【手続補正書】
【提出日】平成20年3月5日(2008.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面上に形成された第一の電極と、
前記絶縁表面及び前記第一の電極上に形成され、前記第一の電極上に開口部を有し、前記第一の電極の端部を覆うテーパー状の縁を有する第一の絶縁層と、
前記第一の電極及び前記第一の絶縁層上に形成された第二の絶縁層と、
前記第二の絶縁層上に形成された、元素周期律の１族又は２族に属する元素からなる導電層と、
前記導電層上に形成された有機化合物層と、
前記有機化合物層上に形成された第二の電極とを有する発光装置であって、
前記導電層は、前記第一の電極よりも仕事関数の小さい材料からなることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
ソース及びドレインを有する薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタ上に形成された層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜に形成された開口部を介して前記ドレインと電気的に接続され、前記層間絶縁膜上に形成された第一の電極と、
前記層間絶縁膜及び前記第一の電極上に形成され、前記第一の電極上に開口部を有し、前記第一の電極の端部を覆うテーパー状の縁を有する第一の絶縁層と、
前記第一の電極及び前記第一の絶縁層上に形成された第二の絶縁層と、
前記第二の絶縁層上に形成された、元素周期律の１族又は２族に属する元素からなる導電層と、
前記導電層上に形成された有機化合物層と、
前記有機化合物層上に形成された第二の電極とを有する発光装置であって、
前記導電層は、前記第一の電極よりも仕事関数の小さい材料からなることを特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記導電層は、リチウム、リチウムを含む合金、又はリチウムとアルミニウムを含む合金からなることを特徴とする発光装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記導電層は、前記第一の電極のみと重なる領域に形成されることを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記導電層の膜厚は、１〜５０ｎｍであることを特徴とする発光装置。
【請求項６】
絶縁表面上に形成された第一の電極と、
前記絶縁表面及び前記第一の電極上に形成され、前記第一の電極上に開口部を有し、前記第一の電極の端部を覆うテーパー状の縁を有する第一の絶縁層と、
前記第一の電極及び前記第一の絶縁層上に形成された第二の絶縁層と、
前記第二の絶縁層上に形成された、元素周期律の１族又は２族に属する元素からなる第三の絶縁層と、
前記第三の絶縁層上に形成された有機化合物層と、
前記有機化合物層上に形成された第二の電極とを有する発光装置であって、
前記第三の絶縁層は、前記第一の電極よりも仕事関数の小さい材料からなることを特徴とする発光装置。
【請求項７】
ソース及びドレインを有する薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタ上に形成された層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜に形成された開口部を介して前記ドレインと電気的に接続され、前記層間絶縁膜上に形成された第一の電極と、
前記層間絶縁膜及び前記第一の電極上に形成され、前記第一の電極上に開口部を有し、前記第一の電極の端部を覆うテーパー状の縁を有する第一の絶縁層と、
前記第一の電極及び前記第一の絶縁層上に形成された第二の絶縁層と、
前記第二の絶縁層上に形成された、元素周期律の１族又は２族に属する元素からなる第三の絶縁層と、
前記第三の絶縁層上に形成された有機化合物層と、
前記有機化合物層上に形成された第二の電極とを有する発光装置であって、
前記第三の絶縁層は、前記第一の電極よりも仕事関数の小さい材料からなることを特徴とする発光装置。
【請求項８】
請求項６又は請求項７において、
前記第三の絶縁層は、フッ化リチウム、塩化リチウム、臭化リチウム、又はヨウ化リチウムからなることを特徴とする発光装置。
【請求項９】
請求項６乃至請求項８のいずれか一において、
前記第三の絶縁層の膜厚は、０．１〜５ｎｍであることを特徴とする発光装置。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一において、
前記第二の絶縁層は、ＤＬＣ膜からなることを特徴とする発光装置。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項９のいずれか一において、
前記第二の絶縁層は、フッ素を含む珪素膜、又はフッ化窒化珪素膜からなることを特徴とする発光装置。
【請求項１２】
請求項１乃至請求項９のいずれか一において、
前記第二の絶縁層は、アルカリイオンとフッ素化合物を形成する材料からなることを特徴とする発光装置。
【請求項１３】
請求項１乃至請求項１２のいずれか一において、
前記第二の絶縁層の膜厚は、０．１〜１０ｎｍであることを特徴とする発光装置。
【請求項１４】
請求項１乃至請求項１３のいずれか一において、
