(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体（２，２´，２´´，２′′′）に薄膜を形成させるための真空処理装置であって、定置の真空室壁（１６，１６´，１６´´，１６′′′）により保持された複数の処理ステーション（８，９，１０）及び又は入口／出口スルースゲートステーション（２０）と、真空室壁により囲われていて基体室（３，４，５，６）を支持している回転可能に支承された架台又は内部シリンダ（１４）とを備えており、真空室壁（１６，１６´，１６´´，１６′′′）に開口（２４，２５，２６，２７）が設けられており、基体室（３，４，５，６）がこれらの開口に整合するように位置するようになっており、かつこれらの開口を通して、処理媒体が基体（２，２´，２´´，２′′′）に作用することができ、及び又は搬入及び搬出可能である形式のものにおいて、
いずれか１つの基体室、少なくともそれぞれ対応する基体室への直接的なアクセスを許容する入口／出口スルースゲート室（２０）が、カバー又はスルースゲートフラップ（３３）を備えており、かつ、入口／出口スルースゲート室（２０）が内部シリンダ（１４）に向かって移動可能であり、かつ内部シリンダ（１４）の外壁に又は基体室（３）のフレーム状の端面に圧着可能であり、かつ、入口／出口スルースゲート室（２０）の側壁（３６，３６′，３６´´，３６´´´）の、カバー（３３）に面して位置する足部分（４０，４０′，４０´´，４０´´´）が、フレキシブルな材料から成るフレーム状の平面パッキン（４１）の半径方向内側部分に耐圧的に結合されており、かつ、この平面パッキン（４１）がその半径方向外側部分で、真空室壁（１６，１６′′′）の開口（２４）の縁領域に耐圧的に結合されていることを特徴とする、基体上に薄膜を形成させるための真空処理装置。
【請求項２】
フレーム状の平面パッキン（４１）が一方ではその半径方向内側縁部分で側壁（３６，３６′）の足部分と締付条片（４４，４４′）との間に、かつ他方では半径方向外側部分で真空室壁（１６，１６′）又は補助フレーム（４３）と締付フレーム（４２）との間に締め込まれており、その場合、互いに平行な締込箇所の相互間隔（ｘ）が、真空室壁（１６，１６′′′）に対する側壁（３６，３６′）の最大移動距離（ｙ）の１２倍である、請求項１記載の真空処理装置。
【請求項３】
フレーム状の平面パッキン（４１）が真空室側でそれぞれ、足部分（４０）及び補助フレーム（４３）又は真空室壁（１６，１６′）に切削された溝内に保持されたシール隆起部又はシールリング（４５，４６）に当接している、請求項２記載の真空処理装置。
【請求項４】
足部分（４０）の、及び補助フレーム（４３）又は真空室壁（１６，１６′′′）の、平面パッキン（４１）に対向して位置する面があいまって、平面パッキン（４１）のための互いに協働する支持面又は当接面を形成するように寸法決めされかつ形成されている、請求項２記載の真空処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基体例えば投光器反射体上に薄膜を形成させるための真空処理装置であって、定置の真空室壁により保持された複数の処理ステーション及び又は入口／出口スルースゲートステーションと、真空室壁により囲われていて基体室を支持している回転可能に支承された内部シリンダを備えており、真空室壁に開口が設けられており、基体室がこれらの開口に合致した位置にもたらされるようになっており、かつこれらの開口を通して、処理媒体が基体に作用することができ、及び又は搬入及び搬出可能である形式のものに関する。
【０００２】
【従来の技術】
この種の公知装置の欠点とするところは、構造が不経済であり、かつしばしば極めて特定された被コーティング物、例えば偏平な板状物にしか適用可能でないことにある。被コーティング物の搬入及び搬出はしばしば、高価なスルースゲート構造によってしか解決されない困難なシール問題を抱えていた。
【０００３】
