Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月2日(2008.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 化学シフト誤差を減少させる磁気共鳴スペクトロスコピー・イメージング方法であって、
（ａ）磁場内にイメージング対象の物体を置く工程と、
（ｂ）関心領域の外側の周波数に対する選択性の領域外飽和パルスを印加し、これにより該関心領域より外側からの信号のあらゆる後続の発生を抑制する工程であって、
選択性の領域外飽和パルスが
（ｉ）所望のパルス・プロファイルを示すデータｄｅｓ（ω）を入力する工程と、
（ii）初期重み関数Ｗ（ω）を算出する工程と、
（iii）重み付き最小平均自乗法と、前記所望のパルス・プロファイルｄｅｓ（ω）と、前記初期重み関数Ｗ（ω）とを用いて、一組のＳＬＲ多項式を算出する工程と、
（iv）算出された前記ＳＬＲ多項式を用いて逆ＳＲＬ変換を実行することにより、ＲＦパルス包絡線Ｒ（ｔ）を発生させる工程と、
により生成される、前記抑制する工程と、
（ｃ）前記関心領域が、すべての所望の化学シフト周波数に共通の通過帯域により励起されるように、前記関心領域よりも大きなスライス又は領域を選択的に励起するパルス・シーケンスを印加する工程と、（ｄ）化学シフト不感受性の関心領域から信号を検出する工程と、を備えている磁気共鳴スペクトロスコピー・イメージング方法。
【請求項２】 前記関心領域は、１次元又は多次元の位相符号化により更に分解される請求項１に記載の磁気共鳴スペクトロスコピー・イメージング方法。
【請求項３】 前記関心領域は、位相符号化及び周波数符号化により更に分解される請求項１に記載の磁気共鳴スペクトロスコピー・イメージング方法。
【請求項４】 前記工程（ｃ）は、ポイント分解スペクトロスコピー（ＰＲＥＳＳ）を含んでいる請求項１乃至３のいずれかに記載の磁気共鳴スペクトロスコピー・イメージング方法。
【請求項５】 前記工程（ｃ）は、誘導エコー取得モード（ＳＴＥＡＭ）を含んでいる請求項１乃至３のいずれかに記載の磁気共鳴スペクトロスコピー・イメージング方法。
【請求項６】 前記工程（ｃ）は、１次元スライス選択を含んでいる請求項１乃至３のいずれかに記載の磁気共鳴スペクトロスコピー・イメージング方法。
【請求項７】 前記工程（ｃ）は、２次元スライス選択を含んでいる請求項１乃至３のいずれかに記載の磁気共鳴スペクトロスコピー・イメージング方法。
【請求項８】 化学シフト誤差を減少させる磁気共鳴スペクトロスコピー・イメージング装置であって、
（ａ）磁場内にイメージング対象の物体を載置させる手段と、
（ｂ）関心領域より外側の周波数に対して極めて高い選択性の領域外飽和パルスを印加し、これにより該関心領域より外側からの信号のあらゆる後続の発生を抑制する手段であって、
選択性の領域外飽和パルスが
（ｉ）所望のパルス・プロファイルを示すデータｄｅｓ（ω）を入力し、
（ii）初期重み関数Ｗ（ω）を算出し、
（iii）重み付き最小平均自乗法と、前記所望のパルス・プロファイルｄｅｓ（ω）と、前記初期重み関数Ｗ（ω）とを用いて、一組のＳＬＲ多項式を算出しと、
（iv）算出された前記ＳＬＲ多項式を用いて逆ＳＲＬ変換を実行することにより、ＲＦパルス包絡線Ｒ（ｔ）を発生させること、
により生成される、前記抑制する手段と、
（ｃ）前記関心領域が、すべての所望の化学シフト周波数に共通の通過帯域により励起されるように、前記関心領域よりも大きなスライス又は領域を選択的に励起するパルス・シーケンスを印加する手段と、
（ｄ）化学シフト不感受性の関心領域から信号を検出する手段と、を備えている磁気共鳴スペクトロスコピー・イメージング装置。
【請求項９】 前記関心領域は、１次元又は多次元の位相符号化により更に分解される請求項８に記載の磁気共鳴スペクトロスコピー・イメージング装置。
【請求項１０】 前記関心領域は、位相符号化及び周波数符号化により更に分解される請求項８に記載の磁気共鳴スペクトロスコピー・イメージング装置。
【請求項１１】 前記パルス・シーケンスの印加は、ポイント分解スペクトロスコピー（ＰＲＥＳＳ）を含んでいる請求項８乃至１０のいずれかに記載の磁気共鳴スペクトロスコピー・イメージング装置。
【請求項１２】 前記パルス・シーケンスの印加は、誘導エコー取得モード（ＳＴＥＡＭ）を含んでいる請求項８乃至１０のいずれかに記載の磁気共鳴スペクトロスコピー・イメージング装置。
【請求項１３】 前記パルス・シーケンスの印加は、１次元スライス選択を含んでいる請求項８乃至１０のいずれかに記載の磁気共鳴スペクトロスコピー・イメージング装置。
【請求項１４】 前記パルス・シーケンスの印加は、２次元スライス選択を含んでいる請求項８乃至１０のいずれかに記載の磁気共鳴スペクトロスコピー・イメージング装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月24日(2008.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１及び第２プリンタであって、前記プリンタのそれぞれは、シートフィーダと、シートトランスポートと、前記シートフィーダによって前記シートトランスポートから供給されたシート上に画像を印刷する装置と、このシート上に置かれた前記画像を融着するためのフューザとを有する第１及び第２プリンタと、
前記第１及び第２プリンタのそれぞれから出力を受け取るように適合されたデュアルフィニッシャステーションであって、前記第１及び第２プリンタの間の中央に配置された２個のフィニッシャを含むデュアルフィニッシャステーションと、
前記２個のフィニッシャの双方から出力を受け取るように適合された共用キャッチトレイと、
を備えるタンデム印刷システム。
【請求項２】
第１及び第２プリンタであって、前記プリンタのそれぞれは、シートフィーダと、シートトランスポートと、前記シートフィーダによって前記シートトランスポートから供給されたシート上に画像を印刷する装置と、このシート上に置かれた前記画像を融着するためのフューザとを有する第１及び第２プリンタと、
前記第１及び第２プリンタのそれぞれから出力を受け取るように適合されたフィニッシャステーションであって、前記第１及び第２プリンタの間の中央に配置された２個のフィニッシャを含むフィニッシャステーションと、
前記２個のフィニッシャの双方から出力を受け取るように適合されたキャッチトレイと、
を備える高速印刷装置。
【請求項３】
第１及び第２プリンタであって、前記プリンタのそれぞれは、シートフィーダと、シートトランスポートと、前記シートフィーダによって前記シートトランスポートから供給されたシート上に画像を印刷する装置と、このシート上に置かれた前記画像を融着するためのフューザとを有する第１及び第２プリンタと、
前記第１及び第２プリンタのそれぞれから出力を受け取るように適合されたデュアルフィニッシャステーションであって、前記第１及び第２プリンタの間の中央に配置された２個のフィニッシャを含むデュアルフィニッシャステーションと、
