【手続補正書】
【提出日】平成20年1月24日(2008.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】    【請求項１】  真空領域を構成する真空容器と、この真空容器の外部に在る被照射体を通過させる為の被照射体通路と、前記の真空容器の内部で電子を放出する陰極と、この陰極から放出された電子を加速する電子加速手段と、この電子加速手段によって加速された電子を前記の真空容器の外部に透過させる電子透過窓とを有して構成されており、この電子透過窓を含む面が前記の被照射体通路によって貫通されていることを特徴とする電子線照射装置。    【請求項２】  真空領域を構成する真空容器と、この真空容器の外部に在る被照射体を通過させる為の被照射体通路と、前記の真空容器の内部で電子を放出する陰極と、この陰極から放出された電子を加速する電子加速手段と、この電子加速手段によって加速された電子を前記の真空容器の外部に透過させる電子透過窓と、この電子透過窓を透過した電子の内で前記の被照射体に衝突する電子の割合を増加する電子集中手段とを有していることを特徴とする電子線照射装置。    【請求項３】  真空領域を構成する真空容器と、この真空容器の外部に在る被照射体を通過させる為の被照射体通路と、前記の真空容器の内部で電子を放出する陰極と、この陰極から放出された電子を加速する電子加速手段と、この電子加速手段によって加速された電子を前記の真空容器の外部に透過させる電子透過窓と、前記の被照射体が通過する位置を流体の動圧によって限定するように作用する被照射体位置限定手段とを有していることを特徴とする電子線照射装置。    【請求項４】  真空領域を構成する真空容器と、この真空容器の外部に在る被照射体を通過させる為の被照射体通路と、前記の真空容器の内部で電子を放出する陰極と、この陰極から放出された電子を加速する電子加速手段と、この電子加速手段によって加速された電子を前記の真空容器の外部に透過させる電子透過窓と、この電子透過窓を透過した電子を前記の被照射体通路の周囲方向から前記の被照射体通路に沿った細長い領域に集中させる電子集中手段と、この細長い領域を前記の被照射体が通過するように作用する被照射体位置限定手段とを有していることを特徴とする電子線照射装置。    【請求項５】  前記の電子透過窓は、前記の被照射体通路と直交する平面に含まれる面を有することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載した電子線照射装置。    【請求項６】  前記の電子集中手段は、中心軸をもった構造であり、前記の電子透過窓を透過して散乱した電子に前記の中心軸に向かう力を与えることを特徴とする請求項２、又は請求項４、又は請求項５のいずれか１項に記載した電子線照射装置。    【請求項７】  前記の電子集中手段は、前記の電子透過窓に対向した状態で前記の被照射体通路と同軸的に設けられた環状の磁石を用いて構成されていることを特徴とする請求項２、又は請求項４から請求項６のいずれか１項に記載した電子線照射装置。    【請求項８】  前記の被照射体通路は前記の真空容器を貫通して設けられており、前記の陰極はこの被照射体通路の周囲からこの被照射体通路に向かって電子を放出する環状の電子放出面を有することを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載した電子線照射装置。    【請求項９】  前記の陰極と、前記の電子加速手段と、前記の電子透過窓と、前記の電子集中手段と、前記の被照射体通路とが同軸状に取り付けられていることを特徴とする請求項２、又は請求項４から請求項８のいずれか１項に記載した電子線照射装置。    【請求項１０】  前記の電子透過窓に入射する電子の軌道は、前記の被照射体通路を中心とする円錐状に形成されていることを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１項に記載した電子線照射装置。    【請求項１１】  前記の電子集中手段は、前記の被照射体通路と同軸的に設けられた第１の環状の磁極と、この第１の環状の磁極と同軸的に設けられたより大きな径の第２の環状の磁極とを有しており、前記の第１の磁極は前記の電子透過窓と対向しており、前記の第２の磁極の先端は前記の電子透過窓を覆う様に位置していることを特徴とする請求項２、又は請求項４から請求項１０のいずれか１項に記載した電子線照射装置。    【請求項１２】  前記の被照射体位置限定手段は、前記の被照射体との間にギャップを有して前記の被照射体と同軸的に設けられた高圧孔を有する動圧発生管から成っており、前記のギャップに流体を流すことによって前記の被照射体と前記の高圧力孔との間に圧力を生じさせていることを特徴とする請求項３から請求項１１のいずれか１項に記載した電子線照射装置。    