【手続補正書】
【提出日】平成20年1月21日(2008.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電ビーム源と、荷電ビームを偏向するブランキング電極と、前記ブランキング電極により偏向された前記荷電ビームを遮蔽するブランキングアパーチャーとを用いて、荷電ビームの照射を制御する荷電ビーム露光装置において、
前記ブランキングアパーチャーで反射された荷電粒子または発生した荷電粒子を吸収するための第１の導電性モジュールを有し、前記導電性モジュールは前記ブランキングアパーチャーよりも前記荷電ビーム源側に配置され、前記荷電ビームとは反対極性の電圧が印加されることを特徴とする荷電ビーム露光装置。
【請求項２】
前記第１の導電性モジュールは、複数の導電性部材を有することを特徴とする請求項１に記載の荷電ビーム露光装置。
【請求項３】
前記第１の導電性モジュールと前記ブランキング電極との間に、接地された第２の導電性モジュールを配置されてなることを特徴とする請求項１または２に記載の荷電ビーム露光装置。
【請求項４】
前記第１の導電性モジュールと前記ブランキング電極との間に、前記第１の導電性モジュールの電子レンズ作用を打ち消す働きをする第３の導電性モジュールを配置されてなることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の荷電ビーム露光装置。
【請求項５】
前記第１の導電性モジュールは、偏向されて移動する荷電ビームの移動方向に沿い該荷電ビームが分布する領域に対応する形状の導電性部材を有してなることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の荷電ビーム露光装置。
【請求項６】
前記ブランキングアパーチャーの表面に凹凸構造を有することを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載の荷電ビーム露光装置。
【請求項７】
前記ブランキングアパーチャーがＳｉの原子番号ｚ＝１４以下の原子番号の材料で作製されたまたは被膜されたことを特徴とする請求項１乃至６の何れか一項に記載の荷電ビーム露光装置。
【請求項８】
前記ブランキングアパーチャーは、前記荷電ビームの入射側に頂点を有する円錐形をなし、該円錐形の中心軸に沿って前記荷電ビームが通過する開口が形成されてなることを特徴とする請求項１乃至７の何れか一項に記載の荷電ビーム露光装置。
【請求項９】
荷電ビームを偏向するブランキング電極と前記ブランキング電極により偏向された前記荷電ビームを遮蔽するブランキングアパーチャーとを用いて、荷電ビームの照射を制御する荷電ビーム露光装置において、
前記ブランキングアパーチャーで反射された荷電粒子または発生した荷電粒子を吸収するための第１の導電性モジュールを有し、前記第１の導電性モジュールは該荷電ビーム露光装置内の帯電しやすい箇所または汚染されやすい箇所の近傍に配置され、前記荷電ビームとは反対極性の電圧が印加されることを特徴とする荷電ビーム露光装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９の何れか一項に記載の荷電ビーム露光装置を用いて、露光対象に露光を行う工程と、露光された前記露光対象を現像する工程と、を具備することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記課題を解決するための本発明の荷電ビーム露光装置は、荷電ビーム源と、荷電ビームを偏向するブランキング電極と、前記ブランキング電極により偏向された前記荷電ビームを遮蔽するブランキングアパーチャーとを用いて、荷電ビームの照射を制御する荷電ビーム露光装置において、前記ブランキングアパーチャーで反射された荷電粒子または発生した荷電粒子を吸収するための第１の導電性モジュールを有し、前記導電性モジュールは前記ブランキングアパーチャーよりも前記荷電ビーム源側に配置され、前記荷電ビームとは反対極性の電圧が印加されることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の荷電ビーム露光装置は、さらに荷電ビームを偏向するブランキング電極と前記ブランキング電極により偏向された前記荷電ビームを遮蔽するブランキングアパーチャーとを用いて、荷電ビームの照射を制御する荷電ビーム露光装置において、前記ブランキングアパーチャーで反射された荷電粒子または発生した荷電粒子を吸収するための第１の導電性モジュールを有し、前記第１の導電性モジュールは該荷電ビーム露光装置内の帯電しやすい箇所または汚染されやすい箇所の近傍に配置され、前記荷電ビームとは反対極性の電圧が印加されることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
本発明の実施例１に係る電子ビーム露光装置を図１および図２に則して説明する。まず、図１に第1の導電性モジュールとしての導電性部材とブランキングアパーチャーの代表的な配置を示す。
同図において、１３は電子ビームである。電子ビーム１３は偏向器（ビームブランキング装置）１７の二つのビームブランキング電極１７ａ、１７ｂの電圧によって、オン状態の電子ビーム１４とオフ状態の偏向電子ビーム１５が作られる。オン状態の電子ビーム１４は、後述する第1の導電性モジュールとしての導電性部材１１の電子ビーム通過部１２とブランキングアパーチャー１８に設けられた開口１９を通過する。オフ状態の電子ビーム１５は、導電性部材１１の電子ビーム通過部１２を通過した後、ブランキングアパーチャー１８で遮蔽される。このとき、オフ状態の電子ビーム１５がブランキングアパーチャー１８の表面に照射されることにより、ブランキングアパーチャー１８の表面で反射電子および２次電子１６が発生する。 
