Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月29日(2008.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インレットを備えているガスクロマトグラフシステムであって、該インレットが、
少なくとも１つの雄ユニットを備えている下部アセンブリと、
少なくとも１つの斜面を有し、少なくとも１つの雌ユニットをさらに備えている上部アセンブリと、
前記上部アセンブリ上に配置されている側方駆動ユニットとを備えており、
前記上部アセンブリと前記雌ユニットと前記下部アセンブリの前記雄ユニットとを整合させることによって前記上部アセンブリを前記下部アセンブリ内に配置し、前記側方駆動ユニットにより前記上部アセンブリを周方向に駆動させると、前記上部アセンブリの前記斜面が前記下部アセンブリの前記雄ユニットに当て付けられて上昇し、前記上部アセンブリを前記下部アセンブリでシールすることが可能となる、ガスクロマトグラフシステム。
【請求項２】
前記雄ユニットが円筒状のピンであり、前記雌ユニットが切欠である、請求項１に記載のガスクロマトグラフシステム。
【請求項３】
前記下部アセンブリが、第２の雄ユニットをさらに有しており、前記上部アセンブリが、第２の雌ユニットをさらに有している、請求項１に記載のガスクロマトグラフシステム。
【請求項４】
前記上部アセンブリが環状であって、第２の斜面をさらに有しており、前記第１の雌ユニットおよび前記第２の雌ユニットが、前記第１の斜面と第２の斜面との間で、１８０°の角度で対称に形成されている、請求項３に記載のガスクロマトグラフシステム。
【請求項５】
前記雌ユニットが逆ダブテール形状の切欠である、請求項１に記載のガスクロマトグラフシステム。
【請求項６】
第２の斜面、第２の雄ユニットおよび第２の雌ユニットをさらに備えており、前記上部アセンブリの前記第２の雌ユニットと前記下部アセンブリの前記第２の雄ユニットとを同時に整合させることによって前記上部アセンブリを前記下部アセンブリ内に配置し、前記側方駆動ユニットが前記上部アセンブリを側方に駆動すると、前記上部アセンブリの前記第２の斜面が、前記下部アセンブリの前記第２の雄ユニットに当て付けられて同時に上昇し、前記上部アセンブリを前記下部アセンブリでシールすることが可能となる、請求項１または２に記載のガスクロマトグラフシステム。
【請求項７】
前記下部アセンブリが環状壁を有しており、前記第１および第２の雄ユニットが、１８０°対称をなすように前記下部アセンブリの前記環状壁に取り付けられている、請求項３に記載のガスクロマトグラフシステム。
【請求項８】
前記上部アセンブリおよび下部アセンブリがシールされている時、前記第１の雄ユニットの位置が、前記上部アセンブリの前記第１の斜面の最低位置より高く、かつ前記上部アセンブリの前記第１の斜面の最高位置より低くなっている、請求項１に記載のガスクロマトグラフシステム。
【請求項９】
前記側方駆動ユニットが、ハンドル、空気圧式ユニット、動力駆動式ユニット、磁気駆動式ユニットまたは液圧式ユニットから選択されるユニットである、請求項１に記載のガスクロマトグラフシステム。
【請求項１０】
前記上部アセンブリがカムアセンブリである、請求項１に記載のガスクロマトグラフシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月29日(2008.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、電子デバイスにスキャンパターンを提供する方法および装置に関するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月17日(2008.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】
（ａ）第一の電極と、
（ｂ）前記第一の電極と第二の電極との間にナノポアを画定するために、前記第一の電極から間隔をおいて配置される第二の電極であって、前記ナノポアが、移動するバイオポリマを受け入れるように設計され、前記第一の電極が前記第二の電極に電気接続する、第二の電極と、
（ｃ）前記第一の電極および前記第二の電極に電気接続するゲート電極と、
（ｄ）前記第一の電極と前記第二の電極を電気接続し、前記バイオポリマにわたって前記第二の電極に固定電位を印加して、前記ナノポアを移動する前記バイオポリマの一部を示す変調信号を生成するための電位手段と、
（ｅ）前記ゲート電極にランプ電圧を印加するために、前記ゲート電極に電気接続するゲート電圧源とを備える、ナノポアを移動するバイオポリマの一部を検出するための装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
この装置の一般的で例示的な動作の値は、当該トンネル効果なしのナノポア装置を使用した測定値に基づくことができる。トンネル電極間に印加された固定トンネル電圧は、０．１〜０．２ボルトの公称の範囲内であるべきである。しかしながら、この範囲は限定されず、用途に応じてもっと広くされてもよい。時間依存性ゲート電圧の期間は、個々の塩基の移動時間よりもずっと短くなくてはならず、現在、マイクロ秒のオーダーであるべきであると推定される。従って、ゲート電圧の周波数は、約１０ＭＨｚよりも大きくなくてはならない。この電圧の振幅は、移動する塩基の内部エネルギースペクトルのかなりの部分をスキャンするのに十分であるべきである。この電圧の典型的な振幅は、０．１〜１．０ボルトの範囲内であるべきであるが、この範囲に限定されない。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月16日(2007.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】
対応する吸い口（２２，２３）と共に支持要素（２７，２８，２９，３０）に支持された２個の圧縮要素（１２，１３）の間に、たばこを挿入し、
少なくとも一方の圧縮要素（１２，１３）を他方の圧縮要素の方に動かしてたばこを圧縮し、そして
同時に、吸い口（２２，２３）の方に圧縮されたたばこを搬送する、
たばこ、葉脈等を圧縮するための方法において、
たばこを圧縮するために少なくとも一方の圧縮要素（１２，１３）を他方の圧縮要素（１２，１３）の方におよび他方の圧縮要素から離れるように動かすことが、直線的に行われることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月22日(2008.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
奥行き情報が明示的にも又はステレオ画像のように暗示的にも与えられていない非立体画像から奥行き推定データを作成し、この奥行き推定データと前記非立体画像とから擬似的な立体画像を作成する擬似立体画像作成装置であって、
基本となる複数のシーン構造のそれぞれについて奥行き値を示す複数の基本奥行きモデルを発生する発生手段と、
