(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方の面が凸面である円形の傘部及び前記傘部の前記凸面の中心から突出して設けられたハンドリング用突起を有するキャップの前記ハンドリング用突起をハンドリングして、前記キャップを成膜基板の略中心部に載置する載置工程と、前記キャップの前記傘部の前記凸面の前記中心から離間した位置に液状の物質を滴下する滴下工程と、前記成膜基板及び前記キャップを一体的に回転させることにより前記液状の物質を前記成膜基板の表面に塗布するスピンコート工程とを備える光ディスクの製造方法。
【請求項２】
前記キャップが、前記傘部の前記凸面とは反対側の面に設けられた位置決め部をさらに有しており、前記載置工程における前記キャップの載置を、前記位置決め部を用いた位置決めによって行うことを特徴とする請求項１に記載の光ディスクの製造方法。
【請求項３】
前記キャップの前記傘部が、外周部へ向かうほど肉厚が薄くなる形状を有しており、前記キャップの前記位置決め部が、前記傘部の前記反対側の面の中心から突出して設けられた位置決め用突起からなることを特徴とする請求項２に記載の光ディスクの製造方法。
【請求項４】
前記載置工程の後、前記キャップの前記位置決め用突起を吸引することによって、前記キャップの前記傘部の最外周部を前記成膜基板の表面に押し付ける吸引工程をさらに備えることを特徴とする請求項３に記載の光ディスクの製造方法。
【請求項５】
前記液状の物質が紫外線硬化性樹脂であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光ディスクの製造方法。
【請求項６】
第１の紫外線マスクによって前記成膜基板の中央部を覆いながら、前記成膜基板の表面に形成された前記紫外線硬化性樹脂に紫外線を照射し、これを硬化させる第１の紫外線照射工程をさらに備え、前記第１の紫外線マスクの径が前記キャップの前記傘部の径よりも大きいことを特徴とする請求項５に記載の光ディスクの製造方法。
【請求項７】
前記キャップの前記ハンドリング用突起をハンドリングして、前記キャップを前記成膜基板の表面から除去する除去工程と、前記除去工程の後、前記成膜基板の表面に形成された前記紫外線硬化性樹脂に紫外線を照射し、これを硬化させる第２の紫外線照射工程をさらに備えることを特徴とする請求項６に記載の光ディスクの製造方法。
【請求項８】
前記キャップがプラスチックからなることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光ディスクの製造方法。
【請求項９】
前記キャップがポリオレフィンからなることを特徴とする請求項８に記載の光ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ディスクの製造方法に関し、さらに詳細には、スピンコート法により液状の物質を塗布する工程を含む光ディスクの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、大容量のデジタルデータを記録するための記録媒体として、ＣＤやＤＶＤに代表される光ディスクが広く用いられている。一般に、再生専用の光ディスクは記録面側から、光透過層、反射層、保護層の順に各層が積層され、書き込み可能な光ディスクは記録面側から、光透過層、記録層、反射層、保護層の順に各層が積層されてなり、いずれのタイプの光ディスクにおいても、データの読み出しに際しては、光透過層側からレーザが照射されてその反射光が検出される。
【０００３】
図１３は、最も一般的な再生専用の光ディスクであるＣＤ−ＲＯＭの層構成を示す断面図である。
【０００４】
図１３に示されるように、ＣＤ−ＲＯＭは、厚さが約１．２ｍｍの光透過層１と、厚さが約５０ｎｍの反射層２と、厚さが約５μｍの保護層３によって構成され、一般に、光透過層１はあらかじめプレピットが形成されたポリカーボネートからなり、反射層２はアルミニウムからなり、保護層３は紫外線硬化性樹脂からなる。このような構成を有するＣＤ−ＲＯＭの作製においては、まず、スタンパを用いて記録すべきデジタルデータに対応したプレピットを有する光透過層１を射出成形し、次に、光透過層１のうち、ピットが形成されている面の全面にスパッタリング法によりアルミニウムを成膜し、反射層２を形成する。そして、反射層２の表面に紫外線硬化性樹脂をスピンコート法により形成し、保護層３を形成する。これにより、光透過層１、反射層２及び保護層３からなるＣＤ−ＲＯＭが作製される。
