【手続補正書】
【提出日】平成19年12月18日(2007.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動ステージと、
該移動ステージを案内面に対しギャップを介して支持する静圧パッドと、
該移動ステージを前記案内面に対し吸引与圧する吸引与圧手段とを有するステージ装置において、
前記吸引与圧手段の吸引与圧力を制御する吸引与圧力制御手段と、
前記静圧パッドおよび／または前記吸引与圧手段と前記案内面との間のギャップ量を計測する計測手段とを備え、
前記吸引与圧力制御手段は、前記計測手段からの信号に応じて前記吸引与圧力を制御することを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
前記移動ステージが前記案内面と対向する部分である可動部を複数有し、
前記計測手段は、この複数の可動部に対応してそれぞれ複数個所設けられ、
前記吸引与圧力制御手段は、前記移動ステージの移動方向および動作状態により、前記計測手段によって計測するタイミングおよび前記計測手段によって計測される値を選択して、前記吸引予圧力を制御することを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項３】  
前記吸引与圧力制御手段は、前記移動ステージの移動動作および／または駆動信号に同期して前記吸引与圧力を制御することを特徴とする請求項１または２に記載のステージ装置。
【請求項４】  
前記吸引与圧力制御手段は、前記移動ステージの移動動作時に発生する外乱要因から予測制御するフィードフォワード制御により前記吸引与圧力を制御することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項５】  
前記吸引与圧力制御手段は、前記吸引与圧手段と前記案内面との間のギャップ量を制御することにより前記吸引与圧力を制御することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項６】  
前記吸引与圧手段が、磁石またはバキュームパッドであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項７】  
前記吸引与圧手段が、バキュームパッドであり、
前記吸引与圧力制御手段は、前記バキュームパッドにおけるバキューム圧力を可変制御することにより前記吸引与圧力を制御することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項８】  
移動ステージと、
該移動ステージを所定の案内面に対しギャップを介して支持する複数の静圧パッドと、
該移動ステージを駆動する駆動手段とを有するステージ装置において、
前記静圧パッドの圧力を前記移動ステージの移動に同期して可変制御することにより、前記静圧パッドと前記案内面との間のギャップ量を制御するギャップ制御手段を有することを特徴とするステージ装置。
【請求項９】  
前記ギャップ制御手段は、互いに相対する静圧パッド面を有する前記静圧パッドの圧力については互いに逆相で可変制御することを特徴とする請求項８に記載のステージ装置。
【請求項１０】  
前記案内面が、前記移動ステージを垂直方向に支持するステージ定盤の上面または前記移動ステージを所定方向に案内するガイドの案内面であることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項１１】  
原版に描かれたパターンを投影光学系を介して基板に投影し、該投影光学系に対し該基板または該原版と該基板の両方をステージ装置により相対的に移動させることにより、該原版のパターンを該基板に繰り返し露光する露光装置であって、
前記ステージ装置の少なくとも１つが請求項１〜１０のいずれか１項に記載のステージ装置であることを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の露光装置を用いてウエハを露光する工程と、
前記ウエハを現像する工程とを備えることを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段および作用】
上記課題を解決するために、本発明に係るステージ装置は、移動ステージと、該移動ステージを案内面に対しギャップを介して支持する静圧パッドと、該移動ステージを前記案内面に対し吸引与圧する吸引与圧手段とを有するステージ装置において、前記吸引与圧手段の吸引与圧力を制御する吸引与圧力制御手段と、前記静圧パッドおよび／または前記吸引与圧手段と前記案内面との間のギャップ量を計測する計測手段とを備え、前記吸引与圧力制御手段は、該計測手段からの信号に応じて前記吸引与圧力を制御することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
