Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月15日(2007.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技媒体の通過等を検出して検出信号を出力する検出信号出力手段と、
遊技の主要な制御を司ると共に、前記検出信号の入力に基づいて種々の制御信号を出力する主制御基板と、
該主制御基板からの前記制御信号に基づいて遊技に関する動作を実行する動作装置と
を備え、
前記主制御基板には、前記検出信号を受信する入力端子部材と、前記検出信号の受信に基づいて前記制御信号に関する演算処理を行う演算装置と、該演算装置にて演算された制御信号を前記動作装置に出力する動作装置出力端子部材とが搭載されると共に、これらを電気的に接続する動作用配線パターンが設けられた遊技機の性能試験に用いられる遊技機試験用システムにおいて、
前記主制御基板には、前記制御信号又は前記検出信号のうち少なくとも一方を外部試験装置に伝送可能とする試験用配線パターンを設けると共に、前記試験用配線パターンの途中に、該試験用配線パターンを流れる信号に対して所定の電気的処理を施すための電気回路ＩＣを、前記試験用配線パターンの終端部に、該試験用配線パターンを流れる信号を前記外部試験装置に出力するための外部出力端子部材を、それぞれ設ける一方、
前記制御信号又は前記検出信号のうち少なくとも一方を入力する入力端子部材と、前記制御信号を前記外部試験装置から要求される情報信号に加工する信号加工回路ＩＣと、該情報信号を前記外部試験装置に出力する出力端子部材とを有する信号加工基板装置を備え、
前記主制御基板の外部出力端子部材と前記信号加工基板装置の入力端子部材とを信号線部材により接続したことを特徴とする遊技機用試験システム。
【請求項２】
前記試験用配線パターンを、前記動作用配線パターンから分岐するようにして設けたことを特徴とする請求項１に記載の遊技機用試験システム。
【請求項３】
前記主制御基板に、前記制御信号に対して雑音除去や波形整形等の電気的処理を行うバッファ回路ＩＣを、前記演算装置と、前記動作用配線パターンから前記試験用配線パターンが分岐する分岐部との間に実装したことを特徴とする請求項２に記載の遊技機試験用システム。
【請求項４】
前記主制御基板に、前記入力端子部材に入力した検出信号を所定電圧レベルの２値信号に整形する信号整形回路を設け、該信号整形回路により整形された検出信号が、前記演算装置及び前記試験用配線パターンに入力されるよう電気的接続を施したことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の遊技機試験用システム。
【請求項５】
前記電気回路ＩＣは、前記試験用配線パターンを伝送する信号に対して雑音除去や波形整形等の電気的処理を行うバッファ回路ＩＣであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の遊技機用試験システム。
【請求項６】
前記演算装置から複数の制御信号が動作用配線パターンの複数の電気経路を介して同時に出力され得る遊技機であって、前記主制御基板に設けた前記試験用配線パターンを、前記複数の制御信号を同時に出力可能な複数の電気経路で構成し、該複数の電気経路を１の電気回路ＩＣに電気的に接続される構成としたことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の遊技機試験用システム。
【請求項７】
前記入力端子部材に複数の検出信号が入力され得る遊技機であって、前記主制御基板に設けた前記試験用配線パターンを、前記複数の検出信号を出力可能な複数の電気経路で構成し、該複数の電気経路を１の電気回路ＩＣに電気的に接続される構成としたことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の遊技機試験用システム。
【請求項８】
前記演算装置は、前記制御信号を出力する際に、該制御信号と並行して識別信号を出力することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の遊技機試験用システム。
【請求項９】
前記信号加工基板装置は、前記信号加工回路ＩＣを複数備え、該複数の信号加工回路ＩＣのうち機能させるべき信号加工回路ＩＣを前記識別信号に基づいて選択することを特徴とする請求項８に記載の遊技機試験用システム。
【請求項１０】
前記信号加工回路ＩＣは、前記識別信号により指定される所定の期間で前記制御信号をラッチするラッチ回路ＩＣであることを特徴とする請求項８又は９に記載の遊技機試験用システム。
【請求項１１】
前記信号加工基板装置は、前記制御信号を、機能させるべき信号加工回路ＩＣを選択するための情報信号に加工する第２信号加工回路ＩＣを備えることを特徴とする請求項８乃至１０のいずれか１項に記載の遊技機試験用システム。
【請求項１２】
前記信号加工基板装置に、前記出力端子部材を複数個設けたことを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の遊技機試験用システム。
【請求項１３】
前記電気回路ＩＣ及び前記外部出力端子部材は、試験時専用部材であることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月15日(2007.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技媒体の通過等を検出して検出信号を出力する検出信号出力手段と、
遊技の主要な制御を司ると共に、前記検出信号の入力に基づいて種々の制御信号を出力する主制御基板と、
該主制御基板からの前記制御信号に基づいて遊技に関する動作を実行する動作装置と
を備え、
前記主制御基板には、前記検出信号を受信する入力端子部材と、前記検出信号の受信に基づいて前記制御信号に関する演算処理を行う演算装置と、該演算装置にて演算された制御信号を前記動作装置に出力する動作装置出力端子部材とが実装されると共に、これらを電気的に接続する動作用配線パターンが設けられた遊技機において、
前記主制御基板に、
前記制御信号又は前記検出信号のうち少なくとも一方を、外部試験装置による試験実行時に用いる試験時使用信号として伝送可能とする試験用配線パターンを設け、
