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【手続補正書】
【提出日】平成20年2月28日(2008.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  アレイになった画像形成要素を用いる画像のインクリメント印字用の印字マスクを生成する方法において、
それぞれが前記画像形成要素に関連し前記印字マスクを構成しているバンドの構造を作り出すステップであって、前記バンド構造内の特定のバンドは、前記バンド構造内の他の特定のバンドと相補的であるよう定義されている、ステップと、
少なくとも１つの画像形成要素の動作に問題があると同定される少なくとも１つの特定のバンドについて、比較的低い使用率を特定するステップと、
前記少なくとも１つの特定のバンドのそれぞれと相補的であり、全ての画像形成要素が良好に働いている他のバンドについて、同じ比較的低い使用率を特定するステップと
を含む方法。
【請求項２】  前記作り出すステップは、
所望される実際の印字パスの数Ｎを設定するステップと、
前記画像について所望される有効空間的頻度乗数Ｍを確立するステップと、
前記画像形成要素と関連し前記印字マスクを構成する、バンドの全数Ｂを規定するステップであって、前記数Ｂは、積Ｂ＝Ｎ×Ｍ×２に等しい、ただし「２」という数字は、奇数および偶数の画像形成要素が存在するということを説明しており、前記印字マスクにおいて現れる前記バンドは、Ｍ個のバンドのうちの１番目のグループ、奇数および偶数Ｍ個のバンドのうちの２番目のグループ、奇数および偶数Ｍ個のバンドのうちの次のグループ、奇数および偶数・・・Ｍ個のバンドのうちの次のグループ、奇数および偶数Ｍ個のバンドのうちの（Ｎ−１）番目のグループ、奇数および偶数Ｍ個のバンドのうちのＮ番目のグループ、奇数および偶数の順になる、ステップと
を含む請求項１記載の方法。
【請求項３】  前記相補的バンドは、二値の互いに逆であり、請求項２において挙げた前記バンド構造の互い違いのグループ内にあるバンドを含む請求項２記載の方法。
【請求項４】  Ｎ＝８パスがあり、Ｍ＝２という空間的頻度の倍数があり、従って、奇数と偶数の２バンドの８つのグループがあり、
相補的バンドは、
１番目のグループ、奇数、２番目、４番目、６番目、および８番目のグループ、偶数と、
１番目のグループ、偶数、２番目、４番目、６番目、および８番目のグループ、奇数と、
２番目のグループ、奇数、３番目、５番目、および７番目のグループ、偶数と、
２番目のグループ、偶数、３番目、５番目、および７番目のグループ、奇数と、
３番目のグループ、奇数、４番目、６番目、および８番目のグループ、偶数と、
３番目のグループ、偶数、４番目、６番目、および８番目のグループ、奇数と、
４番目のグループ、奇数、５番目および７番目のグループ、偶数と、
４番目のグループ、偶数、５番目および７番目のグループ、奇数と、
５番目のグループ、奇数、６番目および８番目のグループ、偶数と、
５番目のグループ、偶数、６番目および８番目のグループ、奇数と、
６番目のグループ、奇数、７番目のグループ、偶数と、
６番目のグループ、偶数、７番目のグループ、奇数と、
７番目のグループ、奇数、８番目のグループ、偶数と、
７番目のグループ、偶数、８番目のグループ、奇数と
を含む請求項３記載の方法。
【請求項５】  前記同じ比較的低い使用率を特定するステップによって、前記マスクが滑らかになり、前記印字マスクが用いられる際の前記画像の出力印字がより滑らかになる請求項１記載の方法。
【請求項６】  前記少なくとも１つの特定のバンドは、前記アレイのどちらの端にもない画像形成要素に関連するバンドを含む請求項１記載の方法。
【請求項７】  それぞれがそれぞれのバンドに関連するすべての前記画像形成要素に、共通の使用率を割り当てるステップを含み、該割り当てるステップは、前記２つの特定するステップを含む請求項１記載の方法。
【請求項８】
少なくとも１つの特定のバンドについて比較的低い使用率を特定する前記ステップが、前記画像形成要素の動作をモニターするステップを含み、
該モニターステップに応じて、動作に問題がある画像形成素子が同定され、当該動作が問題である画像形成素子に関連するバンドが、少なくともいずれかのバンドであると特定される、請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】  画像のインクリメント印字用の印字マスクを生成し使用する装置であって、前記印字は、アレイになった画像形成要素を用い、前記アレイは２つの端を有する装置において、それぞれが前記画像形成要素に関連し前記印字マスクを構成しているバンドの幾何学的構造を作り出す手段と、前記アレイのどちらの端にもない画像形成要素に関連する少なくとも１つの特定のバンドについて、比較的低い使用率を特定する手段と、前記印字マスクを前記印字に適用する手段とを含む装置。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの前記第１および第２の特定のバンドが前記アレイの少なくともいずれかの端部に関連するバンドをさらに含む、請求項９に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月24日(2008.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 放射線ビーム（１６）を発生する放射線源（１４）と、複数の行（５４）を有していて、走査時に撮像される物体（２２）を通過した前記放射線ビームの減弱測定値を収集するように構成されているマルチ・スライス検出器（１８）とを有するマルチ・スライス計算機式断層撮影（ＣＴ）イメージング・システム（１０）において、関心領域走査（ＲＯＩＳ）時の放射線量を減少させる方法であって、前記放射線ビームを、少なくとも第一の領域（５６）と第二の領域（５８）とを有するファン形状の放射線ビームにコリメートする工程であって、前記第一の領域が前記第二の領域よりも小さい角度範囲を有するようにコリメートする工程と、前記コリメートされた放射線ビームにより関心領域（ＲＯＩ）を有する物体を走査する工程と、該走査時に収集された前記減弱測定値を用いて前記物体の画像を再構成する工程であって、該再構成は、前記放射線ビームの前記第二の領域を用いて収集された減弱測定値を利用して、前記コリメーションにより遮断された前記関心領域の外部の前記物体の部分からの投影データを推定する、該再構成する工程と、を含んでいる方法。
【請求項２】 前記物体（２２）は患者であり、前記関心領域は前記患者の関心のある器官（ＯＯＩ）である請求項１に記載の方法。
【請求項３】 前記コリメーションはプリ−ペイシェント・コリメータ（５２）を用いて行なわれる請求項２に記載の方法。
【請求項４】 前記放射線ビーム（１６）をコリメートする前記工程は、前記第一の領域（５６）の前記角度範囲を前記関心のある器官を見込む角度までに実質的に制限することを含んでおり、前記第二の領域（５８）は前記検出器の角度範囲に等しいかこれよりも大きい角度範囲を有する請求項３に記載の方法。
