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【手続補正書】
【提出日】平成20年2月6日(2008.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）で表されるトリアジン誘導体。
【化０１】
2005306862.tif 000001
（式中、Ｒ１〜Ｒ１２は、それぞれ独立、または、Ｒ１とＲ２、Ｒ３とＲ４、Ｒ５とＲ６、Ｒ７とＲ８、Ｒ９とＲ１０、Ｒ１１とＲ１２とがそれぞれ結合して環を形成する。ここで、Ｒ１〜Ｒ１２がそれぞれ独立であるとき、Ｒ１〜Ｒ１２は、それぞれ水素、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリール基、複素環基のいずれか一を表す。また、Ｒ１とＲ２、Ｒ３とＲ４、Ｒ５とＲ６、Ｒ７とＲ８、Ｒ９とＲ１０、Ｒ１１とＲ１２とがそれぞれ結合して環を形成しているとき、それらの環は、芳香環、複素環、脂環のいずれか一の環を表す。また、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３は、それぞれ独立に式（２）乃至式（７）のいずれか一の基を表す。）
【化０２】
2005306862.tif 000002
（式（２）〜式（７）中、Ｒ１３とＲ１４とは、それぞれ独立、または結合して環を形成する。Ｒ１３とＲ１４がそれぞれ独立であるとき、Ｒ１３とＲ１４とは、それぞれ水素、アルキル基
アリール基、複素環基のいずれか一を表す。また、Ｒ１３とＲ１４が結合して環を形成しているとき、その環は、脂環を表す。Ｒ１５は、水素、アリール基、または複素環基を表す。Ｒ１６とＲ１７とは、それぞれ独立して、水素、アリール基、複素環基、シアノ基のいずれか一を表す。Ｒ１８は、水素、アルキル基、アリール基、または複素環基を表す。）
【請求項２】
一般式（８）で表されるトリアジン誘導体。
【化０３】
2005306862.tif 000003
（式中、Ｒ５１〜Ｒ６２は、それぞれ独立、または、Ｒ５１とＲ５２、Ｒ５３とＲ５４、Ｒ５５とＲ５６、Ｒ５７とＲ５８、Ｒ５９とＲ６０、Ｒ６１とＲ６２とがそれぞれ結合して環を形成する。ここで、Ｒ５１〜Ｒ６２がそれぞれ独立であるとき、Ｒ５１〜Ｒ６２は、それぞれ水素、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリール基、複素環基のいずれか一を表す。また、Ｒ５１とＲ５２、Ｒ５３とＲ５４、Ｒ５５とＲ５６、Ｒ５７とＲ５８、Ｒ５９とＲ６０、Ｒ６１とＲ６２とがそれぞれ結合して環を形成しているとき、それらの環は、芳香環、複素環、脂環のいずれか一の環を表す。）
【請求項３】
一般式（９）で表されるトリアジン誘導体。
【化０４】
2005306862.tif 000004
（式中、Ｙ１〜Ｙ６は、それぞれ独立に、芳香環、複素環、脂環のいずれか一の環を表す。）
【請求項４】
一般式（１０）で表されるトリアジン誘導体。
【化０５】
2005306862.tif 000005
（式中、Ｒ６３〜Ｒ７４は、それぞれ独立に、水素、オキソ基、アルキル基のいずれか一を表す。）
【請求項５】
一般式（１１）で表されるトリアジン誘導体。
【化０６】
2005306862.tif 000006
（式中、Ｒ７５〜Ｒ７７は、それぞれ独立に、水素、アリール基、複素環基のいずれか一を表す。）
【請求項６】
一般式（１２）で表されるトリアジン誘導体。
【化０７】
2005306862.tif 000007
（式中、Ａｒ１〜Ａｒ３は、それぞれ独立に、アリール基を表す。）
【請求項７】
電極間に、請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載のトリアジン誘導体を含む層を有することを特徴とする発光素子。
【請求項８】
電極間に、請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載のトリアジン誘導体と、４００ｎｍ〜５００ｎｍの帯域に発光波長を有する発光物質とを含む層を有することを特徴とする発光素子。
【請求項９】
電極間に、
励起三重項状態からの発光を呈することのできる発光物質を含む発光層と、
前記発光層に接し、請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載のトリアジン誘導体を含む層とを有することを特徴とする発光素子。
【請求項１０】
電極間に、順に積層された正孔輸送層と、発光層と、阻止層と、電子輸送層とを有し、
前記発光層は、励起三重項状態からの発光を呈することのできる発光物質を含み、
前記阻止層は、請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載のトリアジン誘導体を含むことを特徴とする発光素子。
【請求項１１】
請求項７乃至請求項１０のいずれか一項に記載の発光素子を画素として用いた発光装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の発光装置を表示部に用いた電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月16日(2008.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
第１ハウジング部材に対して第２ハウジング部材を所定の組付方向から組み付けることで形成されるハウジングと、
前記ハウジングの内側で前記組付方向を軸方向とする軸周りに前記ハウジングに直接又は間接的に回動自在に軸支される第１レバー部材と、
前記組付方向に対して交差する方向へ向けて回動軸が延設された第２レバー部材と、
前記第２レバー部材を介して一方が他方に対して前記組付方向から組み付けられることで一体的に連結されると共に、各々に設けられた支持体が前記組付方向から前記回動軸を挟み込み、前記一方に対する前記他方の連結状態で双方の前記支持体により前記回動軸を回動可能に軸支する一対の軸受部材と、
を備え、前記軸受部材にて連結された前記第１レバー部材及び前記第２レバー部材を含めて構成されるシフトレバーを、前記所定の方向及び前記回動軸の突出方向を軸方向とする軸周りに回動操作することで、車両の変速機を操作する、
ことを特徴とするシフトレバー装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項１に記載の本発明に係るシフトレバー装置は、第１ハウジング部材に対して第２ハウジング部材を所定の組付方向から組み付けることで形成されるハウジングと、前記ハウジングの内側で前記組付方向を軸方向とする軸周りに前記ハウジングに直接又は間接的に回動自在に軸支される第１レバー部材と、前記組付方向に対して交差する方向へ向けて回動軸が延設された第２レバー部材と、前記第２レバー部材を介して一方が他方に対して前記組付方向から組み付けられることで一体的に連結されると共に、各々に設けられた支持体が前記組付方向から前記回動軸を挟み込み、前記一方に対する前記他方の連結状態で双方の前記支持体により前記回動軸を回動可能に軸支する一対の軸受部材と、
を備え、前記軸受部材にて連結された前記第１レバー部材及び前記第２レバー部材を含めて構成されるシフトレバーを、前記所定の方向及び前記回動軸の突出方向を軸方向とする軸周りに回動操作することで、車両の変速機を操作する、ことを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
