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【手続補正書】
【提出日】平成20年3月27日(2008.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶材料の層を囲む第一のセル壁及び第二のセル壁と、液晶材料の少なくとも幾らかに電場を加えるための電極と、液晶ダイレクタに単一の所望の配列を付与する、少なくとも第一のセル壁の内側表面上の表面配列構造とからなる液晶デバイスであって、
前記表面配列構造が直立した特徴の二次元アレイからなり、この特徴が所望の配列を生成する形状及び／又は配向を有するが、前記表面配列構造がシヌソイド複回折格子からなるデバイスを含まない、液晶デバイス。
【請求項２】
前記特徴が、０．５から５μｍの範囲の高さを有する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記特徴が、１．０から１．２μｍの範囲の高さを有する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項４】
前記特徴の側壁の少なくとも一部が、第一のセル壁の面の法線に対して傾いている、請求項１に記載のデバイス。
【請求項５】
前記特徴の各々が、０．２から３μｍの範囲の幅を有する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項６】
前記特徴が相互に０．１から５μｍ離れている、請求項１に記載のデバイス。
【請求項７】
前記液晶材料が、界面活性剤を含む、請求項１に記載のデバイス。
【請求項８】
前記特徴が、フォトレジスト材料またはプラスチック材料から形成される、請求項１に記載のデバイス。
【請求項９】
前記特徴が、デバイスの異なる領域において、異なる高さ、異なる形状、異なる傾斜、及び／又は異なる配向を有する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項１０】
前記直立した特徴が、フォトレジス材料またはプラスチック材料から形成される、請求項１に記載のデバイス。
【請求項１１】
請求項１に記載の液晶デバイスの製造に使用されるセル壁であって、壁と、液晶材料のダイレクタに所望の単一の配列を付与するための、その一方の表面上の配列構造とを含み、この配列構造が直立した特徴（造作）の二次元アレイからなり、この特徴が所望の配列を生成する形状及び／又は配向を有するが、前記表面配列構造がシヌソイド複回折格子からなるセル壁を含まない、セル壁。
【請求項１２】
壁の表面にフォトレジスト材料を適用し、適用されたフォトレジスト材料を適切にパターニングされたマスクを通して適切な光源に曝露し、可溶性フォトレジストを除去し、及び曝露されたフォトレジスト材料を硬化して前記壁上に配列特徴の二次元アレイを生成することからなり、シヌソイド複回折格子を生成する方法を含まない、請求項１１に記載のセル壁の製造方法。
【請求項１３】
壁の表面にプラスチック材料を適用し、配列特徴の二次元アレイをプラスチック材料にエンボス加工することからなり、シヌソイド複回折格子を生成する方法を含まない、請求項１１に記載のセル壁の製造方法。
【請求項１４】
離間したセル壁を有するセルを生じるように請求項１３に記載の第一のセル壁を第二のセル壁に対して固定し、このセルを液晶材料で充填し、当該セルをシールすることからなり、デバイスが液晶材料の少なくとも一部に電場を加えるための電極構造を有するように、セル壁の一方または両方がその上に少なくとも一つの電極構造を有してなる、請求項１に記載の液晶デバイスの製造方法。
【請求項１５】
液晶材料の層を囲む第一のセル壁及び第二のセル壁と、液晶材料の少なくとも幾らかに電場を加えるための電極と、液晶ダイレクタに所望のホメオトロピック又は傾斜ホメオトロピック配列を付与する、少なくとも第一のセル壁の内側表面上の表面配列構造とからなる液晶デバイスであって、
前記表面配列構造が所望の配列を生成する形状及び／又は配向を有する直立した特徴（造作）のアレイからなる、液晶デバイス。
【請求項１６】
前記特徴の高さが、前記特徴の間の平均間隔に少なくとも等しい、請求項１５に記載のデバイス。
【請求項１７】
前記特徴の側壁の少なくとも一部が、第一のセル壁の面の法線に対して傾いている、請求項１５に記載のデバイス。
【請求項１８】
液晶材料の層を囲む第一のセル壁及び第二のセル壁と、液晶材料の少なくとも幾らかに電場を加えるための電極と、単一の方位角方向において液晶ダイレクタに所望の配列を付与する、少なくとも第一のセル壁の内側表面上の表面配列構造とからなる液晶デバイスであって、
前記表面配列構造が所望の配列を生成する形状及び／又は配向を有する直立したポストのアレイからなる、液晶デバイス。
【請求項１９】
前記ポストが、第一のセル壁の面の法線に対して傾いている、請求項１８に記載のデバイス。
【請求項２０】
前記ポストの各々が別々の構造物である、請求項１８に記載のデバイス。
【請求項２１】
液晶材料の層を囲む第一のセル壁及び第二のセル壁と、液晶材料の少なくとも幾らかに電場を加えるための電極と、複数の方位角方向において液晶ダイレクタに所望の配列を付与する、少なくとも第一のセル壁の内側表面上の表面配列構造とからなる液晶デバイスであって、
前記表面配列構造が所望の配列を生成する形状及び／又は配向を有する特徴（造作）のアレイからなり、前記液晶材料の歪みエネルギーが前記方位角方向の全てについて同じでない、液晶デバイス。
【請求項２２】
液晶材料の層を囲む第一のセル壁及び第二のセル壁と、液晶材料の少なくとも幾らかに電場を加えるための電極と、少なくとも三つの方位角方向において液晶ダイレクタに所望の配列を付与する、少なくとも第一のセル壁の内側表面上の表面配列構造とからなる液晶デバイスであって、
前記表面配列構造が所望の配列を生成する形状及び／又は配向を有する特徴（造作）のアレイからなる、液晶デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月31日(2008.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  複数のギアを用いて駆動源の動力を被駆動物体に伝達する光学装置の駆動機構において、前記複数のギアはポリエステル系，ポリアミド系，ポリアセタール系の少なくとも１つを材料とし、１０kgf/mm2以上かつ１００kgf/mm2以下の曲げ弾性率を有する第１ギアと、該第１ギアと噛み合い５０kgf/mm2以上かつ１０００kgf/mm2以下の曲げ弾性率を有する第２ギアとを含むことを特徴とする光学装置の駆動機構。
