Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月30日(2007.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対物側先端部の少なくとも一部に傾斜部が形成され、
入射光の入射角度をθｉとしたとき、上記傾斜部の光軸からの傾斜角度θが、
θ≧θｉ
とされて成る
ことを特徴とするソリッドイマージョンレンズ。
【請求項２】
上記傾斜部の先端部に、対物側に突出する凸状部が設けられて成る
ことを特徴とする請求項１記載のソリッドイマージョンレンズ。
【請求項３】
上記凸状部は、その対物側に突出する高さをｈ、上記光軸から上記凸状部の縁部までの長さをｙとし、また上記光軸から上記傾斜部の対物側の縁部までの長さをｚ、上記ソリッドイマージョンレンズと対象物との間隔をｄとしたとき、
ｔａｎ−１（ｈ／ｙ）＜９０°−θｉ
かつ
ｔａｎ−１（（ｄ＋ｈ）／ｚ））≧０．１０°
かつ
ｔａｎ−１（ｄ／ｙ）≧０．１０°
の関係を満たす形状とされて成る
ことを特徴とする請求項２記載のソリッドイマージョンレンズ。
【請求項４】
上記ソリッドイマージョンレンズの対物側とは反対側の球状部が半球状とされ、上記球状部の曲率半径をｒとすると、上記先端部の先端面が、直径が略ｒの球に略外接する形状とされた
ことを特徴とする請求項１記載のソリッドイマージョンレンズ。
【請求項５】
上記ソリッドイマージョンレンズの対物側とは反対側の球状部が半球状とされ、上記球状部の曲率半径をｒとすると、上記凸状部の先端面が、直径が略ｒの球に略外接する形状とされた
ことを特徴とする請求項２記載のソリッドイマージョンレンズ。
【請求項６】
上記ソリッドイマージョンレンズの対物側とは反対側の球状部が超半球状とされ、上記球状部の曲率半径をｒ、屈折率をｎとすると、上記先端部の先端面が、半径が略ｒ／ｎの球に略外接する形状とされた
ことを特徴とする請求項１記載のソリッドイマージョンレンズ。
【請求項７】
上記ソリッドイマージョンレンズの対物側とは反対側の球状部が超半球状とされ、上記球状部の曲率半径をｒ、屈折率をｎとすると、上記凸状部の先端面が、半径が略ｒ／ｎの球に略外接する形状とされた
ことを特徴とする請求項２記載のソリッドイマージョンレンズ。
【請求項８】
ソリッドイマージョンレンズと、該ソリッドイマージョンレンズと光軸を合致させ、対物側とは反対側に配置された光学レンズとより構成された集光レンズにおいて、
上記ソリッドイマージョンレンズは、その対物側先端部の少なくとも一部に傾斜部が形成され、
上記ソリッドイマージョンレンズへの入射光の入射角度をθｉとしたとき、上記傾斜部の光軸からの傾斜角度θが、
θ≧θｉ
とされて成る
ことを特徴とする集光レンズ。
【請求項９】
上記ソリッドイマージョンレンズの上記傾斜部の先端部に、対物側に突出する凸状部が設けられて成る
ことを特徴とする請求項８記載の集光レンズ。
【請求項１０】
ソリッドイマージョンレンズと、該ソリッドイマージョンレンズと光軸を合致させて対物側とは反対側に配置された光学レンズと、光源とが少なくとも設けられ、上記ソリッドイマージョンレンズ及び光学レンズから成る集光レンズによって上記光源からの出射光を収束させて光スポットを形成する光学ピックアップ装置において、
上記ソリッドイマージョンレンズは、その対物側先端部の少なくとも一部に傾斜部が形成され、
上記ソリッドイマージョンレンズへの入射光の入射角度をθｉとしたとき、上記傾斜部の光軸からの傾斜角度θが、
θ≧θｉ
とされて成る
ことを特徴とする光学ピックアップ装置。
【請求項１１】
上記ソリッドイマージョンレンズの上記傾斜部の先端部に、対物側に突出する凸状部が設けられて成る
ことを特徴とする請求項１０記載の光学ピックアップ装置。
【請求項１２】
ソリッドイマージョンレンズと、該ソリッドイマージョンレンズと光軸を合致させて対物側とは反対側に配置された光学レンズと、光源とが少なくとも設けられ、上記ソリッドイマージョンレンズ及び光学レンズから成る集光レンズによって上記光源からの出射光を収束させて光スポットを形成する光学ピックアップ装置を有し、上記集光レンズを光記録媒体のフォーカシング方向及び／又はトラッキング方向に制御駆動する制御駆動手段が設けられて成る光記録再生装置において、
上記ソリッドイマージョンレンズは、その対物側先端部の少なくとも一部に傾斜部が形成され、
上記ソリッドイマージョンレンズへの入射光の入射角度をθｉとしたとき、上記傾斜部の光軸からの傾斜角度θが、
θ≧θｉ
とされて成る
ことを特徴とする光記録再生装置。
【請求項１３】
上記ソリッドイマージョンレンズの上記傾斜部の先端部に、対物側に突出する凸状部が設けられて成る
ことを特徴とする請求項１２記載の光記録再生装置。
【請求項１４】
ソリッドイマージョンレンズの形成方法において、
レンズ材料に、傾斜部を形成する工程と、
上記レンズ材料の対物側に、凸状部を形成する工程と、
上記凸状部の対物面を形成する工程とを少なくとも有する
ことを特徴とするソリッドイマージョンレンズの形成方法。
【請求項１５】
上記凸状部を、その高さをｈ、上記光軸から上記凸状部の縁部までの長さをｙとし、また上記光軸から上記傾斜部の対物側の縁部の上記光軸からの長さをｚ、上記ソリッドイマージョンレンズと対象物との間隔をｄとしたとき、
ｔａｎ−１（ｈ／ｙ）＜９０°−θｉ
かつ
ｔａｎ−１（（ｄ＋ｈ）／ｚ））≧０．１０°
かつ
ｔａｎ−１（ｄ／ｙ）≧０．１０°
の関係を満たす形状として加工する
ことを特徴とする請求項１４記載のソリッドイマージョンレンズの形成方法。
【請求項１６】
上記ソリッドイマージョンレンズの対物側とは反対側の球状部を半球状とし、上記球状部の曲率半径をｒとすると、上記凸状部の先端面を、直径が略ｒの球に略外接する形状に
加工する
ことを特徴とする請求項１４記載のソリッドイマージョンレンズの形成方法。
【請求項１７】
上記ソリッドイマージョンレンズの対物側とは反対側の球状部を超半球状とし、上記球状部の曲率半径をｒ、屈折率をｎとすると、上記凸状部の先端面を、半径が略ｒ／ｎの球に略外接する形状に加工する
ことを特徴とする請求項１４記載のソリッドイマージョンレンズの形成方法。
【請求項１８】
上記凸状部の先端部を、フォーカスイオンビーム加工方法により加工する
ことを特徴とする請求項１４記載のソリッドイマージョンレンズの形成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
ＣＤ（Compact Disc、登録商標）、ＭＤ（Mini Disc、登録商標）、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc、登録商標）に代表される光記録媒体（光磁気記録媒体を含む）は、音楽情報、映像情報、データ、プログラム等の格納媒体として広く利用されている。しかしながら、更なる音楽情報、映像情報、データ、プログラム等の高音質化、高画質化、長時間化、大容量化のために、さらに大容量の光記録媒体及びこれを記録再生する光記録再生装置（光磁気記録再生装置を含む）が望まれている。
