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【手続補正書】
【提出日】平成19年12月10日(2007.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動プーリと従動プーリとの間に巻回される無端帯状のキャリッジ搬送用ベルトと、記録ヘッドを搭載した状態で主走査方向に往復動するキャリッジとの連結保持装置であって、
前記キャリッジ側に形成され、弾性体である連結部を保持するホルダ部内に、
前記連結部である第１の吸収部と、
該第１の吸収部と協働して前記キャリッジ搬送用ベルトを挟持する第２の吸収部とを備え、
前記第１の吸収部は、主走査方向において前記第２の吸収部よりも長尺に設けられていることを特徴とするキャリッジ搬送用ベルトとキャリッジとの連結保持装置。
【請求項２】
請求項１において、前記第１の吸収部、および前記第２の吸収部は、主走査方向において、中央揃えに配設されていることを特徴とするキャリッジ搬送用ベルトとキャリッジとの連結保持装置。
【請求項３】
請求項１または２において、前記第２の吸収部は、前記巻回されたキャリッジ搬送用ベルトの内側に設けられていることを特徴とするキャリッジ搬送用ベルトとキャリッジとの連結保持装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項において、前記第１の吸収部と一体に形成され、前記ホルダ部から主走査方向へ突出して前記キャリッジ搬送用ベルトと当接する第３の吸収部が設けられていることを特徴とするキャリッジ搬送用ベルトとキャリッジとの連結保持装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか1項において、前記第１の吸収部、および前記第２の吸収部は、主走査方向において側視コ字状に一体形成されていることを特徴とするキャリッジ搬送用ベルトとキャリッジとの連結保持装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか1項において、前記連結部は、前記ホルダ部と係合可能な突起部を備えていることを特徴とするキャリッジ搬送用ベルトとキャリッジとの連結保持装置。
【請求項７】
駆動プーリと従動プーリとの間に巻回される無端帯状のキャリッジ搬送用ベルトと、記録ヘッドを搭載した状態で主走査方向に往復動するキャリッジと、これらを連結保持する連結保持装置とを備える記録装置であって、請求項１乃至６のいずれか１項に記載された連結保持装置であることを特徴とするキャリッジ搬送用ベルトとキャリッジとの連結保持装置を備えた記録装置。
【請求項８】
駆動プーリと従動プーリとの間に巻回される無端帯状のキャリッジ搬送用ベルトと、液体噴射ヘッドを搭載した状態で主走査方向に往復動するキャリッジと、これらを連結保持する連結保持装置とを備える液体噴射装置であって、
前記キャリッジ側に形成され、弾性体である連結部を保持するホルダ部内に、
前記連結部である第１の吸収部と、
該第１の吸収部と協働して前記キャリッジ搬送用ベルトを挟持する第２の吸収部とを備え、
前記第１の吸収部は、主走査方向において前記第２の吸収部よりも長尺に設けられていることを特徴とする液体噴射装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明の第７の態様は、駆動プーリと従動プーリとの間に巻回される無端帯状のキャリッジ搬送用ベルトと、記録ヘッドを搭載した状態で主走査方向に往復動するキャリッジと、これらを連結保持する連結保持装置とを備える記録装置であって、前記連結保持機構は、上記第１から第６の態様のいずれか一つに記載された連結保持装置であることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明の第７の態様によれば、記録装置は、上記第１から第６の態様のいずれか一つに記載された前記連結保持装置を備えているので、記録装置において、上記第１から第６の態様のいずれか一つに記載された作用効果と同様の作用効果を得ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月25日(2008.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セラミックス基板の製造方法であって、無機粉末と感光性有機成分を含む感光性セラミックスグリーンシートに、（１）活性光線をパターン状に照射する工程、（２）前記活性光線を照射する面とは異なる面から、感光性セラミックスグリーンシートの厚さ方向において完全に硬化させない熱処理を施す工程を有し、（１）工程、（２）工程のうち、どちらか一方の工程を行った後、他方の工程を行い、その後、（３）感光性セラミックスグリーンシートを現像する工程、を少なくとも有することを特徴とするセラミックス基板の製造方法。
【請求項２】
セラミックス基板の製造方法であって、無機粉末と感光性有機成分を含む感光性セラミックスグリーンシートに、（１）活性光線をパターン状に照射する工程、（２’）前記、活性光線を照射する面とは異なる面に、前記活性光線照射量より小さい照射量の活性光線を前記パターンとは異なるパターン状もしくは全面に照射する工程を有し、（１）工程、（２’）工程のうち、どちらか一方の工程を行った後、他方の工程を行い、その後、（３）感光性セラミックスグリーンシートを現像する工程、を少なくとも有することを特徴とするセラミックス基板の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２記載の製造方法で得られたハーフエッチ構造を有するセラミックス基板。
【請求項４】
前記感光性セラミックスグリーンシートが感光性セラミックス組成物から形成され、当該組成物が組成物全体量に対し平均粒子粒５００ｎｍ以下のセラミックス粉末を５〜９０重量％含有することを特徴とする請求項１または２記載のセラミックス基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また本発明の別の態様は、セラミックス基板の製造方法であって、無機粉末と感光性有機成分を含む感光性セラミックスグリーンシートに、（１）活性光線をパターン状に照射する工程、（２’）前記、活性光線を照射する面とは異なる面に、前記活性光線照射量より小さい照射量の活性光線を前記パターンとは異なるパターン状もしくは全面に照射する工程を有し、（１）工程、（２’）工程のうち、どちらか一方の工程を行った後、他方の工程を行い、その後、（３）感光性セラミックスグリーンシートを現像する工程、を少なくとも有することを特徴とするセラミックス基板の製造方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月25日(2008.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１）固有のパラメータａ，ｂ，ｃを有する限外ろ過膜モジュールまたは精密ろ過膜モジュールを具備する一段目ろ過手段、
