Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月22日(2008.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のデータと第２のデータをホストから受信するデータ受信手段と、
記録媒体に取付けられた無線通信素子内部のメモリに前記第1のデータを書き込む情報書き込み手段と、
前記無線通信素子と通信するための通信アンテナと、
前記記録媒体表面に前記第２のデータを記録する記録ヘッドと、
前記無線通信素子との通信可能領域を識別する通信可能領域識別手段と、
を有する記録装置において、
前記通信可能領域識別手段は前記メモリへの書き込み可能領域を識別する書き込み可能領域識別手段と、
前記メモリからの読み出し可能領域を識別する読み出し可能領域識別手段をさらに有することを特徴とする記録装置。
【請求項２】
前記書き込み可能領域識別手段と前記読み出し可能領域識別手段は、所定の搬送速度で搬送される前記記録媒体の、前記メモリへの書き込み可能領域と前記メモリからの読み出し可能領域を識別することを特徴とする請求項１記載の記録装置。
【請求項３】
前記書き込み可能領域識別手段は、前記記録媒体を搬送路上所定の複数位置で停止し、前記書き込み可能領域を識別することを特徴とする請求項１記載の記録装置。
【請求項４】
前記読み出し可能領域識別手段は、前記記録媒体を搬送路上所定の複数位置で停止し、前記読み出し可能領域を識別することを特徴とする請求項１記載の記録装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
即ち本発明の記録装置は、
第１のデータと第２のデータをホストから受信するデータ受信手段と、
記録媒体に取付けられた無線通信素子内部のメモリに前記第1のデータを書き込む情報書き込み手段と、
前記無線通信素子と通信するための通信アンテナと、
前記記録媒体表面に前記第2のデータを記録する記録ヘッドと、
前記無線通信素子との通信可能領域を識別する通信可能領域識別手段と、
を有する記録装置において、
前記通信可能領域識別手段は前記メモリへの書き込み可能領域を識別する書き込み可能領域識別手段と、
前記メモリからの読み出し可能領域を識別する読み出し可能領域識別手段をさらに有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
又、本発明の記録装置の前記書き込み可能領域識別手段と前記読み出し可能領域識別手段は、所定の搬送速度で搬送される前記記録媒体の、前記メモリへの書き込み可能領域と前記メモリからの読み出し可能領域を識別することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
又、本発明の記録装置の前記書き込み可能領域識別手段は、前記記録媒体を搬送路上所定の複数位置で停止し、前記書き込み可能領域を識別することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
又、本発明の記録装置の前記読み出し可能領域識別手段は、前記記録媒体を搬送路上所定の複数位置で停止し、前記読み出し可能領域を識別することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月1日(2008.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記補正手段は、前記第２の方向に沿って並ぶように投影される投影ノズル列内で前記異常ノズルが連続して存在しない場合には、前記異常ノズルの前記第２の方向に関して前記誤差が生じている方向と反対側に隣接するノズルに対するドットデータも補正することを特徴とする請求項１又は請求項２のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２に記載の画像形成装置であって、前記補正手段は、前記第２の方向に沿って並ぶように投影される投影ノズル列内で前記異常ノズルが連続して存在しない場合には、前記異常ノズルの前記第２の方向に関して前記誤差が生じている方向と反対側に隣接するノズルに対するドットデータも補正することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月14日(2008.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
該変速機ケース６４は、クランクケース４２に連なる内側ケース６５と、該内側ケース６５を外側から覆う外側ケース６６と、外側ケース６６内で内側ケース６５の後部に締結される蓋板６７と、内側ケース６５および外側ケース６６の前部間に挟まれる減速歯車ケース６８とから成り、内側ケース６５、外側ケース６６および減速歯車ケース６８間に収容室６９が形成され、内側ケース６５および蓋板６７間には、収容室６９とは隔絶されたギヤ室７０が形成される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
ドライブプーリ７１は、クランクシャフト４６に固定された固定プーリ半体７６と、固定プーリ半体７６に対して接近・離間可能な可動プーリ半体７７とを備え、Ｖベルト７４を巻きかけるようにして固定プーリ半体７６および可動プーリ半体７７間に形成されるベルト溝７８の幅すなわち巻き掛け半径を変化せるべく前記可動プーリ半体７７を軸方向に駆動させる動力が、変速機ケース６４に取付けられる変速用電動モータ７５から減速歯車機構７９を介して前記可動プーリ半体７７に伝達される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
クランクシャフト４６の軸線方向に位置決めされるとともに軸線まわりに回転することを不能としたねじ軸１１５に螺合したスライドギヤ１１４が、変速用電動モータ７５から減速歯車機構７９を介して伝達される動力によって回転することにより、可動プーリ半体７７は、図５で示すＬＯＷ位置と、Ｖベルト７４の巻き掛け半径を大としたＴＯＰ位置との間で軸方向に移動することになり、前記支持板１１８には、ＬＯＷ位置でスライドギヤ１１４に係合することで可動プーリ半体７７のＬＯＷ位置側への移動端を規制するストッパ１１８ａが一体に設けられ、またＴＯＰ位置でスライドギヤ１１４に係合することで可動プーリ半体７７のＴＯＰ位置側への移動端を規制するストッパ１２８が変速機ケース６４の内側ケース６５に固着されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
減速歯車機構７９は、変速用電動モータ７５に同軸に連なる駆動歯車１３０と、該駆動歯車１３０に噛合する大歯車１３１および小歯車１３２がアイドル回転軸１３３に一体に設けられて成る第１のアイドル歯車１３４と、前記小歯車１３２および前記スライドギヤ１１４間に設けられる第２のアイドル歯車１３５とで構成され、第２のアイドル歯車１３５は、前記小歯車１３２に噛合する大歯車１３６と、大歯車１３６と一体に形成されてスライドギヤ１１４に噛合する大歯車１３７とが一体に設けられて成る。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
