(57)【要約】  耐久性反射防止物品の実施形態が記載される。１つまたはそれ以上の実施形態において、物品は、基体と、主要表面上に配置された反射防止コーティングとを含む。物品は、反射防止表面から測定した場合、光学波長領域において約９４％以上の平均光透過率および／または光学波長領域において約２％以下の平均光反射率を示す。いくつかの実施形態において、物品は、約５０ｎｍ以上の押し込み深さに沿って、Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔによって測定される場合、約８ＧＰａ以上の最大硬度、および国際照明委員会の光源下で、約０度〜約６０度の範囲の全ての入射照明角において、反射防止表面のみにおいて測定した場合、約−５〜約１の範囲の反射率のａｂ＊値を示す。
2017515780.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主要表面を有する基体と、
前記主要表面上に配置された約１μｍ以下の厚さを有する、反射防止表面を含んでなる反射防止コーティングと
を含んでなる物品において、
約５０ｎｍ以上の押し込み深さに沿って、Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔによって測定される場合、約８ＧＰａ以上の最大硬度を示し、
光学波長領域において、約９４％以上の片面平均光透過率、および
光学波長領域において、約２％以下の片面平均光反射率
の一方または両方を示し、かつ
約０度〜約６０度の範囲の全ての入射照明角において、前記反射防止表面のみにおいて測定した場合、約−５〜約１の範囲の反射率のｂ＊値を示すことを特徴とする、物品。
【請求項２】
前記ｂ＊値がＦ２光源下で測定されることを特徴とする、請求項１に記載の物品。
【請求項３】
前記反射防止表面において測定した場合、色座標（ａ＊＝０、ｂ＊＝０）および前記基体の透過率色座標の少なくとも１つを含んでなる基準点から約２未満の基準点色シフトを示す、国際照明委員会の光源下で直角入射での（Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊）測色系における物品透過率色座標、ならびに
前記反射防止表面において測定した場合、色座標（ａ＊＝０、ｂ＊＝０）、色座標（ａ＊＝−２、ｂ＊＝−２）および前記基体の反射率色座標の少なくとも１つを含んでなる基準点から約５未満の基準点色シフトを示す、国際照明委員会の光源下で直角入射での（Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊）測色系における物品反射率色座標
を示し、
前記基準点が色座標（ａ＊＝０、ｂ＊＝０）である場合、前記色シフトは、√（（ａ＊物品）２＋（ｂ＊物品）２）によって定義され、
前記基準点が色座標（ａ＊＝−２、ｂ＊＝−２）である場合、前記色シフトは、√（（ａ＊物品＋２）２＋（ｂ＊物品＋２）２）によって定義され、かつ
前記基準点が前記基体の色座標である場合、前記色シフトは、√（（ａ＊物品−ａ＊基体）２＋（ｂ＊物品−ｂ＊基体）２）によって定義されることを特徴とする、請求項１または２に記載の物品。
【請求項４】
約８ｍｍの直径を有する開口部を有する曇り度計を使用して測定される約１％以下の曇り度、
原子間力顕微鏡法によって測定される約１２ｎｍ以下の平均粗さＲａ、
６００ｎｍの波長で、２ｍｍの開口部を用いて、散乱測定用イメージングスフィアを使用して、直角入射の透過で測定される、約４０度以下の極散乱角において、約０．０５（１／ステラジアンの単位）以下の散乱光強度、および
６００ｎｍの波長で、２ｍｍの開口部を用いて、散乱測定用イメージングスフィアを使用して、直角入射の透過で測定される、約２０度以下の極散乱角において、約０．１（１／ステラジアンの単位）以下の散乱光強度
のいずれか１つを含んでなる耐摩擦性を示し、
前記耐摩擦性が、Ｔａｂｅｒ  Ｔｅｓｔを使用して５００サイクルの摩擦後に測定されることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の物品。
【請求項５】
前記反射防止コーティングが、第１の低ＲＩ層、第２の高ＲＩ層および任意選択の第３の層を含んでなる複数の層を含んでなり、前記第１の低ＲＩ層および前記第２の高ＲＩ層の少なくとも１層が、約２ｎｍ〜約２００ｎｍの範囲の光学厚さ（ｎ＊ｄ）を含んでなることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の物品。
【請求項６】
前記反射防止コーティングが約８００ｎｍ以下の厚さを含んでなることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の物品。
【請求項７】
Ｆ２光源下で、直角入射から約２０度〜約６０度の範囲の入射照明角の全ての角度において、前記反射防止表面において測定した場合、約５未満の反射率角度色シフトを示し、かつ角度色シフトが、次の等式√（（ａ＊２−ａ＊１）２＋（ｂ＊２−ｂ＊１）２）（式中、ａ＊１およびｂ＊１は、直角入射で見た場合の物品の座標を表し、かつａ＊２およびｂ＊２は、入射照明角で見た場合の物品の座標を表す）を使用して計算されることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の物品。
【請求項８】
約４００ｎｍ〜約４８０ｎｍの波長範囲における最大反射率（Ｒ４００−最大）が、約５００ｎｍ〜約６００ｎｍの波長範囲における最大反射率（Ｒ５００−最大）および約６４０ｎｍ〜約７１０ｎｍの波長範囲における最大反射率（Ｒ６４０−最大）より大きく、かつ
約４００ｎｍ〜約４８０ｎｍの波長範囲における最小反射率（Ｒ４００−最小）が、約５００ｎｍ〜約６００ｎｍの波長範囲における最小反射率（Ｒ５００−最小）より任意選択的に小さく、かつ
約６４０ｎｍ〜約７１０ｎｍの波長範囲における最小反射率（Ｒ６４０−最小）が任意選択的にＲ−５００最小未満であるような反射率スペクトルを示すことを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の物品。
【請求項９】
前記基体が、非晶質基体または結晶質基体を含んでなることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の物品。
【請求項１０】
前記非晶質基体が、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノシリケートガラス、アルカリ含有ボロシリケートガラスおよびアルカリアルミノボロシリケートガラスからなる群から選択されるガラスを含んでなり、かつ前記ガラスが任意選択的に化学強化され、かつ前記化学強化ガラスの表面から少なくとも約１０μｍの層の深さ（ＤＯＬ）まで前記化学強化ガラス内に延在する少なくとも２５０ＭＰａの表面ＣＳを有する圧縮応力（ＣＳ）層を含んでなることを特徴とする、請求項９に記載の物品。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の相互参照】
【０００１】
本出願は、米国特許法第１１９条に基づき、２０１４年１２月３１日出願の米国仮特許出願第６２／０９８，８３６号、２０１４年１２月３１日出願の米国仮特許出願第６２／０９８，８１９号、２０１４年７月２３日出願の米国仮特許出願第６２／０２８，０１４号、２０１４年６月１０日出願の米国仮特許出願第６２／０１０，０９２号および２０１４年５月１２日出願の米国仮特許出願第６１／９９１，６５６号に対する優先権を主張する。上記米国仮特許出願の内容は依拠され、そして全体として参照によって本明細書に組み込まれる。
【技術分野】
【０００２】
本開示は、耐久性および反射防止物品、ならびにその製造方法に関し、より具体的には、耐摩擦性、低反射性、ならびに無色透過率および／または反射率を示す多層反射防止コーティングを有する物品に関する。
【背景技術】
【０００３】
カバー物品は、しばしば、電子製品内の重要なデバイスを保護するために、入力用ユーザインタフェースおよび／またはディスプレイおよび／または多くの他の機能を提供するために使用されている。そのような製品には、スマートフォン、ｍｐ３プレーヤーおよびコンピュータータブレットなどのモバイルデバイスが含まれる。カバー物品としては、建築物品、輸送物品（例えば、自動車用途、電車、航空機、船舶などで使用される物品）、器具物品、あるいはいくらかの透過性、耐擦傷性、耐摩擦性またはそれらの組合せを必要とするいずれの物品も含まれる。これらの用途は、しばしば、耐擦傷性、ならびに最大光透過率および最小反射率に関する強い光学的性能特性を要求する。さらに、いくつかのカバー用途では、視野角が変化する時に、反射および／または透過において示されるか、もしくは認知される色が明らかに変化しないことが要求される。ディスプレイ用途においては、これは、反射または透過における色が、視野角とともに感知可能な度合いまで変化する場合、製品の使用者がディスプレイの色または明るさの変化を認知することとなり、それによってディスプレイの知覚品質が低下するおそれがあるためである。他の用途においては、色の変化は、美的な必要条件または他の機能的な必要条件に悪影響を及ぼし得る。
【０００４】
カバー物品の光学的性能は、種々の反射防止コーティングを使用することによって改善することができるが、既知の反射防止コーティングは摩耗または摩擦の影響を受けやすい。そのような摩擦は、反射防止コーティングによって達成されたいずれかの光学的性能の改善をも損なう可能性がある。例えば、光学フィルターは、しばしば、異なる屈折率を有する多層コーティングから製造され、そして光学的に透明な誘電材料（例えば、酸化物、窒化物およびフッ化物）から製造される。そのようなフィルターのために使用される典型的な酸化物のほとんどは、広バンドギャップ材料であるが、これは、モバイルデバイス、建築物品、輸送物品または器具物品での使用に関して、硬度などの必要な機械的特性を有さない。窒化物およびダイヤモンド様コーティングは、高い硬度値を示し得るが、そのような材料は、そのような用途に必要とされる透過率を示さない。
【０００５】
摩擦損傷には、対向面物体（例えば、指）からの往復運動滑り接触が含まれる可能性がある。加えて、摩擦損傷は熱を発生する可能性があり、これはフィルム材料中の化学結合を分解するおそれがあり、そしてカバーガラスにフレークおよび他の種類の損傷を生じるおそれがある。摩擦損傷は、しばしば、擦傷を生じる単一事象よりも長期間にわたって経験されるため、摩擦損傷を経験する配置されたコーティング材料は酸化するおそれがあり、これはさらに、コーティングの耐久性を低下させる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
したがって、耐摩擦性であり、かつ光学的特性が改善された新規カバー物品、およびそれらの製造方法が必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
耐久性反射防止物品の実施形態が記載される。１つまたはそれ以上の実施形態において、物品は、基体と、反射防止表面を形成する主要表面上に配置された、約１μｍ以下（例えば、約８００ｎｍ以下）の厚さを有する反射防止コーティングとを含む。物品は、本明細書に記載される通り、Ｔａｂｅｒ  Ｔｅｓｔを使用して、５００サイクルの摩擦後に反射防止表面上で測定される耐摩擦性を示す。１つまたはそれ以上の実施形態において、物品は、約８ｍｍの直径を有する開口部を有する曇り度計を使用して測定される約１％以下の曇り度を含んでなる（反射防止表面上で測定される）耐摩擦性を示す。１つまたはそれ以上の実施形態において、物品は、原子間力顕微鏡法によって測定される約１２ｎｍ以下の平均荒さＲａを含んでなる（反射防止表面上で測定される）耐摩擦性を示す。１つまたはそれ以上の実施形態において、物品は、６００ｎｍの波長で、２ｍｍの開口部を用いて、散乱測定用イメージングスフィアを使用して、直角入射の透過で測定される、約４０度以下の極散乱角において、約０．０５（１／ステラジアンの単位）以下の散乱光度を含んでなる（反射防止表面上で測定される）耐摩擦性を示す。いくつかの場合、物品は、６００ｎｍの波長で、２ｍｍの開口部を用いて、散乱測定用イメージングスフィアを使用して、直角入射の透過で測定される、約２０度以下の極散乱角において、約０．１（１／ステラジアンの単位）以下の散乱光度を含んでなる（反射防止表面上で測定される）耐摩擦性を示す。
【０００８】
１つまたはそれ以上の実施形態の物品は、光透過率および／または光反射率に関して、優れた光学的特性を示す。１つまたはそれ以上の実施形態において、物品は、光学波長領域（例えば、約４００ｎｍ〜約８００ｎｍ、または約４５０ｎｍ〜約６５０ｎｍの範囲）において、約９４％以上（例えば、約９８％以上）の（反射防止表面において測定される）平均光透過率を示す。いくつかの実施形態において、物品は、光学波長領域において、約２％以下（例えば、約１％以下）の（反射防止表面において測定される）平均光反射率を示す。物品は、光学波長領域において、約１パーセントポイント以下の平均振幅を有する平均光透過率または平均光反射率を示し得る。いくつかの場合、物品は、光源を使用して反射防止表面で見た場合に約２度〜約６０度の範囲の基準照射角から入射照射角までの約１０未満（例えば、５以下、４以下、３以下、２以下または約１以下）の角度色シフトを示す。代表的な光源としては、ＣＩＥ  Ｆ２、ＣＩＥ  Ｆ１０、ＣＩＥ  Ｆ１１、ＣＩＥ  Ｆ１２およびＣＩＥ  Ｄ６５のいずれか１つが含まれる。１つまたはそれ以上の実施形態において、物品は、約０〜約６０度の範囲の全入射照明角におけるＣＩＥ  Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊測色系において、約−５〜約１、約−５〜約０または約−４〜約０の範囲のｂ＊値を示し得る。代わりに、または加えて、いくつかの実施形態の物品は、本明細書に定義される基準点から約２未満の基準点色シフトを有する反射防止表面において測定される透過率色（もしくは透過率色座標）および／または反射率色（もしくは反射率色座標）を示す。１つまたはそれ以上の実施形態において、基準点は、Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間における原点（０、０）（または色座標ａ＊＝０、ｂ＊＝０）、座標（ａ＊＝−２、ｂ＊＝−２）、あるいは基体の透過率または反射率色座標であり得る。本明細書に記載される角度色シフト、基準色シフトおよび色座標（ａ＊および／またはｂ＊）は、Ｄ６５および／またはＦ２光源下で観察される。
【０００９】
１つまたはそれ以上の実施形態において、反射防止コーティングは、複数の層を含み得る。例えば、いくつかの実施形態において、反射防止コーティングは、第１の低ＲＩ層および第２の高ＲＩ層を含んでなるピリオドを含む。このピリオドは、第１の低ＲＩ層および第１の低ＲＩ層上に配置された第２の高ＲＩ層、あるいはその逆を含んでよい。いくつかの実施形態において、このピリオドは第３の層を含み得る。反射防止コーティングは、第１の低ＲＩ層および第２の高ＲＩ層が交互に並ぶように複数のピリオドを含み得る。反射防止コーティングは、約１０ピリオドまで含むことが可能である。
【００１０】
１つまたはそれ以上の実施形態において、第１の低ＲＩ層および第２の高ＲＩ層の少なくとも１層は、約２ｎｍ〜約２００ｎｍの範囲の光学厚さ（ｎ＊ｄ）を含む。いくつかの実施形態において、反射防止コーティングは、第２の高ＲＩ層の組み合わせた厚さが約５００ｎｍ未満以下であるように１層またはそれ以上の第２の高ＲＩ層を有する複数の層を含む。
【００１１】
いくつかの実施形態において、物品は、約１．９より高い屈折率を有する層を含み得る。そのような層で利用されてよい材料としては、ＳｉＮｘ、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ、ＡｌＮｘ、ＡｌＯｘＮｙまたはそれらの組合せが含まれる。
【００１２】
いくつかの場合、物品は、クリーニングが容易なコーティング、ダイヤモンド様カーボン（「ＤＬＣ」）コーティング、耐擦傷性コーティングまたはそれらの組合せなどの追加的な層を含み得る。そのようなコーティングは、反射防止コーティング上に、または反射防止コーティングの層の間に配置され得る。耐擦傷性コーティングが含まれる場合、そのような層は反射防止コーティング上に配置され得、かつ耐擦傷性表面を形成し得る。代表的な耐擦傷性コーティングは、本明細書に定義されるＢｅｒｋｏｖｉｔｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔによって測定する場合、約８ＧＰａ〜約５０ＧＰａの範囲の硬度を示し得る。
【００１３】
いくつかの実施形態において、物品は、約１．９より高い屈折率を有する層を含み得る。そのような層で利用されてよい材料としては、ＳｉＮｘ、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ、ＡｌＮｘ、ＡｌＯｘＮｙまたはそれらの組合せが含まれる。
【００１４】
物品の１つまたはそれ以上の実施形態において利用される基体は、非晶質基体または結晶質基体を含むことができる。非晶質基体は、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノシリケートガラス、アルカリ含有ボロシリケートガラスおよびアルカリアルミノボロシリケートガラスからなる群から選択され得るガラスを含む。いくつかの実施形態において、ガラスは強化されてもよく、そして強化ガラス内の化学強化されたガラスの表面から少なくとも約１０μｍの層の深さ（ＤＯＬ）まで延在する少なくとも２５０ＭＰａの表面ＣＳを有する圧縮応力（ＣＳ）層を含んでもよい。
【００１５】
追加的な特徴および利点は、以下の詳細な説明において明らかにされ、そして一部は、そのような説明から当業者に容易に明白となるか、または以下の詳細な説明、請求の範囲ならびに添付の図面を含む本明細書に記載の実施形態を実施することによって認識されるであろう。
【００１６】
上記の概要および以下の詳細な説明の両方は単なる例であり、そして請求の範囲の性質および特徴を理解するための概観または骨組みを提供するように意図されることは理解されるはずである。添付の図面は、さらなる理解を提供するために含まれて、そして本明細書の一部に含まれて、かつ構成する。図面では、１つまたはそれ以上の実施形態を例証し、そして説明と共に、種々の実施形態の原理および操作を説明するために有用となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、１つまたはそれ以上の実施形態による物品の側面図である。
【図２】図２は、１つまたはそれ以上の特定の実施形態による物品の側面図である。
【図３】図３は、１つまたはそれ以上の実施形態による物品の側面図である。
【図４】図４は、１つまたはそれ以上の実施形態による物品の側面図である。
【図５】図５は、１つまたはそれ以上の実施形態による物品の側面図である。
【図６】図６は、１つまたはそれ以上の実施形態による物品の側面図である。
【図７】図７は、実施例１による物品の側面図である。
【図８】図８は、実施例１による物品の反射率を示すグラフである。
【図９】図９は、実施例２による物品のモデル反射率を示すグラフである。
【図１０】図１０は、実施例３による物品のモデル反射率を示すグラフである。
【図１１】図１１は、追加的なＤＬＣコーティングを有する、実施例３による物品のモデル反射率を示すグラフである。
【図１２】図１２は、実施例４による物品を示す。
