【手続補正書】
【提出日】平成19年12月17日(2007.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｍのノミナルマスウィンドウを含むオーバーオールマスウィンドウを、マススペクトルデータまたはマススペクトルに適用すること、
マススペクトルデータまたはマススペクトルにおける複数の異なる領域または部分から強度分布を決定すること、
前記強度分布から、前記マススペクトルデータまたは前記マススペクトルにおける１またはそれ以上の領域または部分についてバックグラウンド強度を評価すること、および、
前記評価したバックグラウンド強度の影響を除去しまたは減少させるために、前記マススペクトルデータまたは前記マススペクトルにおける１またはそれ以上の領域または部分の強度を調整すること、
を含む質量分析方法。
【請求項２】
前記マススペクトルデータまたは前記マススペクトルにおける複数の領域または部分が、分離した不連続の領域または部分である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記マススペクトルデータまたは前記マススペクトルにおける複数の領域または部分が、実質的に連続する領域または部分である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記マススペクトルデータまたは前記マススペクトルにおける複数の領域または部分が、(i) 0-0.1 amu; (ii) 0.1-0.2 amu; (iii) 0.2-0.3 amu; (iv) 0.3-0.4 amu; (v) 0.4-0.5 amu; (vi) 0.5-0.6 amu;(vii) 0.6-0.7 amu; (viii) 0.7-0.8 amu; (ix) 0.8-0.9 amu; (x) 0.9-1.0 amu; (xi) 1.0-1.1 amu; (xii) 1.1-1.2 amu; (xiii) 1.2-1.3 amu; (xiv) 1.3-1.4 amu; (xv) 1.4-1.5 amu; (xvi) 1.5-1.6 amu; (xvii) 1.6-1.7 amu; (xviii) 1.7-1.8 amu; (xix) 1.8-1.9 amu; (xx) 1.9-2.0 amu; および (xxi) >2.0 amuからなる群から選択される周期性を有する、請求項１、２または３に記載の方法。
【請求項５】
前記マススペクトルデータまたは前記マススペクトルにおける複数の領域または部分が、(i) 0.4995-0.4996 amu; (ii) 0.4996-0.4997 amu; (iii) 0.4997-0.4998 amu; (iv) 0.4998-0.4999 amu; (v) 0.4999-0.5000 amu; (vi) 0.5000-0.5001 amu; (vii) 0.5001-0.5002 amu; (viii) 0.5002-0.5003 amu; (ix) 0.5003-0.5004 amu; (x) 0.5004-0.5005 amu;(xi) 0.9990-0.9991 amu; (xii) 0.9991-0.9992 amu; (xiii) 0.9992-0.9993 amu; (xiv) 0.9993-0.9994 amu; (xv) 0.9994-0.9995 amu; (xvi) 0.9995-0.9996 amu; (xvii) 0.9996-0.9997 amu; (xviii) 0.9997-0.9998 amu; (xix) 0.9998-0.9999 amu; (xx) 0.9999-1.0000 amu; (xxi) 1.0000-1.0001 amu; (xxii) 1.0001-1.0002 amu; (xxiii) 1.0002-1.0003 amu; (xxiv) 1.0003-1.0004 amu; (xxv) 1.0004-1.0005 amu; (xxvi) 1.0005-1.0006 amu; (xxvii) 1.0006-1.0007 amu; (xxviii) 1.0007-1.0008 amu;(xxix) 1.0008-1.0009 amu; (xxx) 1.0009-1.0010 amu; (xxxi) 0.5 amu; (xxxii) 1.0 amu; および (xxxiii) 1.0005 amuからなる群から選択される周期性を有する、請求項１、２または３に記載の方法。
【請求項６】
前記マススペクトルデータまたは前記マススペクトルにおける複数の領域または部分のうち１またはそれ以上が、(i) 0-0.01 amu; (ii) 0.01-0.02 amu; (iii) 0.02-0.03 amu; (iv) 0.03-0.04 amu; (v) 0.04-0.05 amu; (vi) 0.05-0.06 amu; (vii) 0.06-0.07 amu; (viii) 0.07-0.08 amu; (ix) 0.08-0.09 amu; (x) 0.09-0.10 amu; (xi) 0.10-0.11 amu; (xii) 0.11-0.12 amu; (xiii) 0.12-0.13 amu; (xiv)0.13-0.14 amu; (xv) 0.14-0.15 amu; (xvi) 0.15-0.16 amu; (xvii) 0.16-0.17 amu; (xviii) 0.17-0.18 amu; (xix) 0.18-0.19 amu; (xx) 0.19-0.20 amu; および (xxi) >0.20 amuからなる群から選択される幅を有する、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
