Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月19日(2008.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  複数の散水孔を有する散水キャップをシャワーヘッドに取付けてなり、
かつ、前記散水キャップの裏面の散水孔周囲を凸部形状に形成し、この凸部に網体が当接されており、しかも、前記散水キャップにおける最外周の散水孔の径が、他の径よりも小さいことを特徴とするシャワーヘッド。
【請求項２】  複数の散水孔を有する散水キャップをシャワーヘッドに取付けてなり、
かつ、前記散水キャップの裏面に網体が当接されており、
しかも、前記散水キャップにおける最外周の散水孔の径が、他の径より小さいことを特徴とするシャワーヘッド。 
【請求項３】  前記散水キャップは、カバー部と散水板とにて構成されおり、
前記カバー部には複数の散水穴を形成しかつ裏面を湾曲面に形成してなり、
前記散水板は、弾性体にて形成するとともに、表面には前記散水穴に嵌まる突起部に散水孔を形成し、裏面には、外周に外周凸部を形成すると共に、散水孔周囲を凸部形状に形成してなることを特徴とする請求項１又は２に記載のシャワーヘッド。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
上記問題点を解決すべく、本発明の請求項１においては、複数の散水孔を有する散水キャップをシャワーヘッドに取付けてなり、
かつ、前記散水キャップの裏面の散水孔周囲を凸部形状に形成し、この凸部に網体が当接されており、しかも、前記散水キャップにおける最外周の散水孔の径が、他の径よりも小さいことを特徴とするシャワーヘッドとした。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
これにより、凸部以外の部分に溜まった水は散水孔に流れずに停滞され、網体による表面張力を確実に生じさせることができる。そのため、シャワーヘッドの散水する部分の面積を大きくしても、止水した後に確実に水切りし、垂れ水が生じない。
しかも、最も垂れ水を生じ易い最外周の散水孔の径を小さくすることで、網体による表面張力に打ち勝って最外周の散水孔から流れ出ることを防止することができる。そのため、シャワーヘッドの散水する部分の面積を大きくしても、止水した後に確実に水切りし、垂れ水が生じない。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の請求項２においては、複数の散水孔を有する散水キャップをシャワーヘッドに取付けてなり、かつ、前記散水キャップの裏面に網体が当接されており、しかも、前記散水キャップにおける最外周の散水孔の径が、他の径より小さいことを特徴とするシャワーヘッドとした。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の請求項３においては、本発明の請求項５においては、前記散水キャップは、カバー部と散水板とにて構成されおり、前記カバー部には複数の散水穴を形成しかつ裏面を湾曲面に形成してなり、前記散水板は、弾性体にて形成するとともに、表面には前記散水穴に嵌まる突起部に散水孔を形成し、裏面には、外周に外周凸部を形成すると共に、散水孔周囲を凸部形状に形成してなるシャワーヘッドとした。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月25日(2007.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、原水中の懸濁物質を粒状物と凝集剤を添加して凝集沈澱により汚泥と処理水とに分離する凝集沈澱装置に関し、とくに凝集沈澱により分離した汚泥を効率よくさらに濃縮できるようにした凝集沈澱装置に関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図２は、本発明の第２実施態様に係る凝集沈澱装置４１を示している。本実施態様では、上記第１実施態様に比べ、濃縮手段に、気泡の浮上により濃縮汚泥と循環処理水とに分離する浮上分離槽４２（浮上分離手段）が設けられている。サイクロン２０の上部出口２３から浮上分離槽４２への汚泥の導出ライン４３に、浮上分離用水供給ライン４４が合流されている。浮上分離槽４２は、本実施態様では、内筒４５と外筒４１を有し、外筒４５の外側に浮上分離槽４２の槽壁４７が位置する構造となっている。汚泥導出ライン４３と合流された浮上分離用水供給ライン４４は、内筒４５内に臨むように接続されており、この内筒４５内で浮上分離のための気泡が浮上される。内筒４５の上方および外筒４６内上部には、浮上分離処理によって分離されたスカム４８が集められ、濃縮汚泥４９として後段の汚泥貯槽、さらには脱水機へと送られるようになっている（図示略）。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月16日(2008.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
この突起部２７ｂは、クランプ爪２７の縮径時に、ガイド軸体２５の外周に形成される収納凹部２５ｄに収容される。
クランプ爪２７の突起部２７ｂの前側の内側には、凹部２７ｃが形成されている。
この凹部２７ｃは、クランプ爪２７の縮径時に、ガイド軸体２５の収納凹部２５ｄの前側に形成される軸部２５ｆに当接される。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月25日(2008.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  一般式（Ｉ）
【化１】
2002355097.tif 000001
（式中、Ｒ１はα−アミラーゼによって切断されうる結合を介して還元末端のグルコース１位に結合し、該結合が切断されたとき、測定可能な物質となる基を表す）で表されるマルトオリゴ糖誘導体とα−グルコシダーゼとを含有する、生体試料中のα−アミラーゼ活性測定用試薬。
【請求項２】  測定可能な物質が、それ自体で吸光度を示す物質または蛍光物質である請求項１記載の試薬。
【請求項３】  Ｒ１が２−クロロ−４−ニトロフェニル基である請求項１または２記載の試薬。
【請求項４】  一般式（Ｉ）
【化２】
2002355097.tif 000002
（式中、Ｒ１はα−アミラーゼによって切断されうる結合を介して還元末端のグルコース１位に結合し、該結合が切断されたとき、測定可能な物質となる基を表す）で表されるマルトオリゴ糖誘導体とα−グルコシダーゼとを含有する試薬をα−アミラーゼを含有する生体試料と反応させて、前記マルトオリゴ糖誘導体から遊離する測定可能な物質の量を測定することを特徴とする生体試料中のα−アミラーゼ活性測定方法。
【請求項５】  測定可能な物質が、それ自体で吸光度を示す物質または蛍光物質である請求項４記載の方法。