そこで、これらに対応するため、光記録再生装置では、その光源の例えば半導体レーザの短波長化や、集光レンズの開口数の増大化が図られ、集光レンズを介して収束する光スポットの小径化が図られている。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月19日(2008.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
面内における第一方向に所定値以上の線膨張係数を有する第一光学シートと、
前記第一光学シートとは異なる第二光学シートと、を備えるバックライト装置であって、
前記第一光学シートと第二光学シートは面の法線方向に離反可能な状態で隣接して配置され、
前記第一光学シートと前記第二光学シートの前記第一方向における線膨張係数の差を所定値以下にしたことを特徴とするバックライト装置。
【請求項２】
前記第一方向における線膨張係数の差の所定値は２．３×１０＾−５／Ｋ以下であることを特徴とする請求項1に記載のバックライト装置。
【請求項３】
前記第一光学シートと前記第二光学シートの前記第一方向と垂直となる両端部は開放されて設置されていることを特徴とする請求項１または２に記載のバックライト装置。
【請求項４】
前記第一光学シートの前記第一方向における線膨張係数が、前記第二光学シートの前記第一方向における線膨張係数よりも大きいことを特徴とする請求項１から３に記載のバックライト装置。
【請求項５】
前記第一光学シートは反射偏光シートであり、
前記第二光学シートは当該反射偏光シートとは異なる他の光学シートであるバックライト装置であって、
前記反射偏光シートの透過軸方向と、
前記他の光学シートの面内方向のうち線膨張係数が前記反射偏光シートの透過軸方向と近似している方向と、が略同方向となるように配置されていることを特徴とする請求項１から４に記載のバックライト装置。
【請求項６】
前記他の光学シートは、プリズムシート、ウェーブシート、拡散シート及びＩＴＯシートからなる群の中から選択される１つであることを特徴とする請求項５に記載のバックライト装置。
【請求項７】
前記第二光学シートを、前記第一光学シートに対して前記バックライト装置内に設けられる光源と反対側に配置することを特徴とする請求項１から５に記載のバックライト装置。
【請求項８】
請求項１から７に記載のバックライト装置と、
当該バックライト装置からの光が照射される液晶パネルとを備えたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項９】
前記第二光学シートをプリズムシート又はウェーブシートとし、
当該プリズム又はウェーブの配列方向を、前記液晶パネルに設けられた画素の配列方向である垂直方向あるいは水平方向に対して、画面法線方向を軸として一定の角度だけ回転させた配置としたことを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】バックライト装置およびそれを備えた液晶表示装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
本発明は、面内における第一方向に所定値以上の線膨張係数を有する第一光学シートと、前記第一光学シートとは異なる第二光学シートと、を備えるバックライト装置であって、前記第一光学シートと第二光学シートは面の法線方向に離反可能な状態で隣接して配置され、前記第一光学シートと前記第二光学シートの前記第一方向における線膨張係数の差を所定値以下にしたことを特徴とする。
また、前記第一方向における線膨張係数の差の所定値は２．３×１０＾−５／Ｋ以下とした。
さらに、前記第一光学シートと前記第二光学シートの前記第一方向と垂直となる両端部は開放されて設置されるようにした。
また、前記第一光学シートの前記第一方向における線膨張係数が、前記第二光学シートの前記第一方向における線膨張係数よりも大きいことを特徴とするバックライト装置を提供する。
また、前記第一光学シートは反射偏光シートであり、前記第二光学シートは当該反射偏光シートとは異なる他の光学シートであるバックライト装置であって、前記反射偏光シートの透過軸方向と、前記他の光学シートの面内方向のうち線膨張係数が前記反射偏光シートの透過軸方向と近似している方向と、が略同方向となるように配置した。
また、前記第二光学シートを、前記第一光学シートに対して前記バックライト装置内に設けられる光源と反対側に配置した。
そして、前記バックライト装置と、当該バックライト装置からの光が照射される液晶パネルとを備えた液晶表示装置を提供する。
また、前記他の光学シートは、プリズムシート、ウェーブシート、拡散シート及びＩＴＯシートからなる群の中から選択される１つであることとした。
また、前記第二光学シートをプリズムシート又はウェーブシートとし、当該プリズム又はウェーブの配列方向を、前記液晶パネルに設けられた画素の配列方向である垂直方向あるいは水平方向に対して、画面法線方向を軸として一定の角度だけ回転させた配置とした。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月26日(2008.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオン源と、検出器と、イオン源と検出器との間のイオン飛行経路に沿って直列に配置された第１および第２のイオン偏向領域を有するイオンセレクタゲートとを有する飛行時間型質量分析計におけるイオン選択方法であって、両方のイオン偏向領域に対して切り換えパルスを同時に加えることにより両方の偏向領域を同時に開き或いは閉じるステップを含み、１つの偏向領域が閉じられると、この偏向領域がイオンを偏向し、それにより、イオンが検出器に到達しなくなる方法。
【請求項２】
方法が両方の偏向領域を閉状態に設定するステップと、両方の偏向領域に対して切り換えパルスを同時に加えることにより両方の偏向領域を開いた後に閉じるステップとを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
方法が両方の偏向領域に対して同じ切り換えパルスを加えるステップを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
偏向領域に対して加えられる切り換えパルスの長さが約８０ｎｓから２００ｎｓである、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
