Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月18日(2008.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数種の絵柄が周方向に付された複数の周回体と、
前記各周回体について各絵柄のうち一部の絵柄を視認可能とする表示窓と、
前記各周回体の回転を開始させるべく操作される始動操作手段と、
前記始動操作手段の操作に基づいて役の抽選を行う抽選手段と、
前記各周回体毎に設けられ、該各周回体を回転させる駆動手段と、
前記各周回体の回転を個別に停止させるべく操作される複数の停止操作手段と、
前記始動操作手段の操作に基づいて前記各周回体の回転を開始させ、前記各停止操作手段の操作に基づいて対応する前記周回体の回転を停止させるように、且つ前記役の抽選に当選した場合には、役と対応する所定絵柄又は所定絵柄の組合せが前記表示窓から視認できる有効位置に停止し得るよう前記各駆動手段を駆動制御する駆動制御手段と、
前記有効位置に前記所定絵柄又は所定絵柄の組合せが停止した場合、遊技者に特典を付与する特典付与手段と、
各種情報を表示画面に表示する補助表示手段と
を備えた遊技機において、
所定絵柄又は所定絵柄の組合せを前記表示画面に示唆表示し得るよう前記補助表示手段を示唆表示制御する示唆表示制御手段を備え、
該示唆表示制御手段は、
前記始動操作手段の操作に基づいて、所定絵柄又は所定絵柄の組合せの１つを示唆する示唆絵柄を前記表示画面に複数種表示させる示唆絵柄表示手段と、
前記停止操作手段の操作に基づいて、前記表示画面に表示された示唆絵柄のうち１つの表示態様を変化させる表示態様変化手段と、
前記表示態様を変化させる示唆絵柄の順序を記憶する順序記憶手段と
を有し、
前記順序記憶手段は、前記順序を予め１つだけ記憶しており、前記表示態様変化手段は、前記順序記憶手段の記憶する順序に従って前記示唆絵柄の表示態様を順次変化させることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
複数種の絵柄が周方向に付された複数の周回体と、
前記各周回体について各絵柄のうち一部の絵柄を視認可能とする表示窓と、
前記各周回体の回転を開始させるべく操作される始動操作手段と、
前記始動操作手段の操作に基づいて役の抽選を行う抽選手段と、
前記各周回体毎に設けられ、該各周回体を回転させる駆動手段と、
前記各周回体の回転を個別に停止させるべく操作される複数の停止操作手段と、
前記始動操作手段の操作に基づいて前記各周回体の回転を開始させ、前記各停止操作手段の操作に基づいて対応する前記周回体の回転を停止させるように、且つ前記役の抽選に当選した場合には、役と対応する所定絵柄又は所定絵柄の組合せが前記表示窓から視認できる有効位置に停止し得るよう前記各駆動手段を駆動制御する駆動制御手段と、
前記有効位置に前記所定絵柄又は所定絵柄の組合せが停止した場合、遊技者に特典を付与する特典付与手段と、
各種情報を表示画面に表示する補助表示手段と
を備えた遊技機において、
所定絵柄又は所定絵柄の組合せを前記表示画面に示唆表示し得るよう前記補助表示手段を示唆表示制御する示唆表示制御手段を備え、
該示唆表示制御手段は、
前記始動操作手段の操作に基づいて、所定絵柄又は所定絵柄の組合せの１つを示唆する示唆絵柄を前記表示画面に複数種表示させる示唆絵柄表示手段と、
前記停止操作手段の操作に基づいて、前記表示画面に表示された示唆絵柄のうち１つの示唆絵柄を非表示とさせる非表示化手段と、
該非表示化手段が非表示とさせる示唆絵柄の順序を記憶する順序記憶手段と
を有し、
前記順序記憶手段は、前記順序を予め１つだけ記憶しており、前記非表示化手段は、前記順序記憶手段の記憶する順序に従って前記示唆絵柄を順次非表示とさせることを特徴とする遊技機。
【請求項３】
複数種の絵柄が周方向に付された複数の周回体と、
前記各周回体について各絵柄のうち一部の絵柄を視認可能とする表示窓と、
前記各周回体の回転を開始させるべく操作される始動操作手段と、
前記始動操作手段の操作に基づいて役の抽選を行う抽選手段と、
前記各周回体毎に設けられ、該各周回体を回転させる駆動手段と、
前記各周回体の回転を個別に停止させるべく操作される複数の停止操作手段と、
前記始動操作手段の操作に基づいて前記各周回体の回転を開始させ、前記各停止操作手段の操作に基づいて対応する前記周回体の回転を停止させるように、且つ前記役の抽選に当選した場合には、役と対応する所定絵柄又は所定絵柄の組合せが前記表示窓から視認できる有効位置に停止し得るよう前記各駆動手段を駆動制御する駆動制御手段と、
前記有効位置に前記所定絵柄又は所定絵柄の組合せが停止した場合、遊技者に特典を付与する特典付与手段と、
各種情報を表示画面に表示する補助表示手段と
を備えた遊技機において、
所定絵柄又は所定絵柄の組合せを前記表示画面に示唆表示し得るよう前記補助表示手段を示唆表示制御する示唆表示制御手段を備え、
該示唆表示制御手段は、
前記始動操作手段の操作に基づいて、所定絵柄又は所定絵柄の組合せの１つを示唆する示唆絵柄を前記表示画面に複数種表示させる示唆絵柄表示手段と、
前記停止操作手段の操作に基づいて、前記表示画面に表示された示唆絵柄のうち１つを非表示とする非表示化手段と、
前記示唆絵柄の非表示とされる順序を教示する順序教示手段と
を有し、
さらに、
前記抽選手段の抽選結果がいずれかの役の当選である場合、前記示唆絵柄表示手段は、当選となった役と対応する所定絵柄又は所定絵柄の組合せを示唆する当選役示唆絵柄と、該当選役示唆絵柄と異なる非当選役示唆絵柄とを前記表示画面に表示させ、前記順序教示手段は、前記順序として前記非当選役示唆絵柄が前記当選役示唆絵柄より先となる順序を教示し、前記非表示化手段は、前記順序教示手段の教示した順序に従って前記非当選役示唆絵柄を非表示とすると共に、前記当選役示唆絵柄は非表示としないことを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月3日(2008.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力口側と出力口側とを連通する２つの通路を設けたインラインフィルタ装置本体と、
前記一方の通路に設けられ、前記入力口側からの連通のみを可能にする第一のチェック弁機能部と、
前記他方の通路に設けられ、前記出力口側からの連通のみを可能にする第二のチェック弁機能部と、
前記第二のチェック弁機能部と前記出力口側との間に設けられたフィルタエレメントと
を備えたことを特徴とするインラインフィルタ装置。
【請求項２】
