Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月18日(2008.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
送信信号のピーク電力を抑圧する送信機において、
前記送信信号のピーク電力を抑圧するためのピーク抑圧信号を生成する複数のピーク抑圧信号生成手段と、
前記複数のピーク抑圧信号生成手段により生成されたピーク抑圧信号を合成するピーク抑圧信号合成手段と、
前記ピーク抑圧信号合成手段により得られた合成結果の信号を前記送信信号から減算する減算手段と、を備え、
前記複数のピーク抑圧信号生成手段のうちの少なくとも１個はフィルタ係数を使用して帯域制限したピーク抑圧信号を生成するピーク抑圧信号生成手段であって、
更に、前記送信信号に含まれるキャリアの周波数のパターンとフィルタ係数との対応を記憶する記憶手段と、
前記送信信号に含まれるキャリアの周波数のパターンを検出するキャリア検出手段と、を備え、
前記フィルタ係数を使用するピーク抑圧信号生成手段は、前記記憶手段の記憶内容に基づいて、前記キャリア検出手段により検出されたパターンに対応したフィルタ係数を使用する、
ことを特徴とする送信機。
【請求項２】
送信信号のピーク電力を抑圧する送信機において、
前記送信信号のピーク電力を抑圧するためのピーク抑圧信号を生成する複数のピーク抑圧信号生成手段と、
前記複数のピーク抑圧信号生成手段により生成されたピーク抑圧信号を合成するピーク抑圧信号合成手段と、
前記ピーク抑圧信号合成手段により得られた合成結果の信号を前記送信信号から減算する減算手段と、を備え、
前記複数のピーク抑圧信号生成手段のうちの少なくとも１個はフィルタ係数を使用して帯域制限したピーク抑圧信号を生成するピーク抑圧信号生成手段であって、
更に、１キャリアのベースバンド信号に対応するフィルタ係数を記憶する記憶手段と、
前記送信信号に含まれるキャリアの周波数を検出するキャリア検出手段と、を備え、
前記フィルタ係数を使用するピーク抑圧信号生成手段は、前記キャリア検出手段により検出された各キャリアの周波数毎に、前記記憶手段に記憶されたフィルタ係数の帯域を当該各キャリアの周波数に合わせるように変更し、これにより当該各キャリアの周波数毎に生成されたフィルタ係数を合成し、当該合成結果のフィルタ係数を使用する、
ことを特徴とする送信機。
【請求項３】
送信信号のピーク電力を抑圧する送信機において、
前記送信信号のピーク電力を抑圧するためのピーク抑圧信号を生成する２個のピーク抑圧信号生成手段と、
前記２個のピーク抑圧信号生成手段により生成されたピーク抑圧信号を合成するピーク抑圧信号合成手段と、
前記ピーク抑圧信号合成手段により得られた合成結果の信号を前記送信信号から減算する減算手段と、を備え、
前記２個のピーク抑圧信号生成手段のうち１段目のピーク抑圧信号生成手段はフィルタ係数を使用して前記送信信号と同じ周波数帯域に帯域制限を施されたピーク抑圧信号を出力し、
前記２個のピーク抑圧信号生成手段のうち２段目のピーク抑圧信号生成手段はピーク抑圧率に窓関数を乗算して周波数帯域がキャリア近傍に抑制されたピーク抑圧信号を出力する、
ことを特徴とする送信機。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月7日(2008.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のキャリア信号を送信する送信装置の歪補償直交変調器であって、
入力される複数のキャリア信号のベースバンド信号に対して帯域制限を行い、希望のサンプリング周波数へのアップサンプリングを行い、各キャリア周波数へデジタル直交変調を行い、マルチキャリア合成を行うデジタル変調部と、
前記デジタル変調された信号に対してアフィン変換を含む歪補償を行う歪補償部と、
前記歪補償された信号をアナログ信号に変換するＤ／Ａコンバータと、
前記Ｄ／Ａ変換されたアナログ信号を無線周波数帯へアップコンバートして無線周波数帯の変調波信号を出力するアナログ直交変調器と、
前記無線周波数帯の変調波信号を増幅する電力増幅器と、
前記増幅された信号の一部を取り出す結合器と、
前記取り出した信号を中間周波数帯へダウンコンバートするミキサと、
前記ダウンコンバートされた信号から不要な周波数成分を除去する帯域制限フィルタと、
前記周波数成分が除去された信号をデジタル信号へ変換するＡ／Ｄコンバータと、
前記デジタル信号に変換された信号をデジタル直交検波して前記デジタル変調部と等しい中間周波数の複素フィードバック信号を出力するデジタル直交検波部と、
前記出力された信号を前記デジタル変調部で変調した信号及び前記デジタル直交検波部で検波された信号に基づき前記アフィン変換を含む歪補償を行う歪補償部で使用する歪補償係数の更新を行うことを特徴とする歪補償直交変調器。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月20日(2008.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも表示部を有する第１筐体と、
少なくとも操作部を有する第２筐体と、
前記表示部と前記操作部とが同じ方向を向いた状態で、前記第１筐体が前記第２筐体に対して時計回り方向及び反時計回り方向のいずれの方向にも回動可能に前記第１筐体と前記第２筐体とを連結する連結部と、
前記表示部にメール作成画面が表示された状態で前記第１筐体が前記第２筐体に対して時計回りに回動された場合には第１のアプリケーションを起動し、前記第１筐体が前記第２筐体に対して反時計回りに回動された場合には第２のアプリケーションを起動する制御手段と、を有することを特徴とする重ね型携帯端末装置。
【請求項２】
前記制御手段は、カメラ撮影に関するアプリケーションを前記第１のアプリケーション及び前記第２のアプリケーションのうちの一方として起動する、ことを特徴とする請求項１に記載の重ね型携帯端末装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記メール作成画面に画像が表示された状態で前記第１筺体が前記第２筺体に対して回動されると、前記カメラ撮影に関するアプリケーションを起動してカメラ撮影画面を前記表示部に表示する、ことを特徴とする請求項２に記載の重ね型携帯端末装置。
【請求項４】
前記制御手段は、位置取得に関するアプリケーションを前記第１のアプリケーション及び前記第２のアプリケーションのうちの一方として起動する、ことを特徴とする請求項１に記載の重ね型携帯端末装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記メール作成画面が表示された状態で前記第１筺体が前記第２筺体に対して回動されると、前記位置取得に関するアプリケーションを起動して位置取得画面を前記表示部に表示する、ことを特徴とする請求項４に記載の重ね型携帯端末装置。
【請求項６】
