Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月3日(2008.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に挟持された液晶とを有する液晶表示装置であって、
前記第１の基板は、各画素領域に、導電性の反射膜と、前記反射膜の上に設けられた絶縁膜と、前記絶縁膜の上に設けられた透光性の画素電極と、前記絶縁膜の上に設けられた透光性の対向電極とを有し、
前記液晶は、前記第１の基板の前記画素電極と、前記第１の基板の前記対向電極との間の電位差によって発生する電界により駆動され、
前記反射膜は、平面的に見たとき、前記画素電極と前記対向電極との両方に重畳しており、
前記反射膜は、前記各画素領域に対応して配置されたスイッチング素子を介して電位が供給されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記反射膜は、前記画素領域の一部に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記反射膜は、前記画素領域の全域に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記反射膜は、Ｍｏ層の上にＡｌ層が形成された２層の膜であることを特徴とする請求項１から３の何れかに記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記画素電極は、ＩＴＯで形成されていることを特徴とする請求項１から４の何れかに記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記対向電極は、ＩＴＯで形成されていることを特徴とする請求項１から５の何れかに記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記対向電極は、前記絶縁膜の表面に接していることを特徴とする請求項１から６の何れかに記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記対向電極は、前記第１の基板のみに形成されていることを特徴とする請求項１から７の何れかに記載の液晶表示装置。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年2月29日(2008.2.29)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００３】
かかるジブの設計者は、主として、このように負荷されるジブ部分に関する断面を最良に構成することに関心を有する。かかる断面は、最大応力があらゆる方向に同じである場合に考察することが最も簡単であり、その許容し得る応力を概算する。これらの条件は、薄い壁の環状管や四角のトラス構造の例に関して、全方向に均等な力がもたらされた場合にのみ満たされる。もし断面が例えば水平方向よりもむしろ鉛直方向に負荷荷重されれば、最適な円状の断面が楕円となり、また、最適な角のある断面が矩形のトラス構造となる。上記２つの例の断面は、不均衡の力をなくするために、それらが幅広であるよりも高くなる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
公知のジブの上側輪郭部及び下側輪郭部の種々の形状により実現される改良にもかかわらず、例えばジブの上下する動作、ワイヤー支持タイプ又はプリテンションタイプのシステムにおいて、若しくは、鉛直に近い方向でジブを位置決めする場合には、極端な負荷に関して最適な解決策はない。かかる状況では、上側輪郭部における引張り応力が最小となるものの、負荷が小さくても、大きな力がジブの主軸に沿って作用して、実質的に横方向の力がもたらされる。最終的な横方向の力は、これらの作用位置にて非常に大きくなり、その結果、ジブは、深刻な反りの危険にさらされることとなる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明は、前述した不都合が生じないタイプの伸縮式ジブを提供することを目的としてなされたものである。特に、本発明は、反りに対する向上した抵抗性を示し、また、それにより、例えばジブの上下する動作において、ワイヤー支持タイプのシステムにおいて、若しくは、ほぼ鉛直である方向で位置決めされる一方、実質的な負荷を支持するジブを位置決めする場合に、極度の負荷を支持するのに適した伸縮式ジブを提供することを目的としてなされたものである。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
本発明を用いて実現される利点は、ジブ部分の上側輪郭部が、幾つかのシェルセグメントにより形成されるという事実に基づく。各シェルセグメントは、外方に湾曲した形状を有しており、隣接する部分と互いに鈍角をなして接する。このように、外方に湾曲した個々のセグメント間の結合は、反りを無効にするために、理想的な補強材として作用する。これは、プリテンションタイプ及び／又はワイヤー支持タイプのジブシステムにおいて、若しくは、ほぼ鉛直である方向に大きな負荷を上昇させるべく、ジブを用いる場合に、本発明によるジブにおいては、上側輪郭部及び下側輪郭部の両方が、圧縮負荷され得ることから、ジブの上下する動作に対して非常に有利である。従来の伸縮式ジブと異なり、シェルの上側輪郭部の断面は、圧縮の支えとなり、また、剛性が、本発明の伸縮式ジブ輪郭部において大きくなる。また、同時に、ジブの全体重量は最小限に抑制される。更に、本発明による上側輪郭部の形状は、１つのジブ部分の上側シェルから、伸縮式ジブの次のより大きなジブ部分に伝わる力を吸収するための、非常に大きな容量をもたらす。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
本発明の他の好適な実施の形態によれば、上側輪郭部における外方に湾曲したシェルセグメントが、１つ，２つ又は複数の直線状の又はフラットなセグメントの間に配置されてもよい。これにより、より均一な応力の分散が可能となり、鉛直面における曲がりによる歪みに基づく、断面の楕円化が抑制されることとなる。これは、実質的な引張り応力が、ジブの上側輪郭部に負荷された場合に有効である。特に、直線状の又はフラットなシェルセグメントが、上側輪郭部の上側の水平な領域において位置する場合には、従来の半ボックス形状をなす上側輪郭部の長所が採用され、本発明によるジブの直線セグメントの導入により、ジブの断面の全体高さが抑制される。これにより、また、ジブの下側の位置におけるジブの高さが抑制され、その結果、ジブが収納されたクレーンの全体高さが抑制される。このことは、入子式に収納されるクレーンを搬送する場合に、有用である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月23日(2008.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  セルロースアセテートを、触媒、アセチル供与体、および水またはアルコールの存在下、かつ水およびアルコールの量がアセチル供与体の０．１乃至１０モル％の条件下で熟成することにより、分子間または分子内のアセチル置換度を調整することを特徴とするセルロースアセテートのアセチル置換度の調整方法。
