(57)【要約】  本明細書では、基材と、前記基材の少なくとも１つの面の上に設けられている多層コーティングとを含む複合材料物品が記述されている。この多層コーティングは、（ｉ）基材に隣接する耐磨耗層であって、無機酸化物ナノ粒子及びポリマーバインダーを含む、耐磨耗層と、（ｉｉ）耐磨耗層に隣接し、基材とは反対側の反射防止層であって、フルオロシランポリマーを含む、反射防止層と、を含み、このフルオロシランポリマーは、  式（Ｉ）2017507803.tif 000039  （式中、  Ｒ１は、Ｈ又はメチルを表し、  Ｌ１は、共有結合、又は１〜１０個の炭素原子を有する２価の脂肪族基を表し、  各Ｙ１は独立して、１〜６個の炭素原子を有するヒドロカルビル基を表し、  各Ｙ２は独立して、加水分解性基を表し、  ｇは０、１又は２である）で表される少なくとも１つのモノマー単位Ａ、及び、  式（Ｉ）2017507803.tif 000040  （式中、  Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、Ｈ、メチル、トリフルオロメチル、又はＦを表し、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの少なくとも１つはＦであり、  Ｒｆ１は共有結合又は−（ＣＦ２Ｏ）ａ−、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｃ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｅ−及びこれらの組み合わせからなる群から選択される２価の基を表し、式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅは、０〜１３０の範囲の整数を表し、１≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦１３０であり、  Ｒｆ２は、ペルフルオロアルキル基である）で表される少なくとも１つの２価のモノマー単位Ｂを含む。【選択図】図２
2017507803.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材を備え、該基材の少なくとも１つの面の上に多層コーティングが設けられており、該多層コーティングは、
（ｉ）前記基材に隣接する耐磨耗層であって、１．５５を超える屈折率を有し、無機酸化物ナノ粒子及びポリマーバインダーを含む、耐磨耗層と、
（ｉｉ）前記耐磨耗層に隣接し、前記基材とは反対側の反射防止層であって、１．４８未満の屈折率を有し、フルオロシランポリマーを含む、反射防止層とを含み、前記フルオロシランポリマーは、
式
【化１】
2017507803.tif 000033
（式中、Ｒ１は、Ｈ又はメチルを表し、
Ｌ１は、共有結合、又は１〜１０個の炭素原子を有する２価の脂肪族基を表し、
各Ｙ１は独立して、１〜６個の炭素原子を有するヒドロカルビル基を表し、
各Ｙ２は独立して、加水分解性基を表し、
ｇは０、１又は２である）
で表される少なくとも１つのモノマー単位Ａ、及び、
式
【化２】
2017507803.tif 000034
（式中、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、Ｈ、メチル、トリフルオロメチル、又はＦを表し、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの少なくとも１つはＦであり、
Ｒｆ１は共有結合又は−（ＣＦ２Ｏ）ａ−、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｃ−、
−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｅ−、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される２価の基を表し、式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅは、０〜１３０の範囲の整数を表し、１≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦１３０であり、
Ｒｆ２は、ペルフルオロアルキル基である）
で表される少なくとも１つの２価のモノマー単位Ｂを含む、複合材料物品。
【請求項２】
前記フルオロシランポリマーが、０．４９重量パーセント以下のフッ素化アルケンを含む、請求項１に記載の複合材料物品。
【請求項３】
前記少なくとも１つの２価のモノマー単位Ｂにおいて、２≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦１３０である、請求項１に記載の複合材料物品。
【請求項４】
前記少なくとも１つのモノマー単位Ｂの前記少なくとも１つのモノマー単位Ａに対する重量比が少なくとも０．８である、請求項１に記載の複合材料物品。
【請求項５】
前記少なくとも１つのモノマー単位Ａの前記少なくとも１つのモノマー単位Ｂに対する平均モル比が少なくとも１である、請求項１に記載の複合材料物品。
【請求項６】
前記基材が湾曲したフィルム又は複雑な湾曲体である、請求項１に記載の複合材料物品。
【請求項７】
前記基材が、プラスチックフィルム、眼鏡レンズ、眼鏡保護材及び安全シールドのうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の複合材料物品。
【請求項８】
前記反射防止層が異方性シリカナノ粒子を更に含む、請求項１に記載の複合材料物品。
【請求項９】
前記無機酸化物ナノ粒子がジルコニアナノ粒子を含む、請求項１に記載の複合材料物品。
【請求項１０】
前記ポリマーバインダーが、四級アンモニウム基を含むアクリルポリマーを含む、請求項１に記載の複合材料物品。
【請求項１１】
複合材料物品を作製する方法であって、
基材を準備する工程と、
１．５５を超える屈折率を有し、無機酸化物ナノ粒子及びポリマーバインダーを含む耐磨耗層を、前記基材の少なくとも一部分に設ける工程と、
１．４８未満の屈折率を有し、フルオロシランポリマーを含む反射防止層を、基材とは反対側の前記耐磨耗層の少なくとも一部分に設ける工程と、を含み、前記フルオロシランポリマーは、
式
【化３】
2017507803.tif 000035
（式中、
Ｒ１は、Ｈ又はメチルを表し、
Ｌ１は、共有結合、又は１〜１０個の炭素原子を有する２価の脂肪族基を表し、
各Ｙ１は独立して、１〜６個の炭素原子を有するヒドロカルビル基を表し、
各Ｙ２は独立して、加水分解性基を表し、
ｇは０、１又は２である）
で表される少なくとも１つのモノマー単位Ａ、及び、
式
【化４】
2017507803.tif 000036
（式中、
Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、Ｈ、メチル、トリフルオロメチル、又はＦを表し、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの少なくとも１つはＦであり、
Ｒｆ１は共有結合又は−（ＣＦ２Ｏ）ａ−、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｃ−、
−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｅ−、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される２価の基を表し、式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅは、０〜１３０の範囲の整数を表し、１≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦１３０であり、
Ｒｆ２は、ペルフルオロアルキル基である）
で表される少なくとも１つの２価のモノマー単位Ｂを含む、方法。
【請求項１２】
ａ）式
【化５】
2017507803.tif 000037
（式中、Ｒ１は、Ｈ又はメチルを表し、
Ｌ１は、共有結合、又は１〜１０個の炭素原子を有する２価の脂肪族基を表し、
各Ｙ１は独立して、１〜６個の炭素原子を有するヒドロカルビル基を表し、
各Ｙ２は独立して、加水分解性基を表し、
ｇは０、１又は２である）
で表される少なくとも１つのモノマー単位Ａ、及び、
式
【化６】
2017507803.tif 000038
（式中、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、Ｈ、メチル、トリフルオロメチル、又はＦを表し、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの少なくとも１つはＦであり、
Ｒｆ１は共有結合又は−（ＣＦ２Ｏ）ａ−、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｃ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｅ−、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される２価の基を表し、式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅは、０〜１３０の範囲の整数を表し、１≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦１３０であり、
Ｒｆ２は、ペルフルオロアルキル基である）
で表される少なくとも１つの２価のモノマー単位Ｂを含む、フルオロシランポリマーと、
ｂ）無機ナノ粒子と、を含む、組成物。
【請求項１３】
請求項１２に記載の組成物を含む、物品。
【発明の詳細な説明】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
［技術分野］
優れた磨耗耐性と優れた反射防止特性を有する多層複合材料物品について記載する。
【０００２】
［概要］
複雑に湾曲した基材を含む、広い範囲の形状の基材に適用できるコーティング組成物を開発する需要がある。また、コスト効果が高くかつ／又は比較的低温で硬化するコーティング組成物を見つけることも望ましい。これらのコーティング組成物は、例えば、ディップコーティング、フローコーティング、スピンコーティング、ロール・トゥ・ロールコーティングなどの適用によって、広い範囲の基材に塗布できることが理想的である。また、反射防止、耐磨耗、帯電防止、及び／又はクリーニングしやすい特性を有している物品を見出すことも望まれている。
【０００３】
１つの実施形態においては、複合材料物品について記載される。この複合材料物品は、基材を備え、この基材の少なくとも１つの面に多層コーティングが設けられており、この多層コーティングは、（ｉ）基材に隣接する耐磨耗層であって、１．５５を超える屈折率を有し、無機酸化物ナノ粒子及びポリマーバインダーを含む、耐磨耗層と、（ｉｉ）耐磨耗層に隣接し、基材とは反対側の反射防止層であって、１．４８未満の屈折率を有し、フルオロシランポリマーを含む、反射防止層とを含み、このフルオロシランポリマーは、
式
【０００４】
【化１】
2017507803.tif 000003
（式中、
Ｒ１は、Ｈ又はメチルを表し、
Ｌ１は、共有結合、又は１〜１０個の炭素原子を有する２価の脂肪族基を表し、
各Ｙ１は独立して、１〜６個の炭素原子を有するヒドロカルビル基を表し、
各Ｙ２は独立して、加水分解性基を表し、
ｇは０、１又は２である）で表される少なくとも１つのモノマー単位Ａ、及び、
式
【０００５】
【化２】
2017507803.tif 000004
（式中、
Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、Ｈ、メチル、トリフルオロメチル、又はＦを表し、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの少なくとも１つはＦであり、
Ｒｆ１は共有結合又は−（ＣＦ２Ｏ）ａ−、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｃ−、
−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｅ−及びこれらの組み合わせからなる群から選択される２価の基を表し、式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅは、０〜１３０の範囲の整数を表し、１≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦１３０であり、
