【手続補正書】
【提出日】平成20年3月24日(2008.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光装置であって、
光学素子を内部に有するチャンバーと、
前記チャンバーを囲む密閉容器と、
前記チャンバー内を減圧するポンプとを有し、
前記チャンバー内を減圧するときに、前記密閉容器も減圧することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記チャンバーは、前記密閉容器に支持されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記チャンバーと前記密閉容器との間で変位を発生させる変位機構を有することを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】
基準部材と前記チャンバーとの間の位置関係を計測する計測器を有することを特徴とする請求項１乃至３いずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
基準部材と前記チャンバーとの間の位置関係を計測し、該計測結果に基づいて前記変位機構を制御することを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項６】
前記チャンバーは、前記光学素子を保持する鏡筒を支持する定盤に支持されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項７】
前記密閉容器は、可動体を介して前記定盤と連結することを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記可動体は、ベローズであることを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記ポンプは、前記密閉容器内の気体を排出することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記ポンプは、前記密閉容器内の気体を排出することで、前記チャンバーに設けられた通気孔を介して該チャンバー内の気体を排出することを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記ポンプは、前記チャンバー内の気体を排出することを特徴とする請求項９または１０に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記チャンバーは、照明光学ユニットの少なくとも一部の光学素子を内部に有することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記チャンバーは、投影光学ユニットの少なくとも一部の光学素子を内部に有することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記チャンバー内を減圧した後に、不活性ガスを供給する手段を更に備えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項１５】
前記チャンバー内の減圧は、複数回行われることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項１６】
前記チャンバーは、ガス供給口とガス排出口とを有することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項１７】
前記チャンバーは、真空紫外域の光の光路の少なくとも一部を囲むことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項１８】
露光装置であって、
光学素子を内部に有するチャンバーと、
前記チャンバー内を不活性ガス雰囲気にする機構と、
前記チャンバーを囲む密閉容器とを有し、
前記チャンバー内の不活性ガスの純度は、前記密閉容器内の不活性ガスの純度よりも高いことを特徴とする露光装置。
【請求項１９】
前記密閉容器内の不活性ガスの純度は、該密閉容器外の不活性ガスの純度よりも高いものであることを特徴とする請求項１８に記載の露光装置。
【請求項２０】
前記機構は、チャンバー内を不活性ガス雰囲気にする前に、前記チャンバー内にある気体を真空排気することを特徴とする請求項１８に記載の露光装置。
【請求項２１】
前記チャンバーは、照明光学ユニットの少なくとも一部の光学素子を内部に有することを特徴とする請求項１８に記載の露光装置。
【請求項２２】
前記チャンバーは、投影光学ユニットの少なくとも一部の光学素子を内部に有することを特徴とする請求項１８に記載の露光装置。
【請求項２３】
前記チャンバーは、真空紫外域の光の光路の少なくとも一部を囲むことを特徴とする請求項１８乃至２２のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項２４】
露光装置であって、
光学素子を内部にするチャンバーと、
前記チャンバー内を不活性ガス雰囲気にする機構と、
前記チャンバーを囲む密閉容器とを有し、
前記チャンバー内の圧力は、前記密閉容器内の圧力よりも高いことを特徴とする露光装置。
