【手続補正書】
【提出日】平成20年2月1日(2008.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
間隙を形成して第１基板と結合している第２基板と、
その間隙に配置されている液晶物質と、
複数のスペーサを備え、
第１基板は、開口部であるスペーサ領域が複数形成されたパターンを備えており、
前記スペーサは、スペーサ領域から直接的に伸びていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記パターンは、ブラックマトリックスを備えていることを特徴とする請求項１の液晶表示装置。
【請求項３】
前記パターンは、カラーフィルタを備えていることを特徴とする請求項１の液晶表示装置。
【請求項４】
前記パターンは、第１金属層を備えていることを特徴とする請求項１の液晶表示装置。
【請求項５】
前記パターンは、第２金属層を備えていることを特徴とする請求項４の液晶表示装置。
【請求項６】
前記スペーサは、露光と硬化工程によって形成されることを特徴とする請求項１の液晶表示装置。
【請求項７】
前記スペーサ領域の周囲の領域の透過率が７．１％未満であることを特徴とする請求項１の液晶表示装置。
【請求項８】
前記スペーサ領域の周囲の領域の透過率が１．３１％未満であることを特徴とする請求項７の液晶表示装置。
【請求項９】
前記スペーサ領域は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）に対応して配置されていることを特徴とする請求項１の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記スペーサ領域は、補助コンデンサ電極に対応して配置されていることを特徴とする請求項１の液晶表示装置。
【請求項１１】
カラーフィルタが付加されており、
そのカラーフィルタは、ピクセル領域に対応して配置されており、
前記スペーサ領域は、そのカラーフィルタで被覆されていないことを特徴とする請求項２の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記カラーフィルタは、光吸収材を含んでいることを特徴とする請求項１１の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記スペーサの高さは、第１基板と第２基板が規定しているセルギャップの高さよりも大きいことを特徴とする請求項１１の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記第１基板と前記第２基板のそれぞれは調整薄膜を備えており、
前記セルギャップは、その２枚の調整薄膜の間の平均距離であることを特徴とする請求項１１の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記スペーサは、不透明な材料によって形成されていることを特徴とする請求項１の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記不透明な材料は、黒色樹脂であることを特徴とする請求項１５の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記パターンは、複数の第１開口部と複数の第２開口部を備えており、
前記スペーサは、その第１開口部に対応して前記間隙内に位置している複数の第１突起構造体と、その第２開口部に対応して前記間隙内に位置している複数の第２突起構造体を備えており、
前記第１開口部の大きさは、前記第２開口部の大きさとは異なっており、
前記第１突起構造体の高さは、前記第２突起構造体の高さとは異なっていることを特徴とする請求項１の液晶表示装置。
【請求項１８】
第１基板と第２基板を用意する工程と、
第１基板の表面に、複数のスペーサ領域を画定する複数の開口部を備えるマスクパターンを形成する工程と、
第１基板の内面にフォトレジスト層を形成する工程と、
第１基板の外面からマスクパターンを通じてフォトレジスト層に光を照射する工程と、
フォトレジスト層を現像することによってスペーサ領域から直接的に伸びる複数のスペーサを形成する工程と、
を備える液晶表示装置の製造方法。
【請求項１９】
間隙を形成して第１基板と第２基板を結合する工程と、
その間隙に液晶物質を注入する工程と、
をさらに備えることを特徴とする請求項１８の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２０】
第１基板または第２基板上に液晶物質を滴下する工程と、
第１基板および第２基板を結合して第１基板と第２基板の間に液晶物質を封止する工程と、
をさらに備えることを特徴とする請求項１８の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２１】
前記マスクパターンは、ブラックマトリックスであることを特徴とする請求項１８の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２２】
前記マスクパターンは、カラーフィルタであることを特徴とする請求項１８の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２３】
前記マスクパターンは、第１金属であることを特徴とする請求項１８の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２４】
前記マスクパターンは、第２金属であることを特徴とする請求項１８の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２５】
前記マスクパターンは、複数の第１開口部と複数の第２開口部を備えており、
