(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
非常に幅狭の被研摩物を研磨するための回転砥石を有する研磨装置において、
Ｘ方向及びＹ方向に独立に摺動可能なＸ、Ｙ−ステージと、該Ｘ、Ｙ−ステージのＸ方向略中央部において一端がＹ方向に露出しており、Ｙ方向にのみ摺動する固定ステージとを備え、
前記Ｘ、Ｙ−ステージは、
Ｘ方向に往復運動可能なＸ−ステージ，
該Ｘ−ステージ上に配置されており、該Ｘ−ステージに対してはＹ方向に摺動可能であり、前記固定ステージに対しては前記Ｘ−ステージとともにＸ方向のみに摺動可能であって、前記回転砥石の軸を受ける構造体が載置されるＹ−ステージ，
前記回転砥石の被研磨物への接触圧を調整するためのスプリング或いは空気圧手段，
前記Ｘ−ステージを、Ｘ方向のみに前記回転砥石の幅以上の近似幅内に往復運動させる駆動手段，
を有しており、
前記Ｘ−ステージの一部をＹ方向に延長した固定ステージ基台上に、一端側が支持軸によって回転可能に軸支されており、前記Ｘ方向に対して傾斜した内側面と外側面を有するとともに、所定の間隔で配置された一対の傾斜カム，
該一対の傾斜カムの間に挟まれるように前記固定ステージ上に固定されており、前記傾斜カムが回転したときに、その内側面と接触可能な固定ローラー，
前記Ｙ−ステージ上であって前記一対の傾斜カムの外側に設けられており、該傾斜カムの外側面と接触可能な一対の移動ローラー，
を備えるとともに、
前記Ｘ−ステージのＸ方向への往復運動に伴って前記移動ローラーが前記傾斜カムの外側面を押圧し、該傾斜カムが回転して前記固定ローラーを押圧することによって、前記回転砥石の幅の端部から前記被研磨物の先端が外れると同時に前記Ｙ−ステージに固定された回転砥石が前記被研磨物から離れるようにＹ−ステージをＹ方向へ移動させ、
前記被研磨物が回転砥石上に載る際には、被研磨物先端に接触するように前記回転砥石がＹ方向に移動し、前記被研磨物が前記回転砥石端部に返送されることを特徴とする研磨装置。
【請求項２】
前記Ｘ、Ｙ−ステージ及び固定ステージが、Ｘ方向及びＹ方向に位置調整可能な位置調整ステージの上に載置されていることを特徴とする請求項１記載の研磨装置。
【請求項３】
前記一対の移動ローラー及び固定ローラーの表面が、弾性材料で被われていることを特徴とする請求項１又は２記載の研磨装置。
【請求項４】
前記一対の傾斜カムは対称形であって、前記固定ステージ基台に軸支された一端側から他端側へ向けて幅広に形成されており、
前記固定ローラーに接触する内側面の傾斜が、前記一対の移動ローラーに接触する外側面の傾斜よりも緩やかであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の研磨装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被研磨物の幅が、研磨砥石に対して、非常に小さく或いは薄い場合にも研磨砥石の摩耗が平均して得られ、常に平坦な研磨面を保持できる研磨装置に関する。詳細には、本発明は、ハードデイスク、先端部電子部品のような幅狭の先端部の被研磨物を研磨する研磨装置で、研磨砥石表面の摩耗が平均化され、均一にされるような研磨装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ハードデイスクのような電子部品の幅狭い端部を研磨する必要がある場合、研磨砥石の表面は、幅狭い端部で、研磨されていくために、研磨砥石の幅方向に摺動させて、研磨砥石の表面の摩耗を、平均化させていく。然し乍ら、そうすると、研磨砥石の表面の摩耗がうまく平均化されず、研磨砥石の中央部のみが摩耗されてしまうか、或いは、研磨砥石の端部近くでは、より多く摩耗されてしまう。
