(57)【要約】本発明は、（ａ）感染した爪又は皮膚にプラズマを当て；（ｂ）感染した爪又は皮膚を再水和し；（ｃ）感染した爪又は皮膚にプラズマを当て；そして（ｄ）任意に、感染した爪又は皮膚を再水和する；ことを含み；工程（ａ）及び（ｃ）のそれぞれにおいて、プラズマを、プラズマ処置した部分の水和レベルがプラズマ処置した部分の当初の湿分含量に基づいて最大で３０重量％、好ましくは最大で２０重量％低下するまで爪又は皮膚の一部に当てる方法において用いられる、感染した爪又は感染した皮膚の処置において用いるための非熱プラズマに関する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）感染した爪又は皮膚にプラズマを当て；
（ｂ）感染した爪又は皮膚を再水和し；
（ｃ）感染した爪又は皮膚にプラズマを当て；そして
（ｄ）任意に、感染した爪又は皮膚を再水和する；
ことを含み；
工程（ａ）及び（ｃ）のそれぞれにおいて、プラズマを、プラズマ処置した部分の水和レベルがプラズマ処置した部分の当初の湿分含量に基づいて最大で３０重量％、好ましくは最大で２０重量％低下するまで爪又は皮膚の一部に当てる方法において用いられる、感染した爪又は感染した皮膚の処置において用いるための非熱プラズマ。
【請求項２】
プラズマを、工程（ａ）及び（ｃ）のそれぞれにおいて、プラズマ処置した部分の水和レベルが爪又は皮膚の当初の湿分含量を基準として最大で１０重量％低下するまで爪又は皮膚に当てる、請求項１に記載の非熱プラズマ。
【請求項３】
工程（ｂ）及び（ｄ）のそれぞれにおいて爪又は皮膚を再水和することによって、爪又は皮膚の水和レベルを未処置の爪又は皮膚の当初の湿分含量に実質的に回復させる、請求項１又は請求項２に記載の非熱プラズマ。
【請求項４】
（ｉ）工程（ａ）〜（ｄ）は重複させず；及び／又は
（ｉｉ）この方法は工程（ｂ）及び（ｃ）を少なくとも１回、好ましくは少なくとも３回繰り返すことを含む；
請求項１〜３のいずれか一項に記載の非熱プラズマ。
【請求項５】
爪又は皮膚が、ウイルス、細菌、又は菌類感染症に感染している、請求項１〜４のいずれか一項に記載の非熱プラズマ。
【請求項６】
爪又は皮膚が紅色白癬菌（Trichophyton rubrum）に感染しているか、又は皮膚がヒト乳頭腫ウイルスに感染している、請求項５に記載の非熱プラズマ。
【請求項７】
いぼ、水虫、及び／又は爪真菌症を処置するための、請求項１〜６のいずれか一項に記載の非熱プラズマ。
【請求項８】
プラズマが、ガス、好ましくはヘリウム、酸素、アルゴン、クリプトン、ネオン、空気、水素、及びこれらの２以上の混合物から選択されるガスを通して放電することによって与えられる、請求項１〜７のいずれか一項に記載の非熱プラズマ。
【請求項９】
工程（ａ）及び（ｃ）のそれぞれにおいて、プラズマを処置する爪又は皮膚の部分に、５秒間〜２分間、好ましくは１５秒間〜１分間当てる、請求項１〜８のいずれか一項に記載の非熱プラズマ。
【請求項１０】
工程（ｂ）及び（ｄ）のそれぞれにおいて、皮膚又は爪の表面に水を施し、次に皮膚又は爪の表面から過剰の水を除去することによって皮膚又は爪を再水和する、請求項１〜９のいずれか一項に記載の非熱プラズマ。
【請求項１１】
水を皮膚又は爪に、１５秒間〜６分間、好ましくは１分間〜３分間施す、請求項１０に記載の非熱プラズマ。
【請求項１２】
方法が、
（Ａ）プラズマを爪に約３０秒間当て；
（Ｂ）爪に水を約２分間施すことによって爪を再水和し；そして
（Ｃ）工程（Ａ）及び（Ｂ）を少なくとも３回繰り返す；
ことを含む、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の非熱プラズマ。
【請求項１３】
工程（ａ）の前に、感染した爪又は皮膚をヤスリがけ又は研磨する、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の非熱プラズマ。
【請求項１４】
（ａ）非熱プラズマを爪の少なくとも一部に当て；
（ｂ）爪のかかる部分を再水和し；
（ｃ）爪のかかる部分に非熱プラズマを当て；そして
（ｄ）任意に、爪のかかる部分を再水和する；
ことを含む、爪の色を明るくするための非治療方法。
【請求項１５】
（ａ）感染した爪又は皮膚にプラズマを当て；
（ｂ）感染した爪又は皮膚を再水和し；
（ｃ）感染した爪又は皮膚にプラズマを当て；そして
（ｄ）任意に、感染した爪又は皮膚を再水和する；
ことを含み；
工程（ｂ）及び（ｄ）のそれぞれにおいて、皮膚又は爪に水又は水を含む組成物を施すことによって皮膚又は爪を再水和し、工程（ｃ）の前に皮膚又は爪から過剰の水を除去する方法において用いられる、感染した爪又は感染した皮膚の処置において用いるための非熱プラズマ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感染した爪又は感染した皮膚のプラズマによる処置に関する。本発明は特に、所謂「低温プラズマ」を用いる非熱プラズマ処置に関する。この処置は、好ましくは医療環境又は専門環境において、或いはユーザーの家庭環境にいながらにして行われる。
【背景技術】
【０００２】
