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【手続補正書】
【提出日】平成20年5月20日(2008.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】基板上に形成された第一電極と、第一電極を部分的に露出せしめるように第一電極上に形成された絶縁層と、第一電極に対向して設けられた第二電極とを含む表示装置であって、前記絶縁層がポジ型感光性ポリイミドをパターン形成してなることを特徴とする表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】ポジ型感光性ポリイミドが下記一般式（１）で表される構造単位を主成分とするポリマーと光酸発生剤を必須成分とすることを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【化１】
2002091343.tif 000001
（Ｒ１およびＲ２は、少なくとも２個以上の炭素原子を有する２価から８価の有機基、Ｒ３およびＲ４は水素、アルカリ金属イオン、アンモニウムイオンまたは炭素数１から２０までの有機基を示す。Ｒ３とＲ４は同じでも異なっていてもよい。ｍは３から１０００００までの整数、ｎは１または２、ｏは０から２までの整数である。ｐ、ｑは０から４までの整数である。）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明の表示装置は、基板上に形成された第一電極と、第一電極を部分的に露出せしめるように第一電極上に形成された絶縁層と、第一電極に対向して設けられた第二電極とを含む表示装置であって、前記絶縁層がポジ型感光性ポリイミドをパターン形成してなることを特徴とする表示装置である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明では絶縁層がポジ型感光性ポリイミドをパターン形成してなることを特徴とする。感光性ポリイミドとは、ポリイミド前駆体のエネルギー照射部分の現像液に対する溶解度が、非照射部分のそれと異なることを利用して直接的にパターニングを行い、その後キュアすることでポリイミドを得ることが可能なものの総称である。照射するエネルギーとしては電子線なども利用できるが、多くの場合には電磁波、特に青色から紫外（ＵＶ）領域の光が利用されるので、エネルギー照射のことを露光と呼ぶ。また、溶解度の差を利用して、感光性ポリイミド前駆体膜の所望の部分を除去することを現像と呼ぶ。絶縁層を感光性ポリイミドとすることで、従来必要であった、非感光性ポリイミド前駆体上へのレジストの塗布・露光・現像や、非感光性ポリイミド前駆体をエッチングした後のレジスト除去の工程などが不要となり、絶縁層のパターニングに必要な工程を大幅に減らすことができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
感光性ポリイミドには、露光することで溶解性が増大し、露光部分を除去するタイプのポジ型と、露光することで硬化し、非露光部分を除去するタイプのネガ型の２種類がある。感光性ポリイミド前駆体を露光した場合には、膜の表面部分で光が強く吸収され、内部になるに従って吸光量は少なくなる傾向にある。つまり、ポジ型では膜の表面部分の溶解性の方が内部のそれよりも大きくなり、ネガ型ではその逆になる傾向にある。本発明では絶縁層が原理的に順テーパー形状が得られやすいポジ型感光性ポリイミドをパターン形成してなることが好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
本発明においてポジ型感光性ポリイミドに含まれるポリマーは、一般式（１）で表される構造単位のみからなるものであっても良いし、他の構造単位との共重合体あるいはブレンド体であってもよい。その際、一般式（１）で表される構造単位を９０モル％以上含有していることが好ましい。共重合あるいはブレンドに用いられる構造単位の種類および量は。最終加熱処理温度によって得られるポリマーの耐熱性を損なわない範囲で選択することが好ましい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
一般式（２）で表される構造単位を主成分とするポリマーは、水酸基の存在のために、アルカリ水溶液に対する溶解性が水酸基を有さないポリアミド酸よりも良好になる。特に、水酸基の中でもフェノール性の水酸基がアルカリ水溶液に対する溶解性の観点より好ましい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
一般式（２）中、Ｒ６を構成する残基はジアミンの構造成分を表している。この中で、Ｒ６（ＯＨ）ｓの好ましい例としては、得られるポリマーの耐熱性より芳香族を有し、かつ、水酸基を１個から４個有するものが好ましい。さらに、水酸基はアミド結合と隣り合った位置にあることが好ましい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１８】
【発明の効果】
本発明の、絶縁層がポジ型感光性ポリイミドをパターン形成してなることを特徴とする表示装置は、従来技術のようにフォトレジストを使用する必要がなく、ポリイミドからなる絶縁層を簡単で、より少ない工程でパターニングすることができる。さらに、絶縁層の境界部分の断面を容易に順テーパー形状とすることができるので、例えばその上に形成される薄膜層などがスムーズに形成され、表示装置の動作の安定性を損なうことがない。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月24日(2008.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置及び電子機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素部が設けられた第１の基板と、
前記画素部の駆動回路及びメモリ部が設けられた第２の基板と、を有し、
前記第２の基板は、前記第１の基板上の前記画素部以外の領域に設けられており、
前記メモリ部に格納された画像データを基に画像を表示する機能を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
第１の基板と、前記第１の基板と対向する第３の基板と、の間に設けられた画素部と、
前記画素部の駆動回路及びメモリ部が設らけれた第２の基板と、を有し
前記第２の基板は、前記第１の基板上の前記画素部以外の領域に設けられており、
前記メモリ部に格納された画像データを基に画像を表示する機能を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記第２の基板は前記第３の基板と同じ厚さを有することを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記第２の基板は前記第１の基板と同じ材料からなることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記第２の基板は絶縁表面を有する基板、ＳＯＩ基板またはシリコン基板であることを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