【図１３】図１３は、入射照明角が０°から約６０°まで変化した時の反射率を示す、実施例４の物品の片面反射率スペクトルである。
【図１４】図１４は、１０°観測器を使用して、種々の視野角における種々の光源下での反射色を示す、実施例４の物品の反射色スペクトルである。
【図１５】図１５は、実施例５による物品を示す。
【図１６】図１６は、入射照明角が０°から約４５°まで変化した時の反射率を示す、実施例５の物品の片面反射率スペクトルである。
【図１７】図１７は、１０°観測器を使用して、種々の視野角におけるＤ６５光源下での反射色を示す、実施例５の物品の反射色スペクトルである。
【図１８】図１８は、実施例６による物品を示す。
【図１９】図１９は、入射照明角が０°から約６０°まで変化した時の反射率を示す、実施例６の物品の片面反射率スペクトルである。
【図２０】図２０は、１０°観測器を使用して、種々の視野角における種々の光源下での反射色を示す、実施例６の物品の反射色スペクトルである。
【図２１】図２１は、実施例７による物品を示す。
【図２２】図２２は、入射照明角が０°から約６０°まで変化した時の反射率を示す、実施例７の物品の片面反射率スペクトルである。
【図２３】図２３は、１０°観測器を使用して、種々の視野角における種々の光源下での反射色を示す、実施例７の物品の反射色スペクトルである。
【図２４】図２４は、実施例８による物品を示す。
【図２５】図２５は、入射照明角が０°から約６０°まで変化した時の反射率を示す、実施例８の物品の片面反射率スペクトルである。
【図２６】図２６は、１０°観測器を使用して、種々の視野角における種々の光源下での反射色を示す、実施例８の物品の反射色スペクトルである。
【図２７】図２７は、入射照明角が０°から約６０°まで変化した時の反射率を示す、モデル実施例９の物品の片面反射率スペクトルである。
【図２８】図２８は、１０°観測器を使用して、種々の視野角における種々の光源下での反射色を示す、実施例９の物品の反射色スペクトルである。
【図２９】図２９は、入射照明角が０°から約６０°まで変化した時の反射率を示す、モデル実施例１０Ａの物品の片面反射率スペクトルである。
【図３０】図３０は、入射照明角が０°から約６０°まで変化した時の反射率を示す、モデル実施例１０Ｂの物品の片面反射率スペクトルである。
【図３１】図３１は、１０°観測器を使用して、種々の視野角における種々の光源下での反射色を示す、モデル実施例１０Ａの物品の反射色スペクトルである。
【図３２】図３２は、１０°観測器を使用して、種々の視野角における種々の光源下での反射色を示す、モデル実施例１０Ｂの物品の反射色スペクトルである。
【図３３】図３３は、Ｔａｂｅｒ  Ｔｅｓｔを受けた後、およびＴａｂｅｒ  Ｔｅｓｔを受けなかった実施例１２および１３ならびに比較例１５、１６および１７の散乱光強度値を示すグラフである。
【図３４】図３４は、Ｔａｂｅｒ  Ｔｅｓｔを受けた後の実施例１２および１３ならびに比較例１４、１７および１８に関して測定されたＡＦＭ粗度統計を示すグラフである。
【図３５】図３５は、入射照明角が０°から約６０°まで変化した時の反射率を示す、実施例１９の物品の片面反射率スペクトルである。
【図３６】図３６は、１０°観測器を使用して、種々の視野角における種々の光源下での反射および透過色を示す、実施例１９の物品の反射および透過色スペクトルである。
【図３７】図３７は、実施例２１の測定された透過率色座標および反射率色座標を示すグラフである。
【図３８】図３８は、種々の照射角における実施例２１の反射スペクトルである。
【図３９】図３９は、実施例２１の２表面透過および反射スペクトルを示すグラフである。
【図４０】図４０は、押し込み深さおよびコーティング厚さの関数としての硬度測定を説明するグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
次に、様々な実施形態が詳細に参照されるが、それらの例は添付の図面に説明される。
【００１９】
図１を参照すると、１つまたはそれ以上の実施形態による物品１００は、基体１１０と、基体上に配置された反射防止コーティング１２０を含み得る。基体１１０は、対立する主要表面１１２、１１４および対向する副表面１１６、１１８を含む。反射防止コーティング１２０は、図１中、第１の対立する主要表面１１２上に配置されて示されるが、反射防止コーティング１２０は、第１の対立する主要表面１１２上に配置されることに加えて、またはその代わりに、第２の対立する主要表面１１４および／または一方もしくは両方の対立する副表面上に配置されてもよい。反射防止コーティング１２０は、反射防止表面１２２を形成する。
【００２０】
反射防止コーティング１２０は、少なくとも１種の材料の少なくとも１層を含む。「層」という用語は単層を含んでもよく、または１層またはそれ以上の副層を含んでもよい。そのような副層は、互いに直接接触していてもよい。副層は、同一材料から、または２種以上の異なる材料から形成されてもよい。１つまたはそれ以上の別の実施形態において、そのような副層は、それらの間に配置される異なる材料の介在層を有してもよい。１つまたはそれ以上の実施形態において、層は、１層またはそれ以上の連続的かつ中断されない層および／または１層またはそれ以上の不連続的かつ中断された層（すなわち、異なる材料が互いに隣接して形成された層）を含んでもよい。層または副層は、別々の析出または連続的析出プロセスを含む当該技術において既知のいずれかの方法によって形成されてもよい。１つまたはそれ以上の実施形態において、層は、連続的析出プロセスのみ、あるいは代わりに、別々の析出プロセスのみを使用して形成されてもよい。
【００２１】
本明細書で使用される場合、「配置」という用語は、当該技術において既知のいずれかの方法を使用して表面上に材料をコーティング、析出および／または形成することを含む。配置された材料は、本明細書に定義される層を構成し得る。「上に配置される」という句は、材料が表面と直接接触するように表面上に材料を形成する例を含み、そしてまた、配置された材料と表面との間に１種またはそれ以上の介在材料がある状態で材料が表面上で形成される例も含む。介在材料は、本明細書に定義される層を構成し得る。
【００２２】
１つまたはそれ以上の実施形態の反射防止コーティング１２０は、Ｔａｂｅｒ  Ｔｅｓｔに従って、少なくとも約５００サイクル後、研磨された後、種々の方法によって測定される耐摩擦性として記載されてよい。Ｔａｂｅｒ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓによって供給される研磨媒体を使用するＡＳＴＭ  Ｄ１０４４−９９に明示される試験方法などの様々な形態の摩擦試験が、当該技術において既知である。ＡＳＴＭ  Ｄ１０４４−９９と関連する修正された研磨方法は、異なる種類の耐摩擦性を意味深く区別するために繰り返し可能かつ測定可能な摩擦または摩耗痕跡を提供するために、異なる種類の研磨媒体、研摩材形状および動作、圧力などを使用して作成することができる。例えば、軟質のプラスチック対硬質の無機試験試料では、通常、異なる試験条件が適切であるであろう。本明細書に記載の実施形態は、以下に定義されるＴａｂｅｒ  Ｔｅｓｔを受けたが、これは、酸化物ガラスおよび酸化物または窒化物コーティングなどの硬質無機材料を主に含んでなる種々の試料間の耐久性の明白かつ繰り返し可能な区別を提供するＡＳＴＭ  Ｄ１０４４−９９の特定の修正版である。本明細書で使用される場合、「Ｔａｂｅｒ  Ｔｅｓｔ」という句は、約２２℃±３℃の温度および約７０％までの相対湿度を含む環境で、Ｔａｂｅｒ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓによって供給されるＴａｂｅｒ  Ｌｉｎｅａｒ  Ａｂｒａｓｅｒ  ５７５０（ＴＬＡ  ５７５０）およびアクセサリーを使用する試験方法を指す。ＴＬＡ  ５７５０は、直径６．７ミリの研磨装置ヘッドを有するＣＳ−１７研磨装置材料を含む。それぞれの試料をＴａｂｅｒ  Ｔｅｓｔに従って研磨し、そして他の方法の中でもＨａｚｅおよびＢｉｄｉｒｅｃｔｉｏｎａｌ  Ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ  Ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ  Ｆｕｎｃｔｉｏｎ（ＣＣＢＴＤＦ）測定の両方を使用して、研磨損傷を評価した。Ｔａｂｅｒ  Ｔｅｓｔにおいて、それぞれの試料を研磨する手順には、剛性の平坦な表面上にＴＬＡ  ５７５０および平坦な試料支持体を配置するステップと、表面にＴＬＡ  ５７５０および試料支持体を固定するステップが含まれる。それぞれの試料をＴａｂｅｒ  Ｔｅｓｔで研磨する前に、ガラスに接着した新たなＳ−１４再表面仕上げストリップを使用して、研磨装置を再表面仕上げした。研磨装置に、追加重量を用いず、２５サイクル／分のサイクル速度および１インチ（２．５４ｃｍ）のストローク長さを使用する１０回の再表面仕上げサイクルを受けさせた（すなわち、再表面仕上げの間に約３５０ｇの全重量が使用され、これは、研磨装置を保持するスピンドルおよびコレットの組み合わせ重量である）。次いで、この手順には、研磨装置ヘッドと接触し、研磨装置ヘッドに適用される重量を支持する試料支持体に配置された試料を研磨するためにＴＬＡ  ５７５０を作動するステップと、２５サイクル／分のサイクル速度および１インチ（２．５４ｃｍ）のストローク長さおよび試料に適用される全重量が８５０ｇであるような重量（すなわち、スピンドルおよびコレットの３５０ｇの組み合わせられた重量に加えて、５００ｇの予備的な重量が適用される）を使用するステップとが含まれる。この手順は、繰り返し性のために、それぞれの試料上に２つの��耗痕跡を形成するステップと、それぞれの試料上の２つの摩耗痕跡のそれぞれにおいて、５００サイクル数でそれぞれの試料を研磨するステップとを含む。
【００２３】
１つまたはそれ以上の実施形態において、物品１００の反射防止コーティング１２０を上記Ｔａｂｅｒ  Ｔｅｓｔに従って研磨し、そして供給口上の直径８ｍｍの開口部を使用して、Ｈａｚｅ−Ｇａｒｄ  ｐｌｕｓ（登録商標）の商標名でＢＹＫ  Ｇａｒｄｎｅｒによって供給される曇り度計を使用して、研磨側面で測定される場合、物品は約１０％以下の曇り度を示す。１つまたはそれ以上の実施形態の物品１００は、（本明細書に記載される追加コーティング１４０を含む）いずれの追加コーティングの有無にかかわらず、そのような耐摩擦性を示す。いくつかの実施形態において、曇り度は、約９％以下、約８％以下、約７％以下、約６％以下、約５％以下、約４％以下、約３％以下、約２％以下、約１％以下、約０．５％以下または約０．３％以下であってよい。いくつかの具体的な実施形態において、物品１００は、約０．１％〜約１０％、約０．１％〜約９％、約０．１％〜約８％、約０．１％〜約７％、約０．１％〜約６％、約０．１％〜約５％、約０．１％〜約４％、約０．１％〜約３％、約０．１％〜約２％、約０．１％〜約１％、０．３％〜約１０％、約０．５％〜約１０％、約１％〜約１０％、約２％〜約１０％、約３％〜約１０％、約４％〜約１０％、約５％〜約１０％、約６％〜約１０％、約７％〜約１０％、約１％〜約８％、約２％〜約６％、約３％〜約５％の範囲、ならびにそれらの間の全範囲および部分範囲の曇り度を示す。
【００２４】
耐摩擦性を定量するための別の方法も本明細書で考慮される。１つまたはそれ以上の実施形態において、反射防止コーティング１２０上でＴａｂｅｒ  Ｔｅｓｔによって研磨された物品１００は、例えば、反射防止コーティング１２０の８０×８０マイクロメートル面積、または複数の８０×８０マイクロメートル面積（研磨された領域のより大きい部分を試験するため）上で実行されてよい原子間力顕微鏡法（ＡＦＭ）表面プロファイリングによって測定される耐摩擦性を示し得る。これらのＡＦＭ表面スキャンから、ＲＭＳ粗さ、Ｒａ粗さなどの粗さの統計、およびピークから谷までの表面高さが評価され得る。１つまたはそれ以上の実施形態において、物品１００（または特に反射防止コーティング１２０）は、上記のＴａｂｅｒ  Ｔｅｓｔで研磨された後、約５０ｎｍ以下、約２５ｎｍ以下、約１２ｎｍ以下、約１０ｎｍ以下または約５ｎｍ以下の平均表面粗さ（Ｒａ）値を示し得る。
【００２５】
１つまたはそれ以上の実施形態において、物品１００は、Ｔａｂｅｒ  Ｔｅｓｔで研磨された後、光散乱測定によって測定される耐摩擦性を示してもよい。１つまたはそれ以上の実施形態において、光散乱測定は、Ｒａｄｉａｎｔ  Ｚｅｍａｘ  ＩＳ−ＳＡ（商標）測定器によって実行される双方向反射率分布関数（ＢＲＤＦ）または双方向透過率分布関数（ＢＴＤＦ）測定を含む。この測定器は、反射において直角から約８５度の入射および透過において直角から約８５度の入射のいずれかの入力角度を使用して光散乱を測定するために適応性を有するが、反射または透過のいずれにおいても全ての散乱光出力を２＊パイステラジアン（反射または透過における全半球体）に取り込む。一実施形態において、物品１００は、直角入射でＢＴＤＦを使用し、そして選択された角度範囲、例えば、極角の約１０°〜約８０°およびその中のいずれかの角度範囲の透過散乱光を分析して測定される耐摩擦性を示す。角度の全方位角範囲を分析および統合することができるか、あるいは特定の方位角角度の断片を、例えば、約０°および９０°の方位角から選択することができる。線形の摩擦に関しては、光散乱測定の「信号対雑音」を増加するように、本質的に摩擦方向に対して直角の方位角方向を選択することが望まれ得る。１つまたはそれ以上の実施形態において、物品１００は、２ｍｍの開口部および６００ｎｍの波長に設定されたモノクロメーターを用いて、直角入射の透過で、ＣＣＢＴＤＦモードでＲａｄｉａｎｔ  Ｚｅｍａｘ  ＩＳ−ＳＡツールを使用し、かつ約１５°〜約６０°の範囲（例えば、特に約２０°または約４０°）の極散乱角において評価した場合、約０．１未満、約０．０５以下、約０．０３以下、約０．０２以下、約０．０１以下、約０．００５以下または約０．００３以下（１／ステラジアンの単位）の、反射防止コーティング１２０で測定される散乱光強度を示し得る。直角入射の透過は、測定器ソフトウェアによって１８０°入射として示され得る、０°の透過として知られ得る。１つまたはそれ以上の実施形態において、散乱光強度は、Ｔａｂｅｒ  Ｔｅｓｔによって研磨された試料の研磨方向に対して本質的に直角の方位角方向に沿って測定されてもよい。一例において、Ｔａｂｅｒ  Ｔｅｓｔは、約１０サイクルから約１０００サイクルまで、およびそれらの間のいずれの値も使用してよい。これらの光学強度値は、約５度より大きい、約１０度より大きい、約３０度より大きい、または約４５度より大きい極散乱角へと散乱する入力光強度の約１％未満、約０．５％未満、約０．２％未満または約０．１％未満にも相当し得る。
【００２６】
一般的に、両方とも試料（またはこの場合、反射防止コーティング１２０の研磨後の物品１００）を透過する散乱光の量を測定するという点で、本明細書に記載される直角入射のＢＴＤＦ試験は、透過曇り度測定と密接に関係する。ＢＴＤＦ測定は、曇り度測定と比較して、より多くの感度、ならびにより詳細な角度情報を提供する。ＢＴＤＦによって、種々の極角および方位角角度への散乱の測定が可能となり、例えば、線形Ｔａｂｅｒ試験での研磨方向に対して実質的に直角の方位角角度（これらは、線形摩擦からの光散乱が最も高い角度である）への散乱の選択的な評価が可能となる。透過曇り度は、本質的に、約＋／−２．５度より高い極角の半球体全体への直角入射ＢＴＤＦによって測定された全ての散乱光の統合である。
【００２７】
反射防止コーティング１２０および物品１００は、Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔによって測定された硬度に関して記載されてよい。本明細書で使用される場合、「Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔ」は、ダイヤモンドＢｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子で表面を押し込むことによって、その表面上での材料の硬度を測定するステップを含む。Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔは、一般的に、Ｏｌｉｖｅｒ，Ｗ．Ｃ．；Ｐｈａｒｒ，Ｇ．Ｍ．Ａｎ  ｉｍｐｒｏｖｅｄ  ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ  ｆｏｒ  ｄｅｔｅｒｍｉｎｉｎｇ  ｈａｒｄｎｅｓｓ  ａｎｄ  ｅｌａｓｔｉｃ  ｍｏｄｕｌｕｓ  ｕｓｉｎｇ  ｌｏａｄ  ａｎｄ  ｄｉｓｐｌａｃｅｍｅｎｔ  ｓｅｎｓｉｎｇ  ｉｎｄｅｎｔａｔｉｏｎ  ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔｓ．Ｊ．Ｍａｔｅｒ．Ｒｅｓ．，Ｖｏｌ．７，Ｎｏ．６，１９９２，１５６４−１５８３；およびＯｌｉｖｅｒ，Ｗ．Ｃ．；Ｐｈａｒｒ，Ｇ．Ｍ．Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ  ｏｆ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  ａｎｄ  Ｅｌａｓｔｉｃ  Ｍｏｄｕｌｕｓ  ｂｙ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ  Ｉｎｄｅｎｔａｔｉｏｎ：Ａｄｖａｎｃｅｓ  ｉｎ  Ｕｎｄｅｒｓｔａｎｄｉｎｇ  ａｎｄ  Ｒｅｆｉｎｅｍｅｎｔｓ  ｔｏ  Ｍｅｔｈｏｄｏｌｏｇｙ．Ｊ．Ｍａｔｅｒ．Ｒｅｓ．，Ｖｏｌ．１９，Ｎｏ．１，２００４，３−２０に明示される方法を使用して、物品の反射防止表面１２２または反射防止コーティング１２０の表面（または反射防止コーティングのいずれか１層またはそれ以上の層の表面）をダイヤモンドＢｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子で押し込み、約５０ｎｍ〜約１０００ｎｍの範囲の押し込み深さ（またはいずれが小さいとしても、反射防止コーティングまたは層の全厚さ）まで押し込みを形成するステップと、全押し込み深さ範囲またはこの押し込み深さの一部分（例えば、約１００ｎｍから約６００ｎｍまでの範囲内）に沿って、この押し込みからの最大硬度を測定するステップとを含む。本明細書で使用される場合、硬度は最大硬度を指し、平均硬度ではない。
【００２８】
典型的に、下部の基体よりも硬いコーティングの（Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子を使用するなどの）ナノインデンテーション測定法において、測定された硬度は、最初、浅い押し込み深さのプラスチック帯の発達によって増加するように見え、次いで、より深い押し込み深さにおいて増加し、そして最大値または平坦域に達する。その後、硬度は、下部の基体の影響のため、より深い押し込み深さにおいて減少し始める。コーティングに匹敵する増加した硬度を有する基体が利用される場合、同様の効果は見られるが、硬度は、下部の基体の影響のため、より深い押し込み深さにおいて増加する。
【００２９】
