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【手続補正書】
【提出日】平成20年10月24日(2008.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】レーザダイオード駆動装置、レーザダイオード制御装置、画像形成装置及びレーザ制御装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のレーザダイオード制御回路を備えたレーザダイオード駆動装置において、それぞれの制御回路毎に個別に備えられた駆動電流測定装置と、該駆動電流測定装置により測定した複数の駆動電流値を演算するアナログオア回路と、該アナログオア回路の出力を外部端子に出力する出力手段とを備え、各光源を１つずつ独立に点灯することで、各チャンネルの駆動電流値を外部から読み取ることを特徴とするレーザダイオード駆動装置。
【請求項２】
前記各光源の全ての測定電流値を前記アナログオア回路によって演算し、演算した信号を１本の信号線のみで前記外部端子に出力することを特徴とする請求項１記載のレーザダイオード駆動装置。
【請求項３】
測定した複数の電流値をいくつかのグループに分け、該グループごとに各測定信号を前記アナログオア回路によって演算し、それぞれのグループに対応する演算信号を外部端子に出力する構成を有するとともに、異なるグループに属する光源同士を同時に点灯して、複数の光源の駆動電流値を同時並行して読み取ることを特徴とする請求項１記載のレーザダイオード駆動装置。
【請求項４】
複数のレーザダイオードを光源として備え、それぞれのレーザダイオードごとに個別の駆動電流測定装置を備えたレーザダイオード制御装置において、測定した複数の駆動電流値を演算するアナログオア回路と、該アナログオア回路により演算された信号を外部装置に伝送する伝送手段を備え、
前記各レーザダイオードを１つずつ独立に点灯して前記アナログオア回路により演算することによって、前記外部装置に伝送された信号を基に各チャンネルの電流値を読み取ることを特徴とするレーザダイオード制御装置。
【請求項５】
全てのレーザダイオードの測定電流値を前記アナログオア回路によって演算し、演算した信号を１本の信号線のみで外部に伝送することを特徴とする請求項４記載のレーザダイオード制御装置。
【請求項６】
測定した複数の電流値を幾つかのグループに分け、該グループごとに各測定信号を前記アナログオア回路によって演算し、それぞれのグループに対応する演算信号を外部に伝送する構成を有するとともに、異なるグループに属するレーザダイオード同士を同時に点灯して、複数のレーザダイオードの駆動電流値を同時並行して読み取ることを特徴とする請求項４記載のレーザダイオード制御装置。
【請求項７】
レーザダイオードにより潜像を形成する画像形成装置において、請求項４、５または６記載のレーザダイオード制御装置を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項８】
複数のレーザ光源と、
前記各レーザ光源毎に設けられた複数の駆動電流測定器と、
前記各駆動電流測定器からの複数の出力を並列に入力し、その最大値を出力する最大値検出回路と、
前記最大値検出回路からの一の出力信号を外部装置に出力する出力手段とを備え、
前記駆動電流測定器は前記レーザ光源の駆動電流を電圧に変換し、該変換した電圧を前記最大値検出回路へ出力するものであり、
前記各レーザ光源へのバイアス電流を遮断することなく各レーザ光源を順次１個ずつ点灯させることを特徴とするレーザ制御装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
前記の課題を解決するために、請求項１記載の発明では、複数のレーザダイオード制御回路を備えたレーザダイオード駆動装置において、それぞれの制御回路毎に個別に備えられた駆動電流測定装置と、該駆動電流測定装置により測定した複数の駆動電流値を演算するアナログオア回路と、該アナログオア回路の出力を外部端子に出力する出力手段とを備え、各光源を１つずつ独立に点灯することで、各チャンネルの駆動電流値を外部から読み取ることを特徴とする。
請求項２記載の発明では、レーザダイオード駆動装置であって、前記各光源の全ての測定電流値を前記アナログオア回路によって演算し、演算した信号を１本の信号線のみで前記外部端子に出力することを特徴とする。
請求項３記載の発明では、請求項１に記載の集積回路であって、測定した複数の電流値をいくつかのグループに分け、そのグループごとに各測定信号を前記アナログオア回路によって演算し、それぞれのグループに対応する演算信号を外部端子に出力する構成を有するとともに、異なるグループに属する光源同士を同時に点灯して、複数の光源の駆動電流値を同時並行して読み取る請求項１記載のレーザダイオード駆動装置を主要な特徴とする。
請求項４記載の発明では、複数のレーザダイオードを光源として備え、それぞれのレーザダイオードごとに個別の駆動電流測定装置を備えたレーザダイオード制御装置において、測定した複数の駆動電流値を演算するアナログオア回路と、該アナログオア回路により演算された信号を外部装置に伝送する伝送手段を備え、
前記各レーザダイオードを１つずつ独立に点灯して前記アナログオア回路により演算することによって、前記外部装置に伝送された信号を基に各チャンネルの電流値を読み取ることを特徴とする。
請求項５記載の発明では、請求項４記載のレーザダイオード制御装置であって、全てのレーザダイオードの測定電流値を前記アナログオア回路によって演算し、演算した信号を１本の信号線のみで外部に伝送することを特徴とする。
請求項６記載の発明では、請求項４記載のレーザダイオード制御装置であって、測定した複数の電流値を幾つかのグループに分け、該グループごとに各測定信号を前記アナログオア回路によって演算し、それぞれのグループに対応する演算信号を外部に伝送する構成を有するとともに、異なるグループに属するレーザダイオード同士を同時に点灯して、複数のレーザダイオードの駆動電流値を同時並行して読み取ることを特徴とする。
請求項７記載の発明では、レーザダイオードにより潜像を形成する画像形成装置において、請求項４、５または６記載のレーザダイオード制御装置を備えたことを特徴とする。
