Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月21日(2008.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
仮想三次元空間内にポリゴンで構成される物体と仮想カメラと仮想光源とを配置して、前記仮想カメラで撮影した画像を生成する画像生成装置であって、
前記仮想三次元空間内に配置される各物体のディテールをマッピングするためのベーステクスチャ、及び、物体表面における拡散反射及び物体の影を少なくともマッピングするためのカラー情報を有すると共に前記影を含む暗い領域をマスクするためのマスク情報を有するライティング情報テクスチャを記憶する２次元画像記憶手段と、前記仮想光源からの仮想光が第１の物体及び第２の物体に当たったときの拡散反射及び前記第２の物体に当たった前記第１の物体の影を、前記ライティング情報テクスチャにより前記ベーステクスチャと重ねて該当の物体にマッピングするテクスチャマッピング手段と、前記仮想光が前記第１の及び第２の物体に当たったときの鏡面反射を算出し、前記第１及び第２の物体表面にスペキュラを生成するスペキュラ生成手段と、前記第２の物体にマッピングされた前記ライティング情報テクスチャに設けられた前記マスク情報に基づいて前記スペキュラをマスクするライトマスク手段と、を備えたことを特徴とする画像生成装置。
【請求項２】
前記スペキュラ生成手段は、前記スペキュラを生成する際、前記スペキュラを生成する箇所に対応する前記ライティング情報テクスチャの箇所に前記マスク情報があるか否かを判定し、マスク情報がある箇所は前記スペキュラを生成する処理を実行しないことを特徴とする請求項１に記載の画像生成装置。
【請求項３】
前記マスク情報は、前記カラー情報をモノクロ情報に変換した情報であることを特徴とする請求項１又は２に記載の画像生成装置。
【請求項４】
前記ポリゴンで構成される各物体は、前記仮想三次元空間内を移動する移動オブジェクトと前記仮想三次元空間内で固定または前記仮想光源との位置関係が一定の位置関係にある固定オブジェクトとを識別可能に設定されており、処理対象の物体が前記固定オブジェクトか否かを判定する判定手段を有し、該判定手段によって前記固定オブジェクトと判定された場合にのみ前記ライティング情報テクスチャを用いて前記拡散反射及び前記影のマッピング処理を実行することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の画像処理装置。
【請求項５】
仮想三次元空間内に仮想光源とポリゴンで構成される物体と仮想カメラとを配置して、前記仮想カメラで撮影した画像を生成する処理をコンピュータに実行させるための画像処理プログラムであって、
前記仮想光源からの仮想光が第１の物体及び第２の物体に当たったときの拡散反射及び前記第２の物体に当たった前記第１の物体の影を、ライティング情報テクスチャにより物体のディテールを表すベーステクスチャと重ねて該当の物体にマッピングするステップと、前記仮想光が前記第１の及び第２の物体に当たったときの鏡面反射を算出し、前記第１及び第２の物体表面にスペキュラを生成するステップと、前記第２の物体にマッピングされる前記ライティング情報テクスチャに設けられたマスク情報に基づいて前記スペキュラをマスクするステップと、を有することを特徴とする画像処理プログラム。
【請求項６】
前記スペキュラを生成する際、前記スペキュラを生成する箇所に対応する前記ライティング情報テクスチャの箇所に前記マスク情報があるか否かを判定し、マスク情報がある箇所は前記スペキュラを生成する処理を実行しないことを特徴とする請求項５に記載の画像処理プログラム。
【請求項７】
前記スペキュラを生成する際、ハイ・ダイナミック・レンジ情報を持ったイメージベースライティングの処理によって前記スペキュラを生成することを特徴とする請求項５に記載の画像処理プログラム。
【請求項８】
前記ポリゴンで構成される各物体は、前記仮想三次元空間内を移動する移動オブジェクトと前記仮想三次元空間内で固定または前記仮想光源との位置関係が一定の位置関係にある固定オブジェクトとを識別可能に設定されており、、処理対象の物体が前記固定オブジェクトか否かを判定する判定ステップを有し、該判定ステップによって前記固定オブジェクトと判定された場合にのみ前記ライティング情報テクスチャを用いて前記拡散反射及び前記影のマッピング処理を実行することを特徴とする請求項５乃至７のいずれかに記載の画像処理プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月18日(2008.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記増幅手段と前記高周波電力測定手段の間に、高調波を除去するフィルタ手段をさらに設けたことを特徴とする請求項１に記載の高周波電源装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
第２の発明によって提供される高周波電源装置は、
前記増幅手段と前記高周波電力測定手段の間に、高調波を除去するフィルタ手段をさらに設けたことを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
負荷５は、加工部を備え、その加工部の内部に搬入したウエハ、液晶基板等の被加工物を加工（エッチング、ＣＶＤ等）するための装置である。この負荷５は、被加工物を加工するために、加工部にプラズマ放電用ガスを導入し、そのプラズマ放電用ガスに高周波電源装置１から供給された高周波電力（電圧）を印加することによって、上記のプラズマ放電用ガスを放電させて非プラズマ状態からプラズマ状態にしている。そして、プラズマを利用して被加工物を加工している。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月27日(2008.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
素電池を直線状に連結している電池モジュール(1)に交差する方向に冷却風を送風して電池モジュール(1)を冷却すると共に、冷却風を送風する方向に３本以上の電池モジュール(1)を３段以上に並べてホルダーケース(2)に収納している組電池であって、
ホルダーケース(2)は、一対の対向壁(4)の内側に３段以上に電池モジュール(1)を収納すると共に、一対の対向壁(4)の流入側と排出側を、流入壁(5)と排出壁(6)で閉塞して、一対の対向壁(4)と流入壁(5)及び排出壁(6)でもって閉鎖室(7)を形成して、閉鎖室(7)に電池モジュール(1)を収納しており、
