【手続補正書】
【提出日】平成20年6月25日(2008.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中粘性リアクターおよび高粘性リアクターを包含するポリカーボネート調製のための溶融エステル交換法において、改良が上記リアクターの間のプロセスに少なくとも１つの有機硫黄含有酸の架橋エステルを添加することを含む、溶融エステル交換法。
【請求項２】
架橋エステルが式（Ｉ）：
【化１】
2006016616.tif 000001
［式中、置換基Ｒ１は互いに独立して水素または非置換またはハロ置換Ｃ１−Ｃ２０−アルキルを示し、
Ｒ２およびＲ３は互いに独立して水素、Ｃ１−Ｃ６−アルキルまたはＣ４−Ｃ３０−アルキルカルボキシルまたはＲ２およびＲ３は基
【化２】
2006016616.tif 000002
（式中、Ｒ１は上記と同意義であり、
ｍは互いに独立して０または１を示し、
ｎは０〜８の整数値を示す。）を示す。］
式（II）：
【化３】
2006016616.tif 000003
［式中、Ｒ１は上記と同意義であり、
Ａは互いに独立して水素またはＣ１−Ｃ１２−アルキルを示し、
Ｉは２または３を示す。］
式（III）：
【化４】
2006016616.tif 000004
［式中、Ｒ１は上記と同意義。］
および式（IV）:
【化５】
2006016616.tif 000005
［式中、Ｒ１およびｎは上記と同意義であり、
Ｒ４はＣ４−Ｃ３０−アルキルカルボキシル
または式
【化６】
2006016616.tif 000006
（式中、Ｒ１は上記と同意義。）を示す。］
式（Ｖ）：
【化７】
2006016616.tif 000007
式（VI）：
【化８】
2006016616.tif 000008
式（VIIa）：
【化９】
2006016616.tif 000009
式（VIIb）：
【化１０】
2006016616.tif 000010
式（Ib）および（IVa）：
【化１１】
2006016616.tif 000011
［式中、Ｒ１およびｎは上記と同意義であり、および
ｑは０〜１０の整数値を示し
Ｒ５およびＲ６は互いに独立して水素またはＣ１−Ｃ２０−アルキルを示し、かつ
Ｒ１１は互いに独立して水素またはジ−（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルアミノを示す。］
式（VIII）：
【化１２】
2006016616.tif 000012
［式中、Ｒ１およびＡは上記と同意義。］
式（IX）：
【化１３】
2006016616.tif 000013
［式中、Ｒ１およびｍは上記と同意義。］
式（Ｘ）：
【化１４】
2006016616.tif 000014
［式中、Ｒ１およびＡは上記と同意義。］
式（XI）：
【化１５】
2006016616.tif 000015
［式中、Ｒ１およびＡは上記と同意義。］
から成る群から選択される式に対応する少なくとも１つの化合物である、請求項１記載の方法。
【請求項３】
エステルの量がポリカーボネートの質量に対して１００ｐｐｍ以下の積極量である、請求項１記載の方法。
【請求項４】
ポリカーボネートの調製のための溶融エステル交換法における、触媒活性不純物の抑制に有機硫黄含有酸の架橋エステルを使用する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
それらの調製の後、溶融ポリカーボネートは触媒活性、塩基性不純物（basic impurities）を含み得る。これらは一方で、出発材料における分離されなかったわずかな量の不純物、熱分解性触媒の分離されなかった塩基性残留物、または分離されなかった安定な塩基性触媒塩類に起因し得る。熱分解性触媒は、例えばいわゆるオニウム塩として理解される。熱安定性触媒は、例えばアルカリまたはアルカリ土類塩類であると理解される。ポリカーボネート中のそのような塩基性物質は、それらが材料の触媒活性を支持するので極めて望ましくない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
特許文献４（DE-A 4438545）には、真空下における残存モノマーの減少の前に塩基性エステル交換触媒を中和するために、溶融ポリカーボネートとｐＫａ値＜５を有する酸性成分またはそれらのエステルとを混合することが記載されている。リン酸、トルエンスルホン酸および対応するエステルが酸性成分として記載されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
【化１４】
2006016616.tif 000016
［式中、Ｒ１およびＡは上記と同意義。］および
ｉ）式（XI）：
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
【化１５】
2006016616.tif 000017
［式中、Ｒ１およびＡは上記と同意義。］
に適合する化合物からなる群から選択される１以上の有機硫黄含有酸のエステルである。
最も特に好ましくは以下式（Ia）〜（If）、（IIIa）、（IVb）、（Ｖa）、（Ｖb）および（IXa）： 
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
ジヒドロキシアリール化合物の例は：ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシジフェニル、ビス−（ヒドロキシフェニル）−アルカン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−シクロアルカン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−アリール、ビス−（ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス−（ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス−（ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホキシド、１，１’−ビス−（ヒドロキシフェニル）−ジイソプロピルベンゼンおよびそれらの環上のアルキル化およびハロゲン化の化合物が挙げられる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
単量体ジヒドロキシアリール化合物の代わりに、低分子量、主にＯＨ−末端−基−停止オリゴカーボネートを開始材料として使用することもまた可能である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
【化２８】
2006016616.tif 000018
［式中、Ｒ、Ｒ’およびＲ”は互いに独立して、同一または異なっていてよく、および水素、要すれば分岐状Ｃ１−Ｃ３４−アルキル、Ｃ７−Ｃ３４−アルキルアリールまたはＣ６−Ｃ３４−アリールを示し、Ｒはさらに−ＣＯＯＲ’’’であってよく、Ｒ’’’は水素、要すれば分岐状Ｃ１−Ｃ３４−アルキル、Ｃ７−Ｃ３４−アルキルアリールまたはＣ６−Ｃ３４−アリールを示す。］
で表されるものである。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
