Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月22日(2008.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
なお、上記の説明では伸縮ブーム３を中間伸長させる場合に、中間ブーム３ｂと基ブーム３ａのブーム間連結が行われた後、シリンダ・ブーム連結機構駆動装置Ｃ１が駆動させてシリンダと係脱部３ｂ１の係合を解除し伸縮シリンダ７を縮小させた状態（図７（ｓ）の状態）を伸縮ブーム３の中間伸長とするようにしたが、シリンダと係脱部３ｂ１を係合させたままにした状態で伸縮ブーム３の中間伸長とするようにしてもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
図１において、１６ｃは、コントローラ１６に備えられている操作変更判別手段であって、前記伸縮ブーム状態算出手段１６ａと伸縮ブーム状態設定手段１１からの信号を受け、縮小操作から伸長操作（操作レバー１２ａを縮小側に傾倒している状態から伸長側に傾倒操作）に移る時点に達した時に警報信号を出力する手段である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の伸縮ブームの伸縮制御装置を説明する説明図である。
【図２】伸縮ブームの伸縮制御装置を備えた移動式クレーンを説明する説明図である。
【図３】従来の伸縮ブームの伸縮制御装置を説明する説明図である。
【図４】伸縮ブームを全縮小状態から全伸長状態にする過程を説明する説明図であって、（ａ）は、シリンダ・ブーム連結機構駆動装置Ｃ１と係脱部３ｄ１を係合させた状態を示している。（ｂ）は、伸縮シリンダ７にて先ブーム３ｄを伸長した状態を示している。（ｃ）は、ブーム連結機構駆動装置Ｄ１で連結部３ｄ３と連結部３ｃ２を連結した状態を示すとともに、シリンダ・ブーム連結機構駆動装置Ｃ１と係脱部３ｄ１の係合を解除した状態を示している。（ｄ）は、伸縮シリンダ７を縮小して、シリンダ・ブーム連結機構駆動装置Ｃ１と係脱部３ｃ１を係合させた状態を示している。（ｅ）は、伸縮シリンダ７にて中間ブーム３ｃを伸長した状態を示している。
【図５】伸縮ブーム３を全縮小状態から全伸長状態にする過程を説明する説明図であって、（ｆ）は、ブーム連結機構駆動装置Ｄ１で連結部３ｃ３と連結部３ｂ２を連結した状態を示すとともに、シリンダ・ブーム連結機構駆動装置Ｃ１と係脱部３ｃ１の係合を解除した状態を示している。（ｇ）は、伸縮ブーム７を縮小して、シリンダ・ブーム連結機構駆動装置Ｃ１と係脱部３ｂ１を係合させた状態を示している。（ｈ）は、伸縮シリンダ７にて中間ブーム３ｂを伸長した状態を示している。（ｉ）は、ブーム連結機構駆動装置Ｄ１で連結部３ｂ３と連結部３ａ２を連結した状態を示すとともに、シリンダ・ブーム連結機構駆動装置Ｃ１と係脱部３ｂ１の係合を解除した状態を示している。（ｊ）は、伸縮ブーム３を全伸長した状態にし、伸縮シリンダ７を縮小した状態を示している。
【図６】伸縮ブーム３を全伸長状態から各ブーム段を中間伸長にする過程を説明する説明図であって、（ｋ）は、ブーム連結機構駆動装置Ｄ１で連結部３ｄ３と連結部３ｃ４を連結する状態にまで先ブーム３ｄを伸縮シリンダ７で縮小した状態を示している。（ｌ）は、ブーム連結機構駆動装置Ｄ１で連結部３ｄ３と連結部３ｃ４を連結した状態を示すとともに、シリンダ・ブーム連結機構駆動装置Ｃ１と係脱部３ｄ１の係合を解除した状態を示している。（ｍ）は、シリンダ・ブーム連結機構駆動装置Ｃ１と係脱部３ｃ１が係合できる位置まで伸縮シリンダ７を縮小させ、シリンダ・ブーム連結機構駆動装置Ｃ１と係脱部３ｃ１を係合させた状態を示している。（ｎ）は、ブーム連結機構駆動装置Ｄ１で連結部３ｃ３と連結部３ｂ４を連結する状態にまで中間ブーム３ｃを伸縮シリンダ７で伸長した状態を示している。
【図７】伸縮ブーム３を全伸長状態から各ブーム段を中間伸長にする過程を説明する説明図であって、（ｏ）は、ブーム連結機構駆動装置Ｄ１で連結部３ｃ３と連結部３ｂ４を連結した状態を示すとともに、シリンダ・ブーム連結機構駆動装置Ｃ１と係脱部３ｃ１の係合を解除した状態を示している。（ｐ）は、シリンダ・ブーム連結機構駆動装置Ｃ１と係脱部３ｂ１が係合できる位置まで伸縮シリンダ７を縮小させ、シリンダ・ブーム連結機構駆動装置Ｃ１と係脱部３ｂ１を係合させた状態を示している。（ｑ）は、ブーム連結機構駆動装置Ｄ１で連結部３ｂ３と連結部３ａ４を連結する状態にまで中間ブーム３ｂを伸縮シリンダ７で伸長した状態を示している。（ｒ）は、ブーム連結機構駆動装置Ｄ１で連結部３ｂ３と連結部３ａ４を連結した状態を示すとともに、シリンダ・ブーム連結機構駆動装置Ｃ１と係脱部３ｂ１の係合を解除した状態を示している。（ｓ）は、伸縮ブーム３の各ブーム段を中間伸長させた状態にし、伸縮シリンダ７を縮小した状態を示している。
【符号の説明】
３ 伸縮ブーム
３ａ 基ブーム
３ｂ 中間ブーム
３ｃ 中間ブーム
３ｄ 先ブーム
７ 伸縮シリンダ
１０ 伸縮状態検出手段
１１ 伸縮ブーム状態設定手段
１２ 操作指令手段
１３ 制御手段
１４ 制御手段
１５ 制御手段
１６ コントローラ
１６ａ 伸縮ブーム状態算出手段
１６ｂ 伸縮制御手段
１６ｃ 操作変更判別手段
１７ 警報手段
Ａ 移動式クレーン
Ｃ シリンダ・ブーム連結機構
Ｄ ブーム連結機構
Ｃ１ シリンダ・ブーム連結機構駆動装置
Ｄ１ ブーム連結機構駆動装置
Ｅ 伸縮ブームの伸縮制御装置
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月13日(2008.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】支持部材の上方端部に略水平面である座面を与えた人体矯正用の椅子であって、
前記座面を左右に分割する対称軸を挟んだ対称位置に前記座面から上方に向けて突出する一対の座骨接触部材が設けられ、前記一対の座骨接触部材の頂面である座骨接触座面は水平面から互いに対向するように前記対称軸へ向けて傾斜しつつ前記対称軸に沿った方向の所定位置へ向けてさらに傾斜していることを特徴とする椅子。
【請求項２】前記座骨接触部材の形状は直角三角形の底面を有する直角三角柱であって、前記三角柱の軸方向を前記対称軸と一定の角度で交わるようにしつつ、前記直角三角形の直角に対する対辺を含む側面を前記座骨接触座面として他の側面の１を前記座面に固定することを特徴とする請求項１記載の椅子。
【請求項３】前記角度は３０度であることを特徴とする請求項２記載の椅子。
【請求項４】前記支持部材には前記座面の高さを調整するための高さ調整機構を設けることを特徴とする請求項１乃至３のうちの１に記載の椅子。
【請求項５】前記座骨接触座面は滑り止めを有することを特徴とする請求項１乃至４のうちの１つに記載の椅子。
