(57)【要約】  ２アーム環式構造を有する新規な化合物について記載される。これらの新規な化合物は、紫外線（ＵＶ）−Ａ及びＵＶ−Ｂの両方の放射を吸収し、薬学的に許容される賦形剤とともに製剤されることにより、対象者の皮膚に塗布された場合に光保護作用を有する局所組成物が生成される。この新規な化合物の光保護特性を測定する方法について記載され、記載されるように製剤された局所組成物を塗布することによって日焼け又は日焼けによる損傷から保護する方法についても記載される。
2017519823.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学式（Ｉ）の化合物であって、
【化２０】
2017519823.tif 000022
Ｒ１は、＝Ｏ、又は−ＯＨ、又は−ＮＨ、又は−ＣＨ２−ＣＯＯ−、又は−ＮＨ−ＣＨ２−ＣＯＯ−、又は
【化２１】
2017519823.tif 000023
であり、
Ｒ２は、＝Ｏ、又は−ＯＨ、又は−ＮＨ、又は−ＣＨ２−ＣＯＯ−、又は−ＮＨ−ＣＨ２−ＣＯＯ−、
【化２２】
2017519823.tif 000024
であり、
ｎ＝１，２，３，又は４、並びに
ｍ＝１，２，３，４，５，６，７，８，又は９であり、並びに
【化２３】
2017519823.tif 000025
であり、
【化２４】
2017519823.tif 000026
である場合、Ｒ２のＮと芳香環との間の結合は二重結合である、
化合物。
【請求項２】
Ｒ１とＲ２は同じものである、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
請求項１に記載の化合物、化学的日焼け止め剤、物理的日焼け止め剤、薬学的に許容されるキャリア、又はこれらの組み合わせを含む局所組成物。
【請求項４】
前記物理的日焼け止め剤は、酸化亜鉛又は酸化チタンのいずれかを含む、請求項３に記載の局所組成物。
【請求項５】
前記化学的日焼け止め剤は、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、安息香酸／ＰＡＢＡ、シンナメート、サリシレート、アボベンゾン、オキシベンゾン（ベンゾフェノン−３）、タンニン酸、尿酸、キニーネ塩、ジヒドロキシナフトール酸、アンスラニレート、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、及びＰＥＧ−２５  ＰＡＢＡ、を含み、更に、ジオキシベンゾン、シノキサート、エチル４−［ビス（ヒドロキシプロピル）］アミノベンゾエート、グリセリルアミノベンゾエート、ホモサレート、メンチルアントラニレート、オクトクリレン、オクチルメトキシシンナメート、オクチルサリシレート、パディメートＡ、パディメートＯ、赤色ワセリン、二酸化チタン、４−メンチルベンジリデンカンファー、ベンゾフェノン−１、ベンゾフェノン−２、ベンゾフェノン−４、ベンゾフェノン−６、ベンゾフェノン−１２、イソプロピルジベンゾイルメタン、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、ゾトクリレン、ＤＥＡ−メトキシシンナメート、ジガロイルトリオレエート、及び／又はＴＥＡ−サリシレートなどの日焼け止め剤化合物を含む、請求項３に記載の局所組成物。
【請求項６】
追加のＵＶフィルタを更に含み、前記追加ＵＶフィルタは、ｐ−アミノ安息香酸、その塩及びその誘導体（エチル、イソブチル、グリセリルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸）、アントラニレート（ｏ−アミノベンゾエート、メチル、メンチル、フェニル、ベンジル、フェニルエチル、リナリル、テルピニル、及びシクロヘキセニルエステル）、サリシレート（オクチル、アミル、フェニル、ベンジル、メンチル（ホモサレート）、グリセリル、及びジプロピレングリコールエステル）、桂皮酸誘導体（メンチル及びベンジルエステル、α−フェニルシンナモニトリル、ブチルシンナモイルピルバート）、ジヒドロキシ桂皮酸誘導体（ウンベリフェロン、メチルウンベリフェロン、メチルアセト−ウンベリフェロン）、カンファー誘導体（３ベンジリデン、４メチルベンジリデン、ポリアクリルアミドメチルベンジリデン、ベンザルコニウムメトスルフェート、ベンジリデンカンファースルホン酸、及びテレフタリリデンジカンファースルホン酸）、トリヒドロキシ桂皮酸誘導体（エスクレチン、メチルクレチン、ダフネチン、並びにグルコサイド、エスクリン、及びダフニン）、炭化水素（ジフェニルブタジエン、スチルベン）、ジベンザルアセトン、ベンザルアセトフェノン、ナフトールスルフォネート（２−ナフトール−３，６−ジスルホン酸のナトリウム塩、及び２−ナフトール−６，８−ジスルホン酸のナトリウム塩）、ジヒドロキシ−ナフトエ酸及びその塩、ｏ−及びｐ−ヒドロキシジフェニルジスルフォネート、クマリン誘導体（７−ヒドロキシ、７−メチル、３−フェニル）、ジアゾール（２−アセチル−３−ブロモインダゾール、フェニルベンゾオキサゾール、メチルナフトオキサゾール、様々なアリルベンゾチアゾール）、キニーネ塩（重硫酸塩、硫酸塩、塩化物、オレアート、及びタンニン酸塩）、キノリン誘導体（８−ヒドロキシキノリン塩、２−フェニルキノリン）、ヒドロキシ−又はメトキシ−置換ベンゾフェノン、尿酸誘導体、吉草酸誘導体、タンニン酸及びその誘導体、ヒドロキノン、並びに、ベンゾフェノン（オキシベンゾン、スリソベンゾン、ジオキシベンゾン、ベンゾレゾルチノール、オクタベンゾン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、エトクリレン、及び／又は４−イソプロピル−ジベンゾイルメタン）を含む、請求項３に記載の局所組成物。
【請求項７】
前記化合物は、水中油滴型又は油中水滴型のエマルションとして存在する、請求項３に記載の局所組成物。
【請求項８】
最初の塗布時の前記組成物の日焼け防止指数（ＳＰＦ）が少なくとも２、１５、３０、５０、又は６０である、請求項３に記載の局所組成物。
【請求項９】
前記化合物は、約０．０５ｗｔ％から６０ｗｔ％の濃度で前記組成物中に存在する、請求項３に記載の局所組成物。
【請求項１０】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収するとともに、日焼け及び皮膚老化、皮膚損傷、及びＤＮＡ損傷に対する保護を行うことが可能である、第２の化合物を更に含む、請求項３に記載の局所組成物。
【請求項１１】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、臨界波長値（吸光度の９０％）の測定値が、単独で取得される各成分の臨界波長値より高くなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項３に記載の局所組成物。
【請求項１２】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、任意のＵＶ曝露の前と後とで比ＵＶＡ：ＵＶＢの差のパーセンテージが小さくなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項３に記載の局所組成物。
【請求項１３】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、任意のＵＶ曝露の前と後とで比ＵＶＡ：ＵＶＢの差のパーセンテージが小さくなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項３に記載の局所組成物。
【請求項１４】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、総吸光度が可視スペクトル（４００ｎｍ）に向かってシフトする（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項３に記載の局所組成物。
【請求項１５】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、総吸光度が増加し、単独で取得される各成分の吸光度値より高くなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項３に記載の局所組成物。
【請求項１６】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、製剤、キャリア、ローション、ゲル、又は噴霧液における、ＵＶＡ及び／又はＵＶＢを吸収する２つ以上の化合物の濃度を減らすことが可能になり、且つ、２より大きいＳＰＦ値が維持される第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項３に記載の局所組成物。
【請求項１７】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、高いほうの耐水性値が、単独で取得される各成分の耐水性値より高い値になる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項３に記載の局所組成物。
【請求項１８】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、ＵＶＢに対してＵＶＡの値が高くなる第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項３に記載の局所組成物。
【請求項１９】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、ＵＶ放射と人間の皮膚との接触が減る第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項３に記載の局所組成物。
【請求項２０】
化学式（ＩＩ）の化合物であって、
【化２５】
2017519823.tif 000027
ＡはＨ、ＣＨ３、又はＣＨ（Ｒ）ＣＯＯＨであり、ＲはＨ、又は１個、２個、又は３個の炭素を含むアルキル基であり、
ＢはＨ、ＣＨ３、又はＣＨ（Ｒ）ＣＯＯＨであり、ＲはＨ、又は１個、２個、又は３個の炭素を含むアルキル基である、
化合物。
【請求項２１】
請求項２０に記載の化合物、化学的日焼け止め剤、物理的日焼け止め剤、薬学的に許容されるキャリア、又はこれらの組み合わせを含む局所組成物。
【請求項２２】
前記物理的日焼け止め剤は、酸化亜鉛又は酸化チタンのいずれかを含む、請求項２１に記載の局所組成物。
【請求項２３】
前記化学的日焼け止め剤は、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、安息香酸／ＰＡＢＡ、シンナメート、サリシレート、アボベンゾン、オキシベンゾン（ベンゾフェノン−３）、タンニン酸、尿酸、キニーネ塩、ジヒドロキシナフトール酸、アンスラニレート、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、及びＰＥＧ−２５  ＰＡＢＡ、を含み、更に、ジオキシベンゾン、シノキサート、エチル４−［ビス（ヒドロキシプロピル）］アミノベンゾエート、グリセリルアミノベンゾエート、ホモサレート、メンチルアントラニレート、オクトクリレン、オクチルメトキシシンナメート、オクチルサリシレート、パディメートＡ、パディメートＯ、赤色ワセリン、二酸化チタン、４−メンチルベンジリデンカンファー、ベンゾフェノン−１、ベンゾフェノン−２、ベンゾフェノン−４、ベンゾフェノン−６、ベンゾフェノン−１２、イソプロピルジベンゾイルメタン、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、ゾトクリレン、ＤＥＡ−メトキシシンナメート、ジガロイルトリオレエート、及び／又はＴＥＡ−サリシレートなどの日焼け止め剤化合物を含む、請求項２１に記載の局所組成物。
【請求項２４】
追加のＵＶフィルタを更に含み、前記追加ＵＶフィルタは、ｐ−アミノ安息香酸、その塩及びその誘導体（エチル、イソブチル、グリセリルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸）、アントラニレート（ｏ−アミノベンゾエート、メチル、メンチル、フェニル、ベンジル、フェニルエチル、リナリル、テルピニル、及びシクロヘキセニルエステル）、サリシレート（オクチル、アミル、フェニル、ベンジル、メンチル（ホモサレート）、グリセリル、及びジプロピレングリコールエステル）、桂皮酸誘導体（メンチル及びベンジルエステル、α−フェニルシンナモニトリル、ブチルシンナモイルピルバート）、ジヒドロキシ桂皮酸誘導体（ウンベリフェロン、メチルウンベリフェロン、メチルアセト−ウンベリフェロン）、カンファー誘導体（３ベンジリデン、４メチルベンジリデン、ポリアクリルアミドメチルベンジリデン、ベンザルコニウムメトスルフェート、ベンジリデンカンファースルホン酸、及びテレフタリリデンジカンファースルホン酸）、トリヒドロキシ桂皮酸誘導体（エスクレチン、メチルクレチン、ダフネチン、並びにグルコサイド、エスクリン、及びダフニン）、炭化水素（ジフェニルブタジエン、スチルベン）、ジベンザルアセトン、ベンザルアセトフェノン、ナフトールスルフォネート（２−ナフトール−３，６−ジスルホン酸のナトリウム塩、及び２−ナフトール−６，８−ジスルホン酸のナトリウム塩）、ジヒドロキシ−ナフトエ酸及びその塩、ｏ−及びｐ−ヒドロキシジフェニルジスルフォネート、クマリン誘導体（７−ヒドロキシ、７−メチル、３−フェニル）、ジアゾール（２−アセチル−３−ブロモインダゾール、フェニルベンゾオキサゾール、メチルナフトオキサゾール、様々なアリルベンゾチアゾール）、キニーネ塩（重硫酸塩、硫酸塩、塩化物、オレアート、及びタンニン酸塩）、キノリン誘導体（８−ヒドロキシキノリン塩、２−フェニルキノリン）、ヒドロキシ−又はメトキシ−置換ベンゾフェノン、尿酸誘導体、吉草酸誘導体、タンニン酸及びその誘導体、ヒドロキノン、並びに、ベンゾフェノン（オキシベンゾン、スリソベンゾン、ジオキシベンゾン、ベンゾレゾルチノール、オクタベンゾン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、エトクリレン、及び／又は４−イソプロピル−ジベンゾイルメタン）を含む、請求項２１に記載の局所組成物。
【請求項２５】
前記化合物は、水中油滴型又は油中水滴型のエマルションとして存在する、請求項２１に記載の局所組成物。
【請求項２６】
最初の塗布時の前記組成物の日焼け防止指数（ＳＰＦ）が少なくとも２、１５、３０、５０、又は６０である、請求項２１に記載の局所組成物。
【請求項２７】
前記化合物は、約０．０５ｗｔ％から６０ｗｔ％の濃度で前記組成物中に存在する、請求項２１に記載の局所組成物。
【請求項２８】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収するとともに、日焼け、及び皮膚老化、皮膚損傷、及びＤＮＡ損傷に対する保護を行うことが可能である、第２の化合物を更に含む、請求項２１に記載の局所組成物。
【請求項２９】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、臨界波長値（吸光度の９０％）の測定値が、単独で取得される各成分の臨界波長値より高くなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項２１に記載の局所組成物。
