(57)【要約】  モバイルデバイスへの半導体ツールメンテナンス・オペレーションの統合は、技術者が半導体ツールのメンテナンスをより正確に行うことを可能にし、データのより正確な収集および分析を可能にし、それにより、メンテナンス手順および結果として行われるツール操作をより高い再現性、一貫性、および効率にすることができる。【選択図】図１
2017533508.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体ツールのメンテナンスおよび操作を行うための方法であって、
（ａ）ポータブル電子デバイスによって、ユーザが半導体ツールに対してメンテナンスに関連する少なくとも１つのアクションを実施していると判断するステップであって、前記メンテナンスが、少なくとも第１のタスクおよび第２のタスクを含むステップと、
（ｂ）前記ポータブル電子デバイスによって、前記メンテナンスに費やされる時間を追跡するステップであって、前記メンテナンスに費やされる前記時間が、少なくとも前記第１のタスクに費やされる時間および前記第２のタスクに費やされる時間を含むステップと、
（ｃ）前記ポータブル電子デバイスによって、前記ユーザが前記第１のタスクに関連する少なくとも１つのアクションを実施していると判断するステップと、
（ｄ）前記ステップ（ｃ）に応答して、前記第１のタスクに関連する命令を、前記ポータブル電子デバイスを介して前記ユーザに提供するステップと、
（ｅ）前記ステップ（ｃ）に応答して、前記ポータブル電子デバイスによって、前記第１のタスクに費やされる前記時間を追跡するステップと、
（ｆ）前記ポータブル電子デバイスによって、前記ユーザが前記第２のタスクに関連する少なくとも１つのアクションを実施していると判断するステップと、
（ｇ）前記ステップ（ｆ）に応答して、前記第２のタスクに関連する命令を、前記ポータブル電子デバイスを介して前記ユーザに提供するステップと、
（ｈ）前記ステップ（ｆ）に応答して、前記ポータブル電子デバイスによって、前記第２のタスクに費やされる前記時間を追跡するステップと、
（ｉ）前記半導体ツールの前記メンテナンスに費やされた前記時間、前記第１のタスクに費やされた前記時間、および前記第２のタスクに費やされた前記時間を、前記ポータブル電子デバイスから関連する計算デバイスに出力するステップと
を含む方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、さらに、前記ステップ（ａ）の後、かつ前記ステップ（ｅ）の前に、前記ユーザから第１の問題レポートを受信するステップをさらに含み、前記第１の問題レポートが、前記半導体ツールに対して前記メンテナンスを行う際に前記ユーザが直面する第１の問題に関連付けられ、前記第１の問題レポートが、前記ステップ（ｅ）で関連する計算デバイスに出力される方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法であって、さらに、
（ｊ）前記ステップ（ｅ）に応答して、前記メンテナンスに費やされる前記時間、前記第１のタスクに費やされる前記時間、および前記第２のタスクに費やされる前記時間を分析するステップ
を含む方法。
【請求項４】
請求項３に記載の方法であって、さらに、
（ｋ）前記ステップ（ｊ）に応答して、前記メンテナンスの改善を決定するステップ
を含む方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法であって、前記メンテナンスに費やされる前記時間が、前記第１のタスク中および前記第２のタスク中の少なくとも一方に遅延期間をさらに含み、前記方法がさらに、
（ｊ）前記ポータブル電子デバイスによって、前記第１のタスクおよび前記第２のタスクの少なくとも一方の達成時に遅延があると判断するステップと、
（ｋ）前記ステップ（ｊ）に応答して、前記ポータブル電子デバイスによって、前記遅延の時間を追跡するステップとを含み、ここで、前記ステップ（ｉ）が、前記ポータブル電子デバイスから前記関連する計算デバイスに前記遅延の前記時間を出力するステップ
を含む方法。
【請求項６】
請求項５に記載の方法であって、前記ステップ（ｊ）が、前記遅延の理由を決定するステップをさらに含み、前記ステップ（ｋ）が、前記遅延の前記時間および前記遅延の前記理由を追跡するステップをさらに含む方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法であって、さらに、
（ｊ）前記ユーザから前記ポータブル電子デバイスを介して問題ステートメントを受信するステップであって、前記問題ステートメントが、前記半導体ツールに対して前記メンテナンスに関連する少なくとも１つのアクションを実施するときに前記ユーザが直面する問題に関連付けられ、前記ステップ（ｉ）が、前記ポータブル電子デバイスから前記関連する計算デバイスに前記問題ステートメントを出力するステップを
含む方法。
【請求項８】
請求項１に記載の方法であって、前記ポータブル電子デバイスがタブレットである方法。
【請求項９】
半導体ツールのメンテナンス用の装置であって、
ディスプレイと、
ユーザ入力インターフェースと、
半導体メンテナンス時間追跡部と、
第１のタスク時間追跡部と、
第２のタスク時間追跡部と、
前記ディスプレイ、前記ユーザ入力インターフェース、前記半導体メンテナンス時間追跡部、前記第１のタスク時間追跡部、および前記第２のタスク時間追跡部に通信可能に結合されたプロセッサとを備え、前記プロセッサが、
（ａ）前記装置によって、ユーザが半導体ツールに対してメンテナンスに関連する少なくとも１つのアクションを実施していると判断するステップであって、前記メンテナンスが、少なくとも第１のタスクおよび第２のタスクを含むステップと、
（ｂ）前記装置によって、前記メンテナンスに費やされる時間を追跡するステップであって、前記メンテナンスに費やされる時間が、少なくとも前記第１のタスクに費やされる時間および前記第２のタスクに費やされる時間を含むステップと、
（ｃ）前記装置によって、前記ユーザが前記第１のタスクに関連する少なくとも１つのアクションを実施していると判断するステップと、
（ｄ）前記ステップ（ｃ）に応答して、前記第１のタスクに関連する命令を、前記装置によって前記ユーザに提供するステップと、
（ｅ）前記ステップ（ｃ）に応答して、前記装置によって、前記第１のタスクに費やされる前記時間を追跡するステップと、
（ｆ）前記装置によって、前記ユーザが前記第２のタスクに関連する少なくとも１つのアクションを実施していると判断するステップと、
