える、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
工程（２）において、前記ホスフィンを、トリＣ1〜5アルキルシリルトリフレートに対して、０．２から３モル当量の量で加える、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
工程（３）において、前記トリＣ1〜5アルキルシリルトリフレートを、工程（１）において使用されたトリＣ1〜5アルキルシリルトリフレート１００重量部に対して、５から４０重量部の量で加える、請求項１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、安全に、火災の危険性なく、高収率および高純度でトリス（トリアルキルシリル）ホスフィンを調製する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
トリス（トリアルキルシリル）ホスフィンは、半導体およびディスプレイ関連製品の製造における使用のために考慮されてきた。トリス（トリメチルシリル）ホスフィン（以下、「ＴＭＳＰ」とも呼ぶ）は、トリス（トリアルキルシリル）ホスフィンの中で最も広く知られていて、ホスフィンを生成するために前駆体として益々多く使用されている。
【０００３】
ＴＭＳＰを生成する既知の方法は、反応の均一性ならびに生成物の高い収率および純度のために、溶媒を一般的に使用する。ＴＭＳＰを生成する典型的な方法は、以下の通りである：（１）滴下漏斗によって白リンおよびＮａ／Ｋ合金をジグリム溶媒に導入し、そこにクロロトリメチルシランを加えること（Ｇ．Ｂｅｅｋｅｒ、Ｗ．Ｈｏｌｄｅｒｃｈ、Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．１０８、２４８４、１９７５）；（２）滴下漏斗によって赤リンおよびＮａ／Ｋ合金を１，２−ジメチルエタン（ＤＭＥ）溶媒に導入し、そこにクロロトリメチルシランを加えること（Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ  Ｍｅｔｈｏｄｓ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ  ａｎｄ  Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、Ｈｅｒｒｍａｎｎ／Ｂｒａｕｅｒ、第３巻、１９９６、Ｇｅｏｒｇ  Ｔｈｉｅｍｅ  Ｖｅｒｌａｇ  Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ  Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ）；（３）ヘキサメチルリン酸トリアミド（ＨＭＰＴ）またはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶媒中で、三塩化リンおよびクロロトリメチルシランをマグネシウムと反応させること（Ｈ．Ｓｃｈｕｍａｎｎ、Ｌ．Ｒｏｓｃｈ、Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．１０７、８５４、１９７４）；（４）ＴＨＦ溶媒中でナトリウムを白リンと反応させてリン化ナトリウムを生成し、リン化ナトリウムにＤＭＥ溶媒中でクロロトリメチルシランを加えてそれらを反応させること（Ｆ．Ｒ．Ａｓｋｈａｍ、Ｇ．Ｇ．Ｓｔａｎｌｅｙ、Ｅ．Ｃ．Ｍａｒｑｕｅｓ、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１０７、７４２３、１９８５）；および（５）ジメチルエーテル溶媒中で、ホスフィンをトリメチルシラントリフレート（trimethylsilane triflate）（ＴＭＳＯＴｆ）およびトリエチルアミンと反応させること（Ｗ．Ｕｈｌｉｇ、Ａ．Ｔｚｓｃｈａｃｈ、Ｚ．Ａｎｏｒｇ、Ａｌｌｇｅｍ．Ｃｈｅｍ．５７６、２８１、１９８８）。
【０００４】
