【手続補正書】
【提出日】平成20年2月21日(2008.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
標的とする皮膚構造体を電磁気による非侵襲的な治療を施すことにより引き起こされる痛みを軽減又は防止するための装置において、該装置が、
ａ）皮膚標的に配置される真空チャンバであって、該真空チャンバの遠位端に開口が形成され、非侵襲的な高強度パルス電磁気エネルギが、前記真空チャンバを通って伝達されて前記皮膚標的に向けられるようになっている、真空チャンバと、
ｂ）前記真空チャンバを真空引きするための真空適用手段と、
ｃ）真空適用モードの間、真空チャンバ内への空気の流入を防止するための手段と、
ｄ）真空開放モードの間、真空を開放するための手段と
を含み、
前記真空チャンバの真空度の範囲が、約５００ｍｍＨｇ〜約０ｍｍＨｇであり、
前記真空によって生じる近位方向への力が、前記皮膚標的を前記真空チャンバに引き込み、前記皮膚標的が前記真空チャンバの表面に押し付けられるために適切な大きさであり、
それにより、前記電磁気エネルギによる治療の間に、前記押し付けられた皮膚標的に発生する痛み信号が軽減又は防止されるようになっている、装置。
【請求項２】
前記皮膚標的に押し付けられる前記表面が、前記真空チャンバの近位端に設けられた伝達要素であり、前記伝達要素は、電磁気エネルギ源により発生される前記電磁気エネルギに対して透明又は半透明であり、前記皮膚標的に隣接する皮膚表面と前記伝達要素との間隙、および前記真空によって生じる近位方向への力の大きさの組み合わせが、前記皮膚標的を前記真空チャンバに引き込み、前記皮膚標的が前記真空チャンバの表面に押し付けられるために適切である、請求項１に記載された装置。
【請求項３】
前記装置が、少なくとも前記真空適用手段および前記電磁気エネルギ源の動作を制御するための制御手段を含み、
前記制御手段は、前記真空適用手段の作動から約０．１秒〜約４秒の所定時間だけ遅れて前記電磁気エネルギ源を作動させるようになっており、
前記制御手段は、電子式手段、空気式手段、電気的手段、および光学手段から成る群から選択されて、前記前記真空適用手段および前記電磁気エネルギ源を固有の組み合わせの作動条件に設定するようになっている、請求項２に記載された装置。
【請求項４】
前記真空チャンバが、前記電磁気エネルギ源から取り外し可能になっている請求項２に記載された装置。
【請求項５】
前記真空適用手段が、真空ポンプ、および前記真空チャンバおよび前記真空ポンプと流体連通している導管を含む請求項３に記載された装置。
【請求項６】
前記電磁気エネルギ源が、高強度パルス光源、レーザ光源、高周波源、およびこれらの組み合わせを含む、請求項２に記載された装置。
【請求項７】
前記装置が、十分に真空引きされた前記真空チャンバが置かれた湿った前記皮膚標的を電磁気により非侵襲的治療することによって生じる痛みを軽減または防止するように作用し、前記皮膚標的が、ゲル、液体、又は気体を付加することにより湿らされている請求項５に記載された装置。
【請求項８】
前記ゲル又は前記液体が前記真空ポンプへ流れることを防止するための手段を更に含む請求項７に記載された装置。
【請求項９】
前記真空チャンバが、前記皮膚標的から、前記電磁気エネルギに曝されていない周辺皮膚領域に、血液を排出することを誘起するように構成されている請求項１に記載された装置。
【請求項１０】
前記伝達要素の表面積が、６００ｍｍ２よりも大きい請求項２に記載された装置。
【請求項１１】
前記皮膚標的に隣接する皮膚表面と前記伝達要素との間隙が、４ｍｍ未満である請求項２に記載された装置。
【請求項１２】
前期伝達要素が、光誘導体の表面である請求項２に記載された装置。
【請求項１３】
前記伝達要素が、サファイア、ガラス、プラスチック、および金属からなる群から選択される請求項２に記載された装置。
【請求項１４】
前記真空適用手段が、少なくとも１つの制御バルブを更に含み、前記制御手段が、前記真空ポンプ、前記少なくとも１つの制御バルブ、および前記電磁気エネルギ源の動作を制御するようになっている請求項５に記載された装置。
