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【手続補正書】
【提出日】平成19年12月10日(2007.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
底部及び周壁を備えた凹部が形成された面を有する容器本体と、
前記凹部内に、その少なくとも一部が前記凹部の前記底部から前記面に向けて延出し、前記凹部の前記底部に垂直な方向から見て少なくとも３つの縁部を有する案内突起部を備え、
前記周壁と前記案内突起部の前記縁部との間で所定の幅を有する経路が形成され、
前記３つの縁部は、それぞれ第１の線、第２の線、第３の線に沿っており、前記第１の線と前記第３の線とは交差している液体容器。
【請求項２】
前記案内突起部は、前記凹部の前記底部に垂直な方向から見て３つの頂点を持つ略三角形状である、請求項１記載の液体容器。
【請求項３】
前記凹部の前記底部に垂直な方向から見て、前記頂点の少なくとも１つは外方向延出突起部を含む、請求項２記載の液体容器。
【請求項４】
前記周壁の一部に、前記外方向延出突起部との間で所定幅の経路を維持するように配置された突起部が形成されている、請求項３記載の液体容器。
【請求項５】
前記凹部の前記底部に垂直な方向から見て、前記突起部は前記案内突起部に向かって延出している、請求項４記載の液体容器。
【請求項６】
前記経路はループを形成している、請求項１乃至５のいずれかに記載の液体容器。
【請求項７】
前記底部及び周壁を備えた凹部が形成された面は、前記容器本体の底面であり、
前記容器本体は、さらに、内部と、前面と側面とを有しており、
前記底面、前記前面及び前記側面はそれぞれの交差垂直面に位置しており、
さらに、
前記容器本体の前記内部と連通し、前記前面に位置する液体供給口と、
前記容器の前記内部と流体連通し、前記前面に位置する空気口と、
前記前面に位置する第１及び第２の位置決め孔と、を備える請求項１乃至６のいずれかに記載の液体容器。
【請求項８】
前記凹部と、前記第１及び第２の位置決め孔の１つは、前記交差垂直面によって画定される隅部近傍に形成されている、請求項７記載の液体容器。
【請求項９】
前記側面に、電極を有する記憶装置が配設されている、請求項７記載の液体容器。
【請求項１０】
前記記憶装置、前記凹部、及び前記第１及び第２の位置決め孔の１つは、前記交差垂直面によって画定される隅部近傍に位置している、請求項９記載の液体容器。
【請求項１１】
前記底面に、前記液体容器の性質を特定する溝部が形成されている、請求項８乃至１０のいずれかに記載の液体容器。
【請求項１２】
前記底面に、前記液体容器の性質を特定する溝部が形成されていると共に、前記底面に垂直な方向から見て、前記溝部及び前記凹部の仮想延長部はそれぞれ、前記第１及び第２の位置決め孔と重なるように形成されている、請求項８乃至１０のいずれかに記載の液体容器。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月8日(2008.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
外囲器を有する薄型フラットパネルディスプレイの該外囲器内に配置される、スペーサの製造方法であって、
前記外囲器は、複数の電子放出素子と該電子放出素子の配線とを備えた電子源を有する第１の基板と、側壁と、前記側壁を介して前記第１の基板と対向配置し、前記電子放出素子から放出された電子の照射によって発光する発光部材を備えた第２の基板とを有し、
前記スペーサは、前記第１の基板と第２の基板との間に位置し、凸部頂の最小間隔Ｓが１〜６０μｍ、高さＨと間隔Ｓの比が０．２以上の凹凸表面を有する基体と、該基体表面を被覆する抵抗膜とを有し、
前記抵抗膜を請求項１に記載の成膜方法により前記基体表面に成膜することを特徴とするスペーサの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
複数の電子放出素子と該電子放出素子の配線とを備えた電子源を有する第１の基板と、側壁と、前記側壁を介して前記第１の基板と対向配置し、前記電子放出素子から放出された電子の照射によって発光する発光部材を備えた第２の基板と、前記第１の基板と第２の基板との間に位置するスペーサとを有する外囲器を有する薄型フラットパネルディスプレイの製造方法であって、
前記スペーサは、凸部頂の最小間隔Ｓが１〜６０μｍ、高さＨと間隔Ｓの比が０．２以上の凹凸表面を有する基体と、該基体表面を被覆する抵抗膜とを有し、該スペーサを請求項８に記載のスペーサの製造方法により製造することを特徴とする薄型フラットパネルディスプレイの製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明の第２は、
外囲器を有する薄型フラットパネルディスプレイの該外囲器内に配置される、スペーサの製造方法であって、
前記外囲器は、複数の電子放出素子と該電子放出素子の配線とを備えた電子源を有する第１の基板と、側壁と、前記側壁を介して前記第１の基板と対向配置し、前記電子放出素子から放出された電子の照射によって発光する発光部材を備えた第２の基板とを有し、
前記スペーサは、前記第１の基板と第２の基板との間に位置し、凸部頂の最小間隔Ｓが１〜６０μｍ、高さＨと間隔Ｓの比が０．２以上の凹凸表面を有する基体と、該基体表面を被覆する抵抗膜とを有し、
前記抵抗膜を上記第１の発明の成膜方法により前記基体表面に成膜することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
さらに、本発明の第３は、
複数の電子放出素子と該電子放出素子の配線とを備えた電子源を有する第１の基板と、側壁と、前記側壁を介して前記第１の基板と対向配置し、前記電子放出素子から放出された電子の照射によって発光する発光部材を備えた第２の基板と、前記第１の基板と第２の基板との間に位置するスペーサとを有する外囲器を有する薄型フラットパネルディスプレイの製造方法であって、
前記スペーサは、凸部頂の最小間隔Ｓが１〜６０μｍ、高さＨと間隔Ｓの比が０．２以上の凹凸表面を有する基体と、該基体表面を被覆する抵抗膜とを有し、該スペーサを上記第２の発明のスペーサの製造方法により製造することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
