Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月6日(2008.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面が第１の方向に駆動する潜像担持体と、振動する偏向ミラー面によって光源からの光を前記第１の方向とほぼ直交する第２の方向に走査可能に構成され、前記光を前記潜像担持体に照射して潜像を形成する潜像形成部と、前記潜像の現像を行う現像部とを備え、
前記第１の方向にｎ個の画素（ｎは４以上の偶数）を有し且つ前記第２の方向にｍ個の画素を有するｎ行ｍ列のｎ×ｍセルを前記潜像担持体に仮想的に配列するとともに、各セル毎に該セルを構成する複数の画素のうちいずれの画素に対して潜像形成及び現像を行なうかを、該セルに再現する階調値と前記複数の画素それぞれに対応する閾値を有するディザマトリックスの数値とを対比することにより決定する画像処理部を備え、
前記偏向ミラー面によって前記光を前記第２の方向及び前記第２の方向とは異なる方向の複数の方向に走査して前記潜像を形成する手段と、
前記画像処理部による決定結果に基づいて、前記セルを構成する複数画素のうち階調値に応じた画素にのみ前記潜像形成部による潜像形成及び前記現像部による現像を行うことで階調再現を実行する手段とを備え、
前記画像処理部は、
前記セルの各画素に対応するように、ｎ×ｍ個の前記閾値を第１の方向に対応する行方向にｎ個且つ第２の方向に対応する列方向にｍ個の行列状に配列して構成されるｎ行ｍ列のｎ×ｍマトリックスである第１ディザマトリックスと、
前記第１ディザマトリックスの前記ｎ×ｍ個の前記閾値の全てを前記行方向に奇数行だけ循環的にシフトして構成されるｎ行ｍ列のｎ×ｍマトリックスである第２ディザマトリックスとを有し、
前記潜像担持体上における前記光の軌跡の略中心線である走査線の前記第２の方向における振幅中心より前記第２の方向側に位置する第１セルと前記第１ディザマトリックスとを対比する一方、前記振幅中心より前記第２の方向とは異なる方向側に位置する第２セルと前記第２ディザマトリックスとを対比することで、各セルを構成する複数の画素のうちいずれの画素に対して潜像形成及び現像を行うかを決定する
ことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
この発明に係る画像形成装置は、上記目的を達成するために、表面が第１の方向に駆動する潜像担持体と、振動する偏向ミラー面によって光源からの光を第１の方向とほぼ直交する第２の方向に走査可能に構成され、光を潜像担持体に照射して潜像を形成する潜像形成部と、潜像の現像を行う現像部とを備え、第１の方向にｎ個の画素（ｎは４以上の偶数）を有し且つ第２の方向にｍ個の画素を有するｎ行ｍ列のｎ×ｍセルを潜像担持体に仮想的に配列するとともに、各セル毎に該セルを構成する複数の画素のうちいずれの画素に対して潜像形成及び現像を行なうかを、該セルに再現する階調値と複数の画素それぞれに対応する閾値を有するディザマトリックスの数値とを対比することにより決定する画像処理部を備え、偏向ミラー面によって光を第２の方向及び第２の方向とは異なる方向の複数の方向に走査して潜像を形成する手段と、画像処理部による決定結果に基づいて、セルを構成する複数画素のうち階調値に応じた画素にのみ潜像形成部による潜像形成及び現像部による現像を行うことで階調再現を実行する手段とを備え、画像処理部は、セルの各画素に対応するように、ｎ×ｍ個の閾値を第１の方向に対応する行方向にｎ個且つ第２の方向に対応する列方向にｍ個の行列状に配列して構成されるｎ行ｍ列のｎ×ｍマトリックスである第１ディザマトリックスと、第１ディザマトリックスのｎ×ｍ個の閾値の全てを行方向に奇数行だけ循環的にシフトして構成されるｎ行ｍ列のｎ×ｍマトリックスである第２ディザマトリックスとを有し、潜像担持体上における光の軌跡の略中心線である走査線の第２の方向における振幅中心より第２の方向側に位置する第１セルと第１ディザマトリックスとを対比する一方、振幅中心より第２の方向とは異なる方向側に位置する第２セルと第２ディザマトリックスとを対比することで、各セルを構成する複数の画素のうちいずれの画素に対して潜像形成及び現像を行うかを決定することを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
このように構成された発明では、潜像担持体表面に振動する偏向ミラー面によって光ビームを、第２の方向（主走査方向）及び第２の方向とは異なる方向に往復走査させている。さらに、該潜像担持体表面は第１の方向（副走査方向）に駆動されている。従って、潜像担持体表面に対して走査線は図５に示す一点鎖線のようになる。ここで、図５は、走査線と潜像担持体表面との関係を示す模式図である。まず、走査ピッチの副走査方向おける変動に注目すると、図５の左端部及び右端部のいずれにおいても、狭い走査ピッチ（狭ピッチ）と広い走査ピッチ（広ピッチ）とが交互に現れる。次に、走査ピッチの主走査方向における変動に注目する。ここで、同図中の主走査方向に伸びる矢印Drに注目すると、同図の左端部では広ピッチである走査ピッチが矢印Dr方向に進むに連れて狭くなっていき、同図の右端部では狭ピッチとなる。したがって、例えば、副走査方向に４画素で主走査方向に４画素の４×４セルを用いて中間調のトナー像を形成する場合、次に示すような画像弊害が発生する場合がある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
これに対して本発明における画像処理部は、セルの各画素に対応するように、ｎ×ｍ個の閾値を第１の方向に対応する行方向にｎ個且つ第２の方向に対応する列方向にｍ個の行列状に配列して構成されるｎ行ｍ列のｎ×ｍマトリックスである第１ディザマトリックスと、第１ディザマトリックスのｎ×ｍ個の閾値の全てを行方向に奇数行だけ循環的にシフトして構成されるｎ行ｍ列のｎ×ｍマトリックスである第２ディザマトリックスとを有している。そして、潜像担持体上における光の軌跡の略中心線である走査線の第２の方向における振幅中心より第２の方向側に位置する第１セルと第１ディザマトリックスとを対比する一方、振幅中心より第２の方向とは異なる方向側に位置する第２セルと第２ディザマトリックスとを対比することで、各セルを構成する複数の画素のうちいずれの画素に対して潜像形成及び現像を行うかを決定する。つまり、図５において、振幅中心より左側と右側で第１と第２ディザマトリックスを使い分けている。よって、図７を用いて上述したような、副走査方向におけるスポット潜像の重複程度が異なることに起因した、左端部と右端部とでの微小ドット面積率の差を防止できる。したがって、同じ階調値を有するトナー像を形成しようとしているにもかかわらず、左右それぞれに形成されるトナー像間で濃度差ができるという画像弊害の発生を防止でき、良好な階調再現を実現できる。この理由について次に詳述する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月6日(2008.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動ホイール（２９）と従動ホイール（３１）とに掛回したエンドレス状の帯鋸刃（１３）によってワーク（Ｗ）の切断を行うとき、前記駆動ホイール（２９）を回転するためのモータ（３７）と前記従動ホイール（３１）を回転するためのモータ（３９）にそれぞれ逆位相のパルスを印加してワーク（Ｗ）の切断を行うことを特徴とする帯鋸刃によるワークの切断加工方法。
