【手続補正書】
【提出日】平成20年1月10日(2008.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源手段と、前記光源手段から出射した光束を偏向手段に入射させる入射光学系と、前記偏向手段の偏向面で偏向された光束を被走査面上に結像させる結像光学系と、を有する光走査装置において、
前記入射光学系又は／及び前記結像光学系は、光学面上に入射する光束に対して反射防止作用を有する０次格子である微細構造体が２次元的に設けられた光学素子を有しており、
前記２次元的に設けられた微細構造体は、前記光学面の頂点の接線を含む面内で互いに直交する方向に第１方向と第２方向をとったとき、少なくとも１つの方向において、前記微細構造体間の距離が一定でなく、かつ、前記２次元的に設けられた微細構造体の任意の微細構造体は、隣接する最も近い微細構造体までの距離が前記微細構造体に入射する入射光束の平均波長の１／２よりも短い状態で配置されており、
前記任意の微細構造体から距離の短い順に選択したｎ個の微細構造体までの距離をＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）、前記入射光束の最小波長をλ、前記光学面の入射側の媒質の屈折率をＮｉ、前記光学面の出射側の媒質の屈折率をＮｓ、前記光学面へ入射する光束の入射角度をθｉ、前記距離Ｌｉ（ｉ＝１〜ｎ）に対する標準偏差をＬσとし、
【数１】
2006201371.tif 000001
とおいたとき、
Ｌａｖｅ＜λ／（Ｎｓ＋Ｎｉ・sinθｉ）
Ｌσ≦８０（ｎｍ）
なる条件を満足することを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記微細構造体の形状は凸形状又は凹形状であることを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
光源手段と、前記光源手段から出射した光束を偏向手段に入射させる入射光学系と、前記偏向手段の偏向面で偏向された光束を被走査面上に結像させる結像光学系と、を有する光走査装置において、
前記入射光学系又は／及び前記結像光学系は、光学面上に入射する光束に対して反射防止作用を有する０次格子である微細構造体が２次元的に設けられた光学素子を有しており、
前記２次元的に設けられた微細構造体は、前記光学面の頂点の接線を含む面内で互いに直交する方向に第１方向と第２方向をとったとき、少なくとも１つの方向において、前記微細構造体間の距離が一定でなく、かつ、前記２次元的に設けられた微細構造体の任意の微細構造体は、隣接する最も近い微細構造体までの距離が前記微細構造体に入射する入射光束の平均波長の１／２よりも短い状態で配置されており、
前記任意の微細構造体から距離の短い順に選択したｎ個の微細構造体までの距離をＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）、前記光学面の面頂点の接線を含む面に平行な任意の切断面での該任意の微細構造体の断面積をＳ0、前記ｎ個の微細構造体の断面積をＳｉ（ｉ＝１〜ｎ）、前記距離Ｌｉ（ｉ＝１〜ｎ）に対する標準偏差をＬσとし、
【数２】
2006201371.tif 000002
【数３】
2006201371.tif 000003
とおいたとき、
０．１６≦Ｓａｖｅ／（Ｋ×（Ｌａｖｅ）２）≦０．８１
Ｌσ≦８０（ｎｍ）
ただし、Ｋは常数で
０．８７≦Ｋ≦１．０
なる条件を満足することを特徴とする光走査装置。
【請求項４】
前記微細構造体の形状は凸形状又は凹形状であり、前記任意の切断面は、前記凸形状又は前記凹形状の頂面と底面との中間位置での切断面であることを特徴とする請求項３に記載の光走査装置。
【請求項５】
前記任意の微細構造体は、前記光学面の面頂点における法線を含み前記第１方向で切った切断面の断面形状と、前記光学面の面頂点における法線を含み前記第２方向で切った切断面の断面形状が一致することを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項６】
前記微細構造体は、前記光学面の面頂点の接線を含む面に平行な切断面での各微細構造体の断面積が一致しないものを含むことを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項７】
前記光学素子の光学面に入射する光束の偏光の偏波方向は、前記第１方向もしくは第２の方向と一致することを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項８】
請求項１乃至７の何れか一項に記載の光走査装置と、前記被走査面に配置された感光体と、前記光走査装置で走査された光ビームによって前記感光体の上に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像されたトナー像を被転写材に転写する転写手段と、転写されたトナー像を被転写材に定着させる定着器とを有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項９】
