(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２つの相次ぐ燃焼帯域で触媒を処理する燃焼工程を包含する触媒再生方法であって、担体、少なくとも１種の貴金属および少なくとも１種のハロゲンを含有するリホ−ミングまたは芳香族炭化水素製造用流動層触媒の再生方法において、
−  触媒を通過させることはできるが、ガスの通過は妨げうるように、各燃焼帯域が隣接燃焼帯域から分離されており、
−  各帯域には少なくとも１種の酸素含有ガスが１〜５０／時の空間速度で導入され、その酸素含有量（体積）は多くとも２％、その温度は３５０〜６００℃であり、各帯域は、５分〜３時間の触媒滞留時間に対応する容積を有し、
−  各帯域に入る前記ガスの温度、酸素含有量および流量を測定するシステムが提供されて、操作条件に応じて温度、酸素含有量および流量をモニタリング・制御し、
−  各帯域における流入ガスの温度および／または酸素含有量を、触媒の流れの方向とともに増加させ、
−  生成したガスは各帯域から抜き出される
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
各帯域につき、流入ガスの酸素含有量（体積）が多くとも２％であり、流入ガスの温度が４００〜６００℃であり、一帯域内の触媒の滞留時間が５分〜３時間であり、空間速度が１〜５０／時である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
一つの燃焼帯域から取り出したガスを少なくとも部分的に、つぎの（触媒の流れの方向にみて）帯域へ送り込む請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
一つの燃焼帯域から取り出したガスの全部を、つぎの帯域へ送り込む請求項１〜３のいずれか１つに記載の方法。
【請求項５】
前記ガスに酸素が補給される、請求項３または４に記載の方法。
【請求項６】
燃焼段階が燃焼終了を制御・モニタリングする最終帯域で終わり、該制御・モニタリング帯域では酸素消費量が該帯域への流入酸素の１０％未満となる請求項１〜５のいずれか１つに記載の方法。
【請求項７】
燃焼終了モニタリング・制御帯域において温度が実質的に一定である請求項６に記載の方法。
【請求項８】
燃焼終了モニタリング・制御帯域が最終燃焼領域の下流部に位置されている、請求項６または７に記載の方法。
【請求項９】
燃焼終了モニタリング・制御帯域からのガスを、少なくとも部分的に、第一の燃焼帯域に再導入する請求項６〜８のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１０】
燃焼終了モニタリング・制御帯域からのガスを、少なくとも部分的に、燃焼終了モニタリング・制御帯域に再導入する請求項６〜９のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１１】
少なくとも２つの帯域のレベルで抜き出したガスを集め、少なくとも部分的に、少なくとも一つの燃焼帯域に再導入する請求項１〜１０のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１２】
前記少なくとも２つの帯域から集められた抽出ガスの少なくとも一部に酸素を補給する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
第一の燃焼帯域で、ついで第二の燃焼帯域で、触媒を処理する燃焼段階を包含していて、それらの帯域が、触媒を通過させることはできるがガスの通過は妨げうるように、分離されており、第二の燃焼帯域がその下流部に燃焼終了モニタリング・制御帯域を包含しており、第一の燃焼帯域から抜き出された流出ガスの全体が、酸素補充後に、第二の燃焼帯域へ送り込まれること、第二の燃焼帯域からの流出ガスが冷却され、不純物除去のために処理、精製され、乾燥、圧縮された後、２つの部分に分割され、一方は、再加熱および酸素補充の後第一の燃焼帯域へ導入され、他方は再加熱され、酸素を追加され、燃焼終了モニタリング・制御帯域へ導入されることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１４】
燃焼帯域に入るガスから塩素含有不純物が除去される、請求項１〜１３のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１５】
