Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月15日(2007.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】                                                              
【請求項１】  収納された基材を加工するための熱加工チャンバー（１０）であって、
第一領域（４４）を定義し、且つ加工すべき基材が前記加工チャンバーの前記第一領域（４４）内に挿入されそして前記第一領域（４４）から除去され得る開口部（２１）を備える、加工すべき基材が配置され得る主加工部（１２）、
前記主加工部の上に配置され、第二領域（３９）を定義し、且つ前記加工チャンバーの閉鎖端部を備える上部（１４）、
前記主加工部（１２）の前記第一領域（４４）内に配置された、前記第二領域（３９）にガスを供給するガス注入器（１８）、及び
前記第一領域（４４）を前記第二領域（３９）から分離しているガス分散板（２０）であって、前記ガス注入器（１８）が該ガス分散板（２０）内に伸びており、前記第二領域に供給されたガスを前記第一領域に流入可能にする多数の通路（４０，４２）を備えるガス分散板（２０）からなり、
前記ガス注入器（１８）、前記ガス分散板（２０）、前記主加工部（１２）及び前記上部（１４）が全て同一材料から構成されており、且つ焼成一体化して集積アセンブリーを形成している熱加工チャンバー（１０）。
【請求項２】  前記主加工部（１２）、前記上部（１４）、前記ガス注入器（１８）及び前記ガス分散板（２０）が炭化珪素（ＳｉＣ）からなる請求項１記載の熱加工チャンバー（１０）。
【請求項３】  前記ガス注入器（１８）が、前記加工部の前記開口部（２１）から前記加工チャンバーの前記第二領域（３９）内に伸びる管からなり、該管は前記主加工部（１２）の全長に実質的に沿って、その壁に隣接するがしかしその壁から離れて伸びている請求項２記載の熱加工チャンバー（１０）。
【請求項４】  前記開口部（２１）を定義した低部フランジ（１６）を更に含み、該低部フランジは前記管（１８）の下端部（２４）が据え付けられている孔（２６）を備えた請求項３記載の熱加工チャンバー（１０）。
【請求項５】  前記低部フランジ（１６）が炭化珪素（ＳｉＣ）からなる請求項４記載の熱加工チャンバー（１０）。
【請求項６】  前記ガス分散板（２０）中の前記通路（４０，４２）が第一通路（４０）と第二通路（４２）とからなり、前記第二通路（４２）が前記第一通路（４０）よりも互いに接近して配置されている請求項２記載の熱加工チャンバー（１０）。
【請求項７】  前記第二通路（４２）が前記ガス分散板（２０）の周辺部に沿って配置されている請求項６記載の熱加工チャンバー（１０）。
【請求項８】  前記熱加工チャンバー内周の回りに伸びている内側に突き出たリッジ（２２）であって、前記ガス分散板（２０）が前記熱加工チャンバー内にそれ自体をよりかからせるエッジ（３６）を備えるリッジ（２２）を更に含む請求項４記載の熱加工チャンバー（１０）。
【請求項９】  前記リッジ（２２）に、前記管（１８）の上端部（３２）が少なくとも部分的に貫通した孔（３４）が設けられている請求項８記載の熱加工チャンバー（１０）。
【請求項１０】  前記主加工部（１２）、前記上部（１４）、前記ガス注入器（１８）及び前記ガス分散板（２０）により形成された接合部に、化学的気相蒸着（ＣＶＤ）法を介して施される蒸発された炭化珪素を更に含む請求項２記載の熱加工チャンバー（１０）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
収納された基材を加工するための熱加工チャンバーであって、
（ｉ）第一領域を定義し、且つ加工すべき基材が前記加工チャンバーの前記第一領域内に挿入されそして前記第一領域から除去され得る開口部を備える、加工すべき基材が配置され得る主加工部、
（ii）前記主加工部の上に配置され、第二領域を定義し、且つ前記加工チャンバーの閉鎖端部を備える上部、
(iii) 前記第二領域にガスを供給するガス注入器、及び
（iv）前記第一領域を前記第二領域から分離するガス分散板
からなる熱加工チャンバーが提供される。
前記ガス分散板は、前記第二領域に供給されたガスを前記第一領域に流入可能にする多数の通路を提供する。前記ガス分散板は、前記主加工部及び前記上部を一体化して形成されている。一つの態様において、前記主加工部、前記上部、前記ガス注入器及び前記ガス分散板を含む熱加工チャンバー全体は炭化珪素（ＳｉＣ）からなる。
本発明は特に、収納された基材を加工するための熱加工チャンバー（１０）であって、
第一領域（４４）を定義し、且つ加工すべき基材が前記加工チャンバーの前記第一領域（４４）内に挿入されそして前記第一領域（４４）から除去され得る開口部（２１）を備える、加工すべき基材が配置され得る主加工部（１２）、
前記主加工部の上に配置され、第二領域（３９）を定義し、且つ前記加工チャンバーの閉鎖端部を備える上部（１４）、
前記主加工部（１２）の前記第一領域（４４）内に配置された、前記第二領域（３９）にガスを供給するガス注入器（１８）、及び
前記第一領域（４４）を前記第二領域（３９）から分離しているガス分散板（２０）であって、前記ガス注入器（１８）が該ガス分散板（２０）内に伸びており、前記第二領域に供給されたガスを前記第一領域に流入可能にする多数の通路（４０，４２）を備えるガス分散板（２０）からなり、
前記ガス注入器（１８）、前記ガス分散板（２０）、前記主加工部（１２）及び前記上部（１４）が全て同一材料から構成されており、且つ焼成一体化して集積アセンブリーを形成している熱加工チャンバー（１０）に関するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１０：加工チャンバー                  １１：ベル・ジャー
１２：円筒状主部（主加工部）          １４：ドーム状冠部（上部）
１６：低部フランジ                    １８：注入管（ガス注入器又は管）
２０：ガス分散板                      ２１：開口部
２２：リッジ                          ２３：突出部
２４：低端部                          ２６，３４：孔
２８：レッジ                          ３２：上端部
３６：エッジ                          ３８：外辺部
３９：第二領域                        ４０：通路（流路又は孔）
４２：通路（流路又は孔）              ４４：第一領域
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月19日(2008.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＣＭＯＳ画素構造であって、
