Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月8日(2008.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
透光性を有する基板シートの表裏面上にそれぞれ電極パターン及び外部電極端子を形成する工程と、前記基板シートを略Ｗ型の断面を有する形状の基板集合体に成形する工程と、前記基板集合体の表裏面の一方の面上に発光素子を取り付け、該一方の面上に形成した前記電極パターンに電気的に接続し、他方の面上に前記基板集合体の基板を挟んで対向するように受光素子を取付け、該他方の面上に形成した前記電極パターンに電気的に接続する工程と、前記略Ｗ型の断面を有する基板集合体により仕切られる上下の空間のそれぞれに合成樹脂を充填して前記発光素子および受光素子を封止して保護部材および溝を同時に形成する工程と、保護部材形成後に前記基板集合体をカットして各フォトカプラに分離する工程とからなることを特徴とする表面実装型フォトカプラの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
透光性を有する基板シートの表裏面上にそれぞれ電極パターン及び半田電極端子を形成する工程と、前記基板シートを略Ｗ型の断面を有する形状の基板集合体に成形する工程と、前記基板集合体の表裏面の一方の面上に発光素子を取り付け、該一方の面上に形成した前記電極パターンに電気的に接続し、他方の面上に前記基板集合体の基板を挟んで対向するように受光素子を取付け、該他方の面上に形成した前記電極パターンに電気的に接続する工程と、前記略Ｗ型の断面を有する基板集合体により仕切られる上下の空間のそれぞれに合成樹脂を充填して前記発光素子および受光素子を封止して保護部材を形成する工程と、保護部材形成後に溝加工により該保護部材に溝を形成し更に前記基板集合体をカットして各フォトカプラに分離する工程とからなることを特徴とする表面実装型フォトカプラの製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
接続用電極を備えたマザーボードの上にフォトカプラを載置し、前記マザーボードの表面と表面実装型フォトカプラの側面部に配した基板の外面とが交差して仕切られる空間に半田を配置して溶融し、該空間のコーナー部に半田を溶融・保持することにより、表面実装型フォトカプラの外部電極端子とマザーボードの前記接続用電極を接合することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載する表面実装型フォトカプラの実装方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
上記課題を解決するための第５の手段として本発明は、透光性を有する基板シートの表裏面上にそれぞれ電極パターン及び外部電極端子を形成する工程と、前記基板シートを略Ｗ型の断面を有する形状の基板集合体に成形する工程と、前記基板集合体の表裏面の一方の面上に発光素子を取り付け、該一方の面上に形成した前記電極パターンに電気的に接続し、他方の面上に前記基板集合体の基板を挟んで対向するように受光素子を取付け、該他方の面上に形成した前記電極パターンに電気的に接続する工程と、前記略Ｗ型の断面を有する基板集合体により仕切られる上下の空間のそれぞれに合成樹脂を充填して前記発光素子および受光素子を封止して保護部材および溝を同時に形成する工程と、保護部材形成後に前記基板集合体をカットして各フォトカプラに分離する工程とからなる製造方法により表面実装型フォトカプラを製造することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上記課題を解決するための第６の手段として本発明は、透光性を有する基板シートの表裏面上にそれぞれ電極パターン及び半田電極端子を形成する工程と、前記基板シートを略Ｗ型の断面を有する形状の基板集合体に成形する工程と、前記基板集合体の表裏面の一方の面上に発光素子を取り付け、該一方の面上に形成した前記電極パターンに電気的に接続し、他方の面上に前記基板集合体の基板を挟んで対向するように受光素子を取付け、該他方の面上に形成した前記電極パターンに電気的に接続する工程と、前記略Ｗ型の断面を有する基板集合体により仕切られる上下の空間のそれぞれに合成樹脂を充填して前記発光素子および受光素子を封止して保護部材を形成する工程と、保護部材形成後に溝加工により該保護部材に溝を形成し更に前記基板集合体をカットして各フォトカプラに分離する工程とからなる製造方法により表面実装型フォトカプラを製造することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
上記課題を解決するための第７の手段として本発明は、前記第１乃至第４の手段のいずれかの表面実装型フォトカプラの実装方法において、接続用電極を備えたマザーボードの上にフォトカプラを載置し、前記マザーボードの表面と表面実装型フォトカプラの側面部に配した基板の外面とが交差して仕切られる空間に半田を配置して溶融し、該空間のコーナー部に半田を溶融・保持することにより、表面実装型フォトカプラの外部電極端子とマザーボードの前記接続用電極を接合することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月10日(2008.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組成物を吐出するノズル孔、および前記組成物を前記ノズル孔から吐出させるための加圧手段を備えた加圧室を有するノズル部と、
前記ノズル部の底面に前記組成物を供給する手段とを有し、
前記ノズル部の底面は前記組成物によって覆われていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記ノズル部に流路を設け、
前記流路を介して前記ノズル部の底面に前記組成物を供給することによって、前記ノズル部の底面が前記組成物で覆われることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記流路は、前記ノズル部の底面への前記組成物の供給、および前記ノズル部の底面からの前記組成物の吸引を制御する手段を備えていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項４】
線状に配置された組成物を吐出する複数のノズル孔、および前記組成物を前記複数のノズル孔から吐出させるための加圧手段を備えた複数の加圧室を有するノズル部と、
前記ノズル部の底面に前記組成物を供給する手段とを有し、
前記ノズル部の底面は前記組成物によって覆われていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項５】
請求項４において、
前記ノズル部に複数の流路を設け、
前記複数の流路を介して前記ノズル部の底面に前記組成物を供給することによって、前記ノズル部の底面が前記組成物で覆われることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項６】
