【手続補正書】
【提出日】平成20年2月8日(2008.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、金属膜層と、１．３５〜１．５５の屈折率を有する第１の誘電体膜と１．８５〜２．４の屈折率を有する第２の誘電体膜とを交互に前記金属膜層上に積層した誘電体膜層とから構成される９層以上の多層膜を有し、光を反射する反射ミラーであって、
前記金属膜層は、７０ｎｍ以上の物理膜厚を有し、
前記誘電体膜層は、前記光の波長λに対して、前記基板側から順に、
（０．５〜１）×λ／４の光学膜厚を有する第１の層と、
（２〜３．５）×λ／４の光学膜厚を有する第２の層と、
（１〜１．５）×λ／４の光学膜厚を有する第３の層と、
（１〜１．８）×λ／４の光学膜厚を有する第４の層と、
（０．７〜１．８）×λ／４の光学膜厚を有する第５の層と、
（１．３〜１．５）×λ／４の光学膜厚を有する第６の層と、
（１．３〜２）×λ／４の光学膜厚を有する第７の層と、
（０．９〜１．５）×λ／４の光学膜厚を有する第８の層と、
（１．８〜２．８）×λ／４の光学膜厚を有する第９の層と、
（０．１〜０．５）×λ／４の光学膜厚を有する第１０の層とを有することを特徴とする反射ミラー。
【請求項２】
基板上に、金属膜層と、１．３５〜１．５５の屈折率を有する第１の誘電体膜と１．８５〜２．４の屈折率を有する第２の誘電体膜とを交互に前記金属膜層上に積層した誘電体膜層とから構成される９層以上の多層膜を有し、光を反射する反射ミラーであって、
前記金属膜層は、７０ｎｍ以上の物理膜厚を有し、
前記誘電体膜層は、前記光の波長λに対して、前記基板側から順に、
（０．２〜０．８）×λ／４の光学膜厚を有する第１の層と、
（２．４〜３．０）×λ／４の光学膜厚を有する第２の層と、
（０．８〜１．６）×λ／４の光学膜厚を有する第３の層と、
（１〜１．８）×λ／４の光学膜厚を有する第４の層と、
（１．３〜２）×λ／４の光学膜厚を有する第５の層と、
（０．７〜１．３）×λ／４の光学膜厚を有する第６の層と、
（１．４〜２．０）×λ／４の光学膜厚を有する第７の層と、
（１．１〜１．７）×λ／４の光学膜厚を有する第８の層と、
（２．５〜３．１）×λ／４の光学膜厚を有する第９の層とを有することを特徴とする反射ミラー。
【請求項３】
基板上に、金属膜層と、１．３５〜１．５５の屈折率を有する第１の誘電体膜と１．８５〜２．４の屈折率を有する第２の誘電体膜とを交互に前記金属膜層上に積層した誘電体膜層とから構成される９層以上の多層膜を有し、光を反射する反射ミラーであって、
前記金属膜層は、７０ｎｍ以上の物理膜厚を有し、
前記誘電体膜層は、前記光の波長λに対して、前記基板側から順に、
（０．６〜１）×λ／４の光学膜厚を有する第１の層と、
（０．６〜１）×λ／４の光学膜厚を有する第２の層と、
（０．８〜１．３）×λ／４の光学膜厚を有する第３の層と、
（０．８〜１．３）×λ／４の光学膜厚を有する第４の層と、
（１．８〜２．５）×λ／４の光学膜厚を有する第５の層と、
（２〜３）×λ／４の光学膜厚を有する第６の層と、
（１．８〜２．５）×λ／４の光学膜厚を有する第７の層と、
（０．７〜１．３）×λ／４の光学膜厚を有する第８の層と、
（０．４〜１）×λ／４の光学膜厚を有する第９の層と、
（０．１〜０．５）×λ／４の光学膜厚を有する第１０の層とを有することを特徴とする反射ミラー。
【請求項４】
基板上に、金属膜層と、１．３５〜１．５５の屈折率を有する第１の誘電体膜と１．８５〜２．４の屈折率を有する第２の誘電体膜とを交互に前記金属膜層上に積層した誘電体膜層とから構成される９層以上の多層膜を有し、光を反射する反射ミラーであって、
前記金属膜層は、７０ｎｍ以上の物理膜厚を有し、
前記誘電体膜層は、前記光の波長λに対して、前記基板側から順に、
（０．６〜１．３）×λ／４の光学膜厚を有する第１の層と、
（０．６〜１．３）×λ／４の光学膜厚を有する第２の層と、
（０．２〜０．８）×λ／４の光学膜厚を有する第３の層と、
（０．９〜１．５）×λ／４の光学膜厚を有する第４の層と、
（１．８〜２．４）×λ／４の光学膜厚を有する第５の層と、
（０．８〜１．４）×λ／４の光学膜厚を有する第６の層と、
（０．２〜０．８）×λ／４の光学膜厚を有する第７の層と、
（０．０５〜０．４）×λ／４の光学膜厚を有する第８の層とを有することを特徴とする反射ミラー。
【請求項５】
複数の光学素子を有し、
前記複数の光学素子のうち少なくとも一の光学素子は、請求項１〜４のうちいずれか一項記載の反射ミラーであることを特徴とする光学系。
【請求項６】
請求項１〜４のうちいずれか一項記載の反射ミラーを介して光を被処理体に照射して、当該被処理体を露光することを特徴とする露光装置。
【請求項７】
レチクルのパターンを被処理体に露光する露光装置であって、
