【手続補正書】
【提出日】平成20年9月8日(2008.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
第３の凸部１８の材料である無機材料として、ＳｉＯ２（石英）を選択するのが、成膜あるいはエッチングによる加工が容易であるので望ましい。特に、第３の透明基板１５として石英ガラスを選んだ場合、ＳｉＯ２膜を成膜しなくてもよく好ましい。ただし、用途によって、少なくとも波長３８０ｎｍ〜波長８２０ｎｍの間で略無色透明であるＴａ２Ｏ５、ＳｉＯＮ等を使用してもよい。ここで、第３の凸部１８の高さは、該３波長用回折素子を透過する波長λ１のレーザ光に対する凸部１８の屈折率と空気の屈折率との差と、その高さの積が、波長λ１の整数倍、例えば２倍になるように選択する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
第２実施形態の３波長用回折素子において、波長λ１のＢＤ用のレーザ光に対して、第２の回折格子と、第３回折格子とは、不要な光としての回折光を発生しない、一方、波長λ２のＤＶＤ用のレーザ光に対して、第１の回折格子と、第２の回折格子とは、不要な光としての回折光を発生しない。他方、波長λ３のＣＤ用のレーザ光に対して、第１の回折格子では回折せず、第３の回折格子においても、ＣＤ用の波長λ３がＢＤ用の波長λ１の略２倍となるので、不要な光としての回折光をほとんど発生しない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
同様に、波長λ１のレーザ光の偏光方向と波長λ３のレーザ光が同じ偏光方向を有するとすると、波長λ３のレーザ光は、該位相板付３波長用回折素子を透過する際、第１の位相板３５にて、その偏光方向を略９０°回転させて透過し、第１の回折格子を回折せずに直進透過し、第２の回折格子では回折し、第２の位相板３６にてさらにその偏光方向を略９０°回転させて、該位相板付３波長用回折素子に入射する前の偏光方向に戻って透過する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
「例１」
本例は図１に示した第１実施形態の具体例であり、作製方法を以下に記す。まず、ガラス製の第１の透明基板１の空気側の表面に、真空蒸着法を用いて反射防止膜を成膜する。次に、ガラス製の第１の透明基板１に、複屈折性を有する液晶モノマーを均一に塗布し、ＵＶ光を照射して高分子化させて、高分子液晶膜とする。このとき、液晶分子の配向方向が紙面に垂直になるように選択し、かつ厚さが１．８μｍになるように、塗布条件を決める。この高分子液晶膜の波長４０５ｎｍに対する常光屈折率が１．５４２、異常光屈折率が１．５８８である。波長６６０ｎｍに対する常光屈折率が１．５１７、異常光屈折率が１．５５６である。波長７８０ｎｍに対する常光屈折率が１．５１４、異常光屈折率が１．５５２である。この高分子液晶膜にフォトリソグラフィとエッチングの技術を用いて、断面が凹凸状になるように加工する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
次に、第２の透明基板２の高分子液晶からなる凸部５を埋めるように、充填接着剤７を用いて第３の透明基板３を接着する。なお、第３の透明基板３の接着していない面には、反射防止膜が成膜されている。このとき、充填接着剤７としては、波長４０５ｎｍに対する屈折率が１．５４２、波長６６０ｎｍに対する屈折率が１．５１５、波長７８０ｎｍに対する屈折率が１．５１２になるものを選ぶ。ここで、凸部５と充填接着剤７を有する回折格子を第２の回折格子とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
次に、第１の透明基板１の高分子液晶からなる凸部４を埋めるように、充填接着剤６を用いて、第２の透明基板２の接着していない面を接着する。このとき、充填接着剤６としては、波長４０５ｎｍに対する屈折率が１．５４４、波長６６０ｎｍに対する屈折率が１．５１８、波長７８０ｎｍに対する屈折率が１．５１４になるものを選ぶ。ここで、凸部４と充填接着剤６を有する回折格子を第１の回折格子とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９４】
「例３」
本例は図３に示した第２実施形態の具体例であり、作製方法を以下に記す。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９５】
まず、ガラス製の第１の透明基板１３の空気側の表面に、真空蒸着法を用いて反射防止膜を成膜する。次に、ガラス製の第１の透明基板１３に、例１（図１）の高分子液晶からなる凸部４と同じ、凸部１６を形成する。同様に、ガラス製の第２の透明基板１４に、同じ液晶モノマーを用いて高分子液晶膜を成膜する。このとき、液晶の配向方向が紙面に平行になるように選択し、かつ１６．１μｍの厚さになるように成膜する。さらに、フォトリソグラフィとエッチングの技術を用いて、断面が凹凸状になるように加工する。このとき、形成する凸部１７の周期と方向は、第１の透明基板１３の高分子液晶からなる凸部１６の周期と方向と異なっている。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
次に、第２の透明基板１４の高分子液晶からなる凸部１７を埋めるように、充填接着剤２０を用いて第３の透明基板１５を接着する。充填接着剤２０としては、例１（図１）の充填接着剤４と同じものを用いる。ここで、凸部１７と充填接着剤２０を有する回折格子が第２の回折格子である。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９７】
なお、第３の透明基板１５の接着していない面には、無機材料からなる凸部１８が形成されている。無機材料からなる凸部１８は、第２の透明基板１４と接着する前に形成され、その表面には反射防止膜が成膜されている。作成方法は、第３の透明基板１５に石英をスパッタで成膜したのち、フォトリソグラフィとエッチングの技術を用いて、断面が凸状になるように加工する。このとき、形成される凸部１８の周期と方向は、前記第１の透明基板１３の高分子液晶からなる凸部１６の周期および方向、第２の透明基板１４の高分子液晶からなる凸部１７の周期および方向と異なっている。このとき成膜する石英の波長４０５ｎｍに対する屈折率が１．４７０、波長６６０ｎｍに対する屈折率が１．４５６、波長７８０ｎｍに対する屈折率が１．４５４になっている。また、エッチングする凸部の深さは、１．７２μｍである。ここで、凸部１８を有する回折格子が第３の回折格子である。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０４】
一方、第２の透明基板２２の接着していない面には、無機材料からなる凸部２５が形成されている。無機材料からなる凸部２５は、第２透明基板２２のもう１面に形成されている高分子液晶からなる凸部２４を形成する前に、形成される。作製方法は、例３（図３）の第３の透明基板１５に形成する無機材料からなる凸部１８と同様である。また、その表面には反射防止膜が成膜されている。ここで、凸部２５を有する回折格子が第３の回折格子である。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
次に、第３の透明基板３３の高分子液晶からなる凸部３８を埋めるように、充填接着剤４０を用いて、上述の第２の透明基板３２の接着していない面を接着する。充填接着剤４０としては、例１（図１）の充填接着剤７と同じものを用いる。ここで、凸部３８と充填接着剤４０を有する回折格子が第２の回折格子である。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２６】
「例６」
本例は図６に示した第４実施形態の具体例であり、作製方法を以下に記す。