【手続補正書】
【提出日】平成20年8月8日(2008.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】試料作製装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、半導体ウェーハやデバイスなどの電子部品等の試料から所望の特定領域を含む微小試料を、集束イオンビームを用いて分離または分離準備して、微小領域分析や観察、計測用の試料作製装置に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料を載置する試料ステージと、
該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
微小試料として該試料の一部を摘出するためのプローブと、
前記プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、
前記試料ステージの試料載置面に垂直な線分を回転軸として前記試料ステージの回転を制御するステージ制御装置と、を備え、
該試料載置面に対し、前記イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズの中心軸が傾斜するよう前記イオンビーム光学系が配置され、
前記ステージ制御装置は、該微小試料を該試料から分離または分離準備するための動作の一部として前記試料ステージを回転させることを特徴とする試料作製装置。
【請求項２】
試料を載置する試料ステージと、
該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
微小試料として該試料の一部を摘出するためのプローブと、
前記プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、
前記試料ステージの試料載置面に垂直な線分を回転軸として前記試料ステージの回転を制御するステージ制御装置と、を備え、
前記試料ステージを傾斜させていない状態の該試料載置面に対し、前記イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズの中心軸が傾斜するよう前記イオンビーム光学系が配置され、
前記ステージ制御装置は、該微小試料を該試料から分離または分離準備するための動作の一部として前記試料ステージを回転させることを特徴とする試料作製装置。
【請求項３】
請求項１または２記載の試料作製装置において、
前記イオンビーム光学系は、該試料載置面と前記イオンビーム光学系から照射されるイオンビームの照射軸との角度が３０度から７５度の範囲となるように配置されていることを特徴とする試料作製装置。
【請求項４】
試料を載置する試料ステージと、
該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
微小試料として該試料の一部を摘出するためのプローブと、
前記試料ステージの試料載置面に垂直な線分を回転軸として前記試料ステージの回転を制御するステージ制御装置と、を備え、
該試料載置面と前記イオンビーム光学系から照射されるイオンビームの照射軸との角度が３０度から７５度の範囲となるように前記イオンビーム光学系が配置され、
前記ステージ制御装置は、第１の回転位置に配置された該試料の第１の領域に該イオンビームを照射するために前記試料ステージを回転させ、第２の回転位置に配置された該試料の第２の領域に該イオンビームを照射するように前記試料ステージを回転により再配置するよう設計されていることを特徴とする試料作製装置。
【請求項５】
試料を載置する試料ステージと、
前記試料ステージの試料載置面に対し垂直線分を回転軸として前記試料ステージの回転を制御するステージ制御装置と、
該試料にイオンビームを照射するためのイオンビーム光学系と、
プローブを駆動するためのマニュピレータと、を備える試料作製装置において、
該試料作製装置の設置面と前記イオンビーム光学系から照射されるイオンビームとの間の角度が３０度から７５度の範囲となるように前記イオンビーム光学系が配置され、
前記ステージ制御装置は、第１の回転位置に配置された該試料の第１の領域に該イオンビームを照射するために前記試料ステージを回転させ、第２の回転位置に配置された該試料の第２の領域に該イオンビームを照射するように前記試料ステージを回転により再配置するよう設計されていることを特徴とする試料作製装置。
【請求項６】
試料を載置する試料ステージと、
前記試料ステージを回転させるステージ制御装置と、
微小試料を分離するために該試料にイオンビームを照射する照射系と、
前記照射系を含む機械カラムと、
該試料から該微小試料を抽出するためのプローブと、を備え、
前記試料ステージに対する前記機械カラムの傾斜角は３０度から７５度の範囲であって、
前記試料ステージは、該試料の２以上の領域に該イオンビームが照射されるよう、該２以上の領域の各々の領域に対応する各々の回転位置に該微小試料を回転移動するよう設計されていることを特徴とする試料作製装置。
【請求項７】
請求項４記載の試料作製装置において、
該試料は２００ｍｍ以上の直径を有するウェーハであることを特徴とする試料作製装置。
【請求項８】
請求項５記載の試料作製装置において、
該試料は２００ｍｍ以上の直径を有するウェーハであることを特徴とする試料作製装置。
【請求項９】
請求項６記載の試料作製装置において、
該試料は２００ｍｍ以上の直径を有するウェーハであることを特徴とする試料作製装置。
【請求項１０】
請求項６記載の試料作製装置において、
該２以上の領域は前記試料ステージが回転する前の該イオンビームの第１の照射領域と、前記試料ステージが回転した後の該イオンビームの第２の照射領域とを含むことを特徴とする試料作製装置。
【請求項１１】
請求項４記載の試料作製装置において、
前記イオンビーム光学系は、前記試料ステージの前記第１の回転位置と前記第２の回転位置に対し固定された位置に配置されていることを特徴とする試料作製装置。
【請求項１２】
請求項５記載の試料作製装置において、
前記イオンビーム光学系は、前記試料ステージの前記第１の回転位置と前記第２の回転位置に対し固定された位置に配置されていることを特徴とする試料作製装置。
【請求項１３】
請求項６記載の試料作製装置において、
前記照射系は、前記機械コラムの固定された位置に配置され、かつ、前記試料ステージの第１の回転位置と第２の回転位置に対し固定された位置に配置されていることを特徴とする試料作製装置。
【請求項１４】
試料を載置する試料ステージと、
