(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
アンプル充填兼閉鎖装置であって、アンプル（１８）を充填するための充填ステーション（２４）と、アンプル充填開口を溶封することによってアンプルを閉鎖するための閉鎖ステーション（２６）とが設けられており、この場合閉鎖ステーションに、レーザビームの作用下でアンプル充填開口を溶封するために少なくとも１つのレーザ（２８）が配属されており、さらに、空のアンプルを充填ステーションに供給するため、充填されたアンプルを充填ステーションから閉鎖ステーションに供給するため及び充填されたアンプルを閉鎖ステーションから搬出するためのアンプル搬送区間を備えた搬送装置（１２）が設けられている形式のものにおいて、各アンプルの処理状態を求めることを目的として、アンプルにおけるレーザビーム作用の結果、アンプルからのプロセスビーム特に熱線及び／又は励起状態からの緩和に起因するビームを検出するために、それぞれ閉鎖されるアンプルに検出装置（９４ｅ）が配属もしくは対応配置されているいることを特徴とする、レーザビームを用いてアンプルを閉鎖する装置。
【請求項２】
アンプル及び／又はアンプル壁材料の少なくとも１つの固有パラメータ特にアンプル壁材料の材料厚さ及び／又はジオメトリ及び／又は充填状態及び／又は着色を求めることを目的として、処理状態を評価することができるように構成された評価ユニットが設けられている、請求項１記載の装置。
【請求項３】
装置特に少なくとも１つのレーザ（２８ｅ）の少なくとも１つの運転パラメータが、処理状態に関連して調節可能である、請求項１又は２記載の装置。
【請求項４】
下記の運転パラメータ、すなわち：
場合によっては行われる予加熱時及び／又は閉鎖時におけるレーザビームの中位の出力、
パルスレーザの場合：予加熱時及び／又は閉鎖時におけるレーザビームのパルス周波数及び／又はパルスエネルギ、
閉鎖中にレーザビームが作用するアンプルの領域、
場合によっては行われる先端部引出しの場合：閉鎖のためのレーザ作用の開始に関連した引出し時点の調整及び／又は先端部引出し速度、
場合によっては行われる予加熱の場合：予加熱時間及び／又は閉鎖の開始の時間的な調整及び／又は予加熱中に作用を受けるアンプルの領域、
場合によっては行われるアンプル回転の場合：予加熱時及び／又は閉鎖時における各アンプルの回転速度、
各アンプルにおけるレーザビームの強度分布、
行われる場合：閉鎖工程を助成するためのアンプルの軟化された区分に対する加工ガス及び／又は、アンプルにガス供給するための供給ガスの供給、
という運転パラメータのうちの少なくとも１つが、閉鎖の最適化のために、場合によっては各アンプルの処理状態に関連してかつ／又は場合によっては各アンプルのための時間的な処理プログラムに関連して、調節可能である、請求項１から３までのいずれか１項記載の装置。
【請求項５】
充填されて閉鎖されたアンプルに関連した少なくとも１つの処理状態及び／又は装置の少なくとも１つの運転パラメータを記録するために適した、記録装置（９８ｅ）が設けられている、請求項１から４までのいずれか１項記載の装置。
【請求項６】
装置が次のように、すなわちレーザ作用場合によってはレーザ出力が、装置のその時のサイクル時間及び／又はアンプルに対するレーザビームのその時の作用長さに合わせられるように、設計されている、請求項１から５までのいずれか１項記載の装置。
【請求項７】
アンプル開口の溶封によってアンプル（１８）を閉鎖する方法であって、アンプル開口をレーザビームの作用下で溶封する形式の方法において、各アンプルの処理状態を求めることを目的として、アンプルへのレーザビーム作用の結果、該アンプルからのプロセスビーム特に熱線及び／又は励起状態からの緩和に起因するビームを検出することを特徴とする、レーザビームを用いてアンプルを閉鎖する方法。
【請求項８】
アンプル及び／又はアンプル壁材料の少なくとも１つの固有パラメータ特にアンプル壁材料の材料厚さ及び／又はジオメトリ及び／又は充填状態及び／又は着色を求めることを目的として、処理状態を評価する、請求項７記載の方法。
【請求項９】
少なくとも１つの方法パラメータ、特に、レーザビームを生ぜしめるレーザ装置の少なくとも１つの運転パラメータを、処理状態に関連して調節する、請求項７又は８記載の方法。
【請求項１０】
下記の方法パラメータ、すなわち：
場合によっては行われる予加熱時及び／又は閉鎖時におけるレーザビームの中位の出力、
パルスレーザの場合：予加熱時及び／又は閉鎖時におけるレーザビームのパルス周波数及び／又はパルスエネルギ、
閉鎖中にレーザビームが作用するアンプルの領域、
場合によっては行われる先端部引出しの場合：閉鎖のためのレーザ作用の開始に関連した引出し時点の調整及び／又は先端部引出し速度、
場合によっては行われる予加熱の場合：予加熱時間及び／又は閉鎖の開始の時間的な調整及び／又は予加熱中に作用を受けるアンプルの領域、
場合によっては行われるアンプル回転の場合：予加熱時及び／又は閉鎖時における各アンプルの回転速度、
各アンプルにおけるレーザビームの強度分布、
行われる場合：閉鎖工程を助成するためのアンプルの軟化された区分に対する加工ガス及び／又は、アンプルにガス供給するための供給ガスの供給、
という方法パラメータのうちの少なくとも１つを、閉鎖の最適化のために、場合によっては各アンプルの処理状態に関連してかつ／又は場合によっては各アンプルのための時間的な処理プログラムに関連して、調節する、請求項７から９までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】
閉鎖されたアンプルに関連して、少なくとも１つの方法パラメータ及び／又は処理状態を記録する、請求項７から１０までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】
レーザ作用場合によってはレーザ出力を、装置のその時のサイクル時間及び／又はアンプルに対するレーザビームのその時の作用長さに合わせる、請求項７から１１までのいずれか１項記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、アンプル充填兼閉鎖装置であって、アンプルを充填するための充填ステーションと、アンプル充填開口を溶封することによってアンプルを閉鎖するための閉鎖ステーションとが設けられており、さらに、空のアンプルを充填ステーションに供給するため、充填されたアンプルを充填ステーションから閉鎖ステーションに供給するため及び充填されたアンプルを閉鎖ステーションから搬出するためのアンプル搬送区間を備えた搬送装置が設けられている形式のものに関する。本発明はさらに、アンプル開口の溶封によってアンプルを閉鎖する方法に関する。
【０００２】
ここでは特にガラスアンプル（特に医薬用のガラスアンプル）を想定しているが、アンプルは通常、大量生産用に設計された製品（例えば薬用の製品）の枠内において、上記形式の装置によって充填されて閉鎖され、このような装置では閉鎖ステーションは、各アンプルをガス火炎を用いて溶封（zuschmelzen）するために、少なくとも１つのガスバーナを有している。満足できる結果は従来次のこと、すなわちアンプルがガス火炎によって溶融され、次いでアンプルのアンプル先端部が先端部引出しトングを用いて引き出されることによってしか、達成されない。確かにドイツ連邦共和国特許第３８１０９４０号明細書によれば、個々のアンプルの閉鎖時に個々のアンプルを赤外線ランプの使用下で溶融することが、既に考慮されている。しかしながら赤外線ランプの赤外線ビームのエネルギ密度を考えた場合、実際の使用に際してこのようにしてそもそもアンプルの閉鎖が可能であるかどうかは、疑わしいと言わざるを得ない。確実な閉鎖が可能であるとしても、そのために必要な各アンプルに対する照射時間は極めて長いものであり、したがってドイツ連邦共和国特許第３８１０９４０号明細書に開示された解決策は、ガス火炎の使用下で行われる汎用の閉鎖方式の代わりに使用することはできない。しかもこの場合、赤外線ランプは、通常のガラス種類はビームをまったく又は極めて弱くしか吸収しないような波長領域（約１〜３μｍ）においてビームを放出するので、特殊ガラス製のアンプルを使用することが必要である。
【０００３】
数年前からレーザビームを、ガラス製のワークを含めてワークの変形、溶かし直し又は熱処理のために使用することが公知（例えばヨーロッパ特許公開第０７９４０３１号及びヨーロッパ特許公開第００７６９２５号参照）であるが、市場には依然として、アンプルをガスバーナ火炎の使用下で上述のように閉鎖する冒頭に述べた形式のアンプル充填兼閉鎖装置しか出回っていない。ガスバーナの代わりに他の加熱手段を使用することには十分な理由がある。それというのはガスバーナの使用は多くの観点から不都合だからである。例えばガスバーナのガス供給のためには高い設備費用が必要である。ガスバーナから発せられた熱は吸引装置によって排出されねばならず、これによって、特に医薬的な使用領域においてしばしば形成される成層空気流が搬送区間の領域において妨害される。さらに、ガス火炎の点火もしくは燃焼を常に監視することが必要である。バーナの点火の際には、装置はかなり長時間にわたって高出力運転されねばならないので、緊急停止時にもバーナの燃焼は継続され、この場合、その時にバーナの作用下にあるアンプルは溶融されて駄目になってしまうという現象を甘受しなくてはならない。また、バーナから放出される熱の調節は困難でありかつ不正確であるので、製品の再現性及び記録可能性には問題がある。したがって製品安全性もしくは生産確実性も改善の余地がある。さらにまた、ガスバーナを使用することに基づいて装置の操作は比較的複雑であり、かつエラーのおそれがある。ガスバーナは定期的に交換されねばならないので、保守に関する手間もしくは費用も相応に多くなる。さらにまた、ガスバーナの領域における高温部分によって操作員が怪我をするおそれもある。純度に関する極めて高い要求が満たされねばならない医薬用の製品に関してはさらに次のような問題、すなわちガス火炎によって、アンプル内部から完全に遠ざけておくことがほとんど不可能な煤煙粒子の発生することがある、という問題がある。アンプルが通常アンプル先端部の引出しによって閉鎖されることによって、アンプル内への煤煙の進入は最少に減じられる。しかしながらアンプル先端部を引き出すことはそれ自体、一方では装置の相応な引出し機構に関してかつ他方ではアンプル自体のための材料費及び製造費に関して、より高い費用のかかることを意味している。
【０００４】
他の手段によるガスバーナからの解離のために述べられているこれらの理由にもかかわらず、実際には相変わらずガスバーナが使用されている。これはたぶん次のことに起因している。すなわち特に製薬のための医薬用アンプルにおいては、シール性と無菌状態に対する極めて高い要求が存在しており、その場合ガスバーナの使用は一方では、大きな熱作用に基づいて閉鎖ステーションの領域における無菌状態の維持もしくは形成のために有利であり、かつ他方では、ガス火炎によってアンプル壁材料に対して加えられる機械的な圧力が、溶融される壁材料特にガラスの所望の移動、ひいては毛管状の貫通開口のない確実な溶封を助成する。
【０００５】
しかしながら今や、レーザビームの使用によってアンプルを確実に溶封することができるということが判明している。ゆえに本発明によれば、閉鎖ステーションに、レーザビームの作用下でアンプル充填開口を溶封するために少なくとも１つのレーザが配属されている。
【０００６】
レーザビームの使用下において確実な溶封が可能であるということは、驚くべきことであると言える。それというのは、ガス火炎を使用しない場合には機械的なガス火炎圧が得られないからである。またレーザビームは、ガス火炎の比較的大きな面積の作用とは異なり、局部的な箇所でアンプルに作用する。レーザビームの作用によって、ヨーロッパ特許公開第０７９４０３１号及びヨーロッパ特許公開第００７６９２５号に記載のようにガラスを加工できるということは、疑問の余地がない。しかしながらまたアンプルの閉鎖が可能であるということは、期待することができなかった。それというのは、上に述べた比較的局部的なレーザビーム作用とエラーのある機械的なガス火炎作用とに基づいて、毛管状の貫通孔のない再現可能な溶封は不可能であるということを、懸念しなければならなかったからである。
【０００７】
本発明によって可能になった、ガスバーナの放棄によって、幾つかの大きな利点が得られる。例えば、上に述べたような設備及び監視にかかる費用もしくは手間が不要になる。レーザビームによって所望のように各アンプルを加熱することができるので、熱を装置もしくは設備から排出する必要がない。したがって、場合によっては形成される成層空気流は邪魔されない。アンプル充填兼閉鎖装置を迅速に始動及び再び停止することができ、この場合レーザビーム源（少なくとも１つのレーザ）は必要に応じてスイッチオン・スイッチオフすることができる。レーザビームを短時間中断するためには、レーザビームトラップ（Laserstrahlfalle）又はこれに類したものをレーザビーム路内にもたらすこともできる。レーザをスイッチオン・スイッチオフするか又はレーザビームトラップをビーム路内にもたらすかとは無関係に、その都度加工されるアンプルに対するレーザビームの作用は、ほとんど遅延なしに中断させることができ、このことは例えば緊急停止時又は装置もしくは設備の停止時に必要となる。これによって、このような状況においてアンプルが溶融されて駄目になるという現象を確実に阻止することができ、したがって装置はスクラップを出すことがほとんどなくなる。本発明による装置の大きな利点としては、レーザ作用が正確かつ再現可能に制御可能であり、その結果高い生産確実性が得られる、ということが挙げられる。生産パラメータはこの場合記録されることができ、このことは品質保証に関して大きな利点である。レーザの制御可能性によって、レーザ作用特にレーザ出力は、装置のその時のサイクル時間（Taktzeit）もしくはレーザビームのその時の作用長さに合わせることができ、このことは例えば設備の始動時又は停止時又は緊急停止の場合に有利であり、このようになっていると、これによって生じる装置の運転状態の変化にもかかわらず、既に充填されたアンプルを適正に溶融すること又は直ぐにアンプルの充填及び溶封を開始することができる。これによって、アンプルをほとんどスクラップにすることなしに高い生産性が達成される。
【０００８】
レーザ作用の良好な制御可能性は、アンプルに与えられる熱エネルギに関しても、レーザ作用をアンプルの所定領域に局部的に作用可能であるということに関しても得られるので、これによってさらに次のような利点、すなわち、アンプル内に導入された物質例えば敏感な薬剤の不都合な加熱を回避できるという利点が、得られる。このことはまた、極めて高い生産確実性にも寄与する。さらにアンプル充填兼閉鎖装置をその充填及び閉鎖出力（単位時間当たりのアンプル）に関して、ガスバーナを備えた閉鎖ステーションにおいて可能であるよりも、著しくコンパクトに構成することができる。充填及び閉鎖がクリーンルーム条件下で行われる場合には、これによって小さなクリーンルームスペースしか必要ない。本発明によって得られる別の利点としては、加熱された部分によって人が怪我をするおそれを排除できる、ということが挙げられる。そしてこの場合、レーザの使用との関連において公知の、レーザビームに対する安全管理のための処置、例えばレーザビームのためのケーシング設置、ビームトラップの設置及びこれに類した処置を、閉鎖ステーションに対するレーザの配置やアンプル充填兼閉鎖装置の設計に応じて、施すだけでよい。そのために必要な費用は比較的安価である。
【０００９】
ガスバーナを使用しないことによって、アンプル内への煤煙進入の問題ももはや存在しなくなるが、しかしながら、アンプルを溶融及び次いで行われる各アンプル先端部の引出しによって閉鎖するために、閉鎖ステーションはアンプル先端部を引き出すための装置を有することができる。各アンプルのこの引出しによって、溶けたアンプル壁材料特にガラスの融合が促進され、その結果高い確実性をもってアンプルの傑出したシール性を得ることができる。これによってまたアンプルヘッドの良好な形状、つまり良好なアンプルジオメトリを、十分な壁厚と十分な機械的な負荷耐性とをもって得ることができる。
【００１０】
