(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
エチレン、プロピレン、ブテン−１、４−メチル−ペンテン−１、ヘキセン−１、またはオクテン−１のオレフインの重合体、およびエチレンとそれ以外のオレフインの共重合体の中から選ばれる少なくとも１種類を含み、中和剤、酸化防止剤及び耐光安定剤の夫々の含有量を最大でも０．０１重量％とする高純度樹脂からなる内層と、ポリ（エチレン−コ−ビニルアルコール）を含む溶剤バリアー性樹脂の中間層と、遮光性物質を含む樹脂組成物からなる外層とがブロー成形された容器であり、分光光度計により測定される容器の全層の波長４００ｎｍ以下における最低吸光度が２．０以上で、かつ容器の全層の吸光度を該全層の厚みで除した波長４００ｎｍにおける吸光係数が１．５ｍｍ−１以上、同じく波長６００ｎｍにおける吸光係数が１．５ｍｍ−１以下であることを特徴とする高純度薬品液用容器。
【請求項２】
前記外層の樹脂組成物中に、数平均分子量２×１０３以上のポリエチレンおよびポリプロピレンの中から選ばれる少なくとも１種類のオレフイン系重合体からなる顔料分散剤５重量％未満と、無機顔料および有機顔料の中から選ばれる少なくとも１種類の遮光性顔料０．０１〜５重量％とが含まれていることを特徴とする請求項１に記載の高純度薬品液用容器。
【請求項３】
前記外層の樹脂組成物中に２．５重量％未満の紫外線吸収剤が含まれていることを特徴とする請求項１に記載の高純度薬品液用容器。
【請求項４】
液排出管の先端を外部に導出し、その末端を底部まで挿入し高純度薬品液の充填された請求項１〜３のいずれかに記載の高純度薬品液用容器であるインナー容器を、耐圧保護容器内に密封収納し、該耐圧保護容器に連結した加圧源から供給されるガス圧で該高純度薬品液を該液排出管から排出することを特徴とする高純度薬品液の排出方法。
【請求項５】
液排出管の先端を外部に導出し、その末端を底部まで挿入し高純度薬品液の充填された請求項１〜３のいずれかに記載の高純度薬品液用容器であるインナー容器を、保護容器内に収納し、液排出の経路上に設けられたポンプにより該高純度薬品液を該液排出管から排出することを特徴とする高純度薬品液の排出方法。
【請求項６】
液排出管の先端を外部に導出し、その末端を底部まで挿入してある高純度薬品液の充填された耐圧性の請求項１〜３のいずれかに記載の高純度薬品液用容器であるインナー容器を保護容器に収納し、該インナー容器に連結した加圧源から供給されるガス圧で該高純度薬品液を該液排出管から排出することを特徴とする高純度薬品液の排出方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体および液晶分野で使用される高純度薬品液の貯蔵に用いられる容器と、その容器から高純度薬品液を排出する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、電子デバイスの急速な進歩により、集積回路等のデザインルールは微細化の一途をたどっている。このような微細加工に用いられるフォトレジスト液等の高純度薬品液には、優れた基本的性能を有すると共に、保存および輸送中に品質の低下を招かないことが要求される。品質の低下とは、例えば、フォトレジスト液中の不純微粒子の増加、成分の変性、組成の量的変化、不純金属元素の増加、または感光成分の光による変質を意味する。フォトレジスト液中の微粒子の増加や成分の変性は、主に容器の材質から液中への浸出により起こる。この液を基板に塗布してフォトレジスト膜を形成すると、ピンホールが発生する。また、液の組成の量的変化は、液中の有機溶剤の外部への透過により起こる。このとき粘度が変化するのでフォトレジスト膜厚が変動してしまう。
【０００３】
これらのフォトレジスト液の品質の低下は、半導体、液晶ディスプレイの品質および歩留まりに著しい悪影響を及ぼし、この液自体の保存期間を短くしてしまう。
【０００４】
フォトレジスト液を容器中に長期間貯蔵している間に、不純微粒子が浸出し、品質が低下する度合いを示す指標としてクリーン度というものがある。クリーン度は、検査容器に一定期間超純水あるいはフォトレジスト液を貯蔵した後、貯蔵されていた内容液１ｍｌ中に粒径０．２μｍ以上の微粒子がいくつ存在するかを算定して求める。具体的には次式で定義される。
