Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月18日(2008.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
実装基板の被接合部に形成したＡｕ−Ｓｎ合金から成るハンダ膜であって、このハンダ膜はＡｕ−Ｓｎ合金の薄膜を複数の層に積層して形成したことを特徴とするＡｕ−Ｓｎ合金積層ハンダ。
【請求項２】
前記Ａｕ−Ｓｎ合金積層ハンダの１層当たりの厚みが０．５μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載のＡｕ−Ｓｎ合金積層ハンダ。
【請求項３】
前記Ａｕ−Ｓｎ合金積層ハンダの１層当たりの厚みが、さらに好ましくは、０．２μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載のＡｕ−Ｓｎ合金積層ハンダ。
【請求項４】
前記Ａｕ−Ｓｎ合金積層ハンダにおいて、Ａｕ−Ｓｎ合金ハンダ膜を構成する結晶の粒径が０．２μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至請求項３記載のＡｕ−Ｓｎ合金積層ハンダ。
【請求項５】
前記Ａｕ−Ｓｎ合金積層ハンダにおいて、Ａｕ組成比が６５〜８０重量パーセント、Ｓｎの組成比が２０〜３５重量パーセントであることを特徴とする請求項１乃至請求項４記載のＡｕ−Ｓｎ合金積層ハンダ。
【請求項６】
Ａｕ−Ｓｎ合金の薄膜を複数の層に積層して形成するＡｕ−Ｓｎ合金積層ハンダの製造方法において、前記Ａｕ−Ｓｎ合金の薄膜は蒸着法によりＡｕ−Ｓｎ合金を蒸発源として、複数回に分けて積層形成することを特徴とするＡｕ−Ｓｎ合金積層ハンダの製造方法。
【請求項７】
請求項６記載のＡｕ−Ｓｎ合金積層ハンダの製造方法において、前記Ａｕ−Ｓｎ合金の薄膜は、ＡｕとＳｎとをそれぞれ蒸発源とする二源蒸着法により複数回に分けて積層形成することを特徴とするＡｕ−Ｓｎ合金積層ハンダの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明のＡｕ−Ｓｎ合金積層ハンダは、実装基板の被接合部に形成したＡｕ−Ｓｎ合金から成るハンダ膜であって、このハンダ膜はＡｕ−Ｓｎ合金の薄膜を複数の層に積層して形成したことを特徴とする。また、Ａｕ−Ｓｎ合金積層ハンダの１層当たりの厚みは、０．５μｍ以下、さらに好ましくは、０．２μｍ以下であること、Ａｕ−Ｓｎ合金ハンダ膜を構成する結晶の粒径が０．２μｍ以下であること、Ａｕ−Ｓｎ合金積層ハンダにおけるＡｕ組成比が６５〜８０重量パーセント、Ｓｎの組成比が２０〜３５重量パーセントであることを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明のＡｕ−Ｓｎ合金積層ハンダの製造方法は、Ａｕ−Ｓｎ合金を蒸発源として蒸着法により複数回に分けて積層形成することを特徴とする。または、ＡｕとＳｎとを蒸発源とする２源蒸着法により複数回に分けて積層形成することを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月19日(2008.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
貯留槽５０は、使用済の加工液を貯留する汚液槽５４と浄化された加工液を貯留する清液槽５６を有する。汚液槽５４と清液槽５６は、それぞれ何槽かに細分化することができる。加工槽２６のドレイン２９から排出される加工液は、一旦汚液槽５４に回収される。汚液槽５４に貯留される汚れた加工液は、ポンプ５２で汲み上げられ、汚れた加工液を浄化する浄化装置であるフィルタ５８を通過する。フィルタ５８を通過した加工液は、加工液に含まれる加工屑、研磨材粒、砥粒などが取り除かれて清液槽５６に送られる。比重が大きい加工屑は、汚液槽５４の底部に沈殿する。汚液槽５４の上澄液を清液槽５６にオーバフローさせるように構成することができる。清液槽５６は、フィルタ５８で浄化された加工液を貯留する。清液槽５６は、フィルタ６０で仕切られている。フィルタ６０は、水は通過させるが、小さいサイズの加工屑や研磨材粒でも通さないように構成されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
清液槽５６には、ポンプ６２と、フィルタ６４と、イオン交換樹脂槽６６とを有する循環管路が設けられる。ワイヤカット放電加工するときは、ポンプ６２を作動させて加工液をイオン交換樹脂６６に通す。イオン交換樹脂槽６６は、水または水を主成分とする加工液をイオン交換して比抵抗値を高くしワイヤカット放電加工の加工媒体として必要な絶縁性を加工液に与える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
液供給装置は、清液槽５６に貯留される加工液をジェットノズルに高圧水として供給することができる高圧ポンプ６８を備えている。ウォータジェット加工を行なうときは、高圧ポンプ６８を駆動して加工液を２００ＭＰａ〜４５０ＭＰａの高圧水として清液槽５６からジェットノズル６に送り出す。必要に応じて増圧器７０を設けることができる。ジェットノズル６では、ホッパ７２から供給される研磨材粒を適量混入する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2006110697.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月13日(2008.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周回体と、
前記周回体を回転させる駆動手段と、
前記駆動手段を駆動制御する駆動制御手段と、
を備え、
前記駆動制御手段は、前記周回体の回転を開始させるよう開始制御を行う場合に前記駆動手段に印加する電圧よりも、前記周回体の回転を停止させるよう停止制御を行う場合に前記駆動手段に印加する電圧の方が小さくなるように、前記駆動手段に電圧を印加することを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記駆動制御手段は、前記停止制御が開始されてから当該停止制御が終了するまでに、前記駆動手段に印加する電圧を段階的に変化させることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記駆動制御手段は、前記駆動停止制御が開始された場合、第１電圧の印加が終了した場合に、前記第１電圧よりも電圧が小さい第２電圧を印加することを特徴とする請求項１又は２に記載の遊技機。
【請求項４】
前記駆動制御手段は、励磁相を用いることによって前記駆動手段を制御することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１に記載の遊技機。
【請求項５】