【請求項１３】  前記の被照射体位置限定手段は、前記の被照射体との間にギャップを有して前記の被照射体と同軸的に設けられた複数個の高圧力孔と、これらの高圧力孔の間に位置しており流体を流入する為の流体導入口とを有しており、この流体導入口からこの流体導入口の両側の前記の高圧力孔と前記の被照射体との間のギャップに流体を互いに反対方向に流すことによって前記の被照射体の軸方向における力をバランスさせた状態で前記の被照射体の半径方向に圧力を生じさせていることを特徴とする請求項３から請求項１２のいずれか１項に記載した電子線照射装置。    【請求項１４】  前記の被照射体位置限定手段は、前記の被照射体との間にギャップを有して前記の被照射体と同軸的に設けられた高圧力孔を有しており、この高圧力孔の内面にスパイラル状の溝を有しており、前記のギャップに流体を流すことによって前記の被照射体と前記の高圧力孔との間に圧力を生じさせていることを特徴とする請求項３から請求項１３のいずれか１項に記載した電子線照射装置。【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】    【従来の技術】  従来の電子線照射装置は、公開特許公報、特開平１１−１９１９０号に記載されているように、固定されたドラム管状の真空容器の中に直線状の金属フィラメントを取付け、これを通電加熱することによって放出される熱電子を５００ｋＶ以下の電圧で加速し、薄い金属箔で出来た平板状の透過窓を透過させて、大気中にある被照射体に電子線を照射するようになっている。特開平１１−１９１９０号公開特許公報に記載されている装置の概略の横断面図を図１６に示している。図１６において、１００１は真空容器であり、１００３は電子銃構造体であり、１００２は電子銃構体１００３等を支持するターミナルであり、１００４は陰極フィラメントであり、１００５はグリッドであり、１００６は電子を透過させる電子透過窓である。陰極フィラメント１００４から放出された電子がグリッド１００５に印加された電位差で加速され、更に電子透過窓１００６との間に印加された５００ｋＶ以下の電位差で加速されて電子透過窓１００６を透過する。透過した電子線Ｂ０１は照射室内にある被照射体１０１１に照射される。この装置は大型であり、電子線の照射方向が一定となっているのでシート状の被照射体に電子線を照射する場合には適するが、立体形状の物体に電子線を照射するのには適さない。このような場合には、例えば、特開平１１−１９１９０号公開特許公報に記載された装置では、図１６に示すように、立体構造体である被照射体１０１１は２本のワイヤ１００９、１０１０で回転させながら移動させられて前記の照射窓１００６を透過してきた電子線Ｂ０１が照射されるようになっている。このように被照射体１０１１を回転させながら移動させたり、特開平１０−２６８１００号公開特許公報に記載されているように被照射体１０１１を傾斜面上で転がしたり、特開平１０−２６８０９９号公開特許公報に記載されているように被照射体１０１１を裏返す機構を設けたり、特開平９−６８６００号公開特許公報に記載されているように被照射体１０１１の周囲に反射板を置いて電子線を被写体の周囲に一様に照射する努力が払われている。上記の従来例はいずれの場合も装置が大型になり、立体形状の被照射体１０１１に全周囲方向から照射するのが難しいだけでなく、処理能率が悪いと言う問題があった。【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】  例えば、前記の電子透過窓１００６と１．５ｃｍ離れた位置にある直径が０．５ｍｍの線状の被照射体に電子線を照射する場合を考える。この場合、電子透過窓１００６を通過した電子の１．０％程度が被照射体に照射されるに過ぎない。更に、１０μｍの厚みのチタニュームで出来た電子透過窓１００６における電子の透過率は５０％程度であり、電子透過窓１００６に入射する電子のエネルギーが１００ｋｅＶで、入射する電流が３０ｍＡであるとすると電子透過窓１００６において１５００Ｗが吸収されることになり、電子透過窓１００６の表面積を２０ｃｍ２とすると、入射パワー密度は７５Ｗ／ｃｍ２であり、これは許容値をはるかに超えており、電子透過窓１００６が焼損する。しかるに、仮に照射できたとしても、装置の全長が長いので、限定された空間内で、装置を直列に接続するなどして更に処理能力を高めることは不可能である。また、電子透過窓１００６の表面積を大きくして電子をその表面に均一に分散させた場合には細い被照射体に照射される電子の割合が更に小さくなるので被照射体に吸収される電流を増やす効果は極めて小さい。