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【手続補正書】
【提出日】平成20年7月24日(2008.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  出力軸を有し、該出力軸を回転させる複数の回転駆動手段と、
前記複数の回転駆動手段の出力軸とそれぞれ連結され、前記出力軸の回転運動を直線運動に変換する複数の変換機構と、
前記複数の変換機構に嵌合し、前記出力軸の回転に応じた直進運動を行う移動体とを備え、
前記変換機構は、ねじ部材と、このねじ部材と螺合し、前記移動体が固定されたナット部材とからなり、
少なくとも１つの前記変換機構では、前記ナット部材の規制によって作用する前記ねじ部材のスラストの方向が、他の前記変換機構のそれと反対向きであることを特徴とする移動体駆動装置。
【請求項２】  前記複数の回転駆動手段には、単一の信号入力装置から同一の交番信号が入力されることを特徴とする請求項１記載の移動体駆動装置。
【請求項３】  前記複数の回転駆動手段は、同一の駆動特性を有することを特徴とする請求項１記載の移動体駆動装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の移動体駆動装置は、出力軸を有し、該出力軸を回転させる複数の回転駆動手段と、前記複数の回転駆動手段の出力軸とそれぞれ連結され、前記出力軸の回転運動を直線運動に変換する複数の変換機構と、前記複数の変換機構に嵌合し、前記出力軸の回転に応じた直進運動を行う移動体とを備え、前記変換機構は、ねじ部材と、このねじ部材と螺合し、前記移動体が固定されたナット部材とからなり、少なくとも１つの前記変換機構では、前記ナット部材の規制によって作用する前記ねじ部材のスラストの方向が、他の前記変換機構のそれと反対向きであることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月1日(2008.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブレーキ用キャリパのシリンダの内面に加工されたシール溝にゴム製のピストンシールを嵌入し、該ピストンシールによってブレーキピストンと上記シリンダとの間を液封するものにおいて、上記ブレーキピストンの摺動方向における上記ピストンシールと上記シール溝との間の隙間を無くすとともに、上記ピストンシールの外周部と上記シール溝との間に隙間を設けたことを特徴とするディスクブレーキ装置。
【請求項２】
前記ピストンシールの外周角部が面取りされたことを特徴とする請求項１記載のディスクブレーキ装置。
【請求項３】
前記ピストンシールの外周角部が丸くＲ処理されたことを特徴とする請求項１記載のディスクブレーキ装置。
【請求項４】
前記シール溝底隅部が角状に形成されたことを特徴とする請求項２記載のディスクブレーキ装置。
【請求項５】
前記ピストンシールの外側面に凹形溝が形成されたことを特徴とする請求項２記載のディスクブレーキ装置。
【請求項６】
前記ピストンシールは、前記シール溝の底面に接触しないことを特徴とする請求項１記載のディスクブレーキ装置。
【請求項７】
前記シール溝の底部は、実質的に前記ブレーキピストンと平行であることを特徴とする請求項２記載のディスクブレーキ装置。
【請求項８】
前記ピストンシールは、梯形断面状に形成され、前記シール溝は三角形断面形状に形成されたことを特徴とする請求項１記載のディスクブレーキ装置。
【請求項９】
前記ピストンシールは、前記シール溝の底部の少なくとも1つの突条に接触することを特徴とする請求項１記載のディスクブレーキ装置。
【請求項１０】
前記ピストンシールと前記シール溝とにスペーサが介装されたことを特徴とする請求項２記載のディスクブレーキ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月8日(2008.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技領域が形成された遊技盤と、
前記遊技領域の所定位置に設けられ、遊技球が入球可能な第１始動口と、
前記第１始動口への遊技球の入球に基づいて第１の抽選を実行する第１抽選手段と、
前記第１の抽選の結果に基づいて図柄を変動表示させる第１表示制御手段と、
前記遊技領域の所定位置に設けられ、遊技球の受け入れ状態が遊技者に有利な状態に変化可能な第１可変入球装置と、
第１の特別遊技を実行するための条件である第１の作動条件を保持する第１作動条件保持手段と、
前記第１表示制御手段により変動表示される図柄が所定の当たり図柄で停止されたときに前記第１の作動条件が満たされたと判定し、前記第１可変入球装置の受け入れ状態を有利な状態へ変化させることにより前記第１の特別遊技を実行する第１特別遊技実行手段と、
前記遊技領域の所定位置に設けられ、遊技球が入球可能な第２始動口と、
前記第２始動口への遊技球の入球に基づいて第２の抽選を実行する第２抽選手段と、
前記第２の抽選の結果に基づいて図柄を変動表示させる第２表示制御手段と、
前記遊技領域の所定位置に設けられ、前記第２表示制御手段により変動表示される図柄が所定の当たり図柄で停止されたときに遊技球の受け入れ状態が遊技者に有利な状態に変化する可変入球口と、
前記遊技領域の所定位置に設けられ、遊技球の受け入れ状態が遊技者に有利な状態に変化可能な第２可変入球装置と、
第２の特別遊技を実行するための条件である第２の作動条件を保持する第２作動条件保持手段と、
前記可変入球口に遊技球が入球したときに前記第２の作動条件が満たされたと判定し、前記第２可変入球装置の受け入れ状態を有利な状態に変化させることにより前記第１の特別遊技における第１段階を実行し、その第１段階において前記第２可変入球装置内の特定領域へ遊技球が入球した場合に前記第２の特別遊技における第２段階への移行条件が満たされたと判定し、前記第１可変入球装置の受け入れ状態を有利な状態へ変化させることにより前記第２の特別遊技における第２段階を実行する第２特別遊技実行手段と、
前記可変入球口へ遊技球が入球したとき、所定の解除条件が満たされるまで前記第１の作動条件の成立を回避させる作動回避手段と、
を備えることを特徴とする弾球遊技機。
【請求項２】
遊技領域が形成された遊技盤と、
前記遊技領域の所定位置に設けられ、遊技球が入球可能な第１始動口と、
