(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
0004044617.tif 000043
（式中、ＲａおよびＲｂは各々独立して炭素数１〜２０の直鎖または分岐アルキル基を示し、これらの基中の相隣接しない任意のメチレン基（−ＣＨ2−）は酸素原子で置換されていてもよく；Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3、Ｙ4、Ｙ5およびＹ6は各々独立して水素原子またはフッ素原子を示すが、Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3、Ｙ4、Ｙ5およびＹ6のうち少なくとも３つはフッ素原子を示し；Ｚ1およびＺ2は各々独立して−（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）4−、−ＣＨ2Ｏ−、−（ＣＨ2）3Ｏ−または単結合を示し、ただし、Ｚ1およびＺ2が同時に単結合であることはなく；また、この化合物を構成する原子はいずれもその同位体で置換されていてもよい。）で表される液晶性化合物。
【請求項２】
Ｚ1またはＺ2の少なくとも一方が−（ＣＨ2）2−または−ＣＨ2Ｏ−である請求の範囲１に記載の液晶性化合物。
【請求項３】
請求の範囲１〜２のいずれか１項に記載の液晶性化合物を少なくとも１種含有することを特徴とする液晶組成物。
【請求項４】
第一成分として、請求の範囲１〜２のいずれか１項に記載の液晶性化合物を少なくとも１種含有し、第二成分として、一般式（２）、（３）および（４）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有することを特徴とする液晶組成物。
0004044617.tif 000044
（式中、Ｒ1は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、この基中の相隣接しない任意のメチレン基は酸素原子または−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されていてもよく、また、この基中の任意の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく；Ｘ1はフッ素原子、塩素原子、−ＯＣＦ3、−ＯＣＦ2Ｈ、−ＣＦ3、−ＣＦ2Ｈ、−ＣＦＨ2、−ＯＣＦ2ＣＦ2Ｈまたは−ＯＣＦ2ＣＦＨＣＦ3を示し；Ｌ1およびＬ2は各々独立して水素原子またはフッ素原子を示し；Ｚ4およびＺ5は各々独立して−（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）4−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ2Ｏ−、−ＯＣＦ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合を示し；環Ｂはトランス−１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、または水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい１，４−フェニレンを示し；環Ｃはトランス−１，４−シクロヘキシレン、または水素原子がフッ素原子で置換されてもよい１，４−フェニレンを示し；また、これらの化合物を構成する原子はその同位体で置換されてもよい。）
【請求項５】
第一成分として、請求の範囲１〜２のいずれか１項に記載の液晶性化合物を少なくとも１種含有し、第二成分として、一般式（５）および（６）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有することを特徴とする液晶組成物。
0004044617.tif 000045
（式中、Ｒ2およびＲ3は各々独立して炭素数１〜１０のアルキル基を示し、この基中の相隣接しない任意のメチレン基は酸素原子または−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されていてもよく、また、この基中の任意の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく；Ｘ2は−ＣＮ基または−Ｃ≡Ｃ−ＣＮを示し；環Ｄはトランス−１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイルまたはピリミジン−２，５−ジイルを示し；環Ｅはトランス−１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２，５−ジイル、または水素原子がフッ素原子で置換されてもよい１，４−フェニレンを示し；環Ｆはトランス−１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンを示し；Ｚ6は−（ＣＨ2）2−、−ＣＯＯ−または単結合を示し；Ｌ3、Ｌ4およびＬ5は各々独立して水素原子またはフッ素原子を示し；ｂ、ｃおよびｄは各々独立して０または１を示し；また、これらの化合物を構成する原子はその同位体で置換されていてもよい。）
【請求項６】
第一成分として、請求の範囲１〜２のいずれか１項に記載の液晶性化合物を少なくとも１種含有し、第二成分として、前記一般式（２）、（３）および（４）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有し、第三成分として、一般式（７）、（８）および（９）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有することを特徴とする液晶組成物。
0004044617.tif 000046
（式中、Ｒ4およびＲ5は各々独立して炭素数１〜１０のアルキル基を示し、この基中の相隣接しない任意のメチレン基は酸素原子または−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されていてもよく、また、この基中の任意の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく；環Ｇ、環Ｉおよび環Ｊは各々独立して、トランス−１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２，５−ジイル、または水素原子原子がフッ素原子で置換されてもよい１，４−フェニレンを示し；Ｚ7およびＺ8は各々独立して、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合を示し；また、これらの化合物を構成する原子はその同位体で置換されていてもよい。）
【請求項７】
第一成分として、請求の範囲１〜２のいずれか１項に記載の液晶性化合物を少なくとも１種含有し、第二成分として、前記一般式（５）および（６）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有し、第三成分として、前記一般式（７）、（８）および（９）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有することを特徴とする液晶組成物。
【請求項８】
第一成分として、請求の範囲１〜２のいずれか１項に記載の液晶性化合物を少なくとも１種含有し、第二成分として、一般式（１０）、（１１）および（１２）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有することを特徴とする液晶組成物。
0004044617.tif 000047
（式中、Ｒ6およびＲ7は各々独立して炭素数１〜１０のアルキル基を示し、この基中の相隣接しない任意のメチレン基は酸素原子または−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されていてもよく、また、この基中の任意の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく；環Ｋおよび環Ｍは各々独立して、トランス−１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンを示し；Ｌ6およびＬ7は各々独立して水素原子またはフッ素原子を示すが同時に水素原子であることはなく；Ｚ9およびＺ10は各々独立して−（ＣＨ2）2−、−ＣＯＯ−または単結合を示し；またこれらの化合物を構成する原子はその同位体で置換されていてもよい。）
【請求項９】
第一成分として、請求の範囲１〜２のいずれか１項に記載の液晶性化合物を少なくとも１種含有し、第二成分として、前記一般式（７）、（８）および（９）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有し、第三成分として、前記一般式（１０）、（１１）および（１２）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有することを特徴とする液晶組成物。
【請求項１０】
第一成分として、請求の範囲１〜２のいずれか１項に記載の液晶性化合物を少なくとも１種含有し、第二成分として、前記一般式（２）、（３）および（４）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有し、第三成分として、前記一般式（５）および（６）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有し、第四成分として、前記一般式（７）、（８）および（９）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有することを特徴とする液晶組成物。
【請求項１１】
請求の範囲３〜１０のいずれか１項に記載の液晶組成物に、さらに１種以上の光学活性化合物を含有することを特徴とする液晶組成物。
【請求項１２】
請求の範囲３〜１１のいずれか１項に記載の液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、新規液晶性化合物および液晶組成物に関し、さらに詳しくは、フッ素置換−１，４−フェニレン基を有する液晶性化合物、この化合物を含有する液晶組成物、およびこの液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子に関する。
背景技術
液晶性化合物（本願において、液晶性化合物なる用語は、液晶相を示す化合物および液晶相を示さないが液晶組成物の構成成分として有用である化合物の総称として用いられる。）を用いた表示素子は、時計、電卓、ワープロ等のディスプレイに広く利用されている。近年では、安価に視野角特性を改善することができるインプレーンスイッチング（ＩＰＳ）方式およびヴァーティカルアラインメント（ＶＡ）方式の研究が盛んに行われている。