２）前記一段目ろ過手段の透過水側から被処理水側への送水することで、前記一段目ろ過手段を逆洗する物理洗浄手段、
３）前記物理洗浄手段による洗浄時に排出された物理洗浄排水を膜ろ過する、固有のパラメータｄ，ｅ，ｆを有する限外ろ過膜モジュールまたは精密ろ過膜モジュールを具備する二段目ろ過手段、
４）前記一段目ろ過手段で膜ろ過する被処理水の平均濁度をＴ１，前記二段目ろ過手段で膜ろ過する被処理水の平均濁度をＴ２としたとき、前記一段目ろ過手段における膜ろ過流束Ｆ１および透過水回収率Ｒ１、ならびに前記二段目ろ過手段における膜ろ過流束Ｆ２および透過水回収率Ｒ２を、下式
Ｆ１＝ａＴ１−ｂ
Ｆ２＝ｄＴ２−ｅ
Ｒ１＝１−ｃＦ１
Ｒ２＝１−ｆＦ２
を実質的に満たすように膜ろ過条件を制御する手段
を有する二段膜ろ過システムであって、前記限外ろ過膜モジュールまたは精密ろ過膜モジュールに固有のパラメータａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆが
１．５≦ａ≦１０
０．３≦ｂ≦１
０．００５≦ｃ≦０．０４
１．５≦ｄ≦６
０．１≦ｅ≦１
０．００５≦ｆ≦０．０２
である二段膜ろ過システム。
【請求項２】
二段膜ろ過システム全体の透過水回収率Ｒを９９．９％以上に制御する手段を有する請求項１に記載の二段膜ろ過システム。
【請求項３】
前記二段目膜ろ過装置の膜モジュールが浸漬型膜モジュールである請求項１または２に記載の二段膜ろ過システム。
【請求項４】
限外ろ過膜モジュールまたは精密ろ過膜モジュールに固有のパラメータであるａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆが、
５≦ａ≦８
０．４≦ｂ≦０．８
０．０１６≦ｃ≦０．０３
２．５≦ｄ＜５
０．２≦ｅ＜０．４
０．０１≦ｆ＜０．０１６
であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の二段膜ろ過システム。
【請求項５】
１）Ｆ１＝ａＴ１−ｂ    の式、及び  Ｒ１＝１−ｃＦ１  の式から求めた固有のパラメータａ，ｂ，ｃが、
１．５≦ａ≦１０
０．３≦ｂ≦１
０．００５≦ｃ≦０．０４
である限外ろ過膜モジュールまたは精密ろ過膜モジュールからなる一段目膜ろ過装置で、平均濁度Ｔ１の被処理水を、膜ろ過流束Ｆ１で透過水回収率をＲ１で膜ろ過する一段目ろ過工程、
２）前記一段目膜ろ過装置の透過水側から被処理水側に送水し、前記一段目膜ろ過装置を逆洗する工程を有する物理洗浄工程、
３）Ｆ２＝ｄＴ２−ｅ  の式、及び  Ｒ２＝１−ｆＦ２の式から求めた固有のパラメータｄ，ｅ，ｆが、
１．５≦ｄ≦６
０．１≦ｅ≦１
０．００５≦ｆ≦０．０２
である限外ろ過膜モジュールまたは精密ろ過膜モジュールからなる二段目膜ろ過装置で、前記物理洗浄工程から排出された平均濁度Ｔ２の物理洗浄排水を、膜ろ過流束Ｆ２で透過水回収率をＲ２で膜ろ過する二段目ろ過工程
を有する二段膜ろ過システムの運転方法であって、前記平均濁度Ｔ１，Ｔ２に対する前記膜ろ過流束Ｆ１，Ｆ２の値を、それぞれ、下記Ｆ１Ｍの±１０％の範囲内、下記Ｆ２Ｍの±１０％の範囲内となるように、かつ、前記透過水回収率Ｒ１，Ｒ２の値を、それぞれ、下記Ｒ１Ｍの±２％の範囲内、下記Ｒ２Ｍの±２％の範囲内となるように
Ｆ１Ｍ＝ａＴ１−ｂ
Ｆ２Ｍ＝ｄＴ２−ｅ
Ｒ１Ｍ＝１−ｃＦ１Ｍ
Ｒ２Ｍ＝１−ｆＦ２Ｍ
運転して、前記一段目ろ過工程および前記二段目ろ過工程から透過水を回収する二段膜ろ過システムの運転方法。
【請求項６】
二段膜ろ過システム全体の透過水回収率Ｒが９９．９％以上である請求項５に記載の二段膜ろ過システムの運転方法。
【請求項７】
前記二段目膜ろ過装置の膜モジュールが浸漬型膜モジュールである請求項５または６に記載の二段膜ろ過システムの運転方法。
【請求項８】
限外ろ過膜モジュールまたは精密ろ過膜モジュールに固有のパラメータであるａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆが、
５≦ａ≦８
０．４≦ｂ≦０．８
０．０１６≦ｃ≦０．０３
２．５≦ｄ＜５
０．２≦ｅ＜０．４
０．０１≦ｆ＜０．０１６
であることを特徴とする請求項５〜７のいずれかに記載の二段膜ろ過システムの運転方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月5日(2008.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機物を含有する排水中に、陽極と陰極よりなる電極を対峙させ、この両電極間に電圧を印加して通電することにより電解処理して、排水中の有機物を電気化学的に分解することを特徴とする排水処理方法において、
対峙した陽極と陰極の電極間に仕切り板を設置して、両電極より発生する気体の混合を阻止することを特徴とする排水処理方法。
【請求項２】
上記排水がテレフタル酸プラントのアルカリ洗浄排水であることを特徴とする請求項１記載の排水処理方法。
【請求項３】
上記電気分解処理後の排水を、テレフタル酸プラント洗浄用アルカリ水溶液として使用することを特徴とする請求項１または２記載の排水処理方法。
【請求項４】
上記電気分解処理時に、陰極から発生する水素ガスをテレフタル酸プラントの水添精製工程にて使用することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の排水処理方法。
【請求項５】
上記電気分解反応槽を加圧することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の排水処理方法。
【請求項６】
上記電気分解反応槽の圧力調整を、電極間から発生するガスの流量を調節することにより行うことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の排水処理方法。
【請求項７】
上記電気分解反応槽で、蒸気と電極より発生するガスの混合気体を熱交換器に通し、熱交換器外部で蒸気を発生させると共に、凝縮水とガスとに分離することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の排水処理方法。
【請求項８】
請求項７で発生させた蒸気をテレフタル酸プラント内の蒸気として使用することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の排水処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
すなわち、本発明は、主として
（１）有機物を含有する排水中に、陽極と陰極よりなる電極を対峙させ、この両電極間に電圧を印加して通電することにより電解処理して、排水中の有機物を電気化学的に分解することを特徴とする排水処理方法において、対峙した陽極と陰極の電極間に仕切り板を設置して、両電極より発生する気体の混合を阻止することを特徴とする排水処理方法。
