【手続補正書】
【提出日】平成20年11月5日(2008.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影放射ビームＰＢを供給するための放射システムＥｘ，ＩＬと、
マスクＭＡを保持するための第１対象物ホルダを備えた第１対象物台ＭＴと、
基板Ｗを保持するための第２対象物ホルダを備えた第２対象物台ＷＴと、
マスクＭＡの照射された部分を基板Ｗの目標部分Ｃの上に結像するための投影システムＰＬと
を含むリソグラフィ投影装置であって、
少なくとも前記第１および第２対象物台ＭＴ，ＷＴの１つが、投影システムＰＬに対して前記１つの対象物台を位置決めするための位置決め手段に接続されており、
装置はさらに、
支持された構造に連結された可動部材１０１と、
可動部材１０１がジャーナル軸受で支えられたハウジング９９であって、ジャーナル軸受によって可動部材１０１とハウジング９９との間で実質的に振動力が伝達されないようになっている、ハウジング９９と、
ガスが充填された圧力室１０３であって、圧力室１０３内のガスは、支持された構造の重量による力を少なくとも部分的に打ち消すように可動部材１０１に作用する、圧力室１０３と
を含む支持アセンブリを含み、
支持アセンブリは、可動部材１０１が実質的に静止しているときにはガスが圧力室１０３を経て実質的に流れないように構成され、配置されており、
支持アセンブリは、
圧力室１０３に隣接して可動部材１０１を少なくとも部分的に囲む、ガスが充填された第２圧力室１２２と、
圧力室１０３のガス圧を、可動部材１０１が実質的に静止しているときに第２圧力室１２２のガス圧とほぼ同じに維持するように、ガスを第２圧力室１２２に供給するための、ハウジング９９に設けられたガス供給路１２０と、
可動部材１０１とハウジング９９との間に形成された空気圧抵抗器として作用する絞り穴１２４をさらに含み、ガス供給路１２０からのガスが該絞り穴１２４を通過して圧力室１０３に供給される、
ことを特徴とするリソグラフィ投影装置。
【請求項２】
支持アセンブリが少なくとも１つのガスベアリング１１１をさらに含み、可動部材１０１が少なくとも１つのガスベアリング１１１へガスを供給するためにガス供給路１２０と流体連絡した流路１０５を含む、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項３】
位置決め手段が支持アセンブリを含み、支持された構造が対象物台ＭＴ，ＷＴの１つである、請求項１または２に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項４】
投影システムＰＬを支持するための計測学フレームと、
前記計測学フレームを支持するためのベースフレームであって、前記計測学フレームは支持アセンブリによって前記ベースフレームに対して支持され、支持された構造は前記計測学フレームである、ベースフレームと
をさらに含む請求項１または２に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項５】
支持された構造と連結された可動部材１０１と、
可動部材１０１がジャーナル軸受で支えられたハウジング９９であって、前記ジャーナル軸受によって可動部材１０１とハウジング９９との間で実質的に振動力が伝達されないようになっている、ハウジング９９と、
ガスが充填された圧力室１０３であって、圧力室１０３内のガスは、支持された構造の重量による力を少なくとも部分的に打ち消すように可動部材１０１に作用する、圧力室１０３と
を含む支持アセンブリであって、
前記支持アセンブリが、可動部材１０１が実質的に静止しているときにはガスが圧力室１０３を経て実質的に流れないように構成され、配置されており、
圧力室１０３に隣接して可動部材１０１を少なくとも部分的に囲む、ガスが充填された第２圧力室１２２と、
圧力室１０３のガス圧を、可動部材１０１が実質的に静止しているときに第２圧力室１２２のガス圧とほぼ同じに維持するように、ガスを第２圧力室１２２に供給するための、ハウジング９９に設けられたガス供給路１２０と、
可動部材１０１とハウジング９９との間に形成された空気圧抵抗器として作用する絞り穴１２４とをさらに含み、ガス供給路１２０からのガスが該絞り穴１２４を通過して圧力室１０３に供給される、
ことを特徴とする支持アセンブリ。
【請求項６】
投影放射ビームＰＢを供給するための放射システムＥＸ，ＩＬと、
マスクＭＡを保持するためのマスクホルダを備えた第１対象物台ＭＴと、
基板Ｗを保持するための基板ホルダを備えた第２対象物台ＷＴと、
マスクＭＡの照射された部分を基板Ｗの目標部分Ｃの上に結像するための投影システムＰＬと
を含むリソグラフィ投影装置を使用してデバイスを製造する方法において、
放射感受性材料層によって少なくとも部分的に覆われた基板Ｗを準備するステップと、
パターンを含むマスクＭＡを準備するステップと、
放射感受性材料層の目標部分Ｃの上にマスクパターンの少なくとも一部分の画像を投影するステップ
を含み、
