【手続補正書】
【提出日】平成20年6月23日(2008.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子線を用いて試料上のパターンを評価するための電子線装置において、
位置決めした基準となる試料上の複数の任意の基準点の計算上のＸＹ座標と、それら基準点の測定されたＸＹ座標（ｘ，ｙ）との座標誤差Δｘ及びΔｙを算出する第１の演算手段と、
算出された座標誤差Δｘ及びΔｙに基づいて、ＸＹ座標の直交誤差を演算する第２の演算手段と、
算出された座標誤差Δｘ及びΔｙに基づいて、電子線装置の干渉計のミラー歪みによる誤差を演算する第３の演算手段と、
演算された直交誤差に基づき、試料の検査時に、測定されたＸＹ座標（ｘ，ｙ）を補正する直交誤差補正手段と、
演算されたミラー歪みによる誤差に基づき、試料の検査時に、２次電子光学系に配置されたビーム偏向器の偏向を補正するビーム偏向補正手段と
からなることを特徴とする電子線装置。
【請求項２】
請求項１記載の電子線装置において、
第２の演算手段及び第３の演算手段は、回帰演算手段であって、
Δｘ＝ａ１＋ｂ１ｘ＋ｃ１ｙ＋ｄ１ｘ２＋ｅ１ｙ２        （１）
Δｙ＝ａ２＋ｂ２ｘ＋ｃ２ｙ＋ｄ２ｘ２＋ｅ２ｙ２        （２）
で表される式（１）及び（２）を満足する係数ａ１〜ｅ１及びａ２〜ｅ２を回帰演算により求める回帰演算手段を備え、
第２の演算手段はさらに、ＸＹ座標系の直交誤差を求められた係数ｃ１及びｂ２の差として演算する手段を備え、
第３の演算手段はさらに、求められた係数ｄ１、ｄ２、ｅ１、ｅ２を、
Δｘ＝ｄ１ｘ２＋ｅ１ｙ２        （３）
Δｙ＝ｄ２ｘ２＋ｅ２ｙ２        （４）
で表される式（３）及び（４）に代入して得られた式に、電子線装置の駆動時に干渉計から入力されるＸＹ座標（ｘ，ｙ）を代入することにより得られたΔｘ及びΔｙを、ミラー歪みによる誤差として演算する手段を備えている
ことを特徴とする電子線装置。
【請求項３】
請求項１記載の電子線装置において、
第２の演算手段及び第３の演算手段は、回帰演算手段であって、
Δｘ＝ａ１＋ｂ１ｘ＋ｃ１ｙ＋ｄ１ｘ２＋ｅ１ｙ２        （１）
Δｙ＝ａ２＋ｂ２ｘ＋ｃ２ｙ＋ｄ２ｘ２＋ｅ２ｙ２        （２）
で表される式（１）及び（２）を満足する係数ａ１〜ｅ１及びａ２〜ｅ２を回帰演算により求める回帰演算手段を備え、
第２の演算手段はさらに、ＸＹ座標系の直交誤差を求められた係数ｃ１及びｂ２の差として演算する手段を備え、
第３の演算手段はさらに、
直交誤差補正手段により直交誤差を補正した後の、第１の演算手段により得られた座標誤差Δｘ及びΔｙに基づいて、式（１）及び（２）を満足する係数ａ１〜ｅ１及びａ２〜ｅ２を回帰演算により求める回帰演算手段と、
求められた係数ａ１〜ｅ１及びａ２〜ｅ２を、式（１）及び（２）に代入して得られた式に、電子線装置の駆動時に干渉計から入力されるＸＹ座標（ｘ，ｙ）を代入することにより得られたΔｘ及びΔｙを、ミラー歪みによる誤差として演算する手段と
を備えている
ことを特徴とする電子線装置。
【請求項４】
請求項１記載の電子線装置において、
第２の演算手段は、
回帰演算手段であって、
Δｘ＝ａ１＋ｂ１ｘ＋ｃ１ｙ        （１）
Δｙ＝ａ２＋ｂ２ｘ＋ｃ２ｙ        （２）
で表される式（１）及び（２）を満足する係数ａ１〜ｃ１及びａ２〜ｃ２を回帰演算により求める回帰演算手段と、
ＸＹ座標系の直交誤差を係数ｃ１及びｂ２の差として演算する手段と
を備え、
第３の演算手段は、
直交誤差補正手段により直交誤差を補正した後の、第１の演算手段により得られた座標誤差Δｘ及びΔｙに基づいて、
Δｘ＝ｄ１ｘ２＋ｅ１ｙ２        （３）
Δｙ＝ｄ２ｘ２＋ｅ２ｙ２        （４）
で表される式（３）及び（４）を満足する係数ｄ１、ｅ１、ｄ２及びｅ２を回帰演算により求める回帰演算手段と、
求められた係数ｄ１、ｅ１、ｄ２及びｅ２を、式（３）及び（４）に代入して得られた式に、電子線装置の駆動時に干渉計から入力されるＸＹ座標（ｘ，ｙ）を代入することにより得られたΔｘ及びΔｙを、ミラー歪みによる誤差として演算する手段と
を備えている