そのようなジアリールカーボネートの例は：ジフェニルカーボネート、メチルフェニル−フェニルカーボネートおよびジ−（メチルフェニル）カーボネート、４−エチルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−（４−エチルフェニル）カーボネート、４−ｎ−プロピルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−（４−ｎ−プロピル−フェニル）カーボネート、４−イソプロピルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−（４−イソプロピルフェニル）カーボネート、４−ｎ−ブチルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−（４−ｎ−ブチルフェニル）カーボネート、４−イソブチルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−（４−イソブチルフェニル）カーボネート、４−ｔ−ブチル−フェニル−フェニルカーボネート、ジ−（４−ｔ−ブチルフェニル）カーボネート、４−ｎ−ペンチルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−（４−ｎ−ペンチルフェニル）カーボネート、４−ｎ−ヘキシルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−（４−ｎ−ヘキシルフェニル）カーボネート、４−イソオクチルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−（４−イソオクチルフェニル）カーボネート、４−ｎ−ノニルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−（４−ｎ−ノニル−フェニル）カーボネート、４−シクロヘキシルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−（４−シクロヘキシルフェニル）カーボネート、４−（１−メチル−１−フェニルエチル）−フェニル−フェニルカーボネート、ジ−［４−（１−メチル−１−フェニルエチル）−フェニル］カーボネート、ビフェニル４−イル−フェニルカーボネート、ジ−（ビフェニル４−イル）カーボネート、４−（１−ナフチル）−フェニル−フェニル  カーボネート、４−（２−ナフチル）−フェニル−フェニルカーボネート、ジ−［４−（１−ナフチル）フェニル］カーボネート、ジ−［４−（２−ナフチル）フェニル］カーボネート、４−フェノキシフェニル−フェニルカーボネート、ジ−（４−フェノキシフェニル）カーボネート、３ペンタデシルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−（３−ペンタデシルフェニル）カーボネート、４トリチルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−（４−トリチルフェニル）カーボネート、メチルサリチレートフェニルカーボネート、ジ−（メチルサリチレート）カーボネート、エチルサリチレートフェニルカーボネート、ジ−（エチルサリチレート）カーボネート、ｎ−プロピルサリチレートフェニルカーボネート、ジ−（ｎ−プロピル−サリチレート）カーボネート、イソプロピルサリチレートフェニルカーボネート、ジ−（イソプロピルサリチレート）カーボネート、ｎ−ブチルサリチレートフェニルカーボネート、ジ−（ｎ−ブチルサリチレート）カーボネート、イソブチルサリチレートフェニルカーボネート、ジ−（イソブチルサリチレート）カーボネート、ｔ−ブチル−サリチレートフェニルカーボネート、ジ−（ｔ−ブチルサリチレート）カーボネート、ジ−（フェニルサリチレート）カーボネートおよびジ−（ベンジルサリチレート）カーボネートが挙げられる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
好ましいジアリール化合物は：ジフェニルカーボネート、４−ｔ−ブチルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−（４−ｔ−ブチルフェニル）カーボネート、ビフェニル４−イル−フェニルカーボネート、ジ−（ビフェニル４−イル）カーボネート、４−（１−メチル−１−フェニルエチル）−フェニル−フェニルカーボネートおよびジ−［４−（１−メチル−１−フェニルエチル）−フェニル］カーボネートである。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
そのようなモノヒドロキシアリール化合物は、例えば：１−、２−または３−メチルフェノール、２，４−ジメチルフェノール４−エチルフェノール、４−ｎ−プロピルフェノール、４−イソプロピルフェノール、４−ｎ−ブチルフェノール、４−イソブチルフェノール、４−ｔ−ブチルフェノール、４−ｎ−ペンチルフェノール、４−ｎ−ヘキシルフェノール、４−イソオクチルフェノール、４−ｎ−ノニルフェノール、３−ペンタデシルフェノール、４−シクロヘキシルフェノール、４−（１−メチル−１−フェニルエチル）−フェノール、４−フェニルフェノール、４−フェノキシフェノール、４−（１−ナフチル）−フェノール、４−（２−ナフチル）−フェノール、４−トリチルフェノール、メチルサリチレート、エチルサリチレート、ｎ−プロピルサリチレート、イソプロピルサリチレート、ｎ−ブチルサリチレート、イソブチルサリチレート、ｔ−ブチルサリチレート、フェニルサリチレートおよびベンジルサリチレートが挙げられる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
好適なモノヒドロキシアリール化合物は、沸点が使用されるジアリールカーボネートの調製に用いられたモノヒドロキシアリール化合物よりも高いものである。モノヒドロキシアリール化合物は、反応の進行中いつでも添加され得る。反応の始め、またはその代わりプロセスの間の所望の点で添加されることが好ましい。遊離モノヒドロキシアリール化合物の比率は、ジヒドロキシアリール化合物に基づいて０．２〜２０モル％、好ましくは０．４〜１０モル％である。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
末端基はまた、主に使用されるジアリールカーボネートのベースモノヒドロキシアリール化合物よりも沸点が高いベースモノヒドロキシアリール化合物のジアリールカーボネートの付随的使用によって変化する。ここでまた、ジアリールカーボネートは反応の進行中いつでも添加され得る。反応の始め、またはその代わりプロセスの間の所望の点で添加されることが好ましい。使用されるジアリールカーボネートの総量における高沸点ベースモノヒドロキシアリール化合物を有するジアリールカーボネートの割合は、１〜４０モル％、好ましくは１〜２０モル％および特に好ましくは１〜１０モル％である。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４６】
実施例Ａ
抑制剤Ａの合成：
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４７】
【化３６】
2006016616.tif 000019