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【手続補正書】
【提出日】平成19年11月19日(2007.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のリードが形成された表面を有する実装基板と、
複数のバンプが形成された主面を有し、前記主面と前記実装基板の表面が対向するように、前記複数のバンプを前記複数のリードにそれぞれ接続して前記実装基板上に搭載された半導体チップと、
を含み、
前記複数のバンプは、前記半導体チップのチップ端側に配置された複数の第１バンプと、前記半導体チップのチップ中心側に配置された複数の第２バンプとが、前記チップ端に沿って交互に配置されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記実装基板は、ＣＯＧ基板、ＰＣＢ基板またはＣＯＦテープから構成されることを特徴とする請求項１記載の半導体装置。
【請求項３】
前記複数のバンプのそれぞれの平面形状は長方形から成り、
前記第１バンプの短辺の長さは、前記第２バンプの短辺の長さより短いことを特徴とする請求項１記載の半導体装置。
【請求項４】
前記複数のリードのそれぞれの表面には、錫がメッキされており、
前記複数のバンプは、前記錫を介して前記複数のリードにそれぞれ電気的に接続されていることを特徴とする請求項１記載の半導体装置。
【請求項５】
前記複数のバンプのそれぞれの平面形状は長方形から成り、
前記リードは、前記バンプの短辺と平面的に重なる第１部分と、他の第２部分とを有し、
前記第１部分の幅は、前記第２部分の幅よりも太いことを特徴とする請求項４記載の半導体装置。
【請求項６】
前記複数のリードのそれぞれには、突起部が形成されており、
前記バンプは、前記リードの前記突起部に接続されていることを特徴とする請求項４記載の半導体装置。
【請求項７】
前記リードの延在方向において、前記突起部の長さが前記バンプの長さより長いことを特徴とする請求項６記載の半導体装置。
【請求項８】
前記複数のバンプのそれぞれの平面形状は長方形から成り、
前記複数のバンプは、導電性粒子を介して前記複数のリードにそれぞれ電気的に接続されていることを特徴とする請求項１記載の半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月3日(2008.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウエハスケール・パッケージ用のリッドを形成するための方法であって、
基板内に空洞を形成し、
前記ウエハ上における前記空洞上と前記空洞の周囲のボンディング領域上とに酸化物層を形成し、
前記酸化物層上に反射層を形成し、
前記反射層上に障壁層を形成し、
前記障壁層の一部分をエッチングして、前記ボンディング領域の上の前記反射層の一部分を露出させ、及び、
前記反射層の一部分の上にはんだ層を形成する
ことを含む、方法。
【請求項２】
前記基板内に空洞を形成することが、前記基板を異方性エッチングして前記空洞を形成することを含み、
ウエハ上面からずらして配向された第１の結晶平面を、前記基板が含んでいることにより、前記空洞が、前記ウエハ上面に対する垂線から４５°に配向された第２の結晶平面に沿った面を含むことからなる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記反射層を形成することが、金属スタック層を形成することを含み、及び、
前記障壁層を形成することが、前記金属スタック層上に金属酸化物層を熱蒸着させることを含むことからなる、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
（ａ）前記金属スタック層が、チタン層と、該チタン層上に設けられたプラチナ層と、該プラチナ層上に設けられた金層とを含み、
（ｂ）前記金属酸化物層が、二酸化チタン層を含み、及び、
（ｃ）前記はんだ層が、金錫はんだを含むことからなる、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記障壁層の一部分をエッチングすることが、
フォトレジスト層を前記障壁層上にパターニングして、前記反射層の一部分上にウィンドウを形成し、
前記ウィンドウにより露出された前記障壁層の一部分をエッチングし、及び、
前記反射層の一部分上に前記はんだ層を形成することの後か又は前に、前記フォトレジスト層を剥離する
ことを含むことからなる、請求項１乃至４の何れか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記障壁層が、窒化物、ホウ化物、フッ化物、フルオロカーボン、及びポリイミドを含むグループから選択されたもので構成されていることからなる、請求項１乃至５の何れかに記載の方法。
【請求項７】
ウエハスケール・パッケージ用のリッドであって、
本体によって画定された空洞の周囲にあるボンディング領域を含む該本体と、
前記ボンディング領域と前記空洞との上にある酸化物層と、
前記酸化物層上にある反射層と、
前記空洞内における前記反射層の一部分の上に設けられた障壁層と、
前記ボンディング領域上の前記反射層の別の一部分の上に設けられたはんだ層
とを備える、リッド。
【請求項８】
第１の結晶平面に沿った表面を、前記空洞が含み、
前記本体の上面からずらして配向された第２の結晶平面を、前記本体が含み、従って、前記第１の結晶平面に沿った表面が、前記上面から４５°に配向されていることからなる、請求項７に記載のリッド。
【請求項９】
チタンとプラチナと金とを含む金属スタックを、前記反射層が含み、
二酸化チタン層を、前記障壁層が含み、及び、
金錫はんだを、前記はんだ層が含むことからなる、請求項７又は８に記載のリッド。
【請求項１０】
前記障壁層が、窒化物、ホウ化物、フッ化物、フルオロカーボン、及びポリイミドを含むグループから選択されたもので構成されていることからなる、請求項７乃至９の何れか１項に記載のリッド。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月9日(2008.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陰極と、
前記陰極上に形成された電子輸送層と、
前記電子輸送層上に形成された発光物質を含む発光層と、
前記発光層上に形成された陽極と、
を有する発光素子において、
前記電子輸送層は、前記陰極に近い第１の領域と、前記発光層に近い第２の領域を有し、
前記第１の領域は多環縮合環を有する物質が含まれており、
前記第２の領域には前記多環縮合環を有する物質が含まれていないことを特徴とする発光素子。
【請求項２】
陽極と、
前記陽極上に形成された発光物質を含む発光層と、
前記発光層上に形成された電子輸送層と、
前記電子輸送層上に形成された陰極と、
を有する発光素子において、
前記電子輸送層は、前記陰極に近い第１の領域と、前記発光層に近い第２の領域を有し、
前記第１の領域は多環縮合環を有する物質が含まれており、
前記第２の領域には前記多環縮合環を有する物質が含まれていないことを特徴とする発光素子。
【請求項３】
電極間に少なくとも電子輸送層と発光物質を含む発光層とを有する発光素子であって、