ｍが整数である請求項１に記載の方法。
【請求項８】
ｍが偶数である請求項７に記載の方法。
【請求項９】
ｍが、(i) 2; (ii) 4; (iii) 6; (iv) 8; (v) 10; (vi) 12; (vii) 14; (viii) 16; (ix) 18; (x) 20; (xi) 22; (xii) 24; (xiii) 26; (xiv) 28; (xv) 30; (xvi) 32; (xvii) 34; (xviii) 36; (xix) 38; (xx) 40; (xxi) 42; (xxii) 44; (xxiii) 46; (xxiv) 48; (xxv) 50; および (xxvi) ≧ 52からなる群から選択される、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
ｍが奇数である請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
ｍが、(i) 1; (ii) 3; (iii) 5; (iv) 7; (v) 9; (vi) 11; (vii) 13; (viii) 15; (ix) 17; (x) 19; (xi) 21; (xii) 23; (xiii) 25; (xiv) 27; (xv) 29; (xvi) 31; (xvii) 33; (xviii) 35; (xix) 37; (xx) 39; (xxi) 41; (xxii) 43; (xxiii) 45; (xxiv) 47; (xxv) 49; および (xxvi) ≧ 51からなる群から選択される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
ｍが分数である請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ノミナルマスウィンドウが、前記マススペクトルデータまたは前記マススペクトルにおける実質的に連続する領域または部分を含む、請求項１〜１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
前記ノミナルマスウィンドウが、前記マススペクトルデータまたは前記マススペクトルにおける分離したまたは不連続の領域または部分を含む、請求項１〜１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
前記ノミナルマスウィンドウのうち１またはそれ以上が、(i) 0-0.1 amu; (ii) 0.1-0.2 amu; (iii) 0.2-0.3 amu; (iv) 0.3-0.4 amu; (v) 0.4-0.5 amu; (vi) 0.5-0.6 amu; (vii) 0.6-0.7 amu; (viii) 0.7-0.8 amu; (ix) 0.8-0.9 amu; (x) 0.9-1.0 amu; (xi) 1.0-1.1 amu; (xii) 1.1-1.2 amu; (xiii) 1.2-1.3 amu; (xiv) 1.3-1.4 amu; (xv) 1.4-1.5 amu; (xvi) 1.5-1.6 amu; (xvii) 1.6-1.7 amu; (xviii) 1.7-1.8 amu; (xix) 1.8-1.9 amu; (xx) 1.9-2.0 amu; および (xxi) >2 amuからなる群から選択される幅を有する、請求項１〜１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
前記ノミナルマスウィンドウが、それぞれ、(i) 0.4995-0.4996 amu; (ii) 0.4996-0.4997 amu; (iii)0.4997-0.4998 amu; (iv) 0.4998-0.4999 amu; (v) 0.4999-0.5000 amu; (vi) 0.5000-0.5001 amu; (vii) 0.5001-0.5002 amu; (viii) 0.5002-0.5003 amu; (ix) 0.5003-0.5004 amu; (x) 0.5004-0.5005 amu; (xi) 0.9990-0.9991 amu; (xii) 0.9991-0.9992 amu; (xiii) 0.9992-0.9993 amu; (xiv) 0.9993-0.9994 amu; (xv) 0.9994-0.9995 amu; (xvi) 0.9995-0.9996 amu; (xvii) 0.9996-0.9997 amu; (xviii) 0.9997-0.9998 amu; (xix) 0.9998-0.9999 amu; (xx) 0.9999-1.0000 amu; (xxi) 1.0000-1.0001 amu; (xxii) 1.0001-1.0002 amu; (xxiii) 1.0002-1.0003 amu; (xxiv) 1.0003-1.0004 amu; (xxv) 1.0004-1.0005 amu; (xxvi) 1.0005-1.0006 amu; (xxvii) 1.0006-1.0007 amu; (xxviii) 1.0007-1.0008 amu; (xxix) 1.0008-1.0009 amu; (xxx) 1.0009-1.0010 amu; (xxxi) 0.5 amu; (xxxii) 1.0 amu; および (xxxiii) 1.0005 amuからなる群から選択される幅を有する、請求項１〜１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】
