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【手続補正書】
【提出日】平成19年11月26日(2007.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検査装置に固定される基部と、基部より突出して形成されたカンチレバーと、前記カンチレバーの先端部近傍に設けられたホルダと、前記ホルダの先端に固定されたカーボンナノチューブよりなる探針とを有する検査装置用プローブであって、
前記カーボンナノチューブは屈曲し、試料が固定される方向に突出する状態で、少なくとも二方向より金属層によって固定されていることを特徴とする検査装置用プローブ。
【請求項２】
請求項１において、前記金属層はタングステンヘキサカルボニル、もしくはフッ化タングステンの分解生成物を主成分とし、タングステンの含有量が７０％以上であることを特徴とする検査装置用プローブ。
【請求項３】
請求項１または２において、前記ホルダは円錐形状，多角錘形状，柱状形状、または前記いずれかの形状の先端部を先鋭化した形状を有することを特徴とする検査装置用プローブ。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載された検査装置用プローブにおいて、前記カーボンナノチューブは前記ホルダの稜線上もしくは側面上に固定されていることを特徴とする検査装置用プローブ。
【請求項５】
請求項４に記載された検査装置用プローブにおいて、前記カーボンナノチューブは前記ホルダの基部側に固定されていることを特徴とする検査装置用プローブ。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載された検査装置用プローブであって、試料を固定する試料台と探針とが対向する位置で前記検査装置用プローブが測定装置本体に設置された状態で、前記探針は試料を固定する試料台平面と垂直に、もしくは垂直な方向に対し５度以下の角度で傾斜させて固定されていることを特徴とする検査装置用プローブ。
【請求項７】
請求項１ないし５のいずれかに記載された検査装置用プローブであって、試料を固定する試料台と探針とが対向する位置で前記検査装置用プローブが測定装置本体に設置された状態で、前記探針は試料を固定する試料台平面に対し傾斜させて固定されていることを特徴とする検査装置用プローブ。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載された検査装置用プローブであって、前記金属層は、金属化合物ガスを電子線照射により分解して堆積させて形成されており、前記電子線の加速電圧が１５ｋＶ以下、トータル電流が２０μＡ以下で形成されたことを特徴とする検査装置用プローブ。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載された検査装置用プローブであって、前記ホルダは多角錘、円錐または柱状形状、もしくは前記形状の先端部を先鋭化した形状を有し、前記金属層はカーボンナノチューブのホルダからの露出長さを短くするよう形成されていることを特徴とする検査装置用プローブ。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれかに記載された検査装置用プローブであって、前記検査装置は、走査型プローブ顕微鏡、マニピュレータまたはＣＤ−ＡＦＭのいずれかであることを特徴とする検査装置用プローブ。
【請求項１１】
カーボンナノチューブ探針を有する検査装置用プローブを有し、前記試料の表面状態を検知する走査型プローブ顕微鏡であって、前記検査装置用プローブが請求項１ないし１０のいずれかに記載された検査装置用プローブであることを特徴とする走査型プローブ顕微鏡。
【請求項１２】
カーボンナノチューブよりなる探針を有する走査型プローブ顕微鏡であって、
前記探針はカンチレバー上に設けられたホルダに固定されており、前記カンチレバーは検査装置に固定される基部より突出して設けられており、前記前記カーボンナノチューブは屈曲し、前記走査型プローブ顕微鏡で観察される試料が固定される方向に突出する状態で、金属層によって少なくとも二方向より固定されていることを特徴とする走査型プローブ顕微鏡。
【請求項１３】
検査装置に固定される基部と、基部より突出して形成されたカンチレバーと、前記カンチレバーの先端部近傍に設けられたホルダと、前記ホルダの先端に固定されたカーボンナノチューブよりなる探針とを有する検査装置用プローブの製造方法であって、前記カーボンナノチューブを前記ホルダの先端部に接近させ、接近した状態で前記カーボンナノチューブ上及び前記先端部上に金属層を少なくとも二方向より堆積させて製造することを特徴とする検査装置用プローブの製造方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載された検査装置用プローブの製造方法であって、前記ホルダはカンチレバー端部を加工して、またはカンチレバーに前記ホルダを固定して、形成されていることを特徴とする検査装置用プローブの製造方法。
【請求項１５】
請求項１３または１４に記載された検査装置用プローブの製造方法であって、前記金属層の設置はタングステンヘキサカルボニル、もしくはフッ化タングステンのガスを電子線照射により分解して金属タングステンを得た後、前記電子線照射部分に優先的に前記タングステンを堆積させることによって設置されるものであることを特徴とする検査装置用プローブの製造方法。
【請求項１６】
請求項１３ないし１５のいずれかに記載された検査装置用プローブの製造方法であって、前記金属層を、少なくとも、前記カーボンナノチューブの一端上であって前記ホルダの先端部の稜線と、前記カーボンナノチューブの他端を保持して先端部頂点まで引っ張った場合の頂点近傍と、その後に前記カーボンナノチューブを屈曲させて保持した場合の前記ホルダの稜線方向以外の方向であって前記頂点近傍とに堆積させることを特徴とする検査装置用プローブの製造方法。
【請求項１７】
請求項１３ないし１５のいずれかに記載された検査装置用プローブの製造方法であって、前記金属層を、少なくとも、前記カーボンナノチューブの一端上であって前記ホルダの側斜面上と、前記カーボンナノチューブの他端を保持して前記先端部頂点まで引っ張った場合の頂点近傍と、その後に前記カーボンナノチューブの先端部を屈曲させて保持した場合の前記ホルダの斜面方向以外の方向であって前記頂点近傍とに行うことを特徴とする検査装置用プローブの製造方法。
【請求項１８】
請求項１３ないし１７のいずれかに記載された検査装置用プローブの製造方法であって、
前記金属層は金属化合物ガスを電子線照射により分解して堆積させて生成し、前記電子線の加速電圧は１５ｋＶ以下、トータル電流が２０μＡ以下であることを特徴とする検査装置用プローブの製造方法。