しかし、上の従来の方法は、過剰な金属、たとえばナトリウムおよびカリウムを使用し、これらは、空気中で酸素と容易に反応して自然発火を引き起こす。方法は、有機溶媒、たとえばＴＨＦ、エーテル、ＤＭＥ、ジグリム等もまた使用し、これらは、本質的に引火性であるまたは過程の間に爆発性の副生成物、たとえば過酸化物を発生させる。したがって、従来の方法は、過程中に酸素を連行すれば、生成物の純度を低下させるばかりでなく、火災および爆発の危険性を増すことになるという不都合を引き起こし得る。特に、ホスフィンを、ジメチルエーテル溶媒中でＴＭＳＯＴｆおよびトリエチルアミンと反応させる方法は、反応の間に固形の塩を発生させ、これらの塩は、生成物の純度を上昇させるために、後処理、たとえば濾過、蒸留等によって除去されるべきである。陽圧下の濾過は、空気中への可燃性材料の放出に起因して火災の危険性を有し、陰圧下の濾過は、外気を連行する場合、爆発または火災を起こし得るので、濾過は、可燃性材料の製造において最も危険な過程である。
【０００５】
さらに、トリス（トリアルキルシリル）ホスフィンそれ自体が、空気中で酸素と容易に反応して強力に自然発火を引き起こす。したがって、トリス（トリアルキルシリル）ホスフィンは、酸素を遮断して、不活性ガス、たとえば窒素およびヘリウムの雰囲気中で取り扱われるべきである。製造、貯蔵、または輸送の間の酸素の連行は、生成物の質を劣化させ得るばかりでなく、自然発火および火災を引き起こし得る。さらに、有機溶媒は、火災および爆発の可能性を悪化させ得るので、特別な注意が、工程設計および作業、ならびに溶媒の取り扱いにおいて必要となる。上の理由から、トリス（トリアルキルシリル）ホスフィンを調製するこれらの従来の方法は、高い投資および作業コストという不都合を有する。
【発明の開示】
【技術的な課題】
【０００６】
本発明の目的は、高収率および高純度でトリス（トリアルキルシリル）ホスフィンを調製する方法であって、火災、爆発等の危険性をなくして安全性を改善し、方法の工程を減らして経済的に実行可能である、方法を提供する。
【課題の解決】
【０００７】
本発明は、トリス（トリＣ1〜5アルキルシリル）ホスフィンを調製する方法であって、
（１）ハロゲン化炭化水素とトリＣ1〜5アルキルシリルトリフレートと第三級アミンの混合物を調製する工程、
（２）工程（１）において調製された混合物にホスフィンを加える工程、および
（３）工程（２）において調製された混合物にトリＣ1〜5アルキルシリルトリフレートを加える工程
を含む、方法を提供する。
【発明の有利な効果】
【０００８】
本発明によれば、方法は、発火の危険性を減らした溶媒を使用することによって安全性を改善し、方法の工程を減らして経済的に実行可能であり、ならびに高収率および高純度でトリス（トリアルキルシリル）ホスフィンを調製することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明によるトリス（トリＣ1〜5アルキルシリル）ホスフィンを調製する方法は、（１）ハロゲン化炭化水素とトリＣ1〜5アルキルシリルトリフレートと第三級アミンの混合物を調製する工程、（２）工程（１）において調製された混合物にホスフィンを加える工程、および（３）工程（２）において調製された混合物にトリＣ1〜5アルキルシリルトリフレートを加える工程を含む。
【００１０】
本発明によるトリス（トリＣ1〜5アルキルシリル）ホスフィンを調製する方法は、リンおよびシリコーン化合物の出発原料からの有機シリルホスフィン化合物の合成に関するものであり、下の反応スキームによって表される。
［スキーム１］
【００１１】
【化１】
2017538662.tif 000002
【００１２】
スキーム１において、Ａ1、Ａ2およびＡ3は、同じでもまたは異なっていてもよく、それぞれ独立してＣ1〜5アルキルである。
【００１３】
Ｃ1〜5アルキルは、たとえば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、２−ブチル、またはｔ−ブチルであることが可能である。
【００１４】
工程（１）
本発明の工程（１）において、ハロゲン化炭化水素とトリＣ1〜5アルキルシリルトリフレートと第三級アミンの混合物を調製することができる。
【００１５】
本発明の方法を溶媒なしで実行してもよいが、その場合、生成物の収率および純度を低下させることになり、それ故、本発明の方法において、溶媒を使用することが好ましい。好ましくは、溶媒は、有機溶媒であり、反応条件において反応性がなく、火災の危険性のない不燃性のものである。したがって、ハロゲン化炭化水素を、本発明の溶媒として使用する。
【００１６】
