【手続補正書】
【提出日】平成20年9月5日(2008.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周期表のＶＩＢ族及びＶＩＩＩ族の元素からなる群から選択される少なくとも１種の水素化−脱水素化元素と、リン、ホウ素及びケイ素から選択される０．０１〜５．５重量％のドーピング元素酸化物と、１５重量％を超え、かつ９５重量％以下の量のシリカ（ＳｉＯ２）を含むシリカ−アルミナをベースとする非ゼオライト担体を含む触媒であって、
該触媒は、
−  水銀測孔法で測定された平均細孔直径が、２０〜１４０Åであり、
−  水銀測孔法で測定された全細孔容積が、０．１〜０．５ｍｌ／ｇであり、
−  窒素測孔法で測定された全細孔容積が、０．１〜０．５ｍｌ／ｇであり、
−  ＢＥＴ比表面積が、１００〜５５０ｍ２／ｇであり、
−  水銀測孔法で測定された、１４０Åを超える直径の細孔に含まれる細孔容積が、０．１ｍｌ／ｇ未満であり、
−  水銀測孔法で測定された、１６０Åを超える直径の細孔に含まれる細孔容積が、０．１ｍｌ／ｇ未満であり、
−  水銀測孔法で測定された、２００Åを超える直径の細孔に含まれる細孔容積が、０．１ｍｌ／ｇ未満であり、
−  水銀測孔法で測定された、５００Åを超える直径の細孔に含まれる細孔容積が、０．０１ｍｌ／ｇ超、かつ０．０９ｍｌ／ｇ未満であり、
−  Ｘ線回折図が、アルファ、ロー、カイ、エータ、ガンマ、カッパ、シータ、及びデルタアルミナからなる群に含まれる遷移アルミナの少なくとも１種の特徴を示す主光線を少なくとも含み、
−  触媒の詰込み充填密度が、０．７５ｇ／ｃｍ３超である、
ことを特徴とする触媒。
【請求項２】
水銀測孔法で測定された、１４０Åを超える直径の細孔に含まれる細孔容積が０．０５ｍｌ／ｇ未満である請求項１に記載の触媒。
【請求項３】
水銀測孔法で測定された、１４０Åを超える直径の細孔に含まれる細孔容積が、０．０３ｍｌ／ｇ未満である請求項１又は２に記載の触媒。
【請求項４】
水銀測孔法で測定された、５００Åを超える直径の細孔に含まれる細孔容積が、０．０１ｍｌ／ｇ超、かつ０．０５ｍｌ／ｇ未満である請求項１〜３のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項５】
水銀測孔法で測定された、５００Åを超える直径の細孔に含まれる細孔容積が、０．０１ｍｌ／ｇ超、かつ０．０２ｍｌ／ｇ未満である請求項１〜４のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項６】
シリカ−アルミナをベースとする非ゼオライト担体が、２０重量％超、かつ８０重量％以下の量のシリカを含む請求項１〜５のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項７】
ドーピング元素が、ホウ素及び／又はリンである請求項１〜６のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項８】
ドーピング元素が、リンである請求項７に記載の触媒。
【請求項９】
リン含量が、酸化物の０．０１〜４重量％である請求項１〜８のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項１０】
リン含量が、酸化物の０．０１〜２．５重量％である請求項９に記載の触媒。
【請求項１１】
リン含量が、酸化物の０．２〜２．５重量％である請求項９または１０に記載の触媒。
【請求項１２】
モリブデン及びタングステンをベースとする請求項１〜１１のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項１３】
ニッケル及びタングステンをベースとする請求項１〜１２のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項１４】
２７Ａｌ固体のＭＡＳ  ＮＭＲスペクトルの分析によって決定される八面体ＡｌＶＩの割合が５０％を超える請求項１〜１３のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項１５】
ＶＩＩＢ族の少なくとも１種の元素を含む請求項１〜１４のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項１６】
ＶＢ族の少なくとも１種の元素を含む請求項１〜１５のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項１７】
フッ素を含まないことを特徴とする請求項１〜１６のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項１８】
