Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月5日(2008.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  複数の発光点を有する光源手段と、前記複数の発光点から射出された複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、前記偏向手段の偏向面により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる走査光学手段と、前記偏向手段の偏向面により偏向された光束を検知する同期検出器と、前記同期検出器に該被走査面上の光走査を、該被走査面上に入射する複数の光束の一部を前記偏向手段の偏向面により偏向された光束を導光する同期検出用光学系と、を備え、
前記同期検出器から出力される同期信号を用いて前記被走査面上へ前記偏向手段の偏向面により偏向された複数の光束の画像記録の走査開始位置のタイミングを調整する走査光学装置であって、
前記光源手段と前記同期検出器は、同一の基板上に設けられており、かつ、
前記基板は、前記入射光学手段の光軸方向に垂直な面内で回動可能な構造であり、かつ、
前記同期検出器に入射する光束は、副走査方向に長い形状をしていることを特徴とする走査光学装置。
【請求項２】  前記基板は、前記複数の発光点の重心位置又はその近傍を回動中心として回動可能な構造であることを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。
【請求項３】  前記同期検出用光学系は、主走査断面内のパワーと副走査断面内のパワーが異なり、前記同期検出用光学系を射出した光束の集光位置が主走査断面内と副走査断面内で一致しないことを特徴とする請求項１又は２に記載の走査光学装置。
【請求項４】  前記同期検出用光学系を通過した光束の主走査断面内の集光位置に副走査方向に長い開口の矩形スリットが設けられており、
前記基板を回転させたときに前記矩形スリットが同期して回転する構造としたことを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の走査光学装置。
【請求項５】  請求項１乃至４の何れか一項に記載の走査光学装置と、前記被走査面に配置された感光体と、前記走査光学装置で走査された光束によって前記感光体の上に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像されたトナー像を被転写材に転写する転写器と、転写されたトナー像を被転写材に定着させる定着器とを有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項６】  請求項１乃至４の何れか一項に記載の走査光学装置と、外部機器から入力したコードデータを画像データに変換して前記走査光学装置に入力せしめるプリンタコントローラとを有していることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明の走査光学装置は、
複数の発光点を有する光源手段と、前記複数の発光点から射出された複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、前記偏向手段の偏向面により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる走査光学手段と、前記偏向手段の偏向面により偏向された光束を検知する同期検出器と、前記同期検出器に該被走査面上の光走査を、該被走査面上に入射する複数の光束の一部を前記偏向手段の偏向面により偏向された光束を導光する同期検出用光学系と、を備え、
前記同期検出器から出力される同期信号を用いて前記被走査面上へ前記偏向手段の偏向面により偏向された複数の光束の画像記録の走査開始位置のタイミングを調整する走査光学装置であって、
前記光源手段と前記同期検出器は、同一の基板上に設けられており、かつ、
前記基板は、前記入射光学手段の光軸方向に垂直な面内で回動可能な構造であり、かつ、
前記同期検出器に入射する光束は、副走査方向に長い形状をしていることを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
請求項２の発明は、請求項１の発明において、
前記基板は、前記複数の発光点の重心位置又はその近傍を回動中心として回動可能な構造であることを特徴としている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
請求項３の発明は、請求項１又は２の発明において、
前記同期検出用光学系は、主走査断面内のパワーと副走査断面内のパワーが異なり、前記同期検出用光学系を射出した光束の集光位置が主走査断面内と副走査断面内で一致しないことを特徴としている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
請求項４の発明は、請求項１乃至３のいずれか１項の発明において、
前記同期検出用光学系を通過した光束の主走査断面内の集光位置に副走査方向に長い開口の矩形スリットが設けられており、
前記基板を回転させたときに前記矩形スリットが同期して回転する構造としたことを特徴としている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
請求項５の発明の画像形成装置は、
請求項１乃至４の何れか一項に記載の走査光学装置と、前記被走査面に配置された感光体と、前記走査光学装置で走査された光束によって前記感光体の上に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像されたトナー像を被転写材に転写する転写器と、転写されたトナー像を被転写材に定着させる定着器とを有することを特徴としている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
請求項６の発明の画像形成装置は、
請求項１乃至４の何れか一項に記載の走査光学装置と、外部機器から入力したコードデータを画像データに変換して前記走査光学装置に入力せしめるプリンタコントローラとを有していることを特徴としている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月3日(2008.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 光学素子と、前記光学素子を有するとともに保持部が構成されている可動部材と、保持部に保持された一部を有し可動部材を変位可能に支持した支持部材と、前記支持部材の前記一部とは別の部分を保持する固定部材と、前記可動部材を駆動する駆動手段と、を備えており、