【０００５】
【数１】
0004167745.tif 000002
【０００６】
式（１）中、ａは検査容器の容量、ｂは検査容器からサンプリングした内容液の量である。まず初期クリーン度を測定するためのサンプリング液は次のようにして採取される。容量ａ（ｍｌ）の検査容器に容量の半分、ａ／２（ｍｌ）の超純水あるいはフォトレジスト液を入れ、１５秒間振とうし２４時間静置した後に採取する。貯蔵後のクリーン度を測定するためのサンプリング液は、初期クリーン度測定後の容器に栓体を取り付けて一定期間放置し、気泡を発生させないように容器を３回転させた後に採取される。ｃはサンプリング液全量中に含まれる粒子径０．２μｍ以上の微粒子をパーティクルカウンターで数えた値である。その数値をもとに式（１）で初期および一定期間貯蔵後のクリーン度を算出する。クリーン度の数値が低いほどフォトレジスト液の品質が良いことを示す。クリーン度が１００個／ｍｌ未満であると、半導体、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の品質および歩留まりが低下することなく、薬液を安定して貯蔵できる。
【０００７】
一般に、フォトレジスト液およびその周辺薬液を貯蔵する容器としてガラス容器や金属製容器、単層のポリエチレン（ＰＥ）系樹脂製容器が用いられている。しかし、ガラス容器からはナトリウムイオン、金属製容器からはそれを構成する金属のイオン、例えば鉄イオンが溶出し、クリーン度が悪い。また、従来のポリエチレン系樹脂にバリアー性組成物を添加し成形した容器はクリーン度が悪く、遮光性が劣っているため遮光性顔料及び顔料分散剤を添加すると、さらに悪化する。フォトレジスト液を貯蔵する容器には、クリーン度が良く、遮光性および溶剤バリアー性を有する必要があるので、いずれの容器も好ましくない。さらに、ガラス容器では割れ易く、金属容器では重くて取扱いに不便であるという問題点がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は前記の課題を解決するためなされたもので、フォトレジスト液等の高純度薬品液の保存および輸送中に、その品質が低下せず、破損しにくく軽量な容器を提供することを目的とする。また、保存容器から容易かつ安全に、高純度薬品液を取り出すことができる排出方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
前記の目的を達成するためになされた本発明を、実施例に対応する図面を参照して記載すると以下のとおりである。
【００１０】
すなわち本発明を適用する高純度薬品液用容器１は、図１に示すとおり、エチレン、プロピレン、ブテン−１、４−メチル−ペンテン−１、ヘキセン−１、またはオクテン−１のオレフインの重合体、およびエチレンとそれ以外のオレフインの共重合体の中から選ばれる少なくとも１種類を含み、中和剤、酸化防止剤及び耐光安定剤の夫々の含有量を最大でも０．０１重量％とする高純度樹脂からなる内層３と、ポリ（エチレン−コ−ビニルアルコール）を含む溶剤バリアー性樹脂の中間層４と、遮光性物質を含む樹脂組成物からなる外層５とがブロー成形された容器であり、分光光度計により測定される容器１の全層３、４、５の波長４００ｎｍ以下における最低吸光度が２．０以上で、かつ容器１の全層３、４、５の吸光度を全層３、４、５の厚みで除した波長４００ｎｍにおける吸光係数が１．５ｍｍ以上、同じく波長６００ｎｍにおける吸光係数が１．５ｍｍ以下である。容器１には、把手２を有していることが好ましい。
【００１１】
内層３は高純度薬品液１５と接触するので、微粒子や金属イオンが浸出しない材質であることが重要である。内層３は高純度樹脂からなっている。内層３の樹脂組成物中のゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定される重量平均分子量１×１０3以下の重合体の含有量は、５重量％未満である。この含有量が５重量％以上のもので成形した容器は、高純度薬品液中へ不純微粒子が容易に浸出し、クリーン度が１００個／ｍｌ以上となるので、高純度薬品液用容器としては使用できない。
