【手続補正書】
【提出日】平成20年1月11日(2008.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法および記録媒体の製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ガラス成分の溶出を抑制する処理が施されてなる磁気記録媒体用ガラス基板であって、
前記処理が、リチウム塩を含有する水溶液に接触させる処理であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板。
【請求項２】  ガラス材料からなる基板を、リチウム塩を含有する水溶液に接触させてガラス成分の溶出を抑制する処理を施すことを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】  前記処理が、ガラス材料からなる前記基板を１００℃以上２００℃以下の硝酸リチウム水溶液に浸漬させる処理である請求項２に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】  前記処理が、ガラス材料からなる前記基板をリチウム塩を含有するｐＨ５〜ｐＨ９の水溶液に接触させる処理である請求項２または３に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】  ガラス材料からなる前記基板に化学強化処理を施し、化学強化処理後の前記基板にガラス成分の溶出を抑制する前記処理を施す請求項２〜４のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】  溶出を抑制する前記ガラス成分が、アルカリイオンである請求項２〜５のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項７】  請求項２〜６のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法によって製造された磁気記録媒体用ガラス基板に、少なくとも記録層を形成することを特徴とする記録媒体の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法およびそれを用いた記録媒体の製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
磁気ディスクの基板材料は、従来、Ｎｉ−Ｐめっきを施したアルミニウム基板が主流であったが、磁気ディスクの小型化、薄型化や磁気ディスクの低浮上化等の要請から高剛性で高速回転させても変形しづらく、表面の平滑性の高い磁気記録媒体用ガラス基板が使われる割合が増加している。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
かかる磁気記録媒体用ガラス基板に用いられるガラス材料には、溶融点を下げてガラス化や成形性を良くする為に、アルカリ金属が数％〜十数％添加されている。ところが、これらアルカリ金属は、原子半径が小さくてマイグレーションし易いので、徐々に表面に析出して大気中の二酸化炭素やハロゲンと結合して炭酸塩や塩化物として析出する。このアルカリ成分の溶出現象は、高温高湿下で顕著であり、記録再生ができなくなって直接エラーとなったり、磁気ヘッドに移着してその浮上を妨げたり腐食させたりして信頼性を悪くする原因となる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
アルカリ溶出の抑制効果を高めようとすると、酸処理を行う特開平１０−２２６５３９号では、ガラスの骨格自身も破壊されて却ってアルカリイオン溶出量が増大し、また、溶融塩による処理を行う特開２０００−８２２１１号では、処理が高温であるために、化学強化処理を施した磁気記録用ガラス基板では、表面の圧縮応力を形成しているイオンの拡散および熱による歪の緩和がおこり、強度の低下が生じやすいという課題がある。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、上述の点に鑑みて為されたものであって、高温高湿下での長期間の使用、保存においても、強度劣化がなく、アルカリ成分等の溶出を高いレベルで抑制できる磁気記録媒体用ガラス基板、その製造方法およびそれを用いた記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