しかしながらまた、レーザ作用のパラメータを注意深く合わせると、アンプルの閉鎖は各アンプル先端部の引出しなしに、アンプル閉鎖部特にアンプルヘッドもしくはアンプル頂部の品質を低下させることなく、可能である。そのために本発明の別の方法では、アンプルを、溶融されたアンプル区分におけるアンプル壁材料の融合もしくは潰れによってアンプル開口が閉鎖されるまで、アンプル開口に隣接するアンプル区分を溶融することによって、閉鎖するようにした。
【００１１】
また、閉鎖工程を助成するために、加工ガスをアンプルの軟化した区分に供給して、該区分に機械的な作用を与えることができる。そのために閉鎖ステーションは、加工ガスをアンプルの軟化した区分に向けるために、加工ガス供給装置を有することができる。加工ガスの使用は特に、アンプル壁材料の融合／潰れを助成するために、アンプル先端部の引出しなしにアンプルを閉鎖する場合のために有利である。しかしながらまた、アンプル先端部を引き出す場合には、付加的に、アンプルの軟化した区分に機械的に作用する加工ガスを使用することも可能である。
【００１２】
アンプルヘッドの良好なジオメトリ及び高い密度を備えたアンプルを適正に閉鎖することは、アンプルを本来の閉鎖の前に予加熱することによって助成される。この予加熱によって、アンプル内において充填鏡面の上にあるガス（空気又は保護ガス）を十分に高い温度にもたらすことができ、アンプルを閉鎖する前に、温度上昇に基づく膨張に相応してアンプルから逃がすことができる。予加熱にはさらに次のような利点もある。すなわちこのような予加熱を行うことによって、アンプルを閉鎖する前に、熱エネルギをアンプル材料に十分に供給し、アンプル先端部におけるもしくはアンプル開口に隣接するアンプル区分における熱エネルギのある程度の分布を可能にすることができる。そしてこれによって、閉鎖されたアンプルのヘッド領域において、アンプルの冷却後にアンプルの機械的な安定性を損なうおそれのある、あまり大きな緊張もしくは応力が形成されなくなる。つまりこれによって、溶融されたアンプルヘッドにおける機械的な高い負荷耐性が得られる。本発明による装置に関してはしたがって、閉鎖ステーションがそのように構成されているか又は、別体の予加熱装置がそのために設けられており、この予加熱装置は、アンプルが予加熱段階中にレーザビームの作用によって及び場合によってはアンプル先端部の引出しによって閉鎖される前に、まず初めに予加熱段階中に閉鎖される各アンプルを予加熱する。
【００１３】
予加熱は、閉鎖段階とは別の予加熱段階において行うことができる。しかしながらまた、必ずしも予加熱段階と閉鎖段階とを明瞭に区別することなしに、予加熱と閉鎖とを一気に実施することも可能である。この場合に重要なことは次のことである。すなわち、一方ではアンプル内に存在するガスが、溶融された壁材料によるアンプル充填開口の閉鎖前に十分に加熱され、その温度に基づく膨張によってアンプルから逃げられることであり、かつ他方ではアンプルもしくはアンプル先端部が熱エネルギを吸収して、アンプルの閉鎖後及び次いで行われる冷却後にアンプルのヘッド領域における大きな緊張もしくは応力を生ぜしめないような三次元的な温度分布が得られることである。つまり基本的には、アンプルを連続的に、特定の、場合によっては比較的低い（場合によっては一定の）出力のレーザビームによって照射することも可能であり、この場合には、最終的にアンプル壁材料が溶けてアンプル開口が閉鎖されるまで、アンプルはアンプル内におけるガスの加熱及び膨張下で徐々に加熱される。レーザビームの短い作用時間もしくは短いサイクル時間（Taktzeit）のためにはしかしながら、閉鎖段階とは別の予加熱段階を設けることが有利であり、この予加熱段階において、予加熱のために必要なエネルギが短時間のうちにアンプルに供給される。次いで予加熱段階には、場合によっては時間おいて、閉鎖段階が続き、この閉鎖段階においてアンプルにはさらにエネルギが供給され、このエネルギ供給は、アンプル材料が溶けて、アンプル開口がアンプル先端部の引出しによって、又はアンプル壁材料の融合／潰れによって閉鎖されるまで、行われ、このアンプル開口の閉鎖時には、場合によっては加工ガスによって閉鎖工程が助成される。
【００１４】
既に述べように、アンプルをガス火炎によって溶融する汎用の装置の場合における、ガスバーナを用いた自体公知の予加熱方式に比べて、本発明による予加熱の場合には大きな相違がある。汎用の予加熱は、アンプル壁材料に極めて多くの熱エネルギを供給するために働く。それというのは、ガスバーナによって材料に加えることのできる熱出力は比較的低いからである。ガス火炎の相応に長い作用時間に基づいて、アンプルが閉鎖されるまでに、アンプル内における空気は十分に熱を吸収して膨張することができた。
【００１５】
レーザビームを使用する場合には、基本的に極度に高いビーム出力を得ることができるので、十分な熱エネルギの供給にはもはや問題がなく、したがって予加熱を省くことができる。しかしながら、応力の発生や逃げる空気による閉鎖領域における毛管孔の形成を排除するため、並びに生じるヘッドもしくは頂部ジオメトリ（特に閉鎖領域における壁厚）にポジティブな影響を与えるためには、予加熱を行うことに意味がある。
【００１６】
アンプルの予加熱は同様にレーザビームによって行うことができる。そのためには、予加熱装置もしくは閉鎖ステーションに少なくとも１つのレーザが配属されていると有利である。このレーザは、予加熱のためにだけ働く固有のレーザであっても、閉鎖と予加熱の両方のために働くレーザであってもよい。したがってこの場合、所望の加工時間を考慮して最もコストパフォーマンスのよい解決策が選択される。予加熱は、本体の閉鎖とは別のレーザ出力で行うことも、本来の閉鎖と同じレーザ出力で行うこともできる。
【００１７】
予加熱はしかしながらまた、少なくとも１つの非干渉性（nicht-kohaerent）の電磁ビーム源（使用されるアンプルの壁材料の吸収能力に応じて場合によっては赤外線ビーム）及び／又は加熱エレメント装置、特に加熱用渦巻き装置（Heizwendelanordnung）を用いて行うことができ、そのために予加熱装置もしくは閉鎖ステーションはそれに合わせて相応に形成されることができる。しかしながらレーザビームを用いた予加熱が有利である。
【００１８】
短い加工時間、特に所定のタイミングで作動する装置における短いサイクル時間のためには、予加熱は各アンプルの搬送段階中に、特に充填ステーションから閉鎖ステーションへのアンプルの搬送中に行うことができる。一般的に予加熱及び／又は閉鎖は少なくとも部分的に、搬送区間（アンプル搬送区間）に沿って運動されるアンプルにおいて行うことができる。そのために本発明の有利な構成では、少なくとも１つのレーザに配属されたビーム案内手段が、搬送装置によるアンプルの搬送運動に相応してアンプルに追従するように構成されている。レーザビームの追従は、アンプルの同様に可能な運動、場合によっては旋回運動に対しても有利である。それというのは、このような場合における機械的なコストは比較的安価だからである。相応なビーム案内手段は当業者にとって多数のものが考えられ、例えば旋回ミラー、スキャナ、多角形ミラー車及びこれに類したものが挙げられる。
【００１９】
アンプルは予加熱時及び／又は閉鎖時に少なくとも２つの方向からレーザビームを照射されることができる。そのために、少なくとも２つのレーザが相応に配置されかつ／又は少なくとも１つのレーザにビーム案内手段が配属もしくは対応配置されていることができる。これによって、アンプルをアンプル軸線を中心にして回転させる必要なしに、周方向におけるアンプルもしくはアンプル先端部の均一な加熱を達成することができる。そして均一な加熱によって、冷却されるもしくは冷却された壁材料における応力の発生が回避される。
【００２０】
しかしながらまた、レーザビームを１つの方向からアンプルに照射するのか又は複数の方向から照射するのかとは無関係に、各アンプルを閉鎖時及び／又は予加熱時にアンプル軸線を注進して回転させることができる。アンプルへの照射を一方の方向から行う場合でも、アンプルを回転させることによって、アンプルヘッドにおける大きな応力を生ぜしめることなしに、均一な加熱を達成することができる。したがって本発明による装置に関しては、相応なアンプル回転装置を設けることが提案されている。
【００２１】
アンプルに充填されるもしくは充填された物質に応じて、例えば十分な保存性に関して又は酸化を防止するために、アンプルに保護ガス例えば窒素を供給することが望ましいこともある。つまりアンプルには閉鎖の前に、特に充填前及び／又は充填中、予加熱中及び／又は閉鎖中に、ガスを供給することができる。そのために本発明による装置には有利には、充填中及び／又は充填ステーションから閉鎖ステーションへのアンプルの搬送中及び／又は予加熱中及び／又は閉鎖中に、アンプルにガスを供給するために、ガス供給装置が設けられている。加工ガスによる機械的な作用を加える場合には、通常、このようなガス供給のために用いられるガスと同じガスが加工ガスとして使用される。
【００２２】
この場合本発明の別の構成では、ガス供給装置がガス供給ニードルを有しており、該ガス供給ニードルは、各アンプルへのガス供給のために、後で閉鎖されるアンプル充填開口を通して所定の進入位置に達するまでアンプル内に進入できるように構成されている。この場合有利にはガス供給ニードルが、ガス流出開口を有しており、該ガス流出開口が進入箇所において、レーザビームを照射されるアンプルの照射箇所よりも深く位置している。また、予加熱中及び／又は閉鎖の開始段階中に、ガスが、進入箇所に配置されたガス供給ニードルを通してアンプル内に導入可能であると、有利である。つまり本発明によれば、予加熱中及び／又は閉鎖の開始段階中にガスをガス供給ニードルの流出開口を通してアンプル内に導入することが提案され、この場合流出開口はアンプルの照射箇所よりも低く位置している。所望のようにかつ正確に制御可能なレーザビーム作用によって、ガス供給ニードルが損傷すること又はガス供給ニードルによってアンプルの閉鎖が阻止されることは、確実に回避することができる。壁材料の融合によるもしくは先端部の引出しによるアンプルの閉鎖前に、ガス供給ニードルは適時にアンプルから引き戻されることができる。場合によっては、レーザビームの照射をニードルによるガス供給のために短時間中断することも可能である。ガス供給ニードルの不均一な加熱及び溶融工程のための熱エネルギの損失は、ガス供給ニードルを鏡面加工することによって阻止することができる。つまりこのようになっていると、ガス供給ニードルはレーザビームのためのミラーとして及び／又はアンプル壁材料から放射された熱線のためのミラーとして働く。
【００２３】
本発明による装置によって加工される、つまり充填されかつ閉鎖されるアンプルは、既にアンプル導入開口を形成された状態で装置に供給されることができる。つまりこの場合アンプルは、予めアンプル製造者もしくはアンプルメーカによって予めアンプル充填開口を形成されて製造される。しかしながらまた、閉鎖された状態で供給されるアンプル、つまりアンプルメーカによって製造時に閉鎖されゆえにまだアンプル充填開口を有していないアンプルを、使用することも可能である。このように閉鎖状態で供給されると、アンプルを例えば製薬メーカに搬送する間に、アンプル内部の汚染を確実に排除することができる。したがってこのようなアンプルを本発明による装置を用いて加工できるようにするために、本発明による装置は、アンプル充填兼閉鎖装置に閉鎖状態で供給されるアンプルを充填ステーションへの供給前に開放する開放ステーションを有していてもよい。開放は、充填ステーションへの供給の直前に初めて行われるので、予め開放されたアンプルに比べて、装置及び取扱いに関する手間もしくは費用は減じられている。それというのはこの場合、洗浄及び／又は殺菌作業を省けるからである。
【００２４】
本発明はまた、アンプル開口を溶融開放することによって、閉鎖されたアンプルを開放する方法、場合によっては上に述べたように、アンプル開口の溶封によってアンプルを閉鎖する方法を含む、アンプル処理方法の一部としての方法でにも関する。そして本発明の方法によれば、アンプル開口をレーザビームの作用下で、場合によっては開口を拡大するため及び／又は溶けたアンプル壁材料を除去するための機械的な工具を付加的に使用して、溶融開放するようにした。開放ステーションに関してはしたがって、レーザビームの作用下でアンプルを開放するために、開放ステーションに少なくとも１つのレーザを配属もしくは対応配置することが提案される。
【００２５】
アンプルの開放を少なくとも３つの段階において実施すると、特に有利である。この場合予加熱段階は、閉鎖されたアンプルにおける負圧を消滅させるために働き、このようにすると、アンプルの開放時に周囲空気もしくは周囲ガスが吸い込まれることは無くなる。この予加熱段階に続いて、アンプル内における過圧を消滅されるために過圧排出段階を設けることができる。このためには（比較的小さな）補償開口をアンプルにレーザビームによって形成することができる。例えば高エネルギのレーザパルスを使用することができ、このレーザパルスは、アンプル壁における補償開口をアンプル壁材料の気化によって生ぜしめる。次いで開放段階において、本体のアンプル開口がレーザビームによって、場合によっては開口拡大のため及び／又は溶融されたアンプル壁材料を除去するために機械的な工具を付加的に使用して、形成されることができる。
【００２６】
例えば純度及び無菌性に対するより高い要求を満たすことが望まれている場合には、アンプルの充填、アンプル閉鎖及び／又は開放は、周囲影響に対して遮蔽された条件下で、例えばクリーンルーム条件下及び／又は空気成層流条件下で行うことができる。そのために装置は、内部に充填ステーション、閉鎖ステーション及び場合によっては開放ステーションの配置されている遮蔽室を有していてもよい。基本的には少なくとも１つのレーザが遮蔽室の内部に配置されていればよいが、しかしながら、少なくとも１つのレーザが遮蔽室の外に配置されており、レーザビームが、レーザビームを透過する窓装置を通して遮蔽室内に供給されるようになっていると、有利である。このように構成されていると、レーザは良好に接近可能に配置することができ、しかもこの場合レーザの保守又は調整時に、充填ステーション、閉鎖ステーション及び場合によっては開放ステーションの領域に汚れ又は細菌が進入するおそれはない。また、レーザのシール成分及びこれに類したものからのガスが前記ステーションの領域内に達することも、阻止される。この場合遮蔽室は有利には、クリーンルーム及び／又は空気成層流室である。
【００２７】
本発明によるアンプル充填兼閉鎖装置が、充填ステーション、閉鎖ステーション及び場合によっては開放ステーションと共に、空気品質の高い室特にクリーンルーム内に配置されており、これに対してレーザが有利には空気品質の低い隣接室例えば洗浄室内に配置されていると、有利である。このようになっていると、レーザは例えばレーザメーカの保守員によって保守されることができ、空気品質の高い室内に汚れ又は細菌の侵入するおそれはなくなる。
【００２８】
本発明の別の構成では、少なくとも１つのレーザにレーザビーム整形装置が配属もしくは対応配置されているか又はレーザにレーザビーム整形装置が組み込まれていて、予加熱中及び／又は閉鎖中及び／又は開放中に各アンプルに作用するレーザビームを、所定の強度で分配させることができるようになっている。強度分布は、ジオメトリ（特にアンプルのサイズ、壁厚）及びアンプル壁材料に関連して合わせることができ、これによってアンプルの閉鎖作業を最適化させることが可能である。そして冷却後の材料における大きな緊張を生ぜしめることなく、アンプルヘッドの十分な壁厚を得ることができる。この場合レーザビーム形状は重要なパラメータであり、これは、その都度閉鎖されるアンプル型式に対して経験的に合わせられることができる。例えば、楕円の長軸をアンプル長手方向軸線に対して平行に方向付けた楕円形の強度分布が、少なくともある特定のアンプル型式のために有利であり、これによって、ヘッド形状及びヘッドにおける材料厚を最適化することができる。また、アンプルの長手方向において互いに間隔をおいて配置された２つのレーザ集光スポットを設けることも可能であり、これによって加熱の集中と、十分な大きさの溶融ゾーンを得ることができる。レーザビーム形状に関しては多くの可能が存在し、種々様々なアンプル型式が存在することに基づいて、一般的に述べることは極めて困難である。
【００２９】
