【手続補正書】
【提出日】平成20年1月18日(2008.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光が伝送する伝搬軸と、クラッディング層と、コアエレメントとを有する基板型光ウエーブガイドを製造する方法であって、前記コアエレメントは、前記ウエーブガイドの伝搬軸に平行に伸びる寸法と、該伸びる寸法を横切る横断面とを有し、当該方法は：
（ａ）感光性クラッディング材料より成る下位クラッディング層を形成する工程；
（ｂ）第１のグレースケールマスクを通過した化学線に前記下位クラッディング層をさらす工程；
（ｃ）露光されたパターンを現像し、前記下位クラッディング層内に位置し且つ３次元的な属性を有する溝を形成する工程；
（ｄ）前記溝及び残りの下位クラッディング層の部分上に感光性コア材料より成るコア層を形成する工程；
（ｅ）第２のグレースケールマスクを通過した化学線に前記コア層をさらす工程；及び
（ｆ）露光されたパターンを現像し、前記溝上に位置し且つ３次元的な属性を有するコア材料より成るエレメントを形成する工程；
を有することを特徴とする方法。
【請求項２】
コアエレメント及び下位クラッディング層の露出部分上に上位クラッディング層を形成する工程を更に有する
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
（ｃ）の工程後であって（ｄ）の工程前に、前記下位クラッディング層を少なくとも部分的に硬化させる工程を更に有する
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】
（ｃ）の工程後であって（ｄ）の工程前に、（ｅ）の工程で使用される化学線に対する前記下位クラッディング層の感度を減らす工程を更に有する
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
コア材料のエレメントが、ウエーブガイドの伝搬軸を横切る面内で円形断面を有する
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項６】
光が伝搬する伝搬軸と、クラッディング層と、コアエレメントとを有する基板型光ウエーブガイドを製造する方法であって、前記コアエレメントは、前記ウエーブガイドの伝搬軸に平行に伸びる寸法と、該伸びる寸法を横切る横断面とを有し、当該方法は：
（ａ）感光性クラッディング材料より成るクラッディング層を基板に形成する工程であって、前記クラッディング材料の現像液に対する溶解性は、化学線の露光放射線量の関数であるところの工程；
（ｂ）第１のグレースケールマスクを通過した化学線に前記クラッディング層をさらしてパターニングする工程であって、前記第１のグレースケールマスクは前記コアエレメントの第１部分を規定する第１領域を有し、前記第１領域は、ウエーブガイドの伝搬軸に向いた長さと、前記第１部分のコアエレメントの前記横断面を最初に規定する幅とを有し、前記グレースケールマスクの前記第１領域は、該幅に沿った不透明度のグラデーションを有するところの工程；
（ｃ）クラッディング層を現像液にさらし、感光性クラッディング材料の層内に溝を形成する工程であって、該溝はウエーブガイドの伝搬軸に沿った長さと湾曲した主表面とを備えた第１部分を有し、湾曲した主表面は、溝の第１部分の長さ方向を横切る方向で湾曲しているところの工程；
（ｄ）前記溝及び前記クラッディング層上に感光性コア材料より成るコア層を形成する工程であって、前記コア材料の現像液に対する溶解性は、化学線の露光放射線量の関数であるところの工程；
（ｅ）第２のグレースケールマスクを通過した化学線に前記コア層をさらしてパターニングする工程であって、前記第２のグレースケールマスクは、ウエーブガイドのコアエレメントの前記第１部分を更に規定する第１領域を有し、前記第１領域は、ウエーブガイドの伝搬軸に向いた長さと、前記第１部分のコアエレメントの前記横断面を更に規定する幅とを有し、前記第２のグレースケールマスクの前記第１領域は、該幅に沿った不透明度のグラデーションを有するところの工程；
