【手続補正書】
【提出日】平成20年3月4日(2008.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
絶縁性基板と、
前記絶縁性基板上にマトリックス状に配設され、薄膜トランジスタが電気的に接続された画素電極をそれぞれ有する複数の表示画素と、を有したアクティブマトリックス基板を備えた電気光学表示装置であって、
前記アクティブマトリックス基板は、
前記薄膜トランジスタのドレイン電極上を含めて前記絶縁性基板上全体を覆う無機系絶縁膜と、
前記無機系絶縁膜上全体を覆う有機系樹脂絶縁膜と、
前記無機系絶縁膜および前記有機系樹脂絶縁膜を貫通して前記ドレイン電極に達する画素ドレインコンタクトホールと、
前記画素ドレインコンタクトホールの底部に配設され、前記ドレイン電極に接触するコンタクト導電膜と、を有し、
前記画素電極は、
前記有機系樹脂絶縁膜上を覆うとともに、前記画素ドレインコンタクトホールの内壁および前記コンタクト導電膜上を覆うように配設され、
前記コンタクト導電膜の端縁部は、前記無機系絶縁膜上に形成されている、電気光学表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記画素ドレインコンタクトホールは、
前記無機系絶縁膜を貫通する第１のコンタクトホールと、
前記有機系樹脂絶縁膜を貫通する第２のコンタクトホールとが連通して構成され、
前記第２のコンタクトホールの開口寸法は前記第１のコンタクトホールの開口寸法より大きく、
前記画素ドレインコンタクトホールの底部は前記第２のコンタクトホールの底部に相当し、
前記コンタクト導電膜は、前記第１のコンタクトホールを埋め込むとともに、前記第２のコンタクトホールの底部に露出する前記無機系絶縁膜上を覆うように配設される、請求項１記載の電気光学表示装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明に係る請求項１記載の電気光学表示装置は、絶縁性基板と、前記絶縁性基板上にマトリックス状に配設され、薄膜トランジスタが電気的に接続された画素電極をそれぞれ有する複数の表示画素と、を有したアクティブマトリックス基板を備えた電気光学表示装置であって、前記アクティブマトリックス基板は、前記薄膜トランジスタのドレイン電極上を含めて前記絶縁性基板上全体を覆う無機系絶縁膜と、前記無機系絶縁膜上全体を覆う有機系樹脂絶縁膜と、前記無機系絶縁膜および前記有機系樹脂絶縁膜を貫通して前記ドレイン電極に達する画素ドレインコンタクトホールと、前記画素ドレインコンタクトホールの底部に配設され、前記ドレイン電極に接触するコンタクト導電膜とを有し、前記画素電極は、前記有機系樹脂絶縁膜上を覆うとともに、前記画素ドレインコンタクトホールの内壁および前記コンタクト導電膜上を覆うように配設され、前記コンタクト導電膜の端縁部は、前記無機系絶縁膜上に形成されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
その後、図７に示す第４回目の写真製版工程で、まず、フォトマスクＭ１を用いて、第３の絶縁膜１２に対して第１の露光を行い、第１の露光領域ＥＰ１を形成する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
フォトマスクＭ１は、露光光ＥＸ１を完全に透過する透過領域Ｔ１と露光光ＥＸ１を完全に遮光する遮光領域Ｓ１とを有するような構成とし、第１の露光によって、第３の絶縁膜１２に完全に露光される露光領域ＥＰ１（第１の露光領域）と、全く露光されない非露光領域ＮＰ１とを形成する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
次に、図８に示す工程において、フォトマスクＭ２を用いて、第３の絶縁膜１２に対して第２の露光を行い、露光領域ＥＰ２を形成する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
フォトマスクＭ２は、露光光ＥＸ２を完全に透過する透過領域Ｔ２と露光光ＥＸ２を完全に遮光する遮光領域Ｓ２とを有するような構成とし、第２の露光によって、第３の絶縁膜１２に露光領域ＥＰ２（第２の露光領域）と、全く露光されない非露光領域ＮＰ２とを形成する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
第２の露光は、第３の絶縁膜１２を完全に露光するのではなく、露光した部分が、現像後に薄い膜厚で残存するように、第１の露光の約２０〜４０％の強度の露光光ＥＸ２で露光を行う、いわゆるハーフ露光であり、これによりハーフ露光領域である露光領域ＥＰ２が形成される。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