【０００５】
ここで、保護層３を形成するためのスピンコート法は、液状の物質を塗布する方法として光ディスクの製造のみならず半導体デバイスの製造等においても広く用いられている方法である。しかしながら、スピンコート法により形成される膜の膜厚は、紫外線硬化性樹脂を滴下する部分（滴下点）から外側に離れた部分においてはほぼ均一となるものの、滴下点の近傍においては、滴下点に近づくにつれて急速に薄くなる傾向があるため、光ディスクの記録面のうちピットが形成されている領域（記録領域）に保護層３をできる限り均一に形成するためには、光ディスクの中心部を滴下点とすることが理想的である。ところが、光ディスクの中心部には、一般にドライブへのチャッキングのための孔が形成されているため、そのままでは光ディスクの中心部を滴下点とすることはできない。このため、特開平１１−２１３４５９号公報においては、光ディスクの中心部の孔をキャップによって塞ぎ、キャップの中心部分に紫外線硬化性樹脂を滴下する手法が提案されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、同公報に記載された方法では、キャップ上面のほぼ全面が紫外線硬化性樹脂で覆われてしまうため、キャップのハンドリングにおいて種々の問題が生じる。例えば、同公報に記載された方法では、キャップをハンドリングするためのアームに紫外線硬化性樹脂が不可避的に付着することから、アームが紫外線硬化性樹脂によって汚染されるのみならず、製造装置の他の部分や他の製造装置にも紫外線硬化性樹脂が付着するおそれがあり、これが原因となって製造工程全体の信頼性を悪化させるおそれがある。アームに付着した紫外線硬化性樹脂は、アームの洗浄工程を設けることによって除去することが考えられるが、この場合、製造工程全体が複雑化してしまう。
【０００７】
したがって、本発明の目的は、改良された光ディスクの製造方法を提供することである。
【０００８】
また、本発明の他の目的は、スピンコート法により液状の物質を塗布する工程を含む改良された光ディスクの製造方法を提供することである。
【０００９】
また、本発明のさらに他の目的は、キャップをハンドリングするためのアームの汚染が防止された光ディスクの製造方法を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明のかかる目的は、一方の面が凸面である円形の傘部及び前記傘部の前記凸面の中心から突出して設けられたハンドリング用突起を有するキャップの前記ハンドリング用突起をハンドリングして、前記キャップを成膜基板の略中心部に載置する載置工程と、前記キャップの前記傘部の前記凸面の前記中心から離間した位置に液状の物質を滴下する滴下工程と、前記成膜基板及び前記キャップを一体的に回転させることにより前記液状の物質を前記成膜基板の表面に塗布するスピンコート工程とを備える光ディスクの製造方法によって達成される。
【００１１】
本発明によれば、ハンドリングするための突起がキャップに備えられ、さらに、塗布すべき液状の物質をキャップの傘部の凸面の中心から離間した位置に滴下しているので、キャップをハンドリングするためのアームに塗布すべき液状の物質が付着することがない。このため、製造装置等に塗布すべき液状の物質が付着し、汚染されるおそれが大幅に低くなることから、製造工程全体の信頼性を向上させることができるとともに、アームの洗浄工程を設ける必要がなくなる。
【００１２】
本発明の好ましい実施態様においては、前記キャップが、前記傘部の前記凸面とは反対側の面に設けられた位置決め部をさらに有しており、前記載置工程における前記キャップの載置を、前記位置決め部を用いた位置決めによって行う。
【００１３】
本発明の好ましい実施態様によれば、キャップに位置決め部が設けられていることから、載置工程を容易に行うことが可能となる。
【００１４】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記キャップの前記傘部が、外周部へ向かうほど肉厚が薄くなる形状を有しており、前記キャップの前記位置決め部が、前記傘部の前記反対側の面の中心から突出して設けられた位置決め用突起からなる。
【００１５】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記載置工程の後、前記キャップの前記位置決め用突起を吸引することによって、前記キャップの前記傘部の最外周部を前記成膜基板の表面に押し付ける吸引工程をさらに備える。