前記駆動手段は、多相構造のステッピングモータであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１に記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月25日(2008.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円形ステープリング装置のためのアンビルアセンブリであって、該アンビルアセンブリは、以下：
環状ナイフ、および該環状ナイフの半径方向内側に配置された接続部材を有する管状本体部分であって、該管状本体部分は、ステープルカートリッジを有し、該ステープルカートリッジは、環状アレイの複数の外科用ステープルを収容し、該外科用ステープルは、該環状ナイフの半径方向外側に配置されている、管状本体部分；
アンビルヘッドを有するアンビルアセンブリであって、該アンビルアセンブリ上にアンビルプレートを支持するように構成された、アンビルアセンブリ；
該アンビルアセンブリヘッドから延び、そして該管状本体部分の円形ステープリング装置の結合部材を選択的に係合するように構成された、シャフト；
該アンビルヘッドに作動可能に結合されたアンビルプレートであって、該アンビルプレートは、内部に複数のステープル成形ポケットを規定する、アンビルプレート；ならびに
該アンビルプレートの各ステープル成形ポケット内に配置される、創傷処置物質であって、該創傷処置物質は、予め硬化した封止剤または接着剤を含有する、創傷処置物質、
を備える、アンビルアセンブリ。
【請求項２】
前記創傷処置物質が、接着剤、封止剤、止血物質および医薬のうちの少なくとも１つを含有する、請求項１に記載のアンビルアセンブリ。
【請求項３】
前記接着剤が、組織との接触の際に硬化する接着剤、紫外（ＵＶ）光への曝露の際に硬化する接着剤、および感圧性である接着剤のうちの少なくとも１つを含む、請求項２に記載のアンビルアセンブリ。
【請求項４】
前記封止剤物質が、フィブリン封止剤物質、コラーゲンベースの合成ポリマーベースの組織封止剤物質、および合成ポリエチレングリコールベースのヒドロゲル封止剤物質のうちの少なくとも１つを含む、請求項２に記載のアンビルアセンブリ。
【請求項５】
前記医薬が、薬物、酵素、増殖因子、ペプチド、タンパク質、色素、および診断剤のうちの少なくとも１つを含有する、請求項２に記載のアンビルアセンブリ。
【請求項６】
前記複数のステープル成形ポケットを覆うライナーをさらに備える、請求項１に記載のアンビルアセンブリ。
【請求項７】
前記ステープル成形ポケットが、間隔を空けた１対の同心環状リングとして配置されている、請求項１に記載のアンビルアセンブリ。
【請求項８】
前記ステープル成形ポケットが、外科用ステープリング装置のステープルカートリッジアセンブリ内に形成された、それぞれのステープル保持スロットと位置合わせされている、請求項１に記載のアンビルアセンブリ。
【請求項９】
前記創傷処置物質が、カプセルに収容されている、請求項１に記載のアンビルアセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月10日(2008.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
隣接する腸組織セクション間に吻合を形成するための装置であって：
ａ）アンビルおよび管状本体部分を有する吻合デバイスであって、該アンビルが該管状本体部分にシャフトにより選択的に取り付け可能である、吻合デバイス；および
ｂ）腸組織セクション間の配置のための支持構造、を備え、
該支持構造が、該シャフトを受容するためのアパーチャをその中に規定する本体を含み、該本体が、外側末端エッジを有し、該支持構造が、該本体の外側末端エッジに配置された膨張可能な材料の少なくとも１つの層を含む、装置。
【請求項２】
前記膨張可能な材料の少なくとも１つの層が、前記本体部分の外側末端エッジから半径方向の外側に延びる第１の膜および第２の膜を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記アパーチャが、前記本体の内側末端エッジによって規定され、該内側末端エッジが、前記管状本体部分中に配置されたステープルカートリッジアセンブリのステープル受容スロットの半径方向の内側にある、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記第１の膜および第２の膜の各々が、ポリマーフィルムから作製される、請求項２に記載の装置。
【請求項５】
前記第１の膜および第２の膜の各々が、ポリエチレンから作製される、請求項２に記載の装置。
【請求項６】
前記支持構造が、前記第１の膜および第２の膜が前記本体に向かって巻き上げられる非展開状態、ならびに該第１の膜が該本体から実質的に遠位方向に延び、かつ該第２の膜が該本体から実質的に近位方向に延びる展開状態を有する、請求項２に記載の装置。
【請求項７】
前記第１の膜および第２の膜を膨張するためのリップコードをさらに備え、該リップコードが、前記支持構造が非展開状態にあるとき、該第１の膜および第２の膜の各々中に巻き上げられる、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
各膜が、第１の内側層および第２の外側層を含む、請求項２に記載の装置。
【請求項９】
前記各膜の第２の外側層が、前記第１の内側層より大きい速度で膨潤する、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記第１の膜および第２の膜の第２の外側層がヒドロゲルから作製される、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記第１の膜および第２の膜の各々の第１の内側層が、実質的に非吸収性材料から構成される、請求項８に記載の装置。
【請求項１２】
前記第１の膜および第２の膜の各々の第１の内側層が、メッシュ、ニット、織物材料および非織物材料からなる群から選択される生体吸収性材料から製作される、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記本体が穿孔される、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
前記本体が多孔性である、請求項１に記載の装置。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの膨張可能な材料の層が、流体吸収に際し膨張する、請求項１に記載の装置。
【請求項１６】
前記本体が、ポリ乳酸材料、グリコリドホモポリマー、および合成の吸収性のラクトマー９−１材料の少なくとも１つから製作される、請求項１に記載の装置。
【請求項１７】
前記本体が、メッシュ、ニット、織物材料および非織物材料からなる群から選択される、請求項１に記載の装置。
【請求項１８】
前記本体が織物である、請求項１に記載の装置。
【請求項１９】
