【手続補正書】
【提出日】平成20年1月8日(2008.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【書類名】      明細書
【発明の名称】    ウラシル化合物及びその用途
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式［Ｉ］
2002155061.tif 000001
［式中、Ｑ−Ｒ3は、下記の一般式
2002155061.tif 000002
で示されるＲ3が置換した５員または６員の含窒素ヘテロ環（該ヘテロ環上に、更にハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、シアノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、オキソ基およびチオキソ基からなる群より選ばれる少なくとも１種類の置換基が置換していてもよい。）基を表し、
Ｙは酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはＣ１−Ｃ３アルキルイミノ基を表し、Ｒ1はＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ１−Ｃ３ハロアルキル基を表し、
Ｒ2はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、
Ｒ3はカルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、ＯＲ7基、ＳＲ8基またはＮ（Ｒ9）Ｒ10基を表し、Ｘ1はハロゲン原子、シアノ基、チオカルバモイル基またはニトロ基を表し、
Ｘ2は水素原子またはハロゲン原子を表す。
｛ここで、Ｒ7、Ｒ8およびＲ10はそれぞれ独立して、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ８ハロシクロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ８ハロシクロアルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルキリデンアミノオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいフェニルＣ１−Ｃ４アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシアミノカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）（Ｃ１−３アルキル）アミノカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルアミノカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）Ｃ１−Ｃ６アルキルアミノカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいフェニルアミノカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基または置換されていてもよいフェニルＣ１−Ｃ４アルキルアミノカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、Ｒ9は水素原子またはＣ１−Ｃ６アルキル基を表す。｝］
で示されるウラシル化合物。
【請求項２】
前記一般式［Ｉ］において、Ｑ−Ｒ3が、
Ｒ3が置換した５員または６員の含窒素ヘテロ環（該へテロ環上に、更にハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、シアノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、オキソ基およびチオキソ基からなる群より選ばれる少なくとも１種類の置換基が置換していてもよい。）基であり、
Ｒ3がカルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、ＯＲ7基、ＳＲ8基またはＮ（Ｒ9）Ｒ10基を表し、Ｘ1はハロゲン原子、シアノ基、チオカルバモイル基またはニトロ基
｛ここで、Ｒ7、Ｒ8およびＲ10がそれぞれ独立して、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基、置換されていてもよいフェニルＣ１−Ｃ４アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシアミノカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）（Ｃ１−３アルキル）アミノカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルアミノカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）Ｃ１−Ｃ６アルキルアミノカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基、置換されていてもよいフェニルアミノカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基または置換されていてもよいフェニルＣ１−Ｃ４アルキルアミノカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基であり、Ｒ9が水素原子またはＣ１−Ｃ６アルキル基である。｝
である請求項１に記載のウラシル化合物。
【請求項３】
前記一般式［Ｉ］において、Ｑ−Ｒ3が、下記の一般式
2002155061.tif 000003
［式中、Ｒ3は請求項１または２に記載と同じ意味を表し、Ｚ1およびＺ2はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルコキシ基またはシアノ基を表す。］で示される群から選ばれるいずれかの基である請求項１または２に記載のウラシル化合物。
【請求項４】
前記一般式［Ｉ］において、Ｘ1がハロゲン原子である請求項１、２または３に記載のウラシル化合物。
【請求項５】
前記一般式［Ｉ］において、Ｘ1がニトロ基である請求項１、２または３に記載のウラシル化合物。
【請求項６】
前記一般式［Ｉ］において、Ｘ1が塩素原子である請求項１、２または３に記載のウラシル化合物。
【請求項７】
前記一般式［Ｉ］において、Ｘ2が水素原子またはフッ素原子である請求項１〜６のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項８】
前記一般式［Ｉ］において、Ｘ1が塩素原子、Ｘ2がフッ素原子である請求項１〜３のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項９】
前記一般式［Ｉ］において、Ｒ1がＣＦ3基である請求項１〜８のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項１０】
前記一般式［Ｉ］において、Ｒ2がメチル基である請求項１〜９のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項１１】
前記一般式［Ｉ］において、Ｙが酸素原子または硫黄原子である請求項１〜１０のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項１２】
前記一般式［Ｉ］において、Ｙが酸素原子である請求項１〜１０のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項１３】
前記一般式［Ｉ］において、Ｒ3がＯＲ7基、ＳＲ8基またはＮ（Ｒ9）Ｒ10基であり、Ｒ7、Ｒ8およびＲ10がそれぞれ独立して、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基またはＣ３−Ｃ８シクロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ9が水素原子またはＣ１−Ｃ６アルキル基である請求項１〜１２のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項１４】
前記一般式［Ｉ］において、Ｒ3がＯＲ7基、ＳＲ8基またはＮ（Ｒ9）Ｒ10基であり、Ｒ7、Ｒ8およびＲ10がそれぞれ独立して、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ８シクロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ9が水素原子またはＣ１−Ｃ６アルキル基である請求項１〜１２のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項１５】
前記一般式［Ｉ］において、Ｒ3がＯＲ7基またはＳＲ8基であり、Ｒ7およびＲ8がそれぞれ独立して、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルメチル基または１−（Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル）エチル基である請求項１〜１２のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項１６】
前記一般式［Ｉ］において、Ｒ3がＯＲ7基またはＳＲ8基であり、Ｒ7およびＲ8がそれぞれ独立して、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、１−（メトキシカルボニル）エチル基または１−（エトキシカルボニル）エチル基である請求項１〜１２のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項１７】
前記一般式［Ｉ］において、Ｑ−Ｒ3が、下記の一般式
2002155061.tif 000004
［式中、Ｒ3、Ｚ1およびＺ2は前記と同じ意味を表す。］
で示される基である請求項１〜１６のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項１８】
前記一般式［Ｉ］において、Ｑ−Ｒ3が、下記の一般式
2002155061.tif 000005
で示される基または下記の一般式
2002155061.tif 000006
で示される基である請求項１〜１６のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項１９】
前記一般式［Ｉ］において、Ｑ−Ｒ3が、下記の一般式
2002155061.tif 000007
で示される基である請求項１〜１６のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項２０】
前記一般式［Ｉ］において、
Ｒ1がトリフルオロメチル基であり、
Ｒ2がメチル基であり、
Ｘ1が塩素原子であり、
Ｘ2がフッ素原子であり、
Ｙが酸素原子であり、
Ｑ−Ｒ3が２−（エトキシカルボニルメトキシ）ピリジン−３−イル基である請求項１に記載のウラシル化合物。
【請求項２１】
一般式［ＸＸＸＩ］
2002155061.tif 000008
［式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｒ1、Ｑ−Ｒ3およびＹは、請求項１に記載と同じ意味を表す。］
で示される化合物。
【請求項２２】
前記一般式［ＸＸＸＩ］において、Ｑ−Ｒ3が、下記の一般式
2002155061.tif 000009
［式中、Ｚ1およびＺ2はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルコキシ基またはシアノ基を表す。］
で示される群から選ばれるいずれかの基であり、Ｙが酸素原子または硫黄原子であり、Ｒ1がＣ１−Ｃ３ハロアルキル基であり、Ｒ3がＯＲ7基、ＳＲ8基またはＮ（Ｒ9）Ｒ10基であり、Ｘ1がハロゲン原子、シアノ基またはニトロ基であり、Ｘ2がハロゲン原子であり、Ｒ7、Ｒ8およびＲ10がそれぞれ独立して、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基またはＣ３−Ｃ８シクロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ9が水素原子またはＣ１−Ｃ６アルキル基である請求項２１記載の化合物。
【請求項２３】
前記一般式［ＸＸＸＩ］において、Ｘ1が塩素原子であり、Ｘ2がフッ素原子であり、Ｙが酸素原子であり、Ｚ1およびＺ2が水素原子であり、Ｒ1がトリフルオロメチル基であり、Ｒ3がＯＲ7基またはＳＲ8基であり、Ｒ7、Ｒ8およびＲ10がそれぞれ独立して、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、１−（メトキシカルボニル）エチル基または１−（エトキシカルボニル）エチル基である請求項２１または２２記載の化合物。
【請求項２４】
下記の群より選ばれるいずれかの化合物。
３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン、
３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（エトキシカルボニル）メトキシピリジン、
３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン、
３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−｛１−（エトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン、
２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−（メトキシカルボニル）メトキシピリミジン、
２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−（エトキシカルボニル）メトキシピリミジン、
２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリミジン、
２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−｛１−（エトキシカルボニル）エトキシ｝ピリミジン。
【請求項２５】
一般式［ＸＸＸＸＸＩ］
2002155061.tif 000010
［式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｑ−Ｒ3およびＹは、請求項１に記載と同じ意味を表す。］で示される化合物。
【請求項２６】
前記一般式［ＸＸＸＸＸＩ］において、Ｑ−Ｒ3が、下記の一般式
2002155061.tif 000011
［式中、Ｚ1およびＺ2はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルコキシ基またはシアノ基を表す。］
で示される群から選ばれるいずれかの基であり、Ｙが酸素原子または硫黄原子であり、Ｒ1がＣ１−Ｃ３ハロアルキル基であり、Ｒ3がＯＲ7基、ＳＲ8基またはＮ（Ｒ9）Ｒ10基であり、Ｘ1がハロゲン原子、シアノ基またはニトロ基であり、Ｘ2がハロゲン原子であり、Ｒ7、Ｒ8およびＲ10がそれぞれ独立して、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基またはＣ３−Ｃ８シクロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ9が水素原子またはＣ１−Ｃ６アルキル基である請求項２５記載の化合物。
【請求項２７】
前記一般式［ＸＸＸＸＸＩ］において、Ｘ1が塩素原子であり、Ｘ2がフッ素原子であり、Ｙが酸素原子であり、Ｚ1およびＺ2が水素原子であり、Ｒ1がトリフルオロメチル基であり、Ｒ3がＯＲ7基またはＳＲ8基であり、Ｒ7、Ｒ8およびＲ10がそれぞれ独立して、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、１−（メトキシカルボニル）エチル基または１−（エトキシカルボニル）エチル基である請求項２５または２６記載の化合物。
【請求項２８】
下記の群より選ばれるいずれかの化合物。
４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３−ピリジルオキシ｝アニリン、
４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−（エトキシカルボニル）メトキシ−３−ピリジルオキシ｝アニリン
４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−〔１−（メトキシカルボニル）エトキシ〕−３−ピリジルオキシ｝アニリン
４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−〔１−（エトキシカルボニル）エトキシ−３−ピリジルオキシ〕アニリン
４−クロロ−２−フルオロ−５−｛〔４−（メトキシカルボニル）メトキシピリミジン−２−イル〕オキシ｝アニリン、
４−クロロ−２−フルオロ−５−｛〔４−（エトキシカルボニル）メトキシピリミジン−２−イル〕オキシ｝アニリン
４−クロロ−２−フルオロ−５−｛〔４−〔１−（メトキシカルボニル）エトキシ〕ピリミジン−２−イル〕オキシ｝アニリン
４−クロロ−２−フルオロ−５−｛〔４−〔１−（エトキシカルボニル）エトキシ〕ピリミジン−２−イル〕オキシ｝アニリン。
【請求項２９】
一般式［ＬＸＩ］
2002155061.tif 000012
［式中、Ｒ7はカルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基、置換されていてもよいフェニルＣ１−Ｃ４アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシアミノカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）（Ｃ１−３アルキル）アミノカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルアミノカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）Ｃ１−Ｃ６アルキルアミノカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基、置換されていてもよいフェニルアミノカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基または置換されていてもよいフェニルＣ１−Ｃ４アルキルアミノカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。］
で示される化合物。
【請求項３０】
下記の群より選ばれるいずれかの化合物。
３−ヒドロキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン、
３−ヒドロキシ−２−（エトキシカルボニル）メトキシピリジン、
３−ヒドロキシ−２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン、
３−ヒドロキシ−２−｛１−（エトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン。
【請求項３１】
一般式［ＸＸＸＸＸＸＩＩ］
2002155061.tif 000013
［式中、Ｒ34は、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルメチル基、１−（Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル）エチル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシカルボニルメチル基、１−（Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシカルボニル）エチル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシカルボニルメチル基または１−（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシカルボニル）エチル基を表す。］
で示される化合物。
【請求項３２】
請求項１〜２０のいずれかに記載のウラシル化合物を有効成分として含有することを特徴とする除草剤。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はウラシル化合物及びその用途に関する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は優れた除草活性を有する化合物を提供することを課題とする。
【０００３】
【課題を解決する為の手段】
現在、数多くの除草剤が市販され、使用されているが、防除の対象となる雑草は種類も多く、発生も長期にわたるため、より除草効果が高く、幅広い殺草スペクトラムを有し、作物に対し薬害の問題を生じない除草剤が求められている。
特開昭６３−４１４６６号公報、特開平０３−２８７５７８号公報、ＷＯ９８−４１０９３等において、ある種のフェニルウラシル化合物が除草活性を有することが開示されているが、これらのフェニルウラシル化合物が除草剤として十分な性能を有するものではない。
本発明者らは優れた除草活性を有する化合物を見出すべく鋭意検討した結果、下記一般式［Ｉ］で示されるウラシル化合物が優れた除草活性を有することを見出し、本発明に至った。即ち、本発明は、一般式［Ｉ］
2002155061.tif 000014
［式中、Ｑ−Ｒ3は、下記の一般式
2002155061.tif 000015
で示されるＲ3が置換した５員または６員の含窒素ヘテロ環（該ヘテロ環上に、更にハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、シアノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、オキソ基およびチオキソ基からなる群より選ばれる少なくとも１種類の置換基が置換していてもよい。）基を表し、
Ｙは酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはＣ１−Ｃ３アルキルイミノ基を表し、Ｒ1はＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ１−Ｃ３ハロアルキル基を表し、
Ｒ2はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、
Ｒ3はカルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、ＯＲ7基、ＳＲ8基またはＮ（Ｒ9）Ｒ10基を表し、Ｘ1はハロゲン原子、シアノ基、チオカルバモイル基またはニトロ基を表し、
Ｘ2は水素原子またはハロゲン原子を表す。
｛ここで、Ｒ7、Ｒ8およびＲ10はそれぞれ独立して、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ８ハロシクロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ８ハロシクロアルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルキリデンアミノオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいフェニルＣ１−Ｃ４アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシアミノカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）（Ｃ１−３アルキル）アミノカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルアミノカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）Ｃ１−Ｃ６アルキルアミノカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいフェニルアミノカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基または置換されていてもよいフェニルＣ１−Ｃ４アルキルアミノカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、Ｒ9は水素原子またはＣ１−Ｃ６アルキル基を表す。｝］
で示されるウラシル化合物（以下、本発明化合物と記す。）およびそれを有効成分として含有する除草剤を提供する。
【０００４】
【発明の実施の形態】
本発明において、Ｑ−Ｒ3で示されるで示されるＲ3が置換した５員または６員の含窒素へテロ環は、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、シアノ基、ヒドロキシ基およびメルカプト基からなる群より選ばれる少なくとも１種類の置換基により置換されていてもよく、Ｑ−Ｒ3で示される基としては、下記の一般式
2002155061.tif 000016
［式中、Ｒ3は前記と同じ意味を表し、Ｚ1およびＺ2はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルコキシ基またはシアノ基を表す。（ここで、Ｚ1およびＺ2で示されるハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を意味し、Ｃ１−Ｃ６アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基としては、ブロモメチル基、クロロメチル基、フルオロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、２−フルオロエチル基、１，１−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリクロロプロピル基等があげられ、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基としては、アリル基、１−メチルアリル基、１，１−ジメチルアリル基、２−メチルアリル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基等があげられ、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基としては、１−クロロアリル基、１−ブロモアリル基、２−クロロアリル基、３，３−ジクロロアリル基等があげられ、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基としては、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、１，１−ジメチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−メチル−２−ブチニル基等があげられ、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基としては、３−ブロモ−２−プロピニル基、３−ヨード−２−プロピニル基、１−フルオロ−２−プロピニル基、１−クロロ−２−プロピニル基、１−ブロモ−２−プロピニル基、１−クロロ−２−ブチニル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６アルコキシＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メトキシメチル基、２−メトキシエチル基、１−メトキシエチル基、３−メトキシプロピル基、エトキシメチル基、２−エトキシエチル基、３−エトキシプロピル基、イソプロポキシメチル基、２−イソプロポキシエチル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブチルオキシ基、ｓ−ブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基としては、クロロメトキシ基、ブロモメトキシ基、ジクロロメチルオキシ基、トリクロロメチルオキシ基、トリフルオロメチルオキシ基、２−フルオロエチルオキシ基、２，２，２−トリクロロエチルオキシ基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルコキシ基としては、メトキシカルボニルメトキシ基、エトキシカルボニルメトキシ基、プロポキシカルボニルメトキシ基、イソプロポキシカルボニルメトキシ基、２−メトキシカルボニルエトキシ基、２−エトキシカルボニルエトキシ基、２−プロポキシカルボニルエトキシ基、２−イソプロポキシカルボニ���エトキシ基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としてはメトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、プロポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカルボニルメチル基、ｔ−ブトキシカルボニルメチル基、アミルオキシカルボニルメチル基、１−メトキシカルボニルエチル基、１−エトキシカルボニルエチル基、１−プロポキシカルボニルエチル基、１−イソプロポキシカルボニルエチル基、１−ブトキシカルボニルエチル基、１−ｔ−ブトキシカルボニルエチル基等ががあげられる。）］
で示される基等があげられる。
Ｒ3で示されるカルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基としては、カルボキシメチル基、１−カルボキシエチル基、２−カルボキシエチル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、プロポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、イソブトキシカルボニルメチル基、ｔ−ブトキシカルボニルメチル基、アミルオキシカルボニルメチル基、イソアミルオキシカルボニルメチル基、ｔ−アミルオキシカルボニルメチル基、１−メトキシカルボニルエチル基、１−エトキシカルボニルエチル基、１−プロポキシカルボニルエチル基、１−イソプロポキシカルボニルエチル基、１−ブトキシカルボニルエチル基、１−イソブトキシカルボニルエチル基、１−ｔ−ブトキシカルボニルエチル基、２−メトキシカルボニルエチル基、２−エトキシカルボニルエチル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、クロロメチルオキシカルボニルメチル基、２−フルオロエチルオキシカルボニルメチル基、２−クロロプロピルオキシカルボニルメチル基、１−クロロ−２−プロピルオキシカルボニルメチル基、２，２，２−トリフルオロエチルオキシカルボニルメチル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、アリルオキシカルボニルメチル基、１−メチル−２−プロペニルオキシカルボニルメチル基、２−メチル−２−プロペニルオキシカルボニルメチル基、２−ブテニルオキシカルボニルメチル基、１−アリルオキシカルボニルエチル基、１−（１−メチル−２−プロペニルオキシカルボニル）エチル基、１−（２−メチル−２−プロペニルオキシカルボニル）エチル基、２−アリルオキシカルボニルエチル基、２−（２−メチル−２−プロペニルオキシカルボニル）エチル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、１−クロロアリルオキシカルボニルメチル基、１−（１−クロロアリルオキシカルボニル）エチル基、２−クロロアリルオキシカルボニルメチル基、１−（２−クロロアリルオキシカルボニル）エチル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、プロパルギルオキシカルボニルメチル基、１−メチル−２−プロピニルオキシカルボニルメチル基、１−プロパルギルオキシカルボニルエチル基、１−（１−メチル−２−プロピニルオキシカルボニル）エチル基、２−プロパルギルオキシカルボニルエチル基、２−（１−メチル−２−プロピニルオキシカルボニル）エチル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、（３−クロロ−２−プロピニルオキシカルボニル）メチル基、１−（３−クロロ−２−プロピニルオキシカルボニル）エチル基、（１−クロロ−２−プロピニルオキシカルボニル）メチル基、１−（１−クロロ−２−プロピニルオキシカルボニル）エチル基等があげられ、
Ｙで示されるＣ１−Ｃ３アルキルイミノ基としては、メチルイミノ基、エチルイミノ基等があげられ、
Ｒ1で示されるＣ１−Ｃ３アルキル基とは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基を意味し、Ｃ１−Ｃ３ハロアルキル基としては、ブロモメチル基、クロロメチル基、フルオロメチル基、ジクロロメチル基、クロロジフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、１，１−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基等があげられ、Ｒ2で示されるＣ１−Ｃ３アルキル基とは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基を意味し、
Ｒ7、Ｒ8およびＲ9で示されるカルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基としては、カルボキシメチル基、１−カルボキシエチル基、２−カルボキシエチル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、プロポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、イソブトキシカルボニルメチル基、ｓ−ブトキシカルボニルメチル基、ｔ−ブトキシカルボニルメチル基、アミルオキシカルボニルメチル基、イソアミルオキシカルボニルメチル基、ｔ−アミルオキシカルボニルメチル基、１−メトキシカルボニルエチル基、１−エトキシカルボニルエチル基、１−プロポキシカルボニルエチル基、１−イソプロポキシカルボニルエチル基、１−ブトキシカルボニルエチル基、１−イソブトキシカルボニルエチル基、１−ｓ−ブトキシカルボニルエチル基、１−ｔ−ブトキシカルボニルエチル基、２−メトキシカルボニルエチル基、２−エトキシカルボニルエチル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、クロロメチルオキシカルボニルメチル基、２−フルオロエチルオキシカルボニルメチル基、２−クロロプロピルオキシカルボニルメチル基、１−クロロ−２−プロピルオキシカルボニルメチル基、２，２，２−トリフルオロエチルオキシカルボニルメチル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、アリルオキシカルボニルメチル基、１−メチル−２−プロペニルオキシカルボニルメチル基、２−メチル−２−プロペニルオキシカルボニルメチル基、２−ブテニルオキシカルボニルメチル基、１−アリルオキシカルボニルエチル基、１−（１−メチル−２−プロペニルオキシカルボニル）エチル基、１−（２−メチル−２−プロペニルオキシカルボニル）エチル基、２−アリルオキシカルボニルエチル基、２−（２−メチル−２−プロペニルオキシカルボニル）エチル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、１−クロロ−２−プロペニルオキシカルボニルメチル基、１−（２−クロロ−２−プロペニルオキシカルボニル）エチル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、プロパルギルオキシカルボニルメチル基、１−メチル−２−プロピニルオキシカルボニルメチル基、１−プロパルギルオキシカルボニルエチル基、１−（１−メチル−２−プロピニルオキシカルボニル）エチル基、２−プロパルギルオキシカルボニルエチル基、２−（１−メチル−２−プロピニルオキシカルボニル）エチル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、１−ブロモ−２−プロピニルオキシカルボニルメチル基、１−（１−クロロ−２−プロピニルオキシカルボニル）エチル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、シクロプロピルオキシカルボニルメチル基、シクロペンチルオキシカルボニルメチル基、１−（シクロブチルオキシカルボニル）エチル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ８ハロシクロアルキルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、２，２−ジフルオロシクロペンチルオキシカルボニルメチル基、１−（２−クロロシクロブチルオキシカルボニル）エチル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ８シクロアルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、２−シクロペンテニルオキシカルボニルメチル基、１−（２−シクロブテニルオキシカルボニル）エチル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ８ハロシクロペンテニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、４−ブロモ−２−シクロブテニルオキシカルボニルメチル基、１−（４−ブロモ−２−シクロペンテニルオキシカルボニル）エチル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、（メトキシカルボニルメトキシ）カルボニルメチル基、（２−メトキシカルボニル−２−プロポキシ）カルボニルメトキシカルボニルメチル基、１−［（１−エトキシカルボニルエチル）カルボニル］エチル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６アルキリデンアミノオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、２−（イソプロピリデンアミノオキシカルボニル）エチル基等があげられ、置換されていてもよいフェノキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、フェノキシカルボニルメチル基、１−フェノキシカルボニルエチル基等があげられ、置換されていてもよいフェニルＣ１−Ｃ４アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としてはベンジルオキシカルボニルメチル基、１−ベンジルオキシカルボニルエチル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６アルコキシアミノカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メトキシアミノカルボニルメチル基、１−メトキシアミノカルボニルエチル基、エトキシアミノカルボニルメチル基、１−エトキシアミノカルボニルエチル基等があげられ、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）（Ｃ１−３アルキル）アミノカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、（メトキシ）（メチル）アミノカルボニルメチル基、１−（メトキシ）（メチル）アミノカルボニルエチル基、（エトキシ）（メチル）アミノカルボニルメチル基、１−（エトキシ）（メチル）アミノカルボニルエチル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６アルキルアミノカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メチルアミノカルボニルメチル基、エチルアミノカルボニルメチル基、イソブチルアミノカルボニルメチル基、１−メチルアミノカルボニルエチル基、１−エチルアミノカルボニルエチル基、１−イソプロピルアミノカルボニルエチル基等があげられ、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）Ｃ１−Ｃ６アルキルアミノカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としてはジメチルアミノカルボニルメチル基、１−ジメチルアミノカルボニルエチル基等があげられ、置換されていてもよいフェニルアミノカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、フェニルアミノカルボニルメチル基、１−フェニルアミノカルボニルエチル基等があげられ、置換されていてもよいフェニルＣ１−Ｃ４アルキルアミノカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としてはベンジルアミノカルボニルメチル基、１−ベンジルアミノカルボニルエチル基等があげられ、
