Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月5日(2008.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  連写時、撮影に係わるパラメータの値を算出する算出手段を備え、算出したパラメータの値を用いて撮影画像を生成する撮像装置において、
前記連写中、撮影状態の変化を検出する検出手段と、
前記検出手段により撮影状態の変化が検出された場合、それまで固定されていた前記パラメータの値を解除し、新たに算出されたパラメータの値に更新する更新手段とを備えたことを特徴とする撮像装置。
【請求項２】  前記検出手段により前記撮影状態の変化が検出されない場合、前回の撮影画像の生成に用いられたパラメータの値を保持しておくパラメータ保持手段を備え、
前記保持されたパラメータの値を用いて前記撮影画像を生成することを特徴とする請求項１記載の撮像装置。
【請求項３】  撮影時に発光するストロボ手段を有し、
前記検出手段は、前記撮影時に、前記ストロボ手段が発光状態から不発光状態に、あるいは不発光状態から発光状態に切り替わる時、前記撮影状態が変化したことを検出することを特徴とする請求項１記載の撮像装置。
【請求項４】  前記検出手段は、連写中、撮影コマ毎に更新される測光値を格納する格納手段と、
今回の測光値と格納された測光値との乖離を算出する算出手段とを備え、
前記算出された乖離が閾値を越えた場合、前記撮影状態が変化したことを検出することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の撮像装置。
【請求項５】  前記パラメータの値はホワイトバランスの補正のための値であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の撮像装置。
【請求項６】  連写時、撮影に係わるパラメータの値を算出し、算出したパラメータの値を用いて撮影画像を生成する撮影画像生成方法において、
前記連写中、撮影状態の変化を検出する検出工程と、
前記検出工程により撮影状態の変化が検出された場合、それまで固定されていた前記パラメータの値を解除し、新たに算出されたパラメータの値に更新する工程とを有することを特徴とする撮影画像生成方法。
【請求項７】  前記検出工程により撮影状態の変化が検出されない場合、前回の撮影画像の生成に用いられたパラメータの値を保持しておく工程を有し、
前記保持されたパラメータの値を用いて前記撮影画像を生成することを特徴とする請求項６記載の撮影画像生成方法。
【請求項８】  前記検出工程では、撮影時に発光するストロボ手段が前記撮影で、発光状態から不発光状態に、あるいは不発光状態から発光状態に切り替わる時、前記撮影状態が変化したことを検出することを特徴とする請求項６記載の撮影画像生成方法。
【請求項９】  前記検出工程では、連写中、撮影コマ毎に更新される測光値を格納する工程と、
今回の測光値と格納された測光値との乖離を算出する工程と、
前記算出された乖離が閾値を越えた場合、前記撮影状態が変化したことを検出する工程とを有することを特徴とする請求項６乃至８のいずれかに記載の撮影画像生成方法。
【請求項１０】  前記パラメータの値はホワイトバランス補正のための値であることを特徴とする請求項６乃至９のいずれかに記載の撮影画像生成方法。
【請求項１１】  請求項６乃至１０のいずれかに記載の撮影画像生成方法を実現するためのプログラムコードを保持する記憶媒体。
【請求項１２】  請求項６乃至１０のいずれかに記載の撮影画像生成方法を実現するためのプログラムコードを有するプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の撮像装置は、連写時、撮影に係わるパラメータの値を算出する算出手段を備え、算出したパラメータの値を用いて撮影画像を生成する撮像装置において、前記連写中、撮影状態の変化を検出する検出手段と、前記検出手段により撮影状態の変化が検出された場合、それまで固定されていた前記パラメータの値を解除し、新たに算出されたパラメータの値に更新する更新手段とを備えたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
本発明の撮影画像生成方法は、連写時、撮影に係わるパラメータの値を算出し、算出したパラメータの値を用いて撮影画像を生成する撮影画像生成方法において、前記連写中、撮影状態の変化を検出する検出工程と、前記検出工程により撮影状態の変化が検出された場合、それまで固定されていた前記パラメータの値を解除し、新たに算出されたパラメータの値に更新する工程とを有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月24日(2008.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
海パーツ１，２は、貿易港（正六角形の単位区画内に示される図形パターン）が表面に描かれた単位区画１Ａ，２Ａと、単に海のみが表面に描かれた単位区画１Ｂ，２Ｂとが交互に隣接するように構成されている。ちなみに、貿易港は、土地パーツ３に接するいずれか一つの辺と対応するように描かれている。なお、特に図示しないが、各単位区画１Ａ，１Ｂ，２Ａ，２Ｂの裏面にも、表面と同じ絵柄が描かれている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
ゲーム盤Ａを作成すると、各プレイヤーは、自分が決めた色のゲーム駒６Ａ〜６Ｃを所有し、図３に示すように、家のゲーム駒６Ａの２つを土地の単位区画３Ａ，４Ａ，４Ｂの頂点に置く。また、各プレイヤーは、家のゲーム駒６Ａを置いた頂点に続く単位区画３Ａ，４Ａ，４Ｂの辺に沿って道路のゲーム駒６Ｃを置く。ゲーム駒６Ｄは、最初の段階では砂漠の単位区画４Ｂに置かれる。このようにして各ゲーム駒６Ａ，６Ｃ，６Ｄを置く際、パーツ１〜４に手が触れても、これらのパーツ１〜４が一体となって組み合わされているため、平面内におけるゲーム盤Ａ全体としてのかたちが崩れることはない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