（ｇ）前記ステップ（ｆ）に応答して、前記第２のタスクに関連する命令を、前記装置によって前記ユーザに提供するステップと、
（ｈ）前記ステップ（ｆ）に応答して、前記装置によって、前記第２のタスクに費やされる前記時間を追跡するステップと、
（ｉ）前記半導体ツールの前記メンテナンスに費やされた前記時間、前記第１のタスクに費やされた前記時間、および前記第２のタスクに費やされた前記時間を、前記装置から関連する計算デバイスに出力するステップと
を行うように前記装置を動作させるように構成される装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の装置であって、ポータブル電子デバイスである装置。
【請求項１１】
請求項９に記載の装置であって、前記プロセッサがさらに、前記ステップ（ａ）の後、かつ前記ステップ（ｅ）の前に、前記ユーザから第１の問題レポートを受信するように前記装置を動作させるように構成され、前記第１の問題レポートが、前記半導体ツールに対して前記メンテナンスを行う際に前記ユーザが直面する第１の問題に関連付けられ、前記第１の問題レポートが、前記ステップ（ｅ）での関連する計算デバイスに出力される装置。
【請求項１２】
請求項９に記載の装置であって、前記プロセッサがさらに、
（ｊ）前記ステップ（ｅ）に応答して、前記メンテナンスに費やされる前記時間、前記第１のタスクに費やされる前記時間、および前記第２のタスクに費やされる前記時間を分析するステップ
を行うように前記装置を動作させるように構成される装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の装置であって、前記プロセッサがさらに、
（ｋ）前記ステップ（ｊ）に応答して、前記メンテナンスの改善を決定するステップ
を行うように前記装置を動作させるように構成される装置。
【請求項１４】
請求項９に記載の装置であって、前記プロセッサがさらに、
（ｊ）前記ユーザから前記ポータブル電子デバイスを介して問題ステートメントを受信するステップを行うように前記装置を動作させるように構成され、前記問題ステートメントが、前記半導体ツールに対して前記メンテナンスに関連する少なくとも１つのアクションを実施するときに前記ユーザが直面する問題に関連付けられ、前記ステップ（ｉ）が、前記ポータブル電子デバイスから前記関連する計算デバイスに前記問題ステートメントを出力するステップをさらに含む
装置。
【請求項１５】
半導体ツールのメンテナンス用のシステムであって、
半導体ツールと、
サーバデバイスと、
前記半導体ツールおよび前記サーバデバイスと通信可能に結合するための関連するポータブル電子デバイスとを備え、前記ポータブル電子デバイスが、ディスプレイと、ユーザ入力インターフェースと、半導体メンテナンス時間追跡部と、第１のタスク時間追跡部と、第２のタスク時間追跡部と、前記ディスプレイ、前記ユーザ入力インターフェース、前記半導体メンテナンス時間追跡部、前記第１のタスク時間追跡部、および前記第２のタスク時間追跡部に通信可能に結合されたプロセッサとを備え、前記プロセッサが、
（ａ）前記装置によって、ユーザが半導体ツールに対してメンテナンスに関連する少なくとも１つのアクションを実施していると判断するステップであって、前記メンテナンスが、少なくとも第１のタスクおよび第２のタスクを含むステップと、
（ｂ）前記装置によって、前記メンテナンスに費やされた時間を追跡するステップであって、前記メンテナンスに費やされる時間が、少なくとも前記第１のタスクに費やされる時間および前記第２のタスクに費やされる時間を含むステップと、
（ｃ）前記装置によって、前記ユーザが前記第１のタスクに関連する少なくとも１つのアクションを実施していると判断するステップと、
（ｄ）前記ステップ（ｃ）に応答して、前記第１のタスクに関連する命令を、前記装置を介して前記ユーザに提供するステップと、
（ｅ）前記ステップ（ｃ）に応答して、前記装置によって、前記第１のタスクに費やされる前記時間を追跡するステップと、
（ｆ）前記装置によって、前記ユーザが前記第２のタスクに関連する少なくとも１つのアクションを実施していると判断するステップと、
（ｇ）前記ステップ（ｆ）に応答して、前記第２のタスクに関連する命令を、前記装置によって前記ユーザに提供するステップと、
（ｈ）前記ステップ（ｆ）に応答して、前記装置によって、前記第２のタスクに費やされる前記時間を追跡するステップと、
（ｉ）前記半導体ツールの前記メンテナンスに費やされた前記時間、前記第１のタスクに費やされた前記時間、および前記第２のタスクに費やされた前記時間を、前記装置から関連する計算デバイスに出力するステップと
を行うように前記装置を動作させるように構成されるシステム。
【請求項１６】
請求項１５に記載のシステムであって、前記ポータブル電子デバイスがタブレットであるシステム。
【請求項１７】
請求項１５に記載のシステムであって、前記プロセッサが、前記ステップ（ａ）の後、かつ前記ステップ（ｅ）の前に、前記ユーザから第１の問題レポートを受信するように前記装置を動作させるようにさらに構成され、前記第１の問題レポートが、前記半導体ツールに対して前記メンテナンスを行う際に前記ユーザが直面する第１の問題に関連付けられ、前記第１の問題レポートが、前記ステップ（ｅ）で関連する計算デバイスに出力されるシステム。
【請求項１８】
請求項１５に記載のシステムであって、前記プロセッサがさらに、
（ｊ）前記ステップ（ｅ）に応答して、前記メンテナンスに費やされる前記時間、前記第１のタスクに費やされる前記時間、および前記第２のタスクに費やされる前記時間を分析するステップ
を行うように前記装置を動作させるように構成されるシステム。
【請求項１９】
請求項１８に記載のシステムであって、前記プロセッサがさらに、
（ｋ）前記ステップ（ｊ）に応答して、前記メンテナンスの改善を決定するステップ
を行うように前記装置を動作させるように構成されるシステム。
【請求項２０】
請求項１５に記載のシステムであって、前記プロセッサがさらに、
（ｊ）前記ユーザから前記ポータブル電子デバイスを介して問題ステートメントを受信するステップを行うように前記装置を動作させるように構成され、前記問題ステートメントが、前記半導体ツールに対して前記メンテナンスに関連する少なくとも１つのアクションを実施するときに前記ユーザが直面する問題に関連付けられ、前記ステップ（ｉ）が、前記ポータブル電子デバイスから前記関連する計算デバイスに前記問題ステートメントを出力するステップをさらに含む
システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願との相互参照
本出願は、２０１４年１０月１０日に出願された「ＭＯＢＩＬＥ  ＤＥＶＩＣＥ  ＵＳＥＲ  ＩＮＴＥＲＦＡＣＥ  ＦＯＲ  ＳＵＰＰＯＲＴＩＮＧ  ＳＥＲＶＩＣＥ  ＭＡＩＮＴＥＮＡＮＣＥ  ＡＮＤ  ＴＲＡＣＫＩＮＧ  ＡＣＴＩＶＩＴＩＥＳ  ＩＮ  ＳＥＭＩＣＯＮＤＵＣＴＯＲ  ＴＯＯＬ」という名称の米国仮特許出願第６２／０６２，７５６号の優先権を主張し、その開示の全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【背景技術】
【０００２】
現在、半導体ツールのメンテナンス・オペレーションは、典型的には手書きフォームで追跡されている。半導体ツールのメンテナンスを改善するためにフォームからのデータが使用されてよいが、フォームが紛失されることがあり、また、手書きのフィードバックの分析は、量およびタイミングの制約により、不正確、面倒、または不可能になることがある。また、紙のフォームが電子データベースシステムに転記されるときに生産性が失われる。また、使用されるデータエントリのフォーマットは、操作者によって異なることもあり、その結果、標準化された分析法を適用することが困難になる。技術者によって記入されたフォームの分析は時間がかかり、フォームが紛失されたときには、半導体ツールのメンテナンスの改善の仕方に関する正確なデータを提供することができない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
半導体ツールのメンテナンスは、その目的のために特別に構成されたポータブル電子デバイスの使用によって向上させることができる。モバイルデバイスへの半導体ツールメンテナンス・オペレーションの統合は、技術者が半導体ツールのメンテナンスをより正確に行うことを可能にし、データのより正確な収集および分析を可能にし、それにより、メンテナンス手順および結果として行われるツール操作をより高い再現性、一貫性、および効率にすることができる。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
一実装形態によれば、半導体ツールのメンテナンスおよび動作の一貫性を改良するための方法は、ポータブル電子デバイスによって、ユーザが半導体ツールに対してメンテナンスに関連する少なくとも１つのアクションを実施していると判断することを含み、ここで、メンテナンスは、少なくとも第１のタスクおよび第２のタスクを含む。メンテナンスに費やされる時間はポータブル電子デバイスによって追跡され、ここで、メンテナンスに費やされる時間は、少なくとも第１のタスクに費やされる時間および第２のタスクに費やされる時間を含む。ポータブル電子デバイスによって、ユーザが第１のタスクに関連する少なくとも１つのアクションを実施していると判断され、その判断に応答して、第１のタスクに関連する命令が、ポータブル電子デバイスを介してユーザに提供される。また、その判断に応答して、第１のタスクに費やされる時間が、ポータブル電子デバイスによって追跡される。さらに、ポータブル電子デバイスによって、ユーザが第２のタスクに関連する少なくとも１つのアクションを実施していると判断され、その判断に応答して、第２のタスクに関連する命令が、ポータブル電子デバイスを介してユーザに提供される。また、その判断に応答して、第２のタスクに費やされる時間が、ポータブル電子デバイスによって追跡される。次いで、第１のタスクに費やされた時間および第２のタスクに費やされた時間を含む、半導体ツールのメンテナンスに費やされた時間は、ポータブル電子デバイスから関連する計算デバイスに出力される。
【０００５】
別の実装形態によれば、半導体ツールメンテナンスのための装置が、ディスプレイと、ユーザ入力インターフェースと、半導体メンテナンス時間追跡部と、第１のタスク時間追跡部と、第２のタスク時間追跡部と、ディスプレイ、ユーザ入力インターフェース、半導体メンテナンス時間追跡部、第１のタスク時間追跡部、および第２のタスク時間追跡部に通信可能に結合されたプロセッサとを含む。プロセッサは、半導体ツールのメンテナンスおよび動作の一貫性を改良するように装置を動作させるように構成され、これは、ポータブル電子デバイスによって、ユーザが半導体ツールに対してメンテナンスに関連する少なくとも１つのアクションを実施していると判断することによって行われ、ここで、メンテナンスは、少なくとも第１のタスクおよび第２のタスクを含む。メンテナンスに費やされる時間はポータブル電子デバイスによって追跡され、ここで、メンテナンスに費やされる時間は、少なくとも第１のタスクに費やされる時間および第２のタスクに費やされる時間を含む。ポータブル電子デバイスによって、ユーザが第１のタスクに関連する少なくとも１つのアクションを実施していると判断され、その判断に応答して、第１のタスクに関連する命令が、ポータブル電子デバイスを介してユーザに提供される。また、その判断に応答して、第１のタスクに費やされる時間が、ポータブル電子デバイスによって追跡される。さらに、ポータブル電子デバイスによって、ユーザが第２のタスクに関連する少なくとも１つのアクションを実施していると判断され、その判断に応答して、第２のタスクに関連する命令が、ポータブル電子デバイスを介してユーザに提供される。また、その判断に応答して、第２のタスクに費やされる時間が、ポータブル電子デバイスによって追跡される。次いで、第１のタスクに費やされた時間および第２のタスクに費やされた時間を含む、半導体ツールのメンテナンスに費やされた時間は、ポータブル電子デバイスから関連する計算デバイスに出力される。
【０００６】
