(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面の一部が凸部形状をなすｎ型ＧａＮ系半導体層と、
前記ｎ型ＧａＮ系半導体層の前記凸部の上面にショットキー接合する第１アノード電極と
、
前記ｎ型ＧａＮ系半導体層の上側に前記ｎ型ＧａＮ系半導体層の平坦部の上面と凸部の側面とに接触して、前記平坦部の上面と前記凸部の側面を被覆するように形成された、他のＧａＮ系半導体層の凸部の側面にショットキー接合すると共に前記第１アノード電極に電気的に接続する第２アノード電極とを備え、
前記第１アノード電極と前記ｎ型ＧａＮ系半導体層との間で形成されるショットキーバリアの高さが前記第２アノード電極と前記ｎ型ＧａＮ系半導体層との間で形成されるショットキーバリアの高さよりも低く、
前記他のＧａＮ系半導体層は前記ｎ型ＧａＮ系半導体層のバンドギャップエネルギーよりも大きいバンドギャップエネルギーを有することを特徴とするＧａＮ系半導体装置。
【請求項２】
表面の一部が凸部形状をなすｎ型ＧａＮ系半導体層と、
前記ｎ型ＧａＮ系半導体層の前記凸部の上面にショットキー接合する第１アノード電極と、
前記ｎ型ＧａＮ系半導体層の上側に前記ｎ型ＧａＮ系半導体層の平坦部の上面と凸部の側面とに接触して、前記平坦部の上面と前記凸部の側面を被覆するように形成された、他のＧａＮ系半導体層の凸部の側面にショットキー接合すると共に前記第１アノード電極に電気的に接続する第２アノード電極とを備え、
前記第１アノード電極と前記ｎ型ＧａＮ系半導体層との間で形成されるショットキーバリアの高さが前記第２アノード電極と前記ｎ型ＧａＮ系半導体層との間で形成されるショットキーバリアの高さよりも低く、
前記他のＧａＮ系半導体層は前記ｎ型ＧａＮ系半導体層のバンドギャップエネルギーよりも大きいバンドギャップエネルギーを有するアンドープの層であることを特徴とするＧａＮ系半導体装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置に関し、特に、耐圧が高くオン抵抗が低いＧａＮ系半導体装置に関する。
【０００２】
【関連する背景技術】
半導体装置からなる電子デバイスは公知であり、例えば、高耐圧のバイポーラトランジスタによって構成された電力変換装置用スイッチング素子が知られている。この様な大電力用スイッチング素子には耐圧が高いことに加えてオン抵抗が低いことが求められる。このため、近年、バイポーラトランジスタに代えて、オン抵抗の低いパワーＭＯＳＦＥＴ（Ｍｅｔａｌ  Ｏｘｉｄｅ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  ＦＥＴ）や、バイポーラトランジスタとＭＯＳＦＥＴとを複合したＩＧＢＴ（Ｉｎｓｕｌａｔｅｄ  Ｇａｔｅ  Ｂｉｐｏｌａｒ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ；絶縁ゲート型のバイポーラトランジスタ）がスイッチング素子として使用されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１０−２４２１６５号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
耐圧が高く且つオン抵抗が低い半導体装置としてＧａＮ系半導体装置などのＩＩＩ−Ｖ族窒化物半導体装置が知られており、ＩＩＩ−Ｖ族窒化物半導体装置の利点の更なる向上やその利点を活かした電子デバイスへの具体的な応用が望まれている。
【０００５】
本発明の目的は、耐圧が高く且つオン電圧の低いＧａＮ系半導体装置およびＩＩＩ−Ｖ族窒化物半導体装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、
表面の一部が凸部形状をなすｎ型ＧａＮ系半導体層と、
前記ｎ型ＧａＮ系半導体層の前記凸部の上面にショットキー接合する第１アノード電極と、
前記ｎ型ＧａＮ系半導体層の上側に前記ｎ型ＧａＮ系半導体層の平坦部の上面と凸部の側面とに接触して、前記平坦部の上面と前記凸部の側面を被覆するように形成された、他のＧａＮ系半導体層の凸部の側面にショットキー接合すると共に前記第１アノード電極に電気的に接続する第２アノード電極とを備え、
前記第１アノード電極と前記ｎ型ＧａＮ系半導体層との間で形成されるショットキーバリアの高さが前記第２アノード電極と前記ｎ型ＧａＮ系半導体層との間で形成されるショットキーバリアの高さよりも低く、
