【手続補正書】
【提出日】平成20年5月1日(2008.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  一般式Ｉ
【化１】
2002053577.tif 000001
［式中
Ｒ1は水素または低級アルキルを意味し、
Ｒ2は低級アルキル、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル、低級アルコキシカルボニル低級アルキル、場合により低級アルキルにより１回または２回置換された、場合により１〜２個の二重結合を含有する５〜６個の環原子を有するシクロ（ヘテロ）アルキル、場合により（ヘテロ）フェニル環においてハロゲン、低級アルキルおよび／または低級アルコキシにより１回または２回置換され、その低級アルキル鎖が場合により低級アルキルまたはスピロ−Ｃ4〜Ｃ5アルキルにより１回または２回置換されている（ヘテロ）フェニル低級アルキル、またはフェニル環において場合によりハロゲン、低級アルキルおよび／または低級アルコキシにより１回または２回置換されたフェニル低級アルコキシを意味し、および
Ｒ3は低級アルキル、低級アルコキシカルボニル低級アルキルを意味するかまたは場合により低級アルキルにより１回または２回置換された、５〜６個の環原子を有するシクロ（ヘテロ）アルキルを意味し、または
Ｒ2およびＲ3は、それが結合している窒素と一緒に式ａ
【化２】
2002053577.tif 000002
（式中
Ａは窒素、酸素、その二重結合が隣接する炭素と一緒に基ａの３位に形成するメチレンまたはメチリデンを意味し、
ｎは１〜３の整数を意味し、
Ｒ4は水素、低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシカルボニル低級アルキル、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル、場合によりハロゲン、低級アルキルおよび／または低級アルコキシにより１回または２回置換された（ヘテロ）フェニル、場合により（ヘテロ）フェニル環においてハロゲン、低級アルキルおよび／または低級アルコキシにより１回または２回置換され、その低級アルキル鎖が場合により低級アルキルにより１回または２回置換されている（ヘテロ）フェニル低級アルキル、５〜６個の環原子を有するシクロ（ヘテロ）アルキルまたはそのシクロ（ヘテロ）アルキル基が５〜６個の環原子を有するシクロ（ヘテロ）アルキル低級アルキルを意味しおよび
Ｒ5は水素、低級アルキルまたは低級アルコキシ低級アルキルを意味するか、または
Ｒ4およびＲ5は一緒に基ａの炭素に結合したスピロエチレンジオキシ、基ａの２個の隣接原子に結合したＣ3〜Ｃ4アルキレンまたは基ａの２個の隣接炭素を介して環付加したフェニルを意味する）の環状基を形成するか、または
Ｒ2およびＲ3はそれが結合している窒素と一緒に、その都度２個の隣接炭素原子を介して結合したＣ4アルキレンにより２回置換されているピロリジン環を形成する］の化合物、ならびに式Ｉの化合物の生理的に認容性の酸付加塩。
【請求項２】  Ｒ1は水素を意味し、
Ｒ2は低級アルキル、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル、低級アルコキシカルボニル低級アルキル、場合により低級アルキルにより１回置換された５〜６個の環原子を有するシクロ（ヘテロ）アルキル、場合によりヘテロフェニル環において低級アルキルまたは低級アルコキシにより１回または２回置換されたヘテロフェニル低級アルキルまたはフェニル環において低級アルキルまたは低級アルコキシにより１回または２回置換されたフェニル−Ｃ2〜Ｃ4アルキルを意味しおよび
Ｒ3は低級アルキルまたは低級アルコキシカルボニル低級アルキルを意味する（但しＲ2およびＲ3は同時にイソブチルを表さない）か、または
Ｒ2およびＲ3はそれが結合している窒素と一緒に式ａの環状基を形成し、
式中、
ｎは１〜３の整数を意味し、但しｎは、Ｒ4およびＲ5が両方水素を意味しおよび同時にＡがメチレンを表す限り２または３を表し、
Ｒ4は水素、低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、低級アルコキシカルボニル低級アルキル、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル、場合により低級アルキルまたは低級アルコキシにより１回置換された（ヘテロ）フェニル、場合により（ヘテロ）フェニル環においてハロゲン、低級アルキルまたは低級アルコキシにより１回置換された（ヘテロ）フェニル低級アルキル、５〜６個の環原子を有するシクロ（ヘテロ）アルキルまたはそのシクロ（ヘテロ）アルキル基が５〜６個の環原子を有するシクロ（ヘテロ）アルキル低級アルキルを意味しおよび