【請求項３０】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、任意のＵＶ曝露の前と後とで比ＵＶＡ：ＵＶＢの差のパーセンテージが小さくなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項２１に記載の局所組成物。
【請求項３１】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、任意のＵＶ曝露の前と後とで比ＵＶＡ：ＵＶＢの差のパーセンテージが小さくなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項２１に記載の局所組成物。
【請求項３２】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、総吸光度が可視スペクトル（４００ｎｍ）に向かってシフトする（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項２１に記載の局所組成物。
【請求項３３】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、総吸光度が増加し、単独で取得される各成分の吸光度値より高くなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項２１に記載の局所組成物。
【請求項３４】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、製剤、キャリア、ローション、ゲル、又は噴霧液における、ＵＶＡ及び／又はＵＶＢを吸収する２つ以上の化合物の濃度を減らすことが可能になり、且つ、２より大きいＳＰＦ値が維持される第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項２１に記載の局所組成物。
【請求項３５】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、高いほうの耐水性値が、単独で取得される各成分の耐水性値より高い値になる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項２１に記載の局所組成物。
【請求項３６】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、ＵＶＢに対してＵＶＡの値が高くなる第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項２１に記載の局所組成物。
【請求項３７】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、ＵＶ放射と人間の皮膚との接触が減る第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項２１に記載の局所組成物。
【請求項３８】
化学式（ＩＩＩ）の化合物であって、
【化２６】
2017519823.tif 000028
ｎは０、１、２、３、及び４から選択され、
Ｒ１及びＲ２は、それぞれが独立に、−（ＣＨ２）ｍ−ＣＯＯＨ又は−（ＣＨ２）ｙ−ＣＨ（Ａ）−ＣＯＯＨであり、
ｍは１から９の範囲の整数であり、
ｙは０から８の範囲の整数であり、
Ａは、Ｃ１−Ｃ３直鎖又は分鎖のアルキル基又はアルキニル基であり、これは、任意選択で、１つ以上の炭素原子においてヒドロキシ又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ３で置換され、Ｒ３はエステル基であり、Ａとともに取得されたＣが二重結合を形成する場合、ＣＨ（Ａ）中のＨが欠落する、
化合物。
【請求項３９】
ｎは１、２、３、又は４である、請求項３８に記載の化合物。
【請求項４０】
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、−ＣＨ２−ＣＯＯＨ、−（ＣＨ２）２−ＣＯＯＨ、−（ＣＨ２）３−ＣＯＯＨ、−（ＣＨ２）４−ＣＯＯＨ、−（ＣＨ２）５−ＣＯＯＨ、−（ＣＨ２）６−ＣＯＯＨ、−（ＣＨ２）７−ＣＯＯＨ、−（ＣＨ２）８−ＣＯＯＨ、及び−（ＣＨ２）９−ＣＯＯＨから選択される、請求項３８に記載の化合物。
【請求項４１】
ｙは０又は１である、請求項３８に記載の化合物。
【請求項４２】
Ａは、−ＯＨ、−ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２ＯＨ、−ＣＨ（ＣＨ３）２、−ＣＨＣＨ３ＯＨからなる群から選択される、請求項３８に記載の化合物。
【請求項４３】
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、
【化２７】
2017519823.tif 000029
からなる群から選択される、請求項３８に記載の化合物。
【請求項４４】
Ｒ１とＲ２は同じものである、請求項３８に記載の化合物。
【請求項４５】
Ｒ１とＲ２は異なるものである、請求項３８に記載の化合物。
【請求項４６】
請求項３８に記載の化合物、化学的日焼け止め剤、物理的日焼け止め剤、薬学的に許容されるキャリア、又はこれらの組み合わせを含む局所組成物。
【請求項４７】
前記物理的日焼け止め剤は、酸化亜鉛又は酸化チタンのいずれかを含む、請求項４６に記載の局所組成物。
【請求項４８】
前記化学的日焼け止め剤は、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、安息香酸／ＰＡＢＡ、シンナメート、サリシレート、アボベンゾン、オキシベンゾン（ベンゾフェノン−３）、タンニン酸、尿酸、キニーネ塩、ジヒドロキシナフトール酸、アンスラニレート、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、及びＰＥＧ−２５  ＰＡＢＡ、を含み、更に、ジオキシベンゾン、シノキサート、エチル４−［ビス（ヒドロキシプロピル）］アミノベンゾエート、グリセリルアミノベンゾエート、ホモサレート、メンチルアントラニレート、オクトクリレン、オクチルメトキシシンナメート、オクチルサリシレート、パディメートＡ、パディメートＯ、赤色ワセリン、二酸化チタン、４−メンチルベンジリデンカンファー、ベンゾフェノン−１、ベンゾフェノン−２、ベンゾフェノン−４、ベンゾフェノン−６、ベンゾフェノン−１２、イソプロピルジベンゾイルメタン、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、ゾトクリレン、ＤＥＡ−メトキシシンナメート、ジガロイルトリオレエート、及び／又はＴＥＡ−サリシレートなどの日焼け止め剤化合物を含む、請求項４６に記載の局所組成物。
【請求項４９】
追加のＵＶフィルタを更に含み、前記追加ＵＶフィルタは、ｐ−アミノ安息香酸、その塩及びその誘導体（エチル、イソブチル、グリセリルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸）、アントラニレート（ｏ−アミノベンゾエート、メチル、メンチル、フェニル、ベンジル、フェニルエチル、リナリル、テルピニル、及びシクロヘキセニルエステル）、サリシレート（オクチル、アミル、フェニル、ベンジル、メンチル（ホモサレート）、グリセリル、及びジプロピレングリコールエステル）、桂皮酸誘導体（メンチル及びベンジルエステル、α−フェニルシンナモニトリル、ブチルシンナモイルピルバート）、ジヒドロキシ桂皮酸誘導体（ウンベリフェロン、メチルウンベリフェロン、メチルアセト−ウンベリフェロン）、カンファー誘導体（３ベンジリデン、４メチルベンジリデン、ポリアクリルアミドメチルベンジリデン、ベンザルコニウムメトスルフェート、ベンジリデンカンファースルホン酸、及びテレフタリリデンジカンファースルホン酸）、トリヒドロキシ桂皮酸誘導体（エスクレチン、メチルクレチン、ダフネチン、並びにグルコサイド、エスクリン、及びダフニン）、炭化水素（ジフェニルブタジエン、スチルベン）、ジベンザルアセトン、ベンザルアセトフェノン、ナフトールスルフォネート（２−ナフトール−３，６−ジスルホン酸のナトリウム塩、及び２−ナフトール−６，８−ジスルホン酸のナトリウム塩）、ジヒドロキシ−ナフトエ酸及びその塩、ｏ−及びｐ−ヒドロキシジフェニルジスルフォネート、クマリン誘導体（７−ヒドロキシ、７−メチル、３−フェニル）、ジアゾール（２−アセチル−３−ブロモインダゾール、フェニルベンゾオキサゾール、メチルナフトオキサゾール、様々なアリルベンゾチアゾール）、キニーネ塩（重硫酸塩、硫酸塩、塩化物、オレアート、及びタンニン酸塩）、キノリン誘導体（８−ヒドロキシキノリン塩、２−フェニルキノリン）、ヒドロキシ−又はメトキシ−置換ベンゾフェノン、尿酸誘導体、吉草酸誘導体、タンニン酸及びその誘導体、ヒドロキノン、並びに、ベンゾフェノン（オキシベンゾン、スリソベンゾン、ジオキシベンゾン、ベンゾレゾルチノール、オクタベンゾン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、エトクリレン、及び／又は４−イソプロピル−ジベンゾイルメタン）を含む、請求項４６に記載の局所組成物。
【請求項５０】
前記化合物は、水中油滴型又は油中水滴型のエマルションとして存在する、請求項４６に記載の局所組成物。
【請求項５１】
最初の塗布時の前記組成物の日焼け防止指数（ＳＰＦ）が少なくとも２、１５、３０、５０、又は６０である、請求項４６に記載の局所組成物。
【請求項５２】
前記化合物は、約０．０５ｗｔ％から６０ｗｔ％の濃度で前記組成物中に存在する、請求項４６に記載の局所組成物。
【請求項５３】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収するとともに、日焼け、及び皮膚老化、皮膚損傷、及びＤＮＡ損傷に対する保護を行うことが可能である、第２の化合物を更に含む、請求項４６に記載の局所組成物。
【請求項５４】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、臨界波長値（吸光度の９０％）の測定値が、単独で取得される各成分の臨界波長値より高くなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項４６に記載の局所組成物。
【請求項５５】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、任意のＵＶ曝露の前と後とで比ＵＶＡ：ＵＶＢの差のパーセンテージが小さくなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項４６に記載の局所組成物。
【請求項５６】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、任意のＵＶ曝露の前と後とで比ＵＶＡ：ＵＶＢの差のパーセンテージが小さくなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項４６に記載の局所組成物。
【請求項５７】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、総吸光度が可視スペクトル（４００ｎｍ）に向かってシフトする（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項４６に記載の局所組成物。
【請求項５８】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、総吸光度が増加し、単独で取得される各成分の吸光度値より高くなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項４６に記載の局所組成物。
【請求項５９】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、製剤、キャリア、ローション、ゲル、又は噴霧液における、ＵＶＡ及び／又はＵＶＢを吸収する２つ以上の化合物の濃度を減らすことが可能になり、且つ、２より大きいＳＰＦ値が維持される第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項４６に記載の局所組成物。
【請求項６０】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、高いほうの耐水性値が、単独で取得される各成分の耐水性値より高い値になる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項４６に記載の局所組成物。
【請求項６１】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、ＵＶＢに対してＵＶＡの値が高くなる第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項４６に記載の局所組成物。
【請求項６２】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、ＵＶ放射と人間の皮膚との接触が減る第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項４６に記載の局所組成物。
【請求項６３】
化学式（ＩＩ）の化合物であって、
【化２８】
2017519823.tif 000030
Ａ’及びＢは、それぞれ独立に、Ｈ、ＣＨ３、及びＣＨ（Ｒ）ＣＯＯＨからなる群から選択され、ＲはＨ又はＣ１−Ｃ３アルキル基である、
化合物。
【請求項６４】
請求項６３に記載の化合物、化学的日焼け止め剤、物理的日焼け止め剤、薬学的に許容されるキャリア、又はこれらの組み合わせを含む局所組成物。
【請求項６５】
前記物理的日焼け止め剤は、酸化亜鉛又は酸化チタンのいずれかを含む、請求項６４に記載の局所組成物。
【請求項６６】
前記化学的日焼け止め剤は、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、安息香酸／ＰＡＢＡ、シンナメート、サリシレート、アボベンゾン、オキシベンゾン（ベンゾフェノン−３）、タンニン酸、尿酸、キニーネ塩、ジヒドロキシナフトール酸、アンスラニレート、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、及びＰＥＧ−２５  ＰＡＢＡ、を含み、更に、ジオキシベンゾン、シノキサート、エチル４−［ビス（ヒドロキシプロピル）］アミノベンゾエート、グリセリルアミノベンゾエート、ホモサレート、メンチルアントラニレート、オクトクリレン、オクチルメトキシシンナメート、オクチルサリシレート、パディメートＡ、パディメートＯ、赤色ワセリン、二酸化チタン、４−メンチルベンジリデンカンファー、ベンゾフェノン−１、ベンゾフェノン−２、ベンゾフェノン−４、ベンゾフェノン−６、ベンゾフェノン−１２、イソプロピルジベンゾイルメタン、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、ゾトクリレン、ＤＥＡ−メトキシシンナメート、ジガロイルトリオレエート、及び／又はＴＥＡ−サリシレートなどの日焼け止め剤化合物を含む、請求項６４に記載の局所組成物。
【請求項６７】