【請求項２】  セルロースを溶媒中で酸触媒の存在下、酢酸または無水酢酸と反応させてセルロースアセテートを合成する工程、そして、合成したセルロースアセテートを、残存する酸触媒、アセチル供与体、および水またはアルコールの存在下、かつ水およびアルコールの量がアセチル供与体の０．１乃至１０モル％の条件下で熟成する工程からなるセルロースアセテートの製造方法。
【請求項３】  セルロースを溶媒中で酸触媒の存在下、酢酸または無水酢酸と反応させてセルロースアセテートを合成する工程、酸触媒を中和して反応を停止する工程、そして、合成したセルロースアセテートを、触媒、アセチル供与体、および水またはアルコールの存在下、かつ水およびアルコールの量がアセチル供与体の０．１乃至１０モル％の条件下で熟成する工程からなるセルロースアセテートの製造方法。
【請求項４】  アセチル置換度が２．６３６乃至２．９５８であるセルロースアセテートであって、分子間置換度分布曲線の最大ピークが０．０８０未満の半値幅を有し、さらに２位、３位および６位のアセチル置換度が、下記式（Ｉ）を満足することを特徴とするセルロースアセテート：
（Ｉ）  ２ＤＳ＋３ＤＳ＜６ＤＳ×４−１．７０
式中、２ＤＳは、２位のアセチル置換度であり；３ＤＳは、３位のアセチル置換度であり；そして、６ＤＳは、６位のアセチル置換度である。
【請求項５】  分子間置換度分布曲線の最大ピークが下記式で定義されるＹよりも小さい値の半値幅を有する請求項４に記載のセルロースアセテート：
Ｙ＝−０．１７８８Ｘ＋０．５７８８
式中、Ｘは、セルロースアセテートのアセチル置換度である。
【請求項６】  アセチル置換度が２．６３６乃至２．９５８であるセルロースアセテートであって、分子間置換度分布曲線の最大ピークが下記式で定義されるＹよりも小さい値の半値幅を有し、さらに２位、３位および６位のアセチル置換度が、下記式（Ｉ）を満足することを特徴とするセルロースアセテート：
Ｙ＝−０．１７８８Ｘ＋０．５７８８
式中、Ｘは、セルロースアセテートのアセチル置換度である
（Ｉ）  ２ＤＳ＋３ＤＳ＜６ＤＳ×４−１．７０
式中、２ＤＳは、２位のアセチル置換度であり；３ＤＳは、３位のアセチル置換度であり；そして、６ＤＳは、６位のアセチル置換度である。
【請求項７】  ３４５０乃至３５５０ｃｍ−１の波数に赤外線吸収スペクトルの吸収極大を有し、その吸収極大の半値幅が１３５ｃｍ−１以下であることを特徴とするセルロースアセテート。
【請求項８】  ２位、３位および６位のアセチル置換度が、下記式（Ｉ）〜（IV）を満足することを特徴とするセルロースアセテート：
（Ｉ）  ２ＤＳ＋３ＤＳ＜６ＤＳ×４−１．７０
（II）  ２ＤＳ＋３ＤＳ＜−６ＤＳ×４＋５．７０
（III)  ２ＤＳ＋３ＤＳ＞１．８０
（IV）  ３ＤＳ＜２ＤＳ
式中、２ＤＳは、２位のアセチル置換度であり；３ＤＳは、３位のアセチル置換度であり；そして、６ＤＳは、６位のアセチル置換度である。
【請求項９】  ２位、３位および６位のアセチル置換度が、下記式（Ｉ）、（III)〜（Ｖ）を満足することを特徴とするセルロースアセテート：
（Ｉ）  ２ＤＳ＋３ＤＳ＜６ＤＳ×４−１．７０
（III)  ２ＤＳ＋３ＤＳ＞１．８０
（IV）  ３ＤＳ＜２ＤＳ
（Ｖ）  ６ＤＳ＞０．８０
式中、２ＤＳは、２位のアセチル置換度であり；３ＤＳは、３位のアセチル置換度であり；そして、６ＤＳは、６位のアセチル置換度である。
【請求項１０】  アセチル置換度が２．６３６乃至２．９５８であるセルロースアセテートであって、分子間置換度分布曲線の最大ピークが０．０８０未満の半値幅を有し、さらに２位、３位および６位のアセチル置換度が、下記式（Ｉ）〜（III)を満足することを特徴とするセルロースアセテート：
（Ｉ）  ２ＤＳ＋３ＤＳ＜６ＤＳ×４−１．７０
（II）  ２ＤＳ＋３ＤＳ＜−６ＤＳ×４＋５．７０
（III)  ２ＤＳ＋３ＤＳ＞１．８０
式中、２ＤＳは、２位のアセチル置換度であり；３ＤＳは、３位のアセチル置換度であり；そして、６ＤＳは、６位のアセチル置換度である。
【請求項１１】  ２位および３位のアセチル置換度が、さらに下記式（IV）を満足する請求項１０に記載のセルロースアセテート：
（IV）  ３ＤＳ＜２ＤＳ
式中、２ＤＳは、２位のアセチル置換度であり；そして、３ＤＳは、３位のアセチル置換度である。
【請求項１２】  ６位のアセチル置換度が、さらに下記式（Ｖ）を満足する請求項１０に記載のセルロースアセテート：
（Ｖ）  ６ＤＳ＞０．８０
式中、６ＤＳは、６位のアセチル置換度である。
【請求項１３】  請求項４乃至１２のいずれか一項に記載のセルロースアセテートからなるセルロースアセテートフイルム。
【請求項１４】  ３４５０乃至３５５０ｃｍ−１の波数にセルロースアセテートを起源とする赤外線吸収スペクトルの吸収極大を有し、その極大吸収の半値幅が１３５ｃｍ−１以下であることを特徴とするセルロースアセテートフイルム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月2日(2008.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、所定負荷を低下させるように運転を切り替える際に、圧縮機の回転数を減少させる第一の工程と、圧縮機の作動空気量を減少させる第二の工程とを含み、第一の工程の開始後に第二の工程を開始することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月6日(2008.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エンジンに繋がる入力軸と、駆動輪に繋がる出力軸と、前記入力軸および出力軸の間の動力伝達経路に並列に設けられて相互に噛合する速度段の異なる少なくとも八列の歯車列と、各二列の歯車列の一方の軸に一体的に回転自在に支持された一組の歯車を当該一方の軸に係脱させる共用クラッチおよび他方の軸に各々回転自在に支持された一組の歯車のいずれかを当該他方の軸に選択的に結合させる選択機構とを有し、前記選択機構における選択および前記共用クラッチの係脱により動力の伝達経路を選択して変速する車両用変速機において、
前記選択機構および前記共用クラッチが前記二列の歯車列を選択および係脱させる四個以上の選択機構および共用クラッチから構成され、
各前記二列の歯車列における一方と他方との速度段が、互いに前記選択機構及び前記共用クラッチの個数と同一数の段数だけ離れて組み合わされることを特徴とする車両用変速機。
【請求項２】
前記共用クラッチは、相互に噛合する歯車列の入力側の軸に設けられることを特徴とする請求項１に記載の車両用変速機。
【請求項３】
