(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
垂直に配置される薄円板の外周を複数の案内部により支持するための薄円板の支持方法において、
前記各案内部において、前記薄円板の外周端面を水平方向に移動可能に支持するとともに、前記各案内部に形成される基準面を同一の垂直面内に位置させ、この基準面に前記薄円板の一側面の外周を水平方向から押圧して前記薄円板を支持することを特徴とする薄円板の支持方法。
【請求項２】
垂直に配置される薄円板の外周を複数の案内部により支持するための薄円板の支持構造において、
前記案内部は、
前記薄円板の外周端面が水平方向に移動可能に当接される外周受け部と、
前記外周受け部の一側から前記薄円板側に突出して形成され前記薄円板の一側面の外周が基準面に当接される固定部と、
前記外周受け部の他側から前記薄円板側に突出して形成され前記薄円板の他側面の外周に押圧面が水平方向から押圧される可動部と、
前記可動部を前記薄円板の他側面の外周に付勢する付勢手段と、
を有することを特徴とする薄円板の支持構造。
【請求項３】
請求項２記載の薄円板の支持構造において、
前記外周受け部、前記固定部および前記可動部が円柱状に形成され、各中心軸が同一の軸線上に位置されていることを特徴とする薄円板の支持構造。
【請求項４】
請求項３記載の薄円板の支持構造において、
前記可動部に穴部が形成され、この穴部が前記外周受け部の外周に移動可能に嵌合されていることを特徴とする薄円板の支持構造。
【請求項５】
請求項３または請求項４記載の薄円板の支持構造において、
前記付勢手段は、前記可動部の中心に配置されるボールと、前記ボールを前記可動部に押圧するバネ部材とを有することを特徴とする薄円板の支持構造。
【請求項６】
請求項２ないし請求項５のいずれか１項記載の薄円板の支持構造において、
前記基準面および前記押圧面が、前記薄円板の中心側に向けて微小に広がる傾斜面とされていることを特徴とする薄円板の支持構造。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、シリコンウェーハ等の薄円板を垂直に支持するための薄円板の支持方法および薄円板の支持構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、シリコンウェーハ等の薄円板の表面形状を測定するために、垂直面内で回転する円環状の環状部材の中心に薄円板を垂直に支持することが行われている。
そして、このような薄円板の支持構造として、本出願人が先に出願した特願平１１−３３３０３３号がある。
【０００３】
この出願では、複数の支持部材が、常に同一の角度だけ移動され、支持部材の先端に配置される主案内部材および補助案内部材が、常に環状部材の中心から同一の半径位置に位置されるため、薄円板の中心を環状部材の中心に容易，確実に一致させることができる。
また、同一の角度を置いて配置される６個以上の支持部材により、薄円板が支持されるため、外乱による薄円板の振動を確実に防止することができる。
【０００４】
そして、互いに隣接しない位置に位置する３個の支持部材の先端に配置される主案内部材のみにより薄円板の外周縁部を挟持して支持し、残りの支持部材の先端に配置される補助案内部材を、単に薄円板の外周面に当接するようにしたので、薄円板の変形を防止することができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、この先に出願した薄円板の支持構造では、図７に示すように、主案内部材１の案内面１ａがＶ字状をしているため、薄円板２の外周端面２ａの形状等のバラツキにより、薄円板２の厚さ方向の中心Ｃ１と、案内面１ａの中心Ｃ２とを、図７の（ａ）に示すように一致させることが困難であるという問題があった。
【０００６】
すなわち、主案内部材１は、薄円板２の外側に３個所、３個の主案内部材１の案内面１ａの中心Ｃ２が同一の垂直面上に位置するように配置されるが、図７の（ｂ）および（ｃ）に示すように、各主案内部材１において薄円板２の厚さ方向の中心Ｃ１と、案内面１ａの中心Ｃ２とがずれると、薄円板２の回転する垂直面内での振れが増大する。
【０００７】
そして、このような状態で薄円板２の両面２ｂ，２ｃの形状を測定するためには、変位計に、垂直面内の振れを許容し得る測定範囲と分解能、さらには、高精度な直線性が要求され、現実的には、このような要求を満たす変位計の入手に多大な費用を要していた。