【請求項２】
駆動ホイール（２９）と従動ホイール（３１）とに掛回したエンドレス状の帯鋸刃（１３）を備えた帯鋸盤であって、前記駆動ホイール（２９）を回転するためのモータ（３７）と、前記従動ホイール（３１）を回転するためのモータ（３９）と、前記両モータ（３７，３９）に逆位相のパルスを印加するためのパルス印加手段を備えていることを特徴とする帯鋸盤。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明は、前述のごとき問題に鑑みてなされたもので、駆動ホイール（２９）と従動ホイール（３１）とに掛回したエンドレス状の帯鋸刃（１３）によってワーク（Ｗ）の切断を行うとき、前記駆動ホイール（２９）を回転するためのモータ（３７）と前記従動ホイール（３１）を回転するためのモータ（３９）にそれぞれ逆位相のパルスを印加してワーク（Ｗ）の切断を行うことを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、駆動ホイール（２９）と従動ホイール（３１）とに掛回したエンドレス状の帯鋸刃（１３）を備えた帯鋸盤であって、前記駆動ホイール（２９）を回転するためのモータ（３７）と、前記従動ホイール（３１）を回転するためのモータ（３９）と、前記両モータ（３７，３９）に逆位相のパルスを印加するためのパルス印加手段を備えていることを特徴とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月20日(2008.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記憶媒体に記憶された複数の画像を印刷する印刷装置であって、
前記複数の画像を前記記憶媒体から読み出す画像読出部と、
前記読み出した複数の画像の中から、第１の画像および第２の画像を特定する画像特定部と、
前記第１の画像から、前記第１の画像を構成する色の特徴を示す第１の特徴量を抽出すると共に、前記第２の画像から、前記第２の画像を構成する色の特徴を示す第２の特徴量を抽出する特徴量抽出部と、
前記第１の画像がフラッシュ有りで撮影された画像であり、前記第２の画像がフラッシュ無しで撮影された画像である場合に、前記第２の特徴量、および、前記第１の画像がフラッシュ無しで撮影された場合に変化すると想定される値に補正した第１の特徴量に基づいて、前記第１の画像および前記第２の画像の類似性を判断する類似判断部と、
前記判断された類似性に基づいて、前記複数の画像の中から画像を選択する画像選択部と、
前記選択された画像を印刷する制御を行う印刷制御部と
を備える印刷装置。
【請求項２】
前記想定される値は、前記第１の特徴量によって示される色と同色であって明るさの異なる色についての特徴を示す値である請求項１に記載の印刷装置。
【請求項３】
前記記憶媒体には、前記画像が撮影された際のフラッシュの有無を示すフラッシュ情報が前記画像毎に記憶されており、前記類似判断部は、前記フラッシュ情報に基づいて前記フラッシュ有無の関係にあるか否かを判断する請求項１または請求項２に記載の印刷装置。
【請求項４】
前記フラッシュ情報はＥｘｉｆ規格の情報である請求項３に記載の印刷装置。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれか記載の印刷装置であって、更に、
前記画像の明るさを示す評価値を、前記第１の画像および前記第２の画像から抽出する評価値抽出部と、
前記抽出された評価値に基づいて、前記抽出された第１の特徴量を、前記第１の画像および前記第２の画像の明るさが近づく方向に補正する特徴量補正部と
を備える印刷装置。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれか記載の印刷装置であって、
前記特徴量抽出部は、
前記第１の画像および前記第２の画像を複数のブロックにそれぞれ分割するブロック部と、
前記複数のブロック毎の代表色を示すＲＧＢ値を前記第１の特徴量および前記第２の特徴量として抽出するＲＧＢ抽出部と
を備え、
前記類似性判断部は、前記第１の画像および前記第２の画像間で対応する前記ブロックからそれぞれ抽出された二つの前記ＲＧＢ値についてのＲＧＢユークリッド空間上の距離に基づいて前記第１の画像および前記第２の画像の類似性を判断する印刷装置。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれか記載の印刷装置であって、
前記画像選択部は、
前記判断された前記第１の画像および前記第２の画像の類似性に基づいて、前記複数の画像を、類似した画像毎のグループに分類する画像分類部と、
前記分類されたグループ毎に該グループに含まれる画像の少なくとも一つを、前記選択された画像として選定する画像選定部と
を備える印刷装置。
【請求項８】
前記記憶媒体に記憶された複数の画像は、撮影された順序で一連に並ぶ画像であり、前記特定される前記第１の画像および前記第２の画像は、前記撮影された順序で隣り合う画像同士である請求項７に記載の印刷装置。
【請求項９】
請求項１ないし請求項６のいずれか記載の印刷装置であって、
前記画像選択部は、
前記判断された前記第１の画像および前記第２の画像の類似性に基づいて、前記特定された画像の一方に類似する画像を、前記複数の画像の中から検索する画像検索部と、
前記検索された画像の少なくとも一つを、前記選択された画像として選定する画像選定部と
を備える印刷装置。
【請求項１０】
記憶媒体に記憶された複数の画像を処理する画像処理装置であって、
前記複数の画像を前記記憶媒体から読み出す画像読出部と、
前記読み出した複数の画像の中から、第１の画像および第２の画像を特定する画像特定部と、
前記第１の画像から、前記第１の画像を構成する色の特徴を示す第１の特徴量を抽出すると共に、前記第２の画像から、前記第２の画像を構成する色の特徴を示す第２の特徴量を抽出する特徴量抽出部と、
