Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月6日(2008.5.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された複数の薄膜トランジスタを有する半導体装置であって、
前記複数の薄膜トランジスタは、並列接続で電気的に接続され、
前記複数の薄膜トランジスタそれぞれは、連続発振レーザの線状のレーザビームを照射することにより形成された半導体層を有し、
前記複数の薄膜トランジスタの各チャネル形成領域の幅の合計ＷＣと、各チャネル形成領域間の間隔ＷＳと、を合わせた合計（ＷＣ＋ＷＳ）は、前記レーザビームの幅ＬＰより小さいことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
基板上に形成された複数の薄膜トランジスタを有する半導体装置であって、
前記複数の薄膜トランジスタは、並列接続で電気的に接続され、
前記複数の薄膜トランジスタそれぞれは、周波数が１０ＭＨｚ以上１００ＧＨｚ以下であるパルス発振レーザの線状のレーザビームを照射することにより形成された半導体層を有し、
前記複数の薄膜トランジスタの各チャネル形成領域の幅の合計ＷＣと、各チャネル形成領域間の間隔ＷＳと、を合わせた合計（ＷＣ＋ＷＳ）は、前記レーザビームの幅ＬＰより小さいことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
基板上に形成された第１の薄膜トランジスタ及び第２の薄膜トランジスタを有する半導体装置であって、
前記第１の薄膜トランジスタのソースは、前記第２の薄膜トランジスタのソースに電気的に接続され、
前記第１の薄膜トランジスタのドレインは、前記第２の薄膜トランジスタのドレインに電気的に接続され、
前記第１の薄膜トランジスタのゲートは、前記第２の薄膜トランジスタのゲートに電気的に接続され、
前記第１の薄膜トランジスタ及び前記第２の薄膜トランジスタそれぞれは、連続発振レーザの線状のレーザビームを照射することにより形成された半導体層を有し、
前記第１の薄膜トランジスタのチャネル形成領域の幅Ｗ１と、前記第１の薄膜トランジスタのチャネル形成領域と前記第２の薄膜トランジスタのチャネル形成領域との間隔Ｗ２と、前記第２の薄膜トランジスタのチャネル形成領域の幅Ｗ３と、を合わせた合計（Ｗ１＋Ｗ２＋Ｗ３）は、前記レーザビームの幅ＬＰより小さいことを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
基板上に形成された第１の薄膜トランジスタ及び第２の薄膜トランジスタを有する半導体装置であって、
前記第１の薄膜トランジスタのソースは、前記第２の薄膜トランジスタのソースに電気的に接続され、
前記第１の薄膜トランジスタのドレインは、前記第２の薄膜トランジスタのドレインに電気的に接続され、
前記第１の薄膜トランジスタのゲートは、前記第２の薄膜トランジスタのゲートに電気的に接続され、
前記第１の薄膜トランジスタ及び前記第２の薄膜トランジスタそれぞれは、周波数が１０ＭＨｚ以上１００ＧＨｚ以下であるパルス発振レーザの線状のレーザビームを照射することにより形成された半導体層を有し、
前記第１の薄膜トランジスタのチャネル形成領域の幅Ｗ１と、前記第１の薄膜トランジスタのチャネル形成領域と前記第２の薄膜トランジスタのチャネル形成領域との間隔Ｗ２と、前記第２の薄膜トランジスタのチャネル形成領域の幅Ｗ３と、を合わせた合計（Ｗ１＋Ｗ２＋Ｗ３）は、前記レーザビームの幅ＬＰより小さいことを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１または２において、前記複数の薄膜トランジスタは互いに等間隔に配置されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一において、前記半導体装置は、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ナビゲーションシステム、音響再生装置、ゲーム機器、携帯情報端末、携帯電話、携帯型ゲーム機、電子書籍、記録媒体を備えた画像再生装置、表示装置、またはパーソナルコンピュータであることを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
第１の半導体層を有する第１の薄膜トランジスタ、及び第２の半導体層を有する第２の薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法であって、
絶縁表面を有する基板上に半導体膜を形成し、
連続発振レーザの線状のレーザビームを半導体膜に照射して、結晶性半導体膜を形成し、
前記結晶性半導体膜をパターニングして、互いに並列に配置された前記第１の半導体層及び前記第２の半導体層を形成し、
前記第１の薄膜トランジスタのチャネル形成領域の幅Ｗ１と、前記第１の薄膜トランジスタのチャネル形成領域と前記第２の薄膜トランジスタのチャネル形成領域との間隔Ｗ２と、前記第２の薄膜トランジスタのチャネル形成領域の幅Ｗ３と、を合わせた合計（Ｗ１＋Ｗ２＋Ｗ３）は、前記レーザビームの幅ＬＰより小さいことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
第１の半導体層を有する第１の薄膜トランジスタ、及び第２の半導体層を有する第２の薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法であって、
絶縁表面を有する基板上に半導体膜を形成し、
周波数が１０ＭＨｚ以上１００ＧＨｚ以下であるパルス発振レーザの線状のレーザビームを半導体膜に照射して、結晶性半導体膜を形成し、
前記結晶性半導体膜をパターニングして、互いに並列に配置された前記第１の半導体層及び前記第２の半導体層を形成し、
前記第１の薄膜トランジスタのチャネル形成領域の幅Ｗ１と、前記第１の薄膜トランジスタのチャネル形成領域と前記第２の薄膜トランジスタのチャネル形成領域との間隔Ｗ２と、前記第２の薄膜トランジスタのチャネル形成領域の幅Ｗ３と、を合わせた合計（Ｗ１＋Ｗ２＋Ｗ３）は、前記レーザビームの幅ＬＰより小さいことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
