Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月10日(2008.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ソース領域、ドレイン領域、および前記ソース領域と前記ドレイン領域との間のチャネル形成領域を有する結晶性シリコン膜と、
前記結晶性シリコン膜上の層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜上の１５族に属する不純物元素を含有したシリコン膜と、
前記１５族に属する不純物元素を含有したシリコン膜上の導電層と、を有し、
前記結晶性シリコン膜は、結晶化を助長する金属元素を添加した非晶質シリコン膜を結晶成長させたものであり、
前記１５族に属する不純物元素を含有するシリコン膜は前記層間絶縁膜に設けられたコンタクトホールにおいて前記ソース領域または前記ドレイン領域と接し、かつ前記１５族に属する不純物元素を含有するシリコン膜には前記結晶化を助長する金属元素が偏析していることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
ソース領域、ドレイン領域、および前記ソース領域と前記ドレイン領域との間のチャネル形成領域を有する結晶性シリコン膜と、
前記結晶性シリコン膜上の保護絶縁膜と、
前記保護絶縁膜上の層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜上の１５族に属する不純物元素を含有したシリコン膜と、
前記１５族に属する不純物元素を含有したシリコン膜上の導電層と、を有し、
前記結晶性シリコン膜は、結晶化を助長する金属元素を添加した非晶質シリコン膜を結晶成長させたものであり、
前記１５族に属する不純物元素を含有するシリコン膜は前記保護絶縁膜および前記層間絶縁膜に設けられたコンタクトホールにおいて前記ソース領域または前記ドレイン領域と接し、かつ前記１５族に属する不純物元素を含有するシリコン膜には前記結晶化を助長する金属元素が偏析していることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記結晶化を助長する金属元素はＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｉｎから選ばれた一種類または複数種類の元素であることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記１５族に属する不純物元素はリンであることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記１５族に属する不純物元素はリンであり、リン濃度は１×１０１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上であることを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
非晶質シリコン膜を形成し、
前記非晶質シリコン膜に結晶化を助長する金属元素を添加し、前記非晶質シリコン膜を結晶成長させ結晶性シリコン膜を形成し、
前記結晶性シリコン膜の選択された領域に不純物元素を添加してソース領域およびドレイン領域を形成し、
前記ソース領域および前記ドレイン領域が形成された前記結晶性シリコン膜上に層間絶縁膜を形成し、
前記層間絶縁膜に前記ソース領域または前記ドレイン領域に達するコンタクトホールを形成し、
前記コンタクトホールおよび前記層間絶縁膜上に１５族に属する不純物元素を含有したシリコン膜を形成し、
熱アニールにより前記結晶性シリコン膜中に含まれる前記結晶化を助長する金属元素のゲッタリングを行い、
前記１５族に属する不純物元素を含有したシリコン膜上に導電膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
非晶質シリコン膜を形成し、
前記非晶質シリコン膜に結晶化を助長する金属元素を添加し、前記非晶質シリコン膜を結晶成長させ結晶性シリコン膜を形成し、
前記結晶性シリコン膜の選択された領域に不純物元素を添加してソース領域およびドレイン領域を形成し、
前記ソース領域および前記ドレイン領域が形成された前記結晶性シリコン膜上に保護絶縁膜を形成し、
前記保護絶縁膜上に層間絶縁膜を形成し、
前記保護絶縁膜および前記層間絶縁膜に前記ソース領域または前記ドレイン領域に達するコンタクトホールを形成し、
前記コンタクトホールおよび前記層間絶縁膜上に１５族に属する不純物元素を含有したシリコン膜を形成し、
熱アニールにより前記結晶性シリコン膜中に含まれる前記結晶化を助長する金属元素のゲッタリングを行い、
前記１５族に属する不純物元素を含有したシリコン膜上に導電膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
非晶質シリコン膜を形成し、
前記非晶質シリコン膜に結晶化を助長する金属元素を添加し、前記非晶質シリコン膜を結晶成長させ結晶性シリコン膜を形成し、
前記結晶性シリコン膜の選択された領域に不純物元素を添加してソース領域およびドレイン領域を形成し、
前記ソース領域および前記ドレイン領域が形成された前記結晶性シリコン膜上に保護絶縁膜を形成し、
前記保護絶縁膜上に層間絶縁膜を形成し、
前記保護絶縁膜および前記層間絶縁膜に前記ソース領域または前記ドレイン領域に達するコンタクトホールを形成し、
前記コンタクトホールおよび前記層間絶縁膜上に１５族に属する不純物元素を含有したシリコン膜を形成し、
熱アニールにより前記結晶性シリコン膜中に含まれる前記結晶化を助長する金属元素のゲッタリングを行い、
前記１５族に属する不純物元素を含有したシリコン膜上に導電膜を形成し、
前記導電膜をパターニングした後、パターニングされた前記導電膜を用いてセルフアラインで前記１５族に属する不純物元素を含有したシリコン膜をパターニングし、パターニングされた前記導電膜と前記１５族に属する不純物元素を含有したシリコン膜とでなる配線を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
請求項６乃至請求項８のいずれか一において、
前記熱アニールは、前記結晶化を助長する金属元素のゲッタリングを進行させると共に、前記ソース領域および前記ドレイン領域に添加された不純物元素を活性化させることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項６乃至請求項９のいずれか一において、
前記結晶化を助長する金属元素はＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｉｎから選ばれた一種類または複数種類の元素である半導体装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項６乃至請求項１０のいずれか一において、
前記１５族に属する不純物元素はリンであることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１２】
