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【手続補正書】
【提出日】平成20年3月3日(2008.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気部品を支持する構造体を有するステージ装置において、
前記構造体の表面に、前記電気部品に電気または信号の少なくともいずれかを供給するための配線パターンを有することを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
前記配線パターンは、前記構造体が有する少なくとも２つの隣り合う面に形成されることを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項３】
前記構造体の前記配線パターンに電気または信号の少なくともいずれかを供給するための配線パターンが表面に形成された第２の構造体を備え、
前記構造体と前記第２の構造体とには、前記構造体の配線パターンと前記第２の構造体の配線パターンとを接続する接続部がそれぞれ設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載のステージ装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載のステージ装置であって、
前記配線パターンは、
前記構造体の表面に、または、前記構造体の表面に絶縁皮膜を設けた後に前記絶縁皮膜の表面に、導電性金属箔を貼り付ける工程と、
前記導電性金属箔の上に感光剤を塗布する工程と、
前記感光剤に配線パターンを焼き付ける工程と、
前記焼き付けられた配線パターンを現像する工程とを含む方法によって形成されることを特徴とするステージ装置。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれかに記載のステージ装置であって、
前記配線パターンは、
前記構造体の表面に溝を設ける工程と、
前記溝に導体を設ける工程とを含む方法によって形成されることを特徴とするステージ装置。
【請求項６】
前記配線パターンを保護するための絶縁皮膜を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のステージ装置。
【請求項７】
前記絶縁皮膜の上にさらに導体を設け、前記導体の上にさらに絶縁皮膜が設けられたことを特徴とする請求項６に記載のステージ装置。
【請求項８】
前記絶縁皮膜の材質は、セラミック、ガラス、フッ素樹脂のうちのいずれかを含むことを特徴とする請求項６または７に記載のステージ装置。
【請求項９】
前記電気部品がセンサまたはアクチュエータの少なくともいずれかであることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載のステージ装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載のステージ装置によって基板または原版あるいはその双方を位置決めすることを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の露光装置であって、
前記ステージ装置は、真空雰囲気中に置かれることを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
請求項１０または１１に記載の露光装置を用いて露光対象に露光を行う工程と、露光された前記露光対象を現像する工程と、を具備することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記目的を達成するために本発明では、電気部品を支持する構造体を有するステージ装置において、前記構造体の表面に、前記電気部品に電気または信号の少なくともいずれかを供給するための配線パターンを有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
図１は本発明の実施例１に係る半導体露光装置のステージ装置を示す。図１において、ステージ装置は長ストロークで移動可能な粗動ステージ（不図示）と、粗動ステージに対して短ストロークで移動可能な微動ステージ（天板）９を備える。粗動ステージと微動ステージの間には微動ベース構造体１と、微動ベース構造体１を支持する第２の構造体である微動ベース支持構造体２が設けられる。微動ベース構造体１の上にリニアモータ固定子コイル３と位置センサ４（電気部品）が搭載支持されている。前記電気部品を支持する前記構造体（微動ベース構造体１）及び第２の構造体である微動ベース支持構造体２の表面は、前記電気部品に電気または信号の少なくともいずれかを供給するための配線パターンを有している。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
微動ベース構造体１が金属などの導電材の場合は、そのままパターンを形成することができないので、一旦絶縁皮膜にて表面処理した後、銅箔等の導電性金属箔を貼り付けて同様のエッチング工程にてパターンを形成していく。即ち、微動ベース構造体１がセラミックなどの非導電材の場合はその表面に銅箔等の導電性金属箔を貼り付け（段落００２０）、微動ベース構造体１が金属などの導電材の場合はその表面に絶縁皮膜を設けた後に該絶縁皮膜の表面に銅箔等の導電性金属箔を貼り付ける。第２の構造体についても同様である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
図４にステージ構造体である微動ベース構造体１と微動ベース支持構造体２との間の信号伝達の方法を示す。微動ベース構造体１上にプリント配線１１を形成しパターンの終端部に接続部であるランド１２ａを設ける。同様に微動ベース支持構造体２に形成したパターンの終端部にも接続部であるランド１２ｂを設ける。このようなランドは微動ベース構造体１に形成された配線パターンと微動ベース支持構造体２に形成された配線パターンを連結する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
図５は本発明の実施例２に係る半導体露光装置のステージ装置を示す。このステージ装置は、微動ベース構造体１上のリニアモータ固定子コイル３と、位置センサ４と、微動ベース構造体上の表面に形成した配線パターン１１との接続を接続部であるコンタクトプローブ１６により行う。同様に、微動ベース構造体１と微動ベース支持構造体２との間の信号伝達もコンタクトプローブ１６により行う。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
図６に詳細を示すように、リニアモータ固定子コイル３から引き出された線は、コンタクトプローブ１６ｂに接続されてユニット化され、微動ベース構造体１への取り付け取り外しが容易な構成となっている。コンタクトプローブ１６ｂは内部にバネが入っており、微動ベース構造体１の点線の部分に搭載されると、微動ベース構造体１の表面に形成された配線パターンの終端部の接続部であるランド１２ｂにプローブが接触し信号が伝達される。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月27日(2008.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８９】
