Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月9日(2008.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  画像を表示するための画面を有する表示装置と、前記表示装置での画像表示を制御する表示制御手段とを備えた遊技機において、前記表示制御手段は、画像が主にその表側を見せる姿態と主にその裏側を見せる姿態との間での姿態変化を伴う反転運動をして見えるように画像表示制御を行うものであり、さらに、前記表示制御手段は、その画像表示制御を行うために、前記反転運動する画像の基本姿態を表わした基本静止画像のデータをメモリに保持すると共に、その基本静止画像データに対して所定の演算処理を施すことにより、前記反転運動の際の個々の姿態についての静止画像を生じさせることを特徴とする遊技機。
【請求項２】  前記反転運動は、画像が主にその表側を見せる姿態と主にその裏側を見せる姿態とを交互に繰り返しながら一軸線の周りを回転する周回運動であることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】 前記所定の演算処理には、所定のタイミングにおいて、前記基本静止画像データを構成する個々のピクセルを特定方向への対称性を維持しながら入替え配置するデータ反転加工が含まれることを特徴とする請求項１又は２に記載の遊技機。
【請求項４】 前記所定の演算処理には、時間の経過に伴って前記基本静止画像の倍率を特定方向に変化させると共に、その逐次倍率変化する画像の前記画面上での位置を単振動的に変化させる倍率及び位置の経時的な同期処理が含まれることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の遊技機。
【請求項５】 前記表示制御手段は、前記反転運動の軸線の周りにおける画像の回転位相角を変数とする計算式に基づいて、前記画像の倍率及びその倍率変化する画像の画面上での位置を演算することを特徴とする請求項４に記載の遊技機。
【請求項６】 前記周回運動は、前記表示装置の画面と略直交する仮想平面内において、画像がその裏側を常に前記一軸線に向けながら当該一軸線の周りを回転する運動であることを特徴とする請求項２に記載の遊技機。
【請求項７】 前記周回運動の一軸線は画面の略水平方向に延びており、その周回運動において、表側を見せる姿態の画像と裏側を見せる姿態の画像とは、上下が倒置した関係にあることを特徴とする請求項６に記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月18日(2008.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】    【請求項１】遊技球が始動領域に進入したことを契機として当否判定を行う判定手段と、前記判定手段による判定結果を示す映像に至るまでのストーリー展開を決定する展開決定手段であって、該ストーリー展開の決定に際して前回の前記判定結果を示す映像を参照する展開決定手段と、  該展開決定手段が決めた前記展開に対応する物語の映像を表示して前記判定結果を示す映像を静止表示する映像表示手段とを備えて、  前記判定結果が当たりであったことを示す映像が静止表示されると遊技者に有利な遊技状態となる弾球遊技機において、  前記判定結果が外れであったことを示す複数種類の外れ映像が予め特定されていて、 前記判定手段を有する主制御基板は、前記判定結果を指定するコード及び前記判定結果を示す映像の変動表示の開始から静止表示までの時間を指定する時間コードを送信し、 該時間コードを受信した図柄制御基板は、前記映像表示手段により映像の変動表示を開始し、前記展開決定手段により決定されたストーリー展開を行うが、前記判定結果が外れであったときには前記複数種類の外れ映像のいずれか１種類に至る前記ストーリー展開を決定し、該決定されたはずれ映像を前記時間コードが示す時間経過後に静止表示することを特徴とする弾球遊技機。【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】  上記課題を解決するための請求項１に記載の弾球遊技機は、遊技球が始動領域に進入したことを契機として当否判定を行う判定手段と、  前記判定手段による判定結果を示す映像に至るまでのストーリー展開を決定する展開決定手段であって、該ストーリー展開の決定に際して前回の前記判定結果を示す映像を参照する展開決定手段と、  該展開決定手段が決めた前記展開に対応する物語の映像を表示して前記判定結果を示す映像を静止表示する映像表示手段とを備えて、  前記判定結果が当たりであったことを示す映像が静止表示されると遊技者に有利な遊技状態となる弾球遊技機において、  前記判定結果が外れであったことを示す複数種類の外れ映像が予め特定されていて、 前記判定手段を有する主制御基板は、前記判定結果を指定するコード及び前記判定結果を示す映像の変動表示の開始から静止表示までの時間を指定する時間コードを送信し、 該時間コードを受信した図柄制御基板は、前記映像表示手段により映像の変動表示を開始し、前記展開決定手段により決定されたストーリー展開を行うが、前記判定結果が外れであったときには前記複数種類の外れ映像のいずれか１種類に至る前記ストーリー展開を決定し、該決定されたはずれ映像を前記時間コードが示す時間経過後に静止表示することを特徴とする。【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月1日(2008.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属板の片面に融点１８０℃以上の結晶性ポリエステルを主体とする樹脂膜（Ａ）を被覆しもう一方の面に融点１８０℃以上の結晶性ポリエステルよりなる樹脂膜（Ｂ）を被覆された樹脂被覆金属板の製造方法であって、
樹脂膜（Ａ）はポリトリメチレンテレフタレートを主体とするポリエステルとオレフィン系ポリマーが７０：３０〜１００：０（重量％）よりなるものであり、
樹脂膜（Ｂ）はポリトリメチレンテレフタレートを主体とするポリエステルよりなるものであり、
Ｔダイを用いて両端部にオレフィン系ポリマーが合流された状態で得た溶融樹脂膜を冷却固化後に両端部を切断除去して樹脂膜（Ａ）と樹脂膜（Ｂ）を得る工程と、
樹脂膜（Ａ）および樹脂膜（Ｂ）を加熱された金属板にラミネートする工程よりなることを特徴とする樹脂被覆金属板の製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の樹脂膜（Ａ）の両端部と中央部で使用するオレフィン系ポリマーおよび樹脂膜（Ｂ）の両端部で使用するオレフィン系ポリマーが同一であることを特徴とするポリエステル系フィルム被覆金属板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月1日(2008.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属板の片面に融点１８０℃以上の結晶性ポリエステルを主体とするフィルム（Ａ）を被覆しもう一方の面に融点１８０℃以上の結晶性ポリエステルよりなるフィルム（Ｂ）を被覆する製造方法において、