Ｒｆ２は、ペルフルオロアルキル基である）で表される少なくとも１つの２価のモノマー単位Ｂを含む。
【０００６】
別の実施形態では、複合材料物品を作製する方法が提供される。この方法は、
基材を準備する工程と、
１．５５を超える屈折率を有し、無機酸化物ナノ粒子及びポリマーバインダーを含む耐磨耗層を、基材の少なくとも一部分に設ける工程と、
１．４８未満の屈折率を有し、フルオロシランポリマーを含む反射防止層を、基材とは反対側の耐磨耗層の少なくとも一部分に設ける工程と、を含み、このフルオロシランポリマーは、
式
【０００７】
【化３】
2017507803.tif 000005
（式中、
Ｒ１は、Ｈ又はメチルを表し、
Ｌ１は、共有結合、又は１〜１０個の炭素原子を有する２価の脂肪族基を表し、
各Ｙ１は独立して、１〜６個の炭素原子を有するヒドロカルビル基を表し、
各Ｙ２は独立して、加水分解性基を表し、
ｇは０、１又は２である）で表される少なくとも１つのモノマー単位Ａ、及び、
式
【０００８】
【化４】
2017507803.tif 000006
（式中、
Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、Ｈ、メチル、トリフルオロメチル、又はＦを表し、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの少なくとも１つはＦであり、
Ｒｆ１は共有結合又は−（ＣＦ２Ｏ）ａ−、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｃ−、
−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｅ−及びこれらの組み合わせからなる群から選択される２価の基を表し、式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅは、０〜１３０の範囲の整数を表し、１≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦１３０であり、
Ｒｆ２は、ペルフルオロアルキル基である）で表される少なくとも１つの２価のモノマー単位Ｂを含む。
【０００９】
また、別の実施形態では、組成物について記述される。この組成物は、
ａ）
式
【００１０】
【化５】
2017507803.tif 000007
（式中、
Ｒ１は、Ｈ又はメチルを表し、
Ｌ１は、共有結合、又は１〜１０個の炭素原子を有する２価の脂肪族基を表し、
各Ｙ１は独立して、１〜６個の炭素原子を有するヒドロカルビル基を表し、
各Ｙ２は独立して、加水分解性基を表し、
ｇは０、１又は２である）で表される少なくとも１つのモノマー単位Ａ、及び、
式
【００１１】
【化６】
2017507803.tif 000008
（式中、
Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、Ｈ、メチル、トリフルオロメチル、又はＦを表し、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの少なくとも１つはＦであり、
Ｒｆ１は共有結合又は−（ＣＦ２Ｏ）ａ−、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｃ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｅ−及びこれらの組み合わせからなる群から選択される２価の基を表し、式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅは、０〜１３０の範囲の整数を表し、１≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦１３０であり、
Ｒｆ２は、ペルフルオロアルキル基である）で表される少なくとも１つの２価のモノマー単位Ｂを含む、フルオロシランポリマーと、
ｂ）無機ナノ粒子と、を含む。
【００１２】
前述の概要は、各実施形態を記述することを意図するものではない。本発明の１つ以上の実施形態の詳細はまた、以下の説明に記載される。他の特徴、目的及び利点は、説明並びに特許請求の範囲から明らかとなるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本開示による例示的な複合材料物品１０の概略側面図である。
【図２】３つの異なるサンプル、基材Ａ、ＡＲＣ−６でコーティングされた基材Ａ、及びＡＲＣ−１１でコーティングされた基材Ａについての、％透過率（％Ｔ）対波長のグラフである。
【００１４】
本開示の原理の範囲及び趣旨に含まれる他の多くの改変形態及び実施形態が当業者によって考案され得る点を理解されたい。図面は、縮尺どおりに描かれていない場合がある。
【００１５】
［詳細な説明］
本明細書で使用する場合、用語
「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」は、互換的に使用され、１つ又は２つ以上を意味する。
「脂肪族」という用語は、芳香族部分を含まないいずれかの有機基又は有機分子を指す。
「アルケン」という用語は、炭素原子と水素原子とからなるエチレン性不飽和化合物を指す。
「フッ素化アルケン」という用語は、１つ以上の水素原子がフッ素原子（単一又は複数）によって置換されたアルケンを指す。
「（メタ）アクリル」という接頭辞は、「アクリル」及び／又は「メタクリル」を意味する。
「及び／又は」は、生じ得る記載事例の一方又は両方を指すために用いられ、例えば、Ａ及び／又はＢは、（Ａ及びＢ）と（Ａ又はＢ）との両方を含む。
【００１６】
また、本明細書において、端点による範囲の説明は、その範囲内に包含されるすべての数を含む（例えば、１〜１０は１．４、１．９、２．３３、５．７５、９．９８などを含む）。
【００１７】
また、本明細書において、「少なくとも１つの」の説明は、１及びそれより大きいすべての数（例えば、少なくとも２つ、少なくとも４つ、少なくとも６つ、少なくとも８つ、少なくとも１０、少なくとも２５、少なくとも５０、少なくとも１００など）を含む。
【００１８】
反射防止コーティングは、反射を低減したり、及び／又は光の透過を向上させたりするために、光学デバイス（例えば、レンズ、ディスプレイ）などの物品に適用される。従来は、低屈折率の組成物の薄層を基材と空気との境界に適用して、コスト効果の高い、単層の反射防止性能を得ていた。典型的には、反射防止コーティングはＵＶ硬化（例えば、米国特許出願公開第２００６／０１４７７２３号に開示されている）を必要とするが、これは、複雑な湾曲体のような非平面基材、又はＵＶに対して安定しないサンプルに対しては理想的な方法ではない。あるいは、高温焼結プロセスを用いて反射防止コーティングを硬化させることができるが、プラスチックは焼結温度で溶解し得るため、このプロセスはプラスチック基材には理想的ではない。他の方法として、米国特許第６８１６３１０号に開示されているように、化学蒸着法を用いて基材に反射防止層を適用できるが、この方法はコストがかかる。複雑な形状をした物体、特に有機ポリマーでできている物体をコーティングする際のように、ディップコーティングを必要とする応用の場合には、比較的低温の熱硬化性組成物を必要とする。
【００１９】
本開示は、基材に適用された少なくとも２種類の熱硬化性コーティング層を含む、多層複合材料物品を目的とする。基材に隣接した第１コーティング層は、比較的高い屈折率を有する耐磨耗性の組成物であり、第２のコーティング層は、比較的低い屈折率を有する反射防止の組成物である。第１の層は基材に優れた接着、及び／又は耐久性の向上を提供し、第２の層はフルオロシランポリマーを含み、反射防止性能と防汚性、低表面エネルギーのコーティングを提供する。
【００２０】
本開示の例示的な複合材料物品が、図１に示される。複合材料物品１０は基材１２、そして１つの面に、耐磨耗層１４及び反射防止層１６を含む多層コーティングを備える。反射防止層１６は大気に曝露されるように設けられ、耐磨耗層１４は、基材１２と反射防止層１６との間に設けられる。図１では、基材の一方の面にしか多層コーティングが備えられていないが、基材の他方の面にも多層コーティングを備えていてもよい。
【００２１】
図示されていないが、反射防止層と耐磨耗層以外の層が複合材料物品に組み込まれていてもよく、これには、他の硬コーティング層、接着剤層、プライマー層、光拡散コーティング、回折グレーティング、及び他の微細構造などが含まれるが、その限りではない。反射防止層は耐磨耗層に結合していることが好ましい。
【００２２】
基材
本発明の基材は有機材料基材、すなわち炭素原子を含む基材であってもよいし、無機材料基材であってもよい。例示的な基材として、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、アクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、酢酸セルロースブチラート（ＣＡＢ）、ガラス、及びこれらの組み合わせが挙げられる。
【００２３】
基材は、平面形状、湾曲形状、又は複雑な湾曲形状であり得る。本発明で開示される構成体は、非平面形状の基材、例えば複数の曲線を有する射出成型された基材に特に有用である。
【００２４】
多層コーティングが設けられ得る基材としては、例えば、プラスチックフィルム、成形プラスチック部品、塗装された及び／又はクリアコートされた自動車のボディパネル、海洋で使用される表面（例えば胴やトリム）、オートバイ部品、タッチスクリーン、光学ディスプレイが挙げられる。
【００２５】
耐磨耗層
耐磨耗層は、高い屈折率の層であり、その屈折率は１．５５、１．５８又は更に１．６０よりも大きい。耐磨耗層の最大屈折率の最大値は、通常１．８０以下である。
【００２６】
耐磨耗層はポリマーバインダーを含む。そのようなポリマーバインダーは、単数又は複数のアクリレート架橋システムを有する従来の炭素系ポリマー組成物、ポリウレタン、及びポリアミドを含む。例示的なポリマーバインダーとして、アクリルポリマー、ポリウレタン、ポリイミドが挙げられる。１つの実施形態では、アクリルポリマーは四級アンモニウム基を含む。
【００２７】
１つの実施形態では、架橋剤を使用してもよい。例示的な架橋剤としては、Ｎｉｓｓｈｉｎｂｏ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ，Ｉｎｃ．Ｊａｐａｎから商品名「Ｖ−０４」として入手可能なカルボジイミド架橋剤；Ｓｔａｈｌ  ＵＳＡより商品名「ＸＲ−９１７４」、ＣＹＴＥＣ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｉｅｓ，Ｉｎｃ．より商品名「ＣＹＭＥＬ  ３２７」として入手可能なメラミン架橋剤が挙げられる。好ましい架橋剤としては、Ｂａｙｅｒ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  Ｓｃｉｅｎｃｅから商品名「ＤＥＳＭＯＤＵＲ」（Ｄｅｓｍｏｄｕｒ  Ｌ−７５及びＤｅｓｍｏｄｕｒ  ＸＰ２８３８を含む）で入手可能な脂肪族及び芳香族のポリイソシアネートが挙げられる。架橋剤の混合物もまた有用である。
【００２８】
耐磨耗層は、例えば好ましい波長で動作するＨバルブや他のランプを用いて紫外線に曝露する方法、対流炉で加熱する方法、又は赤外線に曝露する方法など、従来知られている方法で架橋してもよい。
【００２９】
１つの実施形態では、耐磨耗層は透明であり、これは可視光（４００〜７００ｎｍ）透過率が少なくとも８５％、又は更に９０％であることを意味する。
【００３０】
１つの実施形態では、耐磨耗層は、帯電防止性があり、これは、静電気消失時間が６０秒未満であること、又は以下に記述する帯電効率測定法に記された摩擦試験の後の静電気保持が−２００Ｖ〜＋２００Ｖであることを意味する。
【００３１】
好ましい１つの実施形態においては、耐磨耗層の機械的耐久性を無機粒子、特に高屈折率の粒子を導入することによって増強することができる。
【００３２】
様々な高屈折率粒子、例えば、単独又は組み合わせで、ジルコニア（「ＺｒＯ２」）、チタニア（「ＴｉＯ２」）、酸化アンチモン、アルミナ、酸化スズなどが知られている。混合金属酸化物を用いてもよい。高屈折率粒子の屈折率は、少なくとも１．６０、１．６５、１．７０、１．７５、１．８０、１．８５、１．９０、１．９５、又は２．００である。
【００３３】
一実施形態では、無機粒子はジルコニアである。耐磨耗層内で用いられるジルコニアは、Ｎａｌｃｏ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．から「Ｎａｌｃｏ  ＯＯＳＳＯＯ８」という商品名で、及びＢｕｈｌｅｒ  ＡＧ  Ｕｚｗｉｌ，Ｓｗｉｔｚｅｒｌａｎｄから「ＢＹＨＬＥＲ  ＺＩＲＣＯＮＩＡ  Ｚ−ＷＯ  ＳＯＬ」という商品名で入手可能である。ジルコニアナノ粒子はまた、米国特許第７，２４１，４３７号及び同第６，３７６，５９０号に記載されているように調製されてもよい。