追加のＵＶフィルタを更に含み、前記追加ＵＶフィルタは、ｐ−アミノ安息香酸、その塩及びその誘導体（エチル、イソブチル、グリセリルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸）、アントラニレート（ｏ−アミノベンゾエート、メチル、メンチル、フェニル、ベンジル、フェニルエチル、リナリル、テルピニル、及びシクロヘキセニルエステル）、サリシレート（オクチル、アミル、フェニル、ベンジル、メンチル（ホモサレート）、グリセリル、及びジプロピレングリコールエステル）、桂皮酸誘導体（メンチル及びベンジルエステル、α−フェニルシンナモニトリル、ブチルシンナモイルピルバート）、ジヒドロキシ桂皮酸誘導体（ウンベリフェロン、メチルウンベリフェロン、メチルアセト−ウンベリフェロン）、カンファー誘導体（３ベンジリデン、４メチルベンジリデン、ポリアクリルアミドメチルベンジリデン、ベンザルコニウムメトスルフェート、ベンジリデンカンファースルホン酸、及びテレフタリリデンジカンファースルホン酸）、トリヒドロキシ桂皮酸誘導体（エスクレチン、メチルクレチン、ダフネチン、並びにグルコサイド、エスクリン、及びダフニン）、炭化水素（ジフェニルブタジエン、スチルベン）、ジベンザルアセトン、ベンザルアセトフェノン、ナフトールスルフォネート（２−ナフトール−３，６−ジスルホン酸のナトリウム塩、及び２−ナフトール−６，８−ジスルホン酸のナトリウム塩）、ジヒドロキシ−ナフトエ酸及びその塩、ｏ−及びｐ−ヒドロキシジフェニルジスルフォネート、クマリン誘導体（７−ヒドロキシ、７−メチル、３−フェニル）、ジアゾール（２−アセチル−３−ブロモインダゾール、フェニルベンゾオキサゾール、メチルナフトオキサゾール、様々なアリルベンゾチアゾール）、キニーネ塩（重硫酸塩、硫酸塩、塩化物、オレアート、及びタンニン酸塩）、キノリン誘導体（８−ヒドロキシキノリン塩、２−フェニルキノリン）、ヒドロキシ−又はメトキシ−置換ベンゾフェノン、尿酸誘導体、吉草酸誘導体、タンニン酸及びその誘導体、ヒドロキノン、並びに、ベンゾフェノン（オキシベンゾン、スリソベンゾン、ジオキシベンゾン、ベンゾレゾルチノール、オクタベンゾン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、エトクリレン、及び／又は４−イソプロピル−ジベンゾイルメタン）を含む、請求項６４に記載の局所組成物。
【請求項６８】
前記化合物は、水中油滴型又は油中水滴型のエマルションとして存在する、請求項６４に記載の局所組成物。
【請求項６９】
最初の塗布時の前記組成物の日焼け防止指数（ＳＰＦ）が少なくとも２、１５、３０、５０、又は６０である、請求項６４に記載の局所組成物。
【請求項７０】
前記化合物は、約０．０５ｗｔ％から６０ｗｔ％の濃度で前記組成物中に存在する、請求項６４に記載の局所組成物。
【請求項７１】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収するとともに、日焼け、及び皮膚老化、皮膚損傷、及びＤＮＡ損傷に対する保護を行うことが可能である、第２の化合物を更に含む、請求項６４に記載の局所組成物。
【請求項７２】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、臨界波長値（吸光度の９０％）の測定値が、単独で取得される各成分の臨界波長値より高くなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項６４に記載の局所組成物。
【請求項７３】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、任意のＵＶ曝露の前と後とで比ＵＶＡ：ＵＶＢの差のパーセンテージが小さくなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項６４に記載の局所組成物。
【請求項７４】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、任意のＵＶ曝露の前と後とで比ＵＶＡ：ＵＶＢの差のパーセンテージが小さくなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項６４に記載の局所組成物。
【請求項７５】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、総吸光度が可視スペクトル（４００ｎｍ）に向かってシフトする（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項６４に記載の局所組成物。
【請求項７６】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、総吸光度が増加し、単独で取得される各成分の吸光度値より高くなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項６４に記載の局所組成物。
【請求項７７】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、製剤、キャリア、ローション、ゲル、又は噴霧液における、ＵＶＡ及び／又はＵＶＢを吸収する２つ以上の化合物の濃度を減らすことが可能になり、且つ、２より大きいＳＰＦ値が維持される第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項６４に記載の局所組成物。
【請求項７８】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、高いほうの耐水性値が、単独で取得される各成分の耐水性値より高い値になる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項６４に記載の局所組成物。
【請求項７９】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、ＵＶＢに対してＵＶＡの値が高くなる第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項５４に記載の局所組成物。
【請求項８０】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、ＵＶ放射と人間の皮膚との接触が減る第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項６４に記載の局所組成物。
【請求項８１】
【化２９】
2017519823.tif 000031
【化３０】
2017519823.tif 000032
からなる群から選択される化合物であって、Ａは請求項１において定義されたとおりである、
化合物。
【請求項８２】
請求項８１に記載の化合物、化学的日焼け止め剤、物理的日焼け止め剤、薬学的に許容されるキャリア、又はこれらの組み合わせを含む局所組成物。
【請求項８３】
前記物理的日焼け止め剤は、酸化亜鉛又は酸化チタンのいずれかを含む、請求項８２に記載の局所組成物。
【請求項８４】
前記化学的日焼け止め剤は、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、安息香酸／ＰＡＢＡ、シンナメート、サリシレート、アボベンゾン、オキシベンゾン（ベンゾフェノン−３）、タンニン酸、尿酸、キニーネ塩、ジヒドロキシナフトール酸、アンスラニレート、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、及びＰＥＧ−２５  ＰＡＢＡ、を含み、更に、ジオキシベンゾン、シノキサート、エチル４−［ビス（ヒドロキシプロピル）］アミノベンゾエート、グリセリルアミノベンゾエート、ホモサレート、メンチルアントラニレート、オクトクリレン、オクチルメトキシシンナメート、オクチルサリシレート、パディメートＡ、パディメートＯ、赤色ワセリン、二酸化チタン、４−メンチルベンジリデンカンファー、ベンゾフェノン−１、ベンゾフェノン−２、ベンゾフェノン−４、ベンゾフェノン−６、ベンゾフェノン−１２、イソプロピルジベンゾイルメタン、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、ゾトクリレン、ＤＥＡ−メトキシシンナメート、ジガロイルトリオレエート、及び／又はＴＥＡ−サリシレートなどの日焼け止め剤化合物を含む、請求項８２に記載の局所組成物。
【請求項８５】
追加のＵＶフィルタを更に含み、前記追加ＵＶフィルタは、ｐ−アミノ安息香酸、その塩及びその誘導体（エチル、イソブチル、グリセリルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸）、アントラニレート（ｏ−アミノベンゾエート、メチル、メンチル、フェニル、ベンジル、フェニルエチル、リナリル、テルピニル、及びシクロヘキセニルエステル）、サリシレート（オクチル、アミル、フェニル、ベンジル、メンチル（ホモサレート）、グリセリル、及びジプロピレングリコールエステル）、桂皮酸誘導体（メンチル及びベンジルエステル、α−フェニルシンナモニトリル、ブチルシンナモイルピルバート）、ジヒドロキシ桂皮酸誘導体（ウンベリフェロン、メチルウンベリフェロン、メチルアセト−ウンベリフェロン）、カンファー誘導体（３ベンジリデン、４メチルベンジリデン、ポリアクリルアミドメチルベンジリデン、ベンザルコニウムメトスルフェート、ベンジリデンカンファースルホン酸、及びテレフタリリデンジカンファースルホン酸）、トリヒドロキシ桂皮酸誘導体（エスクレチン、メチルクレチン、ダフネチン、並びにグルコサイド、エスクリン、及びダフニン）、炭化水素（ジフェニルブタジエン、スチルベン）、ジベンザルアセトン、ベンザルアセトフェノン、ナフトールスルフォネート（２−ナフトール−３，６−ジスルホン酸のナトリウム塩、及び２−ナフトール−６，８−ジスルホン酸のナトリウム塩）、ジヒドロキシ−ナフトエ酸及びその塩、ｏ−及びｐ−ヒドロキシジフェニルジスルフォネート、クマリン誘導体（７−ヒドロキシ、７−メチル、３−フェニル）、ジアゾール（２−アセチル−３−ブロモインダゾール、フェニルベンゾオキサゾール、メチルナフトオキサゾール、様々なアリルベンゾチアゾール）、キニーネ塩（重硫酸塩、硫酸塩、塩化物、オレアート、及びタンニン酸塩）、キノリン誘導体（８−ヒドロキシキノリン塩、２−フェニルキノリン）、ヒドロキシ−又はメトキシ−置換ベンゾフェノン、尿酸誘導体、吉草酸誘導体、タンニン酸及びその誘導体、ヒドロキノン、並びに、ベンゾフェノン（オキシベンゾン、スリソベンゾン、ジオキシベンゾン、ベンゾレゾルチノール、オクタベンゾン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、エトクリレン、及び／又は４−イソプロピル−ジベンゾイルメタン）を含む、請求項８２に記載の局所組成物。
【請求項８６】
前記化合物は、水中油滴型又は油中水滴型のエマルションとして存在する、請求項８２に記載の局所組成物。
【請求項８７】
最初の塗布時の前記組成物の日焼け防止指数（ＳＰＦ）が少なくとも２、１５、３０、５０、又は６０である、請求項８２に記載の局所組成物。
【請求項８８】
前記化合物は、約０．０５ｗｔ％から６０ｗｔ％の濃度で前記組成物中に存在する、請求項８２に記載の局所組成物。
【請求項８９】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収するとともに、日焼け、及び皮膚老化、皮膚損傷、及びＤＮＡ損傷に対する保護を行うことが可能である、第２の化合物を更に含む、請求項８２に記載の局所組成物。
【請求項９０】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、臨界波長値（吸光度の９０％）の測定値が、単独で取得される各成分の臨界波長値より高くなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項８２に記載の局所組成物。
【請求項９１】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、任意のＵＶ曝露の前と後とで比ＵＶＡ：ＵＶＢの差のパーセンテージが小さくなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項８２に記載の局所組成物。
【請求項９２】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、任意のＵＶ曝露の前と後とで比ＵＶＡ：ＵＶＢの差のパーセンテージが小さくなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項８２に記載の局所組成物。
【請求項９３】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、総吸光度が可視スペクトル（４００ｎｍ）に向かってシフトする（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項８２に記載の局所組成物。
【請求項９４】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、総吸光度が増加し、単独で取得される各成分の吸光度値より高くなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項８２に記載の局所組成物。
【請求項９５】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、製剤、キャリア、ローション、ゲル、又は噴霧液における、ＵＶＡ及び／又はＵＶＢを吸収する２つ以上の化合物の濃度を減らすことが可能になり、且つ、２より大きいＳＰＦ値が維持される第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項８２に記載の局所組成物。
【請求項９６】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、高いほうの耐水性値が、単独で取得される各成分の耐水性値より高い値になる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項８２に記載の局所組成物。
【請求項９７】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、ＵＶＢに対してＵＶＡの値が高くなる第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項８２に記載の局所組成物。
【請求項９８】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、ＵＶ放射と人間の皮膚との接触が減る第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項８２に記載の局所組成物。
【請求項９９】
第１の化合物であって、前記第１の化合物は
【化３１】
2017519823.tif 000033
を含み、
【化３２】
2017519823.tif 000034
ｎ＝１，２，３，又は４、並びに
ｍ＝１，２，３，４，５，６，７，８，又は９であり、
Ｒ１又はＲ２が
【化３３】
2017519823.tif 000035
である場合、Ｎと芳香環との間の結合は二重結合である、前記第１の化合物と、
第２の化合物であって、前記第２の化合物は
【化３４】
2017519823.tif 000036
を含み、
ＡはＨ、ＣＨ３、又はＣＨ（Ｒ）ＣＯＯＨであり、ＲはＨ、又は１個、２個、又は３個の炭素を含むアルキル基であり、
