Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月1日(2008.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
当該エンジンは後傾エンジンであり、前記アクチュエータは、当該エンジンの前側における前記出力軸と同等の高さに配設されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１つに記載のストローク特性可変エンジン。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
このようなストローク特性可変エンジンは、ピストンのストローク特性を変化させるためのリンク機構が複雑な上にコントロールシャフトを駆動するアクチュエータを要するため、特にクランクシャフトの軸端から見た幅寸法が在来のエンジンに比して大きくなりがちである。そのため、エンジンの出力を車輪に伝達する出力軸との干渉を避けてエンジンを搭載する都合上、エンジンルームが大型化してしまい、特にクランクシャフトを車幅方向に置く横置きエンジンのＦＦ車（フロントエンジン／フロントドライブ）の場合は、前輪を駆動するハーフシャフトとの干渉を避けてエンジンを搭載する都合上、エンジンルームのコンパクト化が困難であった。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月18日(2008.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
内燃機関の運転状態を監視する各種入力センサの動作状態と、プログラムメモリに格納された制御プログラムの内容とに応動して、前記内燃機関の運転駆動用の各種電気負荷を駆動制御するマイクロプロセッサを備えたエンジン制御装置であって、前記各種入力センサは複数個の排気ガスセンサを包含し、当該排気ガスセンサのそれぞれは一対の正端子と負端子間に接続された等価電圧源と等価内部抵抗を有し、所定の活性化温度において理論空燃比を境とし前記等価電圧源の発生電圧Ｖsが最小値Ｖ0から最大値Ｖmとの間で変化するものであり、前記複数の排気ガスセンサの各負端子にはオフセット電圧発生回路が発生する所定のオフセット電圧Ｖ1が印加され、当該負端子とグランド回路間の電圧である負端子電位は多チャンネルＡＤ変換器を介してデジタル変換されて、前記マイクロプロセッサを介して演算処理用のＲＡＭメモリに格納され、前記複数の排気ガスセンサの各正端子にはグランド回路に接続される高抵抗のプルダウン抵抗と、電源回路に接続される高抵抗のプルアップ抵抗の少なくとも一方、又は所定のバイアス電位を付与する高抵抗のバイアス抵抗が接続され、当該正端子とグランド回路間の電圧である正端子電位は多チャンネルＡＤ変換器を介してそれぞれ個別にデジタル変換されて、前記マイクロプロセッサを介して演算処理用の前記ＲＡＭメモリに格納され、前記プログラムメモリは少なくとも第一・第二の異常診断手段となるプログラムと正端異常判定回避手段となるプログラムを包含し、前記第一の異常診断手段は前記負端子電位のデジタル変換値Ｄ1が前記オフセット電圧Ｖ1に比例した値を基準にして、過大又は過小であることによって負端子配線が電源線と混触した天絡異常又は負端子配線がグランド線と混触した地絡異常であると判定する手段であり、前記第二の異常診断手段は前記正端子電位のデジタル変換値Ｄ2が前記オフセット電圧Ｖ1と最大検出電圧Ｖmとの加算値Ｖ1＋Ｖmに比例した値を基準にして過大であるか、又は前記オフセット電圧Ｖ1に比例した値を基準として過小であることによって正端子配線が電源線と混触した天絡異常又は正端子配線がグランド線と混触した地絡異常であると判定し、断線異常が発生すると前記地絡異常又は天絡異常として判定する手段であり、前記マイクロプロセッサは前記正端子電位のデジタル変換値Ｄ2と負端子電位のデジタル変換値Ｄ1との差分演算によって前記排気ガスセンサの発生電圧Ｖsに比例したデジタル変換値を得ると共に、前記第一・第二の異常診断手段による診断結果に応動した異常報知を行なうものであり、前記正端異常判定回避手段は前記第一の異常診断手段が少なくとも負端子配線の地絡異常を検出しているときには、前記第二の異常診断手段による正端子配線の地絡異常判定を行なわないようにして、前記マイクロプロセッサの差分演算を有効とみなす手段であることを特徴とするエンジン制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
前記複数の排気ガスセンサの各負端子にはオフセット電圧発生回路が発生する所定のオフセット電圧Ｖ1が印加され、当該負端子とグランド回路間の電圧である負端子電位は多チャンネルＡＤ変換器を介してデジタル変換されて、前記マイクロプロセッサを介して演算処理用のＲＡＭメモリに格納されるようになっている。
前記複数の排気ガスセンサの各正端子にはグランド回路に接続される高抵抗のプルダウン抵抗と、電源回路に接続される高抵抗のプルアップ抵抗の少なくとも一方、又は所定のバイアス電位を付与する高抵抗のバイアス抵抗が接続され、当該正端子とグランド回路間の電圧である正端子電位は多チャンネルＡＤ変換器を介してそれぞれ個別にデジタル変換されて、前記マイクロプロセッサを介して演算処理用の前記ＲＡＭメモリに格納されるようになっている。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月10日(2008.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
桟橋架設工事において橋脚を構築するために行われる掘削の方法であって、
上部構造の橋面まで到達する長さの孔壁保護用ケーシングを用いて掘削装置で地盤を掘削し、前記ケーシングの内空部を排土経路として掘削ずりを排出し、前記排土経路を介して排出された前記掘削ずりを回収することを特徴とする掘削方法。
【請求項２】
桟橋の上部構造の一単位を成すユニット状の桟橋パネルの延設と、橋脚を成す管状の杭材の打設とを繰り返すことによって桟橋を架設する桟橋施工に用いられる排土処理装置であって、
前記杭材の打設に伴って排出される掘削ずりを収容するとともに送出可能に構成された掘削ずり回収器と、
前記掘削ずり回収器から送出される掘削ずりを搬送するためのコンベアと、
を有することを特徴とする排土処理装置。