前記第１始動口への遊技球の入球に基づいて第１の抽選を実行する第１抽選手段と、
前記第１の抽選の結果に基づいて図柄を変動表示させる第１表示制御手段と、
前記遊技領域の所定位置に設けられ、遊技球の受け入れ状態が遊技者に有利な状態に変化可能な可変入球装置と、
第１の特別遊技を実行するための条件である第１の作動条件を保持する第１作動条件保持手段と、
前記第１表示制御手段により変動表示される図柄が所定の当たり図柄で停止されたときに前記第１の作動条件が満たされたと判定し、前記可変入球装置の受け入れ状態を有利な状態へ変化させることにより前記第１の特別遊技を実行する第１特別遊技実行手段と、
前記遊技領域の所定位置に設けられ、遊技球が入球可能な第２始動口と、
前記第２始動口への遊技球の入球に基づいて第２の抽選を実行する第２抽選手段と、
前記第２の抽選の結果に基づいて図柄を変動表示させる第２表示制御手段と、
前記遊技領域の所定位置に設けられ、前記第２表示制御手段により変動表示される図柄が所定の当たり図柄で停止されたときに遊技球の受け入れ状態が遊技者に有利な状態に変化する可変入球口と、
第２の特別遊技を実行するための条件である第２の作動条件を保持する第２作動条件保持手段と、
前記可変入球口に遊技球が入球したときに前記第２の作動条件が満たされたと判定し、前記可変入球装置の受け入れ状態を有利な状態に変化させることにより前記第１の特別遊技における第１段階を実行し、その第１段階において前記可変入球装置内の特定領域へ遊技球が入球した場合に前記第２の特別遊技における第２段階への移行条件が満たされたと判定し、前記可変入球装置の受け入れ状態を有利な状態へ変化させることにより前記第２の特別遊技における第２段階を実行する第２特別遊技実行手段と、
前記可変入球口へ遊技球が入球したとき、所定の解除条件が満たされるまで前記第１の作動条件の成立を回避させる作動回避手段と、
を備えることを特徴とする弾球遊技機。
【請求項３】
前記作動回避手段は、前記第１表示制御手段による変動表示中に前記可変入球口へ遊技球が入球したとき、前記第１表示制御手段により停止された図柄の表示を前記解除条件が満たされるまで続行させることにより前記第１の作動条件の成立を回避させることを特徴とする請求項１または２に記載の弾球遊技機。
【請求項４】
前記第１表示制御手段により図柄を変動表示させるときの変動時間の定義を含む表示パターンとして複数種のパターンを記憶するパターン記憶手段と、
前記第１表示制御手段により図柄を変動表示させるときの表示パターンとして前記複数種のパターンからいずれかを選択する図柄決定手段と、をさらに備え、
前記第１表示制御手段は、前記図柄決定手段により選択された表示パターンに基づき、その表示パターンに定義された変動時間にて図柄を変動表示させ、
前記作動回避手段は、前記可変入球口へ遊技球が入球したとき、前記第１表示制御手段による図柄変動の経過時間のタイマを停止させることにより前記第１の作動条件の成立を回避させるとともに、前記解除条件が満たされたときに前記停止させたタイマを再開させることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の弾球遊技機。
【請求項５】
前記作動回避手段は、前記タイマを停止させている間、前記第１表示制御手段による図柄変動表示状態を維持させることを特徴とする請求項４に記載の弾球遊技機。
【請求項６】
前記作動回避手段は、前記タイマを再開させたとき、前記第１表示制御手段に対し前記選択された表示パターンに定義された変動時間の残り時間に基づいて残りの変動表示および停止表示をさせることを特徴とする請求項４または５に記載の弾球遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月9日(2008.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材ボディと被膜とからなる鋼旋削用の切削工具インサートであって、
前記被膜が、
ｘ＋ｙ＋ｚ≦１であるＴｉＣｘＮｙＯｚの少なくとも２層から成り、合計厚みが０．７〜４．５μｍである第１最内層領域と、
主にＡｌ２Ｏ３から成る第２層領域と、
個々の厚みが＞０．１５〜０．８μｍであり且つ合計厚みが＞０．６〜２．０μｍであるＴｉＣｘＮｙ（ｘ＋ｙ≦１）の一連の１層または数層と、厚みが＞０．１〜０．４μｍであるＡｌ２Ｏ３の最外層と、を含んでなり、且つ２．５μｍより薄い最外層領域の合計厚みを有する最外層領域と、
を含み、且つ
２．０〜１２μｍの範囲の被膜合計厚みを有する、
ことを特徴とする鋼旋削用の切削工具インサート。
【請求項２】
前記最外層領域が、（ＴｉＮ＋ＴｉＣ）ｎＴｉＮの一連の１層または数層を含むことを特徴とする請求項１記載の切削工具インサート。
【請求項３】
前記最外層領域が、ＴｉＮ＋ＴｉＣ＋ＴｉＮの組み合わせの一連の１層または数層を含むことを特徴とする請求項１記載の切削工具インサート。
【請求項４】
前記最外層が、κ−Ａｌ２Ｏ３であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の切削工具インサート。
【請求項５】
前記最外層領域が、一連の数層のＴｉＣｘＮｙ（ｘ＋ｙ≦１）層とこれに続くＡｌ２Ｏ３層とを含み、ＴｉＣｘＮｙ／Ａｌ２Ｏ３層の厚み比率が２を越えることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の切削工具インサート。
【請求項６】
多層から成る前記第２層領域が、交互に積層された複数のＡｌ２Ｏ３層とＴｉＣｘＮｙＯｚ層とからなり、
前記Ａｌ２Ｏ３層とＴｉＣｘＮｙＯｚ層の合計層数が、５〜３１層であり、
前記Ａｌ２Ｏ３層は、個々の層厚みが＞０．１〜＜０．５μｍであり、
前記ＴｉＣｘＮｙＯｚ層は、個々の層厚みが＞０〜＜０．２μｍであり、
前記多層の合計厚みが、１．０〜４．０μｍである、
ことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の切削工具インサート。
【請求項７】
前記第２層領域が、κ−Ａｌ２Ｏ３層とＴｉＮ層とが交互に積層した複数層から成ることを特徴とする請求項６記載の切削工具インサート。
【請求項８】
前記第２層領域において、前記Ａｌ２Ｏ３層は個々の層厚みが０．２〜＜０．５μｍ、前記ＴｉＣｘＮｙＯｚ層は個々の層厚みが０．０２〜０．１５μｍであり、多層から成る該第２層領域の合計厚みが１．５〜３．５μｍであることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の切削工具インサート。