単位区画３Ａ，４Ａの裏面には、表面側とは異なる数字３０，４０があらかじめ表記されているとしても良い。また、裏面には、土地などの絵柄も含めて特に何も描かれていないとしても良い。そうした場合、数字チップ８を別に用意しておく必要はない。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月24日(2008.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  移動体と、前記移動体に駆動部が加圧部材の加圧力により加圧接触して該移動体を運動させるための複数の振動体とを有し、前記複数の振動体は、それぞれの前記駆動部に少なくとも異なる３方向の振動変位を発生させる振動発生手段を有し、且つそれぞれの前記駆動部を介して前記移動体に付与される前記加圧部材の加圧力により前記移動体を保持するとともに、前記複数の振動体に形成される少なくとも異なる２方向以上の振動変位の組み合わせにより前記移動体を任意の方向に運動させることを特徴とする振動型アクチュエータ。
【請求項２】  前記振動体は、前記移動体を挟んで正対する位置に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の振動型アクチュエータ。
【請求項３】  前記振動体は、前記移動体の回りに３以上配置されていることを特徴とする請求項１に記載の振動型アクチュエータ。
【請求項４】  前記移動体は、少なくとも前記駆動部との接触面が球面に形成されていることを特徴とする請求項１から３のいずれか一つに記載の振動型アクチュエータ。
【請求項５】  前記移動体は、少なくとも前記駆動部との接触面が平面であることを特徴とする請求項２記載の振動型アクチュエータ。
【請求項６】  前記移動体は円筒状に形成されていることを特徴とする請求項２に記載の振動型アクチュエータ。
【請求項７】  請求項１ないし６のいずれか一つに記載の振動型アクチュエータを駆動源として有し、前記駆動源により被駆動体を駆動するようにしたことを特徴とする振動型駆動装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本出願による発明の目的を実現する振動型アクチュエータの第1の構成は、移動体と、前記移動体に駆動部が加圧部材の加圧力により加圧接触して該移動体を運動させるための複数の振動体とを有し、前記複数の振動体は、それぞれの前記駆動部に少なくとも異なる３方向の振動変位を発生させる振動発生手段を有し、且つそれぞれの前記駆動部を介して前記移動体に付与される前記加圧部材の加圧力により前記移動体を保持するとともに、前記複数の振動体に形成される少なくとも異なる２方向以上の振動変位の組み合わせにより前記移動体を任意の方向に運動させることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
１ａおよび１ｂは円柱形状に形成された振動体で、複数の圧電セラミックスの間に電極膜を形成して積層構造とした電気-機械エネルギー変換素子である振動発生手段としての積層型圧電素子（以下圧電素子と称す）３、および振動体の支持を行うための支持部材２０４をその両側から金属で形成された第１の弾性体２０１と第２の弾性体２０２で挟み、図２に示すようにボルト２０３により螺着を行い一体化された構造となっている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
本実施の形態では、図１に示すように同一構成の振動体１ａ，１ｂの２個を同一軸心上に一致させて用いており、各振動体１ａ，１ｂは台座１０１により支持される。振動体１の支持部材２０４と台座１０１の間に加圧部材としてのバネ部材１０２を挟み込み、ボルト部材等の固定部材１０３により固定される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
振動体１ａと振動体１ｂは同一の構成であるので同一の性能を持つ。このような２つの振動体が同じ発生力を持つように各々の振動変位Ｗｘを等しくし、同時に振動変位Ｗｚを等しくするように駆動を行う事で移動体４０１には偶力が作用するので移動体４０１は移動体自身の中心軸を回転中心として回転運動を行う。よって移動体４０１を保持する機構は不要となる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
１ｃ及び１ｄは四角柱形状に形成された振動体で、同一形状である。振動体１ｃ，１ｄは、金属で形成される弾性体２０５の長辺を持つ面に振動発生手段としての圧電素子板４ａ〜４ｄを接着等により接着して一体化した構造であり、弾性体２０５には振動体の支持を行う支持部材２０４が形成される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
振動体を構成する弾性体２０５のＹＺ面には圧電素子板４ａ，４ｂが配置され、ＸＺ面には圧電素子板４ｃ，４ｄが配置され、これら圧電素子板の逆圧電効果により振動体は弾性振動を行う。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
これら圧電素子板４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄに同位相の交流駆動信号を印加すると、振動体１ｃ，１ｄは中心に１個の節を持つ縦振動を発生し、図７(b)のようにＺ方向の振動変位分布Ｗｚを発生する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
（第３の実施の形態）
図８は本発明の第３の実施の形態を示す主要部分の斜視図である。基本的な構成は図１に示した第１の実施の形態に準じている。ただし移動体４０３は図８中に示したＹ方向に中心軸を持ち、略円筒形状の接触部４０３ａが形成されている。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
第１の弾性体１ｅと第２の弾性体１ｆには、共に先端付近にＹ軸方向に例えば図９に示すように凹状に形成された駆動部２０６ｃが配置されている。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
上記した第１あるいは第２の実施の形態で説明したのと同様の作用により、移動体４０３はＹ方向への移動及びＹ軸回りの回転運動を行う。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態の形態を示す斜視図。
【図２】図１に示す振動体の側断面図。
【図３】図１に示す振動体であり、（ａ）は斜視図、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）は振動変位分布を示す図。
【図４】第１の実施の形態の駆動イメージ図。
【図５】第１の実施の形態の変形例を示す斜視図。
【図６】本発明の第２の実施の形態の形態を示す斜視図。
【図７】図６に示す振動体であり、（ａ）は斜視図、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）は振動変位分布を示す図。