一方、薄円板２が装着される毎に、この垂直面内の振れを確認し、必要に応じてこれを再調整する機能を導入することは、測定時間の短縮化を阻む要因となり、また、システムを複雑にすることで信頼性を低下させ、さらに、コストを上昇させる要因になっていた。
【０００８】
本発明は、かかる従来の問題点を解決するためになされたもので、薄円板を垂直面内に容易，確実に支持することができる薄円板の支持方法および薄円板の支持構造を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
請求項１の薄円板の支持方法は、垂直に配置される薄円板の外周を複数の案内部により支持するための薄円板の支持方法において、前記各案内部において、前記薄円板の外周端面を水平方向に移動可能に支持するとともに、前記各案内部に形成される基準面を同一の垂直面内に位置させ、この基準面に前記薄円板の一側面の外周を水平方向から押圧して前記薄円板を支持することを特徴とする。
【００１０】
請求項２の薄円板の支持構造は、垂直に配置される薄円板の外周を複数の案内部により支持するための薄円板の支持構造において、前記案内部は、前記薄円板の外周端面が水平方向に移動可能に当接される外周受け部と、前記外周受け部の一側から前記薄円板側に突出して形成され前記薄円板の一側面の外周が基準面に当接される固定部と、前記外周受け部の他側から前記薄円板側に突出して形成され前記薄円板の他側面の外周に押圧面が水平方向から押圧される可動部と、前記可動部を前記薄円板の他側面の外周に付勢する付勢手段とを有することを特徴とする。
【００１１】
請求項３の薄円板の支持構造は、請求項２記載の薄円板の支持構造において、前記外周受け部、前記固定部および前記可動部が円柱状に形成され、各中心軸が同一の軸線上に位置されていることを特徴とする。
請求項４の薄円板の支持構造は、請求項３記載の薄円板の支持構造において、前記可動部に穴部が形成され、この穴部が前記外周受け部の外周に移動可能に嵌合されていることを特徴とする。
【００１２】
請求項５の薄円板の支持構造は、請求項３または請求項４記載の薄円板の支持構造において、前記付勢手段は、前記可動部の中心に配置されるボールと、前記ボールを前記可動部に押圧するバネ部材とを有することを特徴とする。
請求項６の薄円板の支持構造は、請求項２ないし請求項５のいずれか１項記載の薄円板の支持構造において、前記基準面および前記押圧面が、前記薄円板の中心側に向けて微小に広がる傾斜面とされていることを特徴とする。
【００１３】
（作用）
請求項１の薄円板の支持方法では、各案内部において、薄円板の外周端面が水平方向に移動可能に支持される。
そして、各案内部に形成される基準面が同一の垂直面内に位置されており、この基準面に薄円板の一側面の外周を押圧することにより、薄円板が垂直面内に支持される。
【００１４】
なお、基準面を微小角度の傾斜面とする場合には、厳密には、各案内部に形成される基準面が同一の垂直面内に位置しているとは言えないが、このような場合は、誤差範囲と考え請求項１の範囲内に含まれることになる。
請求項２の薄円板の支持構造では、各案内部の固定部に形成される基準面が同一の垂直面内に位置するように配置される。
【００１５】
そして、各案内部の固定部、可動部および外周受け部により形成される空間に薄円板の外周が挿入され、外周受け部において、薄円板の外周端面が水平方向に移動可能に支持される。
また、可動部が、付勢手段により薄円板側に付勢されており、可動部により、薄円板の一側面の外周が基準面に押圧され、薄円板が垂直面内に支持される。
【００１６】
請求項３の薄円板の支持構造では、外周受け部、固定部および可動部を円柱状に形成し、各中心軸を同一の軸線上に位置するようにしたので、外周受け部の外側に沿って薄円板を挿入する円環状の空間が形成される。
請求項４の薄円板の支持構造では、可動部に穴部が形成され、この穴部が外周受け部の外周に移動可能に嵌合される。
【００１７】
従って、外周受け部に沿って可動部を確実に移動することが可能になる。
請求項５の薄円板の支持構造では、可動部の中心に配置されるボールが、バネ部材により可動部に押圧され、可動部が薄円板側に均一に押圧される。
請求項６の薄円板の支持構造では、基準面および押圧面が、薄円板の中心側に向けて微小に広がる傾斜面とされ、薄円板の一側面および他側面の外周が、基準面および押圧面に点接触の状態で支持される。
【００１８】
従って、薄円板に無理な押圧力が作用することがなくなり、薄円板の変形が防止される。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面を用いて詳細に説明する。
