Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月2日(2008.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方の面に複数の凹部が配列して形成された平板状部材からなる装置本体と、この装置本体の複数の凹部内にそれぞれ取り付けられた複数の流体取扱部とからなり、これらの流体取扱部の各々が、流体を注入するための注入部と、この注入部の底部の開口部から導入された流体を連続的に下方に流動させる流動部と、この流動部内の流体が導入される流体収容室と、前記流動部の底部に到達した流体を前記流体収容室に導入する流路とを備え、前記流動部が壁部を介して前記流体収容室を取り囲むように配置され、前記流動部内に導入された流体が前記流動部内で接触する表面の面積を増大させる表面積増大部材が前記流動部内に配置されていることを特徴とする、流体取扱装置。
【請求項２】
各々に複数の凹部が所定の間隔で一列に配置して形成されて枠体上に互いに略平行に配置された複数の支持体からなる装置本体と、この装置本体の各々の支持体の複数の凹部内にそれぞれ取り付けられた複数の流体取付部とからなり、これらの流体取扱部の各々が、流体を注入するための注入部と、この注入部の底部の開口部から導入された流体を連続的に下方に流動させる流動部と、この流動部内の流体が導入される流体収容室と、前記流動部の底部に到達した流体を前記流体収容室に導入する流路とを備え、前記流動部が壁部を介して前記流体収容室を取り囲むように配置され、前記流動部内に導入された流体が前記流動部内で接触する表面の面積を増大させる表面積増大部材が前記流動部内に配置されていることを特徴とする、流体取扱装置。
【請求項３】
前記流路が、前記流動部の底部に到達した流体を前記流体収容部の底部から前記流体収容室内に導入することを特徴とする、請求項１または２に記載の流体取扱装置。
【請求項４】
前記表面積増大部材が、鉛直方向に積層された複数の板状体からなり、これらの板状体の間に間隙が形成され、前記流動部内に導入された流体がそれぞれの板状体の上面に沿って流動することを特徴とする、請求項１乃至３のいずれかに記載の流体取扱装置。
【請求項５】
前記表面積増大部材が、前記流動部内に充填された多数の微小粒状物であることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれかに記載の流体取扱装置。
【請求項６】
前記複数の凹部の各々が円柱形の凹部であり、前記流動部が、前記複数の凹部の各々に挿入された外側円筒状部材とこの外側円筒状部材内に挿入された内側円筒状部材との間に形成され、前記流体収容室が、前記内側円筒状部材内に形成され、前記注入部が、前記外側円筒状部材の上に配置された上側円筒状部材と前記内側円筒状部材との間に形成され、前記表面積増大部材が、前記流動部内に充填された多数の微小粒状物であることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれかに記載の流体取扱装置。
【請求項７】
前記表面積増大部材が、前記流動部内に配置された吸水性部材であることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれかに記載の流体取扱装置。
【請求項８】
前記複数の凹部の各々が円柱形の凹部であり、前記流動部が、前記複数の凹部の各々に挿入された外側円筒状部材とこの外側円筒状部材内に挿入された内側円筒状部材との間に形成され、前記流体収容室が、前記内側円筒状部材内に形成され、前記注入部が、前記表面積増大部材として前記流動部内に配置された吸水性部材の上に形成されていることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれかに記載の流体取扱装置。
【請求項９】
流体を注入するための注入部と、この注入部の底部の開口部から導入された流体を連続的に下方に流動させる流動部と、この流動部に壁部を介して取り囲まれるように形成されて前記流動部内の流体が導入される流体収容室と、前記流動部の底部に到達した流体を前記流体収容室に導入する流路とを備え、前記流動部内に導入された流体が前記流動部内で接触する表面の面積を増大させる表面積増大部材が前記流動部内に配置されていることを特徴とする、流体取扱ユニット。
【請求項１０】
複数の凹部が所定の間隔で一列に配置して形成された支持体と、この支持体の複数の凹部内にそれぞれ取り付けられた複数の流体取扱部とからなり、これらの流体取扱部の各々が、流体を注入するための注入部と、この注入部の底部の開口部から導入された流体を連続的に下方に流動させる流動部と、この流動部に壁部を介して取り囲まれるように形成されて前記流動部内の流体が導入される流体収容室と、前記流動部の底部に到達した流体を前記流体収容室に導入する流路とを備え、前記流動部内に導入された流体が前記流動部内で接触する表面の面積を増大させる表面積増大部材が前記流動部内に配置されていることを特徴とする、流体取扱ユニット。
【請求項１１】
前記流路が、前記流動部の底部に到達した流体を前記流体収容部の底部から前記流体収容室内に導入することを特徴とする、請求項９または１０に記載の流体取扱ユニット。
【請求項１２】
前記流動部が、底部を備えた外側円筒状部材とこの外側円筒状部材内に挿入された内側円筒状部材との間に形成され、前記流体収容室が、前記内側円筒状部材内に形成され、前記注入部が、前記外側円筒状部材の上側に配置された上側円筒状部材と前記内側円筒状部材との間に形成されていることを特徴とする、請求項９乃至１１のいずれかに記載の流体取扱ユニット。
【請求項１３】
前記表面積増大部材が、鉛直方向に積層された複数の板状体からなり、これらの板状体の間に間隙が形成され、前記流動部内に導入された流体がそれぞれの板状体の上面に沿って流動することを特徴とする、請求項９乃至１２のいずれかに記載の流体取扱ユニット。
【請求項１４】
前記表面積増大部材が、前記流動部内に充填された多数の微小粒状物であることを特徴とする、請求項９乃至１２のいずれかに記載の流体取扱ユニット。
【請求項１５】
前記表面積増大部材が、前記流動部内に配置された吸水性部材であることを特徴とする、請求項９乃至１２のいずれかに記載の流体取扱ユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
円筒部３２０は、図２５に示すように、取付用凹部３１４（大径凹部３１４ａと小径凹部３１４ｂ）の深さと略同一の長さを有するとともに、取付用凹部３１４の小径凹部３１４ｂの内径と略同一の外径を有し、取付用凹部３１４の小径凹部３１４ｂに嵌合するようになっている（なお、円筒部３２０の内径は、例えば、２．５ｍｍ程度にすることができる）。また、円筒部３２０の外周面には、その長さの半分程度の長さ（円筒部３２０を取付用凹部３１４の小径凹部３１４ｂに嵌合させたときに上端が大径凹部３１４ａの底面より高くなる長さ）で数μｍ〜１ｍｍ、好ましくは５０μｍ程度の幅の１つまたは複数（本実施の形態では４つであり、図２５では２つのみを示す）のスリット部３２０ａが長手方向に沿って下端部まで延びるように円筒部３２０を貫通して形成されている。このスリット部３２０ａの幅および深さは、円筒部３２０の材質に対する流体の濡れ性を考慮して毛細管現象により流体を流動させることができるように設定するのが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月1日(2008.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