前記他のＧａＮ系半導体層は前記ｎ型ＧａＮ系半導体層のバンドギャップエネルギーよりも大きいバンドギャップエネルギーを有することを特徴とし、オン電圧が低く且つ耐圧の高いＧａＮ系半導体装置たとえば半導体ショットキーダイオードを実現する。
【０００７】
また、請求項２に記載の発明は、
表面の一部が凸部形状をなすｎ型ＧａＮ系半導体層と、
前記ｎ型ＧａＮ系半導体層の前記凸部の上面にショットキー接合する第１アノード電極と、
前記ｎ型ＧａＮ系半導体層の上側に前記ｎ型ＧａＮ系半導体層の平坦部の上面と凸部の側面とに接触して、前記平坦部の上面と前記凸部の側面を被覆するように形成された、他のＧａＮ系半導体層の凸部の側面にショットキー接合すると共に前記第１アノード電極に電気的に接続する第２アノード電極とを備え、
前記第１アノード電極と前記ｎ型ＧａＮ系半導体層との間で形成されるショットキーバリアの高さが前記第２アノード電極と前記ｎ型ＧａＮ系半導体層との間で形成されるショットキーバリアの高さよりも低く、
前記他のＧａＮ系半導体層は前記ｎ型ＧａＮ系半導体層のバンドギャップエネルギーよりも大きいバンドギャップエネルギーを有するアンドープの層であることを特徴とするもので、これにより、オン電圧が低く且つ耐圧の高いＧａＮ系半導体装置たとえば半導ショットキーダイオードを実現する。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の第１実施形態によるＩＩＩ−Ｖ族窒化物半導体装置を説明する。
図１に示すように、第１実施形態の半導体装置は、横型のＧａＮ系ショットキーダイオード１０として構成されている。このショットキーダイオード１０は、例えば絶縁性又は半絶縁性のサファイア基板１２と、基板１２上に形成された厚さ５０ｎｍのＧａＮバッファ層１４と、バッファ層１４上に形成された２０００ｎｍ厚のｎ＋型ＧａＮ層１６とを備えている。そして、ＧａＮ層１６上にはｎ型ＧａＮ層１８が形成されている。このＧａＮ層１８は、厚さ５００ｎｍの平坦部１８ａとこの平坦部１８ａの表面中央部に設けられた凸部１８ｂとを有し、凸部１８ｂは２０００ｎｍ幅で高さが２０００ｎｍである。ＧａＮバッファ層１４の不純物濃度が約５×１０１９ｃｍ−３と高い一方、ｎ型ＧａＮ層１８の不純物濃度は好ましくは２×１０１７ｃｍ−３以下たとえば約２×１０１７ｃｍ−３と低いものになっている。これは、以降説明するように、このＧａＮ系ショットキーダイオードに逆バイアスを加えるとｎ型ＧａＮ層１８内に空乏層が広がるが、不純物濃度が高すぎると、空乏層が広がらず、ピンチオフ状態を実現できないためである。
【０００９】
更に、ショットキーダイオード１０は、ｎ型ＧａＮ層１８の平坦部１８ａの表面及び凸部１８ｂの側面を被覆し且つｎ型ＧａＮ層１８よりもバンドギャップエネルギーの大きい厚さ３０ｎｍのアンドープのＡｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２と、ｎ型ＧａＮ層１８の凸部１８ｂの上面にショットキー接合して凸部上面に形成され且つ第１アノード電極として機能するＴｉ（チタン）電極２６と、Ｔｉ電極２６上及びＡｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２上に形成され且つ第２アノード電極として機能するＰｔ（白金）電極２８とを備えている。Ｐｔ電極２８は、Ｔｉ電極２６に電気的に接続されると共にｎ型ＧａＮ層１８の凸部側面にＡｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２を介してショットキー接合し、また、Ｔｉ電極２６と共同して複合アノード電極３０を構成している。
【００１０】
そして、Ｐｔ電極２８、Ａｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２およびｎ型ＧａＮ層１８の平坦部１８ａの各側面とｎ＋型ＧａＮ層１６の表面の内方部分は、ＳｉＯ２膜３２によって被覆されている。また、ｎ＋型ＧａＮ層１６の表面の外方部分（ＳｉＯ２膜３２に形成された開口部内）には、ＴａＳｉ層からなり且つｎ＋型ＧａＮ層１６にオーミック接合するカソード電極３４が設けられている。
【００１１】