前記メモリ部は、ＳＲＡＭ、ＤＲＡＭ、若しくはＥＥＰＲＯＭ、又はそれらの組み合わせによって構成されることを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
画素部が設けられた第１の基板と、
データ線駆動回路及びメモリ部が設けられた第２の基板と、
走査線駆動回路が設けられた第３の基板と、を有し、
前記第２の基板及び前記第３の基板は、前記第１の基板上の前記画素部以外の領域に設けられており、
前記メモリ部に格納された画像データを基に画像を表示する機能を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
画素部が設けられた第１の基板と、
データ線駆動回路及び第１のメモリ部が設けられた第２の基板と、
走査線駆動回路及び第２のメモリ部が設けられた第３の基板と、を有し、
前記第２の基板及び前記第３の基板は、前記第１の基板上の前記画素部以外の領域に設けられており、
前記第１のメモリ部に格納された画像データを基に画像を表示する機能と、前記第２のメモリ部に格納された駆動信号を基に走査線の駆動を行う機能と、を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一において、
前記画像データを基に静止画像を表示する機能を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一において、
前記半導体装置はアクティブマトリクス型液晶表示装置、パッシブマトリクス型液晶表示装置、アクティブマトリクス型ＥＬ表示装置、又はパッシブマトリクス型ＥＬ表示装置のうちのいずれか１つであることを特徴とする半導体装置。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれか一に記載の半導体装置を用いたことを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月2日(2008.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  サーバ（２）と、双方向通信（３）によってサーバに接続された少なくとも１つの端末（１）との間でオーディオビジュアル情報を配信する方法であって、
サーバにおいて、各端末について、端末を一意的に識別しかつ端末のタイプを登録するための登録ステップと、
サーバへの端末の接続ごとに、サーバによって端末を認証する認証ステップ（４０２）と、
サーバへの端末の接続中に端末のユーザによって選ばれたオーディオビジュアル情報（４０６）の少なくとも１つのセレクションをダウンロードするステップ（４１３）であって、オーディオビジュアル情報のセレクションを送信する形式は、宛先端末だけが該セレクションを利用することができるような形式であるステップ（４１３）と、
オーディオビジュアル情報の各セレクションの利用をサーバのデータベースに記憶するステップとを含むことを特徴とするオーディオビジュアル情報を配信する方法。
【請求項２】  オーディオビジュアル情報のセレクションの利用が、宛先端末上でオーディオビジュアル情報をリアルタイムに実行すること、または宛先端末上でオーディオビジュアル情報を実行する目的でオーディオビジュアル情報を記憶すること、またはオーディオビジュアル情報を宛先端末上に記憶した後でオーディオビジュアル情報をリアルタイムに実行することのいずれかを含むことを特徴とする請求項１に記載のオーディオビジュアル情報を配信する方法。
【請求項３】  認証ステップ（４０２）が、端末（１）が、該端末（１）にダウンロードされたオーディオビジュアル情報の所望の利用に関係する記憶された情報を送信するステップ（４０７）を含むことを特徴とする請求項１または２に記載のオーディオビジュアル情報を配信する方法。
【請求項４】  オーディオビジュアル情報に権利を有する関係者の各々に支払われるべき使用料の総額を決定するために、サーバが、端末（１）にダウンロードされたオーディオビジュアル情報の利用に関係する、記憶されまたは受信された情報を処理するステップを含むことを特徴とする請求項３に記載のオーディオビジュアル情報を配信する方法。
【請求項５】  登録ステップが、オーディオビジュアル情報が端末に送信される形式および指定された利用に対応する形式に応じて、復号化手段および暗号化解除手段またはその一方を送信するステップを含むことを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載のオーディオビジュアル情報を配信する方法。
【請求項６】  端末のタイプが、端末上でのオーディオビジュアル情報の利用を規定することを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載のオーディオビジュアル情報を配信する方法。
【請求項７】  認証ステップ中、またはユーザの選択中、またはダウンロードステップの前に、命令されたセレクションに対して支払うステップを含むことを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載のオーディオビジュアル情報を配信する方法。
【請求項８】  端末とサーバとの間の接続中に、端末によって記憶されたセレクションの利用に関する統計的記録を端末に記憶するステップと、該統計的記録に対応する情報を端末によって送信するステップとを含むことを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載のオーディオビジュアル情報を配信する方法。
【請求項９】  複数の音楽セレクションおよびビデオセレクションまたはその一方を表わすためのオーディオビジュアル情報を含む大容量データ記憶手段（２３）を含むサーバ（２）と、データ記憶手段（１４０）およびサーバ（２）との双方向通信リンク（３）を含む少なくとも１つの端末（１）とを備えるオーディオビジュアル情報を配信するためのデバイスであって、サーバ（２）のデータ記憶手段が、端末に送信されたオーディオビジュアル情報の利用を規定する各端末の識別を含み、各端末（１）が、サーバ（２）との通信リンク（３）を介して少なくとも１つのセレクションを選ぶこと（１２１、１２２）をユーザに可能にするためのユーザとの対話式手段と、オーディオビジュアルセレクションを表わす、サーバ（２）によって送信された情報を実行する手段（１３、１３０）とを備えることを特徴とする、オーディオビジュアル情報を配信するためのデバイス。
【請求項１０】  各端末（１．１．１から１．ｎ．ｎ３）が、双方向リンクを介してマルチサービスサーバ（４．１から４．ｎ）に接続されており、マルチサービスサーバ（４．１から４．ｎ）も同様に双方向リンクを介してサーバ（２）に接続されており、各マルチサービスサーバ（４．１から４．ｎ）が、一方で、サーバ（２）から端末（１．１．１から１．ｎ．ｎ３）に向けられた各メッセージを送信し、もう一方で、端末（１．１．１から１．ｎ．ｎ３）からサーバ（２）に向けられた各メッセージを送信するための手段を備えることを特徴とする請求項９に記載のオーディオビジュアル情報を配信するためのデバイス。