入力口側と出力口側とを連通する２つの通路を設けたインラインフィルタ装置本体と、
前記一方の通路に設けられ、前記入力口側からの連通のみを可能にする第一のチェック弁機能部と、
前記他方の通路に設けられ、前記出力口側からの連通のみを可能にする第二のチェック弁機能部と、
前記第二のチェック弁機能部と前記入口側との間に設けられたフィルタエレメントと
を備えたことを特徴とするインラインフィルタ装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２記載のインラインフィルタ装置において、
前記２つの通路が、前記インラインフィルタ装置本体内で並列状態に形成されている
ことを特徴とするインラインフィルタ装置。
【請求項４】
請求項１または請求項２記載のインラインフィルタ装置において、
前記２つの通路が、前記インラインフィルタ装置本体内で同心状に形成されている
ことを特徴とするインラインフィルタ装置。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４の何れか１項に記載のインラインフィルタ装置において、
前記インラインフィルタ装置本体に、前記フィルタエレメントの目視用手段を設けてなる
ことを特徴とするインラインフィルタ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係るインラインフィルタ装置は、入力口側と出力口側とを連通する２つの通路を設けたインラインフィルタ装置本体と、一方の通路に設けられ、入力口側からの連通のみを可能にする第一のチェック弁機能部と、他方の通路に設けられ、出力口側からの連通のみを可能にする第二のチェック弁機能部と、第二のチェック弁機能部と出力口側との間に設けられたフィルタエレメントとを備えている。
また、本発明に係るインラインフィルタ装置は、入力口側と出力口側とを連通する２つの通路を設けたインラインフィルタ装置本体と、一方の通路に設けられ、入力口側からの連通のみを可能にする第一のチェック弁機能部と、他方の通路に設けられ、出力口側からの連通のみを可能にする第二のチェック弁機能部と、第二のチェック弁機能部と入口側との間に設けられたフィルタエレメントとを備えている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
このように、真空吸着によって排気される空気に混入したゴミは、フィルタエレメント１５を通っていくので、ゴミは除去され、また破壊空気が供給される時は別の通路１１を通るので、吸い込んだゴミを再度真空吸着パッド側から吹き出すことはなく、汚染などを回避できる。
（第一実施形態）
図２〜図４は、本発明の第一実施形態に係るインラインフィルタ装置２０を示す。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本実施形態に係るインラインフィルタ装置２０では、図１における２つの通路１１，１２を並列状態に形成した概略直方体形状のインラインフィルタ装置本体２１と、インラインフィルタ装置本体２１の側面部に装着される概略直方体形状のアダプタ４５とを備えている。
インラインフィルタ装置本体２１は、図２に示す左側面に入力ポート２２を有する。入力ポート２２は、途中から通路２３と通路３０とに分かれる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、インラインフィルタ装置本体２１には、内蔵されたフィルタエレメント３８に相当する外側位置に、窓４３あるいは他の面に窓４４を開口して、透明なスリーブ３９を介してフィルタエレメント３８の状態を目視できるように構成されている。
また、アダプタ４５は、インラインフィルタ装置本体２１側に開口する２つの通路４７，４８をインラインフィルタ装置本体２１側に開口する出力ポート４６と連通している。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
１０，２０，６０  インラインフィルタ装置
Ａ，４６，６６  出力ポート
Ｐ，２２，６３  入力ポート
１１，１２，２３，３０，６０Ａ，６０Ｂ  通路
１３，１４  チェック弁機能部
１５  フィルタエレメント
２１  インラインフィルタ装置本体
２５，７６  第一のチェック弁
２６，３２，７７  チェック弁本体
２７，３３，７８  バネ
２８，３４  チェックカバー
３１，７５  第二のチェック弁
３８，７４  フィルタエレメント
３９  スリーブ
４０  フィルタカバー
４３，４４  窓
４５  アダプタ
６１  スリーブ（外筒）
６２，６５  カバー
７０  チェックボディ
７１  貫通穴
７２  環状溝
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年8月7日(2008.8.7)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００３】
ポリカルボン酸系ガラス繊維バインダー樹脂は、ガラス産業において、例えば断熱材、天井タイル、および他の建築用製品をはじめとする様々な用途にしばしば用いられる。これらの種類のバインダーは、強力な機械的特性、環境制御装置に対する信頼性の減少、ならびに他の利点をもたらす。現在利用可能な洗浄水システムに一般的に関連する問題は、ポリカルボン酸バインダー、および前記バインダーを洗浄するために用いられる洗浄水が、バインダー除去のサイクル数が増大するにつれて酸性になることである。この酸性洗浄水は、典型的には炭素鋼で作られている洗浄水装置を含むプロセス装置を腐食させ、これにより装置の耐用年数が制限される。この結果、装置の交換および休止時間のために製造コストがかさむ。
この腐食問題に対処するために様々な試みがなされてきた。例えば、形成および洗浄水装置における炭素鋼がステンレス鋼と置換された。しかしながら、ステンレス鋼装置は、炭素鋼で作られている装置と比較して高価である。別の提案されている解決法は、洗浄水が形成装置を通って導入されるサイクルの量を減少させることである。しかしながら、これは水の使用量および廃水除去の点でコストの増大につながる。米国特許出願公開番号２００３／０２２１４５７は、閉鎖ループ洗浄水システムを使用し、洗浄水タンク中のｐＨプローブが洗浄水のｐＨが８．０より低いことを示した場合に、自動的に塩基を洗浄水に添加することにより洗浄水ｐＨを制御することにより、ガラス繊維断熱材を形成するために使用される装置の表面の酸腐食を軽減する方法を開示している。ひとつには、これは洗浄水の腐食性が単に酸の存在によるものではなく、したがって単に洗浄水のｐＨによるものではないので、これは、腐食防止のための特に好適な手段ではない。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月10日(2008.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