冷却風を内部に送風する流入口(8)を流入壁(5)の両側に開口して、流入口(8)から内部に流入する冷却風を電池モジュール(1)と対向壁(4)との間に送風し、
内部の冷却風を外部に排出する排出口(9)を排出壁(6)の中央部に開口して、電池モジュール(1)の表面に沿って送風される冷却風を中央部から外部に送風し、
さらに、対向壁(4)は、隣接して配設している電池モジュール(1)間に突出する凸条(10)を有すると共に、凸条(10)の内面への突出高さを風上よりも風下で高くしてなることを特徴とする組電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の組電池は、前述の目的を達成するために以下の構成を備える。
組電池は、素電池を直線状に連結している電池モジュール１に交差する方向に冷却風を送風して電池モジュール１を冷却すると共に、冷却風を送風する方向に３本以上の電池モジュール１を３段以上に並べてホルダーケース２に収納している。ホルダーケース２は、一対の対向壁４の内側に３段以上に電池モジュール１を収納している。さらに、ホルダーケース２は、一対の対向壁４の流入側と排出側を、流入壁５と排出壁６で閉塞して、一対の対向壁４と流入壁５及び排出壁６でもって閉鎖室７を形成して、閉鎖室７に電池モジュール１を収納している。冷却風を内部に送風する流入口８を流入壁５の両側に開口して、流入口８から内部に流入する冷却風を電池モジュール１と対向壁４との間に送風している。内部の冷却風を外部に排出する排出口９を排出壁６の中央部に開口して、電池モジュール１の表面に沿って送風される冷却風を中央部から外部に送風している。さらに、対向壁４は、隣接して配設している電池モジュール１間に突出する凸条１０を有しており、この凸条１０の内面への突出高さを、風上よりも風下で高くしている。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月1日(2008.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズルからガスを導入させてガスクラスターを生成させるクラスター生成室と、前記クラスター生成室からスキマーを通して導入された前記ガスクラスターをイオン化するイオン化器と、該イオン化器でイオン化された前記ガスクラスターを加速させて被処理物に照射させる電極群と、が備えられているガスクラスターイオンビーム装置において、
前記スキマー及び前記イオン化器が接地されていることを特徴とするガスクラスターイオンビーム装置。
【請求項２】
前記スキマー及び前記イオン化器が一体の構成部品であることを特徴とする請求項１記載のガスクラスターイオンビーム装置。
【請求項３】
前記電極群による加速後のガスクラスターイオンを中性化する手段を有することを特徴とする請求項１または２に記載のガスクラスターイオンビーム装置。
【請求項４】
ノズルからガスを導入させてガスクラスターを生成させるクラスター生成室と、前記クラスター生成室からスキマーを通して導入された前記ガスクラスターをイオン化するイオン化器と、該イオン化器でイオン化された前記ガスクラスターを加速させて被処理物に照射させる電極群と、が備えられているガスクラスターイオンビーム装置において、
前記被処理物に電位を与える電源を有することを特徴とするガスクラスターイオンビーム装置。
【請求項５】
ノズルからガスを導入させてガスクラスターを生成させるクラスター生成室と、前記クラスター生成室から前記ガスクラスターをスキマーを通してイオン化器に導入してイオン化し、イオン化されたガスクラスターを電極群によって加速させて被処理物に照射することにより被処理物を加工する加工方法において、
スキマー、イオン化器、電極群の電極及び被処理物のそれぞれに電圧を印加または接地することにより、前記スキマーと前記イオン化器の電位差よりも、前記イオン化器と前記被処理物または前記イオン化器と前記電極群の電極の電位差の方が大きくなるようにそれぞれの電位を設定して前記ガスクラスターを加速させて被処理物に照射し、被処理物を加工することを特徴とする加工方法。
【請求項６】
前記スキマーとイオン化器の電位差は、０Ｖ以上１０ｋＶ以下であることを特徴とする請求項５に記載の加工方法。
【請求項７】
前記被処理物の電位が、前記被処理物に照射されるガスクラスターとは逆極性の電位に設定されていることを特徴とする請求項５に記載の加工方法。
【請求項８】
前記被処理物に照射されるガスクラスターは正に帯電していることを特徴とする請求項７に記載の加工方法。
【請求項９】
前記電極群による加速後のガスクラスターを中性化して被処理物に照射することを特徴とする請求項５に記載の加工方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成するために本発明は、ノズルからガスを導入させてガスクラスターを生成させるクラスター生成室と、前記クラスター生成室からスキマーを通して導入された前記ガスクラスターをイオン化するイオン化器と、該イオン化器でイオン化された前記ガスクラスターを加速させて被処理物に照射させる電極群と、が備えられているガスクラスターイオンビーム装置において、前記スキマー及び前記イオン化器が接地されていることを特徴とする。
また本発明は、ノズルからガスを導入させてガスクラスターを生成させるクラスター生成室と、前記クラスター生成室からスキマーを通して導入された前記ガスクラスターをイオン化するイオン化器と、該イオン化器でイオン化された前記ガスクラスターを加速させて被処理物に照射させる電極群と、が備えられているガスクラスターイオンビーム装置において、前記被処理物に電位を与える電源を有することを特徴とする。
また本発明は、ノズルからガスを導入させてガスクラスターを生成させるクラスター生成室と、前記クラスター生成室から前記ガスクラスターをスキマーを通してイオン化器に導入してイオン化し、イオン化されたガスクラスターを電極群によって加速させて被処理物に照射することにより被処理物を加工する加工方法において、スキマー、イオン化器、電極群の電極及び被処理物のそれぞれに電圧を印加または接地することにより、前記スキマーと前記イオン化器の電位差よりも、前記イオン化器と前記被処理物または前記イオン化器と前記電極群の電極の電位差の方が大きくなるようにそれぞれの電位を設定して前記ガスクラスターを加速させて被処理物に照射し、被処理物を加工することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月27日(2008.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
間隔を置き平行に配置した２本の棒状のグリップ又はボールグリップと、