前記保持部材が金型によりプラスチック成形されていて、前記支持部材の少なくとも前記一部と前記駆動手段の少なくとも一部品をインサート成形していることを特徴とする光学素子支持装置。
【請求項２】 前記支持部材が薄板状の金属製弾性材料により形成されている、ことを特徴とする請求項１に記載の光学素子支持装置。
【請求項３】 前記駆動手段の少なくとも前記一部品は電磁コイルである、ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学素子支持装置。
【請求項４】前記金型は２つの分割型及びスライド型を有し、
前記支持部材と前記一部品の一方は前記分割型に配置され、前記支持部材と前記一部品の他方は前記スライド型に配置されてインサート成形されることを特徴とする請求項１に記載の光学素子支持装置。
【請求項５】前記支持部材と前記一部品の一方は２つの前記分割型の分割面に配置される事を特徴とする請求項４に記載の光学素子支持装置。
【請求項５】前記支持部材は前記分割型と前記スライド型の間に配置される事を特徴とする請求項４に記載の光学素子支持装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】 上述したこの発明の目的を達成するために、この発明に従った光学素子支持装置は：光学素子と、光学素子を有するとともに保持部が構成されている可動部材と、保持部に保持された一部を有し可動部材を変位可能に支持した支持部材と、支持部材の上記一部とは別の部分を保持する固定部材と、可動部材を駆動する駆動手段と、を備えており、保持部が金型によりプラスチック成形されていて、支持部材の少なくとも上記一部と駆動手段の少なくとも一部品をインサート成形している、ことを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
次には、図８中に示されている如く、固定側ハーフ分割型８２とは分割面ＰＳを挟んで対称な形状の移動側分割型８６を分割面ＰＳ上の所定の位置に固定側ハーフ分割型８２及びスライド型８４に対して固定する。この時に、固定側ハーフ分割型８２と移動側分割型８６における可動部材６０や固定部材６４の為の型凹所中で対応する１対の支持部材６２が、上記型凹所中に圧入される溶融プラスチックの有する圧力により所定の位置からの位置ずれや変形が生じることを防止する為に、固定側ハーフ分割型８２と移動側分割型８６の複数個所で上記型凹所中の１対の支持部材６２まで図示しない補強部材を貫入し、これら複数の図示しない補強部材により上記型凹所中の１対の支持部材６２の所定の位置を確実に保持させることが出来る。このような図示しない補強部材が貫入した跡は、上記型凹所により射出成型される固定部分６４及び可動部分６０の表面に空洞として残る。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2003075763.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月1日(2008.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  点状の一次光源から発せられる光を導光し、且つ前記一次光源から発せられる光が入射する光入射端面及び導光される光が出射する光出射面を有する板状の導光体であって、
前記光出射面及びその反対側の裏面のうちの一方に、前記光出射面に沿った面内での前記一次光源から前記導光体に入射した光の指向性の方向に略沿って延び且つ互いに平行に配列された複数のレンズ列が形成されており、該レンズ列の延在方向と直交する前記レンズ列の断面形状は、前記導光体のレンズ列形成平面に対する平均傾斜角が１０〜５０°であり、かつ、前記断面形状の各点での接線の前記レンズ列形成平面に対する角度の絶対値（ａ）と前記平均傾斜角（ｂ）との差の絶対値｜（ａ）−（ｂ）｜の最大値が５〜３０°の範囲であり、前記断面形状の各微小領域での接線と前記レンズ列形成平面とのなす角度の絶対値の度数分布において最大度数を示す角度から±５°以内の範囲内の前記微小領域の数の全微小領域の数に対する割合が５０％以下であることを特徴とする面光源装置用導光体。
【請求項２】  前記一次光源から前記導光体に入射した光の広がり角が９０°以上であり、前記断面形状の平均傾斜角が１２．５〜３０°であることを特徴とする、請求項１に記載の面光源装置用導光体。
【請求項３】  前記一次光源から前記導光体に入射した光の広がり角が７０〜９０°であり、前記断面形状の平均傾斜角が１１〜２０°または２５〜３５°であることを特徴とする、請求項１に記載の面光源装置用導光体。
【請求項４】  前記一次光源から前記導光体に入射した光の広がり角が７０°以下であり、前記断面形状の平均傾斜角が１０〜１７°または２７．５〜５０°であることを特徴とする、請求項１に記載の面光源装置用導光体。
【請求項５】  前記断面形状は凸および凹の曲線の少なくとも１つを含んでなることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の面光源装置用導光体。
【請求項６】  前記光入射端面は異方性粗面からなり、該異方性粗面は前記光出射面に沿った方向での平均傾斜角が前記光出射面と直交する方向での平均傾斜角より大きいことを特徴とする、請求項１に記載の面光源装置用導光体。
【請求項７】  前記異方性粗面は、前記光出射面に沿った方向での平均傾斜角が３〜６０°であり、前記光出射面と直交する方向での平均傾斜角が５°以下であることを特徴とする、請求項６に記載の面光源装置用導光体。
【請求項８】  前記異方性粗面は、前記光出射面と直交する方向で測定した場合の傾き角８°以上の領域の長さが全測定長の５％以下であることを特徴とする、請求項６〜７のいずれかに記載の面光源装置用導光体。
【請求項９】  前記光出射面に沿った方向に隔てられ同一平面上に配置された複数の前記光入射端面を備えており、該光入射端面の隣接するものどうしの間の端縁に対応する部分が前記同一平面より外方へ突出して突出部を形成しており、該突出部では前記端縁の前記光入射端面に隣接する部分が前記同一平面に対して傾斜していることを特徴とする、請求項１に記載の面光源装置用導光体。
【請求項１０】  点状の一次光源から発せられる光を導光し、且つ前記一次光源から発せられる光が入射する光入射端面及び導光される光が出射する光出射面を有する板状の導光体であって、
前記光出射面に沿った方向に隔てられ同一平面上に配置された複数の前記光入射端面を備えており、該光入射端面の隣接するものどうしの間の端縁に対応する部分が前記同一平面より外方へ突出して突出部を形成しており、該突出部では前記端縁の前記光入射端面に隣接する部分が前記同一平面に対して傾斜していることを特徴とする面光源装置用導光体。