前記制御手段は、前記第１筐体が前記第２筐体に対して時計回りに回動された場合には前記表示部に前記第１のアプリケーションが起動される旨を示すガイドを表示させ、前記第１筐体が前記第２筐体に対して反時計回りに回動された場合には前記表示部に前記第２のアプリケーションが起動される旨を示すガイドを表示させる、ことを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の重ね型携帯端末装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記課題を解決するために本発明は、少なくとも表示部を有する第１筐体と、少なくとも操作部を有する第２筐体と、前記表示部と前記操作部とが同じ方向を向いた状態で、前記第１筐体が前記第２筐体に対して時計回り方向及び反時計回り方向のいずれの方向にも回動可能に前記第１筐体と前記第２筐体とを連結する連結部と、前記表示部にメール作成画面が表示された状態で前記第１筐体が前記第２筐体に対して時計回りに回動された場合には第１のアプリケーションを起動し、前記第１筐体が前記第２筐体に対して反時計回りに回動された場合には第２のアプリケーションを起動する制御手段と、を有することを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月22日(2008.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブラウザ機能を有する携帯端末であって、
サーバに接続してシステムパラメータを変更するための入力画面を記述したハイパーテキスト情報を閲覧し、変更データを入力してサーバに送信し、サーバからの応答データを受信し、当該応答データが正常を示すデータの場合には、変更したシステムパラメータに対応する自己のパラメータを変更することを特徴とする携帯端末。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】携帯端末
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月27日(2008.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ほぼ同一の構図を異なる撮影条件で撮影した複数の画像間の位置合わせ処理を行う画像処理装置であって、
入力した画像の少なくとも１つの画像を複数の分割領域に分割し、前記各分割領域内に画像の特徴を表す特徴点の探索領域を設ける探索領域設定手段と、
前記分割領域内に設けられた探索領域内の画素の画素値を用いて得た算出値を参照し、その算出値が最大で且つ所定の規定値以上である探索領域を、複数の前記設けられた探索領域の中から実際に特徴点の探索を行うための探索領域として選択する探索領域選択手段と、
前記画像の特微量に基づいて、前記選択された探索領域から前記構図内の被写体の特徴的な位置情報を前記分割画像の各分割領域に対する座標に関連させて抽出する位置情報抽出手段と、
を具備することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記探索領域選択手段は、前記探索領域内に在る複数の画素から得られた画素値の分散の度合いを前記算出値として得ることを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記探索領域選択手段は、前記探索領域内の各画素の画素値と、該探索領域内の画素値の平均値との差分値を求め、その求めた差分値のその前記探索領域内の画素全体の総和である量を、前記画素値の分散の度合いを示す前記算出値として得ることを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項４】
ほぼ同一の構図を異なる撮影条件で撮影した複数の画像間の位置合わせ処理を行う画像処理方法であって、
入力した画像の少なくとも１つの画像を複数の分割領域に分割し、前記各分割領域内に画像の特徴を表す特徴点の探索領域を設ける探索領域設定工程と、
前記分割領域内に設けられた探索領域内の画素の画素値を用いて得た算出値を参照し、その算出値が最大で且つ所定の規定値以上である探索領域を、複数の前記設けられた探索領域の中から実際に特徴点の探索を行うための探索領域として選択する探索領域選択工程と、
前記画像の特微量に基づいて、前記選択された探索領域から前記構図内の被写体の特徴的な位置情報を前記分割画像の各分割領域に対する座標に関連させて抽出する位置情報抽出工程と、
を具備することを特徴とする画像処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明は上記目的を達成するために、第１にほぼ同一の構図を異なる撮影条件で撮影した複数の画像間の位置合わせ処理を行う画像処理装置であって、入力した画像の少なくとも１つの画像を複数の分割領域に分割し、前記各分割領域内に画像の特徴を表す特徴点の探索領域を設ける探索領域設定手段と、前記分割領域内に設けられた探索領域内の画素の画素値を用いて得た算出値を参照し、その算出値が最大で且つ所定の規定値以上である探索領域を、複数の前記設けられた探索領域の中から実際に特徴点の探索を行うための探索領域として選択する探索領域選択手段と、前記画像の特微量に基づいて、前記選択された探索領域から前記構図内の被写体の特徴的な位置情報を前記分割画像の各分割領域に対する座標に関連させて抽出する位置情報抽出手段と、を備える画像処理装置を提供する。  
第２に、ほぼ同一の構図を異なる撮影条件で撮影した複数の画像間の位置合わせ処理を行う画像処理方法であって、入力した画像の少なくとも１つの画像を複数の分割領域に分割し、前記各分割領域内に画像の特徴を表す特徴点の探索領域を設ける探索領域設定工程と、前記分割領域内に設けられた探索領域内の画素の画素値を用いて得た算出値を参照し、その算出値が最大で且つ所定の規定値以上である探索領域を、複数の前記設けられた探索領域の中から実際に特徴点の探索を行うための探索領域として選択する探索領域選択工程と、前記画像の特微量に基づいて、前記選択された探索領域から前記構図内の被写体の特徴的な位置情報を前記分割画像の各分割領域に対する座標に関連させて抽出する位置情報抽出工程と、を備える画像処理方法を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月29日(2008.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トレンチ形トランジスタセルであって、
第１の導電型からなり、少なくとも２つの交差トレンチを画定するエピタキシャル層と、
前記トレンチを充填する導電性材料と、
前記第１の導電型の第１のドーパントからなり、前記エピタキシャル層上に配列されるソース−ボディコンタクトから前記エピタキシャル層内に垂直に延在するソース領域と、
前記第１の導電型と反対の第２の導電型の第２のドーパントからなる深いボディ領域であって、前記深いボディ領域が、前記ソース−ボディコンタクトから前記ソース領域を通り前記エピタキシャル層内に垂直に延在し、また前記深いボディ領域が、深いボディ領域コンタクトエリアにおいて前記ソース−ボディコンタクトと接触する、該深いボディ領域と、
前記深いボディ領域の濃度よりも低い濃度の前記第２の導電型の前記第２のドーパントからなるボディ領域であって、前記ボディ領域が、前記ソース領域の下方にて前記深いボディ領域に隣接して配置され、かつ前記深いボディ領域よりも浅く前記エピタキシャル層内に垂直に延在する、該ボディ領域と、
前記第１の導電型の第３のドーパントからなる拡散防止領域であって、前記拡散防止領域が、前記ソース領域及び前記深いボディ領域の間に配置され、かつ部分的に前記ボディ領域内に配置される、該拡散防止領域とを有し、