【００１６】
本発明のさらに好ましい実施態様によれば、傘部の表面と成膜基板の表面との平坦性を高めることができることから、スピンコート工程において塗布される液状物質の膜厚をより均一とすることができる。
【００１７】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記液状の物質が紫外線硬化性樹脂である。
【００１８】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、第１の紫外線マスクによって前記成膜基板の中央部を覆いながら、前記成膜基板の表面に形成された前記紫外線硬化性樹脂に紫外線を照射し、これを硬化させる第１の紫外線照射工程をさらに備え、前記第１の紫外線マスクの径が前記キャップの前記傘部の径よりも大きい。
【００１９】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記キャップの前記ハンドリング用突起をハンドリングして、前記キャップを前記成膜基板の表面から除去する除去工程と、前記除去工程の後、前記成膜基板の表面に形成された前記紫外線硬化性樹脂に紫外線を照射し、これを硬化させる第２の紫外線照射工程をさらに備える。
【００２０】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記キャップがプラスチックからなる。
【００２１】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記キャップがポリオレフィンからなる。
【００２２】
本発明のさらに好ましい実施態様によれば、キャップと紫外線硬化性樹脂との親和性が比較的低いことから、キャップの材質であるポリオレフィンと紫外線硬化性樹脂との分離を比較的容易に行うことができる。
【００２３】
尚、本発明にかかる方法により製造可能な光ディスクの種類としては、特に制限されず、ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷのように保護膜がスピンコート法によって成膜されるタイプの光ディスクのみならず、光透過層がスピンコート法によって成膜されるタイプの光ディスクを製造することも可能である。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施態様について詳細に説明する。
【００２５】
図１は、本実施態様にかかる方法により製造される光ディスク１０を概略的に示す断面図である。
【００２６】
図１に示されるように、光ディスク１０は、厚さが約１．１ｍｍの基板１１と、厚さが約７０〜１３０ｎｍの反射層１２と、厚さが約１００〜２５０ｎｍの記録層１３と、厚さが約５０〜１５０μｍの光透過層１４によって構成される。また、光ディスク１０の中央部分には孔１５が設けられている。基板１１はポリカーボネートからなり、反射層１２は銀を主成分とする合金からなる。また、記録層１３は、実際にデータが記録される相変化膜の上下を誘電体膜で挟んだ多層構造を有する。さらに、光透過層１４は紫外線硬化性樹脂からなる。このような構造を有する光ディスク１０からのデータの読み出しに際しては、光透過層１４側から読み出し用レーザが照射されてその反射光量差が検出される。また、光ディスク１０へのデータの書き込みに際しては、光透過層１４側から書き込み用レーザが照射され、これにより記録層１３の状態（相変化膜の結晶構造）を変化させる。
【００２７】
本実施態様にかかる方法により製造される光ディスク１０は、光透過層１４がスピンコート法によって成膜されるタイプの光ディスクである。但し、上述の通り、本発明にかかる方法により製造可能な光ディスクの種類としては、これに限定されず、保護膜がスピンコート法によって成膜されるタイプの光ディスク（例えば、ＣＤ−ＲＯＭ）も含まれる。
【００２８】
図２（ａ）は、本実施態様にかかる方法を実現するための製造装置２０の主要部分を概略的に示す斜視図であり、図２（ｂ）は、その略断面図である。
【００２９】
図２（ａ）及び（ｂ）に示されるように、製造装置２０は、径が光ディスク１０の径とほぼ等しいステージ２１と、ステージ２１の中央部に設けられた第１の突出部２２と、第１の突出部２２の中央部に設けられた第２の突出部２３とを備えている。これらステージ２１、第１の突出部２２及び第２の突出部２３は、実質的に一体的であり、図示しない回転機構が作動すると、これらは一体となって回転する。
