【手続補正書】
【提出日】平成20年6月24日(2008.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コア部と、該コア部より屈折率が低いクラッド部とを備えるコア層を有する光導波路と、該光導波路の少なくとも一方の面側に設けられた導体層とを有する光導波路構造体であって、
前記コア層は、活性放射線の照射により活性化する物質と、主鎖と該主鎖から分岐し、活性化した前記物質の作用により、分子構造の少なくとも一部が前記主鎖から離脱し得る離脱性基とを有するポリマーとを含む層を形成し、
その後、前記層に対して前記活性放射線を選択的に照射することにより、前記活性放射線が照射された照射領域において、前記物質を活性化させ、前記ポリマーの前記離脱性基を離脱させて、当該照射領域と前記活性放射線の非照射領域との間に屈折率差を生じさせることにより、前記照射領域および前記非照射領域のいずれか一方を前記コア部とし、他方を前記クラッド部として得られたものであり、
前記物質は、前記活性放射線の照射に伴って、カチオンと弱配位アニオンとを生じる化合物を含むものであることを特徴とする光導波路構造体。
【請求項２】
コア部と、該コア部より屈折率が低いクラッド部とを備えるコア層を有する光導波路と、該光導波路の少なくとも一方の面側に設けられた導体層とを有する光導波路構造体であって、
前記コア層は、活性放射線の照射により活性化する物質と、主鎖と該主鎖から分岐し、活性化した前記物質の作用により、分子構造の少なくとも一部が前記主鎖から離脱し得る離脱性基とを有するポリマーとを含む層を形成し、
その後、前記層に対して前記活性放射線を選択的に照射することにより、前記活性放射線が照射された照射領域において、前記物質を活性化させ、前記ポリマーの前記離脱性基を離脱させて、当該照射領域と前記活性放射線の非照射領域との間に屈折率差を生じさせることにより、前記照射領域および前記非照射領域のいずれか一方を前記コア部とし、他方を前記クラッド部として得られたものであり、
前記離脱性基は、その離脱により前記ポリマーの屈折率に低下を生じさせるものであり、−Ｓｉ−ジフェニル構造および−Ｏ−Ｓｉ−ジフェニル構造の少なくとも一方であることを特徴とする光導波路構造体。
【請求項３】
前記コア層は、前記活性放射線の照射の後、前記層に対して加熱処理を施すことにより得られたものである請求項１または２に記載の光導波路構造体。
【請求項４】
前記活性放射線は、２００〜４５０ｎｍの範囲にピーク波長を有するものである請求項１ないし３のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項５】
前記活性放射線の照射量は、０．１〜９Ｊ／ｃｍ２である請求項１ないし４のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項６】
前記活性放射線は、マスクを介して前記層に照射される請求項１ないし５のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項７】
前記層は、さらに、酸化防止剤を含む請求項１ないし６のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項８】
前記層は、さらに、増感剤を含む請求項１ないし７のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項９】
前記離脱性基は、前記カチオンの作用により離脱する酸離脱性基である請求項１ないし８のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項１０】
前記酸離脱性基は、−Ｏ−構造、−Ｓｉ−アリール構造および−Ｏ−Ｓｉ−構造のうちの少なくとも１つを有するものである請求項９に記載の光導波路構造体。
【請求項１１】
前記ポリマーは、ノルボルネン系ポリマーを主とするものである請求項１ないし１０のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項１２】
コア部と、該コア部より屈折率が低いクラッド部とを備えるコア層を有する光導波路と、該光導波路の少なくとも一方の面側に設けられた導体層とを有する光導波路構造体であって、
前記コア層は、主鎖と該主鎖から分岐し、分子構造の少なくとも一部が前記主鎖から離脱し得る離脱性基とを有するノルボルネン系ポリマーを主材料として構成され、
前記コア部と前記クラッド部とは、前記主鎖に結合した状態の前記離脱性基の数が異なることにより、それらの屈折率が異なっていることを特徴とする光導波路構造体。
【請求項１３】
前記ノルボルネン系ポリマーは、付加重合体である請求項１１または１２に記載の光導波路構造体。
【請求項１４】
前記ノルボルネン系ポリマーは、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランの繰り返し単位を含むものである請求項１１ないし１３のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項１５】
前記ノルボルネン系ポリマーは、アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むものである請求項１１ないし１４のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項１６】
前記ノルボルネン系ポリマーは、ヘキシルノルボルネンの繰り返し単位を含むものである請求項１１ないし１５のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項１７】
前記光導波路は、前記コア層の少なくとも一方の面に接触して設けられ、前記コア部より屈折率が低いクラッド層を有する請求項１ないし１６のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項１８】
前記導体層の平均厚さは、前記光導波路の平均厚さの１０〜９０％である請求項１ないし１７のいずれかに記載の光導波路構造体。
【請求項１９】
前記導体層は、乾式メッキ法、湿式メッキ法および導電性を有するシート材の接合のうちの少なくとも１つの方法により形成されたものである請求項１ないし１８のいずれかに記載の光導波路構造体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
このような目的は、下記（１）〜（１９）の本発明により達成される。
（１）  コア部と、該コア部より屈折率が低いクラッド部とを備えるコア層を有する光導波路と、該光導波路の少なくとも一方の面側に設けられた導体層とを有する光導波路構造体であって、
