(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応性シリコーン処理シリカと反応性アクリルモノマーとの混合物、またはアクリル多官能モノマーとエポキシモノマーとの混合物の１または２以上から得られる樹脂からなる保護層が、吸着面に形成されてなることを特徴とする静電チャック装置。
【請求項２】
前記保護層が、紫外線により硬化形成されることを特徴とする請求項１記載の静電チャック装置。
【請求項３】
前記保護層の厚さが、０．５〜１０μｍであることを特徴とする請求項１または請求項２記載の静電チャック装置。
【請求項４】
前記反応性シリコーン処理シリカに含有されるシリカの粒径が、０．００５〜０．１５ミクロンであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の静電チャック装置。
【請求項５】
前記反応性シリコーン処理シリカに含有されるシリカが、保護層に０．１〜５０質量％の割合で含有されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の静電チャック装置。
【請求項６】
さらに絶縁層を有しており、その絶縁層がポリイミドフィルムからなる層であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の静電チャック装置。
【請求項７】
被吸着物を積載する面である、反応性シリコーン処理シリカと反応性アクリルモノマーとの混合物、またはアクリル多官能モノマーとエポキシモノマーとの混合物の１または２以上から得られる樹脂からなる保護層と、第２絶縁層と、第２接着層と、電極層と、第１接着層と、第１絶縁層と、第３接着層とが順次積層してなることを特徴とする静電チャック装置用シート。
【請求項８】
被吸着物を積載する面である、反応性シリコーン処理シリカと反応性アクリルモノマーとの混合物、またはアクリル多官能モノマーとエポキシモノマーとの混合物の１または２以上から得られる樹脂からなる保護層と、絶縁層と、金属の蒸着膜およびメッキ膜からなるグループから選択される少なくとも一の膜からなる電極層と、接着層とが順次積層してなることを特徴とする静電チャック装置用シート。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、特に耐摩耗性や耐損傷性に優れた静電チャック装置用シート、およびそのシートを具備してなる静電チャック装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、半導体ウェーハの処理プロセスでは、処理を受けるウェーハを固定するためにウェーハチャック装置が使用されている。従来、ウェーハチャック装置としては、ウェーハの外周部を爪で係止する機械式チャック装置も使用されているが、ウェーハの裏面とチャック装置本体との密着性が十分に確保しにくいため、隙間が生じてウェーハからの熱がチャック装置本体に逃げ難かった。このため、プロセス中の温度管理がしにくく、熱的に不安定になる欠点があった。
【０００３】
また、外周部を覆う爪が陰を生じて、処理が均一に行えない。爪に起因してウェーハに割れが生じたり、ゴミが発生する問題もあった。
【０００４】
また、最近はウェーハが大型化する傾向があり、最大１２インチ程度のものも出回り始めた。このようにウェーハが大型化すると、ますます機械式チャック装置で固定することにより問題が顕著となる。
【０００５】
そこで最近では、静電気を用いてウェーハ裏面を均一に吸着できる静電チャック装置が普及し始めている。
【０００６】
たとえば、特開平８−１４８５４９号公報には、静電チャック装置の吸着面（台座面）にポリイミド樹脂からなるポリイミド層が形成されてなる装置が開示されている。この装置は、ポリイミド樹脂が有する特性から、絶縁性、均一な膜厚、ウェーハに対する密着性に優れ、製造しやすい等の利点を有している。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、このポリイミド層は、ウェーハプロセス中にプラズマによるドライエッチングや各種反応を受けて徐々に消耗および劣化しやすく、取り扱い時等に傷が生じて比較的短期間で静電チャック装置の絶縁性が悪化したり、真空中で壊れやすく、耐久性が悪く、寿命が短い問題があった。
