【手続補正書】
【提出日】平成20年3月26日(2008.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面の縮小像を第２面に投影する投影光学系において、
前記投影光学系の光路中の気体の屈折率を１とするとき、前記投影光学系と前記第２面との間の光路は１．５よりも大きい屈折率を有する液体で満たされ、
前記投影光学系は、前記第１面側が前記気体と接し且つ前記第２面側が前記液体と接する境界レンズを備え、
前記境界レンズは、正の屈折力を有し、１．８よりも大きい屈折率を有する光学材料により形成されていることを特徴とする投影光学系。
【請求項２】
前記境界レンズの焦点距離をＦｂとし、前記第２面における最大像高をＹｉとするとき、
０．１１＜Ｙｉ／Ｆｂ＜０．１５
の条件を満足することを特徴とする請求項１に記載の投影光学系。
【請求項３】
前記境界レンズは、酸化マグネシウムにより形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の投影光学系。
【請求項４】
前記投影光学系は、酸化カルシウムにより形成された少なくとも１つの光透過部材を有することを特徴とする請求項３に記載の投影光学系。
【請求項５】
光線の進行経路に沿って前記第１面から順に第１番目の光透過部材から第３番目の光透過部材は、前記酸化カルシウムにより形成された少なくとも１つの光透過部材を含むことを特徴とする請求項４に記載の投影光学系。
【請求項６】
前記境界レンズは、酸化カルシウムにより形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の投影光学系。
【請求項７】
前記投影光学系は、酸化マグネシウムにより形成された少なくとも１つの光透過部材を有することを特徴とする請求項６に記載の投影光学系。
【請求項８】
光線の進行経路に沿って前記第２面から順に第１番目の光透過部材から第３番目の光透過部材は、酸化マグネシウムにより形成された少なくとも１つの光透過部材と、酸化カルシウムにより形成された少なくとも１つの光透過部材とを含み、
前記酸化マグネシウムにより形成された少なくとも１つの光透過部材の中心厚の和をＴＭとし、前記酸化カルシウムにより形成された少なくとも１つの光透過部材の中心厚の和をＴＣとするとき、
０．０５＜ＴＣ／ＴＭ＜０．４３
の条件を満足することを特徴とする請求項１または２に記載の投影光学系。
【請求項９】
前記酸化マグネシウムにより形成された１つの光透過部材と前記酸化カルシウムにより形成された１つの光透過部材とは接合レンズを構成していることを特徴とする請求項８に記載の投影光学系。
【請求項１０】
前記境界レンズは、ＭｇxＣａ1-xＯ（０．８＜ｘ＜０．９）で表される結晶材料により形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の投影光学系。
【請求項１１】
前記境界レンズと前記第２面との間の光路中に配置されて、ほぼ無屈折力を有する光学部材をさらに備えていることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項１２】
前記ほぼ無屈折力の光学部材は、隣接する液体よりも高い屈折率を有していることを特徴とする請求項１１に記載の投影光学系。
【請求項１３】
前記ほぼ無屈折力の光学部材は、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、蛍石、または石英により形成されていることを特徴とする請求項１１または１２に記載の投影光学系。
【請求項１４】
立方晶系に属する結晶で形成された結晶光学素子をさらに備え、前記境界レンズは立方晶系に属する結晶で形成され、
前記結晶光学素子は、第１結晶軸が前記投影光学系の光軸にほぼ一致するように設定され、
前記境界レンズは、第２結晶軸が前記投影光学系の光軸にほぼ一致するように設定され、
前記第１結晶軸とは異なる前記結晶光学素子の結晶軸の方位と、前記第２結晶軸とは異なる前記境界レンズの結晶軸の方位とは、前記立方晶系に属する結晶が有する固有複屈折の影響を低減するように設定されていることを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項１５】
