【手続補正書】
【提出日】平成20年4月24日(2008.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積回路設計の像を投影するためのレベンソン型位相シフトマスクを設計する方法であって、
レベンソン型位相シフトマスクの位相シフト形状に対して位相を割り当てるためのカラーリング・ルールを与えるステップと、
第１の位相を割り当てることができる少なくとも１つの位相シフト形状と、前記第１の位相とは逆の第２の位相を割り当てることができる少なくとも１つの位相シフト形状とを含み、前記位相シフト形状の少なくとも１つが縁部に隣接しており、内部のすべての位相シフト形状が前記カラーリング・ルールに従ってバイナリ・カラー付け可能である、第１のセルを与えるステップと、
第１の位相を割り当てることができる少なくとも１つの位相シフト形状と、前記第１の位相とは逆の第２の位相を割り当てることができる少なくとも１つの位相シフト形状とを含み、前記位相シフト形状の少なくとも１つが前記第１のセルの縁部に隣接しており、内部のすべての位相シフト形状が前記カラーリング・ルールに従ってバイナリ・カラー付け可能である、第２のセルを与えるステップと、
前記第１及び第２のセルの縁部のそれぞれに隣接する前記位相シフト形状同士が互いに隣接するように、該第１のセルの縁部を該第２のセルの縁部に沿って並置するステップと、
前記第１及び第２のセルを含み、該第１及び第２のセルのバイナリ・カラー付け機能を維持しながら前記カラーリング・ルールに従ってカラー付け可能であるように構成されたセル・アレイを生成するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記第１及び第２のセルの前記縁部を並置した後に、該第１及び第２のセルの前記位相シフト形状に対して位相が割り当てられる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１及び第２のセルの前記位相シフト形状に対して位相を割り当てるステップと、
前記第１のセルの前記縁部を前記第２のセルの前記縁部に沿って並置した後に、該第１及び第２のセルにおける隣接位相シフト形状間の間隔を決定するステップと、
前記第１及び第２のセルにおける前記隣接位相シフト形状間の位相の差を決定するステップと、
前記第１及び第２のセルにおける前記隣接位相シフト形状同士がシステム解像度に必要な所定の最小間隔より小さい間隔を置いて配置され、かつ、こうした隣接位相シフト形状同士が逆位相である場合には、該隣接位相シフト形状同士が同位相となるように、該第１及び第２のセルの１つにおける該位相シフト形状の位相を反転させるステップと、
前記第１及び第２のセルにおける前記隣接位相シフト形状同士が、前記所定の最小間隔より大きいが、位相形状間において透過光の相互作用が存在しない間隔よりは小さい間隔を置いて配置される場合には、該位相シフト形状間にダミー空間を挿入するステップと、
前記第１及び第２のセルの前記セル・アレイを生成するステップと、
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第１及び第２のセルにおける前記隣接位相シフト形状同士が互いに接触し、かつ、こうした隣接位相シフト形状同士が逆位相である場合には、該隣接位相シフト形状同士が同位相となるように、該第１及び第２のセルの１つにおける該位相シフト形状の位相を反転させるか、又は、該第１及び第２のセルにおける該隣接位相シフト形状同士が互いに接触はしないが、前記所定の最小間隔より小さい間隔を置いて配置され、かつ、こうした隣接位相シフト形状同士が逆位相である場合には、該隣接位相シフト形状同士が同位相となるように、該第１及び第２のセルの１つにおける該位相シフト形状の位相を反転させる、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記第１のセルは、第１及び第２の位相の複数の位相シフト形状を有する第１のセル・アレイにおける端部セルであり、前記第１及び第２のセルにおける前記隣接位相シフト形状同士は、前記所定の最小間隔より小さい間隔を置いて配置され、かつ、逆位相であると判断され、前記第１のセル・アレイにおける前記位相シフト形状のすべては、該第１及び第２のセルの前記セル・アレイを生成する前に反転される、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記第１のセルは、１つの縁部に隣接する第１の位相の位相シフト形状と、該セルの反対側の縁部に隣接する第２の位相の位相シフト形状とを含む、請求項３に記載の方法。
【請求項７】
第１の位相の少なくとも１つの位相シフト形状と、前記第１の位相とは逆の第２の位相の少なくとも１つの位相シフト形状とを含み、前記位相シフト形状の少なくとも１つが前記第１のセルの縁部に隣接する、第３のセルを与えるステップと、
前記第３のセル及び前記第１又は第２のセルの縁部のそれぞれに隣接する前記位相シフト形状同士が互いに隣接するように、該第３のセルの縁部を該第１又は第２のセルの縁部に沿って並置するステップと、
前記第３のセル及び前記第１又は第２のセルにおける隣接位相シフト形状同士が、前記所定の最小間隔より小さい間隔を置いて配置され、かつ、逆位相であると判断された場合には、前記隣接位相シフト形状同士が同位相となるように、該第３のセル及び該第１又は第２のセルの１つにおける該位相シフト形状の位相を反転させるステップと、
前記第１、第２、及び第３のセルのセル・アレイを生成するステップと、
をさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項８】