前記ノミナルマスウィンドウのうちいくつかまたは全てが、それぞれｙのチャンネルに分割される、請求項１〜１６のいずれかに記載の方法。
【請求項１８】
ｙが、(i) 1; (ii) 2; (iii) 3; (iv) 4; (v) 5; (vi) 6; (vii) 7; (viii) 8; (ix) 9; (x) 10; (xi)11; (xii) 12; (xiii) 13; (xiv) 14; (xv) 15; (xvi) 16; (xvii) 17; (xviii) 18; (xix) 19; (xx) 20; (xxi) 21; (xxii) 22; (xxiii) 23; (xxiv) 24; (xxv) 25; (xxvi) 26; (xxvii) 27; (xxviii) 28; (xxix) 29; (xxx) 30; (xxxi) 31; (xxxii) 32; (xxxiii) 33; (xxxiv) 34; (xxxv) 35; (xxxvi) 36; (xxxvii) 37; (xxxviii) 38; (xxxix) 39; (xl) 40; (xli) 41; (xlii) 42; (xliii) 43; (xliv) 44; (xlv) 45; (xlvi) 46; (xlvii) 47; (xlviii) 48; (xlix) 49; (l) 50; および (li) >50からなる群から選択される、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
マススペクトルデータまたはマススペクトルにおける複数の異なる領域または部分から強度分布を決定する前記工程が、
前記マススペクトルデータまたは前記マススペクトルにおける種々の強度の周波数を、前記ノミナルマスウィンドウのうち１またはそれ以上における１またはそれ以上のｎ番目チャンネルにおいて決定することを含む、
請求項１７または１８に記載の方法。
【請求項２０】
ｎが１からｙまで変化する請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記強度分布から、前記マススペクトルデータセットまたはマススペクトルにおける１またはそれ以上の領域または部分についてバックグラウンド強度を評価する前記工程が、前記強度分布からx%強度分位を決定することを含む、請求項１〜２０のいずれかに記載の方法。
【請求項２２】
xが、(i) 0-5; (ii) 5-10; (iii) 10-15; (iv) 15-20; (v) 20-25; (vi) 25-30; (vii) 30-35; (viii)35-40; (ix) 40-45; (x) 45-50; (xi) 50-55; (xii) 55-60; (xiii) 60-65; (xiv) 65-70; (xv) 70-75; (xvi) 75-80; (xvii) 80-85; (xix) 85-90; (xx) 90-95; および (xxi) 95-100からなる群から選択される請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記評価したバックグラウンド強度が、前記ｘ％強度分位またはそのファクターを含む、請求項２１または２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記評価したバックグラウンド強度の影響を除去しまたは減少させるために、前記マススペクトルデータセットまたはマススペクトルにおける１またはそれ以上の領域または部分の強度を調整する前記工程が、前記マススペクトルデータまたはマススペクトルにおける前記１またはそれ以上の領域または部分から、前記評価したバックグラウンド強度またはそのフラクションを引き算することを含む、請求項１〜２３のいずれかに記載の方法。
【請求項２５】
前記マススペクトルデータセットまたはマススペクトルにおける１またはそれ以上の領域または部分の強度が、前記評価したバックグラウンド強度またはそのフラクションを引き算した後に、１または複数の負の数値を有する場合、続いて、前記マススペクトルデータセットまたはマススペクトルにおける１またはそれ以上の領域または部分の強度を、ゼロまたはゼロ付近に調整するかまたはセットする、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
前記評価したバックグラウンド強度またはそのフラクションを、前記マススペクトルデータセットまたはマススペクトルのｚ％から引き算し、ｚが、(i) 0-10; (ii) 10-20; (iii) 20-30; (iv) 30-40; (v) 40-50; (vi) 50-60; (vii) 60-70; (viii) 70-80; (ix) 80-90; および (x) 90-100からなる群から選択される、請求項２４または２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記評価したバックグラウンド強度またはそのフラクションを、前記マススペクトルデータまたは前記マススペクトルにおける１またはそれ以上の領域または部分から引き算する、請求項１〜２６のいずれかに記載の方法。
【請求項２８】
前記オーバーオールマスウィンドウを、１またはそれ以上の回数、前進処理または再処理することをさらに含む、請求項１〜２７のいずれかに記載の方法。
【請求項２９】