押し込み深さの範囲および特定の押し込み深さ範囲における硬度値は、下部の基体の影響のない本明細書に記載の光学フィルム構造およびそれらの層の特定の硬度応答を識別するように選択することができる。Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子で光学フィルム構造（基体上に配置される場合）の硬度を測定する場合、材料の永久歪の領域（プラスチック帯）は、材料の硬度と関連している。押し込みの間、弾性応力場が永久歪のこの領域を十分超えて延在する。押し込み深さが増加すると、見掛けの硬度およびモジュラスは、下部の基体との応力場相互作用によって影響を与えられる。硬度への基体の影響は、より深い押し込み深さにおいて（すなわち、典型的に光学フィルム構造または層の厚さの約１０％より大きい深さにおいて）生じる。さらに複雑な問題は、硬度応答が、押し込みプロセス間に完全な可塑度を発達させるために、特定の最小負荷を必要とするということである。そのような特定の最小負荷の前に、硬度は一般に増大する傾向を示す。
【００３０】
（小さい負荷として特徴づけられてもよい）小さい押し込み深さ（例えば、約５０ｎｍまで）において、材料の見掛けの硬度は、押し込み深さに対して劇的に増加するように見える。この小さい押し込み深さの領域は、硬度の真の測定基準を表さないが、その代わり、圧子の限られた曲率半径と関連する前述のプラスチック帯の発達を反映する。中間の押し込み深さにおいては、見掛けの硬度は最高レベルに接近する。より深い押し込み深さにおいて、押し込み深さが増加すると、基体の影響がより大きくなる。押し込み深さが光学フィルム構造の厚さまたは層の厚さの約３０％を超えると、硬度が劇的に減少し始め得る。
【００３１】
図４０は、コーティングの押し込み深さおよび厚さの関数としての測定された硬度値の変化を示す。図４０に示すように、（硬度が接近して、そして最高レベルで維持される）中間押し込み深さにおいて、およびより深い押し込み深さにおいて測定された硬度は、材料または層の厚さ次第である。図４０は、種々の厚さを有する４種の異なるＡｌＯｘＮｙ層の硬度応答を示す。それぞれの層の硬度は、Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔを使用して測定した。厚さ５００ｎｍの層は、約１００ｎｍ〜１８０ｎｍの押し込み深さにおいて、その最大硬度を示し、続いて、約１８０ｎｍ〜約２００ｎｍの押し込み深さにおいて硬度の劇的な減少が生じ、このことは、基体の硬度が硬度測定に影響を与えていることを示す。厚さ１０００ｎｍの層は、約１００ｎｍ〜約３００ｎｍの押し込み深さにおいて最大硬度を示し、続いて、約３００ｎｍより大きい押し込み深さにおいて硬度の劇的な減少が生じた。厚さ１５００ｎｍの層は、約１００ｎｍ〜約５５０ｎｍの押し込み深さにおいて最大硬度を示し、そして厚さ２０００ｎｍの層は、約１００ｎｍ〜約６００ｎｍの押し込み深さにおいて最大硬度を示した。図４０は、厚い単層を例示する、同様の挙動は、本明細書に記載される実施形態の反射防止コーティング１２０などのより薄いコーティングおよび複数の層を含むものでも観察される。
【００３２】
いくつかの実施形態において、反射防止コーティング１２０は、Ｂｅｒｋｏｖｉｔｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔによって反射防止表面１２２において測定される場合、約５ＧＰａより高い硬度を示し得る。反射防止コーティング１２０は、約８ＧＰａより高い、約１０ＧＰａより高い、または約１２ＧＰａより高い硬度を示し得る。本明細書に記載の反射防止コーティング１２０およびいずれの追加のコーティングを含む物品１００は、Ｂｅｒｋｏｖｉｔｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔによって反射防止表面１２２上で測定した場合、約５ＧＰａ以上、約８ＧＰａ以上、約１０ＧＰａ以上または約１２ＧＰａ以上の硬度を示し得る。そのような測定された硬度値は、約５０ｎｍ以上または約１００ｎｍ以上（例えば、約１００ｎｍ〜約３００ｎｍ、約１００ｎｍ〜約４００ｎｍ、約１００ｎｍ〜約５００ｎｍ、約１００ｎｍ〜約６００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約３００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約４００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約５００ｎｍまたは約２００ｎｍ〜約６００ｎｍ）の押し込み深さに沿って、反射防止コーティング１２０および／または物品１００によって示されてよい。
【００３３】
反射防止コーティング１２０は、Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔによって測定される、約１２ＧＰａ以上、約１３ＧＰａ以上、約１４ＧＰａ以上、約１５ＧＰａ以上、約１６ＧＰａ以上、約１７ＧＰａ以上、約１８ＧＰａ以上、約１９ＧＰａ以上、約２０ＧＰａ以上、約２２ＧＰａ以上、約２３ＧＰａ以上、約２４ＧＰａ以上、約２５ＧＰａ以上、約２６ＧＰａ以上または約２７ＧＰ以上（約５０ＧＰａまで）の（そのような層の表面、例えば、図２の第２の高ＲＩ層１３０Ｂの表面において測定される）硬度を有する少なくとも１層を有し得る。そのような層の硬度は、Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔで測定した場合、約１８ＧＰａ〜約２１ＧＰａの範囲であり得る。そのような測定された硬度値は、約５０ｎｍ以上または約１００ｎｍ以上（例えば、約１００ｎｍ〜約３００ｎｍ、約１００ｎｍ〜約４００ｎｍ、約１００ｎｍ〜約５００ｎｍ、約１００ｎｍ〜約６００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約３００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約４００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約５００ｎｍまたは約２００ｎｍ〜約６００ｎｍ）の押し込み深さに沿って、少なくとも１層によって示されてよい。１つまたはそれ以上の実施形態において、物品は、（反射防止表面とは反対の表面において測定することができる）基体の硬度より高い硬度を示す。
【００３４】
１つまたはそれ以上の実施形態において、反射防止コーティング１２０または反射防止コーティング中の個々の層は、Ｂｅｒｋｏｖｉｔｃｈ圧子でその表面を押し込むことによって反射防止表面１２２において測定する場合、約７５ＧＰａ以上、約８０ＧＰａ以上または約８５ＧＰａ以上の弾性率を示し得る。これらのモジュラス値は、反射防止表面１２２の非常に近くで、例えば、０〜５０ｎｍの押し込み深さにおいて測定されたモジュラスを表し得るか、またはより深い押し込み深さ、例えば、約５０〜１０００ｎｍにおいて測定されたモジュラスを表し得る。
【００３５】
反射防止コーティング１２０／空気界面および反射防止コーティング１２０／基体１１０界面からの反射波間の光学干渉は、物品１００における明らかな色を生じるスペクトル反射率および／または透過率振動を導くことができる。本明細書で使用される場合、「透過率」という用語は、材料（例えば、物品、基体または光学フィルムまたはそれらの一部分）を透過した所定の波長範囲内の入射光学的パワーのパーセントとして定義される。「反射率」という用語は、同様に、材料（例えば、物品、基体または光学フィルムまたはそれらの一部分）から反射した所定の波長範囲内の入射光学的パワーのパーセントとして定義される。透過率および反射率は、特定の線幅を使用して測定される。１つまたはそれ以上の実施形態において、透過率および反射率の特徴決定のスペクトル分解は、５ｎｍ未満または０．０２ｅＶである。色は、反射においてより顕著となり得る。角度色は、入射照明角によるスペクトル反射率振動におけるシフトによって、視野角を有する反射においてシフトする。角度色は、入射照明角によるスペクトル透過率振動における同シフトによって、視野角を有する反射においてシフトする。観察された色および入射照明角による色または角度色シフトは、特に、蛍光照明およびいくつかのＬＥＤ照明などの鋭いスペクトル特徴を有する照明下で、しばしば、デバイスユーザーにとって気を散らせるものであるか、または不快である。透過における角度色シフトは反射における角度色シフトの要因でもあり得、そして逆も同様であり得る。透過および／または反射における角度色シフトの要因は、特定の照明または試験系によって定義される材料吸収（角度から幾分独立している）によって引き起こされ得る視野角による角度色シフトまたは白化点から離れる色シフトも含み得る。
【００３６】
振動は、振幅に関して記載されてもよい。本明細書で使用される場合、「振幅」という用語は、反射率または透過率のピークから谷までの変化を含む。「平均振幅」という用語は、光学波長領域内で平均された反射率または透過率のピークから谷への変化を含む。本明細書で使用される場合、「光学波長領域」には、約４００ｎｍ〜約８００ｎｍ（より具体的には、約４５０ｎｍ〜約６５０ｎｍ）の波長範囲が含まれる。
【００３７】
本開示の実施形態は、種々の照明下で直角入射から様々な入射照明角で見た場合に無色性および／またはより小さい角度色シフトに関して、改善された光学性能を提供する反射防止コーティングを含む。
【００３８】
本開示の一態様は、照明下で種々の入射照明角で見た場合でさえ、反射率および／または透過率において無色性を示す物品に関する。１つまたはそれ以上の実施形態において、物品は、基準照明角と本明細書に提供された範囲内のいずれかの入射照明角との間で約５以下または約２以下の反射率および／または透過率における角度色シフトを示す。本明細書で使用される場合、「色シフト」という用語は（角度または基準）、反射率および／または透過率においてＣＩＥ  Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊測色系のａ＊およびｂ＊の両方における変化を指す。本明細書に記載される物品のＬ＊座標は、いずれの角度または基準点においても同一であり、色シフトに影響しないことは他に特記されない限り理解されるべきである。例えば、角度色シフトは、次式（１）を使用して決定されてよい。
【００３９】
【数１】
2017515780.tif 000003
式中、ａ＊１およびｂ＊１は、（直角入射を含み得る）入射基準照明角で見た場合の物品のａ＊およびｂ＊座標を表し、そしてａ＊２およびｂ＊２は、入射照明角で見た場合の物品のａ＊およびｂ＊座標を表す。ただし、入射照明角は基準照明角とは異なり、いくつかの場合、基準照明角とは少なくとも約１度、２度または約５度異なる。いくつかの場合、約１０以下（例えば、５以下、４以下、３以下または２以下）の反射率および／または透過率における角度色シフトが、照明下で基準照明角から様々な入射照明角で見た場合に物品によって示される。いくつかの場合、反射率および／または透過率における角度色シフトは、約１．９以下、１．８以下、１．７以下、１．６以下、１．５以下、１．４以下、１．３以下、１．２以下、１．１以下、１以下、０．９以下、０．８以下、０．７以下、０．６以下、０．５以下、０．４以下、０．３以下、０．２以下または０．１以下である。いくつかの実施形態において、角度色シフトは約０であってもよい。光源は、Ａ光源（タングステン−フィラメント照明を表す）、Ｂ光源（日光をシミュレートする発光体）、Ｃ光源（日光をシミュレートする発光体）、Ｄシリーズ光源（自然日光を表す）およびＦシリーズ光源（種々の蛍光灯を表す）を含むＣＩＥによって決定される標準光源を含むことができる。具体的な例において、物品は、ＣＩＥ  Ｆ２、Ｆ１０、Ｆ１１、Ｆ１２またはＤ６５光源、より具体的にはＣＩＥ  Ｆ２光源下で基準照明角から入射照明角で見た場合に約２以下の反射率および／または透過率における角度色シフトを示す。
【００４０】
基準照明角は、直角入射（すなわち、約０度）、または直角入射から５度、直角入射から１０度、直角入射から１５度、直角入射から２０度、直角入射から２５度、直角入射から３０度、直角入射から３５度、直角入射から４０度、直角入射から５０度、直角入射から５５度もしくは直角入射から６０度を含み得るが、ただし、基準照明角間の差異および入射照明角および基準照明角の差異は少なくとも約１度、２度または約５度であることを条件とする。入射照明角は、基準照明角に対して、直角入射から離れて約５度〜約８０度、約５度〜約８０度、約５度〜約７０度、約５度〜約６５度、約５度〜約６０度、約５度〜約５５度、約５度〜約５０度、約５度〜約４５度、約５度〜約４０度、約５度〜約３５度、約５度〜約３０度、約５度〜約２５度、約５度〜約２０度、約５度〜約１５度の範囲、ならびにそれらの間の全範囲および部分範囲であってよい。この物品は、基準照明角が直角入射である場合、約２度〜約８０度の範囲の全ての入射照明角において、および全ての入射照明角に沿って、本明細書に記載される反射率および／または透過率における角度色シフトを示し得る。いくつかの実施形態において、この物品は、入射照明角および基準照明角の間の差異が少なくとも約１度、２度または約５度である場合、約２度〜約８０度の範囲の全ての入射照明角において、および全ての入射照明角に沿って、本明細書に記載される反射率および／または透過率における角度色シフトを示し得る。一例において、この物品は、直角入射に等しい基準照明角から離れて、約２度〜約６０度、約５度〜約６０度、または約１０度〜約６０度の範囲のいずれかの入射照明角において、２以下の反射率および／または透過率における角度色シフトを示し得る。他の例において、この物品は、基準照明角が１０度であり、かつ入射照明角が、基準照明角から離れて約１２度〜約６０度、約１５度〜約６０度または約２０度〜約６０度の範囲のいずれかの角度である場合、２以下の反射率および／または透過率における角度色シフトを示し得る。
【００４１】
いくつかの実施形態において、角度色シフトは、約２０度〜約８０度の範囲の基準照明角（例えば、直角入射）と入射照明角との間の全ての角度で測定されてよい。言い換えると、角度色シフトは、約０度〜約２０度、約０度〜約３０度、約０度〜約４０度、約０度〜約５０度、約０度〜約６０度または約０度〜約８０度の範囲の全ての角度で測定されてよく、かつ約５未満または約２未満であり得る。
【００４２】
１つまたはそれ以上の実施形態において、物品は、基準点からの透過率色または反射率色座標間の距離または基準点色シフトが光源下で約５未満または約２未満であるような、反射率および／または透過率においてＣＩＥ  Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊測色系の色を示す（光源としては、Ａ光源（タングステン−フィラメント照明を表す）、Ｂ光源（日光をシミュレートする発光体）、Ｃ光源（日光をシミュレートする発光体）、Ｄシリーズ光源（自然日光を表す）およびＦシリーズ光源（種々の蛍光灯を表す）を含むＣＩＥによって決定される標準光源を含むことができる）。具体的な例において、物品は、ＣＩＥ  Ｆ２、Ｆ１０、Ｆ１１、Ｆ１２またはＤ６５光源、より具体的にはＣＩＥ  Ｆ２光源下で基準照明角から入射照明角で見た場合に約２以下の反射率および／または透過率における色シフトを示す。別の言い方では、物品は、本明細書に定義されるように、基準点から約２未満の基準点色シフトを有する、反射防止表面１２２において測定された透過率色（もしくは透過率色座標）および／または反射率色（もしくは反射率色座標）を示し得る。他に特記されない限り、透過率色または透過率色座標は、物品の反射防止表面１２２および反対側の未処理の表面（すなわち、１１４）を含む物品の２つの表面上で測定される。他に特記されない限り、反射率色または反射率色座標は、物品の反射防止表面１２２上でのみ測定される。
【００４３】
１つまたはそれ以上の実施形態において、基準点は、ＣＩＥ  Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊測色系における原点（０、０）（または色座標ａ＊＝０、ｂ＊＝０）、色座標（−２、−２）、あるいは基体の透過率または反射率色座標であり得る。他に特記されない限り、本明細書に記載の物品のＬ＊座標は基準点と同じであり、色シフトに影響を与えないことは理解されるべきである。物品の基準点色シフトが基体に関して定義される場合、物品の透過率色座標は、基体の透過率色座標と比較され、物品の反射率色座標は、基体の反射率色座標と比較される。
【００４４】
１つまたはそれ以上の特定の実施形態において、透過率色および／または反射率色の基準点色シフトは、１未満または０．５未満であり得る。１つまたはそれ以上の特定の実施形態において、透過率色および／または反射率色の基準点色シフトは、１．８、１．６、１．４、１．２、０．８、０．６、０．４、０．２、０ならびにそれらの間の全範囲および部分範囲であってよい。基準点が色座標ａ＊＝０、ｂ＊＝０である場合、基準点色シフトは等式（２）によって計算される。
【００４５】
【数２】
2017515780.tif 000004
基準点が色座標ａ＊＝−２、ｂ＊＝−２である場合、基準点色シフトは等式（３）によって計算される。
【００４６】
【数３】
2017515780.tif 000005
基準点が基体の色座標である場合、基準点色シフトは等式（４）によって計算される。
【００４７】
【数４】
2017515780.tif 000006
いくつかの実施形態において、物品は、基準点が基体の色座標ａ＊＝０、ｂ＊＝０および座標ａ＊＝−２、ｂ＊＝−２である場合、基準点色シフトが２未満であるように、透過率色（または透過率色座標）および反射率色（または反射率色座標）を示し得る。
【００４８】
１つまたはそれ以上の実施形態において、物品は、約０〜約６０度（または約０度〜約４０度、または約０度〜約３０度）の範囲の全ての入射照明角におけるＣＩＥ  Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊測色系において、約−５〜約１、約−５〜約０、約−４〜約１または約−４〜約０の範囲の（反射防止表面のみで測定された）反射率におけるｂ＊値を示し得る。
【００４９】
１つまたはそれ以上の実施形態において、物品は、約０〜約６０度（または約０度〜約４０度、または約０度〜約３０度）の範囲の全ての入射照明角におけるＣＩＥ  Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊測色系において、約−２〜約２、約−１〜約２、約−０．５〜約２、約０〜約２、約０〜約１、約−２〜約０．５、約−２〜約１、約−１〜約１または約０〜約０．５の範囲の（物品の反射防止表面および反対側の未処理の表面で測定された）透過率におけるｂ＊値を示し得る。
【００５０】
いくつかの実施形態において、物品は、光源Ｄ６５、ＡおよびＦ２下で、約０〜約６０度の範囲の全ての入射照明角において、約−１．５〜約１．５（例えば、−１．５〜−１．２、−１．５〜−１、−１．２〜１．２、−１〜１、−１〜０．５または−１〜０）の範囲の（反射防止表面および反対側の未処理の表面における）透過率におけるａ＊値を示す。いくつかの実施形態において、物品は、光源Ｄ６５、ＡおよびＦ２下で、約０〜約６０度の範囲の全ての入射照明角において、約−１．５〜約１．５（例えば、−１．５〜−１．２、−１．５〜−１、−１．２〜１．２、−１〜１、−１〜０．５または−１〜０）の範囲の（反射防止表面および反対側の未処理の表面における）透過率におけるｂ＊値を示す。
【００５１】
いくつかの実施形態において、物品は、光源Ｄ６５、ＡおよびＦ２下で、約０〜約６０度の範囲の全ての入射照明角において、約−５〜約２（例えば、−４．５〜１．５、−３〜０、−２．５〜０．２５）の範囲の（反射防止表面のみにおける）反射率におけるａ＊値を示す。いくつかの実施形態において、物品は、光源Ｄ６５、ＡおよびＦ２下で、約０度〜約６０度の範囲の全ての入射照明角において、約−７〜約１．５の範囲の（反射防止表面のみにおける）反射率におけるｂ＊値を示す。
