【手続補正書】
【提出日】平成20年1月10日(2008.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  一部重複露光領域を感光性基板上に形成するために所定方向に沿って配列された複数の投影光学モジュールを有する投影光学系と、所定のパターンが形成されたマスクを照明する照明光学系とを備え、前記投影光学系を用いて前記マスクのパターン像を前記感光性基板へ投影露光する露光装置において、
前記感光性基板に対して前記各投影光学モジュールの像面を合焦方向へそれぞれ整合させる合焦調整手段を配置し、
前記合焦調整手段は、互いに隣合った投影光学モジュールの像面における前記一部重複露光領域の形成に寄与する部分同士を前記合焦方向においてほぼ同じ位置に設定することを特徴とする露光装置。
【請求項２】  前記複数の投影光学モジュールの内の少なくとも１つの投影光学モジュールの像面の合焦方向に沿った位置の変化を計測するために前記少なくとも１つの投影光学モジュールの像面へ向かう光の一部を計測する計測手段と、前記計測手段の計測情報に基づいて前記各投影光学モジュールの像面湾曲量に応じた補正量をそれぞれ求める算出手段とをさらに配置し、
前記合焦調整手段は、前記算出手段からの出力に基づいて前記各投影光学モジュールの像面の位置を調整することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】  前記算出手段は、前記計測手段の計測情報に基づいて前記各投影光学モジュールの像面の位置をそれぞれ決定する像面位置決定部と、前記各投影光学モジュールの像面湾曲量に応じた各補正値を用いて前記像面位置決定部にて定められた前記各投影光学モジュールの像面の位置をそれぞれ補正する補正部とを有することを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】  前記算出手段は、前記複数の投影光学モジュールの内の少なくとも１つの投影光学モジュールの像面の合焦方向に沿った位置の変化と前記計測手段にて計測される光量変化との相関関係を記憶する記憶部をさらに有し、
前記像面位置決定部は、前記記憶部の情報および前記計測手段の計測情報を用いて、前記各投影光学モジュールの像面の位置をそれぞれ決定することを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】  前記算出手段は、前記各投影光学モジュールの像面湾曲量に応じた補正値をそれぞれ記憶する補正値記憶部をさらに有し、
前記補正部は、前記補正値記憶部の記憶情報を用いて前記像面位置決定部にて定められた前記各投影光学モジュールの像面の位置をそれぞれ補正することを特徴とする請求項３または４に記載の露光装置。
【請求項６】  前記算出手段は、前記計測手段の計測情報に基づいて前記各投影光学モジュールの像面湾曲の変化に応じた補正値をそれぞれ算出する補正値算出部をさらに有し、
前記補正部は、前記補正値算出部にて得られた各補正値に基づいて前記像面位置決定部にて定められた前記各投影光学モジュールの像面の位置をそれぞれ補正することを特徴とする請求項３または４に記載の露光装置。
【請求項７】  前記算出手段は、前記複数の投影光学モジュールの内の少なくとも１つの投影光学モジュールの像面における前記一部重複露光領域の形成に寄与する部分での合焦方向に沿った位置の変化と前記計測手段にて計測される光量変化との相関関係を記憶する記憶部をさらに有し、
前記像面位置決定部は、前記記憶部の情報および前記計測手段の計測情報を用いて、前記各投影光学モジュールの像面の位置をそれぞれ決定することを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項８】  一部重複露光領域を感光性基板上に形成するために所定方向に沿って配列された複数の投影光学モジュールを有する投影光学系と、所定のパターンが形成されたマスクを照明する照明光学系とを備え、前記投影光学系を用いて前記マスクのパターン像を前記感光性基板へ投影露光する露光装置の調整方法において、
前記感光性基板に対して前記各投影光学モジュールの像面を合焦方向へそれぞれ整合させる合焦調整工程を含み、
前記合焦調整工程では、互いに隣合った投影光学モジュールの像面における前記一部重複露光領域の形成に寄与する部分同士を前記合焦方向においてほぼ同じ位置に設定することを特徴とする露光装置の調整方法。
【請求項９】  前記複数の投影光学モジュールの内の少なくとも１つの投影光学モジュールの像面の合焦方向に沿った位置の変化を計測するために前記少なくとも１つの投影光学モジュールの像面へ向かう光の一部を計測する計測工程と、前記計測工程での計測情報に基づいて前記各投影光学モジュールの像面湾曲量に応じた補正量をそれぞれ求める算出工程とをさらに含み、
前記合焦調整工程では、前記算出工程での出力に基づいて前記各投影光学モジュールの像面の位置を調整することを特徴とする請求項８に記載の露光装置の調整方法。
【請求項１０】  前記算出工程は、前記計測工程での計測情報に基づいて前記各投影光学モジュールの像面の位置をそれぞれ決定する像面位置決定工程と、前記各投影光学モジュールの像面湾曲量に応じた各補正値を用いて前記像面位置決定工程にて定められた前記各投影光学モジュールの像面の位置をそれぞれ補正する補正工程とを有することを特徴とする請求項９に記載の露光装置の調整方法。