前記本体が創傷処置材料を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項２０】
前記創傷処置材料が、接着剤、封止剤、止血剤、および医薬の少なくとも１つである、請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
前記本体が、前記本体の外側末端エッジが、前記アンビルおよび管状本体部分の半径方向外側面を超えて延びるように、圧縮可能である、請求項１に記載の装置。
【請求項２２】
前記本体が、発泡体から製作される、請求項２１に記載の装置。
【請求項２３】
前記本体が、該本体の直径の１／４より大きい第１の厚みを有する、請求項２１に記載の装置。
【請求項２４】
前記支持構造が、前記本体が第１の直径および第１の厚みを有する非水和状態、および該本体が該第１の直径より大きい第２の直径および該第１の厚みより大きい第２の厚みを有する水和状態を有する、請求項２１に記載の装置。
【請求項２５】
前記本体が、それへの流体の付与に際し、前記第１の直径および第１の厚みから、前記第２の直径および第２の厚みまで膨張する、請求項２１に記載の装置。
【請求項２６】
前記本体が、２部分創傷処置材料の第１の部分から構成され、そしてそれに付与された流体が該２部分創傷処置材料の第２の部分である、請求項２５に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月10日(2008.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
環状外科用ステープル装置であって、以下：
アクチュエータを有する管状本体部分；
該管状本体部分の遠位端に作動可能に配置され、該管状本体部分からステープルの環状アレイを発射するために、該アクチュエータに作動可能に接続されている、ステープル押出部材；
該管状本体部分に向かって、そして該本体部分から離れる移動のために、該管状本体部分の該遠位端に移動可能に設置された、アンビルアセンブリ；
アンビルを、該管状本体部分に向けて、そして該本体部分から離して移動させるために、該管状本体部分と該アンビルアセンブリとの間に延びる、近置アセンブリ；
該近置アセンブリと作動可能に連結したノズルであって、該ノズルは、該アンビルアセンブリと該管状の本体部分との間に配置され、少なくとも１つの流体を分散するように構成されている、少なくとも１つの排出ポートを備える、ノズル；および
創傷処置材料を該ノズルに導くための、少なくとも１つの導管
を備える、装置。
【請求項２】
前記ノズルが、マニホルドを備え、該マニホルドが、以下：
第１の創傷処置材料を分散するための、その中に形成された複数の第１の排出ポート；および
該第１の創傷処置材料とは異なる第２の創傷処置材料を分散するための、その中に形成された複数の第２の排出ポート
を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記複数の第１の排出ポートおよび前記複数の第２の排出ポートが、ともに、前記マニホルドの反対側の側面上に備え付けられる、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
複数の近位排出ポートおよび複数の遠位排出ポートが、放射状に配向される、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記少なくとも１つの導管が、以下：
前記マニホルド内に形成された前記複数の第１の排出ポートと流体連絡する遠位端を有する、第１の導管；および
該マニホルド内に形成された前記複数の第２の排出ポートと流体連絡する遠位端を有する、第２の導管
を備える、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記マニホルドの遠位端部分が、長手軸に関してある角度でテーパが付けられ、前記複数の第１の排出ポートおよび前記第２の排出ポートが、該マニホルドの該遠位端部分に配置される、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記ノズルがさらに、以下：
前記マニホルドの前記遠位端部分の外側表面と、キャップの内側表面との間にチャネルを規定するような様式で、該マニホルドの該遠位端に作動可能に接続された、キャップ
を備える、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記少なくとも１つの排出ポートが、前記チャネルと連絡する少なくとも１つの第３の排出ポートを備える、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
さらに、以下：
前記第３の排出ポートと流体連絡する遠位端を有する、第３の導管
を備える、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記第１の導管が、第１の流体供給源に接続可能であり、前記第２の導管が、第２の流体供給源に接続可能であり、そして、前記第３の導管が、第３の流体供給源に接続可能である、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記第１の流体供給源は、２成分の創傷処置材料のうちの第１の成分を含み、前記第２の流体供給源は、２成分の創傷処置材料のうちの第２の成分を含む、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記２部の創傷処置材料が、生物接着剤である、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記第３の流体供給源が、圧縮流体を含む、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記キャップおよび前記マニホルドの前記遠位端部分は、前記チャネルが前記流体を実質的に近位方向に方向付けるような形状である、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記チャネルから排出された前記流体が、前記２部の創傷処置材料のうちの前記第１の部分および前記第２の部分を混合させる、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記アクチュエータが、前記管状の本体部分に接続された少なくとも１つのハンドルを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１７】
前記近置アセンブリが、以下：
前記少なくとも１つのハンドルを螺合係合する、ねじ切りされた棒部材；および
該ねじ切りされた棒部材の近位端に作動可能に接続された、ノブ部材