ハロゲン化炭化水素は、極性および不燃性材料として典型的に知られているが、極性溶媒または火災の危険性を有する材料を使用する、高反応性の反応においては使用されない。さらに、いくつかのハロゲン化炭化水素は、分解されて酸性になり、酸化反応のための酸化剤としてもまた使用されるので、高反応性の材料を使用する反応においては、ほとんど使用されない。さらに、ハロゲン化炭化水素は、白リンと反応してリン−炭素結合を形成することが知られているので、高収率および高純度でＴＭＳＰを生成する多くの従来の方法において溶媒として好ましいと考えられていない。しかし、本発明者らは、ハロゲン化炭化水素の不燃性に着目して、集中的に研究し、ハロゲン化炭化水素が大規模な反応の方法において安定していて、高収率および高純度でＴＭＳＰを生成することが可能であることを見出した。
【００１７】
ハロゲン化炭化水素は、式１
［式１］
ＣaＨbＸc
(式中、
Ｘは、ハロゲン原子であり、
ａは、１≦ａ≦５の整数であり、
ｂは、２ａ−ｃ＋２の整数であり、
ｃは、ｃ≧２ａの整数である）
によって表される。
【００１８】
式１において、ハロゲン原子は、フッ素、塩素、および臭素からなる群から選択されてもよい。好ましくは、ハロゲン原子は、塩素であってもよい。
【００１９】
本発明において使用されるハロゲン化炭化水素のハロゲン原子は、同じでもまたは異なっていてもよい。しかし、経済的実現可能性を考慮すると、同じハロゲンを使用することが好ましい。
【００２０】
ハロゲン化炭化水素は、ジフルオロメタン、トリフルオロメタン、テトラフルオロメタン、テトラフルオロエタン、ペンタフルオロエタン、ヘキサフルオロエタン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、ヘキサクロロエタン、ヘキサクロロプロパン、ヘプタクロロプロパン、オクタクロロプロパン、ジブロモメタン、トリブロモメタン、テトラブロモメタン、テトラブロモエタン、ペンタブロモエタン、およびヘキサブロモエタンからなる群から選択される少なくとも１種であってもよいが、これらに限定されない。
【００２１】
ハロゲン化炭化水素は、塩素によって置換されていてもよく、これは安価で、その他の材料に反応性がない。したがって、ハロゲン化炭化水素は、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、ヘキサクロロエタン、ヘキサクロロプロパン、ヘプタクロロプロパン、およびオクタクロロプロパンからなる群から選択される少なくとも１種であってもよい。好ましくは、ハロゲン化炭化水素は、ジクロロメタンまたはテトラクロロエタンであってもよい。
【００２２】
ハロゲン化炭化水素は、大気圧で１０℃以上、たとえば、１０から２００℃の沸点を有していてもよい。
【００２３】
ハロゲン化炭化水素は、取り扱いの利便性、反応の安定性、反応の収率、および生成物の純度に応じて、トリＣ1〜5アルキルシリルトリフレート１重量部当たり１から２００重量部、１から１００重量部、２から５０重量部、または５から２０重量部の量であってもよい。ハロゲン化炭化水素の量がトリＣ1〜5アルキルシリルトリフレート１重量部当たり１重量部未満である場合、反応は、うまく制御できず、反応の収率および生成物の純度は、損なわれることになる。他方で、トリＣ1〜5アルキルシリルトリフレート１重量部当たり２００重量部を超える量は、経済的実現可能性を低下させ、反応物の取り扱いを困難にし、反応の収率を減少させ得る。
【００２４】
加えて、トリＣ1〜5アルキルシリルトリフレートを、本発明の工程（１）において使用する。
【００２５】
トリＣ1〜5アルキルシリルトリフレートにおいて使用されている用語「トリＣ1〜5アルキル」は、３つのＣ1〜5アルキル基を意味していてもよく、３つのそれぞれは、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、２−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、および３−メチルブチルからなる群から独立して選択される。
【００２６】
トリＣ1〜5アルキルシリルトリフレートは、たとえば、トリメチルシリルトリフレート、トリエチルシリルトリフレート、トリプロピルシリルトリフレート、トリブチルシリルトリフレート、ジメチルエチルシリルトリフレート、メチルジエチルシリルトリフレート、ジメチルプロピルシリルトリフレート、メチルジプロピルシリルトリフレート、ジメチルブチルシリルトリフレート、メチルジブチルシリルトリフレート、およびジエチルプロピルシリルトリフレートからなる群から選択されてもよいが、これらに限定されない。具体的に、トリエチルシリルトリフレート、トリメチルシリルトリフレート、またはジメチルエチルシリルトリフレートが、好ましくは使用される。
