(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持フィルム上に形成された、放射線重合開始剤を含有しない第一の膜形成材料層を基板上に転写し、
当該第一の膜形成材料層上に、放射線重合開始剤を含有する第二の膜形成材料層を形成し、
当該第二の膜形成材料層上にレジスト膜を形成し、
当該レジスト膜を露光処理してレジストパターンの潜像を形成すると共に、当該レジスト膜を通して第二の膜形成材料層を露光してパターンの潜像を形成し、
当該レジスト膜を現像液によって現像処理してレジストパターンを顕在化させ、
当該第一の膜形成材料層及び当該第二の膜形成材料層をエッチング液によってエッチング処理してレジストパターンに対応する膜形成材料層のパターンを形成し、
当該膜形成材料層のパターンを焼成処理する工程
を含む方法により、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスの少なくともひとつを形成することを特徴とする、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
第一の膜形成材料層が、エッチング液に対して溶解性が異なる複数の膜を有する積層体からなることを特徴とする、請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
支持フィルム上に形成された第二の膜形成材料層を転写することにより、第一の膜形成材料層上に第二の膜形成材料層を形成することを特徴とする、請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】
支持フィルム上に形成されたレジスト膜を転写することにより、第二の膜形成材料層上にレジスト膜を形成することを特徴とする、請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項５】
放射線重合開始剤を含有しない第一の膜形成材料層と放射線重合開始剤を含有する第二の膜形成材料層との積層膜を支持フィルム上に形成し、
支持フィルム上に形成された積層膜を基板上に転写し、
当該積層膜上にレジスト膜を形成し、
当該レジスト膜を露光処理してレジストパターンの潜像を形成すると共に、当該レジスト膜を通して第二の膜形成材料層を露光してパターンの潜像を形成し、
当該レジスト膜を現像液によって現像処理してレジストパターンを顕在化させ、
当該第一の膜形成材料層及び当該第二の膜形成材料層をエッチング液によってエッチング処理してレジストパターンに対応する膜形成材料層のパターンを形成し、
当該膜形成材料層のパターンを焼成処理する工程
を含む方法により、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスの少なくともひとつを形成することを特徴とする、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】
レジスト膜と、放射線重合開始剤を含有する第二の膜形成材料層と、放射線重合開始剤を含有しない第一の膜形成材料層との積層膜を支持フィルム上に形成し、
支持フィルム上に形成された積層膜を基板上に転写し、
当該積層膜を構成するレジスト膜を露光処理してレジストパターンの潜像を形成すると共に、当該レジスト膜を通して第二の膜形成材料層を露光してパターンの潜像を形成し、  当該レジスト膜を現像液によって現像処理してレジストパターンを顕在化させ、
当該第一の膜形成材料層及び当該第二の膜形成材料層をエッチング液によってエッチング処理してレジストパターンに対応する膜形成材料層のパターンを形成し、
当該膜形成材料層のパターンを焼成処理する工程
を含む方法により、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスの少なくともひとつを形成することを特徴とする、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項７】
放射線重合開始剤を含有する第二の膜形成材料層と、放射線重合開始剤を含有しない第一の膜形成材料層との積層膜が支持フィルム上に形成されており、請求項５に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に用いられることを特徴とする、転写フィルム。
【請求項８】
レジスト膜と、放射線重合開始剤を含有する第二の膜形成材料層と、放射線重合開始剤を含有しない第一の膜形成材料層との積層膜が支持フィルム上に形成されており、請求項６に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に用いられることを特徴とする、転写フィルム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの製造方法および当該製造方法に好適に用いられる転写フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、平板状の蛍光表示体としてプラズマディスプレイが注目されている。図１は交流型のプラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」ともいう）の断面形状を示す模式図である。同図において、１および２は対向配置されたガラス基板、３は隔壁であり、ガラス基板１、ガラス基板２および隔壁３によりセルが区画形成される。４はガラス基板１に固定された透明電極、５は透明電極の抵抗を下げる目的で、透明電極上に形成されたバス電極、６はガラス基板２に固定されたアドレス電極、７はセル内に保持された蛍光体、８は透明電極４およびバス電極５を被覆するようガラス基板１の表面に形成された誘電体層、９はアドレス電極６を被覆するようにガラス基板２の表面に形成された誘電体層、１０は例えば酸化マグネシウムよりなる保護膜である。なお、直流型のＰＤＰにおいては、通常、電極端子（陽極端子）と電極リード（陽極リード）との間に抵抗体を設ける。
また、プラズマディスプレイパネルのコントラストを向上させるために、赤色、緑色、青色のカラーフィルターやブラックマトリックスを、上記誘電体層８と保護膜１０の間などに設ける場合もある。
【０００３】
このようなプラズマディスプレイパネルの電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスの製造方法としては、（１）非感光性の膜形成材料組成物を基板上にスクリーン印刷してパターンを得、これを焼成するスクリーン印刷法、（２）感光性の膜形成材料組成物の膜を基板上に形成し、この膜にフォトマスクを介して紫外線を照射した上で現像することにより基板上にパターンを残存させ、これを焼成するフォトリソグラフィー法などが知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記スクリーン印刷法では、パネルの大型化および高精細化に伴い、パターンの位置精度の要求が非常に厳しくなり、通常の印刷では対応できないという問題がある。
また、前記フォトリソグラフィー法では、一回の露光および現像の工程で１０〜１００μｍの膜厚を有するパターンを形成する際、膜形成材料層の深さ方向に対する感度が不十分であり、必ずしもエッジがシャープな高精細パターンが得られるものとはならなかった。
【０００５】
本発明は以上のような事情に基いてなされたものである。
本発明の第１の目的は、新規な電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスの形成方法を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することにある。
本発明の第２の目的は、寸法精度の高いパターンを形成することのできるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することにある。
本発明の第３の目的は、従来の製造方法に比べて、実質的に作業性を向上することができる製造効率の優れたプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することにある。
本発明の第４の目的は、プラズマディスプレイパネルの製造に好適に用いられる、転写フィルムを提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の第一のプラズマディスプレイパネルの製造方法（以下、「ＰＤＰの製造方法（１）」ともいう）は、支持フィルム上に形成された、放射線重合開始剤を含有しない第一の膜形成材料層（以下、「膜形成材料層（ａ）」ともいう）を基板上に転写し、