胃腸管部位のインビボ撮像のための嚥下可能カプセルであって、光窓を有するハウジングを有し、該ハウジングが、少なくとも：
前記胃腸管部位を撮像する撮像カメラと、
前記胃腸管部位を照明するための少なくとも２つの照明源と、
前記胃腸管部位から反射された光を収集し、前記撮像カメラ上に前記胃腸管部位の像を合焦するための光学システムと、及び、
無線送信機と、前記撮像カメラと通信し、かつ前記カプセルの主クロックを維持する論理ブロックと前記カプセルのための周波数を発生する発振機を有する送信機回路とを備え、前記光学システムは前記光窓から隔離されており、かつ前記撮像カメラは前記光窓及び前記光学システムを介して前記胃腸管部位を撮像し、かつ前記照明源は前記光学システムではなく前記光学窓を介して直接的に前記胃腸管部位を照明する構成を有することを特徴とする嚥下可能カプセル。
【請求項２】
外部磁石によって作動される内部スイッチを有することを特徴とする、請求項１に記載の嚥下可能カプセル。
【請求項３】
前記無線送信機が常態開スイッチの論理を常態閉論理に変更する内部電子スイッチを有することを特徴とする、請求項１に記載の嚥下可能カプセル。
【請求項４】
前記照明源が白色ＬＥＤを有することを特徴とする、請求項１に記載の嚥下可能カプセル。
【請求項５】
前記撮像カメラが、ＣＭＯＳを有することを特徴とする、請求項１に記載の嚥下可能カプセル。
【請求項６】
前記光窓がドーム型であることを特徴とする、請求項１に記載の嚥下可能カプセル。
【請求項７】
前記無線送信機が撮像データを受信システムに送信することを特徴とする、請求項１に記載の嚥下可能カプセル。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月10日(2007.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電解質性溶液をガラス状カーボンの加工物の加工付近に供給しながら、前記加工物に対向して設けられた工具電極との間に電圧を印加することで、前記工具電極を前記加工物に対して送り込むことにより前記加工物を電気化学的に加工することを特徴とするガラス状カーボンの加工方法。
【請求項２】
前記工具電極はタングステンまたはチタンであることを特徴とする請求項１に記載のガラス状カーボンの加工方法。
【請求項３】
電解質性溶液は脱イオン水であることを特徴とする請求項１または２に記載のガラス状カーボンの加工方法。
【請求項４】
任意のパルス幅の電圧を印加することを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載のガラス状カーボンの加工方法。
【請求項５】
電解質性溶液をガラス状カーボンの加工物の加工付近に供給する供給手段と、工具電極をその軸芯回りに回転駆動可能に保持するマンドレルと、前記加工物を保持する保持手段と、前記工具電極に対して被加工物を移動及び位置決めするステージと、前記工具電極と前記被加工物との間に電圧を印加することが可能な電気回路とを備えたガラス状カーボンの加工装置であって、
前記電気回路に流れる電流をモニタリングしながら印加する電圧を直流電圧と任意の時間幅のパルス電圧に任意に切り替える制御手段を有すること
特徴とするガラス状カーボンの加工装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本願第１の発明のガラス状カーボンの加工方法は、電解質性溶液をガラス状カーボンの加工物の加工付近に供給しながら、前記加工物に対向して設けられた工具電極との間に電圧を印加することで、前記工具電極を前記加工物に対して送り込むことにより前記加工物を電気化学的に加工することを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月25日(2008.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技機前方から視認可能な位置に遊技盤を備え、該遊技盤の前面を遊技球を誘導するレールにより区画し、その内側に前記レールにより誘導された遊技球が流下する遊技領域を形成し、該遊技領域内に入賞役物を備え、該入賞役物内の有利口に遊技球が入球することにより遊技者に特典を付与する遊技機において、
前記入賞役物は、
上方に開口され、前記有利口が内外に貫通するようにして側壁に設けられた胴体と、
該胴体の上面開口部の外側において同上面開口部に沿うようにして設けられ、前記上面開口部の周りを旋回させつつ前記胴体内部へ遊技球を導入する転動ステージと、
該転動ステージへ遊技球を導入する導入部と、
前記胴体内において上下方向を軸線として回転可能に支持された回転体と、
該回転体に設けられ、上面に遊技球揺動領域を有し、前記回転体の回転に伴って回転することで前記側壁における前記有利口が設けられた部分の内側を通過し、前記遊技球揺動領域上に載っている遊技球を前記有利口へ導く誘導部と、
前記回転体を回転駆動する駆動手段と
を備え、
前記遊技球揺動領域を、１個の遊技球のみが載る程度の大きさとし、また回転方向の両端部に対して中間部が低く、その深さ寸法が遊技球の半径よりも短い構成とし、
さらに前記回転体の回転方向を、前記転動ステージ上を旋回する遊技球の旋回方向と同一としたことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
遊技機前方から視認可能な位置に遊技盤を備え、該遊技盤の前面を遊技球を誘導するレールにより区画し、その内側に前記レールにより誘導された遊技球が流下する遊技領域を形成し、該遊技領域内に入賞役物を備え、該入賞役物内の有利口に遊技球が入球することにより遊技者に特典を付与する遊技機において、
前記入賞役物は、
上方に開口され、前記有利口が内外に貫通するようにして側壁に設けられた胴体と、
該胴体の上面開口部の外側において同上面開口部に沿うようにして設けられ、前記上面開口部の周りを旋回させつつ前記胴体内部へ遊技球を導入する転動ステージと、
該転動ステージへ遊技球を導入する導入部と、
前記胴体内において上下方向を軸線として回転可能に支持された回転体と、
該回転体に設けられ、上面に遊技球揺動領域を有し、前記回転体の回転に伴って回転することで前記側壁における前記有利口が設けられた部分の内側を通過し、前記遊技球揺動領域上に載っている遊技球を前記有利口へ導く誘導部と、