各帯域を出るガスの温度および酸素含有量が測定されることを特徴とする請求項１〜１４のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１６】
帯域毎に、流入酸素含有ガスの温度および酸素含有量は、
・床出口における最高温度が材料に依存する許容最高値より低く；
・床入口と出口と間の温度の最大上昇が２００℃未満であり；
・帯域内温度が少なくとも３５０℃かつ６００℃未満であり、該帯域内温度が直前の帯域の温度より低い
ようになっていることを特徴とする請求項１〜１５のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１７】
前記帯域内温度は、少なくとも４００℃かつ６００℃未満である、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
床入口と出口と間の温度の最大上昇は１００℃未満であることを特徴とする請求項１〜１７のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１９】
担体、少なくとも１種の貴金属および少なくとも１種のハロゲンを含有するリホ−ミングまたは芳香族炭化水素製造用触媒を流動層の形態で再生するための室であって、
直列配置の少なくとも２つの放射状燃焼帯域（Ｚ１）および（Ｚ２）、各燃焼帯域へ酸素含有ガスを導入するための少なくとも１本の導管（４、７）、該室へ触媒を導入するための少なくとも１本の導管（１）、触媒を帯域間で移動させるための少なくとも１本の導管（３、６）および触媒を後続のオキシ塩素化帯域へ移動させるための少なくとも１本の導管（１０）ならびに燃焼で生じたガスを該室の外へ排出するための少なくとも１本の導管（９）を包含し、該導管（９）はオキシ塩素化帯域より上流に位置しており、
−  それらの燃焼帯域の間に、そのための導管を通っての該帯域間での触媒の通過は許容するが、該帯域間のガスの通過は妨げる分離手段が設けられており、
−  少なくとも１つの導管（５、９）が、該帯域を通過した後のガスを抜き出すために各帯域に配置され、
−  酸素補給のための少なくとも１つの導管および温度、酸素含有量および流量を測定するシステムが、酸素導入ガスを各燃焼帯域に導入するための導管（４、７）内に配置されて、操作条件に応じて温度、酸素含有量および流量がモニタリング・制御される
ことを特徴とする再生室。
【請求項２０】
操作条件は、次の通りである：酸素含有ガスの温度が４００〜６００℃であり、帯域内温度が少なくとも４００℃かつ６００℃未満である、請求項１９に記載の再生室。
【請求項２１】
最終燃焼帯域（Ｚ２）が、その下流部に、燃焼終了モニタリング・制御帯域（ＦＣ）を包含し、この帯域は、少なくとも１種の酸素含有ガスを導入するための少なくとも１本の導管（１１）および燃焼帯域（Ｚ２）と燃焼終了モニタリング・制御帯域（ＦＣ）とを通過して生じたガスを抜き出すための少なくとも１本の導管（９）を備えていることを特徴とする請求項１９または２０に記載の再生室。
【請求項２２】
最終燃焼帯域（Ｚ２）に燃焼終了モニタリング・制御帯域（ＦＣ）を後続させ、それら２帯域の間に、触媒の通過は許容するがガスの通過は妨げる分離手段を設け、該燃焼終了モニタリング・制御帯域には、酸素含有ガス導入用導管（２７）およびガス排出用導管（２８）を装備したことを特徴とする請求項１９〜２１のいずれか１つに記載の再生室。
【請求項２３】
一つの燃焼帯域の少なくとも１本のガス排出導管（５）を、後続の一帯域への酸素含有ガス導入用の少なくとも１本の導管（７）に接続したことを特徴とする請求項１９〜２２のいずれか１つに記載の再生室。
【請求項２４】
燃焼終了モニタリング・制御帯域（ＦＣ）からのガス排出用導管（２８、９）を第一の燃焼領域（Ｚ１）への酸素含有ガス導入用導管（４）に接続して、燃焼終了モニタリング・制御帯域（ＦＣ）からのガスの少なくとも一部を帯域（Ｚ１）へ再循環するようにしたことを特徴とする請求項１９〜２３のいずれか１つに記載の再生室。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、芳香族炭化水素の製造、とくにリホ−ミング（改質）のための流動層プロセスに関し、より詳しくは、使用ずみ触媒を再生する際に用いる、初期触媒性能を取り戻すための燃焼段階に関する。
【０００２】
【従来の技術】