を備える、請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記創傷処置材料分散システムの前記ノズルが、前記ねじ切りされた棒部材の前記遠位端に作動可能に連結されている、請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記ねじ切りされた棒部材が、その反対側の側面上に形成された窓を備え、該窓は、前記少なくとも１つの排出ポートと位置合わせされている、請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
前記ねじ切りされた棒部材の遠位端が前記窓を規定する接続部材を備え、該接続部材の遠位端が、アンビルアセンブリのステムを選択的に係合するように構成されている、請求項１９に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月30日(2007.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被圧延材の板幅方向端部近傍の板厚を制御するために圧延ロールを板幅方向に移動するよう制御する方法において、被圧延材の板幅方向端部近傍に相当する圧延ロールの領域を特定して作業状況に関する物理量を積算し、前記圧延ロールの移動を前記積算状況に応じて制御する圧延制御方法。
【請求項２】
請求項１において、被圧延材の板幅方向端部近傍に相当する圧延ロールを複数領域に分けて、各々の領域で作業状況に関する物理量を積算し、前記圧延ロールの移動は前記各々の積算状況に応じて制御される圧延制御方法。
【請求項３】
請求項２において、前記積算は圧延長の積算である圧延制御方法。
【請求項４】
請求項３において、前記圧延長が所定値を超えたときに、相当する領域での圧延ロールの部分が被圧延材の板幅方向端部近傍から離れるように、前記圧延ロールの移動を制御する圧延制御方法。
【請求項５】
請求項１において、被圧延材の板幅方向端部近傍に相当する圧延ロールを複数領域に分けて、領域から領域に段階的に前記圧延ロールを移動させるように制御する圧延制御方法。
【請求項６】
請求項５において、一方向から他方向へと前記圧延ロールが周期的に移動を繰り返えすように制御する圧延制御方法。
【請求項７】
請求項６において、前記板幅方向端部近傍の板厚の許容量に応じて、前記周期的な移動の範囲を抑制するように制御する圧延制御方法。
【請求項８】
請求項１において、被圧延材の板幅方向端部近傍の板厚が、中心部方向の板厚に近くなったとき、あるいは、超えたときに、前記板厚が小さくなるように前記圧延ロールの移動を制御する圧延制御方法。
【請求項９】
被圧延材の板幅方向端部近傍の板厚を制御するために圧延ロールを板幅方向に移動するよう制御する圧延制御装置において、被圧延材の板幅方向端部近傍に相当する圧延ロールの領域を特定して作業状況に関する物理量を積算する積算手段を有し、前記圧延ロールの移動を前記積算状況に応じて制御することを特徴とする圧延制御装置。
【請求項１０】
請求項９において、被圧延材の板幅方向端部近傍に相当する圧延ロールを複数領域に分けて、各々の領域で作業状況に関する物理量を積算し、前記圧延ロールの移動を前記各々の積算状況に応じて制御する圧延制御装置。
【請求項１１】
請求項１０において、前記積算は圧延長の積算である圧延制御装置。
【請求項１２】
請求項１１において、前記圧延長が所定値を超えたときに、相当する領域での圧延ロールの部分が被圧延材の板幅方向端部近傍から離れるように、前記圧延ロールの移動を制御する圧延制御装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月22日(2008.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
略矩形の樹脂板の端面を溶融処理する樹脂板用端面処理装置であって、
上記樹脂板を所定位置に位置決めする位置決め手段と、
位置決めされた上記樹脂板の端面の所定部分に赤外線を照射して上記端面を加熱する赤外線照射手段と、を備え、
上記赤外線照射手段は、赤外線を発生させる赤外線源と、この赤外線源が発生させた赤外線を上記樹脂板の端面の所定部分に集光する集光手段と、を有する、
ことを特徴とする樹脂板用端面処理装置。
【請求項２】
上記赤外線源と上記樹脂板の端面の前記所定部分との間に配置され、上記赤外線の照射領域を制限するスリットを備えた照射領域制限手段を更に備えている、
請求項１記載の樹脂板用端面処理装置。
【請求項３】
上記位置決め手段が、上記樹脂板を所定角度回転させる回転手段を備えている、
請求項１または２に記載の樹脂板用端面処理装置。
【請求項４】
上記赤外線源は、上記樹脂板の端面の前記所定部分に赤外線を照射するように上記樹脂板の斜め下方に配置されている、
請求項１ないし３のいずれか１項に記載の樹脂用端面処理装置。
【請求項５】
上記スリットが閉鎖または移動可能に構成され、このスリットの移動により上記端面への赤外線の照射が調整される、
請求項２ないし４のいずれか１項に記載の樹脂板用端面処理装置。
【請求項６】
更に、上記位置決めされた上記樹脂板を固定する固定手段を備えている、
請求項１記載の樹脂板用端面処理装置。
【請求項７】
上記固定手段は、少なくとも表面が断熱材で形成されている、
請求項６記載の樹脂板用端面処理装置。
【請求項８】
上記樹脂板が、導光板である、
請求項１ないし７のいずれか１項に記載の樹脂板用端面処理装置。
【請求項９】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載の樹脂板用端面処理装置を用いる導光板製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】樹脂板用端面処理装置及びそれを用いた樹脂板の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、樹脂板用端面処理装置及びそれを用いた樹脂板の製造方法に係り、特に、樹脂板の端面のばりを赤外線によって溶融除去する樹脂板用端面処理装置及びそれを用いた樹脂板の製造方法に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月16日(2007.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
月桃の茎を芯材として用いたクッション材において、該月桃の茎は、所定の長さに切断し、縦に割いたものを用いることを特徴とするクッション材。
【請求項２】
前記の縦に割いた月桃の茎片を一定数束ねて、小袋詰めし、該子袋を並列方向に連結させて構成したことを特徴とする請求項１に記載のクッション材。
【請求項３】
月桃の茎部を採取し、所定の長さに切断後洗浄し、茎部を縦に割く縦割加工を行い、乾燥処理後、弾性を有する棒状としたことを特徴とするクッション材の製造方法。
【請求項４】
前記の縦割加工において、乾燥状態での茎片の直径が１．０ｍｍ〜５ｍｍであることを特徴とする請求項３に記載のクッション材の製造方法。
【請求項５】
前記の乾燥処理後、月桃エキスを滲みこませる浸透処理が施されることを特徴とする請求項３又は請求項４に記載のクッション材の製造方法。