前記電子輸送層は、第１の領域と第２の領域とを有し、
前記発光層と前記第１の領域の間に前記第２の領域が形成され、
前記第１の領域は多環縮合環を有する物質が含まれており、
前記第２の領域には前記多環縮合環を有する物質が含まれていないことを特徴とする発光素子。
【請求項４】
電極間に少なくとも電子輸送層と発光物質を含む発光層とを有する発光素子であって、
前記電子輸送層は、第１の領域と第２の領域とを有し、
前記発光層と前記第１の領域との間に前記第２の領域が形成され、
前記第１の領域の多環縮合環を有する物質の濃度は前記第２の領域よりも高いことを特徴とする発光素子。
【請求項５】
電極間に少なくとも電子輸送層と発光物質を含む発光層とを有する発光素子であって、
前記電子輸送層は、第１の領域と第２の領域とを有し、
前記発光層と前記第１の領域との間に前記第２の領域が形成され、
前記第１の領域は選択的に多環縮合環を有する物質が添加されていることを特徴とする発光素子。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、前記第１の領域と前記第２の領域は同じ電子輸送性の材料が含まれていることを特徴とする発光素子。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、前記第１の領域、前記第２の領域及び前記発光層は同じ電子輸送性の材料が含まれていることを特徴とする発光素子。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一において、前記第２の領域は５ｎｍ以上の厚さを有することを特徴とする発光素子。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一において、前記第２の領域は１０ｎｍ以上の厚さを有することを特徴とする発光素子。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一において、前記発光物質は燐光を発する材料であること特徴とする発光素子。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれか一において、前記多環縮合環を有する物質のエネルギーギャップは前記発光物質のエネルギーギャップより小さいことを特徴とする発光素子。
【請求項１２】
請求項１乃至請求項１１のいずれか一において、前記多環縮合環を有する物質とはルブレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、ペンタセン、ペリレンのうちの一つであることを特徴とする発光素子。
【請求項１３】
請求項１乃至請求項１２のいずれか一に記載の発光素子を用いたことを特徴とする表示装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の表示装置を用いたことを特徴とするテレビ受像器。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月24日(2008.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラスチックまたは有機樹脂部材からなる第１の基板に近接する薄膜トランジスタと、
第２の基板に近接する光電変換素子と、
前記薄膜トランジスタと前記光電変換素子が内側になるように相対した前記第１の基板と前記第２の基板との間に挟持された接着剤と導電性粒子を有し、
前記導電性粒子を介して、前記薄膜トランジスタと前記光電変換素子は電気的に接続することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、前記接着剤と前記導電性粒子は異方性導電接着剤であることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項２において、前記異方性導電接着剤は異方性導電性フィルムまたは異方性導電ペーストであることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
プラスチックまたは有機樹脂部材からなる第１の基板に近接する薄膜トランジスタと、
第２の基板に近接する光電変換素子と、
前記薄膜トランジスタと前記光電変換素子が内側になるように相対した前記第１の基板と前記第２の基板との間に挟持された、封止材及び金属層を有し、
前記金属層を介して、前記薄膜トランジスタと前記光電変換素子は電気的に接続することを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、前記第２の基板は、プラスチック基板または有機樹脂部材からなる基板であることを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
第１の基板上にタングステン膜からなる剥離層を形成し、
前記剥離層上に酸化シリコン膜を形成し、
前記酸化シリコン膜上にアモルファスシリコン膜を形成し、
前記アモルファスシリコン膜を４１０℃以上の熱処理で結晶化してポリシリコン膜を形成し、
前記ポリシリコン膜を活性層とする薄膜トランジスタを形成する工程と、
第２の基板上に光電変換素子を形成する工程と、
前記薄膜トランジスタと前記光電変換素子が内側になるように相対させた前記第１の基板と前記第２の基板との間に導電膜を挟持させることで、前記薄膜トランジスタと前記光電変換素子を電気的に接続させる工程と、
前記薄膜トランジスタ及び前記光電変換素子が前記第２の基板に保持された状態で、前記第１の基板及び前記剥離層を剥離させる工程と、
前記薄膜トランジスタにプラスチックまたは有機樹脂部材からなる第３の基板を貼り合わせる工程と、を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
第１の基板上にタングステン膜からなる剥離層を形成し、
前記剥離層上に酸化シリコン膜を形成し、
前記酸化シリコン膜上にアモルファスシリコン膜を形成し、
前記アモルファスシリコン膜を４１０℃以上の熱処理で結晶化してポリシリコン膜を形成し、
前記ポリシリコン膜を活性層とする薄膜トランジスタを形成する工程と、
第２の基板上に光電変換素子を形成する工程と、
前記薄膜トランジスタと前記光電変換素子が内側になるように相対させた前記第１の基板と前記第２の基板との間に封止材及び金属層を挟持させることで、前記薄膜トランジスタと前記光電変換素子を電気的に接続させる工程と、
前記薄膜トランジスタ及び前記光電変換素子が前記第２の基板に保持された状態で、前記第１の基板及び前記剥離層を剥離させる工程と、
前記薄膜トランジスタにプラスチックまたは有機樹脂部材からなる第３の基板を貼り合わせる工程と、を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項６または７において、
前記薄膜トランジスタと前記光電変換素子を電気的に接続させる工程と前記第１の基板及び前記剥離層を剥離させる工程との間に、前記剥離層と前記酸化シリコン膜との密着性を低下させる工程を有し、