【請求項２】  前記第２ギアの曲げ弾性率は、前記第１ギアの曲げ弾性率よりも高いことを特徴とする請求項１に記載の光学装置の駆動機構。
【請求項３】  前記第２ギアは、前記第１ギアよりも高速で回転することを特徴とする請求項１または２に記載の光学装置の駆動機構。
【請求項４】  前記第１ギアおよび第２ギアのいずれか一方は、前記複数のギアのうち最高速で回転するギアであることを特徴とする請求項１に記載の光学装置の駆動機構。
【請求項５】  前記第１および第２ギアのうち高速で回転するギアの方が他方のギアと比べて曲げ弾性率が高いことを特徴とする請求項１または４に記載の光学装置の駆動機構。
【請求項６】  前記第２ギアは、５０kgf/mm2以上かつ７００kgf/mm2以下の曲げ弾性率を有するギアであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学装置の駆動機構。
【請求項７】  前記第２ギアは、５０kgf/mm2以上かつ３００kgf/mm2以下の曲げ弾性率を有するギアであることを特徴とする請求項６に記載の光学装置の駆動機構。
【請求項８】  前記第１ギアおよび前記第２ギアの少なくともいずれか一方は、４０以上かつ６０以下のデュロメータ硬さ（タイプＤ）を有するギアであることを特徴とする請求項１に記載の光学装置の駆動機構。
【請求項９】  前記第１ギアは、４０以上かつ５５以下のデュロメータ硬さ（タイプＤ）を有するギアであり、前記第２ギアは、４５以上かつ６０以下のデュロメータ硬さ（タイプＤ）を有するギアであることを特徴とする請求項８に記載の光学装置の駆動機構。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、複数のギアを用いて駆動源の動力を被駆動物体に伝達する光学装置の駆動機構に適用される。そして、複数のギアはポリエステル系，ポリアミド系，ポリアセタール系の少なくとも１つを材料とし、１０kgf/mm2以上かつ１００kgf/mm2以下の曲げ弾性率を有する第１ギアと、第１ギアと噛み合い５０kgf/mm2以上かつ１０００kgf/mm2以下の曲げ弾性率を有する第２ギアとを含むよう構成し、これにより上記問題点を解決する。
請求項２の発明は、第２ギアの曲げ弾性率が、第１ギアの曲げ弾性率よりも高いことを特徴とするものである。
請求項３の発明は、第２のギアが、第１のギアよりも高速で回転することを特徴とするものである。
請求項４の発明は、第１ギアおよび第２ギアのいずれか一方が、複数のギアのうち最高速で回転するギアであることを特徴とするものである。
請求項５の発明は、第１および第２ギアのうち高速で回転するギアの方が他方のギアと比べて曲げ弾性率が高いことを特徴とするものである。
請求項６発明は、第２ギアが５０kgf/mm2以上かつ７００kgf/mm2以下の曲げ弾性率を有するギアであることを特徴とするものである。
請求項７の発明は、第２ギアが５０kgf/mm2以上かつ３００kgf/mm2以下の曲げ弾性率を有するギアであることを特徴とするものである。
請求項８の発明は、第１ギアおよび前記第２ギアの少なくともいずれか一方が、４０以上かつ６０以下のデュロメータ硬さ（タイプＤ）を有するギアであることを特徴とするものである。
請求項９の発明は、第１ギアが、４０以上かつ５５以下のデュロメータ硬さ（タイプＤ）を有するギアであり、第２ギアが、４５以上かつ６０以下のデュロメータ硬さ（タイプＤ）を有するギアであることを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月2日(2008.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
請求項８に記載の光学フィルムを配置した液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の第２は、前記一般式（１）において、Ｌ１が、−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）４−、または−（ＣＨ２）６−であり、Ｙが単結合であることを特徴とする本発明の第１に記載のジオキセタン化合物、に関する。
本発明の第３は、前記一般式（１）で表されるジオキセタン化合物とカチオン重合性基を有する化合物（一般式（１）で表される化合物を除く。）とからなるカチオン重合性組成物、に関する。
本発明の第４は、前記一般式（１）で表されるジオキセタン化合物を少なくとも５質量％以上含有することを特徴とする本発明の第３に記載のカチオン重合性組成物、に関する。
本発明の第５は、カチオン重合性基を有する化合物が液晶性を示す化合物であることを特徴とする本発明の第３に記載のカチオン重合性組成物、に関する。
本発明の第６は、液晶性を示す化合物が、オリゴマーまたは高分子化合物であることを特徴とする本発明の第５に記載のカチオン重合性組成物、に関する。
本発明の第７は、光カチオン発生剤および／または熱カチオン発生剤を含有することを特徴とする本発明の第３に記載のカチオン重合性組成物、に関する。
本発明の第８は、本発明の第３〜７のいずれかに記載のカチオン重合性組成物を重合して得られる光学フィルム、に関する。
本発明の第９は、本発明の第８に記載の光学フィルムを配置した液晶表示装置、に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月21日(2008.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
クランク軸を回転可能に支持するクランクケースを備えるエンジンと、前記クランク軸の動力を変速する変速機とを備えるパワーユニットであって、前記変速機が、前記クランク軸に平行に配置されると共に前記クランクケースに回転可能に支持される変速軸と、前記クランク軸からの動力を変速する第１および第２変速部と、前記第１変速部に対する前記動力の伝達および遮断を行う第１変速クラッチと、前記第２変速部に対する前記動力の伝達および遮断を行う第２変速クラッチとを備え、前記第１および前記第２変速クラッチにより前記第１変速部での変速段と前記第２変速部での変速段とが切り換えられるパワーユニットにおいて、
前記変速軸は、前記クランク軸のクランク部を収納する前記クランクケースから軸方向での一方に延出する延出軸部を有し、
前記第１および前記第２変速クラッチは、前記クランクケースの外部に配置されて、前記延出軸部に支持され、