ポリエステル系フィルム（Ａ）はポリトリメチレンテレフタレートを主体とするポリエステルとオレフィン系ポリマーが７０：３０〜１００：０（重量％）よりなるものであり、
かつポリエステル系フィルム（Ｂ）はポリトリメチレンテレフタレートを主体とするポリエステルよりなるものであり、
Ｔダイを用いて両端部にオレフィン系ポリマーが合流された状態で層状に押出した溶融樹脂膜を冷却固化して得た樹脂膜（Ａ）および（Ｂ）を縦方向に１軸延伸し、次いで熱固定処理し、次いで両端部を切断除去して１５０℃での縦方向の熱収縮率が４〜３０％であるポリエステル系フィルム（Ａ）および（Ｂ）を得る工程と、
該ポリエステル系フィルム（Ａ）および（Ｂ）を別工程で加熱された金属板にラミネートする工程よりなることを特徴とするポリエステル系フィルム被覆金属板の製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の樹脂膜（Ａ）の両端部と中央部で使用するオレフィン系ポリマーおよび樹脂膜（Ｂ）の両端部で使用するオレフィン系ポリマーが同一であることを特徴とするポリエステル系フィルム被覆金属板の製造方法。
【請求項３】
請求項１記載のオレフィン系ポリマーがポリエチレンおよび／またはエチレン系共重合体であることを特徴とするポリエステル系フィルム被覆金属板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月6日(2008.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】印刷面に対し相対的に動かされる少なくとも１つのレーザビームを用いて、前記印刷面に点状に画像を形成する装置であって、
レーザ光源（４０）と、画点（４１０）に対する前記レーザ光源（４０）の距離の関数でレーザ出力または露光時間を変えるレーザ制御装置（４２６）とを備えている画像形成装置において、
前記画点（４１０）に対する前記レーザ光源（４０）の距離を求める距離計（４１４）を備えており、
前記距離計（４１４）は前記レーザ制御装置に接続されている
ことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】前記レーザ光源（４０）はレーザダイオードである、請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】前記レーザ光源（４０）は、複数の印刷点に同時に画像を形成する、空間的に互いに隔たった複数のレーザビーム（４２）を生成する、請求項１または２に記載の画像形成装置。
【請求項４】前記レーザ光源（４０）は、個々に制御可能なレーザダイオードアレイである、請求項１から３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項５】拡散軸に直角な２つの空間方向に、場所に応じた強度分布で、かつ一定の発散のレーザビーム（４２）を生成するレーザ光源（４０）を設けるステップと、
印刷面（４８）を前記レーザ光源（４０）から離して設けるステップと、
前記レーザ光源（４０）から所定の距離だけ離れた前記印刷面（４８）の露光を行うステップと、
前記印刷面（４８）上の画点（４１０）の大きさを変えるために、レーザ制御装置（４２６）によって、前記印刷面上の前記画点（４１０）からの前記レーザ光源（４０）の距離に応じてレーザ出力または露光時間を変更するステップと、
を含む、少なくとも１つのレーザビームを用いて印刷面に点状に画像を形成する方法において、
前記レーザ制御装置に接続されている距離計（４１４）によって前記画点（４１０）に対する前記レーザ光源（４０）の距離を求めるステップを含むことを特徴とする画像形成方法。
【請求項６】前記レーザ出力または前記露光時間を変更することによって、前記印刷面（４８）上の前記画点（４１０）の大きさを所定の値になるように調節する、請求項５に記載の方法。
【請求項７】印刷ユニットにおいて、請求項１から４のいずれか１項に記載の画像形成装置を少なくとも１つ有することを特徴とする印刷ユニット。
【請求項８】印刷機において、請求項７に記載の印刷ユニットを少なくとも１つ有することを特徴とする印刷機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
このようなオートフォーカスシステムは、限られた範囲でのみ迅速に動作できる。例えばレーザ光学系を作動させるときには、無視できない程度の加速を迅速に行い、正確な位置決めを行い、そして再び迅速に制動しなければならない。例えば、印刷面の下方の汚れや、紙粉の粒や、印刷面の折り曲げなどによって生じるような、高い頻度で起きる障害に対して、このようなシステムが要する復旧時間は長すぎる。したがって、これは、画像形成のエラーになることが多い。マルチチャンネルシステム、すなわち複数の平行なレーザビームを有する画像形成装置では、結像用光学系全体が移動させられるので、通常、各レーザビーム全てを正確に調整できるわけではない。言い換えれば、同時に発生する全レーザビームの、目標距離からのずれが全体で最小になるように妥協しなければならない。一般に、結像用光学系の移動によって動作する機械式のオートフォーカスシステムの構造は、技術的に費用がかかり、相応の設置空間が必要となり、比較的に高いコストの原因となる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月27日(2008.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板上に形成された金属反射膜とを有し、前記金属反射膜に対して波長がおよそ４０５ｎｍの光ビームを照射することにより情報を再生する光記録媒体であって、
主データとしてピット列が形成された主情報領域と、
前記金属反射膜をレーザにより部分的に除去して反射膜除去領域を複数個形成することにより、光記録媒体を個別に識別するための媒体識別情報が記録された副情報領域とを有し、
前記副情報領域において前記基板上にピット列又は案内溝が形成され、前記ピット列又は案内溝のトラックピッチが０．２４μｍ以上０．４５μｍ以下であることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