【請求項３】
桟橋の上部構造の一単位を成すユニット状の桟橋パネルの延設と、橋脚を成す管状の杭材の打設とを繰り返すことによって桟橋を架設する桟橋施工で用いられる掘削・排土処理システムであって、
地盤を掘削しつつ同時に前記杭材の打設を行うための掘削装置と、請求項２記載の排土処理装置とから構成されており、
前記掘削装置は、掘削のための駆動力を与える駆動装置と；掘削時において前記杭材の内空部に挿入されるようになっており、前記駆動装置に連結された掘削軸部材と；掘削の際に前記杭材の上部から排出される掘削ずりの飛散を防止するための飛散防止カバーと；を有しており、
地盤掘削の際、前記杭材の内空部に挿入した掘削軸部材の先端で地盤を掘削し、同時に該杭材の内空部を排土経路として掘削ずりを送出し、杭材上部から排出される掘削ずりを飛散防止カバーで飛散防止しながら下方へ落下させ、落下してきた前記掘削ずりを前記排土処理装置の掘削ずり回収器内に落とし込んで排土処理するように構成されている
ことを特徴とする掘削・排土処理システム。
【請求項４】
桟橋の上部構造の一単位を成すユニット状の桟橋パネルの延設と、橋脚を成す管状の杭材の打設とを繰り返すことによって桟橋を架設する桟橋架設方法であって、
桟橋完成部分の既設桟橋パネルに対して新たな桟橋パネルを連結して、前記桟橋完成部分から張り出すように該新たな桟橋パネルを延設する工程と、
延設済み若しくは延設予定の桟橋パネル又は前記桟橋完成部分に請求項２記載の排土処理装置を取り付ける工程と、
橋脚を成す管状の杭材を、延設した前記桟橋パネルのガイド部材を介して、杭打設予定位置の地盤上に建て込む工程と、
掘削装置の掘削軸部材を前記杭材の内空部に挿入する工程と、
挿入した前記掘削軸部材の先端で地盤を掘削しつつ同時に前記杭材の打設を行う工程と、
打設した前記杭材と延設した前記桟橋パネルとを連結する工程と、を含んでおり、
前記掘削・打設工程において、
地盤掘削の間、前記杭材の内空部を排土経路として掘削ずりを送出し、
前記排土経路を介して杭材上部から排出される掘削ずりを、前記排土処理装置の掘削ずり回収器内に落とし込み、
該掘削ずり回収器から送出される掘削ずりをコンベアを利用して搬送することにより、該掘削ずりを予め決められた箇所に集積するようになっており、
上記工程を繰り返すことによって桟橋を架設することを特徴とする桟橋架設方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月24日(2008.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マグネシウム金属および／またはマグネシウム合金製温間塑性加工材料の温間塑性加工特性を向上させる表面処理方法であって、該材料の表面を機械的表面研削処理または酸洗浄処理する事を特徴とする表面処理方法。
【請求項２】
前記塑性加工がプレス加工である請求項１に記載の表面処理方法。
【請求項３】
表面処理が機械的表面研削処理である請求項１または２に記載の表面処理方法。
【請求項４】
表面処理が酸洗浄処理である請求項１または２に記載の表面処理方法。
【請求項５】
酸洗浄処理が、０．０１〜１０重量％の酸を含有する酸水溶液で前記材料表面を洗浄するものである請求項１、２または４に記載の表面処理方法。
【請求項６】
酸洗浄処理の洗浄温度が−５℃〜７０℃であることを特徴とする請求項１、２、４または５に記載の表面処理方法。
【請求項７】
酸洗浄処理が材料に処理液を噴霧する方法又は材料を処理液に浸漬する方法によるものである請求項１、２、４、５または６に記載の表面処理方法。
【請求項８】
酸洗浄処理時に、さらに、超音波処理、バブリング処理及び撹拌処理からなる群から選択される少なくとも１種の処理を併用することを特徴とする請求項１、２、４〜７のいずれかに記載の表面処理方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の表面処理方法により表面処理されたマグネシウム金属および／またはマグネシウム合金製温間塑性加工材料。
【請求項１０】
請求項９に記載の材料を塑性加工して得られるマグネシウム金属および／またはマグネシウム合金製の塑性加工品。
【請求項１１】
酸を含有してなるマグネシウム金属および／またはマグネシウム合金製材料の温間塑性加工特性向上剤。
【請求項１２】
前記塑性加工がプレス加工である請求項１１に記載の温間塑性加工特性向上剤。
【請求項１３】
酸含有量が０．０１〜１０重量％である請求項１１または１２に記載の温間塑性加工特性向上剤。
【請求項１４】
酸が硝酸、塩酸、硫酸、塩素酸、過塩素酸、クエン酸、マロン酸、蓚酸、アスコルビン酸、プロピオン酸、蟻酸及び酢酸からなる群から選択される少なくとも１種の酸である請求項１１〜１３のいずれかに記載の温間塑性加工特性向上剤。
【請求項１５】
マグネシウム金属および／またはマグネシウム合金製温間塑性加工材料の表面を機械的表面研削処理または酸洗浄処理することを特徴とする、温間塑性加工用機械へ付着する付着物を低減する方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の方法により処理されたマグネシウム金属および／またはマグネシウム合金製温間塑性加工材料。
【請求項１７】
請求項１６に記載の材料を塑性加工して得られるマグネシウム金属および／またはマグネシウム合金製の塑性加工品。
【請求項１８】
マグネシウム金属および／またはマグネシウム合金製温間塑性加工材料の表面を機械的表面研削処理または酸洗浄処理することを特徴とする、前記材料の温間塑性加工特性を向上させる方法。
【請求項１９】
請求項１８に記載の方法により処理されたマグネシウム金属および／またはマグネシウム合金製温間塑性加工材料。
【請求項２０】
請求項１９に記載の材料を塑性加工して得られるマグネシウム金属および／またはマグネシウム合金製の塑性加工品。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月30日(2008.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクリル酸および／またはその塩を主成分とするモノマーを重合させて吸水性を有する重合ゲルを得る工程と、