前記延出軸部は、前記第１および前記第２変速クラッチを挟んで前記クランクケースとは反対側で軸受部に支持されることを特徴とするパワーユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
請求項１記載の発明は、クランク軸を回転可能に支持するクランクケースを備えるエンジンと、前記クランク軸の動力を変速する変速機とを備えるパワーユニットであって、前記変速機が、前記クランク軸に平行に配置されると共に前記クランクケースに回転可能に支持される変速軸と、前記クランク軸からの動力を変速する第１および第２変速部と、前記第１変速部に対する前記動力の伝達および遮断を行う第１変速クラッチと、前記第２変速部に対する前記動力の伝達および遮断を行う第２変速クラッチとを備え、前記第１および前記第２変速クラッチにより前記第１変速部での変速段と前記第２変速部での変速段とが切り換えられるパワーユニットにおいて、前記変速軸は、前記クランク軸のクランク部を収納する前記クランクケースから軸方向での一方に延出する延出軸部を有し、前記第１および前記第２変速クラッチは、前記クランクケースの外部に配置されて、前記延出軸部に支持され、前記延出軸部は、前記第１および前記第２変速クラッチを挟んで前記クランクケースとは反対側で軸受部に支持されるパワーユニットである。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月6日(2008.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱機関の排ガスから熱エネルギーを回収して動力を発生するとともに、発生した動力は前記熱機関が発生する動力とともに同軸で取り出される排熱回収手段と、
前記排熱回収機関が発生する動力を前記熱機関に伝達し、かつ、前記熱機関の回転数Ｎｅに対する前記排熱回収手段の回転数Ｎｓの回転数比Ｎｓ／Ｎｅを、前記熱機関及び前記排熱回収手段が搭載される車両に対する急加速の要求があるか否かに基づいて変更可能な回転数比変更手段と、
を含むことを特徴とする排熱回収装置。
【請求項２】
熱機関の排ガスから熱エネルギーを回収して動力を発生するとともに、発生した動力は前記熱機関が発生する動力とともに同軸で取り出される排熱回収手段と、
前記熱機関の回転数の上昇に対して前記排熱回収手段の回転数の追従が遅れる場合には、前記熱機関の回転数Ｎｅに対する前記排熱回収手段の回転数Ｎｓの回転数比Ｎｓ／Ｎｅを、前記熱機関の回転数の上昇に前記排熱回収手段の回転数が追従できる場合よりも小さくする回転数比変更手段と、
を含むことを特徴とする排熱回収装置。
【請求項３】
前記回転数比変更手段は、
前記熱機関の回転数の上昇に対して前記排熱回収手段の回転数の追従が遅れる場合には、前記排熱回収手段が運転可能な最低の回転数となるように、前記回転数比Ｎｓ／Ｎｅを調整することを特徴とする請求項１又は２に記載の排熱回収装置。
【請求項４】
前記回転数比変更手段は、
前記熱機関と前記排熱回収手段との間に設けられるクラッチであり、前記熱機関の回転数の上昇に対して前記排熱回収手段の回転数の追従が遅れる場合には、前記クラッチを開放することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の排熱回収装置。
【請求項５】
さらに、前記排熱回収手段と前記熱機関との間には、前記排熱回収手段から前記熱機関へ動力を伝達するワンウェイクラッチが設けられることを特徴とする請求項４に記載の排熱回収装置。
【請求項６】
前記回転数比変更手段は、
前記熱機関と前記排熱回収手段との間に設けられる変速手段であって、前記変速手段の変速比を変更することによって前記回転数比Ｎｓ／Ｎｅを変更することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の排熱回収装置。
【請求項７】
前記熱機関の回転数の上昇に対して前記排熱回収手段の回転数の追従が遅れる場合、
前記回転数比変更手段は、前記排熱回収手段の回転数が、前記熱機関の回転数の上昇に前記排熱回収手段の回転数が追従できる場合よりも低い回転数となるように、前記回転数比Ｎｓ／Ｎｅを設定することを特徴とする請求項６に記載の排熱回収装置。
【請求項８】
前記熱機関の回転数の上昇に対して前記排熱回収手段の回転数の追従が遅れる場合、
前記回転数比変更手段は、前記排熱回収手段の回転数が、前記排熱回収手段が最大の動力を出力できる回転数となるように、前記回転数比Ｎｓ／Ｎｅを設定することを特徴とする請求項６に記載の排熱回収装置。
【請求項９】
前記熱機関の急加速時が、前記排熱回収手段の回転数の追従が遅れるときであることを特徴とする請求項２から８のいずれか１項に記載の排熱回収装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月10日(2008.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
光路中に拡散板を設ける構成の場合、拡散板での拡散によって光の損失が生じることとなる。特許文献１に提案される技術では比較的大型な拡散板を高速回転させることから、消費電力の増大、駆動音の増大も生じることとなる。このため、拡散板を高速回転させる技術は、特に民生用の機器に対してそのまま適用することは困難である。特許文献２に提案される技術の場合、ミラーの垂線に対して傾きを持たせた光を入射させることにより、２枚のミラーの間において光は斜めに進行しながら往復する。２枚のミラーの間において斜めに光を進行させながら光束を分割していくことで、光束を分割させるに従い光の出射領域が増大することとなる。光の出射領域が増大すると、照明光を利用する装置全体を大型化させる必要が生じる。特に、光束の分割数を多くするほど、効果的にスペックルノイズを低減させることが可能となる一方で、構成が大型化することとなる。従来、光路差を持たせた光を出射させる構成は、特許文献２にて提案される構成以外にも種々提案されている。例えば、互いに異なる長さのフライアイレンズを用いる構成（特開昭６０−２３０６２９号公報参照）、ステップ型の反射ミラーを用いる構成（特開２０００−１９９８７２号公報参照）、ビームスプリッタ及びプリズムからなるユニットを並列させる構成（特開２００１−２９６５０３号公報参照）、ファイババンドルを用いる構成等がある。これらのいずれの場合も、光束の分割数の増加とともに光学素子の増加或いは大型化が必要になるため、スペックルノイズを効果的に低減可能であってかつ小型な構成を実現することが困難である。以上のように、従来の技術によると、小型な構成により効果的なスペックルノイズの低減を図ることが困難であるという問題を生じる。本発明は、上述の問題に鑑みてなされたものであり、小型な構成により効果的にスペックルノイズを低減させるための照明装置、及びその照明装置を用いるプロジェクタを提供することを目的とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月23日(2008.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理室内に２枚の第１及び第２の基板を保持して前記第１及び第２の基板を貼り合せるプレス装置において、