【請求項１１】  実行する手段が、サーバ（２）から送信されたオーディオビジュアル情報を端末上でリアルタイムに実行する手段を備えることを特徴とする請求項９または１０に記載のオーディオビジュアル情報を配信するためのデバイス。
【請求項１２】  端末の実行する手段が、送信されたオーディオビジュアル情報の再利用を禁止する手段（１３３．１、１３３．２、１３３．３）を含むことを特徴とする請求項１１に記載のオーディオビジュアル情報を配信するためのデバイス。
【請求項１３】  端末の実行する手段が、送信されたオーディオビジュアル情報を記憶する手段を備えることを特徴とする請求項１１に記載のオーディオビジュアル情報を配信するためのデバイス。
【請求項１４】  端末が、サーバから端末に送信されたセレクションの利用に関係する情報を記録する手段を備えることを特徴とする請求項１１に記載のオーディオビジュアル情報を配信するためのデバイス。
【請求項１５】  サーバが、セレクションの利用に関係する、サーバによって記録されかつ各端末によって送信された情報から、端末に送信されたセレクションの利用に権利を有する関係者の各々に支払われるべき使用料を計算する手段を備えることを特徴とする請求項１４に記載のオーディオビジュアル情報を配信するためのデバイス。
【請求項１６】  利用手段が、デジタル情報を提供するためにサーバによって送信されたオーディオビジュアル情報を復号化する手段を備えたＤＳＰと、ＤＡ変換器と、データ記憶手段に対する少なくとも１つのデジタル情報用出力部と、デジタル情報の記憶を許可するためのまたは許可しないための、各デジタル出力部用のコマンド手段とを備えることを特徴とする請求項１１に記載のオーディオビジュアル情報を配信するためのデバイス。
【請求項１７】  対話式手段（１２１、１２２）が、少なくとも１つの対話画面を表示するためのディスプレイ手段に関連付けられたポインタおよびタッチ画面もしくはその一方、または少なくとも１つの音声メッセージを変換するためのオーディオ変換手段に関連付けられた音声コマンドシステム、またはこれらの組み合わせを含むセレクション手段を備えることを特徴とする請求項９から１６のいずれか一項に記載のオーディオビジュアル情報を配信するためのデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月24日(2008.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータ・ネットワークに接続されたサーバであって、
１つまたは複数のアクティブなサーバ・アプリケーションと、
前記１つまたは複数のサーバ・アプリケーションおよび前記コンピュータ・ネットワークに接続された負荷検出器と、
イナクティブである追加サーバ・アプリケーションと、
前記負荷検出器および前記追加サーバ・アプリケーションに接続されたアロケータと、
を含み、該アロケータが負荷状態に応答して該追加サーバ・アプリケーションをアクティブにする前記サーバ。
【請求項２】  
前記負荷検出器に接続された負荷バランサーを含む請求項1に記載のサーバ。
【請求項３】
各サーバ・アプリケーションが別個のコンピュータ上で走る請求項1に記載のサーバ。
【請求項４】  
前記追加サーバ・アプリケーションが電源ＯＮの状態である請求項1に記載のサーバ。
【請求項５】  
前記アロケータが負荷しきい値コンパレータを含む請求項1に記載のサーバ。
【請求項６】  
サーバ内部に多数のサーバ・アプリケーションを適合させる方法であって、
サーバ上の負荷を測定するステップと、
負荷がアクティブしきい値を超過するときを検出するステップと、
を含み、前記検出ステップに応答して前記サーバ上で追加サーバ・アプリケーションをアクティブにする方法。
【請求項７】
前記負荷測定ステップは、ＣＰＵ利用率の測定、セッション利用率のパーセンテージの測定、および需要の変化率の測定から選択されるグループのうちの１つまたは複数を含む請求項6に記載の方法。
【請求項８】  
前記アクティブにするステップは、前記追加サーバ・アプリケーション上でオペレーティング・システムをロードするステップと、オペレーティング・システムをコンフィギュレートするステップと、を含む請求項6に記載の方法。
【請求項９】  
前記点火するステップは、前記追加サーバ・アプリケーションを要求するためにコンピュータ・ベンダに電気的にコンタクトするステップを含む請求項6に記載の方法。
【請求項１０】  
負荷がデアクティブしきい値未満であるときを検出するステップと、前記最小検出ステップに応答して、前記追加サーバ・アプリケーションをデアクティブにするステップと、を含む請求項6に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月3日(2008.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ネットワークに接続された少なくとも２つの処理装置を有するシステムで情報を処理する方法であって、
情報を処理するためのジョブを上記システムのユーザが定義し、
少なくとも２つの処理装置から選択された所定の組に属する処理装置が上記ジョブを実行するのに適しているかどうかを自動的に検査し、
上記処理装置の夫々について上記ジョブを実行するのに適しているかを示すために、提示手段を介して上記組の各処理装置を上記ユーザに提示し、
処理装置がジョブを実行するのに適していない場合、上記提示手段を介してその理由が示され、
上記組に属する処理装置を選択し、
上記選択された処理装置に対して上記ジョブの少なくとも一部を送信する、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】  処理装置がジョブを実行するのに適していない場合、上記ユーザによる上記処理装置の割り当てに応じて、上記提示手段を介してその理由が示されることを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項３】  上記提示手段は、どの処理装置が選択されているかを示すことを特徴とする、請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】  上記処理装置は、所定の規準に基づいて上記システムによって選択され、その後、ユーザが選択を変更しうることを特徴とする、請求項１乃至３のうちいずれか一項記載の方法。
【請求項５】  上記提示手段は、上記組に属する少なくとも１つの処理装置が上記ジョブを実行するのに適しているかどうかを別々に示すことを特徴とする、請求項１乃至４のうちいずれか一項記載の方法。
【請求項６】  １つの処理装置と提示手段とを含むシステムで情報を処理する方法であって、
上記システムのユーザによって情報を処理するためのジョブを定義し、
上記処理装置が上記ジョブを実行するのに適しているかを自動的に検査し、
上記処理装置が上記ジョブを実行するのに適していない場合、上記提示手段を介してその理由を示し、
上記処理装置が上記システムのユーザによって割り当てられている場合、上記理由が示される、
ことを特徴とする方法。
【請求項７】  少なくとも２つの処理装置と、
情報を処理するための命令を定義する定義手段と、
上記少なくとも２つの処理装置から選択された所定の組に属する処理装置が上記定義されたジョブを実行するのに適しているかどうかを検査するリサーチ手段と、
