【手続補正書】
【提出日】平成20年3月28日(2008.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
請求項１５に記載の基板処理装置であって、前記ウエハ処理環境生成部は気泡生成部である、基板処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２４】
請求項２３に記載の基板処理装置であって、高い相対湿度を有する前記気体は、約５０％から約１００％の間の相対湿度を有する、基板処理装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
近接ヘッドの片面に配置された流入口および流出口は、本明細書に記載するような安定したメニスカスが利用可能である限りは、任意の適切な構成を有してよいことを理解されたい。一実施形態では、少なくとも１つのＮ2／ＩＰＡ蒸気流入口が、少なくとも１つの真空流出口に隣接し、その真空流出口が、少なくとも１つの処理流体流入口に隣接することで、ＩＰＡ−真空−処理流体配置を形成してよい。所望のウエハ処理や、強化したいウエハ処理メカニズムの種類に応じて、ＩＰＡ−処理流体−真空、処理流体−真空−ＩＰＡ、真空−ＩＰＡ−処理流体など、他の種類の配置を用いてもよいことを理解されたい。別の実施形態では、近接ヘッドとウエハとの間に配置されるメニスカスを高度かつ強力に生成、制御、および移動して、ウエハを処理するために、ＩＰＡ−真空−処理流体配置を用いてよい。処理流体流入口、Ｎ2／ＩＰＡ蒸気流入口、および真空流出口は、上述の配置が維持される限りは、任意の適切な方法で構成されてよい。例えば、Ｎ2／ＩＰＡ蒸気流入口、真空流出口、および処理流体流入口に加えて、さらなる実施形態では、所望の近接ヘッドの構成に応じて、ＩＰＡ蒸気流入口、処理流体流入口、および／または、真空流出口のセットを追加してもよい。ＩＰＡ−真空−処理流体配置の正確な構成は、用途に応じて変更されてよいことを理解されたい。例えば、ＩＰＡ投入、真空、および処理流体投入の位置の間の距離は、それらの距離が一致するように変更してもよいし、一致しないように変更してもよい。さらに、ＩＰＡ投入、真空、および処理流体投入の間の距離は、近接ヘッド１０６ａのサイズ、形状、構成や、処理メニスカスの所望のサイズ（すなわち、メニスカスの形状およびサイズ）に応じて、様々な大きさであってよい。さらに、本明細書では、代表的なＩＰＡ−真空−処理流体配置について、さらなる説明を行う。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
図２Ｂは、本発明の一実施形態に従った、異なる蒸発速度を持つ異なる部分を有する領域１８０を示す図である。一実施形態では、近接ヘッド１６０が（図２Ａに示すように）領域１８０に向かって移動するとき、領域１８０は、近接ヘッド１０６の付近の流体１５０を含む。流体１５０は、水分子の蒸発および再吸収を示す部分１５２を含む。したがって、部分１５２では、液体分子の蒸発２００と液体分子の再吸収２０２とが起こりうる。一実施形態では、液体分子は水分子である。領域１８０は、比較的疎水性が高いために流体１５０を有する領域よりも前にすでに乾燥した領域であって流体１５０を有していないウエハ１０８の範囲も示している。流体１５０を有していない範囲では、分子の蒸発２００が分子の再吸収２０２を相殺するため、ウエハ１０８の表面は乾燥したままとなる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