前記密着性を低下させる工程は、剥離しようとする領域の周縁に沿ってレーザー光を照射する、または、剥離しようとする領域の周縁に沿って外部から局所的に圧力を加えることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月14日(2008.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置及び半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面上に形成された半導体層と、
前記半導体層上にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と、を有し、
前記ゲート電極は三角形状の断面形状を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
絶縁表面上に形成された半導体層と、
前記半導体層上にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と、
前記ゲート電極と一体形成されたゲート配線と、を有し、
前記ゲート電極は三角形状の断面形状を有し、前記ゲート配線は台形状の断面形状を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記ゲート電極の膜厚は、前記ゲート配線の膜厚より薄いことを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項２において、
前記ゲート電極の膜厚は、前記ゲート配線の膜厚と同一であることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項２乃至請求項４のいずれか一において、
前記ゲート電極は前記ゲート配線から分岐しており、前記ゲート配線の幅は、前記ゲート電極の幅より広いことを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
絶縁表面上に形成された半導体層と、
前記半導体層上に前記ゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と、を有し、
前記ゲート電極は、三角形状の断面形状を有し、
前記半導体層には、チャネル形成領域、高濃度不純物領域、及び前記チャネル形成領域と前記高濃度不純物領域との間に形成された低濃度不純物領域が、形成されており、
前記低濃度不純物領域は、前記ゲート電極の一部と重なっていることを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
絶縁表面上に形成された半導体層と、
前記半導体層を覆って形成された第１のゲート絶縁膜と、
前記第１のゲート絶縁膜上に形成された第２のゲート絶縁膜と、
前記半導体層上に前記第１及び前記第２のゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と、を有し、
前記ゲート電極は、三角形状の断面形状を有し、
前記半導体層には、チャネル形成領域、高濃度不純物領域、及び前記チャネル形成領域と前記高濃度不純物領域との間に形成された低濃度不純物領域が、形成されており、
前記低濃度不純物領域は、前記第２のゲート絶縁膜と重なっていることを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
請求項７において、
前記低濃度不純物領域は、前記ゲート電極と重なっていないことを特徴とする半導体装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一において、
前記ゲート電極は窒化珪素膜で囲まれていることを特徴とする半導体装置。
【請求項１０】
絶縁表面上に半導体層を形成し、
前記半導体層上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上に導電膜を形成し、
前記導電層上にレジストマスクを形成し、
前記レジストマスクを用いて、前記導電層をエッチングして前記半導体層のチャネル形成領域となる部分の上にゲート電極を形成し、
前記エッチングにおいて、前記ゲート電極が三角形状の断面形状を有するように加工することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１１】
絶縁表面上に半導体層を形成し、
前記半導体層上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上に導電膜を形成し、
前記導電層上にレジストマスクを形成し、
前記レジストマスクを用いて、前記導電層をエッチングして前記半導体層のチャネル形成領域となる部分の上にゲート電極を形成するとともに、前記ゲート電極から延在するゲート配線を形成し、
前記エッチングにおいて、前記ゲート電極が三角形状の断面形状を有するように加工するとともに、前記ゲート配線が台形状の断面形状を有するように加工することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１２】
請求項１０又は請求項１１において、
前記導電層のエッチングは、前記レジストマスクを後退させながら行い、前記ゲート電極の形成時には、前記ゲート電極上の前記レジストマスクは除去されていることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月25日(2008.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３ＧＰａ（圧縮）から３ＧＰａ（引張り）の範囲の調整可能な応力を有する膜を形成する方法であって、
少なくとも１種のシリコン前駆体を準備するステップと、
窒素前駆体（前記シリコン前駆体と同じまたは異なってもよい）または酸素前駆体の少なくとも一方を準備するステップと、
少なくとも１つの非シリコン前駆体（前記シリコン前駆体、前記窒素前駆体、または前記酸素前駆体、あるいはこれらの組合せと同じまたは異なってもよい）をさらに準備するステップと、
前記膜を堆積するステップと、
を含み、前記膜が、ドープ窒化シリコン膜、ドープ酸化シリコン膜、ドープ酸窒化シリコン膜、またはドープ炭化シリコン膜であり、前記ドープ酸化シリコン膜の場合は、前記非シリコン前駆体がホウ素ではなくかつリンでもない、方法。
【請求項２】
前記少なくとも１つのシリコン前駆体を準備するステップと、前記少なくとも１つの非シリコン前駆体を準備するステップとを同時に行い、前記前駆体のそれぞれがガス流の形で準備される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記非シリコン前駆体がゲルマニウム前駆体である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記非シリコン前駆体が、炭素前駆体、ホウ素前駆体、アルミニウム前駆体、ヒ素前駆体、ハフニウム前駆体、ガリウム前駆体、およびインジウム前駆体からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記非シリコン前駆体が、ＧｅＨ４、ＧｅＨ３ＣＨ３、および有機ゲルマニウム化合物からなる群から選択されるゲルマニウム前駆体と、ジボランと、トリメチルアルミニウム（ＴＭＡ）と、Ｃ２Ｈ４炭素前駆体と、トリメチルＧａと、トリメチルＩｎと、トリアルキルアミノＧａと、トリアルキルアミノＩｎと、ＧａＨ３と、ＩｎＨ３と、ＡｌＨ３と、アルミニウムイソプロポキシドとからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記非シリコン前駆体が、ゲルマニウム、炭素、アルミニウム、ホウ素、ヒ素、ハフニウム、ガリウム、またはインジウムのアルキル水素化物またはアルキルアミノ水素化物である、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記膜の少なくとも１つの化学的なまたは物理的な特性を調整するために、少なくとも２つの前駆体の混合物を用いる、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記少なくとも１つの化学的なまたは物理的な特性が、膜の応力と、ウェット・エッチング速度と、ドライ・エッチング速度と、エッチング終点と、堆積速度と、あるいはこれらを組み合わせた特性とからなる群から選択されることを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記堆積が、７００℃よりも低い堆積温度で実施される、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記堆積の堆積温度が室温である、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
シランとアンモニアの混合物にＧｅを添加し、ＧｅドープＳｉ窒化膜を形成することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
エッチングを制御するために、前記非シリコン前駆体からの非シリコン・ドーパントを検出するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記膜が、均一に分布したＧｅ濃度を有するＧｅドープ窒化シリコン膜である、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
３ＧＰａ（圧縮）から３ＧＰａ（引張り）の範囲の調整可能な応力を有し、ドーパント
をドープした窒化シリコンまたは酸化シリコンからなる膜。
【請求項１５】
前記ドーパントがゲルマニウム、ホウ素、アルミニウム、炭素、ヒ素、ハフニウム、ガリウム、インジウム、あるいはこれらの組合せからなる群から選択される、請求項１４に記載の膜。
【請求項１６】
前記ドーパントが２つ以上である、請求項１４に記載の膜。
【請求項１７】
前記ドーパントがＧｅであり、Ｇｅをドープしないこと以外は同じプロセスで作製された膜よりも少なくとも１．０ＧＰａ大きい応力を有する、請求項１４に記載の膜。
【請求項１８】
前記ドーパントがアルミニウムである酸化シリコン膜、または前記ドーパントがゲルマニウムであり、均一に分布したＧｅ濃度を有するＧｅドープ窒化シリコン膜を含む、請求項１４に記載の膜。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月19日(2008.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）複数の基材片（１２）と、
（ｂ）第一の基材片の第一の表面（１９）から該第一の基材片の第二の表面（２１）まで延在する第一の可撓性巻付け式配線アセンブリ（１４）と、
（ｃ）第二の基材片の第一の表面から該第二の基材片の第二の表面まで延在する第二の可撓性巻付け式配線アセンブリと、
を備えた高密度電気配線システム（１０）を有するアレイ（４０）であって、
前記第一の可撓性巻付け式配線は、前記第一の基材片の外面の周囲に配設されており、
前記第二の可撓性巻付け式配線は、前記第二の基材片の外面の周囲に配設されており、
前記第一の基材片は、前記第二の基材片とは、結合面において結合されており、
前記第一及び第二の可撓性巻付け式配線は、各基材片の非結合面に沿って配設されており、
該第一及び第二の可撓性巻付け式配線が互いに物理的に独立となる、
アレイ（４０）。
【請求項２】
前記第一の巻付け式配線アセンブリ（１４）は、前記第一の基材への物理的貫入なしに前記第一の基材片の第一の表面（１９）から前記第一の基材片の第二の表面（２１）まで延在する、前記第二の巻付け式配線アセンブリは、前記第二の基材への物理的貫入なしに前記第二の基材片の第一の表面から前記第二の基材片の第二の表面まで延在する、請求項１に記載のアレイ（４０）。
【請求項３】
前記第一の表面（１９）と第二の表面（２１）とは、互いに反対側となるように配置される、請求項２に記載のアレイ（４０）。
【請求項４】
前記第一及び第二の可撓性巻付け式配線は、ポリイミド、ポリエチレン、ポリプロピレン、可撓性プリント回路、及びこれらの組み合わせの少なくとも一つを含んでいる基層材料を備えている、請求項１に記載のアレイ（４０）。
【請求項５】
前記第一及び第二の可撓性巻付け式配線は、前記第一の表面（１９）と第二の表面（２１）の各々に金属製の接点を備えている、請求項１に記載のアレイ（４０）。
【請求項６】
前記アレイは、５ミクロン〜５０ミクロンのピッチを有する、請求項１に記載のアレイ（４０）。
【請求項７】
前記第一及び第二の可撓性巻付け式配線は、複数の導電性要素を備えており、該導電性要素は、金属はんだトレース、ナノワイヤ、導電性ポリマーのリボン、及びこれらの組み合わせの少なくとも１つを含んでいる、請求項１に記載のアレイ（４０）。
【請求項８】
前記高密度電気配線システム（１４）は、キャパシタンス、インピーダンス、抵抗、半導電性、誘電率、及びこれらの組み合わせの少なくとも一つのを含む電気的特性を有する、請求項１に記載のアレイ（４０）。
【請求項９】
Ｘ線システム又は超音波システムに接続されている、請求項１に記載のアレイ（４０）。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月19日(2008.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体デバイスを製造するための処理法であって、
基礎的基板の上に同位体的に濃縮した半導体材料からなる第１のドープ済み層を形成する工程と、
前記第１のドープ済み層の上に同位体的に濃縮した半導体材料からなる第２の層を形成する工程と、
前記第２の層上に能動デバイスを製作する工程と、
を含む処理法。
【請求項２】
前記第１のドープ済み層および前記第２の層はケイ素２８（２８Ｓｉ）を用いて同位体的に濃縮されている請求項１に記載の処理法。
【請求項３】
前記第１のドープ済み層および前記第２の層のそれぞれの内部に存在するケイ素のうち前記２８Ｓｉの占める割合が約９３％を超えている請求項２に記載の処理法。
【請求項４】
前記第１のドープ済み層および前記第２の層は前記基礎的基板の上にエピタキシャル型で被着されており、かつ前記第１のドープ済み層は前記エピタキシャル被着の間にドープを受けている請求項１に記載の処理法。
【請求項５】
前記第１のドープ済み層を形成する工程は前記第１のドープ済み層を約１Ｅ１８から約１Ｅ２０原子／ｃｍ３までの範囲のドーパント濃度までドープすることを含み、かつ前記第２の層は約１Ｅ１３から約２Ｅ１５原子／ｃｍ３までの範囲の濃度までドープを受けている請求項１に記載の処理法。
【請求項６】
同位体的に濃縮したケイ素からなる第１のドープ済み層と、
