【手続補正書】
【提出日】平成20年6月13日(2008.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  パルス発光する光源と、前記光源を所定のタイミングでパルス発光させる発光タイミング制御手段と、縮小投影光学系と、感光基板を保持しながら前記縮小投影光学系に対して移動可能なステージとを備え、前記ステージを順次移動させて原版上に形成されたパターンを前記縮小投影光学系を介して前記感光基板上に複数領域露光する露光装置において、単位時間当たりの発光パルス数と所定のパルス数を比較して、発光休止時間を設けるか、または、既存の発光休止時間を延長させることを特徴とする露光装置。
【請求項２】  前記単位時間当たりの発光パルス数を前記光源のパルス発光時間と前記ステージの移動時間に基づいて算出することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。    
【請求項３】  前記単位時間当たりの発光パルス数を露光動作開始前に算出することを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】  前記単位時間当たりの発光パルス数を計数する計数手段を備えたことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の露光装置。
【請求項５】  パルス発光する光源と、前記光源を所定のタイミングでパルス発光させる発光タイミング制御手段と、前記光源の光品位を測定する手段とを備えた露光装置において、前記光源の光品位が所定の範囲を超えないようにパルス発光のタイミングを制御することを特徴とする露光装置。
【請求項６】  パルス発光する光源と、前記光源に与えるパラメータ値により前記光源の発光強度を制御する発光強度制御手段と、前記光源の光品位を測定する手段とを備えた露光装置において、前記光源の光品位が所定の範囲を超える場合、前記パラメータ値を変えて前記光源の発光強度を小さくすることを特徴とする露光装置。
【請求項７】  前記パラメータ値は前記光源に印加する電圧値であることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】  警告信号を出力する手段をさらに備え、前記光源の光品位が所定の範囲を超える場合、前記警告信号を出力することを特徴とする請求項５〜７のいずれか１つに記載の露光装置。
【請求項９】  パルス発光する光源を所定のタイミングでパルス発光させて露光を行なう露光方法において、前記光源の光品位を測定し、該光源の光品位が所定の範囲を超えないようにパルス発光のタイミングを制御することを特徴とする露光方法。
【請求項１０】  パルス発光する光源に与えるパラメータ値により前記光源の発光強度を制御して露光を行なう露光方法において、前記光源の光品位を測定し、該光源の光品位が所定の範囲を超える場合、前記パラメータ値を変えて前記光源の発光強度を小さくすることを特徴とする露光方法。
【請求項１１】  請求項１〜１０のいずれか１つに記載の露光装置を含む各種プロセス用の製造装置群を半導体製造工場に設置する工程と、該製造装置群を用いて複数のプロセスによって半導体デバイスを製造する工程とを有することを特徴とする半導体デバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
近年、半導体素子等の高集積度化に伴い、露光装置の解像度の向上が求められており、解像度向上のため、より短波長の光源として、露光装置にはエキシマレーザのような遠紫外領域のパルスレーザ光源が使用されている。パルスレーザを用いた露光装置における露光動作はフォトレジスト等の感光材が塗付されたウェハ上に、レチクルおよび投影光学系を介し、複数のレーザパルスを照射してこれを行なうが、この露光中に、ウェハの或るポイントに照射されるレーザパルスの総エネルギが、そのポイントにおける１ショットの露光量であり、ウェハ上に結像されるレチクルの回路パターンの解像度やパターン線幅を、最適で、かつ一定にするためには、ショットの露光量がフォトレジスト等の感光材に対して最適値で、ショット間の露光量ばらつきが小さい、安定した露光制御が要求される。