(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式(Ｉ)を有する化合物またはその塩。
【化１】
0004119498.tif 000025
式中、
置換分Ｒ1はシクロヘキシル、置換されていないフェニルＣ6Ｈ5または置換されたフェニルＣ6Ｈ5-nＲ4n（ここで、ｎは１〜５であり、そして置換分Ｒ4は直鎖もしくは有枝鎖のＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシまたはハロゲンである）であり；
２個のジエミナル置換分Ｒ2は一緒で二重結合酸素原子（すなわち、(Ｒ2)2は＝Ｏである）であるか、または各々の置換分Ｒ2は単独で水素であり；
置換分Ｒ3は各々単独に直鎖もしくは有枝鎖Ｃ1〜Ｃ4アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、置換されていないフェニルＣ6Ｈ5または置換されたフェニルＣ6Ｈ5-nＲ4n（ここで、ｎおよびＲ4はＲ1において先に定義したとおりである）であるか、または置換分Ｒ3は相互に連結して環を形成し、この場合一緒になった置換分Ｒ3はテトラメチレン−(ＣＨ2)4−、ペンタメチレン−(ＣＨ2)5−、３−オキサペンタメチレン−(ＣＨ2)2−Ｏ−(ＣＨ2)2−またはＮ−メチル−３−アザペンタメチレン−(ＣＨ2)2−Ｎ(ＣＨ3)−(ＣＨ2)2−であり；
置換分Ｘは水素またはＰ(Ｒ1)2である。
【請求項２】
置換分Ｒ1がシクロヘキシル、フェニル、ｐ−トリル、ｐ−第三ブチルフェニルまたはハロフェニル（ここで、ハロゲンはフッ素、塩素もしくは臭素である）であり；
２個の置換分Ｒ2は一緒で二重結合酸素原子(すなわち、(Ｒ2)2が＝Ｏである）であるか、または各々の置換分Ｒ2は単独で水素であり；
置換分Ｒ3はイソプロピル、シクロヘキシルもしくはフェニルであるか、または２個の置換分Ｒ3は一緒で−(ＣＨ2)4−、−(ＣＨ2)5−、−(ＣＨ2)2−Ｏ−(ＣＨ2)2−もしくは−(ＣＨ2)2−Ｎ(ＣＨ3)−(ＣＨ2)2−であり；
置換分Ｘは水素もしくはＰ(Ｒ1)2〔ここで、Ｒ1はシクロヘキシル、フェニル、ｐ−トリル、ｐ−第三ブチルフェニルもしくはｐ−ハロフェニル（この場合、ハロゲンはフッ素、塩素もしくは臭素である）である〕である
請求項１記載の式(Ｉ)の化合物。
【請求項３】
Ｒ1がフェニルであり、２個の置換分Ｒ2が一緒で二重結合酸素原子であり、Ｒ3がイソプロピルであり、そしてＸが水素もしくはＰ（フェニル)2である請求項１または２記載の式(Ｉ)の化合物。
【請求項４】
光学活性な形態である請求項１〜３のいずれかに記載の式(Ｉ)の化合物。
【請求項５】
ラセミ形態である請求項１〜３のいずれかに記載の式(Ｉ)の化合物。
【請求項６】
基Ｒ1、Ｒ2およびＲ3が請求項１〜４の定義のとおりであり、そしてＸが水素である請求項１〜４のいずれかに記載の式(Ｉ)の光学活性モノホスフィンの製法において、式(III)の化合物
【化２】
0004119498.tif 000026
(式中、基Ｒ2およびＲ3は請求項１〜４に定義のとおりである)をホモキラル第三アミンの存在下にｎ−ブチルリチウムを用いる不斉モノ−オルト−リチウム化に受けしめ、そして系中でキラルモノリチウム化合物を式ＣｌＰ(Ｒ1)2（式中Ｒ1は請求項１〜４に定義のとおりである）のクロロホスフィンと反応させることを特徴とする上記製法。
【請求項７】
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3が請求項１〜４に定義のとおりであり、そしてＸがＰ(Ｒ1)2である請求項１〜４のいずれかに記載の式（Ｉ）の光学活性Ｃ2−対称ジホスフィンの製法において、基Ｒ1、Ｒ2およびＲ3が請求項１〜４に定義のとおりであり、そしてＸが水素である式（Ｉ）の光学活性モノホスフィンをホモキラル第三アミンの存在下にｎ−ブチルリチウムによる不斉モノ−オルト−リチウム化に受けしめ、そして系中でキラルモノリチウム化合物を式ＣｌＰ(Ｒ1)2（式中Ｒ1は請求項１〜４に定義のとおりである）のクロロホスフィンと反応させることを特徴とする上記製法。
【請求項８】
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3が請求項１〜４に定義のとおりであり、そしてＸがＰ(Ｒ1)2である請求項１〜４のいずれかに記載の式（Ｉ）の光学活性Ｃ2−対称ジホスフィンの製法において、式(III)の化合物
【化３】
0004119498.tif 000027
（式中、基Ｒ2およびＲ3は請求項１〜４に定義のとおりである）をまずホモキラル第三アミンの存在下にｎ−ブチルリチウムを用いる脱プロトン化に受けしめ、次にＲ1が請求項１〜４に定義のとおりである式ＣｌＰ(Ｒ1)2のクロロホスフィンを加えることによるホスフィン化に受けしめ、それから、形成されたモノホスフィンを単離することなく、ｎ−ブチルリチウムを新たに加えることにより第二の脱プロトン化を実施し、そして最後に式ＣｌＰ(Ｒ1)2のクロロホスフィンを新たに加えることにより第二のホスフィン化を生じさせることを特徴とする上記製法。
【請求項９】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＸが請求項１〜３および５に定義のとおりである請求項１〜３および５のいずれかに記載の式(Ｉ)のラセミ化合物の製法において、式(III)のアキラルフェロセン
【化４】
0004119498.tif 000028
(式中、Ｒ2およびＲ3は請求項１〜３および５に定義のとおりである）またはＲ1、Ｒ2およびＲ3は請求項１〜３および５に定義のとおりであり、そしてＸが水素である式(Ｉ)のラセミモノホスフィンをラセミもしくはアキラル第三アミンの存在下にｎ−ブチルリチウムによる対称モノ−オルト−リチウム化に受けしめ、そして系中でモノリチウム化合物をＲ1が請求項１〜３および５に定義のとおりである式ＣｌＰ(Ｒ1)2のクロロホスフィンと反応させ、あるいは、式(III)の化合物からジホスフィンを製造する場合、段階的な対称ジリチウム化／ジホスフィニルを実施することを特徴とする上記製法。
【請求項１０】
使用されるアミンが、Ｎ,Ｎ,Ｎ′,Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミンである請求項９記載の方法。
【請求項１１】
請求項１〜５のいずれかに記載の式(Ｉ)の化合物の遷移金属錯体におけるリガンドとしての使用。
【請求項１２】
請求項１〜５のいずれかに記載の式(Ｉ)のリガンドの少なくとも１種を含む遷移金属錯体。
【請求項１３】
請求項１〜５のいずれかに記載の式(Ｉ)の化合物と遷移金属ルテニウム、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金もしくは銀との錯体。
【請求項１４】
請求項１２または１３に記載の遷移金属錯体の触媒としての使用。
【請求項１５】
請求項１３記載の遷移金属錯体の不斉触媒としての使用。
【請求項１６】
式(II)の化合物またはその塩。
【化５】
0004119498.tif 000029
式中、
置換分Ｒ1はシクロヘキシル、置換されていないフェニルＣ6Ｈ5または置換されたフェニルＣ6Ｈ5-nＲ4n（ここで、ｎは１〜５であり、そして置換分Ｒ4は直鎖もしくは有枝鎖のＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシまたはハロゲンである）であり；
２個のジエミナル置換分Ｒ2は一緒で二重結合酸素原子（すなわち、(Ｒ2)2は＝Ｏである）であるか、または各々の置換分Ｒ2は単独で水素であり；
置換分Ｒ3は各々単独に直鎖もしくは有枝鎖Ｃ1〜Ｃ4アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、置換されていないフェニルＣ6Ｈ5または置換されたフェニルＣ6Ｈ5-nＲ4n（ここで、ｎおよびＲ4はＲ1において先に定義したとおりである）であるか、または置換分Ｒ3は相互に連結して環を形成し、この場合一緒になった置換分Ｒ3はテトラメチレン−(ＣＨ2)4−、ペンタメチレン−(ＣＨ2)5−、３−オキサペンタメチレン−(ＣＨ2)2−Ｏ−(ＣＨ2)2−またはＮ−メチル−３−アザペンタメチレン−(ＣＨ2)2−Ｎ(ＣＨ3)−(ＣＨ2)2−である。
【請求項１７】
基Ｒ1、Ｒ2およびＲ3が請求項１６に定義のとおりである式(II)の化合物の製法において、式(III)の化合物
【化６】
0004119498.tif 000030
（式中、基Ｒ2およびＲ3は請求項１６に定義のとおりである）に第三アミンの存在下第二ブチルリチウムによるオルト−リチウム化を受けしめ、そして系中でジリチウム化合物を基Ｒ1が請求項１６に定義のとおりである式ＣｌＰ(Ｒ1)2のクロロホスフィンと反応させることを特徴とする上記製法。
【請求項１８】
使用されるアミンがＮ,Ｎ,Ｎ′,Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミンである請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
請求項１６記載の式(II)の化合物の遷移金属錯体でのリガンドとしての使用。
【請求項２０】
請求項１６記載の式(II)の化合物のリガンドの少なくとも１種を含む遷移金属錯体。
【請求項２１】
請求項２０記載の遷移金属錯体の触媒としての使用。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、式（Ｉａ）の光学活性およびラセミＣ2−対称２,２′−二置換１,１′−ジホスフィノ−フェロセン、式（Ｉｂ）の光学活性およびラセミ不斉１′,２−二置換１−ホスフィノ−フェロセンおよび式(II)のアキラル２,２′−二置換１,１′−ジホスフィノ−フェロセン、特に不斉オルト−リチウム化（asymmetric ortho-lithiation）の原理に従ったこれらの製法、遷移金属錯体のためのリガンドとしてのこれらの使用、これらを包含する遷移金属錯体、および特に不斉合成における触媒としての遷移金属錯体の使用に関する。
【０００２】
【化７】
0004119498.tif 000002
【０００３】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】
ホモキラル、不斉モノおよびジホスフィノフェロセンＰＰＦＡ（式Ａ）およびＢＰＰＦＡ（式Ｂ）（式中、Ｍｅはメチル基であり、そしてＰｈはフェニル基である）の遷移金属錯体は、基質がホスフィンリガンドのジメチルアミノ基との相互作用に関与し得る官能基を有していると、不斉触媒作用において高い立体選択性を生じる。かかる官能基を有していない基質は、式ＣのホモキラルＣ2−対称ジホスフィノフェロセンをリガンドとして使用すると、高いエナンチオマー選択性を伴って反応することができる(T. Hayashi等, J. Am. Chem. Soc., 1994年, 116巻, 4221頁）。しかし、触媒作用における顕著な結果にもかかわらず、式Ａ、ＢおよびＣのリガンドは、工業上の適用において注目に値するものは何もみつけられていなかった。その理由は、これらのリガンドの入手可能性が十分でなかったことに他ならないからである。光学的に純粋なリガンドを製造するのには、いずれにしても、ラセミ体の分割を実施し、そしてまた、式Ｃの化合物の合成では、キラルＣ2−対称Ｃのそのアキラルメソ異性体からの複雑な分離を実施することが必要である。従って、簡便な製法および入手容易な簡単なリガンドが要望されている。
【０００４】
【化８】
0004119498.tif 000003
【０００５】
最近になって、ホモキラルリチウム塩基による置換フェロセンの不斉オルト−リチウム化によってホモキラルホスフィノフェロセンを得ようとすることが試みられてきた。例えば、式Ｄのジメチルアミノメチルフェロセンが、式Ｅのジアミン２当量の存在下ｎ−ブチルリチウム（ｎ−ＢｕＬｉ）１.５当量により、そしてクロロジフェニルホスフィン１.５〜３.０当量を用いて、収率４９％、６２％ｅｅ以下（エナンチオマー過剰率）でジフェニルホスフィニル化されて式Ｆの化合物を生成した(Y. Nishibayashi等, J. Org. Chem., 1996年, 61巻, 1172頁)。また、式ＧのＮ,Ｎ−ジイソプロピルフェロセンカルボキサミドがｎ−ＢｕＬｉの２.２当量および式Ｈのジアミンの２.２当量により、そしてクロロジフェニルホスフィン３.０当量を用いて、収率８２％および９０％ｅｅでジフェニルホスフィニル化されて式Ｊの化合物を形成した（M. Tsukazaki, V. Snieckus等, J. Am. Chem. Soc., 1996年, 118巻, 685頁）。
【０００６】
【化９】
0004119498.tif 000004
それで、フェロセンの一つの環での不斉オルト−リチウム化は取られているものの、この原理を両方の環に拡大することが可能かどうかについては何も示唆されていない。光学活性リチウム塩基を用いる不斉オルト−リチウム化法を両方のフェロセン環に適用しようとすることは未だ試みられていなかった。
【０００７】
【問題解決のための手段】
意外にも、不斉オルト−リチウム化の原理を基とするホスフィノ−フェロセンの極めて簡便な製造方法が見出された。このリチウム化はここで初めて両方のフェロセン環に適用されるものであり、また初めてキラルＣ2−対称ジホスフィノフェロセンの不斉合成に使用されるものである。例えば市販の１,１′−フェロセンジカルボン酸から出発して、極めて容易に、また極度に短い合成ルートにより、新規なモノホスフィノ−およびジホスフィノ−フェロセンを得ることが可能となり、これらのフェロセンは触媒的に活性な遷移金属錯体のためのリガンドとして適当である。新規な方法を変えることにより、代わって、特に式（Ｉｂ）の光学活性１′,２−二置換１−ホスフィノ−フェロセンもしくは式（Ｉａ）の光学活性２,２′−二置換１,１′−ジホスフィノ−フェロセンが容易に入手し得るようになり、または高度なジアステレオ選択的な方法でジホスフィン（Ｉａ）のアキラルメソ異性体、すなわち式(II)の化合物が容易に入手し得るようになるものである。
【０００８】
従って、本発明によって、まず第一に、式(Ｉ)の化合物およびその塩が提供される。
【化１０】
0004119498.tif 000005
式中、
置換分Ｒ1はシクロヘキシル、置換されていないフェニルＣ6Ｈ5または置換されたフェニルＣ6Ｈ5-nＲ4n（ここで、ｎは１〜５であり、そして置換分Ｒ4は直鎖もしくは有枝鎖のＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシまたはハロゲンである）であり；
