【手続補正書】
【提出日】平成20年6月11日(2008.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ発振器と、
線状レーザビーム形成用の光学系と、
回転軸を有する回転体と、
基板を前記回転体の側面に固定させる固定機構と、
を有し、
前記レーザ発振器からレーザビームを射出し、
前記射出されたレーザビームは、前記光学系を通り、
前記回転体を回転させながら、前記光学系を通ったレーザビームを前記回転体に固定させた前記基板に照射することを特徴とするレーザ処理装置。
【請求項２】
レーザ発振器と、
線状レーザビーム形成用の光学系と、
回転軸を有する回転体と、
基板を前記回転体の側面に固定させる固定機構と、
前記回転体を回転軸方向に移動させる移動機構と、
を有し、
前記レーザ発振器からレーザビームを射出し、
前記射出されたレーザビームは、前記光学系を通り、
前記回転体を回転させながら、前記光学系を通ったレーザビームを前記回転体に固定させた前記基板に照射し、
前記回転体を前記移動機構により前記回転体の回転軸方向に移動させることによって、前記光学系を通ったレーザビームの照射位置を移動させることを特徴とするレーザ処理装置。
【請求項３】
第１のレーザ発振器及び第２のレーザ発振器と、
第１の光学系及び第２の光学系と、
回転軸を有する回転体と、
基板を前記回転体の側面に固定させる固定機構と、
前記回転体を回転軸方向に移動させる移動機構と、
を有し、
前記第１の光学系及び第２の光学系のそれぞれは、
第１のシリンドリカルレンズと、
第２のシリンドリカルレンズと、
を有し、
前記第１のレーザ発振器から第１のレーザビームを射出し、
前記第２のレーザ発振器から第２のレーザビームを射出し、
前記射出された前記第１のレーザビーム及び前記第２のレーザビームを、前記第１のシリンドリカルレンズ及び第２のシリンドリカルレンズにより、線状に整形して第１の線状レーザビーム及び第２の線状レーザビームとし、
前記回転体を回転させながら、前記第１の線状レーザビーム及び前記第２の線状レーザビームを前記回転体に固定させた前記基板に照射し、
前記回転体は、前記第１の線状レーザビーム及び前記第２の線状レーザビームを照射されつつ、前記移動機構により前記回転体の回転軸方向に移動することを特徴とするレーザ処理装置。
【請求項４】
請求項３において、前記第１の線状レーザビーム及び前記第２の線状レーザビームは、照射面における前記第１の線状レーザビームの短辺が、前記第２の線状レーザビームの短辺の延長線上になるように前記基板に照射されることを特徴とするレーザ処理装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項において、
前記固定機構は、前記回転体内部を減圧することによって、前記回転体の表面に設けられた複数の穴に前記基板を吸着させ貼り付ける機構であることを特徴とするレーザ処理装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか１項において、
前記回転体の側面に複数の前記基板を固定することを特徴とするレーザ処理装置。
【請求項７】
回転軸を有する回転体の側面に基板を固定し、
前記基板を固定させた回転体を回転させながら、前記基板の表面に線状レーザビームを照射し、
前記回転体が１回転する度に前記線状レーザビームの照射位置を前記回転体の回転軸方向に相対的に移動することを特徴とするレーザ照射方法。
【請求項８】
回転軸を有する回転体の側面に基板を固定し、
前記基板を固定させた回転体を回転させながら、前記基板の表面に線状レーザビームを照射し、
前記回転体が回転している間に前記線状レーザビームの照射位置を前記回転体の回転軸方向に相対的に移動することを特徴とするレーザ照射方法。
【請求項９】
請求項７又は請求項８において、前記回転体の側面に複数の前記基板を固定することを特徴とするレーザ照射方法。
【請求項１０】
請求項７乃至請求項９のいずれか１項において、
前記基板は、ガラス基板または合成樹脂からなる基板であることを特徴とするレーザ照射方法。
【請求項１１】
基板上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜を形成した基板を回転軸を有する回転体の側面に固定し、
前記基板を固定させた回転体を回転させながら、前記半導体膜に線状レーザビームを照射することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１２】
基板上に非晶質半導体膜を形成し、
前記非晶質半導体膜を形成した基板を回転軸を有する回転体の側面に固定し、
前記基板を固定させた回転体を回転させながら、線状レーザビームを照射することにより、前記非晶質半導体膜を結晶化して結晶性半導体膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１３】
請求項１２において、
前記結晶性半導体膜をパターニングして、島状半導体膜を形成し、
前記島状半導体膜に一導電性を付与する不純物を導入し、
前記不純物を導入した後に、前記基板を前記回転体に固定し、
前記基板を固定させた回転体を回転させながら、線状レーザビームを照射することにより、前記不純物を活性化させることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１４】
請求項１１乃至請求項１３のいずれか１項において、
前記回転体の側面に複数の前記基板を固定することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１５】
請求項１１乃至請求項１４のいずれか１項において、
前記基板は、ガラス基板または合成樹脂からなる基板であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
本発明において、前記パルス発振レーザは、Ａｒレーザ、Ｋｒレーザ、エキシマレーザ、ＣＯ２レーザ、ＹＡＧレーザ、Ｙ２Ｏ３レーザ、ＹＶＯ４レーザ、フォルステライト（Ｍｇ２ＳｉＯ４）レーザ、ＹＬＦレーザ、ＹＡｌＯ３レーザ、ＧｄＶＯ４レーザ、ガラスレーザ、ルビーレーザ、アレキサンドライトレーザ、Ｔｉ：サファイアレーザ、銅蒸気レーザ、金蒸気レーザ、多結晶（セラミック）のＹＡＧ、Ｙ２Ｏ３、ＹＶＯ４、ＹＡｌＯ３、ＧｄＶＯ４に、ドーパントとしてＮｄ、Ｙｂ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｔａのうち１種または複数種添加されているものを媒質とするレーザのいずれか１つである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