【００２７】
さらに、本発明の工程（１）において、塩基、たとえば第三級アミンが使用されていてもよい。
【００２８】
第三級アミンは、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、およびフェニルからなる群から選択される少なくとも１つの置換基を有していてもよい。
【００２９】
第三級アミンが、たとえば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリフェニルアミン、ジメチルエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルプロピルアミン、メチルジプロピルアミン、メチルエチルプロピルアミン、ジエチルプロピルアミン、エチルジプロピルアミン、およびエチルジイソプロピルアミンからなる群から選択されてもよい。具体的に、トリエチルアミンが、好ましくは使用される。
【００３０】
第三級アミンは、トリＣ1〜5アルキルシリルトリフレートに対して、０．５から２モル当量の量で使用されていてもよい。
【００３１】
工程（２）
本発明の工程（２）において、ホスフィンを、工程（１）において調製した混合物に加えることができる。
【００３２】
工程（１）において調製した混合物を、氷浴または冷却装置によって、１０℃以下、好ましくは０から１０℃に冷却した後に、ホスフィンを加えてもよい。
【００３３】
ホスフィンを、トリＣ1〜5アルキルシリルトリフレートに対して、０．２から３モル当量の量で加えてもよい。ホスフィンを、管、たとえばカニューレを通じて混合物中にバブリングによって、導入してもよい。代替方法として、ホスフィンを、直接ガス相でまたは溶媒に溶解させた溶液として、導入してもよい。
【００３４】
工程（３）
本発明の工程（３）において、トリＣ1〜5アルキルシリルトリフレートを、工程（２）において得られた混合物に、さらに加えることができる。
【００３５】
トリＣ1〜5アルキルシリルトリフレートを、工程（１）において使用されたトリＣ1〜5アルキルシリルトリフレート１００重量部に対して、５０重量部以下、好ましくは５から４０重量部の量で加えてもよい。引き続いて、反応器を室温まで加熱し、反応の完了まで１０分から３時間、反応をさらに実施する。
【００３６】
本発明によれば、工程（３）においてトリＣ1〜5アルキルシリルトリフレートをさらに加えることによって、より高収率でのトリス（トリＣ1〜5アルキルシリル）ホスフィンの調製が促進される。
【００３７】
工程（３）で得られた反応混合物を、減圧下で蒸留して、溶媒、未反応の反応剤、および副生成物を除去し、それによって目標とするトリス（トリＣ1〜5アルキルシリル）ホスフィンを生成してもよい。本発明によれば、必要に応じて、さらなる過程、たとえば濾過、吸着、および減圧下での蒸留が、得られた生成物の純度を向上させるために実施されてもよい。
【００３８】
有機溶媒、たとえばジメチルエーテルでトリス（トリＣ1〜5アルキルシリル）ホスフィンを調製する従来の方法において、溶媒中で不溶の塩が、反応の間に形成され、生成物の純度を上昇させるために、後処理、たとえば濾過、蒸留等が必要になる。さらに、目的の化合物トリス（トリＣ1〜5アルキルシリル）ホスフィンそれ自体が、空気中で酸素と反応して不純物を形成し、同時に自然発火しやすいので、濾過および濾過のための輸送の過程は、不活性ガス、たとえば窒素またはアルゴンの雰囲気中で実行されるべきである。したがって、従来の方法は、高いレベルの技術および高価な設備を必要とする。
【００３９】
対照的に、本発明の方法は、低い可燃性を有するハロゲン化炭化水素を使用することによって、火災および爆発の危険性をなくして安全性を改善した。さらに、不溶性の塩が本発明における反応の間に全く形成されないことで、後処理、たとえば濾過、蒸留等がなくてさえも、高収率および高純度でのトリス（トリＣ1〜5アルキルシリル）ホスフィンの調製が可能になる。
【発明の態様】
【００４０】
以降に、本発明を、以下の例との関連で詳細に説明する。しかし、これらの例は、本発明を例証するために提示されているにすぎず、本発明の範囲は、そこに限定されない。
【００４１】
以下の例および比較例を不活性雰囲気下で実施し、６００ＭＨｚ、無水ベンゼン−Ｄ6溶媒の存在下でのＮＭＲ分析法によって、分析を行った。反応および分析において使用した全ての溶媒は、使用前に分子ふるいによって脱水した。