（ｆ）コア層を現像液にさらし、ウエーブガイドのコアエレメントの第１部分を形成する工程；
を有することを特徴とする方法。
【請求項７】
光が伝搬する伝搬軸を有する基板型光ウエーブガイドであって：
上部表面と、下部表面と、第１の自由空間波長を有する光に対する第１の屈折率と、前記上部表面に形成された溝とを有する下位クラッディング層であって、前記溝は湾曲した主表面と最も深い深度とを備えた第１セグメントを有し、該最も深い深度は下位クラッディング層の上部及び下部表面の間にあり、前記下位クラッディング層は、該下位クラッディング層が、ある量の光活性化合物及び／又はある量の分解された光活性化合物から形成されるように、感光性材料から形成されるところの下位クラッディング層；
ウエーブガイドの伝搬軸に平行に伸びた寸法と、該伸びた寸法を横切る横断面とを備えたコアエレメントであって、前記コアエレメントは第１の自由空間波長を有する光に対する第２の屈折率を有し、前記第２の屈折率は前記第１の屈折率とは異なり、前記コアエレメントは、前記溝の前記第１セグメントの中及び上に形成された第１のコアセグメントを有し且つ湾曲した主表面及び湾曲した主底面を更に有し、前記コアエレメントは、該コアエレメントが、ある量の光活性化合物及び／又はある量の分解された光活性化合物から形成されるように、感光性材料から形成されるところのコアエレメント；及び
前記下位クラッディング層の露出部分の少なくとも１つ及び前記コアエレメントの露出部分の少なくとも１つの上に形成された上位クラッディング層；
を備えることを特徴とする基板型光ウエーブガイド。
【請求項８】
前記下位クラッディング層の前記溝が、前記第１セグメントに隣接する第２セグメントを有し、前記溝の前記第２セグメントは湾曲した主表面及び最も深い深度を有し、最も深い深度は下位クラッディング層の上部及び下部表面の間にあり、前記溝の第２セグメントは、該幅方向でのグラデーションと該深さ方向でのグラデーションとを有し；
前記コアエレメントが、前記溝の第２セグメントの中及び上に形成された第２セグメントを有し、湾曲した上部主表面及び湾曲した下部主表面を更に有し、コアエレメントの第２セグメントの前記下部主表面は、幅方向でのグラデーション及び深さ方向でのグラデーションを有し、コアエレメントの第２セグメントの上部首表面は、幅方向でのグラデーション及び高さ方向でのグラデーションを有する；
ことを特徴とする請求項７記載の基板型光ウエーブガイド。
【請求項９】
光が伝搬する伝搬軸を有する基板型光ウエーブガイドであって：
上部表面と、下部表面と、第１の自由空間波長を有する光に対する第１の屈折率と、前記上部表面に形成された溝とを有する下位クラッディング層であって、前記溝は湾曲した主表面と最も深い深度とを備えた第１セグメント及び第１セグメントに隣接する第２セグメントを有し、該最も深い深度は下位クラッディング層の上部及び下部表面の間にあり、前記溝の第２セグメントは、湾曲した主表面と最も深い深度を有し、該深度は前記下位クラッディング層の上部及び下部表面の間にあり、前記溝の第２セグメントは、屈曲した下部を形成するように、幅方向でのグラデーション及び深さ方向でのグラデーションを有するところの下位クラッディング層；
ウエーブガイドの伝搬軸に平行に伸びた寸法と、該伸びた寸法を横切る横断面とを備えたコアエレメントであって、前記コアエレメントは第１の自由空間波長を有する光に対する第２の屈折率を有し、前記第２の屈折率は前記第１の屈折率とは異なり、前記コアエレメントは、第１コアセグメント及び第１コアセグメントに隣接した第２コアセグメントを更に有し、前記第１コアセグメントは、前記溝の前記第１セグメントの中及び上に形成され且つ湾曲した主表面及び湾曲した主底面を更に有し、前記第２コアセグメントは、前記溝の第２セグメントの中及び上に形成され、屈曲した形状を有するところのコアエレメント；及び
前記下位クラッディング層の露出部分の少なくとも１つ及び前記コアエレメントの露出部分の少なくとも１つの上に形成された上位クラッディング層；
を備えることを特徴とする基板型光ウエーブガイド。