ＩＰＳ方式およびＶＡ方式用の液晶組成物では、負の誘電率異方性値を有するものが好適であり、さらに、高い電圧保持率および低いしきい値電圧を有し、それらの温度依存性が小さく、広い液晶相温度範囲を有し、他の液晶材料との相溶性に優れ、低粘性であること等の物性が求められている。
このような液晶組成物の成分として側方位がフッ素置換された液晶性化合物が数多く検討され、例えば、下記の化合物が開示された文献がある。
0004044617.tif 000002
しかしながら、１）の化合物はしきい値電圧が高く、２）および３）の化合物は等方相転移温度が低い、あるいはスメクチック相を示しやすく、液晶組成物の成分として使用した場合、特に低温下で安定なネマチック相を形成し難い等の問題点を有していた。
発明の開示
本発明の目的は、前記の要求特性に鑑み、負の誘電率異方性値を示すと共に極めて高い電圧保持率および低いしきい値電圧を有し、また、それらの温度依存性が極めて小さく、スメクチック相を示しにくく、さらに、他の液晶材料との相溶性に優れた液晶性化合物、これを含有する液晶組成物および該液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子を提供することにある。
本発明者らは、上記課題の解決のため鋭意研究の結果、一般式（１）
0004044617.tif 000003
（式中、ＲａおよびＲｂは各々独立して炭素数１〜２０の直鎖または分岐アルキル基を示し、これらの基中の相隣接しない任意のメチレン基（−ＣＨ2−）は酸素原子で置換されていてもよく；Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3、Ｙ4、Ｙ5およびＹ6は各々独立して水素原子またはフッ素原子を示すが、Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3、Ｙ4、Ｙ5およびＹ6のうち少なくとも３つはフッ素原子を示し；Ｚ1およびＺ2は各々独立して−（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）4−、−ＣＨ2Ｏ−、−（ＣＨ2）3Ｏ−および単結合を示し、ただし、Ｚ1およびＺ2が共に単結合であることはなく；また、この化合物を構成する原子はいずれもその同位体で置換されていてもよい。）で表される液晶性化合物が所期の性能を有することを知り本発明を完成するに至った。
一般式（１）で表される化合物の一部は、前記先行文献１）および３）の請求の範囲等に形式的には包含されるが、これらの先行文献には本発明の化合物に関して、物性値等のデータが一切記載されておらず、その特性について具体的な言及もなく、本発明の有用性を示唆するものではなかった。
一般式（１）で表される化合物は下記の（ａ−１）〜（ａ−２４）のように類別される。
式中、ＲａおよびＲｂは前記と同様の意味を示し、Ｂは環上の１つ以上の水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい１，４−フェニレン基を示す。
Ｒａ−Ｂ−（ＣＨ2）2−Ｂ−Ｂ−Ｒｂ                      （ａ−１）
Ｒａ−Ｂ−（ＣＨ2）4−Ｂ−Ｂ−Ｒｂ                      （ａ−２）
Ｒａ−Ｂ−ＣＨ2Ｏ−Ｂ−Ｂ−Ｒｂ                         （ａ−３）
Ｒａ−Ｂ−ＯＣＨ2−Ｂ−Ｂ−Ｒｂ                         （ａ−４）
Ｒａ−Ｂ−（ＣＨ2）3Ｏ−Ｂ−Ｂ−Ｒｂ                    （ａ−５）
Ｒａ−Ｂ−Ｏ（ＣＨ2）3−Ｂ−Ｂ−Ｒｂ                    （ａ−６）
Ｒａ−Ｂ−（ＣＨ2）2−Ｂ−（ＣＨ2）2−Ｂ−Ｒｂ          （ａ−７）
Ｒａ−Ｂ−（ＣＨ2）2−Ｂ−（ＣＨ2）4−Ｂ−Ｒｂ          （ａ−８）
Ｒａ−Ｂ−（ＣＨ2）4−Ｂ−（ＣＨ2）4−Ｂ−Ｒｂ          （ａ−９）
Ｒａ−Ｂ−（ＣＨ2）2−Ｂ−ＣＨ2Ｏ−Ｂ−Ｒｂ             （ａ−１０）
Ｒａ−Ｂ−（ＣＨ2）2−Ｂ−ＯＣＨ2−Ｂ−Ｒｂ             （ａ−１１）
Ｒａ−Ｂ−（ＣＨ2）2−Ｂ−（ＣＨ2）3Ｏ−Ｂ−Ｒｂ        （ａ−１２）
Ｒａ−Ｂ−（ＣＨ2）2−Ｂ−Ｏ（ＣＨ2）3−Ｂ−Ｒｂ        （ａ−１３）
Ｒａ−Ｂ−（ＣＨ2）4−Ｂ−ＣＨ2Ｏ−Ｂ−Ｒｂ             （ａ−１４）
Ｒａ−Ｂ−（ＣＨ2）4−Ｂ−ＯＣＨ2−Ｂ−Ｒｂ             （ａ−１５）
Ｒａ−Ｂ−（ＣＨ2）4−Ｂ−（ＣＨ2）3Ｏ−Ｂ−Ｒｂ        （ａ−１６）
Ｒａ−Ｂ−（ＣＨ2）4−Ｂ−Ｏ（ＣＨ2）3−Ｂ−Ｒｂ        （ａ−１７）
Ｒａ−Ｂ−ＣＨ2Ｏ−Ｂ−ＣＨ2Ｏ−Ｂ−Ｒｂ                （ａ−１８）
Ｒａ−Ｂ−ＣＨ2Ｏ−Ｂ−ＯＣＨ2−Ｂ−Ｒｂ                （ａ−１９）
Ｒａ−Ｂ−ＯＣＨ2−Ｂ−ＣＨ2Ｏ−Ｂ−Ｒｂ                （ａ−２０）
Ｒａ−Ｂ−ＣＨ2Ｏ−Ｂ−（ＣＨ2）3Ｏ−Ｂ−Ｒｂ           （ａ−２１）
Ｒａ−Ｂ−ＣＨ2Ｏ−Ｂ−Ｏ（ＣＨ2）3−Ｂ−Ｒｂ           （ａ−２２）
Ｒａ−Ｂ−ＯＣＨ2−Ｂ−Ｏ（ＣＨ2）3−Ｂ−Ｒｂ           （ａ−２３）
Ｒａ−Ｂ−ＯＣＨ2−Ｂ−Ｏ（ＣＨ2）3−Ｂ−Ｒｂ           （ａ−２４）
式（ａ−１）〜（ａ−２４）で示される化合物は、いずれも好ましい特性を示すものであるが、これらの一群の中でより好ましい特性を示すものとして（ａ−１）〜（ａ−４）、（ａ−１０）および（ａ−１１）を示すことができる。
式中、ＲａおよびＲｂは炭素数１〜２０の直鎖または分岐アルキル基であるが、具体的には直鎖アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、デシル、ペンタデシル、イコシル等を、また分岐アルキル基としてはイソプロピル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、２−メチルブチル、イソペンチル、イソヘキシル、３−エチルオクチル、３，８−ジメチルテトラデシル、５−エチル−５−メチルノナデシル等を例示することができる。なお、分岐アルキル基は光学活性を示すものであってもよく、そのような化合物はキラルドープ剤として有用である。
また、これらのアルキル基中の相隣接しない任意のメチレン基は酸素原子で置換されていてもよく、具体的には、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシおよびノニルオキシ等のアルコキシ基、メトキシメチル、メトキシエチル、メトキシプロピル、メトキシブチル、メトキシペンチル、メトキシオクチル、エトキシメチル、エトキシエチル、エトキシプロピル、エトキシヘキシル、プロポキシメチル、プロポキシエチル、プロポキシプロピル、プロポキシペンチル、ブトキシメチル、ブトキシエチル、ブトキシブチル、ペンチルオキシメチル、ペンチルオキシブチル、ヘキシルオキシメチル、ヘキシルオキシエチル、ヘキシルオキシプロピル、ヘプチルオキシメチルおよびオクチルオキシメチル等のアルコキシアルキル基等を例示することができる。
本発明の一般式（１）で示される液晶性化合物は、一般的な有機合成法によって製造することができるが、例えば以下のような方法で簡便に製造することができる。
0004044617.tif 000004
（式中、Ｒａ、ＲｂおよびＹ1〜Ｙ6は前記と同様の意味を示し、Ｘａ〜Ｘｃはハロゲン原子を示す。）
すなわち、ｓｃｈｅｍｅ１に示すごとく、化合物（１）とｎ−ブチルリチウムまたはｓｅｃ−ブチルリチウム（ｓｅｃ−ＢｕＬｉ）等のリチウム化合物（あるいは、対応するＧｒｉｇｎａｒｄ試薬を用いてもよい。）および化合物（２）と反応させて化合物（３）を得る。ｐ−トルエンスルホン酸等の酸触媒存在下、トルエンまたはキシレン等の溶媒中で脱水した後、パラジウム触媒またはラネーニッケル等の存在下、水素添加することにより化合物（５）を得る。化合物（５）とｎ−ブチルリチウムまたはｓｅｃ−ブチルリチウム等のリチウム化合物、およびハロゲン分子（特に臭素またはヨウ素）と反応させることにより化合物（６）を得る。次いで、トルエンあるいはキシレン等とエタノール等のアルコール類および水の混合溶媒中、Ｋ2ＣＯ3あるいはＮａ2ＣＯ3等の塩基および炭素担持パラジウム（Ｐｄ−Ｃ）、Ｐｄ（ＰＰｈ3）4、ＰｄＣｌ2（ＰＰｈ3）2等の触媒存在下、化合物（６）とジヒドロキシボラン誘導体（７）とを反応（Ｍ．ＨＩＲＤ等，リキッド  クリスタルズ，１８（１），１（１９９５））させることにより本発明の化合物（８）を製造することができる。
あるいは、ｓｃｈｅｍｅ２に示すごとく、化合物（９）と化合物（１０）とのＷｉｔｔｉｇ反応（オーガニック  リアクションズ，第１４巻，第３章）から化合物（４）を得た後、ｓｃｈｅｍｅ１と同様にして本発明の化合物（８）を製造することもできる。
ｓｃｈｅｍｅ３に示すごとく、化合物（１１）と化合物（１２）を反応（Ｃ．Ｃａｒｄｅｌｌｉｃｃｈｉｏ等，テトラヘドロン  レターズ，２８（１８），２０５３（１９８７））させて化合物（１３）とし、次いで、ヒドロシラン（Ｃ．Ｔ．Ｗｅｓｔ等，ザ  ジャーナル  オブ  オーガニック  ケミストリー，３８，２６７５（１９７３））等による還元反応を行い、化合物（４）を得た後、ｓｃｈｅｍｅ１と同様にして本発明化合物の（８）を製造することもできる。
ｓｃｈｅｍｅ４に示すごとく、化合物（４）とｎ−ブチルリチウムまたはｓｅｃ−ブチルリチウム等のリチウム化合物、およびＺｎＣｌ2またはＺｎＢｒ2等の亜鉛化合物とを反応させた後、化合物（１４）とカップリング（林等，ザ  ジャーナル  オブ  ジ  アメリカン  ケミカル  ソサイエティー，１０６，１５８（１９８４））させることによっても本発明の化合物（８）を製造することができる。
0004044617.tif 000005
また、ｓｃｈｅｍｅ５に示すごとく、化合物（１）とメチルまたはメトキシメチル基等の保護基で保護されたフェノール誘導体（１５）とのカップリング反応から化合物（１６）を得た後、脱保護して化合物（１７）を得る。次いで、化合物（１７）と化合物（１８）をナトリウムアミド（Ｊ．Ｂ．ライト等，ジャーナル  オブ  ジ  アメリカン  ケミカル  ソサイエティー，７０，３０９８（１９４８））、炭酸カリウム（Ｗ．Ｔ．オルソン等，ジャーナル  オブ  ジ  アメリカン  ケミカル  ソサイエティー，６９，２４５１（１９４７））、トリエチルアミン（Ｒ．Ｌ．Ｍｅｒｋｅｒ等，ザ  ジャーナル  オブ  オーガニック  ケミストリー，２６，５１８０（１９６１））、水酸化ナトリウム（Ｃ．Ｗｉｌｋｉｎｓ，シンセシス，１９７３，１５６）、水酸化カリウム（Ｊ．Ｒｅｂｅｋ等，ザ  ジャーナル  オブ  オーガニック  ケミストリー，４４，１４８５（１９７９））、水酸化バリウム（カワベ等，ザ  ジャーナル  オブ  オーガニック  ケミストリー，３７，４２１０（１９７２））または水素化ナトリウム（ＮａＨ）（Ｃ．Ｊ．Ｓｔａｒｋ，テトラヘドロン  レターズ，２２，２０８９（１９８１）、Ｋ．タカイ等，テトラヘドロン  レターズ，２１，１６５７（１９８０））等の塩基の存在下、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ヘキサメチルリン酸トリアミドまたはトルエン等の溶媒中で反応させることにより本発明の化合物（１９）を製造することができる。