【００１２】
樹脂等の分子量の測定は、樹脂ペレットを溶媒（オルトジクロルベンゼン）に溶かして試料溶液とし、ＧＰＣで分子量および分子量分布を測定する方法により行う。重量平均分子量および数平均分子量は次式により算出される。
【００１３】
重量平均分子量＝Σ（Ｍ×ｗ）／Σｗ・・・（２）
数平均分子量＝Σｗ／Σ（ｗ／Ｍ）  ・・・（３）
ただし、Ｍは分子量、ｗは重量分率である。ＧＰＣの測定条件は、装置が１５０ＣＶ（Ｗａｔｅｒｓ社製）、カラムがＴＳＫｇｅｌ  ＧＭＨ−ＨＴ（東ソー株式会社製）、溶媒がオルトジクロルベンゼン、温度が１３８℃、検出器は示差屈折計である。
【００１４】
内層３が共重合体であるとき、α−オレフイン単位の好ましい含有量は１５重量％以下であり、共重合体の分子構造はアタクチック、アイソタクチックまたはシンジオタクチックが好ましい。重合法は低圧法あるいは中圧法が好ましい。
【００１５】
内層３の添加剤として、触媒は重合に際して適宜所定量用いられる。また中和剤、酸化防止剤および耐光安定剤を添加すると、容器から内容液中へ溶出し、不純微粒子の原因となるので、それらの添加量は重要である。
【００１６】
中和剤は重合法が中圧法の場合は必要なく、低圧法の場合は塩素キャッチャーとして使用される。中和剤はカルシウム、マグネシウム、バリウムのようなアルカリ土類金属のステアリン酸塩が挙げられるが、これらは重合工程での触媒の活性を上げるなどの操作で最低量とすることが必要である。中和剤の含有量が樹脂組成物に対して０．０１重量％を超えると、クリーン度は１００個／ｍｌを超え、半導体やＬＣＤの品質および歩留まりを悪化させる。したがって中和剤の含有量は樹脂組成物に対して０．０１重量％以下にする必要がある。
【００１７】
酸化防止剤は、ブチルヒドロキシトルエン、ペンタエリスチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートのフェノール系酸化防止剤が挙げられる。中和剤と同様の理由により、酸化防止剤の含有量は樹脂組成物に対して０．０１重量％以下にする。
【００１８】
耐光安定剤としては、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールのベンゾトリアゾール系耐光安定剤、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジン）セバケート、ポリ〔｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝へキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペジル）イミノ｝〕のヒンダードアミン系の耐光安定剤が挙げられる。中和剤と同様の理由により、耐光安定剤の含有量は樹脂組成物に対して０．０１重量％以下にする。
【００１９】
樹脂組成物に含まれる添加剤の含有量は、樹脂組成物をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を用いて、ソックスレー抽出器で８時間抽出した抽出液を液体クロマトグラフィーで分離、定量した値である。その測定条件は、装置がＧＵＬＬＩＶＥＲ（日本分光株式会社製）、カラムがＦｉｎｅｐａｋ  ＧＥＬ  １０１（日本分光株式会社製）、溶媒がＴＨＦ，検出器がＵＶ−９７０（日本分光株式会社製）と８３０−ＲＩ（日本分光株式会社製）である。
【００２０】
中間層４は、ポリ（エチレン−コ−ビニルアルコール）を含む溶媒バリアー性樹脂からなる。高純度薬品液１５に用いられる有機溶剤としては、例えば、フォトレジスト液に含有されるメチルエチルケトンなどのケトン類、乳酸エチルなどのエステル類、γ−ブチロラクトンなどのラクトン類およびエチルセロソルブアセテートなどのセロソルブ類が挙げられる。溶剤バリアー性樹脂は、使用する有機溶剤に応じて選択する。
【００２１】
