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【手続補正書】
【提出日】平成20年8月7日(2008.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスク状記録媒体を回転させながらピックアップによって記録および／または再生を行なうようにしたディスク式記録再生装置において、
フォーマットが異なる複数種類のディスク状記録媒体を回転駆動する共通の回転駆動手段と、
フォーマットの異なる複数種類のディスク状記録媒体に対応してそれぞれ設けられる複数のピックアップと、
を具備するディスク式記録再生装置。
【請求項２】
前記複数のピックアップがそれぞれ駆動手段を有し、１つのピックアップが対応するフォーマットの記録媒体にアクセスしているときには他のピックアップが前記記録媒体の外周側に退避することを特徴とする請求項１に記載のディスク式記録再生装置。
【請求項３】
前記複数のピックアップがそれぞれ駆動手段を有し、１つのピックアップが対応するフォーマットの記録媒体にアクセスしているときには他のピックアップの少なくとも対物レンズユニットが前記記録媒体の投影面積の外側に退避することを特徴とする請求項１に記載のディスク式記録再生装置。
【請求項４】
２種類のピックアップを具備し、これら２種類のピックアップが前記ディスク式記録再生装置の回転中心に対して円周方向にほぼ１８０度ずれて配されていることを特徴とする請求項１に記載のディスク式記録再生装置。
【請求項５】
ダストに弱いフォーマットのピックアップを筐体の奥側に配することを特徴とする請求項４に記載のディスク式記録再生装置。
【請求項６】
前記複数種類のピックアップがそれぞれ独立に作動系の調整を可能にしたことを特徴とする請求項１に記載のディスク式記録再生装置。
【請求項７】
ディスク式記録媒体を回転させながらピックアップによって記録および／または再生を行なうようにしたディスク式記録再生装置において、
カートリッジタイプのディスク状記録媒体とベアディスクタイプのディスク状記録媒体とを選択的にインストールするインストール手段と、
前記ベアディスクタイプのディスク状記録媒体をチャックするチャック手段と、
前記カートリッジタイプのディスク状記録媒体がインストールされた場合に前記チャック手段を非作動位置に移動させる移動手段と、
を具備するディスク式記録再生装置。
【請求項８】
カートリッジタイプのディスク状記録媒体がインストールされた場合には、前記インストール手段の駆動力によってカートリッジが前記チャック手段を非作動位置に移動させることを特徴とする請求項７に記載のディスク式記録再生装置。
【請求項９】
前記カートリッジが排出されると弾性部材の弾性復元力を利用して前記チャック手段を作動位置に復帰させることを特徴とする請求項８に記載のディスク式記録再生装置。
【請求項１０】
前記チャック手段が移動可能にリトラクタを具備し、前記インストール手段が前記カートリッジを排出する最終ストロークで前記リトラクタを前記チャック手段に対して引出すことを特徴とする請求項９に記載のディスク式記録再生装置。
【請求項１１】
前記インストール手段がリミッタ機能を有する係合手段を具備し、該係合手段によって前記リトラクタを前記チャック手段に対して引出すことを特徴とする請求項１０に記載のディスク式記録再生装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
ここで前記複数のピックアップがそれぞれ駆動手段を有し、１つのピックアップが対応するフォーマットの記録媒体にアクセスしているときには他のピックアップが前記記録媒体の外周側に退避するようにしてよい。また前記複数のピックアップがそれぞれ駆動手段を有し、１つのピックアップが対応するフォーマットの記録媒体にアクセスしているときには他のピックアップの少なくとも対物レンズユニットが前記記録媒体の投影面積の外側に退避するようにしてよい。また２種類のピックアップを具備し、これら２種類のピックアップが前記ディスク式記録再生装置の回転中心に対して円周方向にほぼ１８０度ずれて配されていてよい。またダストに弱いフォーマットのピックアップを筐体の奥側に配するようにしてよい。また前記複数種類のピックアップがそれぞれ独立に作動系の調整を可能にしてよい。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月17日(2008.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
従来、シートに画像を形成する画像形成装置には、複写機、プリンタ、ファクシミリ、及びこれらの複合機等がある。画像形成装置は、画像形成装置で使用されるシートを収納しておくシート収納装置を内部に組み込んだり外部に接続して設けられている（特許文献１，２参照）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
画像形成装置２０１内に搬送されたシートＳは、画像形成装置２０１内に配置してある搬送ローラ５及びピンチころ６によりレジストローラ対７まで搬送される。シートＳは、回転を停止しているレジストローラ対７で受け止められて斜行している場合、真っ直ぐに直される。その後、レジストローラ対７が、感光体ドラム９に形成されているトナー画像にシートＳの位置が合うように、始動する。シートＳは、レジストローラ対７の始動によって、感光体ドラム９及び転写ローラ１０との間に送り込まれて、感光体ドラム９上のトナー画像が転写される。転写されたトナー画像は、定着ローラ１４及び加圧ローラ１３によってシートに熱と圧力が加えられて、シートに定着される。トナー画像を定着されたシートは、排紙ローラ１７によって、排紙部１８に排出される。
【特許文献１】特開昭６３−２２４３４号公報
【特許文献２】特開平１−１８１６２９号公報
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月27日(2007.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１または第２もしくは両方のレーザ光源から出射された光ビームが少なくとも３本の光ビームに分岐されて、第１または第２の光学的情報記録媒体に照射され、前記光学的情報記録媒体で反射された光ビームを検出する光検出器において、
前記第１の光学的情報記録媒体で反射された光ビームが照射される受光領域が４分割され、４つの受光面を有する第１の受光領域と、
前記第２の光学的情報記録媒体で反射された光ビームが照射される受光領域が４分割され、４つの受光面を有する第２の受光領域と、
前記第１の光学的情報記録媒体で反射された光ビームが照射される受光領域が各々２分割され、各々２つの受光面を有する第３及び第４の受光領域とを備え、
前記第１または前記第２もしくは両方の受光領域から非点収差方式によるフォーカスエラー信号を生成出来る信号を出力し、
