Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月12日(2008.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エチレン性不飽和二重結合を有する樹脂（Ａ）と、エチレン性不飽和二重結合を有する単量体（Ｂ）と、尿素化合物（Ｃ）からなるチクソ付与剤とを含んでいることを特徴とするチクソトロピー性ラジカル重合型成形材料。
【請求項２】
前記尿素化合物が、ジイソシアネートとモノアミンとの反応生成物である請求項１記載のチクソトロピー性ラジカル重合型成形材料。
【請求項３】
前記モノアミンが、ベンジルアミンである請求項２記載のチクソトロピー性ラジカル重合型成形材料。
【請求項４】
エチレン性不飽和二重結合を有する樹脂（Ａ）及びエチレン性不飽和二重結合を有する単量体（Ｂ）の存在下に、モノアミンをジイソシアネートに加え、又はジイソシアネートをモノアミンに加え、前記アミン化合物と前記ジイソシアネートとを反応させて尿素化合物を形成することを特徴とするチクソトロピー性ラジカル重合型成形材料の製造方法。
【請求項５】
エチレン性不飽和二重結合を有する単量体（Ｂ）及びモノアミンの混合物をエチレン性不飽和二重結合を有する単量体（Ｂ）及びジイソシアネートの混合物に、又はエチレン性不飽和二重結合を有する単量体（Ｂ）及びジイソシアネートの混合物をエチレン性不飽和二重結合を有する単量体（Ｂ）及びモノアミンの混合物に加え、前記モノアミンと前記ジイソシアネートとを反応させて尿素化合物を形成し、次いでエチレン性不飽和二重結合を有する樹脂（Ａ）を加えることを特徴とするチクソトロピー性ラジカル重合型成形材料の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜３のいずれかに記載のチクソトロピー性ラジカル重合型成形材料を成形してなる成形品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
即ち、本発明は、エチレン性不飽和二重結合を有する樹脂（Ａ）と、エチレン性不飽和二重結合を有する単量体（Ｂ）と、尿素化合物（Ｃ）からなるチクソ付与剤とを含んでいることを特徴とするチクソトロピー性ラジカル重合型成形材料を提供するものである。
また本発明は、エチレン性不飽和二重結合を有する樹脂（Ａ）及びエチレン性不飽和二重結合を有する単量体（Ｂ）の存在下に、モノアミンをジイソシアネートに加え、又はジイソシアネートをモノアミンに加え、前記アミン化合物と前記ジイソシアネートとを反応させて尿素化合物を形成するか、又はエチレン性不飽和二重結合を有する単量体（Ｂ）及びモノアミンの混合物をエチレン性不飽和二重結合を有する単量体（Ｂ）及びジイソシアネートの混合物に、又はエチレン性不飽和二重結合を有する単量体（Ｂ）及びジイソシアネートの混合物をエチレン性不飽和二重結合を有する単量体（Ｂ）及びモノアミンの混合物に加え、前記モノアミンと前記ジイソシアネートとを反応させて尿素化合物を形成し、次いでエチレン性不飽和二重結合を有する樹脂（Ａ）を加えることを特徴とするチクソトロピー性ラジカル重合型成形材料の製造方法を提供するものである。
さらに本発明は、前記チクソトロピー性ラジカル重合型成形材料を成形してなる成形品を提供するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月28日(2008.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
実施例２．
RS-2117の5%水溶液1500部にCHMAを23.8部、架橋剤として503を4.8部、反応開始剤としてAPS（過硫酸アンモニウム）を0.05部加え、80℃で2時間反応させて樹脂組成物を得た。実施例１と同様にしてフィルムを得た。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
実施例３．
ブロック重合性があるポリビニルアルコールM-115の5%水溶液400部にMMAを38.1部、ANを38.1部、架橋剤として503を4.8部、反応開始剤としてAPSを0.05部加えて80℃で2時間反応させ樹脂組成物を得た。実施例１と同様にしてフィルムを得た。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
実施例４．
Z-220の3%水溶液2500部にCHMAを23.7部、架橋性基としてDAAMを4.8部、反応開始剤としてAPSを0.05部加えて80℃で2時間反応させた。40℃に冷却し、セバチン酸ジヒドラジドを0.5部加えて樹脂組成物を得た。実施例１と同様にしてフィルムを得た。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
実施例５．
RS-2117の10%水溶液1000部にシリコンを含有するLK-513ナノエマルション（固形分50%）を20部加え、テトラエトキシシランを1部加え樹脂組成物を得た。実施例１と同様にしてフィルムを得た。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
比較例３．
ANと架橋剤（503）を添加しなかった以外は、実施例３と同様の方法によりフィルムを得た。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
【表１】
2006241242.tif 000001
PVA-117、M-115、RS2117：クラレ製ポリビニルアルコール系樹脂
Z-220：日本合成化学製ポリビニルアルコール系樹脂
MMA：メチルメタクリレート
AN：アクリロニトリル
CHMA：シクロヘキシルメタクリレート
DAAM：ダイアセトンアクリルアミド
503：3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
UO-115：高圧ガス工業製水分散性ウレタンプレポリマー（2官能末端イソシアネートの水分散性ウレタンオリゴマー）
LK-513：高圧ガス工業製ナノエマルション（ケイ素含有スチレンアクリル系ナノエマルション）
TES：テトラエトキシシラン
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
【表２】
2006241242.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月27日(2008.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ−１）主成分であるモノエチレン性不飽和モノマーと、酸性基を含有する不飽和モノマーとを含む組成物を共重合させて得た、ガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以上である酸性基含有(メタ)アクリル系ポリマーと