【請求項１１】  前記突出部での前記端縁の前記光入射端面に隣接する部分が前記同一平面に対して５〜６０°傾斜していることを特徴とする、請求項９〜１０のいずれかに記載の面光源装置用導光体。
【請求項１２】  前記光出射面及びその反対側の裏面のうちの片方に光出射機構を備えていることを特徴とする、請求項１〜１１いずれかに記載の面光源装置用導光体。
【請求項１３】  請求項１〜１２いずれかに記載の面光源装置用導光体と、該導光体の前記光入射端面に隣接して配置されている前記一次光源と、前記導光体の光出射面に隣接して配置されている少なくとも１つの光偏向素子とを備えており、該光偏向素子は、前記導光体の光出射面に対向して位置する入光面とその反対側の出光面とを有しており、前記導光体に隣接する光偏向素子の前記入光面に、前記導光体の光入射端面の形成されている入射端縁と略平行の方向に延び且つ互いに平行な複数のプリズム列を備えていることを特徴とする面光源装置。
【請求項１４】  前記一次光源は点状光源であることを特徴とする、請求項１３に記載の面光源装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月29日(2008.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  単結晶Ｇｅまたは単結晶Ｓｉの材料を用い、結晶方位の（１１１）面に格子溝が形成され、前記格子溝面の表面粗さが最も滑らかなもので１０ｎｍＲＭＳ、格子定数の誤差が±０．１μｍ以下、分散方向断面の各部の寸法誤差が±０．２μｍ以下およびブレーズ角の誤差が±０．２°以下のうちの少なくともいずれか１つを満足していることを特徴とする回折格子。
【請求項２】  単結晶Ｇｅまたは単結晶Ｓｉからなる被加工物をダイヤモンドバイトによるフライカット方式により、格子溝を形成することを特徴とする回折格子の加工方法。
【請求項３】  回折格子と光学素子とが複合されて形成された光学要素において、
前記回折格子は、請求項１に記載の回折格子を用いていることを特徴とする光学要素。
【請求項４】  前記光学要素はグリズムであることを特徴とする請求項３記載の光学要素。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明による手段によれば、単結晶Ｇｅまたは単結晶Ｓｉの材料を用い、結晶方位の（１１１）面に格子溝が形成され、前記格子溝面の表面粗さが最も滑らかなもので１０ｎｍＲＭＳ、格子定数の誤差が±０．１μｍ以下、分散方向断面の各部の寸法誤差が±０．２μｍ以下およびブレーズ角の誤差が±０．２°以下のうちの少なくともいずれか１つを満足していることを特徴とする回折格子である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また請求項２の発明による手段によれば、単結晶Ｇｅまたは単結晶Ｓｉからなる被加工物をダイヤモンドバイトによるフライカット方式により、格子溝を形成することを特徴とする回折格子の加工方法である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また請求項３の発明による手段によれば、回折格子と光学素子とが複合されて形成された光学要素において、
前記回折格子は、上記の回折格子を用いていることを特徴とする光学要素である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また請求項４の発明による手段によれば、前記光学要素はグリズムであることを特徴とする光学要素である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月29日(2008.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】シンチレータパネル、放射線検出装置及びシステム
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線に基づく光を発生する蛍光体層と、前記蛍光体層を支持するための導電性基材と、前記蛍光体層と前記導電性基材との間に配置された反射層と、を備えたシンチレータパネルにおいて、
前記導電性基材と前記反射層との間に配置された絶縁層と、
前記反射層と前記蛍光体層との間に配置された接続防止層と、を有することを特徴とするシンチレータパネル。
【請求項２】
前記接続防止層は、２μｍ以上の厚さであって、更に前記絶縁層との厚さの和が２０μｍ以下の厚さであることを特徴とする請求項１記載のシンチレータパネル。
【請求項３】
前記接続防止層は、前記蛍光体の最大ピーク波長での消衰係数が１×１０−５以下であることを特徴とする請求項１記載のシンチレータパネル。
【請求項４】
前記絶縁層と前記接続防止層との少なくとも一方は、複数層からなることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項記載のシンチレータパネル。
【請求項５】
前記接続防止層は少なくとも２層からなり、前記反射層の接する層が無機層であり、前記蛍光体層に接する層が有機層であることを特徴とする請求項４記載のシンチレータパネル。
【請求項６】
前記絶縁層は、シリコンを含む材料からなることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項記載のシンチレータパネル。
【請求項７】
前記絶縁層は、金属酸化層であることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項記載のシンチレータパネル。
【請求項８】
前記絶縁層と前記接続防止層との少なくとも一方は、ジビニルシロキサンビスベンゾブテン系樹脂、メチルシルセスキオキサン系樹脂、ポリアミドイミド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、又は芳香族ポリエステルよりなることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項記載のシンチレータパネル。
【請求項９】
前記絶縁層と前記接続防止層との少なくとも一方は、前記反射層との接触面の体積抵抗率が１×１０１０Ωｃｍ以上であることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項記載のシンチレータパネル。
【請求項１０】
前記導電性基材は、アモルファスカーボンを含む材料からなることを特徴とする請求項１から９のいずれか１項記載のシンチレータパネル。
【請求項１１】