【００３４】
一実施形態において、無機粒子の表面は、改質されている。粒子の表面を、ポリマーバインダーに対する反応性官能基を有する、アルキル基又はフッ素化アルキル基及びそれらの混合物を有するように企図されたポリマーコーティングで改質してもよい。そのような官能基としては、メルカプタン、ビニル、アクリレート及び、特にクロロ、ブロモ、イオド又はアルコキシシランの硬化サイトモノマーを含むポリマーバインダーと無機粒子の相互作用を増大すると考えられている他のものを含む。本発明によって想到されている表面改質剤の具体的なものとして、３−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン（Ａ１７４，ＯＳＩ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ）、トリメトキシ及びトリエトキシシラン、並びにヘキサメチルジシランなどのビニルトリアルコキシシラン（Ａｌｄｒｉｃｈ  Ｃｏから入手可能）が挙げられるが、この限りではない。
【００３５】
表面改質剤の混合物が有用であり、その場合、表面改質剤の少なくとも１つには、硬化性樹脂と共重合可能な官能基が含まれている。表面改質剤の混合物によって、より低い粘度を得ることができる。例えば、重合化基は、エチレン不飽和であるか、又は開環重合を起こす環式官能基であり得る。エチレン不飽和重合化基は、例えば、アクリレート基若しくはメタクリレート基、又はビニル基であり得る。開環重合を受ける環式官能基は、一般的に、酸素、イオウ又は窒素のようなヘテロ原子を含有し、好ましくはエポキシドのように酸素を含有する３員環である。
【００３６】
粒子の表面改質は、様々な既知の方法、例えば米国特許第７，２４１，４３７号及び米国特許第６，３７６，５９０号に記載されている方法で実現させることができる。同出願は参照により本明細書に援用される。
【００３７】
無機粒子には、実質的に単分散の粒径分布、又は実質的に単分散の分布の２つ以上を混ぜ合わせることによって得られるポリモーダル分布を持たせるのが好ましい。あるいは、無機粒子は、粒子を所望の粒径範囲に粉砕することによって得られる様々な粒径を持たせるように組み込むことができる。無機酸化物粒子は、凝集によって無機酸化物粒子の光学散乱（ヘイズ）若しくは沈殿又はゲル化が生じる可能性があるため、典型的には非凝集体（実質的に分離体）である。無機酸化物粒子は典型的にはコロイドの大きさであり、５ナノメートル〜１００ナノメートルの平均粒子直径を有する。十分な透明度を有するように、表面改質無機粒子の粒径は約５０ｎｍ未満であるのが好ましい。無機酸化物粒子の平均粒径は、透過型電子顕微鏡を使用して、所与の直径の無機酸化物粒子を計数して測定できる。透明性の観点から、モノモーダルな粒子分布が好ましい。
【００３８】
無機ナノ粒子の濃度は、典型的には、乾燥コーティングの固形で８０重量％以下である。いくつかの実施形態では、耐磨耗層中に固体で３５〜７０重量％の無機ナノ粒子が含まれるのが好ましい。
【００３９】
１つの実施形態では、耐磨耗層の厚みが全構成体の１０％未満、１％未満、又は更には０．５％未満である。１つの実施形態では、典型的には耐磨耗層の厚みは少なくとも０．５マイクロメートル、１マイクロメートル、又は更には２マイクロメートルであり、典型的には１０マイクロメートル以下である。
【００４０】
反射防止層
反射防止層は、低屈折率の層であり、その屈折率は１．４８未満、１．４６未満、１．４４未満又は更に１．４０未満である。反射防止層の最小屈折率は一般には少なくとも約１．３５である。耐磨耗層と反射防止層との屈折率の差は、一般的には少なくとも０．０５、更には０．１である。
【００４１】
反射防止層はフルオロシランポリマーを含み、このフルオロシランポリマーは、少なくとも１つの２価のモノマー単位Ａ及び少なくとも１つの２価のモノマー単位Ｂを含む。
【００４２】
モノマー単位Ａは、式
【００４３】
【化７】
2017507803.tif 000009
で表され、式中、Ｒ１は、Ｈ又はメチルを表す。
【００４４】
Ｌ１は、共有結合（すなわち、炭素とケイ素原子との間の共有結合）、又は１〜１０個の炭素原子を有する２価の脂肪族基を表す。好適な２価の脂肪族基の例として、２価のアルキレン基（例えば、メチレン、エチレン、１，２−プロピレン、１，３−プロピレン、１，４−ブチレン、１，６−へキシレン、１，８−オクチレン、１，９−ノニレン及び１，１０−デシレン）、及び−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）ｖ−（式中、ｖは２、３、４、又は５）、−及びＯ（ＣＨ２）ｐ−（式中、ｐは２、３、４、５又は６）が挙げられる。いくつかの実施形態においては、Ｌ１は、共有結合であるのが好ましい。
【００４５】
各Ｙ１は独立して、１〜６個の炭素原子を有するヒドロカルビル基、１〜６個の炭素原子を有するヒドロカルビル基（概して非加水分解性である）を表す。Ｙ１の例としては、メチル、エチル、プロピル、イソブチル、ペンチル、シクロヘキシル、及びフェニルが挙げられる。
【００４６】
各Ｙ２は独立して、加水分解性基を表す。本発明との関連における「加水分解性基」という用語は、典型的な縮合反応条件下で直接縮合反応できるか、又は典型的な縮合反応条件で加水分解でき、それにより、縮合反応できる化合物をもたらす基を指す。加水分解性基の例としては、ハロ基（例えば、クロロ、ブロモ、ヨード）、アルコキシ基（例えば、１〜４個の炭素原子、好ましくは１又は２個の炭素原子を有するアルコキシ基）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基）、ヒドロキシル基、及び２〜４個の炭素原子を有するアルカノイルオキシ基（例えば、アセトキシ、プロパノイルオキシ、ブタノイルオキシ）が挙げられる。典型的な縮合反応条件には、酸性条件又は塩基性条件が含まれる。
【００４７】
ｇは、０、１、又は２であり、好ましくは０である。
【００４８】
そのようなモノマー単位はエチレン性不飽和加水分解性シランなどのモノマーから誘導されてもよく、それらを作製する方法は、国際公開第９８／２８３０７  Ａ１号（Ｃｅｓｋａら）に記載されている。モノマー単位はまた、フリーラジカル的に重合可能な加水分解性シランなどの市販されているモノマーから誘導されてもよい。このフリーラジカル的に重合可能な加水分解性シランとしては、アリルトリクロロシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ビニルトリ−ｔ−ブトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロペノキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリス（１−メトキシ−２−プロポキシ）シラン、及びビニル（２−メトキシエトキシ）シランなどが含まれ、これらはすべてＧｅｌｅｓｔ，Ｉｎｃ．，Ｍｏｒｒｉｓｖｉｌｌｅ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａより入手可能である。その他の好適なモノマーとしては、ビニルジメチルメトキシシラン、ビニルジメチルエトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルエチルジエトキシシランが挙げられる。
【００４９】
また、好適なモノマー単位は、アルコキシシランとアセチレンの触媒を介在したヒドロシリル化反応によって調製される、ビニルアルコキシシランより誘導してもよい。別のアプローチは、ビニルクロロシランをアルコールと反応させることを含む。調製の方法は、米国特許第２，６３７，７３８号（Ｗａｇｎｅｒ）、同第４，５７９，９６５号（Ｋｅｎｎｅｒら）及び同第５，０４１，５９５号（Ｙａｎｇら）に記載されている。ビニルアルコキシシランもまた、例えばＳｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ  Ｃｏ．及びＧｅｌｅｓｔ  Ｉｎｃ．から市販されている。
【００５０】
モノマー単位Ｂは、式
【００５１】
【化８】
2017507803.tif 000010
【００５２】
で表される。Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４はＨ、メチル、トリフルオロメチル、又はＦを表し、ここでＲ２、Ｒ３、及びＲ４の少なくとも１つはＦである。いくつかの実施形態では、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４の少なくとも２つはＦである。いくつかの実施形態ではＲ２及びＲ３はＦであり、Ｒ４はトリフルオロメチルである。
【００５３】
Ｒｆ１は、共有結合又は−（ＣＦ２Ｏ）ａ−、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｃ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｅ−、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される２価の基を表し、式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅは、０〜１３０の範囲の整数を表す。
【００５４】
いくつかの実施形態においては、１≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦１３０である。いくつかの実施形態においては、２≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦１３０である。いくつかの実施形態においては、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、又はｅのうちの少なくとも１つは、１又は２〜１３０、好ましくは１又は２〜８０、より好ましくは１又は２〜５０、より好ましくは１又は２〜４０の範囲の整数を表す。いくつかの実施形態においては、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、又はｅのうちの少なくとも１つは、１又は２〜１０、好ましくは１又は２〜５の範囲の整数を表す。いくつかの実施形態においては、１≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦５０である。いくつかの実施形態においては、２≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦５０である。いくつかの実施形態においては、１０≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦１３０である。いくつかの実施形態においては、１０≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦５０である。いくつかの実施形態においては、３０≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦６０である。いくつかの実施形態においては、４≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦１３０、好ましくは４≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦８０、より好ましくは４≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦５０、より好ましくは４≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦４０、更に好ましくは４≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦４０である。
【００５５】
Ｒｆ１のいくつかの例として、−（ＣＦ２Ｏ）２０〜３０−、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）３０〜４０−、
−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）４０〜５０−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２０〜３０−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）４〜８−、
