【手続補正書】
【提出日】平成20年3月21日(2008.3.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの波長２０ｎｍ以下の光と投影光学系とを利用して、レチクルに形成されたパターンを被露光体に転写するための走査型の露光装置であって、
前記投影光学系を第１の収納部に収納し、前記レチクル又は前記被露光体を第２の収納部に収納し、前記第１の収納部の圧力をＰｏ、前記第２の収納部の圧力をＰｓとするとき、Ｐｓ／Ｐｏ≧１０００を満たし、
前記露光装置は、前記第１及び第２の収納部を接続する開口部を規定する接続部を更に有し、
前記接続部は、収納された前記レチクル又は前記被露光体に向かって突出する断面凸形状を有し、当該断面凸形状は走査方向に折れ曲がって前記開口部を規定する張り出し部を有し、
前記開口部の面積は１２５ｍｍ２以上であり、収納された前記レチクル又は前記被露光体と前記張り出し部との距離の平均は２ｍｍ以下であり、前記走査方向における前記張り出し部の長さは１１４ｍｍ以上であることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記走査方向において、前記開口部に対して一方にある前記張り出し部の長さと、前記開口部に対して他方にある前記張り出し部の長さとは等しいことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
光源からの波長２０ｎｍ以下の光と投影光学系とを利用して、レチクルに形成されたパターンを被露光体に転写するための走査型の露光装置であって、
前記投影光学系を第１の収納部に収納し、前記レチクル又は前記被露光体を第２の収納部に収納し、前記第１の収納部の圧力をＰｏ、前記第２の収納部の圧力をＰｓとするとき、Ｐｓ／Ｐｏ≧１０００を満たし、
前記露光装置は、前記第２の収納部を前記第１の収納部と接続する開口部を規定する接続部を更に有し、
前記接続部は、収納された前記レチクル又は前記被露光体に向かって突出する断面凸形状を有し、当該断面凸形状は収納された前記レチクル又は前記被露光体と平行に折れ曲がり前記開口部を規定する張り出し部を有し、
前記接続部の開口面積は、１２５ｍｍ２以上であり、収納された前記レチクル又は前記被露光体と前記張り出し部との距離の平均は１．５ｍｍ以下であり、走査方向における前記張り出し部の長さは４４ｍｍ以上であることを特徴とする露光装置。
【請求項４】
光源からの波長２０ｎｍ以下の光と投影光学系とを利用して、レチクルに形成されたパターンを被露光体に転写するための走査型の露光装置であって、
前記投影光学系を第１の収納部に収納し、前記レチクル又は前記被露光体を第２の収納部に収納し、前記第１の収納部の圧力をＰｏ、前記第２の収納部の圧力をＰｓとするとき、Ｐｓ／Ｐｏ≧１０００を満たし、
前記露光装置は、前記第２の収納部を前記第１の収納部と接続する開口部を規定する接続部を更に有し、
前記接続部は、収納された前記レチクル又は前記被露光体に向かって突出する断面凸形状を有し、当該断面凸形状は収納された前記レチクル又は前記被露光体と平行に折れ曲がり前記開口部を規定する張り出し部を有し、
前記接続部の開口面積は、１２５ｍｍ２以上であり、収納された前記レチクル又は前記被露光体と前記張り出し部との距離の平均は１ｍｍ以下であり、走査方向における前記張り出し部の長さは１２ｍｍ以上であることを特徴とする露光装置。
【請求項５】
光源からの波長２０ｎｍ以下の光と投影光学系とを利用して、レチクルに形成されたパターンを被露光体に転写するための走査型の露光装置であって、
前記投影光学系を第１の収納部に収納し、前記レチクル又は前記被露光体を第２の収納部に収納し、前記第１の収納部の圧力をＰｏ、前記第２の収納部の圧力をＰｓとするとき、Ｐｓ／Ｐｏ≧１０００を満たし、
前記露光装置は、前記第２の収納部を前記第１の収納部と接続する開口部を規定する接続部を更に有し、
前記接続部は、収納された前記レチクル又は前記被露光体に向かって突出する断面凸形状を有し、当該断面凸形状は収納された前記レチクル又は前記被露光体と平行に折れ曲がり前記開口部を規定する張り出し部を有し、
前記接続部の開口面積は、１２５ｍｍ２以上であり、収納された前記レチクル又は前記被露光体と前記張り出し部との距離の平均は０．６ｍｍ以下であり、走査方向における前記張り出し部の長さは２ｍｍ以上であることを特徴とする露光装置。