前記選択機構における選択および前記共用クラッチの係合により設定された速度段が、前進走行における最高段未満の場合には、前記設定された速度段を挟んで少なくとも前後の低速側と高速側の速度段の歯車列が、前記選択機構により前記他方の軸に結合されるように構成したことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の車両用変速機。
【請求項４】
前記速度段の組み合わせが少なくとも前進７段以上、後進１段であることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の車両用変速機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、エンジンに繋がる入力軸と駆動輪に繋がる出力軸との間の動力伝達経路に並列に設けられた速度段の異なる複数列の歯車列を備え、クラッチ及び選択機構を介して選択的に接続される車両用変速機に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明において、選択機構における選択および共用クラッチの係合により設定された速度段が、前進走行における最高段未満の場合には、設定された速度段を挟んで少なくとも前後の低速側と高速側の速度段の歯車列が、選択機構により他方の軸に結合されるように構成することが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
なお、選択機構における選択および共用クラッチの係合により設定された速度段（現行段）が、前進走行における最高段未満の場合に、現行段を挟んで少なくとも前後の低速側と高速側の速度段の歯車列が選択機構により他方の軸に結合されて準備されるような構成によれば、隣接する高速側と低速側の速度段の歯車列が確実に準備されるため、次の変速時にCluch to Cluchによる直接変速により迅速な応答性を確保することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
このように、現行段の成立中に切り換えられる第１〜第４選択機構Ｓ15，Ｓ26，Ｓ37，ＳR4の作動ルールをまとめると、（i）現行段が７速段未満の中間段（１〜６速段）のときは、少なくとも現行段を挟む前後の低速段と高速段とを予め準備しておく。（ii）さらに３速段以上の中間段のときは、後進段を準備しない範疇で、その前後段以外は低速側の速度段を準備しておく。（iii）後進段のときは、共用クラッチ及び選択機構の数をＮとしたときに（Ｎ−１）速以下（７段変速の場合３速以下）の速度段を準備しておく。（iv）最高段のときはＮ速以上（７段変速の場合４速以上）の速度段を準備しておく。このルールに基づいて、各速度段において選択設定される歯車列の表（表３）を、現行段と次段の変速組み合わせとして示すと、表４のようになる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月3日(2008.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加熱室の開口部を、下部に設けた水平な扉枢支軸を中心にして回動する扉により開閉する加熱調理器において、
前記扉の開閉動作時に必要となる操作力は、前記扉に連結する開閉調節部によってその大きさが調節されるものであって、
前記操作力は、扉が所定の開度角を越えようとするときに極大値を示すものであり、その極大値は、扉を閉じるときの方が扉を開くときよりも大きいことを特徴とする加熱調理器。
【請求項２】
前記所定の開度角で前記開閉調節部に生じる荷重により、扉を開くとき、扉をその開度角に維持する作用が生じるように構成したことを特徴とする請求項１に記載の加熱調理器。
【請求項３】
前記開閉調節部には、前記扉の開閉中心よりも上の位置に一端を連結し、他端を自由端としたリンクと、不動位置にあって前記リンクを下から支える支持部材と、前記リンクと不動部材の間に設けられ、前記リンクに対し、前記支持部材に圧接する力と、前記扉を全閉位置に引き戻す力の両方を与えるばねと、前記リンクの下面に形成された突起であって、前記支持部材を乗り越えるときに前記荷重を生じるものが含まれることを特徴とする請求項１または２に記載の加熱調理器。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月3日(2008.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過部を有した表面パネルが表面に取り付けられ、前記光透過部を介して内部を視認可能に形成される電気機器において、前記表面パネルの背面側の空間内で前記光透過部以外の領域に粘着性物質が露出するように設けられていることを特徴とする電気機器。
【請求項２】
前記粘着性物質は、前記表面パネルを取り付けるための固着材料であることを特徴とする請求項１に記載の電気機器。
【請求項３】
前記表面パネルは、除電処理が行なわれていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の電気機器。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月3日(2008.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
食品を収納する加熱室と、
前記加熱室に蒸気を供給する蒸気発生装置と、
前記蒸気発生装置に供給する水が貯留され、着脱自在である水タンクと、
前記水タンク内の水位を検出する水位検出部と、
調理メニューの選択及び加熱開始指示を行う操作部と、
加熱開始から所定時間経過後に前記水位検出部により検出される前記水タンクの水位に基づいて、前記操作部により選択された調理メニューを調理するのに必要な水位の有無を判断し、必要な水位が無いと判断した場合に報知を行う制御部と、
を備えたことを特徴とする加熱調理器。
【請求項２】
前記所定時間は、調理条件を修正できる期間であることを特徴とする請求項１に記載の加熱調理器。
【請求項３】
前記所定時間の経過終了時期を、前記水タンクを装着した際に生じる前記水タンク内の水面の揺れによる前記水位検出部の誤検知がなくなるまでにしたことを特徴とする請求項１に記載の加熱調理器。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月31日(2008.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
いま、ステップ４０５にて取得したガス温度Texが所定値Texthより大きいと仮定する。この場合、一次凝縮水分離後ガスには多量の水蒸気が残存している。従って、下流側凝縮部８０によって更に水蒸気を凝縮させて一次凝縮分離後ガスから分離しなければ、循環ガスに含まれる水蒸気量が多くなり、作動ガスの比熱比が小さくなるので、エンジン１０の熱効率が低下する。そこで、ＣＰＵはステップ４１０にて「Ｙｅｓ」と判定してステップ４１５に進み、凝縮水噴射用ポンプ８１を作動させる駆動信号を凝縮水噴射用ポンプ８１に供給する。その後、ＣＰＵはステップ４９５に進んで本ルーチンを一旦終了する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９０】
