(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
加熱炉内の多孔質ガラス母材にＳｉＣｌ4 ガスやＳｉＦ4 ガスを供給して加熱する多孔質ガラス母材の脱水焼結装置において、前記加熱炉内の排ガスを炉外に導く排気管の途中に、前記排ガスが空気中の水分や酸素と反応して生成される浮遊物質を付着させて回収する浮遊物回収用配管を装備し、前記浮遊物回収用配管として、流路の屈曲部にガス溜まりとなる流入管が接続されたＴ字型管体を採用し、前記Ｔ字型管体の流入管に、該流入管内に滞留する排ガスの渦流を増強するための空気を導入する空気流導入手段を装備したことを特徴とする多孔質ガラス母材の脱水焼結装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、加熱炉の炉芯管内で加熱する多孔質ガラス母材に対しＳｉＣｌ4 やＳｉＦ4 等のガス雰囲気で脱水焼結処理を行う多孔質ガラス母材の脱水焼結装置に関するもので、詳しくは、装置の稼働率の向上及び保守コストの低減を実現するための改良に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、例えば、石英系ガラス光ファイバの製造においては、まずプリフォームと呼ばれる円柱状のガラス棒を作り、その後、このプリフォームを加熱し、溶かしながら引っ張る線引処理を行って所定の太さの光ファイバに仕上げる。
【０００３】
プリフォームは、線引処理するための前処理として、加熱された多孔質ガラス母材に脱水剤となるＳｉＣｌ4 やＳｉＦ4 等のガスを接触させて、脱水及び焼結を行うことで、透明ガラス化して、最終的に仕上げる光ファイバのコアとクラッドとに相似の寸法，屈折率が付与される。図６は、このようなプリフォームの製造に使用される多孔質ガラス母材の脱水焼結装置の一例を示したものである。
【０００４】
この脱水焼結装置１は、加熱炉３と、該加熱炉３に排気管５ａを接続して装備された排ガス処理装置５とから構成される。加熱炉３は、軸線を上下方向に向けた筒状の炉芯管７と、この炉芯管７の上部を覆う炉芯管上蓋８と、炉芯管上蓋８の中心を昇降自在に挿通して炉芯管７内に多孔質ガラス母材１１を吊持する支持棒１３と、炉芯管７の外周から多孔質ガラス母材１１を加熱するリングヒータ１５と、リングヒータ１５及び炉芯管７の周囲を覆う炉ケーシング１７とを備えた構成である。
【０００５】
脱水焼結装置１では、図に矢印Ｇ1 で示すように、炉芯管７の下部から炉芯管７内に、Ｃｌ2 やＳｉＣｌ4 やＳｉＦ4 等をガス状にして所定圧で供給する。Ｃｌ2 ガスやＳｉＣｌ4 ガスは脱水処理用で、ＳｉＦ4 ガスはＦ添加による屈折率調整用である。ＳｉＣｌ4 ガスやＳｉＦ4 ガスは、炉芯管７内で水分と反応してＳｉＯ2 ススを生成する。このＳｉＯ2 ススは、炉芯管７の低温部に堆積したり、排ガス中に浮遊して排気管５ａより排ガス処理装置５に排出される。
【０００６】
排ガス処理装置５は、炉芯管７内の余分なガスを排ガスとして加熱炉３の外部に導く排気管５ａと、この排気管５ａから排出される排ガスを回収・処理するガス処理手段５ｂとを備えている。従来構造では、例えば排気管５ａには塩化ビニール製の一般的な配管材が使用されている。また、ガス処理手段５ｂは、排ガスを効率よく回収するために、排ガスを吸引する吸引手段を有している。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、前述した従来の脱水焼結装置１においては、図７に示すように、排気管５ａの内周面に、排ガス中の浮遊物質であるＳｉＯ2 （シリカ）１９が薄く付着し、このシリカ１９が徐々に堆積してやがて排気管５ａを閉塞した。このシリカ１９は、例えば支持棒１３が挿通される挿通穴８ａ等から排ガスの吸引圧で炉芯管７内に引き込まれる空気中の水分と、ＳｉＣｌ4 ガスやＳｉＦ4ガスとが反応して生成され、排ガス中に浮遊して排気管５ａ内を流れる際、排気管５ａの内周面に付着するものと考えられる。
【０００８】