【請求項５】 放射線ビーム（１６）を発生する放射線源（１４）と、走査時に撮像される物体（２２）を通過した前記放射線ビームの減弱測定値を収集するように構成されている検出器（１８）とを有し、走査時に単一スライスの投影データを取得するように構成されている計算機式断層撮影（ＣＴ）イメージング・システム（１０）において、関心領域走査（ＲＯＩＳ）時の放射線量を減少させる方法であって、前記放射線ビームが相対的に厚い第一の領域（５６）と相対的に薄い第二の領域（５８）とを有するように前記放射線ビームをコリメートする工程と、物体の関心領域（ＲＯＩ）が前記放射線ビームの前記第一の領域において走査されるように、前記コリメートされた放射線ビームにより関心領域（ＲＯＩ）を有する物体を走査する工程と、該走査時に収集された前記減弱測定値を用いて前記物体の画像を再構成する工程と、を含んでいる方法。
【請求項６】 走査時に単一スライスの投影データを取得するように構成されており、可動式テーブル（４６）と、放射線ビーム（１６）を発生する放射線源（１４）と、走査時に撮像される物体（２２）を通過した前記放射線ビームの減弱測定値を収集するように構成されている検出器（１８）とを有する計算機式断層撮影（ＣＴ）イメージング・システム（１０）において、関心領域走査（ＲＯＩＳ）時の放射線量を減少させる方法であって、前記テーブルに載置されている物体を複数回にわたって走査する工程であって、前記物体は関心領域（ＲＯＩ）を有しており、前記走査のうち何回かは、縮小した角度範囲を有するように前記放射線ビームをコリメートしている間に行なわれ、少なくとも１回の走査は前記放射線ビームの全角度範囲を用いて行なわれる、走査する工程と、走査の間で前記テーブルに番号付けする工程と、前記放射線ビームの縮小した角度範囲を用いて行なわれた前記走査において欠落した情報を供給するために、前記放射線ビームの全範囲を用いて行なわれた前記少なくとも１回の走査時に取得されたデータを用いて、前記物体の画像を再構成する工程と、を含んでいる方法。
【請求項７】 減少した量の放射線を用いて関心領域走査（ＲＯＩＳ）を行なうマルチ・スライス計算機式断層撮影（ＣＴ）イメージング・システム（１０）であって、放射線ビーム（１６）を発生する放射線源（１４）と、前記放射線ビームを少なくとも第一の領域（５６）と第二の領域（５８）とを有するファン形状の放射線ビームにコリメートするように構成されているコリメータであって、前記第一の領域が前記第二の領域よりも小さい角度範囲を有するようにするコリメータと、複数の行（５４）を有しており、走査時に撮像される物体（２２）を通過した前記放射線ビームの減弱測定値を収集するように構成されているマルチ・スライス検出器（１８）と、を備えているマルチ・スライス計算機式断層撮影イメージング・システム（１０）。
【請求項８】 前記イメージング・システムは、前記コリメートされたファン形状の放射線ビーム（１６）により関心領域（ＲＯＩ）を有する物体（２２）を走査し、該走査時に収集された前記減弱測定値を用いて前記物体の画像を再構成するように構成されており、該再構成の際、前記放射線ビームの前記第二の領域（５８）を用いて収集された減弱測定値を利用して、前記コリメータにより遮断された前記関心領域の外部の前記物体の部分からの投影データを推定する請求項７に記載のイメージング・システム（１０）。
【請求項９】 前記コリメータはプリ−ペイシェント・コリメータ（５２）である請求項８に記載のイメージング・システム（１０）。
【請求項１０】 走査時に単一スライスの投影データを取得するように構成されており、放射線ビーム（１６）を発生するように構成されている放射線源（１４）と、走査時に撮像される物体（２２）を通過した前記放射線ビームの減弱測定値を収集するように構成されている検出器（１８）とを備えており、関心領域走査（ＲＯＩＳ）時に放射線量を減少させる計算機式断層撮影（ＣＴ）イメージング・システム（１０）であって、また、前記放射線ビームが相対的に厚い第一の領域（５６）と相対的に薄い第二の領域（５８）とを有するように前記放射線ビームをコリメートし、物体の関心領域（ＲＯＩ）が前記放射線ビームの前記第一の領域において走査されるように、前記コリメートされた放射線ビームにより関心領域を有する物体を走査し、該走査時に収集された前記減弱測定値を用いて前記物体の画像を再構成するように構成されている計算機式断層撮影（ＣＴ）イメージング・システム（１０）。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月20日(2008.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  打球プレートと、ヒールエンドと、トオエンドとキャビティを有する本体と、
前記本体のキャビティ内に配置され、少なくとも高密度成分と結合成分と酸化防止成分を有する複数成分材料から成るウエイト調整部材と、
からなるゴルフクラブヘッド。
【請求項２】  複数成分材料は、タングステン、銅及び酸化防止成分を有する請求項１に記載のゴルフクラブヘッド。
【請求項３】  タングステン成分がウエイト調整部材の５−９０重量％、銅成分がウエイト調整部材の５−４０重量％及び酸化防止成分が０．５−１０重量％である請求項２に記載のゴルフクラブヘッド。
【請求項４】  打球プレートと、トオエンドと、ヒールエンドと、打球プレートと反対側の主背面キャビティを持ち、該主背面キャビティが頂部壁と、所定の形状の第２のキャビティを持つ底部壁と、ヒール壁とトオ壁とにより画定される本体と、
前記第２のキャビティ内に配置されてキャビティの全てを占め、少なくとも、高密度成分と結合成分と酸化防止成分とを有する複数成分材料から成るウエイト調整部材と、
からなるゴルフクラブヘッド。
【請求項５】  複数成分材料はタングステン、銅及び酸化防止成分を有する請求項４に記載のゴルフクラブヘッド。
【請求項６】  酸化防止成分はクロム、ニッケル−クロム、ステンレススチール、ニッケルスーパー合金及びその他のクロム合金の群から選択される請求項５に記載のゴルフクラブヘッド。
【請求項７】  ゴルフクラブヘッドの本体のキャビティに複数成分材料を導入する工程と、
前記複数成分の少なくとも一成分を液相焼結するためにその液相温度に加熱するために複数成分材料を加熱する加熱工程と、
を有するゴルフクラブヘッドの製造方法。
【請求項８】  複数成分材料は、タングステン、銅及び酸化防止成分から成る請求項７に記載の方法。
【請求項９】  酸化防止成分は、クロム、ニッケル−クロム、ステンレススチール、ニッケルスーパー合金、及びその他のクロム合金の群から選択される請求項８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月20日(2008.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  打撃プレート、ヒールエンド、トーエンド、及びキャビティを備えたボディと、
上記ボディの上記キャビティに設置され、加圧された複数構成材料粉末からなるウエイト部材とを含み、上記複数構成材料粉末は、上記複数構成材料粉末の容積の50％から95％のタングステン、及び上記複数構成材料粉末の容積の50％から5％のスズを含む、ゴルフクラブヘッド。
