【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年8月26日(2008.8.26)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線の投影ビームを条件付ける照明システムと、
その断面においてパターンを前記投影ビームに付与するように働く個別制御可能要素アレイと、
基板を支持する基板テーブルと、
前記基板の標的部分上に前記パターン形成されたビームを投影する投影システムと
を備え、
前記各個別制御可能要素が３層の誘電体層のスタックを備え、前記３層のうちの少なくとも中間の１層が固体電子光学材料から形成され、それによって、制御信号の付与時、前記要素が第１の状態と第２の状態との間を選択的に変更され、前記第１の状態では、前記３層の誘電体層のうちの中間の１層と他の２層の間における１つの偏光状態についての屈折率の違いがより大きく、前記第２の状態では、前記１つの偏光状態についての前記屈折率の違いがより小さく、前記電子光学材料層の少なくとも１つの隣接層との境界においてそれぞれ透過され反射される放射線の比率が前記２つの状態で異なる、リソグラフィ装置。
【請求項２】
前記スタックが、複数の追加の誘電体材料層を含み、前記追加層のうちの少なくとも１層が電子光学材料から形成され、それによって、前記第２の電子光学材料層に制御信号を付与することによって、１つの偏光状態についての前記追加層のうちの少なくとも１層の屈折率が変更されうる、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項３】
前記スタックの交互の層が固定屈折率を有する材料から形成され、その残りが電子光学材料から形成され、それによって、前記層にそれぞれの制御信号を付与することにより、所与の各偏光状態についての各電子光学材料層の前記屈折率が変更されうる、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項４】
前記電子光学材料層が、これらの層の各異常軸が相互にほぼ平行となるように配置されている、請求項２に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項５】
少なくとも２層の電子光学材料層が、これらの層の異常軸が相互にほぼ垂直となるように配置されている、請求項２に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項６】
前記スタック内の各電子光学材料層に独立して制御可能な制御電圧を印加するように構成されている電極をさらに備えている、請求項２に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項７】
前記スタック内の２層以上の電子光学材料層に共通の制御電圧を印加するように構成されている電極をさらに備えている、請求項２に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項８】
相互にほぼ平行な異常軸を有する電子光学材料層に共通の制御電圧を印加するように構成されている電極をさらに備えている、請求項４に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項９】
各要素が、第１の方向に面偏光された放射線の伝播と、前記第１の方向にほぼ直交する第２の方向に面偏光された放射線の伝播とを独立して制御するように構成されている、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１０】
前記照明システムが、２次線源プレーンを有し、前記２次線源プレーン内で４つのポールを有する投影ビームを生成するようになっている、請求項９に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１１】
前記４つのポールが対になって配置され、第１のポール対の中心を結合する直線が第２のポール対の中心を結合する直線に直交しており、前記直線が、実質上前記照明システムの光学軸において交差している、請求項１０に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１２】
前記第１のポール対の前記放射線が前記第１の方向に面偏光され、前記第２のポール対の前記放射線が前記第２の方向に面偏光されている、請求項１１に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１３】
その断面においてパターンを放射線ビームに付与するように構成された個別制御可能要素アレイにおいて、個別制御可能要素の各々が３層の誘電体層のスタックを備え、前記３層のうちの少なくとも中間の１層が固体電子光学材料から形成され、それによって、制御信号の付与時、前記要素が第１の状態と第２の状態との間を選択的に変更され、前記第１の状態では、前記３層の誘電体層のうちの中間の１層と他の２層の間における１つの偏光状態についての屈折率の違いがより大きく、前記第２の状態では、前記１つの偏光状態についての前記屈折率の違いがより小さく、前記電子光学材料層の少なくとも１つの隣接層との境界においてそれぞれ透過され反射される放射線の比率が前記２つの状態で異なる、個別制御可能要素アレイ。
【請求項１４】
基板を提供する工程と、
照明システムを使用して放射線の投影ビームを条件付ける工程と、
その断面においてパターンを前記投影ビームに付与する個別制御可能要素アレイを使用する工程と、
この基板の標的部分上にパターン形成された放射線ビームを投影する工程と
を含み、
前記個別制御可能要素の各々が３層の誘電体層のスタックを備え、前記３層のうちの少なくとも中間の１層が固体電子光学材料から形成され、それによって、制御信号の付与時、前記要素が第１の状態と第２の状態との間を選択的に変更され、前記第１の状態では、前記３層の誘電体層のうちの中間の１層と他の２層の間における１つの偏光状態についての屈折率の違いがより大きく、前記第２の状態では、前記１つの偏光状態についての前記屈折率の違いがより小さく、前記電子光学材料層の少なくとも１つの隣接層との境界においてそれぞれ透過され反射される放射線の比率が前記２つの状態で異なる、デバイス製造方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
スタックの交互層が、固定した屈折率をもつ材料から形成され、残りが電子光学材料から形成されることが好ましい。これらの電子光学材料層は、これらの各異常軸が相互にほぼ平行となるように配置することができる。したがって、これらの層が、固定した屈折率の層に比較的近い屈折率をもつように設定されるとき、この個別制御可能要素には、比較的透過性があるが、この電子光学層の屈折率がこの固定した屈折率の層の屈折率とは異なるレベルに設定されるときには、この個別制御可能要素は、１層の電子光学材料層をもつスタックが使用される場合に比べてより反射性のものになる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