請求項７記載の発明では、複数のレーザ光源と、前記各レーザ光源毎に設けられた複数の駆動電流測定器と、前記各駆動電流測定器からの複数の出力を並列に入力し、その最大値を出力する最大値検出回路と、前記最大値検出回路からの一の出力信号を外部装置に出力する出力手段とを備え、前記駆動電流測定器は前記レーザ光源の駆動電流を電圧に変換し、該変換した電圧を前記最大値検出回路へ出力するものであり、前記各レーザ光源へのバイアス電流を遮断することなく各レーザ光源を順次１個ずつ点灯させることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月13日(2008.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】  金属薄板から一体成形された有底円筒状の缶が、缶底近傍の側壁部分の厚みが元の金属薄板の板厚未満で該板厚の６０％以上となるように薄肉化加工されていることを特徴とする請求項１乃至４の何れかに記載のボトル型缶の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月26日(2008.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 原水導入部と、原水導入部に連通し原水を浄化する浄化部と、同浄化部にて浄化された浄化水を吐出する吐水部とを有する浄水ユニットであって、
前記浄化部は、粉粒状吸着材を主成分とする固形多孔質成形体とポッティング材により開口端が固定された中空糸膜とを有し、
前記固形多孔質成形体の外周面が不織布により被覆されており、
前記固形多孔質成形体の被覆された面の少なくとも一部が原水導入部であり、
前記吐水部がポッティング材により固定された前記中空糸膜の開口端であり、
前記中空糸膜の充填密度σが２５〜５８％である、ことを特徴とする浄水ユニット。
【請求項２】 前記固形多孔質成形体は粉粒状吸着材がバインダーにより結合されることにより得られてなることを特徴とする請求項１記載の浄水ユニット。
【請求項３】前記固形多孔質成形体は活性炭および抗菌剤を含んでなることを特徴とする請求項２記載の浄水ユニット。
【請求項４】前記バインダーが超高分子量ポリエチレンを含んでなることを特徴とする請求項２または３に記載の浄水ユニット。
【請求項５】 前記固形多孔質成形体は中空の筒形状をなし、その中空部に前記中空糸膜が充填されてなることを特徴とする請求項１〜４いずれか一項に記載の浄水ユニット。
【請求項６】前記固形多孔質成形体は中空の筒形状をなし、その外周に前記中空糸膜が配されてなることを特徴とする請求項１〜４いずれか一項に記載の浄水ユニット。
【請求項７】前記固形多孔質成形体の内周面が原水導入部である請求項６に記載の浄水ユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【課題を解決するための手段及び作用効果】
上記目的を達成するために、本件請求項１にかかる発明は、原水導入部と、原水導入部に連通し原水を浄化する浄化部と、同浄化部にて浄化された浄化水を吐出する吐水部とを有する浄水ユニットであって、
前記浄化部は、粉粒状吸着材を主成分とする固形多孔質成形体とポッティング材により開口端が固定された中空糸膜とを有し、前記固形多孔質成形体の外周面が不織布により被覆されており、前記固形多孔質成形体の被覆された面の少なくとも一部が原水導入部であり、
前記吐水部がポッティング材により固定された前記中空糸膜の開口端であり、前記中空糸膜の充填密度σが２５〜５８％であることを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
なお、中空糸膜の充填密度とは、浄水ユニットの中空糸膜充填空間の断面積をＳ、中空糸１本の外径断面積をＡ、中空糸膜の開口本数をＦとしたときに、次式、
充填密度σ（％）＝｛（Ａ×Ｆ）／Ｓ｝×１００
から求められる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本件請求項３に係る発明では、前記固形多孔質成形体が吸着材として活性炭を含んでなることを特徴とする。前記活性炭としては、植物質（木材、セルロース、のこくず、木炭、椰子殻炭、素灰等）、石炭質（泥炭、亜炭、褐炭、瀝青炭、無煙炭、タール等）、石油質（石油残渣、硫酸スラッジ、オイルカーボン等）、パルプ廃液、合成樹脂などを炭化し、必要に応じてガス賦活（水蒸気、二酸化炭素、空気など）、薬品賦活（塩化カルシウム、塩化マグネシウム、塩化亜鉛、リン酸、硫酸、カセイソーダ、ＫＯＨなど）したものなどが挙げられる。繊維状活性炭としては、ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）、セルロース、フェノール、石油系ピッチを原料にしたプレカーサを炭化し、賦活したものなどが挙げられる。
前記活性炭としては、充填密度（０．１〜０．５ｇ／ｍｌ）、ヨウ素吸着量５００〜４０００ｍｇ／ｇ、粒度（０．０４５〜６．３ｍｍ）の性状をもつものが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
更に、前記固形多孔質成形体は抗菌剤も含んでなることを特徴とする。抗菌剤としては、無機系の場合、ゼオライト０．シリカ・リン酸カルシウム・アルミナなど無機化合物の担体と、銀・銅・亜鉛・ニッケル・カドミウムなどの金属を担持させたものがあり、有機系の場合、チアベンダゾール（ＴＢＺ）・ジンクピリチオン・塩化ベンザルコニウム・第４級アンモニウム塩・有機シリコン第４級アンモニウム塩等、さらに天然系の場合、ヒノキチオール（ヒノキ）・ワサオーロ（ワサビ）・キトサン（カニ・エビ）などが挙げられる。中でも銀が好適に用いられる。このような抗菌剤を固形多孔質成形体に含有させることにより、細菌や微生物の繁殖を抑制することができる。  
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
本件請求項５に係る発明によれば、前記固形多孔質成形体は中空の筒形状をなし、その中空部に前記中空糸膜が充填されてなることを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
前記中空糸膜を前記中空部に充填する方法として、例えば、周壁に多数の孔を有する円筒体からなるモジュールケースに中空糸膜をポッティング固定した中空糸膜モジュールを、前記中空部に嵌挿することができる。更に、中空糸膜モジュールが嵌挿された前記固形多孔質成形体の端面にキャップを嵌めて密着固定させることもできる。なお、このモジュールケースは前記中空糸膜の全長にわたって延在する長さであってもよく、或いは、少なくともポッティング部分に延在する長さであってもよい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