【請求項６】
前記の月桃茎片を一定数束ね、綿製小袋に収納したことを特徴とする請求項３から請求項５までのいずれかの項に記載のクッション材の製造方法。
【請求項７】
前記の月桃茎片を月桃繊維を使用した布製袋に収納したことを特徴とする請求項３から請求項６までのいずれかの項に記載のクッション材の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
請求項１は、月桃の茎を芯材として用いたクッション材において、該月桃の茎は、所定の長さに切断し、縦に割いたものを用いることを特徴とするクッション材である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
また、前記の月桃の茎は、所定の長さに切断し、縦に割いたものを用いることを特徴とするクッション材である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
また、請求項２は、前記の縦に割いた月桃の茎片を一定数束ねて、小袋詰めし、該子袋を並列方向に連結させて構成したことを特徴とするクッション材である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
また、請求項３は、月桃の茎部を採取し、所定の長さに切断後洗浄し、茎部を縦に割く縦割加工を行い、乾燥処理後、弾性を有する棒状としたことを特徴とするクッション材の製造方法である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
また、請求項４は、前記の縦割加工において、乾燥状態での茎片の直径が１．０ｍｍ〜５ｍｍであることを特徴とするクッション材の製造方法である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
また、請求項５は、前記の乾燥処理後、月桃エキスを滲みこませる浸透処理が施されることを特徴とするクッション材の製造方法である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
また、請求項６は、前記の月桃茎片を一定数束ね、綿製小袋に収納したことを特徴とするクッション材の製造方法である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
また、請求項７は、前記の月桃茎片を月桃繊維を使用した布製袋に収納したことを特徴とするクッション材の製造方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月26日(2008.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１ 】陶磁器用材料を1時間あたり１００℃〜２００℃で昇温させて焼成する昇温焼成工程、８００℃〜１３００℃の温度に達した後、その温度を５〜６０分間維持する焼成工程、経過後降温する降温焼成工程、前記焼成工程の昇温開始から、4時間〜５時間経過後又は焼成温度が８００℃〜１０００℃に達した時から１時間〜2時間１０分迄減圧する減圧工程を有する歯科用補綴物加工用ブロックに用いられる緻密なセラミックスの製造方法。
【請求項２ 】前記陶磁器用材料が粘土鉱物，長石、石英、ハイドロキシアパタイト、チタンから選ばれた請求項１ に記載の緻密なセラミックスの製造方法。
【請求項３ 】前記歯科補綴物加工用ブロックがCADCAM手段により研削・切削により加工されることで歯科補綴物が製造される請求項１に記載された緻密なセラミックスの製造方法。
【請求項４ 】焼成時の圧力が０ ．００１ 〜５００Ｔｏｒｒ である請求項１に記載された緻密なセラミックスの製造方法。
【請求項５ 】歯科又は医科領域における生体の欠損部に補填、充填されるものを加工するためのものである請求項１に記載の緻密なセラミックスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】緻密なセラミックスの製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
降温工程は、種々のパターンで行われるが、例えば所定の温度から冷却手段を用いて急激に冷却する急冷、何ら冷却手段を用いず単に室温にさらし、徐々に温度を下げる放冷、冷却手段により一定の時間一定の冷却を行う制御された冷却が示される。この中で、放冷工程を用いることが、緻密性を高める上で好ましい態様となる場合がある。その際得られるセラミックスは、ＣＡＤ ／ＣＡＭ 手段を用いた歯科補綴物加工における研削、切削用のブロックとして好適な材料が得られる場合がある。本発明における陶磁器材料は、上述の、粘土鉱物、粘土、長石、石英，陶石等の天然産の鉱物が例示されるが、場合によっては人工的なものも含まれ得る。又 、この陶磁器材料には、強度、緻密性、靱性の向上等々の点から、各種添加剤が用いられる場合もある。これは、例えばハイドロキシアパタイト、α−ＴＣＰ 等のリン酸カルシウム系の化合物、アルミナ、チタン、ジルコニア等が例示されるが、これは、あくまで必要に応じたものであり、必要性がない場合もある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、インレー、クラウン等歯科用補綴材として機械的な加工をするためのブロックとして用いられることがより好ましい態様を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月21日(2008.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  繊維材を補強材としたエラストマー素材からなる搬送用平ベルトにおいて、繊維材が搬送面の全面に渡って部分的に露出しており、搬送面全面積中に占める繊維材の露出している割合が５〜３０％の範囲としたことを特徴とする搬送用平ベルト。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１は上記のような目的を達成するために、繊維材を補強材としたエラストマー素材からなる搬送用平ベルトにおいて、繊維材が搬送面の全面に渡って部分的に露出しており、搬送面全面積中に占める繊維材の露出している割合が５〜３０％の範囲としたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月11日(2008.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