前記ギヤ１４１には、減速歯車ケース６８で回転自在に支承されるストロークセンサ軸１４２に設けられるウォーム１４３が噛合される。ストロークセンサ軸１４２は、図示しないストロークセンサに連なるものであり、ドライブプーリ７１における可動プーリ半体７７のストロークが、減速歯車機構７９の一部を構成する第２のアイドル歯車１３５の回転部分で検出されることになる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
しかも左右に分かれてエンジン本体４１の上部側面に一対のピボット部１５０…が設けられ、両ピボット部１５０…および車体フレームＦのブラケット１４９…間に、ほぼ上下に延びるリンク部材１５１が設けられるのであるが、変速用電動モータ７５が、自動二輪車を前方から見たときに前記両ピポット部１５０…間に位置するようにして前記リンク部材１５１の前方に配置されるので、両ピボット部１５０…間に対応する位置でリンク部材１５１の前方に生じている空きスペースを有効活用し、スペース効率をさらに高めることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月13日(2008.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】  
【請求項１】  少なくとも１つの一次光源と、該一次光源から発せられる光を導光し且つ前記一次光源から発せられる光が入射する光入射端面及び導光される光が出射する光出射面を有する板状の導光体とを備えており、前記光入射端面に隣接して前記一次光源が配置されている面光源装置であって、
前記導光体は、前記光出射面及びその反対側の裏面の双方または一方に光出射機構を備えており、且つ、前記光出射面及び前記裏面の双方または一方に少なくとも１つの局所的レンズ列形成部を備えており、該局所的レンズ列形成部のそれぞれは少なくとも１つの局所的レンズ列を含んでおり、
前記局所的レンズ列形成部は、その面積の合計が前記光出射面の面積の３０％以下であり、
前記局所的レンズ列は、前記一次光源から発せられ前記光入射端面に入射した光のうちの最大強度光の入射位置での輝度分布におけるピーク光の方向と異なる方向に形成されており、前記局所的レンズ列は、前記光入射端面に入射した光のうちの最大強度光の入射位置またはその近傍から、輝度分布におけるピーク輝度が９０％以下の輝度となる範囲内の方向に延びるように形成されていることを特徴とする面光源装置。
【請求項２】  前記局所的レンズ列形成部は、複数の前記局所的レンズ列を前記最大強度光の入射位置またはその近傍を中心として放射状に配列してなるものであることを特徴とする、請求項１に記載の面光源装置。
【請求項３】  前記局所的レンズ列形成部は、複数の前記局所的レンズ列を互いに平行に配列してなるものであることを特徴とする、請求項１に記載の面光源装置。
【請求項４】  前記局所的レンズ列形成部は、前記導光体の前記光入射端面の形成されている入射端縁に隣接する帯状の領域内に形成されていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の面光源装置。
【請求項５】  前記一次光源は点状光源であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の面光源装置。
【請求項６】  複数の前記点状光源が互いに離隔して配置されており、前記点状光源のそれぞれに対応して前記局所的レンズ列形成部が設けられていることを特徴とする、請求項５に記載の面光源装置。
【請求項７】  前記局所的レンズ列は頂角６０度〜１５０度の断面略三角形状のプリズム列であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載の面光源装置。
【請求項８】  前記導光体の光出射面に隣接して光偏向素子が配置されており、該光偏向素子は、前記導光体の光出射面に対向して位置する入光面とその反対側の出光面とを有しており、前記入光面または前記出光面に、前記光入射端面の形成されている入射端縁と略平行の方向に延びており且つ互いに平行な複数のレンズ列を備えていることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の面光源装置。
【請求項９】  前記導光体の前記局所的レンズ列が形成されていない領域を有効発光領域とする、請求項８に記載の面光源装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、以上の如き目的を達成するものとして、
少なくとも１つの一次光源と、該一次光源から発せられる光を導光し且つ前記一次光源から発せられる光が入射する光入射端面及び導光される光が出射する光出射面を有する板状の導光体とを備えており、前記光入射端面に隣接して前記一次光源が配置されている面光源装置であって、
前記導光体は、前記光出射面及びその反対側の裏面の双方または一方に光出射機構を備えており、且つ、前記光出射面及び前記裏面の双方または一方に少なくとも１つの局所的レンズ列形成部を備えており、該局所的レンズ列形成部のそれぞれは少なくとも１つの局所的レンズ列を含んでおり、
前記局所的レンズ列形成部は、その面積の合計が前記光出射面の面積の３０％以下であり、
前記局所的レンズ列は、前記一次光源から発せられ前記光入射端面に入射した光のうちの最大強度光の入射位置での輝度分布におけるピーク光の方向と異なる方向に形成されており、前記局所的レンズ列は、前記光入射端面に入射した光のうちの最大強度光の入射位置またはその近傍から、輝度分布におけるピーク輝度が９０％以下の輝度となる範囲内の方向に延びるように形成されていることを特徴とする面光源装置、
が提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の一態様においては、前記局所的レンズ列形成部は、複数の前記局所的レンズ列を前記最大強度光の入射位置またはその近傍を中心として放射状に配列してなるものである。本発明の一態様においては、前記局所的レンズ列形成部は、複数の前記局所的レンズ列を互いに平行に配列してなるものである。本発明の一態様においては、前記局所的レンズ列形成部は、前記導光体の前記光入射端面の形成されている入射端縁に隣接する帯状の領域内に形成されている。本発明の一態様においては、前記一次光源は点状光源である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の一態様においては、前記導光体の光出射面に隣接して光偏向素子が配置されており、該光偏向素子は、前記導光体の光出射面に対向して位置する入光面とその反対側の出光面とを有しており、前記入光面または前記出光面に、前記光入射端面の形成されている入射端縁と略平行の方向に延びており且つ互いに平行な複数のレンズ列を備えている。本発明の一態様においては、前記導光体の前記局所的レンズ列が形成されていない領域を有効発光領域とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月12日(2008.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非晶質構造を有する半導体膜を形成する第一の工程と、
