【手続補正書】
【提出日】平成20年7月23日(2008.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
材料サンプルの各ボクセルの材料パラメータを獲得することであって、該材料パラメータは、吸光係数、表面反射された入射放射の分数、および散乱係数の少なくともいずれか１つを含むことと、
前記少なくともいずれか１つの材料パラメータに基づいて、前記材料サンプルの放射照度分布値を判定することと、
前記少なくともいずれか１つの材料パラメータに基づいて、前記材料サンプルをオブジェクトのメッシュに合成することと、
前記オブジェクトの前記メッシュに合成された前記材料サンプルの前記判定された放射照度分布値を使用して前記オブジェクトをレンダリングすることとを含み、
前記オブジェクトをレンダリングすることは、ベースボリュームおよび同種インナーコアによって前記オブジェクトを表すことによるレイトレーシングを含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
材料サンプルの材料パラメータを獲得することは、ボリューム視覚化用のボリュームモデリング技法およびボリューム処理技法を使用することを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
材料サンプルの材料パラメータを獲得することは、３Ｄジオメトリモデルに対してコンピュータ断層撮影（ＣＴ）技法またはスキャン変換技法を使用することを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
材料サンプルの材料パラメータを獲得することは、ダイポールディフュージョン近似に従って表面オブジェクトの散乱プロパティを判定することを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記材料サンプルは、ボリュメトリック材料サンプル内に少なくとも１つのボクセルを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記材料サンプルの前記判定された放射照度分布値は、単一散乱放射照度値および多重散乱放射照度値を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記材料サンプルの前記放射照度分布値は、光子マッピング技法を使用して判定されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記材料サンプルの前記放射照度分布値は、前記材料サンプル内のボクセルごとに、１つまたは複数のライティング方向およびビューイング方向から判定されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記材料サンプルをオブジェクトのメッシュに合成することは、前記オブジェクトの前記メッシュの各点に、前記材料サンプルのベースボリューム内のテクスチャ座標を割り当てることを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記オブジェクトをレンダリングすることは、
光強度に前記オブジェクトの底部分からの放射照度分布値をかけることによって計算される放射照度として前記オブジェクトのコアに入る照明を得ることと、
ダイポール近似を使用して前記オブジェクトの前記コアから出る光を計算することと、
前記オブジェクトに入射する光および前記オブジェクトの前記コアから出る前記光を使用して、前記オブジェクトのシェル上のボクセルの放射照度を判定することと、
前記オブジェクトの内部へのレイマーチングによってメソ構造表面での出る放射輝度を計算することと
を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
１つまたは複数のプロセッサによって実行可能な１つまたは複数の命令を有するコンピュータ可読媒体であって、前記１つまたは複数の命令は、前記１つまたは複数のプロセッサに、
材料サンプルのベースボリュームを生成することと、
前記材料サンプルのボクセルごとに、単一散乱放射照度値および多重散乱放射照度値を計算することと、
ターゲットメッシュ上で前記ベースボリュームを合成することであって、前記ターゲットメッシュの各点は、前記ベースボリューム内のテクスチャ座標を割り当てられることと、
前記メッシュ上でのレイトレーシングによって前記オブジェクトをレンダリングすることと
を行わせることを特徴とするコンピュータ可読媒体。
【請求項１２】
前記ベースボリュームのボクセルは、サブサーフェス層または前記材料サンプルの囲む空きスペースのいずれかにあることを特徴とする請求項１１に記載のコンピュータ可読媒体。
【請求項１３】
前記単一散乱放射照度値は、光源からの放射輝度成分を含み、前記多重散乱放射照度値は、他のボクセルからの放射輝度成分を含むことを特徴とする請求項１１に記載のコンピュータ可読媒体。
【請求項１４】
前記ベースボリューム内の位置ｘおよび光源方向ω1に関する前記単一散乱放射照度値Ｉsおよび前記多重散乱放射照度値Ｉmは、それぞれ
【数１】
2006053911.tif 000001
として計算され、前記放射輝度は、差分ボリュームΔＶの内側でｎ個の光子について合計され、ΔＦp（ｘ，ωp）は、入射方向ωpからの光子によって運ばれる光束であることを特徴とする請求項１１に記載のコンピュータ可読媒体。
【請求項１５】
前記単一散乱放射照度値および前記多重散乱放射照度値は、少なくとも、前記サンプル材料の前記ベースボリューム内の位置および光源方向の関数として計算されることを特徴とする請求項１１に記載のコンピュータ可読媒体。