本発明の製造方法により製造される画像表示装置の一例の構成を図９に示す。図９は、本発明の画像表示装置の一実施形態の表示パネルの斜視図であり、内部構造を示すためにパネルの一部を切り欠いて示している。図中、９１はフェースプレート（第２の基板）であり、ガラス基板９６の内側に蛍光膜９７とメタルバック９８を設けてなる。９５は電子源基板であり、複数の電子放出素子９９と、行方向配線８５と列方向配線８６とを有する。９２はリアプレート（第１の基板）、９３は側壁であり、フェースプレート９１とリアプレート９２と側壁９３とにより表示パネルの内部を真空に維持するための気密容器を形成している。気密容器を組み立てるに当たっては、各部材の接合部に十分な強度と気密性を保持させるため封着する必要があるが、例えばフリットガラスを接合部に塗布し、大気中或いは窒素雰囲気中で、４００〜５００℃で１０分以上焼成することにより封着を達成する。また、上記気密容器の内部は１０-4Ｐａ程度の真空に保持されるので、大気圧や不意の衝撃などによる気密容器の破壊を防止する目的で、耐大気圧構造体として、スペーサ９４が設けられている。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月3日(2008.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光伝送ノードであって、
それぞれの波長の複数の光信号から形成される光信号を、伝送経路を介して入力において受光する装置を含み、該複数の光信号の個々の信号のレベルは、該伝送経路に沿って発生するラマン散乱によって影響されるものであり、さらに、
受光された一群の該光信号にわたる全電力を示す第１の信号Ｐ０と、該光信号を所定の重み付け関数で処理した後の該一群の光信号にわたる全電力を示す第２の信号Ｐ１とを生成するよう動作するセンサ装置と、
該第１の信号および該第２の信号のレベルの和の関数として該ラマン散乱の影響を相殺する制御装置とを含むことを特徴とする光伝送ノード。
【請求項２】
請求項１に記載の光伝送ノードにおいて、該センサ装置は、
該信号Ｐ０と第１の定数Ｃ０とを掛け合わせ、かつ該信号Ｐ１と第２の定数Ｃ１とを掛け合わせるよう動作する乗算器装置と、
積Ｐ０Ｃ０と、積Ｐ１Ｃ１とを結合し、該一群の信号がラマン散乱によって影響を受けた度合を示す信号ＰＲを形成する結合器装置とを含むことを特徴とする光伝送ノード。
【請求項３】
請求項１に記載の光伝送ノードにおいて、該複数の光信号は種々の帯域の光信号を含み、該ノードはさらに、該光信号の該種々の帯域のうちの１つをフィルタリングし、該一群の信号を形成するバンドパスフィルタを含むことを特徴とする光伝送ノード。
【請求項４】
請求項３に記載の光伝送ノードにおいて、該センサは、全電力検出器と、該電力検出器に該一群の信号の電力の第１の部分を供給し、そして該一群の信号のうちの重み付けされた信号を生成する所定の重み付け関数に該一群の信号の電力の第２の部分を供給する装置とを含むことを特徴とする光伝送ノード。
【請求項５】
請求項４に記載の光伝送ノードにおいて、該所定の重み付け関数は、該一群の信号をデマルチプレクスし、各波長に比例して該デマルチプレクスされた信号の個々の信号の電力レベルを低減するために該デマルチプレクスされた信号を重み付け装置に供給し、その後、該重み付けされた信号にわたる電力を検出し且つ信号Ｐ１を生成するよう動作する電力検出器に供給するために、該重み付けされた信号を多重化された出力に伝送するルータを含むことを特徴とする光伝送ノード。
【請求項６】
請求項５に記載の光伝送ノードにおいて、該重み付け装置は可変反射装置であることを特徴とする光伝送ノード。
【請求項７】
請求項５に記載の光伝送ノードにおいて、該重み付け装置は可変損失装置であることを特徴とする光伝送ノード。
【請求項８】
センサであって、
複数の光信号を受光し、該複数の信号をフィルタリングし、一群の信号を形成する装置と、
該一群の信号の電力レベルの第１の部分を処理し、第１の電力信号Ｐ０を生成する第１の装置と、
該一群の信号の電力レベルの第２の部分を処理して一群の重み付けされた信号を形成し、そして該一群の重み付けされた信号を処理して第２の重み付けされた電力信号Ｐ１を生成する第２の装置と、
該第１の電力信号Ｐ０および該第２の電力信号Ｐ１の関数として、特定の伝送劣化が該受光された複数の光信号の個々の信号のレベルに影響を及ぼしているか否かを示す信号を生成する第３の装置とを含むことを特徴とするセンサ。
【請求項９】
請求項８に記載のセンサにおいて、該伝送劣化はラマン散乱であることを特徴とするセンサ。
【請求項１０】
請求項８に記載のセンサにおいて、該センサ装置はさらに、
該信号Ｐ０と第１の定数Ｃ０とを掛け合わせ、かつ該信号Ｐ１と第２の定数Ｃ１とを掛け合わせる乗算器装置と、
積Ｐ０Ｃ０と積Ｐ１Ｃ１とを結合し、該複数の光信号が該伝送劣化によって影響を受けた度合を示す信号ＰＲを形成する結合器装置とを含むことを特徴とするセンサ。
【請求項１１】
請求項８に記載のセンサにおいて、該複数の光信号は種々の帯域の光信号を含み、該フィルタリングする装置はバンドパスフィルタであることを特徴とするセンサ。
【請求項１２】
請求項１１に記載のセンサにおいて、該第２の装置は、該一群の信号をデマルチプレクスし、各波長に比例して該デマルチプレクスされた信号の個々の信号の電力レベルを低減するために該デマルチプレクスされた信号を重み付け装置に供給し、その後、該重み付けされた信号にわたる電力を検出し且つ信号Ｐ１を生成するよう動作する電力検出器に供給するために、該重み付けされた信号を多重化された出力に伝送するルータを含むことを特徴とするセンサ。
【請求項１３】
請求項１２に記載のセンサにおいて、該重み付け装置は可変反射装置であることを特徴とするセンサ。
【請求項１４】
請求項１２に記載のセンサにおいて、該重み付け装置は可変損失装置であることを特徴とするセンサ。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月26日(2008.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】トランジスタの作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁体上に半導体膜を形成する第１工程と、
前記半導体膜を覆うゲート絶縁膜を形成する第２工程と、
前記ゲート絶縁膜上に第１の導電膜及び第２の導電膜を形成する第３工程と、
前記第２の導電膜をエッチングすることによって、第２の電極を形成する第４工程と、
前記第２の電極をマスクとし、且つ前記第１の導電膜及び前記ゲート絶縁膜を貫通させることによって、前記半導体膜にｎ型不純物元素を添加する第５工程と、
前記第２の電極をマスクとし、前記第１の導電膜をエッチングすることによって、第１の電極を形成する第６工程と、
前記第２電極をエッチングすることによって、第２のゲート電極を形成する第７工程と、
前記第２のゲート電極をマスクとし、且つ前記第１の導電膜からなる電極を貫通させることによって、前記半導体膜にｎ型不純物元素を添加する第８工程と、
前記第１の電極をエッチングすることによって、第１のゲート電極を形成する第９工程と、を有することを特徴とするトランジスタの作製方法。
【請求項２】
請求項１において、前記第８の工程で、チャネル形成領域、ソース領域及びドレイン領域、ソース領域及びドレイン領域よりも低濃度のｎ型不純物元素が添加された不純物領域を形成することを特徴とするトランジスタの作製方法。
