【手続補正書】
【提出日】平成20年1月31日(2008.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽イオンを生成する陽イオン発生部と、
前記陽イオン発生部から所定距離離れて配置され、陰イオンを生成する陰イオン発生部と、
を備えることを特徴とする殺菌装置。
【請求項２】
前記陽イオン発生部が、放電電極と誘導電極を有し、前記放電電極と誘導電極との間にはプラス成分の高電圧が印加されることを特徴とする請求項１に記載の殺菌装置。
【請求項３】
前記陰イオン発生部が、針状電極であり、前記針状電極にはマイナス成分の高電圧が印加されることを特徴とする請求項１に記載の殺菌装置。
【請求項４】
前記針状電極の先端が、前記陽イオン発生部から２５ｍｍ〜４０ｍｍ距離だけ離れた位置に配置されることを特徴とする請求項３に記載の殺菌装置。
【請求項５】
前記針状電極の先端が、前記陽イオン発生部が置かれている平面から１５ｍｍ〜４０ｍｍ高さだけ離れた位置に配置されることを特徴とする請求項３に記載の殺菌装置。
【請求項６】
前記針状電極が、２５ｍｍ〜４０ｍｍの長さを有し、前記陽イオン発生部の側面に並んで設置されることを特徴とする請求項３に記載の殺菌装置。
【請求項７】
水素イオンを発生させる第１電極と、
前記第１電極から所定距離離れて配置され、電子とスーパーオキサイドアニオンを発生させる第２電極と、を備え、
前記第１電極から発生した水素イオンと前記第２電極から発生した電子が水素原子を生成し、該水素原子と前記第２電極から発生したスーパーオキサイドアニオンとが反応して空気を殺菌することを特徴とするイオン発生装置。
【請求項８】
前記第１電極が、相対向する放電電極と誘導電極を有し、前記第２電極は針状電極を含むことを特徴とする請求項７に記載のイオン発生装置。
【請求項９】
前記針状電極の先端が、前記第１電極から２５ｍｍ〜４０ｍｍ距離だけ離れた位置、前記第１電極の置かれた平面から１５ｍｍ〜４０ｍｍ高さだけ離れた位置にあり、及び、前記針状電極が、２５ｍｍ〜４０ｍｍの長さを有し、前記第１電極の側面に並んで設置されることを特徴とする請求項８に記載のイオン発生装置。
【請求項１０】
前記イオン発生装置は、前記第１電極により発生された水素イオンと前記第２電極により発生された電子及びスーパーオキサイドアニオンの拡散範囲を一定の空間内に制限するためのカバーをさらに備えることを特徴とする請求項７に記載のイオン発生装置。
【請求項１１】
陽イオンを生成する陽イオン発生部と、
陰イオンを生成する陰イオン発生部と、を備え
これら陽イオン及び陰イオン発生部のうち一つは平面上に配置され、他の一つは前記平面以外の箇所に設置されることを特徴とするイオン発生装置。
【請求項１２】
前記陽イオン発生部は、平面上に設置され、前記陰イオン発生部は、前記陽イオン発生部が置かれた平面から所定高さだけ離れた箇所に設置されることを特徴とする請求項１１に記載のイオン発生装置。
【請求項１３】
前記陰イオン発生部の先端は、前記陽イオン発生部から２５ｍｍ〜４０ｍｍ距離だけ離れた位置、前記陽イオン発生部が置かれた平面から１５ｍｍ〜４０ｍｍ高さだけ離れた位置に配置され、
前記陰イオン発生部は、２５ｍｍ〜４０ｍｍの長さを有し、前記陰イオン発生部の少なくとも一部は、前記陽イオン発生部の側面に並んで配置されることを特徴とする請求項１２に記載のイオン発生装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、前記針状電極の先端は、前記陽イオン発生部から２５ｍｍ〜４０ｍｍ距離だけ離れた位置に配置されることを特徴とする。
前記針状電極の先端は、前記陽イオン発生部が置かれている平面から１５ｍｍ〜４０ｍｍ高さだけ離れた位置に設置されることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、前記針状電極は、２５ｍｍ〜４０ｍｍの長さを有し、前記陽イオン発生部の側面に並んで配置されることを特徴とする。
また、本発明に係るイオン発生装置は、水素イオンを発生させる第１電極と、前記第１電極から所定距離離れて配置され、電子とスーパーオキサイドアニオンを発生させる第２電極と、を備え、前記第１電極から発生した水素イオンと前記第２電極から発生した電子が水素原子を生成し、該水素原子と前記第２電極から発生したスーパーオキサイドアニオンとが反応して空気を殺菌することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、前記第１電極は、相対向する放電電極と誘導電極を有し、前記第２電極は針状電極を含むことを特徴とする。