第１の濃度密度の第１導電型のドーパントを備えた半導体基板であって、その表面に絶縁層を備えた半導体基板と、
前記第１導電型とは反対の第２導電型のドーパントを第２の濃度密度で備えた収集領域であって、前記半導体基板の表面領域に形成される収集領域と、
ドーパントの濃度密度が基板のドーパントの濃度密度よりも高い、前記基板上の前記第１導電型のバリア領域と、
絶縁層上に形成され、収集領域の少なくとも一部の表面と基板の少なくとも一部との両方にわたって延びている二重目的電極であって、二重目的電極の下の収集領域の一区域に電磁放射によって発生した電荷を収集する静電位を生じさせる第１の電圧と、収集領域から検出領域へ電荷を転送する第１の電圧より高い第２の電圧とによって駆動されるようになっている二重目的電極とを備え、
前記画素構造は、画素構造に統合される増幅器であって、収集された電荷を増幅するために検出領域に結合される増幅器を有するアクティブ画素構造であることを特徴とする画素構造。
【請求項２】
前記バリア領域は少なくとも部分的に二重目的電極の下で延びている請求項１に記載の画素構造。
【請求項３】
第３の濃度密度の第２導電型のドーパントを備えた検出領域であって、半導体基板の表面領域に形成されるが収集領域とは接することはなく読出電子機器に接続される検出領域をさらに備えている請求項１に記載の画素構造。
【請求項４】
前記収集領域は半導体基板と接合を形成する請求項１に記載の画素構造。
【請求項５】
形成される接合は、フォトダイオードである請求項４に記載の画素構造。
【請求項６】
収集領域を超える半導体基板の表面領域は、第１導電型のドーパントを半導体基板の濃度密度よりも大きい濃度密度で有するバリア領域であり、読出電子機器はシールド用領域内に形成される請求項１に記載の画素構造。
【請求項７】
半導体基板においてシールド用領域下に発生する電荷キャリアの少なくとも一部は収集領域によって集められる請求項６に記載の画素構造。
【請求項８】
第４の濃度密度の第１導電型のドーパントを備えたピニング領域が表面領域内にある請求項１に記載の画素構造。
【請求項９】
ピニング領域は二重目的電極によって被覆されない請求項８に記載の画素構造。
【請求項１０】
ピニング領域は二重目的電極と整列し収集領域に沿って延びる請求項９に記載の画素構造。
【請求項１１】
バリア領域は、実質的に前記検出領域に対する電荷の拡散を妨げる請求項１に記載の画素構造。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月21日(2008.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
具体的には、エチレン系重合体、プロピレン系重合体、および後述するその他のポリオレフィン系重合体等が挙げられる。好ましいのはエチレン系重合体およびプロピレン系重合体であり、プロピレン系重合体がより好ましい。なお、下記例示において、モノマー単位の種類が同一である共重合体においては、含有率の高いモノマーを先頭に記載することとする。
エチレン系重合体としては、例えば、高密度、中密度または低密度ポリエチレン、エチレン・プロピレン共重合体、エチレン・ブテン−１共重合体、エチレン・ヘキセン共重合体、エチレン・ヘプテン共重合体、エチレン・オクテン共重合体、エチレン・４−メチルペンテン−１共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・アクリル酸共重合体、エチレン・アクリル酸エステル共重合体、エチレン・メタクリル酸共重合体、エチレン・メタクリル酸エステル共重合体等のエチレン含有率が高い共重合体が挙げられる。
プロピレン系重合体には、ポリプロピレン、プロピレン・エチレン共重合体、プロピレン・ブテン−１共重合体、プロピレン・エチレン・ブテン−１共重合体、プロピレン・４−メチルペンテン−１共重合体が挙げられる。プロピレン系重合体の中でも、ポリプロピレンおよびプロピレン・エチレン共重合体が特に好ましい。
その他のポリオレフィン系重合体としては、ポリブテン−１、ポリ−４−メチルペンテン−１等が挙げられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
前記（ｇ）ポリウレタン系樹脂の配合量は、前記した（ａ）〜（ｅ）成分から構成される熱可塑性エラストマー組成物１００質量部に対して、０．１〜５０質量部であることが好ましく、１〜５０重量部であることがより好ましい。０．１質量部に満たない場合、耐擦傷性の改良効果が充分でなく好ましくない。一方、５０質量部を超える場合は、得られた熱可塑性エラストマー組成物を成形する場合の成形性や寸法安定性が不充分となるため好ましくない。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月28日(2007.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
化合物１、化合物２におけるＲ１、Ｒ３は、水素原子または炭素原子数１〜３の１価炭化水素基が好ましく、水素原子またはメチル基がより好ましい。化合物１におけるＲ２、化合物２におけるＲ４、化合物３におけるＲ５は、炭素原子数１〜６の１価炭化水素基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。化合物１、化合物２、化合物３におけるＸ１、Ｘ２、Ｘ３は、アルコキシ基が好ましい。アルコキシ基であると化合物１、化合物２、化合物３の取扱いが容易である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
以下に本発明を、実施例（例１〜８、１３〜１９）、比較例（例９〜１２）を挙げてさらに具体的に説明するが、この説明が本発明を限定するものではない。各例における各種物性の測定は以下の方法で行い、結果を表１に示した。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月28日(2008.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートが積載される昇降可能なシート積載部材と、
前記シート積載部材の下方に配設されてシートが積載される別のシート積載部材と、を備え、
前記シート積載部材の下降に伴って前記シート積載部材に干渉する干渉部材が前記別のシート積載部材に設けられたシート処理装置において、
前記シート積載部材の下降により駆動されて前記シート積載部材の下降を妨げない位置へ前記干渉部材を移動させる退避手段を設けたことを特徴とするシート処理装置。
【請求項２】
前記退避手段は、前記シート積載部材の上昇に伴って前記干渉部材を移動させて、再び元の位置へ復帰させる手段でもあることを特徴とする請求項１記載のシート処理装置。
【請求項３】
前記干渉部材は、前記別のシート積載部材から上方へ突出し、二つ折りされて前記別のシート積載部材に積載された前記シートの開き側を下方から支持する突起部であり、