以上、説明したように、本発明の第１実施形態に係るエンジン１０は、上流側凝縮部７０から得られた凝縮水の気化潜熱を下流側凝縮部８０において利用することにより、循環ガス（実際には、一次凝縮水分離後ガス）に含まれる水蒸気を更に分離し、その分離後のガス（二次凝縮水分離後ガス）を燃焼室２１に再供給する。従って、燃焼室２１に再供給されるガスに含まれる水蒸気の量を低減することができるので、作動ガスとして機能するガスの比熱比が低下しない。その結果、エンジン１０は、高い熱効率にて運転され続けることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
以上、説明したように、本発明による各実施形態に係る作動ガス循環エンジンは、大気温度が高い場合であっても、循環ガスを大気と熱交換することにより得られている凝縮水の気化潜熱を利用することにより燃焼室２１に再供給される循環ガスに含まれる水蒸気の量を低減することができる。従って、作動ガスに比熱比の低い水蒸気が多く含まれなくすることができるので、作動ガスの比熱比が低下しない。その結果、これらのエンジンは、高い熱効率にて運転され続けることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１９】
この結果、第一凝縮部１５１のみにより循環ガスから水蒸気を分離している場合より多い量の水蒸気を循環ガスから分離することができるので、作動ガスとして機能するガスの比熱比が低下しない。従って、この変形例に係るエンジンも高い熱効率にて運転され続けることができる。なお、ＣＰＵは、ガス温度Texが所定値Texth以下である場合、凝縮水噴射用ポンプ１４３の作動を停止させるとともに、流路切換え部１５３によって第１通路６１と第二凝縮部１５２との接続を遮断する。これにより、第一凝縮部１５１のみによる水蒸気の分離が実施されるので、貯水タンク１００に貯留されている凝縮水を無駄に消費することを回避することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２３】
これにより、取得したガス温度Texが所定値Texthより高い場合、第一凝縮部１５１により循環ガスから水蒸気を分離している場合より多い量の水蒸気を循環ガスから分離することができるので、作動ガスとして機能するガスの比熱比が低下しない。その結果、この変形例に係るエンジン１０も、高い熱効率にて運転され続けることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月3日(2008.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置本体の吸込口から吸込んだ空気を吹出口に送る送風手段と、該送風手段からの空気を加湿する加湿フィルタと、該加湿フィルタの下端を水没させる加湿トレイと、該加湿トレイに水を供給する水タンクとを備え、前記加湿フィルタが上下動自在に支持され、加湿フィルタの下端を加湿トレイ内の水に水没させる加湿姿勢と、加湿フィルタの下端を加湿トレイの水面から上昇させる乾燥姿勢とに切換え自在とされたことを特徴とする加湿装置。
【請求項２】
装置本体の吸込口から吸込んだ空気を吹出口に送る送風手段と、該送風手段からの空気を加湿する加湿フィルタと、該加湿フィルタの下端を水没させる加湿トレイと、該加湿トレイに水を供給する水タンクとを備え、前記水タンクの給水口に止水弁が設けられ、該止水弁を開閉制御する制御部が設けられ、該制御部は、加湿運転時に止水弁を開放し、加湿運転停止時に止水弁を閉鎖することを特徴とする加湿装置。
【請求項３】
装置本体の吸込口から吸込んだ空気を吹出口に送る送風手段と、該送風手段からの空気を加湿する加湿フィルタと、該加湿フィルタの下端を水没させる加湿トレイと、該加湿トレイに水を供給する水タンクとを備え、前記送風手段により吹出口側に送られる空気を加湿フィルタを通る空気通路と、加湿フィルタを通らずに吹出口に至るバイパス通路とが形成され、前記空気通路とバイパス通路とのうちの一方の通路に空気が流通するように切り換える切換ダンパーが設けられ、加湿運転時に空気が加湿フィルタを通り、加湿停止時に空気がバイパス通路を通るよう、前記切換ダンパーが切換えられることを特徴とする加湿装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の加湿装置と、空気吸込口から空気吹出口に至る空気通路に配置された脱臭フィルタ及び／または集塵フィルタとを備えたことを特徴とする空気清浄機。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月21日(2007.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】      <employee>            <ID>1<1</ID>            <name>john Smith</name>            <hiredate>1996-29</hiredate>      </employee>【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２１】      <Photo>            Content-Type: image/jpeg            Content-Encoding: base64            Content-Name: john.jpeg            9j/4AAQSkZJ......gEASABIAAD/      </Photo>【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４２】      ":type=cust_list_by_name:key=A,Bzzzz:"【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４４】      SELECT * FROM Customers      WHERE Customers. LastName BETWEEN A,Bzzzz
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月8日(2008.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
プリント配線基板の設計を支援する設計支援装置であって、
プリント配線基板に配置すべき部品のうち、受動部品に対して、部品のインピーダンス値の小さい順に部品順位を決定する決定手段と、
決定された部品順位の順に受動部品を配置する配置手段と
を備えることを特徴とする設計支援装置。
【請求項2】
請求項1記載の設計支援装置において
前記配置手段は、受動部品以外の配置済み部品の電源ピンの近傍に受動部品を配置することを特徴とする設計支援装置。