外部機器から入力したコードデータを画像信号に変換して前記光走査装置に入力せしめるプリンタコントローラとを有していることを特徴とする請求項８の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光走査装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、反射防止作用を有する光学素子を用いた光走査装置に関する。この他本発明は光源手段から射出した光束を光偏向器（偏向手段）で偏向させ、ｆθ特性を有し、かつ微細構造格子を設けた光学素子を含む結像光学系を介して被走査面上を光走査して画像情報を記録するようにした、例えば電子写真プロセスを有するレーザービームプリンタやデジタル複写機、そしてマルチファンクションプリンタ（多機能プリンタ）等の画像形成装置の光学系に好適なものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明はフレアーやゴーストの元となるレンズ面でのフレネル（表面）反射を低減させることができる光走査装置の提供を目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
この他、本発明はコーティングなどの追加工程を増やすことなく、レンズ面でのフレネル反射を低減させることができる光走査装置の提供を目的とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
請求項１の発明の光走査装置は、光源手段と、前記光源手段から出射した光束を偏向手段に入射させる入射光学系と、前記偏向手段の偏向面で偏向された光束を被走査面上に結像させる結像光学系と、を有する光走査装置において、
前記入射光学系又は／及び前記結像光学系は、光学面上に入射する光束に対して反射防止作用を有する０次格子である微細構造体が２次元的に設けられた光学素子を有しており、
前記２次元的に設けられた微細構造体は、前記光学面の頂点の接線を含む面内で互いに直交する方向に第１方向と第２方向をとったとき、少なくとも１つの方向において、前記微細構造体間の距離が一定でなく、かつ、前記２次元的に設けられた微細構造体の任意の微細構造体は、隣接する最も近い微細構造体までの距離が前記微細構造体に入射する入射光束の平均波長の１／２よりも短い状態で配置されており、
前記任意の微細構造体から距離の短い順に選択したｎ個の微細構造体までの距離をＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）、前記入射光束の最小波長をλ、前記光学面の入射側の媒質の屈折率をＮｉ、前記光学面の出射側の媒質の屈折率をＮｓ、前記光学面へ入射する光束の入射角度をθｉ、前記距離Ｌｉ（ｉ＝１〜ｎ）に対する標準偏差をＬσとし、
【数４】
2006201371.tif 000004
とおいたとき、
Ｌａｖｅ＜λ／（Ｎｓ＋Ｎｉ・sinθｉ）
Ｌσ≦８０（ｎｍ）
なる条件を満足することを特徴としている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
請求項２の発明は請求項１の発明において、前記微細構造体の形状は凸形状又は凹形状であることを特徴としている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
請求項３の発明の光走査装置は、光源手段と、前記光源手段から出射した光束を偏向手段に入射させる入射光学系と、前記偏向手段の偏向面で偏向された光束を被走査面上に結像させる結像光学系と、を有する光走査装置において、
前記入射光学系又は／及び前記結像光学系は、光学面上に入射する光束に対して反射防止作用を有する０次格子である微細構造体が２次元的に設けられた光学素子を有しており、
前記２次元的に設けられた微細構造体は、前記光学面の頂点の接線を含む面内で互いに直交する方向に第１方向と第２方向をとったとき、少なくとも１つの方向において、前記微細構造体間の距離が一定でなく、かつ、前記２次元的に設けられた微細構造体の任意の微細構造体は、隣接する最も近い微細構造体までの距離が前記微細構造体に入射する入射光束の平均波長の１／２よりも短い状態で配置されており、
前記任意の微細構造体から距離の短い順に選択したｎ個の微細構造体までの距離をＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）、前記光学面の面頂点の接線を含む面に平行な任意の切断面での該任意の微細構造体の断面積をＳ0、前記ｎ個の微細構造体の断面積をＳｉ（ｉ＝１〜ｎ）、前記距離Ｌｉ（ｉ＝１〜ｎ）に対する標準偏差をＬσとし、
【数５】
2006201371.tif 000005
【数６】
2006201371.tif 000006