【請求項１９】
請求項１３ないし１８のいずれかに記載された検査装置用プローブの製造方法であって、前記ホルダは多角錘，円錐または柱状形状、もしくは前記形状の先端部を先鋭化した形状を有し、前記金属層はカーボンナノチューブのホルダからの露出長さを短くすることを特徴とする検査装置用プローブの製造方法。
【請求項２０】
基板上に化学的蒸着法によって半導体，金属導電層、もしくは酸化物および窒化物絶縁層を積層する積層工程と、前記積層体の一部をエッチング処理して断面を露出させるエッチング工程と、前記エッチング処理後に表面形状を検査する表面検査工程とを有し、前記積層工程，エッチング処理工程を複数回行うＬＳＩの製造法であって、
前記表面検査工程は請求項１１の走査型プローブ顕微鏡を使用する工程であることを特徴とするＬＳＩの製造法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月16日(2008.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円柱状の内部空間を有する底板付きの熱良導体から成る熱溜と、前記熱溜の底板上で円柱状内周より内側に設けられた凸状の突起構造と、前記突起構造に固定されたセンサー板と、
前記センサー板に設けられた試料ホルダーと参照物質用ホルダーと、
前記突起構造から前記試料ホルダーおよび参照物質ホルダーへの２次元熱流経路とからなり、
前記試料ホルダーへの２次元熱流経路が試料ホルダーのほぼ同心円形状で前記同心円円周のおおよそ１／４からおおよそ半円を占める形状としたことを特徴とする熱流束型示差走査熱量計。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2007064882.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2007064882.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月22日(2008.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電極上に感光性樹脂膜を形成し、
フォトマスクを通過して回折した光により前記感光性樹脂膜を露光し、
前記感光性樹脂膜を現像することにより前記第１の電極の端部を覆う絶縁膜を形成し、
前記絶縁膜に加熱処理を施し、
前記第１の電極上及び前記絶縁膜上にＥＬ膜を形成し、
前記ＥＬ膜上に第２の電極を形成することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項２】
第１の電極上に有機膜を形成し、
前記有機膜上にレジストマスクを形成し、
前記レジストマスクを用いて、等方性のエッチングを前記有機膜に施すことにより前記第１の電極の端部を覆う絶縁膜を形成し、
前記レジストマスクを除去し、
前記絶縁膜の表面にＲＩＥエッチングを施し、
前記第１の電極上及び前記絶縁膜上にＥＬ膜を形成し、
前記ＥＬ膜上に第２の電極を形成することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項３】
第１の電極上に有機膜を形成し、
前記有機膜上にレジストマスクを形成し、
前記レジストマスクを用いて、等方性のエッチングを前記有機膜に施すことにより前記第１の電極の端部を覆う絶縁膜を形成し、
前記レジストマスクを除去し、
前記絶縁膜に加熱処理を施し、
前記第１の電極上及び前記絶縁膜上にＥＬ膜を形成し、
前記ＥＬ膜上に第２の電極を形成することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項４】
第１の電極上に有機膜を形成し、
前記有機膜上にレジストマスクを形成し、
前記レジストマスクを用いて、第１の反応性ガスと第２の反応性ガスとを含むガスを用いたエッチングを前記有機膜に施すことにより前記第１の電極の端部を覆う絶縁膜を形成し、
前記レジストマスクを除去し、
前記第１の電極上及び前記絶縁膜上にＥＬ膜を形成し、
前記ＥＬ膜上に第２の電極を形成する表示装置の作製方法であって、
前記エッチングは、
前記第２の反応性ガスに対する前記第１の反応性ガスのガス流量比を時間毎に増加させ、
前記第２の反応性ガスに対する前記第１の反応性ガスのガス流量比を一定にさせ、
前記第２の反応性ガスに対する前記第１の反応性ガスのガス流量比を時間毎に減少させることにより行うことを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記絶縁膜の上端部は、前記絶縁膜の側面の内側に中心を有する円又は楕円に接する形状であり、
前記絶縁膜の下端部は、前記絶縁膜の側面の内側に中心を有する円又は楕円に接する形状であることを特徴とする表示装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月22日(2008.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
像担持体に形成された潜像をトナーにより現像する現像装置と、
該現像装置へトナー吸引手段の吸引圧によってトナーを補給するトナー補給装置とを備えた画像形成装置に用いるトナー収納容器において、
フレキシブルな材料で作られた密閉状の容器本体と、
該容器本体の下部に設けられた排出部材とを有し、
前記容器本体は前記排出部材に向かって絞り込まれた形状に形成されてあり、
前記排出部材は前記容器本体の絞り込まれた形状の下方にある漏斗形状と該漏斗形状の下方にあって前記漏斗形状に通じるトナー排出孔とを有し、
該トナー排出孔には前記トナー吸引手段が有するノズルが挿入されうるようになっている
ことを特徴とするトナー収納容器。
【請求項２】
像担持体に形成された潜像をトナーにより現像する現像装置と、
請求項１に記載のトナー収納容器と、該現像装置へトナー吸引手段の吸引圧によって前記トナー収納容器から前記現像装置にトナーを補給する補給装置とを備えた画像形成装置であって、