該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
前記イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、
該試料から微小試料を抽出するためのプローブと、
前記試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として前記試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、
前記対物レンズは、該載置面に対し前記対物レンズの中心軸が傾斜するように配置され、
前記イオンビーム光学系は、該光学系の照射軸と該載置面とのなす角が９０度未満となるように配置され、
前記イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域及び第２の領域に該イオンビームを照射し、
前記ステージ制御装置は、該微小試料を形成するための、前記第１の領域に該イオンビームを照射するときの第１の試料位置から前記第２の領域に該イオンビームを照射するときの第２の試料位置への移動動作の際に、前記試料ステージを回転させることを特徴とする試料作製装置。
【請求項１５】
試料を載置する試料ステージと、
該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
前記イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、
該試料から微小試料を抽出するためのプローブと、
前記試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として前記試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、
前記対物レンズは、該載置面に対し前記対物レンズの中心軸が傾斜するように配置され、
前記イオンビーム光学系は、該光学系の照射軸と該載置面とのなす角が９０度未満となるように配置され、
前記イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域及び第２の領域に該イオンビームを照射し、
前記ステージ制御装置は、前記第１の領域に該イオンビームを照射するときの第１の試料位置から前記第２の領域に該イオンビームを照射するときの第２の試料位置に移動する際に前記試料ステージを回転させ、
前記第１の試料位置と前記第２の試料位置からの該イオンビームの照射により該試料から分離される領域を含む該微小試料を前記プローブにより該試料から摘出することが可能であることを特徴とする試料作製装置。
【請求項１６】
試料を載置する試料ステージと、
該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
前記イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、
該試料から微小試料を摘出するためのプローブと、
前記プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、
前記試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として前記試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、
前記試料ステージを傾斜させていない状態の該載置面に対し、前記イオンビーム光学系を含む機械カラムが傾斜して配置され、
前記イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域及び第２の領域に該イオンビームを照射し、
前記ステージ制御装置は、第１の領域に該イオンビームを照射した後に、前記第２の領域に該イオンビームを照射するために前記試料ステージを回転させ、
前記第１の領域への該イオンビームを照射と前記第２の領域への該イオンビームを照射により、該微小試料は、該試料から分離または分離準備されることを特徴とする試料作製装置。
【請求項１７】
試料を載置する試料ステージと、
該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
前記イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、
該試料から微小試料を摘出するためのプローブと、
前記プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、
前記試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として前記試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、
前記試料ステージを傾斜させていない状態の該載置面に対し、前記イオンビーム光学系を含む機械カラムが傾斜して配置され、
前記イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域及び第２の領域に該イオンビームを照射することで、それぞれ該試料に第１の溝と第２の溝を形成し、
前記ステージ制御装置は、前記第１の溝を前記試料表面に形成した後に、前記第２の溝を前記試料表面に形成するために前記試料ステージを回転させ、
前記第１の溝と前記第２の溝とが交わることにより形成された辺を含む微小試料を前記プローブにより該試料から摘出することが可能であることを特徴とする試料作製装置。
【請求項１８】
試料を載置する試料ステージと、
該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
該試料から微小試料を摘出するためのプローブと、
前記プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、
前記試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として前記試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、
前記試料ステージを傾斜させていない状態の該載置面に対し、前記イオンビーム光学系を機械カラムが傾斜して配置され、
前記イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域及び第２の領域に該イオンビームを照射することで、それぞれ該試料に第１の溝と第２の溝を形成し、