前記光ビームの光源の波長をλ、前記金属反射膜上に形成された樹脂層の屈折率をｎとしたときに、前記副情報領域において前記基板上に形成されたピット列又は案内溝の深さＤは、λ／（６×ｎ）≦Ｄ≦λ／（３×ｎ）の関係式を満たすことを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記主情報領域において前記基板上に形成されたピット列の深さは、前記副情報領域において前記基板上に形成されたピット列又は案内溝の深さと等しいことを特徴とする請求項１又は２のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の光記録媒体を再生する情報再生方法であって、
前記ピット列が形成された主情報領域と、前記媒体識別情報が記録された副情報領域とを、波長４０５ｎｍの光ビームを前記金属反射膜に照射することで再生することを特徴とする光記録媒体の情報再生方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月28日(2008.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  核粒子と前記核粒子の表面の少なくとも一部を覆う被覆層を有する複合粒子からなるリチウムを吸蔵放出可能な負極材料、および黒鉛質粒子からなる導電材を含む負極を具備する非水電解質二次電池であって、
（ａ）前記核粒子を構成する固相Ａがケイ素およびスズよりなる群から選択される少なくとも１種の元素からなり、（ｂ）前記被覆層を構成する固相Ｂが、前記固相Ａを構成する元素と、ケイ素、スズおよび炭素を除く２族〜１４族元素よりなる群から選択される少なくとも１種の元素との固溶体または金属間化合物からなり、さらに、（ｃ）前記負極材料のメジアン径Ｄａと前記導電材のメジアン径Ｄｃの比Ｄｃ／Ｄａが０．０２〜０．５であることを特徴とする非水電解質二次電池。
【請求項２】  前記固相Ａがスズからなり、前記固相ＢがＴｉ2Ｓｎからなることを特徴とする請求項１記載の非水電解質二次電池。
【請求項３】  前記固相Ａがケイ素からなり、前記固相ＢがＴｉＳｉ2からなることを特徴とする請求項１記載の非水電解質二次電池。
【請求項４】  前記導電材を、前記負極材料１００重量部に対して５〜６０重量部含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の非水電解質二次電池。
【請求項５】  前記負極材料のメジアン径が０．１〜５００μｍであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の非水電解質二次電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
前記固相Ａがスズからなり、前記固相ＢがＴｉ2Ｓｎからなるのが有効である。
また、前記固相Ａがケイ素からなり、前記固相ＢがＴｉＳｉ2からなるのが有効である。
また、前記導電材を、前記負極材料１００重量部に対して５〜６０重量部含有するのが有効である。
また、前記負極材料のメジアン径が０．１〜５００μｍであるのが有効である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
そして、本発明者らは、鋭意検討の結果、導電材として黒鉛質粒子を用い、上記負極材料のメジアン径Ｄａと導電材のメジアン径Ｄｃの粒径比Ｄｃ／Ｄａを０．０２〜０．５とすれば、改善された充放電サイクル特性を有する非水電解質二次電池を得ることができることを見出したのである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
《実施例４》
本実施例においては、以下の方法で合金を合成した。
ステンレスボール（直径６ｍｍ）２ｋｇを入れたアトライタミル（容量１０００ｍｌ）中に、ＴｉＳｉ2の組成に対応する比率で各種金属（Ｔｉ粉末、Ｓｉ粉末、全て粒径１５０μｍ以下）を含む混合粉末を投入した。
本実施例で使用したアトライタミルは横型回転式であり、最上部は任意の雰囲気（ガスおよび圧力）に設定可能な弁構造を有する。投入する混合粉末量は８０ｇとした。
ボールおよび原料粉末が占める体積はアトライタミル内部の約２／３であった。
その他の合成ミルとしては、縦型のアトライタミル、ボールミル、振動ボールミル、遊星ボールミル、ロッドミル、アクアマイザ（ホソカワミクロン製）およびこれらを応用した装置を用いても同様に合金を合成することが可能であった。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
また透過型電子顕微鏡による粒子観察を行ったところ、粒子内に金属シリコンの存在が確認され、Ｓiからなる固相ＡとＴｉＳｉ2からなる固相Ｂを有した粒子であることが分かった。
このように得られた負極材料を用いた以外は実施例１と同様にコイン型非水電解質二次電池を作製し、実施例１と同様の試験を行った。その結果を表５に示す。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月21日(2008.3.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  データの組みが、例えばコンピュータ装置又は、ビデオ及び/又はオーディオ再生装置のような取り扱い装置を使用してデータの組の少なくとも一部が読み出され且つ処理されることができるように蓄積され、データの組の第1の部分が読出し専用メモリ領域に蓄積され、且つ、データの組の他の部分が蓄積媒体の読出し／書き込み領域に蓄積されており、
データの組の少なくとも一部は取り扱い装置により読み出され且つ、第１の処理形式で処理されることができ、データの組のその一部は少なくとも1つの他の処理形式で処理されることができ、その処理形式の各々は取り扱い装置により選択され、データの組み内の独立データは、第1の処理形式内でのデータの組の少なくとも部分的な処理と、少なくとも１つの他の処理形式内でのデータの組の少なくとも部分的な処理の両方に対して使用され、データの組の第１の部分内に含まれており、その第１の部分は読出し専用メモリ領域内に蓄積されていることを特徴とする蓄積媒体。
【請求項２】  データの組み内の従属するデータの少なくとも一部は、第1の処理形式内のデータの組の少なくとも部分的な処理又は、少なくとも１つの他の処理形式内のデータの組の少なくとも部分的な処理のいずれかに対して使用され、データの組の他の部分に含まれており、その部分は読出し／書き込みメモリ領域に蓄積されていることを特徴とする請求項１に記載の蓄積媒体。
【請求項３】  データの組み内の従属するデータはデータの組の他の部分に全て含まれており、読出し／書き込みメモリ領域に蓄積されていることを特徴とする請求項２に記載の蓄積媒体。
【請求項４】  独立データは全てデータの組み内の言語に独立するデータを含み、且つ、従属するデータは全てデータの組み内の言語に従属するデータを含み、言語に独立するデータと言語に従属するデータは、第１の処理形式と少なくとも１つの他の処理形式が、それぞれの処理形式の状況で使用される言語に関して少なくとも異なるように取り扱い装置により処理される、請求項２或は３に記載の蓄積媒体。