一方で、樹脂の硬化処理に電子線照射を採用して十分な量の電子線を照射すると樹脂と電子との反応により樹脂が瞬時に硬化する特性があるので、多量の電子線を集中して線状の被照射体に照射することによって処理能率を高めることができる電子線照射装置の実現が待望されていた。【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】  本発明の請求項１に係わる電子線照射装置は、真空領域を構成する真空容器と、この真空容器の外部に在る被照射体を通過させる為の被照射体通路と、前記の真空容器の内部で電子を放出する陰極と、この陰極から放出された電子を加速する電子加速手段と、この電子加速手段によって加速された電子を前記の真空容器の外部に透過させる電子透過窓とを有して構成されており、この電子透過窓を含む面が前記の被照射体通路によって貫通されていることを特徴とする装置である。電子透過窓は前記の被照射体通路を取り囲んでおり、被照射体の周囲から電子が照射されるようになっている為に被照射体の周方向に均一な電子線照射が行えるようになっている。【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】  本発明の請求項２に係わる電子線照射装置は、真空領域を構成する真空容器と、この真空容器の外部に在る被照射体を通過させる為の被照射体通路と、前記の真空容器の内部で電子を放出する陰極と、この陰極から放出された電子を加速する電子加速手段と、この電子加速手段によって加速された電子を前記の真空容器の外部に透過させる電子透過窓と、この電子透過窓を透過した電子の内で前記の被照射体に衝突する電子の割合を増加する電子集中手段とを有していることを特徴とする装置である。これによって、電子が被照射体通路内を通過する細い被照射体への命中率を向上させて、電子透過窓を過熱することなく多量の電子を短時間に被照射体に照射できる電子線照射装置を実現している。【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】  本発明の請求項３に係わる電子線照射装置は、真空領域を構成する真空容器と、この真空容器の外部に在る被照射体を通過させる為の被照射体通路と、前記の真空容器の内部で電子を放出する陰極と、この陰極から放出された電子を加速する電子加速手段と、この電子加速手段によって加速された電子を前記の真空容器の外部に透過させる電子透過窓と、前記の被照射体が通過する位置を流体の動圧によって限定するように作用する被照射体位置限定手段とを有していることを特徴とする装置である。これによって、被照射体の被照射体通路内での位置を限定して細い被照射体への電子の命中率を向上させて、電子透過窓を過熱することなく多量の電子を短時間に被照射体に照射できる電子線照射装置を実現している。【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】  本発明の請求項４に係わる電子線照射装置は、真空領域を構成する真空容器と、この真空容器の外部に在る被照射体を通過させる為の被照射体通路と、前記の真空容器の内部で電子を放出する陰極と、この陰極から放出された電子を加速する電子加速手段と、この電子加速手段によって加速された電子を前記の真空容器の外部に透過させる電子透過窓と、この電子透過窓を透過した電子を前記の被照射体通路の周囲方向から前記の被照射体通路に沿った細長い領域に集中させる電子集中手段と、この細長い領域を前記の被照射体が通過するように作用する被照射体位置限定手段とを有していることを特徴とする装置である。これによって、被照射体通路内を通過する細い被照射体への電子の命中率をより向上させて、電子透過窓を過熱することなく多量の電子を短時間に被照射体に照射できる電子線照射装置を実現している。【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】  本発明の請求項５に係わる電子線照射装置は、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載した装置において、前記の電子透過窓は、前記の被照射体通路と直交する平面に含まれる面を有することを特徴とする装置である。これによって、電子透過窓の製作が容易であるばかりでなく、被照射体の蒸発などによる電子透過窓の汚染が防止され、信頼性が高い電子線照射装置を実現させることができる。