７０２は、ＵＶ硬化樹脂を硬化させるための照明光７０１と同じ光源から、別の経路で紫外線（ＵＶビーム）７０３を導くＵＶ導光系である。ＵＶビーム７０３は、該ＵＶ導光系７０２から射出してＵＶミラー７０４で反射され、モールド１０１を透過してレジスト上（ウエハ面）にスポットを結ぶ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
このようなナノインプリント装置では、モールド１０１がウエハ１０２上のレジストに押し付けられた後、ＵＶ硬化樹脂を硬化させるための照明光７０１をレジストに照射すると同時に、ＵＶ導光系７０２およびＵＶミラー７０４を介してＵＶビーム７０３もレジストに照射する。ＵＶビーム７０３のスポット照射領域は、該ＵＶビーム７０３と照明光７０１とが重なることにより、他の領域と比べて露光量が大きくなる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月11日(2008.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面の像を第２面上に形成する投影光学系において、
前記投影光学系の瞳位置の近傍に配置された交換用光透過部材と、該交換用光透過部材を保持し且つ前記投影光学系の光軸とほぼ直交する方向に沿って鏡筒から引き出し可能なレンズ室とを備えていることを特徴とする投影光学系。
【請求項２】
前記交換用光透過部材は、前記瞳位置またはその近傍に配置された開口絞りの第２面側に隣接して配置されていることを特徴とする請求項１に記載の投影光学系。
【請求項３】
前記交換用光透過部材の焦点距離ｆは、
｜１／ｆ｜＜０．００１５ｍｍ-1
の条件を満足することを特徴とする請求項１または２に記載の投影光学系。
【請求項４】
前記投影光学系中の前記交換用光透過部材以外の複数の光透過部材は、前記光軸に沿ってそれぞれ移動可能に構成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項５】
前記複数の光透過部材の各々は、前記光軸に対する偏心移動および前記光軸に対する傾斜移動のうちの少なくとも一方の移動が可能に構成されていることを特徴とする請求項４に記載の投影光学系。
【請求項６】
第１面の像を第２面上に形成する投影光学系において、
前記投影光学系の瞳位置またはその近傍に配置された開口絞りと、
前記開口絞りの第２面側に隣接して配置された光透過部材と、
前記光透過部材を保持し且つ前記投影光学系の光軸とほぼ直交する方向に沿って鏡筒から引き出し可能なレンズ室とを備えていることを特徴とする投影光学系。
【請求項７】
第１面の像を第２面上に形成する投影光学系の調整方法において、
前記投影光学系の瞳位置の近傍に配置された交換用光透過部材を保持するレンズ室を前記投影光学系の光軸とほぼ直交する方向に沿って鏡筒から引き出す工程と、
前記レンズ室から前記交換用光透過部材を取り出して、前記投影光学系の波面収差を補正するための所要の曲面形状の光学面を有する補正用光透過部材と交換する交換工程と、
前記補正用光透過部材を保持する前記レンズ室を前記光軸とほぼ直交する方向に沿って押し入れて前記鏡筒内の元の位置に戻す工程とを含むことを特徴とする調整方法。
【請求項８】
前記交換用光透過部材は、前記瞳位置またはその近傍に配置された開口絞りの第２面側に隣接して配置されていることを特徴とする請求項７に記載の調整方法。
【請求項９】
前記交換工程は、前記補正用光透過部材を得るために前記レンズ室から取り出した前記交換用光透過部材を加工する加工工程を含むことを特徴とする請求項７または８に記載の調整方法。
【請求項１０】
前記交換工程は、前記補正用光透過部材を得るために前記レンズ室から取り出した前記交換用光透過部材とは別の光透過部材を加工する加工工程を含むことを特徴とする請求項７または８に記載の調整方法。
【請求項１１】
前記加工工程では、前記補正用光透過部材の前記光学面を、ツェルニケ関数で表現される複数回回転対称成分を含む曲面形状に加工することを特徴とする請求項９または１０に記載の調整方法。
【請求項１２】
前記加工工程では、前記補正用光透過部材の前記光学面を、ツェルニケ関数で表現される複数回回転対称成分以外の成分も含む曲面形状に加工することを特徴とする請求項１１に記載の調整方法。
【請求項１３】
前記所要の曲面形状は、前記投影光学系の波面収差に関する情報に基づいて決められることを特徴とする請求項７乃至１２のいずれか１項に記載の調整方法。
【請求項１４】
前記所要の曲面形状は、前記交換用光透過部材の透過波面データに基づいて決められることを特徴とする請求項１３に記載の調整方法。
【請求項１５】
前記補正用光透過部材の前記光学面と前記交換用光透過部材の対応する光学面との間の変化量のＰ−Ｖ値（peak to valley：最大最小の差）ΔＸは、
ΔＸ＞１０ｎｍ
の条件を満足することを特徴とする請求項７乃至１４のいずれか１項に記載の調整方法。
【請求項１６】
請求項７乃至１５のいずれか１項に記載の調整方法により調整されたことを特徴とする投影光学系。
【請求項１７】
前記第１面に設定されたマスクを照明するための照明系と、前記マスク上のパターンの像を前記第２面に設定された感光性基板に投影するための請求項１乃至６および請求項１６のいずれか１項に記載の投影光学系とを備えていることを特徴とする露光装置。
【請求項１８】
前記第１面に設定されたマスクを照明する照明工程と、請求項１乃至６および請求項１６のいずれか１項に記載の投影光学系を介して前記マスク上のパターンの像を前記第２面に設定された感光性基板上に投影露光する露光工程とを含むことを特徴とする露光方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月21日(2007.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータシステムにおいて生起キューブを生成する方法において、
データベースのドメインのそれぞれのグローバル属性に関して、前記データベースのそれぞれのインタフェース属性に対して、前記データベースにクエリをサブミットするステップであって、各クエリは、前記データベースのインタフェース属性の値が前記データベースのドメインのグローバル属性のグローバル属性値にセットされる、クエリをサブミットするステップと、
それぞれのサブミットされたクエリの結果に対して、前記グローバル属性の前記値が前記結果の各結果属性に現れる回数をカウントするステップと、
グローバル属性、インタフェース属性、および結果属性の各組合せに対して、前記グローバル属性のグローバル属性値にセットされた前記インタフェース属性を有してサブミットされるクエリからの結果としての前記グローバル属性の前記値が各結果属性に現れる回数をカウントする蓄積を、前記生起キューブの要素として、記憶するステップと
を含み、
前記記憶された要素は、生起キューブを形成することを特徴とする生起キューブを生成する方法。
【請求項２】