−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）３０〜４０−、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）３０〜４０（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）３０〜４０−、及び
−（ＣＦ２Ｏ）２０〜３０（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）８５〜１００−が挙げられる。組み合わせとして存在している場合には、単位−（ＣＦ２Ｏ）−、
−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）−、及び−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−は、ランダム又は擬似ランダムな順序で、及び／又はブロック内で存在していてもよい。
【００５６】
Ｒｆ２は、ペルフルオロアルキル基である。Ｒｆ２は、１〜６個の炭素原子を有するのが好ましい。好適なペルフルオロアルキル基の例としては、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、ノナフルオロブチル、ノナフルオロイソブチル、ペルフルオロペンチル、及びペルフルオロヘキシルが挙げられる。
【００５７】
モノマー単位Ｂのモノマー単位として好適なものは、フッ素化ビニルエーテルから誘導されたものが、例えば、当該技術分野で従来よく知られた方法、例えば、米国特許番号第６，２５５，５３６  Ｂ１号（Ｗｏｒｍら）に記載されていように調製できる。
【００５８】
いくつかの実施形態においては、単一又は複数のモノマー単位Ａの単一又は複数のモノマー単位Ｂに対する平均モル比は、少なくとも１（例えば少なくとも１０、少なくとも４０、少なくとも８０、少なくとも１００、少なくとも１２５、又更には少なくとも１５０）である。いくつかの実施形態においては、単一又は複数のモノマー単位Ｂの単一又は複数のモノマー単位Ａに対する重量比は、少なくとも０．８（例えば少なくとも５、少なくとも１０、少なくとも２０、少なくとも２５、又更には少なくとも３０）である。
【００５９】
１つの実施形態では、フルオロシランポリマーは、式
【００６０】
【化９】
2017507803.tif 000011
（式中、Ｒ５はＨ又はメチルを表し、ｐは正の整数である）で表されるｐ個のモノマー単位Ｃを更に含む。
【００６１】
このようなモノマー単位Ｃが存在する場合、モノマー単位Ｃは、その個々の量又は組み合わせた量が、存在するモノマーの総重量に対して、好ましくは２０重量パーセント未満、より好ましくは１０重量パーセント未満、より好ましくは２重量パーセント未満で存在する。
【００６２】
モノマー単位Ｃは、米国特許第４，７３７，５５９号（Ｋｅｌｌｅｎら）に記載されているもの等、光架橋可能な基を含む光架橋性基を含むフリーラジカル重合性モノマーから誘導されてもよい。具体例としては、ｐ−アクリルオキシベンゾフェノン、ｐ−アクリルオキシエトキシベンゾフェノン、ｐ−Ｎ−（メチルアクリルオキシエチル）カルバモイルエトキシベンゾフェノン、ｐ−アクリルオキシアセトフェノン、ｏ−アクリルアミドアセトフェノン、及びアクリル化アントラキノンが挙げられる。
【００６３】
いくつかの実施形態においては、モノマー単位Ｃは、４〜２２個の炭素原子を有するアルキル（メタ）アクリレート（例えばブチルアクリレート、イソボルニルアクリレート）、４〜２２個の炭素原子を有するアルコキシアルキルメタクリレート、６〜２２個の炭素原子を有するエポキシアクリレート（例えばグリシジルメタクリレート）、６〜２２個の炭素原子を有するイソシアナートアルキル（メタ）アクリレート（例えば３−イソシアナートプロピル（メタ）アクリレート））、及びこれらの組み合わせのモノマーから誘導されてもよい。
【００６４】
このモノマー単位Ｃを生成するのに使用される追加のモノマーは、架橋を引き起こす複数のフリーラジカル重合性基を含まないのが好ましいが、例えば、シロップをもたらすごく少量の架橋は許容可能である。
【００６５】
いくつかの実施形態においては、フルオロシランポリマー中のフリーラジカル重合性モノマーをすべて合わせた合計は、フッ素化アルケンの０．４９重量パーセント以下（好ましくは０．３重量パーセント未満、より好ましくは０．１重量パーセント未満）である。いくつかの実施形態においては、フルオロシランポリマーに使用されるフリーラジカル重合性モノマーをすべて合わせたものは全体として、フッ素化アルケンを含まない。
【００６６】
フルオロシランポリマーの数平均及び／又は重量平均分子量は典型的には、少なくとも１００００ｇ／モル、少なくとも２００００ｇ／モル、少なくとも５００００ｇ／モル、少なくとも１５００００ｇ／モル、及び／又は更には少なくとも２０００００ｇ／モルであるが、これは必須要件ではない。高い分子量を得るために、重合は、連鎖移動剤（例えばメルカプタン）を加えずに行うのが好ましい。
【００６７】
かかる組成物は米国特許出願公開第６１／８３９１２２号（２０１３年６月２５日出願）に開示されており、その開示は本明細書に参照により組み込まれる。
【００６８】
１つの実施形態では、反射防止層は透明であり、これは可視光（４００〜７００ｎｍ）透過率が少なくとも８５％、又は９０％でさえあることを意味する。
【００６９】
１つの実施形態では、反射防止層は、関心のある波長のおよそ４分の１波長の光学的厚みを有する。このような厚みは典型的には１マイクロメートル未満、より典型的には約０．５マイクロメートル未満であり、約９０ｎｍ〜２００ｎｍである場合が多い。例えば、１つの実施形態では、反射防止層は可視光の波長（４００〜７００ｎｍ）又はその倍数の約４分の１の光学厚みを有する。そのような厚みとは、典型的には約９０ｎｍ〜１８０ｎｍであり、１２５ｎｍ前後が好ましい。１つの実施形態では、反射防止層は、赤外線の波長（７００ｎｍ〜１ｍｍ）又はその倍数の約４分の１の光学厚みを有し、例えば、そのような厚みは約１７０〜５００ｎｍである。
【００７０】
反射防止層の屈折率及び反射防止層の厚みに加え、反射防止層の表面粗さも得られるコーティングされた物品の光反射特性に影響を与える。より高い反射防止性能のためには、空間周波数がより高い表面粗さを有するほうが好ましい。低周波粗さは、光を散乱し、反射を低減しない。完全に滑らかな表面はＦｒｅｓｎｅｌ式に従って光を反射する。高空間周波数の粗さを加えることは、反射防止性能を付与する可能性がある。１つの実施形態においては、反射防止層はナノ構造であり、すなわち粗い表面を有している。
【００７１】
表面粗さは表面の粗さの尺度である。表面粗さは、ナノメートルの範囲（例えば、少なくとも１〜１００ｎｍ、又は更には５〜５０ｎｍ）の形状を解像できる原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）などの方法を用いて測定する。表面粗さを表す場合には、平均粗さ（Ｒａ）又はＲＭＳ粗さ（Ｒｑ）が使用可能である。Ｉｍａｇｅ  Ｒｑはイメージデータ平均面からの高さの偏差の二乗平均平方根であり、
【００７２】
【数１】
2017507803.tif 000012
（式中、Ｎは点の総数、Ｚはそれぞれの点における高さ（平均高さに対する相対値）である）で表される。
【００７３】
Ｉｍａｇｅ  Ｒａは平均面から測定した表面高さ偏差の絶対値の算術平均であり、
【００７４】
【数２】
2017507803.tif 000013
（式中、Ｎは点の総数、Ｚはそれぞれの点における高さ（平均高さに対する相対値）である）で表される。
【００７５】
生データのフーリエ分析によって、粗さを異なる形状サイズや空間周波数で検証することができる。高空間周波数フィルターを使用してナノスケールの形状の粗さへの寄与を判定することができる。あるいは、ローパス空間周波数フィルターを用いて、光を反射しやすい大きい形状（例えば、ミクロスケール以上の形状）からの粗さへの寄与を判定することも可能である。ローパス空間周波数フィルターを使用する際に、ローパスフィルターと共にハイパス空間周波数フィルターを使用してサンプル表面のうねり（waviness）を取り除いてもよい（すなわち、バンドパスフィルター）。矩形フーリエフィルターウィンドウを使用してもよいが、リンギングアーティファクトがフィルタリング後のデータに観察された場合には、当該技術分野で従来知られているように、ガウシアン・フーリエフィルターウィンドウを代わりに使用してもよい。例えば、ＡＳＭＥ  ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｂ４６．１−２００９：「Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｔｅｘｔｕｒｅ：Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ，Ｗａｖｉｎｅｓｓ，ａｎｄ  Ｌａｙ」を参照のこと。当該技術分野において通常の技術を有する者であれば理解されることであるが、表面粗さの測定は、意味のある測定とするためには、サンプルにおいてデブリや欠陥（例えば、意図していない泡、凹み、擦り傷等）がない領域で実施する必要がある。Ｂｒｕｋｅｒ  Ｃｏｒｐ．，Ｓａｎｔａ  Ｂａｒｂａｒａ，ＣＡより入手可能な、商品名「ＶＩＳＩＯＮ」等のソフトウェアプログラムを使用してもよい。また、ＭａｔｈＷｏｒｋｓ，Ｎａｔｉｃｋ，ＭＡより入手可能な商品名「ＭＡＴＬＡＢ」等のデータ処理ソフトウェアを使用してもよい。
【００７６】
高空間周波数のフィルターとしては、好ましい光（例えば、可視光）の空間周波数よりも大きいが、サンプリングされたデータの解像限界限よりも低い周波数を選択するのがよい。１つの実施形態では、高空間周波数フィルターが５０００ｍｍ−１であるとき、反射防止層のＲｑ値は、０．４、０．５、１、２、４又は更に６ｎｍ超である。１つの実施形態では、高空間周波数フィルターが１００００ｍｍ−１であるとき、反射防止層のＲｑ値は、０．３、０．４、０．５、１、２又は更に２．５ｎｍ超である。
【００７７】
１つの実施形態では、低空間周波数バンドパスフィルターが２００ｍｍ−１〜２０００ｍｍ−１であるとき、反射防止層のＲｑ値は、３０、２５、２０、１５、１０、７又は更に５ｎｍ未満である。
【００７８】
１つの実施形態において、反射防止層は更にシリカナノ粒子を含む。
【００７９】
シリカナノ粒子は、使用された無機ナノ粒子に依存して、少なくとも２５ｎｍ、２０ｎｍ、１５ｎｍ、１０ｎｍ、５ｎｍ、又は更には３ｎｍの一次粒子の平均直径を有し、最大で約２００ｎｍ、１００ｎｍ、５０ｎｍ、３０ｎｍ、２０ｎｍ、又は更に１０ｎｍの一次粒子の平均直径を有する。反射防止層で用いられる無機ナノ粒子は、典型的に、凝集していない。無機ナノ粒子が一次粒子の凝集体である場合、凝集ナノ粒子の最大断面寸法は、約３ｎｍ〜約１００ｎｍ、約３ｎｍ〜約５０ｎｍ、約３ｎｍ〜約２０ｎｍ、又は更には約３ｎｍ〜約１０ｎｍの範囲内である。
【００８０】
反射防止層の無機ナノ粒子は、ヒュームドシリカ、発熱性シリカ、沈殿シリカ等の材料とは区別することができる。このようなシリカ材料は、高剪断混合の非存在下において凝集体の形態で本質的に不可逆的に互いに結合している一次粒子で構成されていることが当業者には公知である。これらシリカ材料は、１００ｎｍ超（例えば、典型的に少なくとも２００ナノメートル）の平均粒径を有し、これらから個々の一次粒子を直接抽出することは不可能である。
【００８１】
これらの無機ナノ粒子は、コロイド状分散液の形態であってよい。有用な市販の非修飾シリカナノ粒子の例としては、商品名「ＮＡＬＣＯ  ＣＯＬＬＯＩＤＡＬ  ＳＩＬＩＣＡＳ」としてＮａｌｃｏ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．（Ｎａｐｅｒｖｉｌｌｅ，ＩＬ）から入手可能な市販のコロイド状シリカゾルが挙げられる。例えば、このようなシリカとしては、ＮＡＬＣＯの製品１０４０、１０４２、１０５０、１０６０、２３２７及び２３２９が挙げられる。使用可能な市販のシリカナノ粒子の他の例として、Ｎｉｓｓａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（Ｈｏｕｓｔｏｎ，ＴＸ）より入手可能な商品名「ＯＲＧＡＮＯＳＩＬＩＣＡＳＯＬ」（例えば「ＯＲＧＡＮＯＳＩＬＩＣＡＳＯＬ  ＩＰＡ−ＳＴ」及び「ＯＲＧＡＮＯＳＩＬＩＣＡＳＯＬ  ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ」）で販売されているものが挙げられる。１つの実施形態では、無機ナノ粒子は異方性ナノ粒子（例えば、細長いナノ粒子）を含む。細長いシリカナノ粒子の例として、Ｎｉｓｓａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（Ｈｏｕｓｔｏｎ，ＴＸ）より入手可能な商品名「ＯＲＧＡＮＯＳＩＬＩＣＡＳＯＬ」（例えば「ＯＲＧＡＮＯＳＩＬＩＣＡＳＯＬ  ＩＰＡ−ＳＴ−ＵＰ」）で販売されているものが挙げられる。無機ナノ粒子は、上記の化学反応を用いて表面改質されていてもよいし、されていなくてもよい。