光源からの光で前記レチクルを照明する照明光学系と、
前記レチクルのパターンを前記被処理体に投影する投影光学系とを有し、
前記照明光学系及び前記投影光学系を構成する複数の光学素子のうち少なくとも一の光学素子は、請求項１〜４のうちいずれか一項記載の反射ミラーを有することを特徴とする露光装置。
【請求項８】
請求項６又は７記載の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、
露光された前記被処理体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
フォトリソグラフィー（焼き付け）技術を用いて半導体メモリや論理回路などの微細な半導体素子を製造する。その際に、レチクル（マスク）に描画された回路パターンを投影光学系によってウェハ等に投影して回路パターンを転写する投影露光装置が従来から使用されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
露光装置に使用される反射ミラーとしては、一般的に、ガラス基板の表面にアルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）等の高い反射率を有する金属膜を成膜する。そして、かかる金属膜の上に腐食を保護する保護膜や反射率を高める増反射膜を更に成膜した多層膜ミラーがある。特に、アルミニウム等の腐食しやすい金属を金属膜に用いる場合、時間と共に低下する反射率及び膜強度や低い耐薬品性を補うために誘電体を材料とする保護膜を積層する必要がある（例えば、特許文献１参照。）。また、所望の波長に対する反射率を高める増反射膜として、金属膜上に低屈折率の誘電体膜と高屈折率の誘電体膜を積層することが提案されている（例えば、特許文献２参照。）。更に、基板上に成膜された金属膜上に単層誘電体膜を設け、かかる誘電体膜の膜厚を変化させることで、反射光のＰ偏光反射成分とＳ偏光反射成分との位相差を制御する位相差膜も提案されている（例えば、特許文献３参照。）。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
しかしながら、金属体と誘電体で構成される従来の反射ミラーは、所望の広波長帯域における反射率の増加、及び、Ｐ偏光反射成分とＳ偏光反射成分との位相差の制御を同時に達成することができない。そのため、近年の露光装置に要求されている高品位な露光（高解像度）及び低コスト化を実現することができなかった。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
一方、露光装置では、レチクル面及びウェハ面の観察や、レチクルとウェハとのアライメントのために、露光光とは別の波長域（アライメントに用いる光の波長）において高い反射率を有る反射ミラーが必要である。且つ、Ｐ偏光反射成分とＳ偏光反射成分との間に所望の位相差を得ることができる反射ミラーが必要である。従って、露光光に対する反射率特性を犠牲にするか、基板にｚｅｒｏｄｕｒやクリアセラム等の非常に高価な極低膨張ガラスセラミックスを使用しなければならず、解像度の劣化又は露光装置の高コスト化を招いていた。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、広波長帯域に対して高い反射率を有すると共に、所定の波長帯域におけるＰ偏光反射成分とＳ偏光反射成分との間の位相差を制御することを可能とする。本発明は、優れた光学性能を実現する反射ミラー、露光装置及びデバイス製造方法を提供することに関する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の一側面としての反射ミラーは、基板上に、金属膜層と、１．３５〜１．５５の屈折率を有する第１の誘電体膜と１．８５〜２．４の屈折率を有する第２の誘電体膜とを交互に前記金属膜層上に積層した誘電体膜層とから構成される９層以上の多層膜を有し、光を反射する反射ミラーであって、前記金属膜層は、７０ｎｍ以上の物理膜厚を有し、前記誘電体膜層は、前記光の波長λに対して、前記基板側から順に、（０．５〜１）×λ／４の光学膜厚を有する第１の層と、（２〜３．５）×λ／４の光学膜厚を有する第２の層と、（１〜１．５）×λ／４の光学膜厚を有する第３の層と、（１〜１．８）×λ／４の光学膜厚を有する第４の層と、（０．７〜１．８）×λ／４の光学膜厚を有する第５の層と、（１．３〜１．５）×λ／４の光学膜厚を有する第６の層と、（１．３〜２）×λ／４の光学膜厚を有する第７の層と、（０．９〜１．５）×λ／４の光学膜厚を有する第８の層と、（１．８〜２．８）×λ／４の光学膜厚を有する第９の層と、（０．１〜０．５）×λ／４の光学膜厚を有する第１０の層とを有することを特徴とする
