【手続補正書】
【提出日】平成20年10月20日(2008.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光源から出力されたレーザ光をターゲット物質に照射することにより、前記ターゲット物質をプラズマ化して極端紫外光を放射させる極端紫外光源装置であって、
第１のチャンバと、
前記第１のチャンバと開口を介して接続されている第２のチャンバと、
前記第１のチャンバ内にターゲット物質を供給するターゲット物質供給手段と、
前記ターゲット物質供給手段によって供給されるターゲット物質に基づいて、繰り返し滴下する溶融金属のターゲット物質の液滴を生成する液滴生成手段と、
前記液滴生成手段によって生成されたターゲット物質の液滴が前記開口を通過するのを妨げる少なくとも１つの遮断手段と、
前記少なくとも１つの遮断手段が所定のタイミングで動作するように前記少なくとも１つの遮断手段を制御する制御手段と、
レーザ光を出射するレーザ光源と、
前記レーザ光源から出射したレーザ光を、前記第１のチャンバにおいて生成され、前記開口を通過して前記第２のチャンバに導入されたターゲット物質の液滴に照射させる光学系と、
を具備する極端紫外光源装置。
【請求項２】
前記ターゲット物質供給手段が、ターゲット物質を噴射するノズルを含み、
前記液滴生成手段が、前記ノズルから噴射されるターゲット物質に所定の周波数の振動を与える手段を含む、
請求項１記載の極端紫外光源装置。
【請求項３】
前記少なくとも１つの遮断手段が、ターゲット物質の液滴を破壊し、又は、その軌道を変更し、若しくは、ターゲット物質の液滴から前記開口を遮蔽する、請求項１又は２記載の極端紫外光源装置。
【請求項４】
前記少なくとも１つの遮断手段が、ターゲット物質の液滴と衝突し、又は、ターゲット物質の液滴の軌道に挿入される遮断部材と、前記遮断部材の位置又は角度を変化させる変位手段とを含む、請求項１〜３のいずれか１項記載の極端紫外光源装置。
【請求項５】
前記変位手段が、前記遮断部材に取り付けられたピエゾ素子を含む、請求項４記載の極端紫外光源装置。
【請求項６】
前記変位手段が、前記遮断部材に取り付けられたモータを含む、請求項４記載の極端紫外光源装置。
【請求項７】
前記遮断部材が、棒状、板状、又は、円盤形状を有する、請求項４〜６のいずれか１項記載の極端紫外光源装置。
【請求項８】
前記遮断部材に、前記遮断部材を加熱する加熱手段が設けられている、請求項４〜７のいずれか１項記載の極端紫外光源装置。
【請求項９】
前記少なくとも１つの遮断手段が、ターゲット物質の液滴を照射するレーザ光を出射する第２のレーザ光源と、前記第２のレーザ光源から出射したレーザ光をターゲット物質の液滴の軌道上に伝播する伝播光学系とを含む、請求項１〜３のいずれか１項記載の極端紫外光源装置。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの遮断手段が、ターゲット物質の液滴に吹き付けられる高圧ガスを噴射するノズルと、前記ノズルに高圧ガスを供給するガス供給手段と、前記ノズルから噴射される高圧ガスをターゲット物質の液滴から遮蔽するシャッタ手段とを含む、請求項１〜３のいずれか１項記載の極端紫外光源装置。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの遮断手段によって破壊され、又は、その軌道を変更されたターゲット物質の液滴を回収する回収手段をさらに具備する請求項３〜１０のいずれか１項記載の極端紫外光源装置。
【請求項１２】
前記少なくとも１つの遮断手段が、前記ノズルの位置又は角度を変化させることにより、前記ノズルから噴射されるターゲット物質の液滴の軌道を前記開口からずらす、請求項１又は２記載の極端紫外光源装置。
【請求項１３】
前記少なくとも１つの遮断手段が、前記ノズルに設けられた第２のピエゾ素子と、前記第２のピエゾ素子に供給される駆動信号を発生する駆動信号発生手段とを含む、請求項１２記載の極端紫外光源装置。
【請求項１４】
前記第１のチャンバと前記第２のチャンバとが、変形可能な部材に設けられた開口を介して接続されており、
前記少なくとも１つの遮断手段が、前記開口をターゲット物質の液滴の軌道からずらすように、前記部材を変形させる変形手段を含む、請求項１〜３のいずれか１項記載の極端紫外光源装置。
【請求項１５】
前記変形手段が、前記部材に設けられたピエゾ素子と、前記ピエゾ素子に供給される駆動信号を発生する駆動信号発生手段とを含む、請求項１４記載の極端紫外光源装置。
【請求項１６】
前記少なくとも１つの遮断手段が、ターゲット物質の液滴を帯電させる電荷供給手段と、帯電した液滴を偏向するために電界を形成する電界形成手段とを含む、請求項１〜３のいずれか１項記載の極端紫外光源装置。
【請求項１７】
前記電荷供給手段が、プラズマを発生するプラズマ発生手段を含む、請求項１６記載の極端紫外光源装置。
【請求項１８】
前記電荷供給手段が、電子ビームを発生する電子ビーム発生手段を含む、請求項１６記載の極端紫外光源装置。
【請求項１９】
前記少なくとも１つの遮断手段が、ターゲット物質の液滴に電圧を印加することにより液滴を微粒化する微粒化手段を含む、請求項１〜３のいずれか１項記載の極端紫外光源装置。
【請求項２０】
前記微粒化手段によって微粒化されたターゲット物質を捕捉するための電界を形成する捕捉手段をさらに具備する請求項１９記載の極端紫外光源装置。
【請求項２１】
前記開口の周辺を加熱する加熱手段をさらに具備する請求項１〜２０のいずれか１項記載の極端紫外光源装置。
【請求項２２】
前記制御手段が、前記液滴生成手段によって生成される液滴の生成周波数と、前記レーザ光源の繰り返し動作周波数とに基づいて、前記少なくとも１つの遮断手段の動作タイミングを制御する、請求項１〜２１のいずれか１項記載の極端紫外光源装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