【請求項９】
前記第２層領域が、単層Ａｌ２Ｏ３層からなり、前記層の合計厚みが１．０〜４．０μｍである、
ことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の切削工具インサート。
【請求項１０】
前記第２層領域が、単一のκ−Ａｌ２Ｏ３層から成ることを特徴とする請求項９記載の切削工具インサート。
【請求項１１】
前記第１最内層領域は、
ｘ＋ｙ＋ｚ≦１であるＴｉＣｘＮｙＯｚであって、＜０．５μｍの大きさの等軸粒、及び１．５μｍより小さく０．１μｍより大きい厚みである第１最内層と、
ｘ＋ｙ＋ｚ≦１であるＴｉＣｘＮｙＯｚであって、０．４〜３．９μｍの厚みであり、柱状粒を有する第２層と、
を含む、
ことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の切削工具インサート。
【請求項１２】
・前記第１最内層が、ｙ＞０．８かつｚ＝０であるＴｉＣｘＮｙＯｚから成り、等軸粒であり、厚み０．１〜０．６μｍであり、
・前記第２層が、ｚ＝０、ｘ＞０．３、ｙ＞０．３であるＴｉＣｘＮｙＯｚから成り、柱状粒であり、厚み１．５〜３．０μｍである、
ことを特徴とする請求項１１記載の切削工具インサート。
【請求項１３】
前記第１最内層領域は、
ｘ＋ｙ＋ｚ≦１であるＴｉＣｘＮｙＯｚであって、＜０．５μｍの大きさの等軸粒、及び１．５μｍより小さく０．１μｍより大きい厚みを有する第３層を含む、
ことを特徴とする請求項１２に記載の切削工具インサート。
【請求項１４】
前記第３層が、ｙ＞０．８かつｚ＝０であるＴｉＣｘＮｙＯｚから成り、等軸粒であり、厚み０．１〜０．６μｍであることを特徴とする請求項１３記載の切削工具インサート。
【請求項１５】
後処理が切刃線に沿ってすくい面と逃げ面まで前記最内層の真下の前記層を露出させ、すくい面と逃げ面と上の露出が少なくとも０．０２ｍｍであり、好ましくは切屑の接触区域に相当し、すくい面上の０．０２〜０．４０ｍｍである、
ことを特徴とする請求項１〜１４のいずれか１項に記載の切削工具インサート。
【請求項１６】
前記基材ボディが、７〜１１．５ｗｔ％のＣｏと０．２〜２．１ｗｔ％の立方晶炭化物と、残部タングステン炭化物ＷＣと、を含有する組成を有する超硬合金の基材であり、
１．０〜３．０μｍの平均粒径を有する、
ことを特徴とする請求項１〜１５のいずれか１項に記載の切削工具インサート。
【請求項１７】
前記基材ボディは、Ｔａ、ＮｂおよびＴｉの立方晶炭化物と、周期律表のIVｂ族、Ｖｂ族またはVIｂ族の元素の上記以外の炭化物とを、０．４〜１．６wt％を含有することを特徴とする請求項１６記載の切削工具インサート。
【請求項１８】
前記基材ボディが、超硬合金の組成を有し、表面近くの区域で立方晶炭化物が枯渇しバインダが豊富であり、
前記立方晶の枯渇した端部までの前記表面からの測定距離が５〜５０μｍであり、
前記組成が、５．０〜１０．５ｗｔ％のＣｏと３．０〜９．０ｗｔ％の立方晶炭化物と残部タングステン炭化物ＷＣとであり、１．０〜３．０μｍの平均粒径を有し、
Ｎの含有量が０．０１〜０．２ｗｔ％の範囲にある、
ことを特徴とする請求項１〜１５のいずれか１項に記載の切削工具インサート。
【請求項１９】
前記立方晶炭化物は、Ｎｂ、ＴａおよびＴｉに基づくが、周期律表のIVｂ族、Ｖｂ族またはVIｂ族の元素の炭化物を含み得ることを特徴とする請求項１８記載の切削工具インサート。
【請求項２０】
ボディと被膜とから成る特に旋削用の切削工具インサートの製造方法であって、
前記ボディは、
ｘ＋ｙ＋ｚ≦１のＴｉＣｘＮｙＯｚの少なくとも２層であり、０．７〜４．５μｍの合計厚みを有する第１最内層領域であって、前記第１層に対して公知の化学蒸着法ＣＶＤを用い、且つ第２層に対して中温度のＣＶＤであるＭＴＣＶＤ法を用い、この方法においてアセトニトリルが７００〜９００℃で炭素と窒素との供給源とした第１最内層領域、
主にＡｌ２Ｏ３から成る第２層領域、及び
個々の厚みが＞０．１５〜０．８μｍであり且つ合計厚みが＞０．６〜２．０μｍであるＴｉＣｘＮｙ（ｘ＋≦１）の１層または複数層と、引き続いて＞０．１〜０．４μｍの厚みのＡｌ２Ｏ３の層と、含んでいる２．５μｍ未満の薄い最外層領域、
で被覆され、且つ
前記被膜の合計厚みが２．０〜１２μｍの範囲にある、
ことを特徴とする鋼旋削用の切削工具インサートの製造方法。
【請求項２１】
前記ボディは、７〜１１．５wt％のＣｏと、０．２〜２．１wt％の立方晶炭化物と、残部のＷＣとを含み、平均粒径が１．０〜３．０μｍであり、粉末の混合、ボールミル混練、スプレー乾燥、何らかの加圧成形法、その後の従来法による焼結および前処理によって製造されたＷＣ−Ｃｏ基超硬合金を含んで成ることを特徴とする請求項２０記載の切削工具インサートの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月31日(2008.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
刃物と、該刃物を駆動させる電動機と、該電動機を収納するハウジングと、開口部及び底面を有するベースとを備え、前記刃物は前記開口部を介して前記ベース底面よりも下方に突出し、相手材上面で前記ベース底面を摺動させながら切削作業が可能な電動工具において、
少なくとも前記ベースの底面にフッ素を含有した樹脂を塗装したことを特徴とする電動工具。
【請求項２】
前記ベースの切断方向前方端面と前記ベース底面とを傾斜面もしくは曲面で連結したことを特徴とする請求項１記載の電動工具。
【請求項３】
前記開口部の切断方向後方内周部と前記ベース底面とを傾斜面もしくは曲面で連結したことを特徴とする請求項１あるいは請求項２記載の電動工具。
【請求項４】
前記ベースの切断方向後方端面と前記ベース底面とを傾斜面もしくは曲面で連結したことを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項記載の電動工具。
【請求項５】
前記ベースに接続され、前記ベース側面と対面するガイド面を有するガイド部材についても少なくとも前記ガイド面にフッ素を含有した樹脂を塗布したことを特徴とする請求項１記載の電動工具。
【請求項６】