前記処理室は、上側の第１の容器及び下側の第２の容器とに上下分割可能であり、
前記処理室内には前記第１又は第２の基板をそれぞれ保持する第１又は第２の保持板が設けられており、
前記第１の保持板は、前記処理室を貫通する複数の支柱を介して該処理室外部に設けられた第１の移動機構に接続され、
前記第２の保持板は、前記第２の容器と共に水平方向に移動する第２の移動機構に接続されており、前記第１の容器と一体的に移動することを特徴とするプレス装置。
【請求項２】
前記支柱を囲み、前記処理室の気密を保つためのベローズが設けられていることを特徴とする請求項１に記載のプレス装置。
【請求項３】
前記第１の移動機構は、前記第１の保持板を上下方向に駆動するものであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のプレス装置。
【請求項４】
前記第２の保持板は、前記第２の容器に固定されていることを特徴とする請求項１に記載のプレス装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
上記目的を達成するため、請求項１に記載の発明では、処理室内に２枚の第１及び第２の基板を保持して前記第１及び第２の基板を貼り合せるプレス装置において、前記処理室は、上側の第１の容器及び下側の第２の容器とに上下分割可能であり、前記処理室内には前記第１又は第２の基板をそれぞれ保持する第１又は第２の保持板が設けられており、前記第１の保持板は、前記処理室を貫通する複数の支柱を介して該処理室外部に設けられた第１の移動機構に接続され、前記第２の保持板は、前記第２の容器と共に水平方向に移動する第２の移動機構に接続されており、前記第１の容器と一体的に移動する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
請求項２に記載の発明では、前記支柱を囲み、前記処理室の気密を保つためのベローズが設けられている。
請求項３に記載の発明では、前記第１の移動機構は、前記第１の保持板を上下方向に駆動するものである。
前記請求項４に記載の発明では、前記第２の保持板は、前記第２の容器に固定されているものである。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月10日(2008.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
データ蓄積デバイスであって、
第１面とこの第１面の外側に対向する第２面とを有する第１記録層であって、この第１記録層は第１の複数のデータ蓄積ロケーションを有し、前記第１の複数のデータ蓄積ロケーションの各々が第１のデータ値を指示するための少なくとも２つの状態を通じて変化可能な第１の物理的特性を有しているような第１記録層と、
前記第１記録層の第２面に隣接して積層された第２記録層であって、この第２記録層は第２の複数のデータ蓄積ロケーションを有し、前記第２の複数のデータ蓄積ロケーションの各々が第２のデータ値を指示するための少なくとも２つの状態を通じて変化可能な第２の物理的特性を有しており、前記第１の物理的特性と前記第２の物理的特性とは異なっているような第２記録層と、
前記第１記録層の第２面に対し概ね垂直に形成された複数のデータ軸であって、これら複数のデータ軸の各々が前記第１の複数のデータ蓄積ロケーションの中の対応する１つと前記第２の複数のデータ蓄積ロケーションの中の対応する１つとを貫通して延伸しているようなデータ軸とを備え、
第１と第２のビーム特性を有する処理されたビームが、複数のデータ軸の１つに沿って第１記録層と第２記録層に向けて指向されるレーザビームから処理され、そのレーザビームは最初に第１の複数のデータ蓄積ロケーションの対応する１つによって第１のビーム特性を決定する少なくとも２つの状態の１つと共に処理され、続いて第２の複数のデータ蓄積ロケーションの対応する１つによって第２のビーム特性を決定する少なくとも２つの状態の１つと共に処理され、処理されたビームの第１と第２のビーム特性はそれぞれ第１の複数のデータ蓄積ロケーションの対応する１つ及び第２の複数のデータ蓄積ロケーションの対応する１つの第１及び第２のデータ値を指示するようになっているデータ蓄積デバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明はその第１の面において、データ蓄積デバイスであって、
第１面とこの第１面の外側に対向する第２面とを有する第１記録層であって、この第１記録層は第１の複数のデータ蓄積ロケーションを有し、前記第１の複数のデータ蓄積ロケーションの各々が第１のデータ値を指示するための少なくとも２つの状態を通じて変化可能な第１の物理的特性を有しているような第１記録層と、
前記第１記録層の第２面に隣接して積層された第２記録層であって、この第２記録層は第２の複数のデータ蓄積ロケーションを有し、前記第２の複数のデータ蓄積ロケーションの各々が第２のデータ値を指示するための少なくとも２つの状態を通じて変化可能な第２の物理的特性を有しており、前記第１の物理的特性と前記第２の物理的特性とは異なっているような第２記録層と、
前記第１記録層の第２面に対し概ね垂直に形成された複数のデータ軸であって、これら複数のデータ軸の各々が前記第１の複数のデータ蓄積ロケーションの中の対応する１つと前記第２の複数のデータ蓄積ロケーションの中の対応する１つとを貫通して延伸しているようなデータ軸とを備え、
