【手続補正書】
【提出日】平成20年4月16日(2008.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱分解により沈積された金属酸化物を含む実質的封入層をその粒子表面にもつ二酸化チタン粒子を含み、前記の実質的封入層は、その表面上に少なくとも１種の有機表面処理材料をもち、前記の少なくとも１種の有機表面処理材料は、次の式をもつ有機シラン：
Ｒ５ｘＳｉＲ６４−ｘ
（式中、
Ｒ５は、少なくとも１から約２０個の炭素原子をもつ非加水分解性のアルキル、シクロアルキル、アリール、またはアラルキル基であり；
Ｒ６は、加水分解性のアルコキシ、ハロゲン、アセトキシ、またはヒドロキシ基であり；
ｘ＝１から３）
であることを特徴とする組成物。
【請求項２】
前記有機シランはオクチルトリエトキシシランであることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記の少なくとも１種の有機表面処理材料はトリメチロールプロパンであることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記の熱分解により沈積された金属酸化物は、シリカ、アルミナ、ジルコニア、ホスホリア、ボリア、またはこれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
請求項１に記載の組成物を含むことを特徴とする顔料。
【請求項６】
請求項５に記載の顔料を含むことを特徴とする熱可塑性樹脂。
【請求項７】
前記熱可塑性樹脂は、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリ（ビニル芳香族）樹脂、ポリ（ビニルハライド）樹脂、ポリカーボネート樹脂、フルオロポリマー樹脂、エラストマーポリマー樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエーテルケトンケトン樹脂、液晶ポリマー樹脂、またはこれらのブレンドであることを特徴とする請求項６に記載の熱可塑性樹脂。
【請求項８】
高レーシング耐性で、半耐光性で、安定剤由来の黄変に耐性のある二酸化チタン粒子の製造方法であって、
（ａ）熱分解により沈積された金属酸化物を含む実質的封入層を前記粒子の表面にもつ二酸化チタン粒子を提供すること；
（ｂ）前記粒子を、次の式をもつ、少なくとも１種の有機表面処理材料である有機シラン：
Ｒ５ｘＳｉＲ６４−ｘ
（式中、
Ｒ５は、少なくとも１から約２０個の炭素原子をもつ非加水分解性のアルキル、シクロアルキル、アリール、またはアラルキル基であり；
Ｒ６は、加水分解性のアルコキシ、ハロゲン、アセトキシ、またはヒドロキシ基であり；
ｘ＝１から３）
で処理すること；および
（ｃ）任意選択で、ステップ（ｂ）を繰り返すこと
を含む製造方法。
【請求項９】
前記有機シランはオクチルトリエトキシシランであることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記の熱分解により沈積された金属酸化物は、シリカ、アルミナ、ジルコニア、ホスホリア、ボリア、またはこれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
高レーシング耐性で、半耐光性で、安定剤由来の黄変に耐性のある二酸化チタン粒子の製造方法であって、
（ａ）熱分解により沈積された金属酸化物を含む実質的封入層を前記粒子の表面にもつ二酸化チタン粒子を含むスラリを提供すること；
（ｂ）残留塩素の中和を助けるために、前記スラリのｐＨを調節すること；
（ｃ）前記スラリの濾過を助けるために、前記スラリのｐＨを調節すること；
（ｄ）前記スラリを、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料で処理すること；
（ｅ）前記スラリを濾過して、フィルターケーキを生成させること；
（ｆ）任意選択で、ステップ（ｅ）の間またはその後で、前記フィルターケーキを、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料で処理すること；
（ｇ）前記フィルターケーキを乾燥させること；
（ｈ）任意選択で、ステップ（ｇ）の間またはその後で、前記フィルターケーキを、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料で処理すること；