吸水性樹脂の製造において得られ重量平均粒子径が１０〜１５０μｍの範囲内である微粉に、熱分解型ラジカル重合開始剤、酸化剤および還元剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の添加剤を含む水性液を添加することにより、造粒されたゲルを得る工程と、
前記造粒されたゲルと前記重合ゲルとを共存させて乾燥する工程とを含む吸水性樹脂の製造方法。
【請求項２】
前記水性液は、微粉に添加される前に予め加熱される請求項１に記載の吸水性樹脂の製造方法。
【請求項３】
前記添加剤は、過硫酸塩を含む請求項１又は２に記載の吸水性樹脂の製造方法。
【請求項４】
前記造粒されたゲルと前記重合ゲルとを共存させて乾燥する工程において、造粒されたゲルの固形分率Ａ（％）と重合ゲルの固形分率Ｂ（％）との比（Ａ／Ｂ）が、１／３以上３以下となっている請求項１から３のいずれかに記載の吸水性樹脂の製造方法。
【請求項５】
前記造粒されたゲルと前記重合ゲルとを共存させて乾燥する工程において、造粒されたゲル中の固形分量が重合ゲル中の固形分量に対して４０重量％以下となるようにする、請求項１から４までのいずれかに記載の吸水性樹脂の製造方法。
【請求項６】
吸水性を有する重合ゲルと、造粒されたゲルとを含む吸水性樹脂であって、前記造粒されたゲルは、重量平均粒子径が１０〜１５０μｍの範囲内である微粉からなり、前記造粒
されたゲルの固形分率Ａ（％）と重合ゲルの固形分率Ｂ（％）との比（Ａ／Ｂ）が、１／３以上３以下であり、残存モノマーが０以上５００ｐｐｍ以下である吸水性樹脂。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月25日(2008.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
腰掛便器の上部に設けられる本体と、
前記本体に付設された便座と、
前記本体から進出可能に設けられ人体洗浄のための水を噴出する人体洗浄吐水口を有する吐水部と、
前記本体から進出可能に設けられ前記吐水部を洗浄するノズル洗浄室と、
前記便座への使用者の着座を検知する着座センサと、
を有し、
前記着座センサによる使用者の着座の検知に対応して、前記ノズル洗浄室が前記本体から進出することを特徴とする衛生洗浄便座装置。
【請求項２】
前記着座センサによる使用者の着座の検知に対応して、前記ノズル洗浄室が前記本体から進出し、さらに前記吐水部の少なくとも一部を前記ノズル洗浄室の中で洗浄することを特徴とする請求項１記載の衛生洗浄便座装置。
【請求項３】
前記人体洗浄吐水口から水を噴出することにより前記吐水部の少なくとも一部を前記ノズル洗浄室の中で洗浄することを特徴とする請求項２記載の衛生洗浄便座装置。
【請求項４】
前記ノズル洗浄室が前記本体から進出した後に、使用者が人体洗浄を指令するまでの間、前記ノズル洗浄室は、前記本体から進出した状態で待機することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の衛生洗浄便座装置。
【請求項５】
前記吐水部の少なくとも一部を前記ノズル洗浄室の中で洗浄した後に、前記ノズル洗浄室は前記本体の中へ後退することを特徴とする請求項２または３に記載の衛生洗浄便座装置。
【請求項６】
前記ノズル洗浄室は、前記吐水部を洗浄する洗浄水を噴出するノズル洗浄吐水口を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の衛生洗浄便座装置。
【請求項７】
前記ノズル洗浄室に対して相対的に進退可能に支持された支持部をさらに備え、
前記吐水部は、前記支持部に対して進退可能に支持されてなることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載の衛生洗浄便座装置。
【請求項８】
使用者が人体洗浄を指令すると、前記ノズル洗浄室が前記本体から進出し且つ前記支持部が後退した状態において前記吐水部が進出することによりその少なくとも一部が前記ノズル洗浄室で洗浄され、しかる後に、前記支持部が進出することによりその少なくとも一部が前記ノズル洗浄室で洗浄されることを特徴とする請求項７記載の衛生洗浄便座装置。
【請求項９】
前記ノズル洗浄室に対して相対的に進退可能に支持された複数の支持部からなる複数支持部をさらに備え、
前記吐水部は、前記複数支持部に対して進退可能に支持されてなることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載の衛生洗浄便座装置。
【請求項１０】
前記使用者が人体洗浄を指令すると、前記ノズル洗浄室が前記本体から進出し且つ前記複数の支持部のそれぞれが後退した状態において前記吐水部が進出することによりその少なくとも一部が前記ノズル洗浄室で洗浄され、しかる後に、前記複数の支持部のそれぞれが前記吐水部側から順次進出することにより前記複数の支持部が前記ノズル洗浄室で順次洗浄されることを特徴とする請求項９記載の衛生洗浄便座装置。
【請求項１１】
前記ノズル洗浄室は、取り付け台に固定され、
前記吐水部は、前記取り付け台に対して進退可能に支持され、
前記取り付け台の移動により前記ノズル洗浄室が進退可能とされたことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１つに記載の衛生洗浄便座装置。
【請求項１２】
先端に前記ノズル洗浄室が付設されたシリンダ部と、
前記シリンダ部を進退可能に支持する取り付け台と、
をさらに備え、
前記シリンダ部の進退により前記ノズル洗浄室が進退可能とされ、
前記吐水部は、前記シリンダ部に対して出没可能なピストン状に形成されてなることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１つに記載の衛生洗浄便座装置。
【請求項１３】
腰掛便器と、
請求項１〜１２のいずれか１つに記載の衛生洗浄便座装置と、
を備えたことを特徴とするトイレ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月14日(2008.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
堰堤に形成された取水口に対して、昇降機で昇降可能な水中フロートが設けられ、この水中フロートに、取水口の周囲を遮水可能な遮水膜が設けられている遮水膜式選択取水設備において、