２個のジエミナル置換分Ｒ2は一緒で二重結合酸素原子（すなわち、(Ｒ2)2は＝Ｏである）であるか、または各々の置換分Ｒ2は単独で水素であり；
置換分Ｒ3は各々単独に直鎖もしくは有枝鎖Ｃ1〜Ｃ4アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、置換されていないフェニルＣ6Ｈ5または置換されたフェニルＣ6Ｈ5-nＲ4n（ここで、ｎおよびＲ4はＲ1において先に定義したとおりである）であるか、または置換分Ｒ3は相互に連結して環を形成し、この場合一緒になった置換分Ｒ3はテトラメチレン−(ＣＨ2)4−、ペンタメチレン−(ＣＨ2)5−、３−オキサペンタメチレン−(ＣＨ2)2−Ｏ−(ＣＨ2)2−またはＮ−メチル−３−アザペンタメチレン−(ＣＨ2)2−Ｎ(ＣＨ3)−(ＣＨ2)2−であり；
置換分Ｘは水素またはＰ(Ｒ1)2である。
【０００９】
式(Ｉ)およびその他の式、例えば式(II)で示されたコンホメーションは、新規な化合物が特定の条件下で実際に存在しているコンホメーションとは必ずしも対応するものではなく、このことは例えばＸ線構造解析から明らかである。これらの式はフェロセン系での置換分の配置を説明するのに役立つだけであり、特別な立体配置に関して限定しているものと解すべきではない。新規化合物の様々のコンホメーションが、就中、殊に両方の環を通る回転軸のまわりを２個のフェロセン環の一つが回転することにより、得られるものである。この軸に関していずれのコンホメーションが実際に存在するかは、個々の事情に左右される。本発明は、構造式で説明される特別の配置もしくはコンホメーション（配座）とは無関係に、式(Ｉ)および(II)のすべての化合物（およびそれらの錯体）を包含していることは言うまでもない。
【００１０】
まず、本発明は式(Ｉ)の遊離の化合物、すなわち塩ではない化合物を包含する。しかし、第二に、本発明は式(Ｉ)の化合物の塩をも包含する。例えば、式(Ｉ)の化合物、殊に塩基性基を包含する化合物、すなわち、例えばＲ2が水素である化合物については、無機および有機酸、殊に非酸化性酸と酸付加塩を形成することが可能である。適当な酸の例には、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸などがある。塩は常法、例えば成分を溶媒もしくは希釈剤中で組み合わせることにより製造することができる。一般に、本発明は、式(II)の化合物がその他の分子もしくはイオンもしくは原子との付加体の形態、よくあるケースとして、例えば金属イオンとの錯体もしくは酸−塩基付加体である場合でも、該化合物(II)を包含しているものである。
【００１１】
本発明は、式(Ｉ)の化合物のすべての立体異性体の形態、すなわちすべてのエナンチオマーおよびジアステレオマーを包含し、そして、特に、本発明は一つのエナンチオマーならびに他のエナンチオマーの両方を包含している。式(Ｉ)の化合物は、フェロセン上の置換分の配置から生じるキラリティ以外には、さらに他のキラリティ要素を有していない場合もある。しかし、例えば、Ｒ1およびＲ3に追加の不斉炭素原子が存在することもあり得る。それで、これらの原子は互いに独立してＲもしくはＳ配置を有していてもよい。エナンチオマーは、純粋なエナンチオマーの形態およびラセマートの形態もしくはいかなる比率であってもよいエナンチオマーの混合物の形態、殊に高いエナンチオマー過剰率を有する混合物の形態の両方で包含されている。同様に、純粋な形態およびいかなる比率であってもよい混合物で、すべてのジアステレオマーが包含される。
本発明は同じく実験式が異なる２種またはそれを超える式(Ｉ)の化合物の混合物、殊にＸが水素である式(Ｉ)の化合物およびＸがＰ(Ｒ1)2である式(Ｉ)の相当する化合物の混合物を包含し、この場合すべての化合物はその上にすべての立体異性体の形態で存在することができる。
【００１２】
Ｃ1〜Ｃ4−アルキルの例には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、第二ブチル、イソブチルおよび第三ブチルがあり；Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシの例には、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、第二ブトキシ、イソブトキシおよび第三ブトキシがある。置換されたフェニル基において、置換分はいずれの位置にあってもよく；一置換の場合、オルト、メタもしくはパラ位；二置換の場合、例えば、３,４もくしは３,５位である。フェニル環が基Ｒ4でいくつも置換されている場合、基Ｒ4は同一または異なっていてよい。フェニル環の置換分の数ｎは１、２、３、４もしくは５であり得る。置換されたフェニル基のうちでは、一置換フェニル環が好ましい。
他に指定のない限り、ハロゲンはフッ素、塩素、臭素もしくはヨウ素である。
【００１３】
式(Ｉ)の化合物中の基Ｐ(Ｒ1)2の２個の基Ｒ1は同一または異なっていてよい。本発明の好ましい態様では、これらは同一である。窒素原子上の２個の基Ｒ3も、互いに連結して環を形成していないときは、同一または異なっていてよい。２個の基Ｒ3が互いに連結して環を形成している場合、同じ窒素原子に結合している２個の基Ｒ3が互いに連結されていることを意味し、それで、基Ｎ(Ｒ3)2はピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノもしくはＮ−メチルピペラジノである。
式(Ｉ)の化合物中のＲ1は好ましくはシクロヘキシル、フェニル、ｐ−トリル、第三ブチルフェニルもしくはｐ−ハロフェニル（この場合、ハロゲンはフッ素、塩素もしくは臭素である）である。特に好ましいＲ1はフェニルである。
【００１４】
式(Ｉ)の化合物での２個の基Ｒ2は好ましくは一緒で二重結合酸素原子（すなわち、(Ｒ2)2が＝Ｏである）である。
式(Ｉ)の化合物でのＲ3は好ましくはイソプロピル、シクロヘキシルもしくはフェニルであり、または２個の基Ｒ3は一緒で−(ＣＨ2)4−、−(ＣＨ2)5−、−(ＣＨ2)2−Ｏ−(ＣＨ2)2−もしくは−(ＣＨ2)2−Ｎ(ＣＨ3)−(ＣＨ2)2−が好ましく；特に好ましいＲ3はイソプロピルである。
式(Ｉ)の化合物でのＸは好ましくは水素もしくは基Ｐ(Ｒ1)2（ここでＲ1は先に記載した好ましい定義を有する）である。
【００１５】
式(Ｉ)の好ましい化合物は、置換分の１種または２種以上が好ましい定義を有する化合物である。特に好ましいのは、置換分Ｒ1がシクロヘキシル、フェニル、ｐ−トリル、ｐ−第三ブチルフェニルまたはハロフェニル（ここで、ハロゲンはフッ素、塩素もしくは臭素である）であり；
２個の置換分Ｒ2は一緒で二重結合酸素原子(すなわち、(Ｒ2)2が＝Ｏである）であるか、または各々の置換分Ｒ2は単独で水素であり；
置換分Ｒ3はイソプロピル、シクロヘキシルもしくはフェニルであるか、または２個の置換分Ｒ3は一緒で−(ＣＨ2)4−、−(ＣＨ2)5−、−(ＣＨ2)2−Ｏ−(ＣＨ2)2−もしくは−(ＣＨ2)2−Ｎ(ＣＨ3)−(ＣＨ2)2−であり；
置換分Ｘは水素もしくはＰ(Ｒ1)2〔ここで、Ｒ1はシクロヘキシル、フェニル、ｐ−トリル、ｐ−第三ブチルフェニルもしくはｐ−ハロフェニル（この場合、ハロゲンはフッ素、塩素もしくは臭素である）である〕である式(Ｉ)の化合物である。
【００１６】
Ｒ1がフェニルであり、２個の置換分Ｒ2が一緒で二重結合酸素原子（すなわち、(Ｒ2)2が＝Ｏである）であり、Ｒ3がイソプロピルであり、そしてＸが水素もしくはＰ(フェニル)2である式(Ｉ)の化合物が、非常に特に好ましい。
さらにまた、一方では光学活性形態の式(Ｉ)の化合物、また他方ではラセミ形態の式(Ｉ)の化合物が好ましい。
上述したコメントは対応して好適な化合物に適用され；ここでも、適宜、すべての立体異性体形態およびいかような比でもよいそれらの混合物、そしてまた化合物の塩が包含される。
【００１７】
さらに、本発明によれば、式(II)の化合物およびその塩が提供される。
【化１１】
0004119498.tif 000006
〔式中、
置換分Ｒ1はシクロヘキシル、置換されていないフェニルＣ6Ｈ5または置換されたフェニルＣ6Ｈ5-nＲ4n（ここで、ｎは１〜５であり、そして置換分Ｒ4は直鎖もしくは有枝鎖のＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシまたはハロゲンである）であり；
２個のジェミナル置換分Ｒ2は一緒で二重結合酸素原子（すなわち、(Ｒ2)2は＝Ｏである）であるか、または各々の置換分Ｒ2は単独で水素であり；
置換分Ｒ3は各々単独に直鎖もしくは有枝鎖Ｃ1〜Ｃ4アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、置換されていないフェニルＣ6Ｈ5または置換されたフェニルＣ6Ｈ5-nＲ4n（ここで、ｎおよびＲ4はＲ1において先に定義したとおりである）であるか、または置換分Ｒ3は相互に連結して環を形成し、この場合一緒になった置換分Ｒ3はテトラメチレン−(ＣＨ2)4−、ペンタメチレン−(ＣＨ2)5−、３−オキサペンタメチレン−(ＣＨ2)2−Ｏ−(ＣＨ2)2−またはＮ−メチル−３−アザペンタメチレン−(ＣＨ2)2−Ｎ(ＣＨ3)−(ＣＨ2)2−である〕。
【００１８】
式(Ｉ)の化合物の場合の如く、本発明はまず式(II)の遊離の化合物、すなわち塩ではない化合物を包含する。しかし、本発明は第二に式(II)の化合物の塩をも包含する。例えば、式(II)の化合物、殊に塩基性基を包含する化合物、すなわち、例えばＲ2が水素である化合物については、無機および有機酸、殊に非酸化性酸を酸付加塩を形成することが可能である。適当な酸の例には、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸などがある。塩は常法、例えば成分を溶媒もしくは希釈剤中で組み合わせることにより製造することができる。一般に、本発明は、式(II)の化合物がその他の分子もしくはイオンもしくは原子との付加体の形態、よくあるケースとして、例えば金属イオンとの錯体もしくは酸−塩基付加体である場合でも、該化合物を包含しているものである。
【００１９】
式(II)のアキラル化合物は式（Ｉａ）のキラル化合物のメソ異性体を構成している。本発明によれば、いずれの比でもよい式(II)の化合物および式(Ｉ)の化合物からなる混合物もまた提供される。式(Ｉ)の化合物に関して前文に掲げた立体異性体形態および混合物についてのコメントは対応してここで適用される。従って、化合物はすべての立体異性体形態でも存在することができ、混合物は化合物の２種以上、例えば式（Ｉａ）、（Ｉｂ）および(II)の化合物を互いに一緒に包含することができる。
【００２０】
式(Ｉ)の化合物での基、例えば、アルキル基、アルコキシ基、フェニル基もしくはハロゲン、あるいは数ｎに関する上述したコメントは同じく式(II)の化合物の基に適用される。その上、基Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の好ましい定義、および式(Ｉ)の好ましい化合物に係る上述したコメントは対応して式(II)の化合物に適用される。
【００２１】
本発明によれば、式(Ｉ)および(II)の化合物の製法も提供される。特に、本発明によれば、光学活性形態、殊に高い光学純度での式（Ｉａ）および（Ｉｂ）の化合物の製法が提供される。これらの方法は、式（Ｉａ）の化合物の製造の場合、二度の不斉オルト−リチウム化を包含し、また、式（Ｉｂ）の化合物の製造の場合、単一の不斉オルト−リチウム化を包含する。新規な方法により、キラルもしくはアキラルであってよいリチウム塩基の性状および量を変えることによって、また正確なリチウム化プロセスを変化させることによって、具体的には例えば式（Ｉａ）の光学活性Ｃ2−対称ジホスフィンもくしは式（Ｉａ）のジホスフィンのアキラルメソ異性体、すなわち式(II)の化合物、または式（Ｉｂ）の光学活性不斉モノホスフィンを非常に高い化学選択性、ジアステレオ選択性およびエナンチオ選択性をもって製造することが可能である。しかし、本発明はまた式(Ｉ)の相当するラセミ化合物の類似した製造をも包含する。
【００２２】
新規な製法の直接の出発物質として、式(III)の化合物を使用することができる。
【化１２】
0004119498.tif 000007
式中、置換分Ｒ2およびＲ3は先の定義のとおりである。
式(III)の化合物は、市販の１,１′−フェロセンジカルボン酸から得ることができる。これは、文献既知の方法で高収率で一段階で反応させて、２個のジエミナル基Ｒ2が一緒で二重結合酸素原子である式(III)のフェロセンジアミドとする。この際、アミド基Ｒ3は文献既知の方法で前述したＲ3の全定義範囲内で変化させることができ、これには商業上容易に入手し得るアミンＨＮ(Ｒ3)2の変化を必要とするだけである（P. J. Hammond等, J. Organomet. Chem., 1986年, 306巻, 307頁；P. D. Beer等, J. Organomet. Chem., 1988年, 350巻, C15；J. C. Medina等, J. Am. Chem. Soc., 1991年, 113巻, 365頁：J. T. Yli-Kauhaluoma等, J. Am. Chem. Soc., 1995年, 117巻, 7041頁；W. Zhang等, Tetrahedron, Asymmetry, 1996年, 7巻, 451頁）。式(III)のジアミド、すなわち２個の基Ｒ2が一緒で二重結合酸素原子である式(III)の化合物は種々の還元剤、好ましくはボラン−テトラヒドロフラン錯体を用いて文献既知の方法に従って高収率で各々のＲ2が単独で水素である式(III)の相当するジアミンに還元することができる。
【００２３】