前記第１開口部の大きさは、前記第２開口部の大きさとは異なり、
前記第１開口部におけるフォトレジスト層の露光深さは、前記第２開口部におけるフォトレジスト層の露光深さとは異なり、
フォトレジスト層を現像することによって、第１開口部に対応する複数の第１突起構造体と第２開口部に対応する複数の第２突起構造体を形成する工程をさらに備え、
前記第１突起構造体の高さは、前記第２突起構造体の高さとは異なることを特徴とする請求項１８の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２６】
透明な基板と、
その透明な基板上に配置されており、その透明な基板の一部を露出する複数の開口部によって複数のスペーサ領域と複数のピクセル領域を画定しているブラックマトリックスと、
ピクセル領域上に配置されている複数のカラーフィルタと、
スペーサ領域から直接的に伸びる複数のスペーサと、
を備える液晶表示装置のカラーフィルタ基板。
【請求項２７】
前記ブラックマトリックスと前記カラーフィルタと前記スペーサの上に配置されている調整薄膜が付加されていることを特徴とする請求項２６の液晶表示装置のカラーフィルタ基板。
【請求項２８】
前記カラーフィルタと前記ブラックマトリックスと前記スペーサ領域の上に配置されている共通電極が付加されていることを特徴とする請求項２６の液晶表示装置のカラーフィルタ基板。
【請求項２９】
前記スペーサ領域は、複数の第１開口部と複数の第２開口部を備えており、
第１開口部に対応して透明な基板上に位置している複数の第１突起構造体と、
第２開口部に対応して透明な基板上に位置している複数の第２突起構造体が付加されており、
第１突起構造体の高さは、第２突起構造体の高さとは異なっていることを特徴とする請求項２６の液晶表示装置のカラーフィルタ基板。
【請求項３０】
第１表面と第２表面を備える透明な基板を用意する工程と、
第１表面上に、透明な基板の一部を露出する複数の開口部によって複数のスペーサ領域および複数のピクセル領域を画定するブラックマトリクスを形成する工程と、
ピクセル領域上に複数のカラーフィルタを形成する工程と、
透明な基板の第１表面上にフォトレジスト層を形成する工程と、
透明な基板の第２表面からスペーサ領域を通じてフォトレジスト層に光を照射する工程と、
フォトレジスト層を現像してスペーサ領域から直接的に伸びる複数のスペーサを形成する工程と、
を備える液晶表示装置のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項３１】
前記ブラックマトリックスと前記カラーフィルタと前記スペーサの上に調整薄膜を配置する工程をさらに備えることを特徴とする請求項３０のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項３２】
前記カラーフィルタと前記ブラックマトリックスと前記スペーサの上に共通電極を配置する工程をさらに備えることを特徴とする請求項３０のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項３３】
透明な基板を備える第１基板と、
その透明な基板上に配置されており、複数のスペーサ領域と複数のピクセル領域を画定する複数の開口部を備えるブラックマトリックスと、
スペーサ領域から直接的に伸びる複数のスペーサと、
第１基板と結合しており、複数のピクセル電極を備えているトランジスタ基板と、
第１基板とトランジスタ基板の間に配置されている液晶物質と、
を備える液晶表示装置。
【請求項３４】
前記第１基板は、前記ピクセル領域に対応して配置されている複数のカラーフィルタを備えていることを特徴とする請求項３３の液晶表示装置。
【請求項３５】
前記ブラックマトリックスと前記カラーフィルタと前記スペーサの上に配置されている調整薄膜が付加されていることを特徴とする請求項３４の液晶表示装置。
【請求項３６】
前記第１基板は、カラーフィルタとブラックマトリックスとスペーサ領域の上に配置されている共通電極をさらに備えていることを特徴とする請求項３４の液晶表示装置。
【請求項３７】
前記スペーサの高さは、第１基板とトランジスタ基板が規定しているセルギャップの高さよりも大きいことを特徴とする請求項３３の液晶表示装置。
【請求項３８】
第１基板とトランジスタ基板のそれぞれは調整薄膜を備えており、
前記セルギャップは、その２枚の調整薄膜の間の平均距離であることを特徴とする請求項３３の液晶表示装置。
【請求項３９】
第１表面と第２表面を備える透明な基板を用意する工程と、
第１表面上に、複数のスペーサ領域と複数のピクセル領域を画定する複数の開口部を備えるブラックマトリックスを形成する工程と、
ピクセル領域上に複数のカラーフィルタを形成する工程と、
透明な基板の第１表面上にフォトレジスト層を形成する工程と、
透明な基板の第２表面からスペーサ領域を通じてフォトレジスト層に光に照射する工程と、
フォトレジスト層を現像することによって、スペーサ領域から直接的に伸びる複数のスペーサを形成する工程と、
複数のピクセル電極を備えるトランジスタ基板を用意する工程と、
トランジスタ基板と透明な基板を結合する工程と、
トランジスタ基板と透明な基板の間に液晶物質を充填する工程と、
を備える液晶表示装置の製造方法。
【請求項４０】
前記ブラックマトリックスと前記カラーフィルタと前記スペーサの上に調整薄膜を配置する工程をさらに備えることを特徴とする請求項３９の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４１】
前記カラーフィルタと前記ブラックマトリックスと前記スペーサの上に共通電極を配置する工程をさらに備えることを特徴とする請求項３９の液晶表示装置の製造方法。