(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
セル上にレイアウトされた配線の配線データに基づいて、該配線に対する配線禁止領域を設定する配線禁止領域設定方法であって、
配線データから各配線の最外点座標を抽出し、
各配線のＹ軸座標の最小値以上かつ最大値以下の範囲におけるＸ軸方向に連続する第１の配線禁止領域を設定し、
各配線のＸ軸座標の最小値以上かつ最大値以下の範囲におけるＹ軸方向に連続する第２の配線禁止領域を設定し、
Ｘ軸及びＹ軸方向に連続する第１及び第２の配線禁止領域のＡＮＤ領域をセルの配線禁止領域として設定するようにしたことを特徴とする配線禁止領域設定方法。
【請求項２】
前記セルの配線禁止領域を設定した後、該配線禁止領域に前記配線が含まれるか否かを判定し、該配線が含まれていないと判定すると、配線が含まれていない配線禁止領域を削除するようにしたことを特徴とする請求項１に記載の配線禁止領域設定方法。
【請求項３】
マクロセル上にレイアウトされたセルのセル単位で設定された配線禁止領域データに基づいて、マクロセル上の配線禁止領域を設定する配線禁止領域設定方法であって、
セル上にレイアウトされた配線の配線データから各配線の最外点座標を抽出し、
各配線のＹ軸座標の最小値以上かつ最大値以下の範囲におけるＸ軸方向に連続する第１の配線禁止領域を設定し、
各配線のＸ軸座標の最小値以上かつ最大値以下の範囲におけるＹ軸方向に連続する第２の配線禁止領域を設定し、
Ｘ軸及びＹ軸方向に連続する第１及び第２の配線禁止領域のＡＮＤ領域をセルの配線禁止領域として設定し、
セル単位で設定された各セルの配線禁止領域の領域データから各領域の最外点座標を抽出し、
各配線禁止領域データのＹ軸座標の最小値以上かつ最大値以下の範囲におけるＸ軸方向に連続する第３の配線禁止領域を設定し、
各配線禁止領域データのＸ軸座標の最小値以上かつ最大値以下の範囲におけるＹ軸方向に連続する第４の配線禁止領域を設定し、
Ｘ軸及びＹ軸方向に連続する第３及び第４の配線禁止領域のＡＮＤ領域をマクロセルの配線禁止領域として設定するようにしたことを特徴とする配線禁止領域設定方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、配線禁止領域設定方法及び記録媒体に係り、詳しくは、セル間の配線を自動配線にて行う場合において、その配線の禁止領域を設定する方法及びその方法を記録した記録媒体に関する。
【０００２】
近年、ＡＳＩＣ等の半導体装置におけるセル間の配線は、自動配線装置（ＣＡＤ装置）による自動配線にて行われている。この場合、セル内には配線ができない箇所があり、ＣＡＤ装置に対して予め配線禁止領域として設定する必要がある。一方で、半導体装置は高集積化が要求されることから、自動配線における配線効率を向上することが必要となっている。
【０００３】
【従来の技術】
従来、ＣＡＤ装置における配線禁止領域設定方法は、例えば図１０に示すセルＣ１上に配置された配線の配線データをもとにして、以下のようにして行われる。このセルＣ１上には、Ｌ字状の第１〜第３の配線Ｌ１〜Ｌ３が配置される。
【０００４】
先ず、第１の配線Ｌ１の配線データから、原点Ｏを基準とした最外点Ｐ1 〜Ｐ3 の座標が得られる。即ち、点Ｐ1 の座標（Ｘ2 ，Ｙ1 ）、点Ｐ2 の座標（Ｘ2 ，Ｙ2 ）、及び、点Ｐ3 の座標（Ｘ4 ，Ｙ2 ）がそれぞれ得られる。
【０００５】
次に、第２の配線Ｌ２の配線データから、原点Ｏを基準とした最外点Ｐ4 〜Ｐ6 の座標が得られる。即ち、点Ｐ4 の座標（Ｘ5 ，Ｙ3 ）、点Ｐ5 の座標（Ｘ6 ，Ｙ3 ）、及び、点Ｐ6 の座標（Ｘ5 ，Ｙ5 ）がそれぞれ得られる。