前記トナー吸引手段には、前記トナー収納容器内に挿入されるノズルが備えられてある画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記の目的を達成するため、本発明は、像担持体に形成された潜像をトナーにより現像する現像装置と、該現像装置へトナー吸引手段の吸引圧によってトナーを補給するトナー補給装置とを備えた画像形成装置に用いるトナー収納容器において、フレキシブルな材料で作られた密閉状の容器本体と、該容器本体の下部に設けられた排出部材とを有し、前記容器本体は前記排出部材に向かって絞り込まれた形状に形成されてあり、前記排出部材は前記容器本体の絞り込まれた形状の下方にある漏斗形状と該漏斗形状の下方にあって前記漏斗形状に通じるトナー排出孔とを有し、該トナー排出孔には前記トナー吸引手段が有するノズルが挿入されうるようになっていることを特徴とするトナー収納容器を提案する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、上記の目的を達成するため、本発明は、像担持体に形成された潜像をトナーにより現像する現像装置と、請求項１に記載のトナー収納容器と、該現像装置へトナー吸引手段の吸引圧によって前記トナー収納容器から前記現像装置にトナーを補給する補給装置とを備えた画像形成装置であって、前記トナー吸引手段には、前記トナー収納容器内に挿入されるノズルが備えられてある画像形成装置を提案する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の構成によれば、トナー収納容器内のトナーを補給し終えると、容器を自動的に減容でき、しかもトナー収納容器の残トナーも少量にすることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月10日(2008.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上にマトリクス状に配列された複数の駆動トランジスタと、
前記複数の駆動トランジスタのドレイン・ソースとゲートのうちの一方とともにパターニングされ、前記基板上において互いに平行となるよう配列された複数の信号線と、
前記複数の信号線及び前記複数の駆動トランジスタを被覆した保護絶縁膜と、
前記複数の駆動トランジスタそれぞれのソースとドレインの一方に導通した複数の画素電極と、
前記複数の画素電極それぞれに成膜された複数の発光層と、
前記信号線と平行となるよう前記保護絶縁膜上に形成され、前記保護絶縁膜に形成されたコンタクトホールを介して前記複数の駆動トランジスタのソースとドレインの他方に導通した給電配線と、を備えることを特徴とするディスプレイパネル。
【請求項２】
前記給電配線は複数本であり、互いに導通していることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイパネル。
【請求項３】
前記保護絶縁膜上に、前記複数の給電配線と互い違いに配列された複数の共通配線を有することを特徴とする請求項２に記載のディスプレイパネル。
【請求項４】
前記発光層は、前記給電配線と前記共通配線との間に形成されていることを特徴とする請求項３に記載のディスプレイパネル。
【請求項５】
前記発光層は、前記給電配線に沿って前記画素電極のうちの複数に連続して形成されていることを特徴とする請求項１から請求項４の何れか一項に記載のディスプレイパネル。
【請求項６】
前記給電配線を被覆した撥液性絶縁膜を更に備えていることを特徴とする請求項１から請求項５の何れか一項に記載のディスプレイパネル。
【請求項７】
前記複数の駆動トランジスタのドレイン・ソースとゲートの他方とともにパターニングされ、平面視して前記複数の信号線と直交するよう配列され、前記駆動トランジスタのソースとドレインの他方及び前記給電配線に導通した供給線を更に備えていることを特徴とする請求項１から請求項６の何れか一項に記載のディスプレイパネル。
【請求項８】
前記給電配線の厚さが１．３１〜６μｍであることを特徴とする請求項１から請求項７の何れか一項に記載のディスプレイパネル。
【請求項９】
前記給電配線の幅が７．４５〜４４μｍであることを特徴とする請求項１から請求項８の何れか一項に記載のディスプレイパネル。
【請求項１０】
前記給電配線の抵抗率が２．１〜９．６μΩｃｍであることを特徴とする請求項１から請求項９の何れか一項に記載のディスプレイパネル。
【請求項１１】
請求項１から請求項１０の何れか一項に記載のディスプレイパネルを駆動する駆動方法であって、
クロック信号を前記給電配線に出力することを特徴とするディスプレイパネルの駆動方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ディスプレイパネル及びその駆動方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、電流が流れることにより自発光する発光素子を用いたディスプレイパネル及びその駆動方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
好ましくは、上記ディスプレイパネルが、前記給電配線は複数本であり、互いに導通している。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
好ましくは、上記ディスプレイパネルが、前記保護絶縁膜上に、前記複数の給電配線と互い違いに配列された複数の共通配線を有する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
好ましくは、上記ディスプレイパネルにおいて、前記発光層は、前記給電配線と前記共通配線との間に形成されている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
好ましくは、上記ディスプレイパネルにおいて、前記発光層は、前記給電配線に沿って前記画素電極のうちの複数に連続して形成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月23日(2008.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレーム期間が複数のサブフレーム期間を有するアクティブマトリクス型表示装置の駆動方法であって、
前記アクティブマトリクス型表示装置は、複数の画素を有し、
前記複数のサブフレーム期間のうち奇数番目のサブフレーム期間では、前記複数の画素のうち奇数行並びに奇数列の画素、及び偶数行並びに偶数列の画素を表示し、
前記複数のサブフレーム期間のうち偶数番目のフレームでは、前記複数の画素のうち奇数行並びに偶数列の画素、及び偶数行並びに奇数列の画素を表示することを特徴とするアクティブ型表示装置の駆動方法。
【請求項２】
フレーム期間が複数のサブフレーム期間を有するアクティブマトリクス型表示装置の駆動方法であって、
前記アクティブマトリクス型表示装置は、複数の画素を有し、
前記複数のサブフレーム期間のうち奇数番目のフレームでは、前記複数の画素のうち奇数行並びに奇数列の画素、及び偶数行並びに偶数列の画素を表示し、かつ前記画素に入力される反転用信号がＨｉｇｈのとき、奇数列の画素に、映像信号が入力され、