請求項５において、
前記複数の流路は、線状に配置された前記複数のノズル孔の間にそれぞれ設けられていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項７】
請求項５または請求項６において、
前記複数の流路は、それぞれ前記ノズル部の底面への前記組成物の供給、および前記ノズル部の底面からの前記組成物の吸引を制御する手段を備えていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７において、
前記ノズル部の底面は、親液処理されていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項９】
組成物を吐出するノズル孔、および前記組成物を前記ノズル孔から吐出させるための加圧手段を備えた加圧室を有するノズル部と、
前記ノズル孔に前記組成物を供給する手段とを有し、
前記組成物を供給する手段によって、前記ノズル孔内の組成物が入れ替わることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１０】
請求項９において、
前記ノズル孔の側壁にそれぞれ連結された第１の流路、および第２の流路を設け、
前記第１の流路を介して前記ノズル孔に前記組成物が供給され、且つ前記第２の流路を介して前記ノズル孔から前記組成物が吸引されることによって、前記ノズル孔内の組成物が入れ替わることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１１】
請求項１０において、
前記ノズル孔と前記第１の流路との連結部、および前記ノズル孔と前記第２の流路との連結部に開閉弁が設けられていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１２】
線状に配置された組成物を吐出する複数のノズル孔、および前記組成物を前記複数のノズル孔から吐出させるための加圧手段を備えた複数の加圧室を有するノズル部と、
前記複数のノズル孔に前記組成物を供給する手段とを有し、
前記組成物を供給する手段によって、前記複数のノズル孔内の組成物が入れ替わることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１３】
請求項１２において、
前記複数のノズル孔同士を連結させる流路を設け、前記複数のノズル孔と前記流路との間で前記組成物の授受が行われることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１４】
請求項１３において、
前記流路は、前記複数のノズル孔への前記組成物の供給、および前記複数のノズル孔からの前記組成物の吸引を制御する手段を備えていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１５】
組成物を吐出するノズル孔、および前記組成物を前記ノズル孔から吐出させるための加圧手段を備えた加圧室を有するノズル部と、
前記加圧室に前記組成物を供給する手段とを有し、
前記組成物を供給する手段によって、前記加圧室内の組成物が入れ替わることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１６】
請求項１５において、
前記加圧室の側壁の異なる２カ所に前記組成物を循環させるための循環流路を設け、
前記加圧室、および前記循環流路を前記組成物が流動することによって、前記加圧室内の組成物が入れ替わることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１７】
請求項１６において、
前記循環流路に前記組成物を流動させるための加圧手段が備えられていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１８】
請求項１６または請求項１７において、
前記加圧室と前記循環流路との連結部に開閉弁が設けられていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１９】
請求項１６乃至請求項１８において、
前記循環流路に外部から前記組成物を供給するための手段が設けられていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２０】
組成物を吐出するノズル孔、および前記組成物を前記ノズル孔から吐出させるための加圧手段を備えた加圧室を有するノズル部と、
前記ノズル部の底面に前記組成物を供給する手段と、
蒸気を供給する手段とを有し、
前記蒸気を供給する手段は、前記組成物の溶媒の蒸気を前記ノズル孔に供給することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２１】
組成物を吐出するノズル孔、および前記組成物を前記ノズル孔から吐出させるための加圧手段を備えた加圧室を有するノズル部と、前記ノズル部に液体抵抗部を介して連結された予備液室と、前記予備液室に連結された液室流路と、を有する液滴吐出手段と、
前記液滴吐出手段を振動させる振動手段とを有し、
前記加圧手段、および前記振動手段により前記液滴吐出手段内の組成物を振動させることを特徴とする液滴吐出装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月22日(2008.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
応力腐食割れを受けやすい領域において第１の金属を第２の金属の表面に接合する金属接合方法であって、
前記第１の金属を前記第２の金属の表面に溶接するのに先立って前記領域における又は該領域に隣接する前記第１の金属にＳＣＣ耐性貴金属クラッディング（４）を施工する段階を含み、  前記溶接が、貴金属を含有する溶加材を用いて行われ、前記貴金属が、およそ１重量％又はそれ以下の量で前記溶加材内に存在することを特徴とする金属接合方法。
【請求項２】
前記第１及び第２の金属が原子炉の内部に設けられる、請求項１記載の金属接合方法。
【請求項３】
前記貴金属が、パラジウム、白金、ロジウム及びその組合せからなる群から選ばれる、請求項４記載の金属接合方法。
【請求項４】
前記貴金属が、約０．２５〜０．７５重量％の量で前記溶加材内に存在する、請求項６記載の金属接合方法。
【請求項５】
前記溶接が、主としてオーステナイト系ステンレス鋼内にデルタ・フェライトの微細ミクロ組織を形成するのに十分な短時間で行われる、請求項１記載の金属接合方法。
【請求項６】
応力腐食割れを受けやすい領域において第１の金属を第２の金属の表面に接合する方法であって、前記金属を互いに溶接するのに先立って前記金属に貴金属含有表面クラッディングを施工する段階を含み、  前記溶接が、貴金属を含有する溶加材を用いて行われ、前記貴金属が、およそ１重量％又はそれ以下の量で前記溶加材内に存在することを特徴とする金属接合方法。
【請求項７】