各処理装置について上記定義されたジョブを実行するのに適しているかを示すために、上記組の上記処理装置を提示する提示手段と、
処理装置を選択するための選択手段と、
が接続されたネットワーク、及び
提示された処理装置が上記ジョブを実行するのに適していないと上記リサーチ手段が判定した場合に、上記処理装置がなぜ上記ジョブを実行するのに適していないかを示す第１の指示手段、
を含む情報を処理するためのシステム。
【請求項８】  上記提示手段は、上記処理手段がなぜ適していないかを示すことを特徴とする、請求項７記載のシステム。
【請求項９】  当該システムは処理装置を割り当てるための割当て手段を含み、上記割当て手段は、上記処理装置の割当てに応じて、この処理装置がなぜ適していないかを上記指示手段が示すよう上記ディスプレイ手段に接続されることを特徴とする、請求項７又は８記載のシステム。
【請求項１０】  上記選択手段は、所定の規準に基づいて処理装置についての選択を行なうよう適応されることを特徴とする、請求項７乃至９のうちいずれか一項記載のシステム。
【請求項１１】  上記システムは、上記組に属する少なくとも１つの処理装置が上記ジョブを実行するのに適しているかどうかを示す第２の指示手段を含むことを特徴とする、請求項７乃至１０のうちいずれか一項記載のシステム。
【請求項１２】  １つの処理装置を含む情報を処理するためのシステムであって、
情報を処理するためのジョブを定義する定義手段と、
上記処理装置が上記定義されたジョブを実行するのに適しているかどうかを検査するリサーチ手段と、
上記処理装置が上記ジョブを実行するのに適していないことを上記リサーチ手段が示す場合に、上記処理装置が上記ジョブを実行するのに適していない理由を示すための指示手段と、
上記処理装置を割り当てる割当て手段であり、該割当て手段によって上記処理装置が割り当てられていない場合に上記処理装置がなぜ適していないかを上記指示手段が示すよう、上記処理装置を割り当てる割当て手段と、
を含むことを特徴とするシステム。
【請求項１３】  請求項１乃至６のうちいずれか一項記載の方法を情報処理システムにおいて実行するために使用されうるコンピュータプログラムコードを含むコンピュータプログラム要素。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月13日(2007.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  印刷機であって、
（ａ）フレームと、
（ｂ）前記フレームに装着してあり、プラテン上へピクセルを印刷するためのプリントヘッドと、
（ｃ）前記プリントヘッド、プラテン間の相対運動を行わせる手段と、
（ｄ）その上に印刷することができるプラテンとを包含し、
前記プラテンが、（ｉ）前記プリントヘッド及び前記プラテン間の前記相対運動の方向に対して平行なプラテン軸線と、（ｉｉ）印刷することができる矩形領域とを有し、
前記矩形領域が前記プラテン軸線と画像欠陥防止用第１スキュー角をなす縁を有する、
ことを特徴とする印刷機。
【請求項２】  請求項１の印刷機において、前記プリントヘッドが、それと前記プラテンとの一回の相対運動パス中に前記プラテン上へピクセル・アレイの帯（スワス）状列を印刷するための線形ノズル・アレイを包含することを特徴とする印刷機。
【請求項３】  請求項１の印刷機において、前記矩形領域が、それと一致して矩形の基体を支持する基体支持領域を包含することを特徴とする印刷機。
【請求項４】  請求項１の印刷機において、前記プラテンが、回転可能なドラム部材であり、前記画像欠陥防止用第１スキュー角は前記プリントヘッドのサイズのｓｉｎｅ-1（アークサイン）を、前記回転可能なドラム部材の円周と、前記回転可能なドラム部材の完全な帯状列を印刷するためのパス回数とで割った値に等しい値を有することを特徴とする印刷機。
【請求項５】  請求項２の印刷機において、前記プリントヘッドが、前記線形ノズル・アレイが前記プラテン軸線と第２スキュー角をなすように装着してあることを特徴とする印刷機。
【請求項６】  請求項３の印刷機において、前記画像欠陥防止用第１スキュー角の値が、前記回転可能なドラムの直径、前記プリントヘッドのサイズ、そして、前記回転可能なドラム部材の、完全な帯状列を印刷するためのパス回数に依存することを特徴とする印刷機。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月27日(2007.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】    【請求項１】  工作物（２８）を支持するための回転部材（１６）と移動経路を有するプローブ（２６）とを含む工作機械（１０）においてプローブ弦誤差を自動補正するための方法であって、  前記プローブ（２６）を用いて前記工作物（２８）の観測直径を測定する工程と、  前記工作機械のクロスオーバ誤差を求める工程と、  前記観測直径及び前記クロスオーバ誤差から前記工作物（２８）の実際の直径を計算する工程と、  前記工作物（２８）の計算された実際の直径に基づき前記工作物を機械加工する工程とを含み、  前記工作機械のクロスオーバ誤差を求める工程が、  前記回転部材（１６）の一方の側に平坦な基準面（３６）を有する第１の基準装置（３２）を設置すると共に、前記回転部材（１６）の他方の側に基準面（３６）を有する第２の基準装置（３４）を設置し、  前記プローブ（２６）の移動経路に沿った両方の前記基準面（３６）間における第１の接触位置の広がりを測定するために、前記第１の基準装置（３２）の基準面（３６）及び前記第２の基準装置（３４）の基準面（３６）を探知して接触位置を得て、  前記回転部材（１６）を１８０度だけ回転させ、  前記プローブ（２６）の移動経路に沿った両方の前記基準面（３６）間における第２の接触位置の広がりを測定するために、再び前記第１の基準装置（３２）の基準面（３６）及び前記第２の基準装置（３４）の基準面（３６）を探知して接触位置を得て、  前記第１及び第２の接触位置の広がりから前記クロスオーバ誤差を計算することにより、前記工作物の回転軸線からの前記プローブの移動経路の変位を決定することを含む方法。    【請求項２】  前記実際の直径が式    【数１】2001212737.tif 000001