前記樹脂は少なくとも前記ベースの底面から前記切断方向前方端面にかけて塗装されていることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１項記載の電動工具。
【請求項７】
前記樹脂は少なくとも前記ベースの底面から前記切断方向後方内周部にかけて塗布されていることを特徴とする請求項３記載の電動工具。
【請求項８】
前記樹脂は少なくとも前記ベースの底面から前記切断方向後方端面にかけて塗布されていることを特徴とする請求項４記載の電動工具。
【請求項９】
前記樹脂を塗装後に前記ベースの素材の融点よりも低い温度にて前記ベースを焼成したことを特徴とする請求項１〜請求項８のいずれか１項記載の電動工具。
【請求項１０】
前記樹脂の塗装は、前記ベースの型成形後に少なくとも前記ベース底面を粗し処理した後に行うことを特徴とする請求項１〜請求項９のいずれか１項記載の電動工具。
【請求項１１】
前記ベースに設けられたネジ穴を介して前記ベースを吊るした状態で前記ベースのほぼ全体に前記樹脂が塗装されることを特徴とする請求項１〜請求項１０のいずれか１項記載の電動工具。
【請求項１２】
刃物と、該刃物を駆動させる電動機と、該電動機を収納するハウジングと、開口部及び底面を有するベースとを備え、前記刃物は前記開口部を介して前記ベース底面よりも下方に突出し、相手材上面で前記ベース底面を摺動させながら切削作業が可能な電動工具において、
前記ベースの切断方向前方端面と前記ベース底面とを傾斜面もしくは曲面で連結し、
前記ベースの底面及び前記傾斜面もしくは前記曲面にフッ素を含有した樹脂を塗装し、前記ベース底面に塗装された前記樹脂は、前記ベース底面の塗装箇所により塗装量が異なることを特徴とする電動工具。
【請求項１３】
前記樹脂は、前記ベース底面の外周部にのみ塗装されていることを特徴とする請求項１２記載の電動工具。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月11日(2008.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通水性ろ過体を用い、ろ過体表面に汚泥のダイナミックろ過層を形成し、ろ過水を得る汚水処理の固液分離方法において、汚水を生物処理を行う生物反応槽に導入した後、該生物反応槽からの汚泥混合液を緩速攪拌して凝集性を高め分散状態にある汚泥フロックを凝集してフロックを大きくする汚泥静置槽に導入し、該汚泥静置槽からの汚泥混合液をろ過体モジュールが浸漬設置されているろ過分離槽の底部または上部に導入し、ろ過水頭圧を一定としてろ過水を得る一方、ろ過分離槽を流出する汚泥混合液を生物反応槽に返送することを特徴とする活性汚泥の固液分離方法。
【請求項２】
前記ろ過体モジュールに対する洗浄は、空洗し、その後に水逆洗することにより行われ、該空洗では、該ろ過体モジュール下部に設置する散気管と、ろ過モジュール内部に連通する送気管の両方または何れかに送気することにより該ろ過体の空洗を行い、該水逆洗は洗浄水を該ろ過体モジュール上部から該ろ過体モジュール内部に導入するとともに、その水逆洗排水を該ろ過体モジュール下部に連通する排出管を経由して、生物反応槽に排出することを特徴とする請求項１記載の活性汚泥の固液分離方法。
【請求項３】
前記ろ過体モジュールに対する洗浄は、空洗し、その後に水逆洗を行うことによりなされ、該空洗では、該ろ過体モジュール下部に設置する散気管と、ろ過モジュール内部に連通する送気管の両方または何れかに送気することにより該ろ過体の空先を行い、該水逆洗では洗浄水を該ろ過体モジュール上部から該ろ過体モジュール内部に導入して洗浄するとともに、該水逆洗排水を該ろ過体モジュール下部に連通する排出管を経由して、前記汚泥静置槽に排出することを特徴とする請求項１記載の活性汚泥の固液分離方法。
【請求項４】
通水性ろ過体を有し、ろ過体表面に汚泥のダイナミックろ過層を形成し、ろ過水を得る汚水処理の固液分離装置において、汚水を流入させて生物処理を行う生物反応槽と、該生物反応槽からの汚泥混合液を緩速攪拌して凝集性を高め分散状態にある汚泥フロックを凝集してフロックを大きくする汚泥静置槽と、ろ過体モジュールが浸漬設置されていて該汚泥静置槽からの汚泥混合液を底部または上部に導入させるろ過分離槽と、ろ過水頭圧を一定にするための手段と、該ろ過体モジュール上部に水逆洗時に洗浄水をろ過体モジュール内部に導入するための洗浄水導入部を具備し、該ろ過体モジュール下部に水逆洗排水排出管を具備している前記ろ過体モジュールから流出する水逆洗排水を前記汚泥静置槽に返送する手段とを有すること特徴とする活性汚泥の固液分離装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】活性汚泥の固液分離方法及びその装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
（１）通水性ろ過体を用い、ろ過体表面に汚泥のダイナミックろ過層を形成し、ろ過水を得る汚水処理の固液分離方法において、汚水を生物処理を行う生物反応槽に導入した後、該生物反応槽からの汚泥混合液を緩速攪拌して凝集性を高め分散状態にある汚泥フロックを凝集してフロックを大きくする汚泥静置槽に導入し、該汚泥静置槽からの汚泥混合液をろ過体モジュールが浸漬設置されているろ過分離槽の底部または上部に導入し、ろ過水頭圧を一定としてろ過水を得る一方、ろ過分離槽を流出する汚泥混合液を生物反応槽に返送することを特徴とする活性汚泥の固液分離方法。
（２）前記ろ過体モジュールに対する洗浄は、空洗し、その後に水逆洗することにより行われ、該空洗では、該ろ過体モジュール下部に設置する散気管と、ろ過モジュール内部に連通する送気管の両方または何れかに送気することにより該ろ過体の空洗を行い、該水逆洗は洗浄水を該ろ過体モジュール上部から該ろ過体モジュール内部に導入するとともに、その水逆洗排水を該ろ過体モジュール下部に連通する排出管を経由して、生物反応槽に排出することを特徴とする前記（１）記載の活性汚泥の固液分離方法。
（３）前記ろ過体モジュールに対する洗浄は、空洗し、その後に水逆洗を行うことによりなされ、該空洗では、該ろ過体モジュール下部に設置する散気管と、ろ過モジュール内部に連通する送気管の両方または何れかに送気することにより該ろ過体の空先を行い、該水逆洗では洗浄水を該ろ過体モジュール上部から該ろ過体モジュール内部に導入して洗浄するとともに、該水逆洗排水を該ろ過体モジュール下部に連通する排出管を経由して、前記汚泥静置槽に排出することを特徴とする前記（１）記載の活性汚泥の固液分離方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