第１と第２のビーム特性を有する処理されたビームが、複数のデータ軸の１つに沿って第１記録層と第２記録層に向けて指向されるレーザビームから処理され、そのレーザビームは最初に第１の複数のデータ蓄積ロケーションの対応する１つによって第１のビーム特性を決定する少なくとも２つの状態の１つと共に処理され、続いて第２の複数のデータ蓄積ロケーションの対応する１つによって第２のビーム特性を決定する少なくとも２つの状態の１つと共に処理され、処理されたビームの第１と第２のビーム特性はそれぞれ第１の複数のデータ蓄積ロケーションの対応する１つ及び第２の複数のデータ蓄積ロケーションの対応する１つの第１及び第２のデータ値を指示するようになっているデータ蓄積デバイスを提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月26日(2008.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像形成データ及び当該画像形成データの画像形成に関する属性情報に基づいて画像形成ジョブを生成し、画像形成装置に送出する情報処理装置であって、
前記属性情報に基づいて、前記画像形成装置の安定化処理の要否および必要な安定化処理の種別を判定する判定手段と、
前記属性情報及び前記画像形成データに基づいて、画像形成を実行するために必要な画像形成時間と、前記安定化処理の実行時間とを算出する算出手段と、
前記安定化処理を前記画像形成装置に実行させるための安定化処理実行ジョブを生成する生成手段と、
前記画像形成時間および前記安定化処理実行時間に基づいて、前記画像形成ジョブ及び前記安定化処理実行ジョブのスケジューリングを行うスケジューリング手段と
を備えたことを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記算出手段は、複数の安定化処理の種別と、当該種別ごとの実行時間を記憶し、前記判定手段で判定された安定化処理の種別と記憶されている安定化処理実行時間とに基づいて、前記安定化処理の実行時間を算出することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記生成手段で生成される前記安定化処理実行ジョブは、前記画像形成装置の制御コマンドを含む制御ジョブとして生成されることを特徴とする請求項１または２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記画像形成ジョブおよび前記安定化処理実行ジョブを前記画像形成装置に送出する送出手段であって、前記画像形成ジョブの送出前に当該画像形成ジョブに関連付けられた安定化処理実行ジョブを送出する送出手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記画像形成装置で安定化処理の実行が終了した旨の情報を取得する取得手段であって、前記画像形成装置での安定化処理が終了した旨の情報を取得した後、前記送出手段が当該安定化処理に関連付けられた画像形成ジョブを前記画像形成装置に送出する取得手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記判定手段は、前記属性情報のほかに、前回の安定化処理からの経過時間または印刷出力数を用いて安定化処理の要否を判定することを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の情報処理装置。
【請求項７】
画像形成データ及び当該画像形成データの画像形成に関する属性情報に基づいて画像形成ジョブを生成し、画像形成装置に送出するステップを備えた情報処理方法であって、
前記属性情報に基づいて、前記画像形成装置の安定化処理の要否および必要な安定化処理の種別を判定する判定ステップと、
前記属性情報及び前記画像形成データに基づいて、画像形成を実行するために必要な画像形成時間と、前記安定化処理の実行時間とを算出する算出ステップと、
前記安定化処理を前記画像形成装置に実行させるための安定化処理実行ジョブを生成する生成ステップと、
前記画像形成時間および前記安定化処理実行時間に基づいて、前記画像形成ジョブ及び前記安定化処理実行ジョブのスケジューリングを行うスケジューリングステップと
を備えたことを特徴とする情報処理方法。
【請求項８】
前記算出ステップは、複数の安定化処理の種別と、当該種別ごとの実行時間を記憶し、前記判定ステップで判定された安定化処理の種別と記憶されている安定化処理実行時間とに基づいて、前記安定化処理の実行時間を算出することを特徴とする請求項７に記載の情報処理方法。
【請求項９】
前記生成ステップで生成される前記安定化処理実行ジョブは、前記画像形成装置の制御コマンドを含む制御ジョブとして生成されることを特徴とする請求項７または８に記載の情報処理方法。
【請求項１０】
前記画像形成ジョブおよび前記安定化処理実行ジョブを前記画像形成装置に送出する送出ステップであって、前記画像形成ジョブの送出前に当該画像形成ジョブに関連付けられた安定化処理実行ジョブを送出する送出ステップをさらに備えたことを特徴とする請求項７ないし９のいずれかに記載の情報処理方法。
【請求項１１】
前記画像形成装置で安定化処理の実行が終了した旨の情報を取得する取得ステップであって、前記画像形成装置での安定化処理が終了した旨の情報を取得した後、前記送出ステップが当該安定化処理に関連付けられた画像形成ジョブを前記画像形成装置に送出する取得ステップをさらに備えたことを特徴とする請求項７ないし１０のいずれかに記載の情報処理方法。
【請求項１２】
前記判定ステップは、前記属性情報のほかに、前回の安定化処理からの経過時間または印刷出力数を用いて安定化処理の要否を判定することを特徴とする請求項７ないし１１のいずれかに記載の情報処理方法。
【請求項１３】
コンピュータを用いて請求項７ないし１２に記載の各ステップを実行させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記の課題を解決するため、本発明の情報処理装置は、画像形成データ及び画像形成データの画像形成に関する属性情報に基づいて画像形成ジョブを生成し、画像形成装置に送出する情報処理装置であって、属性情報に基づいて、画像形成装置の安定化処理の要否および必要な安定化処理の種別を判定する判定手段と、属性情報及び画像形成データに基づいて、画像形成を実行するために必要な画像形成時間と、安定化処理の実行時間とを算出する算出手段と、安定化処理を画像形成装置に実行させるための安定化処理実行ジョブを生成する生成手段と、画像形成時間および安定化処理実行時間に基づいて、画像形成ジョブ及び安定化処理実行ジョブのスケジューリングを行うスケジューリング手段とを備えたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月10日(2008.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