置換分Ｒ2およびＲ3が先の定義のとおりである式(III)の化合物とｎ−ブチルリチウムとの第三アミン、好ましくはキレート第三ジアミンの存在下での反応が、リチウム塩基を大過剰（基質IIIに対して＞４当量）使用しても、ほとんど完全なモノ−オルト−リチウム化を伴って生じることが見出された。基Ｒ1が先の定義のとおりである式ＣｌＰ(Ｒ1)2のクロロホスフィンを次いで反応混合物に加えると（このクロロホスフィンは既知の方法もしくはそれに類似した方法で入手できるし、また大多数の場合商業上入手できる）、式（Ｉｂ）の化合物が高収率で得られる。リチウム塩基がｎ−ブチルリチウムと光学的に純粋な(ホモキラル)第三アミン、好ましくは光学的に純粋なキレート第三ジアミンとの反応によって得られるときは、高いエナンチオ選択性をもって式（Ｉｂ）の化合物が形成される。実施例から明らかな如く、このエナンチオ選択性は適切な反応条件下では高いものであって〔＞８０％ｅｅ（ｅｅ＝エナンチオマー過剰率）〕、式（Ｉｂ）の化合物が、直接良好な収率で光学的に純粋な形態（≧９８％ｅｅ）で、または唯一度の再結晶後に、得ることができる。リチウム塩基がｎ−ブチルリチウムとラセミもしくはアキラル第三アミンとの反応で得られるときは、他は同一の反応条件下で式（Ｉｂ）の化合物がラセミ形態で形成される。
【００２４】
従って、本発明によれば、基Ｒ1、Ｒ2およびＲ3が先の定義のとおりであり、そしてＸが水素である式(Ｉ)の光学活性モノホスフィンの製造方法が提供される。この製法は、式(III)の化合物
【化１３】
0004119498.tif 000008
（式中、基Ｒ2およびＲ3は先の定義のとおりである）をホモキラル第三アミンの存在下にｎ−ブチルリチウムを用いて不斉モノ−オルト−リチウム化に受けしめ、そして系中でキラルモノリチウム化合物を基Ｒ1が先の定義のとおりである式ＣｌＰ(Ｒ1)2のクロロホスフィンと反応させることを特徴とする。
【００２５】
所望により、次に、式(Ｉ)の生成物の光学純度を再結晶によりさらに増大させる。新規な方法により最初得られた式(Ｉ)の生成物の光学純度は個々の事情により、例えば置換分および反応条件により左右される。多くの場合、企図されている用途について増大が必要でないほどすでに十分に高いものである。しかし、光学純度を増大させることが所望されるならば、例えば、当業者が熟知している条件下で再結晶させることによって行われ、この場合唯一度の再結晶で十分なことが多い。
【００２６】
具体的には、不斉反応は例えば次の如くして実施することができる。光学的に純粋な第三アミン、好ましくは光学的に純粋なキレート化可能な第三ジアミンを不活性ガス雰囲気（好ましくは、窒素またはアルゴン）下に好ましくは−７８℃乃至室温の温度、特に好ましくは−７８℃〜０℃、非常に特に好ましくは−７８℃〜４０℃の温度で、不活性、非配位性もしくは弱配位性溶媒中の初充填物として導入する。特に好ましいアミンはジアミン例えばスパルティン、トランス−Ｎ,Ｎ,Ｎ′,Ｎ′−テトラメチル−１,２−シクロヘキサンジアミン、Ｎ,Ｎ,Ｎ′,Ｎ′−テトラメチル−１,２−ジフェニルエチレンジアミン、１−メチル−２−（ピペリジノメチル）ピロリジン、Ｏ−アルキル−ジヒドロキニジンまたはＯ−アルキル−ジヒドロキンコニジンである。スパルテインは非常に特に好ましい。アミンは(＋)−異性体もしくは(−)−異性体として使用することができる。アミンは式(III)の出発物質を基にして、好ましくは１.２〜５当量の量で使用され、特に好ましくは１.５〜４当量の量、非常に特に好ましくは１.５〜２当量の量で使用される。好ましい溶媒は、脂肪族および芳香族炭化水素およびエーテルであり、特に好ましいのは、トルエン、ジエチルエーテル、メチル第三ブチルエーテルおよびジイソプロピルエーテルである。次に、アミンに不活性溶媒中のｎ−ブチルリチウムの溶液、好ましくはペンタン、ヘキサンもしくはシクロヘキサン中の１〜１０モル溶液、特に好ましくはヘキサン中の１.６〜２.５モル溶液を加える。ｎ−ブチルリチウムの量は式(III)の出発物質を基にして好ましくは１.２〜５当量、特に好ましくは１.５〜４当量、非常に特に好ましくは１.５〜２当量である。ｎ−ブチルリチウムのモル量について、キラルアミンの量と同等であるか、もしくは若干少な目の量が好ましく、その結果ｎ−ブチルリチウムが全てキラルアミンと会合することとなる。短時間の撹拌後、式(III)の出発物質を純粋な物質として、もしくは例えば上記の溶媒の１種に溶解して加える。添加速度は限定的なものではない。反応温度を冷却により維持する。普通１５分乃至２時間（最適時間はｎ−ブチルリチウムおよびキラルアミンの過剰量が多くなるにつれて短くなる）後に、式ＣｌＰ(Ｒ1)2のクロロホスフィンを純粋な物質として、もしくは例えば上記の溶媒の１種の溶液として加える。添加速度はまず限定的なものではない。液体クロロホスフィンを純粋な物質として５〜１５分間かけて滴加することが好ましく、そのために反応温度を冷却により容易に維持できる。撹拌は一般には１５〜９０分間続ける。最適反応時間は溶媒および置換分Ｒ1、Ｒ2およびＲ3によって左右され、そして試料を取り出し、例えば、式(III)の化合物の消減および式（Ｉｂ）の化合物の形成を基にして薄層クロマトグラフィー分析により容易に定めることができる。生成物を単離するには、反応混合物を好ましくは酸性条件下に水性処理に受けしめる。例えば、反応終了後、反応混合物をまず０〜２５℃の温度もしくは室温に加熱し、次にこれに例えば過剰量の塩化アンモニウム（ＮＨ4Ｃｌ）の飽和水溶液を加えることによって処理する。しかしながら、例えば塩化アンモニウム溶液をより低い温度で加え、次いで加熱を実施することも可能である。これらの二通りの操作の結果はごく僅かしか異なっていない。例えば抽出による水性標準処理によって、最後には式（Ｉｂ）の光学活性モノホスフィンが収得される。得られた生成物は、単離された固体として大気に対して事実上反応性を有していないが、溶液中では中程度の反応性を有している（ホスフィンオキサイドの形成）。従って、抽出は、好ましくは不活性ガス雰囲気中で、もしくは大気が作用し得る期間を最小限にして、行われる。
【００２７】
実施例からわかるように、この操作により（例えば、基Ｒ2が一緒で二重結合酸素原子であり、かつＲ3がイソプロピルである式(III)の出発物質について、ｎ−ブチルリチウム４.４０当量および(−)−スパルティン４.４５当量を用いても、−７０乃至−７８℃の温度で１時間のリチウム化時間、またクロロジフェニルホスフィンを用いて）式（Ｉｂ）のモノホスフィンの８５％以上および式(II)および（または)（Ｉａ）のジホスフィン１５％以下を生じる。この場合、粗生成物は８０％ｅｅを有し、標準の精製技術によりさらに精製することができる。検討中の実施例では、例えば、熱ｎ−ヘプタンからの再結晶により、収率５８％、９８.５％ｅｅで式（Ｉｂ）の分析上純粋な化合物が得られる。光学純度はキラル相でのＨＰＬＣを用いて確実に測定することができる。ｎ−ブチルリチウム／スパルティンの過剰量を少なくし、またリチウム化時間を短くすることにより、粗生成物中の式(Ｉｂ)のモノホスフィンの比率がさらに増大する。実施例からも明らかなとおり、式(III)の同じ出発物質(基Ｒ2およびＲ3の同じ定義を有する）から、ｎ−ブチルリチウム１.９当量および(−)−スパルティン２.０当量を用いトルエン中−７０乃至−７８℃で４５分のリチウム化時間、クロロジフェニルホスフィンを用いて、式（Ｉｂ）のモノホスフィン９３％以上が結果として生じ、このものは粗生成物としても９１％ｅｅを有している。次いで、一度再結晶すると式(Ｉｂ)の光学的に純粋な(９９％ｅｅ)生成物が７５％の収率で得られる。
【００２８】
上記反応を、溶媒としてエーテル中、例えばスパルティンのような光学活性アミンの代わりにアキラルジアミンのＮ,Ｎ,Ｎ′,Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）を用いてその他は上記実施例に記載したのと同一の条件下で、実施すると、式（Ｉｂ）のラセミ化合物が収率７９％で得られる。
【００２９】
式(III)の基質の不斉リチウム化／ホスフィニル化を、ｎ−ブチルリチウムの代わりに第二ブチルリチウムを用いる以外は前述したのと同じ条件下で、実施すると、式(II)の相当するメソ−ジホスフィンが高い化学選択性およびジアステレオ選択性で得られる。式(Ｉａ）のキラルＣ2−対称ジホスフィンおよび式(Ｉｂ)のモノホスフィンが、リチウム塩基の過剰量を３.０当量に減少したとしても、これらの条件下では極微量形成される。式（Ｉａ）の化合物に関連して式(II)の化合物のための高いジアステレオ選択性は全く意外なことである。フェロセンの上方および下方の環での２ケ所のオルト−リチウム化が事実同じホモキラルリチウム塩基、sec−ブチルリチウムにより生じていなければならないところ、オルト−リチウム化／ホスフィニル化が下方のフェロセン環で起こり、またそれとは全く逆のエナンチオ選択性が上方のフェロセン環で起こっている。
【００３０】
従って、本発明によれば、さらに、基Ｒ1、Ｒ2およびＲ3が先の定義のとおりである式(II)の化合物の製法が提供される。この製法は、式(III)の化合物
【化１４】
0004119498.tif 000009
（式中基Ｒ2およびＲ3は先の定義のとおりである）を第三アミン、好ましくはキレート化可能な第三ジアミン、特に好ましくはアキラルもしくはラセミのキレート化可能な第三ジアミン例えばＮ,Ｎ,Ｎ′,Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）の存在下にsec−ブチルリチウムによるオルト−リチウム化に受けしめ、そして系中でジリチウム化合物を基Ｒ1が先の定義のとおりである式ＣｌＰ(Ｒ1)2のクロロホスフィンと反応させることを特徴とする。
【００３１】
式（Ｉｂ）の化合物の製法についての上述したコメント例えばアミン、溶媒、量もしくは反応温度に関するコメントはこの場合にも対応して適用される。しかし、この場合のように製法においてフェロセンの二度のリチウム化／ホスフィニル化を達成することを目的とする場合、使用するリチウム化試薬の最小量は言うまでもなくより多いものであり、式(III)の出発物質を基にして、少なくとも２当量である。式(II)のジホスフィンの大多数は事実上水に不溶であり、そして上述した反応溶媒に難溶乃至非常に適度に可溶である。上述した実施例に記載の如く、反応混合物を塩化アンモニウム水溶液の添加により処理すると、式(II)の化合物が析出し、多くの場合簡単な吸引濾過により単離することができる。
【００３２】
実施例から明らかなように、これにより、例えば基Ｒ2が一緒で二重結合酸素原子であり、そしてＲ3がイソプロピルである式(III)の出発物質について、エーテル中−７０乃至−７８℃で２時間のリチウム化時間、クロロジフェニルホスフィンを用いて、sec−ブチルリチウムおよび(−)−スパルティンを用いると、結果として化合物(II)：化合物（Ｉａ）の比が約９５：５である粗生成物が生じる。この比は種々の方法により不一致なしに測定された。再結晶により、７５％収率で純粋なメソ−ジホスフィンが得られる。スペクトルを用いる他に、式(II)の化合物の構造は単結晶Ｘ線構造解析により確認する。スパルティンの代わりにアキラルジアミンＴＭＥＤＡを用いると、式(II)のメソ−ジホスフィンが同一高ジアステレオ選択性で６４％収率で得られる。
【００３３】
対照的に、上述の如くして得られた式（Ｉｂ）の光学活性モノホスフィンを形成されたのと同じ条件に再度おくことによって、式(III)の出発物質の不斉ジリチウム化／ジホスフィニル化を一度にではなく段階的に実施すると、非常に高いジアステレオ選択性を有して、式（Ｉｂ）のモノホスフィンの実質的には定量的な変換を伴って式（Ｉａ）の光学的に純粋なキラルＣ2−対称ジホスフィンが得られる。ｎ−ブチルリチウムおよびホモキラル第三アミンから形成されるキラルリチウム塩基によって誘起される二段階モノリチウム化／モノホスフィニル化が下方および上方フェロセン環で同一のエナンチオ選択性をもって生じる。
【００３４】
従って、本発明によれば、基Ｒ1、Ｒ2およびＲ3が先の定義のとおりであり、そしてＸがＰ(Ｒ1)2である式(Ｉ)の光学活性Ｃ2−対称ジホスフィンの製法が提供される。この製法は、基Ｒ1、Ｒ2およびＲ3が先の定義のとおりであり、そしてＸが水素である式(Ｉ)の光学活性モノホスフィンにホモキラル第三アミンの存在下にｎ−ブチルリチウムによる不斉モノ−オルト−リチウム化を受けしめ、そして系中でキラルモノリチウム化合物を基Ｒ1が先の定義のとおりである式ＣｌＰ(Ｒ1)2のクロロホスフィンと反応させることを特徴とする。
【００３５】
所望により、この場合も、式(Ｉ)の生成物の光学純度はその次に再結晶によってさらに増大させる。新規な方法によって当初に得られる式(Ｉ)の生成物の光学純度はまた個々の事情、例えば置換分および反応条件によって左右される。この場合も同じく、新規な方法により直接得られる生成物の光学純度は多くの場合企図された用途のためにさらに増大させる必要がないほどにすでに高いものである。光学純度を増大させることが所望されるならば、これは当業者が熟知している条件下で再結晶させることによって行われ、ここでは多くの場合唯一度の再結晶で十分である。
【００３６】
式(Ｉｂ)の化合物の製法についての上述したコメント例えばアミン、溶媒、量もしくは反応温度に関するコメントはこの場合に対応して適用される。式(II)のメソ−ジホスフィンと同様、式（Ｉａ）のＣ2−対称ジホスフィンの大多数も水に実質的に不溶であり、上述した反応溶媒には中程度の溶解度を有している。実施例によって記載のように処理を実施すると、これらジホスフィンはそれ故に通常の抽出好ましくは塩化メチレンによる抽出のみではなく、往々にして簡単な吸引濾過によっても単離することができる。しかし、この場合、小量乃至著しい量の収量の低下が考慮に入れられなければならない。現在まで検討された実施例では、溶液中の式（Ｉａ）の粗ジホスフィンは式(II)のメソ−ジホスフィンよりも空気に対してより反応性であったが、式（Ｉａ）の精製化合物は固体として実質的には空気に対して反応性を示さずに、溶液中で中程度の空気反応性を示した。
【００３７】
実施例から明らかなように、これにより、例えばＲ1がフェニルであり、２個の基Ｒ2が一緒で二重結合酸素原子であり、Ｒ3がイソプロピルであり、そしてＸが水素であり、そして９８.５％ｅｅを有する式（Ｉｂ）の出発物質から出発し、エーテル中でｎ−ブチルリチウム２.１当量および(−)−スパルティン２.２当量を用い、−７０乃至−７８℃で３０分のリチウム化時間でクロロジフェニルホスフィンを用いると、実質的に定量的な式（Ｉｂ）の出発物質の変換を伴って、粗生成物が生じる。この生成物は９７：３の比の式（Ｉａ）のＣ2−対称ジホスフィンおよび式(II)のメソ−ジホスフィンからなる。この比は種々の方法により不一致なしに測定された。粗生成物は、式（Ｉａ）の化合物を理論値の＞９０％含有している。第二のリチウム化／ホスホリル化工程のための出発物質として、式（Ｉｂ）の光学的に純粋なものでなくむしろラセミのモノホスフィンを使用すると、ホモキラルアミンを用いて式（Ｉａ）の光学活性Ｃ2−対称ジホスフィンが式(II)の相当するメソ−ジホスフィンとの混合物で得られる。第二のリチウム化工程での出発物質が式（Ｉｂ）のラセミモノホスフィンであり、そしてアキラルアミンを用いると、式（Ｉａ）のラセミジホスフィンが得られる。