さらに、第１レバー部材に連結される第２レバー部材には一対の軸受部材が第２レバー部材を介して互いに対向した状態で設けられる。これら一対の軸受部材は、一方に対して他方が上記の組付方向から連結される。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月14日(2008.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
図１に従って、補助製品５が表側Ｖに取り付けられると、図２に従って、表側Ｖは、水平な整向へともたらされる。裏面Ｒ並びに折り目１２は、元の搬送される位置に留まっている。表側Ｖを言及した本質的に水平な整向へともたらすために、案内手段４が設けられており、これらの案内手段は、例えば案内板によって構成され、この案内板は、図１によれば、水平な支持面４ａを構成する。案内手段４は、表側Ｖを搬送中に図１に示した本質的に水平な位置へと持ち上げる。印刷製品３が、その折り目１２でもって更に鞍形の領域１８に当接するように、適当な抑圧ホルダを設けてもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
図６は、裏側Ｒのほぼ中心に取り付けられた補助製品５を有する印刷製品３を示す。破線で、横にずらされ、より折り目１２のそばに取り付けられている補助製品５’が示唆されている。他の方向にずらされているのは、一点鎖線で示唆されている補助製品５”である。結局、補助製品５の横に延在する他の整向も考えることができる。補助製品５の位置は、２重矢印１９の方向にずらされていてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
１      本発明による装置
２      送りもしくは丁合いチェーン
３      印刷製品
４      案内手段
４ａ    支持面
５      補助製品
５ａ    前縁部
６      マガジン
７      引出しローラ
８      ベルト
９      押付けローラ
１０    搬送方向（矢印）
１１    搬送方向（矢印）
１２    折り目
１３    丁合い綴じ機
１４    供給機構
１６    プッシャ
１８    鞍形の領域
２０    ２重矢印
２１    グリッパ
２２    スタック
Ｖ      印刷製品の表側
Ｒ      印刷製品の裏側
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2005306609.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2005306609.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月24日(2008.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の記憶素子及び第２の記憶素子が設けられたメモリセルを有し、
前記第１の記憶素子及び前記第２の記憶素子は、少なくとも電圧あるいは電流を印加することによって第１状態から第２状態へのみ遷移し、
前記メモリセルは、前記第１の記憶素子または前記第２の記憶素子のいずれか一方が前記第１状態であり、かつ前記第１の記憶素子または前記第２の記憶素子のいずれか他方が第２状態のとき１ビットのデータを記憶することを特徴とする不揮発性メモリ。
【請求項２】
少なくとも３つの記憶素子が設けられたメモリセルを有し、
前記少なくとも３つの記憶素子のそれぞれは、少なくとも電圧あるいは電流を印加することによって第１状態から第２状態へのみ遷移し、
前記メモリセルは、前記少なくとも３つの記憶素子のうちの一定個数は前記第１状態であり、かつ前記少なくとも３つの記憶素子のうちの少なくとも一つは前記第２状態のときデータを記憶することを特徴とする不揮発性メモリ。
【請求項３】
第１の記憶素子及び第２の記憶素子が設けられたメモリセルを有し、
前記第１の記憶素子及び前記第２の記憶素子は、電圧を印加することによってしきい値電圧の異なる第１状態から第２状態へのみ遷移し、
前記メモリセルは、前記第１の記憶素子または前記第２の記憶素子のいずれか一方が前記第１状態であり、かつ前記第１の記憶素子または前記第２の記憶素子のいずれか他方が第２状態のとき１ビットのデータを記憶することを特徴とする不揮発性メモリ。
【請求項４】
少なくとも３つの記憶素子が設けられたメモリセルを有し、
前記少なくとも３つの記憶素子のそれぞれは、電圧を印加することによってしきい値電圧の異なる第１状態から第２状態へのみ遷移し、
前記メモリセルは、前記少なくとも３つの記憶素子のうちの一定個数は前記第１状態であり、かつ前記少なくとも３つの記憶素子のうちの少なくとも一つは前記第２状態のときデータを記憶することを特徴とする不揮発性メモリ。
【請求項５】
第１の記憶素子及び第２の記憶素子が設けられたメモリセルを有し、
前記第１の記憶素子及び前記第２の記憶素子は、電流を印加することによって抵抗値の異なる第１状態から第２状態へのみ遷移し、
前記メモリセルは、前記第１の記憶素子または前記第２の記憶素子のいずれか一方が前記第１状態であり、かつ前記第１の記憶素子または前記第２の記憶素子のいずれか他方が第２状態のとき１ビットのデータを記憶することを特徴とする不揮発性メモリ。
【請求項６】
少なくとも３つの記憶素子が設けられたメモリセルを有し、
前記少なくとも３つの記憶素子のそれぞれは、電流を印加することによって抵抗値の異なる第１状態から第２状態へのみ遷移し、
前記メモリセルは、前記少なくとも３つの記憶素子のうちの一定個数は前記第１状態であり、かつ前記少なくとも３つの記憶素子のうちの少なくとも一つは前記第２状態のときデータを記憶することを特徴とする不揮発性メモリ。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、前記メモリセルがデータを記憶した状態であるか否かの判別信号を出力する手段が備えられていることを特徴とする不揮発性メモリ。
【請求項８】
請求項３または請求項４において、前記記憶素子は、多結晶シリコン膜、微結晶シリコン膜、金属膜、微結晶金属膜、もしくは窒化膜からなる電荷蓄積層を有することを特徴とする不揮発性メモリ。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一に記載された不揮発性メモリが組み込まれていることを特徴とするＩＣカード。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一に記載された不揮発性メモリが組み込まれていることを特徴とするＩＤカード。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれか一に記載された不揮発性メモリが組み込まれていることを特徴とするＩＤタグ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月11日(2007.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
特に、従来のデッキシャーシアセンブリは、磁気記録／再生装置を完全に組み立てた後でなければムービングデッキの出没動作をテストすることができないため、デッキメカニズムの構成部品の加工や組立不良が発生した場合、磁気記録／再生装置からデッキメカニズムを再度取り外す必要があるため、製品のテスト及び調整に多くの時間がかかるという問題点もあった。