【請求項３】
請求項２において、前記不純物領域は、前記ゲート絶縁膜を介して前記第１のゲート電極と重なる領域と、重ならない領域を有することを特徴とするトランジスタの作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、前記第１のゲート電極及び前記第２のゲート電極の端部は、テーパー形状を有することを特徴とするトランジスタの作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、前記第１の導電膜は窒化タンタル膜であり、前記第２の導電膜はタングステン膜であることを特徴とするトランジスタの作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、前記第１の導電膜はタングステン膜であり、前記第２の導電膜はアルミニウム合金膜であることを特徴とするトランジスタの作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月20日(2008.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源であって、
ａ）上部表面と下部表面を備え、前記上部表面の一部に、前記上部表面に向かうにつれて外方に傾斜する側壁を備える凹部が形成された、平面基板と、
ｂ）前記側壁に隣接して前記基板の前記凹部に取り付けられた発光ダイオードと、
ｃ）前記上部表面と前記下部表面との間に延び、前記発光ダイオードに結合された端子を前記上部表面上に備え、外部回路要素に結合するための露出パッドを前記下部表面上に備える、第１の導電性相互接続部と、
ｄ）前記上部表面と前記下部表面との間に延び、前記発光ダイオードに結合された端子を前記上部表面上に備え、外部回路要素に結合するための導電性パッドを前記下部表面上に備える、第２の導電性相互接続部と、
ｅ）前記基板の第１の表面に接着されて、前記発光ダイオードを封入する透明な封入材料であって、前記発光ダイオードの上に楕円ドームを形成するように成形された、透明な封入材料とからなる、光源。
【請求項２】
前記凹部の前記側壁が、前記発光ダイオードに対して銀色に光る反射表面をもたらす、金属層でメッキされている、請求項１に記載の光源。
【請求項３】
前記金属層が、前記第１の相互接続部の前記端子を形成する、請求項２に記載の光源。
【請求項４】
前記基板に、前記上部表面と前記下部表面の間に延びる第１と第２のバイアが形成され、前記第１と第２の相互接続部のそれぞれの一部が、それぞれ、前記第１と第２のバイアを通って延びる、請求項１に記載の光源。
【請求項５】
前記第１と第２の相互接続部の前記導電性パッドのそれぞれが、外部回路要素に電気的に結合するための金メッキ層を含む、請求項１に記載の光源。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明による発光ダイオードパッケージには、発光ダイオードによって放出される光エネルギが、基板凹部の壁からの反射の組み合わせ、及び集束楕円ドームからの屈折によって、集中させられるという利点がある。この発光ダイオードパッケージによれば、基板の凹部に発光ダイオードを取り付けることによって、パッケージの占める容積が小さくなるというさらなる利点も提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
図６を参照すると、光化学エッチングプロセスには、ユニット４００の上部表面及び下部表面に感光抵抗性材料から造られた乾燥薄膜６００を付着させることが含まれる。次に、フォトマスク６１０、６２０が、それぞれ、上部及び下部の乾燥薄膜６００の上方及び下方に付着される。それぞれ、図２１及び図２２に平面図で示されたフォトマスク６１０、６２０は、金属層を堆積させるべき場所を画定する不透明領域を除いて、ほぼ透明である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月9日(2008.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】  
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロストリップ技術で設計され、かつブロードバンドで動作するＴ型回路であって、
当該T字回路は2つのブランチを有し、
前記ブランチのうちの一は、所与の位相シフトφを生成する位相シフト素子によって拡張され、かつ
前記ブランチのうちの他は、第1曲がりによって拡張され、かつ
前記ブランチの長さL2は、λgが案内された波長であるとすると、λgの整数倍に等しく、かつ
前記位相シフト素子が、Φ／２の位相シフトが前記曲がりの両側に分配されるような長さの前記曲がりから形成される、
T字回路。
【請求項２】
前記位相シフト素子が、βが位相定数のとき、Ｌの長さがΦ／βで表されるマイクロストリップラインによって形成される、請求項１によるＴ型回路。
【請求項３】
前記位相シフト素子がＬ´の長さがＬ１＋Ｌbendで表されるライン素子によって拡張され、及び前記曲がりがＬ１の長さのライン素子によって拡張される請求項２によるＴ型回路。
【請求項４】
前記曲がりの各々が、同一の長さであるＬ１のライン素子によって拡張される請求項３によるＴ型回路。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月12日(2008.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基準発振器（６）と位相同期ループ回路とを有する高周波発振器であって、前記位相同期ループ回路は、位相周波数検出器（１）、チャージポンプ（２）、リング発振器（４）および分周器（５）を備えており、前記基準発振器（６）は、前記位相周波数検出器（１）に周波数制御のために接続されており、前記リング発振器（４）は２つの遅延セル増幅器（Ａ１，Ａ２）を有する対称型の遅延セル発振器であり、前記２つの遅延セル増幅器（Ａ１，Ａ２）は非接地のＩ出力信号とＱ出力信号を発生させるための二重出力段を含むものである形式の高周波発振器において、前記リング発振器（４）のＩ出力信号とＱ出力信号の間の位相制御のためにＩ出力信号とＱ出力信号に接続された位相検出器（２１）を備えたループ（ループＩＩ）がさらに設けられていることを特徴とする高周波発振器。
【請求項２】  前記基準発振器（６）は、タンク回路（７）を備えたコルピッツ型発振器であり、前記基準発振器（６）と前記位相同期ループ回路は、集積回路内に集積されており、前記タンク回路（７）は前記集積回路の外部にある、請求項１記載の高周波発振器。
【請求項３】  前記基準発振器（６）の同調範囲が、１．２５〜１．５ＧＨｚであり、前記分周器（５）の分周係数が、５〜６ＧＨｚの同調された出力範囲を提供するために、４である、請求項２記載の高周波発振器。