Ｒ9で示されるＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等があげられ、
【０００５】
Ｘ1およびＸ2で示されるハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を意味する。
【０００６】
本発明化合物において、除草活性の点から、Ｑ−Ｒ3で示される基については、Ｑ−１またはＱ−６が好ましい。Ｙについては、酸素原子または硫黄原子が好ましく、酸素原子がより好ましい。Ｒ1についてはフッ素原子で置換されたメチル基（例えば、トリフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ジフルオロメチル基等）、フッ素原子で置換されたエチル基（例えば、ペンタフルオロエチル基、１，１−ジフルオロエメチル基等）が好ましく、トリフルオロメチル基が更に好ましい。Ｒ2についてはメチル基またはエチル基が好ましく、メチル基が更に好ましい。Ｒ3についてはＣ１−Ｃ４アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ４アルコキシ基、Ｃ３−Ｃ７シクロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ４アルキルチオ基またはＣ１−Ｃ４アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ４アルキルアミノ基が好ましく、Ｃ１−Ｃ２アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ２アルコキシ基が更に好ましい。Ｘ1についてはハロゲン原子が好ましく、塩素原子が更に好ましい。Ｘ2についてはハロゲン原子が好ましく、フッ素原子が更に好ましい。
尚、本発明化合物には、二重結合に由来する幾可異性体、不斉炭素に由来する光学異性体及びジアステレオマ−が存在する場合があるが、本発明化合物には、これらの異性体及びその混合物も含まれる。
【０００７】
次に本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は、例えば下記（製造法１）〜（製造法１０）の製造法により製造する事ができる。
（製造法１）
本発明化合物のうち、一般式［Ｉ］におけるＲ3がＯＲ7基、ＳＲ8基またはＮ（Ｒ9）Ｒ10基である化合物は、一般式［ＩＩＩ］
2002155061.tif 000017
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｙ、Ｑ、Ｘ1およびＸ2は前記と同じ意味を表し、Ｗは酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはメチルイミノ基等のＣ１−Ｃ３アルキルイミノ基を表す。］
で示される化合物と一般式［ＩＶ］
2002155061.tif 000018
［式中、Ｒ11はカルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいフェニルＣ１−Ｃ４アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシアミノカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）（Ｃ１−３アルキル）アミノカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルアミノカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）Ｃ１−Ｃ６アルキルアミノカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいフェニルアミノカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基または置換されていてもよいフェニルＣ１−Ｃ６アルキルアミノカルボニルＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ12は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。］
で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常０〜２００℃、反応時間の範囲は通常瞬時から７２時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＩＩＩ］で示される化合物１モルに対して、一般式［ＩＶ］で示される化合物は１モルの割合、塩基の量は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩基としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば、以下の１）または２）に示す操作により、目的の本発明化合物を得ることができる。
１）反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮する。
２）反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【０００８】
（製造法２）
本発明化合物のうち、一般式［Ｉ］におけるＲ3がＯＲ7である化合物は、一般式［Ｖ］
2002155061.tif 000019
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｙ、Ｑ、Ｘ1およびＸ2は前記と同じ意味を表す。］
で示される化合物と一般式［ＶＩ］
2002155061.tif 000020
［式中、Ｒ7は前記と同じ意味を表す。］
で示されるアルコール化合物とを、脱水試剤の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常−２０〜１５０℃、好ましくは０〜１００℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時から４８時間である。
脱水試剤としては例えば、トリフェニルホスフィン等のトリアリールホスフィンおよびジエチルアゾジカルボキシレート、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート等のジ（低級アルキル）アゾジカルボキシレートの組合せが挙げられる。
反応に供される試剤の量は、一般式［Ｖ］で示される化合物１モルに対して、一般式［ＶＩ］で示されるアルコール化合物は１〜３モル、好ましくは１〜１.２モル、脱水試剤として用いられるトリアリールホスフィンまたはトリアルキルホスフィンは１〜３モル、好ましくは１〜１.５モル、ジ（低級アルキル）アゾジカルボキシレートは１〜３モル、好ましくは１〜１.５モルである。これらの試剤の比率は反応の状況により任意に変化させることができる。
反応に用いられる溶媒としては、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等のハロゲン化芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、ＴＨＦ、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル類あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば、以下の１）または２）に示す操作により、目的の本発明化合物を得ることができる。
１）反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮し、残渣をクロマトグラフィーに付す。
２）反応液をそのまま濃縮し、残渣をクロマトグラフィーに付す。
なお、得られた本発明化合物は、再結晶等の操作によって精製することも可能である場合がある。
【０００９】
（製造法３）
本発明化合物のうち、一部の化合物は、一般式［ＶＩＩ］
2002155061.tif 000021
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｙ、Ｑ、Ｘ1、Ｘ2およびＷは前記と同じ意味を表し、Ｒ13はＣ１−Ｃ４アルキリデン基を表し、ｍは０または１の整数を表す。］
で示されるカルボン酸化合物と一般式［ＶＩＩＩ］
2002155061.tif 000022
［式中、Ｒ14はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルケニル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ１−Ｃ６アルキニル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキニル基を表す。］
で示されるアルコール化合物とを、原料として用いて製造することができる。
該反応は例えば、一般式［ＶＩＩ］で示されるカルボン酸化合物を塩素化剤と反応させることにより酸塩化物とした（以下、〈工程３−１〉と記す。）後、一般式［ＶＩＩＩ］で示されるアルコール化合物と塩基の存在下に反応させる（以下、〈工程３−２〉と記す。）ことにより行われる。
【００１０】
〈工程３−１〉は、無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常０〜１５０℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＶＩＩ］で示されるカルボン酸化合物１モルに対して、塩素化剤は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩素化剤としては、例えば塩化チオニル、塩化スルフリル、ホスゲン、塩化オキサリル、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン等が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ノナン、デカン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，２，３−トリクロロプロパン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル類あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば反応液を濃縮し、濃縮残渣をそのまま〈工程３−２〉に使用する。
【００１１】
〈工程３−２〉は、無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常−２０〜１００℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、〈工程３−１〉で用いた一般式［ＶＩＩ］で示されるカルボン酸化合物１モルに対して、一般式［ＶＩＩＩ］で示されるアルコール化合物および塩基はそれぞれ１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化することができる。
用いられる塩基としては、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ピリジン、キノリン、４−ジメチルアミノピリジン、２−ピコリン、３−ピコリン、４−ピコリン、２，３−ルチジン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジン、２，６−ルチジン、３，４−ルチジン、３，５−ルチジン、３−クロロピリジン、２−エチル−３−メチルピリジン、５−エチル−２−メチルピリジン等の含窒素芳香族化合物、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ベンジルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エンまたは１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の第３級アミン類が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ノナン、デカン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，２，３−トリクロロプロパン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル類あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば、以下の１）または２）に示す操作により、目的の本発明化合物を得ることができる。
１）反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮する。
２）反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【００１２】
また、該反応は上記の方法に限らず、一般式［ＶＩＩ］で示される化合物と一般式［ＶＩＩＩ］で示される化合物とを、縮合剤とともに溶媒中にて反応（必要に応じて塩基の存在下）させることも可能である。反応温度の範囲は０〜１００℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜４８時間である。
縮合剤としては、カルボニルジイミダゾール、ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−３−エチルカルボジイミド塩酸塩があげられる。必要に応じて用いられる塩基としては、トリエチルアミン、自イソプロピルアミン等の有機塩基があげられる。反応に供される試剤の量は、一般式［ＶＩＩ］で示される化合物に対して、一般式［ＶＩＩＩ］で示される化合物は１〜３モルの割合、縮合剤は１〜３モルの割合、必要に応じて用いられる塩基は０．５〜３モルの割合であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
溶媒としては、ジクロロメタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド類、テトラヒドロフラン等のエーテル類、あるいはそれらの混合物が用いられる。
反応終了後は、例えば、反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮する等の方法により、目的の本発明化合物を得ることができる。得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作により精製することも可能である。
更に該反応は、上記の方法によらず、酸触媒の存在下に反応させる方法およびその他の公知の方法によっても行うことも可能である。
【００１３】
（製造法４）
本発明化合物のうち、一般式［Ｉ］におけるＸ1がシアノ基である化合物は、一般式［ＩＸ］
2002155061.tif 000023
［式中、Ｒ1、Ｒ2およびＸ2は前記と同じ意味を表し、Ｒ15はフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。］
で示されるウラシル化合物と一般式［Ｘ］
2002155061.tif 000024
［式中、Ｙ、ＱおよびＲ3は前記と同じ意味を表す。］
で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は０〜２００℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＩＸ］で示されるウラシル化合物１モルに対して、一般式［Ｘ］で示される化合物は１モルの割合、塩基は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩基としては、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
該反応は、触媒を使用することにより反応が加速されることがある。触媒としては、ヨウ化銅、臭化銅、塩化銅、銅粉末等が挙げられ、反応に供される触媒の量は、一般式［ＩＸ］で示されるウラシル化合物１モルに対して、０．０００１〜１モルの割合であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
反応終了後は、例えば、以下の１）または２）に示す操作により、目的の本発明化合物を得ることができる。
１）反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮する。
２）反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【００１４】
（製造法５）
本発明化合物は、一般式［ＸＩ］
2002155061.tif 000025
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｙ、Ｘ1およびＸ2は前記と同じ意味を表す。］で示されるウラシル化合物と、一般式［ＸＩＩ］
2002155061.tif 000026
［式中、Ｒ16はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基等の脱離基を表し、Ｒ3は前記と同じ意味を表す。］
で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は室温〜２００℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＩ］で示される化合物１モルに対して、一般式［ＸＩＩ］で示される化合物は１モルの割合、塩基は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩基としては、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、等の無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
該反応は、触媒の添加により反応が加速されることがある。
反応に供される触媒の量は、一般式［ＸＩ］で示される化合物１モルに対して、０．０００１〜１モルの割合が好ましいが、反応の状況により任意に変化させることができる。
触媒としては、ヨウ化銅、臭化銅、塩化銅、銅粉末等の銅化合物、１２−クラウン−４、１５−クラウン−５、１８−クラウン−６等のクラウンエーテルが挙げられる。
反応終了後は、例えば、以下の１）または２）に示す操作により、目的物を得ることができる。
１）反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮する。
２）反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【００１５】
（製造法６）
本発明化合物は、一般式［ＸＸＸＩ］
2002155061.tif 000027
［式中、Ｒ1、Ｒ3、Ｙ、Ｑ、Ｘ1およびＸ2は前記と同じ意味を表す。］
で示されるウラシル化合物と、一般式［ＸＸＸＸ］
2002155061.tif 000028
［式中、Ｒ2およびＲ12は前記と同じ意味を表す。］
で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は−２０〜１５０℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＸＸＩ］で示されるウラシル化合物１モルに対して、一般式［ＸＸＸＸ］で示される化合物は１モルの割合、塩基は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩基としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、等の無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロパノール、ｔ−ブタノール等のアルコール類、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば、以下の１）または２）に示す操作により、目的の本発明化合物を得ることができる。
１）反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮する。
２）反応液を水に注加し、生じた固体を濾集する。
３）反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【００１６】
（製造法７）
本発明化合物のうち、一般式［Ｉ］におけるＸ1がシアノ基（一般式［７−３］で示される化合物）は、以下のスキームに記載の方法により、製造することができる。
2002155061.tif 000029
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｑ，Ｘ2およびＹは前記と同じ意味を表し、Ｘ10は臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｍ1は銅（Ｉ価）を表す。］
該反応は、通常溶媒中にて行われ、反応温度は通常１３０〜２５０℃、好ましくは１５０℃〜溶媒還流温度であり、反応時間は瞬時〜２４時間である。
反応に用いられる一般式［７−２］で示される化合物としては、シアン化銅があげられる。一般式［７−２］で示される化合物の量は、一般式［７−１］で示される化合物１モルに対して、１モル〜過剰量であり、好ましくは１〜３モルであるが、反応の状況により変化させることができる。
用いられる溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物があげられる。
反応終了後の反応液は、例えば以下の１）または２）に示す操作により、目的物を得ることができる。
１）反応液を濾過し、該櫨液を濃縮する。
２）反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を水にて洗浄し、乾燥し、濃縮する。
なお、該目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【００１７】
（製造法８）
本発明化合物は、以下のスキームに記載の方法により、製造することができる。
2002155061.tif 000030
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ11、Ｗ、Ｙ、Ｑ、Ｘ1およびＸ2は前記と同じ意味を表し、Ａ-はＣｌ-、ＢＦ4-、ＣＦ3ＳＯ3-等のジアゾニウム陽イオンの対陰イオンを表す。］
〈工程８−１〉一般式［ＸＸＩＩＩ］で示される化合物から、一般式［ＸＸＸＸＶＩ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＸＸＸＶＩ］で示される化合物は、一般式［ＸＸＩＩＩ］で示される化合物を、溶媒中にてジアゾ化剤によりジアゾ化することにより製造することができる。
反応温度は−３０〜３０℃の範囲であり、反応時間は通常瞬時〜１０時間の範囲である。反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＸＩＩＩ］で示される化合物１モルに対して、ジアゾ化剤は１〜３モルの範囲であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
ジアゾ化剤としては、亜硝酸（亜硝酸ナトリウム等の亜硝酸塩と酢酸、塩酸等のプロトン酸とから調製される）；亜硝酸イソアミル、亜硝酸ｔ−ブチル等の亜硝酸エステルがあげられる。
溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、１，２，３−トリクロロプロパン等のハロゲン化脂肪族炭化水素、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、塩酸、臭化水素酸、硫酸、あるいはこれらの混合物が用いられる。
反応終了後の反応混合物は、引き続いて次工程の反応に使用する。
【００１８】
（工程８−２）一般式［ＸＸＸＸＶＩ］で示される化合物から一般式［ＸＩＶ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＩＶ］で示される化合物は、例えば一般式［ＸＸＸＸＶＩ］で示されるジアゾニウム塩を、溶媒中一般式［ＸＩＩＩ］で示される化合物と反応させることにより製造することができる。
反応温度は０〜１２０℃の範囲であり、反応時間は通常瞬時〜２０時間の範囲である。
反応に供される反応試剤の量は、一般式［ＸＸＸＸＶＩ］で示されるジアゾニウム塩１モルに対して、一般式［ＸＩＩＩ］で示される化合物は１〜１０モルの範囲であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる溶媒としては、トルエン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、あるいはそれらの混合物があげられる。
反応終了後の反応液は、例えば以下の１）または２）に示す操作により、目的物を得ることができる。
１）反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮する。
２）反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該櫨液を濃縮する。
なお、該目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【００１９】
（製造法９）
本発明化合物のうち、一般式［Ｉ］におけるＸ1がニトロ基（一般式［ＸＶＩ］で示される化合物）、またはハロゲン原子（一般式［ＸＶＩＩＩ］で示される化合物）である化合物は、以下のスキームに記載の方法により、製造することができる。
2002155061.tif 000031
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ15、Ｑ、ＹおよびＸ2は前記と同じ意味を表し、Ｒ25はフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。］
【００２０】
〈工程９−１〉：一般式［ＸＶＩ］で示される化合物は、例えば一般式［ＸＶ］で示される化合物と一般式［Ｘ］で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応の反応温度は、通常０〜２００℃の範囲であり、反応時間は瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＶ］で示される化合物１モルに対して、一般式［Ｘ］で示される化合物は１モル、塩基は１モルが理論量であるが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
反応に用いられる塩基としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、等のエステル類、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮する等の操作により、目的物を得ることができる。
目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【００２１】
〈工程９−２〉：一般式［ＸＶＩＩ］で示される化合物は、例えば一般式［ＸＶＩ］で示される化合物を、１）酸の存在下に鉄粉を反応させる、あるいは、２）触媒存在下に水素添加することにより製造することができる。
１）酸の存在下に鉄粉を反応させる方法
本反応は通常溶媒中にて行い、反応温度は０〜１５０℃の範囲、好ましくは室温〜溶媒の還流温度であり、反応時間は瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＶＩ］で示される化合物１モルに対して、鉄粉は３モル〜過剰量、酸は１〜１０モルの範囲が通常であるが、反応の状況により変化させることができる。
用いられる酸としては、酢酸、塩酸があげられる。用いられる溶媒としては、水、酢酸、酢酸エチル、あるいはそれらの混合物があげられる。
反応終了後は、例えば反応混合物を水に注加し、生じた固体を櫨集する等の通常の操作により、目的物を得ることができる。
目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
２）触媒存在下に水素添加する方法
本反応は、通常溶媒中にて行い、反応温度は−２０〜１５０℃、好ましくは０〜５０℃の範囲であり、反応時間は瞬時〜４８時間である。
本反応は水素雰囲気下に行うが、好ましくは１〜５気圧の圧力にて行う。
用いられる触媒の量は、一般式［ＸＶＩ］で示される化合物に対して、０．００１〜１０％重量である。触媒としては、パラジウム／炭素、酸化プラチナが上げられる。
溶媒としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、メタノール、エタノール等のアルコール類、あるいはそれらの混合物があげられる。
反応終了後は、反応混合物を濾過した後に、濃縮する等の通常の操作により、目的物を得ることができる。
目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することもかのうである。
【００２２】
〈工程９−３〉：一般式［ＸＶＩＩＩ］で示される化合物は、例えば、一般式［ＸＶＩＩ］で示される化合物を、１）ｉ）溶媒中でジアゾ化した後、ｉｉ）引き続きハロゲン化物と反応させる、あるいは、２）ハロゲン化物の存在下に、溶媒中でジアゾ化する（Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ．，３８，１５８１（１９９４）参照）ことにより製造することができる。
１）ｉ）溶媒中でジアゾ化した後、ｉｉ）引き続きハロゲン化物と反応させる方法
ｉ）ジアゾ化反応の第１工程は、反応温度は−２０〜１０℃の範囲であり、反応時間は瞬時〜５時間である。反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＶＩＩ］で示される化合物１モルに対して、ジアゾ化剤は１モルが理論量であるが反応の状況に応じて変化させることができる。ジアゾ化剤としては、亜硝酸（亜硝酸ナトリウム等の亜硝酸塩と酢酸、塩酸等のプロトン酸から調製される）；亜硝酸イソアミル、亜硝酸ｔ−ブチル等の亜硝酸エステル等があげられる。用いられる溶媒としてはアセトニトリル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、水、あるいはそれらの混合物があげられる。反応後は、反応混合物は次工程の原料として用いられる。
ｉｉ）ハロゲン化物と反応させる第２工程は、反応温度は通常０〜８０℃、反応時間は瞬時〜４８時間である。反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＶＩＩ］で示される化合物１モルに対して、ハロゲン化物は１〜３モルであるが、反応の状況に応じて変化させることができる。ハロゲン化物としては、ヨウ化カリウム、臭化銅[Ｉ]（または臭化銅[ＩＩ]との混合物）、塩化銅[Ｉ]（または塩化銅[ＩＩ]との混合物）またはフッ化水素酸とホウ酸の混合物（ホウフッ化水素酸）があげられる。溶媒としてはアセトニトリル、ジエチルエーテル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、あるいはそれらの混合物があげられる。反応終了後は、反応混合物を水に注加し、必要に応じて中和した後に、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮する等の通常の後処理操作により、目的物を得ることができる（Ｏｒｇ．Ｓｙｎ．Ｃｏｌｌ．Ｖｏｌ．２，６０４（１９４３）、Ｖｏｌ．１，１３６（１９３２）参照）。
２）ハロゲン化物の存在下に、溶媒中でジアゾ化する方法
反応温度は、−２０〜５０℃であり、好ましくは−１０℃〜室温であり、反応時間は瞬時〜４８時間である。反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＶＩＩ］で示される化合物１モルに対して、ハロゲン化物は１〜３モル、ジアゾ化剤は１〜３モルであるが、反応の状況に応じて変化させることができる。ハロゲン化物としては、ヨウ化カリウム、臭化銅[Ｉ]（または臭化銅[ＩＩ]との混合物）、塩化銅[Ｉ]（または塩化銅[ＩＩ]との混合物）またはフッ化水素酸とホウ酸の混合物（ホウフッ化水素酸）があげられ、ジアゾ化剤としては、亜硝酸（亜硝酸ナトリウム等の亜硝酸塩と酢酸、塩酸等のプロトン酸から調製される）；亜硝酸イソアミル、亜硝酸ｔ−ブチル等の亜硝酸エステル等があげられる。溶媒としては、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、あるいはそれらの混合物があげられる。反応終了後は、反応混合物を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮する等の通常の後処理操作により、目的物を得ることができる。
目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【００２３】
本発明化合物の製造法で用いられる一般式［ＩＶ］で示される化合物、一般式［ＶＩ］で示されるアルコール化合物、一般式［ＶＩＩＩ］で示されるアルコール化合物、一般式［Ｘ］で示される化合物、一般式［ＸＩＩＩ］で示される化合物、一般式［ＸＶ］で示される化合物、一般式［ＸＸＸＸ］で示される化合物、一般式［ＸＸＸＸＩＩ］で示される化合物、一般式［ＸＸＸＸＩＩＩ］で示される化合物および一般式［ＸＸＸＸＩＶ］で示される化合物は、市販のものを用いるか、公知の方法により製造することができる。
一般式［ＩＸ］で示される化合物は、例えばドイツ特許公開公報ＤＥ４４１２０７９で公知である。
一般式［ＶＩＩ］で示されるカルボン酸化合物は、同部位がエステルである一般式［Ｉ］で示される本発明化合物を酸加水分解することにより製造できる。
一般式［ＸＩ］で示される化合物は、例えば特開昭６３−４１４６６公報、特開昭６１−４０２６１公報、ＷＯ９８４７９０４公報で公知であるか、同公報に記載の方法に準じて製造することができる。
【００２４】
本発明化合物の製造法で用いられる製造中間体のいくつかは、例えば下記（中間体製造法１）〜（中間体製造法１２）の製造法にて製造することができる。
（中間体製造法１）
一般式［ＸＩＩ］で示される化合物のうち、Ｒ3がＯＲ7基、ＳＲ8基またはＮ（Ｒ9）Ｒ10基である化合物は、以下のスキームに記載の方法により製造することができる。
2002155061.tif 000032
［式中、Ｒ26はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基等の脱離基を表し、Ｒ11、Ｒ16、ＱおよびＷは前記と同じ意味を表す。］
一般式［Ｘ１−２］で示される化合物は、一般式［Ｘ１−１］で示される化合物と一般式［ＸＩＩＩ］で示される化合物とを塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
供される試剤の量としては、一般式［Ｘ１−１］で示される化合物１モルに対して、一般式［ＸＩＩＩ］で示される化合物は１モル、塩基は１モルが理論量であるが、反応の状況に応じて変化させることができる。
【００２５】
（中間体製造法２）
一般式［ＩＩＩ］で示される化合物のうち、ＷがＮＨである化合物（一般式［ＸＸＩＩＩ］で示される化合物）は、以下のスキームに記載の方法により、製造することができる。
2002155061.tif 000033
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ16、Ｙ、Ｑ、Ｘ1およびＸ2は前記と同じ意味を表す。］
〈工程Ａ２−１〉：一般式［ＸＩ］で示される化合物から、一般式［ＸＸＩＩ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＸＩＩ］で示される化合物は、一般式［ＸＩ］で示される化合物と一般式［ＸＸＩ］で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は０〜２００℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＩ］で示される化合物１モルに対して、一般式［ＸＸＩ］で示される化合物は１モルの割合、塩基は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−１−ピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
該反応は、触媒の添加により反応が加速されることがある。
反応に供される触媒の量は、一般式［ＸＩ］で示される化合物１モルに対して、０．０００１〜０．１モルの割合が好ましいが、反応の状況により任意に変化させることができる。
触媒としては、ヨウ化銅、臭化銅、塩化銅、銅粉末等の銅化合物、１５−クラウン−５、１８−クラウン−６等のクラウンエーテルが挙げられる。
反応終了後は、例えば反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮する等の操作により、目的物を得ることができる。
目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
〈工程Ａ２−２〉：一般式［ＸＸＩＩ］で示される化合物から、一般式［ＸＸＩＩＩ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＸＩＩＩ］で示される化合物は、例えば一般式［ＸＸＩＩ］で示される化合物を鉄粉等を用いて酸の存在下、溶媒中で還元することにより製造することができる。
該反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は０〜１５０℃であり、好ましくは室温〜加熱還流である。反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＸＩＩ］で示される化合物１モルに対して、鉄粉等の量は３モル〜過剰量の割合、酸は１〜１０モルの割合であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる酸としては、酢酸等が挙げられる。溶媒としては、例えば水、酢酸、酢酸エチル等あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、鉄粉等を濾過した後、（必要に応じて水を加えて）生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出、中和および濃縮等の通常の後処理を行い、目的物を得ることができる。