【特許文献１】ＷＯ９３／２１６３１
【特許文献１】大韓民国特許公告第１０−１９９５−０００３９２号
【特許文献１】米国特許第５，４３２，６５４号
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月23日(2008.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
変調回路と、復調回路と、論理回路と、不揮発性メモリ回路と、アンテナ回路と、を有し、
前記アンテナ回路は、前記変調回路および前記復調回路に電気的に接続され、
前記復調回路は、前記論理回路に電気的に接続され、
前記論理回路は、前記不揮発性メモリ回路に電気的に接続され、
前記不揮発性メモリ回路は、１回のみ書き込みが可能であり、前記論理回路の出力信号を記憶することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記論理回路は、前記不揮発性メモリ回路に記憶されたデータによって、前記不揮発性メモリ回路への書き込みの可否を制御することを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記不揮発性メモリ回路を構成する素子はフローティングゲートを有し、前記フローティングゲートに電荷を注入することにより書き込みが行われることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１または請求項２において、
前記不揮発性メモリ回路を構成する素子はゲート絶縁膜を有し、前記ゲート絶縁膜に電荷を注入することにより書き込みが行われることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記アンテナ回路から出力される信号を整流する整流回路と、前記整流回路で整流された電圧を安定化する安定化回路と、前記安定化回路で安定化された電圧を昇圧する昇圧電源回路と、を有し、
前記昇圧電源回路で昇圧された電圧を用いて前記不揮発性メモリ回路に書き込みを行うことを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
外部高圧電源から出力される電圧を用いて前記不揮発性メモリ回路に書き込みを行うことを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項において、
前記変調回路、前記復調回路、前記論理回路および前記不揮発性メモリ回路のうち、少なくとも一つは薄膜トランジスタで構成されることを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項において、
前記アンテナ回路、前記変調回路、前記復調回路、前記論理回路および前記不揮発性メモリ回路は、同一の絶縁基板上に設けられることを特徴とする半導体装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項において、
前記変調回路、前記復調回路、前記論理回路および前記不揮発性メモリ回路は、第１の絶縁基板上に一体形成され、
前記アンテナ回路は、第２の絶縁基板上に設けられることを特徴とする半導体装置。
【請求項１０】
請求項９において、
前記第２の絶縁基板は、前記第１の絶縁基板上に設けられることを特徴とする半導体装置。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれか一項において、
前記アンテナ回路に入力される信号は無線信号であることを特徴とする半導体装置。
【請求項１２】
請求項１乃至請求項１１のいずれか一項に記載された半導体装置を有するＩＣカード、ＩＣタグ、ＲＦＩＤ、トランスポンダ、紙幣、有価証券、パスポート、電子機器、バッグ、衣類。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月20日(2007.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
異なる光反射率の部分を有する印しを電気光学的に読み取るための装置であって、
ａ）光路に沿って配置された非混和性で異なる光屈折率と実質的に同じ密度とを有する一対の液体を含み、前記液体が、前記液体の一方は、印しの方向に光路に沿って該一方の液体を通過する光を第１の光学特性を有するように光学的に変更するための静止状態の形状を有する、透光性液体を有する可変光学レンズを備え、該可変光学レンズは、前記一方の液体が光路に関して対称であるように収納する、閉鎖されていない井戸を有し、該井戸は解放側を有し、前記可変レンズは前記光学通路に沿って前記液体から離間した少なくとも一つ固定された焦点レンズを有しており、
ｂ）前記井戸の解放側を通って４前記一方の液体を動かすことができることにより、前記井戸内において、前記液体を横切って電圧を印加してその形状を変え、前記光を第２の異なる光学特性を有するように光学的に変更するためのコントローラ、
を含むことを特徴とする装置。
【請求項２】
前記可変レンズに光を放射するための光源、
を含み、
前記第１及び第２の光学特性は、前記可変レンズから異なる作動距離にある光路に沿って間隔をもった異なる焦点面である、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記可変レンズから光を受けるためのセンサ、
を含み、
前記第１及び第２の光学特性は、前記可変レンズから異なる作動距離にある光路に沿って間隔をもった異なる結像面である、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記印し上で前記光及び視野の少なくとも一方を走査するためのスキャナを含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記コントローラは、走査中に電圧を周期性電圧として連続的に印加するように作動することを特徴とする請求項１
に記載の装置。
【請求項６】
前記印しが成功裏に走査されて読み取られたか否かを判断するための分析装置、
を含み、
前記コントローラは、前記印しが成功裏に走査されて読み取られなかったと判断した時に電圧を印加するように作動する、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記一方の液体は、電気絶縁性であり、
前記液体の他方は、導電性であり、
第１の電極が、前記一方の液体の一方の側に配置され、
第２の電極が、前記一方の液体の反対側で前記他方の液体に浸漬され、
前記電極を横切って電圧が印加される、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項８】
それぞれ正及び負の屈折力を有する２つの固定焦点レンズがあり、
前記２つの固定焦点レンズは、前記可変レンズの両端に配置された、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記可変レンズは、前記一方の液体が置かれた電気絶縁壁を有し、
前記第２の電極は、前記絶縁壁に接触する、