【０００３】
これは、研磨砥石の表面の中で、より研磨のために使用する面が、より摩耗してしまい、また、研磨砥石の表面は丸くなった方が、研磨はよりたやすくなるためである。また、研磨砥石の端部から、幅狭い被研磨物が落ちないように、被研磨物が、研磨砥石の端部に近くなったときには、もとに戻っていくように、摺動運動するようにすると、研磨砥石の中心部のみが摩耗され、極端に表すと、図３のＢに示すような断面図の研磨砥石になる恐れがある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
研磨砥石の幅に比べて極端に薄い被研磨物を研磨しなければならない場合に、研磨砥石の表面が不均一に摩耗してしまうことが多く、すると研磨砥石が全部使用しないのに、少し早くに取り替えなければならなくなる。従って、本発明は、研磨砥石の幅に比べて極端に薄い被研磨物を研磨する研磨装置において、摩耗が均一になる作用を有し、最後まで研磨砥石を利用できる、経済的に有利な研磨装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記の問題点を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、摩耗が均一になると同時に先端形を容易に研磨することができる研磨装置を次のような構成により提供する。
【０００６】
即ち、非常に幅狭の被研磨物を研磨するための回転砥石を有する研磨装置において、Ｘ方向及びＹ方向に独立に摺動可能なＸ、Ｙ−ステージと、該Ｘ、Ｙ−ステージのＸ方向略中央部において一端がＹ方向に露出しており、Ｙ方向にのみ摺動する固定ステージとを備え、前記Ｘ、Ｙ−ステージは、Ｘ方向に往復運動可能なＸ−ステージ，該Ｘ−ステージ上に配置されており、該Ｘ−ステージに対してはＹ方向に摺動可能であり、前記固定ステージに対しては前記Ｘ−ステージとともにＸ方向のみに摺動可能であって、前記回転砥石の軸を受ける構造体が載置されるＹ−ステージ，前記回転砥石の被研磨物への接触圧を調整するためのスプリング或いは空気圧手段，前記Ｘ−ステージを、Ｘ方向のみに前記回転砥石の幅以上の近似幅内に往復運動させる駆動手段，を有しており、前記Ｘ−ステージの一部をＹ方向に延長した固定ステージ基台上に、一端側が支持軸によって回転可能に軸支されており、前記Ｘ方向に対して傾斜した内側面と外側面を有するとともに、所定の間隔で配置された一対の傾斜カム，該一対の傾斜カムの間に挟まれるように前記固定ステージ上に固定されており、前記傾斜カムが回転したときに、その内側面と接触可能な固定ローラー，前記Ｙ−ステージ上であって前記一対の傾斜カムの外側に設けられており、該傾斜カムの外側面と接触可能な一対の移動ローラー，を備えるとともに、前記Ｘ−ステージのＸ方向への往復運動に伴って前記移動ローラーが前記傾斜カムの外側面を押圧し、該傾斜カムが回転して前記固定ローラーを押圧することによって、前記回転砥石の幅の端部から前記被研磨物の先端が外れると同時に前記Ｙ−ステージに固定された回転砥石が前記被研磨物から離れるようにＹ−ステージをＹ方向へ移動させ、前記被研磨物が回転砥石上に載る際には、被研磨物先端に接触するように前記回転砥石がＹ方向に移動し、前記被研磨物が前記回転砥石端部に返送されることを特徴としている。これによって、砥石全幅に渡って摩耗の程度を同一にし、且つ、砥石が摩耗して、砥石の厚さが変わっても、同じように、幅狭の先端部の被研磨物を研磨することができる研磨装置である。