このような光学活性カルボン酸クロリドの具体例としては、１−メチルフェニル酢酸クロリド等の１−アルキルフェニル酢酸クロリド類、１−エトキシフェニル酢酸クロリド等の１−アルコキシフェニル酢酸クロリド類、１−ホルミルオキシフェニル酢酸クロリド等のＯ−アシルマンデル酸クロリド類、１−ｐ-トルイルフェニル酢酸クロリド等の１−置換フェニルフェニル酢酸クロリド類、１−ベンジルフェニル酢酸クロリド等の１−アラルキルフェニル酢酸クロリド類の光学活性体を挙げることができる。ここで、光学活性体とは、（Ｒ）体、（Ｓ）体の何れの光学活性体も含むが、光学純度は９８％ｅｅ以上である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月22日(2008.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
実施例１１（ＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨ2 存在下での白金触媒によるアリルグリシジルエーテルとトリエトキシシランの反応）窒素置換したガラス製反応管に０．４３９ｇのアリルグリシジルエーテルと０．５１７ｇのトリエトキシシランをとり、これに０．０１０ｇに相当するＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨ2 をマイクロシリンジで加えた。これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．０４wt％）を１１マイクロリットル加えた。反応管を１００℃のオイルバスにいれ３０分加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分析するとアリルグリシジルエーテルの転化率は９９％であり、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシランは７６％の収率で生成していた。またγ−グリシドキシプロピルトリエトキシシランとβ−グリシドキシプロピルトリエトキシシランの比は、１８０：１であった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
実施例１２（ＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨＭｅＣ≡ＣＨ存在下での白金触媒によるアリルグリシジルエーテルとトリエトキシシランの反応）窒素置換したガラス製反応管に０．４３９ｇのアリルグリシジルエーテルと０．５１７ｇのトリエトキシシランをとり、これに０．０１０ｇに相当するＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨＭｅＣ≡ＣＨをマイクロシリンジで加えた。これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．０４wt％）を１１マイクロリットル加えた。反応管を１００℃のオイルバスにいれ３０分間加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分析するとアリルグリシジルエーテルの転化率は７５％であり、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシランは６３％の収率で生成していた。またγ−グリシドキシプロピルトリエトキシシランとβ−グリシドキシプロピルトリエトキシシランの比は、４５０：１であった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
比較例５（白金触媒によるアリルグリシジルエーテルとトリエトキシシランの反応（添加物の無い場合））窒素置換したガラス製反応管に０．４３９ｇのアリルグリシジルエーテルと０．５１７のトリエトキシシランをとり、これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．０４wt％）を１１マイクロリットル加えた。反応管を１００℃のオイルバスにいれ３０分間加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分析するとアリルグリシジルエーテルの転化率は９９％であり、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシランは８３％の収率で生成していた。またγ−グリシドキシプロピルトリエトキシシランとβ−グリシドキシプロピルトリエトキシシランの比は、８３：１であった。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月11日(2008.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【化１２】
2002255943.tif 000001
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は同じであっても異なっていても良く、ｉ）水素原子、ｉｉ）ハロゲン原子、ｉｉｉ）炭素数１から４のアルキル基、ｉｖ）炭素数１から４のアルコキシル基、ｖ）ニトロ基、ｖｉ）シアノ基、ｖｉｉ）カルボキシル基、ｖｉｉｉ）カルバモイル基、またはｉｘ）アルキル基の炭素数が１から４のＮ−アルキルカルバモイル基を示し、Ｒ6はｉ）無置換、または炭素数１から４のアルキル基、炭素数１から４のアルコキシル基、ニトロ基もしくはハロゲン基で置換されたアリール基、ｉｉ）無置換、または炭素数１から４のアルキル基、炭素数１から４のアルコキシル基、ニトロ基もしくはハロゲン基で置換されたアラルキル基を示す。）で表されるピペラジン誘導体の塩酸塩を製造する方法として、相当するピペラジン誘導体に等モル程度の酸クロライド、あるいはスルホニルクロライドを反応させる方法が知られている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
比較例４
温度計、滴下ロート、攪拌機を装着した容量１０００ｍｌの反応容器に、ラセミＮ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ピペラジンカルボキサミド３７．０５（２００ｍｍｏｌ）とエタノール３７０．８ｇを仕込んだ。室温下に攪拌して溶解した。滴下ロートに塩化ベンゾイル２９．５２ｇ（２１０ｍｍｏｌ）を仕込み、このものを６時間かけて滴下して反応させた。滴下終了後、同温度下で１時間攪拌して熟成した。反応スラリーを約２時間かけて３℃まで冷却し、更に１時間攪拌を続けた。析出した結晶を遠心濾過し、ケークを２０．０ｇのエタノールで洗浄した。
得られたケークを乾燥してラセミ２−ｔｅｒｔ−ブチルカルボキサミド−４−ベンゾイルピペラジン塩酸塩３９．７６ｇを得た。収率は６１．０％であった。この結晶の一部を採取し、メタノール中で１Ｎ−ＮａＯＨａｑ．で中和したのちガスクマトグラフィー分析したところ、原料Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ピペラジンカルボキサミドの含有率は０．７１％であった。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月17日(2008.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  １）アルギン酸及び／又は水可溶性のその塩１〜２０重量％と２）グリセリン及び／又は２５℃１気圧で液体のポリエチレングリコール２０〜８０重量％を含有することを特徴とする、パック用の組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】  グリセリンと２５℃１気圧で液体のポリエチレングリコールとを１０：１〜１：１０の重量比で含有することを特徴とする、請求項１に記載のパック用の組成物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
