【手続補正書】
【提出日】平成20年9月17日(2008.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 ショット内マーク情報を入力する第１の工程と、ウエハ内補正用データを算出するために使用するショットを入力する第２の工程と、ショット内補正用データを算出するために使用するショットを入力する第３の工程と、前記第１、第２、および第３の工程による入力に応じてマーク計測を行うマーク計測工程と、前記第１、第２、および第３の工程による入力に応じてウエハ内補正値とショット内補正値を算出する算出工程と、前記算出工程により算出された補正値を反映して露光を行う露光工程と、を有することを特徴とする半導体露光方法。
【請求項２】 前記第１の工程は、用途、座標、および計測方向のいずれか１つ以上を設定するものであることを特徴とする請求項１に記載の半導体露光方法。
【請求項３】 前記第２の工程は、任意のショットを設定するものであることを特徴とする請求項１または２に記載の半導体露光方法。
【請求項４】前記用途として、ウエハ補正用、ショット補正用、共用のいずれかに設定可能であり、前記マーク計測工程は、前記用途が「共用」で設定されたマークについては、ウエハ用ショットとショット計測用ショットが同一の場合、一度のみ計測を行なうことを特徴とする請求項２に記載の半導体露光方法。
【請求項５】 ショット内マーク情報を入力する第１の手段と、ウエハ内補正用データを算出するために使用するショットを入力する第２の手段と、ショット内補正用データを算出するために使用するショットを入力する第３の手段と、前記第１、第２、および第３の手段の入力に応じてマーク計測を行うマーク計測手段と、前記第１、第２、および第３の手段の入力に応じてウエハ内補正値とショット内補正値を算出する算出手段と、前記算出手段により算出された補正値を反映して露光を行う露光手段と、を有することを特徴とする半導体露光装置。
【請求項６】 前記第１の手段は、用途、座標、および計測方向のいずれか１つ以上を設定するものであることを特徴とする請求項５に記載の半導体露光装置。
【請求項７】 前記第２の手段は、任意のショットを設定するものであることを特徴とする請求項５または６に記載の半導体露光装置。
【請求項８】前記用途として、ウエハ補正用、ショット補正用、共用のいずれかに設定可能であり、前記マーク計測手段は、前記用途が「ウエハ補正用」で設定されたマークについては、ウエハ計測ショットでのみ計測を行なうことを特徴とする請求項６に記載の半導体露光装置。
【請求項９】前記用途として、ウエハ補正用、ショット補正用、共用のいずれかに設定可能であり、前記マーク計測手段は、前記用途が「ショット補正用」で設定されたマークについては、ショット計測用ショットでのみ計測を行なうことを特徴とする請求項６に記載の半導体露光装置。
【請求項１０】前記用途として、ウエハ補正用、ショット補正用、共用のいずれかに設定可能であり、前記マーク計測手段は、前記用途が「共用」で設定されたマークについては、ウエハ用ショットとショット計測用ショットが同一の場合、一度のみ計測を行なうことを特徴とする請求項６に記載の半導体露光装置。
【請求項１１】 請求項５〜１０のいずれか１項に記載の半導体露光装置を含む各種プロセス用の製造装置群を半導体製造工場に設置する工程と、該製造装置群を用いて複数のプロセスによって半導体デバイスを製造する工程とを有することを特徴とする半導体デバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明においては、前記第１の工程は、用途、座標、および計測方向のいずれか１つ以上を設定するものであるとよい。前記用途は、ウエハ補正用、ショット補正用、共用のいずれかに設定可能である。また、前記第２の工程は、任意のショットを設定するものであるとよい。さらに、前記マーク計測工程は、前記用途が「共用」で設定されたマークについては、ウエハ用ショットとショット計測用ショットが同一の場合、一度のみ計測を行なうことが可能である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明においては、前記第１の手段は、用途、座標、および計測方向のいずれか１つ以上を設定するものであるとよい。前記用途は、ウエハ補正用、ショット補正用、共用のいずれかに設定可能である。また、前記第２の手段は、任意のショットを設定するものであるとよい。さらに、前記マーク計測手段は、前記用途が「ウエハ補正用」で設定されたマークについては、ウエハ計測ショットでのみ計測を行なうことが好ましく、前記用途が「ショット補正用」で設定されたマークについては、ショット計測用ショットでのみ計測を行なうことが好ましく、前記用途が「共用」で設定されたマークについては、ウエハ用ショットとショット計測用ショットが同一の場合、一度のみ計測を行なうことが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本実施例では、各ショットに図３（ａ）に示すようなマーク１〜マーク１２（Ｍａｒｋ１〜Ｍａｒｋ１２）が存在し、図５（ｂ）に示すようにＳＳ１〜ＳＳ４までの設定を行う。ここで、マーク１，３，６，７，８，１２はＹ方向を計測するマークであり、マーク２，４，５，９，１０，１１はＸ方向を計測するマークである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