前記導電性基材の前記放射線の入射面と反対側の面を、凹凸差が０．０２μｍから５μｍとなるように粗らしていることを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項記載のシンチレータパネル。
【請求項１２】
少なくとも前記いずれかの絶縁層は、スパッタ法、化学気相成長法、真空蒸着法、プラズマ重合法、スピンナー法又はスプレー法によって形成することを特徴とする請求項１から１１のいずれか１項記載のシンチレータパネル。
【請求項１３】
前記反射層は、アルミニウム、銀、銅又は金を含む材料であることを特徴とする請求項１から１２のいずれか１項記載のシンチレータパネル。
【請求項１４】
前記光電変換素子はアモルファスシリコン又はクリスタルシリコンにより形成されることを特徴とする請求項１から１３のいずれか１項記載のシンチレータパネル。
【請求項１５】
前記導電性基材は、体積抵抗率が１×１０１０Ωｃｍ以下の材料からなることを特徴とする請求項１から１４のいずれか１項記載のシンチレータパネル。
【請求項１６】
請求項１から１５のいずれか１項記載のシンチレータパネルを備えることを特徴とする放射線検出装置。
【請求項１７】
請求項１６記載の放射線検出装置を具備することを特徴とする放射線検出システム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は、放射線に基づく光を発生する蛍光体層と、前記蛍光体層を支持するための導電性基材と、前記蛍光体層と前記導電性基材との間に配置された反射層と、を備えたシンチレータパネルにおいて、前記導電性基材と前記反射層との間に配置された絶縁層と、前記反射層と前記蛍光体層との間に配置された接続防止層と、を有することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月5日(2008.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  蛍光体層と、前記蛍光体層を支持するための基材と、前記蛍光体層と前記基材との間に配置された、前記蛍光体層で変換された光を前記基材側とは反対の側へ反射させる反射層と、を備えたシンチレータパネルにおいて、
前記基材と前記反射層との間に配置された、前記反射層の腐食を防止する絶縁層を有し、前記絶縁層の形成領域は、前記反射層の形成領域よりも大きいことを特徴とするシンチレータパネル。
【請求項２】  前記基材は、体積抵抗率が１０Ωｃｍ以下の材料からなることを特徴とする請求項１記載のシンチレータパネル。
【請求項３】  前記基材は、アモルファスカーボンを含む材料としていることを特徴とする請求項１又は２記載のシンチレータパネル。
【請求項４】  前記基材の端面は面取りされ、曲率半径Ｒが１ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項記載のシンチレータパネル。
【請求項５】  前記絶縁層は、ポリイミド、ジビニルシロキサンビスベンゾブテン系樹脂、メチルシルセスキオキサン系樹脂、ポリアミドイミド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、又は芳香族ポリエステルよりなることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載のシンチレータパネル。
【請求項６】  前記基材は、前記絶縁層を形成する側の面を凹凸差が０．０２μｍから５μｍとなるように粗らしていることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載のシンチレータパネル。
【請求項７】  前記反射層は、アルミニウム、銀、銅又は金を含む材料であることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項記載のシンチレータパネル。
【請求項８】  蛍光体層と、前記蛍光体層を支持するための基材と、前記蛍光体層と前記基材との間に配置された、前記蛍光体層で変換された光を前記基材側とは反対の側へ反射させる反射層と、を備えたシンチレータパネルにおいて、
前記反射層の前記蛍光体層側の表面を覆う保護層と、前記反射層の前記基材側の表面を覆う絶縁層と、を有し、前記反射層の端面を前記絶縁層もしくは前記保護膜で覆い、前記反射層の全周を覆うことを特徴とするシンチレータパネル。
【請求項９】  前記絶縁層及び前記保護層の形成領域は、前記反射層の形成領域より大きく、
前記反射層の形成領域に対応した領域より外側の前記絶縁層表面は、前記保護層との密着性向上のためのプラズマ処理又はコロナ放電処理がされていることを特徴とする請求項８に記載のシンチレータパネル。
【請求項１０】  前記基材は、体積抵抗率が１０Ωｃｍ以下の材料からなることを特徴とする請求項８又は９記載のシンチレータパネル。
【請求項１１】  前記基材は、アモルファスカーボンを含む材料としていることを特徴とする請求項８から１０のいずれか１項記載のシンチレータパネル。
【請求項１２】  前記基材の端面は面取りされ、曲率半径Ｒが１ｍｍ以上であることを特徴とする請求項８から１１のいずれか１項記載のシンチレータパネル。
【請求項１３】  前記絶縁層は、ポリイミド、ジビニルシロキサンビスベンゾブテン系樹脂、メチルシルセスキオキサン系樹脂、ポリアミドイミド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、又は芳香族ポリエステルよりなることを特徴とする請求項８から１２のいずれか１項記載のシンチレータパネル。
【請求項１４】  前記保護層は、ポリイミドよりなることを特徴とする請求項８から１３のいずれか１項記載のシンチレータパネル。
【請求項１５】  前記基材は、前記絶縁層を形成する側の面を凹凸差が０．０２μｍから５μｍとなるように粗らしていることを特徴とする請求項１０から１４のいずれか１項記載のシンチレータパネル。
【請求項１６】  前記反射層は、アルミニウム、銀、銅又は金を含む材料であることを特徴とする請求項１０から１５のいずれか１項記載のシンチレータパネル。
【請求項１７】  請求項１から１６のいずれか１項記載のシンチレータパネルを、光電変換素子を有するセンサパネルに貼り合せてなる放射線撮像装置。
【請求項１８】  請求項１７に記載の前記放射線撮像装置からの信号を処理する信号処理手段と、前記信号処理手段からの信号を記録するための記録手段と、前記信号処理手段からの信号を表示するための表示手段と、前記信号処理手段からの信号を伝送するための伝送処理手段と、前記放射線を発生させるための放射線発生源とを具備することを特徴とする放射線検出システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
【課題を解決するための手段】