当該第一の膜形成材料層上に、放射線重合開始剤を含有する第二の膜形成材料層（以下、「膜形成材料層（ｂ）」ともいう）を形成し、
当該第二の膜形成材料層上にレジスト膜を形成し、
当該レジスト膜を露光処理してレジストパターンの潜像を形成すると共に、当該レジスト膜を通して第二の膜形成材料層を露光してパターンの潜像を形成し、
当該レジスト膜を現像液によって現像処理してレジストパターンを顕在化させ、
当該第一の膜形成材料層及び当該第二の膜形成材料層をエッチング液によってエッチング処理してレジストパターンに対応する膜形成材料層のパターンを形成し、
当該膜形成材料層のパターンを焼成処理する工程
を含む方法により、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスの少なくともひとつを形成することを特徴とする。
【０００７】
本発明の転写フィルムは、放射線重合開始剤を含有する第二の膜形成材料層と、放射線重合開始剤を含有しない第一の膜形成材料層との積層膜が支持フィルム上に形成されており、以下のプラズマディスプレイパネルの製造方法に用いられることを特徴とする。
当該転写フィルムを用いた本発明の第二のプラズマディスプレイの製造方法（以下、「ＰＤＰの製造方法（２）」ともいう）は、支持フィルム上に形成された積層膜を基板上に転写し、
当該積層膜上にレジスト膜を形成し、
当該レジスト膜を露光処理してレジストパターンの潜像を形成すると共に、当該レジスト膜を通して第二の膜形成材料層を露光してパターンの潜像を形成し、
当該レジスト膜を現像液によって現像処理してレジストパターンを顕在化させ、
当該第一の膜形成材料層及び当該第二の膜形成材料層をエッチング液によってエッチング処理してレジストパターンに対応する膜形成材料層のパターンを形成し、
当該膜形成材料層のパターンを焼成処理する工程
を含む方法により、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスの少なくともひとつを形成することを特徴とする。
【０００８】
さらに、本発明の転写フィルムは、レジスト膜と、放射線重合開始剤を含有する第二の膜形成材料層と、放射線重合開始剤を含有しない第一の膜形成材料層との積層膜が支持フィルム上に形成されており、以下のプラズマディスプレイパネルの製造方法に用いられることを特徴とする。
当該転写フィルムを用いた本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法（以下、「ＰＤＰの製造方法（３）」ともいう）は、支持フィルム上に形成された積層膜を基板上に転写し、
当該積層膜を構成するレジスト膜を露光処理してレジストパターンの潜像を形成すると共に、当該レジスト膜を通して第二の膜形成材料層を露光してパターンの潜像を形成し、  当該レジスト膜を現像液によって現像処理してレジストパターンを顕在化させ、
当該第一の膜形成材料層及び当該第二の膜形成材料層をエッチング液によってエッチング処理してレジストパターンに対応する膜形成材料層のパターンを形成し、
当該膜形成材料層のパターンを焼成処理する工程
を含む方法により、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスの少なくともひとつを形成することを特徴とする。
【０００９】
本発明の製造方法および転写フィルムにおける好ましい実施形態は次のとおりである
（１）膜形成材料層（ａ）が、エッチング液に対して溶解性が異なる複数の膜形成材料層を有する積層体であること。
（２）支持フィルム上に形成された膜形成材料層（ａ）をｎ回（但し、ｎ＝２〜１０の整数である。）にわたって転写することにより、ｎ層の膜形成材料層からなる積層体である膜形成材料層（ａ）を基板上に形成すること。
（３）支持フィルム上に形成されたｎ層（但し、ｎ＝２〜１０の整数である。）の膜形成材料層（ａ）からなる積層体を一括転写することにより、当該積層体である膜形成材料層（ａ）を基板上に形成すること。
（４）支持フィルム上に形成された膜形成材料層（ｂ）を転写することにより、膜形成材料層（ａ）上に膜形成材料層（ｂ）を形成すること。
（５）支持フィルム上に形成されたレジスト膜を転写することにより、膜形成材料層（ｂ）上にレジスト膜を形成すること。
（６）エッチング液がアルカリ性溶液であること。
（７）現像処理に使用する現像液と、エッチング処理に使用するエッチング液が同一の溶液であること。
【００１０】
【作用】
本発明の製造方法において、膜形成材料層は、無機粉体を分散させたペースト状の膜形成材料組成物（隔壁形成用組成物、電極形成用組成物、抵抗体形成用組成物、蛍光体形成用組成物、カラーフィルター形成用組成物、ブラックマトリックス形成用組成物）を、剛性を有する基板上に直接塗布して形成されるのではなく、可撓性を有する支持フィルム上に塗布することにより形成される。このため、当該ペースト状組成物の塗布方法として、ロールコータなどによる塗布方法を採用することができ、これにより、膜厚が大きくて、かつ、膜厚の均一性に優れた膜形成材料層（例えば１０μｍ±１μｍ）を支持フィルム上に形成することが可能となる。そして、このようにして形成された膜形成材料層を基板の表面に対して一括転写するという簡単な操作により、当該膜形成材料層を基板上に確実に形成することができる。従って本発明の製造方法によれば、膜形成材料層の形成工程における工程改善（高効率化）を図ることができるとともに、形成されるパターンの品質の向上（高精細化）を図ることができる。
さらに、本発明の製造方法では、膜形成材料層の上層部が感放射線性を有する。このことにより、パターンのエッチング時に、上層部のみエッチングされすぎる現象を防ぐことができ、より高精細のパターンを形成することができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
ＰＤＰの製造方法▲１▼
ＰＤＰの製造方法▲１▼においては、〔１〕膜形成材料層（ａ）の転写工程、〔２〕膜形成材料層（ｂ）の形成工程、〔３〕レジスト膜の形成工程、〔４〕レジスト膜の露光工程、〔５〕レジスト膜の現像工程、〔６〕膜形成材料層のエッチング工程、〔７〕膜形成材料層パターンの焼成工程により、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターまたはブラックマトリックスを形成する。
【００１２】
＜膜形成材料層（ａ）の転写工程＞
図２および図３は、本発明の製造方法における膜形成材料層の形成工程の一例を示す概略断面図である。図２（イ）において、１１はガラス基板である。
本発明の製造方法においては、転写フィルムを使用し、当該転写フィルムを構成する膜形成材料層（ａ）を基板の表面に転写する。
ここに、転写フィルムは、支持フィルムと、この支持フィルム上に形成された膜形成材料層（ａ）とを有してなり、当該膜形成材料層（ａ）の表面には保護フィルム層が設けられていてもよい。当該転写フィルムにおける支持フィルムと、膜形成材料層（ａ）を構成する膜形成材料組成物（以下、「膜形成材料組成物（ａ）」ともいう）は、後述する本発明の転写フィルムの構成成分と同じものである。
【００１３】
転写工程の一例を示せば以下のとおりである。必要に応じて使用される転写フィルムの保護フィルム層を剥離した後、図２（ロ）に示すように、ガラス基板１１の表面に、膜形成材料層（ａ）２１の表面が当接されるように転写フィルム２０を重ね合わせ、この転写フィルム２０を加熱ローラなどにより熱圧着した後、膜形成材料層２１から支持フィルム２２を剥離除去する。これにより、図２（ハ）に示すように、ガラス基板１１の表面に膜形成材料層（ａ）２１が転写されて密着した状態となる。ここで、転写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が８０〜１４０℃、加熱ローラによるロール圧が１〜５ｋｇ／ｃｍ2 、加熱ローラの移動速度が０．１〜１０．０ｍ／分を示すことができる。また、ガラス基板は予熱されていてもよく、予熱温度としては例えば４０〜１００℃とすることができる。
【００１４】
＜膜形成材料層（ｂ）の形成工程＞