ことを特徴とする請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記一方の液体は、静止状態で光路に関して半径方向に対称であることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
前記一方の液体は、光路とほぼ垂直の横方向軸線に沿って延び、該一方の液体を通過する光の断面を光学的に変更することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月11日(2008.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サーバ装置との通信接続が確立されている間、前記サーバ装置に所定の処理を要求することが可能な情報処理装置であって、
画像の編集画面を前記サーバ装置から受信する受信手段と、
前記編集画面をディスプレイに表示させる表示手段と、
前記編集画面の第１の領域に指示が入力されることにより、前記画像を編集する編集手段と、
前記編集画面の第２の領域に指示が入力されることにより、前記編集手段による編集結果を前記サーバ装置へ送信する送信手段と、
前記編集画面の第１の領域に指示が入力された場合に、ダミーリクエストを前記サーバ装置へ通知する通知手段と、を備え、
前記通知手段による前記ダミーリクエストの通知を受けると、前記サーバ装置は前記通信接続を維持する期間を更新することを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記通知手段はセッションＩＤを含むダミーリクエストを前記サーバ装置に通知し、
前記セッションＩＤは前記通信接続を維持する期間に関する情報に対応づけて前記サーバ装置に記憶されていることを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
一定期間、前記編集手段により前記編集画面の第１の領域への指示が入力されていないかどうか判定する判定手段と、
前記判定手段による判定の結果に応じて、前記通信接続の解除を前記サーバ装置に要求する要求手段と
を更に備えることを特徴とする請求項１または２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
サーバ装置との通信接続が確立されている間、前記サーバ装置に所定の処理を要求することが可能な情報処理装置の制御方法であって、
画像の編集画面を前記サーバ装置から受信するステップと、
前記編集画面をディスプレイに表示させるステップと、
前記編集画面の第１の領域に指示が入力されることにより、前記画像を編集するステップと、
前記編集画面の第２の領域に指示が入力されることにより、前記編集ステップにおける編集結果を前記サーバ装置へ送信するステップと、
前記編集画面の第１の領域に指示が入力された場合に、ダミーリクエストを前記サーバ装置へ通知するステップと、を備え、
前記ダミーリクエストの通知を受けると、前記サーバ装置は前記通信接続を維持する期間を更新することを特徴とする制御方法。
【請求項５】
サーバ装置との通信接続が確立されている間、前記サーバ装置に所定の処理を要求することが可能な情報処理装置のコンピュータに、
画像の編集画面を前記サーバ装置から受信するステップと、
前記編集画面をディスプレイに表示させるステップと、
前記編集画面の第１の領域に指示が入力されることにより、前記画像を編集するステップと、
前記編集画面の第２の領域に指示が入力されることにより、前記編集ステップにおける編集結果を前記サーバ装置へ送信するステップと、
前記編集画面の第１の領域に指示が入力された場合に、ダミーリクエストを前記サーバ装置へ通知するステップと、を実行させ、
前記ダミーリクエストの通知を受けると、前記サーバ装置は前記通信接続を維持する期間を更新することを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】情報処理装置および制御方法ならびにプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記の目的を達成するために本発明に係る情報処理装置は以下のような構成を備える。即ち、
サーバ装置との通信接続が確立されている間、前記サーバ装置に所定の処理を要求することが可能な情報処理装置であって、
画像の編集画面を前記サーバ装置から受信する受信手段と、
前記編集画面をディスプレイに表示させる表示手段と、
前記編集画面の第１の領域に指示が入力されることにより、前記画像を編集する編集手段と、
前記編集画面の第２の領域に指示が入力されることにより、前記編集手段による編集結果を前記サーバ装置へ送信する送信手段と、
前記編集画面の第１の領域に指示が入力された場合に、ダミーリクエストを前記サーバ装置へ通知する通知手段と、を備え、
前記通知手段による前記ダミーリクエストの通知を受けると、前記サーバ装置は前記通信接続を維持する期間を更新することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月5日(2008.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電気コネクタ（Ｃ１）の第２の電気コネクタ（Ｃ２）への接触を維持する固定装置（１）であり、前記第２の電気コネクタ（Ｃ２）は、前記固定装置（１）と第２の電気コネクタ（Ｃ２）との間に置かれたパネル（１０）の後方に配置され、前記パネル（１０）は、少なくとも１つのウィンドウ（１１）を有し、前記第１（Ｃ１）及び前記第２のコネクタ（Ｃ２）を前記ウィンドウ（１１）を通して接続させ、
前記固定装置（１）は、前記固定装置（１）の前端部（８）に配置された少なくとも２つのクリップ（２，３）と、
前記固定装置（１）の内部の少なくとも１つの窪み部（４）と、
前記窪み部（４）に繋がる少なくとも１つの外方開口部（５）と、
を有し、
前記前端部（８）は前記パネル（１０）に向くようにされており、前記クリップ（２，３）は、互いに向かって締め付けられ前記ウィンドウ（１１）を通って前記パネル（１０）に挿入され、続いて緩められて、前記ウィンドウ（１１）に隣接する前記パネル（１０）の部分に押し付けられ、前記固定装置（１）の前記パネル（１０）への締着を維持するよう、また、互いに向かって再び締め付けられ前記パネル（１０）から取り外されて固定装置（１）を解放するよう、設けられており、
前記窪み部（４）は、前記固定装置の前記前端部（８）から始まり、前記前端部（８）とは反対側にある前記固定装置の後端部（９）に向かって延び、
前記窪み部（４）は、前記外方開口部（５）を通って前記第１の電気コネクタ（Ｃ１）を受けるようにされており、前記第１のコネクタ（Ｃ１）は、前記固定装置（１）内に維持されたままであり、また、前記固定装置（１）の前記前端部（８）の前記外方開口部（５）を通り前記第２の電気コネクタ（Ｃ２）に接続されることが可能な固定装置であって、
前記窪み部（４）は、前記固定装置の前記前端部（８）から前記後端部（９）への方向上、横方向に減少する寸法を有し、ユーザは、前記固定装置の前記前端部（８）から前記後端部（９）への方向に、前記窪み部（４）内部で前記第１のコネクタ（Ｃ１）をスライドさせることにより、前記固定装置（１）に前記第１のコネクタ（Ｃ１）を位置づけることと、前記固定装置の前記後端部（９）から前記前端部（８）への方向に、前記窪み部（４）内部で前記第１のコネクタ（Ｃ１）をスライドさせることにより、前記固定装置（１）から前記第１のコネクタ（Ｃ１）を取り外すことができることとを特徴とする、