【請求項3】
請求項2記載の設計支援装置において
前記受動部品は、キャパシタ素子であり、
前記決定手段は、キャパシタ素子の等価直列インダクタンスの小さい順をインピーダンスの小さい順として前記部品順位を決定する
ことを特徴とする設計支援装置。
【請求項4】
請求項2記載の設計支援装置において
前記受動部品は、キャパシタ素子であり、
前記決定手段は、キャパシタ素子のインピーダンスがしきい値以下となる周波数域である有効周波数域の高い順を、前記インピーダンスの小さい順として前記部品順位を決定する
ことを特徴とする設計支援装置。
【請求項5】
請求項1記載の設計支援装置は、さらに
受動部品以外の部品の電源ピンに対して、電源ピンを流れる電流に発生し得るノイズの重大な順にピン順位を設定するピン順位決定手段と、
電源ピンをもつ部品に対する受動部品の割付けを、ピン順位及び部品順位の高い順に行なう割付手段とを備え、
前記配置手段は、部品順位の高い順に受動部品を、それが割り付けられた電源ピンの近傍に配置する
ことを特徴とする設計支援装置。
【請求項6】
請求項5記載の設計支援装置において、
前記ピン順位設定手段は、電源ネット毎に、そのネットに接続される電源ピンに対して前記ピン優先順位を決定し、
前記割付手段は、電源ネット毎に、ネットに接続される部品を対象に前記割付を行うことを特徴とする設計支援装置。
【請求項7】
第1種に属する部品の近傍に第2種に属する部品を配置するプリント配線基板の設計支援装置であって、
第1種に属する部品の電源ピンに対して、電源ピンを流れる電流に発生し得るノイズの重大な順にピン順位を決定する第1決定手段と、
第2種に属する部品に対して、そのインピーダンス値の小さい順に部品順位を決定する第2決定手段と、
部品順位の高い第2種の部品ほど、ピン順位の高い電源ピンを持つ第1種の部品に割付ける割付手段と、
を備えることを特徴とする設計支援装置。
【請求項8】
請求項7記載の設計支援装置は、さらに
割り付けられた電源ピンをもつ第1種に属する部品の近傍に第2種に属する部品を部品順位の順に配置する配置手段を備えることを特徴とする設計支援装置。
【請求項9】
請求項8記載の設計支援装置において、
前記第1決定手段は、電源ピンを流れる電流によって駆動される信号周波数の高い順を前記重大な順として前記ピン順位を設定する
ことを特徴とする設計支援装置。
【請求項10】
請求項8記載の設計支援装置において、
前記ピン順位決定手段は、電源ピンを流れる電流によって駆動される信号の立ち上がり時間及び立ち下がり時間の何れかについて、その短い順を前記重大な順として前記ピン順位を決定する
ことを特徴とする設計支援装置。
【請求項11】
請求項10に記載の設計支援装置において、
前記第2決定手段は、受動部品の等価直列インダクタンスの小さい順をインピーダンスの小さい順として前記部品順位を決定する
ことを特徴とする設計支援装置。
【請求項12】
請求項8記載の設計支援装置は、さらに
接続されるべき複数の部品ピンからなるネットを示すネット情報を記憶する記憶手段と、
ネット情報に基づいて、電源ピンが接続されるべき電源ネットを、1個の第1種の部品とそれに割り付けられた第2種の部品とからなる部品群に対応する部分ネットに分割する分割手段と、
部分ネット毎に、部分ネットに接続される第2種の部品のうち最もインピーダンスの大きい部品の電源ピンを代表ピンとして選択する選択手段と、
部分ネットをそれぞれ独立に配線するとともに、複数の前記代表ピンを接続するよう配線する配線手段と
を備えることを特徴とする設計支援装置。
【請求項13】
配線基板の部品配置を表示して、配置位置によって効果が異なる部品である位置依存部品の配置が適切か否かのユーザによる評価を支援する設計支援装置であって、
配線基板上の各部品の位置を示す位置情報を記憶する設計情報記憶手段と、
位置依存部品と、その位置依存部品によって効果を及ぼされる被効果部品とを関係づけた関係情報を記憶する関係情報記憶手段と、
位置情報に従って、前記関係情報により関係づけられた位置依存部品と被効果部品とを、ユーザが認識可能な態様で対応づけて表示する表示手段と
を備えることを特徴とする設計支援装置。
【請求項14】
配置位置によって効果が異なる部品である位置依存部品の配置が適切か否かのユーザによる評価を支援する設計支援装置であって、
位置依存部品又は位置依存部品が備えるピンの配線基板上における位置を示す情報と、位置依存部品により効果を及ぼされる可能性がある部品である被効果部品又は被効果部品が備えるピンの配線基板上における位置を示す情報とからなる位置情報を記憶する位置情報記憶手段と、
位置情報記憶手段に記憶された位置情報に基づいて、位置依存部品又は位置依存部品が備えるピン毎に、当該位置依存部品又は当該位置依存部品が備えるピンから、予め定めた距離以内にあるか、又は、距離が近い方から予め定めた順番までの、被効果部品又は当該被効果部品が備えるピンを検索する検索手段と、
検索手段により検索された被効果部品又は当該被効果部品が備えるピンと、検索の元になった位置依存部品又は位置依存部品が備えるピンとを関係づけて、関係情報として記憶する関係情報記憶手段と
を備えることを特徴とする設計支援装置。
【請求項15】
配置位置によって効果が異なる部品である位置依存部品の配置が適切か否かのユーザによる評価を支援する設計支援装置であって、
位置依存部品又は位置依存部品が備えるピンの配線基板上における位置を示す情報と、位置依存部品により効果を及ぼされる可能性がある部品である被効果部品又は被効果部品が備えるピンの配線基板上における位置を示す情報とからなる位置情報を記憶する位置情報記憶手段と、
位置情報記憶手段に記憶された位置情報に基づいて、被効果部品又は被効果部品が備えるピン毎に、当該被効果部品又は当該被効果部品が備えるピンから、予め定めた距離以内にあるか、又は、距離が近い方から予め定めた順番までの、位置依存部品又は位置依存部品が備えるピンを検索する検索手段と、
検索手段により検索された位置依存部品又は当該位置依存部品が備えるピンと、検索の元になった被効果部品又は当該被効果部品が備えるピンとを関係づけて、関係情報として記憶する関係情報記憶手段と
を備えることを特徴とする設計支援装置。
【請求項16】
請求項15記載の設計支援装置において
前記検索手段は、さらに、
距離又は順番に応じて、及ぼされる効果の度合いを示す有効度を設定すること
を特徴とする設計支援装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月26日(2008.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
底部から下方に突設した排水筒部を有する洗浄水タンクと前記排水筒部が挿入される洗浄水流入口を有する水洗便器との間をシールする便器洗浄水タンク用パッキンであって、  
前記排水筒部が水密状に嵌装される第１円筒部と、
前記第１円筒部下方側の端部若しくは前記第１円筒部下方側の端部近傍から外方に鍔状に一体に延設され前記洗浄水流入口の周縁の便器上面に当接する円板部と、  