第１及び第２の偏向領域が２つの別個のイオンゲートによって形成される、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
２つの別個のイオンゲートが約１ｍｍから１０ｍｍだけ互いに離間されている、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
別個のイオンゲートがワイヤイオンゲートである、請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】
ワイヤイオンゲートは複数の平行なワイヤから成る配列を有し、各ワイヤは約１０μｍから１００μｍの直径を有している、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
ワイヤ間の間隔が約２００μｍから１０００μｍである、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
２つの別個のイオンゲートは、使用時に直交する偏向場を生成するように配置される、請求項５から９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
イオン源と検出器とを有する質量分析計で使用するためのイオンセレクタ装置であって、第１の偏向領域と第２の偏向領域と制御手段とを有し、使用時において第１および第２の偏向領域がイオン源と検出器との間に配置され、制御手段により、第１および第２の偏向領域を、イオンが検出されないように各偏向領域がイオンを偏向する閉状態とイオンが偏向領域を通過して検出器に達することができる開状態との間で同時に切り換えることができる、イオンセレクタ装置。
【請求項１２】
２つの偏向領域は、制御手段により閉状態から開状態へと同時に切り換え可能であり、その後、元の閉状態に切り換え可能である、請求項１１に記載のイオンセレクタ装置。
【請求項１３】
制御手段は、両方の偏向領域に対して切り換えパルスを同時に加えるための切り換え回路を含む、請求項１１または１２に記載のイオンセレクタ装置。
【請求項１４】
切り換え回路は、約３０ｎｓから５００ｎｓのパルス幅を有する切り換えパルスを供給することができる、請求項１２または１３に記載のイオンセレクタ装置。
【請求項１５】
第１および第２の偏向領域が２つの別個のイオンゲートによって形成される、請求項１１から１４のいずれか一項に記載のイオンセレクタ装置。
【請求項１６】
２つの別個のイオンゲートが約１ｍｍから１０ｍｍだけ互いに離間されている、請求項１５に記載のイオンセレクタ装置。
【請求項１７】
別個のイオンゲートがワイヤイオンゲートである、請求項１５または１６に記載のイオンセレクタ装置。
【請求項１８】
ワイヤイオンゲートは複数の平行なワイヤから成る配列を有し、各ワイヤは約１０μｍから１００μｍの直径を有している、請求項１７に記載のイオンセレクタ装置。
【請求項１９】
ワイヤ間の間隔が約２００μｍから１０００μｍである、請求項１８に記載のイオンセレクタ装置。
【請求項２０】
２つの別個のイオンゲートは、使用時に直交する偏向場を生成するように直角に配置される、請求項１５から１９のいずれか一項に記載のイオンセレクタゲート装置。
【請求項２１】
第１の偏向領域と第１の偏向領域から離間された第２の偏向領域とを有するイオンセレクタゲートであって、第１および第２の偏向領域は、第１の偏向領域に対して印加される電圧が第２の偏向領域にも印加されるように電気的に接続されている、イオンセレクタゲート。
【請求項２２】
第１および第２の偏向領域は、第１のワイヤイオンゲートおよび第２のワイヤイオンゲートによってそれぞれ形成され、各ゲートが複数の平行なワイヤを有し、第１のワイヤイオンゲートの複数の平行なワイヤのうちの少なくとも１つは、第１のワイヤイオンゲートから第２のワイヤイオンゲートへと延びることにより、第２のワイヤイオンゲートの平行なワイヤのうちの少なくとも１つを形成する、請求項２１に記載のイオンセレクタゲート。
【請求項２３】
１つのワイヤは、第１のワイヤイオンゲートにおける交互に配置される平行な複数のワイヤを形成するとともに、第２のワイヤイオンゲートにおける交互に配置される複数のワイヤを形成する、請求項２２に記載のイオンセレクタゲート。
【請求項２４】
第１のワイヤイオンゲートの交互に配置される平行なワイヤおよび第２のワイヤイオンゲートの交互に配置される平行なワイヤは、第１の導電ポストに対して接続される、請求項２２または２３に記載のイオンセレクタゲート。
【請求項２５】
第１のワイヤイオンゲートの平行なワイヤは、第２のワイヤイオンゲートの平行なワイヤと直交している、請求項２２から２４のいずれか一項に記載のイオンセレクタゲート。
【請求項２６】
請求項１１から１９のいずれか一項に記載のイオンセレクタ装置を含む、質量分析計。
【請求項２７】
請求項２０から２５のいずれか一項に記載のイオンセレクタゲートを含む、質量分析計。
【請求項２８】
イオン源と、検出器と、イオン源と検出器との間のイオン飛行経路とを有し、イオンセレクタ装置の２つの偏向領域は、イオン飛行経路に沿って、イオン源と検出器との間に直列に配置されている、請求項２６または２７に記載の質量分析計。
【請求項２９】
質量分析計がＴＯＦ質量分析計である、請求項２８に記載の質量分析計。
【請求項３０】
質量分析計がＴＯＦ  ＭＳ／ＭＳ分析計である、請求項２９に記載の質量分析計。
【請求項３１】
質量分析計がリフレクトロンを含み、イオンセレクタ装置の偏向領域がイオン源とリフレクトロンとの間に配置されている、請求項３０に記載の質量分析計。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月31日(2008.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源部からの照明光で被照射面を照明する照明光学装置において、
前記光源部と前記被照射面との間の光路中に配置されるオプティカルインテグレータと、
前記光源部と前記オプティカルインテグレータとの間の光路中に配置され、前記照明光の光エネルギをほぼ一定に保ちながら、前記オプティカルインテグレータによって照明瞳位置に形成される面光源の大きさを変更する面光源サイズ可変手段と、
前記オプティカルインテグレータの入射面若しくはその近傍、または前記オプティカルインテグレータの射出面若しくはその近傍に配置可能に設けられて、前記面光源の大きさを所定の大きさに制限するための開口を有する開口絞りと、
前記面光源サイズ可変手段により変更される前記面光源の大きさが所定の大きさよりも小さくなった場合に、前記面光源サイズ可変手段による前記面光源の大きさの変更動作を停止し、前記開口絞りによる前記面光源の大きさ設定動作に切替えを行う切替え手段と、