前記ステージ制御装置は、前記第１の溝を前記試料表面に形成した後に、前記第２の溝を前記試料表面に形成するために前記試料ステージを回転させ、
該微小試料は、前記第１の溝及び前記第２の溝により該試料から分離された領域を含むことを特徴とする試料作製装置。
【請求項１９】
試料を載置する試料ステージと、
該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
前記イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、
該試料から微小試料を摘出するためのプローブと、
前記プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、
前記試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として前記試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、
該載置面に対し前記対物レンズの中心軸が傾斜するように前記対物レンズが配置され、
該載置面に対し、前記イオンビーム光学系から照射されるイオンビームの照射軸が傾斜するよう前記イオンビーム光学系が配置され、
前記イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域に該イオンビームを照射することで該試料に該試料の表面の垂線に対して傾斜した第１の溝と、該試料の表面の第２の領域に該イオンビームを照射することで該試料に該試料の表面の垂線に対して傾斜した第２の溝とを形成し、かつ、前記第１および第２の溝により該微小試料の底を形成し、
前記ステージ制御装置は、前記第１の溝を前記試料表面に形成した後に、前記第２の溝を前記試料表面に形成するために前記試料ステージを回転させることを特徴とする試料作製装置。
【請求項２０】
試料を載置する試料ステージと、
該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
前記イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、
該試料から微小試料を摘出するためのプローブと、
前記プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、
前記試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として前記試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、
該載置面に対し前記対物レンズの中心軸が傾斜するように前記対物レンズが配置され、
該載置面に対し、前記イオンビーム光学系から照射されるイオンビームの照射軸が傾斜するよう前記イオンビーム光学系が配置され、
前記イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域に該イオンビームを照射することで該試料に該試料の表面の垂線に対して傾斜した第１の溝と、該試料の表面の第２の領域に該イオンビームを照射することにより前記第１の溝とで形成される該微小試料の底を形成するために該試料に該試料の表面の垂線に対して傾斜した第２の溝とを形成し、
前記ステージ制御装置は、前記第１の領域から前記第２の領域へ該イオンビームの照射領域を変えるための移動動作において、該光学系の照射軸と前記試料ステージとのなす角が固定された状態で前記試料ステージを回転移動させ、
該微小試料は、少なくとも前記第１の溝と前記第２の溝とが重なる領域により該試料から分離されることを特徴とする試料作製装置。
【請求項２１】
試料を載置する試料ステージと、
該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
前記イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、
該試料から微小試料を抽出するためのプローブと、
前記プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、
前記試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として前記試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、
該載置面に対し前記対物レンズの中心軸が傾斜するように前記対物レンズが配置され、
該載置面に対し、前記イオンビーム光学系から照射されるイオンビームの照射軸が傾斜するよう前記イオンビーム光学系が配置され、
前記イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域及び第２の領域に該イオンビームを照射し、
前記ステージ制御装置は、前記第１の領域に該イオンビームを照射するときの第１の試料位置から前記第２の領域に該イオンビームを照射するときの第２の試料位置に移動する際に前記試料ステージを傾斜させることなく回転させ、
前記第１の試料位置と前記第２の試料位置からの該イオンビームの照射により該試料から分離される該微小試料を前記プローブにより該試料から摘出することが可能であることを特徴とする試料作製装置。
【請求項２２】
半導体ウェーハを載置する試料ステージと、
該半導体ウェーハにイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
前記イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、
該半導体ウェーハから微小試料を抽出するためのプローブと、
前記プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、
前記試料ステージの該半導体ウェーハの載置面に対する垂直線分を回転軸として前記試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、
該載置面に対し前記対物レンズの中心軸が傾斜するように前記対物レンズが配置され、
該載置面と前記イオンビーム光学系から照射されるイオンビームの照射軸との角度が３０度から７５度の範囲となるように前記イオンビーム光学系が配置され、
前記イオンビーム光学系は、該半導体ウェーハの表面の第１の領域及び第２の領域に該イオンビームを照射し、
前記ステージ制御装置は、前記第１の領域に該イオンビームを照射するときの第１の試料位置から前記第２の領域に該イオンビームを照射するときの第２の試料位置に移動する際に前記試料ステージを傾斜させることなく回転させることで該半導体ウェーハを回転させ、