内燃機関の吸気ポート内に燃料を噴射するポートインジェクタと、
前記内燃機関の筒内に燃料を噴射する筒内インジェクタと、
前記筒内から前記吸気ポートへの吸気の吹き返し中に含まれる燃料の量を所定のパラメータに基づいて推定する吹き返し燃料量推定手段と、
前記吹き返し燃料量推定手段により推定された量に基づいて、吹き返しによる誤差を補正するための吹き返し補正分を算入して、前記ポートインジェクタから噴射するポート噴射量と前記筒内インジェクタから噴射する筒内噴射量とを算出する噴射量算出手段と、
を備え、
前記所定のパラメータは、前記ポートインジェクタと前記筒内インジェクタとの噴射割合を含み、
前記吹き返し燃料量推定手段は、前記筒内インジェクタの噴射割合が大きい場合には小さい場合に比べて吹き返し燃料量を少なく推定することを特徴とする内燃機関の制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
内燃機関の吸気ポート内に燃料を噴射するポートインジェクタと、
前記内燃機関の筒内に燃料を噴射する筒内インジェクタと、
前記筒内から前記吸気ポートへの吸気の吹き返し中に含まれる燃料の量を所定のパラメータに基づいて推定する吹き返し燃料量推定手段と、
前記吹き返し燃料量推定手段により推定された量に基づいて、吹き返しによる誤差を補正するための吹き返し補正分を算入して、前記ポートインジェクタから噴射するポート噴射量と前記筒内インジェクタから噴射する筒内噴射量とを算出する噴射量算出手段と、
を備え、
前記所定のパラメータは、前記筒内インジェクタの噴射開始時期を含み、
前記吹き返し燃料量推定手段は、前記筒内インジェクタの噴射開始時期が遅い場合には早い場合に比べて吹き返し燃料量を少なく推定することを特徴とする内燃機関の制御装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
第１の発明は、上記の目的を達成するため、内燃機関の制御装置であって、
内燃機関の吸気ポート内に燃料を噴射するポートインジェクタと、
前記内燃機関の筒内に燃料を噴射する筒内インジェクタと、
前記筒内から前記吸気ポートへの吸気の吹き返し中に含まれる燃料の量を所定のパラメータに基づいて推定する吹き返し燃料量推定手段と、
前記吹き返し燃料量推定手段により推定された量に基づいて、吹き返しによる誤差を補正するための吹き返し補正分を算入して、前記ポートインジェクタから噴射するポート噴射量と前記筒内インジェクタから噴射する筒内噴射量とを算出する噴射量算出手段と、
を備え、
前記所定のパラメータは、前記ポートインジェクタと前記筒内インジェクタとの噴射割合を含み、
前記吹き返し燃料量推定手段は、前記筒内インジェクタの噴射割合が大きい場合には小さい場合に比べて吹き返し燃料量を少なく推定することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、第２の発明は、上記の目的を達成するため、内燃機関の制御装置であって、
内燃機関の吸気ポート内に燃料を噴射するポートインジェクタと、
前記内燃機関の筒内に燃料を噴射する筒内インジェクタと、
前記筒内から前記吸気ポートへの吸気の吹き返し中に含まれる燃料の量を所定のパラメータに基づいて推定する吹き返し燃料量推定手段と、
前記吹き返し燃料量推定手段により推定された量に基づいて、吹き返しによる誤差を補正するための吹き返し補正分を算入して、前記ポートインジェクタから噴射するポート噴射量と前記筒内インジェクタから噴射する筒内噴射量とを算出する噴射量算出手段と、
を備え、
前記所定のパラメータは、前記筒内インジェクタの噴射開始時期を含み、
前記吹き返し燃料量推定手段は、前記筒内インジェクタの噴射開始時期が遅い場合には早い場合に比べて吹き返し燃料量を少なく推定することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月22日(2008.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
従って、ガソリンよりも沸点の低い低沸点の液体燃料を単独で、又はガソリンと混合して混合液体燃料として使用した場合、連通管(１)の内容積に対する連通管(１)内の液体燃料の体積の割合の低下を抑制することが可能となる。また、ガソリンを単独で使用した場合にも、連通管(１)内においてガソリンを迅速に流通させることが可能となる。そのため、エンジン始動時において、連通管(１)からエンジンの吸気管又は気筒に液体燃料を迅速且つ円滑に供給可能とし、応答性を良好なものとしている。尚、本発明では液体燃料通路(３)の断面積を２ｍｍ2以上としている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
そして、このようにソケット（７）を接続した連通管（１）において、上記の如く液体燃料通路(３)の連通口(１０)の形成位置に対応する位置の内径を、他の位置の内径よりも大径なものとなるよう拡径して膨出部(２０)を形成することにより、液体燃料通路(３)からソケット(７)の燃料導入口(１２)への液体燃料の流路を十分に確保することができるため、液体燃料を液体燃料通路(３)からソケット(７)の燃料導入口(１２)への液体燃料の流通を効率よく行うことができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
また、上記実施例４では側方平坦部(４)を連通管(１)の一側に形成配置するとともに、側方平坦部（４）の突出方向とは垂直方向にソケット(７)を接続しているが、本発明の実施例６では、図１０に示す如く、連通管(１)の一側に側方平坦部(４)を形成して、この側方平坦部(４)を液体燃料通路(３)の上方に鉛直方向に配置し、この側方平坦部(４)の配置側とは反対側の位置の壁面(６)にソケット(７)を接続している。また、液体燃料通路(３)の側方平坦部(４)の配置側とは反対側の位置に連通口(１０)を開口し、この連通口(１０)にソケット(７)を接続固定している。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月29日(2008.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
防音構造を有する防音箱と、該防音箱内に設けられ吸込フィルタから空気を吸込んで圧縮し圧縮空気を吐出する圧縮機本体と、前記防音箱内に設けられ該圧縮機本体を駆動する駆動源と、前記防音箱内に設けられ前記圧縮空気を貯えるタンクとを備えてなるパッケージ型圧縮機において、