応力腐食割れを受けやすい領域において第１の金属を第２の金属の表面に接合する方法であって、前記金属を互いに溶接するのに先立って前記金属に貴金属含有端縁部バタリングを施工する段階を含み、  前記溶接が、貴金属を含有する溶加材を用いて行われ、前記貴金属が、およそ１重量％又はそれ以下の量で前記溶加材内に存在することを特徴とする金属接合方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
ある種のオーステナイト系ミクロ組織ステンレス鋼又はニッケル合金の融接溶着物又はそれらの隣接ＨＡＺは、プラント操業中に沸騰水型原子炉（ＢＷＲ）に存在するような高温の酸素含有水環境に曝されたとき、応力腐食割れ破壊を受けやすいことが知られている。（本明細書で用いる文脈において、「融接」という用語は、溶加材を使用する場合、溶加材のベース金属の幾らかの部分が溶融するような任意の溶接部又は溶接プロセスを意味する）。ＳＣＣを防止又は補修する現行の方法は、従来の溶接継手自体が破損するのを防止するための市販溶接合金を選択すること、従来の溶接継手の最終層を市販グレードのＳＣＣ耐性合金で被覆すること、従来の溶接継手自体で発生したＨＡＺを市販グレード合金で溶接クラッディングすること、及び市販グレード合金、クラッディング或いは割れ又は他の欠陥を除去した非溶接基体を含む溶接継手の一部分を再溶接することを含む。これらの方法の全て及びその変形方法は、実動中に腐食性水環境に曝される状態になる接合部の端縁部に（又は拡張した溶接被覆／クラッディングの端縁部に）置き換わった熱影響部を残したままであり、従ってＳＣＣを受けやすい、置き換わったＨＡＺを依然として残している。加えて、新たに溶着した溶接材料自体が、長期間の実動中に、特に高電気化学電位（ＥＣＰ）又は高中性子束の領域においてまた特に市販合金が基材組成物によってより希釈された溶接端縁部ビードにおいて割れを防止するのに十分なＳＣＣ耐性を有していない可能性がある。ＳＣＣ及び他の欠陥は、プラント寿命の間に容器内部構成要素表面又は配管に見られる場合が多い。そのような欠陥は、影響を受けた構成要素を補修又は交換しない状態での継続プラント操業の場合に、許容不能な状態にまで成長する可能性がある。
【特許文献１】米国特許第３，４５７，５３９号  公開年月１９６９年７月
【特許文献２】米国特許第５，２２７，２５０号  公開年月１９９３年７月
【特許文献３】米国特許公開第２００３−１２１９５６号  公開年月２００７年１月
【特許文献４】米国特許第４，４０９，４６６号  公開年月１９８３年１０月
【特許文献５】米国特許公開第２００５−１１７６８４号  公開年月２００６年１月
【特許文献６】米国特許第３，３５５，７９６号  公開年月１９８７年１２月
【特許文献７】米国特許第６，６９９，５９３号  公開年月２００３年１月
【特許文献８】米国特許第４，４１７，１１９号  公開年月１９８３年１１月
【特許文献９】米国特許第５，４４２，２３９号  公開年月１９９５年８月
【特許文献１０】米国特許第５，７１４，７３５号  公開年月１９９８年２月
【特許文献１１】フランス国特許公開２３０８４５８号  公開年月１９７６年１２月
【特許文献１２】日本特許公開昭５４―０６７８８０号  公開年月１９７９年５月
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月14日(2007.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コアにフィルムが捲回されたフィルム捲回物の幅方向の膜厚み情報と、フィルム捲回物をスリットして得られる複数のスリットロールの総外径情報とを比較した情報をもとに、フィルム捲回物の最適スリット条件を決定し、それに基づいてスリットすることを特徴とするスリットロールの製造方法。
【請求項２】
前記総外径情報が、前記フィルム捲回物の膜厚み情報に対応するように各スリットロールの位置関係を一致させるために算出処理したものであることを特徴とする請求項１に記載のスリットロールの製造方法。
【請求項３】
前記コアの精度が公差０．５ｍｍ以内であることを特徴とする請求項１又は２に記載のスリットロールの製造方法。
【請求項４】
複数のスリットロールの外径を測定するための光学式寸法測定手段と、測定結果を算出判定する信号処理部と、信号処理部で算出された結果を出力する出力部とを有することを特徴とするスリットロール外径測定装置。
【請求項５】
さらに、複数のスリットロールの連続測定データからスリットロールの間隙の測定データを削除する算出処理部を備えることを特徴とする請求項４に記載のスリットロール外径測定装置。
【請求項６】
前記光学式寸法測定手段が、投光機と受光機とを有することを特徴とする請求項４又は５に記載のスリットロール外径測定装置。
【請求項７】
径の異なる複数のスリットロールの外径が同時に測定される請求項４、５、又は６に記載のスリットロール外径測定装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
すなわち本発明は以下の通りである。
（１）コアにフィルムが捲回されたフィルム捲回物の幅方向の膜厚み情報と、フィルム捲回物をスリットして得られる複数のスリットロールの総外径情報とを比較した情報をもとに、フィルム捲回物の最適スリット条件を決定し、それに基づいてスリットすることを特徴とするスリットロールの製造方法。
（２）前記総外径情報が、前記フィルム捲回物の膜厚み情報に対応するように各スリットロールの位置関係を一致させるために算出処理したものであることを特徴とする（１）に記載のスリットロールの製造方法。
（３）前記コアの精度が公差０．５ｍｍ以内であることを特徴とする（１）又は（２）に記載のスリットロールの製造方法。
（４）複数のスリットロールの外径を測定するための光学式寸法測定手段と、測定結果を算出判定する信号処理部と、信号処理部で算出された結果を出力する出力部とを有することを特徴とするスリットロール外径測定装置。
（５）さらに、複数のスリットロールの連続測定データからスリットロールの間隙の測定データを削除する算出処理部を備えることを特徴とする（４）に記載のスリットロール外径測定装置。
（６）前記光学式寸法測定手段が、投光機と受光機とを有することを特徴とする（４）又は（５）に記載のスリットロール外径測定装置。
（７）径の異なる複数のスリットロールの外径が同時に測定される（４）、（５）、又は（６）に記載のスリットロール外径測定装置。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年9月16日(2008.9.16)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ストライプ状に配列された複数の放射状突起からなる複数の第１突起をその上に設けた第１基板と、
前記複数の第１突起と交錯して配置されたストライプ状突起である複数の第２突起をその上に設けた第２基板と、
前記第１基板及び第２基板の間に位置する液晶層と、
を備え、
前記複数のストライプ状突起はＶ字型を呈して配列されており、前記複数の放射状突起の配列方向は、前記複数のストライプ状突起と平行であり、Ｖ字型を呈する配列であることを特徴とするＭＶＡ型液晶表示器。
【請求項２】