【０００６】
次に、第３の配線Ｌ３の配線データから、原点Ｏを基準とした最外点Ｐ7 〜Ｐ9 の座標が得られる。即ち、点Ｐ7 の座標（Ｘ3 ，Ｙ4 ）、点Ｐ8 の座標（Ｘ1 ，Ｙ6 ）、及び、点Ｐ9 の座標（Ｘ3 ，Ｙ6 ）がそれぞれ得られる。
【０００７】
このようにして得られた第１〜第３の配線Ｌ１〜Ｌ３の各座標からＹ軸座標のみに注目し、一方向（この場合、Ｘ軸方向）に連続した矩形の領域が配線禁止領域として設定される。
【０００８】
即ち、第１の配線Ｌ１のＹ軸座標で最小値から最大値、この場合「Ｙ1 」から「Ｙ2 」までのＸ軸方向に連続した領域が第１の配線Ｌ１に対する配線禁止領域Ｅ01として設定される。
【０００９】
同様にして、第２の配線Ｌ２のＹ軸座標で最小値から最大値、この場合「Ｙ3 」から「Ｙ5 」までのＸ軸方向に連続した領域が第２の配線Ｌ２に対する配線禁止領域として設定され、又、第３の配線Ｌ３のＹ軸座標で最小値から最大値、この場合「Ｙ4 」から「Ｙ6 」までのＸ軸方向に連続した領域が第３の配線Ｌ３に対する配線禁止領域として設定される。
【００１０】
このとき、図１１に示すように、両配線Ｌ２，Ｌ３に対する配線禁止領域は「Ｙ4 」から「Ｙ5 」で重複することから、両配線Ｌ２，Ｌ３のＹ軸座標で最小値から最大値、この場合「Ｙ3 」から「Ｙ6 」までのＸ軸方向に連続した領域が両配線Ｌ２，Ｌ３に対する配線禁止領域Ｅ02として設定される。
【００１１】
こうしてセルＣ１上の第１〜第３の配線Ｌ１〜Ｌ３に対する配線禁止領域は、２つの配線禁止領域Ｅ01，Ｅ02として設定され、セルライブラリに記憶される。そして、ＣＡＤ装置は、このセルライブラリに記憶された配線禁止領域Ｅ01，Ｅ02に基づいてセルＣ１上の自動配線を行っている。
【００１２】
このようにして配線禁止領域を設定する方法では、各配線に対する配線禁止領域がＸ軸方向に連続する矩形状となり単純な形状となるため、配線禁止領域のデータ数が少ない。従って、ＣＡＤ装置において、セルライブラリから配線禁止領域のデータを容易かつ高速に取得できるため、自動配線処理を短時間で行うことができる。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記セルＣ１に対してＹ軸方向の一方に隣接するセルＣ２が同方向の他方に隣接するセルＣ３に対して配線を行うとき、セルＣ１にはＸ軸方向に連続した配線禁止領域Ｅ01，Ｅ02が設定されることから、Ｘ軸方向のみの配線に限定されてしまう。そのため、セルＣ２，Ｃ３間の配線をセルＣ１と同一配線層で行う場合には、セルＣ１を大きく迂回した冗長な配線となってしまう。従って、このようにして配線禁止領域を設定する方法では、セル上の配線の自由度が小さいため、ＣＡＤ装置における自動配線がし難いという問題がある。
【００１４】
又、半導体チップが多層配線よりなる場合、一般的には各層毎の配線禁止領域がＸ軸若しくはＹ軸方向の交互となるように決められる。上記セルＣ１が多層配線よりなる半導体チップ上に形成された場合には、そのセルＣ１が形成された層の上層若しくは下層はＹ軸方向に配線禁止領域が設定されることから、セルＣ２，Ｃ３間の配線はセルＣ１の上層若しくは下層を使用しコンタクトホールを介して直線的に形成される。すると、セルＣ２，Ｃ３間の配線を直線的に形成することができるが、コンタクトホールによる配線抵抗が増加するという問題がある。そこで、配線禁止領域が設定されたセルと同一配線層での配線の自由度を向上することが必要となっている。
【００１５】