更に、本件発明は、前記固形多孔質成形体の外周面が不織布により被覆されていることを特徴としている。例えば、前記吸着材として活性炭を採用し、バインダーにより固めた場合では、粉粒状の活性炭が脱落はしにくいものの、浄水ユニットの取替え時に手で触ったときに活性炭が手に付着しやすい。外周面を不織布により被覆することでかかる不具合をなくすことができると共に、不織布による原水の濾過機能を付与することができるため、中空糸膜による濾過機能の負担を更に軽減することができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
本件請求項６に係る発明によれば、前記固形多孔質成形体は中空の筒形状をなし、その外周に前記中空糸膜が配されてなることを特徴とする。この場合には、中空の筒形状をなす固形多孔質成形体の内周面の全面を原水導入部とすることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月5日(2008.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】    【請求項１】シリコン基板、ガラス基板又はポリイミド膜の中から選択される２枚の基板を接合し、接合面のいずれかの一面に接合面に沿って浅溝を凹設してなり、各シリコン基板に設けられた貫通孔が、前記浅溝を介してのみ連通するようにしてなるとともに、いずれか一方の基板の貫通孔の前記凹設された浅溝への連接部の近傍を撥水性にしてなるを特徴とする気液分離膜。    【請求項２】シリコン基板、ガラス基板又はポリイミド膜の中から選択される２枚の基板からなり、一の基板には貫通孔を複数細長スリット状に設け、該基板の片面に各細長スリット間にスリットに対して直角方向に複数の浅溝を凹設せしめ、他の基板には２枚を重ね合わせた際に、一のスリットと重なり合わない位置に貫通孔を細長スリット状に設けて、一の基板の浅溝を凹設した面を重なり面として両基板を接合し、一の基板の貫通孔と前記凹設された浅溝への連接部の近傍に撥水性処理を施したことを特徴とする請求項１に記載の気液分離膜。【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】（３）二枚のシリコン基板のうち、片面に浅溝を凹設したシリコン基板に対して浅溝を凹設した面の反対側からプラズマＣＶＤ処理などを施して貫通孔の凹設された浅溝への連接部を撥水性にする。（４）二枚のシリコン基板を片面に浅溝を凹設した面を接合面として、すでに知られた接合方法で接合する。ここで貫通孔の大きさや形状、その数は、シリコン基板の機械的な強度が失われない程度であってセンサの隔膜として使用な程度に有効面積を有しているならば、特に限定はない。 また、シリコン基板に限らず、平坦な面を有する堅牢な材料であって、サブミクロンのレベルでその面に浅溝を穿つことができる材料として、ガラス基板やポリイミド膜などを用いても、同様な気液分離膜を作製することができる。さらには、接合する２枚の基板は、それぞれ異なる材質の基板を選択し組み合わせることもできる。【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】また請求項２の気液分離膜では、二枚の基板に設ける貫通孔を細長のスリット孔とする。つまり、一の基板には貫通孔を複数スリット状に設け、該基板の片面に各細長スリット間にスリットに対して直角方向に複数の浅溝を凹設せしめる。この基板の浅溝を凹設していない反対側の面の貫通孔の部分に、プラズマＣＶＤ法でフッ化ビニリデンを既に知られた手法で撥水性処理を施す。他の基板には２枚を重ね合わせた際に、一の基板の細長スリットと重なり合わない位置に貫通孔を細長スリット状に設けて、一の基板の浅溝を凹設した面を重なり面として両基板をすでに知られた接合方法のうち、好適な方法である有機接着剤接合方法で接合した。【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】基本的な構造と製造方法は請求孔１の気液分離膜と同様であるが、広くガスの透過面を形成できるとともに、貫通孔としての細長スリットと直角方向に交差するかたちで細長に浅溝を凹設するので、２枚の基板を重ね合わせたとき、各基板に形成された貫通孔は確実に凹設された浅溝で連通し、かつ両基板の貫通孔同士が直接、重なりあってリークを生じる危険性がないという特徴がある。この発明による気液分離膜をシリコン基板を選択して作成した場合は、シリコン基板を材料としているので、作用極やセンサボディなどもシリコン基板で作成することによって、センサ全体を組み立てる場合の気液分離膜との接合も、シリコン同士の接合となり、製造プロセスが単純になる。【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】      【発明の効果】この発明によれば、（１）貫通孔を形成した基板を二枚重ね合わせて、この接合面にガスの透過する面を高い精度でサブミクロンレベルの面エッチンング加工を施し、この狭いギャップを気体の透過する経路として、貫通孔を連通させるようにして、貫通孔の近傍には撥水性処理を施しているので、確実に気液分離特性を与えることができる。（２）この気液分離膜の作成方法はいわゆる半導体製造技術に基づいているので、微細なセンサの隔膜にも容易に接合することが可能であり、大量生産も可能である。（３）従来のシリコン基板に気体の透過孔を開穿する方法と較べて、基板の面にサブミクロンレベルの気体が透過する浅溝を凹設するので、使用する基板は１００μｍのレベルであって、センサに接合した場合のたわみなどに懸念がなく、しかも２枚張り合わせて用いるために、構造的にも堅牢である。などの効果を確認することができる。【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】この実施形態ではシリコン基板を用いてこの片面にサブミクロンレベルの浅溝を凹設する加工を既知のエッチング加工を施して気液分離膜を作製した。シリコン基板に限らず、平坦な面を有する堅牢な材料であって、サブミクロンのレベルでその面に浅溝を穿つことができる材料として、例えばガラス基板やポリイミド膜などを用いても、同様な気液分離膜を作製することが可能である。さらには浅溝を凹設する基板をシリコン基板で作製し、このシリコン基板を接合される基板としてシリコン基板以外のガラス基板や、ポリイミド膜などを選ぶ組み合わせも可能である。また請求項２において、二つの基板に開穿スリットは細長状としたが、円周状として、凹設する浅溝を円周の中心から放射状に形成するなど、請求項１の範囲で多くの設計が可能である。貫通孔の近傍に撥水性を付与する方法として、発明の実施の形態では、プラズマＣＶＤ法などでフッ化ビニリデンなど撥水性の化合物を堆積し、導入する方法を採用したが、この方法に限定されず、表面を多孔構造にするなど幾何学的構造を変化させて撥水性を付与しても良い。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月22日(2008.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  複数の中空糸膜がポッティング材により固定された中空糸膜モジュールであって、複数の中空糸膜が拘束部材にて収束された固定部分を有し、かつ該固定部分と、その近傍における中空糸膜の非固定部分とにわたる領域において、該固定部分と該非固定部分の外表面に可撓性部材層を有することを特徴とする中空糸膜モジュール。
