【手続補正書】
【提出日】平成20年1月31日(2008.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  電気的に制御可能な転写パターンを生成する可変パターン生成装置と、
前記可変パターン生成装置を介した光を感光性基板上に投影する投影光学系とを備える露光装置において、
前記投影光学系を介した前記可変パターン生成装置の表示面からの光に基づいて、前記可変パターン生成装置の位置情報を計測する計測手段を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】  前記計測手段は、前記可変パターン生成装置に表示される基準パターンの位置を計測することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】  前記計測手段は、前記可変パターン生成装置の前記表示面に形成される前記基準パターンの像の位置を計測することを特徴とする請求項２記載の露光装置。
【請求項４】  前記可変パターン生成装置は、パターン表示面上に前記転写パターンを生成し、
前記可変パターン生成装置の前記パターン表示面上には、前記基準パターンが表示されることを特徴とする請求項３記載の露光装置。
【請求項５】  前記計測手段による計測結果に基づいて前記可変パターン生成装置により生成される転写パターンの修正を行う転写パターン修正手段を更に備えることを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか一項記載の露光装置。
【請求項６】  前記転写パターン修正手段は、前記投影光学系の光軸に関する前記転写パターンの回転を修正する第１の修正手段と、前記光軸を横切る面に関する前記転写パターンの位置ずれを修正する第２の修正手段とを含むことを特徴とする請求項５記載の露光装置。
【請求項７】  前記可変パターン生成装置は、複数の部分可変パターン生成装置により構成され、
前記投影光学系は、前記部分可変パターン生成装置のそれぞれに対応して設けられた複数の部分投影光学系により構成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項６の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項８】  前記可変パターン生成装置は、交換可能に構成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項７の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項９】  前記投影光学系と前記感光性基板とを相対的に走査方向に沿って移動させる走査手段を更に備えることを特徴とする請求項１乃至請求項８の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項１０】  転写パターンを生成する可変パターン生成装置と、
前記可変パターン生成装置により生成された転写パターンの像を感光性基板上に投影する投影光学系とを備える露光装置において、
前記可変パターン生成装置において基準マークを表示させる基準マーク表示手段と、
前記基準マークの位置を計測する計測手段とを備えることを特徴とする露光装置。
【請求項１１】  前記計測手段は、前記感光性基板を保持する基板ステージ上に設置され、前記投影光学系を介して形成される前記基準マークの像の位置を計測することを特徴とする請求項１０記載の露光装置。
【請求項１２】  前記計測手段による計測結果に基づいて前記可変パターン生成装置により生成される転写パターンの修正を行う転写パターン修正手段を更に備えることを特徴とする請求項１０又は請求項１１記載の露光装置。
【請求項１３】  前記転写パターン修正手段は、前記投影光学系の光軸に関する前記転写パターンの回転を修正する第１の修正手段と、前記光軸を横切る面に関する前記転写パターンの位置ずれを修正する第２の修正手段とを含むことを特徴とする請求項１２記載の露光装置。
【請求項１４】  前記可変パターン生成装置は、複数の部分可変パターン生成装置により構成され、
前記投影光学系は、前記部分可変パターン生成装置のそれぞれに対応して設けられた複数の部分投影光学系により構成されていることを特徴とする請求項１０乃至請求項１３の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項１５】  前記可変パターン生成装置は、交換可能に構成されていることを特徴とする請求項１０乃至請求項１４の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項１６】  前記可変パターン生成装置は、発光パターンを形成する自発光型画像表示素子を備えること特徴とする請求項１乃至請求項１５の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項１７】  前記可変パターン生成装置は、光源と、該光源からの照明光の光路中に配置された非発光型画像表示素子とを備えること特徴とする請求項１乃至請求項１５の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項１８】  前記可変パターン生成装置を冷却する冷却手段を更に備えることを特徴とする請求項１乃至請求項１７の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項１９】  前記可変パターン生成装置は、パターン表示面上に前記転写パターンを生成し、前記基準マーク表示手段は、前記可変パターン生成装置の前記パターン表示面上に前記基準マークを表示させることを特徴とする請求項１０乃至請求項１８の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項２０】  前記投影光学系と前記感光性基板とを相対的に走査方向に沿って移動させる走査手段を更に備えることを特徴とする請求項１０乃至請求項１９の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項２１】  請求項１０乃至請求項２０の何れか一項に記載の露光装置における可変パターン生成装置の交換方法であって、