この工程においては、図２（ニ）に示すように、転写された膜形成材料層（ａ）２１の表面に感放射線性の膜形成材料層（ｂ）２３を形成する。この膜形成材料層（ｂ）２３を構成する膜形成材料組成物（以下、「膜形成材料組成物（ｂ）」ともいう）は、後述する本発明の転写フィルムの構成成分と同じものである。膜形成材料層（ｂ）２３は、スクリーン印刷法、ロール塗布法、回転塗布法、流延塗布法等種々の方法によって膜形成材料組成物（ｂ）を塗布した後、塗膜を乾燥することにより形成することができる。
また、支持フィルム上に形成された膜形成材料層（ｂ）を、膜形成材料層（ａ）２１の表面に転写することによって形成してもよい。このような形成方法によれば、膜形成材料層（ｂ）の形成工程における工程改善（高効率化）を図ることができるとともに、形成されるパターンの膜厚均一性を図ることができる。
膜形成材料層（ｂ）２３の膜厚としては、通常、１〜１００μｍ、好ましくは、２〜５０μｍである。
【００１５】
＜レジスト膜の形成工程＞
この工程においては、図２（ホ）に示すように、膜形成材料層（ｂ）２３の表面にレジスト膜３１を形成する。このレジスト膜３１を構成するレジストとしては、ポジ型レジストおよびネガ型レジストのいずれであってもよく、その具体的組成については後述する。
レジスト膜３１は、スクリーン印刷法、ロール塗布法、回転塗布法、流延塗布法等種々の方法によってレジストを塗布した後、塗膜を乾燥することにより形成することができる。
また、支持フィルム上に形成されたレジスト膜を膜形成材料層（ｂ）２３の表面に転写することによって形成してもよい。このような形成方法によれば、レジスト膜の形成工程における工程改善（高効率化）を図ることができるとともに、形成されるパターンの膜厚均一性を図ることができる。
レジスト膜３１の膜厚としては、通常、０．１〜４０μｍ、好ましくは０．５〜２０μｍである。
【００１６】
〈レジスト膜の露光工程〉
この工程においては、図３（ヘ）に示すように、膜形成材料層（ｂ）２３上に形成されたレジスト膜３１の表面に、露光用マスクＭを介して、紫外線などの放射線を選択的照射（露光）して、レジストパターンの潜像を形成する。この時、感放射線性を有する膜形成材料層（ｂ）２３もレジスト膜３１を通して露光され、パターンの潜像を形成する。同図において、ＭＡおよびＭＢは、それぞれ、露光用マスクＭにおける光透過部および遮光部である。
ここに、放射線照射装置としては、前記フォトリソグラフィー法で使用されている紫外線照射装置、半導体および液晶表示装置を製造する際に使用されている露光装置など特に限定されるものではない。
【００１７】
〈レジスト膜の現像工程〉
この工程においては、露光されたレジスト膜を現像処理することにより、レジストパターン（潜像）を顕在化させる。
ここに、現像処理条件としては、レジスト膜３１の種類などに応じて、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度、現像方法（例えば浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法）、現像装置などを適宜選択することができる。
この現像工程により、図３（ト）に示すように、レジスト残留部３５Ａと、レジスト除去部３５Ｂとから構成されるレジストパターン３５（露光用マスクＭに対応するパターン）が形成される。
このレジストパターン３５は、次工程（エッチング工程）におけるエッチングマスクとして作用するものであり、レジスト残留部３５Ａの構成材料（光硬化されたレジスト）は、膜形成材料層（ａ）２１および膜形成材料層（ｂ）２３の構成材料よりもエッチング液に対する溶解速度が小さいことが必要である。
【００１８】
〈膜形成材料層のエッチング工程〉
この工程においては、膜形成材料層をエッチング処理し、レジストパターンに対応する膜形成材料層のパターンを形成する。
すなわち、図３（チ）に示すように、膜形成材料層（ａ）２１および膜形成材料層（ｂ）２３のうち、レジストパターン３５のレジスト除去部３５Ｂに対応する部分がエッチング液に溶解されて選択的に除去される。ここに、図３（チ）は、エッチング処理中の状態を示している。
そして、更にエッチング処理を継続すると、図３（リ）に示すように、膜形成材料層（ａ）２１および膜形成材料層（ｂ）２３におけるレジスト除去部に対応する部分でガラス基板表面が露出する。これにより、材料層残留部２５Ａと材料層除去部２５Ｂとから構成される膜形成材料層パターン２５が形成される。
ここに、エッチング処理条件としては、膜形成材料層の種類などに応じて、エッチング液の種類・組成・濃度、処理時間、処理温度、処理方法（例えば浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法）、処理装置などを適宜選択することができる。
なお、エッチング液として、現像工程で使用した現像液と同一の溶液を使用することができるよう、レジスト膜および膜形成材料層の種類を選択することにより、現像工程と、エッチング工程とを連続的に実施することが可能となり、工程の簡略化による製造効率の向上を図ることができる。
ここに、レジストパターン３５を構成するレジスト残留部３５Ａは、エッチング処理の際に徐々に溶解され、膜形成材料層パターン２５が形成された段階（エッチング処理の終了時）で完全に除去されるものであることが好ましい。
なお、エッチング処理後にレジスト残留部３５Ａの一部または全部が残留していても、当該レジスト残留部３５Ａは、次の焼成工程で除去される。
【００１９】
＜膜形成材料層パターンの焼成工程＞
この工程においては、膜形成材料層パターン２５を焼成処理して隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターまたはブラックマトリックスを形成する。これにより、材料層残留部中の有機物質が焼失して、金属層、蛍光体層などの無機物層が形成され、図３（ヌ）に示すような、ガラス基板の表面に隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターまたはブラックマトリックスのパターン４０が形成されてなるパネル材料５０を得ることができる。
ここに、焼成処理の温度としては、材料層残留部２５Ａ中の有機物質が焼失される温度であることが必要であり、通常、４００〜６００℃とされる。また、焼成時間は、通常１０〜９０分間とされる。
【００２０】
ＰＤＰの製造方法▲２▼
ＰＤＰの製造方法▲２▼においては、支持フィルム上に膜形成材料層（ｂ）が形成され、当該膜形成材料層（ｂ）上に膜形成材料層（ａ）が積層形成された、本発明の転写フィルムが用いられる。ここに、膜形成材料層（ａ）および（ｂ）を形成する際には、ロールコータなどを使用することができ、これにより、膜厚の均一性に優れた積層膜を支持フィルム上に形成することができる。製造工程としては、〔１〕膜形成材料層（ｂ）と膜形成材料層（ａ）との積層膜の転写工程、〔〔２〕レジスト膜の形成工程、〔３〕レジスト膜の露光工程、〔４〕レジスト膜の現像工程、〔５〕膜形成材料層のエッチング工程および〔６〕膜形成材料層パターンの焼成工程が挙げられ、当該〔２〕、〔３〕、〔４〕、〔５〕および〔６〕の工程はそれぞれ、ＰＤＰの製造方法▲１▼における〔３〕、〔４〕、〔５〕、〔６〕および〔７〕のそれぞれの工程における条件と同様でよい。
ＰＤＰの製造方法▲２▼によれば、膜形成材料層（ａ）と膜形成材料層（ｂ）とが基板上に一括転写されるので、工程の簡略化による製造効率を更に向上させることができる。
【００２１】
ＰＤＰの製造方法▲３▼
ＰＤＰの製造方法▲３▼においては、支持フィルム上にレジスト膜が形成され、当該レジスト膜上に膜形成材料層（ｂ）が積層形成され、さらに、当該膜形成材料層（ｂ）上に膜形成材料層（ａ）が積層形成された、本発明の転写フィルムが用いられる。ここに、レジスト膜、膜形成材料層（ａ）および（ｂ）を形成する際には、ロールコータなどを使用することができ、これにより、膜厚の均一性に優れた積層膜を支持フィルム上に形成することができる。製造工程としては、〔１〕レジスト膜と膜形成材料層（ｂ）と膜形成材料層（ａ）との積層膜の転写工程、〔２〕レジスト膜の露光工程、〔３〕レジスト膜の現像工程、〔４〕膜形成材料層のエッチング工程および〔５〕膜形成材料層パターンの焼成工程が挙げられ、当該〔２〕、〔３〕、〔４〕および〔５〕の工程はそれぞれ、ＰＤＰの製造方法▲１▼における〔４〕、〔５〕、〔６〕および〔７〕のそれぞれの工程における条件と同様でよい。
ＰＤＰの製造方法▲３▼によれば、レジスト膜と膜形成材料層（ｂ）と膜形成材料層（ａ）とが基板上に一括転写されるので、工程の簡略化による製造効率を、ＰＤＰの製造方法▲２▼よりも更に向上させることができる。