さらに別の実装形態によれば、半導体ツールのメンテナンス用のシステムは、半導体ツールと、サーバデバイスと、半導体ツールおよびサーバデバイスと通信可能に結合するための関連するポータブル電子デバイスとを含む。ポータブル電子デバイスは、ディスプレイと、ユーザ入力インターフェースと、半導体メンテナンス時間追跡部と、第１のタスク時間追跡部と、第２のタスク時間追跡部と、ディスプレイ、ユーザ入力インターフェース、半導体メンテナンス時間追跡部、第１のタスク時間追跡部、および第２のタスク時間追跡部に通信可能に結合されたプロセッサとを有する。プロセッサは、半導体ツールのメンテナンスおよび動作の一貫性を改良するようにポータブル電子デバイスを動作させるように構成され、これは、ポータブル電子デバイスによって、ユーザが半導体ツールに対してメンテナンスに関連する少なくとも１つのアクションを実施していると判断することによって行われ、ここで、メンテナンスは、少なくとも第１のタスクおよび第２のタスクを含む。メンテナンスに費やされる時間はポータブル電子デバイスによって追跡され、ここで、メンテナンスに費やされる時間は、少なくとも第１のタスクに費やされる時間および第２のタスクに費やされる時間を含む。ポータブル電子デバイスによって、ユーザが第１のタスクに関連する少なくとも１つのアクションを実施していると判断され、その判断に応答して、第１のタスクに関連する命令が、ポータブル電子デバイスを介してユーザに提供される。また、その判断に応答して、第１のタスクに費やされる時間が、ポータブル電子デバイスによって追跡される。さらに、ポータブル電子デバイスによって、ユーザが第２のタスクに関連する少なくとも１つのアクションを実施していると判断され、その判断に応答して、第２のタスクに関連する命令が、ポータブル電子デバイスを介してユーザに提供される。また、その判断に応答して、第２のタスクに費やされる時間が、ポータブル電子デバイスによって追跡される。次いで、第１のタスクに費やされた時間および第２のタスクに費やされた時間を含む、半導体ツールのメンテナンスに費やされた時間は、ポータブル電子デバイスから関連する計算デバイスに出力される。
【０００７】
これらおよび他の実装形態および詳細を、添付図面および以下の説明で述べる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】整備、メンテナンス、および追跡の活動を支援するためのモバイルデバイスを備えた例示的な半導体システムを示す図である。
【０００９】
【図２】モバイルデバイスによって半導体ツールのメンテナンスおよび追跡活動を支援する一例を詳述する流れ図である。
【００１０】
【図３】モバイルデバイスによって半導体ツールのメンテナンスおよび追跡活動を支援する別の例を詳述する流れ図である。
【００１１】
【図４】モバイルデバイスによって半導体ツールのメンテナンスおよび追跡活動を支援するさらなる例を詳述する流れ図である。
【００１２】
【図５】半導体ツールのメンテナンスおよび追跡活動を支援するための例示的なモバイルデバイスインターフェースを示す図である。
【００１３】
【図６】半導体ツールのメンテナンスおよび追跡活動を支援するための、遅延ポップアップ画面を備えたさらなる例示的なモバイルデバイスインターフェースを示す図である。
【００１４】
【図７】問題ポップアップ画面を備える図６のさらなる例示的なモバイルデバイスインターフェースを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本明細書に記載される主題の１つまたは複数の実装形態の詳細を、添付図面および以下の説明で述べる。他の特徴、態様、および利点は、本明細書、図面、および特許請求の範囲から明らかになろう。以下の図の相対的な寸法は、縮尺通りの図面であることが特に示されていない限り、縮尺通りには描かれていないことがあることに留意されたい。
【００１６】
本明細書で使用するとき、用語「半導体ウェハ」は、半導体材料（例えばシリコン）から形成されたウェハと、一般に半導体として認識されていない材料（例えばエポキシ）から形成されるが、典型的には半導体処理中に半導体材料が上に堆積されたウェハとの両方を表すことがある。本開示で述べる装置および方法は、直径２００ｍｍ、３００ｍｍ、および４５０ｍｍの半導体ウェハを含む複数のサイズの半導体ウェハの処理で使用して差し支えない。
【００１７】
ウェハ均一性が、高品質の半導体ウェハまたは基板の処理における重要な因子である。ウェハ均一性の一要因は、半導体ツールの状態である。定期的な半導体ツールのメンテナンスが、半導体ツールが処理後の半導体ウェハ間のばらつきを最小限に抑える状態になっていることを保証する要因である。さらに、欠陥がないことも、処理後の半導体ウェハの重要な特徴である。定期的な半導体のメンテナンスは、半導体ウェハでの欠陥を減少する助けとなる。
【００１８】
ウェハのスループットが、半導体ウェハの処理における別の因子である。半導体ツールのメンテナンス時間を最小限に抑えることで、半導体ウェハを処理するために半導体ツールを利用可能でないダウンタイムを短縮することによって、ウェハスループットが増加されることがある。さらに、一貫したメンテナンス技術により、半導体製造施設は、メンテナンスによるダウンタイムをより正確に予測し、したがって半導体ツールの動作をより正確に計画することが可能になる。したがって、再現性があり、一貫性があり、効率的な半導体メンテナンスは、半導体ウェハ処理の品質とスループットの両方を改良し得る。
【００１９】
現在、半導体ツールのメンテナンス・オペレーションは、典型的には手書きフォームで追跡されている。メンテナンス技術者は、メンテナンス・オペレーションを行い、メンテナンス・オペレーションの詳細をフォームに記録する。メンテナンスは複数のフォームで追跡されてよい。半導体ツールのメンテナンスを改善するためにフォームからのデータが使用されてよいが、フォームが紛失されることがあり、また、手書きのフィードバックの分析は、量およびタイミングの制約により、不正確、面倒、または不可能になることがある。技術者によって記入されたフォームの分析は時間がかかり、フォームが紛失されたときには、半導体ツールのメンテナンスの改善の仕方に関する正確なデータを提供することができない。本発明者らは、モバイルデバイスへの半導体ツールメンテナンス・オペレーションの統合により、技術者が、半導体ツールのメンテナンスをより正確に実施することが可能になり、またデータのより正確な分析が、メンテナンスおよび半導体製造をより高い再現性、一貫性、および効率にすることを可能にすると認識している。
【００２０】
図１は、整備、メンテナンス、および追跡の活動を支援するためのモバイルデバイスを備えた例示的な半導体システムを示す。システム１００は、タブレット１０２などのポータブル電子デバイスと、半導体ツール１０４と、サーバ１０６と、クライアントコンピュータ１０８とを含む。クライアントコンピュータ１０８は、レポート１１０を出力することがある。
【００２１】
