【手続補正書】
【提出日】平成20年1月23日(2008.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の流出装置、第２の流出装置および第３の流出装置を含み、使用時に、第１のガスまたは蒸気が前記流出装置の一つに供給され、さらなるガスまたは蒸気が別の前記流出装置に供給されるプローブと、
前記プローブの下流に配置されている燃焼源と
を含むマススペクトロメータ用イオン源。
【請求項２】
前記第２の流出装置の少なくとも一部または実質的に全体が、前記第１の流出装置の少なくとも一部または実質的に全体を取り囲んでいるか、包んでいるか、または、閉じ込めている、請求項１に記載のイオン源。
【請求項３】
前記第３の流出装置の少なくとも一部または実質的に全体が、前記第２の流出装置および／または前記第１の流出装置の少なくとも一部または実質的に全体を取り囲んでいるか、包んでいるか、または、閉じ込めている、請求項１または２に記載のイオン源。
【請求項４】
前記第１の流出装置および／または前記第２の流出装置および／または前記第３の流出装置が、同軸または実質的に同軸である、先行する請求項のいずれかに記載のイオン源。
【請求項５】
前記第１の流出装置および／または前記第２の流出装置および／または前記第３の流出装置が、１以上のキャピラリーチューブまたはチューブを含む、先行する請求項のいずれかに記載のイオン源。
【請求項６】
分析物溶液または液体または流動が、使用時に、前記第１の流出装置および／または前記第２の流出装置および／または前記第３の流出装置に供給される、先行する請求項のいずれかに記載のイオン源。
【請求項７】
前記分析物溶液または液体または流動が、使用時に、(i) <1 μl/min; (ii) 1-10 μl/min; (iii) 10-50 μl/min; (iv) 50-100 μl/min; (v) 100-200 μl/min; (vi) 200-300 μl/min; (vii) 300-400 μl/min; (viii) 400-500 μl/min; (ix) 500-600 μl/min; (x) 600-700 μl/min; (xi) 700-800 μl/min; (xii) 800-900 μl/min; (xiii) 900-1000 μl/min; および(xiv) >1000 μl/minからなる群から選択される流速で供給される、請求項６に記載のイオン源。
【請求項８】
第１のガスまたは蒸気が、使用時に、前記第１の流出装置および／または前記第２の流出装置および／または前記第３の流出装置に供給される、先行する請求項のいずれかに記載のイオン源。
【請求項９】
前記第１のガスまたは蒸気が、可燃性であり、かつ／または分析物溶液または液体または流動の噴霧化を助成する、請求項８に記載のイオン源。
【請求項１０】
前記第１のガスまたは蒸気が、: (i) アセトン; (ii) アセチレン; (iii) ベンゼン; (iv)ブタン; (v) ブチルアルコール (ブタノール); (vi) ジエチルエーテル; (vii) エタン;(viii) エチルアルコール (エタノール); (ix) エチレン; (x) エチレンオキシド; (xi)ヘキサン; (xii) 水素; (xiii) イソプロピルアルコール (イソプロパノール); (xiv) メタン; (xv) メチルアルコール (メタノール); (xvi) メチルエチルケトン; (xvii) n-ペンタン; (xviii) プロパン; (xix) プロピレン; (xx) スチレン; (xxi) トルエン; (xxii) キシレン; (xxiii) 一酸化炭素; (xxiv) 飽和炭化水素; (xxv) 不飽和炭化水素; (xxvi) アルコール; (xxvii) エステル; (xxviii) エーテル; (xxix) 炭化水素; (xxx) 揮発油; (xxxi) ジェット燃料; (xxxii) ナフサ; (xxxiii) テレビン油; (xxxiv) 環状化合物; (xxxv) ケトン; (xxxvi) 無機物のガス; (xxxvii)有機物のガス; (xxxviii) 硫化水素; (xxxix) アンモニア; (xxxx) プロパノール; (xxxxi) 酢酸エチル; (xxxxii) ヘプタン; および(xxxxiii) エクセレン（exlene)からなる群から選択される１以上のガスまたは蒸気を含む、請求項８または９に記載のイオン源。