請求項６乃至請求項１０のいずれか一において、
前記１５族に属する不純物元素はリンであり、リン濃度は１×１０１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月10日(2008.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電荷結合イメージセンサ装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  行と列とのアレイ状に配列された複数のピクセルと、
前記列を形成するのに用いられ、前記ピクセルを定義する複数の垂直電荷結合素子シフトレジスタと、
前記各ピクセルに対して少なくとも一つが配置され、上方に形成された複数の相電極（Φ１，Φ２）と、
を備え、
少なくとも一個の前記相電極（Φ１，Φ２）は、ホールを有し、前記各ホール内には、前記ホールを有する相電極（Φ１，Φ２）のすぐ次の層の電極材料より形成された掃き出し電極が配置され、
前記掃き出し電極は、それぞれのピクセルから、前記掃き出し電極に隣接して配置されたドレインに電荷を完全に転送する、
ことを特徴とする電荷結合イメージセンサ装置。
【請求項２】  請求項１に記載の電荷結合イメージセンサ装置であって、前記各ドレインが基板内に埋設されたラテラル・オーバーフロードレイン構造であることを特徴とする電荷結合イメージセンサ装置。
【請求項３】  請求項１に記載の電荷結合イメージセンサ装置であって、前記各ホールがバリア・インプラント領域の上方に形成されることを特徴とする電荷結合イメージセンサ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月21日(2008.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
文書取込み装置に使用するためのフレーミング支援装置であって、
第１の可視光パターン（１４）を生成する第１のパターン生成器（１０）と、
第２の可視光パターン（２４）を生成する第２のパターン生成器（２０）とからなり、
前記第１と第２の可視光パターン（１４、２４）が、ターゲット物体平面上で見当合わせされるフレーミング支援装置。
【請求項２】
前記第１と第２の光パターンが、前記ターゲット物体平面に集束し整列することを特徴とする請求項１に記載のフレーミング支援装置。
【請求項３】
前記第１のパターン（１４）と前記第２のパターン（２４）が、前記ターゲット物体平面上で重ね合わされることを特徴とする請求項１に記載のフレーミング支援装置。
【請求項４】
前記第１のパターン（１４）と前記第２のパターン（２４）が、前記ターゲット物体平面上で相補的であることを特徴とする請求項１に記載のフレーミング支援装置。
【請求項５】
前記第１のパターン（１４）と前記第２のパターン（２４）が、前記ターゲット物体平面上で少なくとも部分的に重ね合わされるとともに、前記ターゲット物体平面上で少なくとも部分的に相補的であることを特徴とする請求項１に記載のフレーミング支援装置。
【請求項６】
前記第１のパターン（１４）と前記第２のパターン（２４）が、前記文書取込み装置の距離と向きを決定するために前記ターゲット物体平面上で見当合わせされることを特徴とする請求項１に記載のフレーミング支援装置。
【請求項７】
前記第１のパターン（１４）と前記第２のパターン（２４）の少なくとも一方が文書取込み装置（１）の視野を定義することを特徴とする請求項１に記載のフレーミング支援装置。
【請求項８】
前記少なくとも１つのパターン（１４、２４）が視野境界フレームを明示的に決定することを特徴とする請求項７に記載のフレーミング支援装置。
【請求項９】
前記第１のパターン（１４）と前記第２のパターン（２４）の少なくとも一方が前記文書取込み装置（１）の視野内に配置されたことを特徴とする請求項１に記載のフレーミング支援装置。
【請求項１０】
前記フレーミング支援装置が複数の予め定められた位置で使用するに適していることを特徴とする請求項１に記載のフレーミング支援装置。
【請求項１１】
各パターン生成器（１０、２０）が、前記文書取込み装置の複数の予め定められた位置に対応する複数の予め定められた構成まで移動可能なことを特徴とする請求項１０に記載のフレーミング支援装置。
【請求項１２】
文書取込み装置のフレーミング支援装置に使用するためのパターン生成装置であって、
光源（１１）と、
ターゲット物体平面上に投影される光パターン（１４）に干渉パターンを生成するパターン生成要素（１３）とからなるパターン生成装置。
【請求項１３】
前記パターン生成要素（１３）が回折光学部品であることを特徴とする請求項１１に記載のパターン生成装置。
【請求項１４】
前記パターン生成要素（１３）が少なくとも１つの平面において５０°よりも大きい扇角を有することを特徴とする請求項１３に記載のパターン生成装置。
【請求項１５】
文書取込み装置に使用されるフレーミング支援装置であって、
画像平面（４ａ）に配置されたイメージ・センサ（４）と、
前記イメージ・センサ（４）に対して横方向にずれて配置され、前記イメージ・センサの画像平面（４ａ）から離間されたターゲット物体平面（６ａ、７ａ、８ａ）上に可視光放射のパターンを生成するパターン生成装置（１０）と、
前記画像平面（４ａ）から前記ターゲット物体平面（６ａ、７ａ、８ａ）までの距離に従って、前記パターン生成装置（１０）を前記イメージ・センサ（４）に対して移動させ、あるいはその逆に移動させるための調整手段（９）とからなるフレーミング支援装置。
【請求項１６】
前記画像平面（４ａ）と前記ターゲット物体平面（６ａ、７ａ、８ａ）の間の距離を決定するための距離計（３０）を設け、前記調整手段（９）が前記距離計（３０）によって決定された距離に応答することを特徴とする請求項１５に記載のフレーミング支援装置。
【請求項１７】
前記調整手段（９）が、前記イメージ・センサ（４）を横方向に移動して前記センサ（４）と前記パターン生成装置（１０）の間の横方向のずれを調整するように構成されていることを特徴とする請求項１５に記載のフレーミング支援装置。
【請求項１８】
文書（２）に対して文書取込み装置（１）を位置決めする方法であって、
第１の可視光パターン（１４）を生成し、
第２の可視光パターン（２４）を生成し、
前記文書取込み装置が前記ターゲット物体平面に対して予め定められた位置にあるときに、前記第１と第２の可視光パターン（１４、２４）が、前記文書を含むターゲット物体平面上で見当合わせされるように、前記文書取込み装置（１）および／または前記文書（２）を移動させることからなる方法。
【請求項１９】
前記文書取込み装置（１）が、前記ターゲット物体平面に対して予め定められた距離と向きにあるときに、前記第１のパターン（１４）と前記第２のパターン（２４）が前記ターゲット物体平面上で見当合わせされることを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