【請求項５】  第１の処理形式と少なくとも１つの他の処理形式が、画像又は、テキスト再生及び/又は音声再生に関するそれぞれの処理形式の状況で使用される言語又は使用される複数の言語に関して少なくとも異なる請求項４に記載の蓄積媒体。
【請求項６】  データの組みは映画を含み、少なくともいくつかの従属するデータは、言語に依存するスクリーン字幕を生じるように取り扱い装置により処理されることができる請求項５に記載の蓄積媒体。
【請求項７】  第１の処理形式と少なくとも１つの他の処理形式は、取り扱い装置の言語制御に関するそれぞれの処理形式の状況で使用される言語に関して少なくとも異なる請求項４乃至６のうちいずれか一項記載の蓄積媒体。
【請求項８】  第１の処理形式と少なくとも１つの他の処理形式は、アプリケーションソフトウェア製品の第１のモジュールの組合せを処理すること又はアプリケーションソフトウェア製品の他のモジュールの組合せを処理することに対応し、それは第１のモジュールの組合せの少なくとも一部を有し、かつ、その中の独立データの全てはモジュールに独立なデータを有し、データの組の中で、第１のモジュールの組合せと他のモジュールの組合せを処理するために必要であり、且つ従属するデータの全てはモジュールに従属するデータを含み、データの組の中で、第１のモジュールの組合せを処理するために又は他のモジュールの組合せを処理するために必要である請求項２乃至７のうちいずれか一項記載の蓄積媒体。
【請求項９】  データの組みが、データの組の第1の部分が読出し専用メモリ領域に蓄積され、データの組の他の部分が蓄積媒体の読出し／書き込み領域に蓄積されているように、蓄積媒体上に蓄積された蓄積媒体上のデータを処理する方法であって、
データの組の少なくとも一部が、例えばコンピュータ装置又は、ビデオ及び/又はオーディオ再生装置のような取り扱い装置を使用して読み出され且つ処理されることができ、データの組は、第１の処理形式で処理され、データの組のその一部は少なくとも1つの他の処理形式で処理されることができ、その処理形式の各々は取り扱い装置により選択され、データの組み内の独立データは、第1の処理形式内でのデータの組の少なくとも部分的な処理と、少なくとも１つの他の処理形式内でのデータの組の少なくとも部分的な処理の両方に対して使用され、データの組の第１の部分内に含まれており、その第１の部分は読出し専用メモリ領域内に蓄積されていることを特徴とする蓄積媒体上のデータを処理する方法。
【請求項１０】  データの組み内の独立及び従属のデータは、光蓄積媒体上に蓄積され、少なくともいくつかの独立データは通信ネットワークから取り出され、且つ続いて、光蓄積媒体に蓄積される請求項１乃至９のうちいずれか一項記載の蓄積媒体を製造する方法。
【請求項１１】  光蓄積媒体は、例えば、ＤＶＤ又はＣＤ又はミニディスクである請求項１乃至８のうちのいずれか一項記載の蓄積媒体又は、請求項９或は１０記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月3日(2007.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザー光によって走査される円周状のトラックを有する情報層を少なくとも１層備えた光ディスクにおいて、
上記情報層の少なくとも１層に、複数の種類の情報層に関する情報が記録された管理領域を備え、
上記管理領域に記録された上記複数の情報層に関する情報は、当該管理領域を有する情報層以外の複数の種類の各情報層の有無に関する情報を含み、
上記管理領域にその有無が記録される上記複数の種類の各情報層は、上記レーザー光の入射面に対し互いに異なる深さに配置されるものであり、
上記複数の種類の各情報層の有無に関する情報が記録された上記管理領域は、上記レーザー光の入射面に最も近い位置に配置されることを特徴とする光ディスク。
【請求項２】
請求項１に記載の光ディスクの再生を行う光ディスク装置であって、
上記管理領域にアクセスする手段と、
上記管理領域の情報から、上記複数の種類の各情報層の有無に関する情報を抽出する手段とを備えることを特徴とする光ディスク装置。
【請求項３】
請求項１に記載の光ディスクの再生を行う光ディスク再生方法であって、
上記管理領域にアクセスし、
上記管理領域の情報から、上記複数の種類の各情報層の有無に関する情報を抽出することを特徴とする光ディスク再生方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光ディスク、光ディスク装置、及び光ディスク再生方法
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月11日(2008.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
Ｓｉ半導体層からなるコレクタ領域上に、一導電型の第１の不純物がドープされたＳｉＧｅ混晶からなる真性ベース領域を形成する工程と、
前記真性ベース領域上に、Ｓｉ半導体層からなるエミッタ領域を形成する工程と、
前記真性ベース領域の一部に、前記第１の不純物をさらにドープして、前記真性ベース領域よりも高濃度な前記第１の不純物がドープされた外部ベース領域を形成する工程と、
前記外部ベース領域に、第２の不純物をさらにドープする工程と
を含み、
前記第１の不純物の原子半径は、Ｓｉの原子半径よりも小さく、
前記第２の不純物の原子半径は、Ｓｉの原子半径よりも大きい
ことを特徴とする、ヘテロ接合バイポーラトランジスタの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
本発明に係わるヘテロ接合バイポーラトランジスタの製造方法は、Ｓｉ半導体層からなるコレクタ領域上に一導電型の第１の不純物がドープされたＳｉＧｅ混晶からなる真性ベース領域を形成する工程と、真性ベース領域上にＳｉ半導体層からなるエミッタ領域を形成する工程と、真性ベース領域の一部に第１の不純物をさらにドープして、真性ベース領域よりも高濃度な第１の不純物がドープされた外部ベース領域を形成する工程と、外部ベース領域に第２の不純物をさらにドープする工程とを含み、第１の不純物の原子半径はＳｉの原子半径よりも小さく、第２の不純物の原子半径はＳｉの原子半径よりも大きいことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月7日(2008.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
交流電源を整流して直流に変換する直流電源回路と、該直流電源回路の正負母線間に直列に接続された第１および第２スイッチング素子を交互にオンオフして高周波電圧を発生するインバータ回路と、該インバータ回路の出力に接続された加熱コイル及び共振コンデンサからなる負荷回路と、前記インバータ回路を構成する第１または第２スイッチング素子の何れか一方の両端に並列に接続されたスナバコンデンサと第３スイッチング素子によるスナバ回路と、前記インバータ回路の第１、第２スイッチング素子およびスナバ回路の第３スイッチング素子に駆動信号を出力する制御手段とを備え、