システム１００において、半導体ツール１０４は、タブレット１０２、サーバ１０６、および／またはクライアントコンピュータ１０８に機器ネットワーク１０１で接続されてよい。半導体ツール１０４は、ハードライン接続またはＷｉＦｉ、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）、４Ｇなどのワイヤレス接続など、ネットワーク接続を介して接続されてよい。接続を介して、半導体ツール１０４と、タブレット１０２、サーバ１０６、および／またはクライアントコンピュータ１０８との間でデータが転送されてよい。転送されるデータは、半導体ツールのメンテナンスを行う方法、半導体ツールのメンテナンスに費やされる時間およびメンテナンス作業に関するデータ、遅延および問題に関する情報、ならびに半導体ツールメンテナンスに関連する他の情報を含んでいてよい。
【００２２】
機器ネットワーク１０１は、例えば、ＴＣＰ／ＩＰベースのネットワーク、電気通信ネットワーク、ワイヤレスネットワーク、ケーブルネットワーク、パブリックネットワーク、プライベートネットワーク、ワイドエリアネットワーク、ローカルエリアネットワーク、インターネット、ワールドワイドウェブ、イントラネット、エクストラネットなどを含む広範なネットワーク環境の任意の部分集合または組合せを含んでいてよい。デバイス１０２、１０４、１０６、および１０８は、ネットワーク１０１に接続すること、ネットワーク１０１によって相互接続されたまたはネットワーク１０１と一体化された多様なサイト、ネットワーク、およびシステムと対話すること、およびクライアントデバイス１０２および１０８にユーザインターフェースが提供されるようにアプリケーションおよびアプリをダウンロードおよび実行することが可能であってよい。そのようなデバイスは、限定はしないが、モバイルデバイス（例えば携帯電話、スマートフォン、スマートウォッチ、タブレットなど）およびパーソナルコンピュータ（例えばラップトップおよびデスクトップ）を含む。
【００２３】
ユーザインターフェースは、本明細書で述べる技術に従って、様々な形でクライアントデバイス１０２および１０８に提供されてよい。例えば、ユーザインターフェース（ＵＩ）レイアウトが、対応するアプリの実行中に呼び出されたときに提示されるように、レイアウト記述言語でクライアントデバイスに記憶されていてよい。代替として、ＵＩレイアウトは、アプリから遠隔プラットフォームへの呼出しに応答して提示されるように、レイアウト記述言語でクライアントデバイスに送信されてもよい。さらに、特定のＵＩレイアウトのネイティブビューが作成されると、ネイティブビューは、そのビューに結び付けられた同じまたは異なるデータと共に提示されるように、クライアントデバイスにローカルに保存されてもよい。所与のアプリに関するＵＩレイアウトおよび／またはそのＵＩレイアウトに結び付けられたデータは、様々なデータ源からのものでよい。例えば、ＵＩレイアウトと、結び付けられたデータとの両方が、アプリの一部としてまたはアプリに関連して、クライアントデバイスのメモリに常駐していてよい。代替として、ＵＩレイアウトはクライアントデバイスに常駐していてよく、一方、結び付けられたデータは、アプリまたはレイアウトエンジンからの呼出しに応答してＵＩレイアウトと共に提示されるように遠隔プラットフォーム（例えばサーバ１０６）から送信されてよい。
【００２４】
図１に示される実装形態では、半導体ツール１０４、サーバ１０６、およびコンピュータ１０８は、ハード接続を介して接続され、タブレット１０２は、ワイヤレス接続を介してコンピュータ１０８に接続されている。他の実装形態では、タブレットは、ハード接続を介して半導体ツールおよび／またはサーバに接続されてもよい。様々な他の実装形態は、システムの部品間の接続性の様々な構成を含んでいてよい。様々な他の実装形態のネットワーク接続は、ハードライン接続またはワイヤレス接続のいずれかを介するものでよい。
【００２５】
また、本明細書における特定の計算パラダイムおよびソフトウェアツールへの言及に関わらず、様々な実装形態が基づく論理および／またはコンピュータプログラム命令は、広範なプログラミング言語、ソフトウェアツール、およびデータフォーマットの任意のものに対応していてよく、任意のタイプの非一時的なコンピュータ可読記憶媒体またはメモリデバイスに記憶されてよく、例えばクライアント／サーバモデルやピアツーピアモデルなど様々な計算モデルに従って、スタンドアローン計算デバイスで、または様々な機能が異なる場所で実施もしくは採用され得る分散計算モデルに従って実行されてもよい。さらに、本明細書における特定のプロトコルへの言及は、例にすぎない。これら全ての変形形態に関して当業者に知られている適切な代替形態が採用されてもよい。
【００２６】
本開示によるポータブル電子デバイス／タブレット１０２は、半導体ツール１０４およびサーバデバイス１０６と通信可能に結合される。ポータブル電子デバイスは、ディスプレイと、ユーザ入力インターフェースと、半導体メンテナンス時間追跡部と、第１のタスク時間追跡部と、第２のタスク時間追跡部と、ディスプレイ、ユーザ入力インターフェース、半導体メンテナンス時間追跡部、第１のタスク時間追跡部、および第２のタスク時間追跡部に通信可能に結合されたプロセッサとを有する。以下にさらに説明するように、プロセッサは、半導体ツールのメンテナンスおよび動作の一貫性を改良するように装置を動作させるように構成され、これは、ポータブル電子デバイスによって、ユーザが半導体ツールに対してメンテナンスに関連する少なくとも１つのアクションを実施していると判断することによって行われ、ここで、メンテナンスは、少なくとも第１のタスクおよび第２のタスクを含む。メンテナンスに費やされる時間はポータブル電子デバイスによって追跡され、ここで、メンテナンスに費やされる時間は、少なくとも第１のタスクに費やされる時間および第２のタスクに費やされる時間を含む。ポータブル電子デバイスによって、ユーザが第１のタスクに関連する少なくとも１つのアクションを実施していると判断され、その判断に応答して、第１のタスクに関連する命令が、ポータブル電子デバイスを介してユーザに提供される。また、その判断に応答して、第１のタスクに費やされる時間が、ポータブル電子デバイスによって追跡される。さらに、ポータブル電子デバイスによって、ユーザが第２のタスクに関連する少なくとも１つのアクションを実施していると判断され、その判断に応答して、第２のタスクに関連する命令が、ポータブル電子デバイスを介してユーザに提供される。また、その判断に応答して、第２のタスクに費やされる時間が、ポータブル電子デバイスによって追跡される。第１のタスクに費やされた時間および第２のタスクに費やされた時間を含む、半導体ツールのメンテナンスに費やされた時間は、ポータブル電子デバイスから関連する計算デバイスに出力される。