【請求項２】  該可撓性部材は、一液硬化型ウレタン樹脂からなることを特徴とする、請求項１記載の中空糸膜モジュール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、井戸水・水道水等の上水の浄化、生活排水・産業排水等の下排水の
浄化、工業プロセス等における固液分離に用いる、中空糸膜モジュールに関するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
すなわち、本発明の要旨は、複数の中空糸膜がポッティング材により固定された中空糸膜モジュールであって、複数の中空糸膜が拘束部材にて収束された固定部分を有し、かつ該固定部分と、その近傍における中空糸膜の非固定部分とにわたる領域において、該固定部分と該非固定部分の外表面に可撓性部材層を有することを特徴とする中空糸膜モジュールにある。
これにより、座屈応力の集中を緩和するのみならず、中空糸膜の固定部分近傍での膜間への異物の侵入を防ぎ、中空糸膜が損傷することを確実に防止できる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月15日(2008.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  アンモニアを固定化するアンモニア固定化剤と、アンモニア固定化剤を担持する担体とを有する吸着剤において、銀イオンを含む水系媒体中でアンモニア固定化剤を担体に担持させたことを特徴とする吸着剤。
【請求項２】  前記水系媒体には硫酸銀及び硝酸銀の少なくともいずれかを含むことを特徴とする請求項１記載の吸着剤。
【請求項３】  前記アンモニア固定化剤は無機酸塩であることを特徴とする請求項１記載の吸着剤。
【請求項４】  前記無機酸塩は硫酸アルミニウム及び硝酸アルミニウムの少なくともいずれかを含むことを特徴とする請求項３記載の吸着剤。
【請求項５】  前記担体はけいそう土、シリカ、アルミナ、シリカとアルミナの混合物、ケイ酸アルミニウム、活性アルミナ、多孔質ガラス、活性白土、活性ベントナイト、合成ゼオライト、及び活性炭の中から選ばれる少なくとも一種を含む粉末であることを特徴とする請求項１記載の吸着剤。
【請求項６】  けいそう土、シリカ、アルミナ、シリカとアルミナの混合物、ケイ酸アルミニウム、活性アルミナ、多孔質ガラス、活性白土、活性ベントナイト、合成ゼオライト、及び活性炭の中から選ばれる少なくとも一種からなる担体に、硫酸アルミニウム及び硝酸アルミニウムの少なくともいずれか一方又は両方と、硫酸銀及び硝酸銀の少なくともいずれか一方又は両方とを添着させた吸着剤。
【請求項７】  通気路内に吸着剤を支持するための支持体の表面に請求項１〜６のいずれか一項に記載の吸着剤を有する空気浄化フィルタ。
【請求項８】  前記支持体はハニカム構造体であることを特徴とする請求項７記載の空気浄化フィルタ。
【請求項９】  アンモニアを固定化するアンモニア固定化剤と、このアンモニア固定化剤を担持する担体と、この担体を表面に有する支持体とから構成される空気浄化フィルタを製造する方法において、
銀イオンを含む水系媒体中で前記アンモニア固定化剤と前記担体と前記支持体の材料とを混合し、この混合物を所定の形状に成形することを特徴とする空気浄化フィルタの製造方法。
【請求項１０】  アンモニアを固定化するアンモニア固定化剤と、このアンモニア固定化剤を担持する担体と、この担体を表面に有する支持体とから構成される空気浄化フィルタを製造する方法において、
銀イオンを含む水系媒体中で前記アンモニア固定化剤と前記担体とを混合し、この水系媒体中に前記支持体を浸漬し、水系媒体から支持体を取り出して乾燥させることを特徴とする空気浄化フィルタの製造方法。
【請求項１１】  アンモニアを固定化するアンモニア固定化剤と、このアンモニア固定化剤を担持する担体と、この担体を表面に有する支持体とから構成される空気浄化フィルタを製造する方法において、
前記アンモニア固定化剤と銀イオンとを含む水系媒体に前記担体を表面に固着させた支持体を浸漬し、水系媒体から支持体を取り出して乾燥させることを特徴とする空気浄化フィルタの製造方法。
【請求項１２】  前記水系媒体には硫酸銀及び硝酸銀の少なくともいずれかを含むことを特徴とする請求項９〜１１のいずれか一項に記載の空気浄化フィルタの製造方法。
【請求項１３】  前記アンモニア固定化剤は無機酸塩であることを特徴とする請求項９〜１１のいずれか一項に記載の空気浄化フィルタの製造方法。
【請求項１４】  前記無機酸塩は硫酸アルミニウム及び硝酸アルミニウムの少なくともいずれかを含むことを特徴とする請求項１３記載の空気浄化フィルタの製造方法。
【請求項１５】  前記担体はけいそう土、シリカ、アルミナ、シリカとアルミナの混合物、ケイ酸アルミニウム、活性アルミナ、多孔質ガラス、活性白土、活性ベントナイト、合成ゼオライト、及び活性炭の中から選ばれる少なくとも一種を含む粉末であることを特徴とする請求項９〜１１のいずれか一項に記載の空気浄化フィルタの製造方法。
【請求項１６】  前記支持体はハニカム構造体であることを特徴とする請求項９〜１１のいずれか一項に記載の空気浄化フィルタの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月18日(2008.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  超音波信号を送受波する複数の振動子からなる探触子と、該振動子が受波した受波信号にそれぞれの振動子位置で受信する目標物体からの波面の入射時刻に対応する遅延を与えるデジタル遅延手段と、デジタル遅延後の受波信号間の位相差を補正する位相差補正手段と、該位相差補正後の受波信号を加算し超音波像を生成する信号処理手段とを有する超音波装置において、