前記制御手段は前記インバータ回路の第１および第２スイッチング素子に対する駆動信号の周波数及び導通比の少なくとも一方を変化させて加熱出力を制御するとともに、前記スナバ回路が並列に接続された第１または第２スイッチング素子が導通している状態において前記第３スイッチング素子の導通・非導通の切り換えを行うことを特徴とする誘導加熱調理器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この発明に係る誘導加熱調理器は、交流電源を整流して直流に変換する直流電源回路と、直流電源回路の正負母線間に直列に接続された第１および第２スイッチング素子を交互にオンオフして高周波電圧を発生するインバータ回路と、インバータ回路の出力に接続された加熱コイル及び共振コンデンサからなる負荷回路と、インバータ回路を構成する第１または第２スイッチング素子の何れか一方の両端に並列に接続されたスナバコンデンサと第３スイッチング素子によるスナバ回路と、インバータ回路の第１、第２スイッチング素子およびスナバ回路の第３スイッチング素子に駆動信号を出力する制御手段とを備え、
制御手段はインバータ回路の第１および第２スイッチング素子に対する駆動信号の周波数及び導通比の少なくとも一方を変化させて加熱出力を制御するとともに、スナバ回路が並列に接続された第１または第２スイッチング素子が導通している状態において第３スイッチング素子の導通・非導通の切り換えを行うものである。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月2日(2008.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
低融点金属からなる導電性フィラーと感光性樹脂とからなる導電性材料であって、
前記導電性フィラーが分散された液状の感光性樹脂に光照射を行うことで硬化させ、さらに加熱または加熱と加圧を行うことで硬化した前記感光性樹脂を収縮させて、前記導電性フィラー相互間の接合を生じさせることを特徴とする導電性材料。
【請求項２】
前記感光性樹脂は、少なくとも可視光に感光する材料であることを特徴とする請求項１に記載の導電性材料。
【請求項３】
前記感光性樹脂は、ピーク感度が可視光領域に調節されたアクリレート系樹脂を主剤とすることを特徴とする請求項２に記載の導電性材料。
【請求項４】
前記導電性フィラーは球状であることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の導電性材料。
【請求項５】
前記導電性フィラーは、Ｓｎ−Ａｇ−Ｉｎ系合金、Ｓｎ−Ａｇ−Ｂｉ系合金、Ｓｎ−Ａｇ−Ｂｉ−Ｃｕ系合金、Ｓｎ−Ａｇ−Ｉｎ−Ｂｉ系合金、Ｚｎ−Ｉｎ系合金、Ａｇ−Ｓｎ−Ｃｕ系合金、Ｓｎ−Ｚｎ−Ｂｉ系合金、Ｉｎ−Ｓｎ系合金、Ｉｎ−Ｂｉ−Ｓｎ系合金およびＳｎ−Ｂｉ系合金から選択された少なくとも１種類のハンダ合金からなることを特徴とする請求項４に記載の導電性材料。
【請求項６】
複数の電極端子が同一表面に設けられた電子部品と、
前記電極端子と対応する位置に接続端子が設けられた実装基板と、
前記電極端子と前記接続端子とを接続するための導電性接続部材とを備え、
前記導電性接続部材が請求項１から請求項５までのいずれか１項に記載の導電性材料であることを特徴とする電子部品実装構造体。
【請求項７】
基材上に低融点金属からなる導電性フィラーと感光性樹脂とからなる配線電極が形成された配線基板であって、
前記配線電極は請求項１から請求項５までのいずれか１項に記載の導電性材料を用いたことを特徴とする配線基板。
【請求項８】
前記基材には、少なくとも一方の面上に配線パターンと前記配線パターン上に絶縁性樹脂層とが形成され、前記絶縁性樹脂層の設定した位置に前記配線パターンが露出した開口部が形成されており、
前記配線電極は前記開口部を含めて前記絶縁性樹脂層上に形成され、前記配線パターンと前記配線電極とが前記開口部を介して電気的に導通されていることを特徴とする請求項７に記載の配線基板。
【請求項９】
前記配線電極を含む前記基材面上に、さらに絶縁保護膜が形成されていることを特徴とする請求項７または８に記載の配線基板。
【請求項１０】
前記絶縁保護膜は、熱硬化性樹脂材料からなることを特徴とする請求項９に記載の配線基板。
【請求項１１】
電子部品の一方の面上に複数の電極端子が形成された前記電子部品の前記電極端子の面上に、感光性樹脂と低融点金属からなる導電性フィラーとを含む感光性液状樹脂を設定した厚みに配置する配置工程と、
前記電極端子上の前記感光性液状樹脂に対して選択的に光照射を行い、前記電極端子上の前記感光性液状樹脂を硬化させて突起部を形成する突起部形成工程と、
前記電子部品を前記感光性液状樹脂から取り出し、前記突起部以外の前記感光性液状樹脂を除去する除去工程と、
前記突起部を介して前記電子部品の前記電極端子と実装基板の接続端子とを位置合せする位置合せ工程と、
前記電子部品および前記実装基板の少なくとも一方を押圧するとともに加熱して、前記突起部の前記感光性樹脂を収縮させ、前記導電性フィラー相互間の接合と、前記電極端子および前記接続端子と前記導電性フィラーとの接続を行う導電性接続部材を形成する接続部材形成工程とを備えたことを特徴とする電子部品実装構造体の製造方法。
【請求項１２】
低融点金属からなる導電性フィラーと感光性樹脂とを含む感光性液状樹脂を、平板状の基材の表面上にあらかじめ設定した厚みに配置する配置工程と、
前記基材上の前記感光性液状樹脂に対して選択的に光照射を行い、配線電極に相当する領域の前記感光性液状樹脂を硬化させて、前記基材上に樹脂配線パターンを形成するパターン形成工程と、
前記樹脂配線パターンを加熱して、前記樹脂配線パターンの前記感光性樹脂を収縮させ、前記導電性フィラー相互間の接合を行い、前記配線電極を形成する電極形成工程とを備えたことを特徴とする配線基板の製造方法。
【請求項１３】
前記電極形成工程後に、前記配線電極を含む前記基材面上に絶縁保護膜を形成する工程をさらに設けたことを特徴とする請求項１２に記載の配線基板の製造方法。
【請求項１４】
前記絶縁保護膜の材料として、熱硬化性樹脂材料を用いることを特徴とする請求項１３に記載の配線基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月8日(2008.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記溶接ワイヤとしてＡｌ−Ｍｇ合金系アルミニウムワイヤを用いる時に、Ｍｇの量を通常のアーク溶接用ワイヤの添加元素量の１．０５から１．２倍含有させる請求項１または２に記載の複合溶接方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記溶接ワイヤとしてＡｌ−Ｍｇ合金系アルミニウムワイヤを用いる時に、Ｍｇの量を通常のアーク溶接用ワイヤの添加元素量の１．０５から１．２倍含有させる請求項７に記載の複合溶接装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