前記発光装置は、表示装置、デジタルスチルカメラ、パーソナルコンピュータ、モバイルコンピュータ、記録媒体を備えた携帯型の映像再生装置、ゴーグル型ディスプレイ、ビデオカメラ、携帯電話から選ばれた一種であることを特徴とする発光装置。
【請求項１５】
絶縁表面上に第一の電極を形成し、
前記絶縁表面及び前記第一の電極上に、前記第一の電極上に開口部を有し、前記第一の電極の端部を覆うテーパー状の縁を有する第一の絶縁層を形成し、
前記第一の電極及び前記第一の絶縁層上に第二の絶縁層を形成し、
前記第二の絶縁層上に、元素周期律の１族又は２族に属する元素からなる導電層を形成し、
前記導電層上に有機化合物層を形成し、
前記有機化合物層上に第二の電極を形成する発光装置の作製方法であって、
前記導電層を、前記第一の電極よりも仕事関数の小さい材料で形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１６】
ソース及びドレインを有する薄膜トランジスタを形成し、
前記薄膜トランジスタ上に層間絶縁膜を形成し、
前記層間絶縁膜に開口部を形成し、前記開口部を介して前記ドレインと電気的に接続するように、第一の電極を形成し、
前記層間絶縁膜及び前記第一の電極上に、前記第一の電極上に開口部を有し、前記第一の電極の端部を覆うテーパー状の縁を有する第一の絶縁層を形成し、
前記第一の電極及び前記第一の絶縁層上に第二の絶縁層を形成し、
前記第二の絶縁層上に、元素周期律の１族又は２族に属する元素からなる導電層を形成し、
前記導電層上に有機化合物層を形成し、
前記有機化合物層上に第二の電極を形成する発光装置の作製方法であって、
前記導電層を、前記第一の電極よりも仕事関数の小さい材料で形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１７】
請求項１５又は請求項１６において、
前記導電層を、リチウム、リチウムを含む合金、又はリチウムとアルミニウムを含む合金で形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１８】
請求項１５乃至請求項１７のいずれか一において、
前記導電層を、前記第一の電極のみと重なる領域に形成することを特徴とする発光装置の作成方法。
【請求項１９】
請求項１５乃至請求項１８のいずれか一において、
前記導電層を、１〜５０ｎｍの膜厚で形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項２０】
絶縁表面上に第一の電極を形成し、
前記絶縁表面及び前記第一の電極上に、前記第一の電極上に開口部を有し、前記第一の電極の端部を覆うテーパー状の縁を有する第一の絶縁層を形成し、
前記第一の電極及び前記第一の絶縁層上に第二の絶縁層を形成し、
前記第二の絶縁層上に、元素周期律の１族又は２族に属する元素からなる第三の絶縁層を形成し、
前記第三の絶縁層上に有機化合物層を形成し、
前記有機化合物層上に第二の電極を形成する発光装置の作製方法であって、
前記第三の絶縁層を、前記第一の電極よりも仕事関数の小さい材料で形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項２１】
ソース及びドレインを有する薄膜トランジスタを形成し、
前記薄膜トランジスタ上に層間絶縁膜を形成し、
前記層間絶縁膜に開口部を形成し、前記開口部を介して前記ドレインと電気的に接続するように、第一の電極を形成し、
前記層間絶縁膜及び前記第一の電極上に、前記第一の電極上に開口部を有し、前記第一の電極の端部を覆うテーパー状の縁を有する第一の絶縁層を形成し、
前記第一の電極及び前記第一の絶縁層上に第二の絶縁層を形成し、
前記第二の絶縁層上に、元素周期律の１族又は２族に属する元素からなる第三の絶縁層を形成し、
前記第三の絶縁層上に有機化合物層を形成し、
前記有機化合物層上に第二の電極を形成する発光装置の作製方法であって、
前記第三の絶縁層を、前記第一の電極よりも仕事関数の小さい材料で形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項２２】
請求項２０又は請求項２１において、
前記第三の絶縁層を、フッ化リチウム、塩化リチウム、臭化リチウム、又はヨウ化リチウムで形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項２３】
請求項２０乃至請求項２２のいずれか一において、
前記第三の絶縁層を、０．１〜５ｎｍの膜厚で形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項２４】
請求項１５乃至請求項２３のいずれか一において、
前記第二の絶縁層を、ＤＬＣ膜で形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項２５】
請求項１５乃至請求項２３のいずれか一において、
前記第二の絶縁層を、フッ素を含む珪素膜、又はフッ化窒化珪素膜で形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項２６】
請求項１５乃至請求項２３のいずれか一において、
前記第二の絶縁層を、アルカリイオンとフッ素化合物を形成する材料で形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項２７】
請求項１５乃至請求項２６のいずれか一において、
前記第二の絶縁層を、０．１〜１０ｎｍの膜厚で形成することを特徴とする発光装置の作製方法。