さらに本発明のステージ装置は、移動ステージと、該移動ステージを所定の案内面に対しギャップを介して支持する複数の静圧パッドと、該移動ステージを駆動する駆動手段とを有するステージ装置において、前記静圧パッドの圧力を前記移動ステージの移動に同期して可変制御することにより、前記静圧パッドと前記案内面との間のギャップ量を制御するギャップ制御手段を有することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の好ましい実施の形態について図面を用いて詳細に説明する。
［第１の実施形態］
図１は、本発明の一実施形態に係るステージ装置の全体斜視図である。このステージ装置は、投影露光装置のウエハステージとして用いられる。図１において、１はレチクル基板に描かれたレチクルパターンを縮小露光系を通して投影転写するために、単結晶シリコン基板表面にレジストが塗られたウエハ、２はウエハ１を縮小露光系の光軸方向およびチルト方向および光軸中心の回転方向に微動調整する微動ステージ、３は微動ステージ２のＸ軸方向の移動を案内するＸガイドである。また、４は微動ステージ２をＸ方向に移動駆動するＸリニアモータ、５はＸガイド３および微動ステージ２をＹ方向に移動案内するＹスライダ、６はＹスライダをＹ方向にガイドするヨーガイドである。そして、７はＹスライダ５をＹ方向に移動駆動するＹＬリニアモータ、８も同じくＹスライダ５をＹ方向に移動駆動するＹＲリニアモータであり、９はステージ定盤である。微動ステージ２およびＹスライダ５は、それぞれの下面に設けられた静圧パッドにより浮上され、ステージ定盤９に対してギャップを介して上下方向で支持案内される。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
図２は、図１のステージ装置の主要部の平面図であり、図３は、図１のステージ装置の主要部の側面図である。図２および図３において、１０はＹスライダ５の側面に設けられ、ヨーガイド６に対して静圧を発生させ、エアーベアリングとなる静圧パッドである。１１は静圧パッド１０の浮上力（＋Ｘ方向の力）に対してヨーガイド６に対し磁気吸引力（−Ｘ方向の力）を発生させる吸引与圧マグネットであり、吸引与圧を静圧パッド１０の静圧面にかけることによって、エアーベアリングギャップ量を調整し、かつ静圧剛性を上げている。１２は積層型のピエゾ（圧電素子）であり、吸引与圧マグネット１１をヨーガイド６とのギャップ方向に、組み込み調整ギャップから±５０［μｍ］程度変位駆動する能力を有する。１３はギャップ量を計測する計測手段であるギャップセンサである。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本実施形態では、図４に示すように、与圧吸引マグネット１１をギャップ方向に±５０［μｍ］程度駆動変位させる能力を有するピエゾ（圧電素子）１２を与圧吸引マグネット１１の背面に接合して設ける。さらに、Ｙスライダ５の端面にヨーガイド６とのギャップ変動を計測するギャップセンサ１３を設ける。このギャップセンサ１３により検出されたギャップ変動量信号を、ギャップセンサプリアンプ１５により増幅し、与圧マグネットギャップ制御回路１６によりギャップ変動量信号から適切な吸引与圧力変化量を算出し、ピエゾ駆動ドライバ１７にピエゾ１２の駆動指令値を与える。即ち、ギャップ計測手段からの信号に応じて吸引与圧力を制御する。ピエゾ１２は、この駆動指令値に応じてピエゾ駆動ドライバ１７から発生する駆動電圧により駆動変位する。また、計測手段であるギャップセンサ１３等による計測タイミングおよび該計測手段によって計測される値を選択して吸引与圧力を制御することも可能である。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
ここで、図１０に示すように、吸引与圧バキューム圧力を、組み立て調整時の吸引与圧バキュームパッド調整圧力ポイントＡから与圧制御最大バキューム圧力ポイントＢおよび与圧制御最小バキューム圧力ポイントＣまで変化させることにより、吸引与圧力を５０±１０［ｋｇｆ］の範囲で可変制御し、図６（ａ）に示す波形のように、移動ステージのＸ方向のステップ移動時のギャップ変動波形に同期するように吸引与圧力を制御する。