前記境界レンズは酸化マグネシウムまたは酸化カルシウムにより形成され、
前記結晶光学素子は酸化カルシウムまたは酸化マグネシウムにより形成されていることを特徴とする請求項１４に記載の投影光学系。
【請求項１６】
前記境界レンズの光軸方向の厚みと前記結晶光学素子の光軸方向の厚みとは、前記立方晶系に属する結晶が有する固有複屈折の影響を低減するように設定されていることを特徴とする請求項１４または１５に記載の投影光学系。
【請求項１７】
前記投影光学系は、少なくとも１つの凹面反射鏡を備えていることを特徴とする請求項１乃至１６のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項１８】
前記投影光学系は、
前記第１面からの光に基づいて第１中間像を形成するための屈折型の第１結像光学系と、
前記少なくとも１つの凹面反射鏡を含み、前記第１中間像からの光に基づいて第２中間像を形成するための第２結像光学系と、
前記第２中間像からの光に基づいて前記縮小像を前記第２面上に形成するための屈折型の第３結像光学系と、
前記第１結像光学系と前記第２結像光学系との間の光路中に配置された第１偏向鏡と、
前記第２結像光学系と前記第３結像光学系との間の光路中に配置された第２偏向鏡とを備えていることを特徴とする請求項１７に記載の投影光学系。
【請求項１９】
前記投影光学系全体の結像倍率をＭＡとし、前記第３結像光学系の結像倍率をＭ３とするとき、
０．５＜｜Ｍ３／ＭＡ｜＜１
の条件を満足することを特徴とする請求項１８に記載の投影光学系。
【請求項２０】
前記境界レンズを形成する前記光学材料は、立方晶系に属する結晶材料であることを特徴とする請求項１乃至１９のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項２１】
前記第１面に配置されるラインパターンの像を前記第２面上に形成するために用いられ、前記ラインパターンの長手方向に合わせた直線偏光照明に基づいて前記ラインパターンの像を形成することを特徴とする請求項１乃至２０のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項２２】
前記液体は、使用波長において１．６以上の屈折率を有することを特徴とする請求項１乃至２１のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項２３】
前記投影光学系は、像面側に形成された液浸領域の液体を介して基板上に物体の像を投影することを特徴とする請求項１乃至２２のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項２４】
請求項１乃至２３のいずれか１項に記載の投影光学系を備え、液体を介して基板を露光することを特徴とする露光装置。
【請求項２５】
請求項１乃至２３のいずれか１項に記載の投影光学系を用いて、液体を介して基板を露光することを特徴とする露光方法。
【請求項２６】
請求項２４に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項２７】
像面側に形成された液浸領域の液体を介して基板上に物体の像を投影する投影光学系において、
最も像面側に配置されて、ＣａＯ及びＭｇＯのうち少なくとも一方の材料で形成された第１光学素子を備えることを特徴とする投影光学系。
【請求項２８】
前記投影光学系は、前記第１光学素子の前記物体側に隣接して配置されて、ＣａＯ及びＭｇＯのうち少なくとも一方の材料で形成された第２光学素子をさらに備えることを特徴とする請求項２７に記載の投影光学系。
【請求項２９】
像面側に形成された液浸領域の液体を介して基板上に物体の像を投影する投影光学系において、
最も像面側に配置された第１光学素子と、該第１光学素子の前記物体側に隣接して配置された第２光学素子とを備え、
前記第１光学素子と前記第２光学素子との少なくとも一方は、ＣａＯ及びＭｇＯのうち少なくとも一方の材料で形成されることを特徴とする投影光学系。
【請求項３０】