または、前記第１または第２もしくは両方の受光領域から各々独立にプッシュプル方式によるトラッキングエラー信号を生成出来る信号を出力し、
または、前記第１または第２もしくは両方の受光領域からディファレンシャルフェーズディテクション方式によるトラッキングエラー信号を生成出来る信号を出力し、
または、前記第３または第４もしくは両方の受光領域から各々独立にプッシュプル方式によるトラッキングエラー信号を生成出来る信号を出力することを特徴とする光検出器。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月3日(2008.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版ステージ上に保持された原版のパターンを、投影光学系を介して基板に投影転写する露光装置において、
前記原版ステージに設けられ、第１の当接面を有し前記原版を保持する第１の原版保持手段と、
前記原版ステージに設けられ、第２の当接面を有し前記原版を保持する第２の原版保持手段と、を備え、
前記第２の当接面は、前記第１の当接面に対して弾性変位可能で、
前記第２の当接面は、前記原版ステージ上で前記第１の当接面に接触した前記原版に、弾性変位して接触することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記第１の当接面と前記第２の当接面の間に第３の当接面を有し前記原版を保持する第３の原版保持手段と、をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第３の原版保持手段は、複数のピンで構成されることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記原版を真空吸引する真空吸引手段と、をさらに備え、
前記真空吸引手段は、前記原版が前記第１の当接面に接触してから前記第２の当接面が弾性変位して前記原版に接触するまでの間に、吸引を開始することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の露光装置。
【請求項５】
前記第１の当接面と前記第２当接面の間に形成される溝を介して前記原版を吸引する吸引手段と、をさらに備えることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の露光装置。
【請求項６】
前記第２の当接面が弾性変位して前記原版に接触する際、前記第１の原版保持手段と前記第２の原版保持手段が当接する部位が、テーパ構造のシール面になっていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の露光装置。
【請求項７】
前記第２の当接面が前記第１の当接面を取り囲むように設けられることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載の露光装置。
【請求項８】
前記原版ステージは、４組の前記第１の原版保持手段および前記第２の原版保持手段を備えることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１つに記載の露光装置。
【請求項９】
前記原版ステージ、および、前記基板を保持する基板ステージを露光光に対してスキャン移動させて露光することを特徴とする請求項１〜８に記載の露光装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１つに記載の露光装置を用いてデバイスを製造する工程を有するデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明は、原版ステージ上に保持された原版のパターンを、投影光学系を介して基板に投影転写する露光装置において、前記原版ステージに設けられ、第１の当接面を有し前記原版を保持する第１の原版保持手段と、前記原版ステージに設けられ、第２の当接面を有し前記原版を保持する第２の原版保持手段と、を備え、前記第２の当接面は、前記第１の当接面に対して弾性変位可能で、前記第２の当接面は、前記原版ステージ上で前記第１の当接面に接触した前記原版に、弾性変位して接触することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
ここで、レチクルクランプ７は、レチクル６をZ方向で位置決めする、Z位置決めピンチャック７Bが設けられ、第1の当接面であるレチクル６との当接面には真空吸引する真空吸引手段７Cが配管され、吸引固定保持する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
薄板弾性チャック７Aの実装状態を、図６に示す。薄板弾性チャック７Aには、吸着溝７Dが設けられ、真空吸引手段７Cにより真空室を形成する。さらに、薄板弾性チャック７Aの周辺外周部には、第２の当接面である外周土手７Eが設けられ、レチクル６に対して当接する面となる。また、吸着溝７Dの一部には、図６（１）及び（３）に示すように、複数のピン７Fが設けられ、第３の当接面である先端部がレチクル６に当接するように構成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月14日(2007.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に配置された複数の発光体と、
前記基板上に配置され、前記発光体を収容した開口部を有する間隔規定部材と、
前記基板と前記間隔規定部材との間に配置された導電性領域と、
前記発光体を覆い、前記間隔規定部材と接する複数のアノード電極と、
前記導電性領域を介して前記複数のアノード電極に電位を供給する電極パッドと、を有する発光体基板であって、
前記導電性領域と前記複数のアノード電極との間の抵抗値（Ｒｚ）の最小値よりも、前記複数のアノード電極のうちの隣り合う二つのアノード電極間の抵抗値（Ｒｘ）の最小値の方が高いことを特徴とする発光体基板。
【請求項２】
前記導電性領域は、前記発光体と基板との間を除く位置に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の発光体基板。
【請求項３】
前記間隔規定部材が、隣り合うアノード電極間で分断されていることを特徴とする請求項１または２に記載の発光体基板。
【請求項４】
基板と、
前記基板上に配置された複数の発光体と、
前記基板上に配置され、前記発光体を収容した開口部を有する間隔規定部材及び該間隔規定部材と一体に設けられた導電性領域を備えた開孔部材と、
前記発光体を覆い、前記間隔規定部材と接する複数のアノード電極と、
前記導電性領域を介して前記複数のアノード電極に電位を供給する電極パッドと、を有する発光体基板であって、