前記円板部の外周縁部から上方に一体に延設した第２円筒部と、を備え、  
前記第２円筒部は上下方向に伸縮可能で、前記第２円筒部下端部は前記便器上面に当接し、前記第２円筒部上端部は前記洗浄水タンクの下面に当接することを特徴とする便器洗浄水タンク用パッキン。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
底部から下方に突設した排水筒部を有する洗浄水タンクと前記排水筒部が挿入される洗浄水流入口を有する水洗便器との間をシールする便器洗浄水タンク用パッキンであって  
前記排水筒部が水密状に嵌装される第１円筒部と、  
前記第１円筒部上方側の基部若しくは前記第１円筒部上方側の基部近傍から前記第１円筒部を取り囲むように外側に折り返し状に一体形成した第３円筒部と、  
前記第３円筒部下方側の端部から外方に鍔状に一体に延設され前記洗浄水流入口の周縁の便器上面に当接する円板部と、  
前記円板部の外周縁部から上方に一体に延設した第２円筒部と、を備え、  
前記第２円筒部は上下方向に伸縮可能で、前記第２円筒部下端部は前記便器上面に当接し、前記第２円筒部上端部は前記洗浄水タンクの下面に当接することを特徴とする便器洗浄水タンク用パッキン。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の便器洗浄水タンク用パッキンは、底部から下方に突設した排水筒部を有する洗浄水タンクと前記排水筒部が挿入される洗浄水流入口を有する水洗便器との間をシールする便器洗浄水タンク用パッキンであって、前記排水筒部が水密状に嵌装される第１円筒部と、前記第１円筒部下方側の端部若しくは前記第１円筒部下方側の端部近傍から外周方向に鍔状に一体に延設され前記洗浄水流入口の周縁の便器上面に当接する円板部と、前記円板部から上方に一体に延設した第２円筒部と、を備え、前記第２円筒部は上下方向に伸縮可能で、前記第２円筒部下端部は前記便器上面に当接し、前記第２円筒部上端部は前記洗浄タンクの下面に当接することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、別の本発明の便器洗浄水タンク用パッキンは、底部から下方に突設した排水筒部を有する洗浄水タンクと前記排水筒部が挿入される洗浄水流入口を有する水洗便器との間をシールする便器洗浄水タンク用パッキンであって、前記排水筒部が水密状に嵌装される第１円筒部と、前記第１円筒部上方側の基部若しくは前記第１円筒部上方側の基部近傍から前記第１円筒部を取り囲むように外側に折り返し状に一体形成した第３円筒部と、前記第３円筒部下方側の端部から外周方向に鍔状に一体に延設され前記洗浄水流入口の周縁の便器上面に当接する円板部と、前記円板部の外周縁部から上方に一体に延設した第２円筒部と、を備え、前記第２円筒部は上下方向に伸縮可能で、前記第２円筒部下端部は前記便器上面に当接し、前記第２円筒部上端部は前記洗浄タンクの下面に当接することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月8日(2008.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｓ−ｓｅｃ−ブチル Ｏ−エチル ２−オキソ−１，３−チアゾリジン−３−イルホスホノチオアート、Ｏ−エチル−Ｓ−ｎ−プロピル（２−シアノイミノ−３−エチル−イミダゾリジン−１−イル）ホスホノチオレート及びＳ，Ｓ─ジ─ｓｅｃ─ブチル  Ｏ─エチル  ホスホロジチオアートから成る群から選ばれる少なくとも１種の有機リン系化合物と、ベノミルとを有効成分として含有することを特徴とする有害生物防除組成物。
【請求項２】
Ｓ−ｓｅｃ−ブチル Ｏ−エチル ２−オキソ−１，３−チアゾリジン−３−イルホスホノチオアート、Ｏ−エチル−Ｓ−ｎ−プロピル（２−シアノイミノ−３−エチル−イミダゾリジン−１−イル）ホスホノチオレート及びＳ，Ｓ─ジ─ｓｅｃ─ブチル  Ｏ─エチル  ホスホロジチオアートから成る群から選ばれる少なくとも１種の有機リン系化合物と、ベノミルとを有害生物に作用させることを特徴とする有害生物の防除方法。
【請求項３】
有害生物が土壌及び／又は種子中に生息する有害生物である請求項２の方法。
【請求項４】
有害生物が土壌及び／又は種子中に生息する害虫である請求項２の方法。
【請求項５】
有害生物が植物寄生性線虫類である請求項２の方法。
【請求項６】
植物寄生性線虫類がネコブセンチュウ類、シストセンチュウ類、ネグサレセンチュウ類、イネシンガレセンチュウ、イチゴメセンチュウ及びマツノザイセンチュウから選ばれる少なくとも１種である請求項５の方法。
【請求項７】
前記有機リン系化合物及びベノミルを土壌及び／又は種子に処理することを特徴とする請求項２の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月4日(2008.1.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
四角形基板上へのターゲット物質のスパッタリングにおいて、四角形ターゲットの背面で用いられるマグネトロンであって、
平面に対する第１磁極を有し、前記平面上で２つの端部を有する単一経路に沿って伸びており、複数の直線部を有しており、そのいくつかは回旋パターンで一の直交座標に沿って分離して伸びている内側極と、
前記第１磁極と反対の第２磁極を有し、前記内側極を包囲し、閉鎖ループを形成する分離部により前記内側磁極から分離されている外側極を備えたマグネトロン。
【請求項２】
前記分離部は実質的に一定の分離部である請求項１記載のマグネトロン。
【請求項３】
前記マグネトロンは実質的に四角形輪郭を占める請求項１記載のマグネトロン。
【請求項４】
前記回旋型パターンは蛇行型パターンである請求項１記載のマグネトロン。
【請求項５】
前記蛇行型パターンは実質的に四角形輪郭を占め、前記四角形輪郭の外で前記２つの端部を有する経路を延伸した２つの尾部を含んでいる請求項４記載のマグネトロン。
【請求項６】
前記回旋型パターンは実質的に四角形輪郭を占め、前記四角形輪郭の外で前記２つの端部を有する経路の一の端部を延伸した尾部を含んでいる請求項１記載のマグネトロン。
【請求項７】
四角形基板上にターゲット物質をスパッタ堆積するための四角形ターゲットと、前記基板に対向する前記ターゲットの背面上に配置され、第１方向に伸びる平行なプラズマトラックの複数の対を形成するマグネトロンに適用可能なプラズマスパッタリアクタ内の走査機構であって、前記ターゲットの２つの直交する方向で前記マグネトロンを走査する走査機構。
【請求項８】
前記マグネトロンは、第１方向に沿って延伸している複数の分離された磁気部を有している請求項７記載の走査機構。
【請求項９】
前記マグネトロンは回旋パターンで外側極に包囲された内側極を含む請求項７記載の走査機構。
【請求項１０】
前記マグネトロンは、前記ターゲットの前記辺の２０％以下又は対応する長さ分だけ第１方向と第１方向に直交する第２方向に走査可能である請求項７記載の走査機構。