（２）上記排水がテレフタル酸プラントのアルカリ洗浄排水であることを特徴とする（１）記載の排水処理方法。
（３）上記電気分解処理後の排水を、テレフタル酸プラント洗浄用アルカリ水溶液として使用することを特徴とする（１）または（２）のいずれかに記載の排水処理方法。
（４）上記電気分解処理時に、陰極から発生する水素ガスをテレフタル酸プラントの水添精製工程にて使用することを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載の排水処理方法。
（５）上記電気分解反応槽を加圧することを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに記載の排水処理装置。
（６）上記電気分解反応槽の圧力調整を、電極間から発生するガスの流量を調節することにより行うことを特徴とする（１）〜（５）のいずれかに記載の排水処理装置。
（７）上記電気分解反応槽で、蒸気と電極より発生するガスの混合気体を熱交換器に通し、熱交換器外部で蒸気を発生させると共に、凝縮水とガスとに分離することを特徴とする（１）〜（６）のいずれかに記載の排水処理装置。
（８）（７）で発生させた蒸気をテレフタル酸プラント内の蒸気として使用することを特徴とする（１）〜（７）のいずれかに記載の排水処理装置。
に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月13日(2008.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のノズルを直線状に配置したインクジェットヘッドより膜材料を含む液滴を基板上の複数箇所に局所的に付与することにより、基板上の複数箇所に膜を形成する方法であって、
前記基板上の、複数箇所の位置情報を検出する工程と、
前記検出工程で検出した位置情報に基づいて、液滴を付与すべき、複数の位置を算出する工程と、
前記基板の法線を軸にして、前記インクジェットヘッドを前記算出した複数の液滴付与位置に応じて回転させ、前記基板上に該液滴を付与する工程と、
を有することを特徴とする膜の形成方法。
【請求項２】
一対の素子電極と該素子電極間に跨り電子放出部を有する導電性膜とを有する電子放出素子を複数個基板上に配置し、該電子放出素子をマトリクス配線してなる電子源基板の製造方法であって、
上記導電性膜を請求項１に記載の膜の形成方法により形成することを特徴とする電子源基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の第一は、複数のノズルを直線状に配置したインクジェットヘッドより膜材料を含む液滴を基板上の複数箇所に局所的に付与することにより、基板上の複数箇所に膜を形成する方法であって、
前記基板上の、複数箇所の位置情報を検出する工程と、
前記検出工程で検出した位置情報に基づいて、液滴を付与すべき、複数の位置を算出する工程と、
前記基板の法線を軸にして、前記インクジェットヘッドを前記算出した複数の液滴付与位置に応じて回転させ、前記基板上に該液滴を付与する工程と、
を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月25日(2008.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
すなわち、ばね定数Ｋは一定であるため、質量ｍが大きくなると、固有振動数ｆは小さくなる。固有振動数ｆが小さくなると、上記した溶接トーチの停止時における残留振動の振動幅が大きくなる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
すなわち、ばね定数Ｋは一定であるため、慣性モーメントＪが大きくなると、固有振動数ｆは小さくなる。固有振動数ｆが小さくなると、上記した溶接トーチの停止時における残留振動の振動幅が大きくなる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
これらのように、溶接ロボットのアームの質量が増大したり、溶接ロボットの姿勢が伸張したりした場合には、残留振動の振動幅が大きくなり、残留振動がより顕在化する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
ＲＯＭ２３には、溶接ロボット１０の動作を制御するためのソフトウェアが格納されている。また、ＲＯＭ２３には、本実施形態の残留振動抑制制御のための制御ロジックも格納されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
補間点生成部３８は、軌道バッファ４２から軌道データを読み出し、その軌道データを「補間周期」と呼称される所定時間毎に分割し、補間周期毎に直交座標によって表される、溶接トーチ１４が到達すべき位置、及び溶接トーチ１４の姿勢を示す補間点データを算出する。軌道データは、図２に示したように、動作開始点Ｓ０から溶接開始点ＡＳに至る溶接トーチ１４の移動軌跡を複数の教示点Ｐｎによって表すとともに、教示点Ｐｎ間の溶接トーチ１４の移動方法を直線移動や円弧移動によって定義したものである。補間点生成部３８は、隣接する教示点Ｐｎ間において溶接トーチ１４が通過すべき点とその点における溶接トーチ１４の姿勢等のデータを補間周期毎に補間している。補間点生成部３８は、算出した補間点データを補間点バッファ４３に格納する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
【表１】
2006272529.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月10日(2008.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
図１は、本発明の実施形態に係る廃棄物分離回収システムの全体構成を示す図、図２は廃棄物分離回収装置の詳細を示す図である。本実施形態に係る廃棄物分離回収システム１は、熱分解炉２、燃焼装置３、冷却・混合槽４、脱水・洗浄装置５、水処理装置６、熱分解残渣洗浄装置７、噴射装置８及び排ガス処理装置９を備える。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