前記半導体膜の表面を酸化させて酸化膜を形成する第二の工程と、
前記酸化膜を除去する第三の工程と、
前記半導体膜の結晶化を行う第四の工程と、
を有し、
前記第一の工程及び前記第二の工程は、密閉された空間を有する第一の装置内で行い、
前記第二の工程は、オゾンを用いて行う、又は酸素を導入し紫外線を照射することにより行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
非晶質構造を有する半導体膜を形成する第一の工程と、
前記半導体膜の表面を酸化させて酸化膜を形成する第二の工程と、
前記酸化膜を除去する第三の工程と、
前記半導体膜の結晶化を行う第四の工程と、
を有し、
前記第一の工程及び前記第二の工程は、密閉された空間を有する第一の装置内で行い、
前記第三の工程及び前記第四の工程は、密閉された空間を形成する第二の装置内で行い、前記第二の工程は、オゾンを用いて行う、又は酸素を導入し紫外線を照射することにより行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、前記第二の工程は、前記半導体膜の表面のボロンの濃度を２．０×１０１６／ｃｍ３以下に保持した状態で行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、前記第四の工程は、前記半導体膜の表面のボロンの濃度を２．０×１０１６／ｃｍ３以下に保持した状態で行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月16日(2008.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板を保持する保持面を有する保持盤と、該保持盤の前記保持面に真空吸着力を発生させるための真空吸着力発生部と、該真空吸着力発生部の前記真空吸着力を所定のタイミングで少なくとも２段階に変化させるための吸着力可変機構を有する基板保持装置。
【請求項２】  吸着力可変機構が、異なる真空吸着力を発生する２系統の吸着ラインと、該２系統の吸着ラインを所定のタイミングで交互に真空吸着力発生部に接続する切換手段を備えていることを特徴とする請求項１記載の基板保持装置。
【請求項３】  吸着力可変機構が、バキューム源の真空圧を異なる真空吸着力に制御する２系統の吸着ラインと、該２系統の吸着ラインを所定のタイミングで交互に前記バキューム源に接続する切換手段を備えていることを特徴とする請求項１記載の基板保持装置。
【請求項４】  切換手段が電磁弁であることを特徴とする請求項２または３記載の基板保持装置。
【請求項５】  吸着力可変機構が、バキューム源の真空圧を無段階に変化させるサーボバルブを備えていることを特徴とする請求項１記載の基板保持装置。 
【請求項６】  基板を保持する保持面を有する保持盤と、該保持盤の保持面に真空吸着力を発生させるための配管と、該配管に接続可能に構成される少なくとも２系統の吸着ラインと、各々の吸着ラインによる真空吸着力を調整するレギュレータと、前記吸着ラインを選択的に前記配管に接続する切替手段と、を備えることを特徴とする基板保持装置。
【請求項７】  基板を保持する保持面を有する保持盤と、該保持盤の保持面に真空吸着力を発生させるための配管と、前記配管に接続されるサーボバルブと、前記真空吸着力を変更するようにサーボバルブを制御する制御手段と、を備えることを特徴とする基板保持装置。
【請求項８】  真空吸着力発生部の真空吸着力によって基板を保持盤上に吸着・保持し、フォーカス位置へ移動させる基板供給工程と、前記保持盤に吸着・保持された基板を前記フォーカス位置において露光する露光工程と、前記保持盤に吸着・保持された基板を前記フォーカス位置から離間させる基板回収工程を有し、前記真空吸着力発生部に接続された吸着力可変機構によって、前記基板供給工程と前記基板回収工程における真空吸着力が、前記露光工程における真空吸着力より小さくなるように制御することを特徴とする基板保持方法。
【請求項９】  請求項１ないし７いずれか１項記載の基板保持装置と、該基板保持装置によって保持された基板を露光する露光手段を有する露光装置。
【請求項１０】  請求項８記載の基板保持方法によって保持された基板を露光する露光手段を有する露光装置。
【請求項１１】  請求項９または１０記載の露光装置によってウエハを露光する工程を有するデバイス製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月17日(2008.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ダイ取り出し位置から取り出したダイを、前記ダイ取り出し位置とは異なる高さ位置に設定されたボンディング位置でボンディングするダイボンディング装置において、
前記ダイ取り出し位置と前記ボンディング位置との高低差に応じて傾斜配置されたガイドと、
このガイドに沿って駆動可能に設けられたスライドテーブルと、
このスライドテーブルを前記ガイドに沿って前記ダイ取り出し位置と前記ボンディング位置との間で移動させる移動手段と、
前記スライドテーブルに上下方向に駆動可能に設けられ前記ダイ取り出し位置で取り出したダイを前記ボンディング位置でボンディングする保持手段と
を具備したことを特徴とするダイボンディング装置。
【請求項２】
前記ダイ取り出し位置は前記ボンディング位置よりも低いことを特徴とする請求項１記載のダイボンディング装置。
【請求項３】
前記保持手段は、前記スライドテーブルに対しボンディング方向とは反対方向に弾性的に付勢状態で支持され、
前記ボンディング位置にはリニアアクチュエータが固定配置されていて、
前記スライドテーブルの移動によってボンディング位置に位置付けられた前記保持手段が、前記リニアアクチュエータにより前記付勢力に抗してボンディング方向に移動させられることを特徴とする請求項１記載のダイボンディング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、ダイ取り出し位置から取り出したダイを、前記ダイ取り出し位置とは異なる高さ位置に設定されたボンディング位置でボンディングするダイボンディング装置において、
前記ダイ取り出し位置と前記ボンディング位置との高低差に応じて傾斜配置されたガイドと、
このガイドに沿って駆動可能に設けられたスライドテーブルと、
このスライドテーブルを前記ガイドに沿って前記ダイ取り出し位置と前記ボンディング位置との間で移動させる移動手段と、
前記スライドテーブルに上下方向に駆動可能に設けられ前記ダイ取り出し位置で取り出したダイを前記ボンディング位置でボンディングする保持手段と
を具備したことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【作用】