前記導電性領域と前記複数のアノード電極との間の抵抗値（Ｒｚ）の最小値よりも、前記複数のアノード電極のうちの隣り合う二つのアノード電極間の抵抗値（Ｒｘ）の最小値の方が高いことを特徴とする発光体基板。
【請求項５】
前記間隔規定部材の前記基板側に前記導電性領域が設けられていることを特徴とする請求項４に記載の発光体基板。
【請求項６】
前記間隔規定部材の幅は、該間隔規定部材の厚さよりも大きいことを特徴とする請求項１、２または５に記載の発光体基板。
【請求項７】
前記間隔規定部材は、隣接する前記アノード電極間に介在する絶縁層を有することを特徴とする請求項１、２または５に記載の発光体基板。
【請求項８】
前記間隔規定部材が、隣接するアノード電極間に介在する凹部を有することを特徴とする請求項１、２または５に記載の発光体基板。
【請求項９】
前記開孔部材が、前記導電性領域である金属板と、該金属板を覆う、前記間隔規定部材である高抵抗部材とで構成されていることを特徴とする請求項４に記載の発光体基板。
【請求項１０】
前記導電性領域から前記複数のアノード電極の各々までの抵抗値（Ｒｚ）よりも、前記導電性領域から前記電極パッドまでの抵抗値（Ｒｐ）の方が低いことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の発光体基板。
【請求項１１】
前記導電性領域と前記複数のアノード電極との間の抵抗値の最小値が５００Ωより大きいことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の発光体基板。
【請求項１２】
前記導電性領域と前記複数のアノード電極との間の抵抗値の最小値が１ＭΩより小さいことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の発光体基板。
【請求項１３】
前記複数のアノード電極のうち、隣り合う二つのアノード電極間の抵抗値の最小値が１ｋΩより大きいことを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の発光体基板。
【請求項１４】
前記複数のアノード電極のうち、隣り合う二つのアノード電極間の抵抗値の最小値が１ＭΩより大きいことを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の発光体基板。
【請求項１５】
発光体基板と、電子放出素子を複数備えたリアプレートとを有する画像表示装置であって、該発光基板が請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の発光体基板であることを特徴とする画像表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月15日(2008.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アンテナ、及び薄膜トランジスタを含む薄膜集積回路装置が設けられたラベル基体と、
接着剤層を介して、前記ラベル基体に貼り付けられたセパレータとを有することを特徴とするＩＤラベル。
【請求項２】
ラベル基体と、
アンテナ、及び薄膜トランジスタを含む薄膜集積回路装置が設けられた内部基体と、
前記内部基体の側面に形成された接着剤を介して、前記ラベル基体に貼り付けられたセパレータとを有することを特徴とするＩＤラベル。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記アンテナと前記薄膜集積回路装置とは、交差配線を介して接続されていることを特徴とするＩＤラベル。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記薄膜集積回路装置の上方及び下方の少なくとも一方には、酸化珪素、窒化珪素又は酸窒化珪素を含む単層又は積層からなる保護層が形成されていることを特徴とするＩＤラベル。
【請求項５】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記薄膜集積回路装置の上方及び下方に、酸化珪素、窒化珪素又は酸窒化珪素を含む単層又は積層からなる保護層が形成され、
前記薄膜集積回路装置及び前記上下の保護層全体の膜厚をｄとして、前記薄膜集積回路装置は、（ｄ／２）±３０μｍ以内の位置に設けられていることを特徴とするＩＤラベル。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記薄膜集積回路装置に含まれる前記薄膜トランジスタの半導体膜中には、０．０００５〜５原子％の水素又はハロゲンが含まれていることを特徴とするＩＤラベル。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項において、
前記薄膜集積回路装置のサイズは、０．０９ｍｍ２〜２５ｍｍ２であることを特徴とするＩＤラベル。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項において、
前記薄膜集積回路装置の厚さは、０．１μｍ〜３μｍであることを特徴とするＩＤラベル。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一項において、
前記薄膜トランジスタのソース、チャネル、及びドレイン領域が形成される方向と、前記ＩＤラベルの曲げ方向とが垂直であることを特徴とするＩＤラベル。
【請求項１０】
アンテナ、及び薄膜トランジスタを含む薄膜集積回路装置が設けられたカード基体と、
前記カード基体のうち、少なくとも前記アンテナ及び前記薄膜集積回路装置が形成された側を覆うカバーとを有することを特徴とするＩＤカード。
【請求項１１】
アンテナ、及び薄膜トランジスタを含む薄膜集積回路装置が設けられた内部基体と、
前記内部基体の周囲を覆うカバーとを有することを特徴とするＩＤカード。
【請求項１２】
請求項１０又は請求項１１において、
前記アンテナと前記薄膜集積回路装置とは、交差配線を介して接続されていることを特徴とするＩＤカード。
【請求項１３】
請求項１０乃至請求項１２のいずれか一項において、
前記カバーは、ラミネート法によって作製された樹脂からなることを特徴とするＩＤカード。
【請求項１４】
請求項１０乃至請求項１３のいずれか一項において、
前記薄膜集積回路装置の上方及び下方の少なくとも一方には、酸化珪素、窒化珪素又は酸窒化珪素を含む単層又は積層からなる保護層が形成されていることを特徴とするＩＤカード。
【請求項１５】
請求項１０乃至請求項１４のいずれか一項において、
前記薄膜トランジスタのソース、チャネル、及びドレイン領域が形成される方向と、前記ＩＤカードの曲げ方向とが垂直であることを特徴とするＩＤカード。
【請求項１６】
アンテナ、及び薄膜トランジスタを含む薄膜集積回路装置が設けられた基体と、