前記ストライプ状突起が設けられた前記第２基板上に設けられ、隣合う二つの前記放射状突起同士の間の隙間に対応して設けられた円形スリット若しくは突起を更に備えることを特徴とする請求項１に記載のＭＶＡ型液晶表示器。
【請求項３】
前記ストライプ状突起が設けられた前記第２基板上に設けられ、隣合う二つの前記放射状突起同士の間の隙間に対応して設けられた線形スリット若しくは突起をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のＭＶＡ型液晶表示器。
【請求項４】
前記放射状突起がＸ形突起であることを特徴とする請求項１に記載のＭＶＡ型液晶表示器。
【請求項５】
前記第１基板と前記第２基板のうちいずれか一方がカラーフィルタ基板であり、他方が薄膜トランジスタアレイ基板であることを特徴とする請求項１に記載のＭＶＡ型液晶表示器。
【請求項６】
ストライプ状に配列された複数の放射状スリットからなる複数の第１スリットを有する第１電極膜を備える第１基板と、
前記複数の第１スリットと交錯して配置された複数の第２スリットを備えた第２電極膜を備える第２基板と、
前記第１基板及び第２基板の間に位置する液晶層と、
を備え、
前記複数のストライプ状スリットはＶ字型を呈して配列されており、前記複数の放射状スリットの配列方向は、前記複数のストライプ状スリットと平行であり、Ｖ字型を呈する配列であることを特徴とするＭＶＡ型液晶表示器。
【請求項７】
前記スリットがある前記第２基板上に設けられ、隣合う二つの前記放射状スリット同士の間の隙間に対応して設けられた円形スリット若しくは突起を更に備える請求項６に記載のＭＶＡ型液晶表示器。
【請求項８】
前記スリットのある前記第２基板上に設けられ、隣合う二つの前記放射状スリット同士の間の隙間に対応して設けられた線形スリット若しくは突起をさらに備えることを特徴とする請求項６に記載のＭＶＡ型液晶表示器。
【請求項９】
前記放射状スリットがＸ形スリットであることを特徴とする請求項６に記載のＭＶＡ型液晶表示器。
【請求項１０】
前記第１基板及び第２基板のうちいずれか一方がカラーフィルタ基板で、他方が薄膜トランジスタアレイ基板であることを特徴とする請求項６に記載のＭＶＡ型液晶表示器。
【請求項１１】
ストライプ状に配列された複数の放射状突起からなる複数の突起が設けられた第１基板と、
前記複数の突起と交錯して配置された複数のスリットを有する電極膜をその上に備える第２基板と、
前記第１基板及び第２基板の間に位置する液晶層と、
を備え、
前記複数のストライプ状スリットはＶ字型を呈して配列されており、前記複数の放射状突起の配列方向は、前記複数のストライプ状スリットと平行であり、Ｖ字型を呈する配列であることを特徴とするＭＶＡ型液晶表示器。
【請求項１２】
前記スリットのある第２基板上に設けられ、隣合う二つの放射状突起同士の間の隙間に対応して設けられた円形スリット若しくは突起を更に備えることを特徴とする請求項１１に記載のＭＶＡ型液晶表示器。
【請求項１３】
前記スリットのある第２基板上に設けられ、隣合う二つの放射状突起同士の間の隙間に対応して設けられた線形スリット若しくは突起を更に備えることを特徴とする請求項１１に記載のＭＶＡ型液晶表示器。
【請求項１４】
前記放射状突起がＸ形突起であることを特徴とする請求項１１に記載のＭＶＡ型液晶表示器。
【請求項１５】
前記第１基板及び前記第２基板のうちいずれか一方がカラーフィルタ基板であり、他方が薄膜トランジスタアレイ基板であることを特徴とする請求項１１に記載のＭＶＡ型液晶表示器。
【請求項１６】
ストライプ状に配列された複数の放射状スリットからなる複数のスリットを有する電極膜を備えた第１基板と、
前記複数のスリットと交錯して配置された複数のストライプ状突起を有する第２基板と、
前記第１基板及び第２基板の間に位置する液晶層と、
を備え、
前記複数のストライプ状突起はＶ字型を呈して配列されており、前記複数の放射状スリットの配列方向は、前記複数のストライプ状突起と平行であり、Ｖ字型を呈する配列であることを特徴とするＭＶＡ型液晶表示器。
【請求項１７】
前記複数のストライプ状突起のある第２基板上に設けられ、隣合う二つの放射状スリット同士の間の隙間に対応して設けられた円形スリット若しくは突起を更に備えることを特徴とする請求項１６に記載のＭＶＡ型液晶表示器。
【請求項１８】
前記ストライプ状突起のある第２基板上に設けられ、隣合う二つの放射状スリット同士の間の隙間に対応して設けられた線形スリット若しくは突起を更に備えることを特徴とする請求項１６に記載のＭＶＡ型液晶表示器。
【請求項１９】
前記放射状スリットがＸ形スリットであることを特徴とする請求項１６に記載のＭＶＡ型液晶表示器。
【請求項２０】
前記第１基板及び第２基板のうちいずれか一方がカラーフィルタ基板であり、他方が薄膜トランジスタアレイ基板であることを特徴とする請求項１６に記載のＭＶＡ型液晶表示器。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月10日(2008.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
収納空間２０は、図７中の収納空間２０Ｂまで拡張して設定することもできるが、記録用紙１０はロール状に湾曲した形状であるため、前記した収納空間２０Ａの外側にはみ出して収納空間２０Ｂに収納されることは少ない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
図７に示す状態では、ロール紙２ａの残量が多いため、ロール紙２ａの径は大きい、一方、図８に示す状態では、ロール紙２ａの残量が少ないため、ロール紙２ａの径は小さい。そのため、ロール紙ホルダ２の外周部として、ロール紙２ａの外周部分を含めた場合には、ロール紙の径の変化に伴って、記録用紙収納部１２の収納空間２０が変化する。図７，図８に示す状態において、ロール紙２ａの外周部分を含めた収納空間２０Ｃ，２０Ｄは、ロール紙ホルダ２の外周自体で定まる収納空間２０Ａよりも、送り出された記録用紙の分だけ広くなる。また、記録用紙の残量が少ないときの収納空間２０Ｄは、記録用紙の残量が多いときの収納空間２０Ｃよりも、残量の相違分だけ収納空間が広くなる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
Ｓ１６の工程が終了した時点では、記録用紙はロール紙ホルダに巻き戻された状態にあり、また、フラッパ板は下げた状態にある。この状態から、ロール紙ホルダから記録用紙を送り出すと、印刷が終了した記録用紙が排出口から送り出される（図１４（ｉ））（Ｓ１８）。このとき、記録用紙が送り出された所定位置で記録用紙を切断する。この切断によって、印刷された所定長の記録用紙がプリンタから排出される（Ｓ１９）。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2008068577.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月18日(2008.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一つの槽内に、異なる速度にて回転させることができる複数の攪拌羽根を備え、一つの槽内で急速攪拌と緩速攪拌を同時に行えるように構成し、