本発明によれば、保持手段は、ダイ取り出し位置とボンディング位置との間を、両位置の高低差に応じた傾斜角度で配置されたガイドに沿って移動するとともに、ダイ取り出し位置並びにボンディング位置において上下方向に駆動される。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月8日(2008.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】回路基板用材料およびそれを用いたＴＡＢテープ
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】少なくとも接着剤層と絶縁フィルム層を有する回路基板用材料であって、前記絶縁フィルム層の吸水率が１．２％以下、熱伝導率が０．２５Ｗ／ｍ・Ｋ以下であることを特徴とする回路基板用材料。
【請求項２】少なくとも１層の導体層と絶縁フィルム層を有する回路基板用材料であって、前記絶縁フィルム層の吸水率が１．２％以下、熱伝導率が０．２５Ｗ／ｍ・Ｋ以下であることを特徴とする回路基板用材料。
【請求項３】さらに少なくとも一層の接着剤層を有することを特徴とする請求項２記載の回路基板用材料。
【請求項４】前記絶縁フィルム層がポリイミドフィルムであることを特徴とする請求項１または２記載の回路基板用材料。
【請求項５】請求項１〜４のいずれか記載の回路基板用材料を用いたことを特徴とするＴＡＢテープ。
【請求項６】請求項５記載のＴＡＢテープを用いたことを特徴とする半導体集積回路接続用基板。
【請求項７】請求項１〜４のいずれか記載の回路基板用材料を用いたことを特徴とする半導体装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体集積回路の実装方法であるテープオートメーティッドボンディング（ＴＡＢ）方式に用いられる回路基板用材料、およびそれを用いたＴＡＢテープ、半導体集積回路接続用基板、半導体装置に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明はこのような問題点を解決し、半田耐熱性に優れた新規なテープオートメーティッドボンディング（ＴＡＢ）方式に用いられる回路基板用材料、およびそれを用いたＴＡＢテープ、半導体集積回路接続用基板、半導体装置を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
【課題を解決するための手段】
すなわち本発明の第１は、少なくとも接着剤層と絶縁フィルム層を有する回路基板用材料であって、前記絶縁フィルム層の吸水率が１．２％以下、熱伝導率が０．２５Ｗ／ｍ・Ｋ以下であることを特徴とする回路基板用材料である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また本発明の第２は、少なくとも１層の導体層と絶縁フィルム層を有する回路基板用材料であって、前記絶縁フィルム層の吸水率が１．２％以下、熱伝導率が０．２５Ｗ／ｍ・Ｋ以下であることを特徴とする回路基板用材料である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
本発明の回路基板用材料とはＴＡＢテープを製造するための材料である。接着剤層と絶縁フィルム層を有する回路基板用材料であれば、これを３５〜１５８ｍｍ程度の幅にスリットし、従来の一般的な方法で接着剤層に所定の幅の銅箔をラミネートし、さらに銅箔を所定のパターンにエッチングすることによりＴＡＢテープを製造することができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
本発明の半導体装置とは、本発明の回路基板用材料、ＴＡＢテープ、半導体集積回路接続用基板を使用し製造された半導体装置である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
表３に見られるように、本発明の回路基板用材料を使用したＴＡＢテープ（実施例１、２、３）は半田耐熱性に優れていた。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
【発明の効果】
本発明によれば、半田耐熱性に優れた新規な回路基板用材料を提供でき、本発明の回路基板用材料は、ＴＡＢテープ、半導体集積回路接続用基板に工業的に提供、使用できるものである。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月31日(2008.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
この内部短絡メカニズムにおける好適な透気抵抗度は、過充電時の高温環境下のもので、常温での透気抵抗度とは関係が無い。また、この高温時の透気抵抗度の値は、通常用いられる常温での値より大きな値となっている。通常の使用状態で透気抵抗度が大きくなると、高率放電特性などに悪影響を与える。したがって、通常使用される常温から９０℃までは、透気抵抗度は小さいままのほうが良く、４００秒／１００ｍｌ以下であるのが好ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
これは、微小な内部短絡による過充電時の異常昇温の防止には、常温時の透気抵抗度には関係が無く、高温時の透気抵抗度に関係しているからである。（表３）および（表４）から、過充電添加剤として、ジフェニルエーテル、ビス（ｐ−トリル）エーテル、および３−フェノキシトルエンを用い、セパレータをＭＤに２５ｋｇ／ｃｍ2の引っ張り荷重を与えた状態で大気中１１０℃または１２０℃の温度で１５分間保持した直後に測定した前記透気抵抗度が、１１０℃の時、３５０から７００秒／１００ｍｌであり、そして１２０℃の時、７００から２１００秒／１００ｍｌであるセパレータを使用した実施例の電池が有効であることがわかる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月19日(2008.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】    【請求項１】  ユニット数３以下のエチレンオキサイド基を有する片末端アクリロイル基変性アルキレンオキシドモノマーと、電解質塩と、誘電率が１０以下であり、かつ沸点が１５０℃以上である液状化合物とを含む液状組成物を硬化させてなり、前記モノマーが重合してなるポリマーを有することを特徴とする固体電解質。    【請求項２】  前記液状組成物に対して、前記液状化合物の含有量を１０ｗｔ％〜８０ｗｔ％とした請求項１記載の固体電解質。    【請求項３】  正極、負極および固体電解質を備えるポリマー固体電解質電池であって、  前記固体電解質が、請求項１又は２記載の固体電解質であることを特徴とするポリマー固体電解質電池。【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】    【課題を解決するための手段】  本発明は、ユニット数３以下のエチレンオキサイド基を有する片末端アクリロイル基変性アルキレンオキシドモノマーと、電解質塩と、誘電率が１０以下であり、かつ沸点が１５０℃以上である液状化合物とを含む液状組成物を硬化させてなり、前記モノマーが重合してなるポリマーを有することを特徴とする固体電解質である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月21日(2008.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｉ）入口手段（２）、細長い中空反応室（３）、及び出口手段（５）を含む反応器（１）、