【請求項１１】
前記第１のガスが、燃焼を支持する、請求項８または９に記載のイオン源。
【請求項１２】
前記第１のガスまたは蒸気が、使用時に、(i) <1 bar; (ii) 1-2 bar; (iii) 2-3 bar; (iv) 3-4 bar; (v) 4-5 bar; (vi) 5-6 bar; (vii) 6-7 bar; (viii) 7-8 bar; (ix) 8-9 bar; (x) 9-10 bar; and (xi) >10 barからなる群から選択される圧力で前記第１の流出装置および／または前記第２の流出装置および／または前記第３の流出装置に供給される、請求項８〜１１のいずれかに記載のイオン源。
【請求項１３】
前記第１のガスまたは蒸気が、前記燃焼源による第２のガスまたは蒸気の燃焼を促進するか、または、液滴の脱溶媒和を助成するために燃焼する際に熱を供給する、請求項８〜１２のいずれかに記載のイオン源。
【請求項１４】
さらなるガスまたは蒸気が、使用時に、前記第１の流出装置および／または前記第２の流出装置および／または前記第３の流出装置に供給される、先行する請求項のいずれかに記載のイオン源。
【請求項１５】
前記さらなるガスまたは蒸気が、可燃性であり、かつ／または分析物溶液または液体または流動の噴霧化を助成する、請求項１４に記載のイオン源。
【請求項１６】
前記さらなるガスまたは蒸気が、(i) アセトン; (ii) アセチレン; (iii) ベンゼン; (iv) ブタン; (v) ブチルアルコール (ブタノール); (vi) ジエチルエーテル; (vii) エタン; (viii) エチルアルコール (エタノール); (ix) エチレン; (x) エチレンオキシド; (xi) ヘキサン; (xii) 水素; (xiii) イソプロピルアルコール (イソプロパノール); (xiv) メタン; (xv) メチルアルコール (メタノール); (xvi) メチルエチルケトン; (xvii) n-ペンタン; (xviii) プロパン; (xix) プロピレン; (xx) スチレン; (xxi) トルエン; (xxii) キシレン; (xxiii) 一酸化炭素; (xxiv) 飽和炭化水素; (xxv) 不飽和炭化水素; (xxvi) アルコール; (xxvii) エステル; (xxviii) エーテル; (xxix) 炭化水素; (xxx) 揮発油; (xxxi) ジェット燃料; (xxxii) ナフサ; (xxxiii) テレビン油; (xxxiv) 環状化合物; (xxxv) ケトン; (xxxvi) 無機物のガス; (xxxvii)有機物のガス; (xxxviii) 硫化水素; (xxxix) アンモニア; (xxxx) プロパノール; (xxxxi) 酢酸エチル; (xxxxii) ヘプタン;および(xxxxiii) エクセレン（exlene)からなる群から選択される１以上のガスまたは蒸気を含む、請求項１４または１５に記載のイオン源。
【請求項１７】
前記さらなるガスが、燃焼を支持する、請求項１４または１５に記載のイオン源。
【請求項１８】
前記さらなるガスまたは蒸気が、使用時に、 (i) <1 bar; (ii) 1-2 bar; (iii) 2-3 bar; (iv) 3-4 bar; (v) 4-5 bar; (vi) 5-6 bar; (vii) 6-7 bar; (viii) 7-8 bar; (ix) 8-9 bar; (x) 9-10 bar; および(xi) >10 barからなる群から選択される圧力で前記第１の流出装置および／または前記第２の流出装置および／または前記第３の流出装置に供給される、請求項１４〜１７のいずれかに記載のイオン源。
【請求項１９】
前記さらなるガスまたは蒸気が、前記燃焼源による第２のガスまたは蒸気の燃焼を促進するか、または、液滴の脱溶媒和を助成するために燃焼する際に熱を供給する、請求項１４〜１８のいずれかに記載のイオン源
【請求項２０】
前記イオン源が、さらに、(i) 青炎点火棒、(ii) ガス点火棒、および(iii) ブローランプからなる群から選択される燃焼源を含む、先行する請求項のいずれかに記載のイオン源。
【請求項２１】
前記イオン源が、第２のガスまたは蒸気を燃焼するために配置された燃焼源をさらに含む、先行する請求項のいずれかに記載のイオン源。
【請求項２２】