を備えることを特徴とする照明光学装置。
【請求項２】
前記オプティカルインテグレータは石英で構成され、
前記切替え手段は、前記面光源サイズ可変手段による前記面光源の大きさの変更により、前記照明光学装置の前記照明瞳またはその近傍での前記照明光の光エネルギが５ｍＪ／ｃｍ２・ｐｕｌｓｅ以上となったときに、前記面光源サイズ可変手段による前記面光源の大きさの変更動作を停止し、前記開口絞りによる前記面光源の大きさ設定動作に切替えを行うことを特徴とする請求項１記載の照明光学装置。
【請求項３】
光源部からの照明光で被照射面を照明する照明光学装置において、
前記光源部と前記被照射面との間に配置され、前記照明光の照度の減衰率を調節する照度減衰率調整手段と、
前記光源部と前記被照射面との間の光路中に配置されるオプティカルインテグレータと、
前記光源部と前記オプティカルインテグレータとの間の光路中に配置され、前記照明光の光エネルギをほぼ一定に保ちながら、前オプティカルインテグレータによって照明瞳位置に形成される面光源の大きさを変更する面光源サイズ可変手段と、
を備え、
前記照度減衰率調整手段は、前記面光源サイズ可変手段により変更される前記面光源の大きさが所定の大きさよりも小さくなった場合に、前記照明光の照度の減衰率を増大させることを特徴とする照明光学装置。
【請求項４】
前記照度減衰率調整手段は、前記光源部と前記オプティカルインテグレータとの間の光路中に挿入退避可能なＮＤフィルタを備えていることを特徴とする請求項３記載の照明光学装置。
【請求項５】
前記ＮＤフィルタは、異なる減衰率を有する少なくとも２つのＮＤフィルタを備えていることを特徴とする請求項４記載の照明光学装置。
【請求項６】
前記オプティカルインテグレータは石英で構成され、
前記照度減衰率調整手段は、前記面光源サイズ可変手段による前記面光源の大きさの変更により、前記照明光学装置の前記照明瞳またはその近傍での前記照明光の光エネルギが５ｍＪ／ｃｍ２・ｐｕｌｓｅ以上となったときに、前記照明光の照度の減衰率を増大させることを特徴とする請求項３乃至請求項５のいずれか一項に記載の照明光学装置。
【請求項７】
前記面光源の大きさが所定の大きさよりも小さくなった場合は、σ値が０．２０以下の場合であることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の照明光学装置。
【請求項８】
前記照明瞳位置に形成される面光源は２極状であり、
前記面光源の大きさが所定の大きさよりも小さくなった場合は、前記２極状の面光源のうちの１つのσ値が０．１５以下の場合であることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の照明光学装置。
【請求項９】
前記照明瞳位置に形成される面光源は４極状であり、
前記面光源の大きさが所定の大きさよりも小さくなった場合は、前記４極状の面光源のうちの１つのσ値が０．１０以下の場合であることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の照明光学装置。
【請求項１０】
感光性基板上にマスクのパターンを転写する露光装置において、
前記マスクを照明するための請求項１乃至請求項９の何れか一項に記載の照明光学装置と、
前記マスクのパターンの像を前記感光性基板上に形成するための投影光学系と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
感光性基板上に所定のパターンを転写する露光方法において、
請求項１乃至請求項９の何れか一項に記載の照明光学装置を用いて前記所定のパターンが形成されるマスクを照明する照明工程と、
前記感光性基板上に前記所定のパターンを転写する転写工程と、
を含むことを特徴とする露光方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、請求項７記載の照明光学装置は、前記面光源の大きさが所定の大きさよりも小さくなった場合は、σ値が０．２０以下の場合であることを特徴とする。
また、請求項８記載の照明光学装置は、前記照明瞳位置に形成される面光源は２極状であり、前記面光源の大きさが所定の大きさよりも小さくなった場合は、前記２極状の面光源のうちの１つのσ値が０．１５以下の場合であることを特徴とする。
また、請求項９記載の照明光学装置は、前記照明瞳位置に形成される面光源は４極状であり、前記面光源の大きさが所定の大きさよりも小さくなった場合は、前記４極状の面光源のうちの１つのσ値が０．１０以下の場合であることを特徴とする。
また、請求項１０記載の露光装置は、感光性基板上にマスクのパターンを転写する露光装置において、前記マスクを照明するための請求項１乃至請求項９の何れか一項に記載の照明光学装置と、前記マスクのパターンの像を前記感光性基板上に形成するための投影光学系とを備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
この請求項１０記載の露光装置によれば、光学素子の照明光が通過する部分の損傷を防止することができ、光学素子の高寿命化を実現することができる照明光学装置を備えているため、照明光学装置を構成する光学素子を頻繁に交換する必要がなく、露光装置の性能を維持することができ、露光装置のスループットを高く維持することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
また、請求項１１記載の露光方法は、感光性基板上に所定のパターンを転写する露光方法において、請求項１乃至請求項９の何れか一項に記載の照明光学装置を用いて前記所定のパターンが形成されるマスクを照明する照明工程と、前記感光性基板上に前記所定のパターンを転写する転写工程とを含むことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
この請求項１１記載の露光方法によれば、光学素子の照明光が通過する部分の損傷を防止することができ、光学素子の高寿命化を実現することができる照明光学装置を用いてマスクの照明を行うため、照明光学装置を構成する光学素子を頻繁に交換する必要がなく、スループット良く、良好な露光を行うことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月21日(2007.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部に冷却流体を流通させる流路を有する伝熱容器を備え、該伝熱容器に接触させた発熱体を前記流路を流通する前記冷却流体により冷却するようにしたヒートシンクであって、前記流路は、前記伝熱容器の前記発熱体に接触する側から前記冷却流体の流れる方向に対して直交する方向に離れるにしたがって狭くなる第１の断面部と、前記直交する方向にほぼ一定である第２の断面部とを備え、前記第１の断面部と前記第２の断面部とが前記冷却流体の流れる方向に交互に連続するよう構成されたことを特徴とするヒートシンク。