一方、１）アルギン酸及び／又は水可溶性のその塩１〜２０重量％と２）グリセリン及び／又は２５℃１気圧で液体のポリエチレングリコール２０〜８０重量部を含有することを特徴とする、パック用の組成物に水性組成物を用時に混合してなるパック化粧料は全く知られていない。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題の解決手段】本発明者らは、この様な状況に鑑みて、使用性と使用感に優れた、エステティックのパック化粧料を求め、鋭意研究努力を重ねた結果、１）アルギン酸及び／又は水可溶性のその塩１〜２０重量％と２）グリセリン及び／又は２５℃１気圧で液体のポリエチレングリコール２０〜８０重量部を含有することを特徴とする、パック用の組成物に水性組成物を用時に混合してなるパック化粧料にその様な特性を見出し、発明を完成させるに至った。即ち、本発明は、以下に示す技術に関するものである。
（１）１）アルギン酸及び／又は水可溶性のその塩１〜２０重量％と２）グリセリン及び／又は２５℃１気圧で液体のポリエチレングリコール２０〜８０重量％を含有することを
特徴とする、パック用の組成物。
（２）グリセリンと２５℃１気圧で液体のポリエチレングリコールとを１０：１〜１：１０の重量比で含有することを特徴とする、（１）に記載のパック用の組成物。
（３）更に、カルシウムの水可溶性塩を２〜６０重量％含有することを特徴とする、（１）又は（２）に記載のパック用の組成物。
（４）エステティック用であることを特徴とする、（１）〜（３）何れか１項に記載のパック用の組成物。
（５）（１）〜（４）のパック用の組成物に用時、水性組成物を添加してなるパック化粧料。
（６）水性組成物が水である、（５）に記載のパック化粧料。以下、本発明について、実施の形態を中心に更に詳細に説明を加える。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【発明の実施の形態】（１）本発明のパック用の組成物本発明のパック用の組成物は、アルギン酸及び／又は水可溶性のその塩１〜２０重量％と２）グリセリン及び／又は２５℃１気圧で液体のポリエチレングリコール２０〜８０重量部を含有することを特徴とする。ここで、アルギン酸の水可溶性塩としてはアルギン酸のアルカリ金属塩が好ましく例示でき、中でもアルギン酸ナトリウムが特に好ましく例示できる。アルギン酸やその水可溶性塩は唯一種を含有することもできるし、二種以上を組み合わせて含有させることもできる。本発明のパック用の組成物におけるアルギン酸やその水可溶性塩の好ましい含有量は、組成物全量に対して、総量で、１〜２０重量％であり、更に好ましくは、２〜１５重量％である。これは、この範囲において、パックに良好な被膜を形成するからである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明のパック用の組成物は、もう一つの必須成分として、グリセリン及び／又は２５℃１気圧で液体のポリエチレングリコール２０〜８０重量％、更に好ましくは、３０〜５０重量％を含有することを特徴とする。かかる成分は、前記の含有量の範囲において、本発明のパック用の組成物を水と混合してパック料とする際に、水との混和熱を発生させて、パック化粧料に温感を付与させる作用を有する。又、かかる成分はパックを施す皮膚に潤いを与える作用も合わせて有する。前記成分において、２５℃１気圧で液体のポリエチレングリコールとしては、平均分子量１００〜１５００のポリエチレングリコールが好ましく例示でき、２００〜１０００のポリエチレングリコールが更に好ましく例示できる。勿論これらは唯一種を用いることもできるし、二種以上を組み合わせて用いることもできる。又、本発明のパック用の組成物においては、かかるポリエチレングリコールのみを含有させることもできるし、これにグリセリンを組み合わせて含有させることもできる。好ましいものは、グリセリンと２５℃１気圧で液体のポリエチレングリコールとを組み合わせて含有させる形態である。この様な場合において、グリセリンと２５℃１気圧で液体のポリエチレングリコールとの好ましい重量混合比は、１０：１〜１：１０であり、更に好ましくは、５：１〜１：５である。この様な混合比において、パック料を形成させた場合、心地よい感触が得られ、エステティックではディープリラクゼーションを提供することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
＜実施例２＞上記のパック用の組成物１の７０重量部に水６０重量部を加えて良く混練りし、本発明のパック化粧料１とした。このものの温度の時間変化を測定した。同時に、組成物１のポリエチレングリコール４００とグリセリンを水の方に移し水性組成物とした比較例１（従来のアルゲパック）も作製し、同様に温度の時間変化を追った。これより本発明のパック化粧料は使用時に体温付近の温度を維持していることがわかる。又、従来のアルゲパックでは使用時の温度が２５℃付近であり、これが冷感を示す原因であったことも確認された。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月28日(2008.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  酸化イットリウムを２〜５モル％含有する酸化ジルコニウム粉末であって、かつ、単斜晶率が２９〜３７％であることを特徴とする酸化ジルコニウム粉末。
【請求項２】  該酸化ジルコニウム粉末が、本文で定義するＢＥＴ比表面積が５〜１６ｍ２／ｇで、かつ、該粉末の平均二次凝集径が０．３〜１．２μｍであることを特徴とする請求項１に記載の酸化ジルコニウム粉末。
【請求項３】  請求項１または２に記載のジルコニウム粉末を乾燥造粒してなる顆粒であって、かつ、該顆粒が有機バインダーからなる成形助剤を含有し、かつ、平均粒径が３０〜７０μｍであることを特徴とする顆粒。