前記深いボディ領域の最大水平方向断面積は、前記拡散防止領域の間の前記深いボディ領域の水平方向断面積よりも大きい、前記拡散防止領域の下方の前記深いボディ領域の水平方向断面積であることを特徴とするトレンチ形トランジスタセル。
【請求項２】
前記２つの交差トレンチにより画定される前記セルの角部において、前記ソース領域が前記トレンチから離れて配置されることを特徴とする請求項１に記載のセル。
【請求項３】
前記ソース領域が少なくとも０．１ミクロンだけ前記セルの前記角部から離れて配置され、前記セルの前記角部において、前記ボディ領域が前記トレンチと接触することを特徴とする請求項２に記載のセル。
【請求項４】
前記セルが２つの交差トレンチによりそれぞれ画定される少なくとも４つの角部を備え、また前記ソース領域が前記セルの各角部から離れて配置されることを特徴とする請求項１に記載のセル。
【請求項５】
前記セルの前記角部において、前記ソース領域が前記トレンチと接触しないことを特徴とする請求項４に記載のセル。
【請求項６】
前記ボディ領域が前記トレンチと接触する長方形エリアを画定することを特徴とする請求項４に記載のセル。
【請求項７】
前記トレンチの幅が約１．５ミクロンより小さいことを特徴とする請求項１に記載のセル。
【請求項８】
前記ボディ領域が約１．５ミクロンより小さい前記エピタキシャル層内に延在することを特徴とする請求項１に記載のセル。
【請求項９】
前記ソース領域が約０．５ミクロンより小さい前記エピタキシャル層内に延在することを特徴とする請求項１に記載のセル。
【請求項１０】
列内に配列される複数の同じセルをさらに有し、各列内の前記トレンチを充填する前記導電性材料を接続するゲートフィンガ部を備え、前記ゲートフィンガ部に隣接する前記１列のセルが非アクティブセルであることを特徴とする請求項１に記載のセル。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月18日(2008.7.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＥＵＶ放射を含む放射線を調整する放射システムと、
前記ＥＵＶ放射を含む放射ビームをパターン化し、パターン化された放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持するパターニングデバイス支持体と、
基板を保持する基板支持体と、
前記基板のターゲット部分上に前記ＥＵＶ放射を含むパターン化された放射ビームを投影する投影システムを有する露光ステーションと、
前記パターニングデバイスの表面の高さマップを生成する目的で、前記表面に垂直な第一の方向で前記パターニングデバイスの前記表面上の複数の点の各々の位置を測定するセンサと、
前記高さマップに基づいて、前記第一の方向に実質的に垂直な少なくとも一つの方向周りの前記パターニングデバイス支持体の傾きを制御するコントローラ
とを有するリソグラフィー投影装置。
【請求項２】
前記パターニングデバイスは反射型パターニングデバイスである、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記ＥＵＶ放射の波長は約９ｎｍから１６ｎｍの範囲である、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記投影システムは反射性の光学素子を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
さらに、前記高さマップを生成するセンサを備える測定ステーションを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記測定ステーションは、前記測定ステーションにおける前記パターニングデバイス支持体の位置を測定する第一の位置検出システムを備える、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記露光ステーションは、前記露光ステーションにおける前記パターニングデバイス支持体の位置を測定する第二の位置検出システムを備える、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記測定ステーションにおける前記センサは、前記パターニングデバイス上に配置された物理的参照面に対する前記高さマップを生成する、請求項５に記載の装置。
【請求項９】
前記傾きは、前記パターニングデバイスの不平面度の影響を軽減するために、前記コントローラによって調整されている、請求項５に記載の装置。
【請求項１０】
ＥＵＶ放射を含む放射ビームを調整することと、
パターニングデバイスを用い、前記ＥＵＶ放射を含む放射ビームをパターン化してパターン化された放射ビームを生成し、前記パターニングデバイスはパターニングデバイス支持体によって支持されていることと、
投影システムを用い、前記ＥＵＶ放射を含むパターン化された放射ビームを基板のターゲット部分に投影することと、
前記パターニングデバイスの表面の高さマップを生成する目的で、前記表面に垂直な第一の方向で、前記パターニングデバイスの前記表面上の複数の点の各々の位置を測定することと、
前記高さマップに基づいて、前記第一の方向に実質的に垂直な少なくとも一つの方向周りの前記パターニングデバイス支持体の傾きを制御すること
とを含むデバイス製造方法。
【請求項１１】
前記パターニングデバイスは反射型のパターニングデバイスである、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記ＥＵＶ放射の波長は約９ｎｍから１６ｎｍの範囲である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記投影システムは反射性の光学素子を含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記傾きは、前記パターニングデバイスの不平面度の影響を軽減するために、前記コントローラによって調整されている、請求項１０に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月27日(2008.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１及び第２の電源線の間にプッシュプル接続され、チャージポンプ動作によりその接続ノードに前記第１及び第２の電源線のいずれかの電圧を出力するための第１及び第２のトランジスタと、
前記第１の電源線と前記接続ノードとの間に接続された静電気保護素子と、
前記接続ノードと電気的に接続されると共に、その一端に所与の電圧が印加されるフライングコンデンサの他端と電気的に接続されるパッドとを含み、
前記静電気保護素子、第１及び第２のトランジスタの少なくとも１つの一部又は全部と重なるように、該静電気保護素子、第１及び第２のトランジスタの少なくとも１つの上層に前記パッドが配置されていることを特徴とする集積回路装置。
【請求項２】
第１及び第２の電源線の間にプッシュプル接続され、チャージポンプ動作によりその接続ノードに前記第１及び第２の電源線のいずれかの電圧を出力するための第１及び第２のトランジスタと、