【請求項４】  前記チャージポンプ（２）の入力段は、差動増幅器であり、信号経路内にｎｐｎトランジスタ（１１）だけを有する、請求項１記載の高周波発振器。
【請求項５】  前記チャージポンプ（２）は、２つのｐｎｐトランジスタを有する第１の電流源（１２）と、第２の共通電流源（２Ｉ０）とを有しており、前記両方の電流源は、前記差動増幅器（１１）に接続されており、前記第１の電流源（１２）の電流は、基準電圧（ＶＲＥＦ）によって制御され、これによって前記ｐｎｐトランジスタのそれぞれに前記第２の電流源（２Ｉ０）の電流の半分を供給する、請求項４記載の高周波発振器。
【請求項６】  前記遅延セル発振器（４）は、周波数制御のための２つの対称型の増幅器セクション（３３，３４，３７；３５，３６，３８）と、位相制御のための増幅器（３９）とを有しており、前記増幅器セクションは、それぞれ遅延セル増幅器（３１，３２）の出力側に接続されており、前記増幅器（３９）は、前記２つの増幅器セクション（３３，３４，３７；３５，３６，３８）に接続されている、請求項１から５のいずれか１項記載の高周波発振器。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月27日(2008.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ベース基板層、絶縁層およびシリコン層を含むＳＯＩ基板と、
前記ＳＯＩ基板中に形成され、第１のトレンチおよび第２のトレンチを有するトレンチ・キャパシタであって、前記第１と第２のトレンチの各々が前記シリコン層と絶縁層とを貫通して前記ベース基板層にまで伸びているトレンチ・キャパシタと、
前記ベース基板層に接触するように前記第１のトレンチの底に形成された第１の導電層と、
前記第１の導電層上を覆って前記第１のトレンチ内に形成された絶縁層と、
前記ベース基板と接触するように前記第２のトレンチ内に形成された導電性コンタクト構造と、
を含む半導体装置。
【請求項２】  前記シリコン層上の第２の絶縁層と、
前記第２の絶縁層上の耐酸化膜層と、
前記第２の絶縁層と耐酸化膜層とを貫通して伸びるトレンチと、
を含む、請求項１に記載の半導体装置。
【請求項３】  前記トレンチ上にバイアを有する誘電体層と、
前記バイア中の導電層と、
を含む、請求項1または２に記載の半導体装置。
【請求項４】  前記第１のトレンチは、前記ベース基板層とシリコン層の間の短絡を防止するための耐酸化層を有するものである、請求項１乃至３のいずれかに記載の半導体装置。
【請求項５】  前記第２のトレンチは、前記ベース基板層とシリコン層の間の短絡を防止するための耐酸化層を有するものである、請求項１乃至４のいずれかに記載の半導体装置。
【請求項６】  前記第１のトレンチは第２の導電層を有し、前記第１のトレンチは前記第１の導電層、絶縁層および第２の導電層を含むものである、請求項１乃至５のいずれかに記載の半導体装置。
【請求項７】  前記第２のトレンチは第２の導電層を有し、前記第２のトレンチは前記第１の導電層および第２の導電層を含むものである、請求項１乃至６のいずれかに記載の半導体装置。
【請求項８】  前記導電性コンタクト構造はシリコンを含むものである、請求項１乃至７のいずれか１つに記載の半導体装置。
【請求項９】  各導電層はシリコンからなるものである、請求項１乃至８のいずれかに記載の半導体装置。
【請求項１０】  各絶縁層は二酸化珪素からなるものである、請求項１乃至８のいずれかに記載の半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
図１０は処理工程の第９ステップを示し、第９ステップでは、誘電体層１８０が装置上にデポジット（堆積）され、トレンチ３００、３１０上の部分がエッチングにより除去される。誘電体層１８０は、窒化珪素（Ｓｉ３Ｎ４）、二酸化珪素（ＳｉＯ２）、オキシ窒化珪素（ＳｉＯＮ）、あるいは他の適当な誘電体材料で形成される。誘電体層１８０は化学成長法（ＣＶＤ：ｃｈｅｍｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）のような当技術分野で周知の方法によってデポジット（堆積）される。装置１００の全表面上に誘電体層１８０を形成した後、該誘電体層１８０中にバイア（ｖｉａ：ヴィア、孔、通路）１８１、１８２がエッチングにより形成されて、トレンチ３００、３１０を露出させる。バイア１８１、１８２は当技術分野で周知のパターニング（パターン形成）とエッチング技法を使用して形成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
以上のように、上述の処理工程（プロセス）を使用して図１１に示すようなキャパシタ装置１００を形成することができる。トレンチ３００中に形成された導電層１７０はキャパシタの第１の電極を形成し、トレンチ３００に隣接するベース基板層１１０の部分はキャパシタの第２の電極を形成している。第１の電極に対するコンタクトはトレンチ３００上の金属コンタクト（金属ランド）１９０を介して行われ、第２の電極に対するコンタクトはトレンチ３１０上に形成された金属コンタクト（金属ランド）１９０を介して行なわれる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
【発明の効果】
本発明の形状並びに構造的特徴は、ＳＯＩ基板上に形成され、トレンチに隣接し、上記ＳＯＩ基板の絶縁層１１５の下に配置された基板層１１０の領域によって形成された電極（第２の電極）を有するトレンチ・キャパシタにあることに注目すべきである。本発明の他の形状ならびに構造的特徴は、トレンチ・キャパシタのすぐ近傍に形成され、ＳＯＩ基板の絶縁層１１５を貫通して伸びるコンタクト構造（トレンチ３１０）にある。従って、トレンチ３００中に形成された導電層１７０は半導体キャパシタの第１の電極を形成し、トレンチ３００と境界を接するベース基板層１１０の部分は、トレンチ３１０中に形成されたコンタクト構造を介して接触する半導体キャパシタの第２の電極を形成している。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月9日(2008.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ねじファスナを受入れるためのねじ立て孔またはナット内で利用可能な螺旋状に巻かれたねじファスナインサートであって、
該インサートは、
ａ）約０．０５から０．１５％の炭素；ｂ）約５．０から１２．０％のマンガン；ｃ）約２．０から６．０％のシリコン；ｄ）約１２．０から２０．０％のクロム；ｅ）約６．０から１２．０％のニッケル；ｆ）約０．０２から０．８％の窒素；残部は鉄、
からなる合金から形成されており、該インサートは、前記ねじ立て孔又はナットに挿入されると改善された降伏強さを呈するものであることを特徴とするファスナインサート。
