【手続補正書】
【提出日】平成19年12月5日(2007.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定波長を含む第１の物体からの光を第２の物体に結像して、前記第１の物体の像を前記第２の物体上へ投影する投影光学系において、
正の屈折力を有する正レンズ群と、負の屈折力を有する負レンズ群と、凹面反射鏡とを備え、
前記正レンズ群、前記負レンズ群及び前記凹面反射鏡は、前記第１物体からの光が前記正レンズ群及び前記負レンズ群を順に経て前記凹面反射鏡に達し、前記凹面反射鏡にて反射された光が前記負レンズ群及び前記正レンズ群を順に経て前記第２物体へ向かうように配置され、
前記負レンズ群は、第１凹面形状の屈折力面を有する負レンズと、該負レンズと前記凹面反射鏡との間に配置されて第２凹面形状の屈折力面を有するメニスカスレンズとを少なくとも含み、
前記正レンズ群と前記負レンズ群との間に形成される空間の光軸に沿った距離をＤとし、前記負レンズ群における前記負レンズと前記メニスカスレンズとの間に形成される空間の光軸に沿った距離をＬとするとき、以下の関係を満足することを特徴とする投影光学系。
０．０１＜Ｌ／Ｄ＜０．５
【請求項２】
前記正レンズ群は、前記第１物体側から順に、正の屈折力を有する第１の正レンズと、負の屈折力を有する第１の負レンズと、正の屈折力を有する第２の正レンズとを少なくとも有し、
前記光束は、所定の第１波長λ1 と、前記第１波長λ1 よりも短い第２波長λ2 と、前記第２波長λ2 よりも短い第３波長λ3 とを有し、
前記正レンズ群中の前記第１の負レンズの第１波長λ1 に対する屈折率をｎn （λ1 ）、前記正レンズ群中の前記第１の負レンズの第２波長λ2 に対する屈折率をｎn （λ2 ）、前記正レンズ群中の前記第１の負レンズの第３波長λ3 に対する屈折率をｎn （λ3 ）、前記負レンズ群中の前記負レンズの第１波長λ1 に対する屈折率をｎm （λ1 ）、前記負レンズ群中の前記負レンズの第２波長λ2 に対する屈折率をｎm （λ2 ）、前記負レンズ群中の前記負レンズの第３波長λ3 に対する屈折率をｎm （λ3 ）とするとき、以下の関係を満足することを特徴とする請求項１に記載の投影光学系。
νn ＝（ｎn （λ2 ）−１）／（ｎn （λ3 ）−ｎn （λ1 ））
νm ＝（ｎm （λ2 ）−１）／（ｎm （λ3 ）−ｎm （λ1 ））
νm −νn ＞０
【請求項３】
前記光束は、所定の第１波長λ1 と、前記第１波長λ1 よりも短い第２波長λ2 と、前記第２波長λ2 よりも短い第３波長λ3 とを有し、
前記第１波長λ1 に対する前記正レンズ群のぺッツバール和をＰＳP （λ1 ）とし、前記第２波長λ2 に対する前記正レンズ群のぺッツバール和をＰＳP （λ2 ）、前記第３波長λ3 に対する前記正レンズ群のペッツバール和をＰＳP （λ3 ）とするとき、以下の関係を満足することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の投影光学系。
０＜ＰＳP （λ2 ）−ＰＳP （λ1 ）＜０．００００１
０＜ＰＳP （λ3 ）−ＰＳP （λ1 ）＜０．００００１
【請求項４】
前記光束は、所定の第１波長λ1 と、前記第１波長λ1 よりも短い第２波長λ2 と、前記第２波長λ2 よりも短い第３波長λ3 とを有し、
前記第１波長λ1 に対する前記負レンズ群のぺッツバール和をＰＳN （λ1 ）とし、前記第２波長λ2 に対する前記負レンズ群のぺッツバール和をＰＳN （λ2 ）、前記第３波長λ3 に対する前記負レンズ群のペッツバール和をＰＳN （λ3 ）とするとき、以下の関係を満足することを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか一項に記載の投影光学系。