【００５２】
１つまたはそれ以上の実施形態の物品、あるいは１つまたはそれ以上の物品の反射防止表面１２２は、約４００ｎｍ〜約８００ｎｍの範囲の光学波長領域において、約９５％以上（例えば、約９．５％以上、約９６％以上、約９６．５％以上、約９７％以上、約９７．５％以上、約９８％以上、約９８．５％以上または約９９％以上）の平均光透過率を示し得る。いくつかの実施形態において、物品、あるいは１つまたはそれ以上の物品の反射防止表面１２２は、約４００ｎｍ〜約８００ｎｍの範囲の光学波長領域において、約２％以下（例えば、約１．５％以下、約１％以下、約０．７５％以下、約０．５％以下または約０．２５％以下）の平均光反射率を示し得る。これらの光透過率および光反射率値は、全光学波長領域において、または光学波長領域の選択された範囲において（例えば、光学波長領域内の１００ｎｍ波長範囲、１５０ｎｍ波長範囲、２００ｎｍ波長範囲、２５０ｎｍ波長範囲、２８０ｎｍ波長範囲または３００ｎｍ波長範囲）観察され得る。いくつかの実施形態において、これらの光反射率および光透過率値は、（反射防止表面１２２および反対側の主要表面１１４の両方の反射率または透過率を考慮に入れた）全反射率または全透過率であってもよい。他に特記されない限り、平均反射率または透過率は、約０度の入射照明角で測定される（しかしながら、そのような測定は、４５度または６０度の入射照明角で提供されてもよい）。
【００５３】
いくつかの実施形態において、１つまたはそれ以上の実施形態の物品、あるいは１つまたはそれ以上の物品の反射防止表面１２２は、光学波長領域において、約１％以下、約０．７％以下、約０．５％以下または約０．４５％以下の平均可視明所視反射率を示し得る。これらの明所視反射率値は、約０°〜約２０°、約０°〜約４０°または約０°〜約６０°の範囲の入射照明角において示され得る。本明細書で使用される場合、明所視反射率は、ヒトの目の感光度に従って波長スペクトルに対する反射率を測量することによってヒトの目の応答に似せたものである。明所視反射率は、ＣＩＥ色空間の慣習などの既知の慣習に従って、反射光の輝度または三刺激値Ｙ値として定義されてもよい。平均明所視反射率は、等式（５）において、スペクトル反射率Ｒ（λ）に照明スペクトルＩ（λ）および目のスペクトル感度に関連するＣＩＥの等色関数
2017515780.tif 000007
をかけたものとして定義される。
【００５４】
【数５】
2017515780.tif 000008
特定の実施形態において、１つまたはそれ以上の物品の反射防止表面１２２は（すなわち、片面測定によって反射防止表面１２２のみを測定する場合）、約２％以下、１．８％以下、１．５％以下、１．２％以下、１％以下、０．９％以下、０．７％以下、約０．５％以下、約０．４５％以下、約０．４％以下または約０．３５％以下の平均明所視反射率を示し得る。いくつかの場合、同時に、Ｄ６５光源源を使用して、約５度〜約６０度の全入射照明角範囲において（基準照明角は直角入射である）、約５．０未満、約４．０未満、約３．０未満、約２．０未満、約１．５未満または約１．２５未満の最大反射率色シフトを示しながら、上記平均明所視反射率の範囲が示される。これらの最大反射率色シフト値は、直角入射から約５度〜約６０度のいずれかの角度で測定された最高色点値から差し引かれた、同範囲のいずれかの角度で測定された最低色点値を表す。この値は、ａ＊値における最大変化（ａ＊最高−ａ＊最低）、ｂ＊値における最大変化（ｂ＊最高−ｂ＊最低）、ａ＊およびｂ＊値の両方における最大変化、または量における最大変化√（（ａ＊最高−ａ＊最低）２＋（ｂ＊最高−ｂ＊最低）２）を表し得る。
【００５５】
１つまたはそれ以上の実施形態において、物品は、以下の特徴に関して特徴づけることができる直角入射において、または直角入射付近で（例えば、約０〜約１０度、または約０度〜約６度）反射防止表面のみにおいて測定される反射率スペクトルを示し得る：約４００ｎｍ〜約４８０ｎｍの波長範囲における最大反射率および最小反射率（この範囲の最大反射率をＲ４００−最大と記載し、そしてこの範囲の最小反射率をＲ４００−最小と記載する）、約５００ｎｍ〜約６００ｎｍの波長範囲における最大反射率および最小反射率（この範囲の最大反射率をＲ５００−最大と記載し、そしてこの範囲の最小反射率をＲ５００−最小と記載する）、約６４０ｎｍ〜約７１０ｎｍの波長範囲における最大反射率および最小反射率（約６４０ｎｍ〜約７１０ｎｍの波長範囲の最大反射率をＲ６４０−最大と記載し、そして約６４０ｎｍ〜約７１０ｎｍの波長範囲の最小反射率をＲ６４０−最小と記載する）。いくつかの実施形態において、反射率スペクトルは、以下のいずれか１つまたはそれ以上を示す：Ｒ４００−最大はＲ５００−最大より高く、Ｒ４００−最大はＲ６４０−最大より高く、Ｒ４００−最小はＲ５００−最小より低く、Ｒ６００−最小はＲ５００−最小より低い。いくつかの実施形態において、反射率スペクトルは、以下のいずれか１つまたはそれ以上を示す：Ｒ４００−最大は約０．６％〜約１．５％の範囲にあり、Ｒ４００−最小は約０％〜約０．３％の範囲にあり、Ｒ５００−最大は約０．５％〜約０．９％の範囲にあり、Ｒ５００−最小は約０．３％〜約０．７％の範囲にあり、Ｒ６４０−最大は約０．５％〜約０．９％の範囲にあり、かつＲ６４０−最小は約０〜０．３％の範囲にある。
【００５６】
基体
基体１１０としては無機材料が含まれてもよく、そして非晶質基体、結晶質基体またはそれらの組合せが含まれ得る。基体１１０は、人工材料および／または天然由来材料（例えば、石英およびポリマー）から形成されてもよい。例えば、いくつかの場合、基体１１０は有機体として特徴づけられてもよく、そして特にポリマーであってよい。適切なポリマーとしては、限定されないが、ポリスチレン（ＰＳ）（スチレンコポリマーおよびブレンドを含む）、ポリカーボネート（ＰＣ）（コポリマーおよびブレンドを含む）、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンテレフタレートコポリマーを含む、コポリマーおよびブレンドを含む）、ポリオレフィン（ＰＯ）および環式ポリオレフィン（環式−ＰＯ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）を含むアクリルポリマー（コポリマーおよびブレンドを含む）、熱可塑性ウレタン（ＴＰＵ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）および互いとのこれらのポリマーのブレンドを含む熱可塑性プラスチックが含まれる。他の代表的なポリマーとしては、エポキシ、スチレン系、フェノール系、メラミンおよびシリコーン樹指が含まれる。
【００５７】
いくつかの特定の実施形態において、基体１１０は、ポリマー、プラスチックおよび／または金属基体を特に除外してもよい。基体は、アルカリを含む基体として特徴づけられてもよい（すなわち、基体は１種またはそれ以上のアルカリを含む）。１つまたはそれ以上の実施形態において、基体は、約１．４５〜約１．５５の範囲の屈折率を示す。特定の実施形態において、基体１１０は、少なくとも５、少なくとも１０、少なくとも１５または少なくとも２０の試料を使用して、ボール−オン−リング試験を使用して測定した場合、０．５％以上、０．６％以上、０．７％以上、０．８％以上、０．９％以上、１％以上、１．１％以上、１．２％以上、１．３％以上、１．４％以上、１．５％以上または２％以上の、１つまたはそれ以上の対立する主要表面における表面上の平均破壊ひずみを示し得る。特定の実施形態において、基体１１０は、約１．２％、約１．４％、約１．６％、約１．８％、約２．２％、約２．４％、約２．６％、約２．８％または約３％以上の、１つまたはそれ以上の対立する主要表面における、その表面上の平均破壊ひずみを示し得る。
【００５８】
適切な基体１１０は、約３０ＧＰａ〜約１２０ＧＰａの範囲の弾性係数（またはヤング率）を示し得る。いくつかの場合、基体の弾性係数は、約３０ＧＰａ〜約１１０ＧＰａ、約３０ＧＰａ〜約１００ＧＰａ、約３０ＧＰａ〜約９０ＧＰａ、約３０ＧＰａ〜約８０ＧＰａ、約３０ＧＰａ〜約７０ＧＰａ、約４０ＧＰａ〜約１２０ＧＰａ、約５０ＧＰａ〜約１２０ＧＰａ、約６０ＧＰａ〜約１２０ＧＰａ、約７０ＧＰａ〜約１２０ＧＰａ、ならびにそれらの間の全範囲および部分範囲であってよい。
【００５９】
１つまたはそれ以上の実施形態において、非晶質基体は、強化されていても、または強化されていなくてもよいガラスを含み得る。適切なガラスの例としては、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノシリケートガラス、アルカリ含有ボロシリケートガラスおよびアルカリアルミノボロシリケートガラスが含まれる。いくつかの変形において、ガラスはリチアを含まなくてもよい。１つまたはそれ以上の別の実施形態において、基体１１０は、（強化されていても、または強化されていなくてもよい）ガラスセラミック基体などの結晶質基体を含んでもよく、あるいはサファイアなどの単結晶構造を含んでもよい。１つまたはそれ以上の特定の実施形態において、基体１１０は、非晶質ベース（例えば、ガラス）および結晶質クラッディング（例えば、サファイア層、多結晶質アルミナ層および／またはスピネル（ＭｇＡｌ２Ｏ４）層）を含む。
【００６０】
基体１１０は実質的に平面であるか、またはシート状であってよいが、他の実施形態では、湾曲しているか、または別の方法で形成もしくは制作された基体を利用してもよい。基体１１０は、実質的に光学的にクリアであり、透明であり、かつ光散乱がないものであり得る。そのような実施形態において、基体は、約８５％以上、約８６％以上、約８７％以上、約８８％以上、約８９％以上、約９０％以上、約９１％以上または約９２％以上の光学波長領域における平均光透過を示し得る。１つまたはそれ以上の別の実施形態において、基体１１０は不透明であり得るか、あるいは約１０％未満、約９％未満、約８％未満、約７％未満、約６％未満、約５％未満、約４％未満、約３％未満、約２％未満、約１％未満または約０％未満の光学波長領域における平均光透過を示し得る。いくつかの実施形態において、これらの光反射率および透過率値は、（基体の両主要表面上の反射率または透過率を考慮に入れた）全反射率または全透過率であってよく、あるいは基体の片側で（すなわち、反対側表面を考慮に入れず、反射防止表面１２２のみで）観察されてもよい。特記されない限り、平均反射率または透過率は、０度の入射照明角で測定される（しかしながら、そのような測定が４５度または６０度の入射照明角で提供されてもよい）。基体１１０は、任意選択的に、白色、黒色、赤色、青色、緑色、黄色、オレンジ色などの色を示してもよい。
【００６１】
さらに、あるいは代わりに、基体１１０の物理的厚さは、美的および／または機能的な理由で、その寸法の１つまたはそれ以上に沿って変化してもよい。例えば、基体１１０の端部は、基体１１０のより中央の領域と比較して、より厚くてもよい。基体１１０の長さ、幅および物理的厚さ寸法も、物品１００の用途または使用によって異なってもよい。
【００６２】
基体１１０は、様々な異なるプロセスを使用して提供されてもよい。例えば、基体１１０がガラスなどの非晶質基体を含む場合、種々の形成方法として、フロートガラスプロセス、ならびにフュージョンドローおよびスロットドローなどのダウンドロープロセスを含むことができる。
【００６３】
いったん形成されたら、基体１１０を強化して、強化基体を形成してもよい。本明細書で使用される場合、「強化基体」という用語は、例えば、基体の表面において、より大きいイオンとより小さいイオンとのイオン交換によって化学的に強化された基体を指し得る。しかしながら、熱焼戻し、または圧縮応力および中央表面張力領域を生じる基体の部分間の熱膨脹率の不適合性を利用することなどの当該分野で既知の他の強化方法を利用して、強化基体を形成してもよい。
【００６４】
基体がイオン交換プロセスによって化学的に強化される場合、基体の表面層のイオンは、同一原子価または酸化状態を有するより大きいイオンによって置き換えられるか、または交換される。イオン交換プロセスは、典型的に、基体中でより小さいイオンと交換されるより大きいイオンを含有する溶融塩浴に基体を浸漬することによって実行される。限定されないが、浴組成および温度、浸漬時間、塩浴（または浴）中の基体の浸漬数、複数の塩浴の使用、焼きなまし、洗浄などの追加ステップなどを含むイオン交換プロセスのパラメーターは、一般に、強化操作から得られる基体の組成および所望の圧縮応力（ＣＳ）、基体の圧縮応力層の深さ（または層の深さ）によって決定される。例として、アルカリ金属含有ガラス基体のイオン交換は、限定されないが、硝酸塩、硫酸塩、およびアルカリ金属イオンよりも大きい塩化物などの塩を含有する少なくとも１つの溶融浴によって達成され得る。溶融塩浴の温度は、典型的に約３８０℃〜約４５０℃の範囲であるが、浸漬時間は約１５分〜約４０時間の範囲である。しかしながら、上記とは異なる温度および浸漬時間も使用されてよい。
【００６５】
加えて、ガラス基体が複数のイオン交換浴に浸漬され、浸漬間に洗浄および／または焼きなましステップが行われるイオン交換プロセスの非限定的な例は、異なる濃度の塩浴中での複数回の連続的なイオン交換処理における浸漬によってガラス基体が強化される、２００８年７月１１日出願の米国仮特許出願第６１／０７９，９９５号明細書からの優先権を主張する、Ｄｏｕｇｌａｓ  Ｃ．Ａｌｌａｎらによる「Ｇｌａｓｓ  ｗｉｔｈ  Ｃｏｍｐｒｅｓｓｉｖｅ  Ｓｕｒｆａｃｅ  ｆｏｒ  Ｃｏｎｓｕｍｅｒ  Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ」と題された２００９年７月１０日出願の米国特許出願公開第１２／５００，６５０号明細書、およびガラス基体が、流出イオンによって希釈された第１の浴中でのイオン交換、それに続いて、第１の浴よりも低い流出イオン濃度を有する第２の浴中での浸漬によって強化される、２００８年７月２９日出願の米国仮特許出願第６１／０８４，３９８号明細書からの優先権を主張する、Ｃｈｒｉｓｔｏｐｈｅｒ  Ｍ．Ｌｅｅらによる「Ｄｕａｌ  Ｓｔａｇｅ  Ｉｏｎ  Ｅｘｃｈａｎｇｅ  ｆｏｒ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｔｒｅｎｇｔｈｅｎｉｎｇ  ｏｆ  Ｇｌａｓｓ」と題された２０１２年１１月２０日発行の米国特許第８，３１２，７３９号明細書に記載されている。米国特許出願公開第１２／５００，６５０号明細書および米国特許第８，３１２，７３９号明細書の内容は、全体として参照によって本明細書に組み込まれる。
【００６６】
イオン交換によって達成される化学的強化の度合いは、中央表面張力（ＣＴ）、表面ＣＳおよび層の深さ（ＤＯＬ）のパラメーターに基づいて定量化されてよい。表面ＣＳは、表面付近、または強化ガラス内の様々な深さで測定されてよい。最高ＣＳ値は、強化された基体の表面において測定されたＣＳ（ＣＳｓ）を含み得る。ガラス基体内の圧縮応力層に隣接する内部領域に関して算出されるＣＴは、ＣＳ、物理的厚さｔおよびＤＯＬから計算することができる。ＣＳおよびＤＯＬは、当該技術において既知の手段を使用して測定される。そのような手段には、限定されないが、株式会社ルケオ（日本、東京）によって製造されるＦＳＭ−６０００などの市販品として入手可能な器具を使用する表面応力（ＦＳＭ）の測定などが含まれ、そしてＣＳおよびＤＯＬの測定方法は、「Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｓｐｅｃｉｆｉｃａｔｉｏｎ  ｆｏｒ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｌｙ  Ｓｔｒｅｎｇｔｈｅｎｅｄ  Ｆｌａｔ  Ｇｌａｓｓ」と題されたＡＳＴＭ  １４２２Ｃ−９９、ならびに「Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｔｅｓｔ  Ｍｅｔｈｏｄ  ｆｏｒ  Ｎｏｎ−Ｄｅｓｔｒｕｃｔｉｖｅ  Ｐｈｏｔｏｅｌａｓｔｉｃ  Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ  ｏｆ  Ｅｄｇｅ  ａｎｄ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｓｔｒｅｓｓｅｓ  ｉｎ  Ａｎｎｅａｌｅｄ，Ｈｅａｔ−Ｓｔｒｅｎｇｔｈｅｎｅｄ，ａｎｄ  Ｆｕｌｌｙ−Ｔｅｍｐｅｒｅｄ  Ｆｌａｔ  Ｇｌａｓｓ」と題されたＡＳＴＭ  １２７９．１９７７９に記載されている。上記文献の内容は、全体として参照によって本明細書に組み込まれる。表面応力測定は、ガラス基板の複屈折と関係する応力光学係数（ＳＯＣ）の正確な測定に依拠する。ＳＯＣは、次に、繊維および４点曲げ法（これらの方法は両方とも「Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｔｅｓｔ  Ｍｅｔｈｏｄ  ｆｏｒ  Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ  ｏｆ  Ｇｌａｓｓ  Ｓｔｒｅｓｓ−Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎｔ」と題されたＡＳＴＭ規格Ｃ７７０−９８（２００８）に記載され、その内容は全体として参照によって本明細書に組み込まれる）、ならびにバルクシリンダー法などの当該技術において既知の方法によって測定される。ＣＳおよびＣＴの間の関係は、次式（１）：
ＣＴ＝（ＣＳ・ＤＯＬ）／（ｔ−２ＤＯＬ）      （１）
によって与えられる。式中、ｔはガラス物品の物理的厚さ（μｍ）である。本開示の様々な項目において、ＣＴおよびＣＳは、本明細書中、メガパスカル（ＭＰａ）で表され、物理的厚さｔはマイクロメートル（μｍ）またはミリメートル（ｍｍ）で表され、そしてＤＯＬはマイクロメートル（μｍ）で表される。
【００６７】
一実施形態において、強化された基体１１０は、２５０ＭＰａ以上、３００ＭＰａ以上、例えば、４００ＭＰａ以上、４５０ＭＰａ以上、５００ＭＰａ以上、５５０ＭＰａ以上、６００ＭＰａ以上、６５０ＭＰａ以上、７００ＭＰａ以上、７５０ＭＰａ以上または８００ＭＰａ以上の表面ＣＳを有することができる。強化された基体は、１０μｍ以上、１５μｍ以上、２０μｍ以上（例えば、２５μｍ、３０μｍ、３５μｍ、４０μｍ、４５μｍ、５０μｍ以上）のＤＯＬおよび／または１０ＭＰａ以上、２０ＭＰａ以上、３０ＭＰａ以上、４０ＭＰａ以上（例えば、４２ＭＰａ、４５ＭＰａまたは５０ＭＰａ以上）であるが、１００ＭＰａ未満（例えば、９５、９０、８５、８０、７５、７０、６５、６０、５５ＭＰａ以下）のＣＴを有してもよい。１つまたはそれ以上の特定の実施形態において、強化された基体は、５００ＭＰａより高い表面ＣＳ、１５μｍより大きいＤＯＬおよび１８ＭＰａより高いＣＴの１つまたはそれ以上を有する。
【００６８】
