(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
シャワー処理室内に処理液を帯状に広げて噴出可能なシャワーノズルを設け、スプレー処理室内にスプレーノズルを設け、入り口から入室された被処理基板が搬送手段により前記シャワー処理室を前記スプレー処理室に向かって進行する洗浄装置において、前記シャワーノズルは前記被処理基板の進行につれて前記被処理基板の進行方向とは逆の方向に回転可能であることを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
前記シャワーノズルは、進行する前記被処理基板の先端部分に洗浄液を噴出する際には進行方向に対して鈍角になり、進行する前記被処理基板の末端部分に洗浄液を噴出する際には進行方向に対して鋭角になることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項３】
シャワー処理室内に処理液を帯状に広げて噴出可能なシャワーノズルを設け、スプレー処理室内にスプレーノズルを設け、入り口から入室された被処理基板が搬送手段により前記シャワー処理室を前記スプレー処理室に向かって進行するエッチング装置において、前記シャワーノズルは前記被処理基板の進行につれて前記被処理基板の進行方向とは逆の方向に回転可能であることを特徴とするエッチング装置。
【請求項４】
前記シャワーノズルは、進行する前記被処理基板の先端部分にエッチング薬液を噴出する際には進行方向に対して鈍角になり、進行する前記被処理基板の末端部分にエッチング薬液を噴出する際には進行方向に対して鋭角になることを特徴とする請求項３記載のエッチング装置。
【請求項５】
被処理基板に処理液を帯状に広げて噴出可能なシャワーノズルにより第１の洗浄処理を行い、次にスプレーノズルにより第２の洗浄処理を行う洗浄方法において、進行する前記被処理基板に対してシャワーノズルを前記被処理基板の進行につれて前記被処理基板の進行方向とは逆の方向に回転させて前記第１の洗浄処理を行うことを特徴とする洗浄方法。
【請求項６】
進行する前記被処理基板の先端部分に洗浄液を噴出する際には前記シャワーノズルの軸が前記進行方向に対して鈍角になり、進行する前記被処理基板の末端部分に洗浄液を噴出する際には前記シャワーノズルの軸が前記進行方向に対して鋭角になるように前記回転を行うことを特徴とする請求項５記載の洗浄方法。
【請求項７】
被処理基板に処理液を帯状に広げて噴出可能なシャワーノズルにより第１のエッチング処理を行い、次にスプレーノズルにより第２のエッチング処理を行うエッチング方法において、進行する前記被処理基板に対してシャワーノズルを前記被処理基板の進行につれて前記被処理基板の進行方向とは逆の方向に回転させて前記第１のエッチング処理を行うことを特徴とするエッチング方法。
【請求項８】
進行する前記被処理基板の先端部分にエッチング液を噴出する際には前記シャワーノズルの軸が前記進行方向に対して鈍角になり、進行する前記被処理基板の末端部分にエッチング液を噴出する際には前記シャワーノズルの軸が前記進行方向に対して鋭角になるように前記回転を行うことを特徴とする請求項７記載のエッチング方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は洗浄装置及びエッチング装置並びに洗浄方法及びエッチング方法に係わり、特にスプレー処理の前にシャワー処理を行う洗浄装置及びエッチング装置並びに洗浄方法及びエッチング方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＴＦＴアレイ等の製造工程では、洗浄処理したガラス基板上に、メタル膜あるいは絶縁膜等を成膜し、フォトレジスト法によりパターニングし、ウェットエッチングによりエッチングし、レジストを剥離液で剥離する、という一連の工程を数回繰り返し、薄膜トランジスタを形成する。したがって洗浄処理やエッチング処理が重要なプロセスとなる。