前記生起キューブから、グローバル属性およびインタフェース属性に関連する生起行列を生成するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記生起キューブから、グローバル属性および結果属性に関連する生起行列を生成するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記生起キューブから、インタフェース属性および結果属性に関連する生起行列を生成するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
グローバル属性値およびインタフェース属性の各組合せごとにクエリがサブミットされることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記生起キューブが、グローバル属性、インタフェース属性、および結果属性の各組合せに対するカウントを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
コンピュータシステムにおいてドメイン内のデータベースの属性を識別する方法において、
前記ドメインのグローバルスキーマのグローバル属性ならびに前記データベースのインタフェーススキーマのインタフェース属性および結果スキーマの結果属性に関連する生起カウントを提供するステップであって、カウントのそれぞれは、グローバル属性、インタフェース属性、および結果属性の各組合せに対して、グローバル属性に関するグローバル属性値が、前記グローバル属性値にセットされた前記インタフェース属性を有して前記データベースにサブミットされるクエリの結果の前記結果属性の値として現れる、生起の数を表す、生起カウントを提供するステップと、
提供されたカウントに基づいてスキーマの対の相互情報量を推定するステップと、
推定された相互情報量からどの属性がマッチするかを識別するステップと
を含むことを特徴とするデータベースの属性を識別する方法。
【請求項８】
前記カウントを提供するステップが、グローバル属性、インタフェース属性、および結果属性に関連する生起カウントを提供する生起キューブを、スキーマの対に関連する行列に射影するステップを含むことを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記インタフェース属性の値が前記グローバル属性のグローバル属性値にセットされたクエリを前記データベースにサブミットすることによって前記生起キューブを生成するステップを含むことを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記生起キューブ内の前記生起カウントは、クエリにおけるインタフェース属性の値として用いられるグローバル属性のグローバル属性値が該クエリの結果の結果属性に現れる回数を表すことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記インタフェース属性が、ＨＴＭＬの入力関連要素に基づいて識別されることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１２】
前記結果属性が、正規表現ラッパを用いて識別されることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１３】
インタフェース属性の値が前記グローバル属性のグローバル属性値にセットされたクエリを前記データベースにサブミットすることによって、前記生起カウントが提供されることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１４】
前記相互情報量が次式
【数１】
2006004411.tif 000001
によって推定されることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１５】
スキーマの対において、一方のスキーマの属性であって、他方のスキーマの属性について最高の推定相互情報量を有する属性が、他方のスキーマの別の属性についてさらに高い推定相互情報量を有しない場合に、スキーマの対における属性間のマッチが識別されることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月20日(2008.3.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】発光素子、表示装置、及び電子機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素電極、電界発光層、透明電極、パッシベーション膜、応力緩和層及び低屈折率層が順次積層されてなり、
前記低屈折率層の屈折率は、前記応力緩和層の屈折率よりも小さいことを特徴とする発光素子。
【請求項２】
画素電極、電界発光層、透明電極、応力緩和層、パッシベーション膜及び低屈折率層が順次積層されてなり、
前記低屈折率層の屈折率は、前記応力緩和層の屈折率よりも小さいことを特徴とする発光素子。
【請求項３】
画素電極、電界発光層、透明電極、第１の応力緩和層、パッシベーション膜、第２の応力緩和層及び低屈折率層が順次積層されてなり、
前記低屈折率層の屈折率は、前記第２の応力緩和層の屈折率よりも小さいことを特徴とする発光素子。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
前記パッシベーション膜は、窒化珪素、酸化珪素、窒化酸化珪素又は酸化窒化珪素を含むことを特徴とする発光素子。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記応力緩和層は、前記透明電極または前記パッシベーション膜よりも屈折率の小さい材料からなることを特徴とする発光素子。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記応力緩和層は、窒化酸化珪素又はα−ＮＰＤを含むことを特徴とする発光素子。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一において、
前記低屈折率層は、ＬｉＦ、ＭｇＦ２又はＣａＦ２を含むことを特徴とする発光素子。
【請求項８】
基板上に設けられたトランジスタと、
層間絶縁膜を介して前記トランジスタと電気的に接続された発光素子とを有し、
前記発光素子は、画素電極、電界発光層、透明電極、パッシベーション膜、応力緩和層及び低屈折率層が順次積層されてなり、
前記低屈折率層の屈折率は、前記応力緩和層の屈折率よりも小さいことを特徴とする表示装置。
【請求項９】
基板上に設けられたトランジスタと、
層間絶縁膜を介して前記トランジスタと電気的に接続された発光素子とを有し、
前記発光素子は、画素電極、電界発光層、透明電極、応力緩和層、パッシベーション膜及び低屈折率層が順次積層されてなり、
前記低屈折率層の屈折率は、前記応力緩和層の屈折率よりも小さいことを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
基板上に設けられたトランジスタと、
層間絶縁膜を介して前記トランジスタと電気的に接続された発光素子とを有し、
前記発光素子は、画素電極、電界発光層、透明電極、第１の応力緩和層、パッシベーション膜、第２の応力緩和層及び低屈折率層が順次積層されてなり、