（４）通水性ろ過体を有し、ろ過体表面に汚泥のダイナミックろ過層を形成し、ろ過水を得る汚水処理の固液分離装置において、汚水を流入させて生物処理を行う生物反応槽と、該生物反応槽からの汚泥混合液を緩速攪拌して凝集性を高め分散状態にある汚泥フロックを凝集してフロックを大きくする汚泥静置槽と、ろ過体モジュールが浸漬設置されていて該汚泥静置槽からの汚泥混合液を底部または上部に導入させるろ過分離槽と、ろ過水頭圧を一定にするための手段と、該ろ過体モジュール上部に水逆洗時に洗浄水をろ過体モジュール内部に導入するための洗浄水導入部を具備し、該ろ過体モジュール下部に水逆洗排水排出管を具備している前記ろ過体モジュールから流出する水逆洗排水を前記汚泥静置槽に返送する手段とを有すること特徴とする活性汚泥の固液分離装置。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年12月26日(2007.12.26)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
特に図１０を参照すると好適形態においてマウスピース50は、剛体材料部分67上に軟質で柔軟な材料部分70を重ね成形(over-moulding)することにより形成されるのが好適である。これらは概略的に、シールド部分および通路形成インサートと称され得る。通路形成インサートは好適には、柔軟材料と完全に係合する一対の上下の垂直フランジ63および64を有している。通路形成インサート67は、舌部押下器55の強化用垂直延伸フランジ56を有するものであり、強化用垂直延伸フランジ56は、湾曲平坦部71と共に舌部押下器55の背骨部を形成する。尚、垂直延伸スペーサ57は軟質で柔軟な材料であって重ね成形体の一部であり、上下の歯への当接部58および59も同様である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月26日(2008.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
一方、金属化合物を構成する軽元素、即ち、酸素、窒素及び炭素の含有量が、化学量論量より少なく、上述した価数で決定される見かけの電荷バランスが崩れているものを不飽和金属化合物という。例えば、モリブデンとケイ素との比が１：２の酸化物の場合、平均組成式がＭｏＳｉ2Ｏ7-a（式中、ａは０＜ａ＜７を満たす正数）であるもの、モリブデンとケイ素との比が１：１の窒化物の場合、平均組成式がＭｏＳｉＮ(10/3)-b（式中、ｂは０＜ｂ＜（１０／３）を満たす正数）であるものが不飽和金属化合物となる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１９】
これらの結果から、この位相シフト膜は、２９０〜３６０ｎｍの波長範囲で反射率が１０％を下回り、欠陥検査で用いられる２６０ｎｍ付近における透過率が５０％を超えており、欠陥検査機による検査が実質的に不可能なものである。欠陥検査工程は、マスク製造において非常に重要な工程であるが、２６０ｎｍより短波長で測定可能な欠陥検査機は、非常に高価であり、実用的なものは実質的に無いと言える現状にあっては、２６０ｎｍ付近における透過率が５０％を超えることは致命的である。従って、この構成の位相シフト膜は、ＡｒＦエキシマレーザー露光用高透過率ハーフトーン位相シフトマスクやＦ2レーザー露光用ハーフトーン位相シフトマスクに適用することは困難である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月23日(2008.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
該イミノ基を有するトリフェニルメタン化合物は、下記一般式（１）で表されることを特徴とする請求項１に記載のトナー。
【化１】
2005128383.tif 000001
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は、各々互いに同一でも異なっていてもよい水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基または、置換もしくは未置換のアリール基を表す。Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9は、各々互いに同一でも異なっていてもよい水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基を表す。Ａ-は、硫酸イオン、硝酸イオン、ほう酸イオン、りん酸イオン、水酸イオン、有機硫酸イオン、有機スルホン酸イオン、有機りん酸イオン、カルボン酸イオン、有機ほう酸イオン、テトラフルオロボレートから選ばれる陰イオンを示す。〕
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【化１】
2005128383.tif 000002
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は、各々互いに同一でも異なっていてもよい水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基または、置換もしくは未置換のアリール基を表す。Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9は、各々互いに同一でも異なっていてもよい水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基を表す。Ａ-は、硫酸イオン、硝酸イオン、ほう酸イオン、りん酸イオン、水酸イオン、有機硫酸イオン、有機スルホン酸イオン、有機りん酸イオン、カルボン酸イオン、有機ほう酸イオン、テトラフルオロボレートから選ばれる陰イオンを示す。〕
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月5日(2008.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被写体に、30GHzから30THzのうちの任意の周波数領域を有する電磁波を照射する工程と、
