【手続補正書】
【提出日】平成20年2月29日(2008.2.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射ビームを供給するように配置されている照射システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与することが可能であり、よってパターン形成した放射ビームを提供するパターン形成手段を支持するように構成されている支持構造と、
基板を保持するように構成されている基板テーブルと、
前記パターン形成した放射ビームを前記基板の標的部分上に投影するように配置されている投影システムと、
前記投影システムの最終要素と前記基板との間の空間の少なくとも一部に液体を充填して前記液体を閉じ込めるように構成されている液体閉じ込めシステムと、を備えるリソグラフィ投影装置であって、
前記液体閉じ込めシステムは、気泡低減手段を備え、
前記気泡低減手段は、気泡検出手段及び気泡除去手段を備え、
前記気泡除去手段は、気泡の大きさを最小化して気泡形成ガスが前記液体中に溶解するのを促進するために、前記液体を大気圧よりも高圧に加圧する液体加圧装置を備える、リソグラフィ投影装置。
【請求項２】
前記気泡検出手段は、少なくとも１つの超音波変換器を備え、
前記液体中に存在する気泡に関する情報を得るために、前記液体中の超音波の減衰が前記変換器によって測定される、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項３】
前記超音波変換器が周波数の関数として超音波の減衰を測定する、請求項２に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項４】
前記気泡除去手段は、脱気装置を備え、
前記脱気装置は、隔離室を備え、
前記隔離室中の液体上方の空間は大気圧よりも低い圧力に維持され、以前に溶解したガスが溶液から抜け出て汲み出されるのを促進する、請求項１乃至請求項３のうち何れか１項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項５】
前記気泡除去手段は、前記液体中の気泡を前記投影システムの前記最終要素と前記基板との間の前記空間の外に搬送するために、前記投影システムの前記最終要素と前記基板の上に連続的な液流を供給する、請求項１乃至請求項４のうち何れか１項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項６】
前記液体の組成が水よりも小さい表面張力を有するように選択される、請求項１乃至請求項５のうち何れか１項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項７】
前記気泡低減手段は、前記液体を、それが前記投影システムの前記最終要素と前記基板との間の前記空間に供給される前に処理する、請求項１乃至請求項６のうち何れか１項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項８】
前記処理された液体が封止された容器内に保持され、前記封止容器内の余剰空間に、窒素ガス、アルゴン・ガス、ヘリウム・ガス、又は真空の１つ又は複数が充填されている、請求項７に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項９】
超音波変換器は、パルス・エコー構成で配置され、
前記超音波変換器は、超音波を送信し、かつ反射後に、前記液体を通過する経路に沿って伝搬する間に減衰された超音波を受信するように動作する、請求項２又は請求項３に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１０】
前記気泡検出手段は、２つの空間的に離隔した超音波変換器を備え、
第１の超音波変換器は超音波を送信し、第２の超音波変換器は、前記２つの超音波変換器の間の前記液体を通過する経路に沿って伝搬する間に減衰された超音波を受信する、請求項２又は請求項３に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１１】
前記気泡除去手段は、気泡を節領域内部に閉じ込める超音波定常波形を前記液体内部で発生するように配置されている２つの空間的に離隔した超音波変換器を含み、
前記気泡除去手段は、前記超音波変換器と連係する位相調整手段を使用することによって前記気泡を変位するように配置され、
前記位相調整手段は、節領域とその中に閉じ込められた気泡を空間移動させる、請求項１乃至請求項５のうち何れか１項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１２】
前記気泡除去手段は、前記液体に電界を印加するための電界発生器を備え、
前記電界は、前記基板に付着した気泡を押し退けることができる、請求項１乃至請求項５又は請求項１１のうち何れか１項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１３】
前記気泡除去手段は、温度を選択的に制御し、したがって特定の組成の気泡の大きさを選択的に制御するための選択的加熱器を備える、請求項１乃至請求項５又は請求項１１のうち何れか１項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１４】
前記選択的加熱器は、マイクロ波源を備える、請求項１３に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１５】
前記気泡除去手段は、粒子を前記液体中に導入するための粒子入力装置と、前記粒子を前記液体から除去するための粒子除去装置を備える、請求項１乃至請求項５又は請求項１１のうち何れか１項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１６】
前記粒子は、気泡の付着を促進する特徴を有する表面を備える、請求項１５に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１７】
前記気泡検出手段は、光源、光検出器、及び光比較器を備え、
前記光源と前記光検出器は、前記光源によって放射された光が前記液体の一部を通過して前記光源と前記光検出器の間を伝搬するように配置され、
前記光比較器は、前記液体の一部を通過して伝搬した後に前記光検出器に到達する前記放射光の比率の変化を検出するように配置されている、請求項１乃至請求項１６に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１８】