前記退避手段は、前記突起部を下方へ移動可能に前記別のシート積載部材に取り付けて上方へ向かって弾性的に支持させた突起部構造であって、
前記突起部が下降する前記シート積載部材に接触して押し下げられることを特徴とする請求項２記載のシート処理装置。
【請求項４】
シートが積載される昇降可能なシート積載部材と、
前記シート積載部材の下方に配設されてシートが積載される別のシート積載部材と、を備え、
前記シート積載部材の下降に伴って前記別のシート積載部材が前記シート積載部材に干渉するシート処理装置において、
前記シート積載部材の下降により駆動されて前記シート積載部材の下降を妨げない位置へ前記別のシート積載部材を移動させる退避手段を備え、
前記退避手段は、前記別のシート積載部材の全体を下方へ移動可能に取り付けて上方へ向かって弾性的に支持させた支持構造であることを特徴とするシート処理装置。
【請求項５】
前記シートに画像を形成する画像形成手段と、
前記画像が形成された前記シートを処理するシート処理手段と、を備えた画像形成装置において、
前記シート処理手段を請求項１乃至４いずれか１項記載のシート処理装置としたことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明のシート処理装置は、シートが積載される昇降可能なシート積載部材と、前記シート積載部材の下方に配設されてシートが積載される別のシート積載部材とを備え、前記シート積載部材の下降に伴って前記シート積載部材に干渉する干渉部材が前記別のシート積載部材に設けられたシート処理装置において、前記シート積載部材の下降により駆動されて前記シート積載部材の下降を妨げない位置へ前記干渉部材を移動させる退避手段を設けたものである。
別発明のシート処置装置は、シートが積載される昇降可能なシート積載部材と、前記シート積載部材の下方に配設されてシートが積載される別のシート積載部材とを備え、前記シート積載部材の下降に伴って前記別のシート積載部材が前記シート積載部材に干渉するシート処理装置において、前記シート積載部材の下降により駆動されて前記シート積載部材の下降を妨げない位置へ前記別のシート積載部材を移動させる退避手段を備え、前記退避手段は、前記別のシート積載部材の全体を下方へ移動可能に取り付けて上方へ向かって弾性的に支持させた支持構造であるものである。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月22日(2008.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラジカル硬化性樹脂（Ａ）と充填剤（Ｂ）とを含んでなる被覆材料であって、前記充填剤（Ｂ）のＪＩＳ  Ａ  １０９に規定する方法で測定される密度が下記関係式を満足し、その添加量がラジカル硬化性樹脂（Ａ）１００重量部に０．１〜２０重量部であり、平均粒子径が、１μｍ〜１ｍｍであることを特徴とする被覆材料。
α×０．１≦充填剤（Ｂ）の密度≦α×０．９
（式中、αは、ラジカル硬化性樹脂（Ａ）のＪＩＳ  Ｂ  ７５２５に規定する方法で測定される比重を表す。）
【請求項２】
前記充填剤（Ｂ）がシリカバルーンとアルミナバルーンとの混合物である請求項１記載の被覆材料。
【請求項３】
前記充填剤（Ｂ）が、前記ラジカル硬化性樹脂（Ａ）１００重量部に対し０．５〜５重量部である請求項１又は２記載の被覆材料。
【請求項４】
土木建築用基材に請求項１〜３のいずれかのラジカル硬化性樹脂（Ａ）と充填剤（Ｂ）とを含む被覆材料を塗布してなる土木建築用構造体であって、被覆材料層が、層表面で前記充填剤（Ｂ）成分が豊富な傾斜構造を有することを特徴とする土木建築用構造体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明者らは、これらの課題について鋭意研究の結果、特定の充填剤を用いると、作業性を改良することができるとともに、被覆材料の吸込みが激しい基材や被覆材料が極薄となる骨材の頭等での表面乾燥性を改良することができ、更に、ハジキ等の上塗り適合性を改良することができることを発見するに及んで、本発明を完成させるに至ったものである。
すなわち、本発明は、ラジカル硬化性樹脂（Ａ）と充填剤（Ｂ）とを含んでなる被覆材料であって、前記充填剤（Ｂ）のＪＩＳ  Ａ  １１０９に規定する方法で測定される密度が下記関係式を満足し、その添加量がラジカル硬化性樹脂（Ａ）１００重量部に０．１〜２０重量部であり、平均粒子径が、１μｍ〜１ｍｍであることを特徴とする被覆材料を提供するものである。
α×０．１≦充填剤（Ｂ）の密度≦α×０．９
（式中、αは、ラジカル硬化性樹脂のＪＩＳ  Ｂ  ７５２５に規定する方法で測定される比重を表す。）
また本発明は、土木建築用基材に前記のラジカル硬化性樹脂（Ａ）と充填剤（Ｂ）とを含む被覆材料を塗布してなる土木建築用構造体であって、被覆材料層が、層表面で前記充填剤（Ｂ）成分が豊富な傾斜構造を有することを特徴とする土木建築用構造体を提供するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
充填剤（Ｂ）の平均粒子径は、作業環境及び膜厚の点から、１μｍ〜１．０ｍｍである。特に、作業環境及び膜厚の幅の点から、１０μｍ〜３００μｍが特に好ましい。１μｍ〜１．０ｍｍの範囲であれば、配合時に粉塵を発生しにくく、作業環境が良好であり、膜厚の幅が狭くならない。
ここでいう平均粒子径とは、ふるい分け法によって測定した試験用ふるいの目開きで表したもの、及び顕微鏡法による円相当径で表したものをいう。
すなわち、前記平均粒子径のうち、０．１ｍｍ〜１．０ｍｍの範囲をふるい分け法で測定し、それより小さい１μｍ〜０．１ｍｍの範囲を顕微鏡法による円相当径で測定したものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
本発明に使用する充填剤（Ｂ）の配合量は、ラジカル硬化性樹脂（Ａ）１００重量部に対し、０．１〜２０重量部であり、より好ましくは０．５〜２０重量部である。０．１〜２０重量部であれば、表面乾燥性と上塗り適合性とを発揮することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月15日(2008.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塩素系酸化剤、アゾール系化合物及びスルファミン酸若しくはその塩を水系に添加することを特徴とする水系の殺菌殺藻方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】水系の殺菌殺藻方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、塩素系酸化剤とスルファミン酸又はその塩を含有する殺菌殺藻剤組成物のｐＨを１３以上とすることにより、塩素系酸化剤の分解を抑制することができ、さらに、アゾール系化合物を含有させることにより、塩素系酸化剤の分解をより効果的に防止して残留塩素濃度を高く維持するとこが可能となることを見いだし、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