上記構成のショットキーダイオード１０において、ｎ型ＧａＮ層１８とＡｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２はヘテロ接合され、そのヘテロ接合面近傍には図１中に破線で模式的に示すように２次元電子ガスが発生する。また、Ｔｉ電極２６とＧａＮ層１８との接触面には高さ０．３ｅＶのショットキーバリアが形成される。本実施形態のＰｔ電極２８はｎ型ＧａＮ層１８に直接にはショットキー接合していないが、Ｐｔ電極２８をＧａＮ層１８に直接にショットキー接合させた構成では両者の接触面に１．０ｅＶのショットキーバリアが形成されることになる。
【００１２】
なお、第１アノード電極をなす材質はＴｉに限定されず、例えばＷ（タングステン）やＡｇ（銀）等の、ｎ型ＧａＮ層１８に対して０．８ｅＶより低いショットキーバリアを形成する金属であればよい。また、第２アノード電極をなす材質はＰｔに限定されず、例えばＮｉ（ニッケル）やＰｄ（パラジウム）やＡｕ（金）等の、ｎ型ＧａＮ層１８に対して０．８ｅＶより高いショットキーバリアを形成する金属であればよい。
【００１３】
次に、図１のＧａＮ系ショットキーダイオード１０の電流−電圧特性を説明する。
複合アノード電極３０とカソード電極３４との間に順方向バイアスを印加したところ、０．１〜０．３Ｖのオン電圧で順方向電流が急激に増大する良好な立ち上りが観測された。この様な良好な順方向電流立ち上り特性が得られた理由は次のように考えられる。
【００１４】
互いにショットキー接合したＴｉ電極とｎ型ＧａＮ層との間に順方向バイアスを印加した場合、順方向電流の立ち上りに必要なオン電圧は一般には０．３〜０．５Ｖ程度である。一方、Ｐｔ電極とｎ型ＧａＮ層とをショットキー接合させた場合のオン電圧は一般に１．０〜１．５Ｖ程度である。
本実施形態に係るＧａＮ系ショットキーダイオード１０において、順方向電流の立ち上りの最初の段階では、複合アノード電極３０のうち、ｎ型ＧａＮ層１８とショットキー接合するＴｉ電極２６がアノード電極として主に機能する。このため、ショットキーダイオード１０のオン電圧は、ｎ型ＧａＮ層とショットキー接合するＰｔ電極に対応する約１．０〜１．５Ｖよりもｎ型ＧａＮ層とショットキー接合するＴｉ電極に対応する約０．３〜０．５Ｖに近い値となる。更に、ｎ型ＧａＮ層１８とＡｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２とのヘテロ接合面近傍に発生する２次元電子ガスがキャリアとなって順方向電流の増大に寄与するので、オン電圧は、Ａｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２を設けない場合の約０．３〜０．５Ｖよりも低い０．１〜０．３Ｖになり、これにより良好な順方向電流立ち上がり特性が奏されるのである。そして、順方向バイアスが１．０〜１．５Ｖ程度になった段階で、Ｔｉ電極２６及びＰｔ電極２８の双方がアノード電極として機能するようになる。
【００１５】
また、複合アノード電極３０とカソード電極３４間に逆方向バイアスを印加したところ、約５００Ｖという大きな耐圧が観測された。この様な高耐圧が得られた理由は、次のように考えられる。
互いにショットキー接合したＴｉ電極とｎ型ＧａＮ層との間に−１０Ｖの逆方向バイアスを印加した場合、一般に１０−６〜１０−５Ａ程度の逆方向リーク電流が発生する。一方、Ｐｔ電極とｎ型ＧａＮ層とをショットキー接合させた場合の逆方向リーク電流はそれよりも遙に小さく、約５００Ｖの耐圧が得られる。
【００１６】
本実施形態に係るＧａＮ系ショットキーダイオード１０に逆方向バイアスを印加すると、Ｔｉ電極２６にショットキー接合しているｎ型ＧａＮ層１８の凸部１８ｂの上面付近に第１空乏層が広がり、また、Ａｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２を介してＰｔ電極２８にショットキー接合している凸部１８ｂの側面付近には第２空乏層が広がる。
【００１７】
逆方向バイアス電圧が−１０Ｖより小さい段階では、凸部１８ｂの側面に形成される第２空乏層を通り抜ける逆方向リーク電流は殆どないが、凸部１８ｂの上面に形成される第１空乏層を通り抜ける逆方向リーク電流は逆方向バイアスの増大につれて徐々に増大する。そして、凸部上面とＴｉ電極２６とのショットキー接合による第１空乏層の広がりの程度よりも、凸部側面とＰｔ電極２８とのショットキー接合による第２空乏層の広がりの程度の方が大きくなる。そして、Ｐｔ電極２８と凸部１８ｂの側面間にはｎ型ＧａＮ層１８よりもバンドギャップエネルギーが大きなＡｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２が介在しているため、第２空乏層の広がりは更に大きくなる。その結果、逆方向バイアス電圧が約−１０Ｖまで増大すると、凸部１８ｂの両側面から広がる第２空乏層が互いに接触してピンチオフ状態となる。このため、ｎ型ＧａＮ層１８の凸部１８ｂの上面近傍の第１空乏層を通り抜ける逆方向リーク電流は阻止される。そして、これ以上に逆方向バイアスが増大すると、複合アノード電極３０のうちのＰｔ電極２８のみがアノード電極として機能し、従って、５００Ｖ程度という良好な耐圧特性が得られる。
