【手続補正書】
【提出日】平成20年7月2日(2008.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の一主面に配された、入射光量に応じて光電変換を行う有効画素領域と、基準信号を作成するためのオプティカルブラック領域とを有する固体撮像装置であって、
前記基板の一主面上に配置された、前記有効画素領域にかからないように前記オプティカルブラック領域に配された第１の配線層と該第１の配線層よりも下層に配された第２の配線層とを有する複数の配線層と、
前記第１の配線層と前記第２の配線層との間に配された絶縁膜と、
前記有効画素領域では前記絶縁膜上、前記オプティカルブラック領域では前記第１の配線層上に配されたパッシベーション膜と、
前記パッシベーション膜上の少なくとも前記有効画素領域に配された層内レンズとを有し、
前記パッシベーション膜の厚みが、前記第１の配線層の厚み以下であり、
前記有効画素領域では前記パッシベーション膜と前記絶縁膜との間、前記オプティカルブラック領域では前記パッシベーション膜と前記第１の配線層との間に、平坦化層を構成しないことを特徴とする固体撮像装置。
【請求項２】
前記第１の配線層が遮光層として機能することを特徴とする請求項１に記載の固体撮像装置。
【請求項３】
前記層内レンズが、入射光に向かって凸形状であることを特徴とする請求項１または２に記載の固体撮像装置。
【請求項４】
基板の一主面に配された、入射光量に応じた信号を出力するための有効画素領域と、基準信号を出力するためのオプティカルブラック領域とを有する固体撮像装置であって、
前記基板の一主面上に配置された、前記有効画素領域にかからないように前記オプティカルブラック領域に配された第１の配線層と該第１の配線層よりも下層に配された第２の配線層とを有する複数の配線層と、
前記第１の配線層と前記第２の配線層との間に配された絶縁膜と、
前記有効画素領域では前記絶縁膜上、前記オプティカルブラック領域では前記第１の配線層上に配されたパッシベーション膜と、
前記パッシベーション膜上の前記有効画素領域に配され、入射光に向かって凸形状をした層内レンズとを有し、
前記オプティカル領域における前記絶縁膜の上面から前記パッシベーション膜の上面までの高さが、前記有効画素領域における前記絶縁膜の上面から前記層内レンズの頂点までの高さよりも高いことを特徴とする固体撮像装置。
【請求項５】
前記第１の配線層が遮光層として機能することを特徴とする請求項４に記載の固体撮像装置。
【請求項６】
前記オプティカルブラック領域に前記層内レンズが配されていないことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項７】
前記第１の配線層が、前記遮光層の厚みと略同じ厚みであることを特徴とする請求項２または５に記載の固体撮像装置。
【請求項８】
前記パッシベーション膜は、ＳｉＮ，ＳｉＯＮ，ＳｉＯのいずれかにより形成された膜を含むことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項９】
前記パッシベーション膜と前記層内レンズは、一体的に同じ層として構成されることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１０】
前記絶縁膜の上面は、平坦化されることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】固体撮像装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
例えば、特許文献１には、マイクロレンズと凸型層内レンズを有する固体撮像装置が開示されている。ここで、特許文献１に開示された固体撮像装置の構成について図１５を参照して簡単に説明する。図１５において、１３は半導体部材、１は半導体部材内に構成された光電変換素子、２は素子分離領域である。４は第１の配線パターン、６は第２の配線パターンであり、第１の配線パターン４と第２の配線パターン６は、第１の絶縁膜３と第２の絶縁膜５でそれぞれ分離されている。そして、第２の配線パターン６上に第３の絶縁膜７で平坦化した後、凸型層内レンズ８を形成する。更に第１の平坦化膜９で層内レンズ８上を平坦化した後、カラーフィルタ層１０を形成し、更に第２の平坦化膜１１で平坦化した後、マイクロレンズ１２を形成する。なお、１４はパッド部である。このような手法をとれば、凸型層内レンズ８を精度よく形成することができ、実質的な感度低下をもたらすことなく集光効率を高めることができる、と記載されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記目的を達成するために、基板の一主面に配された、入射光量に応じて光電変換を行う有効画素領域と、基準信号を作成するためのオプティカルブラック領域とを有する本発明の固体撮像装置は、前記基板の一主面上に配置された、前記有効画素領域にかからないように前記オプティカルブラック領域に配された第１の配線層と該第１の配線層よりも下層に配された第２の配線層とを有する複数の配線層と、前記第１の配線層と前記第２の配線層との間に配された絶縁膜と、前記有効画素領域では前記絶縁膜上、前記オプティカルブラック領域では前記第１の配線層上に配されたパッシベーション膜と、前記パッシベーション膜上の少なくとも前記有効画素領域に配された層内レンズとを有し、前記パッシベーション膜の厚みが、前記第１の配線層の厚み以下であり、前記有効画素領域では前記パッシベーション膜と前記絶縁膜との間、前記オプティカルブラック領域では前記パッシベーション膜と前記第１の配線層との間に、平坦化層を構成しないことを特徴とする。
また、別の構成によれば、基板の一主面に配された、入射光量に応じた信号を出力するための有効画素領域と、基準信号を出力するためのオプティカルブラック領域とを有する本発明の固体撮像装置は、前記基板の一主面上に配置された、前記有効画素領域にかからないように前記オプティカルブラック領域に配された第１の配線層と該第１の配線層よりも下層に配された第２の配線層とを有する複数の配線層と、前記第１の配線層と前記第２の配線層との間に配された絶縁膜と、前記有効画素領域では前記絶縁膜上、前記オプティカルブラック領域では前記第１の配線層上に配されたパッシベーション膜と、前記パッシベーション膜上の前記有効画素領域に配され、入射光に向かって凸形状をした層内レンズとを有し、前記オプティカル領域における前記絶縁膜の上面から前記パッシベーション膜の上面までの高さが、前記有効画素領域における前記絶縁膜の上面から前記層内レンズの頂点までの高さよりも高いことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
このように構成することで、本実施形態の図１に示す構成では、最上のメタル層の段差を埋める平坦化膜１１２の分、低くすることができるため、図１６に示す構成に比べて、受光領域画素１０２の光電変換素子１０３から層内レンズ１０８下までの高さを低く構成することができる。このため集光効率を高めることができ、特にＦナンバーが小さくなった時の感度の低下を改善することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
続いて、図６に示すように、フォトリソグラフィでパッド部１２８’を開口するために、そのような開口パターンを有するレジストパターン１２７をパッシベーション層１０７および層内レンズ１０８の上に形成し、図７に示すように、パッド部１２８上に位置するパッシベーション層１０７をフォトリソグラフィにより除去する。