【手続補正書】
【提出日】平成20年3月3日(2008.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  荷電粒子線露光装置であって、
荷電粒子線を放射する荷電粒子線源と、
複数の電子レンズを有し、該複数の電子レンズにより前記荷電粒子線源の中間像を複数形成する電子光学系アレイと、
前記電子光学系アレイによって形成される複数の中間像を基板上に投影する投影電子光学系と、
を備え、前記電子光学系アレイは、
前記複数の中間像に係る複数の荷電粒子線の経路に沿って配置され、各々前記複数の荷電粒子線の経路に複数の開口を有する複数の電極構造体を備え、
前記複数の電極構造体の少なくとも１つの電極構造体は、
前記複数の荷電粒子線を各々通すための複数の開口を有する基板と、
前記複数の開口の側面から前記複数の開口の周辺に向かって延びる複数の電極と、
を備え、前記基板は、少なくとも表面が絶縁性を有することを特徴とする荷電粒子線露光装置。
【請求項２】  前記基板は、表面に絶縁膜を有することを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項３】  前記基板の少なくとも２つの開口について設けられた前記電極が互いに電気的に接続されていることを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項４】  前記複数の電極構造体の複数の開口は行列状に配列されており、前記基板の各列について設けられた前記電極が互いに電気的に接続されていることを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項５】  前記複数の電極構造体は、シールド電極構造体を含むことを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項６】  前記複数の電極構造体は、各々、前記複数の開口を有するメンブレン部と、該メンブレン部を支持する支持部とを有し、
前記電子光学系アレイは、隣り合う前記電極構造体の支持部の間に、該支持部の間の距離を規定するスペーサを更に備えることを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項７】  前記複数の電極構造体は、各々、前記複数の開口が形成されたメンブレン部と、該メンブレン部を支持する支持部とを有し、
前記電子光学系アレイは、隣り合う前記電極構造体のメンブレン部の間に、該メンブレン部の間の距離を規定するスペーサを更に備えることを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項８】  前記複数の電極構造体は、各々、前記複数の開口を有するメンブレン部と、該メンブレン部を支持する支持部とを有し、
前記電子光学系アレイは、
隣り合う前記電極構造体の支持部の間に配置され、該支持部の間の距離を規定する第１のスペーサと、
隣り合う前記電極構造体のメンブレン部の間に配置され、該メンブレン部の間の距離を規定する第２のスペーサと、
を更に備えることを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子線露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】荷電粒子線露光装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子ビーム等の荷電粒子線を利用する荷電粒子線露光装置に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、荷電粒子線露光装置に係り、前記荷電粒子線露光装置は、荷電粒子線を放射する荷電粒子線源と、複数の電子レンズを有し、該複数の電子レンズにより前記荷電粒子線源の中間像を複数形成する電子光学系アレイと、前記電子光学系アレイによって形成される複数の中間像を基板上に投影する投影電子光学系とを備え、前記電子光学系アレイは、前記複数の中間像に係る複数の荷電粒子線の経路に沿って配置され、各々前記複数の荷電粒子線の経路に複数の開口を有する複数の電極構造体を備え、前記複数の電極構造体の少なくとも１つの電極構造体は、前記複数の荷電粒子線を各々通すための複数の開口を有する基板と、前記複数の開口の側面から前記複数の開口の周辺に向かって延びる複数の電極とを備え、前記基板は、少なくとも表面が絶縁性を有する。
その他、明細書に記載された発明の第１の側面は、複数の電子レンズを有する電子光学系アレイの構成部品としての電極構造体に係り、複数の荷電粒子線を各々通すための複数の開口が形成された基板と、前記複数の開口の側面から前記複数の開口の周辺に向かって延びる複数の電極とを備える。前記基板は、少なくとも表面が絶縁性を有する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