請求項７または８において、前記レーザビームを前記半導体膜に照射する前に、前記半導体膜を加熱することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項７乃至９のいずれか一において、前記第１の薄膜トランジスタのチャネル形成領域の幅方向及び前記第２の薄膜トランジスタのチャネル形成領域の幅方向は、前記レーザビームの走査方向と垂直であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項７乃至１０のいずれか一において、前記第１の薄膜トランジスタ及び前記第２の薄膜トランジスタは、並列接続で電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月28日(2008.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマを用いて基板を処理するプラズマ処理装置であって，
基板を収容して処理する処理容器と，
前記処理容器内において基板を載置する下部電極と，
前記処理容器内において前記下部電極に対向するように配置された上部電極と，
少なくとも前記下部電極又は上部電極のいずれかに高周波電力を供給し，前記下部電極と前記上部電極との間にプラズマを生成する高周波電源と，
前記処理容器内に存在する少なくとも一つの高周波の周波数に対する，前記プラズマから見た電極側の回路のインピーダンスを，前記回路が共振しないように調整する電気特性調整部と，を備えたことを特徴とする，プラズマ処理装置。
【請求項２】
前記電気特性調整部は，前記高周波電力が供給される供給電極に対向する対向電極側の回路におけるインピーダンスを調整できることを特徴とする，請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記電気特性調整部は，インピーダンスが調整される電極側に接続された電気特性調整機構を有し，前記プラズマに面した電極面から電気特性調整機構側の回路におけるリアクタンスを負の値に調整することを特徴とする，請求項１又は２のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記電気特性調整部は，前記インピーダンスを共振点から±１０Ω以内にずらすように調整することを特徴とする，請求項１又は２のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記電気特性調整部は，前記リアクタンスを-５０Ω以下の負の値に調整することを特徴とする，請求項３に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
プラズマを用いて基板を処理するプラズマ処理装置であって，
基板を収容して処理する処理容器と，
前記処理容器内において基板を載置する下部電極と，
前記処理容器内において前記下部電極に対向するように配置された上部電極と，
少なくとも前記下部電極又は上部電極のいずれかに高周波電力を供給し，前記下部電極と前記上部電極との間の処理空間にプラズマを生成する高周波電源と，
前記処理空間から電極に流れ込む電流の電流値が最大にならないように，前記プラズマから見た前記電極側の回路の電気特性を調整する電気特性調整部と，を備えたことを特徴とする，プラズマ処理装置。
【請求項７】
前記電気特性調整部は，前記高周波電力が供給される供給電極に対向する対向電極側の回路における電気特性を調整できることを特徴とする，請求項６に記載のプラズマ処理装置。
【請求項８】
前記電気特性調整部は，前記電流値が最大電流値の１／２以上になるように前記電気特性を調整することを特徴とする，請求項６又は７のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項９】
前記上部電極は，複数の電極部に分割されており，
前記電気特性調整部は，少なくとも一つの電極部に対して備えられていることを特徴とする，請求項１，２，３，４，５，６，７又は８のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項１０】
前記上部電極に直流電圧が印加されることを特徴とする，請求項１〜９のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項１１】
処理容器内において，上部電極に対向するように配置された下部電極上に基板を載置し，少なくとも前記下部電極又は上部電極のいずれかに高周波電力を供給して，前記下部電極と前記上部電極との間にプラズマを生成し，当該プラズマによって基板を処理するプラズマ処理方法であって，
前記処理容器内に存在する少なくとも一つの高周波の周波数に対する，前記プラズマから見た電極側の回路におけるインピーダンスを，前記回路が共振しないように調整することを特徴とする，プラズマ処理方法。
【請求項１２】
前記高周波電力が供給される供給電極に対向する対向電極側の回路におけるインピーダンスを，当該回路が共振しないように調整することを特徴とする，請求項１１に記載のプラズマ処理方法。
【請求項１３】
前記インピーダンスを共振点から±１０Ω以内にずらすように調整することを特徴とする，請求項１１又は１２のいずれかに記載のプラズマ処理方法。
【請求項１４】
処理容器内において，上部電極に対向するように配置された下部電極上に基板を載置し，少なくとも前記下部電極又は上部電極のいずれかに高周波電力を供給して，前記下部電極と前記上部電極との間の処理空間にプラズマを生成し，当該プラズマによって基板を処理するプラズマ処理方法であって，
前記処理空間から電極に流れ込む電流の電流値が最大にならないように，前記プラズマから見た前記電極側の回路の電気特性を調整することを特徴とする，プラズマ処理方法。
【請求項１５】
前記高周波電力が供給される供給電極に対向する対向電極側に流れ込む電流の電流値が最大にならないように，前記対向電極側の回路における電気特性を調整することを特徴とする，請求項１４に記載のプラズマ処理方法。
【請求項１６】
前記電流値が最大電流値の１／２以上になるように前記電気特性を調整することを特徴とする，請求項１４又は１５のいずれかに記載のプラズマ処理方法。
【請求項１７】
前記上部電極に直流電圧を印加することを特徴とする，請求項１１〜１６のいずれかに記載のプラズマ処理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月17日(2008.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のレーザ発振器と、第２のレーザ発振器と、前記第１のレーザ発振器より出射された第１のレーザビームの端部を遮断するためのスリットと、集光レンズとを有し、
前記第１のレーザビームが照射面に照射される範囲を覆って前記第２のレーザ発振器より出射される第２のレーザビームを照射する手段と、