前記グリップ又はボールグリップの側方から出て当該グリップ又はボールグリップの前方に至るアール状体と、
前記アール状体を介して前記グリップ又はボールグリップと相互に対向する位置に配置されたウエイトと、
を備えたことを特徴とするピッチング練習機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【発明の名称】ピッチング練習機
【技術分野】
【０００１】
この発明は、ボール又はグリップの外周面にアール状又は変形状にウエイトを取り付けて、足、腰、肩、腕、手首等の回転運動を促進し、強化しながら、フォームの軌道を習得するためのピッチング練習機に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ピッチャーがピッチングフォームを習得するための方法としてタオルを用いた方法や棒状の器具を使用した方法がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、この方法では投球動作をした時に自分の力だけで行なうために、大きく力強いフォームを習得するために大変な努力を必要とした。また、軽いものを思いっきり振るために肩や肘の筋をのばしてしまうという危険性もあった。棒状の器具の場合は、スイングすると腕が真っ直ぐ棒状にのびやすく、手首をかえすより先に肘等がのびた状態になりやすいという欠点があった。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、ボール又はグリップの外周にアール状又は変形状にウエイトを取り付けて、ボールの外周に遠心力をかける構造とした。
【発明の効果】
【０００５】
この構造により、バックスイングをすると後方下部にウエイトがかかり、自然に大きなバックスイングとなり、軸足に体重がのって腰から始動するようになる。腕を前方にスイングすると、ウエイトは大きく前方にかかるために体重がのった大きな力強いフォームの軌道が容易に体得できる。また、ゆっくりとフォームの軌道を確認しながらストレッチを行なうことで必要な部分に充分なウエイトがかかるために投球動作に必要な筋力を強化することができる。また、ボールの外周にアール状又は変形状に遠心力が加わるために、肩、腕、手首等の回転運動を自然にスムーズに行うことができ、肩や肘等の筋をのばす危険性もない。
【０００６】
自分の力だけで行なっていた投球動作が遠心力と重力の大きな変化により促進、強化されるため、ピッチングの軌道を短期間で習得することができる。また、必要な部分に充分にウエイトがかかるために、投球動作に必要な体づくりが容易にでき、この構造により肩、肘等の筋をのばすなどの危険性もなくスムーズに回転運動ができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
１．近距離や変化球の投球動作の場合には、ウエイトが前方になるように使用すると、前方に大きくウエイトがかかるために、体重をのせた手首（スナップ）をグッと効かせたフォームづくりのトレーニングができる。
２．遠投やストレートの投球動作の場合には、ウエイトが後方になるように（逆アール）使用するとバックスイング時に後方下に大きくウエイトがかかるため体重が軸足にのって腰から始動しやすくなり、振り幅を大きく肩を使った大きなフォームづくりのトレーニングができる。
３．投球動作をすると、ウエイトは後方下から上、上から前方下に円弧状に回転移動する。この一連の動作の中で重力の変化がより大きくおこるため、腕を振り下ろす寸前に（上から下へと下がる寸前）に一番力がかかる状態になり、自然に指先にグッと力がはいるので、リリースポイントの位置を正確に習得することができる。
４．野球のピッチング練習用だけでなく、回転動作をするすべてのストレッチ、トレーニングで通常のダンベルの数倍の効果を発揮し、肩、腕、手首強化は、もちろん、足、腰、腹筋、背筋など全身の筋力を効率よく強化できる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の斜面図
【符号の説明】
【０００９】
１  ボール又はグリップ
２  アール状又は変形状体
３  ウエイト
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月22日(2007.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
縦の中心線、及び横の中心線を有する吸収体であって、吸収体は、再固定可能な機械的固定システムを含み、
固定システムは、係合部品と、係合部品が係合する取り込み部品とを含み、
係合部品は、ベースと、ベースから延出する複数の係合構成部とを含み、外側領域と外側領域によって囲まれる中央領域とを備え、外側領域は、１対の対向する縦の外縁を含み、係合部品は縦の外縁に沿って縁メカニカルボンドで吸収体に接合されており、
縁メカニカルボンドの少なくとも一部が、係合部品の縦の外縁を越えて、該縦の外縁の外側にある吸収体の構造の少なくとも一部まで延びている吸収体。
【請求項２】
係合部品は、さらに中央領域において中央メカニカルボンドにより吸収体に接合される請求項１記載の吸収体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
図６は、第３封緘部材のループ(取り込み部品２０４)との固定関係を形成するフック(係合部品２０２の係合構成部２０６)を備える第１(第２)封緘部材３０を縁メカニカルボンドによって、耳パネル６４に接着して取り付ける場合の態様を示している。
係合部品２０２を吸収体に接合するために、メカニカルボンドが単独で、あるいは他のボンディング手段と組み合わせて使用される場合、メカニカルボンドパターンは係合部品２０２とそれを接合する構成間のボンドの強さ、及び係合部品２０２の固定特徴に影響を及ぼし得ることが見い出された。メカニカルボンディングは典型的に係合部品２０２の係合構成部２０６の少なくとも一部を傷つけ、部品の固定性能にある種の変化を生じさせる。このように、あまり多くの係合構成部２０６を傷つけることなく、吸収体に係合部品２０２をしっかりと接着するメカニカルボンドパターンを選択することが好ましい。少なくとも外側領域２２０の少なくとも縦の外縁２１２に沿った所定の位置において、係合部品を機械的に接着することによって、適切な結果が達成され得る。特に好ましい態様では、ボンディングパターンは、図６のＡとＢに示すように、係合部品２０２の各々の角もしくはその近傍のボンドを含む。係合部品２０２の中央領域２１８は好ましくは全般的に縁のメカニカルボンド２１０によって影響されない。許容できる好ましいボンドパターンの例が図６のＡ〜Ｃに示されている。