（Ｂ−１）主成分であるモノエチレン性不飽和モノマーと、塩基性基を含有する不飽和モノマーとを含む組成物を共重合させて得た、ガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下である塩基性基含有(メタ)アクリル系ポリマーと
（Ｃ）ラジカル発生基を含有する化合物
とから形成された（メタ）アクリル系フィルム。
【請求項２】
前記成分（Ａ−１）と（Ｂ−１）のいずれか１方又は両方に、前記ラジカル発生基を含有する化合物（Ｃ）が共重合されていることを特徴とする、請求項１に記載の（メタ）アクリル系フィルム。
【請求項３】
（Ａ−２）主成分であるモノエチレン性不飽和モノマーと、酸性基を含有する不飽和モノマーとを含む組成物を共重合させて得た、ガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下である酸性基含有(メタ)アクリル系ポリマーと
（Ｂ−２）主成分であるモノエチレン性不飽和モノマーと、塩基性基を含有する不飽和モノマーとを含む組成物を共重合させて得た、ガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以上である塩基性基含有(メタ)アクリル系ポリマーと
（Ｃ）ラジカル発生基を含有する化合物
とから形成された（メタ）アクリル系フィルム。
【請求項４】
前記成分（Ａ−２）と（Ｂ−２）のいずれか１方又は両方に、前記ラジカル発生基を含有する化合物（Ｃ）が共重合されていることを特徴とする請求項３に記載の（メタ）アクリル系フィルム。
【請求項５】
前記ラジカル発生基が感光性ラジカル発生基であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の（メタ）アクリル系フィルム。
【請求項６】
紫外線照射又は加熱による架橋によって形成された、請求項１〜５のいずれか１項に記載の（メタ）アクリル系フィルム。
【請求項７】
（Ａ−１）主成分であるモノエチレン性不飽和モノマーと、酸性基を含有する不飽和モノマーとを含む組成物を共重合させて得た、ガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以上である酸性基含有(メタ)アクリル系ポリマーと
（Ｂ−１）主成分であるモノエチレン性不飽和モノマーと、塩基性基を含有する不飽和モノマーとを含む組成物を共重合させて得た、ガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下である塩基性基含有(メタ)アクリル系ポリマーと
（Ｄ）ポリイソシアネート
とから形成され、ただし上記成分（Ａ−１）と（Ｂ−１）のいずれか１方又は両方がヒドロキシル基を含有する（メタ）アクリル系フィルム。
【請求項８】
（Ａ−２）主成分であるモノエチレン性不飽和モノマーと、酸性基を含有する不飽和モノマーとを含む組成物を共重合させて得た、ガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下である酸性基含有(メタ)アクリル系ポリマーと
（Ｂ−２）主成分であるモノエチレン性不飽和モノマーと、塩基性基を含有する不飽和モノマーとを含む組成物を共重合させて得た、ガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以上である塩基性基含有(メタ)アクリル系ポリマーと
（Ｄ）ポリイソシアネート
とから形成され、ただし上記成分（Ａ−２）と（Ｂ−２）のいずれか１方又は両方がヒドロキシル基を含有する（メタ）アクリル系フィルム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月24日(2008.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
垂直方向に土中に埋設したケーシング管を撤去する場合において、前記ケーシング管を管内から長手方向に複数の短冊片状に切断することにより分割して、分割片を個々に引き抜くことを特徴とする埋設ケーシング管の撤去方法。
【請求項２】
前記ケーシング管内に複数のカッタビットを備えた垂直カッタを挿入し、前記カッタビットにより前記ケーシング管を長手方向に切断することを特徴とする請求項１に記載の埋設ケーシング管の撤去方法。
【請求項３】
前記ケーシング管は下方から上方に向けて切断することを特徴とする請求項１又は２に記載の埋設ケーシング管の撤去方法。
【請求項４】
切断後の前記分割片の引き抜きに先立ち、前記ケーシング管内に拡幅装置を挿入し、切断した前記分割片を内側から拡幅することを特徴とする請求項１又は２に記載の埋設ケーシング管の撤去方法。
【請求項５】
前記長手方向の切断に先立ち、前記ケーシング管内に水平カッタを挿入し、該水平カッタにより孔底において前記ケーシング管を水平方向に切断することを特徴とする請求項１に記載の埋設ケーシング管の撤去方法。
【請求項６】
前記水平方向の切断に先立ち、前記ケーシング管内を洗浄することを特徴とする請求項５に記載の埋設ケーシング管の撤去方法。
【請求項７】
前記分割片の引き抜き後に、前記水平方向の切断により切り離した前記ケーシング管の孔底部を引き上げ装置により引き上げることを特徴とする請求項５に記載の埋設ケーシング管の撤去方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月18日(2008.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＤＮＡメチル化検出用試料を調製するための生体試料前処理液であって、プロテアーゼを含む水溶液からなる生体試料前処理液。
【請求項２】
界面活性剤及び／又はカオトロピック剤をさらに含む、請求項１に記載の生体試料前処理液。
【請求項３】
前記界面活性剤及び／又はカオトロピック剤が、ドデシル硫酸ナトリウム、尿素、及び／又は塩酸グアニジンである、請求項２に記載の生体試料前処理液。
【請求項４】
ＤＮＡを切断することのできる切断剤をさらに含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の生体試料前処理液。
【請求項５】
ｐＨが７〜１０である請求項１〜４のいずれか１項に記載の生体試料前処理液。
【請求項６】
ＤＮＡメチル化検出用試料を調製するための試薬キットであって、請求項１〜５のいずれか１項に記載の生体試料前処理液からなる第１試薬と、ＤＮＡに含まれる非メチル化シトシンを他の塩基に変換する変換剤を含む第２試薬とからなる試薬キット。
【請求項７】
前記変換剤が、亜硫酸水素塩である請求項６に記載の試薬キット。
【請求項８】
前記亜硫酸水素塩の濃度が、３〜１０Ｍである請求項７に記載の方法。
【請求項９】
ＤＮＡメチル化検出用試料の調製方法であって、
プロテアーゼを含む水溶液からなる生体試料前処理液と細胞を含む生体試料を混合する工程と、
得られた混合液に、変換剤を添加して混合物中のＤＮＡに含まれる非メチル化シトシンを他の塩基に変換する工程からなるＤＮＡメチル化検出用試料の調製方法。
【請求項１０】