上記の商用ツールに関連する欠点を解決するために、財務アナリストは通常、法廷会計技術を使用することによって事業実体の定性的なビジネス事象情報を監視している。定性的情報には、例えば、役員スタッフの交代又は会計士の交代などの事業実体に関連する財務ストレスの特定の行動的兆候又は契機を反映するビジネス事象データが含まれる。しかしながら、定性的データ技術に伴う欠点は、膨大な量の情報を人手により収集しこれを取り入れなければならないことである。また、こうした膨大な量の情報の収集は標準化されておらず、正確な統計的分析によるものではなく、更に拡張性のある技術ではない。
【非特許文献１】Flores, et al. "Qualitative/Quantitative Financial Analysis", Fuzzy Economic Review, November 2001
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月7日(2008.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の伝送アンテナを有し、無線直交周波数分割多重通信システムにおいて信号を送信する送信装置において、
第１及び第２のデータストリームをそれぞれ直交周波数分割多重信号として送信する第１及び第２のアンテナと、
上記第１のデータストリームに組み込まれ、上記第１のアンテナを介して送信される第１のパイロットシンボルと、上記第２のデータストリームに組み込まれ、上記第２のアンテナを介して送信される第２のパイロットシンボルとを生成するパイロットシンボル生成手段とを備え、
その場合上記第１及び第２のパイロットシンボルは、直交周波数分割多重システムにおいて、互いに対応し、同じ周波数及び時点に割り当てられており、時間軸及び周波数軸で規則的に配置されており、
その場合上記第１のパイロットシンボルの少なくともいくつかの対が、上記第２のパイロットシンボルの対応する対にそれぞれ直交する、
送信装置。
【請求項２】
周波数軸上に隣接する上記第１のパイロットシンボルの少なくともいくつかの対は、上記第２のパイロットシンボルの対応する対とそれぞれ直交し、時間軸上に隣接する上記第１のパイロットシンボルの少なくともいくつかの対は、上記第２のパイロットシンボルの該対応する対とそれぞれ直交する、請求項１記載の送信装置。
【請求項３】
上記同じ周波数及び時点に割り当てられている上記第１パイロットシンボルと上記第２のパイロットシンボルとの対応するものは、周波数軸及び時間軸上で、交互に同一となる又は直交するように配列されている、請求項２記載の送信装置。
【請求項４】
複数の伝送アンテナを有し、無線直交周波数分割多重通信システムにおいて信号を受信する受信装置において、
直交周波数分割多重通信システムの送信装置の第１及び第２のアンテナから送信される信号を受信するアンテナと、
上記第１及び第２のアンテナは、それぞれ対応する第１及び第２のパイロットシンボルを送信することと、
その場合上記第１のパイロットシンボルと上記第２のパイロットシンボルとは、直交周波数分割多重システムにおいて、互いに対応し、同じ周波数及び時点に割り当てられており、時間軸及び周波数軸上で規則的に配置されており、また、上記第１のパイロットシンボルの少なくともいくつかの対が、上記第２のパイロットシンボルの対応する対とそれぞれ直交することと、
上記信号からパイロットシンボルを検出し、該検出したパイロットシンボルの処理を行い、該処理に基づいて、上記第１及び第２のアンテナから送信されてきた信号の伝送品質を個別に判定する処理手段と、
を備える受信装置。
【請求項５】
周波数軸上に隣接する上記第１のパイロットシンボルの少なくともいくつかの対は、上記第２のパイロットシンボルの対応する対とそれぞれ直交し、時間軸上に隣接する上記第１のパイロットシンボルの少なくともいくつかの対は、上記第２のパイロットシンボルの該対応する対とそれぞれ直交する、請求項４記載の受信装置。
【請求項６】
上記第１及び第２のアンテナから送信されてくる第１及び第２のパイロットシンボルは、周波数軸及び時間軸上で交互に同一となり又は直交するように配列されており、上記処理手段は、上記パイロットシンボルの隣接する対を処理することにより伝送品質を判定する、請求項４記載の受信装置。
【請求項７】
第１及び第２のアンテナを備える送信装置が信号を送信する無線直交周波数分割多重通信システムにおいてチャンネル推定を実行するチャンネル推定方法において、
直交周波数分割多重通信システムにおいて、互いに対応し、同じ周波数及び時点に割り当てられており、時間軸及び周波数軸上で規則的に配置されている第１及び第２のパイロットシンボルを上記第１及び第２のアンテナから送信するステップと
その場合上記第１のパイロットシンボル少なくともいくつかの対は、上記第２のパイロットシンボルの対応する対にそれぞれ直交することと、
上記第１及び第２のパイロットシンボルを受信装置が備える単一のアンテナにより受信するステップと、
上記受信したパイロットシンボルの処理を行い、該処理に基づいて、上記第１のアンテナと第２のアンテナから送信されてきた上記信号の伝送品質を個別に判定するステップと
を有するチャンネル推定方法。
【請求項８】
周波数軸上に隣接する上記第１のパイロットシンボルの少なくともいくつかの対は、上記第２のパイロットシンボルの対応する対とそれぞれ直交し、時間軸上に隣接する上記第１のパイロットシンボルの少なくともいくつかの対は、上記第２のパイロットシンボルの該対応する対とそれぞれ直交する、請求項７記載のチャネル推定方法。
【請求項９】
上記第１及び第２のアンテナから送信されてきた第１及び第２のパイロットシンボルは、周波数軸及び時間軸上で交互に同一となり又は直交するように配列されており、上記処理手段は、パイロットシンボルの隣接する対を処理することにより伝送品質を判定する、請求項７記載のチャネル推定方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月18日(2008.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パッケージ電極を有するパッケージと、同一面側に正負一対の電極を有するＬＥＤチップと、前記パッケージ電極と前記ＬＥＤチップの電極とを接合する半田と、を備えたフリップチップ型発光ダイオードにおいて、
前記半田は、前記パッケージ電極と前記ＬＥＤチップの電極との接合部以外の半田表面に、酸化被膜を有することを特徴とするフリップチップ型発光ダイオード。
【請求項２】