前記可変パターン生成装置の交換を行う可変パターン生成装置交換工程と、
前記可変パターン生成装置の設置誤差を計測する計測工程と、
前記計測工程により計測された設置誤差に基づいて前記可変パターン生成装置において生成される転写パターンの修正を行う転写パターン修正工程とを含むことを特徴とする可変パターン生成装置の交換方法。
【請求項２２】  請求項１乃至請求項２０の何れか一項に記載の露光装置を用いた露光方法において、
前記可変パターン生成装置により転写パターンを生成する転写パターン生成工程と、
前記可変パターン生成装置により生成された転写パターンを前記感光性基板上に転写する転写工程と、
を含むことを特徴とする露光方法。
【請求項２３】  請求項１乃至請求項９の何れか一項に記載の露光装置を用いた露光方法において、
前記可変パターン生成装置からの光を前記投影光学系を介して前記計測手段へ導く第１工程と、
前記投影光学系を介した前記光に基づいて前記可変パターン生成装置の前記位置情報を計測する第２工程と、
該第２工程の計測結果に基づいて前記可変パターン生成装置により生成される転写パターンの修正を行う第３工程と、
前記修正された転写パターンを前記感光性基板上に転写する第４工程と、
を含むことを特徴とする露光方法。
【請求項２４】  請求項１０乃至請求項２０の何れか一項に記載の露光装置を用いた露光方法において、
前記可変パターン生成装置に前記基準マークを表示させる基準マーク表示工程と、
前記基準マークの位置を計測する計測工程と、
前記計測工程の計測結果に基づいて前記可変パターン生成装置により生成される転写パターンの修正を行う転写パターン修正工程と、
前記修正された転写パターンを前記感光性基板上に転写する転写工程と、
を含むことを特徴とする露光方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の露光装置は、電気的に制御可能な転写パターンを生成する可変パターン生成装置と、前記可変パターン生成装置を介した光を感光性基板上に投影する投影光学系とを備える露光装置において、前記投影光学系を介した前記可変パターン生成装置の表示面からの光に基づいて、前記可変パターン生成装置の位置情報を計測する計測手段を備えることを特徴とする。
この請求項１に記載の露光装置によれば、投影光学系を介した可変パターン生成装置の表示面からの光に基づいて、可変パターン生成装置の位置情報を計測する計測手段を備えているため、可変パターン生成装置の設置誤差や位置ずれを正確かつ容易に計測することができる。
また、請求項２記載の露光装置は、前記計測手段が前記可変パターン生成装置に表示される基準パターンの位置を計測することを特徴とする。
また、請求項３記載の露光装置は、前記計測手段が前記可変パターン生成装置の前記表示面に形成される前記基準パターンの像の位置を計測することを特徴とする。
また、請求項４記載の露光装置は、前記可変パターン生成装置がパターン表示面上に前記転写パターンを生成し、前記可変パターン生成装置の前記パターン表示面上には、前記基準パターンが表示されることを特徴とする。
また、請求項５記載の露光装置は、前記計測手段による計測結果に基づいて前記可変パターン生成装置により生成される転写パターンの修正を行う転写パターン修正手段を更に備えることを特徴とする。
この請求項５記載の露光装置によれば、可変パターン生成装置の設置誤差が生じた場合においても、計測手段による計測結果に基づいて正確かつ容易に可変パターン生成装置により生成される転写パターンの修正を行うことができる。従って、可変パターン生成装置において生成される転写パターンを正確な位置に表示することができ、微細な転写パターンの露光を良好に行なうことができる。
また、請求項６記載の露光装置は、前記転写パターン修正手段が前記投影光学系の光軸に関する前記転写パターンの回転を修正する第１の修正手段と、前記光軸を横切る面に関する前記転写パターンの位置ずれを修正する第２の修正手段とを含むことを特徴とする。
この請求項６記載の露光装置によれば、可変パターン生成装置の設置誤差が生じた場合においても、計測手段による計測結果に基づいて、可変パターン生成装置により生成される転写パターンの回転修正と光軸を横切る面に関する位置ずれの修正とをそれぞれ分けて行なうことができるため、可変パターン生成装置により生成される転写パターンの修正を容易に行なうことができ、可変パターン生成装置において生成される転写パターンを正確な位置に表示することができる。従って、微細な転写パターンの露光を良好に行なうことができる。
また、請求項７記載の露光装置は、前記可変パターン生成装置が複数の部分可変パターン生成装置により構成され、前記投影光学系が前記部分可変パターン生成装置のそれぞれに対応して設けられた複数の部分投影光学系により構成されていることを特徴とする。
この請求項７記載の露光装置によれば、複数の部分可変パターン生成装置及びそれらに対応した複数の部分投影光学系により構成されているため、転写パターンが生成されるパターン表示面を小さく設定することができる。従って、転写パターンが生成されるパターン表示面におけるたわみ、うねり等の問題を解消することができ、最適な露光を容易に行なうことができる。
