【手続補正書】
【提出日】平成20年5月9日(2008.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鏡面、梨地、ヘアライン模様、ホーニング模様、型打ち模様、エッチング模様の中の少なくとも１つの表面仕上げを施したステンレス鋼からなる装飾品用基材と、該基材表面に湿式メッキ法により形成された金、金合金またはニッケルからなる厚み０．０５〜０．３μｍのストライクメッキ被膜層と、前記ストライクメッキ被膜層上に、湿式メッキ法により形成された、ロジウム（Ｒｈ）、金（Ａｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、ルテニウム（Ｒｕ）、プラチナ（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）またはクロム（Ｃｒ）からなる厚み０．１〜３μｍの耐食性被膜層と、該耐食性被膜層の表面に乾式メッキ法により形成されたチタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ）、バナジウム（Ｖ）、ニオブ（Ｎｂ）またはタンタル（Ｔａ）からなる厚み０．０２〜０．２μｍの下地層と、該下地層の表面に乾式メッキ法により形成された炭化チタン（ＴｉＣ）、炭化クロム（Ｃｒ3Ｃ2）、炭化ジルコニウム（ＺｒＣ）、炭化ハフニウム（ＨｆＣ）、炭化バナジウム（ＶＣ）、炭化ニオブ（ＮｂＣ）、炭化タングステン（ＷＣ）、炭化タンタル（ＴａＣ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化クロム（Ｃｒ3Ｎ2）、窒化ジルコニウム（ＺｒＮ）、窒化ハフニウム（ＨｆＮ）、窒化バナジウム（ＶＮ）、窒化ニオブ（ＮｂＮ）、窒化タングステン（ＷＮ）または窒化タンタル（ＴａＮ）からなる厚み０．２〜１．５μｍの硬質被膜層と、該硬質被膜層の表面に乾式メッキ法により形成されたプラチナ（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、金（Ａｕ）またはロジウム（Ｒｈ）からなる厚み０．００２〜０．１μｍの貴金属被膜層とから構成されることを特徴とする装飾品。
【請求項２】
前記耐食性被膜層が、湿式メッキ法により形成された、ロジウム合金、ニッケル合金、プラチナ合金、銅合金、金合金、ルテニウム合金、パラジウム合金の中の少なくとも１つからなる被膜であることを特徴とする請求項１に記載の装飾品。
【請求項３】
前記下地層が、乾式メッキ法により形成された、炭素原子含有量が５〜１５原子％の炭化チタン、炭化クロム、炭化ジルコニウム、炭化ハフニウム、炭化バナジウム、炭化ニオブ、炭化タングステンまたは炭化タンタルからなる金属化合物被膜、または窒素原子含有量が５〜１５原子％の窒化チタン、窒化クロム、窒化ジルコニウム、窒化ハフニウム、窒化バナジウム、窒化ニオブ、窒化タングステンまたは窒化タンタルからなる金属化合物被膜であることを特徴とする請求項１に記載の装飾品。
【請求項４】
前記硬質被膜層の厚みが０．５〜１．０μｍであることを特徴とする請求項１に記載の
装飾品。
【請求項５】
前記貴金属被膜層が、プラチナ合金、パラジウム合金、金合金またはロジウム合金からなる被膜であることを特徴とする請求項１に記載の装飾品。
【請求項６】
前記貴金属被膜層の厚みが０．０１〜０．０８μｍであることを特徴とする請求項１に記載の装飾品。
【請求項７】
前記装飾品が時計外装部品であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載の装飾品。
【請求項８】
ステンレス鋼からなる基材を用い、該基材に鏡面、梨地、へアライン模様、ホーニング模様、型打ち模様、エッチング模様の中の少なくとも１つの表面仕上げを行う工程と、該基材表面に湿式メッキ法により金、金合金またはニッケルからなる厚み０．０５〜０．３μｍのストライクメッキ被膜層を形成する工程と、前記ストライクメッキ被膜層上に、ロジウム（Ｒｈ）、金（Ａｕ）ニッケル（Ｎｉ）、ルテニウム（Ｒｕ）、プラチナ（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）またはクロム（Ｃｒ）からなる厚み０．１〜３μｍの被膜を湿式メッキ法により耐食性被膜層を形成する工程と、該耐食性被膜層表面にチタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ）、バナジウム（Ｖ）、ニオブ（Ｎｂ）またはタンタル（Ｔａ）からなる厚み０．０２〜０．２μｍの下地層を乾式メッキ法により形成する工程と、該下地層の表面に、乾式メッキ法により炭化チタン（ＴｉＣ）、炭化クロム（Ｃｒ3Ｃ2）、炭化ジルコニウム（ＺｒＣ）、炭化ハフニウム（ＨｆＣ）、炭化バナジウム（ＶＣ）、炭化ニオブ（ＮｂＣ）、炭化タングステン（ＷＣ）、炭化タンタル（ＴａＣ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化クロム（Ｃｒ3Ｎ2）、窒化ジルコニウム（ＺｒＮ）、窒化ハフニウム（ＨｆＮ）、窒化バナジウム（ＶＮ）、窒化ニオブ（ＮｂＮ）、窒化タングステン（ＷＮ）または窒化タンタル（ＴａＮ）からなる厚み０．２〜１．５μｍの硬質被膜層を乾式メッキ法により形成する工程と、さらに該硬質被膜層の表面に乾式メッキ法によりプラチナ、プラチナ合金、パラジウム、パラジウム合金、ロジウム、ロジウム合金、金又は金合金からなる厚み０．００２〜０．１μｍの貴金属被膜層を形成する工程を含むことを特徴とする装飾品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】装飾品およびその製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係る装飾品は、鏡面、梨地、ヘアライン模様、ホーニング模様、型打ち模様、エッチング模様の中の少なくとも１つの表面仕上げを施したステンレス鋼からなる装飾品用基材と、該基材表面に湿式メッキ法により形成された金、金合金またはニッケルからなる厚み０．０５〜０．３μｍのストライクメッキ被膜層と、前記ストライクメッキ被膜層上に、湿式メッキ法により形成された、ロジウム（Ｒｈ）、金（Ａｕ）、ニッケル（Ｎｉ