【図８】本発明の第３の実施の形態の形態を示す斜視図。
【図９】図８の振動体の側断面図。
【図１０】従来の多自由度振動型アクチュエータを示す斜視図。
【符号の説明】
１…振動体
３…圧電素子
４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ…圧電素子板
４０１、４０２，４０３…移動体
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月25日(2008.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
幕板に開口部が設けられていることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の幕板付き天板。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月6日(2008.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】カートリッジと容器本体よりなる化粧材容器であり、カートリッジは、棒状化粧材を内蔵するとともに、この棒状化粧材が進退する先端開口孔を備えた先筒と、この先筒内に回動自在に連結される螺旋筒と、先端に棒状化粧材を保持する保持部を備え、前記先筒と回転止め機構を構成し、螺旋筒とは螺合機構を構成する芯チャック部材よりなる。このカートリッジを収容保持し、カートリッジを構成する螺旋筒との係合部を設置した容器本体と、この容器本体とカートリッジの螺旋筒がスプライン係合によって同期の回転をさせ、以て前記容器本体と前記カートリッジの先筒との回動でカートリッジ内の棒状化粧材の進退を行う化粧材容器は、実用新案公報平４−３０９６１及び特開２０００−１３５１１６の図１〜図６までに開示されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
【実施例】以下、添付図面に基づいて、本発明の実施の形態を説明する。図１は本発明のカートリッジ２を示す縦一部断面図であり、図２は前記カートリッジ２が挿入される容器本体３を示すもので、カートリッジ２が容器本体３に着装された状態が、本発明の化粧材容器となる。図３は、図１のカートリッジの断面Ａ−Ａを示す図である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
図９は、繰出の上昇限を示し、ガイド爪上端面２３９ａが摺動溝２１２ａ上端面に当接した状態であり、さらに、これ以上の回転負荷がかけられると、エラストマーによって製作された螺旋筒２２０の螺旋部２２２内に設置された係合突起２２１が、芯チャック部材２３０のねじ部２３４に形成されたローレット螺旋条２３５とクラッチ回転をすることで、棒状化粧材Ｂや繰出機構の破壊を防止していることを第３実施例の特徴としている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
本発明は、カートリッジ内の螺旋筒をエラストマーで製作することによって、第１実施例及び第２実施例では、カートリッジ２，１０２が容器本体３，１０３に嵌着され、化粧材容器として使用され、その繰出限においてこれを越える回動負荷に対して容器本体３，１０３の底面より立設された棒状部５３，１５３とのクラッチ回転によって、繰出機構や棒状化粧材Ａの破壊を防止するのに対し、第３実施例では、芯チャック部材２３０に対して、螺旋筒２２０内の係合突起２２１が変形してクラッチ回転可能としている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
２・・・・ カートリッジ
３・・・・ 容器本体
Ａ・・・・ 棒状化粧材
１０・・・ 先筒
１０ａ・・ 摘み部
１０ｂ・・ 本体嵌入部
１１・・・ 先端開口孔
１２・・・ 摺動溝
１３・・・ 突起
１４・・・ 嵌合凹部
２０・・・ 螺旋筒
２１・・・ 螺旋溝
２２・・・ 螺旋部
２２ａ・・ 螺旋部上端面
２２ｂ・・ 螺旋部下端面
２３・・・ 嵌合凸部
３０・・・ 芯チャック部材
３１・・・ 棒状化粧材保持部
３２・・・ 爪片
３３・・・ 棒状部
３４・・・ ねじ部
３５・・・ 突起
３６・・・ 係合基部
３７・・・ 下端開口孔
４０・・・ ストッパー部材
５０・・・ 外筒
５１・・・ 嵌合凹部
５２・・・ 底面
５３・・・ 棒状部
１０２・・ カートリッジ
１０３・・ 容器本体
１１０・・ 先筒
１２０・・ 螺旋筒
１３０・・ 芯チャック部材
１３７・・ 下端開口孔
１３９・・ 係合リブ
１４０・・ ストッパー部材
１５２・・ 底面
１５３・・ 棒状部
１５４・・ 縦リブ
２０１・・ 化粧材容器
２０２・・ カートリッジ
２０３・・ 容器本体
Ｂ・・・・ 棒状化粧材
２０４・・ Ｏリング
２１０・・ 先筒
２１１・・ 先端開口孔
２１２・・ 摺動溝
２１２ａ・ 摺動溝上端面
２１３・・ 突起
２１９・・ Ｏリング溝
２２０・・ 螺旋筒
２２１・・ 係合突起
２２２・・ 螺旋部
２２３・・ 嵌合凸部
２２７・・ 下端開口孔
２２９・・ 係合リブ
２３０・・ 芯チャック部材
２３１・・ 棒状化粧材保持部
２３２・・ 爪片
２３２ａ・ 棒状化粧材保持面
２３３・・ 棒状部
２３４・・ ねじ部
２３５・・ ローレット螺旋条
２３６・・ 係合条部
２３９・・ ガイド爪
２３９ａ・ ガイド爪上端面
２５３・・ 棒状部
２５４・・ 縦リブ
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2003102542.tif 000001
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2003102542.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月25日(2008.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 
一般式（I）
【化１】
2003102493.tif 000001