【請求項６】矯正者の高さ位置を調節するための高さ調整機構を有する一対の踏み台を前記対称軸の延長方向であって前記座骨接触部材を挟んで前記所定位置と反対側に設けることを特徴とする請求項１乃至５のうちの１つに記載の椅子。
【請求項７】前記座骨接触座面は、水平面から互いに対向するように前記対称軸へ向けて傾斜する傾斜角度、及び／又は、前記対称軸に沿った前記所定位置を調整可能であることを特徴とする請求項１乃至６のうちの１つに記載の椅子。
【請求項８】前記傾斜角度は鉛直方向から４５度となるような角度を少なくとも含むことを特徴とする請求項７記載の椅子。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月1日(2008.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】以下に示される分子構造を有するチオフェンと、フェニレンとが直接結合した構造を有するコオリゴマー化合物を含む有機レーザー材料。
【化１】
2002275459.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月16日(2008.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ポンプゲート
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  水路に配置したゲート扉体と、該ゲート扉体に取り付けたポンプと、該ゲート扉体を昇降させる駆動機構と、を備えたポンプゲートにおいて、
前記ゲート扉体は幅方向両端部が前記水路の両側壁の内面に設けた戸溝に沿って昇降するよう構成され、
前記駆動機構は、駆動ユニットと該駆動ユニットに従動する従動ユニットを備え、
前記駆動ユニットと従動ユニットを前記水路の両側壁の戸溝近傍で地表レベル付近の低い位置に配置し、該駆動ユニットと従動ユニットで前記ゲート扉体の両側部に昇降力を付与するように構成したことを特徴とするポンプゲート。
【請求項２】 請求項１に記載のポンプゲートにおいて、
前記ゲート扉体は幅方向両端部の下端から上方に向けてラック棒が取付けられ、
前記駆動ユニットと従動ユニットは、それぞれ前記ゲート扉体の幅方向両端部のラック棒に噛合するピニオンに回転力を付与するように構成したことを特徴とするポンプゲート。
【請求項３】 水路に配置したゲート扉体と、該ゲート扉体に取り付けたポンプと、該ゲート扉体を昇降させる駆動機構と、を備えたポンプゲートにおいて、
前記ゲート扉体は幅方向両端部が前記水路の両側壁の内面に設けた戸溝に沿って昇降するよう構成され、
前記駆動機構は、１個の駆動ユニットを備え、
前記駆動ユニットを前記水路の中央で地表レベル付近の低い位置に配置し、該駆動ユニットで前記ゲート扉体の両側部に昇降力を付与するように構成したことを特徴とするポンプゲート。
【請求項４】 請求項３に記載のポンプゲートにおいて、
前記ゲート扉体は幅方向両端部の下端から上方に向けてラック棒が取り付けられ、
前記駆動ユニットは、前記ゲート扉体の幅方向両端部のラック棒に噛合するピニオンに回転力を付与するように構成したことを特徴とするポンプゲート。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は水路（小川を含む）の途中に設置される排水機場等に用いるポンプゲートに関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
そこで、本発明は、高位置の操作台を用いることなく低位置に設置することができるようなポンプゲートを提供しようとするものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決するために、水路に配置したゲート扉体と、該ゲート扉体に取り付けたポンプと、該ゲート扉体を昇降させる駆動機構と、を備えたポンプゲートにおいて、ゲート扉体は幅方向両端部が水路の両側壁の内面に設けた戸溝に沿って昇降するよう構成され、駆動機構は、駆動ユニットと該駆動ユニットに従動する従動ユニットを備え、駆動ユニットと従動ユニットを水路の両側壁の戸溝近傍で地表レベル付近の低い位置に配置し、該駆動ユニットと従動ユニットでゲート扉体の両側部に昇降力を付与するように構成した。また、ゲート扉体は幅方向両端部の下端から上方に向けてラック棒が取付けられ、駆動ユニットと従動ユニットは、それぞれゲート扉体の幅方向両端部のラック棒に噛合するピニオンに回転力を付与するように構成した。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記のように水路の両側壁の戸溝近傍で地表レベル付近の低い位置に配置した駆動ユニットと従動ユニットで、ゲート扉体の両側部に昇降力を付与するように構成したので、高位置の操作台を不要にできる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明は、水路に配置したゲート扉体と、該ゲート扉体に取り付けたポンプと、該ゲート扉体を昇降させる駆動機構とを備えたポンプゲートにおいて、ゲート扉体は幅方向両端部が水路の両側壁の内面に設けた戸溝に沿って昇降するよう構成され、駆動機構は、１個の駆動ユニットを備え、駆動ユニットを水路の中央で地表レベル付近の低い位置に配置し、該駆動ユニットでゲート扉体の両側部に昇降力を付与するように構成した。また、ゲート扉体は幅方向両端部の下端から上方に向けてラック棒が取り付けられ、駆動ユニットは、ゲート扉体の幅方向両端部のラック棒に噛合するピニオンに回転力を付与するように構成した。これにより、従動ユニットをなくすことができるので、よりコンパクトな設計とすることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
【発明の効果】
以上述べた如く、本発明のポンプゲートによれば、地表レベル付近の低い位置に配置された駆動機構でゲート扉体の両側部に昇降力を付与するように構成したので、電動機等の故障時等には、作業者が高位置に上ることなく低位置上で手動開閉操作や電動機等の修理を行うことができて有利である。また、平野地の排水機場のポンプゲートに採用しても、ポンプゲートが平野地の突起物となることがなくて、コンパクト化を図ることができると共に、全体の高さを低くすることができて美観環境を良好に保つことができる。また、高位置に操作台を設けることがないことから、工期の短縮化及びコストの低減化に寄与する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月20日(2008.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【発明の実施の形態】