すなわち、本発明の磁気記録媒体用ガラス基板は、ガラス成分の溶出を抑制する処理が施されてなる磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記処理が、リチウム塩を含有する水溶液に接触させる処理である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項１に記載の磁気記録媒体用ガラス基板は、ガラス成分の溶出を抑制する処理が施されてなる磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記処理が、リチウム塩を含有する水溶液に接触させる処理であり、Ｎａ+，Ｋ+に比べてイオン半径の小さい水溶液中のＬｉ+が、ガラス表面のＮａ+やＫ+とイオン交換を行ってガラス中の非架橋酸素と強く結びついてガラス成分の溶出を効果的に抑制することができ、また、溶融塩用いて高温処理をする従来例のような強度の劣化もない。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の請求項２に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス材料からなる基板を、リチウム塩を含有する水溶液に接触させてガラス成分の溶出抑制処理を施すものであり、Ｎａ+，Ｋ+に比べてイオン半径の小さい水溶液中のＬｉ+が、ガラス表面のＮａ+やＫ+とイオン交換を行ってガラス中の非架橋酸素と強く結びついてガラス成分の溶出を効果的に抑制することができ、また、溶融塩用いて高温処理をする従来例のような強度の劣化もない。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記処理が、ガラス材料からなる前記基板を１００℃以上２００℃以下の硝酸リチウム水溶液に浸漬させる処理であり、硝酸リチウムは溶解度が高く、また、水溶液の沸点も上昇するので、高濃度で高温の効率的な溶出抑制のための処理が可能となる。また、２００℃以下の温度で処理するので、化学強化処理を施した磁気記録媒体用ガラス基板に対しても、表面の圧縮応力層に対する影響がほとんどなく、強度の低下がほとんど起こらない。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
請求項４に記載の発明は、請求項２または３に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記処理が、ガラス材料からなる前記基板をリチウム塩を含有するｐＨ５〜ｐＨ９の水溶液に接触させる処理であり、ほぼ中性の水溶液を用いることによって、ガラス骨格を破壊するといったこともない。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
請求項５に記載の発明は、請求項２〜４のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、ガラス材料からなる前記基板に化学強化処理を施し、化学強化処理後の前記基板にガラス成分の溶出を抑制する前記処理を施すものであり、ガラス成分の溶出を抑制することができるとともに、ガラス表面を強化することができる。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
請求項６に記載の発明は、請求項２〜５のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、溶出を抑制する前記ガラス成分が、アルカリイオンであり、Ｎａ+やＫ+の溶出を抑制することができる。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
請求項７に記載の記録媒体の製造方法は、請求項２〜６のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法によって製造された磁気記録媒体用ガラス基板に少なくとも記録層を形成するものであり、ガラス成分の溶出を効果的に抑制した強度劣化のない磁気記録媒体用ガラス基板を用いて記録媒体を製造するので、高い信頼性の記録媒体を得ることができる。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板をリチウム塩を含有する水溶液に接触させて、ガラス成分の溶出を抑制する処理（以下「溶出抑制処理」ともいう）を施すことを特徴としている。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
ここで、接触させるとは、水溶液に浸漬する場合の他、磁気記録媒体用ガラス基板の一方の面だけを接触させる場合も含むものである。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
磁気記録媒体用ガラス基板を、リチウム塩を含有する水溶液に接触させることにより、水溶液中のＬｉ+がガラス表面のＮａ+,Ｋ+とイオン交換を行う。Ｌｉ+は、イオン半径がＮａ+やＫ+と比較して小さく、ガラス中の非架橋酸素と強く結びつき、他のアルカリイオンと比較して溶出が少なく、これによって、アルカリイオンの溶出を効果的に抑制できる。しかも、水溶液による溶出抑制処理であるので、溶融塩用いて高温処理をする従来例のような強度の劣化もない。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