底部が上下方向へ移動可能なように構成することによって、容量を変更できるように構成したことを特徴とするフロキュレータ。
【請求項２】
複数の処理原液の流出口が上下方向に並列して設けられ、前記底部の位置に応じて適宜選択された一つの流出口から処理原液が排出されるように構成したことを特徴とする、請求項１に記載のフロキュレータ。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月11日(2008.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
また、図３において、３２は射出成形機Ｍに備えるコントローラであり、格納した制御プログラム３２ｐにより本実施形態に係る異常監視方法における一連の制御（シーケンス制御）を実行することができる。一方、コントローラ３２には、上述したサーボモータ５，２８及びロータリエンコーダ６，３１をそれぞれ接続するとともに、ロータリブロック１９とスライドブロック１７間に介在させたロードセル（圧力検出器）３３を接続する。このロードセル３３によりスクリュ３が受ける圧力（樹脂圧）を検出することができる。さらに、コントローラ３２には、液晶表示器等を用いたディスプレイ７を接続する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
そして、スクリュ３が予め設定した計量終了位置Ｘｍまで後退することにより計量主処理工程Ｓａが終了する（ステップＳ２２）。図４（ｂ）は計量終了位置Ｘｍにおけるスクリュ３の状態を示している。この状態では、リングバルブ２に対してフライト３ｆ側の樹脂圧Ｐｆがスクリュヘッド３ｈ側の樹脂圧Ｐｈよりも相対的に高い状態、即ち、Ｐｈ＜Ｐｆの状態にある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
また、コントローラ３２は、スクリュ３の前進移動の開始と同時に計時を開始するとともに、スクリュ３の受動回転による回転状態の監視（回転検出）を開始する（ステップＳ２３）。この場合、図４（ｃ）に示すように、スクリュ３の前進移動により、スクリュヘッド３ｈ側の溶融樹脂がフライト３ｆ側（矢印Ｆｒ方向）に逆流するとともに、この逆流によりスクリュ３は正回転に対して逆方向（矢印Ｒｒｓ方向）に受動回転する。したがって、この状態では、リングバルブ２に対してスクリュヘッド３ｈ側の樹脂圧Ｐｈがフライト３ｆ側の樹脂圧Ｐｆよりも相対的に高くなり、Ｐｆ＜Ｐｈの関係になる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
ところで、スクリュ３の逆回転時には、スクリュ３の前後方向位置が固定されることから、図４（ｄ）に示すように、溶融樹脂に対して後方（矢印Ｆｉ方向）への圧力が付与される。この場合、スクリュ３を逆回転させる直前では、リングバルブ２に対してスクリュヘッド３ｈ側の樹脂圧Ｐｈがフライト３ｆ側の樹脂圧Ｐｆよりも相対的に高い状態、即ち、Ｐｆ＜Ｐｈの状態にあるため、スクリュ３を逆回転させた後は、リングバルブ２に対してスクリュヘッド３ｈ側の樹脂圧Ｐｈがフライト３ｆ側の樹脂圧Ｐｆよりも更に高い状態、即ち、Ｐｆ≪Ｐｈの状態になる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
図４（ｅ）は、このようなサックバック処理を行った後におけるスクリュ３の状態を示し、リングバルブ２に対してスクリュヘッド３ｈ側の樹脂圧Ｐｈがフライト３ｆ側の樹脂圧Ｐｆよりも相対的にやや高い状態かほぼ同じ状態、即ち、Ｐｆ＜Ｐｈの状態かＰｆ≒Ｐｈの状態にある。したがって、サックバック処理を行っても、サックバック処理の前に、リングバルブ２に対して前方（スクリュヘッド３ｈ側）の樹脂圧Ｐｈを後方（フライト３ｆ側）の樹脂圧Ｐｆよりも常に高くした状態でリングバルブ２を閉鎖できるため、この後のサックバック処理によりリングバルブ２が再度開いてしまう弊害を排除できる。これにより、射出開始の前にリングバルブ２を安定に閉鎖することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月7日(2008.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３Ｄモデルの出力の処理が選択されたことを判断する判断手段と、
前記３Ｄモデルのデータの画像処理が設定されたモードを前記３Ｄモデルの出力の処理に対応してそれぞれ記憶する記憶手段と、
前記記憶手段によって記憶されたモードのうち、前記判断手段による３Ｄモデルの出力の処理の選択に対応するモードを設定する設定手段とを有することを特徴とする３ＤＣＡＤ装置。
【請求項２】
請求項１において、前記画像処理は、前記３Ｄモデルの面の色相、明度、彩度、前記３Ｄモデルの稜線の色、背景色、およびグラデーションの有無のうち少なくとも１つの画像処理を含むことを有することを特徴とする３ＤＣＡＤ装置。
【請求項３】
請求項１において、前記判断手段によって投影装置による出力の処理であることが判断された場合、前記設定手段は、前記３Ｄモデルの面の彩度を高くするモードに設定することを特徴とする３ＤＣＡＤ装置。
【請求項４】
請求項１において、前記判断手段によってプリンタによる出力の処理であることが判断された場合、前記設定手段は、前記３Ｄモデルの面のグラデーション処理が実行されるモードに設定することを特徴とする３ＤＣＡＤ装置。
【請求項５】
３Ｄモデルの出力の処理が選択されたことを判断する判断ステップと、
前記３Ｄモデルの出力の処理に対応して前記３Ｄモデルのデータの画像処理が設定されたモードが記憶されたテーブルの中から、前記判断ステップにおいて判断された３Ｄモデルの出力の処理に対応するモードに設定する設定ステップとを有することを特徴とする３Ｄモデルの出力方法。
【請求項６】
請求項５において、前記画像処理は、前記３Ｄモデルの面の色相、明度、彩度、前記３Ｄモデルの稜線の色、背景色、およびグラデーションの有無のうち少なくとも１つの画像処理を含むことを有することを特徴とする３Ｄモデルの出力方法。
【請求項７】
請求項５において、投影装置による出力の処理が選択された場合、前記３Ｄモデルの面の彩度を高くするモードに設定することを特徴とする３Ｄモデルの出力方法。
【請求項８】
請求項５において、プリンタによる出力の処理が選択された場合、前記３Ｄモデルの面のグラデーション処理が実行されるモードに設定することを特徴とする３Ｄモデルの出力方法。
【請求項９】
請求項５ないし請求項８に記載の３Ｄモデルの出力方法を実行するためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
３Ｄモデルの出力の処理が選択されたことを判断する判断手段と、前記３Ｄモデルのデータの画像処理が設定されたモードを前記３Ｄモデルの出力の処理に対応してそれぞれ記憶する記憶手段と、前記記憶手段によって記憶されたモードのうち、前記判断手段による３Ｄモデルの出力の処理の選択に対応するモードを設定する設定手段とを有することを特徴とする３ＤＣＡＤ装置を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月11日(2008.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