【請求項６】  Ｒ１が２−クロロ−４−ニトロフェニル基である請求項４または５記載の方法。
【請求項７】  α−グルコシダーゼを用いることを特徴とする、一般式（Ｉ）
【化３】
2002355097.tif 000003
（式中、Ｒ１はα−アミラーゼによって切断されうる結合を介して還元末端のグルコース１位に結合し、該結合が切断されたとき、測定可能な物質となる基を表す）で表されるマルトオリゴ糖誘導体を用いる生体試料中のα−アミラーゼ活性測定における血糖降下剤の影響抑制方法。
【請求項８】  測定可能な物質が、それ自体で吸光度を示す物質または蛍光物質である請求項７記載の抑制方法。
【請求項９】  Ｒ１が２−クロロ−４−ニトロフェニル基である請求項７または８記載の抑制方法。
【請求項１０】  血糖降下剤が、糖質吸収遅延剤である請求項７〜９のいずれかに記載の抑制方法。
【請求項１１】  糖質吸収遅延剤が、Ｏ−４，６−ジデオキシ−４−｛［（１Ｓ，４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−４，５，６−トリヒドロキシ−３−（ヒドロキシメチル）−２−シクロヘキセン−１−イル］アミノ｝−α−Ｄ−グルコピラノシル−（１→４）−Ｏ−α−Ｄ−グルコピラノシル−（１→４）−Ｄ−グルコピラノース、又は、（＋）−１Ｌ−［１（ＯＨ），２，４，５／３］−５−［２−ヒドロキシ−１−（ヒドロキシメチル）エチル］アミノ−１−Ｃ−（ヒドロキシメチル）−１，２，３，４−シクロヘキサンテトラオールである請求項１０記載の抑制方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
【実施例】
実施例１  α−グルコシダーゼを含有するα−アミラーゼ活性測定用試薬
下記の通り、α−グルコシダーゼを含有するα−アミラーゼ活性測定用試薬をキットとして調製した。
第１試薬
ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ６．０）                ５０ｍｍｏｌ／Ｌ
酢酸カルシウム一水和物                    ６．７ｍｍｏｌ／Ｌ
塩化ナトリウム                            ４００ｍｍｏｌ／Ｌ
α−グルコシダーゼ                        １０Ｕ／ｍＬ
第２試薬
ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ６．０）                ５０ｍｍｏｌ／Ｌ
チオシアン酸カリウム                      ５６０ｍｍｏｌ／Ｌ
マルトオリゴ糖誘導体（ＩＩ）              １０ｍｍｏｌ／Ｌ
比較例１  α−グルコシダーゼを含有しないα−アミラーゼ活性測定用試薬
下記の通り、α−グルコシダーゼを含有しないα−アミラーゼ活性測定用試薬をキットとして調製した。
第１試薬
ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ６．０）                ５０ｍｍｏｌ／Ｌ
塩化カルシウム一水和物                    ６．７ｍｍｏｌ／Ｌ
塩化ナトリウム                            ４００ｍｍｏｌ／Ｌ
第２試薬
ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ６．０）                ５０ｍｍｏｌ／Ｌ
チオシアン酸カリウム                      ５６０ｍｍｏｌ／Ｌ
マルトオリゴ糖誘導体（ＩＩ）              １１．２ｍｍｏｌ／Ｌ
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月12日(2008.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する。
実施例１及び比較例
２倍重量の温水に対して日本食研（株）製の「クックコロッケ」（コロッケの具材の素）を添加し、均一になるようによく混合し、冷却したコロッケの中種生地を、ドラム式の成型機（日本キャリア工業（株）製）を用いて１個３５ｇになるように成型した。この中種１個に対して、バッター１０ｇ、パン粉１０ｇを付け、１７５℃で３分間フライした。バッターは予め必要な粉体資材をプレミックスしたものを、５℃の冷水に分散させて調製した。そのバッターの配合を表１に示した。
尚、バッターに使用している微粒状大豆たん白は、脱脂大豆を主原料とし、エクストルーダーにより押し出して膨化させた組織状大豆たん白（加熱変性し水不溶化したもの）をアーシェル社製コミットロールにて粗粉砕し、乾燥ラインにて水分１０％以下となるよう乾燥した粒状大豆たん白「ニューフジニック１２Ｓ」（不二製油（株）製）を、ゴミタ社製粉砕機にて微粉砕することにより作製した。微粒状植物性たん白としては、最大粒径の異なる４種類（（１）〜（４））を用いた。
最大粒径は以下のように定義した。即ち、微粒化した試料を篩い振動機（IIDA  SEISAKUSYO製）を用い、自動的に振動を与えながら、各種サイズのメッシュの篩いを大きい方から通過させ、試料が全て通過する最も小さいメッシュ目開きの大きさを最大粒径とした。
表１に記載の微粒状大豆たん白（２）は、１０メッシュ（目開き１．７ｍｍ）を全て通過するが、これより細かいメッシュのふるいは全ては通過しないため、最大粒径を１．７ｍｍとした。また、微粒状大豆たん白（４）は、１８．５メッシュ（目開き０．８５ｍｍ）を全て通過するが、これより細かいメッシュのふるいは全ては通過しないため、最大粒径を０．８５ｍｍとした。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
なお、実施例において配合で使用した資材を以下に示す。
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
粉末状大豆たん白      プロフィット1000                          
（フジプロテインテクノロジー（株））      
酸化澱粉              ラスターゲンＦＯ（日澱化学（株））        
α化澱粉              アイエフ131（日本ＮＳＣ（株））           
乳化剤                ＤＫフォーマーＦＤ30（第一工業製薬（株））
増粘剤                ネオソフトＸＣ（太陽化学（株））          
乳化油脂              ユニショートＥＦ（不二製油（株））        
微粒状大豆たん白（１）ニューフジニック12Ｓ（最大粒径4mm）         
微粒状大豆たん白（２）ニューフジニック12Ｓ（最大粒径1.7mm）       