本発明の別の構成では、レーザビームを搬送区間に沿って各アンプルの搬送運動に応じてアンプルに追従させるため、及び／又は、レーザビームを各アンプル先端部の引出し時に先端部引出し方向において追従又は偏向させて、残りのアンプルからの先端部の解離、特に引出し時に場合によっては生じる材料糸の中断を助成するため、及び／又は、レーザビームを各アンプルの閉鎖後、特にアンプル先端部の引出し後及び／又はアンプルの開放後に後続のアンプルに導くために、少なくとも１つのレーザにレーザビーム案内装置が配属もしくは対応配置されている。レーザビーム案内装置は同時にレーザビーム整形特性をも有することができるので、一般的にレーザビーム整形兼案内装置と呼ぶこともできる。
【００３０】
本発明の別の有利な構成では、閉鎖時及び／又は予加熱時に各アンプルに反射装置が配属もしくは対応配置されており、該反射装置が、アンプルからのビーム特に熱線及び／又はアンプルから反射されたレーザビームを、アンプルに戻し反射しかつ／又は、レーザビームをアンプルに向かって偏向しかつ／又はアンプル区分において集中させるようになっている。熱線もしくはアンプルから反射されたレーザビームの戻し反射によって、レーザビームのエネルギを有効に利用することができ、ひいてはレーザビームのための作用時間を短縮することができる。先端部引出しが行われる場合には、反射装置が先端部引出し装置、特に先端部引出しトングに組み込まれていてもよい。このようになっていると、アンプルに対してもしくはアンプルと共に行われる、反射装置の保持及び場合によっては前進移動又は連行運動のために付加的にかかる機械的な費用は、不要になる。
【００３１】
本発明の特に有利な構成では、予加熱中及び／又は予加熱後及び／又は閉鎖中及び／又は開放時に各アンプルの処理状態を求めることを目的として、アンプルからのプロセスビーム特に熱線及び／又は励起状態からの緩和に起因するビームを検出するために、それぞれ閉鎖されるアンプルに検出装置が配属もしくは対応配置されている。処理状態としては例えば、閉鎖のために基準となる領域におけるアンプルの加熱度（温度）を挙げることができる。この処理状態は、アンプル及び／又はアンプル材料の少なくとも１つの固有パラメータ（例えばアンプル壁材料の材料厚さ及び／又はジオメトリ及び／又は充填状態及び／又は着色）を求めるために、評価されることができる。つまりプロセスビームの評価から、その都度処理されるアンプルへの推論が可能である。このことは、種々異なったアンプル型式又は充填物又は充填量の異なったアンプルを閉鎖したい場合に有利である。したがって充填及び閉鎖の前におけるアンプルの分類、場合によっては先端部の分類は不要になる。また、このように構成された本発明による装置は、ジオメトリ、壁厚などに関して比較的大きなばらつきのあるアンプルのためにも使用することが可能である。なぜならば、製造時にあまり狭くない製造誤差が維持されたからでる。このような場合又は、分類の混じったアンプルを加工する場合には、例えば予加熱後におけるアンプルの処理状態、特に温度を求めることができる。検出された処理状態に関連して、例えば次いで行われるアンプルの閉鎖時に用いられるレーザ出力を調節することができる。例えばアンプルの材料厚ひいては熱容量が比較的大きいことに基づいて、温度がなおあまり高くない場合には、閉鎖のためにより高いレーザ出力を調節することができる。また、例えばアンプルの材料厚ひいては熱容量が比較的小さいことに基づいて、予加熱後に既に比較的高い温度が得られている場合には、閉鎖のためにわずかなレーザ出力で十分であり、それどころか極めて高いレーザ出力は、これによって壁材料（特にガラス）が気化してしまうので、アンプルの最適な頂部を損傷するおそれがある。一般的に言えば、装置特に少なくとも１つのレーザの少なくとも１つの運転パラメータ、もしくは少なくとも１つの方法パラメータは、処理状態に関連して調節可能であることが望ましい。
【００３２】
閉鎖の最適化のために調節可能な幾つかの運転パラメータもしくは方法パラメータが考慮されるが、この場合調節は、場合によっては各アンプルの処理状態に関連してかつ／又は場合によっては各アンプルのための時間的な処理プログラムに関連して、行われる。運転パラメータもしくは方法パラメータとしては例えば次のものが考えられる：
予加熱時及び／又は閉鎖時及び／又は開放時におけるレーザビームの中位の出力、
パルスレーザの場合：予加熱時及び／又は閉鎖時及び／又は開放時におけるレーザビームのパルス周波数及び／又はパルスエネルギ、
閉鎖中にレーザビームが作用するアンプルの領域、
先端部引出しの場合：閉鎖のためのレーザ作用の開始に対する引出し時点の調整及び／又は先端部引出し速度、
予加熱の場合：予加熱時間及び／又は閉鎖の開始の時間的な調整及び／又は予加熱中に作用を受けるアンプルの領域、
アンプル回転の場合：予加熱時及び／又は閉鎖時における各アンプルの回転速度、
各アンプルにおけるレーザビームの強度分布、
加工ガス及び／又は供給ガスの供給。
【００３３】
アンプルの充填中及び閉鎖中における装置の運転パラメータ及び加工経過におけるアンプルの処理状態を、品質保証のために場合によっては記録することに関しては、本発明による装置がこの目的のために記録装置を有していると、有利である。このような記録装置が設けられていると、方法パラメータ及び／又は処理状態を簡単に記録することができ、かつ装置の適正な運転のための証拠として、かつ方法パラメータの最適化のための作業資料として利用することができる。
【００３４】
本発明によるアンプル充填兼閉鎖装置は、アンプル搬送区間に沿ったアンプルの搬送に関連して、各搬送区間区分に沿ってアンプルと一緒に運動する処理機構及び／又はアンプル運動に相応したレーザビームの追従を用いて、連続的に作動する装置であってもよい。しかしながらまた択一的に、本発明による装置は、アンプル搬送区間に沿ったアンプルの搬送に関連して、定置の処理機構及び／又は少なくとも時間的に不動のレーザビーム案内、場合によっては複数のレーザビーム案内路の間における切換えを用いて、所定のタイミングで間欠的に作動する装置であってもよい。
【００３５】
アンプル搬送区間に関しては幾つかの変化態様が可能である。例えばアンプル搬送区間は少なくとも部分的に直線的であってもよい。本発明の特に有利な構成では、少なくとも１つの直線的な搬送区間区分がレーザビーム区間に対して平行に延びていて、搬送区間に沿って運動するアンプルのうちの少なくとも１つが、少なくとも片側からレーザビーム区間に沿って伝搬するレーザビームを照射されるようになっている。このようになっていると、定置のレーザビーム区間を用いて作業を行うことができ、つまり、アンプルが次のように、すなわち特定のレーザビーム作用を行う処理プログラムに応じてレーザビームに対して進入・進出させられるように搬送されると、レーザビームの追従又は異なったレーザビーム案内路の間における切換えは不要になる。最も簡単な構成では、アンプルは直線的な搬送区間区分の始端部においてレーザビーム内に進入し、直線的な搬送区間区分の終端部において、レーザビームとの場合によって行われる付加的な加工作用（例えば処理ガス及び／又は先端部引出し）との相互作用を受け、この相互作用がこの終端部において終わるようになっている。直線的な搬送区間区分がレーザビーム区間に対して平行に延びている基本原理を元にして、多くの有利な変化態様が可能である。この基本原理は、間欠的に作動する装置のためにも連続的に作動する装置のためにも適している。
【００３６】
この関連に関してさらに付言すれば、アンプルの搬送運動は次のことのためにだけ、すなわちアンプルをレーザビームとの相互作用にもたらすため、つまりレーザビームの作用領域内に移動させるため、及びレーザビームとの相互作用を終了させるため、つまりアンプルをレーザビームの作用領域から外に案内するためにだけ、利用され得るものではない。別の可能性としては次のことが挙げられる。すなわち、場合によっては搬送運動に重畳されている各アンプルの旋回運動によって、アンプルをもしくはレーザビームにさらされるもしくはさらされたアンプル区分を、レーザビームの作用領域内に移動させることもしくはこの作用領域から外に移動させることも可能であり、このようにすると、レーザビームのスイッチオン・オフもしくは異なったレーザビーム案内路の間における切換えは不要になる。特に、完成したアンプルにもはやレーザビームを照射したくない場合に、このアンプルをレーザビーム外に旋回させるために、この原理を使用することが考えられる。この原理によって、又は、この原理を搬送運動に基づくアンプルの上に述べた進入・進出運動の原理と組み合わせることによって、本発明による装置を有利に設計するための多くの可能性が得られる。
【００３７】
択一的に又は、アンプルの部分的に直線的な構成と組み合わせて、アンプル搬送区間が少なくともある特定の領域において湾曲されている、特に少なくとも部分的に円弧状であるような構成も可能である。この場合、搬送装置が、アンプル搬送区間の円弧状の区分を形成する回転テーブル（Rundlaeufer）を備えた回転テーブル装置（Rundlaeufereinrichtung）を有していると、機械的な構造に関して特に簡単な構成が得られる。このような回転テーブル装置には、レーザビーム案内装置及び／又はレーザビーム反射装置が組み込まれていてもよく、このようになっていると、大きな機械的な費用をかけることなしに、装置をコンパクトに構成することが可能になる。
【００３８】
ビーム案内手段及び／又はビーム整形手段については既に何度も述べたが、これらの手段は下記の構成グループのうちの少なくとも１つを有しており、該構成グループとしては：ホログラフィーエレメントのような回折光学系；レンズ装置のような屈折光学系；スキャナのような場合によっては平面対物レンズ（Planfeldobjektiv）を備えた旋回ミラー装置；多角形車のような反射面車；反射面旋回エレメント；光導波体：偏向ミラー装置；ビームスプリッタ装置が挙げられる。一般的に言えば、活用される光学系及びレーザ技術において使用される光学的な構成成分すべてを使用することができる。
【００３９】
また、充填ステーション、閉鎖ステーション及び場合によっては開放ステーションが、同時に複数のアンプルを処理もしくは加工するために適していると、本発明による装置の高い充填出力及び閉鎖出力を得ることができる。そのためにこれらのステーションはそれぞれ、同じ目的のために働く複数の機構を、例えば充填ステーションでは複数の充填機構を、閉鎖ステーションでは複数の閉鎖機構特に先端部引出し部材などを有していることができる。既に述べたその他の構成成分、例えばガス供給ニードル（Begasungsnadel）や処理ガス供給装置などもまた、相応に倍加された構成において設けられることができる。レーザビームに関しては複数の可能性が存在する。例えば、レーザビームをビームスプリッタ装置によって必要な複数の部分レーザビームに分割する場合には、相応に強力なレーザを設けることが可能である。しかしながらまた、複数のレーザを設けることも可能である。この場合には、製造コスト及び保守コストに関して最良だと思われる解決策が、採用される。レーザが１つの場合には１つのレーザだけを保守及び調整すればよい、という利点が得られる。しかしながらその代わり高出力のレーザは比較的高価である。極めて大きな出力のレーザは投資コストが比較的高いことに基づいて、相応に低出力のレーザを複数設けることが良い場合もある。このようにした場合には、１つのレーザの故障時になおアンプル充填兼閉鎖装置の緊急運転が可能である、という利点が得られる。
【００４０】
本発明の別の有利な構成では、アンプル充填兼閉鎖装置が、レーザビームの使用下でアンプルにマーキング及び／又は文字入れ（Beschriften）を施すために、マーキング装置及び／又は文字入れ装置を有している。そのためには別体のマーキング／文字入れ装置を使用することも可能であるが、有利な構成では、いずれにせよ設けられているレーザ装置のレーザビームの一部を分岐させることも可能であり、このような場合には、相応なビーム案内兼ビーム整形手段によって文字入れ／マーキングビームを形成することができ、この文字入れ／マーキングビームは例えばスキャナを用いてアンプルのマーキング及び／又は文字入れのために使用される。このようにすると、例えばラベルによるアンプルのマーキング又は文字入れは、場合によっては不要になる。たとえ、詳細な情報の記載された接着ラベル又はこれに類したものを付加的に設ける場合でも、充填及び閉鎖の最中もしくは閉鎖の直ぐ後にマーキング又は文字入れを施すことによって、アンプルの取り違えを阻止することができる。また、レーザビームによってアンプル壁材料にマーキング又は文字入れテキストを記入することによって、個々のアンプルは明瞭に特徴付けられ、しかもこの場合この特徴は、痕跡を残すことなしに消し去ることは不可能である。これによってラベルの貼り替え（Umetikettierung）は少なくとも証明可能であり、製造者もしくはメーカはアンプルの販路を推論することができ、アンプルは、製造者によって設定されたのではない形式で転売されたものだということが分かる。
【００４１】
少なくとも１つのレーザは、その放射波長及びレーザ出力を使用されるアンプルに合わせられているレーザである。ガラスアンプル（特に医薬用のガラスアンプルが想定される）の場合、赤外線レーザ、例えばＣＯ2レーザ又はネオジウム-ヤグ-レーザ（Neodym-YAG-Laser）を使用すると有利である。特に少なくとも１つのＣＯ2レーザの赤外線レーザビームによって、傑出した閉鎖結果が得られた。ＣＯ2レーザの放射波長は１０.６μｍであるので、すべての通常の種類のガラスから成るアンプルは、ＣＯ2レーザビームを用いて閉鎖されるのに適している。
【００４２】
さらに付言すると、有利に使用されるＣＯ2レーザは、有利な運転特性を有しかつ機械的な装置に良好に組み込むことができるいわゆる「フィールドオフレーザ（Field-Off-Laser）」である。また、使用されるレーザの単一モード運転（Monomode-Betrieb）は必要ないので、レーザにおける空間格子（Raumgitter）及びこれに類したものは省くことができ、したがってレーザを比較的安価に得ることが可能である。
【００４３】
本発明はさらに、電磁ビームを用いてワークを加工する装置、場合によっては上に述べたように、電磁ビーム特にレーザビームを生ぜしめるための手段を備えた装置における、電磁ビームを用いてワークを加工する装置に関する。従ってこの場合ワークは、閉鎖されるアンプルであってよい。本発明はさらにまた、電磁ビームを用いてワークを加工する方法、特に、場合によっては既に述べたアンプル閉鎖方法の変化構成としてのアンプルを閉鎖する方法にも関する。本発明はさらにまた、電磁ビーム特にレーザビームを反射させるミラー、特に本発明による装置もしくは本発明による方法において使用するためのミラーであって、ベース体を備えている形式のものに関する。
【００４４】
刊行物「固体レーザを用いた精密加工（Praezisionsbearbeitung mit Festkoerperlaser）」１８５頁〜、ＶＤＩ出版、１９９５年に基づいて公知の上記形式の装置では、レーザが電磁ビームを生ぜしめる手段を形成しており、ワークの表面を加工するために働く。この公知の装置では、ネオジウム-ヤグ-レーザのレーザ光は、ビーム案内手段を形成する調節可能なミラーを介してワークに向けられ、ワークの表面はレーザ光の作用によって表面障壁硬化（Randschichthaertung）される。調節可能なミラーはこの場合、レーザのビームスポットを加工されるワークの表面に沿って二次元的に運動させることができる。
【００４５】
この公知の構成における欠点としては次のことが挙げられる。すなわちこの公知の構成では、例えばワークの、まず初めに加工された面とは反対側に位置する面を加工したい場合、加工は中断され、ワークは回転されねばならない。この作業は、時間と手間がかかりひいてはコストが高くなる手作業で行うか、又は、ワークの送り運動及び／又は回転運動を実施できる高価な位置決め装置を必要とする。
【００４６】
前記刊行物によって、上記形式の方法も公知である。
【００４７】
本発明の課題は上に述べた形式の装置及び方法を改良して、ワーク特にアンプルの加工を簡単化することである。
【００４８】
この課題を解決するために本発明によれば、装置に、加工されるワーク特に閉鎖されるアンプルに向かって少なくとも２つの方向から、電磁ビームを放射するビーム案内手段が設けられているようにした。また本発明による方法では、電磁ビーム特にレーザビームを、加工されるワーク特にアンプルに向かって少なくとも２つの方向から同時に照射するようにした。
【００４９】