前記接続ノードと電気的に接続されると共に、その一端に所与の電圧が印加されるフライングコンデンサの他端と電気的に接続されるパッドとを含み、
前記第１及び第２のトランジスタの少なくとも一方の一部又は全部と重なるように、該第１及び第２のトランジスタの少なくとも一方の上層に前記パッドが配置されていることを特徴とする集積回路装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記第１のトランジスタが、
静電気保護素子を兼ねることを特徴とする集積回路装置。
【請求項４】
パッドと、
第１及び第２の電源線と、
接続ノードと前記第１の電源線との間に設けられた第１のトランジスタと、
前記接続ノードと前記第２の電源線との間に設けられた第２のトランジスタと、
前記第１の電源線と前記接続ノードとの間に接続された静電気保護素子と、
を含み、
前記第１及び第２の電源線、前記静電気保護素子、前記第１のトランジスタ及び第２のトランジスタの一部又は全部と重なるように前記パッドが配置されることを特徴とする集積回路装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の集積回路装置と、
前記集積回路装置により駆動される表示パネルと、
を含むことを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月4日(2008.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像手段と、
前記撮像手段をパン及びチルト方向に移動させる回転台と、
前記撮像手段で撮像された画像に対して追尾対象を特定するための画像処理を行い、前記追尾対象の動き情報やパン及びチルト情報を含む追尾情報を生成する画像処理手段と、
前記画像処理手段で生成されたパン及びチルト情報に従って前記回転台を制御して前記追尾対象を追尾する追尾手段と、
前記追尾対象を追尾している最中に前記画像処理手段で生成された前記追尾対象の動き情報から前記追尾対象が予め設定されたエリアの外部から内部に侵入したかどうかを判定し、前記追尾対象が前記エリアの外部から内部に侵入した場合にのみアラームを出力する侵入検知手段とを備え、
前記侵入検知手段は、前記追尾対象が前記エリアの外部から内部に侵入した場合、前記追尾対象が侵入した時点から所定時間継続して前記エリアの内部にいるとアラームを出力する監視カメラ。
【請求項２】
前記侵入検出手段は、前記追尾対象が前記エリアの内部から始まり、前記追尾対象が前記エリア内部で動き続けている場合はアラームを出力しない請求項１に記載の監視カメラ。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の監視カメラを少なくとも２台備え、前記監視カメラの一方から他方へアラーム信号を直接供給することで、前記追尾対象を連携して追尾する監視カメラシステム。
【請求項４】
撮像手段で撮像された画像に対して追尾対象を特定するための画像処理を行い、前記追尾対象の動き情報やパン及びチルト情報を含む追尾情報を生成する画像処理工程と、
前記画像処理工程で生成された前記パン及びチルト情報に従って前記撮像手段をパン及びチルト方向に移動させる回転台を制御して前記追尾対象を追尾する追尾工程と、
前記追尾対象を追尾している最中に前記画像処理工程で生成された前記追尾対象の動き情報から前記追尾対象が予め設定されたエリアの外部から内部に侵入したかどうかを判定し、前記追尾対象が前記エリアの外部から内部に侵入した場合にのみアラームを出力する侵入検知工程とを備え、
前記侵入検知工程では、前記追尾対象が前記エリアの外部から内部に侵入した場合、前記追尾対象が侵入した時点から所定時間継続して前記エリアの内部にいるとアラームを出力する監視カメラ制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月14日(2008.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂フィルムの少なくとも片面に接着剤層を積層した接着剤付き樹脂フィルムであって、樹脂フィルムが芳香族ポリアミドフィルムであり、接着剤層が溶剤可溶性熱可塑性ポリイミドを主成分とする接着剤からなることを特徴とする接着剤付き樹脂フィルム。
【請求項２】
芳香族ポリアミドフィルムが少なくとも一般式（１）および／または一般式（２）で表される構造単位を含むことを特徴とする請求項１記載の接着剤付き樹脂フィルム。
【化１】
2007056201.tif 000001
【化２】
2007056201.tif 000002
（式中、Ａｒ１〜Ａｒ３はそれぞれ同一または異なっていてよく、二価の芳香族基を示す。）
【請求項３】
溶剤可溶性熱可塑性ポリイミドが少なくとも酸二無水物残基とジアミン残基を有し、全ジアミン残基中、一般式（３）で表されるシロキサン系ジアミンの残基を２〜４０モル％、および一般式（４）で表されるフルオレン系ジアミンの残基を４〜８２モル％含むことを特徴とする請求項１記載の接着剤付き樹脂フィルム。
【化３】
2007056201.tif 000003
（ｎは１〜３０の範囲を示す。また、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ同一または異なっていてよく、炭素数１〜６のアルキレン基またはフェニレン基を示す。Ｒ３〜Ｒ６はそれぞれ同一または異なっていてよく、炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基またはフェノキシ基を示す。）
【化４】
2007056201.tif 000004
（Ｒ７〜Ｒ２２はそれぞれ同一または異なっていてよく、水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン、水酸基、カルボキシル基、スルホン基、ニトロ基、シアノ基から選ばれる。）
【請求項４】
金属層と、請求項１に記載の接着剤付き樹脂フィルムを積層してなる金属層付き樹脂フィルム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月1日(2008.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
温めた水に、請求項１記載の潤滑剤を４％およびこれ以上、３４％およびこれ以下、小麦粉を４％およびこれ以上、２４％およびこれ以下を、各々溶かし乳化した液とし、これを薄板材表面に塗布、乾燥させて潤滑剤被覆型薄板を製造する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【実施例−１】
脂質１８％から４２％、炭酸カルシウム０％から１．１％、炭水化物を３８％から７２％、タンパク質を０％から７％までを含むものを、３％から３６％の範囲で水に溶かし、水温を３０℃以上５４℃以下の範囲で変化させて乳化した液として、これらを普通鋼薄板表面に塗布して乾燥させた。水温と塗布（浸漬および吹きつけ）乾燥させたときの潤滑剤被覆厚さ、その均一性、そして、この潤滑剤被覆材の摩擦係数との関係を表１に示す。
【表１】
2007056231.tif 000001