前記第１の試料位置と前記第２の試料位置からの該イオンビームの照射により該半導体ウェーハから分離される該微小試料を前記プローブにより該試料から摘出することが可能であることを特徴とする試料作製装置。
【請求項２３】
請求項１４から２１いずれか１項記載の試料作製装置において、
前記なす角または該傾斜の角度は、３０度から７５度までの角度であることを特徴とする試料作製装置。
【請求項２４】
請求項１４から２２いずれか１項記載の試料作製装置において、
さらに、真空容器を有し、前記試料ステージ、前記イオンビーム光学系及び前記プローブは、前記真空容器内に配置されていることを特徴とする試料作製装置。
【請求項２５】
請求項１４から２２いずれか１項記載の試料作製装置において、
前記第１の領域及び前記第２の領域に該イオンビームを照射する際には、前記試料ステージは傾斜していないことを特徴とする試料作製装置。
【請求項２６】
請求項１４から２２いずれか１項記載の試料作製装置において、
前記試料ステージは、傾斜機能を有さない試料ステージであることを特徴とする試料作製装置。
【請求項２７】
請求項１４から２２いずれか１項記載の試料作製装置において、
前記試料ステージの該回転は、９０度回転であることを特徴とする試料作製装置。
【請求項２８】
請求項１４から２２いずれか１項記載の試料作製装置において、
前記試料ステージの該回転は、１８０度回転であることを特徴とする試料作製装置。
【請求項２９】
請求項１から３または１４から２２のいずれか１項記載の試料作製装置において、
前記対物レンズの中心軸がイオンビームの照射軸と概略一致していることを特徴とする試料作製装置。
【請求項３０】
請求項１４から２２いずれか１項記載の試料作製装置において、
該試料又は該半導体ウェーハは割断されないことを特徴とする試料作製装置。
【請求項３１】
請求項１４から２１いずれか１項記載の試料作製装置において、
前記試料は半導体ウェーハであることを特徴とする試料作製装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
以上のべた従来の手法では次のような問題がある。つまり、上記引用文献１では底穴８を形成するため、引用文献２では斜溝４０８を形成するため、また、非引用文献２では試料薄膜２０７周辺を切り取るために、必要不可欠な工程として試料２の傾斜角度を姿勢変更するが、これは試料ステージによって行なわれる。しかし、ウェーハの大口径化に伴い、試料ステージも大型化する。大型ステージを精度よく傾斜させるには時間を要し、結果的に試料作製時間が長くなってしまう問題があった。また、試料ステージ自体の大重量のために傾斜前後でユーセントリックが保たれずにFIB光学系に対する試料位置が移動してしまうため、FIBの焦点が試料表面から比較的大きくはずれ、試料表面が観察できなくなり、FIB光学系の再調整を余儀なくされる問題も発生する。また、試料ステージの傾斜機能は試料ステージそのものと、試料ステージを内包する試料室を大型化させる原因である。
昨今の潮流はウェーハ直径が200ｍｍから300ｍｍに移行しているところで、さらに400ｍｍに進展すれば、ステージの大型化は余儀なくされ、上述のような試料ステージ傾斜に伴う問題の解決を避けては通れなくなる。これに対し、装置の試料ステージに傾斜機能を省略できれば、装置全体の小型化が実現し試料傾斜に伴う試料位置のズレなどの問題は解決するが、上述した従来の手法では元の試料（ウェーハ）から微小試料を分離または分離準備して、微小領域分析や観察、計測用の試料作製は実現できなくなる。そもそも、試料の傾斜角度の姿勢変更を必要不可欠としていたのは、微小試料を元試料から分離または分離準備するためには、試料面に対して、少なくとも２方向の異なる角度のイオンビーム照射が必要不可欠との固定観念が存在したためである。なお、ここでステージの傾斜とは、ステージ面内に含まれる線分もしくは平行な線分を軸として、ステージを回転することとし、以降単純にステージの傾斜と記述する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本願発明は、試料を載置する試料ステージと、該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、微小試料として該試料の一部を摘出するためのプローブと、プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、試料ステージの試料載置面に垂直な線分を回転軸として試料ステージの回転を制御するステージ制御装置と、を備え、該試料載置面に対し、イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズの中心軸が傾斜するようイオンビーム光学系が配置され、ステージ制御装置は、該微小試料を該試料から分離または分離準備するための動作の一部として試料ステージを回転させる試料作製装置、に関する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本願発明は、試料を載置する試料ステージと、該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、微小試料として該試料の一部を摘出するためのプローブと、プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、試料ステージの試料載置面に垂直な線分を回転軸として試料ステージの回転を制御するステージ制御装置と、を備え、試料ステージを傾斜させていない状態の該試料載置面に対し、イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズの中心軸が傾斜するよう前記イオンビーム光学系が配置され、ステージ制御装置は、該微小試料を該試料から分離または分離準備するための動作の一部として試料ステージを回転させる試料作製装置、に関する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本願発明は、該試料を載置する試料ステージと、試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、微小試料として該試料の一部を摘出するためのプローブと、試料ステージの試料載置面に垂直な線分を回転軸として試料ステージの回転を制御するステージ制御装置と、を備え、該試料載置面と前記イオンビーム光学系から照射されるイオンビームの照