供給される前記非立体画像の、画面内の所定領域における画素値の統計量を算定して、シーン構造を推定する算定手段と、
前記発生手段から発生した前記複数の基本奥行きモデルを、前記算定手段により算定された値に応じた合成比率で合成する合成手段と、
前記合成手段により合成された合成結果と、供給される前記非立体画像とから前記奥行き推定データを作成する作成手段と
を有することを特徴とする擬似立体画像作成装置。
【請求項２】
前記算定手段は、供給される前記非立体画像の、画面内の所定領域における輝度信号の高域成分を算定して、シーン構造を推定することを特徴とする請求項１記載の擬似立体画像作成装置。
【請求項３】
奥行き情報が明示的にも又はステレオ画像のように暗示的にも与えられていない非立体画像から奥行き推定データを作成し、この奥行き推定データと前記非立体画像とから擬似的な立体画像を作成する擬似立体画像作成方法であって、
供給される前記非立体画像の、画面内の所定領域における画素値の統計量を算定して、シーン構造を推定する第１のステップと、
基本となる複数のシーン構造のそれぞれについて奥行き値を示す複数の基本奥行きモデルを、前記第１のステップにより算定された値に応じた合成比率で合成する第２のステップと、
前記第２のステップにより合成された合成結果と、供給される前記非立体画像とから前記奥行き推定データを作成する第３のステップと
を含むことを特徴とする擬似立体画像作成方法。
【請求項４】
前記第１のステップは、供給される前記非立体画像の、画面内の所定領域における輝度信号の高域成分を算定して、シーン構造を推定することを特徴とする請求項３記載の擬似立体画像作成方法。
【請求項５】
奥行き情報が明示的にも又はステレオ画像のように暗示的にも与えられていない非立体画像から奥行き推定データを作成し、この奥行き推定データと前記非立体画像とから擬似的な立体画像を作成する請求項１記載の擬似立体画像作成装置と、
前記擬似立体画像作成装置に供給される前記非立体画像と、前記擬似立体画像作成装置から出力される前記奥行き推定データとに基づいて、前記非立体画像のテクスチャのシフトを対応部分の前記奥行き推定データに応じた量だけ行うことによって別視点画像を生成する複数視点画像作成装置と、
前記複数視点画像作成装置で作成された前記別視点画像と前記非立体画像との一方を左目画像とし、他方を右目画像として表示するステレオ表示装置と
からなることを特徴とする擬似立体画像表示システム。
【請求項６】
前記複数視点画像作成装置は、
前記擬似立体画像作成装置に供給される前記非立体画像と、前記擬似立体画像作成装置から出力される前記奥行き推定データとに基づいて、前記非立体画像のテクスチャのシフトを対応部分の前記奥行き推定データに応じた量だけ行うテクスチャシフト部と、
テクスチャの存在しない部分であるオクルージョンを、入力画像の対応部で充填するか又は分割された画像のテクスチャの統計量に基づきオクルージョン補償を行うオクルージョン補償部と、
オクルージョン補償部から出力された信号に対してポスト処理を行うポスト処理部と、
前記ポスト処理部から出力された画像信号を前記別視点画像である左目画像又は右目画像とし、前記擬似立体画像作成装置に供給される前記非立体画像を右目画像又は左目画像として出力する手段と
を有することを特徴とする請求項５記載の擬似立体画像表示システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記の目的を達成するため、第１の発明の擬似立体画像作成装置は、奥行き情報が明示的にも又はステレオ画像のように暗示的にも与えられていない非立体画像から奥行き推定データを作成し、この奥行き推定データと非立体画像とから擬似的な立体画像を作成する擬似立体画像作成装置であって、基本となる複数のシーン構造のそれぞれについて奥行き値を示す複数の基本奥行きモデルを発生する発生手段と、供給される非立体画像の、画面内の所定領域における画素値の統計量を算定して、シーン構造を推定する算定手段と、発生手段から発生した複数の基本奥行きモデルを、算定手段により算定された値に応じた合成比率で合成する合成手段と、合成手段により合成された合成結果と、供給される非立体画像とから奥行き推定データを作成する作成手段とを有する構成としたものである。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月19日(2008.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の着色層と第２の着色層の積層からなる第１の遮光部と、前記第１の着色層と第３の着色層の積層からなる第２の遮光部とを有していることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
ＴＦＴと、
第１の着色層と第２の着色層の積層からなる第１の遮光部と、
前記第１の着色層と第３の着色層の積層からなる第２の遮光部とを有し、
前記第１の遮光部及び前記第２の遮光部は、少なくとも前記ＴＦＴのチャネル形成領域と重なるように設けられていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第１の着色層上に前記第２の着色層がストライプ状に設けられ、
前記第２の着色層の間隙に前記第３の着色層が設けられていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項１または請求項２において、
前記第３の着色層がストライプ状に設けられ、
前記第３の着色層上および前記第３の着色層の間隙に前記第１の着色層が設けられ、
前記第３の着色層の間隙に設けられた前記第１の着色層上に前記第２の着色層が設けられていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項５】
請求項１または請求項２において、
前記第２の着色層がストライプ状に設けられ、
前記第２の着色層上および前記第２の着色層の間隙に前記第１の着色層が設けられ、
前記第２の着色層の間隙に設けられた前記第１の着色層上に前記第３の着色層が設けられていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
複数の画素電極を有し、
前記画素電極の間に前記第１の遮光部または前記第２の遮光部が設けられ、
前記第１の遮光部または前記第２の遮光部において、前記第１の着色層と、前記第２の着色層または前記第３の着色層は端部が重なるように設けられていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項７】
請求項６において、
前記画素電極下に凸部が設けられていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一において、
前記第１の遮光部の反射光量と前記第２の遮光部の反射光量は、それぞれ異なることを特徴とする電気光学装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一において、