ドイツ連邦共和国特許公開第２２４１６３４号明細書からは冒頭に記載した形式の真空コーティング装置が公知であり、この真空コーティング装置では搬送装置が、処理すべき被コーティング物の受容のために、共通の１軸線の周りに配置されていてこの軸線を中心として旋回可能なポット状のフレームを備えており、その場合、処理位置、要するに搬入・搬出位置においてこの種のフレーム自体が入口・出口室の壁を形成し、かつ、入口・出口室の一部分を形成するフレームの端面を遮断するための可動の弁板が設けられている。この公知の真空コーティング装置では、被コーティング物の搬入及び搬出は構造的に簡単に解決されている。しかし、特に蒸着位置への被コーティング物の引続き行われる移動は複雑である。被コーティング物を収容したコップ状のフレームは搬送装置の引続く回転により引渡位置へもたらされ、この引渡位置から個々の基体が、下方から係合する持上装置によりコップ状のフレームから押し出されて、上向きに蒸着室内へ運動させられる。このことにより、著しい構造的な費用が生じるのみならず、複雑かつ時間のかかる作業を余儀なくされる。
【０００４】
さらにドイツ連邦共和国特許第２４５４５４４号明細書からは薄膜を基体上に蒸着するための真空コーティング装置が公知であり、この装置は入口室と、基体の処理もしくはコーティングのための別の室と出口室とを備えており、さらに、脱気可能な主室内に、この室を通して基体を搬送するために配置された搬送装置を備えており、その場合、前述の複数の室と主室との間を一時的にシールするためのシール装置が設けられており、かつ搬送装置が共通の１軸線の周りに配置されていて、この軸線を中心として旋回可能なフレームを被コーティング物の受容のために備えており、その場合、少なくとも２つの処理位置、即ち入口位置と出口位置及び蒸着位置では、この種のフレーム自体が、処理室、要するに入口室、出口室及び蒸着室の壁の一部を形成しており、その場合、これらの処理位置の少なくとも１つには、処理室の一部を形成しているフレームの端面の遮断のための可動の弁板が設けられている。
【０００５】
真空状態で担体上に膜を形成するための装置、特に電気的なフィルムコンデンサの製作時に担体上に金属層及びゴム重合層を交互に形成するための装置も公知であり（ドイツ連邦共和国特許第２８４８４８０号明細書）、この装置は少なくとも２つの真空室を備えており、これらの真空室は真空スルースゲートにより互いに仕切られており、その場合、第１の真空室には運転中に第２の真空室又は搬送装置を備えたその他の室内に比して低い残留圧が形成されるようになっており、この搬送装置は別個の真空スルースゲートを通して第１の真空室から第２の真空室内へ、かつ再び第１の真空室又は第３の真空室内へ被コーティング担体を搬送することができる。さらに、真空室内には、搬送装置上に位置する担体に膜を形成させるための装置が設けられており、真空スルースゲートは、搬送装置の単数又は複数の面に直に対向して位置していてこの単数又は複数の面に対して狭い隙間しか開放しないチークをそれぞれ備えており、かつそれぞれ２つのチークの間には残留ガスの吸引のための吸出管が設けられており、その場合、搬送装置は１方向にのみ運動可能であり、かつ搬送装置の運動方向で第１の真空室の手前に位置する真空スルースゲートが、搬送装置の搬送方向で第１の真空室の後方に位置する真空スルースゲートに比して長い拡散距離を有している。
【０００６】
さらに、基体又はワークの表面処理のための真空加工装置も公知であり（ヨーロッパ特許公開Ａ−０５５５７６４号明細書）、この装置はシリンダ状に形成されており、その場合、被加工基体を受容するための少なくとも１つの受容室もしくは容器が円形もしくは円筒形の分配室の外套に沿って配置されており、周囲に外向きの室開口を備えており、この室開口がそれぞれの加工位置で、加工室もしくはプロセス室を形成すべく、シリンダ外套内に配置された対応する加工ステーションに向けられており、これらの受容室もしくは容器又はシリンダ外套がシリンダ中央軸線を中心として回転可能に配置されており、これにより、受容室もしくは容器が１つの加工ステーションから次の加工ステーションへ運動するためにシリンダ外套に対して相対的に運動可能であり、その場合、加工プロセス時に加工室