前記基体のうち、少なくとも前記アンテナ及び前記薄膜集積回路装置が形成された側を覆うカバーとを有することを特徴とするＩＤタグ。
【請求項１７】
アンテナ、及び薄膜トランジスタを含む薄膜集積回路装置が設けられた内部基体と、
前記内部基体の周囲を覆うカバーとを有することを特徴とするＩＤタグ。
【請求項１８】
請求項１６又は請求項１７において、
前記アンテナと前記薄膜集積回路装置とは、交差配線を介して接続されていることを特徴とするＩＤタグ。
【請求項１９】
請求項１６乃至請求項１８のいずれか一項において、
前記カバーは、ラミネート法によって作製された樹脂からなることを特徴とするＩＤタグ。
【請求項２０】
請求項１６乃至請求項１９のいずれか一項において、
前記薄膜集積回路装置の上方及び下方の少なくとも一方には、酸化珪素、窒化珪素又は酸窒化珪素を含む単層又は積層からなる保護層が形成されていることを特徴とするＩＤタグ。
【請求項２１】
請求項１６乃至請求項２０のいずれか一項において、
前記薄膜トランジスタのソース、チャネル、及びドレイン領域が形成される方向と、前記ＩＤタグの曲げ方向とが垂直であることを特徴とするＩＤタグ。
【請求項２２】
アンテナ、及び薄膜トランジスタを含む薄膜集積回路装置が設けられた基体と、
前記基体のうち、少なくとも前記アンテナ及び前記薄膜集積回路装置が形成された側を覆うカバーとを有することを特徴とする物品。
【請求項２３】
アンテナ、及び薄膜トランジスタを含む薄膜集積回路装置が設けられた内部基体と、
前記内部基体の周囲を覆うカバーとを有することを特徴とする物品。
【請求項２４】
請求項２２又は請求項２３において、
前記薄膜集積回路装置の上方及び下方の少なくとも一方には、酸化珪素、窒化珪素又は酸窒化珪素を含む単層又は積層からなる保護層が形成されていることを特徴とする物品。
【請求項２５】
請求項２２乃至請求項２４のいずれか一項において、
前記薄膜トランジスタのソース、チャネル、及びドレイン領域が形成される方向と、前記物品の曲げ方向とが垂直であることを特徴とする物品。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月22日(2007.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、正極集電体、負極集電体、電極活物質、及び電解質が積層されたシート状の電池セルと、基板とを交互に複数回積層したエネルギーデバイスであって、
前記複数の基板のうち、前記エネルギーデバイスの最外層を構成する基板を除いた少なくとも１つの基板上に形成され、かつ、前記正極集電体、前記負極集電体、及び前記電極活物質のいずれとも直接接続されない内部配線パターンと、
前記内部配線パターンと前記エネルギーデバイスの表面とを電気的に接続し、且つ、前記正極集電体、前記負極集電体、及び前記電極活物質のいずれとも直接接続されない貫通電極とを備えるエネルギーデバイス。
【請求項２】
前記貫通電極が格子点状に配置されている請求項１に記載のエネルギーデバイス。
【請求項３】
厚さ方向において異なる位置に形成された複数の前記内部配線パターンに電気的に接続され、且つ、前記正極集電体、前記負極集電体、及び前記電極活物質のいずれとも直接接続されず、且つ、前記エネルギーデバイスの表面とは電気的に接続されていない内部接続電極を更に備える請求項１に記載のエネルギーデバイス。
【請求項４】
前記エネルギーデバイスを貫通する貫通光学デバイスを更に備える請求項１に記載のエネルギーデバイス。
【請求項５】
前記エネルギーデバイスを厚さ方向に貫通する開口を更に備える請求項１に記載のエネルギーデバイス。
【請求項６】
前記電解質が固体電解質である請求項１に記載のエネルギーデバイス。
【請求項７】
前記電池セルがリチウムイオン電池である請求項１に記載のエネルギーデバイス。
【請求項８】
前記電池セルを厚さ方向に２以上備える請求項１に記載のエネルギーデバイス。
【請求項９】
配線パターンと、前記基板と、前記電池セルとをこの順に備える積層単位を第１絶縁層を介して厚さ方向に２以上備える請求項１に記載のエネルギーデバイス。
【請求項１０】
請求項５に記載のエネルギーデバイスと、
前記開口内に配置された、電子部品、機構部品、半導体チップ、光学部品、導電ケーブル、及び光ファイバーから選ばれた少なくとも１つと
を備える電子機器。
【請求項１１】
請求項１に記載のエネルギーデバイスと、
前記貫通電極を介して相互に電気的に接続された、前記エネルギーデバイスの両側に配置された電子部品と
を備える電子機器。
【請求項１２】
厚さ方向において異なる位置に形成された複数の前記内部配線パターンに電気的に接続され、且つ、前記正極集電体、前記負極集電体、及び前記電極活物質のいずれとも直接接続されず、且つ、前記エネルギーデバイスの表面とは電気的に接続されていない内部接続電極を更に備える請求項１１に記載の電子機器。
【請求項１３】
前記電子部品が前記電池セルの保護素子を含む請求項１１に記載の電子機器。
【請求項１４】
請求項１に記載のエネルギーデバイスと、
前記エネルギーデバイスの片面又は両面に形成された外部配線パターンと、
前記エネルギーデバイスの片側又は両側に配置された電子部品と
を備え、
前記電子部品は前記貫通電極及び／又は前記外部配線パターンに電気的に接続されている電子機器。
【請求項１５】
厚さ方向において異なる位置に形成された複数の前記内部配線パターンに電気的に接続され、且つ、前記正極集電体、前記負極集電体、及び前記電極活物質のいずれとも直接接続されず、且つ、前記エネルギーデバイスの表面とは電気的に接続されていない内部接続電極を更に備える請求項１４に記載の電子機器。
【請求項１６】
前記電子部品が前記電池セルの保護素子を含む請求項１４に記載の電子機器。
【請求項１７】
前記外部配線パターンが第２絶縁層上に形成され、前記第２絶縁層と前記エネルギーデバイスとが面接合又は面接触している請求項１４に記載の電子機器。
【請求項１８】
少なくとも、正極集電体、負極集電体、電極活物質、及び電解質が積層されたシート状の電池セルと、基板とを交互に複数回積層したエネルギーデバイスであって、
前記複数の基板のうち、前記エネルギーデバイスの最外層を構成する基板を除いた少なくとも１つの基板上に光学機能部が形成されていることを特徴とするエネルギーデバイス。
【請求項１９】
前記光学機能部と前記エネルギーデバイスの表面とを光学的に接続する貫通光学デバイスを更に備える請求項１８に記載のエネルギーデバイス。
【請求項２０】
厚さ方向において異なる位置に形成された複数の前記光学機能部に光学的に接続され、且つ、前記エネルギーデバイスの表面とは光学的に接続されていない内部接続光学デバイスを更に備える請求項１８に記載のエネルギーデバイス。
【請求項２１】
前記エネルギーデバイスを厚さ方向に貫通する開口を更に備える請求項１８に記載のエネルギーデバイス。
【請求項２２】
前記電解質が固体電解質である請求項１８に記載のエネルギーデバイス。