射軸との角度が３０度から７５度の範囲となるようにイオンビーム光学系が配置され、ステージ制御装置は、第１の回転位置に配置された該試料の第１の領域に該イオンビームを照射するために試料ステージを回転させ、第２の回転位置に配置された該試料の第２の領域に該イオンビームを照射するように試料ステージを回転により再配置するよう設計されている試料作製装置、に関する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、本願発明は、試料を載置する試料ステージと、試料ステージの試料載置面に対し垂直線分を回転軸として試料ステージの回転を制御するステージ制御装置と、該試料にイオンビームを照射するためのイオンビーム光学系と、プローブを駆動するためのマニュピレータと、を備える試料作製装置において、該試料作製装置の設置面とイオンビーム光学系から照射されるイオンビームとの間の角度が３０度から７５度の範囲となるようにイオンビーム光学系が配置され、ステージ制御装置は、第１の回転位置に配置された試料の第１の領域にイオンビームを照射するために試料ステージを回転させ、第２の回転位置に配置された該試料の第２の領域に該イオンビームを照射するように試料ステージを回転により再配置するよう設計されている試料作製装置、に関する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、本願発明は、試料を載置する試料ステージと、試料ステージを回転させるステージ制御装置と、微小試料を分離するために該試料にイオンビームを照射する照射系と、照射系を含む機械カラムと、該試料から該微小試料を抽出するためのプローブと、を備え、試料ステージに対する機械カラムの傾斜角は３０度から７５度の範囲であって、試料ステージは、該試料の２以上の領域にイオンビームが照射されるよう、２以上の領域の各々の領域に対応する各々の回転位置に該微小試料を回転移動するよう設計されている試料作製装置、に関する。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、本願発明は、試料を載置する試料ステージと、該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、該試料から微小試料を抽出するためのプローブと、試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、対物レンズは、該載置面に対し対物レンズの中心軸が傾斜するように配置され、イオンビーム光学系は、該光学系の照射軸と該載置面とのなす角が９０度未満となるように配置され、イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域及び第２の領域に該イオンビームを照射し、ステージ制御装置は、該微小試料を形成するための、第１の領域に該イオンビームを照射するときの第１の試料位置から第２の領域に該イオンビームを照射するときの第２の試料位置への移動動作の際に、試料ステージを回転させる試料作製装置、に関する。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、本願発明は、試料を載置する試料ステージと、該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、該試料から微小試料を抽出するためのプローブと、試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、対物レンズは、該載置面に対し対物レンズの中心軸が傾斜するように配置され、イオンビーム光学系は、該光学系の照射軸と該載置面とのなす角が９０度未満となるように配置され、イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域及び第２の領域に該イオンビームを照射し、ステージ制御装置は、第１の領域に該イオンビームを照射するときの第１の試料位置から第２の領域にイオンビームを照射するときの第２の試料位置に移動する際に試料ステージを回転させ、第１の試料位置と前記第２の試料位置からの該イオンビームの照射により該試料から分離される領域を含む該微小試料を前記プローブにより該試料から摘出することが可能であることを特徴とする試料作製装置、に関する。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、本願発明は、試料を載置する試料ステージと、該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、該試料から微小試料を摘出するためのプローブと、プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、試料ステージを傾斜させていない状態の載置面に対し、イオンビーム光学系を含む機械カラムが傾斜して配置され、イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域及び第２の領域に該イオンビームを照射し、ステージ制御装置は、第１の領域に該イオンビームを照射した後に、第２の領域に該イオンビームを照射するために試料ステージを回転させ、第１の領域への該イオンビームを照射と第２の領域への該イオンビームを照射により、該微小試料は、該試料から分離または分離準備される試料作成装置、に関する。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、本願発明は、試料を載置する試料ステージと、該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、該試料から微小試料を摘出するためのプローブと、プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、試料ステージを傾斜させていない状態の該載置面に対し、イオンビーム光学系を含む機械カラムが傾斜して配置され、イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域及び第２の領域にイオンビームを照射することで、それぞれ該試料に第１の溝と第２の溝を形成し、ステージ制御装置は、第１の溝を試料表面に形成した後に、第２の溝を試料表面に形成するために試料ステージを回転させ、第１の溝と第２の溝とが交わることにより形成された辺を含む微小試料をプローブにより該試料から摘出することが可能である試料作製装置、に関する。