【０００７】
主要な形態の一つは、前記Ｘ、Ｙ−ステージ及び固定ステージが、Ｘ方向及びＹ方向に位置調整可能な位置調整ステージの上に載置されることを特徴としており、幅狭の先端部の被研磨物を、研磨材の研磨位置に調節することを容易にする。他の形態は、一対の移動ローラー及び固定ローラーの表面が、弾性材料で被われていることを特徴としており、前記カムに突き当るときに、移動ローラーへの力の配分が、より柔らかにされ、前記の調整がより円滑にされる。更に他の形態は、前記一対の傾斜カムは対称形であって、前記固定ステージ基台に軸支された一端側から他端側へ向けて幅広に形成されており、前記固定ローラーに接触する内側面の傾斜が、前記一対の移動ローラーに接触する外側面の傾斜よりも緩やかであることを特徴とする。これによって、前記傾斜カムによるＹ−ステージの運動即ち、回転砥石の運動は、より円滑にできる。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明の研磨装置の実施例を図１及び２を参照して詳細に説明する。
本発明装置は、図示のような、非常に幅狭の被研磨物(２)を研磨する回転砥石(３)を備える研磨装置である。例えば、電子記憶装置のためのガラス製のハードデイスク基板の端部面(１６、１７、１８：図１及び４参照)を正確に形成するため、ガラスディスク(２)の先端部を研磨する場合に、本発明の研磨装置を用いると都合がよい。なお、被研磨物(２)は、図１では、端面が３つ(１６、１７、１ ８)に分けられ、各々の面が研磨されるが、図２その他の図では、被研磨物のそ のような３端面が略されている。
【０００９】
従来の研磨装置では、図３のＡに示すように、非常に幅狭の被研磨物(２)を回転研磨砥石(３)に接触させて、研磨すると、図３のＢの断面図に示すように、中央部が凹んでしまい、砥石を全部使用しないで、取り変えなければならなくなる。これに対して、本発明の研磨装置では、図４のＡ、Ｂに示すように、被研磨物(２)に対して回転研磨砥石(３)が往復運動をして、図４のＢの断面図に示すような断面で、即ち、常に摩耗した研磨砥石の表面が平坦になり、砥石が摩耗していく、即ち、均一に摩耗する研磨方式である。
【００１０】
本発明によると、回転砥石(３)は、Ｘ−方向及びＹ−方向に独立に摺動運動できるＸ、Ｙ−ステージの上に載置されている。そのＸ、Ｙ−ステージは、回転砥石(３)が、被研磨物(２)への接触圧を調整するためのスプリング(図１の６で示 される）で常に上向きに（図１、２の面上において）引っ張られている。スプリング(６)の代わりに、空気圧手段を使用することもできる。本発明の研磨装置では、Ｘ−方向のみに回転砥石(３)の幅(ｄ)以上の近似幅内(２ａ)に往復摺動運動させる。そのための駆動手段は、モータで駆動され、往復運動で動くレバー、車輪等からなる機構でよい。
【００１１】
そして、回転砥石(３)は、被研磨物(２)への接触圧は、図１の(６)で示したスプリング或いは空気圧により、ステージ全体を上に（図１、２の面上で考えて）引っ張っている。その張力が、回転砥石(３)と被研磨物(２)との接触圧力を付与して、研磨していく。本発明の研磨装置(１)は、非常に幅狭の被研磨物(２)を研磨するためであるから、この接触圧力は非常に小さいものでよい。
【００１２】
回転砥石(３)の上に、非常に幅狭の被研磨物(２)を、左右に往復運動させ、研磨材(３)の摩耗を平均化させていかなければならない。そのために、先ず、ほぼ研磨材(３)の幅ｄの間隔で左右に、回転砥石(３)を、往復運動させるモータ手段（図示せず）を備える。回転砥石は、Ｘ−方向及びＹ−方向に独立に摺動運動できるＸ、Ｙ−ステージに載置されているので、被研磨物に対して自由に位置関係を設定できる。