【請求項１５】
所望の光密度が前記皮膚標的に向けられていることを確認して、光密度が前記所望の光密度よりもかなり大きい場合に前記光源を停止させる手段を更に含む請求項１から請求項１４までのいずれか１項に記載された装置。
【請求項１６】
前記真空適用モードの間の前記真空チャンバ内への空気の流入が、制御弁及び制御回路により防止されるようになっている請求項１に記載された装置。
【請求項１７】
前記電磁気エネルギ源が光源であり、波長範囲が４００〜１８００ｎｍであり、光パルス持続時間が１０ナノ秒〜４秒であり、光エネルギ密度が約２〜約１５０Ｊ／ｃｍ２である請求項２に記載された装置。
【請求項１８】
前記真空チャンバが、前記皮膚標的に向かって内部を光が伝播する、近位方向に配置されたハンドピースに接続され、又は該ハンドピースに一体的に形成されており、
前記真空チャンバが、開口の形成された近位カバーを任意に有することができ、該カバーが、一体的に透明伝達要素を有するハンドピースに取付け可能である請求項２に記載された装置。
【請求項１９】
前記電磁気エネルギ源を前記真空チャンバのカバーに対して心合わせする手段を更に含む請求項４に記載された装置。
【請求項２０】
前記光源が、色素レーザ、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ、ダイオード・レーザ、アレキサンドライト・レーザ、ルビー・レーザ、Ｎｄ：ＹＡＧ倍周波数レーザ、Ｎｄ：ガラス・レーザ、及び高周波源と組み合わされた非干渉性高強度パルス光源からなる群から選択され、
前記光が、脱毛、コラーゲン収縮、光若返り治療、血管病変の治療、脂腺又は汗腺の治療、疣の治療、色素沈着病変の治療、損傷コラーゲンの治療、にきびの治療、疣の治療、ケロイドの治療、汗腺の治療、乾癬の治療に適しており、血管病変がブドウ酒様斑点、末梢血管拡張症、酒さ、クモ状血管腫からなる群から選択される請求項１７に記載された装置。
【請求項２１】
前記透明伝達要素が、前記皮膚標的に隣接する皮膚表面に対して実質的に垂直な方向に光を伝達することに適している請求項１７に記載された装置。
【請求項２２】
前記真空チャンバが、少なくとも１つの吸引開口を有し、前記皮膚標的に隣接する皮膚表面と真空チャンバ壁との間の周辺接触領域を封止するための枠を備え、前記真空チャンバは前記少なくとも１つの吸引開口を介して真空引きされるようになっている請求項１に記載された装置。
【請求項２３】
前記真空チャンバがＵ字形である請求項１に記載された装置。
【請求項２４】
前記光のパルス当たりの治療スポットの幅が５ｍｍよりも大きいか、または１５ｍｍ〜５０ｍｍの範囲である請求項１７に記載された装置。
【請求項２５】
前記真空ポンプが、蠕動ポンプ、空気ポンプ、ダイアフラムポンプ、およびピストンポンプからなる群から選択される請求項５に記載された装置。
【請求項２６】
前記制御弁が、光検出器による第２の信号の発生の後に開放され、該光検出器は、前記電磁気エネルギ源により発生され前記皮膚標的に向けられた光の終了を検知するように適合されており、それにより、大気圧の空気が前記真空チャンバに導入されるようになっており、前記第２の信号が前記真空適用手段を停止させることに適している請求項３に記載された装置。
【請求項２７】
前記伝達要素が平板状である請求項２に記載された装置。
【請求項２８】
前記制御手段が、前記光治療用ハンドピースに位置決めされた、指で押し下げることの可能なボタンによって作動するようになっている請求項３に記載された装置。
【請求項２９】
前記ゲルが前記真空適用手段に通過することを防止する手段が、トラップと、内部を通ってゲル及び空気が前記真空チャンバから前記トラップへと引き込まれる第１の導管と、内部を通って空気が前記トラップから前記真空ポンプへと引き込まれる第２の導管とを含み、
任意で、
前記第１及び第２の導管の入口のフィルタ、