【００３８】
ＸがＰ(Ｒ1)2である式(Ｉ)の光学活性Ｃ2−対称化合物を製造するには、当初に形成されたモノホスフィンを単離することなく、例えばワンポット(one-pot）方法で両方のオルト−リチウム化／ホスフィニル工程を実施することができる。この方法はまた本発明によって提供されるものであり、式(III)の化合物
【化１５】
0004119498.tif 000010
（式中、Ｒ2およびＲ3は先の定義のとおりである）をまずホモキラル第三アミン例えばスパルティンの存在下にｎ−ブチルリチウムで脱プロトン化し、次にＲ1が先の定義のとおりである式ＣｌＰ(Ｒ1)2のクロロホスフィンを、好ましくはできるだけ小過剰量で使用して、ホスフィニル化し、次いで得られたモノホスフィンを単離することなくｎ−ブチルリチウムを再び加えて第二の脱プロトン化を実施し、そして最後に式ＣｌＰ(Ｒ1)2のクロロホスフィンを再び加えて第二のホスフィニル化を実施することを特徴とする。この方法もまた対応して式（Ｉｂ）および(II)の化合物の製造について上述したコメント例えばアミン、溶媒、量、反応温度もしくは適宜純度増大のために実施される再結晶に関連するコメントに従うものである。
【００３９】
最後に、本発明によれば、基Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＸが先の定義のとおりである式(Ｉ)のラセミ化合物、すなわち、ラセミモノホスフィンの場合Ｘが水素である化合物およびラセミＣ2−対称ジホスフィンの場合ＸがＣｌＰ(Ｒ1)2である化合物の製法が提供される。この製法は、式(III)のアキラルフェロセン
【化１６】
0004119498.tif 000011
（式中、基Ｒ2およびＲ3は先の定義のとおりである）もしくはＸが水素である式(Ｉ)のラセミモノホスフィンを、ラセミもしくはアキラル第三アミンの存在下例えばＮ,Ｎ,Ｎ′,Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン(ＴＭＥＤＡ）の存在下にｎ−ブチルリチウムを用いる対称モノ−オルト−リチウム化に受けしめ、そして系中でモノリチウム化合物をＲ1が先の定義のとおりである式ＣｌＰ(Ｒ1)2のクロロホスフィンと反応させるか、または、式(III)の化合物からジホスフィンを製造する場合、段階的な対称ジリチウム化／ジホスフィニル化を実施することを特徴とする。この方法についても上述したコメントが同様に適用される。
【００４０】
基Ｒ2が水素である式(Ｉ)および(II)のモノホスフィンおよびジホスフィンは、例えば、基Ｒ2が水素である式(III)のＮ,Ｎ′−二置換１,１′−ビス（アミノメチル)フェロセンの不斉オルト−リチウム化によるのみではなく、２個の基Ｒ2が一緒で二重結合酸素原子である式(Ｉ)および(II)の対応するビスアミドの還元によっても製造することができる。還元は種々の還元剤を用いる既知の技術に従って実施することができる。これは好ましくはボラン−テトラヒドロフラン錯体で実施される。この場合、当初の生成物は基Ｒ2が水素である式(Ｉ)および(II)の化合物のボラン付加体であり、これから次にそれ自体既知の方法で遊離のホスフィンもしくは遷移金属触媒を製造することができる（A. R. Mucs, K. R. Campos, D. A. Evans, J. Am. Chem. Soc., 1995年, 117巻, 9075頁）。
【００４１】
式(Ｉ)および(II)の新規化合物は触媒活性遷移金属錯体のためのリガンドとして適当である。従って、本発明は、遷移金属錯体の製造に関連したリガンドとしての式(Ｉ)および(II)の化合物の使用および該錯体のリガンドとしての該化合物の使用をも包含するものである。好適な遷移金属元素は、元素ルテニウム、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銀、銅および金であり、特に好ましいのは元素ルテニウム、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金および銀である。本発明は特にキラル遷移金属錯体でのリガンドとして式(Ｉ)のキラルおよび（または）光学活性化合物を使用することを包含するものである。文献（これらの文献を該当する点で参考として全体を本文に挿入する）記載の通常の操作によれば、新規化合物、殊に式(Ｉ)の光学活性ホスフィンは式Ａ、ＢおよびＣのHayashiリガンドと同様に反応して遷移金属の単離錯体もしくは系中錯体、特に好ましくは、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金もしくは銀の錯体を形成することができる（T. Hayashi等, Tetrahedron Lett, 1980年, 21巻, 1871頁およびJ. Am. Chem. Soc., 1982年, 104巻, 180頁；W. R. Cullen等, Organometallics, 1985年, 4巻, 346頁；Ferrocenes, A. TogniおよびT. Hayashi(編), VCH, Weinheim, 1995年；H-U. Blaser, F. Spindler, Chimia, Oggi 1995年, 6月, 11頁；N. C. Zanetti, F. Spindler, J. Spencer, A. Togni, G. Rihs, Organometallics, 1996年, 15巻, 860頁参照）。光学的に純粋なもしくは実質的に純粋な遷移金属錯体を製造するための式(Ｉ)の光学的に純粋なもしくは実質的に純粋な化合物の使用および該錯体でのリガンドとしての前記化合物の使用が好ましい。しかしながら、本発明は同様にラセミもしくはアキラル遷移金属錯体の製造に関連して式(Ｉ)のラセミ化合物および式(II)のアキラル化合物の対応する使用、および前記錯体でのリガンドとしての使用を包含し、またルテニウム、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銀、銅もしくは金の錯体が好ましく、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金もしくは銀の錯体が特に好ましい。
【００４２】
最後に、本発明によれば、置換分Ｒ1、 Ｒ2、Ｒ3およびＸが前述した一般的もしくは好適な定義を有する式(Ｉ)および(II)の化合物と遷移金属、好ましくは遷移金属ルテニウム、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銀、銅および金、特に好ましくは遷移金属ルテニウム、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金および銀との錯体も提供され、また触媒反応での触媒としての該錯体の使用も提供されるものである。新規な錯体は、式(Ｉ)もしくは(II)のリガンドの少なくとも１種を包含する（換言すると、これら錯体は式(Ｉ)もしくは(II)の化合物であるリガンド１種を包含するか、またはこれら錯体は式(Ｉ)もしくは(II)の化合物であるリガンド２種以上を包含する）。それ以外のリガンドとして、これら錯体は１種またはそれより多くの無機および(または)有機イオンおよび（または）分子を包含していてもよい。錯体中に存在し得るそれ以上のリガンドの選択は例えば企図されている用途に左右される。遷移金属はそれらの通例の原子価で錯体中に存在することができる。新規な遷移金属錯体は単離された形態および系中に生成された形態ともに有機化合物の多数の反応のために有用な触媒である。式(Ｉ)の光学的に純粋なリガンドとの遷移金属錯体が好ましく、これら錯体は不斉触媒反応での有用な触媒として使用することができる。このような反応の若干の例を以下の概要に示す。
【００４３】
プロキラルＣ＝Ｏ、Ｃ＝ＣおよびＣ＝Ｎ基の水素化反応；
一酸化炭素挿入を伴うかもしくは伴わないHeckタイプのカップリング反応；
有機金属化合物（例、Grignard化合物）と有機ハロゲン化物との交差カップリング；
プロキラルＣ＝Ｏ、Ｃ＝ＣおよびＣ＝Ｎ基のヒドロシリル化、ヒドロホウ素化およびヒドロホルミル化；
アリル位での逃核脱離基を有する基質での求核置換；
アリルアミンの対応するエナミンへの異性化。
このような不斉反応に関する最近の文献のまとめは、I. Ojima, Catalytic Asymmetric Synthesis, VCH, Weinheim, 1993年およびR. Noyori, Asymmetric Catalysis, in Organic Synthesis, Wiley Interscience, 1994年にみることができる。
【００４４】
しかしながら、本発明は、リガンドとして式(Ｉ)もしくは(II)のラセミもしくはアキラル化合物を包含する相当するラセミ遷移金属錯体およびアキラル遷移金属錯体、好ましくは元素ルテニウム、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銀、銅および金の錯体、特に好ましくは元素ルテニウム、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金および銀の錯体、およびこれらの錯体のラセミ触媒、殊に前記概要に述べた触媒反応の対称変異体のためのラセミ触媒としての用途を正に包含するものである。
【００４５】
【実施例】
一般的な注釈：ジエチルエーテルをナトリウム／ベンゾフェノンケチル（Ketyl)から窒素雰囲気中で新たに蒸留した。(−)−スパルティンを水素化カルシウムからの短いビグロ（Vigreux）カラムにより真空下に新たに蒸留した。クロロジフェニルホスフィンを短いビグロカラムにより高真空（ＨＶ）下に新たに蒸留した。反応剤を導入する前に、使用するすべての溶媒について、アルゴンを泡立たせて溶存酸素を除去した。処理の途中で、すべての溶媒中にアルゴンを通じ、かつ処理を迅速にすることにより、空気接触を最小限とした。結晶性固体として、本文に記載のフェロセン化合物はいずれも事実上空気に対して反応性を有していない。溶液では、フェロセン化合物はいずれも特に式（Ｉａ）の粗製Ｃ2−対称ジホスフィンは多少とも反応性を有している。
ＮＭＲ分光分析シフトはppmで示す。Ｍｅはメチル、Ｅｔはエチル、ｉＰｒはイソプロピル、Ｐｈはフェニル、ＢｕはブチルおよびＢｕＬｉはブチルリチウムを示す。
【００４６】
出発化合物 １,１′−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）−フェロセン（式III、(Ｒ2)2：＝Ｏ、Ｒ3：ｉＰｒ）の製造：合成法１
【化１７】
0004119498.tif 000012
1,1′−フェロセンジカルボン酸（Aldrich）の１２.０ｇ（４３.８ミリモル）を、予めその中にアルゴン流を泡立たせることにより脱気したトルエン６３mlに懸濁した。アルゴン雰囲気下に、塩化オキサリル１５.２ml（２２.２ｇ、１７４.９ミリモル）を注射器を用いて５分間かけて加え、次にジメチルホルムアミド１.２mlを加えた。泡立ちとガス発生とを伴った激しい反応が起るが、著しい認め得る発熱は伴っていなかった。混合物を１０分間室温で撹拌した。過剰の塩化オキサリルを、ロータリーエバポレーター（浴温３０℃）により真空で反応混合物を総容量２０〜３０mlに濃縮することによって、除去した。なお容易に撹拌し得る懸濁液をジエチルエーテル２５０mlで希釈し次にアルゴン下に０℃に冷却した。ジイソプロピルアミン３２.２ml（２４.９ｇ、２４５.９ミリモル）を１０分間かけて滴加した。発熱反応のために、内温は一時的に＋５℃に上昇した。懸濁液の色は濃橙色から淡黄色に変化した。１時間０℃で撹拌した後、０.５mlの試料をとり、これに飽和塩化アンモニウム水溶液０.５mlおよびジエチルエーテル０.５mlを加え、溶離剤 シクロヘキサン／酢酸エチル（１：１）を用いて薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）により分析すると、ジカルボン酸（Ｒf＝０.００）から標記化合物（Ｒf＝０.３７）への完全な反応および小量の極性が若干高い副生成物（Ｒf＝０.２５）が存在していた。さらに１時間撹拌した後、飽和塩化アンモニウム液２００mlおよび水５０ml（両方共にアルゴン脱ガス）を氷冷しながら加えた。混合物をジクロロメタン２００mlで２回抽出し、この間アルゴンを泡立たせた。層の境界に、黒色のものが沈着し、これを水相と分離した。合した抽出液を水２５０mlで２回次いで飽和塩化ナトリウム溶液２５０mlで洗浄した。有機相を５分間ＭｇＳＯ4で乾燥し、濾過し、濾液を真空濃縮し、そして固体を真空乾燥した。橙−黄色の固体１７.２ｇ（３９.０ミリモル、８９％収率）が得られ、このものはＴＬＣによると微量の極性がさらに大きい不純分を含んでいた。シリカゲルを通してシクロヘキサン／酢酸エチル（３：１）と共に濾過すると、黄色の極めてかさばった固体１５.０ｇ（３４.１ミリモル、収率７８％）が得られた。融点１３６〜１３７℃（文献：P.J. Hammond等，J. Organomet. Chem., 1986年，306，367: 融点127〜128℃）。
【００４７】
1H-NMR(200 MHz, CDCl3): δ＝4.59(t, J=2 Hz, 4H, 2-,2′-,5-,5′-H), 4.43(br s, 2H, CHMe2), 4.38(t, J=2 Hz, 4H, 3-,3′,4-,4′-H), 3.43(br s, 2H, CHMe2), 1.47(br s, 12H, CH(CH3)2, 1.20(br s, 12H, CH(CH3)2)
13C-NMR(75.43 MHz, CDCl3, プロトンブロードバンド−デカップリング; DEPT 135°を用いて測定した多重度)：δ＝168.80(2C, C=O), 83.23(2C, 4°-C, C-1,-1′), 71.36(4C, CH, C-2,-2′,-5,-5′), 70.95(4C, CH, C-3,-3′,-4,-4′), 49.85(2C, br, CH, CHMe2), 46.19(2C, br, CH, CHMe2), 21.09(8C, CH3)
IR(KBr): ν＝2968, 1633(C=O), 1619(アリールのC=C), 1465, 1317 cm-1