前記低屈折率層の屈折率は、前記第２の応力緩和層の屈折率よりも小さいことを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
請求項８乃至１０のいずれか一において、
前記発光素子は、充填層を介して対向基板によって封止されていることを特徴とする表示装置。
【請求項１２】
請求項１１において、
前記充填層の屈折率は、空気の屈折率よりも大きく、前記低屈折率層の屈折率と前記対向基板の屈折率の間の値であることを特徴とする表示装置。
【請求項１３】
請求項８乃至１２のいずれか一において、
前記パッシベーション膜は、窒化珪素、酸化珪素、窒化酸化珪素又は酸化窒化珪素を含むことを特徴とする表示装置。
【請求項１４】
請求項８乃至１３のいずれか一において、
前記応力緩和層は、前記透明電極または前記パッシベーション膜よりも屈折率の小さい材料からなることを特徴とする表示装置。
【請求項１５】
請求項８乃至１３のいずれか一において、
前記応力緩和層は、窒化酸化珪素又はα−ＮＰＤを含むことを特徴とする表示装置。
【請求項１６】
請求項８乃至１５のいずれか一において、
前記低屈折率層は、ＬｉＦ、ＭｇＦ２又はＣａＦ２を含むことを特徴とする表示装置。
【請求項１７】
請求項８乃至１６のいずれか一において、
前記層間絶縁膜は炭素を含み、かつ遮光性を有することを特徴とする表示装置。
【請求項１８】
請求項８乃至１７のいずれか一において、
前記発光素子に接して、炭素を含み、かつ遮光性を有する隔壁層が設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項１９】
請求項８乃至１８のいずれか一に記載の表示装置を用いた電子機器。
【請求項２０】
請求項１９において、前記電子機器は、テレビジョン装置、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、携帯電話機、携帯情報端末、携帯型ゲーム機、モニタ、コンピュータ、音響再生装置、または画像再生装置であることを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月1日(2008.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
点光源と、前記点光源からの光を光入射面から光出射面に導く導光板と、前記導光板の前記光出射面と反対側の面上に形成された複数の微細散乱構造体を備えるとともに、
前記微細構造体は前記導光板の内部に窪んだ凹形状であり、この凹形状は光源側の斜面を有するとともに、
前記点光源から前記微細構造体に入射する光の方向が前記微細散乱構造体の長手方向と略一致し、前記光源側の斜面の基底線と直交することを特徴とする照明装置。
【請求項２】
前記微細散乱構造体を構成する２つの側面は、それぞれの側面を点光源方向に延長した仮想面が前記点光源で交わるように形成されていることを特徴とする請求項１に記載の照明装置。
【請求項３】
前記導光板の光出射面、または、光出射面と反対側の面が、複数の領域に分割されており、
前記複数の領域での導光板の厚みが、前記光源から遠ざかるにつれて薄くなっていることを特徴とする請求項１または２に記載の照明装置。
【請求項４】
前記導光板の光出射面上に互いに離間した第二の微細散乱構造体が形成され、前記第二の微細散乱構造体と前記点光源とを結ぶ直線に対して、前記第二の微細散乱構造体の長手方向が略平行または略垂直であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の照明装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の照明装置と、前記照明装置の光照射面側に設けられた非自発光型の表示素子とを備えることを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月24日(2008.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオンビーム軸を有する真空チャンバと、
前記イオンビーム軸と直角で前記イオンビーム軸に交差する傾斜軸の周りに自由に傾斜できる基板チャンバと、
前記イオンビーム軸と同軸に位置合わせされた前記基板チャンバ内の開口部及び前記イオンビーム軸と同軸に位置合わせされた前記真空チャンバ内の開口部を連結し、前記基板チャンバと前記真空チャンバとの間に真空シールを形成する可撓性ベローズと、
前記真空チャンバの近くの上部及び前記基板チャンバの近くの下部が開いており、前記イオンビーム軸と前記可撓性ベローズとの間に配置され、前記上部及び下部が前記イオンビーム軸と同軸に位置合わせされた中空の異物シールドと、
を備えることを特徴とするイオンビーム・システム。
【請求項２】
前記上部及び下部が開いており、前記イオンビーム軸と前記異物シールドとの間に配置され、前記上部及び下部が前記イオンビーム軸と同軸に位置合わせされた電子シャワー・チューブをさらに含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
イオンビーム源と前記真空チャンバとの間に配置されたイオンビーム・アナライザをさらに含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記イオンビーム・アナライザと前記真空チャンバとの間に配置された真空ポンプ・ポートをさらに含む、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記基板チャンバ内に配置され、前記イオンビーム軸と平行な軸の周りに回転可能であり、前記基板チャンバ内で、前記基板チャンバの長手方向軸に沿って自由に往復運動できる基板ステージをさらに含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記基板チャンバが、前記傾斜軸及び前記イオンビーム軸の両方と直角でこれらの軸に交差する補助の傾斜軸の周りに自由に傾斜できる、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記異物シールドの前記下部に隣接する前記異物シールドの一部が、前記基板チャンバに対し熱的接触状態になった、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記異物シールドが円筒であり、前記異物シールドの前記上部に隣接する内面及び外面が同じ縁部に向けてテーパ状になっている、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記異物シールドが、前記異物シールドの前記下部を含む最下部円筒から前記異物シールドの前記上部を含む最上部円筒まで直径が減少する一体の円筒を含み、前記最上部円筒に隣接する内面及び外面が同じ縁部に向けてテーパ状になっており、直径が減少する前記円筒が、傾斜外面を有する一体の移行リングによって接合されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
前記異物シールドは、前記異物シールドの前記上部の直径が前記異物シールドの前記下部の直径より小さい円錐台を含み、前記異物シールドの側壁が溝を有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