外層５は遮光性組成物を含む樹脂からなる。遮光性組成物を含む熱可塑性樹脂であれば基本的にはどの樹脂でも使用できるが、オレフイン系樹脂が好ましい。外層５の樹脂組成物中に、数平均分子量２×１０3以上のポリエチレンおよびポリプロピレンの中から選ばれる少なくとも１種類のオレフイン系重合体からなる顔料分散剤５重量％未満と、無機顔料および有機顔料の中から選ばれる少なくとも１種類の遮光性顔料０．０１〜５重量％とが含まれている。
【００２２】
分散剤はポリエチレンやポリプロピレンのオレフイン系重合体が挙げられる。前記顔料の高度の分散を得るために添加される分散剤の数平均分子量は２×１０3以上であり、かつ分散剤の含有量が５重量％未満であることが好ましい。分散剤の数平均分子量が２×１０3未満であったり、分散剤の含有量が５重量％を超えるとクリーン度が悪化し、高純度薬品液容器には適さない。
【００２３】
遮光性顔料は、酸化チタン、カーボンブラック、ベンガラ、二酸化珪素の無機顔料、フタロシアニン系、キナクリドン系、アゾ系の有機顔料が挙げられる。遮光性顔料の含有量は樹脂組成物に対して０．０１重量％〜５重量％であることが好ましい。遮光性顔料の含有量が樹脂組成物に対して０．０１重量％未満では十分な遮光効果が得られず、５重量％を超えるとクリーン度が悪化し、高純度薬品液容器には適さない。
【００２４】
外層５の樹脂組成物中に２．５重量％未満の紫外線吸収剤が含まれているとさらに好ましい。紫外線吸収剤は、フェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレートなどのサリチル酸系紫外線吸収剤、２，４−ヒドロキシペンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニル）メタンなどのベンゾフェノン系紫外線吸収剤、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールなどのベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレートなどのシアノアクリレート系紫外線吸収剤が挙げられる。紫外線吸収剤の含有量が２．５重量％を超えるとクリーン度が悪化し、高純度薬品液用容器には適さない。
【００２５】
本発明の高純度薬品液用容器１には、半導体プロセスや液晶ディスプレイ用に使用されるフォトレジスト液や希釈溶剤をはじめ、その他の高純度薬品液が貯蔵できる。例えば、紫外線レジスト、遠紫外線レジスト、電子線レジスト、Ｘ線レジストおよび液晶ディスプレイ用カラーレジストなどが挙げられる。これらの半導体プロセス用フォトレジストは、クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂またはポリ（ビニルフェノール）等のアルカリ可溶性樹脂と、ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル、ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミドおよびナフトキノンジアジドスルホン酸アミド等のキノンジアジド系感光剤とを必須成分として含有するポジ型フォトレジストである。液晶ディスプレイ用カラーレジストとしては、アクリル酸エステルモノマー、トリハロメチルトリアジン系光重合開始剤とアクリル酸／アクリル酸エステルの共重合体からなるフォトポリマーに有機顔料を分散させたものが挙げられる。こうしたフォトレジストは２００〜５００ｎｍの光に感光し易い成分を含んでいるので、容器は遮光性を有する必要がある。従って、分光光度計により測定される容器１の全層３、４、５の波長４００ｎｍ以下における最低吸光度が２．０以上であり、かつ容器１の全層３、４、５の吸光度を全層３、４、５の厚みで除した波長４００ｎｍにおける吸光係数が１．５ｍｍ-1以上にする。あるいは、全層の最低吸光度が２．０以上で、かつ波長４００ｎｍにおける吸光係数が１．５ｍｍ-1以上、波長６００ｎｍにおける吸光係数が１．５ｍｍ-1以下にする。
【００２６】
また、中間層４と、内層３あるいは外層５の樹脂との接着には、市販の変性ポリオレフイン樹脂などの接着樹脂を適当な厚さで使用することが好ましい。
【００２７】