【００１３】
往復運動については、研磨砥石(３)の幅ｄだけの往復運動では、従来の研磨装置と同じく、研磨砥石の中央部分のみが摩耗してしまう。摩耗を均一にするには、研磨砥石(３)幅すべてを均一に利用して研磨しなければならない。そのためには、研磨砥石の端部まで摺動することが大切である。即ち、回転砥石の幅以上の近似の幅（ｄ＋α＝２ａ：図１、５参照）の幅で往復運動させる。
【００１４】
即ち、回転砥石(３)は、その回転軸(４)で回転され、その軸を受ける構造体は、図示のように、Ｙ−ステージ(５)上に載置される。そして、Ｙ−ステージ(５)は、Ｘ−ステージ(７)のレール(７’)に乗った４つのＹ方向に摺動するＹ方向ガイド(１２)により、Ｙ方向のみに摺動し、そして、固定ステージ(８)に対しては、Ｘ方向に摺動するガイド(１３)により、Ｘ方向のみに摺動する。
【００１５】
Ｙ−ステージ(５)に対して、４つのＹ方向に摺動するＹ方向ガイド(１２)により、Ｙ方向にのみ摺動するＸ−ステージ(７)は、更に、Ｘ方向に摺動可能に、Ｘ方向ガイド(１５)により、位置調整ステージ(９)に載置される。即ち、Ｘ−ステージ(７)は、Ｙ−ステージ（５）を乗せるレール(７')と位置調整ステージ(９)にＸ方向に摺動可能な構造体(７")を有し、構造体(７")は、その下部は、固定ステージ基台(２４)に伸びており、その上に一対の変形カム(２２)(２３)を載せ、そのための支持軸(２５)で結合される。
【００１６】
そして、回転砥石(３)が載置されたＹ−ステージ(５)は、Ｘ−ステージ(７)に左右往復運動駆動手段（図示せず）が結合され、左右にＸ方向に往復運動が付与されると、４つのガイド(１２)を介して、Ｘ−ステージと共に、左右にＸ方向に往復運動して、砥石(３)の幅以上（２ａ＝ｄ＋α）に渡り、移動する。そのために、被研磨物(２)は、砥石(３)の上をその幅以上に渡り移動し、その結果、砥石(３)は幅全体に渡り均一に摩耗される。
【００１７】
２つの傾斜カム(２２)(２３)の間に位置された固定ローラー(２０)は、図示では、前述の固定ステージ(８)に、支持軸で結合されている。更に、固定ステージ(８)は、図１の下部に示すように、下に伸びて（図１、２の面上で考えて）、Ｙ方向のみに摺動するＹ方向摺動ガイド(１４)（図示せず）を介して、位置調整ステージ(９)の上に結合される。そして、その２つの傾斜カム(２２)(２３)の外側の位置には、２つの移動ローラー(２１)を備える。移動ローラー(２１)は、Ｙ−ステージ(５)の上に載置され、Ｙ−ステージ(５)の往復運動による移動とともに、Ｘ−方向にのみに回転砥石の幅(ｄ)以上の近似幅内で往復摺動運動する。
【００１８】
従って、図示の下部に示される機構；ローラー(２０)(２１)(２１)と対のカム(２２)(２３)から構成される機構により、Ｙ−ステージ(５)の往復運動に伴い、外側の移動ローラー(２１)(２１)が、各々、カム(２２)(２３)の外側を押圧し、すると、カム(２２)(２３)が回転され、遂には、固定ローラー(２０)を下方向に押圧する（図５参照）。固定ローラー(２０)、固定ステージ(８)、Ｘ方向ガイド(１３)を介して、Ｙ−ステージ(５)を下方向に押し下げ（図１、２の面上）、すると、回転砥石(３)が下方向に少しズレる。このときは、回転砥石(３)の幅の端部から被研磨物(２)先端が、はずれるときである。