微粒状大豆たん白（３）ニューフジニック12Ｓ（最大粒径1.4mm）       
微粒状大豆たん白（４）ニューフジニック12Ｓ（最大粒径0.85mm）      
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月29日(2008.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  角膜表面を切除することにより屈折異常を矯正する角膜切除手術のための角膜切除データ決定装置において、
手術前の患者眼の波面収差分布又は屈折力分布の第１測定データと手術前の患者眼の角膜表面形状の第２測定データとを入力する測定データ入力手段と、
前記測定データ入力により入力された第１及び第２測定データに基づいて眼の屈折異常を矯正するための角膜切除量を求める角膜切除量演算手段と、
第１測定データの測定光軸に対して角膜切除量の算出の基準軸をチルトさせるためのパラメータを入力するパラメータ入力手段と、を備え、
前記角膜切除量演算手段は、角膜切除量の算出の前記基準軸をチルトさせないときと同じ矯正度数となるように、前記パラメータ入力手段により入力されたパラメータに基づいて角膜切除量の算出の基準軸をチルトさせた角膜切除量を求めることを特徴とする角膜切除データ決定装置。
【請求項２】  請求項１の角膜切除データ決定装置において、前記角膜切除量演算手段は、手術前後で眼内における入射光の光路が同じになるように、前記測定データ入力手段により入力された第１及び第２測定データと前記パラメータ入力手段により入力されたパラメータとに基づいて術後の角膜各点への入射光の方向ベクトルを求め、該方向ベクトルに基づいて術後の角膜各点の法線ベクトルを求め、該法線ベクトルに基づいて術後の角膜表面形状を求め、求めた術後の角膜表面形状のデータと前記第２測定データとに基づいて角膜切除量を求めることを特徴とする角膜切除データ決定装置。
【請求項３】  角膜表面を切除することにより屈折異常を矯正する角膜切除量を算出するためにコンピュータを、手術前の患者眼の波面収差分布又は屈折力分布の第１測定データと手術前の患者眼の角膜表面形状の第２測定データとを入力する測定データ入力手段と、前記測定データ入力により入力された第１及び第２測定データに基づいて眼の屈折異常を矯正するための角膜切除量を求める角膜切除量演算手段と、第１測定データの測定光軸に対して角膜切除量の算出の基準軸をチルトさせるためのパラメータを入力するパラメータ入力手段と、として機能させ、前記角膜切除量演算手段は、角膜切除量の算出の前記基準軸をチルトさせないときと同じ矯正度数となるように、前記パラメータ入力手段により入力されたパラメータに基づいて角膜切除量の算出の基準軸をチルトさせた角膜切除量を求めることを特徴とする角膜切除データ決定プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は以下のような構成を備えることを特徴とする。
（１）  角膜表面を切除することにより屈折異常を矯正する角膜切除手術のための角膜切除データ決定装置において、手術前の患者眼の波面収差分布又は屈折力分布の第１測定データと手術前の患者眼の角膜表面形状の第２測定データとを入力する測定データ入力手段と、前記測定データ入力により入力された第１及び第２測定データに基づいて眼の屈折異常を矯正するための角膜切除量を求める角膜切除量演算手段と、第１測定データの測定光軸に対して角膜切除量の算出の基準軸をチルトさせるためのパラメータを入力するパラメータ入力手段と、を備え、前記角膜切除量演算手段は、角膜切除量の算出の前記基準軸をチルトさせないときと同じ矯正度数となるように、前記パラメータ入力手段により入力されたパラメータに基づいて角膜切除量の算出の基準軸をチルトさせた角膜切除量を求めることを特徴とする。
（２）  （１）の角膜切除データ決定装置において、前記角膜切除量演算手段は、手術前後で眼内における入射光の光路が同じになるように、前記測定データ入力手段により入力された第１及び第２測定データと前記パラメータ入力手段により入力されたパラメータとに基づいて術後の角膜各点への入射光の方向ベクトルを求め、該方向ベクトルに基づいて術後の角膜各点の法線ベクトルを求め、該法線ベクトルに基づいて術後の角膜表面形状を求め、求めた術後の角膜表面形状のデータと前記第２測定データとに基づいて角膜切除量を求めることを特徴とする。
（３）  角膜表面を切除することにより屈折異常を矯正する角膜切除量を算出するためにコンピュータを、手術前の患者眼の波面収差分布又は屈折力分布の第１測定データと手術前の患者眼の角膜表面形状の第２測定データとを入力する測定データ入力手段と、前記測定データ入力により入力された第１及び第２測定データに基づいて眼の屈折異常を矯正するための角膜切除量を求める角膜切除量演算手段と、第１測定データの測定光軸に対して角膜切除量の算出の基準軸をチルトさせるためのパラメータを入力するパラメータ入力手段と、として機能させ、前記角膜切除量演算手段は、角膜切除量の算出の前記基準軸をチルトさせないときと同じ矯正度数となるように、前記パラメータ入力手段により入力されたパラメータに基づいて角膜切除量の算出の基準軸をチルトさせた角膜切除量を求めることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月11日(2008.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】発光部または受光部にそれぞれ接続された複数の光ファイバと、各光ファイバの先端を生体の計測部位に接触させるために弾発的に支持する複数のソケットと、前記ソケットを所定の配列に支持する支持部材とを備え、前記光ファイバは、略90度に屈折した先端を有し、前記ソケットは前記光ファイバの屈折部と先端を保護するソケット本体と、前記光ファイバ先端を計測部位側に付勢する付勢手段とを備えたことを特徴とする生体光計測用装着具。
【請求項２】前記支持部材は、前記計測部位に対向する側に、クッション性のある緩衝材を備えたことを特徴とする請求項１記載の生体光計測用装着具。
【請求項３】前記緩衝材は、前記ソケットから突出する光ファイバ先端部を囲むように形成されていることを特徴とする請求項２記載の生体光計測用装着具。
【請求項４】前記緩衝材は、前記ソケットから突出する光ファイバ先端どうしを隔てる遮光部材であることを特徴とする請求項２記載の生体光計測用装着具。
【請求項５】生体に照射する光を照射する光照射部と、生体を透過した光を検出する光検出部と、前記光照射部および光検出部とを接続する複数の光ファイバと、前記複数の光ファイバの先端を所定の配列に支持し前記生体の計測部位に接触させるための装着手段とを備えた生体光計測装置において、