【請求項２】  上記ウエイト部材は、12.0ｇ/cm3から17.0ｇ/cm3までの範囲の密度を有する、請求項１記載のゴルフクラブヘッド。
【請求項３】  上記ウエイト部材は、上記複数構成材料粉末の理論密度の80％から99％までの密度を有する、請求項１記載のゴルフクラブヘッド。
【請求項４】  打撃プレート、トーエンド、ヒールエンド、及び主要リアキャビティであって、上面、所定形状の第２のキャビティを有する底面、ヒール面、及びトー面によって画成された上記打撃プレートの反対側の主要リアキャビティを有するボディと、
上記第２のキャビティ内に設置され、上記キャビティ全体に充てんされ、加圧された複数構成材料粉末からなるウエイト部材とを含み、上記複数構成材料粉末は、上記複数構成材料粉末の容積の50％から95％のタングステン、及び上記複数構成材料粉末の容積の50％から5％のスズを含む、ゴルフクラブヘッド。
【請求項５】  複数構成材料をゴルフクラブヘッドのボディのキャビティ内に案内し、
上記キャビティ内の上記複数構成材料を20,000×0.07030kg/cm2から150,000×0.07030kg/cm2の範囲の圧力で加圧することを含む、ゴルフクラブヘッド製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月28日(2008.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】    【請求項１】 複数の情報サーバとユーザ側の端末装置とがネットワークで接続され、ユーザ側の端末装置は、前記情報サーバにアクセスして情報を利用する情報利用システムであって、前記情報サーバへのアクセスに用いられる弁別情報と、任意の桁数の番号とを対応させて記憶する記憶手段と、ユーザ側の端末装置が前記番号を入力すると、前記記憶手段から対応する情報サーバの弁別情報を取り出し、前記端末装置に送る弁別情報変換手段と、前記情報サーバにアクセスするため、前記端末装置が前記各番号を入力してアクセスするアクセス回数をカウントするカウント手段と、前記アクセス回数に基づいて、前記各ユーザがアクセスした総アクセス回数を各ユーザ毎に算出する第１のアクセス総数算出手段と、前記各ユーザに対して、前記各ユーザの総アクセス回数に応じて課金処理を行う課金手段と、を具備することを特徴とする情報利用システム。    【請求項２】 前記アクセス回数に基づいて、前記各番号に対する総アクセス回数を算出する第２のアクセス総数算出手段と、前記課金手段により徴収された金額を、前記各番号に対する総アクセス回数に応じて、前記各情報サーバに分配する分配手段を、更に具備することを特徴とする請求項１記載の情報利用システム。    【請求項３】 前記番号は、プライオリティが設けられ、前記分配手段は、プライオリティに基づいて、前記各情報サーバに対して分配を行うことを特徴とする請求項２記載の情報利用システム。    【請求項４】 ネットワークにより、複数の情報サーバとユーザ側の端末装置に接続されるサーバコンピュータであって、前記情報サーバへのアクセスに用いられる弁別情報と、任意の桁数の番号とを対応させて記憶する記憶手段と、ユーザ側の端末装置が前記番号を入力すると、前記記憶手段から対応する情報サーバの弁別情報を取り出し、前記端末装置に送る弁別情報変換手段と、前記情報サーバにアクセスするため、前記端末装置が前記各番号を入力してアクセスするアクセス回数をカウントするカウント手段と、前記アクセス回数に基づいて、前記各ユーザがアクセスした総アクセス回数を各ユーザ毎に算出する第１のアクセス総数算出手段と、前記各ユーザに対して、前記各ユーザの総アクセス回数に応じて課金処理を行う課金手段と、を具備することを特徴とするサーバコンピュータ。    【請求項５】 前記アクセス回数に基づいて、前記各番号に対する総アクセス回数を算出する第２のアクセス総数算出手段と、前記課金手段により徴収された金額を、前記各番号に対する総アクセス回数に応じて、前記各情報サーバに分配する分配手段を、更に具備することを特徴とする請求項４記載のサーバコンピュータ。    【請求項６】 前記番号は、プライオリティが設けられ、前記分配手段は、プライオリティに基づいて、前記各情報サーバに対して分配を行うことを特徴とする請求項５記載のサーバコンピュータ。    【請求項７】 ネットワークにより、複数の情報サーバとユーザ側の端末装置とがネットワークで接続され、ユーザ側の端末装置は、前記情報サーバにアクセスして情報を利用する情報利用システムであって、前記情報サーバへのアクセスに用いられる弁別情報と、任意の桁数の番号とを対応させて記憶す���記憶手段と、ユーザ側の端末装置が前記番号を入力すると、前記記憶手段から対応する情報サーバの弁別情報を取り出し、前記端末装置に送る弁別情報変換手段と、前記情報サーバにアクセスするため、前記端末装置が前記各番号を入力してアクセスするアクセス回数をカウントするカウント手段と、前記アクセス回数に基づいて、前記各ユーザがアクセスした総アクセス回数を各ユーザ毎に算出する第１のアクセス総数算出手段と、前記各ユーザに対して、前記各ユーザの総アクセス回数に応じて課金処理を行う課金手段と、として機能させるためのプログラムを保持する媒体。    【請求項８】 ユーザ側の端末装置がネットワークを介して情報サーバへのアクセスに用いられる弁別情報に対応させて任意の桁数の番号を記録した媒体。    【請求項９】 前記番号に対するプライオリティが更に記録されたことを特徴とする請求項８記載の媒体。    【請求項１０】 請求項１記載の情報利用システムに用いられることを特徴とする端末装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月25日(2008.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ウェハ上にポリイミド溶剤を所定時間に複数回数ディスペンスするステップと、
ウェハ上にポリイミド溶剤をディスペンスする前記ステップに続いて、前記ウェハ上にポリイミドをディスペンスするステップとを含む、溶剤のコーティング方法。
【請求項２】  所定時間、前記ポリイミド溶剤をディスペンスする前記ステップはさらに、所定時間の間に、２ｍｌ以上の前記ポリイミド溶剤をディスペンスするステップを含む、請求項１に記載の溶剤のコーティング方法。
【請求項３】  所定時間、前記ポリイミド溶剤をディスペンスする前記ステップはさらに、所定時間の間に、実質的に２ｍｌの前記ポリイミド溶剤をディスペンスするステップを含む、請求項１に記載の溶剤のコーティング方法。
【請求項４】  ウェハ上にポリイミド溶剤をディスペンスする前記ステップはさらに、前記ウェハを回転させるステップを含む、請求項１に記載の溶剤のコーティング方法。
【請求項５】  ウェハ上にポリイミド溶剤をディスペンスする前記ステップはさらに、静止位置に保持された前記ウェハ上に前記ポリイミド溶剤をディスペンスするステップを含む、請求項１に記載の溶剤のコーティング方法。
【請求項６】  ウェハ上にポリイミド溶剤をディスペンスする前記ステップはさらに、実質的に前記ウェハの中心点近くに前記ポリイミド溶剤をディスペンスするステップを含む、請求項１に記載の溶剤のコーティング方法。