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、本願発明は、試料を載置する試料ステージと、該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、該試料から微小試料を摘出するためのプローブと、プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、試料ステージを傾斜させていない状態の該載置面に対し、イオンビーム光学系を機械カラムが傾斜して配置され、イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域及び第２の領域に該イオンビームを照射することで、それぞれ該試料に第１の溝と第２の溝を形成し、ステージ制御装置は、第１の溝を試料表面に形成した後に、第２の溝を試料表面に形成するために試料ステージを回転させ、該微小試料は、第１の溝及び第２の溝により該試料から分離された領域を含む試料作製装置、に関する。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、本願発明は、試料を載置する試料ステージと、該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、該試料から微小試料を摘出するためのプローブと、プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、該載置面に対し対物レンズの中心軸が傾斜するように対物レンズが配置され、該載置面に対し、イオンビーム光学系から照射されるイオンビームの照射軸が傾斜するようイオンビーム光学系が配置され、イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域に該イオンビームを照射することで該試料に該試料の表面の垂線に対して傾斜した第１の溝と、該試料の表面の第２の領域に該イオンビームを照射することで該試料に該試料の表面の垂線に対して傾斜した第２の溝とを形成し、かつ、第１および第２の溝により該微小試料の底を形成し、ステージ制御装置は、第１の溝を試料表面に形成した後に、第２の溝を試料表面に形成するために試料ステージを回転させる試料作製装置、に関する。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
また、本願発明は、試料を載置する試料ステージと、該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、該試料から微小試料を摘出するためのプローブと、プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、該載置面に対し対物レンズの中心軸が傾斜するように対物レンズが配置され、該載置面に対し、イオンビーム光学系から照射されるイオンビームの照射軸が傾斜するようイオンビーム光学系が配置され、イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域に該イオンビームを照射することで該試料に該試料の表面の垂線に対して傾斜した第１の溝と、該試料の表面の第２の領域に該イオンビームを照射することにより第１の溝とで形成される該微小試料の底を形成するために該試料に該試料の表面の垂線に対して傾斜した第２の溝とを形成し、ステージ制御装置は、第１の領域から第２の領域へイオンビームの照射領域を変えるための移動動作において、該光学系の照射軸と試料ステージとのなす角が固定された状態で試料ステージを回転移動させ、該微小試料は、少なくとも第１の溝と第２の溝とが重なる領域により試料から分離される該試料作製装置、に関する。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、本願発明は、試料を載置する試料ステージと、該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、該試料から微小試料を抽出するためのプローブと、プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、該載置面に対し対物レンズの中心軸が傾斜するように対物レンズが配置され、該載置面に対し、イオンビーム光学系から照射されるイオンビームの照射軸が傾斜するようイオンビーム光学系が配置され、イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域及び第２の領域に該イオンビームを照射し、ステージ制御装置は、第１の領域に該イオンビームを照射するときの第１の試料位置から前記第２の領域に該イオンビームを照射するときの第２の試料位置に移動する際に試料ステージを傾斜させることなく回転させ、第１の試料位置と第２の試料位置からの該イオンビームの照射により該試料から分離される該微小試料をプローブにより該試料から摘出することが可能である試料作製装置、に関する。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
また、本願発明は、半導体ウェーハを載置する試料ステージと、該半導体ウェーハにイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、該半導体ウェーハから微小試料を抽出するためのプローブと、プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、試料ステージの該半導体ウェーハの載置面に対する垂直線分を回転軸として試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、該載置面に対し対物レンズの中心軸が傾斜するように対物レンズが配置され、該載置面とイオンビーム光学系から照射されるイオンビームの照射軸との角度が３０度から７５度の範囲となるようにイオンビーム光学系が配置され、イオンビーム光学系は、該半導体ウェーハの表面の第１の領域及び第２の領域にイオンビームを照射し、ステージ制御装置は、第１の領域にイオンビームを照射するときの第１の試料位置から第２の領域に該イオンビームを照射するときの第２の試料位置に移動する際に試料ステージを傾斜させることなく回転させることで該半導体ウェーハを回転させ、第１の試料位置と第２の試料位置からの該イオンビームの照射により該半導体ウェーハから分離される該微小試料を前記プローブにより該試料から摘出することが可能である試料作製装置、に関する。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】削除
【補正の内容】