このＬｉ塩を含有した水溶液による溶出抑制処理を施した一実施例の磁気記録媒体用ガラス基板表面のガラス組成を、Ｘ線光電子分光分析により分析した結果、磁気記録媒体用ガラス基板表面のＫ及びＮａの組成は、０．５％（原子比）以下であることが確認された。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
図１は、この一実施例の磁気記録媒体用ガラス基板における表面部分の深さと金属イオン濃度との関係を示す図であり、溶出抑制処理によって、リチウムイオンが、ガラス表面のナトリウムイオン、カリウムイオンとイオン交換を行い、ガラスの最表面にリチウムイオンの多い層が形成されていることがわかる。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
これらの水溶液に、磁気記録媒体用ガラス基板を浸漬して行うことが好ましい。これらリチウム塩の中では、硝酸塩が水に対する溶解度が高く好ましい。リチウム塩が高濃度に存在することにより、水溶液の沸点は上昇し、水溶液でありながら１００℃以上での処理が可能である。硝酸リチウムの場合、１０００ｇの水に対し２６００ｇの硝酸リチウムを加えることにより、１８０℃の処理が可能である。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
アルカリイオン溶出の抑制効果は、処理温度が高い方が有効であるが、処理温度が高すぎると、化学強化処理を施した磁気記録媒体用ガラス基板では、表面の圧縮応力を形成しているイオンの拡散および熱による歪の緩和が生じ、強度の低下が生じる。このため、処理温度は、１００℃〜２００℃、さらには１３０℃〜１８０℃が好ましい。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
本発明では、磁気記録媒体用ガラス基板を、加熱したＬｉ塩水溶液で処理する前に、磁気記録媒体用ガラス基板の割れを防止するため、磁気記録媒体用ガラス基板を１００℃〜１５０℃に予熱しておくことが好ましい。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
溶出抑制処理の水溶液、すなわち、処理液に浸漬中、磁気記録媒体用ガラス基板の表面全体が均一にイオン交換できるようにするために、磁気記録媒体用ガラス基板を端面で保持、即ち、基板の厚さ方向の面を複数箇所で支持して実質的に鉛直方向に沿って立てた状態で、主表面において処理液と接触しない部分ができるだけ存在しないようにすることが望ましい。
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
本発明に使用する磁気記録媒体用ガラス基板のガラス材料としては、例えば、ソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、アルミノボロシリケートガラス、ボロシリケートガラスなどが挙げられる。アルミノシリケートガラスは、化学強化処理による効果が大きく、高強度基板が得られる点から好ましい。
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
本発明のガラス成分の溶出抑制処理は、研磨工法により作製した磁気記録媒体用ガラス基板に対しても有効であるが、加圧成形した磁気記録媒体用ガラス基板においてより有効である。すなわち、加圧成形により作製した磁気記録媒体用ガラス基板は、表面のアルカリ成分が通常の研磨による磁気記録媒体用ガラス基板と比較して、アルカリ成分濃度が高い、これは加圧成形時にガラス中のナトリウムイオンやカリウムイオンなどのアルカリイオンがガラス表面に拡散するからである。したがって、溶出抑制処理のＬｉ+とイオン交換可能なナトリウムイオンおよびカリウムイオンが、表面に多く存在し、イオン交換能が高く有効である。
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
必要に応じて化学強化処理を施した磁気記録媒体用ガラス基板に対しても本発明は有効である。化学強化処理は、加熱により溶融した化学強化処理液に磁気記録媒体用ガラス基板を浸漬し、磁気記録媒体用ガラス基板表面層のイオンを化学強化処理液中のイオンでイオン交換させる方法、即ち、イオン交換法によって行う。イオン交換法としては、低温型イオン交換法および高温型イオン交換法がある。エネルギー効率の観点およびガラス表面へのダメージを考慮すれば、低温型イオン交換法を採用することが好ましい。低温型イオン交換法では、ガラス転移温度（Ｔｇ）以下の温度領域にある化学強化処理液に浸漬し、磁気記録媒体用ガラス基板表面付近のアルカリイオン、例えばＬｉ+またはＮａ+をそれよりもイオン半径の大きいアルカリイオン、例えばＮａ+またはＫ+と置換し、イオン交換した部分の容積増加によってガラス表面に強い圧縮応力を発生させてガラス表面を強化する。