もしくはプロセス室をシールにより仕切るべく、一部又はすべての受容室もしくは容器及び又は加工ステーションに空気力式又は液圧式に作動するパッキンが設けられている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題とするところは、入口・出口スルースゲートステーションと、基体室を支持する部分又はそれぞれの基体室壁との間の耐圧的な結合が形成されるように冒頭に記載した形式の装置を製作することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
この課題を解決するために本発明の構成では、いずれか１つの基体室、少なくともそれぞれ対応する基体室への直接的なアクセスを許容する入口／出口スルースゲート室が、カバー又はスルースゲートフラップを備えており、かつ、入口／出口スルースゲート室が内部シリンダに対して移動可能であり、かつ内部シリンダの外壁に又は基体室のフレーム状の端面に圧着可能であり、かつ、入口／出口スルースゲート室の壁部分の、カバー又はスルースゲートフラップに面して位置する足部分が、フレキシブルな材料から成るフレーム状の平面パッキンの半径方向内側部分に耐圧的に結合されており、かつ、この平面パッキンがその半径方向外側部分で、真空室壁の開口の縁領域に耐圧的に結合されているようにした。
【０００９】
【発明の実施の形態】
次に図示の実施例につき本発明を詳しく説明する。
【００１０】
本装置は真空室７を備えており、この真空室７はその外壁に均一に分配されて配置された複数の窓状の開口２４，２５，２６，２７を備えており、その場合、各開口２４，２５，２６，２７に対応して、それぞれの開口２４，２５，２６，２７の方向へ開いた箱形シェル状のケーシングから成る処理ステーション８，９，１０又は入口／出口スルースゲートステーション２０が配置されており、その環状の縁部分が真空室７の壁１６，１６′，１６′′，１６′′′に固定的に結合されている。真空室７は開口１１，１２，１３，２１を備えた内部シリンダ１４を囲んでおり、これらの開口は真空室７の上述した開口と対応しており、かつ同様にこれらの開口内にはシェル状の基体室３，４，５，６が挿入されており、これらの基体室は処理ステーション８，９，１０もしくは入口／出口スルースゲートステーション２０と一緒に、内部シリンダ１４の図示の位置でそれぞれすべての側で閉鎖された容器を形成している。真空室壁は外壁部分１６，１６´，１６´´，１６′′′から形成されており、これらの外壁部分はそれぞれ処理ステーション８，９，１０もしくは入口／出口スルースゲートステーション２０の壁部分に固定的に結合されており、かつこれにより室壁部分及び内部シリンダ１４と一緒に外室１５，１５′，１５′′，１５′′′を形成している。２つのこの外室１５′，１５′′は孔１７，１７′を介して２つの処理ステーション８，１０の内壁に結合されており、その場合、これら両方の外室１５′，１５′′の外壁部分１６′，１６′′は供給源２２もしくは２３に固定的に結合されており、この供給源を介してガスもしくはモノマーが切欠１８，１８′を介して外室１５′もしくは１５′′内に流入可能であり、その結果、例えば処理ステーション８内ではグロープロセスを、処理ステーション１０内ではコーティングプロセスを実施することができる。処理ステーション９のケーシング内では２つのスパッタカソード２８，２９が取付けられており、その場合、所要の電流供給部３０が処理ステーション９の外壁に固定されている。外室１５′′′は孔３２を介してスルースゲートステーション２０に連通しており、これは真空ポンプ（図示せず）の吸込管継手１９に接続されている。スルースゲート室２０内への搬入もしくは同室からの搬出の目的で、シェル状のケーシングの底部を形成しているカバー３３が一点鎖線で示された位置へ移動可能である。全室、要するに処理ステーション８，９，１０、スルースゲート室２０、基体室３，４，５，６、外室１５，１５´，１５´´，１５′′′及び内部シリンダ１４は共通の１つの底板と図示されていないカバー板とにより覆われており、その結果、装置の特別簡単な構造が得られている。内部シリンダ１４はアーム３５，３５′，３５′′，３５′′′を介してモータ３４に回動不能に結合されており、これにより、内部シリンダ１４及び基体室３，４，５，６から成る構造物は、底板とカバー板と外壁部分１６，１６´，１６´´，１６′′′とから成る真空室の内部で回転することができる。