【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】  本発明の請求項６に係わる電子線照射装置は、請求項２、又は請求項４、又は請求項５のいずれか１項に記載した装置において、前記の電子集中手段は、中心軸をもった構造であり、前記の電子透過窓を透過して散乱した電子に前記の中心軸に向かう力を与えることを特徴とする装置である。これによって、細くて極めて長い被照射体に全周方向から極めて効率良く電子線が照射され、且つ装置全体がコンパクトである電子線照射装置を実現させることができる。【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】  本発明の請求項７に係わる電子線照射装置は、請求項２、又は請求項４から請求項６のいずれか１項に記載した装置において、前記の電子集中手段は、前記の電子透過窓に対向した状態で前記の被照射体通路と同軸的に設けられた環状の磁石を用いて構成されていることを特徴とする装置である。これによって、簡単な構造で前記の電子集中手段を実現でき、コンパクトでありながら処理能力が大きい電子線照射装置を実現させることができる。【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】  本発明の請求項８に係わる電子線照射装置は、請求項１から請求項７のいずれか１項に記載した装置において、前記の被照射体通路は前記の真空容器を貫通して設けられており、前記の陰極はこの被照射体通路の周囲からこの被照射体通路に向かって電子を放出する環状の電子放出面を有することを特徴とする装置である。これによって、簡単な構造でありながら被照射体の周囲における電子線の均一度を高めた電子線照射装置を実現できる。【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】  本発明の請求項９に係わる電子線照射装置は、請求項２、又は請求項４から請求項８のいずれか１項に記載した装置において、前記の陰極と、前記の電子加速手段と、前記の電子透過窓と、前記の電子集中手段と、前記の被照射体通路とが同軸状に取り付けられていることを特徴とする装置である。これによって、簡単な構造でありながら被照射体の周囲における電子線の均一度を高めた電子線照射装置を実現できる。【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】  本発明の請求項１０に係わる電子線照射装置は、請求項１から請求項９のいずれか１項に記載した装置において、前記の電子透過窓に入射する電子の軌道は、前記の被照射体通路を中心とする円錐状に形成されていることを特徴とする装置である。これによって、電子透過窓における電子密度を均一にして電子透過窓の局部過熱を防止して信頼性を高めるとともに被照射体に命中する電子を増した電子線照射装置を実現することができる。【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】  本発明の請求項１１に係わる電子線照射装置は、請求項２、又は請求項４から請求項１０のいずれか１項に記載した装置において、前記の電子集中手段は、前記の被照射体通路と同軸的に設けられた第１の環状の磁極と、この第１の環状の磁極と同軸的に設けられたより大きな径の第２の環状の磁極とを有しており、前記の第１の磁極は前記の電子透過窓と対向しており、前記の第２の磁極の先端は前記の電子透過窓を覆う様に位置していることを特徴とする装置である。これによって、簡単な構造で前記の電子集中手段を実現し、高い処理能力を有する電子線照射装置を実現することができる。【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】  本発明の請求項１２に係わる電子線照射装置は、請求項３から請求項１１のいずれか１項に記載した装置において、前記の被照射体位置限定手段は、前記の被照射体との間にギャップを有して前記の被照射体と同軸的に設けられた高圧孔を有する動圧発生管から成っており、前記のギャップに流体を流すことによって前記の被照射体と前記の高圧力孔との間に圧力を生じさせていることを特徴とする装置である。これによって、電子密度が大きい位置に被照射体を位置決めすることにより被照射体に命中する電子を増した電子線照射装置を実現することができる。【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】  本発明の請求項１３に係わる電子線照射装置は、請求項３から請求項１２のいずれか１項に記載した装置において、前記の被照射体位置限定手段は、前記の被照射体との間にギャップを有して前記の被照射体と同軸的に設けられた複数個の高圧力孔と、これらの高圧力孔の間に位置しており流体を流入する為の流体導入口とを有しており、この流体導入口からこの流体導入口の両側の前記の高圧力孔と前記の被照射体との間のギャップに流体を互いに反対方向に流すことによって前記の被照射体の軸方向における力をバランスさせた状態で前記の被照射体の半径方向に圧力を生じさせていることを特徴とする装置である。