前記燃焼源が、前記第２のガスまたは蒸気を直接供給される、請求項２１に記載のイオン源。
【請求項２３】
前記第２のガスまたは蒸気が、(i) アセトン; (ii) アセチレン; (iii) ベンゼン; (iv) ブタン; (v) ブチルアルコール (ブタノール); (vi) ジエチルエーテル; (vii) エタン; (viii) エチルアルコール (エタノール); (ix) エチレン; (x) エチレンオキシド; (xi) ヘキサン; (xii) 水素; (xiii) イソプロピルアルコール (イソプロパノール); (xiv) メタン; (xv) メチルアルコール (メタノール); (xvi) メチルエチルケトン; (xvii) n-ペンタン; (xviii) プロパン; (xix) プロピレン; (xx) スチレン; (xxi) トルエン; (xxii) キシレン; (xxiii) 一酸化炭素; (xxiv) 飽和炭化水素; (xxv) 不飽和炭化水素; (xxvi) アルコール; (xxvii) エステル; (xxviii) エーテル; (xxix) 炭化水素; (xxx) 揮発油; (xxxi) ジェット燃料; (xxxii) ナフサ; (xxxiii) テレビン油; (xxxiv) 環状化合物; (xxxv) ケトン; (xxxvi) 無機物のガス; (xxxvii) 有機物のガス; (xxxviii) 硫化水素; (xxxix) アンモニア; (xxxx) プロパノール; (xxxxi) 酢酸エチル; (xxxxii) ヘプタン; および(xxxxiii) エクセレン（exlene)からなる群から選択される１以上のガスまたは蒸気を含む、請求項２１または２２に記載のイオン源。
【請求項２４】
前記プローブが第１の前後軸を有し、燃焼源が第２の前後軸を有し、前記第１の前後軸と前記第２の前後軸との間の角度が、 (i) 0-10°; (ii) 10-20°; (iii) 20-30°; (iv) 30-40°; (v) 40-50°; (vi) 50-60°; (vii) 60-70°; (viii) 70-80°; (ix) 80-90°; (x)85-95°; (xi) 90-100°; (xii) 100-110°; (xiii) 110°-120°; (xiv) 120-130°; (xv) 130-140°; (xvi) 140-150°; (xvii) 150-160°; (xviii) 160-170°; および(xix)170-180°からなる群から選択される、先行する請求項のいずれかに記載のイオン源。
【請求項２５】
さらに、前記プローブおよび燃焼源を囲むための囲いを含み、前記囲いが、ガスの吸気口およびガスの排気口を含む、先行する請求項のいずれかに記載のイオン源。
【請求項２６】
バックグラウンドガスが、使用時に、前記ガスの吸気口を経由して前記囲いに導入される、請求項２５に記載のイオン源。
【請求項２７】
前記囲いが、使用時に、 (i) <100 mbar; (ii) 100-500 mbar; (iii) 500-600 mbar; (iv) 600-700 mbar; (v) 700-800 mbar; (vi) 800-900 mbar; (vii) 900-1000 mbar; (viii) 1000-1100 mbar; (ix) 1100-1200 mbar; (x) 1200-1300 mbar; (xi) 1300-1400 mbar; (xii) 1400-1500 mbar; (xiii) 1500-2000 mbar; および(xiv) >2000 mbarからなる群から選択される圧力で保持されている、請求項２５または２６に記載のイオン源。
【請求項２８】
前記イオン源が、電子スプレーイオン源を含む、先行する請求項のいずれかに記載のイオン源。
【請求項２９】
前記第１の流出装置および／または前記第２の流出装置および／または前記第３の流出装置が、使用時に、 (i) <± 1 kV; (ii) ± 1-2 kV; (iii) ± 2-3 kV; (iv) ± 3-4 kV; (v)± 4-5 kV; (vi) ± 5-6 kV; (vii) ± 6-7 kV; (viii) ± 7-8 kV; (ix) ± 8-9 kV; (x) ± 9-10 kV;および(xi) >± 10 kVの電圧または対応する電位で保持されている、先行する請求項のいずれかに記載のイオン源。