気体は通常は電気絶縁体である。しかしながら、十分な熱エネルギーを気体に供給するか、或いは気体を含む間隙を横切って十分に大きい電位差を印加すると、気体は分解して電気を伝導するようになる。これは、気体の電気的に中性の原子又は分子が電離して電子、及び最終的に荷電イオンを形成するからである。この電離した気体がプラズマである。
【０００３】
大きな電位差によって電離を推進する場合には、軽質な電子とより重質の気体分子及びプラズマイオンとの間の運動量移動はさほど効率的ではない。したがって、プラズマを形成するために供給されるエネルギーの大部分は電子に供給される。その結果、特に低い気体圧力及び荷電粒子密度において電離した気体は、「低温」又は非熱と言われる。これは、構成成分、例えば電子、イオン、及び気体分子がそれぞれ類似した質量の種としか熱平衡でないことを意味する。
【０００４】
かかる非熱プラズマは、細菌を死滅させるのに用いることが周知である。この理由のために、非熱プラズマを種々の形態の歯科外科治療で用いることが公知である。患者の口腔内で操作する際の制約のために、かかるプラズマ装置は、通常は処置領域上に向けることができるプラズマを生成させる２つの電極の間に気体を流すことに依拠している。プラズマの非熱生成によって、患者が耐えられる温度を有するプラズマガスが与えられる。国際公開第２０１３／０４０４７６号においては、歯科処置装置が開示されている。
【０００５】
また、皮膚感染症を処置するためにプラズマ装置を用いることも公知である。かかる用途においては、通常は患者の皮膚を用いて第二電極を与える。この方法においては、第一電極を処置する領域の上に保持することができ、電極と患者の皮膚の間に大きな電圧差を形成する。これによって、電極と患者の皮膚の間の気体からプラズマが形成される。これによって、大きな電極を用いて大きな領域を処置することが可能になるが、これは空気層からのプラズマの形成に依拠している。例えば、米国特許第８１０３３４０号明細書は患者の皮膚を処置するためにかかる装置を用いている。
【０００６】
分解の性質、及びこれが起こる電圧は、気体、気体の圧力、材料及び性質、それを横切って電位差が維持される表面の形状及び離隔、電極の離隔距離、並びに高電圧源の性質などの数多くのパラメーターに応じて変化することが知られている。
【０００７】
爪真菌症のような疾病を処置しようとする際に、処置領域の表面に増感剤を施すことは公知である。例えば、国際公開第２０１３／０４０５４２号において開示されているように、処置中に増感剤を爪の表面上に噴霧して表面を濡らし、処置部位上でプラズマガスと相互作用させることができる。プラズマは、湿潤を行う前、又は行った後に当てることができる。増感剤は水であってよい。
【０００８】
国際公開第２０１３／１４０３７１号は、かつらを製造するための毛髪のようなケラチン繊維を処理する方法に関する。この方法は、繊維を１秒間〜６０分間プラズマ漂白することを含む。
【０００９】
国際公開第２０１４／１４３４１２号は、爪真菌症の処置のような抗菌処置のための方法及び装置に関する。この方法は、非熱プラズマを超音波と組み合わせて当てることを含み、著しく良好な治癒率を与えると記載されている。
【００１０】
国際公開第２０１０／０７２９９７号は、歯を生体内で美容ホワイトニングする方法に関する。この方法は、処置のために許容できる温度において歯にプラズマガス流を供給することを含む。代表的な処置においては、屠殺されたばかりのブタの顎から得た歯を湿潤状態に維持して実際の歯科環境をシミュレートした。
【００１１】
英国特許第２５０１４８４号明細書は、歯の処置装置に関する。この装置は、処置部位に非熱プラズマを当てることに依拠しており、プラズマの出口に電極を導入して、装置から放出されるプラズマガス中の電子の数を減少させている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】国際公開第２０１３／０４０４７６号
【特許文献２】米国特許第８１０３３４０号明細書
【特許文献３】国際公開第２０１３／０４０５４２号
【特許文献４】国際公開第２０１３／１４０３７１号
【特許文献５】国際公開第２０１４／１４３４１２号
【特許文献６】国際公開第２０１０／０７２９９７号
【特許文献７】英国特許第２５０１４８４号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明の目的は、種々の処置のためにプラズマを用いる改良されたアプローチを与え、従来技術に関連する欠点に対処し、或いは少なくともそれに対する商業的に実用可能な代替法を与えることである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
したがって、第１の形態においては、本発明は、
（ａ）感染した爪又は皮膚にプラズマを当て；
（ｂ）感染した爪又は皮膚を再水和し；
（ｃ）感染した爪又は皮膚にプラズマを当て；そして
（ｄ）任意に、感染した爪又は皮膚を再水和する；
ことを含み；