【請求項７】  ウェハ上にポリイミド溶剤をディスペンスする前記ステップはさらに、前記ウェハ上にポリイミドの懸濁剤をディスペンスするステップを含む、請求項１に記載の溶剤のコーティング方法。
【請求項８】  ウェハ上にポリイミド溶剤をディスペンスする前記ステップはさらに、前記ウェハ上にＮ−メチル・ピロリドン（ＮＭＰ）をディスペンスするステップを含む、請求項１に記載の溶剤のコーティング方法。
【請求項９】  前記ウェハ上に前記ポリイミド溶剤をディスペンスする前記ステップに続いて、前記ウェハ上にポリイミドをディスペンスする前記ステップはさらに、所定時間、前記ポリイミドをディスペンスするステップを含む、請求項１に記載の溶剤のコーティング方法。
【請求項１０】  所定時間、前記ポリイミドをディスペンスする前記ステップはさらに、所定時間の間に、１．１５ｇ以上のポリイミドをディスペンスするステップを含む、請求項９に記載の溶剤のコーティング方法。
【請求項１１】  所定時間の間に、１．１５ｇ以上のポリイミドを前記ウェハ上にディスペンスする前記ステップはさらに、所定時間の間に、１．３ｇ以外の前記ポリイミドをディスペンスするステップを含む、請求項１０に記載の溶剤のコーティング方法。
【請求項１２】  所定時間、前記ポリイミドをディスペンスする前記ステップはさらに、所定時間の間に、前記ポリイミド溶剤が前記ウェハ上にディスペンスされない場合に許容可能なウェハ性能を得るために必要なポリイミド量より少ない量のポリイミドをディスペンスするステップを含む、請求項９に記載の溶剤のコーティング方法。
【請求項１３】  前記ウェハはさらに、ＤＲＡＭチップ以外のチップを包含する、請求項１に記載の溶剤のコーティング方法。
【請求項１４】  ウェハ上に物質の溶剤をディスペンスするステップと、
ウェハ上に前記溶剤をディスペンスする前記ステップに続いて、前記ウェハ上に前記物質をディスペンスするステップとを含む、製造を改善するための溶剤のコーティング方法。
【請求項１５】  前記物質がポリイミドである、請求項１４に記載の溶剤のコーティング方法。
【請求項１６】  ウェハ上に物質の溶剤をディスペンスする前記ステップはさらに、前記ウェハを回転させるステップを含む、請求項１４に記載の溶剤のコーティング方法。
【請求項１７】  ウェハ上に物質の溶剤をディスペンスする前記ステップはさらに、静止位置に保持された前記ウェハ上に前記溶剤をディスペンスするステップを含む、請求項１４に記載の溶剤のコーティング方法。
【請求項１８】  ウェハ上に物質の溶剤をディスペンスする前記ステップはさらに、実質的に前記ウェハの中心点近くに前記溶剤をディスペンスするステップを含む、請求項１４に記載の溶剤のコーティング方法。
【請求項１９】  ウェハ上にポリイミド溶剤をディスペンスする前記ステップはさらに、前記ウェハ上に前記物質の懸濁剤をディスペンスするステップを含む、請求項１５に記載の溶剤のコーティング方法。
【請求項２０】  ウェハ上に前記物質の懸濁剤をディスペンスする前記ステップはさらに、前記ウェハ上にＮ−メチル・ピロリドン（ＮＭＰ）をディスペンスするステップを含む、請求項１９に記載の溶剤のコーティング方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月3日(2008.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面上に保温膜を形成し、
前記絶縁表面及び前記保温膜上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜上に反射膜を形成し、
前記反射膜のうち、前記保温膜上に形成された領域を除去し、
前記絶縁表面に対して前記半導体膜が形成されている側から前記半導体膜にレーザビームを照射して、結晶質半導体膜を形成し、
前記結晶質半導体膜のうち、前記保温膜上に形成された領域を用いて薄膜トランジスタのチャネル形成領域を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
絶縁表面上に保温膜を形成し、
前記絶縁表面及び前記保温膜上に第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜を部分的にエッチングし、
前記絶縁表面及び前記第１の絶縁膜上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜上に第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜上に反射膜を形成し、
前記反射膜のうち、前記保温膜上に形成された領域を除去し、
前記絶縁表面に対して前記半導体膜が形成されている側から前記半導体膜にレーザビームを照射して、結晶質半導体膜を形成し、
前記結晶質半導体膜のうち、前記保温膜上に形成された領域を用いて薄膜トランジスタのチャネル形成領域を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
絶縁表面上に保温膜を形成し、
前記絶縁表面及び前記保温膜上に第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜を部分的にエッチングし、
前記絶縁表面及び前記第１の絶縁膜上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜上に第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜上に反射膜を形成し、
前記反射膜のうち、前記保温膜上に形成された領域を除去し、
前記第２の絶縁膜のうち、前記反射膜と重ならない領域を除去し、
前記絶縁表面に対して前記半導体膜が形成されている側から前記半導体膜にレーザビームを照射して、結晶質半導体膜を形成し、
前記結晶質半導体膜のうち、前記保温膜上に形成された領域を用いて薄膜トランジスタのチャネル形成領域を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項２または３において、前記第１の絶縁膜として、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜、または酸化珪素膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項２乃至４のいずれか一において、前記第２の絶縁膜として、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜、または酸化珪素膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一において、前記反射膜のうち、前記保温膜上に形成された領域を除去して、少なくとも１つの頂点の角度が６０度未満である頂点を有する多角形の上面形状を有する反射膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一において、前記保温膜として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル基、フェニル基、またはＣＦ３基を含有する酸化珪素膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項１乃至６のいずれか一において、前記保温膜として、多孔質珪素膜、または多孔質酸化珪素膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一において、前記反射膜として、金属膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一において、前記絶縁表面と前記保温膜との間に、下地絶縁膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月19日(2008.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面上に形成された、ＥＬ素子の下部電極及び遮光性を有する導電層と、