（式中、Ｄａ は前記実際の直径、Ｄ０ は前記観測直径、そしてｙは前記クロスオーバ誤差である）を用いて計算される請求項１記載の方法。    【請求項３】  両方の前記基準面（３６）が前記プローブ（２６）の移動経路に対して４５度の角を成すように配置される請求項３記載の方法。    【請求項４】 請求項１又は２に記載されたプローブ弦誤差を自動補正するための方法であって、  前記工作機械が、Ｘ、Ｙ及びＺ座標軸とプロセッサ（３０）とを含む、コンピュータで数値制御された工作機械（１０）であり、  前記Ｘ軸に沿って前記プローブ（２６）を移動させることにより、前記工作物（２８）の観測直径を測定する工程と、  前記プロセッサ（３０）中に前記観測直径を記憶させる工程と、  前記プロセッサ（３０）中に前記クロスオーバ誤差を記憶させる工程と  を更に含むことを特徴とする方法。    【請求項５】  前記工作機械のクロスオーバ誤差を求める前記工程が、  前記Ｘ軸と交わるように配置された平坦な基準面（３６）を有する第１の基準装置（３２）を前記回転部材（１６）の一方の側に設置し、  前記Ｘ軸と交わるように配置された平坦な基準面（３６）を有する第２の基準装置（３４）を前記回転部材（１６）の他方の側に設置し、 前記Ｘ軸に沿った両方の前記基準面（３６）間における第１の広がりを測定するために、前記第１の基準装置（３２）の基準面（３６）及び前記第２の基準装置（３４）の基準面（３６）を探知して接触位置を得て、  前記プロセッサ（３０）中に前記第１の広がりを記憶させ、  前記回転部材（１６）を１８０度だけ回転させ、 前記Ｘ軸に沿った両方の前記基準面（３６）間における第１の広がりを測定するために、再び前記第１の基準装置（３２）の基準面（３６）及び前記第２の基準装置（３４）の基準面（３６）を探知することにより、前記Ｘ軸に沿った両方の前記基準面（３６）間における第２の広がりを測定し、前記プローブ（２６）の移動経路に沿った両方の前記基準面（３６）間における第２の接触位置の広がりを測定するために、再び前記第１の基準装置（３２）の基準面（３６）及び前記第２の基準装置（３４）の基準面（３６）を探知して接触位置を得て、  前記プロセッサ（３０）中に前記第２の広がりを記憶させ、次いで  前記第１及び第２の接触位置の広がりから前記クロスオーバ誤差を計算することから成る請求項４記載の方法。    【請求項６】両方の前記基準面（３６）が前記Ｘ軸に対して４５度の角を成すように配置される請求項５記載の方法。    【請求項７】２つの相異なるＺ軸位置においてクロスオーバ誤差値を求める工程と、該クロスオーバ誤差値を用いて前記Ｚ軸に対する前記回転軸線（１８）の傾きを求める工程とを更に含む請求項４記載の方法。    【請求項８】  前記Ｚ軸上の測定位置における前記クロスオーバ誤差が式ｙm ＝ ｙ０ ＋ ｚmＳＬ〔式中、ｙm は前記Ｚ軸上の測定位置における前記クロスオーバ誤差、ｙ０ は前記Ｚ軸上のゼロ位置における前記クロスオーバ誤差、ｚm は前記Ｚ軸上の測定位置、そしてＳＬは前記Ｚ軸に対する前記回転軸線（１８）の前記傾きである〕を用いて求められる請求項７記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月27日(2008.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  疎水性に化工されたデンプンを含む塗膜を有する、耐油および耐グリース性の紙製品であって、ベースデンプンの流動性が７７．５ｇ／ｃｍ2（５００ｇ／ｉｎ2）を超えるゲル強度を有し、前記化工されたデンプンは、式
【化１】
2002069889.tif 000001
を有し、式中、Ｓｔは４０％未満のアミロース含量を有するデンプンであり、Ｒはジメチレンまたはトリメチレンであり、Ｒ’は６〜１８個の炭素原子の炭化水素基であり、ＹはＨ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、またはアンモニウムであり、デンプンの乾燥質量を基準にして１〜５質量％の基
【化２】
2002069889.tif 000002
が前記デンプンに結合しており、前記組成物が２〜３質量％の結合したＲ’基を含有している、紙製品。
【請求項２】  前記Ｓｔが４０％未満のアミロース含量を有するタピオカデンプンまたはサゴデンプンであり、前記Ｒ’が６〜１８個の炭素原子のアルキルまたはアルケニル基である、請求項１に記載の紙製品。
【請求項３】  すぐれたバリヤー特性を有する塗布された紙製品の製造方法であって、
ａ）疎水性に化工されたデンプンを含み、全固形分が２〜２５質量％の水溶液の状態にあり、前記ベースデンプンの流動性が７７．５ｇ／ｃｍ2（５００ｇ／ｉｎ2）を超えるゲル強度を有し、前記化工されたデンプンは、式
【化３】
2002069889.tif 000003
を有し、式中、Ｓｔは４０％未満のアミロース含量を有するデンプンであり、Ｒはジメチレンまたはトリメチレンであり、Ｒ’は６〜１８個の炭素原子の炭化水素基であり、ＹがＨ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、またはアンモニウムである、塗布用組成物を提供すること、
ｂ）紙支持体に前記塗布用組成物を塗布すること、および
ｃ）前記塗布された支持体を乾燥すること、
を含む、方法。
【請求項４】  前記Ｓｔが４０％未満のアミロース含量を有するタピオカデンプンまたはサゴデンプンであり、前記Ｒ’が６〜１８個の炭素原子のアルキルまたはアルケニル基である、請求項３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月19日(2008.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  水溶性ポリマーの変性方法であって、
複数のアミノ基を含有するポリマーを、前記アミノ基のうちの少なくとも１つを活性化型エステルと反応させることによって変性し、少なくとも１つのアミド基を含有するポリマーを含む反応混合物を生成するステップであり、前記エステルはカルボキシル活性化物質と分子Ｒ−ＣＯＯＨのカルボキシル基との反応生成物であり、前記Ｒ基は官能基である、前記ステップ、及び
前記反応混合物を少なくともイオン交換クロマトグラフィーに供して前記反応混合物を精製するステップであり、前記精製は前記反応生成物及び／又は前記カルボキシル活性化物質の少なくとも部分的な除去を含む、前記ステップ、
を包含する、水溶性ポリマーの変性方法。
【請求項２】  前記イオン交換が陰イオン交換である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記官能基は、現像剤スカベンジ分子、ＵＶ光吸収分子、及び蛍光増白分子を含む写真術に利用可能な分子の群から選択される、請求項１又は請求項２に記載の方法。
【請求項４】  前記現像剤スカベンジ分子は、クレゾールタイプの分子、ピロガロールタイプ、カテコールタイプ、ヒドロキノンタイプ、又は２，４−ジスルホンアミドフェノールタイプを含む群から選択される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】  前記ＵＶ光吸収分子が、シアノ置換ブタミン、アセチレン化合物、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、トリアジン、及びクェルセチンを含む群から選択される、請求項３に記載の方法。
【請求項６】  前記蛍光増白分子が、チオフェン、スチルベン、トリアジン、イミダゾロン、ピラゾリン、トリアゾール、及びアセチレンを含む群から選択される、請求項３に記載の方法。