前記第１の着色層は赤色であり、前記第２の着色層は青色であり、前記第３の着色層は緑色であることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一において、
前記第１の遮光部および前記第２の遮光部は、対向基板に設けられていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれか一において、
前記電気光学装置は、画素電極がＡｌまたはＡｇを主成分とする膜、またはそれらの積層膜からなる反射型の液晶表示装置であることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１２】
請求項１乃至請求項１１のいずれか一において、
前記電気光学装置は、パーソナルコンピュータ、ビデオカメラ、携帯型情報端末、デジタルカメラ、デジタルビデオディスクプレーヤー、または電子遊技機器であることを特徴とする電気光学装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月15日(2008.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  見当調節する方法であって、印刷機（１）内への印刷基板（２）の進入を検出する検出手段、並びに、印刷基板（２）上で色分解画像印刷（４，４′，４″，４′″）を見当合わせして位置決めするために色分解画像（３，３′，３″，３′″）のディジタル式の製造の開始を算定する計算手段とを備えられている形式のものにおいて、印刷基板（２）を該印刷基板が印刷機（１）内に進入する前に検出して、印刷基板の検出後に色分解画像（３，３′，３″，３′″）の相対位置の算定を行い、印刷機（１）内への進入時に印刷基板（２）の前縁（５）の正確な検出を行いかつ相対位置に関して予め算定された色分解画像製造のスタートを規定するためのベースとすることを特徴とする、見当調節する方法。
【請求項２】  多数の色分解画像印刷（４，４′，４″，４′″）を製造するために多数のカラー印刷ユニット（１０，１０′，１０″，１０′″）を備えた印刷機において、請求項１項記載の方法を実施するための見当調節する装置であって、センサ（１３）が、印刷機（１）内への印刷基板（２）の進入を検出するようになっており、コンピュータ（１２）が、キャリアエレメント（１４，１４′，１４″，１４′″）上で色分解画像をディジタル式に製造するための装置（１３，１３′，１３″，１３′″）による色分解画像（３，３′，３″，３′″）の製造の開始を算定して起動するようになっている形式のものにおいて、印刷機（１）の上流側に配置されたセンサ（１５）が、印刷基板（２）を該印刷基板が印刷機内に進入する前に検出して、信号（１６）をコンピュータ（１２）に与え、次いで、該コンピュータが色分解画像（３，３′，３″，３′″）の相対位置を算定するようになっており、印刷機（１）内に配置されたセンサ（２３）が、相対位置に関して予め算定された色分解画像製造のためにスタート信号（１９，１９′，１９″，１９′″）の解放を規定する装置（１８，１８′，１８″，１８′″）に、信号（１７）を与えるようになっていることを特徴とする、見当調節する装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月19日(2008.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  少なくとも１つのアプリケーションデバイスを有する電気／電子システムを制御する方法であって、
制御情報入力が利用可能なアプリケーションデバイスによって解釈されるステップと、
アプリケーションデバイスがその解釈の結果に従って制御されるステップと、
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月7日(2008.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  融点が１３０℃より高く、かつ初期引裂き抵抗が１２０ｋＮ／ｍ未満の、フレキシブルジオールセグメントを有する熱可塑性エラストマー製の保護スキンで囲まれた少なくとも１本の光ファイバを備える通信ケーブルモジュール。
【請求項２】  前記熱可塑性エラストマーが、ＴＥＥＥである、請求項１に記載のモジュール。
【請求項３】  前記熱可塑性エラストマーが、ポリブチレンテレフタラートグリコールブロック共重合体である、請求項１に記載のモジュール。
【請求項４】  前記熱可塑性エラストマーが、充填材を含んでいる、請求項１に記載のモジュール。
【請求項５】  前記充填材が、カーボンブラック、ケイ酸、カオリン、アルミナ、クレイ、滑石、チョーク、マグネシア、および二酸化チタンから選択される、請求項４に記載のモジュール。
【請求項６】  前記熱可塑性エラストマーが、難燃剤を含んでいる、請求項１に記載のモジュール。
【請求項７】  前記熱可塑性エラストマーが、Ｄスケールで５０未満のショア硬さを有する、請求項１に記載のモジュール。
【請求項８】  前記スキン材の融点が、少なくとも１４０℃である、請求項１に記載のモジュール。
【請求項９】  前記スキン材の初期引裂き抵抗が、６０ｋＮ／ｍ未満である、請求項１に記載のモジュール。
【請求項１０】  前記スキン材の破断伸び率が、５０％から３００％の範囲内にある、請求項１に記載のモジュール。
【請求項１１】  前記スキン材の極限引張り強さが、５ＭＰａから１５ＭＰａの範囲内にある、請求項１に記載のモジュール。
【請求項１２】  前記スキン材の熱流動度指数が、２ｇ／１０分以上である、請求項１に記載のモジュール。
【請求項１３】  フレキシブルジオールセグメントを有する熱可塑性エラストマー製の保護スキンを、前記少なくとも１本の光ファイバに付けるステップを含む、請求項１に記載の通信ケーブルモジュールを製造する方法。
【請求項１４】  前記保護スキンが押出しによって付けられる、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】  請求項１に記載の少なくとも１本のモジュールを備える通信ケーブル。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月3日(2008.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
乗物における実設備を能動的に懸架するための方法であって、
異常状態を指示する前記実設備の特性の変化を検出することと、
前記実設備に連結された電磁モータのモータリードを締め付けることによって、検出された変化に応答して前記実設備の動きを減衰することと、を含む方法。
【請求項２】
乗物における設備に連結された電磁アクチュエータを含む能動型懸架装置と、
前記アクチュエータにゼロ平均負荷を経験させるために前記設備に連結された力偏向除去装置と、を含み、