該触媒は、通常、担体（たとえば、少なくとも１種の耐熱性酸化物により形成され、担体は１種以上のゼオライトを包含しうる）、少なくとも１種の貴金属（好ましくは白金）および好ましくは少なくとも１種の助触媒金属（たとえばスズまたはレニウム）、少なくとも１種のハロゲンおよび場合によっての１種以上の添加元素（たとえばアルカリ、アルカリ土類、ランタノイド、珪素、第ＩＶＢ族元素、卑金属、第ＩＩＩＡ族元素など）を包含する。このタイプの触媒は、たとえば、塩化アルミニウム担体上に担持させた白金および少なくとも１種の他の金属を含有する。通常、これらの触媒は、脱水素環化および／または脱水素により転化しうるナフテン系またはパラフィン系炭化水素の転化のために、リホ−ミングに際して、または芳香族炭化水素製造（たとえばベンゼン、トルエン、オルト−、メタ−またはパラキシレンの製造）のために用いられる。これらの炭化水素は、蒸留またはその他の加工過程による原油の分留によって生産される。
【０００３】
これらの触媒は広く文献に記載されている。
【０００４】
これらのリホ−ミングまたは芳香族製造過程の収率を高める手段の一つは、関連する種々の反応が行われる操作圧力を低下させることである。たとえば、リホ−ミング反応が４０バ−ルで行われて３０年、１５バ−ルで行われて２０年になる。今日では、１０バ−ル以下、とりわけ３〜８バ−ルの圧力で機能するリホ−ミング反応器を見るのが普通である。
【０００５】
圧力低下による有利な反応の向上には、コ−キングによる触媒のより速やかな失活が伴う。実質的に炭素と水素とからなる高分子量化合物から構成されたコ−クスは、触媒の活性サイトに沈積する。形成されるコ−クスのＨ／Ｃモル比は、約０．３〜１．０の範囲で変動する。炭素原子および水素原子が縮合ポリ芳香族構造を形成するが、それらの結晶性組織化の程度は触媒の本質および反応器の運転条件に応じて変化する。炭化水素のコ−クスへの変化の選択率はきわめてわずかであるけれども、触媒表面に沈積したコ−クスの含有量は大きくなる可能性がある。典型的には、固定層単位装置の場合、これらの含有量は２．０重量％と２０．０〜２５．５重量％との間である。循環層に使用した場合、これらの含有量は１０．０重量％未満である。
【０００６】
コ−クスの沈積は、低圧ではより速やかであるため、やはりより速やかな触媒再生が必要となる。現実の再生サイクルは、２〜３日にまで短くなる可能性がある。
【０００７】
出願人の特許ＥＰ−Ａ−０３７８４８２は、ますます一般的となっているこれらのサイクルに付随する欠点を回避することを可能ならしめるところの、リホ−ミングまたは芳香族生産用触媒の連続再生プロセスを開示している。再生の諸段階の一つは、触媒表面に沈積したコ−クスの燃焼である。本発明はこの段階に関するものである。
【０００８】
ＥＰ−Ａ−０３７８４８２によれば、使用ずみ触媒は、再生室（閉鎖容器）中を上から下へと徐々に進み、第一の放射状流動層燃焼帯域、第二の放射状流動層燃焼帯域、軸方向の流動層オキシ塩素化帯域および軸方向の流動層か焼（カルシネ−ション）帯域に順次遭遇する。そして、
（ａ）第一の燃焼帯域においては、触媒は、該第一の反応器中のそれと実質的に等しい３〜８バ−ルの圧力下、３５０〜４５０℃の温度で、０．０１〜１体積％の酸素を含み、触媒と共に流れる循環不活性ガスを主成分とする燃焼ガスによって処理される。この燃焼ガスはか焼、オキシ塩素化および燃焼で生じるガスを洗浄する帯域から来たものである。
【０００９】
（ｂ）第二の燃焼帯域においては、第一の燃焼帯域から直接出てきた触媒が、該第一の反応器中のそれと実質的に等しい３〜８バ−ルの圧力下、第一の燃焼帯域中の温度よりも少なくとも２０℃高い温度で、第一の燃焼帯域から来たガスの存在下に、かつ２０体積％までの酸素を添加して、触媒が０．０１〜１体積％の酸素を含有するガスと接触するようにした補助の不活性ガスの存在下に処理される。これらのガスは触媒と並流して循環する。
【００１０】
つぎに、触媒はオキシ塩素化帯域へ送り込まれる。
【００１１】
先行技術をより明確に示すために、図１に、特許ＥＰ−Ａ−０３７８４８２の一つの図を転写した。それは、触媒が管（１７ａ）を通して運ばれてきて、帯域（２０）で蓄えられ、つぎに再生のために管（９）を通して第一の燃焼帯域（１０１）へ、つぎに第二の燃焼帯域（１０５）へと進むところを示している。燃焼は、酸素（０．０１〜１体積％）を補充されたガスの注入（１０２）および必要ならば酸素または空気を補充されていてよい不活性ガスの補足供給（１０４）によって行なわれる。燃焼段階全体は、図１のＡの部分に相当する。