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の別の側面としての反射ミラーは、基板上に、金属膜層と、１．３５〜１．５５の屈折率を有する第１の誘電体膜と１．８５〜２．４の屈折率を有する第２の誘電体膜とを交互に前記金属膜層上に積層した誘電体膜層とから構成される９層以上の多層膜を有し、光を反射する反射ミラーであって、前記金属膜層は、７０ｎｍ以上の物理膜厚を有し、前記誘電体膜層は、前記光の波長λに対して、前記基板側から順に、（０．２〜０．８）×λ／４の光学膜厚を有する第１の層と、（２．４〜３．０）×λ／４の光学膜厚を有する第２の層と、（０．８〜１．６）×λ／４の光学膜厚を有する第３の層と、（１〜１．８）×λ／４の光学膜厚を有する第４の層と、（１．３〜２）×λ／４の光学膜厚を有する第５の層と、（０．７〜１．３）×λ／４の光学膜厚を有する第６の層と、（１．４〜２．０）×λ／４の光学膜厚を有する第７の層と、（１．１〜１．７）×λ／４の光学膜厚を有する第８の層と、（２．５〜３．１）×λ／４の光学膜厚を有する第９の層とを有することを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の更に別の側面としての反射ミラーは、基板上に、金属膜層と、１．３５〜１．５５の屈折率を有する第１の誘電体膜と１．８５〜２．４の屈折率を有する第２の誘電体膜とを交互に前記金属膜層上に積層した誘電体膜層とから構成される９層以上の多層膜を有し、光を反射する反射ミラーであって、前記金属膜層は、７０ｎｍ以上の物理膜厚を有し、前記誘電体膜層は、前記光の波長λに対して、前記基板側から順に、（０．６〜１）×λ／４の光学膜厚を有する第１の層と、（０．６〜１）×λ／４の光学膜厚を有する第２の層と、（０．８〜１．３）×λ／４の光学膜厚を有する第３の層と、（０．８〜１．３）×λ／４の光学膜厚を有する第４の層と、（１．８〜２．５）×λ／４の光学膜厚を有する第５の層と、（２〜３）×λ／４の光学膜厚を有する第６の層と、（１．８〜２．５）×λ／４の光学膜厚を有する第７の層と、（０．７〜１．３）×λ／４の光学膜厚を有する第８の層と、（０．４〜１）×λ／４の光学膜厚を有する第９の層と、（０．１〜０．５）×λ／４の光学膜厚を有する第１０の層とを有することを特徴とする。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の更に別の側面としての反射ミラーは、基板上に、金属膜層と、１．３５〜１．５５の屈折率を有する第１の誘電体膜と１．８５〜２．４の屈折率を有する第２の誘電体膜とを交互に前記金属膜層上に積層した誘電体膜層とから構成される９層以上の多層膜を有し、光を反射する反射ミラーであって、前記金属膜層は、７０ｎｍ以上の物理膜厚を有し、前記誘電体膜層は、前記光の波長λに対して、前記基板側から順に、（０．６〜１．３）×λ／４の光学膜厚を有する第１の層と、（０．６〜１．３）×λ／４の光学膜厚を有する第２の層と、（０．２〜０．８）×λ／４の光学膜厚を有する第３の層と、（０．９〜１．５）×λ／４の光学膜厚を有する第４の層と、（１．８〜２．４）×λ／４の光学膜厚を有する第５の層と、（０．８〜１．４）×λ／４の光学膜厚を有する第６の層と、（０．２〜０．８）×λ／４の光学膜厚を有する第７の層と、（０．０５〜０．４）×λ／４の光学膜厚を有する第８の層とを有することを特徴とする。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
以下、添付図面を参照して、本発明の一側面としての反射ミラーについて説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。図１は、本発明の反射ミラー１の構成を示す概略断面図である。また、本実施形態では、２種類の反射ミラーについて説明する。１つは、露光光に３２５ｎｍ、３６５ｎｍ、４０５ｎｍ及び４３５ｎｍの波長を有する光を、アライメント光に５４６ｎｍ、５７８ｎｍ、６４４ｎｍ及び７４０ｎｍの波長を有する光を用いる露光装置に使用することができる反射ミラー。もう１つは、露光光に３２５ｎｍ、３６５ｎｍ、４０５ｎｍ及び４３５ｎｍの波長を有する光を、アライメント光に８８０ｎｍの波長を有する光を用いる露光装置に使用することができる反射ミラーについて説明する。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明の反射ミラー１は、光を反射する機能を有し、図１に示すように、精密な形状に研磨された基板ＳＢに、７０ｎｍ以上の物理膜厚を有する金属膜層１０と、金属膜層１０に成膜される誘電体膜層２０とを有する。誘電体膜層２０は、低屈折物質層（第１の誘電体膜）２０ａ及び２０ｃと、高屈折物質層（第２の誘電体膜）２０ｂ及び２０ｄとを交互に積層して構成される。なお、誘電体膜層２０は、図１では、基板ＳＢ側から順に、第１の層〜第１０の層の１０層で構成されているが、かかる層数は例示的であり、金属膜層１０と誘電体膜層２０とで構成される多層膜３０の層数が９層以上となればよい。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