前記防音箱には外部から吸込まれる空気を用いて前記圧縮機本体を冷却し冷却後の空気を前記防音箱の外部に排出する冷却ダクトを設け、
前記防音箱には外部から吸込まれる空気を前記駆動源及び前記タンクに沿って流通させた後に排出する冷却風通路を形成する構成としたことを特徴とするパッケージ型圧縮機。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月2日(2008.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
尚、図６のように、圧電振動子６上に固定化されるトラッパー１１に対して、測定対象物１０と、測定対象物類似物１２ｃと磁性粒子１２ａが結合してなる標識体１２とが競合的に反応するような場合には、圧電振動子６上には、トラッパー―測定対象物からなる複合体及びトラッパー−標識体（測定対象物類似物を含有)からなる複合体が形成される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
上部カバー７１は流路２２部分がくり抜かれたものであって、センサー基板２４の上に載置され、両者の間に出来る隙間を流路２２として用いるようになっている。そして、本例では、図１３及び図１４に示すように、流路２２部分が長く確保されており、流路２２の一方の側には、試料添加部位Ａとして機能する試料保持メンブレン８１と、この試料保持メンブレン８１に隣接して標識体保持部位Ｂとして機能する標識体保持メンブレン８２が挟み込まれている。更に、上部カバー７１の試料添加部位Ａ付近には、ピペット等で試料溶液を添加するための開口部７５が設けられており、本例では、この開口部７５は補助的な試料容器としても機能する。また、流路２２のもう一方の側には、検出部位Ｃの下流側に吸収用メンブレン８３が挟み込まれており、吸収部位Ｄとして機能するようになっている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
図２２はリファレンス型２チャンネル水晶振動子２５０のテスト水晶振動子２５１とリファレンス水晶振動子２５２のセンサー膜を示した図である。テスト水晶振動子２５１として機能するテスト電極Ｔ（表)には複合体を捕獲するためのテスト抗体２６１が担持されて、一方、リファレンス水晶振動子２５２として機能するリファレンス電極Ｒ（表)には、複合体を捕獲しないようなセンサー膜２６２、例えば、非特異吸着を防ぐ効果のあるＢＳＡ（牛血清アルブミン)を担持しておく。リファレンス型２チャンネル水晶振動子２５０は、リファレンス水晶振動子２５２とテスト水晶振動子２５１が同一の水晶基板上に形成されているので、それぞれの振動領域が受けるドリフトの影響も共通の要素が大きく、ドリフト除去能力に優れている。
このように、２つの個別の水晶振動子を用いる代わりにリファレンス型２チャンネル水晶振動子２５０を用いた場合の例で、２つの個別水晶振動子を用いる場合に比較してドリフト除去能力に優れているため、さらに高い精度と検出限界が必要な場合に適している。
また、リファレンス型２チャンネル水晶振動子２５０を２つ用いて、複数の目的物質を検出する構成も可能である。例えば第１のリファレンス型２チャンネル水晶振動子２５０でＡ型インフルエンザウイルスを検出し、第２のリファレンス型２チャンネル水晶振動子２５０でＢ型インフルエンザウイルスを検出することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１８】
2007040717.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月31日(2008.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
先端部および上記先端部と一体の弾性変形部を有し、上記弾性変形部が、上記先端部に加えられる軸方向の押圧力によって変形して上記先端部を所定の第１の方向に動かす第１変形部と、上記第１変形部の変形以上の押圧力によって変形して上記第１の方向とは逆方向の第２の方向に上記先端部を動かす第２変形部とを備えたことを特徴とするプローブ
【請求項２】
第１変形部が、第１の支点と、上記第１の支点を支点として回動する第１のアーム部と、上記第１のアーム部の回動を所定量で停止させる停止部とを備えたことを特徴とする請求項１に記載のプローブ。
【請求項３】
先端部と、先端部の一端から延びる第1のアーム部と、上記第1のアーム部が有する第1の支点で折れ曲がり、第1のアーム部とは逆方向に延びる第２のアーム部と、上記第２のアーム部が有する第２の支点で折れ曲がり、上記第２のアーム部と逆方向に伸びる第３のアーム部とを備えたプローブであって、上記第３のアーム部は上記第２のアーム部よりも太いことを特徴とするプローブ。
【請求項４】
先端部と、先端部の一端から延びる第1のアーム部と、上記第1のアーム部が有する第1の支点で折れ曲がり、第1のアーム部とは逆方向に延びる第２のアーム部と、上記第２のアーム部が有する第２の支点で折れ曲がり、上記第２のアーム部と逆方向に伸びる第３のアーム部とを備えたプローブであって、上記第１の支点は上記第１のアーム部よりも細く、かつ上記第２の支点は上記第２のアーム部よりも細いことを特徴とするプローブ。
【請求項５】
先端部と、先端部と一体化され１つの切り欠きを有する多角形状の第1変形部と、上記第1変形部と一体化され１つの切り欠きを有する多角形状の第２変形部と、上記第２変形部と一体化され基板に取り付けられる支持部とを備えたことを特徴とするプローブ。
【請求項６】
先端部と、先端部の一端から延びる第1のアーム部と、上記第1のアーム部が有する第1の支点で折れ曲がり、第1のアーム部とは逆方向に延びる第２のアーム部と、上記第２のアーム部が有する第２の支点で折れ曲がり、上記第２のアーム部と逆方向に伸びる第３のアーム部と、上記第３のアーム部が有する第３の支点で折れ曲がり、上記第３のアーム部と逆方向に伸びる第４のアーム部と、上記第４のアーム部の端部に設けられた支持部とを備えたプローブであって、上記第１のアーム部と上記第２のアーム部と上記第３のアーム部と上記支持部は、上記アーム部の回動を所定量で停止させる突出した停止部を備えていることを特徴とするプローブ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
プローブ１は、先端部８と、先端部８と一体の弾性変形部１７を有しており、弾性変形部１７は、先端部８に加えられる軸方向の押圧力によって変形して先端部８を所定の第１の方向に動かす第１変形部１１と、第１変形部１１の変形以上の押圧力によって変形して第１の方向とは逆方向の第２の方向に先端部８を動かす第２変形部１２とを備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