【００１２】
ところで、出願人は、このプロセスの利用に際して、燃焼の十分な把握、従ってそれのモニタ−およびそれの制御が、該単位装置の良好な運転および良質の再生を保証するものであることを確認することができた。それゆえ、出願人は燃焼の制御を向上させるべく努めてきた。本特許出願で提案するプロセスは、各帯域のレベルでガスを別々に管理することによって、たとえば各燃焼帯域内の条件をモニタ−し、燃焼の完了を点検することにより燃焼を優先的に終了させることによって、上記の結果を得ることを可能ならしめる。
【００１３】
【発明の開示】
本発明は、より詳しくは、担体、少なくとも１種の貴金属および少なくとも１種のハロゲンを含有するリホ−ミングまたは芳香族炭化水素製造用触媒の流動層式再生方法を対象とするものであり、該方法は、少なくとも２つの相次ぐ燃焼帯域で触媒を処理する燃焼段階を包含する再生方法において、
−  触媒を通過させることはできるが、ガスの通過は妨げるように、各燃焼帯域が隣接燃焼帯域から分離されており、
−  各帯域には少なくとも１種の酸素含有ガスが導入され、生成したガスは各帯域から抜き出され、
−  各帯域における操作条件の厳しさが、触媒の流れの方向とともに増していくことを特徴とする再生方法である。
【００１４】
一つの燃焼帯域から取り出されたガスは、少なくとも部分的に、好ましくは全部を、場合により酸素を補って（たとえば空気により）、つぎの（触媒の流れの方向にみて）帯域へ送り込むことが好ましい。
【００１５】
通常、操作条件の厳格化は、温度および／または流入ガスの酸素含有量を上昇ないしは増大させることによって得られる。各帯域について、流入ガスの酸素含有量が０．０１〜２％であり、流入ガスの温度が３５０〜６００℃であり、一帯域中の触媒の滞留時間が５分〜３時間であり、ＰＰＨ（空間速度；毎時のガスの重量流量／ガスと接触している触媒の重量）が１〜５０／時であることが好ましい。
【００１６】
燃焼段階は、いわゆる燃焼終了点検用の最終帯域で終わるのが有利であり、そこでは酸素消費が該帯域へ入ってくる酸素の約１０％未満となる。温度は実質的に一定であることが好ましい。
【００１７】
燃焼終了点検帯域は、最終燃焼帯域の内部に、従って炎の先端よりもあとに、位置されていることが好ましい。
【００１８】
さらに、燃焼終了点検帯域には、上流（触媒の流れの方向に見て）のレベルでの流入ガスよりも多量の酸素を含有するガスを導入する。
【００１９】
かくして、本発明においては、より効果的な燃焼を行なうために、各段階が該段階における温度、酸素含有ガスの入口温度、流入ガスの酸素含有量、ガス流量およびコ−クス付着触媒をこれらの条件に暴露させる時間により特徴付けられる複数帯域（または段階）での燃焼を規定する。
【００２０】
先行技術に関する図１と比較できるところの図２を参照すれば、本発明の説明をより容易に理解できるであろう。
【００２１】
図３および４も、本発明の実施態様を示しており、図３は燃焼終了点検帯域の他のレイアウトを、図４はガスのモニタ−方法を示している。
【００２２】
図２は、再生プロセスの燃焼段階、すなわち図１の部分Ａのみを表わしている。
【００２３】
常法通り、再生すべき使用ずみ触媒Ｃは、導管１を通って再生室Ｅの頂部（２）に入る。
【００２４】
つぎに、触媒は、導管または脚部（３）を通して第一の燃焼帯域Ｚ１へ導入される。この帯域内で、触媒は、導管（４）を通して導入された酸素含有ガスＧ１による最初の焼却処理または燃焼を受ける。
【００２５】
通常、それら複数の燃焼帯域は放射状型のものであり、図２に示した流動層の場合には環状であるのが好ましく、そのとき該層は２つの同軸円筒形の壁により規定された環状空間内を流れ、ガスは一方の壁を通して入り、他方の壁を通って出ていく。
【００２６】
この触媒流動層の場合には、流れは連続的である。間欠的流れも考慮することができる。
【００２７】
この第一の燃焼帯域を通過後のガスＧ'1は、導管（５）を通して該帯域から抜き出される。
【００２８】
触媒Ｃは脚部（６）または他の導管を通って第二の燃焼帯域Ｚ２へと下降し、ここへは、導管（７）を通して酸素含有ガスＧ２が導入される。
【００２９】