ことを特徴とする電子線装置。
【請求項５】
請求項１記載の電子線装置において、
第２の演算手段は、
回帰演算手段であって、
Δｘ＝ａ１＋ｂ１ｘ＋ｃ１ｙ        （１）
Δｙ＝ａ２＋ｂ２ｘ＋ｃ２ｙ        （２）
で表される式（１）及び（２）を満足する係数ａ１〜ｃ１及びａ２〜ｃ２を回帰演算により求める回帰演算手段と、
ＸＹ座標系の直交誤差を係数ｃ１及びｂ２の差として演算する手段と
を備え、
第３の演算手段は、
直交誤差補正手段により直交誤差を補正した後の、第１の演算手段により得られた座標誤差Δｘ及びΔｙに基づいて、
Δｘ＝ａ１＋ｂ１ｘ＋ｃ１ｙ＋ｄ１ｘ２＋ｅ１ｙ２        （３）
Δｙ＝ａ２＋ｂ２ｘ＋ｃ２ｙ＋ｄ２ｘ２＋ｅ２ｙ２        （４）
で表される式（３）及び（４）を満足する係数ａ１〜ｅ１及びａ２〜ｅ２を回帰演算により求める回帰演算手段と、
求められた係数ａ１〜ｅ１及びａ２〜ｅ２を、式（３）及び（４）に代入して得られた式に、電子線装置の駆動時に干渉計から入力されるＸＹ座標（ｘ，ｙ）を代入することにより得られたΔｘ及びΔｙを、ミラー歪みによる誤差として演算する手段と
を備えている
ことを特徴とする電子線装置。
【請求項６】
請求項２〜５いずれかに記載の電子線装置において、該装置はさらに、
回帰演算手段により得られた係数ａ１及びａ２をＸ軸方向及びＹ軸方向のシフト量とし、該シフト量を補正する手段と、
回帰演算手段により得られた係数ｂ１及びｃ２を、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のスケール誤差とし、該スケール誤差を補正する手段と
を備えていることを特徴とする電子線装置。
【請求項７】
請求項１〜６いずれかに記載の電子線装置において、
ビーム偏向器は、偏向電極を備え、
ビーム偏向補正手段は、偏向電極への電圧を調整する手段である
ことを特徴とする電子線装置。
【請求項８】
請求項１〜７いずれかに記載の電子線装置において、該装置はさらに、
１次電子ビームの照射により試料から放出された２次電子ビームを検出する検出手段と、
検出手段の出力に基づいて試料表面のパターンの画像情報を得る手段と、
得られた画像情報と、当該試料上の異なる位置の同一パターンの画像情報、又は、予め比較対照として記憶された参照パターンの画像情報とを対比することにより、パターンの欠陥を検出するパターン欠陥検出手段と
を備えていることを特徴とする電子線装置。
【請求項９】
電子線を用いて試料上のパターンを評価するための電子線装置におけるステージ位置誤差補正方法において、
位置決めした基準となる試料上の複数の任意の基準点の計算上のＸＹ座標と、それら基準点の測定されたＸＹ座標（ｘ，ｙ）との座標誤差Δｘ及びΔｙを算出する第１の演算ステップと、
算出された座標誤差Δｘ及びΔｙに基づいて、ＸＹ座標の直交誤差を演算する第２の演算ステップと、
算出された座標誤差Δｘ及びΔｙに基づいて、電子線装置の干渉計のミラー歪みによる誤差を演算する第３の演算ステップと、
演算された直交誤差に基づき、試料の検査時に、測定されたＸＹ座標（ｘ，ｙ）を補正する直交誤差補正ステップと、
演算されたミラー歪みによる誤差に基づき、試料の検査時に、２次電子光学系に配置されたビーム偏向器の偏向を補正するビーム偏向補正ステップと
からなることを特徴とするステージ誤差方正方法。
【請求項１０】
請求項９記載のステージ位置誤差補正方法において、
第２の演算ステップ及び第３の演算ステップは、回帰演算ステップであって、
Δｘ＝ａ１＋ｂ１ｘ＋ｃ１ｙ＋ｄ１ｘ２＋ｅ１ｙ２        （１）
Δｙ＝ａ２＋ｂ２ｘ＋ｃ２ｙ＋ｄ２ｘ２＋ｅ２ｙ２        （２）
で表される式（１）及び（２）を満足する係数ａ１〜ｅ１及びａ２〜ｅ２を回帰演算により求める回帰演算ステップを備え、
第２の演算ステップはさらに、ＸＹ座標系の直交誤差を求められた係数ｃ１及びｂ２の差として演算するステップを備え、
第３の演算ステップはさらに、求められた係数ｄ１、ｄ２、ｅ１、ｅ２を、
Δｘ＝ｄ１ｘ２＋ｅ１ｙ２        （３）
Δｙ＝ｄ２ｘ２＋ｅ２ｙ２        （４）