初めにプローブ１が押圧されて電極と接触し、接触した状態からさらにオーバードライブを行うと、まず第１変形部１１が変形を行う。この変形は図４に示す矢印ａのような第１の支点６を中心とした回転変形であり、先端部８はこの回転変形により電極１０の表面を図４の矢印１８の方向へと移動し、電極に対してスクラブを行う。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
第１変形部１１の変形が終了し、さらにオーバードライブを行うと、第２変形部１２の変形が始まる。第２変形部１２の変形は、図４の矢印ｂのような第２の支点７を中心とした回転変形であり、先端部８はこの回転変形により、上述の移動方向とは反対の矢印１９の方向へと移動し、スクラブ動作を行う。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
本実施形態のプローブ１が押圧され電極に接触し、さらにオーバードライブを行うことにより、まず第１変形部１１が変形する。この変形は図５に示す矢印ａのような第１の支点６を中心とした回転変形であり、先端部８はこの回転変形により電極１０の表面を図５の矢印１８の方向へと移動し、最初のスクラブ動作を行う。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
第１変形部１１の変形が終了後さらにオーバードライブを行うと、第２変形部１２の変形が始まる。第２変形部１２の変形は、図５の矢印ｂのような第２の支点７を中心とした回転変形であり、先端部８はこの回転変形により、上述の移動方向とは反対の矢印１９の方向へと電極の表面を移動し次のスクラブ動作を行う。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
上述の実施形態では、ここまででスクラブ動作は終了していたが、本実施形態では、  第２変形部１２の変形が終わってもさらにオーバードライブを行うと、第３変形部１４の変形が始まる。第３変形部１４の変形は、図５の矢印ｃのような第３の支点１６を中心とした回転変形であり、先端部８はこの回転変形により、上述の移動方向とは反対の最初の移動方向と同じ矢印２０の方向へと再び電極の表面を移動し、さらにスクラブ動作を行う。
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2007040743.tif 000001
【図２】
2007040743.tif 000002
【図３】
2007040743.tif 000003
【図４】
2007040743.tif 000004
【図５】
2007040743.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月29日(2008.2.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
また、上述のように容器内に貯蔵された極低温流体である液体水素の残量を求めるさまざまな技術も提案されており、極低温流体の液面を計測することによりその残量を求める技術も知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開２００２−１４７６９４号公報
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月1日(2008.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の内径を有する細管と、前記細管内を落下する液滴の速度を前記液滴の落下速度が一定である位置で計測する計測手段と、前記計測手段の測定値、前記液滴の密度および前記細管内の気体の粘性係数に基づいて前記液滴の液滴量を算出する演算手段と、を備えたことを特徴とする液滴量測定装置。
【請求項２】
前記細管の少なくとも一部が導電性を有することを特徴とする請求項１に記載の液滴量測定装置。
【請求項３】
前記細管が液滴径の５〜５０００倍の内径を有することを特徴とする請求項１または２に記載の液滴量測定装置。
【請求項４】
前記細管の一端が封止されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の液滴量測定装置。
【請求項５】
前記細管内に局所電界を付与するための電界印加手段を有することを特徴とする請求項２ないし４のいずれかに記載の液滴量測定装置。
【請求項６】
所定の内径を有する細管内を落下する液滴の速度を前記液滴の落下速度が一定である位置において計測手段によって計測し、前記速度、前記液滴の密度および前記細管内の気体の粘性係数に基づいて前記液滴の液滴量を算出することを特徴とする液滴量測定方法。
【請求項７】
前記液滴が吐出するタイミング周期にあわせて、前記液滴の落下方向に対して直交する方向に局所電界を付与し、液滴落下位置を制御することを特徴とする請求項６に記載の液滴量測定方法。
【請求項８】
請求項６または７に記載の液滴量測定方法によって吐出量を調整する工程を有することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明の液適量測定装置は、所定の内径を有する細管と、前記細管内を落下する液滴の速度を前記液滴の落下速度が一定である位置で計測する計測手段と、前記計測手段の測定値、前記液滴の密度および前記細管内の気体の粘性係数に基づいて前記液滴の液滴量を算出する演算手段と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月7日(2008.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
この油圧感知器５９は、図１６に示すように、感知器本体６４内の基部（図示上部）にインナーシリンダ６５を螺入し、このインナーシリンダ６５内に摺動可能にピストン６６を嵌挿させてある。ピストン６６は基端側に開口するバネホルダ６７に内装されたスプリング６８に当接させ、基端側に付勢させてある。ピストン６６の両端はロッドに形成し、基端側のロッド６６ａの端面はインナーシリンダ６５と感知器本体６４の細孔を通して下部油室の作動油に接触しており、先端側のロッド６６ｂはその先端がバネホルダ６７を貫いて僅かに外部に突出するようにしてある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図１に基づいて、本発明に係る稼動回数表示器搭載油圧シリンダが用いられる概略の油圧回路を説明する。１は稼動回数表示器搭載油圧シリンダであり、金型などの負荷２を連結している。３は電動機４によって駆動される油ポンプである。５はリリーフ弁であり、油圧が設定圧力を超えると弁が開いて油タンク８に油を逃がすことにより負荷２にかかる力の上限を設定している。６は流量弁であり、油圧シリンダに１に供給する油量を設定している。７は方向切換弁であり、油ポンプ３による油圧シリンダ１への油の供給と油圧シリンダ１から油タンク８への油の還りとを切り替えて負荷２を稼動するのであり、油圧シリンダのピストンを挟んでシリンダの両端部に接続した油配管９，９を油ポンプ３の出口と油タンク８とに交互に切り替えるようにしている。