前記装着手段として、請求項１ないし４いずれか１項記載の装着具を備えたことを特徴とする生体光計測装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月30日(2008.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【書類名】明細書
【発明の名称】金属バット
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属バット本体の先端部に接合されたキャップを備えた金属バットであって、
前記金属バット本体の先端部には、蜂の巣状の孔を形成し、
前記キャップは、前記孔に挿入される爪を備え、
前記爪は、振動を吸収する素材にて形成されていること、
を特徴とする金属バット。
【請求項２】
前記金属バット本体の内壁面を、凹凸状に形成したこと、
を特徴とする請求項１に記載の金属バット。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、金属音を防止し、耐久性、反発力を向上させた金属バットに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来の金属バットは、金属一体のバットとヘッドキャップ付のバットがあった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
これは次のような欠点があった。
（イ）金属一体のバットは、金属音が発生して体に悪影響を及ぼす。
（ロ）ヘッドキャップ付のバットは、パイプ状本体にヘッドキャップを取り付けた構造のため、金属疲労が起きて先端部に亀裂が生じる。
本発明は、これらの欠点を除去し、金属音のしない、耐久性、反発力を向上させた金属バットを開発しようとするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、金属音、金属疲労を防止するために、次のような手段を発見した。
（Ａ）バット先端部に振動が抜ける蜂の巣状の孔を形成し、キャップの爪をその孔に取り付けて孔より抜けてきた金属音、振動を吸収する。
（Ｂ）金属バットの内壁面に凹凸を形成することで、外壁面の強度が高まり亀裂や歪み、変形が生じにくくする。
【０００５】
【作用】
このようにすると、金属音がしなくなり、バット内壁面に凹凸を形成することで、耐久性、反発力が向上し、より打球音がソフトな金属バットとなる。また、この構造は金属バットのみならず、ゴルフクラブや強度を必要とする鋼管等にも応用できる。なお、木製グリップを装着すると、皮グリップと異なり汗を吸収するために滑りが少なくなり、また、温度によって軟らかくなったり硬くなったりしないという利点がでる。
【０００６】
【発明の実施の形態】
この構造にして実験したところ、金属音、金属疲労防止に効果大で、耐久性が向上できると共に、反発力が向上したために、飛距離が延びた。また、手に伝わるショックも減少した。なお、木製グリップを装着したところ、打球音、打感共に木製バットにより近い感触になり疲れがたく、打球練習の量が大幅にアップした。装着方法は、強度面を重視し接着剤で固定して、さらに鋼鉄ピンで固定する。
【０００７】
【発明の効果】
金属バットの欠点である金属音、金属疲労を防止し、先端部の亀裂を防ぐだけでなく、バット内壁面の凹凸を形成したことにより、金属バット全体の強度が高まり、打球音もよりソフトとなり、反発力も向上する。今使用されている金属バットは、壊れやすくて困るという苦情が多かったが、この構造にすることで解消できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】全体断面図
【図２】爪付キャップ断面図
【図３】爪付キャップ接合部断面図
【図４】凹凸部断面図
【図５】木製グリップ装着断面図
【符号の説明】
１  爪付キャップ
２  爪付キャップ接合部
３  凹部
４  凸部
５  金属ボディー
６  鋼鉄ピン
７  木製グリップ
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月29日(2008.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技盤面上に設けられた始動口への遊技球の入賞に起因して特別遊技を実行し、特別遊技が発生したか否かを示す図柄を表示する弾球遊技機において、
前記図柄を表示する表示部の上方及び左右を囲む周壁と、
前記表示部の下方であって前記周壁とは独立して前記遊技盤に装着されるステージと、
を備え、
該ステージは、
前記遊技盤面から突出して配され、遊技領域を流下する遊技球を受ける受棚と、
該受棚に乗った遊技球が誘導され、遊技球が遊動するスロープと、
該スロープの前縁部に設けられ、遊動する遊技球を前記始動口の上方に落下誘導する凹部と、
を有し、
前記スロープは遊技盤面に埋設した状態で設けられ、
前記ステージの上方から流下してきた遊技球が前記スロープの前方を通過可能としたことを特徴とする弾球遊技機。
【請求項２】
請求項１記載の弾球遊技機において、
前記ステージを前記遊技盤の縦方向の中心線から左右いずれかの方向にずらした位置に配置すると共に、前記凹部を前記ステージの縦方向の中心線から前記ステージをずらした方向と逆の方向にずらした位置に設けることを特徴とする弾球遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段及び発明の効果】
請求項１記載の弾球遊技機は、遊技盤面上に設けられた始動口への遊技球の入賞に起因して特別遊技を実行し、特別遊技が発生したか否かを示す図柄を表示する弾球遊技機において、前記図柄を表示する表示部の上方及び左右を囲む周壁と、前記表示部の下方であって前記周壁とは独立して前記遊技盤に装着されるステージと、を備え、該ステージは、前記遊技盤面から突出して配され、遊技領域を流下する遊技球を受ける受棚と、該受棚に乗った遊技球が誘導され、遊技球が遊動するスロープと、該スロープの前縁部に設けられ、遊動する遊技球を前記始動口の上方に落下誘導する凹部と、を有し、前記スロープは遊技盤面に埋設した状態で設けられ、前記ステージの上方から流下してきた遊技球が前記スロープの前方を通過可能としたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、スロープの前方を遊技球が通過することが可能になるので、例えばその下方の遊技釘で遊技球を跳躍させて入球口又はワープ通路などに誘導するなども可能になる。
そのため、この弾球遊技機のステージは上方から流下してきた遊技球がダイレクトにスロープに乗ることはないが、受棚が遊技盤面を流下してきた遊技球をスロープに導く。
つまり、どのような流下経路の遊技球を上面に導くかを受棚の配置次第で変化させることができ、受棚の配置と遊技釘の配置とのコンビネーションで遊技球の経路を変化させることもできる。