前記第１のレーザビームおよび前記第２のレーザビームに対して、前記照射面を相対的に第１の方向に移動する手段と、
前記第１のレーザビームおよび前記第２のレーザビームに対して、前記照射面を相対的に第２の方向に移動する手段とを有し、
前記第２のレーザビームは基本波であり、前記第１のレーザビームは前記第２のレーザビームの高調波であることを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項２】
第１のレーザ発振器と、第２のレーザ発振器と、回折光学素子と、前記第１のレーザ発振器より出射された第１のレーザビームの端部を遮断するためのスリットと、集光レンズとを有し、
前記第１のレーザビームが回折光学素子を通った後に照射面に照射される範囲を覆って、前記第２のレーザ発振器より出射される第２のレーザビームを照射する手段と、
前記第１のレーザビームおよび前記第２のレーザビームに対して、前記照射面を相対的に第１の方向に移動する手段と、
前記第１のレーザビームおよび前記第２のレーザビームに対して、前記照射面を相対的に第２の方向に移動する手段とを有し、
前記第２のレーザビームは基本波であり、前記第１のレーザビームは前記第２のレーザビームの高調波であることを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記第１のレーザ発振器と前記第２のレーザ発振器は、単結晶のＹＡＧ、ＹＶＯ４、ＹＬＦ、ＹＡｌＯ３、ＧｄＶＯ４、アレキサンドライト、Ｔｉ：サファイア、または多結晶のＹＡＧ、Ｙ２Ｏ３、ＹＶＯ４、ＹＡｌＯ３、ＧｄＶＯ４に、ドーパントとしてＮｄ、Ｙｂ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｔａのうち１種または複数種添加されているものを媒質とする連続発振の固体レーザ、ＧａＮレーザ、ＧａＡｓレーザ、ＩｎＡｓレーザのいずれかであることを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項４】
請求項１または２において、
前記第１のレーザ発振器と前記第２のレーザ発振器は、単結晶のＹＡＧ、ＹＶＯ４、ＹＬＦ、ＹＡｌＯ３、ＧｄＶＯ４、または多結晶のＹＡＧ、Ｙ２Ｏ３、ＹＶＯ４、ＹＡｌＯ３、ＧｄＶＯ４に、ドーパントとしてＮｄ、Ｙｂ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｔａのうち１種または複数種添加されているものを媒質とする発振周波数が１０ＭＨｚ以上のパルスレーザであることを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記集光レンズは、シリンドリカルレンズまたは球面レンズであることを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項において、
前記第１の方向と前記第２の方向は互いに直交していることを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項７】
第１のレーザ発振器より第１のレーザ光を発振し、
前記第１のレーザ光をスリットを通して第２のレーザ光とし、
前記第２のレーザ光を集光レンズを用いて第３のレーザ光とし、
前記第３のレーザ光を照射面に照射し、
第２のレーザ発振器より発振した第４のレーザ光を前記照射面において前記第３のレーザ光を覆うように重ねて照射し、
前記第３のレーザと前記第４のレーザを前記照射面に対して相対的に走査し、
前記第４のレーザ光は基本波であり、前記第３のレーザ光は前記第４のレーザ光の高調波であることを特徴とするレーザ照射方法。
【請求項８】
第１のレーザ発振器より第１のレーザ光を発振し、
前記第１のレーザ光を回折光学素子を通して第２のレーザ光とし、
前記第２のレーザ光をスリットを通して第３のレーザ光とし、
前記第３のレーザ光を集光レンズを用いて第４のレーザ光とし、
前記第４のレーザ光を照射面に照射し、
第２のレーザ発振器より発振した第５のレーザ光を前記照射面において前記第４のレーザ光を覆うように重ねて照射し、
前記第４のレーザと前記第５のレーザを前記照射面に対して相対的に走査し、
前記第５のレーザ光は基本波であり、前記第４のレーザ光は前記第５のレーザ光の高調波であることを特徴とするレーザ照射方法。
【請求項９】
請求項７または８において、
前記第１のレーザ発振器と前記第２のレーザ発振器は、単結晶のＹＡＧ、ＹＶＯ４、ＹＬＦ、ＹＡｌＯ３、ＧｄＶＯ４、アレキサンドライト、Ｔｉ：サファイア、または多結晶のＹＡＧ、Ｙ２Ｏ３、ＹＶＯ４、ＹＡｌＯ３、ＧｄＶＯ４に、ドーパントとしてＮｄ、Ｙｂ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｔａのうち１種または複数種添加されているものを媒質とする連続発振の固体レーザ、ＧａＮレーザ、ＧａＡｓレーザ、ＩｎＡｓレーザのいずれかを用いることを特徴とするレーザ照射方法。
【請求項１０】
請求項７または８において、
前記第１のレーザ発振器と前記第２のレーザ発振器は、単結晶のＹＡＧ、ＹＶＯ４、ＹＬＦ、ＹＡｌＯ３、ＧｄＶＯ４、または多結晶のＹＡＧ、Ｙ２Ｏ３、ＹＶＯ４、ＹＡｌＯ３、ＧｄＶＯ４に、ドーパントとしてＮｄ、Ｙｂ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｔａのうち１種または複数種添加されているものを媒質とする発振周波数が１０ＭＨｚ以上のパルスレーザを用いることを特徴とするレーザ照射方法。
【請求項１１】
請求項７乃至１０のいずれか一項において、
前記集光レンズは、シリンドリカルレンズまたは球面レンズを用いることを特徴とするレーザ照射方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月11日(2008.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 便器への使用者の接近を検知した時に検知信号を出力する人体検知センサと、所定の操作により前記便器への洗浄水供給量を指示するための洗浄指示信号を出力する操作手段と、前記検知信号および前記洗浄指示信号に基づいて前記便器への洗浄水の供給量および／またはタイミングを指示するための制御信号を出力する洗浄制御手段と、前記制御信号に基づいて前記便器へ洗浄水を供給する洗浄水供給手段とを備え、前記洗浄制御手段は、前記洗浄指示信号に基づく前記便器への洗浄水供給量に変更があったとき、前記洗浄水供給手段へ所定の洗浄水の供給を指示し、所定時間が経過し変更前の洗浄水供給量に自動的に復帰するとき、前記洗浄水供給手段へ所定の洗浄水の供給を指示することを特徴とする便器洗浄装置。  