（式中、Ｒは置換又は非置換で、炭素原子数１〜６の炭化水素基である。）で表される2-メチル-1,3-プロパンジオールジエステルに、アシネトバクター（Acinetobacter）属、アエロモナス（Aeromonas）属、アグロバクテリウム（Agrobacterium）属、アースロバクター（Arthrobacter）属、アスペルギルス（Aspergillus ）属、オウレオバクテリウム（Aureobacterium）属、オウレオバシディーム（Aureobasidium）属、バシルス（Bacillus）属、ボトリオティニア（Botryotinia）属、ブレブンディモナス（Brevundimonas）属、キャンジダ（Candida）属、カエトリウム（Chaetomium）属、コマモナス（Comamonas）属、クリプトコッカス（Cryptococcus）属、コウニングハメリア（Cunninghamella）属、デバリオマイセス（Debaryomyces）属、エンテロバクター（Enterobacter）属、エセリキア（Escherichia）属、ギベレリア（Gibberella）属、イサタケンキア（Issatchenkia）属、クレブシラ（Klebsilla）属、コクリア（Kocuria）属、ラクトバチルス（Lactobacillus）属、ルテオコッカス（Luteococcus）属、ミクロバクテリウム（Microbacterium）属、ミクロコッカス（Micrococcus）属、モルゲネリア（Morganella）属、モルテエレラ（Mortierella）属、ムコール（Mucor）属、マイコプラナ（Mycoplana）属、ニューロスポラ（Neurospora）属、オベスムバクテリウム（Obesumbacterium）属、ペニシリウム（Penicillium）属、フォトバクテリウム（Photobacterium）属、ピキア（Pichia）属、プロテウス（Proteus）属、プロヴィデンシア（Providencia）属、ピシオシス（Pythiopsis）属、リゾプス（Rhizopus）属、ロドバクター（Rhodobactor）属、ロッドコッカス（Rhodococcus）属、ロドスポリジーム（Rhodosporidium）属、ロドツルーラ（Rhodotorula）属、サッカロマイセス（Saccharomyces）属、セラチア（Serratia）属、スピンゴモナス（Sphingomonas）属、スタフィロコッカス（Staphylococcus）属、ステノトロホナス（Stenotrophomonas）属、ストレプトマイセス（Streptomyces）属、トルラスポラ（Torulaspora）属、トリコダーマ（Trichoderma）属、バーチシリウム（Verticillium）属、ウイリオポシス（Williopsis）属、キサントモナス（Xanthomonas）属、ヤマダジーマ（Yamadazyma）属、ジーゴリンチス（Zygorhynchus）属およびジーゴサッカロマイセス（Zygosaccharomyces）属の群から選択される少なくとも１種に属し、且つ該エステル結合を不斉加水分解する能力を有する微生物菌体、菌体培養液、菌体処理物又はこれら微生物により生産される酵素を作用させることを含む、一般式（ＩＩ）
【化２】
2003102493.tif 000002
（式中、Ｒは前記と同義であり、＊は不斉炭素を示す）
で表される光学活性2-メチル-1,3-プロパンジオールモノエステルの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月25日(2008.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】熱可塑性エラストマーから成る便蓋クッションゴムにおいて、その可塑剤がシリコーン系オイルであり、前記シリコーン系オイルの添加量が１重量％であることを特徴とする便蓋クッションゴム。
【請求項２】合成ゴムから成る便蓋クッションゴムにおいて、その可塑剤がシリコーン系オイルであり、前記シリコーン系オイルの添加量が１重量％であることを特徴とする便蓋クッションゴム。
【請求項３】便座及び便蓋を有する便座装置において、請求項１又は２に記載の便蓋クッションゴムを便蓋に設けたことを特徴とする便蓋クッションゴムを備えた便座装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するためになされた請求項１記載の発明は、熱可塑性エラストマーから成る便蓋クッションゴムにおいて、その可塑剤がシリコーン系オイルであり、前記シリコーン系オイルの添加量が１重量％であることを特徴とする。本発明においては、可塑剤としてパラフィン系オイルを使用せず、シリコーン系オイルを使用したことにより、便座表面への可塑剤の移行を抑えた便蓋クッションゴムを提供することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するためになされた請求項２記載の発明は、合成ゴムから成る便蓋クッションゴムにおいて、その可塑剤がシリコーン系オイルであり、前記シリコーン系オイルの添加量が１重量％であることを特徴とする。本発明においては、可塑剤としてパラフィン系オイルを使用せず、シリコーン系オイルを使用したことにより、便座表面への可塑剤の移行を抑えた便蓋クッションゴムを提供することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するためになされた請求項３記載の発明は、便座及び便蓋を有する便座装置において、請求項１又は２に記載の便蓋クッションゴムを便蓋に設けたことを特徴とする便蓋クッションゴムを備えた。本発明においては、上述した材質の便蓋クッションゴムを使用したことにより、便座の表面に便蓋クッションゴムが移行するのを抑えて、便座表面の光沢を長期にわたって保てる便座装置を提供することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
比較例４
スチレン−ブタジエンゴムポリマーおよびタルクおよびパラフィン系オイルおよび加硫剤、加硫促進剤、老化防止剤、顔料等の添加剤の混錬物であり、その混錬重量比率が、スチレン−ブタジエンゴムポリマー：タルク：パラフィン系オイル：その他配合剤＝４４：４５：１：９または４１：４５：２：９または４１：４５：５：９である合成ゴム生地を成形金型にて加硫成形し、便座クッションゴムを成形した。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例及び比較例の実験結果をまとめた表。
【図２】便蓋クッションゴム接触部のポリプロピレン成形板への汚染状況をイメージした図。
【図３】本発明の実施形態の一例を示す便蓋を下から見た図。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月8日(2008.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 便座の後端を回動自在に枢支する本体ケースを便器の後部上面に載置状態に取付固定した便座装置において、便座のヒンジ付近に便座が閉じた際の便座の動きを拘束する拘束手段を設けたことを特徴とする便座装置。
