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【手続補正書】
【提出日】平成20年6月23日(2008.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  プリント媒体上に画像を記録する工程を含むインクジェットプリント方法において、
インクをインクジェット記録方法を用いてプリント媒体上に付着させる第１の工程；および多価金属イオン及びその塩の少なくとも一方を含む処理液を該プリント媒体上に付着させる第２の工程；を有し、
該第１の工程は、該第２の工程に引き続いて該プリント媒体上で該インクと該処理液とが液体状態で接する様に行なわれ、
該インクは、水性媒体中に、第１の顔料と、第２の顔料と、該第２の顔料を分散させるための高分子分散剤と、を含み、該第１の顔料及び該第２の顔料がともに分散状態で該インク中に含まれ、
該第１の顔料が少なくとも１つのアニオン性の基が直接もしくは他の原子団を介して該第１の顔料の表面に結合されている自己分散型の顔料であり、該第２の顔料が高分子分散剤によって該水性媒体に分散させることのできる顔料であり、該高分子分散剤が該第１の顔料の表面に結合されている基と同極性の高分子分散剤及びノニオン性の高分子分散剤の少なくとも一方を含み、
該処理液は、プリント媒体上で該処理液と該インクとが液体状態で接する様に付与されたときには、該インクに含まれる少なくとも一方の顔料の分散状態を不安定化させるものである
ことを特徴とするインクジェットプリント方法。
【請求項２】  該多価金属イオンが、Ｃａ++，Ｃｕ++，Ｎｉ++，Ｍｇ++，Ｚｎ+++，Ｂａ++，Ａｌ+++，Ｆｅ+++，Ｃｒ+++，Ｃｏ++，Ｆｅ++，Ｌａ++，Ｎｄ+++及びＹ+++からなる群から選ばれる少なくとも1つの多価金属陽イオンである請求項１記載のインクジェットプリント方法。
【請求項３】  該塩が、Ｃｌ、ＮＯ3、Ｉ、Ｂｒ、ＣｌＯ3、ＣＨ3ＣＯＯ-から選ばれる少なくとも１つの陰イオンと多価金属陽イオンとの塩である請求項１または２に記載のインクジェットプリント方法。
【請求項４】  該塩の濃度が、該処理液の全質量を基準として０．０１〜１０％の範囲である請求項１〜３のいずれかに記載のインクジェットプリント方法。
【請求項５】  前記アニオン性基が、下記に示すアニオン性基の中から選択される少なくとも１つである請求項１〜４のいずれかに記載のインクジェットプリント方法：
−ＣＯＯＭ、−ＳＯ3Ｍ、−ＰＯ3ＨＭ及び−ＰＯ3Ｍ2
（これらのＭはそれぞれ独立して水素原子か、アルカリ金属か、アンモニウムか、あるいは有機アンモニウムを表わす）。
【請求項６】  前記原子団は、炭素数１〜１２のアルキレン基か、置換基を有してもよいフェニレン基か、あるいは置換基を有してもよいナフチレン基である請求項１〜５のいずれかに記載のインクジェットプリント方法。
【請求項７】  前記第２の顔料がその表面に高分子分散剤を吸着することにより分散されている請求項１〜６のいずれかに記載のインクジェットプリント方法。
【請求項８】  前記第２の顔料が、少なくとも構造の異なる２種類の顔料を含む請求項１〜７のいずれかに記載のインクジェットプリント方法。
【請求項９】    該インク中の第１の顔料と第２の顔料との合計の量は、該インクの全質量を基準として０．１〜１５％である請求項１〜８のいずれかに記載のインクジェットプリント方法。
【請求項１０】  該第１の顔料と第２の顔料との比率が９／１〜４／６の範囲である請求項１〜９のいずれかに記載のインクジェットプリント方法。
【請求項１１】  該第１の顔料を該第２の顔料よりも多く含む請求項１〜１０のいずれかに記載のインクジェットプリント方法。
【請求項１２】  該第１の顔料及び第２の顔料の少なくとも一方はカーボンブラックである請求項１〜１１のいずれかに記載のインクジェットプリント方法。
【請求項１３】  該インクが更に染料を含んでいる請求項１〜１２のいずれかに記載のインクジェットプリント方法。
【請求項１４】  第１のインク、第２のインクおよび処理液の各々をプリント媒体上で互いが液体状態で接触する様に付与する工程を含むインクジェットプリント方法において、
該第１のインクが、顔料粒子の表面に少なくとも１つのアニオン性基が直接もしくは他の原子団を介して結合されている自己分散型顔料を第１の顔料として水性媒体中に含むものであり、
該第２のインクが、第２の顔料と、該第２の顔料を分散させるための高分子分散剤と、を水性媒体中に含み、該第２の顔料が該高分子分散剤により該水性媒体中に分散し得るものであり、該高分子分散剤が該第１の顔料の表面に結合されている基と同極性の高分子分散剤およびノニオン性の高分子分散剤の少なくとも一方を含み、
該処理液が多価金属陽イオン及びその塩の少なくとも一方を含み、プリント媒体上で該処理液と該第１のインク及び第２のインクとが液体状態で接するように付与されたときには、該第１のインク及び第２のインクの各々に含まれている顔料の少なくとも一方の分散状態を不安定化させるものであり、かつ該処理液のプリント媒体への付与を、該第１のインクおよび該第２のインクのプリント媒体への付与に先立って行なう
ことを特徴とするインクジェットプリント方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また上記の目的を達成することのできるインクジェットプリント方法の他の実施態様は、第１のインク、第２のインクおよび処理液の各々をプリント媒体上で互いが液体状態で接触する様に付与する工程を含むインクジェットプリント方法において、
該第１のインクが、顔料粒子の表面に少なくとも１つのアニオン性基が直接もしくは他の原子団を介して結合されている自己分散型顔料を第１の顔料として水性媒体中に含むものであり、
該第２のインクが、第２の顔料と、該第２の顔料を分散させるための高分子分散剤と、を水性媒体中に含み、該第２の顔料が該高分子分散剤により該水性媒体中に分散し得るものであり、該高分子分散剤が該第１の顔料の表面に結合されている基と同極性の高分子分散剤およびノニオン性の高分子分散剤の少なくとも一方を含み、
該処理液が多価金属陽イオン及びその塩の少なくとも一方を含み、プリント媒体上で該処理液と該第１のインク及び第２のインクとが液体状態で接するように付与されたときには、該第１のインク及び第２のインクの各々に含まれている顔料の少なくとも一方の分散状態を不安定化させるものであり、かつ該処理液のプリント媒体への付与を、該第１のインクおよび該第２のインクのプリント媒体への付与に先立って行なう
ことを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月20日(2008.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  遊技機本体の前面側に扉体が開閉可能に設けられ、該扉体の前面側には下方への入力荷重が加わる突出部が突出されている遊技機において、
前記遊技機本体と前記扉体との間には、前記突出部の後方部位において該扉体を補強するための補強手段を設け、