前記下部電極上に形成されたＥＬ層と、
前記ＥＬ層上に形成された前記ＥＬ素子の上部電極と、を有し、
前記下部電極の端部は、前記導電層に接していることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタを覆って形成された絶縁層と、
前記絶縁層上に形成された、ＥＬ素子の下部電極及び遮光性を有する導電層と、
前記下部電極上に形成されたＥＬ層と、
前記ＥＬ層上に形成された前記ＥＬ素子の上部電極と、を有し、
前記導電層は、前記薄膜トランジスタに電気的に接続されており、
前記下部電極の端部は、前記導電層に接していることを特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記下部電極の端部は、前記導電層の上に重なって接していることを特徴とする発光装置。
【請求項４】
請求項１又は請求項２において、
前記下部電極の端部は、前記導電層の下に重なって接していることを特徴とする発光装置。
【請求項５】
絶縁表面上に形成された、ＥＬ素子の下部電極及び遮光性を有する絶縁層と、
前記下部電極上に形成されたＥＬ層と、
前記ＥＬ層上に形成された前記ＥＬ素子の上部電極と、を有し、
前記下部電極の端部は、前記絶縁層に覆われていることを特徴とする発光装置。
【請求項６】
薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタを覆って形成された第１の絶縁層と、
前記第１の絶縁層上に形成された、ＥＬ素子の下部電極及び導電層と、
前記下部電極の端部及び前記導電層を覆って形成された遮光性を有する第２の絶縁層と
前記下部電極上に形成されたＥＬ層と、
前記ＥＬ層上に形成された前記ＥＬ素子の上部電極と、を有し、
前記導電層は、前記薄膜トランジスタに電気的に接続されており、
前記下部電極の端部は、前記第２の絶縁層に覆われていることを特徴とする発光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月22日(2008.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
(1) 多孔質フィルムの融解温度（℃）
示差走査型熱量分析装置（セイコー電子社製、ＲＤＣ２２０）で、室温から１５０℃まで１０℃／ｍｉｎで昇温させたときの示差走査熱量測定（ＤＳＣ）を行い、昇温ＤＳＣ曲線を得て、ＪＩＳ−Ｋ７１２１に規定される方法で融解温度を求めた。得られた昇温ＤＳＣ曲線を図２（多孔質フィルムＡ）、図３（多孔質フィルムＢ）に示す。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
(3) 透湿度（ｇ／ｍ2 ・２４ｈｒ）
ＪＩＳ−Ｌ１０９９のＡ−１法に規定される方法で透湿度を測定した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2008114530.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月10日(2008.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
糊を収容する接着剤槽と、
固形糊を前記接着剤槽に補給する補給手段と、
前記補給手段により前記接着剤槽に補給された固形糊を溶解する溶解手段と、
前記溶解手段により前記接着剤槽で溶解された糊を冊子に塗布する塗布部材と、
前記接着剤槽において、前記補給手段により固形糊が補給される箇所と前記塗布部材との間を隔離する隔離手段と、を有することを特徴とする製本装置。
【請求項２】
前記隔離手段は、固形糊の前記塗布部材への移動を規制することを特徴とする請求項１に記載の製本装置。
【請求項３】
前記隔離手段はフェンス部を有することを特徴とする請求項１または２に記載の製本装置。
【請求項４】
前記塗布部材は、前記接着剤槽にて、溶解した糊に浸漬した状態で回転し、前記糊を掬い上げる塗布ローラを有することを特徴とする請求項３に記載の製本装置。
【請求項５】
前記フェンス部は、前記塗布ローラが回転している状態における前記接着剤槽中の糊の液面と同じ位置にあるように配設されることを特徴とする請求項４に記載の製本装置。
【請求項６】
前記フェンス部は、前記塗布ローラが停止している状態では、前記接着剤槽中の糊の液面より低い位置にあるように配設されることを特徴とする請求項４または５に記載の製本装置。
【請求項７】
前記フェンス部は、溶解途中あるいは溶解済みの糊を通過可能とする通路を有し、
前記塗布ローラが糊を介して用紙に接触する接触位置を挟んで前記塗布ローラを２つに分けたとき、前記通路は、前記接触位置に対して前記塗布ローラの回転方向下流側に設けられることを特徴とする請求項３乃至５のいずれか１項に記載の製本装置。
【請求項８】
前記補給手段は、前記接着剤槽がホームポジションに位置しているときに、固形糊を前記接着剤槽に補給することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の製本装置。
【請求項９】
前記塗布ローラの外周面上に位置し、前記塗布ローラから溶解途中の糊を剥離する剥離部材を有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の製本装置。
【請求項１０】
前記剥離部材は、少なくとも前記塗布ローラと冊子とが接触する最大領域にわたって設けられていることを特徴とする請求項９に記載の製本装置。
【請求項１１】
前記接着剤槽に収容された糊の液面を検知する接着剤量センサを有することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の製本装置。
【請求項１２】
用紙に画像を形成する画像形成装置、及び該画像形成装置からの用紙を受け取って、糊付け製本する請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の製本装置を有することを特徴とする製本システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
画像形成から製本までの作業が一貫処理される製本システムにおいて用いられる、冊子毎に接着剤を塗布して用紙を束ねる製本装置が知られている。このような製本装置においては、接着剤としてホットメルト接着剤が用いられ、塗布による消費に応じて、接着剤のペレット（固形糊）を少量ずつ補給することにより製本作業が連続して行われる。
