【手続補正書】
【提出日】平成20年7月9日(2008.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
透明基材の一面に形成された遮光膜に一方向に並べて形成され、露光光が通る複数のマスクパターンと、前記遮光膜に前記複数のマスクパターンの並び方向の側方に形成され、対向して搬送される基板の表面を観察可能とする覗き窓と、を設けたフォトマスクを用いて行なう露光方法であって、
前記フォトマスクを前記覗き窓が基板の搬送方向手前側となるようにして配置する段階と、
前記複数のマスクパターンの並び方向と交差する方向に感光性樹脂を塗布した基板を搬送する段階と、
撮像手段により前記覗き窓を通して前記基板の表面を撮像し、該基板に形成された基準パターンに対して所定の位置関係に設定された基板の基準位置を検出する段階と、
前記検出された基板の基準位置と、前記フォトマスクの複数のマスクパターンのいずれか一つとの水平距離が所定値となるように前記フォトマスクを前記基板の搬送方向と交差する方向に移動して前記基板とフォトマスクとの位置合わせをする段階と、
を行なうことを特徴とする露光方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
透明基材の一面に形成された遮光膜に一方向に並べて形成され、露光光が通る複数のマスクパターンと、前記遮光膜に前記複数のマスクパターンの並び方向の側方に形成され、対向して搬送される基板の表面を観察可能とする覗き窓と、前記覗き窓内、又は覗き窓の一端部側方に前記複数のマスクパターンのうち少なくとも一つと所定の位置関係を有して形成され、前記基板との位置合わせをするためのマスク側アライメントマークと、を設けたフォトマスクを用いて行なう露光方法であって、
前記フォトマスクを前記覗き窓が基板の搬送方向手前側となるようにして配置する段階と、
前記複数のマスクパターンの並び方向と交差する方向に感光性樹脂を塗布した基板を搬送する段階と、
撮像手段により前記覗き窓を通して前記基板の表面を撮像し、該基板に形成された基準パターンに対して所定の位置関係に設定された基板の基準位置を検出する段階と、
前記撮像手段により前記フォトマスクのマスク側アライメントマークを撮像してその位置を検出する段階と、
前記検出された基板の基準位置と前記フォトマスクのマスク側アライメントマークの位置との水平距離が所定値となるように前記フォトマスクを前記基板の搬送方向と交差する方向に移動して前記基板とフォトマスクとの位置合わせをする段階と、
を行なうことを特徴とする露光方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記基板は、前記基板側アライメントマークを形成した端部が搬送方向先頭側となるようにして搬送されることを特徴とする請求項８記載の露光方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
前記基板を搬送しながら、前記基板とフォトマスクとの位置合わせをする段階の前に、前記基板側アライメントマークの位置と前記フォトマスクのマスク側アライメントマークの位置との水平距離が所定値となるように前記フォトマスクを前記基板の搬送方向と交差する方向に移動して該基板とフォトマスクとの位置合わせの粗調整をすることを特徴とする請求項９記載の露光方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
しかし、このような従来のフォトマスクにおいては、マスクパターンと基板に予め形成された基準パターンとの位置合わせを、フォトマスク自身のアライメントマークと基板のアライメントマークとによって間接的に行なうようにしたものであって、基板に形成された基準パターンを直接観察しながら、該基準パターンに対してマスクパターンを位置合わせできるようにしたものではなかった。したがって、露光パターンと基板の基準パターンとの重ね合わせ精度は、フォトマスクのマスクパターンとそのアライメントマークとの間の形成精度及び基板の基準パターンとそのアライメントマークとの間の形成精度によって決まり、該形成精度が十分でない場合には、上記重ね合わせ精度も悪くなっていた。特に、基板が大型のものである場合には、上記各アライメントマークと各パターンとの間の形成精度はより厳しいものとなり、その位置合わせはより困難であった。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
また、上記従来のフォトマスクは、露光開始前にフォトマスク自身のアライメントマークと基板のアライメントマークとの位置合わせをするようにしたもので、露光実行中には両アライメントマークの位置合わせをすることができなかった。したがって、露光開始前の位置合わせが不十分であると露光パターンと基準パターンとの位置合わせ精度も悪くなっていた。さらに、基板の移動誤差による位置ずれを補正することができないので、上記位置合わせ精度を向上することができなかった。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
このような構成により、透明基材の一面に形成された遮光膜に一方向に並べて形成された複数のマスクパターンの並び方向の側方に形成された覗き窓を通して対向して配設される基板の表面を観察し、上記複数のマスクパターンを通して基板に露光光を照射する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