基体中で使用されてもよい代表的なガラスとしては、アルカリアルミノシリケケートガラス組成物またはアルカリアルミノボロシリケートガラス組成物が含まれてよいが、他のガラス組成物が考察される。そのようなガラス組成物は、イオン交換プロセスによって化学的に強化されることが可能である。ガラス組成物の一例は、ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３およびＮａ２Ｏを含んでなり、（ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３）≧６６モル％およびＮａ２Ｏ≧９モル％である。一実施形態において、ガラス組成物は、少なくとも６重量％の酸化アルミニウムを含む。さらなる実施形態において、基体は、アルカリ土類酸化物の含有量が少なくとも５重量％であるように、１種またはそれ以上のアルカリ土類酸化物を有するガラス組成物を含む。適切なガラス組成物は、いくつかの実施形態において、Ｋ２Ｏ、ＭｇＯおよびＣａＯの少なくとも１種をさらに含んでなる。特定の実施形態において、基体で使用されるガラス組成物は、６１〜７５モル％のＳｉＯ２、７〜１５モル％のＡｌ２Ｏ３、０〜１２モル％のＢ２Ｏ３、９〜２１モル％のＮａ２Ｏ、０〜４モル％のＫ２Ｏ、０〜７モル％のＭｇＯおよび０〜３モル％のＣａＯを含んでなることができる。
【００６９】
基体に適切なガラス組成物のさらなる例は、６０〜７０モル％のＳｉＯ２、６〜１４モル％のＡｌ２Ｏ３、０〜１５モル％のＢ２Ｏ３、０〜１５モル％のＬｉ２Ｏ、０〜２０モル％のＮａ２Ｏ、０〜１０モル％のＫ２Ｏ、０〜８モル％のＭｇＯ、０〜１０モル％のＣａＯ、０〜５モル％のＺｒＯ２、０〜１モル％のＳｎＯ２、０〜１モル％のＣｅＯ２、５０ｐｐｍ未満のＡｓ２Ｏ３および５０ｐｐｍ未満のＳｂ２Ｏ３を含んでなり、１２モル％≦（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）≦２０モル％および０モル％≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）≦１０モル％である。
【００７０】
基体に適切なガラス組成物のなおさらなる例は、６３．５〜６６．５モル％のＳｉＯ２、８〜１２モル％のＡｌ２Ｏ３、０〜３モル％のＢ２Ｏ３、０〜５モル％のＬｉ２Ｏ、８〜１８モル％のＮａ２Ｏ、０〜５モル％のＫ２Ｏ、１〜７モル％のＭｇＯ、０〜２．５モル％のＣａＯ、０〜３モル％のＺｒＯ２、０．０５〜０．２５モル％のＳｎＯ２、０．０５〜０．５モル％のＣｅＯ２、５０ｐｐｍ未満のＡｓ２Ｏ３および５０ｐｐｍ未満のＳｂ２Ｏ３を含んでなり、１４モル％≦（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）≦１８モル％および２モル％≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）≦７モル％である。
【００７１】
特定の実施形態において、基体に適切なアルカリアルミノシリケートガラス組成物は、アルミナ、少なくとも１種のアルカリ金属、そしていくつかの実施形態において、５０モル％より多いＳｉＯ２、他の実施形態において、少なくとも５８モル％のＳｉＯ２、さらに他の実施形態において、少なくとも６０モル％のＳｉＯ２を含んでなり、比率（Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）／Σ変性剤（すなわち、変性剤の合計）は１より高く、比率の成分はモル％で表され、そして変性剤はアルカリ金属酸化物である。このガラス組成物は、特定の実施形態において、５８〜７２モル％のＳｉＯ２、９〜１７モル％のＡｌ２Ｏ３、２〜１２モル％のＢ２Ｏ３、８〜１６モル％のＮａ２Ｏおよび０〜４モル％のＫ２Ｏを含んでなり、比率（Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）／Σ変性剤（すなわち、変性剤の合計）は１より高い。
【００７２】
なお他の実施形態において、基体は、６４〜６８モル％のＳｉＯ２、１２〜１６モル％のＮａ２Ｏ、８〜１２モル％のＡｌ２Ｏ３、０〜３モル％のＢ２Ｏ３、２〜５モル％のＫ２Ｏ、４〜６モル％のＭｇＯおよび０〜５モル％のＣａＯを含んでなり、６６モル％≦ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋ＣａＯ≦６９モル％、Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ＋Ｂ２Ｏ３＋ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＞１０モル％、５モル％≦ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ≦８モル％、（Ｎａ２Ｏ＋Ｂ２Ｏ３）−Ａｌ２Ｏ３≦２モル％、２モル％≦Ｎａ２Ｏ−Ａｌ２Ｏ３≦６モル％および４モル％≦（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）−Ａｌ２Ｏ３≦１０モル％であるアルカリアルミノシリケートガラス組成物を含んでもよい。
【００７３】
別の実施形態において、基体は、２モル％以上のＡｌ２Ｏ３および／またはＺｒＯ２、あるいは４モル％以上のＡｌ２Ｏ３および／またはＺｒＯ２を含んでなるアルカリアルミノシリケートガラス組成物を含んでなる。
【００７４】
基体１１０が結晶質基体を含む場合、基体は単結晶を含んでもよく、Ａｌ２Ｏ３を含み得る。そのような単結晶基体はサファイアと呼ばれる。結晶質基体のための他の適切な材料としては、多結晶質アルミナ層および／またはスピネル（ＭｇＡｌ２Ｏ４）が含まれる。
【００７５】
任意選択的に、結晶質基体１１０は、強化されていても、または強化されていなくてもよいガラスセラミック基体を含んでもよい。適切なガラスセラミックの例としては、Ｌｉ２Ｏ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系（すなわち、ＬＡＳ−系）ガラスセラミック、ＭｇＯ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系（すなわち、ＭＡＳ−系）ガラスセラミック、および／またはβ−石英固溶体、β−黝輝石ｓｓ、菫青石および二ケイ酸リチウムを含む主結晶相を含むガラスセラミックを含み得る。ガラスセラミック基体は、本明細書に開示された化学的強化プロセスを使用して強化されてもよい。１つまたはそれ以上の実施形態において、ＭＡＳ−系ガラスセラミック基体は、Ｌｉ２ＳＯ４溶融塩中で強化されてよく、それによって、Ｍｇ２＋に対する２Ｌｉ＋の交換が発生可能である。
【００７６】
１つまたはそれ以上の実施形態による基体１１０は、約１００μｍ〜約５ｍｍの範囲の物理的厚さを有することができる。基体１１０の物理的厚さの例は、約１００μｍ〜約５００μｍの範囲である（例えば、１００、２００、３００、４００または５００μｍ）。基体１１０の物理的厚さのさらなる例は、約５００μｍ〜約１０００μｍの範囲である（例えば、５００、６００、７００、８００、９００または１０００μｍ）。基体１１０は、約１ｍｍより大きい物理的厚さを有してもよい（例えば、約２、３、４または５ｍｍ）。１つまたはそれ以上の特定の実施形態において、基体１１０は、２ｍｍ以下または１ｍｍ以下の物理的厚さを有してもよい。基体１１０は、表面傷の影響を取り除くか、あるいは減少させるために、酸研磨されるか、または他の方法で処理されてよい。
反射防止コーティング
図１に示すように、反射防止コーティング１２０は、複数の層１２０Ａ、１２０Ｂ、１２０Ｃを含み得る。いくつかの実施形態において、１層またはそれ以上の層が、基体１１０の、反射防止コーティング１２０とは反対側に（すなわち、主要表面１１４上に）配置されていてもよい（示されず）。
【００７７】
射防止コーティング１２０の物理的厚さは、約０．１μｍ〜約１μｍの範囲であってよい。いくつかの場合、反射防止コーティング１２０の物理的厚さは、約０．０１μｍ〜約０．９μｍ、約０．０１μｍ〜約０．８μｍ、約０．０１μｍ〜約０．７μｍ、約０．０１μｍ〜約０．６μｍ、約０．０１μｍ〜約０．５μｍ、約０．０１μｍ〜約０．４μｍ、約０．０１μｍ〜約０．３μｍ、約０．０１μｍ〜約０．２μｍ、約０．０１μｍ〜約０．１μｍ、約０．０２μｍ〜約１μｍ、約０．０３μｍ〜約１μｍ、約０．０４μｍ〜約１μｍ、約０．０５μｍ〜約１μｍ、約０．０６μｍ〜約１μｍ、約０．０７μｍ〜約１μｍ、約０．０８μｍ〜約１μｍ、約０．０９μｍ〜約１μｍ、約０．２μｍ〜約１μｍ、約０．３μｍ〜約１μｍ、約０．４μｍ〜約１μｍ、約０．５μｍ〜約１μｍ、約０．６μｍ〜約１μｍ、約０．７μｍ〜約１μｍ、約０．８μｍ〜約１μｍまたは約０．９μｍ〜約１μｍ、ならびにそれらの間の全範囲および部分範囲であってよい。
【００７８】
１つまたはそれ以上の実施形態において、反射防止コーティング１２０は、２層以上の層を含んでなる周期１３０を含み得る。１つまたはそれ以上の実施形態において、２層以上の層は、互い異なる屈折率を有するものとして特徴づけられてよい。一実施形態において、周期１３０は、第１の低ＲＩ層１３０Ａおよび第２の高ＲＩ層１３０Ｂを含む。第１の低ＲＩ層および第２の高ＲＩ層の屈折率の差異は、約０．０１以上、０．０５以上、０．１以上または０．２以上であり得る。
【００７９】
図２に示すように、反射防止コーティング１２０は複数の周期（１３０）を含み得る。単一の周期は、第１の低ＲＩ層１３０Ａおよび第２の高ＲＩ層１３０Ｂを含み、複数の周期が提供される場合、第１の低ＲＩ層１３０Ａ（説明のため、「Ｌ」と示される）および第２の高ＲＩ層１３０Ｂ（説明のため、「Ｈ」と示される）は、以下の層の配列：Ｌ／Ｈ／Ｌ／ＨまたはＨ／Ｌ／Ｈ／Ｌで交互に並び、第１の低ＲＩ層および第２の高ＲＩ層は、反射防止コーティング１２０の物理的厚さに沿って交互に並ぶように見える。図２の実施例において、反射防止コーティング１２０は３つの周期を含む。いくつかの実施形態において、反射防止コーティング１２０は、２５周期まで含み得る。例えば、反射防止コーティング１２０は、約２〜約２０周期、約２〜約１５周期、約２〜約１０周期、約２〜約１２周期、約３〜約８周期、約３〜約６周期を含み得る。
【００８０】
図２に示す実施形態において、反射防止コーティング１２０は、第２の高ＲＩ層１３０Ｂより低い屈折率材料を含み得る追加のキャピング層１３１を含み得る。
【００８１】
いくつかの実施形態において、図３に示すように、周期１３０は、１層またはそれ以上の第３の層１３０Ｃを含み得る。第３の層１３０Ｃは、低ＲＩ、高ＲＩまたは中間ＲＩを有し得る。いくつかの実施形態において、第３の層１３０Ｃは、第１の低ＲＩ層１３０Ａまたは第２の高ＲＩ層１３０Ｂと同じＲＩを有し得る。他の実施形態において、第３の層１３０Ｃは、第１の低ＲＩ層１３０ＡのＲＩと第２の高ＲＩ層１３０ＢのＲＩとの間の中間ＲＩを有し得る。あるいは、第３の層１３０Ｃは、第２の高ＲＩ層１３０Ｂより高い屈折率を有し得る。第３の層は、以下の例示的な配列で、反射防止コーティング１２０中に提供され得る：Ｌ第３の層／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ、Ｈ第３の層／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ、Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ第３の層、Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ第３の層、Ｌ第３の層／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ第３の層、Ｈ第３の層／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ第３の層、Ｌ第３の層／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ、Ｈ第３の層／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ、Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｌ第３の層、Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｈ第３の層、Ｌ第３の層／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｈ第３の層、Ｈ第３の層／／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｌ第３の層、Ｌ／Ｍ第３の層／Ｈ／Ｌ／Ｍ／Ｈ、Ｈ／Ｍ／Ｌ／Ｈ／Ｍ／Ｌ、Ｍ／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｍおよび他の組合せ。これらの配列において、いずれかの下付き文字を伴わない「Ｌ」は第１の低ＲＩ層を指し、かついずれかの下付き文字を伴わない「Ｈ」は第２の高ＲＩ層を指す。全て第１の層と２番目の層に相対して、「Ｌ第３の副層」という記載は、低ＲＩを有する第３の層を指し、「Ｈ第３の副層」は、高ＲＩを有する第３の層を指し、そして「Ｍ」は、中間ＲＩを有する第３の層を指す。
【００８２】
本明細書で使用される場合、「低ＲＩ」、「高ＲＩ」および「中間ＲＩ」という用語は、互いに対するＲＩの相対値を指す（例えば、低ＲＩ＜中間ＲＩ＜高ＲＩ）。１つまたはそれ以上の実施形態において、「低ＲＩ」という用語は、第１の低ＲＩ層または第３の層で使用される場合、約１．３〜約１．７の範囲を含む。１つまたはそれ以上の実施形態において、「高ＲＩ」という用語は、第２の高ＲＩ層または第３の層で使用される場合、約１．６〜約２．５の範囲を含む。いくつかの実施形態において、「中間ＲＩ」という用語は、第３の層で使用される場合、約１．５５〜約１．８の範囲を含む。いくつかの場合、低ＲＩ、高ＲＩおよび中間ＲＩの範囲は重複していてもよいが、ほとんどの場合、反射防止コーティング１２０の層は、低ＲＩ＜中間ＲＩ＜高ＲＩのＲＩに関する一般的な関係を有する。
【００８３】
第３の層１３０Ｃは、図４に示すように、周期１３０とは別の層として提供されてもよく、そして周期または複数の周期と、キャッピング１３１の代わりに、またはキャピング層１３１に加えて追加のコーティング１４０との間に配置されていてもよい。また第３の層は、図５に示すように、周期１３０とは別の層として提供されてもよく、そして基体１１０と複数の周期１３０との間に配置されていてもよい。
【００８４】
反射防止コーティング１２０での使用に適切な代表範的な材料としては、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＧｅＯ２、ＳｉＯ、ＡｌＯｘＮｙ、ＡｌＮ、ＳｉＮｘ、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ、Ｔａ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＴｉＮ、ＭｇＯ、ＭｇＦ２、ＢａＦ２，ＣａＦ２、ＳｎＯ２、ＨｆＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＭｏＯ３、ＤｙＦ３、ＹｂＦ３、ＹＦ３、ＣｅＦ３、ポリマー、フルオロポリマー、プラズマ重合ポリマー、シロキサンポリマー、シルセスキオキサン、ポリイミド、フッ化ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリフェニルスルホン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル系ポリマー、ウレタンポリマー、ポリメチルメタクリレート、以下で耐擦傷性層での使用に適切である記載される他の材料および当該技術において既知の他の材料が含まれる。第１の低ＲＩ層での使用に適切な材料のいくつかの例としては、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＧｅＯ２、ＳｉＯ、ＡｌＯｘＮｙ、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ、ＭｇＯ、ＭｇＡｌ２Ｏ４、ＭｇＦ２、ＢａＦ２、ＣａＦ２、ＤｙＦ３、ＹｂＦ３、ＹＦ３およびＣｅＦ３が含まれる。第１の低ＲＩ層での使用のための材料の窒素含有量は（例えば、Ａｌ２Ｏ３およびＭｇＡｌ２Ｏ４などの材料において）最小にされ得る。第２の高ＲＩ層での使用のために適切な材料のいくつかの例としては、ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ、Ｔａ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、ＡｌＮ、Ｓｉ３Ｎ４、ＡｌＯｘＮｙ、ＳｉＯｘＮｙ、ＨｆＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＭｏＯ３およびダイヤモンド様カーボンが含まれる。第２の高ＲＩ層のための材料の酸素含有量は、特にＳｉＮｘまたはＡｌＮｘ材料において最小にされ得る。上記材料は、約３０重量％まで水素化されていてもよい。中間屈折率を有する材料が望ましい場合、いくつかの実施形態においてはＡｌＮおよび／またはＳｉＯｘＮｙが利用されてもよい。第２の高ＲＩ層の硬度は、特に特徴づけられてよい。いくつかの実施形態において、硬度は、Ｂｅｒｋｏｖｉｔｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔによって測定される場合、約８ＧＰａ以上、約１０ＧＰａ以上、約１２ＧＰａ以上、約１５ＧＰａ以上、約１８ＧＰａ以上、または約２０ＧＰａ以上であり得る。いくつかの場合、第２の高ＲＩ層材料は、単層として（すなわち、反射防止コーティングの一部としてではなく）析出されてよく、そしてこのような単層は、繰り返し可能な硬度決定のため、約５００〜２０００ｎｍの厚さを有してもよい。
【００８５】
１つまたはそれ以上の実施形態において、反射防止コーティング１２０の少なくとも１層は、特定の光学厚さ範囲を含み得る。本明細書で使用される場合、「光学厚さ」という用語は、（ｎ＊ｄ）によって決定され、式中、「ｎ」は副層のＲＩを指し、そして「ｄ」は層の物理的厚さを指す。１つまたはそれ以上の実施形態において、反射防止コーティング１２０の少なくとも１層は、約２ｎｍ〜約２００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約１００ｎｍまたは約１５ｎｍ〜約１００ｎｍの範囲の光学厚さを含み得る。いくつかの実施形態において、反射防止コーティング１２０の全ての層は、それぞれ、約２ｎｍ〜約２００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約１００ｎｍまたは約１５ｎｍ〜約１００ｎｍの範囲の光学厚さを含み得る。いくつかの場合、反射防止コーティング１２０の少なくとも１層は約５０ｎｍ以上の光学厚さを有する。いくつかの場合、第１の低ＲＩ層のそれぞれは、約２ｎｍ〜約２００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約１００ｎｍまたは約１５ｎｍ〜約１００ｎｍの範囲の光学厚さを有する。他の場合、第２の高ＲＩ層のそれぞれは、約２ｎｍ〜約２００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約１００ｎｍまたは約１５ｎｍ〜約１００ｎｍの範囲の光学厚さを有する。なお他の場合、第３の層のそれぞれは、約２ｎｍ〜約２００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約１００ｎｍまたは約１５ｎｍ〜約１００ｎｍの範囲の光学厚さを有する。
【００８６】
