【手続補正書】
【提出日】平成20年7月11日(2008.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を用いて被露光体を露光する露光装置に使用されるフィルターであって、
前記光源からの光を透過する光透過膜と、
第１の梁を含む複数の梁で構成されており、前記光透過膜と直接的に接触または他の部材を介して間接的に接触している第１の部材と、
第１の柱を含む複数の柱で構成されており、前記光透過膜及び前記第１の部材の少なくともいずれかと直接的に接触または他の部材を介して間接的に接触している第２の部材とを有しており、
前記第１の梁の長手方向に関して、単位時間当たりの前記第１の梁が伝導可能な熱量と、前記第１の柱の長手方向に関して、単位時間当たりの前記第１の柱が伝導可能な熱量とが互いに異なることを特徴とするフィルター。
【請求項２】
前記複数の柱は、冷却媒体が流されていることを特徴とする請求項１記載のフィルター。
【請求項３】
前記複数の柱は、ヒートパイプを有することを特徴とする請求項１記載のフィルター。
【請求項４】
前記複数の柱各々の断面積が、前記複数の梁各々の断面積よりも大きいことを特徴とする請求項１記載のフィルター。
【請求項５】
前記柱を構成する材料の熱伝導率は、前記メッシュ構造を構成する材料の熱伝導率よりも高いことを特徴とする請求項１記載のフィルター。
【請求項６】
前記複数の梁が、メッシュ構造を成していることを特徴とする請求項１乃至５いずれかに記載のフィルター。
【請求項７】
前記光源の周波数をＦ［Ｈｚ］、前記光透過膜の熱容量をＣｐ［Ｊ／ｋｇ／Ｋ］、前記光透過膜の密度をρ［ｋｇ／ｍ３］、前記光透過膜の熱伝導率をλ［Ｗ／ｍ／Ｋ］とすると、
前記メッシュ構造が規定する区画の大きさｓ［ｍ］は、
2007027212.tif 000001
を満足し、
前記メッシュ構造が規定する区画の大きさｓ［ｍ］は、前記区画が円形の場合には当該円形の直径、前記区画が多角形の場合には当該多角形の少なくとも３辺に接する最小の円の直径であることを特徴とする請求項６記載のフィルター。
【請求項８】
前記光透過膜は、ジルコニウムで構成され、
前記メッシュ構造が規定する区画の大きさｓ［ｍ］は、
2007027212.tif 000002
を満足することを特徴とする請求項７記載のフィルター。
【請求項９】
前記梁の厚さをｔｈ［ｍ］とすると、
前記メッシュ構造が規定する区画の大きさｓ［ｍ］は、
ｓ＞０．３ｔｈ
を満足し、
前記メッシュ構造が規定する区画の大きさｓ［ｍ］は、前記区画が円形の場合には当該円形の直径、前記区画が多角形の場合には当該多角形の少なくとも３辺に接する最小の円の直径であることを特徴とする請求項６記載のフィルター。
【請求項１０】
前記フィルターが単位面積当たりに吸収するエネルギーをｑ０［Ｗ／ｍ２］、前記メッシュ構造の１０００［Ｋ］での熱伝導率をλ［Ｗ／ｍ／Ｋ］、前記梁の厚さをｔｈ［ｍ］、前記梁の幅をｗ［ｍ］、前記梁のピッチをｐ［ｍ］、前記メッシュ構造の開口率をＡとすると、
前記柱構造が規定する区画の大きさｓ［ｍ］は、
ｓ＜３×１０−２×ｅｘｐ（−９×１０−９×ｑ０／（λ×ｔｈ×ｗ／ｐ）＋７.２×１０−３
又は、
ｓ＜３×１０−２×ｅｘｐ（−９×１０−９×ｑ０／（λ×ｔｈ×√Ａ）＋７.２×１０−３
を満足し、
前記柱構造が規定する区画の大きさｓ［ｍ］は、前記区画が円形の場合には当該円形の直径、前記区画が多角形の場合には当該多角形の少なくとも３辺に接する最小の円の直径であることを特徴とする請求項６記載のフィルター。
【請求項１１】
前記複数の梁は、表面を形成する第１の材料と、内部を形成する第２の材料から構成され、
前記第１の材料の蒸発速度は、前記第２の材料の蒸発速度よりも小さく、
前記第２の材料の熱伝導率は、前記第２の材料の熱伝導率よりも大きいことを特徴とする請求項１記載のフィルター。
【請求項１２】
光源からの光を用いて被露光体を露光する露光装置に使用されるフィルターであって、
第１の厚さを有し、前記光源からの光を透過する光透過部と、
前記第１の厚さとは異なる第２の厚さを有し、前記光透過部と直接的に接触または他の部材を介して間接的に接触している第１熱伝導部と、