この結果からもわかるように、脂質２０％から４０％まで、炭酸カルシウムを０．２％から１．０％までを含み、その他の主成分が炭水化物を４０％から７０％、タンパク質を１％から６％を含む潤滑剤を、４％から３４％までを溶媒としての水の温度３２℃から５２℃の範囲で変化させて、溶かし乳化液として、これを材料表面に塗布、乾燥させ、潤滑剤をむらなく均一に付着させた潤滑剤被覆型材は、摩擦係数は著しく低く、優れた潤滑性を示すことがわかる。本発明範囲外、例えば脂質４０％以上の４２％になると、溶液内で分離物が生成しはじめたりして、均一塗布がむずかしくなる。よって脂質は４０％までである。この結果は、潤滑剤液の塗布方法、すなわち浸漬あるいは吹付けのいずれにおいても、ほぼ同じ結果が得られた。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【実施例−２】
材料をチタン、ステンレス、アルミの薄板および表面処理鋼板として、これらに本発明範囲内の脂質３０％、炭酸カルシウム０．６％の他に、炭水化物６０％、タンパク質２％を含む潤滑剤を、水温３０℃以上すなわち３２℃から、５２℃以下すなわち５０℃までの水に１０％、２０％を各々溶かし乳化させた液として、これを薄板の両面に各々浸漬および吹付けによって、塗布乾燥（厚さ約５μｍ）させてつくった潤滑剤被覆板の、成型性評価のエリクセン（Ｅｒ）試験結果を表２に示す。なお、Ｅｒ値で、同一項目欄で、値が１つの場合は、塗布方法は浸漬法であり、値が２つの場合は、上段が浸漬法、下段が吹付け法によるときの値である。
【表２】
2007056231.tif 000002
いずれも本発明範囲の潤滑剤を被覆した板は、高いＥｒ値を示している。また、塗布方法による値の差もほとんどなく、いずれも高い値を示している。塗布方法を、はけによる場合もほぼ同じ結果が得られた。例えば、同じ潤滑剤を３８℃の水に１０％溶かし、これをはけによって表面処理鋼板に塗布し乾燥させて製造された場合のＥｒ値は９．８と良好な結果が得られた。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月28日(2008.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
さらに、水（イオン交換水）：５２．３重量部、グリセリン：２３．７重量部、ジプロピレングリコール−ｎ−プロピルエーテル（以下、ＤＰＧＰＥという）：２重量部を混合してインク溶媒：７８重量部を作製した。その後、上述のマゼンタ顔料分散体１００重量部から２２重量部を秤取り、その攪拌中に、作製したインク溶媒：７８重量部を徐々に加え、更に３０分間撹拌した後に、孔径１μｍのメンブランフィルターにて濾過し、ライトマゼンタ顔料インク１を調製した。なお、インク全重量に対するＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２の配合量は、３．３重量％であった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９０】
比較例５は従来のインクセットであり、Ｌ*＜５０のノーマルマゼンタインクを用いているため、マゼンタ色の低濃度プリント部の粒状感が目立ち、またこの着色剤が染料であるため、マゼンタ色プリント部の耐光性及び耐ガス性も劣っていた。さらに、レッドインクを用いていないため、本願発明のインクセット（実施例１〜５）と比較して、レッド色の再現範囲が劣っていた。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月10日(2008.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
又、上記第一素板１０ｂの他面（図１１の下面）で、上記各突部１３、１３の幅方向両端部と対応する位置に、変位阻止壁部３６、３６｛図１３（ｃ）〜（ｅ）｝を構成する１対ずつの壁部２７、２７を、それぞれ形成する。そして、上記第一素板１０ｂを均等に２分割する、この第一素板１０ｂの面方向に対し直交する仮想平面（図１１の鎖線ａを含むこの面方向に対し直交する仮想平面）に関して、上記各突部１３、１３と各第二突部２６、２６と各１対ずつの壁部２７、２７とを、互いに対称に位置させる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
１、１ａ  ロッカーアーム
２    側壁部
３    第一連結部
４    第二連結部
５    通孔
６    第一係合部
７    第二係合部
８    丸棒
９    素材
１０、１０ａ、１０ｂ  第一素板
１１    本体部
１２    突板部
１３    突部
１４    凹部
１５    押型
１６、１６ａ  受型
１７    ダイセット
１８    第二素板
１９    翼状部
２０    第一突板部
２１    第二突板部
２２    第一中間素材
２３    第二中間素材
２４    透孔
２５    第三中間素材
２６    第二突部
２７    壁部
２８    溝部
２９    第二素板
３０    第一素子
３１    柱部
３２    第二素子
３３    第一中間素材
３４    第三素子
３５    第二中間素材
３６    変位阻止壁部
３７    第四素子
３８    第三中間素材
３９    第五素子
４０    第四中間素材
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月24日(2008.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃料を噴射する燃料噴射手段を制御するための制御手段と、
前記燃料の圧力を、第１の圧力になるように調整する第１の制御および前記第１の圧力よりも低い第２の圧力になるように調整する第２の制御のうちのいずれか一方の制御を実行するための調整手段と、
大気圧を検知するための検知手段と、
大気圧が予め定められた圧力よりも低い場合に、前記第１の制御から前記第２の制御への切り換えを禁止するための手段とを含む、エンジンの制御装置。
【請求項２】
燃料を噴射する燃料噴射手段を制御するための制御手段と、
前記燃料の圧力を、エンジンの負荷に応じて変化する第１の圧力になるように調整する第１の制御および少なくとも前記エンジンの負荷が予め定められた負荷よりも低い領域において前記第１の圧力よりも低く、かつ前記エンジンの負荷が高い場合は低い場合に比べて、前記第１の圧力との差が小さくなるように前記エンジンの負荷に応じて変化する第２の圧力になるように調整する第２の制御のうちのいずれか一方の制御を実行するための調整手段と、
前記エンジンの負荷が前記予め定められた負荷よりも高い場合に、前記第１の制御から前記第２の制御に切り換えることを許容するための手段とを含む、エンジンの制御装置。
【請求項３】
燃料を噴射する燃料噴射手段を制御するための制御手段と、
燃料噴射量を補正するための補正手段と、
前記燃料の圧力を、第１の圧力になるように調整する第１の制御および前記第１の圧力よりも低い第２の圧力になるように調整する第２の制御のうちのいずれか一方の制御を実行するための調整手段と、
燃料噴射量の減量補正量が予め定められた補正量よりも大きい場合に、前記第１の制御から前記第２の制御に切り換えるための手段とを含む、エンジンの制御装置。
【請求項４】
前記補正手段は、前記エンジンにおける空燃比が予め定められた空燃比よりも低い場合に、燃料噴射量を減量補正するための手段を含む、請求項３に記載のエンジンの制御装置。