前記回転体を回転駆動する駆動手段と
を備え、
前記遊技球揺動領域を、１個の遊技球のみが載る程度の大きさとし、また回転方向に対して下に凸の曲面であり、その曲率半径が遊技球の半径よりも大きい構成とし、
さらに前記回転体の回転方向を、前記転動ステージ上を旋回する遊技球の旋回方向と同一としたことを特徴とする遊技機。
【請求項３】
前記遊技球揺動領域と前記胴体の側壁との間の距離を遊技球の直径よりも短くし、さらに前記遊技球揺動領域を前記回転体の回転中心側から前記側壁に向けて下方に傾斜させたことを特徴とする請求項１又は２に記載の遊技機。
【請求項４】
前記胴体を円筒状とし、前記誘導部の外側端部を、前記胴体の側壁の内側面よりも曲率半径が小さい曲面状としたことを特徴とする請求項３に記載の遊技機。
【請求項５】
前記誘導部を前記回転体の回転方向に複数設け、各誘導部間の距離を遊技球１個分以上としたことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１に記載の遊技機。
【請求項６】
前記転動ステージをその外周端から内周端に向けて下方に傾斜させ、さらに内周端をすべて開放したことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１に記載の遊技機。
【請求項７】
前記導入部を前記転動ステージの接線方向に設け、さらに前記転動ステージの外周に沿うようにして前記導入部から連続的に延びる案内部を設けたことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１に記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月18日(2008.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各種遊技部品が設けられた遊技機本体と、
前記遊技機本体の前面側に開閉可能に取り付けられた前面扉と、
該前面扉を前記遊技機本体に施錠する施錠装置と
を備えた遊技機において、
前記施錠装置を解錠操作した作業者の認証を行う認証手段と、
前記前面扉が開放されたことを検出する開放検出手段と、
前記認証手段の認証結果及び前記開放検出手段が前記前面扉の開放を検出したことに基づいて、前記前面扉が不正開放されたか否かを判定する不正開放判定手段と、
前記不正開放判定手段の判定結果が不正開放であった場合、前記前面扉が開放されたことを遊技機外部に報知可能な外部報知手段と
を備えたことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記認証手段は、遊技機外部の認証出力装置から出力された認証信号を受信した場合に、前記作業者の認証を行うことを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記不正開放判定手段は、前記認証手段による作業者の認証が行われていない状況下で前記開放検出手段が前記前面扉の開放を検出した場合、前記前面扉が不正開放されたと判定することを特徴とする請求項１又は２に記載の遊技機。
【請求項４】
各種遊技部品が設けられた遊技機本体と、
前記遊技機本体の前面側に開閉可能に取り付けられた前面扉と、
該前面扉を前記遊技機本体に施錠する施錠装置と
を備えた遊技機において、
遊技機外部の情報信号出力手段から出力される情報信号を受信した場合に、前記施錠装置の解錠を認証する認証信号を出力する認証信号出力手段と、
前記前面扉が開放されたことを検出し、開放検出信号を出力する開放検出手段と、
前記認証信号出力手段及び前記開放検出手段と電気的に接続されると共に、前記認証信号を受信していない状況下で前記開放検出信号を受信した場合、前記前面扉が不正開放されたと判別する不正開放判別手段と、
前記不正開放判別手段が不正開放されたと判別した場合に、遊技機外部に前記前面扉が開放されたことを示す開放信号を出力する外部出力手段と
を備え、
前記情報信号出力手段を、前記施錠装置の解錠操作を行う作業者が所持可能とし、前記施錠装置の解錠操作がなされる際に、前記情報信号出力手段と前記認証信号出力手段とが電気的に接続される構成としたことを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月21日(2007.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可動子と固定子とを有する駆動部と、
前記駆動部によって移動する移動体の位置を光を用いて計測する計測部と、
前記計測部の光路に温度が調整された気体を供給する給気部と、
前記給気部から供給される気体を排気するための排気部とを備え、
前記排気部は前記固定子に設けられることを特徴とする位置決め装置。
【請求項２】
前記排気部は、排気流路を前記固定子内部に有することを特徴とする請求項１に記載の位置決め装置。
【請求項３】
前記排気流路は、前記固定子の数に応じて設けられることを特徴とする請求項２に記載の位置決め装置。
【請求項４】
前記排気部は、前記駆動部の外部を覆うように設けられていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の位置決め装置。
【請求項５】
前記排気部は、前記気体の排気位置に応じて排気量が異なることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の位置決め装置。
【請求項６】
前記計測部はレーザー光を用いて前記移動体の位置を計測することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の位置決め装置。
【請求項７】
前記排気流路を複数有し、
前記複数の排気流路のうち一つの排気流路断面積が、他の前記排気流路のうち一つの排気流路断面積と異なることを特徴とする請求項２に記載の位置決め装置。
【請求項８】
前記駆動部は、前記可動子を永久磁石、前記固定子をコイルとするリニアモータであることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の位置決め装置。
【請求項９】
原版のパターンを基板に露光する露光装置であって、
請求項１乃至８のいずれか１項に記載の位置決め装置を備え、