上記課題を解決するため、本発明の１つの観点に係る極端紫外光源装置は、レーザ光源から出力されたレーザ光をターゲット物質に照射することにより、前記ターゲット物質をプラズマ化して極端紫外光を放射させる極端紫外光源装置であって、第１のチャンバと、該第１のチャンバと開口を介して接続されている第２のチャンバと、第１のチャンバ内にターゲット物質を供給するターゲット物質供給手段と、ターゲット物質供給手段によって供給されるターゲット物質に基づいて、繰り返し滴下する溶融金属のターゲット物質の液滴を生成する液滴生成手段と、該液滴生成手段によって生成されたターゲット物質の液滴が前記開口を通過するのを妨げる少なくとも１つの遮断手段と、該少なくとも１つの遮断手段が所定のタイミングで動作するように前記少なくとも１つの遮断手段を制御する制御手段と、レーザ光を出射するレーザ光源と、該レーザ光源から出射したレーザ光を、前記第１のチャンバにおいて生成され、前記開口を通過して前記第２のチャンバに導入されたターゲット物質の液滴に照射させる光学系とを具備する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
図２は、本発明の第１の実施形態に係るＥＵＶ光源装置の構成を示す模式図である。このＥＵＶ光源装置は、図１に示す液滴遮断ユニット１０７を、ピエゾ素子を用いる構造としたものである。その他の構成については、図１に示すＥＵＶ光源装置と同様である。
図２に示すように、このＥＵＶ光源装置は、遮断棒１２１が取り付けられたピエゾ素子１２０と、ピエゾ素子１２０に供給される駆動信号を発生するピエゾドライバ１２２とを含んでいる。本実施形態においては、アクチュエータタイプのピエゾ素子を用いている。アクチュエータタイプのピエゾ素子は、印加される電圧の極性に応じた方向に伸縮する素子であり、駆動信号に対する時間応答性が高いことを特徴としている。ピエゾドライバ１２２は、制御部１１５の制御の下で、ピエゾ素子１２０を伸張又は収縮させるための駆動信号を、所定の時間間隔で発生する。遮断棒１２１は、ピエゾ素子１２０が伸張したときに、液滴１０８の軌道に達し、ピエゾ素子１２０が収縮したときに、液滴１０８の軌道から外れるように、ピエゾ素子１２０に対する位置及び長さを調整されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
図１８の（ａ）〜（ｃ）は、レーザ伝播光学系２１１によって集光されたレーザ光Ｌ３のＹＺ平面における断面（レーザプロファイル）を示している。本実施形態においては、図１８の（ａ）に示すように、円形のスポット形状を用いている。しかしながら、図１８の（ｂ）に示すように、液滴列方向に長い楕円形状や、図１８の（ｃ）に示すように、液滴列方向に長い矩形状を用いても良い。これらの場合には、レーザ光を狭い範囲に集中させてエネルギー密度を高くすることができるので、確実且つ効率的に液滴を破壊することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
液滴破壊用ガスの液滴１０８の軌道上におけるスポット径は、図１６に示すものと同様に、１回の噴射により、１つの液滴１０７ａを破壊できる大きさでも良いし、図１８の（ａ）〜（ｃ）に示すものと同様に、１回の噴射により、複数の液滴１０７ａを破壊できる大きさでも良い。このようなスポット径は、高圧ガスノズル２２０のノズル径と、ガスの噴射速度とを適切に選択することにより、調節することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
図２６は、本発明の第１〜第１７の実施形態において、ノズルから噴射される液滴１０８を間引く態様について説明するための図である。図２６の（ａ）〜（ｆ）においては、液滴の生成周波数を１００ｋＨｚ、レーザ光の繰り返し動作周波数を１０ｋＨｚとしており、生成される液滴１０個の内の１個にレーザ光が照射されるものとする。図２６の（ａ）〜（ｆ）において、二重丸印は、生成される液滴１０８の内、プラズマ発生室においてレーザ光が照射される予定の液滴１０８ｂを示しており、破線の丸印は、レーザ光が照射されないため間引かれる液滴１０８ａを示しており、実線の丸印は、レーザ光は照射されないが、間引かれない液滴１０８ｅを示している。また、矢印は、液滴１０８の進行方向を表している。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
図２７〜３０は、液滴遮断ユニットの駆動タイミングを制御する方法について説明するための図であり、本発明の第１〜第１７の実施形態における制御部１１５（図１〜図２５）の構成を具体的に示したものである。
図２７には、液滴を生成するためのピエゾ素子１０３に供給される駆動信号を発生するピエゾドライバ１０６を制御する液滴生成用コントローラ３００と、液滴遮断ユニット１０７を制御する液滴遮断用コントローラ３０１と、ターゲット物質を照射するレーザ光を出射するレーザ光源を制御するレーザ光源用コントローラ３０２とが示されている。液滴生成用コントローラ３００は、例えば、１００ｋＨｚで駆動信号を発生するようにピエゾドライバ１０６を制御している。また、レーザ光源用コントローラ３０２は、液滴生成用コントローラから供給されるトリガ信号に同期して、例えば、１０ｋＨｚの繰り返し動作周波数でレーザ光を出射するようにレーザ光源１１１を制御している。また、液滴遮断用コントローラ３０１には、液滴遮断ユニットを動作させるための駆動周波数や、動作時間の長さや、動作周期や、動作強度等が予めプログラムされている。