【請求項５】
前記エンジンの負荷が前記予め定められた負荷よりも低い場合に、前記第１の制御から前記第２の制御に切換えることを禁止するための手段をさらに含む、請求項２に記載のエンジンの制御装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月29日(2008.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
成分（a）は、室温硬化性シリコーンゴム組成物の主成分であり、分子鎖末端ケイ素原子結合加水分解性基としては、ジメチルケトオキシム基，メチルエチルケトオキシム基などのジアルキルケトオキシム基；メトキシ基，エトキシ基などのアルコキシ基；アセトキシ基などのアシロキシ基；Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基などのアルキルアミノ基；メチルアセトアミド基などのＮ−アルキルアシルアミド基；Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノキシ基などのＮ、Ｎ−ジアルキルアミノキシ基；プロペノキシ基などのアルケニロキシ基が挙げられる。これらの中でも、アルコキシ基が好ましい。このジオルガノポリシロキサン中のケイ素原子に結合する有機基としては、メチル基，エチル基，プロピル基などのアルキル基；ビニル基，アリル基などのアルケニル基；フェニル基などのアリール基等の非置換一価炭化水素基や、3,3,3-トリフルオロプロピル基，ノナフルオロヘキシル基などのパーフロロアルキル基が例示される。このようなジオルガノポリシロキサンのうちでは、分子鎖両末端がシラノール基で封鎖されたジメチルポリシロキサンおよび分子鎖両末端がメチルジメトキシシロキシ基もしくはトリメトキシシロキシ基で封鎖されたジメチルポリシロキサンが好ましい。２５℃における粘度は２０〜１００,０００ｍＰａ・ｓであるが、４０〜１５,０００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。なお、異なる粘度のジオルガノポリシロキサンを２種類以上併用してもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
［実施例１０］
実施例７において、塗布した実施例３で調製した防汚塗料組成物を塗布する代わりに、実施例６で調製した防汚塗料組成物を塗布する以外は同様の条件で懸垂浸海試験を行った。その結果を表２に示した。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月16日(2008.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
成分（Ａ）の脂環骨格２官能（メタ）アクリレート系化合物としては、上記一般式（１）で示される構造のものであればよく、Ｒ1はアルキレン基、好ましくは炭素数１〜４のア
ルキレン基、より好ましくはメチレン基又はエチレン基であり、Ｘは水素又はメチル基、好ましくはメチル基であり、ａは１又は２、ｂは０又は１である。これらの脂環骨格２官能（メタ）アクリレート系化合物は、脂環骨格を有するため樹脂成形体の低吸水率化に寄与する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
＜実施例１＞
［光重合性組成物の調整］
ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジメタクリレート（Ａ）（新中村化学社製「ＤＣＰ」）６０部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（Ｂ）（新中村化学社製「Ａ−ＴＭＭＴ」）４０部、ペンタエリスルトールテトラキスチオプロピオネート（Ｃ）（淀化学製「ＰＥＴＰ」）３部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Ｄ）（チバガイギー社製「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」）２部を、均一になるまで撹拌し、光重合性組成物を得た。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
【表１】
2007056179.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月16日(2008.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
成分（Ａ）の脂環骨格２官能（メタ）アクリレート系化合物としては、上記一般式（１）で示される構造のものであればよく、Ｒ1はアルキレン基、好ましくは炭素数１〜４のア
ルキレン基、より好ましくはメチレン基又はエチレン基であり、Ｘは水素又はメチル基、好ましくはメチル基であり、ａは１又は２、ｂは０又は１である。これらの脂環骨格２官能（メタ）アクリレート系化合物は、脂環骨格を有するため樹脂成形体の低吸水率化に寄与する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
＜実施例１＞
［イソホロン構造を有する６官能ウレタンアクリレート（Ｃ１−１）の合成］
温度計、撹拌機、水冷コンデンサー、窒素ガス吹き込み口を備えた４つ口フラスコに、イソホロンジイソシアネート５３．３４ｇ（０．２４モル）、ペンタエリスリトールトリアクリレート１４３．１９ｇ（０．４８モル）、ハイドロキノンメチルエーテル０．０２ｇ、ジブチルスズジラウレート０．０２ｇ、メチルエチルケトン５００ｇを仕込み、６０℃で３時間反応させ、残存イソシアネート基が０．３％となった時点で反応を終了し、溶剤を留去してウレタンアクリレート（Ｃ１−１）を得た。得られたウレタンアクリレート（Ｃ１−１）の数平均分子量は８２０であった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
［光重合性組成物［Ｉ］の調製］
ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジメタクリレート（新中村化学社製ＤＣＰ）（Ａ）６０部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学社製Ａ−ＴＭＭＴ）（Ｂ）２０部、イソホロン構造を有する６官能のウレタンアクリレート（Ｃ１）２０部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバガイギー社製「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」）２部を、６０℃にて均一になるまで撹拌し、光重合性組成物［Ｉ］を得た。官能基数と分子量は表１に示される通りである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
【表１】