【請求項４】  該顆粒が、０．９ｇ／ｃｍ３以上の嵩密度を有し、かつ、２００℃における重量減少率が０．５重量％以下であることを特徴とする請求項３に記載の顆粒。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、かかる課題を解決するために、次のような手段を採用するものである。すなわち、本発明の酸化ジルコニウム粉末は、酸化イットリウムを２〜５モル％含有する酸化ジルコニウム粉末であって、かつ、単斜晶率が２９〜３７％であることを特徴とするものである。また、本発明の顆粒は、かかるジルコニウム粉末を乾燥造粒してなる、平均粒径が３０〜７０μmであることを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の酸化ジルコニウム粉末は、かかる酸化イットリウムの含有量に加えて、さらに、単斜晶率が２９〜３７％の範囲であることが重要である。すなわち単斜晶率が、２９％未満では、焼結性が低く、３７％を越えると、焼結性が高くなりすぎ、さらに、焼結時の体積収縮の影響が大きくなり、いずれも、良好な燒結体物性が得られなくなる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月15日(2007.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  容器口部に螺子固定される中蓋と、上下にスライド可能に該中蓋に取り付けられた注出用案内部材と、中蓋に取り付けられた注出用案内部材を覆うように着脱自在に設けられた上蓋とを備えた複合容器蓋において、
前記中蓋は、容器口部の外面と螺子係合する螺条を内面に有する第１の筒状壁と、第１の筒状壁よりも小径の第２の筒状壁と、第１の筒状壁の上端と第２の筒状壁の下端とを繋ぐ水平壁と、第２の筒状壁の内部に設けられた弁体とから成り、
第２の筒状壁の上方部分外面には、係合突起が形成され、
前記弁体は、少なくとも上端が閉じられた柱状体形状を有し、その上端は、第２の筒状壁の上端よりも上方に延びており、且つその下端は、適当な間隔で形成されているブリッジによって第２の筒状壁の内面或いは前記水平壁の下面に保持されており、
前記注出用案内部材は、中央部分に注出用開口を備えた天井壁と、天井壁の下面に形成された環状外側足部及び環状内側足部と、天井壁の上面に形成された注出案内用の注出筒とから成り、該環状外側足部の下端部内面にはアンダーカットが形成されており、
該天井壁の周縁又は環状外側足部の上部外面には、外方に張り出した外方張出し部が形成されており、前記環状外側足部と環状内側足部との間の空間内に、前記第２の筒状壁を嵌め込むことにより、前記注出用案内部材は、第２の筒状壁に上下にスライド可能に保持され、
第２の筒状壁にスライド可能に保持された注出用案内部材が下方位置にあるときは、前記弁体の上端によって前記注出用開口が閉じられ、該注出用案内部材が
上方位置にあるときは、前記注出用開口が開放され、且つ、前記環状外側足部の下端部内面に形成されているアンダーカットと第２の筒状壁上方部分外面の係合突起との係合により、該注出用案内部材の上方への移動が規制されると共に、
前記上蓋は、頂板部と、頂板部周縁から下方に延びているスカート壁とから成り、該スカート壁の上方部分内面には、係止突起が形成されており、
第２の筒状壁にスライド可能に保持された注出用案内部材を覆うようにして前記上蓋を閉じた時、上方位置にある注出用案内部材は、前記上蓋により押圧されて下方位置まで降下し、閉じられた上蓋を上昇させて開放する際には、下方位置にある注出用案内部材は、上蓋の係止突起と該注出用案内部材の外方張出し部との当接により上方位置まで持ち上げられ、該注出用案内部材が上方位置に到達した時点で、上蓋の係止突起が該注出用案内部材の外方張出し部を乗り越えること、
を特徴とする複合容器蓋。
【請求項２】  前記上蓋の頂板部下面には、前記注出用開口よりも大きな内径を有するリング状の押え突起が形成されている請求項１に記載の複合容器蓋。
【請求項３】  前記上蓋は、前記中蓋の第１の筒状壁が螺子係合する容器口部外面よりも大きな外径を有する容器首部外面との螺子係合により保持される請求項１又は２に記載の複合容器蓋。
【請求項４】  第１の筒状壁の内部には、容器口部内面と密接する胴部と、該胴部の上端から外方に延びているフランジ部と、容器口部を閉じる底部とから成る中栓が挿入されている請求項１乃至３の何れかに記載の複合容器蓋。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月4日(2008.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  半導体素子を搭載する搭載用構造物であって、
第１表面を有する基板と、
前記基板の第１表面から延びる複数の突起部と、
前記複数の突起部を包囲し、前記基板の第１表面から伸びてウェルを形成する１つ又は複数の壁とを含み、前記ウェルは、接着材料を収納できるように適合されることを特徴とする半導体素子を搭載する搭載用構造物。
【請求項２】  請求項１に記載の搭載用構造物において、
前記基板内に形成され、前記ウェルからの接着材料を収納できるようウェルに接続された少なくとも１つの貯蔵部を有することを特徴とする搭載用構造物。
【請求項３】  請求項１に記載の搭載用構造物において、
前記貯蔵部は、２個あることを特徴とする搭載用構造物。
【請求項４】  請求項３に記載の搭載用構造物において、
１対の導通路を更に有し、各導通路は、それぞれの該貯蔵部とウェルとを接続することを特徴とする搭載用構造物。
【請求項５】  請求項１に記載の搭載用構造物において、
前記突起部は、光学素子を受け入れるよう構成されていることを特徴とする搭載用構造物。  
【請求項６】  請求項１に記載の搭載用構造物において、
前記壁は、突起部より上に伸びていることを特徴とする搭載用構造物。
【請求項７】  請求項１に記載の搭載用構造物において、
前記複数の突起部は、前記基板の第１表面から実質的に等しい量だけ伸びていることを特徴とする搭載用構造物。
【請求項８】  請求項７に記載の搭載用構造物において、
前記壁は、前記基板を異方性エッチングすることにより形成されることを特徴とする搭載用構造物。
【請求項９】  半導体デバイスであって、
第１表面を有する基板と、
少なくとも１つの搭載用構造物とからなり、
前記搭載用構造物は、
前記基板の第１表面から延在する複数の突起部と、
前記基板の第１表面から実質的に等しい量だけ延在し、前記突起部を包囲して前記突起部より上に伸びてウェルを形成する１つ又は複数の壁とを含み、前記ウェルの各々は、接着材料、すなわち、エポキシを収納するように適合され、
各光学素子が互いに対して平面上で整列するように、それぞれの該搭載用構造物の前記突起部に該エポキシによって接着され、そして突起部状に搭載された光学素子と
を有することを特徴とする半導体デバイス。
【請求項１０】  半導体素子を１つ又は複数の搭載用構造物を有する半導体デバイスに搭載する方法であって、前記搭載用構造物は、ウェルを形成する１つ又は複数の壁により包囲された複数の突起部を有し、
前記突起部の上まで延在する前記ウェル内に接着材料を具備するステップと、
前記半導体素子を前記接着材料と接触するまで下降させるステップと、
前記半導体素子を前記突起部に接触させるステップと、
前記接着材料を硬化させて、該半導体素子を引っ張り力をかけるステップとを有することを特徴とする半導体素子を半導体デバイスに搭載する方法。