MS(FAB, NBA): m/z(％)＝441(55)〔M＋H+〕, 440(100)〔M+〕, 340(22)〔M+H+-HN(iPr)2〕, 248(15)〔C12H18FeNO+〕
【００４８】
出発化合物 １,１′−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）−フェロセン（式III、(Ｒ2)2：＝Ｏ、Ｒ3：ｉＰｒ）の製造：合成法２
【化１８】
0004119498.tif 000013
脱ガスしたトルエン２００ml中の１,１′−フェロセンジカルボン酸１０.０ｇ（３６.５ミリモル）の溶液に室温、アルゴン下に塩化オキサリル１０.０ml（１４.５５ｇ、１１４.６ミリモル）引き続いてすぐにジメチルホルムアミド１.０ml（９４４mg、１２.９ミリモル）を加えた。泡立ちと厳しいガス発生を伴うが、顕著な発熱を伴わない反応が起った。冷却することなく、内温が最大値２４℃に上った。混合物を１０分間室温で撹拌し、次に過剰の塩化オキサリルを混合物を真空でその元の容量の1/4に濃縮することにより除いた。濃縮した溶液をトルエン２５０mlで希釈し、アルゴンを泡立たせながら氷浴中で０℃に冷去した。次に、脱気したトリエチルアミン１１.２ml（８.１３ｇ、８０.３ミリモル）および脱気したジイソプロピルアミン９.６ml（７.４１ｇ、７３.２ミリモル）を続けて滴加した。濃赤−褐色の透明な溶液を１時間０℃で撹拌し、次に室温で１６時間撹拌した。脱気したジイソプロピルアミンのさらに４.８ml（３.７０ｇ、３６.６ミリモル）を滴加し、混合物を室温でさらに１８時間撹拌した。合成法１について記載した如く処理すると、橙−褐色の固体１４.３ｇ（３２.５ミリモル、粗収率：理論値の８９％）が得られ、このものは合成法１で得られた生成物と同じ極性のより高い副生成物を含有していた。シクロヘキサン／酢酸エチル（３：１）でシリカゲル３００ｇを通して濾過すると黄色固体として標記化合物９.９ｇ（２２.５ミリモル、収率６２％）が得られた。融点１３４〜１３５℃、２５８〜２６２℃で黒く着色し、融成物が曇って分解。
【００４９】
実施例１
１−（ジフェニルホスフィノ）−１,２′−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フェロセン（式Ｉｂ、Ｒ1：Ｐｈ、(Ｒ2)2：＝Ｏ、Ｒ3：ｉＰｒ）；ジエチルエーテル中ｎ−ＢｕＬｉ ４.４０当量および(−)−スパルティン４.４５当量を使用する製造
【化１９】
0004119498.tif 000014
ヘキサン中のｎ−ブチルリチウム１.６モル溶液１９.２５ml（３０.８ミリモル）をアルゴン下−７８℃で５分間かけてジエチルエーテル１３０ml中の(−)−スパルティン ７.３０ｇ（７.１６ml、３１.１５ミリモル）の溶液に加えた。初めは透明で、黄色がかった溶液が約５分後に白色の懸濁液となった。−７８℃で撹拌を１５分間続け、次にジエチルエーテル３５ml中の１,１′−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フェロセン３.０８ｇ（７.０ミリモル）の溶液を１０分間かけて滴加した。深黄色懸濁液をアルゴン下−７８℃で１時間撹拌し、次にクロロジフェニルホスフィン７.５ml（９.２７ｇ、４２.０ミリモル）を注射器を使って５分間かけて滴加した。さらに５分間すると、黄色懸濁液は透明な褐色の溶液となり、このものを３０分間−７８℃で撹拌した。試料（０.５ml）をとり、これに飽和塩化アンモニウム溶液（０.５ml）およびＥｔ2Ｏ（０.５ml）を加え、そして得られた試料を溶離剤 シクロヘキサン／酢酸エチル（３：１）を用いてＴＬＣで調べた。式（III）の出発物質（Ｒf＝０.２０）が完全に反応して生成物（標記化合物；Ｒf＝０.３４）を形成していることがわかった。式（II）および（または）(Ｉａ）の対応するジホスフィン（Ｒf＝０.５２、相互に分離をしない）は小量のみ検出可能であった。試料採取後３０分で（クロロホスフィン添加後１時間で）、混合物を＋２０℃に加熱し、次に飽和塩化アンモニウム水溶液１６０mlを５分間かけて加えた。混合物を１５分間撹拌し、相を分離した。水相をエーテル２×１００ml抽出し、合わせたエーテル相を水２００mlで洗い、次に飽和塩化ナトリウム溶液２００mlで洗い、ＭｇＳＯ4で乾燥し、濾過し、それから濾液を真空濃縮した。粗生成物の31Ｐ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）は、９５：５の比で、式(Ｉｂ）の標記化合物の共鳴（δ＝−２２.９２）および式（Ｉａ）の相当するＣ2−対称ジホスフィンの共鳴（δ＝−２２.００）を示した。式（II）の相当するメソ−ジホスフィン（δ＝−２２.３８）は見ることができなかった（＜０.５％）。残留物（１０.４ｇ）をフラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル６０Å、３５〜７０μmの２００ｇ、溶離剤 シクロヘキサン／酢酸エチル（３：１）、窒素１.２５バール）によって精製し、黄色固体３.９５ｇ（６.３２ミリモル、理論値の９０％）が得られ、このものはキラル相ＨＰＬＣ分析〔２５０×４.６mm CSP Chiralpak AD; 溶離剤：ｎ−ヘキサン／ＥｔＯＨ（２０：１）プラス０.１％ジエチルアミン、流速１.０ml／分、４０℃、検出２４８nm; ｔret（％）：式（Ｉｂ）の（＋）−標記化合物６.２１分（９０.０％）、式（Ｉｂ）の(−)−標記化合物４.６０分（１０.０％）〕により、８０.０％eeを有していた。アルゴン脱気した熱ｎ−ヘプタン３０mlで再結晶すると、黄色結晶２.５２ｇ（４.０３ミリモル、理論値の５８％）が得られた。融点１４６〜１４８℃（分解)、〔α〕D20＝＋２３５.８°（ＣＨ2Ｃｌ2中ｃ＝１.０１３）、キラル相ＨＰＬＣ分析によると、標記化合物の(＋)−エナンチオマーの９８.５％eeを有していた。
【００５０】
1H-NMR(300 MHz, CDCl3): δ＝7.53(m, 2H, C6H5のp-H), 7.16-7.40(m, 8H, C6H5のo-およびm-H), 4.80(dt, Jd=2.5 Hz, Jt=1.3Hz, 1H, 2′-H), 4.65(td, Jt=2.5 Hz, Jd=1.4 Hz, 1H, 3′-H), 4.52(dt, Jd=2.5 Hz, Jt=1.3 Hz, 1H, 5′-H), 4.45(t, J=2.5 Hz, 1H, 4-H), 4.38(br s, 1H, CHMe2), 4.36(dt, Jd=2.5 Hz, Jt=1.2 Hz, 1H, 3-H), 4.25(td, Jt=2.5 Hz, Jd=1.2 Hz, 1H, 4′-H), 3.91(m, 1H, 5-H), 3.87(br s, 1H, CHMe2), 3.38(br s, 1H, CHMe2), 3.18(br s, 1H, CHMe2), 0.90-1.57(m, 21H, 7×CH3), 0.50(m, 3H, CH3)
２個のフェロセン環の７個のプロトンに対する1Ｈ−共鳴の帰属は、実施例１の式に開示したコンホメーション中に化合物が主に存在するとの仮定に基づくものであり、２個のカルボニル基とフェニル環とのアニソトロピーによるこの分子コンホメーション中でのプロトンの相対的な影響について考慮し、またカップリング定数の大きさの解釈に基づくものである。次のプロトン対の帰属をスワップさせなければならないことを完全に無視することはできない：２′−Ｈと５′−Ｈ；３′−Ｈと４′−Ｈ；３−Ｈと４−Ｈ。
【００５１】
13C-NMR(75.43 MHz, CDCl3, プロトンブロードバンド−デカップリング)：δ＝168.84(1C, C=O), 166.77(1C, C=O), 139.37(d, 1JC,P=13.8 Hz, 1C, C6H5の直接りん結合されたＣ原子), 138.05(d, 1JC,P=13.8 Hz, 1C, C6H5の直接りん結合されたＣ原子), 134.40(d, 2JC,P=21.2 Hz, 1C, C6H5のオルト-C)，133.24(d, 2JC,P=21.2 Hz, 1C, C6H5のオルト′-C), 128.76(1C, C6H5のパラ-C), 128.24(1C, C6H5のパラ′-C), 128.14(d, JC,P=7.5 Hz, 2C, C6H5のメタ−およびメタ′-C), 91.76(d, 2JC,P=21.7 Hz, 1C, C-2), 82.90(1C, C-1′), 80.48(d, 1JC,P=14.3 Hz, 1C, C-1),  74.71(1C, C-5), 73.41(1C, C-4′), 73.34(d, 3JC,P=3.2 Hz, 1C, C-4), 72.15(d, 3JC,P=4.2 Hz, 1C, C-3), 71.85, 71.75および71.36(それぞれ1C, C-3′,-2′および-5′), 50.01(br, 2C, NCH), 45.88(br, 2C, NCH), 21.15および20.34(8Cと共に, CH3)
31P-NMR(121.43 MHz, CDCl3): δ＝−22.92
IR(KBr): ν＝2966, 1623(C=O), 1320, 701 cm-1
MS(FAB, NBA): m/z(％)＝625(100)〔M＋H+〕, 624(78)〔M+〕, 581(33)〔M+-CHMe2〕, 539(48)〔“581"-CH2=CHMe〕
UV(c＝13.52μｇ／ml，シクロヘキサン中): λmax(ε)＝220nm(38480 l／mol・cm), 250nm(12330), 440nm(323)
C36H45FeN2O2P(624.59)に対する
計算値：C 69.23,  H 7.26,  Fe 8.94,  N 4.49,  P 4.96
実測値：C 69.4,   H 7.0,   Fe 8.7,   N 4.3,   P 5.2
式（Ｉｂ）の標記化合物の絶対配置は実施例１の式に開示した構造に相当する。これは実施例４の生成物で実施した式（Ｉａ）の対応する化合物の単結晶Ｘ線構造解析から疑いの余地もなく明白である。
【００５２】
実施例２
１−（ジフェニルホスフィノ）−１′,２−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フェロセン（式Ｉｂ、Ｒ1：Ｐｈ、(Ｒ2)2：＝Ｏ、Ｒ3：ｉＰｒ）；ｎ−ＢｕＬｉの１.９当量および(−)−スパルティンの２.０当量をジエチルエーテル中で用いる製造
【化２０】
0004119498.tif 000015
ヘキサン中のｎ−ブチルリチウム１.６モル溶液の２１.６ml（３４.５ミリモル）をアルゴン下注射器を用いて−７８℃で５分間かけてジエチルエーテル１００ml中の(−)−スパルティンの８.５２ｇ（８.３５ml、３６.３５ミリモル）の溶液に滴加した。白濁した懸濁液を−７８℃で２０分間撹拌し、次にジエチルエーテル２５ml中の１,１′−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フェロセン８.００ｇ（１８.１６ミリモル）の溶液を１５分間かけて屈曲針を用いて内温が−７４℃を超えて上昇しないような速度で滴加した。濃橙色の溶液をアルゴン下−７８℃で１時間撹拌し、次にクロロジフェニルホスフィン９.８０ml（１２.０３ｇ、５４.５ミリモル）を注射器によって１０分間かけて滴加した。１０分の反応期間後、ＴＬＣ試料を除き、これにエーテル０.５mlおよび飽和塩化アンモニウム溶液０.４mlを加え、そしてこの試料は溶離剤 シクロヘキサン／酢酸エチル（３：１）で分析すると事実上完全な変換を示した。３０分の総反応時間後、バッチを＋４℃に加熱し、そして飽和塩化アンモニウム溶液２００mlを滴加した。混合物を１５分間撹拌し、次に相を分離した。同様に分液漏斗に、アルゴンを連続して液体中に泡立てた。次の抽出の場合、相混合は通過するアルゴン気流の強度により調整した。水相をこのようにしてエーテル２×１００mlで抽出した。合したエーテル抽出液を同じようにして飽和食塩水２００ml次に水２００mlで洗った。洗った抽出液を真空で蒸発乾涸し、残留物をＨＶで乾燥した。１６.５ｇの橙−褐色の堅い固体が得られ、このものはキラル相ＨＰＬＣ分析によれば８０％eeの生成物を含有していた。粗生成物を脱気したジエチルエーテル２００mlに懸濁し、そして屈曲針によりシリカゲルカラム（シリカゲル６０Å、３５〜７０μmの１００ｇ）に適用した。懸濁液をアルゴンでカラムに圧入した。次に、これを脱気したジエチルエーテル５００mlで溶離した。生成物は前面を流れ、極性が低い不純物と一緒に採集された。直ちに溶媒を真空で蒸発させ、残留物をＨＶで乾燥した。橙−褐色固体１４.８ｇが得られた。この固体を、アルゴンを通じながら、急速に加熱還流させることによりｎ−ヘプタン３００mlに溶解した。アルゴンをなお通じながら溶液を室温に冷却すると橙−黄色粉末６.５６ｇ（１０.５ミリモル、理論値の５８％）が得られた。このものはキラル相ＨＰＬＣ分析によれば９８％eeを有していた。
【００５３】
実施例３
１−（ジフェニルホスフィノ）−１′,２−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フェロセン(式Ｉｂ、Ｒ1：Ｐｈ、(Ｒ2)2：＝Ｏ、Ｒ3：ｉＰｒ)：ｎ−ＢｕＬｉの１.９当量および(−)−スパルティン２.０当量をトルエン中で用いる製造
【化２１】
0004119498.tif 000016
ヘキサン中のｎ−ブチルリチウムの１.６モル溶液の５４ml（８６.３ミリモル）をアルゴン下−７３乃至−７８℃でトルエン４０ml中の(−)−スパルティン２１.３ｇ（９０.９ミリモル）の溶液（４Åモレキュラーシーブで乾燥）に滴加した。懸濁液を−７８℃で２０分間撹拌した。次に、トルエン１４０ml中の１,１′−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フェロセン２０.０ｇ（４５.４ミリモル）の溶液を反応温度が−７３℃を超えて上昇しないような速度で滴加した。混合物を−７８℃で４５分間撹拌し、次に、クロロジフェニルホスフィン２４ml（１３３.７ミリモル）を内温が−７５℃を超えて上昇しないような速度で滴加した。１０分間の反応後のＴＬＣは事実上モノホスフィンへの完全な変換を示した。３０分の反応期間後、溶液を＋４℃に加熱し、そして飽和塩化アンモニウム溶液３５０mlを滴加した。相を１０分間一緒に撹拌し、次に有機相を分離した。水相をトルエン２×２５０mlで抽出し、この間アルゴンを通じた。合したトルエン相を水４００mlで洗い、真空蒸発乾涸した。得られた粗生成物はキラル相ＨＰＬＣによれば９１％eeを有していた。このものをＥｔ2Ｏ／トルエン（１：１）の４５０mlに懸濁し、アルゴンでシリカゲル（３５〜７０μm）の２７０ｇのカラムに圧入し、そしてＥｔ2Ｏの２リットルで溶離した。溶出液を蒸発乾涸し、残留物を高真空で乾燥した。橙−褐色固体をアルゴンを通じながら熱ｎ−ヘプタン１.２リットルから再結晶した。９９％eeの橙−黄色粉末２１.３ｇ（３４.１ミリモル、理論値の７５％）が得られた。