【請求項２３】
前記電池セルがリチウムイオン電池である請求項１８に記載のエネルギーデバイス。
【請求項２４】
光学機能部と、前記基板と、前記電池セルとをこの順に備える積層単位を第１絶縁層を介して厚さ方向に２以上備える請求項１８に記載のエネルギーデバイス。
【請求項２５】
請求項２１に記載のエネルギーデバイスと、
前記開口内に配置された、電子部品、機構部品、半導体チップ、光学部品、導電ケーブル、及び光ファイバーから選ばれた少なくとも１つと
を備える電子機器。
【請求項２６】
請求項１９に記載のエネルギーデバイスと、
前記貫通光学デバイスを介して相互に光学的に接続された、前記エネルギーデバイスの
両側に配置された光学部品と
を備える電子機器。
【請求項２７】
絶縁基板上に、配線パターン及び／又は光学機能部と、少なくとも電極活物質及び電解質とを形成してシート状物を得た後、前記シート状物を捲回し、折り曲げ、又は積重ねて積層シート状物を得ることを特徴とするエネルギーデバイスの製造方法。
【請求項２８】
基板の一方の面に配線パターン及び／又は光学機能部を形成し、他方の面にシート状電池セルを形成して、積層単位を得た後、
２以上の前記積層単位を第１絶縁層を介して積層する
ことを特徴とするエネルギーデバイスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するため、本発明の第１のエネルギーデバイスは、少なくとも、正極集電体、負極集電体、電極活物質、及び電解質が積層されたシート状の電池セルと、基板とを交互に複数回積層したエネルギーデバイスであって、
前記複数の基板のうち、前記エネルギーデバイスの最外層を構成する基板を除いた少なくとも１つの基板上に形成され、かつ、前記正極集電体、前記負極集電体、及び前記電極活物質のいずれとも直接接続されない内部配線パターンと、
前記内部配線パターンと前記エネルギーデバイスの表面とを電気的に接続し、且つ、前記正極集電体、前記負極集電体、及び前記電極活物質のいずれとも直接接続されない貫通電極とを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月21日(2008.3.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも第１の動作モードと、ダイブ・モードと呼ばれる第２の動作モードとを有し、特に、周囲圧力（Ｐ）の値を測定する圧力センサ（５）と、前記測定の結果を処理する電子回路（２）であって、タイム・ベース（４）と少なくとも１つのメモリ領域（７，８）とから構成される電子回路を具備する携帯電子デバイスの潜水開始を検出する方法であって、前記第１の動作モードで実行されるステップは、
ａ）周囲圧力値を測定し、基準圧力値（Ｐｒｅｆ）として記憶するステップと、
ｂ）前記周囲圧力値（Ｐ）を第１の頻度（ｆ１）で周期的に測定するステップと、
ｃ）測定された周囲圧力（Ｐ）と前記基準圧力（Ｐｒｅｆ）との間の圧力変化値（ｄＰ）を第１の頻度（ｆ１）で周期的に計算し、前記圧力変化値（ｄＰ）を前記メモリ領域（７）に記憶されたトリガしきい値（Ｓ）と呼ばれる事前に決められた値と比較するステップと、
ｄ）前記圧力変化値（ｄＰ）が前記しきい値より大きい場合に前記ダイブ・モードを活動化し、逆の場合にステップｅ）に進むステップと、
ｅ）前記圧力変化値（ｄＰ）の絶対値を、前記メモリ領域（７）に記憶された、または測定されたｄＰｍに基づいて決定された（ｄＰｍ）前記トリガしきい値（Ｓ）より小さい予め定められた数量（ｃ１）と、前記第１の頻度（ｆ１）より小さいかそれに等しい第２の頻度（ｆ２）で周期的に比較するステップと、
ｆ）前記圧力変化値（ｄＰ）が前記数量より大きい場合に前記基準圧力値（Ｐｒｅｆ）を補正し、逆の場合に、最後に測定された圧力値（Ｐ）を新しい基準圧力値（Ｐｒｅｆ）として記憶するステップと、
ｇ）前記ステップｂ）に戻るステップと
から成ることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記第２の頻度（ｆ２）は前記第１の頻度（ｆ１）より小さいかそれに等しく、また、
前記ｃ）ステップで計算された前記圧力変化値（ｄＰ）が負の数である場合、前記（ｆ）ステップの補正する工程においては最後に測定された圧力値（Ｐ）が新しい基準圧力値（Ｐｒｅｆ）として記憶される工程が含まれることを特徴とする請求項１に記載の検出方法。
【請求項３】
前記圧力変化値が正の数であり、前記数量が予め決められている場合、前記数量が第１の補正係数（ｃ１）と呼ばれ、前記ステップｆ）の補正工程では、前記第１の補正係数を前記記憶された基準圧力値に加算する工程が含まれ、前記加算の結果は新しい基準圧力値（Ｐｒｅｆ）として記憶されることを特徴とする請求項２に記載の検出方法。
【請求項４】
前記ステップｅ）〜ｇ）の完了が１サイクルを決め、実行される最後のｎ−１サイクルで（ｎは２〜１０の整数）基準圧力値が補正される時に、前記第１の補正係数（ｃ１）が、第２の補正係数ｃ２と呼ばれる追加の予め決められた数量であって、前記第１の補正係数と前記トリガしきい値との間の値を有する数量によってｎサイクルごとに１サイクルで前記ステップｅ）およびｆ）で置き換えられることとする請求項３に記載の検出方法。
【請求項５】
前記数量が測定された圧力値に基づいて決定される時に、前記ステップｅ）は前記圧力変化値（ｄＰ）を前記第２の頻度（ｆ２）で記憶する動作を有し、少なくとも最後の３つの記憶された圧力変化値（ｄＰｉ−２、ｄＰｉ−１、ｄＰ）を用いて前記数量が計算され、後者は少なくとも最後の３つの値の平均圧力変化（ｄＰｍ）の計算の結果に対応し、前記ステップｆ）では前記補正が前記記憶された基準圧力値に前記数量（ｄＰｍ）を加算する工程が含まれ、前記加算の結果が新しい基準圧力値（Ｐｒｅｆ）として記憶されることを特徴とする請求項２に記載の検出方法。
【請求項６】
前記数量は、最後の４つの記憶された圧力変化値（ｄＰｉ−３、ｄＰｉ−２、ｄＰｉ−１、ｄＰ）に基づいて計算されることを特徴とする請求項５に記載の検出方法。
【請求項７】
前記ステップｄ）で前記最後に計算された圧力変化（ｄＰ）の符号が負の時に、前記記憶された圧力変化値（ｄＰｉ−３、ｄＰｉ−２、ｄＰｉ−１、ｄＰ）はすべてゼロに置き換えられてから前記ステップｂ）に戻ることを特徴とする請求項５または６に記載の検出方法。
【請求項８】
前記ステップｅ）は、前記圧力変化値（ｄＰ）を前記第２の頻度（ｆ２）で記憶する手順を有し、少なくとも最後の３つの記憶された圧力変化値（ｄＰｉ−２、ｄＰｉ−１、ｄＰ）を用いて前記数量が計算され、後者は少なくとも最後の３つの値の平均圧力変化（ｄＰｍ）の計算の結果の絶対値に対応し、前記ステップｆ）には前記補正する工程が前記記憶された基準圧力値に前記平均圧力変化値（ｄＰｍ）を加算するステップを有し、前記加算の結果が新しい基準圧力値（Ｐｒｅｆ）として記憶されることを特徴とする請求項１に記載の検出方法。