前記生体試料が、血清、血漿、生体組織又は乳腺分泌液である請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記細胞が腫瘍細胞である請求項９又は１０に記載の方法。
【請求項１２】
生体試料前処理液と生体試料を混合する工程の前に、細胞を含む生体試料を界面活性剤及び／又はカオトロピック剤を含む溶解液で溶解する工程、を含む請求項９〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
生体試料におけるＤＮＡメチル化検出方法であって、
プロテアーゼを含む水溶液からなる生体試料前処理液と細胞を含む生体試料を混合する工程と、
得られた混合液に、ＤＮＡに含まれる非メチル化シトシンを他の塩基に変換するための変換剤を添加してＤＮＡメチル化検出用試料を調製する工程と、
他の塩基への変換前のＤＮＡの所定領域にハイブリダイズするポリヌクレオチドを用いて、ＤＮＡメチル化検出用試料に含まれるＤＮＡのメチル化を検出する工程と、からなるＤＮＡメチル化検出方法。
【請求項１４】
前記ＤＮＡの所定領域が、遺伝子のＣｐＧアイランドを含む領域である請求項１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月7日(2008.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
作動される作動部を有する処置具と、
前記作動部を操作するための操作手段と、
前記処置具を挿通可能な処置具挿通路を有し、前記処置具は前記処置具挿通路の基端部から先端部まで挿通されて前記先端部から突没可能である、内視鏡と、
前記処置具について前記処置具挿通路の先端部から突出されている部分の状態を検出する検出手段と、
前記検出手段による検出結果に基づいて、前記操作手段への操作による前記作動部の作動を制御する制御手段と、
を具備することを特徴とする内視鏡装置。
【請求項２】
前記処置具は、把持鉗子を有し、
前記作動部は、開閉作動される把持部を有し、
前記操作手段は、前記把持部を開閉操作するための把持部操作手段を有し、
前記検出手段は、前記処置具挿通路の先端部から前記把持部が突出されているか否かを検出する把持部突没検出手段を有し、
前記制御手段は、前記把持部突没検出手段により前記把持部が突出されていることが検出された場合には前記把持部操作手段への操作に従って前記把持部を開閉作動させ、前記把持部突没検出手段により前記把持部が突出されていないことが検出された場合には前記把持部操作手段への操作にかかわらず前記把持部を閉状態とする把持部制御手段を有する、
ことを特徴とする請求項１に記載の内視鏡装置。
【請求項３】
前記処置具は、高周波処置具を有し、
前記作動部は、高周波電流が通電され、通電が停止される高周波電極を有し、
前記操作手段は、前記高周波電極への高周波電流の通電、通電の停止を操作する高周波電極操作手段を有し、
前記検出手段は、前記処置具挿通路の先端部から前記高周波電極が突出されているか否かを検出する高周波電極突没検出手段を有し、
前記制御手段は、前記高周波電極突没検出手段により前記高周波電極が突出されていることが検出された場合には前記高周波電極操作手段への操作に従って前記高周波電極へ高周波電流を通電し、通電を停止し、前記高周波電極突没検出手段により前記高周波電極が突出されていないことが検出された場合には前記高周波電極操作手段への操作にかかわらず前記高周波電極への高周波電流の通電を停止する高周波電極制御手段を有する、
ことを特徴とする請求項１に記載の内視鏡装置。
【請求項４】
前記処置具は、能動処置具を有し、
前記作動部は、前記能動処置具を能動的に移動させるために作動される関節部を有し、
前記操作手段は、前記関節部を操作するための関節部操作手段を有し、
前記検出手段は、前記処置具挿通路の先端部から前記関節部が突出されているか否かを検出する関節部突没検出手段を有し、
前記制御手段は、前記関節部突没検出手段により前記関節部が突出されていることが検出された場合には前記関節部操作手段への操作に従って前記関節部を作動させ、前記関節部突没検出手段により前記関節部が突出されていないことが検出された場合には前記関節部操作手段への操作にかかわらず前記関節部を前記能動処置具の形状が前記処置具挿通路の形状に追従して変形されるような追従状態とする関節部制御手段を有する、
ことを特徴とする請求項１に記載の内視鏡装置。
【請求項５】
前記作動部は、複数の前記関節部を有する、
ことを特徴とする請求項４に記載の内視鏡装置。
【請求項６】
前記関節部の追従状態は、前記能動処置具の形状が前記処置具挿通路の形状に追従して能動的に変形されるように前記関節部を作動する能動作動状態を含む、
ことを特徴とする請求項４又は５に記載の内視鏡装置。
【請求項７】
前記関節部の追従状態は、前記関節部を解放する解放状態を含む、
ことを特徴とする請求項４又は５に記載の内視鏡装置。
【請求項８】
マニピュレータ部であって、
所定の径を有する挿通路に挿通可能な外形に形成されている先端部、
前記挿通路に挿通可能な外形に形成されると共に前記先端部に対して連接されている第１の可動部、
前記先端部と前記第１の可動部との連接部に設けられ、前記先端部と前記第１の可動部とを相対的に動作可能なように連結している第１の関節部、
前記挿通路に挿通可能な外形に形成されると共に前記第１の可動部に対して連接されている第２の可動部、並びに、
前記第１の可動部と前記第２の可動部との連接部に設けられ、前記第１の可動部と前記第２の可動部とを相対的に動作可能なように連結している第２の関節部、
を有するマニピュレータ部と、
前記マニピュレータ部を任意に操作可能な操作手段と、
前記挿通路に対して挿通される前記マニピュレータ部の相対的な挿入量情報を検出する検出手段と、
前記操作部の操作状態と前記検出部の検出結果とに基づき、前記マニピュレータ部の駆動状態を制御する制御手段と、
を具備することを特徴とするマニピュレータシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】内視鏡装置及びマニピュレータシステム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の第７実施態様では、内視鏡装置は、前記関節部の追従状態は、前記関節部を解放する解放状態を含む、ことを特徴とする。
本発明の第８実施態様では、マニピュレータ部であって、所定の径を有する挿通路に挿通可能な外形に形成されている先端部、前記挿通路に挿通可能な外形に形成されると共に前記先端部に対して連接されている第１の可動部、前記先端部と前記第１の可動部との連接部に設けられ、前記先端部と前記第１の可動部とを相対的に動作可能なように連結している第１の関節部、前記挿通路に挿通可能な外形に形成されると共に前記第１の可動部に対して連接されている第２の可動部、並びに、前記第１の可動部と前記第２の可動部との連接部に設けられ、前記第１の可動部と前記第２の可動部とを相対的に動作可能なように連結している第２の関節部、を有するマニピュレータ部と、前記マニピュレータ部を任意に操作可能な操作手段と、前記挿通路に対して挿通される前記マニピュレータ部の相対的な挿入量情報を検出する検出手段と、前記操作部の操作状態と前記検出部の検出結果とに基づき、前記マニピュレータ部の駆動状態を制御する制御手段と、を具備することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月21日(2008.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基板の一主面上に、色素を有し該色素の増感作用により光電変換を行なう色素増感型光電変換体と、光電変換を行なう非単結晶の半導体層を有し光を透過させる薄膜光電変換体とが、この順で積層されていることを特徴とする積層型光電変換装置。