特許文献１では、用紙束の背に沿って塗布ローラを移動させることにより、接着剤を用紙束に塗布し、塗布ローラが浸漬している溶融接着剤槽に接着剤のペレットを数個単位の少量ずつ定量補給する補給装置が開示されている。
特許文献２では、塗布ローラが配設される第１収容部とペレットが補給される第２収容部とを隔壁で区割し、塗布ローラの回転軸と隔壁との間に、液状接着剤の流動が可能な連通孔を形成することが開示されている。
【特許文献１】特開２００４−２０９７４６号公報
【特許文献２】特開２００７−７６１１８号公報
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
１．糊を収容する接着剤槽と、固形糊を前記接着剤槽に補給する補給手段と、前記補給手段により前記接着剤槽に補給された固形糊を溶解する溶解手段と、前記溶解手段により前記接着剤槽で溶解された糊を冊子に塗布する塗布部材と、前記接着剤槽において、前記補給手段により固形糊が補給される箇所と前記塗布部材との間を隔離する隔離手段と、を有することを特徴とする製本装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月9日(2008.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
底壁(1)の周囲に各一対の側壁(2)及び端壁(3)を設け、側壁(2)を、底壁(1)側から延出した外側板(4)を有するものとし、外側板(4)の側端から延出した内折片(7)と、端壁(3)の側端から延出した折返片(8)とを斜め方向の隅折線(9)を介して繋ぎ、外側板(4)の裏面に内折片(7)を貼り付け、内折片(7)と折返片(8)とを隅折線(9)沿いに谷折りしつつ重ね合わせ、端壁(3)の上端から延びる桟板(10)の側部に突設した差込片(11)を、側壁(2)に設けた差込穴(12)に差し込んで保形する段ボール製トレーにおいて、
前記内折片(7)を延長して、内折片(7)の基部への切り込みにより折返片(8)を形成し、内折片(7)を外側板(4)の裏面に貼り付けたことを特徴とする段ボール製トレー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記課題を解決するため、この発明は、底壁の周囲に各一対の側壁及び端壁を設け、側壁を、底壁側から延出した外側板を有するものとし、外側板の側端から延出した内折片と、端壁の側端から延出した折返片とを斜め方向の隅折線を介して繋ぎ、外側板の裏面に内折片を貼り付け、内折片と折返片とを隅折線沿いに谷折りしつつ重ね合わせ、端壁の上端から延びる桟板の側部に突設した差込片を、側壁に設けた差込穴に差し込んで保形する段ボール製トレーにおいて、前記内折片を延長して、内折片の基部への切り込みにより折返片を形成し、内折片を外側板の裏面に貼り付けたのである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
この段ボール製トレーでは、内折片を外側板に貼り付けるだけで、容易に低コストで製造することができ、また、製造時の折畳状態から端壁を引き起こすだけで、各一対の側壁及び端壁が起立状態に形成されるので、使用に際して、簡単かつ迅速に組み立てることができ、使用後には、逆の手順で簡単に解体できる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月1日(2008.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像形成装置において第１の端部から回転の駆動力が伝達されることにより回転させられる円筒状基体と、
前記円筒状基体上に形成される感光層と、
を備え、
潜像形成領域における暗電位は、前記円筒状基体の軸方向に沿って同一の帯電能力で帯電させた場合に、前記第１の端部から該第１の端部とは反対側の第２の端部に向かって漸次大きくなることを特徴とする、電子写真感光体。
【請求項２】
前記感光層は、光導電層を含んでなり、
前記潜像形成領域における暗電位は、前記軸方向において、前記第１の端部から前記第２の端部に向かって漸次大きい、請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
前記感光層は、光導電層および表面層を含んでなり、
前記潜像形成領域における暗電位は、前記軸方向において、前記第１の端部から前記第２の端部に向かって漸次大きい、請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
前記軸方向における前記第１の端部側の端からの距離と、３００Ｖ以上６００Ｖ以下の中から選定される一の電圧値で前記感光層を帯電させたときの前記軸方向の暗電位の測定値との関係を示す１次近似直線の傾きは、０．４Ｖ／ｃｍ以上１．５Ｖ／ｃｍ以下である、請求項１ない３のいずれかに記載の電子写真感光体。
【請求項５】
前記軸方向における前記第１の端部側の端からの距離と、３００Ｖ以上６００Ｖ以下の中から選定される一の電圧値で前記感光層を帯電させたときの前記軸方向の暗電位の測定値との関係を示す１次近似直線により得られる値と、前記測定値との差の絶対値は、１０Ｖ以下である、請求項４に記載の電子写真感光体。
【請求項６】
前記感光層は、シリコン系無機物材料を含んでいる、請求項１ないし５のいずれかに記載の電子写真感光体。
【請求項７】
円筒状基体および該円筒状基体上に形成される感光層を含んでなる電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の軸方向における第１の端部に回転の駆動力を伝達する駆動力伝達部と、
前記軸方向に沿って同一の帯電能力を有する帯電器と、
を備え、
前記電子写真感光体における潜像形成領域の暗電位は、前記基体の軸方向に沿って同一の帯電能力で帯電させた場合に、前記第１の端部から前記第１の端部とは反対側の第２の端部に向かって漸次大きくなることを特徴とする、画像形成装置。
【請求項８】
前記感光層は、光導電層を含んでなり、
前記潜像形成領域における暗電位は、前記軸方向において、前記第１の端部から前記第２の端部に向かって漸次大きい、請求項７に記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記感光層は、光導電層および表面層を含んでなり、
前記潜像形成領域における暗電位は、前記軸方向において、前記第１の端部から前記第２の端部に向かって漸次大きい、請求項７に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
前記軸方向における前記第１の端部側の端からの距離と、３００Ｖ以上６００Ｖ以下の中から選定される一の電圧値で前記感光層を帯電させたときの前記軸方向の暗電位の測定値との関係を示す１次近似直線の傾きは、０．４Ｖ／ｃｍ以上１．５Ｖ／ｃｍ以下である、請求項７ないし９のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項１１】