【００８２】
１つの実施形態では、反射防止層に使用されるシリカナノ粒子は実質的に球状である。「真球度」とは、粒子がどれくらい球形かを指す。粒子の真球度の程度は、設定された体積の球体の表面積の、同じ体積の粒子の表面積に対する比である。実質的に球状とは、完全球体の理論上の真球度１．０に対して、複数の微小球の真球度の平均が少なくとも０．７５、０．８、０．８５、０．９、０．９５又は０．９９である。
【００８３】
当業者は、上記に開示された耐磨耗層及び／又は反射防止層は他の補助剤、例えば、界面活性剤、帯電防止剤（例えば、導電ポリマー）、殺生物剤、防腐剤、レベリング剤、感光剤、紫外線（「ＵＶ」）吸収剤、安定化剤、消泡剤、酸化防止剤、潤滑剤、懸濁化剤等を含有していてもよいことを認識する。
【００８４】
耐磨耗層及び反射防止層は、スプレー、スピンコーティング、ブラッシング、ディッピング、フローコーティング、ダイ・コーティング等を含む従来の方法によって塗布され得るが、典型的には、ディップコーティングによって塗布される。ダイ・コーティング機としては、とりわけ、ナイフコーティング機、スロットコーティング機、スライドコーティング機、フルイドベアリングコーティング機、スライドカーテンコーティング機、ドロップダイカーテンコーティング機、及び、押出コーティング機が挙げられる。コーティング操作は、当該技術分野で周知のように、単一工程は複数工程のコーティング手順によって行うことができる。
【００８５】
本明細書において開示されているコーティング組成物はディップコーティング法によって有利に適用される。そのようなコーティング法は、例えば１つ以上の曲面を持つ射出成型基材などの非平面物体に特に適している。
【００８６】
１つの実施形態においては、基材を第１のコーティング組成物と接触させて、耐磨耗コーティング層を形成する。１つの実施形態においては、耐磨耗コーティング層は、室温〜２００℃、約９０〜１４０℃の温度で、数分から数時間で熱硬化して耐磨耗層を形成する。そして、コーティングされた物体を第２のコーティング組成物と接触させて、反射防止コーティング層を形成する。反射防止コーティング層は、室温〜２００℃、約９０〜１４０℃の温度で、数分から数時間で熱硬化して反射防止層を形成する。一般的には、硬化に使用する温度が高いほど硬化時間は短くなる。典型的な硬化時間は、約３０分から３時間までの範囲であり得る。
【００８７】
また他の実施形態では、耐磨耗コーティング層を基材上に適用した後、基材を、溶媒がほとんど蒸発するまで高温で乾燥してもよい。そして、反射防止コーティング層をこの部分的に硬化した耐磨耗層の上に適用し、その後両方の層を同時に、室温〜２００℃、約９０〜１４０℃の温度で数分から数時間にわたって熱硬化させてもよい。このコーティング及び硬化法は、２つのコーティング層の間の層間接着を向上させるのに有利である。更に、この実施形態は最終製品の製造時間を短縮する。
【００８８】
コーティング及び／又は取扱いを容易にするため、第１及び／又は第２のコーティング組成物は、例えば望ましい固形分及び／又は粘度を達成するために、溶媒で希釈されていてもよい。好適な溶媒の例として、水、脂肪族炭化水素（例えば、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン）、芳香族溶媒（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン）、エーテル（例えば、ジエチルエーテル、グリム、ジグリム、ジイソプロピルエーテル）、エステル（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル）、アルコール（例えば、エタノール、イソプロピルアルコール）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド）、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド）、ハロゲン化溶媒（例えば、エチルクロロホルム、ジクロロエチレン、トリフルオロトルエン）、及びこれらの組み合わせを挙げることができる。
【００８９】
本発明の第１及び／又は第２のコーティング組成物の硬化（例えば少なくとも部分硬化）は概して、コーティング組成物の加水分解と縮合によって行われ、典型的には、空気（例えば水蒸気を含む空気）中での静置及び／又はコーティングの溶媒の蒸発時に自然発生的に行われて、（例えばＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合による）架橋反応生成物を形成させる。熱及び／又は蒸気（例えば過熱蒸気）を用いて、コーティング組成物の硬化を加速及び／又は進行させてよい。
【００９０】
耐磨耗層は、基材の一方の面、又は両側の面に配置されてもよい。反射防止層は、複合材料物品の一方の面、又は両側の面に配置されてもよい。
【００９１】
反射防止層はフッ素化された構成要素を含むため、反射防止層は低い表面エネルギーを呈し得る。反射防止層の表面エネルギーは、様々な方法、例えば動的接触角度（すなわち、進行角及び退行角）及びインク撥液性によって特徴付けることができる。硬化した低屈折率層の水との進行接触角は、典型的に少なくとも９０°である。より好ましくは、接触角は少なくとも１００°、最も好ましくは少なくとも１１０°である。低表面エネルギーは、防汚特性及びインク又は染み撥液特性に適しているだけでなく、露出面は洗浄しやすい傾向にある。
【００９２】
本明細書に開示されている多層構成体は様々な物品に使用でき、例えば、カメラレンズ、眼鏡レンズ、双眼鏡レンズ、鏡、再帰反射性シート、自動車用ウィンドウ、建築用ウィンドウ、列車用ウィンドウ、船舶用ウィンドウ、飛行機用ウィンドウ、自動車ヘッドライト及びテールライト、ディスプレイケース、眼鏡、ＯＨＰ、ステレオ用キャビネットドア、ステレオカバー、時計カバー、ＰＤＡ、ＬＣＤ  ＴＶ（直下型及びエッジ型）、携帯電話（ＰＤＡ／携帯電話の組み合わせも含む）、タッチセンサースクリーン、腕時計、カーナビシステム、ＧＰＳ、深度計測器、計算機、電子リーダー、ＣＤ及びＤＶＤプレーヤー、プロジェクション型ＴＶスクリーン、コンピューターモニター、ノート型コンピューターディスプレイ、計器ゲージ、計器パネルカバー、グラフィックディスプレイ等の表示、更に光学及び磁気光学記録ディスク等に使用できる。
【００９３】
本開示の種々の例示的な実施形態を以下に記載する。
実施形態１．基材を備え、この基材の少なくとも１つの面の上に多層コーティングが設けられており、この多層コーティングは、（ｉ）基材に隣接する耐磨耗層であって、１．５５を超える屈折率を有し、無機酸化物ナノ粒子及びポリマーバインダーを含む、耐磨耗層と、（ｉｉ）耐磨耗層に隣接し、基材とは反対側の反射防止層であって、１．４８未満の屈折率を有し、フルオロシランポリマーを含む、反射防止層とを含み、このフルオロシランポリマーは、
式
【００９４】
【化１０】
2017507803.tif 000014
（式中、
Ｒ１は、Ｈ又はメチルを表し、
Ｌ１は、共有結合、又は１〜１０個の炭素原子を有する２価の脂肪族基を表し、
各Ｙ１は独立して、１〜６個の炭素原子を有するヒドロカルビル基を表し、
各Ｙ２は独立して、加水分解性基を表し、
ｇは０、１又は２である）で表される少なくとも１つのモノマー単位Ａ、及び、
式
【００９５】
【化１１】
2017507803.tif 000015
（式中、
Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、Ｈ、メチル、トリフルオロメチル、又はＦを表し、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの少なくとも１つはＦであり、
Ｒｆ１は共有結合又は−（ＣＦ２Ｏ）ａ−、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｃ−、
−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｅ−、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される２価の基を表し、式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅは、０〜１３０の範囲の整数を表し、１≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦１３０であり、
Ｒｆ２は、ペルフルオロアルキル基である）で表される少なくとも１つの２価のモノマー単位Ｂを含む、複合材料物品。
【００９６】
実施形態２．フルオロシランポリマーが、０．４９重量パーセント以下のフッ素化アルケンを含む、実施形態１に記載の複合材料物品。
【００９７】
実施形態３．Ｒｆ１が、共有結合又は−（ＣＦ２Ｏ）ａ−、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｃ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｅ−、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される２価の基を表し、式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅは、０〜１３０の範囲の整数を表し、２≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦１３０である、実施形態１及び２のいずれかに記載の複合材料物品。
【００９８】
実施形態４．少なくとも１つのモノマー単位Ｂの少なくとも１つのモノマー単位Ａに対する重量比が少なくとも０．８である、実施形態１〜３のいずれか一項に記載の複合材料物品。
【００９９】
実施形態５．無機酸化物ナノ粒子がジルコニアナノ粒子を含む、実施形態１〜４のいずれか一項に記載の複合材料物品。
【０１００】
実施形態６．無機酸化物ナノ粒子が表面改質ジルコニアナノ粒子を含む、実施形態１〜４のいずれか一項に記載の複合材料物品。
【０１０１】
実施形態７．フルオロシランポリマーが、
式
【０１０２】
【化１２】
2017507803.tif 000016
（式中、Ｒ５はＨ又はメチルを表し、ｐは正の整数である）で表されるｐ個のモノマー単位Ｃを含む、実施形態１〜６のいずれか一項に記載の複合材料物品。
【０１０３】
実施形態８．少なくとも１つのモノマー単位Ａの少なくとも１つのモノマー単位Ｂに対する平均モル比が少なくとも１である、実施形態１〜７のいずれか一項に記載の複合材料物品。
【０１０４】
実施形態９．基材が湾曲したフィルム又は複雑な湾曲体である、実施形態１〜８のいずれか一項に記載の複合材料物品。
【０１０５】
実施形態１０．基材が、プラスチックフィルム、眼鏡レンズ、眼鏡保護材及び安全シールドのうちの少なくとも１つを含む、実施形態１〜９のいずれか一項に記載の複合材料物品。
【０１０６】
実施形態１１．反射防止層が無機ナノ粒子を更に含む、実施形態１〜１０のいずれか一項に記載の複合材料物品。
【０１０７】
実施形態１２．無機ナノ粒子が更に異方性シリカナノ粒子を含む、実施形態１１に記載の複合材料物品。
【０１０８】
実施形態１３．ポリマーバインダーが、アクリルポリマーを含み、このアクリルポリマーが任意に四級アンモニウム基を含む、実施形態１〜１２のいずれか一項に記載の複合材料物品。
【０１０９】
実施形態１４．反射防止層の表面トポグラフィのＲｑ値が、フーリエ空間フィルターでハイパスカットオフ周波数１００００ｍｍ−１を適用したのち０．３ｎｍより大きい、実施形態１〜１３のいずれか一項に記載の複合材料物品。
【０１１０】
実施形態１５．反射防止層の表面トポグラフィのＲｑ値が、フーリエ空間バンドパスフィルターでローパスカットオフ周波数２００ｍｍ−１及びハイパスカットオフ周波数２０００ｍｍ−１を適用したのち３０ｎｍ未満である、実施形態１〜１４のいずれか一項に記載の複合材料物品。
【０１１１】
実施形態１６．Ｙ２が、１〜４個の炭素原子を有するアルコキシ基、２〜４個の炭素原子を有するアルカノイルオキシ基、ヒドロキシル基、及びＣｌからなる群から選択される、実施形態１〜１５のいずれか一項に記載の複合材料物品。