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
化学強化処理液の温度は、イオン交換を促進するためには高温であることが好ましいが、磁気記録媒体用ガラス基板の変形を防止するため、ガラス転移温度以下が好ましい。例えば、ガラス転移点が４５０℃〜８００℃であるガラス材料からなる磁気記録媒体用ガラス基板を処理する場合、化学強化処理液の温度は、３５０℃〜７００℃、特に３５０℃〜４５０℃であることが好ましい。
【手続補正３０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
化学強化する際には、磁気記録媒体用ガラス基板の割れやヒビを防止するため、また化学強化処理液中の溶融塩が磁気記録媒体用ガラス基板表面において結晶化することを防止するため、磁気記録媒体用ガラス基板を化学強化処理液に浸漬する前に、磁気記録媒体用ガラス基板を２００℃〜３５０℃に予熱することが望ましい。
【手続補正３１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
化学強化処理液に浸漬中、磁気記録媒体用ガラス基板の表面全体が均一に化学強化するため、磁気記録媒体用ガラス基板を端面で保持、即ち、基板の厚さ方向の面を複数箇所で支持して実質的に鉛直方向に沿って立てた状態で、主表面において処理液と接触しない部分ができるだけ存在しないようにすることが望ましい。
【手続補正３２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
本発明の記録媒体としての磁気記録媒体は、上述のようにして溶出抑制処理を施した磁気記録媒体用ガラス基板上に、少なくとも記録層としての磁気記録層を形成したことを特徴とする。ここで、磁気記録層やその他の層としては公知のものを使用できる。
【手続補正３３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
本発明の磁気記録媒体は、アルカリイオンの溶出を著しく抑制した磁気記録媒体用ガラス基板を使用しているので、耐候性及び寿命に優れ、高い信頼性を示す。
【手続補正３４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
また、本発明によって得られる磁気記録媒体用ガラス基板は、光学材料、建築材料および機械部品等にも適用することができる。
【手続補正３５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
【実施例】
以下、本発明の具体例を説明する。
(実施例1)
本実施例における磁気記録媒体用ガラス基板を、以下の成形工程およぴ溶出抑制処理工程によって製造し、さらに、成膜工程を経て磁気記録媒体を製造した。
（１）成形工程
基板材料として、軟化点６９０℃のアルミナシリケイト系ガラスからなる円柱形状のガラス材料を用意した。また、加圧成形用の金型として、タングステンカーバイト系の超硬合金からなる金型を一対用意した。この金型のプレス面は平坦であり、研磨により鏡面加工された面に、保護膜として白金合金が1μｍとなるようにスパッタリングし、中心線平均粗さが１ｎｍの表面を得た。加圧成形は、金型のプレス面にガラス材料を挟み、６９０℃まで加熱した後、３５０ｋｇ／ｃｍ2の圧力を加え、ガラス材料が所定の厚さとなるまで行った。加圧時間は約1分であった。加圧成形後、冷却し、厚さ０．６４ｍｍ、直径８４ｍｍのディスク用のガラス基板を得た。
（２）溶出抑制処理工程
上記加圧成形工程を終えた磁気記録媒体用ガラス基板を、Ｌｉ塩を含有する水溶液で処理を行なった。処理液として、１０００ｇの純水にＬｉＮＯ3を２６００ｇ加えた水溶液を１３０℃に加熱したものを用意した。上記磁気記録媒体用ガラス基板を１００℃に予熱した後、1時間浸漬して行った。浸漬の際には、磁気記録媒体用ガラス基板表面が均一に処理されるよう磁気記録媒体用ガラス基板の端面で保持した。上記溶出抑制処理を終えた磁気記録媒体用ガラス基板を、中性洗剤とＰＶＡスポンジを用いたスクラブ洗浄、アルカリ洗剤洗浄（２％セミクリーン（商品名）、ｐＨ＝１２、横浜油脂製）、１８ＭΩ以上の超純水を用いて十分に濯ぎ、イソプロピルアルコール蒸気乾燥を行なった。
（３）成膜工程
上記処理を行った磁気記録媒体用ガラス基板に、スパッタ法を用いてＣｒ下地層、Ｃｏ-Ｃｒ-Ｐｔ系磁性層、Ｃ保護層を順次形成し、ディップコート法を用いてフッ素系液体潤滑剤を塗布して、磁気記録媒体とした。
【手続補正３６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