前記２個のフィニッシャの双方から出力を受け取るように適合された少なくとも１個のキャッチトレイと、
を備えるタンデム電子写真印刷システム。
【請求項４】
前記第１プリンタからの画像形成済みシートが、前記デュアルフィニッシャステーションへの到着前に反転される請求項３記載のタンデム電子写真印刷システム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月2日(2008.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ケイ素２０〜６０ｐｐｍを含有するニオブ又はタンタルのケイ素含有合金の製造方法において、
Ａ）ニオブ粉末又はタンタル粉末とケイ素粉末とを含有する配合物を形成し、そして該配合物を圧縮して、圧縮配合物を形成すること、
Ｂ）圧縮配合物をニオブ又はタンタルを含有する電極に接続すること、
Ｃ）電極と圧縮配合物を真空アーク再溶解条件で真空アーク再溶解させ、こうして該配合物と溶融された電極とを混合すること
Ｄ）溶融された電極を冷却して、合金鋳塊を形成すること、
Ｅ）その合金鋳塊に熱−機械的加工工程を適用して、展伸材を形成すること、
Ｆ）該展伸材を９５０〜１１５０℃の温度で焼鈍すること
を含む方法。
【請求項２】
Ｅ）の展伸材が５〜９の微細かつ均一なＡＳＴＭ粒度を有する、請求項１記載の方法。
【請求項３】
ケイ素はＡ）において、展伸材中の全ニオブ又はタンタルに対して０．１〜１００ｐｐｍで存在する、請求項１記載の方法。
【請求項４】
Ｅ）における熱−機械的加工工程が、合金鋳塊を鍛造して、展伸材を形成させること、を含む、請求項１記載の方法。
【請求項５】
展伸材が、箔、薄板、板、管及び棒材からなる群から選択される、請求項４記載の方法。
【請求項６】
ｉ）における焼鈍により、少なくとも７５％の再結晶化がもたらされる、請求項４記載の方法。
【請求項７】
Ｅ）における熱−機械的加工工程が、
Ｉ）展伸材を中間的厚さにまで圧延すること；
ＩＩ）Ｉ）の展伸材を９５０〜１１５０℃の温度で３０分〜１８０分にわたり焼鈍すること；
ＩＩＩ）ＩＩ）の展伸材を圧延すること；及び
ＩＶ）ＩＩＩ）の展伸材を９５０〜１１５０℃の温度で３０分〜１８０分にわたり焼鈍し、次いで該展伸材を室温に冷却すること
を含む、請求項１記載の方法。
【請求項８】
展伸材が、箔、薄板、板、管及び棒材からなる群から選択される、請求項６記載の方法。
【請求項９】
ＩＩ）及びＩＶ）における焼鈍により、少なくとも７５％の再結晶化がもたらされる、請求項７記載の方法。
【請求項１０】
請求項１記載の方法により得られるニオブ又はタンタルを含有する展伸材。
【請求項１１】
展伸材が、箔、薄板、板、管及び棒材からなる群から選択される、請求項１０記載の展伸材。
【請求項１２】
請求項１０記載の展伸材から製造される深絞りカップ。
【請求項１３】
請求項１０記載の展伸材から製造されるスパッタリングターゲット。
【請求項１４】
ケイ素２０〜６０ｐｐｍを含有するニオブ又はタンタルのケイ素含有合金の製造方法において、
ａ）ニオブ又はタンタルを溶融して、溶融物を形成させること、
ｂ）溶融物中のニオブ又はタンタルに対して、０．１〜６０ｐｐｍのケイ素を添加すること、
ｃ）該溶融物を冷却して、合金鋳塊を形成させること、
ｄ）該合金鋳塊に熱−機械的加工工程を適用して、展伸材を形成させ、該展伸材を９５０〜１１５０℃の温度で焼鈍すること
を含む方法。
【請求項１５】
展伸材が５〜９の微細かつ均一なＡＳＴＭ粒度を有する、請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
ケイ素はｂ）において、全ニオブ又はタンタルに対して０．１〜１００ｐｐｍで存在する、請求項１４記載の方法。
【請求項１７】
ｄ）における熱−機械的加工工程が、合金鋳塊を鍛造して、展伸材を形成させること、を含む、請求項１４記載の方法。
【請求項１８】
展伸材が、箔、薄板、板、管及び棒材からなる群から選択される、請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
ｉ）における焼鈍により、少なくとも７５％の再結晶化がもたらされる、請求項１７記載の方法。
【請求項２０】
ｄ）における熱−機械的加工工程が、
Ｉ）展伸材を中間的厚さにまで圧延すること；
ＩＩ）Ｉ）の展伸材を９５０〜１１５０℃の温度で３０分〜１８０分にわたり焼鈍すること；
ＩＩＩ）ＩＩ）の展伸材を圧延すること；及び
ＩＶ）ＩＩＩ）の展伸材を９５０〜１１５０℃の温度で３０分〜１８０分にわたり焼鈍し、次いで該展伸材を室温に冷却すること
を含む、請求項１４記載の方法。
【請求項２１】
展伸材が、箔、薄板、板、管及び棒材からなる群から選択される、請求項２０記載の方法。
【請求項２２】
ＩＩ）及びＩＶ）における焼鈍により、少なくとも７５％の再結晶化がもたらされる、請求項２１記載の方法。
【請求項２３】
請求項１４記載の方法により得られるニオブ又はタンタルを含有する展伸材。
【請求項２４】
展伸材が、箔、薄板、板、管及び棒材からなる群から選択される、請求項２３記載の展伸材。
【請求項２５】
請求項２３記載の展伸材から製造される深絞りカップ。
【請求項２６】
請求項２４記載の展伸材から製造されるスパッタリングターゲット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2006124836.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2006124836.tif 000002
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2006124836.tif 000003
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2006124836.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月24日(2008.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チャンバーと；
前記チャンバー内部に配置されるサセプターと；
前記サセプターの上方に配置されると共に、多数の噴射口を有するガス注入器と；
前記ガス注入器に連結されると共に、前記多数の噴射口に連結される流路を有する軸と；
原料物質を気化させて、気化された前記原料物質を前記ガス注入器に供給する蒸発器と；
キャリアガスを供給するキャリアガス供給部と；
該キャリアガスを予熱するヒーターと；
を備え、
前記蒸発器及び前記ヒーターは前記流路内に配置された、
薄膜製造用装置。
【請求項２】
前記軸は、前記ガス注入器と共に回転できることを特徴とする請求項１に記載の薄膜製造用装置。
【請求項３】
一端が前記蒸発器に連結され、前記軸の内部に配置された第１電力供給線、をさらに備えることを特徴とする請求項２に記載の薄膜製造用装置。