工程（ａ）及び（ｃ）のそれぞれにおいて、プラズマを、プラズマ処置した部分の水和レベルがプラズマ処置した部分の当初の湿分含量に基づいて最大で３０重量％、好ましくは最大で２０重量％低下するまで爪又は皮膚の一部に当てる方法において用いられる、感染した爪又は感染した皮膚の処置において用いるための非熱プラズマを提供する。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】図１は、プラズマ装置の概要図を示す。
【図２】図２は、主要なプロセス工程のフロー図を示す。
【図３】図３は、ヤスリがけした爪及びヤスリがけしていない爪に対して１分間プラズマ処置した後の再水和速度を示す。
【図４】図４は、ヤスリがけしていない爪に対して１、５、及び１５分間プラズマ処置した後の再水和速度を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
ここで、本発明を更に記載する。以下の節において、本発明の異なる形態／態様をより詳細に規定する。かくして規定されるそれぞれの形態／態様は、明確に反対に示されていない限りにおいて任意の他の１つ又は複数の形態／態様と組み合わせることができる。特に、好ましいか又は有利であると示されている任意の特徴は、好ましいか又は有利であると示されている任意の他の１つ又は複数の特徴と組み合わせることができる。
【００１７】
本発明は、感染した爪又は感染した皮膚の処置に関する。認識されるように、選択されるプラズマ生成装置のタイプに応じて、処置は爪全体又は爪の一部に施すことができる。処置は、感染した皮膚領域の全体、又は一部のみに施すことができる。その結果、爪又は皮膚の領域の一部のみを処置する場合には、複数の逐次プラズマ処置を行うことが必要な可能性がある。これらは、工程（ａ）及び（ｃ）において感染した領域にわたって行うことができる。工程（ｂ）及び（ｄ）における再水和は、処置した領域の全体により容易に施すことができ、それぞれ好ましくは単一の完全な処置で実施することができる。
【００１８】
上記で議論したように、本方法において用いるプラズマは、低温又は「非熱」プラズマである。熱プラズマは非常に重大な組織の損傷を引き起こすので、これは人体を処置する際には必要である。
【００１９】
本発明方法は、感染した爪又は皮膚にプラズマを逐次及び繰り返し当てて、プラズマ処置した爪又は皮膚を再水和することを含む。このようにすると、処置した領域の水和状態を維持することができる。これによってより迅速でより有効な処置がもたらされることが見出され、これは皮膚又は爪の中で形成される可能性がある水由来のラジカルの存在による可能性があると理論付けられる。空気中に高いレベルの湿分が存在するとプラズマの生成及び寿命を阻害する可能性があることが知られているので、再水和がこのように有効であることは特に驚くべきことである。
【００２０】
上述したように、国際公開第２０１３／０４０５４２号においては、処置部位の表面上にプラズマガスと共に水を噴霧することができることが開示されている。しかしながら、本発明者らは、かかる方法は、有効な処置のために必要な化学種を爪の中に与えるのに必要なプラズマの安定性を阻害することを見出した。更に、国際公開第２０１３／０４０５４２号の方法は、処置する表面上に水をもたらし、これは活性化合物が爪の中に通過して処置を達成するのを阻止するバリアとして機能する。更に、水を爪の表面に施すことによる簡単な表面湿潤は、実質的にその元の水和状態に戻す爪の適当な再水和を達成しない。実際に、これは、爪を水中に（脱水の量に応じて）少なくとも５秒間浸漬することによって最も良好に達成されることが分かった。
【００２１】
本発明は、処置する深さの全体にわたって爪又は皮膚の水和状態を維持することによって、処置を爪又は皮膚中に浸透させることを含む。したがって、一部とは、表面だけを指すのではなく、爪又は感染した皮膚領域の全厚さも指すと意図される。感染した爪を処置する場合には、菌類はしばしば爪床内に存在し、この領域を処置することが重要であり；爪全体にわたって水和状態を維持することはこの処置を促進させることが見出された。
【００２２】
特に、本発明者らは、プラズマを用いることによって爪及び皮膚の感染症の有効な処置が可能であることを見出した。プラズマの効果は、爪に有効に浸透して爪床を処置することが見出され、従来のクリームによる処置よりもはるかに短い処置時間で感染を駆除することができることが見出された。しかしながら、本発明者らは、驚くべきことに、処置した部分の水和状態を維持することができるならば、この処置の効能を大きく増加させることができることを見出した。
【００２３】
理論によって縛られることは望まないが、本発明者らは、感染した爪又は皮膚の領域のプラズマ処置は、プラズマ誘導された反応性酸素及び窒素種（ＲＯＮＳ）の生成によって刺激される数多くのメカニズムによって駆動されると考える。これらは爪の中の湿分を有する部分において形成される可能性があり、したがって爪の湿分を維持することが重要である。
【００２４】
特に、プラズマ処置は、その透過性を増加させて膜の一体性の損失及び細胞内成分の漏出を引き起こすことによって細胞外部を破壊することによりその殺菌作用を発揮することが提唱されている。この壊死による細胞の死滅は、次の１つより多いメカニズムが介在していてもよい。
【００２５】
・プラズマ誘導された反応性酸素及び窒素種（ＲＯＮＳ）によって誘発される脂質及び多糖の過酸化による過渡的な細孔の生成；