ＢはＨ、ＣＨ３、又はＣＨ（Ｒ）ＣＯＯＨであり、ＲはＨ、又は１個、２個、又は３個の炭素を含むアルキル基である、前記第２の化合物と、
第３の化合物であって、前記第３の化合物は
【化３５】
2017519823.tif 000037
を含み、
ｎは０、１、２、３、及び４から選択され、
Ｒ１及びＲ２は、それぞれが独立に、−（ＣＨ２）ｍ−ＣＯＯＨ又は−（ＣＨ２）ｙ−ＣＨ（Ａ）−ＣＯＯＨであり、
ｍは１から９の範囲の整数であり、
ｙは０から８の範囲の整数であり、
Ａは、Ｃ１−Ｃ３直鎖又は分鎖のアルキル基又はアルキニル基であり、これは、任意選択で、１つ以上の炭素原子においてヒドロキシ又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ３で置換され、Ｒ３はエステル基であり、Ａとともに取得されたＣが二重結合を形成する場合、ＣＨ（Ａ）中のＨが欠落する、前記第３の化合物と、
物理的日焼け止め剤と、
化学的日焼け止め剤と、
薬学的に許容されるキャリアと、
のうちの少なくとも１つ、又はこれらの組み合わせを含む局所組成物。
【請求項１００】
前記物理的日焼け止め剤は、酸化亜鉛又は酸化チタンを含む、請求項９９に記載の局所組成物。
【請求項１０１】
前記化学的日焼け止め剤は、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、安息香酸／ＰＡＢＡ、シンナメート、サリシレート、アボベンゾン、オキシベンゾン（ベンゾフェノン−３）、タンニン酸、尿酸、キニーネ塩、ジヒドロキシナフトール酸、アンスラニレート、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、及びＰＥＧ−２５  ＰＡＢＡ、を含み、更に、ジオキシベンゾン、シノキサート、エチル４−［ビス（ヒドロキシプロピル）］アミノベンゾエート、グリセリルアミノベンゾエート、ホモサレート、メンチルアントラニレート、オクトクリレン、オクチルメトキシシンナメート、オクチルサリシレート、パディメートＡ、パディメートＯ、赤色ワセリン、二酸化チタン、４−メンチルベンジリデンカンファー、ベンゾフェノン−１、ベンゾフェノン−２、ベンゾフェノン−４、ベンゾフェノン−６、ベンゾフェノン−１２、イソプロピルジベンゾイルメタン、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、ゾトクリレン、ＤＥＡ−メトキシシンナメート、ジガロイルトリオレエート、及び／又はＴＥＡ−サリシレートなどの日焼け止め剤化合物を含む、請求項９９に記載の局所組成物。
【請求項１０２】
ＵＶフィルタを更に含み、前記ＵＶフィルタは、ｐ−アミノ安息香酸、その塩及びその誘導体（エチル、イソブチル、グリセリルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸）、アントラニレート（ｏ−アミノベンゾエート、メチル、メンチル、フェニル、ベンジル、フェニルエチル、リナリル、テルピニル、及びシクロヘキセニルエステル）、サリシレート（オクチル、アミル、フェニル、ベンジル、メンチル（ホモサレート）、グリセリル、及びジプロピレングリコールエステル）、桂皮酸誘導体（メンチル及びベンジルエステル、α−フェニルシンナモニトリル、ブチルシンナモイルピルバート）、ジヒドロキシ桂皮酸誘導体（ウンベリフェロン、メチルウンベリフェロン、メチルアセト−ウンベリフェロン）、カンファー誘導体（３ベンジリデン、４メチルベンジリデン、ポリアクリルアミドメチルベンジリデン、ベンザルコニウムメトスルフェート、ベンジリデンカンファースルホン酸、及びテレフタリリデンジカンファースルホン酸）、トリヒドロキシ桂皮酸誘導体（エスクレチン、メチルクレチン、ダフネチン、並びにグルコサイド、エスクリン、及びダフニン）、炭化水素（ジフェニルブタジエン、スチルベン）、ジベンザルアセトン、ベンザルアセトフェノン、ナフトールスルフォネート（２−ナフトール−３，６−ジスルホン酸のナトリウム塩、及び２−ナフトール−６，８−ジスルホン酸のナトリウム塩）、ジヒドロキシ−ナフトエ酸及びその塩、ｏ−及びｐ−ヒドロキシジフェニルジスルフォネート、クマリン誘導体（７−ヒドロキシ、７−メチル、３−フェニル）、ジアゾール（２−アセチル−３−ブロモインダゾール、フェニルベンゾオキサゾール、メチルナフトオキサゾール、様々なアリルベンゾチアゾール）、キニーネ塩（重硫酸塩、硫酸塩、塩化物、オレアート、及びタンニン酸塩）、キノリン誘導体（８−ヒドロキシキノリン塩、２−フェニルキノリン）、ヒドロキシ−又はメトキシ−置換ベンゾフェノン、尿酸誘導体、吉草酸誘導体、タンニン酸及びその誘導体、ヒドロキノン、並びに、ベンゾフェノン（オキシベンゾン、スリソベンゾン、ジオキシベンゾン、ベンゾレゾルチノール、オクタベンゾン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、エトクリレン、及び／又は４−イソプロピル−ジベンゾイルメタン）を含む、請求項９９に記載の局所組成物。
【請求項１０３】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、臨界波長値（吸光度の９０％）の測定値が、単独で取得される各成分の臨界波長値より高くなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項９９に記載の局所組成物。
【請求項１０４】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、任意のＵＶ曝露の前と後とで比ＵＶＡ：ＵＶＢの差のパーセンテージが小さくなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項９９に記載の局所組成物。
【請求項１０５】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、任意のＵＶ曝露の前と後とで比ＵＶＡ：ＵＶＢの差のパーセンテージが小さくなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項９９に記載の局所組成物。
【請求項１０６】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、総吸光度が可視スペクトル（４００ｎｍ）に向かってシフトする（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項９９に記載の局所組成物。
【請求項１０７】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、総吸光度が増加し、単独で取得される各成分の吸光度値より高くなる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項９９に記載の局所組成物。
【請求項１０８】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、製剤、キャリア、ローション、ゲル、又は噴霧液における、ＵＶＡ及び／又はＵＶＢを吸収する２つ以上の化合物の濃度を減らすことが可能になり、且つ、２より大きいＳＰＦ値が維持される第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項９９に記載の局所組成物。
【請求項１０９】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、高いほうの耐水性値が、単独で取得される各成分の耐水性値より高い値になる（ラムダシフト）第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項９９に記載の局所組成物。
【請求項１１０】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、ＵＶＢに対してＵＶＡの値が高くなる第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項９９に記載の局所組成物。
【請求項１１１】
ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収することにより、ＵＶ放射と人間の皮膚との接触が減る第２の化合物、又は２つ以上の化合物を更に含む、請求項９９に記載の局所組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本出願は、２０１４年６月１７日に出願された米国特許仮出願第６２／０１３，２７６号、件名「ＵＶ保護用局所製剤（Ｔｏｐｉｃａｌ  Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎｓ  ｆｏｒ  ＵＶ  Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ）」の優先権を主張するものであり、この開示内容は参照によって本明細書に組み込まれている。
【０００２】
本開示は、紫外線（ＵＶ）放射を吸収し、日光による損傷を防ぐことが可能な、新規な活性２アーム環式化合物とその製造方法を対象とする。又、対象者の皮膚に塗布された場合に光保護の為の量の活性化合物を有するように製剤された局所組成物についても記述する。
【背景技術】
【０００３】
日射は、人間の皮膚に有害であるとされてきた。有害な作用は、日焼けのように、太陽曝露後ただちに見られる場合もあるが、日射の損傷作用が曝露から何年間も現れない場合もある。
【０００４】
日焼けによる皮膚の損傷は、地表に到達する紫外線放射（ＵＶＲ）に起因する。このＵＶ放射は、ＵＶＡとＵＶＢに分けられる。ＵＶＡ（３２０ｎｍから４００ｎｍ）はＵＶＲの約９５％を占め、ＵＶＢ（２９０ｎｍから３２０ｎｍ）は約５％を占める。そこで、活性剤を含む局所日焼け止め剤が製剤され、活性剤は、波長が約２９０ｎｍから４００ｎｍのＵＶＲを吸収又は反射することが可能であり、更には、４００ｎｍを超えて可視域の青色光ゾーンまでカバーすることが可能である。これらの有機的日焼け止め剤及び物理的日焼け止め剤は、吸収する放射のタイプに応じて、ＵＶ−Ａフィルタ、ＵＶ−Ｂフィルタ、又は広帯域フィルタに分類される（単一分子におけるＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂ機能性）。ＵＶ−Ａ日焼け止め剤は、紫外線スペクトルの３２０ｎｍから４００ｎｍの領域の放射を吸収し、ＵＶ−Ｂ日焼け止め剤は、紫外線スペクトルの２９０ｎｍから３２０ｎｍの領域の放射を吸収する。
【０００５】
局所日焼け止め剤組成物は、露出した皮膚を日射の急性及び慢性の有害作用（例えば、日焼け、日光暴露に関連する癌、紫外線による皮膚の老化等）から保護する手段として、屋外での作業やレジャーの際に一般的に使用される。
【０００６】
多くの有効な日焼け止め剤製剤が市販されたり、化粧品や医薬品のチラシに記載されたりしている。一般に、日焼け止め剤製剤は、紫外線放射を吸収する化学的化合物、又は反射する物理的化合物を活性剤として含むクリーム、ローション、噴霧液、又はオイルとして製剤される。人々の間でＵＶＲの損傷作用に対する意識が高まってきた為、日焼け止め剤の使用が増えている。２０１３年には全世界のスキンケア市場の約１０％を日焼けケア製品が占めており、その市場は、２０１３年から２０１７年にかけて約６．５％の伸びを示す構えである。日焼けケア製品の全世界の売り上げは、２０１３年には８７億ドルに達した。調査によれば、消費者は、日焼けによる損傷について非常に関心が高く、６２％の消費者がスキンケア製品及びボディケア製品に日焼け防止の恩恵を求めている。クリーム、ローションなどのボディケア製品に日焼け防止指数（ＳＰＦ）を加えることは、普通のことになりつつある。従って、日焼け防止製剤を、利便性、快適さ、及び有効性持続期間の観点から改良することが望ましい。
【０００７】
現在、市販の日焼け止め剤製品は２つのカテゴリ、即ち、化学的（有機的）日焼け止め剤と物理的日焼け止め剤とに分けられる。化学的日焼け止め剤は、ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収できる活性分子を含む日焼け止め剤である。日焼け止め剤製剤に含まれる化学的日焼け止め剤の例として、オキシベンゾン及びアボベンゾンがある。化学的日焼け止め剤には落とし穴があり、それは、日光に曝されたときに活性成分が不安定になることである。感光性日焼け止め剤の一例として、アボベンゾンがある。アボベンゾンは、日射に曝されると、時間とともに日焼け止め剤としての有効性が低下する。更に、アボベンゾンのような化学的化合物は、幾つかの顔料の存在下では、劣化して日焼け止めの効果がなくなる。ユーザが最初にそのような日焼け止め剤を顔に塗布し、その後に、顔料を含む化粧品を塗布すると、化学的日焼け止め剤と顔料との混合が思いがけず発生して、活性成分が無効になる可能性がある。最後に、化学的日焼け止め剤の安全性に関して、幾つかの懸念が持ち上がっている。
【０００８】
物理的日焼け止め剤は、ＵＶ線がユーザの皮膚と接触することを阻止する物理的障壁として動作する。物理的日焼け止め剤は、主に酸化チタン又は酸化亜鉛を含む。物理的日焼け止め剤は、一方では、有害となりうる遊離基を発生させる可能性がある。更に、物理的日焼け止め剤は目立ちやすい。酸化チタンタイプの日焼け止め剤も、酸化亜鉛タイプの日焼け止め剤も、厚く白っぽいペーストの形で提供され、これは塗布しにくい場合があり、日焼け止め剤の物理層が剥がれると日焼け保護特性が失われる為、頻繁に塗布しなおす必要がある。従って、日焼け保護特性を提供することが可能であり、しかも、安全であって比較的安定していることが可能である、より天然の日焼け止め剤誘導体が必要とされている。
【０００９】
ここ数年、マイコスポリン及びマイコスポリン様アミノ酸（ＭＡＡ）と呼ばれる化合物群が、それらのＵＶ吸収特性に関して注目されている。特定の菌類がマイコスポリンだけを発生させる一方、シアノバクテリア、藻類、渦鞭毛虫類、サンゴなどの海洋有機体は、マイコスポリンとＭＡＡの両方を発生させることが可能である。ＭＭＡは、水生有機体を日射から保護することに関与する芳香族アミノ酸を合成する為にシキミ酸経路によって生合成される細胞内化合物族である。ＭＡＡは、典型的には３００ドルトン前後であり、シクロへキセノン又はシクロヘキセニミン発色団によって特徴づけられる。１９６０年代後半に発見されたマイコスポリンとＭＡＡについては、数多くの研究が行われてきており、吸収範囲が３１０ｎｍから３６０ｎｍであることがわかっている。
【００１０】
ここ数年、幾つかのＭＡＡが、有望な日焼け止め剤として、幾らか注目されている。ＭＡＡは、天然であることから化学的日焼け止め剤又は物理的日焼け止め剤ほど有害ではないという利点があるが、天然資源から十分なＭＡＡを生成及び分離できるようにすることが、時間がかかり、困難である。従って、生きた有機体から十分なＭＡＡを分離して日焼け止め剤の商業生産に投入することは、経済的に実現可能とはならない可能性がある。更に、ＭＡＡを化学合成によって生産する試みは、これまでのところ成功していない。
【００１１】