前記整相差補正手段は、前記受波信号の強度を計測する手段と、前記受波信号強度の計測結果に基づいて前記整相差の補正領域を可変する手段とを備え、前記位相差補正手段は前記補正領域内の受波信号間の位相差を補正することを特徴とする超音波装置。
【請求項２】  請求項１記載の超音波装置において、
前記整相差補正手段は、前記探触子と前記測定対象との相対的な位置変動を監視する手段と、該監視出力に基づいて前記整相差補正の有無を選択する手段と、前記受波信号の強度を計測する手段と、前記受波信号強度の計測結果に基づいて前記整相差の補正領域を可変する手段とを備えたことを特徴とする超音波装置。
【請求項３】  請求項１または２に記載の超音波装置において、
前記補正領域を示すフレーム像を前記超音波像と同一の領域に表示させる手段を備えたことを特徴とする超音波装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
（１）超音波信号を送受波する複数の振動子からなる探触子と、該振動子が受波した受波信号にそれぞれの振動子位置で受信する目標物体からの波面の入射時刻に対応する遅延を与えるデジタル遅延手段と、デジタル遅延後の受波信号間の位相差を補正する位相差補正手段と、該位相差補正後の受波信号を加算し超音波像を生成する信号処理手段とを有する超音波装置において、前記整相差補正手段は、前記受波信号の強度を計測する手段と、前記受波信号強度の計測結果に基づいて前記整相差の補正領域を可変する手段とを備え、前記位相差補正手段は前記補正領域内の受波信号間の位相差を補正する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
（２）前記整相差補正手段は、前記探触子と前記測定対象との相対的な位置変動を監視する手段と、該監視出力に基づいて前記整相差補正の有無を選択する手段と、前記受波信号の強度を計測する手段と、前記受波信号強度の計測結果に基づいて前記整相差の補正領域を可変する手段とを備えた。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
（３）前述した（１）または（２）に記載の超音波装置において、前記補正領域を示すフレーム像を前記超音波像と同一の表示領域に表示させる手段を備えた。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
前述した（１）または（２）の手段によれば、まず、強度計測手段が位相差補正に値する受波信号強度の部分を検索し、この結果に基づいて、補正領域可変手段が超音波像中での補正領域を特定し、この特定された補正領域に属する超音波ビーム及び探触子の当接位置からの深度を特定する。次に、位相差補正手段が特定された補正領域内のみの受波信号間の位相差を補正するので、受波信号のＳ／Ｎの低下した領域でのパルス波面のズレ補正に伴う画像の低下を防止できる。また、補正領域可変手段が特定した特定領域内のみの相関演算を行う構成となるので、不均一媒質を超音波が伝搬することによるパルス波面の歪み補正に伴う演算負荷を低減することができる。その結果、速やかに測定対象部位の超音波像を得ることが可能となるので、診断効率を向上することができ、検者にかかる負担を低減させることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
前述した（２）または（３）の手段によれば、目標物体に対する探触子の移動を監視する監視手段の監視出力に基づいて、判定手段が整相差補正の有無を判定する。この判定の後に、整相差補正手段が測定対象を媒質均一とした遅延時間を設定するかあるいは媒質不均一に起因するパルス波面のずれを補正した遅延時間を設定するかを制御する構成となっている。一方、強度計測手段が位相差補正に値する受波信号強度の部分を検索し、この結果に基づいて、補正領域可変手段が超音波像中での補正領域を特定し、該特定領域の超音波ビーム及び探触子の当接位置からの深度を特定する。次に、位相差補正手段が特定された補正領域内の受波信号間の位相差を補正する。その結果、不均一媒質を超音波が伝搬することによるパルス波面の歪み補正の有無を自動的に選択することができると共に、受波信号のＳ／Ｎの低下した領域でのパルス波面のズレ補正に伴う画像の低下を防止できるという効果を奏することができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
被検体内で反射され振動子１０１に入射した超音波（反射パルス）は、振動子１０１によって電気信号であるアナログの受波信号に変換された後に、送受信手段１０２に出力される。送受信手段１０２は、前述の文献１に示すように、まず入力されたアナログの受波信号をオーバーサンプリングのＡ／Ｄ変換によってデジタルの受波信号に変換する。次に、送受信手段１０２は、デジタルの受波信号の周波数を低周波へ移動した後に、累加算処理しデジタル遅延手段１０３に出力することによって、各振動子１０１が受波した反射パルスの取り込み精度であるＡ／Ｄ変換時の実効的精度を向上させた受波信号をデジタル遅延手段１０３に出力する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月8日(2008.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検体に超音波を送受波する超音波探触子と、
この超音波探触子を駆動するとともに前記被検体からの複数方向から発生した計測ビーム信号を受波する手段と、
前記計測ビーム信号から前記被検体の断層像（Ｂモード像）及びＭモード像を生成する画像生成手段と、
前記生成されたＢモード像及びＭモード像の少なくとも一方を表示する表示手段と、
前記表示手段に表示された画像上に、Ｍモード用サンプルラインを設定するサンプルライン設定手段と、
を備えた超音波診断装置において、
前記Ｂモード画像の表示角度を設定する表示角度設定手段を備え、
前記画像生成手段は、前記設定された前記Ｂモード画像の表示角度に対応して前記計測ビーム信号を用いた補間演算によって前記Mモード像を生成することを特徴とする超音波診断装置。
【請求項２】
前記表示角度設定手段は、前記超音波の送受信繰り返し周波数とフレームレートにより設定することを特徴とする請求項１に記載の超音波診断装置。
【請求項３】