2007056180.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月7日(2008.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゴム質重合体（ａ１）の存在下に芳香族ビニル系単量体（イ）を含むビニル系単量体混合物（ａ２）をグラフト重合してなり、ゴム質重合体（ａ１）を４０〜８０重量％含有するゴム質含有グラフト共重合体（Ａ）２０〜７０重量部、デューロメーターＡ硬度が２０〜８０°であるスチレン−共役ジエン共重合体および／またはその水素添加物（Ｂ）３０〜８０重量部からなることを特徴とする軟質熱可塑性樹脂組成物（ＩＩ）。
【請求項２】
スチレン−共役ジエン共重合体および／またはその水素添加物（Ｂ）がスチレン−イソプレンブロック共重合体および／またはその水素添加物である請求項１記載の軟質熱可塑性樹脂組成物（ＩＩ）。
【請求項３】
ビニル系単量体混合物（ａ２）が芳香族ビニル系単量体（イ）１０〜９９重量％、シアン化ビニル系単量体（ロ）１〜９０重量％、およびこれらと共重合可能な他の単量体（ハ）を含む少なくとも１種以上の単量体からなる請求項１または２記載の軟質熱可塑性樹脂組成物（ＩＩ）。
【請求項４】
芳香族ビニル系単量体の残存量が２００ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の軟質熱可塑性樹脂組成物（ＩＩ）。
【請求項５】
無機系化合物（Ｃ）０．５〜３０重量部含有する請求項１〜４のいずれかに記載の軟質熱可塑性樹脂組成物（ＩＩ）。
【請求項６】
無機系化合物（Ｃ）が酸化チタン、タルク、マイカ、炭酸カルシウムから選ばれる１種以上である請求項５記載の軟質熱可塑性樹脂組成物（ＩＩ）。
【請求項７】
硬質熱可塑性スチレン系樹脂（Ｉ）と請求項１〜６のいずれかに記載の軟質熱可塑性樹脂組成物（ＩＩ）を熱融着してなる成形品であって、軟質熱可塑性樹脂組成物（ＩＩ）中の芳香族ビニル含有率に対する硬質熱可塑性スチレン系樹脂（Ｉ）中に（共）重合されている芳香族ビニル含有率の割合が０．７５を超え８．０未満である成形品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
参考例２〜６  ゴム質含有グラフト共重合体（Ａ２）〜（Ａ６）の製造
組成比を表１に示す組成に変更し、参考例１のゴム質含有グラフト共重合体（Ａ１）の製造と同様の方法で、ゴム質含有グラフト共重合体（Ａ２）〜（Ａ６）を得た。これらのうち、ゴム質含有グラフト共重合体（Ａ４）〜（Ａ６）は、ゴム質重合体（ａ１）の含有量が本発明の範囲外であり、比較例用のものである。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月21日(2008.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリアミック酸と、ポリアニリンと、該ポリアニリンを導電化させるドーパントと、溶媒と、が含有されてなり、２５℃の温度下において１週間保持した際の粘度変化が、±１０Ｐａｓの範囲であることを特徴とするポリアミック酸組成物。
【請求項２】
前記溶媒が、双極子モーメントの値が０．００Ｄ〜３．２０Ｄの範囲である化合物を含有することを特徴とする請求項１に記載のポリアミック酸組成物。
【請求項３】
前記溶媒が、
（ｉ）双極子モーメントが０．００Ｄ〜１．０Ｄの範囲である炭化水素化合物
（ii）双極子モーメントが０．００Ｄ〜２．０Ｄの範囲であるハロゲン化炭化水素化合物
（iii）双極子モーメントが０．００Ｄ〜２．０Ｄの範囲であるアルコール化合物
（iv）双極子モーメントが０．００Ｄ〜２．０Ｄの範囲であるエーテル化合物
（ｖ）双極子モーメントが０．００Ｄ〜３．２Ｄの範囲であるケトン化合物
から選ばれる１種類又は２種類以上の化合物を含有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のポリアミック酸組成物。
【請求項４】
前記溶媒が、双極子モーメントが３．５Ｄ〜４．５Ｄの範囲である化合物を含有することを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のポリアミック酸組成物。
【請求項５】
前記ドーパントが酸性化合物であることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載のポリアミック酸組成物。
【請求項６】
前記酸性化合物が、ドデシルベンゼンスルホン酸、フェノールスルホン酸、フェニルホスホン酸の中から選ばれる１種又は２種以上の化合物であることを特徴とする請求項５に記載のポリアミック酸組成物。
【請求項７】
ポリアニリンを下記溶媒（Ａ）中で解砕・分散させた分散液と、ポリアミック酸を下記溶媒（Ｂ）中に溶解させた溶液と、を混合する工程を含むことを特徴とするポリアミック酸組成物の製造方法。
溶媒（Ａ）：
（ｉ）双極子モーメントが０．００Ｄ〜１．０Ｄの範囲である炭化水素化合物
（ii）双極子モーメントが０．００Ｄ〜２．０Ｄの範囲であるハロゲン化炭化水素化合物
（iii）双極子モーメントが０．００Ｄ〜２．０Ｄの範囲であるアルコール化合物
（iv）双極子モーメントが０．００Ｄ〜２．０Ｄの範囲であるエーテル化合物
（ｖ）双極子モーメントが０．００Ｄ〜３．２Ｄの範囲であるケトン化合物
から選ばれる１種類又は２種類以上の化合物からなる溶媒。
溶媒（Ｂ）：
双極子モーメントが３．５Ｄ〜４．５Ｄの範囲である化合物からなる溶媒。
【請求項８】
前記分散液に、前記ポリアニリンを導電化させるドーパントを添加した後、前記ポリアミック酸を前記溶媒（Ｂ）中に溶解させた溶液と、を混合することを特徴とする請求項７に記載のポリアミック酸組成物の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載のポリアミック酸組成物を円筒状基材上に塗布し、前記円筒状基材上に塗布された前記ポリアミック酸組成物を加熱して形成されることを特徴とするポリイミド無端ベルト。
【請求項１０】
請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載のポリアミック酸組成物を円筒状基材上に塗布する塗布工程と、
前記円筒状基材上に塗布された前記ポリアミック酸組成物を加熱する加熱処理工程と、
を有することを特徴とするポリイミド無端ベルトの製造方法。
【請求項１１】
請求項９に記載のポリイミド無端ベルトを具備することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月12日(2008.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カーボンナノチューブ（Ａ）、シロキサン化合物（Ｂ）、および活性エネルギー線感応性カチオン重合開始剤（Ｃ）を含有することを特徴とするカーボンナノチューブ含有硬化性組成物。
【請求項２】
前記シロキサン化合物（Ｂ）が、アルキルシリケートを加水分解および縮合したものである請求項１記載のカーボンナノチューブ含有硬化性組成物。
【請求項３】
さらに、導電性ポリマー（Ｄ）を含有することを特徴とする請求項１または２記載のカーボンナノチューブ含有硬化性組成物。
【請求項４】
基材の少なくとも一つの面上に、請求項１ないし３記載のカーボンナノチューブ含有硬化性組成物を塗工し、活性エネルギー線を照射及び／または常温で放置若しくは加熱処理して形成した硬化塗膜を有することを特徴とする複合体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１２】