これによって、単純な構造でありながら、被照射体の移動を妨げることなく被照射体を被照射体通路の中心軸に一致させることにより電子線を被照射体に命中する電子を増した電子線照射装置を実現することができる。【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】  本発明の請求項１４に係わる電子線照射装置は、請求項３から請求項１３のいずれか１項に記載した装置において、前記の被照射体位置限定手段は、前記の被照射体との間にギャップを有して前記の被照射体と同軸的に設けられた高圧力孔を有しており、この高圧力孔の内面にスパイラル状の溝を有しており、前記のギャップに流体を流すことによって前記の被照射体と高圧力孔との間に圧力を生じさせていることを特徴とする装置である。これによって、被照射体を固体部分に接触させること無く被照射体に大きな動圧力を与えて被照射体通路の中心軸に一致させることができるので被照射体に命中する電子を増した電子線照射装置を実現することができる。【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】  図１において、１は真空容器であり、排気管１６に接続された図示しない真空ポンプによって排気されて常時１０−４〜１０−６Ｐａ程度の真空度に保たれた真空空間１０１を形成している。真空空間１０１内において真空容器１の壁に絶縁筒１３が取り付けられており、絶縁筒１３の他端には環状の電子銃取付台１４が固定されている。電子銃取付台１４には環状の取付金具１７を介して環状の陰極２と環状の集束電極３が同軸状に取り付けられている。環状の陰極２はバリウム含浸型カソードであり、内部に取り付けられたヒーターによって加熱されて熱電子を放出する。環状の陰極２及び図示しないヒーターには高電圧リード線１５から−１００ｋＶ程度の負の高電圧が印加される。高電圧リード線１５は図示しない高電圧端子を介して外部の図示しない高電圧電源に接続されている。集束電極３は陰極２に対して正のバイアス電圧が印加され、このバイアス電圧は前記の高電圧電源によって可変でき、電子の分布状態を制御できるるようになっている。【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】  図１に示すように、前記の平板部４０２の表面に電子透過窓構体６が取り付けられている。電子透過窓構体６の中央には貫通した穴があり、被照射体通路１０の一部を形成している。前記の平板部４０２と電子透過窓構体６との間はＯ―リングなどによって気密に接続されている。電子透過窓構体６のＢＢ’の矢印方向から見た横断面図を図３に、ＣＣ’の矢印方向から見た横断面図を図４に示している。図３及び図４に示すように、電子透過窓構体６には多数の窪み６０１と、これと連通した部分を有する環状の溝６０２が設けられている。これらの近傍に環状の冷却水路６０３，６０４が設けられており、強制冷却されるようになっている。多数の窪み６０１の間には隔壁６０５があり、機械的強度を保つようになっている。図１に示すように、電子透過窓構体６の環状溝６０２の端部には環状の電子透過窓７が電子ビーム溶接等により気密に取り付けられており、真空容器１の一部を形成して真空空間１０１を高真空状態に保っている。電子透過窓７は厚みが１０μｍ程度のチタニューム箔で出来ており、１００ｋｅＶのエネルギーを持って入射した電子のおよそ５０％を透過することができる。【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】  図７の点Ｐ（ｒ１、θ１、ｚ１）とＺ軸を含む平面における断面図を図８−ａに、これと直角な方向の断面図を図８−ｂに示している。図８−ａの角度φ１はＲＺ平面内における電子の散乱角度を示しており、半径方向散乱角と呼ぶ。図８−ｂにおける角度φ２はＲＺ平面に垂直な面内における電子の散乱角度を示しており、横方向散乱角と呼ぶ。１００ｋｅＶの運動エネルギーを持って初速度ｖｉで角度φ０だけ傾斜して電子透過窓７に入射した電子は、２０ｋｅＶ程度のエネルギーを減少させて透過した電子の初速度が幾分減少する。これをｖ０とすると、透過電子のＲ，θ、Ｚ方向の速度成分ｖｒ、ｖθ、ｖｚは、それぞれ、ｖｒ＝ｖ０・ｓｉｎ（φ１−φ０）・ｃｏｓ（φ２）、ｖθ＝−ｖ０・ｃｏｓ（φ１−φ０）・ｓｉｎ（φ２）、ｖｚ＝ｖ０・ｃｏｓ（φ１−φ０）・ｃｏｓ（φ２）で表される。