さらに、前記試験実行時に用いる試験時専用領域として、前記試験用配線パターンの途中に、前記試験時使用信号に対して所定の電気的処理を施すための電気回路ＩＣを搭載可能とする試験時用ＩＣ搭載領域を設けると共に、前記試験用配線パターンの終端部に、前記試験時使用信号を前記外部試験装置に出力するための外部出力端子部材を搭載可能とする試験時用端子部材搭載領域とを設け、
前記試験時用ＩＣ搭載領域、前記試験時用端子部材搭載領域には、それぞれ電気回路ＩＣ、外部出力端子部材を非実装としたことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記試験用配線パターンを、前記動作用配線パターンから分岐するようにして設けたことを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記演算装置は、前記制御信号を出力する際に、該制御信号と並行して識別信号を出力することを特徴とする請求項１又は２に記載の遊技機。
【請求項４】
前記主制御基板に、前記制御信号に雑音除去や波形整形等の電気的処理を行うバッファ回路ＩＣを、前記動作用配線パターンの途中であって前記試験用配線パターンより前記演算装置側に実装したことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の遊技機。
【請求項５】
前記主制御基板に、前記入力端子部材に入力した検出信号を所定電圧レベルの２値信号に整形する信号整形回路を設け、該信号整形回路により整形された検出信号が、前記演算装置及び前記試験用配線パターンに入力されるよう電気的接続を施したことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月19日(2007.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
挿入部の先端側に湾曲部を備えた内視鏡装置において、
前記湾曲部にその一部を接続し、他部を回転体に接続した線状部材と、
駆動源より発生した駆動力を前記回転体に伝達し、前記回転体を回転することにより前記線状部材を駆動して前記湾曲部を湾曲する伝達機構とを備え、
前記伝達機構は、前記回転体を第１及び第２の方向の双方に回転可能であるとともに、前記回転体の回転方向を切り替え可能な切替機構を備えたことを特徴とする内視鏡装置。
【請求項２】
前記湾曲部は、前記回転体の回転方向に応じた方向に湾曲することを特徴とする請求項１に記載の内視鏡装置。
【請求項３】
前記線状部材及び該線状部材に対応する前記回転体は、前記湾曲部の目標湾曲方向に応じて複数設けられており、
前記伝達機構は、前記駆動源より発生した駆動力を前記複数の回転体のそれぞれに分配することを特徴とする請求項１又は２に記載の内視鏡装置。
【請求項４】
前記湾曲部を上下方向及び左右方向のそれぞれに湾曲可能なように、前記線状部材及び該線状部材に対応する前記回転体は少なくとも２組設けられていることを特徴とする請求項３に記載の内視鏡装置。
【請求項５】
前記伝達機構は、前記複数の回転体のそれぞれを略同時に回転可能であることを特徴とする請求項３又は４に記載の内視鏡装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月24日(2008.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の図柄を表示する図柄表示手段と、
開始操作に基づいて単位遊技の開始を指令する信号を出力する開始信号出力手段と、
前記開始信号出力手段により出力された信号に基づいて当選役を決定する当選役決定手段と、
前記開始信号出力手段により出力された信号に基づいて前記図柄表示手段により表示される図柄の変動を行う図柄変動手段と、
停止操作に基づいて前記図柄変動手段により行われる図柄の変動の停止を指令する信号を出力する停止信号出力手段と、
前記当選役決定手段により決定された当選役と、前記停止信号出力手段により出力された信号と、に基づいて、前記図柄変動手段により行われる図柄の変動の停止制御を行う停止制御手段と、
表示装置に画像を表示することで遊技者に内部当選役を報知する報知手段と、
前記報知手段が表示する画像のデータを記憶する画像データ記憶手段と、を備えた遊技機であって、
前記当選役決定手段が特定の当選役を当選役として決定すると、前記図柄表示手段により当該特定の当選役に係る図柄の組合せが表示されるまでのあいだ、当該特定の当選役を持ち越す当選役持越し手段を、さらに備え、
前記報知手段は、前記特定の当選役が当選役として決定されることを契機として、所定の条件を満たした後、前記図柄表示手段により当該特定の当選役に係る図柄の組合せが表示されるまでのあいだ、前記特定の当選役に係る図柄の組合せが表示され得る状態であることを表す第１報知画像を表示し、
前記当選役決定手段により入賞に係る当選役が決定されると、前記第１報知画像の所定位置に、前記当選役決定手段により決定された前記入賞に係る当選役の種別を表す第２報知画像を重ね合わせて表示することを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記所定の条件は、前記当選役決定手段により入賞に係る当選役が決定されることであることを特徴とする請求項１記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
（１）  複数の図柄を表示する図柄表示手段と、開始操作に基づいて単位遊技の開始を指令する信号を出力する開始信号出力手段と、前記開始信号出力手段により出力された信号に基づいて当選役を決定する当選役決定手段と、前記開始信号出力手段により出力された信号に基づいて前記図柄表示手段により表示される図柄の変動を行う図柄変動手段と、停止操作に基づいて前記図柄変動手段により行われる図柄の変動の停止を指令する信号を出力する停止信号出力手段と、前記当選役決定手段により決定された当選役と、前記停止信号出力手段により出力された信号と、に基づいて、前記図柄変動手段により行われる図柄の変動の停止制御を行う停止制御手段と、表示装置に画像を表示することで遊技者に内部当選役を報知する報知手段と、前記報知手段が表示する画像のデータを記憶する画像データ記憶手段と、を備えた遊技機であって、前記当選役決定手段が特定の当選役を当選役として決定すると、前記図柄表示手段により当該特定の当選役に係る図柄の組合せが表示されるまでのあいだ、当該特定の当選役を持ち越す当選役持越し手段を、さらに備え、前記報知手段は、前記特定の当選役が当選役として決定されることを契機として、所定の条件を満たした後、前記図柄表示手段により当該特定の当選役に係る図柄の組合せが表示されるまでのあいだ、前記特定の当選役に係る図柄の組合せが表示され得る状態であることを表す第１報知画像を表示し、前記当選役決定手段により入賞に係る当選役が決定されると、前記第１報知画像の所定位置に、前記当選役決定手段により決定された前記入賞に係る当選役の種別を表す第２報知画像を重ね合わせて表示することを特徴とする遊技機。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