文書取込み装置（１）を文書（２）に対して位置決めする方法であって、前記文書取込み装置が画像平面（４ａ）内に配置されたイメージ・センサ（４）を含むものにおいて、
前記イメージ・センサ（４）の前記画像平面（４ａ）からある距離だけ離間された物体平面（６ａ）上に投影される可視光パターンを、前記イメージ・センサ（４）に対して横方向にずらされたパターン生成装置（１０）から生成し、
前記画像平面（４ａ）と前記物体平面（６ａ、７ａ、８ａ）の間の距離に従って前記パターン生成装置（１０）と前記イメージ・センサ（４）の相対位置を動的に調整することからなる方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
他の好ましい実施形態では、文書取込み装置１は、複数の予め定められた位置で動作可能である。複数の予め定められた距離は、視野が、たとえばＡ５サイズ、Ａ４サイズＡ３サイズの文書に適切になるように選択される。距離を調整することにより、視野を固定したままにできるので構造が簡単になる。また、イメージ・センサが固定された画素解像度を有すると仮定すると、大きい文書は小さい文書よりも低い解像度で取り込まれる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月22日(2008.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板上に設けられた陽極と、
前記陽極と直交するように設けられた陰極と、
前記陽極と前記陰極との間に設けられた発光性材料と、
前記第１の基板上に設けられ、駆動回路が形成された第２の基板とを含む発光装置であって、
前記陽極および前記陰極は前記駆動回路に電気的に接続され、
前記第２の基板はガラス、石英ガラスもしくはプラスチックからなることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
第１の基板上に設けられた陽極と、
前記陽極と直交するように設けられた陰極と、
前記陽極と前記陰極との間に設けられた発光性材料と、
前記第１の基板上に設けられ、駆動回路が形成された第２の基板とを含む発光装置であって、
前記陽極および前記陰極はストライプ状に複数本設けられており、且つ、前記駆動回路に電気的に接続され、
前記第２の基板はガラス、石英ガラスもしくはプラスチックからなることを特徴とする発光装置。
【請求項３】
第１の基板上に設けられた陽極と、
前記陽極と直交するように設けられた陰極と、
前記陽極と前記陰極との間に設けられた発光性材料と、
前記第１の基板上に設けられ、駆動回路が形成された第２の基板とを含む発光装置であって、
前記陽極および前記陰極は前記駆動回路に電気的に接続され、
前記第１の基板と前記第２の基板とは同一の材料でなることを特徴とする発光装置。
【請求項４】
第１の基板上に設けられた陽極と、
前記陽極と直交するように設けられた陰極と、
前記陽極と前記陰極との間に設けられた発光性材料と、
前記第１の基板上に設けられ、駆動回路が形成された第２の基板とを含む発光装置であって、
前記陽極および前記陰極はストライプ状に複数本設けられており、且つ、前記駆動回路に電気的に接続され、
前記第１の基板と前記第２の基板とは同一の材料でなることを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、前記発光性材料とはＥＬ材料であることを特徴とする発光装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、前記駆動回路はＴＦＴで形成されていることを特徴とする発光装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一に記載の発光装置を用いたことを特徴とする電気器具。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月1日(2007.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
当該燃焼室には、末端を溶接で空気が漏れないようにし、数本の空気誘導版を取り付けた２本の通風管を焼却装置の上部から下ろし、送風機から送られてくる空気を焼却装置上部に設置したバルブ等を用いて調節し、燃焼室内で渦巻状の空気を作る焼却装置を取り付け、燃焼室と冷却室から発生する廃熱を利用して液体を温める温水器。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月27日(2008.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  遊技機の所定位置に配設された基板装着部材に凹状の基板装着部が形成され、その基板装着部に回路基板がその両側縁において差し込まれる差込部が形成された遊技機であって、
前記基板装着部には、前記回路基板の一側面を覆う保護板が片持ち状態で弾性変形可能に設けられ、
前記保護板の自由端側には、前記回路基板の抜け止めをなす抜止部が形成され、
前記抜止部は、前記保護板の弾性変形によって前記差込口に対する前記回路基板の差し込みを許容する退避位置と、前記保護板の弾性復帰によって前記回路基板の後縁に係合する抜止位置と、に変位可能に構成されていることを特徴とする遊技機。
【請求項２】  請求項１に記載の遊技機であって、
基板装着部の差込部は、回路基板の一側面を上向きにして差し込み可能に構成され、
前記回路基板の下面側を実装面として各種の回路構成部品が実装されていることを特徴とする遊技機。
【請求項３】  請求項１又は２に記載の遊技機であって、
基板装着部材は、遊技機の後側に配設される枠状部材によって構成され、
前記枠状部材の下部寄りに凹状の基板装着部が形成され、 
保護板は前記枠状部材の一部に一体に形成されていることを特徴とする遊技機。
【請求項４】  請求項３に記載の遊技機であって、
枠状部材の後面側には、基板装着部の上方に位置しかつ前記枠状部材の後面側に沿う格納位置と、枠状部材の後面側から後方に向けて回動される回動位置とに変位可能に基板ボックスが装着され、
前記基板ボックスが格納位置に配置された状態にあるときには、その基板ボックスの下面が保護板に近接して同保護板の弾性変形を阻止する構成にしてあることを特徴とする遊技機。
【請求項５】  請求項３に記載の遊技機であって、
枠状部材の後面側には、基板装着部の上方に位置しかつ前記枠状部材の後面側に沿う格納位置と、枠状部材の後面側から後方に向けて回動される回動位置とに変位可能に基板ボックスが装着され、
前記基板ボックスは、前記格納位置に配置された状態にあるときには、その基板ボックスの下面が保護板に近接しかつ同保護板によって格納位置に拘束される構成にしてあることを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月18日(2008.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記数式（Ｆ１）で定義されるＰが０．２〜０．９９５であることを特徴とするイオン性基を有するポリマー。