前記被写体を透過あるいは前記被写体で反射した電磁波を検出する工程と、
検出した電磁波の伝搬状態の変化と、記憶されている物質の物理的特性の情報とを対比し、前記被写体の電磁波照射部分の構成物質の情報を獲得する工程と、
前記獲得された構成物質の情報に対応した色情報を基に前記被写体の電磁波照射部分の色を決定する工程と、
を有することを特徴とするカラー画像取得方法。
【請求項２】
前記色を決定する工程において、前記構成物質の構成比率に対応した色情報を基に前記被写体の電磁波照射部分の色を決定することを特徴とする請求項1に記載のカラー画像取得方法。
【請求項３】
前記被写体の電磁波照射部分の観測点に対応したカラー信号を出力し、カラー画像を呈示する工程を更に有することを特徴とする請求項1または2に記載のカラー画像取得方法。
【請求項４】
被写体に、30GHzから30THzのうちの任意の周波数領域を有する電磁波を照射するための電磁波照射部と、
前記被写体を透過あるいは前記被写体で反射した電磁波を検出するための電磁波検出部と、
物質の物理的特性を記憶しておく物質情報記憶部と、
検出した電磁波の伝搬状態の変化と、前記物質情報記憶部の情報とを対比し、前記被写体の電磁波照射部分の構成物質の情報を獲得する構成物質解析部と、
前記構成物質の情報に対応した色情報を基に前記被写体の電磁波照射部分の色を決定する色再現部と、
を有することを特徴とするカラー撮像装置。
【請求項５】
前記色再現部は、前記構成物質の構成比率に対応した色情報を基に前記被写体の電磁波照射部分の色を決定することを特徴とする請求項4に記載のカラー撮像装置。
【請求項６】
前記被写体の電磁波照射部分の観測点に対応したカラー信号を出力し、カラー画像を呈示する画像呈示部を更に有することを特徴とする請求項4または5に記載のカラー撮像装置。
【請求項７】
顔料及び鉱物を含み構成される物体に、30GHzから30THzのうちの任意の周波数領域を有する電磁波を照射するための照射部と、
前記照射部が照射し、前記物体を透過あるいは前記物体で反射した電磁波を検出するための検出部と、
顔料及び鉱物の物理的特性を記憶するための記憶部と、を有し、
前記検出部が検出した電磁波を用いて、電磁波の伝搬状態の変化を取得し、
前記記憶部が記憶する顔料及び鉱物の物理的特性の情報を用いて、前記伝搬状態の変化から前記物体を構成する顔料及び鉱物の種類あるいは構成比率を取得することを特徴とする装置。
【請求項８】
前記記憶部は、顔料及び鉱物の種類あるいは構成比率に対応する色情報であるカラーデータマップを記憶し、
前記カラーデータマップを用いて、前記物体を構成する顔料及び鉱物の種類あるいは構成比率に対応する色を決定し、前記物体のカラー画像を取得することを特徴とする請求項7に記載の装置。
【請求項９】
前記物理的特性は、前記電磁波の吸収スペクトル、誘電率、位相の変化率、反射率、透過率のうち少なくとも1つであることを特徴とする請求項7あるいは8に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題に鑑み、本発明のカラー画像取得方法は、以下の工程を有することを特徴とする。
（1）被写体に、30GHzから30THzのうちの任意の周波数領域を有する電磁波を照射する工程。
（2）前記被写体を透過あるいは前記被写体で反射した電磁波を検出する工程。
（3）検出した電磁波の伝搬状態の変化と、記憶されている物質の物理的特性の情報とを対比し、前記被写体の電磁波照射部分の構成物質の情報を獲得する工程。
（4）前記獲得された構成物質の情報に対応した色情報を基に前記被写体の電磁波照射部分の色を決定する工程。
前記色を決定する工程においては、前記構成物質の構成比率に対応した色情報を基に前記被写体の電磁波照射部分の色を決定することができる。上記構成により、被写体の電磁波照射部分の色を決定できるが、被写体の電磁波照射部分の観測点に対応したカラー信号を出力し、カラー画像を呈示する工程を更に有することで、被写体の一部または全体のカラー画像を提供できるようになる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、上記課題に鑑み、本発明のカラー撮像装置は、以下の手段を有することを特徴とする。
（1）被写体に、30GHzから30THzのうちの任意の周波数領域を有する電磁波を照射するための電磁波照射部。
（2）前記被写体を透過あるいは前記被写体で反射した電磁波を検出するための電磁波検出部。
（3）物質の物理的特性を記憶しておく物質情報記憶部。
（4）検出した電磁波の伝搬状態の変化と、前記物質情報記憶部の情報とを対比し、前記被写体の電磁波照射部分の構成物質の情報を獲得する構成物質解析部。
（5）前記構成物質の情報に対応した色情報を基に前記被写体の電磁波照射部分の色を決定する色再現部。
前記色再現部は、前記構成物質の構成比率に対応した色情報を基に前記被写体の電磁波照射部分の色を決定することができる。ここでも、上記構成により、被写体の電磁波照射部分の色を決定できるが、被写体の電磁波照射部分の観測点に対応したカラー信号を出力し、カラー画像を呈示する画像呈示部を更に有することで、被写体の一部または全体のカラー画像を提供できるようになる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月20日(2008.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁波を伝播させるための伝送路と、
前記伝送路を伝播する電磁波が分布する領域の少なくとも一部を含む部分に試料を収容するための収容部と、
前記収容部に収容される試料を相変化させるための相変化手段と、を有し、
前記伝送路を伝播した電磁波を用いて、前記相変化手段によって相変化した試料の情報を得ることを特徴とするセンシング装置。
【請求項２】
前記電磁波が、30GHzから30THzの周波数領域のうち少なくとも一部を含むことを特徴とする請求項１に記載のセンシング装置。
【請求項３】
前記収容部は、該収容部の内部を試料が移動することのできる流路であり、且つ前記伝送路を伝播する電磁波が分布する領域の少なくとも一部を通過するように設置されることを特徴とする請求項１または２記載のセンシング装置。
【請求項４】
前記相変化手段は、前記収容部に収容された試料の温度と試料への圧力とのうち少なくとも一方を変化させる手段であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のセンシング装置。