【００１８】
以下、図２（ａ）〜図２（ｅ）及び図３（ａ）〜図３（ｃ）を参照して、図１のショットキーダイオード１０の製造方法の一例を説明する。
先ず、絶縁性又は半絶縁性のサファイア基板１２上に、超真空成長装置を用いた例えばガスソースＭＢＥ（Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｂｅａｍ  Ｅｐｉｔａｘｙ；分子線エピタキシャル成長）法により、例えば成長温度６４０℃において一連の結晶成長を行う。
【００１９】
即ち、原料ガスとして分圧６．６５×１０−５ＰａのＧａ（ガリウム）とラジカル化した分圧４．０×１０−４ＰａのＮ（窒素）を用い、ＧａＮバッファ層１４を厚さ５０ｎｍに成長させる。連続して、例えば分圧１．３３×１０−４ＰａのＧａと分圧６．６５×１０−４ＰａのＮＨ３（アンモニア）と分圧１．３３×１０−６ＰａのドーパントとしてのＳｉ（シリコン）を用いて、５×１０１９ｃｍ−３程度の高不純物濃度のｎ＋型ＧａＮ層１６を厚さ２０００ｎｍに成長させる。更に連続して、例えば分圧１．３３×１０−４ＰａのＧａと分圧６×１０−４ＰａのＮＨ３と分圧２×１０−７ＰａのドーパントとしてのＳｉを用いて、２×１０１７ｃｍ−３程度の低不純物濃度のｎ型ＧａＮ層１８を厚さ２５００ｎｍに成長させる。こうして、サファイア基板１２上に、ＧａＮバッファ層１４、ｎ＋型ＧａＮ層１６およびｎ型ＧａＮ層１８が順に積層された第１中間体を形成する（図２（ａ）参照）。
【００２０】
次いで、第１中間体を超真空成長装置から一旦取り出した後、例えばプラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ；化学的気相成長）法により、ｎ型ＧａＮ層１８上にＳｉＯ２膜を形成する。なお、ＳｉＯ２膜の代わりに例えばＳｉＮＸ膜やＡｌＮ膜を形成してもよい。続いて、例えばＢＨＦを用いたウエットエッチング法又はＣＦ４を用いたドライエッチング法によりＳｉＯ２膜をパターニングして、例えば２μｍ幅のＳｉＯ２パターン２０を形成する（図２（ｂ）参照）。
【００２１】
次いで、例えばメタン系ガスを用いたＥＣＲ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｃｙｃｌｏｔｒｏｎ  Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ；電子サイクロトロン共鳴）プラズマエッチング法又はＲＩＢＥ（Ｒｅａｃｔｉｖｅ  ＩｏｎＢｅａｍ  Ｅｔｃｈｉｎｇ；反応性イオンビームエッチング）法により、ＳｉＯ２パターン２０をマスクとしてｎ型ＧａＮ層１８を選択的に除去し、ｎ型ＧａＮ層１８の平坦部（図１に符号１８ａで示す）の表面中央部に高さ２０００ｎｍの凸部（図１に符号１８ｂで示す）を形成する。こうして、平坦部と凸部とを有したＧａＮ層１８を備えた第２中間体を形成する（図２（ｃ）参照）。
【００２２】
次いで、第２中間体を再び超真空成長装置内に装填する。そして、ＳｉＯ２パターン２０をマスクとし、例えば分圧６．６５×１０−５ＰａのＧａと分圧２．６６×１０−５ＰａのＡｌと分圧６．６５×１０−４ＰａのＮＨ３を原料ガスとして、厚さ３０ｎｍのアンドープのＡｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２をｎ型ＧａＮ層１８上に選択成長させる。こうして、ｎ型ＧａＮ層１８の平坦部の表面及び凸部の側面がＡｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２によって被覆された第３中間体を形成する（図２（ｄ）参照）。
【００２３】
次いで、第３中間体を超真空成長装置から取り出した後、ＳｉＯ２パターン２０を除去する。続いて、第３中間体の全面にＳｉＯ２膜（図示せず）を形成した後、フォトリソグラフィ技術とエッチング技術を用いてパターニングして、ｎ型ＧａＮ層１８の凸部の上面及びＡｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２の表面の内方部分を被覆するＳｉＯ２パターン２４を形成する（図２（ｅ）参照）。