前記取水口よりも下方で堰堤に固定されて、前記遮水膜の内部で、遮水膜とともに前記取水口の下側を止水可能な止水台が設けられ、この止水台に、止水扉で開閉可能な開口が形成されていることを特徴とする遮水膜式選択取水設備。
【請求項２】
前記止水台は、上面周囲をすり鉢状に下向き傾斜させて、この傾斜下部付近に、前記止水扉で開閉可能な開口を形成していることを特徴とする請求項１に記載の遮水膜式選択取水設備。
【請求項３】
前記水中フロートは、所定の上下間隔を保持するように上下多段で設けられて、各水中フロートの内面に遮水膜が連続的に固定され、各水中フロート間の遮水膜は、水中フロートの下降に伴って蛇腹状に折り畳み可能であることを特徴とする請求項１または２に記載の遮水膜式選択取水設備。
【請求項４】
前記止水台の外面に、前記遮水膜の内面に常に弾性接触するパッキン部材が取付けられていることを特徴とする請求項３に記載の遮水膜式選択取水設備。
【請求項５】
前記堰堤に、前記遮水膜の両端内方に位置する遮水膜ガイド板が取付けられ、前記遮水膜の両端を外方から前記遮水膜ガイド板に押付け可能な押付け部材が設けられていることを特徴とする請求項３または４に記載の遮水膜式選択取水設備。
【請求項６】
前記止水台の下部に、下降した水中フロートを積層状態で保持可能なフロート保持部が一体的に形成されていることを特徴とする請求項３〜５のいずれか一項に記載の遮水膜式選択取水設備。
【請求項７】
前記水中フロートは、所定の上下間隔を保持するように上下多段で設けられて、各水中フロートの外面に上下の遮水膜がオーバーラップするように固定され、各水中フロート間の遮水膜は、水中フロートの下降に伴って重なり合い可能であることを特徴とする請求項１または２に記載の遮水膜式選択取水設備。
【請求項８】
前記堰堤に、前記各遮水膜の両端内方に位置する遮水膜ガイド板が取付けられ、前記各遮水膜の両端を外方から前記遮水膜ガイド板に押付け可能な押付け部材が設けられていることを特徴とする請求項７に記載の遮水膜式選択取水設備。
【請求項９】
前記止水台の上部は、下降した水中フロートを積層状態で保持可能なフロート保持部を兼ねていることを特徴とする請求項７または８に記載の遮水膜式選択取水設備。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
前記課題を解決するために、本発明は、堰堤に形成された取水口に対して、昇降機で昇降可能な水中フロートが設けられ、この水中フロートに、取水口の周囲を遮水可能な遮水膜が設けられている遮水膜式選択取水設備において、前記取水口よりも下方で堰堤に固定されて、前記遮水膜の内部で、遮水膜とともに前記取水口の下側を止水可能な止水台が設けられ、この止水台に、止水扉で開閉可能な開口が形成されていることを特徴とする遮水膜式選択取水設備を提供するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月21日(2007.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内燃機関の吸気路長を変化させる可変吸気装置であって、
前記内燃機関の燃焼室に向けて空気が流れ、経路上の所定の位置に第１の流線を規定するメイン通路と、
前記所定の位置に接続され、その接続された位置に前記第１の流線に交差する方向に延びる第２の流線を規定する短絡通路と、
空気流れを規制する弁体を有し、前記所定の位置に隣り合って前記短絡通路に配置されたバルブとを備え、
前記バルブが前記短絡通路から前記メイン通路に合流する空気流れを許容する時、前記弁体は、前記第１の流線が延びる方向と前記第２の流線が延びる方向との間の方向に延在するように位置決めされ、
前記バルブは、前記弁体を回転自在に軸支する弁軸をさらに有し、
前記弁軸は、前記短絡通路が延びる方向に直交する平面で切断した場合の前記短絡通路の断面の中心位置に対して、前記メイン通路における空気流れの上流側にずれた位置に設けられ、
前記弁体は、前記弁軸の一方の側に相対的に広い面積で延在する第１部分と、前記弁軸の他方の側に相対的に狭い面積で延在する第２部分とから構成され、
前記バルブが前記短絡通路から前記メイン通路に合流する空気流れを許容する時、前記第１部分は、前記第２部分よりも前記短絡通路における空気流れの下流側に位置決めされる、可変吸気装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月7日(2008.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
低圧気相合成法によって基板上にホウ素がドープされた導電性ダイアモンド膜を被覆した後に、該ダイアモンド膜を基板から一旦分離して導電性接着剤で別個の導電性電極板上に貼着せしめることを特徴とする、ダイアモンド電極の製造方法。
【請求項２】
基板上にホウ素がドープされた導電性ダイアモンド膜を被覆した後、該基板を溶解してダイアモンド膜を分離することを特徴とする、請求項１に記載のダイアモンド電極の製造方法。
【請求項３】
基板から分離した複数のホウ素がドープされたダイアモンド膜を導電性電極板上に配列して貼着せしめ、前記ダイアモンド膜の継ぎ目ならびに前記導電性電極板のすべての露出部を絶縁性樹脂で被覆することを特徴とする、ダイアモンド電極の製造方法。
【請求項４】
基板から分離されたホウ素がドープされた導電性ダイアモンド膜と、導電性電極板と、導線とを有し、
前記導線と前記導電性電極板が連結されており、
複数の前記ダイアモンド膜が前記導電性電極板上に配列されて導電性接着剤で貼着され、
前記導電性電極板上に配列された前記ダイアモンド膜の継ぎ目ならびに前記導電性電極板のすべての露出部が絶縁性樹脂で被覆されていることを特徴とする、ダイアモンド電極。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、低圧気相合成法によって基板上にホウ素がドープされた導電性ダイアモンド膜を被覆した後に、該ダイアモンド膜を基板から一旦分離して導電性接着剤で別個の導電性電極板上に貼着せしめることを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、基板上にホウ素がドープされた導電性ダイアモンド膜を被覆した後、該基板を溶解してダイアモンド膜を分離することを特徴としている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また請求項３に記載の発明は、基板から分離した複数のホウ素がドープされたダイアモンド膜を導電性電極板上に配列して貼着せしめ、前記ダイアモンド膜の継ぎ目ならびに前記導電性電極板のすべての露出部を絶縁性樹脂で被覆することを特徴としている。