本発明に従い、燃焼帯域Ｚ１およびＺ２は、連続して(succesively)、かつ、 隣接している。すなわち、燃焼帯域Ｚ１から出てきた触媒は直接に第二の燃焼帯域Ｚ２へ移行するが、２つの帯域の間では処理を受けない。触媒は燃焼帯域Ｚ１とＺ２とを通過するが、ガスの通過、たとえばガスＧ'1のＺ２へ向けての通過は妨げるように、物理的に隔てられている。
【００３０】
当業者ならば、この機能を遂行するために最も適合した手段を選択するであろう。図２の実施態様では、この目的のために、再生室Ｅの、触媒通過のために充てられた部分（脚部または他の導管）を除く全断面にわたって、帯域Ｚ１とＺ２との間に板（８）が配置されている。もちろん、多少のガスＧ'1は脚部（８）中の触媒とともに帯域Ｚ２中へ移行するが、これはガスの小部分である。
【００３１】
この第二の燃焼帯域を通過後のガスＧ'2は、導管（９）を通して該帯域から抜き出される；より一般的に言えば、燃焼段階の最終帯域からのガスが該室から抜き出される。このとき、触媒Ｃは、脚部または他の導管（１０）を通って、ここには図示されていないオキシ塩素化帯域へと下降する。燃焼後、触媒は、既知の方法で、再生を確実なものとするべく処理される（オキシ塩素化、か焼）。オキシ塩素化帯域で生じたガスはオキシ塩素化帯域から抜き出して、それらが燃焼段階の最終帯域へ移行するのを避けることが好ましいことも、指摘される。そうすれば、燃焼帯域Ｚ１およびＺ２へ入るガス中に塩素または塩素化合物が導入されることがない。
【００３２】
図２には、２つの連続する燃焼帯域を示したが、当業者ならば、燃焼帯域の数は、設計すべき設備に応じて選択できる。それらは、上記の両帯域と同様に構成され、機能する。
【００３３】
有利な一実施態様に従えば、帯域Ｚ１からの排出ガスＧ'1は、少なくともその一部、好ましくは全体を、ガスＧ２とともに、または場合により酸素を補充してガスＧ２を形成した後、帯域Ｚ２に導入する；この措置により、残留酸素を最大限利用でき、酸素補充量を極小化できる。
【００３４】
各燃焼帯域に関してのこの別々のガス管理により、流入および排出ガスの温度およびそれらの酸素の量を絶えず正確に知ることができる。酸素の極小使用以外に、この管理法は、各帯域レベルで操作条件をコントロ−ルすることによってコ−クスの燃焼をコントロ−ルすることを可能ならしめる。
【００３５】
燃焼段階の最終帯域で燃焼の終了を点検する操作を行なうことが好ましい。
【００３６】
図２の実施例では、この操作を、最終燃焼帯域Ｚ２の下流部（触媒の流れの方向に見て）で行なっており、そのとき、この下流部はいわゆる燃焼終了点検帯域を構成している。
【００３７】
図３に示した実施例では、燃焼終了点検帯域は最終燃焼帯域Ｚ２に含まれていない。
【００３８】
燃焼終了点検帯域は、酸素消費量がＦＣ帯域では導入酸素の約１０％未満である点で燃焼帯域と区別できる。そこでの温度は、測定誤差および熱損失を別にすれば、実質的に一定（最大３％の変動、望ましくは最大２％）であるのが有利である。
【００３９】
このＦＣ帯域へは、酸素含有ガスＧ３が、図２によれば導管（１１）（図３によれば２７）を通って入り、ＦＣ帯域を横切って通過後、図２によれば導管（９）を通して抜き出される。この導管を通して、燃焼帯域Ｚ２を通過してきたガスＧ'2の排出も行なわれる。図３によれば、Ｇ'2とは独立して、導管２８を通して抜き出しが行なわれる。
【００４０】
当業者ならば、ＦＣ帯域における酸素消費を測定するのに適した手段を選択できるであろう。たとえば、ＦＣ帯域の入口と出口との間の酸素含有量の変動を、入口での酸素含有量の変動（ガスの総流量が同じとき）および帯域出口での含有量の変動から測定することができる。一般に、先行段階での機能が正常であるならば、ＦＣ帯域での酸素消費はわずか（２〜３％未満）であるはずである。
【００４１】
他の一手段は、排出ガス（たとえば図３では、該ガスは燃焼で生じた他のガスとは独立して出てくる）に対して、もしくはＦＣ帯域のガスが出てくる壁のレベルに（たとえば図２の場合）、温度および／または酸素含有量測定手段を設けることである。
【００４２】
触媒層の温度、すなわち、燃焼終了点検帯域に入り出ていく触媒の温度を測定する手段を取り付けてもよい。
【００４３】
このように、燃焼の諸段階が良好に機能していることを点検するために単純な手段を準備する。そして、各段階のガスを別個に管理するこにより、一つまたは複数の帯域において温度および酸素濃度を変化させることによって、燃焼不足に速やかにかつ容易に対処することができる。
【００４４】