本発明は、上記問題点を解決するためになされたものであって、その目的は、自動配線装置におけるセル上の配線禁止領域のデータが容易かつ高速に取得可能であって、該セル上の配線の自由度を向上し得る配線禁止領域設定方法、及びその設定方法にて設定された配線禁止領域を記憶した記録媒体を提供することにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、セル上にレイアウトされた配線の配線データに基づいて、該配線に対する配線禁止領域を設定する配線禁止領域設定方法であって、配線データから各配線の最外点座標を抽出し、各配線のＹ軸座標の最小値以上かつ最大値以下の範囲におけるＸ軸方向に連続する第１の配線禁止領域を設定し、各配線のＸ軸座標の最小値以上かつ最大値以下の範囲におけるＹ軸方向に連続する第２の配線禁止領域を設定し、Ｘ軸及びＹ軸方向に連続する第１及び第２の配線禁止領域のＡＮＤ領域をセルの配線禁止領域として設定するようにした。
【００１７】
請求項２に記載の発明は、前記セルの配線禁止領域を設定した後、該配線禁止領域に前記配線が含まれるか否かを判定し、該配線が含まれていないと判定すると、配線が含まれていない配線禁止領域を削除するようにした。
【００１８】
請求項３に記載の発明は、マクロセル上にレイアウトされたセルのセル単位で設定された配線禁止領域データに基づいて、マクロセル上の配線禁止領域を設定する配線禁止領域設定方法であって、セル上にレイアウトされた配線の配線データから各配線の最外点座標を抽出し、各配線のＹ軸座標の最小値以上かつ最大値以下の範囲におけるＸ軸方向に連続する第１の配線禁止領域を設定し、各配線のＸ軸座標の最小値以上かつ最大値以下の範囲におけるＹ軸方向に連続する第２の配線禁止領域を設定し、Ｘ軸及びＹ軸方向に連続する第１及び第２の配線禁止領域のＡＮＤ領域をセルの配線禁止領域として設定し、セル単位で設定された各セルの配線禁止領域の領域データから各領域の最外点座標を抽出し、各配線禁止領域データのＹ軸座標の最小値以上かつ最大値以下の範囲におけるＸ軸方向に連続する第３の配線禁止領域を設定し、各配線禁止領域データのＸ軸座標の最小値以上かつ最大値以下の範囲におけるＹ軸方向に連続する第４の配線禁止領域を設定し、Ｘ軸及びＹ軸方向に連続する第３及び第４の配線禁止領域のＡＮＤ領域をマクロセルの配線禁止領域として設定するようにした。
【００２１】
請求項２に記載の発明によれば、配線のない配線禁止領域を削除することから、更にセル上の配線可能な領域を拡大することができるため、セル上の配線の自由度を一層向上することができる。しかも、余分な領域データがなくなるため、自動配線装置による配線禁止領域データの抽出を一層容易かつ高速に行うことができる。
【００２２】
請求項３に記載の発明によれば、マクロセルに対する配線禁止領域は簡単な形状で統一され、かつＸ，Ｙ軸方向に直線上に並ぶこととなる。従って、領域データを少なくできるため、自動配線装置による領域データの抽出を容易かつ高速に行うことが可能である。しかも、配線禁止領域は形状が統一され、かつＸ，Ｙ軸方向に直線上に並ぶことから配線可能領域が直線状となるので、自動配線装置による自動配線処理を容易に行うことができる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を具体化した一実施の形態を図１〜図９に従って説明する。
図１は、本実施の形態における半導体装置の自動配線装置としてのＣＡＤ装置１１を示す。ＣＡＤ装置１１は、中央処理装置（以下、ＣＰＵという）１２、メモリ１３、磁気ディスク装置１４、ディスプレイとしてのＣＲＴ１５、キーボード１６、及びマウス１７を備える。ＣＰＵ１２、メモリ１３、磁気ディスク装置１４、ＣＲＴ１５、キーボード１６、及びマウス１７はシステムバス１８によって接続されている。