前記第１のドープ済み層の上に配置させた同位体的に濃縮したケイ素からなる第２のドープ済み層と、
前記第２のドープ済み層上または層内に配置させた能動デバイスと、
前記能動デバイスの上に配置させた誘電体層と、
動作可能な集積回路を形成するように誘電体層内に配置されると共に前記能動デバイスを相互接続している相互接続体と、
を備える集積回路。
【請求項７】
前記第１のドープ済み層は基本層でありかつ前記集積回路に対する背側電気接点である請求項６に記載の集積回路。
【請求項８】
前記第１および第２のドープ済み層はケイ素２８（２８Ｓｉ）により同位体的に濃縮されたケイ素である請求項６に記載の集積回路。
【請求項９】
前記第１のドープ済み層は約１Ｅ１９原子／ｃｍ３のドーパント濃度までドープを受けている請求項１に記載の集積回路。
【請求項１０】
前記第１のドープ済み層の厚さは約４０マイクロメートルであり、かつ前記第２のドープ済み層の厚さは約１０マイクロメートルである請求項１に記載の集積回路。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月3日(2008.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄槽に給水された洗浄水を被洗浄物に対して噴射する食器洗い機において、
前記洗浄槽に収容された被洗浄物に紫外線を照射する紫外線ランプと、
オゾンを前記洗浄槽内に供給するオゾン供給手段と、
前記紫外線ランプ及び前記オゾン供給手段を並行して駆動させる駆動手段と
を備えることを特徴とする食器洗い機。
【請求項２】
前記洗浄槽は、
洗浄水を貯留する貯留部を備え、
前記オゾン供給手段は、
オゾンを、前記貯留部に貯留された洗浄水中に放出する手段を備える
ことを特徴とする請求項１に記載の食器洗い機。
【請求項３】
前記紫外線ランプが紫外線を照射し、前記オゾン供給手段がオゾンを供給している場合、洗浄水を加熱するヒータを備える
ことを特徴とする請求項１または２に記載の食器洗い機。
【請求項４】
洗剤の要否を受け付ける洗剤要否受付手段を備え、
前記駆動手段は、
前記洗剤要否受付手段が不要であることを受け付けた場合、前記紫外線ランプ及び前記オゾン供給手段を並行して駆動させるようにしてある
ことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一つに記載の食器洗い機。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月22日(2008.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】  図１は、従来のトイレットペーパーと同じ巻きつけ方式のクリーナ用粘着式ローラーを引き出して展開した様子を示すもので、１は切り込み、２は接着剤コーティングしない部分を示す。
切り込み１は、接着剤コーティングしない部分の端点を出発点としてローラーを引き出す方向即ち下流側からローラーを巻き込む方向即ち上流側に向ってかつローラーの軸方向の片側から他の側へ向けて切り目をいれ、ローラーの軸方向の他の側へ行き着く手前で切り目を止めるものである。
こうすることにより、切り目をつけることによるフローリング等への粘着面の付着もしくは粘着テープの剥れを防止するとともに、使用後には粘着テープを簡単に剥離させることができる。この場合、ローラーの軸方向の他の側へ行き着く手前で切り目を止めた部分は、切り目の延長上で使用者の手によって引きちぎる状態となる。これは使用上なんら問題とならず、こうすることにより余計な製造コストを下げることができる。また、切り込み１を途中で部分的に点付けすることも本願の主旨を損なうものではない。
さらに、図３に示すとおり、切り込み１に幅を持たせた溝５にすることも考えられる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月12日(2007.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
特許文献６には、高電気的抵抗体で液体と接触して増粘する粉体を中間転写体上に付着させた後、当該粉体に液体を接触させて画像を形成し、中間転写体上の増粘した画像を転写媒体に転写する記録装置が提案されている。
【特許文献１】特開２０００−３４３８０８
【特許文献２】特開２０００−９４６５４
【特許文献３】特開２００３−５７９６７
【特許文献４】特開２００２−３７０３４７
【特許文献５】特開２００２−３２１４４３
【特許文献６】特開２００１−１０１１４
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月10日(2008.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被験者の身体に関する情報を入力する入力手段と、
被験者の生体電気インピーダンスを測定する生体電気インピーダンス測定手段と、
被験者の血圧値を測定する血圧測定手段及び被験者の脈拍数を測定する脈拍測定手段のうちの少なくとも一つの生体情報値測定手段と、
入力された身体情報、測定された生体電気インピーダンス及び測定された少なくとも一種の生体情報値から被験者の内臓脂肪に関する値を演算する演算手段とを備える内臓脂肪測定装置。
【請求項２】
前記被験者の血圧値を測定する血圧測定手段及び前記被験者の脈拍数を測定する脈拍測定手段の両方を備え、前記入力された身体情報、測定された生体電気インピーダンス、血圧値及び脈拍数から被験者の内臓脂肪に関する値を演算する演算手段とを備える請求項１に記載の内臓脂肪測定装置。
【請求項３】
前記測定された血圧値または脈拍数の少なくともいずれか一つの値と、演算された内臓脂肪に関する値とから、被験者の有病指数を算出する請求項１または２に記載の内臓脂肪測定装置。
【請求項４】
前記測定された血圧値または脈拍数の少なくともいずれか一つの値と演算された内臓脂肪に関する値とを記憶しておく記憶手段と、記憶手段に記憶された過去の内臓脂肪に関する値及び血圧値または脈拍数の少なくともいずれか一つの値と演算された現在の内臓脂肪に関する値及び血圧値または脈拍数の少なくともいずれか一つの値とから減量の状態を判定する判定手段とを備える請求項１から３のいずれか１項に記載の内臓脂肪測定装置。
【請求項５】
前記内臓脂肪に関する値は、内蔵脂肪面積であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の内臓脂肪測定装置。
【請求項６】
更に被験者の体重値を測定可能な体重測定手段を備え、測定された体重値を内臓脂肪に関する値の演算に用いることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の内臓脂肪測定装置。
【請求項７】