さらに、誘導先に始動口のような特別の役割を与えることで興趣を高め、ステージの価値を高めることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項２記載の弾球遊技機は、請求項１に記載の弾球遊技機において、前記ステージを前記遊技盤の縦方向の中心線から左右いずれかの方向にずらした位置に配置すると共に、前記凹部を前記ステージの縦方向の中心線から前記ステージをずらした方向と逆の方向にずらした位置に設けることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
このように、遊技盤の縦方向の中心線から左右いずれかの方向にずらした位置に配置されているから、盤面構成に変化を与えることができ、デザイン性も優れている。
また、遊技領域の左サイドや右サイドを落下してくる遊技球をステージにて中央よりに誘導することができ、サイドから中央へと誘導する釘構成を補助することになるので、いわゆるゲージ構成において有利になる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月10日(2008.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１物体のパターン像を第２物体上に形成する投影光学系において、
前記投影光学系は、１．６以下の屈折率を有する光学材料で形成され、前記第１物体側および前記第２物体側の双方に実質的にテレセントリックであり、
光の波長をλとし、前記第１物体と前記第２物体との距離をＬとし、前記第２物体側の開口数をＮＡとし、前記第２物体上における最大像高をＹ0としたとき、
（λ×Ｌ）／（ＮＡ×Ｙ02）＜１．５×１０-3
の条件を満たしていることを特徴とする投影光学系。
【請求項２】  前記投影光学系の射出瞳と前記第２物体との距離をＥとし、前記第１物体と前記第２物体との距離をＬとしたとき、
Ｅ／Ｌ＞１．２
の条件を満たしていることを特徴とする請求項１に記載の投影光学系。
【請求項３】  前記投影光学系を構成するすべての光学部材が単一種の光学材料で形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の投影光学系。
【請求項４】  前記条件
（λ×Ｌ）／（ＮＡ×Ｙ02）＜１．５×１０-3
に代えて、
（λ×Ｌ）／（ＮＡ×Ｙ02）＜１．３×１０-3
の条件を満たしていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項５】  少なくとも１つの光学面が非球面形状に形成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項６】  前記条件
（λ×Ｌ）／（ＮＡ×Ｙ02）＜１．５×１０-3
に代えて、
（λ×Ｌ）／（ＮＡ×Ｙ02）＜１．０×１０-3
λ＜２００ｎｍ
の条件を満たしていることを特徴とする請求項５に記載の投影光学系。
【請求項７】  前記条件
（λ×Ｌ）／（ＮＡ×Ｙ02）＜１．０×１０-3
に代えて、
（λ×Ｌ）／（ＮＡ×Ｙ02）＜０．９×１０-3
の条件を満たしていることを特徴とする請求項６に記載の投影光学系。
【請求項８】  第１物体側から順に、正の屈折力を有する第１レンズ群と負の屈折力を有する第２レンズ群と正の屈折力を有する第３レンズ群とを備え、前記第１物体のパターン像を第２物体上に形成する投影光学系において、
前記第２物体上における最大像高をＹ0とし、前記第１物体と前記第２物体との距離をＬとしたとき、
０．０１４＜Ｙ0／Ｌ＜０．０３０
の条件を満たしていることを特徴とする投影光学系。
【請求項９】  前記条件
０．０１４＜Ｙ0／Ｌ＜０．０３０
に代えて、
０．０１５＜Ｙ0／Ｌ＜０．０２５
の条件を満たしていることを特徴とする請求項８に記載の投影光学系。
【請求項１０】  前記第１物体上における最大物体高をＨ0とするとき、
前記第１レンズ群を構成する光学面の総数の８０％以上の数の光学面が前記最大物体高Ｈ0の１．１倍よりも大きな有効半径を有し、
前記第２レンズ群を構成する光学面の総数の８０％以上の数の光学面が前記最大物体高Ｈ0の１．１倍よりも小さな有効半径を有し、
前記第３レンズ群を構成する光学面の総数の７０％以上の数の光学面が前記最大物体高Ｈ0の１．１倍よりも大きな有効半径を有することを特徴とする請求項８または９に記載の投影光学系。
【請求項１１】  前記第１レンズ群は、前記投影光学系に属するレンズ群のうちで最も前記第１物体側に配置され、
前記第３レンズ群は、前記投影光学系に属するレンズ群のうちで最も前記第２物体側に配置されていることを特徴とする請求項８乃至１０のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項１２】  前記第１物体としてのマスクを照明するための照明系と、前記マスクに形成されたパターンの像を前記第２物体としての感光性基板上に形成するための請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の投影光学系とを備えていることを特徴とする露光装置。
【請求項１３】  前記投影光学系の光軸を横切る方向に関して前記マスクと前記感光性基板とを相対的に静止させた状態で露光を行うことを特徴とする請求項１２に記載の露光装置。
【請求項１４】  前記第１物体としてのマスクを照明する照明工程と、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の投影光学系を介して、前記照明工程により照明された前記マスクのパターンを前記第２物体としての感光性基板上に露光する露光工程と、前記露光工程により露光された前記感光性基板を現像する現像工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１５】  前記露光工程では、前記投影光学系の光軸を横切る方向に関して前記マスクと前記感光性基板とを相対的に静止させた状態で露光を行うことを特徴とする請求項１４に記載のデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明の第７形態では、マスク上のパターンを感光性基板上に投影露光する露光方法であって、照明系を用いて前記マスクを照明する照明工程と、投影光学系を用いて前記マスク上の前記パターンの縮小像を前記感光性基板上に形成する投影工程とを備え、前記投影光学系は、１．６以下の屈折率を有する光学材料で形成され、前記マスク側および前記感光性基板側の双方に実質的にテレセントリックであり、前記照明系からの光の波長をλとし、前記マスクと前記マスクの像との距離をＬとし、前記感光性基板側の開口数をＮＡとし、前記感光性基板上における最大像高をＹ0としたとき、
（λ×Ｌ）／（ＮＡ×Ｙ02）＜１．５×１０-3