また請求項４に記載のダイアモンド電極は、基板から分離されたホウ素がドープされた導電性ダイアモンド膜と、導電性電極板と、導線とを有し、前記導線と前記導電性電極板が連結されており、複数の前記ダイアモンド膜が前記導電性電極板上に配列されて導電性接着剤で貼着され、前記導電性電極板上に配列された前記ダイアモンド膜の継ぎ目ならびに前記導電性電極板のすべての露出部が絶縁性樹脂で被覆されていることを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月28日(2008.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
中でも、特に、重合後の印字を硬くして、耐擦過性を向上することを考慮すると、アクリル酸、メタクリル酸やそれらの塩もしくはエステル等の、各種（メタ）アクリレートモノマーが好ましい。その具体的化合物としては、例えば下記の各種化合物が挙げられる。
イソアミルアクリレート、ステアリルアクリレート、ラウリルアクリレート、オクチルアクリレート、デシルアクリレート、イソミリスチルアクリレート、イソステアリルアクリレート、２−エチルヘキシル−ジグリコールアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、ブトキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシプロピレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−アクリロイロキシエチルコハク酸、２−アクリロイロキシエチルフタル酸、２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチル−フタル酸、ラクトン変性可とう性アクリレート、ｔ−ブチルシクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、イソボニルアクリレート等の単官能モノマー類。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、グリセリンプロポキシトリアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、カプロラクタム変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の３官能以上の多官能モノマー類。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
このうち、単官能モノマーは、硬化時の収縮率を下げる効果が大きく、また低粘度であるため、インクジェット記録時の吐出安定性が得られやすい。また、２官能モノマーは、被印字体への接着性を向上できる他、重合開始時の感度が良好であり、より少ない光照射で重合反応を開始することができる。さらに、３官能以上の多官能モノマーは、重合開始時の感度がさらに良好である上、重合体に架橋構造を導入して印字の強度を向上させることができる。(c)の光重合性化合物は、上記例示のものをいずれか１種、単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月4日(2008.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明で得られる袋織基布は必ず製品として見た場合、必ず片側（製織時では上布側）の緯糸本数が多くなっている。しかしながら、製織終了後の基布においては、上下の区別がつきにくい場合があるため、片側の緯糸本数を数えることにより、本数の多い側が上布、少ない方を下布と判断することができる。また、製織基布においては一般には経糸は基布の長手方向（車室にセットした場合、車の前後方向）にセットするが、得られた袋織基布からはすぐには判断つかないので、両方向確認するのが良い。通常経糸本数は場所により変更するのは困難であるからである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
［実施例１〜３、６、比較例１〜２］
ポリヘキサメチレンアジパミド繊維として旭化成せんい社製の原糸を用いた。経糸には無撚の２３５ｄｔｅｘ／７２ｆ（単糸繊度３．３ｄｔｅｘ）、引張強度８．５ｃＮ／ｄｔｅｘ、沸水収縮率５．０％の原糸にポリアクリル酸の糊剤を用いて約２％の糊付を行って製織に供した。緯糸には同じくポリヘキサメチレンアジパミド繊維の２３５ｄｔｅｘ／７２ｆを無糊の状態で使用した。通し幅は１５２ｃｍであり、同時に２袋の製織を行った。ジッカー精練後、シリンダー乾燥し、有り幅でヒートセットして仕上げた。仕上げ後の基布密度とｎａ−ｎｂの値、通気性を測定した結果を表１に示す。得られた基布は本発明の実施例１〜３については、一重部付近の通気性が上布、下布ともに３秒以内と問題なく、かつ、コーティングについても実施可能で、コーティング樹脂の浸透等の問題なかったのに対し、比較例１では片側の基布の通気性が３秒を超えており、製織繊維間に隙間があることがわかる。その部分ではシリコーンコーティング時には樹脂が浸透して裏抜けし、固着が生じ、好ましくなかった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
［実施例４〜５、比較例３］
ポリヘキサメチレンアジパミド繊維として旭化成せんい社製の原糸を用いた。実施例４では経糸には無撚の４７０ｄｔｅｘ／１４４ｆ（単糸繊度３．３ｄｔｅｘ）、引張強度８．４ｃＮ／ｄｔｅｘ、沸水収縮率５．０％の原糸にポリアクリル酸の糊剤を用いてサイジングを行って使用した。緯糸には同じくポリヘキサメチレンアジパミド繊維の４７０ｄｔｅｘ／１４４ｆを無糊の状態で使用した。同様に、実施例５では４７０ｄｔｅｘ／７２ｆの原糸を用いた。通し幅は２０７ｃｍであり、幅方向に同時に３袋製織した。精練・セット後の基布密度とｎａ、ｎｂの値、通気性を測定した結果を表１に示す。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