【０００８】
さらに、静電チャック装置用シートの作成時のハンドリングおよび該シートの基盤への装着によりポリイミド層に傷を付けやすいという製造上の問題もあった。このように絶縁層またはポリイミド層に微小な欠陥が生じると、そこにプラズマの電荷が集中してさらに欠陥を深める作用がある。ハンドリングによりポリイミド層に傷をつけることはよくあり、このため歩留まりが悪かった。
【０００９】
このような傷を防ぎ、生産性および耐久性を高めることを目的として種々の発明がなされている。
具体的には、特開平８−２６４５５０号公報には、熱分解窒化硼素からなる吸着面に硬質セラミックスの保護層が形成されてなる静電チャック装置が開示されている。この装置は、硬質セラミックスが有する特性から、吸着面の損耗を押さえることはできるが、セラミックスで極めて平坦な面をだすことは難しいため製造コストが高いという欠点を有している。
【００１０】
また、特開平２−２７７４８号公報には、第１の絶縁層、第１接着層、電極層、第２の接着層、および絶縁層からなる静電チャック装置用シートと、該絶縁層と、接着層とに硬質フィラーを添加する技術が開示されている。しかしながら、この技術によってもポリイミド層の耐久性を十分に改善するには至らなかった。
【００１１】
さらに、特開平７−３３５７３２号公報には、樹脂シート上にセラミックコーティングを形成する技術が記載されているが、セラミックスコーティングの蒸着形成には費用がかかる問題があった。また、樹脂とセラミックスとの密着性が悪い場合があった。
【００１２】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、信頼性が高く長寿命で、しかも製造コストが安い静電チャック装置用シート、およびそれを具備してなる静電チャック装置を提供することを課題としている。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明は、反応性シリコーン処理シリカと反応性アクリルモノマーとの混合物、またはアクリル多官能モノマーとエポキシモノマーとの混合物の１または２以上から得られる樹脂からなる保護層が、吸着面に形成されてなることを特徴とする静電チャック装置により上記課題を解決した。
【００１４】
また、本発明は、被吸着物を積載する面である、反応性シリコーン処理シリカと反応性アクリルモノマーとの混合物、またはアクリル多官能モノマーとエポキシモノマーとの混合物の１または２以上から得られる樹脂からなる保護層と、第２絶縁層と、第２接着層と、電極層と、第１接着層と、第１絶縁層と、第３接着層とが順次積層してなることを特徴とする静電チャック装置用シートにより上記課題を解決した。
【００１５】
さらに、本発明は、被吸着物を積載する面である、反応性シリコーン処理シリカと反応性アクリルモノマーとの混合物、またはアクリル多官能モノマーとエポキシモノマーとの混合物の１または２以上から得られる樹脂からなる保護層と、絶縁層と、金属の蒸着膜またはメッキ膜からなる電極層と、接着層とが順次積層してなることを特徴とする静電チャック装置用シートにより上記課題を解決した。
【００１６】
【発明の実施の形態】
上述したように、本発明に係る保護層はシリコーン系樹脂、エポキシ系樹脂、またはアクリル系樹脂で形成されている。これらの樹脂は単体で使用されてもよく、２種以上を混合して使用することもできる。
【００１７】
プラスチックのハードコート剤としては、その他にメラミン系樹脂、イミド系樹脂等を挙げることができるが、これらの樹脂と比較してシリコーン系樹脂、エポキシ系樹脂、またはアクリル系樹脂は、絶縁層、特にポリイミドフィルムとの密着性が良好であるため、静電チャック装置の保護層をなす樹脂として好ましい。
【００１８】
上記保護層をなすシリコーン系樹脂は、ＵＶ・ＥＢ硬化性シリコーン樹脂と、熱硬化性シリコーン樹脂と、常温硬化性シリコーン樹脂とに大別される。
本発明の静電チャック装置および静電チャック装置用シートにおいては、いずれのシリコーン樹脂も使用することができる。
しかしながら、コーティング作業性を考慮すると、ＵＶ・ＥＢ硬化性シリコーン樹脂がより好ましい。