【００２６】
メモリ１３にはＣＰＵ１２が実行する自動配置プログラム及び自動配線プログラムとその実行に必要な各種データが予め記憶されるとともに、自動配置プログラム及び自動配線プログラムに基づくＣＰＵ１２の処理結果等が一時記憶される。
【００２７】
キーボード１６は、メモリ１３に記憶されているプログラムの実行時に必要なデータを入力したり、磁気ディスク装置１４やＣＲＴ１５に処理結果等の出力命令を入力したりするために用いられる。マウス１７は、メモリ１３に記憶されているプログラムの実行の指示や、磁気ディスク装置１４やＣＲＴ１５に処理結果等の出力の指示に用いられる。
【００２８】
磁気ディスク装置１４は、回路データ、セルデータ等を記憶したライブラリファイル１４ａを備える。回路データは、半導体装置を構成する種々の素子のデータ及び素子間を接続する配線ネットのデータを含む。セルデータは、回路データにおける種々の素子に対応する基本セルのデータ及び所定の機能を持つブロックのデータを含む。
【００２９】
又、前記ライブラリファイル１４ａには、各種セル上に配置される配線データとともに、その配線に対して設定された配線禁止領域が記憶されている。この配線禁止領域は、前記ＣＰＵ１２にて、例えば上記した図１０に示すセルＣ１上に配置されたＬ字状の第１〜第３の配線Ｌ１〜Ｌ３に対して、以下のようにして設定される。
【００３０】
図２及び図３は、ＣＰＵ１２の配線禁止領域の設定処理を示す。
図２に示すステップＳ１１では、原点Ｏを基準とした各配線の最外点座標が入力される。即ち、図１０に示すように、第１の配線Ｌ１の配線データから、点Ｐ1 の座標（Ｘ2 ，Ｙ1 ）、点Ｐ2 の座標（Ｘ2 ，Ｙ2 ）、及び、点Ｐ3 の座標（Ｘ4 ，Ｙ2 ）がそれぞれ得られる。又、第２の配線Ｌ２の配線データから、点Ｐ4 の座標（Ｘ5 ，Ｙ3 ）、点Ｐ5 の座標（Ｘ6 ，Ｙ3 ）、及び、点Ｐ6 の座標（Ｘ5 ，Ｙ5 ）がそれぞれ得られる。又、第３の配線Ｌ３の配線データから、点Ｐ7 の座標（Ｘ3 ，Ｙ4 ）、点Ｐ8 の座標（Ｘ1 ，Ｙ6 ）、及び、点Ｐ9 の座標（Ｘ3 ，Ｙ6 ）がそれぞれ得られる。
【００３１】
ステップＳ１２では、各配線に対するＸ軸方向に連続した矩形の配線禁止領域を求める。即ち、第１の配線Ｌ１のＹ軸座標で最小値から最大値、この場合「Ｙ1 」から「Ｙ2 」までのＸ軸方向に連続した領域が該配線Ｌ１に対する配線禁止領域として求められる。第２の配線Ｌ２のＹ軸座標で最小値から最大値、この場合「Ｙ3 」から「Ｙ5 」までのＸ軸方向に連続した領域が該配線Ｌ２に対する配線禁止領域として求められる。第３の配線Ｌ３のＹ軸座標で最小値から最大値、この場合「Ｙ4 」から「Ｙ6 」までのＸ軸方向に連続した領域が該配線Ｌ３に対する配線禁止領域として求められる。
【００３２】
ステップＳ１３では、各配線に対する各配線禁止領域のうち重複する領域があるか否かを判定する。重複する領域がなければ、ＣＰＵ１２はステップＳ１４に進み、各配線に対するＸ軸方向の配線禁止領域を確定して設定する。一方、重複する領域があれば、ＣＰＵ１２はステップＳ１５に進み、重複する互いの領域のＯＲ領域を求めて新たな領域として置き換える。その後、ＣＰＵ１２はステップＳ１４に進み、各配線に対するＸ軸方向の配線禁止領域として設定する。
【００３３】
即ち、第２，第３の配線Ｌ２，Ｌ３の配線禁止領域は「Ｙ4 」から「Ｙ5 」で重複することから、ＣＰＵ１２はステップＳ１５において重複する互いの領域のＯＲ領域、この場合「Ｙ3 」から「Ｙ6 」が該配線Ｌ２，Ｌ３の配線禁止領域として置き換える。そして、ＣＰＵ１２はステップＳ１４に進み、図４に示すように「Ｙ1 」から「Ｙ2 」と「Ｙ3 」から「Ｙ6 」までの領域が各配線Ｌ１〜Ｌ３に対するＸ軸方向の配線禁止領域Ｅ01，Ｅ02としてそれぞれ設定する。