とおいたとき、
０．１６≦Ｓａｖｅ／（Ｋ×（Ｌａｖｅ）２）≦０．８１
Ｌσ≦８０（ｎｍ）
ただし、Ｋは常数で
０．８７≦Ｋ≦１．０
なる条件を満足することを特徴としている。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
請求項４の発明は請求項３の発明において、前記微細構造体の形状は凸形状又は凹形状であり、前記任意の切断面は、前記凸形状又は前記凹形状の頂面と底面との中間位置での切断面であることを特徴としている。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
請求項５の発明は請求項１乃至４のいずれか１項の発明において、前記任意の微細構造体は、前記光学面の面頂点における法線を含み前記第１方向で切った切断面の断面形状と、前記光学面の面頂点における法線を含み前記第２方向で切った切断面の断面形状が一致することを特徴としている。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
請求項６の発明は請求項１乃至４のいずれか１項の発明において、前記微細構造体は、前記光学面の面頂点の接線を含む面に平行な切断面での各微細構造体の断面積が一致しないものを含むことを特徴としている。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
請求項７の発明は請求項１乃至６のいずれか１項の発明において、前記光学素子の光学面に入射する光束の偏光の偏波方向は、前記第１方向もしくは第２の方向と一致することを特徴としている。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
請求項８の発明の画像形成装置は、請求項１乃至７の何れか一項に記載の光走査装置と、前記被走査面に配置された感光体と、前記光走査装置で走査された光ビームによって前記感光体の上に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像されたトナー像を被転写材に転写する転写手段と、転写されたトナー像を被転写材に定着させる定着器とを有することを特徴としている。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
請求項９の発明は請求項８の発明において、外部機器から入力したコードデータを画像信号に変換して前記光走査装置に入力せしめるプリンタコントローラとを有していることを特徴としている。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
図２、図３においては各々任意の微細構造体80に対し、座標系Ｘ、Ｙ、Ｚを記載している。微細構造体80からみて、第１方向の配列方向がＹ方向、第１方向の配列方向と垂直で同一紙面内にある第２方向の配列方向がＺ方向であるとする。光学面はＹ−Ｚ面内であり、光学面の面頂点での法線がＸ方向になる。ここで第１方向と第２方向の含む面は光学面の頂点の接線を含む面となる。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
条件式(1)を考察すると以下のようなことが言える。条件式(1)の右辺の分母（Ｎｓ＋Ｎｉ・sinθｉ）は入射側の媒質（空気）の屈折率をＮｉ＝１とするとＮｓ＋sinθｉとなる。実用的な入射角度θｉ≒45°であること、更に硝材の屈折率が概ねＮｓ≒1.5であることを勘案すると条件式(1)は概ね、
Ｌａｖｅ＜λ／２
ということになる。よって距離Ｌｉの最小値（隣接する最も近い微細構造体までの距離）はλ／２より小さくなることが考えられる。例えば平均波長の１／２よりも短くなることが考えられる。
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９５】
図１で最初のケースとして半導体レーザ−１から射出される光束(レーザ光)の偏波面（偏波方向）は紙面に平行、つまりＸ−Ｙ平面に対して平行であるとする。このとき光偏向器５に入射する光束は、該光偏向器５に対してＰ偏光である。そして結像光学系６上、すなわち図２の微細構造格子８ではＹ軸方向、すなわち第１方向の配列方向に偏波していることになる。
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１８】
前述の実施例１と同様に任意の微細構造体80と、該微細構造体80に対して距離の短い順に選択された６個の隣接微細構造体81,82,83,84,85,86を、光学面に平行で、かつ微細構造体80の最も高い部分（頂面）80aと最も低い部分（底面）80bの中間の高さ（中間位置）（図８の破線）Ｍの切断面で切ったときの
任意の微細構造体80の断面積をＳ0、
ｎ個の隣接微細構造体81,82,83,84,85,86の断面積をＳｉ（ｉ＝１〜ｎ、本実施例ではｎ＝６）、
距離Ｌｉ（ｉ＝１〜ｎ）に対する標準偏差をＬσ
とし、