大略前述のように構成された廃棄物分離回収システムでは、一般ゴミである廃棄物Ｘは、廃棄物投入器（図示せず）により熱分解炉２に供給される。熱分解炉２は、投入された廃棄物Ｘを、燃焼装置３から排出されて前記加熱ジャケットに供給される燃焼排ガスｃによって間接的に加熱し、低酸素状態で熱分解する（熱分解プロセス）。廃棄物Ｘに含まれた可燃性廃棄物は、その熱分解によって、熱分解ガスａと熱分解残渣、すなわち炭化物ｂとに分離される。廃棄物Ｘには不燃物（鉄，アルミニウム等の金属及び瓦礫等）が含まれているが、この不燃物は熱分解しない。熱分解ガスａは、配管３０を通って燃焼装置３に供給され、燃焼装置３で燃焼する。発生した燃焼（排）ガスｃは、配管３１により熱分解炉２の加熱ジャケット内に供給され、前述のように熱分解炉２内の廃棄物Ｘの加熱に用いられる。加熱ジャケットから排出された燃焼（排）ガスｃは、配管３２により排ガス処理装置９に供給され、所定の排ガス処理が施され、外部環境に放出してもよい状態まで浄化された後、配管３３を経て煙突５から外部環境に排出される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
熱分解炉２で炭化物ｂとなった廃棄物Ｘは、出口ノズル４０から水が充填された冷却水槽４−１内に供給される。炭化物ｂは冷却水槽４−１内で強制的に撹拌され、水と混合される。この水との混合により急冷された炭化物ｂは、投入された分の約３０％が水に浮遊し、残りの約７０％が沈降する。これは約５００℃の炭化物ｂを冷却水槽４−７内の水中に投入したときの実験から確認されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
１  廃棄物分離回収システム
２  熱分解炉
３  燃焼装置
４  冷却・混合槽
４−１  冷却水槽
４−２  混合水槽
４−３  不燃物コンベア
４−４  粉砕機
４−５  分別機
４−６  スプレー水タンク
５  脱水・洗浄装置
６  水処理装置
７  熱分解残渣洗浄装置
７−１  残渣粉砕機
７−２  不燃物分級機
７−３  炭化物回収タンク
７−４  三種選別機
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月21日(2008.3.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カートリッジおよびローラー型チューブポンプとを具備し、原液の溶質を膜を用いて分画する回路からなる分画装置であって、前記回路が、ローラー型チューブポンプによって圧搾されるチューブと、原液を供給するための供給部と、供給される原液を搬送するための移動相を蓄えたリザーバーと、分画を行う濾過部と、分画された溶質を回収する回収部およびこれらを接続する流路からなり、カートリッジが前記回路の少なくとも一部を内蔵していることを特徴とする分画装置。
【請求項２】
前記濾過部が多段に接続された濾過モジュールを有することを特徴とする請求項１記載の分画装置。
【請求項３】
前記カートリッジの外壁の一部が、前記ローラー型チューブポンプによって前記チューブを圧搾するのに用いられる圧搾部材であって、前記チューブが前記圧搾部材の表面の一部に設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載の分画装置。
【請求項４】
前記カートリッジが前記供給部および前記濾過部を内蔵していることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の分画装置。
【請求項５】
前記回収部が、回収液量に応じて内容積が変えられる袋および／またはピストン付きシリンジであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の分画装置。
【請求項６】
チューブ、リザーバー、供給部、濾過部、回収部およびこれらを接続する流路がなす回路が閉鎖回路であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の分画装置。
【請求項７】
前記閉鎖回路の内容積が２００ｍＬ以下であることを特徴とする請求項６に記載の分画装置。
【請求項８】
前記カートリッジを、前記ローラー型チューブポンプのローターに隣接する方向に移動させて、チューブを圧搾できるようにする移動機構を備えていることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の分画装置。
【請求項９】
カートリッジおよびローラー型チューブポンプとを具備し、原液の溶質またはその一部を膜を用いて分画する分画装置用カートリッジであって、前記カートリッジ中に、原液を供給するための供給部と、分画を行う濾過部を内蔵し、前記カートリッジの外壁の一部が圧搾部材であって、前記ローラー型チューブポンプによって圧搾されるチューブが前記圧搾部材の表面の一部に設けられていることを特徴とする分画装置用カートリッジ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
課題を解決するための手段は以下のとおりである。
（１）カートリッジおよびローラー型チューブポンプとを具備し、原液の溶質またはその一部を膜を用いて分画する回路からなる分画装置であって、カートリッジが、実質的に、ローラー型チューブポンプによって圧搾されるチューブと、原液を供給するための供給部と、供給される原液を搬送するための移動相を蓄えたリザーバーと、前記供給部から流路によって接続された分画を行う濾過部と、前記濾過部から流路によって接続された分画された溶質を回収する回収部およびこれらを接続する流路からなる回路の少なくとも一部を内蔵していることを特徴とする分画装置。
（２）前記濾過部が多段に接続された濾過モジュールを有することを特徴とする（１）記載の分画装置。
（３）前記カートリッジの外壁の一部が、前記ローラー型チューブポンプによって前記チューブを圧搾するのに用いられる圧搾部材であって、前記チューブが前記圧搾部材の表面の一部に設けられていることを特徴とする（１）または（２）に記載の分画装置。
（４）前記カートリッジが前記供給部および前記濾過部を内蔵していることを特徴とする（１）〜（３）のいずれかにに記載の分画装置。
（５）前記回収部が、回収液量に応じて内容積が変えられる袋および／またはピストン付きシリンジであることを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに記載の分画装置。
（６）チューブ、リザーバー、供給部、濾過部、回収部およびこれらを接続する流路がなす回路が閉鎖回路であることを特徴とする（１）〜（５）のいずれかに記載の分画装置。
（７）前記閉鎖回路の内容積が２００ｍＬ以下であることを特徴とする（６）に記載の分画装置。
（８）前記カートリッジを、前記ローラー型チューブポンプのローターに隣接する方向に移動させて、チューブを圧搾できるようにする移動機構を備えていることを特徴とする（１）〜（７）のいずれかに記載の分画装置。