図６のＡとＢに示されたボンディングパターンは、フックである係合構成部２０６に対する、また係合部品の全体的な固定性能に対する中央部メカニカルボンド２１１の影響を最小限にとどめる一方、係合部品２０２をそれが接着される成分にしっかりと接合する際に特に効果的である。使用中に固定構成部が大部分の耳パネルを制御する、この発明のおむつ２０等の製品にとって、このタイプのボンディング及び固定性能が重要である。耳パネルのこの制御が含む意味は、装着者の動きによって与えられる剪断力と剥離力が、係合部品２０２を接合する耳パネルまたはタブから係合部品２０２を分離させる傾向があることである。また、このような力は係合部品２０２をその相補的な取り込み部品２０４から解き離すかもしれない。図６のＡの特徴は、縦方向の縁部だけにボンドが配されると同時に、横方向の仮想直線上において、間隔を置いて２箇所のボンド部分が形成されることによる強度の増加であり、Ｂの特徴は、これに加えて、ボンドの配置位置が、縦の縁部から横方向外側にはみ出して位置するので、加熱加圧によって損なわれるフック量をより少なくすることができる点である。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月12日(2007.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原水を流入させて好気的に活性汚泥による処理を行う生物反応槽からの活性汚泥混合液を、通水性ろ過体を設置したろ過分離槽に供給し、該ろ過分離槽で該ろ過体表面に汚泥のダイナミックろ過層を形成させてろ過を行ってろ過水を得、ろ過後の活性汚泥混合液を生物反応槽に返送する活性汚泥混合液の固液分離法において、該ろ過分離槽内に浸漬された通水性ろ過体であって、該ろ過体の表面に活性汚泥の付着によりダイナミックろ過を行う通水性ろ過体を具備し、該通水性ろ過体によって汚泥のダイナミックろ過層を形成するろ過体表面とろ過水を得るろ過体内部を構成し、前記通水性ろ過体には、該ろ過体内部に洗浄水を送る逆洗水ラインと、該ろ過体内部から該内部にある汚泥をろ過体外部に排出する逆洗排水を前記生物反応槽に戻すように逆洗排水ラインとがそれぞれ接続され、前記ろ過分離槽に、前記活性汚泥混合液を流入させ、ろ過時は該ろ過体内部からろ過水を流出させ、該ろ過体下方の空気散気管に送気して、空洗によるろ過Ｆｌｕｘの安定化を行うとともに、該ろ過体洗浄時は、ろ過分離槽内の活性汚泥混合液を生物反応槽に完全に返送した後、あるいはろ過分離槽にろ過水を満たした時点で前記逆洗水ラインから洗浄水を供給して逆洗し、排出される逆洗排水を前記生物反応槽に返送することを特徴とする有機性廃水の処理方法。
【請求項２】
ろ過体内部への水逆洗は、ろ過体上部の逆洗水ラインにろ過水あるいは薬品洗浄液を流入させ、ろ過体下部の逆洗排水ラインより逆洗排水を排出することを特徴とする請求項１記載の有機性廃水の処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】有機性廃水の処理方法及び装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、汚水処理に関するもので、特に活性汚泥の固液分離や余剰汚泥の濃縮等に使用する通水性ろ過体の洗浄に関するものであり、有機性工業廃水や生活排水等の処理に用いることができる有機性廃水の処理方法及び装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（１）原水を流入させて好気的に活性汚泥による処理を行う生物反応槽からの活性汚泥混合液を、通水性ろ過体を設置したろ過分離槽に供給し、該ろ過分離槽で該ろ過体表面に汚泥のダイナミックろ過層を形成させてろ過を行ってろ過水を得、ろ過後の活性汚泥混合液を生物反応槽に返送する活性汚泥混合液の固液分離法において、該ろ過分離槽内に浸漬された通水性ろ過体であって、該ろ過体の表面に活性汚泥の付着によりダイナミックろ過を行う通水性ろ過体を具備し、該通水性ろ過体によって汚泥のダイナミックろ過層を形成するろ過体表面とろ過水を得るろ過体内部を構成し、前記通水性ろ過体には、該ろ過体内部に洗浄水を送る逆洗水ラインと、該ろ過体内部から該内部にある汚泥をろ過体外部に排出する逆洗排水を前記生物反応槽に戻すように逆洗排水ラインとがそれぞれ接続され、前記ろ過分離槽に、前記活性汚泥混合液を流入させ、ろ過時は該ろ過体内部からろ過水を流出させ、該ろ過体下方の空気散気管に送気して、空洗によるろ過Ｆｌｕｘの安定化を行うとともに、該ろ過体洗浄時は、ろ過分離槽内の活性汚泥混合液を生物反応槽に完全に返送した後、あるいはろ過分離槽にろ過水を満たした時点で前記逆洗水ラインから洗浄水を供給して逆洗し、排出される逆洗排水を前記生物反応槽に返送することを特徴とする有機性廃水の処理方法。
（２）ろ過体内部への水逆洗は、ろ過体上部の逆洗水ラインにろ過水あるいは薬品洗浄液を流入させ、ろ過体下部の逆洗排水ラインより逆洗排水を排出することを特徴とする前記（１）記載の有機性廃水の処理方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月19日(2008.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技球の入賞を検知したことを契機として入賞信号を出力する入賞検出手段と、遊技動作を制御するとともに、前記入賞検出手段から入賞信号を受け取って遊技球の払出動作を指示するための賞球信号を出力する主制御基板と、貯留している遊技球を所定の払出し経路に送出して前記払出動作を実行する一方、前記払出し経路とは別の球抜き経路に前記遊技球を送出することで前記遊技球の球抜き動作を実行可能な賞球払出装置と、所定の操作により前記賞球払出装置に対して前記球抜き動作を指示するための球抜きスイッチ信号を発生させる球抜きスイッチと、前記主制御基板から前記賞球信号を受け取ると前記賞球払出装置による払出動作を制御する一方、前記球抜きスイッチの操作により前記球抜きスイッチ信号が発生されると前記賞球払出装置に球抜き動作を実行させる払出制御基板とを備え、前記払出制御基板は、前記賞球払出装置に前記球抜き動作を実行させている状態で前記賞球信号を受け取った場合、実行中の前記球抜き動作を停止させることを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月8日(2008.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技領域が形成された遊技盤と、
前記遊技領域の所定位置に設けられ、遊技球が入球可能な第１始動口と、
前記第１始動口への遊技球の入球に基づいて第１の抽選を実行する第１抽選手段と、