固定装置（１）。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月16日(2008.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
建物の開口に設けられる建物開口部用シャッター枠と、
前記シャッター枠の上部に設けられるとともに、シャッター板を上げ下げする巻上ドラムを内蔵したシャッターボックスと、
前記シャッター板の下部に具備され、該シャッター板を閉鎖位置に固定する錠装置と、を有するシャッターであって、
前記錠装置に備えられた係合部と、
前記縦枠に設けられたガイドレール、又は前記シャッター枠の下枠に具備され、前記係合部に係合する被係合部と、
前記係合部と前記被係合部とが係合した施錠状態を上方へ移動又は回動により解除する解除部材と、を備え、
前記解除部材に紐状又は棒状の遠隔操作部材を連結し、該遠隔操作部材には先端に摘みが具備され、
前記摘みを上方に引き上げ操作することにより、前記解除部材が上方に移動又は回動されて前記錠装置が開錠されるとともに、前記シャッター板が上方に引き上げられることを特徴とするシャッター。
【請求項２】
前記摘みには、磁石が備えられていることを特徴とする請求項１に記載のシャッター。
【請求項３】
前記遠隔操作部材は、立ったままの姿勢で前記解除レバーを操作可能な長さを備えていることを特徴とする請求項１又は２に記載のシャッター。
【請求項４】
前記遠隔操作部材は紐であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のシャッター。
【請求項５】
前記錠装置は、前記シャッター板を閉鎖位置に押し下げることにより自動に施錠状態となることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のシャッター。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載のシャッターを開放させる方法であって、
前記遠隔操作部材を上方に移動させて前記錠装置を開錠し、さらに該遠隔操作部材を上方に移動させて前記シャッター板を開放させることを特徴とするシャッター開放方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項１に記載の発明は、建物の開口に設けられる建物開口部用シャッター枠（３）と、シャッター枠の上部に設けられるとともに、シャッター板（２）を上げ下げする巻上ドラムを内蔵したシャッターボックス（４）と、シャッター板の下部に具備され、該シャッター板を閉鎖位置に固定する錠装置（１１）と、を有するシャッター（１）であって、錠装置に備えられた係合部と、縦枠に設けられたガイドレール（６、６）、又はシャッター枠の下枠（７）に具備され、係合部に係合する被係合部（１６）と、係合部と被係合部とが係合した施錠状態を上方へ移動又は回動により解除する解除部材（１４）と、を備え、解除部材に紐状又は棒状の遠隔操作部材（１７）を連結し、該遠隔操作部材には先端に摘み（１９）が具備され、摘みを上方に引き上げ操作することにより、解除部材が上方に移動又は回動されて錠装置が開錠されるとともに、シャッター板が上方に引き上げられることを特徴とするシャッターを提供することにより前記課題を解決する。
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のシャッター（１）において、摘み（１９）には、磁石（２０）が備えられていることを特徴とする。
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載のシャッター（１）において、遠隔操作部材（１７）は、立ったままの姿勢で前記解除レバーを操作可能な長さを備えていることを特徴とする。
請求項４に記載の発明は、請求項１〜３のいずれか一項に記載のシャッター（１）において、遠隔操作部材（１７）は紐であることを特徴とする。
請求項５に記載の発明は、請求項１〜４のいずれか一項に記載のシャッターにおいて、錠装置（１１）は、シャッター板（２）を閉鎖位置に押し下げることにより自動に施錠状態となることを特徴とする。
請求項６に記載の発明は、請求項１〜５のいずれか一項に記載のシャッター（１）を開放させる方法であって、遠隔操作部材（１７）を上方に移動させて錠装置（１１）を開錠し、さらに該遠隔操作部材を上方に移動させてシャッター板を開放させることを特徴とするシャッター開放方法を提供することにより前記課題を解決する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明によれば、錠装置の係合部と被係合部との係合を解除する際にしゃがむ必要がなく、立ったままの楽な姿勢で錠装置の係合部と前記被係合部との係合を容易に解除することができ、操作性の向上が図れる。また、遠隔操作部材の引っ張り操作により、錠装置の解除とシャッター本体の引き上げの両方を行うことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月24日(2008.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスタービンエンジン（１０）の燃焼器（１６）用の内側ライナ（３４）であって、
（ａ）前記燃焼器（１６）の上流端に隣接する第１の端部（４６）と前記燃焼器（１６）の下流端に隣接する第２の端部（６０）とを有し、その離散領域（７２）が高温ガスの衝突による劣化を受けやすいシェル（３４）と、
（ｂ）該シェル内に間隔をおいて形成され、それを通して空気が流れて該シェル（３４）の高温側（５８）に沿って冷却フィルムを形成する複数の冷却スロット（５６）と、
（ｃ）前記離散領域（７２）における前記シェル（３４）内に形成されて、前記冷却フィルムを補強しかつ前記離散領域（７２）に対して対流ボア冷却をもたらす冷却孔（８２、８４）の群（７４）と、
を含み、
前記離散領域は、該離散領域に隣接して位置する第１の冷却孔と第２の冷却孔との間に位置する
ことを特徴とするライナ（３４）。
【請求項２】
前記冷却孔（８２、８４）の群（７４）は、前記ライナ（３４）が受ける温度勾配パターンに近似したパターン（７５）に形成されていることを特徴とする、請求項１に記載のライナ（３４）。
【請求項３】
前記パターン（７５）が、実質的に台形の形状にされていることを特徴とする、請求項２に記載のライナ（３４）。
【請求項４】
前記パターン（７５）が、上流列（７８）から下流列（８０）までの複数の列（７６）として形成されており、前記列は、前記ライナの周囲の一部にのみ周方向に延びることを特徴とする、請求項２に記載のライナ（３４）。
【請求項５】
前記下流列（８０）内の冷却孔（８４）が、前記他の列（７６）内の冷却孔（８２）よりも寸法が大きいことを特徴とする、請求項４に記載のライナ（３４）。
【請求項６】
前記冷却孔（８２、８４）が、前記上流列（７８）から前記下流列（８０）に向かうにつれて寸法が増大していることを特徴とする、請求項４に記載のライナ（３４）。
【請求項７】
前記冷却孔（８２、８４）が、前記パターン（７５）を通る中心線（８６）から円周方向に該中心線（８６）から外向きに向かうにつれて寸法が減少していることを特徴とする、請求項４に記載のライナ（３４）。
【請求項８】
前記各列（７６）が、円周方向に千鳥状配列されていることを特徴とする、請求項４に記載のライナ（３４）。