【請求項２】
前記色素の分光感度のピーク波長が前記半導体層の分光感度のピーク波長より長波長側にあることを特徴とする請求項１に記載の積層型光電変換装置。
【請求項３】
前記半導体層はｉ型の非晶質シリコン層を備えたｐｉｎ構造を有していることを特徴とする請求項１に記載の積層型光電変換装置。
【請求項４】
前記薄膜光電変換体は、前記導電性基板側から、触媒層と、第１の透明導電層と、非単結晶光電変換層と、第２の透明導電層とが順次積層されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の積層型光電変換装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
さらに、３）上記１）において、前記半導体層はｉ型の非晶質シリコン層を備えたｐｉｎ構造を有していることを特徴とする。また、４）上記１）乃至３）のいずれかにおいて、前記薄膜光電変換体は、前記導電性基板側から、触媒層と、第１の透明導電層と、非単結晶光電変換層と、第２の透明導電層とが順次積層されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月1日(2008.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子メールを用いてデータを他のインターネットファクシミリ装置に送信する送信手段を備えたインターネットファクシミリ装置において、
送信した電子メールに関する情報を要求する電子メール情報要求コメントを含む、上記送信した電子メールとは異なる電子メールを上記他のインターネットファクシミリ装置に送信する制御手段を備えたことを特徴とするインターネットファクシミリ装置。
【請求項２】
電子メールを用いてデータを他のインターネットファクシミリ装置から受信する受信手段を備えたインターネットファクシミリ装置において、
受信した電子メールに関する情報を記憶する記憶手段と、
受信した電子メールに関する情報を要求する電子メール情報要求コメントを含む、上記受信した電子メールとは異なる電子メールを上記他のインターネットファクシミリ装置から受信し、これに応答して、上記情報を上記記憶手段から読み出して、上記情報を含む返信の電子メールを上記他のインターネットファクシミリ装置に送信する制御手段を備えたことを特徴とするインターネットファクシミリ装置。
【請求項３】
上記電子メールに関する情報は、上記電子メールに対する、送信結果、受信結果、転送結果、印刷結果、処理結果の少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１又は２記載のインターネットファクシミリ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明に係るインターネットファクシミリ装置は、電子メールを用いてデータを他のインターネットファクシミリ装置に送信する送信手段を備えたインターネットファクシミリ装置において、
送信した電子メールに関する情報を要求する電子メール情報要求コメントを含む、上記送信した電子メールとは異なる電子メールを上記他のインターネットファクシミリ装置に送信する制御手段を備えたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、本発明に係るインターネットファクシミリ装置は、電子メールを用いてデータを他のインターネットファクシミリ装置から受信する受信手段を備えたインターネットファクシミリ装置において、
受信した電子メールに関する情報を記憶する記憶手段と、
受信した電子メールに関する情報を要求する電子メール情報要求コメントを含む、上記受信した電子メールとは異なる電子メールを上記他のインターネットファクシミリ装置から受信し、これに応答して、上記情報を上記記憶手段から読み出して、上記情報を含む返信の電子メールを上記他のインターネットファクシミリ装置に送信する制御手段を備えたことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
従って、本発明に係るインターネットファクシミリ装置によれば、第１のインターネットファクシミリ装置から送信した電子メールに関する情報を要求する電子メール情報要求コメントを含む、上記送信した電子メールとは異なる電子メールを第２のインターネットファクシミリ装置に送信する一方、これに応答して、第２のインターネットファクシミリ装置は、受信した電子メールに関する情報を要求する電子メール情報要求コメントを含む、上記受信した電子メールとは異なる電子メールを第１のインターネットファクシミリ装置から受信し、これに応答して、上記情報を上記記憶手段から読み出して、上記情報を含む返信の電子メールを上記第１のインターネットファクシミリ装置に送信する。これにより、遠隔のインターネットファクシミリ装置に対して電子メールを送信したときの電子メールに関する情報について、発信元のインターネットファクシミリ装置で把握することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月20日(2007.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
グリーンシートとパネルをラミネートしてなる誘電層を含むプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記グリーンシートは、ガラス粉 、分散剤、結合剤、可塑剤、および界面活性剤を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記界面活性剤は、フッ素系列の化合物であることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記界面活性剤は、シリコン系例の化合物であることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記グリーンシートにおいて、前記界面活性剤の組成比は、０．１％以上２％以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
プラズマディスプレイパネルを製作するのに使われるグリーンシートにおいて、