すなわち、酸素含有量もしくはガスおよび／または触媒の温度を比較して、プロセスにとって許容しうる値の範囲（酸素については１０％以下、温度の場合はせいぜい３％）を越えた変動が見られたときには、少なくとも一つの燃焼帯域の少なくとも一つの操作条件を変更して、その差を補正するようにする。これは、酸素含有量および／または流入ガス温度の変更によるものであってよい。
【００４５】
操作条件は各帯域について選択し、各帯域のレベルで（先行技術とは異なり）厳密に点検して、触媒に対する燃焼の有害な影響をできるだけ少なくするようにする。
【００４６】
確かに、この発熱反応によって形成される生成物は主として二酸化炭素と水である。ところが、この燃焼によって生起される条件こそは、明らかに触媒の老化または分解に最も好都合なものであると思われる。とくに、高温での水の存在は、触媒の多孔性担体の漸進的変質の原因となる。典型的には、新しい触媒の比表面積は２５０ｍ２  ／ｇ付近である。寿命の終わりには、この値は少なくとも１００ｍ２  ／ｇ減少する。
【００４７】
燃焼の質は、つぎのいくつかのパラメ−タに依存する：
−  反応を開始させるのに十分な酸素含有ガスの入口温度。これはこの反応の速度を加速する。
【００４８】
−  ガスの酸素含有量。これは層内温度の上昇に対して影響し、従って触媒が変質するかしないかに影響する；それは酸素の粒子内拡散速度にも有利に働く。
−  酸素量。これはそれが燃焼しうるコ−クスの量を決定する。
【００４９】
ガス温度および酸素含有量が反応の開始に十分であれば、理論的には、与えられた酸素は燃焼の初期相（または最初のしばらくの瞬間）において完全に消費される。この瞬間に、コ−クスの一部はきわめて容易に、かつ速やかに燃焼される。
【００５０】
本発明者は、燃焼のきわめて困難なコ−クスが残留することを確認した；コ−クスの最初の何パ−セントかが容易に燃焼される温度において、他の何パ−セントかを除去するのにきわめて長い時間が必要である。
【００５１】
この困難には、本発明者らによれば、いくつかの理由がある。なかでも；
−  異なる開始温度、異なる結晶構造、異なるＨ／Ｃ比によって特徴付けられた異なるタイプのコ−クスが存在すること。
【００５２】
−  コ−クスの局在；触媒の金属相の近傍に沈積したコ−クスは、触媒の担体上に沈積したコ−クスよりもより水素化されている。
【００５３】
−  拡散の問題；触媒粒子の表面のコ−クスは、粒子の芯部に位置するものよりもより容易に燃焼する。化学反応性の問題に加えて、触媒粒の芯部に沈積したコ−クスへの酸素の拡散が問題となる。
【００５４】
−  沈積コ−クスのサイズ；薄い層では、厚い沈積物の形の場合よりもより速やかに燃焼できる。
【００５５】
これらの多重要因が多種類のコ−クスをもたらす：
−  開始温度の異なるコ−クス；各々に、それ以上では反応が満足裏に完全に起こるという温度のみによって特徴付けられる。この場合、複数の操作温度を指定できる。
【００５６】
−  燃焼速度の異なるコ−クス；たとえば、表面のコ−クス、芯部のコ−クス。
前者は酸素不足下でより速やかに消費される。後者は接近があまり容易にはでな  く、燃焼に対してより「抵抗性」である；それは、除去すべきコ−クスの最終  の何パ−セントかを構成し、燃焼反応の暴走という危険がもはやないと考えら  れるならば、過剰の酸素中で燃焼させることができる。そのときには、酸素含  有量をより高め、より高い温度を用いて、抵抗性コ−クスの燃焼反応に有利な  らしめることが可能である。
【００５７】
先行技術におけるごとく、「平均的」コ−クスに適合させた同一のガスについて条件を設定するかわりに、本発明は、前述の諸段階で実施されるコ−クスの多段燃焼について条件を提示する。
【００５８】
各段階（帯域）は、少なくとも１種の酸素含有ガスを、
−  １〜５０／時、好ましくは１０〜４０／時、より好ましくは１５〜３５／時のＰＰＨで、
−  ３５０〜６００℃、好ましくは４００〜６００℃の温度Ｔで、
−  多くとも２％、好ましくは０．５〜１．５％の、通常は０．５％を越える酸素含有量（体積）で、
−  各帯域が５分〜３時間の触媒滞留時間に対応する体積Ｖをもつ
という条件下で受け取る。
【００５９】
各帯域について、酸素含有ガスの入口温度および酸素含有量は、つぎのようになるようにする：
−  層出口最高温度が、使用材料に依存する許容最高値（たとえば、低合金鋼の場合７７０℃）より低くなる。
【００６０】