前記判定装置で判定された減量の状態に基づくアドバイスを表示する表示部を更に備えることを特徴とする請求項６に記載の内臓脂肪測定装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の内臓脂肪測定装置は、被験者の身体に関する情報を入力する入力手段と、被験者の生体電気インピーダンスを測定する生体電気インピーダンス測定手段と、被験者の血圧値を測定する血圧測定手段及び被験者の脈拍数を測定する脈拍測定手段のうちの少なくとも一つの生体情報値測定手段と、入力された身体情報、測定された生体電気インピーダンス及び測定された少なくとも一種の生体情報値から被験者の内臓脂肪に関する値を演算する演算手段とを備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本発明の内臓脂肪測定装置は、前記被験者の血圧値を測定する血圧測定手段及び前記被験者の脈拍数を測定する脈拍測定手段の両方を備え、前記入力された身体情報、測定された生体電気インピーダンス、血圧値及び脈拍数から被験者の内臓脂肪に関する値を演算する演算手段とを備える。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月16日(2008.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の搬送方向へ被記録材を搬送する被記録材搬送手段と、該被記録材搬送手段の搬送経路上にある被記録材の記録面に記録を実行する記録実行手段とを備えた記録装置において、
前記被記録材搬送手段による被記録材の搬送方向へ従動回転可能に前記搬送経路に軸支され、前記被記録材搬送手段により搬送される被記録材の記録面の記録実行済み部分に接して従動回転しつつ当該被記録材の浮き上がりを抑制するように当該被記録材の姿勢を規制する浮き押さえ従動ローラであって、
回転体と該回転体を従動回転可能に軸支するための軸部とが弾性を有する合成樹脂で一体成形され、前記軸部の弾性力によって前記回転体が所定の押圧力をもって当該被記録材に接する形状を有し、
前記回転体の外周面に周方向へ等間隔に形成された複数の凸部の先端が当該被記録材の記録面に接して従動回転する、ことを特徴とした浮き押さえ従動ローラ。
【請求項２】
所定の搬送方向へ被記録材を搬送する被記録材搬送手段と、該被記録材搬送手段の搬送経路上にある被記録材の記録面に記録を実行する記録実行手段と、請求項１に記載の浮き押さえ従動ローラとを備えた記録装置。
【請求項３】
請求項２に記載の記録装置において、前記浮き押さえ従動ローラは、前記記録実行手段による記録実行領域と記録実行後の被記録材の排出手段との間に配設されている、ことを特徴とした記録装置。
【請求項４】
請求項２又は３に記載の記録装置において、前記浮き押さえ従動ローラは、被記録材の搬送方向と直交する方向へ所定の間隔で複数配設され、かつコックリング現象により生ずる被記録材の搬送方向と直交する方向への被記録材の波打ち変形の山部分に接する位置に配設されている、ことを特徴とした記録装置。
【請求項５】
所定の搬送方向へ被噴射材を搬送する被噴射材搬送手段と、該被噴射材搬送手段の搬送経路上にある被噴射材の液体噴射面に液体噴射を実行する液体噴射実行手段と、
前記被噴射材搬送手段による被噴射材の搬送方向へ従動回転可能に前記搬送経路に軸支され、前記被噴射材搬送手段により搬送される被噴射材の液体噴射面の液体噴射済み部分に接して従動回転しつつ当該被噴射材の浮き上がりを抑制するように当該被噴射材の姿勢を規制する浮き押さえ従動ローラとを備えた液体噴射装置であって、
前記浮き押さえ従動ローラは、回転体と該回転体を従動回転可能に軸支するための軸部とが弾性を有する合成樹脂で一体成形され、前記軸部の弾性力によって前記回転体が所定の押圧力をもって当該被噴射材に接する形状を有し、
前記回転体の外周面に周方向へ等間隔に形成された複数の凸部の先端が当該被噴射材の液体噴射面に接して従動回転する、ことを特徴とした液体噴射装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月1日(2008.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
ところが、特開２００１−１０８１３６号公報に開示されているような従来の通電時閉型電磁弁は、弁本体に形成した弁座が入口側パイプの中心軸線に対して離れていたので、弁体の開弁時における流体の圧力損失が大きく、入口側パイプから出口側パイプに流れる流体の流量を多くしたり、入口側から圧力が急に加わった時など、弁体が流体の流動に伴って弁本体の弁座に向って引き込まれ、弁本体の弁座が弁体により閉じてしまうおそれがあり、入口側パイプから出口側パイプへと流れる流体の流量を多くすることが困難で、電磁弁の開弁保持圧力及び開弁保持流量の向上を図れないものであった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
かかる問題点に鑑み本発明は、弁座シート部材の弁座の位置を入口側パイプの中心軸線に近づけ、弁体の開弁時における流体の圧力損失を低下させ、入口側パイプから出口側パイプに流れる流体の流量をアップさせ、電磁弁の開弁保持圧力及び開弁保持流量の向上を図ることが可能な電磁弁を提供することを目的とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
さらに、弁座シート部材６の弁座６１の位置を入口側銅パイプ１００の中心軸線Ｏ１に近づけてあり、弁体４の開弁時における流体の圧力損失を低下させることにより、入口側銅パイプ１００から弁座シート部材６のシート本体６０の内部を通って出口側銅パイプ１１０に流れる流体の流量が多い場合や、圧力が急に加わっても、弁体４が流体の流動に伴って弁座シート部材６の弁座６１に向って引き込まれるようなことがなく、弁座シート部材６の弁座６１が弁体４により閉じるおそれもなく、入口側銅パイプ１００から出口側銅パイプ１１０に流れる流体の流量をアップさせ、電磁弁の開弁保持圧力及び開弁保持流量の向上を図れる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
さらに、弁座シート部材６の弁座６１の位置を入口側銅パイプ１００の中心軸線Ｏ１に近づけてあり、弁体４の開弁時における流体の圧力損失を低下させることにより、入口側銅パイプ１００から弁座シート部材６のシート本体６０の内部を通って出口側銅パイプ１１０に流れる流体の流量が多い場合や、圧力が急に加わっても、弁体４が流体の流動に伴って弁座シート部材６の弁座６１に向って引き込まれるようなことがなく、弁座シート部材６の弁座６１が弁体４により閉じるおそれもなく、入口側銅パイプ１００から出口側銅パイプ１１０に流れる流体の流量をアップさせ、電磁弁の開弁保持圧力及び開弁保持流量の向上を図れる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
【発明の効果】
以上に述べたように、本発明の電磁弁によれば、弁座シート部材の弁座の位置を入口側パイプの中心軸線に近づけたので、弁体の開弁時における流体の圧力損失を低下させることができ、入口側パイプから出口側パイプに流れる流体の流量が多くても、弁体が流体の流動に伴って弁座シート部材の弁座に向って引き込まれるようなことがないので、弁座シート部材の弁座が弁体により閉じるおそれがなく、入口側パイプから出口側パイプに流れる流体の流量をアップさせることができ、電磁弁の開弁保持圧力及び開弁保持流量の向上を図ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月23日(2008.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
