【手続補正書】
【提出日】平成20年3月24日(2008.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板をほぼ水平に保持して、その基板をほぼ鉛直な回転軸線まわりに回転させる基板保持手段と、
前記基板保持手段に保持された基板に対して、処理液を供給するための処理液供給手段と、
前記基板保持手段の周囲を取り囲み、上記回転軸線に向けて延びる上端部を有し、前記基板保持手段によって回転されている基板から飛散する処理液を当該処理液が流下するように案内するための第１案内部と、
前記第１案内部の外側において前記基板保持手段の周囲を取り囲み、上記回転軸線に向けて延びる上端部を有し、その上端部が前記第１案内部の上端部と上下方向に重なるように設けられ、前記基板保持手段によって回転されている基板から飛散する処理液を当該処理液が流下するように案内するための第２案内部と、
前記第１案内部および前記第２案内部をそれぞれ独立して昇降させるための駆動機構と、
前記駆動機構を制御して、前記第１案内部および前記第２案内部を同期をとって昇降させる昇降制御手段とを含むことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記第２案内部のさらに外側において前記基板保持手段の周囲を取り囲み、上記回転軸線に向けて延びる上端部を有し、その上端部が前記第２案内部の上端部と上下方向に重なるように設けられ、前記基板保持手段によって回転されている基板から飛散する処理液を当該処理液が流下するように案内するための第３案内部をさらに含み、
前記昇降制御手段は、前記基板保持手段によって回転されている基板から飛散する処理液が前記第３案内部によって案内されている状態から、当該処理液が前記第１案内部によって案内される状態に変更するときに、前記駆動機構を制御して、前記第１案内部および前記第２案内部を同期をとって上昇させることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記第２案内部のさらに外側において前記基板保持手段の周囲を取り囲み、上記回転軸線に向けて延びる上端部を有し、その上端部が前記第２案内部の上端部と上下方向に重なるように設けられ、前記基板保持手段によって回転されている基板から飛散する処理液を当該処理液が流下するように案内するための第３案内部をさらに含み、
前記基板保持手段によって回転されている基板から飛散する処理液が前記第１案内部によって案内されている状態から、当該処理液が前記第１案内部、第２案内部、および第３案内部を越えて外部に排出される状態に変更するとき、前記第１案内部、第２案内部、および第３案内部を同期をとって下降させることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記基板保持手段によって回転されている基板から飛散する処理液が前記第１案内部または第２案内部によって案内されるときに、前記第２案内部と前記第３案内部との間に処理液が進入するのを防止するための第１の進入防止部をさらに含むことを特徴とする請求項２または３記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記基板保持手段によって回転されている基板から飛散する処理液が前記第１案内部によって案内されるときに、前記第１案内部と前記第２案内部との間に処理液が進入するのを防止するための第２の進入防止部をさらに含むことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記第２の進入防止部は、前記第２案内部の上端部を下方に折り返して形成されていることを特徴とする請求項５記載の基板処理装置。
【請求項７】
基板をほぼ水平に保持して、その基板をほぼ鉛直な回転軸線まわりに回転させる基板保持手段と、前記基板保持手段の周囲を取り囲み、前記基板保持手段によって回転されている基板から飛散する処理液を当該処理液が流下するように案内するための第１案内部、第２案内部および第３案内部とを備え、前記第１案内部、前記第２案内部および前記第３案内部が、それぞれ上記回転軸線に向けて延びる上端部を有し、各上端部が上下方向に互いに重なるように設けられ、それぞれ独立して昇降可能に構成された基板処理装置において、基板を処理する方法であって、
前記基板保持手段によって基板を回転させる基板回転工程と、
前記基板回転工程において、基板に対して処理液を供給する処理液供給工程と、
前記処理液供給工程において、前記基板保持手段によって回転されている基板から飛散する処理液が前記第３案内部によって案内されている状態から、前記第１案内部および前記第２案内部を同時に上昇させて、当該処理液が前記第１案内部によって案内される状態に変更する工程とを含むことを特徴とする基板処理方法。
【請求項８】
基板をほぼ水平に保持して、その基板をほぼ鉛直な回転軸線まわりに回転させる基板保持手段と、前記基板保持手段の周囲を取り囲み、前記基板保持手段によって回転されている基板から飛散する処理液を当該処理液が流下するように案内するための第１案内部、第２案内部および第３案内部とを備え、前記第１案内部、前記第２案内部および前記第３案内部が、それぞれ上記回転軸線に向けて延びる上端部を有し、各上端部が上下方向に互いに重なるように設けられ、それぞれ独立して昇降可能に構成された基板処理装置において、基板を処理する方法であって、