０＜ＰＳN （λ1 ）−ＰＳN （λ2 ）＜０．００００１
０＜ＰＳN （λ1 ）−ＰＳN （λ3 ）＜０．００００１
【請求項５】
前記光束として広帯域の紫外レーザ光を前記第１物体上の所定の領域へ導く照明工程と、
請求項７に記載の投影光学系を用いて前記第１物体上の前記所定の領域内の像を前記第２物体上へ形成する投影工程を含むことを光加工方法。
【請求項６】
前記光束を前記第１物体としてのマスクへ導く照明工程と、
請求項１乃至請求項４の何れか一項に記載の投影光学系とを用いて前記マスクのパターン像を前記第２物体としての感光性基板へ形成する投影工程とを含むことを露光方法。
【請求項７】
前記光束を前記第１物体としてのマスクへ導く照明光学系と、請求項１乃至請求項４の何れか一項記載の投影光学系とを備え、
該投影光学系により前記マスクのパターン像を前記第２物体としての感光性基板へ形成することを特徴とする投影光学装置。
【請求項８】
所定のパターンが形成されたマスクを照明する照明光学系と、前記マスクからの光を結像して前記マスクパターンの像を感光性基板に投影する投影光学系とを備え、前記投影光学系に対して前記マスクと前記感光性基板とを相対的に移動させることにより前記マスクのパターンを前記感光性基板に露光する走査型露光装置において、
前記投影光学系は、前記第１の物体からの光を集光して１次像を形成する第１反射屈折光学系と、前記１次像からの光を集光して２次像を形成する第２反射屈折光学系とを含み、
前記第１反射屈折光学系は、正の屈折力を有する第１の正レンズ群と、負の屈折力を有する第１の負レンズ群と、第１の凹面反射鏡とを含み、
前記第１の正レンズ群、前記第１の負レンズ群及び前記第１の凹面反射鏡は、前記マスクからの光が前記第１の正レンズ群及び前記第１の負レンズ群を順に経て第１の凹面反射鏡に達し、前記第１の凹面反射鏡にて反射された光が前記第１の負レンズ群及び前記第１の正レンズ群を順に経て前記１次像を形成するようにそれぞれ配置され、
前記第２反射屈折光学系は、正の屈折力を有する第２の正レンズ群と、負の屈折力を有する第２の負レンズ群と、第２の凹面反射鏡と含み、
前記第２の正レンズ群、前記第２の負レンズ群及び前記第２の凹面反射鏡は、前記１次像からの光が前記第２の正レンズ群及び前記第２の負レンズ群を順に経て第２の凹面反射鏡に達し、前記第２の凹面反射鏡にて反射された光が前記第２の負レンズ群及び前記第２の正レンズ群を順に経て前記２次像を形成するようにそれぞれ配置され、
前記第１の負レンズ群は、負の屈折力を有する第１のメニスカスレンズと、前記第１メニスカスレンズと前記第１の凹面反射鏡との間に配置された第２のメニスカスレンズとを有し、
前記第２の負レンズ群は、負の屈折力を有する第３のメニスカスレンズと、前記第３メニスカスレンズと前記第２の凹面反射鏡との間に配置された第４のメニスカスレンズとを有し、
前記第１の正レンズ群と前記第１の負レンズ群との間に形成される空間の光軸に沿った距離をＤ1 とし、前記第２の正レンズ群と前記第２の負レンズ群との間に形成される空間の光軸に沿った距離をＤ2 、前記第１メニスカスレンズと第２メニスカスレンズとの間に形成される空間の光軸に沿った距離をＬ1 、前記第３メニスカスレンズと第４メニスカスレンズとの間に形成される空間の光軸に沿った距離をＬ2 とするとき、以下の関係を満足することを特徴とする走査型露光装置。
０．０１＜Ｌ1 ／Ｄ1 ＜０．５
０．０１＜Ｌ2 ／Ｄ2 ＜０．５
【請求項９】
前記第１の正レンズ群は、前記マスク側から順に、正の屈折力を有する第１の正レンズと、負の屈折力を有する第１の負レンズと、正の屈折力を有する第２の正レンズとを少なくとも有し、
