【手続補正書】
【提出日】平成20年2月28日(2008.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材からの残渣を除去するための組成物であって、以下を含む組成物:
（ａ）水;
（ｂ）少なくとも一つのフッ化物;および
（ｃ）以下を含むｐＨバッファー系:
(ｉ）アミノアルキルスルホン酸およびアミノアルキルカルボン酸からなる群から選択された少なくとも一つの有機酸;および
(ｉｉ)アミンおよび水酸化第四級アンモニウムからなる群から選択された少なくとも一つの塩基
ただし、当該組成物は、加えられた有機溶媒が実質的になく、且つ５〜１２の範囲のｐＨを有する。
【請求項２】
基材の腐食を抑制するために適応された、さらに少なくとも一つの腐食抑制剤を含む、請求項１の組成物。
【請求項３】
少なくとも一つの腐食抑制剤が、クエン酸、アントラニル酸、没食子酸、安息香酸、マロン酸、マレイン酸、フマル酸、Ｄ，Ｌ−マレイン酸、イソフタル酸、フタル酸、乳酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、カテコール、ピロガロール、および没食子酸のエステル、ベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、フルクトース、アンモニウムチオサルフェート、グリシン、テトラメチルグアニジン、イミノジ酢酸、ジメチルアセタミド、チオグリセロール、トリヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシベンゼン、サリチルヒドロキシサム酸、およびそれらの混合物からなる群から選択された、少なくとも一つのメンバー（member）である、請求項２の組成物。
【請求項４】
少なくとも一つの該腐食抑制剤がチオグリセロールである、請求項１の組成物。
【請求項５】
さらに少なくとも一つの界面活性剤を含む、請求項１の組成物。
【請求項６】
少なくとも一つの該界面活性剤が、アセチレンアルコール類、これらの誘導体、アセチレンジオール類、およびこれらの誘導体からなる群から選択された少なくとも一つのメンバーである、請求項５の組成物。
【請求項７】
少なくとも一つの当該フッ化物が、一般式Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４ＮＦ（式中、Ｒ1、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、独立した水素、アルコール基、アルコキシ基、アルキル基およびこれらの混合物である）の組成を有する、請求項１の組成物。
【請求項８】
少なくとも一つの当該フッ化物が、フッ化アンモニウム、フッ化テトラメチルアンモニウム、フッ化テトラエチルアンモニウム、フッ化テトラブチルアンモニウム、フッ化コリン、およびこれらの混合物から選択された一つのメンバーである、請求項７の組成物。
【請求項９】
少なくとも一つの当該フッ化物が、フッ化テトラメチルアンモニウムである、請求項１の組成物。
【請求項１０】
少なくとも一つの前記有機酸が、ＭＥＳ、ＨＥＰＥＳ、ＤＩＰＳＯ、ＥＰＰＳ、ＣＨＥＳおよびＣＡＰＳからなる群から選択された少なくとも一つのメンバーである、請求項１の組成物。
【請求項１１】
少なくとも一つの前記有機酸がグリシンおよびβ−アラニンからなる群から選択された少なくとも一つのメンバーである、請求項１の組成物。
【請求項１２】
水酸化第四級アンモニウム化合物が、一般式[Ｎ-Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４]＋ＯＨ−（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４が個々に独立したアルキル基、ヒドロキシアルキル基、およびこれらの混合物である）を有する化合物を含む、請求項１の組成物。
【請求項１３】
前記水酸化第四級アンモニウム化合物が、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム、水酸化トリメチルエチルアンモニウム、水酸化(２-ヒドロキシルエチル)トリメチルアンモニウム、水酸化(２−ヒドロキシルエチル)トリエチルアンモニウム、水酸化(２-ヒドロキシエチル)トリプロピルアンモニウム、水酸化(１-ヒドロキシプロピル)トリメチルアンモニウム、およびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１２の組成物。
【請求項１４】
少なくとも一つの該塩基が水酸化テトラメチルアンモニウムである、請求項１の組成物。
【請求項１５】
少なくとも一つの前記フッ化物がフッ化テトラメチルアンモニウムであり、少なくとも一つの塩基が水酸化テトラメチルアンモニウムである、請求項１の組成物。