図２（ａ）において、先ずステップＳ２０１でスタートすると、ステップＳ２０２では、オペレータが図１の入出力装置１０を操作し、ショット（Ｓｈｏｔ）内マーク入力部１１を用いて、ショット内マーク情報（ショット補正用マーク情報）を入力する（第1の工程）。ここで、ショット内マーク情報は、図１のマーク情報記憶部１４に記憶してもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
ショット補正用マーク情報（ショット内マーク情報）は、図３（ｂ）に示すように、ウエハ補正用（Wafer Comp）、ショット補正用（Shot Comp ）、および共用（Both）の各用途、ショット内座標（X,Y ）、計測方向（Direction X/Y ）から構成されている。よって、前記第1の工程は、用途、座標及び計測方向のいずれか1つ以上を設定するものである。また、前記用途は、ウエハ補正用、ショット補正用、共用のいずれかに設定可能である。ここで、本実施例では、ショット補正用マーク情報は、上記３種類の情報のみを記述したが、使用するマークタイプ等の情報を入れてもよい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
第２の工程であるステップＳ２０３では、オペレータが図１の入出力装置１０を操作し、ウエハ（Wafer ）補正用サンプルショット入力部１２を用いて、ウエハ補正用ショット情報を入力する。ここで、ウエハ補正用ショット情報は、図１のウエハ補正用ショット情報記憶部１５に記憶してもよい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
第３の工程であるステップＳ２０４では、オペレータが図１の入出力装置１０を操作し、ショット補正用サンプルショット入力部１３を用いて、ショット補正用ショット情報を入力する。ここで、ショット補正用ショット情報は、図１のショット補正用ショット情報記憶部１６に記憶してもよい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
ステップＳＳ２０３ではマーク計測部２０を用いてショット補正用サンプルマーク位置に移動を行い、ステップＳＳ２０４ではマーク計測部２０を用いてずれ量を算出する。ここで、ずれ量情報は、ずれ量記憶部２１に記憶してもよい。ステップＳＳ２０５においては、ショット補正用サンプルマーク（ＳＳ１〜ＳＳ４のマーク１〜マーク１２）が全て計測終了するまで、マーク計測工程であるステップＳＳ２０２〜ステップＳＳ２０４を行う。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
ステップＳＳ２０５にてＹｅｓの場合は、つまり全ショット補正用サンプルマークを計測し終えたら、ショット内補正値（ショット補正用補正値）を算出する算出工程であるステップＳＳ２０６にてショット補正用補正値を算出する。ここでは、図１における補正値算出部２２が上記したマーク情報、ウエハ補正用ショット情報、およびショット補正用ショット情報をそれぞれ用いて、ウエハ補正用補正値、ショット補正用補正値をそれぞれ算出する。ここで、ウエハ補正用補正値情報およびショット補正用補正値情報は、ウエハ補正用補正値記憶部２３およびショット補正用補正値記憶部２４にそれぞれ記憶してもよい。具体的な補正値算用式は、特許２８６８５４８号や特開平９−２６６１６４号で紹介されているので、ここでは省略する。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
ステップＳＳ２０８ではステップＳＳ２０３と全く同じ方法で、マーク計測部２０を用いてウエハ補正用サンプルマーク位置計測を行い、ステップＳＳ２０９ではずれ量を算出する。ステップＳＳ２１０においては、ウエハ補正用サンプルマーク（Ｓ１〜Ｓ８までのマーク１、マーク２）が全て計測終了するまでステップＳＳ２０７〜ステップＳＳ２０９を行う。ステップＳＳ２１０にてＹｅｓの場合は、つまり全ウエハ補正用サンプルマークを計測し終えたら、ウエハ内補正値（ウエハ補正用補正値）を算出する算出工程であるステップＳＳ２１１にてウエハ補正用補正値を算出する。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
また、図７（ｂ）から分かるように、マーク１、２は、ウエハ補正／ショット補正共通に使用する。マーク３、４は、ショット補正用にのみ使用される。よって、マーク３、４は、ウエハ補正用ショットでは計測されない。即ち、用途が「ショット補正用」で設定されたマークについては、ショット計測用ショットでのみ計測を行い、ウエハ補正用ショットでは計測されない。ウエハ補正値の算出時、計測値は使用されない。