【手続補正書】
【提出日】平成20年7月14日(2008.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レチクルのパターン像を被露光体に投影する投影光学系を備え、前記投影光学系の最終面と前記被露光体との間の液体及び前記投影光学系を介して前記被露光体を露光する露光装置において、
前記液体を供給及び回収する供給回収装置と、
前記最終面と前記被露光体との間の前記液体が存在する領域を検出する検出装置と、
前記検出装置の検出結果に基づいて前記供給回収装置の供給及び回収を制御する制御部とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記液体が液体領域の範囲外に流出した場合に、前記液体を回収するように前記供給回収装置に対して指示することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記制御部は、液体領域の範囲内に前記液体が満たされていない場所が存在する場合、前記場所に前記液体を供給するように前記供給回収装置に対して指示することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記被露光体が載置されるステージの移動に基づいて前記供給回収装置を制御することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項５】
レチクルのパターン像を被露光体に投影する投影光学系を備え、前記投影光学系の最終面と前記被露光体との間の液体及び前記投影光学系を介して前記被露光体を露光する露光装置において、
前記被露光体の露光領域に前記液体を供給する供給装置と、
前記被露光体の露光領域に供給された前記液体を回収する第１の回収装置と、
前記被露光体の外側に配置され、前記被露光体の外側に存在する前記液体を回収する第２の回収装置とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項６】
前記第２の回収装置は、前記被露光体と前記投影光学系の間の領域に対して前記投影光学系側に配置されることを特徴とする請求項５記載の露光装置。
【請求項７】
前記第２の回収装置は、前記被露光体との間の距離を変化させる機構と、前記液体を回収する回収ノズルと、を有することを特徴とする請求項６記載の露光装置。
【請求項８】
前記露光装置は、前記被露光体の外側において前記液体が存在する領域を検出する検出装置と、
前記検出された前記液体が存在する領域に基づいて前記供給回収装置の供給及び回収を制御する制御部とを更に有することを特徴とする請求項５記載の露光装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記液体を回収するときに、前記被露光体を載置するステージを前記最終面に近づけるように駆動することを特徴とする請求項８記載の露光装置。
【請求項１０】
前記第２の回収装置は、複数の回収部から構成されることを特徴とする請求項８記載の露光装置。
【請求項１１】
前記制御部は、前記検出装置が前記液体を検出した場合、前記液体が存在する位置に対応する前記回収部のみ駆動させることを特徴とする請求項１０記載の露光装置。
【請求項１２】
レチクルのパターン像を被露光体に投影する投影光学系を備え、前記投影光学系の最終面と前記被露光体との間の液体及び前記投影光学系を介して前記被露光体を露光する露光装置において、
前記液体を供給及び回収する供給回収装置と、
前記被露光体の各ショット位置に対して予め登録された前記液体の供給量及び回収量の制御方法に基づいて前記供給回収装置を制御する制御部とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のうちいずれか一項記載の露光装置を用いて被露光体を露光するステップと、
当該露光された被露光体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の別の側面としての露光装置は、レチクルのパターン像を被露光体に投影する投影光学系を備え、前記投影光学系の最終面と前記被露光体との間の液体及び前記投影光学系を介して前記被露光体を露光する露光装置において、前記被露光体の露光領域に前記液体を供給する供給装置と、前記被露光体の露光領域に供給された前記液体を回収する第１の回収装置と、前記被露光体の外側に配置され、前記被露光体の外側に存在する前記液体を回収する第２の回収装置とを有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の別の側面としての露光装置は、レチクルのパターン像を被露光体に投影する投影光学系を備え、前記投影光学系の最終面と前記被露光体との間の液体及び前記投影光学系を介して前記被露光体を露光する露光装置において、前記液体を供給及び回収する供給回収装置と、前記被露光体の各ショット位置に対して予め登録された前記液体の供給量及び回収量の制御方法に基づいて前記供給回収装置を制御する制御部とを有することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
液体制御部１００は、液体ＬＷを供給するための後述する供給回収管１１１によってウェハ（被露光体）４０の表面と投影光学系の最終面３０ａとの間に液体ＬＷを満たし、液体ＬＷを回収するための後述する供給回収管１１３（第１の回収装置）によって液体ＬＷを回収する。液体制御部１００は、図示しない生成装置、温度制御装置及び脱気装置と、供給回収装置１１０と、検出装置１２０と、制御部１３０とを有する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
供給回収装置１１０は、供給回収管１１１及び１１３及びノズル１１５を介して、投影光学系３０の最終面３０ａとウェハ４０との間に液体ＬＷを供給及び回収する。供給回収装置１１０は、液体ＬＷの供給と回収を兼用する構造を有し、後述する制御部１３０によって制御されている。つまり、液体供給回収装置１１０は、露光時の液体ＬＷの位置情報等に基づいて、液体ＬＷの供給と回収のタイミング並びに供給量及び回収量とが制御されている。また、供給回収装置１１０は、ウェハステージ４５の移動の際にも液体ＬＷの供給及び回収を行う。これにより、供給回収装置１１０は、溶存ガス、或いは、不純物質の除去などが行えるので、液体ＬＷの状態を一定に維持することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
制御部１３０は、本実施例では、検出装置１２０からの液体領域の情報（検出結果）に基づいて、露光制御を行う。即ち、制御部１３０は、液体ＬＷの供給及び回収の切り替え及び停止、液体ＬＷの供給量及び回収量の制御を供給回収装置１１０に指令する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
以下、図４を参照して、液体ＬＷの供給及び回収について詳述する。ここで、図４は、液体ＬＷ、ノズル１１５及びウェハ４０の上面図である。尚、説明を簡潔にするために、図４では、投影光学系３０が省略されているが、実際には、露光領域ＥＲ上に投影光学系３０が配置されている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
制御部１３０Ｄは、本実施例では、検出装置１２０Ｄからの液体領域の情報に基づいて、露光制御を行う。即ち、制御部１３０Ｄは、液体ＬＷ２の回収の制御を回収部１１６に指令する。この場合、液体が残存している場合にのみ、制御部１３０Ｄは、回収部１１６を動作させればよいので、効率的に残存した液体ＬＷ２を回収することができる。例えば、図１０（ｂ）に示すように、センサ１２２ｃＤ上に液体ＬＷ２が存在する場合、制御部１３０Ｄは、センサ１２２ｃＤに対応する供給回収装置１１０のみ駆動させればよい。尚、本実施例において、検出部１２２Ｄは、ウェハステージ４５上に配置されたが、第３の実施例のように変位センサを投影光学系３０側の面に配置しても良い。その結果、未回収の液体を低減させることによって露光装置１のメンテナンスを容易にすることができ、結像性能のみならず生産性を向上させることができる。