前記第１の画像がフラッシュ有りで撮影された画像であり、前記第２の画像がフラッシュ無しで撮影された画像である場合に、前記第２の特徴量、および、前記第１の画像がフラッシュ無しで撮影された場合に変化すると想定される値に補正した第１の特徴量に基づいて、前記第１の画像および前記第２の画像の類似性を判断する類似判断部と
を備える画像処理装置。
【請求項１１】
更に、前記判断された前記第１の画像および前記第２の画像の類似性に基づいて、前記複数の画像を、類似した画像毎のグループに分類する画像分類部を備える請求項１０に記載の画像処理装置。
【請求項１２】
更に、前記判断された前記第１の画像および前記第２の画像の類似性に基づいて、前記特定された画像の一方に類似する画像を、前記複数の画像の中から検索する画像検索部を備える請求項１０に記載の画像処理装置。
【請求項１３】
記憶媒体に記憶された複数の画像を取り扱う画像処理方法であって、
前記複数の画像を前記記憶媒体から読み出し、
前記読み出した複数の画像の中から、第１の画像および第２の画像を特定し、
前記第１の画像から、前記第１の画像を構成する色の特徴を示す第１の特徴量を抽出すると共に、前記第２の画像から、前記第２の画像を構成する色の特徴を示す第２の特徴量を抽出し、
前記第１の画像がフラッシュ有りで撮影された画像であり、前記第２の画像がフラッシュ無しで撮影された画像である場合に、前記第２の特徴量、および、前記第１の画像がフラッシュ無しで撮影された場合に変化すると想定される値に補正した第１の特徴量に基づいて、前記第１の画像および前記第２の画像の類似性を判断する画像処理方法。
【請求項１４】
複数の画像を処理する機能をコンピュータに実現させるためのプログラムであって、
コンピュータが、前記複数の画像を前記記憶媒体から読み出す機能と、
コンピュータが、前記読み出した複数の画像の中から、第１の画像および第２の画像を特定する機能と、
コンピュータが、前記第１の画像から、前記第１の画像を構成する色の特徴を示す第１の特徴量を抽出すると共に、前記第２の画像から、前記第２の画像を構成する色の特徴を示す第２の特徴量を抽出する機能と、
前記第１の画像がフラッシュ有りで撮影された画像であり、前記第２の画像がフラッシュ無しで撮影された画像である場合に、コンピュータが、前記第２の特徴量、および、前記第１の画像がフラッシュ無しで撮影された場合に変化すると想定される値に補正した第１の特徴量に基づいて、前記第１の画像および前記第２の画像の類似性を判断する機能と
を実現させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月9日(2008.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放電電極と誘電体とが交互に積層された積層体の中に処理ガスが通流する流路を有する放電プラズマ処理装置において、上記放電電極は、その表面及び裏面が凹凸に形成されてなり、上記誘電体は、積層方向に隣接する放電電極の間に保持され、かつ一つの誘電体における隣接する一方の放電電極の、該誘電体の側から見て凸部が当接している部分の反対側の面は、隣接する他方の放電電極の、該誘電体の側から見て凹部に位置するように積層されてなるとともに、上記誘電体は、表面に触媒が担持されてなることを特徴とする放電プラズマ処理装置。
【請求項２】
放電電極と誘電体とが交互に積層された積層体の中に処理ガスが通流する流路を有する放電プラズマ処理装置において、上記放電電極は、その表面及び裏面が凹凸に形成されてなり、上記誘電体は、積層方向に隣接する放電電極の間に保持され、かつ一つの誘電体における隣接する一方の放電電極の、該誘電体の側から見て凸部が当接している部分の反対側の面は、隣接する他方の放電電極の、該誘電体の側から見て凹部に位置するように積層されてなるとともに、上記誘電体は、表面に疎水性材料が設けられてなることを特徴とする放電プラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この発明による放電プラズマ処理装置は、放電電極と誘電体とが交互に積層された積層体の中に処理ガスが通流する流路を有する放電プラズマ処理装置において、上記放電電極は、その表面及び裏面が凹凸に形成されてなり、上記誘電体は、積層方向に隣接する放電電極の間に保持され、かつ一つの誘電体における隣接する一方の放電電極の、該誘電体の側から見て凸部が当接している部分の反対側の面は、隣接する他方の放電電極の、該誘電体の側から見て凹部に位置するように積層されてなるとともに、上記誘電体は、表面に触媒が担持されてなり、あるいは、表面に疎水性材料が設けられてなるものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この発明においては、高温場でも誘電体バリア放電が維持され、絶縁破壊することがなくなり、信頼性が向上するとともに、放電によるガス処理機能を改善できるという効果が得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月8日(2008.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
貴金属触媒粒子の貴金属元素が接近若しくは接触することによりその貴金属元素から電子を受容する電子受容性があり且つ酸化還元反応で原子価の変化がない電子受容性元素、及び他の元素、の複合酸化物から構成されており、
前記電子受容性元素が、ランタン、ネオジム、イットリウム及びそれらの組み合わせからなる群より選択され、
前記他の元素が、ケイ素、ジルコニウム、チタン及びそれらの組み合わせからなる群より選択され、且つ
前記電子受容性元素と前記他の元素との合計に対する前記電子受容性元素のモル比が、０．３以上である、
触媒担体。
【請求項２】
前記電子受容性元素が、ランタン、ネオジム、イットリウム及びそれらの組み合わせからなる群より選択され、
前記他の元素が、ケイ素であり、且つ
前記電子受容性元素と前記他の元素との合計に対する前記電子受容性元素のモル比が、０．５〜０．７である、
請求項１に記載の触媒担体。
【請求項３】
前記電子受容性元素がランタンであり、前記他の元素がケイ素であり、且つランタンとケイ素との合計に対するランタンのモル比（Ｌａ／（Ｌａ＋Ｓｉ））が、０．５〜０．７である、請求項２に記載の触媒担体。
【請求項４】
前記電子受容性元素がネオジムであり、前記他の元素がケイ素であり、且つネオジムとケイ素との合計に対するネオジムのモル比（Ｎｄ／（Ｎｄ＋Ｓｉ））が、０．５〜０．７である、請求項２に記載の触媒担体。
【請求項５】