本発明のボディー用のリンス化粧料は、２５℃、１気圧下で固形の多価アルコールから選ばれる１種乃至は２種以上を含有することを特徴とする。ここで、２５℃、１気圧下で固形の多価アルコールとしては、例えば、平均分子量４０００以上のポリエチレングリコール、ソルビトール、マルチトール、グルコースなどが好ましく例示できるが、特に好ましいものは、平均分子量４０００以上のポリエチレングリコールである。この様なポリエチレングリコールとしては、例えばポリエチレングリコール４０００、ポリエチレングリコール６０００、ポリエチレングリコール１００００、ポリエチレングリコール１５０００等が例示でき、本発明のリンス化粧料として特に好ましい形態は、ポリエチレングリコール４０００（平均分子量４０００）とポリエチレングリコール６０００（平均分子量６０００）とを組み合わせて用いる形態である。これは、この様な形態のものが、後記に示すシャワーヘッド内に収納する形において、好ましい溶出特性を示すためである。ここにおいて、ポリエチレングリコール４０００とポリエチレングリコール６０００の好ましい量比は、８０：２０〜９９：１である。本発明のボディー用のリンス化粧料においては、これら必須成分である、２５℃、１気圧下で固形の多価アルコールから選ばれる１種乃至は２種以上以外に通常化粧料で使用される任意の成分を含有することができる。この様な任意の成分としては、例えば、スクワランや流動パラフィン、固形パラフィンなどの炭化水素類、ジメチコンやフェメチコンなどのシリコーン類、ホホバ油やゲイロウなどのエステル類、ステアリン酸やオレイン酸などの脂肪酸類、ベヘニルアルコールやセタノール、オレイルアルコールなどの高級アルコール類、牛脂やオリーブオイル等のトリグリセライド類、ステアリン酸モノグリセリド、ソルビタンセスキオレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ポリオキシエチレンステアレート等の非イオン界面活性剤、ソジウムラウリルステアレートなどのアニオン界面活性剤、４級アルキルアンモニウム塩等のカチオン界面活性剤類、１，３−ブタンジオール、グリセリン、イソプレングリコール、１，２−ペンタンジオールなどの２５℃、１気圧下で固形でない多価アルコール類、結晶セルロース等の粉体類、キサンタンガムやヒドロキシプロピルセルロースなどの増粘剤、ビタミンやグリチルリチン、トウキエキス、センキュウエキス、シラカバエキス、ローズマリーエキス、ラベンダーエキス、タイムエキス、ユーカリエキス、カミツレエキス、クリエキスなどの有効成分などが好ましく例示できる。又、界面活性剤をボディリンス全量に対して０．１〜５０重量％、より好ましくは０．５〜２０重量％程度含有させることにより、リンス効果に洗浄効果を付加することもできる。この様に、リンス効果以外に他の効果を付加するような成分を含有させる場合には、中心部を多価アルコールの層、外郭部
を他の効果を発現させる成分を含む層と言うように多層型製剤にすることもできるし、洗浄剤のような、肌上に残留することが好ましくない成分を含有させる場合には、この様な多層型剤形とすることが好ましい。本発明の、ボディー用のリンス組成物は、この様な必須の成分と任意の成分とを常法に従って処理することにより製造することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月27日(2008.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
上記の実施例１〜４と比較例１〜３に記載した合金Ａについて、希土類磁石合金塊を水素雰囲気下に置いた瞬間から該合金塊が水素吸蔵可能量の１％を吸蔵する時点までの時間間隔Ｔ、該合金塊の水素吸蔵速度の最大値ｒｍａｘとＢＨｍａｘとの関係を示したグラフをそれぞれ図５（ａ）（ｂ）に示す。図５（ａ）（ｂ）で●は実施例１〜４の結果を示し、□は比較例１〜３の結果を示す。この図５（ａ）（ｂ）から、Ｔが１００〜１８００秒の範囲内にあり、且つ、ｒｍａｘが１．２×１０-4〜１．５×１０-3質量％／秒の範囲内にある合金塊から製造された磁石の特性が、範囲外の合金塊から製造された磁石よりもより高特性を示していることが分かる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
上記の実施例５〜８と比較例４〜６に記載した合金Ｂについて、希土類磁石合金塊を水素雰囲気下に置いた瞬間から該合金塊が水素吸蔵可能量の１％を吸蔵する時点までの時間間隔Ｔ、該合金塊の水素吸蔵速度の最大値ｒｍａｘとＢＨｍａｘとの関係を示したグラフをそれぞれ図６（ａ）（ｂ）に示す。図６（ａ）（ｂ）で●は実施例５〜８の結果を示し、□は比較例４〜６の結果を示す。この図６（ａ）（ｂ）から、Ｔが１００〜１８００秒の範囲内にあり、且つ、ｒｍａｘが１．２×１０-4〜１．５×１０-3質量％／秒の範囲内にある合金塊から製造された磁石の特性が、範囲外の合金塊から製造された磁石よりもより高特性を示していることが分かる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０８】
上記の実施例９〜１２と比較例７〜９に記載した合金Ｃについて、希土類磁石合金塊を水素雰囲気下に置いた瞬間から該合金塊が水素吸蔵可能量の１％を吸蔵する時点までの時間間隔Ｔ、該合金塊の水素吸蔵速度の最大値ｒｍａｘとＢＨｍａｘとの関係を示したグラフをそれぞれ図７（ａ）（ｂ）に示す。図７（ａ）（ｂ）で●は実施例９〜１２の結果を示し、□は比較例７〜９の結果を示す。この図７（ａ）（ｂ）から、Ｔが１００〜１８００秒の範囲内にあり、且つ、ｒｍａｘが１．２×１０-4〜１．５×１０-3質量％／秒の範囲内にある合金塊から製造された磁石の特性が、範囲外の合金塊から製造された磁石よりもより高特性を示していることが分かる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２３】
上記の実施例１３〜１６と比較例１０〜１２に記載した合金Ｄについて、希土類磁石合金塊を水素雰囲気下に置いた瞬間から該合金塊が水素吸蔵可能量の１％を吸蔵する時点までの時間間隔Ｔ、該合金塊の水素吸蔵速度の最大値ｒｍａｘとＢＨｍａｘとの関係を示したグラフをそれぞれ図８（ａ）（ｂ）に示す。図８（ａ）（ｂ）で●は実施例１３〜１６の結果を示し、□は比較例１０〜１２の結果を示す。この図８（ａ）（ｂ）から、Ｔが２００〜２４００秒の範囲内にあり、且つ、ｒｍａｘが１．０×１０-4〜１．２×１０-3質量％／秒の範囲内にある合金塊から製造された磁石の特性が、範囲外の合金塊から製造された磁石よりもより高特性を示していることが分かる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３８】