【０００３】
図５を参照して従来技術の洗浄装置を説明する。処理槽１０、処理液槽２０、第１のバルブ２１、第２のバルブ２２、第３のバルブ２３及びポンプ２４を具備している。
【０００４】
処理槽１０のシャワー処理室２には一個のシャワーノズル３１が設けられ、スプレー処理室４内には多数のスプレーノズル３が設けられている。
【０００５】
ガラス基板３０は搬送機構５により進行方向３０Ａを進行し、シャワーノズル３１によるシャワー処理後にスプレーノズル３によるスプレー処理が施され、液切り部材６により処理液（洗浄液もしくはエッチング薬液）を吹きとばした後、処理槽から搬出される。
【０００６】
スプレーノズルの液の噴出口は針穴程度の径で、処理液が扇状または円錐状に広がるためスプレー処理室内には数十個のスプレーノズルが必要になる。
【０００７】
一方、シャワーノズルはスペーサを介して板を重ねたような噴出口を有していて、処理液（洗浄液もしくはエッチング薬液）は帯状に広がって処理基板に向かって噴出されるから、このシャワーノズルはガラス基板の搬入側に１個だけ設ける。そして従来技術のシャワーノズル３１はガラス基板の進行方向側に向けられて固定されている。すなわち常に同じ方向を向けられて設置されている。
【０００８】
ここで、スプレー処理だけの処理を行うと、処理後に局所的な処理むらが生じる。したがって、この不都合な処理むらを無くすためにスプレー処理の前にシャワー処理を行う必要がある。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら上記した従来技術においては、進行する被処理基板（ガラス基板）の先頭部分では相対的に多い処理となり、末端部分では相対的に少ない処理
となるから先端部分と末端部分とで処理結果に差が生じてしまう。
【００１０】
したがって洗浄処理においては、先頭部分に適切な洗浄を行えるようにシャワー処理条件を設定すると末端部分が洗浄不足となり、末端部分に適切な洗浄を行えるようにシャワー処理条件を設定すると先頭部分に余分な洗浄を行い不経済なことになる。
【００１１】
エッチング処理においては、先頭部分に適切なエッチングを行えるようにシャワー処理条件を設定すると末端部分がエッチング不足となり、末端部分に適切なエッチングを行えるようにシャワー処理条件を設定すると先頭部分がオーバーエッチングになってしまう。
【００１２】
この不都合を生じる原因は、進行するガラス基板に対し、シャワーノズルが常に進行方向を向いて処理液を噴出し、処理液は先端部分にまで伝わってからガラス基板から落ち、先頭部分には次から次に処理液が流れてくるから、先頭部分が処理液にさらされる時間が長くなるが、末端部分には一瞬処理液がかかり、シャワーノズル下を通りすぎてしまうからである。
【００１３】
したがって本発明の目的は、進行する被処理基板にシャワー洗浄処理を行う際に、先頭部分と末端部分との処理差を抑制することができる洗浄装置を提供することである。
【００１４】
本発明の他の目的は、進行する被処理基板にシャワーエッチング処理を行う際に、先頭部分と末端部分との処理差を抑制することができるエッチング装置を提供することである。
【００１５】
本発明の別の目的は、上記洗浄装置を用いた有効な洗浄方法を提供することである。
【００１６】
本発明のさらに別の目的は、上記エッチング装置を用いた有効なエッチング方法を提供することである。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１番目の特徴は、シャワー処理室内に処理液を帯状に広げて噴出可能なシャワーノズルを設け、スプレー処理室内にスプレーノズルを設け、入り口から入室された被処理基板が搬送手段により前記シャワー処理室を前記スプレー処理室に向かって進行する洗浄装置において、前記シャワーノズルは前記被処理基板の進行につれて前記被処理基板の進行方向とは逆の方向に回転可能である洗浄装置にある。ここで前記シャワーノズルは、進行する前記被処理基板の先端部分に洗浄液を噴出する際には進行方向に対して鈍角になり、進行する前記被処理基板の末端部分に洗浄液を噴出する際には進行方向に対して鋭角になることが好ましい。