前記オーバーオールマスウィンドウを、毎回、(i) 0.4995-0.4996 amu; (ii) 0.4996-0.4997 amu; (iii) 0.4997-0.4998 amu; (iv) 0.4998-0.4999 amu; (v) 0.4999-0.5000 amu; (vi) 0.5000-0.5001 amu; (vii) 0.5001-0.5002 amu; (viii) 0.5002-0.5003 amu; (ix) 0.5003-0.5004 amu; (x) 0.5004-0.5005 amu; (xi) 0.9990-0.9991 amu; (xii) 0.9991-0.9992 amu; (xiii) 0.9992-0.9993 amu; (xiv) 0.9993-0.9994 amu; (xv) 0.9994-0.9995 amu; (xvi) 0.9995-0.9996 amu; (xvii) 0.9996-0.9997 amu; (xviii) 0.9997-0.9998 amu; (xix) 0.9998-0.9999 amu; (xx) 0.9999-1.0000 amu; (xxi) 1.0000-1.0001 amu; (xxii) 1.0001-1.0002 amu; (xxiii) 1.0002-1.0003 amu; (xxiv) 1.0003-1.0004 amu; (xxv) 1.0004-1.0005 amu; (xxvi) 1.0005-1.0006 amu; (xxvii) 1.0006-1.0007 amu; (xxviii) 1.0007-1.0008 amu; (xxix) 1.0008-1.0009 amu; (xxx) 1.0009-1.0010 amu; (xxxi) 0.5 amu; (xxxii) 1.0 amu; および (xxxiii) 1.0005 amuからなる群から選択される数値で前進処理または再処理する、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
使用時に、ｍのノミナルマスウィンドウを含むオーバーオールマスウィンドウを、マススペクトルデータまたはマススペクトルに適用する手段、
使用時に、マススペクトルデータセットまたはマススペクトルにおける複数の領域または部分から強度分布を決定する手段、
使用時に、前記強度分布から、前記マススペクトルデータセットまたはマススペクトルにおける１またはそれ以上の領域または部分についてバックグラウンド強度を評価する手段、および、
使用時に、前記評価したバックグラウンド強度の影響を除去しまたは減少させるために、前記マススペクトルデータセットまたはマススペクトルにおける１またはそれ以上の領域または部分の強度を調整する手段、
を含む、マススペクトロメータ。
【請求項３１】
(i) 電子スプレー(Electrospray, "ESI") イオン源; (ii) 大気圧化学イオン化(Atmospheric PressureChemical Ionisation, "APCI") イオン源; (iii) 大気圧光イオン化(Atmospheric Pressure Photo Ionisation, "APPI") イオン源; (iv) レーザー脱着イオン化(Laser Desorption Ionisation, "LDI") イオン源; (v) 誘導結合プラズマ(Inductively Coupled Plasma, "ICP") イオン源; (vi) 電子衝撃(Electron Impact, "EI") イオン源; (vii) 化学イオン化(Chemical Ionisation , "CI") イオン源; (viii)フィールドイオン化(Field Ionisation, "FI") イオン源; (ix) 高速原子衝突(Fast Atom Bombardment, "FAB") イオン源; (x) 液体二次イオンマススペクトロメトリー(Liquid Secondary Ion Mass Spectrometry, "LSIMS") イオン源; (xi) 大気圧イオン化(Atmospheric Pressure Ionisation, "API") イオン源; (xii) フィールド脱着(Field Desorption, "FD") イオン源; (xiii) マトリックス補助レーザー脱着イオン化(Matrix Assisted Laser Desorption Ionisation, "MALDI") イオン源; (xiv) シリコン上脱着／イオン化(Desorption/Ionisation on Silicon, "DIOS") イオン源; および (xv)脱着電子スプレーイオン化(Desorption Electrospray Ionisation, "DESI") イオン源からなる群から選択されるイオン源をさらに含む、請求項３０に記載のマススペクトロメータ。
【請求項３２】
前記イオン源が連続的イオン源を含む請求項３０または３１に記載のマススペクトロメータ。
【請求項３３】
前記イオン源がパルス型イオン源を含む請求項３０または３１に記載のマススペクトロメータ。
【請求項３４】
質量分析器をさらに含む請求項３０〜３３のいずれかに記載のマススペクトロメータ。
【請求項３５】
前記質量分析器が、(i) 直交加速式飛行時間質量分析器; (ii) 軸加速式飛行時間質量分析器; (iii) 四重極質量分析器; (iv) ぺニング質量分析器; (v) フーリエ変換イオンサイクロトロン共鳴(Fourier Transform Ion Cyclotron Resonance, "FTICR") 質量分析器; (vi) 2Dまたは直線式四重極イオントラップ; (vii) パウル式または3D四重極イオントラップ; および (viii) 磁気セクタ質量分析器からなる群から選択される、請求項３４に記載のマススペクトロメータ。