本発明のシンチレータパネルは、蛍光体層と、前記蛍光体層を支持するための基材と、前記蛍光体層と前記基材との間に配置された、前記蛍光体層で変換された光を前記基材側とは反対の側へ反射させる反射層と、を備えたシンチレータパネルにおいて、
前記基材と前記反射層との間に配置された、前記反射層の腐食を防止する絶縁層を有し、前記絶縁層の形成領域は、前記反射層の形成領域よりも大きいことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
また、本発明のシンチレータパネルは、蛍光体層と、前記蛍光体層を支持するための基材と、前記蛍光体層と前記基材との間に配置された、前記蛍光体層で変換された光を前記基材側とは反対の側へ反射させる反射層と、を備えたシンチレータパネルにおいて、
前記反射層の前記蛍光体層側の表面を覆う保護層と、前記反射層の前記基材側の表面を覆う絶縁層と、を有し、前記反射層の端面を前記絶縁層もしくは前記保護膜で覆い、前記反射層の全周を覆うことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月13日(2008.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】          
【請求項１】  低透磁率材料または非磁性材料により第１のヨークと第２のヨークを結合する連結部を有するとともにローター穴を有する完成ヨークと、径方向に着磁された永久磁石よりなるローターと、前記連結部の両脇から前記ローター穴の内部に向かって突出する第１の凸部と第２の凸部とを備え、前記第１の凸部と前記第２の凸部とは、それぞれ同じ幅と高さを有し、前記ローターの中心と前記連結部の中心とを通る直線に対して、ほぼ線対称な位置に配置されていることを特徴とする時計用ステップモーター。
【請求項２】  前記第１の凸部と前記第２の凸部からなる凸部群を２組設け、ローター穴の中心を通り、前記連結部の中心線に垂直な線に対して互いにほぼ線対称な位置に、前記凸部群をそれぞれ配置したことを特徴とする請求項１に記載の時計用ステップモーター。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
前述した目的を達成するために、本発明の時計用ステップモーターは、低透磁率材料または非磁性材料により第１のヨークと第２のヨークを結合する連結部を有するとともにローター穴を有する完成ヨークと、径方向に着磁された永久磁石よりなるローターと、前記連結部の両脇から前記ローター穴の内部に向かって突出する第１の凸部と第２の凸部とを備え、前記第１の凸部と前記第２の凸部とは、それぞれ同じ幅と高さを有し、前記ローターの中心と前記連結部の中心とを通る直線に対して、ほぼ線対称な位置に配置されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月28日(2008.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体レーザ媒質又は活性固体媒質を含んだファイバレーザを持つレーザ発信器から出力された基本波レーザ光を複数段の波長変換を行うことにより角膜をアブレーション可能な紫外レーザ光を発生させる波長変換手段と、波長変換された紫外レーザ光を角膜に導光する導光光学系とを備え、レーザ光の照射により角膜をアブレーションする角膜手術装置において、
前記波長変換手段は、少なくとも１段の波長変換を行う擬似位相整合水晶であって、変換する波長に対応して周期的に反転するツインが形成された擬似位相整合水晶を含むことを特徴とする角膜手術装置。
【請求項２】
請求項１の角膜手術装置において、前記擬似位相整合水晶は、複数段の波長変換を行うように、各段の波長変換に対応したツイン反転周期の異なる領域が１つの水晶に直列に形成されていることを特徴とする角膜手術装置。
【請求項３】
請求項１の角膜手術装置において、前記波長変換手段は、前記レーザ発信器からの基本波レーザ光からその第２高調波の第１レーザ光を発生させる第１波長変換素子と、第１レーザ光からその第２高調波の第２レーザ光を発生させる第２波長変換素子と、基本波レーザ光と第２レーザ光とから和周波光の第３レーザ光である紫外レーザ光を発生させる第３波長変換素子と有し、少なくとも前記第２波長変換素子及び第３波長変換素子に前記擬似位相整合水晶が用いられていることを特徴とする角膜手術装置。
【請求項４】
請求項３の角膜手術装置において、前記第２及び第３波長変換素子は１つの擬似位相整合水晶で一体的に形成されており、その擬似位相整合水晶は各波長変換に対応したツイン反転周期の異なる領域が１つの水晶に直列に形成されていることを特徴とする角膜手術装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は以下のような構成を備えることを特徴とする。
（１）  固体レーザ媒質又は活性固体媒質を含んだファイバレーザを持つレーザ発信器から出力された基本波レーザ光を複数段の波長変換を行うことにより角膜をアブレーション可能な紫外レーザ光を発生させる波長変換手段と、波長変換された紫外レーザ光を角膜に導光する導光光学系とを備え、レーザ光の照射により角膜をアブレーションする角膜手術装置において、前記波長変換手段は、少なくとも１段の波長変換を行う擬似位相整合水晶であって、変換する波長に対応して周期的に反転するツインが形成された擬似位相整合水晶を含むことを特徴とする。
（２）  （１）の角膜手術装置において、前記擬似位相整合水晶は、複数段の波長変換を行うように、各段の波長変換に対応したツイン反転周期の異なる領域が１つの水晶に直列に形成されていることを特徴とする。
（３）  （１）の角膜手術装置において、前記波長変換手段は、前記レーザ発信器からの基本波レーザ光からその第２高調波の第１レーザ光を発生させる第１波長変換素子と、第１レーザ光からその第２高調波の第２レーザ光を発生させる第２波長変換素子と、基本波レーザ光と第２レーザ光とから和周波光の第３レーザ光である紫外レーザ光を発生させる第３波長変換素子と有し、少なくとも前記第２波長変換素子及び第３波長変換素子に前記擬似位相整合水晶が用いられていることを特徴とする。
（４）  （３）の角膜手術装置において、前記第２及び第３波長変換素子は１つの擬似位相整合水晶で一体的に形成されており、その擬似位相整合水晶は各波長変換に対応したツイン反転周期の異なる領域が１つの水晶に直列に形成されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月5日(2008.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  絶縁基板上に交差して配置される信号線及び走査線の交点近傍に配置される複数のスイッチング素子と、