【００２０】
図１ないし図４は、図５の要部の詳細を示しており、図５は、本発明の薄円板の支持構造の一実施形態を示している。
そして、図６は、図５の薄円板の支持構造が適用される薄円板の表面形状測定装置を示している。
図６において、符号１１は、上面を水平に配置される矩形状のベース部材を示している。
【００２１】
このベース部材１１は、グラナイトからなる。
また、ベース部材１１は、空気バネ１３を介して支柱１５により支持されており、外乱振動の影響が抑制されている。
ベース部材１１の上面の上方には、シリコンウェーハからなる円形状の薄円板１７が配置されている。
【００２２】
この薄円板１７は、支持手段１９により、一の垂直面内において回動自在に支持されている。
支持手段１９は、円環状の固定部材２１と、回転部材である円環状の環状部材２３とを有している。
固定部材２１には、図示しないブラシレスＤＣモータ用のコイルが内蔵され、環状部材２３には、ブラシレスＤＣモータ用のマグネット２５が内蔵され、これによりブラシレスＤＣモータが構成されている。
【００２３】
環状部材２３の内側には、所定角度を置いて薄円板１７を支持する案内部２７が複数配置されている。
薄円板１７が含まれる垂直面の一側および他側には、第１の案内軸２９および第２の案内軸３１が水平に配置されている。
第１の案内軸２９および第２の案内軸３１は、垂直面に平行に、かつ相互に平行になるように配置されている。
【００２４】
また、第１の案内軸２９および第２の案内軸３１は、ブラケット３３を介してベース部材１１の上面に固定されている。
第１の案内軸２９および第２の案内軸３１は、非常に高い真直度を有している。
第１の案内軸２９には、第１の案内軸２９に沿って移動する第１のスライダ３５が配置されている。
【００２５】
この第１のスライダ３５には、薄円板１７の一面までの距離を測定する第１の計測手段３７が配置されている。
また、第２の案内軸３１には、第２の案内軸３１に沿って移動する第２のスライダ３９が配置されている。
この第２のスライダ３９には、薄円板１７の他面までの距離を測定する第２の計測手段４１が配置されている。
【００２６】
第１の計測手段３７および第２の計測手段４１には、非接触レーザ変位計が使用される。
また、第１のスライダ３５および第２のスライダ３９には、リニアモータを内蔵したエアスライドが使用されている。
なお、第１の案内軸２９と第２の案内軸３１，第１のスライダ３５と第２のスライダ３９，第１の計測手段３７と第２の計測手段４１には、それぞれ同一の部品が使用されている。
【００２７】
薄円板１７の径方向の両側には、薄円板１７を上下方向に移動する垂直移動手段４３が配置されている。
この垂直移動手段４３は、ベース部材１１の上面に垂直に固定される第３の案内軸４５を有している。
第３の案内軸４５には、第３のスライダ４７が移動自在に配置され、この第３のスライダ４７に、薄円板１７を支持する支持手段１９の固定部材２１が連結されている。
【００２８】
第３のスライダ４７には、ブラケット４７ａが形成され、このブラケット４７ａが、ボール螺子４９に螺合されている。
ボール螺子４９は、ベース部材１１の上面に対して垂直に配置されており、ベース部材１１の上面に固定されるモータ５１により回転駆動される。
なお、この実施形態では、第３の案内軸４５およびボール螺子４９の上端が補強部材５３により支持されている。
【００２９】
また、この実施形態では、第１の計測手段３７と第２の計測手段４１とを、薄円板１７が含まれる垂直面に垂直な同一軸線上に位置させるための位置合わせ手段であるブロック部材５５が配置されている。
このブロック部材５５は、環状部材２３の内周に固定されている。
上述した薄円板の表面形状測定装置では、薄円板１７の表面形状の測定が以下述べるようにして行われる。
【００３０】
すなわち、支持手段１９の案内部２７により支持されるシリコンウェーハからなる薄円板１７を垂直面内において回動しながら、第１の案内軸２９および第２の案内軸３１に沿って、第１のスライダ３５および第２のスライダ３９を独立して移動しながら、第１の計測手段３７および第２の計測手段４１により、薄円板１７の一面および他面までの距離が独立して計測され、薄円板１７の一面および他面の表面形状が測定される。
【００３１】
図５は、本発明の薄円板の支持構造の一実施形態を示しており、図５において符号２３は、上述した支持手段１９に配置される円環状の環状部材を示している。