上記の実施例１７〜２０と比較例１３〜１５に記載した合金Ｅについて、希土類磁石合金塊を水素雰囲気下に置いた瞬間から該合金塊が水素吸蔵可能量の１％を吸蔵する時点までの時間間隔Ｔ、該合金塊の水素吸蔵速度の最大値ｒｍａｘとＢＨｍａｘとの関係を示したグラフをそれぞれ図９（ａ）（ｂ）に示す。図９（ａ）（ｂ）で●は実施例１７〜２０の結果を示し、□は比較例１３〜１５の結果を示す。この図９（ａ）（ｂ）から、Ｔが２００〜２４００秒の範囲内にあり、且つ、ｒｍａｘが１．０×１０-4〜１．２×１０-3質量％／秒の範囲内にある合金塊から製造された磁石の特性が、範囲外の合金塊から製造された磁石よりもより高特性を示していることが分かる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５３】
上記の実施例２１〜２４と比較例１６〜１８に記載した合金Ｆについて、希土類磁石合金塊を水素雰囲気下に置いた瞬間から該合金塊が水素吸蔵可能量の１％を吸蔵する時点までの時間間隔Ｔ、該合金塊の水素吸蔵速度の最大値ｒｍａｘとＢＨｍａｘとの関係を示したグラフをそれぞれ図１０（ａ）（ｂ）に示す。図１０（ａ）（ｂ）で●は実施例２１〜２４の結果を示し、□は比較例１６〜１８の結果を示す。この図１０（ａ）（ｂ）から、Ｔが２００〜２４００秒の範囲内にあり、且つ、ｒｍａｘが１．０×１０-4〜１．２×１０-3質量％／秒の範囲内にある合金塊から製造された磁石の特性が、範囲外の合金塊から製造された磁石よりもより高特性を示していることが分かる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月20日(2008.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  磁性粉の表面を表面処理剤で被覆処理するに当たり、表面処理剤として固形の表面処理剤を使用し、この固形の表面処理剤と磁性粉とをあらかじめ混合して解砕しておき、その後に当該混合物に有機溶剤を添加して表面処理剤を溶解させることにより、磁性粉の表面に表面処理剤を均一に被着させることを特徴とする磁性粉の表面処理方法。
【請求項２】  前記の表面処理剤を溶解させる際に、前記混合物に有機溶剤のみを添加する請求項１記載の磁性粉の表面処理方法。
【請求項３】  請求項１または２に記載した磁性粉の表面処理方法において、表面処理直後の系の固形分濃度が８０重量％以上となるように有機溶剤の量あるいは濃度を調節する磁性粉の表面処理方法。
【請求項４】  磁気記録媒体を構成する非磁性支持体上に磁性層を形成する際に用いる塗料として、磁性粉と結合剤と添加剤と有機溶剤とを含む磁性塗料を製造するに当たり、請求項１または２に記載した表面処理方法によってあらかじめ磁性粉の表面を被覆処理しておき、この表面処理後の磁性粉に結合剤および添加剤を加えて混練し、次いでこの混練物に有機溶剤を加えて希釈・分散することを特徴とする磁性塗料の製造方法。
【請求項５】  非磁性支持体上に、磁性粉と結合剤と添加材と有機溶剤とを含む磁性塗料を塗布することにより形成される磁性層を有する磁気記録媒体を製造するに当たり、前記磁性塗料として、請求項４に記載した方法で得られた磁性塗料を用いることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る磁性粉の表面処理方法では、磁性粉の表面処理を均一に行えるようにするため、磁性粉の表面を表面処理剤で被覆処理するに当たり、表面処理剤として固形の表面処理剤を使用し、まず、この固形の表面処理剤と磁性粉とをあらかじめ混合して、機械的に解砕できる装置で解砕しておく。次いで、このようにして混合・解砕した磁性粉と表面処理剤との混合物に、有機溶剤を添加して表面処理剤を溶解させることにより、磁性粉の表面に表面処理剤を均一に被着させる。このとき、表面処理直後の系の固形分濃度が８０重量％以上となるように溶剤の量あるいは濃度を調節し、この溶剤を前記混合物に対して滴下あるいは噴霧することで、磁性粉の表面に表面処理剤を吸着させるのが好ましい。表面処理直後の系の固形分濃度が８０重量％以上となるようにしておけば、次に述べる磁性塗料を調整する場合において、磁性粉に結合剤および溶剤を添加して混練する際に比較的粘度の高い混練物を混練することとなり、その結果、高負荷で混練を行うことができ、磁性粉の高充填および高分散が可能となるからである。なお、上記「固形の表面処理剤」における「固形の」とは、液体（溶液）状や気体状ないことを意味する。したがって、「固形の表面処理剤」には、塊状、比較的粗い粉状もしくは粒状の表面処理剤も含まれる。
前記の表明処理剤を溶解させる際には、前記混合物に有機溶剤のみを添加するようにしてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月11日(2008.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  浄水流入口と、気泡流吐出口の間で延在する流路の途上に空気混入機構と整流機構とを上流側よりこの順に備えた泡沫吐水口を、継手を介して水栓の先端に設けた泡沫吐水装置において、
前記空気混入機構は、気泡流吐出口と同心の円であり且つ気泡流吐出口よりも大径の円の周上に配設された複数の小孔を有し流路を塞いで配設された減圧板と、減圧板の下流の流路囲壁に形成された空気孔とを有し、整流機構は、空気孔の下流で漏斗状に縮径する流路の傾斜部と、傾斜部の下流端から気泡流吐出口へ向けて延在する気泡流吐出口と同心の流路の整流部と、傾斜部と整流部とを連結する流路のＲ部と、流路の整流部を塞いで配設された整流格子と、整流格子の下流で整流部に接続する整流路とを有し、前記減圧板より上流に、前記継手の流路断面積よりも小さな通水流路断面を有する絞り部を設けたことを特徴とする泡沫吐水装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段および作用・効果】
上記課題を解決するためになされた請求項１記載の発明は、洗浄水流入口と、気泡流吐出口の間で延在する流路の途上に空気混入機構と整流機構とを上流側よりこの順に備えた泡沫吐水口を、継手を介して水栓の先端に設けた泡沫吐水装置において、前記空気混入機構は、気泡流吐出口と同心の円であり且つ気泡流吐出口よりも大径の円の周上に配設された複数の小孔を有し流路を塞いで配設された減圧板と、減圧板の下流の流路囲壁に形成された空気孔とを有し、整流機構は、空気孔の下流で漏斗状に縮径する流路の傾斜部と、傾斜部の下流端から気泡流吐出口へ向けて延在する気泡流吐出口と同心の流路の整流部と、傾斜部と整流部とを連結する流路のＲ部と、流路の整流部を塞いで配設された整流格子と、整流格子の下流で整流部に接続する整流路とを有し、前記減圧板より上流に、前記継手の流路断面積よりも小さな通水流路断面を有する絞り部を設けたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月16日(2008.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】人体局部を洗浄するノズルと、便器内に発生した臭気を吸引し無臭化したのち外部に排出する脱臭装置とを備えた温水洗浄便座装置において、臭気吸引口から排気口までを構成するダクトに密閉構造を持つことを特徴とする温水洗浄便座装置。