【請求項１６】
少なくとも一つの前記フッ化物がフッ化テトラメチルアンモニウムであり、少なくとも一つの前記塩基が水酸化テトラメチルアンモニウムであって、少なくとも一つの前記有機酸がＭＥＳ、ＨＥＰＥＳ、ＤＩＰＳＯ、ＥＰＰＳ、ＣＨＥＳおよびＣＡＰＳからなる群から選択された少なくとも一つのメンバーを含む、請求項１の組成物。
【請求項１７】
少なくとも一つの前記フッ化物がフッ化テトラメチルアンモニウムであり、少なくとも一つの前記塩基が水酸化テトラメチルアンモニウムであり、少なくとも一つの前記有機酸がグリシンおよびβ−アラニンからなる群から選択された少なくとも一つのメンバーを含む、請求項１の組成物。
【請求項１８】
水が組成物の６５〜９９．７重量％を構成し、少なくとも一つの前記有機酸が組成物の０．１〜２０重量％を構成し、少なくとも一つの前記塩基が組成物の０．１〜１０重量％を構成し、および前記フッ化物が組成物の０．１〜５重量％を構成する、請求項１の組成物。
【請求項１９】
少なくとも一つの前記塩基に対する少なくとも一つの前記有機酸のノーマルレシオ(a Normal ratio)が１０：１〜１：１０である、請求項１８の組成物。
【請求項２０】
組成物が、実質的に基材の損傷を避けるように処方されている、請求項１の組成物。
【請求項２１】
残渣を基材から除去するために効果的な温度および期間での、残渣と組成物との接触を含む、基材から残渣を除去する方法であって、以下を含む組成物:
（ａ）水;
（ｂ）少なくとも一つのフッ化物;および
（ｃ）以下を含むｐＨバッファー系:
(ｉ）アミノアルキルスルホン酸およびアミノアルキルカルボン酸からなる群から選択された少なくとも一つの有機酸;および
(ｉｉ)アミンおよび水酸化第四級アンモニウムからなる群から選択された少なくとも一つの塩基
ただし、当該組成物は、加えられた有機溶媒が実質的なく、且つ５〜１２の範囲のｐＨを有する。
【請求項２２】
該温度が２０℃〜８０℃であり、且つ該期間が１〜３０分である、請求項２１の方法。
【請求項２３】
該基材上の全ての残渣が、実質的に基材を傷めることなく除去される、請求項２１の方法。
【請求項２４】
以下を含む、パターンを規定するための方法：
基材の少なくとも一部の上へフォトレジストをコーティングする工程;
フォトレジスト上でのリソグラフ的なパターンの規定;
パターンの少なくとも基材の一部への転写;パターン化された基材を形成するための基材上へのパターンのエッチング;
フォトレジストを灰化するために充分な温度に、パターン化された基材を熱して、残渣を与える工程;および
以下のものを含む組成物と残渣とを接触させる工程による残渣の除去：
（ａ）水;
（ｂ）少なくとも一つのフッ化物;および
（ｃ）以下を含むｐＨバッファー系:
(ｉ）アミノアルキルスルホン酸およびアミノアルキルカルボン酸からなる群から選択された少なくとも一つの有機酸;および
(ｉｉ)アミンおよび水酸化第四級アンモニウムからなる群から選択された少なくとも一つの塩基
ただし、当該組成物は、加えられた有機溶媒が実質的になく、且つ５〜１２の範囲のｐＨを有する。
【請求項２５】
パターン化された基材上の該残渣が、実質的にパターン化された基材を損傷することなく除去される、請求項２４の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
エアープロダクツアンドケミカルズ社に譲り受けられた米国特許出願第11/050,562号は、クリーニング組成物および方法、組成物が約２〜約９の範囲のｐＨを有する残渣を除去するための組成物、および以下を含む組成物を開示する：塩基に対する酸のモル比で１０：１〜１：１０の範囲である有機酸および有機酸の共役塩基：フッ化物および水、ただし、組成物は追加された有機溶媒が実質的にない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の第一の側面では、基材から残渣を除去する組成物を与え、該組成物は以下を含む：（ａ）水；（ｂ）少なくとも一つのフッ化物；および（ｃ）以下を含むｐＨバッファー系：（ｉ）アミノアルキルスルホン酸およびアミノアルキルカルボン酸からなる群から選択された少なくとも一つの有機酸；および（ｉｉ）アミンおよびアルキル水酸化第四級アンモニウムからなる群から選択された少なくとも一つの塩基、ただし、該組成物は、加えられた有機溶媒が実質的になく、且つ約５〜約１２の範囲のｐＨを有する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