低屈折物質層２０ａ及び２０ｃは、１．３５〜１．５５の屈折率を有する材料からなり、本実施形態では、石英（ＳｉＯ２）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）又はフッ化アルミニウム（ＡｌＦ３）の一を材料とする。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
高屈折物質層２０ｂ及び２０ｄは、１．８５〜２．４の屈折率を有する材料からなる。本実施形態では、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ３）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）又は酸化スカンジウム（Ｓｃ２Ｏ３）の一を材料とする。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
金属膜層１０及び誘電体膜層２０（即ち、低屈折物質層２０ａ及び２０ｃ、高屈折率物質層２０ｂ及び２０ｄ）は、公知の成膜技術である真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などによって基板ＳＢ上に形成される。各層の膜厚を最適化することで、後述するように、優れた光学特性を得ることが可能である。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
図２を参照するに、実施例１の反射ミラー１は、３２０ｎｍ〜４５０ｎｍまでの広い波長範囲において、８５％以上の高い反射率を得ていることが分かる。また、図２及び図３を参照するに、実施例１の反射ミラー１は、５５０ｎｍ〜７５０ｎｍの波長範囲でも、８０％以上の高い反射率を有し、且つ、Ｐ偏光反射成分とＳ偏光反射成分との間に３０度以上の位相差が形成されていることが分かる。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
図４を参照するに、実施例２の反射ミラー１は、３２０ｎｍ〜４５０ｎｍまでの広い波長範囲において、８５％以上の高い反射率を得ていることが分かる。また、図４及び図５を参照するに、実施例２の反射ミラー１は、５５０ｎｍ〜７５０ｎｍの波長範囲でも、８０％以上の高い反射率を有し、且つ、Ｐ偏光反射成分とＳ偏光反射成分との間に３０度以上の位相差が形成されていることが分かる。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
図６を参照するに、実施例３の反射ミラー１は、３２０ｎｍ〜４５０ｎｍまでの広い波長範囲において、８５％以上の高い反射率を得ていることが分かる。また、図６及び図７を参照するに、実施例３の反射ミラー１は、８８０ｎｍの波長でも、８０％以上の高い反射率を有し、且つ、Ｐ偏光反射成分とＳ偏光反射成分との間に３０度以上の位相差が形成されていることが分かる。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
図８を参照するに、実施例４の反射ミラー１は、３２０ｎｍ〜４５０ｎｍまでの広い波長範囲において、８５％以上の高い反射率を得ていることが分かる。また、図８及び図９を参照するに、実施例４の反射ミラー１は、８８０ｎｍの波長でも、８０％以上の高い反射率を有し、且つ、Ｐ偏光反射成分とＳ偏光反射成分との間に３０度以上の位相差が形成されていることが分かる。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
照明装置１１０は、図示しない光源部からの光束を用いてレチクルＲＴを照明する。投影光学系１２０は、レチクルＲＴのパターンを被処理体ＧＳに投影する光学系であり、例えば、平面ミラー１２２と、凹面ミラー１２４と、凸面ミラー１２６といった複数のミラーを有する。投影光学系１２０を構成するミラーに本発明の反射ミラー１を使用することができ、本実施形態では、平面ミラー１２２に反射ミラー１を使用している。上述したように、反射ミラー１は、広波長帯域に対して高い反射率を有すると共に、所定の波長帯域におけるＰ偏光反射成分とＳ偏光反射成分との間の位相差を制御することが可能である。そのため、投影光学系１２０は、優れた光学性能（例えば、結像性能）を維持することができる。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