一実施形態では、制御外皮４０４は、近接ヘッド１０６の流入口４０２から、高い湿度を有する適切な気体を供給することによって生成されてよい。別の実施形態では、流入口４０２は、蒸気を供給することで、例えば、ＩＰＡ／Ｎ2、アセトン、任意の適切な種類のアルコールなど共沸混合物を含む特定の液体の水中濃度を、ある程度に維持してよい。代表的な実施形態では、ＩＰＡについて論じられているが、本明細書に記載された方法を可能にする他の種類の化学物質を用いてもよいことを理解されたい。上述の任意の適切なアルコールとは、炭素とヒドロキシル基とを含む任意の適切な化合物であってよいことを理解されたい。共沸比とは、液体混合物の化合物の比が、液体混合物からの蒸気の化合物の比に等しいことを意味する。本明細書に記載するように、高い相対湿度を有する気体と、ある程度の濃度の特定の液体（例えば、ＩＰＡ）が水に含まれるよう維持することができる蒸気／気体とは、環境制御気体と呼んでもよい。一実施形態では、ＩＰＡの水中濃度を、ウエハ表面上の共沸混合物を含めて、ある程度に維持するために、流入口４０２を通して、ウエハ表面の水にＩＰＡ／Ｎ2蒸気を供給してよい。これにより、ウエハ表面からの望ましくない蒸発を、高度かつ強力に低減できる。一実施形態では、流入口４０２は、近接ヘッド１０６の前縁部に配置されてよく、高い相対湿度を有する気体をウエハ１０８に供給してよい。相対湿度の高い気体が、ウエハ表面上の水に供給されると、蒸発速度が低減されるため、望ましくないウエハの乾燥が低減される。近接ヘッド１０６の前縁部は、ウエハの領域４０６における流体２７８を有するウエハ表面のような未処理のウエハ表面に、近接ヘッドが出会う領域である。相対湿度の高い気体は、任意の適切な方法で、任意の適切な位置から、任意の適切な装置により、制御外皮またはその付近で供給されてよいことを理解されたい。したがって、流入口４０２は、制御された気体を供給して、ウエハ表面の流体の蒸発を低減できる代表的な実施形態に過ぎない。このように、ウエハの領域４０６は、その領域のウエハ処理が始まる前に、制御された蒸発状態に維持されてよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
図７は、本発明の一実施形態に従ったウエハ処理システム１１００を示す図である。例えば、ローラ、ピン、プラテンなど、任意の適切な方法を用いて、ウエハを保持または移動してよいことを理解されたい。システム１１００は、ウエハを保持して回転することによりウエハ表面の処理を可能にするローラ１１０２ａ、１１０２ｂ、および１１０２ｃを備えてよい。システム１１００は、さらに、一実施形態では、上側アーム１１０４ａおよび下側アーム１１０４ｂにそれぞれ取り付け可能な近接ヘッド１０６ａおよび１０６ｂを備えてよい。上側アーム１１０４ａおよび下側アーム１１０４ｂは、近接ヘッド１０６ａおよび１０６ｂをウエハの半径に沿ってほぼ直線的に移動させることのできる近接ヘッドキャリアアセンブリ１１０４の一部であってよい。一実施形態では、近接ヘッドキャリアアセンブリ１１０４は、近接ヘッド１０６ａをウエハの上方でウエハに近接させて保持すると共に、近接ヘッド１０６ｂをウエハの下方でウエハに近接させて保持するよう構成されてよい。これは、上側アーム１１０４ａおよび下側アーム１１０４ｂを垂直方向に移動可能とすることにより実現されてよい。そうすれば、近接ヘッドがウエハ処理の開始位置に水平移動された後に、近接ヘッド１０６ａおよび１０６ｂをウエハに近接する位置に垂直移動させることができる。別の実施形態では、流体メニスカスは、２つの近接ヘッド１０６ａおよび１０６ｂの間に形成されて、ウエハの上側および下側の表面上に移動されてよい。上側アーム１１０４ａおよび下側アーム１１０４ｂは、本明細書に記載するウエハ処理を可能にするよう近接ヘッド１０６ａおよび１０６ｂを移動させることのできる任意の適切な方法で構成されてよい。システム１１００は、近接ヘッドをウエハに近接した状態で移動させて、ウエハ表面上でメニスカスを生成および制御できる限りは、任意の適切な方法で構成されてよいことも理解されたい。別の代表的な実施形態では、近接ヘッド１０６は、アームの第２の端部によって規定される軸を中心に回転するアームの第１の端部に配置されてもよい。したがって、かかる実施形態では、近接ヘッドは、ウエハの表面にわたって円弧状に移動されてよい。さらに別の実施形態では、アームは、回転移動と直線移動を組み合わせて移動されてもよい。ウエハの各面に対して１つずつの近接ヘッド１０６が図示されているが、ウエハの片面に対して１つのヘッドを用いる構成も可能である。近接ヘッド１０６を用いない面に対しては、ウエハスクラブブラシなど、他の表面準備処理を実行してよい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