以上のようにして製造された磁気記録媒体用ガラス基板および磁気記録媒体の評価を以下のようにして行った。すなわち、磁気記録媒体用ガラス基板における抗折強度、アルカリ溶出量、表面粗さ及び磁気記録媒体におけるエラー数測定で行った。各評価法を表１に示す
【手続補正３７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
【表１】
2002220259.tif 000001
(実施例2)
実施例２は、溶出抑制処理において、処理液の温度を１７０℃とし、処理時間を１０分とした以外は実施例１と同じ条件で製造し、評価した。
(実施例3,4)
実施例３，４は、成形工程を研磨工程で行った以外はそれぞれ実施例１、２と同じ条件で製造し、評価した。研磨による磁気記録媒体用ガラス基板は、実施例１で使用したものと同じガラス材料からなる厚さ１ｍｍのガラス板をφ６５ｍｍに切り出した後、酸化セリウムを用いて厚みが０.６４ｍｍとなるまで研磨した後、コロイダルシリカを用い中心線平均粗さが1ｎｍ以下となるように研磨することにより得た。
(実施例5)
実施例５は、成形工程と溶出抑制処理工程との間に、化学強化処理を施した以外は実施例１と同じである。すなわち、成形工程を終えた磁気記録媒体用ガラス基板を洗浄後、化学強化処理を施したものである。化学強化処理は、硝酸カリウム（６０％）硝酸ナトリウム（４０％）を混合した化学強化処理液を用意し、この化学強化処理液を４００℃に加熱し、３５０℃で予熱した上記磁気記録媒体用ガラス基板を２時間浸漬して行った。浸漬の際には、ガラス表面が均一に処理されるように磁気記録媒体用ガラス基板の端面で保持した。上記化学強化処理を終えた磁気記録媒体用ガラス基板を２００℃まで徐冷し、２０℃の水槽に浸漬して急冷し約２０分間放置した。その後、中性洗剤とＰＶＡスポンジを用いたスクラブ洗浄，１８ＭΩ以上の超純水を用いて十分に濯ぎ、イソプロピルアルコール蒸気乾燥を行なった。
(実施例6)
実施例６は、成形工程を研磨工程で行ったこと以外は実施例５と同じ条件で製造し、評価を行った。研磨による磁気記録媒体用ガラス基板は、実施例２と同じものを用意した。
(比較例)
溶出抑制処理工程における処理以外は実施例１と同じである。比較例として行った溶出抑制処理条件を表２に示す。比較例１は、溶出抑制処理を行なっていない以外は、実施例１と同じである。比較例２は、溶出抑制処理の処理温度を１００℃以下の８０℃としたこと以外は実施例１と同じである。比較例３は、実施例１の処理液に硝酸を添加しｐＨを５以下の２に調整したもの以外は実施例１と同じである。比較例４は、実施例１の処理液に水酸化リチウムを添加しｐＨを９以上の１２に調整したもの以外は実施例１と同じである。
【手続補正３８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
【表３】
2002220259.tif 000002
実施例1〜６は溶出抑制処理によってアルカリ溶出量は激減しており、エラー数の増加は殆どみられない。成形ガラス基板を用いたもの（実施例１，２）は、研磨基板（実施例３，４）よりもアルカリ溶出量が少なく、成形ガラス基板が有効であることがわかる。また、化学強化処理を施すことによって（実施例５，６）さらにアルカリ溶出量が減少し本処理の併用が極めて有効であることがわかる。
【手続補正３９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
以上のように、磁気記録媒体用ガラス基板をリチウム塩を含有する水溶液に接触させることにより、ガラスの表面性の悪化や強度の劣化がなく、ガラス成分、特にアルカリイオン成分の溶出を防ぐことができる。さらに、加熱軟化したガラス材料を、加圧成形することにより得られる磁気記録媒体用ガラス基板はこの効果が高いことを確認した。また、化学強化を施した磁気記録媒体用ガラス基板に対しても本処理は有効である。さらに本処理を施した磁気記録媒体用ガラス基板、すなわち、ガラス成分の溶出を効果的に抑制した強度劣化のない磁気記録媒体用ガラス基板を用いて磁気記録媒体を製造するので、高い信頼性の磁気記録媒体を得ることができる。
【手続補正４０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、磁気記録媒体用ガラス基板をリチウム塩を含有する水溶液に接触させることにより、ガラス成分の溶出を効果的に抑制することができるとともに、強度の劣化もほとんどない。さらに、ガラス成分の溶出抑制処理を施した磁気記録媒体用ガラス基板を用いることによって、信頼性の高い記録媒体を得ることができる。
【手続補正４１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明の一実施例の磁気記録媒体用ガラス基板における表面部分の深さと金属イオン濃度との関係を示す図である。