前記イオンビーム源が、リン、ホウ素、ヒ素、ゲルマニウム、炭素、窒素、ヘリウム、又はこれらの組み合わせからなる群から選択された荷電種を生成する、請求項１に記載のシステム。
【請求項１２】
前記異物シールドの内面がテクスチャー加工された、請求項１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記異物シールドが、アルミニウム、ステンレス鋼、セラミック、炭化シリコン、炭素、シリコン、及び高温ポリマーからなる群から選択された材料を含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項１４】
前記真空チャンバ近傍の上部及び前記異物シールド近傍の下部が開いた中空の補助の異物シールドをさらに含み、前記補助の異物シールドは前記イオンビーム軸と前記可撓性ベローズとの間に配置され、中空の補助の異物シールドの前記上部及び下部が前記イオンビーム軸と同軸に位置合わせされ、前記補助の異物シールドのフランジ部分が前記異物シールドの前記上部上に延びている、請求項１に記載のシステム。
【請求項１５】
イオンビーム・システムにおいて基板の異物汚染を減少させる方法であって、
イオンビーム軸を有する真空チャンバを設けるステップと、
前記イオンビーム軸に直角で前記イオンビーム軸に交差する傾斜軸の周りに自由に傾斜できる基板チャンバを設けるステップと、
前記イオンビーム軸と同軸に位置合わせされた前記基板チャンバ内の開口部及び前記イオンビーム軸と同軸に位置合わせされた前記真空チャンバ内の開口部を連結し、前記基板チャンバと前記真空チャンバとの間に真空シールを提供する可撓性ベローズを設けるステップと、
前記真空チャンバ近傍の上部及び前記基板チャンバ近傍の下部が開いており、前記イオンビーム軸と前記可撓性ベローズとの間に配置され、前記上部及び下部が前記イオンビーム軸と同軸に位置合わせされた中空の異物シールドを設けるステップとを含むことを特徴とする方法。
【請求項１６】
前記上部及び下部が開いており、前記イオンビーム軸と前記異物シールドとの間に配置され、前記上部及び下部が前記イオンビーム軸と同軸に位置合わせされた電子シャワー・チューブを設けるステップをさらに含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記イオンビーム源と前記真空チャンバとの間に配置されたイオンビーム・アナライザを設けるステップと、
前記イオンビーム・アナライザと前記真空チャンバとの間に配置された真空ポンプ・ポートを設けるステップとをさらに含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
前記基板チャンバ内に配置され、前記イオンビーム軸に平行な軸の周りに回転可能であり、前記基板チャンバ内で、前記基板チャンバの長手方向軸に沿って自由に往復運動できる基板ステージを設けるステップをさらに含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１９】
前記基板チャンバが、前記傾斜軸及び前記イオンビーム軸の両方に直角でこれらの軸に交差する補助の傾斜軸の周りに自由に傾斜できる、請求項１５に記載の方法。
【請求項２０】
前記異物シールドが、円筒、すなわち前記異物シールドの前記下部を含む最下部円筒か
ら前記異物シールドの前記上部を含む最上部の円筒まで直径が減少する一体型の円筒、又
は円錐台を含み、前記異物シールドの前記上部の直径が前記異物シールドの前記下部の直
径より小さい、請求項１５に記載の方法。
【請求項２１】
前記真空チャンバ近傍の上部及び前記異物シールド近傍の下部が開いた中空の補助の異物シールドを設けるステップであって、前記補助の異物シールドは前記イオンビーム軸と前記可撓性ベローズとの間に配置され、前記補助の異物シールドの前記上部及び下部が前記イオンビーム軸と同軸に位置合わせされ、前記補助の異物シールドのフランジ部分が前記異物シールドの前記上部上に延びているステップをさらに含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項２２】
前記可撓性ベローズと前記異物シールドとの間の前記可撓性ベローズの内面から離脱する異物を捕捉するステップをさらに含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項２３】
前記異物シールドの少なくとも１つの内面上の気体種をゲッタリングするステップをさらに含む、請求項１５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月11日(2007.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１物体の像を第２物体上に投影する投影光学系の製造方法であって、
前記投影光学系の非対称な残存収差を計測する第１工程と、
前記投影光学系を構成する光学部材の中から所定の屈折力を持つ光学部材を選定する第２工程と、
前記第２工程で選定された前記光学部材に関して、前記第１工程の計測結果に基づいて前記残存収差を相殺するような表面形状を算出する第３工程と、
前記第２工程で選定された前記光学部材を前記投影光学系から取り外し、前記第３工程で算出された表面形状となるように前記光学部材を加工する第４工程と、
該第４工程において加工された前記光学部材を前記投影光学系の光路中に設置する第５工程と、
を有することを特徴とする投影光学系の製造方法。
【請求項２】  前記第３工程は、前記光学部材の表面における複数位置のそれぞれでの該表面の法線の角度変化量を求める補助工程を有することを特徴とする請求項１記載の投影光学系の製造方法。
【請求項３】  前記第３工程は、前記光学部材の表面における複数位置のそれぞれでの該表面の前記光学部材の基準面に対する光軸方向の変位量を求める補助工程を有することを特徴とする請求項１記載の投影光学系の製造方法。
【請求項４】  前記投影光学系は、前記第１物体側から順に、正屈折力の前群と、開口絞りと、正屈折力の後群とを有し、
前記第２工程で選定される前記光学部材は、前記前群又は前記後群から選定されることを特徴とする請求項１から３の何れか一項記載の投影光学系の製造方法。
【請求項５】  請求項４記載の投影光学系の製造方法であって、
前記光学部材は前記前群中に配置されており、前記前群の焦点距離をｆｇｆ、前記光学部材の焦点距離をｆｃ、前記光学部材と前記開口絞りとの間隔をＬｃとするとき、次の２つの条件を満足することを特徴とする投影光学系の製造方法。
０．０５＜｜Ｌｃ／ｆｃ｜＜１０
１．５＜｜ｆｇｆ／ｆｃ｜＜１５
【請求項６】  請求項４記載の投影光学系の製造方法であって、
前記光学部材は前記後群中に配置されており、前記後群の焦点距離をｆｇｒ、前記光学部材の焦点距離をｆｒ、前記光学部材と前記開口絞りとの間隔をＬｒとするとき、次の２つの条件を満足することを特徴とする投影光学系の製造方法。
０．０５＜｜Ｌｒ／ｆｃ｜＜６
０．５＜｜ｆｇｒ／ｆｃ｜＜５
【請求項７】  請求項１から６の何れか一項記載の投影光学系の製造方法によって製造されたことを特徴とする投影光学系。