前記信号線及び前記走査線に沿ってマトリクス状に配置され前記スイッチング素子を介して前記信号線に接続される画素電極と、
前記走査線と一体的に形成され絶縁層を介して前記画素電極と補助容量を形成する補助容量線とを有する第１の基板と、
前記第１の基板と所定の間隙を隔てて対向配置される対向電極と、
前記第１の基板及び前記対向電極の間隙に封入される光変調層とを備え、
前記信号線に沿って前記画素電極の２画素毎に前記画素電極の電位極性が異なる平面表示素子であって、
前段の前記走査線に接続される前段行の前記画素電極と次の段の前記走査線に接続される次の行の前記画素電極との間に介在される前記走査線を、スリットを介して一体的に形成される前記補助容量線と電界遮蔽配線とに分岐された構成とし、
前記補助容量線と補助容量を形成する前記画素電極の一端部を前記スリット領域内に位置させるとともに前記電界遮蔽配線を前記画素電極間に位置させることを特徴とする平面表示素子。
【請求項２】  前記電界遮蔽配線は、前記絶縁基板と前記画素電極との中間層に配置されることを特徴とする請求項１記載の平面表示素子。
【請求項３】  前記光変調層が、液晶層であることを特徴とする請求項１又は請求項２のいずれか記載の平面表示素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決する為の手段として、絶縁基板上に交差して配置される信号線及び走査線の交点近傍に配置される複数のスイッチング素子と、前記信号線及び前記走査線に沿ってマトリクス状に配置され前記スイッチング素子を介して前記信号線に接続される画素電極と、前記走査線と一体的に形成され絶縁層を介して前記画素電極と補助容量を形成する補助容量線とを有する第１の基板と、前記第１の基板と所定の間隙を隔てて対向配置される対向電極と、前記第１の基板及び前記対向電極の間隙に封入される光変調層とを備え、前記信号線に沿って前記画素電極の２画素毎に前記画素電極の電位極性が異なる平面表示素子であって、前段の前記走査線に接続される前段行の前記画素電極と次の段の前記走査線に接続される次の行の前記画素電極との間に介在される前記走査線を、スリットを介して一体的に形成される前記補助容量線と電界遮蔽配線とに分岐された構成とし、
前記補助容量線と補助容量を形成する前記画素電極の一端部を前記スリット領域内に位置させるとともに前記電界遮蔽配線を前記画素電極間に位置させるものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
尚、本発明は、上記実施の形態に限られるものではなく、その趣旨を変えない範囲での変更は可能であって、例えばマトリクス状に配列される画素電極の画素数等限定されない。又、電界遮蔽用配線や補助容量線の形状も限定されず、更に、カラーフィルタ層をアレイ基板上に設ける等しても良い。又、この発明は、画素電極と対向電極との間にホール輸送層、有機発光層等を積層する等して配置した有機ＥＬ素子等にも有効に用いることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月18日(2008.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザーによる操作に基づいて、前記ユーザーの状態を検出する状態検出手段と、
前記ユーザーの目的地を取得する情報取得手段と、
前記状態検出手段による検出結果に応じて、順位付けして前記目的地までの移動経路を検出する移動経路検出手段と、
前記移動経路を前記ユーザーに通知する通知手段と
を備えることを特徴とするナビゲーション装置。
【請求項２】
前記移動経路検出手段により検出する移動経路が、
公共交通機関を含む利用可能な交通機関による移動経路である
ことを特徴とする請求項１に記載のナビゲーション装置。
【請求項３】
前記状態検出手段は、
前記ユーザーの状態を感情面より検出する
ことを特徴とする請求項１に記載のナビゲーション装置。
【請求項４】
前記状態検出手段は、
前記ユーザーの状態を健康面より検出する
ことを特徴とする請求項１に記載のナビゲーション装置。
【請求項５】
前記状態検出手段は、
前記ユーザーの操作を判定して前記ユーザーの焦りを判定し、
前記移動経路検出手段は、
前記ユーザーの焦りが激しい場合、前記通知手段を介して、公共交通機関を利用した移動経路を優先して前記ユーザーに通知するように、前記移動経路を順位付けする
ことを特徴とする請求項２に記載のナビゲーション装置。
【請求項６】
前記状態検出手段は、
前記ユーザーの操作を判定して前記ユーザーの怒りを判定し、
前記移動経路検出手段は、
前記ユーザーの怒りが激しい場合、前記通知手段を介して、公共交通機関を利用した移動経路を優先して前記ユーザーに通知するように、前記移動経路を順位付けする
ことを特徴とする請求項２に記載のナビゲーション装置。
【請求項７】
ユーザーによる操作に基づいて、前記ユーザーの状態を検出する状態検出のステップと、
前記ユーザーの目的地を取得する情報取得のステップと、
前記状態検出のステップによる検出結果に応じて、順位付けして前記目的地までの移動経路を検索する検索のステップと、
前記移動経路を前記ユーザーに通知する通知のステップと
を備えることを特徴とするナビゲーション方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月29日(2008.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内視鏡画像データと、前記内視鏡画像データが撮像されたときに介された観察光学系の光学特性を示す光学データとを有する画像ファイルを取得する手段と、
前記内視鏡画像データを表示する表示手段と、
操作指示を入力する入力手段と、
少なくとも光学データが記録される記憶手段と、
前記内視鏡画像データと、前記光学データとを前記画像ファイルから参照する制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記光学データに基づいて、前記内視鏡画像データに含まれる幾何学的歪みを補正して補正画像データを生成し、前記光学データ及び前記補正画像データに基づいて、前記補正画像データの任意の計測点における三次元座標を用いて被写体を計測することを特徴とする計測内視鏡装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記画像ファイルから参照された前記光学データから、前記内視鏡画像データの座標変換に用いられる変換テーブルを作成し、前記変換テーブルに基づいて、前記内視鏡画像データから幾何学的歪みを除くように前記内視鏡画像データを座標変換することを特徴とする請求項１に記載の計測内視鏡装置。