本明細書において開示されるのは、アミノ酸シクロへキセノン又はシクロヘキセニミン共役配列の基本構造を有することにより、自然発生するＭＡＡに多少似ている、２アーム環式構造及びその合成物を有する新しい化合物族である。更に、本開示の分子族は、ＵＶＡ及びＵＶＢの両方の放射を吸収できる、実現可能な化学的構造物及び化学的変異体を提供する。従って、これらは特に、日焼け止め剤として使用される局所製剤として有効且つ実現可能である。本明細書に記載の日焼け止め剤は、安定した活性分子及び局所製剤を提供し、この局所製剤は、水溶性であり、皮膚に塗布された場合の快適さが現行の製剤より優れている。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】ＴｏｐＣｈｅｍ１、アボベンゾン、比が１：２のＴｏｐＣｈｅｍ１とアボベンゾン、並びに比が２：１のＴｏｐＣｈｅｍ１とアボベンゾンのＵＶ吸収スペクトルを示すグラフである。
【図２】ＵＶ曝露の前後でのＴｏｐＣｈｅｍ１、アボベンゾン、比が１：２のＴｏｐＣｈｅｍ１とアボベンゾン、並びに比が２：１のＴｏｐＣｈｅｍ１とアボベンゾンのＵＶ吸収スペクトルを示すグラフである。
【図３】ＴｏｐＣｈｅｍ２、アボベンゾン、比が１：２のＴｏｐＣｈｅｍ２とアボベンゾン、並びに比が２：１のＴｏｐＣｈｅｍ２とアボベンゾンのＵＶ吸収スペクトルを示すグラフである。
【図４】ＵＶ曝露の前後でのＴｏｐＣｈｅｍ２、アボベンゾン、比が１：２のＴｏｐＣｈｅｍ２とアボベンゾン、並びに比が２：１のＴｏｐＣｈｅｍ２とアボベンゾンのＵＶ吸収スペクトルを示すグラフである。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は、背景技術の課題を解決するためのものである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、自然発生するＭＡＡに基づく化合物に関する。本開示の化合物は、単独で、又は既存の日焼け止め剤との相乗作用で働くことが可能な日焼け止め特性を有する。又、本開示の化合物、並びに、これらの化合物を含む製剤であって、日焼け止め剤を有することが有益である様々な製品に使用される製剤を製造する為の合成手順も開示される。
【００１５】
本明細書において与えられる実施例及び実施形態は、排他的ではなく例示的であることを意図されている。当業者であれば、それらに対する何らかの修正、置換、追加、及び副組み合わせを、本開示において意図される要素として認識されるであろう。当業者であれば、本明細書を読み、与えられる構造物について検討することにより、更なる特徴が明らかになるであろう。
【００１６】
一態様では、一般化学式（Ｉ）を有する２アーム環式化合物が提供され、
【化１】
2017519823.tif 000003
Ｒ１又はＲ２は
【化２】
2017519823.tif 000004
である。
【００１７】
一実施形態では、Ｒ１とＲ２は同じものである。別の実施形態では、Ｒ１とＲ２は異なるものである。
【００１８】
上述のことに関連する一特定実施形態では、Ｒ１及びＲ２は両方とも
【化３】
2017519823.tif 000005
であり、Ｒ２は
【化４】
2017519823.tif 000006
である。別の実施形態では、Ｒ１とＲ２は異なるものである。
【００１９】
一実施形態では、化学式（Ｉ）の化合物は、
【化５】
2017519823.tif 000007
からなる群から選択される構造を有する。
【００２０】
別の態様では、一般化学式（ＩＩ）を有する２アーム環式化合物が提供され、
【化６】
2017519823.tif 000008
Ａ及びＢはそれぞれＨである。
【００２１】
一実施形態では、２アーム環式化合物は一般化学式ＩＩを有し、Ａは、Ｈ、メチル基、又はＣＨ（Ｒ）ＣＯＯＨであり、このＲは、Ｈ、又は、１個から３個の炭素を含むアルキル基であり、これらの炭素は、任意選択で、そのヒドロキシル基又はエステル基で置換され、Ｂは、メチル基、又はＣＨ（Ｒ）ＣＯＯＨであり、このＲは、Ｈ、又は、１個から３個の炭素を含むアルキル基であり、これらの炭素は、任意選択で、そのヒドロキシル基又はエステル基で置換される。
【００２２】
別の態様では、化学式（ＩＩＩ）の化合物が提供され、
【化７】
2017519823.tif 000009
ｎは０、１、２、３、及び４から選択され、
Ｒ１及びＲ２は、それぞれが独立に、−（ＣＨ２）ｍ−ＣＯＯＨ又は−（ＣＨ２）ｙ−ＣＨ（Ａ）−ＣＯＯＨであり、ｍは１から９の範囲の整数であり、
ｙは０から８の範囲の整数である。
【００２３】
Ａは、Ｃ１−Ｃ３直鎖又は分鎖のアルキル基又はアルキニル基であり、これは、任意選択で、１つ以上の炭素原子においてヒドロキシ又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ３で置換され、Ｒ３はエステル基であり、Ａとともに取得されたＣが二重結合を形成する場合、ＣＨ（Ａ）中のＨが欠落する。
【００２４】
一実施形態では、ｎは１である。
【００２５】
一実施形態では、ｎは２である。
【００２６】
一実施形態では、ｎは３である。
【００２７】
一実施形態では、ｎは４である。
【００２８】
一実施形態では、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、−ＣＨ２−ＣＯＯＨ、−（ＣＨ２）２−ＣＯＯＨ、−（ＣＨ２）３−ＣＯＯＨ、−（ＣＨ２）４−ＣＯＯＨ、−（ＣＨ２）５−ＣＯＯＨ、−（ＣＨ２）６−ＣＯＯＨ、−（ＣＨ２）７−ＣＯＯＨ、−（ＣＨ２）８−ＣＯＯＨ、及び−（ＣＨ２）９−ＣＯＯＨから選択される。
【００２９】
一実施形態では、ｙは０である。
【００３０】
一実施形態では、ｙは１である。
【００３１】
一実施形態では、Ａは、−ＯＨ、−ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２ＯＨ、−ＣＨ（ＣＨ３）２、−ＣＨＣＨ３ＯＨからなる群から選択される。
【００３２】
一実施形態では、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、
【化８】
2017519823.tif 000010
からなる群から選択される。
【００３３】
一実施形態では、Ｒ１とＲ２は同じものである。
【００３４】
一実施形態では、Ｒ１とＲ２は異なるものである。
【００３５】
別の態様では、局所投与用組成物が、光保護作用を有する、化学式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＩＩ）の２アーム環式化合物と、薬学的に許容される賦形剤と、を含む。
【００３６】
一実施形態では、本組成物は、化学式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＩＩ）の化合物を含む油中水滴型エマルションである。別の実施形態では、本組成物は、化学式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＩＩ）の化合物を含む水中油滴型エマルションである。
【００３７】
一実施形態では、本組成物は更に、ＵＶ放射を吸収する１つ以上の追加化合物を含む。別の実施形態では、本組成物は更に、酸化チタン又は酸化亜鉛を含む。更に別の実施形態では、本組成物は更に、アボベンゾンを含む。
【００３８】
一実施形態では、本局所投与用組成物は、模擬日射源から４ＭＥＤ（最小紅斑線量）のエネルギが照射された後に、そのＵＶ吸光度の少なくとも５０％、９０％、又は９５％を保持する。
【００３９】
別の実施形態では、局所投与によるＵＶ吸光度は、２９０ｎｍから４００  ｎｍ、３００ｎｍから３９０ｎｍ、３１０ｎｍから４００ｎｍ、３２０ｎｍから４００ｎｍ、３１０ｎｍから３８０ｎｍ、３１０ｎｍから３７０ｎｍ、又は３１０ｎｍから３６５ｎｍの範囲にわたる。
【００４０】
別の態様では、日焼け又は日焼けによる損傷から保護する方法が提供され、本方法は、化学式Ｉ、化学式ＩＩ、又は化学式ＩＩＩの化合物を含む組成物を局所投与するステップを含む。
【００４１】
一実施形態では、本組成物は、液体（リニメント剤、溶液、エマルション、懸濁、エアロゾル）、又は半固体（例えば、クリーム、ローション、ゲル、ペースト、軟膏、ゼリー）、又は固体（例えば、粉末、エアロゾル、又は膏薬）として製剤される。
【００４２】
一実施形態では、本組成物は、追加成分とともに製剤されることにより、商品として提供される。そのような追加成分の例として、結合剤、安定化剤、皮膚軟化剤、浸透促進剤、界面活性剤、香料などがある。
【００４３】
以下の説明、図面、実施例、及び特許請求の範囲から、本方法及び本組成物などの更なる実施形態が明らかになるであろう。上述の説明及び以下の説明から理解されるように、本明細書に記載のあらゆる特徴、並びにそのような特徴のうちの２つ以上の特徴のあらゆる組み合わせが、そのような組み合わせに含まれる特徴同士が互いに矛盾しない限り、本開示の範囲に含まれる。更に、本発明のいずれかの実施形態から、いずれかの特徴、又はいずれかの特徴の組み合わせが特に排除されてもよい。以下の説明及び特許請求の範囲において、特に、添付の実施例及び図面と併せて考察されると、本発明の更なる態様及び利点が示される。
【発明を実施するための形態】
【００４４】
Ｉ−定義
本明細書において使用される単数形「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」は、文脈上明らかに矛盾する場合を除き、複数の指示対象も包含する。従って、例えば、「ポリマー（ａ  "ｐｏｌｙｍｅｒ"）」の参照は、単一のポリマー、並びに２つ以上の同種又は異種のポリマーを包含し、「賦形剤（ａｎ  "ｅｘｃｉｐｉｅｎｔ"）」の参照は、単一の賦形剤、並びに２つ以上の同種又は異種の賦形剤を包含する。他の場合も同様である。
【００４５】
「紅斑」は、様々な原因によって起こりうる毛細血管のうっ血によって発生する皮膚の赤みを定義する為に使用される非特異的な用語である。紅斑は、特に、摩擦、刺激、並びに、ＵＶ、可視光、及び赤外線の放射曝露によって皮膚内に引き起こされうる。「（炎症を伴う）日焼け」は、ＵＶ放射の過剰曝露に続く、紅斑、圧痛、時に痛みを伴う水疱形成がある皮膚損傷として定義される。
【００４６】
「最小紅斑線量（ＭＥＤ）］は、本明細書では、日焼けを引き起こしうるＵＶ放射の閾値線量として定義される。ＭＥＤは、曝露後の１６時間から２４時間にその知覚可能な最小紅斑を引き起こす曝露時間として定義されてもよい。ＭＥＤは、ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射に関して測定されてよい。
【００４７】
「薬学的に許容される塩」は、薬剤として使用可能な化合物の生物学的に適合する塩を意味し、この塩は、当該技術分野において周知の様々な有機及び無機の対イオンから誘導される。
【００４８】
「薬学的に有効な量」又は「治療に有効な量」は、特定された障害又は疾患、或いはその１つ以上の症状を治療すること、及び／又は、疾患又は障害の発生を防ぐことに十分な化合物の量を意味する。「治療」は、疾患の更なる進行を抑えることと、障害を回復に向かわせること、損傷の退縮を引き起こすこと、又は一部の例では障害を治癒させることと、を含む。
【００４９】
「対象者」は、人間及び人間以外の対象者を意味し、全ての哺乳動物を含む。
【００５０】
「局所」送達は、薬剤の薬理作用を皮膚表面又は皮膚内部に実質的に誘導すべく、皮膚障害又は疾患の皮膚発現を直接治療する為に、薬剤を含む製剤を皮膚に塗布することを意味する。局所投薬形態は、典型的には半固体形式であるが、他の様々な投薬形態を含んでよく、例えば、泡、噴霧液、薬用粉末、溶液、及び薬用粘着形式を含んでよい。局所送達は、患部をカバーする為に皮膚組織上に塗り広げるか、噴霧するか、他の方法で分散させる外部局所薬剤、又は、局所作用の為に口内、膣内、又は肛門直腸組織上の粘膜に塗布する内部局所薬剤を含む。本明細書に開示の局所薬剤は、任意の局所投薬形態で投与されてよく、例えば、固体（粉末、エアロゾル、又は膏薬）、液体（ローション、リニメント剤、溶液、エマルション、懸濁、エアロゾル）、又は半固体（軟膏、クリーム、ペースト、噴霧液、ゲル、ゼリー、又は坐薬）として投与されてよい。
【００５１】
「局所基剤」は、局所製剤の固体成分を意味する。治療に有効な量の活性化合物と、局所基剤とを組み合わせることにより、軟膏、クリーム、噴霧液、又はローションなどの局所製剤が製造される。局所製剤は、賦形剤のような追加成分を含んでもよく、賦形剤としては、酸化防止剤、結合剤、皮膚軟化剤、浸透促進剤、界面活性剤等があり、これらに限定されない。
【００５２】
本明細書では、「光保護に有効な量」は、本明細書に開示の、ＵＶ放射を吸収する化合物の量を意味する。組成物が、光保護に有効な量を含んでいれば、この組成物が塗布されていない皮膚の紅斑又は発赤と比較すると、この組成物が塗布された皮膚の紅斑又は発赤は抑えられるか防がれる。光保護に有効な量のこの組成物が対象者の皮膚に塗布されると、最小紅斑線量（ＭＥＤ）が、この組成物が塗布されていない対象者の皮膚のＭＥＤに比べて、１０％、２５％、５０％、７５％、又は９５％増える。ＭＥＤは、ＵＶＡ、ＵＶＢ、又はＵＶＡ及びＵＶＢの両方の放射曝露直後の、組成物の光保護に有効な量を示す為に使用されてよい。
【００５３】
ある範囲の値が与えられた場合、その範囲の上限と下限との間にある各介在値、及びその宣言された範囲における他の任意の宣言された値又は介在値が本開示の範囲に包含されるものとする。例えば、１μｍから８μｍの範囲が宣言された場合、２μｍ、３μｍ、４μｍ、５μｍ、６μｍ、及び７μｍも明示的に開示され、１μｍ以上の値の範囲、及び８μｍ以下の値の範囲も明示的に開示されるものとする。
【００５４】
ＩＩ．ＳＰＦのインビトロ測定
ＳＰＦのインビトロ測定は、次のプロトコルを使用して行われてよい。化学式（Ｉ）の化合物を含む局所製剤のサンプルを、濃度２ｍｇ／ｃｍ２の薄膜として、ＰＭＭＡ（ポリ（メチルメタクリレート））プレート（ドイツ、ハンブルクのシェーンゲルク（Ｓｃｈｏｎｇｅｒｇ）製）に塗布する。対照も使用され、それらは、１）局所製剤がＰＭＭＡに塗布されない場合、並びに２）化学式（Ｉ）の化合物を全く含まない局所製剤がＰＭＭＡに塗布された場合である。
【００５５】
組成物のサンプルには、日光線量制御システム（Ｓｏｌａｒ  Ｌｉｇｈｔ  Ｄｏｓｅ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  Ｓｙｓｔｅｍ）及びＵＶＢ検出器を備えた日光モデルＩＳＳキセノンアーク太陽シミュレータ（Ｓｏｌａｒ  Ｌｉｇｈｔ  Ｍｏｄｅｌ  ＩＳＳ  Ｘｅｎｏｎ  Ａｒｃ  Ｓｏｌａｒ  Ｓｉｍｕｌａｔｏｒ  ）から発せられる模擬自然日光が１５ＭＥＤ（最小紅斑線量）まで照射される。太陽シミュレータは、ヨーロッパ化粧品協会（Ｅｕｒｏｐｅａｎ  Ｃｏｓｍｅｔｉｃｓ  Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ（「ＣＯＬＩＰＡ」）、日本化粧品工業連合会（Ｊａｐａｎ  Ｃｏｓｍｅｔｉｃ  Ｉｎｄｕｓｔｒｙ  Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ）、南アフリカ化粧品工業会（Ｃｏｓｍｅｔｉｃ，  Ｔｏｉｌｅｔｒｙ  ａｎｄ  Ｆｒａｇｒａｎｃｅ  Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｓｏｕｔｈ  Ａｆｒｉｃａ）が共同発表し、２００６年５月に公開され、本明細書では「ＣＯＬＩＰＡ標準」と称している共通国際ＳＰＦ方法論に適合するように較正される。線量制御システム及び検出器システムも較正される。組成物を透過するエネルギ量は、最初に記録され、その後、１５ＭＥＤが照射されるまで間隔を置いて記録される。製品が塗布されていない薄膜を透過するエネルギ量を、製品が塗布された薄膜を透過するエネルギ量で割ることにより、各間隔におけるＳＰＦが計算される。