Ｒ5は水素、低級アルキルまたは低級アルコキシ低級アルキルを意味する（但しＲ4およびＲ5は基ａの同じ環原子に結合していない）か、または
Ｒ4およびＲ5は一緒に基ａの炭素に結合したスピロエチレンジオキシまたは基ａの２個の隣接環原子に結合したＣ3〜Ｃ4アルキレンを意味する、請求項１に記載の一般式Ｉの化合物。
【請求項３】  １Ｈ−インドール−３−イル−メチル基を有する、ピペラジン環の炭素Ｃ２がＲ−立体配置を有する、請求項１または２記載の一般式Ｉの化合物。
【請求項４】  場合により存在する基ａが、Ｒ4およびＲ5により置換されたピロリジンを表し、ここでＲ4およびＲ5は両方同時に水素を意味しないか、またはその都度Ｒ4およびＲ5により置換された２，５−ジヒドロピロール、ピペリジン、ピペラジン、モルホリンまたはジアゼパンを表す、請求項１から３までのいずれか１項記載の一般式Ｉの化合物。
【請求項５】  請求項４記載の（２Ｒ）−１−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンゾイル］−２−（１Ｈ−インドール−３−イルメチル）−４−｛［５−（モルホリノメチル）−２Ｈ−１，２，３−トリアゾール−４−イル］メチル}ピペラジン。
【請求項６】  請求項５記載の（２Ｒ）−１−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンゾイル］−２−（１Ｈ−インドール−３−イルメチル）−４−｛［５−（モルホリノメチル）−２Ｈ−１，２，３−トリアゾール−４−イル］メチル｝ピペラジン二塩酸塩。
【請求項７】  物質ＰのようなＮＫ−１−レセプターに結合するニューロキニンが関与している過程を阻止するための医薬品を製造するための、請求項１記載の化合物および通常の製薬助剤および／または担体物質の使用。
【請求項８】  一般式Ｉ
【化３】
2002053577.tif 000003
［式中
Ｒ1は水素または低級アルキルを意味し、
Ｒ2は低級アルキル、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル、低級アルコキシカルボニル低級アルキル、場合により低級アルキルにより１回または２回置換された、場合により１〜２個の二重結合を含有する５〜６個の環原子を有するシクロ（ヘテロ）アルキル、場合により（ヘテロ）フェニル環においてハロゲン、低級アルキルおよび／または低級アルコキシにより１回または２回置換された、その低級アルキル鎖が場合により低級アルキルまたはスピロ−Ｃ4〜Ｃ5アルキレンにより１回または２回置換されている（ヘテロ）フェニル低級アルキル、またはフェニル環において場合によりハロゲン、低級アルキルおよび／または低級アルコキシにより１回または２回置換されたフェニル低級アルコキシを意味しおよび
Ｒ3は低級アルキル、低級アルコキシカルボニル低級アルキルまたは場合により低級アルキルにより１回または２回置換された、５〜６個の環原子を有するシクロ（ヘテロ）アルキルを意味するか、または
Ｒ2およびＲ3はそれが結合している窒素と一緒に式ａ
【化４】
2002053577.tif 000004
（式中
Ａは窒素、酸素、その二重結合が隣接炭素と一緒に基ａの３位に形成されるメチレンまたはメチリデンを意味し、
ｎは１〜３の整数を意味し、
Ｒ4は水素、低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシカルボニル低級アルキル、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル、場合によりハロゲン、低級アルキルおよび／または低級アルコキシにより１回または２回置換された（ヘテロ）フェニル、場合により（ヘテロ）フェニル環においてハロゲン、低級アルキルおよび／または低級アルコキシにより１回または２回置換され、その低級アルキル鎖が場合により低級アルキルにより１回または２回置換されている（ヘテロ）フェニル低級アルキル、５〜６個の環原子を有するシクロ（ヘテロ）アルキルまたはそのシクロ（ヘテロ）アルキル基が５〜６個の環原子を有するシクロ（ヘテロ）アルキル低級アルキルを意味しおよび
Ｒ5は水素、低級アルキルまたは低級アルコキシ低級アルキルを意味するか、または
Ｒ4およびＲ5は一緒に基ａの炭素に結合したスピロエチレンジオキシ、基ａの２個の隣接原子に結合したＣ3〜Ｃ4アルキレンまたは基ａの２個の隣接炭素を介して環付加されたフェニルを意味する）の環状基を形成するか、または
Ｒ2およびＲ3はそれが結合している窒素と一緒に、その都度２個の隣接炭素原子に結合したＣ4アルキレンにより２回置換されているピロリジン環を形成する］の化合物ならびにその生理的に認容性の酸付加塩の製造方法において、
一般式ＩＩ
【化５】
2002053577.tif 000005
［式中Ｒ1は上記の意味を有する］の化合物を、一般式ＩＩＩ
【化６】
2002053577.tif 000006