前記電子受容性元素がイットリウムであり、前記他の元素がケイ素であり、且つイットリウムとケイ素との合計に対するイットリウムのモル比（Ｙ／（Ｙ＋Ｓｉ））が、０．５〜０．７である、請求項２に記載の触媒担体。
【請求項６】
前記電子受容性元素が、ランタン、ネオジム、イットリウム及びそれらの組み合わせからなる群より選択され、
前記他の元素が、ジルコニウム、チタン及びそれらの組み合わせからなる群より選択され、且つ
前記電子受容性元素と前記他の元素との合計に対する前記電子受容性元素のモル比が、０．３〜０．７である、
請求項１に記載の触媒担体。
【請求項７】
前記電子受容性元素がネオジムであり、前記他の元素がジルコニウムであり、且つネオジムとジルコニウムとの合計に対するネオジムのモル比（Ｎｄ／（Ｎｄ＋Ｚｒ））が、０．３〜０．７である、請求項６に記載の触媒担体。
【請求項８】
前記電子受容性元素が、ランタン、ネオジム、イットリウム及びそれらの組み合わせからなる群より選択され、
前記他の元素がチタンであり、且つ
前記電子受容性元素と前記他の元素との合計に対する前記電子受容性元素のモル比が、０．５〜０．７である、請求項６に記載の触媒担体。
【請求項９】
前記電子受容性元素がランタンであり、前記他の元素がチタンであり、且つランタンとチタンとの合計に対するランタンのモル比（Ｌａ／（Ｌａ＋Ｔｉ））が、０．５〜０．７である、請求項８に記載の触媒担体。
【請求項１０】
前記電子受容性元素がネオジムであり、前記他の元素がチタンであり、且つネオジウムとチタンとの合計に対するネオジウムのモル比（Ｎｄ／（Ｎｄ＋Ｔｉ））が、０．５〜０．７である、請求項８に記載の触媒担体。
【請求項１１】
前記電子受容性元素がイットリウムであり、前記他の元素がチタンであり、且つイットリウムとチタンとの合計に対するイットリウムのモル比（Ｙ／（Ｙ＋Ｔｉ））が、０．５〜０．７である、請求項８に記載の触媒担体。
【請求項１２】
前記複合酸化物の電気陰性度が、２．５５〜２．８０である、請求項１〜１１のいずれかに記載の触媒担体。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれかに記載の触媒担体に、貴金属触媒粒子が担持されてなる、排ガス浄化用触媒。
【請求項１４】
前記貴金属触媒粒子が、白金、パラジウム及びそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項１３に記載の排ガス浄化触媒。
【請求項１５】
疎水性溶媒相中に水性相が分散している分散液を提供すること、
前記分散液中に分散している水性相中において、前記電子受容性元素の塩及び前記他の元素の塩を加水分解して、金属酸化物前駆体を析出させ、この金属酸化物前駆体を凝集させること、並びに
凝集させた前記金属酸化物前駆体を乾燥及び焼成すること、
を含む、請求項８〜１１のいずれかに記載の触媒担体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
【表１】
2007144393.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月3日(2008.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
１，１０１    中空糸膜モジュール
２    上部カバー
３    下部カバー
１０    中空糸膜
２０    膜束
３０，１３０    筒状体
３１    上部ケーシング
３１ａ，３１ｂ，３３ａ，３３ｂ    係止片
３１ｃ  シール部材収容部
３２，１３２    中間ケーシング
３３，２３３    下部ケーシング
３３ｃ  シール部材収容部
３４    原水流出ノズル
３５，２３５    原水流入ノズル
４０，５０    固定部
４１，５１    樹脂固定部
４２，５２    ソフトポッティング部
４３    溝
５３    貫通スリット
５４    膜束部
１３２ａ，１３２ｂ    孔
２６０    通路
２６２    突起
３００，３０２    シール部材
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月9日(2008.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
井戸等の地下水源から取水された地下水に酸素を溶解させ、前記地下水に含まれる鉄分が不溶性の鉄分に変化する前に濾材を充填した濾過槽に供給し、前記濾過槽において自触媒接触濾過を行ってその地下水中から鉄分を除去することを特徴とする水処理方法。
【請求項２】
請求項１に記載の水処理方法において、
前記濾過槽を用いて地下水から鉄分を除去する他にマンガン、有機物等の他の不純物をも除去することを特徴とする水処理方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の水処理方法において、
前記地下水への酸素の溶解は、前記地下水を前記濾過槽に供給する途中、ベンチュリ管を用いて空気を吸引して行うことを特徴とする水処理方法。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の水処理方法において、
前記濾過槽に充填される濾材は、少なくとも砂層を有することを特徴とする水処理方法。
【請求項５】
請求項４に記載の水処理方法において、
前記濾過槽に充填される濾材は、砂利層及びその砂利層の上に積層された砂層を有することを特徴とする水処理方法。
【請求項６】
請求項４又は請求項５に記載の水処理方法において、前記砂層は、硅砂からなることを特徴とする水処理方法。
【請求項７】
井戸等の地下水源から地下水を取水する取水手段と、
前記取水手段で取水された地下水に酸素を溶解させる酸素溶解手段と、
前記酸素溶解手段で酸素を溶解された地下水を該地下水に含まれる鉄分が不溶性の鉄分に変化する前に濾材を充填した濾過槽に供給し、前記濾過槽において自触媒接触濾過を行ってその地下水中から鉄分を除去する除去手段と、
前記除去手段で鉄分を除去された処理水を処理水槽に排出する排出手段と、
を備えることを特徴とする水処理装置。
【請求項８】
請求項７に記載の水処理装置において、
前記濾過槽を用いて地下水から鉄分を除去する他にマンガン、有機物等の他の不純物をも除去することを特徴とする水処理装置。
【請求項９】
請求項７又は請求項８に記載の水処理装置において、
前記処理水槽に排出される処理水は、前記濾過槽の濾材を逆洗洗浄する洗浄水を所定量貯留する貯水槽を経由して排出されるものであることを特徴とする水処理装置。
【請求項１０】
請求項７から請求項９のいずれかに記載の水処理装置において、
前記地下水への酸素の溶解は、前記地下水を前記濾過槽に供給する途中、ベンチュリ管を用いて空気を吸引して行うことを特徴とする水処理装置。
