【手続補正書】
【提出日】平成19年12月18日(2007.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を物体に導く光学系と、
前記物体を接触率１０％以下で保持するピンチャックを有する保持手段と、
前記保持手段の前記光学系側の面に対して非接触に配置され、前記保持部材に保持された前記物体の被照射面を輻射冷却する第１の冷却手段と、
前記保持手段の前記光学系側の面の反対面に対して非接触に配置され、前記保持部材に保持された前記物体の前記被照射面の反対面を輻射冷却する第２の冷却手段と、を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記物体の温度を前記物体に接触せずに計測する温度計測手段を備え、
前記計測された前記物体の温度に基づいて前記第１の冷却手段の温度を制御することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記保持手段の温度を前記保持手段に接触しつつ計測する温度計測手段を備え、
前記計測された前記保持手段の温度に基づいて前記第２の冷却手段の温度を制御することを特徴とする請求項１又は２記載の露光装置。
【請求項４】  
前記物体は反射型レチクルであり、
前記保持手段はレチクルチャックであることを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項記載の露光装置。
【請求項５】
前記物体はウエハであり、
前記保持手段はウエハチャックであることを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項記載の露光装置。
【請求項６】
前記第１の冷却手段の温度は、前記第２の冷却手段の温度よりも低いことを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項記載の露光装置。
【請求項７】
前記第１の冷却手段は、輻射板と、前記輻射板を冷却するペルチェ素子と、を有することを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項記載の露光装置。
【請求項８】
前記第２の冷却手段は、輻射板と、前記輻射板を冷却するペルチェ素子と、を有することを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項記載の露光装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のうちいずれか１項記載の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、
露光された前記被処理体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
ＥＵＶ光を用いた露光装置（ＥＵＶ露光装置）を構成する反射型光学素子としては、多層膜ミラーと斜入射全反射ミラーとが用いられる。これらのミラーは、光の損失が大きいので、その枚数を最小限に抑えることが望ましい。ＥＵＶ露光装置においては、ＥＵＶ光が照射される光学素子が配置された空間に炭化水素等の炭素を含む分子が残留していた場合、光の照射によって光学素子表面に炭素が次第に付着する。この場合、付着した炭素がＥＵＶ光を吸収するために反射率が低下してしまうという問題がある。この炭素付着を防止するためには、ＥＵＶ光が照射される光学素子が配置される空間の気圧は少なくとも１０-4Ｐａ以下、望ましくは１０-6Ｐａ以下となっている必要がある。したがって、ＥＵＶ露光装置においては、略真空環境下に反射ミラー等の光学系、レチクル、ウエハ等が配置されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明は上記の事情に鑑みて為されたもので、物体（例えば、ウエハ・レチクル等の光学部材）を、振動・位置安定性・位置制御の応答性の悪化等を伴わずに効果的に冷却することができる露光装置を提供することに関する。その結果、高精度に回路パターンを露光転写することができてウエハの不良率を低減し、また高性能のデバイスを作成することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、物体とその物体の保持手段との両方の冷却を効果的に行うことにより、さらに高精度に回路パターンを露光転写することができてウエハの不良率を低減し、また高性能のウエハを作成することができる露光装置を提供する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、物体の表面温度を簡便に計測し、保持手段の温度を高精度に計測することにより、物体や保持手段の確実な温度制御が可能な露光装置を提供する。さらに高精度に回路パターンを露光転写することができてウエハの不良率を低減し、また高性能のデバイスを作成することができる露光装置を提供する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
【課題を解決するための手段】
本発明の一側面としての露光装置は、光源からの光を物体に導く光学系と、前記物体を接触率１０％以下で保持するピンチャックを有する保持手段と、前記保持手段の前記光学系側の面に対して非接触に配置され、前記保持部材に保持された前記物体の被照射面を輻射冷却する第１の冷却手段と、前記保持手段の前記光学系側の面の反対面に対して非接触に配置され、前記保持部材に保持された前記物体の前記被照射面の反対面を輻射冷却する第２の冷却手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