一般式（１）において、Ｒ中に−Ｏ−を含む化合物も同様の方法で製造することができる。
原料であるジヒドロキシボラン誘導体（７）も公知の一般的な有機合成法によって製造することができるが、例えば以下のような方法で簡便に製造することができる。
0004044617.tif 000006
すなわち、ｓｃｈｅｍｅ６に示すごとく、ハロゲン化合物（１４）とマグネシウムから調製したＧｒｉｇｎａｒｄ試薬とトリメトキシボランまたはトリイソプロピルオキシボラン等のトリアルコキシボランとを反応させた後、塩酸または硫酸等で加水分解することによってジヒドロキシボラン誘導体（７）を製造することができる。
上述の反応は全て公知のものであるが、必要によりさらに他の既知反応を使用できることは言うまでもない。
このようにして得られる本発明の液晶性化合物は、極めて高い電圧保持率および低いしきい値電圧を有し、それらの温度依存性が極めて小さく、スメクチック相を示しにくいうえ、他の液晶材料との相溶性に優れている。また、これらの本発明液晶性化合物は、液晶表示素子が通常使用される条件下において物理的および化学的に十分安定であり、ネマチック液晶組成物の構成成分として極めて優れている。
本発明の化合物は、ＴＮ、ＳＴＮおよびＴＦＴ用の液晶組成物においても、その構成成分として好適に使用することができる。
一般式（１）で表される化合物は、比較的高い等方相転移温度と低粘性を示す。
また、以下の部分構造を有する化合物は、特に大きな負の誘電率異方性値を示す。
0004044617.tif 000007
環構造中の水素原子をフッ素原子に置換することによって、より大きな誘電率異方性値をとることが可能であり、同時に相溶性も改善され得る。
さらに、本発明化合物中の原子が、その同位体で置換された化合物も同様の特性を示すことから好ましいものといえる。
これらのことから環、側鎖、置換基および結合基を適当に選択することにより所望の物性を有する新たな液晶性化合物を得ることができる。
以下、本発明の液晶組成物に関して説明する。本発明に係る液晶組成物は、一般式（１）で表される化合物の少なくとも１種を０．１〜９９．９重量％の割合で含有することが、優良な特性を発現せしめるために好ましく、より好ましくはその割合は１〜６０重量％である。
さらに詳しくは、本発明で提供される液晶組成物は、一般式（１）で表される化合物を少なくとも１種含有する第一成分に加え、一般式（２）〜（１２）で表される化合物群から液晶組成物の目的に応じて選択される化合物を混合することにより完成する。
本発明の液晶組成物に用いられる一般式（２）〜（４）で表される化合物の好ましい例として以下の化合物を挙げることができる。
0004044617.tif 000008
0004044617.tif 000009
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0004044617.tif 000016
（式中、Ｒ1およびＸ1は前記と同様の意味を示す。）
一般式（２）〜（４）で表される化合物は誘電率異方性値が正の化合物であり、熱的安定性や化学的安定性が非常に優れており、特に電圧保持率の高い、あるいは比抵抗値の大きいといった高信頼性が要求されるＴＦＴ用の液晶組成物を調製する場合に、極めて有用な化合物である。
ＴＦＴ用の液晶組成物を調製する場合、一般式（２）〜（４）で表される化合物の使用量は、液晶組成物の全重量に対して０．１〜９９．９重量％の範囲で使用できるが、好ましくは１０〜９７重量％、より好ましくは４０〜９５重量％である。また、一般式（７）〜（９）で表される化合物を、粘度調整の目的でさらに含有してもよい。
ＳＴＮまたはＴＮ用の液晶組成物を調製する場合も一般式（２）〜（４）で表される化合物を使用することができるが、５０重量％以下の使用量が好ましい。
本発明の液晶組成物に用いられる一般式（５）および（６）で表される化合物の好ましい例として以下の化合物を挙げることができる。
0004044617.tif 000017
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0004044617.tif 000020
（式中、Ｒ2、Ｒ3およびＸ2は前記と同様の意味を示す。）
一般式（５）および（６）で表される化合物は誘電率異方性値が正でその値が大きく、特に液晶組成物のしきい値電圧を小さくする目的で使用される。また、屈折率異方性値の調整、透明点を高くする等のネマチックレンジを広げる目的にも使用される。さらに、ＳＴＮまたはＴＮ用の液晶組成物の電圧−透過率特性の急峻性を改良する目的にも使用される。
一般式（５）および（６）で表される化合物は、ＳＴＮおよびＴＮ用の液晶組成物を調製する場合には、特に有用な化合物である。
液晶組成物中に一般式（５）および（６）で表される化合物の量が増加すると、液晶組成物のしきい値電圧は小さくなるが、粘度が上昇する。したがって、液晶組成物の粘度が要求値を満足している限り、多量に使用した方が低電圧駆動できるので有利である。ＳＴＮまたはＴＮ用の液晶組成物を調製する場合に、一般式（５）および（６）で表される化合物の使用量は０．１〜９９．９重量％の範囲で使用できるが、好ましくは１０〜９７重量％、より好ましくは４０〜９５重量％である。
本発明の液晶組成物に用いられる一般式（７）〜（９）で表される化合物の好ましい例として以下の化合物を挙げることができる。
0004044617.tif 000021
0004044617.tif 000022
0004044617.tif 000023
（式中、Ｒ4およびＲ5は前記と同様の意味を示す。）
一般式（７）〜（９）で表される化合物は、誘電率異方性の絶対値が小さく、中性に近い化合物である。一般式（７）で表される化合物は主として粘度調整または屈折率異方性値の調整の目的で使用される。また、一般式（８）および（９）で表される化合物は透明点を高くする等のネマチックレンジを広げる目的または屈折率異方性値の調整の目的で使用される。
一般式（７）〜（９）で表される化合物の使用量を増加させると液晶組成物のしきい値電圧が大きくなり、粘度が小さくなる。したがって、液晶組成物のしきい値電圧が要求値を満足している限り、多量に使用することが望ましい。ＴＦＴ用の液晶組成物を調製する場合に、一般式（７）〜（９）で表される化合物の使用量は、好ましくは４０重量％以下、より好ましくは３５重量％以下である。また、ＳＴＮまたはＴＮ用の液晶組成物を調製する場合には、一般式（７）〜（９）で表される化合物の使用量は、好ましくは７０重量％以下、より好ましくは６０重量％以下である。
本発明の液晶組成物に用いられる一般式（１０）〜（１２）で表される化合物の好ましい例として以下の化合物を挙げることができる。
0004044617.tif 000024
（式中、Ｒ6およびＲ7は前記と同様の意味を示す。）
一般式（１０）〜（１２）で表される化合物は、誘電率異方性値が負の化合物である。一般式（１０）で表される化合物は２環化合物であるので、主としてしきい値電圧の調整、粘度調整または屈折率異方性値の調整の目的で使用される。一般式（１１）で表される化合物は透明点を高くする等のネマチックレンジを広げる目的または屈折率異方性値の調整の目的で使用される。一般式（１２）の化合物はネマチックレンジを広げる目的の他、しきい値電圧を小さくする目的および屈折率異方性値を大きくする目的で使用される。
一般式（１０）〜（１２）で表される化合物は主として誘電率異方性値が負である液晶組成物に使用される。その使用量を増加させると組成物のしきい値電圧が小さくなるが、粘度が大きくなる。したがって、しきい値電圧の要求値を満足している限り、少なく使用することが望ましい。しかしながら、誘電率異方性値の絶対値が５以下であるので、４０重量％より少なくなると電圧駆動ができなくなる場合がある。一般式（１０）〜（１２）で表される化合物の使用量は、誘電率異方性値が負であるＴＦＴ用の組成物を調製する場合には４０重量％以上が好ましいが、５０〜９５重量％が好適である。また弾性定数をコントロ−ルし、組成物の電圧−透過率曲線を制御する目的で、一般式（１０）〜（１２）で表される化合物を誘電率異方性値が正である組成物に混合する場合もある。この場合の一般式（１０）〜（１２）で表される化合物の使用量は３０重量％以下が好ましい。
また、本発明の液晶組成物では、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モード用液晶組成物等の特別な場合を除き、液晶組成物のらせん構造を誘起して必要なねじれ角を調整し、逆ねじれ（ｒｅｖｅｒｓｅ  ｔｗｉｓｔ）を防ぐ目的で、通常、光学活性化合物を添加する。このような目的で公知のいずれの光学活性化合物も使用できるが、好ましい例として以下の光学活性化合物を挙げることができる。
0004044617.tif 000025
本発明の液晶組成物は、通常、これらの光学活性化合物を添加して、ねじれのピッチを調整する。ねじれのピッチは、ＴＦＴ用およびＴＮ用の液晶組成物であれば４０〜２００μｍの範囲に調整するのが好ましい。ＳＴＮ用の液晶組成物であれば６〜２０μｍの範囲に調整するのが好ましい。また、双安定ＴＮ（Ｂｉｓｔａｂｌｅ  ＴＮ）モード用の場合は、１．５〜４μｍの範囲に調整するのが好ましい。また、ピッチの温度依存性を調整する目的で、２種以上の光学活性化合物を添加してもよい。
本発明の液晶組成物は、慣用な方法で調製される。一般には、種々の成分を高い温度で互いに溶解させる方法がとられている。
また、本発明の液晶組成物は、メロシアニン系、スチリル系、アゾ系、アゾメチン系、アゾキシ系、キノフタロン系、アントラキノン系、およびテトラジン系等の二色性色素を添加してゲストホスト（ＧＨ）モード用の液晶組成物としても使用できる。あるいは、ネマチック液晶をマイクロカプセル化して作製したＮＣＡＰや液晶中に三次元網目状高分子を作製したポリマーネットワーク液晶表示素子（ＰＮＬＣＤ）に代表されるポリマー分散型液晶表示素子（ＰＤＬＣＤ）用の液晶組成物としても使用できる。その他、複屈折制御（ＥＣＢ）モードや動的散乱（ＤＳ）モード用の液晶組成物としても使用できる。
本発明の化合物を含有する液晶組成物例として以下のものを示すことができる。なお、組成物例および後述の実施例中の化合物は、以下に示される定義によって記号化して表記し、化合物のＮｏ．は後述の実施例中に示されるそれと同一である。
0004044617.tif 000026
0004044617.tif 000027
0004044617.tif 000028