本発明の高純度薬品液用容器１は、以下のようにして製造される。内層３は前記オレフィン系の高純度樹脂、中間層４は前記溶剤バリアー性樹脂、外層５は前記遮光性組成物を含む樹脂を原料に用いる。容器１は、内層側からオレフイン系高純度樹脂／接着樹脂／溶剤バリアー性樹脂／接着樹脂／遮光性組成物を含む樹脂の少なくとも５層にブロー成形して得られる。ブロー成形に用いられる成形機は少なくとも４本のスクリューを持つものであれば、通常使用されるものでかまわない。各押出機により各樹脂を溶融して筒状のパリソンに押出し、押出されたパリソンを金型で挟んで、ブローピンより加圧ガスを吹き込み、冷却し、容器１を成形する。
【００２８】
容器１を用いた本発明の高純度薬品液１５の排出方法を、実施例に対応する図面を参照して記載すると以下のとおりである。
【００２９】
高純度薬品液の排出方法は、図２に示すように、液排出管１０の先端を外部に導出し、その末端を底部まで挿入し高純度薬品液１５の充填された前記高純度薬品液用容器であるインナー容器１を、耐圧保護容器１２、１３内に密封収納し、耐圧保護容器１３に連結した加圧源６から供給されるガス圧で、高純度薬品液１５を液排出管１０から排出するものである。耐圧保護容器１２、１３は薬液に直接接触しないため、ガス圧０．１〜３．０ｋｇ／ｃｍに耐えられる材質であれば特別な材質のものを使用する必要はない。
【００３０】
高純度薬品液の排出方法の別の態様は、図３に示すように、液排出管１０の先端を外部に導出し、その末端を底部まで挿入し高純度薬品液１５の充填された前記高純度薬品液用容器であるインナー容器１を、保護容器２２、２３内に収納し、液排出の経路上に設けられたポンプ１６により高純度薬品液１５を液排出管１０から排出するものである。開放口１９にはフィルター１４が接続されていることが好ましい。
【００３１】
さらに高純度薬品液の排出方法の別の態様は、図４に示すように、液排出管１０の先端を外部に導出し、その末端を底部まで挿入してある高純度薬品液１５の充填された耐圧インナー容器１を保護容器３２、３３に収納し、耐圧性の前記高純度薬品液用容器であるインナー容器１に連結した加圧源６から供給されるガス圧で高純度薬品液１５を液排出管１０から排出するものである。
【００３２】
図２、３、４に示される、高純度薬品液１５を収納するインナー容器１は、図１に示す高純度薬品用容器であることが好ましい。
【００３３】
【実施例】
以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
【００３４】
（実施例１）
高純度薬品容器１を以下のようにして試作した。
【００３５】
内層３の原料には、密度が０．９５５ｇ／ｃｍ3、メルトインデックスが０．１５ｇ／１０ｍｉｎ．で、中和剤、酸化防止剤および耐光安定剤を含まない中圧法により製造されたポリエチレンを使用した。ＧＣＰにより測定される重量平均分子量は１×１０3以下の重合体の含有量は１．４１重量％である。
【００３６】
中間層４の原料には、密度が１．１９ｇ／ｃｍ3、メルトインデックスが１．３ｇ／１０ｍｉｎ．で、エチレン共重合比率が３２ｍｏｌ％のエチレン−ビニルアルコール共重合樹脂を使用した。
【００３７】
外層用５の原料には、顔料分散剤として数平均分子量が２×１０3以上のポリエチレンを０．３０重量％含み、密度が０．９５６ｇ／ｃｍ3、メルトインデックスが０．３０ｇ／１０ｍｉｎ．で、ポリエチレンペレト１００部に、遮光性顔料としてベンガラ５．３重量％およびカーボンブラック０．２重量％を含むマスターバッチ３重量部をドライブレンドして使用した。
【００３８】
接着樹脂には、密度が０．９４ｇ／ｃｍ3、メルトインデックスが０．２ｇ／１０ｍｉｎ．の接着性ポリオレフイン樹脂（三井化学株式会社製：ＨＢ５００）を使用した。
【００３９】
容器１の成形には、４本のスクリューを持つ多層ブロー成形機（ＢＥＫＵＭ社製）を用いた。各押出機により各樹脂を２００℃で溶融して筒状のパリソンに押出した。押出されたパリソンを金型で挟んで、ブローピンより６ｋｇ／ｃｍ2の加圧ガスを吹き込み、冷却し、容器１を成形した。試作した容器１は、内層／接着樹脂／中間層／接着樹脂／外層の順で、平均厚みが０．６８０／０．０４５／０．０５０／０．０４５／０．６８０ｍｍの４種５層構造であり、容量は４リットルである。