その後、図９に示す工程において公知の有機アルカリ系現像液で現像を行うことにより、第３の絶縁膜１２を貫通して第２の絶縁膜１１に達する開口部１３１（第１の開口部）と、第３の絶縁膜１２を貫通せず、その底部の端縁部下に第３の絶縁膜１２が約０．８μｍの厚さで残る開口部１４１（第２の開口部）とが連通した構成を得る。図１６には開口部１３１および開口部１４１が形成された状態の平面図を示す。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
なお、上述した第４回目の写真製版工程では、第１の露光および第２の露光の二段階露光により、第３の絶縁膜１２にそれぞれ露光領域ＥＰ１およびハーフ露光領域ＥＰ２を形成する例を示したが、これに限定されるものではなく、１回の露光で露光領域ＥＰ１およびハーフ露光領域ＥＰ２を形成することもできる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
すなわち、ハーフ露光領域ＥＰ２に対応する部分が、露光光の透過量が約２０〜４０％となる半透過領域となり、露光領域ＥＰ１に対応する部分が露光光を完全に透過する透過領域となったフォトマスクを用いて、第３の絶縁膜１２を露光する方法を採ることもできる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
次に、図１０に示す工程において、フッ素系ガスを用いた公知のドライエッチング法を用いて開口部１３１の底部に露出する第２の絶縁膜１１を除去して、ドレイン電極９に達するコンタクトホール１３を形成する。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
次に、図１１に示す工程において、酸素ガスを用いた公知のアッシング法を用いて、第３の絶縁膜１２を全体的に薄膜化するとともに、開口部１４１を、断面形状がすり鉢状になるように加工して、開口部１３１と開口部１４１との段差を除去してコンタクトホール１４を得る。なお、コンタクトホール１４の底部の端縁部には、第２の絶縁膜１１が露出するとともに、中央部はコンタクトホール１３となっておりドレイン電極９が露出しており、コンタクトホール１３および１４によって、画素ドレインコンタクトホールＣＨが得られる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
次に、図１２に示す工程において、画素ドレインコンタクトホールＣＨの内壁を含めた第３の絶縁膜１２の全面に第３の金属薄膜（図示せず）を成膜した後に、第５回目の写真製版工程を経て、画素ドレインコンタクトホールＣＨの底部にコンタクト導電膜１５をパターニングする。図１７には、画素ドレインコンタクトホールＣＨの底部にコンタクト導電膜１５が形成された状態の平面図を示す。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
なお、コンタクト導電膜１５のパターン形状は、コンタクトホール１３を完全に埋め込んでドレイン電極９に密着するとともに、その端縁部がコンタクトホール１４の底部に露出する第２の絶縁膜１１上を覆うように形成し、コンタクト導電膜１５がコンタクトホール１４の底部からはみ出さない大きさとする。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
最後に、画素ドレインコンタクトホールＣＨの内壁を含めた第３の絶縁膜１２の全面を覆うように透明導電性薄膜を成膜した後、第６回目の写真製版工程を経て、当該透明導電性薄膜をパターニングして、画素ドレインコンタクトホールＣＨを介して下層のドレイン電極９と電気的に接続される画素電極１６を形成することで、図２に示されるような断面構成を有するＴＦＴアクティブマトリックス基板１００を得ることができる。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８１】
また、コンタクト導電膜１５の端縁部においては、その下地層が無機系絶縁膜で構成される第２の絶縁膜１１となるので、コンタクト導電膜１５のエッチングに使用される硝酸セリウムアンモニウム溶液のしみ込みを防止でき、コンタクト導電膜１５の端面の断面形状が逆テーパー状になることを防止できる。これにより、コンタクト導電膜１５の端面近傍における画素電極１６の断線を防止できる。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
さらには、第３の絶縁膜１２に設けた開口部１４１を、アッシング法により、断面形状がすり鉢状になるように加工して、開口部１３１と開口部１４１との段差を除去して内壁がなだらかに傾斜するコンタクトホール１４を得るようにしたので、画素ドレインコンタクトホールＣＨ内で画素電極１６が断線することを防止できる。