【請求項３】
前記光学データは、前記観察光学系の生産工程で測定された光学特性が、前記観察光学系が使用される内視鏡挿入部に適した光学特性に補正された校正データであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の計測内視鏡装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記内視鏡画像データに対して実行可能な計測処理の種類を判別し、判別した前記種類に応じて、前記内視鏡画像データに対して実行する計測処理に制限をかけることを特徴とする請求項１〜請求項３の何れか１項に記載の計測内視鏡装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記画像ファイルに記録されている前記観察光学系を識別するための識別情報と、前記光学データとを前記記憶手段に記録することを特徴とする請求項１〜請求項４の何れか１項に記載の計測内視鏡装置。
【請求項６】
前記制御手段は、前記画像ファイルに前記光学データが記録されていないとき、前記記憶手段に記録されている前記光学データを前記入力手段により前記記憶手段から選択させ、
前記記憶手段から選択された前記光学データを用いて、前記内視鏡画像データに含まれる幾何学的歪みを補正して補正画像データを生成することを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の計測内視鏡装置。
【請求項７】
前記制御手段は、前記画像ファイルに前記光学データが記録されていないとき、前記識別情報を参照して前記識別情報に対応した前記光学データが前記記憶手段に記録されているか判断し、
前記識別情報に対応した前記光学データが前記記憶手段に記録されているとき、前記識別情報に対応した前記光学データを前記記憶手段から選択し、
前記記憶手段から選択された前記光学データを用いて、前記内視鏡画像データに含まれる幾何学的歪みを補正して補正画像データを生成することを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の計測内視鏡装置。
【請求項８】
前記制御手段は、前記記憶手段に記録されており、選択された前記光学データを、前記画像ファイルに記録することを特徴とする請求項６又は請求項７に記載の計測内視鏡装置。
【請求項９】
前記表示手段は、前記内視鏡画像データの計測可能な領域を示す枠を表示することを特徴とする請求項１〜請求項８の何れか１項に記載の計測内視鏡装置。
【請求項１０】
前記表示手段は、前記入力手段による操作指示に対応する位置にカーソルを表示し、
前記制御手段は、前記カーソルが前記内視鏡画像データの計測可能な位置に位置していないとき、前記カーソルの形状を変更することを特徴とする請求項１〜請求項９の何れか１項に記載の計測内視鏡装置。
【請求項１１】
前記表示手段は、前記入力手段による操作指示に対応する位置にカーソルを表示し、
前記制御手段は、前記カーソルが前記内視鏡画像データの計測可能な位置に位置していないとき、前記入力手段による前記内視鏡画像データ上の計測点の指定を禁止することを特徴とする請求項１〜請求項９の何れか１項に記載の計測内視鏡装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明の計測内視鏡装置は、内視鏡画像データと、前記内視鏡画像データが撮像されたときに介された観察光学系の光学特性を示す光学データとを有する画像ファイルを取得する手段と、前記内視鏡画像データを表示する表示手段と、操作指示を入力する入力手段と、少なくとも光学データが記録される記憶手段と、前記内視鏡画像データと、前記光学データとを前記画像ファイルから参照する制御手段とを備え、前記制御手段は、前記光学データに基づいて、前記内視鏡画像データに含まれる幾何学的歪みを補正して補正画像データを生成し、前記光学データ及び前記補正画像データに基づいて、前記補正画像データの任意の計測点における三次元座標を用いて被写体を計測する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３５】
したがって、以下の機能をつけることで計測できる範囲か否かを簡単にユーザに認識させることができるとともに、範囲外に点を指定することによる計測ミスを防ぐ効果が得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月1日(2008.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
４価及び３価から選ばれる少なくとも一つのセリウム化合物を有効成分とする樹脂表面処理剤。
【請求項２】
４価及び３価から選ばれる少なくとも一つのセリウム化合物を含有する溶液である請求項１の樹脂表面処理剤。
【請求項３】
前記溶液が水溶液である請求項２に記載の樹脂表面処理剤。
【請求項４】
前記溶液中の４価及び３価から選ばれる少なくとも一つのセリウム化合物の濃度は０．０１〜５０質量％の範囲である請求項２に記載の樹脂表面処理剤。
【請求項５】
前記溶液中の４価及び３価から選ばれる少なくとも一つのセリウム化合物の濃度は、セリウム濃度にして０．００００１〜２ｍｏｌ／ｋｇの範囲である請求項２に記載の樹脂表面処理剤。
【請求項６】
４価のセリウム化合物が、ヘキサニトラトセリウム（ＩＶ）塩、硫酸四アンモニウムセリウムおよび硫酸セリウムの少なくとも１種である請求項１に記載の樹脂表面処理剤。
【請求項７】
３価のセリウム化合物が、酢酸セリウム（III）、硝酸アンモニウムセリウム（III）、炭酸セリウム（III）、塩化セリウム（III）、フッ化セリウム（III）、硝酸セリウム（III）、硫酸セリウム（III）、臭化セリウム（III）、ヨウ化セリウム（III）、シュウ酸セリウム（III）、過塩素酸セリウム（III）、硫化セリウム（III）及びこれらの水和物の少なくとも１種である請求項１に記載の樹脂表面処理剤。
【請求項８】
樹脂が、ポリイミド系、エポキシ系、シアネート系、アクリル系、ABS系、アラミド系及びこれらの混合物の少なくとも1種である請求項１に記載の樹脂表面処理剤。
【請求項９】
前記樹脂表面処理剤が、樹脂表面を活性化しこの樹脂表面に積層される金属または樹脂からなる他の部材との接着強度を向上させる表面処理剤である請求項１に記載の樹脂表面処理剤。
【請求項１０】
樹脂の表面に、４価及び３価から選ばれる少なくとも一つのセリウム化合物を有効成分とする表面処理剤を接触させることを特徴とする樹脂表面処理法。
【請求項１１】
前記表面処理剤が溶液である請求項１０に記載の樹脂表面処理法。
【請求項１２】