前記グリーンシートは、ガラス粉、分散剤、結合剤、及び可塑剤を含み、かつ、界面活性剤をさらに含むことを特徴とするグリーンシート。
【請求項６】
前記界面活性剤は、フッ素系列の化合物であることを特徴とする請求項５記載のグリーンシート。
【請求項７】
前記界面活性剤は、シリコン系列の化合物であることを特徴とする請求項５記載のグリーンシート。
【請求項８】
前記グリーンシートにおいて、前記界面活性剤の組成比は、０．１％以上２％以下であることを特徴とする請求項５〜７のいずれかに記載のグリーンシート。
【請求項９】
第１のガラス基板と、
前記第１のガラス基板に対向して配置された第２のガラス基板と、
前記第１のガラス基板上に形成されたサステイン電極と、
ガラス粉、分散剤、結合剤、及び可塑剤を含み、かつ、界面活性剤をさらに含み、前記サステイン電極を覆う第１の誘電体層と、
前記第２の基板上に形成されたアドレス電極と、
前記アドレス電極を覆う第２の誘電体層と、
前記第２の誘電体層上に形成され、放電空間を区画する隔壁と、
前記隔壁及び前記第２の誘電体層上に形成された蛍光体と、
を備えることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】
第１のガラス基板と前記第１のガラス基板に対向して配置された第２のガラス基板を用意する段階と、
前記第１のガラス基板上にサステイン電極を形成する段階と、
ガラス粉、分散剤、結合剤、可塑剤、および界面活性剤を含む第１の誘電体層で前記サステイン電極を覆う段階と、
前記第２の基板上にアドレス電極を形成する段階と、
前記アドレス電極を覆う第２誘電体層を形成する段階と、
前記第２の誘電体層の上に放電空間を区画する隔壁を形成する段階と、
前記隔壁及び前記第２の誘電体層の上に蛍光灯を形成する段階と、
を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１１】
ガラス粉、分散剤、ガラス粉、分散剤、結合剤、可塑剤、および界面活性剤を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用グリーンシート。
【請求項１２】
前記界面活性剤は、フッ素系列の化合物であることを特徴とする請求項１１記載のプラズマディスプレイパネル用グリーンシート。
【請求項１３】
前記界面活性剤は、シリコン系列の化合物であることを特徴とする請求項１１記載のプラズマディスプレイパネル用グリーンシート。
【請求項１４】
前記界面活性剤の組成比は、０．１％以上２％以下であることを特徴とする請求項１１〜１３のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用グリーンシート。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月16日(2007.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】レーザ照射装置及び半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周波数が１０ＭＨｚ以上１００ＧＨｚ以下であるパルス発振のレーザ光を半導体膜に照射することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
非線形光学素子を用いて、レーザ発振器からパルス発振されたレーザ光の波長を変換し、前記波長が変換されたレーザ光を半導体膜に照射し、
前記パルス発振の周波数は１０ＭＨｚ以上であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
非線形光学素子を用いて、レーザ発振器からパルス発振されたレーザ光の波長を変換し、前記波長が変換されたレーザ光を半導体膜に照射し、
前記パルス発振の周波数は１０ＭＨｚ以上１００ＧＨｚ以下であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
非線形光学素子を用いて、レーザ発振器からパルス発振されたレーザ光の波長を変換し、前記波長が変換されたレーザ光を半導体膜に照射し、
前記パルス発振の周波数は１０ＭＨｚ以上１００ＧＨｚ以下であり、
真空中の光速をｃ、前記半導体膜が形成された基板の屈折率をｎ、前記基板の厚さをｄ、前記レーザ光のパルス幅をｔとすると、ｃｔ＜２ｎｄを満たすことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
非線形光学素子を用いて、レーザ発振器からパルス発振されたレーザ光の波長を変換し、前記波長が変換されたレーザ光を半導体膜に照射し、
前記パルス発振の周波数は１０ＭＨｚ以上１００ＧＨｚ以下であり、
真空中の光速をｃ、前記半導体膜が形成された基板の屈折率をｎ、前記基板の厚さをｄ、前記レーザ光のパルス幅をｔとすると、ｃｔ＜４ｎｄを満たすことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
非線形光学素子を用いて、レーザ発振器からパルス発振されたレーザ光の波長を変換し、前記波長が変換されたレーザ光を半導体膜に照射し、
前記パルス発振の周波数は１０ＭＨｚ以上１００ＧＨｚ以下であり、
前記波長が変換されたレーザ光と、前記波長が変換されたレーザ光のうち前記半導体膜の形成された基板の裏面において反射したレーザ光とが、前記レーザ光のパルス幅の１０％以下に相当する時間において前記半導体膜のある領域に照射されていることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項２乃至請求項６のいずれか１項において、前記波長が変換されたレーザ光は第２高調波を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか１項において、前記レーザ光又は前記波長が変換されたレーザ光を前記半導体膜に照射することにより、前記レーザ光又は前記波長が変換されたレーザ光の走査方向に向かって連続的に成長した結晶粒を有する半導体膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
請求項１乃至請求項７のいずれか１項において、前記半導体膜に不純物元素を添加した後、前記レーザ光又は前記波長が変換されたレーザ光を前記半導体膜に照射することにより、前記不純物元素の活性化を行うことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
レーザ発振器と、前記レーザ発振器からパルス発振されたレーザ光の波長を変換する非線形光学素子と、前記波長が変換されたレーザ光を被処理物において集光させるための光学系とを有し、
前記パルス発振の周波数は１０ＭＨｚ以上１００ＧＨｚ以下であり、
真空中の光速をｃ、前記被処理物が形成された基板の屈折率をｎ、前記基板の厚さをｄ、前記レーザ光のパルス幅をｔとすると、ｃｔ＜２ｎｄを満たすことを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項１１】