その中でも、ＵＶ硬化性樹脂は、使用するＵＶ照射装置が小型で安価であるため、より好ましい。通常、保護層は０．５〜１０μｍ、好ましくは１〜５μｍの薄膜であるため、ＵＶ照射により、常温、短時間で充分硬化させることができる。
【００１９】
ＵＶ硬化性シリコーン樹脂としては、アクリル変性シリコーン、好ましくはシリカ表面をアクリル変性シロキサンでカップリング処理し、該シリカとアクリル等のビニル基を含有する反応性モノマー、オリゴマーと共に用いるＵＶ硬化性シリコーン系樹脂である、東芝シリコーン社製のＵＶＨＣ−１１０１，１１０３、１１０５等を例示できる。
【００２０】
また、熱硬化性シリコーン樹脂を使用する場合には、１００〜１８０℃に加熱することにより、硬化できる。
熱硬化性シリコーン樹脂としては、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン等のオルガノアルコキシシラン等を例示できる。
【００２１】
さらに、常温硬化型樹脂を使用する場合には、塗工するのみで、特別な硬化処理を施すことなく、保護層を得ることができる。
当該常温硬化型樹脂としては、例えば、室温硬化型レジン系コーティング剤、および室温硬化型シリコーンゴムを例示することができる。
上記レジン系コーティング剤は、主に加水分解反応を伴う脱アルコールまたは脱オキシム反応により、容易に硬化する。商品名ＳＲ２４１０、２４１１等（トーレダウコーニング社製）、ＳＥ９１４０、ＳＨ７８０、ＳＨ９５５１、ＳＨ１８４０等（東レシリコーン社製）を例示できる。
一方、上記シリコーン樹脂は、空気中の水分、または硬化剤によって、室温で硬化反応が進行してゴム弾性体となる。
【００２２】
エポキシ系樹脂としては、１分子中にエポキシ基を２個以上有するモノマー、オリゴマー、またはエポキシ（メタ）アクリレート等を例示できる。
【００２３】
また、アクリル系樹脂としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の多官能オリゴエステルアクリレート、アクリレートモノマーまたはオリゴマー等を例示できる。
【００２４】
上述したように、保護層の厚さは、０．５〜１０μｍであり、好ましくは１〜５μｍである。
０．５μｍより薄いと、保護層としての役割を果たすことができず、逆に１０μｍより厚いと、硬化時間がかかる、熱伝導性が低下する、および絶縁層がカールしてしまう等の不都合が生じるため、好ましくない。
【００２５】
上記樹脂を含有してなる保護層は、さらにシリカ、特にコロイダルシリカを含有していることが好ましい。
コロイダルシリカが含有されてなる保護層は、耐摩耗性がより改善されるため、シート製造時の取り扱いにおけるシートへの損傷、およびプラズマ照射した場合のプラズマによるシート損傷等という不都合を防止できる。
【００２６】
コロイダルシリカの中でも、０．００５〜０．１５ミクロンの大きさのものが好ましい。０．００５ミクロンより小さいと、凝集粉が多くなり、逆に０．１５ミクロンより大きいと、保護層表面に露出しやすくなるため、好ましくない。
【００２７】
また、シリカは、保護層に０．１〜５０質量％の割合で添加されていることが好ましく、１〜４０質量％がより好ましく、さらに５〜３０質量％が最も好ましい。
０．１質量％より少ないと、保護層に充分な耐摩耗性を付与することができず、逆に、５０質量％より多いと、保護層表面に露出しやすくなるため、好ましくない。
【００２８】
さらに、シリカは樹脂中に単に分散しているのではなく、シリコーン系樹脂、エポキシ系樹脂、またはアクリル系樹脂とカップリングしていることが好ましい。その中でも、図１に示すように、シリカ表面のＯＨ基を、ビニル基を有するシラン（アクリルシラン）でカップリングし、ビニル基でアクリルオリゴマーと重合して硬化させた形態が最も好ましい。
なお、上記形態において、シリカと、アクリルシランとは、図２に示すように反応している。
【００２９】
単に分散している状態では、凝集粉が多いため、プラズマ照射された場合に、分散しているシリカがそのプラズマの影響を受けて絶縁破壊を起こしやすい。これに対して、両者がカップリングしている状態では、一次径で均一に分散しやすいため、シリカがプラズマの影響を受けにくく、その結果、劣化しにくいからである。
【００３０】