水銀測孔法で測定された、（Ｄ平均−３０）Å〜（Ｄ平均＋３０）Åの容積Ｖ２の、水銀測孔法で測定された全細孔容積に対する比が０．６を超え、水銀測孔法で測定された、（Ｄ平均＋３０）Åを超える直径の細孔に含まれる容積Ｖ３が０．１ｍｌ／ｇ未満であり、水銀測孔法で測定された、（Ｄ平均＋１５）Åを超える直径の細孔に含まれる容積Ｖ６が０．２ｍｌ／ｇ未満であるような細孔分布を有する請求項１〜１７のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項１９】
Ｘ線回折図が、エータ、シータ、デルタ及びガンマアルミナからなる群に含まれる遷移アルミナの少なくとも１種の特徴を示す主光線を少なくとも含むような請求項１〜１６のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項２０】
ＢＥＴ比表面積が３５０ｍ２／ｇ未満である請求項１〜１９のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項２１】
触媒の詰込み充填密度が０．８５ｇ／ｃｍ３を超える請求項１〜２０のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項２２】
担体が、蛍光Ｘ線によって決定される全体Ｓｉ／Ａｌ比よりも小さい又は大きいＳｉ／Ａｌ比を有する、少なくとも２つのアルミノケイ酸塩ゾーンを含む請求項１〜２１のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項２３】
担体が、蛍光Ｘ線によって決定される全体Ｓｉ／Ａｌ比と等しく、かつ２．３未満のＳｉ／Ａｌ比を有する、単一のアルミノケイ酸塩ゾーンを含む請求項１〜２１のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項２４】
ジルコニア及びチタニアからなる群から選択される少なくとも１種の安定化元素を低割合で含む請求項１〜２３のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項２５】
標準活性テストにおいて水素化活性ＡＨＹＤが０．７超であり、かつ異性化活性ＡＩＳＯＭが０．１超である請求項１〜２４のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項２６】
ＡＨＹＤ／ＡＩＳＯＭ比が、６．５〜３０である請求項１〜２５のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項２７】
請求項１〜２６のいずれか１つに記載の触媒を使用する、炭化水素装入物の水素化分解および／または水素化転化法。
【請求項２８】
いわゆる一段階法により実施される請求項２７に記載の水素化分解および／または水素化転化法。
【請求項２９】
少なくとも１つの第１水素化精製反応ゾーンと、第１ゾーンの流出液の少なくとも一部の水素化分解を含み、かつ第１ゾーンから出る流出液からのアンモニアの不完全分離を含む少なくとも１つの第２反応ゾーンとを含む請求項２７に記載の水素化分解及び／又は水素化転化法。
【請求項３０】
標準活性テストで１０質量％未満のシクロヘキサン転化率を示す少なくとも１種の水素化精製触媒と、装入物が接触される、第１の水素化精製反応ゾーンと、
標準活性テストで１０質量％を超えるシクロヘキサン転化率を示す少なくとも１種のゼオライト水素化分解触媒と、水素化精製工程から生じた流出液の少なくとも一部が接触される、第２の水素化分解反応ゾーンと
を含む請求項２８または２９に記載の水素化分解および／または水素化転化法。
【請求項３１】
いわゆる二段階法により実施される請求項２７に記載の水素化分解および／または水素化転化法。
【請求項３２】
水素の存在下、２００℃を超える温度、１ＭＰａを超える圧力で行われ、空間速度は、０．１〜２０ｈ−１であり、かつ導入される水素の量は、水素のリットル／炭化水素のリットルの容積比が、８０〜５０００Ｌ／Ｌであるようになっている請求項２７〜３１のいずれか１つに記載の方法。
【請求項３３】
２〜６ＭＰａの圧力で行われ、かつ４０％未満の転化率に至らせる請求項２７〜３２のいずれか１つに記載の水素化分解および／または水素化転化法。
【請求項３４】
固定床で行われる請求項２７〜３３のいずれか１つに記載の方法。
【請求項３５】
沸騰床で行われる請求項２７〜３３のいずれか１つに記載の方法。
【請求項３６】
請求項１〜２６のいずれか１つに記載の触媒を使用する炭化水素装入物の水素化処理法。
【請求項３７】
水素化分解法の前段階に置かれる、請求項３６に記載の方法。
【請求項３８】
水素化分解触媒は、ニッケル及びタングステンをベースとする請求項３７に記載の方法。
【請求項３９】
炭化水素装入物は、
ＬＣＯ（ライトサイクルオイル：接触分解装置から生じた軽油）、
常圧留出物、
真空留出物、
潤滑油のベースの芳香族抽出装置に由来するか、又は潤滑油のベースの溶剤での脱パラフィンから生じた装入物、