目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【００２６】
（中間体製造法３）
一般式［ＩＩＩ］で示される化合物のうち、Ｗが酸素原子である化合物（一般式［Ｖ］で示される化合物）は、以下のスキームに記載の方法により製造することもできる。
2002155061.tif 000034
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｙ、Ｑ、Ｘ1およびＸ2は前記と同じ意味を表す。］
一般式［Ｖ］で示される化合物は、ｉ）一般式［ＸＸＩＩＩ］で示される化合物をジアゾ化剤と溶媒中で反応させた後、ｉｉ）引き続き、酸性溶媒中で加熱するか、あるいは、銅塩を作用させることにより製造することができる。
第１段階の反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は−２０〜１０℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜５時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＸＩＩＩ］で示される化合物１モルに対して、ジアゾ化剤の量は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられるジアゾ化剤としては、亜硝酸（亜硝酸ナトリウム等の亜硝酸塩と酢酸、塩酸等のプロトン酸とから調製される）；亜硝酸イソアミル、亜硝酸ｔ−ブチル等の亜硝酸エステルがあげられる。
溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，２，３−トリクロロプロパン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトニトリル、塩酸、臭化水素、硫酸、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、そのまま次の反応に用いる。
【００２７】
第２段階の酸性溶媒中で加熱する反応は、反応温度の範囲は６０℃〜加熱還流であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
酸性溶媒としては、例えば塩酸水、臭化水素水、硫酸水等が挙げられる。
反応終了後の反応液は、（必要に応じて水を加えて）生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、得ることができる。
該目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって精製することができる。
（Org．Syn．Coll．Vol.２,６０４（１９４３），Vol.１,１３６（１９３２）参照）
【００２８】
（中間体製造法４）
一般式［Ｘ］で示される化合物のうち、Ｒ3がＯＲ7またはＳＲ8である化合物（一般式［ＸＸＶＩ］で示される化合物）は、以下のスキームに記載の方法により製造することができる。
2002155061.tif 000035
［式中、Ｒ11、Ｒ12、ＹおよびＱは前記と同じ意味を表し、Ｒ17は酸素原子または硫黄原子を表す。］
一般式［ＸＸＶＩ］で示される化合物は、一般式［ＸＸＶ］で示される化合物と一般式［ＩＶ］で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
供される試剤の量としては、一般式［ＸＸＶ］で示される化合物１モルに対して、一般式［ＩＶ］で示される化合物１モル、塩基１モルが理論量であるが、反応の状況に応じて変化させることができる。
【００２９】
（中間体製造法５）
一般式［Ｘ］で示される化合物のうち、Ｒ3がＯＲ7基、ＳＲ8基またはＮ（Ｒ9）Ｒ10基であり、Ｙが酸素原子または硫黄原子である化合物（一般式［ＸＸＸ］で示される化合物）は、以下のスキームに記載の方法により製造することができる。
2002155061.tif 000036
［式中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ17、ＷおよびＱは前記と同じ意味を表し、Ｒ19はｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチル基、ベンジル基、メチル基等の保護基を表わす。］
〈工程Ａ５−１〉：一般式［ＸＸＶＩＩ］で示される化合物から、一般式［ＸＸＶＩＩＩ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＸＶＩＩＩ］で示される化合物は、一般式［ＸＸＶＩＩ］で示される化合物と塩化ｔ−ブチルジメチルシリル、イソブテン、塩化ベンジル、臭化ベンジル等とを反応させることにより製造できる。（Protective Groups in Organic Synthesis（A Wiley-Interscience publication社刊）参照）
〈工程Ａ５−２〉：一般式［ＸＸＶＩＩＩ］で示される化合物から、一般式［ＸＸＩＸ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＸＩＸ］で示される化合物は、一般式［ＸＸＶＩＩＩ］で示される化合物と一般式［ＩＶ］で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
〈工程Ａ５−３〉：一般式［ＸＸＩＸ］で示される化合物から、一般式［ＸＸＸ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＸＸ］で示される化合物は、「有機化学実験の手引き」４巻（化学同人社刊）、Protective Groups in Organic Synthesis（A Wiley-Interscience publication社刊）に記載の方法に準じて、一般式［ＸＸＩＸ］で示される化合物のうち、Ｒ18がｔ−ブチルジメチルシリル基である化合物を、トリフルオロ酢酸またはテトラブチルアンモニウフルオリド等を用いて，塩化メチレン、酢酸エチルまたは水等の溶媒中にて脱保護させることにより、製造することができる。
また、一般式［ＸＸＩＸ］で示される化合物のうち、Ｒ18がベンジル基である化合物を、触媒の存在下に水素と反応させることにより製造することができる。
【００３０】
（中間体製造法６）
一般式［ＩＩＩ］で示される化合物のうち、Ｗが酸素原子である化合物（一般式［Ｖ］で示される化合物）は、以下のスキームに記載の方法により、製造することもできる。
2002155061.tif 000037
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ａ-、Ｙ、Ｑ、Ｘ1およびＸ2は前記と同じ意味を表し、Ｒ24はメチル基等のアルキル基、トリフルオロメチル基等のハロアルキル基を表し、Ｍはホウ素等の金属原子を表す。］
〈工程Ａ６−１〉：一般式［ＸＸＸＸＶＩ］で示される化合物から、一般式［ＸＸＸＸＶＩＩＩ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＸＸＸＶＩＩ］で示される化合物は、例えば一般式［ＸＸＸＸＶＩ］で示されるジアゾニウム塩と一般式［ＸＸＸＸＶＩＩ］で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。反応温度は、室温〜１２０℃、好ましくは５０〜９０℃であり、反応時間は瞬時〜５時間である。
供される試剤の量は、一般式［ＸＸＸＸＶＩ］で示されるジアゾニウム塩１モルに対して、一般式［ＸＸＸＸＶＩＩ］で示される化合物は１モルが理論量であるが、反応の状況に応じて変化させることができる。
〈工程Ａ６−２〉：一般式[ＸＸＸＸＶＩＩＩ]で示される化合物から、一般式［Ｖ］で示される化合物を製造する工程
一般式［Ｖ］で示される化合物は、一般式［ＸＸＸＸＶＩＩＩ］で示される化合物を公知の方法で加水分解することにより製造することができる。
【００３１】
（中間体製造法７）
一般式［ＸＸＸＩ］で示される化合物は、以下のスキームに記載の方法により、製造することができる。
2002155061.tif 000038
［式中、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ15、Ｙ、Ｑ、Ｘ1およびＸ2は前記と同じ意味を表わし、Ｒ18はメチル基、エチル基等のＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、Ｒ27はメチル基、エチル基等のＣ１−Ｃ６アルキル基またはフェニル基等の置換されていてもよいフェニル基を表し、Ｘ12は塩素原子または臭素原子を表す。］
〈工程Ａ７−１〉：一般式［ＸＸＸＸＸＩ］で示される化合物から、一般式［ＸＸＸＸＸＩＩＩ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＸＸＸＸＩＩＩ］で示される化合物は、一般式［ＸＸＸＸＸＩ］で示される化合物を、イソシアネート化剤と反応させることにより製造することができる。
イソシアネート化剤としては、ホスゲン、クロロ蟻酸トリクロロメチル、取りホスゲン、塩化オギザリルがあげられる。供されるイソシアネート化剤の量としては、一般式［ＸＸＸＸＸＩ］で示される化合物１モルに対して、イソシアネート化剤は１モル〜過剰量、好ましくは１〜３モルの範囲である。用いられる溶媒としては，トルエン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、酢酸エチル等のエステル類、あるいはこれらの混合物があげられる。
〈Ａ７−２〉：一般式［ＸＸＸＸＸＩ］で示される化合物から、一般式［ＸＸＸＸＸＩＩ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＸＸＸＸＩＩ］で示される化合物は、一般式［ＸＸＸＸＸＩ］で示される化合物と一般式［Ａ７−１］で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。反応温度は−２０〜１００℃の範囲、反応時間は瞬時〜４８時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＸＸＸＸＩ］で示される化合物１モルに対して、一般式［Ａ７−１］で示される化合物は１〜５モル、塩基は１〜５モルの範囲であるが、反応の状況に応じて変化させることができる。
用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩基、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基があげられる。溶媒としては、クロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、水、あるいはそれらの混合物があげられる。
〈工程Ａ７−３〉：一般式［ＸＸＸＸＸＩＩＩ］で示される化合物から一般式［ＸＸＸＩ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＸＸＩ］で示される化合物は、一般式［ＸＸＸＸＸＩＩＩ］で示される化合物と一般式［ＸＸＸＸＸＩＶ］で示される化合物とを、塩基の存在下に溶媒中にて反応させることにより製造することができる。反応温度は、−４０〜１００℃の範囲、反応時間は瞬時〜７２時間である。
供される試剤の量は、一般式［ＸＸＸＸＸＩＩＩ］で示される化合物１モルに対して、一般式［ＸＸＸＸＸＩＶ］で示される化合物は１モル〜過剰量、好ましくは１〜２モル、塩基は１モル〜過剰量である。
用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキサイド等の金属アルコキサイドがあげられる。溶媒としては、トルエン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、クロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物があげられる。
〈工程Ａ７−４〉：一般式［ＸＸＸＸＸＩＩ］で示される化合物から、一般式［ＸＸＸＩ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＸＸＩ］で示される化合物は、一般式［ＸＸＸＸＸＩＩ］で示される化合物と一般式［ＸＸＸＸＸＩＶ］で示される化合物とを、塩基の存在下に溶媒中にて反応させることにより製造することができる。反応温度は、−４０〜１００℃の範囲、反応時間は瞬時〜７２時間である。
供される試剤の量は、一般式［ＸＸＸＸＸＩＩ］で示される化合物１モルに対して、一般式［ＸＸＸＸＸＩＶ］で示される化合物は１モル〜過剰量、好ましくは１〜２モル、塩基は１モル〜過剰量である。
用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキサイド等の金属アルコキサイドがあげられる。溶媒としては、トルエン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、クロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物があげられる。
【００３２】
（中間体製造法８）
一般式［Ｘ］で示される化合物のうち、Ｑがピリジン環である化合物（一般式［ＸＸＸＸＸＸ］で示される化合物）は、以下のスキームに記載の方法により、製造することもできる。
2002155061.tif 000039
［式中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ23、Ｒ24、Ｚ1、Ｚ2およびＡ-は前記と同じ意味を表わす。］
製造法詳細は、（製造法８）、（製造法９）、（中間体製造法６）等を参照。
【００３３】
（中間体製造法９）
一般式［Ｘ］で示される化合物のうち、Ｑがピリミジン環である化合物（一般式［Ｉ９−４］で示される化合物）は、以下のスキームに記載の方法により、製造することもできる。
2002155061.tif 000040
［式中、Ｒ11、Ｒ19、Ｒ25、ＷおよびＺ1は前記と同じ意味を表わす。］
〈工程Ａ９−１〉：一般式［Ｉ９−１］で示される化合物から、一般式［Ｉ９−２］で示される化合物を製造する工程
一般式［Ｉ９−２］で示される化合物は、一般式［Ｉ９−１］で示される化合物をハロゲン化試剤と反応することにより、製造することができる。反応温度は通常、室温〜５０℃の範囲、反応時間は瞬時〜３６時間である。
供される試剤の量は一般式［Ｉ９−１］で示される化合物１モルに対して、ハロゲン化試剤は１モル〜過剰量である。ハロゲン化試剤としては、オキシ塩化リン、オキシ臭化リンがあげられる。
用いることのできる溶媒としては、トルエン、クロロベンゼンがあげられる。
〈工程Ａ９−２〉：一般式［Ｉ９−２］で示される化合物から、一般式［Ｉ９−３］で示される化合物を製造する工程、および、〈工程Ａ９−３〉：一般式［Ｉ９−３］で示される化合物から、一般式［Ｉ９−４］で示される化合物を製造する工程の詳細は、〈中間体製造法１〉、〈中間体製造法５〉を参照。
【００３４】
（中間体製造法１０）
一般式［Ｘ］で示される化合物のうち、Ｑがピリミジン環である化合物（一般式［Ｉ１０−４］で示される化合物）は、以下のスキームに記載の方法により、製造することもできる。
2002155061.tif 000041
［式中、Ｒ11、Ｗ、およびＺ1は前記と同じ意味を表し、Ｒ28は塩素原子または臭素原子を表し、Ｒ29はメチル基、エチル基等のＣ１−Ｃ６アルキル基またはフェニル基、ｐ−トリル基等の置換されていてもよいフェニル基を表し、Ｒ30はメチル基、エチル基等のＣ１−Ｃ６アルキル基またはトリフルオロメチル基等のＣ１−Ｃ６ハロルキル基を表し、Ｙ2は酸素原子または硫黄原子を表し、ｎは１または２を表す。］
【００３５】
（中間体製造法１１）
一般式［ＸＸＸＸＸＩ］で示される化合物のうち、Ｘ1がニトロ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子である化合物（一般式［Ｉ１１−５］で示される化合物）は、以下のスキームに記載の方法により、製造することもできる。
2002155061.tif 000042
［式中、Ｒ3、Ｒ15、Ｒ25、Ｙ、ＱおよびＸ2は前記と同じ意味を表し、Ｒ32はメチル基、エチル基、トリクロロメチル基、ベンジル基等の置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基を表す。］
【００３６】
（中間体製造法１２）
一般式［ＸＸＸＩ］で示される化合物は、以下のスキームに記載の方法によっても製造することもできる。
2002155061.tif 000043
［式中、Ｒ3、Ｘ1、Ｘ2、ＱおよびＹは前記と同じ意味を表し、Ｒ35はＣ１−Ｃ３ペルフルオロアルキル基を表す。］
〈工程Ａ１２−１〉：一般式［ＸＸＸＸＸＩ］で示される化合物から、一般式［Ｉ１２−１］で示される化合物を製造する工程
一般式［Ｉ１２−１］で示される化合物（条件によっては、一般式［Ｉ１２−２］で示される化合物）は、一般式［ＸＸＸＸＸＩ］で示される化合物と一般式［Ｉ１２−３］
2002155061.tif 000044
［式中、Ｒ35は前記と同じ意味を表し、Ｒ31はメチル基、エチル基等のＣ１−Ｃ６アルキル基を表す。］
で示される化合物とを、反応させることにより製造することができる。
反応温度の範囲は通常室温〜１５０℃または使用する溶媒の沸点である。また、副生するアルコール（メタノール、エタノール等）を反応系中より除去することにより、反応速度を上げることも可能である。
該反応に供される一般式［Ｉ１２−３］で示される化合物の量は、一般式［ＸＸＸＸＸＩ］で示される化合物１モルに対して、通常１モル〜５モルの割合である。
用いられる溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、１，２−ジクロロエタン、１，２，３−トリクロロプロパン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、濾過した後にそのまま濃縮するか、反応液を水に注加して生じた結晶を濾取するか、反応液を濃塩酸等の酸、または水に注加した後に有機溶媒抽出、水洗浄、乾燥および濃縮する等の通常の後処理操作に付し、目的化合物を得ることができる。尚、該目的化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【００３７】
〈工程Ａ１２−２〉：一般式［Ｉ１２−１］で示される化合物（または一般式［Ｉ１２−２］で示される化合物）から、一般式［ＸＸＸＩ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＸＸＩ］で示される化合物は、一般式［Ｉ１２−１］で示される化合物（または一般式［Ｉ１２−２］で示される化合物）とシアン酸塩とを、プロトン酸の存在下に５５℃〜１５０℃にて反応させることにより製造することができる。
該反応に供されるシアン酸塩としては、シアン酸カリウム、シアン酸ナトリウム等が挙げられ、該反応に供される酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸等の脂肪族カルボン酸類、安息香酸等の芳香族カルボン酸類、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等のスルホン酸類、塩酸、硫酸等の無機酸類、フェニルホウ酸等のホウ酸等が挙げられる。
該反応に供されるシアン酸塩の量は、一般式［Ｉ１２−１］で示される化合物１モルに対して、１モル〜１０モルの割合であり、好ましくは１〜２モルの割合である。該反応に供される酸の量は、一般式［Ｉ１２−１］で示される化合物１モルに対して、１．１モル〜大過剰量の割合である。
該反応は溶媒を用いることも可能であり、溶媒としては例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、１，２−ジクロロエタン、１，２，３−トリクロロプロパン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
該反応は、通常３０分〜１００時間にて完結する。該反応は好ましくは、まず初めに反応混合物を−２０℃〜５０℃にて熟成した後に、５５℃〜１５０℃にて反応混合物中の一般式［Ｉ１２−１］で示される化合物の大部分が消失するまで熟成することにより行われる。
反応終了後の反応液は、濾過した後にそのまま濃縮するか、反応液を水に注加して生じた結晶を濾取するか、反応液を水に注加した後に有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理操作に付し、目的物を得ることができる。尚、該化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【００３８】
（中間体製造法１３）
一般式［ＬＸＩ］で示される化合物は、以下のスキームに記載の方法によって製造することができる。
2002155061.tif 000045
［式中、Ｒ7は前記と同じ意味を表す。］
【００３９】
一般式［ＸＸＩ］で示される化合物、一般式［ＸＸＶ］で示される化合物，一般式［ＸＸＶＩＩ］で示される化合物、一般式［ＸＸＸＸＸ］で示される化合物、一般式［ＸＸＸＸＸＩＶ］、一般式［ＸＸＸＸＸＶ］で示される化合物、一般式［Ｉ９−１］で示される化合物、一般式［Ｉ１０−１］で示される化合物、一般式［Ｉ１１−１］で示される化合物および一般式［Ｉ１２−３］で示される化合物は市販のものを用いるか、または公知の方法により製造することができる。
【００４０】
本発明化合物は、優れた除草効力を有し、かつあるものは作物・雑草間に優れた選択性を示す。すなわち本発明化合物は、畑地の茎葉処理および土壌処理において、次に挙げられる問題となる種々の雑草に対して除草効力を有する。
アカバナ科雑草：オオマツヨイグサ（Ｏｅｎｏｔｈｅｒａ ｅｒｙｔｈｒｏｓｅｐａｌａ）、コマツヨイグサ（Ｏｅｎｏｔｈｅｒａ ｌａｃｉｎｉａｔａ）
キンポウゲ科雑草：トゲミノキツネノボタン（Ｒａｎｕｎｃｕｌｕｓ ｍｕｒｉｃａｔｕｓ）、イボミキンポウゲ（Ｒａｎｕｎｃｕｌｕｓ ｓａｒｄｏｕｓ）
タデ科雑草：ソバカズラ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ ｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓ）、サナエタデ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ ｌａｐａｔｈｉｆｏｌｉｕｍ）、アメリカサナエタデ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ ｐｅｎｓｙｌｖａｎｉｃｕｍ）、ハルタデ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ ｐｅｒｓｉｃａｒｉａ）、ナガバギシギシ（Ｒｕｍｅｘ ｃｒｉｓｐｕｓ）、エゾノギシギシ（Ｒｕｍｅｘ ｏｂｔｕｓｉｆｏｌｉｕｓ）、イタドリ（Ｐｏｌｉｇｏｎｕｍ ｃｕｓｐｉｄａｔｕｍ）
スベリヒユ科雑草：スベリヒユ（Ｐｏｒｔｕｌａｃａ ｏｌｅｒａｃｅａ）
ナデシコ科雑草：ハコベ（Ｓｔｅｌｌａｒｉａ ｍｅｄｉａ）、オランダミミナグサ（Ｃｅｒａｓｔｉｕｍ ｇｌｏｍｅｒａｔｕｍ）
アカザ科雑草：シロザ（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍ ａｌｂｕｍ）、ホウキギ（Ｋｏｃｈｉａ ｓｃｏｐａｒｉａ）
ヒユ科雑草：アオゲイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ ｒｅｔｒｏｆｌｅｘｕｓ）、ホナガアオゲイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ ｈｙｂｒｉｄｕｓ）
アブラナ科雑草：ワイルドラディッシュ（Ｒａｐｈａｎｕｓ ｒａｐｈａｎｉｓｔｒｕｍ）、ノハラガラシ（Ｓｉｎａｐｉｓ ａｒｖｅｎｓｉｓ）、ナズナ（Ｃａｐｓｅｌｌａ ｂｕｒｓａ−ｐａｓｔｏｒｉｓ）、マメグンバイナズナ（Ｌｅｐｉｄｉｕｍ ｖｉｒｇｉｎｉｃｕｍ）
【００４１】
マメ科雑草：アメリカツノクサネム（Ｓｅｓｂａｎｉａ ｅｘａｌｔａｔａ）、エビスグサ（Ｃａｓｓｉａ ｏｂｔｕｓｉｆｏｌｉａ）、フロリダベガ−ウィ−ド（Ｄｅｓｍｏｄｉｕｍ ｔｏｒｔｕｏｓｕｍ）、シロツメクサ（Ｔｒｉｆｏｌｉｕｍ ｒｅｐｅｎｓ）、オオカラスノエンドウ（Ｖｉｃｉａ ｓａｔｉｖａ）、コメツブウマゴヤシ（Ｍｅｄｉｃａｇｏ ｌｕｐｕｌｉｎａ）
アオイ科雑草：イチビ（Ａｂｕｔｉｌｏｎ ｔｈｅｏｐｈｒａｓｔｉ）、アメリカキンゴジカ（Ｓｉｄａ ｓｐｉｎｏｓａ）
スミレ科雑草：フィ−ルドパンジ−（Ｖｉｏｌａ ａｒｖｅｎｓｉｓ）、ワイルドパンジ−（Ｖｉｏｌａ ｔｒｉｃｏｌｏｒ）
アカネ科雑草：ヤエムグラ（Ｇａｌｉｕｍ ａｐａｒｉｎｅ）
ヒルガオ科雑草：アメリカアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ ｈｅｄｅｒａｃｅａ）、マルバアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ ｐｕｒｐｕｒｅａ）、マルバアメリカアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ ｈｅｄｅｒａｃｅａ ｖａｒ ｉｎｔｅｇｒｉｕｓｃｕｌａ）、マメアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ ｌａｃｕｎｏｓａ）、セイヨウヒルガオ（Ｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓ ａｒｖｅｎｓｉｓ）
【００４２】
シソ科雑草：ヒメオドリコソウ（Ｌａｍｉｕｍ ｐｕｒｐｕｒｅｕｍ）、ホトケノザ（Ｌａｍｉｕｍ ａｍｐｌｅｘｉｃａｕｌｅ）
ナス科雑草：シロバナチョウセンアサガオ（Ｄａｔｕｒａ ｓｔｒａｍｏｎｉｕｍ）、イヌホオズキ（Ｓｏｌａｎｕｍ ｎｉｇｒｕｍ）
ゴマノハグサ科雑草：オオイヌノフグリ（Ｖｅｒｏｎｉｃａ ｐｅｒｓｉｃａ）、タチイヌノフグリ（Ｖｅｒｏｎｉｃａ ａｒｖｅｎｓｉｓ）、フラサバソウ（Ｖｅｒｏｎｉｃａ ｈｅｄｅｒａｅｆｏｌｉａ）
キク科雑草：オナモミ（Ｘａｎｔｈｉｕｍ ｐｅｎｓｙｌｖａｎｉｃｕｍ）、野生ヒマワリ（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓ ａｎｎｕｕｓ）、カミツレ（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ ｃｈａｍｏｍｉｌｌａ）、イヌカミツレ（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ ｐｅｒｆｏｒａｔａ ｏｒ ｉｎｏｄｏｒａ）、コ−ンマリ−ゴ−ルド（Ｃｈｒｙｓａｎｔｈｅｍｕｍ ｓｅｇｅｔｕｍ）、コシカギク（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ ｍａｔｒｉｃａｒｉｏｉｄｅｓ）、ブタクサ（Ａｍｂｒｏｓｉａ ａｒｔｅｍｉｓｉｉｆｏｌｉａ）、オオブタクサ（Ａｍｂｒｏｓｉａ ｔｒｉｆｉｄａ）、ヒメムカシヨモギ（Ｅｒｉｇｅｒｏｎ ｃａｎａｄｅｎｓｉｓ）、ヨモギ（Ａｒｔｅｍｉｓｉａ ｐｒｉｎｃｅｐｓ）、セイタカアワダチソウ（Ｓｏｌｉｄａｇｏ ａｌｔｉｓｓｉｍａ）、セイヨウタンポポ（Ｔａｒａｘａｃｕｍ ｏｆｆｉｃｉｎａｌｅ）
ムラサキ科雑草：ワスレナグサ（Ｍｙｏｓｏｔｉｓ ａｒｖｅｎｓｉｓ）
ガガイモ科雑草：オオトウワタ（Ａｓｃｌｅｐｉａｓ ｓｙｒｉａｃａ）
トウダイグサ科雑草：トウダイグサ（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａ ｈｅｌｉｏｓｃｏｐｉａ）、オオニシキソウ（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａ ｍａｃｕｌａｔａ）
フウロソウ科雑草：アメリカフウロ（Ｇｅｒａｎｉｕｍ ｃａｒｏｌｉｎｉａｎｕｍ）
【００４３】
カタバミ科雑草：ムラサキカタバミ（Ｏｘａｌｉｓ ｃｏｒｙｍｂｏｓａ）
ウリ科雑草：アレチウリ（Ｓｉｃｙｏｓ ａｎｇｕｌａｔｕｓ）
イネ科雑草：イヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）、エノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａ ｖｉｒｉｄｉｓ）、アキノエノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａ ｆａｂｅｒｉ）、メヒシバ（Ｄｉｇｉｔａｒｉａ ｓａｎｇｕｉｎａｌｉｓ）、オヒシバ（Ｅｌｅｕｓｉｎｅ ｉｎｄｉｃａ）、スズメノカタビラ（Ｐｏａ ａｎｎｕａ）、ブラックグラス（Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓ ｍｙｏｓｕｒｏｉｄｅｓ）、カラスムギ（Ａｖｅｎａ ｆａｔｕａ）、セイバンモロコシ（Ｓｏｒｇｈｕｍ ｈａｌｅｐｅｎｓｅ）、シバムギ（Ａｇｒｏｐｙｒｏｎ ｒｅｐｅｎｓ）、ウマノチャヒキ（Ｂｒｏｍｕｓ ｔｅｃｔｏｒｕｍ）、ギョウギシバ（Ｃｙｎｏｄｏｎｅ ｄａｃｔｙｌｏｎ）、オオクサキビ（Ｐａｎｉｃｕｍ ｄｉｃｈｏｔｏｍｉｆｌｏｒｕｍ）、テキサスパニカム（Ｐａｎｉｃｕｍ ｔｅｘａｎｕｍ）、シャタ−ケ−ン（Ｓｏｒｇｈｕｍ ｖｕｌｇａｒｅ）、スズメノテッポウ（Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓ ｇｅｎｉｃｕｌａｔｕｓ）
ツユクサ科雑草：ツユクサ（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａ ｃｏｍｍｕｎｉｓ）
トクサ科雑草：スギナ（Ｅｑｕｉｓｅｔｕｍ ａｒｖｅｎｓｅ）
カヤツリグサ科雑草：コゴメガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓ ｉｒｉａ）、ハマスゲ（Ｃｙｐｅｒｕｓ ｒｏｔｕｎｄｕｓ）、キハマスゲ（Ｃｙｐｅｒｕｓ ｅｓｃｕｌｅｎｔｕｓ）
【００４４】
しかも、本発明化合物のあるものは、トウモロコシ（Ｚｅａ ｍａｙｓ）、コムギ（Ｔｒｉｔｉｃｕｍ ａｅｓｔｉｖｕｍ）、オオムギ（Ｈｏｒｄｅｕｍ ｖｕｌｇａｒｅ）、イネ（Ｏｒｙｓａ ｓａｔｉｖａ）、ソルガム（Ｓｏｒｇｈｕｍ ｂｉｃｏｌｏｒ）、ダイズ（Ｇｌｙｃｉｎｅ ｍａｘ）、ワタ（Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍ ｓｐｐ．）、テンサイ（Ｂｅｔａ ｖｕｌｇａｒｉｓ）、ピ−ナッツ（Ａｒａｃｈｉｓ ｈｙｐｏｇａｅａ）、ヒマワリ（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓ ａｎｎｕｕｓ）、ナタネ（Ｂｒａｓｓｉｃａ ｎａｐｕｓ）等の主要作物、花卉、蔬菜等の園芸作物に対して問題となるような薬害を示さない。また、本発明化合物は、ダイズ、トウモロコシ、コムギ等の不耕起栽培において、問題となる種々の雑草を効果的に除草する事ができる。しかも、本発明化合物中のあるものは、作物に対しては問題となるような薬害を示さない。
【００４５】
また本発明化合物は、水田の湛水処理において、次に挙げられる問題となる種々の雑草に対して除草効力を有する。
イネ科雑草：タイヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ ｏｒｙｚｉｃｏｌａ）
ゴマノハグサ科雑草：アゼナ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ ｐｒｏｃｕｍｂｅｎｓ）
ミソハギ科雑草：キカシグサ（Ｒｏｔａｌａ ｉｎｄｉｃａ）、ヒメミソハギ（Ａｍｍａｎｎｉａ ｍｕｌｔｉｆｌｏｒａ）
ミゾハコベ科雑草：ミゾハコベ（Ｅｌａｔｉｎｅ ｔｒｉａｎｄｒａ）
カヤツリグサ科雑草：タマガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓ ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）、ホタルイ（Ｓｃｉｒｐｕｓ ｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）、マツバイ（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ ａｃｉｃｕｌａｒｉｓ）、ミズガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓ ｓｅｒｏｔｉｎｕｓ）、クログワイ（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ ｋｕｒｏｇｕｗａｉ）
ミズアオイ科雑草：コナギ（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ ｖａｇｉｎａｌｉｓ）
オモダカ科雑草：ウリカワ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ ｐｙｇｍａｅａ）、オモダカ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ ｔｒｉｆｏｌｉａ）、ヘラオモダカ（Ａｌｉｓｍａ ｃａｎａｌｉｃｕｌａｔｕｍ）
ヒルムシロ科雑草：ヒルムシロ（Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎ ｄｉｓｔｉｎｃｔｕｓ）
セリ科雑草：セリ（Ｏｅｎａｎｔｈｅ ｊａｖａｎｉｃａ）
しかも本発明化合物中のあるものは、移植水稲に対して問題となるような薬害を示さない。
【００４６】
さらに、本発明化合物は、例えば、堤防ののり面、河川敷、道路の路肩及びのり面、鉄道敷、公園緑地、グランド、駐車場、空港、工場および貯蔵設備等の工業施設用地、休耕地、あるいは、市街の有休地等の雑草の生育を制御する必要のある非農耕地、あるいは、樹園地、牧草地、芝生地、林業地等に発生する広範囲の雑草を除草できる。また本発明化合物は、河川、水路、運河、貯水池等に発生する、ホテイアオイ（Ｅｉｃｈｈｏｒｎｉａ ｃｒａｓｓｉｐｅｓ）等の水生雑草に除草効力を有する。
本発明化合物は、国際特許出願公開明細書ＷＯ９５／３４６５９号明細書に記載される除草性化合物と同様な特性を有し、該明細書に記載される、除草剤耐性遺伝子等が導入される事により除草剤に対する耐性の付与された作物を栽培する場面においては、耐性の付与されていない通常の作物の栽培時に使用されるより多くの薬量の本発明化合物の使用が可能となり、好ましくない他の植物をより効果的に除草する事ができる。
【００４７】
本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合には、通常固体担体、液体担体、界面活性剤、その他の製剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤、濃厚エマルジョン、顆粒水和剤等に製剤する。
これらの製剤には、有効成分として本発明化合物を重量比で０．００１〜８０％、好ましくは、０．００５〜７０％含有する。
固体担体としては、カオリンクレ−、アタパルジャイトクレ−、ベントナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物質微粉末、クルミ殻粉等の有機物微粉末、尿素等の水溶性有機微粉末、硫酸アンモニウム等の無機塩微粉末および合成含水酸化珪素の微粉末が挙げられ、液体担体としては、メチルナフタレン、フェニルキシリルエタン、キシレン等のアルキルベンゼン等の芳香族炭化水素類、イソプロパノ−ル、エチレングリコ−ル、２−エトキシエタノ−ル等のアルコ−ル類、フタル酸ジアルキルエステル等のエステル類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、マシン油等の鉱物油、大豆油、綿実油等の植物油、ジメチルスルフォキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、水等が挙げられる。
乳化、分散、湿展等のために用いられる界面活性剤としては、アルキル硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリ−ルスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリ−ルエ−テルリン酸エステル塩等の陰イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエ−テル、ポリオキシエチレンアルキルアリ−ルエ−テル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマ−、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等が挙げられる。
その他の製剤用補助剤としては、リグニンスルホン酸塩、アルギン酸塩、ポリビニルアルコ−ル、アラビアガム、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロ−ス）、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）等が挙げられる。
【００４８】
本発明化合物は、通常製剤化して雑草の出芽前または出芽後に土壌処理、茎葉処理または湛水処理する。土壌処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等があり、茎葉処理には、植物体の上方からの処理のほか、作物に付着しないように雑草に限って処理する局部処理等がある。
また他の除草剤と混合して用いる事により、除草効力の増強が認められる場合がある。さらに、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料、土壌改良剤等と混用または併用することもできる。
かかる除草剤の例を以下に示す。
アトラジン（ａｔｒａｚｉｎｅ）、シアナジン（ｃｙａｎａｚｉｎｅ）、ジメタメトリン（ｄｉｍｅｔｈａｍｅｔｒｙｎ）、メトリブジン（ｍｅｔｒｉｂｕｚｉｎ）、プロメトリン（ｐｒｏｍｅｔｒｙｎ）、シマジン（ｓｉｍａｚｉｎｅ）、シメトリン（ｓｉｍｅｔｒｙｎ）、クロルトルロン（ｃｈｌｏｒｏｔｏｌｕｒｏｎ）、ジウロン（ｄｉｕｒｏｎ）、フルオメツロン（ｆｌｕｏｍｅｔｕｒｏｎ）、イソプロチュロン（ｉｓｏｐｒｏｔｕｒｏｎ）、リニュロン（ｌｉｎｕｒｏｎ）、メタベンズチアズロン（ｍｅｔｈａｂｅｎｚｔｈｉａｚｕｒｏｎ）、プロパニル（ｐｒｏｐａｎｉｌ）、ベンタゾン（ｂｅｎｔａｚｏｎｅ）、ブロモキシニル（ｂｒｏｍｏｘｙｎｉｌ）、アイオキシニル（ｉｏｘｙｎｉｌ）、ピリデ−ト（ｐｙｒｉｄａｔｅ）
ブタミフォス（ｂｕｔａｍｉｆｏｓ）、ジチオピル（ｄｉｔｈｉｏｐｙｒ）、エタルフルラリン（ｅｔｈａｌｆｌｕｒａｌｉｎ）、ペンディメサリン（ｐｅｎｄｉｍｅｔｈａｌｉｎ）、チアゾピル（ｔｈｉａｚｏｐｙｒ）、トリフルラリン（ｔｒｉｆｌｕｒａｌｉｎ）、アセトクロ−ル（ａｃｅｔｏｃｈｌｏｒ）、アラクロ−ル（ａｌａｃｈｌｏｒ）、ブタクロ−ル（ｂｕｔａｃｈｌｏｒ）、ジエタチルエチル（ｄｉｅｔｈａｔｙｌ−ｅｔｈｙｌ）、ジメテンアミド（ｄｉｍｅｔｈｅｎａｍｉｄ）、フルチアミド（ｆｌｕｔｈｉａｍｉｄｅ）、メフェナセット（ｍｅｆｅｎａｃｅｔ）、メトラクロ−ル（ｍｅｔｏｌａｃｈｌｏｒ）、プレチラクロ−ル（ｐｒｅｔｉｌａｃｈｌｏｒ）、プロパクロ−ル（ｐｒｏｐａｃｈｌｏｒ）、シンメシリン（ｃｉｎｍｅｔｈｙｌｉｎ）