前記１次近似直線により得られる値と、前記測定値との差の絶対値は、１０Ｖ以下である、請求項１０に記載の画像形成装置。
【請求項１２】
前記感光層は、シリコン系無機物材料を含んでいる、請求項７ないし１１のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項１３】
前記帯電器は、非接触型帯電器であり、
前記潜像形成領域における前記感光層から前記帯電器までの距離は、前記軸方向において、前記第１の端部から前記第２の端部に向かうにつれて、漸次長くなる、請求項７ないし１２のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項１４】
前記軸方向における前記第１の端部側の端からの距離と、前記潜像形成領域における前記感光層から前記非接触型帯電器までの距離の測定値との関係を示す１次近似直線の傾きの絶対値は、１０μｍ／ｃｍ以上１００μｍ／ｃｍ以下である、請求項１３に記載の画像形成装置。
【請求項１５】
前記軸方向における前記第１の端部側の端からの距離と、前記潜像形成領域における前記感光層から前記非接触型帯電器までの距離の測定値との関係を示す１次近似直線により得られる値と、該前記測定値との差の絶対値は、７００μｍ以下である、請求項１４に記載の画像形成装置。
【請求項１６】
前記帯電器は、接触型帯電器であり、
前記潜像形成領域における前記感光層と前記接触型帯電器とのニップ幅は、前記軸方向において、前記第１の端部から前記第２の端部に向かって、漸次小さくなる、請求項７ないし１２のいずれか１つに記載の画像形成装置。
【請求項１７】
前記軸方向における前記第１の端部側の端からの距離と、前記ニップ幅の測定値との関係を示す１次近似直線の傾きは、０．００４ｍｍ／ｃｍ以上０．０８ｍｍ／ｃｍ以下である、請求項１６に記載の画像形成装置。
【請求項１８】
前記軸方向における前記第１の端部側の端からの距離と、前記ニップ幅の測定値との関係を示す１次近似直線により得られる値と該測定値との差の絶対値は、０．５ｍｍ以下である、請求項１７に記載の画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月19日(2007.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
慣性モーメントが変化する回転体の回転特性をシミュレートする回転特性シミュレート装置であって、
前記回転体への入力トルクと該回転体の慣性モーメントとに基づいて、所定周期で繰り返す標本化時期ごとに、該回転体の回転速度を求める回転速度算出部と、
前記回転体の、次期標本化時期の慣性モーメントを求めて前記回転速度算出部に設定する慣性モーメント算出部とを備えたことを特徴とする回転特性シミュレート装置。
【請求項２】
前記回転体は、遠心力の強さに応じた位置に並進する並進部材を有し該並進部材の並進に応じて慣性モーメントが変化する回転体であって、
前記慣性モーメント算出部が、
前記回転体の現在の回転速度に基づいて、前記並進部材の、次期標本化時期における並進位置を求める並進位置算出部と、
前記回転体の、前記並進部材が前記並進位置算出部で算出された並進位置に移動したときの慣性モーメントを求める並進回転変換部とを備えたことを特徴とする請求項１記載の回転特性シミュレート装置。
【請求項３】
前記慣性モーメント算出部は、前記回転速度算出部における前記回転体の次期標本化時期の回転速度の算出に先立って該回転体の該次期標本化時期の慣性モーメントを求めて前記回転速度算出部に設定するものであり、
前記回転速度算出部は、前記回転体への前記次期標本化時期の入力トルクと、前記慣性モーメント算出部から今回設定を受けた該次期標本化時期の慣性モーメントとに基づいて、前記回転体の、該次期標本化時期の回転速度を求めるものであることを特徴とする請求項１又は２記載の回転特性シミュレート装置。
【請求項４】
コンピュータ内で実行され、該コンピュータを、慣性モーメントが変化する回転体の回転特性をシミュレートする回転特性シミュレート装置として動作させる回転特性シミュレートプログラムを記憶した回転特性シミュレートプログラム記憶媒体であって、
前記コンピュータを、
前記回転体への入力トルクと該回転体の慣性モーメントとに基づいて、所定周期で繰り返す標本化時期ごとに、該回転体の回転速度を求める回転速度算出部と、
前記回転体の、次期標本化時期の慣性モーメントを求めて前記回転速度算出部に設定する慣性モーメント算出部とを備えた回転特性シミュレート装置として動作させる回転特性シミュレートプログラムを記憶したことを特徴とする回転特性シミュレートプログラム記憶媒体。
【請求項５】
前記回転体は、遠心力の強さに応じた位置に並進する並進部材を有し該並進部材の並進に応じて慣性モーメントが変化する回転体であって、
前記慣性モーメント算出部が、
前記回転体の現在の回転速度に基づいて、前記並進部材の、次期標本化時期における並進位置を求める並進位置算出部と、
前記回転体の、前記並進部材が前記並進位置算出部で算出された並進位置に移動したときの慣性モーメントを求める並進回転変換部とを備えた回転特性シミュレート装置として動作させる回転特性シミュレートプログラムを記憶したことを特徴とする請求項４記載の回転特性シミュレートプログラム記憶媒体。
【請求項６】
前記慣性モーメント算出部は、前記回転速度算出部における前記回転体の次期標本化時期の回転速度の算出に先立って該回転体の該次期標本化時期の慣性モーメントを求めて前記回転速度算出部に設定するものであり、
前記回転速度算出部は、前記回転体への前記次期標本化時期の入力トルクと、前記慣性モーメント算出部から今回設定を受けた該次期標本化時期の慣性モーメントとに基づいて、前記回転体の、該次期標本化時期の回転速度を求めるものであることを特徴とする請求項４又は５記載の回転特性シミュレートプログラム記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】回転特性シミュレート装置および回転特性シミュレートプログラム記憶媒体
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月30日(2008.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サービスプロバイダーによりユーザーのために品質管理プログラムを実行する方法であって、
前記ユーザーから前記サービスプロバイダーへ製品仕様、すなわち、重要寸法の範囲、薄膜厚さ、各膜のブロードバンド光学定数及び使われる測定ハードウェアの入射角など、プロセスに関する情報を送る工程と、
前記仕様に基づき前記製品の重要寸法（ＣＤ）、断面プロファイル（ｘＰ）等のプロファイルの、製品仕様ごとに作成されるスペクトルとプロファイルの対の電子的集合であるライブラリを作成する工程とを備え、
前記ライブラリが、分光信号及び結合波アルゴリズムを使用するソフトウェアによって作成され、
更に、製造された製品が前記仕様範囲内にあることを確認するために、前記ライブラリのプロファイルを前記製造された製品の１以上のプロファイルと比較する工程を備えた、方法。
【請求項２】