図５は、同実施の形態１におけるアーク電流とアーク電圧とワイヤ供給速度との相関関係を示す模式図である。なお、図４に示す内容と同様の構成及び動作と作用効果を奏するところには同一符号を付して詳細な説明を省略し、異なるところを中心に説明する。図５において、ＶＡＲＣはアーク長であり、ＶＭはワイヤ供給速度である。ＶＡＲＣ１はアーク溶接単独時のアーク単独時アーク電圧であり、ＶＡＲＣＡは複合溶接時の複合溶接時アーク電圧である。溶接時の動作は、以下の通りである。Ｊは曲線Ｃ４におけるアーク単独時ワイヤ供給速度動作点であり、Ｊ’は前記動作点Ｊと対応する、曲線Ｃ５におけるアーク単独時アーク電圧動作点である。図４に示す通り、溶接ワイヤ７にレーザ出力ＰＡのレーザビーム５を照射すると、同一のワイヤ供給速度ＶＭでは、差電流ΔＩＡだけアーク電流が低下する。その結果、ワイヤ供給速度ＶＭは、アーク単独時ワイヤ供給速度動作点Ｊから矢印Ｌの方向に曲線６における複合溶接時ワイヤ供給速度動作点Ｋに移動する。この時、アーク電圧ＶＡＲＣは、曲線Ｃ５おけるアーク溶接単独時アーク電圧動作点Ｋ’’ではなく、矢印Ｍの方向に曲線７における複合溶接時アーク電圧動作点Ｋ’に移動する。この時のアーク電圧ＶＡＲＣは、複合溶接時アーク電圧ＶＡＲＣＡとなる。これは、前述の通り、ワイヤ７がレーザビーム５の直接照射を受け、アーク溶接単独時より速く溶融するためである。また、使用するレーザ溶接またはアーク溶接の条件によっては、前記アーク電圧ＶＡＲＣは、曲線Ｃ８おける複合溶接時アーク電圧動作点Ｋ’’’に移動することも可能である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
【数２】
2008093718.tif 000001
但し、ＩＡＨは複合溶接時アーク電流であり、ＥＸＨはワイヤ突出し長さであり、ＰＬＡＳＥＲはレーザ出力である。γは比例定数であり、ワイヤの材質や径、直接レーザビーム７の照射を受ける前記ワイヤ７の長さ、ワイヤ７の供給速度と関連するレーザ照射時間、レーザビーム７の広がり角度とその強度分布、図１に示す設置方法、などによって変化する。（数１）と（数２）との一元二次方程式を解き、なお、両者を比較することによって、図４に示す差電流ΔＩＡを求める（数３）を得ることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
【数３】
2008093718.tif 000002
実際の溶接では、アーク単独溶接と複合溶接との両方ともアーク電圧またはアーク長を一定の範囲に維持することが望ましい。なお、図３に示すように、ワイヤ突出し長さＬ６と比較してアーク長Ｌ５が非常に短い。したがって、前記（数３）においてアーク溶接単独時の突出し長さＥＸと複合溶接時の突出し長さＥＸＨとを近似的に等しく仮定しても差し支えない。したがって、ＥＸ＝ＥＸＨとすることによって、より簡略化した（数４）を得ることができる。
【数４】
2008093718.tif 000003
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
（数４）によると、複合溶接ではレーザ出力ＰＬＡＳＥＲを増加することによって差電流ΔＩＡを増加させることができる。但し、図４に示すように、差電流ΔＩＡは無限に増加できるものではなく、限界差電流ΔＩＡＴＨがある。前記限界差電流ΔＩＡＴＨについて説明する。レーザ出力ＰＬＡＳＥＲを増加させると、アーク長Ｌ５が増加するが、チップ・母材間距離Ｌ２が一定なので、ワイヤ突出し長さＬ６が短くなる。溶接ワイヤ７の先端部分において直接にレーザビーム５の照射を受ける長さは（Ｌ６−Ｌ５）なので、アーク長Ｌ５が増加すると、レーザビーム５の直接照射を受けるワイヤ７の長さが短くなる。これは、（数３）ではγ値が小さくなることに相当する。その結果、レーザ出力ＰＬＡＳＥＲの増加と共にγ値が低下する。ワイヤ突出し長さＬ６がレーザ非照射長さＬ４とほぼ等しくなった場合、γ値もほとんど０まで低下する。
したがって、これ以上レーザ出力ＰＬＡＳＥＲを増加しても、アーク電流ＩＡＲＣの低下がなくなる。この時の差電流は、限界差電流ΔＩＡＴＨとなる。但し、厳密には、ワイヤ突出し長さＬ６がレーザ非照射長さＬ４と完全に等しくなることはない。これは、溶接ワイヤ７がレーザビーム５の照射を受けてから溶融するまでに時間が必要なためである。
すなわち、図４に示すように、どんなにレーザ出力ＰＬＡＳＥＲを増やしても複合溶接のアーク長Ｌ５は、レーザ照射長さＬ３より常にレーザ加熱過渡長さＬ７分だけ短い。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月12日(2008.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水と、シリカ粒子と、酸、酸の塩及び酸化剤から選ばれる少なくとも１つとを含有する磁気ディスク基板用研磨液組成物であって、
前記シリカ粒子は、透過型電子顕微鏡観察による測定で得られた該シリカ粒子の最大径を直径とする円の面積を該シリカ粒子の投影面積で除して１００を乗じた値（ＳＦ１）が１００〜１１５の範囲であり、
前記シリカ粒子は、透過型電子顕微鏡観察による測定で得られた該シリカ粒子の周長を円周とする円の面積を該シリカ粒子の投影面積で除して１００を乗じた値（ＳＦ２）が１００〜１０５の範囲であり、
前記シリカ粒子は、透過型電子顕微鏡観察による測定で得られた該シリカ粒子の粒径（ｎｍ）に対して小粒径側からの累積体積頻度（％）をプロットして得られた該シリカ粒子の粒径対累積体積頻度グラフにおいて、粒径４０〜４５ｎｍの範囲における累積体積頻度（Ｖ）が粒径（Ｒ）に対し、以下の式（５）：
Ｖ≧Ｒ＋５０  （５）
を満たし、かつ該シリカ粒子の粒径１５ｎｍにおける累積体積頻度が２０％以下である、磁気ディスク基板用研磨液組成物。
【請求項２】
前記シリカ粒子は、コロイダルシリカである、請求項１に記載の磁気ディスク基板用研磨液組成物。
【請求項３】
水と、シリカ粒子と、酸、酸の塩及び酸化剤から選ばれる少なくとも１つとを含有する研磨液組成物を用いて被研磨基板を研磨する工程を含む磁気ディスク基板の製造方法であって、
前記研磨液組成物は、請求項１又は２に記載の磁気ディスク基板用研磨液組成物である、磁気ディスク基板の製造方法。
【請求項４】
前記研磨する工程において１１．７〜２０ｋＰａの研磨圧力で前記被研磨基板を研磨する、請求項３に記載の磁気ディスク基板の製造方法。
【請求項５】