【請求項２】 請求項１記載の便座装置において、前記拘束手段は、便座に設けた凹部と本体ケースに設けた凸部とで構成したことを特徴とする便座装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段及び作用及び効果】請求項１の発明においては、便座の後端を回動自在に枢支する本体ケースを便器の後部上面に載置状態に取付固定した便座装置において、便座が閉じた際に、便座のヒンジ付近に便座の動きを拘束する拘束手段を設けたので、便座を着脱自在としたとしても、着座中に便座がずれることがなく、従って、便座取付部分に多大な負荷が発生せず、常に安定して、装置本体は便器に取付いており、安心して便座装置を利用することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月6日(2007.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】パルス幅が９００〜１０フェムト秒、ピーク出力が１ＧＷ以上で、フーリェ
限界またはそれと近似できるフェムト秒レーザーを光源とし、該レーザーからのパルスを
ビームスプリッターにより二つに分割し、二つのビームを光学遅延回路を介して時間的に
制御し、かつ微小回転する反射面が平面のミラーと凹面のミラーを用いて空間的に制御し
、ホログラムを記録する基材表面または基材内部に、二つのビームの集光スポットを時間
的および空間的に合致させ、かつ、エネルギー密度１００ＧＷ／ｃｍ2 以上で集光して高
密度エネルギー照射させることによって、透明材料、半導体材料、または金属材料に不可
逆的にホログラムを記録することを特徴とする二ビームレーザー干渉露光法によるホログ
ラムの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】それぞれのレーザーパルスのパルス間で基材を回転させることを特徴とす
る請求項１記載の二ビームレーザー干渉露光法によるホログラム製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
すなわち、本発明は、パルス幅が９００〜１０フェムト秒、ピーク出力が１ＧＷ以上で、
フーリェ限界またはそれと近似できるフェムト秒レーザーを光源とし、該レーザーからの
パルスをビームスプリッターにより二つに分割し、二つのビームを光学遅延回路を介して
時間的に制御し、かつ微小回転する反射面が平面のミラー（以下「平面ミラー」という）
と凹面のミラー（以下「凹面ミラー」という）を用いて空間的に制御し、ホログラムを記
録する基材表面または基材内部に、二つのビームの集光スポットを時間的および空間的に
合致させ、かつ、エネルギー密度１００ＧＷ／ｃｍ2 以上で集光して高密度エネルギー照
射させることによって、透明材料、半導体材料、または金属材料に不可逆的にホログラム
を記録することを特徴とする二ビームレーザー干渉露光法によるホログラムの製造方法で
ある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
チタンサファイヤレーザー光は、フーリェ限界パルスをほぼ実現しており、非常にコヒー
レンスが高い。こうした光は、可干渉性があり、一度、二つのビームにスプリットした光
を、コヒーレンスを劣化させることなく、再び、時間的および空間的に一致させた場合、
偏光面が平行であるときには、暗部と明部のコントラストのはっきりした干渉パターンを
生じるので、好ましくは偏光面を平行にして、材料で決まる閾値を、明部と暗部のエネル
ギー密度の間に設定すれば、上記のマイクロエクスプロージョンあるいは材料の原子配列
構造変化により、干渉パターンを、表面の凹凸パターンあるいは、屈折率の変化として記
録できる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
空気は三次の光学非線型を有しており、ＢＢＯなどの結晶に替わって、二つのビーム衝突
位置の空間的、時間的な一致の有無を検出するための材料として用いることが出来る。波
長２６６ｎｍの約３倍の８００ｎｍのフェムト秒レーザーを用いた場合、空気の３次非線
型係数に基づいて、三倍波ないし三倍和周波（波長：２６６ｎｍ）が発生する。三倍波な
いし三倍和周波の強度は光強度の三乗に比例する。二つのビームが、衝突・干渉した場合
、干渉により明部強度が、単独ビームに比較して、４倍になるので、三倍波ないし三倍和
周波は６４倍の強さとなり、時間的、空間的一致の有無を高感度に検出することができる
。空気の三次非線型性を用いた場合には、ビーム間の角度に対する制約を除くことが出来
る。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
ホログラムを記録する材料としては、従来、光感光性有機物または無機化合物が用いられ
ており、材料の制約が多かった。本発明による製法では、高密度エネルギーによる基材の
アブレーションまたは原子配列構造変化による不可逆的記録であり、ほとんど全ての材料
を使用することができる。また、一度不可逆的に記録されたホログラムは、長時間安定に
持続し、基材そのものの原子配列構造変化が起こる程度にまで、加温しない限り、消滅す
ることはない。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
さらに、平面ミラーと凹面ミラーなどの反射光学部品で装置を構成し、レンズ等の透過光
学部品を可能な限り使用しない光学系を用いて、コヒーレンスの劣化を防ぐことを可能と
し、さらに、二ビームの干渉性を良くするために、それぞれの光路のミラーの配置と数を
調整して、ビームの偏光面を平行としたものである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
基材Ｓ１は、Ｘ―Ｙステージ上に置き、マイクロノギスを用いて微動させ、基材Ｓ１の指
定の位置に、微小面積のホログラムを記録する。本発明の製造方法においては、一つのパ
ルスレーザー光で、ホログラムを記録できるので、複数のパルスを時系列的に基材に照射
すれば、ホログラムを多重に記録できる。パルス間で、基材を固定しておけば、ホログラ
ムは空間的に重なり合う。また、基材を回転させれば、形成された重なり合うホログラム
は、お互いに、該角度だけ回転する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月26日(2007.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも１つのメモリセルを有する固定値メモリにおいて，