レーザ発振器と、前記レーザ発振器からパルス発振されたレーザ光の波長を変換する非線形光学素子と、前記波長が変換されたレーザ光を被処理物において集光させるための光学系とを有し、
前記パルス発振の周波数は１０ＭＨｚ以上１００ＧＨｚ以下であり、
真空中の光速をｃ、前記被処理物が形成された基板の屈折率をｎ、前記基板の厚さをｄ、前記レーザ光のパルス幅をｔとすると、ｃｔ＜４ｎｄを満たすことを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項１２】
請求項１０又は請求項１１において、前記波長が変換されたレーザ光は第２高調波を有することを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項１３】
請求項１０乃至請求項１２のいずれか一に記載のレーザ照射装置は、前記レーザ光を前記被処理物に照射するためのステージを有し、
前記ステージの走査速度は１００ｍｍ／ｓ以上２０００ｍｍ／ｓ以下であることを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項１４】
請求項１０乃至請求項１３のいずれか一において、前記被処理物は、半導体膜であることを特徴とするレーザ照射装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月5日(2008.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
多くの地方で、電気公益事業は、市街地に近接した場所に発電プラントを有する。公益事業が発電用ガスタービンを使用する場合、ガスタービンの始動時に通常「黄色プルーム（黄色噴煙）」と呼ばれる可視汚染物質がプラントの排気煙突から排出されるのが一般的である。黄色プルームは、始動期間中に発生するＮＯ２の量が２０ｐｐｍ（１００万分の１濃度）を超えた時に発生する。黄色プルームは、発電プラントの排気煙突からの可視排出物であり、煙突は一般に極めて高いので、黄色プルームは、広い地域にわたって容易に見ることができる。黄色プルーム状態は、一般的に一時的だけのものであり、プラント内のガスタービンが公称運転状態に達すると、プルームは消散する。しかしながら、可視プルームが１時間又はそれ以上継続した場合は、通常、プラント周辺地域の人々からの苦情が生じるおそれがある。
【特許文献１】米国特許第5647199号明細書
【特許文献２】米国特許第5649416号明細書
【特許文献３】米国特許第5737911号明細書
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月29日(2007.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
セルロースパルプの連続蒸煮方法であって、蒸煮系は含浸容器（101）と蒸解器（102）とを含有し、含浸容器（101）にチップと加工液との混合物を供給し、そこでチップを先ず予定の含浸温度Timpで含浸させ、しかる後に含浸したチップを循環液と共に、移送管路（103）を介して予定の蒸煮温度Tdigで蒸煮すべき蒸解器（102）上の頂部分離器（105）に供給し、その際TimpはTdigよりも少なくとも20℃は低いものとし、循環液の一画分を頂部分離器（105）から抜出し、帰り管路（106）を介して含浸容器の底部に返送し、蒸解器（102）からの黒液の抜出しは、第１の残留アルカリ濃度で蒸煮温度Tdigと本質的に完全な蒸解器圧力とを本質的に維持するように抜出位置（109）で黒液管路（108）に行ない、帰り管路（106）中の循環液は第2の残留アルカリ濃度を有し、第１の残留アルカリ濃度は第２の残留アルカリ濃度よりも少なくとも10ｇ／lは高く、含浸容器中のアルカリの消費量は木材１トン当り少なくとも60kgのNaOHである、セルロースパルプの連続蒸煮方法において、
（ロ）帰り管路（106）と黒液管路（108）との間で熱交換を可能とするように熱交換器（107）を帰り管路（106）と黒液管路（108）との間に設け、
（ハ）黒液管路（108）中の黒液の温度は熱交換器（107）を通過した後には10〜15℃だけ冷却されているものとし、
（ニ）蒸解器の頂部に入来する木材１トン当り1m3以上及び／又は回収のため全抜出量（RECtot）の少なくとも25％を回収のため（REC1）循環液から抜出してから帰り管路（106）中の循環液を熱交換器（107）で加熱し、
（ホ）熱交換器（107）を通過した後に黒液管路（108）中の黒液を含浸容器の上部部分に導通し、この蒸煮液は含浸容器（101）で４を超えるf／w比、好ましくは５を超えるf／w比の確立に寄与するものとし、
（へ）含浸容器（101）中のｆ／w比の40％以上が熱交換器を通過した、黒液管路（108）中の黒液から得られることを特徴とする、セルロースパルプの連続蒸煮方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
近年の傾向では低温で黒液を用いてしかも併流下での含浸の大部分を用いてしかも長時間典型的には60〜120分間含浸することであった。この方式の主たる利点の１つは放出されるセルロース中のキシランの量が低温と共に低下することである。抜出した蒸煮液即ち黒液を冷却することはこの理由で必要であったし、これはフラッシュ洗浄によりあるいは冷却剤として水を用いる熱交換器での冷却により行なっていた。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明によるとセルロースパルプの連続蒸煮方法であって、蒸煮系は含浸容器（101）と蒸解器（102）とを含有し、含浸容器（101）にチップと加工液との混合物を供給し、そこでチップを先ず予定の含浸温度Timpで含浸させ、しかる後に含浸したチップを循環液と共に、移送管路（103）を介して予定の蒸煮温度Tdigで蒸煮すべき蒸解器（102）上の頂部分離器（105）に供給し、その際TimpはTdigよりも少なくとも20℃は低いものとし、循環液の一画分を頂部分離器（105）から抜出し、帰り管路（106）を介して含浸容器の底部に返送し、蒸解器（102）からの黒液の抜出しは、第１の残留アルカリ濃度で蒸煮温度Tdigと本質的に完全な蒸解器圧力とを本質的に維持するように抜出位置（109）で黒液管路（108）に行ない、帰り管路（106）中の循環液は第２の残留アルカリ濃度を有し、第１の残留アルカリ濃度は第２の残留アルカリ濃度よりも少なくとも10ｇ／ｌは高く、含浸容器中のアルカリの消費量は木材１トン当り少なくとも60kgのNaOHであるセルロースパルプの連続蒸煮方法において、
（ロ）帰り管路（106）と黒液管路（108）との間で熱交換を可能とするように熱交換器（107）を帰り管路（106）と黒液管路（108）との間に設け、
（ハ）黒液管路（108）中の黒液の温度は熱交換器（107）を通過した後には10〜15℃だけ冷却されているものとし、
（ニ）蒸解器の頂部に入来する木材１トン当り1m3以上及び／又は回収のため全抜出量（RECtot）の少なくとも25％を回収のため（REC1）循環液から抜出してから帰り管路（106）中の循環液を熱交換器（107）で加熱し、