【００３４】
図３に示すステップＳ１６では、各配線に対するＹ軸方向に連続した矩形の配線禁止領域を求める。即ち、第１の配線Ｌ１のＸ軸座標で最小値から最大値、この場合「Ｘ2 」から「Ｘ4 」までのＹ軸方向に連続した領域が該配線Ｌ１に対する配線禁止領域として求められる。第２の配線Ｌ２のＸ軸座標で最小値から最大値、この場合「Ｘ5 」から「Ｘ6 」までのＹ軸方向に連続した領域が該配線Ｌ２に対する配線禁止領域として求められる。第３の配線Ｌ３のＸ軸座標で最小値から最大値、この場合「Ｘ1 」から「Ｘ3 」までのＹ軸方向に連続した領域が該配線Ｌ３に対する配線禁止領域として求められる。
【００３５】
ステップＳ１７では、各配線に対する各配線禁止領域のうち重複する領域があるか否かを判定する。重複する領域がなければ、ＣＰＵ１２はステップＳ１８に進み、各配線に対するＹ軸方向の配線禁止領域を確定して設定する。一方、重複する領域があれば、ＣＰＵ１２はステップＳ１９に進み、重複する互いの領域のＯＲ領域を求めて新たな領域として置き換える。その後、ＣＰＵ１２はステップＳ１８に進み、各配線に対するＹ軸方向の配線禁止領域として設定する。
【００３６】
即ち、第１，第３の配線Ｌ１，Ｌ３の配線禁止領域は「Ｘ2 」から「Ｘ3 」で重複することから、ＣＰＵ１２はステップＳ１９において重複する互いの領域のＯＲ領域、この場合「Ｘ1 」から「Ｘ4 」が該配線Ｌ１，Ｌ３の配線禁止領域として置き換える。そして、ＣＰＵ１２はステップＳ１８に進み、図４に示すように「Ｘ1 」から「Ｘ4 」と「Ｘ5 」から「Ｘ6 」までの領域が各配線Ｌ１〜Ｌ３に対するＹ軸方向の配線禁止領域Ｅ10，Ｅ20としてそれぞれ設定する。
【００３７】
次にステップＳ２０では、各配線に対するＸ軸方向及びＹ軸方向の各配線禁止領域のＡＮＤ領域を求めて新たな矩形の配線禁止領域として置き換える。即ち、Ｘ軸方向の配線禁止領域Ｅ10，Ｅ20及びＹ軸方向の配線禁止領域Ｅ01，Ｅ02を用いてＡＮＤ領域が求められ、そのＡＮＤ領域が前記各配線Ｌ１〜Ｌ３に対する矩形の配線禁止領域Ｅ11，Ｅ12，Ｅ21，Ｅ22となる。
【００３８】
ステップＳ２１では、前記ステップＳ２０で求めた各配線禁止領域にそれぞれ配線が含まれているか否かを判定する。配線が含まれていれば、ＣＰＵ１２はステップＳ２２に進み、前記ステップＳ２０で求めた配線禁止領域を確定し、ライブラリファイル１４ａに記憶して、処理を終了する。一方、配線が含まれていなければ、ＣＰＵ１２はステップＳ２３に進み、前記ステップＳ２０で求めた配線禁止領域のうち配線が含まれていない領域を削除する。その後、ＣＰＵ１２はステップＳ２２に進み、配線禁止領域を確定し、ライブラリファイル１４ａに記憶して、処理を終了する。
【００３９】
即ち、配線禁止領域Ｅ21には配線が含まれていないため、ＣＰＵ１２はステップＳ２３において、図５に示すように配線禁止領域Ｅ21を削除する。そして、ＣＰＵ１２はステップＳ２２に進み、各配線Ｌ１〜Ｌ３に対する配線禁止領域Ｅ11，Ｅ12，Ｅ22をライブラリファイル１４ａに記憶する。
【００４０】
このように設定された配線禁止領域は簡単な形状であるため、そのデータ数は少ない。又、配線禁止領域は一方向に連続した形状でないため、双方向（Ｘ軸及びＹ軸方向）に配線が可能となり、セル上の配線可能な領域は拡大される。即ち、図５において、セルＣ１を挟むようにＹ軸方向にそれぞれ配置されたセルＣ２，Ｃ３間の配線は直線的に設けることも可能であるため、セルＣ１上の配線可能な領域は拡大されることとなる。