頂壁１１は、その周縁部５６が側壁１３，１４，１５，１６の頂縁部５３に着脱可能に嵌め込まれている。頂壁１１の中央部５４には、ウェットティッシュ１９の一枚ずつを引っ張り出すことが可能な横方向へ長い開口３８が形成されている。蓋１７は、その内面へ屈曲する突縁５５と、その前側中央部に位置する凹部５５ａと、前端上面に指掛け部１７Ａとを有する。蓋１７が閉じられたとき、凹部５５ａと係合する突起５６ａが頂壁１１の周縁部５６の内側に形成されている。頂壁１１には、開口３８から露出するティッシュ１９の部分１９Ａを蓋１７のヒンジ３４の側へ向かって倒伏させる弾性的に撓み可能なフラップ４０が取り付けられている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
蓋１７は、頂壁１１の周縁部５６に連接されたヒンジ３４を介して前後方向へ揺動可能である。図６の状態から蓋１７を前方へ揺動させると、突起５６ａが凹部５５ａに係合し、蓋１７を閉じた状態が維持される。閉じた状態にある蓋１７を後方へ揺動させると、突起５６ａと凹部５５ａとの係合が解かれ、蓋１７を開けることができる。蓋１７は、開口３８と開口３８を囲繞する開口周縁部４１とを覆うことが可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月6日(2008.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
図１に示した設備は、切込ステーション４５、切断ステーション４６、およびデフレクション・プーリー５０上を走行する、支持体である循環式の搬送ベルト４９を備える。デフレクション・プーリー５０の少なくとも一つは駆動源によって駆動される。一方では、搬送ベルト４９は加工されるガラス板の支持表面４８として機能する。他方では搬送ベルト４９の上面はＹ方向に移動可能であり、ガラス板を切込ステーション４５から切断ステーション４６へ移送し、最終的には切断されたガラス片を切断ステーション４６から次の集合容器８４へ移送する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
切断ステーション４６は、ガラス板の表側に沿って移動可能な第１の切断ボディー７１と、ガラス板の裏側に沿って移動可能な第２の切断ボディー７２とを含む切断装置を備える。第１の切断ボディー７１は、Ｙ方向に移動可能なブリッジ７３上でＸ方向および垂直Ｚ方向に移動可能に取り付けられている。アーム７４が固定された垂直の柱７９を有するクロスビーム７８が、ｙ正方向に移動する搬送ベルト４９の上方の部分とｙ負方向に移動する下方の部分の間に位置づけされる。アーム７４は柱７９を中心に回転可能で、第２の切断ボディー７２は図１の双方向矢印７５によって示されるようにアーム７４に沿って変位可能に設けられている。第２の切断ボディー７２は、従ってアーム７４に沿って、およびアーム７４の回転によって、またはそのどちらかによって移動し、ｘｙ平面内で変位可能である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
切断ステーションは、切断工程の間中ガラス板を保持する保持手段７７をさらに備える。図１に示された実施形態では、保持手段７７は柱７９に一体化された形をとる吸着装置である。吸着装置７７は、搬送ベルト４９の開口７６を通して設置可能であり、ガラス板の下面に付着配置される。搬送ベルト４９は開口５１が吸着装置７７の真上に位置するように移動可能なので、開口７６は省略されても良い。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
さらに、保持手段７７は、ガラス板に固定されるのに適したいくつかの吸着装置および穴抜き設計された搬送ベルト４９、またはそのいずれかを備えても良く、それらによって、真空を作り出し、ガラス板を搬送ベルト４９に堅固に保持するようにしても良い。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
搬送ベルト４９は二つの切断ボディー７１，７２の間に延在しガラス板９０に対する支持体４９を形成する。搬送ベルト４９は、一方では大きく垂れ下がることなくガラス板９０の重量を支え、もう一方ではガラス板の表面に圧力が印加された時には追随して撓むように選択された可撓性材料からなる（図２〜図４による以下の説明を参照のこと）。搬送ベルト４９に適した材料は、上質の弾力性を持つ樹脂材料もしくは布製のベルトであり、より具体的には樹脂繊維からなる布地ベルトである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
搬送ベルト４９は次いでけがき線のついたガラス板９０を切断ステーション４６へ移動し、そこで保持手段７７により位置決め保持される。第２の切断ボディー７２は、図２にあるように、切断ボディー７２の接触点９８ａが縁部９４上に位置され、けがき線９１からわずかにずれるように搬送ベルト４９の下側にあてがわれる。図３にあるように、第１の切断ボディー７１は、ガラス板９０の上側、ガラス板の端９５近傍に、第２の切断ボディー７２からは水平にずれて配置される。第１の切断ボディー７１の接触点９７ａと第２の切断ボディー７２の接触点９８ａは、けがき線９１に沿って延び、かつ切断を伝播させるような曲げ応力の生成が可能となるように選定される。切断ボディーの一つがローラーの形をとる場合には、ローラーは支持体の下側もしくはガラス板表面９０ａに単一の点ではなく線に沿って接触することに留意されたい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
切断ボディー７１，７２がそれぞれガラス板９０と搬送ベルト４９に接触すると、第１の切断ボディー７１はガラス表面９０ａに対して所定の力、または所定のストロークで押し付けられ、二つの切断ボディー７１，７２は同期手段を用いることによって、同時にけがき線９１に沿って変位する。図４に点線９９ａおよび１００ａによって示されているように二つの切断ボディー７１，７２の変位進路は基本的にけがき線９１に対して平行である。二つの切断ボディー７１，７２はお互いに水平方向にずれているので、端部９４上に、ある一定量のモーメントが印加され、切断が引き起こされる。その間、ガラス板９０の下側９０ｂが載置している搬送ベルト４９の弾性によって端部９４が十分に下方に押され、けがき線９１が開かれることを確実にしている。一方では、ガラス板９０は搬送ベルト４９によって十分に支えられていて、特に縁部９４ａがちぎり離されることを防ぎ、けがき線に沿って正確に切断されることを確実にしている。二つの切断ボディー７１，７２の比較的小さな変位９９ａ，１００ａでも次の補助けがき線９２ｂまで切断が伝播することが見出されている。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月29日(2008.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（２）