【００５４】
実施例４
Ｃ2−対称 １,１′−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２,２′−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）−フェロセン（式Ｉａ、Ｒ1：Ｐｈ、(Ｒ2)2：＝Ｏ、Ｒ3：ｉＰｒ)；ｎ−ＢｕＬｉの２.１当量および(−)−スパルティンの２.２当量を用いる式Ｉｂの対応するモノホスフィンからの製造
【化２２】
0004119498.tif 000017
ヘキサン中のｎ−ブチルリチウムの１.６モル溶液５.２５ml（８.４ミリモル）をアルゴン下−７８℃で５分間かけてジエチルエーテル７０ml中の(−)−スパルティン２.０６ｇ（８.８ミリモル）の脱気溶液に滴加した。この添加中、内温は−７４℃以下に上昇した。透明で、淡黄色の溶液を１５分間−７８℃で撹拌し、次に脱気したジエチルエーテル３０ml中の(＋)−１−（ジフェニルホスフィノ）−１′,２−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フェロセン（実施例１；９８.５％ee）２.５０ｇ（４.０ミリモル）の溶液を−７８℃で５分間かけて滴加した。弱い発熱反応で、内温は−７４℃以下に上昇した。橙色懸濁液を３０分間−７８℃で撹拌し、次にクロロジフェニルホスフィン２.１５ml（２.６５ｇ、１２.０ミリモル）を注射器を用いて５分間かけて加えた。発熱反応の結果、内温は−７１℃以下に上昇した。次に混合物を−７８℃で撹拌した。クロロホスフィン添加後１５分および３０分に、試料（各々０.２ml）をとり、これに飽和塩化アンモニウム溶液（各々０.２ml）およびＣＨ2Ｃｌ2（各々０.２ml）を加えた。溶離剤 トルエン／酢酸エチル（１５：１）を用いるＴＬＣ分析では、第一の試料の場合、式（Ｉｂ）の出発物質（Ｒf＝０.０６）から式（Ｉａ）の標記化合物（Ｒf＝０.２０）およびごく微量の式（II）のメソ−ジホスフィン（Ｒf＝０.２４）への実質的な変換また、第二の試料の場合、完全な変換がみられた。クロロホスフィンの添加後５０分に、混合物を室温に加熱し、飽和塩化アンモニウム水溶液１００mlを加え、そして混合物をジクロロメタン２×１００mlで抽出した。抽出液を直ちに真空濃縮した。残留物から１００mgの試料をＨＰＬＣ、1Ｈ−ＮＭＲおよび31Ｐ−ＮＭＲによる粗生成物についての即時分析のために採取し、一方残りを窒素１.３バール下に溶離剤 トルエン／酢酸エチルによる調製カラム（シリカゲル１００ｇ）による即時フラッシュクロマトグラフィー処理した。これによって着色粉末１.７９ｇ（２.２１ミリモル、理論値の５５％）が得られた。融点（溶融毛細血管中アルゴン下）２２８〜２３０℃（分解）。〔α〕D20＝＋２７７.６°（ｃ＝０.７６、ＣＨ2Ｃｌ2中）、キラル相ＨＰＬＣ分析によれば≧９９eeを有し（２５０×４.６mm CSP Chiralpak AD; 溶離剤：ｎ−ヘキサン／ｉＰｒＯＨ（８７：１３）、流速１.０ml／分、４０℃、検出２３３nm；ｔret式（Ｉａ）の(＋)−標記化合物５.４７分）。
【００５５】
1H-NMR(300 MHz, CDCl3): δ＝7.15-7.37(m, 20H, 4×C6H5), 4.80(dt, Jd=2.5 Hz, Jt=1.2 Hz, 2H, 3-,3′-H), 4.71(t, J=2.5 Hz, 2H, 4-,4′-H), 4.02(br sept, J 約 6 Hz, 2H, CHMe2), 3.55(m, 2H, 5-,5′-H), 3.18(br sept, J 約 6 Hz, 2H, CHMe2), 1.41(br d, J 約 6 Hz, 6H, 2×CH3), 1.08(m, 12H, 4×CH3), 0.57(br d, J 約 6 Hz, 6H, 2×CH3)
13C-NMR(75.43 MHz, CDCl3, プロトンブロードバンド−デカップリング）：δ＝167.09(2C, C=O), 139.17(d, 1JC,P=14.3 Hz, 2C, C6H5の直接りん結合されたＣ原子), 138.06(d, 1JC,P=14.8 Hz, 2C, C6H5の直接りん結合されたＣ原子), 133.80(d, 2JC,P=20.7 Hz, 4C, C6H5のo-C)，133.37(d, 2JC,P=21.2 Hz, 4C, C6H5のo′-C), 128.44(2C, C6H5のp-C), 128.26(2C, C6H5のp′-C), 128.10(d, 3JC,P=6.9 Hz, 4C, C6H5のm-C), 128.04(d, 3JC,P=6.3 Hz, 4C, C6H5のm′-C), 90.48(d, 2JC,P=18.0 Hz, 2C, C-2,2′), 81.32(d, 1JC,P=14.3 Hz, 2C, C-1,1′), 76.77(2C, C-3,3′), 74.93(d, 3JC,P=6.4 Hz, 2C, C-4,4′), 72.70(d, 2JC,P=3.7 Hz, 2C, C-5,5′), 50.11(2C, NCH), 45.88(2C, NCH), 20.42(8C, CH3)
31P-NMR(121.43 MHz, CDCl3): δ＝−22.00
IR(KBr): ν＝2964, 1630(C=O), 1444, 1328, 697 cm-1
MS(FAB, NBA): m/z(％)＝809(100)〔M＋H+〕, 808(97)〔M+〕, 765(41)〔M+-iPr〕, 731(14), 723(12)〔“765"-CH2=CHMe〕
UV(c＝12.00μｇ／ml，シクロヘキサン中): λmax(ε)＝223nm(52760 l／mol・cm), 260nm(14290), 445nm(196)
C48H54FeP2N2O2(808.77)に対する
計算値：C 71.29,  H 6.73,  N 3.46,  P 7.66, Fe 6.91
実測値：C 70.8,   H 6.5,   N 3.2,   P 7.4   Fe 6.5
【００５６】
Ｘ線構造解析のための標記化合物の単結晶は、蒸発法（ＣＨ2Ｃｌ2／メチル第三ブチルエーテル）により、実施例７と同様にして得られた。結晶学上のデータはCambridge Crystallographic Data Centre, 12 Union Road, Cambridge CB2 1EZに寄託された。Ｘ線構造解析により構造を確認する。式（Ｉａ）の標記化合物について定められた絶対配置は実施例４の式で開示された配置に相当する。このことは、単結晶Ｘ線構造解析データにBijvoet法（J.M. Bijvoet, A.F. Peerdeman, A.J. van Bommel, Nature (London) 1951年, 168巻, 271頁）を適用することから、疑いの余地もなく明白なことである。Ｘ線構造から、式（Ｉａ）のＣ2−対称標記化合物中の２個のフエロセン環はそれらの相互に関連する配置において事実上重なり位置にあるものと推論される。対照的に、相当するメソ化合物（実施例７）の結晶でのフエロセン環はそれらの相互に関連する配置において理想的なねじれ位置にある。
【００５７】
粗生成物のフラッシュクロマトグラフィーに先立って採取した試料のＨＰＬＣ分析（２５０×４.６mm CSP Chiralpak AD; 溶離剤：ｎ−ヘキサン／ｉＰｒＯＨ（８７：１３）、流速１.０ml／分、４０℃、検出２３３nm；tret式（Ｉａ）の(＋)−標記化合物５.４７分、式（II）の対応するメソ化合物（実施例７）８.７０分）により、化合物（Ｉａ）対（II）の比は９７：３であることがわかった。式（Ｉａ）の化合物の31Ｐ共鳴は、式（II）の化合物に関連してΔδ＝０.３８ppmだけダウンフィールドにシフトしていた。粗生成物において、式（Ｉａ）および（II）の31Ｐ共鳴の強度比は９７.２：２.８であった。粗生成物の1Ｈ−ＮＭＲから、式（II）のメソ化合物の含量は５％より低いと推定される。式（Ｉａ）の化合物は式（II）の化合物よりも一層速くモノホスフィンオキサイドに酸化されるので、これらの分析はサンプリング後すぐに脱気した溶媒を用いて実施しなければならない。式（Ｉａ）の標記化合物の部分酸化試料の31Ｐ−ＮＭＲスペクトルは、正確に１：１の比の２種のジアステレオマーモノホスフィンオキサイドを示し、それらのＰｈ2Ｐ共鳴はδ＝−２０.８１および−２２.６８に出現し、またそれらのＰｈ2ＰＯ共鳴はδ＝＋３７.５０および＋３５.６２に出現する。
【００５８】
実施例５
Ｃ2−対称 １,１′−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２,２′−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フエロセン（式Ｉａ、Ｒ1：Ｐｈ、(Ｒ2)2：＝Ｏ、Ｒ3：ｉＰｒ)；処理を改良し、またクロマトグラフィーによることなく生成物を精製するｎ−ＢｕＬｉの２.０当量および(−)−スパルティンの２.１当量を用いる式（Ｉｂ）の相当するモノホスフィンからの製造
【化２３】
0004119498.tif 000018
ヘキサン中のｎ−ブチルリチウムの１.６モル溶液１５.００ml（２４.０ミリモル）を注射器で−７８℃でジメチルエーテル３０ml中の(−)−スパルティン５.９２ｇ（５.８０ml、２５.２ミリモル）の溶液に滴加し、そして混合物を−７８℃で３０分間撹拌した。次に、ジエチルエーテル１９０ml中の(＋)−１−（ジフェニルホスフィノ）−１′,２−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フエロセン（９８％ee）の７.４６ｇ（１１.９４ミリモル）の溶液を屈曲針で内温が−７７℃より上に上昇しないような速度で滴加した。撹拌を−７８℃で１時間続け、次にクロロジフェニルホスフィン４.００mlを注射器により５分間かけて滴加した。１０分の反応期間後のＴＬＣは事実上完全なジホスフィンへの変換を示した。３０分後、冷却浴を除去し、橙色の懸濁液を＋３℃に加温した。次に、なかば濃縮した塩化アンモニウム水溶液１５０mlを滴加し、そして二相混合物を１０分間強く撹拌した。この段階でも、着色沈殿が形成された。生成物をさらに完全に沈殿させるために、ｎ−ペンタン２００mlを加えた。沈殿を吸引濾去し、ｎ−ペンタンで洗い、そしてＨＶで乾燥した。これにより、１００％eeおよび化学純度＞９９ee（キラル相ＨＰＬＣ）の黄色結晶６.２３ｇ（７.７０ミリモル、理論値の６５％）が得られた。母液の真空下の直接濃縮および残留物のｎ−ペンタンとの摩砕によって、さらに０.８２ｇが得られ、このものは式（Ｉａ）の標記化合物７５％および式（II）の相当するメソジホスフィン２５％からなっていた。
【００５９】
実施例６
Ｃ2−対称 １,１′−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２,２′−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）−フエロセン（式Ｉａ、Ｒ1：Ｐｈ、(Ｒ2)2：＝Ｏ、Ｒ3：ｉＰｒ)；式（II）の相当するメソ−ジホスフィンの分離を伴ってｎ−ＢｕＬｉの２.１当量および(−)−スパルティンの２.２当量を用いる式（ｒａｃ−Ｉｂ）の相当するモノホスフィンのラセミ体からの製造
【化２４】
0004119498.tif 000019
ラセミ１−（ジフェニルホスフィノ）−１′,２−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フエロセンは１,１′−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フエロセンを−７８℃でＥｔ2Ｏ中Ｎ,Ｎ,Ｎ′,Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）の４.４５当量およびｎ−ＢｕＬｉの４.４０当量でリチウム化し、次にクロロジフェニルホスフィンの６.０当量を添加し、そして実施例１の如く処理することによって収率５０％で製造された。
【００６０】
ヘキサン中のｎ−ブチルリチウムの１.６モル溶液の７.６ml（１２.１ミリモル）を−７８℃でジエチルエーテル８４ml中の(−)−スパルティン３.０ｇ（１２.８ミリモル）の溶液に滴加した。１５分後、ジエチルエーテル６０ml中のラセミ１−（ジフェニルホスフィノ）−１′,２−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フエロセン３.６ｇ（５.７６ミリモル）の溶液を５分間かけて−７８℃で滴加した。透明な赤−褐色溶液を１時間−７８℃で撹拌し、次にクロロジフェニルホスフィン３.１ml（３.８２ｇ、１７.３ミリモル）を５分間かけて滴加した。３０分後ＴＬＣ試料は出発物質の完全な変換を示した。１時間の総反応時間後、混合物を２０℃に加熱し、飽和塩化アンモニウム溶液１５０mlを滴加し、混合物を５分間厳しく撹拌した。実施例５に記載の如く処理した。粗生成物（褐色無定形固体８.０ｇ）は、式（Ｉａ）のＣ2−対称ジホスフィンおよび式（II）の相当するメソジホスフィンを約１：１（ＴＬＣ）の比で含有していた。シリカゲル（３５〜７０μm）２００ｇを通して溶離剤 トルエン／酢酸エチル（１５：１）によりフラッシュクロマトグラフィーを実施し、この間に式（II）の比較的無極性のメソジホスフィンが分離され、式（Ｉａ）の純粋な標記化合物を採取した。＞９９％eeの標記化合物(Ｉａ)の黄色固体１.９５ｇ（２.４１ミリモル、理論値の４０％）および明るい褐色の固体２.２０ｇ（２.７２ミリモル、理論値の４６％）が得られ、固体は主にキラル相ＨＰＬＣによると式（II）の相当するメソ−ジホスフィンおよび９９％eeの式（Ｉａ）のＣ2−対称ジホスフィン３０％からなっていた。
【００６１】
実施例７
メソ−１,１′−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２,２′−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フエロセン（式II、Ｒ1：Ｐｈ、(Ｒ2)2：＝Ｏ、Ｒ3：ｉＰｒ）；ｓｅｃ−ＢｕＬｉの４.４０当量および(−)−スパルティンの４.４５当量を用いる製造