ii）モノマー及び／又はオリゴマーを前記入口手段（２）に供給する供給手段（１０、２５）であって、前記入口手段（２）は反応混合物を前記反応室（３）に導入するように適合されること、並びに
iii）少なくとも１種類の粘度制御剤を前記供給手段に導入してモノマー及び／又はオリゴマーを含む反応混合物を形成する手段（１１、１３、１５、１２、１４、１６）；
を含む予め定められた粘度範囲の液体ポリマーを製造するための連続式スタティック重合反応器装置において、
前記装置が温度及び前記反応室（３）の中のあらゆる反応混合物／ポリマーの流量を実質的に一定に保つようにするように適合されること、並びに入口手段（２）と出口手段（５）の間で予め定められた圧力降下のあらゆる変動も検出して、もしそのような変動が生じたならばコンピュータ処理をして少なくとも１種類の粘度制御剤の１種類以上を前記供給手段へ導入する補償速度を制御するように適合される制御手段（２４）が設置され、前記補償速度により入口手段（２）と出口手段（５）との間の圧力降下を予め定められた値に戻させることを特徴とする前記反応器装置。
【請求項２】  少なくとも１種類の粘度制御剤を供給手段へ導入する手段が、前記制御手段（２４）から信号を受け取って処理するように適合されるポンプ（１５、１６）を含み、前記信号が前記ポンプを通る粘度制御剤の流量を示すことを特徴とする、請求項１に記載の反応器装置。
【請求項３】  前記反応室（３）が２０ないし２５０ｍｍの直径及び２５０ないし２０，０００ｍｍの長さを有する中空円筒であり、かつ前記長さが前記直径寸法の少なくとも２倍であることを特徴とする、請求項１または２に記載の反応器装置。
【請求項４】  前記制御手段（２４）が、反応室（３）の圧力降下を監視出来るコンピュータ内蔵装置であり、圧力検出手段から圧力降下情報を受け取ること、及び前記制御手段（２４）は、その受け取った情報を粘度制御剤の補償流量を計算出来る形に翻訳して各粘度制御剤をプレミキサー（１１、１２）に導入する手段（１５、１６）で補償流量を開始させるのに好適な形で計算結果を詳しく説明する信号を送ることが出来るようにプログラム化されることを特徴とする、請求項１ないし３のいずれか１項に記載の反応器装置。
【請求項５】  前記圧力検出手段が、入口手段（２）と出口手段（５）との間の圧力降下の値を定期的又は連続的に検出出来るマノメーター、及び前記値を制御手段へ送信するように適合される圧力送信器を含むことを特徴とする、請求項４に記載の反応器装置。
【請求項６】  １種以上の粘度制御剤を、いろいろな速度でモノマー及び／又はオリゴマー流に加えて反応混合物を生成すること、
前記反応混合物を入口手段（２）から反応室（３）へ供給すること、
前記反応室（３）の中で前記反応混合物／ポリマーを重合させた後、得られたポリマーを重合反応器の出口手段（５）で収集すること
を含む重合反応器の中で予め定められた粘度範囲の液体ポリマーを製造する方法において、
反応混合物／ポリマー流量及び温度は実質的に一定値で維持されること、並びに前記入口手段（２）と出口手段（５）との間の圧力降下値は、予め定められた値から前記圧力降下の変動を検出するために適合される制御手段によって監視され、そのような変動が生じたらコンピュータ処理して少なくとも１種類の粘度制御剤の1種類以上を導入する補償速度を制御することであって、前記補償速度によって入口手段（２）と出口手段（５）との間の圧力降下は予め定められた値に戻させることを特徴とする前記方法。
【請求項７】  前記ポリマーが、シリコン結合型−ＯＲラジカルを有するオルガノシリコン化合物の重合によって作られる液体オルガノシロキサン物質である（式中、Ｒは水素原子、又は最大６個の炭素原子を有するアルキル基を表す、但し、Ｒ基の少なくとも幾つかは水素原子である）ことを特徴とする、請求項６に記載の方法。
【請求項８】  前記粘度制御剤が、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｎ−ヘキシルアミン、テトラメチルグアニジン、ルビジウム又はセシウムのカルボン酸塩、マグネシウム、カルシウム又はストロンチウムの水酸化物、一般式［Ｘ（ＰＸ2＝Ｎ）sＰＸ3］+［ＭＸ(v-t+1)ＲIIIt］-（式中、Ｘはハロゲン原子を示し、ＭはＰａｕｌｉｎｇのスケールによる１．０ないし２．０の電気陰性度を有する元素であり、ＲIIIは最大１２個の炭素原子を有するアルキル基であり、ｓは１ないし６の値であり、ｖはＭの原子価、即ち酸化状態であり、そしてｔは０ないしｖ−１の値である）を有するホスホニトリルクロライド触媒から選ばれる触媒のような活性化剤であることを特徴とする、請求項６又は７に記載の方法。
【請求項９】  加えられる粘度制御剤の濃度の調整量が次式の関数であることを特徴とする、請求項６又は７に記載の方法。
【数１】
2002121287.tif 000001
（式中、ＯＶは最大ポンプ流量のパーセンテージであり、ＰＢは比例帯幅であり、ＳＰは設定点値であり、ＰＶはプロセス値であり、そしてＴDは時間差である）。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月19日(2008.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリオレフィンフィルム中にポリエーテルエステルアミドまたはポリエーテルエステルアミドを含む組成物を配合することからなる、ポリオレフィンフィルムにおけるダスト付着を減少させる方法。
【請求項２】
ポリオレフィンが、ポリエチレン（ＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）または線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）または線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、あるいは低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）または線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）／エチレン−アクリル酸ブチルコポリマー（ＥＢＡ）である、請求項１記載の方法。
【請求項３】
ポリオレフィンフィルムが、外側の少なくとも一層がポリエーテルエステルアミドまたはポリエーテルエステルアミドを含む組成物を含む３ないし５層の同時押出フィルムである、請求項１記載の方法。