いくつかの実施形態において、反射防止コーティング１２０の層の１層またはそれ以上の厚さが最小になってもよい。１つまたはそれ以上の実施形態において、高ＲＩ層の厚さおよび／または中間ＲＩ層の厚さは、約５００ｎｍ未満となるように最小化される。１つまたはそれ以上の実施形態において、高ＲＩ層、中間ＲＩ（層）および／または高ＲＩと中間ＲＩ層との組合せの組み合わせた厚さは約５００ｎｍ未満である。
【００８７】
１つまたはそれ以上の実施形態において、反射防止コーティング１２０は、約８００ｎｍ以下の物理的厚さを有する。反射防止コーティング１２０は、約１０ｎｍ〜約８００ｎｍ、約５０ｎｍ〜約８００ｎｍ、約１００ｎｍ〜約８００ｎｍ、約１５０ｎｍ〜約８００ｎｍ、約２００ｎｍ〜約８００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約７５０ｎｍ、約１０ｎｍ〜約７００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約６５０ｎｍ、約１０ｎｍ〜約６００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約５５０ｎｍ、約１０ｎｍ〜約５００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約４５０ｎｍ、約１０ｎｍ〜約４００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約３５０ｎｍ、約１０ｎｍ〜約３００ｎｍ、約５０〜約３００ｎｍの範囲、ならびにそれらの間の全範囲および部分範囲の物理的厚さを有し得る。
【００８８】
１つまたはそれ以上の実施形態において、第２の高ＲＩ層の組み合わせた物理的厚さは特徴づけられてよい。例えば、いくつかの実施形態において、第２の高ＲＩ層の組み合わせた厚さは、約１００ｎｍ以上、約１５０ｎｍ以上、約２００ｎｍ以上または約５００ｎｍ以上であってよい。組み合わせた厚さは、介在低ＲＩ層または他の層がある場合でさえ、反射防止コーティング１２０中の個別の高ＲＩ層の厚さの計算された組合せである。いくつかの実施形態において、硬度の高い材料（例えば、窒化物または酸窒化物）を含んでなってもよい第２の高ＲＩ層の組み合わせた物理的厚さは、反射防止コーティングの全物理的厚さの３０％より大きくてもよい。例えば、第２の高ＲＩ層の組み合わせた物理的厚さは、反射防止コーティングの全物理的厚さの約４０％以上、約５０％以上、約６０％以上、約７０％以上、約７５％以上または約８０％以上であってもよい。
【００８９】
いくつかの実施形態において、反射防止コーティング内の硬質および高屈折率材料のより大きい部分は、同時に、本明細書の他の部分にさらに記載されるように、低反射率、低い色および高い耐摩擦性も示すように製造することができる。
【００９０】
いくつかの実施形態において、反射防止コーティング１２０は、（例えば、吸収剤に結合された背面上で指数の適合した油を使用すること、または他の既知の方法などによって、物品の未コーティング背面（例えば、図１中の１１４）からの反射を除去した場合に）反射防止表面１２２で測定される場合、光学波長領域において、約２％以下、１．５％以下、０．７５％以下、０．５％以下、０．２５％以下、０．１％以下、またはさらには０．０５％以下の平均光反射率を示す。いくつかの場合、反射防止コーティング１２０は、約４５０ｎｍ〜約６５０ｎｍ、約４２０ｎｍ〜約６８０ｎｍ、約４２０ｎｍ〜約７００ｎｍ、約４２０ｎｍ〜約７４０ｎｍ、約４２０ｎｍ〜約８５０ｎｍまたは約４２０ｎｍ〜約９５０ｎｍなどの他の波長領域においてそのような平均光反射率を示し得る。いくつかの実施形態において、反射防止表面１２２は、光学波長領域において、約９０％以上、９２％以上、９４％以上、９６％以上または９８％以上の平均光透過率を示す。他に特記されない限り、平均反射率または透過率は、０度の入射照明角において測定される（しかしながら、そのような測定が、４５度または６０度の入射照明角で提供されてもよい）。
【００９１】
物品１００は、図６に示すように、反射防止コーティング上に配置された１つまたはそれ以上の追加コーティング１４０を含んでもよい。１つまたはそれ以上の実施形態において、追加コーティングは、クリーニングが容易なコーティングを含んでもよい。適切なクリーニングが容易なコーティングの例は、参照によって全体が本明細書に組み込まれる、２０１２年１１月３０日出願の「ＰＲＯＣＥＳＳ  ＦＯＲ  ＭＡＫＩＮＧ  ＯＦ  ＧＬＡＳＳ  ＡＲＴＩＣＬＥＳ  ＷＩＴＨ  ＯＰＴＩＣＡＬ  ＡＮＤ  ＥＡＳＹ−ＴＯ−ＣＬＥＡＮ  ＣＯＡＴＩＮＧＳ」と題された米国特許出願公開第１３／６９０，９０４号明細書に記載されている。クリーニングが容易なコーティングは、約５ｎｍ〜約５０ｎｍの範囲の厚さを有してよく、かつフッ化シランなどの既知の材料を含んでもよい。いくつかの実施形態において、クリーニングが容易なコーティングは、約１ｎｍ〜約４０ｎｍ、約１ｎｍ〜約３０ｎｍ、約１ｎｍ〜約２５ｎｍ、約１ｎｍ〜約２０ｎｍ、約１ｎｍ〜約１５ｎｍ、約１ｎｍ〜約１０ｎｍ、約５ｎｍ〜約５０ｎｍ、約１０ｎｍ〜約５０ｎｍ、約１５ｎｍ〜約５０ｎｍ、約７ｎｍ〜約２０ｎｍ、約７ｎｍ〜約１５ｎｍ、約７ｎｍ〜約１２ｎｍまたは約７ｎｍ〜約１０ｎｍの範囲、ならびにそれらの間の全範囲および部分範囲の厚さを有し得る。
【００９２】
追加コーティング１４０は、耐擦傷性層を含んでもよい。耐擦傷性層は、反射防止コーティング１２０の１層に含まれてもよい。耐擦傷性コーティングにおいて使用される代表的な材料には、無機炭化物、窒化物、酸化物、ダイヤモンド様材料またはこれらの組合せが含まれてよい。耐擦傷性コーティングのために適切な材料の例には、金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、金属炭化物、金属酸炭化物および／またはこれらの組合せが含まれてよい。代表的な金属としては、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｓｎ、Ｈｆ、ＴａおよびＷが含まれる。耐擦傷性コーティングにおいて利用されてもよい材料の具体的な例としては、Ａｌ２Ｏ３、ＡｌＮ、ＡｌＯｘＮｙ、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ、ダイヤモンド、ダイヤモンド様カーボン、ＳｉｘＣｙ、ＳｉｘＯｙＣｚ、ＺｒＯ２、ＴｉＯｘＮｙおよびそれらの組合せが含まれてよい。
【００９３】
いくつかの実施形態において、追加コーティング１４０は、クリーニングが容易な材料および耐擦傷性材料の組合せを含む。一例において、この組合せは、クリーニングが容易な材料およびダイヤモンド様カーボンを含む。そのような追加コーティング１４０は、約５ｎｍ〜約２０ｎｍの範囲の厚さを有してもよい。追加コーティング１４０の構成要素は、個別の層で提供されてもよい。例えば、ダイヤモンド様カーボンは第１の層として配置されてもよく、クリーニングが容易な材料は、ダイヤモンド様カーボンの第１の層上の第２の層として配置することができる。第１の層および第２の層の厚さは、追加コーティングに関して上記で提供された範囲であってよい。例えば、ダイヤモンド様カーボンの第１の層は、約１ｎｍ〜約２０ｎｍ、または約４ｎｍ〜約１５ｎｍ（またはより特には約１０ｎｍ）の厚さを有してもよく、そしてクリーニングが容易な第２の層は、約１ｎｍ〜約１０ｎｍ（またはより特には約６ｎｍ）の厚さを有してもよい。ダイヤモンド様コーティングは、四面体無定形炭素（Ｔａ−Ｃ）、Ｔａ−Ｃ：Ｈ、および／またはａ−Ｃ−Ｈを含んでもよい。
【００９４】
本特許の第２の態様は、本明細書に記載される物品の製造方法に関する。一実施形態において、この方法は、主要表面を有する基体をコーティングチャンバーに提供するステップと、コーティングチャンバー中で真空を形成するステップと、約１μｍ以下の厚さを有する耐久性反射防止コーティングを主要表面上で形成するステップと、任意選択的に、クリーニングが容易なコーティングおよび耐擦傷性コーティングの少なくとも１つを含んでなる追加的なコーティングを反射防止コーティング上に形成するステップと、コーティングチャンバーから基体を取り出すステップとを含む。１つまたはそれ以上の実施形態において、反射防止コーティングおよび追加的なコーティングは、同一コーティングチェンバーで、または別個のコーティングチェンバーで真空を破壊することなく形成される。
【００９５】
１つまたはそれ以上の実施形態において、この方法は、基体を担体上に積み、次いでこれを使用して、基体が移動される時に真空が保存されるようにロードロック条件下で、基体を異なるコーティングチャンバー中および外に移動するステップを含んでもよい。
【００９６】
反射防止コーティング１２０および／または追加的なコーティング１４０は、真空蒸着技術、例えば、化学蒸着法（例えば、プラズマ強化化学蒸着法（ＰＥＣＶＤ）、低圧化学蒸着法、大気圧化学蒸着法およびプラズマ強化大気圧化学蒸着法）、物理蒸着法（例えば、反応性または非反応性スパッターまたはレーザーアブレーション）、熱またはｅ−ビーム蒸着法および／または原子層蒸着法などの種々の蒸着法を使用して形成されてもよい。噴霧、またはスロットコーティングなどの液体ベースの方法も使用されてよい。真空蒸着法が利用される場合、１つの蒸着工程で反射防止コーティング１２０および／または追加的なコーティング１４０が形成されるように、インラインプロセスが使用されてもよい。いくつかの場合、真空蒸着は線形ＰＥＣＶＤ源によって実行することができる。
【００９７】
いくつかの実施形態において、この方法は、反射防止コーティング１２０および／または追加的なコーティング１４０の厚さが、反射防止表面１２２の部分の少なくとも約８０％に沿って、または基体部分に沿っていずれかの点における各層の標的厚さから約４％より多く変化しないように、反射防止コーティング１２０および／または追加的なコーティング１４０の厚さを制御するステップを含んでもよい。いくつかの実施形態において、反射防止コーティング１２０および／または追加的なコーティング１４０の厚さは、反射防止表面１２２の部分の少なくとも約９５％に沿って、約４％より多く変化しない。
【実施例】
【００９８】
以下の実施例によって、種々の実施形態をさらに明確に示す。実施例において、ＡｌＯｘＮｙおよびＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙは、目標の屈折率分散値および提供された層厚さ設計を再現するために、当業者に明白なわずかなプロセス調整のみを必要とするが、モデル実施例において高指数材料として実質的に交換可能であることが見出された。
【００９９】
実施例１
実施例１は、６９モル％のＳｉＯ２、１０モル％のＡｌ２Ｏ３、１５モル％のＮａ２Ｏおよび５モル％のＭｇＯの名目上の組成を有するガラス基体を提供するステップと、プラズマ強化化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）プロセスを使用して、表１および図７に示すように、ガラス基体上に５層を有する反射防止コーティングを配置するステップとによって形成した。
【０１００】
【表１】
2017515780.tif 000009
第２の高ＲＩ層の屈折率は、それらの層に存在する窒素の量次第で、約１．６〜約２．１の範囲にあった。得られた物品は透明であり、かつ２０００サイクルの線形摩擦試験後、耐摩擦性を示した。
【０１０１】
図８は、光学波長領域における実施例１に関する反射スペクトルを示す。実施例１は、光学波長領域の一部分に沿って約０．５％未満の反射率および全光学波長領域において約２％未満の反射率を示した。
【０１０２】
モデル実施例２
モデル実施例２は、表２に示す通り、実施例１で使用されたものと同一のガラス基体を使用して調製した。
【０１０３】
【表２】
2017515780.tif 000010
モデル実施例２の反射率を図９に示すようにシミュレートした（示された厚さは正確ではなく、かつ説明目的である）。図９に示すように、モデル実施例２の反射率は、約４２０ｎｍ〜約６２０ｎｍの波長範囲において約０．５％未満であり、かつ全光学波長領域において１％未満であった。
【０１０４】
モデル実施例２が、選択された材料および利用された形成プロセス次第で、約１．２〜約１．５の範囲の屈折率を有する、より厚いか、またはより薄い追加のクリーニングが容易なコーティング（例えば、約７ｎｍ〜約１５ｎｍ）を含むように変性されてもよいことは留意されるべきである。
【０１０５】
モデル実施例３
モデル実施例３は、表３に示す通り、実施例１で使用されたものと同一のガラス基体を使用して調製し、かつ反射防止コーティング、反射防止コーティング上に配置された６ｎｍまたは１０ｎｍの厚さを有するＤＬＣコーティングおよびＤＬＣコーティング上のクリーニングが容易なコーティングを含んだ。
【０１０６】
【表３】
2017515780.tif 000011
モデル実施例３の反射率を、異なるＤＬＣコーティング厚に関してシミュレートし、そして図１０に一緒に示した。図１０に示すように、両ＤＬＣコーティング厚に関するモデル実施例３の反射率は、光学波長領域において約１％未満であった。ＤＬＣコーティングが約６ｎｍである実施形態において、反射率は、全光学波長領域においてさらに低かった（すなわち、約０．５％未満）。明快にするため、６ｎｍの厚さを有するＤＬＣコーティングを有するモデル実施例３の反射スペクトルを図１１に示す。
【０１０７】
モデル実施例４〜８
実施例４〜８は、本明細書に記載される耐久性反射防止コーティングの実施形態を含む物品の反射率スペクトルを理解するためのモデリングを使用した。モデル実施例４〜８において、ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙおよびＳｉＯ２層、ならびに約５８モル％のＳｉＯ２、１７モル％のＡｌ２Ｏ３、１７モル％のＮａ２Ｏ、３モル％のＭｇＯ、０．１モル％のＳｎＯおよび６．５モル％のＰ２Ｏ５の名目上の組成を有する強化アルミノシリケートガラス基体が使用された。
【０１０８】
コーティング材料の屈折率分散曲線を決定するため、各コーティング材料の層を、イオンアシストを使用して、約５０℃の温度において、ケイ素、アルミニウム、組み合わせたか、もしくは同時スパッタリングされたケイ素およびアルミニウム、またはマグネシウムフッ化物標的（それぞれ）から、ＤＣ、ＲＦまたはＲＦスーパーインポーズドＤＣ反応スパッタリングによってケイ素ウエハ上に形成した。いくつかの層の堆積の間ウエハを２００℃まで加熱し、そして直径３インチ（７．６２ｃｍ）の標的を使用した。使用された反応性ガスとしては、窒素、フッ素および酸素が含まれ、アルゴンを不活性ガスとして使用した。ＲＦ力を１３．５６Ｍｈｚでケイ素標的に供給し、そしてＤＣ力をケイ素標的、Ａｌ標的および他の標的に供給した。
【０１０９】
形成された層およびガラス基体のそれぞれの（波長の関数としての）屈折率は、分光エリプソメトリーを使用して測定した。そのようにして測定された屈折率は、次いで、モデル実施例４〜８の反射率スペクトルを計算するために使用した。モデル実施例は、便宜上、それらの記述的な表中で、約５５０ｎｍ波長における分散曲線から選択された点に相当する単一の屈折率値を使用する。
【０１１０】
実施例４は、図１２（示された厚さは正確ではなく、かつ説明目的である）および表７に示すように、強化アルミノシリケートガラス基体２００上に配置され、互いの上に連続的に配置された層２１０、２２０、２３０、２４０、２５０および２６０を含む、６層反射防止コーティングを含んだ。
【０１１１】
【表７】
2017515780.tif 000012
ＳｉＯ２層と比較して、Ｂｅｒｋｏｖｉｔｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔによって測定した場合により高い硬度を有するＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ層の全厚さは１３０ｎｍであり、これは、コーティングの全厚さの約４７％を構成する。モデル実施例４の反射防止コーティングと同様の構造を有する反射防止コーティングをＤＣ／ＲＦスパッタリングによって作成した。これらのコーティングは、実施例１５によって示されるように、裸ガラス基体と同様またはより良好な耐摩擦性を示し、かつ従来の酸化物のみの反射防止コーティングよりも実質的に改善された耐摩擦性を示すことがわかった。実施例４による物品は、（その上に反射防止コーティングが配置されていない）裸ガラス基体の摩耗と同様の摩耗を示した。
【０１１２】
実施例４の物品の片面の反射率を、異なる視野入射照明角または照明角度（「ＡＯＩ」）で計算した。結果の反射率スペクトルを図１３に示す。Ｄ６５光源およびＦ２光源で、１０°の観測器に基づく反射色も測定し、ａ＊およびｂ＊値を、角度増加において直角入射から０度から約６０度まで変化した入射照明角またはＡＯＩとしてプロットする。反射色を示すプロットを図１４に示す。
【０１１３】
実施例５は、図１５（図１５に示された厚さは正確ではなく、かつ説明目的である）に示すように、強化アルミノシリケートガラス基体２００上に配置され、互いの上に連続的に配置された層３１０（第３の層）、３２０、３３０、３４０、３５０、３６０、３７０、３８０および３９０を含む、９層反射防止コーティングを含んだ。層の相対的な厚さは表８に示す。
【０１１４】
【表８】
2017515780.tif 000013
モデル実施例５において、ＳｉＯ２層と比較して、Ｂｅｒｋｏｖｉｔｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔによって測定した場合により高い硬度を有するＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ層の全厚さは１３３ｎｍであり、これは、コーティングの全厚さの約２９％を構成する。実施例５による物品は、（その上に反射防止コーティングが配置されていない）裸ガラス基体の摩耗と同様の摩耗を示すと考えられる。
【０１１５】
実施例５の物品の片面の反射率を、異なる視野入射照明角または照明角度（「ＡＯＩ」）で計算した。結果の反射率スペクトルを図１６に示す。Ｄ６５光源で、１０°の観測器に基づく反射色も測定し、ａ＊およびｂ＊値を、角度増加において直角入射から０度から約６０度まで変化した入射照明角またはＡＯＩとしてプロットする。反射色を示すプロットを図１７に示す。
【０１１６】
実施例６は、図１８（図１８に示された厚さは正確ではなく、かつ説明目的である）および表９に示すように、強化アルミノシリケートガラス基体２００上に配置され、互いの上に連続的に配置された層４００、４１０、４２０、４３０、４４０、４５０、４６０、４７０、４８０および４９０を含む、１０層反射防止コーティングを含んだ。
【０１１７】
【表９】
2017515780.tif 000014
層４７０、４８０および４９０は空気とインピーダンス整合し、そして層４００、４１０、４２０、４３０、４４０および４５０はガラス基体とインピーダンス整合する。したがって、層４６０は、反射防止コーティングまたは物品の光学特性に影響することなく、約０ｎｍ〜約５００ｎｍまたは約１００ｎｍ〜約２０００ｎｍの範囲の厚さを有するように変性されてもよい。
【０１１８】
モデル実施例６において、ＳｉＯ２層と比較して、Ｂｅｒｋｏｖｉｔｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔによって測定した場合により高い硬度を有するＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ層の全厚さは５７８ｎｍであり、これは、コーティングの全厚さの約７６％を構成する。モデル実施例６とよく似た構造を有する反射防止コーティングは、ＤＣ／ＲＦスパッタリングによって作成しされ、かつ裸ガラス基体よりも実質的に良好な耐摩擦性を示し、かつ従来の酸化物のみの反射防止コーティングよりも実質的に良好な耐摩擦性を示した。