前記第１の厚さ及び前記第２の厚さとは異なる第３の厚さを有し、前記光透過部及び前記第１熱伝導部の少なくともいずれかと直接的に接触または他の部材を介して間接的に接触している第２熱伝導部とを有していることを特徴とするフィルター。
【請求項１３】
前記光源からの光を用いて、マスクのパターンを前記被処理体に露光する露光装置であって、
前記光源から前記被処理体に至る光路中に配置された、請求項１乃至１２のうちいずれか一項記載のフィルターを有することを特徴とする露光装置。
【請求項１４】
前記光源からの光を中間集光点に集光しており、
前記フィルターは、前記中間集光点とは異なる位置に配置されていることを特徴とする請求項１３記載の露光装置。
【請求項１５】
前記中間集光点からの光を前記マスクに導光する少なくとも一以上のミラーを更に有し、
前記フィルターは、少なくとも一の前記ミラーを経た位置に配置されることを特徴とする請求項１４記載の露光装置。
【請求項１６】
前記フィルターの温度が一定の値以上になると、前記光源からの光の発光を停止することを特徴とする請求項１３乃至１５いずれかに記載の露光装置。
【請求項１７】
前記光源は、所定の周期で、前記光の発光と停止を繰り返すことを特徴とする請求項１３乃至１６いずれかに記載の露光装置。
【請求項１８】
請求項１３乃至１７のうちいずれか一項記載の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、
露光された前記被処理体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１９】
パルス光を発光する光源装置であって、
請求項１乃至１２いずれかに記載のフィルターを有していることを特徴とする光源装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の一側面としてのフィルターは、光源からの光を用いて被露光体を露光する露光装置に使用されるフィルターであって、前記光源からの光を透過する光透過膜と、第１の梁を含む複数の梁で構成されており、前記光透過膜と直接的に接触または他の部材を介して間接的に接触している第１の部材と、第１の柱を含む複数の柱で構成されており、前記光透過膜及び前記第１の部材の少なくともいずれかと直接的に接触または他の部材を介して間接的に接触している第２の部材とを有しており、前記第１の梁の長手方向に関して、単位時間当たりの前記第１の梁が伝導可能な熱量と、前記第１の柱の長手方向に関して、単位時間当たりの前記第１の柱が伝導可能な熱量とが互いに異なることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の別の側面としてのフィルターは、光源からの光を用いて被露光体を露光する露光装置に使用されるフィルターであって、第１の厚さを有し、前記光源からの光を透過する光透過部と、前記第１の厚さとは異なる第２の厚さを有し、前記光透過部と直接的に接触または他の部材を介して間接的に接触している第１熱伝導部と、前記第１の厚さ及び前記第２の厚さとは異なる第３の厚さを有し、前記光透過部及び前記第１熱伝導部の少なくともいずれかと直接的に接触または他の部材を介して間接的に接触している第２熱伝導部とを有していることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
図２は、フィルター１００の構成を示す概略平面図である。フィルター１００は、ＥＵＶ光ＥＬを透過する光透過膜１１０と、光透過膜１１０を支持する第１の部材１２０と、第１の部材１２０を支持する第２の部材１３０とを有する。第１の部材１２０は、図３に示すように、複数の梁１２２で形成されるメッシュ構造を有する。また、第２の部材１３０は、複数の柱１３２で形成される柱構造を有する。第１の部材１２０及び第２の部材１３０は、フィルター枠１４０に固定されている。なお、本実施形態では、光透過膜１１０は、厚さ０．２［μｍ］（第１の厚さ）のＺｒで構成されている。ここで、図３は、光透過膜１１０と複数の梁１２２で形成されるメッシュ構造を有する第１の部材１２０とを示す概略拡大図であって、図３（ａ）は平面図、図３（ｂ）は断面図を示している。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０５】