前記能動型懸架装置は能動モードと受動モードとを含む複数の動作モードを有するように構成されている装置。
【請求項３】
事象の検出に応じて能動モードと受動モードとの間を自動的に切り替えるように構成されている請求項2に記載の装置。
【請求項４】
使用者の選択に応答して能動モードと受動モードとの間を自動的に切り替えるように構成されている請求項2に記載の装置。
【請求項５】
前記電磁アクチュエータが受動モードにおいて短絡する端子リード線を有する請求項2に記載の装置。
【請求項６】
前記力偏向除去装置が、前記設備に連結された受動型構成部分を含み、前記受動型構成部分は可変ばね特性を有する請求項2に記載の装置。
【請求項７】
前記受動型構成部分が能動モードにおいて第1ばね特性を有し、受動モードにおいて第2ばね特性を有する請求項6に記載の装置。
【請求項８】
前記電磁アクチエータが能動モードにおいて前記設備の位置を調節するように構成されている請求項2に記載の装置。
【請求項９】
前記受動型構成部分が受動モードにおいて前記設備の位置を調節するように構成されている請求項6に記載の装置。
【請求項１０】
前記第1ばね特性は、前記受動型構成部分が受動モードにおいて前記設備の位置を調節するように制御され、前記第2ばね特性は、前記アクチュエータと協働して能動モードにおいて前記設備の位置を調節するときに、前記受動型構成部分が前記アクチュエータを制御するための制御信号における力の偏向を減少させるように選択される請求項6に記載の装置。
【請求項１１】
座席を懸架するための装置であって、
座席を懸架するための能動型懸架システムと、
誘発事象の検出に応答して座席の懸架を制御するように構成されたフェイルセーフシステムと、を含む装置。
【請求項１２】
前記懸架システムが端子リード線を有する電磁アクチュエータを含み、
前記フェイルセーフシステムが、誘発事象の検出に応答して電磁アクチュエータの端子リード線を短絡させる請求項11に記載の装置。
【請求項１３】
誘発事象に応答して、前記フェイルセーフシステムは前記能動型懸架装置を受動動作モードに置く請求項11に記載の装置。
【請求項１４】
前記フェイルセーフシステムが、動作中に前記座席の状態の指標となる情報を提供するセンサにおける故障の検出に応答して、前記座席の懸架を制御するように構成されている請求項11に記載の装置。
【請求項１５】
前記フェイルセーフシステムが、前記懸架システムにおける故障の検出に応答して、前記座席の懸架を制御するように構成されている請求項11に記載の装置。
【請求項１６】
前記フェイルセーフシステムが、使用者の選択の検出に応答して前記座席の懸架を制御するように構成されている請求項11に記載の装置。
【請求項１７】
乗物において能動的に懸架された設備を制御するための装置であって、
電磁アクチュエータを含む能動型懸架装置と、
制御信号を発生させるための振動分離ブロックと、
前記電磁アクチュエータにゼロ平均負荷を経験させるために設備に連結された力偏向除去装置と、を含む装置。
【請求項１８】
前記設備が座席を含み、
前記制御信号が、占有者の重量に応答して変更されるようになっている請求項17に記載の装置。
【請求項１９】
フィードバックループを具備してなり、
前記制御信号は、前記フィードバックループの一定帯域幅を維持するために変更されるようになっている請求項17に記載の装置。
【請求項２０】
電磁アクチュエータを含む能動的に懸架された座席と、
1つの機構であって、能動的に懸架された前記座席の動きが前記機構の動きに適合するように前記座席に取り付けられた機構と、を含む装置。
【請求項２１】
前記機構が、ドリンクホルダ、ナビゲーションデバイス、表示装置、制御ユニット、データ入力/検索デバイス、ソケット、およびペダルから成る群から選択される請求項20に記載の装置。
【請求項２２】
前記設備に連結された支持物であって、前記能動型懸架システムによって加えられた力に応答して移動可能である支持物をさらに含む請求項13に記載の装置。
【請求項２３】
複数の方向に沿って可動である乗物内の設備と、
複数の方向の各々に沿った前記設備の振動を抑制するための力を加えるための複数の電磁アクチュエータと、前記設備の状態の指標となる情報に応答して複数のアクチュエータを制御するための制御システムとを含む、前記設備を支持するための能動型懸架システムと、を含む装置であって、
前記制御システムは複数の制御装置を含み、各制御装置は、複数の方向の各々に沿った振動特性を受け入れるために設計された帯域幅を有する装置。
【請求項２４】
前記複数の方向には垂直方向と前後方向が含まれ、垂直方向に関連する帯域幅は前後方向に関連する帯域幅よりも小さい請求項23に記載の装置。
【請求項２５】
座席に連結された能動型懸架装置と、
前記能動型懸架システムを制御するための制御システムと、
前記座席の上に配設されて、前記制御システムの特性に基づいて選択された共振を有する座席クッションと、を含む装置。
【請求項２６】
前記特性が前記制御システムに関連する帯域幅を含み、前記座席クッションが前記帯域幅の外側の共振周波数を有するように選択されている請求項25に記載の装置。
【請求項２７】
前記特性が前記制御システムに関連する帯域幅を含み、前記座席クッションが前記帯域幅より上の共振周波数を有するように選択されている請求項25に記載の装置。
【請求項２８】
電磁アクチュエータを含む能動型懸架システムを使用して座席を懸架するための方法であって、
前記能動型懸架装置を能動モードにおける動作と受動モードにおける動作との間で選択的に切り替えることを含む方法。
【請求項２９】
選択的切り替えが、事象の検出に応答して自動的に切り替えることからなる請求項28に記載の方法。
【請求項３０】
前記事象には能動型懸架システムの故障が含まれる請求項29に記載の方法。
【請求項３１】
前記事象には使用者の選択が含まれる請求項29に記載の方法。
【請求項３２】
乗物の中で設備を能動的に懸架するための方法であって、
電磁アクチュエータを含む能動型懸架システムによって前記設備に力を加えることと、
誘発事象に応答して前記設備を懸架するためにフェイルセーフシステムを作動させることと、を含む方法。
【請求項３３】
誘発事象がさらに、動作中に前記設備の状態の指標となる情報を提供するセンサにおける故障も含む請求項32に記載の方法。
【請求項３４】
誘発事象がさらに、前記能動型懸架システムにおける故障も含む請求項32に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月20日(2007.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスタービン、特にターボジェットのロータブレードであって、エアフォイルと、エアフォイルをブレード基部に接続するプラットフォームと、ブレード及びブレード基部に形成された冷却流体フローダクトと共に、エアフォイルとは反対側でプラットフォームから延在し、エアフォイルの後縁の下を通る平らなウェブにより形成された少なくとも１個のスティフナとを備え、ロータブレードが、さらにスティフナの一部に形成された冷却手段を備え、冷却手段が、プラットフォームに隣接し、かつブレードの後縁と実質的に位置合わせして設置される、ブレード。