【０１１９】
実施例６の物品の片面の反射率を、異なる視野入射照明角または照明角度（「ＡＯＩ」）で計算した。結果の反射率スペクトルを図１９に示す。Ｄ６５光源およびＦ２光源で、１０°の観測器に基づく反射色も測定し、ａ＊およびｂ＊値を、角度増加において直角入射から０度から約６０度まで変化した入射照明角またはＡＯＩとしてプロットする。反射色を示すプロットを図２０に示す。
【０１２０】
モデル実施例７は、図２１（図２１に示された厚さは正確ではなく、かつ説明目的である）および表１０に示すように、強化アルミノシリケートガラス基体２００上に配置され、互いの上に連続的に配置された層５００、５０５、５１０、５１５、５２０、５３０、５４０、５５０、５６０、５７０、５８０および５９０を含む、１２層反射防止コーティングを含んだ。
【０１２１】
【表１０】
2017515780.tif 000015
層５５０、５６０、５７０、５８０および５９０は空気とインピーダンス整合し、そして層５００、５０５、５１０、５１５、５２０および５３０はガラス基体とインピーダンス整合する。したがって、層５４０は、反射防止コーティングまたは物品の光学特性に影響することなく、約０ｎｍ〜約５０００ｎｍまたは約１００ｎｍ〜約２５００ｎｍの範囲の厚さを有するように変性されてもよい。
【０１２２】
モデル実施例７において、ＳｉＯ２層と比較して、Ｂｅｒｋｏｖｉｔｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔによって測定した場合により高い硬度を有するＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ層の全厚さは７７４ｎｍであり、これは、コーティングの全厚さの約７８％を構成する。モデル実施例７とよく似た構造を有する反射防止コーティングは、以下の実施例１６によって示されるように、ＤＣ／ＲＦスパッタリングによって作成され、かつ裸ガラス基体よりも実質的に良好な耐摩擦性を示し、かつ従来の酸化物のみの反射防止コーティングよりも実質的に良好な耐摩擦性を示した。
【０１２３】
実施例７の物品の片面の反射率を、異なる視野入射照明角または照明角度（「ＡＯＩ」）で計算した。結果の反射率スペクトルを図２２に示す。Ｄ６５光源およびＦ２光源で、１０°の観測器に基づく反射色も測定し、ａ＊およびｂ＊値を、角度増加において直角入射から０度から約６０度まで変化した入射照明角またはＡＯＩとしてプロットする。反射色を示すプロットを図２３に示す。
【０１２４】
実施例８は、図２４（図２４に示された厚さは正確ではなく、かつ説明目的である）に示すように、強化アルミノシリケートガラス基体２００上に配置され、互いの上に連続的に配置された層６００、６０５、６１０、６１５、６２０、６２５、６３０、６３５、６４０、６５０、６６０、６７０、６８０および６９０を含む、１４層反射防止コーティングを含んだ。層の相対的な厚さは表１１に示す。
【０１２５】
【表１１】
2017515780.tif 000016
ＳｉＯ２層と比較して、Ｂｅｒｋｏｖｉｔｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔによって測定した場合により高い硬度を有するＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ層の全厚さは７２２ｎｍであり、これは、コーティングの全厚さの約６６％を構成する。
【０１２６】
実施例８の物品の片面の反射率を、異なる視野入射照明角または照明角度（「ＡＯＩ」）で計算した。結果の反射率スペクトルを図２５に示す。Ｄ６５光源およびＦ２光源で、１０°の観測器に基づく反射色も測定し、ａ＊およびｂ＊値を、角度増加において直角入射から０度から約６０度まで変化した入射照明角またはＡＯＩとしてプロットする。反射色を示すプロットを図２６に示す。
【０１２７】
モデル実施例９、１０Ａおよび１０Ｂ
モデル実施例９、１０Ａおよび１０Ｂは、様々な反射防止コーティング１２０設計の反射スペクトルを計算するために、モデル実施例４〜８に関して使用され、かつ表４〜５に示された屈折率および分散曲線を使用した。
【０１２８】
モデル実施例９は、強化アルミノシリケートガラス基体２００上に配置され、互いの上に連続的に配置された６層反射防止コーティングを含んだ。層の相対的な厚さは表１２に示す。
【０１２９】
【表１２】
2017515780.tif 000017
モデル実施例９の物品の片面の反射率を、異なる視野入射照明角または照明角度（「ＡＯＩ」）で計算した。結果の反射率スペクトルを図２７に示す。Ｄ６５光源およびＦ２光源で、１０°の観測器に基づく反射色も測定し、ａ＊およびｂ＊値を、角度増加において直角入射から０度から約６０度まで変化した入射照明角またはＡＯＩとしてプロットする。反射色を示すプロットを図２８に示す。
【０１３０】
モデル実施例１０Ａおよび１０Ｂは、それぞれ、８層反射防止コーティングを含んだ。コーティングのそれぞれの層は、互いの上に連続的に配置され、かつ強化アルミノシリケートガラス基体２００上に配置された。層の相対的な厚さは表１３に示す。
【０１３１】
【表１３】
2017515780.tif 000018
実施例１０Ａおよび１０Ｂの物品の片面の反射率値を、異なる視野入射照明角または照明角度（「ＡＯＩ」）で計算した。結果の反射率スペクトルを図２９および３０にそれぞれ示す。Ｄ６５光源およびＦ２光源で、１０°の観測器に基づく反射色も測定し、ａ＊およびｂ＊値を、角度増加において直角入射から０度から約６０度まで変化した入射照明角またはＡＯＩとしてプロットする。実施例１０Ａおよび１０Ｂの反射色を示すプロットを図３１〜３２にそれぞれ示す。
【０１３２】
モデル実施例４、７、９、１０Ａおよび１０Ｂの光学性能を、交互のＮｂ２Ｏ５およびＳｉＯ２層の６層反射防止コーティングおよび反射防止コーティング上に配置された疎水性コーティングを含むモデル比較例１１と比較した。モデル比較例１１を製造するために、イオンアシストｅ−ビーム蒸着法を使用し、ケイ素ウエハ上に単層のＮｂ２Ｏ５およびケイ素ウエハ上に単層のＳｉＯ２層を堆積した。これらの層の波長の関数としての屈折率を、分光エリプソメトリーを使用して測定した。測定した屈折率を、次いで、モデル比較例１１で使用した。評価された光学性能としては、Ｆ０２およびＤ６５光源で直角入射から０度から約６０度までの範囲の入射照明角で見た場合の約４５０ｎｍ〜約６５０ｎｍの波長範囲の平均反射率および色シフト（等式√（（ａ＊実施例−（−１））２＋（ｂ＊実施例−（−１））２）を使用するａ＊およびｂ＊座標（−１，−１）に関する）を含む。表１４は、モデル実施例４、７、９、１０Ａおよび１０Ｂならびにモデル比較例１１の平均反射率および最大色シフトを示す。
【０１３３】
【表１４】
2017515780.tif 000019
表１４に示すように、モデル比較例１１は最低平均反射率を示したが、最大色シフトも示した。モデル実施例４は、匹敵する反射率および有意に低下した色シフトを示した。モデル実施例７、９、１０Ａおよび１０Ｂは、さらに少ない色シフトを有し、反射率がわずかに増加した。
【０１３４】
実施例１２〜１８
実施例１２〜１８は、表１５に示すように、裸アルミノシリケートガラス基体（コーティングなし）または種々の反射防止もしくは硬質コーティングを有するアルミノシリケートガラス基体を含んだ。アルミノシリケートガラス基体は、化学的に強化されており、かつ約７００ＭＰａ〜約９００ＭＰａの範囲の圧縮応力および約４０μｍ〜約５０μｍの範囲の圧縮応力層値の深さを示した。反射防止コーティングは、反応性ＤＣスパッタリング、ｅ−ビーム蒸発ならびに反応性ＤＣおよびＲＦスパッタリングを使用して堆積した。反射防止コーティングは、ＳｉＯ２、ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ、ＡｌＯｘＮｙおよびＮｂ２Ｏ５の層を含んだ。ＳｉＯ２層は、表１５に示すように、イオンアシストを用いて、約２００℃においてＳｉ標的からＤＣ反応スパッタリングによって、またはイオンアシストｅ−ビーム蒸着によって形成された。Ｎｂ２Ｏ５層は、イオンアシストｅ−ビーム蒸着によって堆積した。ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙの層は、イオンアシストを用いて、２００℃まで加熱された基体を使用して、ＲＦスーパーインポーズドＤＣスパッタリングと組み合わせたＤＣ反応スパッタリングによって堆積された。ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ層は、ＡＪＡ−Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ  Ｓｐｕｔｔｅｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ  Ｔｏｏｌにおける反応性スパッタリングによって製造された。ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ層を形成するために使用された標的は直径３インチ（７．６２ｃｍ）のＳｉおよび直径３インチ（７．６２ｃｍ）のＡｌであった。反応性ガスは窒素および酸素であり、そして「作動」（または不活性）ガスはアルゴンであった。Ｓｉ標的に供給された力は１３．５６Ｍｈｚの無線周波（ＲＦ）であった。Ａｌ標的に供給された力はＤＣであった。ＡｌＯｘＮｙ層をＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ層の代わりに使用することができ、かつそのような層を形成するために使用される同一または同様のプロセスを使用して形成することができることは留意されるべきである。ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙおよびＡｌＯｘＮｙ層は両方とも約１．９５の５５０ｎｍにおける屈折率およびＢｅｒｋｏｖｉｔｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔを使用して測定された１５ＧＰａより高い測定された硬度を示すように製造することができる。
【０１３５】
【表１５】
2017515780.tif 000020
表１６は、試料がＴａｂｅｒ  Ｔｅｓｔを受けた後の、測定された散乱光強度（ＣＣＢＴＤＦ、１／ステラジアン）および透過曇り度（８ｍｍの開口部による）に関して測定された実施例１２〜１３および比較例１４〜１８の耐摩擦性を示す。平均反射率は、摩擦のない反射防止表面において測定された（反対側の未コーティングの表面から４％の反射率を差し引いた、片面測定）。
【０１３６】
【表１６】
2017515780.tif 000021
表１６に示すように、実施例１２および１３は、優れた耐摩擦性を示す、４０度における摩擦のない（またはＴａｂｅｒ  Ｔｅｓｔを受けない）比較実施例１８の散乱光強度を接近した。実施例１２および１３は、Ｔａｂｅｒ  Ｔｅｓｔを受けた後の全ての試料の２０度での最小散乱光強度も示した。実施例１２および１３の透過曇り度は、摩擦のない比較例１８の透過曇り度と実質的に同じであった。実施例１２および１３の平均反射率は、比較例１８よりも優位に改善され、比較例１４のみが低い平均反射率を示した。
【０１３７】
図３３は、Ｔａｂｅｒ  Ｔｅｓｔを受けた、または受けなかった、実施例１２〜１３および比較例１５〜１７の摩擦方向に無関係の極角に沿っての表１６の散乱光強度（ＣＣＢＴＤＦ、１／ステラジアン）測定を示すグラフである。より低い散乱光強度値は、それほど激しくない摩擦を示し、したがって、より高い耐摩擦性（およびヒトによる検査試験におけるより低い摩擦透視度）を示す。
【０１３８】
実施例１２〜１３および比較例１４、１７〜１８の耐摩擦性は、Ｔａｂｅｒ  Ｔｅｓｔを受けた後、ＡＦＭ粗さによって評価した。表１７は、摩擦領域内の８０×８０マイクロメートル領域の５スキャンに関して報告されるＡＦＭ粗さ統計（平均および標準偏差）を示す。表１７に示すように、比較例１４および１８と比較した場合、実施例１２および１３は非常に低い粗さを示した。比較例１７は、表１７に示されるように、低い粗さを示したが、比較的高い反射率および光散乱も示した。
【０１３９】
【表１７】
2017515780.tif 000022
図３４は、表２２からのＡＦＭ粗さ統計を示すグラフである。
【０１４０】
実施例１９
実施例１９は、約５８モル％のＳｉＯ２、１７モル％のＡｌ２Ｏ３、１７モル％のＮａ２Ｏ、３モル％のＭｇＯ、０．１ミル％のＳｎＯおよび６．５モル％のＰ２Ｏ５の名目上の組成を有する強化アルミノシリケートガラス基体上に配置された１０層反射防止コーティングを含んだ。層の厚さを表１８に示す。
【０１４１】
ＳｉＯ２およびＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ層は、ＡＪＡ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ製のコーターにおいて反応性スパッタリングによって製造された。ＳｉＯ２は、イオンアシストを用いてＳｉ標的からＤＣ反応スパッタリングによって堆積され、ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ材料は、イオンアシストを用いて、ＲＦスーパーインポーズドＤＣスパッタリングと組み合わせたＤＣ反応スパッタリングによって堆積された。反応性ガスは窒素および酸素であり、そして「作動」（または不活性）ガスはアルゴンであった。
【０１４２】
【表１８】
2017515780.tif 000023
高ＲＩ材料の量は、反射防止コーティングの約５１．５％であり、かつ低ＲＩ材料の量は、反射防止コーティングの４８．５％である。堆積条件は、表１９に示される。堆積温度は２００℃であった。
【０１４３】
【表１９】
2017515780.tif 000024
異なる視野入射照明角または照明角度（「ＡＯＩ」）における実施例１９の物品の片面の反射率を、コーティング材料およびガラス基体のそれぞれに関して得られた分散曲線を使用してモデル化した。結果のモデル化された反射率スペクトルを図３５に示す。Ｄ６５光源およびＦ２光源で、１０°の観測器に基づく反射色および透過色も測定し、ａ＊およびｂ＊値を、角度増加において直角入射から０度から約６０度まで変化した入射照明角またはＡＯＩとしてプロットする。実施例１９に関する反射色および透過色を示すプロットを図３６に示す。図３６および以下の表２１に示すように、反射色および透過色は両方とも、０度〜約６０度の入射照明角に関して、ａ＊＝０およびｂ＊＝０から３未満であった。実施例１９は、異なるＡＯＩにおける明所反射率に関して評価された。約０°〜約２０°の範囲のＡＯＩから、明所反射率は、約０．４以下であり得る。
【０１４４】
【表２１】
2017515780.tif 000025
実施例２０
実施例２０は、約５８モル％のＳｉＯ２、１７モル％のＡｌ２Ｏ３、１７モル％のＮａ２Ｏ、３モル％のＭｇＯ、０．１ミル％のＳｎＯおよび６．５モル％のＰ２Ｏ５の名目上の組成を有する強化アルミノシリケートガラス基体上に配置された１０層反射防止コーティングを含んだ。層の厚さを表２２に示す。
【０１４５】
ＳｉＯ２およびＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ層は、Ｏｐｔｏｒｕｎ  Ｃｏ．Ｌｔｄ．製のコーターにおいて反応性スパッタリングによって製造された。ＳｉＯ２は、イオンアシストを用いてＳｉ標的からＤＣ反応スパッタリングによって堆積され、ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ材料は、イオンアシストを用いて、ＲＦスーパーインポーズドＤＣスパッタリングと組み合わせたＤＣ反応スパッタリングによって堆積された。反応性ガスは窒素および酸素であり、そして「作動」（または不活性）ガスはアルゴンであった。ＳｉＯ２およびＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ層の堆積条件を表２３に提供する。それぞれの層は、２００℃の堆積温度で、かつそれぞれの層の物理的厚さを形成するために十分な堆積時間で形成された。
【０１４６】
【表２２】
2017515780.tif 000026
【０１４７】
【表２３】
2017515780.tif 000027
実施例２０は、０°、３０°、４５°および６０°の入射照明角で、光学波長領域において、それぞれ、０．８６％、１．０４％、１．６％および３．６１％の片面平均反射率（すなわち、反射防止表面１２２から測定された）を示した。実施例２０は、０°、３０°、４５°および６０°の入射照明角で、光学波長領域において、それぞれ、９９．１４％、９８．９５％、９８．４％および９６．３９％の片面平均透過率（すなわち、反射防止表面１２２から測定された）を示した。
【０１４８】
実施例２０は、０°、３０°、４５°および６０°の入射照明角で、光学波長領域において、それぞれ、４．８５％、３．５６％、２．４４％および３．７７％の全平均反射率（すなわち、反射防止表面１２２および反対側の主要表面１１４から測定された）を示した。実施例２０は、０°、３０°、４５°および６０°の入射照明角で、光学波長領域において、それぞれ、９５．１５％、９６．４４％、９７．５６％および９６．２３％の片面平均透過率（すなわち、反射防止表面１２２から測定された）を示した。
【０１４９】
０度〜６０度（または７５度）の入射照明角またはＡＯＩならびに光源Ｄ６５およびＦ２下での実施例２０の片面（すなわち、反射防止表面１２２）および両面（すなわち、図１の反射防止表面１２２および主要表面１１４）の反射率および透過色座標を表２４Ａ〜２４Ｄに示す。片面色座標は、当該技術において既知のように、主要表面１１４から透過および反射率を排除することによって測定した。色シフトは、次の等式√（（ａ＊２−ａ＊１）２＋（ｂ＊２−ｂ＊１）２）を使用して計算した。式中、ａ＊１およびｂ＊１は、直角入射（すなわち、ＡＯＩ＝０）で見た場合の物品のａ＊およびｂ＊座標を表し、そしてａ＊２およびｂ＊２は、直角入射とは異なるか、または直角入射から離れた入射照明角（すなわち、ＡＯＩ＝１−６０または１−７５）で見た場合の物品のａ＊およびｂ＊座標を表す。
【０１５０】
【表２４Ａ−１】
2017515780.tif 000028
【０１５１】
【表２４Ａ−２】
2017515780.tif 000029
【０１５２】
【表２４Ａ−３】
2017515780.tif 000030
【０１５３】
【表２４Ｂ−１】
2017515780.tif 000031
【０１５４】
【表２４Ｂ−２】
2017515780.tif 000032
【０１５５】
【表２４Ｂ−３】
2017515780.tif 000033
【０１５６】
【表２４Ｂ−４】
2017515780.tif 000034
【０１５７】
【表２４Ｃ−１】
2017515780.tif 000035
【０１５８】
【表２４Ｃ−２】
2017515780.tif 000036
【０１５９】
【表２４Ｃ−３】
2017515780.tif 000037
【０１６０】
【表２４Ｃ−４】
2017515780.tif 000038
【０１６１】
【表２４Ｄ−１】
2017515780.tif 000039
【０１６２】
【表２４Ｄ−２】