【請求項１１】
請求項７から請求項１０のいずれかに記載の水処理装置において、
前記濾過槽に充填される濾材は、少なくとも砂層を有することを特徴とする水処理装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の水処理装置において、
前記濾過槽に充填される濾材は、砂利層及び前記砂利層の上に積層された砂層を有することを特徴とする水処理装置。
【請求項１３】
請求項１１又は請求項１２に記載の水処理装置において、
前記砂層は、硅砂からなることを特徴とする水処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月22日(2008.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
運転速度や動作タイミングが異なる複数の設備と、それらの間の運転速度の差を吸収するためのルーパ設備とを備えた連続処理設備の速度制御方法において、
前記ルーパ設備の製品蓄積量を前記複数の設備の運転状態から決定し、
前記複数の設備の運転速度を、前記ルーパ設備の実際の製品蓄積量が前記決定された製品蓄積量になるように制御することを特徴とする連続処理設備の速度制御方法。
【請求項２】
被圧延材を供給する入側設備と、前記入側設備から供給される被圧延材を処理する中央設備と、前記中央設備から供給される被圧延材を所定の板厚まで圧延する出側設備と、前記入側設備と前記中央設備の間に配置された入側ルーパと、前記中央設備と前記出側設備の間に配置された出側ルーパとを備えた連続処理設備の速度制御方法において、
前記入側設備と前記出側設備の運転パターンの予測値と実績値に応じて前記入側ルーパと前記出側ルーパの必要蓄積量を演算し、前記入側ルーパと前記出側ルーパの蓄積量が、前記演算された必要蓄積量になるように前記入側設備と前記中央設備、それに前記出側設備の速度を制御することを特徴とする連続処理設備の速度制御方法。
【請求項３】
請求項２に記載の発明において、
前記中央設備が前記被圧延材を化学的に処理し熱的に処理する手段を含み、  この中央設備の速度については、前記化学的処理と前記熱的処理の少なくとも一方に必要な許容範囲の中で速度変更されることを特徴とする連続処理設備の速度制御方法。
【請求項４】
請求項２に記載の発明において、
前記連続処理設備が前記入側設備と前記中央設備及び前記出側設備に加えて他の設備を備えていることを特徴とする連続処理設備の速度設定方法。
【請求項５】
請求項２に記載の発明において、
前記各設備については、各設備で施される処理に応じて個々に設定した許容範囲の中で速度制御されることを特徴とする連続処理設備の速度設定方法。
【請求項６】
請求項５に記載の発明おいて、
前記各設備の速度変更は、製品精度に影響が出ない程度に設定した変更レートのもとで実行されることを特徴とする連続処理設備の速度設定方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
同じく上記目的は、被圧延材を供給する入側設備と、前記入側設備から供給される被圧延材を処理する中央設備と、前記中央設備から供給される被圧延材を所定の板厚まで圧延する出側設備と、前記入側設備と前記中央設備の間に配置された入側ルーパと、前記中央設備と前記出側設備の間に配置された出側ルーパとを備えた連続処理設備の速度制御方法において、前記入側設備と前記出側設備の運転パターンの予測値と実績値に応じて前記入側ルーパと前記出側ルーパの必要蓄積量を演算し、前記入側ルーパと前記出側ルーパの蓄積量が、前記演算された必要蓄積量になるように前記入側設備と前記中央設備、それに前記出側設備の速度を制御することによっても達成される。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月17日(2008.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
希土類−鉄−ボロン系の磁石用合金であって、その断面形状が一側面から他側面に渡ってほぼ一定の肉厚を有し、合金の結晶が上記一側面から上記他側面に向けて一方向に成長した柱状晶であることを特徴とする希土類−鉄−ボロン系磁石用合金。
【請求項２】
上記合金の上記一側面と上記他側面の距離が０．１〜４ｍｍであることを特徴とする請求項１に記載の希土類−鉄−ボロン系磁石用合金。
【請求項３】
希土類−鉄−ボロン系の磁石用合金の製造方法であって、真空中または不活性ガス雰囲気において合金原料を第１の容器内で溶解する工程と、上記第１の容器から貫通孔及び上記貫通孔の中心に心棒が設けられた第２の容器内に出湯する工程と、上記貫通孔と上記心棒により形成された隙間を通して溶湯を流し所定形状の磁石用合金を形成する工程とを有するからなる希土類−鉄−ボロン系磁石用合金の製造方法。
【請求項４】
上記第２の容器に溜まる溶湯の量を計測し、この計測結果に基づき、上記第１の容器の傾きを制御することにより、上記第２の容器の貫通孔と上記心棒により形成された隙間を通して流れる溶湯がほぼ一定になるように制御することを特徴とする請求項３に記載の希土類−鉄−ボロン系磁石用合金の製造方法。
【請求項５】
真空溶解炉内に、合金原料を溶解する第１の容器と、貫通孔及び上記貫通孔の中心に心棒が設けられて上記第１の容器からの溶湯が出湯される第２の容器と、上記貫通孔と上記心棒とにより形成された隙間を通して流される溶湯を当該隙間の外周側から冷却する冷却部材とを備えたことを特徴とする希土類−鉄−ボロン系磁石用合金の製造装置。
【請求項６】
上記第２の容器は加熱部を備えていることを特徴とする請求項５に記載の希土類−鉄−ボロン系磁石用合金の製造装置。
【請求項７】
上記心棒は加熱部を備えていることを特徴とする請求項５に記載の希土類−鉄−ボロン系磁石用合金の製造装置。
【請求項８】
上記第２の容器に溜まる溶湯の量を測定する溶湯量測定手段と、上記溶湯量測定手段の測定結果に基づき、上記第１の容器の傾きを制御する制御部とを備えていることを特徴とする請求項５に記載の希土類−鉄−ボロン系磁石用合金の製造装置。
【請求項９】
上記貫通孔と上記心棒により形成された隙間が０．１〜４ｍｍであることを特徴とする請求項５に記載の希土類−鉄−ボロン系磁石用合金の製造装置。
【請求項１０】
上記貫通孔と上記心棒により形成された隙間を通して落下する磁石用合金を分断する手段を設けていることを特徴とする請求項５に記載の希土類−鉄−ボロン系磁石用合金の製造装置。
【請求項１１】
上記貫通孔と上記心棒により形成された隙間を通して落下する磁石用合金を受ける冷却された傾斜板が設置されていることを特徴とする請求項５に記載の希土類−鉄−ボロン系磁石用合金の製造装置。
【請求項１２】