その他のＰＤＰの製造方法として、レジスト膜と膜形成材料層（ｂ）とが支持フィルム上に積層形成された転写フィルムを用いる方法が挙げられる。この場合、支持フィルム上に膜形成材料層（ａ）が形成された別の転写フィルムを用いて膜形成材料層（ａ）を基板上に転写し、当該膜形成材料層（ａ）上に、膜形成材料層（ｂ）とレジスト膜とを一括転写することができる。
【００２２】
好ましい実施形態
本発明の製造方法においては、エッチング液に対して溶解性が異なる複数の膜形成材料層（ａ）からなる積層体を基板上に転写形成することが好ましい。このような積層体をエッチング処理することにより、エッチングに対する深さ方向の異方性が生じるため、矩形状または矩形に近い好ましい断面形状を有する材料層残留部を形成することができる。
なお、膜形成材料層（ａ）の積層数は、通常１０以下とされ、好ましくは２〜５とされる。
ここに、ｎ層の膜形成材料層（ａ）からなる積層体を基板上に形成する方法としては、（１）支持フィルム上に形成された膜形成材料層（ａ）（一層）をｎ回にわたって転写する方法、（２）ｎ層の膜形成材料層（ａ）からなる積層体を一括転写する方法のいずれの方法であってもよいが、転写工程の簡略化の観点からは前記（２）の方法が好ましい。
さらに、必要に応じて、感放射線性を有する膜形成材料層（ｂ）も、エッチング液に対して溶解性が異なる複数の膜形成材料層（ｂ）からなる積層体であっても良い。
【００２３】
用いられる材料、条件
以下に、前記の各工程に用いられる材料、各種条件などについて説明する。
＜基板＞
基板材料としては、例えばガラス、シリコン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族アミド、ポリアミドイミド、ポリイミドなどの絶縁性材料からなる板状部材である。この板状部材の表面に対しては、必要に応じて、シランカップリング剤などによる薬品処理；プラズマ処理；イオンプレーティング法、スパッタリング法、気相反応法、真空蒸着法などによる薄膜形成処理のような適宜の前処理を施されていてもよい。
【００２４】
＜転写フィルム＞
本発明のＰＤＰの製造方法▲１▼に用いる転写フィルムは、支持フィルムと、この支持フィルム上に形成された膜形成材料層（ａ）とを有してなり、当該膜形成材料層（ａ）の表面に保護フィルム層が設けられていてもよい。転写フィルムは、支持フィルム上に膜形成材料組成物（ａ）を塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部または全部を除去することにより形成することができる。支持フィルム、膜形成材料組成物（ａ）および保護フィルムは、後述する本発明の転写フィルムの構成成分と同じものを用いることができる。
本発明のＰＤＰの製造方法▲２▼および▲３▼に用いる転写フィルムは、後述する本発明の転写フィルムである。
【００２５】
＜レジスト膜（レジスト組成物）＞
本発明の製造方法においては、基板上に転写された膜形成材料層（ｂ）上にレジスト膜が形成され、当該レジスト膜に露光処理および現像処理を施すことにより、前記膜形成材料層（ｂ）上にレジストパターンが形成される。
レジスト膜を形成するために使用するレジスト組成物としては、（１）アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物、（２）有機溶剤現像型感放射線性レジスト組成物、（３）水性現像型感放射線性レジスト組成物などを例示することができる。以下、これらのレジスト組成物について説明する。
【００２６】
（１）アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物
アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物は、アルカリ可溶性樹脂と感放射線性成分を必須成分として含有してなる。
アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物を構成するアルカリ可溶性樹脂としては、後述する、膜形成材料組成物の結着樹脂を構成するものとして例示されるアルカリ可溶性樹脂を挙げることができる。
アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物を構成する感放射線性成分としては、例えば、（イ）多官能性モノマーと放射線重合開始剤との組み合わせ、（ロ）メラミン樹脂と放射線照射により酸を形成する光酸発生剤との組み合わせなどを好ましいものとして例示することができ、上記（イ）の組み合わせのうち、多官能性（メタ）アクリレートと放射線重合開始剤との組み合わせが特に好ましい。感放射線性成分を構成する多官能性モノマーおよび放射線重合開始剤の具体例としては、後述する、膜形成材料組成物（ｂ）に含有される多官能性モノマーおよび放射線重合開始剤として例示されるものを挙げることができる。
【００２７】
このアルカリ現像型感放射線性レジスト組成物における感放射線性成分の含有割合としては、アルカリ可溶性樹脂１００重量部当たり、通常１〜３００重量部とされ、好ましくは１０〜２００重量部である。
また、アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物については、良好な膜形成性付与するために、適宜有機溶剤が含有される。
【００２８】
（２）有機溶剤現像型感放射線性レジスト組成物：
有機溶剤現像型感放射線性レジスト組成物は、天然ゴム、合成ゴム、およびこれらを環化されてなる環化ゴムなどから選ばれた少なくとも１種と、アジド化合物とを必須成分として含有してなる。
有機溶剤現像型感放射線性レジスト組成物を構成するアジド化合物の具体例としては、4，４’−ジアジドベンゾフェノン、４，４’−ジアジドジフェニルメタン、４，４’−ジアジドスチルベン、４，４’−ジアジドカルコン、４，４’−ジアジドベンザルアセトン、２，６−ジ（４’−アジドベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ジ（４’−アジドベンザル）−４−メチルシクロヘキサノンなどを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
また有機溶剤現像型感放射線性レジスト組成物には、良好な膜形成性を付与するために、通常有機溶剤が含有される。
【００２９】
（３）水性現像型感放射線性レジスト組成物：
水性現像型感放射線性レジスト組成物は、例えばポリビニルアルコールなどの水溶性樹脂と、ジアゾニウム化合物および重クロム酸化合物から選ばれた少なくとも１種とを必須成分として含有してなる。
【００３０】
本発明の製造方法において使用するレジスト組成物には、任意成分として、現像促進剤、接着助剤、ハレーション防止剤、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、フィラー、蛍光体、顔料、染料などの各種添加剤が含有されていてもよい。
【００３１】
＜露光用マスク＞
レジスト膜の露光工程において使用される露光用マスクＭの露光パターンとしては、材料によって異なるが、一般的に１０〜５００μｍ幅のストライプである。
【００３２】
＜現像液＞
レジスト膜の現像工程で使用される現像液としては、レジスト膜（レジスト組成物）の種類に応じて適宜選択することができる。具体的には、アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物によるレジスト膜にはアルカリ現像液を使用することができ、有機溶剤型感放射線性レジスト組成物によるレジスト膜には有機溶剤現像液を使用することができ、水性現像型感放射線性レジスト組成物によるレジスト膜には水性現像液を使用することができる。
【００３３】
アルカリ現像液の有効成分としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニアなどの無機アルカリ性化合物；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミンなどの有機アルカリ性化合物などを挙げることができる。
レジスト膜の現像工程で使用されるアルカリ現像液は、前記アルカリ性化合物の１種または２種以上を水などに溶解させることにより調整することができる。ここに、アルカリ性現像液におけるアルカリ性化合物の濃度は、通常０．００１〜１０重量％とされ、好ましくは０．０１〜５重量％とされる。なお、アルカリ現像液による現像処理がなされた後は、通常、水洗処理が施される。