【００４０】
次に試作した容器１のクリーン度を測定した。容器１に超純水製造装置（商品名：トレピュアＬＶ−１０Ｔ（東レ株式会社製））で製造した超純水２リットルを入れ、キャップを取り付けて密閉して１５秒間振とうし、２４時間静置後に５ｍｌ採取し、その中に浸出した０．２μｍ以上の微粒子の数をパーティクルカウンター（タイプ：ＫＬ−２２（リオン株式会社製））で測定した。
【００４１】
水中の微粒子数（個／ｍｌ）を式（１）と同様の次式（４）で計算し、超純水によるクリーン度とした。その結果を表１に示した。
【００４２】
【数２】
0004167745.tif 000003
【００４３】
次に、クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂およびナフトキノンジアジドスルホン酸エステル系感光剤を含む固形分と、溶剤がメチルアミルケトンからなるポジ型フォトレジスト（レジスト１）の２リットルを容器１に入れ、上記と同様に（５）式により、クリーン度を求めた。その結果を表１に示した。
【００４４】
【数３】
0004167745.tif 000004
【００４５】
さらにこの容器１を再びキャップで密閉し、常温で６ヶ月間放置した。６ヶ月間経過した容器を、気泡を発生させないように３回転させて、容器１内のレジスト１を振とうし、５ｍｌ採取した。上記と同様にしてレジスト１中の微粒子数（個／ｍｌ）を計算し、６ヶ月後のクリーン度とした。その結果を表１に示した。
【００４６】
【表１】
0004167745.tif 000005
【００４７】
表１に示したように、水中のクリーン度は１２個／ｍｌ、レジスト１中のクリーン度は８個／ｍｌ、６ヶ月後のクリーン度は２６個／ｍｌと不純微粒子の浸出が極めて少なかった。
【００４８】
次に、この容器１の胴部１×４ｃｍ角を切り取り、分光光度計（タイプ：Ｕｂｅｓｔ−５５（日本分光株式会社製））により波長９００〜２００ｎｍの吸光度を測定した。波長４００ｎｍ以下における最低吸光度は２．４２であり、６００ｎｍの吸光度は１．２１（透過率１０-0.79％）で吸光係数は０．７７ｍｍ-1、４００ｎｍの吸光度は２．４２（透過率１０-0.42％）で吸光係数は１．５４ｍｍ-1と、極めて良好な遮光性を示す。この時のサンプルの厚みは１．５７ｍｍであった。
【００４９】
次に、容器１にメチルアミルケトン４Ｌを入れ、キャップにより完全に密閉した状態で２３℃および４０℃の恒温室へ保管、経時によるメチルアミルケトンの重量変化量（％）を測定した。その結果を表１に示した。表１に示したように、２３℃での６ヶ月後の重量変化量は０．０１％以下、４０℃での３ヶ月後の重量変化量は０．０１％以下であり重量減少量は極めて少なかった。
【００５０】
さらに、容器１にメチルアミルケトン４Ｌを入れ、キャップにより完全に密閉した状態で２３℃の恒温室へ保管、６ヶ月後のメチルアミルケトン中のメタルイオン濃度をＩＣＰ−ＭＳ（ＨＰ−４５００：横河アナリティカルシステムズ製）により測定した。その結果を表２に示した。表２に示したように、２３℃において６ヶ月経過後もメタルイオン濃度の増加は認められなかった。
【００５１】
【表２】
0004167745.tif 000006
【００５２】
容器１から有機溶剤が透過することによるレジスト１の塗布性能への影響を調べるため、２３℃で６ヶ月間保存後のレジスト１をスピンコーターを用いてシリコンウエハーに塗布し、フォトレジストの膜厚および塗布性（ピンホールおよびストリエーションの有無）を検査した。その結果を表３に示す。
【００５３】
【表３】
0004167745.tif 000007
【００５４】
膜厚はシリコンウエハーにスピンコーター（４０００ｒｐｍ）を用いてレジスト１を塗布後、９０℃で１分間プリベークしたときのフォトレジスト膜の厚みであり、その変動の許容値は初期値の±０．５％以内である。表３中で、塗布性の“良好”はストリエーションおよびピンホールが認められなかったことを示す。塗布性能の総合判定における“良好”はフォトレジスト膜の厚みの変動が初期値の±０．５％以内であり、かつ塗布性が良好であることを示す。
【００５５】