【００３０】
第１の突出部２２は、製造されるべき光ディスク１０の前駆体（本明細書においては、これを「成膜基板１０’」と呼ぶことがある）の中心部近傍のチャッキング領域が載置される部分であり、その表面には、複数の第１の吸気口２４が設けられている。これにより、図示しない第１の吸気機構が作動すると、第１の突出部２２に載置された成膜基板１０’は吸着状態となり、製造装置２０に実質的に固定される。
【００３１】
第２の突出部２３は、径が光ディスク１０の孔１５の径に対応しており、第１の突出部２２に成膜基板１０’が載置されると、成膜基板１０’の孔１５には第２の突出部２３が挿入された状態となる。また、第２の突出部２３の中央部には、第２の吸気口２５が設けられている。第２の吸気口２５は、図示しない第２の吸気機構によって吸気される。
【００３２】
次に、本実施態様にかかる光ディスクの製造方法について説明する。
【００３３】
まず、スタンパを用いてプリグルーブが形成された基板１１を射出成形法により作製する。次に、基板１１のうち、プリグルーブが形成されている面の全面にスパッタリング法により反射層１２を形成し、次いで、反射層１２の全面にスパッタリング法により記録層１３を形成する。
【００３４】
次に、図３に示されるように、基板１１上に反射層１２及び記録層１３が形成された成膜基板１０’を、先端が柔軟性を有する吸着パッドからなる第１のアーム３１を用いて搬送し、第１の突出部２２に成膜基板１０’を載置する。ここで、第１のアーム３１は、製造装置２０の一部である。図４は、このようにして第１の突出部２２に成膜基板１０’が載置された状態を示している。ここで、成膜基板１０’は、記録層１３が形成されている側が上面となるように載置される。また、第１のアーム３１は、成膜基板１０’を搬送するに際して、記録層１３の表面のうちデータが記録されない領域（典型的には、成膜基板１０’の中心から約２１ｍｍ以内の領域）、すなわち孔１５の近傍を吸着する。尚、基板１１には、成形に用いる金型内の「スタンパおさえ」によって、上記データが記録されない領域の内側に円環状の溝１６が形成されることがあり、このような円環状の溝１６が形成されている場合には、その内側領域を吸着することにより成膜基板１０’を搬送することが好ましい。図３及び図４には、第１のアーム３１が円環状の溝１６の内側領域を吸着することによって成膜基板１０’が搬送される状態を示している。尚、かかる溝１６は、図１においては省略されている。
【００３５】
このようにして第１の突出部２２に成膜基板１０’が載置されると、図示しない第１の吸気機構が作動し、これにより第１の突出部２２に載置された成膜基板１０’は、第１の吸気口２４による吸着によって、第２の突出部２３が孔１５に嵌合した状態で実質的に固定される。
【００３６】
次に、第２のアーム３２を用いてキャップ４０を搬送し、固定された成膜基板１０’の中心部にキャップ４０を載置する。第２のアーム３２は、製造装置２０の一部である。図５は、このようにして成膜基板１０’の中心部にキャップ４０が載置された状態を示している。
【００３７】
図６は、キャップ４０の形状を示す略斜視図である。
【００３８】
図６に示されるように、キャップ４０は、凸面及び凹面を有し外周部へ向かうほど肉厚が薄くなる円形の傘部４１と、傘部４１の凹面の中心から一方に突出して設けられた第１の突起４２と、傘部４１の凸面の中心から他方に突出して設けられた第２の突起４３とを備えている。特に限定されるものではないが、キャップ４０の材質としては、ポリオレフィンが用いられる。
【００３９】
傘部４１の径は、製造すべき光ディスク１０の孔１５の径よりも大きく、且つ、製造すべき光ディスク１０のデータ記録領域の最内周の径よりも小さく設定される。また、上記円環状の溝１６が存在する場合には、円環状の溝１６の径よりも大きく設定される。例えば、製造すべき光ディスク１０の孔１５の径が１５ｍｍであり、円環状の溝１６の径が３６ｍｍであり、製造すべき光ディスク１０のデータ記録領域の最内周の径が４２ｍｍである場合には、傘部４１の径としては、３６．５ｍｍ〜４０ｍｍ程度に設定することが好ましい。また、傘部４１のテーパー形状としては、成膜基板１０’の中心部にキャップ４０を載置した場合に、傘部４１の最外周部（先端）が成膜基板１０’の表面に接し、且つ、内周部が製造装置２０の第２の突出部２３に接しないような形状とされる。
【００４０】