−前記メモリセルの電位を検査する工程と；
−前記メモリセルの電位を，前記メモリセルのメモリ内容を正確に認識するために必要な読み取り電位よりも高い値に設定されたしきい値電位と比較する工程と；及び
−前記メモリセルの電位が，前記しきい値電位よりも低い場合には，前記メモリセルの電位を高める工程と，
を有することを特徴とする固定値メモリのリフレッシュ方法。
【請求項２】  前記メモリセルの電位を高める工程は，
前記メモリセルの電位を，新しくプログラミングされたメモリセルのプログラミング電位に高める工程である，ことを特徴とする請求項１に記載の固定値メモリのリフレッシュ方法。
【請求項３】  前記メモリセルの電位を高める工程は，
前記メモリセルのメモリ内容を，第２のメモリセルに一時的に格納する工程と，
前記メモリセルを消去する工程と，
前記第２のメモリセルに一時的に格納されているメモリ内容を前記メモリセルに再プログラミングする工程と，
を有する，ことを特徴とする請求項１又は２に記載の固定値メモリのリフレッシュ方法。
【請求項４】  前記メモリセルの電位を検査する工程において，
駆動電圧よりも高い検査電圧を前記メモリセルに印加し，前記メモリセルの電位が，前記メモリセルに接続されている第１の容量負荷の電位を切り換えるのに十分な電位であるか否かが調査される，ことを特徴とする請求項１，２あるいは３項のうちいずれか１項に記載の固定値メモリのリフレッシュ方法。
【請求項５】  前記メモリセルの電位を検査する工程において，
前記メモリセルに印加されている駆動電圧で，前記メモリセルの電位が，前記メモリセルに接続されている第１の容量負荷よりも大きい第２の容量負荷の電位を切り換えるのに十分な電位であるか否かが調査される，
ことを特徴とする請求項１，２，３あるいは４項のうちいずれか１項に記載の固定値メモリのリフレッシュ方法。
【請求項６】  前記メモリセルの電位調査工程において，
第１の容量負荷が前記メモリセルに接続され，前記メモリセルに駆動電圧が印加されている通常駆動において前記メモリセルのメモリ内容が少なくとも１度読み出され，
検査駆動において，前記メモリセルのメモリ内容が少なくとも１度メモリセルから読み出され，
前記各読み出されたメモリ内容が互いに比較される，
ことを特徴とする請求項４又は５に記載の固定値メモリのリフレッシュ方法。
【請求項７】  前記固定値メモリのリフレッシュ方法は，固定値メモリの複数のメモリセルについてブロック単位で実行されると共に，
前記通常駆動において，前記ブロックの全てのメモリセルのメモリ内容から第１のチェックサムが形成され，
前記検査駆動において，前記同じブロックのメモリセルから第２のチェックサムが形成され，
前記形成された２つのチェックサムが互いに比較される，
ことを特徴とする請求項６に記載の固定値メモリのリフレッシュ方法。
【請求項８】  前記請求項１〜７のうちいずれか１項に記載の固定値メモリのリフレッシュ方法が，車両のデジタル制御装置のマイクロコンピュータの構成部分である固定値メモリのメモリセルのメモリ内容を維持するために使用される，ことを特徴とする固定値メモリのリフレッシュ方法。
【請求項９】  前記固定値メモリのリフレッシュ方法は，前記車両の走行駆動中又は制御装置のアフターランニング中に実行される，ことを特徴とする請求項８に記載の固定値メモリのリフレッシュ方法。
【請求項１０】  前記固定値メモリのリフレッシュ方法は，前記車両の駆動時間，移動した走行区間又は駆動サイクル数に応じて実行される，ことを特徴とする請求項９に記載の固定値メモリのリフレッシュ方法。
【請求項１１】  固定値メモリのリフレッシュ装置であって，
メモリセル；
メモリセルを含むリードオンリーメモリ（ＲＯＭ）；及び
前記リードオンリーメモリに接続されている回路を備え、
前記回路は、前記メモリセルの電位を検査し、前記メモリセルの電位を，前記メモリセルのメモリ内容を正確に認識するために必要な読み取り電位よりも高い値に設定されたしきい値電位と比較し、前記メモリセルの電位が，前記しきい値電位よりも低い場合には，前記メモリセルの電位を高めるように構成されたことを特徴とする固定値メモリのリフレッシュ装置。
【請求項１２】  少なくとも部分的に固定値メモリに格納されている制御プログラムを処理するためのマイクロコンピュータを備えた，車両内の所定機能を開ループ又は閉ループ制御するデジタル制御装置であって，
前記デジタル制御装置は，前記請求項１１に記載のリフレッシュ装置を具備する，ことを特徴とするデジタル制御装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月19日(2007.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  半導体素子の形成方法であって：
半導体基板（１００）上に導電性ボンド・パッド（１３４）を形成する段階であって、前記導電性ボンド・パッドは複数の誘電体スタッド（３０２）を含む、段階；
前記導電性ボンド・パッド（１３４）上に誘電体層（１３６）を形成する段階；
前記誘電体層（１３６）の一部を除去する段階であって、該誘電体層（１３６）の一部を除去することにより、前記導電性ボンド・パッド（１３４）上に複数の支持構造（１３８）を形成し、前記誘電体層（１３６）の一部を除去することにより前記導電性ボンド・パッド（１３４）の一部を露出させる段階；および
前記複数の支持構造（１３８）を覆うように、導電性キャッピング層（２０４）を形成する段階であって、前記導電性キャッピング層（２０４）が前記導電性ボンド・パッド（１３４）の一部に電気的に接触するところの段階；
を具備することを特徴とする方法。
【請求項２】  半導体素子であって：
半導体基板（１００）上の導電性ボンド・パッド（１３４）であって、複数の誘電体スタッド（３０２）を含む導電性ボンド・パッド（１３４）；
前記導電性ボンド・パッド（１３４）を覆う複数の支持構造（１３８）を含む誘電体層（１３６）であって、前記誘電体層（１３６）の一部に相互接続された複数の支持構造（１３８）；および
前記複数の支持構造（１３８）を覆う導電性キャッピング層（２０４）であって、前記導電性ボンド・パッド（１３４）の一部に電気的に接触する、導電性キャッピング層（２０４）；
を具備することを特徴とする半導体素子。
【請求項３】  半導体素子であって：
半導体基板（１００）上の導電性ボンド・パッド（１３４）であって、複数の誘電体スタッド（３０２）を含む導電性ボンド・パッド（１３４）；
前記導電性ボンド・パッド（１３４）の一部分上の誘電体層（１３６）；