前記半田は、ＰｂとＳｎとを含む合金であり、前記ＬＥＤチップの電極は、Ｐｔを含み、前記半田と前記ＬＥＤチップの電極との接合部は、前記半田および前記ＬＥＤチップの電極に含まれた金属の合金を含む請求項１に記載のフリップチップ型発光ダイオード。
【請求項３】
前記半田の厚さは、５μｍ以上５０μｍ以下である請求項１または２に記載のフリップチップ型発光ダイオード。
【請求項４】
パッケージ電極を有するパッケージと、同一面側に正負一対の電極を有するＬＥＤチップと、前記パッケージ電極と前記ＬＥＤチップの電極とを接合する半田と、を備えたフリップチップ型発光ダイオードの形成方法において、
前記パッケージ電極の上に半田を形成する第一の工程と、
前記ＬＥＤチップの電極面を前記パッケージ電極のほうに向けて、前記ＬＥＤチップを前記パッケージに配置する第二の工程と、
酸素が存在する雰囲気中で前記半田を溶融および凝固させることにより、前記パッケージ電極と前記ＬＥＤチップの電極との接合部以外の半田表面に酸化被膜を形成するとともに、前記パッケージ電極と前記ＬＥＤチップの電極とを、前記半田にて接合する第三の工程と、を有することを特徴とするフリップチップ型発光ダイオードの形成方法。
【請求項５】
前記半田は、ＰｂとＳｎとを含む合金であり、前記ＬＥＤチップの電極は、Ｐｔを含み、前記第三の工程は、前記半田と前記ＬＥＤチップの電極との接合部において、前記半田および前記ＬＥＤチップの電極に含まれた金属の一部を合金化させる工程を含む請求項４に記載のフリップチップ型発光ダイオードの形成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の半田は、ＰｂとＳｎとを含む合金であることが好ましい。これにより、応力吸収性に優れたフリップチップ型発光ダイオードとすることができる。また、溶融接合に必要な加熱温度を２００℃以下とできるため、ＬＥＤチップに加わる熱的ダメージを小さくできる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記半田の厚さは、上記パッケージ上において５μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましい。これにより、接合性よく薄型化が可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月31日(2008.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 画素アレイとして配列された複数のフォトセンサ画素を具備する固定イメージャであって、前記フォトセンサ画素の各々が、（１）側壁を有していて、該側壁上にゲート誘電体層が配置されている、フォトダイオードと、（２）前記フォトダイオードの本体の周囲に配置され、前記誘電体層上に配置されたアモルファスシリコンから形成され、且つ前記フォトダイオードの前記側壁の周囲を完全に覆うように延在して、前記フォトダイオードからの逆バイアス漏れを減少させている電界プレートとを具備している、固定イメージャ。
【請求項２】 前記固体イメージャは共通電極を更に具備し、前記電界プレートは前記共通電極の一部と電気的に接触する状態で配置されている請求項１記載の固体イメージャ。
【請求項３】前記フォトダイオードの側壁は、前記画素アレイが配置されている基板の面に関してほぼ垂直に配置されている請求項１または２記載の固体イメージャ。
【請求項４】 前記電界プレートは前記フォトダイオードの側壁のほぼ垂直な部分を覆うように配置されている請求項１乃至３のいずれかに記載の固体イメージャ。
【請求項５】 複数の画素を有し、且つ各々の画素が対応する画素薄膜トランジスタと画素フォトセンサとを具備しているイメージャアレイを製造する方法において、画素ごとに、基板上に第１の導電層を堆積する工程と、前記第１の導電層からフォトセンサ底部電極を形成する工程と、前記フォトセンサ底部電極の少なくとも一部の上に配置され、側壁を有するフォトセンサ本体を形成する工程と、前記フォトセンサ本体を覆うようにゲート電極誘電体層を堆積する工程と、前記フォトセンサ本体の前記側壁を被覆し且つ前記フォトセンサ本体の周囲を完全に覆うように延在する、アモルファスシリコンから成る電界プレートの層を前記ゲート誘電体層の少なくとも一部の上に形成する工程と、前記電界プレートと電気的に接触する共通電極を形成する工程と、を含む方法。
【請求項６】 前記共通電極を形成する工程は、ソース／ドレイン導電性材料を堆積する工程と、前記共通電極を形成し且つ前記画素の各々に対応する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）のソース電極とドレイン電極とを形成するために前記ソース／ドレイン導電性材料をパターニングする工程と、を更に含む請求項５記載の方法。
【請求項７】 前記ゲート電極誘電体層の堆積に続いてＴＦＴ材料のアイランドを形成する工程を更に含み、前記アイランドを形成する工程は、前記ゲート誘電体層の露出面のほぼ全面を覆うように真性アモルファスシリコンの第１の層を堆積する工程と、前記真性アモルファスシリコンの層を覆うようにｎ＋型不純物を添加したアモルファスシリコン材料から成る第２の層を堆積する工程と、前記ゲート誘電体層の所定の複数の部分から第１及び第２の層をほぼ除去して、前記ＴＦＴアイランドが存在すべき複数の選択された領域に前記第１及び第２の層を残すように前記第１及び第２の層をエッチングし、更に、前記フォトダイオード本体の前記側壁上にある前記真性アモルファスシリコンの第１の層の少なくとも一部分を残す工程とを含んでいる請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】 基板と、
前記基板上に配置され、各々が１つの走査線と１つのデータ線とに結合されている複数の画素から構成されるフォトセンサアレイとを具備し、
薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が前記フォトセンサアレイと、前記走査線及びデータ線とに電気的に結合され、前記フォトセンサアレイの電荷を選択的に読み出し可能であり、
共通電極が前記フォトダイオードと電気的に接触する状態で配置され、
前記電界プレートとフォトダイオード本体との間に誘電体材料が配置されるような状態で前記電界プレートが前記フォトダイオードの側壁の周囲に配置され、
前記電界プレートが前記共通電極の電位に対応して前記フォトダイオード本体の周囲に電界を発生させるように、前記共通電極と電気的に接触している、請求項１記載の固体イメージャ。