（１）塩素系酸化剤、アゾール系化合物及びスルファミン酸若しくはその塩を水系に添加することを特徴とする水系の殺菌殺藻方法、
を提供するものである。
さらに、本発明の好ましい態様として、
（２）少なくともスルファミン酸若しくはその塩及びｐＨ調整剤を含む水溶液をｐＨ１３以上に調製した後に、該水溶液に塩素系酸化剤を添加することを特徴とする殺菌殺藻剤組成物の製造方法、
（３）塩素系酸化剤が、次亜塩素酸又はその塩である上記(１)項記載の水系の殺菌殺藻方法、及び、
（４）アゾール系化合物が、ベンゾトリアゾール又はトリルトリアゾールである上記(１)項記載の水系の殺菌殺藻方法、
を挙げることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月8日(2008.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１００℃における動粘度（Ｋｖ100）が１０〜１０，０００ｃＳｔである液状ポリアルファオレフィンホモポリマー又はコポリマーを得るための少なくとも１種のアルファオレフィンの重合方法であって、
当該方法が、メタロセンプロ触媒を助触媒と組み合わせることにより得られる生成物を含む触媒の触媒として有効な量及び水素の存在下で、少なくとも１種類のモノマーを重合させる工程を含み、
上記メタロセンプロ触媒が、下記の一般式、
(Cp1R1m)R3(Cp2R2p)ZrCl2
（式中、配位子（Cp1R1m）は置換又は無置換のシクロペンタジエニル環であり、配位子（Cp2R2p）は置換又は無置換のインデニル又はフルオレニル環であり、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、水素又は２０個までの炭素原子を有するヒドロカルビル基、ハロカルビル基、ヘテロカルビル基、ヒドロカルビル置換オルガノメタロイド基又はハロカルビル置換オルガノメタロイド基であり、ｍは０〜５であり、ｐは０〜５であり、Ｒ3はCp1及びCp2を橋架けする基であり、該橋架け基Ｒ3が、下記の構造、
2006206925.tif 000001
（式中、基Ｒ4及びＲ5はそれぞれ独立に、置換又は無置換のフェニル基である）を持つ）の少なくとも１種類の化合物であり、
助触媒はアルミノキサンであり、
但し、配位子（Cp1R1m）は配位子（Cp2R2p）と異なる、
上記重合方法。
【請求項２】
メタロセンプロ触媒において、配位子（Cp1R1m）が無置換シクロペンタジエニル環であり、配位子（Cp2R2p）が無置換フルオレニル環である、請求項１記載の重合方法。
【請求項３】
メタロセンプロ触媒がジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（９−フルオレニル）ジルコニウムジクロライドである、請求項１記載の重合方法。
【請求項４】
メタロセンプロ触媒がジフェニルシリル（シクロペンタジエニル）（９−フルオレニル）ジルコニウムジクロライドである、請求項１記載の重合方法。
【請求項５】
メタロセンプロ触媒が遷移金属Ｚｒ換算で０．０００１〜０．０２ミリモル／リットルの量存在し、アルミノキサン助触媒が０．０１から１００ミリモル／リットルの量存在する、請求項１記載の重合方法。
【請求項６】
α−オレフィンが２〜２０個の炭素原子を含む、請求項１記載の重合方法。
【請求項７】
α−オレフィンが６〜１２個の炭素原子を含む、請求項１記載の重合方法。
【請求項８】
α−オレフィンが１−デセンである、請求項１記載の重合方法。
【請求項９】
メタロセンプロ触媒を、アルミノキサン助触媒及び水素と、任意の順序で、かつ、α−オレフィンの存在下又は不存在下に結合させる、請求項１記載の重合方法。
【請求項１０】
２〜１２個の炭素原子を有する少なくとも１種類のα−オレフィンの重合により得られる１００℃における動粘度（Ｋｖ100）が１０〜１０，０００ｃＳｔである液状ポリアルファオレフィンホモポリマー又はコポリマーであって、
当該方法が、メタロセンプロ触媒を助触媒と組み合わせることにより得られる生成物を含む触媒の触媒として有効な量及び水素の存在下で、上記のモノマーを重合させる工程を含み、
上記メタロセンプロ触媒が、下記の一般式、
(Cp1R1m)R3(Cp2R2p)ZrCl2
（式中、配位子（Cp1R1m）は置換又は無置換のシクロペンタジエニル環であり、配位子（Cp2R2p）は置換又は無置換のインデニル又はフルオレニル環であり、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、水素又は２０個までの炭素原子を有するヒドロカルビル基、ハロカルビル基、ヘテロカルビル基、ヒドロカルビル置換オルガノメタロイド基又はハロカルビル置換オルガノメタロイド基であり、ｍは０〜５であり、ｐは０〜５であり、Ｒ3はCp1及びCp2を橋架けする基であり、該橋架け基Ｒ3が、下記の構造、
2006206925.tif 000002
（式中、基Ｒ4及びＲ5はそれぞれ独立に、置換又は無置換のフェニル基である）を持つ）の少なくとも１種類の化合物であり、
助触媒はアルミノキサンであり、
但し、配位子（Cp1R1m）は配位子（Cp2R2p）と異なる、
上記液状ポリアルファオレフィンホモポリマー又はコポリマー。
【請求項１１】
メタロセンプロ触媒において、配位子（Cp1R1m）が無置換シクロペンタジエニル環であり、配位子（Cp2R2p）が無置換フルオレニル環である、請求項１０記載のポリアルファオレフィン。
【請求項１２】
メタロセンプロ触媒がジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（９−フルオレニル）ジルコニウムジクロライドである、請求項１０記載のポリアルファオレフィン。
【請求項１３】
メタロセンプロ触媒がジフェニルシリル（シクロペンタジエニル）（９−フルオレニル）ジルコニウムジクロライドである、請求項１０記載のポリアルファオレフィン。
【請求項１４】
メタロセンプロ触媒を、水素及び前記助触媒と、任意の順序で、モノマーの存在下又は不存在下に結合させる、請求項１０記載のポリアルファオレフィン。
【請求項１５】
モノマーが１−デセンである、請求項１０記載のポリアルファオレフィン。
【請求項１６】
重合が溶液重合条件で実施される、請求項１０記載のポリアルファオレフィン。
【請求項１７】
重合がスラリー重合条件で実施される、請求項１０記載のポリアルファオレフィン。
【請求項１８】
Ｍwが５００〜８０，０００、Ｍw／Ｍnが１．０〜１０、ヨウ素価が０．０〜１０、かつ、Ｔgが−２０℃未満であり、非晶質である、請求項１０記載のポリアルファオレフィン。
【請求項１９】
Ｍwが７５０〜６０，０００、Ｍw／Ｍnが１．５〜５、ヨウ素価が０．１〜５、かつ、Ｔgが−３０℃未満であり、非晶質である、請求項１８記載のポリアルファオレフィン。