【請求項８】  第１物体の像を第２物体上に投影する投影光学系において、
前記第１物体から前記第２物体へ至る光路中に所定の屈折力を持つ光学部材を有し、
該光学部材の少なくとも一面が、前記投影光学系の非対称な残存収差を低減させるような凹凸分布を有する表面形状に加工されたことを特徴とする投影光学系。
【請求項９】  第１物体の像を第２物体上に投影する投影光学系において、
前記第１物体側から順に、正屈折力の前群と、開口絞りと、正屈折力の後群とを有し、
前記前群又は前記後群中に、所定の屈折力を持つ光学部材が配置され、
該光学部材の少なくとも一面が、前記投影光学系の非対称な残存収差を低減させるような凹凸分布を有する表面形状に加工されたことを特徴とする投影光学系。
【請求項１０】  請求項８又は９記載の投影光学系であって、
前記光学部材は、一面が平面部で他面が球面部の光学部材の前記平面部が前記凹凸分布を有する表面形状に加工されたことを特徴とする投影光学系。
【請求項１１】  請求項９記載の投影光学系であって、
前記光学部材は前記前群中に配置されており、前記前群の焦点距離をｆｇｆ、前記光学部材の焦点距離をｆｃ、前記光学部材と前記開口絞りとの間隔をＬｃとするとき、次の２つの条件を満足することを特徴とする投影光学系。
０．０５＜｜Ｌｃ／ｆｃ｜＜１０
１．５＜｜ｆｇｆ／ｆｃ｜＜１５
【請求項１２】  請求項９記載の投影光学系であって、
前記光学部材は前記後群中に配置されており、前記後群の焦点距離をｆｇｒ、前記光学部材の焦点距離をｆｒ、前記光学部材と前記開口絞りとの間隔をＬｒとするとき、次の２つの条件を満足することを特徴とする投影光学系。
０．０５＜｜Ｌｒ／ｆｃ｜＜６
０．５＜｜ｆｇｒ／ｆｃ｜＜５
【請求項１３】  請求項７から１２の何れか一項記載の投影光学系と、マスクを保持するマスクステージと、基板を位置決めする基板ステージと、を備えた露光装置であって、
前記マスクを前記第１物体、前記基板を前記第２物体として、前記マスクのパターンの像を前記投影光学系を介して前記基板上に投影することを特徴とする露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、投影光学系の開口数（ＮＡ）は、今後更に大きくなることが予想されるが、そのような大開口数の投影光学系を製造する場合にレチクル側に補正板を挿入するためには、補正板を大面積にし、かつ平面度を保つため厚くする必要があり、そのような大面積で厚い補正板を作製することは困難である。
本発明は斯かる点に鑑み、諸収差の非対称成分（ランダム成分）を補正でき、かつ低コストに製造できる投影光学系を提供することを目的とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、本発明にかかる投影光学系の製造方法において、その投影光学系（ＰＬ）が開口絞り（ＡＳ）と、その第１物体（Ｒ１）及びその開口絞り（ＡＳ）間に位置する前群（Ｇｆ）と、その開口絞り（ＡＳ）及びその第２物体（Ｗ）間に位置する後群（Ｇｒ）とを有する場合に、その第２工程においてその前群（Ｇｆ）からその光学部材（１０）を選定するときには、上述の（１）式及び（２）式を満足する光学部材を選定することが好ましい。一方、この場合、その第２工程においてその後群（Ｇｒ）からその光学部材（１０）を選定するときには、上述の（３）式及び（４）式を満足する光学部材を選定することが好ましい。
また、本発明による第３の投影光学系は、本発明の投影光学系の製造方法によって製造されたものである。この投影光学系は、低コストに諸収差の非対称成分を補正できるとともに、露光装置に備えられて、マスクのパターンの像を基板上に投影するために使用できる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月29日(2008.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  撮像装置における焦点調節装置であって、
被写体までの距離を検出する測距手段と、
前記測距手段の結果に従って、撮像装置の撮影レンズを駆動するレンズ駆動手段と、
前記撮像装置の撮像センサを用いて被写体の焦点を検出する焦点検出手段と、
前記焦点検出手段の焦点検出結果に応じて、前記レンズ駆動手段に対して補正を行う補正手段と、
前記補正手段の有効性を判断する判断手段と、を有することを特徴とする焦点調節装置。
【請求項２】  制御手段は、前記撮像装置の所定の操作部材に対する操作に応じて、前記補正手段の補正を無効とすることを特徴とする請求項１に記載の焦点調節装置。
【請求項３】  制御手段は、前記撮像装置の周囲温度の変化に応じて、前記補正手段の補正を無効とすることを特徴とする請求項１に記載の焦点調節装置。
【請求項４】  制御手段は、補正実行後からの経過時間に応じて、前記補正手段の補正を無効とすることを特徴とする請求項１に記載の焦点調節装置。
【請求項５】  撮像装置における焦点調節方法であって、
被写体までの距離を検出する測距工程と、
前記測距工程の結果に従って、撮像装置の撮影レンズを駆動するレンズ駆動工程と、
前記撮像装置の撮像センサを用いて被写体の焦点を検出する焦点検出工程と、
前記焦点検出工程の焦点検出結果に応じて、前記レンズ駆動手段に対して補正を行う補正工程と、
前記補正工程の有効性を判断する判断工程と、を有することを特徴とする焦点調節方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、本発明の焦点調節装置において、制御手段は、前記撮像装置の所定の操作部材に対する操作に応じて、前記補正手段の補正を無効とすることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、本発明の焦点調節装置において、制御手段は、前記撮像装置の周囲温度の変化に応じて、前記補正手段の補正を無効とすることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、本発明の焦点調節装置において、制御手段は、補正実行後からの経過時間に応じて、前記補正手段の補正を無効とすることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月18日(2008.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも、物体側から順に、負の屈折力を有する第１レンズ群、正の屈折力を有する第２レンズ群、それ以降の少なくとも１つのレンズ群からなっていて、広角端から望遠端に変倍する際に、前記第２レンズ群を含んで光軸に沿って移動する少なくとも１つのレンズ群を含むズーム光学系において、
前記第１レンズ群が、光路を折り曲げるための少なくとも１面の反射面と、入射面と、射出面とを含むプリズムを有し、前記プリズムの入射面、射出面の少なくとも一方は光軸に回転対称な曲面であることを特徴とする光路折り曲げズーム光学系。
【請求項２】  少なくとも、物体側から順に、負の屈折力を有し、少なくとも負の屈折力のプリズムを１つ含む第１レンズ群、正の屈折力を有する第２レンズ群、それ以降の少なくとも１つのレンズ群からなっていて、広角端から望遠端に変倍する際に、前記第２レンズ群を含んで光軸に沿って移動する少なくとも１つのレンズ群を含むズーム光学系において、
