【手続補正書】
【提出日】平成20年3月27日(2008.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つ以上の活性水素基を有する含硫黄有機化合物（Ａ）、イソシアネート基を２つ以上有するポリイソシアネート化合物（Ｂ）および２つ以上の活性水素基を有するアミン化合物（Ｃ）の少なくとも３種の化合物を反応させ、さらに得られる生成物中のアミノ基の少なくとも一部が酸によりカチオン化されていることを特徴とする高分子酸化防止剤。
【請求項２】
生成物に含まれるアミン化合物（Ｃ）の含有量が、モル比率で５．５〜１８．５％である請求項１に記載の高分子酸化防止剤。
【請求項３】
酸が、燐酸および／または一価の酸である請求項１に記載の高分子酸化防止剤。
【請求項４】
一価の酸が、ヒドロキシ酸である請求項３に記載の高分子酸化防止剤。
【請求項５】
含硫黄有機化合物（Ａ）が、分子内にスルフィド基を少なくとも一つ含有する請求項１に記載の高分子酸化防止剤。
【請求項６】
含硫黄有機化合物（Ａ）が、３つ以上の活性水素基を有し、少なくとも一つが水酸基である請求項１に記載の高分子酸化防止剤。
【請求項７】
含硫黄有機化合物（Ａ）が、下記一般式（７）〜（１２）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種である請求項１に記載の高分子酸化防止剤。
2005336480.tif 000001
（式中ｎは１または２を表す。また、Ｒ1はメチレン基、エチレン基、またはプロピレン基を表す。）
2005336480.tif 000002
（式中ｎは１または２を表す。また、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立で水素原子、水酸基を表し、Ｒ2およびＲ3は同一であっても異なっていてもよい。）
2005336480.tif 000003
（式中ｎは０または１を表す。）
2005336480.tif 000004
（式中ｎは１または２を表す。また、Ｒ4は硫黄原子または酸素原子を表し、Ｒ5は硫黄原子または−ＳＯ2-を表し、Ｒ4およびＲ5は同一ではなく、それぞれ異なる基で構成される。）
2005336480.tif 000005
（式中Ｒ6およびＲ7はそれぞれ独立で水素原子を表し、Ｒ6およびＲ7は同一であっても異なっていてもよい。）
2005336480.tif 000006
（式中Ｒ8は水酸基を表す。）
【請求項８】
含硫黄有機化合物（Ａ）が、３，６−ジチア−１，８−オクタンジオール、１，２−ビス（２，３−ジヒドロキシプロピルチオ）エタン、６−オキサ−３，９−ジチア−１，１１−ウンデカンジオール、ビス（２−（２−ヒドロキシエチルチオ−エチル））スルホン、２，２−チオジエタノール、１−（２−ヒドロキシエチルチオ）−プロパン−２−オール、および５−ヒドロキシ−３，７−ジチア−１，９−ノナンジオールから選ばれる少なくとも１種である請求項１に記載の高分子酸化防止剤。
【請求項９】
下記一般式（１）〜（６）で表される少なくとも１種である請求項１に記載の高分子酸化防止剤。
2005336480.tif 000007
（式中ｎは１または２を、Ｒ1はメチレン基、エチレン基、またはプロピレン基を、Ｒ9はアルキレンもしくは複脂環を１つ以上含む脂肪族炭化水素基を、Ｒ10は炭素数１〜４のアルキル基を、Ｒ11およびＲ12はそれぞれ独立で水素原子もしくはメチル基を、Ｘ-は酸陰イオンを表す。ｍは重量平均分子量が２，０００〜１５０，０００になる数である。）
2005336480.tif 000008
（式中ｎは１または２を、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立で水素原子、水酸基またはアルキル基を、Ｒ2およびＲ3は同一であっても異なっていてもよい。尚、Ｒ9〜12およびＸ-およびｍは一般式（１）と同義である。）
2005336480.tif 000009
（式中ｎは０または１を表す。Ｒ9〜12およびＸ-およびｍは一般式（１）と同義である。）
2005336480.tif 000010
（式中ｎは１または２を、Ｒ4は硫黄原子または酸素原子を、Ｒ5は硫黄原子または−ＳＯ2-を、Ｒ4およびＲ5は同一ではなく、それぞれ異なる基で構成される。尚、Ｒ9〜12およびＸ-およびｍは一般式（１）と同義である。）
2005336480.tif 000011
（式中Ｒ6およびＲ7はそれぞれ独立で水素原子またはアルキル基を表し、Ｒ6およびＲ7は同一であっても異なっていてもよい。尚、Ｒ9〜12およびＸ-およびｍは一般式（１）と同義である。）
2005336480.tif 000012
（式中Ｒ8は水酸基またはアルキル基を表す。尚、Ｒ9〜12およびＸ-およびｍは一般式（１）と同義である。）
【請求項１０】
無機顔料と水溶性および／または水分散性樹脂と硬膜剤と請求項１〜９の何れか１項に記載の高分子酸化防止剤と水とを少なくとも含有することを特徴とするインク受容層用塗工液。