【００３４】
有機溶剤現像液の具体例としては、トルエン、キシレン、酢酸ブチルなどの有機溶剤を挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。なお、有機溶剤現像液による現像処理がなされた後は、必要に応じて貧溶媒によるリンス処理が施される。
水性現像液の具体例としては、水、アルコールなどを挙げることができる。
【００３５】
＜エッチング液＞
膜形成材料層のエッチング工程で使用されるエッチング液としては、アルカリ性溶液であることが好ましい。これにより、膜形成材料層に含有されるアルカリ可溶性樹脂を容易に溶解除去することができる。
なお、膜形成材料層に含有される無機粉体は、アルカリ可溶性樹脂により均一に分散されているため、アルカリ性溶液で結着樹脂であるアルカリ可溶性樹脂を溶解させ、洗浄することにより、無機粉体も同時に除去される。
ここに、エッチング液として使用されるアルカリ性溶液としては、現像液と同一組成の溶液を挙げることができる。
そして、エッチング液が、現像工程で使用するアルカリ現像液と同一の溶液である場合には、現像工程と、エッチング工程とを連続的に実施することが可能となり、工程の簡略化による製造効率の向上を図ることができる。
なお、アルカリ性溶液によるエッチング処理がなされた後は、通常、水洗処理が施される。
【００３６】
また、エッチング液として、膜形成材料層の結着樹脂を溶解することのできる有機溶剤を使用することもできる。なお、有機溶剤によるエッチング処理がなされた後は、必要に応じて貧溶媒によるリンス処理が施される。
【００３７】
転写フィルム
本発明の転写フィルムは、上記ＰＤＰの製造方法▲２▼において用いられる転写フィルムとしては、支持フィルムと、この支持フィルム上に形成された膜形成材料層（ｂ）と、当該膜形成材料層（ｂ）上に形成された膜形成材料層（ａ）とを有してなり、当該膜形成材料層（ａ）の表面に保護フィルム層が設けられていてもよい。また、上記ＰＤＰの製造方法▲３▼において用いられる転写フィルムとしては、支持フィルムと、この支持フィルム上に形成されたレジスト膜と、当該レジスト膜上に形成された膜形成材料層（ｂ）と、当該膜形成材料層（ｂ）上に形成された膜形成材料層（ａ）とを有してなり、当該膜形成材料層（ａ）の表面に保護フィルム層が設けられていてもよい。
【００３８】
＜支持フィルム＞
転写フィルムを構成する支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有すると共に可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムが可撓性を有することにより、ロールコータによってペースト状組成物を塗布することができ、膜形成材料層をロール状に巻回した状態で保存し、供給することができる。支持フィルムを形成する樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどを挙げることができる。支持フィルムの厚さとしては、例えば２０〜１００μｍとされる。
なお、支持フィルムの表面には離型処理が施されていることが好ましい。これにより、前述の転写工程において、支持フィルムの剥離操作を容易に行うことができる。
【００３９】
＜膜形成材料層（ａ）＞
転写フィルムを構成する膜形成材料層（ａ）は、無機粉体、結着樹脂および溶剤を必須成分として含有する、ペースト状で非感光性の膜形成材料組成物（ａ）を後述する膜形成材料層（ｂ）上に塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部又は全部を除去することにより形成することができる。
転写フィルムを作製するために使用される膜形成材料組成物（ａ）は、（１）無機粉体、（２）結着樹脂および（３）溶剤を含有してなるペースト状の組成物である。
【００４０】
（１）無機粉体
本発明の膜形成材料組成物（ａ）に使用される無機粉体は、形成材料の種類によって異なる。
隔壁形成材料に使用される無機粉体としては、低融点ガラスフリットを挙げることができる。具体例としては、▲１▼酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、▲２▼酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、▲３▼酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、▲４▼酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、▲５▼酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、▲６▼酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）などを挙げることができる。また、適宜フィラーとしてアルミナなどを添加しても良い。
電極形成材料に使用される無機粉体としては、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｎｉ、Ａｇ−Ｐｄ合金、Ｃｕ、Ｃｒなどを挙げることができる。
抵抗体形成材料に使用される無機粉体としては、ＲｕＯ2などを挙げることができる。
蛍光体形成材料に使用される無機粉体は、赤色用としてはY2O3:Eu3+、Y2SiO5:Eu3+、Y3Al5O12:Eu3+、YVO4:Eu3+、(Y,Gd)BO3:Eu3+、Zn3(PO4)2:Mnなど、緑色用としてはZn2SiO4:Mn、BaAl12O19:Mn、BaMgAl14O23:Mn、LaPO4:(Ce,Tb)、Y3(Al,Ga)5O12:Tbなど、青色用としてはY2SiO5:Ce、BaMgAl10O17:Eu2+、BaMgAl14O23:Eu2+、(Ca,Sr,Ba)10(PO4)6Cl2:Eu2+、(Zn,Cd)S:Agなどを挙げることができる。
カラーフィルター形成材料に使用される無機粉体は、赤色用としてはFe2O3、Pb3O4など、緑色用としてはCr2O3など、青色用としては2(Al2Na2Si3O10）・Na2S4）などを挙げることができる。
ブラックマトリックス形成材料に使用される無機粉体としては、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｒなどの金属や、ＣｕＯ−Ｃｒ2Ｏ3、ＣｕＯ−Ｆｅ2Ｏ3−Ｍｎ2Ｏ3、ＣｕＯ−Ｃｒ2Ｏ3−Ｍｎ2Ｏ3、ＣｏＯ−Ｆｅ2Ｏ3−Ｃｒ2Ｏ3などの複合酸化物を挙げることができる。
なお、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスの形成材料に使用される無機粉体には、隔壁形成材料に使用される低融点ガラスフリットを添加して用いても良い。
【００４１】
（２）結着樹脂
膜形成材料組成物（ａ）に使用される結着樹脂としては、種々の樹脂を用いることができるが、アルカリ可溶性樹脂を３０〜１００重量％の割合で含有する樹脂を用いることが特に好ましい。
ここに、「アルカリ可溶性」とは、前述のアルカリ性のエッチング液によって溶解し、目的とするエッチング処理が遂行される程度に溶解性を有する性質をいう。
かかるアルカリ可溶性樹脂の具体例としては、例えば（メタ）アクリル系樹脂、ヒドロキシスチレン樹脂、ノボラック樹脂、ポリエステル樹脂などを挙げることができる。
このようなアルカリ可溶性樹脂のうち、特に好ましいものとしては、下記のモノマー（イ）とモノマー（ロ）との共重合体、又はモノマー（イ）と、モノマー（ロ）とモノマー（ハ）との共重合体を挙げることができる。
【００４２】
モノマー（イ）：
アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなどのカルボキシル基含有モノマー類；（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピルなどの水酸基含有モノマー類；ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性水酸基含有モノマー類などに代表されるアルカリ可溶性官能基含有モノマー類。
モノマー（ロ）：