［式中Ｒ2およびＲ3は上記の意味を有しおよび場合により存在する反応性基は適当な保護基により封鎖されている］の化合物と反応させ、
および場合により存在する保護基を次に再び脱離し、得られる式Ｉの化合物を、所望の場合その酸付加塩に変えるかまたは酸付加塩を式Ｉの遊離化合物に変えることを特徴とする一般式Ｉの化合物ならびにその生理的に認容性の酸付加塩の製造方法。
【請求項９】  一般式Ｉ
【化７】
2002053577.tif 000007
［式中
Ｒ1は水素または低級アルキルを意味し、
Ｒ2は低級アルキル、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル、低級アルコキシカルボニル低級アルキル、場合により低級アルキルにより１回または２回置換された、場合により１〜２個の二重結合を含有する５〜６個の環原子を有するシクロ（ヘテロ）アルキル、場合により（ヘテロ）フェニル環においてハロゲン、低級アルキルおよび／または低級アルコキシにより１回または２回置換され、その低級アルキル鎖が場合により低級アルキルまたはスピロ−Ｃ4〜Ｃ5アルキレンにより１回または２回置換されている（ヘテロ）フェニル低級アルキル、またはフェニル環において場合によりハロゲン、低級アルキルおよび／または低級アルコキシにより１回または２回置換されたフェニル低級アルコキシを意味し、および
Ｒ3は低級アルキル、低級アルコキシカルボニル低級アルキルを意味するかまたは場合により低級アルキルにより１回または２回置換された、５〜６個の環原子を有するシクロ（ヘテロ）アルキルを意味し、または
Ｒ2およびＲ3は、それが結合している窒素と一緒に式ａ
【化８】
2002053577.tif 000008
（式中
Ａは窒素、酸素、その二重結合が隣接する炭素と一緒に基ａの３位に形成するメチレンまたはメチリデンを意味し、
ｎは１〜３の整数を意味し、
Ｒ4は水素、低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシカルボニル低級アルキル、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル、場合によりハロゲン、低級アルキルおよび／または低級アルコキシにより１回または２回置換された（ヘテロ）フェニル、場合により（ヘテロ）フェニル環においてハロゲン、低級アルキルおよび／または低級アルコキシにより１回または２回置換され、その低級アルキル鎖が場合により低級アルキルにより１回または２回置換されている（ヘテロ）フェニル低級アルキル、５〜６個の環原子を有するシクロ（ヘテロ）アルキルまたはそのシクロ（ヘテロ）アルキル基が５〜６個の環原子を有するシクロ（ヘテロ）アルキル低級アルキルを意味しおよび
Ｒ5は水素、低級アルキルまたは低級アルコキシ低級アルキルを意味するか、または
Ｒ4およびＲ5は一緒に基ａの炭素に結合したスピロエチレンジオキシ、基ａの２個の隣接原子に結合したＣ3〜Ｃ4アルキレンまたは基ａの２個の隣接炭素を介して環付加したフェニルを意味する）の環状基を形成するか、または
Ｒ2およびＲ3はそれが結合している窒素と一緒に、その都度２個の隣接炭素原子を介して結合したＣ4アルキレンにより２回置換されているピロリジン環を形成する］の化合物、ならびに式Ｉの化合物の生理的に認容性の酸付加塩の製造方法において、一般式ＩＶ
【化９】
2002053577.tif 000009
［式中Ｒ1は水素または低級アルキルを意味する］の化合物を、一般式Ｖ
【化１０】
2002053577.tif 000010
［式中Ｒ2およびＲ3は上記の意味を有しおよび場合により存在する反応性基は適当な保護基により封鎖されている］の化合物と反応させ、
および場合により存在する保護基を次に再び脱離し、得られる式Ｉの化合物を、所望の場合その酸付加塩に変えるかまたは酸付加塩を式Ｉの遊離化合物に変えることを特徴とする一般式Ｉの化合物ならびにその生理的に認容性の酸付加塩の製造方法。
【請求項１０】  一般式ＩＶ
【化１１】
2002053577.tif 000011
［式中Ｒ1は水素または低級アルキルを意味する］の化合物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ピペラジン基本構造の窒素においてトリアゾリルメチル基により置換されている、ニューロキニンレセプター拮抗的活性の２−インドリルメチル−ピペラジン誘導体に関する。さらに本発明は、これら新規Ｎ−トリアゾリルメチル−ピペラジン誘導体の使用に関する。さらに本発明は、新規ピペラジン誘導体の製造方法ならびにこの方法の中間生成物に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
さらに、本発明の対象は式Ｉの化合物の使用である。さらに、本発明の対象は式Ｉの化合物の製造方法ならびにこの方法の中間生成物である。