このような構成により、透明基材の一面に形成された遮光膜に一方向に並べて形成された複数のマスクパターンの並び方向の側方に形成された覗き窓を通して対向して配設される基板の表面を観察し、上記覗き窓内、又は覗き窓の一端部側方に上記複数のマスクパターンのうち少なくとも一つと所定の位置関係を有して形成されたマスク側アライメントマークで基板との位置合わせをし、上記複数のマスクパターンを通して基板に露光光を照射する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
さらに、記透明基材の少なくとも一面に、可視光を透過し紫外線を反射又は吸収する波長選択性膜を前記覗き窓及びマスク側アライメントマークを覆って形成したものである。これにより、透明基材の少なくとも一面に、覗き窓及びマスク側アライメントマークを覆って形成した波長選択性膜で可視光を透過し、紫外線を反射又は吸収する。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
さらに、第３の発明による露光方法は、透明基材の一面に形成された遮光膜に一方向に並べて形成され、露光光が通る複数のマスクパターンと、前記遮光膜に前記複数のマスクパターンの並び方向の側方に形成され、対向して搬送される基板の表面を観察可能とする覗き窓と、を設けたフォトマスクを用いて行なう露光方法であって、前記フォトマスクを前記覗き窓が基板の搬送方向手前側となるようにして配置する段階と、前記複数のマスクパターンの並び方向と交差する方向に感光性樹脂を塗布した基板を搬送する段階と、撮像手段により前記覗き窓を通して前記基板の表面を撮像し、該基板に形成された基準パターンに対して所定の位置関係に設定された基準位置を検出する段階と、前記検出された基板の基準位置と、前記フォトマスクの複数のマスクパターンのいずれか一つとの水平距離が所定値となるように前記フォトマスクを前記基板の搬送方向と交差する方向に移動して前記基板とフォトマスクとの位置合わせをする段階と、を行なうものである。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
このような構成により、フォトマスクを複数のマスクパターンの並び方向の側方に形成された覗き窓が基板の搬送方向手前側となるようにして配置し、複数のマスクパターンの並び方向と交差する方向に感光性樹脂を塗布した基板を搬送し、撮像手段で上記覗き窓を通して基板の表面を撮像して該基板に形成された基準パターンに対して所定の位置関係に設定された基準位置を検出し、上記検出された基板の基準位置と、上記フォトマスクの複数のマスクパターンのいずれか一つとの水平距離が所定値となるように上記フォトマスクを上記基板の搬送方向と交差する方向に移動して基板とフォトマスクとの位置合わせをする。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、第４の発明による露光方法は、透明基材の一面に形成された遮光膜に一方向に並べて形成され、露光光が通る複数のマスクパターンと、前記遮光膜に前記複数のマスクパターンの並び方向の側方に形成され、対向して搬送される基板の表面を観察可能とする覗き窓と、前記覗き窓内、又は覗き窓の一端部側方に前記複数のマスクパターンのうち少なくとも一つと所定の位置関係を有して形成され、前記基板との位置合わせをするためのマスク側アライメントマークと、を設けたフォトマスクを用いて行なう露光方法であって、前記フォトマスクを前記覗き窓が基板の搬送方向手前側となるようにして配置する段階と、前記複数のマスクパターンの並び方向と交差する方向に感光性樹脂を塗布した基板を搬送する段階と、撮像手段により前記覗き窓を通して前記基板の表面を撮像し、該基板に形成された基準パターンに対して所定の位置関係に設定された基準位置を検出する段階と、前記撮像手段により前記フォトマスクのマスク側アライメントマークを撮像してその位置を検出する段階と、前記検出された基板の基準位置と前記フォトマスクのマスク側アライメントマークの位置との水平距離が所定値となるように前記フォトマスクを前記基板の搬送方向と交差する方向に移動して前記基板とフォトマスクとの位置合わせをする段階と、を行なうものである。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
このような構成により、フォトマスクを複数のマスクパターンの並び方向の側方に形成された覗き窓が基板の搬送方向手前側となるようにして配置し、複数のマスクパターンの並び方向と交差する方向に感光性樹脂を塗布した基板を搬送し、撮像手段で上記覗き窓を通して基板の表面を撮像して該基板に形成された基準パターンに対して所定の位置関係に設定された基準位置を検出し、撮像手段で上記フォトマスクに上記複数のマスクパターンのうち少なくとも一つと所定の位置関係を有して形成されたマスク側アライメントマークを撮像してその位置を検出し、上記検出された基板の基準位置と上記フォトマスクのマスク側アライメントマークの位置との水平距離が所定値となるように上記フォトマスクを上記基板の搬送方向と交差する方向に移動して基板とフォトマスクとの位置合わせをする。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
さらに、前記基板は、前記基板側アライメントマークを形成した端部が搬送方向先頭側となるようにして搬送されるものである。これにより、基板側アライメントマークが形成された端部を先頭にして基板を搬送する。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