【請求項２】
前記冷却手段が、空洞を備え、該空洞が、スティフナに形成され、かつブレード基部に形成された供給ダクトと、プラットフォームの下で下流側に開く少なくとも１個の冷却流体出口開口とに接続される、請求項１に記載のブレード。
【請求項３】
空洞からの出口開口または各出口開口が、ブレードの後縁と実質的に平行に向けられる、請求項２に記載のブレード。
【請求項４】
ブレードが高圧段のブレードである場合、スティフナの空洞が、ブレードの軸の方向に沿って、かつ前記ブレードの軸及びタービンの回転の軸に垂直な方向で、数ミリメートルの寸法を呈し、かつブレードの軸及びタービンの回転の軸に垂直な方向に対して垂直な方向で、約１ｍｍ以下である、請求項２に記載のブレード。
【請求項５】
スティフナの空洞が、鋳造中に製作される、請求項２に記載のブレード。
【請求項６】
空洞からの出口開口または各出口開口が、鋳造中に、又はレーザ穿孔若しくは電気腐食によって製作される、請求項２に記載のブレード。
【請求項７】
請求項１に記載の複数のブレードを含む、ターボジェットタービン。
【請求項８】
請求項７に記載のタービンを含む、ターボジェット。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月25日(2008.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも被酸化性金属粉末、保水剤、繊維状物及び水を含み酸化助剤となる電解質を含まない原料組成物を抄紙して中間成形体を形成する抄紙工程と、該中間成形体を加圧しながら空気雰囲気下で加熱乾燥する乾燥工程とを具備する発熱成形体用の中間成形体の製造方法であって、
前記加熱乾燥する前に前記中間成形体を含水率７０％以下に脱水し、
前記乾燥工程における乾燥温度が６０〜３００℃であり、該乾燥工程による乾燥後の前記中間成形体の含水率を１０％以下とする発熱成形体用の中間成形体の製造方法。
【請求項２】
前記中間成形体に含まれる繊維状物は、平均繊維長が０．１〜５０ｍｍであり、且つ水を除いた前記原料組成物中の配合量が２〜８０重量％である請求項１記載の発熱成形体用の中間成形体の製造方法。
【請求項３】
前記中間成形体に含まれる被酸化性金属粉末は、粒径が０．１〜３００μｍであり且つ水を除いた前記原料組成物中の配合量が１０〜９０重量％であり、前記保水剤は、粒径が０．１〜５００μｍであり且つ水を除いた前記原料組成物中の配合量が０．５〜６０重量％である請求項１又は２記載の発熱成形体用の中間成形体の製造方法。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の方法に従い製造された前記中間成形体に電解質を添加する発熱成形体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】発熱成形体用の中間成形体の製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月21日(2008.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の回転方向に回転するように構成された内側ロータ（４２）と、
前記第１の回転方向とは逆の第２の回転方向に回転するように構成された外側ロータ（３８）と、
前記内側及び外側ロータの少なくとも１つを支持するように構成されたフォイル軸受（１００）と、
前記外側ロータ（３８）の外周部の周りにほぼ等間隔で円周方向に間隔を置いて配置された複数のフォイル軸受（１０２）と
を含むロータ組立体（４５）。
【請求項２】
前記外側ロータ（３８）が、外側ケーシング（３６）の半径方向内側に結合され、かつ外側ブレード（４０）の複数の軸方向に間隔を置いて配置された列（４１）を含み、
前記外側ブレードが、前記外側ケーシング側から半径方向内向きに延び、
前記内側ロータ（４２）が、前記外側ロータの半径方向内側に結合され、かつ内側ブレード（４４）の複数の軸方向に間隔を置いて配置された列（４３）を含み、
前記内側ブレードが、該内側ブレードが前記外側ブレードと軸方向に交差指状に組合さるように半径方向外向きに延びている、
請求項１記載のロータ組立体（４５）。
【請求項３】
前記フォイル軸受（１００）が、該フォイル軸受が前記外側ロータを囲むように外側ロータ（３８）に結合されている、請求項１記載のロータ組立体（４５）。
【請求項４】
前記内側ロータ（４２）と第１のファン（１４）とに結合された第１のシャフト（２２）と、
前記外側ロータ（３８）と第２のファン（１２）とに結合された第２のシャフト（２０）と、
前記第１及び第２のシャフト間に配置された差動フォイル軸受（３００）と、
をさらに含む、請求項１記載のロータ組立体（４５）。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載のロータ組立体（４５）を含むガスタービンエンジン（１０）。
【請求項６】
高圧タービンスプール（４１０）と、
低圧タービン（３４）第１段ノズル（４１２）及びタービン中間フレーム（６０）の少なくとも１つと、
前記低圧タービン第１段ノズル及びタービン中間フレームの少なくとも１つとの間で結合されて、高圧タービン（３０）を支持するようになったフォイル軸受（４００）と、
をさらに含む、請求項５記載のガスタービンエンジン（１０）。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月21日(2008.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
作動中、比較的複雑な潤滑システムを利用して、前方及び後方ファン組立体に対して潤滑が行われる。このような潤滑システムは、例えば前方及び後方ファン組立体を支持する複数の軸受に潤滑流体を供給するように設計される。しかしながら、前方及び後方ファン組立体を潤滑するために、少なくとも１つの公知のガスタービンエンジンは、互いに逆回転方向に回転する（二重反転する）複数の回転構成部品の周りに潤滑流体を流すように構成される。従って、二重反転ガスタービンエンジン内部の前方及び後方ファン組立体を潤滑することができる潤滑システムを設計しかつ実施することは、ガスタービンエンジンの全体重量の増大を招くことになり、そのことに付随してガスタービンエンジンの製造及び組立コストを増大させることになる。
【特許文献１】米国特許第5272868号明細書
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月1日(2008.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基礎上に分散配置された複数の免震支承手段を介して建物を支える免震構造であって、
前記各免震支承手段がほぼグラウンドレベルに配置されており、