そして、排気管５ａに付着したシリカ１９は、固く、且つ、排気管５ａの内周面を薄膜状に広範に広がって堆積する。また、排気管５ａ内周面との接着力も高い。そのため、シリカ１９は、簡単に剥離・除去することができず、堆積が進行して排気管５ａを目詰まりさせ易い。従って、シリカ１９の堆積による排気管５ａの目詰まりを防止するためには、早期に排気管５ａを点検・交換する必要がある。そのため、排気管５ａの点検・交換頻度が多く、装置の稼働率を低下させ、生産性の向上を図ることが難しいという問題があった。また、排気管５ａ上でシリカ１９の堆積箇所を制限することができず、排気管５ａが長い場合には、長い排気管５ａの全体を交換する必要が生じ、保守コストの高騰を招くという問題も生じた。
【０００９】
本発明は、前述した問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、排気管の点検・交換頻度を低減させて、装置の稼働率を向上させることができ、また、長い排気管の交換等による保守コストの上昇を防止することができる多孔質ガラス母材の脱水焼結装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明に係る多孔質ガラス母材の脱水焼結装置は、請求項１に記載したように、加熱炉内の多孔質ガラス母材にＳｉＣｌ4 ガスやＳｉＦ4 ガスを供給して加熱する多孔質ガラス母材の脱水焼結装置において、前記加熱炉内の排ガスを炉外に導く排気管の途中に、前記排ガスが空気中の水分や酸素と反応して生成される浮遊物質を付着させて回収する浮遊物回収用配管を装備し、前記浮遊物回収用配管として、流路の屈曲部にガス溜まりとなる流入管が接続されたＴ字型管体を採用し、前記Ｔ字型管体の流入管に、該流入管内に滞留する排ガスの渦流を増強するための空気を導入する空気流導入手段を装備したことを特徴とする。
【００１１】
このように構成された多孔質ガラス母材の脱水焼結装置においては、浮遊物回収用配管は、排ガスが空気中の水分等と反応して生成される浮遊物質を積極的にトラップすることにより、配管内面に堆積するシリカ等を、配管内面に広範に広がって付着する薄膜状ではなく、配管内面から隆起する塊状にして、付着物の配管内面との接着力を弱めることができるものであり、また、シリカ等の付着・堆積箇所を制限することができ、且つ、付着・堆積したシリカの剥離・除去も困難でなくなるため、浮遊物回収用配管の繰り返し使用が可能になり、排気管の交換等によるコスト上昇を抑えて、保守コストの低減を図ることもできることに加え、例えば、市販のＴ字管（管継手）の一端を閉塞する等の簡単な改良で、安価に浮遊物回収用配管を得ることができるだけでなく、ガス溜まり内で発生した排ガスの渦が、空気流導入手段によって流入する空気流によって増強されて、排ガス中のＳｉＣｌ4 ガスやＳｉＦ4 ガスと、混入した空気中の水分との間の接触が更に高められるため、ガス溜まりにおけるシリカの生成効率、回収効率を一層向上させることができる。なお、保守コストとの低減は、上記した浮遊物回収用配管の繰り返しの使用に基づく外に、浮遊物質の付着・堆積箇所が制限されることで、点検並びに交換（清掃）時間が短縮されることに基づいても得られる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る多孔質ガラス母材の脱水焼結装置の好適な実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。なお、本実施の形態では、多孔質ガラス母材は、光ファイバを製作するための光ファイバ用ガラス母材として説明する。図１は、本発明に係る光ファイバ用ガラス母材の脱水焼結装置の第１の実施の形態を示したものである。
【００１３】
この第１の実施の形態の光ファイバ用ガラス母材の脱水焼結装置２１は、加熱炉３と、該加熱炉３に排気管２４を接続して装備された排ガス処理装置２３とから構成される。加熱炉３は、従来の構成と同一であるので同一符号を用いいて説明する。即ち、加熱炉３は、軸線を上下方向に向けた筒状の炉芯管７と、この炉芯管７の上部を覆う炉芯管上蓋８と、炉芯管上蓋８の中心を昇降自在に挿通して炉芯管７内に光ファイバ用ガラス母材１１を吊持する支持棒１３と、炉芯管７の外周から光ファイバ用ガラス母材１１を加熱するリングヒータ１５と、リングヒータ１５及び炉芯管７の周囲を覆う炉ケーシング１７とを備えた構成である。