【請求項７】  カルボキシル活性化物質と前記官能基を含有する分子のカルボキシル基との前記反応生成物は、前記ポリマーの少なくとも１つのアミノ基に直接又はスペーサーを介して連結している、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】  前記ポリマーが、カゼイン、セリシン、可溶性コラーゲン、ゼラチン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラゾール、セルロース誘導体、及びサッカライド誘導体からなる群から選択される、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】  前記ポリマーが、天然ゼラチン、アルカリ処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、化学的に変性されたゼラチン、組換え型ゼラチン、合成組換え型ゼラチン、及び合成ゼラチンを含むゼラチンの群のうちの１つである、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】  前記カルボキシル活性化物質は、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、カルボジイミド、カルバモイルピリジニウム化合物、カルバモイルオキシピリジニウム化合物、及びジ−カチオンエーテルを含む群から選択される、請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】  前記カルボキシル活性化物質はＮ−ヒドロキシスクシンイミドであり、前記活性化型エステルはＮ−ヒドロキシスクシンイミドによってエステル化されたジヒドロキシ安息香酸である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】  前記ポリマー溶液のｐＨが４乃至９である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  前記ポリマー溶液の濃度が最大で２０重量％である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】  陰イオン交換クロマトグラフィーが１５℃乃至６０℃の温度で行われる、請求項２に記載の方法。
【請求項１５】  陰イオン交換クロマトグラフィーが４０℃の温度で行われる、請求項２に記載の方法。
【請求項１６】  前記現像剤スカベンジ分子は、パラ−ジヒドロキシベンゼンである、請求項３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月25日(2008.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
腐食防止成分と、硼酸塩及び燐酸塩の内の少なくとも1種のナトリウム塩を含む緩衝剤とを含む、補充冷却剤剤添加剤であって、
該腐食防止成分が、
アジピン酸もしくはその塩；亜硝酸塩；モリブデン酸塩；及び硝酸塩、珪酸塩、メルカプトベンゾチアゾール、ベンゾトリアゾール及びトリルトリアゾールからなる群より選択される少なくとも１種の化合物；を含む
上記の補充冷却剤剤添加剤。
【請求項２】
亜硝酸塩：モリブデン酸塩の重量比が約２：１よりも小さい請求項１の添加剤。
【請求項３】
亜硝酸塩：モリブデン酸塩の重量比が約１：１よりも小さい請求項１の添加剤。
【請求項４】
緩衝剤が、約７．５ないし約１１のｐＨ単位のｐＨ水準を有する水ベースの溶液を与えるように配合されている請求項１の添加剤。
【請求項５】
約８ないし約１０のｐＨ単位のｐＨ水準を有する水ベースの溶液を与えるように配合されている請求項４の添加剤。
【請求項６】
腐食防止成分が、Ｃ9ないしＣ12脂肪族ジカルボン酸塩、芳香族モノカルボン酸塩及び芳香族ジカルボン酸塩からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含む請求項１の添加剤。
【請求項７】
水、アルコール、グリコールまたはそれらの混合物を含む請求項１の添加剤。
【請求項８】
補充冷却剤添加剤の全重量に基く重量パーセントで：約０．１％ないし約１０％のアジピン酸もしくはその塩；約０．５％ないし約５％のモリブデン酸塩；約１％ないし約４０％の硝酸塩；約１％ないし約１５％の亜硝酸塩；約０．５％ないし約１０％のメルカプトベンゾチアゾール、ベンゾトリアゾールもしくはトリルトリアゾールまたはそれらの混合物；及び約１０％ないし約５０％の燐酸塩；を含む請求項１の添加剤。
【請求項９】
補充冷却剤添加剤の全重量に基く重量パーセントで：約０．１％ないし約４０％のアジピン酸もしくはその塩；約０．５％ないし約１５％のモリブデン酸塩；約１％ないし約４０％の硝酸塩；約１％ないし約１５％の亜酸塩；約０．５％ないし約１５％の珪酸塩；約０．５％ないし約１０％のメルカプトベンゾチアゾール、ベンゾトリアゾールもしくはトリルトリアゾールまたはそれらの混合物；及び約１０％ないし約５０％の硼酸塩；を含む請求項１の添加剤。
【請求項１０】
補充冷却剤添加剤の全重量に基く重量パーセントで：約０．１％ないし約４０％のアジピン酸もしくはその塩；約０．５％ないし約１５％のモリブデン酸塩；約１％ないし約４０％の硝酸塩；約１％ないし約１５％の亜硝酸塩；約０．５％ないし約１０％のメルカプトベンゾチアゾール、ベンゾトリアゾールもしくはトリルトリアゾールまたはそれらの混合物；及び約０．５％ないし約５％の珪酸塩、約１０％ないし約５０％の燐酸塩、約１０％ないし約５０％の硼酸塩及びそれらの混合物、の少なくとも１種の化合物；を含む請求項１の添加剤。
【請求項１１】
粉末として供給される請求項１の添加剤。
【請求項１２】
ペレットまたはブリケットとして供給される請求項１の添加剤。
【請求項１３】
ペーストまたは液体コンセントレートとして供給される請求項１の添加剤。
【請求項１４】
アジピン酸もしくはその塩；亜硝酸塩；モリブデン酸塩；及び硝酸塩、珪酸塩、メルカプトベンゾチアゾール、ベンゾトリアゾールまたはトリルトリアゾールの少なくとも１種；を含む腐食防止成分
緩衝剤、ならびに
硬水
を含む補充冷却剤剤添加剤。
【請求項１５】
緩衝剤が硼酸塩を包含する請求項１４の添加剤。
【請求項１６】
緩衝剤が燐酸塩を包含する請求項１４の添加剤。
【請求項１７】
亜硝酸塩：モリブデン酸塩の重量比が約２：１よりも小さい請求項１４の添加剤。
【請求項１８】
亜硝酸塩：モリブデン酸塩の重量比が約１：１よりも小さい請求項１４の添加剤。
【請求項１９】
添加剤の全重量に基く重量パーセントで、また遊離酸として測定して、約０．０５％ないし約１％のアジピン酸もしくはその塩を含む請求項１４の添加剤。
【請求項２０】
アジピン酸もしくはその塩；Ｃ9−Ｃ12脂肪族ジカルボン酸もしくはその塩；硝酸塩；モリブデン酸塩；及び亜硝酸塩、珪酸塩またはアゾールの少なくとも１種；を含む腐食防止成分、ならびに
緩衝剤
を含む補充冷却剤剤添加剤。
【請求項２１】
硬水を含む再循環液体冷却剤を入れた冷却系内の金属表面の腐食を低減する方法であって
緩衝剤；アジピン酸もしくはその塩；モリブデン酸塩；亜硝酸塩；ならびにメルカプトベンゾチアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、硝酸塩及び珪酸塩からなる群より選択される少なくとも１種の化合物
を含む腐食防止添加剤を、該液体冷却剤へ添加することを含む上記方法。
【請求項２２】
腐食添加防止剤がペレットの形態で供給される請求項２１の方法。
【請求項２３】
腐食防止添加剤がポリマー被覆に包み込まれている請求項２１の方法。
【請求項２４】