前記補強手段は、前記遊技機本体に設けられた支持部と、前記扉体に設けられかつ前記扉体を閉鎖したときに前記支持部上に係合する載置部とにより構成されていることを特徴とする遊技機。
【請求項２】  前記扉体には、前記遊技機本体に設けられた遊技盤の遊技領域を視認可能とする遊技領域視認窓が設けられ、
前記突出部には、遊技にかかる操作部材が配置されていることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】  前記支持部又は前記載置部が他方に向けて突出するアーム状に形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の遊技機。
【請求項４】  前記支持部と前記載置部との少なくとも一方の係合部が樹脂成形品で形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の遊技機。
【請求項５】  前記支持部又は前記載置部の少なくとも一方の係合部には、載置部を支持部上に摺動案内するための摺動案内面が形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月21日(2008.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
ここで、通常運転時の乾燥機内の圧力は一定に制御することが好ましい。乾燥機内の圧力を制御しないで、乾燥機内の圧力が上下に大きく変動してしまうような場合、粉塵爆発が生じていなくても、内部圧力の最大値が圧力検出素子の設定を超えてしまえば消火剤が放出されてしまうからである。乾燥機内の圧力を制御する方法としては、図１の如き流動層乾燥機の場合、一般に吹込みブロア５と排気ブロア６を備えおり、両者の出力を調整することで乾燥機内部の圧力を上下させることが可能である。例えば、圧力検出素子が粉塵爆発と認識する圧力を３．５ｋＰａに設定した場合、乾燥機内の圧力は３．５ｋＰａ以下の一定値、例えば０．１５ｋＰａ、または−０．２ｋＰａのように負圧に制御することが重要である。ここで言う圧力は、全て大気圧力を０ｋＰａとした場合の相対圧力である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
図１において、１は流動層乾燥機本体、２はバグフィルタ、３は原料投入口、４は排出口、５は吹込みブロア、６は排気ブロア、７は凝縮器、８は熱交換器、９は入気ダンパ、１０は不活性ガス導入口、１１は排気ダンパ、１２は目皿板、１３は入気口、１４は流量調整バルブ、１５は消火剤収納タンク、１６は圧力検出素子である。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月2日(2007.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】    【請求項１】  ケイ素を含んだ水を先ず黒曜石を通過させ、次にその水をトルマリンを収納したアルミニウム製のケイ素吸着器の中に導入し、その導入した導入水で前記トルマリンを前記ケイ素吸着器内で攪拌させることを特徴とする水に含まれるケイ素の除去方法。    【請求項２】  前記ケイ素吸着器内に前記トルマリンと共に金属を収納したことを特徴とする請求項１記載の水に含まれるケイ素の除去方法。    【請求項３】  前記金属は、アルミニウム，ステンレス及び銀のうちの少なくとも１つから成ることを特徴とする請求項２記載の水に含まれるケイ素の除去方法。    【請求項４】  前記トルマリンと前記金属との重量比を１：１０〜１０：１としたことを特徴とする請求項２乃至３記載の水に含まれるケイ素の除去方法。    【請求項５】  ケイ素を含んだ水を前記黒曜石を通過させる前にイオン交換樹脂を通過させて、前記黒曜石を通過する水を硬水以外の水とすることを特徴とする請求項１記載の水に含まれるケイ素の除去方法。    【請求項６】  前記ケイ素吸着器を通過させた後の水を黒曜石に通過させることを特徴とする請求項１記載の水に含まれるケイ素の除去方法。    【請求項７】  黒曜石を通過した水を導入するためのケイ素吸着器と、そのケイ素吸着器の内部に収納するトルマリンを有するものであって、前記ケイ素吸着器が筒状で素材をアルミニウムをとする複数のカートリッジと、各カートリッジの筒状の内部空間同士を連絡するための連絡穴を形成したケイ素が付着しない素材の隔壁とから成り、各カートリッジの内部空間に前記トルマリンを収納することを特徴とする水に含まれるケイ素の除去装置。    【請求項８】  前記ケイ素吸着器内に前記トルマリンと共に金属を収納したことを特徴とする請求項７記載の水に含まれるケイ素の除去装置。    【請求項９】  前記金属は、アルミニウム，ステンレス及び銀のうちの少なくとも１つから成ることを特徴とする請求項８記載の水に含まれるケイ素の除去装置。    【請求項１０】  前記トルマリンと前記金属との重量比を１：１０〜１０：１としたことを特徴とする請求項８乃至９記載の水に含まれるケイ素の除去装置。【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】    【課題を解決するための手段】  本発明に係る水に含まれるケイ素の除去方法は、ケイ素を含んだ水を先ず黒曜石を通過させ、次にその水を収納したアルミニウム製のケイ素吸着器の中に導入し、その導入した水で前記トルマリンを前記ケイ素吸着器内で攪拌させるようにしたものである。【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】  本発明に係る水に含まれるケイ素の除去装置は、黒曜石を通過した水を導入するためのケイ素吸着器と、そのケイ素吸着器の内部に収納するトルマリンを有するものであって、前記ケイ素吸着器が筒状で素材をアルミニウムをとする複数のカートリッジと、各カートリッジの筒状の内部空間同士を連絡するための連絡穴を形成したケイ素が付着しない素材の隔壁とから成り、各カートリッジの内部空間に前記トルマリンを収納するようにしたものである。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月6日(2007.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸受のラジアルすきま或いは接触角の公差範囲を複数の区分に分け、同じ区分内から一対の軸受を選出し、この選出された一対の軸受を、その属する区分に対応して設定された予圧を付与して組み付けるようにしたことを特徴とする転がり軸受装置。
【請求項２】
軸受のラジアルすきま或いは接触角の公差範囲を複数の区分に分け、同じ区分内から一対の軸受を選出し、この選出された一対の軸受を、その属する区分に対応して設定された予圧を付与して組み付けるようにしたことを特徴とする転がり軸受装置の組立方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月19日(2008.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 シェルコースの外面（５８）から外向きに放射状に延びる少なくとも１つの補強部分（５６）を備え、前記補強部分の各々が半径を持つノズル（３６）を備える圧力容器のための鍛造ノズルシェルコース（１６）であって、