前記第１の抽選の結果に基づいて図柄を変動表示させる第１表示制御手段と、
前記遊技領域の所定位置に設けられ、遊技球の受け入れ状態が遊技者に有利な状態に変化可能な第１可変入球装置と、
第１の特別遊技を実行するための条件である第１の作動条件を保持する第１作動条件保持手段と、
前記第１表示制御手段により変動表示される図柄が所定の当たり図柄で停止されたときに前記第１の作動条件が成立したと判定し、前記第１可変入球装置の受け入れ状態を有利な状態へ変化させることにより前記第１の特別遊技を実行する第１特別遊技実行手段と、
前記遊技領域の所定位置に設けられ、遊技球が入球可能な第２始動口と、
前記第２始動口への遊技球の入球に基づいて第２の抽選を実行する第２抽選手段と、
前記第２の抽選の結果に基づいて図柄を変動表示させる第２表示制御手段と、
前記遊技領域の所定位置に設けられ、前記第２表示制御手段により変動表示される図柄が所定の当たり図柄で停止されたときに遊技球の受け入れ状態が遊技者に有利な状態に変化する可変入球口と、
前記遊技領域の所定位置に設けられ、遊技球の受け入れ状態が遊技者に有利な状態に変化可能な第２可変入球装置と、
第２の特別遊技を実行するための条件である第２の作動条件を保持する第２作動条件保持手段と、
前記可変入球口に遊技球が入球したときに前記第２の作動条件が成立したと判定し、前記第２可変入球装置の受け入れ状態を有利な状態に変化させることにより前記第２の特別遊技における第１段階を実行し、その第１段階において前記第２可変入球装置内の特定領域へ遊技球が入球した場合に前記第２の特別遊技における第２段階への移行条件が成立したと判定し、前記第１可変入球装置の受け入れ状態を有利な状態へ変化させることにより前記第２の特別遊技における第２段階を実行する第２特別遊技実行手段と、
前記第１の特別遊技または第２の特別遊技の終了後から前記第１表示制御手段による図柄変動表示の回数が設定回数に達するまでの間、前記第２の抽選における当たりの確率を変動させる特定遊技制御手段と、を備え、
前記特定遊技制御手段は、前記第１の作動条件または第２の作動条件が成立するたびに前記設定回数を抽選により決定することを特徴とする弾球遊技機。
【請求項２】
遊技領域が形成された遊技盤と、
前記遊技領域の所定位置に設けられ、遊技球が入球可能な第１始動口と、
前記第１始動口への遊技球の入球に基づいて第１の抽選を実行する第１抽選手段と、
前記第１の抽選の結果に基づいて図柄を変動表示させる第１表示制御手段と、
前記遊技領域の所定位置に設けられ、遊技球の受け入れ状態が遊技者に有利な状態に変化可能な可変入球装置と、
第１の特別遊技を実行するための条件である第１の作動条件を保持する第１作動条件保持手段と、
前記第１表示制御手段により変動表示される図柄が所定の当たり図柄で停止されたときに前記第１の作動条件が成立したと判定し、前記可変入球装置の受け入れ状態を有利な状態へ変化させることにより前記第１の特別遊技を実行する第１特別遊技実行手段と、
前記遊技領域の所定位置に設けられ、遊技球が入球可能な第２始動口と、
前記第２始動口への遊技球の入球に基づいて第２の抽選を実行する第２抽選手段と、
前記第２の抽選の結果に基づいて図柄を変動表示させる第２表示制御手段と、
前記遊技領域の所定位置に設けられ、前記第２表示制御手段により変動表示される図柄が所定の当たり図柄で停止されたときに遊技球の受け入れ状態が遊技者に有利な状態に変化する可変入球口と、
第２の特別遊技を実行するための条件である第２の作動条件を保持する第２作動条件保持手段と、
前記可変入球口に遊技球が入球したときに前記第２の作動条件が成立したと判定し、前記可変入球装置の受け入れ状態を有利な状態に変化させることにより前記第２の特別遊技における第１段階を実行し、その第１段階において前記可変入球装置内の特定領域へ遊技球が入球した場合に前記第２の特別遊技における第２段階への移行条件が成立したと判定し、前記可変入球装置の受け入れ状態を有利な状態へ変化させることにより前記第２の特別遊技における第２段階を実行する第２特別遊技実行手段と、
前記第１の特別遊技または第２の特別遊技の終了後から前記第１表示制御手段による図柄変動表示の回数が設定回数に達するまでの間、前記第２の抽選における当たりの確率を変動させる特定遊技制御手段と、を備え、
前記特定遊技制御手段は、前記第１の作動条件または第２の作動条件が成立するたびに前記設定回数を抽選により決定することを特徴とする弾球遊技機。
【請求項３】
前記設定回数の決定にて参照されるべき判定図柄を第３の抽選により決定する第３抽選手段をさらに備え、
前記第１表示制御手段は、前記第１の抽選の結果に基づく図柄とともに前記判定図柄を変動表示させ、
前記特定遊技制御手段は、前記判定図柄に応じて前記設定回数を決定することを特徴とする請求項１または２に記載の弾球遊技機。
【請求項４】
前記設定回数の決定にて参照されるべき判定図柄を第３の抽選により決定する第３抽選手段をさらに備え、
前記第１表示制御手段は、前記第２可変入球装置内の特定領域へ遊技球が入球した場合に前記判定図柄を変動表示させ、
前記特定遊技制御手段は、前記判定図柄に応じて前記設定回数を決定することを特徴とする請求項１に記載の弾球遊技機。
【請求項５】
前記設定回数の決定にて参照されるべき判定図柄を第３の抽選により決定する第３抽選手段をさらに備え、
前記第１表示制御手段は、前記可変入球装置内の特定領域へ遊技球が入球した場合に前記判定図柄を変動表示させ、
前記特定遊技制御手段は、前記判定図柄に応じて前記設定回数を決定することを特徴とする請求項２に記載の弾球遊技機。
【請求項６】
前記第１表示制御手段により表示される停止図柄を前記第１の抽選の結果に応じて決定する図柄決定手段をさらに備え、
前記特定遊技制御手段は、前記停止図柄に応じて前記設定回数を決定することを特徴とする請求項１または２に記載の弾球遊技機。
【請求項７】
前記第１表示制御手段は、前記決定された設定回数を示唆するような予告演出の内容を前記第１の特別遊技または第２の特別遊技が実行される間に表示させることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の弾球遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月3日(2007.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】炭素繊維からなる織物を補強基材とするＦＲＰ製の板状物に塗装を施した板材であって、前記織物の目付け（Ｗｇ／ｍ２）と厚み（ｔｍｍ）の比率（Ｗ／ｔ）が７００〜１７００の範囲内であり、かつ、表面の写像鮮映性が５０％以上であることを特徴とするＦＲＰ製板材。