本発明の基本的な思想は、ワークを電磁ビームを用いて同時に複数の方向から加工するということにある。例えばワークを２つの互いに反対の側から加工した場合には、本発明によればこの両側から同時に加工を行うことができ、したがって本発明では、従来技術のように片側の加工後にワークを回転させる必要はなくなる。このようにして、ワークを回転させるための高価な位置決め装置は不要になり、その結果本発明による装置を簡単にひいては安価に構成することができる。
【００５０】
ワークを複数の側から同時に加工することに基づいて、本発明による装置及び方法は時間を節約した作業を行うことができ、その結果ワークの加工時に高い有効性を得ることができる。このことは特に、多量のワークを加工する必要がある場合に、コスト節減を意味する。
【００５１】
本発明による装置はその構造が簡単かつ頑丈であるので、運転時における装置の面倒な調整が省かれる。そして、時間とコストをさらに節約することができる。
【００５２】
本発明によれば、ワークを複数の側から、ひいてはすべての側から同時に加工することができる。
【００５３】
ワークの加工には例えばろう接、溶融、分離、接合、被覆、除去、硬化又はその他の任意の直接又は間接的な加工が存在する。例えば熱作用を用いたワークの加工時には、電磁ビームを、開口されるワークが受容されている中間エレメントに向かって放射することが可能であり、この場合中間エレメントにぶつかる電磁ビームによって中間エレメントは加熱され、この中間エレメントの熱線は熱伝導によって、加工されるワークへと伝達される。全体として本発明による装置及び方法は多岐にわたって使用可能である。
【００５４】
本発明による装置及び方法は、ワークの均一な加工を可能にする。
【００５５】
本発明による装置の別の構成では、ビーム案内手段が、入射するビームを加工されるワークに向かって反射する少なくとも１つの反射面を有している。
【００５６】
この場合反射面を簡単かつ安価に製造するためには、反射面が少なくとも１つのミラーによって形成されていると、有利である。
【００５７】
本発明によれば反射面のジオメトリは、その都度の要求に応じて、例えば反射される電磁ビームのワークにおける所望の強度分布に関して、広い範囲において選択可能である。本発明の有利な構成では、ミラーの反射面が、加工されるワークに向かってホッパ状に狭められている。
【００５８】
本発明による装置の特に有利な構成では、ミラーの反射面がほぼ回転対称的に形成されている。
【００５９】
ミラーの回転対称的な反射面のジオメトリはこの場合、広い範囲においてかつ相応にその都度の要求に応じて選択可能である。またミラーを、例えばワークから放射された熱線がミラーからワークに戻し反射されるように、構成することも可能である。このようになっていると、存在しているプロセス熱を有効利用すること、ひいては加工のために使用されるエネルギを効果的に利用することができる。相応な形式で、ワークから反射されたビームをミラーを用いてワークに戻し反射することが可能である。
【００６０】
回転対称的な反射面を備えた本発明による装置の特に有利な構成では、ミラーの反射面は加工されるワークに向かって円錐形に狭められている。反射面の円錐形の構成に基づいて、例えば回転対称的なワークを加工する場合、ワークの周方向のみならず軸線方向においても、ワークにおける反射されたビームの均一な強度分布を得ることができる。このようにして均一な加工、例えばワーク表面における材料の均一な除去が、反射される電磁ビームのすべての作用領域において可能になる。
【００６１】
ミラーを備えた構成において有利には、ミラー又は該ミラーと結合された部分に、電磁ビームの作用領域にワークを導入するための導入開口が形成されている。このような構成は、例えばミラーのベース体を穿孔することによって、簡単かつ安価に製造可能である。
【００６２】
この場合有利には、導入開口が、反射面の回転対称軸線に対してほぼ同軸的である。このようになっていると、ワークは反射面の回転対称軸線に沿って電磁ビームの作用領域にもたらされる。
【００６３】
本発明によれば、ワークを加工するために任意の電磁ビーム、例えば赤外線又は電子ビームを使用することができる。しかしながら、電磁ビームを生ぜしめる手段が少なくとも１つのレーザを有していると、特に有利である。レーザは、多くの選択肢の中で最も丈夫かつ安価な構成部材であり、この場合出力は各加工方法の要求に応じて広い範囲において選択可能である。材料加工に適した任意のレーザ、例えばＣＯ2レーザ又はネオジウム-ヤグ-レーザを使用することができる。
【００６４】
レーザを備えた装置の別の有利な構成では、ビーム案内手段が、単数又は複数のレーザのレーザ光を少なくとも２つの方向から加工されるワークに向かって照射する光導波体によって形成されている。この構成では、接近いにくい箇所におけるワークの加工も可能である。光導波体を相応に選択及び配置することによって、ワークの加工時における複雑化されたジオメトリをも実現することができる。
【００６５】
基本的には、電磁ビームは相応なビーム源から、例えばレーザ光ではレーザから、直接ビーム案内手段を用いてワークに向かって照射される。しかしながら本発明による装置の別の構成では、電磁ビームを生ぜしめる手段と加工されるワークとの間におけるビームの拡散路（Ausbreitungsweg）に配置されたビーム整形手段が設けられている。このように構成されていると、電磁ビームの相応な整形によって、ワークにおける電磁ビームの所望の強度分布を得ることができる。
【００６６】
上に述べた構成において有利には、ビーム整形手段が、ホログラムのような少なくとも１つの回折光学系及び／又はアキシコンのような少なくとも１つの屈折光学系を有している。このような光学系は、規格部品として種々様々なものを選択することができる。
【００６７】
ビーム整形手段によって、電磁ビームはほぼ任意の形式で整形することができる。しかしながらビーム整形手段と回転対称的な反射面とを備えた有利な構成では、ビーム整形手段が、入射する電磁ビームを整形して、ミラーの反射面においてビームスポットが形成され、該ビームスポットの、反射面の回転対称軸線に対して垂直な平面への投影が、回転対称軸線に対してほぼ同心的であるようにした。このようになっていると、ワークへの電磁ビームの回転対称的な反射が得られ、このことは、回転対称的なワークを加工する場合に特に有利である。
【００６８】
また上記の構成において、ビームスポットの、反射面の回転対称軸線に対して垂直な平面への投影は、ほぼ円形であっても、又はほぼリング状、特にわずかな半径方向長さを有するリング状であってもよい。
【００６９】
基本的には、加工されるワークの表面において本発明によれば、電磁ビームの任意の強度分布を得ることができる。しかしながらビーム整形手段を備えた本発明による別の構成では、ビーム整形手段が、加工されるワークにおける電磁ビームの作用領域において電磁ビームのほぼ均一な強度分布が得られるように、入射する電磁ビームを整形するようになっている。このようになっていると、ワークの均一な加工が保証される。
【００７０】
基本的には、ワークは加工工程の開始前に不動の加工位置にもたらされ、加工中にこの状態位置に保たれれば、十分であり、このようになっていれば、位置決め装置は不要である。しかしながら本発明の別の構成では、ワークとビーム案内手段との相互の位置決めのために位置決め装置が設けられている。このように構成されていると、必要な場合には、例えばビーム案内手段に対するワークの運動ひいては電磁ビームの作用領域に対するワークの運動を得ることができる。例えば縦長の円筒形のワークを加工したい場合には、位置決め装置を用いてビーム案内装置に対するワークの軸方向長さを変化させて、反射された電磁ビームを次々とワークの異なった軸方向領域に向けることができる。位置決め装置が相応に構成されていると、例えばＸ方向及び／又はＹ方向及び／又はＺ方向におけるシフト及び／又は旋回運動及び／又は回転運動のような、ビーム案内手段に対してワークを所望のように任意に運動させることが可能である。
【００７１】
特に、例えば回転対称的なワークの加工をその全周にわたって同時に行う本発明による装置では、位置決め装置が、ビーム案内手段に対するワークの有利には直線的な送りのため及び／又はワークに対するビーム案内手段の有利には直線的な送りのために働く送り装置によって形成されていると、有利である。
【００７２】
本発明による装置の別の有利な構成では、ミラーが、電磁ビームの入射方向において前側に、電磁ビームに対して透過性のカバーを有しており、そして該カバーとミラーの反射面とが加工室の壁を形成していて、該壁において加工位置に、加工されるワークが受容されている。
【００７３】
加工室は周囲に例えば周囲に対してシール可能であってよい。このような構成では、加工室からの材料の進出又は例えば加工室内への周囲からのガスの侵入があ阻止されている。ワークを真空中において加工することが望ましい場合には、例えば加工室は排気可能であってよい。
【００７４】
加工室を備えた装置の別の構成では、加工室が保護ガス及び／又は処理ガスのための流入開口を有している。このようになっていると、ワークを保護ガス雰囲気及び／又は処理ガス雰囲気の下で加工することができる。加工室を備えた構成の大きな利点としては、ワークの加工時に所望の加工条件、例えば真空又は保護ガス雰囲気又は所定の温度状態を、単に加工室における比較的小さな容積において生ぜしめかつ維持するだけでよい、ということが挙げられる。電磁ビームは外部からカバーを通して加工室内にもたらされるので、相応なビーム源例えばレーザを、加工室の外に配置することができ、その結果、ビーム源が受容もしくは収容されている大容積の加工室を、回避することが可能である。
【００７５】
本発明による方法では、有利には電磁ビームはレーザ光である。
【００７６】
本発明による方法では基本的には、電磁ビームを同時に２つの方向からワークに向かって照射すれば、十分であり、このようにすることによって、ワークの加工は２つの側から行われる。しかしながら本発明の有利な方法では、電磁ビームを同時に、ほぼ閉鎖された領域に沿ってワークに向けるようにした。このような方法では、例えば回転対称的なワークの加工を同時にその全周にわたって行うことができる。
【００７７】
この場合電磁ビームを、直線状の領域においてワークに向けることができ、このようにすると、ワークの直線状の領域が行われる。
【００７８】
しかしながらまた、電磁ビームを面状の領域においてワークに向けることも可能であり、これによって面状の加工が行われる。
【００７９】
加工されるワークの形状、サイズ及びジオメトリは広い範囲において選択可能である。しかしながら、ほぼ回転対称的なワークを加工するようにすると、特に有利である。
【００８０】
ワークは加工中に不動に配置されていてもよいが、本発明の別の方法では、ワークを加工中にビーム案内手段に対して、特にほぼ連続的に運動させるようにした。このようにすると、例えば円筒形のワークにおいても、電磁ビームを次々とワークの異なった軸線領域に向けることができる。
【００８１】
本発明による方法のさらに別の形態では、ワークを保護ガス雰囲気下で又は真空中において加工するようにした。
【００８２】
基本的には、電磁ビームを直接ワークに向かって放射すればよいが、しかしながら、電磁ビームをビーム案内手段を用いてワークに向かって照射するようにすると、有利である。
【００８３】
このような方法では、ビーム案内手段として有利には、ワークに向かってホッパ状に狭くなる反射面を有するミラーを使用する。
【００８４】
本発明による方法の特に有利な構成では、回転対称的な反射面、特にワークに向かって円錐形に狭くなる反射面を備えたミラーを使用するようにした。
【００８５】
本発明のさらに別の課題は、特に本発明による装置又は本発明による方法において使用可能なミラーを提供することである。
【００８６】
この課題を解決するために本発明の構成では、ベース体に、ホッパ状に狭くなる反射面が形成されており、ベース体が、反射面の反射領域に対象物を導入するための導入開口を有しているようにした。
【００８７】
この本発明の基本思想は、ミラーの反射面をホッパ状に狭くなるように、特に円錐形に形成することである。
【００８８】
本発明によるミラーは、複数の方向からワークを同時に加工することを可能にし、特に回転対称的なワークをその全周にわたって同時に加工することを可能にする。そして本発明によるミラーは簡単かつ安価に製造可能である。
【００８９】
本発明によるミラーの別の構成では、反射面がほぼ回転対称的に、特に円錐形に狭くなるように形成されている。
【００９０】
この場合また、導入開口が反射面の回転対称軸線に対してほぼ同軸的であると、有利である。
【００９１】
次に図面を参照しながら本発明を詳細に説明する。
【００９２】
以下においては種々異なった実施例が記載されているが、この場合表現が幾分異なっている場合でも、同一もしくは互いに対応する成分に対しては同一符号を使用し、異なった実施例においては、符号にアルファベットのａから始まる小文字を付加的に加えてある。また、後で出てくる実施例の説明においては、先行する既に記述された実施例に対する相違だけを述べることにする。
【００９３】
図１には、回転するロータ１２ａを備えた回転テーブル型の本発明によるアンプル充填兼閉鎖装置が示されており、この場合ロータ１２ａは、円弧状の搬送区間区分１６ａに沿ってアンプルを搬送するために形成されている。回転テーブルには供給搬送区間１４ａを介して、アンプル充填開口を有するアンプルが供給される。円弧状の搬送区間区分１６ａに沿って、ロータ１２ａの周囲に沿って等間隔に配置されたアンプル１８ａは、適宜な駆動手段によってアンプル長手方向軸線（鉛直軸線）を中心にして回転させられる（矢印２０ａ参照）。もちろんアンプルは、アンプル加工に関して所望もしくは必要な箇所においてだけ回転させられればよい。ロータ１２ａは、所定のタイミングで逆時計回り方向（矢印２２ａ）にその都度、相前後して続く２つのアンプルの周方向間隔に相当する回転角に応じて回転する。図１には、ロータ１２ａが瞬間的に停止している際に占めるポジションにおけるアンプルが示されている。ロータ１２ａの各搬送タイミングもしくはサイクルにおいて、アンプル１８ａはポジション１つ分だけさらに運動させられる。このようにしてアンプルはまず初めに充填ステーション２４ａに、次いで閉鎖ステーション２６ａに移動させられる。閉鎖ステーションには赤外線レーザ２８ａ（ここではＣＯ2レーザ）が配属されており、この赤外線レーザのレーザビーム３０ａはビームスプリッタ３２ａによって第１の部分ビーム３４ａと第２の部分ビーム３６ａとに分割される。第１の部分ビーム３４ａは、ビーム案内手段として働く偏向ミラー３８ａを用いてロータ１２ａに向かって偏向される。そして偏向された第１の部分ビーム３４ａは、既に充填されたアンプル４０ａに、停止しているロータ１２ａに相当する搬送ポジションにおいてぶつかり、これによってアンプルは本来の閉鎖作業の前に予加熱され、その結果空気もしくはアンプル内に入れられた保護ガスは加熱され、熱膨張に相応して逃げることができる。この場合第１の部分ビーム３４ａは、ビーム整形手段（Strahlformungsmittel）として働くレンズ４２ａを通過し、このレンズ４２ａは、特殊なレンズ装置又はこれに類したものによって形成されていてもよい。したがってレンズ４２ａは極めて一般的な意味でビーム整形装置を象徴的に示している。
【００９４】
次の搬送サイクルによって、図１に示されているように部分ビーム３４ａによって加熱されたアンプル４０ａは、第２の部分ビーム３６ａがアンプルにぶつかる搬送ポジションに達する。第２の部分ビーム３６ａもまた、予めビーム整形手段として働くレンズ４４ａを通過する。この場合レンズ４４ａもまた同様にレンズ装置もしくはビーム整形装置であってよい。第１の部分ビームによる予加熱によって、アンプル内のガスは十分な程度逃げることができ、かつアンプルは十分な熱エネルギを受容することができるので、今やアンプルは第２の部分ビーム３６ａによって問題なく溶融されて、閉鎖されることができる。図１に示された実施例では、先端部引出し装置４６ａが槍状のアンプル先端部（Ampullenspiess）を引き出すことによって閉鎖が終了させられる。しかしながら択一的にアンプル先端部を引き出すことなしに、第２の部分ビーム３６ａを作用させることだけによって閉鎖を行うことも可能であり、この場合場合によっては付加的にアンプル頚部の軟化された区分に対する加工を行うことができ、これによって機械的な作用によって、ここではガラスであるアンプル壁材料の移動／潰れを促進することができる。
【００９５】