（ｉ）前記処理後フィルターケーキから二酸化チタン粒子を解凝集させること；および
（ｊ）任意選択で、ステップ（ｉ）の間またはその後で、前記二酸化チタン粒子を、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料で処理すること
を含む製造方法。
【請求項１２】
高レーシング耐性で、半耐光性で、安定剤由来の黄変に耐性のある二酸化チタン粒子の製造方法であって、
（ａ）熱分解により沈積された金属酸化物を含む実質的封入層を前記粒子の表面にもつ二酸化チタン粒子を含むスラリを提供すること；
（ｂ）残留塩素の中和を助けるために、前記スラリのｐＨを調節すること；
（ｃ）前記スラリの濾過を助けるために、前記スラリのｐＨを調節すること；
（ｄ）前記スラリを濾過してフィルターケーキを生成させること；
（ｅ）ステップ（ｄ）の間またはその後で、前記フィルターケーキを、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料で処理すること；
（ｆ）前記フィルターケーキを乾燥させること；
（ｇ）任意選択で、ステップ（ｆ）の間またはその後で、前記フィルターケーキを、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料で処理すること；
（ｈ）前記処理後フィルターケーキから二酸化チタン粒子を解凝集させること；および
（ｉ）任意選択で、ステップ（ｈ）の間またはその後で、前記二酸化チタン粒子を、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料で処理すること
を含む製造方法。
【請求項１３】
高レーシング耐性で、半耐光性で、安定剤由来の黄変に耐性のある二酸化チタン粒子の製造方法であって、
（ａ）熱分解により沈積された金属酸化物を含む実質的封入層を前記粒子の表面にもつ二酸化チタン粒子を含むスラリを提供すること；
（ｂ）残留塩素の中和を助けるために、前記スラリのｐＨを調節すること；
（ｃ）前記スラリの濾過を助けるために、前記スラリのｐＨを調節すること；
（ｄ）前記スラリを濾過してフィルターケーキを生成させること；
（ｅ）前記フィルターケーキを乾燥させること；
（ｆ）ステップ（ｅ）の間またはその後で、前記フィルターケーキを、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料で処理すること；
（ｇ）前記処理後フィルターケーキから二酸化チタン粒子を解凝集させること；および
（ｈ）任意選択で、ステップ（ｇ）の間またはその後で、前記二酸化チタンを、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料で処理すること
を含む製造方法。
【請求項１４】
高レーシング耐性で、半耐光性で、安定剤由来の黄変に耐性のある二酸化チタン粒子の製造方法であって、
（ａ）熱分解により沈積された金属酸化物を含む実質的封入層を前記粒子の表面にもつ二酸化チタン粒子を含むスラリを提供すること；
（ｂ）残留塩素の中和を助けるために、前記スラリのｐＨを調節すること；
（ｃ）前記スラリの濾過を助けるために、前記スラリのｐＨを調節すること；
（ｄ）前記スラリを濾過してフィルターケーキを生成させること；
（ｅ）前記フィルターケーキを乾燥させること；
（ｆ）前記フィルターケーキを超微粉砕機に入れること；
（ｇ）前記超微粉砕機のフィードブロックに、または、前記超微粉砕機の出口を過ぎて約数フィートまで移送されている粒子に、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料を添加すること；および
（ｈ）任意選択で、微粉砕された粒子を、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料で処理すること
を含む製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０５】