Ｐ＝Ｂ／Ａ    ……（Ｆ１）
（式中、Ａは該ポリマーの乾燥重量１ｇあたりが有するイオン性基の全数を表し、ＢはＡのうち電子吸引性基を有する芳香族環に結合したイオン性基の数を表す。）
【請求項２】
該イオン性基を有するポリマーが、下記一般式（Ｉ）で表される構造を含むことを特徴とする請求項１に記載のイオン性基を有するポリマー。
−Ａｒ１−Ｗ−Ａｒ２−  （Ｉ）
（式中、Ａｒ１およびＡｒ２は置換されていてもよい２価のアリーレン基、Ｗは電子吸引性の２価の基を表す。Ａｒ１、Ａｒ２および／またはＷはそれぞれが２種類以上の基を表してもよい。）
【請求項３】
該イオン性基を有するポリマーが、下記一般式（ＩＩ）で表される構造を含むことを特徴とする請求項１または２に記載のイオン性基を有するポリマー。
−Ｙ−Ｅ−Ｙ−    （ＩＩ）
（式中、Ｅは芳香族環を有する２価の基を表す。Ｙは酸素、硫黄またはセレンを表す。Ｅおよび／またはＹはそれぞれが２種類以上の基を表してもよい。）
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載のイオン性基を有するポリマーからなることを特徴とする高分子電解質材料。
【請求項５】
請求項４に記載の高分子電解質材料を用いてなる高分子電解質型燃料電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】イオン性基を有するポリマー、高分子電解質材料および高分子電解質型燃料電池
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、イオン性基を有するポリマー、高分子電解質材料および高分子電解質型燃料電池に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
電気化学用途としては、イオン性基を有するポリマーは高分子電解質材料として燃料電池、レドックスフロー電池、水電解装置およびクロロアルカリ電解装置等に使用されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
Ｐ＝Ｂ／Ａ    ……（Ｆ１）
（式中、Ａは該ポリマーの乾燥重量１ｇあたりが有するイオン性基の全数を表し、ＢはＡのうち電子吸引性基を有する芳香族環に結合したイオン性基の数を表す。）であり、また、本発明の高分子電解質材料ならびに高分子電解質型燃料電池は、いずれもかかるイオン性基を有するポリマーを用いて構成されていることを特徴とするものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明によって、プロトン伝導性に優れ、かつ、燃料遮断性にも優れたイオン性基を有するポリマーおよびそれからなる高分子電解質材料が得られる。さらには高出力で高エネルギー容量の高分子電解質型燃料電池を提供することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明者らは、かかるイオン性基を有するポリマーにおいて、該ポリマーに結合したイオン性基を、電子吸引性基を有する芳香族環に結合したイオン性基とそれ以外のイオン性基に分類した場合、前者の数（Ｂ）と全体数（Ａ）との比（Ｐ）が前述の範囲を満たすものにおいて、該ポリマーの特性が向上し、高プロトン伝導性となり、かつ、低燃料クロスオーバーとなること、さらには該ポリマーを高分子電解質材料などとして燃料電池用途に用いた場合に、高出力、高エネルギー容量であるものを提供することができるという、意外な効果を奏することを見出し、本発明に到達したものである。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月16日(2008.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７２】
難燃性ポリマー成形材料及び難燃性ポリマー成形体の好ましい添加剤は、潤滑剤、着色剤、帯電防止剤、成核剤（例えば、無機物質、例えばタルク、金属酸化物、例えば二酸化チタンもしくは酸化マグネシウム、リン酸塩、炭酸塩もしくは硫酸塩、好ましくはアルカリ土類金属のこれらの塩；  有機化合物、例えばモノ−もしくはポリカルボン酸、またはこれらの塩、例えば４−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム、または安息香酸ナトリウム；  ポリマー性化合物、例えばイオン性コポリマー（“アイオノマー”））である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月7日(2008.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ドア側に装着されるストライクピンがドアの開き操作により嵌り込み、ドアを開放状態で維持する床面に固定される部材であって、ストライクピンが嵌り込む凹部を中央に有し、側面の少なくともストライクピンの軌道面が内側に上り勾配となる傾斜面であり、該傾斜面は該ストライクピンを案内する溝構造ではないことを特徴とする戸当たり用床側部材。
【請求項２】
前記側面は、全体が内側に上り勾配となる傾斜面であることを特徴とする請求項１記載の戸当たり用床側部材。
【請求項３】
高さが１０ｍｍ以下の半円錐状部材であることを特徴とする請求項１又は２記載の戸当たり用床側部材。
【請求項４】
前記凹部の内周面に緩衝部材が埋設されたものであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載の戸当たり用床側部材。
【請求項５】
ドア側に装着されるストライクピンがドアの開き操作により嵌り込み、ドアを開放状態で維持する床面に固定される部材であって、ストライクピンが嵌り込む凹部を中央に有し、側面の少なくともストライクピンの軌道面が内側に上り勾配となる傾斜面である戸当たり用床側部材と、上下方向にのみ変位するものであって、自然状態において自重又は弾発力により下方に付勢され、外力により上昇するドア側部材であるストライクピンを備えることを特徴とする戸当り。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか１項記載の戸当たり用床側部材と、自然状態において自重又は弾発力により下方に付勢され、外力により上昇するドア側部材であるストライクピンを備えることを特徴とする戸当り。
【請求項７】
前記ストライクピンは、ドアの開きの進行と共に、前記床側部材の傾斜面に突き当たり、自重又は弾発力に抗して該傾斜面に沿って上昇し、前記凹部に嵌り込むものであることを特徴とする請求項５又は６記載の戸当り。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