【請求項２】  前記螺旋状に巻かれたワイヤが、約６０°の内部ねじ山角回をもつことを特徴とする請求項１に記載のファスナインサート。
【請求項３】  前記螺旋状に巻かれたワイヤが、選択的に取外し可能なタングをもつことを特徴とする請求項１に記載のファスナインサート。
【請求項４】  ねじファスナを受入れるためのねじ立て孔またはナット内で利用可能な螺旋状に巻かれたねじファスナインサートであって、
ａ）約０．０８から０．１％の炭素；ｂ）約７．０から９．０％のマンガン；ｃ）約３．５から４．５％のシリコン；ｄ）約１６．０から１８．０％のクロム；ｅ）約８．０から９．０％のニッケル；ｆ）約０．０８から０．１８％の窒素；残部は鉄、
からなる合金から形成されており、前記インサートは前記ねじ立て孔またはナットに挿入されると改善された降伏強さを呈するものであることを特徴とするファスナインサート。
【請求項５】  前記螺旋状に巻かれたワイヤが、約６０°の内部ねじ山角回をもつことを特徴とする請求項４に記載のファスナインサート。
【請求項６】  前記螺旋状に巻かれたワイヤが、選択的に取外し可能なタングをもつことを特徴とする請求項４に記載のファスナインサート。
【請求項７】  前記インサートは、全長にわたり実質的に同一の螺旋状コイルを含むものであることを特徴とする請求項１に記載のファスナインサート。
【請求項８】  少なくとも一つの螺旋状コイルは非対称であることを特徴とする請求項７に記載のファスナインサート。
【請求項９】  前記インサートは、全長にわたり実質的に対称の螺旋状コイルを含むものであることを特徴とする請求項４に記載のインサート。
【請求項１０】  少なくとも一つの螺旋状コイルが非対称であることを特徴とする請求項９に記載のファスナインサート。
【請求項１１】  ねじ立て孔またはナット内において補完的ねじと係合する外部ねじと、ねじファスナを受け入れるための内部ねじを含む螺旋形状に巻かれたファスナインサートであって、
前記インサートは、ａ）約０．０５から０．１５％の炭素；ｂ）約５．０から１２．０％のマンガン；ｃ）約２．０から６．０％のシリコン；ｄ）約１２．０から２０．０％のクロム；ｅ）約６．０から１２．０％のニッケル；ｆ）約０．０２から０．８％の窒素；残部は鉄を含む窒素強化ステンレス鋼合金から形成されており、
前記螺旋状に巻かれたインサート内にねじファスナを回転可能に挿入するのに要求されるトルクが、３０４型ステンレス鋼から形成されたのと同一の大きさと形状の螺旋状に巻かれたインサートに、前記ねじファスナと同一のねじ切りされたファスナを回転可能に挿入するのに必要とされるトルクよりも小さいことを特徴とするファスナインサート。
【請求項１２】  前記螺旋状に巻かれたワイヤが、約６０°の内部ねじ山角回をもつことを特徴とする請求項１１に記載のファスナインサート。
【請求項１３】  前記螺旋状に巻かれたワイヤが、選択的に取外し可能なタングをもつことを特徴とする請求項１１に記載のファスナインサート。
【請求項１４】  前記インサートが、全長にわたり実質的に対称な螺旋状コイルを含むものであることを特徴とする請求項１１に記載のファスナインサート。
【請求項１５】  少なくとも一つの螺旋状コイルが非対称であることを特徴とする請求項１４に記載のファスナインサート。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月23日(2008.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ＮＣＯ基含量１５〜３０％を有し、ジフェニルメタンジイソシアネートを９０重量％未満含有し、
（Ａ）（Ａ）および（Ｂ）で１００重量％に基づいて１０〜９０重量％の、
（１）約０〜約２０重量％の２，４’−異性体、約０〜約２重量％の２，２’−異性体を含有し、残りが４，４’−異性体であるジフェニルメタンジイソシアネートと
（２）２個のヒドロキシル基を有する低分子量分岐状脂肪族ジヒドロキシ化合物との反応生成物を含んでなるＮＣＯ基含量１５〜３０％を有するＭＤＩ付加物、ならびに
（Ｂ）（Ａ）および（Ｂ）で１００重量％に基づいて１０〜９０重量％の、
（１）約０〜約２０重量％の２，４’−異性体、約０〜約２重量％の２，２’−異性体を含有し、残りが４，４’−異性体であるジフェニルメタンジイソシアネートと
（２）脂肪族アルコール
との反応生成物を含んでなるＮＣＯ基含量１２〜３２．５％を有するアロファネート変性ＭＤＩ
のブレンドを含んでなる向上した凝固安定性によって特徴づけられる液状ポリイソシアネート組成物。
【請求項２】  （Ａ）（２）がトリプロピレングリコールを含んでなる請求項１に記載のポリイソシアネート組成物。
【請求項３】  （Ｂ）アロファネート変性ＭＤＩが２０〜２６％のＮＣＯ基含量を有する請求項１に記載のポリイソシアネート組成物。
【請求項４】  ＮＣＯ基含量２０〜２６％を有し、ジフェニルメタンジイソシアネートを７０重量％未満含有し、
（Ａ）（Ａ）および（Ｂ）で１００重量％に基づいて２０〜５０重量％の、ＮＣＯ基含量１５〜３０％を有するＭＤＩ付加物、ならびに
（Ｂ）（Ａ）および（Ｂ）で１００重量％に基づいて５０〜８０重量％の、
ＮＣＯ基含量１２〜３２．５％を有するアロファネート変性ＭＤＩ
のブレンドを含んでなる請求項１に記載のポリイソシアネート組成物。
【請求項５】  ＮＣＯ基含量１５〜３０％を有し、ジフェニルメタンジイソシアネートを７０重量％未満含有する安定な液状ポリイソシアネート組成物の製造方法であって、
（Ａ）（Ａ）および（Ｂ）で１００重量％に基づいて１０〜９０重量％の、
（１）約０〜２０重量％の２，４’−異性体、約０〜２重量％の２，２’−異性体を含有し、残りが４，４’−異性体であるジフェニルメタンジイソシアネートと
（２）低分子量分岐状脂肪族ジヒドロキシ化合物
との反応生成物を含んでなるＮＣＯ基含量１５〜３０重量％のＭＤＩ付加物を、
（Ｂ）（Ａ）および（Ｂ）で１００重量％に基づいて１０〜９０重量％の、
（１）約０〜約２０重量％の２，４’−異性体、約０〜約２重量％の２，２’−異性体を含有し、残りが４，４’−異性体であるジフェニルメタンジイソシアネートと
（２）脂肪族アルコール
との反応生成物を含んでなるＮＣＯ基含量１２〜３２．５重量％のアロファネート変性ＭＤＩと
ブレンドすることを含んでなる製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月31日(2008.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１９】