また、請求項８記載の露光装置は、前記可変パターン生成装置が交換可能に構成されていることを特徴とする。この請求項８記載の露光装置によれば、経時劣化等により可変パターン生成装置に画素欠陥が生じた場合においても、可変パターン生成装置を交換することができるため、画素欠陥により生じる露光量の不均一、露光量の不均一に因る転写パターン線幅の不均一等を防ぐことができ、微細な転写パターンの露光を良好に行なうことができる。
また、請求項９記載の露光装置は、前記投影光学系と前記感光性基板とを相対的に走査方向に沿って移動させる走査手段を更に備えることを特徴とする。
この請求項９記載の露光装置によれば、感光性基板の走査に同期して可変パターン生成装置により生成される転写パターンの変更を行なうため、パターン表示面を小さく設定することができる。従って、転写パターンが生成されるパターン表示面におけるたわみ、うねり等の問題を解消することができ、最適な露光を良好に行なうことができる
また、請求項１０記載の露光装置は、転写パターンを生成する可変パターン生成装置と、前記可変パターン生成装置により生成された転写パターンの像を感光性基板上に投影する投影光学系とを備える露光装置において、前記可変パターン生成装置において基準マークを表示させる基準マーク表示手段と、前記基準マークの位置を計測する計測手段とを備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、請求項１１記載の露光装置は、前記計測手段が前記感光性基板を保持する基板ステージ上に設置され、前記投影光学系を介して形成される前記基準マークの像の位置を計測することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
この請求項１０及び請求項１１に記載の露光装置によれば、基準マーク表示手段により表示される基準マークの位置を計測する計測手段を備えているため、可変パターン生成装置の設置誤差や位置ずれを正確かつ容易に計測することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、請求項１２記載の露光装置は、前記計測手段による計測結果に基づいて前記可変パターン生成装置により生成される転写パターンの修正を行う転写パターン修正手段を更に備えることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
この請求項１２記載の露光装置によれば、可変パターン生成装置の設置誤差が生じた場合においても、計測手段による計測結果に基づいて正確かつ容易に可変パターン生成装置により生成される転写パターンの修正を行うことができる。従って、可変パターン生成装置において生成される転写パターンを正確な位置に表示することができ、微細な転写パターンの露光を良好に行なうことができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、請求項１３記載の露光装置は、前記転写パターン修正手段が前記投影光学系の光軸に関する前記転写パターンの回転を修正する第１の修正手段と、前記光軸を横切る面に関する前記転写パターンの位置ずれを修正する第２の修正手段とを含むことを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
この請求項１３記載の露光装置によれば、可変パターン生成装置の設置誤差が生じた場合においても、計測手段による計測結果に基づいて、可変パターン生成装置により生成される転写パターンの回転修正と光軸を横切る面に関する位置ずれの修正とをそれぞれ分けて行なうことができるため、可変パターン生成装置により生成される転写パターンの修正を容易に行なうことができ、可変パターン生成装置において生成される転写パターンを正確な位置に表示することができる。従って、微細な転写パターンの露光を良好に行なうことができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、請求項１４記載の露光装置は、前記可変パターン生成装置が複数の部分可変パターン生成装置により構成され、前記投影光学系が前記部分可変パターン生成装置のそれぞれに対応して設けられた複数の部分投影光学系により構成されていることを特徴とする。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
この請求項１４記載の露光装置によれば、複数の部分可変パターン生成装置及びそれらに対応した複数の部分投影光学系により構成されているため、転写パターンが生成されるパターン表示面を小さく設定することができる。従って、転写パターンが生成されるパターン表示面におけるたわみ、うねり等の問題を解消することができ、最適な露光を容易に行なうことができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、請求項１５記載の露光装置は、前記可変パターン生成装置が交換可能に構成されていることを特徴とする。この請求項１５記載の露光装置によれば、経時劣化等により可変パターン生成装置に画素欠陥が生じた場合においても、可変パターン生成装置を交換することができるため、画素欠陥により生じる露光量の不均一、露光量の不均一に因る転写パターン線幅の不均一等を防ぐことができ、微細な転写パターンの露光を良好に行なうことができる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、請求項１６記載の露光装置は、前記可変パターン生成装置が発光パターンを形成する自発光型画像表示素子を備えること特徴とする。この請求項１６記載の露光装置によれば、可変パターン生成装置が自発光型画像表示素子を備えているため、照明光学系を設置する必要がなく、露光装置のコストダウン及びコンパクト化を可能とする。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、請求項１７記載の露光装置は、前記可変パターン生成装置が、光源と、該光源からの照明光の光路中に配置された非発光型画像表示素子とを備えること特徴とする。この請求項１７記載の露光装置によれば、所望のパターンを容易に生成することができる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、請求項１８記載の露光装置は、前記可変パターン生成装置を冷却する冷却手段を更に備えることを特徴とする。この請求項１８記載の露光装置によれば、可変パターン生成装置を冷却する冷却手段を備えているため、可変パターン生成装置の過熱を防止することができる。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