【表１】
2006299469.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月3日(2008.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光触媒（ａ）を珪素原子及び／又はフッ素原子を含有する変性剤化合物（ｂ）を用いて変性処理された変性光触媒（Ａ）を、洗濯処理後の洗濯物に残存した汚れ成分に付着させ、光照射をすることにより該汚れ成分を分解させることを特徴とする洗濯仕上げ方法。
【請求項２】
珪素原子及び／又はフッ素原子を含有する変性剤化合物（ｂ）が、下式（１）で表されることを特徴とする請求項１に記載の洗濯仕上げ方法。
Ｒx Ｘy Ｑz ＳｉＯ(4-x-y-z)/2 （１）
〔式中、Ｒは各々独立に直鎖状または分岐状の炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素数１〜３０のフルオロアルキル基、又は直鎖状または分岐状の炭素数２〜３０のアルケニル基、フェニル基から選ばれた１種以上からなる基を表す。
Ｑは下式（２）で表される基又は下式（２）で表される基を含有する炭素数１〜３０の有機基を表す。
−（Ｏ）a Ｒ1 Ｏ（Ｒ2 Ｏ）b Ｒ3 （２）
（式中、Ｒ1 、Ｒ2 は各々独立に直鎖状または分岐状の炭素数１〜１０のアルキレン基を表す。Ｒ3 は、水素原子、直鎖状または分岐状の炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、又は直鎖状または分岐状の炭素数２〜３０のアルケニル基、フェニル基を表す。ａは０または１であり、ｂは１〜１００の整数を表す。）
Ｘは各々独立に水素原子、水酸基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアシロキシ基、アミノキシ基、炭素数１〜２０のオキシム基、又はハロゲン原子を表す。また、０≦ｘ＜４、０≦ｙ＜４、０≦ｚ＜４、及び０＜（ｘ＋ｙ＋ｚ）＜４である。〕
【請求項３】
変性剤化合物（ｂ）が、Ｓｉ−Ｈ基含有ケイ素化合物（ｂ１）であることを特徴とする請求項１または２のいずれか一項に記載の洗濯仕上げ方法。
【請求項４】
変性光触媒（Ａ）に可視光領域に吸収を持つ増感色素を併用することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の洗濯仕上げ方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
Ｑは下式（２）で表される基又は下式（２）で表される基を含有する炭素数１〜３０の有機基を表す。
−（Ｏ）a Ｒ1 Ｏ（Ｒ2 Ｏ）b Ｒ3 （２）
（式中、Ｒ1 、Ｒ2 は各々独立に直鎖状または分岐状の炭素数１〜１０のアルキレン基を表す。Ｒ3 は、水素原子、直鎖状または分岐状の炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、又は直鎖状または分岐状の炭素数２〜３０のアルケニル基、フェニル基を表す。ａは０または１であり、ｂは１〜１００の整数を表す。）
Ｘは各々独立に水素原子、水酸基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアシロキシ基、アミノキシ基、炭素数１〜２０のオキシム基、又はハロゲン原子を表す。また、０≦ｘ＜４、０≦ｙ＜４、０≦ｚ＜４、及び０＜（ｘ＋ｙ＋ｚ）＜４である。〕
３．変性剤化合物（ｂ）が、Ｓｉ−Ｈ基含有ケイ素化合物（ｂ１）であることを特徴とする上記１．または２．のいずれか一項に記載の洗濯仕上げ方法。
４．変性光触媒（Ａ）に可視光領域に吸収を持つ増感色素を併用することを特徴とする上記１．〜３．のいずれか一項に記載の洗濯仕上げ方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月11日(2008.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
便器排水口と床面まで起立状に配管された排水管とを接続する管路接続構造であって、  前記便器排水口と連通する上円筒部と、前記排水管と連通される下円筒部と、前記下円筒部の外側に前記下円筒部と同軸に形成された互いに内径の異なる複数の円筒壁とを有する上部排水ソケットと、  
前記円筒壁のいずれかと周接される円筒接続部と、前記排水管と気密状に接続される下接続部とを有するアダプタとで構成され、  
前記下接続部に、前記排水管内に垂下する円筒部を設け、
前記上部排水ソケットの円筒壁のいずれかと、前記アダプタの円筒接続部とを互いに嵌合接続させたことを特徴とする管路接続構造。
【請求項２】
便器排水口と床面まで起立状に配管された排水管とを接続する管路接続構造であって、
前記排水管と接続される下接続部と、前記便器排水口と連通する上接続部とを有する下
部排水ソケットと、
前記便器排水口と連通する上円筒部と、前記排水管と連通される下円筒部と、前記下円
筒部の外側に前記下円筒部と同軸に形成された互いに内径の異なる複数の円筒壁とを有す
る上部排水ソケットと、
前記円筒壁のいずれかと周接される円筒接続部と、前記下部排水ソケットとシール材を
介して気密状に接続される下接続部とを有するアダプタとで構成され、
前記下接続部に、前記排水管内に垂下する円筒部を設け、
前記下部排水ソケットの上接続部と、前記上部排水ソケットの円筒壁のいずれかとを互
いに嵌合接続させたことを特徴とする管路接続構造。
【請求項３】
前記アダプタの接続円筒部と、前記上部排水ソケットの円筒壁のいずれかとを互いに嵌
合接続したことを特徴とする請求項２に記載の管路接続構造。
【請求項４】
前記アダプタの接続円筒部の外周に前記下部排水ソケットの上接続部の内周面と当接するフランジを設けたことを特徴とする請求項２または３に記載の管路接続構造。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の管路接続構造は、便器排水口と床面まで起立状に配管された排水管とを接続する管路接続構造であって、  
前記便器排水口と連通する上円筒部と、前記排水管と連通される下円筒部と、前記下円筒部の外側に前記下円筒部と同軸に形成された互いに内径の異なる複数の円筒壁とを有する上部排水ソケットと、  