【請求項２】請求項１に記載の温水洗浄便座装置において、前記脱臭装置の排気口と前記温水洗浄便座装置の外郭部の間にパッキンを有することを特徴とする温水洗浄便座装置。
【請求項３】請求項１または２に記載の温水洗浄便座装置において、前記脱臭装置のダクトを構成する部品にて、各部品の接続部にパッキンを有することを特徴とする温水洗浄便座装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段および作用・効果】
請求項１の発明は、人体局部を洗浄するノズルと、便器内に発生した臭気を吸引し無臭化したのち外部に排出する脱臭装置とを備えた温水洗浄便座装置において、臭気吸引口から排気口までを構成するダクトに密閉構造を持つことを特徴とする。臭気吸引口から排気口までを構成するダクトを密閉構造にすることによって、前記温水洗浄便座装置の脱臭装置の作動により脱臭装置吸引口から吸引される湿気を帯びた空気を温水洗浄便座装置内部へ侵入させることを阻み、温水洗浄便座装置内部の結露発生を防ぐことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月12日(2008.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
2002275137.tif 000001
（式中、Ｒ1はハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基を表わし、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3およびＸ4は、それぞれ同一または相異なって、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基または水酸基を表わす。また、Ｘ2とＸ3が一緒になって、フタロイル基を表わしてもよい。）
で示される化合物とアルコール類を、酸性イオン交換樹脂の存在下に反応させて、一般式（２）
2002275137.tif 000002
（式中、Ｒ1、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3およびＸ4は、それぞれ上記と同一の意味を表わし、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ同一または相異なって、アルキル基を表わす。ここで、Ｒ2およびＲ3が一緒になってアルキル基で置換されていてもよいアルキレン基を形成していてもよい。）
で示されるケタール化合物を得、該ケタール化合物にハロゲン化剤を作用させて、一般式（３）
2002275137.tif 000003
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3およびＸ4は、それぞれ上記と同一の意味を表わす。）
で示される化合物を得、該一般式（３）で示される化合物を酸処理することを特徴とする一般式（４）
2002275137.tif 000004
（式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3およびＸ4は、それぞれ上記と同一の意味を表わす。）
で示されるテトラヒドロナフタレン誘導体またはその塩の製造方法。
【請求項２】
Ｘ2とＸ3が一緒になってフタロイル基を表わす、請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
Ｘ1およびＸ4が水酸基である、請求項１または２記載の製造方法。
【請求項４】
Ｒ2およびＲ3が一緒になってアルキル基で置換されていてもよいアルキレン基を形成する、請求項１〜３のいずれか記載の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月20日(2008.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】アルコール類を酸化してアルデヒドまたはケトンを得る反応の触媒であって、一般式Ｃａ１０−ｚ(ＨＰＯ４)ｚ(ＰＯ４)６−ｚ(ＯＨ)２−ｚ・ｎＨ２Ｏ［式中、Ｚは０≦Ｚ≦１を満足する数である。ｎは０〜２．５の数である。］で表されるヒドロキシアパタイトにパラジウムを固定化した、パラジウム固定化ヒドロキシアパタイトからなる触媒。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月8日(2008.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  遷移金属触媒の存在下、ホウ素原子上に有機基を有する有機ホウ素化合物とアセチレン系化合物とを反応させ、前記有機基が付加したオレフィン系化合物を製造する方法。
【請求項２】  遷移金属触媒が、周期表８族元素、周期表９族元素および周期表１０族元素から選択された少なくとも一種で構成されている請求項１記載の方法。
【請求項３】  プロトン源の共存下で反応させる請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】  含窒素化合物の共存下で反応させ、複数の炭素−炭素二重結合を有する化合物の生成割合を増大させる請求項１〜３のいずれかの項に記載の方法。
【請求項５】  遷移金属触媒の存在下、式（１）
【化１】
2002275102.tif 000001
（式中、Ｒ１は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、複素環基を示し、これらの基Ｒ１は置換基を有していてもよい。Ｒ２，Ｒ３は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、複素環基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、チオアルコキシ基を示し、これらの置換基は置換基を有していてもよく、基Ｒ２及びＲ３は隣接するホウ素原子とともに互いに結合して環を形成してもよい）
で表される有機ホウ素化合物と下記式（２）
【化２】
2002275102.tif 000002
（式中、Ｒ４，Ｒ５は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基を示し、これらの置換基は置換基を有していてもよい）
で表されるアセチレン系化合物とを反応させ、下記式（３ａ）又は（３ｂ）
【化３】
2002275102.tif 000003
（式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５は前記に同じ。ｎは１以上の整数を示す）
で表されるオレフィン系化合物を生成させる請求項１〜４のいずれかの項に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