上記分断された磁石用合金を冷却するためのガスを供給する第１のガス供給手段を備えたことを特徴とする請求項１０又は請求項１１に記載の希土類−鉄−ボロン系磁石用合金の製造装置。
【請求項１３】
上記真空溶解炉は、ガス供給口を有し、当該ガス供給口を介して外部からガスを供給する第２のガス供給手段を備えた上室と、ガス排気口を有し、当該ガス排気口を介して外部へガスを排気するガス排気手段を備えた下室とに分断され、上記上室内には、上記第１の容器と、上記第２の容器と、上記冷却部材とが設置され、上記下室内には、上記貫通孔と上記心棒により形成された隙間を通して落下する磁石用合金を回収する第３の容器が設置され、上記上室と上記下室との間が所定の圧力差になるように上記第２のガス供給手段及び上記ガス排気手段の動作を制御する制御部を備えたことを特徴とする請求項５に記載の希土類−鉄−ボロン系磁石用合金の製造装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
この発明に係る希土類−鉄−ボロン系の磁石用合金の製造方法は、真空中または不活性ガス雰囲気において合金原料を第１の容器内で溶解する工程と、第１の容器から貫通孔及び貫通孔の中心に心棒が設けられた第２の容器内に出湯する工程と、貫通孔と心棒により形成された隙間を通して溶湯を流し所定形状の磁石用合金を形成する工程とを有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
この発明に係る希土類−鉄−ボロン系磁石用合金の製造装置は、真空溶解炉内に、合金原料を溶解する第１の容器と、貫通孔及び貫通孔の中心に心棒が設けられて第１の容器からの溶湯が出湯される第２の容器と、貫通孔と心棒により形成された隙間を通して流される溶湯を隙間の外周側から冷却する冷却部材とを備えたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月11日(2008.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
回転軸２、スリーブ４および回転環６は、Ｏリング８によって互いに気密に固定され、ハウジング３、シールカバー５および固定環７も、Ｏリング８によって互いに気密に固定されている。回転環６と固定環７とは回転軸２に直角な摺動面９で互いに摺接している。固定環７は、ばね１０で回転環６の方向に付勢され、摺動面９で回転環６に対して所定の力で圧接している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
続いて、以上の構成からなるメカニカルシール１の作用について説明する。
メカニカルシール１は、ハウジング３の内部（図中左側）に存在する外部よりも高圧のプロセスガスを、ハウジング３の内部に封止するものである。Ｏリング８によって、回転軸２、スリーブ４および回転環６が互いに気密であり、ハウジング３、シールカバー５および固定環７も互いに気密であるから、プロセスガスは、回転環６と固定環７との間の摺動面隙間からのみスリーブ４とシールカバー５との間の隙間を介して大気に流出可能である。ばね１０は、摺動面９の隙間が大きくならないように固定環７を回転環６に対して圧接し、さらに、摺動面９には、潤滑油のような軸封流体が供給され、摺動面９の僅かな隙間を封止する。これによって、メカニカルシール１は、軸封流体を僅かながら摺動面９からスリーブ４とシールカバー５との間の隙間に漏出させるが、ハウジング３内のプロセスガスは外部に漏出させない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
１  メカニカルシール
２  回転軸
３  ハウジング
４  スリーブ
５  シールカバー
６  回転環（メイティングリング）
７  固定環（シールリング）
８  Ｏリング
９  摺動面
１０  ばね
１１  掻き取り部材
１２  ピン（掻き取り部材）
１３  排出ねじ（排出形状）
１４  テーパ部（排出形状）
１５  外部カバー
１６  リップシール
１７  密閉空間
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月3日(2008.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の冷媒が少なくとも第一の圧縮機及び第一の膨張器を経て循環される第一のヒートポンプサイクルと，
前記第一の冷媒よりも圧力が低い第二の冷媒が，少なくとも第二の圧縮機及び第二の膨張器を経て循環される第二のヒートポンプサイクルと，
前記第一の冷媒及び／又は前記第二の冷媒と水との間で熱交換を行う水熱交換器と，
前記水熱交換器で加熱された温水を貯留する貯湯タンクと，
を備えてなり，
前記第一のヒートポンプサイクルが，前記水熱交換器で加熱された温水を前記貯湯タンクに貯留する貯湯運転の実行時に稼働され，
前記第二のヒートポンプサイクルが，前記水熱交換器で加熱された温水を所定の給湯口から給湯する瞬間給湯運転の実行時に稼働されてなることを特徴とするヒートポンプ式給湯機。
【請求項２】
前記第一の冷媒及び前記第二の冷媒と室外空気との間で熱交換を行う共通の室外空気熱交換器を更に備えてなり，
前記室外空気熱交換器において前記第二の冷媒と室外空気との間で熱交換が行われる熱交換面積が，前記第一の冷媒と室外空気との間で熱交換が行われる熱交換面積よりも大きい関係にある請求項１に記載のヒートポンプ式給湯機。
【請求項３】
前記水熱交換器が，前記第一の冷媒及び前記第二の冷媒と水との間で熱交換を行う共通の水熱交換器であって，
前記水熱交換器において前記第二の冷媒と水との間で熱交換が行われる熱交換面積が，前記第一の冷媒と水との間で熱交換が行われる熱交換面積よりも大きい関係にある請求項１または２に記載のヒートポンプ式給湯機。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月29日(2008.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上部に再燃焼室を設けると共に、その下に、前記再燃焼室と連通していて底部に誘導加熱部を備えたガス化室を設けて成り、前記誘導加熱部は、誘導コイルを巻装した耐火容体内に発熱体を配したものであり、前記耐火容体は、内底面が錐形状又は球面状であって、その最下部に、前記ガス化室の下に配設されるスラグ室に抜ける溶融物排出孔が形成されたものであることを特徴とするガス化焼却炉。
【請求項２】
前記発熱体は、電気的導体製発熱ブロック群で構成される請求項１に記載のガス化焼却炉。
【請求項３】