前記複数のサブフレーム期間のうち偶数番目のフレームでは、前記複数の画素のうち奇数行並びに偶数列の画素、及び偶数行並びに奇数列の画素を表示し、かつ前記画素に入力される反転用信号がＨｉｇｈのとき、偶数列の画素に、映像信号が入力されることを特徴とするアクティブ型表示装置の駆動方法。
【請求項３】
請求項１において、
前記奇数番目のフレームにおいて前記画素に入力される反転用信号がＨｉｇｈのとき、前記偶数番目のフレームにおいて前記画素に入力される反転用信号はＬｏｗとなることを特徴とするアクティブ型表示装置の駆動方法。
【請求項４】
交差部に画素が設けられる第１の配線及び第２の配線を有し、
前記第１の配線に電気的に接続された半導体素子を制御する回路は、シフトレジスタ、及びラッチ回路を有し、
前記シフトレジスタは、シフトレジスタユニットを有し、
前記ラッチ回路は、ラッチユニット、及び前記ラッチユニットの選択を制御する反転用信号が入力される第３の配線を有し、
隣接する前記ラッチユニットは、隣接する前記シフトレジスタユニット間に電気的に接続され、
前記シフトレジスタユニットからの信号と、前記反転用信号により、前記隣接するラッチユニットのいずれかが選択されることを特徴とするアクティブ型表示装置。
【請求項５】
交差部に画素が設けられる第１の配線及び第２の配線を有し、
前記第１の配線に電気的に接続された半導体素子を制御する回路は、シフトレジスタ、及びラッチ回路を有し、
前記シフトレジスタは、シフトレジスタユニットを有し、
前記ラッチ回路は、ラッチユニット、前記ラッチユニットの選択を制御する反転用信号が入力される第３の配線、及び前記反転用信号により切り替わるスイッチング手段を有し、
隣接する前記ラッチユニットは、隣接する前記シフトレジスタユニット間に電気的に接続され、
前記スイッチング手段により、前記隣接するラッチユニットのいずれかが選択されることを特徴とするアクティブ型表示装置。
【請求項６】
交差部に画素が設けられる第１の配線及び第２の配線を有し、
前記第２の配線に電気的に接続された半導体素子を制御する回路は、選択用信号が入力される第３の配線、ＡＮＤ回路、シフトレジスタ、及びレベルシフタを有し、
前記ＡＮＤ回路は、前記シフトレジスタからの信号と、前記選択用信号とが入力され、
前記レベルシフタに信号を出力するように電気的に接続されることを特徴とするアクティブ型表示装置。
【請求項７】
交差部に画素が設けられる第１の配線及び第２の配線を有し、
前記第２の配線に電気的に接続された半導体素子を制御する回路は、選択用信号が入力される第３の配線、ＡＮＤ回路、シフトレジスタ、及びレベルシフタを有し、
前記ＡＮＤ回路は、前記シフトレジスタからの信号と、前記選択用信号とが入力され、前記レベルシフタに信号を出力するように電気的に接続され、
前記第２の配線を制御する回路により選択された画素に、映像信号が入力されるように、前記第１の配線と画素とが電気的に接続されることを特徴とするアクティブ型表示装置。
【請求項８】
交差部に画素が設けられる第１の配線及び第２の配線を有し、
前記第１の配線に電気的に接続された半導体素子を制御する回路は、シフトレジスタ、及びラッチ回路を有し、
前記シフトレジスタは、シフトレジスタユニットを有し、
前記ラッチ回路は、ラッチユニット、及び前記ラッチユニットの選択を制御する反転用信号が入力される第３の配線を有し、
前記ラッチユニットは、隣接する前記シフトレジスタユニット間に電気的に接続されることを特徴とするアクティブ型表示装置。
【請求項９】
交差部に画素が設けられる第１の配線及び第２の配線を有し、
前記第１の配線に電気的に接続された半導体素子を制御する回路は、シフトレジスタ、及びラッチ回路を有し、
前記シフトレジスタは、シフトレジスタユニットを有し、
前記ラッチ回路は、ラッチユニット、前記ラッチユニットの選択を制御する反転用信号が入力される第３の配線、及び前記反転用信号により切り替わるスイッチング手段を有し、
前記ラッチユニットは、隣接する前記シフトレジスタユニット間に電気的に接続されることを特徴とするアクティブ型表示装置。
【請求項１０】
請求項５又は９において、
前記スイッチング手段は、第１の極性を有する半導体素子及び第２の極性を有する半導体素子を用いることを特徴とするアクティブ型表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月20日(2008.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
位相シフトマスク（１０４）を製作するための方法（１１００）であって、
遮光層の部分（２０６）を上に有する、溝のある位相シフトマスク（１０４）を形成すること（１１０２）と、
前記溝のある位相シフトマスク（１０４）および前記遮光層の部分（２０６）上に反射防止材料からなる層（８０２）を形成すること（１１０４）と、
前記溝のある位相シフトマスク（１０４）および前記遮光層の部分（２０６）の水平表面上の反射防止材料（８０２）を除去すること（１１０６）とを含む、方法。
【請求項２】
遮光層の部分（２０６）を上に有する、溝のある位相シフトマスク（１０４）を形成すること（１１０２）は、前記溝のある位相シフトマスク（１０４）上に非透過性のクロムの領域（２０６）を形成することをさらに含む、請求項１に記載の方法（１１００）。
【請求項３】
前記溝のある位相シフトマスク（１０４）および前記遮光層の部分（２０６）上に反射防止材料からなる層（８０２）を形成すること（１１０４）は、クロムからなる層（８０２）を上に配するために気相成長プロセスを使用することをさらに含む、請求項１に記載の方法（１１００）。
【請求項４】
前記溝のある位相シフトマスク（１０４）および前記遮光層の部分（２０６）の水平表面上の反射防止材料（８０２）を除去すること（１１０６）は、溝（２０２）の中央部分、および前記遮光層の部分（２０６）の間にある溝のない基板領域（２０４）の中央部分において、前記反射防止材料からなる層（８０２）の部分を除去するために、前記反射防止材料からなる層を異方性エッチングすることをさらに含む、請求項１に記載の方法（１１００）。
【請求項５】
前記反射防止材料（８０２）はクロム、モリブデン、アルミニウム、酸化アルミニウム、金、シリコン、シリコンオキシナイトライド、銀、ニッケル、タングステン、それらの合金、それらのシリサイド、それらの化合物、およびそれらの組合せから選択される材料を含む、請求項１に記載の方法（１１００）。
【請求項６】
位相シフトマスク（１０４）であって、
遮光層の部分（２０６）を上に有する、溝のある位相シフトマスク（１０４）と、
前記溝のある位相シフトマスク（１０４）および前記遮光層の部分（２０６）上の反射防止材料からなる層（８０２）と、
前記溝のある位相シフトマスク（１０４）および前記遮光層の部分（２０６）の垂直表面（９０２、９０４）上の反射防止材料（８０２）とを含む、位相シフトマスク。