【００１４】
脱水焼結装置２１では、図に矢印Ｇ1 で示すように、炉芯管７の下部から炉芯管７内に、Ｃｌ2 やＳｉＣｌ4 やＳｉＦ4 等をガス状にして所定圧で供給する。Ｃｌ2 ガスやＳｉＣｌ4 ガスは脱水処理用で、ＳｉＦ4 ガスはＦ添加による屈折率調整用である。ＳｉＣｌ4 ガスやＳｉＦ4 ガスは、炉芯管７内で水分と反応してＳｉＯ2 ススを生成する。このＳｉＯ2 ススは、炉芯管７の低温部に堆積したり、排ガス中に浮遊して排気管２４より排ガス処理装置２３に排出される。
【００１５】
排ガス処理装置２３は、炉芯管７内の余分なガスを排ガスとして加熱炉３の外部に導く排気管２４と、この排気管２４から排出される排ガスを回収・処理するガス処理手段２５と、排気管２４の途中に着脱可能に装備された浮遊物回収用配管２７とを備えている。排気管２４は、従来装置の排気管５ａ（図６参照）に相当するもので、例えば、塩化ビニール製の一般的な配管材が使用される。また、ガス処理手段２５は、排ガスを効率よく回収するために、排ガスを吸引する吸引手段を有している。
【００１６】
浮遊物回収用配管２７は、排ガスを流す流路の途中にあって、排ガスが空気中の水分等と反応して生成される浮遊物質を付着させて回収するもので、具体的に述べれば、流通する排ガスを、湾曲した流路壁に衝突・滞留させて排ガスのガス溜まりを形成するものである。本実施の形態の場合、浮遊物回収用配管２７は、排気管２４の上流側及び下流側の２箇所に多段に装備される。即ち、浮遊物回収用配管２７が２段に装備されている。
【００１７】
本実施の形態の浮遊物回収用配管２７は、図２に示すように、端部開口が排気管２４に嵌合接続可能になされると共に、内面に凹凸を有した配管材、例えば、長尺の蛇腹管３１を適宜回数蛇行させたものである。蛇腹管３１は、図３に示すように、内径が広がった拡径部３１ｂと内径が狭まる縮径部３１ｃとが軸線方向に交互に連続して並ぶ構造で、拡径部３１ｂによる内周面の窪み３１ａによって排ガスの衝突・滞留を起こすガス溜まりを生じる。また、本実施の形態のように蛇腹管３１を蛇行させた場合に、図２に示す管の湾曲部３２ａ〜３２ｉの内周面も、排ガスの衝突・滞留を起こすガス溜まりとして機能する。
【００１８】
また、本実施の形態では、浮遊物回収用配管２７を構成する蛇腹管３１は、可撓性を有したもので、更に、その流路内面は、耐熱性を有すると共に平滑な樹脂、例えばフッ素樹脂をコーティングした構成となっている。なお、可撓性を有する配管材としては、蛇腹管の外に、プラスチックチューブ等も適用できる。また、各浮遊物回収用配管２７には、振動又は曲げを加える管路付勢手段３４が備えられている。この管路付勢手段３４は、流体圧による伸縮動作で、浮遊物回収用配管２７のガス溜まり周辺の管壁に、振動や曲げ変形を付与する。
【００１９】
また、本実施の形態の場合、排気管２４の途中で、浮遊物回収用配管２７よりも上流側の位置に、空気補充手段３６を設けている。この空気補充手段３６は、排気圧安定（炉芯管７内圧を一定に保つ）のために設けられたもので、ＳｉＣｌ4 ガスやＳｉＦ4 ガスと空気との接触によるシリカの生成を促進させる役割を果たす。
【００２０】
以上に説明した脱水焼結装置２１では、排気管２４を流れる排ガスは、排気管２４の途中に装備された蛇腹管３１の拡径部や湾曲部によるガス溜まりで衝突・滞留する。そして、各ガス溜まり内では衝突・滞留によって排ガスの渦が発生し、排ガス中のＳｉＣｌ4 やＳｉＦ4 と、混入した空気中の水分や酸素等との間の接触が高まって、シリカの生成が促される。その結果、図３に示すように、浮遊物回収用配管２７のガス溜まりに集中してシリカ３８の付着が起こり、付着したシリカ３８は、配管内面に密着する薄膜状ではなく、図示のように、配管内面から隆起する塊状になり、薄膜状のシリカの場合と比較して、配管内周面との接着力が弱く、付着が生じても、振動や衝撃の付与によって配管内周面より剥離・除去し易い。従って、管路付勢手段３４による浮遊物回収用配管２７への振動や衝撃の付与によって、付着・堆積したシリカ３８を剥離させることが容易にでき、排気管２４の交換をせずとも、浮遊物回収用配管２７の取り外しのみによってメンテナンスを行って、排気管２４でのシリカ３８の堆積による目詰まりの発生を回避することができる。即ち、排気管２４の点検・交換頻度を低減させ、メンテナンス時間短縮の実現により、装置の稼働率を向上させることができる。