【００２４】
次いで、例えばメタン系ガスを用いたＥＣＲプラズマエッチング法又はＲＩＢＥ法により、ＳｉＯ２パターン２４をマスクとして、Ａｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２及びｎ型ＧａＮ層１８を選択的に除去し、ｎ＋型ＧａＮ層１６の表面の外方部分を露出させる（図３（ａ）参照）。
次いで、ＳｉＯ２パターン２４を除去する。続いて、リフトオフ法により、ｎ型ＧａＮ層１８の凸部上面にショットキー接合するＴｉ電極２６を形成する。具体的には、ｎ型ＧａＮ層１８の凸部上面ならびにＡｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２及びｎ＋型ＧａＮ層１６の各表面を全面的に被覆するレジスト膜（図示せず）を塗布した後、フォトリソグラフィ技術を用いて、ｎ型ＧａＮ層１８の凸部上面が露出する開口部をレジスト膜に形成するパターニングを行う。続いて、蒸着法により、Ｔｉ膜をレジスト膜上及び開口部内に堆積させる。その後、レジスト膜上のＴｉ膜をレジスト膜と共に除去する。こうして、ｎ型ＧａＮ層１８の凸部の上面上にＴｉ膜を残存させ、Ｔｉ電極２６を形成する（図３（ｂ）参照）。
【００２５】
次いで、図３（ｂ）に示す工程段階と同様に、リフトオフ法により、Ｔｉ電極２６上及びＡｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２上にＰｔ層を選択的に形成する。こうして、Ｔｉ電極２６に電気的に接続すると共にｎ型ＧａＮ層１８の凸部側面にＡｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２を介してショットキー接合するＰｔ電極２８を形成し、Ｔｉ電極２６とＰｔ電極２８とから複合アノード電極３０を構成する（図３（ｃ）参照）。
【００２６】
次いで、Ｐｔ電極２８、Ａｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２、ｎ型ＧａＮ層１８およびｎ＋型ＧａＮ層１６の表面や側面を被覆するＳｉＯ２膜３２（図１）を形成する。その後、フォトリソグラフィ技術とエッチング技術を用いてＳｉＯ２膜３２を選択的に除去し、Ｐｔ電極２８の表面を露出させると共にｎ＋型ＧａＮ層１６の表面の外方部分を露出させる。続いて、リフトオフ法により、ｎ＋型ＧａＮ層１６の露出部分の上にＴａＳｉ層を形成する。こうして、ｎ＋型ＧａＮ層１６上にオーミック接合し且つＴａＳｉ層からなるカソード電極３４を形成する。以上のような一連の工程を経て、図１に示すショットキーダイオード１０を作製する。
【００２７】
次に、図１のショットキーダイオード１０の製造方法の他の例を説明する。
先ず、図２（ａ）に示す工程と略同様にして、サファイア基板１２上にＧａＮバッファ層１４及びｎ＋型ＧａＮ層１６を順に積層した後、ｎ＋型ＧａＮ層１６上に、図２（ａ）のｎ型ＧａＮ層１８と同じ成膜条件でｎ型ＧａＮ層１８ａ（図４（ａ））を厚さ５００ｎｍに積層する。
【００２８】
次いで、例えばプラズマＣＶＤ法により、ｎ型ＧａＮ層１８ａ上にＳｉＯ２膜３６を形成する。なお、このＳｉＯ２膜３６の代わりに、ＳｉＮＸ膜やＡｌＮ膜を形成してもよい。続いて、例えばＢＨＦを用いたウエットエッチング法又はＣＦ４を用いたドライエッチング法によりＳｉＯ２膜３６を選択的にエッチングして、幅２μｍの開口部を形成する（図４（ａ）参照）。
【００２９】
次いで、ＳｉＯ２膜３６をマスクとして、開口部内のｎ型ＧａＮ層１８ａ上に、ｎ型ＧａＮ層１８ａと同じ成膜条件で、厚さ２０００ｎｍのｎ型ＧａＮ層１８ｂを成長させる。ｎ型ＧａＮ層１８ａ、１８ｂは、表面中央部に高さ２０００ｎｍの凸部を有したｎ型ＧａＮ層１８を構成する（図４（ｂ）参照）。
次いで、図２（ｄ）、図２（ｅ）及び図３（ａ）〜図（ｃ）に示す諸工程と同様の諸工程を経て、図１に示すショットキーダイオード１０を作製する。
【００３０】
ショットキーダイオード１０は、ｎ型ＧａＮ層１８の凸部上面にショットキー接合するＴｉ電極２６と凸部側面にショットキー接合するＰｔ電極２８との組み合わせからなる複合アノード電極３０を有して、低いオン電圧と高い耐圧とを同時に達成するものになっている。