開放中心領域を有する取外し可能な真空チャンバ上部であって、前記真空チャンバ上部を取り外すことによって、前記真空チャンバの内部に保持されているゲルが除去されるようになっている真空チャンバ上部と、該上部に取付けられた伝達要素と、真空チャンバ壁と、該真空チャンバ壁に垂直であり前記上部を支持するよう適切に寸法決めされた真空チャンバ・カバーと、前記上部を前記真空チャンバ・カバーに取外し可能に固定するために、対応する真空チャンバ壁に旋回可能に接続された複数の取付クリップ、
真空チャンバ壁を被覆する疎水性材料、
真空引きの際にゲル及び引き込まれた皮膚によって少なくとも１つの吸引開口が塞がれることを防ぐように、前記少なくとも１つの吸引開口が、真空チャンバ壁の遠位端の上方及び前記真空チャンバの中心線から十分に間隔を空けて配置されているように構成された真空チャンバ
からなる群から選択された手段を有する請求項８に記載された装置。
【請求項３０】
前記トラップが、前記ゲルの結合可能なイオン交換樹脂を内部に導入することに適している請求項２９に記載された装置。
【請求項３１】
前記真空チャンバ上部の前記開放中心領域が、溶解剤の挿入に適している請求項２９に記載された装置。
【請求項３２】
前記皮膚標的に電磁気による治療が施されたことを指示する手段を含む請求項１に記載された装置。
【請求項３３】
前記真空チャンバが、前記高周波源から発生されたエネルギを伝達するための少なくとも１つの電極を更に含む請求項６に記載された装置。
【請求項３４】
皮膚冷却手段をさらに含む請求項１から請求項３３までのいずれか１項に記載された装置。
【請求項３５】
前記真空チャンバが、血液及び／又は血管の濃度を前記皮膚標的の皮膚表面下の所定の深さ以内で増大させるのに適した少なくとも１つの支持要素を有する請求項１から請求項３４までのいずれか１項に記載された装置。
【請求項３６】
皮膚表面下の血管による光吸収の深さを制御するための装置において、
ａ）皮膚標的に配置され、遠位端に開口が形成され且つ近位端に伝達要素を備えた真空チャンバであって、前記伝達要素が、光源から前記皮膚標的に向けられた高強度パルス単色光又は非干渉光に対して透明又は半透明であり、前記皮膚標的に隣接する皮膚表面に実質的に垂直な方向に前記光を伝達することに適したものである真空チャンバと、
ｂ）前記真空チャンバを真空引きする真空適用手段であって、適用される真空度が、前記皮膚標的を前記開口を介して前記真空チャンバに引き込むことに適している真空適用手段と、
ｃ）前記皮膚標的の皮膚表面下の所定の深さ以内で血液及び／又は血管の濃度を増大させる手段であって、方向付けられた光の光エネルギが前記所定の深さ以内で吸収され、前記所定の深さに位置付けられた所定の皮膚構造体を熱で損傷させ又は治療するために適しており、前記濃度を増大させる手段が、真空を調節する手段を調整する真空調節手段を含む、前記濃度を増大させる手段と
を含む装置。
【請求項３７】
前記皮膚標的を、隣接する皮膚表面から約１ｍｍ引き込むことに適しており、前記隣接する皮膚表面から引き込まれる皮膚の最大の突出が、前記伝達要素によって制限されるようになっている請求項３６に記載された装置。
【請求項３８】
前記伝達手段が、前記隣接する皮膚表面から最大５０ｍｍの間隙で離隔され、前記皮膚標的が前記隣接する皮膚表面から最大２ｍｍだけ前記真空チャンバに引き込まれるようになっている請求項３７に記載された装置。
【請求項３９】
真空変調周波数が０．２Ｈｚ〜１００Ｈｚの範囲である請求項３６に記載された装置。
【請求項４０】
前記真空適用手段及び光源の動作を制御するための制御装置をさらに含み、
前記制御装置が、前記真空チャンバに連通する少なくとも１個の制御弁の動作を制御し、
前記制御装置が、真空引きから約１０ミリ秒〜約１秒の所定時間遅延して光を射出し、 前記制御装置が、前記真空を電子的に調節する請求項３６に記載された装置。
【請求項４１】
前記真空チャンバを真空引きする持続時間が２秒未満である請求項３６に記載された装置。
【請求項４２】
前記光源から放出される光が、４００ｎｍ〜１８００ｎｍの任意の波長域を有し、