この遊技機によれば、特定の当選役が記憶されている場合に、入賞に係る当選役が決定されると、特定の当選役に係る図柄の組合せが表示され得る状態であることの報知を行う第１報知画像の所定位置に、前記当選役決定手段により決定された前記入賞に係る当選役の種別を表す第２報知画像を重ね合わせて表示する。これにより、遊技者は、特定の当選役が記憶されていて特定の当選役に係る図柄の組合せが表示され得る状態であることを知ることができるとともに、決定された入賞に係る当選役を知ることができるようになる。この結果、遊技者に対して適切な停止操作を促すことができる。また、入賞に係る図柄の組合せが表示される機会が必要以上に減少してしまうことを防止することができ、遊技者の遊技意欲を減退させないようにすることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
（２）  前記所定の条件は、前記当選役決定手段により入賞に係る当選役が決定されることであることを特徴とする（１）記載の遊技機。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月13日(2007.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
仰臥位で頭部から臀部までを載せて脊柱の近傍を支持してストレッチ運動やリラックス訓練等をおこなうストレッチ台において、
ストレッチ台の脊柱が当接する部分に凹みを設けるか、又はこの部分を柔らかくして、脊柱の圧迫を少なくした、ストレッチ台。
【請求項２】
ストレッチ台を硬くして、ストレッチ台の上でストレッチ運動をおこなってもストレッチ台が歪み難くし、効果的なストレッチ運動とリラックス訓練ができるようにした、請求項1記載のストレッチ台。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月22日(2007.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検体内導入装置によって撮像して得られた複数の画像データを取り込む取込手段と、
これら取り込んだ画像データそれぞれを、予め設定した所定の条件にしたがって複数のグループのうちの一つのグループへ振り分ける分割手段と、
ユーザ要求に応じて、一グループごとに振り分けられた画像データを順次表示させることができる管理手段と、
を備えることを特徴とする画像表示システム。
【請求項２】
前記分割手段が、撮像した時間或いは撮像部位にしたがって一つのグループへ振り分けるものであることを特徴とする請求項１に記載の画像表示システム。
【請求項３】
前記画像データを記録する記録手段を備えるとともに、当該記録手段が複数の画像データをグループごと記録することを特徴とする請求項１または２に記載の画像表示システム。
【請求項４】
前記管理手段が、双方向通信可能なネットワークに接続された情報処理端末に画像データを順次表示させるものであることを特徴とする請求項１，２または３に記載の画像表示システム。
【請求項５】
被検体に関するコメント情報を入力する入力手段と、
前記複数の画像データの中から選択された１以上の画像データの縮小画像と該１以上の縮小画像の位置情報と前記コメント情報とを表示する表示手段と、
前記表示手段によって表示された前記コメント情報と前記１以上の縮小画像と前記位置情報とを含む前記被検体のカルテ情報を作成する編集手段と、
を備えることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載の画像表示システム。
【請求項６】
被検体に関するコメント情報を入力する入力手段と、
前記被検体内部に導入された被検体内導入装置が撮像した複数の画像データの中から選択された１以上の画像データの縮小画像と、該１以上の縮小画像の各位置を示すタイムバーと、前記コメント情報とを表示する表示手段と、
前記表示手段によって表示された前記コメント情報と前記１以上の縮小画像と前記タイムバーとを含む前記被検体のカルテ情報を作成する編集手段と、
を備えることを特徴とする画像表示システム。
【請求項７】
前記編集手段によって作成された前記カルテ情報を記録する記録手段を備えたことを特徴とする請求項６に記載の画像表示システム。
【請求項８】
前記表示手段は、前記１以上の縮小画像に付された番号を前記タイムバー上に表示し、
前記タイムバーは、前記番号の位置によって前記１以上の縮小画像の各位置を示すことを特徴とする請求項６または７に記載の画像表示システム。
【請求項９】
被検体内導入装置によって撮像して得られた複数の画像データを取り込む取込手段と、
これら取り込んだ画像データそれぞれを、予め設定した所定の条件にしたがって複数のグループのうちの一つのグループへ振り分ける分割手段と、
ユーザ要求に応じて、一グループごとに振り分けられた画像データを順次表示させることができる管理手段と、
を備えることを特徴とするサーバ。
【請求項１０】
前記分割手段が、撮像した時間或いは撮像部位にしたがって一つのグループへ振り分けるものであることを特徴とする請求項９に記載のサーバ。
【請求項１１】
前記画像データを記録する記録手段を備えるとともに、当該記録手段が複数の画像データをグループごと記録することを特徴とする請求項９または１０に記載のサーバ。
【請求項１２】
前記管理手段が、双方向通信可能なネットワークに接続された情報処理端末に画像データを順次表示させるものであることを特徴とする請求項９〜１１のいずれか一つに記載のサーバ。
【請求項１３】
被検体に関するコメント情報を入力する入力手段と、
前記被検体内部に導入された被検体内導入装置が撮像した複数の画像データの中から選択された１以上の画像データの縮小画像と、該１以上の縮小画像の各位置を示すタイムバーと、前記コメント情報とを表示する表示手段と、
前記表示手段によって表示された前記コメント情報と前記１以上の縮小画像と前記タイムバーとを含む前記被検体のカルテ情報を作成する編集手段と、
を備えることを特徴とする画像表示装置。