【請求項９】
前記トリガしきい値の値がほぼ０．２〜１．５ｍの間にある水深に対応することを特徴とする請求項１乃至８いずれかに記載の検出方法。
【請求項１０】
第３の頻度（ｆ３）で実施される追加のステップを有し、そのステップの間に、前記記憶された基準圧力値（Ｐｒｅｆ）は潜水地点の水域の表面の実際の圧力値としてダイブ・モードでその後使用される追加のメモリ領域内に保存されることを特徴とする請求項１な乃至９いずれか一項に記載の検出方法。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の検出方法を実施するように構成された携帯電子デバイス用の制御回路。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の制御回路を含む携帯電子デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月24日(2008.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上に配置された複数のナノ構造突起を有する１つ表面であって、該突起は、複数のチップを有する表面と、
該複数の突起の間であって、が意表面上に配置された試薬ピクセルと、
該試薬ピクセルに接触することなく、該ナノ構造突起のチップを横切って液滴を移動させる手段と、
該液滴が該試薬ピクセルと接触するような方法で、該液滴を該表面に向かって移動させる手段とを含む検出器。
【請求項２】
請求項１に記載の検出器において、該液滴が、該ナノ構造突起の最も高い密度のチップを有する領域に向かって、該ナノ構造突起をチップを横切って移動するような方法で、該複数のナノ構造突起の密度が変化する検出器。
【請求項３】
請求項１に記載の検出器において、該ナノ構造突起のチップを横切って液滴を移動させる手段は、電圧を複数の電極のうちの１つの電極に順次印加すると液滴が望ましい方向に移動するように該表面上に配置された該複数の電極を含む検出器。
【請求項４】
請求項１に記載の検出器において、該液滴を該表面に向かって移動させる手段は、該表面上の１つの位置にある１つの電極に電圧を印加すると、液滴が該表面上の該１つの位置に向かって移動するように該表面上に配置された複数の電極を含む検出器。
【請求項５】
複数のナノ構造表面を有し、該表面の少なくとも１つはその表面上に配置された対応する複数のナノ構造突起を有する検出器を使用して流体の流れ中の物質を検出する方法であって、
前記ナノ構造表面の少なくとも一部を介して流体流を通過させるステップと、
前記ナノ構造表面の少なくとも１つの表面上で粒子を収集するステップと、
該ナノ構造突起の一部の上を通ってピクセル上の位置に、粒子を含む液体を移動させるステップと、
ナノ構造突起の間を該ピクセルに向かって該液体を移動させるステップと、
特定の物質の粒子が前記流体流中に配置されているか否かについて、該ピクセルにおいて、第１の示度を発生するステップを含む方法。
【請求項６】
請求項５に記載の方法において、前記液体は、前記複数のナノ構造突起の該チップ上に配置された粒子を吸収するように構成されている方法。
【請求項７】
流体の流れ中の粒子を検出する検出器であって、該検出器は、第１のナノ構造表面上に配置された第１の複数のナノ構造突起を有する第１のナノ構造表面を含み、
粒子の少なくとも第１の大きさが該第１の複数のナノ構造突起の間を通過するのを妨げられるように、該第１の複数のナノ構造突起が、第１の間隔距離だけ互いに分離されている検出器。
【請求項８】
請求項７に記載の検出器において、該第１のナノ構造表面に配置された第２の複数のナノ構造突起をさらに含み、
粒子の少なくとも第２の大きさが該第２の複数のナノ構造突起の間を通過するのを妨げられるように、該第２の複数のナノ構造突起が、第２の間隔距離だけ互いに分離されている検出器。
【請求項９】
請求項７に記載の検出器において、第２のナノ構造表面上に配置された第２の複数のナノ構造突起を有する第２のナノ構造表面をさらに含み、該第２のナノ構造表面に達する前に流体の流れが該第１のナノ構造表面を通過するように、該第１のナノ構造表面と該第２のナノ構造表面とが構成され、
粒子の少なくとも第２の大きさが該第２の複数のナノ構造突起の間を通過するのを妨げられるように、該第２の複数のナノ構造突起が、第２の間隔距離だけ互いに分離されている検出器。
【請求項１０】
流体の流れ中の粒子の存在を検出する検出器であって、
第１の格納表面と、
該第１の格納表面に実質的に平行であり該第１の格納表面から離間されている第２の格納表面とを含み、該第２の格納表面は、複数の試薬ピクセルのアレイ中に配置された複数のナノ構造突起を有しており、該複数のナノ構造突起は、チップを有しており、該試薬ピクセルのアレイ中の少なくとも第１の試薬ピクセルは、該ナノ構造突起の間の該第２の格納表面上に配置された少なくとも第１の試薬を有しており、該検出器は、さらに、
該第１の格納表面を介して、粒子を含む流体の流れを通過させる手段と、
粒子の第１の大きさが該第２の格納表面を通過するのを妨げるような方法で、該第２の格納表面を通って該流体の流れを通過させる手段と、
該複数のチップを横切って該第１の試薬ピクセルまで、該複数のチップ上に形成された液滴を移動させることが可能であるように、電圧を該複数のナノ構造突起の複数のチップに順次印加する手段と、
粒子が少なくとも該第１の試薬ピクセル内の該第２の格納表面に達して該第１の試薬に接するのを可能にする該ナノ構造突起に、該複数のチップ上の液滴が浸透するのを可能にする手段とを含む検出器。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月26日(2007.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数個の圧電素子の配列からなるアレイセンサを用い、フェーズドアレイ方式により動作する超音波探傷方法において、
前記複数個の圧電素子の中心間距離が、検査対象内での超音波の縦波成分の波長の４分の１の長さを越え、２分の１の長さ未満に収められており、
超音波の縦波が前記検査対象の板厚方向に往復伝播する第１の時間と横波が前記板厚方向に往復伝播する第２の時間の和に相当する時間以上の期間、前記アレイセンサによる受信信号を表示させることを特徴とする超音波探傷方法。
【請求項２】
請求項１に記載の超音波検査方法において、
前記第１の時間の２倍に相当する時間を越え、前記第１の時間と前記第２の時間の和に相当する時間までの間に表示される信号の有無により前記検査対象の健全性を評価することを特徴とする超音波探傷方法。
【請求項３】
請求項１に記載の超音波検査方法において、
前記縦波が前記板厚方向に片道伝播する第３の時間と前記横波が前記板厚方向に片道伝播する第４の時間の和に相当する時間を越え、前記第３の時間の３倍と前記第４の時間の和に相当する時間までの間に表示される信号の有無により前記検査対象の健全性を評価することを特徴とする超音波探傷方法。