【請求項６】
光源からの波長２０ｎｍ以下の光と投影光学系とを利用して、レチクルに形成されたパターンを被露光体に転写するための走査型の露光装置であって、
前記投影光学系を第１の収納部に収納し、前記レチクルを第２の収納部に収納し、前記第１の収納部の圧力をＰｏ、前記第２の収納部の圧力をＰｓとするとき、Ｐｓ／Ｐｏ≧１０００を満たし、
前記露光装置は、前記第２の収納部を前記第１の収納部と接続する開口部を規定する接続部を更に有し、
前記接続部は、前記レチクルに向かって突出する断面凸形状を有し、当該断面凸形状は前記レチクルと平行に折れ曲がり前記開口部を規定する張り出し部を有し、
前記接続部の開口面積は、２０００ｍｍ２以上であり、前記レチクルと前記張り出し部との距離の平均は１ｍｍ以下であり、走査方向における前記張り出し部の長さは１４８ｍｍ以上であることを特徴とする露光装置。
【請求項７】
光源からの波長２０ｎｍ以下の光と投影光学系とを利用して、レチクルに形成されたパターンを被露光体に転写するための走査型の露光装置であって、
前記投影光学系を第１の収納部に収納し、前記レチクルを第２の収納部に収納し、前記第１の収納部の圧力をＰｏ、前記第２の収納部の圧力をＰｓとするとき、Ｐｓ／Ｐｏ≧１０００を満たし、
前記露光装置は、前記第２の収納部を前記第１の収納部と接続する開口部を規定する接続部を更に有し、
前記接続部は、前記レチクルに向かって突出する断面凸形状を有し、当該断面凸形状は前記レチクルと平行に折れ曲がり前記開口部を規定する張り出し部を有し、
前記接続部の開口面積は、２０００ｍｍ２以上であり、前記レチクルと前記張り出し部との距離の平均は０．５ｍｍ以下であり、走査方向における前記張り出し部の長さは１４ｍｍ以上であることを特徴とする露光装置。
【請求項８】
光源からの波長２０ｎｍ以下の光と投影光学系とを利用して、レチクルに形成されたパターンを被露光体に転写するための走査型の露光装置であって、
前記投影光学系と、前記レチクル又は前記被露光体とを、それぞれ異なる圧力を有する第１及び第２の収納部に収納し、
前記露光装置は、前記第２の収納部を前記第１の収納部と接続する開口部を規定する接続部を更に有し、
前記接続部は、前記被露光体に向かって突出する断面凸形状を有し、当該断面凸形状は収納された前記レチクル又は前記被露光体と平行に折れ曲がり前記開口部を規定する張り出し部を有し、
前記接続部の開口面積は、１２５ｍｍ２以上であり、収納された前記レチクル又は前記被露光体と前記張り出し部との距離の平均は３ｍｍ以下であり、走査方向における前記張り出し部の長さは５．２ｍｍ以上であることを特徴とする露光装置。
【請求項９】
前記接続部の開口面積は、１２５ｍｍ２以上であり、収納された前記レチクル又は前記被露光体と前記張り出し部との距離の平均は２ｍｍ以下であり、前記走査方向における前記張り出し部の長さは２ｍｍ以上であることを特徴とする請求項８記載の露光装置。
【請求項１０】
光源からの波長２０ｎｍ以下の光と投影光学系とを利用して、レチクルに形成されたパターンを被露光体に転写するための露光装置であって、
前記投影光学系と、前記レチクルとを、それぞれ異なる圧力を有する第１及び第２の収納部に収納し、前記第１の収納部の圧力をＰｏ、前記第２の収納部の圧力をＰｓとするとき、Ｐｓ／Ｐｏ≧１００を満たし、
前記露光装置は、前記第２の収納部を前記第１の収納部と接続する開口部を規定する接続部を更に有し、
前記接続部は、前記レチクルに向かって突出する断面凸形状を有し、当該断面凸形状は前記レチクルと平行に折れ曲がり前記開口部を規定する張り出し部を有し、
前記接続部の開口面積は、２０００ｍｍ２以上であり、前記レチクルと前記張り出し部との距離の平均は２ｍｍ以下であり、走査方向における前記張り出し部の長さは１６ｍｍ以上であることを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
前記接続部の開口面積は、２０００ｍｍ２以上であり、前記レチクルと前記張り出し部との距離の平均は１ｍｍ以下であり、前記走査方向における前記張り出し部の長さは前記走査方向における前記張り出し部の長さは２ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１０記載の露光装置。