【化２５】
0004119498.tif 000020
シクロヘキサン中の第二ブチルリチウムの１.３モル溶液１１.５ml（１５.０ミリモル）をアルゴン下−７８℃で１０分間かけてジエチルエーテル６５ml中の(−)−スパルティン３.５６ｇ（３.５ml、１５.１７ミリモル）の溶液に滴加した。混合物を１５分間−７８℃で撹拌し、次にジエチルエーテル２７ml中の１,１′−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フエロセン１.５０ｇ（３.４１ミリモル）の溶液を１０分間かけて滴加した。混合物をアルゴン下−７８℃で２時間撹拌した。注射器を用いて、クロロジフェニルホスフィン３.７ml（４.５１ｇ、２０.４ミリモル）を１０分間かけて滴加した。この添加の間に、以前は褐色で透明な溶液はまず深褐色次いで事実上黒色に変色した。添加終了後に、この暗色溶液は橙色の懸濁液となった。３０分間−７８℃で撹拌した後、ＴＬＣ試料（０.５ml）をとり、飽和塩化アンモニウム溶液（０.５ml）およびＥｔ2Ｏ（０.５ml）を加え、それからＴＬＣ分析を溶離剤 シクロヘキサン／酢酸エチル（３：１）により実施した。反応が事実上完了した（生成物：Ｒf＝０.４５）。式（Ｉｂ）の相当するモノホスフィン（実施例１参照；Ｒf＝０.２７）および式（III）の出発物質（Ｒf＝０.１３）は極く微量でしか検出できなかった。混合物をさらに３０分間撹拌し、室温に加温した。次に飽和塩化アンモニウム溶液８０mlを５分間かけて滴加し、混合物をさらに１５分間撹拌した。黄色固体を二相懸濁液から吸収濾取し、水１０mlと共に撹拌し、再び吸収濾過し、エーテル１０mlで先に洗い、そしてＨＶ乾燥した。（黄色固体１.９ｇ、上記ＴＬＣ溶離液中で均質；トルエン／酢酸エチル（１０：１）中、生成物（Ｒf＝０.３３）に加えて、式（Ｉａ）の異性体（Ｒf＝０.２９）約４〜５％が存在することが明らかとなった）。直ちに濾液を塩化メチレン２×５０mlで抽出し、合した抽出液を水（５０ml）および塩化ナトリウム溶液（５０ml）で洗い、次に真空濃縮し、残留物をエーテルで摩砕すると黄色固体がさらに０.４５ｇ得られ、この固体はＴＬＣおよびＮＭＲによれば約９０％の純度を有し、また式（Ｉａ）のジホスフィンの含量は４〜５％であった。総収量：２.３５ｇ（２.９１ミリモル、理論値の８５％）、融点２２３〜２２４℃（分解）、〔α〕D20＝＋４.３°（ｃ＝０.７４、ＣＨ2Ｃｌ2中）。
【００６２】
1H-NMR(300 MHz, CDCl3): δ＝7.57(m, 4H, C6H5のpH), 7.10-7.37(m, 16H, C6H5のo-およびm-H), 4.74(s, 2H, 3-,3′-H), 4.20および4.19(2×s, 4H, 4-,4′-,5-,5′-H), 3.79(br s, 2H, CHMe2), 3.11(br s, 2H, CHMe2), 1.25-0.70(m, 18H, CH3), 0.50(br s, 6H, CH3)
13C-NMR(75.43 MHz, CDCl3, プロトンブロードバンド−デカップリング)：δ＝166.36(2C, C=O), 139.78(d, 1JC,P=13.3 Hz, 2C, C6H5の直接りん結合されたＣ原子), 138.25(d, 1JC,P=13.7 Hz, 2C, C6H5の直接りん結合されたＣ原子), 134.75(d, 2JC,P=22.8 Hz, 2C, C6H5のオルト-C)，132.98(d, 2JC,P=20.6 Hz, 2C, C6H5のオルト-C), 128.89(2C, C6H5のパラ-C), 128.14(d, 3JC,P=7.8 Hz, 4C, C6H5のメタ-C), 128.05(2C, C6H5のパラ-C), 91.07(d, 2JC,P=21.2 Hz, 2C, C-2,2′), 81.30(d, 1JC,P=13.7 Hz, 2C, C-1,1′), 75.41(2C, C-5,5′またはC-4,4′), 74.77(d, JC,P=4 Hz, 2C, C-4,4′またはC-5,5′), 72.86(d, 3JC,P=4 Hz, 2C, C-3,3′), 49.94(br, 2C, NCH), 45.78(br, 2C, NCH), 20.36(8C, CH3)
31P-NMR(121.43 MHz, CDCl3): δ＝−22.38（２個の等時性Ｐ原子）
IR(KBr): ν＝3068(アリール-H), 2964, 1632(C=O), 1455, 1335, 1283, 823, 740, 696 cm-1
MS(FAB, NBA／LiCl): m/z(％)＝815(100)〔M＋Li+〕, 809(70)〔M＋H+〕, 765(40)〔M+-iPr〕, 723(15)〔“765"-CH2=CHMe〕
UV(c＝14.84μｇ／ml，シクロヘキサン中): λmax(ε)＝223nm(47960 l／mol・cm), 250nm(16350), 445nm(327)
【００６３】
ＨＰＬＣ分析（CSP Chiralpak AD）では、式（II）および（IIａ）の化合物の比が９６.４：３.６であることを示した。この固体のＸ線粉末回折では同様に不純分として式（Ｉａ）の化合物が微量であることを示した。式（II）のメソ−ジホスフィンの単結晶Ｘ線構造解析および元素分析のための異性体を含まない分析上純粋な結晶は、抽出法によりメチル第三ブチルエーテル／ジクロロメタンからの再結晶により得られた。この目的のために、上記生成物１００mgを脱気したメチル第三ブチルエーテル７mlに懸濁し、そして透明な溶液が存在するまで脱気したジクロロメタンを滴加した。この溶液を大型のアルゴン充満、密閉デシケーター中の開放フラスコに２日間暗所で静置した。ジクロロメタンを蒸発させると、溶液が過飽和となり、大型の結晶が形成した。母液をデカンテーションし、結晶を新たに蒸留したＥｔ2Ｏで洗った。元素分析、比旋光度および融点のための試料フラクションをＨＶで強く乾燥した。Ｘ線構造解析およびＸ線粉末回折の繰り返しのための結晶は乾燥しなかった。融点：２２９〜２３１℃（分解)、〔α〕D20＝０°（ｃ＝１、ＣＨ2Ｃｌ2中）；
C48H54FeP2N2O2(808.77)に対する
計算値：C 71.29，H 6.73，N 3.46，P 7.66，Fe 6.91
実測値：C 70.9， H 6.6， N 3.3， P 7.4， Fe 6.3
Ｘ線粉末回折およびＴＬＣにおいて、式（Ｉａ）の異性体化合物はもはや検出することができなかった。単結合Ｘ線構造解析により、標記化合物の構造を確認する。結晶学上のデータは、Cambridge Crystallographic Data Centre, 2 Union Road, Cambridge CB2 IEZに寄託された。２個のフエロセン環はそれらの相互に関連する配置において理想的なねじれ位置にある。化合物は実施例７の式で指示されるコンホメーションにある。
【００６４】
実施例８
メソ−１,１′−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２,２′−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フエロセン（式II、Ｒ1：Ｐｈ、(Ｒ2)2：＝Ｏ、Ｒ3：ｉＰｒ）；ｓｅｃ−ＢｕＬｉの３.００当量および(−)−スパルティンの３.０５当量を用いる製造
【化２６】
0004119498.tif 000021
キラルリチウムベース（ｓｅｃ−ＢｉＬｉの３.００当量、(−)−スパルテームの３.０５当量）の量を減少する以外はＥｔ2Ｏ中の実施例７と類似したバッチ（１,１−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フエロセン６５ml／ｇ）から、リチウム化期間を変更することなく（−７４乃至−７８℃、２.０時間）、クロロジフェニルホスフィンの量を減少して（４.００当量）、理論値の７６％の収率で標記生成物が得られた。ジアステレオ選択性は実施例７に関連して変化はなかった。
【００６５】
実施例９
メソ−１,１′−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２,２′−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フエロセン（式II、Ｒ1：Ｐｈ、(Ｒ2)2：＝Ｏ、Ｒ3：ｉＰｒ）；ｓｅｃ−ＢｕＬｉの３.００当量およびＮ,Ｎ,Ｎ′,Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）の３.０５当量を用いる製造
【化２７】
0004119498.tif 000022
(−)−スパルテインの代わりにＴＭＥＤＡを用いる以外は実施例８と類似したバッチにより、理論値の６４％の収率で標記生成物が得られた。ジアステレオ選択性は実施例７および８に関連して変化はなかった。
【００６６】
実施例１０
Ｃ2−対称 １,１′−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２,２′−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フエロセンの二塩化パラジウム錯体（式Ｉａ、ＰｄＣｌ2、Ｒ1：Ｐｈ、(Ｒ2)2：＝Ｏ、Ｒ3：ｉＰｒ）；式（Ｉａ）の相当するホモキラルジホスフィンおよびビス（アセトニトリル）パラジウム（II）クロライド（（ＣＨ3ＣＮ)2ＰｄＣｌ2）からの製造
【化２８】
0004119498.tif 000023
脱気した乾燥トルエン８mlおよび脱気した乾燥ジクロロメタン６ml中のビス（アセトニトリル）パラジウム（II）クロライド（Fluka）１９５mg（０.７５ミリモル）の懸濁液に室温（２２℃）で一度に結晶性ホモキラルＣ2−対称１,１′−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２,２′−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フエロセン（実施例５から得られた）の６０６mg（０.７５ミリモル）を加えた。透明な溶液が得られるまで、懸濁液にさらにジクロロメタン（７ml）を加えた。３０分後のＴＬＣ（溶離剤 トルエン／酢酸エチル（１０：１））は式（Ｉａ）のジホスフィンの完全な反応を指示した。溶液に脱気したｎ−ペンタン４０mlを加え、そして沈殿を吸引濾取し、ｎ−ペンタンで洗った。ＨＶで乾燥すると、橙−褐色の粉末６６０mg（０.６７ミリモル、理論値の８９％）が得られた。融点（溶融毛細管中アルゴン下）２６５℃（分解：２３０℃から黒く呈色)、〔α〕D20＝−４８４.０°（ｃ＝０.５０５、ＣＨ2Ｃｌ2中）。1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲおよび31Ｐ−ＮＭＲによれば、この粉末はトルエンの微量以外に不純物を含有せず、ＨＰＬＣ分析（１２５×４mm SP Purospher ５μm；溶離剤 ＣＨ3ＣＮ／水（４０：３０）プラス０.３％ＫＨ2ＰＯ4プラス０.１％カンファースルホン酸；流速１.０ml／分；４０℃；検出２１６nm；標記化合物のｔret ８.９５分）によると純度９９.２％であった。
【００６７】
1H-NMR(300 MHz, CD2Cl2): δ＝8.61(br s, 4H, arom. H), 8.15(m, 4H, arom. H), 7.30-7.50(m, 12H, arom. H), 4.35(s, 2H, フェロセニル-H), 4.30(s, 4H, フェロセニル-H), 3.92(sept, J=6.5 Hz, 2H, CHMe2), 3.08(sept, J=6.5 Hz, 2H, CHMe2), 1.07(d, J ca. 6.5 Hz, 6H, 2×CH3), 1.03(d, J ca, 6.5 Hz, 12H, 4×CH3), 0.76(d, J=6.5 Hz, 6H, 2×CH3)
13C-NMR(75.43 MHz, CD2Cl2, プロトンブロードバンド−デカップリング; 多重度はDEPT 135°で確認)：δ＝166.99(2C, C=O), 136.76(d, 4JC,P=4.7 Hz, 2C, C6H5のp-C), 136.69(d, 4JC,P=5.3 Hz, 2C, C6H5のp′-C), 135.49(d, 1JC,P=26.0 Hz, 2C, C6H5の直接りん結合したＣ原子), 134.81(d, 1JC,P=26.0 Hz, 2C, C6H5の直接りん結合したＣ原子), 130.15(d, 2JC,P=19.1 Hz, 2C, C6H5のo-およびo′-C)，127.52(d, 3JC,P=5.8 Hz, 2C, C6H5のm′-C), 127.44(d, 3JC,P=5.8 Hz, 4C, C6H5のm-C), 127.37(d, 3JC,P=5.9 Hz, 2C, C6H5のm′-C), 98.92(d, 1JC,P=29.1 Hz, 2C, C-1,1′), 98.53(d, 2JC,P=29.7 Hz, 2C, C-2,2′), 86.46(2C, C-3,3′), 70.01(2C, C-4,4′), 68.29(2C, C-5,5′), 50.18(2C, NCH), 46.76(2C, NCH), 21.74(4C, CH3), 20.40(2C, CH3), 20.22(2C, CH3)
31P-NMR(121.43 MHz, CD2Cl2): δ＝＋50.03
IR(KBr): ν＝3054, 2967, 1612(C=O), 1436, 1332, 693 cm-1
MS(FAB, NBA): m/z(％)＝990(1), 989(2), 988(4), 987(4), 986(6), 985(4), 984(5), 983(4), 982(2)(〔M＋H+〕に対するピークシリーズ); 956(7), 955(15), 954(27), 953(55), 952(48), 951(96), 950(62), 949(100), 948(63), 947(30), 946(5)(M-Clに対するピークシリーズ; 強度比はC48H54FeP2N2O2PdCl)に対する同位元素シミュレーションと一致する); 919(4), 918(7), 917(8), 916(14), 915(10), 914(19), 913(13), 912(6)(M-2Cに対するピークシリーズ); 376(66)(c-C5H3(PPh2)(CONiPr2)+); 292(42)