前記第２の正レンズ群は、前記１次像側から順に、正の屈折力を有する第３の正レンズと、負の屈折力を有する第２の負レンズと、正の屈折力を有する第４の正レンズとを少なくとも有し、
前記光は、所定の第１波長λ1 と、前記第１波長λ1 よりも短い第２波長λ2 と、前記第２波長λ2 よりも短い第３波長λ3 とを有し、
前記第１の正レンズ群中の前記第１の負レンズの第１波長λ1 に対する屈折率をｎn1（λ1 ）、前記第１の正レンズ群中の前記第１の負レンズの第２波長λ2 に対する屈折率をｎn1（λ2 ）、前記第１の正レンズ群中の前記第１の負レンズの第３波長λ3 に対する屈折率をｎn1（λ3 ）、前記第１の負レンズ群中の前記第１メニスカスレンズの第１波長λ1 に対する屈折率をｎm1（λ1 ）、前記第１の負レンズ群中の前記第１メニスカスレンズの第２波長λ2 に対する屈折率をｎm1（λ2 ）、前記第１の負レンズ群中の前記第１メニスカスレンズの第３波長λ3 に対する屈折率をｎm1（λ3 ）、前記第２の正レンズ群中の前記第２の負レンズの第１波長λ1 に対する屈折率をｎn2（λ1 ）、前記第２の正レンズ群中の前記第２の負レンズの第２波長λ2 に対する屈折率をｎn2（λ2 ）、前記第２の正レンズ群中の前記第２の負レンズの第３波長λ3 に対する屈折率をｎn2（λ3 ）、前記第２の負レンズ群中の前記第３メニスカスレンズの第１波長λ1 に対する屈折率をｎm3（λ1 ）、前記第２の負レンズ群中の前記第３メニスカスレンズの第２波長λ2 に対する屈折率をｎm3（λ2 ）、前記第２の負レンズ群中の前記第３メニスカスレンズの第３波長λ3 に対する屈折率をｎm3（λ3 ）とするとき、以下の関係を満足することを特徴とする請求項８に記載の走査型露光装置。
νn1＝（ｎn1（λ2 ）−１）／（ｎn1（λ3 ）−ｎn1（λ1 ））
νm1＝（ｎm1（λ2 ）−１）／（ｎm1（λ3 ）−ｎm1（λ1 ））
νm1−νn1＞０
νn2＝（ｎn2（λ2 ）−１）／（ｎn2（λ3 ）−ｎn2（λ1 ））
νm3＝（ｎm3（λ2 ）−１）／（ｎm3（λ3 ）−ｎm3（λ1 ））
νm3−νn2＞０
【請求項１０】
前記光は、所定の第１波長λ1 と、前記第１波長λ1 よりも短い第２波長λ2 と、前記第２波長λ2 よりも短い第３波長λ3 とを有し、
前記第１波長λ1 に対する前記第１の正レンズ群のぺッツバール和をＰＳP1（λ1 ）とし、前記第２波長λ2 に対する前記第１の正レンズ群のぺッツバール和をＰＳP1（λ2 ）、前記第３波長λ3 に対する前記第１の正レンズ群のペッツバール和をＰＳP1（λ3 ）、前記第１波長λ1 に対する前記第２の正レンズ群のぺッツバール和をＰＳP2（λ1 ）とし、前記第２波長λ2 に対する前記第２の正レンズ群のぺッツバール和をＰＳP2（λ2 ）、前記第３波長λ3 に対する前記第２の正レンズ群のペッツバール和をＰＳP2（λ3 ）とするとき、以下の関係を満足することを特徴とする請求項８又は請求項９に記載の走査型露光装置。
０＜ＰＳP1（λ2 ）−ＰＳP1（λ1 ）＜０．００００１
０＜ＰＳP1（λ3 ）−ＰＳP1（λ1 ）＜０．００００１
０＜ＰＳP2（λ2 ）−ＰＳP2（λ1 ）＜０．００００１
０＜ＰＳP2（λ3 ）−ＰＳP2（λ1 ）＜０．００００１
【請求項１１】
前記光は、所定の第１波長λ1 と、前記第１波長λ1 よりも短い第２波長λ2 と、前記第２波長λ2 よりも短い第３波長λ3 とを有し、
前記第１波長λ1 に対する前記第１の負レンズ群のぺッツバール和をＰＳN1（λ1 ）とし、前記第２波長λ2 に対する前記第１の負レンズ群のぺッツバール和をＰＳN1（λ2 ）、前記第３波長λ3 に対する前記第１の負レンズ群のペッツバール和をＰＳN1（λ3 ）、前記第１波長λ1 に対する前記第２の負レンズ群のぺッツバール和をＰＳN2（λ1 ）とし、前記第２波長λ2 に対する前記第２の負レンズ群のぺッツバール和をＰＳN2（λ2 ）、前記第３波長λ3 に対する前記第２の負レンズ群のペッツバール和をＰＳN2（λ3 ）とするとき、以下の関係を満足することを特徴とする請求項８乃至請求項１０の何れか一項に記載の走査型露光装置。