前記基板保持手段によって基板を回転させる基板回転工程と、
前記基板回転工程において、基板に対して処理液を供給する処理液供給工程と、
前記処理液供給工程において、前記基板保持手段によって回転されている基板から飛散する処理液が前記第３案内部によって案内されている状態から、前記第１案内部および前記第２案内部を同時に上昇させて、当該処理液が前記第１案内部によって案内される状態に変更する工程と、
前記処理液供給工程において、前記基板保持手段によって回転されている基板から飛散する処理液が前記第１案内部によって案内されている状態から、前記第１案内部、第２案内部、および第３案内部を同時に下降させて、当該処理液が前記第１案内部、第２案内部、および第３案内部を越えて外部に排出される状態に変更する工程とを含むことを特徴とする基板処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
請求項２に記載の発明は、前記第２案内部のさらに外側において前記基板保持手段の周囲を取り囲み、上記回転軸線に向けて延びる上端部を有し、その上端部が前記第２案内部の上端部と上下方向に重なるように設けられ、前記基板保持手段によって回転されている基板から飛散する処理液を当該処理液が流下するように案内するための第３案内部（２１）をさらに含み、前記昇降制御手段は、前記基板保持手段によって回転されている基板から飛散する処理液が前記第３案内部によって案内されている状態から、当該処理液が前記第１案内部によって案内される状態に変更するときに、前記駆動機構を制御して、前記第１案内部および前記第２案内部を同期をとって上昇させることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
請求項３に記載の発明は、前記第２案内部のさらに外側において前記基板保持手段の周囲を取り囲み、上記回転軸線に向けて延びる上端部を有し、その上端部が前記第２案内部の上端部と上下方向に重なるように設けられ、前記基板保持手段によって回転されている基板から飛散する処理液を当該処理液が流下するように案内するための第３案内部をさらに含み、前記基板保持手段によって回転されている基板から飛散する処理液が前記第１案内部によって案内されている状態から、当該処理液が前記第１案内部、第２案内部、および第３案内部を越えて外部に排出される状態に変更するとき、前記第１案内部、第２案内部、および第３案内部を同期をとって下降させることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
請求項４に記載の発明は、前記基板保持手段によって回転されている基板から飛散する処理液が前記第１案内部または第２案内部によって案内されるときに、前記第２案内部と前記第３案内部との間に処理液が進入するのを防止するための第１の進入防止部（２１ｃ）をさらに含むことを特徴とする請求項２または３記載の基板処理装置である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
この構成によれば、第１の進入防止部が形成されているので、基板から飛散する処理液が第１案内部または第２案内部によって案内されるときに、その処理液が第２案内部と第３案内部との間に進入することを確実に防止することができる。そのため、第３案内部に案内される処理液を回収する場合に、その回収される処理液に第１案内部または第２案内部に案内されるべき処理液が混入するのを防止することができ、回収される処理液の純度を向上させることができる。また、第１の進入防止部を第３案内部と一体的に設けることにより、装置の構成の簡素化を図ることができる。
請求項５に記載の発明は、前記基板保持手段によって回転されている基板から飛散する処理液が前記第１案内部によって案内されるときに、前記第１案内部と前記第２案内部との間に処理液が進入するのを防止するための第２の進入防止部（４８ｃ）をさらに含むことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第２の進入防止部が備えられているので、基板から飛散する処理液が第１案内部によって案内されるときに、その処理液が第１案内部と第２案内部との間に進入することを確実に防止することができる。そのため、第２案内部に案内される処理液を回収する場合に、その回収される処理液に他の種類の処理液が混入するのを確実に防止することができ、回収される処理液の純度をさらに向上させることができる。
請求項６に記載の発明は、前記第２の進入防止部は、前記第２案内部の上端部を下方に折り返して形成されていることを特徴とする請求項５記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第２の進入防止部が第２案内部の上端部から下方に向けて延びるので、基板から飛散する処理液が、その第２の進入防止部を回り込んで、第１案内部と第２案内部との間に進入することを防止することができる。そのため、第２案内部に案内される処理液を回収する場合に、その処理液に他の種類の処理液が混入するのを確実に防止することができる。その結果、回収される処理液の純度をさらに向上させることができる。そのうえ、第２の進入防止部を第２案内部に一体的に設けることができ、装置の構成の簡素化を図ることもできる。