の条件を満足することを特徴とする露光方法を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明の第９形態では、マスク上のパターンを感光性基板上に投影露光する露光方法であって、照明系を用いて前記マスクを照明する照明工程と、投影光学系を用いて前記マスク上の前記パターンの縮小像を前記感光性基板上に形成する投影工程とを備え、前記投影光学系は、１．６以下の屈折率を有する光学材料で形成され、前記マスク側および前記感光性基板側の双方に実質的にテレセントリックであり、少なくとも１つの光学面が非球面形状に形成され、前記照明系からの光の波長をλとし、前記マスクと前記マスクの像との距離をＬとし、前記感光性基板側の開口数をＮＡとし、前記感光性基板上における最大像高をＹ0としたとき、
（λ×Ｌ）／（ＮＡ×Ｙ02）＜１．０×１０-3
λ＜２００ｎｍ
の条件を満足することを特徴とする露光方法を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月24日(2007.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
従来システムでは、生産や取次ぎに要した費用などを積算した販売価格を購入者が支払うことが一般的であるが、本発明ではマネー自体が潜在的に有する特徴を活かす手法により、それぞれの過程で要する経費などの発生元（供給に関わる者）に本装置が直接マネーを発行することによって、諸経費などに不連続性をもたせるものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
そのため、端末装置自体も将来的には声紋を含めた生体認識などの機能を有するものであるが、それは従来のように盗難や不正使用などの防止を第１の目的とするものではなく、利用者の社会的な合理的機能性を重視し生活環境を健全なものにすることを第１目的とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月11日(2007.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
文書ファイルを受信する受信手段と、
前記受信手段で受信した文書ファイルに署名を付与する署名手段とを有し、
前記署名手段は、
前記受信手段で前記文書ファイルを受信する前に付与された署名と、受信した後に付与された署名とを区別するための識別情報を前記文書ファイルに付与することを特徴とする署名付与装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
前記判定工程は、
前記場合以外の場合に、
前記署名の種類が前記第１の種類であると判定することを特徴とする請求項１４に記載の署名検証装置の制御方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
文書ファイルを受信する受信工程と、
前記受信工程で受信した文書ファイルに署名を付与する署名工程とを有し、
前記署名工程は、
前記受信工程で前記文書ファイルを受信する前に付与された署名と、受信した後に付与された署名とを区別するための識別情報を前記文書ファイルに付与することを特徴とする署名付与装置の制御方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１７】
前記署名工程は、
前記受信工程で受信した文書ファイルに、前記識別情報を含むようにして署名を付与することを特徴とする請求項１６に記載の署名付与装置の制御方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】
前記署名工程は、
前記受信工程を介して文書ファイルを受信した場合には、必ず識別情報を含むようにして署名を付与するが、
それ以外の場合に署名を文書ファイルに対して付与する場合には、識別情報を含まないようにして署名を付与することを特徴とする請求項１６に記載の署名付与装置の制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月2日(2008.5.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
最後に、機械本体２を利用できるようにするために図８に示す本体電源ＯＮ処理が行なわれる。工作機械１に本体電源が供給されると、ステップＳ２１で、機械本体２の移設有無処理部２ａ側から回転検知ユニット８側に電源ＯＮ指令ｃが出力され、ステップＳ２２に移る。回転検知ユニット８側では、この電源ＯＮ指令ｃにより電源ＯＮ／ＯＦＦ回路１５がＯＮしてＭＰＵ９に電源切替回路１８を介して主電源が供給される。ステップＳ２２で、前述した通信処理が回転検知ユニット８と機械本体２の移設有無処理部２ａとの間で行なわれ、ステップＳ２３に移る。ステップＳ２３で、機械本体２の移設有無処理部２ａは、移設の有無を判断し、移設があったと判断した場合にステップＳ２４に移る。ステップＳ２４で、機械本体２の移設有無処理部２ａは、操作盤７に設けたアラームや表示画面などにより移設を知らせるととともに運転制限を行ない、ステップＳ２５に移る。例えば、運転制限としては、自動運転による起動を禁止することなどを挙げることができる。ステップＳ２５で、その運転制限を解除する解除操作を行ない、ステップＳ２６に移る。例えば、解除操作としては、キー付きスイッチにより操作することや解除用スイッチを操作した際にパスワードを入力することなどを挙げることができる。ステップＳ２６で、機械本体２の移設有無処理部２ａは、この解除操作が正しい手順で行なわれたか否かを判断し、正しい手順で行なわれたと判断した場合にステップＳ２７に移る。例えば、正しい手順としては、前述した解除操作を行なったことなどを挙げることができる。ステップＳ２６で、機械本体２の移設有無処理部２ａは、この解除操作が正しい手順で行なわれなかったと判断した場合にステップＳ２５に戻ってこの判断を繰り返す。ステップＳ２７で、前述した通信処理が回転検知ユニット８と機械本体２の移設有無処理部２ａとの間で行なわれ、図６のステップＳ１８で機械本体２の移設有無処理部２ａから移設有無の状態リセット指令を待って待機している回転検知ユニット８に対し、機械本体２の移設有無処理部２ａがその移設有無の状態リセット指令を送信し、ステップＳ２８に移る。ステップＳ２８で、機械本体２の移設有無処理部２ａは、操作盤７に設けたアラームや表示画面を解除するとともに運転制限を解除し、本体電源ＯＮ処理が終了する。前記ステップＳ２３で、機械本体２の移設有無処理部２ａは、移設がなかったと判断した場合にも本体電源ＯＮ処理を終了する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月21日(2008.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
島状の半導体膜上にゲート絶縁膜と、導電膜と、レジストとを順に形成し、