（式中、Ｒ１は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、複素環基を示し、これらの基Ｒ１は置換基を有していてもよい。Ｒ２，Ｒ３は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、複素環基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、チオアルコキシ基を示し、これらの置換基は置換基を有していてもよく、基Ｒ２及びＲ３は隣接するホウ素原子とともに互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ４，Ｒ５は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基を示し、これらの置換基は置換基を有していてもよい。ｎは１以上の整数を示す）
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月14日(2008.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】竜角と口前との間において甲の表面をくり貫いて設けた台座と、合成樹脂材で形成されそれぞれの弦に対応して上記台座にはめ込まれたテーパ孔付きブッシングと、調整用具嵌込部と巻き取り部とテーパ軸部とを有し上記テーパ軸部を上記ブッシングのテーパ孔に嵌められた調整軸とを備え、上記巻き取り部に上記弦を巻き付けて、上記調整軸を回動することにより上記弦の張設・調律を行うようにしたことを特徴とする筝。
【請求項２】竜角と口前との間において甲の表面をくり貫いて設けた台座と、合成樹脂材で形成されそれぞれの弦に対応して上記台座に嵌め込まれたテーパ孔付きブッシングと、調整用具嵌込部と巻き取り部とテーパ軸部及び締付けねじ部とを有し上記テーパ軸部を上記ブッシングのテーパ孔に嵌めると共に上記締付けねじ部により上記ブッシングに螺着された調整軸とを備え、上記巻き取り部には上記弦を巻付けて、上記調整軸を回動することにより上記弦の張設・調律を行うようにしたことを特徴とする箏。
【請求項３】  台座とテーパ孔付きブッシングと調整軸はユニット化したものであることを特徴とする請求項１または２に記載の筝。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の琴においては、竜角と口前との間において甲の表面をくり貫いて設けた台座と、合成樹脂材で形成されそれぞれの弦に対応して上記台座にはめ込まれたテーパ孔付きブッシングと、調整用具嵌込部と巻き取り部とテーパ軸部とを有し上記テーパ軸部を上記ブッシングのテーパ孔に嵌められた調整軸とを備え、巻き取り部に上記弦を巻き付けて、調整軸を回動することにより弦の張設・調律を行うようにしたものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
又、本発明の琴においては、竜角と口前との間において甲の表面をくり貫いて設けた台座と、合成樹脂材で形成されそれぞれの弦に対応して上記台座に嵌め込まれたテーパ孔付きブッシングと、調整用具嵌込部と巻き取り部とテーパ軸部と締付けねじ部とを有し上記テーパ軸部を上記ブッシングのテーパ孔に嵌めると共に締付けねじ部によりブッシングに螺着された調整軸とを備え、巻き取り部に弦を巻付けて、調整軸を回動することにより弦の張設・調律を行うようにしたものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また調整軸２０の調整用具嵌込み部２１は六角ボルト形に限らず、十字孔付きねじの頭部のように形成してもよい。さらに、六角穴付きの調整用具嵌込み部２１にすることにより軸の長さを短くすることができる。その結果、甲７の表側に突出する部分も短いので外観もよく、又、琴の積み重ねにも支障を生じない。又、着物を着ての演奏に際し袖が引っ掛かる心配も少ない。更に、調整軸２０の上側にカバーを設ければ上記の問題点が更に改善される。
なお、上記の実施の形態では、調整軸２０に締付けねじ部２５を設けたものを示したが、ブッシング１０とテーパ軸部２４の関係において、摩擦力が強い構成が得られる場合には、締付けねじ部２５が無くても使用可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月26日(2007.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  マトリクス状に配置され、それぞれスイッチング素子を介して映像信号が供給される各画素に、その一方向に配列された画素群を選択するとともに、これら選択された画素群の各画素のそれぞれに映像信号を供給し、該映像信号は階調を示すｎ個のビットのうちの１ビットに相当する２値化信号であって、
その１フィールド期間を複数の単位基本走査期間に割り当て、その一単位基本走査期間内にｎ個の画素群をほぼ２n-1：２n-2：２n-3：……の割合で離間させたものを順次選択させ、その後、この選択方向と逆の方向に前記各画素群に隣接する他のｎ個の画素群を次の単位基本走査期間で順次選択させ、これを繰り返すとともに、
前記各単位基本走査期間毎に、最初に選択された画素群に階調を示すｎ個のビットのうちｎ番目のビットの２値化信号を、次に選択された画素群に階調を示す（ｎ−１）個のビットのうちｎ番目のビットの２値化信号を、次に選択された画素群に階調を示す（ｎ−２）個のビットのうちｎ番目のビットの２値化信号をというように供給することを特徴とする表示装置の駆動方法。
【請求項２】  マトリクス状に配置され、それぞれスイッチング素子を介して映像信号が供給される各画素に、その一方向に配列された画素群を選択するとともに、これら選択された画素群の各画素のそれぞれに映像信号を供給し、該映像信号は階調を示すｎ個のビットのうちの１ビットに相当する２値化信号であって、
前記画素群の選択は、その一の画素群に対してほぼ２n-1×係数に相当する群数だけ離間された画素群、この画素群に対してほぼ２n-2×係数に相当する群数だけ離間された画素群、この画素群に対してほぼ２n-3×係数に相当する群数だけ離間された画素群というようにそれらｎ個の画素群の順次走査によって行うとともに、
この際、最初に選択された画素群の各画素にはその階調を示すｎ個のビットのうち最下位のビットから数えてｎ番目に相当する２値化信号を、次に選択された画素群の各画素群の各画素にはその階調を示すｎ個のビットのうち最下位のビットから数えてｎ−１番目に相当する２値化信号を、次に選択された画素群の各画素群の各画素にはその階調を示すｎ個のビットのうち最下位のビットから数えてｎ−２番目に相当する２値化信号をそれぞれ供給し、