前記ノズルが、
前記補強部分の外面から前記シェルコースの内面（５２）へ延びるボア（５０）と、
前記ボアに隣接し、かつ、同軸に配置された少なくとも１つの延長取付面（６２）と、
を備え、
前記補強部分は、前記ノズルボアの中心線から測定された、前記ノズルの半径の約２．０倍に等しい縦方向寸法（７４）と、前記ノズルの半径の約１．５倍に等しい周方向寸法（７２）を有する、
ことを特徴とする鍛造ノズルシェルコース（１６）。
【請求項２】 前記ノズル（３６）の外端部（５４）に延びる一体の溝（６４）をさらに備え、前記溝は、前記ノズルボア（５０）と同軸に前記延長取付面（６２）に隣接して配置されることを特徴とする、請求項１に記載の鍛造ノズルシェルコース（１６）。
【請求項３】 前記シェルコースの前記内面（５２）に延びる一体の溝（６４）をさらに備え、前記溝は、前記ノズルボア（５０）と同軸に前記延長取付面（６２）に隣接して配置されることを特徴とする、請求項１又は２に記載の鍛造ノズルシェルコース（１６）。
【請求項４】 ブラケット（１０６）を取り付けるために前記シェルコースの前記外面（５８）から外向きに放射状に突出する一体型のスタブ（１０４）をさらに備えることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の鍛造ノズルシェルコース（１６）。
【請求項５】 複数の鍛造シェルコース（１４、１６、１８、２０）を有し、前記鍛造シェルコースの少なくとも１つが、該シェルコースの外面（５８）から外向きに放射状に延びる少なくとも１つの補強部分（５６）を備え、前記補強部分の各々が半径を持つノズル（３６）を備える圧力容器であって、
前記ノズルが、
前記補強部分の外面（６０）から前記シェルコースの内面（５２）へ延びるボア（５０）と、
前記ボアに隣接し、かつ、同軸に配置された少なくとも１つの延長取付面（６２）と、
を備え、
前記補強部分は、前記ノズルのボアの中心線から測定された、前記ノズルの半径の約２．０倍に等しい縦方向寸法（７４）と、前記ノズルの半径の約１．５倍に等しい周方向寸法（７２）を有し、最初の鍛造シェルコース（１４）に上部ヘッド（１２）が連結され、最後のシェルコース（２０）に下部ヘッド組立体（２２）が連結される、
ことを特徴とする圧力容器（１０）。
【請求項６】 前記少なくとも１つの鍛造シェルコース（１６）が、前記ノズルの外端部（５４）に延びる一体の溝（６４）をさらに備え、前記溝は、前記ノズルボア（５０）と同軸に前記延長取付面（６２）に隣接して配置されることを特徴とする、請求項５に記載の圧力容器（１０）。
【請求項７】 前記少なくとも１つの鍛造シェルコース（１６）が、前記少なくとも１つの鍛造シェルコースの前記内面（５２）に延びる一体の溝（６４）をさらに備え、前記溝は、前記ノズルボア（５０）と同軸に前記延長取付面（６２）に隣接して配置されることを特徴とする、請求項６に記載の圧力容器（１０）。
【請求項８】 鍛造ノズルシェルコース（１６）を組み立てる方法であって、
所望の内径を持つリング状鍛造品を用意する段階と、
前記リング状鍛造品を機械加工して、半径を持つノズル（３６）を含む外向きに放射状に突出する補強部分（５６）を形成する段階と、
前記補強部分の外面（６０）から前記リング状鍛造品の内面（５２）に延びるノズルボア（５０）を機械加工する段階と、
を含み、
前記ノズルボアに隣接し同軸に、少なくとも１つの延長取付面（６２）を機械加工し、前記補強部分が前記ノズルのボアの中心線から測定された、前記ノズルの半径の約２．０倍に等しい縦方向寸法（７４）と、前記ノズルの半径の約１．５倍に等しい周方向寸法（７２）を有するようにする、
ことを特徴とする方法。
【請求項９】 前記ノズル（３６）の外端部に延びる一体の溝（６４）を、前記ノズルボア（５０）に同軸に、前記延長取付面（６２）に隣接して機械加工する段階をさらに含むことを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】 前記鍛造シェルコースの内面（５２）に延びる一体の溝（６４）を、前記ノズルボア（５０）に同軸に、前記延長取付面（６２）に隣接して機械加工する段階をさらに含むことを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月16日(2007.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対物レンズの撮影画面における長辺方向または短辺方向の中心線、または該中心線近傍の前記中心線と平行な直線を対称軸として対称に焦点検出領域を設定し、前記対物レンズの異なる瞳領域からの光束によって前記焦点検出領域に形成された対の像を対の再結像レンズにより光電変換手段の対の受光部上に再結像して得られる出力に基づいて、前記対物レンズの焦点調節状態を検出する焦点検出装置において、
前記対の再結像レンズは、同一の加工手段により基材を同一方向から加工して製作された一対の金型の内、一方の金型を前記中心線を回転軸として１８０度回転させて他方の金型と向かい合わせて射出成形により製作されることにより、前記再結像レンズそれぞれの前面と後面がともに凸面から構成されていることを特徴とする焦点検出装置。
【請求項２】
請求項１に記載の焦点検出装置において、
前記対の再結像レンズは、前記撮影画面における異なる位置に対応した位置に複数対配置されていることを特徴とする焦点検出装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の焦点検出装置において、
前記対の再結像レンズの各レンズの前面の中心曲率半径と後面の中心曲率半径が略等しいことを特徴とする焦点検出装置。
【請求項４】
請求項１または請求項２に記載の焦点検出装置において、
前記対の再結像レンズの各レンズの前面の中心曲率半径と後面の中心曲率半径の比を１／１．３から１．３までの範囲とすることを特徴とする焦点検出装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の焦点検出装置を備えたことを特徴とするカメラ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
【課題を解決するための手段】
（１）  請求項１の発明は、対物レンズの撮影画面における長辺方向または短辺方向の中心線、または該中心線近傍の前記中心線と平行な直線を対称軸として対称に焦点検出領域を設定し、対物レンズの異なる瞳領域からの光束によって焦点検出領域に形成された対の像を対の再結像レンズにより光電変換手段の対の受光部上に再結像して得られる出力に基づいて、対物レンズの焦点調節状態を検出する焦点検出装置に適用される。そして、対の再結像レンズは、同一の加工手段により基材を同一方向から加工して製作された一対の金型の内、一方の金型を前記中心線を回転軸として１８０度回転させて他方の金型と向かい合わせて射出成形により製作されることにより、再結像レンズそれぞれの前面と後面がともに凸面から構成されている。