【請求項１１】
支持体の少なくとも一方の面に、１層以上のインク受容層を設けた被記録媒体において、少なくとも該インク受容層が、請求項１〜９の何れか１項に記載の高分子酸化防止剤を少なくとも１種含有することを特徴とする被記録媒体。
【請求項１２】
２つ以上の活性水素基を有する含硫黄有機化合物（Ａ）、イソシアネート基を２つ以上有するポリイソシアネート化合物（Ｂ）および２つ以上の活性水素基を有するアミン化合物（Ｃ）の少なくとも３種の化合物を反応させ、さらに得られる生成物中のアミノ基の少なくとも一部が酸によりカチオン化されていることを特徴とする高分子化合物。
【請求項１３】
生成物に含まれるアミン化合物（Ｃ）の含有量が、モル比率で５．５〜１８．５％である請求項１２に記載の高分子化合物。
【請求項１４】
酸が、燐酸および／または一価の酸である請求項１２に記載の高分子化合物。
【請求項１５】
一価の酸が、ヒドロキシ酸である請求項１４に記載の高分子化合物。
【請求項１６】
含硫黄有機化合物（Ａ）が、分子内にスルフィド基を少なくとも一つ含有する請求項１２に記載の高分子化合物。
【請求項１７】
含硫黄有機化合物（Ａ）が、３つ以上の活性水素基を有し、少なくとも一つが水酸基である請求項１２に記載の高分子化合物。
【請求項１８】
含硫黄有機化合物（Ａ）が、下記一般式（７）〜（１２）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種である請求項１２に記載の高分子化合物。
2005336480.tif 000013
（式中ｎは１または２を表す。また、Ｒ1はメチレン基、エチレン基、またはプロピレン基を表す。）
2005336480.tif 000014
（式中ｎは１または２を表す。また、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立で水素原子、水酸基を表し、Ｒ2およびＲ3は同一であっても異なっていてもよい。）
2005336480.tif 000015
（式中ｎは０または１を表す。）
2005336480.tif 000016
（式中ｎは１または２を表す。また、Ｒ4は硫黄原子または酸素原子を表し、Ｒ5は硫黄原子または−ＳＯ2-を表し、Ｒ4およびＲ5は同一ではなく、それぞれ異なる基で構成される。）
2005336480.tif 000017
（式中Ｒ6およびＲ7はそれぞれ独立で水素原子を表し、Ｒ6およびＲ7は同一であっても異なっていてもよい。）
2005336480.tif 000018
（式中Ｒ8は水酸基を表す。）
【請求項１９】
含硫黄有機化合物（Ａ）が、３，６−ジチア−１，８−オクタンジオール、１，２−ビス（２，３−ジヒドロキシプロピルチオ）エタン、６−オキサ−３，９−ジチア−１，１１−ウンデカンジオール、ビス（２−（２−ヒドロキシエチルチオ−エチル））スルホン、２，２−チオジエタノール、１−（２−ヒドロキシエチルチオ）−プロパン−２−オール、および５−ヒドロキシ−３，７−ジチア−１，９−ノナンジオールから選ばれる少なくとも１種である請求項１２に記載の高分子化合物。
【請求項２０】
下記一般式（１）〜（６）で表される少なくとも１種である請求項１２に記載の高分子化合物。
2005336480.tif 000019
（式中ｎは１または２を、Ｒ1はメチレン基、エチレン基、またはプロピレン基を、Ｒ9はアルキレンもしくは複脂環を１つ以上含む脂肪族炭化水素基を、Ｒ10は炭素数１〜４のアルキル基を、Ｒ11およびＲ12はそれぞれ独立で水素原子もしくはメチル基を、Ｘ-は酸陰イオンを表す。ｍは重量平均分子量が２，０００〜１５０，０００になる数である。）
2005336480.tif 000020
（式中ｎは１または２を、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立で水素原子、水酸基またはアルキル基を、Ｒ2およびＲ3は同一であっても異なっていてもよい。尚、Ｒ9〜12およびＸ-およびｍは一般式（１）と同義である。）
2005336480.tif 000021
（式中ｎは０または１を表す。Ｒ9〜12およびＸ-およびｍは一般式（１）と同義である。）
2005336480.tif 000022
（式中ｎは１または２を、Ｒ4は硫黄原子または酸素原子を、Ｒ5は硫黄原子または−ＳＯ2-を、Ｒ4およびＲ5は同一ではなく、それぞれ異なる基で構成される。尚、Ｒ9〜12およびＸ-およびｍは一般式（１）と同義である。）
2005336480.tif 000023
（式中Ｒ6およびＲ7はそれぞれ独立で水素原子またはアルキル基を表し、Ｒ6およびＲ7は同一であっても異なっていてもよい。尚、Ｒ9〜12およびＸ-およびｍは一般式（１）と同義である。）
2005336480.tif 000024
（式中Ｒ8は水酸基またはアルキル基を表す。尚、Ｒ9〜12およびＸ-およびｍは一般式（１）と同義である。）