前記投影光学系の前記第１光学素子と前記第２光学素子との少なくとも一方はＣａＯで形成され、該ＣａＯで形成される光学素子には、ＭｇＯを含むコートが設けられることを特徴とする請求項２８または２９に記載の投影光学系。
【請求項３１】
前記投影光学系の前記第１光学素子と前記第２光学素子との少なくとも一方はＭｇＯで形成され、該ＭｇＯで形成される光学素子には、ＣａＯを含むコートが設けられることを特徴とする請求項２８乃至３０のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項３２】
像面側に形成された液浸領域の液体を介して基板上に物体の像を投影する投影光学系において、
最も像面側に配置された第１光学素子と、該第１光学素子の前記物体側に隣接して配置された第２光学素子とを備え、
前記第１光学素子はＣａＯ又はＭｇＯで形成され、
前記第２光学素子はＭｇＯ又はＣａＯで形成されることを特徴とする投影光学系。
【請求項３３】
前記第１光学素子の光軸方向の厚みと前記第２光学素子の光軸方向の厚みとは、前記ＣａＯ及び前記ＭｇＯが有する固有複屈折の影響を低減させるように定められていることを特徴とする請求項３２に記載の投影光学系。
【請求項３４】
前記第１光学素子の光軸方向の厚みと前記第２光学素子の光軸方向の厚みとは、前記ＣａＯ及び前記ＭｇＯが有する固有複屈折の値の逆数にほぼ比例するように定められていることを特徴とする請求項３３に記載の投影光学系。
【請求項３５】
像面側に形成された液浸領域の液体を介して基板上に物体の像を投影する投影光学系において、
最も像面側に配置された第１光学素子と、該第１光学素子の前記物体側に隣接して配置された第２光学素子と、該第２光学素子の前記物体側に隣接して配置された第３光学素子とを備え、
前記第１〜第３光学素子は、ＣａＯで形成される光学素子と、ＭｇＯで形成される光学素子と、石英ガラスで形成される光学素子とであって、
前記ＣａＯで形成される光学素子の光軸方向の厚みと前記ＭｇＯで形成される光学素子の光軸方向の厚みとは、前記ＣａＯ及び前記ＭｇＯが有する固有複屈折の影響を低減させるように定められていることを特徴とする投影光学系。
【請求項３６】
像面側に形成された液浸領域の液体を介して基板上に物体の像を投影する投影光学系において、
ＣａＯで形成される光学素子を備え、
該ＣａＯで形成される光学素子には、ＭｇＯを含むコートが設けられることを特徴とする投影光学系。
【請求項３７】
像面側に形成された液浸領域の液体を介して基板上に物体の像を投影する投影光学系において、
ＭｇＯで形成される光学素子を備え、
該ＭｇＯで形成される光学素子には、ＣａＯを含むコートが設けられることを特徴とする投影光学系。
【請求項３８】
像面側に形成された液浸領域の液体を介して基板上に物体の像を投影する投影光学系において、
最も像面側に配置されて、ＣａＯ、ＣａＯを含む結晶材料、ＭｇＯ及びＭｇＯを含む結晶材料からなる結晶材料群のうち少なくとも１つの材料で形成された第１光学素子を備えることを特徴とする投影光学系。
【請求項３９】
前記投影光学系は、前記第１光学素子の前記物体側に隣接して配置されて、ＭｇＯ及びＭｇＯを含む結晶材料からなる結晶材料群のうち少なくとも１つの材料で形成された第２光学素子をさらに備えることを特徴とする請求項３８に記載の投影光学系。
【請求項４０】
像面側に形成された液浸領域の液体を介して基板上に物体の像を投影する投影光学系において、
最も像面側に配置された第１光学素子と、該第１光学素子の前記物体側に隣接して配置された第２光学素子とを備え、
前記第１光学素子と前記第２光学素子との少なくとも一方は、ＣａＯ及びＣａＯを含む結晶材料からなる第１結晶材料群、及びＭｇＯ及びＭｇＯを含む結晶材料からなる第２結晶材料群のうち少なくとも一方の結晶材料群から選択された材料で形成されることを特徴とする投影光学系。
【請求項４１】
前記投影光学系の前記第１光学素子と前記第２光学素子との少なくとも一方は前記第１結晶材料群から選択された第１材料で形成され、前記第１結晶材料群から選択された前記第１材料で形成される光学素子には、前記第２結晶材料群から選択された第２材料を含むコートが設けられることを特徴とする請求項４０に記載の投影光学系。
【請求項４２】