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
第1の導電性モジュールとしての導電性部材１１は、ブランキングアパーチャー１８近傍の電子ビーム１３の入射側（荷電ビーム源側）に設け、電子ビーム１３と反対極性、すなわち正電圧を印加する。この導電性部材１１には、電子ビーム１３が偏向器１７によって偏向される範囲以上の大きさの電子ビーム通過部１２が形成されている。また、この導電性部材１１は、高い電気伝導率を持つような、例えば金のような物質で形成されている。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
縮小光学系は、磁気レンズ２３および磁気レンズ２４からなる対称磁気ダブレットと、磁気レンズ２５および磁気レンズ２６からなる対称磁気ダブレットとを備えて構成される。磁気レンズ２３（２５）の焦点距離をｆ１、磁気レンズ２４（２６）の焦点距離をｆ２とすると、このレンズ間距離はｆ１＋ｆ２になっている。電子光学軸上の物点は磁気レンズ２３（２５）の焦点距離にあり、その像点は磁気レンズ２４（２６）の焦点にある。よって、この２つのレンズを通じて像は−ｆ２／ｆ１に縮小される。また、２つのレンズ磁界が互いに逆方向に作用する様に決定されているので、理論上は、球面収差、等方性非点収差、等方性コマ収差、像面湾曲収差、および軸上色収差の５つの収差を除いて、他のザイデル収差および回転と倍率に関する収差が打ち消される。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
次に本発明の実施例２に係る電子ビーム露光装置について、図３を用いて説明する。図３は図２の電子ビーム露光装置における第1の導電性モジュールとしての導電性部材１１の別の態様を示す図である。
図３は、前記図１および図２によって説明した導電性部材１１とは異なる第２の導電性モジュールとしての導電性部材４１を設置したものである。導電性部材４１は、導電性部材４１（ａ）と導電性部材４１（ｂ）の２枚で構成されている。導電性部材４１はブランキングアパーチャー１８近傍の電子ビーム１３の入射側に設けられており、それぞれ、電子ビーム１３とは反対極性の電圧を印加するものとする。その他の構成部品は、前記図１および図２によって説明したものと同様である。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
図４に示すように、この電子ビーム露光装置では、前記図１および図２によって説明した導電性部材１１と偏向器１７の間に、別の第３の導電性モジュールとしての導電性部材４３を設けて接地してある。ここで、導電性部材４３は、個別にアースに接続されているが、接地されている筐体３７に直接載置してアースをとってもよい。導電性部材４３には、電子ビーム１３が偏向器１７によって偏向される範囲以上の大きさの電子ビーム通過部４４が形成されている。その他の構成部品は、前記図１および図２によって説明したものと同様である。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
第３の導電性モジュールとしての導電性部材４３を設けていない場合には、ブランキングアパーチャー１８で反射または発生する電子１６を吸収するために、ビームと反対極性の電圧が印加された導電性部材１１によって生じる電界と、偏向器１７が作る電界が影響を及ぼしあう。そのために、オン状態の電子ビーム１４の試料２９上への着地位置が、偏向器１７のみが作る電界によって決まる着地位置、つまり描画を行いたい位置からずれてしまうことが考えられる。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
図５に示すように、この電子ビーム露光装置では、前記図１および図２によって説明した導電性部材１１と偏向器１７の間に別の第３の導電性モジュールとしての導電性部材４５を設ける。導電性部材４５は、導電性部材４５（ａ）と導電性部材４５（ｂ）の２枚からなり、それぞれ、電圧制御装置３５に接続されている。導電性部材４５には、電子ビーム１３が偏向器１７によって偏向される範囲以上の大きさの電子ビーム通過部４６（ａ）、４６（ｂ）がそれぞれ形成されている。その他の構成部品は、前記図１および図２によって説明したものと同様である。 
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
一般に、偏向器１７による電子ビーム１３の偏向量を大きくとることは困難である。そのために、図１および図２に示すブランキングアパーチャー１８の形状のもとでは、オフ状態の電子ビーム１５のブランキングアパーチャー１８への入射角が大きくなるため、反射電子１６の反射角も大きくなる。従って、反射電子１６を吸収するための導電性部材１１はオン状態の電子ビーム１４の通路の近傍に配置しなければならない。第1の導電性モジュールとしての導電性部材１１は、電子を吸収するための電圧が印加されているため、オン状態の電子ビーム１４の通路近傍に配置すると、導電性部材１１の電界によってオン状態の電子ビーム１４の試料２９への着地位置に影響を与える。