【請求項１４】
前記編集手段によって作成された前記カルテ情報を記録する記録手段を備えたことを特徴とする請求項１３に記載の画像表示装置。
【請求項１５】
前記表示手段は、前記１以上の縮小画像に付された番号を前記タイムバー上に表示し、
前記タイムバーは、前記番号の位置によって前記１以上の縮小画像の各位置を示すことを特徴とする請求項１３または１４に記載の画像表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、請求項２の発明にかかる画像表示システムは、上記発明において、前記分割手段が、撮像した時間或いは撮像部位にしたがって一つのグループへ振り分けるものであることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
（実施の形態１）
図１は、無線型被検体内情報取得システムの全体構成を示す模式図である。図１において、無線型被検体内情報取得システムは、無線受信機能を有する受信装置２と、被検体１内に導入され、体腔内画像を撮像して受信装置２に対して映像信号などのデータ送信を行うカプセル型内視鏡（被検体内導入装置）３とを備える。また、無線型被検体内情報取得システムは、受信装置２が受信した映像信号に基づいて体腔内画像を表示する画像表示システム４と、受信装置２と画像表示システム４との間でデータの受け渡しを行うための携帯型記録媒体５とを備える。受信装置２は、被検体１によって着用される受信アンテナ２ａと、受信される無線信号の処理などを行う受信装置本体２ｂとを備える。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
１  被検体
２  受信装置
２ａ  受信アンテナ
２ｂ  受信装置本体
３  カプセル型内視鏡
４  画像表示システム
５  携帯型記録媒体
１０  サーバ
１１  画像取込部
１２  制御部
１２ａ  分割部
１２ｂ  管理部
１２ｃ，２２ｂ  表示制御部
１３，２３  記録部
１４，２１  インターフェース
１５，２４  入力部
１６，２５  表示部
２０，３０  画像表示端末装置
２２  制御部
２２ａ  編集部
Ｃ〜Ｇ  フォルダ
Ｐ０  カルテ情報
Ｑ０，Ｘ０，Ｙ０，Ｚ０  ウィンドウ
Ｘ１，Ｙ１，Ｚ１  識別情報表示領域
Ｘ２，Ｙ２  観察画面表示領域
Ｘ３，Ｙ３，Ｚ４  縮小画像表示領域
Ｘ４，Ｙ４，Ｚ３  タイムバー
Ｘ５  操作ボタン
Ｘ３１  縮小画像
Ｘ４１，Ｙ４１  ブロック位置表示
Ｘ５２  リポートボタン
Ｙ１  識別情報表示領域
Ｚ２  コメント作成領域
Ｚ５  登録ボタン
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2006141898.tif 000001
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2006141898.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月29日(2008.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
幾つかの宛先を定義するマルチキャスト宛先アドレスを含むディスカバリメッセージをソースから受信するためのアクセスマルチプレクサ（２、３）を備える、ネットワーク（１０）で使用されるステートレス自動構成プロセスを実行するためのアクセスマルチプレクサシステム（１）であって、ディスカバリメッセージのマルチキャスト宛先アドレスを、宛先の数よりも少ないさらなる数の宛先を定義するさらなる宛先アドレスと置換するためのエージェント（４）をさらに含むことを特徴とするアクセスマルチプレクサシステム（１）。
【請求項２】
アクセスマルチプレクサシステム（１）が、ディスカバリメッセージの少なくとも一部を検出する検出手段（４１）を含み、検出に対応して前記置換を実行する置換手段（４２）を含むことを特徴とする請求項１に記載のアクセスマルチプレクサシステム（１）。
【請求項３】
ディスカバリメッセージが送信請求メッセージを含み、ソースがホスト（２１〜２３）を含み、宛先がネットワークユニット（１２〜１４）を含むことを特徴とする請求項２に記載のアクセスマルチプレクサシステム（１）。
【請求項４】
エージェント（４）が、ホスト（２１〜２３）の認証および／または支払請求を行い、それに対応してエージェント（４）にさらなる数の宛先を定義する情報を提供する情報手段（１１）と交信するインターフェース手段（４３）を含むことを特徴とする請求項３に記載のアクセスマルチプレクサシステム（１）。
【請求項５】
ディスカバリメッセージが通告メッセージを含み、ソースがネットワークユニット（１２〜１４）を含み、宛先がホスト（２１〜２３）を含むことを特徴とする請求項２に記載のアクセスマルチプレクサシステム（１）。
【請求項６】
エージェント（４）が、ネットワークユニット（１２〜１４）をホスト（２１〜２３）にリンクし、それに対応してエージェント（４）にさらなる数の宛先を定義する情報を提供する情報手段（１１）に交信するインターフェース手段（４３）を含むことを特徴とする請求項５に記載のアクセスマルチプレクサシステム（１）。
【請求項７】
幾つかの宛先を定義するマルチキャスト宛先アドレスを含むディスカバリメッセージをソースから受信するアクセスマルチプレクサ（２、３）を備える、ネットワーク（１０）でステートレス自動構成プロセスを実行するためのアクセスマルチプレクサシステム（１）で使用されるエージェント（４）であって、ディスカバリメッセージのマルチキャスト宛先アドレスを、宛先の数よりも少ないさらなる数の宛先を定義するさらなる宛先アドレスと置換するように構成されることを特徴とするエージェント（４）。
【請求項８】
幾つかの宛先を定義するマルチキャスト宛先アドレスを含むディスカバリメッセージをソースから受信するためのアクセスマルチプレクサ（２、３）を備える、ステートレス自動構成プロセスを実行するためのアクセスマルチプレクサシステム（１）を含むネットワーク（１０）であって、ディスカバリメッセージのマルチキャスト宛先アドレスを、宛先の数よりも少ないさらなる数の宛先を定義するさらなる宛先アドレスと置換するためのエージェント（４）をさらに含むことを特徴とするネットワーク（１０）。
【請求項９】