前記建物の最下段の床の一段下に別の床面を形成し、該別の床面がグラウンドレベル上にあることを特徴とする建物の免震構造。
【請求項２】
前記建物の最下段の床の高さがグラウンドレベルから１４００ｍｍ程度以下であることを特徴とする請求項１記載の建物の免震構造。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月25日(2008.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
動画像の復号化方法であって、
動きベクトルの復号を伴わない予測モードを有し、
前記動きベクトルの復号を伴わない予測モードにおいて、
参照するフレームを複数の参照フレームの候補から選択するステップと、
前記動きベクトルの復号を伴わない予測モードで用いる動きベクトルを算出するステップとを有し、
前記参照フレームを選択するステップでは、復号対象ブロックに隣接する候補ブロックに前方参照フレームを用いるブロックが含まれる場合には、前記前方参照フレームを用いるブロックが参照する前方参照フレームのうち、インデックス番号の最も小さい参照フレームを復号対象ブロックの前方参照フレームとして選択し、
前記選択された参照フレームの情報と前記算出された動きベクトルを用いて予測画像を生成して動画像の復号化を行うことを特徴とする動画像の復号化方法。
【請求項２】
動画像の復号化方法であって、
動きベクトルの復号を伴わない予測モードを有し、
前記動きベクトルの復号を伴わない予測モードにおいて、
参照するフレームを複数の参照フレームの候補から選択するステップと、
前記動きベクトルの復号を伴わない予測モードで用いる動きベクトルを算出するステップとを有し、
前記参照フレームを選択するステップでは、復号対象ブロックに隣接する候補ブロックが前方予測の動きベクトルを有する場合には、前記前方予測の動きベクトルを有するブロックが参照する前方参照フレームのうち、インデックス番号の最も小さい参照フレームを復号対象ブロックの前方参照フレームとして選択し、
少なくとも前記選択された参照フレームの情報と前記算出された動きベクトルを用いて予測画像を生成して動画像の復号化を行うことを特徴とする動画像の復号化方法。
【請求項３】
動画像の復号化方法であって、
従来のダイレクト予測モードとは異なる、動きベクトルの復号を伴わない新たなダイレクト予測モードを有し、
前記新たなダイレクト予測モードにおける予測処理は、
参照フレームを選択するステップと、
前記新たなダイレクト予測モードで用いる動きベクトルを算出するステップとを有し、
前記参照フレームを選択するステップでは、復号対象ブロックに隣接する候補ブロックに前方参照フレームを用いるブロックが含まれる場合には、前記前方参照フレームを用いるブロックが参照する前方参照フレームのうち、インデックス番号の最も小さい参照フレームを復号対象ブロックの前方参照フレームとして選択し、
少なくとも前記選択された参照フレームの情報と前記算出された動きベクトルを用いて予測画像を生成して予測処理を行うことを特徴とする動画像の復号化方法。
【請求項４】
動画像の復号化方法であって、
従来のダイレクト予測モードとは異なる、動きベクトルの復号を伴わない新たなダイレクト予測モードを有し、
前記新たなダイレクト予測モードにおける予測処理は、
参照フレームを選択するステップと、
前記新たなダイレクト予測モードで用いる動きベクトルを算出するステップとを有し、
前記参照フレームを選択するステップでは、復号対象ブロックに隣接する候補ブロックが前方予測の動きベクトルを有する場合には、前記前方予測の動きベクトルを有するブロックが参照する前方参照フレームのうち、インデックス番号の最も小さい参照フレームを復号対象ブロックの前方参照フレームとして選択し、
少なくとも前記選択された参照フレームの情報と前記算出された動きベクトルを用いて予測画像を生成して予測処理を行うことを特徴とする動画像の復号化方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月15日(2008.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記受信機によって受信される前記第１のフレームは、前記第１の通信システムの前記送信器によって送信されたフレームであって、
前記送信機が、
前記第１の伝送周期内にそれぞれが第１のフレーム長の半分以下であるＰ個（Ｐは偶数）の前記無伝送時間を設け、
前記無伝送時間間隔を（Ｌ２／Ｐ）×（Ｐ×ｎ＋１）（ｎは自然数）に最も近くなるように決定して送信したフレームであることを特徴とする請求項１に記載の受信機。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月15日(2008.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記第１の通信システムの前記送信機は、前記第１の伝送周期内にＰ個（Ｐは偶数）の前記無伝送時間を設定し、前記無伝送時間間隔を（Ｌ２／Ｐ）×（Ｐ×ｎ＋１）（ｎは自然数）に最も近くなるように決定することを特徴とする請求項１に記載の移動体無線通信方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
Ｐ個（Ｐは偶数）の無伝送時間は、前記第１の伝送周期内に設定され、前記無伝送時間間隔は、（Ｌ２／Ｐ）×（Ｐ×ｎ＋１）（ｎは自然数）に最も近くなるように決定される、ことを特徴とする請求項３の移動体無線通信方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月15日(2008.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記送信ステップでは、前記第１の通信システムの前記送信機が、
前記第１の伝送周期内で、それぞれが第１のフレーム長の半分以下であるＰ個（Ｐは偶数）の前記無伝送時間を設け、
前記無伝送時間間隔を（Ｌ２／Ｐ）×（Ｐ×ｎ＋１）（ｎは自然数）に最も近くなるように決定することを特徴とする請求項１に記載の移動体無線通信方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記送信ステップでは、前記第１の通信システムの前記送信機が、
前記第１の伝送周期内で、それぞれが第１のフレーム長の半分以下の長さであるＰ個（Ｐは偶数）の前記無伝送時間を設け、
前記無伝送時間間隔を（Ｌ２／Ｐ）×（Ｐ×ｎ＋１）（ｎは自然数）に最も近くなるように決定することを特徴とする請求項３に記載の移動体無線通信方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月15日(2008.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記第１の通信システムの前記送信機が、前記第１の伝送周期内にＰ個（Ｐは偶数）の前記無伝送時間を設定し、前記無伝送時間間隔を（Ｌ２／Ｐ）×（Ｐ×ｎ＋１）（ｎは自然数）に最も近くなるように決定するとともに、前記決定された無伝送時間間隔で配置された前記無伝送時間を含む前記第１のフレームを前記受信機に向けて送信する場合、