【請求項７】
遮光層の部分（２０６）を上に有する、前記溝のある位相シフトマスク（１０４）は、前記溝のある位相シフトマスク（１０４）上に非透過性のクロムの領域（２０６）をさらに含む、請求項６に記載のマスク（１０４）。
【請求項８】
前記溝のある位相シフトマスク（１０４）および前記遮光層の部分（２０６）上の前記反射防止材料からなる層（８０２）は気相成長されるクロムからなる層（８０２）を上にさらに含む、請求項６に記載のマスク（１０４）。
【請求項９】
前記溝のある位相シフトマスク（１０４）および前記遮光層の部分（２０６）の垂直表面（９０２、９０４）上の前記反射防止材料（８０２）は、溝（２０２）の中央部分、および前記遮光層の部分（２０６）の間にある溝のない基板領域（２０４）の中央部分において、前記反射防止材料からなる層（８０２）の部分を除去するために異方性エッチングされる、反射防止材料からなる層をさらに含む、請求項６に記載のマスク（１０４）。
【請求項１０】
前記反射防止材料（８０２）はクロム、モリブデン、アルミニウム、酸化アルミニウム、金、シリコン、シリコンオキシナイトライド、銀、ニッケル、タングステン、それらの合金、それらのシリサイド、それらの化合物、およびそれらの組合せから選択される材料を含む、請求項６に記載のマスク（１０４）。
【請求項１１】
集積回路を製作する方法であって、
集積回路基板を与えることと、
前記集積回路基板の上に感光性層を形成することと、
位相シフトマスクを与えることとを含み、前記位相シフトマスクは、
遮光層の部分を上に有する、溝のある位相シフトマスクと、
前記溝のある位相シフトマスクおよび前記遮光層の部分上の反射防止材料からなる層と、
前記溝のある位相シフトマスクおよび前記遮光層の部分の垂直表面上の反射防止材料とをさらに含み、前記方法はさらに、
前記位相シフトマスクを用いて、前記感光性層の上に複数のパターンを形成することと、
半導体ウェハを処理して、集積回路を上に形成することとを含む、方法。
【請求項１２】
遮光層の部分を上に有する、前記溝のある位相シフトマスクは、前記溝のある位相シフトマスク上に非透過性のクロムの領域をさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
集積回路ダイを製作する方法であって、
シリコンウェハを与えることと、
前記シリコンウェハの上にフォトレジストを形成することと、
位相シフトマスクを与えることとを含み、前記位相シフトマスクは、
遮光層の部分を上に有する、溝のある位相シフトマスクと、
前記溝のある位相シフトマスクおよび前記遮光層の部分上の反射防止材料からなる層と、
前記溝のある位相シフトマスクおよび前記遮光層の部分の垂直表面上の反射防止材料とをさらに含み、前記方法はさらに、
前記位相シフトマスクを通して前記フォトレジストを放射線に晒して、前記フォトレジストの上にパターンを形成することと、
前記シリコンウェハを処理して、集積回路を上に形成することとを含む、方法。
【請求項１４】
遮光層の部分を上に有する、前記溝のある位相シフトマスクは、前記溝のある位相シフトマスク上に非透過性のクロムの領域をさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月23日(2008.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
単層構成の電子写真エンドレスベルトであって、ポリアミド樹脂と、導電剤であるカーボンブラックと、ヨウ化銅（Ｉ）および塩化銅（Ｉ）からなる群より選択される少なくとも１種からなる添加剤Ａとを含有していることを特徴とする電子写真エンドレスベルト。
【請求項２】
前記電子写真エンドレスベルト中の前記添加剤Ａの含有量が、前記ポリアミド樹脂および前記添加剤Ａの合計質量に対して０．０１〜１質量％である請求項１に記載の電子写真エンドレスベルト。
【請求項３】
前記電子写真エンドレスベルトがさらに縮合リシノレイン酸ポリグリセルまたはポリグリセリンステアリン酸エステルを含有する請求項１または２に記載の電子写真エンドレスベルト。
【請求項４】
請求項１に記載の電子写真エンドレスベルトの製造方法であって、
（ｉ）ポリアミド樹脂と、カーボンブラックと、添加剤Ａとを混練して成形用原料を得る工程と、
（ｉｉ）該成形用原料を溶融し、押し出して、該電子写真エンドレスベルトを得る工程と、を有し、
該添加剤Ａは、ヨウ化銅（Ｉ）及び塩化銅（Ｉ）からなる群から選ばれる少なくとも一方であることを特徴とする電子写真エンドレスベルトの製造方法。
【請求項５】
前記工程（ｉ）が、前記ポリアミド樹脂に前記添加剤Ａを分散させ、次いで前記カーボンブラックを投入して混練して前記成形用原料を得る工程を有する請求項４に記載の電子写真エンドレスベルトの製造方法。
【請求項６】
請求項１〜３のいずれかに記載の電子写真エンドレスベルトを有する電子写真装置。
【請求項７】
前記電子写真エンドレスベルトを転写材搬送ベルトまたは中間転写ベルトとして有する請求項６に記載の電子写真装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、単層構成の電子写真エンドレスベルトであって、ポリアミド樹脂と、導電剤であるカーボンブラックと、ヨウ化銅（Ｉ）および塩化銅（Ｉ）からなる群より選択される少なくとも１種からなる添加剤Ａとを含有していることを特徴とする電子写真エンドレスベルトである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、本発明は、上記の電子写真エンドレスベルトの製造方法であって、
（ｉ）ポリアミド樹脂と、カーボンブラックと、添加剤Ａとを混練して成形用原料を得る工程と、
（ｉｉ）該成形用原料を溶融し、押し出して、該電子写真エンドレスベルトを得る工程と、を有し、
該添加剤Ａは、ヨウ化銅（Ｉ）及び塩化銅（Ｉ）からなる群から選ばれる少なくとも一方であることを特徴とする電子写真エンドレスベルトの製造方法である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明は、上記の電子写真エンドレスベルトを有する電子写真装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月7日(2008.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入射光の位相分布を変調する光変調素子であって、
前記入射光に３種類以上の位相差を与える要素を有し、
前記要素は、変位可能な光反射帯を３つ以上含んでおり、
前記要素を含む画素を複数有することを特徴とする光変調素子。
【請求項２】