【００５６】
ＩＩＩ．ＳＰＦのインビボ測定
化学式（Ｉ）の化合物を含む局所製剤のＳＰＦを測定するには、人間の対象者の検査部位を用いる。検査部位領域は、日焼け止め剤製品の塗布後の対象者の最小紅斑線量（ＭＥＤ）を測定する為の領域、又は対象者の保護されていない皮膚のＭＥＤを測定する為の領域（対照部位）として働く。対象者の各ＭＥＤは、曝露後の１６時間から２４時間に知覚可能な最小紅斑を引き起こす曝露時間である。各対照者の背中の検査部位が、胴回りと肩甲骨との間の、正中線の側方に指定される。保護されていない（試料が塗布されていない）皮膚、並びに保護されている（日焼け止め剤の試験品又はＳＰＦ標準が塗布されている）皮膚の反応が、別々の、保護されていない検査部位と保護された検査部位とで、それぞれ測定される。検査部位は、盲検下で無作為に配置される。各検査部位は、最低３０平方センチメートルであり、消えないインクで輪郭が描かれる。
【００５７】
各検査部位内には、およそ５箇所から８箇所の検査副部位があり、各副部位は、面積が少なくとも約０．５ｃｍ２であり、互いに少なくとも約０．８ｃｍ離れている。各検査副部位は、消えないインクで輪郭が描かれる。
【００５８】
試験局所製剤又は対照組成物が、各検査部位に２ｍｇ／ｃｍ２で塗布される。製品を可能な限り均一に塗り広げる為に、製剤と適合する指サックが使用される。少なくとも約１５分の待機の後、検査部位はＵＶ放射に曝される。
【００５９】
太陽シミュレータにより、各対象者の副部位に対して、一連のＵＶ光曝露（複数の単位時間）が実施される。未治療の保護されていない皮膚に対して一連の曝露が実施され、ＭＥＤが測定される。ＭＥＤは、曝露後の１６時間から２４時間に知覚可能な最小紅斑を引き起こす曝露時間である。対象者の保護されていない皮膚のＭＥＤは、試験日の前に測定され、その後、試験日に再度測定される。
【００６０】
保護されている検査部位（対照及び／又は試験日焼け止め剤製品）のそれぞれも、ＵＶ光に曝される。選択される標準時間間隔は、（１．２５）ｎで表される等比級数であり、各曝露時間間隔は、直前の時間より２５パーセント長い。（等比級数のＵＶ曝露を使用する理由は、対象者のＭＥＤが高いか低いかにかかわらず、ＵＶ光に対する対象者の感受性とは無関係に、一定パーセンテージで表される、同じ相対不確かさを維持する為である。）与えられるべき厳密な一連の曝露は、保護されていない皮膚のＭＥＤによって決定される。
【００６１】
曝露後の１６時間から２４時間に各対象者から報告が返され、その時点で、各検査部位領域の読み取りが行われて、保護されていない皮膚及び保護されている皮膚の両方について最小紅斑線量（ＭＥＤ）が測定される。その後、保護されている皮膚のＭＥＤを引き起こすことに必要な曝露時間間隔から、並びに、保護されていない皮膚（対照部位）のＭＥＤを引き起こすことに必要な曝露時間間隔から、試験日焼け止め剤のＳＰＦが計算される。即ち、次式のとおりである。
ＳＰＦ＝保護されている皮膚のＭＥＤ／保護されていない皮膚のＭＥＤ
【００６２】
光保護に有効な量の活性化合物を有する局所組成物のＳＰＦは、少なくとも約１５となる。
【００６３】
幾つかの例示的な態様及び実施形態について説明してきたが、当業者であれば、それらに対する何らかの修正、置換、追加、及び副組み合わせを認識されるであろう。従って、以下の添付クレーム、及びこの後に紹介されるクレームが、そのような修正、置換、追加、及び副組み合わせを全て、それらのクレームの真の趣旨及び範囲に収まるものとして包含するように解釈されるものとする。
【００６４】
ＩＶ．マイコスポリン及びマイコスポリン様アミノ酸（ＭＡＡ）とそれらのアナログ
可視放射及びＵＶ放射に曝される幾つかの光合成微生物が、ＵＶ放射の損傷作用を回避するメカニズムを進化させてきた。それらのメカニズムの１つが、ＵＶを吸収又は遮蔽する化合物を合成することである。最もよく知られている天然のＵＶ吸収化合物が、マイコスポリン及びマイコスポリン様アミノ酸（ＭＡＡ）である。これらは、波長がおよそ３１０ｎｍから３６５ｎｍのＵＶ放射を吸収する、低分子量の水溶性分子である。これらは、多くのシアノバクテリアにおいて見られ、場合によっては、他の原核生物や、微細藻類、酵母、菌類などの真核生物において見られる。幾つかのＭＡＡ及びその構造についての説明が、例えば、レベリンとエアーズ（Ｌｌｅｗｅｌｌｙｎ  ａｎｄ  Ａｉｒｓ）著，マリン  ドラッグス（Ｍａｒ．  Ｄｒｕｇｓ），２０１０年，８：１２７３−１２９１において見られる。
【００６５】
マイコスポリン及びＭＡＡをテーマとする多くの研究は、それらの対応する有機体の中での合成のメカニズムを理解することと、それらのＵＶ吸収化合物を生物学的手段で抽出しようとすることとが対象であった。それらの場合、これらの化合物を商用として容易に生産する実用的な方法を見つけることが望まれていた。残念ながら、これまでのところ、妥当な量のＭＡＡを生物学的に生産する実現可能な手段はないままである。その結果、生物学的に抽出されたＭＡＡを含む市販用製品は高価であり、ほとんどない。
【００６６】
研究の努力は、ＭＡＡ化合物を合成により製造する方法を見つけることにも向けられてきた。そのような、ＭＡＡを合成により製造する手段を見つけることに主眼を置いた研究者らも、その複雑さに困惑してきた。これまでのところ、そのようなＭＡＡを合成により製造する方法についての文献は全く存在していないようである。利用可能な化合物からＭＡＡを合成することの困難さは、自然発生するＭＡＡのキラリティに由来する可能性が高い。他のキラル化合物と同様に、合成ステップのそれぞれにおいて化合物がどのエナンチオマーを有するかを制御可能にすることは困難である。従って、本明細書において、自然発生するＭＡＡと類似の分子を合成する際に、自然発生するＭＡＡのキラルセンターを省略しても、得られる化合物がある程度のＵＶ吸収性を維持したままであることは、驚くべきことであった。
【００６７】
本明細書において開示されるのは、ＵＶＡ及びＵＶＢの両方の放射を吸収でき、局所組成物として製剤された場合に、日光による損傷、日焼け、及び／又は紅斑を防ぐことが可能な、２アーム環式構造を有する新規な化合物である。
【００６８】
Ｖ．２アーム環式化合物
本開示による２アーム環式化合物は、以下の化学式（Ｉ）に対応する。
【化９】
2017519823.tif 000011
【化１０】
2017519823.tif 000012
ｎ＝１，２，３，又は４、並びに
ｍ＝１，２，３，４，５，６，７，８，又は９であり、
Ｒ１又はＲ２が
【化１１】
2017519823.tif 000013
の場合、Ｎと芳香環との間の結合は二重結合である。
【００６９】
実施形態によっては、Ｒ１とＲ２は同じものである。実施形態によっては、Ｒ１とＲ２は異なるものである。
【００７０】
化学式（Ｉ）の化合物の中では、以下のものが特に代表的である。
【化１２】
2017519823.tif 000014
【００７１】
別の実施形態では、２アーム環式化合物は以下の化学式（ＩＩ）に対応する。
【化１３】
2017519823.tif 000015
ＡはＨ、ＣＨ３、又はＣＨ（Ｒ）ＣＯＯＨであり、ＲはＨ、又は１個、２個、又は３個の炭素を含むアルキル基であり、
ＢはＨ、ＣＨ３、又はＣＨ（Ｒ）ＣＯＯＨであり、ＲはＨ、又は１個、２個、又は３個の炭素を含むアルキル基である。
【００７２】
実施形態によっては、ＡとＢは同じものである。実施形態によっては、ＡとＢは異なるものである。
【００７３】
実施形態によっては、Ｒはヒドロキシル基又はエステル基で置換される。
【００７４】
実施形態によっては、本明細書に記載のＣＴＡが、２つの非環式分子、例えば、
【化１４】
2017519823.tif 000016
から合成されてもよい。
【００７５】
当業者であれば理解されるように、化学式（Ｉ）の化合物は、互変異性、立体配座異性、及び／又は幾何異性の現象を示しうる。本発明は、化学式（Ｉ）の任意の互変異性形態、立体配座異性形態、及び／又は幾何異性形態、並びにこれらの多様な異性形態の混合物を包含することを理解されたい。本発明は又、アトロプ異性体も包含するものとする。化学式（Ｉ）は、塩の形態であってよい。そのような塩は、薬学用途に適する塩（「薬学的に許容される塩」）、獣医学用途に適する塩などを含む。そのような塩は、当該技術分野において周知のように、酸又は塩基から抽出されてよい。
【００７６】
ＶＩ．化合物及び組成物
本明細書に含まれるのは、上掲の塩基構造物から抽出される化合物のうちの２つ、即ち、３−ヒドロキシ−２−メトキシ−シクロ−２−エノン及び２−メトキシ−シクロヘクス−２−エノン−３−アミノ酢酸についての研究である。いずれの場合も、これら２つの化合物の吸収率について研究した。更に、これら２つの化合物の光安定性についても評価しており、これは、これらの化合物をＵＶに曝した後の第２のＵＶ吸収スペクトルを取得することにより行われた。日焼け止め剤化合物の光安定性は非常に重要である。それは、化合物が日射に曝されてすぐにＵＶ吸収性能を失うと、化合物は完全に効果がないことになる為である。ＵＶ吸収体である化合物を見つけることに加えて、それらの新規な化合物を、既知の様々な、化学的又は物理的なＵＶ吸収又は反射化合物と組み合わせることにより、得られる組成物の全体の吸収能力が高まり、且つ、ＵＶ光に曝された場合の安定性が高まる、という驚くべき効果が得られることがわかった。
【００７７】
図１を参照すると、３−ヒドロキシ−２−メトキシ−シクロ−２−エノンの吸収スペクトルは、２６２ｎｍ前後の吸収が最も強いが、３２０ｎｍにおいて、その吸光度は約半分まで低下する。第１のスペクトル１１０はアボベンゾンの場合を示す。アボベンゾンは、組み合わせ可能な、既知の化学的ＵＶ吸収体の一例である。第２のスペクトル１２０は、３−ヒドロキシ−２−メトキシ−シクロ−２−エノンの場合を示す（図中ではＴｏｐＣｈｅｍ＿１とラベル付けされている）。第３のスペクトル１３０は、３−ヒドロキシ−２−メトキシ−シクロ−２−エノンとアボベンゾンの比が１：２の場合に相当するスペクトルである。そして、第４のスペクトル１４０は、３−ヒドロキシ−２−メトキシ−シクロ−２−エノンとアボベンゾンの比が２：１の場合に相当するスペクトルである。
【００７８】
引き続き図１を参照すると、３−ヒドロキシ−２−メトキシ−シクロ−２−エノン及びアボベンゾンは両方とも３２０ｎｍ及び４００ｎｍにおいて吸光度が比較的低いが、３−ヒドロキシ−２−メトキシ−シクロ−２−エノンとアボベンゾンとを組み合わせると（特に、３−ヒドロキシ−２−メトキシ−シクロ−２−エノンとアボベンゾンとを１：２の比で組み合わせると）、３２０ｎｍから３９０ｎｍにかけてかなりのＵＶ吸収性がもたらされた。この組み合わせ化合物のＵＶ吸収能力の高まりは、驚くべきことである。なぜなら、この高まりは、それぞれの化合物が単独の場合の相加効果を超えており、且つ、それぞれの化合物の単独では芳しくないであろう波長範囲においてＵＶ吸収性を実現している為である。
【００７９】
図２を参照すると、この一連のスペクトルは、３−ヒドロキシ−２−メトキシ−シクロ−２−エノン、アボベンゾン、及びこれらの組み合わせに対する、２９０ｎｍから４００ｎｍの波長範囲にわたるＵＶ曝露の作用を示す。第１のスペクトル２１０及び第２のスペクトル２１２は、ＵＶ曝露の前後のアボベンゾンの場合である。第３のスペクトル２２０及び第４のスペクトル２２２は、それぞれ、ＵＶ曝露の前後の３−ヒドロキシ−２−メトキシ−シクロ−２−エノンの場合である。第５のスペクトル２３０及び第６のスペクトル２３２は、それぞれ、ＵＶ曝露の前後の、３−ヒドロキシ−２−メトキシ−シクロ−２−エノンとアボベンゾンとを１：２の比で組み合わせたものに相当する。そして、第７のスペクトル２４０及び第８のスペクトル２４２は、それぞれ、ＵＶ曝露の前後の、３−ヒドロキシ−２−メトキシ−シクロ−２−エノンとアボベンゾンとを２：１の比で組み合わせたものに相当する。
【００８０】
３−ヒドロキシ−２−メトキシ−シクロ−２−エノンとアボベンゾンは、両方とも、単独での挙動は予想されたとおりであり、ＵＶ曝露後、それらのそれぞれのＵＶ吸収能力は全体的に低下し、低下が最も顕著だったのは、それらがＵＶ曝露前に最も吸収能力が高かった波長範囲においてであった。これに対し、組み合わせ化合物のＵＶ吸収能力は、比が１：２の場合も２：１の場合も、ＵＶ曝露後に高まった。このことは、３−ヒドロキシ−２−メトキシ−シクロ−２−エノンとアボベンゾンとを１：２の比で含む組成物に関しては、特に驚くべきことであった。
【００８１】
次に、同様の試験を、２−メトキシ−シクロヘクス−２−エノン−３−アミノ酢酸に対して実施した。これを図３及び図４に示す。図３では、第１のスペクトル３１０はアボベンゾンの場合を示す。第２のスペクトル３２０は、２−メトキシ−シクロヘクス−２−エノン−３−アミノ酢酸の場合である（図中ではＴｏｐＣｈｅｍ＿２とラベル付けされている）。第３のスペクトル３３０は、２−メトキシ−シクロヘクス−２−エノン−３−アミノ酢酸とアボベンゾンの比が１：２の場合に相当するスペクトルである。そして、第４のスペクトル３４０は、２−メトキシ−シクロヘクス−２−エノン−３−アミノ酢酸とアボベンゾンの比が２：１の場合に相当するスペクトルである。
【００８２】
２−メトキシ−シクロヘクス−２−エノン−３−アミノ酢酸は、波長３０２ｎｍにおいて吸収作用が最も強く、２９０ｎｍから４００ｎｍの波長範囲全体にわたって、かなり安定した吸収パターンを維持する。３−ヒドロキシ−２−メトキシ−シクロ−２−エノンとアボベンゾンとの場合の結果と同様に、２−メトキシ−シクロヘクス−２−エノン−３−アミノ酢酸とアボベンゾンとを１：２の比で組み合わせたものは、組成物のＵＶ吸収性能を、２−メトキシ−シクロヘクス−２−エノン−３−アミノ酢酸とアボベンゾンとが単独の場合よりも高めた。
【００８３】
図４は、２−メトキシ−シクロヘクス−２−エノン−３−アミノ酢酸及びアボベンゾンの単独及び組み合わせでの光安定性を示す。この一連のスペクトルは、２−メトキシ−シクロヘクス−２−エノン−３−アミノ酢酸、アボベンゾン、及びこれらの組み合わせに対する、２９０ｎｍから４００ｎｍの波長範囲にわたるＵＶ曝露の作用を示す。第１のスペクトル４１０及び第２のスペクトル４１２は、ＵＶ曝露の前後のアボベンゾンの場合である。第３のスペクトル４２０及び第４のスペクトル４２２は、それぞれ、ＵＶ曝露の前後の２−メトキシ−シクロヘクス−２−エノン−３−アミノ酢酸の場合である。第５のスペクトル４３０及び第６のスペクトル４３２は、それぞれ、ＵＶ曝露の前後の、２−メトキシ−シクロヘクス−２−エノン−３−アミノ酢酸とアボベンゾンとを１：２の比で組み合わせたものに相当する。第７のスペクトル４４０及び第８のスペクトル４４２は、それぞれ、ＵＶ曝露の前後の、２−メトキシ−シクロヘクス−２−エノン−３−アミノ酢酸とアボベンゾンとを２：１の比で組み合わせたものに相当する。そして、別々のスペクトル同士の重なり合いが発生した場合には、それらのスペクトルの特定のセグメントに対して複数の参照符号が表記される。例えば、３６０ｎｍから３７０ｎｍの波長において、ＵＶ曝露後のアボベンゾンに対応する第２のスペクトル４１２と、ＵＶ曝露後の２−メトキシ−シクロヘクス−２−エノン−３−アミノ酢酸に対応する第４のスペクトル４２２とが、その範囲において重なり合っており、これは、そのセグメントのスペクトルを指す２つの参照符号によって示されている。