【請求項２】
前記第１の断面部の形状は、前記伝熱容器の内部に設けた突起に基づいて形成されていることを特徴とする請求項１に記載のヒートシンク。
【請求項３】
前記突起は、略円錐形状、略多角錐形状、略球形状、半球形状のうち少なくともいずれかの形状を有する突起であることを特徴とする請求項２に記載のヒートシンク。
【請求項４】
前記伝熱容器の内面に、前記冷却流体の流れる方向に延びるフィンを設けたことを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載のヒートシンク。
【請求項５】
前記突起は、前記伝熱容器に設けた基板に複数個配列されたことを特徴とする請求項２又は３に記載のヒートシンク。
【請求項６】
前記基板は、前記流路を２つの流路に仕切るよう前記伝熱容器の内部に配置されると共にその両面に夫々前記突起が配列されてなり、前記伝熱容器は、前記仕切られた一方の流路に接する側と他方の流路に接する側とが夫々異なる発熱体に接触するよう構成されたことを特徴とする請求項５に記載のヒートシンク。
【請求項７】
冷却流体を流通させる流路を有する伝熱容器を備え、該伝熱容器に接触した発熱体を前記流路を流通する前記冷却流体により冷却するようにしたヒートシンクであって、前記伝熱容器は、前記冷却流体を前記発熱体に直接接触させる開口部を有し、前記流路は、前記伝熱容器の前記発熱体に接触する側から前記冷却流体の流れる方向に対して直交する方向に離れるにしたがって狭くなる第１の断面部と、前記直交する方向にほぼ一定である第２の断面部とを備え、前記第１の断面部分と前記第２の断面部分とが前記冷却流体の流れる方向に交互に連続するよう構成されたことを特徴とするヒートシンク。
【請求項８】
前記発熱体の前記冷却流体に接する面に、前記冷却流体の流れる方向に延びるフィンを設けたことを特徴とする請求項７に記載のヒートシンク。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この発明によるヒートシンクは、内部に冷却流体を流通させる流路を有する伝熱容器を備え、該伝熱容器に接触させた発熱体を流路を流通する冷却流体により冷却するようにしたヒートシンクであって、流路は、伝熱容器の発熱体に接触する側から冷却流体の流れる方向に対して直交する方向に離れるにしたがって狭くなる第１の断面部と、直交する方向にほぼ一定である第２の断面部とを備え、第１の断面部と第２の断面部とが冷却流体の流れる方向に交互に連続するよう構成されたものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
この発明は、三次元的な流れを引き起こすことで、より簡易な構造で熱伝達特性を向上させたヒートシンクを提供することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月22日(2008.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コア基板を有さず、かつ半導体チップを接続する配線基板であって、
第一主表面及び第二主表面が誘電体層にて形成されるように、２以上の誘電体層と２以上の導体層とが交互に積層された積層体と、
前記第一主表面及び前記第二主表面上に形成される複数の金属端子パッドと、
前記積層体を補強して平坦度を確保する補強枠と、
を有し、前記半導体チップ及び前記補強枠は前記第一主表面に配置され、
前記金属端子パッドの少なくとも一部のものが、前記積層体内に位置する内部導体層にビアを介して導通するとともに、
前記金属端子パッドと前記半導体チップとが半田接続部を介してフリップチップ接続され、
前記誘電体層のヤング率が０．０１ＧＰａ以上０．３ＧＰａ以下であることを特徴とする配線基板。
【請求項２】
全ての前記導体層の熱膨張係数が１５ｐｐｍ／℃以上２５ｐｐｍ／℃以下である請求項１記載の配線基板。
【請求項３】
前記第一主表面に最も近い導体層の配線密度が５０％以上９０％以下であり、かつ、前記第二主表面に最も近い導体層の配線密度が５０％以上９０％以下である請求項１または請求項２に記載の配線基板。
【請求項４】
誘電体層と導体層とが交互に積層された配線基板の製造方法であって、
支持基盤を用意する工程と、
互いに密着し、かつ、分離可能な金属箔を含む金属箔密着体を用意する工程と、
前記支持基盤の上部に前記金属箔密着体を配置する工程と、
前記金属箔密着体を介して前記支持基盤の上部に配置され、ヤング率が０．０１ＧＰａ以上０．３ＧＰａ以下である前記誘電体層と、前記誘電体層に設けられたビア導体と、前記誘電体層上に配置されると共に前記ビア導体を介して前記金属箔密着体と接続する前記導体層と、を含む積層体を形成する工程と、
前記金属箔密着体に含まれる金属箔を界面にて剥離して、前記積層体における前記金属箔密着体上の領域を前記金属箔が付着した状態で前記支持基盤から分離する工程と、
前記積層体に補強枠を接着する工程と、
を備える、配線基板の製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載の配線基板の製造方法であって、さらに、
前記積層体の周囲部を除去して前記金属箔密着体の端部を露出させる工程を備える、配線基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】配線基板及びその製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、配線基板及びその製造方法に関するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月7日(2008.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
柄の先端部に複数列からなる多数のブラシ毛を柄の先端部と一体に成形した化粧用塗布具において、
各ブラシ毛は、柄の先端部の周方向の一方側に後側面を向け、他方側に前記後側面以外の二側面を向けた略三角形断面をしており、前記後側面の延長面は柄の先端部の中心軸を含み、前記後側面以外の二側面には抜け勾配が設けられたことを特徴とする化粧用塗布具。
【請求項２】