【請求項１２】
光源からの波長２０ｎｍ以下の光と投影光学系とを利用して、レチクルに形成されたパターンを被露光体に転写するための露光装置であって、
前記投影光学系と、前記レチクル又は前記被露光体とを、それぞれ異なる圧力を有する第１及び第２の収納部に収納し、前記第１及び第２の収納部を接続する開口部を規定する接続部と、
前記開口部を形成する部材を冷却する冷却部とを有し、
前記第１の収納部の圧力をＰｏ、前記第２の収納部の圧力をＰｓとするとき、Ｐｓ≧Ｐｏを満足させることを特徴とする露光装置。
【請求項１３】
前記冷却部は、前記開口部を冷却する第１の冷却部及び第２の冷却部を有することを特徴とする請求項１２記載の露光装置。
【請求項１４】
前記第２の収納部の圧力ＰｓがＰｓ≧５Ｐａであることを特徴とする請求項１２又は１３記載の露光装置。
【請求項１５】
前記第１の収納部の圧力をＰｏ、前記第２の収納部の圧力をＰｓとするとき、Ｐｓ／Ｐｏ≧５であることを特徴とする請求項１２乃至１４のうちいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１６】
前記第２の収納部の内部に不活性ガスを供給する供給部を更に有することを特徴とする請求項１２乃至１４のうちいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１７】
光源からの波長２０ｎｍ以下の光と投影光学系とを利用して、レチクルに形成されたパターンを被露光体に転写するための露光装置であって、
前記投影光学系と、前記レチクル又は前記被露光体とを異なる圧力を有する別々の収納部に収納し、
前記露光装置は、両収納部を接続する開口部を有する接続部を有し、
当該接続部は、前記投影光学系から前記レチクル又は被露光体に向かって突出する断面凸形状を有し、当該凸形状は前記レチクル又は前記被露光体の表面と平行に折れ曲がり前記開口部を規定する張り出し部を有することを特徴とする露光装置。
【請求項１８】
前記開口部を形成する隔壁と前記第１及び第２の収納部が別々に支持されていることを特徴とする請求項１乃至１７のうちいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１９】
Ｐｓ≦１０−３Ｐａを満足することを特徴とする請求項１乃至１８のうちいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２０】
請求項１乃至１８のうちいずれか一項記載の露光装置の製造方法であって、
前記両収納部の差圧を決定するステップと、
前記決定ステップによって決定された差圧に基づいて、前記レチクル又は前記被露光体と水平方向の前記張り出し部の長さ、前記張り出し部と前記レチクル又は前記被露光体との距離及び前記接続部の開口面積を設定するステップとを有することを特徴とする製造方法。
【請求項２１】
請求項１乃至１９のうちいずれか一項記載の露光装置を用いて被露光体を露光するステップと、
当該露光された被露光体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光装置、露光装置の製造方法及びデバイス製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の一側面としての露光装置は、光源からの波長２０ｎｍ以下の光と投影光学系とを利用して、レチクルに形成されたパターンを被露光体に転写するための走査型の露光装置であって、前記投影光学系を第１の収納部に収納し、前記レチクル又は前記被露光体を第２の収納部に収納し、前記第１の収納部の圧力をＰｏ、前記第２の収納部の圧力をＰｓとするとき、Ｐｓ／Ｐｏ≧１０００を満たし、前記露光装置は、前記第１及び第２の収納部を接続する開口部を規定する接続部を更に有し、前記接続部は、収納された前記レチクル又は前記被露光体に向かって突出する断面凸形状を有し、当該断面凸形状は走査方向に折れ曲がって前記開口部を規定する張り出し部を有し、 前記開口部の面積は１２５ｍｍ２以上であり、収納された前記レチクル又は前記被露光体と前記張り出し部との距離の平均は２ｍｍ以下であり、前記走査方向における前記張り出し部の長さは１１４ｍｍ以上であることを特徴とする。