この環状部材２３の中心には、環状部材２３に支持される６本の支持部材５７Ａ，５７Ｂを介して、シリコンウェーハからなる円形状の薄円板１７が支持されている。
【００３２】
すなわち、環状部材２３には、環状部材２３の中心Ｏを中心とする仮想円Ｃ上に、６０度の角度を置いて６点の仮想支点Ｓが設置されている。
そして、各仮想支点Ｓには、仮想支点Ｓを支点として、支持部材５７Ａ，５７Ｂが揺動自在に配置されている。
この実施形態では、仮想支点Ｓの位置にピン部材５９が立設され、支持部材５７Ａ，５７Ｂがピン部材５９を中心にして揺動自在に支持されている。
【００３３】
そして、隣接する支持部材５７Ａ，５７Ｂが、剛体からなるリンク部材６１により相互に連結されている。
すなわち、この実施形態では、支持部材５７Ａ，５７Ｂの後端には、連結部材６３が支持部材５７Ａ，５７Ｂに対して直角に十字状に固定されている。
そして、連結部材６３の両側に、リンク部材６１の端部が、ピン部材６５を介して揺動自在に連結されている。
【００３４】
互いに隣接しない位置に位置する３本の支持部材５７Ａの先端には、薄円板１７の外周縁部を挟持する主案内部６７が配置されている。
そして、残りの支持部材５７Ｂの先端には、薄円板１７の外周面に当接される補助案内部７１が配置されている。
そして、この実施形態では、図５の上部に配置される支持部材５７Ａに付勢手段７５が配置されている。
【００３５】
この付勢手段７５は、コイルスプリング７７の一端を連結部材６３の端部に固定し、他端を環状部材２３に固定して構成されている。
そして、コイルスプリング７７により、支持部材５７Ａの先端が薄円板１７に向けて付勢されている。
上述した薄円板の支持構造では、例えば、揺動シリンダ７９により、図５の上部に配置される支持部材５７Ａが、支持部材５７Ａの先端が外側に向けて移動するように移動され、この状態で薄円板１７の着脱が行われる。
【００３６】
すなわち、図５の上部に配置される支持部材５７Ａを外側に向けて移動すると、６本の支持部材５７Ａ，５７Ｂがリンク部材６１により連結されているため、６本の支持部材５７Ａ，５７Ｂが、常に同一の角度だけ移動され、支持部材５７Ａ，５７Ｂの先端に配置される主案内部６７および補助案内部７１が、常に環状部材２３の中心Ｏから同一の半径位置に位置される。
【００３７】
そして、薄円板１７を環状部材２３の略中心Ｏに位置させ、揺動シリンダ７９の支持部材５７Ａに対する接触を解除すると、付勢手段７５の働きにより、６本の支持部材５７Ａ，５７Ｂが、薄円板１７側に向けて同一の角度だけ移動され、これにより、薄円板１７の中心が環状部材２３の中心Ｏに位置して支持される。図１および図２は、主案内部６７の詳細を示すもので、この主案内部６７は、例えば、ビスからなる螺子部材８１により支持部材５７Ａに固定されている。
【００３８】
この主案内部６７は、外周受け部８３、固定部８５、可動部８７および付勢手段８９を有している。
外周受け部８３、固定部８５および可動部８７は、それぞれ円柱状に形成されている。
固定部８５および可動部８７は、同一の外径を有しており、外周受け部８３の外径より大径とされている。
【００３９】
そして、外周受け部８３、固定部８５および可動部８７の各中心軸が同一の軸線Ｃ３上に位置されている。
支持部材５７Ａには、図２に示すように、螺子穴５７ａが形成されており、この螺子穴５７ａに螺子部材８１が螺合されている。
固定部８５および外周受け部８３は、一体に形成されており、その中心に螺子穴９１が形成されている。
【００４０】
この螺子穴９１には、螺子部材８１が螺合されている。
そして、支持部材５７Ａと固定部８５との間にスペーサ９３が配置されている。
可動部８７の内面側には、穴部８７ａが形成され、この穴部８７ａが外周受け部８３の外周に移動可能に嵌合されている。
【００４１】
そして、可動部８７が、付勢手段８９により薄円板１７側に向けて付勢されている。
すなわち、可動部８７の外面の中心には、球面状の凹部８７ｂが形成され、この凹部８７ｂにボール９３の一部が収容されている。
一方、支持部材５７Ａには、支柱９５が配置され、この支柱９５に板バネ９７の一端が、ビス９９により固定されている。
【００４２】
そして、板バネ９７の他端に凹部９７ａが形成され、この凹部９７ａにボール９３の一部が収容されている。
そして、この実施形態では、外周受け部８３の外周に、支持すべき薄円板１７の外周端面１７ａが当接される。
薄円板１７の外周端面１７ａは、図３に示すように、断面円弧状に形成されており、外周受け部８３の外周に点Ｐ１において点的に接触される。
【００４３】