アシフルオルフェン（ａｃｉｆｌｕｏｒｆｅｎ）、アシフルオルフェンＮａ塩（ａｃｉｆｌｕｏｒｆｅｎ−ｓｏｄｉｕｍ）、ベンズフェンジゾン（ｂｅｎｚｆｅｎｄｉｚｏｎｅ）、ビフェノックス（ｂｉｆｅｎｏｘ）、ブタフェナシル（ｂｕｔａｆｅｎａｃｉｌ）、クロメトキシニル（ｃｈｌｏｍｅｔｈｏｘｙｎｉｌ）、フォメサフェン（ｆｏｍｅｓａｆｅｎ）、ラクトフェン（ｌａｃｔｏｆｅｎ）、オキサジアゾン（ｏｘａｄｉａｚｏｎ）、オキサジアルギル（ｏｘａｄｉａｒｇｙｌ）、オキシフルオルフェン（ｏｘｙｆｌｕｏｒｆｅｎ）、カルフェントラゾンエチル（ｃａｒｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ−ｅｔｈｙｌ）、フルアゾレート（ｆｌｕａｚｏｌａｔｅ）、フルミクロラックペンチル（ｆｌｕｍｉｃｌｏｒａｃ−ｐｅｎｔｙｌ）、フルミオキサジン（ｆｌｕｍｉｏｘａｚｉｎｅ）、フルチアセットメチル（ｆｌｕｔｈｉａｃｅｔ−ｍｅｔｈｙｌ）、イソプロパゾール（ｉｓｏｐｒｏｐａｚｏｌ）、サルフェントラゾン（ｓｕｌｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ）、チジアジミン（ｔｈｉｄｉａｚｉｍｉｎ）、アザフェニジン（ａｚａｆｅｎｉｄｉｎ）、ピラフルフェンエチル（ｐｙｒａｆｌｕｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）、シニドンエチル（ｃｉｎｉｄｏｎ−ｅｔｈｙｌ）
ジフェンゾコ−ト（ｄｉｆｅｎｚｏｑｕａｔ）、ジクワット（ｄｉｑｕａｔ）、パラコ−ト（ｐａｒａｑｕａｔ）
【００４９】
２，４−Ｄ、２，４−ＤＢ、クロピラリド（ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ）、ジカンバ（ｄｉｃａｍｂａ）、フルロキシピル（ｆｌｕｒｏｘｙｐｙｒ）、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＢ、メコプロップ（ｍｅｃｏｐｒｏｐ）、キンクロラック（ｑｕｉｎｃｌｏｒａｃ）、トリクロピル（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒ）
アジムスルフロン（ａｚｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ベンスルフロンメチル（ｂｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、クロリムロンエチル（ｃｈｌｏｒｉｍｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、クロルスルフロン（ｃｈｌｏｒｓｕｌｆｕｒｏｎ）、クロランスラムメチル（ｃｌｏｒａｎｓｕｌａｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、シクロスルファムロン（ｃｙｃｌｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ）、ジクロスラム（ｄｉｃｌｏｓｕｌａｍ）、エトキシスルフロン（ｅｔｈｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フラザスルフロン（ｆｌａｚａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フルカルバゾン（ｆｌｕｃａｒｂａｚｏｎｅ）、フルメツラム（ｆｌｕｍｅｔｓｕｌａｍ）、フルピリスルフロン（ｆｌｕｐｙｒｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ハロスルフロンメチル（ｈａｌｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、イマゾスルフロン（ｉｍａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、アイオドスルフロン（ｉｏｄｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、メトスラム（ｍｅｔｏｓｕｌａｍ）、メツルフロンメチル（ｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ニコスルフロン（ｎｉｃｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、オキサスルフロン（ｏｘａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、プリミスルフロンメチル（ｐｒｉｍｉｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、プロカルバゾンＮａ塩（ｐｒｏｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｓｏｄｉｕｍ）、プロスルフロン（ｐｒｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ピラゾスルフロンエチル（ｐｙｒａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、リムスルフロン（ｒｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、サルフォメツロンメチル（ｓｕｌｆｏｍｅｔｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、スルフォスルフロン（ｓｕｌｆｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリアスルフロン（ｔｒｉａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリベニュロンメチル（ｔｒｉｂｅｎｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリトスルフロン（ｔｒｉｔｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、チフェンスルフロンメチル（ｔｈｉｆｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリフルスルフロンメチル（ｔｒｉｆｌｕｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピリベンゾキシム（ｐｙｒｉｂｅｎｚｏｘｉｍ）、ビスピリバックＮａ塩（ｂｉｓｐｙｒｉｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ピリミノバックメチル（ｐｙｒｉｍｉｎｏｂａｃ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピリチオバックＮａ塩（ｐｙｒｉｔｈｉｏｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、イマザメス（ｉｍａｚａｍｅｔｈ）、イマザメタベンズメチル（ｉｍａｚａｍｅｔｈａｂｅｎｚ−ｍｅｔｈｙｌ）、イマザモックス（ｉｍａｚａｍｏｘ）、イマザピック（ｉｍａｚａｐｉｃ）、イマザピル（ｉｍａｚａｐｙｒ）、イマザキン（ｉｍａｚａｑｕｉｎ）、イマゼタピル（ｉｍａｚｅｔｈａｐｙｒ）
テプラロキシジム（ｔｅｐｒａｌｏｘｙｄｉｍ）、アロキシジムＮａ塩（ａｌｌｏｘｙｄｉｍ−ｓｏｄｉｕｍ）、クレトジム（ｃｌｅｔｈｏｄｉｍ）、クロディナホッププロパルギル（ｃｌｏｄｉｎａｆｏｐ−ｐｒｏｐａｒｇｙｌ）、シハロホップブチル（ｃｙｈａｌｏｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、ジクロホップメチル（ｄｉｃｌｏｆｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、フェノキサプロップ−エチル（ｆｅｎｏｘａｐｒｏｐ−ｅｔｈｙｌ）、フェノキサプロップ−ｐ−エチル（ｆｅｎｏｘａｐｒｏｐ−ｐ−ｅｔｈｙｌ）、フルアジホップブチル（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−ｂｕｔｈｙｌ）、フルアジホップ−ｐ−ブチル（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−ｐ−ｂｕｔｙｌ）、ハロキシホップメチル（ｈａｌｏｘｙｆｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、キザロホップ−ｐ−エチル（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ−ｐ−ｅｔｈｙｌ）、セトキシジム（ｓｅｔｈｏｘｙｄｉｍ）、トラルコキシジム（ｔｒａｌｋｏｘｙｄｉｍ）
【００５０】
ジフルフェニカン（ｄｉｆｌｕｆｅｎｉｃａｎ）、フルルタモン（ｆｌｕｒｔａｍｏｎｅ）、ノルフルラゾン（ｎｏｒｆｌｕｒａｚｏｎｅ）、ベンゾフェナップ（ｂｅｎｚｏｆｅｎａｐ）、イソキサフルト−ル（ｉｓｏｘａｆｌｕｔｏｌｅ）、ピラゾレ−ト（ｐｙｒａｚｏｌａｔｅ）、ピラゾキシフェン（ｐｙｒａｚｏｘｙｆｅｎ）、サルコトリオン（ｓｕｌｃｏｔｒｉｏｎｅ）、クロマゾン（ｃｌｏｍａｚｏｎｅ）、メソトリオン（ｍｅｓｏｔｒｉｏｎｅ）、イソキサクロルトール（ｉｓｏｘａｃｈｌｏｒｔｏｌｅ）
ビアラフォス（ｂｉaｌａｐｈｏｓ）、グルフォシネ−トアンモニウム塩（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、グリフォセ−ト（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ）、スルフォセート（ｓｕｌｆｏｓａｔｅ）
ジクロベニル（ｄｉｃｈｌｏｂｅｎｉｌ）、イソキサベン（ｉｓｏｘａｂｅｎ）ベンチオカ−ブ（ｂｅｎｔｈｉｏｃａｒｂ）、ブチレ−ト（ｂｕｔｙｌａｔｅ）、ジメピペレ−ト（ｄｉｍｅｐｉｐｅｒａｔｅ）、ＥＰＴＣ、エスプロカーブ（ｅｓｐｒｏｃａｒｂ）、モリネ−ト（ｍｏｌｉｎａｔｅ）、ピリブチカーブ（ｐｙｒｉｂｕｔｉｃａｒｂ）、トリアレ−ト（ｔｒｉａｌｌａｔｅ）
ジフルフェンゾピル（ｄｉｆｌｕｆｅｎｚｏｐｙｒ）
ブロモブチド（ｂｒｏｍｏｂｕｔｉｄｅ）、ＤＳＭＡ、ＭＳＭＡ、カフェンストロ−ル（ｃａｆｅｎｓｔｒｏｌ）、ダイムロン（ｄａｉｍｕｒｏｎ）、エポプロダン（ｅｐｏｐｒｏｄａｎ）、フルポキサム（ｆｌｕｐｏｘａｍ）、メトベンズロン（ｍｅｔｏｂｅｎｚｕｒｏｎ）、ペントキサゾン（ｐｅｎｔｏｘａｚｏｎｅ）、ピペロフォス（ｐｉｐｅｒｏｐｈｏｓ）、トリアジフラム（ｔｒｉａｚｉｆｌａｍ）
ベフルブタミド（ｂｅｆｌｕｂｕｔａｍｉｄ）、ベンゾバイサイクロン（ｂｅｎｚｏｂｉｃｙｃｌｏｎ）、クロメプロップ（ｃｌｏｍｅｐｒｏｐ）、フェントラズアミド（ｆｅｎｔｒａｚａｍｉｄｅ）、フルフェナセット（ｆｌｕｆｅｎａｃｅｔ）、フロラスラム（ｆｌｏｒａｓｕｌａｍ）、インダノファン（ｉｎｄａｎｏｆａｎ）、イソキサジフェン（ｉｓｏｘａｄｉｆｅｎ）、メソトリオン（ｍｅｓｏｔｒｉｏｎｅ）、ナプロアニリド（ｎａｐｌｏａｎｉｌｉｄｅ）、オキサジクロメフォン（ｏｘａｚｉｃｌｏｍｅｆｏｎｅ）、ペソキシアミド（ｐｅｔｈｏｘｙａｍｉｄ）、フェノチオ−ル（ｐｈｅｎｏｔｈｉｏｌ）、ピリダフォル（ｐｙｒｉｄａｆｏｌ）
【００５１】
上記化合物はファ−ムケミカルズハンドブック（マイスタ−パブリッシングカンパニ−）〔Ｆａｒｍ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｈａｎｄｂｏｏｋ（Ｍｅｉｓｔｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏｍｐａｎｙ）〕１９９５年度版のカタログ、アグケムニュ−コンパウンドレビュ−１９９５版（アグケムインフォメ−ションサ−ビス）〔ＡＧ ＣＨＥＭ ＮＥＷ ＣＯＭＰＯＵＮＤ ＲＥＶＩＥＷ, ＶＯＬ．１３，１９９５ （ＡＧ ＣＨＥＭ ＩＮＦＯＲＭＡＴＩＯＮ ＳＥＲＶＩＣＥ）〕、アグケムニュ−コンパウンドレビュ−１９９７版（アグケムインフォメ−ションサ−ビス）〔ＡＧ ＣＨＥＭ ＮＥＷ ＣＯＭＰＯＵＮＤ ＲＥＶＩＥＷ, ＶＯＬ．１５，１９９７（ＡＧ ＣＨＥＭ ＩＮＦＯＲＭＡＴＩＯＮ ＳＥＲＶＩＣＥ）〕、アグケムニュ−コンパウンドレビュ−１９９８版（アグケムインフォメ−ションサ−ビス）〔ＡＧ ＣＨＥＭ ＮＥＷ ＣＯＭＰＯＵＮＤ ＲＥＶＩＥＷ, ＶＯＬ．１６，１９９８（ＡＧ ＣＨＥＭ ＩＮＦＯＲＭＡＴＩＯＮ ＳＥＲＶＩＣＥ）〕、アグケムニュ−コンパウンドレビュ−１９９９版（アグケムインフォメ−ションサ−ビス）〔ＡＧ ＣＨＥＭ ＮＥＷ ＣＯＭＰＯＵＮＤ ＲＥＶＩＥＷ, ＶＯＬ．１７，１９９９（ＡＧ ＣＨＥＭ ＩＮＦＯＲＭＡＴＩＯＮ ＳＥＲＶＩＣＥ）〕、「除草剤研究総覧（博友社）」に記載されているか、「除草剤研究総覧（博友社）」に記載されている。
本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合、その処理量は、気象条件、製剤形態、処理時期、処理方法、土壌条件、対象作物、対象雑草によっても異なるが、１ヘクタ−ル当たり通常０．０１ｇ〜２００００ｇ、好ましくは１ｇ〜１２０００ｇであり、乳剤、水和剤、懸濁剤、濃厚エマルジョン、顆粒水和剤等は、通常その所定量を１ヘクタ−ル当たり１０リットル〜１０００リットルの（必要ならば展着剤等の補助剤を添加した）水で希釈して処理し、粒剤、ある種の懸濁剤は通常なんら希釈することなくそのまま処理する。ここで必要に応じて用いられる補助剤としては、前記の界面活性剤の他、ポリオキシエチレン樹脂酸（エステル）、リグニンスルホン酸塩、アビエチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸塩、クロップオイルコンセントレイト（ｃｒｏｐ ｏｉｌ ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｅ）、大豆油、コ−ン油、綿実油、ヒマワリ油等の植物油等が挙げられる。
また、本発明化合物は、ワタの落葉剤・乾燥剤、ジャガイモ（Ｓｏｌａｎｕｍ ｔｕｂｅｒｏｓｕｍ）の乾燥剤等の収穫補助剤の有効成分として用いる事ができる。その場合、本発明化合物を、除草剤の有効成分として用いる場合と同様に通常製剤化して、作物の収穫前に、単独または他の収穫補助剤と混合して茎葉処理する。
【００５２】
【実施例】
以下、本発明を製造例、製剤例および試験例等により、さらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
まず、本発明化合物の製造例および製造中間体の製造例を示す。本発明化合物の化合物番号は、後記の表１〜表３２に記載の番号である。
【００５３】
製造例１：本発明化合物１−１２の製造
2002155061.tif 000046
２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノール１０９ｍｇと２−クロロ−５−［１−（メトキシカルボニル）エトキシ］ピリミジン７０ｍｇをジメチルスルホキシド１．０ｍｌに溶解し、臭化銅（Ｉ）１０ｍｇ、無水炭酸リチウム１２ｍｇを加え、１２０℃で２時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−５−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリミジン〔本発明化合物１−１２〕１０ｍｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１．６５(ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ)，３．５６(ｓ，３Ｈ)，３．７８(ｓ，３Ｈ)，４．７２（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），６．３６(ｓ，１Ｈ)，７．２１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．３９(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ)，８．２０(ｓ，２Ｈ）
【００５４】
中間体製造例１：製造例１で用いた２−クロロ−５−［１−（メトキシカルボニル）エトキシ］ピリミジンの製造
2002155061.tif 000047
２−クロロ−５−ヒドロキシピリミジン０．１７ｇ、２−ブロモプロピオン酸メチル０．２２ｇ、無水炭酸カリウム０．２０ｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２．６ｍｌの混合物を６０℃で１時間攪拌した。該反応液を室温に冷却した後水に注加し、ｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。該有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−５−［１−（メトキシカルボニル）エトキシ］ピリミジン０．１７ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１．６８(ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ)，３．７９(ｓ，３Ｈ)，４．８２（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），８．２７（ｓ，２Ｈ）
【００５５】
製造例２：本発明化合物７−１２５の製造
2002155061.tif 000048
３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物７−７〕０．３０ｇ、炭酸ナトリウム０．０６ｇおよびシクロペンタノール３．０ｍｌの混合物を、１００℃にて１．５時間、その後１２０℃にて２時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、該反応液を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（シクロペンチルオキシカルボニル）メトキシピリジン０．１５ｇ〔本発明化合物７−１２５〕を得た。
【００５６】
製造例３：本発明化合物１−２の製造
2002155061.tif 000049
２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノール３３９ｍｇと２−クロロ−４−［１−（メトキシカルボニル）エトキシ］ピリミジン２１７ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２ｍｌに溶解し、炭酸カリウム１５０ｍｇを加え、８０℃で２時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリミジン〔本発明化合物１−２〕２５６ｍｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１．５６(ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ)，３．５５(ｓ，３Ｈ)，３．６９(ｓ，３Ｈ)，５．３２（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），６．３５(ｓ，１Ｈ)，６．５９(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．６Ｈｚ)，７．１８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），７．３９(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ)，８．２８(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．７Ｈｚ）
【００５７】
製造例４：本発明化合物３−２の製造
2002155061.tif 000050
２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノール１５６ｍｇと４−クロロ−２−［１−（メトキシカルボニル）エトキシ］ピリミジン１００ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１ｍｌに溶解し、炭酸カリウム７５ｍｇを加え、室温で２時間攪拌した。反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリミジン〔本発明化合物３−２〕６９ｍｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１．５６(ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ)，３．５５(ｓ，３Ｈ)，３．６５(ｓ，３Ｈ)，５．０−５．３（ｍ，１Ｈ），６．３５(ｓ，１Ｈ)，６．６３(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．８Ｈｚ)，７．２０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），７．３９(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ)，８．３８(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）
【００５８】
中間体製造例２：製造例３および４で用いた２−クロロ−４−［１−（メトキシカルボニル）エトキシ］ピリミジンと４−クロロ−２−［１−（メトキシカルボニル）エトキシ］ピリミジンの製造
2002155061.tif 000051
乳酸メチル３．１２ｇとアセトニトリル１０ｍｌの混合物を、氷冷下、水素化ナトリウム１．２ｇとアセトニトリル４０ｍｌの混合物に滴下し、３０分攪拌した。２，４−ジクロロピリミジン４．４７ｇとアセトニトリル１０ｍｌの混合物を同温度にて滴下し、混合物を６０℃で２時間攪拌した。該反応液を室温に冷却した後水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−４−［１−（メトキシカルボニル）エトキシ］ピリミジン２．５ｇと４−クロロ−２−［１−（メトキシカルボニル）エトキシ］ピリミジン０．２５ｇを得た。
２−クロロ−４−［１−（メトキシカルボニル）エトキシ］ピリミジン
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５１（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ），５．０４（ｓ，２Ｈ），６．３１（ｓ，１Ｈ），６．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），６．９−７．１（ｍ，４Ｈ），７．３−７．５（ｍ，５Ｈ），７．８４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）
４−クロロ−２−［１−（メトキシカルボニル）エトキシ］ピリミジン
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１．６７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．７５（ｓ，３Ｈ），５．３３（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），７．０３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），８．３８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）
【００５９】
製造例５：本発明化合物７−７の製造
第１工程
2002155061.tif 000052
炭酸カリウム２．０８ｇを、３−ヒドロキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン３．０ｇとＮ−（２，５−ジフルオロ−４−ニトロフェニル）アセトアミド２．９５ｇとのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４０ｍｌの溶液に加えた。混合物を６０〜７０℃にて２時間攪拌した。その後、該混合物を室温まで冷却した後、水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、濃縮し、粗結晶を得た。該粗結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄して、Ｎ−［２−フルオロ−５−｛２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３−ピリジルオキシ｝−４−ニトロフェニル］アセトアミド３．６７ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 2.21 (s, 3H), 3.72 (s, 3H), 4.90 (s, 2H), 6.96 (dd, 1H, J=7.8,5.0Hz), 7.35 (dd, 1H, J=7.8,1.6Hz), 7.5-7.6 (b, 1H), 7.90 (d, 1H, J=10.6Hz), 7.97 (dd, 1H, J=5.0,1.6Hz), 8.15 (d, 1H, J=6.8Hz)
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
Ｎ−［２−フルオロ−５−｛２−（エトキシカルボニル）メトキシ−３−ピリジルオキシ｝−４−ニトロフェニル］アセトアミド
Ｎ−［２−フルオロ−５−｛２−〔１−（メトキシカルボニル）エトキシ〕−３−ピリジルオキシ｝−４−ニトロフェニル］アセトアミド
Ｎ−［２−フルオロ−５−｛２−〔１−（エトキシカルボニル）エトキシ〕−３−ピリジルオキシ｝−４−ニトロフェニル］アセトアミド
【００６０】
第２工程
2002155061.tif 000053
鉄粉３．６ｇと、酢酸１０ｍｌと水１ｍｌの混合物に、Ｎ−［２−フルオロ−５−｛２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３−ピリジルオキシ｝−４−ニトロフェニル］アセトアミド３．６７ｇの酢酸１２ｍｌと酢酸エチル２ｍｌの溶液を、液温が４５℃以下に維持しながら滴下した。滴下終了後、反応混合物を４０℃にて１時間攪拌した。その後、該反応混合物をセライトにて濾過し、濃縮した。残渣を飽和重曹水にて希釈し、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をジイソプロピルエーテルにて洗浄して、Ｎ−［４−アミノ−２−フルオロ−５−｛２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３−ピリジルオキシ｝フェニル］アセトアミド３．０９ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 2.15 (s, 3H), 3.77 (s, 3H), 3.9-4.1 (b, 2H), 5.03 (s, 2H), 6.56 (d, 1H, J=11.8Hz), 6.84 (dd, 1H, J=7.9,5.0Hz), 7.0-7.2 (b, 1H), 7.14 (dd, 1H, J=7.9,1.5Hz), 7.80 (dd, 1H, J=5.0,1.5Hz), 7.84 (d, 1H, J=7.6Hz)
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
Ｎ−［４−アミノ−２−フルオロ−５−｛２−（エトキシカルボニル）メトキシ−３−ピリジルオキシ｝フェニル］アセトアミド
Ｎ−［４−アミノ−２−フルオロ−５−｛２−〔１−（メトキシカルボニル）エトキシ−３−ピリジルオキシ〕フェニル｝アセトアミド
Ｎ−［４−アミノ−２−フルオロ−５−｛２−〔１−（エトキシカルボニル）エトキシ−３−ピリジルオキシ〕フェニル｝アセトアミド
【００６１】
第３工程
2002155061.tif 000054
亜硝酸イソアミル２．０１ｇのアセトニトリル１ｍｌ溶液を、Ｎ−［４−アミノ−２−フルオロ−５−｛２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３−ピリジルオキシ｝フェニル］アセトアミド２．０ｇ、塩化銅(I)１．１３ｇ、塩化銅(II)２．３１ｇとアセトニトリル２０ｍｌの混合物に室温にて滴下し、１時間攪拌した。反応液を２％塩酸に注加し、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−［４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３−ピリジルオキシ｝フェニル］アセトアミド１．０４ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 2.18 (s, 3H), 3.75 (s, 3H), 4.98 (s, 2H), 6.87 (dd, 1H, J=7.8,4.9Hz), 7.08 (dd, 1H, J=7.8,1.4Hz), 7.23 (d, 1H, J=10.3Hz), 7.3-7.4 (b, 1H), 7.86 (dd, 1H, J=4.9,1.4Hz) 8.07 (d, 1H, J=7.3Hz),
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
Ｎ−［４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−（エトキシカルボニル）メトキシ−３−ピリジルオキシ｝フェニル］アセトアミド
Ｎ−［４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−〔１−（メトキシカルボニル）エトキシ〕−３−ピリジルオキシ｝フェニル］アセトアミド
Ｎ−［４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−〔１−（エトキシカルボニル）エトキシ〕−３−ピリジルオキシ｝フェニル］アセトアミド
【００６２】
第４工程
2002155061.tif 000055
３フッ化ホウ素−メタノール錯体のメタノール溶液２０ｍｌとＮ−［４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３−ピリジルオキシ｝フェニル］アセトアミド１．０４ｇを６０〜７０℃にて３時間攪拌した。その後、反応液を濃縮し、残渣を飽和重曹水にて希釈し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、濃縮した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３−ピリジルオキシ｝アニリン０．８７ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 3.77 (s, 3H), 3.7-3.9 (b, 2H), 5.00 (s, 2H), 6.49 (d, 1H, J=8.2Hz), 6.88 (dd, 1H, J=7.9,5.0Hz), 7.08 (d, 1H, J=10.3Hz), 7.10 (dd, 1H, J=7.9,1.6Hz), 7.87 (dd, 1H, J=5.0,1.6Hz)
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−（エトキシカルボニル）メトキシ−３−ピリジルオキシ｝アニリン、
４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−〔１−（メトキシカルボニル）エトキシ〕−３−ピリジルオキシ｝アニリン、
４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−〔１−（エトキシカルボニル）エトキシ−３−ピリジルオキシ〕アニリン
【００６３】
第５工程
2002155061.tif 000056
４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３ーピリジルオキシ｝アニリン０．５ｇ、トリフルオロアセト酢酸エチル０．２８ｇとトルエン１０ｍｌの混合物を３時間共沸し、モレキュラーシーブス５Ａを通じエタノールを除去した。冷却した後、反応液を濃縮し、Ｎ−［４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３−ピリジルオキシ｝フェニル］−トリフルオロアセト酢酸アミド０．７１ｇを得た。
融点：１５８．８ｇ
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
Ｎ−［４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−（エトキシカルボニル）メトキシ−３−ピリジルオキシ｝フェニル］−トリフルオロアセト酢酸アミド、
Ｎ−［４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝−３−ピリジルオキシ｝フェニル］−トリフルオロアセト酢酸アミド、Ｎ−［４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−｛１−（エトキシカルボニル）エトキシ｝−３−ピリジルオキシ｝フェニル］−トリフルオロアセト酢酸アミド
【００６４】
第６工程
2002155061.tif 000057
Ｎ−［４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３ーピリジルオキシ｝フェニル］−トリフルオロアセト酢酸アミド０．７１ｇと酢酸２ｍｌの混合物に、シアン酸ナトリウムを加え、５０℃にて１時間、その後、１１０℃にて１．５時間攪拌した。冷却した後、反応混合物に水を注加し、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和重曹水、続いて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン０．３０ｇを得た。
1H-NMR (CDCl3/250 MHz)δ(ppm): 3.70 (s, 3H), 4.93 (s, 2/2H), 4.94 (s, 2/2H), 6.19(s, 1H), 6.9-7.0 (m, 2H), 7.3-7.4 (m, 1H), 7.38 (d, 1H, J=8.9Hz), 7.93 (dd, 1H, J=4.9,1.6Hz)
melting point: 75.3℃
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（エトキシカルボニル）メトキシピリジン、
３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン、
３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−｛１−（エトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン
【００６５】
第７工程
2002155061.tif 000058
３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン０．１０ｇ、アセトニトリル１ｍｌと炭酸カリウム３１ｍｇの混合物に、ヨウ化メチル３２ｍｇを加え、室温にて１．５時間攪拌した。その後、ヨウ化メチル６４ｍｇを加え、５０℃にて１時間攪拌した。該混合物を濾過した後、濾液を減圧条件下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物７−７〕９７ｍｇを得た。
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（エトキシカルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物７−８〕、
３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン〔本発明化合物７−１２〕、
３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−｛１−（エトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン〔本発明化合物７−１３〕
【００６６】
製造例６：本発明化合物３−１２の製造
2002155061.tif 000059
２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノール３３８ｍｇと４−クロロ−６−［１−（メトキシカルボニル）エトキシ］ピリミジン２１６ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２ｍｌに溶解し、炭酸カリウム１５０ｍｇを加え、６０℃で２時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−６−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリミジン〔本発明化合物３−１２〕１０１ｍｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１．６２(ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ)，３．５６(ｓ，３Ｈ)，３．７５(ｓ，３Ｈ)，５．４１（ｑ，１Ｈｚ，Ｊ＝７，０Ｈ），６．３６(ｓ，１Ｈ)，６．３７(ｓ，１Ｈ)，７．１７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），７．４０(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ)，８．３４(ｓ，１Ｈ)
【００６７】
製造例７：本発明化合物５−１７の製造
４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−３−ヒドロキシ−５−メチルピラゾ−ル０．２１ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１．０ｍｌの溶液に、ブロム酢酸メチル０．１０ｇと炭酸カリウム０．２０ｇを加え、室温で３時間攪拌した。該反応液に希塩酸を注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。該溶液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−（メトキシカルボニル）メトキシ−４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−５−メチルピラゾ−ル〔本発明化合物５−１７〕０．０６ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：２．１６（ｓ，３Ｈ），３．５１（ｓ，３Ｈ），３．６９（ｓ，３Ｈ），４．７７（ｓ，２Ｈ），６．３０（ｓ，１Ｈ），７．１２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），７．３１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）
【００６８】
製造例８：本発明化合物５−１２のＲ光学異性体の製造
４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−３−ヒドロキシ−５−メチルピラゾ−ル０．１３ｇの酢酸エチル２．０ｍｌの溶液に、（Ｓ）−（−）−乳酸メチル０．１０ｇとトリフェニルホスフィン０．２６ｇ、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート４０％トルエン溶液０．５ｍｌを加え、室温で３時間攪拌した。該反応液にｎ−へキサン６ｍｌを注加し、析出した不溶物を濾去した。該溶液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、（Ｒ）−３−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝−４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−５−メチルピラゾ−ル〔本発明化合物５−１２のＲ光学異性体、以下５−１２−Ｒと記す〕０．０９ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１．５１（ｍ，３Ｈ），２．１５（ｓ，３Ｈ），３．４８（ｓ，３／２Ｈ），３．５２（ｓ，３／２Ｈ），３．６７（ｓ，３Ｈ），５．０５（ｍ，１Ｈ），６．３０（ｓ，１／２Ｈ），６．３１（ｓ，１／２Ｈ），７．１３（ｄ，１／２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），７．１８（ｄ，１／２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．３１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）