また、第１の突起４２の径は、製造装置２０の第２の吸気口２５の径に対応しており、図５に示したように、成膜基板１０’の中心部にキャップ４０が載置されると、第２の吸気口２５にはかかる第１の突起４２が挿入された状態となる。つまり、第１の突起４２は、キャップ４０を載置する際の位置決め部材としての役割を果たす。尚、第１の突起４２の長さは、特に限定されない。
【００４１】
さらに、第２の突起４３の径及び長さは、第２のアーム３２によってハンドリング可能であれば、特に限定されない。
【００４２】
このような形状を有するキャップ４０が固定された成膜基板１０’の中心部に載置されると、図示しない第２の吸気機構を作動させる。これによりキャップ４０は、第２の吸気口２５による吸着によって、第１の突起４２が第２の吸気口２５に嵌合した状態で実質的に固定される。この際、キャップ４０の傘部４１は、第２の吸気口２５による吸着によって僅かに変形し、傘部４１の最外周部（先端）が成膜基板１０’の表面に接し、且つ、傘部４１の凹面部が製造装置２０の第２の突出部２３に接するようにして、成膜基板１０’の表面に押しつけられる。
【００４３】
この状態において、図示しない回転機構を作動させ、ステージ２１、第１の突出部２２及び第２の突出部２３を一体的に低速回転させ、さらに、図７に示されるように、キャップ４０の傘部４１の凸面に紫外線硬化性樹脂５０を滴下する。この場合、成膜基板１０’は第１の吸気口２４による吸着によって第１の突出部２２に固定され、キャップ４０は第２の吸気口２５による吸着によって第２の突出部２３に固定されているので、これら成膜基板１０’及びキャップ４０も、ステージ２１、第１の突出部２２及び第２の突出部２３と一体となってともに回転する。また、紫外線硬化性樹脂５０の滴下点としては、できるだけ傘部４１の凸面の中央部の近くに設定することが好ましい。以上により、キャップ４０の傘部４１の凸面には、紫外線硬化性樹脂５０が滞留した状態となる。
【００４４】
次に、図示しない回転機構によって、ステージ２１、第１の突出部２２及び第２の突出部２３を一体的に高速回転させ、図８に示されるように、キャップ４０の傘部４１の凸面に滞留している紫外線硬化性樹脂５０を遠心力によって成膜基板１０’の表面（記録層１３の表面）にスピンコートする。これにより、成膜基板１０’の表面（記録層１３の表面）には、厚さが約１００μｍの紫外線硬化性樹脂５０の薄膜が形成される。この場合、上記紫外線硬化性樹脂５０の滴下工程における滴下点が傘部４１の凸面の中央部に近いほど、紫外線硬化性樹脂５０の薄膜の平坦性は良好となる。
【００４５】
このようにして成膜基板１０’の表面（記録層１３の上面）に紫外線硬化性樹脂５０の薄膜が形成されると、次に、図示しない回転機構によって、ステージ２１、第１の突出部２２及び第２の突出部２３を一体的に中速回転させる。この状態で、図９に示されるように、第１の紫外線マスク６０によって成膜基板１０’の中央部を覆いながら、成膜基板１０’の表面に形成された紫外線硬化性樹脂５０の薄膜に紫外線を照射し、これを硬化させる。第１の紫外線マスク６０は製造装置２０の一部である。
【００４６】
ここで、第１の紫外線マスク６０の径は、キャップ４０の傘部４１の径よりも大きく、且つ、製造すべき光ディスク１０のデータ記録領域の最内周の径よりも小さく設定される。このため、上記紫外線の照射工程においては、キャップ４０の傘部４１の表面に存在する紫外線硬化性樹脂５０と、成膜基板１０’の表面に形成された紫外線硬化性樹脂５０のうちキャップ４０の近傍に形成された部分とが未硬化の状態となり、その他の部分に形成された紫外線硬化性樹脂５０は硬化状態となる。
【００４７】
次に、図示しない回転機構の作動を停止させて回転を停止させた後、図示しない第２の吸気機構の作動を停止させる。このとき、図示しない第１の吸気機構については、作動状態を維持させる。この状態において、図１０に示されるように、第２のアーム３２を用いてキャップ４０を除去する。この場合、キャップ４０の傘部４１の最外周部（先端）と成膜基板１０’の表面との界面に形成されている紫外線硬化性樹脂５０は未硬化の状態であることから、困難なくキャップ４０の除去を行うことができる。除去されたキャップ４０は、図示しない使用済みキャップ入れに集められ、その後、キャップ４０の材料であるポリオレフィンと紫外線硬化性樹脂とに分離されて、それぞれリサイクルされる。
【００４８】
このようにしてキャップ４０を除去した後、図１１に示されるように、円形の孔６３を有する第２の紫外線マスク６２によって成膜基板１０’の中央部を除く部分を覆いながら、成膜基板１０’の表面に形成された未硬化の紫外線硬化性樹脂５０の薄膜に紫外線を照射し、これを硬化させる。第２の紫外線マスク６２は、製造装置２０の一部である。
