【手続補正書】
【提出日】平成20年3月27日(2008.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成されたパターン寸法を測定するためのパターン寸法測定装置を用いたパターン寸法測定方法であって、
パターン寸法測定手段によって、測定点に測定カーソルを表示させパターン寸法測定を行うパターン寸法測定工程と、
パターン測定結果判定手段によって、前記パターン寸法測定工程で得られたパターン測定結果を妥当か否か判断するパターン寸法判断工程と、
前記パターン測定結果判定手段が、得られた前記パターン測定結果を妥当でないと判定した場合に、測定カーソル最適化手段により、前記測定カーソルの大きさまたは位置の少なくとも一方を修正するカーソル修正工程と、
前記パターン寸法測定手段が、大きさまたは位置の少なくとも一方が修正された測定カーソルを用いて、前記パターン寸法の測定を行う工程とを含み、
前記パターン測定結果判定手段が、得られた前記パターン寸法測定結果を妥当であると判断するまで、前記パターン寸法測定工程と前記パターン寸法判断工程とカーソル修正工程を繰り返すことを特徴とするパターン寸法測定方法。
【請求項２】
前記測定カーソル最適化手段は、前記測定カーソルの大きさを調整するものであり、
前記パターン測定結果判定手段は、得られた信号波形がピークを持つことで、前記パターン寸法測定結果を妥当であると判断することを特徴とする請求項１記載のパターン寸法測定方法。
【請求項３】
パターンは二次元方向に交差して配置されており、前記パターンの交差点近傍の下層に形成されたパターン寸法を前記測定カーソル内に設定された複数の測定点で測定する場合において、
前記測定カーソル最適化手段は、前記下層に形成されたパターンに対して、
上層パターンに平行に前記測定カーソルの大きさを修正し、
前記パターン寸法測定手段は、修正された前記測定カーソルを用いて前記パターンの寸法測定を行い、
前記パターン測定結果判定手段は、得られた複数の前記パターン寸法測定結果からなる信号波形が、ピークを持つことによって、測定結果を妥当であると判断し、ピーク位置の外側に計測された寸法を所望の測定結果として得ることを特徴とする請求項２記載のパターン寸法測定方法。
【請求項４】
パターンは二次元方向に交差して配置されており、前記パターンの交差点近傍の下層に形成されたパターン寸法を測定した後に、前記パターンの交差点の上層に形成されたパターン寸法を前記測定カーソル内に設定された複数の測定点で測定する場合において、
前記測定カーソル最適化手段は、前記下層に形成されたパターンと前記上層に形成されたパターンが交差する範囲内において、前記測定カーソルの大きさを前記上層に形成されたパターンに対して、測定対象線幅に垂直の方向に修正し、
前記パターン寸法測定手段は、修正された前記測定カーソルを用いて前記上層に形成されたパターン寸法の測定を行い、
前記パターン測定結果判定手段は、得られた複数の上層のパターン寸法測定結果を積分し、先に得られた下層に形成されたパターン寸法測定結果で除することにより、上層に形成されたパターン寸法測定結果とすることを特徴とする請求項３記載のパターン寸法測定方法。
【請求項５】
前記測定カーソル最適化手段は、前記測定カーソルの位置を調整するものであり、
前記パターン測定結果判定手段は、得られた信号波形がピークを持つことで、測定結果を妥当であると判断することを特徴とする請求項１記載のパターン寸法測定方法。
【請求項６】
パターンは二次元方向に交差して配置されており、前記パターンの交差点近傍の下層に形成されたパターン寸法を測定する場合において、
前記測定カーソル最適化手段は、前記下層に形成されたパターンに対して、
上層パターンに平行に前記測定カーソルの位置を修正し、
前記パターン寸法測定手段は、修正された前記測定カーソルを用いて前記パターンの寸法測定を行い、
前記パターン測定結果判定手段は、得られた複数のパターン寸法測定結果からなる信号波形が、ピークを持つことによって、測定結果を妥当であると判断し、ピーク位置の外側に計測された寸法を所望の測定結果として得ることを特徴とする請求項５記載のパターン寸法測定方法。
【請求項７】
パターンは二次元方向に交差して配置されており、前記パターンの交差点近傍の下層に形成されたパターン寸法を測定した後に、前記パターンの交差点の上層に形成されたパターン寸法を測定する場合において、
前記測定カーソル最適化手段は、前記下層に形成されたパターンと前記上層に形成されたパターンが交差する範囲内において、前記測定カーソルの位置を前記上層に形成されたパターンに対して、測定対象線幅に垂直の方向に修正し、