幾つかの宛先を定義するマルチキャスト宛先アドレスを含むディスカバリメッセージをソースから受信する受信ステップを備える、ネットワーク（１０）でステートレス自動構成プロセスを実行するためのアクセス多重化方法であって、ディスカバリメッセージのマルチキャスト宛先アドレスを、宛先の数よりも少ないさらなる数の宛先を定義するさらなる宛先アドレスと置換する置換ステップをさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項１０】
幾つかの宛先を定義するマルチキャスト宛先アドレスを含むディスカバリメッセージをソースから受信する受信機能を備える、ネットワーク（１０）でステートレス自動構成プロセスを実行するためのアクセス多重化のためのプロセッサプログラム製品であって、ディスカバリメッセージのマルチキャスト宛先アドレスを、宛先の数よりも少ないさらなる数の宛先を定義するさらなる宛先アドレスと置換する置換機能をさらに含むことを特徴とするプロセッサプログラム製品。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月29日(2007.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
三重点領域内の高電界応力は、絶縁体を貫通し、電界放出効果及び他の混成型ミクロ機構を通じて電子照射を生成することができる。電子照射からの電荷が、陰極などの中実の表面から分離され、真空又は絶縁体内に存在すると、電荷は電界の影響下で加速され、カスケードされてアークを生成することができる。アークは上述の経路に沿って発生することができる。アーク放電は絶縁体を損傷させ、絶縁破壊し、亀裂を生じさせる可能性がある。絶縁体の絶縁破壊は最終的には空気漏洩をもたらし、Ｘ線管を動作不能にする恐れがある。アーク放電はまた、大気側のフラッシュオーバーを生じ、これが他のＸ線システムの構成要素に損傷を与える可能性がある。
【特許文献１】米国特許出願公開第２００４／００９６０３７号
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月6日(2008.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
基板上にIII族窒化物系化合物半導体AlxGayIn1-x-yN(0≦x≦1, 0≦y≦1)を積層したIII族窒化物系化合物半導体光素子において、
少なくともｎ型の層は、悉くその組成にアルミニウムを含むIII族窒化物系化合物半導体であり、
基板上に形成された窒化アルミニウム(AlN)又はAlx0Gay0In1-x0-y0N(0＜x0＜1, 0≦y0＜1, x0+y0＜1)から成る単結晶層を有し、他の層は当該窒化アルミニウム(AlN)又はAlx0Gay0In1-x0-y0N(0＜x0＜1, 0≦y0＜1, x0+y0＜1)から成る単結晶層の上層としてエピタキシャル成長により形成されたものであり、
前記基板上に形成された単結晶層は、その表面のＸ線ロッキングカーブの半値幅が50秒以下であることを特徴とするIII族窒化物系化合物半導体光素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記の課題を解決するため請求項１に記載の手段によれば、基板上にIII族窒化物系化合物半導体AlxGayIn1-x-yN(0≦x≦1, 0≦y≦1)を積層したIII族窒化物系化合物半導体光素子において、少なくともｎ型の層は、悉くその組成にアルミニウムを含むIII族窒化物系化合物半導体であり、基板上に形成された窒化アルミニウム(AlN)又はAlx0Gay0In1-x0-y0N(0＜x0＜1, 0≦y0＜1, x0+y0＜1)から成る単結晶層を有し、他の層は当該窒化アルミニウム(AlN)又はAlx0Gay0In1-x0-y0N(0＜x0＜1, 0≦y0＜1, x0+y0＜1)から成る単結晶層の上層としてエピタキシャル成長により形成されたものであり、基板上に形成された単結晶層は、その表面のＸ線ロッキングカーブの半値幅が50秒以下であることを特徴とする。また、請求項２に記載の手段によれば、窒化アルミニウム(AlN)又はAlx0Gay0In1-x0-y0N(0＜x0＜1, 0≦y0＜1, x0+y0＜1)から成る単結晶層の上に、ｎ電極を形成する層として、膜厚が1〜2μm、アルミニウム組成x1が0.07≦x1≦1であるｎ型のAlx1Ga1-x1Nを形成したことを特徴とする。更に請求項３に記載の手段によれば、ｎ型のAlx1Ga1-x1Nのアルミニウム組成x1が0.12≦x1≦0.25であることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
基板の上に、その表面のＸ線ロッキングカーブの半値幅が50秒以下である単結晶の窒化アルミニウム(AlN)又はAlx0Gay0In1-x0-y0N(0＜x0＜1, 0≦y0＜1, x0+y0＜1)層を形成するので、その上に厚い窒化ガリウム(GaN)を形成しなくても発光層の結晶性が保障される。よって、単結晶の窒化アルミニウム(AlN)又はAlx0Gay0In1-x0-y0N(0＜x0＜1, 0≦y0＜1, x0+y0＜1)層の上の層は窒化ガリウム(GaN)でなくて良いので、少なくともｎ型の層は、悉くその組成にアルミニウムを含むIII族窒化物系化合物半導体で形成できる。これにより、ｎ側の層に窒化ガリウム(GaN)を用いないので、発光層が近紫外線領域の光を発する、又は、受光層が近紫外線領域の光を受けるものであっても、光素子の他の層が当該近紫外線領域の光を吸収してしまうことが無くなり、発光効率及び受光効率が向上する。ｎ電極を形成する層としては、膜厚が1〜2μm、アルミニウム組成x1が0.07≦x1≦1であるｎ型のAlx1Ga1-x1Nを形成すると良い。更には、紫外線領域の光吸収低減及びｎ伝導性向上、クラックの低減を考慮すると、ｎ電極を形成するｎ型のAlx1Ga1-x1N層のアルミニウム組成x1は0.12≦x1≦0.25が好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月28日(2006.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素を含む燃料ガスの供給を受けて発電する燃料電池と、
前記燃料電池から排出される燃料オフガスの通路である燃料オフガス通路と、
前記燃料オフガス通路から前記燃料オフガスを外部に排出する排出手段と、
前記排出手段による前記燃料オフガスの排出中における前記燃料オフガス通路内の圧力降下速度から、前記燃料電池内における前記燃料ガス中の窒素濃度を推定する窒素濃度推定手段と、