前記プリズムは、光路を折り曲げるための少なくとも１面の反射面と、入射面と、射出面とを含み、かつ、前記入射面、射出面の少なくとも一方は曲面であることを特徴とする光路折り曲げズーム光学系。
【請求項３】  少なくとも、物体側から順に、負の屈折力を有する第１レンズ群、正の屈折力を有する第２レンズ群、それ以降の少なくとも１つのレンズ群からなっていて、広角端から望遠端に変倍する際に、前記第２レンズ群を含んで光軸に沿って移動する少なくとも１つのレンズ群を含むズーム光学系において、
前記第１レンズ群が、光路を折り曲げるための少なくとも１面の反射面と、入射面と、射出面とを含むプリズムを有し、前記プリズムの入射面、射出面の少なくとも一方は曲面であり、前記プリズムのｄ線における屈折率ｎｄが以下の条件式（１）を満たすことを特徴とする光路折り曲げズーム光学系。
１．６＜ｎｄ＜２．０                                  ・・・（１）
【請求項４】  請求項１から３の何れか１項において、以下の条件式（２）を満たすことを特徴とする光路折り曲げズーム光学系。
−５．０＜ｆ1G／√（ｆw ×ｆt ）＜−０．３            ・・・（２）
ただし、ｆ1Gは第１レンズ群の焦点距離、ｆw は広角端での無限遠物点合焦時の全系の焦点距離、ｆt は望遠端での無限遠物点合焦時の全系の焦点距離である。
【請求項５】  請求項１から３の何れか１項において、前記第２レンズ群の後に、正の屈折力を有する第３レンズ群を含み、広角端から望遠端に変倍する際に、前記第２レン
ズ群と前記第３レンズ群が相対的間隔を変えながら光軸に沿って移動することを特徴とする光路折り曲げズーム光学系。
【請求項６】  請求項５において、無限遠合焦時に広角端から望遠端に変倍する際の前記第２レンズ群、前記第３レンズ群のそれぞれの移動量をＭ2 、Ｍ3 とすると、以下の条件式（３）を満足することを特徴とする光路折り曲げズーム光学系。
０．３＜Ｍ3 ／Ｍ2 ＜３．０                            ・・・（３）
【請求項７】  請求項５において、望遠端における第２レンズ群以降の合成系の倍率βRtが、以下の条件式（４）を満足することを特徴とする光路折り曲げズーム光学系。
１．０＜−βRt＜２．３                                ・・・（４）
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月1日(2008.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  被写体像の像信号を取得する像検出手段と、
上記被写体に対して補助光を照射するストロボ手段と、
一回の発光で所定の光量の補助光を発光させる第一の発光形態と、複数回の発光で所定の光量の補助光を発光させる第二の発光形態と、のうち何れかの発光形態で上記ストロボ手段に補助光の発光をさせる制御を行うストロボ制御手段と、
を具備し、
上記ストロボ制御手段は、上記像検出手段によって取得された像信号に基づいて被写体像の輝度パターンを判定し、該判定結果に基づいて上記第一の発光形態と上記第二の発光形態とを切り替えて、上記ストロボ手段に補助光の発光をさせる制御を行うことを特徴とするストロボ装置付カメラ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決し目的を達成するため、本発明では次のような手段を講じている。即ち第１の態様によれば、被写体像の像信号を取得する像検出手段と、上記被写体に対して補助光を照射するストロボ手段と、一回の発光で所定の光量の補助光を発光させる第一の発光形態と、複数回の発光で所定の光量の補助光を発光させる第二の発光形態と、のうち何れかの発光形態で上記ストロボ手段に補助光の発光をさせる制御を行うストロボ制御手段と、を具備し、上記ストロボ制御手段は、上記像検出手段によって取得された像信号に基づいて被写体像の輝度パターンを判定し、該判定結果に基づいて上記第一の発光形態と上記第二の発光形態とを切り替えて、上記ストロボ手段に補助光の発光をさせる制御を行うことを特徴とするストロボ装置付きカメラを提案する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月8日(2008.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  被写体の立ち位置前方に配置され、前記被写体を写真撮影する撮影手段と、この撮影手段の写真撮影により得られた写真画像を印刷する印刷手段とを備えた写真印刷装置であって、
前記被写体の立ち位置後方に位置し、前記撮影手段に向けて多数の点から光を発する点状発光手段と、
前記点状発光手段からの光を透過させつつ前記撮影手段へと導き、前記写真画像に光の模様を映り込ませるフィルタ手段と、
を有することを特徴とする、写真印刷装置。
【請求項２】  前記フィルタ手段は、各種の光の模様に対応した複数種類の光模様フィルタを有し、これらの光模様フィルタが前記撮影手段に対して切り換えられるように構成されている、請求項１に記載の写真印刷装置。
【請求項３】  前記撮影手段は、広角視野を写真撮影可能なパノラマカメラである、請求項１または２に記載の写真印刷装置。
【請求項４】  前記印刷手段により印刷される前の前記写真画像を表示し得る表示手段と、この表示手段に表示された前記写真画像に対して複数人が同時に所望の画像を追記するための複数の入力手段とを有する、請求項１ないし３のいずれかに記載の写真印刷装置。
【請求項５】  前記印刷手段は、前記写真画像をシールシート上に印刷する、請求項１ないし４のいずれかに記載の写真印刷装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明によれば、写真画像内の背景部分に光の模様が映し出されるが、このような光の模様は、被写体の背後を同時に写真撮影しつつもフィルタ効果で得られたものである。そのため、写真画像内の背景部分については、被写体と見比べても違和感なく自然に感じさせることができる。また、たとえば複数種類の光模様フィルタが切り換え可能に構成されている場合には、撮影手段に対する光模様フィルタを自動あるいは手動で切り換えることで、利用者が好みの光の模様を簡単に選択することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、パノラマカメラで写真撮影して得られた写真画像が印刷されるので、標準サイズの写真画像に比べて余白スペースとしての背景部分が広いパノラマサイズの写真画像を得ることができ、たとえば各人が個々の入力手段を用いて背景部分のいろんな箇所に同時に落書きをすることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
さらに、複数の入力手段を用いて各人が同時に写真画像に対して落書きすることができるので、各利用者は自由に落書きを楽しむことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月18日(2008.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  結着樹脂、着色剤及びワックスを少なくとも有するトナー粒子及び外添剤を有するトナーであり、