【請求項２０】
Ｍwが１，０００〜４０，０００、Ｍw／Ｍnが１．７５〜４、ヨウ素価が０．２〜３、かつ、Ｔgが−４０℃未満であり、非晶質である、請求項１９記載のポリアルファオレフィン。
【請求項２１】
潤滑油及び請求項１０〜２０のいずれか一項に記載の液状ポリアルファオレフィンを潤滑油組成物全重量に基づいて１〜９９重量パーセントの濃度となる量で含む、潤滑油組成物。
【請求項２２】
潤滑油及び請求項１０〜２０のいずれか一項に記載の液状ポリアルファオレフィンを潤滑油組成物全重量に基づいて５〜８５重量パーセントの濃度となる量で含む、潤滑油組成物。
【請求項２３】
潤滑油組成物に、請求項１０〜２０のいずれか一項に記載のポリアルファオレフィンを潤滑油組成物全重量に基づいて１〜９９重量パーセントの濃度となる量で添加することを含む、潤滑油組成物の粘度指数を改善する方法。
【請求項２４】
潤滑油組成物に、請求項１０〜２０のいずれか一項に記載のポリアルファオレフィンを潤滑油組成物全重量に基づいて５〜８５重量パーセントの濃度となる量で添加することを含む、潤滑油組成物の粘度指数を改善する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月8日(2008.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
一般的に、被防食体としての鋼管、鉄棒その他の円柱状鉄鋼材に防食用として広く利用されているマグネシウム合金等を犠牲陽極とする流電陽極法としての電気防食法は、例えば、特開平１０−３０６３８８公報「配管の支持部における犠牲陽極金属介装による防食方法」が提案されているが、この方法は大気中においてはその効果が発揮されないと言われている。その理由は、雨天時を除き水分等の電気を通す電解質が常時介在していないために流電陽極が作用し難いためである。土中や海中、水中では電解質が充分存在しているので電気防食法はその効果を発揮するために広く利用されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
しかし、図５に示す如く、地上に構築され且つコンクリート及び土中に埋設部分を有している被防食体としての鋼管、鉄棒その他の円柱状鉄鋼材において、地表面のグラウンドレベル位置より上方１０cm〜１５cm程度、下方に５cm程度の範囲では、防食機能を発揮し難く、防食効果が極端に劣り、その結果、その鉄鋼材には腐食が発生し、当該腐食が進行して、鉄鋼材の肉厚を減らすケースが屡々存在していた。
【特許文献１】特開平１０−３０６３８８公報
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月9日(2008.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発振回路を有する水晶振動子上に堆積する物質の膜厚又は膜厚変化量をモニタする測定装置であって、
該水晶振動子の振動周波数を検出して送信する送信手段、該水晶振動子および該送信手段を連動して移動させる移動手段、並びに該送信手段から送信された振動周波数を受信する受信手段を備え、
該水晶振動子上への物質堆積時に該送信手段の送信部が移動する移動経路と該受信手段の受信部とが略一定距離で離隔されるよう構成されたことを特徴とする測定装置。
【請求項２】
真空槽、基板の成膜手段、および該基板の移動手段を有する真空装置において、該基板上に堆積する物質の膜厚又は膜厚変化量をモニタする測定装置であって、
発振回路を有する水晶振動子、該水晶振動子の振動周波数を検出して送信する送信手段、および該送信手段から送信された振動周波数を受信する受信手段を備え、
該水晶振動子が該基板に近接配置され、
該移動手段が該基板、該水晶振動子および該送信手段を連動して移動させるように構成され、
該基板上への成膜時に該送信手段の送信部が移動する移動経路と該受信手段の受信部とが略一定距離で離隔されるよう構成され、
該水晶振動子上に堆積する物質の膜厚又は膜厚変化量をモニタすることにより該基板上に堆積する物質の膜厚又は膜厚変化量がモニタされることを特徴とする測定装置。
【請求項３】
請求項１乃至２記載の測定装置において、
該受信部が、該送信部の移動経路に覆設され、該移動経路に対して所定の距離を有して対面する面体構造を有することを特徴とする測定装置。
【請求項４】
請求項１乃至２記載の測定装置において、
該送信部が送信側アンテナであり、
該受信部が受信側アンテナであり、
該水晶振動子の振動周波数が電磁波として非接触伝送されることを特徴とする測定装置。
【請求項５】
請求項４記載の測定装置において、
該送信手段が、該水晶振動子の発振回路から出力される信号を変調する変調部、該変調部において変調された信号を増幅する送信側増幅部、および増幅された信号を送信する送信側アンテナを備え、
該受信手段が、該送信側アンテナから信号を受信する受信側アンテナ、該受信側アンテナが受信した信号を増幅する受信側増幅部、および増幅された信号を検波する検波部を備えたことを特徴とする測定装置。
【請求項６】
請求項１乃至２記載の測定装置において、
該送信部が送信側電極であり、
該受信部受信側電極であり、
該水晶振動子の振動周波数が送信側電極と受信側電極との容量結合により非接触伝送されることを特徴とする測定装置。
【請求項７】
請求項６記載の測定装置において、
該送信手段が、送信側電極、該水晶振動子の発振回路から出力される信号を変調する変調部、および該変調部において変調された信号に対応する電圧を送信側電極に印加する電圧印加部を備え、
該受信手段が、送信側電極に対面する受信側電極、該受信側電極を介して受信した信号を復調する復調部を備えたことを特徴とする測定装置。
【請求項８】
請求項１乃至２記載の測定装置であって、
該送信手段に非接触で電力を供給する手段を有することを特徴とする測定装置。
【請求項９】
請求項８記載の測定装置において、
該非接触で電力を供給する手段が電力送信用コイルおよび電力受信用コイルを備え、該電力送信用コイルが生成する磁束が電磁結合により該電力受信用コイルと鎖交し、誘起電圧を励起することにより該送信手段に電力が供給されることを特徴とする測定装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９記載の測定装置において、
該成膜手段はスパッタ電極に配設したターゲット材料を通電により基板上に堆積させるスパッタ手段であることを特徴とする測定装置。
【請求項１１】
真空槽、基板の成膜手段、該基板の搬送用トレー、該真空槽に固定配置された防着板、該基板の近接位置に配置された水晶振動子、該水晶振動子の発振回路、該水晶振動子の発振回路に接続し得られた信号を変調する変調部、該変調部により変調された信号を増幅する送信側増幅部、該送信側増幅部により増幅された信号を電波として送信する送信側アンテナ、該送信側アンテナから送信された電波を受信する受信側アンテナ、該受信アンテナが受信した信号を増幅する受信側増幅部、および該受信側増幅部により増幅された信号を検波する検波部を備え、