ＲＡＴ（常圧残渣）及び／又はＲＳＶ（真空残渣）及び／又は脱アスファルト油の固定床又は沸騰床での脱硫又は水素化転化法に由来する留出物、および、
脱アスファルト油
からなる群から選択される単独またはその混合物である請求項２７〜３８のいずれか１つに記載の方法。
【請求項４０】
装入物は、水素化分解および／または水素化転化または水素処理触媒と異なる触媒床上または吸着剤を予め通過する請求項２７〜３９のいずれか１つに記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
Ｘ線回折は、本発明による担体及び触媒の特徴を示すために使用され得る技術である。以下に続く説明において、Ｘ線分析は、ＣｏＫａｌｐｈａ放射線（λＫα１＝１．７８９０Å、λｌＫα２＝１．７９３Å、強度比Ｋα１／Ｋα２＝０．５）を使用して、反射して作動し、後部モノクロメータを備えた回折計Ｐｈｉｌｉｐｓ  ＰＷ１８３０により粉末に対して実施される。ガンマアルミナのＸ線回折図に関して、データベースＩＣＤＤ、カード１０−０４２５を参照する。特に、最も強い２つのピークは、１．３９〜１．４０Åのｄ、及び１．９７Å〜２．００Åのｄに対応する位置にある。いわゆるブラッグ関係（２ｄ（ｈｋｌ）・ｓｉｎ（θ）＝ｎ・λ）を使用して角位置から導かれる格子面間隔をｄと呼ぶ。ガンマアルミナとは、本文の続きにおいて、例えば、立方ガンマアルミナ、擬似立方ガンマアルミナ、正方晶ガンマアルミナ、不十分又は僅かに結晶化したガンマアルミナ、大面積のガンマアルミナ、低面積のガンマアルミナ、粗ベーマイトから生じたガンマアルミナ、結晶化ベーマイトから生じたガンマアルミナ、不十分又は僅かに結晶化したベーマイトから生じたガンマアルミナ、結晶化ベーマイト及び非晶質ゲルの混合物から生じたガンマアルミナ、非晶質ゲルから生じたガンマアルミナ、デルタへ変化するガンマアルミナからなる群に含まれるアルミナを特に意味する。エータ、デルタ及びシータアルミナの回折ピークの位置に関して、Physical and Chemical aspects of adsorbents and catalysts、E.G.Linsen(Ed.)、Academic Press、London.1970、p.171-211におけるB.C.Lippens、J.J.Steggerdaの論文を参照できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５４】
本発明により利用する微細な又は超微細なベーマイトは、特に、仏国特許第１２６１１８２号明細書及び仏国特許第１３８１２８２号明細書又は欧州特許出願第１５１９６号明細書により得られ得た。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５６】
アルミニウム一水和物は、多様な市販のアルミナ源、例えば、特に、ＳＡＳＯＬ社から市販されているＰＵＲＡＬ（登録商標）、ＣＡＴＡＰＡＬ（登録商標）、ＤＩＳＰＥＲＡＬ（登録商標）、ＤＩＳＰＡＬ（登録商標）又はＡＬＣＯＡから市販されているＨＩＱ（登録商標）から購入され得るか、又は当業者に公知の方法により、アルミニウム一水和物は、従来の方法によるアルミニウム三水和物の部分的脱水によって調製され得るか、又はアルミニウム一水和物は、沈殿によって調製され得る。これらのアルミナがゲルの形態を呈する場合、水又は弱酸性溶液によって解凝固される。沈殿において、酸源は、例えば、塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウムの化合物の少なくとも１種から選択され得る。塩基性アルミニウム源は、アルミン酸ナトリウム及びアルミン酸カリウムのような塩基性アルミニウム塩から選択され得る。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３１３】
（実施例１4：合致しない触媒Ｃ２4の調製）
担体ＳＡ６は、メタケイ酸ナトリウムから、かつＮａ２Ｏ／ＳｉＯ２比＝１で２リットルの反応器でアルミナ−シリカの従来の手順により調製された。対象とする含量は、シリカ７５％（重量）及びアルミニウム２５％である。合成は、３分で、５ｇ／ｌのＳｉＯ２の７００ｍｌのメタケイ酸ナトリウム溶液を、３０重量％の硝酸が添加されてアルミナが１．６４ｇ／ｌであると滴定された硫酸アルミナに導入することからなった。３０分の熟成時間が、実施された。得られた沈殿物は、布を備えたフレームで濾過され、次に水で洗浄され、硝酸アンモニウムに交換され、次に水で再度洗浄された。得られた塊は、灼熱減量（perte au feu）の調整後に成形される。押出は、１．６ｍｍのダイス鉄板を備えたピストン上で行われた。押出物は、１２０℃で通気した乾燥炉内に置かれ、次に横断床を有する炉内で、４時間、５５０℃で乾燥空気によって焼成される。担体の表面積は、２４０ｍ２／ｇである。この担体は、７５−２５の組成の市販のシリカ−アルミナに完全に匹敵する。