【００４９】
ここで、第２の紫外線マスク６２の孔６３の径は、第１の紫外線マスク６０の径に対応している。このため、上記紫外線の照射工程においては、成膜基板１０’の表面に形成された未硬化の紫外線硬化性樹脂５０に紫外線が照射されてこれが硬化し、すでに硬化している紫外線硬化性樹脂５０には実質的に照射されない。これにより、過度の紫外線照射による紫外線硬化性樹脂５０の変質・変色が防止される。
【００５０】
以上により、成膜基板１０’の表面に形成された紫外線硬化性樹脂５０の硬化が完了し、光透過層１４の成膜が完了する。そして、図示しない第１の吸気機構の作動を停止させ、図１２に示されるように、光透過層１４の成膜が完了した光ディスク１０を搬出する。
【００５１】
以上説明したように、本実施態様にかかる光ディスクの製造方法においては、紫外線硬化性樹脂５０が滴下される傘部４１、第２の吸気口２５に嵌合する第１の突起４２及び第２のアーム３２によってハンドリングするための第２の突起４３を備えるキャップ４０を用いて、紫外線硬化性樹脂５０をスピンコートし、これにより光透過層１４を形成しているので、キャップ４０をハンドリングするための第２のアーム３２に紫外線硬化性樹脂５０が付着することがない。このため、製造装置２０の他の部分や他の製造装置に紫外線硬化性樹脂５０が付着し、汚染されるおそれが大幅に低くなることから、製造工程全体の信頼性を向上させることができるとともに、第２のアーム３２の洗浄工程を設ける必要がなくなる。
【００５２】
また、本実施態様にかかる光ディスクの製造方法において用いられるキャップ４０の傘部４１は、第２の吸気口２５により吸着されることによって僅かに変形し、成膜基板１０’の表面に押しつけられる状態となることから、傘部４１の表面と成膜基板１０’の表面との平坦性が高く、このため、スピンコート時において、紫外線硬化性樹脂５０の薄膜の良好な均一性を担保することが可能となる。
【００５３】
さらに、本実施態様にかかる光ディスクの製造方法において用いられるキャップ４０はポリオレフィンからなり、紫外線硬化性樹脂に対する親和性が比較的低く、また、溶剤に対する耐性が高いことから、リサイクル時におけるポリオレフィンと紫外線硬化性樹脂との分離を比較的容易に行うことができる。
【００５４】
本発明は、以上の実施態様に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
【００５５】
例えば、上記実施態様においては、図１１に示した紫外線照射工程によって光透過層１４の成膜が完了した時点で光ディスク１０を完成品としているが、その後、さらに光透過層１４の表面にハードコート層を形成する工程を付加しても構わない。ハードコート層の形成方法としては特に制限されないが、ハードコート液をスピンコートした後、パネルヒータを用いてハードコート液に含まれる溶剤を蒸発させ、その後、紫外線を照射することによってこれを硬化させることが好ましい。このように、ハードコート層を付加する場合には、ハードコート液を硬化させるための紫外線照射工程が追加されることから、図９及び図１１に示した工程における紫外線の照射量をその分だけ少なくすることが好ましい。つまり、図９及び図１１に示した工程においては、紫外線硬化性樹脂５０を半硬化状態とし、ハードコート液を硬化させるための紫外線照射によって、紫外線硬化性樹脂５０を完全に硬化させることが好ましい。
【００５６】
また、上記実施態様においては、図９に示した紫外線照射工程によって、第１の紫外線マスク６０によって覆われていない部分の紫外線硬化性樹脂５０を硬化させ、図１１に示した紫外線照射工程によって、第２の紫外線マスク６２によって覆われていない部分の紫外線硬化性樹脂５０を硬化させているが、図９に示した紫外線照射工程において、第１の紫外線マスク６０によって覆われていない部分の紫外線硬化性樹脂５０を完全な硬化状態とせず、且つ、図１１に示した紫外線照射工程において、第２の紫外線マスク６２を用いることなく全面に紫外線を照射することによって、紫外線硬化性樹脂５０を硬化させても構わない。これによれば、２種類の紫外線マスクを使用する必要がなくなるので、製造コストを低減することができる。
【００５７】