すなわち、本発明（１）は、ドア側に装着されるストライクピンがドアの開き操作により嵌り込み、ドアを開放状態で維持する床面に固定される部材であって、ストライクピンが嵌り込む凹部を中央に有し、側面の少なくともストライクピンの軌道面が内側に上り勾配となる傾斜面であり、該傾斜面は該ストライクピンを案内する溝構造ではないことを特徴とする戸当たり用床側部材を提供するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、本発明（２）は、ドア側に装着されるストライクピンがドアの開き操作により嵌り込み、ドアを開放状態で維持する床面に固定される部材であって、ストライクピンが嵌り込む凹部を中央に有し、側面の少なくともストライクピンの軌道面が内側に上り勾配となる傾斜面である戸当たり用床側部材と、上下方向にのみ変位するものであって、自然状態において自重又は弾発力により下方に付勢され、外力により上昇するドア側部材であるストライクピンを備えるる戸当りを提供するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月30日(2008.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ダブテールセクション（３２）とシャンクセクション（３４）と翼形部セクション（３６）とを通る冷却回路を含むタービンバケットであって、
上記冷却回路が、性能へのマイナスの影響を最小にしながら、２０８４°Ｆ（１１４０℃）までの燃焼温度でのベース負荷運転において冷却能力を最大にしかつ有効寿命を最大にするように構成されているとともに、上記冷却回路がさらに、上記翼形部セクション（３６）の後縁付近の冷却流量を増加させかつ上記翼形部セクション内に乱流を発生させて該翼形部セクション全体にわたって全体及び局所クリープマージンを増大させるように構成されており、上記冷却回路が、その各々が上記ダブテールセクション（３２）とシャンクセクション（３４）と翼形部セクション（３６）とを通って延びる第１、第２、第３、第４、第５及び第６の冷却孔を含む６個の冷却孔（４２）をそれぞれ所定の位置及び大きさで含んでいて、上記シャンクセクション（３４）を通る６個の冷却孔（４２）が上記ダブテールセクション（３２）の最小ネック幅（４６）に中心を置いている、タービンバケット。
【請求項２】
前記シャンクセクション（３４）を通る第１〜第５の冷却孔（４２）が０．１４０±０．１００インチ（３．６±２．５ｍｍ）の直径を有しており、前記シャンクセクション（３４）を通る第６の冷却孔が０．１００±０．０５インチ（２．５±１．３ｍｍ）の直径を有する、請求項１記載のタービンバケット。
【請求項３】
前記翼形部セクション（３６）を通る第１及び第２の冷却孔（４２）が、０．０８０±０．０５インチ（２．０±１．３ｍｍ）の直径を有し、前記翼形部セクションを通る第３及び第４の冷却孔が０．０９５±０．０５インチ（２．４±１．３ｍｍ）の直径を有し、前記翼形部セクションを通る第５の冷却孔が０．０８５±０．０５インチ（２．２±１．３ｍｍ）の直径を有し、前記翼形部セクションを通る第６の冷却孔が約０．０４０インチ（０．１０ｍｍ）の直径を有する、請求項１記載のタービンバケット。
【請求項４】
前記シャンクセクション（３４）を通る第１から第５の冷却孔（４２）が約０．１４０インチ（０．３６ｍｍ）の直径を有し、前記シャンクセクションを通る第６の冷却孔が約０．１００インチ（２．５ｍｍ）の直径を有し、前記翼形部セクション（３６）を通る第１及び第２の冷却孔が約０．０８０インチ（２．０ｍｍ）の直径を有し、前記翼形部セクションを通る第３及び第４の冷却孔が約０．０９５インチ（２．４ｍｍ）の直径を有し、前記翼形部セクションを通る第５の冷却孔が約０．０８５インチの直径を有し、前記翼形部セクションを通る第６の冷却孔が約０．０４０インチ（０．１０ｍｍ）の直径を有する、請求項１記載のタービンバケット。
【請求項５】
前記冷却回路が、前記翼形部セクション（３６）に沿った冷却孔（４２）の内部表面上に乱流構造を含み、前記乱流構造の適用範囲の割合が冷却孔毎に変化している、請求項１記載のタービンバケット。
【請求項６】
前記適用範囲の割合が、前記第１〜第３の冷却孔（４２）では翼形部スパンの２０〜８５％±１０％であり、前記第４及び第５の冷却孔では翼形部スパンの４０〜８５％±１０％を含む、請求項５記載のタービンバケット。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月1日(2008.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
このシート分離搬送装置には、シートを分離して搬送する１対のローラを備えている場合がある。この１対のローラは、外周の回転方向に形成されて軸方向に沿って配列された突条部を複数有し、突条部同士が互いに間に入り込むように配設してあるクシ歯状ローラ対である（特許文献１参照）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
２つ折にしたシートや、綴られた帳票等を供給された後、調整摘まみ１２１ｂの押し込みを解除すると、軸間調整用軸１２１が圧縮されていたコイルばね１２３によって図９の右方向へ押し戻される。このとき、偏心カム１２０が可動シャーシ１１５の凹部１１５ｂから抜け出て、可動シャーシ１１５をばね１１８に抗して元の位置に押し上げる。この結果、送りローラ１１２と分離ローラ１１４の軸間距離も元の間隔になり、シート分離搬送装置１７０は、シートを分離搬送することができる状態に復帰する。
【特許文献１】特開平６−３２１３８３号公報
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月17日(2007.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リボフラビン類及びユビデカレノンを含有する、血中トリグリセライド又はホモシステ
インを低下させるための医薬組成物。
【請求項２】
リボフラビン類及びユビデカレノンを含有する、ホモシステインを低下させるための医
薬組成物。
【請求項３】
リボフラビン類及びユビデカレノンを含有する、血中高ホモシステイン量に起因する疾
病を治療または予防するための医薬組成物。
【請求項４】
リボフラビン類及びユビデカレノンを含有する、血中のトリグリセライドを低下させる
ための医薬組成物。
【請求項５】
リボフラビン類及びユビデカレノンを含有する、血中高トリグリセライド量に起因する
疾病を治療または予防するための医薬組成物。
【請求項６】
リボフラビン類及びユビデカレノンを含有する、高脂血症、動脈硬化、虚血性心疾患、
心筋梗塞、血栓症、末梢血管障害、Ｂｕｒｇｅｒ病、Ｒａｙｎａｕｄ病、脳梗塞、脳循環
不全、老年性痴呆、アルツハイマー病、パーキンソン病、糖尿病、インスリン抵抗性、腎
疾患、急性膵炎又は肥満を予防又は治療するための医薬組成物。
【請求項７】
リボフラビン類がリボフラビン又はその塩から選ばれる１種以上である、請求項１乃至
６に記載された医薬組成物。
【請求項８】
