【手続補正書】
【提出日】平成20年6月17日(2008.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】温度調整エア供給装置及び露光装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】温度調整対象が内部に配置されるチャンバと、このチャンバの空調を行う空調機室とを備える温度調整エア供給装置において、供給するエアを温度調整するための冷却器及びヒータと、供給するエアを清浄にするケミカルフィルタ及び除塵フィルタとを有し、清浄にした温度調整エアを前記温度調整対象に供給する温度調整エア供給部を配置することを特徴とする温度調整エア供給装置。
【請求項２】 前記温度調整エア供給部のエア吹き出し面から分離して、前記除塵フィルタを、エア供給経路の途中に配置することを特徴とする請求項１に記載の温度調整エア供給装置。
【請求項３】 前記除塵フィルタから前記温度調整エア供給部までの経路を塵埃が侵入することがない高気密性供給エアダクトで接続したことを特徴とする請求項１または２に記載の温度調整エア供給装置。
【請求項４】 前記高気密性供給エアダクトの接続部にフッ素製ガスケットを備えたことを特徴とする請求項３に記載の温度調整エア供給装置。
【請求項５】 前記温度調整エア供給部のエア吹き出し面から分離配置された前記除塵フィルタが複数個ある場合には１つにまとめて配置したことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の温度調整エア供給装置。
【請求項６】 風速分布を均一にするための整流装置を前記温度調整エア供給部のエア吹き出し面に搭載したことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の温度調整エア供給装置。
【請求項７】 前記整流装置はハニカム形状をした整流板であることを特徴とする請求項６に記載の温度調整エア供給装置。
【請求項８】 請求項１〜７のいずれかに記載の温度調整エア供給装置を備え、前記温度調整対象として前記チャンバの内部に配置される露光装置本体を有することを特徴とする露光装置。
【請求項９】  
請求項８記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記基板を現像する工程と、
該現像された基板を用いて、デバイスを形成する工程と、を備えることを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、温度調整エア供給装置及び露光装置に関し、主として半導体デバイスの製造に好適に用いられる半導体製造システムの技術分野に属している。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
一方、露光装置には光源から出射した光をレチクル面に照射する照明光学系を初めとして、レンズやミラー等種々の光学部材が使用されている。露光波長の短波長化に伴い、この露光光が透過・照射する光学部材に曇りが発生しウエハ面に到達する露光量が減少するという問題があった。この曇りの成分は有機化合物や、硫酸アンモニウム（ＮＨ4)2ＳＯ4 などの無機化合物であり、その原因はエア中に存在するアンモニウムイオン（ＮＨ4+）や硫酸イオン（ＳＯ42-）またはそれらの化合物、あるいは有機ガスが露光光の照射により光化学反応的に光学部材に付着することにあると考えられる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
これら化学増幅レジストの表面難溶化現象や光学部材の曇りという問題に対して、露光装置本体を取り巻く周囲環境の温度や湿度あるいは塵埃を制御する環境チャンバに不純物ガス除去フィルタを搭載し、この雰囲気中に存在する塩基性ガス、硫酸ガス、及び有機ガス等の物質を除去することが従来から行われてきた。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
図３は従来例に係わる露光装置の構成図である。この露光装置はチャンバ１内に配置されている。このチャンバ１は、主にエアの温度調整を行う空調機室１０及び微小異物を濾過し清浄エアの均一な流れを形成するフィルタボックス２０と、装置環境を外部と遮断するブース３０とを備えている。空調機室１０内には、温度コントローラ８、冷却器１１、ベースヒータ１２、再熱ヒータ１２Ｂ，１２Ｗ，１２Ｒ、送風機１３、及び循環用のケミカルフィルタ１４Ａと外気導入口１８用のケミカルフィルタ１４Ｂなどが配置されている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、フィルタボックス２０内には除塵フィルタ１５が配置されている。ブース３０内には、露光装置本体２のウエハステージ空間４及びレチクルステージ空間５、これらに温調（温度調整）エアを供給するための温調エア供給部１６Ｗ，１６Ｒ、除塵フィルタ１５Ｗ，１５Ｒ、並びに供給エアダクト７などが配置され、温度センサ９，９Ｗ，９Ｒも配置されている。図中、１７はチャンバ１内のエアを循環させるためのリターン口である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は、上記従来技術が有する課題を解決すべくなされたものであり、ステージ空間全体を均一かつ安定した状態で温度制御を行うフィルタ別配置の小型温調エア供給部を搭載することで、従来以上に高精度なデバイスの製造と装置サイズの省スペース化を可能とした温調エア供給装置及び露光装置を提供することを目的とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明は、温度調整対象が内部に配置されるチャンバと、このチャンバの空調を行う空調機室とを備える温度調整エア供給装置において、供給するエアを温度調整するための冷却器及びヒータと、供給するエアを清浄にするケミカルフィルタ及び除塵フィルタとを有し、清浄にした温度調整エアを前記温度調整対象に供給する温度調整エア供給部を配置することを特徴とする。