【００８４】
この光安定性試験の結果は、アボベンゾンと本発明の化学合成された分子とを組み合わせることにより、組成物は、そのＵＶ吸収性能を維持し、場合によっては、各成分が単独の場合よりＵＶ吸収性能を高める可能性を有する、という以前の知見と依然一致している。
【００８５】
３−ヒドロキシ−２−メトキシ−シクロ−２−エノン及び２−メトキシ−シクロヘクス−２−エノン−３−アミノ酢酸の両方を試験した結果は、自然発生するＭＡＡのキラルセンターを欠いている他の化学合成された化合物が、アボベンゾンに追加される他のＵＶ吸収化合物と組み合わされた場合に同様の挙動を示すことの保証を与えるものである。上記で概説した製剤は、他の既知のＵＶ吸収体及び／又は反射体と組み合わされてよく、そのようなＵＶ吸収体及び／又は反射体として、アボベンゾン、ベンゾフェノン、シノキセート、ジオキシベンゾン、メンチルアンスラニレート、オクチルメトキシシンナメート、オクチルサリシレート、パジメートＯ、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、サリソベンゾン、二酸化チタン、トロラミンサリシレート、ＴＥＡサリシレート、酸化亜鉛、エンスリゾール、メラジメート、オクチサレート、アミロキセート、ベモトリジノール、ベモトリジノール−ビス−エチルヘキシロキシフェノールメトキシフェニル、ビスオクトリゾール、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、ドロメトリゾールトリシロキサン、エカムスール、エンザカメン、オクチルトリアゾン、アセトアミノフェン、オクチルクリレン、オクチノキセート、オクチサレート、オキシベンゾン、ホモサレート、ヘリオプレックス、４−ＭＢＣ、メクソリル−テレフタリリデンジカンフルスルホン酸：メクソリルＳＸ及びＸＬ、チノソーＳ及びＭ、ユビナールＴ１５０、スチレン／アクリレートコポリマー、フェニルエチルベンゾン、カルシウムアルミニウムホウケイ酸／ナトリウムホウケイ酸ビーズ、及びユビナールＡプラス、並びにこれらの誘導体がある。更に、本明細書に記載の新規な化合物とアボベンゾンとの結果からの自然な拡張として、物理的な日焼け止め剤及び／又は反射体（例えば、酸化チタン及び酸化亜鉛）への拡張が行われてもよい。
【００８６】
次に、製剤（Ｉ）、製剤（ＩＩ）、及び製剤（ＩＩＩ）に属する化合物のクラスが、２９０ｎｍから４００ｎｍの範囲で変動する波長で吸収を行うことが期待される。例えば、２−メトキシ−３−（イミノグリシン）シクロヘクス−１−エネ−アミノ酢酸及び２−メトキシ−３−｛（４−メトキシフェニル）イミノ｝シクロヘクス−１−エネ−アミノ酢酸は、それぞれ、３２７ｎｍ及び３３７ｎｍにおいて吸収性が最大となる。２−メトキシ−３−（イミノグリシン）シクロヘクス−１−エネ−アミノ酢酸及び２−メトキシ−３−｛（４−メトキシフェニル）イミノ｝シクロヘクス−１−エネ−アミノ酢酸は、第２のＵＶ吸収体と組み合わされた場合には、３−ヒドロキシ−２−メトキシ−シクロ−２−エノン及び２−メトキシ−シクロヘクス−２−エノン−３−アミノ酢酸がそうであったように、最大吸収波長がより長い波長にシフトする可能性が非常に高い。これらのより長い波長において吸収を行う化合物を有することは、市販の日焼け止め剤による日焼け止めの有効範囲がＵＶＡ（３１５ｎｍから４００ｎｍ）であって不十分である為、特に有利である。
【００８７】
前の段落において言及されたことと同様に、化合物中に存在するＲ１基及びＲ２基を選択すること、並びに、組成物内で化合物のＲ１基及びＲ２基を変化させることによって、特定の波長範囲を選択することが可能になる。又、これによって、ＵＶ吸収剤の組成物が、製剤（Ｉ）、製剤（ＩＩ）、及び製剤（ＩＩＩ）によって含まれる化合物の組み合わせから誘導されることが可能になる。これらの新規な化合物は、組み合わされると、他のＵＶ吸収体が他のＵＶ吸収体の存在下で劣化するのと異なり、より高いＵＶ吸収特性を実際に保有するように見える。
【００８８】
ＶＩＩ．局所製剤
本開示による組成物は、当業者にはよく知られている手法に従って、局所投与用として製剤されることが可能である。限定を意図するものではないが、代表的な実施例として、局所製剤は、ゲル、軟膏、ローション、エマルション、クリーム、泡、ムース、液体、噴霧液、懸濁、分散、又はエアロゾルであってよいと考えられる。製剤は、皮膚への効果的な塗布、広がり、及び粘着の為の所望の形態及び所望の粘度、流れ具合、又は他の物理的又は化学的特性を与える為に、１つ以上の賦形剤を含む。
【００８９】
製剤における賦形剤は、意図された製剤のタイプに基づいて選択される。標準的な賦形剤として、ゼラチン、カゼイン、レシチン、アカシアゴム、コレステロール、トラガカント、ステアリン酸、塩化ベンザルコニウム、カルシウムステアレート、グリセリルモノステアレート、セトステアリルアルコール、セトマクロゴル乳化ろう、ソルビタンエステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンヒマシ油誘導体、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール、ポリオキシエチレンステアレート、コロイド状二酸化ケイ素、リン酸塩、ドデシル硫酸ナトリウム、カルボキシメチルセルロースカルシウム、カルボキシメチルセルロースナトリウム、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート、非晶質セルロース、マグネシウムアルミニウムシリケート、トリエタノラミン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、糖類、スターチなどがある。
【００９０】
エマルションは、ある液体が小液滴の形で第２の液体の本体全体にわたって分散する製剤である。分散した液体は不連続相であり、分散媒は連続相である。分散した液体が油であり、連続相が水溶液である場合、これは水中油滴型エマルションと称され、一方、分散相が水又は水溶液であり、連続相が油又は油性物質である場合、これは油中水滴型エマルションと称される。油相は、少なくとも部分的には、プロペラント、例えば、ＨＦＡ（ヒドロフルオロアルカン）プロペラントで構成されてよい。油相又は水相のいずれか又は両方が、１つ以上の界面活性剤、乳化剤、乳化安定剤、緩衝剤、及び他の賦形剤を含んでよい。好ましい賦形剤として、界面活性剤（特に非イオン界面活性剤）、乳化剤（特に乳化ろう）、及び液体不揮発性非水材料（特に、プロピレングリコールなどのグリコール類）がある。油相は、他の薬学的に認可されている油性賦形剤を含んでよい。例えば、油相において、水酸化ヒマシ油又はごま油などの材料が界面活性剤又は乳化剤として使用されてよい。
【００９１】
「皮膚軟化剤」は、皮膚を軟化又は鎮静する外用剤であり、当該技術分野において一般的に知られており、「医薬品賦形剤ハンドブック（Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ  Ｅｘｃｉｐｉｅｎｔｓ）」，第４版，ファーマシューティカル  プレス（Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ  Ｐｒｅｓｓ），２００３年のような抄録にリストされている。これらは、限定ではなく、アーモンド油、ヒマシ油、セラトニア抽出物、セトステアリルアルコール、セチルアルコール、セチルエステルワックス、コレステロール、綿実油、シクロメチコン、エチレングリコールパルミトステアレート、グリセリン、グリセリンモノステアレート、グリセリルモノオレエート、イソプロピルミリステート、イソプロピルパルミテート、ラノリン、レシチン、軽鉱油、中鎖トリグリセリド、鉱油およびラノリンアルコール、ワセリン、ワセリン及びラノリンアルコール、大豆油、スターチ、ステアリルアルコール、ヒマワリ油、キシリトール、並びにこれらの組み合わせなどである。一実施形態では、皮膚軟化剤は、エチルヘキシルステアレート及びエチルヘキシルパルミテートである。
【００９２】
「界面活性剤」は、表面張力を下げて、製品の乳化特性、発泡特性、分散特性、伸展特性、及び湿潤特性を高める表面活性剤である。適切な非イオン界面活性剤として、乳化ろう、グリセリルモノオレエート、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンヒマシ油誘導体、ポリソルベート、ソルビタンエステル、ベンジルアルコール、安息香酸ベンジル、シクロデキストリン、グリセリンモノステアレート、ポロキサマー、ポビドン、及びその組合せがある。一実施形態では、非イオン界面活性剤はステアリルアルコールである。
【００９３】
「乳化剤」は、１つの液体の、別の液体中での懸濁を促進し、油と水との安定した混合物、即ち、エマルションの形成を促進する表面活性物質である。一般的な乳化剤として、金属石鹸、特定の動物油及び植物油、並びに様々な有極性化合物がある。適切な乳化剤として、アカシア、アニオン性乳化ろう、カルシウムステアレート、カルボマー、セトステアリルアルコール、セチルアルコール、コレステロール、ジエタノールアミン、エチレングリコールパルミトステアレート、グリセリンモノステアレート、グリセリルモノオレエート、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒプロメロース、ラノリン、含水物、ラノリンアルコール、レシチン、中鎖トリグリセリド、メチルセルロース、鉱油及びラノリンアルコール、一塩基リン酸ナトリウム、モノエタノールアミン、非イオン性乳化ろう、オレイン酸、ポロキサマー、ポロキサマー類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンヒマシ油誘導体、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンステアレート、プロピレングリコールアルギネート、自己乳化グリセリルモノステアレート、クエン酸ナトリウム二水和物、ラウリル硫酸ナトリウム、ソルビタンエステル、ステアリン酸、ヒマワリ油、トラガント、トリエタノールアミン、キサンタンガム、及びこれらの組み合わせなどがある。一実施形態では、乳化剤はグリセロールステアレートである。
【００９４】
「ローション」は、低粘度から中粘度の液体製剤である。ローションは、懸濁剤及び分散剤の使用によって分散媒に溶ける微細粉末物質を含んでよい。或いは、ローションは、ビヒクルとは混和せず、通常は乳化剤又は他の適切な安定化剤によって分散する液体物質を分散相として有してよい。一実施形態では、ローションは、粘度が１００センチストークスから１０００センチストークスであるエマルションの形態である。ローションの流動性により、広い表面積にわたる迅速且つ均一な塗布が可能である。ローションは、典型的には、皮膚上で乾いて、その薬効成分を薄い塗膜として皮膚表面に残すことを意図されている。
【００９５】
「クリーム」は、「水中油滴型」又は「油中水滴型」のいずれかの粘性液体または半固体エマルションである。クリームは、乳化剤及び／又は他の安定化剤を含んでよい。一実施形態では、製剤は、粘度が１０００センチストークス超であって、典型的には２００００−５００００センチストークスの範囲であるクリームの形態である。クリームは、軟膏より好まれることが多いが、それは、概して軟膏より塗り広げやすく、除去しやすい為である。
【００９６】
クリームとローションとの基本的な違いは粘度であり、粘度は、製剤を調製する上での、様々な油の量／用途と、使用される水のパーセンテージとによって決まる。クリームは、典型的にはローションより密であり、様々な用途が可能であり、皮膚に対する所望の効果によっては、より様々な油／バターが使用されることが多い。クリーム製剤の全体に対する水基剤のパーセンテージは約６０−７５％であり、油基剤は約２０−３０％であり、１００％に対する残りのパーセンテージは乳化剤、防腐剤、及び添加剤である。
【００９７】
「軟膏」は、軟膏基剤と、任意選択の１つ以上の活性剤とを含む、半固体の製剤である。適切な軟膏基剤の例として、炭化水素基剤（例えば、ワセリン、白色ワセリン、黄色軟膏、及び鉱油）、吸収基剤（親水性ワセリン、無水ラノリン、ラノリン、及びコールドクリーム）、水除去可能基剤（例えば、親水性軟膏）、及び水溶性基剤（例えば、ポリエチレングリコール軟膏）などがある。ペーストは、典型的には、含まれる固体のパーセンテージがより大きい点が軟膏と異なる。ペーストは、典型的には、同じ成分で調整される軟膏より吸収性が高く、脂肪性が低い。
【００９８】
「ゲル」は、小分子又は大分子の分散を液体ビヒクル中に含む半固体形式であり、液体ビヒクルに溶解又は懸濁された増粘剤又はポリマー材料の作用によって半固体になる。液体は、親油性成分、水性成分、又はその両方を含んでよい。幾つかのエマルションはゲルであってよく、そうでなくともゲル成分を含んでよい。しかしながら、幾つかのゲルは、不混和性成分の均質化された混合物を含まないという理由でエマルションではない。適切なゲル化剤として、変性セルロース（例えば、ヒドロキシプロピルセルロース及びヒドロキシエチルセルロース）、カーボポール（Ｃａｒｂｏｐｏｌ）ホモポリマー及びコポリマー、並びにこれらの組み合わせがあり、これらに限定されない。液体ビヒクル中の適切な溶媒として、ジグリコールモノエチルエーテル、アルキレングリコール（例えば、プロピレングリコール）、ジメチルイソソルビド、アルコール（例えば、イソプロピルアルコール及びエタノール）があり、これらに限定されない。これらの溶媒は、典型的には、薬剤を溶かす能力に応じて選択される。製剤の皮膚感触及び／又は軟化性を高める他の添加剤も取り入れられてよい。そのような添加剤の例として、イソプロピルミリステート、酢酸エチル、Ｃ１２−Ｃ１５安息香酸アルキル、鉱油、スクアラン、シクロメチコン、カプリン酸／カプリル酸トリグリセリド、及びこれらの組み合わせがあり、これらに限定されない。
【００９９】
泡及びムースは、エマルションとガス状プロペラントとの組み合わせからなる。ガス状プロペラントは、主にヒドロフルオロアルカン（ＨＦＡ）からなる。適切なプロペラントとして、ＨＦＡ、例えば、１，１，１，２−テトラフルオロエタン（ＨＦＡ１３４ａ）や１，１，１，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロパン（ＨＦＡ２２７）があるが、医療用として現在認可されているか認可される可能性のある、これら及び他のＨＦＡの混合物や混和物が適切である。プロペラントは、噴霧中に可燃性または爆発性の蒸気を発生させうる炭化水素プロペラントガスではないことが好ましい。更に、組成物は、使用中に可燃性または爆発性の蒸気を発生させうる揮発性アルコールを含まないことが好ましい。
【０１００】
緩衝剤は、組成物のｐＨを制御する為に使用される。好ましくは、緩衝剤は、ｐＨ約４からｐＨ約７．５、より好ましくはｐＨ約４からｐＨ約７、最も好ましくはｐＨ約５からｐＨ約７の組成物を緩衝する。好ましい一実施形態では、緩衝剤はトリエタノールアミンである。
【０１０１】