（９）カートリッジおよびローラー型チューブポンプとを具備し、原液の溶質またはその一部を膜を用いて分画する分画装置用カートリッジであって、前記カートリッジ中に、原液を供給するための供給部と、前記供給部から流路によって接続された分画を行う濾過部を内蔵し、前記カートリッジの外壁の一部が圧搾部材であって、前記ローラー型チューブポンプによって圧搾されるチューブが前記圧搾部材の表面の一部に設けられていることを特徴とする分画装置用カートリッジ。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月11日(2008.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原水を精密ろ過膜モジュールまたは限外ろ過膜モジュールで処理して得られた処理水を、第１の逆浸透膜モジュールで逆浸透処理し、さらに前記第１の逆浸透膜モジュールで逆浸透処理された透過水を第２の逆浸透膜モジュールで逆浸透処理する膜分離方法において、前記第２の逆浸透膜モジュールで得られた濃縮水の少なくとも一部を、前記精密ろ過膜モジュールに用いられる精密ろ過膜または前記限外ろ過膜モジュールに用いられる限外ろ過膜の洗浄水とする洗浄工程を有することを特徴とする膜分離方法。
【請求項２】
前記第２の逆浸透膜モジュールで得られた濃縮水の少なくとも一部を、前記精密ろ過膜または前記限外ろ過膜の洗浄水として用いるに際し、洗浄水に酸化剤を添加することを特徴とする請求項１に記載の膜分離方法。
【請求項３】
原水を処理する精密ろ過膜モジュールまたは限外ろ過膜モジュールを備え、前記精密ろ過膜モジュールまたは前記限外ろ過膜モジュールで得られた処理水を逆浸透処理する第１の逆浸透膜モジュールを有し、さらに前記第１の逆浸透膜モジュールで得られた透過水を逆浸透膜処理する第２の逆浸透膜モジュールを有する膜分離装置において、前記第２の逆浸透膜モジュールで得られた濃縮水の少なくとも一部を、前記精密ろ過膜モジュールに用いられる精密ろ過膜または前記限外ろ過膜モジュールに用いられる限外ろ過膜の洗浄水として返送する手段を有することを特徴とする膜分離装置。
【請求項４】
さらに酸化剤貯留用の酸化剤タンクを備え、かつ、前記濃縮水の少なくとも一部を洗浄水として返送する手段の途中に、前記酸化剤タンクからの酸化剤添加口が設けられていることを特徴とする請求項３に記載の膜分離装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月12日(2008.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塩分を含有する原水を精密ろ過膜モジュールまたは限外ろ過膜モジュールで処理して得られた処理水を、逆浸透膜モジュールで逆浸透処理する膜分離方法において、前記精密ろ過膜モジュールまたは限外ろ過膜モジュールで処理して得られた処理水を洗浄水として、前記精密ろ過膜モジュールに用いられる精密ろ過膜または前記限外ろ過膜モジュールに用いられる限外ろ過膜の逆流洗浄を定期的に行うとともに、前記逆浸透膜モジュールで得られた透過水の少なくとも一部を洗浄水として、１ヶ月に１回〜１日に１０回の範囲で、前記精密ろ過膜または前記限外ろ過膜の洗浄を行うことを特徴とする膜分離方法。
【請求項２】
塩分を含有する原水を精密ろ過膜モジュールまたは限外ろ過膜モジュールで処理して得られた処理水を、逆浸透膜モジュールで逆浸透処理する膜分離方法において、前記逆浸透膜モジュールで得られたｐＨ５以下の濃縮水の少なくとも一部を、前記精密ろ過膜モジュールに用いられる精密ろ過膜または前記限外ろ過膜モジュールに用いられる限外ろ過膜の洗浄水とする洗浄工程を有することを特徴とする膜分離方法。
【請求項３】
前記逆浸透膜モジュールで得られた濃縮水で前記精密ろ過膜モジュールに用いられる精密ろ過膜または前記限外ろ過膜モジュールに用いられる限外ろ過膜を洗浄する洗浄手段Ａと、前記逆浸透膜モジュールで得られた透過水で前記精密ろ過膜モジュールに用いられる精密ろ過膜または前記限外ろ過膜モジュールに用いられる限外ろ過膜を洗浄する洗浄手段Ｂとを、前記洗浄手段Ａの次に洗浄手段Ｂの順序で、もしくは、前記洗浄手段Ｂの次に洗浄手段Ａの順序で行うことを特徴とする請求項１または２に記載の膜分離方法。
【請求項４】
前記逆浸透膜モジュールで得られた透過水および／または濃縮水のｐＨが５以下であることを特徴とする請求項１又は３に記載の膜分離方法。
【請求項５】
塩分を含有する原水を膜分離処理するための装置であって、精密ろ過膜モジュールまたは限外ろ過膜モジュールと、前記精密ろ過膜モジュールまたは前記限外ろ過膜モジュールで得られた処理水を逆浸透処理する逆浸透膜モジュールと、前記精密ろ過膜モジュールまたは前記限外ろ過膜モジュールで得られた処理水を洗浄水として、前記精密ろ過膜モジュールに用いられる精密ろ過膜または前記限外ろ過膜モジュールに用いられる限外ろ過膜の逆流洗浄用に返送する手段と、前記逆浸透膜モジュールで得られた透過水の少なくとも一部を、前記精密ろ過膜または前記限外ろ過膜の洗浄水として返送する手段とを有することを特徴とする膜分離装置。
【請求項６】
前記逆浸透膜モジュールへ供給される水のｐＨを５以下にするための酸添加装置を有することを特徴とする請求項５に記載の膜分離装置。
【請求項７】
塩分を含有する原水を膜分離処理するための装置であって、精密ろ過膜モジュールまたは限外ろ過膜モジュールと、前記精密ろ過膜モジュールまたは前記限外ろ過膜モジュールで得られた処理水を逆浸透処理する逆浸透膜モジュールと、前記逆浸透膜モジュールで得られた濃縮水の少なくとも一部を、前記精密ろ過膜モジュールに用いられる精密ろ過膜または前記限外ろ過膜モジュールに用いられる限外ろ過膜の洗浄水として返送する手段と、前記逆浸透膜モジュールへ供給される水のｐＨを５以下にするための酸添加装置とを有する膜分離装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
次に、逆浸透膜モジュールで得られた濃縮水の少なくとも一部を精密ろ過膜モジュールまたは限外ろ過膜モジュールの洗浄水とする洗浄方法について説明する。この洗浄方法も、逆浸透膜モジュールの運転を継続しつつ実施するものであるため、バルブＶ３、Ｖ６は開のままである。洗浄は、バルブＶ４、Ｖ７を閉とし、ポンプ４を停止してからバルブＶ１、Ｖ２を閉とした後、バルブＶ５を開とし、逆浸透膜モジュールで得られた濃縮水の少なくとも一部を濃縮水返送手段１２を通して精密ろ過膜モジュールまたは限外ろ過膜モジュールへ逆流させることで行う。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月25日(2008.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】耐熱性樹脂フィルムの少なくとも片面に、ガラス転移温度（Ｔｇ）が６０℃以上２３０℃以下の耐熱性樹脂層を有し、該樹脂層の上にスパッタあるいは蒸着による厚み２〜４００ｎｍの導電性金属層を有し、さらに該導電性金属層の上に電気メッキ法による厚み１μｍ以上１８μｍ以下の銅層を有することを特徴とする３層型メッキプリント回路基板であって、前記耐熱性樹脂層が、芳香族テトラカルボン酸とジアミンを主成分とし、該ジアミン成分中の４０モル％以上がシロキサン系ジアミンからなるポリイミド系樹脂、またはエポキシ樹脂を含む３層型メッキプリント回路基板。