【請求項２５】
前記密閉容器内の不活性ガスの圧力は、前記密閉容器外の不活性ガスの圧力よりも高いものであることを特徴とする請求項２４に記載の露光装置。
【請求項２６】
前記機構は、チャンバー内を不活性ガス雰囲気にする前に、前記チャンバー内にある気体を真空排気することを特徴とする請求項２４に記載の露光装置。
【請求項２７】
前記密閉容器は、光を透過させる透過窓を有することを特徴とする請求項１、請求項１８、請求項２４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項２８】
前記透過窓は、フッ素化合物ガラスからなることを特徴とする請求項２７に記載の露光装置。
【請求項２９】
前記透過窓は、前記密閉容器に対して移動可能に支持されることを特徴とする請求項２７または２８に記載の露光装置。
【請求項３０】
前記密閉容器は、開閉扉を有することを特徴とする請求項１、請求項１８、請求項２４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項３１】
前記チャンバーと前記密閉容器との間を連通させる通気孔を有することを特徴とする請求項１、請求項１８、請求項２４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項３２】
前記通気孔は、開閉自在であることを特徴とする請求項３１に記載の露光装置。
【請求項３３】
前記チャンバーは、照明光学ユニットの少なくとも一部の光学素子を内部に有することを特徴とする請求項２４に記載の露光装置。
【請求項３４】
前記チャンバーは、投影光学ユニットの少なくとも一部の光学素子を内部に有することを特徴とする請求項２４に記載の露光装置。
【請求項３５】
前記不活性ガスは、ヘリウムと窒素のうちのいずれか一方であることを特徴とする請求項１４、請求項１８乃至２０、請求項２４乃至２６のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項３６】
前記チャンバーは、真空紫外域の光の光路の少なくとも一部を囲むことを特徴とする請求項２４に記載の露光装置。
【請求項３７】
ガス置換方法であって、
光学素子を内部に有するチャンバーの内部を減圧する工程と、
前記チャンバーを囲む密閉容器を減圧する工程と、
前記チャンバーの内部に不活性ガスを供給する工程と、
を有することを特徴とするガス置換方法。
【請求項３８】
ガス置換方法であって、
光学素子を内部に有するチャンバーの内部に不活性ガスを供給する工程と、
前記チャンバーを囲む密閉容器に不活性ガスを供給する工程と、
前記チャンバー内の不活性ガスの純度を、該密閉容器内の不活性ガスの純度よりも高い状態に制御する工程と、
を有することを特徴とするガス置換方法。
【請求項３９】
半導体デバイス製造方法であって、
請求項１乃至３６のいずれか１項に記載の露光装置を含む各種プロセス用の製造装置群を半導体製造工場に設置する工程と、
前記製造装置群を用いて複数のプロセスによって半導体デバイスを製造する工程と,
を有することを特徴とする半導体デバイス製造方法。
【請求項４０】
露光装置であって、
光学素子を内部に有するチャンバーと、
前記チャンバーを囲む密閉容器と、
前記密閉容器内を減圧するポンプと、
を有し、
前記チャンバーは定盤に支持され、前記密閉容器は変形を吸収するための第１の可動体を介して前記定盤と連結することを特徴とする露光装置。
【請求項４１】
前記第１の可動体は、ベローズであることを特徴とする請求項４０に記載の露光装置。
【請求項４２】
前記密閉容器の変形を吸収するための第２の可動体を更に備え、
前記第２の可動体は透過窓を保持し、前記透過窓は前記内部の光学素子に対して所定の位置関係に保持されることを特徴とする請求項４０に記載の露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光装置、ガス置換方法、半導体デバイス製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記の目的を達成するための本発明の露光装置は、
光学素子を内部に有するチャンバーと、
前記チャンバーを囲む密閉容器と、
前記チャンバー内を減圧するポンプとを有し、
前記チャンバー内を減圧するときに、前記密閉容器も減圧することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
さらに、本発明の別の露光装置は、
光学素子を内部に有するチャンバーと、
前記チャンバー内を不活性ガス雰囲気にする機構と、
前記チャンバーを囲む密閉容器とを有し、
前記チャンバー内の不活性ガスの純度は、前記密閉容器内の不活性ガスの純度よりも高いことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
さらに、本発明の別の露光装置は、
光学素子を内部にするチャンバーと、
前記チャンバー内を不活性ガス雰囲気にする機構と、
前記チャンバーを囲む密閉容器とを有し、
前記チャンバー内の圧力は、前記密閉容器内の圧力よりも高いことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】削除
【補正の内容】