表１０のデータは、熱分解シリカで封入されＯＴＥＳ処理された試料（試料１から４）のルーズおよびタップ嵩密度は、ＯＴＥＳで処理されたシリカ非含有の疎水性対照試料グループ（対照１および２）に関するものより大きいことを明らかにしている。この予想外の発見は、製品の増加した嵩密度により商業的規模でのポリマーのコンパウンディング中の処理量が増加する傾向があるとすれば、有利な実用上の意味合いをもつ。前記発見が熱分解シリカによる封入の直接の結果であることは、試料１と対照試料との間の唯一の重要な違いが、前者が粒子を封入している熱分解シリカをかなりの量もつが、後者はもたない（２組の試料は、同じやり方で付けられたＯＴＥＳに由来する炭素を同等のレベルでもつ）ことであるという事実から、論理的に推論することができる。
本出願は、特許請求の範囲に記載の発明を含め、以下の発明を包含する。
（１）  熱分解により沈積された金属酸化物を含む実質的封入層をその粒子表面にもつ二酸化チタン粒子を含み、前記の実質的封入層は、その表面上に、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料をもつことを特徴とする組成物。
（２）  前記の少なくとも１種の有機表面処理材料は、次の式をもつ有機シラン：
Ｒ５ｘＳｉＲ６４−ｘ
（式中、
Ｒ５は、少なくとも１から約２０個の炭素原子をもつ非加水分解性のアルキル、シクロアルキル、アリール、またはアラルキル基であり；
Ｒ６は、加水分解性のアルコキシ、ハロゲン、アセトキシ、またはヒドロキシ基であり；
ｘ＝１から３）
であることを特徴とする（１）に記載の組成物。
（３）  前記有機シランはオクチルトリエトキシシランであることを特徴とする（２）に記載の組成物。
（４）  前記の少なくとも１種の有機表面処理材料はトリメチロールプロパンであることを特徴とする（１）に記載の組成物。
（５）  前記の熱分解により沈積された金属酸化物は、シリカ、アルミナ、ジルコニア、ホスホリア、ボリア、またはこれらの混合物から選択されることを特徴とする（１）に記載の組成物。
（６）  前記の熱分解により沈積された金属酸化物はシリカであることを特徴とする（５）に記載の組成物。
（７）  前記の少なくとも１種の有機表面処理材料は、約０．０５から約５ｗｔ％の範囲で存在することを特徴とする（１）に記載の組成物。
（８）  前記の少なくとも１種の有機表面処理材料は、約０．１から約１．５ｗｔ％の範囲で存在することを特徴とする（７）に記載の組成物。
（９）  前記の少なくとも１種の有機表面処理材料は、クエン酸、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、または、線状、櫛型、星型、ブラシ型、またはデンドリマーの高分子鎖と側鎖置換基構造から誘導される、陰イオン性、陽イオン性、双性、または非イオン性の官能基をもつ高分子有機分散剤から選択される有機分散剤であることを特徴とする（１）に記載の組成物。
（１０）  前記有機分散剤は、約０．０１から約１．０ｗｔ％の範囲で存在することを特徴とする（９）に記載の組成物。
（１１）  （１）に記載の組成物を含むことを特徴とする顔料。
（１２）  （１１）に記載の顔料を含むことを特徴とする熱可塑性樹脂。
（１３）  前記熱可塑性樹脂は、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリ（ビニル芳香族）樹脂、ポリ（ビニルハライド）樹脂、ポリカーボネート樹脂、フルオロポリマー樹脂、エラストマーポリマー樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエーテルケトンケトン樹脂、液晶ポリマー樹脂、またはこれらのブレンドであることを特徴とする（１２）に記載の熱可塑性樹脂。
（１４）  前記ポリオレフィン樹脂は、ポリエチレン、ポリプロピレン、または、これらのブレンドまたはコポリマーであることを特徴とする（１３）に記載の熱可塑性樹脂。
（１５）  前記ポリエチレンは、超超低密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、高分子量高密度ポリエチレン、超高分子量高密度ポリエチレン、エチレン／酢酸ビニルコポリマー、エチレン／メタクリル酸コポリマー、またはこれらのブレンドであることを特徴とする（１４）に記載の熱可塑性樹脂。
（１６）  前記ポリプロピレンは、ホモポリマー、コポリマー、コンパウンド化オレフィン、ｉｎ  ｓｉｔｕ熱可塑性オレフィン、またはこれらのブレンドであることを特徴とする（１４）に記載の熱可塑性樹脂。