【請求項４】
前記第１電力供給線の他の一端に連結されるスリップリングと、前記スリップリングに連結される第２電力供給線と、をさらに備えることを特徴とする請求項３に記載の薄膜製造用装置。
【請求項５】
前記キャリアガス供給部は前記流路に連結され、前記キャリアガスと気化された前記原料物質は前記ガス注入器から噴射されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜製造用装置。
【請求項６】
前記ヒーターは、前記蒸発器の上方に配置されたことを特徴とする請求項５に記載の薄膜製造用装置。
【請求項７】
前記軸は、前記流路の直径より大きい直径を有する拡張部を有して、前記蒸発器は、前記拡張部内に配置されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜製造用装置。
【請求項８】
前記ガス注入器は、突出された収容部を有して、前記蒸発器は、前記収容部に配置されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜製造用装置。
【請求項９】
前記流路は、前記ガス注入器の中央部に連結されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜製造用装置。
【請求項１０】
前記多数の噴射口の密度は、前記ガス注入器の中央部で最小であって、外郭の方へ行くほど徐々に増加することを特徴とする請求項９に記載の薄膜製造用装置。
【請求項１１】
前記原料物質は、有機物質を含むことを特徴とする請求項１に記載の薄膜製造用装置。
【請求項１２】
前記軸を取り囲むハウジングと、前記ハウジング及び前記軸の間に配置されたマグネティックシールと、を備えたことを特徴とする請求項１に記載の薄膜製造用装置。
【請求項１３】
前記ハウジングに連結されて該ハウジングにパージガスを供給するパージガス流入管、をさらに備えたことを特徴とする請求項１２に記載の薄膜製造用装置。
【請求項１４】
前記ハウジングに連結され、前記マグネティックシールを冷却する冷却手段、をさらに備えたことを特徴とする請求項１２に記載の薄膜製造用装置。
【請求項１５】
前記ガス注入器は、内部ヒーターを含むことを特徴とする請求項１に記載の薄膜製造用装置。
【請求項１６】
チャンバーと；
前記チャンバー内部に配置されるサセプターと；
前記サセプターの上方に配置されると共に、多数の噴射口を有するガス注入器と；
前記ガス注入器に連結されると共に、前記多数の噴射口に連結される流路を有する軸と；
原料物質を気化させて、気化された前記原料物質を前記ガス注入器に供給する多数の蒸発器と；
キャリアガスを供給するキャリアガス供給部と；
前記流路に前記原料物質を供給する原料物質供給部と；
を備え、
前記多数の蒸発器及び前記ヒーターは前記流路内に配置された、
薄膜製造用装置。
【請求項１７】
前記原料物質供給部は、
粉末状の前記原料物質を貯蔵するタンクと；
前記タンクと前記流路を連結する原料供給管と；
少なくとも一部が前記タンクの内部に配置されるスクリューと；
前記スクリューを駆動させるスクリュー回転装置とを有することを特徴とする請求項１６に記載の薄膜製造用装置。
【請求項１８】
前記多数の蒸発器は、前記ガス注入器内に形成されることを特徴とする請求項１６に記載の薄膜製造用装置。
【請求項１９】
前記多数の蒸発器は、前記ガス注入器の内部空間を水平に区分する第１蒸発器及び第２蒸発器を有することを特徴とする請求項１８に記載の薄膜製造用装置。
【請求項２０】
前記第１蒸発器の端部には、多数の第１ガス流動ホールが形成されて、前記第２蒸発器の中心部には、多数の第２ガス流動ホールが形成されることを特徴とする請求項１９に記載の薄膜製造用装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月21日(2008.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｓｉ源と炭素源とが混合されてなるＳｉＣ粉末を合成する為の固形原料であって、前記Ｓｉ源として、一次粒子の平均粒径が１００ｎｍ以下５ｎｍ以上の微粒子シリカが前記炭素源に均一に分散されていることを特徴とするＳｉＣ合成用固形原料。
【請求項２】
請求項１に記載のＳｉＣ合成用固形原料において、前記シリカ粒子がヒュームドシリカであることを特徴とするＳｉＣ合成用固形原料。
【請求項３】
原料を不活性雰囲気中で加熱してＳｉＣ粉末を合成するＳｉＣ合成方法であって、請求項１又は２に記載の固形原料を不活性雰囲気中で１２００℃以上２３００℃以下に加熱することを特徴とするＳｉＣ合成方法。
【請求項４】
請求項１又は２に記載のＳｉＣ合成用固形原料の製造方法であって、一次粒子の平均粒径が１００ｎｍ以下５ｎｍ以上の微粒子シリカと、熱分解にて炭素を生じる液状の熱硬化性樹脂を、この樹脂を溶解する溶媒中でゾル化して混合し、前記溶媒を除去してゲル化し固体化することを特徴とするＳｉＣ合成用固形原料の製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載のＳｉＣ合成用固形原料の製造方法において、微粒子シリカと液状の熱硬化性樹脂を混合しゾルーゲル化する工程において、カップリング剤や触媒を加えることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ＳｉＣ粉末の生成に用いる固形原料とその製造方法並びにＳｉＣ合成方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、ＳｉＣあるいはＳｉＣとＣが混合した高純度微粉末を合成するに当たって用いる固形原料とその製造方法並びにＳｉＣ合成方法に関し、より詳しくは、Ｓｉ原料が炭素原料である熱硬化性樹脂中に混合分散されてなる加熱してＳｉＣ粉末を合成する為の固形原料とその製造法及びこの固形原料を用いたＳｉＣ粉末の合成方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
これに対して、原料のＳｉＯ２とＣに液状有機物質を用いて、重合反応による前駆体を合成し、ケイ化を経てＳｉＣ微粉末を作る方法が発明された（特許文献１）。この方法では、エチルシリケートなど液状有機シリカ原料と、フェノール樹脂など液状有機炭素原料を用い、加水分解や熱分解によってＳｉＯ２とＣの混合物質（前駆体）を合成し、ケイ化反応をへてＳｉＣを合成する。原料が高純度なため、合成されたＳｉＣ粉末も高純度で、しかも微粉末が直接合成でき、半導体製造装置の高温炉用ＳｉＣ焼結体の原料として用いられるようになった。
前記特許文献１に開示されている技術で用いられるエチルシリケート等の有機液状シリカ原料はＳｉに換算すると価格が高く、広く工業的に用いられるＳｉＣ粉末合成法としては難点がある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、このような実情に鑑み、より得やすいシリカを利用して、高純度のＳｉＣ粉末を合成することを課題とした。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