前記補間演算に用いる補間係数は、前記計測ビーム信号に加える仮想ビーム（仮想走査線）信号に応じて設定することを特徴とする請求項１に記載の超音波診断装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
（１）被検体に超音波を送受波する超音波探触子と、
この超音波探触子を駆動するとともに前記被検体からの複数方向から発生した計測ビーム信号を受波する手段と、前記計測ビーム信号から前記被検体の断層像（Ｂモード像）及びＭモード像を生成する画像生成手段と、前記生成されたＢモード像及びＭモード像の少なくとも一方を表示する表示手段と、前記表示手段に表示された画像上に、Ｍモード用サンプルラインを設定するサンプルライン設定手段と、を備えた超音波診断装置において、前記Ｂモード画像の表示角度を設定する表示角度設定手段を備え、前記画像生成手段は、前記設定された前記Ｂモード画像の表示角度に対応して前記計測ビーム信号を用いた補間演算によって前記Mモード像を生成する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
演算制御部１０２は、予め設定された補間条件に基づいた補間係数を信号処理部１０３に供給する手段であり、例えば、現在計測されたビーム位置Ｒ１と先に計測されたビーム位置Ｒ０とから２本の補間ビームを内挿する場合には、演算制御部１０２は補間係数ａ，ｂ，ｃ，ｄを出力する構成となっている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
信号処理部１０３は、例えば、本実施の形態の超音波診断装置を構成する情報処理装置上で動作するプログラムによって実現可能であり、超音波信号選択部１００から入力される隣接ビーム位置における受波信号から予め設定された補間ビーム位置における受波信号を補間演算によって内挿する手段である。特に、本実施の形態の信号処理部１０３は、演算制御部１０２から入力される補間係数に基づいた受波信号の補間を行う。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
図４の（ａ）に示す信号処理部１０３では、第１〜４の乗算器４０１ａ〜４０１ｄは、超音波信号選択部１００から出力される最新の計測値であるビーム位置Ｒ１の受波信号あるいは前回の計測値であるビーム位置Ｒ０の受波信号と、演算制御部１０２から出力される補間係数ａ〜ｄとのベクトル積を計算する周知のベクトル演算器である。また、第１，２の加算器４０２ａ，４０２ｂは、それぞれ第１の乗算器４０１ａからの出力と第２の乗算器４０１ｂからの出力とのベクトル和を計算する、あるいは第３の乗算器４０１ｃからの出力と第４の乗算器４０１ｄからの出力とからベクトル和を計算する周知のベクトル演算器である。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年12月5日(2007.12.5)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  物品からガスまたは蒸気化学種を取り除くために消毒システムの真空チャンバの内部の低周波プラズマに与えられる、０ｋＨｚ乃至約２００ｋＨｚの周波数を有する電力を制御可能に調整する低周波電力フィードバック制御システムを備える消毒システムであって、当該低周波電力フィードバック制御システムが、
前記真空チャンバの内部の前記低周波プラズマに与えられる電力を示す第１の信号を生成するのに適した電力モニタと、
前記電力モニタからの前記第１の信号に応じて第２の信号を生成するのに適した電力制御モジュールと、
前記物品が処理されている間に、前記低周波プラズマに与えられるほぼ一定の平均電力を持続するために、前記第２の信号に応じて、前記低周波プラズマに与えられる電力を調整するのに適した電力制御器と
を備える消毒システム。
【請求項２】  物品からガスまたは蒸気化学種を取り除くために消毒システムの真空チャンバの内部の低周波プラズマに与えられる、０ｋＨｚ乃至約２００ｋＨｚの周波数を有する電力を制御可能に調整する方法であって、
前記真空チャンバの内部の前記低周波プラズマに与えられる電力を監視することと、
前記低周波プラズマに与えられる電力を示す第１の信号を生成することと、
前記物品が処理されている間に、前記低周波プラズマに与えられるほぼ一定の平均電力を持続するために、前記第１の信号に応じて、前記低周波プラズマに与えられる電力を調整することとを含む方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６３】
（１１）前記電力制御器は、前記電力制御モジュールからの前記第２の信号に応じて、前記低周波プラズマに与えられる電力のデューティ比を調整するのに適することを特徴とする請求項１に記載の低周波電力フィードバック制御システム。
（１２）前記電力制御器は、前記電力制御モジュールからの前記第２の信号に応じて、前記低周波プラズマに与えられる電力の振幅を調整するのに適することを特徴とする請求項１に記載の低周波電力フィードバック制御システム。
（１３）前記電力は０ｋＨｚ乃至約１０ｋＨｚの周波数を有することを特徴とする請求項１に記載の低周波電力フィードバック制御システム。
（１４）前記電力は０Ｈｚ乃至約４００Ｈｚの周波数を有することを特徴とする請求項１に記載の低周波電力フィードバック制御システム。
（１５）前記低周波プラズマに与えられる前記電力を監視することは、前記低周波プラズマに与えられる電流を監視することと、前記電流を示す第２の信号を生成することと、前記低周波プラズマに与えられる電圧を監視することと、前記電圧を示す第３の信号を生成することとを含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６４】
（１６）前記第２の信号および前記第３の信号に応じて、前記第１の信号を生成することを行うことを特徴とする実施態様（１５）に記載の方法。
（１７）前記低周波プラズマに与えられる電力を調整することは、前記低周波プラズマに与えられる電力のデューティ比を調整することを含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
（１８）前記低周波プラズマに与えられる電力を調整することは、前記低周波プラズマに与えられる電力の振幅を調整することを含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
（１９）前記電力は０ｋＨｚ乃至約１０ｋＨｚの周波数を有することを特徴とする請求項１に記載の低周波電力フィードバック制御システム。