その他、明細書に記載された発明の第２の側面は、複数の電子レンズを有する電子光学系アレイに係り、複数の荷電粒子線の経路に沿って配置され、各々前記複数の荷電粒子線の経路上に複数の開口を有する複数の電極構造体を備える。前記複数の電極構造体の少なくとも１つの電極構造体は、前記複数の荷電粒子線を各々通すための複数の開口を有する基板と、前記複数の開口の側面から前記複数の開口の周辺に向かって延びる複数の電極とを備え、前記基板は、少なくとも表面が絶縁性を有する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
その他、明細書に記載された発明の第３の側面は、複数の電子レンズを有する電子光学系の構成部品としての電極構造体の製造方法に係り、基板に、複数の荷電粒子線を各々通すための複数の開口を形成する工程と、複数の開口が形成された前記基板を絶縁膜で覆う工程と、絶縁膜で覆われた前記基板に、前記複数の開口の側面から前記複数の開口の周辺に向かって延びる複数の電極を形成する工程とを含む。ここで、前記基板はシリコン基板であることが好ましく、前記複数の開口を形成する工程では、プラズマドライエッチング法により前記シリコン基板に複数の開口を形成することが好ましい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
その他、明細書に記載された発明の第５の側面は、デバイスの製造方法に係り、荷電粒子線露光装置を含む複数の半導体製造装置を工場に設置する工程と、前記複数の半導体製造装置を用いて半導体デバイスを製造する工程とを含む。ここで、前記荷電粒子線露光装置は、荷電粒子線を放射する荷電粒子線源と、複数の電子レンズを有し、該複数の電子レンズにより前記荷電粒子線源の中間像を複数形成する電子光学系アレイと、前記電子光学系アレイによって形成される複数の中間像を基板上に投影する投影電子光学系とを備える。そして、前記電子光学系アレイは、前記複数の中間像に係る複数の荷電粒子線の経路に沿って配置され各々前記複数の荷電粒子線の経路上に複数の開口を有する複数の電極構造体を備える。前記複数の電極構造体の少なくとも１つの電極構造体は、前記複数の荷電粒子線を各々通すための複数の開口を有する基板と、前記複数の開口の側面から前記複数の開口の周辺に向かって延びる複数の電極とを備え、前記基板は、少なくとも表面が絶縁性を有する。この製造方法は、前記複数の半導体製造装置をローカルエリアネットワークで接続する工程と、前記ローカルエリアネットワークと前記工場外の外部ネットワークとを接続する工程と、前記ローカルエリアネットワーク及び前記外部ネットワークを利用して、前記外部ネットワーク上のデータベースから前記荷電粒子線露光装置に関する情報を取得する工程と、取得した情報に基づいて前記荷電粒子線露光装置を制御する工程とを更に含むことが好ましい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
その他、明細書に記載された発明の第６の側面は、半導体製造工場に係り、荷電粒子線露光装置を含む複数の半導体製造装置と、前記複数の半導体製造装置を接続するローカルエリアネットワークと、前記ローカルエリアネットワークと前記半導体製造工場外の外部ネットワークとを接続するゲートウェイとを備える。ここで、前記荷電粒子線露光装置は、荷電粒子線を放射する荷電粒子線源と、複数の電子レンズを有し、該複数の電子レンズにより前記荷電粒子線源の中間像を複数形成する電子光学系アレイと、前記電子光学系アレイによって形成される複数の中間像を基板上に投影する投影電子光学系とを備える。そして、前記電子光学系アレイは、前記複数の中間像に係る複数の荷電粒子線の経路に沿って配置され各々前記複数の荷電粒子線の経路上に複数の開口を有する複数の電極構造体を備える。前記複数の電極構造体の少なくとも１つの電極構造体は、前記複数の荷電粒子線を各々通すための複数の開口を有する基板と、前記複数の開口の側面から前記複数の開口の周辺に向かって延びる複数の電極とを備え、前記基板は、少なくとも表面が絶縁性を有する。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
その他、明細書に記載された発明の第７の側面は、荷電粒子線露光装置の保守方法に係り、荷電粒子線露光装置が設置された工場外の外部ネットワーク上に、該荷電粒子線露光装置の保守に関する情報を蓄積するデータベースを準備する工程と、前記工場内のローカルエリアネットワークに前記荷電粒子線露光装置を接続する工程と、前記外部ネットワーク及び前記ローカルエリアネットワークを利用して、前記データベースに蓄積された情報に基づいて前記荷電粒子線露光装置を保守する工程とを含む。ここで、前記荷電粒子線露光装置は、荷電粒子線を放射する荷電粒子線源と、複数の電子レンズを有し、該複数の電子レンズにより前記荷電粒子線源の中間像を複数形成する電子光学系アレイと、前記電子光学系アレイによって形成される複数の中間像を基板上に投影する投影電子光学系とを備える。そして、前記電子光学系アレイは、前記複数の中間像に係る複数の荷電粒子線の経路に沿って配置され、各々前記複数の荷電粒子線の経路上に複数の開口を有する複数の電極構造体を備える。前記複数の電極構造体の少なくとも１つの電極構造体は、前記複数の荷電粒子線を各々通すための複数の開口を有する基板と、前記複数の開口の側面から前記複数の開口の周辺に向かって延びる複数の電極とを備え、前記基板は、少なくとも表面が絶縁性を有する。