ネジ棒１１８はガイドレール１１８と平行に配設されており、その両端部が支柱１１０の両端部に形成された軸受部１２０、１２０に軸支されている。また、このネジ棒１１８にはモータ１２２が連結されており、このモータ１２２を駆動することにより、ネジ棒１１８が回転する。そして、このネジ棒１１８が回転することにより、昇降体１１４が垂直に上下動し、測定アーム１０６が垂直に上下動する。なお、このモータ１２２にはエンコーダが内蔵されており、このエンコーダで検出されたモータ１２２の回転数が管制部１６Ｃに出力される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
なお、測定アーム１０６は、トランスファーロボット４４のアーム５２との衝突を回避するために旋回可能になっている。すなわち、図３に示すように、支柱１１０が回転テーブル１２４上に設置されており、この回転テーブル１２４が回転駆動されることにより、旋回可能に構成されている。通常、測定アーム１０６は退避位置に位置しており、測定時のみ旋回して測定待機位置に移動する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2003065742.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2003065742.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月20日(2008.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式
【化１】
2006056881.tif 000001
〔式中、環Ａはさらに置換されていてもよい芳香族複素環を；
環Ｂはさらに置換されていてもよい含窒素６ないし９員環を；
Ｘａは置換されていてもよいメチレン基（ただし、−Ｃ（＝Ｏ）−を除く）を；
Ｘｂは置換されていてもよいメチレン基を；
Ｙは置換されていてもよいＣ１−３アルキレン基、−ＣＯＮＨ−、−ＳＯ２ＮＨ−または−ＳＯ２−を；
Ｒは置換されていてもよい芳香族基を；
環Ｄは置換されていてもよい芳香環または置換されていてもよい非芳香族複素環を示す。
ただし、環Ｄが置換されていてもよいベンゼン環である場合、該ベンゼン環が環Ａとの結合に対してオルト位に置換基を有するか、Ｘｂが置換されたメチレン基を示す。〕で表される化合物またはその塩。
【請求項２】
環Ａがさらに置換されていてもよいピリジン環である請求項１記載の化合物。
【請求項３】
環Ｂで示される含窒素６ないし９員環が
【化２】
2006056881.tif 000002
である請求項１記載の化合物。
【請求項４】
Ｘａがメチレン基である請求項１記載の化合物。
【請求項５】
Ｘｂがメチレン基または−Ｃ（＝Ｏ）−である請求項１記載の化合物。
【請求項６】
Ｒが置換されていてもよいフェニル基である請求項１記載の化合物。
【請求項７】
環Ｄが式
【化３】
2006056881.tif 000003
（式中、環Ｄ'はさらに置換されていてもよい芳香環を；
Ｒ1は水素原子または置換基を示す。）で表される環であり、
ただし、環Ｄ'が置換されていてもよいベンゼン環である場合、Ｒ１が置換基であるか、Ｘｂが置換されたメチレン基を示す、請求項１記載の化合物。
【請求項８】
環Ｄ'がさらに置換されていてもよいベンゼン環である請求項７記載の化合物。
【請求項９】
請求項１記載の化合物のプロドラッグ。
【請求項１０】
請求項１記載の化合物またはそのプロドラッグを含有してなるＴＧＲ５受容体作動剤。
【請求項１１】
ＧＬＰ−１分泌促進剤、インスリン分泌促進剤、血糖低下剤、食欲抑制剤、膵臓の再生剤、膵β細胞分化促進剤、膵β細胞増殖促進剤、インスリン抵抗性改善剤またはサイトカイン産生抑制剤である請求項１０記載の剤。
【請求項１２】
請求項１記載の化合物またはそのプロドラッグを含有してなる医薬。
【請求項１３】
心不全、心筋梗塞、急性腎不全、狭心症、不整脈、気管支喘息、慢性閉塞性肺疾患、動脈硬化症、慢性関節リウマチ、糖尿病、肥満、インスリン分泌不全、膵疲弊、胃潰瘍、潰瘍性大腸炎、アレルギー、変形性関節症、エリテマトーデス、移植医療後の過剰免疫反応または感染症の予防・治療剤または免疫抑制剤である請求項１２記載の医薬。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月3日(2008.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートの端部をカールさせるカール付与手段と、
前記カール付与手段によって湾曲させられたシート、またはシート束を折る折り手段と、を備え、
前記折り手段が、前記カール付与手段によってカールさせられたシートの一方の端部が他方の端部側に向くようにシート、またはシート束を折ることを特徴とするシート処理装置。
【請求項２】
前記カール付与手段によってカールさせられたシートの端部は、シートの一方の端部と他方の端部のうち少なくとも一方であることを特徴とする請求項１に記載のシート処理装置。
【請求項３】
前記カール付与手段は接離可能なローラ対を有し、シートを検知するシート検知手段と、前記シート検知手段の検知結果に基づいて前記ローラ対の接離のタイミングを制御する制御部とを備えたことを特徴とする請求項１又は２に記載のシート処理装置。
【請求項４】
前記カール付与手段によってカールさせられたシートが積載される積載手段と、
前記積載手段上に積載されたシート、またはシート束を前記折り手段へ搬送するシート束搬送手段と、
前記シート束搬送手段によって搬送されるシート、またはシート束を案内する湾曲案内路と、を備え、
前記折り手段が、前記湾曲案内路に配設され、
前記カール付与手段が、シートのシート搬送方向端部を前記湾曲案内路の湾曲方向と同一方向にカールさせることを特徴とする請求項１又は２に記載のシート処理装置。
【請求項５】
前記湾曲案内路が、上方に湾曲していることを特徴とする請求項４に記載のシート処理装置。
【請求項６】
前記湾曲案内路のシート搬送方向上流側から分岐されて、前記シート束搬送手段によって搬送されるシート、またはシート束を直線的に案内する直線案内路を備え、
前記カール付与手段は、シート束が前記湾曲案内路に案内されるときシートのシート搬送方向端部をカールさせることを特徴とする請求項４に記載のシート処理装置。
【請求項７】
前記カール付与手段によってカールさせられたシートを前記積載手段に搬送するシート搬送手段を備え、
前記シート搬送手段のシート搬送方向において、前記カール付与手段によって付与されるシートのカール部分の長さは、シートの全長から、前記シート搬送手段と前記湾曲案内路との間の長さを引いた長さに設定されていることを特徴とする請求項３乃至６のいずれか１項に記載のシート処理装置。
【請求項８】
前記シート束の中間部分を綴じる綴じ手段を備え、前記折り手段がシート束の前記綴じ手段によって綴じられた部分を折ることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のシート処理装置。
【請求項９】
シートに画像を形成する画像形成手段と、
前記画像形成手段によって画像を形成されたシートに処理を施すシート処理装置と、を備え、