【請求項４】
複数個の圧電素子の配列からなるアレイセンサを用い、フェーズドアレイ方式により動作する超音波探傷装置において、
前記アレイセンサが、前記複数個の圧電素子の中心間距離を、検査対象内での超音波の縦波成分の波長の４分の１の長さを越え、２分の１の長さ未満に収まっているアレイセンサで構成されており、
超音波の縦波が前記検査対象の板厚方向に往復伝播する第１の時間と横波が前記板厚方向に往復伝播する第２の時間の和に相当する時間以上の期間、前記アレイセンサによる受信信号を表示させる表示部が設けられていることを特徴とする超音波探傷装置。
【請求項５】
請求項４に記載の超音波検査装置において、
前記第１の時間の２倍に相当する時間を越え、前記第１の時間と前記第２の時間の和に相当する時間までの間、前記アレイセンサによる受信信号を表示させる表示部が設けられていることを特徴とする超音波探傷装置。
【請求項６】
請求項４に記載の超音波検査装置において、
前記縦波が前記板厚方向に片道伝播する第３の時間と前記横波が前記板厚方向に片道伝播する第４の時間の和に相当する時間を越え、前記第３の時間の３倍と前記第４の時間の和に相当する時間までの間、前記アレイセンサによる受信信号を表示させる表示部が設けられていることを特徴とする超音波探傷装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
このとき、超音波の縦波が前記検査対象の板厚方向に往復伝播する第１の時間と、横波が板厚方向に往復伝播する第２の時間の和に相当する時間以上の期間、前記アレイセンサによる受信信号を表示させることによっても上記目的を達成することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
更に、ここで、前記第１の時間の２倍に相当する時間を越え、第２の時間の和に相当する時間までの間に表示される信号の有無により検査対象の健全性を評価するようにしてもよく、或いは、ここで、超音波の縦波が前記検査対象の板厚方向に片道伝播する第３の時間と横波が板厚方向に片道伝播する第４の時間の和に相当する時間を越え、第３の時間の３倍と第４の時間の和に相当する時間までの間に表示される信号の有無により検査対象の健全性を評価するようにしてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月29日(2008.2.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
三次元物体の形状を決定する方法であって、
第１帯域の投射を行なうために、区分化された特性をもつ複数の第１帯域を含む電磁波で、物体の表面の少なくとも一部分を照明し、
区分化された特性をもつ第１帯域の投射を検出し、
前記第１帯域とは異なる向きの第２帯域の投射を行なうために、区分化された特性をもつ複数の第２帯域を含む電磁波で、物体の表面の少なくとも一部分を照明し、
区分化された特性をもつ第２帯域の投射を検出し、
検出された第１帯域の投射と検出された第２帯域の投射から物体の形状を決定する、ことを含んでいる方法。
【請求項２】
第１帯域の区分化された特性は、区分化された波長を有しており、第２帯域の区分化された特性は、区分化された波長を有している請求項１の方法。
【請求項３】
第１帯域の投射の検出と第２帯域の投射の検出は、カメラによって行われ、カメラは、物体に関して異なる位置に移動可能である請求項１の方法。
【請求項４】
カラー数値識別子を、複数の第１帯域及び複数の第２帯域の各々へ割り当てるステップをさらに含んでいる請求項１の方法。
【請求項５】
前記第１帯域の向きと実質的に同じ向きの幅狭の複数の第１帯域であって、その少なくとも１つの幅が前記第１帯域の少なくとも１つの幅よりも小さい幅狭の第１帯域の投射を行なうために、区分化された波長をもつ複数の幅狭の第１帯域を含む電磁波で、物体の表面の少なくとも一部分を照明し、
区分化された波長をもつ幅狭の第１帯域の投射を検出し、
前記第２帯域の向きと実質的に同じ向きの幅狭の複数の第２帯域であって、その少なくとも１つの幅が前記第２帯域の少なくとも１つの幅よりも小さい幅狭の第２帯域の投射を行なうために、区分化された波長をもつ複数の幅狭の第２帯域を含む電磁波で、物体の表面の少なくとも一部分を照明し、
区分化された波長をもつ幅狭の第２帯域の投射を検出することをさらに含んでいる請求項１の方法。
【請求項６】
三次元物体の形状を決定する方法であって、
広帯域の投射を行なうために、区分化された特性をもつ複数の電磁波で、物体の表面の少なくとも一部分を照明し、
区分化された特性をもつ広帯域の投射を検出し、
前記広帯域と実質的に同じ向きの狭帯域の投射を行なうために、区分化された特性をもつ複数の狭帯域を含む電磁波で、物体の表面の少なくとも一部分を照明し、
区分化された特性をもつ狭帯域の投射を検出し、
検出された広帯域の投射と検出された狭帯域の投射から物体の形状を決定する、ことを含んでいる方法。
【請求項７】
第１帯域について区分化された特性は、区分化された波長を有しており、第２帯域について区分化された特性は、区分化された波長を有している請求項６の方法。
【請求項８】
前記広帯域の向きと異なる向きの追加の広帯域の投射を行なうために、区分化された波長をもつ複数の追加の広帯域を含む電磁波で、物体の表面の同じ部分を照明し、
区分化された波長をもつ追加の広帯域の投射を検出し、
追加の広帯域の向きと略同じ向きの複数の追加の狭帯域であって、その少なくとも１つの幅が少なくとも１つの追加の広帯域の幅よりも小さい追加の狭帯域の投射を行なうために、区分化された波長をもつ複数の追加の狭帯域を含む電磁波で、物体の表面の少なくとも一部分を照明し、
区分化された波長をもつ追加の狭帯域の投射を検出することをさらに含んでいる請求項６の方法。
【請求項９】
三次元物体の形状を決定する方法であって、
各帯域が投射を行なうための略均一な外観を有し、区分化された特性をもつ複数の帯域を含む電磁波で、物体の表面の少なくとも一部分を照明し、
区分化された特性をもつ帯域を含む投射を検出し、
検出された投射から物体の形状を決定する、ことを含んでいる方法。
【請求項１０】
第１帯域の区分化された特性は、区分化された波長を有しており、第２帯域の区分化された特性は、区分化された波長を有している請求項９の方法。
【請求項１１】
三次元物体の形状を決定する装置であって、
第１帯域の投射を行なうために、区分化された特性をもつ複数の第１帯域を含む電磁波で、物体の表面の少なくとも一部分を照明する照明手段と、
区分化された特性をもつ第１帯域の投射を検出する検出手段と、
前記第１帯域とは異なる向きの第２帯域の投射を行なうために、区分化された特性をもつ複数の第２帯域を含む電磁波で、物体の表面の少なくとも一部分を照明する第２照明手段と、