閉鎖ステーション２６ａにおいて閉鎖が行われた後で、アンプルはまず初めにロータ１２ａによって、次いで排出搬送区間４８ａを介して例えば梱包ステーションに搬出される。所望とあらばアンプルは搬出の前に排出搬送区間４８ａを通して、ラベル貼りステーションにおいてラベルを貼られること、又は文字入れステーション及び／又はマーキングステーションにおいて文字入れ及び／又はマーキングを行うことができる。
【００９６】
付加的に図１に示されたアンプル充填兼閉鎖装置を、閉鎖状態で製造されたアンプルつまり開放された充填開口を有していないアンプルを充填するように、構成することもできる。そのためには、レーザビーム５２ａを生ぜしめる第２の赤外線レーザ５０ａを設けることができる。このレーザビーム５２ａは偏向ミラー５４ａを用いてロータ１２ａに向かって偏向され、そして偏向されたレーザビームは、ビーム整形手段として働くレンズ５６ａ（これも同様にレンズ装置又はビーム整形装置であってよい）を通して、充填ステーション２４ａの前における２つの搬送ポジションに配置されているそれぞれのアンプル５８ａにぶつかる。このレーザビーム５２ａによってアンプル充填開口が生ぜしめられ、このアンプル充填開口を通して充填ステーション２４ａにおいては充填剤（例えば薬剤）がアンプルに充填される。特別な第２のレーザは、ビームスプリッタの使用下においてレーザ２８ａのレーザ光がアンプル開口のために使用される場合には、省くことができる。
【００９７】
ロータ１２ａの回転運動中に、レーザ２８ａのレーザビームもしくはレーザ５０ａのレーザビームはアンプルにぶつからない。それというのは図示の実施例では、ただ１つのビーム案内しか設けられていないからである。したがって装置の搬送サイクル中はスイッチオフされるか又は、有利にはシャッタ装置又はレーザビームトラップ装置（Laserstrahlfallenanordnung）を操作させることができ、このようにすると、レーザビームが損害を与えることは無くなる。また極めて簡単な解決策として、ロータをその外周部においてビームトラップとして形成することも可能であり、このようになっていると、レーザビームはロータから反射されず、したがってコントロールされない反射を防止することができる。高い運転確実性及び高い人間保護のためには、しかしながらレーザのスイッチオン・オフもしくは付加的に設けられたシャッタ装置又はビームトラップ装置を操作が有利である。
【００９８】
図２には、図１に示されたアンプル充填兼閉鎖装置がどのように配置され得るかが示されている。ロータ１２ｂはアンプル１８ｂ及び充填ステーション、閉鎖ステーション並びに場合によってはアンプル開放ステーション（図２には図示せず）と共にケーシング７０ｂ内に配置されている。ケーシング７０ｂは、インシュレータとも呼ばれる遮蔽室を形成している。滅菌性及び純度に対する高い要求に対して、ケーシング７０ｂはクリーニングされた空気のための供給装置７２ｂを備えていてもよく、この供給装置７２ｂは、矢印７４ｂによって象徴的に示された成層流を遮蔽室７０ｂの内部において生ぜしめる。レーザビーム３０ｂが予加熱もしくは閉鎖中にアンプル１８ｂを所望かつ規定されたように加熱するために使用されるので、遮蔽室の内部からの熱の排出は不要であり、その結果成層空気流７４ｂは邪魔されない。択一的に、クリーニングされた空気の代わりに保護ガス雰囲気を有する遮蔽室を設けることも可能である。
【００９９】
図２に示された配置形式ではレーザ２８ｂはケーシング７０ｂの外側において保持テーブル７６ｂ場合によっては光学式のテーブル７６ｂに支承されており、レーザビーム３０ｂは、レーザビームのために透過性の窓７８ｂを通してケーシング７０ｂの内部につまり遮蔽室の内部に案内される。この構成には、図３に択一的な配置形式として示されたケーシング内にレーザを配置する配置形式に比べて、次のような大きな利点がある。すなわちこの図２に示された配置形式では、汚れ又は菌が遮蔽室に進入するおそれを生ぜしめることなしに、調整及び保守点検作業のためにレーザに接近可能である。これによって、レーザにおける保守点検及び調整作業を困難にすることなしに、所望とあらば最高の品質クラスのクリーン室条件をケーシング７０ｂの内部において維持することができる。レーザを単にケーシング７０ｂの外側にではなく、隣接室内に、例えば洗浄室またはこれに類した室内に配置して、これに対してアンプル充填兼閉鎖室がそのケーシングと一緒に、隣接室に対して高められた空気品質をもつ室内に配置されていると、特に有利である。
【０１００】
レーザ２８ｃの配置形式及びケーシング７０ｃの大きさに以外は図２に示された実施例に相当している、図３に示された実施例は、レーザのスペースを節減された配置形式、つまり鉛直に配置されたレーザ軸線を備えたレーザの配置形式を示している。したがって、ビーム案内手段として働く偏向ミラー８０ｃが設けられており、この偏向ミラー８０ｃは鉛直方向において下方に向かって放射されるレーザビーム３０ｃをほぼ９０°だけ偏向させる。
【０１０１】
図４には、レーザのスペースを節減した別の配置形式が示されている。この配置形式では、レーザ２８ｄはケーシング７０ｄの屋根に、つまり遮蔽室の外部に配置されている。レーザビーム３０ｄは第１の偏向ミラー８２ｄを介して約９０°下方に向かって偏向され、次いで窓７８ｄを通って進み、次いで第２の偏向ミラー８０ｄによって再び約９０°偏向させられ、そして次いでビーム案内装置４２ｄ／４４ｄを通って、その都度加工されるアンプル１８ｄに達することができる。
【０１０２】
本発明による回転テーブル型のアンプル充填兼閉鎖装置のさらに別の実施例が図５に示されている。この装置（充填ステーション、場合によっては設けられている開放ステーション及び場合によっては設けられている先端部引出し装置は図示せず）では、旋回ミラー９０ｅがビーム案内手段として設けられており、この旋回ミラー９０ｅは、レーザビーム３０ｅのための偏向角を変化させるために働く。複数の可能性が存在する。
【０１０３】
例えば１つの変化実施例では、回転テーブル１２ｅは既に述べた実施例におけると同様に所定のタイミングで間欠的に作業し、この場合レーザビーム３０ｅは旋回ミラー９０ｅを用いて、予加熱のために働くビーム案内（偏向角α′）と本来の閉鎖のために働くビーム案内（偏向角α）との間で切り換えられる。この変化実施例はしかしながら、アンプル加工時における比較的長い無駄時間に基づいてあまり有利ではない。
【０１０４】
さらに別の変化実施例では、回転テーブル１２ｅは確かに所定のタイミングで作動するが、予加熱は、停止しているロータ１２ｅに相当する第１の搬送ポジションと停止しているロータ１２ｅに相当する後続の第２の搬送ポジションとの間におけるアンプルの搬送中に、旋回ミラー９０ｅの相応な旋回によるレーザビームの相応な追従によって、行われる。レーザビームはつまり例えば連続的に、偏向角α′に相当するビーム案内から、偏向角αに相当するビーム案内に達するまで、その時に加工されるアンプルの搬送運動に従って追従させられる。アンプルが、アンプル９２ｅによって図５において象徴的に示された搬送ポジションに達すると、ロータ１２ｅは停止し、偏向角αによって与えられたビーム案内は、アンプルが溶融され、場合によってはアンプル先端部の引出しによって閉鎖されるまで、維持される。そのために場合によっては設けられている先端部引出し装置は、定置に構成することができる。それというのは、先端部引出し装置はアンプルの停止時にその都度のアンプル先端部を引き出すからである。
【０１０５】
別の変化実施例では、回転テーブル１２ｅは連続的に作動する、つまり中断されることなく一定の速度で回転する。このような場合には、予加熱及びレーザビームを用いた溶融による本来の閉鎖は、アンプルの運動時に行われる。アンプルに作用するすべての機構、つまり例えば充填ニードル、ガス注入ニードル及び先端部引出し部材（先端部の引出しが行われる場合）は、したがってアンプルの運動時にアンプルに作用することができるように、構成されねばならない。その都度加工されるアンプルに対するレーザビームの作用に関して言えば、装置は次のように、すなわち偏向角α′から偏向角α′までアンプルの予加熱が行われるように、かつ偏向角αから偏向角α′′までに本来の閉鎖が行われるように、形成されていることができる。偏向角α′′が得られた後で旋回ミラー９０ｅは再び戻し旋回され、その結果再び偏向角α′によって与えられたビーム案内を得ることができる。追従中における偏向ミラー９０ｅの、正確な追従のために必要な旋回速度は、厳密には一定ではなく、アンプルの非直線的な回転運動に合わせられている。ロータ１２ｅからの偏向ミラー９０ｅの距離が比較的大きな場合には、しかしながらまた一定の旋回速度で十分である。それというのはこの場合このような一定の旋回速度でも、アンプルの実際の回転運動のために十分に良好な接近を示すからである。
【０１０６】
さらに付言すれば、予加熱中及び本来の閉鎖中に異なったレーザ出力を調節することができる。しかしながらまた、予加熱中及び本来の閉鎖中に同じレーザ出力で作業を行うことも可能である。
【０１０７】
既に述べたように図５に示された実施例のさらに有利な構成では、検知器９４ｅが設けられており、この検知器９４ｅは、予加熱の終了時にアンプル９２ｅから発するビーム特に熱線を、場合によっては、レーザビームによって励起されたアンプル壁材料における状態からの緩和に起因する放射光（いわゆる「プロセス発光（Prozessleuchten）」）をも検出し、そして相応な検出信号９６ｅを所属の制御ユニット９８ｅに供給する。制御ユニット９８ａは一方では制御信号１００ｅを用いた回転テーブル装置１２ｅの制御のために働き、かつ他方では制御信号１０２ｅを用いたレーザ２８ｅの制御のために働く。
【０１０８】
検出信号９６ｅから制御ユニット９８ｅは、既に予加熱されたアンプル９２ｅの現時点における処理状態特にアンプルの温度を規定することができ、それに基づいて、レーザビーム３０ｅを用いて閉鎖段階中になおどの程度のエネルギをアンプルに供給すべきかを、算出することができる。この計算結果に応じて、レーザ２８ｅは閉鎖段階のためにその出力を調節される。このようにして、変化するアンプル型式又はアンプルジオメトリ、壁厚又はこれに類したものに関して比較的大きな製作誤差を有するアンプルを、簡単に加工すること、つまり充填及び閉鎖することができ、しかもこの場合にアンプルを予め選別し、選別に応じて方法パラメータを相応に調節する必要はない。これらの方法パラメータはむしろ、検知器９４ｅによる処理状態の検出に基づいて自動的に調節されることができる。
【０１０９】
緩和・放射光（Relaxations-Emissionsstrahlung）を検出したい場合には、検知器を図示の実施例とは異なり、レーザビームの影響下にあるアンプルの側に配置すると有利である。このようになっていると、この「プロセス発光」は減衰されることなく検知器に当たることができる。
【０１１０】
さらに付言すると、予加熱の終了時における処理状態だけを検出する定置の検知器９４ｅの代わりに、それぞれレーザビームの影響下にあるアンプルと一緒に運動する検知器を設けることも可能であり、この検知器は連続的にアンプルの処理状態を検出し、それに従って、方法パラメータの絶え間ない制御を可能にする。
【０１１１】
本発明によるアンプル充填兼閉鎖装置のさらに別の実施例が図６に示されている。図６にも同様に、回転テーブル型のアンプル充填兼閉鎖装置１０ｆが示されており、このアンプル充填兼閉鎖装置１０ｆはその基本構造に関しては図１の実施例に相当しており、かつ図６の実施例においても同様に所定のタイミングで間欠的に作動する。既に述べた実施例との大きな相違としては次のことが挙げられる。すなわち図６の実施例では予加熱は、定置の先端部引出し装置４６ｆに相当する搬送ポジションの直前における搬送ポジションから、先端部引出し装置４６ｆに相当する搬送ポジションへのアンプルの搬送中において行われる。レーザ２８ｆのレーザビーム３０ｆはこの場合次のように、すなわちレーザビーム２８ｆがビーム整形手段４４ｆ（レンズ４４ｆ）を通って、その時点において先端部引出し装置４６ｆの影響領域にあるアンプルにぶつかるように、方向付けられている。その時点において停止しているこのアンプルは、レーザビーム３０ｆによって溶融され、次いで最終的にアンプル先端部は引出し装置４６ｆによって引き出される。アンプル先端部のこの引出し動作によって、レーザビーム３０ｆにとってはレーザビーム方向にさらに進むための経路が空き、これによってレーザビーム３０ｆは、ロータ１２ｆに対して同軸的に該ロータに固定されていてこのロータ１２ｆと一緒に回転するミラー多面体車１１０ｆにぶつかる。レーザビームはこの場合多面体車のうちの１つのミラー面にぶつかるが、このミラー面は次のように、すなわちレーザビーム３０ｆが次に閉鎖すべきアンプルに向かって偏向される（レーザビーム３０ｆの破線で示された区分１１２ｆ参照）ように、整形されている。このことは、先端部引出し搬送位置に達するまでのこのアンプルの搬送中における、ロータ１２ｆのいかなる回転位置に対しても言える。ミラー多面体車１１０ｆ（これは構成に応じて多角形ミラー装置と呼ぶこともできる）はつまり、予加熱中にレーザビーム３０ｆのビーム区分１１２ｆを連続的に追従させるために、働く。最終的に先端部引出し箇所に達すると、搬送ロータ１２ｆは停止し、レーザビーム３０ｆはアンプルを溶融するために、アンプルに直接ぶつかり、これは、先端部が引き出され、レーザビームが再び次のアンプルにぶつかるまで続く。
【０１１２】
しかしながらまた上の記載とは異なり、溶融つまり本来の閉鎖をアンプルの運動時に行うことも可能であり、そのために搬送ローラ１２ｆは連続的にかつ有利には一定の回転速度で回転する。この場合先端部引出しが行われる場合には、先端部引出し機構はアンプル運動に相応してアンプルと一緒に運動することが必要である。このことは、充填ニードル及びガス供給ニードルのようなその他の機構に対しても言える。レーザビーム３０ｆはこの場合、それぞれちょうど加工されているアンプルのその時点における正確な位置において、アンプルに照射されるか、又はミラー多面体車１１０ｆを介してアンプルに向かって偏向される。
【０１１３】
さらに付言すると、ミラー多面体車１１０ｆの面（Facette）は、上に述べたような偏向を行うために、詳細に計算される特殊な形状を有する必要がある。図６には単に簡単化されて示されている。
【０１１４】
図７には、直線的なアンプル搬送区間を備えた本発明によるアンプル充填兼閉鎖装置１０ｇの１実施例が示されている。この装置は同時に４つのアンプルを処理できるように、つまり４つのアンプルを充填し、４つのアンプルを予加熱し、かつ４つのアンプルをアンプル先端部を引き出しながら閉鎖することができるように、構成されている。そのために、４つのレーザビーム３０ｇを発するレーザ装置２８ｇが設けられている。レーザ装置２８ｇは、ビームスプリッタの後置されたレーザによって形成されていても、又は４つの別体のレーザによって形成されていてもよい。さらに、４つの充填ヘッド２５ｇを備えた充填ステーション２４ｇと、４つの先端部引出し部材４６ｇを備えた閉鎖ステーション２６ｇとが設けられている。またこの場合装置は、アンプル搬送に関して連続的に作動する装置であっても間欠的に作動する装置であってもよい。以下においては連続的な運転を前提として述べる。４つのレーザビーム３０ｇは旋回可能な多面体ミラーエレメント（又は択一的に、回転ミラーエレメント、例えばミラー車）によって、その時点で予加熱されるもしくは溶融されるアンプルに向かって偏向される。多面体ミラーエレメントはこの場合連続的に時計回り方向でアンプルの予加熱運動に相応して旋回し、次いで、多面体ミラーエレメントはアンプル先端部の引出し後に逆方向に可能な限り大きな旋回速度で戻し旋回し、これによって、次のアンプルにレーザビームを照射することができる。なお回転ミラーエレメントの場合には、この回転ミラーエレメントは同方向でさらに回転させられることができる。そしてアンプルはその予加熱運動中に搬送区間に沿ってまず初め予加熱され、最終的に、先端部引出し機構が使用されるまで、溶融される。先端部引出し機構及び充填ヘッドは、アンプルの前進運動に相応してアンプルと一緒に運動させられねばならない。しかしながらまた、定置の充填ヘッドと定置の先端部引出し機構とを用いた所定のタイミングによる間欠的な運転も、難なく可能であり、この場合には先端部引出し機構へのアンプルの搬送中に予加熱が行われると、有利である。
【０１１５】