さらに、上記実施態様においては、ポリオレフィンからなるキャップ４０を用いているが、キャップ４０の材料としてはこれに限定されず、その他の材料、例えば、ポリカーボネート等の他のプラスチック類や、金属等を用いることができる。プラスチック類を用いた場合、キャップ４０自体に適切な弾力性が与えられることから、成膜基板１０’との密着性に優れるという利点がある。
【００５８】
また、本実施態様において用いられるキャップ４０の傘部４１は、外周部へ向かうほどその肉厚が薄くなる形状を有しているが、傘部４１が外周部へ向かうほど肉厚が薄くなる形状であることは必須でなく、少なくとも一部において肉厚が一定若しくは増大する領域を有していても構わない。
【００５９】
さらに、本実施態様において用いられるキャップ４０の傘部４１は、凸面及び凹面を有しているが、凸面の裏面が凹面であることは必須でなく、これが平坦面であっても構わない。
【００６０】
また、本実施態様において用いられるキャップ４０には第１の突起４２が設けられ、かかる第１の突起４２が第２の吸気口２５に嵌合することによって位置決めがされているが、キャップ４０の位置決めが可能である限り、このような第１の突起４２を備えることは必須でない。したがって、第１の突起４２の代わりに、傘部４１の中央に凹部を設け、これによってキャップ４０の位置決めを行っても構わない。
【００６１】
また、本発明にかかる方法により製造される光ディスクの層構成及び各層の材料は特に限定されず、スピンコート法により液状の物質を塗布する工程を含む方法により製造される光ディスクであれば、いかなる光ディスクの製造に対しても適用可能である。
【００６２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、キャップをハンドリングするためのアームに紫外線硬化性樹脂が付着することがないので、製造装置の他の部分や他の製造装置に紫外線硬化性樹脂が付着し、汚染されるおそれが大幅に低くなる。これにより、製造工程全体の信頼性を向上させることができるとともに、アームの洗浄工程を設ける必要がなくなるので、工程の複雑化を避けることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の好ましい実施態様にかかる方法により製造される光ディスク１０を概略的に示す断面図である。
【図２】（ａ）は、本発明の好ましい実施態様にかかる方法を実現するための製造装置２０の主要部分を概略的に示す斜視図であり、（ｂ）は、その略断面図である。
【図３】本発明の好ましい実施態様にかかる光ディスクの製造方法の一工程（搬入工程）を示す図である。
【図４】本発明の好ましい実施態様にかかる光ディスクの製造方法の一工程（成膜基板１０’の載置工程）を示す図である。
【図５】本発明の好ましい実施態様にかかる光ディスクの製造方法の一工程（キャップ４０の載置工程）を示す図である。
【図６】キャップ４０の形状を示す略斜視図である。
【図７】本発明の好ましい実施態様にかかる光ディスクの製造方法の一工程（紫外線硬化性樹脂５０の滴下工程）を示す図である。
【図８】本発明の好ましい実施態様にかかる光ディスクの製造方法の一工程（スピンコート工程）を示す図である。
【図９】本発明の好ましい実施態様にかかる光ディスクの製造方法の一工程（第１の紫外線照射工程）を示す図である。
【図１０】本発明の好ましい実施態様にかかる光ディスクの製造方法の一工程（キャップ４０の除去工程）を示す図である。
【図１１】本発明の好ましい実施態様にかかる光ディスクの製造方法の一工程（第２の紫外線照射工程）を示す図である。
【図１２】本発明の好ましい実施態様にかかる光ディスクの製造方法の一工程（搬出工程）を示す図である。
【図１３】ＣＤ−ＲＯＭの層構成を示す断面図である。
【符号の説明】
１  光透過層
２  記録層
３  保護層
１０  光ディスク
１０’  成膜基板
１１  基板
１２  反射層
１３  記録層
１４  光透過層
１５  孔
１６  円環状の溝
２０  製造装置
２１  ステージ
２２  第１の突出部
２３  第２の突出部
２４  第１の吸気口
２５  第２の吸気口
３１  第１のアーム
３２  第２のアーム
４０  キャップ
４１  傘部
４２  第１の突起
４３  第２の突起
５０  紫外線硬化性樹脂
６０  第１の紫外線マスク
６２  第２の紫外線マスク
６３  孔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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