また、本発明の静電チャック装置は、図３に示すように、金属基盤１と、接着層２と、その上に設けられた電極層３と、さらにその上に設けられた電気絶縁層４と、保護層とを具備していることが好ましい。
【００３１】
上記金属基盤１は、銅、アルミニウム等の熱伝導性のより金属で作製されており、恒温水等を通して温度調節するための温度調整用空間が設けられていてもよい（図示せず）。
また、金属製の表面をアルマイト加工、テフロン加工、またはセラミック加工されているものが好ましい。
【００３２】
上記接着剤層２は、絶縁層としても機能するものであり、その上に設けられる電気絶縁層４、金属基盤１、または電極層３のそれぞれに対する接着力と、電気特性と、耐熱性とに優れた特性を有することが望まれる。
【００３３】
たとえば、熱硬化型接着剤、２液硬化型接着剤等により形成することができる。
より具体的には、エポキシ系、ポリイミド系、変性ポリアミド系、ゴム系、ポリアミドイミド系、ポリエステル系の接着剤を使用することができる。これら例示した接着剤は、単独でも使用できるし、また混合して使用することもできる。
【００３４】
上記電極層３は、ウェーハを台座に載置する前に分極電荷を発生させるためのものである。金属箔のラミネート、または金属蒸着あるいは金属メッキしたプラスチックシートを用い、金属基盤１のピン穴等に合致するパターンを形成することによって形成することができる。そのパターンとしては、例えば、図４に示した電極パターン１３を挙げることができる。
なお、図４において、参照番号２３はウェーハを上下するピン穴を示す。
【００３５】
電極３をなす金属としては、銅、アルミニウム、錫、ニッケル、クロム等を使用することができるが、安定した導電性と加工性とが得られれば、特に限定されない。
【００３６】
電気絶縁層４としては、耐電圧特性の優れた高耐熱性プラスチックフィルムを使用することが好ましい。また、印加電圧に耐えると同時に、できる限り薄いことが好ましい。できる限り薄く形成することにより、装置に載置されるウェーハと、静電チャック装置との間の静電吸着性を向上させることができるからである。
具体的には、５〜７５μｍの厚さを有するポリイミドフィルムが好ましい。
【００３７】
ポリイミドフィルムとしては、カプトン（デュポン社製）、アピカル（鐘淵化学工業社製）、ユーピレックス（宇部興産社製）などを例示することができる。
【００３８】
保護層５としては、先に説明した層と同様の層を使用することが好ましい。
【００３９】
上述した静電チャック装置の他に、本発明は、静電チャック装置用シートを提供するものである。
その静電チャック装置用シートとは、図３に示したように、被吸着物を積載する面である、シリコーン系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂の１または２以上の樹脂からなる保護層５と、絶縁層４と、金属の蒸着膜またはメッキ膜からなる電極層３と、接着層２とが順次積層してなることを特徴とするものである。
【００４０】
さらに、上記静電チャック装置用シートの他に、図５に示すように、被吸着物を積載する面である、シリコーン系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂の１または２以上の樹脂からなる保護層５と、第２絶縁層３４と、第２接着層３２と、電極層３と、第１接着層２２と、第１絶縁層２４と、第３接着層４２とが順次積層してなることを特徴とする静電チャック装置用シートを提供するものである。
【００４１】
上記静電チャック装置用シートをなす各層は、先に説明した層と同様の層で構成することが好ましい。
【００４２】
本発明の静電チャック装置用シートによれば、上記層構造をとることにより、耐損傷性に優れると共に熱伝導性が向上するという効果が得られる。
【００４３】
【実施例】
以下、本発明の静電チャック装置用シートおよびそれを具備してなる静電チャック装置について具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４４】
［実施例1］
Ａ  図６に示される第１積層体１０１の製造
ポリイミドフィルム（厚さ２５μｍのユーピレックス、宇部興産社）２４の片面に、下記組成からなる接着剤を、乾燥後の厚さが１０μｍとなるように塗布し、１５０℃で５分間乾燥させて第１接着剤層２２を形成した。