また、前記針状電極の先端は、前記第１電極から２５ｍｍ〜４０ｍｍ距離だけ離れた位置、前記第１電極の置かれた平面から１５ｍｍ〜４０ｍｍ高さだけ離れた位置に配置され、及び、前記針状電極が、２５ｍｍ〜４０ｍｍの長さを有し、前記第１電極の側面に並んで設置されることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、前記イオン発生装置は、前記第１電極により発生された水素イオンと前記第２電極により発生された電子及びスーパーオキサイドアニオンの拡散範囲を一定の空間内に制限するためのカバーをさらに備えることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、前記陽イオン発生部は、平面上に設置され、前記陰イオン発生部は、前記陽イオン発生部が置かれた平面上から所定高さだけ離れた箇所に配置されることを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、前記陰イオン発生部の先端は、前記陽イオン発生部から２５ｍｍ〜４０ｍｍ距離だけ離れた位置、前記陽イオン発生部の置かれた平面から１５ｍｍ〜４０ｍｍ高さだけ離れた位置に設置されることを特徴とする。前記陰イオン発生部は、２５ｍｍ〜４０ｍｍの長さを有し、前記陰イオン発生部の少なくとも一部は、前記陽イオン発生部の側面に並んで配置される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
以下、本発明の好適な実施の形態について、添付の図面に基づいて詳細に説明する。
図１及び図２に示すように、本発明の一実施の形態による殺菌装置は、基台１０の上面に設けられたセラミックプレート１１と、セラミックプレート１１から所定距離離れて３次元的な地点に位置するように設けられた針状電極１２と、セラミックプレート１１及び針状電極１２から発生するイオンの拡散範囲を、一定の空間内に限定するためのカバー１３と、を備える。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
図６は、Ｂモデルによるセラミックプレート１１と針状電極１２の構造を示すもので、セラミックプレート１１と針状電極１２が同一の平面上に配置されていない。針状電極１２の先端は、Ｘ軸上、すなわちセラミックプレート１１の中央ライン上に位置し、そして、Ｘ軸方向におけるセラミックプレート１１から針状電極１２のポイント２０までの距離が２５ｍｍ〜４０ｍｍであすように、そして、セラミックプレート１１が配置されている平面からのＺ軸方向における針状電極１２のポイント２０の高さが１５ｍｍ〜４０ｍｍであるように、斜線で表されているＸ軸及びＹ軸によって形成される空間の範囲内における地点に搭載される。ここで、Ｙ軸方向における針状電極１２の長さは、２５ｍｍ〜４０ｍｍである。
図７ａ乃至図７ｃは、図６に示す針状電極１２の空間上の最適位置を決定するためにテストした結果を示すグラフであり、イオンの主発生部である針状電極のポイント２０に対して３次元空間上でイオン結合率が最適となりうるポイントを設定するためのものである。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
このように、針状電極のポイント２０は、３次元的な位置範囲によって規定される。すなわち、針状電極のポイント２０は、針状電極の少なくとも一部で、セラミックプレート１１から２５ｍｍ〜４０ｍｍの離隔距離、１５ｍｍ〜４０ｍｍの離隔高さを有している。そして、針状電極１２は、２５ｍｍ〜４０ｍｍの長さを有し、セラミックプレート１１の側面に並んで配置される。針状電極がこの位置範囲内に位置しているときに、最適のイオン結合性能が維持される。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
本発明の一実施の形態では、カバー１３を設置して水素イオンと電子との反応及び水素原子とスーパーオキサイドアニオンとの反応が容易となるようにしたが、カバー１３なしでも本発明を実施できることは言うまでもない。
本発明の実施の形態を示しそして記述してきたが、当業者であれば、この例示的な実施の形態を発明の原理及び趣旨から離れることなく変更しうることが理解されるであろう。発明の範囲は、特許請求の範囲及びその均等物によって規定されるものである。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2006212414.tif 000001
【手続補正１４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2006212414.tif 000002
【手続補正１５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2006212414.tif 000003