樹脂の表面に、４価のセリウム化合物を含有する溶液を接触させたのち、酸性水溶液で処理する請求項１１に記載の樹脂表面処理法。
【請求項１３】
樹脂の表面に、４価及び３価から選ばれる少なくとも一つのセリウム化合物を含有する溶液を接触させる前に、アルカリ性水溶液で処理する請求項１１に記載の樹脂表面処理法。
【請求項１４】
４価及び３価から選ばれる少なくとも一つのセリウム化合物を含有する溶液が水溶液である請求項１１に記載の樹脂表面処理法。
【請求項１５】
前記溶液中の４価及び３価から選ばれる少なくとも一つのセリウム化合物の濃度は０．０１〜５０質量％の範囲である請求項１１に記載の樹脂表面処理法。
【請求項１６】
前記溶液中の４価及び３価から選ばれる少なくとも一つのセリウム化合物の濃度は、セリウム濃度にして０．００００１〜２ｍｏｌ／ｋｇの範囲である請求項１１に記載の樹脂表面処理法。
【請求項１７】
４価のセリウム化合物が、ヘキサニトラトセリウム（ＩＶ）塩、硫酸四アンモニウムセリウムおよび硫酸セリウムの少なくとも１種である請求項１０に記載の樹脂表面処理法。
【請求項１８】
３価のセリウム化合物が、酢酸セリウム（III）、硝酸アンモニウムセリウム（III）、炭酸セリウム（III）、塩化セリウム（III）、フッ化セリウム（III）、硝酸セリウム（III）、硫酸セリウム（III）、臭化セリウム（III）、ヨウ化セリウム（III）、シュウ酸セリウム（III）、過塩素酸セリウム（III）、硫化セリウム（III）およびこれらの水和物の少なくとも１種である請求項１０に記載の樹脂表面処理法。
【請求項１９】
樹脂が、ポリイミド系、エポキシ系、シアネート系、アクリル系、ABS系、アラミド系ならびにこれらの混合物の少なくとも1種である請求項１０に記載の樹脂表面処理法。
【請求項２０】
前記樹脂表面に前記表面処理剤を接触することで活性化させ、この樹脂表面に金属または樹脂からなる他の部材を積層させる請求項１０に記載の樹脂表面処理法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月3日(2008.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次式で表される官能性アスパラギン酸ジアルキル：
【化１】
2006028515.tif 000001
上記の式における符号の意義は以下の通りである。
（i）Ｒ１およびＲ２は相互に独立して線状、分枝状もしくは環状のＣ１〜Ｃ８アルキルを示す。
（ii）各々のＲ３は相互に独立してＨ並びに線状、分枝状および環状のＣ１〜Ｃ２０アルキル、アリール、アルカリールおよびアラルキルから成る群から選択される基を示す。
（iii）Ｙは下記の式群（１）で表される基および式群（２）の一方による１もしくは複数の電子求引性基に隣接する炭素原子から酸性水素原子を脱離させて得られる基から成る群から選択される結合基を示す：
式群（１）
【化２】
2006028515.tif 000002
（式中、Ｒ５はＨまたは線状もしくは分枝状のＣ１〜Ｃ３アルキルを示す。）
式群（２）
【化３】
2006028515.tif 000003
［式中、Ｗ１はニトリル基、Ｒ１１−ＣＯ−、ニトロ基、カルボン酸および該酸の塩類の残基、カルボン酸の線状、分枝状もしくは環状のＣ１〜Ｃ２４アルキルエステル、アルケニルエステル、アリールエステル、アルカリールエステルもしくはアラルキルエステル並びに線状、分枝状もしくは環状のＣ１〜Ｃ２４アルキルスルホニルから成る群から選択される電子求引性基を示し、Ｗ２はケトン基を示し、Ｒ１１はＨ、−ＯＨ、並びにＯ、Ｓおよび／またはＮから選択される１もしくは複数のヘテロ原子を有していてもよい線状、分枝状もしくは環状のＣ１〜Ｃ２４アルキル、アリール、アルカリールもしくはアラルキルから選択される基を示し、Ｒ１２はＯ、Ｓおよび／またはＮから選択される１もしくは複数のヘテロ原子を有していてもよい線状、分枝状もしくは環状のＣ１〜Ｃ２４アルキレン、アリーレン、アルカリーレンまたはアラルキレンを示す。］
（iv）Ｒ４は線状、分枝状もしくは環状のＣ１〜Ｃ２４アルキレン、アリーレン、アルカリーレンもしくはアラルキレン、下記の式群（３）で表される基およびこれらの混合基から成る群から選択される結合基を示す：
式群（３）
【化４】
2006028515.tif 000004
［式中、Ｒ７は線状もしくは分枝状のＣ１〜Ｃ３アルキルもしくはアルキロールを示し、ｎは１〜４の数を示し、ｐは１〜１０００の数を示し、ｑは１〜１０００の数を示し、各々のＲ８は相互に独立して線状、分枝状もしくは環状のＣ１〜Ｃ２４アルキレン、アルケニレン、アリーレン、アルカリーレンまたはアラルキレンを示し（これらの基は所望により置換基としてヒドロキシル基、カルボン酸基または線状、分枝状もしくは環状のＣ１〜Ｃ８カルボン酸エステル基を有していてもよい。）、ｒは１〜１００００の数を示し、Ｒ９は線状もしくは分枝状のＣ１〜Ｃ３アルキルを示し、Ｘは−ＯＲ１０（式中、Ｒ１０はＨまたは線状、分枝状もしくは環状のＣ１〜Ｃ２４アルキル、アリール、アルカリールもしくはアラルキルまたはこれらの混合基を示す。）または−ＮＲ５２（式中、Ｒ５は前記と同意義である。）を示す。］
（v）Ｚは下記の式群（４）から選択される基を示す：
式群（４）
【化５】
2006028515.tif 000005
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ１０は前記と同意義である。）
【請求項２】
下記の工程（Ａ）および（Ｂ）を含む官能性アスパラギン酸エステルの製造方法：
（Ａ）アジリジンをミカエル−受容体分子と反応させることによってアスパラギン酸アジリジニルを形成させ、次いで
（Ｂ）アスパラギン酸アジリジニルを活性水素含有化合物と反応させることによって官能性アスパラギン酸エステルを生成させる。
【請求項３】
請求項２記載の方法によって製造される官能性アスパラギン酸エステル。
【請求項４】
下記の成分（i）および（ii）を含有する接着剤組成物、シーラント組成物または塗料組成物：
（i）請求項１記載の官能性アスパラギン酸ジアルキル、および
（ii）イソシアネート官能性物質。
【請求項５】
下記の工程（ａ）および（ｂ）を含む、第１支持体の第２支持体への接着方法：
（ａ）請求項４記載の塗料組成物を第１支持体または第２支持体の少なくとも１つの表面上に塗布し、次いで
（ｂ）第１支持体の表面を第２支持体の表面と接触させる（この場合、これらの接触させる表面の少なくとも一方は塗布された塗料組成物を有する。）。
【請求項６】
相互に接着された第１支持体と第２支持体を少なくとも含む、請求項５記載の方法によって製造されるアセンブリー。
【請求項７】
請求項４記載の組成物を支持体の表面の少なくとも一部に塗布することを含む支持体の被覆方法によって製造される被覆支持体。