さらに、生成したい流体メニスカスの種類に応じて、任意の適切な流量の真空、ＩＰＡ／Ｎ2、および処理流体が用いられてよい。さらに別の実施形態では、近接ヘッド１０６とウエハ表面との間の距離に応じて、流体メニスカス１０４の生成および利用時に、ＩＰＡ／Ｎ2が省略されてもよい。かかる実施形態では、近接ヘッド１０６は、ソース流入口１３０２を備えなくてもよいため、ソース流入口１３０６による処理流体１３１４の供給と、ソース流出口１３０４による処理流体１３１４の除去だけで、流体メニスカス１０４が生成される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
図８Ｂは、本発明の一実施形態に従った近接ヘッド１０６の一部を示す上面図である。図８Ｂを参照して説明する近接ヘッド１０６の構成は、例示的なものであることを理解されたい。したがって、ウエハ表面上において安定した流体メニスカスを生成するように、処理流体をウエハ表面に供給してウエハ表面から除去できる限りは、他の構成の近接ヘッドを用いて、流体メニスカスを生成してよい。さらに、上述のように、近接ヘッド１０６の別の実施形態は、近接ヘッド１０６が、Ｎ2／ＩＰＡを用いることなく流体メニスカスを生成するよう構成されている場合には、ソース流入口１３０２を備えなくてもよい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
一実施形態の上面図には、左から右に向かって、１組のソース流入口１３０２、１組のソース流出口１３０４、１組のソース流入口１３０６、１組のソース流出口１３０４、および１組のソース流入口１３０２が図示されている。したがって、Ｎ2／ＩＰＡおよび処理剤が、近接ヘッド１０６とウエハ１０８との間の領域に投入されると、真空が、ウエハ１０８に存在しうる任意の流体の膜および／または汚染物質と共にＮ2／ＩＰＡおよび処理剤を除去する。本明細書に記載されたソース流入口１３０２、ソース流入口１３０６、およびソース流出口１３０４は、例えば、円形の開口部、三角形の開口部、正方形の開口部など、任意の適切な種類の形状であってよい。一実施形態では、ソース流入口１３０２および１３０６と、ソース流出口１３０４は、円形の開口部を有する。近接ヘッド１０６は、生成したい流体メニスカス１０４のサイズおよび形状に応じて、任意の適切なサイズ、形状、および／または、構成を有してよいことを理解されたい。一実施形態では、近接ヘッドは、ウエハの半径より短くてよい。別の実施形態では、近接ヘッドは、ウエハの半径より長くてよい。別の実施形態では、近接ヘッドは、ウエハ表面の直径より長くてよい。したがって、流体メニスカスのサイズは、任意の所与の時点で処理したいウエハ表面領域のサイズに応じて、任意の適切なサイズを有してよい。さらに、近接ヘッド１０６は、例えば、水平方向、垂直方向、それらの間の任意の他の適切な配置など、ウエハ処理動作に応じて、任意の適切な方向に配置されてよいことを理解されたい。また、近接ヘッド１０６は、１または複数のウエハ処理動作を実行可能なウエハ処理システム内に組み込まれてよい。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
図８Ｅは、本発明の一実施形態に従った近接ヘッド１０６の流入口／流出口のさらなるパターンを示す図である。本実施形態では、近接ヘッド１０６は、ソース流入口１３０６と、ソース流出口１３０４とを備える。一実施形態では、ソース流出口１３０４は、ソース流入口１３０６を取り囲んでよい。一実施形態では、近接ヘッド１０６は、ＩＰＡ／Ｎ2を供給することなく流体メニスカスを生成できるため、ソース流出口１３０２を備えていない。上述の流入口／流出口のパターンは例示的なものであり、安定した制御可能な流体メニスカスを生成できる限りは、任意の適切な種類の流入口／流出口のパターンが用いられてよいことを理解されたい。