【請求項２】前記耐熱性樹脂フィルムの片面あるいは両面が放電処理されていることを特徴とする請求項１に記載の３層型メッキプリント回路基板。
【請求項３】前記シロキサン系ジアミンが次の一般式［Ｉ］で表されるものであることを特徴とする請求項１または２に記載の３層型メッキプリント回路基板。
【化１】
2003086937.tif 000001
（ただし、式中ｎは１以上の整数を示す。またＲ1およびＲ2は、それぞれ同一または異なって、低級アルキレン基またはフェニレン基を示し、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ同一または異なって、低級アルキル基、フェニル基またはフェノキシ基を示す。）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明は以下の構成を採用する。すなわち、
（１）耐熱性樹脂フィルムの少なくとも片面に、ガラス転移温度（Ｔｇ）が６０℃以上２３０℃以下の耐熱性樹脂層を有し、該樹脂層の上にスパッタあるいは蒸着による厚み２〜４００ｎｍの導電性金属層を有し、さらに該導電性金属層の上に電気メッキ法による厚み１μｍ以上１８μｍ以下の銅層を有することを特徴とする３層型メッキプリント回路基板であって、前記耐熱性樹脂層が、芳香族テトラカルボン酸とジアミンを主成分とし、該ジアミン成分中の４０モル％以上がシロキサン系ジアミンからなるポリイミド系樹脂、またはエポキシ樹脂を含む３層型メッキプリント回路基板。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
（２）前記耐熱性樹脂フィルムの片面あるいは両面が放電処理されていることを特徴とする前記（１）に記載の３層型メッキプリント回路基板。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
（３）前記シロキサン系ジアミンが次の一般式［Ｉ］で表されるものであることを特徴とする前記（２）に記載の３層型メッキプリント回路基板。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月16日(2008.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】    【請求項１】表示パネル、ＴＡＢ基板又はフレキシブル基板を備え、前記表示パネルと、前記ＴＡＢ基板又は前記フレキシブル基板に、圧着工程での位置調整用のアライメントマークが設けられた電子機器であって、前記表示パネルのパネル基板、ＴＡＢ基板、フレキシブル基板のうちの少なくとも２つが相互に接続されている接続箇所に目視検査用マークが更に設けられ、前記目視検査用マークは前記各基板に設けられたマークを接続対象間で組み合わせて一対のマークを形成していることを特徴とする電子機器。    【請求項２】前記目視検査用マークは、前記接続箇所における左右両側に、前記接続箇所におけるリードによって形成された接続領域から前記接続領域の長手方向に離れて設けられていることを特徴とする請求項１に記載の電子機器。    【請求項３】前記アライメントマークは、各基板における前記接続領域の左右両側に設けられ、前記目視検査用マークは、前記アライメントマークから前記接続領域の長手方向に離れて設けられていることを特徴とする請求項２に記載の電子機器。    【請求項４】前記目視検査用マークは、前記接続領域の中心軸に対して左右対称に設けられていることを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の電子機器    【請求項５】前記目視検査用マークは、各基板の前記接続箇所におけるアライメントマークを結ぶ直線上に設けられていることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の電子機器。    【請求項６】前記表示パネルは有機ＥＬ表示パネルであることを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の電子機器。    【請求項７】表示パネル、ＴＡＢ基板又はフレキシブル基板が備えられた電子機器の製造方法であって、前記各基板に設けられているアライメントマークを、接続対象間で重なり合う位置関係に位置調整を行い、仮圧着を行う仮圧着工程と、前記各基板上における、表示パネルのパネル基板、ＴＡＢ基板、フレキシブル基板のうちの少なくとも２つが相互に接続されていている接続箇所に設けられ、接続対象間で組み合わせて一対のマークが形成されている目視検査用マークのズレを目視によって確認する事により、前記仮圧着工程における各基板の位置ズレを検査する目視検査工程とを有することを特徴とする電子機器の製造方法。    【請求項８】前記目視検査用マークは、前記接続箇所における左右両側に、前記接続箇所におけるリードによって形成された接続領域から前記接続領域の長手方向に離れて設けられ、  前記目視検査工程では、前記各基板面における前記接続領域の長手方向をｘ方向、前記ｘ方向と直交する方向をｙ方向とした場合に、前記各基板間における角度ズレを前記一対の目視検査用マークのｙ方向のズレ量として認識し、前記接続領域の長手方向への位置ズレを前記一対の目視検査用マーク間の間隔としてズレ量を認識することによって目視検査を行うことを特徴とする請求項７に記載の電子機器の製造方法。    【請求項９】前記目視検査工程では、肉眼又は簡易なルーペ或いは撮像装置等を介したモニターを用いて前記目視検査用マークのズレを確認することを特徴とする請求項７または請求項８に記載の電子機器の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月4日(2008.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  操作ボタンによって制御されるマイクロスイッチがプリント基板の一面側に取り付けられており、前記プリント基板の他面側に電子部品に収納された回路素子が半田付けされた携帯電子機器において、前記電子部品の周囲を囲繞するシールド壁を前記プリント基板に取り付け、シールドカバーで前記シールド壁の上面を覆うと共に、前記携帯電子機器のケースに前記シールド壁を前記プリント基板側に押さえる突起部を設けたことを特徴とする携帯電子機器。
【請求項２】  前記プリント基板は、前記シールド壁で囲繞された範囲の変形が抑制されることを特徴とする請求項１記載の携帯電子機器。
【請求項３】  操作ボタンによって制御されるマイクロスイッチがプリント基板の一面側に取り付けられており、前記プリント基板の他面側に電子部品に収納された回路素子が半田付けされた携帯電子機器において、前記電子部品の周囲を囲繞するシールド壁を前記プリント基板に取り付けると共に、前記携帯電子機器のケースに前記シールド壁を前記プリント基板側に押さえる第１の突起部を突設し、前記電子部品の表面を前記プリント基板側に押さえる第２の突起部を前記携帯電子機器のケースに突設したことを特徴とする携帯電子機器。