前記円筒壁のいずれかと周接される円筒接続部と、前記排水管と気密状に接続される下接続部とを有するアダプタとで構成され、  
前記下接続部に、前記排水管内に垂下する円筒部を設け、
前記上部排水ソケットの円筒壁のいずれかと、前記アダプタの円筒接続部とを互いに嵌合接続させたことを特徴とする。ここで、周接とは、同軸上に位置する内径の異なる複数の円筒状の部材の少なくとも一部が周方向に沿って互いに接触状態にあることをいう。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
このような構成とすれば、床面まで起立状に配管された排水管にアダプタの下接続部を気密状に接続し、アダプタの円筒接続部と上部排水ソケットの円筒壁のいずれかとを互いに嵌合接続するとともに、上部排水ソケットの下円筒部を排水管に連通させ、上部排水ソケットの上円筒部に便器排水口を連通するだけで管路接続構造を形成することができる。従って、便器の取り替えを行う際に、便器を取り外した後の排水管工事をやり直す必要がなく、床上作業のみで取り替え工事を行うことができる。また、排水管とアダプタの下接続部との接続部分、アダプタの円筒接続部と上部排水ソケットの円筒壁との接続部分は隙間無く接触しているため、軸心のズレが生じにくく、気密性にも優れたものとなる。
さらに、アダプタの下接続部から垂下された円筒部を排水管内に挿入することにより両者間の位置合わせが可能となるため、接続時の作業性が向上する。また、アダプタの下接続部から垂下した円筒部が常に排水管内に同軸に位置した状態となるため、気密性に優れている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明の管路接続構造は、便器排水口と床面まで起立状に配管された排水管とを接続する管路接続構造であって、  
前記排水管と接続される下接続部と、前記便器排水口と連通する上接続部とを有する下部排水ソケットと、  
前記便器排水口と連通する上円筒部と、前記排水管と連通される下円筒部と、前記下円筒部の外側に前記下円筒部と同軸に形成された互いに内径の異なる複数の円筒壁とを有する上部排水ソケットと、  
前記円筒壁のいずれかと周接される円筒接続部と、前記下部排水ソケットとシール材を介して気密状に接続される下接続部とを有するアダプタとで構成され、  
前記下接続部に、前記排水管内に垂下する円筒部を設け、
前記下部排水ソケットの上接続部と、前記上部排水ソケットの円筒壁のいずれかとを互いに嵌合接続させたことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
このような構成とすれば、床面まで起立状に配管された排水管に下部排水ソケットの下接続部を接続し、下部排水ソケットの上接続部にシール材を介してアダプタの下接続部を気密状に接続し、アダプタの円筒接続部と上部排水ソケットの円筒壁のいずれかとを互いに嵌合接続するとともに、上部排水ソケットの下円筒部を排水管に連通させ、上部排水ソケットの上円筒部に便器排水口を連通するだけで管路接続構造を形成することができる。従って、便器の取り替えを行う際に、便器を取り外した後の排水管工事をやり直す必要がなく、床上作業のみで取り替え工事を行うことができる。また、排水管と下部排水ソケットの下接続部との接続部分、下部排水ソケットの上接続部とアダプタの下接続部との接続部分、アダプタの円筒接続部と上部排水ソケットの円筒壁との接続部分は隙間無く接触されるため、軸心のズレが生じにくく、気密性にも優れたものとなる。
さらに、アダプタの下接続部から垂下された円筒部を排水管内に挿入することにより両者間の位置合わせが可能となるため、接続時の作業性が向上する。また、アダプタの下接続部から垂下した円筒部が常に排水管内に同軸に位置した状態となるため、気密性に優れている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月14日(2008.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＵＶ硬化性ポリマーもしくはＵＶ硬化性オリゴマーを含むＵＶ硬化性粘着剤組成物を硬化させてなる粘着テープまたはフィルムであって、前記粘着テープまたはフィルムの片面における硬化度がその反対面における硬化度よりも高くなるようにＵＶ硬化を制御することで、前記片面の粘着性を抑制し、その反対面の粘着性を維持した、粘着テープまたはフィルム。
【請求項２】
前記ＵＶ硬化性粘着剤組成物はＵＶ硬化性ポリマーまたはＵＶ硬化性オリゴマー及び紫外線吸収剤を含む、請求項１記載の粘着テープまたはフィルム。
【請求項３】
前記ＵＶ硬化性粘着剤組成物はＵＶ硬化性ポリウレタンアクリレートオリゴマー、ＵＶ開始剤及び紫外線吸収剤を含む、請求項２記載の粘着テープまたはフィルム。
【請求項４】
前記ＵＶ硬化性粘着剤組成物は紫外線吸収性を有するＵＶ硬化性ポリマーまたはＵＶ硬化性オリゴマーを含む、請求項１記載の粘着テープまたはフィルム。
【請求項５】
前記紫外線吸収性を有するＵＶ硬化性ポリマーまたはＵＶ硬化性オリゴマーはマレイミド基を有するＵＶ硬化性ポリマーまたはオリゴマーである、請求項４記載の粘着テープまたはフィルム。
【請求項６】
粘着テープまたはフィルムを製造するためのＵＶ硬化性ポリマーもしくはＵＶ硬化性オリゴマーを含むＵＶ硬化性粘着剤組成物であって、前記ＵＶ硬化性粘着剤組成物はＵＶ硬化性ポリマーまたはＵＶ硬化性オリゴマーを含み、ＵＶ硬化を行なう際の塗布厚さにおいて、ＵＶ硬化波長における吸光度が１〜４であるように調整されたＵＶ硬化性粘着剤組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月18日(2007.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリオールとポリイソシアネートを触媒、発泡剤および整泡剤の存在下に反応させて製造された、平均気泡径１０〜１００μｍの独立気泡を有するポリウレタンフォームにおいて、該整泡剤が、側鎖にポリアルキレンオキシド構造を有し、主鎖がポリジメチルシロキサンであるポリジメチルシロキサン−ポリアルキレンオキシド系グラフト共重合体であって、該ポリアルキレンオキシド構造がオキシエチレン部分（Ｅ）とオキシプロピレン部分（Ｐ）からなり、そのモル比（Ｅ／Ｐ）が、７０／３０より大きく９０／１０以下であり、該ポリアルキレンオキシド構造の平均分子量が４００〜１５００であり、該ポリジメチルシロキサンのジメチルシロキサン単位の平均繰り返し数が１０〜１５０であることを特徴とするポリウレタンフォーム。