（２）  請求項２の焦点検出装置は、対の再結像レンズは、撮影画面における異なる位置に対応した位置に複数対配置されている。
（３）  請求項３の焦点検出装置は、対の再結像レンズの各レンズの前面の中心曲率半径と後面の中心曲率半径が略等しくしたものである。
（４） 請求項４の焦点検出装置は、対の再結像レンズの各レンズの前面の中心曲率半径と後面の中心曲率半径の比を１／１．３から１．３までの範囲としたものである。
（５） 請求項５の発明は、請求項１〜４のいずれか一項に記載の焦点検出装置を備えたカメラである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
【発明の効果】
（１）  請求項１の発明によれば、位置誤差を相殺して異なる方向に並んだ複数対の再結像レンズ片の並び方向の相対誤差を緩和することができる。これにより、型加工誤差による対の二次像の並び方向どうしのズレを抑制し、焦点検出誤差が少なく、また焦点検出不能になる率も少なくなるという効果が得られる。また、同じ対の二次像の並び方向どうしのズレを許容するなら、より型加工精度が緩くてよいから、高精度加工に伴う高コストを削減できるという効果もある。
（２）  請求項３の発明によれば、各レンズ辺の前面と後面の球面は光学的に同じパワーを持ち、前面と後面の位置誤差が一部打ち消し合い、その結果、前面と後面を総合した各レンズ片の中心位置は前面の位置と後面の位置のほぼ中間位置となり、各レンズ片の対の並び方向間の相対位置誤差をより軽減することができる。
（３）  請求項４の発明によれば、上述した略同一の中心曲率半径にした場合と実質上あまり変わらない程度の効果が得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月28日(2008.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  複数の光学素子が装着可能なターレットと、
前記ターレットを回転駆動する回転駆動手段と、
前記ターレットに装着された光学素子のいずれか一つを観察位置に位置決めするように、転動体をＶ溝に押圧係合させるクリックストップ機構とを備える電動ターレット装置において、
前記転動体の位置が前記Ｖ溝の略範囲内のときに前記ターレットの回転速度を減速する減速手段を設けたことを特徴とする電動ターレット装置。
【請求項２】
請求項１に記載の電動ターレット装置において、
前記減速手段は、前記転動体の位置が前記Ｖ溝の略範囲内であることを検出する位置検出手段を有することを特徴とする電動ターレット装置。
【請求項３】
請求項２に記載の電動ターレット装置において、
前記減速手段は、前記検出手段により前記転動体の位置が前記Ｖ溝の略範囲内であることが検出されると、前記回転駆動手段の回転駆動の方向を逆方向に変更することを特徴とする電動ターレット装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の電動ターレット装置において、
前記ターレットの回転速度を検出する速度検出手段を設け、前記転動体が前記Ｖ溝の略範囲内であるときに、前記減速手段は、前記ターレットの回転速度を前記速度検出手段により検出された回転速度に基づいて、前記回転駆動手段を減速制御することを特徴とする電動ターレット装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の電動ターレット装置において、
複数のＶ溝と、
前記ターレットの回転により前記転動体が前記複数のＶ溝の任意の一つから隣のＶ溝に移動する間において、前記ターレットの回転速度を減速するように前記回転駆動手段を制御する制御手段と、を設けたことを特徴とする電動ターレット装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の電動ターレット装置において、
前記制御手段は、前記転動体が前記Ｖ溝に達する前に前記回転駆動手段の駆動を停止させることを特徴とする電動ターレット。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の電動ターレット装置において、
前記光学素子が顕微鏡に装着される対物レンズであることを特徴とする電動ターレット装置。
【請求項８】
転動体をＶ溝に押圧し係合させるクリックストップ機構により、ターレットに装着された光学素子の何れか一つを観察位置に位置決めする光学素子の位置決め方法において、
前記転動体がＶ溝の略範囲内にあるとき、前記ターレットの移動速度を前記転動体が前記Ｖ溝の略範囲外にあるときよりも小さくすることを特徴とするターレットに装着された光学素子の位置決め方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の電動ターレット装置を備えることを特徴とする顕微鏡。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記した従来の方法では、鋼球がＶ溝に落ち込むときに振動が発生する場合があった。そして、近年、顕微鏡に用いられる対物レンズは性能向上や倍率向上に伴って大きくなる傾向があり、また、レボルバに装着される対物レンズの数も増えてきている。そのため、レボルバの重量も増加する傾向にあり、板バネのバネ力はそのようなレボルバでも停止・位置決めできるように設定されている。その結果、鋼球がＶ溝に落ち込むときの振動や衝撃も大きくなり、ステージ上の試料が微妙にずれて観察視野から外れてしまうことがあった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
（１）複数の光学素子が装着可能なターレットと、前記ターレットを回転駆動する回転駆動手段と、前記ターレットに装着された光学素子のいずれか一つを観察位置に位置決めするように、転動体をＶ溝に押圧係合させるクリックストップ機構とを備える電動ターレット装置において、前記転動体の位置が前記Ｖ溝の略範囲内のときに前記ターレットの回転速度を減速する減速手段を設けたことを特徴とする電動ターレット装置（請求項１）を提供する。
（２）また、転動体をＶ溝に押圧し係合させるクリックストップ機構により、ターレットに装着された光学素子の何れか一つを観察位置に位置決めする光学素子の位置決め方法において、前記転動体がＶ溝の略範囲内にあるとき、前記ターレットの移動速度を前記転動体が前記Ｖ溝の略範囲外にあるときよりも小さくすることを特徴とするターレットに装着された光学素子の位置決め方法（請求項８）を提供する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