放射感応材料の層によって少なくとも部分的に被覆されている基板を提供する工程と、
照明システムを使用して放射ビームを提供する工程と、
前記放射ビームの断面にパターンを付与することが可能であり、よってパターン形成した放射ビームを提供するパターニングデバイスを使用する工程と、
前記パターン形成した放射ビームを前記放射感応材料の層の標的部分上に投影する工程と、
投影システムの最終要素と前記基板との間の空間の少なくとも一部に液体を充填して少なくとも部分的に前記液体を閉じ込めるように構成されている液体閉じ込めシステムを提供する工程と、
前記液体閉じ込めシステム中の気泡を検出し、低減し、除去する工程と、を備え、
前記気泡を除去する工程は、液体加圧装置を使用して前記液体を大気圧よりも高圧に加圧することにより、気泡の大きさを最小化して気泡形成ガスが前記液体中に溶解するのを促進する工程を含む、デバイス製造方法。
【請求項１９】
放射ビームを供給するように配置されている放射システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与することが可能であり、よってパターン形成した放射ビームを提供するパターン形成手段を支持するように構成されている支持構造と、
基板を保持するように構成されている基板テーブルと、
前記パターン形成した放射ビームを前記基板の標的部分上に投影するように配置されている投影システムと、
前記投影システムの最終要素と前記基板との間の空間の少なくとも一部に液体を充填して少なくとも部分的に前記液体を閉じ込めるように構成されている液体閉じ込めシステムと、を備えるリソグラフィ投影装置であって、
光源、光検出器、及び光比較器を含む、前記液体中の不純物を検出するように配置されている検出システムを更に備え、
前記光源と前記光検出器は、前記光源によって放射された光が前記液体の一部を通過して前記光源と前記光検出器の間を伝搬するように配置され、
前記光比較器は、前記液体の一部を通過して伝搬した後に、前記光検出器に到達する前記放射光の比率の変化を検出するように配置されている、リソグラフィ投影装置。
【請求項２０】
前記検出システムは、前記液体閉じ込めシステムによって閉じ込められた液体中の気泡を検出するよう配置されている、請求項１９に記載のリソグラフィ投影システム。
【請求項２１】
前記検出システムは、前記投影システムの前記最終要素と前記基板との間の前記液体中の粒子を検出するように配置されている、請求項１９又は請求項２０に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項２２】
パターン形成した放射ビームを提供する工程と、
基板を基板テーブル上に保持する工程と、
パターン形成した放射ビームを投影システムから基板の目標部分に投影する工程と、
前記投影システムの最終要素と前記基板との間の空間の少なくとも一部に液体を充填して少なくとも部分的に前記液体を閉じ込める工程と、
光源、光検出器、及び光比較器を含む検出システムによって前記液体中の不純物を検出する工程と、を備え、
前記不純物を検出する工程は、前記光源から光を放射し、前記液体の一部を通過して前記光源と前記光検出器との間に光を伝搬させ、前記液体の一部を通過して伝搬した後に前記光検出器に到達する光の比率の変化を検出する前記光比較器を使用して前記不純物を検出する工程を含む、デバイス製造方法。
【請求項２３】
放射ビームを供給するように配置されている放射システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与することが可能であり、よってパターン形成した放射ビームを提供するパターン形成手段を支持するように構成されている支持構造と、
基板を保持するように構成されている基板テーブルと、
前記パターン形成した放射ビームを前記基板の標的部分上に投影するように配置されている投影システムと、
前記投影システムの最終要素と前記基板との間の空間の少なくとも一部に液体を充填して少なくとも部分的に前記液体を閉じ込めるように構成されている液体閉じ込めシステムと、を備えるリソグラフィ投影装置であって、
前記投影システムの動作状態を活動状態と中断状態の間で切り換えできる液質モニタを更に備え、液質が所定のしきい状態を上回っていると測定されるとき、前記活動状態を選択し、液質が所定のしきい状態を下回っていると測定されるとき、前記中断状態を選択する、リソグラフィ投影装置。
【請求項２４】
基板を基板テーブル上に保持する工程と、
パターン形成した放射ビームを提供する工程と、
パターン形成した放射ビームを投影システムから基板の目標部分に投影する工程と、
前記投影システムの最終要素と前記基板との間の空間の少なくとも一部に液体を充填して少なくとも部分的に前記液体を閉じ込める工程と、
液質が所定のしきい状態を上回っていると測定されるとき、活動状態を選択し、液質が所定のしきい状態を下回っていると測定されるとき、中断状態を選択する液質モニタを使用して、前記投影システムの動作状態を活動状態と中断状態の間で切り換える工程と、
を備えるデバイス製造方法。
【請求項２５】
放射ビームを供給するように配置されている照射システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与することが可能であり、よってパターン形成した放射ビームを提供するパターン形成手段を支持するように構成されている支持構造と、
基板を保持するように構成されている基板テーブルと、
前記パターン形成した放射ビームを前記基板の標的部分上に投影するように配置されている投影システムと、
前記投影システムの最終要素と前記基板との間の空間の少なくとも一部に液体を充填して少なくとも部分的に前記液体を閉じ込めるように構成されている液体閉じ込めシステムと、
前記液体中に存在する気泡の大きさ分布又は数密度分布の情報を得るために前記液体中の超音波の減衰を測定する超音波変換器と、
を備えるリソグラフィ投影装置。
【請求項２６】
パターン形成した放射ビームを提供する工程と、
基板を基板テーブル上に保持する工程と、
パターン形成した放射ビームを投影システムから基板の目標部分に投影する工程と、
前記投影システムの最終要素と前記基板との間の空間の少なくとも一部に液体を充填して少なくとも部分的に前記液体を閉じ込める工程と、
前記液体中に存在する気泡の大きさ分布又は数密度分布の情報を得るために超音波変換器を使用して前記液体中の超音波の減衰を測定する工程と、
を備えるデバイス製造方法。