また、請求項１９記載の露光装置は、前記可変パターン生成装置がパターン表示面上に前記転写パターンを生成し、前記基準マーク表示手段は、前記可変パターン生成装置の前記パターン表示面上に前記基準マークを表示させることを特徴とする。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
この請求項１９記載の露光装置によれば、可変パターン生成装置のパターン表示面上に転写パターン及び基準マークを表示するため、基準マーク表示部を別に設ける必要がなく、可変パターン生成装置を小型化することができる。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
また、請求項２０記載の露光装置は、前記投影光学系と前記感光性基板とを相対的に走査方向に沿って移動させる走査手段を更に備えることを特徴とする。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
この請求項２０記載の露光装置によれば、感光性基板の走査に同期して可変パターン生成装置により生成される転写パターンの変更を行なうため、パターン表示面を小さく設定することができる。従って、転写パターンが生成されるパターン表示面におけるたわみ、うねり等の問題を解消することができ、最適な露光を良好に行なうことができる。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
また、請求項２１記載の露光装置における可変パターン生成装置の交換方法は、請求項１０乃至請求項２０の何れか一項に記載の露光装置における可変パターン生成装置の交換方法であって、前記可変パターン生成装置の交換を行う可変パターン生成装置交換工程と、前記可変パターン生成装置の設置誤差を計測する計測工程と、前記計測工程により計測された設置誤差に基づいて前記可変パターン生成装置において生成される転写パターンの修正を行う転写パターン修正工程とを含むことを特徴とする。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
この請求項２１記載の露光装置における可変パターン生成装置の交換方法によれば、請求項１０乃至請求項２０の何れか一項に記載の露光装置を用いるため、可変パターン生成装置の交換を行なう際に生じる可変パターン生成装置の設置誤差を計測することにより可変パターン生成装置において生成される転写パターンの修正を良好に行なうことができ、露光装置における可変パターン生成装置の交換を良好に行なうことができる。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
また、請求項２２記載の露光方法は、請求項１乃至請求項２０の何れか一項に記載の露光装置を用いた露光方法において、前記可変パターン生成装置により転写パターンを生成する転写パターン生成工程と、前記可変パターン生成装置により生成された転写パターンを前記感光性基板上に転写する転写工程とを含むことを特徴とする。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
この請求項２２記載の露光方法によれば、請求項１乃至請求項２１の何れか一項に記載の露光装置を用いるため、設置誤差の修正が行なわれた可変パターン生成装置により生成される転写パターンを感光性基板上に転写することができる。従って、感光性基板上に微細な転写パターンを良好に転写することができる。
また、請求項２３記載の露光方法は、請求項１乃至請求項９の何れか一項に記載の露光装置を用いた露光方法において、前記可変パターン生成装置からの光を前記投影光学系を介して前記計測手段へ導く第１工程と、前記投影光学系を介した前記光に基づいて前記可変パターン生成装置の前記位置情報を計測する第２工程と、該第２工程の計測結果に基づいて前記可変パターン生成装置により生成される転写パターンの修正を行う第３工程と、前記修正された転写パターンを前記感光性基板上に転写する第４工程と、を含むことを特徴とする。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
また、請求項２４記載の露光方法は、請求項１０乃至請求項２０の何れか一項に記載の露光装置を用いた露光方法において、前記可変パターン生成装置に前記基準マークを表示させる基準マーク表示工程と、前記基準マークの位置を計測する計測工程と、前記計測工程の計測結果に基づいて前記可変パターン生成装置により生成される転写パターンの修正を行う転写パターン修正工程と、前記修正された転写パターンを前記感光性基板上に転写する転写工程とを含むことを特徴とする。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
この請求項２４記載の露光方法によれば、請求項１０乃至請求項２０の何れか一項に記載の露光装置を用いるため、正確な基準マークの位置計測、計測された基準マークの位置に基づいて行なわれる正確な転写パターンの修正により修正された転写パターンを感光性基板上に転写することができる。従って、感光性基板上に微細な転写パターンを良好に転写することができる。