【手続補正書】
【提出日】平成20年11月11日(2008.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インターフェロメトリック変調器製造プロセスが前記プロセスによって製造されるインターフェロメトリック変調器から反射される色に対して及ぼす影響を決定する方法であって、
第１の機械膜を支持する柱を具備する複数のインターフェロメトリック変調器を製造することと、
第２の機械膜を支持する柱を具備するテストユニット構造を製造することであって、前記テストユニット内の前記柱は、前記複数のインターフェロメトリック変調器内の前記柱よりも高い密度で存在することと、
前記テストユニット構造から反射された光を検出することであって、前記検出された光は、前記複数のインターフェロメトリック変調器内の干渉空洞の深さを示す値を提供すること、とを具備する方法。
【請求項２】
前記テストユニットは、少なくとも２つの領域を具備し、一方の領域内の前記柱は、他方の領域内の柱と異なる高さを有し、このため前記２つの領域から反射される光は異なる色である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
少なくとも２つのテストユニット構造が製造され、一方のテストユニット内の前記柱は、他方のテストユニット内の柱と異なる高さを有し、このため前記２つのテストユニットから反射される光は異なる色である請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記反射された光は、前記複数のインターフェロメトリック変調器及び前記テストユニットの製造中に検出される請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記反射された光は、前記複数のインターフェロメトリック変調器及び前記テストユニットの製造後に検出される請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記インターフェロメトリック変調器を製造すること及び前記テストユニットを製造することは、同じ１つ以上の堆積及びパターン形成ステップを具備する請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記第１及び第２の機械膜は、構造が実質的に同一である請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記反射された光を検出することは、前記反射された光の色を測色計で測定することを具備する請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記反射された光を検出することは、前記反射された光のスペクトルを分光計で測定することを具備する請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記テストユニット内の前記テストユニット構造の前記深さを前記検出された光から決定することをさらに具備する請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記決定することは、前記測定されたスペクトルをテストユニット構造干渉モデルに当てはめることを具備する請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
インターフェロメトリック変調器製造プロセスが前記インターフェロメトリック変調器によって反射される光の色に対して及ぼす影響をモニタリングするためのテストユニットであって、前記プロセスによって製造されたインターフェロメトリック変調器内よりも高い密度の機械膜支持柱を具備するテストユニット構造を具備する、テストユニット。
【請求項１３】
前記テストユニット構造内の前記機械膜は、前記プロセスによって製造されたインターフェロメトリック変調器内の機械膜と実質的に同じ構造を有する請求項１２に記載のテストユニット。
【請求項１４】
前記テストユニットは、前記より高い密度の柱以外は、前記プロセスによって製造されたインターフェロメトリック変調器と実質的に同じ構造を有する請求項１２に記載のテストユニット。
【請求項１５】
ディスプレイ内において用いるために適合化された複数の反射型表示素子と、
前記反射型表示素子のうちの少なくとも１つから反射された色と実質的に同じ色を有する光を反射させるように適合化されたテストユニットと、を具備するウェハー。  
【請求項１６】
前記反射型表示素子は、インターフェロメトリック変調器である請求項１５に記載のウェハー。    
【請求項１７】
前記テストユニットは、前記複数の反射型表示素子内よりも高い密度の機械膜支持柱を有するテストユニット構造を具備する請求項１５に記載のウェハー。
【請求項１８】
前記反射型表示素子及び前記テストユニットは、前記より高い密度の柱以外は実質的に同じ構造を有する請求項１７に記載のウェハー。
【請求項１９】
前記反射型表示素子の第１の組は、前記反射型表示素子の第２の組と異なる色を有するテストユニット構造を具備し、前記テストユニットの前記テストユニット構造は、前記反射型表示素子の第１組と実質的に同じ色を有し、前記ウェハーは、前記反射型表示素子の前記第２の組と実質的に同じ色を有する第２のテストユニットをさらに具備する請求項１７に記載のウェハー。
【請求項２０】
伝導性の部分的ミラーと、ミラーを具備する伝導性機械膜と、を有するテストユニット構造を具備し、前記機械膜は、複数の柱によって前記部分的ミラーから分離され、柱の密度は、前記部分的ミラーと前記機械膜との間に電圧が印加されたときに前記機械膜が前記部分的ミラーの方に崩れることができないような十分な高さである、テストユニット。
【請求項２１】
前記機械膜は、約１０ボルト未満の電圧が印加されたときに前記部分的ミラーの方に崩れることができない請求項２０に記載のテストユニット。
【請求項２２】
前記機械膜は、約１５ボルト未満の電圧が印加されたときに前記部分的ミラーの方に崩れることができない請求項２０に記載のテストユニット。
【請求項２３】
前記機械膜は、約２０ボルト未満の電圧が印加されたときに前記部分的ミラーの方に崩れることができない請求項２０に記載のテストユニット。
【請求項２４】
結合された微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）とテストユニット構造物を製造する方法であって、
ＭＥＭＳ構造物を形成することと、
テストユニットを同時に形成すること、とを具備し、前記ＭＥＭＳ構造物を形成することは、１つ以上の堆積及びパターン形成ステップを含み、前記ＭＥＭＳ構造物は、第１の複数の柱によって支持される第１の機械膜を具備し、前記テストユニットを形成することは、前記１つ以上の材料堆積及びパターン形成ステップを含み、前記テストユニットは、第２の複数の柱によって支持される第２の機械膜を具備し、前記第２の複数の柱は、前記第１の複数の柱よりも高い密度で存在する、方法。
【請求項２５】
前記第１及び第２の機械膜は、実質的に同じ構造を有する請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
前記テストユニットは、前記ＭＥＭＳ構造物を形成するために用いられるのと同じ一連の堆積及びパターン形成ステップを用いて形成される請求項２４に記載の方法。
【請求項２７】
請求項２４に記載のプロセスによって製造されるウェハー。
【請求項２８】
ディスプレイ内において用いるための光を反射させる複数の第１の手段と、
第２の手段であって、前記第２の手段のうちの少なくとも１つから反射された光と実質的に同じ色を有する光を安定的に反射させるための第２の手段と、を具備するウェハー。
【請求項２９】
前記第１の手段は、インターフェロメトリック変調器である請求項２８に記載のウェハー。
【請求項３０】
前記第２の手段は、前記インターフェロメトリック変調器内におけるよりも高い密度の機械膜支持柱を有するテストユニット構造を具備するテストユニットである請求項２８又は２９に記載のウェハー。
【請求項３１】
部分的ミラーを形成することと、機械膜を形成することと、前記機械膜を支持しさらに前記機械膜を前記部分的ミラーから分離する複数の柱を形成すること、とを具備するプロセスであって、柱の密度は、前記部分的ミラーと前記機械膜との間に電圧が印加されたときに前記機械膜が前記部分的ミラーの方に崩れることができないような十分な高さであるプロセス、によって製造されるテストユニット。