【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】  図１２、図１３、図１４において、電極構体４及び陽極リング５の形状の内で特性に影響しない部分は、計算の都合上図１のそれぞれの電極構造と異なっているが電子の軌道には影響を与えていない。これらの図において、電極間の等電位曲線を３０で示している。図１２は、−１００ｋＶの電圧が印加された環状の陰極２から放出されて−１００ｋＶが印加された集束電極３によって均一な電子密度をもって集束されて、環状の電子通過孔４０１を形成して接地電位に設定された陽極構体４、陽極リング５から成る電子加速手段によって加速された電子ビーム２０が環状の電子透過窓７を透過して８０ｋｅＶの運動エネルギーをもって横方向散乱角φ２がー０．６度、半径方向散乱角φ１が−１０度で散乱された電子の軌道の内で電磁石８が無い場合の例を示している。電子透過窓７を透過した直後に電子の進行方向が変えられており、電子透過窓７を透過して大気内を通過するが、大気による電子の散乱は比較的小さいことを考慮して省略しているので直進している。図１２では電子軌道をＲＺ平面に投影した断面を表しているが、これをＺ軸から見た電子軌道の内で陰極２の平均半径の部分から出た電子がＺ軸に２．５ｍｍ以内に近づいた部分を図１１の７１１で示している。図１１から判るとおり、電子透過窓７を透過する時に横方向散乱角φ２が-０．６度で散乱されて横方向の速度ｖθを持っているのでＺ軸から逸れた軌道となる。従って、中心がＺ軸に一致した状態で被照射体通路１０に挿入された直径が０．５ｍｍの細長い被照射体１００には命中しないことを示している。図１１の電子軌道７１２は電子透過窓７において横方向散乱角φ２が＋０．６度の場合で、他の条件は電子軌道７１１と同じ場合を表している。電子軌道７１２も電子軌道７１１と同様に被照射体１００に命中しないことを示している。この場合のＲＺ平面内に投影した断面図は図１２と類似しているので図示していない。【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】  次に、図５を用いて被照射体位置限定手段としての動圧発生管２００の作用と効果について説明する。被照射体１００は高圧力孔２０３、２０４、及び低圧力孔２０２を貫通して高速度で移動する様になっている。被照射体１００と高圧力孔２０３、２０４のギャップは１００μｍ程度に小さくなっており、流体導入口２０１から液体又は高圧力の気体が導入され、低圧力孔２０２を経由して高圧力孔２０３，２０４と被照射体１００との間のギャップを通過する。高圧力孔２０３、２０４の内面にはスパイラル状又はヘリンボーン状の深さ１００μｍ程度の溝が設けられており、前記の液体又は高圧力の気体の流入又は被照射体１００の移動によって動圧力が生じる。この動圧力によって、被照射体１００は軸ぶれを防止され、被照射体１００の中心が高圧力孔２０３，２０４の中心軸に一致するように位置決めされる。前記のギャップ内には液体又は高圧力気体が満たされており、被照射体１００が固体部分と接触することが無く、損傷を受けることなく適正な位置に正確に位置決めされる。高圧力孔２０３と２０４は流体導入口２０１に対して互いに反対側に取り付けられ、流体の流れが互いに逆方向になっている為に、被照射体１００の軸方向には圧力がバランスするようになっている。この被照射体１００の軸方向における圧力のバランスの程度は、被照射体１００の移動速度、高圧孔２０３と２０４と被照射体１００とのギャップ、高圧孔２０３，２０４の長さ等を適正に決めることによって任意に決められる。    【実施例】  次に本発明の電子線照射装置の作用及び効果について実施例を用いて説明する。  電子透過窓７は、厚みが１０μｍ、外径が５０ｍｍで内径１５ｍｍのチタニュームの環状薄膜で構成されており、表面積は１７．８ｃｍ２であり、電子がこの表面に均一に広がって入射するの場合について述べる。このような薄膜に信頼性を保って許容される電子入射密度は２０Ｗ／ｃｍ２程度であるので、本実施例で許容される入力は３５６Ｗである。入射電子のエネルギーが１００ｋｅＶである場合には、３．５６ｍＡの電流に相当する。入射した電子のおよそ５０％が電子透過窓７で吸収され、残りのおよそ５０％程度が運動エネルギー８０ｋｅＶをもって透過する。透過した電子のパワーは１４２．４Ｗであり、電子集中手段としての前記の電磁石８が無い場合に直径０．５ｍｍの被照射体１００に命中する電子線のパワーは４．４Ｗに相当する。被照射体１００の被処理層の断面積４ｘ１０−４ｃｍ２、被照射体１００の被処理層の密度が１．２ｇ／ｃｍ３、被照射体１００の処理に必要な線量が２０ｋＧｙであるとすると、被照射体１００の処理速度は２７５ｍ／分となる。