前記発熱体は、電気的導体製であって、前記耐火容体の内面形状に対応する容体形状を呈し且つ前記溶融物排出孔に連通する排出孔を設けた発熱体であって、前記耐火容体内に嵌装される請求項１に記載のガス化焼却炉。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するための本発明に係るガス化焼却炉は、上部に再燃焼室を設けると共に、その下に、前記再燃焼室と連通していて底部に誘導加熱部を備えたガス化室を設けて成り、前記誘導加熱部は、誘導コイルを巻装した耐火容体内に発熱体を配したものであり、前記耐火容体は、内底面が錐形状又は球面状であって、その最下部に、前記ガス化室の下に配設されるスラグ室に抜ける溶融物排出孔が形成されたものであることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
前記発熱体は、例えば炭素質物質の表面に金属被膜を形成したブロック等の電気的導体製発熱ブロック群で構成される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
あるいは、前記発熱体は、炭素鋼等の電気的導体製であって、前記耐火容体の内面形状に対応する容体形状を呈し且つ前記溶融物排出孔に連通する排出孔を設けた発熱体であって、前記耐火容体内に嵌装される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
耐火容体７の内底面の最下部（通例、中心部）には、溶融物を流下させる排出孔１０が形成される。排出孔１０の下には、スラグ取出し口１２を備えたスラグ室１１が配置され、そこに、排出孔１０から随時流下してくる溶融物が貯まる。その溶融物が固化したスラグは、スラグ室１１に設けたスラグ取出し口１２から取り出されて回収される。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月22日(2007.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
締結具にて固定連結されている両管部の連結フランジ部に対して、それの外周面側を密封する状態で装着自在な遮断作業カバーが、前記両連結フランジ部の外周面に対して径方向外方から圧接可能な弾性シール材と、この弾性シール材を径方向外方から両連結フランジ部の外周面側に締付ける分割構造の締付け輪とから構成されているとともに、前記締付け輪を構成する複数の締付け分割輪の一つには、前記締結具の緩み操作によって発生した前記両連結フランジ部間の隙間を通して管内流路を遮断する位置にまで差込み移動自在な薄板状の仕切板弁と、この仕切板弁を密封状態で流路遮断位置と流路開放位置とに摺動案内する摺動ガイド手段が設けられている管内流路遮断装置。
【請求項２】
両連結フランジ部の接合面間にシール材を介装した状態で締結具にて締付け連結されている両管部に対して、それらの両連結フランジ部の外周を密封する状態で装着自在な遮断作業カバーに、締結具の緩み操作によって発生した両連結フランジ部間の隙間を通して管内流路を遮断する位置にまで差込み移動自在な薄板状の仕切板弁と、この仕切板弁を密封状態で流路遮断位置と流路開放位置とに摺動案内する摺動ガイド手段が設けられているとともに、前記遮断作業カバーが、各連結フランジ部の外周面に弾性力で圧接されるシール部を備えた弾性シール材と、この弾性シール材を径方向外方から両連結フランジ部の外周面側に締付ける分割構造の締付け輪とから構成されている管内流路遮断装置。
【請求項３】
前記弾性シール材及び締付け輪には、仕切板弁の差込み移動を許容する開口が形成されている請求項１又は２記載の管内流路遮断装置。
【請求項４】
前記弾性シール材の内周面に、両連結フランジ部の外周面の隣接間にわたって接触する第２シール部が一体形成され、その第２シール部の一部に仕切板弁の差込み移動を許容する開口が形成されている請求項３記載の管内流路遮断装置。
【請求項５】
前記締結具が、一方の連結フランジ部の外面との間を密封するためのＯリングを頭部の当接面に設けてあるボルトと、他方の連結フランジ部の外面との間を密封するためのＯリングを当接面に設けてある袋ナットから構成されている請求項１〜４のいずれか１項に記載の管内流路遮断装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、前記遮断作業カバーが、各連結フランジ部の外周面に弾性力で圧接される環状のシール部を備えた環状弾性シール材と、この環状弾性シール材を径方向外方から締付け固定する分割構造の締付け輪とから構成されているとともに、環状弾性シール材及び締付け輪には、仕切板弁の差込み移動を許容する開口が形成されていてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
上記構成によれば、例えば、両管部のフランジ接合箇所の下流側管部に接続された又は下流側管部自体を構成する補修弁、消火栓等の劣化による漏水や故障等が発生して、新しい補修弁、消火栓等に取り替える必要が生じたとき、両管部に遮断作業カバーを装着して、両連結フランジ部の外周を密封状態で囲繞したのち、両管部の連結フランジ部を締付け連結している締結具を緩み操作する。この緩み操作に連れて両連結フランジ部間に隙間が発生しても、一方の連結フランジ部とボルトの頭部との当接、及び他方の連結フランジ部と袋ナットとの当接が維持されているので、それらの各当接面間に位置するＯリングによって、連結フランジ部に貫通形成されているボルト挿通孔を通しての流体の漏洩を抑制することができる。
そして、本発明による第１の特徴構成は、締結具にて固定連結されている両管部の連結フランジ部に対して、それの外周面側を密封する状態で装着自在な遮断作業カバーが、前記両連結フランジ部の外周面に対して径方向外方から圧接可能な弾性シール材と、この弾性シール材を径方向外方から両連結フランジ部の外周面側に締付ける分割構造の締付け輪とから構成されているとともに、前記締付け輪を構成する複数の締付け分割輪の一つには、前記締結具の緩み操作によって発生した前記両連結フランジ部間の隙間を通して管内流路を遮断する位置にまで差込み移動自在な薄板状の仕切板弁と、この仕切板弁を密封状態で流路遮断位置と流路開放位置とに摺動案内する摺動ガイド手段が設けられている点にある。
本発明による第２の特徴構成は、両連結フランジ部の接合面間にシール材を介装した状態で締結具にて締付け連結されている両管部に対して、それらの両連結フランジ部の外周を密封する状態で装着自在な遮断作業カバーに、締結具の緩み操作によって発生した両連結フランジ部間の隙間を通して管内流路を遮断する位置にまで差込み移動自在な薄板状の仕切板弁と、この仕切板弁を密封状態で流路遮断位置と流路開放位置とに摺動案内する摺動ガイド手段が設けられているとともに、前記遮断作業カバーが、各連結フランジ部の外周面に弾性力で圧接されるシール部を備えた弾性シール材と、この弾性シール材を径方向外方から両連結フランジ部の外周面側に締付ける分割構造の締付け輪とから構成されている点にある。