添加工程は、腐食防止添加剤を少なくとも５０時間の運転時間に及ぶ時間にわたって液体冷却剤中へ放出することを包含する請求項２１の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月13日(2008.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
陽極酸化皮膜層の膜厚を設計するのに用いられる表面処理アルミニウム材の素地の硬度がビッカース硬さの場合、陽極酸化皮膜層の膜厚は、素地のビッカース硬さが４０ＨＶ未満のとき陽極酸化皮膜層の膜厚が１５μm以上２５μm以下、好ましくは１５μm以上２０μm以下であり、表面処理アルミニウム材の素地のビッカース硬さが４０ＨＶ以上５０ＨＶ未満のとき陽極酸化皮膜層の膜厚が７μm以上２０μm以下、好ましくは７μm以上１２μm以下であり、また、表面処理アルミニウム材の素地のビッカース硬さが５０ＨＶ以上のとき陽極酸化皮膜層の膜厚が０．１μm以上１２μm以下、好ましくは２μm以上１０μm以下である。この素地のビッカース硬さと陽極酸化皮膜層の膜厚との関係が上記条件を外れると、塗膜硬度と塗膜密着性及び耐衝撃性とにおいて同時に優れた塗膜性能を有する塗膜層を形成することが難しくなる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月23日(2008.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  樹脂供給口と、樹脂供給口から流入された溶融樹脂の流路となる溶融樹脂流路と、前記溶融樹脂流路を通過した溶融樹脂を吐出する吐出口と、前記溶融樹脂流路内の溶融樹脂の温度を調節する温度調節手段を備えていることを特徴とするプラスチックファイバの紡糸装置。
【請求項２】  前記吐出口から吐出されたファイバの直径を測定する直径測定装置と、この直径測定装置の測定結果に応じて前記温度調節手段を制御するフィードバック機構を備えていることを特徴とする請求項１に記載のプラスチックファイバの紡糸装置。
【請求項３】  樹脂供給口と、樹脂供給口から流入された溶融樹脂の流路となる溶融樹脂流路と、前記溶融樹脂流路を通過した溶融樹脂を吐出する吐出口とを備えた紡糸装置であって、
前記溶融樹脂流路の内壁がセラミックスからなることを特徴とするプラスチックファイバの紡糸装置。
【請求項４】  請求項１〜３のいずれか１項に記載のプラスチックファイバの紡糸装置を用いてプラスチックファイバを紡糸することを特徴とするプラスチックファイバの紡糸方法。
【請求項５】  紡糸後のプラスチックファイバに延伸処理を施して得られる延伸糸の、長さ方向における設定直径に対する直径の変動率を±３％以内とすることを特徴とする請求項４に記載のプラスチックファイバの紡糸方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月26日(2008.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の剛性面を有し、前記第１の剛性面のある領域がナノ構造表面を有する第１の機械的構造体と、
第２の剛性面を有し、かつ微細粒子が前記ナノ構造表面と前記第２の剛性面との間に位置決め可能になるように前記第１の機械的構造体と対向し前記ナノ構造表面と協働可能な第２の機械的構造体とからなり、
前記剛性面の一方が、もう一方の剛性面に対して可動で、前記ナノ構造表面を通して微細粒子に接触力を加えるように協働可能であり、
前記ナノ構造表面が、導電性コアを有するピンを備え、前記導電性コア及び前記第2の剛性面は電圧源に電気的に結合されていることを特徴とする装置。
【請求項２】
前記ナノ構造表面は、前記微粒子の平均径の約１／２よりも小さいものに等しいピッチを有するように構成されたピンを含む請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第１の剛性面または前記第２の剛性面の一方または両方は透過膜を形成する開口部をさらに含む請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記ナノ構造表面は絶縁された導電性コアを有するピンを含み、前記導電性コアおよび前記第２の剛性面は電圧源に電気的に結合されている請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記微細粒子は、前記ナノ構造表面と前記第2の剛性面との間に位置付けられることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記ナノ構造表面は凸形または凹形のうちの一方を有し、前記第2の剛性面は凸形または凹形のうちのもう一方を有することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記第１の剛性面または前記第２の剛性面のうちの少なくとも一方まで加えられる音波を生成するように構成されたデバイスをさらに含む請求項１に記載の装置。
【請求項８】
破壊された前記微粒子から放出される物質を分析するように構成されたシステムと、
前記物質を前記システムに導く微小流体チャネルと、
前記物質を前記第1又は第2の剛性面の一方または両方における開口部を介して前記システムに通すように構成されたデバイス
をさらに含む請求項１に記載の装置。
【請求項９】
第１の剛性面を有し、前記第１の剛性面のある領域がナノ構造表面を有する第１の機械的構造体と、
第２の剛性面を有し、かつ微細粒子が前記ナノ構造表面と前記第２の剛性面との間に位置決め可能になるように前記第１の機械的構造体と対向し前記ナノ構造表面と協働可能な第２の機械的構造体とを備え、
ここで前記剛性面の一方が、もう一方の剛性面に対して可動で、前記ナノ構造表面を通して前記微細粒子に接触力を加えるように協働可能であり、
前記接触力を加えることに応答して前記微細粒子の物理的性質を分析するように構成されたシステムからなる装置。
【請求項１０】
前記ナノ構造表面のピンは、ピン径とほぼ同じ先端径を有する請求項９に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月19日(2008.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
工業用イメージングのために構成されたコンピュータ断層撮影（ＣＴ）システム（１０）で取得した測定サイノグラム・データから画像データを再構成するための方法であって、
前記測定サイノグラム・データについてビームハードニング補正を行う段階、並びに前記測定サイノグラム・データについて検出器点像分布関数（ＰＳＦ）補正及び検出器遅延補正を行う段階を含む、前記測定サイノグラム・データを前処理する段階と、
前処理済みサイノグラム・データを再構成して、画像データを生成する段階と、
を有し、
前記検出器ＰＳＦ補正及び前記検出器遅延補正は、反復的デコンボリューション・アルゴリズムを前記測定サイノグラム・データに適用することにより、１つ又は複数の検出器列及び検出器ビュー方向に沿って測定サイノグラム・データをデコンボリューション処理することを含み、前記反復的デコンボリューション・アルゴリズムは非線形最適化問題として定式化されている、方法。
【請求項２】