前記位相差の種類の数を３以上の自然数ｎとすると、各画素は、（３６０／ｎ）度ではない前記位相差を形成する隣接する２つの前記光反射帯を含むことを特徴とする請求項１記載の光変調素子。
【請求項３】
（３６０／ｎ）度ではない前記位相差は、（３６０／ｎ）度を除く、（３６０／ｎ）度の整数倍であることを特徴とする請求項２記載の光変調素子。
【請求項４】
前記位相差は、前記複数の光反射帯が整列する方向に、０度、１８０度、１８０度、２７０度であることを特徴とする請求項２記載の光変調素子。
【請求項５】
前記位相差は、前記複数の光反射帯が整列する方向に、０度、９０度、１８０度、２７０度であることを特徴とする請求項１記載の光変調素子。
【請求項６】
前記位相差は、前記複数の光反射帯が整列する方向に、０度、１２０度、２４０度であることを特徴とする請求項１記載の光変調素子。
【請求項７】
前記複数の光反射帯が所定の周期を形成するように複数の前記要素が整列されていることを特徴とする請求項１記載の光変調素子。
【請求項８】
前記複数の光反射帯が所定の周期を形成するように３つ以上の前記要素が整列されていることを特徴とする請求項７記載の光変調素子。
【請求項９】
隣接する２つの画素における前記複数の光反射帯の配列は前記複数の光反射帯が整列している方向に互いにずれていることを特徴とする請求項１記載の光変調素子。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項記載の光変調素子と、
被露光体上に前記光変調素子のパターンを投影する投影光学系とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
前記光変調素子の前記複数の反射帯が整列している方向に対して斜め方向に、前記光変調素子を照明する照明光学系を更に有することを特徴とする請求項１０記載の露光装置。 
【請求項１２】
前記投影光学系には前記光変調素子が発生する一の次数の回折光が入射することを特徴とした請求項１０又は１１記載の露光装置。
【請求項１３】
請求項１乃至９のいずれか一項記載の光変調素子と、
被投射面上に前記光変調素子のパターンを投射する投射手段とを有することを特徴とする投射表示装置。
【請求項１４】
請求項１０乃至１２のいずれか一項記載の露光装置を利用して前記被露光体を露光するステップと、
前記露光された前記被露光体を現像するステップとを有するデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光変調素子、露光装置、投射表示装置及びデバイス製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
そこで、本発明は、所望の次数の回折光を効率的に取り出すことが可能な位相変調型の変調素子及びそれを利用した光学装置を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月2日(2008.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１フレーム期間をｎ個（ｎは自然数）に分割されたサブフレーム期間において、
前記ｎ個のサブフレーム期間のある期間では、画素部に映像信号を入力した後、複数回の消去信号を入力することを特徴とする発光装置の駆動方法。
【請求項２】
１フレーム期間をｎ個（ｎは自然数）に分割されたサブフレーム期間において、
前記ｎ個のサブフレーム期間のある期間では、画素部に映像信号を入力した後、前記映像信号を入力する期間より長い期間をかけて消去信号を入力することを特徴とする発光装置の駆動方法。
【請求項３】
信号線にソース電極又はドレイン電極が接続され、走査線にゲート電極が接続されたスイッチング用トランジスタと、
前記スイッチング用トランジスタに、ゲート電極が接続された駆動用トランジスタと、
前記駆動用トランジスタのソース電極又はドレイン電極に接続された発光素子とを有する発光装置の駆動方法であって、
１フレーム期間をｎ個（ｎは自然数）に分割されたサブフレーム期間において、前記ｎ個のサブフレーム期間のある期間では、画素部に映像信号を入力した後、複数回の消去信号を入力することを特徴とする発光装置の駆動方法。
【請求項４】
信号線にソース電極又はドレイン電極が接続され、走査線にゲート電極が接続されたスイッチング用トランジスタと、
前記スイッチング用トランジスタに、ゲート電極が接続された駆動用トランジスタと、
前記駆動用トランジスタのソース電極又はドレイン電極に接続された発光素子とを有する発光装置の駆動方法であって、
１フレーム期間をｎ個（ｎは自然数）に分割されたサブフレーム期間において、前記ｎ個のサブフレーム期間のある期間では、画素部に映像信号を入力した後、前記映像信号を入力する期間より長い期間をかけて消去信号を入力することを特徴とする発光装置の駆動方法。
【請求項５】
信号線にソース電極又はドレイン電極が接続され、走査線にゲート電極が接続されたスイッチング用トランジスタと、
前記スイッチング用トランジスタに、ゲート電極が接続された駆動用トランジスタと、
前記駆動用トランジスタのゲート・ソース間電圧に相当する電荷を放電するための消去用トランジスタと、
前記駆動用トランジスタのソース電極又はドレイン電極に接続された発光素子とを有する発光装置の駆動方法であって、
１フレーム期間をｎ個（ｎは自然数）に分割されたサブフレーム期間において、前記ｎ個のサブフレーム期間のある期間では、画素部に映像信号を入力した後、複数回の消去信号を入力することを特徴とする発光装置の駆動方法。
【請求項６】
信号線にソース電極又はドレイン電極が接続され、走査線にゲート電極が接続されたスイッチング用トランジスタと、
前記スイッチング用トランジスタに、ゲート電極が接続された駆動用トランジスタと、
前記駆動用トランジスタのゲート・ソース間電圧に相当する電荷を放電するための消去用トランジスタと、
前記駆動用トランジスタのソース電極又はドレイン電極に接続された発光素子とを有する発光装置の駆動方法であって、
１フレーム期間をｎ個（ｎは自然数）に分割されたサブフレーム期間において、前記ｎ個のサブフレーム期間のある期間では、画素部に映像信号を入力した後、前記映像信号を入力する期間より長い期間をかけて消去信号を入力することを特徴とする発光装置の駆動方法。
【請求項７】
信号線にソース電極又はドレイン電極が接続され、走査線にゲート電極が接続されたスイッチング用トランジスタと、
前記スイッチング用トランジスタに、ゲート電極が接続された駆動用トランジスタと、
前記駆動用トランジスタのゲート・ソース間電圧に相当する電荷を放電するための消去用トランジスタと、
前記駆動用トランジスタに直列に接続され、ゲート電位が固定されたトランジスタと、