発明１は、Ｓｉ源と炭素源とが混合されてなるＳｉＣ粉末を合成する為の固形原料であって、前記Ｓｉ源として、一次粒子の平均粒径が１００ｎｍ以下５ｎｍ以上の微粒子シリカが前記炭素源に均一に分散されていることを特徴とする。
発明２は、発明１のＳｉＣ合成用固形原料において、前記シリカ粒子がヒュームドシリカであることを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
発明３は、原料を不活性雰囲気中で加熱してＳｉＣ粉末を合成するＳｉＣ合成方法であって、発明１又は２の固形原料を不活性雰囲気中で１２００℃以上２３００℃以下に加熱することを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
発明４は、発明１又は２のＳｉＣ合成用固形原料の製造方法であって、一次粒子の平均粒径が１００ｎｍ以下５ｎｍ以上の微粒子シリカと、熱分解にて炭素を生じる液状の熱硬化性樹脂を、この樹脂を溶解する溶媒中でゾル化して混合し、前記溶媒を除去してゲル化し固体化することを特徴とする。
発明５は、発明４のＳｉＣ合成用固形原料の製造方法において、微粒子シリカと液状の熱硬化性樹脂を混合しゾルーゲル化する工程において、カップリング剤や触媒を加えることを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明者は、従来の有機液状シリカ原料に替えてより安価なシリカを原料とするにあたり、上記のように微粒子とすることで、安価に高純度ＳｉＣ微粉末を合成することと、Ｃ原料としては比較的安価な液状の熱硬化性樹脂を用いて微粒子シリカと均一に混合し、未反応ＳｉＯ２が残らなく、精製処理のいらない純度９９．９％以上の高純度ＳｉＣ微粉末の合成工程を開発した。
工業原料としての微粒子シリカとして得やすいものはヒュームドシリカであり、これを使用しても高純度のＳｉＣ粉末を生成することができた。
特許文献１で用いられる液状シリカ原料（エチルシリケート）も、本発明の微粒子シリカも四塩化ケイ素を出発原料として合成され、いずれも同程度に高純度であるが、前者の価格はヒュームドシリカの３倍程度価格が高い。ヒュームドシリカには、表面がＯＨ基で覆われて水になじむ親水性と表面がＣＨ３で覆われ疎水化した疎水性シリカがある。いずれも、メタノールやエタノールと親和性を持っている。
本発明者は、安価なヒュームドシリカと液状の熱硬化性樹脂を混合する工程において、両者をゾル状態にして均一に混合する技術を見いだし安価に高純度ＳｉＣ微粉末合成技術の発明に至った。特に、ゾル化を液状の熱硬化性樹脂を溶かす溶媒中で行った。ゾル化後にゲル化を行い、液状の熱硬化性樹脂が重合反応を経て固化する。この固体を、不活性雰囲気で加熱すると熱硬化性樹脂は炭素になりＳｉＣ前駆体が得られる。さらに高温で処理するとＳｉＯ２とＣが反応してＳｉＣを生ずる。前駆体はＣとＳｉＯ２が均一に混合しているため、未反応ＳｉＯ２を含まない、単相のβ−ＳｉＣあるいはＣを含有するβ−ＳｉＣ粉末が生成する。
本発明によって、安価な原料から高純度β−ＳｉＣ微粉末あるいはβ−ＳｉＣとＣが混合する高純度微粉末を簡単な工程で合成することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月16日(2008.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンクリート及びセメントの一を補強する方法であって、
（ａ）ポリクロロプレンに基づく水系分散物を約２０〜約９９重量％、及び
（ｂ）酸化物、カルボキサイド及びシリケートから選択される無機固体に基づく水系懸濁液を約１〜約８０重量％、
（ｃ）場合により、ポリアクリレート、ポリアセテート、ポリウレタン、ポリ尿素、ゴム及びエポキサイドから選択されるポリマー分散物、及び
（ｄ）場合により、樹脂、安定剤、酸化防止剤、架橋剤、架橋促進剤、充填剤、増粘剤及び殺菌剤から選択される添加剤及び助剤を含んで成り、
（ａ）と（ｂ）の重量％は、不揮発性成分の重量を基準として、合計で１００重量％である配合物に浸漬された繊維製品を含む方法。
【請求項２】
（ａ）ポリクロロプレンに基づく水系分散物を約２０〜約９９重量％、及び
（ｂ）酸化物、カルボキサイド及びシリケートから選択される無機固体に基づく水系懸濁液を約１〜約８０重量％、
（ｃ）場合により、ポリアクリレート、ポリアセテート、ポリウレタン、ポリ尿素、ゴム及びエポキサイドから選択されるポリマー分散物、及び
（ｄ）場合により、樹脂、安定剤、酸化防止剤、架橋剤、架橋促進剤、充填剤、増粘剤及び殺菌剤から選択される添加剤及び助剤を含んで成り、
（ａ）と（ｂ）の重量％は、不揮発性部分の重量を基準として、合計で１００重量％である配合物に浸漬された繊維製品。
【請求項３】
請求項１に記載の方法によって製造される補強コンクリート及び補強セメントの一。
【請求項４】
請求項２に記載の方法によって製造される繊維製品を用いて補強されるコンクリート系製品及びセメント系製品の一。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
本発明に基づいて使用すべき配合物を接着剤として、例えば、同じ又は異なるタイプのいずれかの基材を接着するために使用することもできる。その後、得たこのタイプの基材上で又は中で、接着層を架橋してよい。このようにして得た基材を、場合により、コンクリートの補強（又は強化）のために用いてもよい。
以下に、本発明の主な態様を例示する。
１．
コンクリート及びセメントの一を補強する方法であって、
（ａ）ポリクロロプレンに基づく水系分散物を約２０〜約９９重量％、及び
（ｂ）酸化物、カルボキサイド及びシリケートから選択される無機固体に基づく水系懸濁液を約１〜約８０重量％、
（ｃ）場合により、ポリアクリレート、ポリアセテート、ポリウレタン、ポリ尿素、ゴム及びエポキサイドから選択されるポリマー分散物、及び
（ｄ）場合により、樹脂、安定剤、酸化防止剤、架橋剤、架橋促進剤、充填剤、増粘剤及び殺菌剤から選択される添加剤及び助剤を含んで成り、
（ａ）と（ｂ）の重量％は、不揮発性成分の重量を基準として、合計で１００重量％である配合物に浸漬された繊維製品を含む方法。
２．
懸濁液（ｂ）は、固形分の２０重量％を超える二酸化ケイ素を含んで成る上記１に記載の方法。
３．
二酸化ケイ素は、シラノール基を含む上記２に記載の方法。
４．
二酸化ケイ素の一次粒子サイズは、約１〜約４００ｎｍである上記２に記載の方法。
５．
二酸化ケイ素の一次粒子サイズは、約５〜約１００ｎｍである上記２に記載の方法。
６．
二酸化ケイ素の一次粒子サイズは、約８〜約５０ｎｍである上記２に記載の方法。
７．
ポリクロロプレンは、重合したモノマー基の約０．１〜約１．５重量％に、化学的に結合した水酸基を含む上記１に記載の方法。