０＜ＰＳN1（λ1 ）−ＰＳN1（λ2 ）＜０．００００１
０＜ＰＳN1（λ1 ）−ＰＳN1（λ3 ）＜０．００００１
０＜ＰＳN2（λ1 ）−ＰＳN2（λ2 ）＜０．００００１
０＜ＰＳN2（λ1 ）−ＰＳN2（λ3 ）＜０．００００１
【請求項１２】
請求項８乃至請求項１１の何れか一項に記載の走査型露光装置を用いてデバイスを製造するための露光方法において、
前記照明光学系を用いて前記マスクを照明する照明工程と、
前記投影光学系を用いて前記マスクのパターン像を前記感光性基板へ形成する投影工程と、
前記投影光学系に対して前記マスクと前記感光性基板とを相対的に移動させる走査工程とを含むことを特徴とする露光方法。
【請求項１３】
第１の物体からの光を第２の物体に結像して、前記第１の物体の像を前記第２の物体上へ投影する投影光学系において、
正の屈折力を有する正レンズ群と、負の屈折力を有する負レンズ群と、凹面反射鏡とを備え、
前記正レンズ群、前記負レンズ群及び前記凹面反射鏡は、前記第１物体からの光が前記正レンズ群及び前記負レンズ群を順に経て前記凹面反射鏡に達し、前記凹面反射鏡にて反射された光が前記負レンズ群及び前記正レンズ群を順に経て前記第２物体へ向かうように、かつ前記第１及び第２物体側がテレセントリックとなるように位置決めされ、
前記正レンズ群は、螢石からなり正の屈折力を有するレンズと、合成石英からなり負の屈折力を有するレンズとを少なくとも含み、
前記負レンズ群は、螢石からなり負屈折力を有するレンズを含むことを特徴とする投影光学系。
【請求項１４】
前記負レンズ群は、凹面形状を有する第１凹屈折面と、該第１凹屈折面側に凹面を向けた形状の第２凹屈折面を有することを特徴とする請求項１３記載の投影光学系。
【請求項１５】
前記負レンズ群は、前記第１凹屈折面を有しかつ負の屈折力を有する第１負レンズと、該第１負レンズと前記凹面反射鏡との間に配置されて前記第２凹屈折面を有する第１メニスカスレンズとを備えることを特徴とする請求項１４記載の投影光学系。
【請求項１６】
第１の物体からの光を第２の物体に結像して、前記第１の物体の像を第２の物体上へ投影する投影光学系において、
正の屈折力を有する第１正レンズ群と、負の屈折力を有する第１負レンズ群と、第１凹面反射鏡とを備える第１結像光学系と、
正の屈折力を有する第２正レンズ群と、負の屈折力を有する第２負レンズ群と、第２凹面反射鏡とを備える第２結像光学系とを備え、
前記第１及び第２結像光学系は、前記第１物体からの光が前記第１正レンズ群及び前記第１負レンズ群を順に経て前記第１凹面反射鏡に達し、前記第１凹面反射鏡にて反射された光が前記第１負レンズ群及び第１正レンズ群を順に経て１次像を形成し、該１次像からの光が前記第２正レンズ群及び前記第２負レンズ群を順に経て前記第２凹面反射鏡に達し、前記第２凹面反射鏡にて反射された光が前記第２負レンズ群及び第２正レンズ群を順に経て前記第２物体上に２次像を形成するように、かつ前記第１及び第２物体側がテレセントリックとなるように位置決めされ、
前記第１及び第２正レンズ群は、螢石からなり正の屈折力を有するレンズと、合成石英からなり負の屈折力を有するレンズとを少なくとも含み、
前記第１及び第２負レンズ群は、螢石からなり負屈折力を有するレンズを含むことを特徴とする投影光学系。
【請求項１７】
広帯域の紫外レーザ光を供給するレーザ光源と、
該レーザ光源からの光を前記第１物体上の所定の領域へ導く照明光学系と、
請求項１３乃至１６の何れか一項記載の投影光学系とを備え、