【請求項９】 前記共通電極は、前記フォトダイオード本体の側壁を覆うように配置されている箇所で、それぞれ対応するＴＦＴアイランドを覆うように配置されている請求項８記載の放射線イメージャ。
【請求項１０】 前記電界プレートが延在している前記フォトダイオード本体の側壁は、前記基板の面に対してほぼ垂直である部分を含む請求項８または９に記載の放射線イメージャ。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月20日(2008.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成膜室の内部をフッ素化合物系ガスによりクリーニングを行った後、前記成膜室にて基板上に絶縁膜を形成する第１の工程と、
前記成膜室に水素で希釈したシランガスを導入し、プラズマを発生させて前記絶縁膜上にフッ素濃度が１×１０１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下である非晶質シリコン膜を形成する第２の工程と、
前記非晶質シリコン膜を加熱処理して結晶化する第３の工程とを有し、
前記第１の工程の後、大気に触れることなく前記第２の工程が行われることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
成膜室の内部をフッ素化合物系ガスによりクリーニングを行った後、前記成膜室にて基板上に絶縁膜を形成する第１の工程と、
前記成膜室に水素で希釈したシランガスを導入し、プラズマを発生させて前記絶縁膜上にフッ素濃度が１×１０１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下である非晶質シリコン膜を形成する第２の工程と、
前記非晶質シリコン膜に対して該非晶質シリコン膜の結晶化を助長する元素を添加する第３の工程と、
前記非晶質シリコン膜を加熱処理して結晶化する第４の工程とを有し、
前記第１の工程の後、大気に触れることなく前記第２の工程が行われることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
成膜室の内部をフッ素化合物系ガスによりクリーニングを行った後、前記成膜室にて基板上に絶縁膜を形成する第１の工程と、
前記成膜室に水素で希釈したシランガスを導入し、プラズマを発生させて前記絶縁膜上にフッ素濃度が１×１０１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下である非晶質シリコン膜を形成する第２の工程と、
前記非晶質シリコン膜に対して該非晶質シリコン膜の結晶化を助長する元素を添加する第３の工程と、
前記非晶質シリコン膜を加熱処理して結晶化する第４の工程と、
結晶化したシリコン膜にレーザー光を照射する第５の工程とを有し、
前記第１の工程の後、大気に触れることなく前記第２の工程が行われることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項２又は請求項３において、前記第３の工程は、非晶質シリコン膜の結晶化を助長する金属元素からなる電極を用いてプラズマを発生させて行うことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項２乃至請求項４のいずれか一において、前記非晶質シリコン膜の結晶化を助長する元素は、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｕから選ばれた一種または複数種であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、前記第２の工程におけるシランガス流量と水素ガス流量との比は、１：２〜１：２０であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、前記第１の工程におけるクリーニングを行った後、成膜室の内部に酸化シリコン、窒化シリコン、酸化窒化シリコン、シリコンから選ばれた一種または複数種からなるコーティング膜を成膜することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月30日(2008.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  アナログ信号をデジタル出力に変換する方法であって、
前記アナログ信号をデジタル・サンプル値に変換するステップと、
複数の前記デジタル・サンプル値を結合してデジタル出力値を生成するステップとを備え、
前記生成するステップは、連続する前記デジタル・サンプルを結合する処理から成る方法。
【請求項２】  前記デジタル出力値は前記複数のデジタル・サンプル値の和の関数である請求項１の方法。
【請求項３】  前記結合は、前記複数の前記デジタル・サンプル値を平均化して前記デジタル出力値を生成するステップを備える請求項１の方法。
【請求項４】  前記変換は、前記アナログ信号の信号周波数のほぼ整数倍であるが少量だけずれたサンプリング周波数で前記アナログ信号をサンプリングするステップを備える請求項１の方法。
【請求項５】  前記結合は、Ｎ個の連続するＭビット・デジタル・サンプル値を結合して、Ｍを超えるビットによって表されるデジタル出力値を生成するステップを備える請求項１の方法。
【請求項６】  第１のデータ・レートでデジタル・サンプル値を受信するステップと、
第２のデータ・レートでデジタル出力値を出力するステップとを備える請求項１の方法。
【請求項７】  前記第１のデータ・レートで前記デジタル・サンプル値を受信しながら、前記第２のデータ・レートを変化させるステップを備える請求項６の方法。
【請求項８】  アナログ信号をデジタル出力に変換するシステムであって、
前記アナログ信号をデジタル・サンプル値に変換するステップと、
複数の前記デジタル・サンプル値を結合してデジタル出力値を生成するステップとを備え、
前記生成するステップは、Ｎ個の連続するデジタル・サンプル値を結合して、Ｍ＋ｌｏｇ2（Ｎ）ビットのデジタル出力値を生成する処理から成る方法。
【請求項９】  アナログ信号をデジタルに変換するシステムであって、
前記アナログ信号を受信し、前記アナログ信号をデジタル・サンプル値に変換するアナログ・デジタル変換器と、
前記複数のデジタル・サンプル値を受信し、前記デジタル・サンプル値を結合してデジタル出力値を生成する結合回路とを備え、
前記デジタル・サンプルは、連続する値であるシステム。
【請求項１０】  前記結合回路が、前記複数の前記デジタル出力値の和の関数として前記デジタル出力値を生成する請求項９のシステム。