前記受信機により受信される前記第１のフレームは、前記第１の通信システムの前記送信機によって送信された前記フレームとすることを特徴とする請求項１に記載の受信機。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月1日(2008.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デュアルダマシンプロセスを用いる半導体装置の製造方法であって、
基板上に第１の絶縁膜を有する部材を用意し、
前記第１の絶縁膜上に層を設け、
配線溝と第１の接続孔とに対応したパターンを有するモールドを前記層にインプリントして、前記配線溝と前記第１の接続孔とを有する第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜をマスクとして、前記第１の絶縁膜をエッチングすることによって、前記第１の接続孔の長さよりも長く、且つ該第１の接続孔に連結する第２の接続孔を該第１の絶縁膜に形成し、
前記配線溝、前記第１の接続孔、及び前記第２の接続孔に導電性材料を充填することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記第２の接続孔の長さは、前記第１の接続孔の長さの２倍以上の長さであることを特徴とする請求項１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１の絶縁膜は、比誘電率が４．０以下である有機材料あるいはポーラス無機材料からなることを特徴とする請求請１或は２に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記第２の絶縁膜を形成するための前記層は、ハイドロジェンシルセスキオキサン、エポキシ基を含有するシロキサン、若しくはエポキシ基を含有するシルセスキオキサンから選択される材料からなる請求項１乃至３のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記導電性材料の充填は、メッキ法により金属を充填することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記基板上に、平坦化処理が施されている第１の絶縁膜を有する部材を用意することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項７】
前記平坦化処理は、前記基板上への前記第１の絶縁膜の形成をスピン塗布によって行われる請求項６記載の半導体装置の製造方法。
【請求項８】
前記平坦化処理は、前記基板上へ前記第１の絶縁膜を形成した後、該第１の絶縁膜の表面を化学的機械的研磨することによって行われる請求項６記載の半導体装置の製造方法。
【請求項９】
前記モールドと前記第１の絶縁膜との間に、紫外線硬化型の樹脂層を介在させ、
前記樹脂層へ紫外線を照射することによって該樹脂層を硬化させ、前記配線溝と前記第１の接続孔とを有する第２の絶縁膜を形成することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
前記エッチングは、前記第２の絶縁膜を除去することなく行われることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
前記エッチングは、前記第２の絶縁膜のエッチングレートに対して、前記第１の絶縁膜のエッチングレートが５倍以上となるように行われることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１２】
前記基板上に絶縁層を介して第１の絶縁膜を有する部材を用意し、
前記第２の接続孔の底部に露出する絶縁層を除去して、前記第２の接続孔に連結する第３の接続孔を形成することを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１３】
連通孔を有する物品の製造方法であって、
基板上に第１の絶縁膜を有する部材を用意し、
前記第１の絶縁膜上に層を設け、
溝と第１の接続孔とに対応しているパターンを有するモールドを前記層にインプリントして、前記溝と前記第１の接続孔とを有する第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜をマスクとして、前記第１の絶縁膜をエッチングすることによって、前記第１の接続孔の長さよりも長く、且つ該第１の接続孔に連結する第２の接続孔を該第１の絶縁膜に形成し、
前記配線溝、前記第１の接続孔、及び前記第２の接続孔に導電性材料を充填することを特徴とする物品の製造方法。
【請求項１４】
前記基板上に、平坦化処理されている第１の絶縁膜を有する部材を用意することを特徴とする請求項１３に記載の物品の製造方法。
【請求項１５】
デュアルダマシンプロセスを用いる半導体装置の製造方法であって、
基板上に第１の絶縁膜を有する部材を用意し、
前記第１の絶縁膜上に層を設け、
配線溝と第１の接続孔とに対応したパターンを有するモールドを前記層にインプリントして、前記配線溝と前記第１の接続孔とを有する第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜をマスクとして、前記第１の絶縁膜をエッチングすることによって、該配線溝に連結する第２の接続孔を該第１の絶縁膜に形成し、
前記配線溝及び前記第２の接続孔に導電性材料を充填することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１６】
デュアルダマシンプロセスを用いる半導体装置の製造方法であって、
基板上に第１の絶縁膜を有する部材を用意し、
前記第１の絶縁膜上に層を設け、
配線溝と第１の接続孔とに対応したパターンを有するモールドを前記層にインプリントして、前記配線溝と前記第１の接続孔とを有する第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜をマスクとして、前記第１の絶縁膜をエッチングすることによって、前記第１の接続孔の長さよりも長く、且つ該第１の接続孔に連結する第２の接続孔を該第１の絶縁膜に形成し、
前記第２の絶縁膜をエッチングすることによって、前記第２の接続孔に連結する前記配線溝を前記第２の絶縁膜に形成し、
前記配線溝及び前記第２の接続孔に導電性材料を充填することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１７】
デュアルダマシンプロセスを用いる半導体装置の製造方法であって、
基板上に絶縁層を介して第１の絶縁膜を有する部材を用意し、
前記第１の絶縁膜上に層を設け、