即ち、被研磨物(２)先端が、回転砥石(３)からはずれると同時に回転砥石(３)は下にズレ、安全性を確保すると共に、また、逆に被研磨物(２)が回転砥石(３)上に載る際には、逆に、被研磨物(２)の下から回転砥石(３)が昇ってくる（図１、２の面上）ので、容易に砥石(３)の端部に容易に、柔らかく返送載置される。従って、砥石(３)の上を、被研磨物(２)先端が、等速度で進んでいき、その端部でも同様に柔らかく、被研磨物(２)先端が、はずれるので、砥石(３)の摩耗は、平均化され、図４に示すようになり、平坦な摩耗面となる。そのために、砥石(３)が全部摩耗するまで使用できるようになる。
【００１９】
位置調整ステージ(９)(１０)に対して、上述のように、図示の摺動溝により、Ｘ−ステージ(７)は図ではＸ方向に摺動でき、Ｙ−ステージ(５)はＹ方向に摺動できるが、回転砥石(３)は、この位置調整ステージ(９)(１０)により、図１の平面上のＸ方向及びＹ方向に任意に位置合わせでき、例えば、位置合わせネジ(１１')を回転して、ステージ(１１)をＸ方向に摺動でき、被研磨物(２)に対して回転砥石を任意の位置に調整する。
【００２０】
更に、１対のカム(２２、２３)は、図５に示されるように、先端になる程幅広い形状であり、対称形にあり、その間に、固定ローラー(２０)が挟まれ、更に、それらのカム(２２、２３)の外側に各々移動ローラー(２１)がある。
【００２１】
次に、砥石(３)の全幅に渡って摩耗の程度を同一にし、更に、砥石(３)が摩耗して、砥石(３)の厚さが変わっても、同じように、幅狭の先端部の被研磨物(２)を研磨することができる。即ち、図５において、砥石(３)が摩耗して、ローラー(２１)(２０)(２１)が、２１”、２０”、２１”で示す位置になると、カム(２ ２)(２３)の軸(２５)から遠い位置で、ローラー(２１)(２１)は、カム(２２)(２３)を押圧する。すると、摩耗がない位置より、長い距離移動しないとローラー(２０”)に接触し押圧することができない。従って、(２１)(２０)(２１)の位置 と同じ移動距離で、ローラー(２０)に接触し押圧するには、カムの幅を広くしなければならない。従って、図示のように、２つのカムの形状(２２)(２３)は、先端になるほど幅広くなる。更に、カム(２２)(２３)の外側面の傾斜が激しく且つその内側面の傾斜は緩やかにされ、カム(２２)(２３)によりＹ−ステージ(５)の運動即ち、回転砥石(３)の運動は、より円滑にされる。
【００２２】
即ち、所定間隔で軸支された２つの傾斜カム(２２、２３)の間に、Ｙ−方向のみに移動する固定ローラー(２０)を備え、更に、２つの傾斜カム(２２、２３)の外側に更に、各々移動ローラー(２１、２１)を備える。すると、例えば、回転砥石(３)が中央点からａ（図５参照）だけ右へと移動し、図５に示されるように左のローラー(２１)が(２１’)の位置に移動すると、ローラー(２１)が左のカム( ２２)を押圧し、また、逆に反対にａだけ左に移動すると、右のローラー(２１) が右のカム(２３)を押圧し、ローラー(２０)に接触し押圧するので、両方で、２ａ移動すると、逆転する。即ち、２ａ＝ｄ＋αの距離移動する。それにより砥石幅ｄを少し外れた範囲で、研磨を継続することができる。即ち、ローラー(２１)がカム(２２)(２３)の外側を押圧するようになり、カム(２２)は右回転し、またカム(２３)は左回転し、中央の固定ローラー(２０)を内側縁で押圧すると、固定ローラー(２０)を介して、Ｙ−ステージ(５)が図で下方向に移動し、被研磨物( ２)から離れる傾向に入る。即ち、往復運動では、２つの移動ローラー(２１)と ２つのカム(２２)(２３)は、左右の往復の端で、即ち、ｄ＋αの距離移動する毎に、中央の固定ローラー(２０)を少し押し下げ、砥石(３)を被研磨物(２)から離れさせ、また、反転移動では、反対の移動がある。