前記請求項１に記載の化粧用塗布具を形成する化粧用塗布具成形金型であって、該化粧用塗布具成形金型は、扇形をした金型単位を組み合わせて構成し、各金型単位においては二側面のうちの一方側にのみブラシ毛形成用のＶ字溝を形成したことを特徴とする化粧用塗布具成形用金型。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項２に係る発明は、前記請求項１に記載の化粧用塗布具を形成する化粧用塗布具成形金型であって、該化粧用塗布具成形金型は、扇形をした金型単位を組み合わせて構成し、各金型単位においては二側面のうちの一方側にのみブラシ毛形成用のＶ字溝を形成したことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項1に係る発明によれば、各ブラシ毛は、柄の先端部の周方向の一方側に後側面を向け、他方側に前記後側面以外の二側面を向けた略三角形断面をしており、前記後側面の延長面は柄の先端部の中心軸を含み、前記後側面以外の二側面には抜け勾配が設けられているが、これは、ブラシ毛の後側面は完全に柄の先端部の中心軸から放射状に延びており、前記後側面以外の二側面により形成される前記ブラシ毛の前縁は後側面側へ傾いていることを意味する。したがって、この化粧用塗布具によって、ブラシ毛の前縁を前方にして睫やまゆ毛をさばくと、ブラシ毛が、睫やまゆ毛の間を通り易くなるとともに、後方に変形し易く柔らかいものとなり、使い易い化粧用塗布具が得られる。特に本発明では、ブラシ毛の後側面の延長面は柄の先端部の中心軸を含み、前記後側面以外の二側面には抜け勾配が設けられているから、ブラシ毛の形成するためには扇形の金型単位を組み合わせた金型を使用するのであるが、この金型単位の一方の側面にのみにブラシ毛形成用のＶ字溝を設ければよい。これによって、金型を安価に製作できるので、価格を上昇させることなく安価に化粧用塗布具を製造できる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項２に係る発明によれば、化粧用塗布具成形金型は、扇形をした金型単位を組み合わせて構成し、各金型単位においては二側面のうちの一方側にのみブラシ毛形成用のＶ字溝を形成したから、この化粧用塗布具成形金型を安価に製作でき、これによって化粧用塗布具を安価に製造できる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月9日(2008.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
床面に載置されるスタンド部と、
スタンド部に支持され、前記スタンド部の一側面側に突出する支持腕部と、
前記支持腕部に支持され、前記支持腕部の突出方向とほぼ直交する方向に延びる支持枠と、
前記支持枠に支持され、前記被検体を載置する天板と、
前記被検体にＸ線を照射するＸ線発生器と、
前記支持枠に支持され、前記Ｘ線発生器を支持する支柱部と、
前記支持枠の内部で前記Ｘ線発生器と対向して配置され、前記被検体を透過したＸ線を検出するＸ線検出器とを備え、
前記支柱部の前記支持枠側の端部と、前記Ｘ線発生器側の端部とが、前記支持枠の長手方向にずれていることを特徴とするＸ線透視撮影台。
【請求項２】
前記支柱部が、前記支持枠側から前記Ｘ線発生器側に向かって斜め方向にせり出していることを特徴とする請求項１に記載のＸ線透視撮影台。
【請求項３】
前記支柱部が、前記Ｘ線発生器側に向かって前記支持枠の長手方向と幅方向の両方に伸びていることを特徴とする請求項１に記載のＸ線透視撮影台。
【請求項４】
前記支柱部が、前記支持枠から離れる方向に向かって凸となるように湾曲していることを特徴とする請求項１に記載のＸ線透視撮影台。
【請求項５】
前記支柱部を前記支持枠の長手方向および幅方向の少なくとも一方にスライドさせる基底部を備えることを特徴とする請求項１に記載のＸ線透視撮影台。
【請求項６】
前記Ｘ線発生器を前記支柱部に対して回転させる回転機構を前記支柱部内に備えることを特徴とする請求項１に記載のＸ線透視撮影台。
【請求項７】
前記Ｘ線検出器を前記支持枠の長手方向および幅方向の少なくとも一方にスライドさせるスライド機構を備えることを特徴とする請求項１に記載のＸ線透視撮影台。
【請求項８】
床面鉛直方向の軸を回転軸として前記Ｘ線検出器を回転させる回転機構を備えることを特徴とする請求項１に記載のＸ線透視撮影台。
【請求項９】
前記支柱部のスライド状態を検知するセンサを備え、
前記センサからの情報に基づいて前記Ｘ線発生器に従動するように、前記スライド機構は前記Ｘ線検出器をスライドさせるように構成されていることを特徴とする請求項７に記載のＸ線透視撮影台。
【請求項１０】
前記被検体の透視映像を表示する表示装置を備え、
前記表示装置は、多関節のアームにより前記スタンド部に支持されていることを特徴とする請求項１に記載のＸ線透視撮影台。
【請求項１１】
前記被検体の撮影時に前記被検体の関心部位を圧迫する圧迫筒と、一端側が前記圧迫筒に、他端側が前記支柱部に連結される繰り出しアームとを備え、
前記圧迫筒で前記関心部位を圧迫するときは、前記繰り出しアームにより前記圧迫筒が前記関心部位に向かって繰り出され、
前記圧迫筒で前記関心部位を圧迫しないときには、前記繰り出しアームが前記支柱部に収納されるように構成したことを特徴とする請求項１に記載のＸ線透視撮影台。
【請求項１２】
撮影室に載置される請求項１に記載のＸ線透視撮影台と、
前記撮影室に載置され、前記Ｘ線発生器に電力を供給する高電圧発生器と、
前記撮影室とは別の操作室に載置され、前記Ｘ線透視撮影台および高電圧発生器を統合的に操作する遠隔操作卓とを備えたことを特徴とするＸ線透視撮影システム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月28日(2008.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のアンテナからなるアレーアンテナと、前記アレーアンテナの指向性を制御するアダプティブビームフォーミングおよびアダプティブヌルスティアリングにより複数の端末毎に個別の放射パターンの送信ビームを形成する制御を行う制御手段とを備え、ＳＤＭＡ方式により前記各端末との間で無線通信する無線装置において、
前記制御手段は、前記各端末のＣＩＲ（Carrier to Interference Ratio）値が当該各端末のＱＯＳ（Quality Of Service）を良好に保つために必要な値以上になるように、前記各アンテナに対応する重み係数からなる端末個別の送信重みベクトルを算出し、
前記端末毎に、前記算出された送信重みベクトルに対して同じ値を乗算し、
前記乗算する値が、前記各端末の前記重み係数の絶対値を前記アンテナ毎に加算した加算値のうち、最大の値である、ことを特徴とする無線装置。
【請求項２】
複数のアンテナからなるアレーアンテナを備え、前記アレーアンテナの指向性を制御するアダプティブビームフォーミングおよびアダプティブヌルスティアリングにより複数の端末毎に個別の放射パターンの送信ビームを形成してＳＤＭＡ方式により前記各端末との間で無線通信する無線装置におけるアンテナ指向性制御方法であって、