【請求項５】
前記相変化手段は、前記収容部に収容された試料が液化もしくは凝固する温度以下に冷却するのに十分な冷却能力を持つ冷却手段と前記収容部に収容される試料が融解もしくは気化する温度以上に加熱するのに十分な加熱能力を持つ加熱手段とのうち少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか1項に記載のセンシング装置。
【請求項６】
前記冷却手段と前記加熱手段とをどちらとも有し、前記相変化手段によって相変化した試料の情報を得た後、該相変化手段が該試料の相を変化させる前の相に変化させてから該試料を前記収容部の外に排出するように制御されることを特徴とする請求項５に記載のセンシング装置。
【請求項７】
前記冷却手段と前記加熱手段をそれぞれ複数有し、前記収容部に収容された試料の温度を、試料が凝固する温度および試料が融解する温度を跨ぐ範囲内で制御でき、かつ前記収容部内の試料を場所によって異なる温度に制御できることを特徴とする請求項５または６記載に記載のセンシング装置。
【請求項８】
前記相変化手段は、前記伝送路の近傍に設置されているか、該伝送路に接するように設置されているか、もしくは該伝送路に対して良熱伝導物質を介して設置されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のセンシング装置。
【請求項９】
前記伝送路は、当該装置に着脱可能に設置される請求項１または２記載のセンシング装置。
【請求項１０】
電磁波を伝播させるための伝送路を伝播する電磁波が分布する領域の少なくとも一部を含む部分に試料を収容して、前記伝送路を伝播した電磁波を用いて、相変化手段によって相変化した試料の情報を得ることを特徴とするセンシング方法。
【請求項１１】
テラヘルツ波を発生させるための発生手段と、
前記発生手段が発生したテラヘルツ波を伝播させるための伝送路と、
前記伝送路を伝播したテラヘルツ波を検出するための検出手段と、
テラヘルツ波が前記検出手段に到達するタイミングを遅延するための時間遅延器と、
前記伝送路を伝播するテラヘルツ波が分布する領域の少なくとも一部を含む部分に試料を収容するための収容部と、
試料を相変化させるための相変化手段と、を有し、
前記伝送路を伝播する電磁波と前記相変化手段によって相変化した試料とが相互作用するように、前記収容部と前記相変化手段とが設置されることを特徴とするセンシング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題に鑑み、本発明のセンシング装置は、電磁波を伝播させるための伝送路と、前記伝送路を伝播する電磁波が分布する領域の少なくとも一部を含む部分に試料を収容するための収容部を有する。そして、更に、前記収容部に収容される試料を相変化させるための相変化手段を有することで、前記伝送路を伝播した電磁波を用いて、前記相変化手段によって相変化した試料の情報を得る。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、上記課題に鑑み、本発明のセンシング方法は、電磁波を伝播させるための伝送路を伝播する電磁波が分布する領域の少なくとも一部を含む部分に試料を収容して、前記伝送路を伝播した電磁波を用いて、相変化手段によって相変化した試料の情報を得ることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
一実施形態では、テラヘルツ波を導波する伝送路の内部（例えば、導波路のコア、金属導波管の内部、伝送線路の接地線と信号線に挟まれた誘電体部分など）に、流体を導入できる収容部である流路を持つ。このとき、テラヘルツ波を導波する伝送路と流体を導入できる流路はほぼ一致していても良く、また一致していなくても良い。伝送路と流路が一致していない場合は、流路は、伝送路中における電磁波が強く分布している領域を通るよう設置されている。このように、流路は、伝送路を伝播する電磁波が分布する領域（好ましくは、強く分布する領域）の少なくとも一部を通過する態様で形成される必要がある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
次に、本実施例における計測の一例を、図3を用いて具体的に述べる。図3は、本実施例によって得られるテラヘルツ波のスペクトルを模式的に表したものである。まず、図1に示す導波管10の中空部分に試料を導入していない状態で、導波管10を透過するテラヘルツ波の波形を記録し、フーリエ変換してパワースペクトル30を求める（図3（a））。次に、試料を図1の導波管10の内部に導入して氷結させた上で、導波管10を透過したテラヘルツ波の波形を記録し、フーリエ変換したパワースペクトル31を求める（図3（b））。パワースペクトル31と30の比を求めることで、氷結した状態における試料のテラヘルツ波に対する吸収スペクトル32が求められる（図3（c））。こうして、複素屈折率が求まる。求めた複素屈折率から流体試料の計測・感知・分析などができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月21日(2008.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ファイバ束の各光ファイバの光透過具合を濃度に対応させて示した光ファイバ束の端面の画像情報を格納する画像メモリと、
前記画像メモリからの前記画像情報から光ファイバの総数を計測する画像処理手段とを備えた光ファイバ束検査装置において、
前記画像処理手段は、前記濃度に対応するしきい値を順次変化させることによって前記濃度の全範囲を複数の区分に分ける濃度範囲区分手段と、
各濃度区分内にある光ファイバの数を算出する算出手段とを備えることを特徴とする光ファイバ束検査装置。
【請求項２】
ディスプレィを有し、
光ファイバ束の各光ファイバの光透過具合を濃度に対応させて示した光ファィバ束の端面の画像情報を格納する画像メモリと、
前記画像メモリからの前記画像情報から、前記光ファイバ束の端面を各光ファイバを個別に識別できる光ファイバ束表示と前記各光ファイバのそれぞれに対応する各ファイバ表示を濃度に応じて表示させるグラフ表示とを前記ディスプレィ上にて行う画像処理手段とを備え、