【請求項１１】  前記算出工程は、前記複数の投影光学モジュールの内の少なくとも１つの投影光学モジュールの像面の合焦方向に沿った位置の変化と前記計測工程にて計測される光量変化との相関関係を記憶する記憶工程をさらに有し、
前記像面位置決定工程では、前記記憶工程での情報および前記計測工程での計測情報を用いて、前記各投影光学モジュールの像面の位置をそれぞれ決定することを特徴とする請求項１０に記載の露光装置の調整方法。
【請求項１２】  前記算出工程は、前記各投影光学モジュールの像面湾曲量に応じた補正値をそれぞれ記憶する補正値記憶工程をさらに有し、
前記補正工程では、前記補正値記憶工程での記憶情報を用いて前記像面位置決定工程にて定められた前記各投影光学モジュールの像面の位置をそれぞれ補正することを特徴とする請求項１０または１１に記載の露光装置の調整方法。
【請求項１３】  前記算出工程は、前記計測工程の計測情報に基づいて前記各投影光学モジュールの像面湾曲の変化に応じた補正値をそれぞれ算出する補正値算出工程をさらに有し、
前記補正工程では、前記補正値算出工程にて得られた各補正値に基づいて前記像面位置決定工程にて定められた前記各投影光学モジュールの像面の位置をそれぞれ補正することを特徴とする請求項１０または１１に記載の露光装置の調整方法。
【請求項１４】  前記算出工程は、前記複数の投影光学モジュールの内の少なくとも１つの投影光学モジュールの像面における前記一部重複露光領域の形成に寄与する部分での合焦方向に沿った位置の変化と前記計測工程にて計測される光量変化との相関関係を記憶する記憶工程をさらに有し、
前記像面位置決定工程では、前記記憶工程での情報および前記計測工程での計測情報を用いて、前記各投影光学モジュールの像面の位置をそれぞれ決定することを特徴とする請求項１０に記載の露光装置の調整方法。
【請求項１５】  請求項８乃至１４のいずれか１項に記載の調整方法によって調整されたことを特徴とする露光装置。
【請求項１６】  請求項１乃至７および１５のいずれか１項に記載の露光装置を用いて前記マスクのパターンを前記感光性基板へ露光する露光工程と、
前記露光された基板を現像する現像工程とを含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法。
【請求項１７】  一部重複露光領域を感光性基板上に形成するために所定方向に沿って配列された複数の投影光学モジュールを有する投影光学系と、所定のパターンが形成されたマスクを照明する照明光学系とを用いて、前記マスクのパターンを前記感光性基板へ露光する露光装置の製造方法において、
前記複数の投影光学モジュールの像面の合焦方向に沿った位置を計測する計測工程と、
前記計測工程にて得られた計測情報を用いて、互いに隣合った投影光学モジュールの像面における前記一部重複露光領域の形成に寄与する部分同士を前記合焦方向においてほぼ同じ位置となるように調整する調整工程とを含むことを特徴とする露光装置の製造方法。
【請求項１８】  所定方向に沿って配列された複数の投影光学モジェールを有する投影光学系と、所定のパターンが形成されたマスクを照明する照明光学系とを用いて、前記マスクのパターンを感光性基板へ露光する露光装置の製造方法において、
前記複数の投影光学モジュールの結像面の合焦方向に沿った最大の変位量を予め算出する算出工程と、
前記算出工程の算出結果に基づいて、前記複数の投影光学モジュールの初期の基準結像面をそれぞれ設定する設定工程とを含むことを特徴とする露光装置の製造方法。
【請求項１９】  前記設定工程は、互いに隣合った投影光学モジュールの結像面における一部重複露光領域の形成に寄与する部分同士を前記合焦方向においてほぼ同じ位置となるように調整する調整工程を含むことを特徴とする請求項１８に記載の露光装置の製造方法。
【請求項２０】  請求項１７乃至１９のいずれか１項に記載の製造方法によって製造されたことを特徴とする露光装置。
【請求項２１】  所定方向に沿って配列された複数の投影光学モジュールを有する投影光学系と、所定のパターンが形成されたマスクを照明する照明光学系とを備え、前記投影光学系を用いて前記マスクのパターン像を前記感光性基板へ投影露光する露光装置において、
前記各投影光学モジュールに含まれる少なくとも１つの光学部材の熱変形に起因する前記各投影光学モジュールの光学特性の変化を補正する第１調整手段と、前記各投影光学モジュールに含まれる少なくとも１つの偏向部材の熱変形に起因する前記各投影光学モジュールの光学特性の変化を補正する第２調整手段とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項２２】  所定方向に沿って配列された複数の投影光学モジュールを有する投影光学系と、所定のパターンが形成されたマスクを照明する照明光学系とを備え、前記投影光学系を用いて前記マスクのパターン像を前記感光性基板へ投影露光する露光装置において、
前記複数の投影光学モジュールの内の少なくとも１つの投影光学モジュールの第１光学特性の経時的変化を補正する第１調整手段と、前記第１調整手段により悪化する前記第１光学特性とは異なる第２光学特性を補正する第２調整手段とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項２３】  請求項２０乃至２２のいずれか１項に記載の露光装置を用いて前記マスクのパターンを前記感光性基板へ露光する露光工程と、
前記露光された基板を現像する現像工程とを含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法。