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上述の構成により、干渉計の測定精度向上によるアライメント性能の向上と装置の省スペース化が可能となる。また、フィルタ数量の削減によるランニングコストの削減とメンテナンス作業性の向上になる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明は、上記いずれかの温度調整エア供給装置を備え、前記温度調整対象として前記チャンバの内部に配置される露光装置本体にも適用可能である。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
【発明の実施の形態】
（温調エア供給装置を備える露光装置の実施形態）
図１は本発明の実施形態に係わる温調エア供給装置及び露光装置（スキャナ）の構成図である。
この露光装置本体２の空調にはチャンバ１が使用されている。このチャンバ１は、主にエアの温度調整を行う空調機室１０及び微小異物を濾過し清浄エアの均一な流れを形成するフィルタボックス２０、また装置環境を外部と遮断するブース３０を備えて構成されている。  
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
一方、図２は上記除塵フィルタ１５Ｗ，１５Ｒを１つにまとめて配置した場合の温調エア供給装置及び露光装置（スキャナ）の構成図である。図２において、図１と同一の要素には同一の符号を付けてある。この場合、ウエハステージ空間４とレチクルステージ空間５とが個別に温度制御されるため、除塵フィルタ１５Ｗ，１５Ｒを再熱ヒータ１２Ｗ，１２Ｒの上流側に配置してあり、再熱ヒータ１２Ｗ，１２Ｒ以降の経路を分岐して断熱処理を施す必要がある。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
【発明の効果】
以上のように除塵フィルタを温度調整エア供給部から分離して配置し、また、エア吹き出し面に整流装置を搭載した小型の温度調整エア供給部を配置することで温度調整エア供給部内での温度分布が小さくなるため、高精度な温度制御が可能となる。また、各ユニットの最適配置が可能となり、装置性能の向上と装置サイズの省スペース化も可能となる。更に、各温度調整エア供給装置のフィルタを１つにまとめて配置して共有で使用することで、使用するフィルタの数量を減らすことができ、ランニングコストの削減やメンテナンス時の作業性向上にもつながる。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の実施形態に係わる温調エア供給装置を備える露光装置の構成図である。
【図２】 本発明の他の実施形態に係わる温調エア供給装置を備える露光装置の構成図である。
【図３】 従来例に係わる温調エア供給装置を備える露光装置の構成図である。
【図４】  本発明に係る装置を用いた半導体デバイスの生産システムをある角度から見た概念図である。
【図５】  本発明に係る装置を用いた半導体デバイスの生産システムを別の角度から見た概念図である。
【図６】  ユーザインタフェースの具体例である。
【図７】  デバイスの製造プロセスのフローを説明する図である。
【図８】  ウエハプロセスを説明する図である。
【符号の説明】 １：チャンバ、２：露光装置本体、４：ウエハステージ空間、５：レチクルステージ空間、７Ｗ，７Ｒ：高気密性供給エアダクト、８：温度コントローラ、９，９Ｗ，９Ｒ：温度センサ、１０：空調機室、１１：冷却器、１２：ベースヒータ、１２Ｂ：再熱ヒータ（ブース用）、１２Ｗ：再熱ヒータ（ウエハステージ用）、１２Ｒ：再熱ヒータ（レチクルステージ用）、１３：送風機、１４Ａ：ケミカルフィルタ（循環用）、１４Ｂ：ケミカルフィルタ（外気導入口用）、１５：除塵フィルタ、１５Ｗ：除塵フィルタ（ウエハステージ用）、１５Ｒ：除塵フィルタ（レチクルステージ用）、１６Ｗ：温調（温度調整）エア供給部（ウエハステージ用）、１６Ｒ：温調（温度調整）エア供給部（レチクルステージ用）、１７：リターン口、１８：外気導入口、１９Ｗ：整流装置（ウエハステージ用）、１９Ｒ：整流装置（レチクルステージ用）、２０：フィルタボックス、２５（２５Ａ〜２５Ｅ）：エア、３０：ブース、１０１：ベンダの事業所、１０２，１０３，１０４：製造工場、１０５：インターネット、１０６：製造装置、１０７：工場のホスト管理システム、１０８：ベンダ側のホスト管理システム、１０９：ベンダ側のローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）、１１０：操作端末コンピュータ、１１１：工場のローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）、２００：外部ネットワーク、２０１：製造装置ユーザの製造工場、２０２：露光装置、２０３：レジスト処理装置、２０４：成膜処理装置、２０５：工場のホスト管理システム、２０６：工場のローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）、２１０：露光装置メーカ、２１１：露光装置メーカの事業所のホスト管理システム、２２０：レジスト処理装置メーカ、２２１：レジスト処理装置メーカの事業所のホスト管理システム、２３０：成膜装置メーカ、２３１：成膜装置メーカの事業所のホスト管理システム、４０１：製造装置の機種、４０２：シリアルナンバー、４０３：トラブルの件名、４０４：発生日、４０５：緊急度、４０６：症状、４０７：対処法、４０８：経過、４１０，４１１，４１２：ハイパーリンク機能。