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月27日(2008.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記ステアリングシャフト２は、車両の後端側に設けるアウターシャフト１７と、同じく前端側に設けるインナーシャフト１８とを、回転力の伝達を可能に組み合わせて成る。このうちのインナーシャフト１８は、車両の後端側に設ける第一のインナーシャフト２２と、前端側に設ける第二のインナーシャフト２３とを、トーションバー２４（図２８）により連結している。又、上記ステアリングコラム１５の前端部を、車体１９の一部に支持したギヤハウジング２１の後端面に結合固定している。上記インナーシャフト１８の前端部をこのギヤハウジング２１に挿通させると共に、このギヤハウジング２１の前端面から突出させている。そしてこのインナーシャフト１８のこの前端面から突出させた前端部に、自在継手７、７、中間シャフト８を介して、ステアリングギヤ９の入力軸１０を、動力の伝達を可能に結合している。この入力軸１０にはピニオン１１（図２６参照）を固定しており、このピニオン１１をラック１２（図２６参照）と噛合させている。従って、上記ステアリングシャフト２の回転に伴い、上記ラック１２を介してタイロッド１３、１３が押し引きされ、操舵輪１４（図２６参照）に所望の舵角が付与される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
次に、図１０は、請求項１、４、５、９に対応する、本発明の実施例６を示している。本実施例の場合には、上述した各実施例の場合と異なり、スペーサリング６１、６１ａ〜６１ｄ（図１等参照）の代わりに、合成ゴムにより全体を円環状に形成したリング状部材である、Ｏリング７１を使用している。即ち、本実施例の場合には、電動モータ２８の回転軸２９の円柱部５７の外周面で、雄スプライン部４７の基端寄り部分（図１０の左端寄り部分）に凹溝７２を、全周に亙り形成すると共に、この凹溝７２に上記Ｏリング７１を係止している。そして、ウォーム軸２７に形成した雌スプライン部４８と回転軸２９に形成した雄スプライン部４７とに、弾性歯付リング４９ａをスプライン係合させた状態で、この弾性歯付リング４９ａの軸方向一端面（図１０の左端面）の内径寄り部分を、上記凹溝７２の基端側（図１０の左端側）壁面に、上記Ｏリング７１を介して軸方向に対向させている。又、上記弾性歯付リング４９ａの軸方向一端面を、上記凹溝７２の先端側（図１０の右端側）壁面と軸方向に関してほぼ同位置に位置させている。又、上記Ｏリング７１の自由状態での軸方向寸法を、上記凹溝７２の１対の壁面同士の幅Ｗ72とほぼ同じ大きさとしている。この構成により、上記弾性歯付リング４９ａが上記回転軸２９の基端側（図１０の左側）に変位する事が規制される。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月29日(2007.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理室内に設置したガラス基板上に形成された半導体膜を、パルス状に点滅する光源によって加熱処理する半導体装置の作製方法であって、
前記加熱処理は、前記処理室内に冷媒を供給することによって前記ガラス基板を冷却しながら行い、
前記冷媒の供給量を、前記光源の点滅と同期させて増減することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
処理室内に設置したガラス基板上に形成された半導体膜を、パルス状に点滅する光源によって加熱処理する半導体装置の作製方法であって、
前記加熱処理は、前記処理室内に冷媒を供給することによって前記ガラス基板を冷却しながら行い、
前記冷媒の供給量を、前記光源の点滅と同期させて増減し、
前記供給された冷媒を、前記処理室内から排気し、精製し、前記処理室内に供給することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記ガラス基板は、面積が６００ｍｍ×７２０ｍｍ以上で、かつ厚さが０．４〜１．１ｍｍであり、
前記ガラス基板の面方向を鉛直方向に向けて設置し、前記加熱処理を行うことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記冷媒は、窒素、ヘリウム、アルゴン、クリプトン、またはキセノンから選ばれた一つであることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記冷媒は液体であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
前記光源は、ハロゲンランプ、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、高圧ナトリウムランプ、またはキセノンランプから選ばれた一つであることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月28日(2007.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面上に形成された結晶質半導体膜と、
前記結晶質半導体膜上に形成された絶縁膜と、
前記絶縁膜を間に挟んで前記結晶質半導体膜と一部重なり、互いに間隔をあけて配置された第１の信号線及び第２の信号線とを有し、
前記第１の信号線と前記第２の信号線は互いに金属配線で電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記第１の信号線及び前記第２の信号線はゲート信号線であることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記第１の信号線は、駆動回路の薄膜トランジスタのゲート電極と電気的に接続しており、
前記第２の信号線は、画素の薄膜トランジスタのゲート電極と電気的に接続していることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
前記結晶質半導体膜と、前記絶縁膜と、前記第１の信号線と、前記第２の信号線とを有する保護回路を具備し、
前記保護回路は、駆動回路と画素との間に設けられ、駆動回路の薄膜トランジスタのゲート電極と電気的に接続しており、
前記保護回路は、前記画素のコンタクトホール形成で発生した静電気から前記画素と前記駆動回路とを保護することを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至３のいずれか一において、
前記結晶質半導体膜と、前記絶縁膜と、前記第１の信号線と、前記第２の信号線とを有する第１の保護回路を具備し、
前記第１の保護回路は、第２の保護回路と画素との間に設けられ、前記画素の薄膜トランジスタのゲート電極と電気的に接続しており、