該投影光学系により前記第１物体上の前記所定の領域内の像を前記第２物体上へ形成することを特徴とする投影光学装置。
【請求項１８】
広帯域の紫外レーザ光を前記第１物体上の所定の領域へ導く照明工程と、
請求項１３乃至１６の何れか一項記載の投影光学系とを用いて前記第１物体上の前記所定の領域内の像を前記第２物体上へ形成する投影工程とを有することを光加工方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するために、本発明の１つの態様にかかる投影光学系は、例えば図１に示す如く、第１の物体からの光を第２の物体に結像して、前記第１の物体(10)の像を前記第２の物体(30)上へ投影する投影光学系であって、
正の屈折力を有する正レンズ群(G1P) と、負の屈折力を有する負レンズ群(G1N) と、凹面反射鏡(M1)とを備え、
前記正レンズ群、前記負レンズ群及び前記凹面反射鏡は、前記第１物体からの光が前記正レンズ群及び前記負レンズ群を順に経て前記凹面反射鏡に達し、前記凹面反射鏡にて反射された光が前記負レンズ群及び正レンズ群を順に経て前記第２物体へ向かうように、かつ前記第１及び第２物体側がテレセントリックとなるように位置決めされ、
前記正レンズ群は、螢石からなり正の屈折力を有するレンズと、合成石英からなり負の屈折力を有するレンズとを少なくとも含み、
前記負レンズ群は、螢石からなり負屈折力を有するレンズを含むものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、上述の目的を達成するために、本発明の別の態様にかかる投影光学系は、例えば図１に示す通り、第１の物体からの光を第２の物体に結像して、前記第１の物体(10)の像を前記第２の物体(30)上へ投影する投影光学系であって、
正の屈折力を有する第１正レンズ群(G1P) と、負の屈折力を有する第１負レンズ群(G1N) と、第１凹面反射鏡(M1)とを備える第１結像光学系(S1)と、
正の屈折力を有する第２正レンズ群(G2P) と、負の屈折力を有する第２負レンズ群(G2N) と、第２凹面反射鏡(M2)とを備える第２結像光学系(S2)とを備え、
前記第１及び第２結像光学系は、前記第１物体からの光が前記第１正レンズ群及び前記第１負レンズ群を順に経て前記第１凹面反射鏡に達し、前記第１凹面反射鏡にて反射された光が前記第１負レンズ群及び第１正レンズ群を順に経て１次像を形成し、該１次像からの光が前記第２正レンズ群及び前記第２負レンズ群を順に経て前記第２凹面反射鏡に達し、前記第２凹面反射鏡にて反射された光が前記第２負レンズ群及び第２正レンズ群を順に経て前記第２物体上に２次像を形成するように、かつ前記第１及び第２物体側がテレセントリックとなるように位置決めされ、
前記第１及び第２正レンズ群は、螢石からなり正の屈折力を有するレンズと、合成石英からなり負の屈折力を有するレンズとを少なくとも含み、
前記第１及び第２負レンズ群は、螢石からなり負屈折力を有するレンズを含むものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
ところで、本発明は、以上に記載した各態様に限ることなく、以下に示すような各種態様としても良い。
上記の目的を達成するために、本発明のさらに別の態様にかかる投影光学系は、例えば、図１及び図１１に示す如く、所定波長を含む第１の物体(10)からの光を第２の物体(30)に結像して、前記第１の物体(10)の像を前記第２の物体(30)上へ投影する投影光学系であって、
正の屈折力を有する正レンズ群(G1P,G2P) と、負の屈折力を有する負レンズ群(G1N,G2N) と、凹面反射鏡(M1,M2) とを備え、