更に、ｎ型ＧａＮ層１８の凸部の側面とＰｔ電極２８との間にバンドギャップエネルギーの大きなアンドープのＡｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２が設けられているため、ｎ型ＧａＮ層１８とＡｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２とのヘテロ接合面近傍に２次元電子ガスを発生させて順方向電流を増大させ順方向電流の良好な立ち上り特性を更に向上させることができ、また、ｎ型ＧａＮ層１８の凸部側面とＰｔ電極２８とのショットキー接合により空乏層を広げて良好な耐圧特性を更に向上させることができる。
【００３１】
なお、ｎ型ＧａＮ層１８の凸部１８ｂの幅は第１実施形態では２０００ｎｍの値になっているが、ショットキーダイオード１０に要求される特性によって変化するものである。即ち、凸部１８ｂの幅は、順方向電流を増大させるためには広い方が好ましい一方、凸部１８ｂの両側面から広がる空乏層同士が接触するピンチオフ状態を達成して凸部１８ｂの上面の空乏層を通り抜ける逆方向リーク電流を阻止するに必要な逆方向バイアスを可能な限り小さくするためには狭い方が好ましい。従って、実際には、トレードオフの関係になる２つの特性（順方向電流特性および逆方向リーク電流特性）に対する要求を勘案して、ｎ型ＧａＮ層１８の凸部の幅が決定される。以上のことは、後述の実施形態や変形例においても同様である。
【００３２】
上記第１実施形態のショットキーダイオード１０は種々に変形可能である。
例えば、ショットキーダイオード１０におけるＡｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２の代わりに厚さ５０ｎｍのアンドープのＧａＮ層を設け、このＧａＮ層をｎ型ＧａＮ層１８の凸部側面とＰｔ電極２８との間に介在させても良い。この第１変形例に係るショットキーダイオードは、第１実施形態のものと略同様に製造可能であるので、その製造方法の説明を省略する。後述の変形例についても同様である。
【００３３】
第１変形例に係るショットキーダイオードでは、複合アノード電極３０とカソード電極３４との間に逆方向バイアスを印加する際に、ｎ型ＧａＮ層１８の凸部の側面に形成される空乏層の広がり方がアンドープＧａＮ層の存在によってより大きくなる。このため、第１実施形態の場合と同様に低いオン電圧と高い耐圧とが同時に達成されることはもとより、アンドープＧａＮ層とＰｔ電極２８とのショットキー接合により空乏層の広がり方が更に大きくなり、良好な耐圧特性を更に向上させることができる。
【００３４】
図５は、第１実施形態の第２変形例に係るショットキーダイオード１０Ｂを示す。このショットキーダイオード１０Ｂは、ショットキーダイオード１０（図１）に比べてｎ型ＧａＮ層１８の表面に凸部を２個形成した点が主に異なる。そして、Ａｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２はｎ型ＧａＮ層１８の平坦部の表面及び２つの凸部の側面に形成され、また、２つのＴｉ電極２６が２つの凸部の上面にそれぞれ形成され、Ｐｔ電極２８は２つのＴｉ電極２６及びＡｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２上に形成されている。
【００３５】
ショットキーダイオード１０Ｂは、ショットキーダイオード１０に比べて、電流経路となる凸部の数が１個から２個に増加しているため、複合アノード電極３０とカソード電極３４との間に順方向バイアスを印加した際の順方向電流が更に増大するという効果を奏する。
なお、ショットキーダイオード１０Ｂによれば、凸部の幅をショットキーダイオード１０のものよりも狭くして、より小さな逆方向バイアスで凸部上面に沿って形成される空乏層を通り抜ける逆方向リーク電流を阻止し、耐圧特性を向上することができる。即ち、凸部の数を増加させると共に凸部の幅を狭くすることにより、上述のようにトレードオフの関係になる順方向電流特性および逆方向リーク電流特性を同時に満たすことが可能になる。ｎ型ＧａＮ層１８の凸部の数は、２つに限定されず、３つ以上であってもよい。以上のことは、後述の実施形態や変形例においても同様である。
【００３６】
次に、第１実施形態の第３変形例に係るショットキーダイオードでは、第２変形例のショットキーダイオード１０Ｂ（図５）におけるＡｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２の代わりに第１変形例で述べたアンドープＧａＮ層が設けられる。この様に、第３変形例に係るショットキーダイオードは、第１および第２変形例を組み合わせた構成となっているため、良好な耐圧性を有すると共に順方向電流を増大させることができる。