【化１】
2006117628.tif 000001
［式中、Ｘ1及びＸ2は、それぞれ塩素原子又は臭素原子を示す。］
で表される４−ニトロイミダゾール化合物をヨウ素化し、次いで得られる一般式（３）
【化２】
2006117628.tif 000002
［式中、Ｘ2は前記に同じ。］
で表される５−ヨード−４−ニトロイミダゾール化合物を還元する、一般式（１）
【化３】
2006117628.tif 000003
［式中Ｘ2は前記に同じ。］
で表される４−ニトロイミダゾール化合物の製造法。
【請求項２】
一般式（２）で表される４−ニトロイミダゾール化合物のヨウ素化に使用されるヨウ素化剤が、ハロゲン分子、ヨウ化水素酸及びヨウ化水素酸の金属塩からなる群から選ばれた少なくとも１種である請求項１に記載の製造法。
【請求項３】
ヨウ化水素酸の金属塩がヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化マグネシウム及びヨウ化アルミニウムからなる群から選ばれた少なくとも１種である請求項２に記載の製造法。
【請求項４】
ヨウ化水素酸の金属塩がヨウ化ナトリウムである請求項２に記載の製造法。
【請求項５】
一般式（２）で表される４−ニトロイミダゾール化合物１モルに対して、ヨウ素化剤を５〜１５モル使用する請求項１に記載の製造法。
【請求項６】
一般式（２）で表される４−ニトロイミダゾール化合物１モルに対して、ヨウ化ナトリウムを１．５〜１５モル使用する請求項４に記載の製造法。
【請求項７】
一般式（２）で表される４−ニトロイミダゾール化合物のヨウ素化を相間移動触媒の存在下に行う請求項１に記載の製造法。
【請求項８】
相間移動触媒が、第４級アンモニウム塩、ホスホニウム塩及びピリジニウム塩からなる群から選ばれた少なくとも１種である請求項７に記載の製造法。
【請求項９】
一般式（２）で表される４−ニトロイミダゾール化合物１モルに対して、相間移動触媒を０．０１〜１モル使用する請求項７に記載の製造法。
【請求項１０】
一般式（３）で表される５−ヨード−４−ニトロイミダゾール化合物の還元を、還元剤の存在下に行う請求項１に記載の製造法。
【請求項１１】
還元剤が、水素化還元剤である請求項１０に記載の製造法。
【請求項１２】
一般式（３）で表される５−ヨード−４−ニトロイミダゾール化合物１モルに対して、水素化還元剤を１〜１０モル使用する請求項１１に記載の製造法。
【請求項１３】
還元剤が、接触水素還元剤である請求項１０に記載の製造法。
【請求項１４】
一般式（３）で表される５−ヨード−４−ニトロイミダゾール化合物に対して、接触水素還元剤を０．１〜４０重量％使用する請求項１３に記載の製造法。
【請求項１５】
一般式（３）で表される５−ヨード−４−ニトロイミダゾール化合物の還元を、アミンの存在下に行う請求項１３に記載の製造法。
【請求項１６】
アミンが、トリメチルアミン、トリエチルアミン及びＮ−エチルジイソプロピルアミンからなる群から選ばれた少なくとも１種である請求項１５に記載の製造法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月17日(2008.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
適当な触媒は、好ましくは、ニッケル触媒単独、並びにニッケル（ラネーニッケルも含む）と他の金属との混合物である。前記の他の金属としては、例えば、パラジウム、白金、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、レニウム、クロム、モリブデン、銅（ラネー銅も含む）またはビスマスなどが挙げられる。前記混合物は、不均一系でもよいし、または触媒表面へのドーパントでもよい。担体材料は特に制限はない。適当な担体材料は、例えば、アルミナ及び他の金属酸化物、炭素、ケイ藻土、二酸化ケイ素、炭化ケイ素、ゼオライト及びこれらの類似物などである。好ましくは、ラネーニッケルと、活性炭に担持させたパラジウムとの混合物が使用される。触媒の使用量は広い範囲で変えることができる。通常は、式（Ｉ）の化合物の使用量を基準にして０．２〜１５重量％、好ましくは０．５〜１０重量％の触媒が存在するように、十分な触媒が使用される。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月29日(2008.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＨＭＧ−ＣｏＡリダクターゼ阻害剤とグルタチオンとを含有する医薬組成物。
【請求項２】
ＨＭＧ−ＣｏＡリダクターゼ阻害剤が、プラバスタチン、ロバスタチン、シンバスタチン
、フルバスタチン、アトルバスタチン、ピタバスタチン及びロスバスタチンからなる群か
ら選ばれる１種又は２種以上である、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
ＨＭＧ−ＣｏＡリダクターゼ阻害剤が、プラバスタチンである、請求項１に記載の医薬組
成物。
【請求項４】
血中ホモシステイン量を低下させるための、請求項１乃至請求項３から選択されるいずれ
か１項に記載の医薬組成物。
【請求項５】
血中ホモシステイン量を維持するための、請求項１乃至請求項３から選択されるいずれか
１項に記載の医薬組成物。
【請求項６】
高ホモシステイン血症を治療又は予防するための、請求項１乃至請求項３から選択される
いずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項７】
高ホモシステイン血症に起因する疾病を治療又は予防するための、請求項１乃至請求項３
から選択されるいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項８】
高ホモシステイン血症に起因する疾病が、動脈硬化、虚血性心疾患、心筋梗塞、血栓症、
末梢血管障害、バージャー病、レイノー病、脳梗塞、脳循環不全、脳血管性痴呆、アルツ
ハイマー病及びパーキンソン病からなる群から選ばれる１種又は２種以上である、請求項
７に記載の医薬組成物。
【請求項９】
高ホモシステイン血症に起因する疾病が、動脈硬化である、請求項７に記載の医薬組成物
。
【請求項１０】
血管内皮細胞の一酸化窒素合成を促進させるための、請求項１乃至請求項３から選択され
るいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
血管内皮細胞由来一酸化窒素の血中濃度を増加させるための、請求項１乃至請求項３から
選択されるいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
血管内皮細胞由来一酸化窒素の血中濃度を維持するための、請求項１乃至請求項３から選
択されるいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
