【手続補正書】
【提出日】平成20年2月8日(2008.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光層により被覆される少なくとも１個の基板の多重露光方法であって：
第１組の第１の露光パラメータにしたがって前記基板の第１の露光を行なう段階と；
第２組の第２の露光パラメータにしたがって前記基板の少なくとも１回の第２の露光を行なう段階と；
第１の投影系の前記第１の露光と、前記第１の投影系から空間的に分離される第２の投影系の前記第２の露光とを利用する段階とを有し、
前記第１組の露光パラメータが、前記第２組の露光パラメータと、次の少なくとも１つにおいて異なる方法：
−照明のコヒーレンス度σ；
−照明の極性；及び
−前記マスクの少なくとも１つの構造方向に対する照明の配向。
【請求項２】
前記第１の露光が、第１のマスクを利用して行なわれ、前記第２の露光が、前記第１のマスクとは異なる第２のマスクを利用して行なわれ、好ましくは前記第１のマスクが振幅マスクであり、前記第２のマスクが位相マスクである請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１組の露光パラメータが、前記第２の投影系の場合には設定され得ない少なくとも１個の露光パラメータを含み、かつ／または前記第２組の露光パラメータが、前記第１の投影系の場合には設定され得ない少なくとも１個の露光パラメータを含む請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記第２の投影系における前記第２の露光の場合に、前記基板が投影対象の構造寸法と比較して低い精度で前記第１の投影系における前記第１の露光時の前記基板と同等の位置を有して設定され得るように、前記基板の位置が設定される請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記第１の投影系から前記第２の投影系への前記基板の移送が、前記第１の露光と前記第２の露光との間において行なわれる請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記移送時において、前記基板が、前記第１の投影系からの取り出し後かつ前記第２の投影系内への導入前に中間的に保管される請求項５に記載の方法。
【請求項７】
投影系における露光のために、前記基板を露光位置の領域内に投入する段階と、計測を利用して前記基板を前記露光位置に配置する段階と、前記基板を露光する段階と、前記基板を前記露光位置から排出する段階とが、この順序で行なわれ、第１の基板を前記第１の投影系内において計測を利用して配置する段階と、第２の基板を前記第２の投影系内において露光する段階とが、少なくとも一時的に同時に行なわれる請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
第１の極照明が、第１の露光のための露光パラメータとして設定され、前記第１の露光とは異なる配向を有する第２の極照明が、少なくとも１回の第２の露光のための露光パラメータとして設定される請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記第１の露光および前記第２の露光が、同じ配設光源の光を用いて行なわれ、前記第１の露光および前記第２の露光が、好ましくは時間的に別々に行なわれる請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
感光層により被覆される少なくとも１個の基板を多重露光するためのマイクロリソグラフィー投影露光装置（１）であって、第１組の露光パラメータが設定される第１の投影系（１７）と、前記第１の投影系（１７）から空間的に分離されるとともに、第２組の露光パラメータが設定される少なくとも１個の第２の投影系（１８）とを有し、第１組の露光パラメータが、第２組の露光パラメータと、次の少なくとも１つにおいて異なる、マイクロリソグラフィー投影露光装置：
−照明のコヒーレンス度σ；
−照明の極性；
−マスクの少なくとも１つの構造方向に対する照明の配向。
【請求項１１】
前記第１の投影系（１７）が、前記第２の投影系（１８）の場合には完全に設定され得ない第１組の露光パラメータを設定することが可能である第１の特化された投影系（１７）であり、かつ／または前記第２の投影系（１８）が、前記第１の投影系（１７）の場合には完全には設定され得ない第２組の露光パラメータを設定することができる第２の特化された投影系（１８）である請求項１０に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
【請求項１２】
前記第１の投影系（１７）と前記第２の投影系（１８）との各々が、位置決め装置を有していて、計測を利用して前記基板を位置決めして、前記第２の投影系（１８）における前記基板の、前記第１の投影系（１７）における前記基板の同等位置（１１）に対する位置（１３）が投影対象の最小構造寸法と比較して低い精度で設定され得るようになっている請求項１０〜１１のいずれか１項に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
【請求項１３】
少なくとも１個の輸送装置が設けられて、前記基板を前記第１の投影系（１７）から前記第２の投影系（１８）に移送する請求項１０〜１２のいずれか１項に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
【請求項１４】
前記輸送装置が、前記基板を中間的に保管する中間保管装置を備える請求項１３に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
【請求項１５】
同じ光源（２）が、前記第１の投影系（１７）と前記第２の投影系（１８）とに割り振られている請求項１０〜１４のいずれか１項に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
【請求項１６】
前記光源（２）の下流において光路内に、配光装置として、光を任意で前記第１の投影系（１７）または前記第２の投影系（１８）へと偏向させる調節可能な光偏向器（４；４ａ；４ｂ）が配置され、好ましくは前記調節可能な光偏向器（４；４ａ；４ｂ）が、少なくとも１個の回転可能かつ／または変位可能な鏡（２１；２１）を有する請求項１５に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
【請求項１７】
少なくとも１個の配設光源（２）の波長が、２６０ｎｍより短く、特に２４８ｎｍ、１９３ｎｍまたは１５７ｎｍである請求項１０〜１６のいずれか１項に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
【請求項１８】
特定の１組の露光パラメータのみが前記第１の投影系（１７）および／または前記第２の投影系（１８）において設定され得る請求項１０〜１７のいずれか１項に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
【請求項１９】
前記第１の投影系（１７）および／または前記第２の投影系（１８）が、異なるコヒーレンス度を有する軸上照明のみが設定され得る照明系（５、８）を有する請求項１８に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
【請求項２０】
前記第１の投影系（１７）および／または前記第２の投影系（１８）が、０．３５未満のコヒーレンス度σを有する従来式コヒーレント照明のみが設定され得る照明系（５、８）を有する請求項１８または１９に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
【請求項２１】
前記第１の投影系（１７）および／または前記第２の投影系（１８）が、軸外照明のみが設定され得る照明系（５、８）を有する請求項１８〜２０のいずれか１項に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
【請求項２２】
前記第１の投影系（１７）および／または前記第２の投影系（１８）が、調節可能な光学素子を含まない照明系（５、８）を有する請求項１８〜２１のいずれか１項に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
【請求項２３】
前記第１の投影系（１７）および／または前記第２の投影系（１８）が、交換可能な光学素子を含まない照明系（５、８）を有する請求項１８〜２２のいずれか１項に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
【請求項２４】
照明系（５、８）と投影対物レンズ（７、１０）とを有する投影系（１７、１８）であって、０．３５より低いコヒーレンス度σを有する従来式コヒーレント照明のみが前記照明系（５、８）において設定され得る投影系。
【請求項２５】
照明系（５、８）と投影対物レンズ（７、１０）とを有する投影系（１７、１８）であって、軸外照明のみが前記照明系（５、８）において設定され得る投影系。