【００６８】
Ｘ線構造解析のための単結晶の製造のために、結晶皿をヘキサメチルジシラザン５mlずつで２回洗いすすぎし、メタノールで１回洗いすすぎし、そして風乾した。錯体４０mgを結晶皿中で脱気したジクロロメタン２０mlに溶解し、そしてアルゴン充満デシケーター中の脱気したｎ−ヘプタン１０mlの入った結晶皿と共に放置した。２日間かけて結晶が形成した。溶媒をデカンテーションし、結晶をｎ−ヘプタンで洗い、アルゴン気流中で乾燥し、そして一つの良好な結晶をマルク（Mark）チューブに溶融し、測定した。結晶学上のデータはCambridge Crystallographic Data Centre, 12 Union Road, Cambridge CB2 IEZに寄託された。Ｘ線構造解析の結果から標記錯体の構造を確認する。パラジウム原子の周囲の配位圏は実質的に平面正方形であることが認められる。２個のフェロセニル環はほぼ重なり形に配置され、また２個のホスフィノ基は平面図で相互にほぼ真後ろにある。結晶格子において、Ｃ2対称もまたコンホ−メーションでも保持されている。ジクロロメタンが結晶格子中に組み入れられている溶媒和物が存在する。
【００６９】
実施例１１
Ｃ2−対称 １,１′−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２,２′−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フエロセンの１,５−シクロオクタジェン−ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート錯体（式〔Ｉａ(ＣＯＤ)Ｒｈ(Ｉ)〕+ＢＦ4-、Ｒ1：ＰＰｈ、(Ｒ2)2：＝Ｏ、Ｒ3：ｉＰｒ）；式（Ｉａ）の相当するホモキラルジホスフィンおよびビス（１,５−シクロオクタジェン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート（〔Ｒｈ(Ｉ)（ＣＯＤ2)〕+ＢＦ4-）からの製造
【化２９】
0004119498.tif 000024
脱気したジクロロメタン１０ml中のビス（１,５−シクロ−オクタジェン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート１００mg（０.２４６ミリモル）の透明な褐色の溶液に、室温で一度に、結晶性ホモキラルＣ2−対称１,１′−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２,２′−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フエロセン（実施例５から）１９７mg（０.２４６ミリモル）を加え、この間に橙色への変色が生じた。１０分後の反応混合物のＴＬＣ（シリカゲル；溶離剤 ジクロロメタン／メタノール（５：１））によると、式（Ｉａ）の化合物（Ｒf＝０.９４）および〔Ｒｈ(ＣＯＤ)2〕ＢＦ4（Ｒf＝０.００）の生成物（Ｒf＝０.７０）への完全な変換を示した。３０分後、混合物を真空濃縮乾涸した。残留物をメタノール３mlに溶解し、生成物をエーテル３０mlを加えて沈殿させ、吸引濾取し、エーテル１０mlで洗い、そして真空乾燥した。収量、黄色粉末１８６mg（理論値の６８％）であった。融点（毛細管中アルゴン下）２２５℃（分解：１５０〜１９０℃で黒変)、〔α〕D20＝−１５６°（ｃ＝０.１２５、ＣＨ2Ｃｌ2中）。
【００７０】
1H-NMR(500 MHz, CDCl3): δ＝7.80-6.70(m, 20H, 4×C6H5), 5.49(br s, 2H, =CODのCH), 4.86(br s, 2H, =CODのCH), 3.85-4.70(m, 2H, 3-,3′-H), 3.40(br s, 2H, 2×CHMe2), 3.30(br s, 1H, 4-H), 3.00(br s, 1H, 4′-H), 2.70(br s, 1H, 5-H), 2.53(br s, 1H, 5′-H), 2.20-2.42(m, 6H, 2×CODのCH2および2×CHMe2), 1.98(br s, 2H, CODのCH2), 1.75(br s, 2H, CODのCH2), 1.25(m, 6H, CH3), 0.95-1.22(m, 12H, CH3), 0.30-0.80(m, 6H, CH3)
13C-NMR(125.77 MHz, CDCl3, プロトンブロードバンド−デカップリング; δ=170.74(2C, C=O), 134.16および134.05(2×sまたは1×d, 4C, arom. C), 131.36(s, 4C, arom. C), 131.12(s, 4C, arom. C), 131.02および130.94(2×sまたは1×d, 4C, arom. C), 128.84および128.76(2×sまたは1×d, 4C, arom. C), 128.52および128.44(2×sまたは1×d, 4C, arom. C), 108.70(br s, 2C, =CODのC), 107.83(br s, 2C, =CODのC), 81.86(s, 2C, C-2,2′), 78.07(s, 2C, C-1,1′), 74.69(s, 2C, C-3,3′), 69.48(s, 2C, C-4,4′), 66.23(s, 2C, C-5,5′), 52.73(s, 1C, NCH), 47.38(s, 1C, NCH), 34.22(s, 1C, CODのCH2), 29.87(s, 1C, CODのCH2), 28.06(s, 1C, CODのCH2), 25.84(s, 1C, CODのCH2), 19.35(s, 2C, CH3), 19.23(s, 4C, CH3), 18.96(s, 2C, CH3)
31P-NMR(161.98 MHz, CDCl3): δ＝＋24.20(d, 1JP,Rh＝149.6 Hz; ２個の等時性Ｐ原子、すなわちＣ2−対称保持)
IR(KBr): ν＝2971, 1628(C=CまたはC=O), 1548(N-C=O), 1437, 1370, 1055, 697, 520 cm-1
MS(FAB, NBA): m/z(％)＝1022(6), 1021(22), 1020(66), 1019(100), 1018(4), 1017(7)(カチオン(M-BF4-)のM+に対するピークシリーズ; 強度比はC55H66FeP2N2O2Rh)に対する同位元素シミュレーションと一致する; 913(16), 912(51), 911(83), 910(7), 909(7)(M-BF4--CODに対するピークシリーズ)
【００７１】
実施例１２
Ｃ2−対称 １,１′−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２,２′−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フエロセンのヨウ化ルテニウム（II）−クメン錯体（式Ｉａ−ＲｕＩ2・Ｐ−Ｍｅ2ＣＨ−Ｃ6Ｈ4−Ｍｅ、Ｒ1：Ｐｈ、(Ｒ2)2：＝Ｏ、Ｒ3：ｉＰｒ)；式（Ｉａ）の相当するホモキラルジホスフィンおよび〔ｐ−クメン−二ヨウ化ルテニウム〕二量体から製造
K. Mashima等、J. Chem. Soc., Chem. Commun., 1989年、1208頁の方法により、水性エタノール中の塩化ルテニウム（III）三水和物、(Ｒ）−（−）−α−フェランドレンおよびヨウ化カリウムから、〔Ｐ−クメン−二ヨウ化ルテニウム〕二量体を紫−褐色固体として製造した。この錯体９１mg（０.０９２７ミリモル）および結晶性ホモキラル１,１′−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２,２′−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フエロセン（実施例５から）１５０mg（０.１８５ミリモル）をジクロロメタン８mlに溶解し、そして暗色の溶液を室温で撹拌した。１０分後のＴＬＣ（ジクロロメタン／メタノール（１５：１））では、ルテニウム錯体の完全な変換およびジホスフィンの式（Ｉａ）への実質的な変換を示した。１時間後、溶媒を真空除去し、残留物をジクロロメタン３mlにとり、生成物をジエチルエーテル２０mlを加えて沈殿させた。このものを吸引濾去し、エーテルで洗い、そして高真空で乾燥した。収量は明るい褐色粉末１７４mg（０.１３４ミリモル、理論値の７３％）であった。融点 〜１９０℃（分解；１４５℃から黒変）、〔α〕D20＝＋２８０°（ｃ＝０.１、ＣＨ2Ｃｌ2中）。沈殿した生成物はＴＬＣ（Ｒf＝０.３０）によれば均質であり、式（Ｉａ）の遊離のジホスフィン（Ｒf＝０.９４）はもはや検出することができない。ＣＤＣｌ3中のこの生成物の1Ｈ−ＮＭＲおよび31Ｐ−ＮＭＲスペクトルは非常に複雑であり、ＮＭＲ溶液を静置しておいても変わらない。トルエン−ｄ8もしくはベンゼン−ｄ6中のＮＭＲスペクトルは、試料を溶解した後も変わらずに非常に複雑であるが、ＮＭＲ溶液を室温で静置しておくとだんだんと単純化され、そして４日後には解釈可能なスペクトルを生じる：
31P-NMR(161.98 MHz, トルエン-d8): δ＝＋22.43に唯一の残留一重線; ２個の等時性Ｐ原子、すなわち、Ｃ2−対称保持され、またルテニウム周囲の四面体リガンド配置なし
1Ｈ−ＮＭＲは、クメンリガンドのイソプロピル基およびメチル基に対する２セットのシグナルを示し、これはクメンリガンドの２種のコンホマー（１.６：１比）の存在を指示している。
【００７２】
1H-NMR(400 MHz, トルエン-d8): δ＝7.75(m, 4H, C6H5), 7.10(t, 8H, C6H5), 7.02(t, 4H, C6H5), 6.98(t, 3H, C6H5), 5.61(br s, 2H, arom. クメンのH), 5.36(br s, 2H, arom. クメンのH), 5.00(d, 3JH,P=5.8 Hz, 1H, 5-H), 4.83(d, 3JH,P=5.8 Hz, 1H, 5′-H), 3.92(br s, 2H, 3,3′-H), 3.84(br s, 2H, NCH), 2.95(br s, 2H, NCH), 2.86および2.72(2×sept, 3JH,H=7 Hz, 1Hと共に, Me2CH-アリール, ２種のコンホマー), 2.16(s, 2H, 4,4′-H), 2.08および1.95(2×s, 3Hと共に, CH3-アリール, ２種のコンホマー), 1.47(br d, 6H, CH3), 1.27(br d, 6H, CH3), 1.17および1.00(2×d, 3JH,H=7 Hz, 6Hと共に)(CH3)2CH-アリール, ２種のコンホマー), 0.85(br, d, 6H, CH3), 0.48(br d, 6H, CH3)
IR(KBr): ν＝1625, 1539, 1438, 1370, 1328, 699 cm-1
MS(FBA, CH2Cl2, NBA): m/z(％)＝1175(10), 1174(30), 1173(58), 1172(56), 1171(100), 1170(62), 1169(53), 1168(32), 1167(9), 1166(9)（カチオン〔iPrC6H4Me・Rul・la〕+のM+に対するピークシリーズ; C58H68FeP2N2O2lRu）に対する同位元素シミュレーションとの同一の強度比
【００７３】
実施例１３
Ｃ2−対称 １,１′−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２,２′−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フエロセンの１,５−シクロオクタジエン−塩化イリジウム（Ｉ）錯体（式〔Ｉａ・Ｉｒ(Ｉ)（ＣＯＤ)Ｃｌ〕；Ｒ1：Ｐｈ、(Ｒ2)2：＝Ｏ、Ｒ3：ｉＰｒ)；式（Ｉａ）の相当するホモキラルジホスフィンおよび〔クロロ−（１,５−シクロオクタジエン）イリジウム(Ｉ)〕二量体（〔Ｉｒ(Ｉ)(ＣＯＤ)Ｃｌ〕2）からの製造
〔クロロ（１,５−シクロオクタジエン）イリジウム(Ｉ)〕二量体（Strem Chemicals）２９７mg（０.４４ミリモル）および結晶性ホモキラル１,１′−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２,２′−ビス（Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド）フエロセン（実施例５から）７１６mg（０.８９ミリモル）をアルゴンを泡立たせることにより予め溶存酸素を除いておいたジクロロメタン４０mlに溶解した。透明な溶液をアルゴン下２０℃で１５分間撹拌した。溶媒を真空で除去し、残留物を高真空で乾燥した。これにより、橙色粉末１.０１ｇ（理論値の１００％）が得られた。
【００７４】
1H-NMR(250 MHz, CDCl3): δ＝7.91(br s, 4H, arom. H), 7.70(br s, 4H, arom. H), 7.28-7.52(m, 12H, arom. H), 4.40-4.87(m, 6H, 2=CODのCH, 4フェロセニル-H), 4.14(br s, 4H, 2=CODのCH, 2フェロセニル-H), 3.30(br s, 2H, NCH), 3.15(br s, 2H, NCH), 2.47(m, 2H, CODのCH2), 2.01(m, 2H, CODのCH2), 1.58-1.79(m, 4H, CODのCH2), 1.36(d, 6H, CH3)，1.25(br s, 6H, CH3), 1.15(d, 6H, CH3), 0.96(br s, 6H, CH3)
31P-NMR(161.98 MHz, CDCl3): δ＝＋21.60(一重線, 中間ピーク中106 Hz)
MS(FAB, NBA): m/z(％)＝1112(5), 1111(19), 1110(60), 1109(100), 1108(38), 1107(58), 1106(2), 1105(3)（M-Clに対するピークシリーズ; C56H66FeP2N2O2Ir）に対する同位元素シミュレーションと一致する強度比; 1003(5), 1002(12), 1001(14), 1000(12), 999(13), 998(4), 997(4)（M-Cl-CODに対するピークシリーズ）