【手続補正書】
【提出日】平成20年5月12日(2008.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の辺及び前記第１の辺よりも長い第２の辺を有する基板と、
前記基板上の第２の辺に沿う方向に複数配された画像形成用発光素子と、
前記画像形成用発光素子を駆動する駆動回路と、
前記基板上の前記第２の辺に沿う方向に複数配され且つ傾き検出に用いるパターンを形成するパターン形成用発光素子と、を有し、
前記パターン形成用発光素子は、当該パターン形成用発光素子の前記第２の辺に沿う方向での長さを前記画像形成用発光素子の前記第２の辺に沿う方向の長さよりも長く設けたことを特徴とするラインヘッド。
【請求項２】
前記パターン形成用発光素子は、前記基板の前記第２の辺に沿う方向において、当該方向に配された複数の前記画像形成用発光素子によって構成される配列上に位置するように配されたことを特徴とする請求項１記載のラインヘッド。
【請求項３】
前記パターン形成用発光素子は、前記基板の前記第２の辺に沿う方向において、当該方向に配された複数の前記画像形成用発光素子によって構成される配列とは異なる列上に位置するように配されたことを特徴とする請求項１記載のラインヘッド。
【請求項４】
前記パターン形成用発光素子は、前記第２の辺に沿う方向において、前記基板の両端部にそれぞれ配されたことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のラインヘッド。
【請求項５】
前記パターン形成用発光素子は、前記基板上の第２の辺に沿う方向において、前記基板における前記画像形成用発光素子が配された位置よりも端部側に配されたことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のラインヘッド。
【請求項６】
前記パターン形成用発光素子は、前記基板上の第２の辺に沿う方向において、前記画像形成用発光素子が配された領域内に設けたことを特徴とする請求項１、３、４、５のいずれかに記載のラインヘッド。
【請求項７】
前記パターン形成用発光素子は、前記基板上の第２の辺に沿う方向において、前記画像形成用発光素子が配された領域外に設けたことを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載のラインヘッド。
【請求項８】
前記画像形成用発光素子は、有機ＥＬ素子であることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれかに記載のラインヘッド。
【請求項９】
前記駆動回路は、ＴＦＴ駆動回路であることを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれかに記載のラインヘッド。
【請求項１０】
前記駆動回路は、前記パターン形成用発光素子の駆動に用いられることを特徴とする請求項１乃至請求項９のいずれかに記載のラインヘッド。
【請求項１１】
前記パターン形成用発光素子を駆動する駆動回路を更に設けたことを特徴とする請求項１乃至請求項９のいずれかに記載のラインヘッド。
【請求項１２】
前記パターンを検出する検出手段と、
前記検出手段での検出結果に基づき前記ヘッドの傾きデータを算出する算出手段と、
前記傾きデータを記憶する記憶手段と、
を有することを特徴とする請求項１乃至請求項１１のいずれかに記載のラインヘッド。
【請求項１３】
帯電手段と、
請求項１及至請求項１２のいずれかに記載のラインヘッドと、
現像手段と、転写手段との各画像形成用ユニットを配した画像形成ステーションを少なくとも２つ以上設けることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１４】
中間転写部材を備えたことを特徴とする、請求項１３に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成する本発明のラインヘッドは、第１の辺及び前記第１の辺よりも長い第２の辺を有する基板と、
前記基板上の第２の辺に沿う方向に複数配された画像形成用発光素子と、
前記画像形成用発光素子を駆動する駆動回路と、
前記基板上の前記第２の辺に沿う方向に複数配され且つ傾き検出に用いるパターンを形成するパターン形成用発光素子と、を有し、
前記パターン形成用発光素子は、当該パターン形成用発光素子の前記第２の辺に沿う方向での長さを前記画像形成用発光素子の前記第２の辺に沿う方向の長さよりも長く設けたことを特徴とする。このように、基板に傾き検出用パターンを形成する複数の他の発光素子を設けるという簡単な構成であり、外部で別途傾き検出用パターンを作成する必要がないので、コストを低減しラインヘッドの傾き補正を行うための処理も簡略化される。また、前記複数の他の発光素子の主走査方向の長さ（第２の辺に沿う方向での長さ）は、ドット光源からなる発光素子の長さ（直径）（第２の辺に沿う方向での長さ）よりも長くしているので、傾き検出用パターンが形成された場合のパターン検出が容易に行える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明のラインヘッドは、前記パターン形成用発光素子は、前記基板の前記第２の辺に沿う方向において、当該方向に配された複数の前記画像形成用発光素子によって構成される配列上に位置するように配されたことを特徴とする。このような構成とすることにより、ラインヘッドの傾き検出用パターンを形成する複数の他の発光素子を、ドット光源からなる複数の発光素子と同じ工程で基板に作成することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、本発明のラインヘッドは、前記パターン形成用発光素子は、前記基板の前記第２の辺に沿う方向において、当該方向に配された複数の前記画像形成用発光素子によって構成される配列とは異なる列上に位置するように配されたことを特徴とする。このような構成とすることにより、基板スペースの有効利用が図れる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明のラインヘッドは、前記パターン形成用発光素子は、前記第２の辺に沿う方向において、前記基板の両端部にそれぞれ配されたことを特徴とする。