【００１８】
本発明の第２番目の特徴は、シャワー処理室内に処理液を帯状に広げて噴出可能なシャワーノズルを設け、スプレー処理室内にスプレーノズルを設け、入り口から入室された被処理基板が搬送手段により前記シャワー処理室を前記スプレー処理室に向かって進行するエッチング装置において、前記シャワーノズルは前記被処理基板の進行につれて前記被処理基板の進行方向とは逆の方向に回転可能であるエッチング装置にある。ここで前記シャワーノズルは、進行する前記被処理基板の先端部分にエッチング薬液を噴出する際には進行方向に対して鈍角になり、進行する前記被処理基板の末端部分にエッチング薬液を噴出する際には進行方向に対して鋭角になることが好ましい。
【００１９】
本発明の第３番目の特徴は、被処理基板に処理液を帯状に広げて噴出可能なシャワーノズルにより第１の洗浄処理を行い、次にスプレーノズルにより第２の洗浄処理を行う洗浄方法において、進行する前記被処理基板に対してシャワーノズルを前記被処理基板の進行につれて前記被処理基板の進行方向とは逆の方向に回転させて前記第１の洗浄処理を行う洗浄方法にある。ここで進行する前記被処理基板の先端部分に洗浄液を噴出する際には前記シャワーノズルの軸が前記進行方向に対して鈍角になり、進行する前記被処理基板の末端部分に洗浄液を噴出する際には前記シャワーノズルの軸が前記進行方向に対して鋭角になるように前記回転を行うことが好ましい。
【００２０】
本発明の第４番目の特徴は、被処理基板に処理液を帯状に広げて噴出可能なシャワーノズルにより第１のエッチング処理を行い、次にスプレーノズルにより第２のエッチング処理を行うエッチング方法において、進行する前記被処理基板に対してシャワーノズルを前記被処理基板の進行につれて前記被処理基板の進行方向とは逆の方向に回転させて前記第１のエッチング処理を行うエッチング方法にある。ここで進行する前記被処理基板の先端部分にエッチング液を噴出する際には前記シャワーノズルの軸が前記進行方向に対して鈍角になり、進行する前記被処理基板の末端部分にエッチング液を噴出する際には前記シャワーノズルの軸が前記進行方向に対して鋭角になるように前記回転を行うことが好ましい。
【００２１】
このような本発明によれば、先端部分側だけではなく末端部分側にも処理液（洗浄液もしくはエッチング液）が流れて落ちるようになるから末端部分も処理液に晒される時間が長くなり、これにより先端部分と末端部分との処理差を抑制することができる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、図１乃至図４を参照して本発明の実施の形態を説明する。図１乃至図４において（Ａ）は各ステップにおける装置全体を示す図であり、（Ｂ）は各ステップにおけるシャワーノズル及びその近傍を拡大して示す図である。
【００２３】
また、実施の形態の説明で、「処理液」とは、洗浄装置の場合は純水で代表される洗浄液であり、エッチング装置の場合はエッチング薬液である。
【００２４】
実施の形態の洗浄装置もしくはエッチング装置は、処理槽１０、処理液槽２０、第１のバルブ２１、第２のバルブ２２、第３のバルブ２３及びポンプ２４を具備している。
【００２５】
処理槽１０のシャワー処理室２内には駆動軸７を中心にして回転する一個のシャワーノズル（回転可動するから以後、可動シャワーノズル、と称す）１が設けられ、スプレー処理室４内には数十個のスプレーノズル３が設けられている。
【００２６】