[α]D＋１６．４°（ｃ０．５ メタノール）
【００６９】
製造例９：本発明化合物５−１２のＳ光学異性体の製造
４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−３−ヒドロキシ−５−メチルピラゾ−ル０．１３ｇの酢酸エチル２．０ｍｌの溶液に、（Ｒ）−（＋）−乳酸メチル０．１０ｇとトリフェニルホスフィン０．２６ｇ、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート４０％トルエン溶液０．５ｍｌを加え、室温で３時間攪拌した。該反応液にｎ−へキサン６ｍｌを注加し、析出した不溶物を濾去した。該溶液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、（Ｓ）−３−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝−４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−５−メチルピラゾ−ル〔本発明化合物５−１２のＳ光学異性体、以下５−１２−Ｓと記す〕０．０８ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１．５１（ｍ，３Ｈ），２．１５（ｓ，３Ｈ），３．４９（ｓ，３／２Ｈ），３．５２（ｓ，３／２Ｈ），３．６７（ｓ，３Ｈ），５．０５（ｍ，１Ｈ），６．３０（ｓ，１／２Ｈ），６．３１（ｓ，１／２Ｈ），７．１３（ｄ，１／２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．１８（ｄ，１／２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），７．３１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
[α]D−１６．０°（ｃ０．５ メタノール）
【００７０】
中間体製造例３：製造例７〜９で用いた４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−３−ヒドロキシ−５−メチルピラゾ−ルの製造
第１工程：
２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノール１０．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌに溶解し、トリエチルアミン５．０ｍｌを加え、室温攪拌下、２−クロロアセト酢酸メチル５．０ｇを加えた後、室温攪拌１０分、６０℃で１時間攪拌した。トリエチルアミン２．０ｍｌと２−クロロアセト酢酸メチル２．０ｇを加えた後、さらに６０℃で１時間攪拌した。反応液を室温にて一夜攪拌した後、該反応液を氷水と希塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−３−オキソ酪酸メチル７．８６ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：２．０１（ｓ，３／２Ｈ ），２．４７（ｓ，３／２Ｈ ），３．５５（ｓ，３Ｈ），３．７５（ｓ，３／２Ｈ），３．８１（ｓ，３／２Ｈ ），４．９９（ｓ，１／２Ｈ ），６．３４（ｓ，１／２Ｈ），６．３５（ｓ，１／２Ｈ），６．６５（ｄ，１／２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），６．８３（ｍ，１／２Ｈ），７．３５（ｍ，１Ｈ）
【００７１】
第２工程：
２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−３−オキソ酪酸メチル３．０９ｇとメチルカーバゼート１．２３ｇをトルエン３０ｍｌに懸濁し、５時間加熱還流攪拌した。室温まで放冷後、反応液を氷水と希塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をｎ−へキサン：酢酸エチル（３：１）の混合溶媒で洗浄し、４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−３−ヒドロキシ−５−メチルピラゾ−ル２．９４ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3＋ＣＤ3ＯＤ／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：２．０８（ｓ，３Ｈ），３．５１（ｓ，３Ｈ），６．３２（ｓ，１Ｈ），６．８１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），７．３２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００７２】
製造例１０：本発明化合物６−２の製造
２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェニルメルカプタン０．４０ｇをアセトニトリル６ｍｌに溶解し、炭酸カリウム０．３１ｇを加えて３０分攪拌した後、２−クロロ−４−［１−（メトキシカルボニル）エトキシ］ピリミジン０．２９ｇを加えて３時間攪拌した。該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−（［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェニルチオ｝ピリミジン−４−イル］オキシ）プロピオン酸メチル〔本発明化合物６−２〕０．４６ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１．４９(ｄ，３H，Ｊ＝７．１Ｈｚ)，３．５６(ｄ，３Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ)，３．６７(ｄ，３Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ)，５．２３（ｍ，１Ｈ），６．３６(ｓ，１Ｈ)，６．５２(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．７Ｈｚ)，７．４６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），７．６２(ｍ，１Ｈ)，８．２６(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．７Ｈｚ)
融点：６０．２℃
【００７３】
中間体製造例４：製造例１０で用いた２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェニルメルカプタンの製造
2002155061.tif 000060
２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−ベンゼンスルホニルクロリド１．６５ｇを酢酸１６ｍｌに溶解し、亜鉛４．４ｇを加えた後、加熱還流条件下で反応させた。反応終了後、放冷した後、該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出し、濾過した。濾液を分液後、該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮し、２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェニルメルカプタン１．３５ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５５(ｍ，３Ｈ)，３．８６(ｓ，１Ｈ)，６．３６(ｓ，１Ｈ)，７．２７(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ)，７．３３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）
融点１３２．５℃
【００７４】
製造例１１：本発明化合物２−２の製造
2002155061.tif 000061
２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−３−ヒドロキシピリジン２００ｍｇと２−ブロモプロピオン酸メチル８０ｍｇとをアセトニトリルに溶解し、炭酸カリウム６６ｍｇを加えて６０℃で２時間攪拌した。該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−３−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン７７ｍｇ〔本発明化合物２−２〕を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１．６７(ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ)，３．５５（ｍ，３H），３．７６(ｓ，３H)，４．９４(ｑ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ)，６．３５(ｓ，１Ｈ)，６．９５(ｍ，１Ｈ)，７．２０(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ)，７．２８（ｍ，１Ｈ），７．３９(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．７５(ｍ，１Ｈ）
【００７５】
製造例１２：本発明化合物２−７の製造
2002155061.tif 000062
２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−３−ヒドロキシピリジン６０ｍｇとブロモ酢酸メチル２０ｍｇをアセトニトリル２ｍｌに溶解し、炭酸カリウム２０ｍｇを加えて６０℃で２時間攪拌した。該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−３−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物２−７〕６０ｍｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５５（ｓ，３H），３．８０(ｓ，３H)，４．８１(ｓ，２Ｈ)，６．３５(ｓ，１Ｈ)，６．９７(ｍ，１Ｈ)，７．２１(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ)，７．２７（ｍ，１Ｈ），７．３９(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．７５(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．１Ｈｚ）
【００７６】
中間体製造例５：製造例１１および１２で用いた２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−３−ヒドロキシピリジンの製造
第１工程：
2002155061.tif 000063
２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノール１１．８ｇと２−クロロ−３−ニトロピリジン５．２ｇをトルエン１００ｍｌに溶解し、水酸化カリウム２．３ｇおよび１８−クラウン−６、５６ｍｇを加え、９０℃で３時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、溶媒を留去し、残渣を氷水に注加し、生じた結晶を濾取し、２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−３−ニトロピリジン１１．５ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５６(ｍ，３H)，６．３６(ｓ，１Ｈ)，７．４〜７．２(ｍ，２Ｈ)，７．４１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），８．３(ｍ，１Ｈ)，８．４(ｍ，１Ｈ)
【００７７】
第２工程：
2002155061.tif 000064
鉄粉３．８ｇ、酢酸５０ｍｌおよび水５ｍｌの混合溶液に、２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−３−ニトロピリジン３．８ｇの酢酸５．０ｍｌ溶液を、反応液の温度を３５℃以下に保ちつつ滴下した。滴下終了後、２時間攪拌を続けた後、反応液をセライト濾過し、酢酸エチルで希釈した。混合物を飽和重曹水で中和し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３−アミノ−２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝ピリジン３．４ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５３(ｓ，３H)，４．００(ｓ，２Ｈ)，６．３４(ｓ，１Ｈ)，６．８２(ｍ，１Ｈ)，６．９９（ｍ，１Ｈ），７．２９(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ)，７．３５(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ)，７．４７（ｍ，１Ｈ）
【００７８】
第３工程：
2002155061.tif 000065
三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体０．７６ｍｌを３−アミノ−２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝ピリジン３．４ｇ、１，２−ジメトキシエタン３ｍｌ、塩化メチレン１ｍｌの混合物に−５℃で滴下し、５分間攪拌後、亜硝酸ｔ−ブチル０．４４ｍｌを混合物に滴下し、同温度で３０分間攪拌した。混合物にｎ−ペンタンを注加し、生じた結晶２．０ｇを濾取した。引き続き、上記結晶２００ｍｇを無水酢酸１ｍｌに溶解し、７０℃で２時間攪拌した。溶媒留去後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３−アセトキシ−２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝ピリジン８９ｍｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：２．４３（ｓ，３H），３．５５(ｓ，３H)，６．３５(ｓ，１Ｈ)，７．０５(ｍ，１Ｈ)，７．２１(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ)，７．３９(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．４７（ｍ，１Ｈ），７．９７（ｍ，１Ｈ）
【００７９】
第４工程：
2002155061.tif 000066
３−アセトキシ−２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝ピリジン１００ｍｇ、炭酸カリウム１５ｍｇ、メタノール１ｍｌの混合物を室温で３時間攪拌した。反応液を氷水に注加したのち、酢酸を注加した。生じた結晶を濾取し、２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−３−ヒドロキシピリジン６５ｍｇを得た。
【００８０】
製造例１３：本発明化合物７−７の製造
第１工程：
2002155061.tif 000067
水素化ナトリウム０．４ｇを２−クロロ−３−ニトロピリジン１．５９ｇ、グリコール酸メチル０．９５ｇおよび１，４−ジオキサン１０ｍｌの混合物に１０℃で加えた。室温で２時間攪拌後、反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３−ニトロピリジン１．５ｇを得た。
ｍｐ：６１．５℃
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
２−（エトキシカルボニル）メトキシ−３−ニトロピリジン、
２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝−３−ニトロピリジン、
２−｛１−（エトキシカルボニル）エトキシ｝−３−ニトロピリジン
【００８１】
第２工程：
2002155061.tif 000068
２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３−ニトロピリジン０．３ｇ、酸化白金２０ｍｇ及びエタノール１．４ｍｌの混合物を水素雰囲気下に、室温で３時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−アミノ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン０．２２ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．７７（ｓ，３H），３．８５（ｂｓ，２Ｈ)，４．９５(ｓ，２Ｈ)，６．７５(ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．５，５．０Ｈｚ)，６．９１(ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．５，１．６Ｈｚ），７．５０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．０，１．６Ｈｚ）
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
３−アミノ−２−（エトキシカルボニル）メトキシピリジン、
３−アミノ−２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン、
３−アミノ−２−｛１−（エトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン
【００８２】
第３工程：
2002155061.tif 000069
三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体１．６ｇを３−アミノ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン１．０ｇ、１，２−ジメトキシエタン３ｍｌ及びジクロロメタン１ｍｌの混合物に−１０℃で滴下した。同温度で１０分攪拌後、亜硝酸ｔ−ブチル０．６８ｇの１，２−ジメトキシエタン１ｍｌ溶液を−５℃以下で反応液に滴下した。同温度で３０分間攪拌後、混合物にｎ−ペンタンを注加した。二層に分離したうちの下層を無水酢酸５ｍｌに溶解し、８０℃で１時間攪拌した。溶媒留去後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３−アセトキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン０．４５ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：２．３３（ｓ，３Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），４．９２（ｓ，２Ｈ），６．９３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７，５．０Ｈｚ），７．３８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７，１．６Ｈｚ），７．９７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．０，１．６Ｈｚ）
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
３−アセトキシ−２−（エトキシカルボニル）メトキシピリジン、
３−アセトキシ−２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン、
３−アセトキシ−２−｛１−（エトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン
【００８３】
第４工程：
2002155061.tif 000070
３−アセトキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン０．１ｇ、炭酸カリウム３１ｍｇおよびメタノール１ｍｌの混合物を室温で３時間攪拌した。
反応液を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−ヒドロキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン７３ｍｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．７８（ｓ，３Ｈ），４．９８（ｓ，２Ｈ），６．８４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７，５．０Ｈｚ），７．１７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１．３Ｈｚ），７．６３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１．３ｈｚ）
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
３−ヒドロキシ−２−（エトキシカルボニル）メトキシピリジン、
３−ヒドロキシ−２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン、
３−ヒドロキシ−２−｛１−（エトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン
【００８４】
第５工程：
2002155061.tif 000071
３−ヒドロキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン０．２９ｇ、２，５−ジフルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼン０．２３ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３．２ｍｌの混合物に炭酸カリウム０．１１ｇを加え、７０℃で２時間攪拌した。２，５−ジフルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼン０．１２ｇおよび炭酸カリウム０．０５ｇを追加し、７０℃で１時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン０．３９ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５１（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ），３．６８（ｓ，３Ｈ），４．８６（ｄ，１Ｈ），４．９８（ｄ，１Ｈ），６．２９（ｓ，１Ｈ），６．９９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８，４．９Ｈｚ），７．１１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．５１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８，１．６Ｈｚ），７．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．９９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９，１．６Ｈｚ）
【００８５】
第６工程：
2002155061.tif 000072
鉄粉０．３ｇ、酢酸３ｍｌおよび水０．３ｍｌの混合溶液に、３−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン０．３０ｇの酢酸２ｍｌ溶液を、反応液の温度を３５℃以下に保ちつつ滴下した。滴下終了後、２時間攪拌を続けた後、反応液をセライト濾過し、酢酸エチルで希釈した。混合物を飽和重曹水で中和し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン０．２４ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５２（ｓ，３Ｈ），３．７４（ｓ，３Ｈ），４．２９（ｂｓ，２Ｈ），５．００（ｓ，２Ｈ），６．３０（ｓ，１Ｈ），６．６１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１１．３Ｈｚ），６．７６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），６．８６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８，５．０Ｈｚ），７．２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８，１．１Ｈｚ），７．８２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．０，１．１Ｈｚ）
【００８６】
第７工程：
2002155061.tif 000073
亜硝酸イソアミル８８ｍｇを３−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン０．２４ｇ、塩化銅（Ｉ）９９ｍｇ、塩化銅（II）０．２０ｇ、アセトニトリル２．５ｍｌの混合物に室温で滴下し、１時間攪拌した。該反応液を２％塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物７−７〕０．２１ｇを得た。
ｍｐ：５２．２℃
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５０（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１.０Ｈｚ），３．７０（ｓ，３Ｈ），４．９０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ），４．９７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ），６．２９（ｓ，１Ｈ），６．９−７．０（ｍ，２Ｈ），７．３２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７，１．９Ｈｚ），７．３７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．９２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９，１．９Ｈｚ）
【００８７】
製造例１４：本発明化合物４−８５の製造
第１工程：
水素化ナトリウム６８ｍｇを５−ベンジルオキシ−４−クロロ−２−メチルピリミジン０．４ｇ、グリコール酸メチル０．１７ｇおよびテトラヒドロフラン３．４ｍｌの混合物に０℃で加えた。室温で１時間攪拌後、９０℃で３０分攪拌した。グリコール酸メチル１８ｍｇを追加し、９０℃で３０分攪拌した。反応液を室温に冷却した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を希塩酸、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−ベンジルオキシ−４−（メトキシカルボニル）メトキシ−２−メチルピリミジン０．２１ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：２．４９（ｓ，３Ｈ），３．７８（ｓ，３Ｈ），５．０１（ｓ，２Ｈ），５．１７（ｓ，２Ｈ），７．２−７．５（ｍ，５Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ）
【００８８】
第２工程：
５−ベンジルオキシ−４−（メトキシカルボニル）メトキシ−２−メチルピリミジン０．２１ｇ、１０％パラジウム−炭素１６ｍｇ及び酢酸エチル１．５ｍｌの混合物を水素雰囲気下室温で３時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を濃縮し、５−ヒドロキシ−４−（メトキシカルボニル）メトキシ−２−メチルピリミジン０．１５ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：２．５１（ｓ，３Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ），５．００（ｓ，２Ｈ），８．１０（ｓ，１Ｈ）
【００８９】
第３工程：
５−ヒドロキシ−４−（メトキシカルボニル）メトキシ−２−メチルピリミジン０．１５ｇ、２，５−ジフルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼン０．１６ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２ｍｌの混合物に炭酸カリウム７４ｍｇを加え、７０℃で１時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝−４−（メトキシカルボニル）メトキシ−２−メチルピリミジン０．２０ｇを得た。
ｍｐ：１４９．５℃
【００９０】
第４工程：
５−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝−４−（メトキシカルボニル）メトキシ−２−メチルピリミジン０．１９ｇ、酸化白金５ｍｇ、エタノール２ｍｌ及び酢酸エチル２ｍｌの混合物を水素雰囲気下室温で１．５時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を濃縮し５−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−（メトキシカルボニル）メトキシ−２−メチルピリミジン０．１７ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：２．５５（ｓ，３Ｈ），３．５１（ｓ，３Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），４．９−５．１（ｍ，２Ｈ），６．３０（ｓ，１Ｈ），６．６７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），６．８３（ｂｓ，１Ｈ），７．１５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ），７．４２（ｂｓ，１Ｈ），８．１８（ｓ，１Ｈ）
【００９１】
第５工程：
亜硝酸イソアミル６０ｍｇを５−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−（メトキシカルボニル）メトキシ−２−メチルピリミジン０．１７ｇ、塩化銅（Ｉ）６７ｍｇ、塩化銅（II）１３７ｍｇ、アセトニトリル２ｍｌの混合物に室温で滴下し、１時間攪拌した。該反応液を２％塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−（メトキシカルボニル）メトキシ−２−メチルピリミジン〔本発明化合物４−８５〕２０ｍｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：２．５７（ｓ，３Ｈ），３．５１（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１.１Ｈｚ），３．７１（ｓ，３Ｈ），４．９０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ），５．００（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ），６．２９（ｓ，１Ｈ），６．８９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），７．３７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．２６（ｓ，１Ｈ）
【００９２】
製造例１５：本発明化合物４−７６の製造
第１工程：
水素化ナトリウムを５−ベンジルオキシ−４−クロロ−２−メチルピリミジン、乳酸メチルおよびテトラヒドロフランの混合物に０℃で加える。室温で１時間攪拌後、９０℃で３０分攪拌する。反応液を室温に冷却した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を希塩酸、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−ベンジルオキシ−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝−２−メチルピリミジンを得る。
【００９３】
第２工程：
５−ベンジルオキシ−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝−２−メチルピリミジン、１０％パラジウム−炭素及び酢酸エチルの混合物を水素雰囲気下室温で３時間攪拌する。反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を濃縮し、５−ヒドロキシ−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝−２−メチルピリミジンを得る。
【００９４】
第３工程：
５−ヒドロキシ−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝−２−メチルピリミジン、２，５−ジフルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼンおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの混合物に炭酸カリウムを加え、７０℃で１時間攪拌する。反応液を室温に冷却した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝−２−メチルピリミジンを得る。
【００９５】
第４工程：
５−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝−２−メチルピリミジン、酸化白金、エタノール及び酢酸エチルの混合物を水素雰囲気下室温で１．５時間攪拌する。反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を濃縮し５−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝−２−メチルピリミジンを得る。
【００９６】
第５工程：
亜硝酸イソアミルを５−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝−２−メチルピリミジン、塩化銅（Ｉ）、塩化銅（II）、アセトニトリルの混合物に室温で滴下し、１時間攪拌する。該反応液を２％塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝−２−メチルピリミジン〔本発明化合物４−７６〕を得る。
【００９７】
製造例１６：本発明化合物７−２の製造
第１工程：
水素化ナトリウム０．８ｇを２−クロロ−３−ニトロピリジン３．１７ｇ、乳酸メチル２．１９ｇおよび１，４−ジオキサン２０ｍｌの混合物に１０℃で加え、室温で１．５時間攪拌した。反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝−３−ニトロピリジン３．３ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.70 (d, 3H, J=7.0Hz), 3.74 (s, 3H), 5.46 (q, 1H, J=7.0Hz), 7.07 (dd, 1H, J=7.8,5.0Hz), 8.2-8.4 (m, 2H)
【００９８】
第２工程：
２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝−３−ニトロピリジン１．７ｇ、酸化白金１０２ｍｇ及びエタノール７．５ｍｌの混合物を水素雰囲気下に室温で３．５時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応混合物をセライトで濾過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−アミノ−２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン１．１６ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.63 (d, 3H, J=6.8Hz), 3.74 (s, 3H), 3.84 (bs, 2H), 5.38 (d, 1H, J=6.8Hz), 6.72 (dd, 1H, J=7.7,5.0Hz), 6.90 (dd, 1H, J=7.7,1.4Hz), 7.48 (dd, 1H, J=5.0,1.4Hz)
【００９９】
第３工程：
三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体１．５ｍｌを３−アミノ−２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン１．１ｇ、１，２−ジメトキシエタン１ｍｌ及びジクロロメタン１ｍｌの混合物に−１０℃で滴下した。同温度で１０分攪拌後、亜硝酸ｔ−ブチル０．８ｍｌの１，２−ジメトキシエタン１ｍｌ溶液を−５℃以下で反応液に滴下した。同温度で３０分間攪拌後、混合物にｎ−ペンタンを注加した。二層に分離したうちの下層を無水酢酸に溶解し、７０℃で１時間攪拌した。溶媒留去後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３−アセトキシ−２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン０．３４ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.60 (d, 1H, J=7.0Hz), 2.33 (s, 3H), 3.73 (s, 3H), 5.34 (q, 1H, J=7.0Hz), 6.91 (dd, 1H, J=7.6, 5.0Hz), 7.36 (dd, 1H, J=7.6, 1.5Hz), 7.97 (dd, 1H, J=5.0,1.5Hz)
【０１００】
第４工程：