【請求項９】
円周方向における前記冷却孔（８２、８４）の間の間隔が、孔径の３．０〜４．０倍に等しいことを特徴とする、請求項１に記載のライナ（３４）。
【請求項１０】
軸方向における前記冷却孔（８２、８４）の間の間隔が、孔径の３．０〜４．０倍に等しいことを特徴とする、請求項１に記載のライナ（３４）。
【請求項１１】
前記冷却孔（８２、８４）の群（７４）を通る中心線（８６）が、前記燃焼器（１６）の燃料／空気混合器（４２）を通る中心線（８９）から所定量だけ周方向にオフセットしていることを特徴とする、請求項１に記載のライナ（３４）。
【請求項１２】
前記冷却孔（８２、８４）が、１５〜２５゜の前記シェルへの入射角で形成されていることを特徴とする、請求項１に記載のライナ（３４）。
【請求項１３】
前記第１及び第２冷却孔が、前記シェルの前記第１の端部に隣接して位置することを特徴とする、請求項１に記載のライナ（３４）。
【請求項１４】
ガスタービンエンジン（１０）の燃焼器（１６）用の内側ライナ（３４）であって、
（ａ）前記燃焼器（１６）の上流端に隣接する第１の端部（４６）と前記燃焼器（１６）の下流端に隣接する第２の端部（６０）とを有し、その離散領域（７２）が高温ガスの衝突による劣化を受けやすいシェル（３４）と、
（ｂ）該シェル内に形成され、それを通して空気が流れて該シェル（３４）の高温側（５８）に沿って冷却フィルムを形成する複数の冷却スロット（５６）と、
（ｃ）前記離散領域（７２）における前記シェル（３４）内に形成されて、前記第１の冷却孔の張出し部の温度を改善する
ことを特徴とするライナ（３４）。
【請求項１５】
前記冷却孔の群が、前記燃焼器（１６）の隣接する燃料／空気混合器（４２）の間で部分的に延びる、間隔をおいて配置された冷却孔（９４）の単一列（９２）として形成されていることを特徴とする、請求項１４に記載のライナ（３４）。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月10日(2008.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ダブテール（１８）に一体に結合され、かつ前縁（２２）及び軸方向に対向する後縁（２４）を備える翼形部（１６）を、含み、
前記ダブテールは、横方向に対向する上方タングの対と、該上方タングとの間のネック（３４）により該上方タングに結合された下方タング（２６）の対とを含み、前記ダブルタングの対は、ロータディスク（３０）の周辺部の相補形のスロット（２８）内にブレードを支持するように対称形になっており、
前記ダブテールは、該ダブテールの根元端部の大部分にわたって前記下方タングに跨りかつ該ダブテールの後方端面（３８）において始まり該ダブテールの軸方向に対向する前方端面（４０）の手前で少なくとも部分的に終わりそこに根元ノッチ（４２）を形成する長方形の根元ブロック（３６）を更に含み、
前記翼形部（１６）は中空であり、また前記ダブテールは、該ダブテールを貫通して縦方向に延びて前記翼形部と流体連通する複数の入口開口（５０）を含み、
前記根元ノッチ（４２）は、前記ダブテールの第２の端面（４０）に最も近接する前記入口開口（５０）内で終わる
ことを特徴とするタービンブレード（１０）。
【請求項２】
前記根元ブロック（３６）は、第１のフィレット（４４）において前記下方タング（２６）に結合され、また前記根元ノッチ（４２）は、第２のフィレット（４６）において前記ブロックにつながっていることを特徴とする、請求項１に記載のブレード。
【請求項３】
前記根元ブロック（３６）は、前記第１のフィレット（４４）から延びる高さを有し、また前記根元ノッチ（４２）は、深さが前記ブロックの高さと少なくとも同じ大きさであることを特徴とする、請求項２に記載のブレード。
【請求項４】
前記根元ブロック（３６）は、対応する第１のフィレット（４４）において前記下方タング（２６）の間を横方向に延びる幅を有し、また前記根元ノッチ（４２）は、前記ブロックの幅に等しい幅を有することを特徴とする、請求項３に記載のブレード。
【請求項５】
前記根元ノッチ（４２）は、前記ダブテールの前記前方端面においてのみ前記根元ブロック（３６）内に配置され、前記後方端面においては配置されておらず、また前記根元ブロックは、前記ノッチから完全に前記後方端面まで輪郭が一様であることを特徴とする、請求項４に記載のブレード。
【請求項６】
前記第２のフィレット（４６）は、深さが前記ブロックの高さより大きく、かつ前記第１のフィレット（４４）の中まで延びていることを特徴とする、請求項５に記載のブレード。
【請求項７】
前記根元ノッチ（４２）は、前記ブロックの幅の程度だけ前記前方端面（４０）から前記第２のフィレット（４６）まで延びる長さを有することを特徴とする、請求項５に記載のブレード。
【請求項８】
前記根元ノッチの深さ及び長さは、前記ネックの最大応力に非常に近づくがそれを超えない応力が前記ノッチの上方の該ネック内に生じるような寸法に全体として作られていることを特徴とする、請求項５に記載のブレード。
【請求項９】
前記ノッチの深さは約１ｍｍであり、また前記ノッチの長さは約１０ｍｍであることを特徴とする、請求項５に記載のブレード。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月29日(2007.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】青色画素、赤色画素および緑色画素を含むカラーフィルターであって、該青色画素がピグメントブルー１５：６（ＰＢ１５：６）およびピグメントバイオレット２３（ＰＶ２３）を含み、両者の重量比率ＰＢ１５：６／ＰＶ２３が９６／４から７０／３０までの範囲にあり、かつＣ光源を使用して測定した該青色画素のＸＹＺ表色系色度図における色度座標ｚが、０．７３≦ｚ≦０．８１を満たすことを特徴とするカラーフィルター。
【請求項２】Ｃ光源を使用して測定した、ＸＹＺ表色系色度図における色度座標（ｚ、Ｚ）が、１１４ ＞ Ｚ ＞ −１０８７０２３ｚ4＋３２０５１０５ｚ3−３５４５９５８ｚ2＋１７４４３２９ｚ−３２１７７３、かつ、０．７３≦ｚ≦０．８１の関係式を満たす青色画素を含むことを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルター。
【請求項３】Ｃ光源を使用して測定した青色画素のＸＹＺ表色系色度図における色度座標（ｘ、ｙ）が、０．１３≦ｘ≦０．１５および０．０８≦ｙ≦０．１２の各式を満たす請求項１または２に記載のカラーフィルター。
【請求項４】Ｃ光源を使用して測定した、ＸＹＺ表色系色度図における色度座標（ｘ、ｙ）が０．６３５≦ｘ≦０．６６５、０．３１≦ｙ≦０．３５の各式を満たす赤色画素を含む請求項３に記載のカラーフィルター。
【請求項５】Ｃ光源を使用して測定した、ＸＹＺ表色系色度図における色度座標（ｘ、ｙ）が０．２２≦ｘ≦０．３４、０．５６≦ｙ≦０．６５の各式を満たす緑色画素を含む請求項４に記載のカラーフィルター。
【請求項６】カラーフィルターの樹脂成分としてポリイミド樹脂を含むこと特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のカラーフィルター。