【請求項１６】
前記ベースボリュームをターゲットメッシュに合成することは、メッシュ頂点ごとに、テクスチャ座標を割り当て、前記ベースボリュームを前記頂点での表面法線に沿って前記メッシュの表面の下に置くことを含むことを特徴とする請求項１１に記載のコンピュータ可読媒体。
【請求項１７】
材料サンプルの各ボクセルの材料パラメータを獲得することであって、該材料パラメータは、吸光係数、表面反射された入射放射の分数、および散乱係数の少なくともいずれか１つを含むことと、
材料サンプルをオブジェクトのメッシュに合成することであって、前記材料サンプルの放射照度分布値は、前記獲得されたパラメータに基づいて決定されることと、
前記オブジェクトのメッシュに合成された前記材料サンプルの前記決定された放射照度分布値を使用して前記オブジェクトをレンダリングすることとを含み、
前記オブジェクトをレンダリングすることは、
光強度に前記オブジェクトの底部分からの放射照度分布値をかけることによって計算される放射照度として前記オブジェクトのコアに入る照明を得ることと、
ダイポール近似を使用して前記オブジェクトの前記コアから出る光を計算することと、
前記オブジェクトに入射する光および前記オブジェクトの前記コアから出る前記光を使用して、前記オブジェクトのシェル上のボクセルの放射照度を判定することと、
前記オブジェクトの内部へのレイマーチングによってメソ構造表面での出る放射輝度を計算することと
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１８】
前記材料サンプルは、ボリュメトリック材料サンプル内に少なくとも１つのボクセルを含むことを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記材料サンプルの前記決定された放射照度分布値は、単一散乱放射照度値および多重散乱放射照度値を含むことを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
前記材料サンプルの前記放射照度分布値は、光子マッピング技法を使用して決定されることを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項２１】
前記材料サンプルの前記放射照度分布値は、前記材料サンプル内のボクセルごとに、１つまたは複数のライティング方向およびビューイング方向から判定されることを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項２２】
前記材料サンプルをオブジェクトのメッシュに合成することは、前記オブジェクトの前記メッシュの各点に、前記材料サンプルのベースボリューム内のテクスチャ座標を割り当てることを含むことを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項２３】
前記オブジェクトをレンダリングすることは、前記オブジェクトをベースボリュームおよび同種インナーコアによって表すことによるレイトレーシングを含むことを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項２４】
テクスチャサンプルパラメータを獲得する手段と、
前記テクスチャサンプルの放射照度値を判定する手段と、
オブジェクト表面で前記テクスチャサンプルを合成する手段と、
前記合成されたオブジェクトに基づいて前記オブジェクトをレンダリングする手段とを含み、
前記レンダリングする手段は、ベースボリュームおよび同種インナーコアによって前記オブジェクトを表すことによるレイトレーシングを介して前記オブジェクトをレンダリングするように構成されていることを特徴とするオブジェクトをモデリングするシステム。
【請求項２５】
前記テクスチャサンプルパラメータは、前記テクスチャサンプルのベースボリュームに含まれることを特徴とする請求項２４に記載のシステム。
【請求項２６】
前記放射照度値を判定する手段は、前記テクスチャサンプルのベースボリューム内の位置ｘおよび光源方向ωに関する単一散乱放射照度値および多重散乱放射照度値を決定する手段を含むことを特徴とする請求項２４に記載のシステム。
【請求項２７】
テクスチャサンプルパラメータを獲得する手段と、
前記テクスチャサンプルの放射照度値を判定する手段と、
オブジェクト表面で前記テクスチャサンプルを合成する手段と、
前記合成されたオブジェクトに基づいて前記オブジェクトをレンダリングする手段とを含み、
前記オブジェクトをレンダリングする手段は、
放射照度として前記オブジェクトのコアに入る照明を得る手段であって、光強度に前記オブジェクトの底部分からの放射照度分布値をかけることによって前記放射照度を計算するように構成されている手段と、
ダイポール近似を使用して前記オブジェクトの前記コアから出る光を計算する手段と、
前記オブジェクトに入射する光および前記オブジェクトの前記コアから出る前記光を使用して、前記オブジェクトのシェル上のボクセルの放射照度を判定する手段と、
前記オブジェクトの内部へのレイマーチングによってメソ構造表面での出る放射輝度を計算する手段と
を含むことを特徴とするシステム。
【請求項２８】
前記テクスチャサンプルパラメータは、前記テクスチャサンプルのベースボリュームに含まれることを特徴とする請求項２７に記載のシステム。
【請求項２９】
前記放射照度値を判定する手段は、前記テクスチャサンプルのベースボリューム内の位置ｘおよび光源方向ωに関する単一散乱放射照度値および多重散乱放射照度値を決定する手段を含むことを特徴とする請求項２７に記載のシステム。