しかしながら、本実施の形態では、鋼球４０３がＶ溝４０７内に落ち込む範囲のとき、すなわち図４（ａ）に示す鋼球４０３の中心Ｏが溝幅ｄ内にあるときには、図７に示したように電圧Ｅ３によるモータ１０の駆動力がターレット４ｂに与えられる。この駆動力は、ターレット４ｂの慣性力および鋼球４０３がＶ溝４０７の斜面に押圧されて生じるＲ１方向の力を打ち消すように作用するため、図１０（ｂ）に示すように鋼球４０３がＶ溝４０７の斜面上にある時の速度の減少は図１０（ａ）の場合に比べ大きくなる。そして、符号Ａで示すように、鋼球４０３がＶ溝４０７の底に落ち込むときの速度は図１０（ａ）に比べて十分小さくなっている。その結果、ターレット４ｂの停止時に発生する衝撃や振動が大きく緩和される。なお、ターレット４ｂを左回転させる場合も上述した右回転の場合と同様なので、左回転させる場合については説明を省略する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月4日(2008.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  白色光を複数の光色成分に分離するための光分割ユニットと、光色成分を変調するための複数の反射型空間光変調器とが設けられた空間光変調ユニットであって、前記空間光変調ユニットは壁を有する実質的に密封されたチャンバによって密閉され、各反射型空間光変調器を冷却するための冷却システムを含み、前記冷却システムは密閉されたチャンバの壁を通る熱経路接続を与えることによって各反射型空間光変調器を冷却し、前記冷却システムは密封されたチャンバを通して各反射型空間光変調器に熱伝導式に接続される、空間光変調ユニット。
【請求項２】  光色成分の反射型空間光変調器への各経路は対応する熱経路接続から遠位である、請求項１に記載の空間光変調ユニット。
【請求項３】  前記熱経路接続は受動冷却システムである、請求項１または２に記載の空間光変調ユニット。
【請求項４】  前記熱経路接続は熱伝導材料から形成される、請求項３に記載の空間光変調ユニット。
【請求項５】  実質的に密封されたチャンバ内の光分割ユニットを冷却するための強制対流冷却手段をさらに含む、請求項１から４のいずれかに記載の空間光変調ユニット。
【請求項６】  実質的に密封されたチャンバからブラックライトを除去するためにさらに適合される、請求項１から５のいずれかに記載の空間光変調ユニット。
【請求項７】  実質的に密封されたチャンバの外側においてヒートシンクが熱経路接続に接続される、請求項１から６のいずれかに記載の空間光変調ユニット。
【請求項８】  前記熱経路接続は能動冷却システムである、請求項１から７のいずれかに記載の空間光変調ユニット。
【請求項９】  ペルチェ接合冷却素子が実質的に密封されたチャンバの熱経路接続に接続される、請求項８に記載の空間光変調ユニット。
【請求項１０】  各反射型空間光変調器は反射型ＬＣＤである、請求項１から９のいずれかに記載の空間光変調ユニット。
【請求項１１】  各反射型空間光変調器は制御可能な鏡反射装置である、請求項１から９のいずれかに記載の空間光変調ユニット。
【請求項１２】  前記反射型空間光変調器はＤＭＤである、請求項１１に記載の空間光変調ユニット。
【請求項１３】  前記光分割ユニットはプリズム装置である、請求項１から１２のい
ずれかに記載の空間光変調ユニット。
【請求項１４】  前記光分割ユニットは密封されたチャンバの実質的に中央に置かれ、複数の反射型空間光変調器は中央の光分割ユニットの周りにプリズムユニットと密封されたチャンバの壁との間に配置され、各熱経路接続は各反射型空間光変調器における光入射の方向と実質的に同じ出発方向に熱を伝える、請求項１から１３のいずれかに記載の空間光変調ユニット。
【請求項１５】  請求項１から１４のいずれかに記載の空間光変調ユニットを有する、プロジェクタ装置。
【請求項１６】  複数の反射型空間光変調器が設けられた空間光変調ユニットと、白色光を色成分に分割するための光分割ユニットとを有するプロジェクタ装置を冷却する方法であって、前記空間光変調ユニットは壁を有する実質的に密封されたチャンバによって密閉され、前記方法は
密封されたチャンバの壁を通る熱経路接続を介して各反射型空間光変調器を冷却するステップを含み、前記熱経路接続は密封されたチャンバの壁を通して各反射型空間光変調器に熱伝導式に接続される、方法。
【請求項１７】  前記熱経路接続は受動冷却システムである、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】  実質的に密封されたチャンバ内の光分割ユニットを強制対流冷却するステップをさらに含む、請求項１６または１７に記載の方法。
【請求項１９】  実質的に密封されたチャンバからブラックライトを除去するステップをさらに含む、請求項１６から１８のいずれかに記載の方法。
【請求項２０】  前記熱経路接続は能動冷却システムである、請求項１６から１９のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月7日(2007.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
ＣＦガラス基板１１とフロントカバー８を重ねていないＡ側における、ＣＦガラス基板１１とフロントカバー８との隙間Ｓ２から漏れてくる光を防止するために、フロントカバー８の内面に遮光フィルムＮを貼り付けており、遮光フィルムＮはフロントカバー８の開口窓Ｗ２内へ飛び出させて、ＣＦガラス基板１１とオーバーラップするように配置される。この遮光フィルムＮにより、ＢＭ１４の周辺から漏れてくる照明ユニットＵＤの光を防止することが可能となる。また、液晶パネルＬＤのＢ側においても同様に遮光フィルムＮを貼り付けてもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
上記二種類の遮光テープＭ，遮光フィルムＮにより液晶表示装置の画像表示エリア周辺において、ＢＭ１４の周辺から抜けてくる照明ユニットＵＤの光を確実に遮断することが可能となるが、従来例で述べた、ＣＦガラス基板端Ｔで反射して斜め視野方向に出てくる光Ｌ３に対しても、装置内での光の重反射による伝達を減衰させるために、効果があることがわかっている。この光は、液晶表示装置を斜めから見たときにのみ確認できる光であり、アレーガラス基板１２及びＣＦガラス基板１１内に入った照明ユニットＵＤの光がＣＦガラス基板１１の端面Ｔで、その外側の空気の屈折率との差により反射して外へ出てくる光である。この光に対して、上記遮光テープＭ、遮光フィルムＮに加えて、ＣＦガラス基板端Ｔに反射を防止する材料をコーティングすることで、さらに効果的に光り漏れを防止することができる。この時に使用する材料としては、黒色の樹脂を薄くコーティングしてもよいし、ガラス基板と屈折率の近い材質の樹脂を厚くコーティングしても効果が認められる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１  導光板
２  蛍光放電管
３  反射シート
４、５、６  光補正シート
７  リード線
８  フロントカバー
９、１０  筐体
１１  ＣＦガラス基板
１２  アレーガラス基板
１３  ＬＳＩ
１４  遮光マスク