【請求項２】 前記洗浄指示信号に基づく前記便器への洗浄水供給量が、所定量から所定量より少ない量へ変更され、継続的に供給されることを特徴とする請求項１に記載の便器洗浄装置。  
【請求項３】 前記操作手段は、使用者が触れることによって操作する接触式操作手段と、使用者が触れずとも操作可能な非接触式操作手段の複数から構成されることを特徴とする請求項１又は２に記載の便器洗浄装置。  
【請求項４】 前記便器への洗浄供給量の変更が、前記接触式操作手段、または非接触式操作手段、または前記接触式操作手段と前記非接触式操作手段の両方のいずれかに選択できることを特徴とする請求項３に記載の便器洗浄装置。  
【請求項５】 前記便器への洗浄供給量の変更が、前記接触式操作手段のみによって行われることを特徴とする請求項３に記載の便器洗浄装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【作用及び発明の効果】 請求項１記載の発明は、便器への使用者の接近を検知した時に検知信号を出力する人体検知センサと、所定の操作により便器への洗浄水供給量を指示するための洗浄指示信号を出力する操作手段と、検知信号および洗浄指示信号に基づいて便器への洗浄水の供給量および／またはタイミングを指示するための制御信号を出力する洗浄制御手段と、制御信号に基づいて便器へ洗浄水を供給する洗浄水供給手段とを備え、洗浄制御手段は、洗浄指示信号に基づく便器への洗浄水供給量に変更があったとき、洗浄水供給手段へ所定の洗浄水の供給をすることにより、操作手段によって便器への洗浄水の供給量が変更されるときに便器へ所定の洗浄水が供給されるため、使用者が便器を清掃する時に、使用者に操作手段の操作前後に発生する洗浄水供給操作の手間を無くすことが可能になる。
そして、洗浄制御手段が、洗浄指示信号に基づいて便器への洗浄水供給量が変更された後、所定時間が経過すると変更前の洗浄水供給量に自動的に復帰するため、使用者が便器を清掃した後に、使用者に復帰操作の手間がかからなくなるとともに、使用者が復帰操作を忘れても所定時間が経過すれば通常通り便器の使用が可能となる。
そして、洗浄制御手段が、洗浄水供給量が自動的に復帰するときに、洗浄水供給手段へ所定の洗浄水の供給を指示するため、使用者が便器を清掃した後に、使用者に濯ぎのための洗浄水供給操作の手間がかからなくなるとともに、使用者が洗浄水供給操作を忘れても便器への洗浄水供給が可能となる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
そして、請求項２記載の発明は、洗浄指示信号に基づく便器への洗浄水供給量が、所定量から所定量より少ない量へ変更され、継続的に供給されるため、使用者が便器を清掃する時に、便器へ少ない洗浄水量を継続的に供給さつつ清掃することができるので、清掃がしやすくなるとともに、比較的に洗浄水の節約が可能となる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、請求項３記載の発明は、操作手段が、使用者が触れることによって操作する接触式操作手段と、使用者が触れずとも操作可能な非接触式操作手段の複数から構成されるため、使用者が操作手段に触れずとも便器への洗浄水を供給でき衛生的である。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
そして、請求項４記載の発明は、便器への洗浄水供給量の変更が、接触式操作手段、または非接触式操作手段、または接触式操作手段と非接触式操作手段の両方のいずれかに選択できるため、使用者の便器の使用状態に合わせることが可能となる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
そして、請求項５記載の発明は、便器への洗浄水供給量の変更が、接触式操作手段のみによって行われるため、使用者が無意識に非接触式操作手段に近接しても洗浄水供給量の変更が行なわれず、無駄な洗浄の回避も可能となる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
なお、掃除モードが設定された場合、掃除スイッチのオフの指令以外は受け付けない。すなわち、リモートコントローラ９２、９２に掃除する人が近接しても便器洗浄は行なわれないので、無駄な洗浄が回避される。
そして、洗浄指示信号に基づいて便器への洗浄水供給量が変更されている場合、使用者に便器への洗浄水供給量が変更されていることを報知する報知手段を設けたことにより、使用者に便器が通常の洗浄が行われない状態であることを認知させることが可能となる。また、報知手段がランプのような発光手段であるため、使用者に比較的暗いトイレ内でも容易に認知させることが可能となる。また発光を点滅させることで、より認知させやすくすることも可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月7日(2008.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  操舵補助用のモータの出力をウォームと、該ウォームに噛合し、少なくとも歯部が合成樹脂製であるウォームホイールとを介して舵取機構に伝え、操舵補助するようにした電動パワーステアリング装置において、前記ウォームホイールの歯部は、その歯底面が、前記ウォームの歯先円の直径、該歯先円との間の頂隙、及び前記ウォームとの噛み合い隙間の和と等しい直径を有する円弧となるように成形してあることを特徴とする電動パワーステアリング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段及び発明の効果】
第１発明に係る電動パワーステアリング装置は、操舵補助用のモータの出力をウォームと、該ウォームに噛合し、少なくとも歯部が合成樹脂製であるウォームホイールとを介して舵取機構に伝え、操舵補助するようにした電動パワーステアリング装置において、前記ウォームホイールの歯部は、その歯底面が、前記ウォームの歯先円の直径、該歯先円との間の頂隙、及び前記ウォームとの噛み合い隙間の和と等しい直径を有する円弧となるように成形してあることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