かつ、前記ｎ個の画素群の選択の後、それら各画素群の走査方向と逆の方向側に隣接する他のｎ個の画素群を選択して、上述と同様に２値化信号を供給することを特徴とする表示装置の駆動方法。
【請求項３】  マトリクス状に配置され、それぞれスイッチング素子を介して映像信号が供給される各画素に、その一方向に配列された画素群を選択するとともに、これら選択された画素群の各画素のそれぞれにｎ個のビットで階調を示す映像信号を供給する表示装置であって、
その１フィールド期間を複数の単位基本走査期間に割り当て、その一単位基本走査期間内にｎ個の画素群をほぼ２n-1：２n-2：２n-3：……の割合で離間させたものを順次選択させ、その後、この選択方向と逆の方向に前記各画素群に隣接する他のｎ個の画素群を次の単位基本走査期間で順次選択させ、これを繰り返す走査駆動回路と、
前記各単位基本走査期間毎に、最初に選択された画素群に階調を示すｎ個のビットのうちｎ番目のビットの２値化信号を、次に選択された画素群に階調を示す（ｎ−１）個のビットのうちｎ番目のビットの２値化信号を、次に選択された画素群に階調を示す（ｎ−２）個のビットのうちｎ番目のビットの２値化信号をというように前記ドレイン信号線に供給する映像信号駆動回路を、備えることを特徴とする表示装置。
【請求項４】  液晶を介して対向配置された基板のうち一方の基板の液晶側の面に、一方向に延在され該一方向と交差する方向に並設されるゲート信号線とこのゲート信号線と交差して並設されるドレイン信号線とで囲まれる領域を画素領域とし、
この画素領域に片側のゲート信号線からの走査信号によって作動するスイッチング素子と、このスイッチング素子を介して片側のドレイン信号線からの映像信号が供給される画素電極を備え、
ｎ個のビットで各画素の階調を示す表示データが入力されるものであって、
前記各ゲート信号線のうちその並設方向のうち一方の方向にほぼ２n-1、２n-2、２n-3、……の値に係数をかけた値に対応させて順次離間された複数のゲート信号線を単位走査期間で順次走査させ、次の単位走査期間で前記複数の各ゲート信号線に対して前記並設方向のうち他方の方向に隣接する他の複数のゲート信号線を同様に走査させ、これを繰り返す走査駆動回路と、
前記各単位走査期間における各ゲート信号線の順次走査のそれぞれのタイミングに合わせて前記ｎ個のビットのうち最上位のビットから最下位のビットにかけての２値化信号をドレイン信号線に供給し、これを繰り返す映像信号駆動回路と、を具備することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】  液晶を介して対向配置された基板のうち一方の基板の液晶側の面に、一方向に延在され該一方向と交差する方向に並設されるゲート信号線とこのゲート信号線と交差して並設されるドレイン信号線とで囲まれる領域を画素領域とし、
この画素領域に片側のゲート信号線からの走査信号によって作動するスイッチング素子と、このスイッチング素子を介して片側のドレイン信号線からの映像信号が供給される画素電極を備え、
ｎ個のビットで各画素の階調を示す表示データがフレームメモリから入力されるものであって、
前記各ゲート信号線のうちその並設方向のうち一方の方向にほぼ２n-1、２n-2、２n-3、……の値に係数をかけた値に対応させて順次離間された複数のゲート信号線を単位走査期間で順次走査させ、次の単位走査期間で前記複数の各ゲート信号線に対して前記並設方向のうち他方の方向に隣接する他の複数のゲート信号線を同様に走査させ、これを繰り返す走査駆動回路と、
前記各単位走査期間における各ゲート信号線の順次走査のそれぞれのタイミングに合わせて前記ｎ個のビットのうち最上位のビットから最下位のビットにかけての２値化信号をドレイン信号線に供給し、これを繰り返す映像信号駆動回路と、を具備し、
前記フレームメモリは、前記各画素と対応するセルに各画素に書き込もうとするｎビットの階調を示す情報が格納され、前記各単位走査期間に走査する前記ゲート信号線に対応するセル列において、その走査する順番に応じて対応する画素の前記ｎビットの階調を示す情報のうち最上位ビットの２値化信号から最下位ビットの２値信号を前記映像信号駆動回路へ出力させることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】  走査駆動回路および映像信号駆動回路はゲート信号線およびドレイン信号線が形成された基板上に形成されていることを特徴とする請求項４あるいは請求項５に記載の液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月4日(2008.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】  前記規制部の両端部の規制力が中央部の規制力よりも小さくなるよう前記規制部の両端部の原稿搬送方向長さを中央部よりも短くしたことを特徴とする請求項１記載の原稿送り装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月15日(2008.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
第４のパターン形成材料によると、第１のユニットがヘキサフルオロイソプロピル基を有しているため、１ｎｍ帯〜１８０ｎｍ帯の波長を持つ光に対する透過性が大きく向上する。また、第１及び第２のユニットの主鎖のα位の水素原子がアルキル基、塩素原子又はフッ素原子を有するアルキル基で置換されているため、主鎖が架橋反応を起こさないので、レジスト膜の露光部の現像液に対する溶解性が向上する。また、第１のユニットのアルコール部にトリフルオロメチル基を有しているため、保護基が脱離したヒドロキシル基の現像液に対する溶解性が向上するので、レジスト膜の露光部の現像液に対する溶解性が向上する。従って、レジスト膜における露光部と未露光部との溶解性のコントラストが大きく向上する。また、第１及び第２のユニットがベンゼン環を有しているため、ドライエッチング耐性が向上する。さらに、第２のユニットがヒドロキシル基を有しているため、濡れ性が良くなって基板との密着性が向上すると共に、重合体中における第２のユニットが含まれる割合を調整することにより、アルカリ性の現像液に対する溶解レートをコントロールすることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