８．
配合物は、約１０重量％までの酸化亜鉛を含む上記１に記載の方法。
９．
繊維製品は、繊維、粗紡、糸、生地、布、織物、編物、接着加工した布地及び不織布から選択される上記１に記載の方法。
１０．
配合物は、ポリクロロプレン分散物（ａ）を約７０重量％〜約９８重量％及び無機固体の分散物（ｂ）を約２重量％〜約３０重量％含んで成る上記１に記載の方法。
１１．
（ａ）ポリクロロプレンに基づく水系分散物を約２０〜約９９重量％、及び
（ｂ）酸化物、カルボキサイド及びシリケートから選択される無機固体に基づく水系懸濁液を約１〜約８０重量％、
（ｃ）場合により、ポリアクリレート、ポリアセテート、ポリウレタン、ポリ尿素、ゴム及びエポキサイドから選択されるポリマー分散物、及び
（ｄ）場合により、樹脂、安定剤、酸化防止剤、架橋剤、架橋促進剤、充填剤、増粘剤及び殺菌剤から選択される添加剤及び助剤を含んで成り、
（ａ）と（ｂ）の重量％は、不揮発性部分の重量を基準として、合計で１００重量％である配合物に浸漬された繊維製品。
１２．
懸濁液（ｂ）は、固形分の２０重量％を超える二酸化ケイ素を含んで成る上記１１に記載の繊維製品。
１３．
二酸化ケイ素は、シラノール基を含む上記１２に記載の繊維製品。
１４．
二酸化ケイ素の一次粒子サイズは、約１〜約４００ｎｍである上記１２に記載の繊維製品。
１５．
二酸化ケイ素の一次粒子サイズは、約５〜約１００ｎｍである上記１２に記載の繊維製品。
１６．
二酸化ケイ素の一次粒子サイズは、約８〜約５０ｎｍである上記１２に記載の繊維製品。
１７．
ポリクロロプレンは、重合したモノマー基の約０．１〜約１．５重量％に、化学的に結合した水酸基を含む上記１１に記載の繊維製品。
１８．
配合物は、約１０重量％までの酸化亜鉛を含む上記１１に記載の繊維製品。
１９．
繊維製品は、繊維、粗紡、糸、生地、布、織物、編物、接着加工した布地及び不織布からの一の形態の上記１１に記載の繊維製品。
２０．
配合物は、ポリクロロプレン分散物（ａ）を約７０重量％〜約９８重量％及び無機固体の懸濁液（ｂ）を約２重量％〜約３０重量％含んで成る上記１１に記載の繊維製品。
２１．
上記１に記載の方法によって製造される補強コンクリート及び補強セメントの一。
２２．
上記１１に記載の方法によって製造される繊維製品を用いて補強されるコンクリート系製品及びセメント系製品の一。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月22日(2008.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
染色工程および乾燥工程の後に、布帛の表面改質と疎水性試剤による布帛の処理を行うことを特徴とする、ロータス・リーフ効果を有する布帛の製造方法であって、該表面改質が接着剤処理を含み、該接着剤処理に使用する接着剤が一般式R-N=C=O（式中RはC5-C20アルキルである）で表されるイソシアネートから誘導されたポリイソシアネートであり、該疎水性試剤がシリコーン樹脂および式R-X（式中RはC７-C10アルキル、Xは(CF2)n、nは３ないし６である）で表される弗化炭素を含み、得られた布帛は、JIS L02173-103の方法により１００回洗濯しても、AATCC試験法22による試験において優れた撥水性を保持することを特徴とする方法。
【請求項２】
該ポリイソシアネートがポリヘキシルイソシアネート、ポリオクチルイソシアネート、ポリノニルイソシアネートまたはポリドデカニルイソシアネートである、請求項１記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
表面改質の目的は布帛の表面の粗さを増加させて、疎水基を含む試剤と布帛の間の接触面積を増大させ疎水基を含む試剤を布帛に結合させることにある。上記目的を達成できるいかなる表面改質も本発明を実施するのに用いることができる。表面改質の例としては、プラズマ処理、コロナ処理、化学エッチング処理あるいは接着剤処理が挙げられる。
プラズマ処理
布帛を真空室（0.1-0.0001 トル）に入れ、適当なガス（例えば、空気、酸素、窒素、アルゴン、二酸化炭素あるいはこれらの組合わせ）を真空室に導入する。布帛の表面に50-1000 Wの直接電流、無線周波数あるいはマイクロウエーブ励起プラズマを５ないし６００秒間導入して表面改質をする。プラズマ処理を行うに適した布帛は、例えば、ポリエステル、ポリエチレンおよびポリアミドなどの合成繊維である。
コロナ処理
布帛を雰囲気中50-1000 Wのコロナで５ないし１８０秒間表面改質する。コロナ処理を行うに適した布帛は、例えば、ポリエステル、ポリエチレンおよびポリアミドなどの合成繊維である。
化学エッチング処理
天然繊維は、酸を使って化学エッチング処理を行う。合成繊維は、塩基、例えば、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウムあるいは炭酸水素ナトリウムなどの塩基を使って化学エッチング処理を行う。上記エッチング処理により、繊維の量が0.5-30%減る。化学エッチング処理を行うに適した布帛は、例えば、ポリエステルなどの合成繊維、例えば、綿などの天然繊維である。
接着剤処理
布帛を、例えば、ポリイソシアネート（10-100 g/l）などの特定の接着剤中に浸漬し、乾燥させる。ポリイソシアネートは、一般式R-N=C=O（RはC5-C20アルキル）を有するイソシアネートから誘導される。ポリイソシアネートの好ましい例としては、ポリヘキシルイソシアネート、ポリオクチルイソシアネート、ポリノニルイソシアネートおよびポリドデカニルイソシアネートが挙げられるが、これに限られない。接着剤処理を行うに適した布帛は、例えば、ポリエステルなどの合成繊維、例えば、綿などの天然繊維である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月1日(2008.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で示されることを特徴とする化合物。
【化１】
2006124373.tif 000001
（ｘ，ｙ，ｚは０〜３の整数であり、ｘ＋ｚ≧１である。
Ｒ3，Ｒ15〜Ｒ18は水素原子、直鎖状または分岐状のアルキル基を示す。
Ｒ1，Ｒ2，Ｒ4，Ｒ5はそれぞれ独立に水素原子、直鎖状または分岐状のアルキル基、置換基を有しても良いアリール基（アリール基を構成するベンゼン骨格上のＣＨはＮ原子に置き換えられても良い）を示し、少なくとも一つは置換基を有しても良いアリール基（アリール基を構成するベンゼン骨格上のＣＨはＮ原子に置き換えられても良い）である。
Ａは水素原子、直鎖状または分岐状のアルキル基または下記Ｂを示す。
Ｒ11乃至Ｒ14はそれぞれ独立に水素原子、直鎖状または分岐状のアルキル基、置換基を有してもよいアリール基を示す。
Ｒ1乃至Ｒ5を有するベンゼン環、及び／又は、Ｒ15乃至Ｒ18を有するベンゼン環上のＣＨはＮ原子に置き換えられても良い。）