【００４５】
接着剤層２２をなす接着剤の組成とは、以下の通りである。
アクリロニトリル−ブタジエンゴム
（ニッポール１００１，日本ゼオン社製）                    １００部
エポキシ樹脂（エピコートＹＬ９７９、油化シェル社製）            ５０部
クレゾール型フェノール樹脂（ＣＫＭ２４００、昭和高分子社製）    ５０部
ジシアンジアミド（和光純薬社製）                                  ５部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン）                                  ５００部
【００４６】
次いで、電解銅箔（１／２ｏｚ、日本鉱業社製、厚さ：２０μｍ）を、上記第１接着剤層２２に貼り合わせ、１００〜１５０℃のステップキュアー処理を６時間行い、ネガ型感光シート（ＡＬＰＨＯ３５１Ｙ２５、日本合成化学社製）を銅箔側に貼り合わせた。
次いで、露光−現像（炭酸ナトリウム１％水溶液）−エッチング（塩化第１鉄／塩化第２鉄／塩酸）−洗浄（イオン交換水）−乾燥を行い、所定形状の電極層３を形成することにより、図６に示す第１構造体１０１を作製した。
【００４７】
Ｂ．  図７に示す第２構造体１０２の製造
１．  保護層５を成すＵＶ硬化性塗料の調整：
シリコーンハードコート剤ＵＶＨＣ１１０３（シリコーン系コート剤：反応性シリコーン処理シリカと反応性アクリルモノマーとの混合物、東芝シリコーン社製）をＩＰＡ（イソプロピルアルコール）に溶解させ、固形分４０％の塗料を調整することにより、保護層５をなす塗料を得た。
【００４８】
２．保護層の作製：
ポリイミドフィルム（厚さ５０μｍのユーピレックス、宇部興産社製）に、上記ＵＶ硬化性塗料をグラビアコーターを用いて、乾燥後の厚さが２μｍとなるように塗工し、８０℃で乾燥させ、次いでＵＶ照射装置を用いて上記塗料を硬化させ、保護層５を形成した。
ＵＶ照射条件は以下の通りである。
高圧水銀灯：１６０Ｗ／ｃｍ
照射距離：１００ｍｍ
通過速度：１０ｍ／分
【００４９】
３．第２接着層３２の作製
その後、ポリイミドフィルム３４の他の面（保護層５が形成されていない面）に、乾燥後の厚さが１０μｍとなるように、実施例１で使用したものと同様の組成からなる接着剤を塗布し、厚さが１０μｍの第２接着剤層３２を形成することにより、図７に示す第２構造体１０２を作製した。
【００５０】
Ｃ．図５に示した静電チャック装置用シート１７の作製：
上記第１構造体の電極層３と、上記第２構造体の第２接着層３２とを貼り合わせ、次いで上記第１構造体を得たときと同様のステップキュアーを行った。
その後、さらに第１構造体のポリイミドフィルム２４面に、乾燥後の厚さが１０μｍになるよう前記接着剤を塗布し、１５０℃で５分間乾燥させて第３接着剤層４２を形成することにより、図５に示した、本実施例の静電チャック装置用シート（厚さ１２７μｍ）１７を得た。
【００５１】
Ｄ．図５に示した静電チャック装置の製造：
上記工程にて得られた静電チャック装置用シートを金属基盤１の形状に合わせて形成加工し、前記接着剤を介して金属基盤１とシート７の接着剤層２とを貼り合わせ、前記と同様のステップキュアーを行って、図５に示した、本実施例の静電チャック装置を製造した。
なお、本実施例で使用した金属基盤１は、アルミニウム製で、表面をアルマイト加工したものである。
【００５２】
［実施例２］
Ａ  図３に示した静電チャック装置用シートの製造
１．  保護層５を成すＵＶ硬化性塗料の調整：
シリコーンハードコート剤ＵＶＨＣ１１０３（シリコーン系コート剤：反応性シリコーン処理シリカと反応性アクリルモノマーとの混合物、東芝シリコーン社製）をＩＰＡ（イソプロピルアルコール）に溶解させ、固形分４０％の塗料を調整することにより、保護層５をなす塗料を得た。
【００５３】
２．保護層５の作製：
ポリイミドフィルム（厚さ５０μｍのユーピレックス、宇部興産社製）４に、上記ＵＶ硬化性塗料をグラビアコーターを用いて、乾燥後の厚さが２μｍとなるように塗工し、８０℃で乾燥させ、次いでＵＶ照射装置を用いて上記塗料を硬化させ、保護層５を形成した。
ＵＶ照射条件は以下の通りである。
高圧水銀灯：１６０Ｗ／ｃｍ