また、例えば下記の部分構造式において、トランス−１，４−シクロヘキシレンの水素原子が、Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3の位置で重水素原子により置換された場合には、記号：Ｈ［１Ｄ，２Ｄ，３Ｄ］とし、また、Ｑ5、Ｑ6、Ｑ7の位置で置換された場合は、記号：Ｈ［５Ｄ，６Ｄ，７Ｄ］として［  ］内の番号で重水素置換位置を示すこととする。
0004044617.tif 000029
また、組成物例および実施例中において、特に断りのない限り「％」は「重量％」を示し、化合物にシス−トランス異性体が存在する場合には、その化合物はトランス型である。
0004044617.tif 000030
0004044617.tif 000031
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0004044617.tif 000041
0004044617.tif 000042
発明を実施するための最の形態
以下、実施例により本発明をより詳細に説明する。なお、各実施例中において、Ｃは結晶を、ＳAはスメクチックＡ相を、ＳBはスメクチックＢ相を、ＳXは相構造未解析のスメクチック相を、Ｎはネマチック相を、Ｉｓｏは等方相を示し、相転移温度の単位は全て℃である。
実施例１
４−エトキシ−２，３，３’−トリフルオロ−４’−（２−（４−プロピルフェニル）エチル）ビフェニル（２Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ−３（化合物Ｎｏ．１））の製造。
（第一段）４−エトキシ−２，３，３’−トリフルオロビフェニルの製造
４−エトキシ−２，３−ジフルオロヨードベンゼン〔４−エトキシ−２，３−ジフルオロベンゼンをｓｅｃ−ブチルリチウムでリチオ化した後、ヨウ素と反応させて得た。〕２０．０ｇ（７９．３ｍｍｏｌ）、ジヒドロキシ（３−フルオロフェニル）ボラン〔３−フルオロブロモベンゼンとマグネシウムから調製したＧｒｉｇｎａｒｄ試薬とトリメトキシボランを反応させた後、塩酸で加水分解して得た。〕１８．９ｇ（１１８．９ｍｍｏｌ）、Ｋ2ＣＯ3２１．９ｇ（１５８．６ｍｍｏｌ）、５％Ｐｄ−Ｃ２．０ｇおよびトルエン／エタノール／水（１／１／１）の混合溶媒１００ｍｌの混合物を１３時間加熱還流させた。次に触媒を濾過により除去した後、トルエン１５０ｍｌで抽出し、得られた有機層を水で３回洗浄した後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘプタン／トルエン＝８／２）に付して、粗製の４−エトキシ−２，３，３’−トリフルオロビフェニル１７．３ｇを得た。（収率：８６．２％）
このものは、これ以上の精製を行わずに次の反応に使用した。
（第二段）４−エトキシ−２，３，３’−トリフルオロ−４’−（１−ヒドロキシ−２−（４−プロピルフェニル）エチル）ビフェニルの製造
前段で得られた４−エトキシ−２，３，３’−トリフルオロビフェニル１０．０（３９．６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）５０ｍｌ溶液中にｓｅｃ−ブチルリチウム３８ｍｌ（１．０４Ｍ、シクロヘキサン溶液、３９．６ｍｍｏｌ相当）を−６０℃以下を保ちながら滴下し、滴下終了後、同温度で１時間攪拌した。反応液に４−プロピルフェニルアセトアルデヒド６．３ｇ（３６．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ３０ｍｌ溶液を−６０℃以下を保ちながら滴下し、同温度で１時間攪拌した。
反応液に希塩酸２００ｍｌを滴下した後、酢酸エチル１００ｍｌで抽出した。得られた有機層を希炭酸水素ナトリウム水溶液で２回、水で３回洗浄した後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘプタン／酢酸エチル＝８／２）に付して、粗製の４−エトキシ−２，３，３’−トリフルオロ−４’−（１−ヒドロキシ−２−（４−プロピルフェニル）エチル）ビフェニル６．１ｇを得た。（収率：４１．４％）
このものは、これ以上の精製を行わずに次の反応に使用した。
（第三段）４−エトキシ−２，３，３’−トリフルオロ−４’−（２−（４−プロピルフェニル）ビニル）ビフェニルの製造
前段で得られた４−エトキシ−２，３，３’−トリフルオロ−４’−（１−ヒドロキシ−２−（４−プロピルフェニル）エチル）ビフェニル６．１（１４．８ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸・一水和物０．３ｇおよびトルエン５０ｍｌの混合物を、留出してくる水を抜きながら、２時間加熱還流させた。反応終了後、希炭酸水素ナトリウム水溶液で２回、水で３回洗浄した後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘプタン／トルエン＝６／４）に付して、粗製の４−エトキシ−２，３，３’−トリフルオロ−４’−（２−（４−プロピルフェニル）ビニル）ビフェニル２．８ｇを得た。（収率：４９．１％）
（第四段）  ４−エトキシ−２，３，３’−トリフルオロ−４’−（２−（４−プロピルフェニル）エチル）ビフェニルの製造
前段で得られた４−エトキシ−２，３，３’−トリフルオロ−４’−（２−（４−プロピルフェニル）ビニル）ビフェニル２．８ｇ（７．０ｍｍｏｌ）、５％Ｐｄ−Ｃ０．１５ｇおよびトルエン／エタノール（１／１）の混合溶媒５０ｍｌを混合して水素還元を行った。水素の吸収が停止した後、濾過により触媒を除去した。減圧下に溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘプタン／トルエン＝８／２）に付して、粗製の４−エトキシ−２，３，３’−トリフルオロ−４’−（２−（４−プロピルフェニル）エチル）ビフェニル２．４ｇを得た。このものをエタノール／酢酸エチル（８／２）混合溶媒から再結晶して標題化合物１．３ｇを得た。（収率：４４．６％）
この化合物は液晶相を示し、その転移温度は
Ｃ  ７３．９〜７４．５  Ｎ  ８３．５  Ｉｓｏであった。
また、各スペクトルデータはよくその構造を支持した。
質量分析：３９８（Ｍ+）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ内部標準）
δ（ｐｐｍ）
０．９４（ｔ，３Ｈ）
１．３９−１．７６（ｍ，５Ｈ）
２．５７（ｔ，２Ｈ）
２．９３（ｓ，４Ｈ）
４．１６（ｑ，２Ｈ）
６．７８−７．２５（ｍ，９Ｈ）
以下に本発明の化合物を液晶組成物の成分として用いた場合の例を示す。各使用例において、ＮＩはネマチック相−等方相転移温度（℃）を、Δεは誘電率異方性値を、Δｎは屈折率異方性値を、ηは粘度（ｍＰａ・ｓ）を、Ｖｔｈはしきい値電圧（Ｖ）を、ＶＨＲは電圧保持率（％）を示す。
なお、ηは２０℃で測定し、Δε、Δｎ、Ｖｔｈおよびねじれのピッチ（μｍ）は各々２５℃で測定し、ＶＨＲは左から順に２５℃、８０℃および１００℃で測定した値を示した。
実施例２（使用例１）
下記のシアノフェニルシクロヘキサン系液晶化合物を含む液晶組成物（Ａ）：
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）ベンゾニトリル              ２４％、
４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）ベンゾニトリル              ３６％、
４−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）ベンゾニトリル              ２５％、
４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４’−シアノビフェニル      １５％
は、以下の物性を有する。
ＮＩ：７１．７、Δε：１１．０、Δｎ：０．１３７、η：２６．７、Ｖｔｈ：１．７８。
この組成物（Ａ）８５％と、実施例１で得られた４−エトキシ−２，３，３’−トリフルオロ−４’−（２−（４−プロピルフェニル）エチル）ビフェニル（化合物Ｎｏ．１）１５％とからなる液晶組成物（Ｂ）の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：６９．０、Δε：９．１、Δｎ：０．１４２、η：３１．０、Ｖｔｈ：１．７１。
この液晶組成物（Ｂ）を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えてもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例３（使用例２）
下記のエステル系液晶化合物を含む液晶組成物（Ｃ）：
３−ＨＥＢ−Ｏ２            １７．２％
３−ＨＥＢ−Ｏ４            ２７．６％
４−ＨＥＢ−Ｏ２            ２０．７％
５−ＨＥＢ−Ｏ１            ２０．７％
５−ＨＥＢ−Ｏ２            １３．８％
は、以下の物性を有する。
ＮＩ：７４．０、Δε：−１．４３。
この組成物（Ｃ）８５％と、実施例１で得られた４−エトキシ−２，３，３’−トリフルオロ−４’−（２−（４−プロピルフェニル）エチル）ビフェニル（化合物Ｎｏ．１）１５％とからなる液晶組成物（Ｄ）の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：７５．６、Δε：−２．０４。
この液晶組成物（Ｄ）を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えてもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例１の方法に準じて以下の化合物を合成することができる。なお、ここに示した物性値は実施例３に準じて測定した組成物の値である。
化合物Ｎｏ．２：１−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ−３
化合物Ｎｏ．３：３−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ−２
ＮＩ：６７．０、Δε：−１．５０
化合物Ｎｏ．４：５−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ−２
化合物Ｎｏ．５：１０−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ−２
化合物Ｎｏ．６：１５−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ−５
化合物Ｎｏ．７：３Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ−２
化合物Ｎｏ．８：８Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ−３