【００２７】
図２は、モバイルデバイスによって半導体ツールのメンテナンスおよび追跡活動を支援する例を詳述する流れ図を示す。図２は、ポータブル電子デバイスによって実施されるアクションと、ポータブル電子デバイスに関連する他のデバイスによって実施されるアクションとに分離される。図２でのポータブル電子デバイスは、図１でのタブレット１０２などのタブレットでよく、またはタブレットやラップトップコンピュータなど別のタイプのポータブル電子デバイスでもよい。図２での関連するデバイスは、半導体ツール、サーバ、コンピュータ、他のロボットデバイスなどでよい。
【００２８】
ブロック２０２で、ユーザは、ユーザが半導体ツールのメンテナンスを実施しているまたは実施しようとしていることを示す様式で、ポータブル電子デバイスと対話する。ユーザが半導体ツールに対してメンテナンスを実施しているまたは実施しようとしていることを示すことがあるポータブル電子デバイスとの例示的なユーザ対話は、半導体のメンテナンスに関連するアプリなどのプログラムを起動すること、ポータブル電子デバイスを半導体ツールに接続すること、半導体ツールメンテナンス命令にアクセスすること、または半導体ツールメンテナンスに関連する命令をダウンロードすることを含んでいてよい。
【００２９】
半導体ツールのメンテナンスは、タスクとサブタスクとに分けられてよい。各タスクは、「半導体チャンバのドアを開く」などの特定の項目でよく、または「半導体処理チャンバを洗浄する」などのタスクでもよく、このタスクは、「半導体チャンバのドアを開く」および「チャンバ内の堆積物を除去する」などのサブタスクの集合を含む。
【００３０】
ブロック２０４で、ユーザが半導体ツールのメンテナンスを実施していると判断された後、半導体ツールのメンテナンスにユーザによって費やされる時間が追跡される。ブロック２０４で、半導体ツールのメンテナンスに費やされる時間は、問題を解決するのに費やされる時間と休止時間とを含む合計時間でよく、または、実際の半導体ツールのメンテナンスを実施するのに費やされる時間のみを含む合計時間でもよい。
【００３１】
ブロック２０４は、半導体のメンテナンスに費やされた時間を、半導体ツール、サーバ、またはコンピュータなどの関連するデバイスに出力してもよい（ブロック２１８）。特定の実装形態では、半導体ツールのメンテナンスに費やされる時間は、費やされる合計時間でよく、半導体ツールのメンテナンスが全て完了してから出力されてもよい。他の実装形態では、半導体ツールのメンテナンスに費やされる時間は、周期的なインターバル中に関連するデバイスに送信されてよく、または連続的に関連するデバイスに送信されてもよい。
【００３２】
ブロック２０６で、ユーザが半導体ツールのメンテナンスに関連する第１のタスクを実施していると判断される。この判断は、例えば、ポータブルデバイスにおいてユーザが半導体ツールのメンテナンスに関連するアプリまたはプログラムで第１のタスクを選択することによって、第１のタスクに関する命令の閲覧を望むことを示すポータブルデバイスとの対話によって、またはユーザが第１のタスクを実施していることを検出する他の方法によって行われる。
【００３３】
ブロック２０８で、ユーザが第１のタスクを実施していると判断されると、関連するデバイスが、第１のタスクに関連する命令を、第１のタスクのためにポータブルデバイスに提供してよい。命令を記憶する関連するデバイスは、半導体ツール、サーバ、またはコンピュータでよい。特定の他の実装形態では、命令は、ポータブルデバイス自体に記憶されてもよい。命令は、ネットワーク接続を介してポータブルデバイスに提供されてもよい。ポータブルデバイスが命令を受信すると、命令は、ポータブルデバイスによって表示されてよい。命令は、文字での命令、聴覚的命令、ビデオ命令、例示的な図面、他の視覚的命令、または媒体の組合せでの命令でよい。
【００３４】
ブロック２１０で、ユーザが第１のタスクを実施していると判断された後、ユーザによって第１のタスクに費やされる時間が追跡される。ブロック２１０で、第１のタスクに費やされる時間は、第１のタスクに関連する全てのサブタスクに費やされる時間を含んでいてもよい。費やされる時間は、問題の解決に費やされる時間と休止時間とを含む合計時間でよく、または第１のタスクの実施に費やされる時間のみを含む合計時間でもよい。特定の実装形態では、第１のタスクのサブタスクに費やされる時間が個別に追跡されてもよい。
【００３５】
ブロック２１０は、第１のタスクに費やされた時間を関連するデバイスに出力してもよい（ブロック２１８）。特定の実装形態では、第１のタスクに費やされた時間は、第１のタスクが終了してから出力されてもよい。他の実装形態では、第１のタスクに費やされる時間は、周期的なインターバル中に関連するデバイスに送信されてよく、または連続的に関連するデバイスに送信されてもよい。
【００３６】
ブロック２１２で、ユーザが半導体ツールのメンテナンスに関連する第２のタスクを実施していると判断される。この判断は、ブロック２０６におけるユーザが第１のタスクを実施しているという判断と同様に行われてもよい。特定の実装形態では、第２のタスクは、第１のタスクが終了した後に行われてよい。他の実装形態は、第２のタスクが第１のタスクと並行して実施されるようにしてよい。そのような状況は、例えば、第１のタスクの実施が第２のタスクを開始するための前提条件でない場合に可能であり得る。したがって、技術者は、第１のタスクと第２のタスクとを切り替えてよい。実際、そのような実装形態では、第２のタスクは、第１のタスクの前に実施されてもよい。
【００３７】
ブロック２１４で、ブロック２０８の場合と同様に、ユーザが第２のタスクを実施していると判断された後、関連するデバイスは、第２のタスクに関連する命令を、第２のタスクのためにポータブルデバイスに提供してよい。
【００３８】
ブロック２１６で、ブロック２１０の場合と同様に、ユーザが第２のタスクを実施していると判断された後、ユーザによって第２のタスクに費やされる時間が追跡される。ブロック２１８と同様に、第２のタスクに費やされた時間が出力されてもよい。第２のタスクに費やされた時間は、第１のタスクに費やされた時間と同様に出力されてよく、第２のタスクは、サブタスクを含んでいてもよい。
【００３９】