リボフラビン類が酪酸リボフラビンである、請求項１乃至６に記載された医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月16日(2008.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 Ｘ線イメージング・デバイス内のＸ線管の位置決め誤差を減少させるためのシステムであって、
前記Ｘ線イメージング・デバイス内の照射ターゲットに対して移動可能なＸ線管と、
Ｘ線イメージング・デバイス内での前記Ｘ線管の位置を示す位置信号を発生させるセンサ・ユニットと、
前記位置信号を受け取り、前記位置信号と前記Ｘ線イメージング・デバイス内の照射ターゲットに対する所定のＸ線管位置に基づいて前記Ｘ線管の移動を調整するために前記Ｘ線デバイス内で適用される前記Ｘ線管に対するオーバーシュート補正を決定するマイクロプロセッサと、を含むシステム。
【請求項２】 前記センサ・ユニットが前記位置信号を発生させるためにポテンショメータ又はディジタル・エンコーダを使用している、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】 前記センサ・ユニットが位置システム以外に速度信号を発生させており、かつ前記速度信号が前記マイクロプロセッサにより受け取られる、請求項１または２に記載のシステム。
【請求項４】 前記オーバーシュート補正が、少なくともＸ線管の初期位置と最終位置の解析により決定されている、請求項１乃至３のいずれかに記載のシステム。
【請求項５】 Ｘ線イメージング・システム内の照射ターゲットに対するＸ線管の位置決め誤差を減少させる方法であって、
前記Ｘ線イメージング・システム内の照射ターゲットに対するＸ線管の位置データを生成するステップと、
前記位置信号と前記Ｘ線イメージング・デバイス内の照射ターゲットに対する所定のＸ線管位置に基づいて前記Ｘ線管に対するオーバーシュート補正を決定するステップと、
前記Ｘ線管の移動を制御して前記Ｘ線管の位置決め誤差を減少させるために、前記オーバーシュート補正を適用するステップと、を含む方法。
【請求項６】 前記オーバーシュート補正が前記Ｘ線管の位置に関する位置データ又は前記Ｘ線管の速度に関する速度データを使用することにより決定されている、請求項５に記載の方法。
【請求項７】 前記オーバーシュート補正を決定するステップが、
所定の初期速度でＸ線管を移動させるステップと、前記Ｘ線管の移動の停止を開始させるために、初期位置においてロック・システムを起動させるステップと、Ｘ線管を静止させる最終位置を決定するステップと、初期位置と最終位置の差に基づいてオーバーシュート補正を決定するステップと、を含む請求項５に記載の方法。
【請求項８】 さらに、前記移動、起動及び決定のステップを所定の異なる初期速度で少なくとも１回反復し、前記初期速度及び前記異なる初期速度に基づいて前記オーバーシュート補正に対する分布を決定するステップを含む請求項７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月2日(2008.5.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 Ｘ線ビーム（１６）が被検体（２２）を通って検出器素子の複数の横列（５４）へ方向付けされるように構成された線源（１４）を含み、該検出器素子の複数の横列が投影データをスライス単位で獲得するように構成されているコンピュータ断層撮影イメージング・システム（１０）で、スライス厚を薄くする方法であって、各々が外側エッジ（６０，６２）を有する一対の隣接した横列（５６，５８）からイメージング・データを取得するステップと、前記隣接した横列の外側エッジを境界とする領域（６８）から取得したイメージング・データの少なくとも一部分を逆たたみ込みするステップと、逆たたみ込みしたイメージング・データを合成して前記隣接した横列の対に対するスライス感度プロフィール（７６）を得るステップ、とを含む方法。
【請求項２】 Ｘ線ビーム（１６）が被検体（２２）を通って検出器素子の複数の横列（５４）へ方向付けされるように構成された線源（１４）を含み、該検出器素子の複数の横列が投影データをスライス単位で獲得するように構成されているコンピュータ断層撮影イメージング・システム（１０）で、スライス厚を薄くする方法であって、検出器アレイ（１８）の２つの隣接した中央横列（５６，５８）の外側エッジ（６０，６２）の間の領域（６８）の一部分を照射するように前記Ｘ線ビームを方向付けし、該ビームが前記領域内に包含されるようにするステップと、前記２つの隣接した横列からイメージング・データを取得するステップと、を含む方法。
【請求項３】 線源（１４）と、投影データをスライス単位で獲得するように構成した検出器素子の複数の横列（５４）であって、各々が外側エッジ（６０，６２）を有する一対の隣接した横列（５６，５８）を含む当該複数の横列（５４）と、を備えるイメージング・システム（１０）であって、前記一対の隣接した横列からイメージング・データを取得し、前記隣接した横列の外側エッジを境界とする領域（６８）から取得したイメージング・データの少なくとも一部分を逆たたみ込みし、逆たたみ込みしたイメージング・データを合成して、前記隣接した横列の対に対するスライス感度プロフィール（１０２）を得る、ように構成されたイメージング・システム。
【請求項４】 検出器アレイ（１８）をさらに備えると共に、前記隣接した横列（５６，５８）が前記検出器アレイの中央横列を構成しており、
さらに、前記Ｘ線ビーム（１６）が前記隣接した横列対（５６，５８）の前記外側エッジ（６０，６２）を境界とする領域（６８）の一部分を照射するように前記Ｘ線ビーム（１６）を方向付けし、
コリメータ（５２）をさらに備えると共に、前記領域（６８）の前記一部分内に包含されるように前記ビーム（１６）をコリメートするように構成されている請求項３に記載のシステム（１０）。
【請求項５】 一対の隣接した横列（５６，５８）からイメージング・データを取得するように構成されることが、少なくとも部分的に重なり合っているイメージング・データ・サンプル（９０，９２，９４）を取得するように構成されることを含み、
さらに、少なくとも部分的に重なり合っているサンプル（９０，９２，９４）をｚ軸に沿って均等間隔で取得するように構成されており、
前記均等間隔がイメージング・システムの公称横列スライス厚の半分である、請求項３に記載のシステム（１０）。
【請求項６】 前記隣接した横列の前記外側エッジ（６０，６２）を境界とする領域（６８）から取得したイメージング・データの少なくとも一部分を逆たたみ込みするように構成されることが、前記各隣接した横列（５６，５８）から取得したイメージング・データを別々に逆たたみ込みするように構成されることを含む、請求項３に記載のシステム（１０）。
【請求項７】 前記各隣接した横列（５６，５８）から取得したイメージング・データを別々に逆たたみ込みするように構成されることが、次の関係式を用いてイメージング・データを逆たたみ込みするように構成されることを含む、請求項６に記載のシステム（１０）。
【数２】