また、パルスレーザのパルス毎の露光エネルギの値はレーザのパルス発振（発光）の際にレーザ装置に与える設定パラメータ値（例えば印加電圧値）に応じて変化するので、設定値を変化させることにより、露光エネルギをコントロールすることが可能である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための本発明の露光装置は、パルス発光する光源と、前記光源を所定のタイミングでパルス発光させる発光タイミング制御手段と、縮小投影光学系と、感光基板を保持しながら前記縮小投影光学系に対して移動可能なステージとを備え、前記ステージを順次移動させて原版上に形成されたパターンを前記縮小投影光学系を介して前記感光基板上に複数領域露光する露光装置において、単位時間当たりの発光パルス数と所定のパルス数を比較して、発光休止時間を設けるか、または、既存の発光休止時間を延長させることを特徴とする。
また本発明の露光装置は、パルス発光する光源と、前記光源を所定のタイミングでパルス発光させる発光タイミング制御手段と、前記光源の光品位を測定する手段とを備えた露光装置において、前記光源の光品位が所定の範囲を超えないようにパルス発光のタイミングを制御することを特徴とする。
さらに本発明の露光装置は、パルス発光する光源と、前記光源に与えるパラメータ値により前記光源の発光強度を制御する発光強度制御手段と、前記光源の光品位を測定する手段とを備えた露光装置において、前記光源の光品位が所定の範囲を超える場合、前記パラメータ値を変えて前記光源の発光強度を小さくすることを特徴とする。
上記目的を達成するための本発明の露光方法は、パルス発光する光源を所定のタイミングでパルス発光させて露光を行なう露光方法において、前記光源の光品位を測定し、該光源の光品位が所定の範囲を超えないようにパルス発光のタイミングを制御することを特徴とする。
また本発明の露光方法は、パルス発光する光源に与えるパラメータ値により前記光源の発光強度を制御して露光を行なう露光方法において、前記光源の光品位を測定し、該光源の光品位が所定の範囲を超える場合、前記パラメータ値を変えて前記光源の発光強度を小さくすることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
８はコントローラで、パルスレーザ光源１に発振（発光）指令を与えることにより、レーザパルスを、所定のタイミングに、所定のパルス数だけ出力する。その際に、パルスレーザ光源１に、充電電圧値等のパラメータ値を同時に与えて、出力値をコントロールすることも可能である。また、コントローラ８はレチクルステージ４やウェハステージ７に駆動指令を与えることにより、レチクル３やウェハ６をそれぞれ所定のタイミングに所定の位置へ駆動することが可能である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
図３は上記の露光動作の流れを示したタイミングチャートである。同図において、ａはウェハステージ７の動作／停止、ｂはコントローラ８のパルスレーザ光源１とウェハステージ７に対する動作指令／動作終了検知、ｃはパルスレーザ光源１のパルス出力／停止をそれぞれ示している。露光動作は、はじめに、コントローラ８が◎のタイミングで、ウェハステージ７に図２における第１ショットの露光領域１の位置への駆動指令を発生する。駆動指令を受けると、ウェハステージ７は露光領域１の位置への駆動を行なう。露光位置への駆動が終了すると、ウェハステージ７はコントローラ８へ駆動終了を通知する。コントローラ８は、×のタイミングで、ウェハステージ７の駆動終了を検知し、その直後に、○のタイミングで、パルスレーザ光源１にレーザのパルス発振(発光)指令を発令する。発振指令を受けると、パルスレーザ光源１は、レーザパルス光の出力を行なう。図３の例では、６パルスのレーザパルスを出力した例を示している。次に、コントローラ８はΔのタイミングで、パルスレーザ光源１からのパルス発振終了通知を受けることにより、パルス発振終了タイミングを検出する。この動作で、第１ショットの露光が終了する。なお、パルス発振終了タイミングの検出は、レーザのパルス発振周期と出力パルス数の積を求めて行なってもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
第１ショットの露光終了を検出した直後、コントローラ８は、◎のタイミングでウェハステージ７に図２における第２ショットの露光領域２の位置への駆動指令を発生する。以下、第１ショットの動作と同様に、コントローラ８は、ウェハステージ７の駆動終了の検出、パルスレーザ光源１への発振(発光)指令、パルスの発振終了検出の動作を繰り返し行ない、全部で２１ショットの露光が終了すると、ウェハ６の１枚の全露光が完了する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
露光装置の重要な性能のひとつは、半導体デバイスの生産性であり、これは、単位時間当たりに露光可能なウェハの枚数で定義され、スループットとよばれる。露光装置のスループットを向上させるためには、露光ショット間のウェハステージ７の移動時間や、各露光ショットのレーザ光源１のレーザ発振(発光)時間や、ウェハ交換時間を短縮させればよい。今、レーザ発振時間の短縮に着目すると、各露光ショットに必要な露光量は、露光するレチクル３のパターンや、ウェハ６に塗付されるフォトレジストの光感度などから最適値が決定され、その最適露光量に見合うエネルギをウェハ６上に、複数のレーザパルス照射により与えて、各ショットの露光が行なわれる。ここで、各露光ショットにおける、レーザの発振時間を短縮するには、レーザ光源１のパルス当たりのエネルギをより大きくして、最適露光量を達成するための発振パルス数を小さくしたり、パルス発振周波数を大きくしたりすればよい。但し、エキシマレーザのようなパルスレーザ光源１には一般的に、その発振パルス毎のパルスエネルギの大きさに、制御不能のばらつきがあり、複数のパルスエネルギ値のヒストグラムは平均エネルギ値の回りに正規分布的な分布をもつ傾向を示すため、レーザのパルス当たりのエネルギを大きくして、発振パルス数を小さくすることは、１ショットの露光量に占める１パルスのエネルギばらつきによる露光誤差の寄与が相対的に大きくなるというデメリットを発生させる。このため、各露光ショットにおける最適露光量の達成精度を考慮すると、レーザ光源１のパルス発振周波数を大きくして、パルス数を減らさずにエネルギばらつきの平均化効果を生かしながらレーザ発振時間を短縮するのが望ましい。いま、レーザの発振周波数を２倍にすれば、レーザ発振時間は１／２に短縮することが可能になる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
但し、図３にて説明したように露光装置は、通常の露光動作の場合、長時間連続してレーザ発振(発光)を行なうわけではなく、露光と露光の間にウェハステージ７の移動動作時間があり、この時間はパルスレーザ光源１はレーザ発振を休止するので、露光中に発生した熱を放熱することができる。このため、レーザ発振周波数をアップして露光動作を行なっても、レーザの発振時間とウェハステージ７の移動時間との比によっては、レーザ発振時に発生したレーザ発振周波数アップによるパルスレーザ光源１の発熱アップ分が、ウェハステージ７の移動の間に放熱でき、レーザ出力アップに応じた冷却能力アップがなくても、パルスレーザ光源１の温度上昇は発生しない場合がある。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
図４（１）は、パルスレーザ光源１の発振(発光)時間に対して、ウェハステージ７の移動時間の比が大きい場合の露光動作のタイミングチャートで、ａがウェハステージ７の動作、ｂがパルスレーザ光源１のパルス光出力、ｃがレーザ発振のデューティサイクルを示したものである。例えば、レチクル３に形成されている半導体素子の回路パターンサイズが大きいとき、ウェハ６上に投影されるパターン像、すなわち各ショットの露光領域も比例して大きくなり、露光ショット問のウェハステージ７の移動距離も大きくなり、移動時間も長くなる。さらに、ウェハ６に塗付されるフォトレジストの光感度が高い時、１ショットの露光に必要なレーザの発振パルス数は小さくなる。これらの条件が重なると、全露光動作時間におけるレーザ発振時間のデューティ比が低くなり、レーザの発振周波数をアップして使用しても、余計に発生した熱が、ウェハステージ７が移動している間、すなわちレーザ発振休止時間内に放熱できるため、冷却能力アップがなくてもレーザ発振周波数アップによるスループットの向上が実現できる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