第１発明にあっては、ウォームホイールの歯部は、ウォームの歯先円の直径寸法＋頂隙＋噛み合い隙間と等径の円弧形に形成した歯底面を有し、この歯底面がウォームの回転域の外縁に実質的に沿った円弧となるため、歯面の間の隙間を容易に適正な隙間とすることができ、ウォーム及びウォームホイールの歯面の接触面積を比較的多くすることができ、歯面の面圧を減少でき、耐久摩耗を発生し難くでき、耐久性を向上することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月20日(2008.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 
エンジンとエンジン取付けシステムとを備える航空機であって、
前記エンジンは前記エンジン取付けシステムにより前記航空機に取り付けられており、
前記エンジン取付けシステムはリンク（３４、１３４）を含み、該リンクは、
スパン部（３８、１３８）と、
前記スパン部（３８、１３８）の一端に形成され、前記エンジンに結合された第１コネクタ（４０、１４０）と、
前記スパン部（３８、１３８）の別の一端に形成され、前記エンジンに結合された第２コネクタ（４０、１４０）と、
前記エンジン（１０）の励振振動数から離れた値に前記エンジン取付けシステムの共振振動数を定めるための、前記スパン部に配置された集中質量（４６、１４６）と、
を含むことを特徴とする航空機。
【請求項２】  前記集中質量（４６、１４６）が、前記リンク（２４）の振動モードの波腹上に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の航空機。
【請求項３】 前記集中質量（４６、１４６）が、前記スパン部（３８）に一体に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の航空機。
【請求項４】 前記集中質量（４６、１４６）が、その中にドレン孔（４８）を有することを特徴とする請求項３に記載の航空機。
【請求項５】 前記集中質量（４６、１４６）が、前記スパン部（３８）に取付けられた別個のおもりであることを特徴とする請求項３に記載の航空機。
【請求項６】 前記おもりが、前記スパン部（３８）の直径方向相対向する両側面に配置された第１および第２のセグメント（５０）からなることを特徴とする請求項５に記載の航空機。
【請求項７】 前記セグメント（５０）の各々が、上に二つの取付けフランジ（５６）が形成されているＵ形の本体（５２）を有することを特徴とする請求項６に記載の航空機。
【請求項８】 前記おもりが、前記スパン部（３８）の材料と少なくとも同じ密度の材料からできていることを特徴とする請求項５に記載の航空機。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月12日(2008.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】発泡合成樹脂からなる包装容器おいて、包装容器の底板に側壁に隣接して上下方向の液排出孔が形成されると共に、底板裏面には下部の包装容器に嵌合する位置に部分的に下方に突出する突起を形成してなることを特徴とする発泡合成樹脂製包装容器。
【請求項２】液排出孔が側壁に隣接して下方に向かって穿設され、その中間部で側壁側に屈曲させ、次いで下方に開口せしめることによって断面がクランク型の液排出孔が形成されてなることを特徴とする請求項１記載の発泡合成樹脂製包装容器。
【請求項３】液排出孔に対応する側壁上部には内方が低くなるように切欠部が形成されてなることを特徴とする請求項１又は２記載の発泡合成樹脂製包装容器。
【請求項４】対向する側壁外側の下角部の少なくとも一部を切欠いて差込口を形成してなることを特徴とする請求項１、２又は３記載の発泡合成樹脂製包装容器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、外気による保冷効果の低下がなく、断熱性、保冷性に優れると共に汚染がなく、衛生的な発泡合成樹脂製の包装容器を提供するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、外部の風が吹き抜けない構造で、氷等の冷却材が融解して発生した液体を包装函体の外部に排出するようにするものであり、具体的には、発泡合成樹脂からなる包装容器おいて、包装容器の底板に側壁に隣接して上下方向の液排出孔が形成されると共に、底板裏面には下部の包装容器に嵌合する位置に部分的に下方に突出する突起を形成してなることを特徴とする発泡合成樹脂製包装容器を提供するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また本発明は、液排出孔が側壁に隣接して下方に向かって穿設され、その中間部で側壁側に屈曲させ、次いで下方に開口せしめることによって断面がクランク型の液排出孔が形成されてなる上記の発泡合成樹脂製包装容器、液排出孔に対応する側壁上部には内方が低くなるように切欠部が形成されてなる上記の発泡合成樹脂製包装容器、及び、対向する側壁外側の下角部の少なくとも一部を切欠いて差込口を形成してなる上記の発泡合成樹脂製包装容器を提供するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月7日(2008.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガン細胞上に発現し、ガン細胞上のＦａｓに結合して、ガン細胞中のＤＮＡを断片化させ、ガン細胞にアポトーシスを誘導するガン抑制因子であって、以下の（ａ）または（ｂ）のガン抑制因子。
（ａ）配列番号：１に記載のアミノ酸配列を含有するガン抑制因子。
（ｂ）（ａ）に記載されたアミノ酸配列において、１もしくは数個のアミノ酸が欠失、置換もしくは付加されたアミノ酸配列を含有するガン抑制因子。
【請求項２】
ガン細胞が女性ホルモン依存的に増殖するものであることを特徴とする請求項１に記載のガン抑制因子。
【請求項３】
ガン細胞が乳ガン由来であることを特徴とする請求項１または２に記載のガン抑制因子。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載されたガン抑制因子をコードする遺伝子。
【請求項５】
ガン細胞表面上に発現する前記ガン抑制因子を発現増強することによる、イヌ、ウシ、ブタおよびネコからなる群から選択される哺乳動物に発生したガンの抑制方法。
【請求項６】
インターロイキン１８をガン細胞に作用させることによる、請求項５に記載のガンの抑制方法。
【請求項７】
インターロイキン１８をガン細胞に作用させることによって前記ガン抑制因子を発現増強させることによる、請求項６に記載のガンの抑制方法。
【請求項８】
インターロイキン１２を同時にガン細胞に作用させることによる、請求項６または７に記載のガンの抑制方法。