前記研磨する工程において１１．７〜２０ｋＰａの研磨圧力で前記被研磨基板を研磨した後で、１１．７ｋＰａ未満の研磨圧力で前記被研磨基板を研磨する仕上げ研磨工程を更に含む、請求項４に記載の磁気ディスク基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月28日(2008.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
標的とする組織を含む患者の皮膚を処置するためのレーザシステムであって、
前記標的とする組織に選択的に吸収されるような波長の光を発生する利得媒質と、
その利得媒質を励起して前記光を発生させるための少なくとも１つのフラッシュランプと、
その少なくとも１つのフラッシュランプに電力を供給するために接続される電源と、
その電源による前記少なくとも１つのフラッシュランプの駆動を制御して、レーザ光出力パルスを発生するように、前記少なくとも１つのフラッシュランプを流れる電流を変調するフラッシュランプ駆動源と、
前記レーザ光出力パルスを前記標的とする組織を含む患者の皮膚に伝達する光伝達システムとを備え、
前記レーザ光出力パルスが１ミリ秒以上である持続時間中に一連のサブパルスを含み、その一連のサブパルスが、前記標的とする組織を段階的に温度が上昇するように加熱して選択的に損傷するレーザシステム。
【請求項２】
請求項１において、
前記レーザ光出力パルスが５ミリ秒よりも長い持続時間をもつレーザシステム。
【請求項３】
請求項１において、
前記レーザ光出力パルスが１０ミリ秒よりも長い持続時間をもつレーザシステム。
【請求項４】
請求項１において、前記利得媒質がアレキサンドライトであるレーザシステム。
【請求項５】
請求項１において、前記利得媒質が色素であるレーザシステム。
【請求項６】
請求項１において、前記利得媒質がルビーであるレーザシステム。
【請求項７】
請求項１において、前記フラッシュランプ駆動源がパルス形成回路を有するレーザシステム。
【請求項８】
請求項７において、前記フラッシュランプ駆動源が能動パルス形成回路を有するレーザシステム。
【請求項９】
請求項１において、前記一連のサブパルスの持続時間が１ミリ秒よりも長いレーザシステム。
【請求項１０】
請求項１において、前記光伝達システムが前記レーザ光出力パルスを０．１ないし１０ｃｍ２のスポットサイズで前記標的とする組織を含む患者の皮膚に伝達するレーザシステム。
【請求項１１】
請求項１において、前記レーザ光出力パルスが１０ないし５０Ｊ／ｃｍ２のフルエンスをもつレーザシステム。
【請求項１２】
脱毛レーザシステムであって、
持続時間が１ないし４０ミリ秒で、フルエンスが１０ないし５０Ｊ／ｃｍ２で、前記持続時間中に一連のサブパルスを含むレーザ光出力パルスを発生する長パルスアレキサンドライトレーザと、
前記レーザ光出力パルスを、毛乳頭およびその周囲の栄養血管を含む患者の毛の生える皮膚に伝達する光伝達システムとを備え、
前記一連のサブパルスが、前記毛乳頭およびその周囲の栄養血管を段階的に温度が上昇するように加熱して選択的に損傷する脱毛レーザシステム。
【請求項１３】
請求項１２において、前記皮膚に塗られ、前記レーザ光出力パルスに可視的に反応する局部指示剤を備える脱毛レーザシステム。
【請求項１４】
請求項１３において、前記局部指示剤が、オペレータに、前記皮膚において前記レーザ光出力パルスですでに処置された部分であることを示す照射のマーカを与える脱毛レーザシステム。
【請求項１５】
請求項１２において、前記長パルスアレキサンドライトレーザが、
アレキサンドライト利得媒質と、
そのアレキサンドライト利得媒質を励起するための少なくとも１つのフラッシュランプと、
その少なくとも１つのフラッシュランプに電力を供給するために接続される電源と、
その電源による前記少なくとも１つのフラッシュランプの駆動を制御するフラッシュランプ駆動源とを有する脱毛レーザシステム。
【請求項１６】
請求項１５において、前記フラッシュランプ駆動源が、持続時間中に一連のサブパルスを含むレーザ光出力パルスを発生するように、前記少なくとも１つのフラッシュランプを流れる電流を変調する脱毛レーザシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月17日(2008.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被験者の頭部の外部に配置して、頭部内に電流を誘導するために操作可能な電導性コイルであって、
基部と拡張部とを含み、
該基部は、幅の軸、長さの軸、及び被験者の頭部に相補的に構成された第一の側面を有し、該基部内のコイルが、それぞれの内部を流れる電流が実質的に同じ方向となるように幅の軸に沿って方向付けられた複数の刺激要素であって、該コイルが頭上に配置され通電された時に、被験者の頭部内に深部刺激の領域を生成する、刺激要素を含み、
該拡張部は、基部の第一の側面とは反対の側面から外側に突出し、該複数の刺激要素内を流れる電流のための帰路を提供し、基部から外側に突出し、長さの軸に沿って横に距離をおいて少なくともいくつかの刺激要素から離れた位置で基部にカップリングする拡張要素を含む拡張部である、
電導性コイル。
【請求項２】
拡張部の帰路が、複数の刺激要素内の電流の流れと実質的に反対の方向に電流を有するように構成される、請求項1記載の電導性コイル。
【請求項３】
拡張部内の少なくともいくつかの帰路が、基部において、各刺激要素から少なくとも5cm離れている、請求項1記載の電導性コイル。
【請求項４】
拡張部の少なくとも一部分の周りに配置される、拡張部において生成された磁場を阻害することが可能な遮へい物をさらに含む、請求項1記載の電導性コイル。
【請求項５】
複数の巻線を含む、請求項1記載の電導性コイル。
【請求項６】
拡張部が基部に対して中心からずれた位置に存在する、請求項1記載の電導性コイル。
【請求項７】
基部が柔軟なまたは展性である、請求項1記載の電導性コイル。
【請求項８】
複数の刺激要素が互いに離れている、請求項1記載の電導性コイル。
【請求項９】
少なくとも二つの拡張要素が互いに隣接して基部にカップリングする、請求項1記載の電導性コイル。
【請求項１０】
拡張要素が互いに角度をつけて配置される、請求項1記載の電導性コイル。
【請求項１１】
少なくともいくつかの拡張要素が、基部の直交方向から斜めになっている、請求項1記載の電導性コイル。
【請求項１２】
被験者の頭部の外部に配置して、頭部内に電流を誘導するために操作可能な磁気刺激装置であって、
基部と拡張部とを含み、
該基部は、幅の軸、長さの軸、及び被験者の頭部に相補的に構成された第一の側面を有し、それぞれの内部を流れる電流が実質的に同じ方向となるように幅の軸に沿って方向付けられた複数の刺激要素であって、該磁気刺激装置が頭上に配置され通電された時に、被験者の頭部内に深部刺激の領域を生成する、刺激要素を含み、
該拡張部は、基部から外側に突出する拡張要素を含み、該刺激要素それぞれ一つのための個々の帰路を提供し、少なくともいくつかの該拡張要素が長さの軸に沿って横に距離をおいて各刺激要素から離れた位置で基部にカップリングする拡張部である、