（２０）前記電力は０Ｈｚ乃至約４００Ｈｚの周波数を有することを特徴とする請求項１に記載の低周波電力フィードバック制御システム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月17日(2008.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  画像入力手段により撮影された被検体の実写画像を出力する第１の画像出力手段と、
上記画像入力手段および被検体の位置姿勢を検出する３次元位置姿勢計測手段と、
上記３次元位置姿勢計測手段からの位置姿勢情報を用いて、予め記録された被検体のデータより被検体のデータ像を生成し出力する第２の画像出力手段と、
上記第１の画像出力手段および上記第２の画像出力手段と接続され、上記第１の画像出力手段および上記第２の画像出力手段から出力された被検体の出力画像を重畳して表示する画像表示手段とを有し、
上記第２の画像出力手段の出力する被検体の領域は、上記第１の画像出力手段の出力する被検体領域よりも広いことを特徴とする医用画像表示装置。
【請求項２】  上記画像表示手段は第１の表示領域と、上記第１の表示領域の周囲に配置された第２の表示領域とを有し、
上記第１の画像出力手段からの画像出力は上記第１の表示領域に表示され、上記第２の画像出力手段からの画像出力は上記第２の表示領域に表示されることを特徴とする請求項１に記載の医用画像表示装置。
【請求項３】  上記第１の表示領域と上記第２の表示領域は境界部分に重複する部分を有していることを特徴とする請求項２に記載の医用画像表示装置。
【請求項４】  上記画像表示手段は第１の表示領域と上記第１の表示領域の周囲に配置された第２の表示領域とを有し、
上記第１の画像出力手段からの画像出力は上記第１の表示領域に表示され、上記第２の画像出力手段からの画像出力は上記第１の表示領域ではデータ像の輪郭のみを表示し、上記第２表示領域ではデータ像全体を表示することを特徴とする請求項１に記載の医用画像表示装置。
【請求項５】  上記第２の画像出力手段から出力される被検体データ像はワイヤフレーム像であることを特徴とする請求項１に記載の医用画像表示装置。
【請求項６】  上記第２の画像出力手段から出力される被検体データ像は、被検体を点で描画した像であることを特徴とする請求項１に記載の医用画像表示装置。
【請求項７】  上記第２の画像出力手段から出力される被検体データ像は、第１の画像出力手段からの画像を透過して表示するサーフェス画像であることを特徴とする請求項１に記載の医用画像表示装置。
【請求項８】  画像入力手段により被検体の実写画像を入力する工程と、
上記画像入力手段および被検体の３次元位置姿勢を検出する工程と、
検出された上記画像入力手段および被検体の３次元位置姿勢を用いて予め記録された被検体のデータより被検体のデータ像を生成する工程と、
上記被検体の実写画像およびデータ像を重畳して画像を表示する工程とを有し、
上記データ像が表示される被検体領域は、上記実写画像が表示される領域よりも広いことを特徴とする医用画像表示方法。
【請求項９】  上記実写画像は画像表示領域の略中央に配置された第１の表示領域に表示され、上記データ像は上記第１の表示領域の周辺に設けられた第２の表示領域に表示されることを特徴とする請求項８に記載の医用画像表示方法。
【請求項１０】  上記第１の表示領域と上記第２の表示領域は境界部分に重複する部分を有していることを特徴とする請求項９に記載の画像表示方法。
【請求項１１】  上記実写画像は画像表示領域の略中央に配置された第１の表示領域に表示され、上記データ像は上記第１の表示領域では画像の輪郭のみが表示され、上記第２の画像表示領域ではデータ像全体を表示することを特徴とする請求項８に記載の医用画像表示方法。
【請求項１２】  上記検出された上記画像入力手段および被検体の３次元位置姿勢を用いて予め記録された被検体のデータより被検体のデータ像を生成する工程は、ワイヤフレーム像からなるデータ像を生成することを特徴とする請求項８に記載の医用画像表示方法。
【請求項１３】  上記検出された上記画像入力手段および被検体の３次元位置姿勢を用いて予め記録された被検体のデータより被検体のデータ像を生成する工程は、被検体を点で描画したデータ像を生成することを特徴とする請求項８に記載の医用画像表示方法。
【請求項１４】  上記検出された上記画像入力手段および被検体の３次元位置姿勢を用いて予め記録された被検体のデータより被検体のデータ像を生成する工程は、上記実写画像を透過して表示するサーフェス画像を生成することを特徴とする請求項８に記載の医用画像表示方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、第５の発明は、第１の発明に記載の医用画像表示装置において、上記第２の画像出力手段から出力される被検体データ像はワイヤフレーム像である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、第６の発明は、第１の発明に記載の医用画像表示装置において、上記第２の画像出力手段から出力される被検体データ像は、被検体を点で描画した像である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、第７の発明は、第１の発明に記載の医用画像表示装置において、上記第２の画像出力手段から出力される被検体データ像は、第１の画像出力手段からの画像を透過して表示するサーフェス画像である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、第１２の発明は、第８の発明に係る医用画像表示方法において、上記検出された上記画像入力手段および被検体の３次元位置姿勢を用いて予め記録された被検体のデータより被検体のデータ像を生成する工程は、ワイヤフレーム像からなるデータ像を生成する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、第１３の発明は、第８の発明に係る医用画像表示方法において、上記検出された上記画像入力手段および被検体の３次元位置姿勢を用いて予め記録された被検体のデータより被検体のデータ像を生成する工程は、被検体を点で描画したデータ像を生成する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、第１４の発明は、第８の発明に係る医用画像表示方法において、上記検出された上記画像入力手段および被検体の３次元位置姿勢を用いて予め記録された被検体のデータより被検体のデータ像を生成する工程は、上記実写画像を透過して表示するサーフェス画像を生成する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月27日(2007.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  上ケース及び下ケースを有する床用吸込具内に、回転自在に軸支された回転ブラシと、該回転ブラシの回転軸を駆動する電動機を備えて床用吸込具において、該電動機のブラシホルダー部の開口に、ケースに設けたリブを係合させて電動機の回り止めをすることを特徴とする電気掃除機の床用吸込具。