前記第１のタイプのプリンタは、前記第２のタイプのプリンタより多くの又は前記第２のタイプのプリンタとは異なるプリント定義言語（ＰＤＬ）で処理可能であるプリンタである請求項１２乃至１６のうちいずれか一項記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月4日(2007.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 超音波を被検体（Ｓ）に侵入させて、該被検体の少なくとも一部分を表わすカラー・フロー画像を表示する超音波イメージング・システムにおいて、機械的指数、温度及び強度空間ピーク時間平均の指定を遵守しながら前記超音波の侵入力を向上させる装置であって、第１の命令に応答して前記被検体の部分に向かって第１のパワーを有する超音波を送信して、前記部分からの第１の反射超音波を受信するように動作可能であると共に、第２の命令に応答して前記被検体の前記部分に向かって前記第１のパワーよりも小さい第２のパワーを有する超音波を送信して、前記部分からの第２の反射超音波を受信するように動作可能であるトランスデューサ・アレイ（２）と、前記第１の反射超音波に応答して第１の組の信号を発生するように接続されていると共に、前記第２の反射超音波に応答して第２の組の信号を発生するように接続されている超音波受信器（２６）と、第１の時間にわたって前記第１の命令を発生し、第２の時間にわたって前記第２の命令を発生するプロセッサ（２０）であって、前記第１の時間の前記第２の時間に対する比は、前記機械的指数、温度及び強度空間ピーク時間平均の指定の遵守を可能にしながら、前記第１の時間にわたる前記超音波の侵入を可能にしており、カラー・フロー画像として表示するための処理されたカラー・フロー・データを生成するように前記第１の組の信号及び前記第２の組の信号を処理するプロセッサ（２０）と、前記処理されたカラー・フロー・データに応答してカラー・フロー画像を表示する表示器（１８）と、を併せ備えた装置。
【請求項２】 前記第１の時間は、１フレームの前記前記第１の組の信号を形成するのに十分な時間である請求項１に記載の装置。
【請求項３】 前記第１のパワーは前記機械的指数の指定に近付いており、前記第１の命令は、前記機械的指数、温度及び強度空間ピーク時間平均の指定を遵守するのに十分な保留時間を当該第１の命令同士の間に設けた状態で一連の第１の命令を含んでいる請求項１に記載の装置。
【請求項４】 前記プロセッサは、前記被検体の前記部分内での流体の流動領域を表わす前記第１の組の信号の内のフロー・データを識別する請求項１に記載の装置。
【請求項５】 前記第１の時間は予め決定されている時間であり、前記第２の時間は予め決定されている時間であり、前記プロセッサは、前記予め決定されている第２の時間にわたって前記第２の命令を発生すると共に、前記予め決定されている第１の時間にわたって前記第１の命令を発生することにより静止カラー画像の表示を可能にする請求項１に記載の装置。
【請求項６】 超音波を被検体（Ｓ）に侵入させて、該被検体の少なくとも一部分を表わすカラー・フロー画像を表示する超音波イメージング・システムにおいて、機械的指数、温度及び強度空間ピーク時間平均の指定を遵守しながら前記超音波の侵入力を向上させる方法であって、第１の命令に応答して前記被検体の部分に向かって第１のパワーを有する第１の超音波を送信する工程と、該第１の超音波に応答して前記部分からの第１の反射超音波を受信する工程と、第２の命令に応答して前記被検体の前記部分に向かって前記第１のパワーよりも小さい第２のパワーを有する第２の超音波を送信する工程と、該第２の超音波に応答して前記部分からの第２の反射超音波を受信する工程と、前記第１の反射超音波に応答して第１の組の信号を発生する工程と、前記第２の反射超音波に応答して第２の組の信号を発生する工程と、第１の時間にわたって前記第１の命令を発生する工程と、第２の時間にわたって前記第２の命令を発生する工程であって、前記第１の時間の前記第２の時間に対する比は、前記機械的指数、温度及び強度空間ピーク時間平均の指定の遵守を可能にしながら、前記第１の時間にわたる前記超音波の侵入を可能にしている、前記第２の命令を発生する工程と、カラー・フロー画像として表示するための処理されたカラー・フロー・データを生成するように前記第１の組の信号及び前記第２の組の信号を処理する工程と、前記処理されたカラー・フロー・データに応答してカラー・フロー画像を表示する工程とを併せ備えた方法。
【請求項７】 前記第１の時間は、１フレームの前記第１の組の信号を形成するのに十分な時間である請求項６に記載の方法。
【請求項８】 前記第１のパワーは前記機械的指数の指定に近付いており、前記第１の命令は、前記機械的指数、温度及び強度空間ピーク時間平均の指定を遵守するのに十分な保留時間を当該第１の命令同士の間に設けた状態で一連の第１の命令を含んでいる請求項６に記載の方法。
【請求項９】 前記被検体の前記部分内での流体の流動領域を表わす前記第１の組の信号内のフロー・データを識別する工程を更に含んでいる請求項６に記載の方法。
【請求項１０】 前記第１の時間は予め決定されている時間であり、前記第２の時間は予め決定されている時間であり、前記表示する工程は、前記予め決定されている第２の時間にわたって前記第２の命令を発生すると共に、前記予め決定されている第１の時間にわたって前記第１の命令を発生することにより静止カラー画像を表示する工程を含んでいる請求項６に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年8月29日(2008.8.29)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
ブレード５４は、前端６０と肩部６２ａ、６２ｂとの間に延びる長さlを有する。好ましくは、長さlは、椎間板の空隙の深さ及びブレード５４の所望の挿入深さに基づいて選択される。またブレード５４は、上面５４ａと底面５４ｂとの間に高さｈｌを有する。高さｈ１は、ディストラクタ４０によって最終的に延伸された後、延伸された椎間板の空隙の高さに基づいて選択されることが好ましい。ブレード５４は、第１の側面５５ａと第２の側面５５ｂとの間で測定された厚さｔ２を有する。高さｈｌの厚さｔｌに対する比は約２．０より大きいことが考慮される。最も好ましい形態において、この比は約５．０より大きい。軸５２は、高さｈ２と、好ましくはブレードの厚さｔ１に対応する厚さｔ２とを有する。しかしながら、厚さｔｌ及び厚さｔ２は、異なる値を有することも考慮される。ブレード５４の高さｈｌは、軸５２の高さｈ２より高いことが好ましい。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３４】
使用時において、のみ９０，１１０は、のみに接続された目視部材３０によってカニューレ２０を通じて配置される。切削ヘッド９６，１１６は、直接見ることによって隣接する端部プレートの間の椎間板の空隙に整列するように配置される。非切削縁は椎間板の空隙に挿入され、のみ９０の延長部１０２，１０３の案内面またはのみ１１０の延長部１２２，１２３の案内面は椎骨の端部プレートに接触する。次に必要ならば手か、スラップハンマを使用することによって切削ヘッド９６，１１６が前進し、のみ９０のブレード９８，１００またはのみ１１０のブレード１１８，１２０が挿入経路に沿って椎骨の端部プレートの組織を除去する。直接見るか、影像案内ナビゲーション器具、椎間板の空隙に挿入された目視部材、またはｘ線または蛍光透視画像を介してのみ９０，１１０の深さを監視することができる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３９】