前記パターン寸法測定手段は、修正された前記測定カーソルを用いて前記上層に形成されたパターン寸法の測定を行い、
前記パターン測定結果判定手段は、得られた複数の上層のパターン寸法測定結果を積分し、先に得られた下層に形成されたパターン寸法測定結果で除することにより、上層に形成されたパターン寸法測定結果とすることを特徴とする請求項６記載のパターン寸法測定方法。
【請求項８】
基板上に形成されたパターン寸法を測定するパターン寸法測定装置であって、
コンピュータによって動作する、測定点に測定カーソルを表示させパターン寸法測定を行うパターン寸法測定手段と、
得られたパターン寸法測定結果の妥当性を判断するパターン測定結果判定手段と、
前記測定カーソルの大きさまたは位置の少なくとも一方を修正する測定カーソル最適化手段とを備え、
前記測定カーソル最適化手段は、前記パターン測定結果判定手段が、得られた前記パターン測定結果を妥当でないと判定した場合に、前記測定カーソルの大きさまたは位置の少なくとも一方を修正し、
前記パターン寸法測定手段は、大きさまたは位置の少なくとも一方が修正された前記測定カーソルを用いて、前記パターン寸法の測定を行い、
前記パターン測定結果判定手段が、得られた前記パターン寸法測定結果を妥当であると判断するまで、前記測定カーソルの修正と前記パターン寸法の測定を繰り返し行うことを特徴とするパターン寸法測定装置。
【請求項９】
前記測定カーソル最適化手段は、前記測定カーソルの大きさを調整するものであり、前記パターン測定結果判定手段は、得られた信号波形がピークを持つことで、前記パターン寸法測定結果を妥当であると判断することを特徴とする請求項８記載のパターン寸法測定装置。
【請求項１０】
パターンは二次元方向に交差して配置されており、前記パターンの交差点近傍の下層に形成されたパターン寸法を前記測定カーソル内に設定された複数の測定点で測定する場合において、
前記測定カーソル最適化手段は、前記下層に形成されたパターンに対して上層パターンに平行に前記測定カーソルの大きさを修正し、
前記パターン寸法測定手段は、修正された前記測定カーソルを用いて前記パターンの寸法測定を行い、
前記パターン測定結果判定手段は、得られた複数のパターン寸法測定結果からなる信号波形が、ピークを持つことによって、測定結果を妥当であると判断し、ピーク位置の外側に計測された寸法を所望の測定結果として得ることを特徴とする請求項９記載のパターン寸法測定装置。
【請求項１１】
パターンは二次元方向に交差して配置されており、前記パターンの交差点近傍の下層に形成されたパターン寸法を測定した後に、前記パターンの交差点の上層に形成されたパターン寸法を前記測定カーソル内に設定された複数の測定点で測定する測定する場合において、
前記測定カーソル最適化手段は、前記下層に形成されたパターンと前記上層に形成されたパターンが交差する範囲内において、前記測定カーソルの大きさを前記上層に形成されたパターンに対して測定対象線幅に垂直の方向に修正し、
前記パターン寸法測定手段は、修正された前記測定カーソルを用いて前記上層に形成されたパターン寸法の測定を行い、
前記パターン測定結果判定手段は、得られた複数の前記上層のパターン寸法測定結果を積分し、先に得られた前記下層に形成されたパターンの寸法測定結果で除することにより、前記上層に形成されたパターン寸法測定結果とすることを特徴とする請求項１０記載のパターン寸法測定装置。
【請求項１２】
前記測定カーソル最適化手段は、前記測定カーソルの位置を調整するものであり、
前記パターン測定結果判定手段は、得られた信号波形がピークを持つことで、測定結果を妥当であると判断することを特徴とする請求項８記載のパターン寸法測定装置。
【請求項１３】
パターンは二次元方向に交差して配置されており、前記パターンの交差点近傍の下層に形成されたパターン寸法を測定する場合において、
前記測定カーソル最適化手段は、前記下層に形成されたパターンに対して上層パターンに平行に前記測定カーソルの位置を修正し、
前記パターン寸法測定手段は、修正された前記測定カーソルを用いて前記パターンの寸法測定を行い、
前記パターン測定結果判定手段は、得られた複数のパターン寸法測定結果からなる信号波形が、ピークを持つことによって、測定結果を妥当であると判断し、ピーク位置の外側に計測された寸法を所望の測定結果として得ることを特徴とする請求項１２記載のパターン寸法測定装置。
【請求項１４】
パターンは二次元方向に交差して配置されており、前記パターンの交差点近傍の下層に形成されたパターン寸法を測定した後に、前記パターンの交差点の上層に形成されたパターン寸法を測定する場合において、