最後に、レジスト１の性態を調べた。製造直後および３ヶ月保存後のレジスト１を、常法により洗浄したシリコンウエハーにスピンコーターを用いて所定の条件で塗布し、９０℃のホットプレートで１分間ベークした。次いで、ｉ線用ステッパーを用いて露光した。得られたウエハーを１１０℃のホットプレートで１分間ベークした。これらのウエハーをアルカリ現像液（２．３８％テトラメチルアンモニウムハイドロオキシド水溶液）で現像してポジ型パターンを得た。得られたポジ型パターンの解像度、実効感度、残膜率、スカム（現像残り）の有無およびシリコンウエハーとの密着性の諸性能のついて評価した。その結果を表４に示す。
【００５６】
【表４】
0004167745.tif 000008
【００５７】
表３および表４に示した通り、レジスト１の塗布性能と解像度、感度、残膜率、スカムの有無およびシリコンウエハーとの密着性の諸性能に大きな変動がなく、長期保存後のレジスト１は変質していなかった。
【００５８】
（実施例２）
外層用原料には、顔料分散剤として数平均分子量が２×１０3以上のポリエチレンを０．３０重量％含み、密度が０．９５６ｇ／ｃｍ3、メルトインデックスが０．３０ｇ／１０ｍｉｎ．のポリエチレンペレト１００部に、遮光性顔料としてベンガラ５．３重量％、カーボンブラック０．２重量％および紫外線吸収剤として２−ヒドロキシ−４−オクトキシべンゾフェノン０．１重量％を含むマスターバッチ３重量部をドライブレンドしたものを用いたことと、内層／接着樹脂／中間層／接着樹脂／外層の順で、平均厚みを０．５８０／０．０４０／０．０５０／０．０４０／０．５９０ｍｍの４種５層に変えた以外は実施例１と同様にして、４リットルの容器を試作した。
【００５９】
実施例１のレジスト１を、クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂を主成分とするアルカリ可溶性樹脂およびナフトキノンジアジドスルホン酸エステル系感光剤等を含む固形分と、エチルセロソルブアセテートの溶剤からなるポジ型フォトレジスト（レジスト２）に替えて、実施例１と同様に、クリーン度、吸光度、重量変化量およびメタルイオン濃度を測定した。その結果を表１、および表２に示した。
【００６０】
表１に示したように、水中のクリーン度は１０個／ｍｌ、レジスト２中のクリーン度は１１個／ｍｌ、６ヶ月後のクリーン度は２２個／ｍｌと不純微粒子の浸出が極めて少なかった。２３℃での６ヶ月後の重量変化量は０．０１％以下、４０℃での３ヶ月後の重量変化量は０．０１％以下であり重量減少量は極めて少なかった。表２に示したように、２３℃において６ヶ月経過後もメタルイオン濃度の増加は認められなかった。
【００６１】
また、波長４００ｎｍ以下における最低吸光度は３．３３であり、６００ｎｍの吸光度は１．６２（透過率１０0.38％）で吸光係数は１．２５ｍｍ-1、４００ｎｍの吸光度は３．３３（透過率１０-1.33％）で吸光係数は２．５６ｍｍ-1と、可視領域ではある程度光を透過するが紫外領域では良好な遮光性を示す。この時のサンプルの厚みは１．３０ｍｍであった。
【００６２】
実施例１と同様に塗布性能を調べ、その結果を表３に示す。また、実施例１と同様にレジスト２の性能を調べ、得られたポジ型パターンの解像度、実効感度、残膜率、スカム（現像残り）の有無およびシリコンウエハーとの密着性の諸性能について評価した。その結果を表４に示す。
【００６３】
表３および表４に示した通り、レジスト２の塗布性能と解像度、感度、残膜率、スカムの有無およびシリコンウエハーとの密着性の諸性能に大きな変動がなく、長期保存後のレジスト２は変質していなかった。
【００６４】
（比較例１）
ガラス瓶、ポリエチレン単層瓶および金属（ＳＵＳ３０４）容器を用いて、実施例１と同様に、クリーン度、吸光度、重量変化量およびメタルイオン濃度を測定した。その結果を表１および表２に示した。
【００６５】
表１に示したように、ガラス瓶の水中のクリーン度は２３６５個／ｍｌ、レジスト１中のクリーン度は７９個／ｍｌ、６ヶ月後のクリーン度は１２１個／ｍｌと不純微粒子の浸出が多く、またナトリウムイオンの溶出も極めて多かった。
【００６６】