図７には、複数のアンプルを同時に加工（予加熱及び溶融）するために複数のレーザビームを追従もしくは偏向させる原理が示されており、この原理はアンプル搬送区間のその他のジオメトリ及び経過（例えば円弧状の経過）においても実現することができる。旋回可能又は回転可能な多面体ミラーエレメントが設けられている場合には、ミラー多面体の旋回／回転運動及びジオメトリは、搬送速度及び搬送区間の経過に合わせられねばならない。ミラー多面体のジオメトリ又は一般的にミラー装置の構成は、多面体ミラーエレメントもしくはミラー装置の課題に相応して計算されることができ、かつ通常は図７に示されている簡単化された形式とは異なっている。
【０１１６】
ここで強調して述べておくと、閉鎖されるアンプルの予加熱は必ずしも必要ではなく、短いレーザ作用時間によって閉鎖を行うためだけに極めて有利である。図７では確かに、予加熱が行われる実施例（ここでは、アンプルを予加熱する際における多面体ミラーエレメント１１２ｇの他の旋回位置から反射されたレーザビームが破線で示されている）が示されているが、しかしながら既に述べたように、予加熱は不可欠な作業ではない。アンプルの溶融は次のように行うことも可能である。すなわちこの場合アンプルの加熱は、アンプルの壁材料が潰れて融合するもしくはアンプル先端部が引き出される前に、アンプル内における空気もしくはアンプル内におけるガス（特に保護ガス）が加熱されて、相応に膨張するように行われる。つまりレーザビームの出力は、アンプルジオメトリ及びアンプル壁厚に相応して合わせられるので、アンプルの加熱が過度に迅速に行われることはない。連続的なレーザビーム作用によるこのような状況では、レーザ作用の特定の段階を予加熱段階と呼び、後続のレーザ作用段階を閉鎖段階と呼ぶこともできる。しかしながら、まだアンプル壁材料がまだ溶融しないレーザビーム作用段階部分を、予加熱段階と呼ぶことも可能である。この「予加熱段階」は、アンプル壁材料の実質的な融合／潰れ（Zusammenlaufen/Zusammenfallen）が生じる前及び、場合によっては行われるアンプル先端部の引出しの前に、アンプル内におけるガスが加熱されて、温度に基づく膨張に応じてアンプルから逃げることができるように、十分長時間にわたって継続されねばならない。
【０１１７】
図８には、より高い充填兼閉鎖出力（単位時間当たりに充填されかつ閉鎖されるアンプルの数）を有する、図７に示された実施例の変化実施例が示されている。この場合レーザ装置２８ｈは８つの充填ヘッド２５ｈを備えて構成されており、図８にはそのうちの４つの充填ヘッドだけが示されている。閉鎖ステーション２６ｈは８つの先端部引出し引出し装置４６ｈを備えて構成されている。別体である予加熱段階を同一であると見なすことできるように装置１０ｈを運転する場合には、予加熱段階は溶融と後続の先端部引出しとを一気に行う。従って図７の実施例とは異なり、充填ステーション２４ｈの流入領域おけるアンプルと先端部引出し装置２６ｈの流入領域におけるアンプルとの間には、アンプルは配置されておらず、充填ステーション２４ｈの流入領域におけるアンプル１１４ｈには、搬送方向で直ぐに、先端部引出し装置２６ｈの流入部におけるアンプル１１６ｈが続いている。それとは異なり図７の実施例では、充填ステーション２４ｇの流入領域おけるアンプル１１４ｇと先端部引出し装置２６ｇの流入領域におけるアンプル１１６ｇとの間には、４つのアンプル１１８ｇが配置されており、これらのアンプル１１８ｇは、先端部引出し装置２６ｇの流入領域に達する前に、有利にはまず初めさらに予加熱されねばならない。図７に示された装置１０ｇにおけると同様に、装置１０ｈはアンプル搬送に関しては間欠的に作動することも又は連続的に作動することもできる。また両方の実施例において、図示の実施態様とは異なり、搬送区間は直線的ではなく、例えば円弧状に湾曲されていてもよい。
【０１１８】
図９にはあ、本発明によるアンプル充填兼閉鎖装置１０ｊの極めて有利な実施例が示されている。この装置１０ｊは２つの別体のアンプル搬送区間１６ｊ−１，１６ｊ−２を有しており、それぞれ２つの充填ステーション２４ｊ−１；２４ｊ−２と閉鎖ステーション２６ｊ−１，２６−２（これらはそれぞれ１つの有利には先端部引出しトングの形の先端部引出し装置を備えている）を備えている。
【０１１９】
アンプル１８ｊ−１；１８ｊ−２を搬送するアンプル搬送区間１６ｊ−１，１６ｊ−２は、直線的な搬送区間区分によって形成されており、かつアンプルの間欠的な搬送のために設計されている（充填機構、先端部引出し機構及びその他のアンプル処理機構はつまり、定置のアンプルを処理するために設計されている）。
【０１２０】
この実施例における利点としては次のことが挙げられる。充填搬送ポジションに続く搬送ポジションと先端部引出し搬送ポジションとの間において延びる搬送区間区分１２０ｊ−１；１２０ｊ−２は、レーザビーム区間に沿ってかつ平行に延びており、この搬送区間区分に配置されているもしくはこの搬送区間区分に沿って移動するアンプルは、レーザビームの作用下にある。図９から分かるように、アンプル１８ｊ−１；１８ｊ−２は充填後にまず初め搬送区間区分１２０ｊ−１；１２０ｊ−２内に、ひいてはレーザビーム区間に沿って伝搬するレーザビーム内に移動させられ、各アンプル先端部の引出し後に、各アンプルが搬送区間区分１２０ｊ−１；１２０ｊ−２を去って後続の搬送区間区分１２２ｊ−１；１２２ｊ−２に進入する場合に、搬送装置はアンプルを再びレーザビームの作用領域から外に出す。異なったレーザビーム区間の間におけるレーザビームの切換えもしくはレーザビームの追従又は旋回は、装置のこの構成では不要である。それというのは、アンプルは搬送区間区分１２０ｊ−１；１２０ｊ−２に沿ったその運動中に、強制的に常にレーザビームの作用下にあるからである。図９に示された装置の特徴は特に、間欠的な搬送のない連続的な搬送運転のために有利である。それというのはこの場合、アンプルの運動に対応したレーザビームの追従が不要だからである。図９の実施例の特別に図示されていない変化実施例はしたがって、連続的な搬送運転によって傑出しており、この場合そのためにアンプル処理機構は、アンプルと一緒に運動できるように、構成されていなくてはならない。例えば先端部引出し機構は、中央の搬送区間区分１２０ｊ−１；１２０ｊ−２に続く搬送区間区分１２２ｊ−１；１２２ｊ−２に沿って又は搬送区間区分１２０ｊ−１；１２０ｊ−２に沿ってアンプルと一緒に運動することができ、それに対して充填機構は、搬送区間区分１２０ｊ−１；１２０ｊ−２に先行する搬送区間区分１２４ｊ−１；１２４ｊ−２に沿ってアンプルと一緒に運動することができる。さらに付言すれば、搬送区間の経過、特に、搬送されるアンプルの急激な方向変化を生ぜしめる、搬送区間「角張った」構成は、単に一例を示すに過ぎず、もちろん、直線的な搬送区間区分１２０ｊ−１；１２０ｊ−２に連続的に移行する湾曲した供給搬送区間区分及び排出搬送区間区分を設けることも可能である。
【０１２１】
図９についてさらに補足的に述べると、アンプルをレーザビームとの相互作用（Wechselwirkung）中に長手方向軸線を中心にして連続的に回転させるために、摩擦車装置１２６ｊが設けられている。レーザビームは２つのレーザ２８ｊ−１，２８ｊ−２によって生ぜしめられ、両レーザのレーザビーム３０ｊ−１，３０ｊ−２は、ビームスプリッタ３２ｊ−１；３２ｊ−２を用いて分割され、その結果偏向ミラー３８ｊ−１；３８ｊ−２を用いた各部分ビームの偏向後に、各２つの互いに平行なビームが生じ、そのうちのそれぞれ一方は搬送区間区分１２０ｊ−１におけるアンプルと相互作用し合い、かつ他方は搬送区間区分１２０ｊ−２におけるアンプルと相互作用し合う。レーザ２８ｊ−１からの部分ビームとレーザ２８ｊ−２からの部分ビームとの間における、わずかな角度上の誤った方向付けによって、一方のレーザからのレーザビームが他方のレーザに進入してレーザの運転を邪魔することが阻止される。
【０１２２】
アンプルの図９に示された位置では、レーザ２８ｊ−２からのレーザビームは、図面において搬送区間区分１２０ｊ−１，１２０ｊ−２の左端部に配置されているアンプルを予加熱するために働き、レーザ２８ｊ−１からのレーザビームは、先端部引出し機構の領域においてこれらの搬送区間区分の右端部に配置されているアンプルを、アンプルの溶融によって後続の先端部引出しにより閉鎖するために働く。搬送区間区分の左端部に配置されたアンプルをこれらの搬送区間区分を介して右端部に向かって搬送する間に、前記搬送区間区分にはこの１つのアンプルしか配置されていないので、このアンプルは両側からレーザビームを照射され、つまり一方の側ではレーザ２８ｊ−１の部分ビームをかつ他方の側ではレーザ２８ｊ−２からのレーザビームを照射される。その結果、搬送区間区分１２０ｊ−１；１２０ｊ−２に沿った搬送中にアンプルへの相応に高められたエネルギ供給が行われる。
【０１２３】
さらに付言すると、ビームスプリッタ３２ｊ−１，３２ｊ−２は有利には５０％：５０％の分割比を有しており、このようになっていると、搬送区間区分１２０ｊ−１，１２０ｊ−２に対しては同じ条件が与えられる。レーザ２８ｊ−１，２８ｊ−２から与えられるビーム出力は、しかしながら両レーザの間において異なっていてもよい。例えば、予加熱中に本来の溶融に対してアンプルにより少ないエネルギを供給したい場合には、間欠的な搬送の場合にレーザ２８ｊ−２は明らかにレーザ２８ｊ−１よりも小さな出力を放射することができる。
【０１２４】
図１０に示された実施例が図９に示された実施例と異なっているのは、図１０のアンプル充填兼閉鎖装置１０ｋが１つのレーザ２８ｋだけしか備えていないことである。このレーザは予加熱のためにもアンプルの本来の要求のためにも働き、この場合搬送区間区分１２０ｋ−１；１２０ｋ−２の右端部に配置されたアンプルのアンプル先端部の引出し後に、レーザビームは、この搬送区間区分の左端部に配置された後続のアンプルに向かって透過されて、このアンプルを予加熱のために照射する。
【０１２５】
図１１ａに示された実施例は図９の実施例と次の点において異なっている。すなわち図１１ａの実施例では、搬送区間区分１２０ｌ−１，１２０ｌ−２の長さが２倍になっているので、常に２つの、最大３つ（図１１に示された状況）のアンプルが、レーザビーム区間に沿って延びている各搬送区間区分１２０ｌ−１；１２０ｌ−２に位置している。図１１に示された状況では、これらの搬送区間区分の左端部に配置されたアンプルは、アンプルを予加熱するために、レーザ２８ｌ−１からのレーザビームによって照射される。搬送区間区分の右端部に配置されたアンプルは、レーザ２８ｌ−２からのレーザビームによって照射され、これによってアンプルは溶融及び後続の先端部引出しによって閉鎖される。各搬送区間区分の真ん中に配置されたアンプルは、その時点においてレーザビームの作用下にはない。このことは次のような場合に、すなわち予加熱が、アンプル内における空気もしくはアンプル内のガスを加熱するために働き、温度に基づく膨張によってアンプルから出るための時間を空気もしくはガスに与えるために働く場合に、有利である。溶融は予加熱に直ぐ続くのではないので、予加熱された壁材料とアンプル内におけるガスとの間における温度補償を行うことができ、かつアンプルが閉鎖される前に、膨張したガスがアンプルから進出することができるのに十分な時間が与えられている。
【０１２６】
図１１ａに示された装置１０ｌの設計では、アンプルは常に片側からだけレーザビームを照射され、つまり予加熱のためには左から、溶融のためには右からレーザビームを照射される。
【０１２７】
図１１ｂには図１１ａの実施例の変化実施例が示されている。この変化実施例では、図９に示された実施例におけると同様に、常に１つ又は２つのアンプルが、レーザビーム区間に対して平行な中央の搬送区間区分に配置されており、この場合アンプルが２つの側から照射される時間は最小に減じられている。図１１ａに示された実施例とは異なり、中央の搬送区間区分に配置されたアンプルがレーザビームを照射されない無駄時間が、回避されており、このことには次のような利点がある。すなわちこのようになっていると、このような無駄時間の間にアンプルの予加熱された区分からの熱エネルギの放出が生じないので、溶融のためにより小さなエネルギを供給するだけでよいか、もしくは予加熱のために小さなレーザ出力で十分である。
【０１２８】
回転テーブル型のアンプル充填兼閉鎖装置１０ｍの別の実施例が、図１２に示されている。この実施例では、レーザ２８ｍのレーザビームがロータ１２ｍの内部から供給されることによって、比較的コンパクトな配置形式が得られる。この場合に用いられるビーム案内装置は１３０ｍで示されている。図１２に示された構造原理は、所定のタイミングに応じて間欠的に作動する機械に対しても、また連続的に作動する機械に対しても（アンプルの搬送に関して間欠的又は連続的）使用することができる。特に、ロータに組み込まれたレーザビーム案内によって、アンプル運動に相応したレーザビームの通中と定置のレーザビーム案内とは、比較的簡単な形式で実現されることができる。
【０１２９】
図１２に示された実施例の特徴としてはさらに次のことが挙げられる。すなわちこの場合、その時点でレーザビームの作用下になるアンプル１３２ｍには、ビーム反射装置１３４ｍが配属もしくは対応配置されており、このビーム反射装置１３４ｍはアンプル１３２ｍからのビーム、特に反射されたレーザビーム及び熱線を、アンプルに戻し反射させる。そのためには、図１３に示されているように、反射ミラー１３４ｎがアンプル１３２ｎに対して次のように、すなわちアンプル１３２ｎから放出された熱線１３６ｎがアンプルに向かって戻し反射されるように、位置決めされかつ構成されている。さらにアンプル１３２ｎから反射されたレーザビーム１３８ｎはアンプル１３２ｎに戻し反射される。このようにアンプルへレーザビーム及び熱線を戻し反射させることによって、レーザビームのエネルギは各アンプルの予加熱及び／又は溶融のために高いレベルで利用され、その結果レーザビームのための作用時間を相応に短くすることができる。
【０１３０】
図１４に示された、上に述べたビーム反射装置において利用することができる別の変化実施例は、アンプル１３２ｐに複数の側からビームを照射することができるので、この場合アンプルを回転させることは不要である。そのためにレーザビーム３０ｐは、レーザビームの大部分がアンプル１３２ｐのそばを通過するように拡げられる。アンプルのそばを通過する大部分のレーザビームは、ビーム反射装置１３４ｐにぶつかり、このビーム反射装置からアンプル１３２ｐに向かって偏向され、それによってアンプル１３２ｐはすべての側からレーザビームを照射されることになる。同時に、図１３の実施例におけると同様に、アンプルから放出されたビームもしくは熱線もまたアンプルに戻し反射されることができる。
【０１３１】
さらに付言すれば、図１３及び図１４には図面を簡単化するために、ミラー１３４ｎ；１３４ｐの反射面に対してはそれぞれ球面状の構成が選択されているが、ミラー１３４ｎ；１３４ｐの特性を最適化するために、非球面状の反射面を備えたミラーを形成することも可能である。ミラーによって満たされる課題に関する反射表面の最適化は、当業者にとって何ら問題はない。
【０１３２】
図５には、アンプルを開放、充填、予加熱及び閉鎖する加工プログラムが示されている。図１５ａには、製造者によって製造される閉鎖状態におけるアンプルが示されている。図１５ｂには、アンプルをその長手方向軸線を中心にして回転させながらレーザビーム５２ｑの使用下においてどのようにして開放させるかが示されている。レーザビーム５２ｑは、上側のアンプル頂部を除去して、アンプル充填開口を備えたアンプル（図１５ｃ参照）を準備するために使用される。予め既にアンプル充填開口を有しているアンプルを使用する場合には、図１５ｃに示されたアンプルが処理プログラムの出発点である。
【０１３３】
図１５ｄには、充填ニードルを使用してアンプルを充填する様子が示されている。充填中に保護ガスをアンプル内に導入することも可能であり、この場合には別体のガス供給ニードルが用いられるか又は、充填通路とガス供給通路とを備えた処理ニードルが用いられる。
【０１３４】
図１５ｅには既に充填し終わったアンプルが示されており、このアンプルは今や閉鎖されねばならない。そのためにアンプルは１５ｆに示されているように、まず初めアンプル先端部１９ｑの真ん中の高さ領域にレーザビーム３４ｑが照射され、この場合所望とあらばアンプルは引き続きガス供給されることができる。図１５ｆには、例えば鏡面加工されていてもよい相応なガス供給ニードルが示されている。このガス供給ニードルは、アンプル先端部１９ｑを通過して、アンプルの円筒形の収容室の上端部にまでアンプル内に進入している。予加熱中にガス供給は極めて効果的な形式で続けられることができるので、アンプルの閉鎖直前に、通常しばしば必要になる最終ガス供給を省くことができる。しかしながらまた、最終ガス供給を行うことも可能であり、この場合最終ガス供給は閉鎖の開始段階においてなお、アンプル先端部を通過してアンプル内に進入しているニードルを用いて行うことができる。このニードルは、溶融されたアンプル壁材料が融合もしくは潰れる前に、特に、先端部引出しが行われる場合にはアンプル先端部が引き出される前に、適正な時期に引き出されねばならない。