（１７）  前記アクリル樹脂は、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（アクリル酸メチル）、ポリ（メタクリル酸メチル）、またはこれらのブレンドであることを特徴とする（１３）に記載の熱可塑性樹脂。
（１８）  前記ポリエステル樹脂は、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレート）、ポリ（シクロヘキシレン−ジメチレンテレフタレート）、ポリ（トリメチレンテレフタレート）、ポリ（エチレンナフタレート）、またはこれらのブレンドであることを特徴とする（１３）に記載の熱可塑性樹脂。
（１９）  前記ポリアミド樹脂は、ナイロン６、ナイロン６，６、ナイロン６／６，６コポリマー、ナイロン１１、ナイロン６，１０、ナイロン６，１２、アモルファスナイロン、またはこれらのブレンドであることを特徴とする（１３）に記載の熱可塑性樹脂。
（２０）  前記エポキシ樹脂は、ポリ（エピクロロヒドリン／ビスフェノールＡ）；ポリ（エピクロロヒドリン／ビスフェノールＡ）と、脂肪酸、樹脂酸、トール油酸もしくはこれらの混合物とのエステル；またはこれらのブレンドであることを特徴とする（１３）に記載の熱可塑性樹脂。
（２１）  前記フェノール樹脂は、ホルムアルデヒドと、フェノール、レゾルシノール、クレゾール、もしくはｐ−フェニルフェノールとの反応により誘導されるか、またはこれらのブレンドであることを特徴とする（１３）に記載の熱可塑性樹脂。
（２２）  前記ポリ（ビニル芳香族）樹脂は、ポリスチレン、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、ポリ（アクリロニトリル−スチレン−ブタジエン）、ポリ（アクリロニトリル−スチレン−アセテート）、またはこれらのブレンドであることを特徴とする（１３）に記載の熱可塑性樹脂。
（２３）  前記ポリ（ビニルハライド）樹脂は、ポリ（塩化ビニル）、ポリ（塩化ビニル／塩化ビニリデン）、またはこれらのブレンドであることを特徴とする（１３）に記載の熱可塑性樹脂。
（２４）  前記ポリカーボネート樹脂は、ビスフェノールＡポリカーボネートであるか、または、エチレングリコールもしくはプロピレングリコールのホスゲン化により得られるか、またはこれらのブレンドであることを特徴とする（１３）に記載の熱可塑性樹脂。
（２５）  前記フルオロポリマー樹脂は、テトラフルオロエチレン／パーフルオロ（プロピルビニルエーテル）コポリマー、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン／ヘキサフルオロプロピレンコポリマー、エチレン／テトラフルオロエチレン／パーフルオロブチルエチレンターポリマー、エチレン／クロロトリフルオロエチレンコポリマー、またはこれらのブレンドであることを特徴とする（１３）に記載の熱可塑性樹脂。
（２６）  前記エラストマーポリマー樹脂は、天然ゴム、合成ゴム、アクリル、クロロスルホン化ポリエチレン、ネオプレン、シリコーン、ウレタン、またはこれらのブレンドであることを特徴とする（１３）に記載の熱可塑性樹脂。
（２７）  前記ポリウレタン樹脂は、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンジフェニルジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、ｏ−トリジンジイソシアネート、１，４−シクロヘキサンジイソシイアネートから誘導される、ポリエステルベースまたはポリエーエルベースのポリマー、またはこれらのブレンドであることを特徴とする（１３）に記載の熱可塑性樹脂。
（２８）  前記ポリウレタンウレア樹脂は、ポリエステルベースのスパンデックス、ポリエーテルベースのスパンデックス、またはこれらのブレンドであることを特徴とする（１３）に記載の熱可塑性樹脂。
（２９）  前記ポリアセタール樹脂は、ポリホルムアルデヒド、ホルムアルデヒドとエチレンオキシドのコポリマー、ホルムアルデヒドと１，３−ジオキソランのコポリマー、またはこれらのブレンドであることを特徴とする（１３）に記載の熱可塑性樹脂。
（３０）  前記ポリイミド樹脂は、ピロメリト酸二無水物とｐ−フェニレンジアミンとの反応により得られることを特徴とする（１３）に記載の熱可塑性樹脂。
（３１）  前記ポリエーテルイミド樹脂は、ピロメリト酸二無水物と４，４−オキシジアニリンとの反応により得られることを特徴とする（１３）に記載の熱可塑性樹脂。