【００４１】
そして、ＣＰＵ１２は前記ライブラリファイル１４ａに記憶された各種データに基づいて、自動配置プログラムによるセルのレイアウト、及び自動配線プログラムによるセル間の配線を以下のようにして行う。
【００４２】
図６は、ＣＰＵ１２が実行する自動配置処理及び自動配線処理を示す。
ステップＳ３１では、ライブラリファイル１４ａに記憶されたセルデータを抽出する。このセルデータ中には、上記の方法にて求めた配線に対する配線禁止領域データが含まれている。この場合、配線禁止領域は簡単な形状に設定されていることからそのデータ数は少なく、ＣＰＵ１２による配線禁止領域データの抽出は容易かつ高速に行われる。
【００４３】
ステップＳ３２では、回路データに基づく自動配置プログラムの処理動作に従って、前記ステップＳ３１にて抽出した各種セルを最適にレイアウトする。
ステップＳ３３では、配線ネットのデータに基づく自動配線プログラムの処理動作に従って、前記ステップＳ３２にてレイアウトされた各種セル間の配線を行う。この場合、配線禁止領域は一方向に連続した形状でないため、セル上の配線可能な領域は拡大され、セル上の配線の自由度は高い。そのため、ＣＡＤ装置１１による自動配線処理はし易い。そして、このようにして半導体装置の自動配線が行われる。
【００４４】
又、図７に示すマクロセルに対しても、図２及び図３に示した配線禁止領域の設定方法が応用できる。
図７に示すように、複数のセルＣ１１〜Ｃ１４が配置されたマクロセルＣ０において、各セルＣ１１〜Ｃ１４には上記方法に基づいて配線に対する配線禁止領域Ｅが設定されている。そして、各セルＣ１１〜Ｃ１４の配線禁止領域Ｅの最外点座標が抽出される。
【００４５】
図８に示すように、前記最外点座標に基づいて、Ｘ軸方向に連続する配線禁止領域ＥX 、及びＹ軸方向に連続する配線禁止領域ＥY が設定される。
そして、図９に示すように、Ｘ軸及びＹ軸方向に連続する配線禁止領域ＥX ，ＥY のＡＮＤ領域がマクロセルＣ０の配線禁止領域ＥXYとして設定される。
【００４６】
このようにすれば、マクロセルＣ０の配線禁止領域ＥXYは、簡単な形状に統一され、かつＸ，Ｙ軸方向に直線上に並ぶため、そのデータ数を少なくできる。そして、この配線禁止領域ＥXYを前記ライブラリファイル１４ａに記憶し、同様にＣＡＤ装置１１にてマクロセルＣ０の自動配線処理を行うとき、そのデータ数が少ないことから、ＣＰＵ１２による配線禁止領域データの抽出は容易かつ高速に行われる。又、配線禁止領域ＥXYは形状が統一され、かつＸ，Ｙ軸方向に直線上に並ぶことから配線可能領域が直線状となるので、ＣＡＤ装置１１による自動配線処理がし易い。
【００４７】
次に、本実施の形態の特徴を以下に示す。
（１）上記方法で設定された配線禁止領域Ｅ11，Ｅ12，Ｅ21，Ｅ22は、一方向に連続しない比較的簡単な形状である。従って、ライブラリファイル１４ａに記憶される領域データを少なくでき、ＣＰＵ１２による配線禁止領域データの抽出を容易かつ高速に行うことができる。又、配線禁止領域Ｅ11，Ｅ12，Ｅ21，Ｅ22が一方向に連続しない形状であるため、双方向（Ｘ軸及びＹ軸方向）に配線が可能となり、セル上の配線可能な領域は従来と比較して拡大される。つまり、セル上の配線の自由度を向上することができる。その結果、ＣＡＤ装置１１による自動配線処理を容易に行うことができる。
【００４８】
（２）しかも、配線のない配線禁止領域Ｅ21は削除される。従って、更にセル上の配線可能な領域を拡大することができるため、セル上の配線の自由度を一層向上することができる。又、余分な領域データがなくなるため、ＣＰＵ１２による配線禁止領域データの抽出を一層容易かつ高速に行うことができる。