該水晶振動子、該変調部、該送信側増幅部および該送信側アンテナが該搬送用トレーに配設され、
少なくとも該基板への成膜時に該搬送用トレーが移動する移動経路から所定の距離離隔された位置に該防着板が覆設され、
該防着板が該受信側アンテナとして該受信側増幅部に接続され、
該水晶振動子上に堆積する物質の膜厚又は膜厚変化量をモニタすることにより、該基板上への成膜中に膜厚又は成膜速度が測定又は監視されるよう構成されたことを特徴とする測定装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１１いずれか記載の測定装置を備える成膜装置であって、
該測定装置の測定結果を基に成膜速度を制御する手段を設けたことを特徴とする成膜装置。
【請求項１３】
水晶振動子上への薄膜形成時における膜厚又は膜厚変化量の測定方法であって、
送信手段が該水晶振動子の振動周波数を検出して伝送する送信ステップ、
駆動手段が該水晶振動子および該送信手段を連動させて位置変化させる駆動ステップ、並びに
受信手段が、該送信手段から送信された該水晶振動子の振動周波数を受信する受信ステップを有し、
該駆動手段によりに該送信手段の位置が変化しても該送信手段と該受信手段との距離が略一定に保たれることを特徴とする測定方法。
【請求項１４】
基板上への薄膜形成時における膜厚および膜厚変化量の測定方法であって、
送信手段が、該基板の近接位置に配置された水晶振動子の振動周波数を検出して伝送する送信ステップ、
駆動手段が該基板、該水晶振動子および該送信手段を連動させて位置変化させる駆動ステップ、並びに
受信手段が、該送信手段から送信された該水晶振動子の振動周波数を受信する受信ステップを有し、
該駆動手段によりに該送信手段の位置が変化しても該送信手段と該受信手段との距離が略一定に保たれることを特徴とする測定方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月15日(2007.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧力チャンバと、
前記圧力チャンバに接続している流入チャネルと、
前記圧力チャンバに接続していて、流出チャネル軸を有する流出チャネルと、
前記流出チャネルの終端で配置されている液滴射出ノズルと、を備え、
前記流出チャネルは、円形の流出チャネル区間および非円形の流出チャネル区間を含む、液滴発生器。
【請求項２】
請求項１に記載の液滴発生器において、圧電素子を更に含む液滴発生器。
【請求項３】
請求項１に記載の液滴発生器において、前記流入チャネルは、溶融固体インクを受容する液滴発生器。
【請求項４】
請求項１に記載の液滴発生器において、前記円形区間は、前記圧力チャンバに接続されている液滴発生器。
【請求項５】
請求項１に記載の液滴発生器において、前記円形区間は、前記圧力チャンバに接続されていて、前記非円形区間は、前記円形区間に接続されている液滴発生器。
【請求項６】
請求項１に記載の液滴発生器において、前記非円形区間の断面は、ほぼ卵形である液滴発生器。
【請求項７】
請求項１に記載の液滴発生器において、前記ノズルは、前記非円形区間の終端に配置されている液滴発生器。
【請求項８】
請求項１に記載の液滴発生器において、前記ノズルは、約２０ナノグラム〜約３０ナノグラムの範囲の質量を有する液滴を射出する液滴発生器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
請求項は、当初のものであろうと、補正されたものであろうと、現時点では予見、予想されないもの、および例えば出願人、特許権者、その他の者の考案によるものを含め、本明細書に開示した実施形態および示唆の変更、代替物、改造、改良、均等物および実質的均等物を包含するものである。
＜付記＞
（１）請求項１に記載の液滴発生器において、前記円形区間は、第一円形部分区間および第二円形部分区間を含む液滴発生器。
（２）請求項１に記載の液滴発生器において、前記非円形区間の断面は、楕円形である液滴発生器。
（３）請求項１に記載の液滴発生器において、前記非円形区間の断面は、ほぼ卵形であり、前記ノズルは、前記卵形断面の小径端に配置されている液滴発生器。
（４）請求項１に記載の液滴発生器において、前記圧力チャンバの断面は、ほぼ平行四辺形である液滴発生器。
（５）請求項１に記載の液滴発生器において、前記圧力チャンバは、約２３ＫＨｚ〜約３０ＫＨｚの周波数で動作する液滴発生器。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月20日(2007.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベース部、該ベース部の上に設けられた互いに隣り合う複数のモールド側壁及びベース部の向きに動くことができるプランジャーを有してなるボックスモールドであって、該モールド側壁の少なくとも１つは前記ベース部上に取り付けられた実質的に水平なスイベル軸まわりで外側に傾斜した状態と実質的に垂直な状態との間で揺動することができるボックスモールド内で、再生フォームブロックを製造する方法であって、
フォームフレークをバインダーと混ぜ合わせること；
ボックスモールドの断面積がベース部から上向きに拡大するように、少なくとも１つのモールド側壁を外側へ揺動させること；
該ボックスモールドの中にフォームフレークを導入すること；
ボックスモールドの断面積がその高さ方向について実質的に均一になるように、少なくとも１つのモールド側壁を調節すること；
フォームフレークを所望の密度へ又は所望のフォームブロック高さへプランジャーによって圧縮し、それによってフォームフレークを互いに結合させること；並びに
出来上がったフォームブロックをモールドから取り出すこと
を含んでなる方法。
【請求項２】
ベース部、該ベース部の上に設けられた互いに隣り合う複数のモールド側壁及びベース部の向きに動くことができるプランジャーを有してなるボックスモールドを有してなる、再生フォームブロックを製造するためのデバイスであって、少なくとも１つのモールド側壁は、外側に傾斜した状態と実質的に垂直な状態との間で、ベース部上に取り付けられた実質的に水平なスイベル軸まわりで揺動することができるデバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
以上、本発明について説明の目的で詳細に記載したが、そのような詳細な記載は説明のためのものであって、当業者は、特許請求の範囲に規定されることを除いて、本発明の精神及び範囲から離れることなく、その変形例（又は変更）を行うことができると理解されたい。
尚、本発明において好ましい態様例として、以下の例を挙げることができる：