【０１１２】
実施形態１７．Ｒ２、Ｒ３及びＲ４がＦを表す、実施形態１〜１６いずれか一項に記載の複合材料物品。
【０１１３】
実施形態１８．少なくとも１つの２価のモノマー単位Ｂのａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅの和の平均が３０〜４０の範囲である、実施形態１〜１７のいずれか一項に記載の複合材料物品。
【０１１４】
実施形態１９．少なくとも１つの２価のモノマー単位Ｂのａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅの和の平均が４〜８の範囲である、実施形態１〜１７のいずれか一項に記載の複合材料物品。
【０１１５】
実施形態２０．複合材料物品を作製する方法であって、基材を準備する工程と、１．５５を超える屈折率を有し、無機酸化物ナノ粒子及びポリマーバインダーを含む耐磨耗層を、基材の少なくとも一部分に設ける工程と、１．４８未満の屈折率を有し、フルオロシランポリマーを含む反射防止層を、基材とは反対側の耐磨耗層の少なくとも一部分に設ける工程と、を含み、このフルオロシランポリマーは、
式
【０１１６】
【化１３】
2017507803.tif 000017
（式中、
Ｒ１は、Ｈ又はメチルを表し、
Ｌ１は、共有結合、又は１〜１０個の炭素原子を有する２価の脂肪族基を表し、
各Ｙ１は独立して、１〜６個の炭素原子を有するヒドロカルビル基を表し、
各Ｙ２は独立して、加水分解性基を表し、
ｇは０、１又は２である）で表される少なくとも１つのモノマー単位Ａ、及び、
式
【０１１７】
【化１４】
2017507803.tif 000018
（式中、
Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、Ｈ、メチル、トリフルオロメチル、又はＦを表し、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの少なくとも１つはＦであり、
Ｒｆ１は共有結合又は−（ＣＦ２Ｏ）ａ−、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｃ−、
−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｅ−、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される２価の基を表し、式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅは、０〜１３０の範囲の整数を表し、１≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦１３０であり、
Ｒｆ２は、ペルフルオロアルキル基である）で表される少なくとも１つの２価のモノマー単位Ｂを含む、方法。
【０１１８】
実施形態２１．少なくとも１つのモノマー単位Ｂの少なくとも１つのモノマー単位Ａに対する重量比が少なくとも０．８である、実施形態２０に記載の複合材料物品の作製方法。
【０１１９】
実施形態２２．フルオロシランポリマーが、
式
【０１２０】
【化１５】
2017507803.tif 000019
（式中、Ｒ５はＨ又はメチルを表し、ｐは正の整数である）で表されるｐ個のモノマー単位Ｃを更に含む、実施形態２０又は２１に記載の複合材料物品の作製方法。
【０１２１】
実施形態２３．無機酸化物ナノ粒子が酸化ジルコニアナノ粒子を含む、実施形態２０〜２２のいずれか一項に記載の複合材料物品の作製方法。
【０１２２】
実施形態２４．相対モルで、フルオロシランポリマーが、モノマー単位Ａを９〜１１モル、モノマー単位Ｂを８〜１０モル、及びモノマー単位Ｃを０．５〜１．５モル含む、実施形態２０〜２３のいずれか一項に記載の複合材料物品の作製方法。
【０１２３】
実施形態２５．フルオロシランポリマーが、０．４９重量パーセント以下のフッ素化アルケンを含む、実施形態２０〜２４のいずれか一項に記載の複合材料物品の作製方法。
【０１２４】
実施形態２６．基材が、プラスチックフィルム、眼鏡レンズ、及び安全シールドのうち少なくとも１つを含む、実施形態２０〜２５のいずれか一項に記載の複合材料物品の作製方法。
【０１２５】
実施形態２７．反射防止層が更にシリカナノ粒子を含む、実施形態２０〜２６のいずれか一項に記載の複合材料物品の作製方法。
【０１２６】
実施形態２８．シリカナノ粒子が異方性シリカナノ粒子を含む、実施形態２７に記載の複合材料物品の作製方法。
【０１２７】
実施形態２９．反射防止層がアクリルポリマーを更に含む、実施形態２０〜２８のいずれか一項に記載の複合材料物品の作製方法。
【０１２８】
実施形態３０．アクリルポリマーが四級アンモニウム基を含む、実施形態２９に記載の複合材料（composition）物品の作製方法。
【０１２９】
実施形態３１．反射防止層が２〜２０ｎｍの表面粗さＲａを有する、実施形態２０〜３０のいずれか一項に記載の複合材料物品の作製方法。
【０１３０】
実施形態３２．Ｒｆ１が、共有結合又は−（ＣＦ２Ｏ）ａ−、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｃ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｅ−、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される２価の基を表し、式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅは、０〜１３０の範囲の整数を表し、２≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦１３０である、実施形態２０〜３１のいずれか一項に記載の複合材料物品の作製方法。
【０１３１】
実施形態３３．少なくとも１つのモノマー単位Ａの少なくとも１つのモノマー単位Ｂに対する平均モル比が少なくとも１である、実施形態２０〜３２のいずれか一項に記載の複合材料物品の作製方法。
【０１３２】
実施形態３４．基材が湾曲したフィルム又は複雑な湾曲体である、実施形態２０〜３３のいずれか一項に記載の複合材料物品の作製方法。
【０１３３】
実施形態３５．ポリマーバインダーがアクリルポリマーを含む、実施形態２０〜３４のいずれか一項に記載の複合材料物品の作製方法。
【０１３４】
実施形態３６．アクリルポリマーが四級アンモニウム基を含む、実施形態３５に記載の複合材料物品の作製方法。
【０１３５】
実施形態３７．Ｙ２が、１〜４個の炭素原子を有するアルコキシ基、２〜４個の炭素原子を有するアルカノイルオキシ基、ヒドロキシル基、及びＣｌからなる群から選択される、実施形態２０〜３６のいずれか一項に記載の複合材料物品の作製方法。
【０１３６】
実施形態３８．Ｒ２、Ｒ３及びＲ４がＦを表す、実施形態２０〜３７いずれか一項に記載の複合材料物品の作製方法。
【０１３７】
実施形態３９．少なくとも１つの２価のモノマー単位Ｂのａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅの和の平均が３０〜４０の範囲である、実施形態２０〜３８のいずれか一項に記載の複合材料物品の作製方法。
【０１３８】
実施形態４０．少なくとも１つの２価のモノマー単位Ｂのａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅの和の平均が４〜８の範囲である、実施形態２０〜３８のいずれか一項に記載の複合材料物品の作製方法。
【０１３９】
実施形態４１．
ａ）
式
【０１４０】
【化１６】
2017507803.tif 000020
（式中、
Ｒ１は、Ｈ又はメチルを表し、
Ｌ１は、共有結合、又は１〜１０個の炭素原子を有する２価の脂肪族基を表し、
各Ｙ１は独立して、１〜６個の炭素原子を有するヒドロカルビル基を表し、
各Ｙ２は独立して、加水分解性基を表し、
ｇは０、１又は２である）で表される少なくとも１つのモノマー単位Ａ、及び、
式
【０１４１】
【化１７】
2017507803.tif 000021
（式中、
Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、Ｈ、メチル、トリフルオロメチル、又はＦを表し、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの少なくとも１つはＦであり、
Ｒｆ１は共有結合又は−（ＣＦ２Ｏ）ａ−、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｃ−、
−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｅ−、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される２価の基を表し、式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅは、０〜１３０の範囲の整数を表し、１≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦１３０であり、
Ｒｆ２は、ペルフルオロアルキル基である）で表される少なくとも１つの２価のモノマー単位Ｂを含む、フルオロシランポリマーと、
ｂ）無機ナノ粒子と、を含む、組成物。
【０１４２】
実施形態４２．無機ナノ粒子がシリカである、実施形態４１に記載の組成物。
【０１４３】
実施形態４３．無機ナノ粒子が異方性ナノ粒子を含む、実施形態４１又は４２に記載の組成物。
【０１４４】
実施形態４４．少なくとも１つのモノマー単位Ｂの少なくとも１つのモノマー単位Ａに対する重量比が少なくとも０．８である、実施形態４１〜４３のいずれか一項に記載の組成物。
【０１４５】
実施形態４５．フルオロシランポリマーが、０．４９重量パーセント以下のフッ素化アルケンを含む、実施形態４１〜４４のいずれか一項に記載の組成物。
【０１４６】
実施形態４６．Ｒｆ１が、共有結合又は−（ＣＦ２Ｏ）ａ−、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｃ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｅ−、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される２価の基を表し、式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅは、０〜１３０の範囲の整数を表し、２≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦１３０である、実施形態４１〜４５のいずれか一項に記載の組成物。
【０１４７】
実施形態４７．フルオロシランポリマーが、
式
【０１４８】
【化１８】
2017507803.tif 000022
（式中、Ｒ５はＨ又はメチルを表し、ｐは正の整数である）で表されるｐ個のモノマー単位Ｃを更に含む、実施形態４１〜４６のいずれか一項に記載の複合材料物品の組成物。
【０１４９】
実施形態４８．少なくとも１つのモノマー単位Ａの少なくとも１つのモノマー単位Ｂに対する平均モル比が少なくとも１である、実施形態４１〜４７のいずれか一項に記載の組成物。
【０１５０】
実施形態４９．Ｙ２が、１〜４個の炭素原子を有するアルコキシ基、２〜４個の炭素原子を有するアルカノイルオキシ基、ヒドロキシル基、及びＣｌからなる群から選択される、実施形態３８〜４５のいずれか一項に記載の組成物。
【０１５１】
実施形態５０．Ｒ２、Ｒ３及びＲ４がＦを表す、実施形態４１〜４９いずれか一項に記載の組成物。
【０１５２】
実施形態５１．少なくとも１つの２価のモノマー単位Ｂのａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅの和の平均が３０〜４０の範囲である、実施形態４１〜５０のいずれか一項に記載の組成物。
【０１５３】
実施形態５２．少なくとも１つの２価のモノマー単位Ｂのａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅの和の平均が４〜８の範囲である、実施形態４１〜５０のいずれか一項に記載の組成物。
【０１５４】
実施形態５３．請求項４１〜５２のいずれか一項に記載の硬化組成物を含む物品。
【０１５５】
実施形態５４．反射防止層の表面トポグラフィのＲｑ値が、フーリエ空間フィルターでハイパスカットオフ周波数１００００ｍｍ−１を適用したのち０．３ｎｍより大きい、実施形態５３に記載の物品。
【０１５６】