【請求項３０】
前記イオン源が、大気圧化学イオン化イオン源を含む、請求項１〜２７のいずれかに記載のイオン源。
【請求項３１】
前記イオン源が、前記燃焼源の下流に配置されるコロナ放電装置を含む、請求項３０に記載のイオン源。
【請求項３２】
作動形式において、 (i) <0.1 μA; (ii) 0.1-0.2 μA; (iii) 0.2-0.3 μA; (iv) 0.3-0.4 μA; (v) 0.4-0.5 μA; (vi) 0.5-0.6 μA; (vii) 0.6-0.7 μA; (viii) 0.7-0.8 μA; (ix) 0.8-0.9 μA; (x) 0.9-1.0 μA; および (xi) >1 μA からなる群から選択される電流が、前記コロナ放電装置に加えられる、請求項３１に記載のイオン源。
【請求項３３】
作動形式において、電圧が、コロナ放電装置に加えられ、または、前記コロナ放電装置が、 (i) <± 1kV; (ii) ± 1-2 kV; (iii) ± 2-3 kV; (iv) ± 3-4 kV; (v) ± 4-5 kV; (vi) ± 5-6 kV; (vii) ±6-7 kV; (viii) ± 7-8 kV; (ix) ± 8-9 kV; (x) ± 9-10kV; および(xi) >± 10 kV からなる群から選択される対応する電位で保持される、請求項３１または３２に記載のイオン源。
【請求項３４】
前記第１の流出装置および／または前記第２の流出装置および／または前記第３の流出装置が、使用時に、 (i) ± 0-100 V; (ii) ± 100-200 V; (iii) ± 200-300 V; (iv) ± 300-400 V; (v) ± 400-500 V; (vi) ± 500-600 V; (vii) ± 600-700 V; (viii) ± 700-800 V; (ix) ± 800-900 V;(x) ± 900-1000 V;および(xi) >± 1000 Vからなる群から選択される電圧または対応する電位で保持される、先行する請求項のいずれかに記載のイオン源。
【請求項３５】
先行する請求項のいずれかに記載のイオン源を含むマススペクトロメータであって、
前記マススペクトロメータが、(i)直交加速飛行時間型質量分析装置; (ii)軸加速飛行時間型質量分析装置; (iii)四重極質量分析装置; (iv)ペニング質量分析装置; (v)フーリエ変換イオンサイクロトロン共鳴(FTICR)質量分析装置; (vi)2Dまたは直線形四重極イオントラップ; (vii)ポールまたは3D四重極イオントラップ;および(viii)磁気セクタ質量分析装置からなる群から選択される質量分析装置をさらに含むマススペクトロメータ。
【請求項３６】
さらに、前記燃焼源の下流に配置されるイオンサンプリングコーンまたはイオンサンプリングオリフィスを含む、請求項３５に記載のマススペクトロメータ。
【請求項３７】
さらに、少なくともいくつかのイオンが前記イオンサンプリングコーンまたは前記イオンサンプリングオリフィスに対して偏向するか、引きつけるか、向けるか、または、反発するように、前記イオンサンプリングコーンまたは前記イオンサンプリングオリフィスに向き合ってまたは隣接して配置されている1以上の電極を含む、請求項３６に記載のマススペクトロメータ。
【請求項３８】
前記イオン源が、使用時に、液体クロマトグラフまたはガスクロマトグラフに接続されている、請求項３５〜３７のいずれかに記載のマススペクトロメータ。
【請求項３９】
第１の流出装置、第２の流出装置および第３の流出装置を含み、使用時に、第１のガスまたは蒸気が前記流出装置の一つに供給され、さらなるガスまたは蒸気が別の前記流出装置に供給されるプローブを含む、電子スプレーイオン化イオン源。
【請求項４０】
第１の流出装置、第２の流出装置および第３の流出装置を含み、使用時に、第１のガスまたは蒸気が前記流出装置の一つに供給され、さらなるガスまたは蒸気が別の前記流出装置に供給されるプローブを含む、大気圧化学イオン化イオン源。
【請求項４１】
第１の流出装置、第２の流出装置および第３の流出装置を含むプローブを準備する工程、
第１のガスまたは蒸気を前記流出装置の一つに供給する工程、および
別の前記流出装置にさらなるガスまたは蒸気を供給する工程を含む、試料のイオン化方法。
【請求項４２】
請求項４１に記載の試料のイオン化方法を含む、マススペクトル法。