【請求項７】請求項１〜６のいずれかに記載のカラーフィルターであって少なくとも青色画素、赤色画素および緑色画素を含むカラーフィルターと、バックライト光源とを組み合わせた液晶表示装置であって、該バックライトのＸＹＺ表色系色度図における色度座標（ｘ、ｙ）が０．２６５≦ｘ≦０．２９および０．２４≦ｙ≦０．３０であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】白色表示での色温度が９０００Ｋから１１０００Ｋである請求項７に記載の液晶表示装置。  
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（１）青色画素、赤色画素および緑色画素を含むカラーフィルターであって、該青色画素がピグメントブルー１５：６（ＰＢ１５：６）およびピグメントバイオレット２３（ＰＶ２３）を含み、両者の重量比率ＰＢ１５：６／ＰＶ２３が９６／４から７０／３０までの範囲にあり、かつＣ光源を使用して測定した該青色画素のＸＹＺ表色系色度図における色度座標ｚが、０．７３≦ｚ≦０．８１を満たすことを特徴とするカラーフィルター。
（２）Ｃ光源を使用して測定した、ＸＹＺ表色系色度図における色度座標（ｚ、Ｚ）が、１１４ ＞ Ｚ ＞ −１０８７０２３ｚ4＋３２０５１０５ｚ3−３５４５９５８ｚ2＋１７４４３２９ｚ−３２１７７３、かつ、０．７３≦ｚ≦０．８１の関係式を満たす青色画素を含むことを特徴とする（１）に記載のカラーフィルター。
（３）Ｃ光源を使用して測定した青色画素のＸＹＺ表色系色度図における色度座標（ｘ、ｙ）が、０．１３≦ｘ≦０．１５および０．０８≦ｙ≦０．１２の各式を満たす（１）または（２）に記載のカラーフィルター。
（４）Ｃ光源を使用して測定した、ＸＹＺ表色系色度図における色度座標（ｘ、ｙ）が０．６３５≦ｘ≦０．６６５、０．３１≦ｙ≦０．３５の各式を満たす赤色画素を含む（３）に記載のカラーフィルター。
（５）Ｃ光源を使用して測定した、ＸＹＺ表色系色度図における色度座標（ｘ、ｙ）が０．２２≦ｘ≦０．３４、０．５６≦ｙ≦０．６５の各式を満たす緑色画素を含む（４）に記載のカラーフィルター。
（６）カラーフィルターの樹脂成分としてポリイミド樹脂を含むこと特徴とする（１）〜（５）のいずれかに記載のカラーフィルター。
（７）（１）〜（６）のいずれかに記載のカラーフィルターであって少なくとも青色画素、赤色画素および緑色画素を含むカラーフィルターと、バックライト光源とを組み合わせた液晶表示装置であって、該バックライトのＸＹＺ表色系色度図における色度座標（ｘ、ｙ）が０．２６５≦ｘ≦０．２９および０．２４≦ｙ≦０．３０であることを特徴とする液晶表示装置。
（８）白色表示での色温度が９０００Ｋから１１０００Ｋである（７）に記載の液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月18日(2008.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （１．１）異なる屈折率または吸収係数を有する材料の交互層及び（１．２）保護キャップ層系から作られた、遠紫外線波長範囲のための多層反射系であって、該保護キャップ層系は、ルテニウムでカバーされた炭素、ルテニウムでカバーされたシリコンカーバイド、ルテニウムでカバーされた炭化モリブデン、ルテニウムでカバーされた酸化アルミニウム、ルテニウムでカバーされた窒化チタン、またはルテニウムでカバーされた二酸化チタンからなることを特徴とする反射多層系。
【請求項２】  請求項１記載の遠紫外線波長範囲のための多層反射系を製造するための方法であって、該保護層系は多層系の最外層に直接適用され、その一部またはすべての該保護層系の層がその製造の間イオンビームサポートを用いて作成されることを特徴とする製造方法。
【請求項３】  １種類以上の不活性気体がイオンビームのために用いられることを特徴とする請求項２記載の製造方法。
【請求項４】  Ａｒ、Ｋｒ、酸素、炭素または窒素を含むイオンビームが用いられることを特徴とする請求項２記載の製造方法。
【請求項５】  保護層系がイオンビームサポートにより堆積した少なくとも１層の炭素層からなることを特徴とする請求項２から４のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項６】  堆積の後、保護炭素層が、少なくともＥＵＶ放射、電子ビーム、または高温に暴露されることを特徴とする請求項５記載の製造方法。
【請求項７】  暴露が酸素を含む気体の環境の中でなされることを特徴とする請求項６記載の製造方法。
【請求項８】  保護キャップ層材料が原子厚さで堆積し、次いで、金属が、低エネルギー酸素もしくは窒素もしくは炭素イオンを適用することにより酸化物もしくは窒化物もしくは炭化物の状態に変換されることを特徴とする請求項２から７のいずれか１項記載の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月31日(2008.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  容器と、前記容器内に処理ガスを供給するガス供給口と、誘電体窓を透してマイクロ波を前記容器内に供給するマイクロ波供給器とを備えたプラズマ処理装置であって、前記マイクロ波供給器は、前記誘電体窓に接する面に所定の間隔で設けられた複数のスロットを有する環状導波路を有しており、ｎ1を前記スロット間に生じる表面定在波の腹の個数、λ5を表面波の波長、ｎgを路内波長λgに対する前記環状導波路の一周長ｌgの倍率として、半径ｒeが、ｒe＝ｎ1λ5／｛２ｔａｎ（π／（２ｎg））｝｛１＋ｃｏｓ（π／ｎg）｝
である円周上に前記スロットの中心が存在することを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】  ｎgの値は、２〜５の範囲内にあることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】  前記スロットの角度間隔は、π／ｎgであることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】  前記スロット間に生じる表面定在波の腹の個数ｎ1は、３，５，７のいずれかであることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】  前記誘電体窓は、主成分が窒化アルミニウムであることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】  マイクロ波が透過可能な誘電体窓を有する容器内に被処理体を設置する工程と、前記容器内を排気する工程と、前記容器内に処理ガスを導入する工程と、前記誘電体窓に接する面に所定の間隔で穿孔されて設けられた複数のスロットを有しており、ｎ1を前記スロット間に生じる表面定在波の腹の個数、λ5を表面波の波長、ｎgを路内波長λgに対する環状導波路の一周長ｌgの倍率として、半径ｒeが、ｒe＝ｎ1λ5／｛２ｔａｎ（π／（２ｎg））｝｛１＋ｃｏｓ（π／ｎg）｝
である円周上に前記スロットの中心が存在するように構成された前記環状導波路を用い、当該環状導波路から前記容器内にマイクロ波を供給することによりプラズマを発生させる工程とを有することを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項７】  前記被処理体に化学気相成長法により成膜を施すことを特徴とする請求項６に記載のプラズマ処理方法。
【請求項８】  前記被処理体にエッチング処理を施すことを特徴とする請求項６に記載のプラズマ処理方法。