・それらの分解をもたらす、細胞膜及び細胞壁中のタンパク質のチオール基のＲＯＮＳによる酸化；
・電場が約５０ｋＶ／ｃｍを超える場合に、装置から放出される残留電流によるエレクトロポレーション。
【００２６】
電離したガスの噴射流と空気との相互作用から生成するＲＯＮＳは爪の中の水と相互作用して、最終的にＯＨＯＮＯ（ペルオキシ亜硝酸）を生成すると仮定する。この分子は、爪を通して浸透する仲介物質として作用してＯＨを放出し、これはおそらくは菌類の細胞に作用する最終的な活性種であると思われる。
【００２７】
プラズマ処置の他の認められている細胞効果であるプログラム細胞死又はアポトーシスは、一般に、おそらくは菌類の胞子の場合を除いて、より関連性の低い殺菌剤の作用機構であると考えられる。アポトーシスは、傷ついた膜構造（例えば過酸化）又は膜結合タンパク質における変化（例えばイオンチャンネルタンパク）が細胞内シグナル経路を活性化して、複雑な細胞応答を導いて最終的にアポトーシスを引き起こす場合に起こり得る。他方において、プラズマによって生成したＲＯＮＳ自体は、細胞質中に浸透して、細胞内の機能酵素及び他の成分を不活化し、ＤＮＡの直接損傷を誘発してアポトーシスを引き起こす可能性がある。
【００２８】
ＵＶ照射は、殺菌作用において適度の役割を有すると思われる。誘発される表面温度は熱的な細胞損傷を与えるものよりも低いので、熱はプラズマの効能に関係するとは考えられていない。
【００２９】
しかしながら、プラズマを爪又は皮膚の表面に当てることは、望ましくない乾燥効果を与える可能性がある。これは、「非熱」という用語にもかかわらず、プラズマには周囲温度よりも高い温度が付随し、これを長時間当てることは熱の蓄積をもたらす可能性があるためである。更に、プラズマの流れは気体の流れのように作用して、それにプラズマを向けた表面から湿分を追い出す。したがって、長時間のプラズマ処置は脱水効果を与える能性がある。
【００３０】
本発明者らはまた、処置した領域の脱水の程度も重要であることも見出した。爪又は皮膚用パッチから損失する湿分の量は、再水和のために必要な時間に関係する。試験において、完全に脱水した爪は水中に２時間浸漬した後でなければ再水和することができなかったのに対して、湿分の損失が元の爪の湿分の３０重量％未満であった場合には、これは５分未満以内の再水和で回復することができたことが分かった。
【００３１】
好ましくは、本方法は、工程（ｂ）及び（ｃ）を少なくとも１回、好ましくは少なくとも３回、好ましくは５回〜１５回、より好ましくは約１０回繰り返すことを含む。逐次的に反復する処置を繰り返して本方法を実施することの有利性は、処置した領域の水和レベルが過度に大きく減少せず、速やかに回復することができることである。
【００３２】
好ましくは、工程（ａ）〜（ｄ）は重複させない。これによって、処置のために必要なプラズマの生成を抑制する水の存在を回避することができる。同様に、処置した表面は、処置する領域から表面水を拭い取るか、又は領域から水を乾燥させることによって過剰の水がない状態に維持することが望ましい。これによって、水が存在して生成した活性種の皮膚又は爪への侵入に対するバリアとして作用することが回避される。
【００３３】
本プラズマ処置法は、ウイルス又は菌類感染症に感染した爪又は皮膚の処置において有効である。特に、本プラズマ処置法は、爪真菌（爪真菌症）及び水虫を与える紅色白癬菌（Trichophyton rubrum）に感染した爪又は皮膚、或いはいぼ（疣贅としても知られる）を引き起こすヒト乳頭腫ウイルスに感染した皮膚を処置するために用いることができる。本プラズマ処置法の使用は、感染症を改善し、疾病が拡大するか又は再発する危険性を減少させるように働く。
【００３４】
爪真菌症は、通常は微生物のカンジダ・アルビカンス（Candida albicans）、毛瘡白癬菌（Trichophyton mentagrophytes）、紅色白癬菌（Trichophyton rubrum）、又は鼠径表皮菌（Epidermorphyton floccusm）によって引き起こされる足指及び手指の爪の疾病である。爪が厚くなって光沢がなくなり、爪先の下側に残屑が蓄積する。爪甲が剥がれるようになり、爪が脱落することもある。爪真菌症の治療は難しく長引くことが認識されている。抗真菌薬による経口治療は数ヶ月の投与が必要であり、副作用を注意深く監視しなければならない。
【００３５】
爪真菌症を処置する目的で、局所的組成物が長い間用いられてきた。しかしながら、爪は抗菌化合物が浸透するのが困難な障壁物質であるので、局所適用に基づくこれらの化学薬品は殆ど成功していなかった。有効であるためには、爪真菌症に関する局所的処置が病原菌に対して強力な有効性を示さなければならない。これはまた、爪の障壁物質を通して浸透性で、且つ患者の使用にとって安全でもなければならない。これらの特質を高い度合いで組み合わせる局所適用に関する必要性が当該技術において存在する。
【００３６】