前記導電性ボンド・パッド（１３４）上の複数の支持構造（１３８）であって、前記複数の支持構造（１３８）の１つの少なくとも一部が前記複数の誘電体スタッド（３０２）の１つの一部を覆う、支持構造（１３８）；および
前記複数の支持構造（１３８）を覆う導電性キャッピング層（２０４）であって、前記導電性ボンド・パッド（１３４）の一部に電気的に接触する、導電性キャッピング層（２０４）；
を具備することを特徴とする半導体素子。
【請求項４】  さらに：
前記複数の支持構造（１３８）を覆うバリア層（２０２）を形成する段階；
を具備し、前記導電性キャッピング層（２０４）を形成する段階は前記バリア層（２０２）を覆う前記導電性キャッピング層（２０４）を形成する段階を含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】  さらに：
前記複数の支持構造（１３８）を覆うバリア層（２０２）であって、前記導電性キャッピング層（２０４）が前記バリア層（２０２）を覆う、前記バリア層（２０２）；
を具備することを特徴とする請求項３記載の半導体素子。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月4日(2007.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ダイレクトリードボンディング方式の半導体装置であって、
半導体基板と、
該半導体基板の表面に設けられた表面電極と、
該半導体基板の表面に該表面電極に沿って設けられたゲート配線と、
該表面電極の上に設けられた金属膜と、
該金属膜の上に取り付けられたリード端子とを含み、
該ゲート配線がポリイミド膜に覆われ、該金属膜が該ポリイミド膜の上まで延在したことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
ダイレクトリードボンディング方式の半導体装置であって、
半導体基板と、
該半導体基板の表面に設けられた表面電極と、
該半導体基板の表面に該表面電極に沿って設けられたゲート配線と、
該表面電極の上に設けられた金属膜と、
該金属膜の上に取り付けられたリード端子とを含み、
該ゲート配線がポリイミド膜に覆われたことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
上記半導体基板の表面にオプション素子が設けられ、該オプション素子も上記ポリイミドで覆われたことを特徴とする請求項１または２に記載の半導体装置。
【請求項４】
上記ゲート配線と上記ポリイミド膜との間に、オーバーコート膜が設けられたことを特徴とする請求項１または２に記載の半導体装置。
【請求項５】
上記ポリイミド膜の膜厚が、略１０μｍから略５０μｍであることを特徴とする請求項１または２に記載の半導体装置。
【請求項６】
上記半導体基板の表面に上記ゲート配線に接続されたゲート電極が設けられ、該ゲート電極上に設けられた金属膜にリード端子が取り付けられたことを特徴とする請求項１または２に記載の半導体装置。
【請求項７】
上記金属膜が、蒸着法、スパッタ法、およびメッキ法から選択される一の方法で形成されたことを特徴とする請求項１または２に記載の半導体装置。
【請求項８】
上記半導体基板の裏面に裏面電極が設けられ、上記表面電極と該裏面電極との間を流れる電流が、上記ゲート配線で制御されることを特徴とする請求項１または２に記載の半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月4日(2008.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の処理領域に処理液を供給して前記処理領域に対して所定の処理を施す基板処理装置において、
処理液を吐出して前記処理領域に前記処理液を供給するノズルを有する供給機構と、
前記供給機構を駆動して前記供給機構を前記処理領域から離間した離間位置と前記処理領域に処理液を供給可能な処理位置とに移動させる供給機構駆動手段と、
前記処理領域に臨む空間に配置され、前記供給機構と当接可能な当接部材と
を備え、
前記供給機構駆動手段は前記処理位置において前記供給機構を前記当接部材に前記基板に向かって押し付けることにより前記ノズルを位置決めすることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記供給機構駆動手段は、前記ノズルの吐出口周囲のノズル先端面を前記当接部材に押し付ける請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記ノズルは、ノズル先端側の胴部の断面積がノズル後端側の胴部の断面積に対して小さくなるように、前記ノズル先端側の胴部と前記ノズル後端側の胴部との間に段差面を有しており、
前記供給機構駆動手段は、前記段差面を前記当接部材に押し付ける請求項１記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記ノズルでは前記段差面が前記基板表面に略平行に形成される一方、前記当接部材では前記ノズルと当接する当接面が前記基板表面に略平行に形成される請求項３記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記処理領域として前記基板表面の周縁部に処理液を供給して該基板表面の周縁部に所定の処理を施す請求項３または４記載の基板処理装置であって、
前記基板を回転させる回転手段をさらに備え、
前記処理位置に移動された前記供給機構から処理液を前記基板の径方向外側に向けて吐出して前記回転手段により回転される前記基板表面の周縁部に処理液を供給する基板処理装置。
【請求項６】
前記当接部材は、前記基板表面に近接対向して配置される遮断部材として機能するとともに、その周縁部に前記ノズルが挿入可能な上下方向に貫通する貫通孔を有し、
前記貫通孔の内壁には、前記ノズルの段差面と当接可能な段差部が設けられ、
前記供給機構駆動手段は、前記供給機構を駆動して前記ノズルを前記貫通孔に挿入させることにより前記処理位置に移動させるとともに、前記ノズルの段差面を前記貫通孔の内壁に設けられた段差部に押し付ける請求項５記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記貫通孔の内壁には、ガス導入部が開口され、
前記ガス導入部にガスを供給して前記貫通孔にガスを導入するガス供給手段をさらに備える請求項６記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記ガス導入部は前記貫通孔の内壁に設けられた段差部に対して、前記基板から離間する方向に開口されている請求項７記載の基板処理装置。