前記移動体により原版と前記基板とを相対的に位置決めして露光することを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記基板を現像する工程とを備えることを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決し、目的を達成するために、本発明の一態様は、可動子と固定子とを有する駆動部と、前記駆動部によって移動する移動体の位置を光を用いて計測する計測部と、前記計測部の光路に温度が調整された気体を供給する給気部と、前記給気部から供給される気体を排気するための排気部とを備え、前記排気部は前記固定子に設けられる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月15日(2007.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バンプ列を有する半導体チップであって、前記バンプ列の両端に形成されたバンプの前記バンプ列に沿った横寸法が、前記バンプ列の中央部付近に形成されたバンプの前記バンプ列に沿った横寸法よりも大きいバンプ列を有する半導体チップ。
【請求項２】
バンプ列を有する半導体チップであって、前記バンプ列の両端に形成されたバンプの前記バンプ列に沿った横寸法Ｙ０が、前記バンプ列の中央部付近に形成されたバンプの前記バンプ列に沿った横寸法Ｙおよび前記バンプ列における隣接バンプ間の間隔Ｚに対し、Ｙ＜Ｙ０＜２Ｙ＋Ｚなる関係を満足するバンプ列を有する半導体チップ。
【請求項３】
バンプ列を有する半導体チップの製造方法であって、前記バンプ列は、前記バンプ列の中央部付近のバンプに対応する開口部の前記バンプ列に沿った横寸法よりも大きな横寸法を有する開口部のパターンを両端に持つフォトマスクを用いて形成される複数のレジスト開口部に形成されることを特徴とするバンプ列を有する半導体チップの製造方法。
【請求項４】
前記バンプ列を構成するバンプは金メッキにより形成される請求項３に記載のバンプ列を有する半導体チップの製造方法。
【請求項５】
請求項１記載のバンプ列を有する半導体チップが前記バンプ列を構成する各バンプを介して電気的に接続された半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体チップおよびそれを用いた半導体装置および半導体チップの製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本実施例のバンプ５ｂｂの横寸法Ｙ０は、レジスト壁６の支えがなくとも、バンプ形成工程中に崩れない横寸法とする。レジスト壁６の支えがないと崩れる横寸法のバンプ５ｃは、バンプ５ｂｂがレジスト壁５ｂを支えるのでは崩れない。従って、同寸法バンプ５を形成する従来技術の半導体チップでは、バンプ形成にバンプ列７の両端に複数個の前記ダミーバンプを形成する必要があるが、本発明の両端に形成されるバンプ５ｂｂの拡大横寸法Ｙ０を、バンプ列７中間部のバンプ５の横寸法Ｙより大きくすることで、バンプ列7における隣接バンプ間の距離をZとしたときに、Ｙ＜Ｙ０＜２Ｙ＋Ｚなる関係を満たせば、ダミーバンプ５ａのない省面積の半導体チップが実現する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月21日(2008.3.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
基底部、及び該基底部から延長され収納空間を形成する側部を含む収納容器と、
前記収納容器に収納され光を発生する光源と、
前記収納容器の前記基底部と前記光源との間に位置し、前記光源方向に突出され前記光源を支持して上面が前記光源の下面と接触する少なくとも一つの突出部を含む反射板と、
前記光源の上部に配置された光学部材とを有することを特徴とするバックライト組立体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記突出部は、前記光源が安着されるように陥凹（ｒｅｃｅｓｓ）が形成され前記突出部の上面に位置する安着部をさらに有することを特徴とする請求項６に記載のバックライト組立体。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
基底部、及び該基底部から延長され収納空間を形成する側部を含む収納容器と、前記収納容器に収納され光を発生する光源と、前記収納容器の前記基底部と前記光源との間に位置し前記光源を支持して上面が前記光源の下面と接触する突出部を有する反射板と、前記光源の上部に配置された光学部材とを有するバックライト組立体と、
前記バックライト組立体上に配置され、バックライト組立体から出射される光を用いて画像を表示する表示パネルと、
前記バックライト組立体と前記表示パネルとを収納する収納部材とを有することを特徴とする表示装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２０】
収納容器と、該収納容器に収納されるランプと、前記収納容器に収納され前記ランプ方向に突出し前記ランプと接触して上面が前記光源の下面と接触する突出部を含む反射板と、前記ランプの上部に配置された光学部材とを有するバックライト組立体と、
前記バックライト組立体上に配置され画像を表示する表示パネルと、
前記バックライト組立体と前記表示パネルとを収納する収納部材とを有することを特徴とする表示装置。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するためになされた本発明によるバックライト組立体は、基底部、及び該基底部から延長され収納空間を形成する側部を含む収納容器と、前記収納容器に収納され光を発生する光源と、前記収納容器の前記基底部と前記光源との間に位置し、前記光源方向に突出され前記光源を支持して上面が前記光源の下面と接触する少なくとも一つの突出部を含む反射板と、前記光源の上部に配置された光学部材とを有することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するためになされた本発明による表示装置は、基底部、及び該基底部から延長され収納空間を形成する側部を含む収納容器と、前記収納容器に収納され光を発生する光源と、前記収納容器の前記基底部と前記光源との間に位置し前記光源を支持して上面が前記光源の下面と接触する突出部を有する反射板と、前記光源の上部に配置された光学部材とを有するバックライト組立体と、前記バックライト組立体上に配置され、バックライト組立体から出射される光を用いて画像を表示する表示パネルと、前記バックライト組立体と前記表示パネルとを収納する収納部材とを有することを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、上記目的を達成するためになされた本発明による表示装置は、収納容器と、該収納容器に収納されるランプと、前記収納容器に収納され前記ランプ方向に突出し前記ランプと接触して上面が前記光源の下面と接触する突出部を含む反射板と、前記ランプの上部に配置された光学部材とを有するバックライト組立体と、前記バックライト組立体上に配置され画像を表示する表示パネルと、前記バックライト組立体と前記表示パネルとを収納する収納部材とを有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月14日(2008.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体上に非晶質の強誘電体層または強誘電体薄膜の前駆体層を形成する工程と、