前記コア層は、活性放射線の照射により活性化する物質と、主鎖と該主鎖から分岐し、活性化した前記物質の作用により、分子構造の少なくとも一部が前記主鎖から離脱し得る離脱性基とを有するポリマーとを含む層を形成し、
その後、前記層に対して前記活性放射線を選択的に照射することにより、前記活性放射線が照射された照射領域において、前記物質を活性化させ、前記ポリマーの前記離脱性基を離脱させて、当該照射領域と前記活性放射線の非照射領域との間に屈折率差を生じさせることにより、前記照射領域および前記非照射領域のいずれか一方を前記コア部とし、他方を前記クラッド部として得られたものであり、
前記物質は、前記活性放射線の照射に伴って、カチオンと弱配位アニオンとを生じる化合物を含むものであることを特徴とする光導波路構造体。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（２）  コア部と、該コア部より屈折率が低いクラッド部とを備えるコア層を有する光導波路と、該光導波路の少なくとも一方の面側に設けられた導体層とを有する光導波路構造体であって、
前記コア層は、活性放射線の照射により活性化する物質と、主鎖と該主鎖から分岐し、活性化した前記物質の作用により、分子構造の少なくとも一部が前記主鎖から離脱し得る離脱性基とを有するポリマーとを含む層を形成し、
その後、前記層に対して前記活性放射線を選択的に照射することにより、前記活性放射線が照射された照射領域において、前記物質を活性化させ、前記ポリマーの前記離脱性基を離脱させて、当該照射領域と前記活性放射線の非照射領域との間に屈折率差を生じさせることにより、前記照射領域および前記非照射領域のいずれか一方を前記コア部とし、他方を前記クラッド部として得られたものであり、
前記離脱性基は、その離脱により前記ポリマーの屈折率に低下を生じさせるものであり、−Ｓｉ−ジフェニル構造および−Ｏ−Ｓｉ−ジフェニル構造の少なくとも一方であることを特徴とする光導波路構造体。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
（３）  前記コア層は、前記活性放射線の照射の後、前記層に対して加熱処理を施すことにより得られたものである上記（１）または（２）に記載の光導波路構造体。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
（４）  前記活性放射線は、２００〜４５０ｎｍの範囲にピーク波長を有するものである上記（１）ないし（３）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
（５）  前記活性放射線の照射量は、０．１〜９Ｊ／ｃｍ２である上記（１）ないし（４）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
（６）  前記活性放射線は、マスクを介して前記層に照射される上記（１）ないし（５）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
（７）  前記層は、さらに、酸化防止剤を含む上記（１）ないし（６）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
（８）  前記層は、さらに、増感剤を含む上記（１）ないし（７）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
（９）  前記離脱性基は、前記カチオンの作用により離脱する酸離脱性基である上記（１）ないし（８）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
（１１）  前記ポリマーは、ノルボルネン系ポリマーを主とするものである上記（１）ないし（１０）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
（１２）  コア部と、該コア部より屈折率が低いクラッド部とを備えるコア層を有する光導波路と、該光導波路の少なくとも一方の面側に設けられた導体層とを有する光導波路構造体であって、
前記コア層は、主鎖と該主鎖から分岐し、分子構造の少なくとも一部が前記主鎖から離脱し得る離脱性基とを有するノルボルネン系ポリマーを主材料として構成され、
前記コア部と前記クラッド部とは、前記主鎖に結合した状態の前記離脱性基の数が異なることにより、それらの屈折率が異なっていることを特徴とする光導波路構造体。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
（１３）  前記ノルボルネン系ポリマーは、付加重合体である上記（１１）または（１２）に記載の光導波路構造体。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
（１４）  前記ノルボルネン系ポリマーは、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランの繰り返し単位を含むものである上記（１１）ないし（１３）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
（１５）  前記ノルボルネン系ポリマーは、アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むものである上記（１１）ないし（１４）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
（１６）  前記ノルボルネン系ポリマーは、ヘキシルノルボルネンの繰り返し単位を含むものである上記（１１）ないし（１５）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
（１７）  前記光導波路は、前記コア層の少なくとも一方の面に接触して設けられ、前記コア部より屈折率が低いクラッド層を有する上記（１）ないし（１６）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
（１８）  前記導体層の平均厚さは、前記光導波路の平均厚さの１０〜９０％である上記（１）ないし（１７）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
（１９）  前記導体層は、乾式メッキ法、湿式メッキ法および導電性を有するシート材の接合のうちの少なくとも１つの方法により形成されたものである上記（１）ないし（１８）のいずれかに記載の光導波路構造体。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】