−  層の入口と出口との間での温度の最大上昇が２００℃以内、好ましくは１００℃程度である。
【００６１】
−  帯域内温度が少なくとも３５０℃、有利には少なくとも４００℃であり、６００℃以下、好ましくは５８０℃以下、できれば高くとも５５０℃である。
【００６２】
−  帯域内温度が、直上流の帯域の温度よりも高くなる。たとえば帯域Ｚ２では、温度Ｔ２が帯域Ｚ１のＴ１よりも高い。
【００６３】
これらの漸進的温度上昇は、先行帯域の高温の触媒の移動、酸素含有高温ガスの導入および進展する発熱燃焼反応、そして操作条件の厳しさの増大によるものである。
【００６４】
良好な燃焼機能を保証するために、触媒が流れるときに遭遇するそれぞれの層のレベルでますます高温のガスを導入することが好ましい。たとえば、ガスＧ２の温度Ｔ２をガスＧ１のそれＴ１より高く、Ｔ３（Ｔ３：点検ガスの温度）をＴ２より高くする。
【００６５】
より明確に述べれば、ＦＣ帯域には、最終燃焼帯域の終端の温度と少なくとも実質的に等しい温度をもつガスが入る。
【００６６】
−  導入されるガスの酸素含有量も、触媒が遭遇するそれぞれの帯域ごとにだんだんと高くなり、燃焼終了点検帯域が最大酸素含有量（上流の諸レベルで流入するガスのそれらよりも多量）に対応する。
【００６７】
一実施例を図３に図解して、各帯域の操作条件およびガス管理を説明する。
【００６８】
再生室Ｅに流動層状態の触媒Ｃが入っていて、順次帯域Ｚ１、Ｚ２およびＺ３（その中の温度はＴ１、Ｔ２およびＴ３）を通過していくのが認められる。
【００６９】
それらの帯域の体積は、触媒の進行方向とともに減少している。帯域Ｚ１、Ｚ２およびＺ３のそれぞれの体積Ｖ１、Ｖ２およびＶ３は、Ｖ１＞Ｖ２＞Ｖ３となるものである。このような異なり方の体積を選んだが、等しい体積または他の異なり方で異なる体積も考えられる。
【００７０】
コンプレッサ−（２９）が全流量のガスを供給し、これが帯域Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３に供給される３つの流量に分割される。
【００７１】
各ガス流に対して酸素分析計および温度計が設けられていて、必要ならば酸素含有量および温度を指令に沿うよう調節できるようになっている。
【００７２】
酸素の補充は、各ガス流に対するそれぞれの導管２１、２２、２３により行なわれ、温度調節はそれぞれ手段２４、２５、２６（図３では炉）により行なわれる。
【００７３】
かくして、各帯域Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３のレベルで、酸素含有量および温度が指令値に合致したガスＧ１、Ｇ２、Ｇ３がそれぞれ流入する。
【００７４】
ガスＧ１、Ｇ２、Ｇ３のこれらの値は、たとえば、それぞれに：
Ｔ１は約４６０℃、
Ｔ２は約４８０℃、
Ｔ３は約５２０℃であり、
酸素含有量については、それぞれに：
Ｏ１は約０．８、
Ｏ２は約０．８、
Ｏ３は約１．１である。
【００７５】
各帯域のレベルで、それぞれにガスＧ'1、Ｇ'2、Ｇ’３が出てくる。図３の実施態様に従えば、それらのガスは混合され、少なくとも一部は燃焼での再使用のためにコンプレッサ−（２９）により再循環される。これは、燃焼で生じた水および他の物質種を少なくとも部分的に除去した後、かつ必要ならば場合に応じての冷却（たとえば急冷により）の後であることはもちろんである。
【００７６】
図３に記載されているレイアウトでは、燃焼帯域および燃焼終結点検帯域で生じたガスは混合、処理され、流入ガスとしてそれらの帯域へ再循環される。
【００７７】
より一般的には、少なくとも２つの帯域レベルで抜き出されたガスは、集められ、場合によっての処理後に、少なくとも一部が、場合によっての酸素補充の後、少なくとも一つの燃焼帯域へ再導入される。
【００７８】
好ましくは、第一の燃焼帯域へリサイクルする。
【００７９】
処理は、水およびその他の燃焼生成物または「有害」生成物（塩素など）を除去することを目的としたものである。
【００８０】
ＦＣ帯域からのガスは（場合により最終燃焼帯域からのガスとの混合物として）、少なくとも一部をＦＣ帯域に、および／または少なくとも一部を少なくとも一つの燃焼帯域に、好ましくは第一の燃焼帯域に、当然のことながら酸素消費を最適化するために該帯域への流入ガス形成のための場合によっての酸素補充の後に、再導入するよう準備することも、有益である。
【００８１】