化合物Ｎｏ．９：２０Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ−４
化合物Ｎｏ．１０：３−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ−３
化合物Ｎｏ．１１：４−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ−２
化合物Ｎｏ．１２：１２−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ−８
化合物Ｎｏ．１３：１Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ−５
化合物Ｎｏ．１４：４Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ−２
化合物Ｎｏ．１５：５Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ−１Ｏ１
化合物Ｎｏ．１６：２−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ２Ｂ（２Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．１７：３−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ２Ｂ（２Ｆ）−４
化合物Ｎｏ．１８：７−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ２Ｂ（２Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．１９：３−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ２Ｂ（２Ｆ）−３Ｏ１
化合物Ｎｏ．２０：２Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ２Ｂ（２Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．２１：５Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ２Ｂ（２Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．２２：６Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ２Ｂ（２Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．２３：２−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ２Ｂ（２Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．２４：１−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ２Ｂ（３Ｆ）−５
化合物Ｎｏ．２５：２−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ２Ｂ（３Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．２６：３−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ２Ｂ（３Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．２７：４−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ２Ｂ（３Ｆ）−１
化合物Ｎｏ．２８：５Ｏ１−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ２Ｂ（３Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．２９：２Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ２Ｂ（３Ｆ）−Ｏ３
化合物Ｎｏ．３０：３Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ２Ｂ（３Ｆ）−Ｏ２
化合物Ｎｏ．３１：５Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ２Ｂ（３Ｆ）−Ｏ３
化合物Ｎｏ．３２：３−Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ−５
化合物Ｎｏ．３３：５−Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ−２
化合物Ｎｏ．３４：１Ｏ４−Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ−３
化合物Ｎｏ．３５：２Ｏ−Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ−５
化合物Ｎｏ．３６：５Ｏ−Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ−２
化合物Ｎｏ．３７：１−Ｂ（３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ−４
化合物Ｎｏ．３８：３−Ｂ（３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ−５
化合物Ｎｏ．３９：４Ｏ１−Ｂ（３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ−３
化合物Ｎｏ．４０：３Ｏ−Ｂ（３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ−３
化合物Ｎｏ．４１：４Ｏ−Ｂ（３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ−３
化合物Ｎｏ．４２：２−ＢＢ（２，３Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．４３：１０−ＢＢ（２，３Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．４４：２Ｏ１−ＢＢ（２，３Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．４５：８Ｏ２−ＢＢ（２，３Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．４６：３Ｏ−ＢＢ（２，３Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．４７：４−ＢＢ（２，３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．４８：８−ＢＢ（２，３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−１０
化合物Ｎｏ．４９：１Ｏ５−ＢＢ（２，３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−１Ｏ３
化合物Ｎｏ．５０：２−Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（２，３Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．５１：３−Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．５２：３Ｏ−Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．５３：５−Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−１
化合物Ｎｏ．５４：２Ｏ−Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−１Ｏ５
化合物Ｎｏ．５５：４Ｏ−Ｂ（２Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．５６：５−Ｂ（２Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−Ｏ３
化合物Ｎｏ．５７：２−Ｂ（３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−５
化合物Ｎｏ．５８：ｌＯ４−Ｂ（３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．５９：１５−Ｂ（３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．６０：３−Ｂ（３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−Ｏ３
化合物Ｎｏ．６１：２−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ−６
化合物Ｎｏ．６２：３−Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ−２
ＮＩ：６７．８、Δε：−１．７５
化合物Ｎｏ．６３：４−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ−２
化合物Ｎｏ．６４：６−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ−５
化合物Ｎｏ．６５：１Ｏ５−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ−２
化合物Ｎｏ．６６：３Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ−１
化合物Ｎｏ．６７：４Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ−２
化合物Ｎｏ．６８：５Ｏ−ＢＢ（２，３Ｆ）２Ｂ（２，３Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．６９：３−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ２Ｂ（２，３Ｆ）−Ｏ２
化合物Ｎｏ．７０：３Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ２Ｂ（２，３Ｆ）−Ｏ１
化合物Ｎｏ．７１：３−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．７２：５−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．７３：１Ｏ３−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−１Ｏ２