本発明の組成物及び方法は、爪真菌症のような感染症を処置するための独特な手段を提供する。有利なことに、かかる手段は、組み合わさって、これまで得られなかった安全性、有効性、簡便性、及び毒性がないことなどの幾つかの特性を与える。ここで、試験管内の微生物試験によって、局所適用法である本明細書に記載する方法を用いるプラズマの局所適用を患者に与えて、爪に有効に浸透させて、疾病を引き起こしている菌類を死滅させることができることが分かった。
【００３７】
好ましくは、プラズマは、ガス、好ましくはヘリウム、酸素、アルゴン、クリプトン、ネオン、空気、水素、及びこれらの２以上の混合物から選択されるガスを通して放電することによって与える。特に、ヘリウム、アルゴン、クリプトン、及びネオンのようなガスは、安定化したプラズマをもたらすことができる長く持続する安定なイオンを形成することが知られている。空気の使用は簡便であり、実際にはガスの貯蔵の必要性を回避することができる。しかしながら、大量の酸素が存在すると、望ましくないオゾンレベルの生成がもたらされる可能性がある。したがって、空気中で作業する場合を除いて、酸素は１０００ｐｐｍ未満、より好ましくは５００ｐｐｍ未満の量で存在させることが好ましい。水素は高い熱伝導性を有しており、熱の蓄積を回避するために用いることができるが、これはプラズマの生成を急冷する可能性があり；好ましくは、１体積％〜４体積％の量で存在させる。
【００３８】
好ましくは、工程（ａ）及び（ｃ）のそれぞれにおいて、プラズマを処置する爪又は皮膚の一部に、５秒間〜２分間、より好ましくは１５秒間〜９０秒間、最も好ましくは約３０秒間〜約１分間の間当てる。したがって、プラズマ装置の処置面積が非常に小さい場合には、感染した領域を完全に処置するために、感染した領域を横切って装置を移動させることが必要になるであろう。この場合には、好ましくは処置するそれぞれの領域を上記で言及した時間の間処置する。而して、例えば爪がプラズマ処置装置と比べて８つの別々の部分を処置する必要があるような寸法である場合には、４分間の合計の処置時間によってそれぞれの部分に関して３０秒間の処置が可能になる。
【００３９】
好ましくは、皮膚又は爪は、工程（ｂ）及び（ｄ）のそれぞれにおいて皮膚又は爪に水を施すことによって再水和する。これは最も簡単な方法であり、湿った布、又は浸漬のための水の容器を用いて行うことができる。或いは、再水和は、高湿度空気又はヒドロゲルを用いて行うことができる。
【００４０】
好ましくは、工程（ｂ）及び（ｄ）のそれぞれにおいて爪に水を施すことによって皮膚又は爪を再水和した後、過剰の水を皮膚又は爪から除去する。上述したように、プラズマ処置する表面上に自由水を有することは望ましくない。
【００４１】
好ましくは、水は１５秒間〜６分間の間、皮膚又は爪に施す。より好ましくは、水は１分間〜３分間、最も好ましくは約２分間の間施す。
好ましくは、プラズマは、工程（ａ）及び（ｃ）のそれぞれにおいて、プラズマ処置した部分の水和レベルが爪又は皮膚の当初の湿分含量に基づいて最大で３０重量％、好ましくは最大で２０重量％低下するまで爪又は皮膚に当てる。
【００４２】
爪又は皮膚の湿分含量は、ラマン分光法を用いて求めることができる。手順の効率性のためには、湿分の低下は、爪（皮膚）の当初の湿分含量を基準として少なくとも１重量％、より好ましくは２重量％〜１０重量％、より好ましくは３重量％〜５重量％にすることが好ましい。
【００４３】
爪の湿分含量は、通常は生体内において爪の重量基準で７重量％〜２５重量％である。より通常的には、湿分は１０重量％〜２０重量％であり、これは爪の健康、状態、及び環境によって左右される。処置は、好ましくは、爪の湿分含量を予測することができ、過度の乾燥を回避することができるようにデザインされる。認識されるように、爪が１５重量％の当初の湿分含量を有している場合には、好ましくはこれは１０．５重量％（湿分の３０重量％の低下）未満には低下させない。
【００４４】
好ましくは、工程（ｂ）及び（ｄ）のそれぞれにおいて爪又は皮膚を再水和することによって、爪又は皮膚の水和レベルを、実質的に未処置の爪又は皮膚の当初の湿分含量に回復させる。即ち、好ましくは水和レベルを、元のレベルの少なくとも９０％、より好ましくは少なくとも９５％、最も好ましくは少なくとも９７％に回復させる。
【００４５】
好ましくは、本方法は、
（Ａ）プラズマを爪に約３０秒間当て；
（Ｂ）爪に水を約２分間施すことによって爪を再水和し；そして
（Ｃ）工程（Ａ）及び（Ｂ）を少なくとも３回繰り返す；
ことを含む。
【００４６】
この処置方法は、有効であり、爪が過度に乾燥するのを回避することが分かった。完全な再水和を利用できる時間内に達成することができる。
第２の形態によれば、
（ａ）非熱プラズマを爪の少なくとも一部に当て；
（ｂ）爪のかかる部分を再水和し；
（ｃ）爪のかかる部分に非熱プラズマを当て；そして
（ｄ）任意に、爪のかかる部分を再水和する；
ことを含む、爪の色を明るくするための非治療方法が提供される。
【００４７】
明るくする処置は、特に爪が例えば菌類感染症に感染している場合に存在する可能性がある変色を除去するように働く。
好ましくは、工程（ａ）の前に、感染した爪又は皮膚をヤスリがけ又は研磨して、処置する表面を予め整える。これは、表面被覆の除去、表面粗さの導入、及び処置する厚さの減少が処置の有効性を増加させ、再水和時間を減少させることが分かっている爪に関して特に該当する。理論によって縛られることは望まないが、ヤスリがけによってバリアが減少して水が爪の中に再導入されると考えられる。