この場合、ガス管理の好ましい一実施態様は、図４に示したものである。２つの燃焼帯域を備えた図２の本発明に従った室（閉鎖容器）が認められる。
【００８２】
ガスＧ'2（燃焼終了点検帯域を含む第二の燃焼帯域からの流出ガス）は交換器（１２）で冷却され、装置（１３）中で洗浄されて、不純物、とりわけ塩素化不純物を除かれ、この流出ガスの一部は導管（１４）から排出され、残部は乾燥器（１６）で乾燥された後、コンプレッサ−（１５）で圧縮され、２つの部分に分割される。一方は、炉（１８）による再加熱、および導管（１７）中を運ばれてきたガス（たとえば空気）による酸素補充の後、ガスＧ１として第一の燃焼帯域へ送り込まれる。他の部分は炉（１９）で再加熱され、導管（２０）からの酸素（たとえば空気）を追加され、ガスＧ３として燃焼終了点検帯域へ再導入される。第一の燃焼帯域から抜き取られたガスＧ'1は、場合により導管（２０’）からの酸素補充の後、帯域Ｚ２へ導入される。
【００８３】
本発明がこの実施態様に限定されないことはもちろんであり、いくつかの装置の位置を変更したり（たとえば好ましくはすべての流出ガスについてコンプレッサ−後の乾燥器）、場合によっては装置の数を減じる（たとえば炉１８を使用しない）ことが可能である。
【００８４】
本発明はまた、このプロセスを実行に移す再生室に関するものでもある。該室は、直列配置の少なくとも２つの放射状燃焼帯域（Ｚ１）および（Ｚ２）、各燃焼帯域へ酸素含有ガスを導入するための少なくとも１本の導管（４、７）、該室へ触媒を導入するための少なくとも１本の導管（１）、触媒を帯域間で移動させるための少なくとも１本の導管（３、６）および触媒を後続のオキシ塩素化帯域へ移動させるための少なくとも１本の導管（１０）ならびに燃焼で生じたガスを該室の外へ排出するための少なくとも１本の導管（９）を包含し、該導管（９）はオキシ塩素化帯域より上流に位置しているものであって、
−  それらの燃焼帯域の間に、そのための導管を通っての該帯域間での触媒の通過は許容するが、該帯域間のガスの通過は妨げる分離手段が設けられており、
−  当該帯域の通過により生じたガスを抜き出すために、各帯域のレベルで少な
くとも１本の導管が設けられていること
を特徴とする。
【００８５】
好ましい一実施態様（図２）に従えば、最終燃焼帯域（Ｚ２）は、その内部に、いわゆる燃焼終了点検帯域（ＦＣ）を包含し、この帯域は、少なくとも１種の酸素含有ガスを導入するための少なくとも１本の導管（１１）および燃焼帯域（Ｚ２）と燃焼終了点検帯域（ＦＣ）とを通過して生じたガスを抜き出すための少なくとも１本の導管（９）を備えている。
【００８６】
他の好ましい一実施態様（図３）に従えば、最終燃焼帯域（Ｚ２）にいわゆる燃焼終了点検帯域（ＦＣ）を後続させ、それら２帯域の間に、触媒の通過は許容するがガスの通過は妨げる分離手段を設け、該燃焼終了点検帯域には、酸素含有ガス導入用導管（２７）およびガス排出用導管（２８）を装備する。
【００８７】
一つの燃焼帯域の少なくとも１本のガス排出導管（５）は、後続の一帯域への酸素含有ガス導入用の少なくとも１本の導管（７）に接続することが好ましい。
燃焼終了点検帯域（ＦＣ）からのガス排出用導管（２８、９）は第一の燃焼領域（Ｚ１）への酸素含有ガス導入用導管（４）に接続して、帯域（ＦＣ）からのガスの少なくとも一部を帯域（Ｚ１）へ再循環するのが有利である。
【００８８】
各帯域における操作条件の点検を実行するためには、酸素含有ガスを該室の各帯域に導入するための導管（４、７）の途中に、酸素補充を行なうための少なくとも１本の導管、場合により少なくとも一つのガス再加熱手段を配置し、また操作指令に応じて温度、酸素含有量および流量を点検、調節できるよう、温度、酸素含有量および流量測定系を配置する。
【図面の簡単な説明】
【図１】  従来の再生方法（特許ＥＰ−Ａ−０３７８４８２）を示す概略図である。
【図２】  本発明の実施例を示す概略図である。
【図３】  本発明の実施例を示す概略図である。
【図４】  本発明の実施例を示す概略図である。
【符号の説明】
Ｚ１，Ｚ２：放射状燃焼帯域
１，３，４，５，６，７，９，１０，１１：導管
２７：酸素含有ガス導入用導管
２８：ガス排出用導管
５：ガス排出導管
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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