【請求項１１】
四角形基板上のスパッタ堆積のための四角形ターゲットに適用可能なプラズマスパッタリアクタ内のマグネトロンシステムであって、
第１方向に沿った直線部内で延伸している複数の分離された第１磁気部と、第１方向に直交する第２方向に沿って少なくとも部分的に延伸し、第１方向に沿って平行に伸びているプラズマトラックの複数の対を形成する第２磁気部を有しているマグネトロンと、
少なくとも前記第１方向に沿って前記マグネトロンを走査する走査手段を備えたマグネトロンシステム。
【請求項１２】
前記マグネトロンは回旋型形状を有するプラズマループを形成する請求項１１記載のマグネトロンシステム。
【請求項１３】
前記回旋型形状は蛇行形状である請求項１２記載のマグネトロンシステム。
【請求項１４】
前記回旋型形状は四角形螺旋型形状である請求項１２記載のマグネトロンシステム。
【請求項１５】
マグネトロンはプラズマトラックの複数の対を含む複数のプラズマループを形成する請求項１１記載のマグネトロンシステム。
【請求項１６】
前記走査手段は、互いに非平行な２つの方向に沿って前記マグネトロンに力を与える２つの独立したアクチュエータを含む請求項１１記載のマグネトロンシステム。
【請求項１７】
四角形基板上へのスパッタリング方法であって、平行なプラズマトラックの複数の対を形成する一般的に四角形のマグネトロンを、前記基板に対向する四角形ターゲットの背面上で一致しない複数の方向に走査することを含み、前記走査は前記ターゲットに配列された四角形の２つの対向する辺と、前記対向する辺の２つの連結する対角線に沿って伸びる二重Ｚパターンで実行される方法。
【請求項１８】
前記プラズマは単一回旋型に形成されている請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
前記走査は、０．５〜５ｍｍ／秒の速度で行われる請求項１７記載の方法。
【請求項２０】
前記走査は互いにオフセットされている複数の前記二重Ｚパターンで行われる請求項１７記載の方法。
【請求項２１】
前記マグネトロンは、前記ターゲットの対応する辺の長さの少なくとも８０％の長さを有する辺を有している請求項１７記載の方法。
【請求項２２】
互いに非平行な直線部を有する経路に沿って四角形スパッタリングターゲットの背面において０．５〜５ｍｍ／秒の範囲の速度でマグネトロンを走査する工程を有する四角形基板上のスパッタリング方法。
【請求項２３】
前記マグネトロンは実質的に四角形であり、回旋型を有するプラズマループを形成する請求項２２記載の方法。
【請求項２４】
前記マグネトロンは、前記ターゲットに並んで配置される四角形の２本の対向する辺及び前記２本の対向する辺を連結する対角線に沿った二重Ｚパターンで走査される請求項２２記載の方法。
【請求項２５】
前記マグネトロンは、互いにオフセットされている複数の前記二重Ｚパターンで走査される請求項２４記載の方法。
【請求項２６】
前記マグネトロンは、湾曲部を有する複雑な経路で走査される請求項２２記載の方法。
【請求項２７】
基板はターゲットに対して静止している請求項１記載のマグネトロン。
【請求項２８】
マグネトロンは、ターゲットの対応する寸法の少なくとも８０％である辺を有する面積で広がる有効領域を形成する請求項１記載のマグネトロン。
【請求項２９】
静止した四角形基板上へのターゲット物質のスパッタリングにおいて、四角形ターゲットの背面で用いられる四角形輪郭を実質的に占めるマグネトロンであって、
平面に対して垂直な第１磁極を有し、前記平面上で２つの端部を有する単一経路に沿って伸びており、複数の直線部を有しており、その少なくともいくつかは回旋パターンで一の直交座標に沿って分離して伸びている内側極と、
前記第１磁極と反対の第２磁極を有し、前記内側極を完全に包囲し、閉鎖ループを形成する分離部により前記内側極から分離されている外側極を備えたマグネトロン。
【請求項３０】
パターンは蛇行型パターンである請求項２９記載のマグネトロン。
【請求項３１】
パターンは四角形螺旋型である請求項２９記載のマグネトロン。
【請求項３２】
スパッタリングターゲットを封止する真空チャンバと、
真空チャンバに連結され、真空チャンバ内でガスをプラズマに励起し、スパッタリングターゲットから物質をスパッタする電源と、
ターゲットに対向して一般的に四角形のフラットパネルを支持するように構成される台座部と、
台座部と反対のスパッタリングターゲットの一面に配置され、台座に対向するターゲットのスパッタリング面に磁界を形成するマグネトロンであって、このマグネトロンは第１の方向に沿った直線部において伸び、第１方向に直角な第２方向に沿って間隔を配するプラズマトラックの複数の対を形成する複数の磁極を備え、
第１及び第２方向にマグネトロンを走査可能な走査機構を備えたフラットパネルスパッタリアクタ。
【請求項３３】
マグネトロンは、ターゲットの対応する辺の少なくとも８０％の長さを有する辺を有する請求項３２記載のリアクタ。
【請求項３４】
走査機構は、ターゲットの２つの直交する辺に平行な直角方向にマグネトロンを走査可能である請求項３２記載のリアクタ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月19日(2007.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＣｓＸ：Ｅｕ刺激性燐光体（但し、ＸはＢｒ，Ｃｌ及びそれらの組み合わせからなる群から選択されるハロゲン化物を表す）を製造するための方法であって、前記方法が：
−  組成としてＣｓｘＥｕｙＸ′ｘ＋αｙ（但し、ｘ／ｙ＞０．２５，α≧２であり、Ｘ′はＣｌ，Ｂｒ及びＩ及びそれらの組み合わせからなる群から選択されるハロゲン化物である）を有する化合物又は化合物の組み合わせとＣｓＸを混合し；
−  前記混合物を４５０℃以上の温度で加熱し、
−  前記混合物を冷却する、
工程を含み、全セシウム量に対して１０−３〜１００ｍｏｌ％のユウロピウムが存在する方法。
【請求項２】
全セシウム量に対して１０−３〜１５ｍｏｌ％のユウロピウムが原料混合物において存在することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ＣｓＸ：Ｅｕ刺激性燐光体（但し、ＸはＢｒ，Ｃｌ及びそれらの組み合わせからなる群から選択されるハロゲン化物を表す）を製造するための方法であって、前記方法が：
−  組成としてＣｓｘＥｕｙＸ′ｘ＋αｙ（但し、Ｘ′はＣｌ，Ｂｒ及びＩ及びそれらの組み合わせからなる群から選択されるハロゲン化物であり、ｘ／ｙ＞０．２５，α≧２である）を有する化合物又は化合物の組み合わせをＣｓＸと混合し、
−  前記混合物を４５０℃以上の温度で加熱し、
−  前記混合物を冷却する、
工程を含み、