照射距離：１００ｍｍ
通過速度：１０ｍ／分
【００５４】
３．電極層３の作製：
上記ポリイミドフィルム４の未処理面（保護層５が形成されていない面）にニッケルを蒸着し、さらに銅をメッキして、合計して２μｍの厚さにし、ネガ型感光フィルム（ＡＬＰＨＯ３５１Ｙ２５、日本合成化学社製）を蒸着面側に貼り合わせ、前記と同様にして、露光−現像（炭酸ナトリウム１％水溶液）−エッチング（塩化第１鉄／塩化第２鉄／塩酸）−洗浄（イオン交換水）−乾燥を行い、所定形状の電極層３を形成した。
【００５５】
４．接着層２の作製：
ついで、得られた電極層３上に、乾燥後の厚さが２５μｍになるように、実施例１で使用した接着剤を塗布し、１５０℃で５分間乾燥させた後、第２回目の塗布・乾燥を行い、厚さが５０μｍの接着剤層２（絶縁層として働く）を形成することにより、図３に示した本実施例の静電チャック装置用シート（厚さ１０４μｍ）７を得た。
【００５６】
５．図３に示した静電チャック装置の作成：
上記工程にて得られた静電チャック装置用シート７を金属基盤１の形状に合わせて形成加工し、前記接着層２と金属基盤１とを貼り合わせ、前記と同様のステップキュアーを行って、図３に示した、本実施例の静電チャック装置を製造した。
なお、本実施例で使用した金属基盤１は、アルミニウム製で、表面をアルマイト加工したものである。
【００５７】
［実施例３］
保護層５を成すＵＶ硬化性塗料として、シリコーンハードコート剤ＵＶＨＣ１１０３に代えて、アデカオプトマーＫＲ−５６６（アクリル多官能モノマーとエポキシモノマーとの混合物、旭電化工業社製）をＭＥＫ（メチルエチルケトン）に溶解させて得た固形分４０％の塗料を使用した以外は、実施例１と同様にして、静電チャック装置用シートおよびそれを具備してなる静電チャック装置を製造した。
【００５８】
［実施例４］
保護層５を成すＵＶ硬化性塗料として、シリコーンハードコート剤ＵＶＨＣ１１０３に代えて、アデカオプトマーＫＲ−５６６（アクリル多官能モノマーとエポキシモノマーとの混合物、旭電化工業社製）をＭＥＫ（メチルエチルケトン）に溶解させて得た固形分４０％の塗料を使用した以外は、実施例２と同様にして、静電チャック装置用シートおよびそれを具備してなる静電チャック装置を製造した。
【００５９】
［比較例１］
実施例１において保護層（２μｍ）５を形成しない第２構造体１０２’を使用する以外は、実施例１と同様にして、図８に示す厚さ１２５μｍの比較例用の静電チャック装置用シート７’、およびそれを具備してなる静電チャック装置を得た。
【００６０】
［比較例２］
実施例２において保護層（２μｍ）５を形成しない以外は、実施例２と同様にして、図９に示す厚さ１０２μｍの比較例用の静電チャック装置用シート７’、およびそれを具備してなる静電チャック装置を得た。
【００６１】
次に、上記実施例および比較例で得られた静電チャック装置用シート７、７’およびそれを具備してなる静電チャック装置について、以下に示す評価を行った。
【００６２】
１．耐摩擦傷性
スチールウール＃００００を用いて、実施例で得られた静電チャック装置用シート１７の片面である保護層５、および比較例で得られた静電チャック装置用シート１７’の片面であるポリイミド層３４，４を、加重１４０ｇ／ｃｍ２で１０往復擦り、その表面を目視により観察した。
【００６３】
その結果、実施例の静電チャック装置用シートの表面はほとんど変化がなく、耐摩擦傷性に優れていることが確認された。
これに対して、比較例の静電チャック装置用シートの表面には、細かい傷が多数観察され、耐摩擦傷性に問題があることが確認された。
【００６４】
２．密着性
実施例で得られた静電チャック装置用シート１７の片面である保護層５の表面の１０ｍｍ×１０ｍｍに、１ｍｍ×１ｍｍ×深さ約５μｍの傷を１０×１０（個）付けた
ついで、上記傷の上に市販のセロハンテープを貼り、加重１４０ｇ／ｃｍ２で１往復させることにより静電チャック装置用シートとセロハンテープとを密着させ、その後セロハンテープを剥がした。
テープを剥がした後、顕微鏡で静電チャック装置用シート表面を観察し、層の残存状態を密着性として評価した。つまり、表面の層が多く残っている場合を密着性が良好であるとした。
その結果、実施例で得られた静電チャック装置用シートでは、１００個当たり８０個以上残っており、密着性は良好であった。