【００４９】
（３）又、マクロセルＣ０に対しても、同様に配線禁止領域ＥXYが設定でき、その領域ＥXYを簡単な形状に統一し、かつＸ，Ｙ軸方向に直線上に並べることが可能である。従って、ＣＡＤ装置１１にてマクロセルＣ０の自動配線処理を行うと、その領域データ数が少ないため、ＣＰＵ１２による配線禁止領域データの抽出は容易かつ高速に行うことができる。又、配線禁止領域ＥXYは形状が統一され、かつＸ，Ｙ軸方向に直線上に並ぶことから配線可能領域が直線状となるので、ＣＡＤ装置１１による自動配線処理を容易に行うことができる。
【００５０】
尚、本発明は前記実施形態の他、以下の態様で実施するようにしてもよい。
○上記実施の形態では、配線のない配線禁止領域Ｅ21を削除するようにしたが、削除しなくてもよい。即ち、図３に示すステップＳ２１〜ステップＳ２３を省略してもよい。このようにすれば、その領域Ｅ21分のデータが増加するが、ＣＰＵ１２の配線禁止領域の設定処理（ステップ）が短くなるため、その設定時間の短縮に寄与する。
【００５１】
○上記実施の形態では、配線禁止領域の設定を自動配線装置１１に搭載されたＣＰＵ１２にて行い、その後、磁気ディスク装置１４におけるライブラリファイル１４ａに記憶したが、別のＣＰＵで配線禁止領域の設定を行ってライブラリファイル１４ａに記憶してもよい。
【００５２】
○上記実施の形態では、上記方法で設定した配線禁止領域を磁気ディスク装置１４のライブラリファイル１４ａに記憶したが、他の記録媒体に記録するようにしてもよい。
【００５３】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば、自動配線装置におけるセル上の配線禁止領域のデータが容易かつ高速に取得可能であって、該セル上の配線の自由度を向上し得る配線禁止領域設定方法、及びその設定方法にて設定された配線禁止領域を記憶した記録媒体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本実施の形態のＣＡＤ装置の概略構成図である。
【図２】  配線禁止領域の設定処理を示すフローチャートである。
【図３】  配線禁止領域の設定処理を示すフローチャートである。
【図４】  配線禁止領域を示す説明図である。
【図５】  配線禁止領域を示す説明図である。
【図６】  自動配置処理及び自動配線処理を示すフローチャートである。
【図７】  マクロセル上の配線禁止領域を示す説明図である。
【図８】  マクロセル上の配線禁止領域を示す説明図である。
【図９】  マクロセル上の配線禁止領域を示す説明図である。
【図１０】  セル上に配置された配線を示す説明図である。
【図１１】  配線禁止領域を示す説明図である。
【符号の説明】
Ｃ１          セル
Ｃ０          マクロセル
Ｌ１〜Ｌ４    配線
Ｐ1 〜Ｐ9     最外点
Ｅ01，Ｅ02    第１の配線禁止領域としてのＸ軸方向の配線禁止領域
Ｅ10，Ｅ20    第２の配線禁止領域としてのＹ軸方向の配線禁止領域
Ｅ11，Ｅ12，Ｅ21，Ｅ22  セルの配線禁止領域
ＥX           第３の配線禁止領域としてのＸ軸方向の配線禁止領域
ＥY           第４の配線禁止領域としてのＹ軸方向の配線禁止領域
ＥXY          マクロセルの配線禁止領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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