【手続補正書】
【提出日】平成20年6月16日(2008.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
脱ガスに敏感な環境で使用するためのポリマを選択して、提供するための方法であって、
ビニル重合によって硬化を実現するシリコーンポリマを含む適切な付加重合材料を選択し、
前記材料の単一使用量を決定し、
前記単一使用量の少なくとも４倍のバッチをなす、ある量の前記選択材料を混合し、前記混合の結果として、重合のための前記付加重合材料の成分要素が組み合わせられることにより、前記混合が、化学量論的比率の２重量パーセント以内で行われ、
前記バッチを単一使用量へと細分し、
複数の前記使用量の混合物について予想される、事前混合冷凍（ＰＭＦ）材料としての今後の利用に備えて、重合を十分に抑制するように、複数の前記使用量の混合物を０℃〜−８０℃の温度の冷却環境内に配置し、
前記脱ガスに敏感な環境において用いられる前記使用量の混合物のそれぞれを供給し、これによって、所望に応じて用いられる前記使用量の混合物のそれぞれを供給しながら、今後の利用に備えて保持される、使用されない使用量の混合物の冷蔵を可能にすることを含む、方法。
【請求項２】
脱ガスに敏感な環境で使用するためのポリマを選択して、提供するための方法であって、
適切な付加重合材料を選択し、
前記材料の単一使用量を決定し、
前記単一使用量の少なくとも４倍のバッチをなす、ある量の前記選択材料を混合し、前記混合の結果として、重合のための前記付加重合材料の成分要素が組み合わせられることにより、前記混合が、化学量論的比率の２重量パーセント以内で行われ、
前記バッチを単一使用量へと細分し、
複数の前記使用量の混合物について予想される、事前混合冷凍（ＰＭＦ）材料としての今後の利用に備えて、重合を十分に抑制するように、複数の前記使用量の混合物を０℃〜−８０℃の温度の冷却環境内に配置し、
前記脱ガスに敏感な環境において用いられる前記使用量の混合物のそれぞれを供給し、これによって、所望に応じて用いられる前記使用量の混合物のそれぞれを供給しながら、今後の利用に備えて保持される、使用されない使用量の混合物の冷蔵を可能にし、
脱ガスに敏感な環境で使用するためのコンポーネントを組み立てる際に、前記使用量の混合物の１つを適用し、
１３３×１０−６Ｐａ（１０−６トル）未満の圧力の高真空環境において、少なくとも３０℃で、少なくとも１日間、組み立てられたコンポーネントの脱ガスを行うことを含み、前記脱ガスを行うことにより、閉じこめられたガス及び溶存ガスが減少し、その閉じこめられたガス及び溶存ガスが、窒素、酸素、及び水と、もしあれば、クリーニングプロセス中に用いられる溶剤と、前記付加重合材料の前記成分要素からの低分子量炭化水素及びアミンと、前記付加重合材料の前記成分要素からの残留及び未反応材料とを含む、方法。
【請求項３】
光学装置を組み立てるための方法であって、
脱ガスに敏感な環境で使用するのに適した付加重合ポリマを選択し、
前記材料の単一使用量を決定し、
前記単一使用量の少なくとも４倍のバッチをなす、ある量の前記選択材料を混合し、前記混合の結果として、重合のための前記付加重合材料の成分要素が組み合わせられることにより、前記混合が、２重量パーセント内の化学量論的比率で行われ、
前記バッチを単一使用量へと細分し、
複数の前記使用量の混合物について予想される、事前混合冷凍（ＰＭＦ）材料としての今後の利用に備えて、重合を十分に抑制するように、複数の前記使用量の混合物を０℃〜−８０℃の温度の冷却環境内に配置し、
前記脱ガスに敏感な環境で使用するための前記使用量の混合物のそれぞれを供給し、これによって、所望に応じて用いられる前記使用量の混合物のそれぞれを供給しながら、今後の利用に備えて保持される、使用されない使用量の混合物の冷蔵を可能にし、
前記ＰＭＦ材料で接着することによって、前記光学装置の少なくとも１つのコンポーネントを組み立て、
使えるように準備が整っている場合に、脱ガスに敏感な環境で使用するための、組み立てられるべき前記光学装置の少なくとも１つのコンポーネントに前記使用量の混合物の１つを適用し、