前記第１、第２、及び第３のセルは線形アレイを形成する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記第１、第２、及び第３のセルは非線形アレイを形成する、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記第１のセルにおける前記位相シフト形状は反転されることが防止され、前記第１及び第２のセルにおける前記隣接位相シフト形状同士が、前記所定の最小間隔より小さい間隔を置いて配置され、かつ、逆位相であると判断された場合には、該第２のセルにおける該位相シフト形状が反転される、請求項３に記載の方法。
【請求項１１】
前記第１及び第２のセルにおける前記隣接位相シフト形状同士を結合するステップをさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項１２】
前記第１及び第２のセルのどちらがより多くの位相シフト形状を有するかを判断するステップと、該第１及び第２のセルのうち、より多くの位相シフト形状を有するセルにおける位相シフト形状の位相を反転させるステップとをさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項１３】
前記第１又は第２のセルの１つは、ＳＲＡＭアレイの像又は論理アレイの像を投影する位相シフト形状を含む、請求項３に記載の方法。
【請求項１４】
集積回路設計の像を投影するためのレベンソン型位相シフトマスクを設計する方法であって、
第１及び第２の位相の複数の位相シフト形状を有し、セル・アレイの一端にある第１のセルが、第１の位相の少なくとも１つの位相シフト形状と、前記第１の位相とは逆の第２の位相の少なくとも１つの位相シフト形状とを含み、前記位相シフト形状の少なくとも１つが前記第１のセルの縁部に隣接する、第１のセル・アレイを与えるステップと、
第１の位相の少なくとも１つの位相シフト形状と、前記第１の位相とは逆の第２の位相の少なくとも１つの位相シフト形状とを含み、前記位相シフト形状の少なくとも１つが前記第１のセルの縁部に隣接する、第２のセルを与えるステップと、
前記第１及び第２のセルの縁部のそれぞれに隣接する前記位相シフト形状同士が互いに隣接するように、該第１のセルの縁部を該第２のセルの縁部に沿って並置するステップと、
前記第１及び第２のセルにおける隣接位相シフト形状間の間隔を決定するステップと、
前記第１及び第２のセルにおける前記隣接位相シフト形状間の位相の差を決定するステップと、
前記第１及び第２のセルにおける前記隣接位相シフト形状同士がシステム解像度に必要な所定の最小間隔より小さい間隔を置いて配置され、かつ、こうした隣接位相シフト形状同士が逆位相である場合には、該隣接位相シフト形状同士が同位相となるように、該第１及び第２のセルの１つにおける該位相シフト形状の位相を反転させるステップと、
前記第１及び第２のセルにおける前記隣接位相シフト形状同士が、前記所定の最小間隔より大きいが、位相形状間において透過光の相互作用が存在しない間隔よりは小さい間隔を置いて配置される場合には、該位相シフト形状間にダミー空間を挿入するステップと、
レベンソン型位相シフトマスクのための、前記第１及び第２のセルのセル・アレイを生成するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１５】
前記第１及び第２のセルにおける前記隣接位相シフト形状同士は、前記所定の最小間隔より小さい間隔を置いて配置され、かつ、逆位相であると判断され、前記第１のセル・アレイにおける前記位相シフト形状のすべては、該第１及び第２のセルの前記セル・アレイを生成する前に反転される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記第１のセルは、１つの縁部に隣接する第１の位相の位相シフト形状と、該セルの反対側の縁部に隣接する第２の位相の位相シフト形状とを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
前記第１のセルにおける前記位相シフト形状は反転されることが防止され、前記第１及び第２のセルにおける前記隣接位相シフト形状同士が、前記所定の最小間隔より小さい間隔を置いて配置され、かつ、逆位相であると判断された場合には、該第２のセルにおける該位相シフト形状が反転される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１８】
前記第１及び第２のセルのどちらがより多くの位相シフト形状を有するかを判断するステップと、該第１及び第２のセルのうち、より多くの位相シフト形状を有するセルにおける位相シフト形状の位相を反転させるステップとをさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１９】
集積回路設計の像を投影するのに用いられるレベンソン型位相シフトマスクのレイアウトを設計するためのプログラムであって、
前記レイアウトは、第１の位相を割り当てることができる少なくとも１つの位相シフト形状と、前記第１の位相とは逆の第２の位相を割り当てることができる少なくとも１つの位相シフト形状とを含み、かつ、前記位相シフト形状の少なくとも１つが縁部に隣接する、第１のセルを有し、該レイアウトはさらに、第１の位相を割り当てることができる少なくとも１つの位相シフト形状と、第１の位相とは逆の第２の位相を割り当てることができる少なくとも１つの位相シフト形状とを含み、かつ、前記位相シフト形状の少なくとも１つが前記第１のセルの縁部に隣接する、第２のセルを有する設計をコンピュータに、
レベンソン型位相シフトマスクにおいて、カラーリング・ルールに従ってバイナリ・カラー付け可能な前記第１及び第２のセル内の前記位相シフト形状に対して位相を割り当てるためのカラーリング・ルールを与えるステップと、
前記第１及び第２のセルの縁部のそれぞれに隣接する前記位相シフト形状同士が互いに隣接するように、該第１のセルの縁部を該第２のセルの縁部に沿って並置するステップと、  前記第１及び第２のセルを含み、該第１及び第２のセルのバイナリ・カラー付け機能を維持しながら前記カラーリング・ルールに従ってカラー付け可能であるように構成されたセル・アレイを生成するステップと、
を実行させるプログラム。