本実施の形態で用いられる基板１００、例えば大型ガラス基板は、その厚さが１ｍｍ以下と非常に薄いため、比較的容易に曲率を与えることができる。例えば、大きさが６００×７２０ｍｍ、厚さが０．７ｍｍのガラス基板に曲率半径１ｍの曲率を与えることは容易である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
ガラス基板は、例えば、大きさが６００×７２０ｍｍ、厚さが０．７ｍｍのガラス基板を用いる。このように厚さが１ｍｍ以下のガラス基板には、曲率半径１ｍの曲率を与えることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
また、ドラムを回転させながら、半導体膜をレーザ照射しつつ、移動機構１０４によって回転体を回転軸方向に移動させてもよい。この場合レーザ照射の軌跡は、回転体の回転軸方向と垂直な軸に対して斜めになる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４９】
次いで、レジストマスクを除去した後、全面に第２の導電膜を成膜する。次いでフォトマスクを用いて、第２の導電膜のパターニングを行い、電極又は配線６０６に電気的に接続される画素電極６２３を形成する。本実施例では、反射型の液晶表示パネルを作製するので、画素電極６２３はスパッタ法によりＡｇ（銀）、Ａｕ（金）、Ｃｕ（銅）、Ｗ（タングステン）、Ａｌ（アルミニウム）等の光反射性を有する金属材料を用いて形成すればよい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２６９】
図１８に示すＣＰＵは、基板３６００上に、演算回路（ＡＬＵ：Ａｒｉｔｈｍｅｔｉｃ  ｌｏｇｉｃ  ｕｎｉｔ）３６０１、演算回路用制御部（ＡＬＵ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ）３６０２、命令解析部（Ｉｎｓｔｒｕｃｔｉｏｎ  Ｄｅｃｏｄｅｒ）３６０３、割り込み制御部（Ｉｎｔｅｒｒｕｐｔ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ）３６０４、タイミング制御部（Ｔｉｍｉｎｇ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ）３６０５、レジスタ（Ｒｅｇｉｓｔｅｒ）３６０６、レジスタ制御部（Ｒｅｇｉｓｔｅｒ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ）３６０７、バスインターフェース（Ｂｕｓ  Ｉ／Ｆ）３６０８、書き換え可能なＲＯＭ３６０９、ＲＯＭインターフェース（ＲＯＭ  Ｉ／Ｆ）３６２０とを主に有している。またＲＯＭ３６０９及びＲＯＭ  Ｉ／Ｆ３６２０は、別チップに設けても良い。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２８９】
例えば、ＳｉＨ４にＨ２を添加したガスを用いる場合、或いはＳｉＨ４にＦ２を添加したガスを用いる場合、形成したセミアモルファス半導体を用いてＴＦＴを作製すると、該ＴＦＴのサブスレッショルド係数（Ｓ値）を０．３５Ｖ／ｓｅｃ以下、代表的には０．０９〜０．２５Ｖ／ｓｅｃとし、移動度を１０ｃｍ２／Ｖｓｅｃとすることができる。そして上記セミアモルファス半導体を用いたＴＦＴで、例えば１９段リングオシレータを形成した場合、電源電圧３〜５Ｖにおいて、その発振周波数は１ＭＨｚ以上、好ましくは１００ＭＨｚ以上の特性を得ることができる。また電源電圧３〜５Ｖにおいて、インバータ１段あたりの遅延時間は２６ｎｓ、好ましくは０．２６ｎｓ以下とすることができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３５２】
図２３（Ｂ）は液晶ディスプレイもしくはＯＬＥＤディスプレイであり、筐体５１０１、支持台５１０２、表示部５１０３などによって構成されている。本発明は表示部５１０３及び制御用回路部等に適用が可能である。本発明を使用することにより、信頼性が向上し、表示の品質も向上する。また実施例６により作製されたＩＤチップを本発光表示装置に貼り付けることにより、流通経路などを明確にすることができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３５３】
図２３（Ｃ）は携帯電話であり、本体５２０１、筐体５２０２、表示部５２０３、音声入力部５２０４、音声出力部５２０５、操作キー５２０６、アンテナ５２０８等を含む。本発明は表示部５２０３及び制御用回路部等に適用することができる。本発明を使用することにより、信頼性が向上し、表示の品質も向上する。また実施例６により作製されたＩＤチップを本発光表示装置に貼り付けることにより、流通経路などを明確にすることができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３５８】
図２４（Ｄ）は、ワイヤレスでディスプレイのみを持ち運び可能なＴＶである。筐体６３０２にはバッテリー及び信号受信器が内蔵されており、そのバッテリーで表示部６３０３やスピーカ部６３０７を駆動させる。バッテリーは充電器６３００で繰り返し充電が可能となっている。また、充電器６３００は映像信号を送受信することが可能で、その映像信号をディスプレイの信号受信器に送信することができる。筐体６３０２は操作キー６３０６によって制御する。また、図２４（Ｄ）に示す装置は、操作キー６３０６を操作することによって、筐体６３０２から充電器６３００に信号を送ることも可能であるため映像音声双方向通信装置とも言える。また、操作キー６３０６を操作することによって、筐体６３０２から充電器６３００に信号を送り、さらに充電器６３００が送信できる信号を他の電子機器に受信させることによって、他の電子機器の通信制御も可能であり、汎用遠隔制御装置とも言える。本発明は表示部６３０３及び制御用回路部等に適用することができる。本発明を使用することにより、信頼性が向上し、表示の品質も向上する。また実施例６により作製されたＩＤチップを本発光表示装置に貼り付けることにより、流通経路などを明確にすることができる。