（ホ）熱交換器（107）を通過した後に黒液管路（108）中の黒液を含浸容器の上部部分に導通し、この蒸煮液は含浸容器（101）で４を超えるf／w比、好ましくは５を超えるf／w比の確立に寄与するものとし、
（へ）含浸容器（101）中のf／w比の40％以上熱交換器を通過した、黒液管路（108）中の黒液から得られることを特徴とする、セルロースパルプの連続蒸煮方法が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月29日(2008.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 冷却空気（１６）を流す縦方向流路（２８）が内部に形成された一体の翼形部（１８）、シャンク部（２２）及びダブテール部（２４）と、前記翼形部と前記シャンク部との接合点から横方向外向きに延びるプラットホーム（２０）と、前記流路から前記シャンク部を貫通して延び前記プラットホームから離れて位置するシャンク部孔（３６）と、前記プラットホームを貫通して延び前記シャンク部孔にタンデム状に整列するプラットホーム孔（３８）と、を含むことを特徴とするタービンブレード（１０）。
【請求項２】 前記シャンク部孔（３６）から前記プラットホーム孔（３８）への前記冷却空気が、前記プラットホーム孔（３８）の内側及び外側の両方に分布されて前記プラットホームに衝突するように、前記シャンク部孔及びプラットホーム孔（３６、３８）を直列状に傾斜させて前記シャンク部と前記プラットホームとに貫通形成することを特徴とする請求項１又は２に記載のブレード。
【請求項３】 前記プラットホーム（２０）は、相対する側縁（２０ｃ）と前縁及び後縁（２０ｄ、ｅ）とを含み、前記タンデム状のシャンク部孔及びプラットホーム孔（３６、３８）が前記プラットホーム後縁に向かって後外方に傾斜させられていることを特徴とする請求項１又は２に記載のブレード。
【請求項４】 前記シャンク部（２２）が、フィレット部（３２）において前記プラットホーム（２０）に接合され、前記シャンク部孔（３６）が前記フィレット部より内側で終端することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のブレード。
【請求項５】 前記タンデム状の孔（３６、３８）が実質的に等しい直径を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のブレード
【請求項６】前記一対の孔（３６、３８）は、前記プラットホームと前記シャンク部とを別々に貫通してタンデム状に延び前記シャンク部内の空気流路（２８）と直列的流れ連通状態にあることを特徴とする請求項１に記載のタービンブレード（１０）。
【請求項７】 前記シャンク部（２２）はフィレット部（３２）において前記プラットホーム（２０）に接合され、前記タンデム状の孔は、前記フィレット部において互いに離されており、前記フィレット部を横切って前記プラットホームと前記シャンク部とを前記流路からの空気により接続するように直列に整列していることを特徴とする請求項６に記載のブレード。
【請求項８】 前記タンデム状の孔は、前記シャンク部（２２）を貫通して延びるシャンク部孔（３６）を備え、該シャンク部孔は、それに対応し前記プラットホーム（２０）を貫通して延びるプラットホーム孔（３８）から離れていることを特徴とする請求項６又は７に記載のブレード。
【請求項９】 前記シャンク部孔（３６）は、前記シャンク部（２２）の内側に流入口（３６ａ）を、前記シャンク部の外側に排出口（３６ｂ）を含み、前記プラットホーム孔（３８）は、前記プラットホーム（２０）の下側に前記シャンク部孔の排出口（３６ｂ）に整列した流入口（３８ａ）を、前記プラットホーム上側に排出口（３８ｂ）を含むことを特徴とする請求項８に記載のブレード。
【請求項１０】 前記タンデム状の孔（３６、３８）が同軸に整列していることを特徴とする請求項９に記載のブレード。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月17日(2008.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】相変化インク、及びプリント方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  下記化学式を有し、式中、Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3、及びＱ4のうちの少なくとも１つはハロゲン原子であり、ハロゲン原子ではないＱ1、Ｑ2、Ｑ3、及びＱ4のいずれかは水素原子であり、Ｒは脂肪鎖である、着色剤である化合物を含む相変化インク。
【化１】
2002129044.tif 000001
【請求項２】  Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3、及びＱ4のうちのいずれか１つは臭素原子であり、臭素原子ではないＱ1、Ｑ2、Ｑ3、及びＱ4の各々は水素原子であり、Ｒは２乃至５０の炭素原子を含む、請求項１に記載の相変化インク。
【請求項３】  下記化学式を有し、式中、Ｘ及びＹは同一か又は互いに異なり得るハロゲン原子であり、Ｒは少なくとも２つの炭素原子を含む、着色剤である化合物を含む相変化インク。
【化２】
2002129044.tif 000002
【請求項４】  少なくとも１つのハロゲン原子は臭素であり、Ｒは（ＣＨ2）nＣＨ3を含み、ｎは１乃至５０の整数である、請求項３に記載の相変化インク。
【請求項５】  Ｒが（ＣＨ2）nＣＨ3を含み、ｎが３である、請求項１又は請求項３に記載の相変化インク。
【請求項６】  ３０℃を下回る温度では固体であり、３０℃を上回る温度では融解するように構成された相変化インクであって、下記化学式を有する着色剤を含み、式中、Ｒは少なくとも２つの炭素原子を含み、Ｘ及びＹは同一か又は互いに異なり得るハロゲン原子である、相変化インク。
【化３】
2002129044.tif 000003
【請求項７】  前記化合物が下記化学式を有し、式中、Ｒは（ＣＨ2）nＣＨ3を含み、ｎは２乃至５０の整数であり、前記インクが３０℃を下回る温度では固体であり、３０℃を上回る温度では融解するように構成されている、請求項３に記載の相変化インク。
【化４】
2002129044.tif 000004
【請求項８】  請求項６又は請求項７の相変化インクを融解するステップ、
融解したインクを基体に付着させるステップ、及び
前記基体上の前記融解したインクを冷却し、前記基体上に可視画像の少なくとも一部分を形成するステップ、
を包含する、プリント方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月5日(2008.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