【請求項２】前記織物のカバーファクターが９０〜１００％の範囲内である、請求項１に記載のＦＲＰ製板材。
【請求項３】前記ＦＲＰ製板材が、輸送機器用外板である、請求項１または２に記載のＦＲＰ製板材。
【請求項４】前記織物が板の最表面層にある、請求項１〜３のいずれかに記載のＦＲＰ製板材。
【請求項５】前記塗装の厚みが２０〜２００μｍ以下である、請求項１〜４のいずれかに記載のＦＲＰ製板材。
【請求項６】前記塗装がクリアー塗装である、請求項１〜５のいずれかに記載のＦＲＰ製板材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するために、本発明は以下の構成を有する。すなわち、
（１）炭素繊維からなる織物（以下、適宜「炭素繊維織物」と称する。）を補強基材とするＦＲＰ（以下、適宜「繊維強化プラスチック」と称する。）製の板状物に塗装を施した板材であって、前記織物の目付け（Ｗｇ／ｍ２）と厚み（ｔｍｍ）の比率（Ｗ／ｔ）が７００〜１７００の範囲内であり、かつ、表面の写像鮮映性が５０％以上であることを特徴とするＦＲＰ製板材。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
（２）前記織物のカバーファクターが９０〜１００％の範囲内である、前記（１）に記載のＦＲＰ製板材。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
（３）前記ＦＲＰ製板材が、輸送機器用外板である、前記（１）または（２）に記載のＦＲＰ製板材。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
（４）前記織物が板の最表面層にある、前記（１）〜（３）のいずれかに記載のＦＲＰ製板材。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
（５）前記塗装の厚みが２０〜２００μｍ以下である、前記（１）〜（４）のいずれかに記載のＦＲＰ製板材。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
（６）前記塗装がクリアー塗装である、前記（１）〜（５）のいずれかに記載のＦＲＰ製板材。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
炭素繊維は、連続繊維状態で平織り、綾織り、繻子織り等の織物形態とする。中でも、本発明における織物は、炭素繊維織物の目付け（Ｗｇ／ｍ２）と厚み（ｔｍｍ）の比率（Ｗ／ｔ）が７００〜１７００の範囲内である。本範囲内である織物は、薄物と呼ばれ、目付けの割には薄く、繊維が広がった構造を有しており、繊維の厚み方向のうねりが小さいため、強度及び剛性が高く発現して、外板をより軽量化にできる。また、織物表面の凹凸が小さいため、外板の表面品位も向上し、より薄い塗膜で高い写像鮮映性が確保できるからである。なお、織物の目付と厚みはＪＩＳ  Ｒ７６０２により測定する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月11日(2008.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリント媒体上に画像を記録する工程を含むインクジェットプリント方法において、
（ｉ）インクを、インクジェット記録方法を用いてプリント媒体上に付着させる工程；および
（ｉｉ）該インクとの反応性を有する処理液を該プリント媒体上に付着させる工程；を有し、
該工程（ｉ）は、該工程（ｉｉ）の後に、該プリント媒体上で該インクと該処理液とが液体状態で接する様に行なわれ、
該インクは、水性媒体中に、第１の顔料と、第２の顔料と、該第２の顔料を分散させるための高分子分散剤と、を含み、該第１の顔料及び該第２の顔料がともに分散状態で該インク中に含まれ、
該第１の顔料が少なくとも１つのアニオン性の基が直接もしくは他の原子団を介して該第１の顔料の表面に結合されている自己分散型の顔料あるいは少なくとも１つのカチオン性の基が直接もしくは他の原子団を介して該第１の顔料の表面に結合されている自己分散型の顔料であり、該第２の顔料が高分子分散剤によって該水性媒体に分散させることのできる顔料であり、
該高分子分散剤が該第１の顔料の表面に結合されている基と同極性の高分子分散剤及びノニオン性の高分子分散剤の少なくとも一方を含む
ことを特徴とするインクジェットプリント方法。
【請求項２】
前記アニオン性基が、下記に示すアニオン性基の中から選択される少なくとも１つである請求項１に記載のインクジェットプリント方法。
−ＣＯＯＭ、−ＳＯ3Ｍ、−ＰＯ3ＨＭ及び−ＰＯ3Ｍ2（これらのＭはそれぞれ独立して水素原子か、アルカリ金属か、アンモニウムか、あるいは有機アンモニウムを表わす。）
【請求項３】
前記原子団は、炭素数１〜１２のアルキレン基か、置換基を有してもよいフェニレン基か、あるいは置換基を有してもよいナフチレン基である請求項１に記載のインクジェットプリント方法。
【請求項４】
前記第１の顔料の粒子の８０％以上が粒径０．０５〜０．３μｍである請求項１に記載のインクジェットプリント方法。
【請求項５】
前記第１の顔料の粒子の８０％以上が粒径０．１〜０．２５μｍである請求項１に記載のインクジェットプリント方法。
【請求項６】
前記第２の顔料がその表面に高分子分散剤を吸着することにより分散されている請求項１に記載のインクジェットプリント方法。
【請求項７】
前記高分子分散剤がスルホン酸系高分子分散剤およびカルボン酸系高分子分散剤の少なくとも一方である請求項１に記載のインクジェットプリント方法。
【請求項８】
前記第２の顔料が、少なくとも構造の異なる２種類の顔料を含む請求項１に記載のインクジェットプリント方法。
【請求項９】
該第１の顔料と第２の顔料との比率が９／１〜４／６の範囲である請求項１に記載のインクジェットプリント方法。
【請求項１０】
該第１の顔料を該第２の顔料よりも多く含む請求項１に記載のインクジェットプリント方法。
【請求項１１】
該第１の顔料及び第２の顔料の少なくとも一方はカーボンブラックである請求項１に記載のインクジェットプリント方法。
【請求項１２】
該インクが更に該第１の顔料の表面に結合されている基と同一の極性の染料を含んでいる請求項１に記載のインクジェットプリント方法。
【請求項１３】
該処理液が、該第１の顔料の表面に結合されている基と反対極性の基を少なくとも１つ有する化合物を含む請求項１〜１２の何れかに記載のインクジェットプリント方法。
【請求項１４】
該処理液が、該第１の顔料の表面に結合されている基と反対極性の基を１つ有する第１の化合物と、該第１の顔料の表面に結合されている基と反対極性の基を複数個有する第２の化合物とを含む請求項１〜１３の何れかに記載のインクジェットプリント方法。