上式において、Ｐ1A及びＰ1Bは、それぞれ左側中央検出器横列１Ａ及び右側中央検出器横列１Ｂに対する元のイメージング・データ・サンプルであり、Ｐ’１Ａ及びＰ’１Ｂは、それぞれ左側中央検出器横列１Ａ及び右側中央検出器横列１Ｂに対する修正後のサンプルであり、ＷＫＡ及びＷＫＢは逆たたみ込みカーネル点である。
【請求項８】 前記隣接した横列（５６，５８）の各々から取得したイメージング・データを別々に逆たたみ込みするように構成されることが、逆たたみ込み前の横列イメージング・データの重心位置と逆たたみ込み後の横列イメージング・データの重心位置との差（９６，９８）だけ前記逆たたみ込み済みイメージング・データを前記隣接した横列の各々からシフトさせるように構成されることを含む、請求項６に載のシステム（１０）。
【請求項９】 逆たたみ込みしたイメージング・データを合成して前記隣接した横列の対（５６，５８）に対するスライス感度プロフィール（１０２）を得るように構成されることが、逆たたみ込み済みイメージング・データをイメージング・データの重心位置の少なくとも１つの差だけシフトさせるように構成されることを含む、請求項３に記載のシステム（１０）。
【請求項１０】 前記隣接した横列の対（５６，５８）からイメージング・データを取得するように構成されることが、アキシャル・スキャンを実行するように構成されることを含む、請求項３に記載のシステム（１０）。
【請求項１１】 前記隣接した横列の対（５６，５８）からイメージング・データを取得するように構成されることが、ヘリカル・スキャンを実行するように構成されることを含む、請求項３に記載のシステム（１０）。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月22日(2008.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 計算機式断層撮影（ＣＴ）イメージング・システムにより物体を撮像する方法であって、
複数の検出器行を有するマルチ・スライス計算機式断層撮影イメージング・システムにより前記物体を螺旋走査して、前記物体の再構成平面での投影の推定のために２つよりも多い共役サンプルを含む前記物体の減弱測定値を取得する工程であって、２つよりも多い前記共役サンプルの１つのもののビュー角度と、２つよりも多い前記共役サンプルの他の１つのもののビュー角度との差はｎπ（ｎは０より大きい整数）となる、前記物体の減弱測定値を取得する工程と、
２つよりも多い前記共役サンプルを含む、前記物体の減弱測定値を使用し、前記物体の再構成を行う彎曲平面に沿って投影を推定する工程と、
各検出器行に対して分割した共役領域と、複数の検出器行に対応する彎曲平面のビュー角度にしたがって、各検出器行の減弱測定値に異なる加重を適用する工程と、
前記物体の少なくとも１つの画像スライスを再構成するために前記２つよりも多い共役サンプルを含む前記物体の前記減弱測定値をフィルタ処理及び逆投影する工程と、を含む方法。
【請求項２】 放射線源と複数の検出器行を有するマルチ・スライス検出器との間に位置する物体の減弱測定値を取得するように構成されている放射線源とマルチ・スライス検出器とを備えた、物体を撮像するための計算機式断層撮影（ＣＴ）イメージング・システムであって、
前記物体を螺旋走査して、前記物体の再構成平面での投影の推定のために２つよりも多い共役サンプルであって、２つよりも多い前記共役サンプルの１つのもののビュー角度と、２つよりも多い前記共役サンプルの他の１つのもののビュー角度との差はｎπ（ｎは０より大きい整数）となる、２つよりも多い前記共役サンプルを含む前記物体の減弱測定値を取得し、
２つよりも多い前記共役サンプルを含む、前記物体の減弱測定値を使用し、前記物体の再構成を行う彎曲平面に沿って投影を推定し、
各検出器行に対して分割した共役領域と、複数の検出器行に対応する彎曲平面のビュー角度にしたがって、各検出器行の減弱測定値に異なる加重を適用し、
前記物体の少なくとも１つの画像スライスを再構成するために前記２つよりも多い共役サンプルを含む前記物体の前記減弱測定値をフィルタ処理及び逆投影するように構成されている計算機式断層撮影イメージング・システム。
【請求項３】 前記２つよりも多い共役サンプルが前記物体の前記再構成平面から所定の距離の範囲内に位置するようにさらに構成されており、
前記検出器がＮ個の検出器行を有しており、ピッチＰ：１で前記螺旋走査を行なうようにさらに構成されており、ＰはＮよりも小さい非整数であり、
Ｎ＝４であり、Ｐ＝２．５である請求項２に記載のシステム。
【請求項４】 前記フィルタ処理及び逆投影の前に前記減弱測定値に非線形補間を適用するようにさらに構成されている請求項１５に記載のシステム。
【請求項５】 前記減弱測定値に非線形補間を適用するように構成されている前記システムは、前記減弱測定値にラグランジュ補間を適用するように構成されており、
前記減弱測定値にラグランジュ補間を適用するように構成されている前記システムは、４つの検出器行からの測定値に３次ラグランジュ補間加重を適用するように構成されている請求項２に記載のシステム。
【請求項６】 前記システムは４つの検出器行を有しており、前記減弱測定値を得るために前記物体を螺旋走査するように構成されている前記システムは、２．５：１のピッチで前記物体を螺旋走査するように構成されており、前記システムは、β1′＝２．８π−γ、β2′＝２π−γ、β3′＝１．２π−γ及びβ4′＝０．４π−γ と書かれる彎曲平面に沿って投影を推定するようにさらに構成されており、ここで、β1′、β2′、β3′及びβ4′は、それぞれ対応する検出器行Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４についての彎曲平面内でのビュー角度を表わし、γは検出器角度を表わす、請求項４に記載のシステム。
【請求項７】 前記減弱測定値に非線形補間を適用するように構成されている前記システムは、加重付き補間測定値を加重付き補外測定値と組み合わせるように構成されており、
４つの検出器行Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４を有しており、減弱測定値を得るために前記物体を螺旋走査するように構成されている前記システムは、２．５：１のピッチで前記物体を螺旋走査するように構成されており、前記システムは、検出器行Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４についての減弱測定値に加重をそれぞれ適用するようにさらに構成されており、ここで、前記適用される加重は、
【数５】
2002034970.tif 000001
ここで、θ1＝β−β1′＝β−２．８π＋γ、
【数６】
2002034970.tif 000002
ここで、θ2＝β−β2′＝β−２π＋γ、
【数７】
2002034970.tif 000003
ここで、θ3＝β−β3′＝β−１．２π＋γ、及び
【数８】
2002034970.tif 000004