血管内皮細胞由来一酸化窒素の血中濃度の低下に起因する疾病を治療又は予防するための
、請求項１乃至請求項３から選択されるいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
血管内皮細胞由来一酸化窒素の血中濃度の低下に起因する疾病が、高血圧、労作性高血圧
、動脈硬化、虚血性心疾患、心不全、心筋梗塞、血栓症、末梢血管障害、肺高血圧、バー
ジャー病、レイノー病、脳虚血、脳梗塞、脳循環不全、脳血管性痴呆、インポテンツ、妊
娠中毒症、糖尿病からなる群から選ばれる１種又は２種以上である、請求項１３に記載の
医薬組成物。
【請求項１５】
血管内皮細胞由来一酸化窒素の血中濃度の低下に起因する疾病が、動脈硬化である、請求
項１３に記載の医薬組成物。
【請求項１６】
グルタチオンペルオキシダーゼの活性を増加させるための、請求項１乃至請求項３から選
択されるいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１７】
グルタチオンペルオキシダーゼの活性を維持するための、請求項１乃至請求項３から選択
されるいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１８】
グルタチオンペルオキシダーゼの活性の低下に起因する疾病を治療又は予防するための、
請求項１乃至請求項３から選択されるいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１９】
グルタチオンペルオキシダーゼの活性の低下に起因する疾病が、動脈硬化、虚血性心疾患
、虚血性脳疾患、心筋梗塞からなる群から選ばれる１種又は２種以上である、請求項１８
に記載の医薬組成物。
【請求項２０】
グルタチオンペルオキシダーゼの活性の低下に起因する疾病が、動脈硬化である、請求項
１８に記載の医薬組成物。
【請求項２１】
血中ホモシステイン量の低下、血管内皮細胞由来一酸化窒素の血中濃度の増加及びグルタ
チオンペルオキシダーゼの活性の向上を同時に達成するための、請求項１乃至請求項３か
ら選択されるいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項２２】
配合剤であることを特徴とする、請求項１乃至請求項２１に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月17日(2008.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
（式中、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、同一または異なって、Ｃ１〜Ｃ６アルキルおよびＣ３〜Ｃ６シクロアルキルからなる群から選択される部分を表し、
Ｒ９は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキルおよびＣ３〜Ｃ６シクロアルキルからなる群から選択される部分である。）
のいずれかで示される基である。〕
で示される化合物である。該式(III)で示されるブロック剤は、例えば、Organikum、第１９版、Deutscher Verlag der Wissenschaften、ライプチヒ、１９９３年、５２３〜５２５頁に記載されるような、例えば、化合物上の第一級アミンと、活性化炭素-炭素二重結合との反応によって製造できる。この反応において、第一級アミンは、選択的に炭素-炭素二重結合と反応して、第二級の非対称アミンを得る。立体障害第一級アルキルアミン、例えば、sec-ブチルアミン、tert-ブチルアミン、任意にアルキル置換されたシクロヘキシルアミン、イソ-プロピルアミン、シクロプロピルアミン、ペンチル-、ヘキシル-、ヘプチル-、オクチル-およびノニルアミンの分枝状または環状異性体、またはベンジルアミン、および活性化炭素-炭素二重結合を有する化合物、例えば、α,β-不飽和カルボン酸エステル、α,β-不飽和Ｎ,Ｎ-カルボン酸ジアルキルアミド、ニトロアルケン、アルデヒドおよびケトンなど、の上記した反応生成物として解釈され得る物質は、式(III)で示されるブロック剤として好適に使用される。アクリル酸、メタクリル酸およびクロトン酸のアルキルエステル(例えば、メチルメタクリレート、イソノルボルニルメタクリレート、エチルメタクリレート、n-プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、n-ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、２-エチルヘキシルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n-プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、イソノルボルニルアクリレート、n-ブチルアクリレート、tert-ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、２-エチルヘキシルアクリレート、クロトン酸メチルエステル、クロトン酸エチルエステル、クロトン酸プロピルエステルなど)への第一級アミンの付加生成物として解釈される物質は、特に好適に使用される。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月16日(2008.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
有用な不飽和ポリエーテル（メタ）アクリレートは、（2〜6のヒドロキシル官能価を有する）ポリエーテルポリオールとアクリル酸および／またはメタクリル酸とを反応させることによって調製される。適切なポリエーテルポリオールは、ポリウレタンの技術分野で既知のタイプのポリエーテルポリオールであり、一般に、適切な出発分子（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタノール、グリセロール、トリメチロールプロパン、ヘキサンジオール、ペンタエリスリトールなど）とエチレンオキシド、プロピレンオキシドまたはそれらの混合物とを反応させることによって調製される。次いで、ポリエーテルとアクリル酸および／またはメタクリル酸とを反応させる。不飽和（メタ）アクリレートが不飽和ウレタン（メタ）アクリレートを調製するのに用いられる場合、ポリエーテルは、必要なOH価を有する（メタ）アクリレートを生成するように選択され、これらの成分を、生じる不飽和ポリエーテル（メタ）アクリレートが約30〜約500、好ましくは約100〜約400、最も好ましくは約200〜約300のOH価を有するような量で反応させる。不飽和（メタ）アクリレートが成分A）の一部または全てとして用いられる場合、ポリエーテルは、必要なOH価を有する（メタ）アクリレートを生成するように選択され、これらのポリエーテルとアクリル酸（および／またはメタクリル酸）とを、生じる不飽和ポリエーテル（メタ）アクリレートが約30〜約100、好ましくは約30〜約70、最も好ましくは約35〜約65のOH価を有するような量で反応させる。