【００３７】
以下、本発明の第２実施形態に係る縦型のＧａＮ系ショットキーダイオードを説明する。
図６に示すように、第２実施形態のショットキーダイオード４０は、第１実施形態に係る横型のショットキーダイオード１０（図１）のサファイア基板１２、ＧａＮバッファ層１４及びｎ＋型ＧａＮ層１６の代わりに、例えば、導電性のｎ型ＳｉＣ基板４２を備えると共に、図１に示すカソード電極３４に代えて、ＳｉＣ基板４２の裏面にオーミック接合するＴａＳｉ層からなるカソード電極４４を形成して、縦型構造としたものである。
【００３８】
ＳｉＣ基板４２上には、ＧａＮ層１８、アンドープのＡｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２、Ｔｉ電極２６、Ｐｔ電極２８およびＳｉＯ２膜３２が設けられ、電極２６，２８により複合電極３０が構成されている。要素１８，２２、２６、２８及び３２は、第１実施形態のショットキーダイオード１０のものと構成および作用が同一であるので、説明を省略する。
【００３９】
ショットキーダイオード４０は、第１実施形態のものと略同一の電流−電圧特性を備えている。すなわち、複合アノード電極３０とカソード電極４４との間に順方向バイアスを印加したところ、第１実施形態の場合と略同様に、０．１〜０．３Ｖのオン電圧で順方向電流が急激に増大する良好な立ち上りが観測された。また、複合アノード電極３０とカソード電極４４との間に逆方向バイアスを印加したところ、約５００Ｖという大きな耐圧が観測された。第１実施形態について述べた理由と同様の理由で、ショットキーダイオード４０が低いオン電圧と高い耐圧を有するものと考えられる。
【００４０】
ショットキーダイオード４０は、第１実施形態のものと略同様に製造可能である。簡略に説明すれば、超真空成長装置を用いた例えばガスソースＭＢＥ法により、導電性のｎ型ＳｉＣ基板４２上にｎ型ＧａＮ層１８を成長させ、次いで、ｎ型ＧａＮ層１８を選択的にエッチング除去して凸部１８ｂを形成し、更に、アンドープのＡｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２を成長させる。続いて、ｎ型ＧａＮ層４４の凸部の上面および側面にＴｉ電極２６およびＰｔ電極２８を形成し、更に、ＳｉＯ２膜３２を形成する。最後に、ｎ型ＳｉＣ基板４２の裏面にカソード電極４４を形成し、これによりショットキーダイオード４０の作製を終了する。
【００４１】
第２実施形態のショットキーダイオード４０が縦型構造である一方、第１実施形態のショットキーダイオード１０が横型構造であるという差異はあるものの、両ショットキーダイオードは、ｎ型ＧａＮ層１８の凸部上面にショットキー接合するＴｉ電極２６と凸部側面にＡｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２を介してショットキー接合するＰｔ電極２８とからから構成された複合アノード電極３０を有した共通の基本構造を有する。従って、ショットキーダイオード４０は、ショットキーダイオード１０と同様の効果を奏する。
【００４２】
上記第２実施形態のショットキーダイオード４０は種々に変形可能である。
第２実施形態の下記第１〜第３変形例は第１実施形態の第１〜第３変形例にそれぞれ対応する。各変形例のショットキーダイオードは、第１実施形態の変形例の対応するものにおけるサファイア基板１２の代わりにｎ型ＳｉＣ基板（図６に４２で示す）を備えると共にＳｉＣ基板４２の裏面に形成されたカソード電極（図６に４４で示す）を備える。換言すれば、各ショットキーダイオードは、第１実施形態の対応する変形例のものを横型構造から縦型構造に更に変形したものであり、当該対応する変形例のものと同様の特性を備え、同様に製造可能である。
【００４３】
すなわち、第２実施形態の第１変形例によるショットキーダイオードは、ショットキーダイオード４０におけるＡｌ0.2Ｇａ0.8Ｎ層２２の代わりに設けられたアンドープＧａＮ層を備え、このアンドープＧａＮ層をｎ型ＧａＮ層１８の凸部側面とＰｔ電極２８との間に介在させ、これにより耐圧特性が向上する。
【００４４】