【００１１】
カバー３３を開放位置へ移動することにより入口・出口スルースゲート室２０を、その他の処理室８，９，１０内の圧力を変化させることなしに開放することができるように、スルースゲートステーション２０の側壁３６，３６′，３６´´，３６´´´が矢印Ａで示す方向にわずかな量だけ移動可能に形成されている。スルースゲートステーション２０の側壁もしくはフレーム状の部分を内部シリンダ１４へ向けてこのように移動させることにより、スルースゲートステーション２０は真空密に壁１４に当接し、その結果、真空室７内の圧力を変化させることなく、このスルースゲートステーションの開放及び通気が許される。スルースゲートステーション２０の側壁３６，３６′，３６´´，３６´´´のこの移動は、側壁３６，３６′，３６´´，３６´´´に固定的に配置された従動子３８，３８′，３８´´，３８´´´と協働するカム軸３７，３７′，３７´´，３７´´´を介して行われる（従動子及びカム軸は図面簡単のため図１にはそれぞれ１つを示すのみである）。
【００１２】
図２に（拡大して）示すように、側壁３６，３６′，３６´´，３６´´´はフレーム状のパッキン３９を備えており、このパッキンは円筒状の壁１４の外面にシール作用下で圧着される。このことのために、足部分４０は同様に矢印Ａで示す閉鎖方向（図３及び図４も参照）で、それも図４に詳細に示した出発位置から運動する。真空室７の壁部分１６，１６′′′と側面３６，３６′，３６´´，３６´´´との間の所望のシールを保証するために、足部分４０，４０′はそれぞれフレーム状の平面パッキン４１に固定的に結合されており、その半径方向外側部分はフレーム４２により壁部分１６，１６′′′もしくは補助フレーム４３に圧着される。この補助フレーム４２もしくはその外面Ｆはスルースゲートフラップもしくはカバー３３のためのシール面を形成している。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にもとづく装置の断面を示す図である。
【図２】図１に示す装置のスルースゲートステーションのフレーム状の部分を拡大して断面した図である。
【図３】図２に示すスルースゲートステーションのシールエレメントを閉鎖位置で拡大して示す断面図である。
【図４】図３に示すシールエレメントを開放位置で断面して示す図である。
【符号の説明】
２，２′  基体、  ３，４，５，６  基体室、  ７  真空室、  ８，９，１０処理ステーション（処理室）、  １１，１２，１３  開口、  １４  円筒状の壁（内部シリンダ）、  １５，１５′，１５′′，１５′′′  外室、  １６，１６′，１６′′，１６′′′  外壁（真空室壁）、  １７，１７′  孔、  １８，１８′  切欠、  １９  吸込管継手、  ２０  入口・出口スルースゲートステーション（入口・出口スルースゲート室）、  ２１  開口、  ２２  ガス供給源、  ２３  モノマー供給源、  ２４，２５，２６，２７  開口、  ２８，２９スパッタカソード、  ３０  電流供給部、  ３１  外壁、  ３２  孔、  ３３カバー（スルースゲートフラップ）、  ３４  モータ、  ３５，３５′，３５′′，３５′′′  アーム、  ３６，３６′  側壁、  ３７，３７′  カム軸、３８，３８′  従動子、  ３９  パッキン、  ４０，４０′  足部分、  ４１平面パッキン、  ４２  フレーム（締付フレーム）、  ４３  補助フレーム、４４  締付条片、  ４５，４６  シールリング
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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