１５、１６  偏光板
１７シリコン樹脂
１８  ＵＶ硬化樹脂
ＬＤ  液晶パネル
ＵＤ  照明ユニット
Ｍ  遮光テープ
Ｎ  遮光フィルム
Ｔ  ＣＦガラス基板端
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月29日(2008.2.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  高速ダンプゲート（ＦＤＧ）と、高速ダンプドレイン（ＦＤＤ）とを有する電荷結合素子であって、
少なくとも２組の第一電極及び第二電極を含み、基板上に形成された電荷結合素子であって、各組の第一電極及び第二電極は、互いに電気的に分離されているが、前記電荷結合素子の読出動作中に該電極に適切な電位が与えられると、電荷を基板内の第一電極下から第二電極下へ移動させる、電荷結合素子と、
前記電荷結合素子の各組の第一電極及び第二電極の双方に隣接する高速ダンプゲートを形成するために使用される第三電極であって、該高速ダンプゲート下の前記基板内に形成されるチャネル領域はチャネルストップを含まず、該第三電極は、前記第一電極及び第二電極から電気的に分離されているが、各組の第一電極または第二電極の少なくともいずれかに適切な電位が与えられると、電荷を前記電荷結合素子から前記高速ダンプドレインにダンプする、第三電極と、を有し、
前記高速ダンプドレインが前記高速ダンプゲートに結合されると、電荷がチャネル領域を通って前記高速ダンプドレインへとスムーズに移動し、前記電荷結合素子内の各組の第一電極または第二電極のいずれかから電荷が効率的にダンプされる、電荷結合素子。
【請求項２】  前記第三電極に隣接する前記第一電極または第二電極の少なくともいずれかは、前記第三電極に接近するにつれても、その幅が一定である、請求項１に記載の電荷結合素子。
【請求項３】  電荷結合素子に高速ダンプゲート（ＦＤＧ）と高速ダンプドレイン（ＦＤＤ）とを形成する方法であって、
少なくとも２組の第一電極及び第二電極を含み、基板上に形成される電荷結合素子であって、各組の第一電極及び第二電極は、互いに電気的に分離されているが、前記電荷結合素子の読出動作中に該電極に適切な電位が与えられると、電荷を基板内の第一電極下から第二電極下へ移動させる、電荷結合素子を形成し、
前記電荷結合素子の各組の第一電極及び第二電極の双方に隣接する高速ダンプゲートを形成するために使用される第三電極であって、該高速ダンプゲート下の前記基板内に形成されるチャネル領域はチャネルストップを含まず、該第三電極は、前記第一電極及び第二電極から電気的に分離されているが、各組の第一電極または第二電極の少なくともいずれかに適切な電位が与えられると、電荷を前記電荷結合素子から前記高速ダンプドレインにダンプする、第三電極を作成し、
前記高速ダンプドレインと前記高速ダンプゲートとを結合して、電荷がチャネル領域を通って高速ダンプドレインへとスムーズに移動し、前記電荷結合素子内の各組の第一電極または第二電極のいずれかから電荷が効率的にダンプされるようにする、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月25日(2007.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 主面及び側面を有する平坦な回路基板と、該回路基板の前記主面に取り付けられる平坦な支持体と、前記側面を越えて延伸する前記平坦な支持体の延伸部と、前記回路基板の前記側面に隣接するように前記支持体の前記延伸部に取り付けられる光トランシーバモジュールとを備えていることを特徴とする回路基板組立体。
【請求項２】 前記平坦な回路基板が凹状部分を画成する端部を備え、該凹状部分に前記光トランシーバモジュールが配置されていることを特徴とする請求項１に記載の回路基板組立体。
【請求項３】 前記平坦な支持体が、前記光トランシーバモジュール上の電気端子を前記平坦な回路基板上の電気端子に結合させるための導電性相互接続部を備えていることを特徴とする請求項１に記載の回路基板組立体。
【請求項４】 前記平坦な支持体と前記平坦な回路基板とが略平行になっていることを特徴とする請求項１に記載の回路基板組立体。
【請求項５】 前記平坦な支持体が、前記平坦な回路基板の前記主面に半田付けされていることを特徴とする請求項１に記載の回路基板組立体。
【請求項６】 前記光トランシーバモジュールが、前記平坦な支持体の前記延伸部に半田付けされていることを特徴とする請求項１に記載の回路基板組立体。
【請求項７】 前記光トランシーバモジュールを取り付ける前記平坦な支持体の面と、前記平坦な回路基板の前記主面に対向する前記平坦な支持体の面とが同一平面上にあることを特徴とする請求項１に記載の回路基板組立体。
【請求項８】 平坦な支持体を提供するステップと、該平坦な支持体の第一の部分に光トランシーバモジュールを取り付けるステップと、該光トランシーバモジュールを前記平坦な回路基板の側面に隣接させるように前記平坦な支持体の第二の部分を前記回路基板の主面に取り付けるステップとを含む回路基板組立体の製造方法。
【請求項９】 比較的大きな平坦支持体から前記平坦な支持体を単体で切り離すステップを含む請求項８に記載の回路基板組立体の製造方法。
【請求項１０】 主面、及び凹状部分を画成する側面を有する平坦な回路基板と、該回路基板の前記主面に取り付けられる平坦な支持体と、前記凹状部分で延伸する延伸部と、前記凹状部分に配置されるように前記平坦な支持体の前記延伸部に取り付けられる光トランシーバモジュールとを備えていることを特徴とする回路基板組立体。
【請求項１１】 各電気端子を備える主面、及び側面を有する平坦な回路基板に取り付けるための光トランシーバモジュールパッケージであって、
該回路基板の延伸部が前記側面を越えて延伸するように前記回路基板の前記主面上に取り付けられる平坦な支持体と、各電気端子を備え、かつ前記回路基板の前記側面に隣接する前記平坦な支持体の前記延伸部に取り付けられる光トランシーバモジュールと、該光トランシーバモジュールの前記電気端子を前記平坦な回路基板の各電気端子に結合させるように前記平坦な支持体を結合させるための導電性相互接続部とを備えていることを特徴とする光トランシーバモジュールパッケージ。
【請求項１２】 各電気端子を備える主面、および少なくとも一つの凹状部分を画成する側面を有する平坦な回路基板に取り付けるための光トランシーバモジュールパッケージであって、
該回路基板の延伸部が前記凹状部分を越えて延伸するように前記回路基板の前記主面に取り付けられる平坦な支持体と、各電気端子を備え、かつ前記凹状部分に配置されるように前記平坦な支持体の前記延伸部に取り付けられる光トランシーバモジュールと、該光トランシーバモジュールの各電気端子を前記平坦な回路基板の電気端子に結合させるように前記平坦な支持体を結合させる導電性相互接続部とを備えていることを特徴とする光トランシーバモジュールパッケージ。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月25日(2008.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置及びその作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メモリトランジスタとスイッチングトランジスタとが絶縁表面を有する基板上に設けられており、