で表される式（３）及び（４）に代入して得られた式に、電子線装置の駆動時に干渉計から入力されるＸＹ座標（ｘ，ｙ）を代入することにより得られたΔｘ及びΔｙを、ミラー歪みによる誤差として演算するステップを備えている
ことを特徴とするステージ位置誤差補正方法。
【請求項１１】
請求項９記載のステージ位置誤差補正方法において、
第２の演算ステップ及び第３の演算ステップは、回帰演算ステップであって、
Δｘ＝ａ１＋ｂ１ｘ＋ｃ１ｙ＋ｄ１ｘ２＋ｅ１ｙ２        （１）
Δｙ＝ａ２＋ｂ２ｘ＋ｃ２ｙ＋ｄ２ｘ２＋ｅ２ｙ２        （２）
で表される式（１）及び（２）を満足する係数ａ１〜ｅ１及びａ２〜ｅ２を回帰演算により求める回帰演算ステップを備え、
第２の演算ステップはさらに、ＸＹ座標系の直交誤差を求められた係数ｃ１及びｂ２の差として演算するステップを備え、
第３の演算ステップはさらに、
直交誤差補正ステップにより直交誤差を補正した後の、第１の演算ステップにより得られた座標誤差Δｘ及びΔｙに基づいて、式（１）及び（２）を満足する係数ａ１〜ｅ１及びａ２〜ｅ２を回帰演算により求める回帰演算ステップと、
求められた係数ａ１〜ｅ１及びａ２〜ｅ２を、式（１）及び（２）に代入して得られた式に、電子線装置の駆動時に干渉計から入力されるＸＹ座標（ｘ，ｙ）を代入することにより得られたΔｘ及びΔｙを、ミラー歪みによる誤差として演算するステップと
を備えている
ことを特徴とするステージ位置誤差補正方法。
【請求項１２】
請求項９記載のステージ位置誤差補正方法において、
第２の演算ステップは、
回帰演算ステップであって、
Δｘ＝ａ１＋ｂ１ｘ＋ｃ１ｙ        （１）
Δｙ＝ａ２＋ｂ２ｘ＋ｃ２ｙ        （２）
で表される式（１）及び（２）を満足する係数ａ１〜ｃ１及びａ２〜ｃ２を回帰演算により求める回帰演算ステップと、
ＸＹ座標系の直交誤差を係数ｃ１及びｂ２の差として演算するステップと
を備え、
第３の演算ステップは、
直交誤差補正ステップにより直交誤差を補正した後の、第１の演算ステップにより得られた座標誤差Δｘ及びΔｙに基づいて、
Δｘ＝ｄ１ｘ２＋ｅ１ｙ２        （３）
Δｙ＝ｄ２ｘ２＋ｅ２ｙ２        （４）
で表される式（３）及び（４）を満足する係数ｄ１、ｅ１、ｄ２及びｅ２を回帰演算により求める回帰演算ステップと、
求められた係数ｄ１、ｅ１、ｄ２及びｅ２を、式（３）及び（４）に代入して得られた式に、電子線装置の駆動時に干渉計から入力されるＸＹ座標（ｘ，ｙ）を代入することにより得られたΔｘ及びΔｙを、ミラー歪みによる誤差として演算するステップと
を備えている
ことを特徴とするステージ位置誤差補正方法。
【請求項１３】
請求項９記載のステージ位置誤差補正方法において、
第２の演算ステップは、
回帰演算ステップであって、
Δｘ＝ａ１＋ｂ１ｘ＋ｃ１ｙ        （１）
Δｙ＝ａ２＋ｂ２ｘ＋ｃ２ｙ        （２）
で表される式（１）及び（２）を満足する係数ａ１〜ｃ１及びａ２〜ｃ２を回帰演算により求める回帰演算ステップと、
ＸＹ座標系の直交誤差を係数ｃ１及びｂ２の差として演算するステップと
を備え、
第３の演算ステップは、
直交誤差補正ステップにより直交誤差を補正した後の、第１の演算ステップにより得られた座標誤差Δｘ及びΔｙに基づいて、
Δｘ＝ａ１＋ｂ１ｘ＋ｃ１ｙ＋ｄ１ｘ２＋ｅ１ｙ２        （３）
Δｙ＝ａ２＋ｂ２ｘ＋ｃ２ｙ＋ｄ２ｘ２＋ｅ２ｙ２        （４）
で表される式（３）及び（４）を満足する係数ａ１〜ｅ１及びａ２〜ｅ２を回帰演算により求める回帰演算ステップと、
求められた係数ａ１〜ｅ１及びａ２〜ｅ２を、式（３）及び（４）に代入して得られた式に、電子線装置の駆動時に干渉計から入力されるＸＹ座標（ｘ，ｙ）を代入することにより得られたΔｘ及びΔｙを、ミラー歪みによる誤差として演算するステップと
を備えている
ことを特徴とするステージ位置誤差補正方法。
【請求項１４】
電子線を用いて試料上のパターンを評価するための電子線装置におけるステージ位置誤差補正方法を実行するための、コンピュータにより読み取られて実行されるプログラムであって、請求項９〜１３いずれかに記載のステージ位置誤差補正方法を実行するためのコンピュータ・プログラム。