図７に示すように、第２実施形態の第２変形例に係るショットキーダイオード４０Ｂは、ショットキーダイオード４０に比べてｎ型ＧａＮ層１８の表面に凸部を２個形成した点が主に異なり、複合アノード電極３０とカソード電極４４との間に順方向バイアスを印加した際の順方向電流を増大可能である。
第２実施形態の第３変形例に係るショットキーダイオードは、図７に示すショットキーダイオード４０ＢにおけるＡｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層２２の代わりに設けられたアンドープＧａＮ層を備え、これにより耐圧性を向上すると共に順方向電流を増大可能である。
【００４５】
【発明の効果】
請求項１に記載の発明は、
表面の一部が凸部形状をなすｎ型ＧａＮ系半導体層と、
前記ｎ型ＧａＮ系半導体層の前記凸部の上面にショットキー接合する第１アノード電極と、
前記ｎ型ＧａＮ系半導体層の上側に前記ｎ型ＧａＮ系半導体層の平坦部の上面と凸部の側面とに接触して、前記平坦部の上面と前記凸部の側面を被覆するように形成された、他のＧａＮ系半導体層の凸部の側面にショットキー接合すると共に前記第１アノード電極に電気的に接続する第２アノード電極とを備え、
前記第１アノード電極と前記ｎ型ＧａＮ系半導体層との間で形成されるショットキーバリアの高さが前記第２アノード電極と前記ｎ型ＧａＮ系半導体層との間で形成されるショットキーバリアの高さよりも低いので、オン電圧が低く且つ耐圧が高い半導体装置たとえば半導体ショットキーダイオードを実現することができ、また、前記他のＧａＮ系半導体層は前記ｎ型ＧａＮ系半導体層のバンドギャップエネルギーよりも大きいバンドギャップエネルギーを有するので、半導体装置の順方向電流の立ち上がり特性および耐圧特性を向上させることができる。
【００４６】
請求項２に記載の発明は、
表面の一部が凸部形状をなすｎ型ＧａＮ系半導体層と、
前記ｎ型ＧａＮ系半導体層の前記凸部の上面にショットキー接合する第１アノード電極と、
前記ｎ型ＧａＮ系半導体層の上側に前記ｎ型ＧａＮ系半導体層の平坦部の上面と凸部の側面とに接触して、前記平坦部の上面と前記凸部の側面を被覆するように形成された、他のＧａＮ系半導体層の凸部の側面にショットキー接合すると共に前記第１アノード電極に電気的に接続する第２アノード電極とを備え、
前記第１アノード電極と前記ｎ型ＧａＮ系半導体層との間で形成されるショットキーバリアの高さが前記第２アノード電極と前記ｎ型ＧａＮ系半導体層との間で形成されるショットキーバリアの高さよりも低いので、オン電圧が低く且つ耐圧が高い半導体装置たとえば半導体ショットキーダイオードを実現することができ、さらに、前記他のＧａＮ系半導体層は前記ｎ型ＧａＮ系半導体層のバンドギャップエネルギーよりも大きいバンドギャップエネルギーを有するアンドープの層であるので、半導体装置に逆バイアスを印加した際に、ｎ型ＧａＮ系半導体層の凸部側面に形成される空乏層の広がり方を大きくすることができ、半導体装置の耐圧特性を向上させることができる。
【００４７】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る横型のＧａＮ系ショットキーダイオードを示す概略断面図である。
【図２】図１のＧａＮ系ショットキーダイオードの製造方法の工程段階を示す概略断面図であり、（ａ）ないし（ｅ）は同製造方法の第１ないし第５工程段階を示す。
【図３】図２に続く工程段階を示す断面図であり、（ａ）ないし（ｃ）は第６ないし第８工程段階を示す。
【図４】図１のＧａＮ系ショットキーダイオードの別の製造方法の工程段階を示す概略断面図であり、（ａ）及び（ｂ）は、同製造方法の第２及び第３工程段階を示す。
【図５】第１実施形態の第２変形例に係るショットキーダイオードの概略断面図である。
【図６】本発明の第２実施形態に係る縦型のＧａＮ系ショットキーダイオードを示す概略断面図である。
【図７】第２実施形態の第２変形例に係るショットキーダイオードの概略断面図である。
【符号の説明】
【００４８】
１０  ＧａＮ系ショットキーダイオード
１２  サファイア基板
１４  ＧａＮバッファ層
１６  ｎ＋型ＧａＮ層
１８  ｎ型ＧａＮ層
１８ｂ  凸部
２２  Ａｌ０．２Ｇａ０．８Ｎ層
２６  Ｔｉ電極
２８  Ｐｔ電極
３０  複合アノード電極
３４  カソード電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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