（１）  ベース部、該ベース部の上に設けられた互いに隣り合う複数のモールド側壁及びベース部の向きに動くことができるプランジャーを有してなるボックスモールドであって、該モールド側壁の少なくとも１つは前記ベース部上に取り付けられた実質的に水平なスイベル軸まわりで外側に傾斜した状態と実質的に垂直な状態との間で揺動することができるボックスモールド内で、再生フォームブロックを製造する方法であって、
フォームフレークをバインダーと混ぜ合わせること；
ボックスモールドの断面積がベース部から上向きに拡大するように、少なくとも１つのモールド側壁を外側へ揺動させること；
該ボックスモールドの中にフォームフレークを導入すること；
ボックスモールドの断面積がその高さ方向について実質的に均一になるように、少なくとも１つのモールド側壁を調節すること；
フォームフレークを所望の密度へ又は所望のフォームブロック高さへプランジャーによって圧縮し、それによってフォームフレークを互いに結合させること；並びに
出来上がったフォームブロックをモールドから取り出すこと
を含んでなる第１の形態としての方法。
（２）  上記第１の形態の方法に関して、少なくとも１つのモールド側壁は一方が他方の上方に配置される少なくとも２つのサブセグメントに分割されており、各サブセグメントは実質的に水平方向のスイベル軸のまわりで揺動することができ、最も下側のサブセグメントは外側に傾斜した状態と実質的に垂直な状態との間で揺動することができ、残りのサブセグメントは外側に傾斜した状態と垂直な状態との間で揺動することができ、フォームフレークを導入する前に、ボックスモールドの断面積がベース部から上向きに増大して、すべてのサブセグメントが水平線に対して異なる角度に傾斜するように、すべてのサブセグメントを外側へ揺動させる第２の形態としての方法。
（３）  上記第１の形態の方法に関して、ベース部は互いに相対的に水平方向に動かすことができ、互いに少なくとも部分的に係合する少なくとも２つのベース部エレメントを有してなり、ボックスモールドの中にフォームフレークを導入する前に、ベース部の断面積が増大するようにベース部エレメントを離れさせて動かし、ボックスモールドの中にフォームフレークを導入した後に、ベース部エレメントを元の位置へ戻して動かす第３の形態としての方法。
（４）  ベース部、該ベース部の上に設けられた互いに隣り合う複数のモールド側壁及びベース部の向きに動くことができるプランジャーを有してなるボックスモールドを有してなる、再生フォームブロックを製造するためのデバイスであって、少なくとも１つのモールド側壁は、外側に傾斜した状態と実質的に垂直な状態との間で、ベース部上に取り付けられた実質的に水平なスイベル軸まわりで揺動することができる第４の形態としてのデバイス。
（５）  上記第４の形態の方法に関して、少なくとも１つのモールド側壁は一方が他方の上方に配置される少なくとも２つのサブセグメントに分割されており、各サブセグメントは実質的に水平方向のスイベル軸のまわりで揺動することができ、最も下側のサブセグメントは外側に傾斜した状態と実質的に垂直な状態との間で揺動することができ、残りのサブセグメントは外側に傾斜した状態と垂直な状態との間で揺動することができる第５の形態としてのデバイス。
（６）  上記第４の形態の方法に関して、ベース部は、互いに相対的に水平方向に動き得る少なくとも２つのベース部エレメントであって、互いに少なくとも部分的に係合しているベース部エレメントを有してなる第６の形態としてのデバイス。
（７）  上記第１の形態の方法に関して、前記少なくとも１つのモールド側壁は、０．５度から３０度までの範囲の角度で外側に揺動することができる第７の形態としての方法。
（８）  上記第１の形態の方法に関して、前記少なくとも１つのモールド側壁は、１度から２０度までの範囲の角度で外側に揺動することができる第８の形態としての方法。
（９）  上記第１の形態の方法に関して、前記少なくとも１つのモールド側壁は、２度から１０度までの範囲の角度で外側に揺動することができる第９の形態としての方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月25日(2008.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、
該光源の出射光から映像信号に応じた光学像を形成する映像表示素子と、
該映像表示素子から出射された光をカラー映像として投射する投射装置と
を備えた光学ユニットにおいて、
該光源からの光を反射しながら透過させる第１のライトパイプと、
上記第１のライトパイプからの光の偏光方向を揃える偏光ビームスプリッタと、
該偏光ビームスプリッタの後段に第２のライトパイプと
を設けることを特徴とする光学ユニット。
【請求項２】
請求項１記載の光学ユニットにおいて、
第１のライトパイプの入射開口形状を光源のスポットの形状に対応した形状とすることを特徴とする光学ユニット。
【請求項３】
請求項１記載の光学ユニットにおいて、
第１のライトパイプの入射開口形状の幅の略２倍の幅を第２のライトパイプの出射開口形状が有することを特徴とする光学ユニット。
【請求項４】
請求項１記載の光学ユニットにおいて、
上記第１のライトパイプの入射開口形状を光源スポット形状に対応する形状とし、
上記第２のライトパイプの出射開口形状を上記映像表示素子の形状に対して相似形状とすることを特徴とする光学ユニット。
【請求項５】
請求項１記載の光学ユニットにおいて、
上記第１のライトパイプの入射開口形状を上記光源のスポットの形状に対応する形状とし、
上記第２のライトパイプの出射開口形状を上記映像表示素子の形状に対して相似形状とし、
第１のライトパイプの入射開口形状の幅の略２倍の幅を第２のライトパイプの出射開口形状が有することを特徴とする光学ユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、上記光学ユニットは、光源と、該光源の出射光から映像信号に応じた光学像を形成する映像表示素子と、該映像表示素子から出射された光をカラー映像として投射する投射装置とを備えており、該光源からの光を反射しながら透過させる第１のライトパイプと、上記第１のライトパイプからの光の偏光方向を揃える偏光ビームスプリッタと、該偏光ビームスプリッタの後段に第２のライトパイプとを設けるようにする。
また、上記光学ユニットは、第１のライトパイプの入射開口形状を光源のスポットの形状に対応した形状とするようにする。
第１のライトパイプの入射開口形状の幅の略２倍の幅を第２のライトパイプの出射開口形状が有することを特徴とする光学ユニット。
また、上記光学ユニットは、上記第１のライトパイプの入射開口形状を光源スポット形状に対応する形状とし、上記第２のライトパイプの出射開口形状を上記映像表示素子の形状に対して相似形状とするようにする。
本発明の映像表示装置は、上記の光学ユニットと、映像処理回路と、電源とを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月10日(2008.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記検出ユニットは、前記演奏者の下顎前面と前記リッププレートとの接触圧を検出する複数の圧力センサを有し、