軸２６４は、カッタ２５２の遠位端で開放する内側通路２６２を有する。図７（ｂ）に示すように、通路２６２は、ディストラクタ組立体２１０のステム２１６と本体部分２２０を受ける寸法の遠位第１の部分２６２ａを有し、ハンドル２１２がステム２１６から外されている。好ましくは、第１の部分２６２ａは、本体部分２２０よりわずかに大きい寸法と、本体部分２２０の形状に近い形状を有する。これは、本体部分２２０と切削ヘッド２５３との間にスリップ嵌合を提供し、切削ヘッド２５３を椎間板の空隙と隣接する椎体の骨材料に案内する。通路２６２の残りの近位部分の断面は多数の形状を有するが、通路２６２の全長は、第１の部分２６２ａの形状に対応する形状を有することは理解できよう。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月16日(2008.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】  少なくとも、１）導入口、２）請求項１記載の微小凝集物除去フィルター材を含むフィルター、３）導出口、を含む装置を用い、導入口から微小凝集物を含有する赤血球含有血液製剤を注入し、導出口から該フィルターで濾過された液を回収することからなる、微小凝集物を含有する赤血球含有血液製剤から微小凝集物を除去する方法。 【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】  微小凝集物除去フィルター材の下流側に、白血球除去フィルター材を配置した、請求項１１記載の微小凝集物を含有する赤血球含有血液製剤から微小凝集物を除去する方法。 【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】  すなわち、本発明は、（１）微小凝集物を含有する赤血球含有血液から微小凝集物を除去するフィルター材であって、該フィルター材は、平均繊維径が８μｍ以上５０μｍ未満の繊維状多孔質体を基材とし、少なくともその表面に非イオン性の親水性部分と塩基性部分とを含む親水性塩基性基を有しており、該親水性塩基性基において、該親水性部分が該塩基性部分より末端側に位置していることを特徴とする微小凝集物除去フィルター材、（２）少なくとも１つの親水性部分が親水性塩基性基の最末端に位置している上記（１）の微小凝集物除去フィルター材、（３）親水性部分がヒドロキシル基である上記（１）又は（２）の微小凝集物除去フィルター材、（４）塩基性部分が第２級及び／又は第３級アミノ基である上記（１）〜（３）のいずれかの微小凝集物除去フィルター材、（５）親水性塩基性基がヒドロキシアルキルアミノ基である上記（１）の微小凝集物除去フィルター材、（６）親水性塩基性基を含むモノマー及び／又は親水性塩基性基を含むモノマーを構成成分とするポリマーが繊維状多孔質基材の表面に導入されてなる上記（１）〜（５）のいずれかの微小凝集物除去フィルター材、（７）親水性塩基性基を含むモノマーを構成成分とするポリマーが、親水性塩基性基を含まないモノマーとの共重合体である上記（６）の微小凝集物除去フィルター材。（８）親水性塩基性基を含む重合性モノマーは（メタ）アクリル酸誘導体である上記（６）又は（７）の微小凝集物除去フィルター材、（９）フィルター材の単位表面積当たりの親水性塩基性基の密度は０．１μｅｑ／ｍ2以上１０００μｅｑ／ｍ2未満である上記（１）〜（８）のいずれかにの微小凝集物除去フィルター材、（１０）フィルター材の表面において、親水性部分の数に対する塩基性部分の数は０．０１以上０．５以下である（１）〜（９）のいずれかに記載の微小凝集物除去フィルター材、（１１）少なくとも、１）導入口、２）上記（１）の微小凝集物除去フィルター材を含むフィルター、３）導出口、を含む装置を用い、導入口から微小凝集物を含有する赤血球含有血液製剤を注入し、導出口から該フィルターで濾過された液を回収することからなる、微小凝集物を含有する赤血球含有血液製剤から微小凝集物を除去する方法、及び（１２）微小凝集物除去フィルター材の下流側に、白血球除去フィルター材を配置した、上記（１１）の微小凝集物を含有する赤血球含有血液製剤から微小凝集物を除去する方法、に関するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月16日(2008.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】    【請求項１】  重量平均分子量が４０，０００〜３，０００，０００のメチルセルロースをフィルター基材の少なくとも表面部分に有し、フィルター中の該メチルセルロースの含有量が０．１ｍｇ／ｇ〜１１０．５ｍｇ／ｇであることを特徴とする血小板通過率が８０％以上で白血球除去能が９７．５％以上であるヒトの全血濾過用白血球選択除去フィルター。    【請求項２】 ヒトの全血が採血後にＣＰＤを添加して３時間経過したヒトの新鮮全血又はヒトの１日保存血であることを特徴とする請求項１に記載の全血濾過用白血球選択除去フィルター。 【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】【課題を解決するための手段】  本発明は、上記課題を解決したものである。  すなわちこの発明は、（１）重量平均分子量が４０，０００〜３，０００，０００のメチルセルロースをフィルター基材の少なくとも表面部分に有し、フィルター中の該メチルセルロースの含有量が０．１ｍｇ／ｇ〜１１０．５ｍｇ／ｇであることを特徴とする血小板通過率が８０％以上で白血球除去能が９７．５％以上であるヒトの全血濾過用白血球選択除去フィルター、（２）ヒトの全血が採血後にＣＰＤを添加して３時間経過したヒトの新鮮全血又はヒトの１日保存血であることを特徴とする上記（１）記載の全血濾過用白血球選択除去フィルター、に関するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月17日(2007.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
走行レールに沿って走行する前後一対の走行輪体が備えられた走行台車と、昇降台に備えた被案内部を昇降案内する案内部を備えた前後一対の支柱とが設けられているスタッカークレーンであって、
前記走行台車が、前記走行輪体を支持する前後一対の支持枠を連結枠にて接続して構成され、