化合物Ｎｏ．７４：３Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．７５：４Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−４
化合物Ｎｏ．７６：１−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−１
化合物Ｎｏ．７７：３−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．７８：４−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．７９：１Ｏ５−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．８０：２Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．８１：５Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．８２：８Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．８３：２Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−Ｏ３
化合物Ｎｏ．８４：３Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−Ｏ２
化合物Ｎｏ．８５：２−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−５
化合物Ｎｏ．８６：５−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．８７：５Ｏ５−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．８８：３Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．８９：４Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．９０：２−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−５
化合物Ｎｏ．９１：３−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．９２：５−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．９３：４−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−Ｏ２
化合物Ｎｏ．９４：１０−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．９５：２Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．９６：３Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−Ｏ２
化合物Ｎｏ．９７：５Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−Ｏ３
化合物Ｎｏ．９８：３−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．９９：３−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．１００：４−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．１０１：２Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．１０２：４Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−５
化合物Ｎｏ．１０３：３Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−Ｏ２
化合物Ｎｏ．１０４：１５Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）−Ｏ１３
化合物Ｎｏ．１０５：２−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．１０６：２−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−４
化合物Ｎｏ．１０７：３−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．１０８：３−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−５
化合物Ｎｏ．１０９：３−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−Ｏ２
化合物Ｎｏ．１１０：４−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−Ｏ３
化合物Ｎｏ．１１１：２Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−Ｏ２
化合物Ｎｏ．１１２：３Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−Ｏ２
化合物Ｎｏ．１１３：５Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−Ｏ３
化合物Ｎｏ．１１４：１−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（２，３Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．１１５：２−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（２，３Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．１１６：３−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（２，３Ｆ）−４
化合物Ｎｏ．１１７：４−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（２，３Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．１１８：５−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（２，３Ｆ）−Ｏ２
化合物Ｎｏ．１１９：７−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（２，３Ｆ）−Ｏ３
化合物Ｎｏ．１２０：１Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（２，３Ｆ）−Ｏ３
化合物Ｎｏ．１２１：２Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（２，３Ｆ）−Ｏ５
化合物Ｎｏ．１２２：３Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（２，３Ｆ）−Ｏ２
化合物Ｎｏ．１２３：５Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（２，３Ｆ）−Ｏ２
化合物Ｎｏ．１２４：２−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）４Ｂ−２
化合物Ｎｏ．１２５：２−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）４Ｂ−５
化合物Ｎｏ．１２６：３Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ４Ｂ（３Ｆ）−Ｏ５
化合物Ｎｏ．１２７：２Ｏ１−Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）４Ｂ−５
化合物Ｎｏ．１２８：７−ＢＢ（２，３Ｆ）４Ｂ（３Ｆ）−２Ｏ１
化合物Ｎｏ．１２９：５Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）４Ｂ−３
化合物Ｎｏ．１３０：２Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ４Ｂ（２，３Ｆ）−Ｏ３
化合物Ｎｏ．１３１：１Ｏ１−Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）４Ｂ（３Ｆ）−Ｏ４
化合物Ｎｏ．１３２：３−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）４Ｂ（３Ｆ）−Ｏ６
化合物Ｎｏ．１３３：３−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）４Ｂ（２，３Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．１３４：１５−Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）２Ｂ−２０
化合物Ｎｏ．１３５：２Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ２Ｂ（３Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．１３６：４Ｏ−Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ−５
化合物Ｎｏ．１３７：３−Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ−３
化合物Ｎｏ．１３８：２Ｏ−Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−１Ｏ３
化合物Ｎｏ．１３９：３Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ２Ｂ（２，３）−Ｏ２
化合物Ｎｏ．１４０：１Ｏ３−Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（３Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．１４１：５−Ｂ（２，３Ｆ）２Ｂ（２Ｆ）２Ｂ（２，３Ｆ）−２