配線溝と第１の接続孔とに対応しているパターンを有するモールドを、前記層にインプリントして、前記配線溝と前記第１の接続孔とを有する第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜をマスクとして、前記第１の絶縁膜をエッチングすることによって、前記第１の接続孔に連結する第２の接続孔を該第１の絶縁膜に形成し、
該第２の接続孔の底部に露出する絶縁層を除去して、前記第２の接続孔に連結する第３の接続孔を形成し、
前記配線溝、前記第１の接続孔、前記第２の接続孔、及び前記第３の接続孔に導電性材料を充填することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月31日(2008.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の溝を形成してインク室とするベース基板が設けられ、
上記ベース基板の端面には、該ベース基板の溝と連通するノズル孔を有するノズルプレートが接着されるインクジェットヘッドの製造方法であって、
成膜チャンバ内において上記ベース基板の端面に間隔を置いて遮蔽部材を対峙させる遮蔽部材対峙工程と、
ベース基板にポリクロロパラキシリレン膜とポリパラキシリレン膜とをこの順に積層してインクに対する有機保護膜を形成する工程とを含むと共に、
上記ポリクロロパラキシリレン膜を、成膜ガス圧３０ｍＴｏｒｒ以上、かつ１００ｍＴｏｒｒ以下で成膜し、
上記ポリパラキシリレン保護膜を、成膜ガス圧７０ｍＴｏｒｒ以上、かつ４００ｍＴｏｒｒ以下で成膜することを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。
【請求項２】
前記ベース基板の端面と前記遮蔽部材との間隔は３ｍｍ以上かつ３０ｍｍ以内であることを特徴とする請求項１記載のインクジェットヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記遮蔽部材対峙工程においては、前記成膜チャンバ内において前記ベース基板の端面に間隔を置いて対峙される遮蔽部材を含めて、ベース基板の溝形成面側及びその反対側にも間隔を置いて対峙する遮蔽部材がコの字状に設けられることを特徴とする請求項１又は２記載のインクジェットヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記遮蔽部材対峙工程においては、ベース基板の両側面側にも間隔を置いて対峙する遮蔽部材が設けられることを特徴とする請求項３記載インクジェットヘッドの製造方法。
【請求項５】
被着体にポリクロロパラキシリレン膜とポリパラキシリレン膜とをこの順に積層すると共に、
上記ポリクロロパラキシリレン膜を、成膜ガス圧３０ｍＴｏｒｒ以上、かつ１００ｍＴｏｒｒ以下で成膜し、
上記ポリパラキシリレン保護膜を、成膜ガス圧７０ｍＴｏｒｒ以上、かつ４００ｍＴｏｒｒ以下で成膜することを特徴とする有機保護膜の製造方法。
【請求項６】
複数の溝を形成してインク室とするベース基板が設けられ、
上記ベース基板は、ポリクロロパラキシリレン膜とポリパラキシリレン膜とがこの順に積層されている有機保護膜を備えており、
上記ベース基板の端面には、該ベース基板の溝と連通するノズル孔を有するノズルプレートが接着されると共に、
上記ベース基板の端面におけるノズルプレート接着面に形成されている上記有機保護膜の膜厚に対するベース基板の溝に形成されている上記有機保護膜の膜厚の膜厚比は、０．５以上であり、
上記ベース基板の端面におけるノズルプレート接着面に形成されている有機保護膜に有する膜形成に際してできる突起部は高さ５μｍ未満であることを特徴とするインクジェットヘッド。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】インクジェットヘッドの製造方法、有機保護膜の製造方法、及びインクジェットヘッド
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
また、本発明の有機保護膜の製造方法及びインクジェットヘッドの製造方法では、前記ポリパラキシリレン保護膜を、成膜ガス圧７０ｍＴｏｒｒ以上、かつ４００ｍＴｏｒｒ以下で成膜することが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月11日(2008.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ素樹脂、充填材および加工助剤を含有するシート形成用樹脂組成物を、ロール温度を４０〜８０℃として圧延する工程を含み、
該加工助剤が、分留温度が１２０℃以下である石油系炭化水素溶剤を３０質量％以上（ただし、加工助剤重量を１００質量％とする。）含んでなる
ことを特徴とする充填材入りフッ素樹脂シートの製造方法。
【請求項２】
前記組成物中の前記フッ素樹脂と前記充填材との質量比が、フッ素樹脂：充填材＝１：０．１〜２であることを特徴とする請求項１に記載の充填材入りフッ素樹脂シートの製造方法。
【請求項３】
前記組成物中に前記加工助剤が、フッ素樹脂と充填材との合計１００重量部に対して５〜５０重量部含まれることを特徴とする請求項１または２に記載の充填材入りフッ素樹脂シートの製造方法。
【請求項４】
前記圧延工程により調製された圧延シートをさらに圧延する工程を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の充填材入りフッ素樹脂シートの製造方法。
【請求項５】
充填材入りフッ素樹脂シートからなるガスケットであって、
該充填材入りフッ素樹脂シートの、JIS R3453に準拠した引張り強さが８ＭＰa以上であり、かつ該充填材入りフッ素樹脂シートから作成したφ48mm×φ67mm×厚さ1.5mmの試験
片に対して面圧19.6MPa、窒素ガス内圧0.98MPaとして気密試験を行った場合の漏洩量が9
×10-5Pa・m3/s以下である
ことを特徴とするガスケット。
【請求項６】
前記充填材入りフッ素樹脂シートがフッ素樹脂と充填材とを１：０．１〜２の割合で含むことを特徴とする請求項５に記載のガスケット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】充填材入りフッ素樹脂シートの製造方法およびガスケット
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
本発明の製造方法においては、この圧延工程は、ロール温度を４０〜８０℃として行われ、しかも、分留温度が低い（１２０℃以下）石油系炭化水素溶剤を多く含む加工助剤が用いられるため、二軸ロール等による圧延を実施する間に、シート形成用樹脂組成物中の（プレフォーム中の）加工助剤が徐々に揮発、除去される。したがって、圧延工程の初期段階では、加工助剤が多く存在するためにフッ素樹脂を膨潤させ繊維化させることができ、しかも圧延工程の後期段階では、加工助材の残存量が少ないことから、加工助剤の揮発に基づくシート内部での新たな空孔の形成が少ないため、シートの平面方向への変形に優先させてシート内部の緻密化を進めることができると考えられる。