そして、前記基板を搬送しながら、前記基板とフォトマスクとの位置合わせをする段階の前に、前記基板側アライメントマークの位置と前記フォトマスクのマスク側アライメントマークの位置との水平距離が所定値となるように前記フォトマスクを前記基板の搬送方向と交差する方向に移動して該基板とフォトマスクとの位置合わせの粗調整をするものである。これにより、基板を搬送しながら、先ず、基板側アライメントマークの位置とフォトマスクのマスク側アライメントマークの位置との水平距離が所定値となるようにフォトマスクを基板の搬送方向と交差する方向に移動して基板とフォトマスクとの位置合わせの粗調整をし、その後、基板の基準位置とマスク側アライメントマークの位置との水平距離が所定値となるようにフォトマスクを移動して基板とフォトマスクとの位置合わせをする。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
請求項１に係る発明によれば、複数のマスクパターンに近接した位置で覗き窓を通して基板に予め形成された基準パターンを直接観察することができる。したがって、上記覗き窓を通して上記基準パターンに予め設定した基準位置と上記複数のマスクパターンとのずれを検出して、該ずれ量が所定の値となるように補正することができ、上記複数のマスクパターンと基板の基準パターンとの位置合わせをすることができる。これにより、両パターンの位置合わせ精度を向上することができる。特に、本発明によれば、複数のマスクパターンの並び方向の側方に覗き窓を形成しているので、基板の搬送方向の手前側に上記覗き窓が位置するようにして上記基板に対向して配設すれば、基板を所定方向に搬送しながら行なう露光実行中においても、上記覗き窓を通して基板の基準パターンを観察し、マスクパターンと基板の基準パターンとの位置合わせを行なうことができる。したがって、基板の移動誤差を補正して上記マスクパターンによる露光パターンと上記基板の基準パターンとの重ね合わせ精度を向上することができる。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
さらに、請求項３に係る発明によれば、上記請求項１に係る発明と同様に、露光パターンと基板の基準パターンとの重ね合わせ精度を向上することができる。特に、覗き窓内、又は覗き窓の一端部側方にマスク側アライメントマークを形成しているので、基板の搬送方向先頭端部に基板側アライメントマークを形成すれば、上記覗く窓を通して観察される基板側アライメントマークと上記マスク側アライメントマークとに基づいて基板とフォトマスクとの位置合わせの粗調整をすることができる。したがって、露光パターンと基板の基準パターンとの重ね合わせ精度をより向上することができる。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
また、請求項７に係る発明によれば、アライメント処理速度を向上することができる。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
上記透明基材２は、紫外線及び可視光を高効率で透過する透明なガラス基材であり、例えば石英ガラスからなる。
図２又は図３に示すように、上記透明基材２の一方の面２ａには、遮光膜３が形成されている。この遮光膜３は、露光光を遮光するものであり、不透明な例えばクロム（Ｃｒ）の薄膜で形成されている。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
上記遮光膜３には、図１に示すように、一方向に並べて複数のマスクパターン４が形成されている。この複数のマスクパターン４は、露光光を通す所定形状の開口であり、対向して搬送される図４に示すカラーフィルタ基板６に露光光を照射可能とし、カラーフィルタ基板６上に形成された基準パターンとしてのブラックマトリクス７のピクセル８上に転写されるものである。そして、例えば上記ピクセル８の幅と略一致した幅を有して上記並び方向と直交する方向に長い矩形状とされ、上記ピクセル８の３ピッチ間隔と一致した間隔で形成されている。また、図１に示すように、例えば中央部に位置するマスクパターン４ａの左端縁部が基準位置Ｓ１として予め設定されている。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
上記遮光膜３には、上記複数のマスクパターン４に近接した位置に、その並び方向の側方に覗き窓５が形成されている。この覗き窓５は、対向して搬送される図４に示すカラーフィルタ基板６の表面を観察可能にするためのものであり、図示省略の撮像手段で上記基板側アライメントマーク１１の位置及びブラックマトリクス７の例えば図４に示すように中央部に位置するピクセル８ａの左上端隅部に予め設定された基準位置Ｓ２を検出可能となっている。そして、図１に示すように、上記複数のマスクパターン４の並び方向に平行して中央側から一方の端部２ｃに向かって延びて矩形状に形成されている。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
その後は、撮像手段で撮像された画像データと記憶部に記憶されたカラーフィルタ基板６の基準位置Ｓ２のルックアップテーブル（ＬＵＴ）とが比較され、基準位置Ｓ２が検出される。そして、図７に示すように、上記基準位置Ｓ２を検出した撮像手段の受光素子のセル番号と、フォトマスク１の基準マーク１２ａを検出した受光素子のセル番号とが比較され、両者の水平距離ＬがＬ０又はＬ０±ｘとなるようにフォトマスク１が矢印Ｂ，Ｃ方向に微動される。また、必要に応じてフォトマスク１は、その面の中心を中心軸として回動調整される。これにより、カラーフィルタ基板６が矢印Ａで示す搬送方向と直交する方向に振れながら搬送されてもフォトマスク１はそれに追従して動き、目標とする位置にフォトマスク１のマスクパターン４の像が精度よく転写されることになる。