ここで、θ4＝β−β4′＝β−０．４π＋γと書かれ、β1′＝２．８π−γ、β2′＝２π−γ、β3′＝１．２π−γ及びβ4′＝０．４π−γであり、β1′、β2′、β3′及びβ4′は、それぞれ検出器行Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４について前記再構成平面（ＰＯＲ）に交差するビュー角度を表わし、γは検出器角度を表わす、請求項４に記載のシステム。
【請求項８】 前記フィルタ処理及び逆投影の前に前記減弱測定値に一組の加重を適用するようにさらに構成されており、
前記減弱測定値に一組の加重を適用するように構成されている前記システムは、前記減弱測定値にラグランジュ加重を適用するように構成されており、
前記減弱測定値にラグランジュ加重を適用するように構成されている前記システムは、４つの検出器行からの測定値に３次ラグランジュ加重を適用するように構成されている前記システムを含んでいる請求項２に記載のシステム。
【請求項９】 前記システムは４つの検出器行を有しており、前記減弱測定値を得るために前記物体を螺旋走査するように構成されている前記システムは、２．５：１のピッチで前記物体を螺旋走査するように構成され、前記システムは、β1′＝２．８π−γ、β2′＝２π−γ、β3′＝１．２π−γ及びβ4′＝０．４π−γと書かれる彎曲平面に沿って投影を推定するようにさらに構成され、ここで、β1′、β2′、β3′及びβ4′は、それぞれ対応する検出器行Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４についての彎曲平面内でのビュー角度を表わし、γは検出器角度を表わす、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１０】 補間および補外が更に適用して、前記減弱測定値に適用する加重を決定するようにさらに構成されている請求項２に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月27日(2007.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  集塵室、第１の蓄電池により駆動する電動送風機を有する掃除機本体と、該掃除機本体に接続される可撓性ホースと、該可撓性ホースに接続される延長管と、該延長管に接続され、回転ブラシ及び該回転ブラシを回転させるモータとを有する床用吸込具と、前記モータの駆動電源である第２の蓄電池とを備えた電気掃除機において、床用吸込具の上面に表示手段を設け、第１の蓄電池および／または第２の蓄電池の電池残量の表示を可能としたことを特徴とする充電式電気掃除機。
【請求項２】  前記電池残量の表示はＬＥＤを複数個設け、該ＬＥＤの点灯数で電池残量の程度を表示することを特徴とする請求項１記載の充電式電気掃除機。
【請求項３】  前記ＬＥＤの点灯面積を変化させることにより電池残量の程度を表示することを特徴とする請求項２記載の充電式電気掃除機。
【請求項４】  前記電池残量の表示はＬＥＤを２個設け、満充電状態と要充電状態で色表示を異ならせ、要充電状態に至る直前では満充電状態の色表示を点滅させて電池残量の程度を表示することを特徴とする請求項１記載の充電式電気掃除機。
【請求項５】  前記電池残量の表示は指針の位置で現在の電池残量を表示することを特徴とする請求項１記載の充電式電気掃除機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の請求項１に係る充電式電気掃除機は、集塵室、第１の蓄電池により駆動する電動送風機を有する掃除機本体と、該掃除機本体に接続される可撓性ホースと、該可撓性ホースに接続される延長管と、該延長管に接続され、回転ブラシ及び該回転ブラシを回転させるモータとを有する床用吸込具と、前記モータの駆動電源である第２の蓄電池とを備えた電気掃除機において、床用吸込具の上面に表示手段を設け、第１の蓄電池および／または第２の蓄電池の電池残量の表示を可能としたことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の請求項２に係る充電式電気掃除機は、集塵室、第１の蓄電池により駆動する電動送風機を有する掃除機本体と、該掃除機本体に接続される可撓性ホースと、該可撓性ホースに接続される延長管と、該延長管に接続され、回転ブラシ及び該回転ブラシを回転させるモータとを有する床用吸込具と、前記モータの駆動電源である第２の蓄電池とを備えた電気掃除機において、床用吸込具の上面に表示手段としてＬＥＤを複数個設け、該ＬＥＤの点灯数で電池残量の程度を表示して、第２の蓄電池の電池残量の表示を可能とするように構成した。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の請求項３に係る充電式電気掃除機は、集塵室、第１の蓄電池により駆動する電動送風機を有する掃除機本体と、該掃除機本体に接続される可撓性ホースと、該可撓性ホースに接続される延長管と、該延長管に接続され、回転ブラシ及び該回転ブラシを回転させるモータとを有する床用吸込具と、前記モータの駆動電源である第２の蓄電池とを備えた電気掃除機において、床用吸込具の上面に表示手段としてＬＥＤを複数個設け、該ＬＥＤの点灯数と点灯面積を変化させて電池残量の程度を表示して、第２の蓄電池の電池残量の表示を可能とするように構成した。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の請求項４に係る充電式電気掃除機は、集塵室、第１の蓄電池により駆動する電動送風機を有する掃除機本体と、該掃除機本体に接続される可撓性ホースと、該可撓性ホースに接続される延長管と、該延長管に接続され、回転ブラシ及び該回転ブラシを回転させるモータとを有する床用吸込具と、前記モータの駆動電源である第２の蓄電池とを備えた電気掃除機において、床用吸込具の上面に表示手段としてＬＥＤを２個設け、満充電状態と要充電状態で色表示を異ならせ、要充電状態に至る直前では満充電状態の色表示を点滅させて、第２の蓄電池の電池残量の表示を可能とするように構成した。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の請求項５に係る充電式電気掃除機は、集塵室、第１の蓄電池により駆動する電動送風機を有する掃除機本体と、該掃除機本体に接続される可撓性ホースと、該可撓性ホースに接続される延長管と、該延長管に接続され、回転ブラシ及び該回転ブラシを回転させるモータとを有する床用吸込具と、前記モータの駆動電源である第２の蓄電池とを備えた電気掃除機において、床用吸込具の上面に表示手段として指針の位置で現在の電池残量を表示して、第２の蓄電池の電池残量の表示を可能とするように構成した。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
【発明の効果】
また、本発明の充電式電気掃除機は、蓄電池の充電状態も含めて、掃除機の使用時に電池残量が明らかになり、掃除途中に突然電池残量がなくなる等の不具合が生じることなく、掃除機使用時に目に付きやすい場所に電池残量の各種表示手段を設けることができて、掃除から充電への作業をスムーズに行うことができる。