【手続補正書】
【提出日】平成19年11月30日(2007.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステンレス鋼からなる装飾品用基材と、該基材表面に湿式メッキ法で形成されたロジウム（Ｒｈ）、金（Ａｕ）またはクロム（Ｃｒ）からなるバリアー層と、該バリアー層の表面に乾式メッキ法により形成されたチタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ）、バナジウム（Ｖ）、ニオブ（Ｎｂ）またはタンタル（Ｔａ）からなる下地層と、該下地層の表面に乾式メッキ法により形成された炭化チタン（ＴｉＣ）、炭化クロム（Ｃｒ3Ｃ2）、炭化ジルコニウム（ＺｒＣ）、炭化ハフニウム（ＨｆＣ）、炭化バナジウム（ＶＣ）、炭化ニオブ（ＮｂＣ）、炭化タングステン（ＷＣ）または炭化タンタル（ＴａＣ）からなる耐摩耗層と、該耐摩耗層の表面に乾式メッキ法により形成されたプラチナ（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）またはロジウム（Ｒｈ）、プラチナ合金、パラジウム合金、ロジウム合金からなる最外層から構成されたことを特徴とする白色被膜を有する装飾品。
【請求項２】
ステンレス鋼からなる前記基材表面とバリアー層との間に、湿式メッキ法により形成された、金または金合金からなるストライクメッキ被膜層を有していることを特徴とする請求項１記載の白色被膜を有する装飾品。
【請求項３】
前記ストライクメッキ被膜層が、湿式メッキ法により形成された厚み０．０５〜０．３μｍの被膜であることを特徴とする請求項２記載の白色被膜を有する装飾品。
【請求項４】
前記基材表面に形成されるバリアー層が、湿式メッキ法により形成された、ロジウム合金、パラジウム合金、プラチナ合金、銅合金、金合金の中の少なくとも１つからなる被膜であることを特徴とする請求項１記載の白色被膜を有する装飾品。
【請求項５】
前記バリアー層が、湿式メッキ法により形成された厚み０．３〜３μｍの被膜であることを特徴とする請求項１または４記載の白色被膜を有する装飾品。
【請求項６】
厚み０．２〜１．５μｍの耐摩耗層と厚み０．００２〜０．１μｍの最外層とから発色層が構成されていることを特徴とする請求項１に記載の白色被膜を有する装飾品。
【請求項７】
ステンレス鋼からなる基材表面に湿式メッキ法によりロジウム（Ｒｈ）、金（Ａｕ）またはクロム（Ｃｒ）からなるバリアー層を形成する工程と、該バリアー層表面に乾式メッキ法によりチタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ
）、バナジウム（Ｖ）、ニオブ（Ｎｂ）またはタンタル（Ｔａ）からなる下地層を形成する工程と、該下地層の表面に乾式メッキ法により炭化チタン（ＴｉＣ）、炭化クロム（Ｃｒ3Ｃ2）、炭化ジルコニウム（ＺｒＣ）、炭化ハフニウム（ＨｆＣ）、炭化バナジウム（ＶＣ）、炭化ニオブ（ＮｂＣ）、炭化タングステン（ＷＣ）または炭化タンタル（ＴａＣ）からなる耐摩耗層を形成し、さらに該耐摩耗層の表面に乾式メッキ法によりプラチナ（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）またはロジウム（Ｒｈ）、プラチナ合金、パラジウム合金、ロジウム合金からなる最外層を形成することを特徴とする白色被膜を有する装飾品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係る白色被膜を有する装飾品は、ステンレス鋼からなる装飾品用基材と、該基材表面に湿式メッキ法で形成されたロジウム（Ｒｈ）、金（Ａｕ）またはクロム（Ｃｒ）からなるバリアー層と、該バリアー層の表面に乾式メッキ法により形成されたチタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ）、バナジウム（Ｖ）、ニオブ（Ｎｂ）またはタンタル（Ｔａ）からなる下地層と、該下地層の表面に乾式メッキ法により形成された炭化チタン（ＴｉＣ）、炭化クロム（Ｃｒ3Ｃ2）、炭化ジルコニウム（ＺｒＣ）、炭化ハフニウム（ＨｆＣ）、炭化バナジウム（ＶＣ）、炭化ニオブ（ＮｂＣ）、炭化タングステン（ＷＣ）または炭化タンタル（ＴａＣ）からなる耐摩耗層と、該耐摩耗層の表面に乾式メッキ法により形成されたプラチナ（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）またはロジウム（Ｒｈ）、プラチナ合金、パラジウム合金、ロジウム合金からなる最外層から構成されたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、前記基材表面に形成されるバリアー層は、湿式メッキ法により形成された、ロジウム合金、パラジウム合金、プラチナ合金、銅合金、金合金の中の少なくとも１つからなる被膜であっても良い。このバリアー層は、厚み０．３〜３μｍの被膜であることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、バリアー層表面に形成される下地層は、乾式メッキ法により形成された、炭素原子含有量が５〜１５原子％の炭化チタン、炭化クロム、炭化ジルコニウム、炭化ハフニウム、炭化バナジウム、炭化ニオブ、炭化タングステンまたは炭化タンタルからなる金属化合物被膜であっても良い。この下地層の厚みは、０．０２〜０．２μｍの被膜であることが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また最外層の厚みは、０．００２〜０．１μｍであるが、好ましくは０．００５〜０．１μｍ、更に好ましくは０．０１〜０．０８μｍの被膜である。また、厚み０．２〜１．５μｍの耐摩耗層と厚み０．００２〜０．１μｍの最外層とから発色層が構成されていることを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明に係る白色被膜を有する装飾品の製造方法は、ステンレス鋼からなる基材表面に湿式メッキ法によりロジウム（Ｒｈ）、金（Ａｕ）またはクロム（Ｃｒ）からなるバリアー層を形成する工程と、該バリアー層表面に乾式メッキ法によりチタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ）、バナジウム（Ｖ）、ニオブ（Ｎｂ）またはタンタル（Ｔａ）からなる下地層を形成する工程と、該下地層の表面に乾式メッキ法により炭化チタン（ＴｉＣ）、炭化クロム（Ｃｒ3Ｃ2）、炭化ジルコニウム（ＺｒＣ）、炭化ハフニウム（ＨｆＣ）、炭化バナジウム（ＶＣ）、炭化ニオブ（ＮｂＣ）、炭化タングステン（ＷＣ）または炭化タンタル（ＴａＣ）からなる耐摩耗層を形成し、さらに該耐摩耗層の表面に乾式メッキ法によりプラチナ（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）またはロジウム（Ｒｈ）、プラチナ合金、パラジウム合金、ロジウム合金からなる最外層を形成することを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、基材表面に、前記バリアー層として、ロジウム合金、パラジウム合金、プラチナ合金、銅合金、金合金の中の少なくとも１つからなる被膜を湿式メッキ法により形成しても良い。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、装飾品用基材のバリアー層表面に、前記下地層として、炭素原子含有量が５〜１５原子％の炭化チタン、炭化クロム、炭化ジルコニウム、炭化ハフニウム、炭化バナジウム、炭化ニオブ、炭化タングステンまたは炭化タンタルからなる金属化合物被膜を乾式メッキ法により形成しても良い。また、装飾品用基材のバリアー層表面に、前記下地層として、厚み０．０２〜０．２μｍの被膜を乾式メッキ法により形成すると良い。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
また、耐摩耗層の厚みは通常０．２〜１．５μｍであるが、好ましくは０．５〜１．０μｍで形成すると良い。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、最外層の厚みは、０．００２〜０．１μｍで形成すると良い。