（３２）  前記ポリアミドイミド樹脂は、トリメリト酸無水物酸塩化物と１，４−シクロヘキサンジアミンとの反応により得られることを特徴とする（１３）に記載の熱可塑性樹脂。
（３３）  前記ポリエーテルエーテルケトンは、ビス（４−クロロフェニル）ケトンとヒドロキノンとの反応により得られることを特徴とする（１３）に記載の熱可塑性樹脂。
（３４）  前記ポリエーテルケトンケトンは、ジフェニルエーテルと塩化テレフタロイルとの反応により得られることを特徴とする（１３）に記載の熱可塑性樹脂。
（３５）  前記熱可塑性樹脂は、押出への適用、成形物品への適用、または物品成形後のコーティングへの適用により着色されることを特徴とする（１２）に記載の熱可塑性樹脂。
（３６）  押出は、キャストフィルム押出、インフレーションフィルム押出、スリットフィルム押出、シートおよび異型押出、ファイバおよびフィラメント押出、またはワイヤコーティング押出により実施されることを特徴とする（３５）に記載の熱可塑性樹脂。
（３７）  前記成形物品への適用は、射出成形、ブロー成形、または回転成形により実施されることを特徴とする（３５）に記載の熱可塑性樹脂。
（３８）  前記の物品成形後のコーティングへの適用は、パウダーコーティング、ロール−オンコーティング、ブラシコーティング、こてコーティング、またはスプレーコーティングにより実施されることを特徴とする（３５）に記載の熱可塑性樹脂。
（３９）  高レーシング耐性で、半耐光性で、安定剤由来の黄変に耐性のある二酸化チタン粒子の製造方法であって、
（ａ）熱分解により沈積された金属酸化物を含む実質的封入層を前記粒子の表面にもつ二酸化チタン粒子を提供すること；
（ｂ）前記粒子を、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料で処理すること；および
（ｃ）任意選択で、ステップ（ｂ）を繰り返すこと
を含む製造方法。
（４０）  前記の少なくとも１種の有機表面処理材料は、次の式をもつ有機シラン：
Ｒ５ｘＳｉＲ６４−ｘ
（式中、
Ｒ５は、少なくとも１から約２０個の炭素原子をもつ非加水分解性のアルキル、シクロアルキル、アリール、またはアラルキル基であり；
Ｒ６は、加水分解性のアルコキシ、ハロゲン、アセトキシ、またはヒドロキシ基であり；
ｘ＝１から３）
であることを特徴とする（３９）に記載の方法。
（４１）  前記有機シランはオクチルトリエトキシシランであることを特徴とする（４０）に記載の方法。
（４２）  前記の少なくとも１種の有機表面処理材料はトリメチロールプロパンであることを特徴とする（３９）に記載の方法。
（４３）  前記の熱分解により沈積された金属酸化物は、シリカ、アルミナ、ジルコニア、ホスホリア、ボリア、またはこれらの混合物から選択されることを特徴とする（３９）に記載の方法。
（４４）  前記の熱分解により沈積された金属酸化物はシリカであることを特徴とする（４３）に記載の方法。
（４５）  高レーシング耐性で、半耐光性で、安定剤由来の黄変に耐性のある二酸化チタン粒子の製造方法であって、
（ａ）熱分解により沈積された金属酸化物を含む実質的封入層を前記粒子の表面にもつ二酸化チタン粒子を含むスラリを提供すること；
（ｂ）残留塩素の中和を助けるために、前記スラリのｐＨを調節すること；
（ｃ）前記スラリの濾過を助けるために、前記スラリのｐＨを調節すること；
（ｄ）前記スラリを、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料で処理すること；
（ｅ）前記スラリを濾過して、フィルターケーキを生成させること；
（ｆ）任意選択で、ステップ（ｅ）の間またはその後で、前記フィルターケーキを、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料で処理すること；
（ｇ）前記フィルターケーキを乾燥させること；
（ｈ）任意選択で、ステップ（ｇ）の間またはその後で、前記フィルターケーキを、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料で処理すること；
（ｉ）前記処理後フィルターケーキから二酸化チタン粒子を解凝集させること；および
（ｊ）任意選択で、ステップ（ｉ）の間またはその後で、前記二酸化チタン粒子を、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料で処理すること