前記各端末のＣＩＲ（Carrier to Interference Ratio）値が当該各端末のＱＯＳ（Quality Of Service）を良好に保つために必要な値以上になるように、前記各アンテナに対応する重み係数からなる端末個別の送信重みベクトルを算出する過程と、
前記端末毎に、前記算出された送信重みベクトルに対して同じ値を乗算する過程と、を含み、
前記乗算する値が、前記各端末の前記重み係数の絶対値を前記アンテナ毎に加算した加算値のうち、最大の値である、ことを特徴とするアンテナ指向性制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項１に記載の無線装置は、複数のアンテナからなるアレーアンテナと、前記アレーアンテナの指向性を制御するアダプティブビームフォーミングおよびアダプティブヌルスティアリングにより複数の端末毎に個別の放射パターンの送信ビームを形成する制御を行う制御手段とを備え、ＳＤＭＡ方式により前記各端末との間で無線通信する無線装置において、前記制御手段は、前記各端末のＣＩＲ（Carrier to Interference Ratio）値が当該各端末のＱＯＳ（Quality Of Service）を良好に保つために必要な値以上になるように、前記各アンテナに対応する重み係数からなる端末個別の送信重みベクトルを算出し、前記端末毎に、前記算出された送信重みベクトルに対して同じ値を乗算し（前記算出された送信重みベクトルを同じ値でスケーリングし）、前記乗算する値が、前記各端末の前記重み係数の絶対値を前記アンテナ毎に加算した加算値のうち、最大の値である、ことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、各端末の重み係数の絶対値をアンテナ毎に加算し、これら加算値のうち最大の値により各端末の送信重みベクトルをスケーリングすることにより、各端末のＣＩＲをより全体として安定化させることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項２に記載のアンテナ指向性制御方法は、複数のアンテナからなるアレーアンテナを備え、前記アレーアンテナの指向性を制御するアダプティブビームフォーミングおよびアダプティブヌルスティアリングにより複数の端末毎に個別の放射パターンの送信ビームを形成してＳＤＭＡ方式により前記各端末との間で無線通信する無線装置におけるアンテナ指向性制御方法であって、前記各端末のＣＩＲ（Carrier to Interference Ratio）値が当該各端末のＱＯＳ（Quality Of Service）を良好に保つために必要な値以上になるように、前記各アンテナに対応する重み係数からなる端末個別の送信重みベクトルを算出する過程と、前記端末毎に、前記算出された送信重みベクトルに対して同じ値を乗算する過程と、を含み、前記乗算する値が、前記各端末の前記重み係数の絶対値を前記アンテナ毎に加算した加算値のうち、最大の値である、ことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月11日(2008.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外科手術メッシュ材料を身体組織に固定するための外科用固定具であって、以下：
とがった遠位先端および拡大した近位ヘッドを有する円錐形本体部分；および
該円錐形本体分から半径方向に延在する、螺旋状のネジ山、
を備える、外科用固定具。
【請求項２】
請求項１に記載の外科用固定具であって、ここで、前記螺旋状のネジ山が、前記遠位先端から開始し、そして該遠位先端から一定間隔をあけて終結する、外科用固定具。
【請求項３】
請求項２に記載の外科用固定具であって、ここで、前記螺旋状のネジ山が前記遠位端から前記近位端に進むにつれて、該螺旋状のネジ山が半径方向に増加する、外科用固定具。
【請求項４】
請求項３に記載の外科用固定具であって、ここで、前記固定具が、生体吸収性材料から作製される、外科用固定具。
【請求項５】
請求項４に記載の外科用固定具であって、ここで、前記生体適合性材料が、ポリグリコール酸およびポリ乳酸からなる群より選択される、外科用固定具。
【請求項６】
請求項３に記載の外科用固定具であって、ここで、前記固定具が、移植の直後、少なくとも２〜３週間の期間の間、前記身体組織に部分的に吸収されるような寸法であり、そしてその後、任意のときに該身体組織に完全に吸収される、外科用固定具。
【請求項７】
請求項６に記載の外科用固定具であって、ここで、前記固定具が、前記遠位先端から前記ヘッドにおいて約３ｍｍの長さを有する、外科用固定具。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月22日(2008.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つの側面パネル（５、６）によって結合された前部パネル（３）と後部パネル（４）を有し、 
少なくとも１つの開口部（１５）とこれを閉じる閉止システム（２１、２２、３７、４０）を有し、 
実質的に前部パネルの幅の一部分（Ｄ）のみにおいて当該開口部近傍で前部パネル（３）と接触するような断面を有する対象物（Ｅ）を収容することができ、 
前記閉止システムが後部パネル（４）の延長部を折り曲げて、前記開口部（１５）の上に被せられる蓋（３７）を有し、 
前記蓋（３７）からは蓋が閉じた状態のときに対象物（Ｅ）と前部パネル（３）の間に介挿されるフラップ（４０）が延長されており、
前記フラップは対象物（Ｅ）と前記対象物が接触する前部パネル（３）の前記一部分（Ｄ）の間に当該フラップ（４０）を挿入することを助けるような少なくとも２つの延長部（５１）を有する形状の自由端（５０，５１，５２）を具備し、
各延長部（５１）が、対象物（Ｅ）と前部パネル（３）の間に形成されたスペース（Ｖ）に、前記一部分（Ｄ）の少なくとも何れか一方の側において挿入できるようにデザインされ、 
前記延長部（５１）の自由端（５０）は蓋からの距離（ｌ）が徐々に変化し、 
蓋（３７）を閉じる際には、前記自由端（５０）は、対象物（Ｅ）と徐々に接触し、対象物（Ｅ）と前部パネル（３）の間にフラップ（４０）を挿入することを助け、
対象物（Ｅ）が前部パネルの中心部分（Ｄ）のみで前部パネル（３）と接触し、前記２つの延長部（５１）は、前記対象物（Ｅ）が接触している前部パネル（３）の前記部分（Ｄ）の幅より大きな距離（ｄ、ｄ１）だけ隔てられた箱（Ｂ）。 
【請求項２】
対象物（Ｅ）の断面が、箱（Ｂ）の前部パネル（３）と接線方向に接触するようにデザインされた円弧部を有することを特徴とする請求項１に記載の箱。 
【請求項３】