前記窒素濃度推定手段により推定された前記窒素濃度に応じて前記排出手段により排出される前記燃料オフガスの排出量を制御する排出量制御手段と、
を備えることを特徴とする燃料電池システム。
【請求項２】
前記排出手段が前記燃料電池の停止時に作動される場合、前記排出量制御手段は、前記窒素濃度が高いほど前記燃料オフガスの排出量を減少させることを特徴とする請求項１記載の燃料電池システム。
【請求項３】
前記燃料オフガス通路は、前記燃料電池に供給される前記燃料ガスの通路である燃料ガス通路に接続されていることを特徴とする請求項１又は２記載の燃料電池システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
第１の発明は、上記の目的を達成するため、水素を含む燃料ガスの供給を受けて発電する燃料電池と、
前記燃料電池から排出される燃料オフガスの通路である燃料オフガス通路と、
前記燃料オフガス通路から前記燃料オフガスを外部に排出する排出手段と、
前記排出手段による前記燃料オフガスの排出中における前記燃料オフガス通路内の圧力降下速度から、前記燃料電池内における前記燃料ガス中の窒素濃度を推定する窒素濃度推定手段と、
前記窒素濃度推定手段により推定された前記窒素濃度に応じて前記排出手段により排出される前記燃料オフガスの排出量を制御する排出量制御手段と、
を備えることを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、第２の発明は、第１の発明において、前記排出手段が前記燃料電池の停止時に作動される場合、前記排出量制御手段は、前記窒素濃度が高いほど前記燃料オフガスの排出量を減少させることを特徴としている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、第３の発明は、第１又は第２の発明において、前記燃料オフガス通路は、前記燃料電池に供給される前記燃料ガスの通路である燃料ガス通路に接続されていることを特徴としている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、燃料ガス中の窒素濃度は燃料電池内の位置によって変化するものの最終的な窒素濃度は燃料オフガスに係わる物理量に反映されるので、燃料オフガス通路において検出される前記物理量から窒素濃度を推定することで、燃料電池内における燃料ガス中の窒素濃度を正確に推定することができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
特に、燃料オフガスの排出中における燃料オフガス通路内の圧力降下速度は窒素濃度に対応しているので、この圧力降下速度から窒素濃度を推定することで、燃料電池内における燃料ガス中の窒素濃度を正確に推定することができる。また、窒素濃度は水素濃度から推定することもできるが、圧力降下速度の測定に必要な圧力センサはガス濃度センサに比較して応答性が優れているので、本発明によればガス濃度センサの検出値を用いる場合に比較して、窒素濃度の変化に遅れることなく速やかに且つ正確に燃料オフガスの排出量を制御することができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、燃料電池の停止時におけるカソードへの水素の透過を抑制するためには、燃料オフガスを排出してアノード内の水素分圧を低下させることが有効であるが、第２の発明によれば、燃料ガス中の窒素濃度が高いほど燃料オフガスの排出量が減少されることで、アノード内の水素分圧が小さい場合に不必要に水素が排出されることが防止され、燃費の低下が抑制される。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、第３の発明のように燃料オフガス通路が燃料ガス通路に接続される場合には、燃料ガスの循環系が構成され、この循環系内に窒素が蓄積されていくことになるが、本発明によれば、燃料オフガスが循環系外に排出されることで水素濃度が回復され、しかもその排出量は燃料ガス中の窒素濃度に応じて制御されるので不必要に水素を排出することによる燃費の低下も抑制される。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月22日(2007.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
これらの特別設計の電子機械式接触システム（例えば、エンジニアリング、生産及び製造検査装置又はシステム）を形状因子パネルの外側フィンガ接点と一時的に接触させて、相互接続完全性、ＴＦＴ動作、ダイオード性能などを含む多数の重要パラメータが測定される。検査装置はまた、パネル上の全てのピクセルを何らかの方法でアドレス指定する（すなわち、検査する）ことが可能なように、走査及びデータ収集電子機器を含むことができる。このような特別設計の検査システムは、生産プロセス中に検査ポイントが挿入される場合に応じて、暗条件（エネルギー刺激無し）又は可視光刺激とＸ線刺激とを利用してパネルを検査することができる。
【特許文献１】米国特許第６５５９４５１号
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月4日(2007.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面が酸化された半導体基板上に剥離層を形成し、
前記剥離層上に下地膜を介して複数の薄膜集積回路装置を形成し、
前記複数の薄膜集積回路装置の境界に溝を形成し、
前記溝にフッ化ハロゲンを含む気体又は液体を導入し、前記剥離層を除去することによって、前記複数の薄膜集積回路装置を分離することを特徴とする薄膜集積回路装置の作製方法。
【請求項２】
表面が酸化された半導体基板上に剥離層を形成し、
前記剥離層上に下地膜を介して複数の薄膜集積回路装置を形成し、
前記複数の薄膜集積回路装置の境界に溝を形成し、
前記複数の薄膜集積回路装置の上方に、複数の突起部を有するジグの当該突起部を、前記薄膜集積回路装置毎に一時的に接着し、
前記溝にフッ化ハロゲンを含む気体又は液体を導入し、前記剥離層を除去することによって、前記複数の薄膜集積回路装置を分離し、
前記複数の薄膜集積回路装置に接着されたジグを取り外すことを特徴とする薄膜集積回路装置の作製方法。
【請求項３】
上部の単結晶シリコン層、酸化珪素又は窒化珪素を含む層及び下部の単結晶シリコン層を含むＳＯＩ基板を用いて複数の薄膜集積回路装置を形成し、