３−アセトキシ−２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン０．３４ｇ、炭酸カリウム０．１１ｇおよびメタノール２ｍｌの混合物を、室温で１時間攪拌した。反応液を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−ヒドロキシ−２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン１９８ｍｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.64 (d, 1H, J=7.0Hz), 3.75 (s, 3H), 5.45 (q, 1H, J=7.0Hz), 6.0-6.2 (bs, 1H), 6.83 (dd, 1H, J=7.7,5.0Hz), 7.15 (dd, 1H, J=7.7,1.5Hz), 7.63 (dd, 1H, J=5.0,1.5Hz)
【０１０１】
第５工程：
３−ヒドロキシ−２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン０．１８ｇ、２，５−ジフルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼン０．１９ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２．０ｍｌの混合物に炭酸カリウム９０ｍｇを加え、７０℃で３時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝−２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン０．２１ｇをジアステレオ異性体混合物として得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.45 (d, 3/2H, J=7.1Hz), 1.46 (d, 3/2H, J=7.1Hz), 3.49 (S, 3/2H), 3.51 (s, 3/2H), 3.66 (s, 3H), 5.29 (q, 1/2H, J=7.1Hz), 5.31 (q, 1/2H, J=7.1Hz), 6.28 (s, 1/2H), 6.30 (s, 1/2H), 6.9-7.0 (m, 1H), 7.10 (d, 1/2H, J=6.1Hz), 7.17 (d, 1/2H, J=6.1Hz), 7.4-7.6 (m, 1H), 7.8-7.9 (m, 1H), 7.9-8.0  (m, 1H),
【０１０２】
第６工程：
鉄粉０．２１ｇ、酢酸３ｍｌおよび水０．３ｍｌの混合物に、３−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝−２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジンの酢酸１．２ｍｌ溶液を、反応液の温度を３５℃以下に保ちつつ滴下した。滴下終了後、１時間攪拌を続けた後、反応液をセライト濾過し、酢酸エチルで希釈した。混合物を飽和重曹水で中和し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン０．１６ｇをジアステレオ異性体混合物として得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.61 (d, 3H, J=7.1Hz), 3.52 (s, 3H), 3.72 (s, 3H), 4.28 (bs, 2H), 5.40 (q, 1/2H, J=7.1Hz), 5.41 (q, 1/2H, J=7.1Hz), 6.30 (s, 1H), 6.62 (d, 1H, J=10.9Hz), 6.7-6.8 (m, 1H), 6.8-6.9 (m, 1H), 7.2-7.3 (m, 1H), 7.7-7.9 (m, 1H)
【０１０３】
第７工程：
亜硝酸イソアミル１８ｍｇを３−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン０．１６ｇ、塩化銅（Ｉ）６３ｍｇ、塩化銅（ＩＩ）１２９ｍｇ、アセトニトリル１．５ｍｌの混合物に０℃で滴下し、１時間攪拌した後、室温にて更に１時間攪拌した。該反応液を１Ｎ塩酸と氷の混合物に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン〔本発明化合物７−２〕０．１２ｇをジアステレオ異性体混合物として得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.51 (d, 3/2H, J=7.0Hz), 1.52 (d, 3/2H, J=7.0Hz), 3.50 (S, 3H), 3.67 (s, 3H), 5.29 (q, 1/2H, J=7.0Hz), 5.30 (q, 1/2H, J=7.0Hz), 6.28 (s, 1/2H), 6.29 (s, 1/2H), 6.8-7.0 (m, 2H), 7.3-7.4 (m, 2H), 7.8-7.9 (m, 1H)
【０１０４】
製造例１７：本発明化合物４−７の製造
第１工程：
水素化ナトリウム０．２９７ｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの混合物に、グリコール酸メチル０．６６８ｇを加え、室温にて１時間攪拌した。その後、５−ベンジルオキシ−４−クロロピリミジン（以下の方法にて調製。：５−ベンジルオキシ−４−ピリミジオン１．５ｇとオキシ塩化リン３０ｍｌの混合物を還流温度にて３０分間攪拌した後、室温まで冷却、濃縮した。残渣に氷水を注加し、ジエチルエーテルで抽出、濃縮した。）を、該混合物に加え、室温にて３時間攪拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニウム水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水、続いて飽和食塩水洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−ベンジルオキシ−４−（メトキシカルボニル）メトキシピリミジン０．９３４ｇを得た。
融点：７８．７℃
【０１０５】
第２工程：
５−ベンジルオキシ−４−（メトキシカルボニル）メトキシピリミジン０．９ｇ、１０％パラジウム−炭素及び酢酸エチルの混合物を、水素雰囲気下室温で３時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応混合物をセライトで濾過し、ろ液を濃縮し、５−ヒドロキシ−４−（メトキシカルボニル）メトキシピリミジン０．５７４ｇを得た。
融点：１０５．０℃
【０１０６】
第３工程：
水素化ナトリウム４２ｍｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの混合物に、、５−ヒドロキシ−４−（メトキシカルボニル）メトキシピリミジン０．１８４ｇを加え、室温にて１時間攪拌した。その後、２，５−ジフルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼン０．３５ｇを加え、室温にて２時間攪拌し、更に５０℃にて１時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した後、飽和塩化アンモニウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝−４−（メトキシカルボニル）メトキシピリミジン０．４４８ｇを得た。
融点：５５．７℃
【０１０７】
第４工程：
鉄粉０．４ｇ、酢酸２ｍｌと水０．２ｍｌの混合物に、５−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝−４−（メトキシカルボニル）メトキシピリミジン０．３９３ｇの酢酸１ｍｌと酢酸エチル２ｍｌの溶液を滴下した。滴下終了後、該混合物を室温にて１時間攪拌し、更に３０〜４０℃にて２時間攪拌した。その後、該混合物をセライトで濾過し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水、続いて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−（メトキシカルボニル）メトキシピリミジン０．３１５ｇを得た。
融点：７１．２℃
【０１０８】
第５工程：
亜硝酸イソアミル０．２２８ｇのアセトニトリル溶液を、５−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−（メトキシカルボニル）メトキシピリミジン０．３１５ｇ、塩化銅（Ｉ）０．１２９ｇ、塩化銅（ＩＩ）０．２６２ｇ、アセトニトリルの混合物に室温で滴下し、３時間攪拌した。該混合物を濃縮し、酢酸エチルにて希釈し、セライトで濾過した。ろ液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１％塩酸、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−（メトキシカルボニル）メトキシピリミジン〔本発明化合物４−７〕０．２４４ｇを得た。
融点：５２．５℃
【０１０９】
製造例１８：本発明化合物４−２の製造
第１工程：
水素化ナトリウムを５−ベンジルオキシ−４−クロロピリミジン、乳酸メチルおよびテトラヒドロフランの混合物に０℃で加える。室温で１時間攪拌後、９０℃で３０分攪拌する。反応液を室温に冷却した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を希塩酸、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−ベンジルオキシ−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリミジンを得る。
【０１１０】
第２工程：
５−ベンジルオキシ−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリミジン、１０％パラジウム−炭素及び酢酸エチルの混合物を水素雰囲気下室温で３時間攪拌する。反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を濃縮し、５−ヒドロキシ−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリミジンを得る。
【０１１１】
第３工程：
５−ヒドロキシ−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリミジン、２，５−ジフルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼンおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの混合物に炭酸カリウムを加え、７０℃で１時間攪拌する。反応液を室温に冷却した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリミジンを得る。
【０１１２】
第４工程：
５−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリミジン、酸化白金、エタノール及び酢酸エチルの混合物を水素雰囲気下室温で１．５時間攪拌する。反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を濃縮し５−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリミジンを得る。
【０１１３】
第５工程：
亜硝酸イソアミルを５−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリミジン、塩化銅（Ｉ）、塩化銅（II）、アセトニトリルの混合物に室温で滴下し、１時間攪拌する。該反応液を２％塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリミジン〔本発明化合物４−２〕を得る。
【０１１４】
製造例１９：本発明化合物７−４２の製造
第１工程：
水素化ナトリウム０．３８５ｇとジメチルスルホキシドの混合物に、ベンジルアルコール１．０４ｇのジメチルスルホキシド溶液を室温にて加え、５０℃にて３０分間攪拌し、室温まで冷却した。４−ブロモ−３−（メトキシ）メトキシピリジン１．７ｇ（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，１２７４５−１２７７４，（１９９８）に記載の方法で製造した。）のジメチルスルホキシド溶液を、該混合物に加え、５０〜６０℃にて２時間攪拌した。反応混合物を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、次いで飽和食塩水で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、４−ベンジルオキシ−３−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン１．４８ｇを得た。
融点：７１．２℃
【０１１５】
第２工程：
４−ベンジルオキシ−３−（メトキシ）メトキシピリジン０．７ｇと１Ｎ塩酸の混合物を、６０℃にて２時間攪拌した。混合物を飽和重曹水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して４−ベンジルオキシ−３−ヒドロキシピリジン０．５４７ｇを得た。
融点：１７３．０℃
【０１１６】
第３工程：
水素化ナトリウム５７ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと４−ベンジルオキシ−３−ヒドロキシピリジンの混合物を、室温にて３０分間攪拌した。その後、２，５−ジフルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼン０．５ｇを、該混合物に加え、室温にて１時間、更に５０〜６０℃にて１時間攪拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニア水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニア水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、４−ベンジルオキシ−３−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝ピリジン０．５４８ｇを得た。
nD23.7: 1.5497
【０１１７】
第４工程：
鉄粉０．５５ｇ、酢酸３ｍｌと水０．３ｍｌの混合物に、４−ベンジルオキシ−３−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝ピリジン０．５４８ｇの酢酸０．５ｍｌと酢酸エチル３ｍｌの溶液を滴下した。滴下終了後、４０〜５０℃にて３時間攪拌した。該混合物をセライト濾過し、水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して、３−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−ベンジルオキシピリジン０．４３８ｇを得た。
融点：６９．３℃
【０１１８】
第５工程：
亜硝酸イソアミル０．３０７ｇのアセトニトリル溶液を、３−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−ベンジルオキシピリジン０．４３８ｇ、塩化銅（Ｉ）０．１７３ｇ、塩化銅（ＩＩ）０．３５２ｇとアセトニトリルの混合物に室温で滴下し、１時間攪拌した。翌日、該反応混合物を濃縮し、酢酸エチルで希釈し、セライトで濾過した。ろ液を酢酸エチルで抽出した。有機層を１％塩酸、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、４−ベンジルオキシ−３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝ピリジン０．３６２ｇを得た。
融点：５５．０℃
【０１１９】
第６工程：
４−ベンジルオキシ−３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝ピリジン０．３５６ｇ、１０％パラジウム／炭素と酢酸エチルの混合物を、水素雰囲気下に室温にて８時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応混合物をセライトで濾過し、ろ液を濃縮して、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−ヒドロキシピリジン０．３２ｇを得た。
融点：１９６．１℃
【０１２０】
第７工程：
水素化ナトリウム３０ｍｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの混合物に、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−ヒドロキシピリジン０．３１ｇを加え、室温にて１時間攪拌した。その後、ブロモ酢酸エチル０．１１４ｇを該混合物に加え、室温にて８時間攪拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニウム水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物７−４２〕２７ｍｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 3.51 (q, 3H, J=1.2Hz), 3.74 (s, 3H), 4.71 (s, 2H), 6.29 (s, 1H), 6.7-6.8 (m, 2H), 7.37 (d, 1H, J=8.8Hz), 8.35 (d, 1H, J=5.5Hz), 8.37 (s, 1H)
【０１２１】
製造例２０：本発明化合物２−４５の製造
水素化ナトリウム２．０ｇを、２，６−ジクロロ−３−ニトロピリジン９．６５ｇ、グリコール酸メチル４．９５ｇとテトラヒドロフラン１００ｍｌの混合物に０℃にて加え、０℃にて４時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、６−クロロ−２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３−ニトロピリジン１０．８６ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.80 (s, 3H), 5.09 (s, 2H), 7.11 (d, 1H, J=8.4Hz), 8.34 (d, 1H, J=8.4Hz),
【０１２２】
第２工程：
６−クロロ−２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３−ニトロピリジン１．０ｇ、２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノール１．３７ｇ、炭酸カリウム０．６７ｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌの混合物を室温にて１時間攪拌し、更に５０℃にて３０分間攪拌した。
該混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、６−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３−ニトロピリジン２．２５ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 3.56 (s, 3H), 3.64 (s, 3H), 4.81 (s, 2H), 6.36 (s, 1H), 6.75 (d, 1H, J=8.6Hz), 7.14 (d, 1H, J=6.6Hz), 7.41 (d, 1H, J=8.9Hz), 8.52 (d, 1H, J=8.6Hz),
【０１２３】
第３工程
６−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３−ニトロピリジン２．２５ｇ、１０％パラジウム−炭素０．３ｇと酢酸エチル４０ｍｌの混合物を水素雰囲気下、室温にて３時間攪拌した。反応系を窒素置換し、反応混合物をセライトで濾過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−アミノ−６−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン１．３８ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 3.54 (s, 3H), 3.6-3.7 (b, 2H), 3.67 (s, 3H), 4.76 (s, 2H), 6.33 (s, 1H), 6.47 (d, 1H, J=8.1Hz), 7.0-7.1 (m, 2H), 7.35 (d, 1H, J=8.9Hz)
【０１２４】
第４工程：
３フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体を、３−アミノ−６−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン１．２８ｇの１，２−ジメトキシエタン３ｍｌと塩化メチレン１ｍｌの溶液に、−７℃にて加えた。該溶液を同温度にて１０分間攪拌した後、亜硝酸ｔ−ブチル０．３１ｇの溶液をー５℃以下にて滴下した。該反応溶液を同温度で１時間攪拌した。ｎ−ペンタンを注加し、該ｎ−ペンタン層をデカンテーションにて除いた。エタノール７ｍｌ、亜鉛（末）１．２ｇを該混合物に加え、還流温度にて１．５時間攪拌した。反応混合物をセライトで濾過し、溶媒を留去させた後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ−６−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物２−４５〕０．７３ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.55 (s, 3H), 3.66 (s, 3H), 4.67 (s, 2H), 6.34 (s, 1H), 6.5-6.6 (m, 1H), 7.1-7.2 (m, 1H), 7.3-7.4 (m, 1H), 7.6-7.7 (m, 1H)
【０１２５】
製造例２１：本発明化合物７−９５の製造
第１工程：
水素化ナトリウムを２，６−ジクロロ−３−ニトロピリジン、グリコール酸メチルおよび１，４−ジオキサンの混合物に１０℃で加える。室温で２時間攪拌後、反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、６−クロロ−２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３−ニトロピリジンを得る。
【０１２６】
第２工程：
６−クロロ−２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３−ニトロピリジン、酸化白金及びエタノールの混合物を水素雰囲気下室温で３時間攪拌する。反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−アミノ−６−クロロ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジンを得る。
【０１２７】
第３工程：
三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体を３−アミノ−６−クロロ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン、１，２−ジメトキシエタン及びジクロロメタンの混合物に−１０℃で滴下する。同温度で１０分攪拌後、亜硝酸ｔ−ブチルの１，２−ジメトキシエタン溶液を−５℃以下で反応液に滴下する。同温度で３０分間攪拌後、混合物にｎ−ペンタンを注加する。二層に分離したうちの下層を無水酢酸に溶解し、８０℃で１時間攪拌する。溶媒留去後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３−アセトキシ−６−クロロ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジンを得る。
【０１２８】
第４工程：
３−アセトキシ−６−クロロ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン、炭酸カリウムおよびメタノールの混合物を室温で３時間攪拌する。反応液を水に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、６−クロロ−３−ヒドロキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジンを得る。
第５工程：
６−クロロ−３−ヒドロキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン、２，５−ジフルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼンおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの混合物に炭酸カリウムを加え、７０℃で２時間攪拌する。反応液を室温に冷却した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝−６−クロロ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジンを得る。
【０１２９】
第６工程：
鉄粉、酢酸および水の混合溶液に、３−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝−６−クロロ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジンの酢酸溶液を、反応液の温度を３５℃以下に保ちつつ滴下する。滴下終了後、２時間攪拌を続けた後、反応液をセライト濾過し、酢酸エチルで希釈する。混合物を飽和重曹水で中和し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−６−クロロ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジンを得る。
【０１３０】
第７工程：
亜硝酸イソアミルを３−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−６−クロロ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン、塩化銅（Ｉ）、塩化銅（ＩＩ）、アセトニトリルの混合物に室温で滴下し、１時間攪拌する。該反応液を２％塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−６−クロロ−２−（メトキシルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物７−９５〕を得る。
【０１３１】
製造例２２：本発明化合物７−１０９の製造
第１工程：
水素化ナトリウムを２−クロロ−６−メトキシ−３−ニトロピリジン、グリコール酸メチルおよび１，４−ジオキサンの混合物に１０℃で加える。室温で２時間攪拌後、反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、６−メトキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３−ニトロピリジンを得る。
【０１３２】
第２工程：
６−メトキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３−ニトロピリジン、酸化白金及びエタノールの混合物を水素雰囲気下室温で３時間攪拌する。反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−アミノ−６−メトキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジンを得る。
【０１３３】
第３工程：
三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体を３−アミノ−６−メトキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン、１，２−ジメトキシエタン及びジクロロメタンの混合物に−１０℃で滴下する。同温度で１０分攪拌後、亜硝酸ｔ−ブチルの１，２−ジメトキシエタン溶液を−５℃以下で反応液に滴下する。同温度で３０分間攪拌後、混合物にｎ−ペンタンを注加する。二層に分離したうちの下層を無水酢酸に溶解し、８０℃で１時間攪拌する。溶媒留去後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３−アセトキシ−６−メトキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジンを得る。
【０１３４】
第４工程：
３−アセトキシ−６−メトキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン、炭酸カリウムおよびメタノールの混合物を室温で３時間攪拌する。反応液を水に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−ヒドロキシ−６−メトキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジンを得る。
【０１３５】
第５工程：
３−ヒドロキシ−６−メトキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン、２，５−ジフルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼンおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの混合物に炭酸カリウムを加え、７０℃で２時間攪拌する。反応液を室温に冷却した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝−６−メトキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジンを得る。
【０１３６】
第６工程：
鉄粉、酢酸および水の混合溶液に、３−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝−６−メトキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジンの酢酸溶液を、反応液の温度を３５℃以下に保ちつつ滴下する。滴下終了後、２時間攪拌を続けた後、反応液をセライト濾過し、酢酸エチルで希釈する。混合物を飽和重曹水で中和し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−６−メトキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジンを得る。
【０１３７】
第７工程：
亜硝酸イソアミルを３−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−６−メトキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン、塩化銅（Ｉ）、塩化銅（ＩＩ）、アセトニトリルの混合物に室温で滴下し、１時間攪拌する。該反応液を２％塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−６−メトキシ−２−（メトキシルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物７−１０９〕を得る。
【０１３８】
製造例２３：本発明化合物７−８の製造
３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物７−７〕０．６０ｇ、炭酸ナトリウム０．１３ｇおよびエタノール７．０ｍｌの混合物を２時間加熱還流した。室温に冷却した後、溶媒を減圧下に留去し、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（エトキシカルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物７−８〕０．５５ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１．２５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．５０（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１.２Ｈｚ），４．１６（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１５．９Ｈｚ），４．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１５．９Ｈｚ），６．２９（ｓ，１Ｈ），６．９−７．０（ｍ，２Ｈ），７．３−７．４（ｍ，２Ｈ），７．９−８．０（ｍ，１Ｈ）
【０１３９】
製造例２４：本発明化合物７−４８の製造
３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物７−７〕０．６０ｇ、炭酸ナトリウム０．１３ｇ、ｎ−プロパノール７．０ｍｌの混合物を、還流条件下に２時間攪拌した。室温まで冷却した後、減圧条件下に溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（プロポキシカルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物７−４８〕を得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 0.89 (t, 3H, J=7.3Hz), 1.63 (qt, 2H, J=7.3, 6.5Hz), 3.50 (q, 3H, J=0.8Hz), 4.06 (t, 2H, J=6.5Hz), 4.89 (d, 1H, J=16.0Hz), 4.97 (d, 1H, J=16.0Hz), 6.28 (s, 1H), 6.91 (dd, 1H, J=7.8, 5.0Hz), 6.93 (d, 1H, J=6.5Hz), 7.31 (dd, 1H, J=7.8, 1.6Hz), 7.36 (d, 1H, J=8.9Hz), 7.91 (dd, 1H, J=5.0, 1.6Hz)
【０１４０】
製造例２５：本発明化合物７−５０の製造
３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物７−７〕０．３０ｇ、炭酸ナトリウム０．０６ｇおよびｎ−ペンタノール３．０ｍｌの混合物を１００℃で１．５時間攪拌した。室温に冷却した後、該反応液を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（ペンチルオキシカルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物７−５０〕０．０７ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．２−１．４（ｍ，４Ｈ），１．５−１．７（ｍ，２Ｈ），３．５０（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１.０Ｈｚ），４．０−４．２（ｍ，２Ｈ），４．８−５．１（ｍ，２Ｈ），６．２９（ｓ，１Ｈ），６．９−７．０（ｍ，２Ｈ），７．２８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．９，１．４Ｈｚ），７．３７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．９１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９，１．４Ｈｚ）
【０１４１】
中間体製造例７：製造例１３の第３工程で用いる３−アミノ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジンの製造
２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３−ニトロピリジン５５．９ｇ、１０％パラジウム／炭素８．６４ｇ及び酢酸エチル６００ｍｌの混合物を水素雰囲気下に、室温で２時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−アミノ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン４６．７６ｇを得た。
【０１４２】
中間体製造例８：製造例１３の第４工程で用いる３−アセトキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジンの製造
トリフルオロメタンスルホン酸０．４１ｇを３−アミノ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン０．５ｇ、１，２−ジメトキシエタン１．５ｍｌ及びジクロロメタン０．５ｍｌの混合物に−５℃で滴下した。同温度で１０分攪拌後、亜硝酸ｔ−ブチル０．３４ｇの１，２−ジメトキシエタン０．５ｍｌ溶液を−５℃以下で反応液に滴下した。同温度で１時間攪拌後、混合物にｎ−ペンタンを注加した。二層に分離したうちの下層を無水酢酸１．５ｍｌに溶解し、６０℃で３０分間攪拌した。反応液を室温に冷却後、水に注加し、ｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。該有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３−アセトキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン０．３０ｇを得た。
【０１４３】
製造例２６：本発明化合物７−１７の製造
第１工程：
水素化ナトリウム１．２６ｇを、２−クロロ−５−ニトロピリジン５．０ｇ、グリコール酸メチル３．１３ｇとテトラヒドロフラン５０ｍｌの混合物に０℃にて加えた。該混合物を０℃にて１５分、室温にて１時間攪拌した。反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−（メトキシカルボニル）メトキシ−５−ニトロピリジン５．１８ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.79 (s, 3H), 5.01 (s, 2H), 6.99 (d, 1H, J=9.1Hz), 8.41 (dd, 1H, J=9.1,2.8Hz), 9.03 (d, 1H, J=2.8Hz)
【０１４４】
第２工程：
２−（メトキシカルボニル）メトキシ−５−ニトロピリジン５．１８ｇ、１０％パラジウム−炭素０．８ｇと酢酸エチル５０ｍｌの混合物を、水素雰囲気下に室温にて３時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応混合物をセライトで濾過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−アミノ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン４．４５ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 3.3-3.5 (bs, 2H), 3.76 (s, 3H), 4.82 (s, 2H), 6.72 (d, 1H, J=8.6Hz), 7.04 (dd, 1H, J=8.6,2.9Hz), 7.58 (dd, 1H, J=2.9Hz)
【０１４５】
第３工程：