前記第１の保護回路は、前記画素のコンタクトホール形成で発生した静電気から前記画素と前記第２の保護回路とを保護することを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一において、
前記結晶質半導体膜はｎ型またはｐ型を付与する不純物元素を含んでいることを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
絶縁表面上に結晶質半導体膜を形成し、
前記結晶質半導体膜上に絶縁膜を形成し、
前記絶縁膜上に導電膜を形成し、
前記導電膜をパターニングして第１及び第２の信号線を形成し、
前記第１及び第２の信号線を覆う層間絶縁膜を形成し、
前記層間絶縁膜にコンタクトホールを形成し、
前記第１の信号線と前記第２の信号線とを電気的に接続する金属配線を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項７において、
前記第１の信号線及び前記第２の信号線はゲート信号線であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
請求項７または８において、
前記結晶質半導体膜はｎ型またはｐ型を付与する不純物元素を含んでいることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
プリチャージ回路の第１の信号線をプリチャージ回路の第２の信号線と間隔をあけて配置し、第１の信号線端にコンタクト部を設けたプリチャージ回路を有することを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月30日(2007.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
四角形状の主面を有するヒートスプレッダと、
複数のパッド電極が形成された面を有し、前記ヒートスプレッダの主面に搭載された半導体チップと、
前記半導体チップの周囲に設けられ、前記ヒートスプレッダの各辺に沿って固定された複数のインナーリードと、
前記ヒートスプレッダの角部にそれぞれ位置し、前記複数のインナーリードの間にそれぞれ設けられた複数の吊りリードと、
前記半導体チップの前記複数のパッド電極と前記複数のインナーリードとをそれぞれ電気的に接続する複数のボンディングワイヤと、
前記半導体チップ、前記複数のインナーリード、前記複数の吊りリード及び前記複数のボンディングワイヤを封止する封止体と、
前記複数のインナーリードとそれぞれ一体に形成され、前記封止体から露出する複数のアウターリードとを含み、
前記複数の吊りリードのそれぞれは、前記ヒートスプレッダに固定されていないことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記複数のインナーリードのうち、前記吊りリードと隣接するインナーリードの一部の幅は、他のインナーリードの幅よりも太く形成されていることを特徴とする請求項１記載の半導体装置。
【請求項３】
前記ヒートスプレッダの角部において隣接するインナーリードの間隙は、前記ヒートスプレッダの各辺において隣接するインナーリードの間隙と均一であることを特徴とする請求項１記載の半導体装置。
【請求項４】
前記吊りリードにおいて、前記吊りリードの一部の幅は、前記吊りリードの他の部分の幅よりも太く形成されていることを特徴とする請求項１記載の半導体装置。
【請求項５】
前記吊りリードにおいて、太く形成されている部分には、貫通孔が形成されていることを特徴とする請求項４記載の半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月9日(2008.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置及びその作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子と、
前記発光素子と電気的に接続された薄膜トランジスタと、
Ｐ型半導体層とＮ型半導体層と光電変換層とを有する光電変換素子と、を有し、
前記光電変換層は、前記Ｐ型半導体層と前記Ｎ型半導体層との間に設けられていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
発光素子と、
前記発光素子と電気的に接続された薄膜トランジスタと、
Ｐ型半導体層とＮ型半導体層と光電変換層とを有する光電変換素子と、を有し、
前記光電変換層は、前記Ｐ型半導体層と前記Ｎ型半導体層との間に設けられており、
前記薄膜トランジスタの半導体層、前記Ｐ型半導体層、前記Ｎ型半導体層、及び前記光電変換層は、同一の絶縁表面上に設けられていることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記薄膜トランジスタは、前記半導体層と、前記半導体層上に設けられた絶縁膜と、前記絶縁膜上に設けられたゲート電極とを有し、
前記前記Ｐ型半導体層及び前記Ｎ型半導体層は、前記絶縁膜下に設けられており、
前記光電変換層は、前記ゲート絶縁膜上に設けられているとともに、前記絶縁膜に形成された開口部を介して前記Ｐ型半導体層上及び前記Ｎ型半導体層上の一部に接するように設けられていることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
薄膜トランジスタ上及び前記光電変換素子上には、層間絶縁膜が設けられており、
前記層間絶縁膜上の前記光電変換層と重なる位置には、金属膜が設けられていることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記光電変換層の膜厚は、前記Ｐ型半導体層及び前記Ｎ型半導体層の膜厚よりも厚いことを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記光電変換層は、非晶質半導体により形成されており、
前記薄膜トランジスタの前記半導体層、前記Ｐ型半導体層、及び前記Ｎ型半導体層は、結晶性半導体により形成されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
絶縁表面上に、第１乃至第４の半導体層を形成し、
前記第１乃至第４の半導体層上に、絶縁膜を形成し、
前記絶縁膜上の前記第１半導体層と重なる位置に第１のゲート電極を形成するとともに、前記絶縁膜上の前記第２半導体層と重なる位置に第２のゲート電極を形成し、
前記第１の半導体層の一部及び前記第３の半導体層に、導電型を付与する第１の不純物元素を選択的に添加し、
前記第２の半導体層の一部及び前記第４の半導体層に、前記第１の不純物元素と逆の導電型を付与する第２の不純物元素を選択的に添加し、
前記第３及び第４の半導体層の一部が露出するように、前記絶縁膜に開口部を形成し、
前記絶縁膜上に、前記開口部を介して前記第３及び第４の半導体層の一部に接する第５の半導体層を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項７において、