前記シート処理装置が請求項１乃至８のいずれか１項に記載のシート処理装置であることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１０】
原稿の画像を読み取る画像読取手段と、
前記画像読取手段の画像読取情報に基づいてシートに画像を形成する画像形成手段と、
前記画像形成手段によって画像を形成されたシートに処理を施すシート処理装置と、
前記シート処理装置が、請求項１乃至８のいずれか１項に記載のシート処理装置であり、前記画像読取手段と前記画像形成手段との間に位置することを特徴とする画像形成装置。
【請求項１１】
シートに画像を形成する画像形成手段と、
前記画像形成手段によって画像を形成されたシートに処理を施すシート処理装置と、
前記シート処理装置を制御する制御部と、を備え、
前記シート処理装置は、シートの端部をカールさせるカール付与手段と、前記カール付与手段に搬送されるシートを検知するシート検知手段を有し、
前記カール付与手段は接離可能なローラ対を有し、
前記制御部は、前記シート検知手段の検知結果に基づいて前記ローラ対の接離のタイミングを制御することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成するため、本発明のシート処理装置は、シートの端部をカールさせるカール付与手段と、前記カール付与手段によって湾曲させられたシート、またはシート束を折る折り手段と、を備え、前記折り手段が、前記カール付与手段によってカールさせられたシートの一方の端部が他方の端部側に向くようにシート、またはシート束を折るようになっている。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月17日(2007.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体を給送ローラにて給送する記録媒体搬送装置であって、
自動供給用の記録媒体を収納し、内部に前記自動給送用の記録媒体を支持し、且つ前記給送ローラに当接させる位置と退避させる位置とに変位可能な上昇手段を有する自動供給トレイと、
前記自動供給トレイの上方に配置され、手差し供給用の記録媒体を載置して供給する手差し供給トレイとを備え、
前記手差し供給トレイは、手差し供給時に前記給送ローラ側へ伸長する伸縮部を備えていることを特徴とする媒体給送装置。
【請求項２】
前記伸縮部は、手差し供給トレイ本体に内蔵可能であることを特徴とする請求項１に記載の媒体給送装置。
【請求項３】
前記上昇手段が、手差し供給時に前記伸縮部を前記手差し供給トレイ本体とともに持ち上げて、載置されている前記記録媒体を前記供給ローラに当接させることを特徴とする請求項１又は２に記載の媒体給送装置。
【請求項４】
前記伸縮部は、前記手差し供給トレイ本体に取り付けられたレバー機構により伸縮自在であることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の媒体給送装置。
【請求項５】
前記レバー機構を構成するレバーは、前記伸縮部が伸長しているときは前記記録媒体の側縁を案内する媒体側縁案内部材として機能し、前記伸縮部が収縮しているときは前記記録媒体の手差しの侵入を阻止する媒体侵入阻止部材として機能することを特徴とする請求項４に記載の媒体給送装置。
【請求項６】
前記伸縮部は、前記レバー機構を構成するカムにより連接されていることを特徴とする請求項４又は５に記載の媒体給送装置。
【請求項７】
記録媒体に記録する記録装置であって、
請求項１〜６の何れか一項に記載の媒体給送装置を備えたことを特徴とする記録装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的達成のため、本発明の媒体給送装置では、記録媒体を給送ローラにて給送する記録媒体搬送装置であって、自動供給される記録媒体を収納し、内部に前記自動給送用の記録媒体を支持し、且つ前記給送ローラに当接させる位置と退避させる位置とに変位可能な上昇手段を有する自動供給トレイと、前記自動供給トレイの上方に配置され、手差し供給される記録媒体を載置して供給する手差し供給トレイとを備え、前記手差し供給トレイは、手差し供給時に前記給送ローラ側へ伸長する伸縮部を備えていることを特徴としている。これにより、手差し供給するために記録媒体を手差し供給トレイ上に載置したときに、自動供給トレイ内に記録媒体が収納されていても、手差し供給用の記録媒体と自動供給用の記録媒体とは直接接触しないので、手差し供給用の記録媒体と自動供給用の記録媒体との貼り付きを防止することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、前記伸縮部は、手差し供給トレイ本体に内蔵可能であることを特徴としている。これにより、手差し供給トレイを使用しないときはコンパクトにして収納することができる。また、前記上昇手段が、手差し供給時に前記伸縮部を前記手差し供給トレイ本体とともに持ち上げて、載置されている前記記録媒体を前記供給ローラに当接させることを特徴としている。これにより、手差し供給させるための上昇手段を別途設けなくて良いので、機構を簡略化させることができるとともに、省スペース化を図ることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記目的達成のため、本発明の記録装置では、記録媒体に記録する記録装置であって、上記各媒体給送装置を備えたことを特徴としている。これにより、上記各作用効果を奏する記録装置及び液体噴射装置を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月27日(2008.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
シートが積載される積載手段と、
前記積載手段に積載されたシート束を搬送する搬送手段と、
前記積載手段のシート搬送方向下流側に配設され、前記搬送手段によって搬送されるシート束を下方に湾曲して案内する湾曲案内路と、
前記湾曲案内路に配設されて前記シート束を折る折り手段と、を備え、
前記積載手段のシート積載面の前記シート搬送方向上流側が、前記シート搬送方向の下流側より低く設定され、
前記湾曲案内路のシート搬送方向下流側に、前記積載手段の下まで延びる延伸部を有することを特徴とするシート処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記目的を達成するため、本発明のシート処理装置は、シートが積載される積載手段と、前記積載手段に積載されたシート束を搬送する搬送手段と、前記積載手段のシート搬送方向下流側に配設され、前記搬送手段によって搬送されるシート束を下方に湾曲して案内する湾曲案内路と、前記湾曲案内路に配設されて前記シート束を折る折り手段と、を備え、前記積載手段のシート積載面の前記シート搬送方向上流側が、前記シート搬送方向の下流側より低く設定され、前記湾曲案内路のシート搬送方向下流側に、前記積載部の下まで延びる延伸部を有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
さらに、本発明のシート処理装置は、湾曲案内路のシート搬送方向下流側に積載部の下まで延びる延伸部を有しているので、シート搬送方向の水平寸法を大きくすることなく大判サイズのシートも取り扱うことができる。