【請求項２】
直径４００μｍ以上の気泡径を有する気泡が１００ｃｍ２当たり３０個未満であることを特徴とする請求項１に記載のポリウレタンフォーム。
【請求項３】
該ポリウレタンフォームが研磨用部材または研磨用部材の原材料として使用されることを特徴とする請求項１乃至２いずれかに記載のポリウレタンフォーム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月5日(2008.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
図６に示すように、磁気センサ１００は、４つの磁気抵抗素子１０１〜１０４によりホイートストーンブリッジが構成されたものである。そして、磁気センサ１００に対して磁界の方向が所定方向の時、磁気抵抗素子１０１，１０２間のノードＮ１と、磁気抵抗素子１０３，１０４間のノードＮ２との間の電圧（ブリッジの各中点電位Ｅ１，Ｅ２の差であるオフセット電圧Ｅ１２）が０Ｖに近いセンサほど、磁気センサとして高性能であることが知られている。すなわち、磁気抵抗素子１０１の電気抵抗値をＲ１１、磁気抵抗素子１０２の電気抵抗値をＲ１２、磁気抵抗素子１０３の電気抵抗値をＲ１３、磁気抵抗素子１０４の電気抵抗値をＲ１４としたとき、「Ｒ１１＝Ｒ１４＝Ｒ１２＝Ｒ１３」の関係式が成り立つことが最も好ましい。ここで、磁気センサ１００は、オフセット電圧Ｅ１２を０Ｖに近づけるために、すなわち上記関係式を成り立たせるために、磁気抵抗素子１０１〜１０４の各々において、電気抵抗値Ｒ１１〜Ｒ１４の各々が互いに等しくなるような所要のパターンが予め設定されている。
【特許文献１】特開２００４−１８４０９０号公報（第７図）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
詳述すると、センサ部は、図１に示すように、その平面形状が磁気抵抗素子３１〜３８によって全体として略正八角形に形成され、センサ部の中心点ＣＰ近傍が空間となるドーナッツ状に形成されている。また、各磁気抵抗素子３１〜３８は、その平面形状が破線で示されるように台形状に形成されている。詳しくは、各磁気抵抗素子３１〜３８は、長さの異なる長辺及び短辺を順次繰り返して接続した櫛歯状に形成されている。これら磁気抵抗素子３１〜３８は、中心点ＣＰを中心点として、その各々が点対称になるかたちで形成されている。そして、これら磁気抵抗素子３１〜３８は、後に詳述する金属配線５０及びボンディングワイヤＷによって、図３に示す態様で電気的に接続される。すなわち、磁気抵抗素子３１〜３４の４つの磁気抵抗素子によって第１ブリッジ回路Ｂ１としてホイートストーンブリッジが構成されるとともに、磁気抵抗素子３５〜３８の４つの磁気抵抗素子によって第２ブリッジ回路Ｂ２としてホイートストーンブリッジが構成される。これら磁気抵抗素子３１〜３８は、磁気センサにより磁気の変化を検出するべく、磁気の変化に応じて電気抵抗値が変化するセンサエレメントとしての役目を果たす。なお、これらブリッジ回路Ｂ１，Ｂ２は、従来の磁気センサ１００と同様に、各ブリッジ回路Ｂ１，Ｂ２に対して磁界の方向が所定方向の時、オフセット電圧Ｅ１２，Ｅ３４が「０」に近づく方が望ましい。すなわち、磁気抵抗素子３１，３２，３３，３４，３５，３６，３７，３８の電気抵抗値をそれぞれＲ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８としたとき、「Ｒ１＝Ｒ４＝Ｒ２＝Ｒ３」及び「Ｒ５＝Ｒ８＝Ｒ６＝Ｒ７」の関係式がそれぞれ成り立つことが最も好ましい。ここで、オフセット電圧Ｅ１２は、磁気抵抗素子３１，３２間のノードＮ１の電位Ｅ１と、磁気抵抗素子３３，３４間のノードＮ２の電位Ｅ２との電位差であり、オフセット電圧Ｅ３４は、磁気抵抗素子３５，３６間のノードＮ３の電位Ｅ３と、磁気抵抗素子３７，３８間のノードＮ４の電位Ｅ４との電位差である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
（２）本実施形態によれば、金属配線５０を、中心点ＣＰを中心として点対称になるかたちで形成した。さらに、磁気抵抗素子３１〜３８を、その各々が中心点ＣＰを中心として点対称になるかたちで形成した。これによって、磁気センサ１全体の対称性を向上させることができるため、各磁気抵抗素子３１〜３８に加わる応力をより均一化することができるようになる。従って、各磁気抵抗素子３１〜３８における電気抵抗値の変化のばらつきを効果的に低減することができるようになる。その結果、第１及び第２ブリッジ回路Ｂ１，Ｂ２における「Ｒ１＝Ｒ４＝Ｒ２＝Ｒ３」及び「Ｒ５＝Ｒ８＝Ｒ６＝Ｒ７」の関係式を好適に維持することができ、オフセット電圧Ｅ１２，Ｅ３４の変化を抑制することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2007309694.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月21日(2008.3.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
ｄ＝２Ｌsinθ        ・・・（１）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
Ｌ＝ｄ／（２sinθ）  ・・・（２）
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月19日(2008.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
昇降シャフト５には、高さエンコーダ３８が固定される。高さエンコーダ３８には、図４に示すように、円周の全周にわたって放射状に角穴３８１が設けられる。高さエンコーダ３８の回転を検出するために、高さエンコーダ３８に関連して、高さ検出手段の一例のフォトインタラプタ３９が設けられる。フォトインタラプタ３９からは高さエンコーダ３８の回転に応じたパルス信号が出力され、そのパルス信号が入力部からマイクロコンピュータ７０に入力され、それによりブラインドの降下高さが検出される。