区分化された特性をもつ第２帯域の投射を検出する第２検出手段と、
検出された第１帯域の投射と検出された第２帯域の投射から物体の形状を決定する形状決定手段と、を具えている装置。
【請求項１２】
三次元物体の形状を決定する装置であって、
広帯域の投射を行なうために、区分化された特性をもつ複数の広帯域を含む電磁波で、物体の表面の少なくとも一部分を照明する照明手段と、
区分化された特性をもつ広帯域の投射を検出する検出手段と、
前記広帯域の向きと実質的に同じ向きの複数の狭帯域であって、その少なくとも１つの幅が前記広帯域の少なくとも１つの幅よりも小さい狭帯域の投射を行なうために、区分化された特性をもつ複数の狭帯域を含む電磁波で、物体の表面の同じ部分を照明する手段と、
区分化された特性をもつ狭帯域の投射を検出する第２検出手段と、
検出された広帯域の投射と検出された狭帯域の投射から物体の形状を決定する形状決定手段と、を具えている装置。
【請求項１３】
三次元物体の形状を決定する装置であって、
各帯域が投射を行なうための略均一な外観を有し、区分化された特性をもつ複数の帯域を含む電磁波で、物体の表面の少なくとも一部分を照明する照明手段と、
区分化された特性をもつ帯域を含む投射を検出する検出手段と、
検出された投射から物体の形状を決定する形状決定手段と、を具えている装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月29日(2008.2.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高周波無響室であって、
第１の垂直支柱であって、少なくとも該第１の垂直支柱の長手方向に延びる部分に複数のテーパ状の突出部を備えたチューブ形の１または複数の高周波吸収材が配置された、第１の垂直支柱
を備えた試験台を有する、高周波無響室。
【請求項２】
前記１または複数の高周波吸収材は、炭素で充填された開放気泡発泡体を含む、請求項１に記載の高周波無響室。
【請求項３】
前記１または複数の高周波吸収材は、前記第１の垂直支柱の周囲に近接して配置される、請求項１に記載の高周波無響室。
【請求項４】
前記１または複数の高周波吸収材は、前記第１の垂直支柱の周囲の少なくとも実質的部分に近接して延びる領域に配置される、請求項３に記載の高周波無響室。
【請求項５】
前記１または複数の高周波吸収材は、高周波吸収材の層から成る、請求項４に記載の高周波無響室。
【請求項６】
前記複数のテーパ状の突出部は前記第１の垂直支柱に対して実質的に長手方向に延びている、請求項５に記載の高周波無響室。
【請求項７】
前記１または複数の高周波吸収材は、第１の垂直支柱に沿った高さの関数として減少する単位高さ当たりの吸収材の量で存在する、請求項５に記載の高周波無響室。
【請求項８】
前記第１の垂直支柱は第１の中空管状部材を有し、
前記１または複数の高周波吸収材は該第１の中空管状部材の中に配置される、請求項４に記載の高周波無響室。
【請求項９】
第１の中空管状部材の断面は円形である、請求項８に記載の高周波無響室。
【請求項１０】
第１の中空管状部材は繊維ガラス管から成る、請求項８に記載の高周波無響室。
【請求項１１】
前記１または複数の高周波吸収材は、高周波吸収材の層から成る、請求項８に記載の高周波無響室。
【請求項１２】
前記複数のテーパ状の突出部は、第１の垂直支柱に対して実質的に軸方向に延びている、請求項１１に記載の高周波無響室。
【請求項１３】
繊維ガラス管は、少なくとも３０センチメートルの直径および１．５ミリメートル未満の壁厚を有する、請求項１０に記載の高周波無響室。
【請求項１４】
前記試験台は、前記第１の垂直支柱と支持する関係にある前記第１の垂直支柱の下に配置された第２の垂直支柱を有し、前記第１の垂直支柱は第１の横方向の寸法によって特徴付けられると共に前記第２の垂直支柱は第２の横方向の寸法によって特徴付けられ、前記第２の横方向の寸法は第１の横方向の寸法よりも小さく、それによって前記第１の垂直支柱は前記第２の垂直支柱の上に貼り出している、請求項８に記載の高周波無響室。
【請求項１５】
測定アンテナを支持し、前記試験台を通る軸と交差する第１の軸の回りを極角の範囲で回転するように適合されたスウィング・アームをさらに備え、大きな極角では前記スウィング・アームは前記第２の垂直支柱の付近に来て、そのような配置では、ＥＵＴアンテナが前記第１の垂直支柱の上に配置されて見えるように前記測定アンテナを配置し、前記測定アンテナと前記ＥＵＴアンテナとの間の視線は、前記第１の垂直支柱と交差する、請求項１４に記載の高周波無響室。
【請求項１６】
前記第１の垂直支柱の上に配置され、かつ前記第１の垂直支柱に支持された第３の垂直支持体をさらに有する、請求項１４に記載の高周波無響室。
【請求項１７】
前記第３の垂直支持体は発泡ポリスチレンを含む、請求項１６に記載の高周波無響室。
【請求項１８】
前記第３の垂直支持体の上に配置され、かつ前記第３の垂直支持体に支持された高周波試験モデルをさらに有する、請求項１６に記載の高周波無響室。
【請求項１９】
前記第１の垂直支柱の下端に取り付けられた第１のリムと、前記第１のリムから径方向内側に延びる第１の複数の指状部材とを有する第１の接続部材；および
前記第２の垂直支柱の上端に取り付けられた第２のリムと、前記第２のリムから径方向外側に延びる第２の複数の指状部材とを有する第２の接続部材であって、第１および第２の複数の指状部材がオーバラップした関係で配置されている第２の接続部材；をさらに有する、請求項１４に記載の高周波無響室。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記問題点を解決するために、請求項１に記載の発明は、高周波無響室であって、第１の垂直支柱であって、少なくとも該第１の垂直支柱の長手方向に延びる部分に複数のテーパ状の突出部を備えたチューブ形の１または複数の高周波吸収材が配置された、第１の垂直支柱を備えた試験台を有する高周波無響室を要旨とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の高周波無響室において、前記１または複数の高周波吸収材は、高周波吸収材の層から成ることを要旨とする。
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の高周波無響室において、前記複数のテーパ状の突出部は前記第１の垂直支柱に対して実質的に長手方向に延びていることを要旨とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項１１に記載の発明は、請求項８に記載の高周波無響室において、前記１または複数の高周波吸収材は、高周波吸収材の層から成ることを要旨とする。
請求項１２に記載の発明は、請求項１１に記載の高周波無響室において、前記複数のテーパ状の突出部は、第１の垂直支柱に対して実質的に軸方向に延びていることを要旨とする。