ここに開示された組成物は、フッ化物ならびに有機酸および塩基を含むバッファー溶液を含む。ある態様では、組成物は、有機溶媒が実質的にまったくないか、または２重量％以下か、または１重量％以下である。ある態様では、組成物は約５〜約１２の範囲のｐＨに調整され、所望により腐食抑制剤、および灰化したフォトレジストおよび／又はプロセス残渣を除去するための組成物で、典型的に使用される他の添加剤を含む。特にある実施態様では、組成物は、５〜１２の範囲のｐＨを有する組成物を得るために必要な量のバッファー溶液；６５重量％以上の水；０．１重量％〜５重量％のフッ化物、および１５重量％までの所望による腐食抑制剤からなる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
前に記載したように、水もここに開示された組成物中に存在する。例えば水性フッ化アンモニウム溶液または水性バッファー溶液等の他のメンバーの組成物として偶然存在可能であり、または別々に加えることが可能である。水の限定されないいくつかの例では、脱イオン水、超純水、蒸留水、２度蒸留水、または金属低含有量の脱イオン水を含む。好ましくは、水は、量で約５０重量％以上、または約６５重量％以上、または約８２．５重量％以上存在する。ある態様では、水は、組成物の６５〜９９．７重量％、または組成物の８２．５〜９８．８重量％を構成する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
本開示の組成物はまた、所望により約１５重量％までの、または約０．２〜約１０重量％の腐食抑制剤を含むことが出来る。米国特許番号第５，４１７，８７７号に開示された（参照することによりここに取り込む）等の類似の適用のための当業者に知られたいかなる腐食抑制剤が、使用されてもよい。適した腐食抑制剤は、例えば有機酸、有機酸塩、フェノール、トリアゾール、ヒドロキシルアミンまたはそれらの酸塩であってもよい。特別の腐食抑制剤の例は、クエン酸、アントラニル酸、没食子酸、安息香酸、イソフタル酸、マレイン酸、フマル酸、Ｄ，Ｌ−マレイン酸、マロン酸、フタル酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、ベンゾトリアゾール（ＢＺＴ）、レソルシノール、カルボキシベンゾトリアゾール、ジエチルヒドロキシルアミンおよび乳酸、およびそれらのクエン酸塩、およびその同類のものを含む。さらに、使用されてもよい腐食抑制剤の例は、カテコール、ピロガロール、および没食子酸のエステルを含む。使用されることが可能な特別なヒドロキシルアミン類は、ジエチルヒドロキシルアミン、乳酸およびそれらのクエン酸塩を含む。しかし、適した腐食抑制剤のほかの例は、フルクトース、アンモニウムチオサルフェート、グリシン、乳酸、テトラメチルグアニジン、イミノジ酢酸、およびジメチルアセタミドを含む。ある態様では、腐食抑制剤は、約４〜約７のｐＨ範囲を有する弱酸を含んでもよい。弱酸の例は、トリヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシベンゼン、および／又はサリチルヒドロキシサム酸を含む。腐食抑制剤が有機酸である、ある態様では、有機酸はバッファー溶液で使用されるものと同じであってもよい。ある態様では、腐食抑制剤は、２−メルカプト−５−メチルベンズイミダゾールおよび２−メルカプトチアゾリン等の、しかしこれらに限られないメルカプト基含有化合物である。さらに他の腐食抑制剤の例では、化合物のα−またはβ−位の片側にヒドロキシルおよび／又はカルボキシル基を有するメルカプト基含有化合物を含む。これらのメルカプト基含有化合物の特別な例では、３−メルカプト−１，２−プロパンジオール（チオグリセロールとも呼ばれる）、３−（２−アミノフェニルチオ）−２−ヒドロキシメルカプタン、３−（２−ヒドロキシルエチルチオ）−２−ヒドロキシプロピルメルカプタン、２−メルカプトプロピオン酸、３−メルカプトプロピオン酸を含む。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
組成物は、１以上の次の追加物も含んでもよい：界面活性剤、キレート剤、化学修飾剤、染料、殺生剤、および他の追加剤。１又は複数の追加物は、組成物のｐＨ範囲に不利に影響しない程度加えられても良い。代表的な追加剤のいくつかの例は、アセチレンアルコール類およびそれらの誘導体、アセチレンジオール類（非イオン性アルコキシル化および／又は自己エマルジョン化可能なアセチレンジオール界面活性剤）およびそれらの誘導体、アルコール類、第四級アミン類、ジアミン類、（ジメチルホルムアミドおよびジメチルアセタミド等の非プロトン性溶媒を含む）アミド類、（ジエタノールエチルアミン等の）アルキルアルカノールアミン類、およびβージケトン類等のキレート剤、β−ケトイミン類、カルボン酸類、マレイン酸および酒石酸ベースのエステル類およびジエステル類およびそれらの誘導体、および第三級アミン類、ジアミン類、トリアミン類、を含む。ある態様では、バッファー溶液中の組成物に加えられてもよいカルボン酸は、組成物内のキレート剤としても働いてもよい。