【請求項９】
インターロイキン１２を同時にガン細胞に作用させることによって前記ガン抑制因子を発現増強させることによる、請求項８に記載のガンの抑制方法。
【請求項１０】
ガン細胞が女性ホルモン依存的に増殖するものであることを特徴とする請求項５から９のいずれかに記載のガンの抑制方法。
【請求項１１】ガン細胞が乳ガン由来であることを特徴とする請求項５から１０のいずれかに記載のガンの抑制方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、イヌガン抑制因子、ＩＬ１８およびＩＬ１２を用いた、ガン細胞上のガン抑制因子の発現増強方法、およびＩＬ１８およびＩＬ１２を用いて、ガン細胞上のガン抑制因子の発現を増強することによる、イヌ、ウシ、ブタおよびネコからなる群から選択される哺乳動物に発生したガンの抑制方法に関する
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
すなわち、本発明は、
「ガン細胞上に発現し、ガン細胞上のＦａｓに結合して、ガン細胞にアポトーシスを誘導するガン抑制因子であって、以下の（ａ）または（ｂ）のガン抑制因子。
（ａ）配列番号：１に記載のアミノ酸配列を含有するガン抑制因子。
（ｂ）（ａ）に記載されたアミノ酸配列において、１もしくは数個のアミノ酸が欠失、置換もしくは付加されたアミノ酸配列を含有するガン抑制因子。」
「上記のガン抑制因子をコードする遺伝子。」
「インターロイキン１８をガン細胞に作用させることによる、イヌ、ウシ、ブタおよびネコからなる群から選択される哺乳動物に発生したガンの抑制方法。」
「ガン細胞表面上に発現する上記ガン抑制因子を発現増強することによる、イヌ、ウシ、ブタおよびネコからなる群から選択される哺乳動物の生体に発生したガンの抑制方法。」である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明のガン抑制因子は、ガン細胞上に発現し、ガン細胞上のＦａｓに結合して、ガン細胞にアポトーシスを誘導するものであり、以下の（ａ）または（ｂ）のものである。
（ａ）配列番号：１に記載のアミノ酸配列を含有するガン抑制因子。
（ｂ）（ａ）に記載されたアミノ酸配列において、１もしくは数個のアミノ酸が欠失、置換もしくは付加されたアミノ酸配列を含有するガン抑制因子。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
【発明の効果】
本発明によれば、ガン細胞上のガン抑制因子を発現増強することができる。また、イヌのガン治療に有効なイヌガン抑制因子を提供できる。さらに、ウシ、ブタ、ネコの生体に発生したガンを抑制する方法を提供できる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月4日(2008.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  二つの架橋ゴム組成物を一緒に結合する為の、周囲温度で使用できる接着剤であって、前記接着剤は尿素又はウレタン基を含むコポリマーをベースとし、前記コポリマーが、イソシアヌレート基を含み、前記コポリマーが、
１）３以上の官能性とイソシアヌレート環を含むポリイソシアネート、
２）ポリエーテルジアミン、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール及び（エーテル−エステル）ジオールコポリマーから成る群に属する、その二つの鎖末端のそれぞれにアミン又はアルコール基を含む官能性ポリマー、及び
３）イソシアネート基からイソシアヌレート環を形成する為の少なくとも一種の三量化触媒、
の反応生成物であって、
イソシアネート基の全モル数対アミンの全モル数の比が１．５〜２．２であることを特徴とする接着剤。
【請求項２】  前記接着剤が尿素基を含むコポリマーをベースとするものであり、前記官能性ポリマーが、前記ポリイソシアネートと反応して前記尿素基を得る為のポリエーテルジアミンである、請求項１に記載の接着剤。
【請求項３】  前記接着剤がウレタン基を含むコポリマーをベースとするものであり、前記官能性ポリマーが、前記ポリイソシアネートと反応して前記ウレタン基を得る為のエーテル及び／又はエステルジオールポリマーである、請求項１に記載の接着剤。
【請求項４】  前記ポリイソシアネートが、ヘキサメチレンジイソシアネートから誘導される三量体であり、３以上の官能性である、請求項１〜３の何れか一項に記載の接着剤。
【請求項５】  請求項１〜４の何れか一項に記載の接着剤を製造する方法であって、前記コポリマーを得る為に、反応体の全質量当りの質量分率で、
１）６０％〜７０％の前記ポリイソシアネート、
２）１０％〜２０％の前記ポリエーテルオキシドアミン又はポリエステルオキシドアミン、
３）０．０１％〜１％の前記三量化触媒及び
４）０％〜２０％の前記連鎖延長剤、
を反応させることを特徴とする方法。
【請求項６】  再トレッディングの目的の為の架橋ゴム組成物から成るタイヤカバートレッドであって、その放射状内側面上に、請求項１〜４の何れか一項に記載の接着剤を含むことを特徴とするトレッド。  
【請求項７】  接着剤によって二つのそれらそれぞれの面で一緒に結合される二つの部分を含む製品であって、前記面の少なくとも一つが、架橋ゴム組成物から成り、前記接着剤が請求項１〜４の何れか一項に記載の接着剤であることを特徴とする製品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
前記文献に記載の接着剤の主たる欠点は、それを調製する為にプレポリマーを使用することにある。特に、このプレポリマーの高い粘度は、第一に、上述の連鎖延長剤を使用すること、第二に、前記プレポリマーを、周囲温度においてそれを特徴付けるゲル状態から液状態にする為に４０℃の温度まで持って行く事を不可避的に含むものである。
【課題を解決するための手段】