第５のパターン形成材料によると、第１のユニットがヘキサフルオロイソプロピル基を有しているため、１ｎｍ帯〜１８０ｎｍ帯の波長を持つ光に対する透過性が大きく向上する。また、第１、第２及び第３のユニットの主鎖のα位の水素原子がアルキル基、塩素原子又は塩素原子を有するアルキル基で置換されているため、主鎖が架橋反応を起こさないので、レジスト膜の露光部の現像液に対する溶解性が向上する。また、第１のユニットのアルコール部にトリフルオロメチル基を有しているため、保護基が脱離したヒドロキシル基の現像液に対する溶解性が向上するので、レジスト膜の露光部の現像液に対する溶解性が向上する。従って、レジスト膜における露光部と未露光部との溶解性のコントラストが大きく向上する。また、第１、第２及び第３のユニットがベンゼン環を有しているため、ドライエッチング耐性が向上する。また、第３のユニットがヒドロキシル基を有しているため、濡れ性が良くなって基板との密着性が向上する。また、重合中における第３のユニットが含まれる割合を調整することにより、アルカリ性の現像液に対する溶解レートをコントロールすることができる。さらに、レジスト膜の露光部において、光の照射により酸が発生して第２のユニットからも保護基が脱離するとヒドロキシル基が発生するので、レジスト膜における露光部と未露光部とのコントラストが向上する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
次に、図１（ｃ）に示すように、半導体基板１０ひいてはレジスト膜１１をホットプレート１４により加熱する。このようにすると、レジスト膜１１の露光部１１ａにおいては、ベース樹脂が酸の存在下で加熱されるため、［化４２］における右側のユニットの保護基が脱離し、これによって、ベース樹脂はアルカリ可溶性になる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月16日(2008.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
複数の記録材搬送速度を有する画像形成装置であり、該画像形成装置に具備される加熱定着装置が、未定着画像が形成された記録材を、加圧部材と加熱ヒータを具備した加熱部材とを互いに圧接してなる定着ニップ間を通過させることにより、上記未定着画像を記録材上に加熱定着させ、プリント枚数に応じて上記加熱ヒータの制御温度を降下させる構成の装置である画像形成装置において、
記録材搬送速度の遅い場合、上記加熱ヒータの制御可能な温度範囲が記録材搬送速度の速い場合より大きく、かつ加圧部材温度を予測する手段で予測された加圧部材温度により上記加熱ヒータの制御温度を決定することを特徴とした画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【技術分野】
本発明は、複数の記録材搬送速度を有する、電子写真方式等を用いた複写機・プリンタ・ファクシミリ等の画像形成装置であり、該画像形成装置に具備される加熱定着装置（定着器）が、未定着画像が形成された記録材を、加圧部材と加熱ヒータを具備した加熱部材とを互いに圧接してなる定着ニップ間を通過させることにより、上記未定着画像を記録材上に加熱定着させ、プリント枚数に応じて上記加熱ヒータの制御温度を降下させる構成の装置である画像形成装置に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
しかし、画像形成装置の高速化に伴い高速モードで定着性を満足させるために融点の低いトナーを使用し、図１７の制御において低速モードで大量のプリントを行った結果、ホットオフセットが発生した。さらに、低速モードでプリントした後、高速モードに切り替えてプリントした場合はホットオフセットの発生が顕著になった。これは、低融点トナーを使用しているため低速モード時に加圧ローラ温度の上昇に伴い定着温度を降下できるにも関わらず定着温度を降下させておらず、加圧ローラ温度が上昇している事が原因であると考えられる。また、画像形成装置が高速化すると、高速モードにおいて加圧ローラの熱が記録材によって奪われる割合が高く、加圧ローラ温度の上昇率が低いのに加え、定着温度と加圧ローラ温度の差が大きくなるため、加圧ローラの熱が定着にあまり寄与せず、プリント枚数が多くなっても図１７ほど定着温度を降下させることができない。したがって、画像形成装置の高速化により、低速モードでプリントした後の高速モードでのプリントでホットオフセットはさらに発生しやすくなる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
（１）複数の記録材搬送速度を有する画像形成装置であり、該画像形成装置に具備される加熱定着装置が、未定着画像が形成された記録材を、加圧部材と加熱ヒータを具備した加熱部材とを互いに圧接してなる定着ニップ間を通過させることにより、上記未定着画像を記録材上に加熱定着させ、プリント枚数に応じて上記加熱ヒータの制御温度を降下させる構成の装置である画像形成装置において、記録材搬送速度の遅い場合、上記加熱ヒータの制御可能な温度範囲が記録材搬送速度の速い場合より大きく、かつ加圧部材温度を予測する手段で予測された加圧部材温度により上記加熱ヒータの制御温度を決定することを特徴とした画像形成装置。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
このトナー像が転写された記録材Ｐは定着装置２５へと搬送され、固着画像として定着される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
上記ヒータアセンブリ１０の両端部側フランジ部材１３・１３をそれぞれ装置の手前側と奥側の側板１１・１１に設けた縦方向スリット部１１ａ・１１ａに係合させることで、ヒータアセンブリ１０を加熱ヒータ２側を下向きの状態にして側板１１・１１間に落とし込み、加圧ローラ４の上側に配置する。そして、上記両端部側フランジ部材１３・１３と不動部材１５・１５との間にそれぞれ加圧バネ１４・１４を縮設することでヒータアセンブリ１０を加圧ローラ４の上面に対して加圧ローラ４の弾性に抗して所定の押圧力をもって圧接させてある。すなわちヒータアセンブリ１０の長手方向両端部から加圧ローラ４に対して加熱定着に必要なニップ部Ｎを形成するべく十分に加圧されて、ヒータアセンブリ１０側の加熱ヒータ２の下面と加圧ローラ４の上面との間に定着フィルム３を挟ませて加圧ローラ４の弾性撓みにて所定幅の定着ニップ部Ｎが形成される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１２】
以上説明したように本発明によれば、複数の記録材搬送速度を有する画像形成装置であり、該画像形成装置に具備される加熱定着装置が、未定着画像が形成された記録材を、加圧部材と加熱ヒータを具備した加熱部材により互いに圧接してなる定着ニップ間を通過させることにより、上記未定着画像を記録材上に加熱定着させる画像形成装置において、記録材搬送速度の遅い場合、上記加熱ヒータの制御温度を降下させる速度を記録材搬送速度が速い場合に比べて速くすることを特徴とした画像形成装置により、プロセススピードに関わらず加圧ローラの上昇率に応じて定着温度を降下させることができるため、プロセススピードに関わらずホットオフセットや定着不良の問題が発生しない良好な画像を得ることができ、また省電力や定着部材の耐久性向上という効果も得られた。