前記第１及び第２のゲート電極上並びに前記第５の半導体層上に、層間絶縁膜を形成し、
前記層間絶縁膜にコンタクトホールを形成し、
前記層間絶縁膜上及び前記コンタクトホール内に配線を形成すると同時に、前記層間絶縁膜上の前記第５の半導体層と重なる位置に金属膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
請求項７又は請求項８において、
前記第５の半導体層の膜厚は、前記第３及び前記第４の半導体層の膜厚よりも厚くなるように形成されていることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月17日(2008.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  クロック駆動される変調器を含むディジタル増幅器であって、
分周されたクロックの複数期間を計数することでクロックの活動性をモニターし、
クロック異常が検出された場合はエラーを示すパラメータを記憶することを特徴とするディジタル増幅器。
【請求項２】  請求項１記載のディジタル増幅器であって、さらに複数のクロックを含み、第１のクロックが第２のクロックを計数するために使われることを特徴とするディジタル増幅器。
【請求項３】  請求項２記載のディジタル増幅器であって、分周した前記第２のクロックの複数期間が計数されることを特徴とするディジタル増幅器。
【請求項４】  請求項２記載のディジタル増幅器であって、クロックエラーが検出された場合は出力させないようにすることを特徴とするディジタル増幅器。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月6日(2008.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】移動無線電気通信システムにおける基地局と隣接基地局とを同期化させる方法、移動無線電気通信システムの基地局及び移動無線電気通信システム
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  移動無線電気通信システムにおける基地局と隣接基地局とを同期化させる方法であって、
前記隣接基地局が、前記基地局により送信された、第１の多相系列と前記第１の多相系列に続く第２の多相系列とからなる同期信号を受信するステップと、
前記隣接基地局が、前記受信された同期信号に基づいて前記基地局と同期させる手順を実行するステップと
を備え、
前記第２の多相系列は、前記第１の多相系列と相補的であり、前記第１の多相系列の周期的延長部と前記第２の多相系列の周期的延長部の少なくとも１つにより前記第１の多相系列に接続され、
前記第１の多相系列の周期的延長部は、前記第１の多相系列の一部の複製であり、前記第２の多相系列の周期的延長部は、前記第２の多相系列の一部の複製である
ことを特徴とする方法。
【請求項２】  前記第１の多相系列は第１のゴレイ系列からなり、前記第２の多相系列は前記第１のゴレイ系列と相補的である第２のゴレイ系列からなる、請求項１に記載の移動無線電機通信システムにおける基地局と隣接基地局とを同期化させる方法。
【請求項３】  第１の多相系列と前記第１の多相系列に続く第２の多相系列でなる同期信号を受信する受信部と、
前記受信された同期信号に基づいて隣接する基地局と同期化させるための相関手順を実行する相関部と
を備え、
前記第２の多相系列は、前記第１の多相系列に相補的であり、前記第１の多相系列の周期的延長部と前記第２の多相系列の周期的延長部の少なくとも１つにより前記第１の多相系列に接続され、
前記第１の多相系列の周期的延長部は、前記第１の多相系列の一部の複製であり、前記第２の多相系列の周期的延長部は、前記第２の多相系列の一部の複製である
移動無線電気通信システムの基地局。
【請求項４】  前記第１の多相系列は第１のゴレイ系列からなり、前記第２の多相系列は前記第１のゴレイ系列と相補的である第２のゴレイ系列からなる、請求項３に記載の移動無線電気通信システムの基地局。
【請求項５】  第１の多相系列と前記第１の多相系列に続く第２の多相系列とでなる同期信号を送信する基地局と、
前記受信された同期信号に基づいて前記基地局と同期化させる手順を実行する前記基地局と隣接する基地局と
を備え、
前記第２の多相系列は、前記第１の多相系列に相補的であり、前記第１の多相系列の周期的延長部と前記第２の多相系列の周期的延長部の少なくとも１つにより前記第１の多相系列に接続され、
前記第１の多相系列の周期的延長部は、前記第１の多相系列の一部の複製であり、前記第２の多相系列の周期的延長部は、前記第２の多相系列の一部の複製である
移動無線電気通信システム。
【請求項６】  前記第１の多相系列は第１のゴレイ系列からなり、前記第２の多相系列は前記第１のゴレイ系列と相補的である第２のゴレイ系列からなる、請求項５に記載の移動無線電気通信システム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月27日(2007.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  核酸の3'末端に結合できるドナー領域と、ドナー領域に結合した、ポリエチレングリコールを主成分としたPEG領域と、PEG領域に結合した、ペプチド転移反応によってペプチドと結合し得る基を含むペプチドアクセプター領域とを含むスペーサー分子。
【請求項２】  ペプチドアクセプター領域が、ピューロマイシンもしくはその誘導体、又は、ピューロマイシンもしくはその誘導体と1残基もしくは２残基のデオキシリボヌクレオチドもしくはリボヌクレオチドからなる請求項１に記載のスペーサー分子。
【請求項３】  ドナー領域とPEG領域との間に、少なくとも１つの機能付与ユニットを含む請求項１又は２に記載のスペーサー分子。
【請求項４】  機能付与ユニットが、少なくとも1残基のデオキシリボヌクレオチド又はリボヌクレオチドの塩基に機能修飾を施したものである請求項３に記載のスペーサー分子。
【請求項５】  転写プロモーターおよび翻訳エンハンサーを含む5'非翻訳領域と、5'非翻訳領域の3'側に結合した、タンパク質をコードするORF領域と、ORF領域の3'側に結合した、ポリA配列を含む3'末端領域を含む核酸であるコード分子。
【請求項６】  転写プロモーターがSP6のRNAポリメラーゼのプロモーターである請求項５記載のコード分子。
【請求項７】  翻訳エンハンサーがタバコモザイクウイルスのTMVオメガ配列の一部(O29)である請求項５又は６に記載のコード分子。
【請求項８】  ORF領域の下流部分に親和性タグ配列を含む請求項５〜７のいずれか１項に記載のコード分子。
【請求項９】  親和性タグ配列が、抗原抗体反応によるアフィニティー分離分析用タグであるFlag-tag配列である請求項８記載のコード分子。