前記画像処理手段は、前記ディスプレィ上で前記グラフ表示のファイバ表示を選択するファイバ表示選択手段と、選択されたファイバ表示に対応する前記光ファイバ束内の光ファイバを他の光ファイバと区別できる表示を行う光ファイバ特定手段とを備えることを特徴とする光ファイバ束検査装置。
【請求項３】
前記グラフ表示は、一の方向に各ファイバ表示を並設させて表示させ、これら各ファイバ表示は前記一の方向と交叉する方向にその濃度に対応した位置に配置されて表示されていることを特徴とする請求項２に記載の光ファイバ束検査装置。
【請求項４】
ディスプレィを有し、
光ファイバ束の各光ファイバの光透過具合を濃度に対応させて示した光ファイバ束の端面の画像情報を格納する画像メモリと、
前記画像メモリからの前記画像情報から前記光ファィバ束の端面を各光ファイバを個別に識別できる光ファイバ束表示を前記ディスプレィ上にて行う画像処理手段とを備え、
前記画像処理手段は、前記濃度の範囲内において該濃度に対応する少なくとも２個の数値の入力にともない、前記画像メモリからの前記画像情報の各光ファイバの濃度のうち前記２個の数値の範囲内のものを選択し、かつ、選択された各光ファィバを前記光ファイバ束表示上において他の光ファイバと区別できる表示を行う表示手段を備えることを特徴とする光ファイバ束検査装置。
【請求項５】
前記濃度の範囲内において該濃度に対応する少なくとも２個の数値の入力は、前記ディスプレィ上にて表示されている数値設定欄によって行うことを特徴とする請求項４に記載の光ファイバ束検査装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
（１）本発明による光ファイバ束検査装置は、たとえば、光ファイバ束の各光ファイバの光透過具合を濃度に対応させて示した光ファイバ束の端面の画像情報を格納する画像メモリと、
前記画像メモリからの前記画像情報から光ファイバの総数を計測する画像処理手段とを備えた光ファイバ束検査装置において、
前記画像処理手段は、前記濃度に対応するしきい値を順次変化させることによって前記濃度の全範囲を複数の区分に分ける濃度範囲区分手段と、
各濃度区分内にある光ファイバの数を算出する算出手段とを備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月14日(2008.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上面に形成された凹部の少なくとも一部を覆うように被覆された絶縁膜に発熱素子と測温素子からなる流量検出部が形成されたセンサチップと、該センサチップ上に設けられ前記流量検出部を流れる流体の流路が形成された流路形成部材とを備えたフローセンサであって、
前記流路の流体の流れる方向と直交する方向の断面形状を、前記発熱素子からの熱が実質的に有効に作用する領域の外側近傍において略アーチ形に形成された断面形状としたことを特徴とするフローセンサ。
【請求項２】
前記流路の断面形状は前記発熱素子の発熱の等温面に沿うように形成されていることを特徴とする、請求項１に記載のフローセンサ。
【請求項３】
前記流路形成部材は透明部材で形成されており、前記流路は少なくとも前記流量検出部と対向する上面が平らに形成されていることを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載のフローセンサ。
【請求項４】
前記流路形成部材は透明部材で形成されており、前記流路の上方の外側面が凸レンズ状に形成されていることを特徴とする、請求項１乃至請求項３の何れかに記載のフローセンサ。
【請求項５】
前記基板はシリコンで形成され、前記流路形成部材はガラスで形成されていることを特徴とする、請求項１乃至請求項４の何れかに記載のフローセンサ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の目的は、流路形成部材の流路の流体の流れる方向と直交する方向の断面積を小さくして流量検出部の感度を低下させることなく微少流量域の測定を可能とするフローセンサを提供することにある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上述した課題を解決するために、本発明に係るフローセンサは、基板の上面に形成された凹部の少なくとも一部を覆うように被覆された絶縁膜に発熱素子と測温素子からなる流量検出部が形成されたセンサチップと、該センサチップ上に設けられ前記流量検出部を流れる流体の流路が形成された流路形成部材とを備えたフローセンサであって、前記流路の前記流体の流れる方向と直交する方向の断面形状を、前記発熱素子からの熱が実質的に有効に作用する領域の外側近傍において略アーチ形に形成された断面形状としたことを特徴としている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
流体の流れる方向と直交する方向の断面内における発熱素子の熱温度分布は、略アーチ形状の等温面をなして分布している。そのため、流路の流体の流れる方向と直交する方向の断面形状を略アーチ形に形成することで、発熱素子により形成される熱温度分布の形状に略沿わせることができる。これにより、流路の流体の流れる方向と直交する方向の断面積のデッドスペースをなくして流路断面積を小さくすることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明の請求項２に記載のフローセンサは、請求項１において、前記流路の断面形状は前記発熱素子の発熱の等温面に沿うように形成されていることを特徴としている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
発熱素子により形成される熱の温度分布は、当該発熱素子から等温面をなして分布しており、流路の流体の流れる方向と直交する方向の断面形状を発熱素子の発熱の等温面に沿うような断面形状としてデッドスペースを無くし、流路の断面積を小さくしている。これにより、流路内を流れる流体の流速を大きくすることが可能となり、微少な流量の測定が可能となる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本発明の請求項３に記載のフローセンサは、請求項１又は請求項２において、前記流路形成部材は透明部材で形成されており、前記流路は少なくとも前記流量検出部と対向する上面が平らに形成されていることを特徴としている。