ワックスのＤＳＣ吸熱曲線において、温度３０乃至１６０℃の範囲における最大吸熱ピークが５５乃至８０℃にあり、最大吸熱ピークの半値幅が２乃至７℃であり、
結着樹脂成分は、ポリエステル樹脂を主成分としており、
トナーは、温度１４０℃における動的弾性率（Ｇ’140）が、５×１０2乃至１×１０5ｄＮ／ｍ2であり、温度１７０℃における動的弾性率（Ｇ’170）との比（Ｇ’140／Ｇ’170）が、０．０５乃至５０であり、
テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を溶媒とするトナーのソックスレー抽出において、抽出開始から８時間時における結着樹脂成分のＴＨＦ不溶分Ａが、１０乃至２０質量％であり、抽出開始から２４時間時における結着樹脂成分のＴＨＦ不溶分Ｂが、１乃至１０質量％であり、ＴＨＦ不溶分ＡとＴＨＦ不溶分Ｂとの比（Ｂ／Ａ）が、０．１乃至０．８であることを特徴とするトナー。
【請求項２】  該トナーは、ガラス転移温度が５５乃至７２℃であり、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）可溶分のゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）による分子量分布において、数平均分子量（Ｍｎ）が１５００乃至１００００、重量平均分子量（Ｍｗ）が３０００乃至２０００００、Ｍｗ／Ｍｎが２乃至２０であることを特徴とする請求項１に記載のトナー。
【請求項３】  該トナーは、有機金属化合物をトナーの質量基準で０．１〜１０質量％含有していることを特徴とする請求項１又は２に記載のトナー。
【請求項４】  像担持体に静電荷像を形成し、静電荷像をトナーで現像して像担持体上にトナー像を形成し、像担持体からトナー像を中間転写体を介して、又は、中間転写体を介さずに転写材へ転写し、転写材上のトナー像を加熱加圧定着する画像形成方法であり、
該トナーは、結着樹脂、着色剤及びワックスを少なくとも有するトナー粒子及び外添剤を有するトナーであり、
ワックスのＤＳＣ吸熱曲線において、温度３０乃至１６０℃の範囲における最大吸熱ピークが５５乃至８０℃にあり、最大吸熱ピークの半値幅が２乃至７℃であり、
結着樹脂成分は、ポリエステル樹脂を主成分としており、
トナーは、温度１４０℃における動的弾性率（Ｇ’140）が、５×１０2乃至１×１０5ｄＮ／ｍ2であり、温度１７０℃における動的弾性率（Ｇ’170）との比（Ｇ’140／Ｇ’170）が、０．０５乃至５０であり、
テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を溶媒とするトナーのソックスレー抽出において、抽出開始から８時間時における結着樹脂成分のＴＨＦ不溶分Ａが、１０乃至２０質量％であり、抽出開始から２４時間時における結着樹脂成分のＴＨＦ不溶分Ｂが、１乃至１０質量％であり、ＴＨＦ不溶分ＡとＴＨＦ不溶分Ｂとの比（Ｂ／Ａ）が、０．１乃至０．８であることを特徴とする画像形成方法。
【請求項５】  転写材上のトナー像は、シアントナー，マゼンタトナー，イエロートナー及びブラックトナーからなるグループから選択されるトナーを少なくとも二種以上有していることを特徴とする請求項４又は５に記載の画像形成方法。
【請求項６】  該トナーは、ガラス転移温度が５５乃至７２℃であり、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）可溶分のゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）による分子量分布において、数平均分子量（Ｍｎ）が１５００乃至１００００、重量平均分子量（Ｍｗ）が３０００乃至２０００００、Ｍｗ／Ｍｎが２乃至２０であることを特徴とする請求項４又は５に記載の画像形成方法。
【請求項７】  該トナーは、有機金属化合物をトナーの質量基準で０．１〜１０質量％含有していることを特徴とする請求項４乃至６のいずれかに記載の画像形成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
本発明において、ポリエステル樹脂の好ましいガラス転移温度は５２乃至６９℃、好ましくは５４乃至６７℃であるのが良い。また、トナー化した際におけるガラス転移温度は５５乃至７２℃、好ましくは５７乃至７０℃であるのが良い。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
また、トナー化した際のＴＨＦ可溶分のＧＰＣ測定において、数平均分子量（Ｍｎ）が１５００乃至１００００であり、重量平均分子量（Ｍｗ）が３０００乃至２０００００であり、該トナーのＴＨＦ可溶分の重量平均分子量（Ｍｗ）とＭｎとの比（Ｍｗ／Ｍｎ）は該ポリエステル樹脂と同じ２乃至２０であることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月12日(2008.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  
静電荷像を現像するためのトナーの製造方法であって、
少なくとも液体原料に固体原料を投入する工程を含み、
前記工程における液体原料の蒸気圧を１．９ｋＰａ以下にすることを特徴とするトナーの製造方法。
【請求項２】  
前記液体原料の蒸気圧が１．１ｋＰａ以下であることを特徴とする請求項１記載のトナーの製造方法。
【請求項３】  
前記液体原料に前記固体原料を投入する際の前記液体原料の温度を調節することにより、前記液体原料の蒸気圧を調節することを特徴とする請求項１または２記載のトナーの製造方法。
【請求項４】  
前記液体原料に前記固体原料を投入する際の前記液体原料の温度が４０℃以下であることを特徴とする請求項３記載のトナーの製造方法。
【請求項５】  
前記液体原料に前記固体原料を投入する際の前記液体原料の温度が３０℃以下であることを特徴とする請求項３記載のトナーの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
（１）静電荷像を現像するためのトナーの製造方法であって、少なくとも液体原料に固体原料を投入する工程を含み、前記工程における液体原料の蒸気圧を１．９ｋＰａ以下にすることを特徴とするトナーの製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
（３）前記液体原料に前記固体原料を投入する際の前記液体原料の温度を調節することにより、前記液体原料の蒸気圧を調節することを特徴とする（１）または（２）のトナーの製造方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
（４）前記液体原料に前記固体原料を投入する際の前記液体原料の温度が４０℃以下であることを特徴とする（３）のトナーの製造方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
（５）前記液体原料に前記固体原料を投入する際の前記液体原料の温度が３０℃以下であることを特徴とする（３）のトナーの製造方法。