【００６５】
３．耐久性
実施例および比較例で得られた静電チャック装置の被吸着面（試験部位は、直径１０ｍｍ）に、平均粒径３０μｍのシリカ微粉末０．５ｇを載せ、５０ｋｇ／ｃｍ２で２分間加圧して、被吸着面に傷を形成した。
シリカをエアガンで除去した後、直径２５ｍｍの電極（真鍮製）を被吸着面に置き、５００ｇ／ｃｍ２での加重をかけた状態で静電チャック装置の電極／被吸着面の真鍮製の電極に電圧を印加し、絶縁破壊が起こる電圧を測定した。
なお、結果は、上記試験を１０回行った場合の平均値である。
また、比較のために、傷を付けない静電チャック装置の絶縁破壊が起きる電圧を測定した。
【００６６】
【表１】
0004156699.tif 000002
【００６７】
上記表１から明らかなように、本実施例の静電チャック装置は、耐電圧が高かった。このことから、耐久性に優れていることが確認された。
これに対して、比較例で得られた静電チャック装置は、その表面に傷が付くことにより、絶縁破壊が起きる、電圧がかなり下がり、実用において耐久性に問題があることが確認された。
【００６８】
【発明の効果】
本発明の静電チャック装置および静電チャック装置用シートは、シリコーン系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂の１または２以上の樹脂からなる保護層が、吸着面に形成されてなることを特徴とする装置およびシートである。
ウェーハが載置される吸着面に形成されている保護層は上記樹脂で形成されており、この樹脂は、ハンドリング等によるポリイミド等の絶縁層表面の傷付けを防止できるので、歩留まりを向上させることができる。さらに、極めて平坦な面を、低製造コストで実現できる。
【００６９】
したがって、本発明の静電チャック装置および静電チャック用シートによれば、性能に優れ、同時に比較的寿命が長い静電チャック装置を提供することができる。
【００７０】
特に、吸着面に表面が粗面であるポリイミド樹脂からなる層が形成され、この粗面上に上記保護層が形成されている静電チャック装置にあっては、ポリイミド樹脂層と保護層との接着性に優れているので、層形成しやすく、さらに薄膜化しやすい。
【図面の簡単な説明】
【図１】  保護層において、シリカとシランとがカップリングし、アクリルポリマー鎖が形成されている状態を示す模式図である。
【図２】  コロイダルシリカ粒子をアクリルシランで処理した場合を示す概念図である。
【図３】  本発明の静電チャック装置用シート、およびそれを具備してなる静電チャック装置の一例の概略を示す断面図である。
【図４】  電極層の好ましいパターンを示す概略図である。
【図５】  実施例１、３の静電チャック装置用シート、およびそれを具備してなる静電チャック装置を示す断面図である。
【図６】  実施例１、３の静電チャック装置用シートをなす、第１構造体を示す断面図である。
【図７】  実施例１、３の静電チャック装置用シートをなす、第２構造体を示す断面図である。
【図８】  比較例１の静電チャック装置用シートを示す断面図である。
【図９】  比較例２の静電チャック装置用シートを示す断面図である。
【符号の説明】
１  金属基盤
２  接着剤層
３  電極層
４  電気絶縁層
５  保護層
６  ウェーハ
７  静電チャック装置用シート
７’比較例で製造した静電チャック装置用シート
１３  電極パターン
２２  第１接着層
２３  電極層に設けられた、ウェーハを上下するピン穴
２４  第１構造体のポリイミド層
３２  第２接着層
３４  第２構造体のポリイミド層
４２  第３接着層
１０１  第１構造体
１０２  第２構造体
１０２’  比較例で得た第２構造体
【図１】
0004156699.tif 000003
【図２】
0004156699.tif 000004
【図３】
0004156699.tif 000005
【図４】
0004156699.tif 000006
【図５】
0004156699.tif 000007
【図６】
0004156699.tif 000008
【図７】
0004156699.tif 000009
【図８】
0004156699.tif 000010
【図９】
0004156699.tif 000011