前記複数の薄膜集積回路装置の境界に溝を形成し、
前記溝にフッ化ハロゲンを含む気体又は液体を導入し、前記下部の単結晶シリコン層の少なくとも薄膜集積回路装置側の表面をエッチングすることによって、前記複数の薄膜集積回路装置を分離することを特徴とする薄膜集積回路装置の作製方法。
【請求項４】
上部の単結晶シリコン層、酸化珪素又は窒化珪素を含む層及び下部の単結晶シリコン層を含むＳＯＩ基板を用いて複数の薄膜集積回路装置を形成し、
前記複数の薄膜集積回路装置の境界に溝を形成し、
前記複数の薄膜集積回路装置の上方に、複数の突起部を有するジグの当該突起部を、前記薄膜集積回路装置毎に一時的に接着し、
前記溝にフッ化ハロゲンを含む気体又は液体を導入し、前記下部の単結晶シリコン層の少なくとも薄膜集積回路装置側の表面をエッチングすることによって、前記複数の薄膜集積回路装置を分離し、
前記複数の薄膜集積回路装置に接着されたジグを取り外すことを特徴とする薄膜集積回路装置の作製方法。
【請求項５】
請求項２又は４において、
前記ジグの接着は、ＵＶ光によって接着力が低下又は喪失する接着剤を用いて行なうことを特徴とする薄膜集積回路装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項において、前記溝は、線状レーザースクライブ、ダイシング又は絶縁膜をマスクとするエッチングにより形成することを特徴とする薄膜集積回路装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項において、
前記複数の薄膜集積回路装置上に耐熱性を有する絶縁膜又はテープを形成することを特徴とする薄膜集積回路装置の作製方法。
【請求項８】
請求項７において、
前記耐熱性を有する絶縁膜は、シリコンと酸素との結合で骨格構造が構成され、置換基に少なくとも水素を含む材料、若しくは置換基にフッ素、アルキル基、または芳香族炭化水素のうち少なくとも一種を有する材料からなることを特徴とする薄膜集積回路装置の作製方法。
【請求項９】
請求項１又は２において、
前記剥離層は、シリコンを主成分として含むことを特徴とする薄膜集積回路装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項において、
前記下地膜は、酸化珪素、窒化珪素又は酸窒化珪素を含むことを特徴とする薄膜集積回路装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一項において、
前記フッ化ハロゲンは、ＣｌＦ３（三フッ化塩素）であることを特徴とする薄膜集積回路装置の作製方法。
【請求項１２】
表面が酸化された半導体基板上に剥離層を形成し、
前記剥離層上に下地膜を介して複数の薄膜集積回路装置を形成し、
前記複数の薄膜集積回路装置の境界に溝を形成し、
前記溝にフッ化ハロゲンを含む気体又は液体を導入し、前記剥離層を除去することによって、前記複数の薄膜集積回路装置を分離し、
前記分離された薄膜集積回路装置の周囲にアンテナを形成することを特徴とする非接触型薄膜集積回路装置の作製方法。
【請求項１３】
上部の単結晶シリコン層、酸化珪素又は窒化珪素を含む層及び下部の単結晶シリコン層を含むＳＯＩ基板を用いて複数の薄膜集積回路装置を形成し、
前記複数の薄膜集積回路装置の境界に溝を形成し、
前記溝にフッ化ハロゲンを含む気体又は液体を導入し、前記下部の単結晶シリコン層の少なくとも薄膜集積回路装置側の表面をエッチングすることによって、前記複数の薄膜集積回路装置を分離し、
前記分離された薄膜集積回路装置の周囲にアンテナを形成することを特徴とする非接触型薄膜集積回路装置の作製方法。
【請求項１４】
請求項１２又は１３において、
前記フッ化ハロゲンは、ＣｌＦ３（三フッ化塩素）であることを特徴とする非接触型薄膜集積回路装置の作製方法。
【請求項１５】
請求項１２乃至１４のいずれか一項において、
前記アンテナは、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ又はＴｉを含むことを特徴とする非接触型薄膜集積回路装置の作製方法。
【請求項１６】
請求項１２乃至１５のいずれか一項において、
前記アンテナは、可撓性を有する基体上に形成することを特徴とする非接触型薄膜集積回路装置の作製方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８１】
メモリ２９にはＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎ  Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）、ＰＲＯＭ、ＥＰＲＯＭ又はＥＥＰＲＯＭ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃａｌｌｙ  Ｅｒａｓａｂｌｅ  ａｎｄ  Ｐｒｏｇｒａｍａｂｌｅ  Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）、ＦＲＡＭ（登録商標）（ＦｅＲＡＭ；Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）等が利用される。ＰＲＯＭやＥＰＲＯＭの場合はカードを発行する時以外は書込みができないが、ＥＥＰＲＯＭは書き換えが可能である。これらメモリは、用途に応じて選択すればよい。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月26日(2007.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置及びＩＤタグ
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メモリセルを複数有するデータ保持手段と、電源制御手段と、を有し、
前記メモリセルは、ワード線と、前記ワード線と交差するように設けられたビット線と、第１の電源線と、第２の電源線と、トランジスタと、を有し、
前記トランジスタのゲートは前記ワード線に電気的に接続され、
前記トランジスタのソースとドレインの一方は前記ビット線に電気的に接続され、
複数の前記メモリセルのうち少なくとも１つのメモリセルにおいて、前記トランジスタのソースとドレインの他方は前記第１の電源線に電気的に接続され、複数の前記メモリセルのうち他のメモリセルにおいて、前記トランジスタのソースとドレインの他方は前記第２の電源線に電気的に接続され、