本願出願人は、尿素又はウレタン基と組合せたイソシアヌレート基を含むコポリマー、即ち、１）３以上の官能性とイソシアヌレート環を含むポリイソシアネートと、２）ポリエーテルジアミン、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール及び（エーテル−エステル）ジオールコポリマーから成る群に属する、その二つの鎖末端のそれぞれにアミン又はアルコール基を含む官能性ポリマー、及び３）イソシアネート基からイソシアヌレート環を形成する為の少なくとも一種の三量化触媒との反応生成物であって、イソシアネート基の全モル数対アミンの全モル数の比が１．５〜２．２であるコポリマーが、周囲温度において前記コポリマーによって示される減少された粘度の故に、架橋された二つのゴム組成物を周囲温度で一緒に十分結合させる為の接着剤として使用できることを見出した。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月16日(2008.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  繊維のためのカードに設けられる装置であって、ドラムの針布に対向するカバーに、ドラムの針布の方向へ空気を供給するための開口部と、ドラムの針布から離れるように短い繊維およびトラッシュを有する空気を流出させるための少なくとも１つの開口部が設けられている、装置において、空気（Ｐ１、Ｐ２）を供給するための開口部（２１）が、圧縮空気源（２３）に接続されていることを特徴とする、カードに設けられる装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】  流出のための少なくとも１つの開口部（２１、２９）に、ドラム（４）の回転方向（４ｂ）と反対方向に向けられた分離エッジ（２０；２０’）が設けられていることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】  供給空気（ｐ２）は、ドラム（４）の回転方向（４ｂ）と反対向きに向けられていることを特徴とする請求項１から１１のいずれか１項に記載の装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】  供給空気（ｐ２）は、ノズルを通過することを特徴とする請求項１から１４のいずれか１項に記載の装置。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２０】  供給空気流（ｐ２）の強さが、１００から４０００Ｐａであることを特徴とする請求項１から１９のいずれか１項に記載の装置。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２１】  供給空気（Ｐ２）のための開口部（２１）の幅（ａ）が、０．１５から０．５ｍｍであることを特徴とする請求項１から２０のいずれか１項に記載の装置。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２２】  供給空気（Ｐ２）のための体積流が、１００から２５０ｍ3／ｈであることを特徴とする請求項１から２１のいずれか１項に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月15日(2007.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】スパッタリングターゲット、スパッタリングターゲットの製造方法、位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスク
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月9日(2008.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  金属系基材にボンドコートを施工する方法であって、
ａ）ろう材とボンドコート材料と揮発分とを含有するスラリーを基材に塗布する段階であって、上記ろう材が２０〜１５０ミクロンの平均粒度を有し、上記ボンドコートがアルミナイド、白金アルミナイド、ニッケルアルミナイド、白金ニッケルアルミナイド、及び式ＭＣｒＡｌＸ（式中、ＭはＦｅ、Ｎｉ、Ｃｏ及びそれらの混合物からなる群から選択され、ＸはＹ、Ｔａ、Ｓｉ、Ｈｆ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｂ、Ｃ及びそれらの組合せからなる群から選択される）で表される合金、並びにそれらの混合物からなる群から選択される材料からなる段階、
ｂ）上記スラリーを乾燥して上記揮発分の少なくとも一部を除去する段階、及び
ｃ）上記ろう材及びボンドコート材料を基材に融着させる段階
を含んでなる方法。
【請求項２】  前記ろう材がニッケル、コバルト、鉄、貴金属及びこれらのいずれか１種類以上を含む混合物からなる群から選択される１種類以上の金属からなる、請求項１記載の方法。
【請求項３】  前記揮発分が１種類以上の水性溶媒、１種類以上の有機溶媒又はそれらの混合物からなる、請求項１又は請求項２記載の方法。
【請求項４】  段階ｂ）が風乾で実施される、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】  段階ｃ）が５２５〜１６５０℃の温度で実施される、請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】  段階ｃ）後にボンドコート上にオーバーコートを施工する、請求項１乃至請求項５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】  前記Ｍがニッケル、コバルト又はそれらの混合物であり、前記ろう材がニッケルを４０重量％以上含有しており、前記段階ｂ）のスラリーを乾燥して揮発分の少なくとも一部を除去する段階によってグリーン皮膜を形成し、グリーン皮膜を基材にろう付けする段階をさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項８】  金属系基材上に施工されたボンドコートを交換する方法であって、
（ｉ）基材の所定の領域から既存のボンドコートを除去する段階、
（ii）ろう材とボンドコート材料と揮発分とを含有するスラリーを上記所定の領域に塗布する段階であって、上記ろう材が２０〜１５０ミクロンの平均粒度を有し、上記ボンドコートがアルミナイド、白金アルミナイド、ニッケルアルミナイド、白金ニッケルアルミナイド、及び式ＭＣｒＡｌＸ（式中、ＭはＦｅ、Ｎｉ、Ｃｏ及びそれらの混合物からなる群から選択され、ＸはＹ、Ｔａ、Ｓｉ、Ｈｆ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｂ、Ｃ及びそれらの組合せからなる群から選択される）で表される合金、並びにそれらの混合物からなる群から選択される材料からなる段階
（iii）ろう材及びボンドコート材料を上記所定の領域に融着させる段階
を含んでなる方法。
【請求項９】  スラリー組成物であって、
２０〜１５０ミクロンの平均粒度を有するろう材と、