色素レーザ装置から放出され且つ５８５ｎｍの波長を有する光で血管病変、ブドウ酒様斑点、末梢血管拡張症、酒さ、及びクモ状血管腫を治療するための治療エネルギ密度レベルが、５Ｊ／ｃｍ２〜１２Ｊ／ｃｍ２の範囲であり、
ダイオード・レーザ装置から放出され且つ９４０ｎｍの波長を有する光で血管病変、ブドウ酒様斑点、末梢血管拡張症、酒さ、及びクモ状血管腫を治療するための治療エネルギ密度レベルが、１０Ｊ／ｃｍ２〜３０Ｊ／ｃｍ２の範囲であり、
高強度パルス非干渉光装置から放出され且つ５７０ｎｍ〜９００ｎｍの波長を有する光で血管病変を治療するための治療エネルギ密度レベルが、５Ｊ／ｃｍ２〜２０Ｊ／ｃｍ２の範囲であり、
色素レーザ装置から放出され且つ５８５ｎｍの波長を有する光で光若返り治療を行うための治療エネルギ密度レベルが、１Ｊ／ｃｍ２〜４Ｊ／ｃｍ２の範囲であり、
高強度パルス非干渉光装置から放出され且つ５７０ｎｍ〜９００ｎｍの波長を有する光で光若返り治療を行うための治療エネルギー密度レベルが、５Ｊ／ｃｍ２〜２０Ｊ／ｃｍ２の範囲であり、
高強度パルス非干渉光装置から放出され且つ５７０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲の波長を有する光と高周波源とを併せた作用で光若返り治療を行うための治療エネルギー密度レベルが、高強度パルス非干渉光装置と高周波源との両方について約１０Ｊ／ｃｍ２であり、
Ｎｄ：ＹＡＧレーザ装置から放出され且つ１６０４ｎｍの波長を有する光で脱毛するための治療エネルギー密度レベルが、２５Ｊ／ｃｍ２〜３５Ｊ／ｃｍ２の範囲であり、
４２０ｎｍ、５８５ｎｍ、又は６３０ｎｍの波長を有する光放射ダイオードから放出された光により、ポルフィリン光線力学療法を行うための治療エネルギー密度レベルが、５〜２０Ｊ／ｃｍ２の範囲である請求項３６に記載された装置。
【請求項４３】
０．２ＭＨｚ〜１０ＭＨｚの周波数の適切な電磁波を前記皮膚標的に送出するためのパルス高周波（ＲＦ）源をさらに含み、
前記ＲＦ源が、ワイヤ及び電極を介して前記皮膚表面に印加される交流電圧を発生する２極ＲＦ発生器、または単極ＲＦ発生器であり、
前記制御装置が、前記少なくとも１個の制御弁に第１の指令パルスを伝達し、前記光源およびＲＦ源の両方に第２の指令パルスを伝達することに適している請求項４０に記載された装置。
【請求項４４】
前記真空適用手段によって誘発される皮膚の発赤の程度の測定に適している紅斑センサをさらに含み、
前記制御装置が、前記紅斑センサの出力に応答して、光源から放出される光のエネルギ密度を前記光源の作動前に制御することに適している請求項４０に記載された装置。
【請求項４５】
前記皮膚標的に向けられた光の終了を検知するための光検出器を更に含み、
前記制御装置が、前記光検出器から発信された信号に対して前記制御弁を調整して、大気圧空気を前記真空チャンバの中に導入することに適している請求項４０に記載された装置。
【請求項４６】
前記皮膚標的での表皮の温度上昇率を下げるよう適合された請求項３６から請求項４５までのいずれか１項に記載された装置。
【請求項４７】
皮膚冷却ゲルが前記真空適用手段へ通過することを防止する手段をさらに含む請求項３６から請求項４６までのいずれか１項に記載された装置。
【請求項４８】
前記真空チャンバが、治療用光ハンドピースに取り外し可能に取り付けられている請求項４４から請求項４７までのいずれか１項に記載された装置。
【請求項４９】
痛みのない脱毛方法において、
（ａ）選択した皮膚領域の上方に伝達要素を配置する段階と、
（ｂ）前記皮膚領域にわたって十分な真空引きを行うことによって、前記皮膚領域が前記伝達要素に対して押し付けられるようにさせる段階と、
（ｃ）脱毛に適した電磁気エネルギ源から非侵襲的な高強度パルス電磁気エネルギを発生させて、前記伝達要素を通って前記押し付けられた皮膚に向けさせて、それにより、前記伝達要素に前記皮膚領域を押し付けることにより、前記脱毛処理の間に神経系統により発生する痛み信号を抑制する、脱毛方法。