実施例４
２，３，３’−トリフルオロ−４’−（４−エチルフェニル）メトキシ−４−プロピルビフェニル（２−ＢＣＨ2ＯＢ（２Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）−３（化合物Ｎｏ．１４２）の製造
（第一段）２，３，３’−トリフルオロ−４’−ヒドロキシ−４−プロピルビフェニルの製造
２，３，３’−トリフルオロ−４’−メトキシメトキシ−４−プロピルビフェニル〔Ｐｄ触媒存在下、２，３−ジフルオロ−４−プロピルヨードベンゼンとジヒドロキシ（３−フルオロ−４−メトキシメトキシフェニル）ボランとのクロスカップリング反応によって得た。〕１０．０ｇ（３２．２ｍｍｏｌ）、メタノール５０ｍｌおよび濃塩酸１０ｍｌの溶液を３時間加熱還流させた。反応液に水５０ｍｌを加え、ジエチルエーテル１００ｍｌで抽出した。得られた有機層を希炭酸水素ナトリウム水溶液で２回、水で３回洗浄した後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧下に溶媒を留去して、粗製の２，３，３’−トリフルオロ−４’−ヒドロキシ−４−プロピルビフェニル８．５ｇを得た。（収率：９９．８％）
このものは、これ以上の精製を行わずに次の反応に使用した。
（第二段）２，３，３’−トリフルオロ−４’−（４−エチルフェニル）メトキシ−４−プロピルビフェニルの製造
水素化ナトリウム０．７ｇ（６０％油性、１８．０ｍｍｏｌ相当）およびジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）３ｍｌの混合物中に、前段で得られた２，３，３’−トリフルオロ−４’−ヒドロキシ−４−プロピルビフェニル４．０ｇ（１５．０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ２０ｍｌ溶液を室温で滴下し、同温度で１時間攪拌した。
次いで、反応液に４−エチル−１−ヨードメチルベンゼン５．５ｇ（２２．５ｍｍｏｌ）のＤＭＦ２０ｍｌ溶液を室温で滴下し、同温度で１時間攪拌後、３時間加熱還流させた。反応終了後、反応液を水５０ｍｌ中に注ぎ、トルエン１５０ｍｌで抽出した。得られた有機層を希水酸化ナトリウム水溶液で３回、水で３回洗浄した後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、得られた残渣をシリガゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘプタン／トルエン＝７／３）に付して、粗製の２，３，３’−トリフルオロ−４’−（４−エチルフェニル）メトキシ−４−プロピルビフェニル２．３ｇを得た。このものをエタノール／酢酸エチル（７／３）混合溶媒から再結晶して標題化合物１．９ｇを得た。（収率：３３．３％）
実施例５
実施例４の方法に準じて以下の化合物を合成することができる。
化合物Ｎｏ．１４３：５−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）ＯＣＨ2Ｂ−３
化合物Ｎｏ．１４４：１２−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）ＯＣＨ2Ｂ−４
化合物Ｎｏ．１４５：１Ｏ１−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）ＯＣＨ2Ｂ−５
化合物Ｎｏ．１４６：３Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）ＯＣＨ2Ｂ−４
化合物Ｎｏ．１４７：５Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）ＯＣＨ2Ｂ−２
化合物Ｎｏ．１４８：２−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）ＣＨ2ＯＢ−４
化合物Ｎｏ．１４９：３−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）ＣＨ2ＯＢ−７
化合物Ｎｏ．１５０：４−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）ＣＨ2ＯＢ−１Ｏ３
化合物Ｎｏ．１５１：２Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）ＣＨ2ＯＢ−５
化合物Ｎｏ．１５２：４Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）ＣＨ2ＯＢ−２
化合物Ｎｏ．１５３：１−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）ＯＣＨ2Ｂ−２
化合物Ｎｏ．１５４：３−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）ＯＣＨ2Ｂ−４
化合物Ｎｏ．１５５：５Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）ＯＣＨ2Ｂ−３Ｏ１
化合物Ｎｏ．１５６：２−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）ＣＨ2ＯＢ−３
化合物Ｎｏ．１５７：８−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）ＣＨ2ＯＢ−５
化合物Ｎｏ．１５８：３Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）ＣＨ2ＯＢ−２
化合物Ｎｏ．１５９：３−Ｂ（２，３Ｆ）ＢＯＣＨ2Ｂ（２Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．１６０：５−Ｂ（２，３Ｆ）ＢＣＨ2ＯＢ（２Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．１６１：３Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）ＢＯＣＨ2Ｂ（３Ｆ）−Ｏ１
化合物Ｎｏ．１６２：８−Ｂ（２，３Ｆ）ＢＣＨ2ＯＢ（３Ｆ）−７
化合物Ｎｏ．１６３：２Ｏ−Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）ＯＣＨ2Ｂ−３
化合物Ｎｏ．１６４：５−ＢＢ（２，３Ｆ）ＯＣＨ2Ｂ（３Ｆ）−Ｏ２
化合物Ｎｏ．１６５：４−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）ＯＣＨ2Ｂ−３
化合物Ｎｏ．１６６：５Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）ＣＨ2ＯＢ−２
化合物Ｎｏ．１６７：３Ｏ１−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）ＯＣＨ2Ｂ−２
化合物Ｎｏ．１６８：６−Ｂ（２，３Ｆ）ＢＣＨ2ＯＢ（２，３Ｆ）−Ｏ２
化合物Ｎｏ．１６９：１Ｏ１−ＢＢ（２，３Ｆ）ＣＨ2ＯＢ（２，３Ｆ）−Ｏ３
化合物Ｎｏ．１７０：１２Ｏ−Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）ＯＣＨ2Ｂ（３Ｆ）−Ｏ３
化合物Ｎｏ．１７１：３−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）ＯＣＨ2Ｂ（２Ｆ）−２
化合物Ｎｏ．１７２：２Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）ＯＣＨ2Ｂ−３
化合物Ｎｏ．１７３：５Ｏ−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（２，３Ｆ）ＣＨ2ＯＢ（２Ｆ）−３
化合物Ｎｏ．１７４：１Ｏ３−Ｂ（２，３Ｆ）Ｂ（３Ｆ）ＣＨ2ＯＢ（２，３Ｆ）−１０
実施例６（使用例３）
組成物例１の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：７５．６、Δε：−２．０、Δｎ：０．０９９、η：２１．２。
この液晶組成物を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えてもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例７（使用例４）
組成物例２の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：６７．８、Δε：−１．８、Δｎ：０．０９３、η：２２．４。
この液晶組成物を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えてもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例８（使用例５）
組成物例３の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：８８．９、Δε：−３．９、Δｎ：０．０８５、ＶＨＲ：９８．１、９７．２、９６．７。
この液晶組成物を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えてもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例９（使用例６）
組成物例４の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：６４．１、Δε：−２．７、Δｎ：０．１０３。
この液晶組成物を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えてもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例１０（使用例７）
組成物例５の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：７４．８、Δε：−３．５、Δｎ：０．１９９。
この液晶組成物を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えてもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例１１（使用例８）
組成物例６の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：７８．１、Δε：−３．０、Δｎ：０．１４６。
この液晶組成物を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えてもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例１２（使用例９）
