【手続補正書】
【提出日】平成20年6月19日(2008.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
理想波面と被検光学系の波面収差を反映する被検波面との干渉縞から前記被検光学系の波面収差を測定する測定装置に使用され、前記理想波面を生成するプレートの製造方法であって、
基板に凸部を形成するステップと、
前記凸部が形成された基板に、前記凸部の高さ以上の膜厚を有する遮光膜を成膜するステップと、
前記凸部が前記遮光膜から露出するまで前記遮光膜を研磨するステップとを有することを特徴とする製造方法。
【請求項２】
前記遮光膜から露出した凸部及び前記遮光膜上に透過性を有する透過膜を成膜するステップを更に有することを特徴とする請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
理想波面と被検光学系の波面収差を反映する被検波面との干渉縞から前記被検光学系の波面収差を測定する測定装置に使用され、前記理想波面を生成するプレートの製造方法であって、
基板上に遮光膜を形成するステップと、
前記基板上に形成された前記遮光膜に開口部を形成するステップと、
前記開口部が形成された遮光膜上に、前記開口部が充填されるまで透過性を有する透過膜を成膜するステップとを有することを特徴とする製造方法。
【請求項４】
前記透過膜の表面が平坦になるように前記透過膜を研磨するステップを更に有することを特徴とする請求項３記載の製造方法。
【請求項５】
前記成膜ステップは、ＣＶＤ法を用いることを特徴とする請求項１又は３記載の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】プレートの製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、理想波面と被検光学系の波面収差を反映する被検波面との干渉縞から被検光学系の波面収差を測定する測定装置に使用され、理想波面を生成するプレートの製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の一側面としての製造方法は、理想波面と被検光学系の波面収差を反映する被検波面との干渉縞から前記被検光学系の波面収差を測定する測定装置に使用され、前記理想波面を生成するプレートの製造方法であって、基板に凸部を形成するステップと、前記凸部が形成された基板に、前記凸部の高さ以上の膜厚を有する遮光膜を成膜するステップと、前記凸部が前記遮光膜から露出するまで前記遮光膜を研磨するステップとを有することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
測定照明系７１０は、測定ユニット７０に使用される第１のマスク７２０及び第２のマスク７３０を照明する光学系として機能する。測定照明系７１０は、図示しない駆動機構を有し、通常の露光時は光路外に配置されている。測定照明系７１０は、本実施形態では、照明光学系１４と別に設けられているが、照明光学系１４が測定照明系７１０として機能するように構成してもよい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
第２のマスク７３０（プレート）は、ウェハステージ４５上に配置され、投影光学系３０の波面収差を測定する際には、液体ＷＴと接触する。第２のマスク７３０は、第１のマスク７２０と同様に、０度及び９０度に配列されたスリットと透過窓のペアから構成される。第２のマスク７３０の透過窓を透過した光は、投影光学系３０の波面収差を有し、被検光（被検波面）となる。一方、第２のマスク７３０のスリットにより生成した光は、かかるスリットにより回折されることで、理想円柱波面又は理想楕円波面を有し、参照光となる。なお、測定ユニット７０がＰＤＩの場合には、第２のマスク７３０のスリットはピンホールに置換される。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
図２は、第２のマスク７３０を示す概略断面図である。なお、図２では、第２のマスク７３０のスリット７３４ａのみを図示し、透過窓の図示を省略している。図２を参照するに、第２のマスク７３０は、基板７３２と、遮光部材（遮光膜）７３４と、透過部材（透過膜）７３６とから構成される。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
遮光部材７３４は、スリット７３４ａを形成するように基板７３２上に配置される。なお、遮光部材７３４は、図示しない透過窓も形成する。スリット７３４ａは、上述したように、理想波面を生成するための微小な開口部であり、１００ｎｍ以下の幅Ｗで形成される。遮光部材７３４は、光源部１２からの光を遮光する材料、例えば、クロム（Ｃｒ）、シリコン（Ｓｉ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、アルミニウム（Ａｌ）、等を材料とし、必要な厚さに形成される。なお、遮光部材７３４の厚さは、要求される光学濃度に依存し、例えば、上述した材料でＯＤ６の光学濃度を必要とした場合、理論的には１０００乃至１３００Å程度となる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
透過部材７３６は、遮光部材７３４の厚さ以上の厚さＴを有するようにスリット７３４ａに充填され、光源部１２からの光に対して透過性を有する。なお、透過部材７３６と基板７３２との接続は、オプティカルコンタクトを用いることが好ましい。透過部材７３６は、本実施形態では、基板７３２の一部で形成され、遮光部材７３４の厚さと略同一の厚さＴを有する。微小な開口であるスリット７３４ａを予め透過部材７３６で充填することにより、スリット７３４ａに液体ＷＴが充填されず、気体が閉じ込められてしまうことを防止することができる。これにより、投影光学系３０の波面収差を測定する際にスリット７３４ａの光透過率が低下することなく、被検光と参照光との干渉縞のコントラストを確保して、投影光学系３０の波面収差を高精度に測定することができる。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
次いで、フォトレジストＰＲを除去し、図３（ｃ）に示すように、透過部材７３６が形成された基板７３２上に遮光部材７３４を形成する。本実施形態では、遮光部材７３４として薄膜を基板７３２上に成膜する。このとき、遮光部材７３４は、遮光部材７３４が必要とする厚さ以上に成膜する必要があり、本実施形態では、透過部材７３６が覆われるように遮光部材７３４を成膜する。かかる状態では、透過部材７３６を含めて基板７３２及び透過部材７３６が遮光部材７３４に覆われているため、図３（ｄ）に示すように、ＣＭＰ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）法によって、基板７３２の透過部材７３６が露出されるまで遮光部材７３４を研磨する。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
制御部８０は、測定ユニット７０が測定した（解析部７５０が算出した）結果に基づいて、投影光学系３０の波面収差を調整する。具体的には、制御部８０は、図示しない駆動機構を介して、投影光学系３０を構成するレンズ等の光学素子を駆動し、所望の波面収差（即ち、許容される波面収差）になるように調整する。また、制御部８０が解析部７５０の機能を兼ねてもよい。