【請求項１０】  転写プロモーターおよび翻訳エンハンサーを含む5'非翻訳領域と、5'非翻訳領域の3'側に結合した、タンパク質をコードするORF領域と、ORF領域の3'側に結合した、ポリA配列を含む3'末端領域を含む核酸であるコード分子の3'末端と、請求項１〜４のいずれか１項に記載のスペーサー分子のドナー領域とが結合してなる遺伝子型分子。
【請求項１１】  転写プロモーターがSP6のRNAポリメラーゼのプロモーターである請求項１０記載の遺伝子型分子。
【請求項１２】  翻訳エンハンサーがタバコモザイクウイルスのTMVオメガ配列の一部(O29)である請求項１０又は１１に記載の遺伝子型分子。
【請求項１３】  3'末端領域が、制限酵素XhoIが認識する配列をポリA配列の5'側に含む請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の遺伝子型分子。
【請求項１４】  ORF領域の下流部分に親和性タグ配列を含む請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の遺伝子型分子。
【請求項１５】  親和性タグ配列が、抗原抗体反応によるアフィニティー分離分析用タグであるFlag-tag配列である請求項１４記載の遺伝子型分子。
【請求項１６】  (a)転写プロモーターおよび翻訳エンハンサーを含む5'非翻訳領域と、5'非翻訳領域の3'側に結合した、タンパク質をコードするORF領域と、ORF領域の3'側に結合した、ポリA配列を含む3'末端領域を含むRNAであるコード分子の3'末端と、(b)請求項１〜４のいずれか１項に記載のスペーサー分子のドナー領域とを、遊離のポリエチレングリコールの存在下で、RNAリガーゼにより結合させることを含む、遺伝子型分子の製造方法。
【請求項１７】  請求項１０〜１５のいずれか１項に記載の遺伝子型分子を、ペプチド転移反応で、遺伝子型分子内のORF領域によりコードされたタンパク質である表現型分子と連結してなる対応付け分子。
【請求項１８】  請求項１０〜１５のいずれか１項に記載の遺伝子型分子を無細胞翻訳系で翻訳することにより、ペプチド転移反応で、遺伝子型分子内のORF領域によりコードされたタンパク質である表現型分子と連結することを含む、対応付け分子の製造方法。
【請求項１９】  無細胞翻訳系が小麦胚芽の無細胞翻訳系である請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】  無細胞翻訳系がウサギ網状赤血球の無細胞翻訳系である請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】  複数の、請求項１７に記載の対応付け分子からなるライブラリーであって、少なくとも一部の対応付け分子のコード部のORF領域が異なる配列を有しているライブラリーを用いて、対応付け分子のデコード部と目的物質との相互作用を測定し、相互作用のある対応付け分子のコード部の塩基配列を検出することを含む、目的物質に作用するタンパク質をコードする塩基配列のスクリーニング方法。
【請求項２２】  (1)複数の、請求項１７に記載の対応付け分子からなるライブラリーであって、少なくとも一部の対応付け分子のコード部のORF領域が異なる配列を有しているライブラリーを用いて、対応付け分子のデコード部と目的物質との相互作用を測定し、(2)相互作用のある対応付け分子のコード部の塩基配列を検出し、(3)該塩基配列に変異を導入することにより得られるデコード部を有する対応付け分子を含むライブラリーを調製し、(1)から(3)の工程を繰り返すことを含む、目的物質に作用するタンパク質をコードする塩基配列のスクリーニング方法。
【請求項２３】  請求項１７に記載の対応付け分子を少なくとも１０3以上含むライブラリー。
【請求項２４】  請求項２３に記載のライブラリーを用いて、対応付け分子のデコード部と目的物質との相互作用を測定し、相互作用のある対応付け分子のコード部の塩基配列を検出することを含む、目的物質に作用するタンパク質をコードする塩基配列のスクリーニング方法。
【請求項２５】  (1)請求項２３に記載のライブラリーを用いて、対応付け分子のデコード部と目的物質との相互作用を測定し、(2)相互作用のある対応付け分子のコード部の塩基配列を検出し、(3)該塩基配列に変異を導入することにより得られるデコード部を有する対応付け分子を含むライブラリーを調製し、(1)から(3)の工程を繰り返すことを含む、目的物質に作用するタンパク質をコードする塩基配列のスクリーニング方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月11日(2008.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子部品が配置された基板の面と反対の面に、溶融したはんだ材料を１次噴流および２次噴流として順次接触させることを含む、はんだ付け方法であって、
９０〜１５０℃の温度に加熱された前記基板を１次噴流と接触させ、
前記基板の温度を２００℃以上に維持し、
前記基板が２次噴流を離れた時から前記基板を冷却し、１０秒後の時点において前記基板の温度を１２０〜１８０℃とする
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記基板が２次噴流を離れた時点においては、前記基板の温度が２５０〜２５５℃である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
はんだ材料を用いて電子部品を基板に実装するフローはんだ付け装置であって、上面に電子部品が配置された基板の下面に、溶融したはんだ材料を１次噴流および２次噴流として順次接触させることによって、基板にはんだ材料を供給するはんだ材料供給手段を備え、基板と接触する１次噴流と２次噴流との間の距離が６０ｍｍ以下であることを特徴とする装置。
【請求項４】
１次噴流と２次噴流との間に滞留するドロスをドロス含有物として、１次噴流と２次噴流との間から機械的に排出する排出手段を備える、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
ドロス含有物からはんだ材料を少なくとも部分的に分離するために、１次噴流と２次噴流との間から排出されたドロス含有物に植物性油脂を含む材料を添加する手段を更に備える、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
はんだ材料が、Ｓｎ−Ｃｕ系材料、Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系材料、Ｓｎ−Ａｇ系材料、Ｓｎ−Ａｇ−Ｂｉ系材料、およびＳｎ−Ａｇ−Ｂｉ−Ｃｕ系材料からなる群から選択される鉛フリーはんだ材料である、請求項１または２に記載の方法。
【請求項７】
はんだ材料が、Ｓｎ−Ｃｕ系材料、Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系材料、Ｓｎ−Ａｇ系材料、Ｓｎ−Ａｇ−Ｂｉ系材料、およびＳｎ−Ａｇ−Ｂｉ−Ｃｕ系材料からなる群から選択される鉛フリーはんだ材料である、請求項３〜５のいずれかに記載の装置。