【請求項４】  操作ボタンによって制御されるマイクロスイッチがプリント基板の一面側に取り付けられており、前記プリント基板の他面側に電子部品に収納された回路素子が半田付けされた携帯電子機器において、前記電子部品の表面を前記プリント基板側に押さえる突起部を携帯電子機器のケースに突設し、前記電子部品と前記マイクロスイッチは前記プリント基板を挟んで対向し、挿通用の穴を有して前記電子部品を囲繞するシールド部材が前記プリント基板に取り付けられ、前記シールド部材の前記挿通用の穴を前記突起部が貫通して前記電子部品の表面まで達することを特徴とする携帯電子機器。
【請求項５】  プリント基板に半田付けされた電子部品の前記半田付け箇所を保護する電子部品保護装置において、前記電子部品の周囲を囲繞するシールド壁を前記プリント基板に取り付けると共に、前記携帯電子機器のケースに前記シールド壁を前記プリント基板側に押さえる第１の部材と、前記電子部品の表面を前記プリント基板側に押さえる第２の部材とを備えたことを特徴とする電子部品保護装置。
【請求項６】  前記プリント基板は、前記シールド壁で囲繞された範囲の変形が抑制されることを特徴とする請求項５記載の電子部品保護装置。
【請求項７】  プリント基板に半田付けされた電子部品の前記半田付け箇所を保護する電子部品保護装置において、挿通用の穴を有して前記電子部品を囲繞するシールド部材が前記プリント基板に取り付けられ、前記電子部品の表面を前記プリント基板側に押さえる突起部を携帯電子機器のケースに突設し、前記シールド部材の前記挿通用の穴を前記突起部が貫通して前記電子部品の表面まで達することを特徴とする電子部品保護装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する携帯電子機器は、操作ボタンによって制御されるマイクロスイッチがプリント基板の一面側に取り付けられており、前記プリント基板の他面側に電子部品に収納された回路素子が半田付けされた携帯電子機器において、前記電子部品の周囲を囲繞するシールド壁を前記プリント基板に取り付け、シールドカバーで前記シールド壁の上面を覆うと共に、前記携帯電子機器のケースに前記シールド壁を前記プリント基板側に押さえる突起部を設けたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成する携帯電子機器は、操作ボタンによって制御されるマイクロスイッチがプリント基板の一面側に取り付けられており、前記プリント基板の他面側に電子部品に収納された回路素子が半田付けされた携帯電子機器において、前記電子部品の周囲を囲繞するシールド壁を前記プリント基板に取り付けると共に、前記携帯電子機器のケースに前記シールド壁を前記プリント基板側に押さえる第１の突起部を突設し、前記電子部品の表面を前記プリント基板側に押さえる第２の突起部を前記携帯電子機器のケースに突設したことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成する携帯電子機器は、操作ボタンによって制御されるマイクロスイッチがプリント基板の一面側に取り付けられており、前記プリント基板の他面側に電子部品に収納された回路素子が半田付けされた携帯電子機器において、前記電子部品の表面を前記プリント基板側に押さえる突起部を携帯電子機器のケースに突設し、前記電子部品と前記マイクロスイッチは前記プリント基板を挟んで対向し、挿通用の穴を有して前記電子部品を囲繞するシールド部材が前記プリント基板に取り付けられ、前記シールド部材の前記挿通用の穴を前記突起部が貫通して前記電子部品の表面まで達することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成する電子部品保護装置は、プリント基板に半田付けされた電子部品の前記半田付け箇所を保護する電子部品保護装置において、前記電子部品の周囲を囲繞するシールド壁を前記プリント基板に取り付けると共に、前記携帯電子機器のケースに前記シールド壁を前記プリント基板側に押さえる第１の部材と、前記電子部品の表面を前記プリント基板側に押さえる第２の部材とを備えたことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記目的を達成する電子部品保護装置は、プリント基板に半田付けされた電子部品の前記半田付け箇所を保護する電子部品保護装置において、挿通用の穴を有して前記電子部品を囲繞するシールド部材が前記プリント基板に取り付けられ、前記電子部品の表面を前記プリント基板側に押さえる突起部を携帯電子機器のケースに突設し、前記シールド部材の前記挿通用の穴を前記突起部が貫通して前記電子部品の表面まで達することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月12日(2008.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  露光装置であって、
試料を載せて移動するウエハステージと、
前記ウエハステージ上の試料が予め設定された位置に移動してくる都度、前記ウエハステージを制御するための基準信号とは非同期のタイミングで前記試料の面位置を検出する面位置検出器と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】  前記面位置検出器は、
前記試料の表面に光束を入射させる光源と、
該光束が該試料の表面で反射した反射光束を受光する蓄積型センサと、
を有し、
前記蓄積型センサの出力に基づいて、該試料の表面の高さと傾きを検出することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】  移動している前記ウエハステージ上の試料の水平方向の位置を検出し、前記面位置検出器による検出動作のタイミングを提供する水平位置検出器を更に備えることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】  前記水平位置検出器は干渉計を含むことを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】  移動している前記ウエハステージ上の試料の水平方向の位置を算定し、前記面位置検出器による検出動作のタイミングを提供する水平位置算定器を更に備えることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の露光装置。
【請求項６】  前記水平位置算定器は、