同様に図４（２）は、パルスレーザ光源１の発振(発光)時間に対して、ウェハステージ７の移動時間の比が小さい場合の露光動作のタイミングチャートである。図４(１)の例とは逆に、レチクル３に形成されている半導体素子の回路パターンサイズが小さいとき、ウェハ６上のパターン像、すなわち露光領域も比例して小さくなり、露光ショット間のウェハステージ７の移動距離、移動時間も短くなる。さらに、ウェハ６に塗付されるフォトレジストの光感度が低いとき、１ショットの露光に必要なレーザの発振(発光)パルス数は大きくなる。これらの条件が重なると、全露光動作時間におけるレーザ発振時間のデューティ比が高くなり、冷却能力アップがない場合、レーザの発振周波数をアップして使用して、余計に発生した熱が、ウェハステージ７が移動しているレーザ発振休止時間内に放熱しきれないため、パルスレーザ光源１の温度上昇が発生し、レーザ光の光学的品質が悪化するため露光装置の焼付け像性能が悪化する。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
このため、レーザ発振周波数（パルス発光の周波数）をアップしてもパルスレーザ光源１の温度上昇が発生しないようなレーザ発振(発光)／休止のデューティ比または単位時間当たりのレーザ発振パルス数をあらかじめ把握しておき、露光動作の開始前に露光ショットに必要な最適露光量より求められるレーザパルス数とレーザ光源１が発振可能な発振周波数よりレーザの発振時間を算出し、さらにウェハ６に露光されるレチクル３のパターン像のサイズ等より求められる露光ショット間のウェハステージ７の移動距離とウェハステージ７の移動速度よりショット間のウェハステージ７の移動時間を算出し、これらからレーザ発振／休止のデューティ比または単位時間当たりのレーザ発振パルス数の値を見積る。この値がレーザ光源１の温度上昇を発生させるかどうか判定し、発生しないような値の場合は、いま、見積りを行なったレーザ発振周波数にて露光を行なう。一方、レーザ光源１の温度上昇を発生させるような値の場合は、レーザ発振周波数を当初の値より下げるか、または、露光ショットの間にさらにレーザ発振を休止する時間を設けるか、あるいはレーザ発振時に設定する充電電圧値を下げるなど、温度上昇が起こらないような露光動作を行なうようにする。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
図５は、図１の露光装置における露光動作を説明するフローチャートである。露光量やショットサイズ等の露光条件が設定されると、レーザ発振(発光)周波数を最大に設定する。次に、レーザの発振デューティを算出し、算出したデューティが所定の規定デューティより大きくなければ、図４（１）を用いて説明したように、パルス発振周波数最大のまま、１ショットの露光を行なう。一方、算出デューティが規定デューティより大きければ、図４（２）を用いて説明したように、算出デューティが規定デューティ以下になるようにレーザ発振周波数を下げるか休止時間を追加（延長）した後、１ショットの露光を行なう。１ショットの露光を行なった後は、１ウェハの露光を終了したか否かを判定し、露光を終了していなければそのウェハを次のショット位置に移動して前記の１ショット露光を行なう。一方、１ウェハの露光を終了していれば、全ウェハの露光を終了したか否かを判定し、未露光のウェハが残っていれば、ウェハを未露光のものと交換した後、そのウェハをウェハ内の第１ショット位置に移動して前記の１ショット露光を行なう。未露光のウェハが残っていなければ、露光動作を終了する。なお、次ショット位置にウェハを移動した後、またはウェハを交換してその第１ショット位置にウェハを移動した後、１ショット露光を行なおうとするショットの露光量が前ショットと異なる場合は、１ショット露光前に前記した「レーザの発振周波数を最大に設定」、「レーザの発振デューティ算出」、「算出デューティと規定デューティとの比較」および必要に応じて「レーザ発振周波数ダウンｏｒ休止時間追加（延長）」の処理を行なう。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