固定部８５の内面は、薄円板１７の一側面１７ｂの外周が当接される基準面８５ａとされる。
また、可動部８７の内面は、薄円板１７の他側面１７ｃの外周を押圧する押圧面８７ｃとされる。
そして、この実施形態では、図３に示すように、基準面８５ａおよび押圧面８７ｃが、薄円板１７の中心側に向けて微小に広がる傾斜面とされている。
【００４４】
この傾斜面の垂直面に対する傾斜角θは、例えば、４〜５度程度の微小角度とされている。
すなわち、このような傾斜角θに設定することにより、例えば、深さＤが約０．６ｍｍの溝の底部の幅Ｗに対し、開口部１０１において、その幅が約０．０４〜０．０５ｍｍ程度広がることになる。
【００４５】
そして、このように基準面８５ａおよび押圧面８７ｃを傾斜面とすることにより、薄円板１７の一側面１７ｂの外周および他側面１７ｃの外周が、基準面８５ａおよび押圧面８７ｃに、点Ｐ２および点Ｐ３において点的に接触される。
なお、この実施形態では、基準面８５ａが傾斜しているため、厳密には、複数の主案内部６７の基準面８５ａを同一の垂直面内に位置させることはできないが、例えば、複数の主案内部６７の基準面８５ａの外側端８５ｂを、同一の垂直面内に位置させることにより、基準面８５ａが同一の垂直面内に位置していると考えることができる。
【００４６】
そして、実際には、スペーサ９３の厚みを調節して、固定部８５の外側面８５ｃが、同一の垂直面内に位置するようにして基準面８５ａの位置調整が行われる。
図４は、補助案内部７１の詳細を示すもので、この補助案内部７１は、ピン部材１０３を介して支持部材５７Ｂに回動自在に配置されている。
補助案内部７１は、発泡ポリウレタン，ゴム等の弾性部材からなり、例えば、円柱状に形成されている。
【００４７】
この補助案内部７１の外周７１ａには、薄円板１７の外周端面１７ａが当接されている。
以上のように構成された薄円板の支持構造では、６本の支持部材５７Ａ，５７Ｂが、常に同一の角度だけ移動され、支持部材５７Ａ，５７Ｂの先端に配置される主案内部６７および補助案内部７１が、常に環状部材２３の中心Ｏから同一の半径位置に位置されるため、薄円板１７の中心を環状部材２３の中心Ｏに容易，確実に一致させることができる。
【００４８】
そして、上述した薄円板の支持方法では、各主案内部６７に形成される基準面８５ａを同一の垂直面内に位置させ、この基準面８５ａに薄円板１７の一側面１７ｂの外周を押圧するようにしたので、薄円板１７を垂直面内に容易，確実に支持することができる。
【００４９】
従って、環状部材２３により薄円板１７を回転した場合に、計測部における薄円板１７の振れが非常に小さくなり、変位計に必要以上に広い測定範囲を要求する必要がなくなる。
また、上述した薄円板の支持構造では、可動部８７を、付勢手段８９により薄円板１７側に付勢し、この可動部８７により、薄円板１７の一側面１７ｂの外周を基準面８５ａに押圧するようにしたので、薄円板１７を垂直面内に容易，確実に支持することができる。
【００５０】
そして、上述した薄円板の支持構造では、固定部８５，外周受け部８３および可動部８７を円柱状に形成したので、外周受け部８３の外側に沿って薄円板１７を挿入する円環状の空間が形成されるため、主案内部６７の中心位置を設定するだけで、主案内部６７を容易，確実に配置することができる。
また、上述した薄円板の支持構造では、可動部８７に形成される穴部８７ａを、外周受け部８３の外周に移動可能に嵌合したので、外周受け部８３に沿って可動部８７を確実に移動することができる。
【００５１】
そして、厚さの異なる薄円板１７を容易，確実に保持することができる。
さらに、上述した薄円板の支持構造では、可動部８７の中心にボール９３を配置し、このボール９３を板バネ９７により可動部８７に押圧するようにしたので、可動部８７を薄円板１７側に均一に押圧することができる。
そして、上述した薄円板の支持構造では、薄円板１７の一側面１７ｂおよび他側面１７ｃの外周が、基準面８５ａおよび押圧面８７ｃに点接触の状態で支持されるため、薄円板１７に無理な押圧力が作用することがなくなり、薄円板１７が変形することを防止することができる。
【００５２】
なお、上述した実施形態では、支持部材５７Ａの先端に主案内部６７を固定した例について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されるものではなく、主案内部６７を支持部材５７Ａに回動自在に配置しても良い。
【００５３】