【請求項４】
ポリエーテルエステルアミド組成物が、
ａ）繊維状ポリアミド  ２０ないし８０部、
ｂ）ポリエーテルエステルアミド  ８０ないし２０部、および
ｃ）ＮａＣｌＯ4  １ないし５部
からなり、成分ａ）、ｂ）およびｃ）の合計が１００部である、請求項１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月6日(2008.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子量の乳酸重合体を加水分解し、得られた加水分解生成物を含む溶液を、アルコール類、鎖状エーテル類又は脂肪族炭化水素に接触させ、析出物を分離、取得することを特徴とする、重量平均分子量約５０００以下の重合体含有量が約５重量％以下である、重量平均分子量１５０００〜５００００の乳酸重合体の製造方法。
【請求項２】
アルコール類、鎖状エーテル類又は脂肪族炭化水素がメタノール、エタノール、イソプロピルエーテル又はヘキサンである、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
アルコール類、鎖状エーテル類又は脂肪族炭化水素がイソプロピルエーテルである、請求項１に記載の製造方法。
【請求項４】
高分子量の乳酸重合体を、ハロゲン化炭化水素又は芳香族炭化水素に溶解した後、加水分解する、請求項１記載の製造方法。
【請求項５】
ハロゲン化炭化水素又は芳香族炭化水素が、クロロホルム、ジクロロメタン、トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン又はｐ−キシレンである、請求項４に記載の製造方法。
【請求項６】
高分子量の乳酸重合体の重量平均分子量が、１５０００〜５０００００である請求項１〜５の何れかに記載の製造方法。
【請求項７】
高分子量の乳酸重合体の重量平均分子量が、３００００〜１０００００である請求項１〜５の何れかに記載の製造方法。
【請求項８】
高分子量の乳酸重合体が溶液重合により得られたものである、請求項１〜７の何れかに記載の方法。
【請求項９】
得られた乳酸重合体の重量平均分子量が、１５０００〜３００００である請求項１〜８の何れかに記載の製造方法。
【請求項１０】
得られた乳酸重合体の重量平均分子量が、２００００〜２５０００である請求項１〜８の何れかに記載の製造方法。
【請求項１１】
加水分解生成物含有溶液が、ハロゲン化炭化水素及び芳香族炭化水素から選ばれた溶媒に、高分子量乳酸重合体を加水分解した後の重量平均分子量が１５０００〜５００００の乳酸重合体の加水分解生成物を１０〜５０重量％溶解しているものである請求項１に記載の製造方法。
【請求項１２】
高分子量の乳酸重合体を加水分解反応し、得られた加水分解生成物を含む溶液を、アルコール類、鎖状エーテル類又は脂肪族炭化水素に接触させ、析出物を分離することを特徴とする、乳酸重合体に含有する重量平均分子量約５０００以下の重合体を除去する方法。
【請求項１３】
アルコール類、鎖状エーテル類又は脂肪族炭化水素がメタノール、エタノール、イソプロピルエーテル又はヘキサンである、請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１４】
アルコール類、鎖状エーテル類又は脂肪族炭化水素がイソプロピルエーテルである、請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１５】
高分子量の乳酸重合体を、ハロゲン化炭化水素又は芳香族炭化水素に溶解した後、加水分解する、請求項１２記載の製造方法。
【請求項１６】
ハロゲン化炭化水素又は芳香族炭化水素が、クロロホルム、ジクロロメタン、トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン又はｐ−キシレンである、請求項１５に記載の製造方法。
【請求項１７】
高分子量の乳酸重合体が溶液重合により得られたものである、請求項１２〜１６の何れかに記載の方法。
【請求項１８】
重量平均分子量５０００以下の重合体含有量が約５重量％以下である、重量平均分子量１５０００〜５００００の乳酸重合体。
【請求項１９】
重量平均分子量３０００以下の重合体含有量が約１．５重量％以下である請求項１６に記載の乳酸重合体。
【請求項２０】
重量平均分子量１０００以下の重合体含有量が約０．１重量％以下である請求項１７に記載の乳酸重合体。
【請求項２１】
重量平均分子量が１５０００〜３００００である請求項１８〜２０の何れかに記載の乳酸重合体。
【請求項２２】
重量平均分子量が２００００〜２５０００である請求項１８〜２０の何れかに記載の乳酸重合体。
【請求項２３】
請求項１８〜２２の何れかに記載の乳酸重合体を含んで成る、徐放性製剤用基材。
【請求項２４】
請求項１８〜２２の何れかに記載の乳酸重合体の徐放性製剤用基材としての用途。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月26日(2008.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  下記成分からなる燃料添加剤組成物：
ａ）（１）アルキル基の数平均分子量が３００乃至５０００である高分子量アルキル置換ヒドロキシ芳香族化合物、（２）少なくとも１個の活性水素原子を持つアミノ基を含むアミン、および（３）アルデヒドからなり、そして反応物（１）、（２）及び（３）それぞれのモル比が１：０．１−１０：０．１−１０であるマンニッヒ縮合物；
ｂ）平均分子量が５００乃至５０００であり、そしてオキシアルキレン基がＣ2〜Ｃ5のオキシアルキレン基であり、炭化水素基がＣ1〜Ｃ30の炭化水素基である炭化水素基末端ポリ（オキシアルキレン）モノオール；
ｃ）重合体の数平均分子量が５００乃至３０００である、Ｃ2〜Ｃ6のモノオレフィンのポリオレフィン重合体；および
ｄ）炭素原子数８〜３０のモノカルボン酸；
ただし、ａ）：ｂ）：ｃ）：ｄ）の重量比は、１００：２５：２５：１乃至１００：２００：２００：１０の範囲にある。
【請求項２】  アルキル置換ヒドロキシ芳香族化合物のアルキル基の数平均分子量が４００乃至３０００である請求項１に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項３】  アルキル置換ヒドロキシ芳香族化合物のアルキル基の数平均分子量が５００乃至２０００である請求項２に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項４】  アルキル置換ヒドロキシ芳香族化合物のアルキル基の数平均分子量が７００乃至１５００である請求項３に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項５】  アルキル置換ヒドロキシ芳香族化合物がポリアルキルフェノールである請求項１に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項６】  ポリアルキルフェノールがポリプロピルフェノールまたはポリイソブチルフェノールである請求項５に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項７】  ポリアルキルフェノールがポリイソブチルフェノールである請求項６に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項８】  ポリイソブチルフェノールが、メチルビニリデン異性体を少なくとも７０％含有するポリイソブテンから誘導される請求項７に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項９】  マンニッヒ縮合物のアミン成分が、下記式を有するアルキレンポリアミンである請求項１に記載の燃料添加剤組成物：