図６（１）はレーザ光源１のレーザパルスの発振(発光)のタイミングをａに、コントローラ８のレーザのパルス数のカウントタイミングをｂに示したタイミングチャートである。図７および図８はコントローラ８の露光動作を説明するためのフローチャートである。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
コントローラ８は露光動作中、常にＴ0の時間間隔内のレーザ発振(発光)パルス数をカウントする。コントローラ８はレーザ光源１が単位時間Ｔ0の間にレーザパルス発振(発光)を行なっても、レーザ光源１の温度上昇が発生しないような限界の発振パルス数Ｐｔをあらかじめ記憶しておき、Ｔ0間にカウントされた発振パルス数がＰｔ以下の場合は、レーザ光源１の温度上昇が発生しないと判断し、そのままのレーザパルス発振周波数で露光動作を続行する。一方、Ｔ0間にカウントされた発振パルス数がＰｔを超える場合は、レーザ光源１の温度上昇が発生すると判断し、露光時の発振周波数を当初の値より下げるか、または、露光ショットの間にさらにレーザ発振を休止する時間を設けるか、あるいはレーザ発振時に設定する充電電圧値を下げるなど、温度上昇が起こらないような露光動作を行なうようにする。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
［第３の実施例］
図６（２）は本発明の第３の実施例に係る露光装置の露光動作のタイミングチャートを示す。上記第２の実施例では図８に示すように単位時間Ｔ0の発振(発光)パルス数を計数し、この計数値に応じて発振周波数または待ち時間を調整するのに対して、本実施例では図３に示すようなコントローラ８からの発振指令および光源１からの発振終了通知に基づいてパルス発振のデューティ比を算出し、この算出値に応じて発振周波数または待ち時間を調整する。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
図６（２）において、ａはパルスレーザ光源１のレーザパルスの発振(発光)タイミングを、ｂはレーザパルスの発振デューティサイクルを示している。コントローラ８は図６（２）ｂのレーザ発振開始時刻（図中イ、ハ、ホ、ト、ル）と、レーザ発振終了時刻（図中ロ、ニ、へ、ヌ、チ）を検出し、レーザ発振時間（図中イ〜ロ、ハ〜ニ等）とレーザ休止時間（図中ロ〜ハ、ニ〜ホ等）より露光動作中のレーザ発振時間のデューティ比を算出する。さらにコントローラ８はレーザ光源１の温度上昇が発生しないような限界のレーザ発振デューティ比Ｄｔをあらかじめ記憶しておき、計測されたデューティ比がＤｔ以下の場合は、レーザ光源１の温度上昇が発生しないと判断し、そのままのレーザパルス発振周波数で露光動作を続行する。一方、計測されたデューティ比がＤｔを超える場合は、レーザ光源１の温度上昇が発生すると判断し、露光時の発振周波数を当初の値より下げるか、または、露光ショットの間にさらにレーザ発振を休止する時間を設けるか、あるいはレーザ発振時に設定する充電電圧値を下げるなど、温度上昇が起こらないような露光動作を行なうようにする。また、Ｄｔを超えるデューティ比を検出し、レーザの発振周波数を下げたり、充電電圧値を下げたりして露光した場合は、実際のレーザ発振開始時刻と発振終了時刻（図中ト、ヌ）に対し、パルスレーザ光源１の発熱が緩和されるので、発熱に実効的な発振開始時刻と終了時刻（図中チ、リ）を用いて実効的なデューティ比を換算する。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
［第４の実施例］
図９は本発明の第４の実施例に係る露光装置の概略構成を示す。同図において、図１で説明した露光装置の構成と同様に１はパルスレーザ光源、２は照明光学系、３はレチクル、４はレチクルステージ、５は縮小光学系、６はウェハ、７はウェハステージ、８はコントローラである。また９は本実施例にて追加された温度、あるいはレーザビームの光学品質を検出するセンサで、前記パルスレーザ光源１の温度またはレーザビームの光学的な品質の変動を計測し、計測した温度や光学品質または、レーザ光源１が温度や光学品質の変動より、このままの状態でレーザ発振(発光)動作を続けると、露光装置の焼付けパターン像の像性能に悪影響を与える危険がある警告信号を出力し、それらはコントローラ８にてモニタすることができる。前記図３で示した露光シーケンスは本実施例の露光装置においても同様に実行される。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