磁気刺激装置。
【請求項１３】
拡張部の帰路が、複数の刺激要素内の電流の流れと実質的に反対の方向に電流を有するように構成される、請求項12記載の磁気刺激装置。
【請求項１４】
拡張部内の少なくともいくつかの帰路が、基部において、これらの各刺激要素から少なくとも5cm離れている、請求項12記載の磁気刺激装置。
【請求項１５】
拡張部の少なくとも一部分の周りに配置される、拡張部において生成された磁場を阻害することが可能な遮へい物をさらに含む、請求項12記載の磁気刺激装置。
【請求項１６】
基部および拡張部分が、一つまたはそれ以上の巻線を含む一つまたはそれ以上の電導性コイルの一部である、請求項12記載の磁気刺激装置。
【請求項１７】
拡張部が基部に対して中心からずれた位置に存在する、請求項12記載の磁気刺激装置。
【請求項１８】
基部が柔軟なまたは展性である、請求項12記載の磁気刺激装置。
【請求項１９】
複数の刺激要素が互いに離れている、請求項12記載の磁気刺激装置。
【請求項２０】
少なくとも二つの拡張要素が互いに隣接して基部にカップリングする、請求項12記載の磁気刺激装置。
【請求項２１】
拡張要素が互いに角度をつけて配置される、請求項12記載の磁気刺激装置。
【請求項２２】
少なくともいくつかの拡張要素が、基部の直交方向から斜めになっている、請求項12記載の磁気刺激装置。
【請求項２３】
被験者の身体の部分の外部に配置して、身体内に電流を誘導するために操作可能な磁気刺激装置であって、
基部と基部の外側に突出した複数の拡張要素を含む拡張部とを含む電導性コイルを含み、
該基部は、実質的に同じ方向に電流を伝えるように構成された複数の刺激要素を含み、
該拡張要素は、刺激要素内の電流のための、該刺激要素から離れた帰路を含み、それによって身体部分に対する帰路の電流の電気的作用が減少する、
磁気刺激装置。
【請求項２４】
基部が長さの軸と幅の軸とを有し、基部内の刺激要素が、刺激要素中の電流が実質的に同じ方向であるように長さの軸に対し離れて横行している、請求項23記載の磁気刺激装置。
【請求項２５】
少なくとも二つの拡張要素が互いに隣接して基部にカップリングする、請求項23記載の磁気刺激装置。
【請求項２６】
拡張要素が互いに角度をつけて配置される、請求項25記載の磁気刺激装置。
【請求項２７】
複数の拡張要素が少なくとも二つの群の複数の拡張要素を含み、同じ群の該拡張要素が互いに隣接して基部にカップリングされる、請求項23記載の磁気刺激装置。
【請求項２８】
拡張部を少なくとも部分的に封入する遮へい物をさらに含む、請求項23記載の磁気刺激装置。
【請求項２９】
コイルに電気的に接続した電源をさらに含む、請求項23記載の磁気刺激装置。
【請求項３０】
基部が、被験者の頭蓋に相補的となるように形成された凹面の第一の側面を有する、請求項23記載の磁気刺激装置。
【請求項３１】
コイルが脳の深部領域内で電場を誘導するための手段を含む、請求項23記載の磁気刺激装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】磁気刺激のためのコイル及び磁気刺激装置
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月20日(2008.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
（２）水添加時の白濁
本発明品１ｇをポリ塩化ビニリデン樹脂シート（商品名：サランラップ、旭化成製）にたらし、更に水を０.１ｇ滴下し、瞬時に白濁するかどうかを目視により観察し、評価した。
（評  価）                          （判定）
瞬時に白濁しない                      ：  ○
瞬時に白濁した                        ：  ×
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月21日(2008.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
甘草２０〜２７％、山査子２〜６％、藁本１〜３％、五加皮２〜４％、何首烏２〜５％、丁香３〜６％、陳皮８〜１０％、蘿蔔子３〜６％、桔梗５〜１０％、アロエ２１〜２６％および牛蒡子１８〜２０％を含む混合物から抽出された漢方薬材抽出物と、ビタミンＣと、カロチノイドとを混合したことを特徴とする喫煙者および喫煙経験者のための抗酸化栄養素補充組成物。
【請求項２】
前記カロチノイドは、β−カロチンであり、
前記ビタミンＣの含有量は、３０〜２００ｍｇであり、
前記β−カロチンの含有量は、１５００〜２００００ＩＵであることを特徴とする請求項１に記載の喫煙者および喫煙経験者のための抗酸化栄養素補充組成物。
【請求項３】
甘草２０〜２７％、山査子２〜６％、藁本１〜３％、五加皮２〜４％、何首烏２〜５％、丁香３〜６％、陳皮８〜１０％、蘿蔔子３〜６％、桔梗５〜１０％、アロエ２１〜２６％および牛蒡子１８〜２０％を混合したものに対して８０％エタノールを加え、８５℃で４時間以上還流冷却しながら抽出して、抽出液を得る抽出段階と、
前記抽出段階で得られた前記抽出液を真空濃縮する濃縮段階と、
前記濃縮段階で濃縮された前記抽出液を噴霧乾燥して、粉末を製造する粉末製造段階と、
前記粉末製造段階で製造された前記粉末と、ビタミンＣと、カロチノイドとを混合する混合段階と、
を備え、
前記濃縮段階は、前記抽出段階の抽出液を濃縮する過程で完全濃縮せず、固形物濃度１０〜１５ブリックス程度まで濃縮してから、少量の賦形剤を添加して、最終濃度を１５〜２０ブリックスにすることを特徴とする、喫煙者および喫煙経験者のための抗酸化栄養素補充組成物の製造方法。
【請求項４】
甘草２０〜２７％、山査子２〜６％、藁本１〜３％、五加皮２〜４％、何首烏２〜５％、丁香３〜６％、陳皮８〜１０％、蘿蔔子３〜６％、桔梗５〜１０％、アロエ２１〜２６％および牛蒡子１８〜２０％を混合したものに対して８０％エタノールを加え、８５℃で４時間以上還流冷却しながら抽出して、抽出液を得る抽出段階と、
前記抽出段階で得られた前記抽出液を真空濃縮して、最終濃度を５５〜６５ブリックスにした濃縮液を製造する濃縮液製造段階と、
前記濃縮液製造段階で製造された濃縮液、ビタミンＣ、カロチノイド、甘味料、酸味料および香料を混合する飲料製造段階と、
を備えることを特徴とする喫煙者および喫煙経験者のための抗酸化栄養素補充組成物の製造方法。
【請求項５】
前記カロチノイドは、β−カロチンであり、
前記ビタミンＣの含有量は、３０〜２００ｍｇであり、
前記β−カロチンの含有量は、１５００〜２００００ＩＵであることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の喫煙者および喫煙経験者のための抗酸化栄養素補充組成物の製造方法。