Ｈ2Ｎ−（Ａ−ＮＨ）d−Ｈ
［式中、Ａは炭素原子数が１〜１０の二価アルキレン基であり、そしてｄは１〜１０の整数である］。
【請求項１０】  アルキレンポリアミンがポリエチレンポリアミンである請求項９に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項１１】  ポリエチレンポリアミンがジエチレントリアミンである請求項１０に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項１２】  反応物（１）、（２）および（３）それぞれのモル比が、１．０：０．５−２．０：１．０−３．０である請求項１に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項１３】  マンニッヒ縮合物のアルデヒド成分が、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒドまたはホルマリンである請求項１に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項１４】  炭化水素基末端ポリ（オキシアルキレン）モノオールの数平均分子量が、９００乃至１５００である請求項１に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項１５】  炭化水素基末端ポリ（オキシアルキレン）モノオールの炭化水素基末端ポリオキシアルキレン基のオキシアルキレン基が、Ｃ3〜Ｃ4のオキシアルキレン基である請求項１に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項１６】  炭化水素基末端ポリ（オキシアルキレン）モノオールのオキシアルキレン基が、Ｃ3のオキシプロピレン基である請求項１５に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項１７】  炭化水素基末端ポリ（オキシアルキレン）モノオールのオキシアルキレン基がＣ4のオキシブチレン基である請求項１５に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項１８】  炭化水素基末端ポリ（オキシアルキレン）モノオールの炭化水素基がＣ7〜Ｃ30のアルキルフェニル基である請求項１に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項１９】  ポリオレフィン重合体がＣ2〜Ｃ4のモノオレフィンの重合体である請求項１に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項２０】  ポリオレフィン重合体がポリプロピレンまたはポリブテンである請求項１９に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項２１】  ポリオレフィン重合体がポリイソブテンである請求項２０に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項２２】  ポリイソブテンがメチルビニリデン異性体を少なくとも７０％含有する請求項２１に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項２３】  ポリオレフィン重合体の数平均分子量が７００乃至２５００である請求項１に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項２４】  ポリオレフィン重合体の数平均分子量が７５０乃至１８００である請求項２３に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項２５】  炭化水素基末端ポリ（オキシアルキレン）モノオールがＣ7〜Ｃ30のアルキルフェニル末端ポリ（オキシプロピレン）モノオールであり、そしてポリオレフィン重合体がポリイソブテンである請求項１に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項２６】  モノカルボン酸がオレイン酸である請求項１に記載の燃料添加剤組成物。
【請求項２７】  ガソリンまたはディーゼル燃料の沸点範囲の沸点を有する主要量の炭化水素燃料と、堆積物の生成の抑制に有効な量の請求項１乃至２６のうちのいずれかの項に記載の燃料添加剤組成物とを含む燃料組成物。
【請求項２８】  ２０〜１０００ｐｐｍのマンニッヒ縮合物、５〜２０００ｐｐｍの炭化水素基末端ポリ（オキシアルキレン）モノオール、５〜２０００ｐｐｍのポリオレフィン重合体、そして１〜１００ｐｐｍのモノカルボン酸を含む請求項２７に記載の燃料組成物。
【請求項２９】  ６５℃乃至２０５℃の範囲の沸点を有する不活性で安定な親油性有機溶剤と、１０乃至９０重量％の請求項１乃至２６のうちのいずれかの項に記載の燃料添加剤組成物とを含む燃料濃縮物。
【請求項３０】  内燃機関のエンジン堆積物の生成を抑制する方法であって、請求項２７もしくは２８に記載の燃料組成物を用いて内燃機関を作動させることからなる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月14日(2008.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ディスク状ホイールの円周部に沿ってＶ字形の刃を有する脆性材料基板用カッターホイール（１１）において、
前記Ｖ字形の刃を形成する際に、刃の稜線部である刃先（１３）が多角形の形状となるように加工したことを特徴とする脆性材料基板用カッターホイール。
【請求項２】  刃先の各直線部に対し、所定深さの切り欠きを設けた請求項１記載の脆性材料基板用カッターホイール。
【請求項３】  上記多角形は１６〜３００の角数のいずれかを持つ請求項１〜２のいずれかに記載の脆性材料基板用カッターホイール。
【請求項４】  上記ホイールの径は１〜２０mmの範囲である請求項１〜３のいずれかに記載の脆性材料基板用カッターホイール。
【請求項５】  上記ホイールの厚さは０．６〜５mmの範囲である請求項１〜４のいずれかに記載の脆性材料基板用カッターホイール。
【請求項６】  上記刃先の角度は９０〜１６０°の範囲である請求項１〜５のいずれかに記載の脆性材料基板用カッターホイール。
