【手続補正書】
【提出日】平成20年3月26日(2008.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学的にパターンを形成するパターン形成体において、基材上に、光触媒含有層を有し、前記光触媒含有層は、ケイ素原子に結合したオルガノ基としてビニル基を含有したシリコーンを結着剤であり、かつ光触媒の作用により濡れ性が変化する物質として含有することを特徴とするパターン形成体。
【請求項２】
光学的にパターンを形成するパターン形成体において、基材上に、光触媒含有層を有し、前記光触媒含有層は、ケイ素原子に結合したオルガノ基としてアミノ基を含有したシリコーンを結着剤であり、かつ光触媒の作用により濡れ性が変化する物質として含有することを特徴とするパターン形成体。
【請求項３】
光学的にパターンを形成するパターン形成体において、基材上に、光触媒含有層を有し、
前記光触媒含有層は、ケイ素原子に結合したオルガノ基としてエポキシ基を含有したシリコーンを結着剤であり、かつ光触媒の作用により濡れ性が変化する物質として含有し、
前記光触媒含有層は、パターン露光に伴う前記光触媒の作用により表面に濡れ性が異なるパターンが形成されることを特徴とするパターン形成体。
【請求項４】
光学的にパターンを形成するパターン形成体において、基材上に、光触媒含有層を有し、
前記光触媒含有層は、フェニルトリクロルシラン、フェニルトリブロムシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリｔ−ブトキシシラン；ジメトキシジエトキシシラン；ジメチルジクロルシラン、ジメチルジブロムシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン；ジフェニルジクロルシラン、ジフェニルジブロムシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン；フェニルメチルジクロルシラン、フェニルメチルジブロムシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、およびフェニルメチルジエトキシシランからなる群から選択される1種もしくは2種以上を含む化合物の加水分解縮合物または共加水分解縮合物であるシリコーンを結着剤であり、かつ光触媒の作用により濡れ性が変化する物質として含有し、
前記光触媒含有層は、パターン露光に伴う前記光触媒の作用により表面に濡れ性が異なるパターンが形成されることを特徴とするパターン形成体。
【請求項５】
光学的にパターンを形成するパターン形成体において、基材上に、光触媒含有層を有し、前記光触媒含有層は、γ−メタアクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリｔ−ブトキシシランからなる群から選択される1種もしくは2種以上を含む化合物の加水分解縮合物または共加水分解縮合物であるシリコーンを結着剤であり、かつ光触媒の作用により濡れ性が変化する物質として含有することを特徴とするパターン形成体。
【請求項６】
光学的にパターンを形成するパターン形成体において、基材上に、光触媒含有層を有し、前記光触媒含有層は、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリｔ−ブトキシシランからなる群から選択される1種もしくは2種以上を含む化合物の加水分解縮合物または共加水分解縮合物であるシリコーンを結着剤であり、かつ光触媒の作用により濡れ性が変化する物質として含有することを特徴とするパターン形成体。
【請求項７】
光学的にパターンを形成するパターン形成体において、基材上に、光触媒含有層を有し、
前記光触媒含有層は、シランカップリング剤、クロロシラン、およびアルコキシシランから選ばれる少なくとも１種のシラン化合物を、光触媒の作用により濡れ性が変化する物質として含有し、
前記光触媒含有層は、パターン露光に伴う前記光触媒の作用により表面に濡れ性が異なるパターンが形成されることを特徴とするパターン形成体。
【請求項８】
光学的にパターンを形成するパターン形成体において、基材上に光触媒含有層を有し、前記光触媒含有層上に、ケイ素原子に結合したオルガノ基としてビニル基を含有したシリコーンを光触媒の作用により濡れ性が変化する物質として含有する含有層を有することを特徴とするパターン形成体。
【請求項９】
光学的にパターンを形成するパターン形成体において、基材上に光触媒含有層を有し、前記光触媒含有層上に、ケイ素原子に結合したオルガノ基としてアミノ基を含有したシリコーンを光触媒の作用により濡れ性が変化する物質として含有する含有層を有することを特徴とするパターン形成体。
【請求項１０】
光学的にパターンを形成するパターン形成体において、基材上に光触媒含有層を有し、前記光触媒含有層上に、ケイ素原子に結合したオルガノ基としてエポキシ基を含有したシリコーンを光触媒の作用により濡れ性が変化する物質として含有する含有層を有することを特徴とするパターン形成体。
【請求項１１】
光学的にパターンを形成するパターン形成体において、基材上に光触媒含有層を有し、前記光触媒含有層上に、フェニルトリクロルシラン、フェニルトリブロムシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリｔ−ブトキシシラン；ジメトキシジエトキシシラン；ジメチルジクロルシラン、ジメチルジブロムシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン；ジフェニルジクロルシラン、ジフェニルジブロムシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン；フェニルメチルジクロルシラン、フェニルメチルジブロムシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、およびフェニルメチルジエトキシシランからなる群から選択される1種もしくは2種以上を含む化合物の加水分解縮合物または共加水分解縮合物であるシリコーンを光触媒の作用により濡れ性が変化する物質として含有する含有層を有することを特徴とするパターン形成体。
【請求項１２】
光学的にパターンを形成するパターン形成体において、基材上に光触媒含有層を有し、前記光触媒含有層上に、γ−メタアクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリｔ−ブトキシシランからなる群から選択される1種もしくは2種以上を含む化合物の加水分解縮合物または共加水分解縮合物であるシリコーンを光触媒の作用により濡れ性が変化する物質として含有する含有層を有することを特徴とするパターン形成体。
【請求項１３】
光学的にパターンを形成するパターン形成体において、基材上に光触媒含有層を有し、前記光触媒含有層上に、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリｔ−ブトキシシランからなる群から選択される1種もしくは2種以上を含む化合物の加水分解縮合物または共加水分解縮合物であるシリコーンを光触媒の作用により濡れ性が変化する物質として含有する含有層を有することを特徴とするパターン形成体。
【請求項１４】
光学的にパターンを形成するパターン形成体において、基材上に光触媒含有層を有し、前記光触媒含有層上に、シランカップリング剤、クロロシラン、およびアルコキシシランから選ばれる少なくとも１種のシラン化合物を、光触媒の作用により濡れ性が変化する物質として含有する層を有することを特徴とするパターン形成体。
【請求項１５】
前記光触媒含有層が可視およびその他の波長に感受性を有するものであることを特徴とする請求項１から請求項１４までのいずれかの請求項に記載のパターン形成体。
【請求項１６】
前記光触媒含有層に蛍光物質が添加されていることを特徴とする請求項１５記載のパターン形成体。
【請求項１７】
パターン形成体が印刷版原版であることを特徴とする請求項１から請求項１６までのいずれかの請求項に記載のパターン形成体。