【００２１】
しかも、本実施の形態では、浮遊物回収用配管２７として、蛇行させた蛇腹管３１を採用しており、蛇腹管３１は軸線方向に一定間隔で内径が広がった拡径部３１ｂを有していて、この拡径部３１ｂによる内径側の窪み３１ａが、排ガスの衝突・滞留を起こすガス溜まりとして機能するため、一定ピッチで多段にガス溜まりを装備した高性能な浮遊物回収用配管２７として働き、安価、且つ、容易にシリカ３８の回収効率を向上させることができる。また、蛇腹管３１は、通常、可撓性を有しているので、流路内面に付着・堆積したシリカ３８を、可撓変形によって剥離・除去する操作も可能で、保守性の向上を図る点でも優れる。
【００２２】
また、本実施の形態では、シリカ３８の付着・堆積箇所が浮遊物回収用配管２７のガス溜まりに制限されて、且つ、付着・堆積したシリカ３８の剥離・除去も困難でなくなるため、浮遊物回収用配管２７の繰り返しの使用が可能になり、保守コストの低減を図ることもできる。
【００２３】
また、本実施の形態では、浮遊物回収用配管２７が２段に装備されていて、各段の浮遊物回収用配管２７が、排ガス中のＳｉＣｌ4 やＳｉＦ4 と空気中の水分や酸素等との反応を促進させて生成されるシリカ３８の回収を容易にするシリカ回収手段として機能する。その結果、シリカ３８の回収率が向上して、シリカ３８やＳｉＣｌ4 ガスやＳｉＦ4 ガスのガス処理手段２５への流入が低減するため、ガス処理手段２５の負担が軽減される。
【００２４】
また、本実施の形態の脱水焼結装置２１では、浮遊物回収用配管２７の流路内面は、フッ素樹脂コーティングされていて、このフッ素樹脂コーティングによる材質特性によってシリカ３８の接着強度が弱まるため、流路内面に付着・堆積したシリカ３８の剥離・除去が更に容易になり、この構成からも、排ガス処理装置２３の保守作業による負担を軽減することができる。
【００２５】
更に、本実施の形態の脱水焼結装置２１では、蛇腹管３１の管壁は、可撓性を有していて、管路の蛇行状態への成形が手作業で簡単に行える。更に、曲げ箇所の変更によりガス溜まりの装備位置の調整が簡単にできる。また、シリカ３８が付着・堆積した場合も、シリカ３８の付着部の管壁を外部から圧迫して弾性変形させることで、シリカ３８の剥離・除去を引き起こすことが容易にでき、排ガス処理装置２３の保守作業による負担を軽減することができる。
【００２６】
また、本実施の形態の脱水焼結装置２１では、管路付勢手段３４によって一定周期で浮遊物回収用配管２７に振動又は曲げを付与する構成としておくことで、ガス溜まりに付着・堆積したシリカ３８を配管の振動や曲げによって剥離させる剥離作業の自動化が可能になり、排ガス処理装置２３の保守作業による負担の軽減、メンテナンスフリー化を強化することができる。
【００２７】
なお、上記の実施の形態では、浮遊物回収用配管２７を２段に配置したが、排気管途中の浮遊物回収用配管２７の装備段数は、上記実施の形態に限定しない。設備の許容スペースや、浮遊物回収用配管におけるシリカの回収性能に応じて、単一、もしくは任意の複数段に設計変更可能である。
【００２８】
また、上記の実施の形態では、浮遊物回収用配管２７として、蛇腹管３１を蛇行させて使用した。そのため、蛇腹管３１の蛇行による湾曲部３２ａ〜３２ｉと、管自体の拡径部３１ｂによる内周面の窪み３１ａとの双方が、排ガスの衝突・滞留を起こすガス溜まりとして機能して、シリカ３８の回収を高効率で行うことができた。しかし、蛇腹管３１を使用するのであれば、管を蛇行させずに、管自体の拡径部３１ｂによる内周面の窪み３１ａだけを、ガス溜まりとして機能させるようにすることもできる。
【００２９】
