【手続補正書】
【提出日】平成19年12月28日(2007.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板における被露光面の複数の露光ショットに原版パターンを投影光学系を介して投影する露光装置において、
基板に形成されたアライメントマークの位置を検出するアライメント検出器と、アライメントマーク近傍面と前記基板の被露光基準面の傾斜差分値を測定する手段と、前記傾斜差分値より前記アライメントマークの位置の計測値を補正する手段とを具備することを特徴とする露光装置。
【請求項２】  前記露光装置において、
前記アライメントマーク露光形成時の前記アライメントマーク近傍面と前記被露光基準面と傾斜差分の履歴値を保持または保存する手段と、
前記傾斜差分値と前記履歴値との差分より前記アライメントマークの位置の計測値を補正する手段とを具備することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】  前記露光装置は、前記アライメント検出器の検出結果に基づいて全露光ショットの位置を推定して前記露光ショットを前記投影光学系の露光画角に位置決めするアライメント手段をさらに有することを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】  前記アライメントマーク近傍面と前記基板の被露光基準面の傾斜差分値を測定する手段は、前記アライメント検出器に設けられていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】  前記露光装置は、当該露光に関するアライメントマーク近傍面と前記基板の被露光基準面の傾斜差分値を測定し、履歴値として前記記憶手段に保存することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】  前記記憶手段は、露光プロセスに必要な情報ファイルであるジョブファイルのパラメータとして、少なくとも前記傾斜差分の履歴値を保持または保存することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】  前記被露光基準面の傾斜面は、グローバルチルト面であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】  基板被露光面の複数の露光ショットに原版パターンを投影光学系を介して投影する露光装置において、
前記基板被露光面に形成されたアライメントマークの位置を検出する第１の検出器と、該アライメントマークの近傍面の高さと傾きを計測する第２の検出器とを備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項９】  前記第２の検出器の計測値に基づいて、前記第１の検出器の計測値の補正を行うことを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
【請求項１０】  前記アライメントマーク露光形成時の前記アライメントマーク近傍面と前記被露光基準面の履歴値を保持または保存する記憶手段と、前記アライメントマーク近傍面と前記基板の被露光基準面の傾斜差分値を求める手段とを備え、該傾斜差分値と該履歴値との差分に基づいて前記アライメントマークの位置の計測値を補正することを特徴とする請求項８または９に記載の露光装置。
【請求項１１】  基板被露光面の別パターンが転写された複数の露光ショットに原版パターンを投影光学系を介して投影する露光装置において、
前記被露光基準面に対する全露光ショットの高さおよび傾きである当該ショットフォーカス値を測定して前記投影光学系の前記原版パターン像面と一致させるフォーカス手段と、前記別パターンの転写露光時の被露光基準面に対する高さおよび傾きである別パターンフォーカス値の履歴値の差分から前記露光ショット位置を補正する手段と、次回の露光プロセスのアライメントに使用する前記複数の露光ショットの一部のサンプルショットの露光ショット位置の補正量を履歴値として保持または保存し、次回の露光プロセスのアライメント時に前記履歴値をオフセットとして反映する手段とを具備することを特徴とする露光装置。
【請求項１２】  前記記憶手段は、露光プロセスに必要な情報ファイルであるジョブファイルのパラメータとして、少なくとも前記２つの履歴値を保持または保存することを特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
【請求項１３】  前記複数の露光ショットの一部のサンプルショットに形成されたアライメントマーク位置を検出するアライメント検出器と、該アライメント検出器の検出結果に基づいて全露光ショットの位置を推定して前記露光ショットを前記投影光学系の露光画角に位置決めするアライメント手段と、前記アライメントマーク近傍面と前記基板の被露光基準面の傾斜差分値を測定する手段と、前記アライメントマーク露光形成時のアライメントマーク近傍面と前記被露光基準面の傾斜差分の履歴値を保持または保存する記憶手段と、前記全露光ショットの位置推定に先立って前記傾斜差分値と前記傾斜差分の履歴値との差分から前記アライメント位置の計測値を補正する手段をさらに具備することを特徴とする請求項１１または１２に記載の露光装置。
【請求項１４】  前記アライメントマーク近傍面と前記基板の被露光基準面の傾斜差分値を測定する手段は、前記アライメント検出器に設けられていることを特徴とする請求項１３に記載の露光装置。
【請求項１５】  基板被露光面の複数の露光ショットに原版パターンを投影光学系を介して投影する露光装置において、
前記複数の露光ショットの一部のサンプルショットに形成されたアライメントマーク位置を検出するアライメント検出器と、前記アライメントマーク近傍面の傾斜を測定する手段とを備え、前記基板の最初の層の露光時に露光ショットの位置を補正することを特徴とする露光装置。
【請求項１６】  請求項１〜１５のいずれか１項に記載の露光装置において、ディスプレイと、ネットワークインタフェースと、ネットワーク用ソフトウェアを実行するコンピュータとをさらに有し、露光装置の保守情報をコンピュータネットワークを介してデータ通信することを可能にすることを特徴とする露光装置。
【請求項１７】請求項１〜１５のいずれか１項に記載の露光装置を用いてウエハを露光する工程と、前記露光されたウエハを処理する工程とを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
さらに、本発明の露光装置は、基板被露光面の複数の露光ショットに原版パターンを投影光学系を介して投影する露光装置において、前記基板被露光面に形成されたアライメントマークの位置を検出する第１の検出器と、該アライメントマークの近傍面の高さと傾きを計測する第２の検出器とを備えたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
さらに本発明の露光装置は、基板被露光面の別パターンが転写された複数の露光ショットに原版パターンを投影光学系を介して投影する露光装置において、前記被露光基準面に対する全露光ショットの高さおよび傾きである当該ショットフォーカス値を測定して前記投影光学系の前記原版パターン像面と一致させるフォーカス手段と、前記別パターンの転写露光時の被露光基準面に対する高さおよび傾きである別パターンフォーカス値の履歴値の差分から前記露光ショット位置を補正する手段と、次回の露光プロセスのアライメントに使用する前記複数の露光ショットの一部のサンプルショットの露光ショット位置の補正量を履歴値として保持または保存し、次回の露光プロセスのアライメント時に前記履歴値をオフセットとして反映する手段とを具備することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
さらに、本発明の露光装置は、基板被露光面の複数の露光ショットに原版パターンを投影光学系を介して投影する露光装置において、前記複数の露光ショットの一部のサンプルショットに形成されたアライメントマーク位置を検出するアライメントマーク検出器と、前記アライメントマーク近傍面の傾斜を測定する手段とを備え、前記基板の最初の層の露光時に露光ショットの位置を補正することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
露光フォーカス検出器８は、光束を放射する投光系８ａとウエハ６からの反射光の一情報を検出する受光系８ｂとから構成され、ウエハ６の被露光面の面高さや傾き（ショットフォーカス値）を検出する。走査露光時（転写露光時）には、このフォーカス検出器８の検出情報を基に、ウエハステージ７がウエハ６の被露光面をパターン像面と一致するようフォーカス制御を行なう。この時、レチクルステージ４とウエハステージ７は、投影光学系５に対し同期走行し、同時にウエハ６がスリット光により露光され、ウエハ６上のフォトレジスト層にパターンが転写される。また、アライメント検出器９（図３にて後述）は、ウエハ６の複数の露光ショットの一部のサンプルショットに形成されたアライメントマーク６ａの位置を検出し、ウエハステージ７の移動により複数のサンプルショットの位置を計測し、グローバルアライメントによりウエハ６を位置決めする。