（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートなどのモノマー（イ）以外の（メタ）アクリル酸エステル類；スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル系モノマー類；ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン類などに代表されるモノマー（イ）と共重合可能なモノマー類。
モノマー（ハ）：
ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ベンジル等のポリマー鎖の一方の末端に、（メタ）アクリロイル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマーなどに代表されるマクロモノマー類：
【００４３】
膜形成材料組成物（ａ）における結着樹脂の含有割合としては、無機粉体１００重量部に対して、通常１〜５００重量部とされ、好ましくは５〜１００重量部とされる。
【００４４】
（３）溶剤
膜形成材料組成物（ａ）を構成する溶剤は、当該膜形成材料組成物（ａ）に、適当な流動性または可塑性、良好な膜形成性を付与するために含有される。
膜形成材料組成物（ａ）を構成する溶剤としては、特に制限されるものではなく、例えばエーテル類、エステル類、エーテルエステル類、ケトン類、ケトンエステル類、アミド類、アミドエステル類、ラクタム類、ラクトン類、スルホキシド類、スルホン類、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類などを挙げることができる。
かかる溶剤の具体例としては、テトラヒドロフラン、アニソール、ジオキサン、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、酢酸エステル類、ヒドロキシ酢酸エステル類、アルコキシ酢酸エステル類、プロピオン酸エステル類、ヒドロキシプロピオン酸エステル類、アルコキシプロピオン酸エステル類、乳酸エステル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、アルコキシ酢酸エステル類、環式ケトン類、非環式ケトン類、アセト酢酸エステル類、ピルビン酸エステル類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミド類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアセトアミド類、Ｎ−アルキルピロリドン類、γ−ラクトン類、ジアルキルスルホキシド類、ジアルキルスルホン類、ターピネオール、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
膜形成材料組成物（ａ）における溶剤の含有割合としては、良好な膜形成性（流動性または可塑性）が得られる範囲内において適宜選択することができる。
【００４５】
膜形成材料組成物（ａ）には、任意成分として、可塑剤、現像促進剤、接着助剤、ハレーション防止剤、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、フィラー、低融点ガラス等の各種添加剤が含有されていてもよい。
【００４６】
＜膜形成材料層（ｂ）＞
転写フィルムを構成する膜形成材料層（ｂ）は、無機粉体、結着樹脂、溶剤および放射線重合開始剤を必須成分として含有する、ペースト状で感光性の膜形成材料組成物（ｂ）を前記支持フィルム上に塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部又は全部を除去することにより形成することができる。
転写フィルムを作製するために使用される膜形成材料組成物（ｂ）は、（１）無機粉体、（２）結着樹脂、（３）溶剤および（４）感放射線性成分を含有してなるペースト状の組成物である。膜形成材料組成物（ｂ）の構成成分のうち、（１）無機粉体、（２）結着樹脂および（３）溶剤は、前記膜形成材料組成物（ａ）の構成成分として記載したものと同一のものを用いることができる。また、前述の膜形成材料組成物（ａ）における任意成分も、同様に用いることができる。
【００４７】
（４）感放射線性成分
膜形成材料組成物（ｂ）を構成する感放射線性成分としては、例えば、（イ）多官能性モノマーと放射線重合開始剤との組み合わせ、（ロ）メラミン樹脂と放射線照射により酸を形成する光酸発生剤との組み合わせなどを好ましいものとして例示することができ、上記（イ）の組み合わせのうち、多官能性（メタ）アクリレートと放射線重合開始剤との組み合わせが特に好ましい。
【００４８】
感放射線性成分を構成する多官能性（メタ）アクリレートの具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトンなどの両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類；
グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールアルカン、テトラメチロールアルカン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどの３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；３価以上の多価アルコールのポリアルキレングリコール付加物のポリ（メタ）アクリレート類；１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ベンゼンジオール類などの環式ポリオールのポリ（メタ）アクリレート類；ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）アクリレート等のオリゴ（メタ）アクリレート類などを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００４９】
また、感放射線性成分を構成する放射線重合開始剤の具体例としては、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、カンファーキノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−〔４’−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンなどのカルボニル化合物；アゾイソブチロニトリル、４−アジドベンズアルデヒドなどのアゾ化合物あるいはアジド化合物；メルカプタンジスルフィドなどの有機硫黄化合物；ベンゾイルパーオキシド、ジ−ｔｒｅｔ−ブチルパーオキシド、ｔｒｅｔ−ブチルハイドロパーオキシド、クメンハイドロパーオキシド、パラメタンハイドロパーオキシドなどの有機パーオキシド；１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−（２−フラニル）エチレニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどのトリハロメタン類；２，２’−ビス（２−クロロフェニル）４，５，４’，５’−テトラフェニル１，２’−ビイミダゾールなどのイミダゾール二量体などを挙げることができる。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
膜形成材料組成物（ｂ）における結着樹脂の含有割合としては、無機粉体１００重量部に対して、通常１〜５００重量部とされ、好ましくは５〜１００重量部とされる。
【００５０】
＜レジスト膜＞
本発明の転写フィルムを構成するレジスト膜は、上記ＰＤＰの製造方法▲１▼において用いられるレジスト膜の形成に用いられるレジスト組成物を支持フィルム上に塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部または全部を除去することにより形成することができる。
【００５１】
＜転写フィルムの形成方法＞
膜形成材料組成物を塗布する方法としては、膜厚の均一性に優れた膜厚の大きい塗膜を効率よく形成することができるものであることが必要とされ、具体的には、ロールコータによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコーターによる塗布方法、ワイヤーコーターによる塗布方法などを好ましいものとして挙げることができる。また、レジスト組成物を塗布する方法としては、上記本発明のＰＤＰの製造方法においてレジスト膜を形成する方法に準ずる。
塗膜の乾燥条件としては、例えば、５０〜１５０℃で０．５〜３０分間程度とされ、乾燥後における溶剤の残存割合（膜形成材料層中の含有率）は、通常２重量％以内とされる。