前記非晶質の強誘電体層または強誘電体薄膜の前駆体層の所望位置に電子線を照射し、結晶核を形成する工程と、
前記非晶質の強誘電体層または強誘電体薄膜の前駆体層を加熱して前記結晶核を成長させ、多結晶の強誘電体薄膜を形成する工程と、を備えたことを特徴とする強誘電体薄膜の製造方法。
【請求項２】
前記電子線照射によって形成する結晶核を、形成する多結晶の強誘電体薄膜における所望の結晶粒径とほぼ同じ間隔で規則的に配置することを特徴とする請求項１記載の強誘電体薄膜の製造方法。
【請求項３】
前記強誘電体が、鉛を含有したペロブスカイト型のものであることを特徴とする請求項１記載の強誘電体薄膜の製造方法。
【請求項４】
一対の電極間に圧電体膜を有してなり、該圧電体膜が、請求項１〜３のいずれか一項に記載の強誘電体薄膜の製造方法によって得られた強誘電体薄膜からなるものであることを特徴とする圧電素子。
【請求項５】
一対の電極間に強誘電体薄膜を有してなり、前記強誘電体薄膜が請求項１〜３のいずれか一項に記載の強誘電体薄膜の製造方法によって得られたものであることを特徴とする強誘電体メモリ。
【請求項６】
基体上に圧電体または強誘電体の前駆体である第１の前駆体を形成する工程と、
前記第１の前駆体に電子を照射し、第２の前駆体を形成する工程と、
前記第２の前駆体を結晶成長させる工程と、
を含むことを特徴とする圧電体または強誘電体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】強誘電体薄膜の製造方法、圧電素子、強誘電体メモリ、及び圧電体または強誘電体の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、強誘電体薄膜の製造方法と、この製造方法によって得られた強誘電体薄膜を有する圧電素子、及び強誘電体メモリ、並びに圧電体または強誘電体の製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、非晶質の強誘電体層またはその前駆体層を良好に結晶化し、これによって良好な強誘電体特性を有する強誘電体薄膜を得ることができ、さらには結晶粒径の精密な制御をも可能にする強誘電体薄膜の製造方法と、この製造方法によって得られた強誘電体薄膜を有する圧電素子、及び強誘電体メモリ、並びに圧電体または強誘電体の製造方法を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の強誘電体メモリは、一対の電極間に強誘電体薄膜を有してなり、前記強誘電体薄膜が前記の強誘電体薄膜の製造方法によって得られたものであることを特徴としている。
この強誘電体メモリによれば、前述したように良好な強誘電体特性を有する強誘電体薄膜を有してなるので、この強誘電体メモリ自体も良好なメモリ特性を有するものとなる。
本発明の圧電体または強誘電体の製造方法は、基体上に圧電体または強誘電体の前駆体である第１の前駆体を形成する工程と、
前記第１の前駆体に電子を照射し、第２の前駆体を形成する工程と、
前記第２の前駆体を結晶成長させる工程と、を含むことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月31日(2008.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状の基板が載置される基板載置台と、
前記基板載置台の上面から出没させて前記基板を昇降させる昇降ピンを備え、
前記基板を複数の昇降ピンにより基板載置台から持ち上げる際に、前記昇降ピンにより押し上げられる前記基板の剥離部分に前記昇降ピン又は前記昇降ピンの周辺から前記イオン化気体を放出し、前記基板載置台と前記基板との間に発生する静電気を除去する静電気除去方法。
【請求項２】
前記イオン化気体を前記昇降ピンの先端部分に設けた通気孔から放出することを特徴とする請求項１に記載の静電気除去方法。
【請求項３】
前記イオン化気体を前記昇降ピンが挿通される前記基板載置台の貫通口から放出することを特徴とする請求項１に記載の静電気除去方法。
【請求項４】
前記昇降ピンが挿通される前記基板載置台の各貫通口を中心にして環状溝を形成し、前記イオン化気体を前記各環状溝から放出することを特徴とする請求項１に記載の静電気除去方法。
【請求項５】
前記昇降ピンが挿通される前記基板載置台の各貫通口から放射状に溝を形成し、前記イオン化気体を前記各溝から放出することを特徴とする請求項１に記載の静電気除去方法。
【請求項６】
前記イオン化気体を前記基板裏面に送風し、前記基板裏面の静電気を消失させながら前記イオン化気体の送風圧により前記基板を前記基板載置台から剥離させることを特徴とする請求項１乃至５のいずづれかに記載の静電気除去方法。
【請求項７】
板状の基板に検査や各種処理を行って製造する基板処理装置において、
前記基板を載置する基板載置台と、
前記基板載置台の複数個所に出没可能に設けられ前記基板を昇降させる昇降ピンと、
前記昇降ピン又は前記昇降ピンの周辺からイオン化気体を供給するイオナイザを備え、
前記昇降ピンにより押し上げられる前記基板の剥離部分に前記イオン化気体を放出し、前記基板載置台と前記基板との間に発生する静電気を除去することを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
前記昇降ピンは、前記イオン化気体を供給する流通路が内部に形成され、前記流通路と連通する通気孔が前記昇降ピンの先端部分に放射状に複数形成されており、前記イオナイザは、前記流通路と前記通気孔を通して前記イオン化気体を供給することを特徴とする請求項７に記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記通気孔は、前記流通路の接続部分に対して通気孔の開口が上方に位置するように傾斜して設けられていることを特徴とする請求項８に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