トリフルオロメタンスルホン酸を、５−アミノ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン３．０ｇ、１，２−ジメトキシエタン９ｍｌとジクロロメタン３ｍｌの溶液に−１０℃にて滴下した。該溶液を同温度で１０分間攪拌した後に、亜硝酸ｔ−ブチル２．３５ｍｌの１，２−ジメトキシエタン１ｍｌ溶液を加え、同温度で２０分間攪拌し、ｎ−ペンタンを加えた。生じた固体をｎ−ペンタンで洗浄し、無水酢酸１８ｍｌに溶解し、該溶液を８０℃にて２時間攪拌した。反応液を氷水に注加し、メチルｔ−ブチルエーテルで抽出した。有機層を濃縮し、メチルｔ−ブチルエーテルにて希釈し、該溶液を飽和重曹水、次いで飽和食塩水にて洗浄し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−アセトキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン１．４ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 2.30 (s, 3H), 3.77 (s, 3H), 4.89 (s, 2H), 6.88 (d, 1H, J=8.8Hz), 7.40 (dd, 1H, J=8.8,2.8Hz), 7.89 (dd, 1H, J=2.8Hz)
【０１４６】
第４工程：
５−アセトキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン１．４ｇ、炭酸カリウム０．４７ｇとメタノール１０ｍｌの混合物を、室温にて４．５時間攪拌した。溶媒を減圧下にて留去した後、残渣に水を注加し、塩酸にて中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−ヒドロキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン１．０ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.78 (s, 3H), 4.84 (s, 2H), 5.92 (bs, 1H), 6.72 (d, 1H, J=8.9Hz), 7.12 (dd, 1H, J=8.9,2.9Hz), 7.62 (d, 1H, J=2.9Hz)
【０１４７】
第５工程：
５−ヒドロキシ−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン０．５ｇ、２，５−ジフルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼンとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌの混合物に、炭酸カリウム０．３５ｇを加え、５０℃にて１．５時間攪拌した。混合物を室温に冷却し、水、塩酸と飽和食塩水の混合物に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン０．９３ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.54 (q, 3H, J=1.2Hz), 3.79 (s, 3H), 4.89 (s, 2H), 6.34 (s, 1H), 6.8-7.0 (m, 2H), 7.42 (dd, 1H, J=9.2,2,9Hz), 7.88 (d, 1H, J=8.5Hz), 7.96 (d, 1H, J=2.9Hz)
【０１４８】
第６工程：
鉄粉１．２ｇ、酢酸５ｍｌと水０．５ｍｌの混合物に、５−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン０．９３ｇの酢酸４ｍｌの溶液を、液温を３５℃以下に維持しながら滴下した。滴下終了後、混合物を２時間攪拌した後、セライトで濾過し、ろ液を濃縮した。残渣を水に希釈し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水、次いで飽和食塩水で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン０．８３ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 3.52 (q, 3H, J=1.2Hz), 3.78 (s, 3H), 4.16 (bs, 2H), 4.87 (s, 2H), 6.31 (s, 1H), 6.57 (d, 1H, J=6.8Hz), 6.64 (d, 1H, J=10.8Hz), 6.85 (dd, 1H, J=8.9,0.5Hz), 7.35 (dd, 1H, J=8.9,3.1Hz), 7.90 (dd, 1H, J=3.1,0.5Hz)
【０１４９】
第７工程：
亜硝酸イソアミル０．３ｇを５−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン０．８３ｇ、塩化銅（Ｉ）０．３４ｇ、塩化銅（II）０．６９ｇ、アセトニトリル３ｍｌの混合物に室温にて滴下し、１時間攪拌した。混合物に亜硝酸イソアミル０．３ｇを加え、更に２０分攪拌した。反応混合物を２％塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物７−１７〕０．５２ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 3.53 (q, 3H, J=1.3Hz), 3.78 (s, 3H), 4.88 (s, 2H), 6.33 (s, 1H), 6.76 (d, 1H, J=6.5Hz), 6.88 (d, 1H, J=8.9Hz), 7.3-7.4 (m, 1H), 7.39 (d, 1H, J=8.9Hz), 7.8-7.9 (m, 1H)
【０１５０】
製造例２７：本発明化合物７−１２の製造
第１工程：
５−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物７−１７〕０．０８ｇと４８％臭化水素水の混合物を還流温度にて３時間攪拌した。該混合物を飽和重曹水で中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して、５−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−ピリドンを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.51 (s, 3H), 6.31 (s, 1H), 6.58 (d, 1H, J=9.8Hz), 6.79 (d, 1H, J=6.5Hz), 7.24 (d, 1H, J=3.0Hz), 7.3-7.4 (m, 2H)
【０１５１】
第２工程：
５−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−ピリドン６０ｍｇ、テトラヒドロフラン１．０ｍｌ、乳酸メチル２５ｍｇとトリフェニルホスフィン６４ｍｇの混合物に、４０％ジイソプロピル  アザジカルボキシレートのトルエン溶液１２３ｍｇを加え、室温にて２時間攪拌した。反応混合物を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン〔本発明化合物７−１２〕２０ｍｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.60 (d, 3H, J=7.0Hz), 3.53 (s, 3H), 3.75 (s, 3H), 5.28 (q, 1H, J=7.0Hz), 6.32 (s, 1/2H), 6.33 (s, 1/2H), 6.7-6.8 (m, 1H), 6.84 (d, 1H, J=9.1Hz), 7.3-7.4 (m, 1H), 7.38 (d, 1H, J=8.8Hz), 7.8-7.9 (m, 1H)
【０１５２】
製造例２８：本発明化合物１−４５
第１工程：
水素化ナトリウム０．４ｇを、４−クロロ−６−メトキシ−２−メチルチオピリミジン１．５９ｇ、グリコール酸メチル０．９８ｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌの混合物に、０℃にて加えた。該混合物を室温にて５時間攪拌し、反応混合物を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩すりで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し６−メトキシ−４−（メトキシカルボニル）メトキシ−２−メチルチオピリミジン１．２２ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 2.48 (s, 3H), 3.77 (s, 3H), 3.93 (s, 3H), 4.88 (s, 2H), 5.87 (s, 1H)
【０１５３】
第２工程：
３−クロロ過安息香酸２．５９ｇを、６−メトキシ−４−（メトキシカルボニル）メトキシ−２−メチルチオピリミジン１．２２ｇのクロロホルム１０ｍｌ溶液に、０℃にて加えた。混合物を室温にて３時間攪拌した後、飽和チオ硫酸ナトリウム３０ｍｌを注加した。次いで該混合物を飽和重曹水に注加し、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、６−メトキシ−４−（メトキシカルボニル）メトキシ−２−メチルスルホニルピリミジン１．３２ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.26 (s, 3H), 3.78 (s, 3H), 4.06 (s, 3H), 4.97 (s, 2H), 6.34 (s, 1H)
【０１５４】
第３工程：
２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノール４００ｍｇ、６−メトキシ−４−（メトキシカルボニル）メトキシ−２−メチルスルホニルピリミジン３５９ｍｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｍｌの混合物に、炭酸カリウム１９６ｍｇを加え、８０℃にて１時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−６−メトキシ−４−（メトキシカルボニル）メトキシプリミジン〔本発明化合物１−４５〕６２０ｍｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.55 (s, 3H), 3.71 (s, 3H), 3.87 (s, 3H), 4.78 (s, 2H), 5.95 (s, 1H), 6.34 (s, 1H), 7.1-7.2 (m,1H), 7.37 (d, 1H, J=9.1Hz)
融点：60.3℃
【０１５５】
製造例２９：本発明化合物１−４２
第１工程：
２８％ナトリウムメトキシドのメタノール溶液３．８６ｇを、２０分間かけて４，６−ジクロロ−２−メチルチオピリミジン３．９ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌ溶液に０℃にて滴下した。混合物を室温にて７時間攪拌し、氷２０ｇを加え、生じた白色沈殿を吸引濾過にて集めて、得られた固体を水で洗浄した。該固体を酢酸エチルで溶解し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮し、４−クロロ−６−メトキシ−２−メチルチオピリミジン３．１８ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 2.55 (s, 3H), 3.98 (s, 3H), 6.41 (s, 1H)
【０１５６】
第２工程：
水素化ナトリウム０．４ｇを、４−クロロ−６−メトキシ−２−メチルチオピリミジン１．５９ｇ、乳酸メチル１．１３ｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌの混合物に、０℃にて加えた。該混合物を室温にて５時間攪拌し、反応混合物を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩すりで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し６−メトキシ−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝−２−メチルチオピリミジン１．５ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 1.58 (d, 3H, J=7.0Hz), 2.46 (s, 3H), 3.73 (s, 3H), 3.92 (s, 3H), 5.33 (q, 1H, J=7.0Hz), 5.83 (s, 1H)
【０１５７】
第３工程：
３−クロロ過安息香酸２．８１ｇを、６−メトキシ−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝−２−メチルチオピリミジン１．４０ｇのクロロホルム１３ｍｌ溶液に、０℃にて加えた。混合物を室温にて３時間攪拌した後、飽和チオ硫酸ナトリウム３０ｍｌを注加した。次いで該混合物を飽和重曹水に注加し、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、６−メトキシ−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝−２−メチルスルホニルピリミジン１．６２ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 1.63 (d, 3H, J=7.0Hz), 3.25 (s, 3H), 3.75 (s, 3H), 4.06 (s, 3H), 5.36 (q, 1H, J=7.0Hz), 6.30 (s, 1H)
【０１５８】
第４工程：
２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノール４００ｍｇ、６−メトキシ−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝−２−メチルスルホニルピリミジン３７７ｍｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｍｌの混合物に、炭酸カリウム１９６ｍｇを加え、８０℃にて１時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−６−メトキシ−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝プリミジン〔本発明化合物１−４２〕６３０ｍｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.52 (d, 3H, J=6.8Hz), 3.55 (s, 3H), 3.67 (s, 3H), 3.87 (s, 3H), 5.2-5.3 (m, 1H), 5.91 (s, 1H), 6.35 (s, 1H), 7.16 (d, 1H, J=6.7Hz), 7.37 (d, 1H, J=9.1Hz)
融点： 71.2℃
【０１５９】
製造例３０：本発明化合物７−８２の製造
３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物７−７〕０．６０ｇ、炭酸ナトリウム０．１３ｇ、ベンジルアルコール０．３９ｇおよびトルエン２．４ｍｌの混合物を、９０℃にて２時間加熱し、更に還流下にて２時間加熱した。室温まで冷却した後、溶媒を減圧下に留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（ベンジルオキシカルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物７−８２〕０．２４ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.47 (s, 3H), 5.15 (s, 2H), 6.25 (s, 1H), 6.8-7.0 (m, 2H), 7.2-7.4 (m, 7H), 7.89 (dd, 1H, J=4.9,1.3Hz)
【０１６０】
製造例３１：本発明化合物７−６
３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（ベンジルオキシカルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物７−８２〕０．２４ｇ、１０％パラジウム−炭素１０ｍｇと酢酸エチル１ｍｌの混合物を、水素雰囲気下に室温にて１．５時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応混合物をセライトで濾過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−カルボキシメトキシピリジン〔本発明化合物７−６〕０．１６ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.50 (s, 3H), 4.92 (s, 2H), 6.32 (s, 1H), 6.80 (d, 1H, J=6.4Hz), 6.95 (dd, 1H, J=7.7,4.9Hz), 7.35 (dd, 1H, J=7.7,1.2Hz), 7.37 (d, 1H, J=6.0Hz), 7.93 (dd, 1H, J=4.9,1.2Hz)
【０１６１】
製造例３２：本発明化合物７−８４の製造
１−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−３−エチルカルボジイミド塩酸塩０．１３ｇを、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−カルボキシメトキシピリジン〔本発明化合物７−６〕０．３０ｇ、ｏ−メチルヒドロキシルアミン５６ｍｇ、トリエチルアミン６８ｍｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２ｍｌの混合物に室温にて加え、２時間攪拌した。該混合物を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−［（メトキシアミノカルボニル）メトキシ］ピリジン〔本発明化合物７−８４〕９０ｍｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.52 (s, 3H), 3.74 (s, 3H), 4.87 (s, 2H), 6.32 (s, 1H), 6.71 (d, 1H, J=6.0Hz), 6.99 (dd, 1H, J=7.6,5.0Hz), 7.38 (dd, 1H, J=7.6,1.7Hz), 7.44 (d, 1H, J=8.7Hz), 8.00 (dd, 1H, J=5.0,1.7Hz), 8.7-9.0 (bs, 1H)
【０１６２】
製造例３３：本発明化合物７−１１９の製造
１−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−３−エチルカルボジイミド塩酸塩０．１３ｇを、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−カルボキシメトキシピリジン〔本発明化合物７−６〕０．３０ｇ、グリコール酸メチル６０ｍｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２ｍｌの混合物に室温にて加え、１．５時間攪拌した。該混合物を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−［｛（メトキシカルボニル）メトキシカルボニル｝メトキシ］ピリジン〔本発明化合物７−１１９〕０．１８ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.50 (s, 3H), 3.74 (s, 3H), 4.65 (s, 2H), 5.01 (d, 1H, J=16.2Hz), 5.09 (d, 1H, J=16.2Hz), 6.28 (s, 1H), 6.88 (d, 1H, J=6.7Hz), 6.93 (dd, 1H, J=7.8,4.9Hz), 7.32 (dd, 1H, J=7.8,1.4Hz), 7.37 (d, 1H, J=9.0Hz), 7.93 (dd, 1H, J=4.9,1.4Hz)
【０１６３】
製造例３４：本発明化合物７−１１８の製造
１−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−３−エチルカルボジイミド塩酸塩０．１３ｇを、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−カルボキシメトキシピリジン〔本発明化合物７−６〕０．３０ｇ、アセトンオキシム４９ｍｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２ｍｌの混合物に室温にて加え、２時間攪拌した。該混合物を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−［｛（２−イソプロピリデンアミノ）オキシカルボニル｝メトキシ］ピリジン〔本発明化合物７−１１８〕０．１６ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.94 (s, 3H), 2.01 (s, 3H), 3.49 (s, 3H), 5.0-5.2 (m, 2H), 6.27 (s, 1H), 6.92 (dd, 1H, J=7.8,4.9Hz), 6.98 (d, 1H, J=6.5Hz), 7.3-7.4 (m, 2H), 7.92 (d, 1H, J=4.9Hz)
【０１６４】
製造例３５：本発明化合物９−７の製造
３−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン０．５ｇのアセトニトリル１．５ｍｌの溶液を、臭化銅（Ｉ）０．２２ｇ、臭化銅（ＩＩ）０．０５ｇとアセトニトリル１ｍｌの混合物に０℃にて加えた。該混合物に亜硝酸ｔ−ブチル０．１８ｇのアセトニトリル１ｍｌの溶液を３０分以上かけて滴下し、室温にて終夜攪拌した。反応混合物を塩酸中に注加し、酢酸エチルで抽出した。
有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛２−ブロモ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物９−７〕０．２８ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.50 (q, 3H, J=1.2Hz), 3.70 (s, 3H), 4.8- 5.0 (m, 2H), 6.29 (s, 1H), 6.88 (d, 1H, J=6.4Hz), 6.93 (dd, 1H, J=7.8, 5.0Hz), 7.32 (d, 1H, J=7.8Hz), 7.53 (d, 1H, J=8.5Hz), 7.92 (d, 1H, J=5.0Hz)
【０１６５】
製造例３６：本発明化合物９−２７の製造
３−｛２−ブロモ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物９−７〕０．２３ｇ、シアン化銅７５ｍｇとＮ−メチル−２−ピロリドン２ｍｌの混合物を、１６０℃にて２時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、水を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛２−シアノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物９−２７〕０．１６ｇを得た。
1H-NMR (CDCl3/300 MHz)δ(ppm): 3.49 (s, 3H), 3.67 (s, 3H), 4.8-5.0 (m, 2H), 6.28 (s, 1H), 6.96 (d, 1H, J=5.7 Hz), 7.00 (dd, 1H, J=7.8,5.0Hz), 7.50 (d, 1H, J=8.4 Hz), 7.54 (d, 1H, J=7.8Hz), 8.01 (d, 1H, J=5.0Hz)
融点： 173.1℃
【０１６６】
製造例３７：本発明化合物２−４２の製造
第１工程：
水素化ナトリウム２．０ｇを２，６−ジクロロ−３−ニトロピリジン９．６５ｇ、ベンジルアルコール５．４１ｇとテトラヒドロフラン３０ｍｌの混合物に０℃にて加えた。該混合物を０℃にて１．５時間攪拌し、次いで室温にて１．５時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、６−クロロ−２−ベンジルオキシ−３−ニトロピリジン１０．９３ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/250Hz)δ(ppm): 5.18 (s, 2H), 7.05 (d, 1H, J=8.3Hz), 7.3-7.6(m, 5H), 8.28 (d, 1H, J=8.3Hz)
【０１６７】
第２工程：
６−クロロ−２−ベンジルオキシ−３−ニトロピリジン５．２９ｇ、２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノール６．７７ｇ、炭酸カリウム３．３２ｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌの混合物を室温にて３０分間攪拌し、次いで５０℃にて２．５時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣を酢酸エチル−ヘキサンより再結晶を行い、６−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−ベンジルオキシ−３−ニトロピリジン９．１１ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.56(s, 3H), 5.29 (s, 2H), 6.37 (s, 1H), 6.68 (d, 1H, J=8.6Hz), 7.1-7.4 (m, 6H), 7.37 (d, 1H, J=8.8Hz), 8.47 (d, 1H, J=8.6Hz)
【０１６８】
第３工程：
鉄粉３．０ｇ、酢酸１５ｍｌと水１．５ｍｌの混合物に、６−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−ベンジルオキシ−３−ニトロピリジン３．０ｇの酢酸１０ｍｌと酢酸エチル１０ｍｌの溶液を、液温３５℃以下に維持しながら加えた。加えた後、該混合物を終夜攪拌した後、セライトで濾過し、溶媒は減圧下で留去した。残渣を飽和重曹水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−アミノ−６−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−ベンジルオキシピリジン２．５５ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.51 (s, 3H), 3.60 (bs, 2H), 5.1-5.3 (m, 2H), 6.33 (s, 1H), 6.42 (d, 1H, J=7.9Hz), 6.99 (d, 1H, J=8.2Hz), 7.08 (d, 1H, J=6.7Hz), 7.2-7.4 (m, 6H)
【０１６９】
第４工程：
３フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体１．３８ｇを、３−アミノ−６−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−ベンジルオキシピリジン２．５５ｇ、１，２−ジメトキシエタン６ｍｌとジクロロメタン２ｍｌの混合物、−５℃にて滴下した。該混合物を同温度にて１５分間攪拌した後、亜硝酸ｔ−ブチル０．５９ｇを−５℃にて滴下した。該混合物を同温度で１時間攪拌した後、ｎ−ペンタンを注加した。デカンテーションにて有機層を除いた後、エタノール１５ｍｌと、亜鉛（粉末）２．３ｇを加えた、還流温度にて１．５時間攪拌した。反応混合物をセライト濾過し、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−６−ベンジルオキシピリジン０．７５ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.52 (s, 3H), 5.0-5.2 (m, 2H), 6.34 (s, 1H), 6.5-6.6 (m, 2H), 7.1-7.4 (m, 6H), 7.34 (d, 1H, J=9.1Hz), 7.5-7.7 (m, 1H)
【０１７０】
第５工程：
２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−６−ベンジルオキシピリジン０．９０ｇ、１０％パラジウム−炭素０．１ｇと酢酸エチル５ｍｌの混合物を、水素雰囲気下に室温にて３時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応混合物をセライトで濾過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、６−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−ピリドン０．６０ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 3.54 (s, 3H), 6.11 (d, 1H, J=7.9Hz), 6.33 (s, 1H), 6.44 (d, 1H, J=7.8Hz), 7.09 (d, 1H, J=6.7Hz), 7.37 (d, 1H, J=8.9Hz), 7.55 (dd, 1H, J=7.9,7.8Hz)
【０１７１】
第６工程：
６−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−ピリドン５０ｍｇ、２−ブロムプロピオン酸メチル２１ｍｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１ｍｌの混合物に、炭酸カリウム２１ｍｇを加え、５０℃にて１時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−６−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン〔本発明化合物２−４２〕７２ｍｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.48 (d, 3H, J=6.9Hz), 3.55 (s, 3H), 3.60 (s, 3/2H), 3.61 (s, 3/2H), 5.10 (q, 1H, J=6.9Hz), 5.12 (q, 1H, J=6.9Hz), 6.34 (s, 1H), 6.55 (d, 1H, J=8.0Hz), 6.56 (dd, 1H, J=7.9,2.9Hz), 7.14 (dd, 1H, J=6.9,2.9Hz), 7.37 (d, 1H, J=9.0Hz), 7.62 (dd, 1H, J=7.9,6.9Hz)
【０１７２】
製造例３８：本発明化合物１−６７の製造
２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］アニリン４００ｍｇ、６−メトキシ−４−（メトキシカルボニル）メトキシ−２−メチルスルホニルピリミジン３６０ｍｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２ｍｌの混合物に、炭酸カリウム１９６ｍｇを加え、８０℃にて５時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で抽出し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェニルアミノ｝−６−メトキシ−４−（メトキシカルボニル）メトキシピリミジン〔本発明化合物１−６７〕９８ｍｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 3.57 (s, 3H), 3.65 (s, 3H), 3.91 (s, 3H), 4.7-4.9 (m, 2H), 5.75 (s, 1H), 6.38 (s, 1H), 7.32 (d, 1H, J=8.8Hz), 7.37 (bs, 1H), 8.37(d, 1H, J=7.3Hz)
融点： 155.6℃
【０１７３】
製造例３９：本発明化合物２−５２の製造
３−アミノ−２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝ピリジン１ｇと２−ブロモプロピオン酸メチル１．１６ｇの混合物を６０℃にて３０分間攪拌し、次いで８０℃にて４時間攪拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−３−｛１−（メトキシカルボニル）エチルアミノ｝ピリジン〔本発明化合物２−５２〕０．４ｇを得た。
融点： 66.4℃
【０１７４】
製造例４０：本発明化合物７−８の製造
第１工程：
水素化ナトリウム１１ｇを、２−クロロ−３−ニトロピリジン３９．６３ｇ、グリコール酸エチル３１．２３ｇ、テトラヒドロフラン２５０ｍｌとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌの混合物に０℃にて加えた。該混合物を室温にて５時間攪拌した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−（エトキシカルボニル）メトキシ−３−ニトロピリジン４８．３ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.26 (t, 3H, J=7.1Hz), 4.23 (q, 2H, J=7.1Hz), 5.06 (s, 2H), 7.0-7.2 (m, 1H), 8.3-8.4 (m, 2H)
【０１７５】
第２工程：
２−（エトキシカルボニル）メトキシ−３−ニトロピリジン４８．３ｇ、１０％パラジウム−炭素７．８ｇと酢酸エチル５４０ｍｌの混合物を、水素雰囲気下に室温にて３時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応混合物をセライトで濾過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−アミノ−２−（エトキシカルボニル）メトキシピリジン３７．１ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.27 (t, 3H, J=7.1Hz), 3.8-3.9 (b, 2H), 4.24 (q, 2H, J=7.1Hz), 4.93 (s, 2H), 6.7-6.8 (m, 1H), 6.8-7.0 (m, 1H), 7.4-7.6(m, 1H)
【０１７６】
第３工程：
トリフルオロメタンスルホン酸９．１８ｇを、３−アミノ−２−（エトキシカルボニル）メトキシピリジン１２ｇ、１，２−ジメトキシエタン３６ｍｌと塩化メチレン１２ｍｌの混合物に−５℃にて滴下した。該混合物を同温度にて１０分間攪拌した後、亜硝酸ｔ−ブチル７．５７ｇの１，２−ジメトキシエタンの３ｍｌ溶液を−５℃以下にて滴下した。該混合物を同温度で３０分間攪拌した後、ｎ−ペンタンを注加した。有機層をデカンテーションにて除き、無水酢酸１２ｍｌに加え、５０℃にて２．５時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、メチルｔ−ブチルエーテルで抽出した。有機層を飽和重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−アセトキシ−２−（エトキシカルボニル）メトキシピリジン４．２ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.26 (t, 3H, J=7.1Hz), 2.34 (s, 3H), 4.22 (q, 2H, J=7.1Hz), 4.90 (s, 2H), 6.94 (dd, 1H, J=7.8, 5.0Hz), 7.38 (dd, 1H, J=7.8, 1.5Hz), 7.97 (dd, 1H, J=5.0,1.5Hz)
【０１７７】
第４工程：
３−アセトキシ−２−（エトキシカルボニル）メトキシピリジン１３．８ｇ、炭酸カリウム４．３８ｇとエタノール６０ｍｌの混合物を室温にて終夜攪拌した。反応混合物を水、飽和食塩水と塩酸の混合物に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−ヒドロキシ−２−（エトキシカルボニル）メトキシピリジン１０．４５ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 1.28 (t, 3H, J=7.1Hz), 4.25 (q, 2H, J=7.1Hz), 4.97 (s, 2H), 5.93 (s, 1H), 6.86 (dd, 1H, J=7.7, 4.9Hz), 7.17 (dd, 1H, J=7.7,1.6Hz), 7.65 (dd, 1H, J=4.9,1.6Hz)
【０１７８】
第５工程：
３−ヒドロキシ−２−（エトキシカルボニル）メトキシピリジン１０．４５ｇ、２，５−ジフルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼン１６．９２ｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌの混合物に、炭酸カリウム７．３２ｇを加え、７０℃にて２時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、氷水、飽和食塩水と塩酸の混合物に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝−２−（エトキシカルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物９−４６〕１７．２８ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.25 (t, 3H, J=7.3Hz), 3.50 (s, 3H), 4.12 (q, 2H, J=7.3Hz), 4.85 (d, 1H, J=15.9Hz), 4.95 (d, 1H, J=15.9H), 6.28 (s, 1H), 6.98 (dd, 1H, J=7.8, 5.0Hz), 7.13 (d, 1H, J=6.1 Hz), 7.50 (dd, 1H, J=7.8, 1.4Hz), 7.87 (d, 1H, J=8.6Hz), 7.99 (dd, 1H, J=5.0, 1.4Hz)
【０１７９】
第６工程：
鉄粉１７ｇ、酢酸３０ｍｌと水３ｍｌの混合物に、３−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝−２−（エトキシカルボニル）メトキシピリジン１７．２８ｇの酢酸２０ｍｌの溶液を、液温が３５以下に維持しながら滴下した。滴下終了後、該混合物を室温にて１時間攪拌し、４０℃にて３時間攪拌した後、セライトで濾過し、酢酸エチルで希釈した。該混合物を飽和重曹水で中和し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（エトキシカルボニル）メトキシピリジン１５．４６ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 1.27 (t, 3H, J=7.1Hz), 3.52 (q, 3H, J=1.2Hz), 4.21 (q, 2H, J=7.1Hz), 4.27 (bs, 2H), 4.9-5.1 (m, 2H), 6.31 (s, 1H), 6.63 (d, 1H, J=10.9Hz), 6.79 (d, 1H, J=6.9Hz), 6.86 (dd, 1H, J=7.8, 4.9Hz), 7.23 (dd, 1H, J=7.8, 1.5Hz), 7.83 (dd, 1H, J=4.9,1.5Hz)