アルミナイド、白金アルミナイド、ニッケルアルミナイド、白金ニッケルアルミナイド、及び式ＭＣｒＡｌＸ（式中、ＭはＦｅ、Ｎｉ、Ｃｏ及びそれらの混合物からなる群から選択され、ＸはＹ、Ｔａ、Ｓｉ、Ｈｆ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｂ、Ｃ及びそれらの組合せからなる群から選択される）で表される合金、並びにそれらの混合物からなる群から選択される材料からなるボンドコート材料と
を含んでなるスラリー組成物。
【請求項１０】  前記ろう材がニッケル、コバルト、鉄、貴金属、及びこれらのいずれか１種類以上を含む混合物からなる群から選択される１種類以上の金属からなる、請求項９記載のスラリー組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月22日(2008.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ペーストおよびディスプレイ部材の製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】下記一般式（１）で示されるウレタン化合物および無機微粒子を含有するペースト。
Ｒ１−（Ｒ４−Ｒ３）ｎ−Ｒ４−Ｒ２  （１）
（Ｒ１およびＲ２はエチレン性不飽和基を含む置換基、水素、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、アラルキル基およびヒドロキシアラルキル基からなる群から選ばれたものであり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｒ３はアルキレンオキサイド基またはアルキレンオキサイドオリゴマー、Ｒ４はウレタン結合を含む有機基である。ｎは１〜１０の自然数）
【請求項２】ペースト中の無機微粒子の含有量が４０重量％〜９０重量％である請求項１記載のペースト。
【請求項３】ウレタン化合物がエチレン性不飽和基を有するウレタン化合物を含む請求項１記載のペースト。
【請求項４】ウレタン化合物の分子量が１５０００〜５００００である請求項１記載のペースト。
【請求項５】ペースト中のウレタン化合物の含有量が０．１重量％〜２０重量％である請求項１記載のペースト。
【請求項６】ウレタン化合物が、エチレンオキサイド単位を含有する請求項１記載のペースト。
【請求項７】Ｒ３がエチレンオキサイド単位とプロピレンオキサイド単位とを含むオリゴマーであり、かつ、該オリゴマー中のエチレンオキサイド単位含有量が８〜７０重量％の範囲内である請求項１記載のペースト。
【請求項８】さらにエチレン性不飽和基を有するアミン化合物を含有する請求項１記載のペースト。
【請求項９】アミン化合物が、下記一般式（３）または（４）で示される化合物である請求項８記載のペースト。
Ｒ５Ｒ６Ｒ７Ｎ  （３）
Ｒ５Ｒ６Ｎ−Ｍ−ＮＲ７Ｒ８  （４）
（ここで、Ｒ５はエチレン性不飽和基を含む置換基であり、Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８はエチレン性不飽和基を含む置換基、水素、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、アラルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選ばれたもので、Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８は同じであっても異なっていてもよい、Ｍは２価の連結基を示す）
【請求項１０】さらにカルボキシル基を有する重合体を含有する請求項１記載のペースト。
【請求項１１】カルボキシル基を有する重合体が、エチレン性不飽和基を有する請求項１０記載のペースト。
【請求項１２】無機微粒子が、荷重軟化点４５０〜６００℃の低融点ガラス粉末を含む請求項１記載のペースト。
【請求項１３】無機微粒子が、低融点ガラス粉末６０重量％〜９７重量％と平均粒子径１μｍ〜４μｍのフィラー３重量％〜４０重量％とを含有する請求項１記載のペースト。
【請求項１４】無機微粒子が、さらに平均粒子径０．００３〜０．０２μｍの酸化物微粒子を３０重量％以下含有する請求項１３記載のペースト。
【請求項１５】無機微粒子が金属粉末である請求項１記載のペースト。
【請求項１６】金属粉末の平均粒子径が０．５〜５μｍの範囲である請求項１５記載のペースト。
【請求項１７】５００℃および１０００℃まで昇温した際の重量が、次の式で表される請求項１記載のペースト。
（５００℃での重量）／（１０００℃での重量）≦１．０５
【請求項１８】シリコンウェハ上に請求項１記載のペーストを塗布して薄膜を形成し、５００℃まで昇温した際、該薄膜の収縮によるシリコンウェハの反り量から算出した平均膜応力の最大値が０．１〜２０ＭＰａであるペースト。
【請求項１９】ペーストが感光性である請求項１記載のペースト。
【請求項２０】ペースト中のエチレン性不飽和結合濃度が、活性光線照射前のペースト１ｋｇ当たり０．２〜１．０ｍｏｌである請求項１９記載のペースト。
【請求項２１】有機成分のみを活性光線により硬化させて得られる硬化物の引張弾性率が０．１〜１００ＭＰａである請求項１９記載のペースト。
【請求項２２】前記硬化物の破断伸度が５０％以上である請求項２１記載のペースト。
【請求項２３】ディスプレイ用に用いる請求項１記載のペースト。
【請求項２４】請求項１〜２３のいずれかに記載のペーストを基板上に塗布し、焼成する工程を含むディスプレイ部材の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、下記一般式（１）で示されるウレタン化合物および無機微粒子を含有するペーストである。
Ｒ１−（Ｒ４−Ｒ３）ｎ−Ｒ４−Ｒ２  （１）
（Ｒ１およびＲ２はエチレン性不飽和基を含む置換基、水素、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、アラルキル基およびヒドロキシアラルキル基からなる群から選ばれたものであり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｒ３はアルキレンオキサイド基またはアルキレンオキサイドオリゴマー、Ｒ４はウレタン結合を含む有機基である。ｎは１〜１０の自然数）
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、本発明は、上述のウレタン化合物および無機微粒子を含有するペーストを基板上に塗布し、焼成する工程を含むディスプレイ部材の製造方法である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】