前記昇降ピンは、前記イオン化気体を供給する流通路が内部に形成されたピン本体部と、前記ピン本体部の先端に前記基板を支持するヘッド部とを備え、前記ピン本体部と前記ヘッド部との間に前記流通路と連通する環状の通気溝を形成し、前記イオナイザは、前記流通路と前記通気溝を通して前記イオン化気体を供給することを特徴とする請求項７に記載の基板処理装置。
【請求項１１】
前記ヘッド部は、前記流通路の内径より小さな小径部を有し、この小径部を流通路に挿入し前記流通路と前記小径部との間に前記通気溝に連通する通気溝を形成することを特徴とする請求項１０に記載の基板処理装置。
【請求項１２】
前記基板載置台は、前記昇降ピンが挿通される貫通口を複数分散して形成し、前記イオナイザは、前記貫通口を通して前記イオン化気体を供給することを特徴とする請求項７に記載の基板処理装置。
【請求項１３】
前記基板載置台は、前記昇降ピンが挿通される貫通口を複数分散して形成するとともに、この貫通口を中心にして前記基板載置台の上面に連続又は不連続の溝を形成し、前記イオナイザは、前記溝を通して前記イオン化気体を供給することを特徴とする請求項７に記載の基板処理装置。
【請求項１４】
前記基板載置台は、前記昇降ピンが挿通される貫通口を複数分散して形成するとともに、この貫通口を中心にして前記基板載置台の上面に連続又は不連続の環状溝を複数形成し、前記イオナイザは、前記溝を通して前記イオン化気体を供給することを特徴とする請求項７に記載の基板処理装置。
【請求項１５】
前記基板載置台は、前記昇降ピンが挿通される貫通口を複数分散して形成するとともに、この貫通口から前記基板載置台の上面に放射状に連続又は不連続の溝を形成し、前記イオナイザは、記溝を通して前記イオン化気体を供給することを特徴とする請求項７に記載の基板処理装置。
【請求項１６】
前記イオン化気体を前記基板裏面に送風し、前記基板裏面の静電気を消失させながら前記イオン化気体の送風圧により前記基板を前記基板載置台から剥離させることを特徴とする請求項７乃至１５のいずづれかに記載の基板処理装置
【請求項１７】
前記基板載置台は、前記昇降ピンが挿通される貫通口を複数分散して形成し、これらの貫通口の内面にリング状の弁を設けたことを特徴とする請求項７に記載の基板処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の静電除去方法では、板状の基板が載置される基板載置台と、前記基板載置台の上面から出没させて前記基板を昇降させる昇降ピンを備え、前記基板を複数の昇降ピンにより基板載置台から持ち上げる際に、前記昇降ピンにより押し上げられる前記基板の剥離部分に前記昇降ピン又は前記昇降ピンの周辺から前記イオン化気体を放出し、前記基板載置台と前記基板との間に発生する静電気を除去する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、本発明の基板処理装置では、板状の基板に検査や各種処理を行って製造する基板処理装置において、前記基板を載置する基板載置台と、前記基板載置台の複数個所に出没可能に設けられ前記基板を昇降させる昇降ピンと、前記昇降ピン又は前記昇降ピンの周辺からイオン化気体を供給するイオナイザを備え、前記昇降ピンにより押し上げられる前記基板の剥離部分に前記イオン化気体を放出し、前記基板載置台と前記基板との間に発生する静電気を除去する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月30日(2008.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（i）リチウム塩支持電解質、（ii）(ii-1)環状炭酸エステル溶媒及び（ii-2）沸点が８０℃以上である下記式（ａ）〜（ｃ）のうち少なくとも一つ
（ａ）Ｒ1−Ｏ−Ｒf1（Ｒ1は炭素数１から４の分岐していても良いアルキル基を表す。Ｒf1は炭素数５から１０の分岐していても良い少なくとも部分的にフッ素化されたアルキル基であり、Ｒf1はさらにエーテル結合酸素を含んでよい。）
（ｂ）Ｒ2−Ｏ−（Ｒf2−Ｏ）p−（Ｒf3−Ｏ）q−Ｒ3（Ｒ2およびＲ3は各々独立しており、炭素数１から４の分岐していても良いアルキル基もしくは部分的にフッ素化されたアルキル基を表す。Ｒf2およびＲf3は互いに独立して炭素数１から１０の分岐していても良いフッ素化アルキレン基であり、ｐおよびｑは互いに独立して０または１から１０の整数であり、同時に０であることはない。）
（ｃ）Ａ−（Ｏ−Ｒf4）m（Ｒf4は各々独立しており、炭素数２から９の分岐していても良い少なくとも部分的にフッ素化されたアルキル基であり、Ｒf4はさらにフッ素以外のハロゲン原子もしくはエーテル結合酸素を含んでいても良く、Ａは炭素数１から８の２〜４価の炭化水素基であり、Ａはさらにエーテル結合酸素を含んでよく、ｍは２から４の整数である。）の含フッ素溶媒、を含む溶媒成分、
を含むリチウム二次電池用非水電解液であって、
前記(i)リチウム塩電解質は、前記(ii)溶媒成分１リットルあたり０．１〜２ｍｏｌ（ｍｏｌ／Ｌ）の量で存在し、前記(ii)溶媒成分は０より大きく９０体積％未満の(ii-1)環状炭酸エステル溶媒を含み、０より大きく８０体積％以下の前記(ii-2)含フッ素溶媒を含み、
但し、前記リチウム塩支持電解質の一部として０．１ｍｏｌ／Ｌ未満の無機リチウム塩を含む場合には、溶媒成分としてさらに８０体積％未満の(ii-3)環状炭酸エステル以外の非プロトン性溶媒を含み、また、前記リチウム塩支持電解質の一部または全部として０．１ｍｏｌ／Ｌ〜２ｍｏｌ／Ｌの無機リチウム塩を含む場合には、溶媒成分としてさらに１０体積％以上８０体積％未満の(ii-3)環状炭酸エステル以外の非プロトン性溶媒を含む、リチウム二次電池用非水電解液。
【請求項２】
前記(ii-1)環状炭酸エステル溶媒は炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ブチレン、炭酸ビニレンおよびそれらの混合物からなる群より選ばれる、請求項１記載のリチウム二次電池用非水電解液。
【請求項３】
前記非水電解液は(i)リチウム塩支持電解質の一部または全部として０．１ｍｏｌ／Ｌ以上の無機リチウム塩を含み、かつ(ii-3)環状炭酸エステル以外の非プロトン性溶媒は一般式ＲｘＯＣＯＯＲｙ（Ｒｘ及びＲｙは各々同じであるかまたは異なり、直鎖または分岐した炭素数１〜４のアルキル基である）で表わされる鎖状炭酸エステルの少なくとも一つである、請求項１または２記載のリチウム二次電池用非水電解液。