【請求項１５】
該第１の化合物が塩化ベンザルコニウムであり、該第２の化合物がポリアリルアミンである請求項１４に記載のインクジェットプリント方法。
【請求項１６】
該処理液中の該第１の化合物と該第２の化合物との割合が、該インクの組成に対して実質的に最適化されている請求項１４または１５に記載のインクジェットプリント方法。
【請求項１７】
プリント媒体へのインクジェットプリント方法であって、
（ｉ）第１のインクを該プリント媒体に付与する工程；
（ｉｉ）第２のインクを該プリント媒体に付与する工程；および
（ｉｉｉ）該第１および第２のインクの各々と反応する処理液を該プリント媒体に付与する工程、を有し、
該第１のインク、該第２のインク及び該処理液の各々は、プリント媒体の表面において互いが液体状態で接触する様に付与されるものであり、
該第１のインクが、顔料粒子の表面に少なくとも１つのアニオン性基が直接もしくは他の原子団を介して結合されている自己分散型顔料または少なくとも１つのカチオン性基が直接もしくは他の原子団を介して結合されている自己分散型顔料を第１の顔料として水性媒体中に含むものであり、
該第２のインクが、第２の顔料と、該第２の顔料を分散させるための高分子分散剤と、を水性媒体中に含み、該第２の顔料が該高分子分散剤により該水性媒体中に分散し得るものであり、
該高分子分散剤が該第１の顔料の表面に結合されている基と同極性の高分子分散剤およびノニオン性の高分子分散剤の少なくとも一方を含み、
該処理液が、該第１の顔料の表面に結合されている基と反対極性の化合物を含むものであり、
かつ該工程（ｉｉｉ）を、該工程（ｉ）及び該工程（ｉｉ）に先立って行なう
ことを特徴とするインクジェットプリント方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月17日(2008.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
ノズルを介して発射チャンバからのインクを噴出して第１の所定のエネルギーを有する電気パルスによって作動可能なインク噴出部を有するプリントヘッド装置を設けるステップと、
プリントヘッド装置を監視し、該プリントヘッド装置上のそれぞれのインク噴出部を発射動作させてからの経過時間を決定するステップと、
インクの組成と前記ノズルおよび前記発射チャンバの幾何学的形状とを用いて、あるインク噴出部が発射作動していない所定の最大時間量を計算するステップと、
前記プリントヘッド装置上のそれぞれのインク噴出部についての前記経過時間と、前記所定の最大時間量とを比較するステップと、
前記プリントヘッド装置上の前記インク噴出部のうちの少なくとも１つについて前記所定の最大時間量を超えると、前記プリントヘッド装置について第２の所定のエネルギーにて高エネルギーの吐出を開始するステップと
を含んでなるインクジェットのプリントヘッド装置を制御する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
ノズルを介して発射チャンバからのインクを噴出して第１の所定のエネルギーを有する電気パルスによって作動可能なインク噴出部を有するプリントヘッド装置を設けるステップと、
プリントヘッド装置を監視して、該プリントヘッド装置によるプリント密度を決定するステップと、
インクの組成と前記ノズルおよび前記発射チャンバの幾何学的形状とを用いて、所定の最小プリント密度を計算するステップと、
前記プリントヘッド装置についての前記プリント密度と、前記所定の最小プリント密度とを比較するステップと、
前記プリントヘッド装置についての前記プリント密度が前記所定のプリント密度よりも低いと、前記プリントヘッド装置について第２の所定のエネルギーにて高エネルギーの吐出を開始するステップと
を含んでなるインクジェットのプリントヘッド装置を制御する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月19日(2008.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】  前記第２のプロセッサ・ユニット（２０）が：
−  前記通信チャンネル（１２、２３）を管理するよう構成された通信プロセッサ（２０１）と；
−  前記一連の制御要素（２８、２９）のインターフェースとして作用する入力回路（２０３）と、
を含むことを特徴とする、請求項１から請求項７のいずれか一に係るシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
各種センサ４１、・・・４ｋ・・・、４ｎ及び３６、３７に関して以前に説明したものに対して基本的にデュアルとなる様相によって、この制御プロセッサ３１もまた、符号３８及び３９で示されるような様々なアクチュエータと相互作用する。これらは、例えば自転車のギアシフト機能を制御するために前方の変速装置及び後方の変速装置に連結しているアクチュエータなどである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
センサ３６は、明らかにクランクセットに対応する位置、好ましくは下部ブラケットに対応する位置に配置されており、一方センサ３７は、後方変速装置に対応する位置に配置されて示されており、これによってチェーンの動きが検出され得る。アクチュエータ３８は、ここではギア・シフトを制御するアクチュエータの形式で示されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
図５は、より複雑なフレームの構造を示しており、ここでもヘッダＨと制御バイトＣＫに加えて、複数のフィールドＣ５からＣ８が設けられ、自転車の変速装置に結合されたアクチュエータ３８、３９の１つの作動状態に関する情報をプロセッサ３１からブロック２０へ送信するために使用可能である。
この場合において、フィールドＣ５は、状態の情報を送信するように設計され、フィールドＣ６は、後方変速装置の位置、及び／又は前方変速装置の位置に関する情報を伝達する。フィールドＣ７とＣ８は、後方変速装置の位置の高さ、及び前方変速装置の位置の高さの表示を提供するために使用可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月22日(2008.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被研磨面に銅膜を有する被研磨対象物を研磨する研磨装置であって、
研磨面を有する導電性の研磨工具と、
前記研磨工具を所定の回転軸を中心に回転させ、かつ保持する研磨工具回転保持手段と、
前記被研磨対象物を保持し所定の回転軸を中心に回転させる研磨対象物回転保持手段と、