対象物（Ｅ）が円、楕円、六角形または八角形の断面形状を有することを特徴とする請求項１または２に記載の箱。 
【請求項４】
フラップ（３７）の自由端（５０、５２）によって形成された２つの延長部（５１）は、Ｖ型、台形型または円弧型の切り込みによって隔てられていることを特徴とする請求項１ないし３のうち何れか１つに記載の箱。 
【請求項５】
切り込み（５０）の各側面において、フラップ（４０）の自由端は、蓋（３７）から延長部の頂部（５１）にかけて次第に遠ざかる部分を有することを特徴とする請求項４に記載の箱。 
【請求項６】
前記自由端（５０）は丸みのある凸状であることを特徴とする請求項５に記載の箱。 
【請求項７】
閉止システムは側面パネル（５、６）の延長部を折り曲げて得られた少なくとも１つの側面タブ（２１、２２）を具備し、蓋（３７）を閉じた位置にあるとき、前記フラップ（４０）は、側面タブ（２１、２２）の縁（２１ｂ、２２ｂ）と前部パネル（３）の間に位置するようにデザインされたことを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１つに記載の箱。 
【請求項８】
前記対象物（Ｅ）が口紅、ファンデーションまたはリップケア製品のようなメイクアップまたはケア製品を収容したケースであることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１つに記載の箱。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月12日(2008.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送物の下面部に向けて空気を送風して、搬送物を非接触状態で支持する送風式支持手段と、その送風式支持手段にて支持される前記搬送物に対して搬送方向での推進力を付与する推進力付与手段と備えた搬送手段が、搬送方向に複数並べて設けられ、
それら複数の搬送手段の運転を制御する制御手段が設けられている搬送装置であって、
前記送風式支持手段は、除塵フィルタを通して前記搬送物の下面部に向けて清浄空気を送風するように構成され、かつ、前記搬送物の下面部に向けて送風する清浄空気の送風量を前記搬送物を非接触状態で支持する支持用送風量とする支持作動状態と、前記搬送物の下面部に向けて送風する清浄空気の送風量を前記支持用送風量よりも小さい小用設定送風量とする小用作動状態とに変更自在に構成され、
前記制御手段は、運転対象の搬送手段については、前記送風式支持手段を小用作動状態にて作動させ、かつ、前記搬送物が乗り移る乗移対象の搬送手段については、前記搬送物が乗り移る乗移タイミングよりも以前に、前記送風式支持手段にて前記搬送物を非接触状態で支持することができる状態にするように前記送風式支持手段の作動状態を小用作動状態から支持作動状態に変更するように構成されている搬送装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記乗移対象の搬送手段については、その乗移対象の搬送手段よりも搬送方向の上流側に隣接する前記搬送手段に前記搬送物が乗り移る上流側乗移タイミングにおいて、前記送風式支持手段にて前記搬送物を非接触状態で支持することができる状態に移行させるように前記送風式支持手段の作動状態を制御するように構成されている請求項１に記載の搬送装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
この目的を達成するために、本発明にかかる搬送装置の第１特徴構成は、搬送物の下面部に向けて空気を送風して、搬送物を非接触状態で支持する送風式支持手段と、その送風式支持手段にて支持される前記搬送物に対して搬送方向での推進力を付与する推進力付与手段と備えた搬送手段が、搬送方向に複数並べて設けられ、それら複数の搬送手段の運転を制御する制御手段が設けられている搬送装置において、
前記送風式支持手段は、除塵フィルタを通して前記搬送物の下面部に向けて清浄空気を送風するように構成され、かつ、前記搬送物の下面部に向けて送風する清浄空気の送風量を前記搬送物を非接触状態で支持する支持用送風量とする支持作動状態と、前記搬送物の下面部に向けて送風する清浄空気の送風量を前記支持用送風量よりも小さい小用設定送風量とする小用作動状態とに変更自在に構成され、前記制御手段は、運転対象の搬送手段については、前記送風式支持手段を小用作動状態にて作動させ、かつ、前記搬送物が乗り移る乗移対象の搬送手段については、前記搬送物が乗り移る乗移タイミングよりも以前に、前記送風式支持手段にて前記搬送物を非接触状態で支持することができる状態にするように前記送風式支持手段の作動状態を小用作動状態から支持作動状態に変更するように構成されている点にある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
すなわち、制御手段は、乗移対象の搬送手段については、乗移タイミングよりも以前に、送風式支持手段にて搬送物を非接触状態で支持することができる状態にするように、乗移タイミングよりも以前に送風式支持手段の作動を開始することができることになる。
したがって、乗移対象の搬送手段について、送風式支持手段の作動開始から搬送物が乗り移るまでの時間を長くするができ、その間に、送風式支持手段にて搬送物を非接触状態に支持することができる状態となる。
以上のことから、乗移対象の搬送手段において、実際に搬送物が乗り移るまでに、送風式支持手段にて搬送物を非接触状態で支持することができることとなって、搬送手段間で搬送物を乗り移らせて搬送する際に、送風式支持手段にて搬送物を非接触状態で支持することができる搬送装置を提供できるに至った。
さらに、制御手段が、運転対象の搬送手段については、送風式支持手段を小用作動状態で作動させることにより、送風式支持手段にて送風される清浄空気にて搬送物への塵や埃の付着を防止することができることになる。
しかも、制御手段が、乗移対象の搬送手段については、乗移タイミングよりも以前に、送風式支持手段を小用作動状態から支持作動状態に変更することにより、送風式支持手段の作動開始から搬送物が乗り移るまでの時間を長くして、送風式支持手段にて乗り移る搬送物を非接触状態で支持することができることになる。
したがって、搬送物への塵や埃の付着を防止することができながらも、その搬送物を乗移対象の搬送手段に乗り移らせて搬送する際に、送風式支持手段にて非接触状態で支持することができることになり、例えば、液晶用のガラス基板など、非接触状態で支持するだけでなく、塵や埃の付着を防止することをも求められるような搬送物でも、的確に搬送することができることとなって、搬送装置として有用なものとなる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】削除
【補正の内容】