【請求項４】
前記(ii-2)含フッ素溶媒は、分子全体のフッ素原子と、フッ素以外のハロゲン原子と、水素原子の総数に対する（フッ素原子＋フッ素原子以外のハロゲン原子）の割合が５０％以上８５％以下である、請求項１〜３のいずれか１項記載のリチウム二次電池用非水電解液。
【請求項５】
前記(ii-2)含フッ素溶媒はＣ6Ｆ13−Ｏ−ＣＨ3、Ｃ6Ｆ13−Ｏ−Ｃ2Ｈ5、ＣＨ3−Ｏ−Ｃ6Ｆ12−Ｏ−ＣＨ3、ＣＨ3−Ｏ−Ｃ3Ｆ6−Ｏ−Ｃ3Ｆ6−Ｏ−ＣＨ3、Ｃ3ＨＦ6−Ｏ−Ｃ2Ｈ4−Ｏ−Ｃ3ＨＦ6、Ｃ3ＨＦ6−Ｏ−Ｃ3Ｈ6−Ｏ−Ｃ3ＨＦ6、ＣＦ3−Ｏ−Ｃ2ＨＦ3−Ｏ−Ｃ2Ｈ4−Ｏ−Ｃ2ＨＦ3−Ｏ−ＣＦ3、Ｃ3Ｆ7−Ｏ−Ｃ2ＨＦ3−Ｏ−Ｃ2Ｈ4−Ｏ−Ｃ2ＨＦ3−Ｏ−Ｃ3Ｆ7、Ｃ6ＨＦ12−Ｏ−Ｃ2Ｈ4−Ｏ−Ｃ6ＨＦ12、Ｃ3Ｆ7−Ｏ−Ｃ2ＨＦ3−Ｏ−Ｃ2Ｈ4−Ｏ−Ｃ3ＨＦ6、Ｃ7Ｈ3Ｆ12−Ｏ−ＣＨ3、Ｃ9Ｈ3Ｆ16−Ｏ−ＣＨ3、Ｃ3ＨＦ6−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ（−Ｏ−Ｃ3ＨＦ6）ＣＨ2−Ｏ−Ｃ3ＨＦ6、Ｃ（ＣＨ2−Ｏ−Ｃ3ＨＦ6）4、ＣＨ3Ｃ（ＣＨ2−Ｏ−Ｃ3ＨＦ6）3、Ｃ2ＨＦ4−Ｏ−Ｃ2Ｈ4−Ｏ−Ｃ2ＨＦ4、Ｃ2ＨＣｌＦ3−Ｏ−Ｃ2Ｈ4−Ｏ−Ｃ2ＨＣｌＦ3、Ｃ4Ｆ9−Ｏ−Ｃ2Ｈ4−Ｏ−Ｃ4Ｆ9およびそれらの混合物からなる群より選ばれる、請求項４記載のリチウム二次電池用非水電解液。
【請求項６】
正極、負極および請求項１〜５のいずれか１項記載のリチウム二次電池用非水電解液を含む、リチウム二次電池。
【請求項７】
前記リチウム二次電池に使用される電極活物質の重量から計算される正極容量または負極容量のうち少ない方の容量をＣｍＡｈとした場合、充電および／または放電の最大電流値として１．０ＣｍＡ以上の電流値で充電および／または放電を行なう、請求項６記載のリチウム二次電池。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月28日(2008.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機絶縁性フィルム、接着剤層、保護層を有する半導体装置用接着剤付きテープの製造方法であって、ロール状に巻かれた保護層と有機絶縁性フィルムの間に、テープの全面に凸部が形成された、単位面積当たりの重量が１５０ｇ／ｍ２以下であるスペーサーテープをもうけ空隙を形成し、半導体装置用接着剤付きテープの長手方向をロール状に巻いた状態で、調湿を行うことを特徴とする半導体装置用接着剤付きテープの製造方法。
【請求項２】
前記スペーサーテープの全面に配列されている凸部頂点の面積がテープ全面積の２０〜８０％であることを特徴とする請求項１記載の半導体装置用接着剤付きテープの製造方法。
【請求項３】
前記スペーサーテープの最大厚みが０．２〜５ｍｍであることを特徴とする請求項１記載の半導体装置用接着剤付きテープの製造方法。
【請求項４】
前記スペーサーテープが気泡緩衝シートであることを特徴とする請求項１記載の半導体装置用接着剤付きテープの製造方法。
【請求項５】
前記空隙は、下記式で表される空隙率を０．６以上とすることを特徴とする請求項１記載の半導体装置用接着剤付きテープの製造方法。
【数１】
2006216741.tif 000001
ｔ：接着剤付きフィルム厚み（ｍ）
Ｌ：接着剤付きフィルム長（ｍ）
Ｒ：空隙をもうけた場合の巻き径（直径）（ｍ）
ｄ：コア径（直径）（ｍ）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
すなわち本発明は、有機絶縁性フィルム、接着剤層、保護層を有する半導体装置用接着剤付きテープの製造方法であって、ロール状に巻かれた保護層と有機絶縁性フィルムの間に、テープの全面に凸部が形成された、単位面積当たりの重量が１５０ｇ／ｍ２以下であるスペーサーテープをもうけ空隙を形成し、半導体装置用接着剤付きテープの長手方向をロール状に巻いた状態で、調湿を行うことを特徴とする半導体装置用接着剤付きテープの製造方法である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
比較例１
実施例１と同一の手法で作製した半導体装置用接着剤付きテープロールに、スペーサーテープとしてＰＥＴテープ（凸部加工前の材料フィルムで厚み１８８μｍ、幅１７０ｍｍ、単位面積当たりの重量２６０ｇ／ｍ２）を用いて、片側全面に凸部（直径５ｍｍ、凸部高さ２ｍｍ）を１０ｍｍ間隔で施したもの（凸部面積２５％）を用い、リールトゥリール方式の巻き返し機で速度３０ｍ／ｍｉｎ共巻きをした。このときの空隙率はε＝０．９５であった。その後、温度２５℃、相対湿度５５％の環境に５日間保管して調湿処理を行い、脱気包装した。その他は実施例１の手法により半導体用接続基板を作製し、評価した結果を表１に示した。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
比較例２
実施例１と同一の手法で作製した半導体装置用接着剤付きテープロールに、調湿処理を行わずに脱気包装した。その他は実施例１の手法により半導体用接続基板を作製し、評価結果を表１に示した。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
比較例３
実施例１と同一の手法で作製した半導体装置用接着剤付きテープロールに、スペーサーテープなしで隙間を設けず空隙率ε＝０の状態で、温度２５℃、相対湿度５５％の環境に５日間保管して調湿処理を行い脱気包装した。その他は実施例１の手法により半導体用接続基板を作製し、評価結果を表１に示した。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
比較例４
実施例１と同一の手法で半導体装置用接着剤付きテープロールに、スペーサーテープとしてＰＥＴテープ（凸部加工前の材料フィルムで厚み１８８μｍ、幅１７０ｍｍ、単位面積当たりの重量２６０ｇ／ｍ２）を用いて、テープの両縁部にエンボス加工により凸部（直径５ｍｍ、突起高さ２ｍｍ）を１０ｍｍ間隔で施したものを用いた。リールトゥリール方式の巻き返し機で速度３０ｍ／ｍｉｎ共巻きをした。このときの空隙率はε＝０．９５であった。その後、温度２５℃、相対湿度５５％の環境に５日間保管して調湿処理を行い脱気包装した。他は実施例１の手法により半導体用接続基板を作製し、評価した結果を表１に示した。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
【表１】
2006216741.tif 000002