【請求項２】  前記リブは下ケースに形成されることを特徴とする請求項１記載の電気掃除機の床用吸込具。
【請求項３】  前記リブは上ケースに形成されることを特徴とする請求項１記載の電気掃除機の床用吸込具。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月28日(2008.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ショベルのフロントブーム又はアームの被溶接面と、ブラケットの端面である厚さ方向面とを接触させ、上記フロントブーム又はアームとブラケットとの互いの接触面をレーザにより溶接するレーザ溶接方法において、
上記レーザビームのフォーカス位置を上記ブラケットの上記接触面の一方端にあわせて、上記ブラケットの厚さ方向にレーザビームを照射して、上記ブラケットの上記接触面の上記一方端から他方端に上記レーザビームを移動して溶接するレーザ溶接方法であって、
上記ブラケットの厚さ寸法は、上記ブラケットの上記接触面の他方端付近から上記他方端に向うにつれて徐々に小となる形状を有し、
上記レーザビームのフォーカス位置を、上記ブラケットの他方端に向かうにつれて徐々に遠ざけて、上記フロントブーム又はアームとブラケットとを溶接することを特徴とするレーザ溶接方法。
【請求項２】
請求項１記載のレーザ溶接方法において、上記ブラケットの、上記フロントブーム又はアームの被溶接面にほぼ直交する方向の寸法は、上記接触面の端部に向かうにつれて徐々に小となり、上記ブラケットの上記接触面に対向する上面が上記被溶接面に対して傾斜する形状を有することを特徴とするレーザ溶接方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明は次のように構成される。
（１）ショベルのフロントブーム又はアームの被溶接面と、ブラケットの端面である厚さ方向面とを接触させ、上記フロントブーム又はアームとブラケットとの互いの接触面をレーザにより溶接するレーザ溶接方法において、上記レーザビームのフォーカス位置を上記ブラケットの上記接触面の一方端にあわせて、上記ブラケットの厚さ方向にレーザビームを照射して、上記ブラケットの上記接触面の上記一方端から他方端に上記レーザビームを移動して溶接するレーザ溶接方法であって、上記ブラケットの厚さ寸法は、上記ブラケットの上記接触面の他方端付近から上記他方端に向うにつれて徐々に小となる形状を有し、上記レーザビームのフォーカス位置を、上記ブラケットの他方端に向かうにつれて徐々に遠ざけて、上記フロントブーム又はアームとブラケットとを溶接する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
（２）好ましくは、上記（１）において、上記ブラケットの、上記フロントブーム又はアームの被溶接面にほぼ直交する方向の寸法は、上記接触面の端部に向かうにつれて徐々に小となり、上記ブラケットの上記接触面に対向する上面が上記被溶接面に対して傾斜する形状を有する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月9日(2008.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
2008044952.tif 000001
［式中、ＸはＳ又はＯを表す。
Ｒ1はニトロ基、アミノ基、ヒドロキシル基、ホルミル基、カルバモイル基、シアノ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、モノ若しくはジ低級アルキルアミノ基、モノ若しくはジ低級アルカノイルアミノ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルフィニル基、スルファモイル基及びモノ若しくはジ低級アルキルスルファモイル基から選ばれる少なくとも１つの基で置換されていてもよい複素環式基を表す。
Ｒ2は、カルボキシル基、又は低級アルコキシカルボニル基で置換されている低級アルキル基を表す。
Ｒ3はニトロ基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルバモイル基、シアノ基、カルボキシル基、トリフルオロメチル基、低級アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ−低級アルコキシ基、モノ若しくはジ低級アルキルアミノ基、モノ若しくはジ低級アルカノイルアミノ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルフィニル基、スルファモイル基、モノ若しくはジ低級アルキルスルファモイル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、及びフェニル低級アルコキシ基から選ばれる少なくとも１つの基で置換されていてもよいアリール基を表す。
］
で示される含窒素５員複素環化合物又はその薬理的に許容し得る塩。
【請求項２】
Ｒ1が、ハロゲン原子、及び、低級アルコキシ基から選ばれる少なくとも１つの基で置換されているチオフェニル基であり、
Ｒ2が、カルボキシメチルであり、
Ｒ3が、ハロゲン原子、及び、低級アルコキシ基から選ばれる少なくとも１つの基で置換されているフェニル基である請求項１記載の含窒素５員複素環化合物又はその薬理的に許容し得る塩。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月8日(2008.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸水性ポリマ−・吸水凝固性ポリマ−を昆虫類に喫食させる事により、昆虫類の口器にポリマ−を凝固付着させ、昆虫類を死亡させる昆虫類の駆除方法。