アライメント光源１３１からの光束は、偏光板１３２によって直線偏光の光となり、ハーフミラー１３３及びミラー１３４を介してアライメントマークＡＭ１を照明する。レチクルＲＴの裏面（即ち、アライメントマークＡＭ１）で反射された反射光は、ミラー１３４及びハーフミラー１３３を通り、偏光板１３５に入射するが、かかる反射光を検出器１３６に入射させないように偏光板１３５を回転させて遮断する。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
一方、アライメントマークＡＭ１を透過した光は、投影光学系１２０に入射する。なお、本実施形態では、平面ミラー１２２は、入射する光に対して４５度の位相差が生じるように設定されている。アライメントマークＡＭ１を透過した直線偏光の光束が被処理体ＧＳ（被処理体ＧＳ上のアライメントマークＡＭ２）に到達する時には円偏光になっている。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
被処理体ＧＳ上のアライメントマークＡＭ２で反射された光は、再度、投影光学系１２０を通過してレチクルＲＴに戻る。この時、光束は、平面ミラー１２２によって位相差が再度与えられるため、レチクルＲＴに到達する光束は、直線偏光となっている。かかる光束の偏光面は、レチクルＲＴに入射する照明光束の偏光面と直交している。被処理体ＧＳからの反射光は、レチクルＲＴを照明し、レチクルＲＴのパターンによって散乱される。かかる散乱光は、被処理体ＧＳからの反射光と同じ偏光状態である。従って、被処理体ＧＳからの反射光及びレチクルＲＴでの散乱光は、ハーフミラー１３３及び偏光板１３５を通過し、検出器１３６に入射する。これにより、検出器１３６は、レチクルＲＴと被処理体ＧＳとを検出することができる。レチクルＲＴと被処理体ＧＳは共役関係にあるため、レチクルＲＴの裏面で反射される直線偏光の光を除去することによって、レチクルＲＴからの直線の反射光に起因するフレアを防止することができる。また、コントラストに優れたレチクルＲＴ及び被処理体ＧＳの像を同時に検出することができ、レチクルＲＴと被処理体ＧＳとの高精度なアライメントが可能となる。
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
露光において、照明装置１１０から発せられた光束は、レチクルＲＴを、例えば、ケーラー照明する。レチクルＲＴを通過しレチクルパターンを反映する光は、投影光学系１２０により被処理体ＧＳに結像される。露光装置１００が使用する投影光学系１２０の平面ミラー１２２に用いられる反射ミラー１は、広波長帯域に対して高い反射率を有する。また、それと共に、所定の波長帯域におけるＰ偏光反射成分とＳ偏光反射成分との間の位相差を制御することが可能であるため、高いスループットで経済性よく従来よりも高品位なデバイスを提供することができる。
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
次に、図１１及び図１２を参照して、露光装置１００を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。図１１は、デバイス（液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、ＣＣＤ、ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ等）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、ＬＣＤの製造を例に説明する。ステップ１（アレイ設計）では、ＬＣＤのアレイ設計を行う。ステップ２（レチクル製作）では、設計したアレイパターンを形成したレチクルを製作する。ステップ３（基板製造）では、ガラスなどの材料を用いてガラス基板を製造する。ステップ４（アレイ製造）では、マスクとガラス基板を用いてリソグラフィー技術によってガラス基板上に実際のアレイを形成する。ステップ５（パネル製造）は、ステップ４によって作成されたガラス基板と、カラーフィルターとを整合して液晶パネル化する工程である。配向処理工程（ラビング、ラビング後洗浄）、貼り合せ工程（アライメント、パネルギャップ制御、シール本硬化）、分断工程、液晶注入工程（液晶注入、封止、洗浄、過熱徐冷）等の工程を含む。ステップ６（モジュール製造）では、ＴＣＰ（Ｔａｐｅ  Ｃａｒｒｉｅｒ  Ｐａｃｋａｇｅ）方式やＣＯＧ（Ｃｈｉｐ  Ｏｎ  Ｇｌａｓｓ）方式を用いてステップ５で作成された液晶パネルを液晶チップ化する工程である。ステップ７（検査）では、ステップ６で作成された液晶ディスプレイの動作確認テスト、耐久性テストなどの検査を行う。こうした工程を経て液晶ディスプレイが完成し、それが出荷（ステップ８）される。