前記正レンズ群、前記負レンズ群及び前記凹面反射鏡は、前記第１物体からの光が前記正レンズ群及び前記負レンズ群を順に経て前記凹面反射鏡に達し、前記凹面反射鏡にて反射された光が前記負レンズ群及び前記正レンズ群を順に経て前記第２物体へ向かうように配置され、
前記負レンズ群(GN1,GN2) は、凹面形状の屈折力面を有する負レンズ(L1N1,L2N1) と、該負レンズ(L1N1,L2N1) と前記凹面反射鏡（M1,M2)との間に配置されたメニスカスレンズ(L1N2,L2N2) とを少なくとも含み、
前記正レンズ群と前記負レンズ群との間の光軸に沿った距離をＤとし、前記第１メニスカスレンズと第２メニスカスレンズとの間の光軸に沿った距離をＬとするとき、以下の関係を満足するように構成したものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、以上の各態様及び好ましい態様における投影光学系と、前記光束を前記第１物体としてのマスクへ導く照明光学系とを露光装置に設ければ、該投影光学系により前記マスクのパターン像を前記第２物体としての感光性基板へ形成することができ、良好なるデバイスを製造することができる。
さらに、上記の目的を達成するために、さらにまた別の態様にかかる走査型露光装置は、例えば図１１に示す如く、所定のパターンが形成されたマスク(10)を照明する照明光学系(41)と、前記マスク(10)からの光を結像して前記マスクパターンの像を感光性基板(30)に投影する投影光学系とを備え、前記投影光学系に対して前記マスクと前記感光性基板とを相対的に移動させることにより前記マスクのパターンを前記感光性基板に露光するものであって、
前記投影光学系は、前記第１の物体からの光を集光して１次像を形成する第１反射屈折光学系(K1)と、前記１次像からの光を集光して２次像を形成する第２反射屈折光学系(K2)とを含み、
前記第１反射屈折光学系(K1)は、正の屈折力を有する第１の正レンズ群(G1P) と、負の屈折力を有する第１の負レンズ群(G1N) と、第１の凹面反射鏡(M1)とを含み、
前記第１の正レンズ群、前記第１の負レンズ群及び前記第１の凹面反射鏡は、前記マスクからの光が前記第１の正レンズ群及び前記第１の負レンズ群を順に経て第１の凹面反射鏡に達し、前記第１の凹面反射鏡にて反射された光が前記第１の負レンズ群及び前記第１の正レンズ群を順に経て前記１次像を形成するようにそれぞれ配置され、
前記第２反射屈折光学系(K2)は、正の屈折力を有する第２の正レンズ群(G2P) と、負の屈折力を有する第２の負レンズ群(G2N) と、第２の凹面反射鏡(M2)と含み、
前記第２の正レンズ群、前記第２の負レンズ群及び前記第２の凹面反射鏡は、前記１次像からの光が前記第２の正レンズ群及び前記第２の負レンズ群を順に経て第２の凹面反射鏡に達し、前記第２の凹面反射鏡にて反射された光が前記第２の負レンズ群及び前記第２の正レンズ群を順に経て前記２次像を形成するようにそれぞれ配置され、
前記第１の負レンズ群は、負の屈折力を有する第１のメニスカスレンズ(L1N1)と、前記第１のメニスカスレンズ(L1N1)と前記第１の凹面反射鏡(M1)の間に配置された第２のメニスカスレンズ(L1N2)とを有し、
前記第２の負レンズ群は、負の屈折力を有する第３のメニスカスレンズ(L2N1)と、前記第３のメニスカスレンズ(L2N1)と前記第２の凹面反射鏡(M2)の間に配置された第４のメニスカスレンズ(L2N2)とを有し、
前記第１の正レンズ群と前記第１の負レンズ群との間の光軸に沿った距離をＤ1 とし、前記第２の正レンズ群と前記第２の負レンズ群との間の光軸に沿った距離をＤ2 、前記第１メニスカスレンズと第２メニスカスレンズとの間の光軸に沿った距離をＬ1 、前記第３メニスカスレンズと第４メニスカスレンズとの間の光軸に沿った距離をＬ2 とするとき、以下の関係を満足するように構成したものである。