前記電源制御手段は、第１の電圧電源線と、第２の電圧電源線と、第１のスイッチと、第２のスイッチと、を有し、
前記第１のスイッチは、前記第１の電圧電源線と前記第１の電源線との電気的接続を選択し、
前記第２のスイッチは、前記第２の電圧電源線と前記第２の電源線との電気的接続を選択することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記第１の電圧電源線に与えられる電位は、前記第２の電圧電源線に与えられる電位よりも高いことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記メモリセルは、容量素子又は抵抗素子を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一に記載の前記半導体装置は、マスクＲＯＭ又はＰＲＯＭであることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項３のいずれか一に記載の前記半導体装置は、ＥＰＲＯＭ、ＥＥＰＲＯＭ又はフラッシュメモリであることを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一に記載の前記半導体装置を搭載したことを特徴とするＩＤタグ。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月11日(2008.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスク基板の上に配置されているエンボス加工可能フィルムをほぼエンボス加工温度に等しい温度に予熱するステップと、
前記基板と接触しないピックアップ・ヘッドを使用して、前記ほぼエンボス加工温度に等しい温度を維持しながら、前記基板をエンボス加工ネストに搬送するステップと
から構成されることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記ディスクの内径により定められる穴を備えるディスクをネスト上に配置するステップと、
前記ディスクの内径穴に向かっているガスポートを通じて、ガスを前記ディスクの内径穴内に導くことにより前記ディスクを前記ネストのすぐそばに誘導するステップと
から成ることを特徴とする方法。
【請求項３】
エンボス加工可能フィルムを有するディスク基板を搬送する手段と、
前記ディスク基板をインプリント・ダイ・セットに搬送しながら前記エンボス加工可能フィルムの等音状態を維持する手段と
から構成されることを特徴とする装置。
【請求項４】
ディスク基板多岐管と、
前記ディスク基板多岐管に結合されている第１のポートと、
前記ディスク基板多岐管の内径により定められる中心部分近くに配置されている複数のガス噴流部と、
前記ディスク基板の前記内径内の前記中心部分にガスを吹き込む、前記複数のガス噴流部に結合される第２のポートと
から構成されることを特徴とする装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月26日(2008.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースフィルムと、
前記ベースフィルムの一方の表面上に形成され、互いに並設された複数のシリンドリカルレンズを備えるレンチキュラレンズ樹脂層と、
前記ベースフィルムの他方の表面上に形成され、互いに並設された複数のプリズムを備え、前記ベースフィルムの屈折率よりも低い屈折率を有するプリズム樹脂層と、
前記プリズム樹脂層の前記プリズムが並設された表面上に充填され、前記プリズム樹脂層の屈折率よりも高い屈折率を有する充填樹脂層とを備えることを特徴とするレンズシート。
【請求項２】
請求項１に記載のレンズシートであって、
前記シリンドリカルレンズの並設方向は前記プリズムの並設方向と交差することを特徴とするレンズシート。
【請求項３】
請求項２に記載のレンズシートであって、
前記シリンドリカルレンズの並設方向は前記プリズムの並設方向と直交することを特徴とするレンズシート。
【請求項４】
請求項３に記載のレンズシートであって、
前記レンチキュラレンズ樹脂層は、軸方向に配列されたシリンドリカルレンズ転写用溝を表面に有する第１のロール版の表面に電離放射線硬化樹脂を充填し、前記充填された電離放射線硬化樹脂を前記ベースフィルムの一方の表面に転写した後電離放射線を照射して硬化させることにより形成され、
前記プリズム樹脂層は、周方向に配列され前記プリズムと同じ横断面形状である複数のプリズム転写用溝を表面に有する第２のロール版の表面に電離放射線硬化樹脂を充填し、前記充填された電離放射線硬化樹脂を前記ベースフィルムの他方の表面に転写した後電離放射線を照射して硬化させることにより形成され、
前記充填樹脂層は、形成されたプリズム樹脂層の表面に樹脂を塗布することにより形成されることを特徴とするレンズシート。
【請求項５】
請求項４に記載のレンズシートであって、前記プリズムの頂角は９０°以上であることを特徴とするレンズシート。
【請求項６】
請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載のレンズシートであって、
前記シリンドリカルレンズの並設方向は、前記プリズムの並設方向と同じであり、
前記シリンドリカルレンズ及びプリズムの少なくとも一方は、長手方向に波線状に延在することを特徴とするレンズシート。
【請求項７】
請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載のレンズシートを備えることを特徴とするバックライト。
【請求項８】
請求項７に記載のバックライトを備えることを特徴とする表示装置。
【請求項９】
請求項８に記載のバックライトと、
前記バックライト上に敷設される液晶パネルとを備えることを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明によるレンズシートは、ベースフィルムと、レンチキュラレンズ樹脂層と、プリズム樹脂層と、充填樹脂層とを備える。レンチキュラレンズ樹脂層は、ベースフィルムの一方の表面上に形成され、互いに並設された複数のシリンドリカルレンズを備える。プリズム樹脂層は、ベースフィルムの他方の表面上に形成され、互いに並設された複数のプリズムを備え、ベースフィルムの屈折率よりも低い屈折率を有する。充填樹脂層は、プリズム樹脂層のプリズムが並設された表面上に充填され、プリズム樹脂層の屈折率よりも高い屈折率を有する。