フォーカス位置検出手段１６は、ウエハ表面１２ａのフォーカス位置（すなわちＺ２軸方向位置（図２の座標軸参照））を検出するためのものである。ウエハ微動ステージ１３の位置及び角度が制御されることにより、露光中のウエハ表面１２ａが、常に投影光学系６による結像位置に保持されるようになっている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
この露光装置１においては、走査露光方式によって回路パターンの露光が行われる。すなわち、アパーチャ３ｃによってスリット状（円弧状）とされたＥＵＶ光２ｅをレチクル表面４ａに照射する。そして、レチクルステージ５とウエハステージ１３とを投影光学系６の縮小倍率に比例した速度比で同期させつつそれぞれＸ１軸方向、Ｘ２軸方向に走査移動を行って露光を行う。露光に際しては、アライメント検出手段１５によりレチクル４とウエハ１２の相対位置が調整される。そして、フォーカス位置検出手段１６によりウエハ１２の投影光学系の光軸方向に対する位置が調整されて、レチクル４上の回路パターンが正確にウエハ１２上へと転写されていく。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
ウエハ１２上で１回のスキャン露光（走査露光）が終わると、ウエハステージ１３はＸ２軸方向，Ｙ２軸方向にステップ移動して次の走査露光開始位置に移動する。そして、レチクルステージ５及びウエハステージ１３の走査移動速度が投影光学系６の縮小倍率に比例した速度比となるように、再びそれぞれＸ１軸方向、Ｘ２軸方向への同期走査移動が行われる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
この走査露光において、ＥＵＶ光２ｅがウエハ１２に照射され、ウエハ１２においてＥＵＶ光２ｅが吸収される。また、本実施の形態においては、ウエハチャック１４は静電吸着方式とされているので、ウエハチャック１４に電圧が印加されてそのリーク電流がチャック内を流れ、これによりウエハチャック１４が発熱する。ウエハチャック１４はピンチャックでありその保持面１４ａとウエハ裏面１２ｂとは１０％以下の接触率とされている。その９０％より多くを占める非接触部分としての空隙部１４ｃは１０−６Ｐａ程度の真空環境下にある。また、１０％以下の接触部分としてのピン部１４ｂにおいてもウエハ裏面１２ｂとの接触抵抗があるために、ウエハ１２とウエハチャック１４との間の熱抵抗は０．１ｍ２℃／Ｗ程度と大きくなっている。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
しかし、ウエハチャック１４の保持面１４ａ側であってウエハ１２の表面１２ａの近傍には保持面１４ａに対して非接触に冷却手段１１ａが設けられ、ウエハチャック裏面１４ｄの近傍にはその裏面１４ｄに対して非接触に冷却手段が設けられている。そして、それぞれがウエハ１２及びウエハチャック１４を輻射冷却するので、ウエハ１２及びウエハチャック１４の熱歪を低減するために必要な熱量を充分に奪って冷却することができる。輻射により冷却を行い、接触熱抵抗部を介して熱を奪うことがないので、必要な時間内に充分にウエハ１２及びウエハチャック１４の発熱を打ち消すように冷却することができる。また、冷却手段１１ａ，１１ｂはウエハ１２、ウエハチャック１４に対して非接触であり、かつ輻射によって冷却を行うので、冷却に伴って流路、配管内で発生する渦、脈動等による振動が殆どなく、ウエハ１２の位置安定性を悪化させることがない。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
なお、本実施の形態１においては、ウエハ表面１２ａの近傍に冷却手段１１ａを設け、ウエハチャック裏面１４ｄの近傍に冷却手段１１ｂを設ける構成とした。冷却能力、コスト等の面から総合的に勘案して、いずれか一方の冷却手段のみを用いてもよい。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
チャック温度制御部２０は、ウエハチャック１４の温度を調整すべく、冷却手段１１ｂの温度を制御するためのものである。そのチャック温度制御部２０には、接触式温度センサ（第２の温度計測手段）２１が接続されている。この接触式温度センサ２１は白金測温抵抗体の温度センサがウエハチャック１４に接触しつつその温度を計測するものである。この温度計測値に基づいてチャック温度制御部２０が冷却手段１１ｂのペルチェ素子１１ｄ’に与える電圧を調節し、ウエハチャック１４の温度が２３℃に温度制御されるようになっている。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、ウエハ・レチクル・ミラー等の物体を、振動・位置安定性・位置制御の応答性の悪化等を伴わずに効果的に冷却することができる露光装置を提供する。その結果、高精度に回路パターンを露光転写することができてウエハの不良率を低減し、また高性能のデバイスを作成することができる。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2004311780.tif 000001
【手続補正１６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2004311780.tif 000002
【手続補正１７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2004311780.tif 000003