出力された時間データは、半導体ツールメンテナンス命令および技法を改善するために分析されてよい。自動の時間追跡は、メンテナンスに費やされる時間に関するデータが正確であることを保証する。追跡された時間の自動出力は、時間データの全てまたは実質的に全てが分析のためにサーバに到達することを保証し、したがって時間データを分析することによって至る結論が正確であることを保証する。
【００４０】
図３は、モバイルデバイスによって半導体ツールのメンテナンスおよび追跡活動を支援する別の例を詳述する流れ図を示す。図３のブロック３０２〜１８は、それぞれ図２のブロック２０２〜１８と同様である。ブロック２０２〜１８に関して述べた説明は、ブロック３０２〜１８にも適用可能である。
【００４１】
図３は、ブロック３２０および３２２を含む。ブロック３２０および３２２は、半導体メンテナンス中の例示的な遅延を表す。ブロック３２０で、第１のタスクの実施に遅延があると判断される。遅延があるという判断は、ポータブルデバイスまたは関連するデバイスによって行われてよく、これは、例えば、ユーザに一時停止ボタンを押させることによって、ユーザが半導体ツールメンテナンスに関連する特定のアクションを実施していないことを検出することによって、場合によっては閾値時間フレームによって、命令の一時停止によって、半導体ツールメンテナンス処置から逸れることによって、または遅延があると判断する他の方法によって行われる。
【００４２】
ブロック３２０で遅延があると判断された後、ブロック３２２で、遅延の時間が追跡される。遅延の時間は、ブロック３２０で概説したように遅延が最初に検出された時から、遅延が終了したと判断された時までの時間でよい。例えば、遅延が終了したことを示すようにユーザがポータブルデバイスまたは関連するデバイスと対話することによって、ユーザが一時停止解除ボタンを押すことによって、ユーザが二次デバイス、関連するデバイス、もしくは半導体ツールと再び対話することによって、またはユーザが遅延を解決したことを検出することによって、遅延が終了したと判断されてよい。
【００４３】
ユーザは、半導体メンテナンス中に複数の遅延に直面することがある。様々な実装形態は、個々の遅延で費やされる時間を個別に追跡してよく、個々の遅延で費やされる合計時間を追跡してもよく、または様々な個々の遅延で費やされる個別の時間と、遅延で費やされる合計時間との両方を追跡してもよい。次いで、ブロック３１８で、遅延に費やされた時間が関連するデバイスに出力されてよい。
【００４４】
遅延に関する情報は、情報が出力された後に分析されてよい。例えば、遅延がよく発生する領域を決定するために、遅延の傾向またはパターンが識別されてよい。そのようなパターンは、例えばより高い効率または再現性となるように半導体ツールメンテナンス手順を改善するために、その手順に対して行われるべき特定の変更を示すことがある。さらに、パターンのない多くの遅延を示すデータは、メンテナンス命令の提示のされ方に根本的な欠陥があり得ることを示していることがある。提供される時間データおよび遅延データの分析から他の結論もあり得る。
【００４５】
図４は、モバイルデバイスによって半導体ツールのメンテナンスおよび追跡活動を支援するさらなる例を詳述する流れ図を示す。図４のブロック４０２〜１８は、それぞれ図２のブロック２０２〜１８と同様である。ブロック２０２〜１８に関して述べた説明は、ブロック４０２〜１８にも適用可能である。
【００４６】
図４は、ブロック４２０および４２２を含む。ブロック４２０および４２２は、半導体メンテナンス中に直面される例示的な問題を表す。ブロック４２０で、第１のタスクの実施中に問題があると判断される。問題があるという判断は、ポータブルデバイスまたは関連するデバイスによって行われてよく、これは、例えば、ユーザに問題ボタンを押させることによって、ユーザが半導体ツールメンテナンスに関連する特定のアクションを実施していないことを検出することによって、場合によっては閾値時間フレームによって、命令の一時停止によって、半導体ツールメンテナンス処置から逸脱することによって、ユーザが第１のタスクの少なくとも一部を不適切に実施したと判断することによって、または問題があると判断する他の方法によって行われる。
【００４７】
ブロック４２０で問題があると判断された後、ブロック４２２で、問題を解決するための時間が追跡される。問題を解決するための時間は、ブロック４２０で概説したように問題が最初に検出された時から、問題が解決されたと判断された時までの時間でよい。例えば、問題が解決されたことを示すようにユーザがポータブルデバイスまたは関連するデバイスと対話することによって、ユーザが問題終了ボタンを押すことによって、ユーザが半導体メンテナンスのステップを現在適切に実施していることを検出することによって、または様々な他の方法でユーザが問題を解決したことを検出することによって、問題が解決されたと判断されてよい。
【００４８】
さらに、ブロック４２０で、例えば、問題の報告および／または問題が解決された方法の説明をユーザに提供させることによって、問題の理由が追跡されてよい。ユーザは、モバイルデバイスおよび／または関連するデバイスでのユーザインターフェースに情報を提供することによって、報告および／または説明を提供してよい。ユーザは、タイピング、言葉、または他の手段によって情報を提供してよい。
【００４９】
ユーザは、半導体メンテナンス中に複数の問題に直面することがある。様々な実装形態は、個々の問題に費やされる時間を個別に追跡してよく、個々の問題に費やされる合計時間を追跡してもよく、または様々な個々の問題に費やされる個別の時間と、問題に費やされる合計時間との両方を追跡してもよい。次いで、ブロック３１８で、問題に費やされた時間が関連するデバイスに出力されてよい。
【００５０】
半導体ツールメンテナンス手順をさらに改善するために、ユーザが直面した問題およびユーザのフィードバックに関するデータが分析されてよい。例えば、直面した問題のパターンが識別されてよく、パターンの根本原因が特定されてよい。次いで、問題の根本原因をなくすために、半導体ツールメンテナンス手順が修正されてよい。ユーザのフィードバックは、半導体ツールメンテナンス手順の改善の仕方を決定するときに考慮に入れられてもよい。ユーザが直面した問題を分析することによって半導体ツールメンテナンス手順を改善する他の方法が使用されてもよい。
【００５１】
図５は、半導体ツールのメンテナンスおよび追跡活動を支援するための例示的なモバイルデバイスインターフェースを示す。図５のインターフェース５００は、半導体ツールメンテナンスに費やされる時間を追跡するための例示的なインターフェースである。インターフェース５００は、タブレットやラップトップコンピュータなどのポータブル電子デバイスに提供されてよい。