）、ルテニウム（Ｒｕ）、プラチナ（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）またはクロム（Ｃｒ）からなる厚み０．１〜３μｍの耐食性被膜層と、該耐食性被膜層の表面に乾式メッキ法により形成されたチタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ）、バナジウム（Ｖ）、ニオブ（Ｎｂ）またはタンタル（Ｔａ）からなる厚み０．０２〜０．２μｍの下地層と、該下地層の表面に乾式メッキ法により形成された炭化チタン（ＴｉＣ）、炭化クロム（Ｃｒ3Ｃ2）、炭化ジルコニウム（ＺｒＣ）、炭化ハフニウム（ＨｆＣ）、炭化バナジウム（ＶＣ）、炭化ニオブ（ＮｂＣ）、炭化タングステン（ＷＣ）、炭化タンタル（ＴａＣ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化クロム（Ｃｒ3Ｎ2）、窒化ジルコニウム（ＺｒＮ）、窒化ハフニウム（ＨｆＮ）、窒化バナジウム（ＶＮ）、窒化ニオブ（ＮｂＮ）、窒化タングステン（ＷＮ）または窒化タンタル（ＴａＮ）からなる厚み０．２〜１．５μｍの硬質被膜層と、該硬質被膜層の表面に乾式メッキ法により形成されたプラチナ（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、金（Ａｕ）またはロジウム（Ｒｈ）からなる厚み０．００２〜０．１μｍの貴金属被膜層とから構成されることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、前記耐食性被膜層が、湿式メッキ法により形成された、ロジウム合金、ニッケル合金、プラチナ合金、銅合金、金合金、ルテニウム合金、パラジウム合金の中の少なくとも１つからなる被膜であることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、前記下地層が、乾式メッキ法により形成された、炭素原子含有量が５〜１５原子％の炭化チタン、炭化クロム、炭化ジルコニウム、炭化ハフニウム、炭化バナジウム、炭化ニオブ、炭化タングステンまたは炭化タンタルからなる金属化合物被膜、または窒素原子含有量が５〜１５原子％の窒化チタン、窒化クロム、窒化ジルコニウム、窒化ハフニウム、窒化バナジウム、窒化ニオブ、窒化タングステンまたは窒化タンタルからなる金属化合物被膜であることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、前記硬質被膜層の厚みが０．５〜１．０μｍであることを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、前記貴金属被膜層が、プラチナ合金、パラジウム合金、金合金またはロジウム合金からなる被膜であることを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、前記貴金属被膜層の厚みが０．０１〜０．０８μｍであることを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、前記装飾品が時計外装部品であることを特徴とする。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明に係る装飾品の製造方法は、ステンレス鋼からなる素材を用い、該基材に鏡面、梨地、へアライン模様、ホーニング模様、型打ち模様、エッチング模様の中の少なくとも１つの表面仕上げを行う工程と、該基材表面に湿式メッキ法により金、金合金またはニッケルからなる厚み０．０５〜０．３μｍのストライクメッキ被膜層を形成する工程と、前記ストライクメッキ被膜層上に、ロジウム（Ｒｈ）、金（Ａｕ）ニッケル（Ｎｉ）、ルテニウム（Ｒｕ）、プラチナ（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）またはクロム（Ｃｒ）からなる厚み０．１〜３μｍの被膜を湿式メッキ法により耐食性被膜層を形成する工程と、該耐食性被膜層表面にチタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ）、バナジウム（Ｖ）、ニオブ（Ｎｂ）またはタンタル（Ｔａ）からなる厚み０．０２〜０．２μｍの下地層を乾式メッキ法により形成する工程と、該下地層の表面に、乾式メッキ法により炭化チタン（ＴｉＣ）、炭化クロム（Ｃｒ3Ｃ2）、炭化ジルコニウム（ＺｒＣ）、炭化ハフニウム（ＨｆＣ）、炭化バナジウム（ＶＣ）、炭化ニオブ（ＮｂＣ）、炭化タングステン（ＷＣ）、炭化タンタル（ＴａＣ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化クロム（Ｃｒ3Ｎ2）、窒化ジルコニウム（ＺｒＮ）、窒化ハフニウム（ＨｆＮ）、窒化バナジウム（ＶＮ）、窒化ニオブ（ＮｂＮ）、窒化タングステン（ＷＮ）または窒化タンタル（ＴａＮ）からなる厚み０．２〜１．５μｍの硬質被膜層を乾式メッキ法により形成する工程と、さらに該硬質被膜層の表面に乾式メッキ法によりプラチナ、プラチナ合金、パラジウム、パラジウム合金、ロジウム、ロジウム合金、金又は金合金からなる貴金属被膜層を形成する工程を含むことを特徴とする。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】削除
【補正の内容】