或いは、これらの各異常軸が相互に直角になるように交互層が配置されるようにこの電子光学材料層を配置することができる。これによって、２つの直交する方向に面偏光された放射線について各個別制御可能要素の透過／反射特性を独立して制御できるようになる。したがって、例えば、個別制御可能要素アレイに設定すべき直角方向に向けられたパターン・フィーチャを効果的に別々に照明して、二重双極子照明についての放射線ビームの同時パターン形成を提供することが可能である。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
相互に平行な各異常軸を有するスタック内の電子光学材料層は、以上に説明したように、例えば反射を高めるために一緒に設定することもでき、また異なる電圧をそれぞれに対して印加することもできる。これによって、この個別制御可能要素の反射／透過特性と、この個別制御可能要素アレイが導入する放射線の位相シフトとを独立して制御可能にすることができる。したがって、この個別制御可能要素アレイ上の隣接する要素を、例えば、互いに同じ放射線強度を反射するけれども相対的に位相が異なるように設定することができる。したがって、位相シフト型の個別制御可能要素アレイを形成することが可能である。十分な層数の制御可能な電子光学層を用いて二重双極子照明について２つのパターンの位相及びグレースケールを制御できる個別制御可能要素アレイを提供することが可能である。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４６】
これらの電子光学材料層１１、１２、１３は、これらの層の各異常軸が相互に平行になるように方向づけられている。したがって、これらに印加される制御電圧は、同じ方向に偏光された放射線についての固定屈折率をもつ材料との境界の透過／反射特性を制御することになる。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４９】
各電子光学材料層は、所与の方向に面偏光された放射線の反射／透過特性を制御することができるだけである。さらに、屈折率が電圧制御可能である方向に対して直角な第１の方向に面偏光された放射線について、その屈折率がそれに隣接した層とほぼ同じになるように電子光学材料を選択することによって、スタックのこの部分は、この第１の方向に面偏光された放射線に対して透過性になる。図４は、この特徴を利用した個別制御可能要素アレイのための要素を示すものである。この要素は、それぞれ電極対３３、３４と電極対３５、３６によって制御可能な２層の電子光学材料層３１、３２を備えている。電子光学材料層３１、３２は、交互になった固定屈折率材料層３７、３８、３９の間にサンドイッチ状にはさまれており、この完備したスタックは、基板４上に支持されている。図４に示すように、電子光学材料層３１、３２は、これらの各異常軸が互いに直角になるように配置されている。したがって、第１の電子光学材料層３１に電圧を印加することにより、第１の方向に面偏光された放射線についてのその反射／透過特性が制御される。また、第２の電子光学材料層３２に制御電圧を印加することにより、第１の方向に直角な第２の方向に面偏光された放射線についてのその反射／透過特性が制御される。したがって、個別制御可能要素を使用して第１の方向に面偏光された放射線と第２の方向に面偏光された放射線とを独立して制御することができる。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５１】
明らかなように、追加の電子光学材料層を図４に示す個別制御可能要素に追加することができる。例えば、第１の方向に配列された異常軸をもつ複数の電子光学材料層と、第２の直角な方向の異常軸をもつ複数の電子光学材料層とが存在し得る。かかる構成においては、２つの直角方向に面偏光された放射線の位相とグレースケールを独立して制御することが可能である。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５２】
図４に示す個別制御可能要素（及び互いに直角に配置された複数の電子光学材料層をもつ対応する要素）の代替的な使用においては、これらの電極を一緒に接続して、互いに直角に異常軸が配置されたこれらの電子光学材料層に共通の制御電圧を提供することができる。したがって、それぞれに対する反射／透過特性の制御は、同じになる。それ故に、２つの直角方向に面偏光された放射線の反射／透過は同じになり、したがって、かかる要素を備える個別制御可能要素アレイは、面偏光された光を用いて照明する必要がないことになる。かかる実施例について位相制御が必要な場合には、各対が、互いに直角な異常軸をもつように配置された電子光学材料層から構成され、各層対が一緒に制御されるが、他の電子光学材料層対とは独立して制御される、複数対の電子光学材料層を提供することが可能である。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５３】
図５は、以上で説明したような個別制御可能要素アレイをリソグラフィ装置中において使用するための構成要素の構成の一実施例を示すものである。照明システム６０からの放射線は、偏光器６１によって偏光され（その結果、所与の方向に面偏光され）、制御光学系６２を経由してビーム・スプリッタ６３上に投影される。このビームは、このビーム・スプリッタ６３によって反射され、さらなる制御光学系６４を経由して個別制御可能要素アレイ６５上に投影される。この放射線ビームは、個別制御可能要素アレイ６５によってパターン形成され反射され、それに応じてすぐに放射線ビームは、制御光学系６４を介して投影され、ビーム・スプリッタ６３中を透過する。パターン形成されたビームは、その後１／４波長プレートなどの回転偏光器６６を通過した後に、投影システム６７によって基板６８上に投影される。この１／４波長プレートは、省略することが可能であり、これは特に二重双極子照明を使用している場合には省略すべきである。さらに、偏光器６１は、標準ビーム・スプリッタ６３の代わりに偏光ビーム・スプリッタを使用することによって省略することができる。個別制御可能要素アレイの要素が、相互に直角な異常軸をもつように構成され、一緒に動作するように制御される電子光学材料層を含んでいる場合には、以上で説明したようにこの個別制御可能要素アレイを偏光された光で照明する必要がないので、偏光器６１を省略し標準のビーム・スプリッタ６３をそのまま保持することが可能である。同様に、二重双極子照明を使用する場合には、標準（すなわち、非偏光性）のビーム・スプリッタ６３は、そのまま保持するが、偏光器６１は、分割してそれ自体の偏光方向をもつ各双極子方向についての放射線を提供する必要がある。