組成物例７の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：７２．２、Δε：−２．９、Δｎ：０．１５６、η：２７．４。
この液晶組成物を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えてもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例１３（使用例１０）
組成物例８の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：８３．１、Δｎ：０．２１２。
この液晶組成物を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えてもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例１４（使用例１１）
組成物例９の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：７４．６、Δε：−３．９、Δｎ：０．１２６。
この液晶組成物を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えてもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例１５（使用例１２）
組成物例１０の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：６２．３、Δε：−５．８、Δｎ：０．０８５、η：４２．０。
この液晶組成物を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えてもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例１６（使用例１３）
組成物例１１の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：８６．７、Δε：６．６、Δｎ：０．１６０、Ｖｔｈ：２．１９。
組成物例１１の液晶組成物１００重量部に光学活性化合物ＣＭ−３３を０．８重量部溶解した液晶組成物のねじれのピッチは１１．４μｍであった。
この液晶組成物を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えてもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例１７（使用例１４）
組成物例１２の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
Ｎ１：９４．０、Δε：５．９、Δｎ：０．１９７、η：３６．１、Ｖｔｈ：２．４。
この液晶組成物を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えてもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例１８（使用例１５）
組成物例１３の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：６５．３、Δε：２３．７、Δｎ：０．１１９、η：２３．７、Ｖｔｈ：１．０１。
この液晶組成物を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えてもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例１９（使用例１６）
組成物例１４の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：９０．８、Δε：４．５、Δ：ｎ：０．１１５、η：１７．４、Ｖｔｈ：２．４０。
この液晶組成物を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えてもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例２０（使用例１７）
組成物例１５の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：１００．１、Δε：６．５、Δｎ：０．２００、η：１６．９、Ｖｔｈ：２．１５。
この液晶組成物を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えてもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例２１（使用例１８）
組成物例１６の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：８１．３、Δε：６．２、Δｎ：０．１３０、η：１４．１、Ｖｔｈ：２．１２。
この液晶組成物を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えてもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例２２（使用例１９）
組成物例１７の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：８５．１、Δε：２．８、Δｎ：０．０９１、η：１９．８、Ｖｔｈ：２．７０。
組成物例１７の液晶組成物１００重量部に光学活性化合物ＣＮを０．３重量部溶解した液晶組成物のねじれのピッチは７８μｍであった。
この液晶組成物を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えてもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例２３（使用例２０）
組成物例１８の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：７５．０、Δε：１２．０、Δ：ｎ：０．１３０、η：３５．５、Ｖｔｈ：１．５５。
この液晶組成物を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えてもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例２４（使用例２１）
組成物例１９の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：９１．１、Δε：４．１、Δｎ：０．１３０、η：２１．６、Ｖｔｈ：２．５０。
この液晶組成物を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えてもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例２５（使用例２２）
組成物例２０の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：８４．３、Δε：３．８、Δｎ：０．０９５、η：１６．９、Ｖｔｈ：２．６１、ＶＨＲ：９７．８、９６．５、９６．０。
この液晶組成物を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えてもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例２６（使用例２３）
組成物例２１の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：６８．９、Δε：７．６、Δｎ：０．０９６、η：２６．３、Ｖｔｈ：１．９０。
この液晶組成物を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えてもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例２７（使用例２４）
組成物例２２の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：９４．１、Δε：５．４、Δｎ：０．１３８、η：３８．８、Ｖｔｈ：２．２９。
組成物例２２の液晶組成物１００部に光学活性化合物ＣＭ−４３Ｌを０．２部溶解した液晶組成物のねじれのピッチ長は８１μｍであった。
実施例２８（比較例１）
実施例７において用いた４−エチル−２’，３’−トリフルオロ−４’−（２−（２，３−ジフルオロ−４−プロピルフェニル）エチル）ビフェニル（化合物Ｎｏ．６２）に代えて特開平２−４７２５に記載の化合物４−エチル−４’−（２−（２，３−ジフルオロ−４−プロピルフェニル）エチル）ビフェニル（２−ＢＢ２Ｂ（２，３Ｆ）−３）を用いた以外は、実施例７と同様にして得た液晶組成物（Ｅ）の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：６８．２、Δε：−１．５、Δｎ：０．０９４、η：２０．７。
このことから本発明の化合物が、公知の化合物と比較して大きな誘電率異方性値を有することがわかった。
実施例２９（比較例２）
実施例１４において用いた４−エトキシ−２，３，３’−トリフルオロ−４’−（２−（４−プロピルフェニル）エチル）ビフェニル（化合物Ｎｏ．１）および３’−フルオロ−４−エチル−４’−（２−（２，３−ジフルオロ−４−プロピルフェニル）エチル）ビフェニル（化合物Ｎｏ．５０）に代えて、特開平４−５４１４６に記載された一般式に包含される化合物４−エチル−４’−（（２，３−ジフルオロ−４−プロピルフェニル）オキシメチル）ビフェニル（２−ＢＢＣＨ2ＯＢ（２，３Ｆ）−３）の５％およびＤＥ３８３９２１３Ａ１に記載の化合物４，４”−ジメチル−２，２”，３，３”−テトラフルオロテルフェニル（１−Ｂ（２，３Ｆ）ＢＢ（２，３Ｆ）−１）の５％を用いた以外は、実施例１４と同様にして得た液晶組成物（Ｆ）の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：７５．９、Δε：−４．０、Δｎ：０．１２７。
この液晶組成物（Ｆ）を−２０℃のフリーザー中に放置したところ３日でスメクチック相が出現した。
このことから本発明の化合物が、公知の化合物と比較して低温下でスメクチック相を示しにくいことがわかった。
本発明の液晶性化合物は極めて高い電圧保持率および低いしきい値電圧を有し、それらの温度依存性が極めて小さく、スメクチック相を示しにくいうえ、他の液晶材料との相溶性が改善されている。また、本発明の液晶性化合物は置換基等を適当に選択することにより、所望の物性を有する新たな液晶性化合物を提供することができる。
産業上の利用可能性
従って、本発明の液晶性化合物を液晶組成物の成分として用いることにより、極めて高い電圧保持率を有し、その温度依存性が極めて小さく、低いしきい値電圧、適切な大きさのΔｎおよびΔεを有し、安定性および他の液晶材料との相溶性に優れている新たな液晶組成物を提供することができ、これを用いてＩＰＳ方式やＶＡ方式などの優れた液晶表示素子を提供することができる。