前処理済みサイノグラム・データはフィルタリングされ且つ逆投影されて、再構成された画像データを生成する、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記測定サイノグラム・データを前処理する段階が更に、前記測定サイノグラム・データにビームハードニング補正を実行する段階を含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記測定サイノグラム・データについてビームハードニング補正を行う前記段階は、
前記ＣＴシステム（１０）に関連する検出器効率曲線を算出する段階と、
前記検出器効率曲線によってＸ線源スペクトルを拡縮して、補正済みＸ線源スペクトルを得る段階と、
少なくとも１つのＸ線が通過する各物質について減弱係数値を決定する段階であって、１つ又は複数のＸ線エネルギ・レベルにおける減弱係数値が物質の組成及びＸ線源分布に基づいて予め算出される、当該段階と、
１つ又は複数のＸ線エネルギ・レベルにおける減弱係数値及び補正済みＸ線源スペクトルに基づいてビームハードニング補正曲線を解析的に導き出す段階と、
を含んでいる、請求項３記載の方法。
【請求項５】
ビームハードニング補正曲線を解析的に導き出す前記段階は、更に、１つ又は複数のＸ線エネルギ・レベルにわたる１つ又は複数の強度値の和に基づいて、Ｘ線経路長についてのビームハードニングから生じる減弱値を解析的に導き出す段階を含んでおり、その際、各Ｘ線エネルギ・レベルは対応する減弱係数値を持ち、また、ビームハードニング補正曲線は、ビームハードニングから生じる減弱値及びＸ線経路長についての線形化投影に基づいて解析的に導き出される、請求項４記載の方法。
【請求項６】
更に、１つ又は複数の同調パラメータに基づいてビームハードニング補正曲線の最適化を実行する段階を含み、該同調パラメータはＸ線エネルギ・レベル、Ｘ線スペクトル・エネルギ・ビン数及び経路長分画数のうちの少なくとも１つを含んでいる、請求項４記載の方法。
【請求項７】
測定サイノグラム・データから画像データを再構成するためのコンピュータ断層撮影（ＣＴ）システム（１０）であって、
物体を通るように複数の多色Ｘ線（３８）を投射するように構成されているＸ線源（３０）と、
前記線源（３０）から受け取った複数のＸ線ビーム（３８）に応答して複数の電気信号を発生するように構成されている検出器（４６）と、
前記複数の電気信号を処理して、測定サイノグラム・データを生成するように構成されているシステム制御装置（２２）であって、更に、前記測定サイノグラム・データを前処理して、前記測定サイノグラム・データについてビームハードニング補正を行うように構成され、また更に、前記測定サイノグラム・データについて検出器点像分布関数（ＰＳＦ）補正及び検出器遅延補正を行うように構成され、また更に、前処理済みサイノグラム・データを再構成して画像データを生成するように構成されているシステム制御装置（２２）と、を有し、
当該ＣＴシステム（１０）は工業用イメージングのために構成されており、
前記システム制御装置（２２）は、１つ又は複数の検出器列及び検出器ビュー方向に沿った測定サイノグラム・データのデコンボリューションによって、また反復的デコンボリューション・アルゴリズムを測定サイノグラム・データに適用することによって、検出器ＰＳＦ補正及び検出器遅延補正を行うように構成されており、前記反復的デコンボリューション・アルゴリズムは非線形最適化問題として定式化されている、コンピュータ断層撮影（ＣＴ）システム（１０）。
【請求項８】
前記システム制御装置（２２）は、前記測定サイノグラム・データにビームハードニング補正を実行する、請求項７記載のコンピュータ断層撮影システム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月25日(2008.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料を支持するための試料載台と、
走査先端を有する機械的カンチレバーを機械的に固定するためのカンチレバー・マウントと、
電子カンチレバー力誤差信号を生成するためのカンチレバー力検出器と、
前記電子カンチレバー力誤差信号に応答する方式で前記機械的カンチレバーを電気機械的に駆動するように構成されたカンチレバー・フィードバック・システムと、
前記電子カンチレバー力誤差信号に応答する方式で前記試料載台を電気機械的に変位するように構成された試料載台フィードバック・システムであって、前記カンチレバー・フィードバック・システムと前記試料載台フィードバック・システムとは電子カンチレバー力誤差信号を並列に受け入れるように接続されている、試料載台フィードバック・システムとを含む原子間力顕微鏡装置において、
前記カンチレバー・フィードバック・システムが、
前記カンチレバー力誤差信号を受信することに応答してフィルタリングされた電気駆動信号を発生するための電気高域フィルタと、
カンチレバー・マウントに固定され、前記のフィルタリングされた駆動信号に機械的に応答するように連結された電気機械的駆動装置と
を含む装置。
【請求項２】
前記の各フィードバック・システムが、カンチレバーを予め選択された曲げ状態に回復するように構成されている請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記高域フィルタが、原子間力顕微鏡の２つの走査方向に直角の方向に前記載台を機械的に発振させるために、試料の共振周波数以下の低周波カットオフを有する請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記試料載台制御システムが、
前記誤差信号の受信に応答して別の電機駆動信号を発生するための能動電子試料載台制御装置と、
前記の別の駆動信号に応答して前記試料載台の変位を引き起こすように構成された電気機械的駆動装置と
を含む
請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記高域フィルタが、顕微鏡の２つの走査方向に直角の方向に前記試料プラットフォームを機械的に発振させるために、試料の共振周波数以下の低周波カットオフを有する請求項４に記載の装置。
【請求項６】
原子間力顕微鏡を動作するための方法であって、
試料の表面上を可とう性のカンチレバーの先端で横方向に走査する工程と、
前記走査の実施中に、試料によってカンチレバーに行使される力を実質的に表す誤差信号を発生する工程と、
前記走査の実施中に、前記誤差信号に応答する方式で前記機械的カンチレバーを電気機械的駆動装置によって駆動する工程とを含む原子間力顕微鏡の動作方法において、
前記走査の実施中に、サンプルを支持しているプラットフォームを、該プラットフォームが前記誤差信号に応答した運動を受けるように駆動し、及び
前記電気機械的駆動装置による前記駆動は、実質的なゼロ周波数成分のないカンチレバーの変位を生じさせている原子間力顕微鏡の動作方法。
【請求項７】
前記駆動が、カンチレバーの偏位を予め選択された値に向けて弛緩させるように構成された請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記プラットフォームの運動が該サンプルの平均表面に垂直な方向にゼロ周波数成分を有している請求項６に記載の方法。