原料混合物が少なくとも二つのるつぼに存在し、全セシウム量に対して１０−３〜４００ｍｏｌ％のユウロピウムが少なくとも一つのるつぼの原料混合物において存在する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月5日(2008.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  支持体の同一面上に感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、熱現像剤およびバインダーを含有する熱現像感光材料を用いて画像形成する方法において、写真特性曲線の光学濃度１．２におけるガンマ値が２．０以上４．０以下である前記熱現像感光材料を、２３ｍｍ／秒以上で搬送しながら熱現像することを特徴とする画像形成方法。
【請求項２】  支持体の同一面上に感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、熱現像剤およびバインダーを含有する熱現像感光材料を用いて画像形成する方法において、写真特性曲線の光学濃度１．２におけるガンマ値が２．０以上４．０以下である熱現像感光材料が、露光部と現像部の距離が５０ｃｍ以下の熱現像機によって現像されることを特徴とする画像形成方法。
【請求項３】  前記感光性ハロゲン化銀が、粒径の異なる２種以上のハロゲン化銀乳剤を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の画像形成方法。
【請求項４】  前記感光性ハロゲン化銀乳剤が前記非感光性有機銀塩の形成時に添加されることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の画像形成方法。
【請求項５】  前記感光性ハロゲン化銀を含有する感光性乳剤層が２層以上設置されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の画像形成方法。
【請求項６】  前記熱現像感光材料からなる一枚のシート感材で、一部が露光されながら、同時に既に露光がなされたシートの一部分で現像が開始されることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の画像形成方法。
【請求項７】  前記熱現像感光材料が、冷却プレートを有する熱現像機によって現像されることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の画像形成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、以下の熱現像感光材料によって達成された。
（１）  支持体の同一面上に感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、熱現像剤およびバインダーを含有する熱現像感光材料を用いて画像形成する方法において、露光、熱現像後に得られる写真特性曲線の光学濃度１．２におけるガンマ値が２．０以上４．０以下である前記熱現像感光材料を、
２３ｍｍ／秒以上で搬送しながら熱現像することを特徴とする画像形成方法。
（２）  支持体の同一面上に感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、熱現像剤およびバインダーを含有する熱現像感光材料を用いて画像形成する方法において、露光、熱現像後に得られる写真特性曲線の光学濃度１．２におけるガンマ値が２．０以上４．０以下である熱現像感光材料が、露光部と現像部の距離が５０ｃｍ以下の熱現像機によって現像されることを特徴とする画像形成方法。
（３）  前記感光性ハロゲン化銀が、粒径の異なる２種以上のハロゲン化銀乳剤を含有することを特徴とする前記（１）または（２）に記載の画像形成方法。
（４）  前記感光性ハロゲン化銀乳剤が前記非感光性有機銀塩の形成時に添加されることを特徴とする前記（１）〜（３）のいずれかに記載の画像形成方法。
（５）  前記感光性ハロゲン化銀を含有する感光性乳剤層が２層以上設置されていることを特徴とする前記（１）〜（４）のいずれかに記載の画像形成方法。
（６）  前記熱現像感光材料からなる一枚のシート感材で、一部が露光されながら、同時に既に露光がなされたシートの一部分で現像が開始されることを特徴とする前記（１）〜（５）のいずれかに記載の画像形成方法。
（７）  前記熱現像感光材料が、冷却プレートを有する熱現像機によって現像されることを特徴とする（１）〜（６）のいずれかに記載の画像形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月23日(2008.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照射された放射線を検出して画像情報を取得するカセッテ型放射線画像検出器であって、
動作状態として、放射線の検出が可能な撮影可能状態と、前記撮影可能状態より消費電力量の少なく、かつ消費電力量が異なる複数の撮影待機状態とを有し、
前記動作状態のうち、いずれの動作状態にあるかを表示する報知部を備えることを特徴とするカセッテ型放射線画像検出器。
【請求項２】
前記報知部が、放射線が照射される面と、前記放射線が照射される面と反対側の面とを除いた面に設けられることを特徴とする請求項１に記載のカセッテ型放射線画像検出器。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載のカセッテ型放射線画像検出器と、前記カセッテ型放射線画像検出器を制御するコンソールとを備えることを特徴とする放射線画像撮影システム。
【請求項４】
前記コンソールは、前記カセッテ型放射線画像検出器が前記動作状態のうち、いずれの動作状態にあるかを表示する表示部を備えることを特徴とする請求項３に記載の放射線画像撮影システム。
【請求項５】
複数の前記カセッテ型放射線画像検出器を備え、前記表示部は、前記複数のカセッテ型放射線画像検出器の動作状態を表示することを特徴とする請求項４に記載の放射線画像撮影システム。
【請求項６】
複数の前記カセッテ型放射線画像検出器を備え、前記複数のカセッテ型放射線画像検出器の動作状態を表示する専用コントローラを備えることを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の放射線画像撮影システム。
【請求項７】
複数の前記カセッテ型放射線画像検出器を備え、一の前記カセッテ型放射線画像検出器は、他の前記カセッテ型放射線画像検出器の動作状態を表示することを特徴とする請求項３に記載の放射線画像撮影システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
請求項６記載の発明は、請求項３又は請求項４に記載の放射線画像撮影システムにおいて、
複数の前記カセッテ型放射線画像検出器を備えており、前記複数のカセッテ型放射線画像検出器の動作状態を表示する専用コントローラを備えることを特徴とする。
請求項７記載の発明は、請求項３に記載の放射線画像撮影システムにおいて、
複数の前記カセッテ型放射線画像検出器を備え、一の前記カセッテ型放射線画像検出器は、他の前記カセッテ型放射線画像検出器の動作状態を表示することを特徴とする。