時間を計測することにより移動している前記ウエハステージ上の試料の水平位置を算定することを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】  露光動作に先立って、前記ウエハステージを移動させながら前記面位置検出器に前記試料の面位置を検出させ、その検出結果に基づいて露光動作を制御する制御器を更に備えることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】  露光動作に先立って、前記ウエハステージを移動させながら前記面位置検出器に前記試料の面位置を検出させ、その検出結果に基づいてフォーカス補正用のデータを算出する算出部と、露光時に、前記ウエハステージを移動させながら、前記面位置検出器に前記試料の面位置を検出させ、その検出結果及び前記フォーカス補正用のデータに基づいてフォーカス補正を実施するフォーカス制御部とを更に備えることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項９】  スキャン露光装置として動作することを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１０】  露光装置の制御方法であって、
試料を載せて移動するウエハステージ上の該試料が予め設定された位置に移動してくる都度、前記ウエハステージを制御するための基準信号とは非同期のタイミングで、前記試料の面位置を検出する面位置検出工程を含むことを特徴とする露光装置の制御方法。
【請求項１１】  前記面位置検出工程では、
前記試料の表面に光束を入射させ、
該光束が該試料の表面で反射した反射光束を蓄積型センサで受光し、
前記蓄積型センサの出力に基づいて、該試料の表面の高さと傾きを検出することを特徴とする請求項１０に記載の露光装置の制御方法。
【請求項１２】  移動している前記ウエハステージ上の試料の水平方向の位置を検出し、前記面位置検出工程による検出動作のタイミングを提供する水平位置検出工程を更に含むことを特徴とする請求項１０又は請求項１１に記載の露光装置の制御方法。
【請求項１３】  前記水平位置検出工程では、
干渉計を利用して移動している前記ウエハステージ上の試料の水平方向の位置を検出することを特徴とする請求項１２に記載の露光装置の制御方法。
【請求項１４】  移動している前記ウエハステージ上の試料の水平方向の位置を算定し、前記面位置検出工程による検出動作のタイミングを提供する水平位置算定工程を更に含むことを特徴とする請求項１０又は請求項１１に記載の露光装置の制御方法。
【請求項１５】  前記水平位置算定工程では、
時間を計測することにより移動している前記ウエハステージ上の試料の水平位置を算定することを特徴とする請求項１４に記載の露光装置の制御方法。
【請求項１６】  露光動作に先立って、前記ウエハステージを移動させながら前記面位置検出工程を実施させ、その検出結果に基づいて露光動作を制御する制御工程を更に含むことを特徴とする請求項１０乃至請求項１５のいずれか１項に記載の露光装置の制御方法。
【請求項１７】  露光動作に先立って、前記ウエハステージを移動させながら前記面位置検出工程を実施させ、その検出結果に基づいて、フォーカス補正用のデータを算出する算出工程と、
露光時に、前記ウエハステージを移動させながら、前記面位置検出工程を実施させ、その検出結果及び前記フォーカス補正用のデータに基づいてフォーカス補正を実施するフォーカス制御工程と、
を更に含むことを特徴とする請求項１０乃至請求項１６のいずれか１項に記載の露光装置の制御方法。
【請求項１８】  前記露光装置はスキャン露光装置であることを特徴とする請求項１０に記載の露光装置の制御方法。
【請求項１９】  デバイスの製造方法であって、
試料に感光性材料を塗布する塗布工程と、
請求項１乃至請求項９のいずれか１項に記載の露光装置を利用し、感光性材料が塗布された試料にパターンを焼き付ける露光工程と、
パターンが焼き付けられた試料を現像する現像工程と、
を含むことを特徴とするデバイスの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月25日(2008.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  回路素子を基板上に実装する方法であって、
対向する上型および下型と、上型と下型の対向方向の側方を囲うサイド型に囲まれた空間内に、基板と、基板上に重ねて接着フィルムと、さらに重ねて回路素子とを配置する工程と、
前記回路素子を、この回路素子に接触する面に柔軟性を有する柔軟層を有する前記上型により加圧し、基板上に圧着する工程と、
を有する回路素子の実装方法。
【請求項２】  請求項１に記載の回路素子の実装方法であって、
前記接着フィルムは、熱硬化性樹脂フィルムであり、
前記回路素子を基板上に圧着する工程において、加圧と同時に加熱を行って圧着する、
回路素子の実装方法。
【請求項３】  請求項１に記載の回路素子の実装方法であって、前記接着フィルムは、異方性導電膜である、回路素子の実装方法。
【請求項４】  請求項１から３のいずれか１項に記載の回路素子の実装方法において、前記回路素子を基板上に圧着する工程は、前記柔軟層が、一体となった回路素子と接着フィルムの、前記上型に対向する面および側面全体に密着して等方加圧を行う、回路素子の実装方法。
【請求項５】  請求項１から４のいずれか１項に記載の回路素子の実装方法において、前記回路素子を基板上に圧着する工程は、複数の回路素子を同時に圧着するものである、回路素子の実装方法。
【請求項６】  請求項１から５のいずれか１項に記載の回路素子の実装方法において、
前記回路素子を配置する工程は、基板の表裏両面に回路素子を配置するものであり、
前記回路素子を圧着する工程は、前記上型と、前記回路素子に接触する面に柔軟性を有する柔軟層を有する下型と、により前記回路素子と共に基板を挟持して圧着を行うものである、
回路素子の実装方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
前述の課題を解決するために、本発明にかかる回路素子の実装方法は、基板上に接着フィルムと回路素子を重ねて配置し、回路素子に接触する面に柔軟な層を有する加圧型により加圧して基板上に圧着する。基板、接着フィルムおよび回路素子は、加圧型である上型、下型および上型と下型の対向方向の側方を囲うサイド型に囲まれた空間内で加圧される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
さらに、接着フィルムを熱硬化性樹脂フィルムとした場合、前記の加圧と同時に加圧型により加熱を行って、樹脂を硬化させ接着を行うようにすることができる。前述のように複数の回路素子を同時に加圧、加熱することができるので、隣接する未加熱の回路素子および接着シートに対する熱影響を考慮することがなくなる。これにより、素子間隔を詰めた配置とすることができ、実装密度を高めることができる。また、前記接着フィルムは、異方性導電膜とすることができる。