前記仕様がインターネット又はイントラネットを経由して前記サービスプロバイダーに送られる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記製品がウェーハ製品である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
認証されていないユーザーによるアクセスを阻止するために、前記ライブラリを暗号化する工程をさらに備えた、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ライブラリのユーザーに請求書を作成送付する工程をさらに備えた、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記請求書作成送付が、作成したライブラリの数に基づく、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記請求書作成送付が、定期的予約料に基づく、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記請求書作成送付が、製造された製品と前記ライブラリとの間でなされた比較の数に基づく、請求項５に記載の方法。
【請求項９】
前記プロファイルの作成で利用される屈折率（ｎ）及び減衰係数（ｋ）の値を抽出する工程をさらに備えた、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記ライブラリの適合性の良さを検証する工程をさらに備えた、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
良好な適合が達成されない場合に、前記ライブラリ作成に利用されるパラメータを訂正する工程をさらに備えた、請求項１０に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月15日(2008.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
請求項１に記載の情報処理装置において、
前記圧縮プログラムの各命令ビットフィールドの所定箇所には、当該命令ビットフィールドに圧縮された命令が格納されているか否かを示す識別子が記録されており、
前記命令バッファは、前記識別子に基づいて、圧縮された命令を格納しているか否かを示す第２の信号を出力するものであり、
前記第２のセレクタは、前記第２の信号に基づいて、前記二つの入力信号のいずれか一方を選択するものである
ことを特徴とする情報処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
請求項１に記載の情報処理装置において、
前記圧縮プログラムの各命令ビットフィールドの所定箇所には、当該命令ビットフィールドに圧縮された命令が格納されているか否かを示す識別子が付加されており、
前記命令バッファは、前記識別子に基づいて、圧縮された命令を格納しているか否かを示す第２の信号を出力するものであり、
前記制御部は、前記第２の信号を受け、前記第２のセレクタに対して、前記第２の信号が前記命令バッファに圧縮された命令が含まれていないことを示しているとき、前記命令バッファからの信号を選択するように指示する一方、前記第２の信号が前記命令バッファに圧縮された命令が含まれていることを示しているとき、前記命令伸長部からの信号を選択するように指示するものである
ことを特徴とする情報処理装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
原プログラムに含まれる命令を圧縮して圧縮プログラムを生成する方法であって、
前記原プログラムを順次スキャンして、前記原プログラムの中から連続所定個の圧縮対象命令を選択するステップと、
前記選択された連続所定個の圧縮対象命令のうち所定番目以外のものに分岐先を示すラベルが付与されているか否かを判定するステップと、
前記ラベルが付与されていることが判定されたとき、前記圧縮プログラムにおける一つの命令ビットフィールドに、前記選択された連続所定個の圧縮対象命令のうち先頭のものを圧縮せずに格納する一方、前記ラベルが付与されていないことが判定されたとき、前記命令ビットフィールドに、前記選択された連続所定個の圧縮対象命令のそれぞれを圧縮して格納するステップと、
前記圧縮プログラムにおける各命令ビットフィールドの所定箇所に、当該命令ビットフィールドに圧縮された命令が含まれているか否かを示す情報を付加するステップとを備えた
ことを特徴とする圧縮プログラム生成方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
これによると、分岐命令の分岐先の命令の格納位置を示す情報に基づいて、所望の命令にジャンプすることができる。したがって、分岐先の命令の圧縮に係る制約が緩和され、命令の圧縮率を向上することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
一方、本発明が講じた手段は、原プログラムに含まれる命令を圧縮して圧縮プログラムを生成する方法として、原プログラムを順次スキャンして、原プログラムの中から連続所定個の圧縮対象命令を選択するステップと、選択された連続所定個の圧縮対象命令のうち所定番目以外のものに分岐先を示すラベルが付与されているか否かを判定するステップと、ラベルが付与されていることが判定されたとき、圧縮プログラムにおける一つの命令ビットフィールドに、選択された連続所定個の圧縮対象命令のうち先頭のものを圧縮せずに格納する一方、ラベルが付与されていないことが判定されたとき、命令ビットフィールドに、選択された連続所定個の圧縮対象命令のそれぞれを圧縮して格納するステップと、圧縮プログラムにおける各命令ビットフィールドの所定箇所に、その命令ビットフィールドに圧縮された命令が含まれているか否かを示す情報を付加するステップとを備えたものとする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
図５のフローチャートを参照しながら、圧縮プログラム生成装置１０Ｂによる圧縮プログラムの生成手順について詳細に説明する。ステップＳ１０１〜Ｓ１１１は上述したとおりであるため、説明を省略する。ステップＳ１０９で、原プログラムの処理がすべて終了した場合、ステップＳ２０１で圧縮プログラムの読み込みが開始され、ステップＳ２０２で圧縮プログラムの処理開始位置としてＬ＝１が設定される。続くステップＳ２０３で、圧縮プログラムにおけるＬ番目の命令が選択される。続くステップＳ２０４で、選択された命令が分岐命令であるか否かが判定される。選択された命令が分岐命令である場合、ステップＳ２０５に進み、分岐先の命令の命令ビットフィールドにおける当該分岐先の命令の格納位置が算出される。続くステップＳ２０６で、選択された分岐命令を格納する命令ビットフィールドの所定箇所に格納位置情報が付加される。その後、Ｌの値をインクリメントし（ステップＳ２０７）、ステップＳ２０８で、圧縮プログラムの処理がすべて終了
したか否かが判定され、終了していない場合にはステップＳ２０３に戻り、終了した場合には圧縮プログラムの分岐処理は終了する。なお、ステップＳ２０４でＮＯ肢に進んだ場合、ステップＳ２０７にジャンプする。