メッシュ構造が規定する区画の大きさは、上述した数式１０又は数式１１を満足する必要がある。光源装置１の周波数Ｆは、本実施形態では、１０［ｋＨｚ］であるので、メッシュ構造の最大直径ｄ＜０．３［ｍｍ］が得られる。ここでは、メッシュ構造の区画の大きさ、即ち、そのピッチは、０．１［ｍｍ］とする。また、メッシュ構造を形成する梁１２２（第１熱伝導部）は、厚さ１００［μｍ］（第２の厚さ）、幅１０［μｍ］で、Ｍｏから構成される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０６】
柱構造を形成する柱１３２（第２熱伝導部）は、幅及び厚さ共に１［ｍｍ］（第３の厚さ）で、銅から構成され、そのピッチは縦横共に１０［ｍｍ］である。フィルター枠１４０には冷却水が流され、温度は一定に保たれている。柱１３２の断面積はメッシュ構造を形成する梁１２２の断面積よりはるかに大きいことを特徴とする。本実施形態では、メッシュ構造を形成する梁１２２の断面積と比較して、柱１３２の断面積は１０００倍も大きい。従って、メッシュ構造の熱を、柱１３２を介してフィルター枠１４０に逃がすことができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１４】
低蒸発速度の観点では、メッシュ構造が熱伝導体であるから、単に蒸発しきらないというだけでは不十分である。輻射を考慮しなければ、メッシュ構造体が蒸発し、メッシュ構造が１０％薄くなったら、約１０％温度が上昇しやすいと考えてよい。従って、メッシュ構造は、温度が上昇するに従って構造が薄くなり、構造が薄くなれば温度が上昇しやすくなるため、さらに温度上昇が促進される。つまり、メッシュ構造の温度が上昇すれば、メッシュ構造は加速度的に薄くなっていく。更に、メッシュ構造から蒸発した材料（汚染物質）が集光ミラー１２やミラー２１及び２２に付着して、光学素子を汚す恐れもある（光学素子の反射率を低下させる）。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１８】
そこで、本実施形態では、図５に示すように、メッシュ構造の内部１２４ａを銅（第２の材料）とし、その表面１２４ｂを蒸発速度の小さいタングステン（第１の材料）で覆うことで、メッシュ構造を構成する。かかるメッシュ構造は、通常通りに銅でメッシュ構造を作製して、メッキや蒸着によって、その表面にモリブデンやタングステンを１［μｍ］程度形成し、その後、光透過膜１１０を設ければよい。タングステンの蒸発速度は、３×１０−２０［ｍ／ｈｒ］であり、事実上、蒸発を無視することができる。このようなメッシュ構造の表面１２４ｂを覆う材料がメッシュ構造の内部１２４ａの材料より小さい蒸発速度を有するメッシュ構造は、熱伝導率を大きく保つと共に、蒸発速度を小さくすることが可能である。従って、例えば、ＥＵＶ露光装置のフィルターとして最適な構造となる。ここで、図５は、メッシュ構造の一例を示す概略断面図である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３３】
フィルター１００の光透過膜１１０の表面に輻射率の大きい材料を蒸着すると、光透過膜１１０の温度を下げることが可能である。例えば、輻射率の大きい材料として、カーボン、炭化珪素（ＳｉＣ）、炭化窒素、珪素等がある。純粋なカーボンは、１８００［Ｋ］での蒸発速度がモリブデン（Ｍｏ）より１桁小さいことに加え、輻射率が０．８程度あり、光透過膜１１０の温度を１０００［Ｋ］以下にすることができるため、実質上、蒸発しないと考えてよい。また、ＳｉＣ、Ｓｉ３Ｎ４も輻射率がそれぞれ０．８乃至９程度であり、光透過膜１１０の温度を下げることが可能である。厚さ０．０１［μｍ］のカーボンとＳｉＣ、Ｓｉ３Ｎ４の波長１３．５ｎｍに対する透過率は、９４％乃至９５％と高く、透過率の上でも良好である。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３７】
図１５を参照するに、露光装置３００は、照明装置３１０と、マスク３３０を載置するマスクステージ３３５と、投影光学系３４０と、被処理体３５０を載置するウェハステージ３５５と、アライメント検出機構３６０と、フォーカス位置検出機構３７０とを有する。