そして、上述した実施形態では、本発明をシリコンウェーハからなる薄円板１７の支持に適用した例について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されるものではなく、例えば、液晶用ガラス，マスク部材等の薄円板の支持に広く用いることができる。
また、上述した実施形態では、可動部８７に凹部状の穴部８７ａを形成した例について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されるものではなく、可動部８７に貫通穴を形成し、この貫通穴を外周受け部８３に嵌合しても良い。
【００５４】
なお、この場合には、可動部８７の中心をボール９３により押圧することができなくなるため、可動部８７の外周が押圧されることになる。
さらに、上述した実施形態では、可動部８７を板バネ９７により押圧した例について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されるものではなく、皿バネ，コイルスプリング等のバネ部材により押圧しても良く、また、固定部８５と可動部８７とをペーパークリップ状の板バネにより挟むようにしても良い。
【００５５】
また、上述した実施形態では、固定部８５，外周受け部８３および可動部８７を円柱状に形成した例について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されるものではなく、例えば、単に断面がコ字状になるように形成しても良い。
さらに、上述した実施形態では、基準面８５ａおよび押圧面８７ｃを垂直面に対して微小角度傾斜した例について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されるものではなく、必ずしも微小角度傾斜しなくても良い。
【００５６】
また、上述した実施形態では、固定部８５の位置調整をスペーサ９３により行った例について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されるものではなく、例えば、調整螺子等を用いて行っても良い。
【００５７】
【発明の効果】
以上述べたように、請求項１の薄円板の支持方法では、各案内部に形成される基準面を同一の垂直面内に位置させ、この基準面に薄円板の一側面の外周を押圧するようにしたので、薄円板を垂直面内に容易，確実に支持することができる。
【００５８】
請求項２の薄円板の支持構造では、可動部を、付勢手段により薄円板側に付勢し、この可動部により、薄円板の一側面の外周を基準面に押圧するようにしたので、薄円板を垂直面内に容易，確実に支持することができる。
請求項３の薄円板の支持構造では、外周受け部の外側に沿って薄円板を挿入する円環状の空間が形成されるため、案内部の中心位置を設定するだけで、案内部を容易，確実に配置することができる。
【００５９】
請求項４の薄円板の支持構造では、可動部に形成される穴部を、外周受け部の外周に移動可能に嵌合したので、外周受け部に沿って可動部を確実に移動することができる。
請求項５の薄円板の支持構造では、可動部の中心にボールを配置し、このボールをバネ部材により可動部に押圧するようにしたので、可動部を薄円板側に均一に押圧することができる。
【００６０】
請求項６の薄円板の支持構造では、薄円板の一側面および他側面の外周が、基準面および押圧面に点接触の状態で支持されるため、薄円板に無理な押圧力が作用することがなくなり、薄円板が変形することを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図５の主案内部を示す組立図である。
【図２】図５の主案内部を示す分解図である。
【図３】図５の主案内部の一部を拡大して示す説明図である。
【図４】図５の補助案内部を示す説明図である。
【図５】本発明の薄円板の支持構造の一実施形態を示す正面図である。
【図６】図５の薄円板の支持構造が適用される薄円板の表面形状測定装置を示す斜視図である。
【図７】従来の薄円板の支持方法を示す説明図である。
【符号の説明】
１７  薄円板
１７ａ  外周端面
１７ｂ  一側面
１７ｃ  他側面
６７  主案内部
８３  外周受け部
８５  固定部
８５ａ  基準面
８７  可動部
８７ａ  穴部
８７ｃ  押圧面
８９  付勢手段
９３  ボール
９７  板バネ
【図１】
0004119097.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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