さらに、本発明のラインヘッドは、前記パターン形成用発光素子は、前記基板上の第２の辺に沿う方向において、前記基板における前記画像形成用発光素子が配された位置よりも端部側に配されたことを特徴とする。このような構成とすることにより、基板の空きスペースの有効利用を図ることが出来る。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明のラインヘッドは、前記パターン形成用発光素子は、前記基板上の第２の辺に沿う方向において、前記画像形成用発光素子が配された領域内に設けたことを特徴とする。このような構成とすることにより、ラインヘッドの傾き検出用パターンを形成する複数の他の発光素子を設ける基板位置の制約を受けず、自由度を高めることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本発明のラインヘッドは、前記パターン形成用発光素子は、前記基板上の第２の辺に沿う方向において、前記画像形成用発光素子が配された領域外に設けたことを特徴とする。このような構成とすることにより、画像形成の妨げとなることなくラインヘッドの傾き検出用パターンを形成することができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、本発明のラインヘッドは、前記画像形成用発光素子は、有機ＥＬ素子であることを特徴とする。このような構成とすることにより、有機ＥＬ素子は静的な制御が可能であるので、ラインヘッドの制御系を簡略化できる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、本発明のラインヘッドは、前記駆動回路は、ＴＦＴ駆動回路であることを特徴とする。このような構成とすることにより、ドット光源からなる複数の発光素子と同じ工程で駆動回路を基板に作成できるので、駆動回路作成のコストを低減することができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、本発明のラインヘッドは、前記駆動回路は、前記パターン形成用発光素子の駆動に用いられることを特徴とする。このような構成とすることにより、単一の駆動回路でドット光源からなる複数の発光素子と、傾き検出用パターンを形成する複数の他の発光素子とを駆動するので、駆動回路の有効利用を図ることができる。また、ラインヘッドのスペースを節約して小型化することができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、本発明のラインヘッドは、前記パターン形成用発光素子を駆動する駆動回路を更に設けたことを特徴とする。このような構成とすることにより、任意のタイミングで傾き検出用パターンを作成することができる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、本発明のラインヘッドは、前記パターンを検出する検出手段と、
前記検出手段での検出結果に基づき前記ラインヘッドの傾きデータを算出する算出手段と、
前記傾きデータを記憶する記憶手段と、
を有することを特徴とする。このように、ラインヘッドの傾きデータを記憶しているので、傾き補正データの作成が容易であり、ラインヘッドの傾きに起因する画質劣化を防止することができる。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、本発明の画像形成装置は、帯電手段と、
請求項１乃至請求項１２のいずれかに記載のラインヘッドと、
現像手段と、転写手段との各画像形成用ユニットを配した画像形成ステーションを少なくとも２つ以上設けることを特徴とする。このため、画像形成装置において、ラインヘッドの傾き検出用パターンの作成と、傾きデータを用いた傾き補正を簡単に行うことができる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
図１は、本発明の実施形態を示す説明図である。図１において、ガラス基板６２には、ドット光源として構成されている画像形成用の光源（発光部）６３が形成されている。発光部６３が主走査方向の同一線上に複数配列されて、発光素子ラインが形成されている。７２はＴＦＴ駆動回路で、発光部６３を駆動する。ガラス基板６２の長尺方向Ｘは主走査方向（第２の辺に沿う方向）、短尺方向Ｙは副走査方向（第１の辺に沿う方向）である。ガラス基板６２の第２の辺に沿う方向の長さは、第１の辺に沿う方向の長さよりも長く形成されている。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
ガラス基板６２の主走査方向両端、すなわち、ガラス基板６２上の第２の辺に沿う方向において、ガラス基板６２における画像形成用発光素子が配された位置よりも端部側には、ラインヘッドの傾き検出用パターンを形成する複数の発光素子７３、７４を設けている。この発光素子７３、７４は、主走査方向の同一線上に前記ドット光源よりも主走査方向の長さを長くして設けている。また、発光素子７３、７４の副走査方向の長さ（幅）の寸法は、ドット光源の直径よりも小さく形成する。例えば、ドット光源の直径Ｅａは５０μｍ、発光素子７４の幅Ｅｂは２５μｍである。このように、発光素子７３、７４の主走査方向の長さは、ドット光源よりも長くしているので、傾き検出用パターンが形成された場合の検出が容易に行える。また、発光素子７３、７４の副走査方向の長さ（幅）の寸法は、ドット光源の直径よりも小さく形成されているので、コストが低減される。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
発光素子７３、７４は、ガラス基板６２に発光素子ラインとは副走査方向で異なる位置に設けている。すなわち、パターン形成用発光素子７３、７４は、ガラス基板６２の第２の辺に沿う方向において、当該方向に配された複数の画像形成用発光素子によって構成される配列とは異なる列上に位置するように配されている。このため、基板スペースの有効利用が図れる。また、発光素子７３、７４は、ガラス基板６２の両端の印字領域外に設けているので、傾き検出用パターンを形成しても、画像印字の妨げになることはない。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
図２は、本発明の他の実施形態を示す説明図である。図２において、図１と同じところには同一の符号を付している。図２の例では、ラインヘッドの傾き検出用パターンを形成する複数の発光素子７５、７６は、発光素子ラインと主走査方向で同一線上に設けている。すなわち、パターン形成用発光素子７５、７６は、ガラス基板６２の前記第２の辺に沿う方向において、当該方向に配された複数の前記画像形成用発光素子によって構成される配列上に位置するように配されている。