前記駆動用トランジスタのソース電極又はドレイン電極に接続された発光素子とを有する発光装置の駆動方法であって、
１フレーム期間をｎ個（ｎは自然数）に分割されたサブフレーム期間において、前記ｎ個のサブフレーム期間のある期間では、画素部に映像信号を入力した後、複数回の消去信号を入力することを特徴とする発光装置の駆動方法。
【請求項８】
信号線にソース電極又はドレイン電極が接続され、走査線にゲート電極が接続されたスイッチング用トランジスタと、
前記スイッチング用トランジスタに、ゲート電極が接続された駆動用トランジスタと、
前記駆動用トランジスタのゲート・ソース間電圧に相当する電荷を放電するための消去用トランジスタと、
前記駆動用トランジスタに直列に接続され、ゲート電位が固定されたトランジスタと、
前記駆動用トランジスタのソース電極又はドレイン電極に接続された発光素子とを有する発光装置の駆動方法であって、
１フレーム期間をｎ個（ｎは自然数）に分割されたサブフレーム期間において、前記ｎ個のサブフレーム期間のある期間では、画素部に映像信号を入力した後、前記映像信号を入力する期間より長い期間をかけて消去信号を入力することを特徴とする発光装置の駆動方法。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一において、
前記映像信号を入力してデジタル階調表示を行う発光装置の駆動方法。
【請求項１０】
１フレーム期間において、画素部に複数回の階調信号を入力する発光装置の駆動方法であって、前記階調信号はアナログ値であることを特徴とする発光装置の駆動方法。
【請求項１１】
１フレーム期間において、画素部に複数回の階調信号を入力する発光装置の駆動方法であって、低階調表示における前記階調信号の入力期間は、高階調表示より長く設けることを特徴とする発光装置の駆動方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月21日(2008.3.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
実際の速度ベクトルと推定速度ベクトルとの差分である速度誤差ベクトルの性質を利用した目標運動解析法
１  速度誤差ベクトルの性質
（１）前提条件
ア  実際の速度ベクトルと推定速度ベクトルの計測始点方位が同一であること。
イ  実際の速度ベクトルと推定速度ベクトルの方向が同一であること。
ウ  実際の速度ベクトルと推定速度ベクトルの計測始点距離が同一であること。
（２）性質１
前提条件を満たす時、実際の速度ベクトルと推定速度ベクトルの大きさに誤差がある場合、計測開始時間を基準に、経過時間に対応した速度誤差ベクトルの大きさは、一定の変化率を保持する。
（３）性質２
前提条件を満たす時、実際の速度ベクトルと推定速度ベクトルの大きさが一致した場合、計測開始時間を基準に、経過時間に対応した速度誤差ベクトルの大きさは、零を保持する。
２  相似の関係を排除するため、非ユーリッド幾何による目標運動解析を実施する。
３  推定速度を設定する。
推定速度ベクトルの方向は、各計測時間毎の速度誤差ベクトルを算出し、速度誤差ベクトルの大きさの変化率が一定となる距離を算出する事により、推定速度による推定速度ベクトルの方向が判明する。
４  推定速度ベクトルの始点を計測始点方位線上に沿って推定速度ベクトルの方向を保ったまま推定距離を変化させ、各計測時間毎の速度誤差ベクトルを算出し、一定の変化率になる距離を算出する。
５  速度誤差ベクトルが一定の変化率の時、推定距離と推定速度ベクトルの方向が真値であると評価する。
６  計測始点位置と計測終点位置を結ぶ距離を計測時間で割ったものが実際の速度となる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
実際の速度を計測する場合、必要なデータとして、計測方位、計測時間、推定速度ベクトル（法定速度等）があり、これらのデータにより推定速度ベクトルの方向及び推定距離を解析する基準を設定する事ができる。
計測方位と推定速度ベクトルの延長線上との交点及び推定方位と推定速度ベクトルの延長線上との交点を結んだものが問題を解決するための速度誤差ベクトルとなる。（図１  Ｅ、Ｆを参照）
推定速度ベクトルの方向は、各計測時間毎の速度誤差ベクトルを算出し、速度誤差ベクトルの大きさの変化率が一定となる推定距離を算出する事により、推定速度による推定速度ベクトルの方向が判明する。
しかし、ユークリッド幾何で求められた解析の基準は実際の計測対象の運動と相似〔削除〕の関係にあり、その中の一意な解となり、（図１の△ＡＢＣと△ＡＤＦを参照）実際の速度ベクトルと推定速度ベクトルが等しい場のみが正しい解であると言える。相似の関係を排除するため、非ユーリッド幾何による目標運動解析を実施する。
推定ベクトルの方向と推定距離が判明した後に、推定速度ベクトルの始点を、計測始点方位線上に沿って推定速度ベクトルの方向を保ったまま移動させると、計測方位と推定方位（推定速度ベクトルの先端方位）に方位差が生じる。この時の速度誤差ベクトルの大きさの変化率を評価することにより、解析の精度が評価できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
速度誤差ベクトルの性質
前提条件
１  実際の速度ベクトルと推定速度ベクトルの計測始点方位が同一であること。
２  実際の速度ベクトルと推定速度ベクトルの方向が同一であること。
３  実際の速度ベクトルと推定速度ベクトルの計測始点距離が同一であること。
性質１
前提条件を満たす時、実際の速度ベクトルと推定速度ベクトルの大きさに誤差がある場合、計測開始時間を基準に、経過時間に対応した速度誤差ベクトルの大きさは、一定の変化率を保持する。（計測時間毎の速度誤差ベクトルの解析評価ポイントは、ある傾きを持った直線状に位置する。）
性質２
前提条件を満たす時、実際の速度ベクトルと推定速度ベクトルの大きさが一致した場合、計測開始時間を基準に、経過時間に対応した速度誤差ベクトルの大きさは、零を保持する。（計測時間毎の速度誤差ベクトルの解析評価ポイントは、傾きのない直線状に位置する）
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
評価方法
速度誤差ベクトルの大きさの変化率が一定になる推定距離を算出する。
評価方法１
性質１の状態の時、基準の法定速度が速度誤差ベクトルの大きさの変化率が零なので、速度誤差ベクトルの大きさの変化率を計算すると実際の超過速度を算出する事が可能である。
評価方法２
性質１を経て、速度誤差ベクトルの大きさの変化率が零となる推定速度を算出し（走行距離を計測時間で割る）、性質２の状態に至った時、本発明が求める目標の真値（実際の計測位置、実際の速度）と運動解析の推定速度が一致したと評価する。（２次元、３次元幾何（ユークリッド幾何、非ユークリッド幾何）でも性質は同じである。）