支持された構造と連結された可動部材１０１を準備すること、
可動部材１０１がジャーナル軸受で支えられたハウジング９９であって、前記ジャーナル軸受によって可動部材１０１とハウジング９９との間で実質的に振動力が伝達されないようになっている、ハウジング９９を準備すること、
ガスが充填された圧力室１０３であって、圧力室１０３内のガスは、支持された構造の重量による力を少なくとも部分的に打ち消すように可動部材１０１に作用する、圧力室１０３を準備すること、
圧力室１０３にガスを供給すること、および
可動部材１０１が実質的に静止しているときにはガスが圧力室１０３を経て実質的に決して流れないようにすること
を特徴とし、且つ
圧力室１０３に隣接して可動部材１０１を少なくとも部分的に囲む、ガスが充填された第２圧力室１２２を準備するステップと、
圧力室１０３のガス圧を、可動部材１０１が実質的に静止しているときに第２圧力室１２２の圧力とほぼ同じに維持するように、ハウジング９９に設けられたガス供給路１２０からガスを第２圧力室１２２に供給するステップと、
圧力室１０３のガス圧を第２圧力室１２２のガス圧と実質的に必ず同一にさせるステップと、
可動部材１０１とハウジング９９との間に形成された空気圧抵抗器として作用する絞り穴１２４を通して、ガス供給路１２０からのガスを圧力室１０３に供給するステップと、
をさらに含むこと
を特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
圧力室１０３中の圧力は、圧力室ハウジングの外壁に形成されたガス供給路１１９によって維持される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
ガスベアリング１１１、１１３は、圧力室１０３に隣接してピストンを囲む第２圧力室１２２から流れるガスによって維持される。この第２圧力室１２２もまた、第２ガス供給路１２０（ガス供給路１１９とは分離している）によって供給され、圧力室１２２内の圧力を維持する。ガスベアリング１１１、１１３にガスを送り込む流路１０５は、ピストン１０１から第２圧力室１２２に半径方向外向きに出ており、第２圧力室１２２はこの実施形態ではピストン１０１内の環状凹部として形成され、さらにハウジング９９によって閉ざされている。第２圧力室１２２の高さは、第２圧力室がピストン１０１の実質的にすべての動作位置においてハウジング内に形成された第２ガス供給路１２０からの出口と流体連絡するように、選択される。使用中は、ガスはガス供給路１１９を通じて圧力室１０３に供給され、ピストン１０１を支持するために圧力室１０３内の所定の圧力を維持する。さらにガスが第２ガス供給路１２０を通って第２圧力室１２２へ供給され、したがって流路１０５へ供給される。このガス供給は、ガスベアリング１１１、１１３へ供給するため、および第２圧力室１２２内の圧力を圧力室１０３内の圧力とほぼ同一に維持するために使用される。圧力室１０３内の圧力は個別のガス供給路１１９によって維持され、こうしてガスベアリング１１１、１３３へ流れるガスの効果から隔離され、圧力変動を減らすことになる。したがって、圧力室１０３によって供給される静的力に影響することなくガスベアリング１１１、１１３を通過することは、非定常ガス流にとって可能である。この代わりに、ガスベアリング１１１、１３３のための非定常ガス流は第２ガス供給路１２０によって供給されるので、ピストンが静止しているときには、非定常流がガスベアリング１１１、１３３を通じて流れているときでも室１０３を通るガス流はない。第２圧力室１２２および流路１０５における圧力の変動はピストン１０１の反対対称表面に作用し、したがってピストンに正味力を行使しない。圧力室１０３と第２圧力室１２２における同一の圧力は、ガスがピストン１０１に沿って室１０３から逸出することを防止する。したがって、第２圧力室１２２は圧力室１０３にとってのシールとして作用する。実験によって、圧力室１０３における流れによって誘導される圧力変動は少なくとも１００分の１に減少することを示している。ピストン１０１とそのハウジング９９との間には物理的接触がなく、振動の伝達を防止するか、または支持アセンブリの非常に低い剛性を向上させる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
図４に見ることができるように、圧力室１０３はガス供給路１１９によって供給され、流路１０５は第２ガス供給路１２０によって供給される。したがって、ガスベアリング１１１、１３３へのガス供給は圧力室１０３へのガス供給とは無関係である。したがって、ガスベアリングにおけるガス流の変動は供給源１２０を流れるガスのみに影響し、ガス供給路１１９を流れるガスには影響しない。したがって、ガスベアリングを通る流れが変化しても、圧力室１０３中の圧力はほぼ一定に保たれ、第２部分６５とピストン１０１の重量による重力を打ち消すために静的力が提供される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