前記研磨工具を前記被研磨対象物の前記被研磨面に対して略垂直な方向に移動位置決めする移動位置決め手段と、
前記被研磨面と前記研磨面とを所定の平面に沿って相対移動させる相対移動手段と、
前記被研磨面上にキレート剤を含む電解液を供給する電解液供給手段と、
前記被研磨面を陽極とし前記研磨工具を陰極として、前記被研磨面から前記電解液を通じて前記研磨工具に流れる電流を供給する電流供給手段と
を有する研磨装置。
【請求項２】
前記電流供給手段は、前記被研磨面に接触可能または接近可能に配置され、前記被研磨面を陽極として通電する陽極部材と、
前記陽極部材と前記研磨工具との間に所定電圧を印加する電源と
を備える請求項１記載の研磨装置。
【請求項３】
前記電源は、所定周期のパルス状の電圧を出力する
請求項２記載の研磨装置。
【請求項４】
前記研磨工具は、環状形状を有し、その環状の一端面が研磨面を構成しており、
前記陽極部材は、前記研磨工具の環の内側に非接触で設けられ、前記研磨工具回転保持手段によって前記研磨工具とともに回転し、保持される
請求項２記載の研磨装置。
【請求項５】
前記陽極部材の前記被研磨面に対向する側に当該被研磨面を洗浄する面を有する洗浄部材をさらに備え、当該洗浄部材は、前記電解液を吸収し、かつ通過させることができる材料から形成されており、前記陽極部材側から供給される前記電解液を前記被研磨面に供給する
請求項４記載の研磨装置。
【請求項６】
前記陽極部材は、前記被研磨面に形成された銅に比して貴なる金属からなる
請求項４記載の研磨装置。
【請求項７】
前記被研磨面から前記研磨工具に流れる電流の値を検出する電流検出手段と、
前記電流検出手段からの検出信号に基づいて、前記電流の値が一定となるように前記研磨工具の前記被研磨面に対して略垂直方向の位置を制御する制御手段とをさらに有する
請求項１記載の研磨装置。
【請求項８】
被研磨面に銅膜を有する被研磨対象物の被研磨面の全面に回転しながら接触する研磨面を有する研磨工具を備え、前記被研磨対象物を前記研磨面に回転させながら接触させて平坦化研磨する研磨装置であって、
前記研磨面上にキレート剤を含む電解液を供給する電解液供給手段を有し、
前記研磨面に通電可能な陽極電極および陰極電極を備え、前記電解液による電解研磨と前記研磨面による機械研磨とを複合した電解複合研磨によって前記被研磨面を平坦化する
研磨装置。
【請求項９】
被研磨面に銅膜を有する被研磨対象物を研磨する研磨装置であって、
前記被研磨対象物を保持する保持手段と、
前記被研磨面に平行に配置された電極板と、
前記被研磨対象物に振動を加える加振手段と、
前記被研磨面と電極板の間にキレート剤を含む電解液を供給する電解液供給手段と、
前記被研磨面を陽極とし前記電極板を陰極として、前記被研磨面から前記電解液を通じて前記電極板に流れる電解電流を供給する電解電流供給手段と
を有する研磨装置。
【請求項１０】
被研磨面に銅膜を有する被研磨対象物を研磨する研磨装置であって、
前記被研磨対象物を保持する保持手段と、
前記被研磨面に平行に配置された電極板と、
前記被研磨面と前記電極板の間にキレート剤を含む電解液を供給する電解液供給手段と、
前記被研磨面を陽極とし前記電極板を陰極として、前記被研磨面から前記電解液を通じて前記電極板に流れる電解電流を供給する電解電流供給手段と、
前記被研磨面と前記電極板の間の前記電解液を流動させる流動手段と
を有する研磨装置。
【請求項１１】
被研磨面に金属膜を有する被研磨対象物を研磨する研磨装置であって、
前記被研磨対象物を保持する被研磨対象物保持手段と、
前記被研磨対象物表面を払拭するワイパと、
前記被研磨対象物表面上に電解液を供給する電解液供給手段と、
前記被研磨対象物表面に対向する位置に配設された対向電極と、
前記被研磨対象物表面と前記対向電極間に電流を供給する電流供給手段と
を有する研磨装置。
【請求項１２】
前記被研磨対象物表面と前記ワイパを相対移動させる相対移動手段をさらに有する
請求項１１に記載の研磨装置。
【請求項１３】
前記相対移動手段は、前記被研磨対象物表面に前記ワイパを押圧し、所定の回転軸中心に前記ワイパを回転させる
請求項１２記載の研磨装置。
【請求項１４】
前記相対移動手段は、前記被研磨対象物表面に前記ワイパを押圧し、前記被研磨対象物表面上に前記ワイパを水平移動させる
請求項１２記載の研磨装置。
【請求項１５】
前記相対移動手段は、前記被研磨対象物保持手段を所定の回転軸中心に回転させる
請求項１２記載の研磨装置。
【請求項１６】
前記相対移動手段は、前記ワイパのワイパ面に対して平行な面上に前記被研磨対象物保持手段を水平移動させる
請求項１２記載の研磨装置。
【請求項１７】
前記金属膜は、配線金属膜である
請求項１１記載の研磨装置。
【請求項１８】
前記ワイパは、弾塑性体材料で構成されている
請求項１１記載の研磨装置。
【請求項１９】
前記ワイパは、通気孔が設置されている
請求項１１記載の研磨装置。
【請求項２０】
前記電解液供給手段は、電解液が滲出する材料からなる滲出部材を端部に有し、前記滲出部材を介して前記電解液を前記被研磨対象物表面上に供給する
請求項１１記載の研磨装置。
【請求項２１】
前記被研磨対象物の周囲を包含するように形成され、前記電解液供給手段により供給された電解液を溜める浴槽をさらに有する
請求項１１記載の研磨装置。
【請求項２２】
前記電解液供給手段は、電解質と添加剤を含む電解液を供給する
請求項１１記載の研磨装置。
【請求項２３】
前記添加剤は、少なくとも光沢剤、キレート剤、銅イオンのいずれかを含む
請求項２２記載の研磨装置。
【請求項２４】
前記対向電極は、前記被研磨対象物表面の金属膜に比して同等または貴なる金属材料を有する
請求項１１記載の研磨装置。
【請求項２５】
前記対向電極は、通気孔が設置されている
請求項１１記載の研磨装置。
【請求項２６】
前記電流供給手段からの電流を前記被研磨対象物表面の金属膜に導くための接触電極をさらに有する
請求項１１記載の研磨装置。
【請求項２７】
前記電流供給手段は、前記被研磨対象物表面と前記対向電極間に周期性パルスを印加することにより電流を供給する
請求項１１記載の研磨装置。
【請求項２８】
前記電流供給手段は、前記被研磨対象物表面と前記対向電極間に流れる電流値を少なくとも研磨初期と研磨終点付近で変更可能である
請求項１１記載の研磨装置。
【請求項２９】
前記電解液供給手段により供給された電解液の温度を調節する温度調整手段をさらに有する
請求項１１記載の研磨装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
本発明の研磨装置は、好適には、前記被研磨対象物表面と前記ワイパを相対移動させる相対移動手段をさらに有する。