実施形態５５．反射防止層の表面トポグラフィのＲｑ値が、フーリエ空間バンドパスフィルターでローパスカットオフ周波数２００ｍｍ−１及びハイパスカットオフ周波数２０００ｍｍ−１を適用したのち３０ｎｍ未満である、実施形態５３〜５４のいずれか一項に記載の物品。
【０１５７】
実施形態５６、物品が、プラスチックフィルム、眼鏡レンズ、眼鏡保護材又は安全シールドである、実施形態５３〜５５のいずれか一項に記載の物品。
【実施例】
【０１５８】
本開示の利点及び実施形態を以降の実施例によって更に説明するが、これら実施例において列挙される特定の材料及びそれらの量、並びに他の条件及び詳細は、本発明を不当に制限するものと解釈されるべきではない。これらの実施例では、すべての百分率、割合、及び比率は、特に指示しない限り重量による。
【０１５９】
特に記載するか又は明らかでない限り、すべての材料は市販（例えばＳｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｍｐａｎｙ  Ｍｉｌｗａｕｋｅｅ，ＷＩから）されているか、又は当業者に既知である。
【０１６０】
以下の実施例では、次の略字が使用されている：ｇ（グラム）、ｃｍ（センチメートル）、ｋＶ（キロボルト）、ｍｍ（ミリメートル）、ｎｍ（ナノメートル）、ｍｉｎ（分）、ｍＬ（ミリリットル）、Ｌ（リットル）、Ｖ（ボルト）、Ｓ（秒）、％（パーセント）及びｗｔ（重量）。
【０１６１】
試験法
接触角試験
接触角は、水（濾過システム（Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｂｉｌｌｅｒｉｃａ，Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓから入手したもの）で濾過した脱イオン水）について、ビデオ式接触角分析計（Ｋｒｕｓｓ  ＧｍｂＨ，Ｈｕｍｂｕｒｇ，５  Ｇｅｒｍａｎｙから、製品番号ＤＳＡ  １００Ｅとして入手可能）を用いて測定した。報告されている値は、液滴の右側と左側で測定した、少なくとも３滴の測定値の平均である。液滴体積は、前進接触角と後退接触角の測定において、１〜５マイクロリットルであった。
【０１６２】
インク撥液性試験
黒のマーカー（商品名「ＳＨＡＲＰＩＥ」でＳａｎｆｏｒｄ，Ｂｅｌｌｗｏｏｄ，Ｉｌｌｉｎｏｉｓより入手可能）を使用して、表面を横断して線を引いた。サンプルは目視で外観を判断して、マーカーを撥液する能力を以下のように採点した。１：インクは個々の半球状の液滴に分離した。２：インクは個々の伸ばされた液滴に分離し、インクの線は不連続であった。３：インクの線は極めて細いが、まだ連続的である。４：インクの線が連続していて、細くならなかった。
【０１６３】
クロスハッチ接着試験
かみそりの刃を用いて、５個のクロスハッチパターンの正方形を作り、その上に商品名「３Ｍ  ＳＣＯＴＣＨ  ８１０」（３Ｍ  Ｃｏ．，Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮ）として入手可能なテープを貼った。テープを素早く引っ張って、クロスハッチパターンの正方形から剥がされたコーティングの量によって、接着力を定量化した。例えば、「可」は、どの正方形内にもコーティングの剥がれが観察されない場合であり、「不可」は少なくとも１つの正方形のコーティングが剥がれている場合を示す。
【０１６４】
テーバー磨耗試験
磨耗耐性を測定するためのテーバー磨耗試験は、ＭＣＥＰ  Ｐｕｒｃｈａｓｅ  Ｄｅｓｃｒｉｐｔｉｏｎ  ＧＬ−ＰＤ  １０〜１２  Ａｐｒｉｌ  １６，２０１０に従って改変し、磨耗用消しゴムと追加荷重７５０グラムを用いた。指示された基材上で、消しゴムを４０回（往復２０サイクル）擦った。指示された基材上で擦った領域と擦っていない領域のヘイズの差を、Ｈａｚｅ−Ｇａｒｄで測定した。オリフィスは、ＭＣＥＰ  Ｐｕｒｃｈａｓｅ  Ｄｅｓｃｒｉｐｔｉｏｎ  ＧＬ−ＰＤ  １０〜１２  Ａｐｒｉｌ  １６，２０１０に記載されている通り小さくした（直径１／４”（０．６４センチメートル））。ヘイズの変化を％として、結果を報告した。
【０１６５】
静電気防止効果測定
Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｔｅｃｈ  Ｓｙｓｔｅｍｓ，Ｉｎｃ．のＭｏｄｅｌ  ４０６Ｃ（Ｇｌｅｎｓｉｄｅ，Ｐａ．）電荷減衰測定器を使用して、サンプルを＋５ｋＶに充電し、静電荷がその初期値の１０％まで減衰するのに必要な期間を測定することにより、静電荷減衰期間を測定した。一辺が約１３センチメートル（５インチ）のフィルムサンプルを切り出し、マグネットを使用して計測器の電極間に取り付けた。測定は、実験室で、周囲湿度３０〜４０％、２２℃の温度で実施した。
【０１６６】
静電気の保持は以下のようにして測定した。サンプルは、開始時に静電気除去装置で中和し、それから乾燥したマイクロファイバークロスで２０回擦った。サンプル表面の静電気は、１５分後に静電気測定器（Ｍｏｄｅｌ  ３００Ｂ，ＡＣＬ，Ｃｈｉｃａｇｏ，ＩＬ）を用いて測定した。センサープローブとコーティング表面の距離は１．３センチメートル（０．５インチ）であった。
【０１６７】
光学特性試験
全透過率（Ｔ％）とヘイズ（Ｈ％）は、Ｈａｚｅ−Ｇａｒｄ  Ｐｌｕｓヘイズメーター（ＢＹＫ−Ｇａｒｄｎｅｒ，Ｃｏｌｕｍｂｉａ，Ｍａｒｙｌａｎｄ，ＵＳＡ）を用いて測定した。ＡＳＴＭ  Ｄ１００３に記載されている手順に従い、太陽光昼光波長範囲（ＣＩＥ  Ｄ６５標準光源）の平均を測定した。
【０１６８】
透過光スペクトル試験
光透過スペクトルは４００〜８００ｎｍについて、Ｌａｍｄａ  ９５０（Ｐｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ）スペクトロメーターを用いて２ｎｍの間隔で得た。
【０１６９】
反射率試験
反射率（Ｒ％）はＢＹＫ  Ｃｏｌｏｒ−Ｇｕｉｄｅ  Ｓｐｈｅｒｅ  ａｎｄ  Ｇｌｏｓｓを用いて１０ｎｍの間隔で得られた４００〜７００ｎｍの反射スペクトルの反射率を平均したものを算出した。反射率と標準偏差の報告値は、サンプルの３箇所の異なる位置での測定の平均である。
【０１７０】
表面粗さ試験
ＡＦＭトポグラフィイメージングは、Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ  ＩＣＯＮシステムで、「ＰｅａｋＦｏｒｃｅ  Ｔａｐｐｉｎｇ」及び「ＳｃａｎＡｓｙｓｔ」イメージング法（登録商標）（Ｂｒｕｋｅｒ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｓａｎｔａ  Ｂａｒｂａｒａ，ＣＡ）を用いて実施した。「ＰｅａｋＦｏｒｃｅ  Ｔａｐｐｉｎｇ」モードの表面スキャン中、チップはその共振ピークよりもはるかに低い周波数にて振動するように駆動した（ｚ−位置は１〜２ｋＨｚで変調した）。１０マイクロメートル×１０マイクロメートルのサイズで５１２×５１２データ点のトポグラフィ像を、この一連のサンプルについて取得した。
【０１７１】
表面粗さの測定
１次平面フィッティング法（平面フィットモードＸＹ）を用いて、サンプルの傾きを除去し、０次平坦化でスキャン線を除去するか、あるいはｚ−オフセットを用いてそれぞれの線を個々に中央値にフィットさせた。Ｂｒｕｋｅｒ  Ｎａｎｏｓｃｏｐｅ  Ａｎａｌｙｓｉｓ  １．４０を用いて、データ処理を行った。それから、データ分析ソフトウェア（商品名「ＶＩＳＩＯＮ」  ｖｅｒｓｉｏｎ  ４．２０、現在はＢｒｕｋｅｒ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｓａｎｔａ  Ｂａｒｂａｒａ，ＣＡより入手可能）を用いて、データに対してフーリエフィルターを適用した。高周波領域表面粗さと低周波領域表面粗さについて算出した。サンプルについては、５０００ｍｍ−１及び１０，０００ｍｍ−１の高周波空間フィルターをガウシアン・フーリエフィルターウィンドウで使用した。低周波空間フィルターは、ガウシアン・フーリエフィルターウィンドウで、ローパスカットオフを２００ｍｍ−１、ハイパスカットオフを２０００ｍｍ−１としてバンドパスフーリエフィルターを使用した。
【０１７２】
【表１】
2017507803.tif 000023
【０１７３】
基材Ａは７ｍｉｌ（１７８マイクロメートル）厚みのポリカーボネートフィルムで、両面が光沢面であった。このようなポリカーボネートフィルムは、Ｂａｙｅｒ  Ｍａｔｅｒｉａｌ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ＬＬＣ，Ｐｉｔｔｓｂｕｒｇ，ＰＡより商品名「ＭＡＫＲＯＦＯＬ」として入手可能である。
【０１７４】
基材Ｂはポリカーボネート製の湾曲した眼鏡用レンズであった。
【０１７５】
反射防止層
総固形分３重量％の反射防止組成物１〜１１（ＡＲＣ１〜ＡＲＣ１１）は、下記表１Ａ及び１Ｂに示すような構成要素を混合して調製した。
【０１７６】
【表２】
2017507803.tif 000024
【０１７７】
【表３】
2017507803.tif 000025
【０１７８】
上記の反射防止組成物をそれぞれ、メイヤーバー＃４を用いて、基材Ａの片面にコーティングした。コーティングされたサンプルを１３０℃で３０分間オーブンで乾燥した。それぞれのサンプルのコーティングされた表面を、上記の反射率試験、水への接触角試験、インク撥液性試験の方法に従って試験した。結果を表２に掲載する。表２にはまた、コーティングされていない基材Ａ（基材Ａ）の結果も掲載する。また、コーティングされたそれぞれのサンプル及びコーティングされていない基材Ａ（基材Ａ）について、上記の試験法を用いて表面粗さ試験もまた実施し、表面粗さを求めた。各サンプルについて、ＡＦＭによって各サンプルの２箇所を分析し、報告されたＲｑ値はこれら２箇所の平均値であった。結果を表３に掲載する。
【０１７９】
ＡＲＣ−６でコーティングされた基材Ａのコーティングされた表面、ＡＲＣ−１１でコーティングされた基材Ａのコーティングされた表面、及びコーティングされていない基材Ａについて、上記の透過光スペクトル試験の方法に従って試験した。この結果は図２に示す。Ａは基材Ａ、ＢはＡＲＣ−６でコーティングされた基材Ａ、及びＣはＡＲＣ−１１でコーティングされた基材Ａである。
【０１８０】
【表４】
2017507803.tif 000026
Ｎ／Ａは、「該当なし」を意味する
【０１８１】
【表５】
2017507803.tif 000027
【０１８２】
反射防止組成物１２〜５４（ＡＲＣ−１２〜ＡＲＣ−５４）は、表４に示すように、固形分の総重量％（コーティング厚みに影響を及ぼす）、使用したナノ粒子のタイプ、及びポリマーＡのナノ粒子に対する重量比を変化させた以外は、ＡＲＣ−１〜ＡＲＣ−１１と同様に調製した。上記の反射防止組成物をそれぞれ、メイヤーバー＃４を用いて、基材Ａの片面にコーティングした。コーティングされたサンプルを１３０℃で３０分間オーブンで乾燥した。それぞれのサンプルのコーティングされた表面を、上記の反射率試験の方法に従って試験した。少なくとも３つの独立にコーティングされたサンプルの平均と標準偏差の結果を表４に掲載した。また、コーティングされていない基材Ａの結果も表４に掲載した。
【０１８３】
【表６】
2017507803.tif 000028
【０１８４】
耐磨耗層
耐磨耗層コーティング組成物用バインダーの合成：表５に示された成分を容器に入れ、混合物を窒素で数分間パージした。容器を密封し、６５℃に予め加熱した水浴中に入れ、定常的に混合した。反応混合物を６５℃で１７時間加熱した。粘性反応混合物の％固体を分析した。残留するモノマーの反応を＞９９．５％完了まで進めるため、更に０．１部のＶａｚｏ−６７を混合物に追加し、この溶液を窒素でパージして密封した。容器６５℃の水浴中に置き、混合しつつ更に８時間加熱した。％固体計算により明白なように、（＞９９．５％）のモノマー類の変換が達成された。混合物の固体の理論組成は２５％であった。
【０１８５】
【表７】
2017507803.tif 000029
【０１８６】
耐磨耗層コーティング組成物用Ｚｒ−ＧＰＳの合成：５０部のＺｒ−ｓｏｌ（水中で４５％）、１５部の３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＧＰＳ）、２２．６部の１−メトキシ−２−プロパノール、及び２２．６部のイソプロパノールを反応瓶に投入した。この反応瓶を密封し、ｌａｕｎｄｅｒ−ｏ−ｍｅｔｅｒで７０℃に１７時間加熱した。混合物の固体の理論組成は３４％であった。
【０１８７】
比較例Ａ
コーティングされていない基材Ａ。
【０１８８】
比較例Ｂ
２．０ｇのＺｒ−ＧＰＳを、メイヤーバー＃１４を用いて基材Ａの片面にコーティングし、１３０℃で３０分間オーブンで乾燥した。このＺｒ−ＧＰＳコーティング層を検査したところ、コーティングは触ると柔らかく、完全に硬化していないことがわかった。