第１の凹部と、前記第１の凹部の中に形成された第２の凹部とを有するモールドを、前記レジストに押し付けた状態で前記レジストを硬化させて、前記第１の凹部及び前記第２の凹部の形状に応じた第１の凸部及び第２の凸部を有するパターンを前記レジストに形成し、
前記パターンが形成された前記レジストの表面を前記導電膜の一部が露出するまでアッシングし、
前記アッシングされた前記レジストをマスクとして用い、前記導電膜をエッチングすることで、段差を有するゲート電極を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
島状の半導体膜上にゲート絶縁膜と、導電膜と、レジストとを順に形成し、
第１の凹部と、前記第１の凹部の中に形成された第２の凹部とを有するモールドを、前記レジストに押し付けた状態で前記レジストを硬化させて、前記第１の凹部及び前記第２の凹部の形状に応じた第１の凸部及び第２の凸部を有するパターンを前記レジストに形成し、
前記パターンが形成された前記レジストの表面を前記導電膜の一部が露出するまでアッシングし、
前記アッシングされた前記レジストをマスクとして用い、前記導電膜をエッチングすることで、段差を有するゲート電極を形成し、
前記ゲート電極をマスクとして用い、前記島状の半導体膜に不純物をドーピングすることで、前記島状の半導体膜に、チャネル形成領域と、前記チャネル形成領域を間に挟んでいる一対のＬＤＤ領域と、前記チャネル形成領域及び前記一対のＬＤＤ領域を間に挟んでいるソース領域及びドレイン領域とを形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記レジストは光硬化性樹脂を用いており、紫外線の照射により前記レジストが硬化することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１または請求項２において、
前記レジストは熱可塑性樹脂を用いており、加熱により前記レジストが硬化することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
電極上に絶縁膜を形成し、
凸部が形成されたモールドを、前記絶縁膜に押し付けた状態で前記絶縁膜を硬化させて、前記凸部の形状に応じた凹部を前記絶縁膜に形成し、
前記凹部が形成された前記絶縁膜の表面を前記電極の一部が露出するまでアッシングすることで、前記絶縁膜に開口部を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
配線上に絶縁膜を形成し、
凸部が形成されたモールドを、前記絶縁膜に押し付けた状態で前記絶縁膜を硬化させて、前記凸部の形状に応じた凹部を前記絶縁膜に形成し、
前記凹部が形成された前記絶縁膜の表面を前記電極の一部が露出するまでアッシングすることで、前記絶縁膜にコンタクトホールを形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項５または請求項６において、
前記絶縁膜は光硬化性樹脂を用いており、紫外線の照射により前記絶縁膜が硬化することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項５または請求項６において、
前記絶縁膜は熱可塑性樹脂を用いており、加熱により前記絶縁膜が硬化することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月2日(2008.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ＩＣチップの作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面を有する第１の基板上に剥離層を形成し、
前記剥離層上に少なくとも１つの薄膜集積回路を形成し、
前記薄膜集積回路の境界に開口部を形成して、前記剥離層を露出させ、
前記開口部にエッチング剤を導入して、前記剥離層を除去し、
第１のローラーを回転させて、前記第１の基板上の前記薄膜集積回路の一方の面を第２の基板に接着させ、
第２のローラーと第３のローラーを回転させて、前記薄膜集積回路の他方の面を前記第２の基板に接着させ、かつ、前記第２のローラーと前記第３のローラーの間を前記薄膜集積回路が通過する際に、前記第２の基板、第３の基板及び前記薄膜集積回路に加圧処理と加熱処理の少なくとも一方を行って、前記第２の基板と前記第３の基板により前記薄膜集積回路を封止することを特徴とするＩＣチップの作製方法。
【請求項２】
絶縁表面を有する第１の基板上に剥離層を形成し、
前記剥離層上に少なくとも１つの薄膜集積回路を形成し、
前記薄膜集積回路の境界に開口部を形成して、前記剥離層を露出させ、
前記開口部にエッチング剤を導入して、前記剥離層を除去し、
搬送手段により前記第１の基板を搬送すると共に、第１のローラーを回転させて、前記第１の基板上の前記薄膜集積回路の一方の面を第２の基板に接着させ、
第２のローラーと第３のローラーを回転させて、前記薄膜集積回路の他方の面を前記第２の基板に接着させ、かつ、前記第２のローラーと前記第３のローラーの間を前記薄膜集積回路が通過する際に、前記第２の基板、第３の基板及び前記薄膜集積回路に加圧処理と加熱処理の少なくとも一方を行って、前記第２の基板と前記第３の基板により前記薄膜集積回路を封止することを特徴とするＩＣチップの作製方法。
【請求項３】
絶縁表面を有する第１の基板上に剥離層を形成し、
前記剥離層上に少なくとも１つの薄膜集積回路を形成し、
前記薄膜集積回路の境界に開口部を形成して、前記剥離層を露出させ、
前記開口部にエッチング剤を導入して、前記剥離層を除去し、
第１のローラーと第２のローラーを回転させて、前記第１の基板上の前記薄膜集積回路の一方の面を第２の基板に接着させ、かつ、前記薄膜集積回路の他方の面を第３の基板に接着させ、なおかつ、前記第１のローラーと前記第２のローラーの間を前記薄膜集積回路が通過する際に、前記第２の基板、前記第３の基板及び前記薄膜集積回路に加圧処理と加熱処理の少なくとも一方を行って、前記第２の基板と前記第３の基板により前記薄膜集積回路を封止することを特徴とするＩＣチップの作製方法。
【請求項４】
絶縁表面を有する第１の基板上に剥離層を形成し、
前記剥離層上に少なくとも１つの薄膜集積回路を形成し、
前記薄膜集積回路の境界に開口部を形成して、前記剥離層を露出させ、
前記開口部にエッチング剤を導入して、前記剥離層を除去し、
搬送手段により前記第１の基板を搬送すると共に、第１のローラーを回転させて、前記第１の基板上の前記薄膜集積回路の一方の面を第２の基板に接着させ、
前記第１のローラーと第２のローラーを回転させて、前記薄膜集積回路の他方の面を第３の基板に接着させ、かつ、前記第１のローラーと前記第２のローラーの間を前記薄膜集積回路が通過する際に、前記第２の基板、前記第３の基板及び前記薄膜集積回路に加圧処理と加熱処理の少なくとも一方を行って、前記第２の基板と前記第３の基板により前記薄膜集積回路を封止することを特徴とするＩＣチップの作製方法。