本発明による第３の特徴構成は、前記環状弾性シール材及び締付け輪には、仕切板弁の差込み移動を許容する開口が形成されている点にある。
本発明による第４の特徴構成は、前記弾性シール材の内周面に、両連結フランジ部の外周面の隣接間にわたって接触する第２シール部が一体形成され、その第２シール部の一部に仕切板弁の差込み移動を許容する開口が形成されている点にある。
本発明による第５の特徴構成は、前記締結具が、一方の連結フランジ部の外面との間を密封するためのＯリングを頭部の当接面に設けてあるボルトと、他方の連結フランジ部の外面との間を密封するためのＯリングを当接面に設けてある袋ナットから構成されている点にある。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月30日(2007.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
以下、この発明になるアスベスト包囲固化処理剤の具体的な実施例について、第１の処理剤並びに第２の処理剤のそれぞれの構成成分を表１に示し、これと特許文献１に記載の発明に係る石綿飛散防止処理剤（主として、アクリル系樹脂エマルジョンを成分とするもの）である〔比較例１〕および〔比較例２〕とを比較して、浸透性並びに封着性の評価を確認した。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
【表１】
2007303057.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
上記表１からも明らかなように、この発明になる実施例に挙げるアスベスト包囲固化処理剤において、第１のアスベスト処理剤は、浸透性の点において最良であり、第２のアスベスト処理剤は、封鎖性（封着性）の点において最良であった。一方、これに対して、主として、アクリル系樹脂エマルジョンを成分とする〔比較例１〕および〔比較例２〕のものは、〔比較例１〕のものにおいて、浸透性が良であるに過ぎず、封鎖性は不良であり、〔比較例２〕のものにおいては、浸透性並びに封鎖性の双方が不良であった。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月10日(2008.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面側に光電変換素子を有する受光部が設けられるとともにこの受光部より外側に光電変換素子と電気的に接続されている基板側電極パッドが設けられた光電変換基板と、
表面側に前記光電変換基板が配置されるとともにこの光電変換基板の基板側電極パッドと電気的に接続される基台側電極パッドが配置された基台と、
前記光電変換基板の基板側電極パッドと前記基台の基台側電極パッドとを電気的に接続する配線と、
少なくとも前記基台の表面側に配置された光電変換基板の受光部および基板側電極パッド、基台側電極パッド、および配線を一体に被覆する保護層と、
この保護層の表面に形成されたシンチレータ層と
を具備していることを特徴とする放射線検出器。
【請求項２】
保護層は、絶縁性、水蒸気遮断性、シンチレータ層の発光に対する透過性、シンチレータ層を構成する物質に対する耐腐食性を有する
ことを特徴とする請求項１記載の放射線検出器。
【請求項３】
保護層は、ポリパラキシリレンを主成分とする有機物から形成されている
ことを特徴とする請求項１または２記載の放射線検出器。
【請求項４】
保護層は、炭素結晶を主成分とする無機物から形成されている
ことを特徴とする請求項１または２記載の放射線検出器。
【請求項５】
シンチレータ層は、少なくともハロゲン化合物を含む高輝度蛍光物質で構成されている
ことを特徴とする請求項１ないし４いずれか記載の放射線検出器。
【請求項６】
表面側に光電変換素子を有する受光部が設けられるとともにこの受光部より外側に光電変換素子と電気的に接続されている基板側電極パッドが設けられた光電変換基板を基台の表面側に配置し、
光電変換基板の基板側電極パッドと基台の表面側に配置された基台側電極パッドとを配線で電気的に接続し、
少なくとも基台の表面側に配置された光電変換基板の受光部および基板側電極パッド、基台側電極パッド、および配線を保護層で一体に被覆し、
保護層の表面にシンチレータ層を形成する
ことを特徴とする放射線検出器の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、基台18の表面側に配置された光電変換基板12の受光部15および基板側電極パッド16、基台側電極パッド23、および配線25を含む基台18の凹部21の内面全体に、それらを連続的に一体に被覆する保護層27が形成されている。この保護層27は、絶縁性、水蒸気遮断性、シンチレータ層29の発光に対する透過性、シンチレータ層29を構成する物質に対する耐腐食性を有する物質であって、ポリパラキシリレンを主成分とする有機物、もしくはダイヤモンド結晶からなる炭素結晶を主成分とする無機物が用いられている。この保護層27の形成には、光電変換基板12および基台18の凹部21の凹凸部や段差部への連続的な被膜形成が必要となるため、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法等の気相成長法やメッキ法が用いられ、特に形状一致性の高くかつ配線25の裏面側にも被膜形成が可能なように低温でのＣＶＤ法を用いることが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
そして、例えば、光電変換基板12の撮像素子をＣＣＤ、光電変換基板12上の基板側電極パッド16の材質をＡｌ、基台18の材料をセラミック、基台18上の基台側電極パッド23の材料をＡｕ、光電変換基板12の基板側電極パッド16と基台18の基台側電極パッド23とを電気的に接続する配線25の材質をＡｕ、保護層27の構成物質をポリパラキシリレン、保護層27の形成方法をＣＶＤ法、保護層27の膜厚を１μｍ、シンチレータ層29の高輝度蛍光物質をＣｓＩ（Ｔｌドープ）とすると、少なくとも基台18の表面側に配置された光電変換基板12の受光部15および基板側電極パッド16、基台側電極パッド23、および配線25が、保護層27で連続的で一体に被覆され、シンチレータ層29と受光部15の光電変換素子14や各電極パッド16，23および配線25とが直接接触しない構造となるため、Ｘ線検出器11の信頼性の向上、小形化、生産性の向上および生産コストの低減が可能となる。