前記メモリトランジスタの有する第１の半導体層と、前記スイッチングトランジスタの有する第２の半導体層と、は連続的につながっていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
メモリトランジスタとスイッチングトランジスタとを有するメモリセルが、絶縁表面を有する基板上にマトリクス状に設けられており、
前記マトリクス状に設けられた前記メモリセルのうち、となりあう２つの前記メモリセルにおいて、前記スイッチングトランジスタのソースに電気的に接続される配線は共有されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
メモリトランジスタとスイッチングトランジスタとを有するメモリセルが、絶縁表面を有する基板上にマトリクス状に設けられており、
前記メモリトランジスタの有する第１の半導体層と、前記スイッチングトランジスタの有する第２の半導体層の一端と、は連続的につながっており、
前記マトリクス状に設けられた前記メモリセルのうち、となりあう２つの前記メモリセルにおいて、前記第２の半導体層の他端に電気的に接続される配線は共有されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１又は請求項３において、
前記第１の半導体層の厚さは、前記第２の半導体層の厚さよりも薄いことを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
第１のメモリトランジスタと第１のスイッチングトランジスタとを有する第１のメモリセルと、第２のメモリトランジスタと第２のスイッチングトランジスタとを有する第２のメモリセルと、が絶縁表面を有する基板上に設けられており、
前記第１のメモリトランジスタのゲートと、第２のメモリトランジスタのゲートと、は第１の配線に電気的に接続されており、
前記第１のスイッチングトランジスタのゲートと、第２のスイッチングトランジスタのゲートと、は第２の配線に電気的に接続されており、
前記第１のスイッチングトランジスタのソースと、前記第２のスイッチングトランジスタのソースと、は第３の配線に電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
第１のメモリトランジスタと第１のスイッチングトランジスタとを有する第１のメモリセルと、第２のメモリトランジスタと第２のスイッチングトランジスタとを有する第２のメモリセルと、が絶縁表面を有する基板上に設けられており、
前記第１のメモリトランジスタの有する第１の半導体層と、前記第１のスイッチングトランジスタの有する第２の半導体層の一端と、は連続的につながっており、
前記第２のメモリトランジスタの有する第３の半導体層と、前記第２のスイッチングトランジスタの有する第４の半導体層の一端と、は連続的につながっており、
前記第１のメモリトランジスタのゲートと、第２のメモリトランジスタのゲートと、は第１の配線に電気的に接続されており、
前記第１のスイッチングトランジスタのゲートと、第２のスイッチングトランジスタのゲートと、は第２の配線に電気的に接続されており、
前記第２の半導体層の他端と、前記第４の半導体層の他端と、は第３の配線に電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
請求項６において、
前記第１の半導体層の厚さは、前記第２の半導体層の厚さよりも薄く、
前記第３の半導体層の厚さは、前記第４の半導体層の厚さよりも薄いことを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
絶縁表面上の第１の領域に選択的に第１の半導体層を形成し、
前記絶縁表面上及び前記第１の半導体層上に第２の半導体膜を形成し、
前記第２の半導体膜を選択的に除去することによって、前記絶縁膜上の前記第１の領域と連続的につながった第２の領域上、及び前記第１の半導体層上に第２の半導体層を形成し、
前記第２の半導体層上にゲート絶縁膜を形成し、
前記第１の半導体層と前記第２の半導体層と前記ゲート絶縁膜とを用いて、前記第１の領域に設けられたスイッチングトランジスタと、前記第２の領域に設けられたメモリトランジスタと、を一体形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
絶縁表面上の第１の領域に選択的に第１の半導体層を形成し、
前記絶縁表面上及び前記第１の半導体層上に第２の半導体膜を形成し、
前記第２の半導体膜を選択的に除去することによって、前記絶縁膜上の前記第１の領域と連続的につながった第２の領域上、及び前記第１の半導体層上に第２の半導体層を形成し、
前記第２の半導体層上にゲート絶縁膜を形成し、
酸化雰囲気中で加熱処理をすることによって、前記第２の半導体層と前記ゲート絶縁膜との界面に熱酸化膜を形成し、
前記第１の半導体層と前記第２の半導体層と前記ゲート絶縁膜と前記熱酸化膜とを用いて、前記第１の領域に設けられたスイッチングトランジスタと、前記第２の領域に設けられたメモリトランジスタと、を一体形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月7日(2008.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  １つの基地局（１０）が少なくとも１つの移動局（１１）と通信するセルラ通信システムを動作させる方法であって、伝送が少なくとも２つのサービス（Ｓ１、Ｓ２）を含んでおり、伝送の電力レベルが増減され、サービス（Ｓ１、Ｓ２）の電力レベルが、個別の最小値（ＭＩＮ１、ＭＩＮ２）および最大値（ＭＡＸ１、ＭＡＸ２）によって制限されることを特徴とする方法。
【請求項２】  サービス（Ｓ１、Ｓ２）の最小値（ＭＩＮ１、ＭＩＮ２）または最大値（ＭＡＸ１、ＭＡＸ２）が同じであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  サービス（Ｓ１、Ｓ２）の最小値（ＭＩＮ１、ＭＩＮ２）および最大値（ＭＡＸ１、ＭＡＸ２）が、独立してかつ個別に調節可能であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】  サービス（Ｓ１、Ｓ２）の電力レベルに、オフセット値（Ｏ）が与えられることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】  セルラ通信システムのための基地局（１０）であって、該基地局（１０）は少なくとも１つの移動局（１１）と通信するように構成されており、伝送が少なくとも２つのサービス（Ｓ１、Ｓ２）を含んでおり、伝送の電力レベルが増減され、サービス（Ｓ１、Ｓ２）の電力レベルが、個別の最小値（ＭＩＮ１、ＭＩＮ２）および最大値（ＭＡＸ１、ＭＡＸ２）によって制限されることを特徴とするベースステーション。