【００４２】
例１：トリス（トリメチルシリル）ホスフィンの調製
トリメチルシリルトリフレート９０ｍＬおよびトリエチルアミン１０４ｍＬを、室温で、ジクロロメタン１Ｌに加え、混合物を、撹拌して、混ぜ合わせた（工程１）。
【００４３】
混合物を、氷浴で１０℃以下に冷却した。混合物の温度が約８℃に達したとき、ホスフィンガスを、１０ｍＬ／分の速さでカニューレを通じて、そこへ導入した。ホスフィンを全部で９ｇ導入した後で、ホスフィンの供給を止めた（工程２）。
【００４４】
トリメチルシリルトリフレート３０ｍＬを、上で得られた反応混合物に加えた後で、混合物を、室温まで加熱し、次に、１時間さらに反応させた（工程３）。
【００４５】
このようにして得られた液相の反応混合物を、濾過せずに、減圧下で蒸留して、目的の化合物トリス（トリメチルシリル）ホスフィン５０．５ｇを得た（収率：９２％）。
【００４６】
純度（％）：９９％
31Ｐ−ＮＭＲ（ベンゼン−ｄ6、６００ＭＨｚ）δ−２５１．９（ｓ）
例２：トリス（ジメチルエチルシリル）ホスフィンの調製
工程１および３において、ジメチルエチルシリルトリフレートを、トリメチルシリルトリフレートの代わりに使用することを除いて、上の例１の手順を繰り返して、トリス（ジメチルエチルシリル）ホスフィン５１．９ｇを得た（収率：８１％）。
【００４７】
純度（％）：９８％
31Ｐ−ＮＭＲ（ベンゼン−ｄ6、６００ＭＨｚ）δ−２５０．８（ｓ）
例３：トリス（トリエチルシリル）ホスフィンの調製
工程１および３において、トリエチルシリルトリフレートを、トリメチルシリルトリフレートの代わりに使用することを除いて、上の例１の手順を繰り返して、トリス（トリエチルシリル）ホスフィン７２．７ｇを得た（収率：８８％）。
【００４８】
純度（％）：９８％
31Ｐ−ＮＭＲ（ベンゼン−ｄ6、６００ＭＨｚ）δ−２４９．１（ｓ）
例４：トリス（トリメチルシリル）ホスフィンの調製
工程１において、テトラクロロエタン（Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ  Ｃｏ．ＬＬＣ．）を、ジクロロメタンの代わりに使用することを除いて、上の例１の手順を繰り返して、トリス（トリメチルシリル）ホスフィン４９．４ｇを得た（収率：９０％）。
【００４９】
純度（％）：９９．２％
31Ｐ−ＮＭＲ（ベンゼン−ｄ6、６００ＭＨｚ）δ−２５１．９（ｓ）
比較例１：トリス（トリメチルシリル）ホスフィンの調製
トリメチルシリルトリフレート９０ｍＬおよびトリエチルアミン１０４ｍＬを、室温で、ジメチルエーテル１Ｌに加え、混合物を、撹拌して、混ぜ合わせた。
【００５０】
混合物を、氷浴で１０℃以下に冷却した。混合物の温度が約８℃に達したとき、ホスフィンガスを、１０ｍＬ／分の速さでカニューレを通じて、そこへ導入した。ホスフィンを全部で９ｇ導入した後で、ホスフィンの供給を止めた。
【００５１】
トリメチルシリルトリフレート３０ｍＬを、上で得られた反応混合物に加えた後で、混合物を、室温まで加熱し、次に、１時間さらに反応させた。
【００５２】
撹拌をやめた後で、スラリーで得られた反応混合物を、加圧窒素によって輸送し、窒素雰囲気下でセライトによって濾過した。液相で得られた濾過物を、減圧下で蒸留して、目的の化合物トリス（トリメチルシリル）ホスフィン３７．３ｇを得た（収率：６８％）。
【００５３】
純度（％）：９６％
31Ｐ−ＮＭＲ（ベンゼン−ｄ6、６００ＭＨｚ）δ−２５１．９（ｓ）
比較例２：トリス（トリメチルシリル）ホスフィンの調製
工程１において、ジクロロメタン４０ｍＬを加えることを除いて、上の例１の手順を繰り返して、トリス（トリメチルシリル）ホスフィン２２．５ｇを得た（収率：４１％）。
【００５４】
純度（％）：９２．９％
31Ｐ−ＮＭＲ（ベンゼン−ｄ6、６００ＭＨｚ）δ−２５１．９（ｓ）
比較例３：トリス（トリメチルシリル）ホスフィンの調製
工程３を実施しないことを除いて、上の例１の手順を繰り返して、トリス（トリメチルシリル）ホスフィン３９．５ｇを得た（収率：７２％）。
【００５５】
純度（％）：９４．１％
31Ｐ−ＮＭＲ（ベンゼン−ｄ6、６００ＭＨｚ）δ−２５１．９（ｓ）
【国際調査報告】
2017538662.tif 000003
2017538662.tif 000004
2017538662.tif 000005
2017538662.tif 000006