【００２３】
即ち、(２５)の点で軸支されたカム(２２)と(２３)により挟まれて、固定ローラー(２０)はＹ−方向にのみ移動できるので、図で下方向に移動する。すると、Ｘ−ステージ全体は下方向に移動し、結局、回転砥石(３)は、被研磨物(２)から離れる方向に、移動する傾向にある。従って、回転砥石(３)が被研磨物(２)から外れると同時にスプリング(６)の張力に逆らって回転砥石(３)は被研磨物(２)から離れる方向に動く。
【００２４】
次に、ステージ(５)は反転移動し、被研磨物(２)は回転砥石(３)の上に載置されるように移動するが、そのときに、ステージ即ち、回転砥石(３)は、上述の運動と逆に動き、図において、上に移動し、被研磨物(２)に接触し、それを載置する。即ち、回転砥石(３)の幅の端部から被研磨物(２)先端がはずれても、容易に砥石(３)端部に返送載置され、そして、研磨材(３)が摩耗して、厚さが変わっても、即ち、Ｙ−方向にステージ全体が移動しても、この関係；即ち、２つの傾斜カム(２２、２３)の間に、固定ローラー(２０)と、カムの外側の移動ローラー( ２１)の関係は変わらないので、同様に、往復運動を繰り返すことができる。
【００２５】
この場合に、本発明の研磨装置によると、移動ローラー(２１)(２１)及び固定ローラー(２０)は、表面が弾性材料である。その弾性材料はとくにゴムがよい。そのために、ステージ(５)(７)の左右への往復運動において、弾性材表面の移動ローラー(２１)(２１)が各々、カム(２２)(２３)の外側面に突き当り、押圧して、そして、更に、弾性材表面の固定ローラー(２０)も両カム(２２)(２３)の内側面により押圧される。
【００２６】
このときに、各ローラーの表面が、弾性材であるために、押圧に対して少し遅く移動するが、逆転して、戻るときに、弾性材料表面のために戻る速度が遅くなり、少し遅く、回転砥石(３)が上に移動するので、被研磨物(２)が回転砥石(３)の上の位置に戻ってから、回転砥石(３)が上に上がってくるので、容易に、幅狭の先端部の被研磨物(２)が、回転砥石(３)上に再び載置され、研磨が継続されていく。本発明の研磨装置においては、このような往復運動の繰り返しにより、研磨砥石(３)の上で、被研磨物(２)が左右往復運動が行われて、平均された砥石の摩耗が生じて、研磨が継続される。
【００２７】
即ち、弾性材表面の固定ローラー(２０)と移動ローラー(２１)(２１)とカム( ２２)(２３)の特定に配置された組合せは、Ｘ、Ｙ−ステージ(５)(７)のＸ−方 向の運動、往復運動を、一定の近似幅内に規制し、同時に、被研磨物(２)が回転砥石(３)の上から外れる端部においても、均一に砥石(３)が摩耗し、更に、その厚さ(ｈ)が変わっても、同じ間隔で、即ち、弾性材表面の固定ローラー(２０)と移動ローラー(２１)(２１)とカム(２２)(２３)の特定の配置関係は変わらないので、一定幅内に同じ往復運動を行うことができるものである。
【００２８】
即ち、回転砥石(３)の幅の端部から被研磨物先端(２)がはずれても、容易に砥石(３)の端部に返送載置され、そして、研磨材(３)が摩耗して、厚さ(ｈ)が変わっても、幅狭の先端部の被研磨物(２)を研磨して、往復運動を同様に継続することができる。
【００２９】
Ｘ、Ｙ−ステージのＸ−方向の位置は、それに固定された固定ローラー(２０)が、カム(２２)(２３)による突き当りにより、回転砥石(３)のＹ−方向での摺動運動が、調整され、砥石のＸ−方向での摺動に伴い、幅狭の先端部の被研磨物を研磨しても、砥石全表面において均一に摩耗される。