上記のようにして支持フィルム上に形成される膜形成材料層の厚さとしては、無機粉体の含有率、部材の種類やサイズなどによっても異なるが、例えば膜形成材料層（ａ）が１０〜１００μｍ、膜形成材料層（ｂ）が１〜５０μｍとされる。
なお、膜形成材料層（ａ）の表面に設けられることのある保護フィルム層としては、ポリエチレンフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムなどを挙げることができる。
【００５２】
【実施例】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。なお、以下において、「部」および「％」は、それぞれ「重量部」および「重量％」を示す。
また、重量平均分子量（Ｍｗ）は、東ソー株式会社製ゲルパーミィエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（商品名ＨＬＣ−８０２Ａ）により測定したポリスチレン換算の平均分子量である。
【００５３】
〔合成例１〕
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００部、ｎ−ブチルメタクリレート７０部、メタクリル酸３０部、アゾビスイソブチロニトリル１部からなる単量体組成物を、攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、室温で均一になるまで攪拌した後、８０℃で３時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合反応を継続させた後室温まで冷却してポリマー溶液を得た。ここに、重合率は９８％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体〔以下、「ポリマー（Ａ）」という。〕の重量平均分子量（Ｍｗ）は、７０，０００であった。
【００５４】
〔合成例２〕
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００部、ｎ−ブチルメタクリレート８０部、メタクリル酸２０部、アゾビスイソブチロニトリル１部からなる単量体組成物をオートクレーブに仕込んだこと以外は合成例１と同様にしてポリマー溶液を得た。ここに、重合率は９７％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体〔以下、「ポリマー（Ｂ）」という。〕の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００，０００であった。
【００５５】
〔合成例３〕
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００部、ｎ−ブチルメタクリレート８５  部、メタクリル酸１５部、アゾビスイソブチロニトリル１部からなる単量体組成物をオートクレーブに仕込んだこと以外は合成例１と同様にしてポリマー溶液を得た。ここに、重合率は９８％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体〔以下、「ポリマー（Ｃ）」という。〕の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５０，０００であった。
【００５６】
〔調製例１〕
無機粉体として銀粉末１００部とガラスフリット１０部、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（Ａ）３０部、可塑剤としてポリプロピレングリコール〔分子量４００、和光純薬（株）製〕５部および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００部を混練りすることにより、電極形成用の膜形成材料組成物（ａ）〔以下、「膜形成材料組成物（ａ−１）」という。〕を調製した。
【００５７】
〔調製例２〕
無機粉体として銀粉末１００部とガラスフリット１０部、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（Ｂ）３０部、可塑剤としてポリプロピレングリコール〔分子量４００、和光純薬（株）製〕５部および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００部を混練りすることにより、ペースト状の膜形成材料組成物（ａ）〔以下、「膜形成材料組成物（ａ−２）」という。〕を調製した。
【００５８】
〔調製例３〕
無機粉体として銀粉末１００部とガラスフリット１０部、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（Ａ）３０部、可塑剤としてポリプロピレングリコール〔分子量４００、和光純薬（株）製〕５部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００部および感放射線性成分としてトリメチロールプロパントリアクリレート１０部および２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン２部を混練りすることにより、電極形成用の膜形成材料組成物（ｂ）〔以下、「膜形成材料組成物（ｂ−１）」という。〕を調製した。
【００５９】
＜実施例１（転写フィルムの作製）＞
得られた膜形成材料組成物（ｂ−１）を、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ３８μｍ）上にロールコータにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を１１０℃で５分間乾燥することにより溶剤を完全に除去して、厚さ１０μｍの電極形成用の膜形成材料層（ｂ）〔以下、「膜形成材料層（ｂ−１）」という。〕を形成した。次に、膜形成材料組成物（ａ−１）を、膜形成材料層（ｂ−１）上にロールコータにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を１１０℃で５分間乾燥することにより溶剤を完全に除去し、さらにその上に、膜形成材料組成物（ａ−２）をロールコータにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を１１０℃で５分間乾燥することにより溶剤を完全に除去した。これにより、厚さ２０μｍの、二層からなる電極形成用の膜形成材料層（ａ）〔以下、「膜形成材料層（ａ−１）」という。〕を形成し、本発明の転写フィルム〔以下、「転写フィルム（１）」という。〕を作製した。
【００６０】
＜実施例２（転写フィルムの作製）＞
アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（Ｃ）５０部、感放射線性成分としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４０部と２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン５部および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０部を混練りすることにより、ペースト状のアルカリ現像型感放射線性レジスト組成物を調製した。
次いで、得られたレジスト組成物を、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ，長さ３０ｍ，厚さ３８μｍ）上にロールコータにより塗布して塗膜を形成した。形成された塗膜を１１０℃で５分間乾燥することにより溶剤を完全に除去し、これにより、厚さ５μｍのレジスト膜〔以下、「レジスト膜（１）」という。〕を支持フィルム上に形成した。次に、前記膜形成材料組成物（ｂ−１）を、レジスト膜（１）上にロールコータにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を１１０℃で５分間乾燥することにより溶剤を完全に除去して、厚さ１０μｍの電極形成用の膜形成材料層（ｂ）〔以下、「膜形成材料層（ｂ−２）」という。〕を形成した。さらに、膜形成材料組成物（ａ−１）を、膜形成材料層（ｂ−２）上にロールコータにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を１１０℃で５分間乾燥することにより溶剤を完全に除去し、さらにその上に、膜形成材料組成物（ａ−２）をロールコータにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を１１０℃で５分間乾燥することにより溶剤を完全に除去した。これにより、厚さ２０μｍの、二層からなる電極形成用の膜形成材料層（ａ）〔以下、「膜形成材料層（ａ−２）」という。〕を形成し、本発明の転写フィルム〔以下、「転写フィルム（２）」という。〕を作製した。