【請求項７】  テーブルに載置したガラス板に対して、カッターヘッドが相対的にＸおよびＹ方向に移動する機構の自動ガラススクライバーにおいて、前記カッターヘッドに請求項１ないし６のいずれかに記載の脆性材料基板用カッターホイールを具備したことを特徴とするスクライバー。
【請求項８】  柄の先に設けたホルダーに、請求項１ないし６のいずれかに記載の脆性材料基板用カッターホイールを回転自在に軸着してなることを特徴とするスクライバー。
【請求項９】  請求項１ないし６のいずれかに記載の脆性材料基板用カッターホイールは、該ホイールに挿通される軸と一体的に形成されることを特徴とする脆性材料基板用カッターホイール。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月27日(2007.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】 
１≦ＺｒＯ２≦５
１≦Ｔａ２Ｏ５≦５
で、且つ、
０．２≦Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２≦２．５
である請求項１記載の屈折率分布型レンズ用母材ガラス組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
さらに、Ｔａ２Ｏ５、ＺｒＯ２、Ｎａ２Ｏの総量を４ｍｏｌ％以上１５ｍｏｌ％以下に限定した上、ＭｇＯ、ＢａＯとＴｉＯ２の総量を１０ｍｏｌ％以上、２５ｍｏｌ％以下にし、ＭｇＯとＢａＯのモル比（ＭｇＯ／ＢａＯ）を０．４以上、２．５以下に限定すればほとんど失透の生じない母ガラスを作製することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
さらに、ＧｅＯ２とＢ２Ｏ３の総量を２ｍｏｌ％以上１５ｍｏｌ％以下に限定することで、溶解温度およびイオン交換温度をある程度抑えることができる。この時、ＧｅＯ２とＢ２Ｏ３の総量が２ｍｏｌ％未満では溶解温度およびイオン交換温度を低くする効果は見られず、１５ｍｏｌ％よりも多く含むと開口角が小さくなる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月22日(2008.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】耐衝撃性付与剤、該剤を含むポリエステル組成物、その成形品及びフィルム
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ポリ乳酸をはじめとするポリヒドロキシカルボン酸類に優れた耐衝撃性を付与する耐衝撃性付与剤、該付与剤を含有する耐衝撃性に優れるポリエステル組成物、該ポリエステル組成物からなる成形品及び該ポリエステル組成物からなるフィルムに関する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月1日(2008.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多孔性、非多孔性及びハイブリッド光沢印刷媒体上に印刷するための、少なくとも１つの着色剤と、少なくとも１つの水混和性有機共溶媒及び水を含有するベヒクルとを含んで成るインクジェットインクであって、さらに、少なくとも２つの界面活性剤を含有し、一方の界面活性剤が実質的に非イオン界面活性剤から成り且つ他方の界面活性剤が実質的にフルオロ界面活性剤から成る、インクジェットインク。
【請求項２】
前記非イオン界面活性剤が前記インクの約０．０５〜３重量％の範囲内の濃度を有し且つ前記フルオロ界面活性剤が前記インクの約０．００１〜３重量％の範囲内の濃度を有する、請求項１に記載のインクジェットインク。
【請求項３】
３つの界面活性剤を含み、第一の界面活性剤が陰イオン性であり、第二の界面活性剤が非イオン性であり、そして第三の界面活性剤が陰イオン性フルオロ界面活性剤又は非イオン性フルオロ界面活性剤の何れかである、請求項１に記載のインクジェットインク。
【請求項４】
前記第一の界面活性剤が、前記インクの約0.05〜3 wt%の範囲内の濃度を有する、請求項３に記載のインクジェットインク。
【請求項５】
前記第一の界面活性剤がスルホン酸ジフェニル誘導体又はスルホン酸塩であり、前記第二の界面活性剤がアセチレン系エトキシル化ジオール又はポリエチレンオキシドエーテル又はポリプロピレンオキシドエーテルであり、前記第三の界面活性剤が、(RFCH2CH2O)xPO(O-NH4+)y、ここでx＋y=3；(RFCH2CH2O)xPO(O-NH4+)y、ここでx＋y=3 ＋ 炭化水素界面活性剤；RFCH2CH2SO3H、RFCH2CH2SO3-NH4+；C6F13CH2CH2SO3H、C6F13CH2CH2SO3-NH4+；RFCH2CH2S-CH2CH2COO-Li+；RFCH2CH2O(CH2CH2O)xH；RFCH2CH2O-(CH2CH2O)yH；ペルフルオロアルキルスルホン酸アンモニウム；フッ素化アルキルカルボン酸カリウム；フッ素化アルキルポリオキシエチレンエタノール；フッ素化アルキルアルコキシレート；及びフッ素化アルキルエーテルから成る群から選択される、請求項３に記載のインクジェットインク。
【請求項６】
前記着色剤が、水溶性染料である、請求項１に記載のインクジェットインク。
【請求項７】
前記少なくとも１つの水混和性共溶媒が、窒素含有ケトン；エタンジオール、プロパンジオール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ヘプタンジオール、及びオクタンジオールから成る群から選択されたジオール；C3-C6アルコール及びその異性体；ポリアルキレングリコール、及び高分子グリコールから成る群から選択されたグリコールエーテル；チオグリコールエーテル；グリコール尿素；及びポリアルコキシル化トリオールから成る群から選択される、請求項１に記載のインクジェットインク。
【請求項８】
さらに、緩衝剤、殺生物剤、及び金属キレート剤から成る群から独立に選択された少なくとも１つの成分を含有する、請求項１に記載のインクジェットインク。
【請求項９】
(a)イエロー、シアン、及びマゼンタ染料から成る群から選択された0.5〜5 wt%の少なくとも１つの水溶性染料と、(b)5〜20 wt%の少なくとも１つの水混和性有機共溶媒；アニオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤及びアニオン性フルオロ界面活性剤を含む約0.1〜5 wt%の界面活性剤混合物；緩衝剤、殺生物剤、及び金属キレート剤から成る群から独立に選択された0〜約1.5 wt%の少なくとも１つの成分；及び残余の水を含んで成るベヒクルとを含有する、請求項１に記載のインクジェットインク。
【請求項１０】
多孔性、非多孔性、及びハイブリッド光沢印刷媒体上に請求項１記載のインクジェットインクを印刷する方法であって：
(a)請求項１記載のインクジェットインクを設けること；
(b)オリフィス板を通して前記インクジェットインクの液滴を前記印刷媒体上に噴射すること
を包含する、方法。