【手続補正書】
【提出日】平成20年5月23日(2008.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 
ガイド面に対向配置される静圧パッドと、
該静圧パッドを囲むように配置される排気溝の外周を囲むように配置されるラビリンス部と、
前記ラビリンス部と前記ガイド面との間の隙間を調整する隙間調整機構と、
該隙間のギャップ量を検知するセンサと、
該センサの出力に基づいて、該隙間調整機構を制御する制御部とを有することを特徴とする静圧軸受装置。
【請求項２】 
請求項１に記載の静圧軸受装置において、前記排気溝と前記ラビリンス部は相対運動が可能であり、且つ流体が漏れないようにシールするシール部材を備えることを特徴とする静圧軸受装置。
【請求項３】 
請求項２に記載の静圧軸受装置において、前記シール部材は環状のシール部材であることを特徴とする静圧軸受装置。
【請求項４】 
請求項３に記載の静圧軸受装置において、前記シール部材が、Ｏリング及び磁性材のいずれかであることを特徴とする静圧軸受装置。
【請求項５】 
請求項１〜４のいずれかに記載の静圧軸受装置において、前記隙間調整機構は、ピエゾ素子、超磁歪素子及び電磁石のいずれかのアクチュエータを備えることを特徴とする静圧軸受装置。
【請求項６】 
請求項１〜５のいずれかに記載の静圧軸受装置において、前記センサは、非接触型の変位計を用いることを特徴とする静圧軸受装置。
【請求項７】 
請求項６に記載の静圧軸受装置において、非接触型の変位計は、静電容量型、渦電流型及び光ピックアップのいずれかであることを特徴とする静圧軸受装置。
【請求項８】 
請求項１〜７のいずれかに記載の静圧軸受装置において、前記隙間の保持を助けるための予圧付与手段を有することを特徴とする静圧軸受装置。
【請求項９】 
請求項１〜８のいずれかに記載の静圧軸受装置において、複数の静圧パッドをまとめてその全体の外周を前記排気溝で囲み、該排気溝の外周を前記ラビリンス部が囲むことを特徴とする静圧軸受装置。
【請求項１０】 
請求項１〜９のいずれかに記載の静圧軸受装置を用いることを特徴とするステージ装置。
【請求項１１】 
請求項１０に記載の真空用ステージ装置を、半導体露光装置用の位置決め装置として用いることを特徴とするステージ装置。
【請求項１２】  可動体をガイド面に沿って案内する静圧軸受を備えるステージ装置であって、前記可動体に取り付けられるハウジングと、
該ハウジングの、前記ガイド面に対向する位置に配置される静圧パッドと、
該静圧パッドを囲むように配置される排気溝の外周を囲むように配置されるラビリンス部と、
前記ラビリンス部と前記ガイド面との間の隙間を調整する隙間調整機構と、
該隙間のギャップ量を検知するセンサと、
該センサの出力に基づいて、該隙間調整機構を制御する制御部とを有することを特徴とするステージ装置。
【請求項１３】 
請求項１０〜１２のいずれかに記載のステージ装置を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項１４】 
請求項１３に記載の露光装置を含む各種プロセス用の製造装置群を半導体製造工場に設置する工程と、該製造装置群を用いて複数のプロセスによって半導体デバイスを製造する工程とを有することを特徴とする半導体デバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明に係る静圧軸受装置は、ガイド面に対向配置される静圧パッドと、該静圧パッドを囲むように配置される排気溝の外周を囲むように配置されるラビリンス部と、前記ラビリンス部と前記ガイド面との間の隙間を調整する隙間調整機構と、該隙間のギャップ量を検知するセンサと、該センサの出力に基づいて、該隙間調整機構を制御する制御部とを有することを特徴とする。これにより、高真空対応静圧軸受装置の小型化・軽量化が図られる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
さらに本発明のステージ装置は、可動体をガイド面に沿って案内する静圧軸受を備えるステージ装置であって、前記可動体に取り付けられるハウジングと、該ハウジングの、前記ガイド面に対向する位置に配置される静圧パッドと、該静圧パッドを囲むように配置される排気溝の外周を囲むように配置されるラビリンス部と、前記ラビリンス部と前記ガイド面との間の隙間を調整する隙間調整機構と、該隙間のギャップ量を検知するセンサと、該センサの出力に基づいて、該隙間調整機構を制御する制御部とを有することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【発明の実施の形態】
（第１の実施形態）
図１に本発明の静圧軸受装置の第１の実施形態を示す。該静圧軸受装置がステージ装置に備え付けられた場合について示した図であり、軸受ハウジング１１は可動体７に取り付けられている。この矩形の静圧軸受装置は、不図示の真空チャンバ内にあるものとし、前記静圧軸受装置の周囲の雰囲気は真空になっている。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
可動体７の左右側面には、ラビリンス部２とガイド面１からなる微小隙間（ギャップ量）ｈｒの変化を常時監視できるように、該隙間ｈｒを検知するセンサとして非接触型微小変位計５ａ，５ｂがホルダ６ａ，６ｂによって取り付けられている。前記非接触型の変位計は、静電容量型、渦電流型又は光ピックアップのいずれかであってもよい。そして、この静圧軸受装置は、アクチュエータ４ａ，４ｂを含む隙間調整機構を制御する制御部を有し、微小変位計５ａ，５ｂの出力が該制御部に入力され、隙間ｈｒを一定に保つように制御される。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
（第５の実施形態）
図５は第５の実施形態に係る静圧軸受装置を表し、第４の実施形態で述べた静圧パッドの変形を示す図である。この静圧軸受装置は、４個の静圧パッド２０１ａ〜２０１ｄをまとめて排気溝部１６６０で囲み、その周りをラビリンス部２２２０で囲む構成となっている。第４及び第５の実施形態は、いずれも複数の静圧パッドをまとめてその全体の外周を排気溝で囲み、該排気溝の外周をラビリンス部が囲むように構成した実施形態である。二つの各静圧パッドの間には予圧磁石１５５０ａ，１５５０ｂが配置され、またアクチュエータ１８８０ａ、１８８０ｂは左右静圧パッドの外側のラビリンス部２２２０の反対側に配置する。非接触型微小変位計１９９０ａ，１９９０ｂも可動体９０００の左右に設置する。図５において、１３３０は排気用穴、１４４０はシール材、１９９９は予圧機構である。このような構成は実際のステージを構成する場合、可動体の自重や、荷重が大きい場合に適している。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
排気溝部６２８は磁性体からなる軸受のハウジング６２１と一体、または別の部品で前記ハウジング６２１に固定されている。排気溝部６２８とラビリンス部６０２は別々の部品であり、両者間は微小な間隔をもっており、流体の漏れを防ぐために環状のシール材として磁性材である磁性流体６２２でシールされている。