を含む製造方法。
（４６）  高レーシング耐性で、半耐光性で、安定剤由来の黄変に耐性のある二酸化チタン粒子の製造方法であって、
（ａ）熱分解により沈積された金属酸化物を含む実質的封入層を前記粒子の表面にもつ二酸化チタン粒子を含むスラリを提供すること；
（ｂ）残留塩素の中和を助けるために、前記スラリのｐＨを調節すること；
（ｃ）前記スラリの濾過を助けるために、前記スラリのｐＨを調節すること；
（ｄ）前記スラリを濾過してフィルターケーキを生成させること；
（ｅ）ステップ（ｄ）の間またはその後で、前記フィルターケーキを、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料で処理すること；
（ｆ）前記フィルターケーキを乾燥させること；
（ｇ）任意選択で、ステップ（ｆ）の間またはその後で、前記フィルターケーキを、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料で処理すること；
（ｈ）前記処理後フィルターケーキから二酸化チタン粒子を解凝集させること；および
（ｉ）任意選択で、ステップ（ｈ）の間またはその後で、前記二酸化チタン粒子を、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料で処理すること
を含む製造方法。
（４７）  高レーシング耐性で、半耐光性で、安定剤由来の黄変に耐性のある二酸化チタン粒子の製造方法であって、
（ａ）熱分解により沈積された金属酸化物を含む実質的封入層を前記粒子の表面にもつ二酸化チタン粒子を含むスラリを提供すること；
（ｂ）残留塩素の中和を助けるために、前記スラリのｐＨを調節すること；
（ｃ）前記スラリの濾過を助けるために、前記スラリのｐＨを調節すること；
（ｄ）前記スラリを濾過してフィルターケーキを生成させること；
（ｅ）前記フィルターケーキを乾燥させること；
（ｆ）ステップ（ｅ）の間またはその後で、前記フィルターケーキを、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料で処理すること；
（ｇ）前記処理後フィルターケーキから二酸化チタン粒子を解凝集させること；および
（ｈ）任意選択で、ステップ（ｇ）の間またはその後で、前記二酸化チタンを、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料で処理すること
を含む製造方法。
（４８）  高レーシング耐性で、半耐光性で、安定剤由来の黄変に耐性のある二酸化チタン粒子の製造方法であって、
（ａ）熱分解により沈積された金属酸化物を含む実質的封入層を前記粒子の表面にもつ二酸化チタン粒子を含むスラリを提供すること；
（ｂ）残留塩素の中和を助けるために、前記スラリのｐＨを調節すること；
（ｃ）前記スラリの濾過を助けるために、前記スラリのｐＨを調節すること；
（ｄ）前記スラリを濾過してフィルターケーキを生成させること；
（ｅ）前記フィルターケーキを乾燥させること；
（ｆ）前記フィルターケーキを超微粉砕機に入れること；
（ｇ）前記超微粉砕機のフィードブロックに、または、前記超微粉砕機の出口を過ぎて約数フィートまで移送されている粒子に、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料を添加すること；および
（ｈ）任意選択で、微粉砕された粒子を、有機シラン、オルガノシロキサン、フルオロシラン、有機ホスホネート、有機酸性ホスフェート、有機ピロホスフェート、有機ポリホスフェート、有機メタホスフェート、有機ホスフィネート、有機スルホン酸化合物、炭化水素をベースとするカルボン酸、炭化水素をベースとするカルボン酸の関連エステル、炭化水素をベースとするカルボン酸の誘導体、炭化水素をベースとするアミド、低分子量炭化水素ワックス、低分子量ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンのコポリマー、炭化水素をベースとするポリオール、炭化水素をベースとするポリオールの誘導体、アルカノールアミン、アルカノールアミンの誘導体、有機分散剤、またはこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の有機表面処理材料で処理すること
を含む製造方法。