【請求項９】
基板を回転させながら前記基板に処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置において、
鉛直軸回りに回転自在に設けられた回転部材と、
前記回転部材を回転させる回転手段と、
前記回転部材に上方に向けて設けられ、前記基板の下面に当接して該基板を前記回転部材から離間させて支持する少なくとも３個以上の支持部材を有する支持手段と、
前記基板の上面に気体を供給することによって前記基板を前記支持部材に押圧させて前記基板を前記回転部材に保持させる遮断部材と、
処理液を吐出して前記基板の処理領域に対して前記処理液を供給するノズルを有する供給機構と、
前記遮断部材は前記ノズルが挿入可能な上下方向に貫通する貫通孔を有し、
前記ノズルは前記貫通孔に挿入されて位置決めされる
ことを特徴とする基板処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
ここで、ガス導入部を、貫通孔の内壁に設けられた段差部に対して、基板から離間する方向に開口させるようにすると、ノズルが処理位置に移動して貫通孔に挿入された際に、ノズルの段差面と当接部材の当接面とが当接することにより、その当接部分を越えてガスが貫通孔から基板側に噴出するのが防止される。このため、ガスが基板と当接部材とに挟まれた空間に漏れて基板表面上の気流を乱してしまうのを防止することができる。その結果、処理液の跳ね返り等の不具合を防止することができる。なお、貫通孔に導入されたガスはガス導入部に対して基板と反対側の開口から排出される。
また、この発明にかかる基板処理装置の他の態様は、基板を回転させながら基板に処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置であって、上記目的を達成するため、鉛直軸回りに回転自在に設けられた回転部材と、回転部材を回転させる回転手段と、回転部材に上方に向けて設けられ、基板の下面に当接して該基板を回転部材から離間させて支持する少なくとも３個以上の支持部材を有する支持手段と、基板の上面に気体を供給することによって基板を支持部材に押圧させて基板を回転部材に保持させる遮断部材と、処理液を吐出して基板の処理領域に対して処理液を供給するノズルを有する供給機構と、遮断部材はノズルが挿入可能な上下方向に貫通する貫通孔を有し、ノズルは貫通孔に挿入されて位置決めされることを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
この発明によれば、ノズルを備えた供給機構が離間位置から基板の処理領域に処理液を供給可能な処理位置に移動した際に、処理領域に臨む空間に配置された当接部材に当接して該当接部材に基板に向かって押し付けられる。これにより、ノズルが当接部材に当接固定され、ノズルを処理位置に安定して位置決めすることができる。その結果、ノズル周囲の気流やノズルに伝わる振動等の影響によってノズルからの吐出位置が不安定となるのを防止することができる。
また、支持部材により基板の下面を保持するとともに、基板の上面に気体を供給することによって基板を支持部材に押圧させて基板を回転部材に保持させる場合、遮断部材の貫通孔にノズルを挿入して位置決めしてもよく、これによってノズルが遮断部材に位置決めすることができる。その結果、上記発明と同様の作用効果が得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月12日(2008.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板上に設けられた反射板及び複数の発光素子と、前記反射板及び前記発光素子を覆って前記基板上に設けられた外層レンズとを含む発光モジュールであって、
前記反射板には、前記発光素子のそれぞれを収容する複数の貫通孔が設けられており、
前記反射板及び前記発光素子は、前記外層レンズで封止されており、
前記外層レンズにおける光の取り出し側の主面には、前記外層レンズの角部を区分けする第１溝部が形成されていることを特徴とする発光モジュール。
【請求項２】
前記第１溝部は、前記外層レンズを貫通する貫通溝である請求項１に記載の発光モジュール。
【請求項３】
前記外層レンズには、それぞれの前記発光素子に対応する複数の凸レンズが設けられており、
前記第１溝部は、前記複数の凸レンズ間に形成されている請求項１に記載の発光モジュール。
【請求項４】
前記反射板における光の取り出し側の主面には、前記反射板の角部を区分けする第２溝部が形成されている請求項１に記載の発光モジュール。
【請求項５】
前記反射板における光の取り出し側の主面には、前記反射板の角部を区分けする第２溝部が形成されており、
前記第１溝部は、前記第２溝部の直上に形成されている請求項１に記載の発光モジュール。
【請求項６】
基板と、前記基板上に設けられた反射板及び複数の発光素子と、前記反射板及び前記発光素子を覆って前記基板上に設けられた樹脂外層とを含む発光モジュールであって、
前記反射板には、前記発光素子のそれぞれを収容する複数の貫通孔が設けられており、
前記反射板及び前記発光素子は、前記樹脂外層で封止されており、
前記樹脂外層の外形が、６つ以上の辺を有する略正多角形又は略円形であることを特徴とする発光モジュール。
【請求項７】
前記反射板の外形が、６つ以上の辺を有する略正多角形又は略円形である請求項６に記載の発光モジュール。
【請求項８】
最外周の前記発光素子は、それぞれ前記反射板の側壁に沿って配置されている請求項６に記載の発光モジュール。
【請求項９】
前記基板上に実装された複数のサブマウント基板を更に含み、
前記サブマウント基板のそれぞれに、前記発光素子が１つずつ実装されている請求項１又は６に記載の発光モジュール。
【請求項１０】
それぞれの前記発光素子を覆って形成された複数の蛍光体層を更に含む請求項１又は６に記載の発光モジュール。
【請求項１１】
前記複数の貫通孔は、同心円状に配置されている請求項１又は６に記載の発光モジュール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の第２の発光モジュールは、基板と、前記基板上に設けられた反射板及び複数の発光素子と、前記反射板及び前記発光素子を覆って前記基板上に設けられた樹脂外層とを含む発光モジュールであって、
前記反射板には、前記発光素子のそれぞれを収容する複数の貫通孔が設けられており、
前記反射板及び前記発光素子は、前記樹脂外層で封止されており、
前記樹脂外層の外形が、６つ以上の辺を有する略正多角形又は略円形であることを特徴とする。