少なくとも１日間、前記組み立てられたコンポーネントの脱ガスを行い、
前記脱ガスに引き続き、脱ガスに敏感な環境において、ポリマと構成の所定の組み合わせについて少なくとも１回、全材料損失（ＴＭＬ）及び収集揮発性凝縮物質（ＣＶＣＭ）テストを実施することを含む、方法。
【請求項４】
前記ＴＭＬ及びＣＶＣＭテストからのデータを利用して、前記ポリマが、脱ガスに敏感な環境で所定の構成に用いるのに適しているか検証することをさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記脱ガスを行うことが、１３３×１０−６Ｐａ（１０−６トル）未満の圧力の高真空環境において行われる、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記脱ガスを行うことが、少なくとも３０℃の温度で行われる、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記脱ガスを行うことにより、閉じこめられたガス及び溶存ガスが減少し、その閉じこめられたガス及び溶存ガスが、窒素、酸素、及び水と、もしあれば、クリーニングプロセス中に用いられる溶剤と、前記付加重合材料の前記成分要素からの低分子量炭化水素及びアミンと、前記付加重合材料の前記成分要素からの残留及び未反応材料とを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
光学装置を組み立てるための方法であって、
脱ガスに敏感な環境で使用するのに適した付加重合ポリマを選択し、
前記材料の単一使用量を決定し、
前記単一使用量の少なくとも４倍のバッチをなす、ある量の前記選択材料を混合し、前記混合の結果として、重合のための前記付加重合材料の成分要素が組み合わせられることにより、前記混合が、２重量パーセント内の化学量論的比率で行われ、
前記バッチを単一使用量へと細分し、
複数の前記使用量の混合物について予想される、事前混合冷凍（ＰＭＦ）材料としての今後の利用に備えて、重合を十分に抑制するように、複数の前記使用量の混合物を０℃〜−８０℃の温度の冷却環境内に配置し、
前記脱ガスに敏感な環境で使用するための前記使用量の混合物のそれぞれを供給し、これによって、所望に応じて用いられる前記使用量の混合物のそれぞれを供給しながら、今後の利用に備えて保持される、使用されない使用量の混合物の冷蔵を可能にし、
前記ＰＭＦ材料で接着することによって、前記光学装置の少なくとも１つのコンポーネントを組み立て、
前記組み立てられたコンポーネントに脱ガスを施して、閉じこめられたガス及び溶存ガスを減らすことを含み、その閉じこめられたガス及び溶存ガスが、
窒素、酸素、及び水と、
もしあれば、クリーニングプロセス中に用いられる溶剤と、
前記付加重合材料の前記成分要素からの低分子量炭化水素及びアミンと、
前記付加重合材料の前記成分要素からの残留及び未反応材料とを含む、方法。
【請求項９】
光学装置を組み立てるための方法であって、
脱ガスに敏感な環境で使用するのに適した付加重合ポリマを選択し、その付加重合材料が、ビニル重合によって硬化を実現するシリコーンポリマを含み、
前記材料の単一使用量を決定し、
前記単一使用量の少なくとも４倍のバッチをなす、ある量の前記選択材料を混合し、前記混合の結果として、重合のための前記付加重合材料の成分要素が組み合わせられることにより、前記混合が、２重量パーセント内の化学量論的比率で行われ、
前記バッチを単一使用量へと細分し、
複数の前記使用量の混合物について予想される、事前混合冷凍（ＰＭＦ）材料としての今後の利用に備えて、重合を十分に抑制するように、複数の前記使用量の混合物を０℃〜−８０℃の温度の冷却環境内に配置し、
前記脱ガスに敏感な環境で使用するための前記使用量の混合物のそれぞれを供給し、これによって、所望に応じて用いられる前記使用量の混合物のそれぞれを供給しながら、今後の利用に備えて保持される、使用されない使用量の混合物の冷蔵を可能にし、
前記ＰＭＦ材料で接着することによって、前記光学装置の少なくとも１つのコンポーネントを組み立てることを含む、方法。