【０１８９】
比較例Ｃ
２．０ｇのＺｒ−ＧＰＳ、０．２２ｇのバインダー１、及び０．８０ｇの１−メトキシ−２−プロパノールを使用して耐磨耗コーティング溶液を調製した。バインダーをまず１−メトキシ−２−プロパノールと配合し、良く混ざるまで混合する。それから、Ｚｒ−ＧＰＳを添加し、良く混合する。この耐磨耗コーティング溶液をまず基材Ａの片面にメイヤーバー＃１４でコーティングし、１３０℃で３０分間オーブンで乾燥する。耐磨耗コーティングを検査したところ、良好な品質であることがわかった。
【０１９０】
比較例Ａ、並びに比較例Ｂ及びＣのコーティングされた面について、上記の静電気防止効果測定の方法に従って試験を行った。比較例Ａ及び比較例Ｂは静電気の減衰時間が無限であったが、比較例Ｃは静電気の減衰時間が１３．４秒であった。
【０１９１】
（実施例１）
比較例Ｃに記載された耐磨耗コーティング溶液を調製し、基材Ａの片面にメイヤーバー＃１４でコーティングして、１３０℃で３０分間オーブンで乾燥した。そして、ＡＲＣ−６溶液をこの耐磨耗コーティングの上にメイヤーバー＃４でコーティングし、１３０℃で３０分間オーブンで乾燥した。
【０１９２】
比較例Ａと実施例１のコーティングされた面について、上記の反射率試験、光学特性試験、クロスハッチ接着試験、テーバー磨耗試験及び静電気防止効果測定の方法に従って試験を実施した。結果を表６に示す。
【０１９３】
【表８】
2017507803.tif 000030
Ｎ／Ａ＝該当なし
【０１９４】
（実施例２）
比較例２に記載されているように、１ｇのバインダー１、９ｇのＺｒ−ＧＰＳ、及び３ｇの１−メトキシ−２−プロパノールを使用して耐磨耗コーティング溶液を調製した。耐磨耗コーティング溶液は均質であった。耐磨耗コーティング溶液をまず基材Ａの片面にメイヤーバー＃１４でコーティングして、１３０℃で３０分間オーブンで乾燥した。そして、ＡＲＣ−６溶液をこの耐磨耗コーティングの上にメイヤーバー＃４でコーティングし、１３０℃で３０分間オーブンで乾燥した。
【０１９５】
比較例Ｄ
バインダー１の代わりにバインダー２を使用した以外は、実施例２において述べたようにして耐磨耗コーティング溶液を調製した。この耐磨耗コーティング溶液は沈殿し、よって溶液はコーティングができなかった。
【０１９６】
比較例Ｅ
耐磨耗コーティング溶液において、バインダー１の代わりにバインダー３を用いた以外は実施例２に記載されたようにサンプルを作製した。耐磨耗コーティング溶液は均質であった。
【０１９７】
比較例Ｅ及び実施例２のそれぞれのコーティングされた表面について、上記の反射率試験、及びクロスハッチ接着試験の方法に従って試験を実施した。結果を表７に示す。
【０１９８】
【表９】
2017507803.tif 000031
Ｎ／Ａは該当なしを意味する。
【０１９９】
（実施例３）
ディップコーティング法を用いて、基材Ｂにコーティング溶液を適用した。金属製のクリップを使用して基材ＢをＶｅｌｍａｘ（Ｂｌｏｏｍｆｉｅｌｄ，ＮＹ）Ｕｎｉｓｌｉｄｅ  Ａ２ディップコーターの金属バーに取り付け、基材Ｂの底部が実験台に平行になるようにした。基材Ｂを指示したコーティング溶液に浸漬し、指示した速度でゆっくりと引き上げた。
【０２００】
耐磨耗コーティング溶液は、２３．１ｇのバインダー１、６９．２ｇの１−メトキシ−２−プロパノールを混合した後、２０７．７ｇのＺｒ−ＧＰＳを添加して、良く混ざるまで混合して調製した。
【０２０１】
反射防止コーティング溶液組成物は、６．２２ｇのポリマーＡ、４．９７ｇの５重量％  ＨＣｌ／水溶液、３７４．９５ｇの１−メトキシ−２−プロパノール、４０３．７７ｇの４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン及び３８．８５ｇのナノ粒子Ａを混合して調製した。
【０２０２】
基材Ｂをまず耐磨耗コーティング溶液組成物にディップコートして、２３７ｍｍ／分の速度で引き上げ、１３０℃で３０分間オーブンで乾燥した。そして、このコーティングされた物品を反射防止コーティング溶液組成物にディップコートして、１８６ｍｍ／分の速度で引き上げ、１３０℃で３時間オーブンで乾燥した。
【０２０３】
（実施例４）
使用した反射防止コーティング溶液組成物を、１６．６７ｇのポリマーＡ、２６．６７ｇの５重量％  ＨＣｌ／水溶液、３８１．６７ｇの１−メトキシ−２−プロパノール、及び４０５．００ｇの４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを混合して調製した以外は、実施例３と同様にして、実施例４を調製した。
【０２０４】
比較例Ｆ
コーティングされていない基材Ｂ
比較例Ｆ及び実施例３〜４のそれぞれのコーティングされた表面について、上記の光学特性試験、クロスハッチ接着試験、及びテーバー磨耗試験の方法に従って試験を実施した。結果を表８に示す。
【０２０５】
【表１０】
2017507803.tif 000032
Ｎ／Ａは該当なしを意味する。
【０２０６】
特許証のための上記の出願において引用された参照文献、特許、又は特許出願はいずれも、一貫性を有するようにそれらの全容を参照により本明細書に援用する。援用された参照文献の一部と本願の一部との間に不一致又は矛盾が存在する場合、上記の説明文の情報が優先されるものとする。上記の説明は、当業者をして特許請求された開示内容の実施を可能ならしめるために与えられたものであり、本開示の範囲を限定するものとして解釈されるべきではなく、本開示の範囲は特許請求の範囲及びそのすべての均等物によって定義される。
【図１】
2017507803.tif 000041
【図２】
2017507803.tif 000042
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月15日(2017.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材を備え、該基材の少なくとも１つの面の上に多層コーティングが設けられており、
該多層コーティングは、
（ｉ）前記基材に隣接した、１．５５を超える屈折率を有し、無機酸化物ナノ粒子及びポリマーバインダーを含む、耐磨耗層と、
（ｉｉ）前記耐磨耗層に、前記基材とは反対側で隣接した、１．４８未満の屈折率を有し、フルオロシランポリマーを含む、反射防止層と
を含み、
前記フルオロシランポリマーは、式
【化１】
2017507803.tif 000043
（式中、Ｒ１は、Ｈ又はメチルを表し、
Ｌ１は、共有結合、又は１〜１０個の炭素原子を有する２価の脂肪族基を表し、
各Ｙ１は独立して、１〜６個の炭素原子を有するヒドロカルビル基を表し、
各Ｙ２は独立して、加水分解性基を表し、
ｇは０、１又は２である）
で表される少なくとも１つのモノマー単位Ａ、及び、式      
【化２】
2017507803.tif 000044
（式中、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、Ｈ、メチル、トリフルオロメチル、又はＦを表し、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの少なくとも１つはＦであり、
Ｒｆ１は共有結合又は−（ＣＦ２Ｏ）ａ−、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｃ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｅ−、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される２価の基を表し、式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅは、０〜１３０の範囲の整数を表し、１≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦１３０であり、
Ｒｆ２は、ペルフルオロアルキル基である）
で表される少なくとも１つの２価のモノマー単位Ｂを含む、複合材料物品。
【請求項２】
前記フルオロシランポリマーが、０．４９重量パーセント以下のフッ素化アルケンを含む、請求項１に記載の複合材料物品。
【請求項３】
前記少なくとも１つのモノマー単位Ｂの前記少なくとも１つのモノマー単位Ａに対する重量比が少なくとも０．８である、請求項１又は２に記載の複合材料物品。
【請求項４】
前記基材が湾曲したフィルム又は複雑な湾曲体である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の複合材料物品。
【請求項５】
複合材料物品を作製する方法であって、
基材を準備する工程と、
１．５５を超える屈折率を有し、無機酸化物ナノ粒子及びポリマーバインダーを含む耐磨耗層を、前記基材の少なくとも一部分に設ける工程と、
１．４８未満の屈折率を有し、フルオロシランポリマーを含む反射防止層を、前記基材とは反対側の前記耐磨耗層の少なくとも一部分に設ける工程と、
を含み、
前記フルオロシランポリマーは、式
【化３】
2017507803.tif 000045
（式中、
Ｒ１は、Ｈ又はメチルを表し、
Ｌ１は、共有結合、又は１〜１０個の炭素原子を有する２価の脂肪族基を表し、
各Ｙ１は独立して、１〜６個の炭素原子を有するヒドロカルビル基を表し、
各Ｙ２は独立して、加水分解性基を表し、
ｇは０、１又は２である）
で表される少なくとも１つのモノマー単位Ａ、及び、式
【化４】
2017507803.tif 000046
（式中、
Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、Ｈ、メチル、トリフルオロメチル、又はＦを表し、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの少なくとも１つはＦであり、
Ｒｆ１は共有結合又は−（ＣＦ２Ｏ）ａ−、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｃ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｅ−、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される２価の基を表し、式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅは、０〜１３０の範囲の整数を表し、１≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦１３０であり、
Ｒｆ２は、ペルフルオロアルキル基である）
で表される少なくとも１つの２価のモノマー単位Ｂを含む、前記方法。
【請求項６】
ａ）式
【化５】
2017507803.tif 000047
（式中、Ｒ１は、Ｈ又はメチルを表し、
Ｌ１は、共有結合、又は１〜１０個の炭素原子を有する２価の脂肪族基を表し、
各Ｙ１は独立して、１〜６個の炭素原子を有するヒドロカルビル基を表し、
各Ｙ２は独立して、加水分解性基を表し、
ｇは０、１又は２である）
で表される少なくとも１つのモノマー単位Ａ、及び、式
【化６】
2017507803.tif 000048
（式中、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、Ｈ、メチル、トリフルオロメチル、又はＦを表し、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの少なくとも１つはＦであり、
Ｒｆ１は共有結合又は−（ＣＦ２Ｏ）ａ−、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｃ−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｅ−、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される２価の基を表し、式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅは、０〜１３０の範囲の整数を表し、１≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦１３０であり、
Ｒｆ２は、ペルフルオロアルキル基である）
で表される少なくとも１つの２価のモノマー単位Ｂ
を含む、フルオロシランポリマーと、
ｂ）無機ナノ粒子と、
を含む、組成物。
【請求項７】
請求項６に記載の組成物を含む、物品。
【国際調査報告】
2017507803.tif 000049
2017507803.tif 000050
2017507803.tif 000051