また、蛇行等による管の湾曲部が、排ガスの衝突・滞留を起こすガス溜まりとして機能するため、蛇腹管でなく、内径が一定の通常の配管材の一部を湾曲させて、その湾曲部をガス溜まりとして機能させる構成とすることもできる。その時の湾曲状態は、Ｌ字状、あるいはリング状など、適宜に工夫することができる。
【００３０】
また、浮遊物回収用配管２７として使用する蛇腹管３１は、長さ寸法が長い程、ガス溜まりとして機能する窪み３１ａの数（段数）が増えて、シリカ３８の回収効率の向上に有利となる。設置スペース等との兼ね合いもあるが、本発明者らの実験によれば、蛇腹管３１は５ｍ以上の長尺のものを、蛇行して使用することが好ましい。この程度に長尺化すると、その下流に接続される排気管２４には、殆どシリカ３８の付着・堆積が見られず、浮遊物回収用配管２７で略完全に、生成されたシリカ３８を回収することができ、排気管２４のシリカ３８の付着・堆積による目詰まりの発生を完全に防止することができた。また、ガス処理手段２５へのＳｉＣｌ4 やＳｉＦ4 の流入が低減し、ガス処理手段２５への処理負担を軽減することができた。
【００３１】
更に、上記の実施の形態では、浮遊物回収用配管２７として、蛇行させた蛇腹管３１を使用することで、管自体の拡径部３１ｂよる流路内面の窪み３１ａおよび管路の蛇行による湾曲部３２ａ〜３２ｉの双方を、排ガスの衝突・滞留を起こすガス溜まりとして機能させて、シリカの付着・堆積によるシリカの回収効率を高めることができた。しかし、浮遊物回収用配管２７に使用する配管材料は、蛇腹管に限定するものではない。例えば、内径が一定の通常の配管の一部をＬ字状やリング状等に湾曲成形すると、その湾曲部は、排ガスの衝突・滞留を起こすガス溜まりとして機能させることができる。即ち、浮遊物回収用配管は、通常の配管に湾曲部を設けた構成とすることも可能である。
【００３２】
また、上記実施の形態では、蛇腹管３１は、管壁を弾性変形させ易い可撓管で、且つ、流路内面を平滑なフッ素樹脂でコーティングし、更に、浮遊物回収用配管のガス溜まり周辺に、振動や曲げ変形を付与する管路付勢手段３４を装備した構成としたが、付着・堆積したシリカ３８を剥離し易くするという点では、(1)可撓管を採用すること、(2)流路内面を表面の平滑なフッ素樹脂でコーティングすること、(3)管壁に振動や曲げ変形を付与する管路付勢手段を装備すること、の何れか一つのみを採用した構成にしても良く、また、何れか２つを組み合わせた構成としても良い。
【００３３】
図４は、排ガスを流す排気管２４の途中に装備する浮遊物回収用配管の第２の実施の形態を示したものである。ここに示した浮遊物回収用配管４１は、図４に矢印Ｇ2 で示すように、流路が略Ｌ字状に屈曲した管路の屈曲部４２にガス溜まりを形成するための流入管４４を接続した形態のＴ字形管体４５が配管材料として採用されている。
【００３４】
流入管４４は、端部が蓋４４ａによって封止されている。そして、蓋４４ａには、流入管４４内に滞留する排ガスの渦流４７を増強するため微量の空気４８を導入する空気流導入手段５０を装備している。以上の浮遊物回収用配管４１は、上記の第１の実施の形態の脱水焼結装置２１において、浮遊物回収用配管２７の代わりに排気管２４に取り付けられて使用される。
【００３５】
この浮遊物回収用配管４１で使用するＴ字形管体４５は、例えば、市販のＴ字管（管継手）の一端を蓋４４ａで閉塞する等の簡単な改良で、安価に製造することができる。そして、本実施の形態の浮遊物回収用配管４１の場合も、流入管４４が排ガスの衝突・滞留を起こすガス溜まりを形成するため、流入管４４内に発生する渦流４７によって、空気と排ガス中のＳｉＣｌ4 やＳｉＦ4 との接触が促進される。その結果、シリカの生成と、生成したシリカの流路内面への付着・堆積とが進行する。特に、本実施の形態の浮遊物回収用配管４１では、流入管４４によって、排ガスが長時間にわたり滞留することになるので、ＳｉＣｌ4 やＳｉＦ4 等が大きな塊のシリカに反応・変化する。このため、このシリカの塊を蓋４４ａを開放して容易に除去できるので、この除去を定期的に実施することで、排気管２４の閉塞を事前に防止することができる。
【００３６】