前記投影光学系の前記第１光学素子と前記第２光学素子との少なくとも一方は前記第２結晶材料群から選択された前記第２材料で形成され、前記第２結晶材料群から選択された第２材料で形成される光学素子には、前記第１結晶材料群から選択された前記第１材料を含むコートが設けられることを特徴とする請求項４０または４１に記載の投影光学系。
【請求項４３】
像面側に形成された液浸領域の液体を介して基板上に物体の像を投影する投影光学系において、
最も像面側に配置された第１光学素子と、該第１光学素子の前記物体側に隣接して配置された第２光学素子とを備え、
前記第１光学素子は、ＣａＯ及びＣａＯを含む結晶材料からなる第１結晶材料群から選択された第１材料、又はＭｇＯ及びＭｇＯを含む結晶材料からなる第２結晶材料群から選択された第２材料で形成され、
前記第２光学素子は前記第２結晶材料群から選択された第２材料又は前記第１結晶材料群から選択された第１材料で形成されることを特徴とする投影光学系。
【請求項４４】
前記第１光学素子の光軸方向の厚みと前記第２光学素子の光軸方向の厚みとは、前記第１結晶材料群から選択された前記第１材料及び前記第２結晶材料群から選択された前記第２材料が有する固有複屈折の影響を低減させるように定められていることを特徴とする請求項４３に記載の投影光学系。
【請求項４５】
前記第１光学素子の光軸方向の厚みと前記第２光学素子の光軸方向の厚みとは、前記第１結晶材料群から選択された前記第１材料及び前記第２結晶材料群から選択された前記第２材料が有する固有複屈折の値の逆数にほぼ比例するように定められていることを特徴とする請求項４４に記載の投影光学系。
【請求項４６】
像面側に形成された液浸領域の液体を介して基板上に物体の像を投影する投影光学系において、
最も像面側に配置された第１光学素子と、該第１光学素子の前記物体側に隣接して配置された第２光学素子と、該第２光学素子の前記物体側に隣接して配置された第３光学素子とを備え、
前記第１〜第３光学素子は、ＣａＯ及びＣａＯを含む結晶材料からなる第１結晶材料群から選択された第１材料で形成される光学素子と、ＭｇＯ及びＭｇＯを含む結晶材料からなる第２結晶材料群から選択された第２材料で形成される光学素子と、石英ガラスで形成される光学素子とであって、
前記第１結晶材料群から選択された前記第１材料で形成される光学素子の光軸方向の厚みと前記第２結晶材料群から選択された前記第２材料で形成される光学素子の光軸方向の厚みとは、前記第１結晶材料群から選択された前記第１材料及び前記第２結晶材料群から選択された前記第２材料が有する固有複屈折の影響を低減させるように定められていることを特徴とする投影光学系。
【請求項４７】
像面側に形成された液浸領域の液体を介して基板上に物体の像を投影する投影光学系において、
ＣａＯ及びＣａＯを含む結晶材料からなる第１結晶材料群から選択された第１材料で形成される光学素子を備え、
該第１材料で形成される光学素子には、ＭｇＯ及びＭｇＯを含む結晶材料からなる第２結晶材料群から選択された第２材料を含むコートが設けられることを特徴とする投影光学系。
【請求項４８】
像面側に形成された液浸領域の液体を介して基板上に物体の像を投影する投影光学系において、
ＭｇＯ及びＭｇＯを含む結晶材料からなる第２結晶材料群から選択された第２材料で形成される光学素子を備え、
該第２材料で形成される光学素子には、ＣａＯ及びＣａＯを含む結晶材料からなる第１結晶材料群から選択された第１材料を含むコートが設けられることを特徴とする投影光学系。
【請求項４９】
前記液体は、使用波長において１．６以上の屈折率を有することを特徴とする請求項２７乃至４８のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項５０】
請求項２７乃至４９のいずれか１項に記載の投影光学系を備え、前記液浸領域の液体を介して前記基板を露光することを特徴とする露光装置。
【請求項５１】
請求項２７乃至４９のいずれか１項に記載の投影光学系を用いて、前記液浸領域の液体を介して前記基板を露光することを特徴とする露光方法。
【請求項５２】
請求項５０に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。