【００５２】
インターフェース５００は、タスク欄５０２、目標時間欄５０４、時間追跡欄５０６、ステータス欄５０８、ステップ完了欄５１０を示す。
【００５３】
インターフェース５００は、複数のタスクを含む半導体ツールメンテナンス手順を示す。各タスクは、複数のサブタスクを含んでいてよい。タスク欄５０２は、１１個のタスクを示す。タスク欄の各タスクは、「＋」記号を含む。図示される実装形態では、タスクの「＋」記号をクリックすることで、タスクが展開されてよく、対応するサブタスクを表示する。
【００５４】
目標時間欄５０４は、様々なタスクに関する目標時間を示す。目標時間は、通常の技量の技術者がそのタスクを完了することができる推定時間でよい。目標時間は、半導体ツールのメンテナンスを行う技術者が、作業を行う自分の技量を判定することを可能にすることがある。目標時間は、半導体ツールのメンテナンス全体に関して表示されても、サブタスクに関して表示されてもよい。
【００５５】
時間追跡欄５０６は、タスクまたはサブタスクに費やされる時間を表示してよい。タスクが現在実施されている場合、費やされる時間が増分してよい。費やされる時間は、実施されているタスクに関してのみ表示されてよく、実施されているタスクまたは作業済みのタスクに関して表示されてもよく、インターフェース５００に示される全てのタスクおよびサブタスクに関して表示されてもよい。
【００５６】
ステータス欄５０８は、タスクまたはサブタスクのステータスを示す。表示されることがあるステータスは、「開始前」、「進行中」、「一時停止中」、「問題」、「完了」などのステータスを含む。
【００５７】
ステップ完了欄５１０は、各タスクの下位のサブタスクの数、およびまた完了したサブタスクの数を示す。右側の数字はサブタスクの数を示し、左側の数字は、完了したサブタスクの数を示す。
【００５８】
図６は、半導体ツールのメンテナンスおよび追跡活動を支援するための、遅延ポップアップ画面を備えたさらなる例示的なモバイルデバイスインターフェースを示す。インターフェース６００は、半導体ツールメンテナンスに費やされる時間を追跡するためのさらなる例示的なインターフェースである。
【００５９】
インターフェース６００は、タスク欄６０２、目標時間欄６０４、時間追跡欄６０６、ステータス欄６０８、ステップ完了欄６１０、ポップアップ画面６１２、およびビデオ命令ウィンドウ６１４を示す。タスク欄６０２、目標時間欄６０４、時間追跡欄６０６、ステータス欄６０８、およびステップ完了欄６１０は、それぞれ図５における欄５０２〜１０と同様である。したがって、欄５０２〜１０に適用可能な開示は、欄６０２〜１０にも適用可能である。
【００６０】
ポップアップ画面６１２は、ユーザが遅延の理由を選択することを可能にする。図示される実装形態では、ポップアップ画面６１２は、遅延の理由として、「ユーザ割込み−問題」、「部品の損壊」、「部品の損失」、「チャンバの損壊」、「設備の準備未完了」、「工場避難」、および「その他」の選択項目を提供する。他の実装形態は、遅延の理由についての他の選択肢を含んでいてもよい。遅延の理由が選択されると、さらなるウィンドウにより、ユーザが、遅延の理由に関するさらなる詳細を提供することを可能にされてもよい。
【００６１】
図６ではポップアップ画面６１２によって一部見えないビデオ命令ウィンドウ６１４は、半導体ツールメンテナンスの様々なタスクおよびサブタスクに関するビデオ命令を表示してよい。ビデオ命令は、ポータブル電子デバイスのメモリに記憶されてよく、または、ユーザが半導体ツールのメンテナンスを実施していることもしくは特定のタスクを実施していることが検出されたときに関連するデバイスからダウンロードされてもよい。
【００６２】
図７は、問題ポップアップ画面を有する図６のさらなる例示的なモバイルデバイスインターフェースを示す。インターフェース７００は、ポップアップウィンドウ７１２を示す。ポップアップウィンドウ７１２は、図６でのポップアップ画面６１２などのポップアップ画面においてユーザが遅延理由を選択した後に表示されてよい。次いで、ユーザは、ポップアップウィンドウ７１２で遅延の特定の理由を入力してよい。次いで、その理由が、半導体ツールメンテナンスプロセスの改善の仕方について分析するためにサーバまたはコンピュータに送信されてよい。
【００６３】
本明細書で上述した装置／プロセスは、例えば、半導体デバイス、ディスプレイ、ＬＥＤ、太陽電池パネルなどの作製または製造のために、リソグラフィパターン形成ツールまたはプロセスと共に使用されてよい。典型的には、必須ではないが、そのようなツール／プロセスは、共通の製造施設で一緒に使用または実施される。被膜のリソグラフィパターン形成は、典型的には、以下のステップのいくつかまたは全てを含み、各ステップが、いくつかの可能なツールによって実現可能にされる：（１）スピンオンまたはスプレーオンツールを使用して、被加工物、すなわち基板にフォトレジストを塗布するステップ；（２）ホットプレートまたは炉またはＵＶ硬化ツールを使用してフォトレジストを硬化するステップ；（３）ウェハステッパなどのツールを用いて可視光またはＵＶ光またはＸ線光でフォトレジストを露光するステップ；（４）ウェットベンチなどのツールを使用して、レジストを現像し、レジストを選択的に除去し、それによりレジストをパターン形成するステップ；（５）ドライエッチングまたはプラズマエッチングツールを使用することによって、下にある被膜または被加工物にレジストパターンを転写するステップ；および（６）ＲＦまたはマイクロ波プラズマレジストストリッパなどのツールを使用してレジストを除去するステップ。
【００６４】
特定の記載された実装形態の任意のものの特徴が相互に不適合であると明示的に識別されない限り、または周囲の文脈が、それらの特徴が相互に排他的であり、補完的および／または補助的な意味で容易に組合せ可能でないことを示唆しない限り、本開示の全体は、それらの補完的な実装形態の特定の特徴を選択的に組み合わせて、１つまたは複数の包括的であるがわずかに異なる技術的解決策を提供することができることを企図して想定していることも理解されたい。したがって、上記の説明は例として与えられているにすぎず、詳細の変更が本開示の範囲内で行われてもよいことをさらに理解されたい。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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