【０１８０】
第７工程：
亜硝酸イソアミル１０．９９ｇのアセトニトリル１０ｍｌの溶液を、３−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（エトキシカルボニル）メトキシピリジン１５．４６ｇ、ｇ、塩化銅(I)６．１９ｇ、塩化銅(II)１２．６１ｇとアセトニトリル１２０ｍｌの混合物に室温にて加え、３時間攪拌した。反応混合物を、氷と塩酸の混合物に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（エトキシカルボニル）メトキシピリジン〔本発明化合物７−８〕１３．１６ｇを得た。
【０１８１】
中間体製造例９：３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジンの製造
第１工程：
トリホスゲン２２７ｍｇの酢酸エチル８ｍｌの溶液に、トリエチルアミン１５５ｍｇと４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３−ピリジルオキシ｝アニリンの酢酸エチル８ｍｌの溶液を０℃にて加えた。該混合物を同温度にて３０分間攪拌した後、還流温度にて２時間攪拌した。反応混合物を熱いうちに濾過し、減圧条件下に溶媒を留去し、４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３−ピリジルオキシ｝フェニル  イソシアネート２６６ｍｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.76 (s, 3H), 4.96 (s, 2H), 6.69 (d, 1H, J=7.1Hz), 6.93 (dd, 1H, J=7.8, 5.0Hz), 7.2-7.3 (m, 2H), 7.94 (dd, 1H, J=5.0,1.4Hz)
融点：113.8℃
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−（エトキシカルボニル）メトキシ−３−ピリジルオキシ｝フェニル  イソシアネート、
４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝−３−ピリジルオキシ｝フェニル  イソシアネート、
４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−｛１−（エトキシカルボニル）エトキシ｝−３−ピリジルオキシ｝フェニル  イソシアネート、
４−クロロ−２−フルオロ−５−｛〔４−（メトキシカルボニル）メトキシピリミジン−２−イル〕オキシ｝フェニル  イソシアネート、
４−クロロ−２−フルオロ−５−｛〔４−（エトキシカルボニル）メトキシピリミジン−２−イル〕オキシ｝フェニル  イソシアネート、
４−クロロ−２−フルオロ−５−｛〔４−〔１−（メトキシカルボニル）エトキシ〕ピリミジン−２−イル〕オキシ｝フェニル  イソシアネート、
４−クロロ−２−フルオロ−５−｛〔４−〔１−（エトキシカルボニル）エトキシ〕ピリミジン−２−イル〕オキシ｝フェニル  イソシアネート
【０１８２】
第２工程：
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１ｍｌと水素化ナトリウム２６ｍｇとの混合物に、３−アミノ−４，４，４−トリフルオロクロトン酸エチル１２６ｍｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１ｍｌの溶液を加え、０℃にて攪拌した。その後、４−クロロ−２−フルオロ−５−｛２−（メトキシカルボニル）メトキシ−３−ピリジルオキシ｝フェニル  イソシアネート２６６ｍｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを、同温度にて加え、室温にて終夜攪拌した。反応混合物を塩酸と氷水の混合物に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、濃縮し、粗３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メトキシピリジンを得た。
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（エトキシカルボニル）メトキシピリジン、
３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン、
３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−｛１−（エトキシカルボニル）エトキシ｝ピリジン、
２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−（メトキシカルボニル）メトキシピリミジン、
２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−（エトキシカルボニル）メトキシピリミジン、
２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリミジン、
２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−４−｛１−（エトキシカルボニル）エトキシ｝ピリミジン
【０１８３】
製造例４１：本発明化合物１０−２の製造
第１工程：
水素化ナトリウム２４ｇをテトラヒドロフラン５００ｍｌに加え、室温にてベンジルアルコール６５ｇを滴下した。６０℃まで昇温し水素ガスの発生が止まった後、−５０℃まで冷却して３，４−ジクロロ−１，２，５チアジアゾール１００ｇを加えた。室温にて攪拌し、一晩放置した後、さらに３時間加熱還流した。
反応液を濃縮した後、該反応液を希塩酸に注加し、ｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。該有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、粗４−ベンジルオキシ−３−クロロ−１，２，５−チアジアゾール３３ｇ（純度約７２％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：５．４３(ｓ，２Ｈ)，７．２−７．５(ｍ，５Ｈ) 
【０１８４】
第２工程：
２−クロロ−４−フルオロ−５−｛３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル｝フェノール０．６０ｇと３−ベンジルオキシ−４−クロロ−１，２，５−チアジアゾール０．５０ｇをジメチルスルホキシド８ｍｌに溶解し、炭酸カリウム０．２５ｇを加えて５０℃で０．５時間、１００℃で３時間攪拌した。該反応液を希塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、粗３−ベンジルオキシ−４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−１，２，５−チアジアゾール０．２７ｇ（純度約４４％）を得た。
【０１８５】
第３工程：
３−ベンジルオキシ−４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−１，２，５−チアジアゾールの粗生成物２．５ｇをトリフルオロ酢酸２０ｍｌに溶解し、室温にて一晩放置した。該反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−ヒドロキシ−４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−１，２，５−チアジアゾール０．５０ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５６(ｓ，３Ｈ)，６．３８(ｓ，１Ｈ)，７．３−７．５(ｍ，２Ｈ) 
【０１８６】
第４工程：
３−ヒドロキシ−４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−１，２，５チアジアゾール０．２０ｇと２−ブロモプロピオン酸メチル０．１５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌに溶解し、炭酸カリウム０．１０ｇを加えて、室温で３時間攪拌した。該反応液を希塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣から生じた結晶をヘキサンで洗浄して、４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−３−[１−（メトキシカルボニル）エトキシ]−１，２，５−チアジアゾール〔本発明化合物１０−２〕０．１７ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１．７０(ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ)，３．５５(ｓ，３Ｈ)，３．７９(ｓ，３Ｈ)，５．３１(ｑ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ)，６．３６(ｓ，１Ｈ)，７．３−７．５(ｍ，２Ｈ)
【０１８７】
製造例４２：本発明化合物１０−７の製造
３−ヒドロキシ−４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−１，２，５−チアジアゾール０．２０ｇとブロモ酢酸メチル０．１５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌに溶解し、炭酸カリウム０．１０ｇを加えて、室温で３時間攪拌した。該反応液を希塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣から生じた結晶をヘキサンで洗浄して、４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−３−（メトキシカルボニル）メトキシ−１，２，５−チアジアゾール〔本発明化合物１０−７〕０．１８ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５６(ｓ，３Ｈ)，３．８１(ｓ，３Ｈ)，５．０１(ｓ，２Ｈ)，６．３６(ｓ，１Ｈ)，７．３−７．５(ｍ，２Ｈ)
【０１８８】
製造例４３：本発明化合物３−５２の製造
第１工程：
水素化ナトリウム０．０９８ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中に懸濁した中へ、２−クロロ−４−フルオロ−５−｛３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル｝フェノール０．８２９ｇを室温攪拌下に加え２時間攪拌したのち５−ベンジルオキシ−４−クロロピリミジン（以下により調整；５−ベンジルオキシ−４−ピリミジノン０．４９５ｇとオキシ塩化リン１０ｍｌの混合物を３０分加熱還流した。反応液を室温に冷却し、濃縮した。残渣に氷水を加え、ジエチルエーテルで抽出、濃縮した。）を加え、室温で１時間攪拌したのち６０〜７０℃にて加熱攪拌した。反応終了後、反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層は飽和塩化アンモニウム水溶液、水、２０％炭酸カリウム水溶液、水、希塩酸、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した後残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し５−ベンジルオキシ−４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝ピリミジン０．９５９ｇを得た。
融点：５８．６℃
【０１８９】
第２工程：
５−ベンジルオキシ−４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝ピリミジン０．９５９ｇ、１０％パラジウム炭素および酢酸エチルの混合物を水素雰囲気下、室温にて８時間攪拌した。
反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を減圧下に濃縮して、４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−５−ヒドロキシピリミジン０．８２４ｇを得た。
融点：１９０．７℃
【０１９０】
第３工程：
水素化ナトリウム０．０３２ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中に懸濁した中へ４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−５−ヒドロキシピリミジン０．３５ｇを室温攪拌下に加え１時間攪拌したのち、２−ブロモプロピオン酸メチル０．１３５ｇを加え、室温で２時間、さらに５０℃で１時間攪拌した。反応終了後、反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層は飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した後残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−５−｛１−（メトキシカルボニル）エトキシ｝ピリミジン〔本発明化合物３−５２〕０．３１９ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.71 (d, 3H, J=6.8Hz), 3.57 (d, 3H, J=0.9Hz), 3.78 (s, 3H), 5.01 (q, 1H, J=6.8Hz), 6.37 (s, 1H), 7.24 (d, 1H, J=6.7Hz), 7.42 (d, 1H, J=8.7Hz), 8.32 (s, 1H), 8.40 (s, 1H)
【０１９１】
製造例４４：本発明化合物３−５７の製造
水素化ナトリウム（６０％オイルディスパージョン）０．０３２ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中に懸濁した中へ４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−５−ヒドロキシピリミジン０．３５ｇを室温攪拌下に加え１時間攪拌したのち、ブロモ酢酸メチル０．１２４ｇを加え、室温で２時間、さらに５０℃で１時間攪拌した。反応終了後、反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層は飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した後残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−５−（メトキシカルボニル）メトキシピリミジン〔本発明化合物３−５７〕０．３２８ｇを得た。
融点：６２．５℃
【０１９２】
製造例４５：本発明化合物７−２７の製造
第１工程：
2002155061.tif 000074
水素化ナトリウム０．８ｇを２−クロロ−３−ニトロピリジン３．１７ｇ、チオグリコール酸メチル２．１２ｇおよびテトラヒドロフラン２０ｍｌの混合物に０℃で加えた。室温で２時間攪拌後、反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣を時イソプロピルエーテルおよびヘキサンで洗浄し、２−（メトキシカルボニル）メチルチオ−３−ニトロピリジン３．１ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．７５（ｓ，３H），３．９８（ｓ，２H），７．２４(ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０，４．８Ｈｚ)，８．５４(ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０，１．８Ｈｚ)，８．６６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．８，１．８Ｈｚ）
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
２−（エトキシカルボニル）メチルチオ−３−ニトロピリジン
【０１９３】
第２工程：
2002155061.tif 000075
２−（メトキシカルボニル）メチルチオ−３−ニトロピリジン３．０ｇ、酸化白金１８０ｍｇ及びエタノール１４ｍｌの混合物を水素雰囲気下に、室温で３時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−アミノ−２−（メトキシカルボニル）メチルチオピリジン２．５４ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．７３（ｓ，３H），４．０３（ｓ，２Ｈ），６．２−６．４（ｂ，１H），７．０６(ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０，４．９Ｈｚ)，７．１−７．２（ｂｓ，１H），７．４７(ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０，１．４Ｈｚ)，８．０５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９，１．４Ｈｚ）
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
３−アミノ−２−（エトキシカルボニル）メチルチオピリジン
【０１９４】
第３工程：
2002155061.tif 000076
トリフルオロメタンスルホン酸１．９２ｇを３−アミノ−２−（メトキシカルボニル）メチルチオピリジン２．５４ｇ、１，２−ジメトキシエタン６ｍｌ及びジクロロメタン２ｍｌの混合物に−１０℃で滴下した。同温度で１０分攪拌後、亜硝酸ｔ−ブチル１．５９ｇの１，２−ジメトキシエタン１ｍｌ溶液を−５℃以下で反応液に滴下した。同温度で３０分間攪拌後、混合物にｎ−ペンタンを注加した。二層に分離したうちの下層を無水酢酸３ｍｌに溶解し、５０〜７０℃で１時間攪拌した。反応液を室温に冷却後、水に注加し、ｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。該有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３−アセトキシ−２−（メトキシカルボニル）メチルチオピリジン０．４８ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 2.36 (s, 3H), 3.74 (s, 3H), 4.00 (s, 2H), 7.07 (dd, 1H, J=8.0, 4.7Hz), 7.37 (dd, 1H, J=8.0, 1.5Hz), 8.29 (dd, 1H, J=4.7, 1.5Hz)
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
３−アセトキシ−２−（エトキシカルボニル）メチルチオピリジン
【０１９５】
第４工程：
2002155061.tif 000077
３−アセトキシ−２−（メトキシカルボニル）メチルチオピリジン０．４８ｇ、炭酸カリウム０．１５ｇおよびメタノール３ｍｌの混合物を室温で３時間攪拌した。反応液を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−ヒドロキシ−２−（メトキシカルボニル）メチルチオピリジン０．２６ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 3.74 (s, 3H), 3.92 (s, 2H), 7.02 (dd, 1H, J=8.1,4.6Hz), 7.13 (d, 1H, J=8.1Hz), 8.06 (d, 1H, J=4.6Hz)
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
３−ヒドロキシ−２−（エトキシカルボニル）メチルチオピリジン
第５工程：
2002155061.tif 000078
３−ヒドロキシ−２−（メトキシカルボニル）メチルチオピリジン０．２６ｇ、２，５−ジフルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼン０．３８ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２ｍｌの混合物に炭酸カリウム０．１７ｇを加え、７０℃で２時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メチルチオピリジン０．４９ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.54 (s, 3H), 3.73 (s, 3H), 4.01 (s, 2H), 6.33 (s, 1H), 7.0-7.1 (m, 2H), 7.18 (dd, 1H, J=7.8, 1.3Hz), 7.92 (d, 1H, J=8.5Hz), 8.28 (dd, 1H, J=4.4, 1.3Hz)
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
３−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝−２−（エトキシカルボニル）メチルチオピリジン
【０１９６】
第６工程：
2002155061.tif 000079
鉄粉０．５ｇ、酢酸１．５ｍｌおよび水０．１５ｍｌの混合溶液に、３−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メチルチオピリジン０．４１ｇの酢酸１ｍｌ溶液を、反応液の温度を３５℃以下に保ちつつ滴下した。滴下終了後、２時間攪拌を続けた後、反応液をセライト濾過し、酢酸エチルで希釈した。混合物を飽和重曹水で中和し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メチルチオピリジン０．３６ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 3.53 (s, 3H), 3.75 (s, 3H), 4.02 (s, 2H), 4.18 (bs, 2H), 6.32 (s, 1H), 6.66 (d, 1H, J=10.7Hz), 6.82 (d, 1H, J=6.7Hz), 6.95 (dd, 1H, J=8.4, 4.9Hz), 7.03 (dd, 1H, J=8.4, 1.4Hz), 8.14 (dd, 1H, J=4.9, 1.4Hz)
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
３−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（エトキシカルボニル）メチルチオピリジン
【０１９７】
第７工程：
2002155061.tif 000080
亜硝酸イソアミル９２ｍｇを３−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メチルチオピリジン０．２６ｇ、塩化銅（Ｉ）０．１０ｇ、塩化銅（II）０．２１ｇ、アセトニトリル２．５ｍｌの混合物に室温で滴下し、１時間攪拌した。該反応液を２％塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（メトキシカルボニル）メチルチオピリジン〔本発明化合物７−２７〕０．１０ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.54 (s, 3H), 3.75 (s, 3H), 4.01 (s, 2H), 6.33 (s, 1H), 6.9-7.0 (m, 3H), 7.42 (d, 1H, J=9.0Hz), 8.20 (dd, 1H, J=4.1, 2.2Hz)
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝−２−（エトキシカルボニル）メチルチオピリジン〔本発明化合物７−２８〕
【０１９８】
次に、本発明化合物のいくつかを化合物番号とともに、表１〜表３２に例示するが、本発明化合物はこれらの例示に限定されない。
【０１９９】
一般式［Ｉ−１］で示される化合物
2002155061.tif 000081
【０２００】
【表１】
2002155061.tif 000082
【０２０１】
【表２】
2002155061.tif 000083
【０２０２】
【表３】
2002155061.tif 000084
【０２０３】
一般式［Ｉ−２］で示される化合物
2002155061.tif 000085
【表４】
2002155061.tif 000086
【０２０４】
【表５】
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【０２０５】
【表６】
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【０２０６】
【表７】
2002155061.tif 000089
【０２０７】
【表８】
2002155061.tif 000090
【０２０８】
一般式［Ｉ−３］で示される化合物
2002155061.tif 000091
【表９】
2002155061.tif 000092
【０２０９】
【表１０】
2002155061.tif 000093
【０２１０】
【表１１】
2002155061.tif 000094
【０２１１】
【表１２】
2002155061.tif 000095
【０２１２】
一般式［Ｉ−４］で示される化合物
2002155061.tif 000096
【表１３】
2002155061.tif 000097
【０２１３】
【表１４】
2002155061.tif 000098
【０２１４】
【表１５】
2002155061.tif 000099
【０２１５】
【表１６】
2002155061.tif 000100
【０２１６】
一般式［Ｉ−５］で示される化合物
2002155061.tif 000101
【表１７】
2002155061.tif 000102
【０２１７】
【表１８】
2002155061.tif 000103
【０２１８】
【表１９】
2002155061.tif 000104
【０２１９】
一般式［Ｉ−６］で示される化合物
2002155061.tif 000105
【表２０】
2002155061.tif 000106
【０２２０】
【表２１】
2002155061.tif 000107
【０２２１】
【表２２】
2002155061.tif 000108
【０２２２】
一般式［Ｉ−７］で示される化合物
2002155061.tif 000109
【表２３】
2002155061.tif 000110
【０２２３】
【表２４】
2002155061.tif 000111
【０２２４】
【表２５】
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【０２２５】
【表２６】
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【０２２６】
【表２７】
2002155061.tif 000114
【０２２７】
一般式［Ｉ−８］で示される化合物
2002155061.tif 000115
【表２８】
2002155061.tif 000116
【０２２８】
【表２９】
2002155061.tif 000117
【０２２９】
一般式［Ｉ−９］で示される化合物
2002155061.tif 000118
【表３０】
2002155061.tif 000119
【０２３０】
【表３１】
2002155061.tif 000120
【０２３１】
一般式［Ｉ−１０］で示される化合物
2002155061.tif 000121
【表３２】
2002155061.tif 000122
【０２３２】
次に製剤例を示す。尚、本発明化合物は表１〜表３２の化合物番号で示す。部は重量部である。
製剤例１
本発明化合物１−１〜１−６７、２−１〜２−１０６、３−１〜３−９０、４−１〜４−９４、５−１〜５−７５、６−１〜６−６０、７−１〜７−１２５、８−１〜８−４２、９−１〜９−５０および１０−１〜１０−２２の各々５０部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸ナトリウム２部および合成含水酸化珪素４５部をよく粉砕混合して各々の水和剤を得る。
製剤例２
本発明化合物１−１〜１−６７、２−１〜２−１０６、３−１〜３−９０、４−１〜４−９４、５−１〜５−７５、６−１〜６−６０、７−１〜７−１２５、８−１〜８−４２、９−１〜９−５０および１０−１〜１０−２２の各々１０部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部、キシレン３５部およびシクロヘキサノン３５部をよく混合して各々の乳剤を得る。
製剤例３
本発明化合物１−１〜１−６７、２−１〜２−１０６、３−１〜３−９０、４−１〜４−９４、５−１〜５−７５、６−１〜６−６０、７−１〜７−１２５、８−１〜８−４２、９−１〜９−５０および１０−１〜１０−２２の各々２部、合成含水酸化珪素２部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト３０部およびカオリンクレ−６４部をよく粉砕混合し、水を加えよく練りあわせた後、造粒乾燥して各々の粒剤を得る。
製剤例４
本発明化合物１−１〜１−６７、２−１〜２−１０６、３−１〜３−９０、４−１〜４−９４、５−１〜５−７５、６−１〜６−６０、７−１〜７−１２５、８−１〜８−４２、９−１〜９−５０および１０−１〜１０−２２の各々２５部、ポリビニルアルコ−ル１０％水溶液５０部、水２５部を混合し、平均粒径が５マイクロメ−トル以下になるまで湿式粉砕して各々の懸濁剤を得る。
製剤例５
ポリビニルアルコ−ル１０％水溶液４０部中に、１−１〜１−６７、２−１〜２−１０６、３−１〜３−９０、４−１〜４−９４、５−１〜５−７５、６−１〜６−６０、７−１〜７−１２５、８−１〜８−４２、９−１〜９−５０および１０−１〜１０−２２の各々５部を加え、ホモジナイザ−にて平均粒径が１０マイクロメ−トル以下になるまで乳化分散し、ついで５５部の水を加え、各々の濃厚エマルジョンを得る。
【０２３３】
次に、本発明化合物が除草剤の有効成分として有用である事を試験例で示す。
尚、本発明化合物は表１〜表３２の化合物番号で示す。
試験例１
直径１０ｃｍ、深さ１０ｃｍの円筒形プラスチックポットに土壌を詰め、アメリカアサガオおよびイチビを播種し、温室内で１０日間育成した。その後、製剤例２に準じて本発明化合物１−２、１−４２、１−４５、１−４８、２−２、２−７、２−４２、２−４５、３−２、３−１２、４−７、４−８５、５−１２−Ｒ、５−１２−Ｓ、５−１７、６−２、７−２、７−６、７−８、７−１２、７−４８、７−５０、７−８４、７−１１８、７−１１９、７−１２５、９−７、９−２７および９−４５の各々を乳剤にし、その所定量を１ヘクタ−ルあたり１０００リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、噴霧器で植物体上方から茎葉部全面に均一に処理した。処理後、１６日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果、化合物１−２、１−４２、１−４５、１−４８、２−２、２−７、２−４２、２−４５、３−２、３−１２、４−７、４−８５、５−１２−Ｒ、５−１２−Ｓ、５−１７、６−２、７−２、７−６、７−８、７−１２、７−４８、７−５０、７−８４、７−１１８、７−１１９、７−１２５、９−７、９−２７および９−４５の各々は１２５ｇ／ｈａの薬量でアメリカアサガオおよびイチビの生育を完全に抑制した。
【０２３４】
試験例２
直径１０cm、深さ１０cmの円筒形プラスチックポットに土壌を詰め、アメリカアサガオおよびイチビを播種した。製剤例２に準じて本発明化合物１−２、１−４２、１−４８、２−２、２−７、２−４２、２−４５、３−２、３−１２、４−７、４−８５、５−１２−Ｒ、５−１２−Ｓ、５−１７、６−２、７−２、７−６、７−８、７−１２、７−４８、７−５０、７−８４、７−１１８、７−１１９、７−１２５、９−７、９−２７および９−４５の各々を乳剤にし、その所定量を１ヘクタール当たり１０００リットル相当の水で希釈し、噴霧器で土壌表面全面に均一に散布した。処理後、１９日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果、化合物１−２、１−４２、１−４８、２−２、２−７、２−４２、２−４５、３−２、３−１２、４−７、４−８５、５−１２−Ｒ、５−１２−Ｓ、５−１７、６−２、７−２、７−６、７−８、７−１２、７−４８、７−５０、７−８４、７−１１８、７−１１９、７−１２５、９−７、９−２７および９−４５の各々は５００ｇ／ｈａの薬量でアメリカアサガオおよびイチビの生育を完全に抑制した。
【０２３５】
試験例３
長辺２７cm、短辺２０cm、深さ７．5cmのプラスチックポットに土壌を詰めアメリカアサガオおよびオナモミを播種し温室内で１０日間育成した。これに、プラグ苗ポットに播種し温室内で１４日間育成したシロザ、アオビユおよびアキノエノコログサを移植し、温室内でさらに８日間育成した。その後、製剤例２に準じて本発明化合物１−１２を乳剤にし、その所定量を１ヘクタ−ルあたり１０００リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、噴霧器で植物体上方から茎葉部全面に均一に処理した。処理後、２５日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果、化合物１−１２は１６ｇ／ｈａの薬量でアメリカアサガオ、オナモミ、シロザ、アオビユおよびアキノエノコログサの生育を完全に抑制した。
【０２３６】
試験例４
長辺３２cm、短辺２２cm、深さ８cmのプラスチックポットに土壌を詰め、アメリカツノクサネム、イヌホオズキ、イチビ、サナエタデ、シロザおよびアキノエノコログサを播種した。製剤例２に準じて本発明化合物１−１２を乳剤にし、その所定量を１ヘクタール当たり１０００リットル相当の水で希釈し、噴霧器で土壌表面全面に均一に散布した。処理後、２５日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果、化合物１−１２は２５０ｇ／ｈａの薬量でアメリカツノクサネム、イヌホオズキ、イチビ、サナエタデ、シロザおよびアキノエノコログサの生育を完全に抑制した。
【０２３７】
試験例５
長辺２７ｃｍ、短辺２０ｃｍ、深さ７.５ｃｍのプラスチックポットに土壌を詰めアメリカアサガオ、オナモミを播種した。３日後にイヌビエを播種したのち温室内で７日間育成した。これに、プラグ苗ポットに播種し温室内で１４日間育成したシロザ、アオビユおよびアキノエノコログサを移植し、温室内でさらに８日間育成した。その後、製剤例２に準じて本発明化合物７−７を乳剤にし、その所定量を１ヘクタ−ルあたり１０００リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、噴霧器で植物体上方から茎葉部全面に均一に処理した。処理後、６日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果、化合物７−７は１６ｇ／ｈａの薬量でアメリカアサガオ、オナモミ、イヌビエ、シロザ、アオビユおよびアキノエノコログサの生育を完全に抑制した。
【０２３８】
以下の試験例では、除草効力を「０」、「１」、「２」、「３」、「４」、「５」、「６」、「７」、「８」、「９」および「１０」の１１段階に区分して示す。調査時の供試雑草の出芽または生育の状態が無処理のそれと比較して全くないしほとんど違いがないものを「０」とし、また供試植物が完全枯死または出芽もしくは生育が完全に抑制されているものを「１０」とした。
また、本発明化合物の特徴を明確に示す為、以下の化合物の試験結果についても併せて記載する。
対照化合物Ａ（ＰＣＴ出願公開明細書ＷＯ９２／１１２４４号）
2002155061.tif 000123
対照化合物Ｂ（米国特許公開明細書ＵＳＰ  ４８５９２２９）
2002155061.tif 000124
対照化合物Ｃ（ＰＣＴ出願公開明細書ＷＯ９８／４１０９３号）
2002155061.tif 000125
【０２３９】
試験例６
長辺２７ｃｍ、短辺１９ｃｍ、深さ７ｃｍのプラスチックポットに土壌を詰め、ラージクラブグラス（表中ではＬＣと略記；Digitaria sanguinalis）とアキノエノコログサ（表中ではＧＦと略記；Setaria faberi）を播種した。９日後にイヌビエ（表中ではＢと略記；Echinochloa crus-galli）を播種して、温室内で１５日間育成した。また、長辺１６．５ｃｍ、短辺１２ｃｍ、深さ７ｃｍのプラスチックポットに土壌を詰め、カラスムギ（表中ではＷと略記；Avena fatua）を播種し、温室内で１８日間育成した。製剤例２に準じて本発明化合物１−６７および比較化合物Ａの各々を乳剤にし、その所定量を１ヘクタールあたり１０００リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、噴霧器で植物体上方から茎葉部全面に均一に処理した。処理後、４日間温室内で育成し、除草効力を調査した。結果を以下の表にて示す。
【表３３】
2002155061.tif 000126
【０２４０】
試験例７
長辺２７ｃｍ、短辺１９ｃｍ、深さ７ｃｍのプラスチックポットに土壌を詰め、ラージクラブグラス（表中ではＬＣと略記；Digitaria sanguinalis）とアキノエノコログサ（表中ではＧＦと略記；Setaria faberi）を播種した。９日後にイヌビエ（表中ではＢと略記；Echinochloa crus-galli）を播種して、温室内で１５日間育成した。また、長辺１６．５ｃｍ、短辺１２ｃｍ、深さ７ｃｍのプラスチックポットに土壌を詰め、カラスムギ（表中ではＷと略記；Avena fatua）を播種し、温室内で１８日間育成した。製剤例２に準じて本発明化合物１−４５および比較化合物Ｂの各々を乳剤にし、その所定量を１ヘクタールあたり１０００リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、噴霧器で植物体上方から茎葉部全面に均一に処理した。処理後、４日間温室内で育成し、除草効力を調査した。結果を以下の表にて示す。
【表３４】
2002155061.tif 000127
【０２４１】
試験例８
長辺１６．５ｃｍ、短辺１２ｃｍ、深さ７ｃｍのプラスチックポットに土壌を詰め、ラージクラブグラス（表中ではＬＣと略記；Digitaria sanguinalis）、アキノエノコログサ（表中ではＧＦと略記；Setaria faberi）とセイバンモロコシ（表中ではＪと略記；Sorghum halepense）を播種し、温室内で２５日間育成した。製剤例２に準じて本発明化合物２−５２および比較化合物Ｃの各々を乳剤にし、その所定量を１ヘクタールあたり３７３リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、噴霧器で植物体上方から茎葉部全面に均一に処理した。処理後、４日間温室内で育成し、除草効力を調査した。結果を以下の表にて示す。
【表３５】
2002155061.tif 000128
【０２４２】
【発明の効果】
本発明化合物を用いることにより、優れた除草効果が得られる。