【化２】
2006124373.tif 000002
（Ｒ6〜Ｒ10は、それぞれ独立に水素原子、直鎖状または分岐状のアルキル基、置換基を有しても良いアリール基（アリール基を構成するベンゼン骨格上のＣＨはＮ原子に置き換えられても良い）を示す。また、Ｒ6乃至Ｒ10を有するベンゼン環上のＣＨはＮ原子に置き換えられていてもよい。）
【請求項２】
前記Ａが水素原子または前記Ｂであることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
ｙ＝ｚ＝０であることを特徴とする請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
一対の電極間に、少なくとも一層の有機化合物を含む層を挟持してなる有機エレクトロルミネッセンス素子において、該有機化合物を含む層の少なくとも一層が請求項１〜３のいずれかに記載の一般式（１）で示される化合物の少なくとも１種を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項５】
前記一般式（１）で示される化合物を含む層が発光層であることを特徴とする請求項４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項６】
前記発光層が、ホストとゲストの２つ以上の化合物からなり、該ホストが前記一般式（１）で示される化合物であることを特徴とする請求項５に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項７】
前記ゲストが燐光発光材料であることを特徴とする請求項６に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項８】
複数の前記燐光発光材料を含有させることを特徴とする請求項７に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項９】
前記燐光発光材料が金属配位化合物であることを特徴とする請求項７または８に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項１０】
前記金属配位化合物がＩｒ配位化合物であることを特徴とする請求項９に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
Ｒ11乃至Ｒ14はそれぞれ独立に水素原子、直鎖状または分岐状のアルキル基、置換基を有してもよいアリール基を示す。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月21日(2008.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱可塑性樹脂に、該熱可塑性樹脂よりも融点の高い又は不融性の長さ４〜２０ｍｍの有機繊維が混合された樹脂組成物。
【請求項２】
熱可塑性樹脂のマトリックス中に、該熱可塑性樹脂よりも融点の高い又は不融性の長さ４〜２０ｍｍの有機繊維が分散している樹脂成形品。
【請求項３】
樹脂成形品は燃料にさらされる燃料系部品である請求項２記載の樹脂成形品。
【請求項４】
熱可塑性樹脂は、トルエン／イソオクタン／エタノールの混合体積比が４５／４５／１０の組成の試験燃料に対する６５℃での燃料透過係数が１．０×１０-11ｍ3・ｍ／ｍ2／ｓｅｃ／ＭＰａ以下の熱可塑性樹脂である請求項３記載の樹脂成形品。
【請求項５】
熱可塑性樹脂に、該熱可塑性樹脂よりも融点の高い又は不融性の長さ４〜２０ｍｍの有機繊維を混合し、前記熱可塑性樹脂の融点より高く且つ前記有機繊維の融点より低い成形温度で射出成形する樹脂成形品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
（１）本発明の樹脂組成物は、熱可塑性樹脂に、該熱可塑性樹脂よりも融点の高い又は不融性の長さ４〜２０ｍｍの有機繊維が混合されたことを特徴としている。
（２）本発明の樹脂成形品は、熱可塑性樹脂のマトリックス中に、該熱可塑性樹脂よりも融点の高い又は不融性の長さ４〜２０ｍｍの有機繊維が分散していることを特徴としている。
（３）本発明の樹脂成形品の製造方法は、熱可塑性樹脂に、該熱可塑性樹脂よりも融点の高い又は不融性の長さ４〜２０ｍｍの有機繊維を混合し、前記熱可塑性樹脂の融点より高く且つ前記有機繊維の融点より低い成形温度で成形することを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月9日(2008.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリオールとポリイソシアネート化合物とをイソシアネート基過剰の割合で反応させてイソシアネート基末端プレポリマーを得た後、該イソシアネート基末端プレポリマーに鎖延長剤を反応させ、さらに末端停止剤を反応させるウレタン樹脂の製造方法であって、
鎖延長剤が、イソシアネート基と反応可能な官能基を３つ以上有し、それら官能基のうちの１つが、１級アミノ基または２級アミノ基であり、１つが１級水酸基であり、残りの官能基が２級水酸基または３級水酸基であることを特徴とするウレタン樹脂の製造方法。
【請求項２】
ポリオールが、平均水酸基数が２以上であり水酸基価が５．６〜６００ｇＫＯＨ／ｇのポリオキシアルキレンポリオールである、請求項１に記載のウレタン樹脂の製造方法。
【請求項３】
鎖延長剤が、Ｎ−（２−ヒドロキシプロピル）エタノールアミン、１−メチルアミノ−２，３−プロパンジオール、および１−アミノ−２，３−プロパンジオールから選ばれる少なくとも１種である請求項１または２に記載のウレタン樹脂の製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法で得られたウレタン樹脂からなる粘着剤。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法で得られたウレタン樹脂とポリイソシアネート化合物とを反応させて得られるウレタン樹脂からなる粘着剤。
【請求項６】
粘着力が１５Ｎ／２５ｍｍを超える、請求項４または５に記載の粘着剤。
【請求項７】
請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法で得られたウレタン樹脂を含む粘着剤溶液を塗工し、乾燥する粘着シートの製造方法。
【請求項８】
請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法で得られたウレタン樹脂とポリイソシアネート化合物とを反応させて得られるウレタン樹脂を含む粘着剤溶液を塗工し、乾燥する粘着シートの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明のウレタン樹脂の製造方法は、ポリオールとポリイソシアネート化合物とをイソシアネート基過剰の割合で反応させてイソシアネート基末端プレポリマーを得た後、該イソシアネート基末端プレポリマーに鎖延長剤を反応させ、さらに末端停止剤を反応させるウレタン樹脂の製造方法であって、鎖延長剤が、イソシアネート基と反応可能な官能基を３つ以上有し、それら官能基のうちの１つが、１級アミノ基または２級アミノ基であり、１つが１級水酸基であり、残りの官能基が２級水酸基または３級水酸基であることを特徴とする。