2017515780.tif 000040
【０１６３】
【表２４Ｄ−３】
2017515780.tif 000041
【０１６４】
【表２４Ｄ−４】
2017515780.tif 000042
実施例２１
実施例２１は、約５８モル％のＳｉＯ２、１７モル％のＡｌ２Ｏ３、１７モル％のＮａ２Ｏ、３モル％のＭｇＯ、０．１ミル％のＳｎＯおよび６．５モル％のＰ２Ｏ５の名目上の組成を有する強化アルミノシリケートガラス基体上に配置された１０層反射防止コーティングを含んだ。層の厚さを表２５に示す。
【０１６５】
ＳｉＯ２およびＡｌＯｘＮｙ層は、Ｏｐｔｏｒｕｎ  Ｃｏ．Ｌｔｄ．製のコーターにおいて反応性スパッタリングによって製造された。ＳｉＯ２は、イオンアシストを用いてＳｉ標的からＤＣ反応スパッタリングによって堆積され、ＡｌＯｘＮｙ材料は、イオンアシストを用いて、ＲＦスーパーインポーズドＤＣスパッタリングと組み合わせたＤＣ反応スパッタリングによって堆積された。反応性ガスは窒素および酸素であり、そして「作動」（または不活性）ガスはアルゴンであった。ＳｉＯ２およびＡｌＯｘＮｙ層の堆積条件を表２６に提供する。それぞれの層は、２００℃の堆積温度で、かつそれぞれの層の物理的厚さを形成するために十分な堆積時間で形成された。
【０１６６】
【表２５】
2017515780.tif 000043
【０１６７】
【表２６】
2017515780.tif 000044
入射照射における透過率色座標は、図３７に示すように、実施例２１の反射防止表面および実施例２１の反対側の裸表面の両方を通して、Ｄ６５光源を使用して測定され、そしてＴ（Ｄ６５）によって示された。反射率色座標は、反射防止表面のみにおいて、Ｆ２光源を使用して、かつ２０度、４０度および６０度の入射照明角において測定され、また６度の基準照明角も図３７にプロットされ、そしてＲ（Ｆ２）によって示された。基体の測定された透過および反射率色座標は、図３７にプロットされ、そしてＴ（ガラス）およびＲ（ガラス）によってそれぞれ示された。図３７に示すように、基体の透過率色座標に対する物品の透過率色シフトは非常に低い（すなわち、約０．５）。基準照明角（ａ＊＝−０．５３、ｂ＊＝２．０８）と、入射視野角２０度（ａ＊＝−０．９、ｂ＊＝１．９５）、４０度（ａ＊＝−１．７、ｂ＊＝０．６９）および６０度（ａ＊＝−０．４４、ｂ＊＝−１．８９）との間の反射率における視野角に関しての色シフトは、それぞれ０．３９、１．８１および３．９６であった。
【０１６８】
図３８は、基準照明角ならびに２０度、４０度および６０度の入射視野角における反射防止表面のみで測定された実施例２１の反射率スペクトラムを示す。実施例２１の放射分析および明所平均は０．５４％と計算された。反射防止表面および反対側の裸表面の両方に関して基準照明角（６度）で測定された透過率および反射率スペクトルを図３９に示す。
【０１６９】
反射防止表面において測定された、実施例２１の測定された硬度およびヤング率は、それぞれ、１１．１ＧＰａおよび１１０ＧＰａであった。モデル比較例１１の例は、約６．８ＧＰａの硬度を示した。
【０１７０】
本発明の精神または範囲から逸脱することなく、様々な修正および変更を実施することができることは当業者に明らかであろう。
【０１７１】
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
【０１７２】
実施形態１
主要表面を有する基体と、
前記主要表面上に配置された約１μｍ以下の厚さを有する、反射防止表面を含んでなる反射防止コーティングと
を含んでなる物品において、
約５０ｎｍ以上の押し込み深さに沿って、Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔによって測定される場合、約８ＧＰａ以上の最大硬度を示し、
光学波長領域において、約９４％以上の片面平均光透過率、および
光学波長領域において、約２％以下の片面平均光反射率
の一方または両方を示し、かつ
約０度〜約６０度の範囲の全ての入射照明角において、前記反射防止表面のみにおいて測定した場合、約−５〜約１の範囲の反射率のｂ＊値を示すことを特徴とする、物品。
【０１７３】
実施形態２
前記ｂ＊値がＦ２光源下で測定されることを特徴とする、実施形態１に記載の物品。
【０１７４】
実施形態３
前記反射防止表面において測定した場合、色座標（ａ＊＝０、ｂ＊＝０）および前記基体の透過率色座標の少なくとも１つを含んでなる基準点から約２未満の基準点色シフトを示す、国際照明委員会の光源下で直角入射での（Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊）測色系における物品透過率色座標、ならびに
前記反射防止表面において測定した場合、色座標（ａ＊＝０、ｂ＊＝０）、色座標（ａ＊＝−２、ｂ＊＝−２）および前記基体の反射率色座標の少なくとも１つを含んでなる基準点から約５未満の基準点色シフトを示す、国際照明委員会の光源下で直角入射での（Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊）測色系における物品反射率色座標
を示し、
前記基準点が色座標（ａ＊＝０、ｂ＊＝０）である場合、前記色シフトは、√（（ａ＊物品）２＋（ｂ＊物品）２）によって定義され、
前記基準点が色座標（ａ＊＝−２、ｂ＊＝−２）である場合、前記色シフトは、√（（ａ＊物品＋２）２＋（ｂ＊物品＋２）２）によって定義され、かつ
前記基準点が前記基体の色座標である場合、前記色シフトは、√（（ａ＊物品−ａ＊基体）２＋（ｂ＊物品−ｂ＊基体）２）によって定義されることを特徴とする、実施形態１または２に記載の物品。
【０１７５】
実施形態４
前記物品が、約８ｍｍの直径を有する開口部を有する曇り度計を使用して測定される約１％以下の曇り度を含んでなる耐摩擦性を示し、かつ
前記耐摩擦性が、Ｔａｂｅｒ  Ｔｅｓｔを使用して５００サイクルの摩擦後に測定されることを特徴とする、実施形態１〜３のいずれか一項に記載の物品。
【０１７６】
実施形態５
前記物品が、原子間力顕微鏡法によって測定される約１２ｎｍ以下の平均粗さＲａを含んでなる耐摩擦性を示し、かつ
前記耐摩擦性が、Ｔａｂｅｒ  Ｔｅｓｔを使用して５００サイクルの摩擦後に測定されることを特徴とする、実施形態１〜４のいずれか一項に記載の物品。
【０１７７】
実施形態６
前記物品が、６００ｎｍの波長で、２ｍｍの開口部を用いて、散乱測定用イメージングスフィアを使用して、直角入射の透過で測定される、約４０度以下の極散乱角において、約０．０５（１／ステラジアンの単位）以下の散乱光強度を含んでなる耐摩擦性を示し、かつ
前記耐摩擦性が、Ｔａｂｅｒ  Ｔｅｓｔを使用して５００サイクルの摩擦後に測定されることを特徴とする、実施形態１〜５のいずれか一項に記載の物品。
【０１７８】
実施形態７
前記物品が、６００ｎｍの波長で、２ｍｍの開口部を用いて、散乱測定用イメージングスフィアを使用して、直角入射の透過で測定される、約２０度以下の極散乱角において、約０．１（１／ステラジアンの単位）以下の散乱光強度を含んでなる耐摩擦性を示し、かつ
前記耐摩擦性が、Ｔａｂｅｒ  Ｔｅｓｔを使用して５００サイクルの摩擦後に測定されることを特徴とする、実施形態１〜６のいずれか一項に記載の物品。
【０１７９】
実施形態８
前記反射防止コーティングが、第１の低ＲＩ層、第２の高ＲＩ層および任意選択の第３の層を含んでなる複数の層を含んでなることを特徴とする、実施形態１〜７のいずれか一項に記載の物品。
【０１８０】
実施形態９
前記第１の低ＲＩ層および前記第２の高ＲＩ層の少なくとも１層が、約２ｎｍ〜約２００ｎｍの範囲の光学厚さ（ｎ＊ｄ）を含んでなることを特徴とする、実施形態８に記載の物品。
【０１８１】
実施形態１０
前記反射防止コーティングが約８００ｎｍ以下の厚さを含んでなることを特徴とする、実施形態１〜９のいずれか一項に記載の物品。
【０１８２】
実施形態１１
Ｆ２光源下で、直角入射から約２０度〜約６０度の範囲の入射照明角の全ての角度において、前記反射防止表面において測定した場合、約５未満の反射率角度色シフトを示し、かつ角度色シフトが、次の等式√（（ａ＊２−ａ＊１）２＋（ｂ＊２−ｂ＊１）２）（式中、ａ＊１およびｂ＊１は、直角入射で見た場合の物品の座標を表し、かつａ＊２およびｂ＊２は、入射照明角で見た場合の物品の座標を表す）を使用して計算されることを特徴とする、実施形態１〜１０のいずれか一項に記載の物品。
【０１８３】
実施形態１２
約４００ｎｍ〜約４８０ｎｍの波長範囲における最大反射率（Ｒ４００−最大）が、約５００ｎｍ〜約６００ｎｍの波長範囲における最大反射率（Ｒ５００−最大）および約６４０ｎｍ〜約７１０ｎｍの波長範囲における最大反射率（Ｒ６４０−最大）より大きく、かつ
約４００ｎｍ〜約４８０ｎｍの波長範囲における最小反射率（Ｒ４００−最小）が、約５００ｎｍ〜約６００ｎｍの波長範囲における最小反射率（Ｒ５００−最小）より任意選択的に小さく、かつ
約６４０ｎｍ〜約７１０ｎｍの波長範囲における最小反射率（Ｒ６４０−最小）が任意選択的にＲ−５００最小未満であるような反射率スペクトルを示すことを特徴とする、実施形態１〜１１のいずれか一項に記載の物品。
【０１８４】
実施形態１３
反射防止コーティングが、物理的厚さおよび窒化物または酸窒化物を含んでなる複数の第２の高ＲＩ層を含んでなり、かつ前記第２の高ＲＩ層の組み合わせた物理的厚さが、前記反射防止コーティングの物理的厚さの４０％以上であることを特徴とする、実施形態８に記載の物品。
【０１８５】
実施形態１４
前記基体が、非晶質基体または結晶質基体を含んでなることを特徴とする、実施形態１〜１３のいずれか一項に記載の物品。
【０１８６】
実施形態１５
前記非晶質基体が、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノシリケートガラス、アルカリ含有ボロシリケートガラスおよびアルカリアルミノボロシリケートガラスからなる群から選択されるガラスを含んでなることを特徴とする、実施形態１４に記載の物品。
【０１８７】
実施形態１６
前記ガラスが任意選択的に化学強化され、かつ前記化学強化ガラスの表面から少なくとも約１０μｍの層の深さ（ＤＯＬ）まで前記化学強化ガラス内に延在する少なくとも２５０ＭＰａの表面ＣＳを有する圧縮応力（ＣＳ）層を含んでなることを特徴とする、実施形態１５に記載の物品。
【０１８８】
実施形態１７
前記光学コーティング上に配置されたクリーニングが容易なコーティング、ダイヤモンド様カーボンコーティングおよび耐擦傷性コーティングのいずれか１つまたはそれ以上を含んでなることを特徴とする、実施形態１〜１６のいずれか一項に記載の物品。
【０１８９】
実施形態１８
主要表面を有する基体と、
前記主要表面上に配置された約１μｍ以下の厚さを有する、反射防止表面を含んでなる反射防止コーティングと
を含んでなる物品において、
約５０ｎｍ以上の押し込み深さに沿って、Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔによって測定される場合、約８ＧＰａ以上の最大硬度を示し、
光学波長領域において、約９４％以上の片面平均光透過率、および
光学波長領域において、約２％以下の片面平均光反射率
の一方または両方を示し、
Ｄ６５光源またはＦ２光源下で、直角入射から約２度〜約６０度の範囲の入射照明角において、前記反射防止表面において測定した場合、約５未満の反射率角度色シフトを示し、角度色シフトが、次の等式√（（ａ＊２−ａ＊１）２＋（ｂ＊２−ｂ＊１）２）（式中、ａ＊１およびｂ＊１は、直角入射で見た場合の物品の座標を表し、かつａ＊２およびｂ＊２は、入射照明角で見た場合の物品の座標を表す）を使用して計算され、かつ
前記反射防止表面において測定した場合、色座標（ａ＊＝０、ｂ＊＝０）および前記基体の透過率色座標の少なくとも１つを含んでなる基準点から約２未満の基準点色シフトを示す、Ｄ６５またはＦ２光源下で直角入射での（Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊）測色系における物品透過率色座標、ならびに
前記反射防止表面において測定した場合、色座標（ａ＊＝０、ｂ＊＝０）、座標（ａ＊＝−２、ｂ＊＝−２）および前記基体の反射率色座標の少なくとも１つを含んでなる基準点から約５未満の色シフトを示す、直角入射での（Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊）測色系における物品反射率色座標
の一方または両方を示し、
前記基準点が色座標（ａ＊＝０、ｂ＊＝０）である場合、前記色シフトは、√（（ａ＊物品）２＋（ｂ＊物品）２）によって定義され、
前記基準点が色座標（ａ＊＝−２、ｂ＊＝−２）である場合、前記色シフトは、√（（ａ＊物品＋２）２＋（ｂ＊物品＋２）２）によって定義され、かつ
前記基準点が前記基体の色座標である場合、前記色シフトは、√（（ａ＊物品−ａ＊基体）２＋（ｂ＊物品−ｂ＊基体）２）によって定義されることを特徴とする、物品。
【０１９０】
実施形態１９
約８ｍｍの直径を有する開口部を有する曇り度計を使用して測定される約１％以下の曇り度、
原子間力顕微鏡法によって測定される約１２ｎｍ  ＲＭＳ以下の平均粗さ、
６００ｎｍの波長で、２ｍｍの開口部を用いて、散乱測定用イメージングスフィアを使用して、直角入射の透過で測定される、約４０度以下の極散乱角において、約０．０５（１／ステラジアンの単位）以下の散乱光強度、および
６００ｎｍの波長で、２ｍｍの開口部を用いて、散乱測定用イメージングスフィアを使用して、直角入射の透過で測定される、約２０度以下の極散乱角において、約０．１（１／ステラジアンの単位）以下の散乱光強度
のいずれか１つを含んでなる耐摩擦性を示し、かつ
前記耐摩擦性が、Ｔａｂｅｒ  Ｔｅｓｔを使用して５００サイクルの摩擦後に測定されることを特徴とする、実施形態１８に記載の物品。
【０１９１】
実施形態２０
前記反射防止コーティングが、第１の低ＲＩ層、第２の高ＲＩ層および任意選択の第３の層を含んでなる複数の層を含んでなり、前記第１の低ＲＩ層および前記第２の高ＲＩ層の少なくとも１層が、約２ｎｍ〜約２００ｎｍの範囲の光学厚さ（ｎ＊ｄ）を含んでなることを特徴とする、実施形態１８または１９に記載の物品。
【０１９２】
実施形態２１
直角入射から、約２０度〜約６０度の範囲の入射照明角までの全ての角度において反射率角度色シフトを示すことを特徴とする、実施形態１８〜２０のいずれか一項に記載の物品。
【０１９３】
実施形態２２
前記基体が、非晶質基体または結晶質基体を含んでなることを特徴とする、実施形態１８〜２１のいずれか一項に記載の物品。
【０１９４】
実施形態２３
前記光学コーティング上に配置されたクリーニングが容易なコーティング、ダイヤモンド様カーボンコーティングおよび耐擦傷性コーティングのいずれか１つまたはそれ以上を含んでなることを特徴とする、実施形態１８〜２２のいずれか一項に記載の物品。
【０１９５】
実施形態２４
主要表面を有する基体と、
前記主要表面上に配置された約１μｍ以下の厚さを有する反射防止コーティングと
を含んでなる物品において、
約８ｍｍの直径を有する開口部を有する曇り度計を使用して測定される約１％以下の曇り度、
原子間力顕微鏡法によって測定される約１２ｎｍ  ＲＭＳ以下の平均粗さ、
６００ｎｍの波長で、２ｍｍの開口部を用いて、散乱測定用イメージングスフィアを使用して、直角入射の透過で測定される、約４０度以下の極散乱角において、約０．０５（１／ステラジアンの単位）以下の散乱光強度、および
６００ｎｍの波長で、２ｍｍの開口部を用いて、散乱測定用イメージングスフィアを使用して、直角入射の透過で測定される、約２０度以下の極散乱角において、約０．１（１／ステラジアンの単位）以下の散乱光強度
のいずれか１つまたはそれ以上を含んでなる耐摩擦性を示し、かつ
前記耐摩擦性が、Ｔａｂｅｒ  Ｔｅｓｔを使用して５００サイクルの摩擦後に測定され、
Ｄ６５またはＦ２光源下で、直角入射において、光学波長領域において、約１％以下の平均明所視反射率を示し、かつ
Ｄ６５光源またはＦ２光源下で、約０度〜約６０度の範囲の全ての入射照明角において、前記反射防止表面のみにおいて測定した場合、約−５〜約１の範囲の反射率のｂ＊値を示すことを特徴とする、物品。
【０１９６】
実施形態２５
前記反射防止コーティングが、少なくとも１層の第１の低ＲＩ層および２層以上の第２の高ＲＩ層を含んでなる複数の層を含んでなり、かつ前記第２の高ＲＩ層の組み合わせた厚さが約５００ｎｍ以下であることを特徴とする、実施形態２４に記載の物品。
【０１９７】
実施形態２６
光学波長領域において約９８％以上の片面平均光透過率を示すことを特徴とする、実施例２４または実施形態２５に記載の物品。
【０１９８】
実施形態２７
主要表面を有する基体と、
前記主要表面上に配置された約１μｍ以下の厚さを有する、反射防止表面を含んでなる反射防止コーティングと
を含んでなる物品において、
Ｄ６５またはＦ２光源下で、直角入射において、光学波長領域において、約０．７％以下の平均明所視反射率を示し、
Ｆ２光源下で、約０度〜約６０度の範囲の全ての入射照明角において、前記反射防止表面のみにおいて測定した場合、約−５〜約１の範囲の反射率のｂ＊値を示し、かつ
Ｄ６５光源またはＦ２光源下で、直角入射から約２０度〜約６０度の範囲の入射照明角の全ての角度において、前記反射防止表面において測定した場合、約５未満の反射率角度色シフトを示し、かつ角度色シフトが、次の等式√（（ａ＊２−ａ＊１）２＋（ｂ＊２−ｂ＊１）２）（式中、ａ＊１およびｂ＊１は、直角入射で見た場合の物品の座標を表し、かつａ＊２およびｂ＊２は、入射照明角で見た場合の物品の座標を表す）を使用して計算されることを特徴とする、物品。
【０１９９】
実施形態２８
約５０ｎｍ以上の押し込み深さに沿って、Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔによって測定される場合、約８ＧＰａ以上の最大硬度を示すことを特徴とする、実施形態２７に記載の物品。
【０２００】
実施形態２９
反射防止コーティングが、物理的厚さおよび窒化物または酸窒化物を含んでなる複数の層を含んでなり、かつ前記層の組み合わせた物理的厚さが、前記反射防止コーティングの物理的厚さの４０％以上であることを特徴とする、実施形態２７または２８に記載の物品。
【０２０１】
実施形態３０
角度色シフトが約２未満であることを特徴とする、実施形態２７〜２９のいずれか一項に記載の物品。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2017515780.tif 000051
【図８】
2017515780.tif 000052
【図９】
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【図１０】
2017515780.tif 000054
【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
2017515780.tif 000057
【図１４】
2017515780.tif 000058
【図１５】
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【図１６】
2017515780.tif 000060
【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
2017515780.tif 000084
【国際調査報告】
2017515780.tif 000085
2017515780.tif 000086
2017515780.tif 000087