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
１  推定速度（法定速度）を設定する。
実際の速度ベクトルの方向は、各計測時間毎の速度誤差ベクトルを算出し、速度誤差ベクトルの大きさの変化率が一定となる距離を算出する事により、推定速度による実際の速度ベクトルの方向が判明する。（図２を参照）
２  推定速度ベクトルの始点を計測始点方位線上に沿って推定速度ベクトルの方向を保ったまま推定距離を変化させ、各計測方位毎の速度誤差ベクトルを算出し、速度誤差ベクトルの大きさの変化率が一定となる距離を算出する。（図２を参照）
３  推定距離と推定速度ベクトルの方向がどの位当てはまっているのか評価をするために、直線近似した解析評価ポイントの残差平方和の値又は、相関係数を評価対象とする事も定量的で良い方法である。
４  推定距離と推定速度ベクトルの方向を微調整し更に精度を向上させる。
５  最も残差平方和が小さい（解析精度か高い）推定距離と推定速度ベクトルの方向が真値であると評価する。
６  計測始点位置と計測終点位置を結ぶ距離を計測時間で割ったものが実際の速度となる。（図３  Ｅ，Ｇを参照）
７  最終的に求められた速度が本発明の解決する課題である目標運動解析による高精度な速度となる。
解析評価ポイントを直線近似し、残差平方和が最も小さい距離とベクトルの方向を数学的に回帰しながら解を自動的に求める事が可能である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2006119864.tif 000001
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2006119864.tif 000002
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2006119864.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月29日(2008.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のクライアント側電子音楽装置とサーバ側電子音楽装置とを通信ネットワークを介して接続した電子音楽装置システムであって、
各クライアント側電子音楽装置には、各クライアント側電子音楽装置を特定するための識別データが付与されており、
各クライアント側電子音楽装置は、
クライアント側電子音楽装置におけるユーザによる操作を表わす操作信号に前記付与されている識別データを付加してサーバ側電子音楽装置に送信する操作信号送信部と、
前記操作信号の送信に応答してサーバ側電子音楽装置から送信された識別データの付加された楽音データまたは表示データのうちで、自己の識別データの付加された楽音データまたは表示データを取り込んで、同楽音データまたは表示データに基づいて楽音信号を発生または画面表示するデータ再生部とを備え、
サーバ側電子音楽装置は、
複数のクライアント側電子音楽装置からの操作信号を受信し、同操作信号に付加されている識別データを用いて複数のクライアント側電子音楽装置に対する前記操作信号に応じた処理を独立かつ並列に実行して楽音データまたは表示データを生成するデータ生成部と、
前記データ生成部によって生成された楽音データまたは表示データに前記操作信号に付加されていた識別データを付加して複数のクライアント側電子音楽装置に送信するデータ送信部とを備えたことを特徴とする電子音楽装置システム。
【請求項２】
複数のクライアント側電子音楽装置に通信ネットワークを介して接続されたサーバ側電子音楽装置であって、
複数のクライアント側電子音楽装置から送信されて各クライアント側電子音楽装置を特定するための識別データの付加された操作信号を受信し、同操作信号に付加されている識別データを用いて複数のクライアント側電子音楽装置に対する前記操作信号に応じた処理を独立かつ並列に実行して楽音データまたは表示データを生成するデータ生成部と、
前記データ生成部によって生成された楽音データまたは表示データに前記操作信号に付加されていた識別データを付加して複数のクライアント側電子音楽装置に送信するデータ送信部とを備えたことを特徴とするサーバ側電子音楽装置。
【請求項３】
サーバ側電子音楽装置に通信ネットワークを介して接続されたクライアント側電子音楽装置であって、
クライアント側電子音楽装置におけるユーザによる操作を表わす操作信号に各クライアント側電子音楽装置を特定するための識別データを付加してサーバ側電子音楽装置に送信する操作信号送信部と、
前記操作信号の送信に応答してサーバ側電子音楽装置から送信された識別データの付加された楽音データまたは表示データのうちで、自己の識別データの付加された楽音データまたは表示データを取り込んで、同楽音データまたは表示データに基づいて楽音信号を発生または画面表示するデータ再生部とを備えたことを特徴とするクライアント側電子音楽装置。
【請求項４】
複数のクライアント側電子音楽装置に通信ネットワークを介して接続されたサーバ側電子音楽装置に適用されるコンピュータプログラムであって、コンピュータに、
複数のクライアント側電子音楽装置から送信されて各クライアント側電子音楽装置を特定するための識別データの付加された操作信号を受信し、同操作信号に付加されている識別データを用いて複数のクライアント側電子音楽装置に対する前記操作信号に応じた処理を独立かつ並列に実行して楽音データまたは表示データを生成するデータ生成手順と、
前記データ生成手順によって生成された楽音データまたは表示データに前記操作信号に付加されていた識別データを付加して前記複数のクライアント側電子音楽装置に送信するデータ送信手順とを実行させることを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項５】
サーバ側電子音楽装置に通信ネットワークを介して接続されたクライアント側電子音楽装置に適用されるコンピュータプログラムであって、コンピュータに、
クライアント側電子音楽装置におけるユーザによる操作を表わす操作信号に各クライアント側電子音楽装置を特定するための識別データを付加してサーバ側電子音楽装置に送信する操作信号送信手順と、
前記操作信号の送信に応答してサーバ側電子音楽装置から送信された識別データの付加された楽音データまたは表示データのうちで、自己の識別データの付加された楽音データまたは表示データを取り込んで、同楽音データまたは表示データに基づいて楽音信号を発生または画面表示するデータ再生手順とを実行させることを特徴とするコンピュータプログラム。