【００４８】
本発明者らは、この処置によって処置した爪の有効な漂白がもたらされることを見出した。通常は、感染した爪は若干の変色を示して黄変する。喫煙者の爪は変色するようになって、彩色した爪であってもペイントを除去すると若干の望ましくない色が残留する可能性があることも知られている。本発明者らは、本方法はかかる爪の着色を速やかに減少させて、それらを明るくすることができ、より自然な彩色を回復することができることを見出した。
【００４９】
本発明は、プラズマ生成装置を用いることに依拠している。即ち、ガスの電離によってプラズマを生成させるように設計されている装置である。この装置は、特にここで議論するように非熱プラズマを生成させるためのものである。生成するプラズマは、好ましくは５０℃未満、より好ましくは４７℃未満、最も好ましくは３７℃〜４５℃、より好ましくは３９℃〜４２℃の温度を有する。この装置は、人体にプラズマを当てる（熱プラズマ生成装置は明らかに好適ではないので、これは数多くの制約が課される）のに好適である。更に、ＵＶ、電気的刺激、及び活性種の生成レベルは、患者に対して過度の害をもたらさないレベルでなければならない。
【００５０】
ここに記載する装置は、好ましくは携帯型である。携帯型とは、少なくとも処置適用ヘッドが、１つの手で容易に操作及び制御することができるような寸法で、そのように構成されていることを意味する。処置適用ヘッドは、電源及び／又はガス貯留槽に繋ぐことができる。或いは、処置ヘッドは、処置する領域に対して固定することができ、又はこれに対して回転させることができるようにすることができる。この装置はまた、例えば感染した足を素早く処置するのを可能にするフットスパのような形態をとることもできる。
【００５１】
消費者による家庭での使用のために理想的な形態は、完全内蔵型の携帯型装置である。これは、電源として内部バッテリーを有し、装置中に取り付けることができる交換可能なガスキャニスターに依拠する。それにもかかわらず、動力要件の理由のために、装置に主電源の導線を取り付けることがより容易である可能性がある。
【００５２】
特に装置が、ネイルサロンのような専門家によって、又は医師、足療医などによって用いられる場合には、携帯型装置を電源及びより大きなガスタンクに繋ぐことがより容易である可能性がある。これによって、専門家はガスタンク／カートリッジ／キャニスターを頻繁に交換する必要がないので、専門家が使用するのがより容易になる。
【００５３】
好ましくは、電源は携帯型装置中に組み込まれたバッテリーを含む。即ち、好ましくはプラズマ生成装置は完全独立型であり、電源に繋ぐ必要はない。これによって、より正確に適用することができ、浴室のようなより広範囲の環境において用いることができる限りでは、装置の有用性が向上する。
【００５４】
ここで議論する装置を使用することは数多くの有利性を有する。プラズマを加えることによって装置が滅菌状態に維持され、複数の患者のために容易に再使用することができる。更に、プラズマによって、ここで議論する処置を与える活性ガス種が素早く供給される。活性ガス種は、プラズマ生成プロセスに付随する温度、ＵＶ光、及び電気的刺激によって更に追加される。
【００５５】
プラズマ処置装置は、上記で議論したガスを収容した貯留槽を含む。貯留槽は、それからプラズマを生成させるガスの供給源として機能する。貯留槽は加圧ガスの源物質を含み、これは装置の処置適用部分としてのプラズマ区域に供給することができる。ガスは、通常は、専門家の使用のためにはタンク（約２００Ｌ以下）、或いは家庭での使用のためには交換可能及び／又は再充填可能なカートリッジのキャニスター内に貯蔵される。かかるガスの供給源に関する用途、デザイン、及び要件は、当該技術において周知である。
【００５６】
貯留槽は、その中で処置のためのプラズマを生成させるプラズマ区域と流体連結している。幾つかの態様においては、プラズマ区域は装置の内部であり、生成するプラズマの流れが装置から排出されて処置を与える。他の態様においては、プラズマは処置する部位において直接形成する。プラズマ区域は、その中で放電によってプラズマを生成させる手段を含む。
【００５７】
この装置は、ガスを通して放電することによってプラズマを生成させる手段を含む。これは、幾つかの異なるアプローチの１つによって達成することができる。
所謂誘電体バリア放電を用いる第１のアプローチによれば、プラズマを生成させる手段は、電源、及び人体に近接して配置するための誘電体電極を含み、使用の際にはプラズマ区域は誘電体電極と人体の表面の間に形成される。誘電体電極と人体の間に高い電圧降下を与えることによって、誘電体電極と人体の間でプラズマが生成する。これは大きな面積を処置するのに有効な方法である。本発明の装置は、好ましくは、ここで議論するガスを誘電体電極と人体の間に形成される空間中に、好ましくは比較的低い流速で、電極の実質的に全面積を横切って流すことができるように構成される。
【００５８】