【請求項５】
絶縁表面を有する第１の基板上に剥離層を形成し、
前記剥離層上に少なくとも１つの薄膜集積回路を形成し、
前記薄膜集積回路の境界に開口部を形成して、前記剥離層を露出させ、
前記開口部にエッチング剤を導入して、前記剥離層を除去し、
基板制御手段により、前記第１の基板は、前記第１の基板の一方の面と第２の基板の一方の面が対向するように固定され、なおかつ、前記第１の基板上の前記薄膜集積回路の一方の面が前記第２の基板に接着するように移動され、
搬送手段により前記第１の基板を搬送すると共に、前記搬送手段が含む第１のローラーを回転させて、前記第１の基板の一方の面から前記薄膜集積回路を剥離し、なおかつ、前記薄膜集積回路の一方の面が接着された前記第２の基板を第２のローラーに供給し、
前記第２のローラーと第３のローラーを回転させて、前記薄膜集積回路の他方の面を第３の基板に接着させ、なおかつ、前記第２のローラーと前記第３のローラーの間を前記薄膜集積回路が通過する際に、前記第２の基板、前記第３の基板及び前記薄膜集積回路に加圧処理と加熱処理の少なくとも一方を行って、前記第２の基板と前記第３の基板により前記薄膜集積回路を封止することを特徴とするＩＣチップの作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記薄膜集積回路として、複数の薄膜トランジスタと、アンテナとして機能する導電層を形成することを特徴とするＩＣチップの作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記エッチング剤は、フッ化ハロゲンを含む気体又は液体であることを特徴とするＩＣチップの作製方法。
【請求項８】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
第４のローラーを回転させて、前記第２の基板と前記第３の基板により封止された前記薄膜集積回路を巻き取ることを特徴とするＩＣチップの作製方法。
【請求項９】
請求項２、請求項４又は請求項５のいずれか一項において、
前記搬送手段は、ベルトコンベア、複数のローラー又はロボットアームであることを特徴とするＩＣチップの作製方法。
【請求項１０】
請求項１、請求項２又は請求項５のいずれか一項において、
前記第２のローラーと前記第３のローラーの少なくとも一方は加熱手段を有し、
前記加熱手段は、電熱線のヒータ又はオイルであることを特徴とするＩＣチップの作製方法。
【請求項１１】
請求項３または請求項４において、
前記第１のローラーと前記第２のローラーの少なくとも一方は加熱手段を有し、
前記加熱手段は、電熱線のヒータ又はオイルであることを特徴とするＩＣチップの作製方法。
【請求項１２】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記第２の基板と前記第３の基板の各々は、フィルムであることを特徴とするＩＣチップの作製方法。
【請求項１３】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記第２の基板と前記第３の基板の少なくとも一方は、接着面を有することを特徴とするＩＣチップの作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月30日(2008.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属を含有する半導体ウェーハのＣＭＰに有用な水性組成物であって、酸化剤、非鉄金属のインヒビター、非鉄金属の錯化剤、改質セルロース、アクリル酸とメタクリル酸とのコポリマー０．０１〜５重量％及び残余としての水を含み、アクリル酸とメタクリル酸との前記コポリマーが、１：３０〜３０：１の範囲のモノマー比（アクリル酸：メタクリル酸）を有し、１Ｋ〜１０００Ｋの範囲の分子量を有するものである組成物。
【請求項２】
アクリル酸とメタクリル酸との前記コポリマーが１：９〜９：１の範囲のモノマー比（アクリル酸：メタクリル酸）を有する、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
アクリル酸とメタクリル酸との前記コポリマーが約２：３のモノマー比（アクリル酸：メタクリル酸）を有する、請求項２記載の組成物。
【請求項４】
前記コポリマーが２０Ｋ〜２００Ｋの範囲の分子量を有する、請求項１記載の組成物。
【請求項５】
前記改質セルロースが、カルボキシメチルセルロース、アガーガム、アラビアガム、ガッチガム、カラヤガム、グアーガム、ペクチン、ローカストビーンガム、トラガカントガム、タマリンドガム、カラゲナンガム及びキサンタンガム、化工デンプン、アルギン酸、マンヌロン酸、グルロン酸ならびにそれらの改変物、コポリマー及び混合物からなる群からの、カルボン酸官能基で修飾された水溶性セルロースである、請求項１記載の組成物。
【請求項６】
前記改質セルロースがカルボキシメチルセルロースである、請求項５記載の組成物。
【請求項７】
無砥粒である、請求項１記載の組成物。
【請求項８】
半導体ウェーハ上の非鉄金属を研磨する方法であって、非鉄金属を含有するウェーハを、酸化剤、非鉄金属のインヒビター、非鉄金属の錯化剤、改質セルロース、アクリル酸とメタクリル酸とのコポリマー０．０１〜５重量％及び残余としての水を含み、アクリル酸とメタクリル酸との前記コポリマーが、１：９〜９：１の範囲のモノマー比（アクリル酸：メタクリル酸）を有し、１Ｋ〜１０００Ｋの範囲の分子量を有するものである研磨組成物と接触させること、及び前記ウェーハを研磨パッドで研磨することを含む方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の研磨組成物は、カルボン酸官能基で修飾された水溶性セルロースを含有する。好ましくは、組成物は、水溶性セルロースを０．０１〜５．０重量％含有する。もっとも好ましくは、組成物は水溶性セルロースを約０．３重量％含有する。典型的な改質セルロースは、アニオン性ガム、たとえばアガーガム、アラビアガム、ガッチガム、カラヤガム、グアーガム、ペクチン、ローカストビーンガム、トラガカントガム、タマリンドガム、カラゲナンガム及びキサンタンガム、化工デンプン、アルギン酸、マンヌロン酸、グルロン酸（guluronic acid）ならびにそれらの改変物及び組み合わせである。好ましい水溶性セルロースであるカルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）は、１Ｋ〜１０００Ｋの分子量で０．１〜３．０の置換度を有する。より好ましいＣＭＣは、４０Ｋ〜２５０Ｋの分子量で０．７〜１．２の置換度を有する。ＣＭＣの置換度は、置換されるセルロース分子中の各無水グルコース単位上のヒドロキシル基の数である。これは、ＣＭＣ中のカルボン酸基の「密度」の尺度と見なすことができる。