【請求項６】  請求項５に記載されたベースステーション（１０）を備えるセルラ通信システム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月15日(2007.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像処理装置、画像処理方法及び画像処理プログラム
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力画像データのエッジを保存したまま入力画像データを平滑化し平滑化画像データを生成する平滑化手段と、
上記平滑化画像データを上記入力画像データから減算し、当該減算結果を増幅した後、上記平滑化画像データを加算し出力画像データを生成する画像強調手段と
を具えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
入力画像データのうち画素値の変化が急峻なエッジを保存したまま当該エッジ以外の部分を増幅する画像処理手段を具える画像処理装置において、
上記画像処理手段は、
上記入力画像データの上記エッジを保存したまま上記入力画像データを平滑化し平滑化画像データを生成する平滑化手段と、
上記平滑化画像データを上記入力画像データから減算し、当該減算結果を増幅した後、上記平滑化画像データを加算し出力画像データを生成する画像強調手段と
を具えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項３】
上記平滑化手段は、
上記入力画像データ各々に対して非線形変換を施し非線形画像データを生成する非線形変換手段と、
上記非線形画像データに対して、非線形ディジタルフィルタを施し非線形平滑化画像データを生成する非線形フィルタリング手段と、
上記非線形平滑化画像データに対して上記非線形変換手段の逆変換を施して平滑化画像データを生成する非線形逆変換手段と
を具えることを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
上記非線形フィルタリング手段は、中心画素とその近傍画素の差分値に基づいて平滑化の度合いを適応的に変化させる
ことを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
上記非線形変換手段は、上記差分値の大きさが上記画像データを撮像した際の照明光の強さに依存しないように上記入力画像データの値を変換する
ことを特徴とする請求項４に記載の画像処理装置。
【請求項６】
上記非線形フィルタリング手段は、
直列に接続された大きさの異なる複数の非線形フィルタからなる
ことを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項７】
上記非線形フィルタリング手段は、
直列に接続された大きさの異なる複数の非線形フィルタからなり、かつ小さいフィルタほど後段に位置する
ことを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項８】
入力画像データのエッジを保存したまま入力画像データを平滑化し平滑化画像データを生成する平滑化ステップと、
上記平滑化画像データを上記入力画像データから減算し、当該減算結果を増幅した後、上記平滑化画像データを加算し出力画像データを生成する画像強調ステップと
を具えることを特徴とする画像処理方法。
【請求項９】
入力画像データのうち画素値の変化が急峻なエッジを保存したまま当該エッジ以外の部分を増幅する画像処理を施す画像処理方法において、
上記入力画像データの上記エッジを保存したまま上記入力画像データを平滑化し平滑化画像データを生成する平滑化ステップと、
上記平滑化画像データを上記入力画像データから減算し、当該減算結果を増幅した後、上記平滑化画像データを加算し出力画像データを生成する画像強調ステップと
を具えることを特徴とする画像処理方法。
【請求項１０】
上記入力画像データ各々に対して非線形変換を施し非線形画像データを生成する非線形変換ステップと、
上記非線形画像データに対して、非線形ディジタルフィルタを施し非線形平滑化画像データを生成する非線形フィルタリングステップと、
上記非線形平滑化画像データに対して上記非線形変換手段の逆変換を施して平滑化画像データを生成する非線形逆変換ステップと
を具えることを特徴とする請求項９に記載の画像処理方法。
【請求項１１】
上記非線形フィルタリングステップにおいて、中心画素とその近傍画素の差分値に基づいて平滑化の度合いを適応的に変化させる
ことを特徴とする請求項１０に記載の画像処理方法。
【請求項１２】
上記非線形変換ステップにおいて、上記差分値の大きさが上記画像データを撮像した際の照明光の強さに依存しないように上記入力画像データの値を変換する
ことを特徴とする請求項１１に記載の画像処理方法。
【請求項１３】
上記非線形フィルタリングステップにおいて、大きさの異なる複数の非線形フィルタを直列的に上記非線形画像データに施して上記非線形平滑化画像データを生成する
ことを特徴とする請求項１０に記載の画像処理方法。
【請求項１４】
上記非線形フィルタリングステップにおいて、大きさの異なる複数の非線形フィルタを、その大きさが大きいものから順に直列的に上記非線形画像データに施して上記非線形平滑化画像データを生成する
ことを特徴とする請求項１０に記載の画像処理方法。
【請求項１５】
コンピュータに対して、
入力画像データのエッジを保存したまま入力画像データを平滑化し平滑化画像データを生成する平滑化ステップと、
上記平滑化画像データを上記入力画像データから減算し、当該減算結果を増幅した後、上記平滑化画像データを加算し出力画像データを生成する画像強調ステップと
を実行させるための画像処理プログラム。
【請求項１６】
入力画像データのうち画素値の変化が急峻なエッジを保存したまま当該エッジ以外の部分を増幅する画像処理をコンピュータに対して実行させるための画像処理プログラムにおいて、
上記入力画像データの上記エッジを保存したまま上記入力画像データを平滑化し平滑化画像データを生成する平滑化ステップと、
上記平滑化画像データを上記入力画像データから減算し、当該減算結果を増幅した後、上記平滑化画像データを加算し出力画像データを生成する画像強調ステップと
を実行させるための画像処理プログラム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は画像処理装置、画像処理方法及び画像処理プログラムに関し、例えばビデオカメラに適用して好適なものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は以上の点を考慮してなされたもので、従来に比して一段と画像全体のコントラスト及び鮮鋭度を向上させ得る画像処理装置、画像処理方法及び画像処理プログラムを提案しようとするものである。