前記アンブシャパラメータは複数の前記圧力センサによってそれぞれ検出される前記接触圧に相関する信号または前記接触圧の分布を示す信号を含む請求項１又は２に記載の吹奏楽器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
尚、アンブシャ検出回路４８は、図５に示すように複数の圧力センサ４８２等から構成され、リッププレート１２と演奏者の下顎との接触圧の分布を検出するための回路でもよい。具体的には例えば、アンブシャ検出回路４８は、複数の圧力センサ４８２が検出する接触圧に相関する信号をそれぞれに出力する回路でもよいし、複数の圧力センサ４８２が検出するそれぞれの接触圧に基づいて接触圧の分布を判定しその分布を示す信号を出力する回路でもよい。この場合、リッププレート１２と演奏者の下顎との接触圧に相関する信号、または接触圧の分布を示す信号が請求項に記載の「アンブシャパラメータ」に相当する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月27日(2008.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
温度補償形シンチレーション検出器であって、
シンチレータと、
前記シンチレータに光学的に結合されておりかつ前記シンチレータによって放出される光子を光検出器電気信号に変換する働きをする光検出器と、
前記光検出器に電気的に接続される関連の光検出器回路と、
を含み、
前記関連の光検出器回路は温度補償回路を含み、前記温度補償回路は、第１の温度範囲内において動作して温度補償を行う一次温度補償回路と、前記第１の温度範囲の外側に広がる第２の温度範囲内で動作して温度補償を行う二次温度補償回路とを含む温度補償形シンチレーション検出器。
【請求項２】
前記温度補償回路は、前記二次温度補償回路が温度補償を行う機能を果たす度合いを制御するスイッチング装置を含む請求項１に記載のシンチレーション検出器。
【請求項３】
前記二次温度補償回路は、前記第１の温度範囲とは異なる前記第２の温度範囲内での温度補償を行う請求項１に記載のシンチレーション検出器。
【請求項４】
シンチレータと、該シンチレータに光学的に結合されておりかつ前記シンチレータによって放出される光子を光検出器電気信号に変換する働きをする光検出器と、該光検出器に電気的に接続される関連の光検出器回路とを含むシンチレーション検出器に対する温度補償を行う方法であって、
第１の温度範囲内での温度変動を補償するための第１の回路を前記の関連の光検出回路内に含むことと、
第２の温度範囲内での温度変動を補償するための第２の回路を前記の関連の光検出回路内に含むことと、
を含むシンチレーション検出器に対する温度補償を行う方法。
【請求項５】
前記第１の回路はサーミスタを含み、前記第２の回路はスイッチング素子と抵抗素子とを含む請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記スイッチング素子はダイオード、ツェナーダイオード、ショットキーバリアダイオードおよびＭＩＭの中の少なくとも１つを含む請求項５に記載の方法。
【請求項７】
第３の温度範囲内での温度変動を補償する第３の回路を前記関連の光検出回路内にさらに含む請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記第１の温度範囲と前記第２の温度範囲は互いにほぼ同一であり、前記第２の回路は温度変動を補償することにおいて前記第１の回路を補助する請求項５に記載の方法。
【請求項９】
前記第１の温度範囲と前記第２の温度範囲は互い異なっている請求項５に記載の方法。
【請求項１０】
陽極と陰極とダイノードとを有する光電子増倍管と、前記陽極と前記陰極と前記ダイノードとに接続されている分圧器ラダーとを含む、シンチレーション検出器のための温度補償回路において、前記分圧器ラダーが、前記光電子増倍管の前記陽極とこれに隣接した前記ダイノードの間、前記光電子増倍管の前記陰極とこれに隣接した前記ダイノードの間、および、前記光電子増倍管の互いに隣接したどれか２つの前記ダイノードの間、の中の少なくとも１つの間に接続される温度依存性抵抗素子を含む、シンチレーション検出器のための温度補正回路。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月29日(2008.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
従来、信号線駆動回路の回路規模を小さくするために各行の液晶画素を２回に分けて駆動する技術が提案されている（例えば、特許文献１を参照）。この技術では、例えば図９に示すように、アナログスイッチＡＳＷ１，ＡＳＷ２，ＡＳＷ３，ＡＳＷ４，…がマルチプレクサとして信号線駆動回路の出力バッファＤ１，Ｄ２，…および複数の信号線Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３，Ｘ４，…間に設けられる。アナログスイッチＡＳＷ１，ＡＳＷ４，…は制御信号ＣＴＬ０によって制御され、アナログスイッチＡＳＷ２，ＡＳＷ３，…は制御信号ＣＴＬ１によって制御される。制御信号ＣＴＬ０および制御信号ＣＴＬ１は図９に示すように遷移する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月21日(2008.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  回転体に当接しトナーをシールするトナーシール部材において、
再生繊維、半合成繊維、合成繊維の少なくとも一つの繊維絡合で形成された不織布シートと、弾性部材からなる支持層とを接着結合することにより構成され、前記不織布シートの繊維径が２μｍ〜１０μｍであることを特徴とするトナーシール部材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明は、回転体に当接し、トナーをシールするトナーシール部材において、
再生繊維、半合成繊維、合成繊維の少なくとも一つの繊維絡合で形成された不織布シートと、弾性部材からなる支持層とを接着結合することにより構成されたトナーシール部材を提案するものである。また、前記不織布シートは、以下のｉ）〜ｉｖ）の何れかであることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
さらに、本発明は、電子写真画像形成装置本体に着脱可能なプロセスカートリッジにおいて、
像担持体と、該像担持体に当接しトナーをシールするトナーシール部材とを有し、前記トナーシール部材が再生繊維、半合成繊維、合成繊維の少なくとも一つの繊維絡合で形成された不織布シートと弾性部材からなる支持層とで接着結合されているプロセスカートリッジを提供することである。ここで、前記不織布シートは、以下のｉ）〜ｉｖ）の何れかであることを特徴とする。