【００６１】
〔作製例〕
実施例３で得られたレジスト組成物を、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ，長さ３０ｍ，厚さ３８μｍ）上にロールコータにより塗布して塗膜を形成した。形成された塗膜を１１０℃で５分間乾燥することにより溶剤を完全に除去し、これにより、厚さ５μｍのレジスト膜〔以下、「レジスト膜（１）」という。〕を支持フィルム上に形成し、転写フィルム〔以下、「転写フィルム（レ）」という。〕を作製した。
【００６２】
＜実施例１（ＰＤＰ用電極の製造）＞
〔膜形成材料層の転写工程〕
６インチパネル用のガラス基板の表面に、電極形成用の膜形成材料層（ａ−１）の表面が当接されるよう転写フィルム（１）を重ね合わせ、この転写フィルム（１）を加熱ローラにより熱圧着した。ここで、圧着条件としては、加熱ローラの表面温度を１２０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2 、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。熱圧着処理の終了後、積層膜（膜形成材料層（ｂ−１）の表面）から支持フィルムを剥離除去した。これにより、ガラス基板の表面に膜形成材料層が転写されて密着した状態となった。この膜形成材料層（膜形成材料層（ａ−１）＋膜形成材料層（ｂ−１））について膜厚を測定したところ、３０μｍ±１μｍの範囲にあった。
【００６３】
〔レジスト膜の形成工程〕
膜形成材料層（ｂ−１）の表面に、レジスト膜（１）の表面が当接されるよう転写フィルム（レ）を重ね合わせ、この転写フィルム（レ）を加熱ローラを用い、上記と同一の圧着条件により熱圧着した。熱圧着処理の終了後、レジスト膜（１）から支持フィルムを剥離除去した。これにより、膜形成材料層（ｂ−１）の表面にレジスト膜（１）が転写されて密着した状態となった。
膜形成材料層（ｂ−１）の表面に転写されたレジスト膜（１）について膜厚を測定したところ５μｍ±１μｍの範囲にあった。
【００６４】
〔レジスト膜の露光工程〕
膜形成材料層の積層体上に形成されたレジスト膜（１）に対して、露光用マスク（４０μｍ幅のストライプパターン）を介して、超高圧水銀灯により、ｉ線（波長３６５ｎｍの紫外線）を照射した。ここに、照射量は４００ｍＪ／ｃｍ2とした。
【００６５】
〔レジスト膜の現像工程〕
露光処理されたレジスト膜（１）に対して、０．２重量％の水酸化カリウム水溶液（２５℃）を現像液とするシャワー法による現像処理を２０秒かけて行った。次いで超純水による水洗処理を行い、これにより、紫外線が照射されていない未硬化のレジストを除去し、レジストパターンを形成した。
【００６６】
〔膜形成材料層のエッチング工程〕
上記の工程に連続して、０．２重量％の水酸化カリウム水溶液（２５℃）をエッチング液とするシャワー法によるエッチング処理を２分かけて行った。
次いで、超純水による水洗処理および乾燥処理を行った。、これにより、材料層残留部と、材料層除去部とから構成される膜形成材料層のパターンを形成した。
【００６７】
〔膜形成材料層の焼成工程〕
膜形成材料層のパターンが形成されたガラス基板を焼成炉内で６００℃の温度雰囲気下で３０分間にわたり焼成処理を行った。これにより、ガラス基板の表面に電極が形成されてなるパネル材料が得られた。
得られたパネル材料における電極の断面形状を走査型電子顕微鏡により観察し、当該断面形状の底面の幅および高さを測定したところ、底面の幅が４０μｍ±２μｍ、高さが１０μｍ±１μｍであり、寸法精度がきわめて高いものであった。
【００６８】
＜実施例２＞
〔積層膜の転写工程〕
実施例１で使用したのと同様のガラス基板の表面に、膜形成材料層（ａ−２）の表面が当接されるよう転写フィルム（２）を重ね合わせ、この転写フィルム（２）を加熱ローラに熱圧着した。ここで、圧着条件としては、加熱ローラの表面温度を１２０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2 、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。熱圧着処理の終了後、積層膜〔レジスト膜の表面〕から支持フィルムを剥離除去した。これにより、ガラス基板の表面に積層膜が転写されて密着した状態となった。この積層膜（膜形成材料層（ａ−２）＋膜形成材料層（ｂ−２）＋レジスト膜）ついて膜厚を測定したところ３５μｍ±１μｍの範囲にあった。
【００６９】
〔レジスト膜の露光工程・現像工程〕
膜形成材料層の積層体上に形成されたレジスト膜に対して、実施例１と同様の条件で、露光処理（紫外線照射）、水酸化カリウム水溶液による現像処理および水洗処理を行うことにより、膜形成材料層の積層体上にレジストパターンを形成した。
【００７０】
〔膜形成材料層のエッチング工程〕
上記の工程に連続して、実施例１と同様の条件で、水酸化カリウム水溶液によるエッチング処理、水洗処理および乾燥処理を行うことにより、膜形成材料層のパターンを形成した。
【００７１】
〔膜形成材料層パターンの焼成工程〕
膜形成材料層パターンが形成されたガラス基板を焼成炉内で６００℃の温度雰囲気下で３０分間にわたり焼成処理を行った。これにより、ガラス基板の表面に電極が形成されてなるパネル材料が得られた。
得られたパネル材料における電極の断面形状を走査型電子顕微鏡により観察し、当該断面形状の底面の幅および高さを測定したところ、底面の幅が４０μｍ±２μｍ、高さが１０μｍ±１μｍであり、寸法精度がきわめて高いものであった。
【００７２】
【発明の効果】
本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法によれば、従来の方法に比べて実質的に工程数が少なく、従って作業性を向上させるプラズマディスプレイパネルを製造することができる。さらに、本発明によって得られたプラズマディスプレイパネルは、高精細のパターンを有するものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  一般的なＰＤＰを示す説明用断面図である。
【図２】  本発明の一実施例に係るプラズマディスプレイパネルの製造方法を工程順に示す説明用断面図である。
【図３】  本発明の一実施例に係る製造方法の、図２の工程に続く工程を順に示す説明用断面図である。
【符号の説明】
１      ガラス基板                  ２      ガラス基板
３      隔壁                        ４      透明電極
５      バス電極                    ６      アドレス電極
７      蛍光体                      ８      誘電体層
９      誘電体層                    １０    保護膜
１１    基板                        ２０    転写フィルム
２１    膜形成材料層（ａ）          ２２    支持フィルム
２３    膜形成材料層（ｂ）          ２５    膜形成材料層パターン
２５Ａ  材料層残留部                ２５Ｂ  材料層除去部
３１    レジスト膜                  Ｍ      露光用マスク
ＭＡ    光透過部（露光用マスク）    ＭＢ    遮光部（露光用マスク）
３５    レジストパターン            ３５Ａ  レジスト残留部
３５Ｂ  レジスト除去部              ４０    無機パターン
５０    パネル材料
【図１】
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【図２】
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【図３】
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