前記測定カーソル最適化手段は、前記下層に形成されたパターンと前記上層に形成されたパターンが交差する範囲内において、前記測定カーソルの位置を前記上層に形成されたパターンに対して測定対象線幅に垂直の方向に、修正し、
前記パターン寸法測定手段は、修正された前記測定カーソルを用いて前記上層に形成されたパターン寸法の測定を行い、
前記パターン測定結果判定手段は、得られた複数の前記上層のパターン寸法測定結果を積分し、先に得られた前記下層に形成されたパターンの寸法測定結果で除することにより、前記上層に形成されたパターン寸法測定結果とすることを特徴とする請求項１３記載のパターン寸法測定装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明のパターン寸法測定方法は、基板上に形成されたパターン寸法を測定するためのパターン寸法測定装置を用いたパターン寸法測定方法であって、
パターン寸法測定手段によって、測定点に測定カーソルを表示させパターン寸法測定を行うパターン寸法測定工程と、
パターン測定結果判定手段によって、パターン寸法測定工程で得られたパターン測定結果を妥当か否か判断するパターン寸法判断工程と、
パターン測定結果判定手段が、得られたパターン測定結果を妥当でないと判定した場合に、測定カーソル最適化手段により、前記測定カーソルの大きさまたは位置の少なくとも一方を修正するカーソル修正工程と、
パターン寸法測定手段が、大きさまたは位置の少なくとも一方が修正された測定カーソルを用いて、パターン寸法の測定を行う工程とを含み、
パターン測定結果判定手段が、得られたパターン寸法測定結果を妥当であると判断するまで、パターン寸法測定工程とパターン寸法判断工程とカーソル修正工程を繰り返すことを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
上記構成において、パターンは二次元方向に交差して配置されており、パターンの交差点近傍の下層に形成されたパターン寸法を測定カーソル内に設定された複数の測定点で測定する場合において、
測定カーソル最適化手段は、下層に形成されたパターンに対して、
上層パターンに平行に測定カーソルの大きさを修正し、
パターン寸法測定手段は、修正された測定カーソルを用いてパターンの寸法測定を行い、
パターン測定結果判定手段は、得られた複数のパターン寸法測定結果からなる信号波形が、ピークを持つことによって、測定結果を妥当であると判断し、ピーク位置の外側に計測された寸法を所望の測定結果として得る。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
上記構成において、パターンは二次元方向に交差して配置されており、パターンの交差点近傍の下層に形成されたパターン寸法を測定した後に、パターンの交差点の上層に形成されたパターン寸法を測定カーソル内に設定された複数の測定点で測定する場合において、
測定カーソル最適化手段は、下層に形成されたパターンと上層に形成されたパターンが交差する範囲内において、測定カーソルの大きさを上層に形成されたパターンに対して、測定対象線幅に垂直の方向に修正し、
パターン寸法測定手段は、修正された測定カーソルを用いて上層に形成されたパターン寸法の測定を行い、
パターン測定結果判定手段は、得られた複数の上層のパターン寸法測定結果を積分し、先に得られた下層に形成されたパターン寸法測定結果で除することにより、上層に形成されたパターン寸法の測定結果とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
上記構成において、パターンは二次元方向に交差して配置されており、パターンの交差点近傍の下層に形成されたパターン寸法を測定する場合において、
測定カーソル最適化手段は、下層に形成されたパターンに対して上層パターンに平行に測定カーソルの位置を修正し、
パターン寸法測定手段は、修正された測定カーソルを用いてパターンの寸法測定を行い、
パターン測定結果判定手段は、得られた複数のパターン寸法測定結果からなる信号波形が、ピークを持つことによって、測定結果を妥当であると判断し、ピーク位置の外側に計測された寸法を所望の測定結果として得る。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
上記構成において、パターンは二次元方向に交差して配置されており、パターンの交差点近傍の下層に形成されたパターン寸法を測定した後に、パターンの交差点の上層に形成されたパターン寸法を測定する場合において、
測定カーソル最適化手段は、下層に形成されたパターンと上層に形成されたパターンが交差する範囲内において、測定カーソルの位置を上層に形成されたパターンに対して測定対象線幅に垂直の方向に修正し、