第２のアプローチによると、プラズマを生成させる手段は所謂表面マイクロ放電デバイスである。これは、電源、並びに誘電体材料をサンドイッチしている第１及び第２の電極を含む。使用の際には、プラズマ区域は、人体の表面に近接して保持することができる
表面電極に隣接して形成される。電極の間に高い電圧降下を与えることによって領域を横切ってプラズマが生成し、実際には処置領域に近接する電極は通常はワイヤーメッシュである。これは、大きな面積を処置するのに有効な方法である。本発明の装置は、好ましくは、ここで議論するガスを装置上の外部電極と人体の間に形成される空間中に、好ましくは比較的低い流速で、電極の実質的に全面積を横切って流すことができるように構成される。
【００５９】
第３のアプローチによれば、プラズマを生成させる手段は所謂噴射装置であり、電源、並びに第１及び第２の電極を含み、使用の際には、プラズマ区域は第１の電極と第２の電極の間に形成され、プラズマ区域を通る貯留槽からのガスの流れによって、人体の表面と接触するプラズマの流れが与えられる。２つの電極の間に高い電圧降下を与えることによって、供給されるガスが電離することによってプラズマが生成する。この態様においては、ガスの流速は通常はより高いので、プラズマを電極の間から流出させて、処置領域に当てることができる。
【００６０】
好ましくは、プラズマを生成させる手段は、２ｋＶ〜１５ｋＶ、好ましくは３ｋＶ〜１０ｋＶ、最も好ましくは約５ｋＶの電圧で運転する。これらの電圧レベルは、携帯型装置において達成して、なお好適なレベルのプラズマ生成を与えることができる。装置の出力範囲は、好ましくは１０ｋＶ〜６０ｋＨｚの高周波数において１ワット−ＡＣ〜１００ワット−ＡＣである。或いは、出力は、高周波数のパルス状ＤＣの早い立ち上がり時間の矩形波を形成しながら与えることができる。
【００６１】
好ましくは、ガスは１．５Ｌ／分未満、好ましくは０．０１Ｌ／分〜０．５Ｌ／分の流速で、プラズマを生成させる手段を通して供給する。上記で議論した領域の処置のためのガスの流速は、通常は、プラズマの目標を絞った噴射流を生成させることが必要な点の処置のために必要なものよりも低い。誘電体電極と患者の処置領域の間にプラズマを生成させる処置のための流速は、好ましくは０．０１Ｌ／分〜０．１Ｌ／分である。２つの電極の間にプラズマを生成させ、プラズマを処置箇所に送るのをガス流に依拠する処置のための流速は、好ましくは０．２Ｌ／分〜０．５Ｌ／分である。
【００６２】
爪を処置するために好ましい装置はフットスパである。かかる装置は、ユーザーの爪を処置するためにプラズマの１以上のプルームを与えるようにデザインされる。
更なる形態によれば、本発明は、
（ａ）感染した爪又は皮膚にプラズマを当て；
（ｂ）感染した爪又は皮膚を再水和し；
（ｃ）感染した爪又は皮膚にプラズマを当て；そして
（ｄ）任意に、感染した爪又は皮膚を再水和する；
ことを含み；
工程（ｂ）及び（ｄ）のそれぞれにおいて、皮膚又は爪に水又は水を含む組成物を施すことによって皮膚又は爪を再水和し、工程（ｃ）の前に過剰の水を皮膚又は爪から除去する方法において用いる、感染した爪又は感染した皮膚の処置において用いるための非熱プラズマを提供する。
【００６３】
更なる形態によれば、本発明は、
（ａ）感染した爪又は皮膚にプラズマを当て；
（ｂ）感染した爪又は皮膚を再水和し；
（ｃ）感染した爪又は皮膚にプラズマを当て；そして
（ｄ）任意に、感染した爪又は皮膚を再水和する；
ことを含み；
工程（ａ）及び（ｃ）のそれぞれにおいて、プラズマを、プラズマ処置した部分の水和レベルがプラズマ処置した部分の当初の湿分含量に基づいて最大で３０重量％、好ましくは最大で２０重量％低下するまで爪又は皮膚の一部に当てる、非熱プラズマを用いることを含む感染した爪又は感染した皮膚を処置する方法を提供する。
【００６４】
本明細書において記載したように用いるための非熱プラズマに関して開示した全ての態様及び特徴は、この形態の方法に同じように適用される。
ここで、下記の非限定的な実施例に関して本発明を更に記載する。
【実施例】
【００６５】
爪の処置：
水和した活性中間体によって爪全体で菌類を明白に死滅させることを考えると、処置の間に爪のどのくらい多くの脱水が起こったか、そして次に爪を液体水で処理することによってこれをどの程度迅速に回復することができたかを求めることが必要であった。
【００６６】
まず爪を秤量し、標準的なプラズマ処置（１％Ａｒ／Ｈｅ、２．５Ｌ／分、Ｔ＝３９℃）に１分間、５分間、及び１５分間かけ、その後、これらを再秤量しで脱水の程度を求めた。別の処置（４％Ｋｒ／Ａｒ、２．５Ｌ／分、Ｔ＝４２℃）も行ったが、１分間だけであった。
【００６７】
爪を１滴（約１００μＬ）の脱イオン水中に、１分間、５分間、及び１５分間配置した。このような小さな爪試料を用いる場合には、これは爪の上に水を配置するよりも容易である。また、内表面を水飽和空気によって絶えず再水和されるようにシミュレートした。この時間の後に、表面を拭き取り乾燥して再秤量した。これを、１、５、及び１５分間隔で繰り返して再水和曲線を作成した。
【００６８】
ヤスリがけした爪の場合には、当初の秤量の前に爪をヤスリがけした。ヤスリがけは、標準的な爪用ヤスリを用いて行って、接眼鏡を用いて調べて「光沢のある」表面が除去されるのに十分な物質を除去した。