本発明のウレタン樹脂の製造方法においては、ポリオールが、平均水酸基数が２以上であり水酸基価が５．６〜６００ｍｇＫＯＨ／ｇのポリオキシアルキレンポリオールであることが好ましい。
また、本発明のウレタン樹脂の製造方法においては、鎖延長剤が、Ｎ−（２−ヒドロキシプロピル）エタノールアミン、１−メチルアミノ−２，３−プロパンジオール、１−アミノ−２，３−プロパンジオールから選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
本発明は、上述した製造方法で得られたウレタン樹脂からなる粘着剤である。
本発明の粘着剤においては、上述した製造方法で得られたウレタン樹脂とポリイソシアネート化合物とを反応させて得られるウレタン樹脂からなるものが好ましい。
本発明の粘着剤は、粘着力が１５Ｎ／２５ｍｍを超えるものである。
また本発明は、上述した製造方法で得られたウレタン樹脂を含む粘着剤溶液を塗工し、乾燥する粘着シートの製造方法である。本発明の製造方法においては、上述した製造方法で得られたウレタン樹脂とポリイソシアネート化合物とを反応させて得られるウレタン樹脂を含む粘着剤溶液を塗工し、乾燥することが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月12日(2008.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
前記各手段において、丸鋸刃の軸着部は、丸鋸刃の中心部を回転軸に取着するための構造部であって、特定の構造に限定されないが、回転軸に固定された内フランジと、締付ボルトと、締付ボルトにより回転軸に止着される外フランジとで構成され、両フランジ間に丸鋸刃の中心部を挟着するものを例示できる。丸鋸刃のうち軸着部の直径分は切り込み能力のない無効中心部の直径であり、それ以外が切り込み能力のある有効部である。よって、丸鋸刃の有効直径率は（Ｄ−丸鋸刃の軸着部の直径）／Ｄで表される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
各丸鋸刃４１，４２の中心部は、軸着部４４により回転軸４３に交換可能に取着されている。軸着部４４は、回転軸４３に固定されたフランジ４４ａと、締付ネジ４４ｂとで構成され、締付ネジ４４ｂを丸鋸刃４１，４２の中心部に設けられた取付穴を通してフランジ４４ａに締め付ける。本実施例では、軸着部４４の直径（最大直径）はフランジ４４ａの直径で規定され、丸鋸刃４１，４２のうち軸着部４４の直径分は切り込み能力のない無効中心部の直径であり、それ以外が切り込み能力のある有効部である。そして本例の丸鋸刃４１，４２では、軸着部４４の直径（無効中心部の直径）は７０ｍｍであり、（Ｄ−丸鋸刃の軸着部の直径）で表される有効直径は１５０ｍｍであり、（Ｄ−丸鋸刃の軸着部の直径）／２で表される有効半径は７５ｍｍであり、（Ｄ−丸鋸刃の軸着部の直径）／Ｄで表される有効直径率は０．６８である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月23日(2008.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
丸鋸刃を回転駆動する駆動部、及び前記駆動部の動力を前記丸鋸刃に伝達する動力伝達機構部を収容する本体部と、
前記本体部を支持する定盤と、
を備え、
前記丸鋸刃を支持する軸が前記駆動部の軸と定盤との間に配置された電動切削工具において、
前記動力伝達機構部は、同軸上に並んで配置された一対のはすば歯車を備えるとともに、前記一対のはすば歯車の両方の歯すじが同一方向に向いていることを特徴とする電動切削工具。
【請求項２】
丸鋸刃を回転駆動する駆動部、及び前記駆動部の動力を前記丸鋸刃に伝達する動力伝達機構部を収容する本体部と、
前記本体部を支持する定盤と、
を備え、
前記丸鋸刃を支持する軸が前記駆動部の軸と定盤との間に配置された電動切削工具において、
前記動力伝達機構部は、同軸上に並んで配置された一対のはすば歯車を備えるとともに、前記一対のはすば歯車の両方の歯すじが同一方向に向いており、さらに、
前記丸鋸刃を支持する軸が前記一対のはすば歯車の外形よりも外側に配置されるとともに、前記丸鋸刃を支持する軸の駆動部側の軸端部を支承する軸受の駆動部側の端面が、前記一対のはすば歯車の駆動部側の端面よりも駆動部側に配置されていることを特徴とする電動切削工具。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の電動切削工具において、
前記一対のはすば歯車が取り付けられている中間歯車軸に対する一方の歯車の歯すじの角度を他方の歯車の歯すじの角度よりも大きくし、前記中間歯車軸の他方の歯車の側の端部にスラスト荷重を受けることができる軸受を設けたことを特徴とする電動切削工具。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の電動切削工具において、
前記一対のはすば歯車が取り付けられている中間歯車軸には、該軸を支持するとともに該軸にかかるスラスト荷重を受ける軸受を備え、
前記軸受は、
環状の内輪と、
環状の外輪と、
当該内輪及び外輪の間に保持されている複数の球体と、
を備えて構成されており、
前記内輪と前記外輪との間には前記内輪の回転を制動する抵抗体が設けられていることを特徴とする電動切削工具。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記課題を解決するため、請求項１に係る電動切削工具（１００）は、丸鋸刃（１）を回転駆動する駆動部（６）、及び前記駆動部の動力を前記丸鋸刃に伝達する動力伝達機構部（１５）を収容する本体部（２）と、前記本体部を支持する定盤（５）と、を備え、前記丸鋸刃を支持する軸（１ａ）が前記駆動部の軸（６ａ）と定盤との間に配置された電動切削工具において、前記動力伝達機構部は、同軸上に並んで配置された一対のはすば歯車（７ｃ、７ｄ）を備えるとともに、前記一対のはすば歯車の両方の歯すじが同一方向に向いていることを特徴とする。