【００３０】
以上のような構成の本発明の研磨装置では、回転砥石(３)の端部は、摩耗が強くならず、研磨砥石の摩耗が幅方向で均一にされる。
２つのカムの形状は、先端になるほど幅広くなってい、それにより、カムの外側面の傾斜が激しく且つその内側面の傾斜は緩やかにされ、カムによりステージの運動即ち、回転砥石の運動は、より円滑される。
【００３１】
更に、本発明の研磨装置３セットを使用して、例えば、ハードデイスク(２)の円盤端部の３つの端面(１６)(１７)(１８)（図１、４Ａを参照）を同時に研磨処理することができる。即ち、３つの端面(１６、１７、１８：図４参照)に対して各々上記のような本発明の研磨装置を取りつけると、１度にハードデイスク端面の仕上げができる。
【００３２】
【発明の効果】
本発明の均一摩耗の研磨装置は、図示のような構成により、次のごとき技術的効果があった。
(１)Ｘ−方向及びＹ−方向に独立に摺動運動できるＸ、Ｙ−ステージにより、Ｘ−方向の摺動幅を回転砥石の幅(ｄ)以上の近似幅内（２ａ）に規制し、且つ、回転砥石の幅の端部から被研磨物先端がはずれても、容易に砥石端部に返送載置され、そして、研磨砥石が摩耗して、厚さが変わっても、同じ間隔で、幅狭の先端部の被研磨物を研磨することができる。
【００３３】
(２)回転砥石と被研磨物との位置合わせが容易にできる。
(３)弾性材料で表面が被われたローラーのために戻る速度が遅くなり、容易に、幅狭の先端部の被研磨物が、回転砥石上に再び載置される。
(４)２つのカムの形状は、先端になるほど幅広くなっており、それにより、カムの外側面の傾斜が激しく且つその内側面の傾斜は緩やかにされ、カムによりステージの運動即ち、回転砥石の運動は、より円滑される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の研磨装置の正面図である。
【図２】本発明の研磨装置の一部断面側面図である。
【図３】従来の幅狭の被研磨物(２)を研磨する研磨装置の様子を示す模式的説明図である。Ａは研磨の様子を、Ｂは研磨で摩耗した研磨材の断面を示す。
【図４】本発明の研磨装置で、幅狭の被研磨物(２)を研磨する研磨操作を模式的に説明する。Ａは、本発明による研磨の様子を、Ｂは研磨で摩耗した研磨材の断面を示す。
【図５】本発明の研磨装置での、固定ローラー(２０)と移動ローラー(２１)とそれを挟むカム(２２、２３)の作用を説明する図である。
【符号の説明】
１    研磨装置
２    幅狭の被研磨物
３    回転砥石
４    回転砥石の回転軸
５    Ｙ−ステージ
６    スプリング
７    Ｘ−ステージ
８    固定ステージ
９、１０、１１    位置調整ステージ
１２    Ｙ方向摺動ガイド
１３    Ｘ方向摺動ガイド
１４    Ｙ方向摺動ガイド
１５    Ｘ方向摺動ガイド
１６、１７、１８    ハードデイスクの形成すべき３つの端面
２０    固定ローラー（Ｙ方向にのみ移動）
２１    移動ローラー（Ｘ方向にのみ移動）
２２、２３    変形カム
２４    固定ステージ基台（７”によりＸ−ステージに結合）
２５    カム回転軸
３３    従来の研磨装置で摩耗された面
４１    砥石の研磨面
【図１】
0004195723.tif 000002
【図２】
0004195723.tif 000003
【図３】
0004195723.tif 000004
【図４】
0004195723.tif 000005
【図５】
0004195723.tif 000006