【００６９】
１４ｋＨｚ／５％負荷／２．５−ＳＬＰＭにおいて、１％Ａｒ／Ｈｅ混合物を用いて試験を行った。１分間処置、ヤスリがけ１分間処置、及び５分間処置に関してＮ個の試料を試験し、１つの条件あたり９個の試料を試験した。１５分の処置に関しては、２つの試料に減らした。
【００７０】
時間経過に伴って回復された重量のパーセントとしてデータをプロットしたので、爪が完全に再水和されるようになる場合には、これは１００％に達する。データは標準偏差バーと共に示している。
【００７１】
【表１】
2017530738.tif 000003
【００７２】
これらの実施例に基づくと、図３及び４において示されるように、処置がより長いと再水和するのにより長く時間がかかることが分かった。
処置がより長いと、再水和の全体的なレベルはより悪くなる。
【００７３】
爪をヤスリがけすると処置中の水の全損失が増加するように思われ、再水和速度に対して僅かな効果を有する。
同じ流速に基づく２つの異なるガス処置の間で再水和の程度及び速度における差は少ししかなかったことが明らかである。
【００７４】
本発明をより良好に理解するために、且つそれをどのようにして実施するかを示すために、ここで添付の図面を参照して本発明の好ましい態様を例のみの目的で記載する。
図１は、プラズマ装置の概要図を示す。
【００７５】
図２は、主要なプロセス工程のフロー図を示す。
図３は、ヤスリがけした爪及びヤスリがけしていない爪に対して１分間プラズマ処置した後の再水和速度を示す。
【００７６】
図４は、ヤスリがけしていない爪に対して１、５、及び１５分間プラズマ処置した後の再水和速度を示す。
図３及び４において、記号は次のように対応する。
【００７７】
Ａ−損失した水の補充（Ａｒ／Ｈｅ−ＰＦ４ｖ２）１分間；
Ａ’−2 per. Mov. Avg.（損失した水の補充（Ａｒ／Ｈｅ−ＰＦ４ｖ２）１分間）；
Ｂ−損失した水の補充（Ａｒ／Ｈｅ−ＰＦ４ｖ２）１分間、ヤスリがけ；
Ｂ’−2 per. Mov. Avg.（損失した水の補充（Ａｒ／Ｈｅ−ＰＦ４ｖ２）１分間、ヤスリがけ）；
Ｃ−損失した水の補充（Ａｒ／Ｈｅ−ＰＦ４ｖ２）１分間；
Ｃ’−2 per. Mov. Avg.（損失した水の補充（Ａｒ／Ｈｅ−ＰＦ４ｖ２）１分間）；
Ｄ−損失した水の補充（Ａｒ／Ｈｅ−ＰＦ４ｖ２）５分間；
Ｄ’−2 per. Mov. Avg.（損失した水の補充（Ａｒ／Ｈｅ−ＰＦ４ｖ２）５分間）；
Ｅ−損失した水の補充（Ａｒ／Ｈｅ−ＰＦ４ｖ２）１５分間；
Ｅ’−2 per. Mov. Avg.（損失した水の補充（Ａｒ／Ｈｅ−ＰＦ４ｖ２）１５分間）。
【００７８】
図１は、プラズマ装置１０を示す。
プラズマ装置１０は、ガス導管３００を介してプラズマノズルアセンブリ１００と連絡しているガスの供給源２００を含む。プラズマノズルアセンブリ１００は、ガスをその間に流すことができ、その間に放電することによってプラズマを形成することができるように配置されている第１及び第２の電極１５０、１５５を含む。
【００７９】
プラズマノズルアセンブリ１００は、第１及び第２の電極１５０、１５５の下流のノズル１７０を更に含む。ノズル１７０は、第１及び第２の電極１５０、１５５からのプラズマの流れが噴射流４００を形成して、これを目標５００に向けることができるように配置されている。
【００８０】
使用に際しては、ガスを、ガスの供給源２００からガス導管３００を通してプラズマノズルアセンブリ１００に流す。第１及び第２の電極１５０，１５５を横切って電圧を印加して、その間に広がる電場を生成させる。ガスは第１及び第２の電極１５０、１５５の間を通過してプラズマを形成し、これがノズル１７０を通って噴射流４００としてノズルアセンブリから排出される。
【００８１】
図２においては、工程（ａ）〜（ｄ）が示されている。これらの工程は、（ａ）感染した爪又は皮膚にプラズマを当て；（ｂ）感染した爪又は皮膚を再水和し；（ｃ）感染した爪又は皮膚にプラズマを当て；そして（ｄ）任意に、感染した爪又は皮膚を再水和する；ことを含む。
【００８２】
再水和は水又は水を含む組成物を用いて行い、通常は爪を再水和するためには実質的に水を含む。水には、場合によって、爪又は皮膚の表面を更に処理するための活性成分を更に含ませることができる。これらの活性成分としては、例えば表面を更に漂白するための過酸化水素、或いはプラズマ処置によって形成される活性化合物を緩衝するための所定量の酸又は塩基或いは塩が挙げられる。
【００８３】
更なる態様においては、処置領域に隣接する爪又は皮膚の領域はマスクするか、又はプラズマの適用から保護することができる。これによって、不必要な組織の損傷を回避することが確保される。
【００８４】
上記の詳細な記載は説明及び例示の目的で与えるものであり、添付の特許請求の範囲を限定することは意図していない。ここに示した現在好ましい態様における多くの変更は当業者に明らかになり、添付の特許請求の範囲及びそれらの均等範囲内になお含まれる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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