また、この電動切削工具（１００）では、前記丸鋸刃（１）を支持する軸（１ａ）が前記一対のはすば歯車（７ｃ、７ｄ）の外形よりも外側に配置されるとともに、前記丸鋸刃（１）を支持する軸（１ａ）の駆動部（６）側の軸端部を支承する軸受（１３）の駆動部側の端面が、前記一対のはすば歯車（７ｃ、７ｄ）の駆動部側の端面よりも駆動部（６）側に配置されていることとすることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、請求項３に係る電動切削工具は、請求項１又は２に記載の電動切削工具において、前記一対のはすば歯車が取り付けられている中間歯車軸（１４）に対する一方の歯車（７ｃ）の歯すじの角度を他方の歯車（７ｄ）の歯すじの角度よりも大きくし、前記中間歯車軸の他方の歯車の側の端部にスラスト荷重を受けることができる軸受（１６）を設けたことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、請求項４に係る電動切削工具は、請求項１〜３のいずれか１項に記載の電動切削工具において、前記一対のはすば歯車が取り付けられている中間歯車軸には、該軸を支持するとともに該軸にかかるスラスト荷重を受ける軸受を備え、前記軸受は、環状の内輪（３１）と、環状の外輪（３２）と、当該内輪及び外輪の間に保持されている複数の球体（３３）と、を備えて構成されており、前記内輪と前記外輪との間には前記内輪の回転を制動する抵抗体（３５）が設けられていることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
請求項１及び２に係る発明によれば、一対のはすば歯車によって生じるスラスト荷重が相互に打ち消されるので、前記はすば歯車が取り付けられている軸を支持する軸受の寿命を伸ばすことが可能である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、請求項３に係る発明によれば、一対のはすば歯車の歯すじの角度を相互に変えることによって、当該はすば歯車に取り付けられている軸に生じるスラスト荷重の大きさを変えることができるので、軸の一方にスラスト荷重がかかるようにすれば、軸の両方にスラスト荷重を受けることができる軸受を設けなくてもよくなり、製品のコンパクト化が図れる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、請求項４に係る発明によれば、中間歯車軸の回転が制動されるので、丸鋸刃による被切削材の切り込み開始あるいは終了時における歯車間のバックラッシによる歯面をたたく音が低減される。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月20日(2008.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
昇降路内に昇降自在に配設されたかごと、
上記かごの着床時に、乗り場側敷居に対して水平方向に所定の隙間を有して対向するように該かごに設けられたかご側敷居と、
かご側戸の乗り場側壁面の上部側に配設された係合部材と、
上記かごの着床時に上記係合部材に係合するように乗り場側戸のかご側壁面に配設され、該係合部材と係合して上記かご側戸の開閉力を該乗り場側戸に伝達する被係合部材と、
鉛直方向から見て上記被係合部材を内包するように上記かご側敷居に形成された乗り場側に開口する切り欠きと、
上記切り欠き内に位置し、かつ、その反乗り場側端部を軸方向を上記かご側戸の開閉方向とする軸に回動自在に支持されて上記かご側敷居に取り付けられ、上記かご側敷居の上面と同一面位置となって上記切り欠きを閉塞する作動位置とその乗り場側端部を下方にするように上記軸周りに回動して鉛直方向から見て上記被係合部材と重ならない退避位置との間を移動する可動敷居と、
上記可動敷居と上記かご側敷居との間に配設されて、該可動敷居を上記軸周りに回動させて上記作動位置に位置させるように付勢する復帰ばねと、
上記かご側戸の開閉力を上記可動敷居に伝達するワイヤを有し、戸閉時には、上記復帰ばねの付勢力に抗して上記可動敷居を上記作動位置から上記退避位置に移行するように上記軸周りに回動させ、戸開時には、上記復帰ばねの蓄勢力を放勢させて上記可動敷居を上記退避位置から上記作動位置に移行するように上記軸周りに回動させる可動敷居駆動機構と、を備え、
上記可動敷居は、戸全閉直前と戸全閉状態との間の戸開閉時に、上記作動位置から上記退避位置に、又は上記退避位置から上記作動位置に移行するように上記軸周りに回動され、戸全閉直前と戸全開状態との間の戸開閉時には、上記作動位置に保持されることを特徴とするエレベータ装置。
【請求項２】
上記かご側敷居に設けられた係合穴と、
上記ワイヤの端部に連結されて上記可動敷居に出没自在に設けられ、上記可動敷居から延出して上記係合穴に挿入されて該可動敷居の上記軸周りの回動を規制して該可動敷居を上記作動位置に保持し、上記可動敷居内に埋没して該係合穴から抜けて該可動敷居の上記軸周りの回動規制を解除とする係止ピンと、
上記係止ピンを延出するように付勢するスプリングと、を備え、
上記係合ピンは、戸開動作において、上記かご側戸が上記戸全閉直前に到達したときに、上記スプリングの付勢力により上記可動敷居から延出して上記係合穴に挿入されて上記可動敷居の上記軸周りの回動を規制し、戸閉動作において、上記かご側戸が上記戸全閉直前に到達したときに、上記スプリングの付勢力に抗して上記可動敷居内に埋没して上記係合穴から引き抜かれて上記可動敷居の上記軸周りの回動規制を解除することを特徴とする請求項１記載のエレベータ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この発明によるエレベータ装置は、昇降路内に昇降自在に配設されたかごと、上記かごの着床時に、乗り場側敷居に対して水平方向に所定の隙間を有して対向するように該かごに設けられたかご側敷居と、かご側戸の乗り場側壁面の上部側に配設された係合部材と、上記かごの着床時に上記係合部材に係合するように乗り場側戸のかご側壁面に配設され、該係合部材と係合して上記かご側戸の開閉力を該乗り場側戸に伝達する被係合部材と、鉛直方向から見て上記被係合部材を内包するように上記かご側敷居に形成された乗り場側に開口する切り欠きと、上記切り欠き内に位置し、かつ、その反乗り場側端部を軸方向を上記かご側戸の開閉方向とする軸に回動自在に支持されて上記かご側敷居に取り付けられ、上記かご側敷居の上面と同一面位置となって上記切り欠きを閉塞する作動位置とその乗り場側端部を下方にするように上記軸周りに回動して鉛直方向から見て上記被係合部材と重ならない退避位置との間を移動する可動敷居と、上記可動敷居と上記かご側敷居との間に配設されて、該可動敷居を上記軸周りに回動させて上記作動位置に位置させるように付勢する復帰ばねと、上記かご側戸の開閉力を上記可動敷居に伝達するワイヤを有し、戸閉時には、上記復帰ばねの付勢力に抗して上記可動敷居を上記作動位置から上記退避位置に移行するように上記軸周りに回動させ、戸開時には、上記復帰ばねの蓄勢力を放勢させて上記可動敷居を上記退避位置から上記作動位置に移行するように上記軸周りに回動させる可動敷居駆動機構とを備えている。そして、上記可動敷居は、戸全閉直前と戸全閉状態との間の戸開閉時に、上記作動位置から上記退避位置に、又は上記退避位置から上記作動位置に移行するように上記軸周りに回動され、戸全閉直前と戸全開状態との間の戸開閉時には、上記作動位置に保持される。