【０１３５】
図１５ｇには、アンプルがレーザビーム３６ｑを用いて溶融された後で、先端部引出しトングを用いてアンプル先端部を引き出す様子が示されている。アンプル先端部の引出し後にレーザビーム３６ｑはもはやアンプルによって受け止められないので、図１５ｇには、アンプル先端部の引出し後にレーザビーム３６ｑがぶつかるビームトラップ（Strahlfalle）１４０ｑが示されている。本来のアンプルからのアンプル先端部の解離を促進するため、特に、アンプルと引き出される先端部との間において場合によっては生じる材料糸（ガラス糸）を中断させるために、レーザビーム３６ｑを上方に向かって旋回させることが可能であり、これによって糸状のガラスは所望のように溶融によって切断される。図１５ｈには完全に閉鎖されたアンプルが示されている。
【０１３６】
図１５ｇでは、例えば相応な旋回ミラーによって、破線で示されているようにレーザビームは上方に向かって旋回させられている。しかしながらまた、同じ目標に向かうパッシブなビーム案内も可能である。これは図１６に示されている。この場合アンプル１８ｒの後ろにはミラー１４２ｒが設けられており、このミラー１４２ｒはアンプル先端部の引出し後にレーザビーム３６ｒを上方に向かって偏向させ、その結果レーザビームは、引き出されたアンプル先端部と本来のアンプルとの間における糸にぶつかり、そしてこの糸の中断を促進する。さらにまた図１６に示されているビームトラップ１４０ｒは、レーザビームが損害をもたらすことを確実に阻止している。
【０１３７】
さらに別の変化実施例が図１７に示されている。この図１７に示されたアンプルは、先端部引出しなしに閉鎖されるアンプルである。開放（閉鎖されたアンプルの使用時）、充填及び予加熱（場合によってはアンプルへのガス供給下で行われる）は、このようなアンプルにおいても、図１５ａ〜ず１５ｆに示された経過と同様な形式で行うことができる。図１７に示された実施例では、閉鎖のためにアンプルは、導入開口に隣接した上側の領域においてレーザビーム３６ｓを照射される。このレーザビームの照射は、アンプル壁材料（図示の実施例ではガラス）が溶融して融合もしくは潰れてアンプル開口を閉鎖するまで、続けられる。閉鎖の前に行われるアンプルの予加熱は有利には同様に、アンプルのこの上側の壁領域を照射するレーザビームを用いて行われる。しかしながらまた、予加熱のためのレーザビームの作用ゾーンと溶融のためのレーザビームの作用ゾーンとの間の高さを異ならせることも可能である（このことは、先端部を引き出しながらアンプルを閉鎖する場合に対しても言える）。
【０１３８】
特にアンプル充填開口が大きな場合には、溶融されたアンプル壁材料の融合及び潰れを機械的な作用によって助成すると、有利である。そのために図１７には破線で、上側のノズル１５２ｓと下側のノズル１５４ｓを備えたノズル装置１５０ｓが示されており、これらのノズルはそれぞれ加工噴流１５６ｓ，１５８ｓを、レーザビーム３６ｓの作用下にあるアンプル１８ｓの領域に向かって噴出する。加工噴流は、溶融された壁材料にぶつかり、これに力を加え、この力によって、毛管を形成することなく壁材料は確実に融合させられかつ潰される。アンプルが効果的に閉鎖された後の最終製品は、図１５ｈに示されたものにほぼ相当している。
【０１３９】
強調して述べておくと、図１５及び図１６に示されたアンプル形態は単に一例に過ぎず、特に他の容量及び他の形状を備えているような任意の別のアンプル形態を使用することも可能である。
【０１４０】
図１７の実施例ではレーザビーム３６は単に片側からアンプルにぶつかるので、アンプルは溶融中にその長手方向軸線を中心にして回転させられる（矢印２０ｓ）。アンプルを回転させる必要のない変化実施例は、図１８に示されている。この実施例では、アンプル長手方向軸線を中心にして対称的な偏向ミラー１７０ｔが設けられており、この偏向ミラー１７０ｔはアンプル長手方向軸線において供給されるレーザビーム３６ｔを次のように、すなわち図面にはアンプル頚部しか示されていないアンプル１８ｔがアンプル頚部の上端部領域においてすべての側からレーザビームを照射されるように、偏向する。ミラー１７０ｔには加工ノズル装置１５０ｔが組み込まれており、この加工ノズル装置１５０ｔは、複数の加工ガスビーム１５６ｔをすべての方向から、レーザビームによって照射されるアンプル頚部の端部領域に向ける。そのために加工ガスのためのリング通路がミラー１７０ｔに組み込まれており、このリング通路からは、ミラー面における開口に通じる多数の分岐通路が分岐している。図面には加工ガス源１７２ｔが略示されている。加工ガスについてさらに述べると、アンプルに保護ガスを供給する場合には保護ガスを加工ガスとして使用することもできる。
【０１４１】
さらに付言すると、この場合図１８に破線で示されているように、先端部引出しを行うことなしにアンプルを閉鎖する隆起したアンプル頂部を得ることができ、この場合加工ガスの使用は不可欠ではないが有利である。さらに述べると、レーザビームの作用はその出力及び強度分布に関して正確に調節することができるので、各アンプルに対して方法パラメータを最適に合わせることが可能である。隆起したアンプル頂部について述べると、このような構成によって特に、閉鎖されたアンプルは頂部の領域において十分な材料厚さもしくは強度を有しており、冷えた状態においてあまり大きな緊張を生ぜしめない。これによって溶融されたアンプルヘッドの良好な機械的な負荷耐性が得られ、これは種々様々なテスト（例えば打撃による衝撃テスト、トングを用いた破壊検査）によって証明することができる。
【０１４２】
図１９には、先端部引出し装置に図１３及び／又は図１４の実施例に相応するビーム反射装置が組み込まれている様子が示されている。図１９には、先端部引出しトング４６ｕの作用領域に位置しているアンプル１８ｕのアンプル頚部もしくはアンプル先端部が示されている。先端部引出しトングは、矢印１８０ｕに示すように運動可能に支承された先端部引出しトング部分を備えた２部分から形成されている。アンプル先端部は先端部引出しトング４６ｕと係合しており、この場合トング４６ｕは上方に向かって運動されるだけで、アンプル先端部が十分にレーザビーム３６ｕによって溶融されている場合には、アンプル先端部の引出しを行うことができる。
【０１４３】
先端部引出しトングはその下端部領域に、アンプル先端部に対して同軸的に配置された２つのミラー１３４ｕ−１，１３４ｕ−２を備えており、両ミラーは、アンプル先端部からのビーム（反射されたレーザビーム及び／又は熱線）を戻し反射するために働く。レーザビーム３６ｕはミラー１３４ｕ−１における開口１３２ｕを貫通して、両ミラーの間における中間室に進入し、そこでアンプル先端部にぶつかる。
【０１４４】
図示の実施例とは異なり、ミラー１３４ｕ−１，１３４ｕ−２は択一的に又は付加的に、アンプル先端部のそばを通過するレーザビームをアンプル先端部に向かって偏向させるために、働くことも可能であり、このようになっていると、図１４に示されたようなビーム状況が得られる。この場合には矢印２０ｕで示されているようなアンプルの回転を省くことができる。
【０１４５】
図２０には、ミラー１７０ｔ（図１８）にほぼ相当するミラー１７０ｖが、２部分から成る先端部引出しトングを備えた先端部引出し装置４６ｖに組み込まれている実施例が示されている。図１８に示された実施例におけるように、レーザビーム１８ｖはアンプル１８ｖの長手方向軸線に対して平行に供給され、ミラー面によってアンプル先端部の表面に向かって偏向される。
【０１４６】
先端部引出しトング４６ｖは先端部引出し部材１８６ｖを有しており、これらの先端部引出し部材は、先端部引出し時に外側に向かって拡がったアンプル先端部の上側区分に係合作用するように、互いに合わせられている。供給されるレーザビームの出力に応じて、これらの先端部引出し部材１８６ｖは先端部引出しトング４６ｖに定置に設けられていてもよく、このようになっていると、先端部引出し部材１８６ｖはレーザビームを照射される。しかしながら先端部引出し部材１８６ｖが先端部引出しトング４６ｖに可動に支承されていると有利である。このように構成されていると、先端部を引き出したい時に初めて、先端部引出し部材１８６ｖはレーザビームの作用領域にシフト又は旋回させられることになる。
【０１４７】
図２１には、部分図ａ，ｂ，ｃ，ｄを用いて、アンプル１８ｗを予加熱及び／又は溶融するための強度分布をどのように選択することができるか、という可能性が示されている。図２１ａには、アンプル先端部における円形のレーザ集光スポット（Brennfleck）１９０ｗが示され、図２１ｂには、アンプル長手方向軸線に対して平行な長手方向軸線を有する縦長の集光スポット１９２ｗが示され、図２１ｃには、図２１ｂの実施例とは異なりアンプル長手方向軸線に対して垂直な長手方向軸線を有する横長の集光スポット１９４ｗが示され、図２１ｄには、アンプル長手方向軸線において互いにずらされた２つの円形の集光スポット１９６ｗ，１９８ｗが示されている。
【０１４８】
予加熱時もしくは溶融時におえｋるレーザビームの強度分布は、アンプル型式（アンプルジオメトリ、壁厚、壁材料など）に応じて最適な閉鎖結果を得るために最適化されることが望まれている、重要な影響値である。この場合最適化は経験に基づいて行われ、処理される種々様々なアンプル型式に対して試験もしくは実験が行われる。このような試験には当業者の能力が活かされ、各アンプルを確実に閉鎖するためのパラメータは容易に見出される。ある特定の根拠は、２ｍｌ及び２０ｍｌのアンプル型式に対する以下に記載の結果によって得られる。
【０１４９】
２ｍｌのアンプル型式の溶融
レーザによって助成されたアンプル予加熱なしに、２８０Ｗレーザ出力において毎分４０個の、良好なヘッド形状を備えたアンプルを得ることができた。個々のアンプルに対するレーザ作用時間は８５０ｍｓｅｃであった。レーザ出力を減じると、より長いレーザビーム作用時間が必要である。例えば１４４Ｗ（レーザによって助成されたアンプル予加熱なし）では、２.３ｓｅｃの作用時間で強度及びジオメトリの良好なアンプルを製造することができた。
【０１５０】
加工サイクル毎のレーザ作用時間の短縮は、レーザによって助成されたアンプル予加熱を行うことによって可能である。例えば予加熱のために１４０Ｗのレーザ出力を用い、溶融のために１４４Ｗのレーザ出力を用いた場合、毎分５０個の、良好なヘッド形状と強度を備えたアンプルを閉鎖することができた。この場合レーザ作用時間はそれぞれ７５０ｍｓｅｃであった。
【０１５１】
２０ｍｌのアンプル型式の溶融
レーザによって助成されたアンプル予加熱なしに、２.３ｓｅｃのレーザ作用時間と２１７Ｗのレーザ出力によって、アンプルを確実に閉鎖することができた。レーザによって助成されたアンプル予加熱を導入することによって、良好なヘッド形状と良好な強度とを得ながらアンプルを閉鎖することが可能であり、この場合、予加熱のために１９２Ｗのレーザ出力を用い、溶融のために２０３Ｗのレーザ出力を用いた場合、毎分２５個のアンプルを閉鎖することができた。この場合レーザビームの作用時間はそれぞれ約２.１ｓｅｃであった。
【０１５２】
これらの方法パラメータは経験的な特徴しか有しておらず、使用されるアンプルに応じて相応に合わせられねばならない。しかしながらこれらのパラメータは、経験に基づく最適化のための出発点として働くことができるレーザ出力及び作用時間の値を提供している。
【０１５３】
図２２には、アンプル特に既に閉鎖されたアンプル１８ｘにマーキング及び／又は文字入れを施すために働くマーキング装置及び／又は文字入れ装置が示されている。この装置は有利には、本発明によるアンプル充填兼閉鎖装置に組み込まれている。この装置は例えば、本発明によるアンプル充填兼閉鎖装置においてアンプルの予加熱及び／又は溶融のために用いられたレーザのうちの１つのレーザからもたらされたレーザビーム１９０ｘを用いて、作業を行う。図２２に示された装置では、レーザビーム１９０ｘがビームスプリッタ１９２ｘを用いて、アンプルの予加熱及び／又は溶融のためにも働くレーザビーム３０ｘから分岐される。レーザビーム１９０ｘはビーム案内兼ビーム整形装置（レンズによって象徴的に示されている）１９４ｘを介して、第１の旋回ミラー１９８ｘと第２の旋回ミラー２００ｘとを備えた旋回ミラー装置１９６ｘに与えられ、この場合両旋回ミラーの旋回軸線は互いに直交しているので、ビーム案内兼ビーム整形装置１９４ｘの後ろにおけるレーザビーム２０２ｘは、互いに直交する方向に旋回させられることができ、その結果任意のパターンもしくは模様及びマーキングを、特にアンプルの表面に記載することができ、これによってアンプルに意匠、商標又は文字を描くことが可能である。旋回ミラー装置１９６ｘ（これには例えば平面対物レンズ（Planfeldobjektiv）のような別の光学系構成部材が配属されていてもよい）を用いて制御されるレーザビーム２０４ｘは、アンプルの表面にわたって記載が行われる間、アンプルの表面の持続的な変化を生ぜしめる。レーザビームによってアンプル壁材料はアンプル壁の表面近傍の領域において溶融され、かつ場合によっては気化されて、記載後には事実上消えることのない永続的な記載もしくはマーキングが残る。
【０１５４】
図２３には本発明によるアンプル充填兼閉鎖装置を所定のタイミングに合わせて間欠的に搬送兼閉鎖運転するための変化実施例が示されている。最上位の部分線図には、予加熱中におけるレーザ出力（線区分２２０ｙ）と溶融中におけるレーザ出力（線区分２２２ｙ）とが示されており、この場合線区分２２２ｙに対しては、予加熱のために使用されるレーザ出力よりも大きなレーザ出力を溶融のために使用する場合における択一的な態様が、破線で示されている。
【０１５５】
上から２番目の部分線図には、レーザビームによって照射されるアンプル領域の温度が予加熱中及び溶融中に上昇する様子が示されており、この場合線図を簡単化するために直線的な温度上昇が示されているが、これは温度上昇の一例に過ぎない。
【０１５６】
上から３番目の部分線図には、例えば搬送ロータを用いたアンプル搬送の速度が示されている。図示の間欠的に搬送される実施例では、アンプルへのレーザビームの照射は、アンプルが停止している時間中に行われ、アンプルの均一な加熱のために、場合によっては行われる固有軸線を中心にしたアンプルの回転については、ここでは無視する。
【０１５７】
また、一番下の部分線図は、先端部引出しが行われる場合における、アンプル先端部の引出しが象徴的に示されている。この場合先端部引出しのために必要な先端部引出し力が象徴的に示されている。先端部引出しは、溶融時間の最後に行われる。
【０１５８】
図２４の線図には、本発明によるアンプル充填兼閉鎖装置を所定のタイミングに合わせて間欠的に搬送兼閉鎖運転するための別の変化実施例が示されている。この運転形式では予加熱と溶融とが互いに連続して行われ、両者は場合によっては互いにまったく区別することができない（線区分２２４ｚ）。しかしながら、予加熱と溶融とのために異なったレーザ出力が使用される場合には、予加熱と溶融との明瞭に区別することができる。このような状況は、溶融を再現する線区分２２２ｚによって破線で示されており、この場合溶融のためには、予加熱のためのレーザ出力に比べて約２倍のレーザ出力が使用される。レーザビームを照射されたアンプル区分の温度は、上から２番目の部分線図に象徴的に示されており、この場合図面を簡単化するために、予加熱中及び溶融中における直線的な温度上昇が示されている。
【０１５９】
上から３番目の部分線図には、アンプルの搬送中に予加熱が行われ、アンプル停止時に溶融が行われる（場合によっては行われるアンプルの回転については無視）様子が示されている。このような場合、先端部の引出しもアンプルの停止状態において行われる（最もしたの部分線図）。
【０１６０】
図２５には、本発明に基づいて相応に構成されたアンプル充填兼閉鎖装置における連続的な搬送兼閉鎖運転が示されている。ここではアンプルは、上から３番目の部分線図に示されているように、アンプルは一定の速度で連続的に移動させられる。上から１番目、２番目及び４番目の部分線図は、図２４における１番目、２番目及び４番目の部分線図に相当しているので、それについても説明は省く。１番目の部分線図における線区分は、符号２２２ｚａ，２２４ｚａで示されている。