パターン寸法測定手段は、修正された測定カーソルを用いて上層に形成されたパターン寸法の測定を行い、
パターン測定結果判定手段は、得られた複数の上層のパターン寸法測定結果を積分し、先に得られた下層に形成されたパターン寸法測定結果で除することにより、上層に形成されたパターン寸法測定結果とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
本発明のパターン寸法測定装置は、基板上に形成されたパターン寸法を測定するパターン寸法測定装置であって、
コンピュータによって動作する、測定点に測定カーソルを表示させパターン寸法測定を行うパターン寸法測定手段と、
得られたパターン寸法測定結果の妥当性を判断するパターン測定結果判定手段と、
測定カーソルの大きさまたは位置の少なくとも一方を修正する測定カーソル最適化手段とを備え、
測定カーソル最適化手段は、パターン測定結果判定手段が、得られたパターン測定結果を妥当でないと判定した場合に、測定カーソルの大きさまたは位置の少なくとも一方を修正し、
パターン寸法測定手段は、大きさまたは位置の少なくとも一方が修正された測定カーソルを用いて、パターン寸法の測定を行い、
パターン測定結果判定手段が、得られたパターン寸法測定結果を妥当であると判断するまで、測定カーソルの修正とパターン寸法の測定を繰り返し行うことを特徴とするものである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
上記構成において、パターンは二次元方向に交差して配置されており、パターンの交差点近傍の下層に形成されたパターン寸法を測定カーソル内に設定された複数の測定点で測定する場合において、
測定カーソル最適化手段は、下層に形成されたパターンに対して上層パターンに平行に測定カーソルの大きさを修正し、
パターン寸法測定手段は、修正された測定カーソルを用いてパターンの寸法測定を行い、
パターン測定結果判定手段は、得られた複数のパターン寸法測定結果からなる信号波形が、ピークを持つことによって、測定結果を妥当であると判断し、ピーク位置の外側に計測された寸法を所望の測定結果として得る。
上記構成において、パターンは二次元方向に交差して配置されており、パターンの交差点近傍の下層に形成されたパターン寸法を測定した後に、パターンの交差点の上層に形成されたパターン寸法を測定カーソル内に設定された複数の測定点で測定する測定する場合において、
測定カーソル最適化手段は、下層に形成されたパターンと上層に形成されたパターンが交差する範囲内において、測定カーソルの大きさを上層に形成されたパターンに対して測定対象線幅に垂直の方向に修正し、
パターン寸法測定手段は、修正された測定カーソルを用いて上層に形成されたパターン寸法の測定を行い、
パターン測定結果判定手段は、得られた複数の上層のパターン寸法測定結果を積分し、先に得られた下層に形成されたパターンの寸法測定結果で除することにより、上層に形成されたパターン寸法測定結果とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
上記構成において、パターンは二次元方向に交差して配置されており、パターンの交差点近傍の下層に形成されたパターン寸法を測定する場合において、
測定カーソル最適化手段は、下層に形成されたパターンに対して、上層パターンに平行に測定カーソルの位置を修正し、
パターン寸法測定手段は、修正された測定カーソルを用いてパターンの寸法測定を行い、
パターン測定結果判定手段は、得られた複数のパターン寸法測定結果からなる信号波形が、ピークを持つことによって、測定結果を妥当であると判断し、ピーク位置の外側に計測された寸法を所望の測定結果として得る。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
上記構成において、パターンは二次元方向に交差して配置されており、パターンの交差点近傍の下層に形成されたパターン寸法を測定した後に、パターンの交差点の上層に形成されたパターン寸法を測定する場合において、
測定カーソル最適化手段は、下層に形成されたパターンと上層に形成されたパターンが交差する範囲内において、測定カーソルの位置を上層に形成されたパターンに対して、測定対象線幅に垂直の方向に修正し、
パターン寸法測定手段は、修正された測定カーソルを用いて上層に形成されたパターン寸法の測定を行い、
パターン測定結果判定手段は、得られた複数の上層のパターン寸法測定結果を積分し、先に得られた下層に形成されたパターンの寸法測定結果で除することにより、上層に形成されたパターン寸法測定結果とする。