防腐剤は、菌類及び微生物の成長を妨げる為に使用されてよい。適切な抗菌剤及び抗微生物剤として、安息香酸、ブチルパラベン、エチルパラベン、メチルパラベン、プロピルパラベン、安息香酸ナトリウム、プロピオン酸ナトリウム、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム、ベンジルアルコール、塩化セチルピリジニウム、クロロブタノール、フェノール、フェニルエチルアルコール、およびチメロサールがあり、これらに限定されない。一実施形態では、菌類の成長を妨げることに効果的な防腐剤の濃度は、局所塗布時に組成物の意図された目的の為の有効性に悪影響を及ぼさないように選択される。
【０１０２】
ＶＩＩＩ．物理的日焼け止め剤
日焼け止め剤は、大まかには、２つのカテゴリ、即ち、化学的日焼け止め剤と物理的日焼け止め剤とに分類される。上述されたような、ＵＶ吸収剤を含む化学的日焼け止め剤と異なり、物理的日焼け止め剤は、放射を物理的に遮断することにより動作する。多くの日焼け止め剤組成物は、複数の成分の組み合わせを有しており、物理的日焼け止め剤と化学的日焼け止め剤の両方を含んでよい。物理的日焼け止め剤は、例えば二酸化チタン及び酸化亜鉛を含み、ＵＶＡ及びＵＶＢの両方の放射を遮断する。第１の実施形態では、組成物が本明細書において想定され、この想定では、物理的日焼け止め剤が化学式（Ｉ）、化学式（ＩＩ）、又は化学式（ＩＩＩ）の一部であるか、且つ／又は、化学式（Ｉ）、化学式（ＩＩ）、又は化学式（ＩＩＩ）を有する最終製剤の中に物理的日焼け止め剤が存在する場合、化学式（Ｉ）、化学式（ＩＩ）、又は化学式（ＩＩＩ）のＵＶ吸収剤を含む、上述のＵＶ吸収剤を１つ以上含むように、物理的日焼け止め剤組成物が製剤される。
【０１０３】
ＩＸ．組み合わせ製剤
ＵＶ放射からの保護を最適化することは、１つ、２つ、又は３つ以上のＵＶ吸収化合物を含む局所組成物を使用することにより、行われるのがよい場合がある。従って、本開示の組成物の変形形態は、本明細書に記載の少なくとも１つの新規な２アーム環式分子と、別のＵＶ専用化合物とを組み合わせて、ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射を吸収又は遮断して皮膚を保護することを含む。これらの化合物は、単独であれ組み合わせであれ、使用される発色団のタイプ、濃度、及び強度に応じたパーセンテージのＵＶスペクトルをフィルタリングする。
【０１０４】
フィルタ族は、単独であれ組み合わせであれ、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、安息香酸／ＰＡＢＡ、シンナメート、サリシレート、及びアボベンゾンを含み、これらに限定されず、それによって、皮膚をＵＶＡ及びＵＶＢによる損傷から更に保護する。日焼け止め剤組成物中に存在する１つ以上のＵＶフィルタの最大荷重は、重量で最大１５−５０％になりうる。ＵＶＡフィルタ及びＵＶＢフィルタは、単独では、組成物のうちの約０．２５％から約１０％、０．５％から８％、１％から７．５％、２％から５％、又は０．５％から５％の重量パーセントで存在する。ＵＶＡ遮断剤及びＵＶＢ遮断剤が両方とも使用される場合、それぞれは、典型的には、約０．５％から約１０％、０．５％から８％、１％から７．５％、２％から５％、又は０．５％から５％の重量パーセントで存在する。物理的日焼け止め剤は、１０％、２０％、２５％、又は３０％もの多量を占めて存在する。
【０１０５】
化学的日焼け止め剤の例として、オキシベンゾン（ベンゾフェノン−３）、タンニン酸、尿酸、キニーネ塩、ジヒドロキシナフトール酸、アンスラニレート、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、及びＰＥＧ−２５  ＰＡＢＡがある。更に、本組成物においては、ジオキシベンゾン、シノキサート、エチル４−［ビス（ヒドロキシプロピル）］アミノベンゾエート、グリセリルアミノベンゾエート、ホモサレート、メンチルアントラニレート、オクトクリレン、オクチルメトキシシンナメート、オクチルサリシレート、パディメートＡ、パディメートＯ、赤色ワセリン、二酸化チタン、４−メンチルベンジリデンカンファー、ベンゾフェノン−１、ベンゾフェノン−２、ベンゾフェノン−４、ベンゾフェノン−６、ベンゾフェノン−１２、イソプロピルジベンゾイルメタン、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、ゾトクリレン、ＤＥＡ−メトキシシンナメート、ジガロイルトリオレエート、ＴＥＡ−サリシレート、又は酸化亜鉛などの日焼け止め剤化合物が使用可能である。
【０１０６】
任意の２つ以上の組み合わせを含む、追加のＵＶフィルタが、以下のカテゴリ（括弧内は具体例）から選択される。ｐ−アミノ安息香酸、その塩及びその誘導体（エチル、イソブチル、グリセリルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸）、アントラニレート（ｏ−アミノベンゾエート、メチル、メンチル、フェニル、ベンジル、フェニルエチル、リナリル、テルピニル、及びシクロヘキセニルエステル）、サリシレート（オクチル、アミル、フェニル、ベンジル、メンチル（ホモサレート）、グリセリル、及びジプロピレングリコールエステル）、桂皮酸誘導体（メンチル及びベンジルエステル、α−フェニルシンナモニトリル、ブチルシンナモイルピルバート）、ジヒドロキシ桂皮酸誘導体（ウンベリフェロン、メチルウンベリフェロン、メチルアセト−ウンベリフェロン）、カンファー誘導体（３ベンジリデン、４メチルベンジリデン、ポリアクリルアミドメチルベンジリデン、ベンザルコニウムメトスルフェート、ベンジリデンカンファースルホン酸、及びテレフタリリデンジカンファースルホン酸）、トリヒドロキシ桂皮酸誘導体（エスクレチン、メチルクレチン、ダフネチン、並びにグルコサイド、エスクリン、及びダフニン）、炭化水素（ジフェニルブタジエン、スチルベン）、ジベンザルアセトン、ベンザルアセトフェノン、ナフトールスルフォネート（２−ナフトール−３，６−ジスルホン酸のナトリウム塩、及び２−ナフトール−６，８−ジスルホン酸のナトリウム塩）、ジヒドロキシ−ナフトエ酸及びその塩、ｏ−及びｐ−ヒドロキシジフェニルジスルフォネート、クマリン誘導体（７−ヒドロキシ、７−メチル、３−フェニル）、ジアゾール（２−アセチル−３−ブロモインダゾール、フェニルベンゾオキサゾール、メチルナフトオキサゾール、様々なアリルベンゾチアゾール）、キニーネ塩（重硫酸塩、硫酸塩、塩化物、オレアート、及びタンニン酸塩）、キノリン誘導体（８−ヒドロキシキノリン塩、２−フェニルキノリン）、ヒドロキシ−又はメトキシ−置換ベンゾフェノン、尿酸誘導体、吉草酸誘導体、タンニン酸及びその誘導体、ヒドロキノン、並びに、ベンゾフェノン（オキシベンゾン、スリソベンゾン、ジオキシベンゾン、ベンゾレゾルチノール、オクタベンゾン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、エトクリレン、及び４−イソプロピル−ジベンゾイルメタン）。
【０１０７】
別の実施形態では、想定される組成物は、少なくとも１つの化学的日焼け止め剤成分を含んでもよく、例えば、上記リストから選択される成分を含んでもよい。組成物全体でカバーする波長範囲を広げるためには、２つ以上の化学的日焼け止め成分を含むことも妥当であろう。本明細書では、組み合わせ製剤によって光安定性及びＵＶ吸収特性が高まることの証拠を示した。更に、組成物が、化学式（Ｉ）、化学式（ＩＩ）、及び／又は化学式（ＩＩＩ）において見られる化学構造を有する化合物の組み合わせを含むことも考えられる。
【０１０８】
Ｘ．追加成分
本発明の組成物は更に、虫よけ成分などの成分を含んでよい。パーソナルケア製品向けの虫よけ活性剤として最も広く使用されているのは、「ＤＥＥＴ」と呼ばれることが多いＮ，Ｎ−ジエチル−ｍ−トルアミドであり、これは、少なくとも約９５％のＤＥＥＴを含む濃縮形態で入手可能である。他の化学合成虫よけ剤として、エチルブチルアセチルアミノプロプリオネート（ＩＲ  ３５３５とも呼ばれる）、ジメチルフタレート、エチルヘキサネディオール、インダロン、ジ−ｎ−プロピルイソシンコロネート、バイシクロヘプテン、ジカルボキシイミド、及びテトラヒドロフラルデヒドがある。虫よけ作用を有する植物由来の物質もあり、そのようなものとして、例えば、シトロネラ油及び他のシトロネラ源（レモングラス油を含む）、リモネン、ローズマリー油、ユーカリ油などがある。日焼け止め剤エマルションに取り入れる虫よけ剤の選択は、虫よけ剤のにおいに影響されることが多い。使用される虫よけ剤の量は、選択される薬剤によって異なり、ＤＥＥＴは、最大約１５パーセント以上のような高濃度で有効であるが、幾つかの植物由来物質は、典型的には、０．１％以下のような非常に少ない量で使用される。
【０１０９】
ここまで述べてきた組成物に含めることが可能な更に別の成分として、皮膚の鎮静を目的とする天然成分がある。日射曝露下で本組成物を身につけている間にユーザの皮膚を鎮静させ、潜在的に保護することに役立つ天然成分を有することは、ユーザの皮膚の健康にとって有益になりうる。天然成分としては、アロエ、ウィッチヘーゼル、ヤナギ樹皮、ブロメライン、ウコン、カモミールなどがあり、これらに限定されない。
【０１１０】
ＸＩ．紫外線放射からの保護
本開示の化合物は、２９０ｎｍから４００ｎｍの範囲のＵＶ放射を吸収することに効果がある。代替実施形態では、１つ以上の化合物が、３００ｎｍから３９０ｎｍ、３１０ｎｍから４００ｎｍ、３２０ｎｍから４００ｎｍ、３１０ｎｍから３８０ｎｍ、３１０ｎｍから３７０ｎｍ、又は３１０ｎｍから３６５ｎｍの範囲のＵＶ放射を吸収する。従って、上述の保護化合物を含むように局所組成物が製剤されると、この局所組成物は、対象者が、例えば、日光、又は他の、ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射源に曝された場合に、対象者を、日焼け又は日焼けによる損傷から保護する。
【０１１１】
局所組成物によってもたらされる保護は、幾つかの因子に依存するとされており、そのような因子として、局所組成物中のＵＶ吸収剤の濃度、局所組成物が皮膚に塗布される厚さ、並びに、塗布時及び使用時のＵＶ放射強度（例えば、現在のＵＶ指数）がある。実施形態によっては、ＵＶ吸収剤を含む局所組成物は、ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射によって引き起こされる、皮膚の日焼け又は紅斑／色素沈着を抑えるか阻止する。
【０１１２】
局所組成物は、組成物が少なくとも０．０５ｗｔ％、０．５ｗｔ％、０．１ｗｔ％、１０ｗｔ％、２０ｗｔ％、４０ｗｔ％、又は５０ｗｔ％を含む製剤である場合に、ＵＶＡ及び／又はＵＶＢの放射によって引き起こされる、皮膚の日焼け又は紅斑／色素沈着を抑えるか阻止するように製剤されてよい。別の実施形態では、局所組成物は、ＵＶＲ吸収化合物、又はそれの薬学的に許容される塩の０．０５ｗｔ％から５０ｗｔ％、１０ｗｔ％から４０ｗｔ％、２５ｗｔ％から５０ｗｔ％、又は２０ｗｔ％から４０ｗｔ％を含む。
【０１１３】
ＸＩＩ．使用の方法
本開示の組成物を対象者の毛髪又は皮膚に局所塗布することにより、紫外線放射（ＵＶＲ）の有害作用に対する保護が強化される。従って、本発明は更に、日射、特にＵＶＲの有害作用に対して皮膚及び／又は毛髪を保護する方法を提供し、この方法は、効果的な量の、本明細書に記載の日焼け止め剤組成物を皮膚及び／又は毛髪に局所塗布するステップを含む。ＵＶＲ（即ち、２８０ｎｍから４００ｎｍの光放射波長）に皮膚を曝すことの美容に有益な結果は、表皮の日焼けの促進である。別の日射曝露の恩恵は、皮膚内でのビタミンＤの生成によってもたらされる。ＵＶＲは、典型的には、ＵＶ−Ａ（３２０ｎｍから４００ｎｍの光波長）領域と、ＵＶ−Ｂ（２８０ｎｍから３２０ｎｍの光波長）領域とに分けられる。ＵＶ−Ｂ放射に対する過剰曝露は、皮膚火傷及び紅斑につながると一般的に理解されている。更に、ＵＶ−Ａ放射に対する過剰曝露は、皮膚の弾力性やしわの外観を低下させて、皮膚の早すぎる老化を促進する可能性がある。そのような放射は、紅斑反応の誘発を促進するか、個体によってはこの反応を増幅し、更には、光毒性反応や光アレルギ反応の原因になる可能性もある。又、ＵＶ−Ａに対する過剰曝露が黒色腫につながる可能性もあることが確信されつつある。従って、本発明の組成物を個体の皮膚及び／又は毛髪に塗布することにより、個体の皮膚及び／又は毛髪のＵＶＲ（ＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ）に対する光保護が強化される。
【０１１４】
本開示の組成物は、日焼け防止指数（ＳＰＦ）の定格として少なくとも２を与えるように意図されているが、更なる好ましい実施形態の日焼け防止指数は、少なくとも５、少なくとも１０、少なくとも１５、少なくとも２０、少なくとも２５、少なくとも３０、少なくとも３５、少なくとも４０、少なくとも４５、少なくとも５０、及び少なくとも５５である。
【０１１５】
ＸＩ．実施例
以下の各実施例は、本質的に例示的であり、限定を意図したものでは全くない。
実施例１
シクロヘキサンによるシクロヘキセン−１−［２−ヒドロキシ−１−（ヒドロキシメチル）エチル］アミノ］−２−メトキシ−３−Ｎ−［３−［（カルボキシメチル）アミノ］−イリデンの合成
【０１１６】
化学式（Ｉ）の化合物は、以下、並びに、ホワイト等（Ｗｈｉｔｅ  ｅｔ  ａｌ．）著，  ジャーナル  オブ  オーガニック  ケミストリ（Ｊ．  Ｏｒｇ．  Ｃｈｅｍ．），１９９５年，６０：３６００−３６１１の記事、及びホワイト等（Ｗｈｉｔｅ  ｅｔ  ａｌ．）著，  ジャーナル  オブ  アメリカン  ケミカル  ソサイエティ（Ｊ．  Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．），１９８９年，１１１：８９７０−８９７２の記事において示される手順に従って調製可能である。
【化１５】
2017519823.tif 000017
【化１６】
2017519823.tif 000018
実施例２
シクロヘキサンによるシクロヘキセン−１−［２−ヒドロキシ−１−（ヒドロキシメチル）エチル］アミノ］−２−メトキシ−３−Ｎ−［３−［（カルボキシメチル）アミノ］−イリデンの合成
【０１１７】
化学式（Ｉ）の化合物は、パドワとケーラー（Ｐａｄｗａ  ａｎｄ  Ｋｏｅｈｌｅｒ）著，ジャーナル  オブ  ケミカル  ソサエティ：ケミカル  コミュニケーションズ（Ｊ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．，  Ｃｈｅｍ．  Ｃｏｍｍｕｎ．）１９８６年，１０：７８９−７９０の記事において示される手順に従っても調製可能である。
【化１７】
2017519823.tif 000019
実施例３
【０１１８】
３−ヒドロキシ−２−メトキシ−シクロ−２−エノン（ＴｏｐＣＨＥＭｌ）、２−メトキシ−シクロヘクス−２−エノン−３−アミノ酢酸（ＴｏｐＣＨＥＭ−２）、２−メトキシ−３−（イミノグリシン）シクロヘクス−１−エネ−アミノ酢酸（ＴｏｐＣＨＥＭ３）の合成。
【化１８】
2017519823.tif 000020
実施例４
【０１１９】
２−メトキシ−３−｛（４−メトキシフェニル）イミノ｝シクロヘクス−１−エネアミノ酢酸（ＴｏｐＣＨＥＭ４）の合成
【化１９】
2017519823.tif 000021
【図１】
2017519823.tif 000038
【図２】
2017519823.tif 000039
【図３】
2017519823.tif 000040
【図４】
2017519823.tif 000041
【国際調査報告】
2017519823.tif 000042