ポリエチレン単層瓶の水中のクリーン度は１０，０００個／ｍｌ以上、レジスト１中のクリーン度は１０，０００個／ｍｌ以上、６ヶ月後のクリーン度は１０，０００個／ｍｌ以上と不純微粒子の浸出が極めて多く、またカルシウムイオンの溶出も多かった。
【００６７】
金属容器の水中のクリーン度は２６１個／ｍｌ、レジスト１中のクリーン度は６４８個／ｍｌ、６ヶ月後のクリーン度は７５９個／ｍｌと不純微粒子の浸出が多く、また鉄イオンおよびニッケルイオンの溶出も多かった。
【００６８】
比較例の３種類の容器は不純微粒子およびメタルイオンの溶出が多く、フォトレジスト液が汚染されていた。
【００６９】
上記の実施例により試作された容器１を用いて、高純度薬品液１５の排出方法を、図２を参照して以下に詳細に説明する。
【００７０】
インナー容器１に高純度薬品液１５を充填し、耐圧容器１２の所定の位置に設置する。インナー容器１に液排出管１０の末端を底部まで挿入し、その先端を外部に導出する。耐圧容器の上蓋１３には、圧力が漏れないようにコネクター１１を取付け、耐圧容器の上蓋１３と耐圧容器１２で密封する。一方、加圧源６からは、圧縮空気または、窒素やアルゴン等の不活性ガスが供給される。例えば加圧源６は窒素ボンベであり、耐圧ホースを経てソケット７に接続される。耐圧保護容器１３のガス導入口９に連結したプラグ８に、ソケット７を接続する。窒素ガスボンベのレギュレータを開放し送気すると、その圧力により高純度薬品液１５の液面に圧力がかかり、液排出管１０から、所望量の高純度薬品液１５が排出される。
【００７１】
高純度薬品液の別な排出方法を、図３に示す。液排出管１０の先端を外部に導出し、その末端を底部まで挿入し高純度薬品液１５の充填されたインナー容器１を、保護容器２２、２３内に収納し、液排出の経路上に設けられたポンプ１６により高純度薬品液１５を液排出管１０から排出する。開放口１９は圧力を調整するためにフィルター１４を接続する。ポンプ１６を駆動すると所望量の高純度薬品液１５が排出される。
【００７２】
高純度薬品液の別な排出方法を、図４に示す。液排出管１０の先端を外部に導出し、その末端を底部まで挿入してある高純度薬品液１５の充填された耐圧インナー容器１を、保護容器３２、３３に収納し、コネクター３１で密封する。加圧源６に接続されたソケット７から、窒素ガスが供給される。耐圧インナー容器１のガス導入口２９に連結したプラグ８に、ソケット７を接続し、窒素ガスを送気すると、所望量の高純度薬品液１５を液排出管１０から排出することができた。
【００７３】
さらに高純度薬品液の別な排出方法は、図４に示す加圧源６に替えて、フィルター１４（図３参照）を接続し、液排出管１０の経路上にポンプ１６（図３参照）を設け、ポンプ１６により高純度薬品液１５を排出するものである。前記と同様に所望量の高純度薬品液１５が排出できる。
【００７４】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したように本発明の高純度薬品液用容器は、保存および輸送中に、微粒子や金属イオンの浸出がなく、高純度薬品液の品質を維持できるものである。さらに破損しにくく、軽量である。この容器を用いた本発明の排出方法により、高純度薬品液を容易に、かつ安全に取り扱うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の高純度薬品液用容器の実施例を示す概略図である。
【図２】本発明の高純度薬品液用容器の使用状態を示す一部断面図である。
【図３】本発明の高純度薬品液用容器の別な使用状態を示す一部断面図である。
【図４】本発明の高純度薬品液用容器の別な使用状態を示す一部断面図である。
【符号の説明】
１はインナー容器、２は把手、３は内層、４は中間層、５は外層、６は加圧源、７はソケット、８はプラグ、９・２９はガス導入口、１０は液排出管、１１・２１・３１はコネクター、１２・１３は耐圧保護容器、１４はフィルター、１５は高純度薬品液、１６はポンプ、１９は開放口、２２・２３・３２・３３は保護容器である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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