前記支持枠の夫々の上部に、前記支柱の下端部が連結支持されるように構成されているスタッカークレーン。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記走行輪体を回転駆動させる駆動手段が、前記走行輪体の横側部に位置するように前記支持枠に支持されている請求項１又は２記載のスタッカークレーン。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、走行レールに沿って走行する前後一対の走行輪体が備えられた走行台車と、昇降台に備えた被案内部を昇降案内する案内部を備えた前後一対の支柱とが設けられているスタッカークレーンに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この目的を達成するために、本発明にかかるスタッカークレーンの第１特徴構成は、走行レールに沿って走行する前後一対の走行輪体が備えられた走行台車と、昇降台に備えた被案内部を昇降案内する案内部を備えた前後一対の支柱とが設けられているスタッカークレーンにおいて、
前記走行台車が、前記走行輪体を支持する前後一対の支持枠を連結枠にて接続して構成され、前記支持枠の夫々の上部に、前記支柱の下端部が連結支持されるように構成されている点にある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
すなわち、比較的小型な支持枠に走行輪体を支持させ、その支持枠の前後一対を連結枠にて連結するように構成されているので、走行輪体を走行台車に組み付け易く、スタッカークレーンを容易に構成することができる。
そして、支持枠の夫々の上部に、支柱の下端部が連結支持されるように構成されており、支持枠やこれに支持される走行輪体を支柱の下方に位置させて、支持枠やこれに支持される走行輪体が支柱の前方や後方に突出しないように或いは突出量を抑えることがでるので、前後長さを短く構成し易いスタッカークレーンを提供できるに至った。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明にかかる第３特徴構成は、第１又は第２特徴構成において、前記走行輪体を回転駆動させる駆動手段が、前記走行輪体の横側部に位置するように前記支持枠に支持されている点にある。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月30日(2008.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線により重合される樹脂からなる樹脂層が 基材の表面の少なくとも一部に設けられた複合レンズであって、
前記樹脂層が完全硬化樹脂層と不完全硬化樹脂層とからなることを特徴とする複合レンズ。
【請求項２】
前記不完全硬化樹脂層がレンズ有効径の外側に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の複合レンズ。
【請求項３】
前記不完全硬化樹脂層の重合度が６０乃至９０％であることを特徴とする請求項１又は２に記載の複合レンズ。
【請求項４】
前記樹脂は重合度によって、屈折率が異なること、又は可視光の透過率が異なることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の複合レンズ。
【請求項５】
前記樹脂層は有機無機複合体から形成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の複合レンズ。
【請求項６】
前記有機無機複合体が、有機重合体と金属アルコキシドとから形成させていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の複合レンズ。
【請求項７】
前記有機無機複合体が、少なくとも１種類の金属アルコキシドから形成させていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の複合レンズ。
【請求項８】
基材に樹脂液を塗布する工程と、金型を前記 基材及び樹脂液に押し当てる工程と、均一でない強度分布を持たせた紫外線を照射し、樹脂液が完全に硬化する前に紫外線の照射を終了させることにより完全硬化樹脂層と不完全硬化樹脂層とを形成する工程と、を含むことを特徴とする複合レンズの製造方法。
【請求項９】
請求項１乃至７のいずれかに記載の複合レンズを、可視光を集光させるための媒体として用いたことを特徴とするレンズモジュール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、 基材の表面に活性エネルギー線硬化性樹脂を密着形成した非球面レンズ、フルネルレンズ、色消しレンズ、回折格子等の複合レンズ、該複合レンズの製造方法、及び該複合レンズを具備したレンズモジュールに関するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
第１の発明は、紫外線により重合される樹脂からなる樹脂層が 基材の表面の少なくとも一部に設けられた複合レンズであって、樹脂層が完全硬化樹脂層と不完全硬化樹脂層とからなる複合レンズである。不完全硬化樹脂層をレンズ有効径の外側に形成しても良く、不完全硬化樹脂層の重合度を６０乃至９０％とすることが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
第２の発明は、  基材に樹脂液を塗布する工程と、金型を 基材及び樹脂液に押し当てる工程と、均一でない強度分布を持たせた紫外線を照射し、樹脂液が完全に硬化する前に紫外線の照射を終了させることにより完全硬化樹脂層と不完全硬化樹脂層とを形成する工程と、を含む複合レンズの製造方法である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
第１の発明の複合レンズは、従来完全に硬化していた樹脂層の一部の重合度を抑えて不完全硬化樹脂層に置き換えることで、 基材と樹脂との密着性を減退させることなく、樹脂硬化による応力を緩和することができる。従って、ヒートサイクルやヒートショックなどの外的要因が複合レンズに作用することによって引き起こされる剥離及びクラックを回避することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
重合度によって屈折率が異なる樹脂、例えば重合度が低いと屈折率が小さくなる樹脂を凸状の 基材に形成した場合、レンズ有効径外側の不完全硬化樹脂層は屈折率が小さくなるため、凸面から出射される光のうちレンズ有効径の外側を通る不要な光が集光されにくく、ゴーストが引き起こされるのを防止することができる。又、逆に重合度が低いと屈折率が大きくなる樹脂を凹状の 基材に形成した場合、レンズ有効径外側の不完全硬化樹脂層は屈折率が大きくなるため、凹面から出射される光のうちレンズ有効径の外側を通る不要な光が集光されにくく、ゴーストが引き起こされるのを防止することができる。