単糸の断面形状が下記式に示す単糸の長軸長（ａ）と短軸長（ｂ）から求めた扁平率が１．５〜８の扁平断面である合成繊維マルチフィラメントからなり、交絡数が１５〜２４個／ｍで、かつ２ｃＮ／ｄｔｅｘの張力をかけて緊張処理した後の交絡数が１０〜１４個／ｍの交絡糸からなることを特徴とするエアバッグ用原糸。
扁平率＝ａ／ｂ
【請求項２】
前記単糸の繊度が２〜 ７ｄｔｅｘ、前記短軸長が６〜２０μｍであることを特徴とする請求項１に記載のエアバッグ用原糸。
【請求項３】
前記合成繊維マルチフィラメントがポリアミドマルチフィラメントであることを特徴とする請求項１または２に記載のエアバッグ用原糸。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のエアバック用原糸を経糸および／または緯糸として用い、経糸の総繊度をＤ１（ｄｔｅｘ）、織密度をＮ１（本／２．５４ｃｍ）、緯糸の総繊度をＤ２（ｄｔｅｘ）、織密度をＮ２( 本／２．５４ｃｍ）としたときに（Ｄ１×０．９）1/2×Ｎ１＋（Ｄ２×０．９）1/2 ×Ｎ２で表されるカバーファクターが１５００〜２５００の範囲で製織してなることを特徴とするエアバッグ用布帛。
【請求項５】
コーティング加工することなく用いられるエアバッグ用布帛であって、この布帛のＪＩＳ Ｌ１０９６（６．２７．１Ａ法）に規定される方法で測定した通気度が０．１ｍｌ／ｃｍ2／ｓｅｃ以下であることを特徴とする請求項４に記載のエアバッグ用布帛。
【請求項６】
布帛を折り畳み処理後に前記と同様の方法で測定した通気度が０．３ｍｌ／ｃｍ2／ｓｅｃ以下であることを特徴とする請求項５に記載のエアバッグ用布帛。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、本発明のエアバッグ用原糸は、単糸の断面形状が下記式に示す単糸の長軸長（ａ）と短軸長（ｂ）から求めた扁平率１．５〜８の扁平断面である合成繊維マルチフィラメントからなり、交絡数が１５〜２４個／ｍで、かつ２ｃＮ／ｄｔｅｘの張力をかけて緊張処理した後の交絡数が１０〜１４個／ｍの交絡糸からなることを特徴とする。
扁平率＝ａ／ｂ
本発明のエアバッグ用原糸においては、次の（ａ）〜（ｂ）がそれぞれ好ましい態様であり、これらの条件を適用することによって、さらに優れた効果の取得を期待することができる。
（ａ）前記単糸の繊度が２〜７ｄｔｅｘ、前記短軸長が６〜２０μｍであること
（ｂ）前記合成繊維マルチフィラメントがポリアミドマルチフィラメントであること。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、本発明のエアバック用原糸は、単糸の断面形状が扁平率１．５〜８の扁平断面である合成繊維マルチフィラメントからなる交絡糸であって、適度の交絡強さと均一な交絡が付与された交絡糸からなる。そして、上記交絡糸の交絡数は１５〜２４個／ｍである。交絡数が上記の範囲未満の場合は、近年の高速製織、例えば回転速度８００ｒｐｍ以上のウォータージェットルームでの製織において効率よく製織することが困難なことがある。しかしながら、原糸に付与された交絡は、製織後布帛となった段階では実質的に解消されていることが好ましく、そのために適度な交絡強さであることが必要である。特に、本発明の扁平断面糸は同一単糸繊度の円形断面糸と比較して表面積が増えるため、製織時に交絡が解消されにくくなる。そのため、糸張力や空気圧力、エアガイドの形状などの交絡条件を適宜設定して、上記の交絡糸は２ｃＮ／ｄｔｅｘの張力をかけて緊張処理した後の交絡数が１０〜１４個／ｍとなるようにすることが重要である。上記緊張処理後の交絡数が上記の範囲を越える場合は、製織後布帛とした後になっても相当の交絡が残り、つまり糸条が集束したままの部分が残ることになることから、ノンコーティングエアバッグ用布帛としては、布帛の通気性が高くなり、エアバッグの展開速度に対する信頼性を欠くことになるため好ましくないばかりか、一定の通気性の規格値を満足させるために、さらに織密度を高めた設計が必要となるなど不利が招かれることになる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月19日(2007.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【数４】
2002162205.tif 000001
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
【数９】
2002162205.tif 000002
ただし、c*(x，y)はc(x，y)の共役である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
【数１３】
2002162205.tif 000003
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
すなわち、第１の態様は、図４（Ａ）に示すように、参照面（参照ミラー）３の裏面を支持する３つのピエゾ素子１２１、１２２、１２３を備え、支点部材としても機能するピエゾ素子１２１と各ピエゾ素子１２２、１２３とを結ぶ参照面３を有する参照ミラー上の、２本の直線Ｌｘ、Ｌｙが互いに直交するように構成されたものである。３本のピエゾ素子１２１、１２２、１２３が同量だけ伸縮することにより位相シフトが行なわれ、さらにピエゾ素子１２２のみの伸縮により参照ミラーの参照面３がy軸を中心として回転するようにｘ軸方向に傾き、ピエゾ素子１２３のみの伸縮により参照ミラーの参照面３がｘ軸を中心として回転するようにｙ軸方向に傾くことになる。一方、第２の態様は、図４（Ｂ）に示すように、参照面（参照ミラー）３の裏面中央部を円柱状のピエゾチューブ１２４によって支持するように構成されたものである。このピエゾチューブ１２４の偏奇しない伸縮により位相シフトが行なわれ、一方、偏奇した伸縮により参照ミラーの参照面３がｘ軸方向およびｙ軸方向に自在に傾けられることになる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
【数２８】
2002162205.tif 000004
ただし、c*(x，y)はc(x，y)の共役である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１      マイケルソン型干渉計
２      被観察体表面
３      参照面
４      撮像カメラ
５      ＣＣＤ
７      コンピュータ
７Ａ    モニタ画面
９      ピエゾ駆動部
１０    ＰＺＴアクチュエータ
１１    ＦＦＴ演算複素振幅演算手段
２１    ＦＦＴ演算キャリア周波数演算手段
１２    位相シフト変位量検出手段
１３    位相シフト変位量補正手段
２２    傾斜量検出手段
２３    傾斜量補正手段
１２１、１２２、１２３    ピエゾ素子
１２４    ピエゾチューブ
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2002162205.tif 000005