【請求項９】  前記被処理体にアッシング処理を施すことを特徴とする請求項６に記載のプラズマ処理方法。
【請求項１０】  前記被処理体にドーピング処理を施すことを特徴とする請求項６に記載のプラズマ処理方法。
【請求項１１】  内部が排気可能な容器と、前記容器内に処理ガスを供給するガス供給口とを有し、該容器内に配された被処理体にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、前記容器内に前記ガスのプラズマを発生させるためのマイクロ波エネルギーを供給する手段を有し、当該マイクロ波エネルギーを供給する手段は、誘電体窓側の面に所定の間隔で設けられた複数のスロットを有する無終端の環状導波路を有しており、ｎ1を前記スロット間に生じる表面定在波の腹の個数、λ5を表面波の波長、ｎgを路内波長λgに対する前記環状導波路の一周長ｌgの倍率として、半径ｒeが、ｒe＝ｎ1λ5／｛２ｔａｎ（π／（２ｎg））｝｛１＋ｃｏｓ（π／ｎg）｝
である円周上に前記スロットの中心が存在するように前記複数のスロットの中心が前記面に沿った方向に前記環状導波路の中心に対して偏って配置されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項１２】  ｎgの値は、２〜５の範囲内にあることを特徴とする請求項１１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１３】  前記スロットの角度間隔は、π／ｎgであることを特徴とする請求項１１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１４】  前記スロット間に生じる表面定在波の腹の個数ｎ1は、３，５，７のいずれかであることを特徴とする請求項１１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１５】  前記誘電体窓は、主成分が窒化アルミニウムであることを特徴とする請求項１１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１６】  前記ガス供給口が前記容器の側壁に設けられていることを特徴とする請求項１１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１７】  前記ガス供給口が前記被処理体より前記複数のスロットが設けられた面寄りに設けられていることを特徴とする請求項１１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１８】  前記ガス供給口から前記複数のスロットが設けられた面に向けて前記処理ガスを放出することを特徴とする請求項１１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１９】  前記容器には、該容器内を１．３４×１０3Ｐａ以下に減圧できる排気ポンプが設けられていることを特徴とする請求項１１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項２０】  被処理体をプラズマ処理するためのプラズマ処理方法において、請求項１１に記載のプラズマ処理装置を用いて前記被処理体をプラズマ処理することを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項２１】  アッシング、エッチング、クリーニング、ＣＶＤ、プラズマ重合、ドーピング、酸化、窒化の少なくともいずれか一種であることを特徴とする請求項２０に記載のプラズマ処理方法。
【請求項２２】  構造体の製造方法において、請求項１に記載のプラズマ処理装置を用いて被処理体をプラズマ処理する工程を含むことを特徴とする構造体の製造方法。
【請求項２３】  構造体の製造方法において、請求項１１に記載のプラズマ処理装置を用いて前記被処理体をプラズマ処理する工程を含むことを特徴とする構造体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月18日(2008.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】発光装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電極と、
前記第１の電極の上に設けられた発光材料を含む層と、
前記発光材料を含む層の上に設けられた第２の電極と、を有し、
前記第１の電極には、前記第１の電極の材料よりも抵抗率が低い材料からなる配線が電気的に接続されていることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
第１の電極と、
前記第１の電極の端部を覆う絶縁膜と、
前記絶縁膜の上及び前記第１の電極の上に設けられた発光材料を含む層と、
前記発光材料を含む層の上に設けられた第２の電極と、を有し、
前記第１の電極には、前記第１の電極の材料よりも抵抗率が低い材料からなる配線が電気的に接続されており、
前記配線は、前記絶縁膜に覆われていることを特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記配線は、前記第１の電極の上に接するように設けられていることを特徴とする発光装置。
【請求項４】
請求項１又は請求項２において、
前記配線は、前記第１の電極の下に接するように設けられていることを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記第１の電極は、酸化物導電膜からなることを特徴とする発光装置。
【請求項６】
第１の線状電極と、
前記第１の線状電極の上に設けられた発光材料を含む層と、
前記発光材料を含む層の上に設けられ、且つ前記第１の線状電極と交差するように配置された第２の線状電極と、を有し、
前記第１の線状電極には、前記第１の線状電極の材料よりも抵抗率が低い材料からなる配線が電気的に接続されていることを特徴とする発光装置。
【請求項７】
第１の線状電極と、
前記第１の線状電極の端部を覆う絶縁膜と、
前記絶縁膜の上及び前記第１の線状電極の上に設けられた発光材料を含む層と、
前記発光材料を含む層の上に設けられ、且つ前記第１の線状電極と交差するように配置された第２の線状電極と、を有し、
前記第１の線状電極には、前記第１の線状電極の材料よりも抵抗率が低い材料からなる配線が電気的に接続されており、
前記配線は、前記絶縁膜に覆われていることを特徴とする発光装置。
【請求項８】
請求項６又は請求項７において、
前記配線の形状は、線状であることを特徴とする発光装置。
【請求項９】
請求項６又は請求項７において、
前記配線には、複数の開口部が形成されており、
前記複数の開口部のいずれか一と重なる位置において、前記第１の線状電極と前記第２の線状電極が交差することを特徴とする発光装置。
【請求項１０】
請求項６乃至請求項９のいずれか一項において、
前記配線は、前記第１の線状電極の上に接するように設けられていることを特徴とする発光装置。
【請求項１１】
請求項６乃至請求項９のいずれか一項において、
前記配線は、前記第１の線状電極の下に接するように設けられていることを特徴とする発光装置。
【請求項１２】
請求項６乃至請求項１１のいずれか一項において、
前記第１の線状電極は、酸化物導電膜からなることを特徴とする発光装置。