【０１６１】
以下においては、電磁ビームを用いてワークを加工する本発明による装置の実施例について説明する。なお以下に図面において同一部材又は対応する部材には、アルファベットの小文字の付いていない同一符号が付与されている。また、以下において使用される符号は、図１〜図２５において用いられたアルファベットの小文字の付いている符号とは無関係である。
【０１６２】
図２６に示された本発明による装置２の第１実施例は、電磁ビームを生ぜしめるための手段を有しており、この手段はこの実施例ではレーザ４によって形成されている。この実施例では円筒形のワーク６を加工するための装置２の運転時に、レーザ４はレーザ光を生ぜしめ、このレーザ光は、ビーム案内手段を形成するミラー８によって偏向され、このビーム案内手段であるミラー８は、電磁ビームこの実施例ではレーザ４からのレーザビームを、加工されるワーク６に向かって少なくとも２つの方向から照射する。
【０１６３】
ミラー８はこの実施例では円筒形の外面を備えたベース体１０を有しており、このベース体１０の内面には反射面１２が形成されており、この反射面１２は、加工されるワーク６に向かってホッパ状に狭められていて、レーザ４から入射するレーザ光をワーク６に向かって反射させる。この実施例ではミラー８の反射面１２は、図２６に破線１４で示された回転対称軸線を中心にして回転対称的に形成されていて、ミラー８の反射面がワーク６に向かって円錐形に狭くなるようになっている。
【０１６４】
さらにミラー８は、反射されたレーザ光の作用領域にワーク６を導入するための導入開口１６を有している。導入開口１６はこの実施例では反射面１２の回転対称軸線１４に対して同軸的である。導入開口の内径もしくは内幅はほぼ、導入方向に対して垂直な平面におけるワーク６の拡がりに相当しており、これによってワーク６は加工位置において導入開口１６内にぴったりと受容されている。導入開口１６の内幅はしかしながらまた、図２６に示されているように、ワーク６が導入開口１６の壁に対して半径方向間隔をおいて受容されるように、寸法設定されていてもよい。
【０１６５】
さらに図２６に示された装置２は位置決め装置１８を有しており、この位置決め装置１８はこの実施例では、ワーク６をその軸線方向（図２６の二重矢印２０によって象徴的に示された方向）において直線的に送るための送り装置によって形成されている。ワーク６は位置決め装置１８の保持装置２２において受容されている。しかしながらまた、ミラー８をワークに対して運動させることも可能である。
【０１６６】
図２７には、ミラー２７の反射面１２が回転対称的である様子が示されている。
【０１６７】
本発明による装置２を用いて本発明による方法を実施する場合に、レーザ４はレーザ光を生ぜしめ、このレーザ光の互いに平行なビームは、回転対称的なミラー８の反射面１２においてビームスポット（Strahlfleck）を形成し、このビームスポットの、反射面１２の回転対称軸線に対して垂直な平面への投影図は、回転対称軸線１４に対してほぼ同心的であり、かつほぼリング状である。反射面１２は入射するレーザ光を、図２６に示された加工位置では反射されるレーザ光の作用領域に位置しているワーク６に向かって反射する。
【０１６８】
図２６に示された配置形式では、反射されたレーザ光は、ワーク６の全周にわたって延びる閉じられたリング状の領域に沿って、ワーク６にぶつかり、その結果レーザ光のこの作用領域においてはほぼ均一な強度分布、ひいては加工されるワーク６の表面に対するレーザ光の均一な作用が得られる。
【０１６９】
例えばレーザビームによって材料を表面から除去したい場合には、図２６に示された配置形式では、ワーク２６の全周にわたって延びる作用領域において均一な材料除去が行われ、この際にワーク６を加工中にその回転対称軸線を中心にして回転させる必要はない。
【０１７０】
付加的にワーク６の軸線方向において均一な材料除去が望まれている場合には、ワーク６を例えば矢印２０の方向で位置決め装置１８によって、ワークの全軸方向長さにわたって、反射されるレーザ光の作用領域を通して移動させることができる。
【０１７１】
高価な位置決め装置は不必要であるので、本発明による装置２はその構造が簡単かつ頑丈であり、つまり本発明による装置では面倒で手間の掛かる調整作業が不要である。
【０１７２】
ワーク６はその全周にわたって同時に加工されるので、これによって著しく時間が節約される。
【０１７３】
ミラー８の反射面１２のジオメトリは、広い範囲にわたって選択可能である。ミラー８の反射面１２のジオメトリを相応に選択することによって、ワーク６における任意の強度分布を得ることができる。
【０１７４】
基本的には、レーザ４のレーザ光を直接的に反射面１２に向けるだけで、十分である。しかしながらレーザ光の拡散路（Ausbreitungsweg）に、本発明による装置２の第２実施例を示す図２８に示されているようなビーム整形手段が配置されていてもよい。図２８にはレーザ４及び位置決め装置１８は図示されていない。
【０１７５】
図２８に示された実施例が図２６に示された実施例と異なっている点は次のことである。すなわち図２８の実施例では、２つの屈折光学系つまり、レーザ光の入射方向においてレーザの後ろに配置された集光レンズ２４と、入射方向において集光レンズ２４の後ろに配置されたアキシコン２６とが設けられており、この集光レンズ２４及びアキシコン２６はビーム整形手段を形成している。集光レンズ２４及びアキシコン２６は入射するレーザビームを整形して、ミラー８の反射面１２にビームスポットが形成されるようにし、このビームスポットの、反射面１２の回転対称軸線２４に対して垂直な平面における投影図は、回転対称軸線１４に対してほぼ同心的であり、かつリング状であり、小さな半径方向の長さを有している。このようにして反射されたレーザ光は、ワーク６の全周にわたって延在する閉じられた狭い領域に沿って、ワーク６の表面にぶつかり、その結果例えば材料の除去によってワーク６に細い周溝を形成することができる。
【０１７６】
図２８に示された実施例は例えば、アンプル頚部の溶融によってガラスアンプルを閉鎖するためにも適している。そのためにアンプルはその頚部が、反射されたレーザビームの、アンプルの軸線方向において狭い作用領域に内にもたらされ、その結果アンプル頚部はレーザビームの作用下で溶融され、これによって所望の形式でアンプルの密な閉鎖が行われる。図２６〜図２８に示された実施例もその後に記載の図２９に示された実施例も、ガラスアンプルを閉鎖するために使用することができる。しかしながら図２６の実施例は、比較的狭い領域にレーザビームが集光することに基づいて、この目的のために特に有利である。
【０１７７】
図２９に示された本発明による装置の第３実施例は、図２６に示された実施例に対して次の点で異なっている。すなわち図２９に示された実施例では、ミラー８はレーザ光の入射方向において前側に、レーザ光に対して透過性のカバー２８を有している。このカバー２８及びミラー８の反射面１２は、加工室３０の壁を形成しており、この加工室３０内にワーク６は、図２９に示された加工位置において受容されている。加工室５は、ミラー８のベース体１０に形成された、保護ガス及び／又は処理ガスのための流入開口３２を有している。
【０１７８】
図２９に示された装置の運転時に保護ガスもしくは処理ガスは、流入開口３２を通して加工室３０内に流入し、導入開口１６を通って再び流出する。しかしながらまた、加工室３０を周囲に対してシールすることも可能である。加工室３０内においてワーク６は上に述べたような形式で加工される。図２９に示された実施例の特別な利点としては次のことが挙げられる。すなわちこの実施例では、例えば保護ガス雰囲気下におけるワーク６の加工時に、加工室３０の小さな容積だけを保護ガス下に保つだけでよい。また、加工室３０がシールされている場合には、ワーク６の加工を真空内において行うことが可能であり、このような場合には、加工室３０の小さな容積だけが排気されればよい。
【０１７９】
図３０に示された本発明によるミラー８の第２実施例では、反射面１２は回転対称的に形成されているが、しかしながら図２６〜図２９に示された実施例における反射面と異なり、円錐形ではなく、横断面がほぼ放物線状に狭くなっている。
【０１８０】
以上述べたように、本発明はアンプル充填兼閉鎖装置及びアンプル閉鎖方法に関する。そして本発明ではアンプルをレーザビームの作用下で閉鎖することが提案されており、そのために本発明によるアンプル充填兼閉鎖装置では、装置の閉鎖ステーションに少なくとも１つのレーザが配属されている。
【図面の簡単な説明】
【図１】  間欠的に回転する回転テーブル型の本発明によるアンプル充填兼閉鎖装置を示す平面図である。
【図２】  回転テーブルがケーシング内にかつレーザがケーシングの外に配置されている形式の、図１に示された装置を示す側面図である。
【図３】  図２に示された装置の変化実施例を示すものであって、レーザがケーシング内部に配置されている形式を示す側面図である。
【図４】  図２に示された装置のさらに別の変化実施例を示すものであって、レーザがケーシングの屋根に配置されている形式を示す側面図である。
【図５】  回転テーブルが連続的に又は間欠的に運動可能である、回転テーブル型の本発明によるアンプル充填兼閉鎖装置のさらに別の実施例を示す図である。
【図６】  回転テーブル内に組み込まれたビーム案内装置を備えていて、連続的に又は間欠的に作動する装置である、回転テーブル型の本発明によるアンプル充填兼閉鎖装置のさらに別の実施例を示す図である。
【図７】  連続的に又は間欠的に作動する装置であって、直線的な搬送区間を備えた本発明によるアンプル充填兼閉鎖装置の１実施例を示す図である。
【図８】  図７に示された装置の変化実施例を示す図である。
【図９】  それぞれ充填ステーション及び閉鎖ステーションを備えた２つの別体のアンプル搬送区間を有していて、各１つの直線的な搬送区間区分がレーザビーム区間に沿って延びている、本発明によるアンプル充填兼閉鎖装置の別の実施例を示す図である。
【図１０】  図９に示された装置の変化実施例を示す図である。
【図１１】  図９に示された装置のさらに別の２つの変化実施例を示す図である。
【図１２】  回転テーブルに組み込まれたレーザビーム案内装置と、処理中のアンプルから放出されたビームを該アンプルに戻し反射させるために該アンプルに配属された戻し反射装置とを備えた、回転テーブル型の本発明によるアンプル充填兼閉鎖装置のさらに別の実施例を示す図である。
【図１３】  図１２に示された戻し反射装置を示す図である。
【図１４】  アンプルの回転を必要とすることなしに、レーザビームを複数の側からアンプルに照射するためのビーム案内装置を示す図である。
【図１５】  部分図１５ａ〜１５ｈを用いて、閉鎖状態において供給されたアンプル（図１５ａ）から導入開口の形成後に充填されて再び閉鎖されるアンプル（図１５ｈ）までのアンプル処理プログラムの経過を示す図である。
【図１６】  図１５ｇに相当する、先端部引出しによる閉鎖工程の変化実施例を示す図である。
【図１７】  先端部引出しなしにアンプルを閉鎖する工程を示す図である。
【図１８】  先端部引出しなしに、処理ガスの機械的な作用下で複数の側からアンプル頚部にレーザビームを照射してアンプルを閉鎖する実施例を示す図である。
【図１９】  先端部引出し装置に熱線を反射するミラー装置が組み込まれている実施例を示す図である。
【図２０】  アンプル頚部に複数の側から照射するために働くミラー装置が、先端部引出し装置に組み込まれている実施例を示す図である。
【図２１】  予加熱時及び／又は閉鎖時におけるアンプル頚部（アンプル先端部）に作用するレーザビームの強度分布の異なった変化実施例を、部分図２１ａ〜２１ｄを用いて示す図である。
【図２２】  スキャナ装置を用いてアンプル表面に案内される文字入れ用レーザビームによって、閉鎖されたアンプルにＢ＋Ｓというイニシャルを描く様子を示す図である。
【図２３】  本発明によるアンプル充填兼閉鎖装置の間欠的な運転のための一例を示す線図である。
【図２４】  図２３に示された実施例に対して２倍の閉鎖出力（単位時間当たり閉鎖されるアンプルの数）をもつ、本発明によるアンプル充填兼閉鎖装置の間欠的な運転のための一例を示す線図である。
【図２５】  本発明によるアンプル充填兼閉鎖装置の連続的な運転のための一例を示す線図である。
【図２６】  電磁ビーム特にレーザビームを少なくとも２つの方向から加工すべきワークに向かって照射して、ワーク特にアンプルを電磁ビームを用いて加工する本発明による装置の第１実施例を示す、部分的に断面された側面図である。
【図２７】  図２６のにおいて用いられた第１実施例によるミラーを上から見た平面図である。
【図２８】  電磁ビーム特にレーザビームを少なくとも２つの方向から加工すべきワークに向かって照射して、ワーク特にアンプルを電磁ビームを用いて加工する本発明による装置の第２実施例を示す図である。
【図２９】  電磁ビーム特にレーザビームを少なくとも２つの方向から加工すべきワークに向かって照射して、ワーク特にアンプルを電磁ビームを用いて加工する本発明による装置の第３実施例を示す図である。
【図３０】  本発明によるミラーの第２実施例を示す図である。
【符号の説明】
２  装置、  ４  レーザ、  ６  ワーク、  ８  ミラー、  １０  ベース体、  １０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ，１０ｅ，１０ｆ，１０ｇ，１０ｈ，１０ｊ，１０ｋ，１０ｌ，１０ｍ  アンプル充填兼閉鎖装置、  １２  反射面、  １２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ  ロータもしくは回転テーブル、  １４ａ  供給搬送区間、  １６  導入開口、  １６ａ，１６ｊ  搬送区間区分、  １８  位置決め装置、  １８ａ，１８ｂ，１８ｃ，１８ｄ，１８ｊ，１８ｒ，１８ｓ，１８ｔ，１８ｕ，１８ｖ，１８ｘ  アンプル、  １９ｑ  アンプル先端部、  ２２  保持装置、  ２４ａ，２４ｇ，２４ｈ，２４ｊ  充填ステーション、  ２６ａ，２６ｇ，２６ｈ，２６ｊ  閉鎖ステーション、  ２８  カバー、  ２８ａ，２８ｂ，２８ｃ，２８ｄ，２８ｅ，２８ｆ，２８ｇ，２８ｈ，２８ｊ，２８ｋ  レーザ、  ３０  加工室、  ３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄ，３０ｅ，３０ｆ，３０ｇ，３０ｈ，３０ｊ，３０ｐ，３０ｘ  レーザビーム、  ３２  流入開口、  ３２ａ，３２ｊ  ビームスプリッタ、  ３４ａ，３６ａ  部分ビーム、  ４２ａ，４４ａ，４４ｆ  レンズ、  ４６ａ，４６ｆ，４６ｇ，４６ｈ，４６ｕ，４６ｖ  先端部引出し装置、  ４８ａ  排出搬送区間、  ５０ａ  赤外線レーザ、  ５２ａ，５２ｑ  レーザビーム、  ５４ａ  偏向ミラー、  ５６ａ  レンズ、  ５８ａ  アンプル、  ７０ｂ，７０ｃ，７０ｄ  ケーシング、  ７２ｂ  供給装置、  ７６ｂ  テーブル、  ７８ｂ  窓、  ８０ｃ，８０ｄ  偏向ミラー、  ８２ｄ  偏向ミラー、  ９０ｅ  旋回ミラー、  ９４ｅ  検知器、  ９６ｅ  検出信号、  ９８ｅ  制御ユニット、  １００ｅ，１０２ｅ  制御信号、  １１０ｆ  ミラー多面体車、  １１２ｆ  ビーム区分、  １１４ｇ，１１４ｈ，１１６ｇ，１１６ｈ，１１８ｇ  アンプル、  １２０ｊ，１２０ｋ，１２０ｌ  搬送区間区分、  １２６ｊ  摩擦車装置、  １３０ｍ  ビーム案内装置、  １３２ｍ  アンプル、  １３４ｎ，１３４ｐ，１３４ｕ  反射ミラー、  １３６ｎ  熱線、  １３８ｎ  レーザビーム、  １４０ｒ  ビームトラップ、  １４２ｒ  ミラー、  １５０ｓ  ノズル装置、  １５２ｓ，１５４ｓ  ノズル、  １５６ｔ  加工ビーム、  １７０ｔ，１７０ｖ  偏向ミラー、  １７２ｔ  加工ガス源、  １８６ｖ  先端部引出し部材、  １９０ｗ，１９２ｗ，１９４ｗ，１９６ｗ，１９８ｗ  集光スポット、  １９０ｘ  レーザビーム、  １９２ｘ  ビームスプリッタ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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