圧縮空気は室３０３から直接に第２ガス供給路１２０に、また空気圧抵抗体３０６を経てガス供給路１１９に送られる。空気圧調整器３０６は流量の関数として圧力低下を発生させ、圧力低下はほぼ静止状態では事実上ゼロである。空気圧抵抗体は、長い毛細管などの摩擦抵抗またはオリフィスなどの慣性抵抗になることもある。プレチャンバ３０３からの空気は管状物３０５を経て圧力室１０３に送られ、管状物３０５はできるだけ短く円滑に作られ、曲り角、縁部、およびその他の乱流を起こす性質が最小であることが好ましい（線図は単に概略的に示したもの）。この配置は、抵抗キャパシタンス回路の等価物を提供し、調整器の出口における残留高周波圧力じょう乱をさらに減少するための低域フィルタを形成する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
実施形態２
図５は、図４のものに類似のガスシリンダを示すが、圧力室１０３へのガスの供給が変更されている。ガス供給路１１９とは完全に分離してガスベアリング１１１へガスが供給される代わりに、第２圧力室１２２からの送りによって圧力室１０３に供給することによって同じ効果を達成することができる。これは、ガスベアリング供給ガスの一部分を、ピストン１０１の外側と第１部分９９の内側との間に形成された（空気圧抵抗器として作用する）絞り穴１２４を通過させることによって達成される。したがって、図４の実施形態における場合と同じ方法で、ガスは第２ガス供給路１２０の中をガスベアリングの方へ流れる。しかしガスは、ピストン１０１の外側縁部とハウジング９９の内壁１１３との間の円筒状ギャップによって形成された小さな絞り穴１２４を通じて移動することができ、図４によるガス供給路１１９にとって替わる圧力室１０３に供給される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
図７は、図５に示すハウジングの底部分を拡大した図である。空気供給源３０１、調整弁３０２、および大容積プレチャンバ３０３は図６に関連して説明したものとほぼ同じである。しかしながら、この実施形態では、ハウジング９９の中に形成された第２ガス供給路１２０へガスを供給するために単一管を使用する。矢印で示すように、ガス流は、ガスの一部分が流路１０５に流れてガスベアリング１１１、１３５に供給され、一方残りの流れは圧力室１０３に供給するために使用されるように分裂する。この残りの流れが通るギャップ１２４は、図６における抵抗器３０６と等価の空気圧抵抗器として作用するためには十分に小さく、これは流量に比例する圧力低下を引き起こす。これは、圧力室１０３の中に維持された圧力をさらに安定化させるのに役立つ。この配置は、圧力室への個別のガス供給路１１９の必要を回避するので有利である。空気圧抵抗器１２４は、ガスベアリング１１１、１３５を通じて流れに差をつけることによって生ずる流れの変動から圧力室を隔離するために役立つ。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
ＡＭ  調節手段
ＢＦ  ベースフレーム
Ｃ  目標部分
ＣＯ  集光レンズ
Ｅｘ  放射システム
Ｆｘ  Ｘ方向に平行なローレンツ力
Ｆｙ  Ｙ方向に平行なローレンツ力
ＩＬ  放射システム（レンズ、照明器）
ＩＮ  積分器
ＬＡ  放射源
ＭＡ  マスク
ＭＦ  計測学フレーム
ＭＴ  第１対象物台（マスク台）
Ｍｘ  第１回転軸７３の周りのローレンツ力トルク
Ｍｙ  第２回転軸７５の周りのローレンツ力トルク
ＰＢ  投影ビーム
ＰＬ  投影システム、品目（レンズ）
ＷＴ  第２対象物台（基板台）
３  位置決め装置
５  基板ホルダ
９  位置決め装置
２１  駆動ユニット
３３  リニアＸモータ
３５  リニアＸモータ
３９  固定子
４１  固定子
４３  変換機構
４５  変換機構
４７  リニアＹモータ
４９  固定子
５１  変換機構
５３  第１端部
５５  第２端部
５７  第１部分
５９  エアフート
６３  結合部材
６５  第２部分
６７  支持ユニット
６９  支持ユニット
７１  支持ユニット
７３  第１回転軸
７５  第２回転軸
７７  第３回転軸
７９  ローレンツ力モータ、永久磁石システム
８１  ローレンツ力モータ、電気コイルシステム
８３  ローレンツ力モータ
８５  ローレンツ力モータ
８７  ローレンツ力モータ
８９  永久磁石
９５  電気コイル
９７  ガスシリンダ
９９  ハウジング
１０１  ピストン
１０３  ガスが充填された圧力室、支持容積
１０５  ガス流路
１０９  側部流路
１１１  静的ガスベアリング
１１３  ハウジング内壁
１１６  底壁
１１９  ガス供給路
１２０  第２ガス供給路
１２２  第２圧力室
１２３  確保部材
１２４  ギャップ
１２５  支持表面
１２７  中間部材
１３１  ガイド表面
１３３  別の静的ガスベアリング
１３５  側部流路
３０１  ポンプ式供給源
３０２  調整弁
３０３  プレチャンバ
３０５  管状物
３０６  空気圧調整器