カーボンナノチューブ含有組成物４（比較例３）：
カーボンナノチューブ含有組成物１  ５質量部、水系エマルジョンであるアクリル樹脂「ダイヤナールＭＸ−１８４５」（三菱レイヨン社製、樹脂分４０質量％）４７．５質量部、水４７．５質量部を混合・撹拌し、カーボンナノチューブ含有組成物４を調製した。  
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１９】
【表１】
2007056125.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月13日(2008.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
そこで、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、アクリル樹脂、変性アクリル樹脂から選択された１種以上の合成樹脂及び水を主成分とする組成物で、アスベストの内部浸透処理を行い、次に主成分が合成樹脂、無機質難燃材、無機質充填材及び水からなる表面固化処理剤で、アスベストの表面処理を行うことが提案された（例えば、特許文献１を参照）。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月30日(2008.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酢酸ニッケルを主成分とする金属供給源としてのニッケル塩と、還元剤としてのヒドラジンと、錯化剤としてのＥＤＴＡおよび乳酸と、ｐＨ緩衝剤としてのホウ酸とからなり、前記酢酸ニッケルを３０．３〜３５．４ｇ／Ｌ、前記ヒドラジンを２４．３〜４８．６ｍｌ／Ｌ、前記乳酸を４９．３〜６１．６ｍｌ／Ｌ、前記ＥＤＴＡを９．５〜１９ｇ／Ｌ、前記ホウ酸を２４．８〜３７．２ｇ／Ｌの浴組成とした無電解ニッケルめっき浴。
【請求項２】
請求項１記載の無電解ニッケルめっき浴を用いて、絶縁基板上の銅電極上に無電解ニッケルめっき皮膜を形成する無電解めっき方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月22日(2008.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
上述の様な外輪２ｄを製造する為には、従来からローラクラッチの外輪を製造する方法として採用されていたプレス加工では難しい。即ち、外輪２ｄの肉厚が大きくなる為、プレス加工により加工した場合、形状精度を確保しにくい。この為、本実施例では、上記外輪２ｄを引き抜き加工により形成している。具体的には、外輪２ｄの素材となる、例えばＳＴＫＭ１０等の炭素鋼鋼管に引き抜き加工を施す事により、内周面の円周方向等間隔位置に複数の凹部を軸方向全体に亙って有する中間素材とする。次いで、この中間素材を所定の長さに切断してから、切削、研磨等の、所定の仕上げ加工を施す。これにより、内周面に前述した様な各凹部７ａ、７ａの径方向の深さが大きいカム面６ａを有する、上記外輪２ｄを得る。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
１、１ａ、１ｂ  ローラクラッチ
２、２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ  外輪
３    ローラ
４、４ａ、４ｂ  保持器
５、５ａ  ばね
６、６ａ  カム面
７、７ａ  凹部
８    鍔部
９    リム部
１０    柱部
１１    回転軸
１２    円筒状空間
１３    円筒面
１４    基部
１５    押圧片
１６、１６ａ  端部側支持板部
１７    中間側支持板部
１８    段差面
１９    折り曲げ部
２０、２０ａ  ハウジング
２１    突条
２２、２２ａ  凹溝
２３    突出部
２４    段部
２５、２５ａ  傾斜面部
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2007056955.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月21日(2008.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
永久磁石と半硬質磁性体とを互いの平面部を対向して配置し、これらを相対回転せしめる構成を採用し、永久磁石と半硬質磁性体との対向間隔をこれらの平面に対して垂直な軸方向に調整可能としたトルクリミッターであって、第１の盤体と、該第１の盤体に対して対向配置された第２の盤体と、前記第１の盤体と第２の盤体との間に構成され、前記第１の盤体と第２の盤体とを、互いの対向間隔を一定に保持して相対回転自在に支持する支持手段と、前記第２の盤体に係止され、該係止位置を軸方向に移動可能に前記第２の盤体に取り付けられた移動部材と、前記移動部材の係止位置を軸方向に移動調整するための調整手段と、前記第１の盤体と前記移動部材とのいずれか一方に設けられた永久磁石と、前記第１の盤体と前記移動部材とのいずれか他方に設けられた半硬質磁性体と、前記第１と第２の盤体の少なくとも一方に設けられた動力伝達機構とを備え、前記移動部材は、前記第２の盤体の内径部に係止機構を介して回転不能に係止され、該係止機構が解除可能であることを特徴とするトルクリミッター。
【請求項２】
永久磁石と半硬質磁性体とを互いの平面部を対向して配置し、これらを相対回転せしめる構成を採用し、永久磁石と半硬質磁性体との対向間隔をこれらの平面に対して垂直な軸方向に調整可能としたトルクリミッターであって、第１の盤体と、該第１の盤体に対して対向配置された第２の盤体と、前記第１の盤体と第２の盤体との間に構成され、前記第１の盤体と第２の盤体とを、互いの対向間隔を一定に保持して相対回転自在に支持する支持手段と、前記第２の盤体に係止され、該係止位置を軸方向に移動可能に前記第２の盤体に取り付けられた移動部材と、前記移動部材の係止位置を軸方向に移動調整するための調整手段と、前記第１の盤体と前記移動部材とのいずれか一方に設けられた永久磁石と、前記第１の盤体と前記移動部材とのいずれか他方に設けられた半硬質磁性体と、前記第１と第２の盤体の少なくとも一方に設けられた動力伝達機構とを備え、前記調整手段は、前記移動部材と第２の盤体のいずれか一方の複数箇所に形成した嵌合凸部と、前記移動部材と第２の盤体のいずれか他方に形成した前記嵌合凸部を受け入れる複数種類の嵌合凹部とを備え、前記嵌合凸部は、選択した１種類の嵌合凹部に嵌合可能に構成されて該嵌合凸部と嵌合凹部とで前記移動部材を前記第２の盤体に回転不能に係止する係止機構を構成し、前記嵌合凹部は、種類ごとに前記嵌合凸部の側面と当接する底面の高さが異なる規制面を有し、前記永久磁石と半硬質磁性体間の吸引方向の磁気力によって前記嵌合凸部の側面が選択した１つの種類の嵌合凹部の規制面に密着するように成し、前記嵌合凸部と嵌合凹部との嵌合状態は、前記移動部材を磁気力に抗して軸方向に押動することで脱着可能とし、前記移動部材を前記第２の盤体に対して回転させることにより前記嵌合凸部を他の種類の嵌合凹部に嵌合可能とし、前記嵌合凸部の嵌合する嵌合凹部の規制面の高さによって前記永久磁石と半硬質磁性体との対向間隔が定まるようにしたことを特徴とするトルクリミッター。