図１０はレーザ光源１のレーザパルスの発振(発光)のタイミングをａに、温度や光学品質のセンサ９がモニタしたレーザ光源１の状態をｂに、レーザ光源１がセンサ９の出力により露光装置に与える警告信号の状態をｃに示したタイミングチャートである。コントローラ８は露光動作中センサ９が計測したパルスレーザ光源１の状態をモニタし、あらかじめ記憶しておいたパルスレーザ光源１が出力するパルス光の光学的な品質に悪影響を与えない限界の値Ｔｔと比較し、モニタした値がＴｔ以下であったら、そのままのレーザパルス発振周波数で露光動作を続行する。一方、モニタした値がＴｔを超える場合は、露光時の発振周波数を当初の値より下げるか、または、露光ショットの間にさらに、レーザ発振を休止する時間を設けるか、あるいはレーザ発振時に設定する充電電圧値を下げるなど、値がＴｔを超えないような露光動作を行なうようにする。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
あるいは、コントローラ８は露光動作中パルスレーザ光源１がセンサ９の状態により出力する警告信号をモニタし、警告信号がＯＦＦ状態なら、パルスレーザ光源１が出力するパルス光の光学的な品質に悪影響を与えない使用状態なので、そのままのレーザパルス発振(発光)周波数で露光動作を続行する。一方、警告信号がＯＮになったら、露光時の発振周波数を当初の値より下げるか、または、露光ショットの間にさらに、レーザ発振を休止する時間を設けるか、あるいはレーザ発振時に設定する充電電圧値を下げるなど、レーザパルスの光学品質が悪化しないような露光動作を行なうようにする。図１１に、コントローラ８の上記動作を示す。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によればエキシマレーザ等のパルスレーザの冷却能力や露光装置を使用する環境の空調設備能力を向上させなくても、露光条件によっては、レーザの発振(発光)周波数を増して露光のスループットを向上することが可能になる。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の第１〜第３の実施例に係る露光装置の概略構成図である。
【図２】  ウェハ上にレチクルのパターン像を露光する際の露光ショットのレイアウト図である。
【図３】  露光動作実行時の露光装置の動作を説明するタイミングチャートである。
【図４】  露光動作中のレーザ発振(発光)、休止のデューティサイクルを説明するタイミングチャートである。
【図５】  第１の実施例におけるコントローラの動作を説明するためのフローチャートである。
【図６】  第２および第３の実施例における露光動作実行時のレーザの発振(発光)パルス数カウントおよび発振(発光)デューティ比の計測方法を説明するタイミングチャートである。
【図７】  第２の実施例におけるコントローラの動作を説明するためのフローチャートである。
【図８】  図７のフローチャートに示す動作中にＴ0間隔で実行されるタイマ割込動作を示すフローチャートである。
【図９】  本発明の第４の実施例に係る露光装置の概略構成図である。
【図１０】  露光動作中のレーザ発振(発光)、およびレーザの温度や光学品質の変動を説明するタイミングチャートである。
【図１１】  第４の実施例におけるコントローラの動作を説明するためのフローチャートである。
【図１２】  半導体デバイスの生産システムをある角度から見た概念図である。
【図１３】  半導体デバイスの生産システムを別の角度から見た概念図である。
【図１４】  ユーザーインターフェースの具体例である。
【図１５】  デバイスの製造プロセスのフローを説明する図である。
【図１６】  ウェハプロセスを説明する図である。
【符号の説明】  １：パルスレーザ光源、２：照明光学系、３：レチクル、４：レチクルステージ、５：縮小光学系、６：ウェハ、７：ウェハステージ、８：コントローラ、９：温度センサまたは光品位センサ。