しかも、本実施の形態では、流入管４４内に発生する渦流４７が、空気流導入手段５０によって供給される微量の空気流４８によって増強されて、排ガス中のＳｉＣｌ4 やＳｉＦ4 と、混入した空気中の水分や酸素等との間の接触が更に高められるため、ガス溜まりによるシリカ３８の生成効率を向上、言い換えれば、回収効率を向上させることができる。また、このように渦流４７を、補充した空気流４８で強化した場合には、図５に示すように、流入管４４の流路内面に付着するシリカ３８が、中空部３８ａを有するパイプ状に発達し、剥離・除去し易くなることが確認された。
【００３７】
以上の各実施の形態で示したように、ガス溜まりを有する浮遊物回収用配管は、市販の蛇腹管やＴ字管を利用すること、あるいは市販の可撓性を有した配管材料を適宜に湾曲させることで、安価に、且つ容易に得ることができ、浮遊物回収用配管の追加による装置コストのアップを抑えることができる。
【００３８】
なお、上記の各実施の形態では、多孔質ガラス母材は、光ファイバを製作するための光ファイバ用ガラス母材として説明したが、このような用途に限定されるものではなく、その他の用途、例えば、半導体製造用器具用ガラス母材、フォトマスク基板用ガラス母材、液晶ディスプレイ用ガラス母材等にも適用できるものである。
【００３９】
【発明の効果】
以上に説明したように、請求項１に記載した本発明の多孔質ガラス母材の脱水焼結装置によれば、浮遊物回収用配管は、排ガスが空気中の水分等と反応して生成される浮遊物質を積極的に付着させて回収するので、配管内面に堆積するシリカ等を、配管内面に広範に広がって付着する薄膜状ではなく、配管内面から隆起する塊状にして、付着物の配管内面との接着力を弱めることができ、また、シリカ等の付着・堆積箇所を制限することができ、且つ、付着・堆積したシリカの剥離・除去も困難でなくなるため、浮遊物回収用配管の繰り返し使用が可能になり、排気管の交換等によるコスト上昇を抑えて、保守コストの低減を図ることもできることに加え、更に、市販のＴ字管（管継手）の一端を閉塞する等の簡単な改良で、安価に浮遊物回収用配管を得ることができるだけでなく、ガス溜まり内で発生した排ガスの渦が、空気流導入手段によって流入する空気流によって増強されて、排ガス中のＳｉＣｌ4 ガスやＳｉＦ4 ガスと、混入した空気中の水分との間の接触が更に高められるため、ガス溜まりにおけるシリカの生成効率、回収効率を一層向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明に係る多孔質ガラス母材の脱水焼結装置の第１の実施の形態の概略構成図である。
【図２】  図１に示した浮遊物回収用配管のＡ部拡大図である。
【図３】  図２の浮遊物回収用配管内でのシリカの付着状態を示す縦断面図である。
【図４】  本発明に係る多孔質ガラス母材の脱水焼結装置の第２の実施の形態の要部の概略構成図である。
【図５】  図４に示した多孔質ガラス母材の脱水焼結装置のＢ−Ｂ断面図である。
【図６】  従来の多孔質ガラス母材の脱水焼結装置の概略構成図である。
【図７】  従来の多孔質ガラス母材の脱水焼結装置の排気管におけるシリカの付着状態を示す縦断面図である。
【符号の説明】
３ 加熱炉
７ 炉芯管
８ 炉芯上蓋
１１ 光ファイバ用ガラス母材
１３ 支持棒
２１ 脱水焼結装置
２３ 排ガス処理装置
２４ 排気管
２５ ガス処理手段
２７ 浮遊物回収用配管
３１ 蛇腹管
３１ａ 窪み
３１ｂ 拡径部
３１ｃ 縮径部
３２ａ〜３２ｉ 湾曲部
３４ 管路付勢手段
３６ 空気補充手段
３８ シリカ
４１ 浮遊物回収用配管
４２ 屈曲部
４４ 流入管
４４ａ 蓋
４５ Ｔ字形管体
４７ 渦流
４８ 空気流
５０ 空気流導入手段
【図１】
0004106528.tif 000002
【図２】
0004106528.tif 000003
【図３】
0004106528.tif 000004
【図４】
0004106528.tif 000005
【図５】
0004106528.tif 000006
【図６】
0004106528.tif 000007
【図７】
0004106528.tif 000008