処理液（純水もしくはエッチング薬液）がポンプ２４により処理液槽２０から、第１のバルブ２１を通して可動シャワーノズル１に送られる。また、処理液（純水もしくはエッチング薬液）がポンプ２４により処理液槽２０から、第２のバルブ２２を通して上側のスプレーノズル３に送られる。
【００２７】
さらに、処理液（純水もしくはエッチング薬液）がポンプ２４により処理液槽２０から、第３のバルブ２３を通して下側のスプレーノズル３に送られる。この下側のスプレーノズル３は基板の裏面処理のために設けられているが、本実施の形態では基板の表面（図で上面）処理のみに関するものであるから、これから説明する各ステップで第３のバルブ２３は常時閉状態であり、下側のスプレーノズル３は用いていない。
【００２８】
被処理基板であるガラス基板３０が処理槽１０内に、図で左側より、搬入され、搬送機構５により進行方向３０Ａを進行し、可動シャワーノズル１及びスプレーノズル３からの処理液（純水もしくはエッチング薬液）の噴出により所定の処理がされ、液切り部材６からの空気の吹き付けにより処理液（純水もしくはエッチング薬液）を飛ばした後、図で右側より、処理槽１０外に搬出される。
【００２９】
搬入されたガラス基板３０は搬出されるまで処理槽内を搬送機構により一定の速度で進行するタイプと、スプレーノズル下でガラス基板を左右に揺動するタイプがある。
【００３０】
次に実施の形態の処理方法について説明する。
【００３１】
ガラス基板用のカセットからローダユニットにより払い出されたガラス基板３０は、水平搬送されるコンベア上を移動する。ガラス基板３０が処理槽１０に近づくと、処理槽１０の入口側（図で左側）にあるシャッター（図示省略）が開き、処理槽内への搬入が行われる。
【００３２】
図１に示すように、搬入されるガラス基板３０には、第１のバルブ２１を開動作させて、槽内搬入口側に設置されている可動シャワーノズル１から処理液（純水もしくはエッチング薬液）８がガラス基板３０の先端部分に向けて、ガラス基板の進行方向３０Ａ側に噴出される。ここで、第２、第３のバルブは閉状態になっている。
【００３３】
すなわち図１（Ｂ）に示すように、この状態の可動シャワーノズル１の１点鎖線で示す中心は、ガラス基板３０の進行方向３０Ａに対して９０度よりも大きい角度θ1 、すなわち鈍角θ1 となっている。
【００３４】
図１の状態から、可動シャワーノズル１はガラス基板３０の進行方向３０Ａとは逆の方向１Ａに駆動軸７を中心に一定の角速度で回転して、図２に示すように、進行するガラス基板３０の中央部分が可動シャワーノズル１の駆動軸７の下に位置したときには、可動シャワーノズル１の１点鎖線で示す中心は、ガラス基板３０の進行方向３０Ａに対して９０度の角度θ2 になり、この状態で可動シャワーノズル１から処理液（純水もしくはエッチング薬液）８がガラス基板３０の中央部分の方向に噴出される。
【００３５】
ガラス基板３０の進行がさらに進むと、図３に示すような状態となり、逆の方向１Ａに一定の角速度で回転している可動シャワーノズル１がガラス基板の進行方向３０Ａとは逆の方向側に向けられ、処理液（純水もしくはエッチング薬液）８がガラス基板３０の末端部分に向けて噴出される。
【００３６】
この状態では図３（Ｂ）に示すように、可動シャワーノズル１の１点鎖線で示す中心は、ガラス基板の進行方向３０Ａに対して９０度よりも小さい角度θ3 、すなわち鋭角θ3 になっている。
【００３７】
ガラス基板３０の搬入が進み、スプレー処理室４内の中央まで搬送されると、図４に示すように、入口側（図で左側）のシャッター（図示省略）は閉まり、第１のバルブ２１を閉にすることにより可動シャワーノズル１からの処理液（純水もしくはエッチング薬液）の噴出は停止し、第２のバルブ２２を開状態にすることによりスプレー室４内の上部に設置されたスプレーノズル３から処理液（純水もしくはエッチング薬液）９を噴出させる。
【００３８】
またこの状態で、可動シャワーノズル１は基板進行方向３０Ａと同じ方向１Ｂに回転して図１の原点位置に戻り、次のガラス基板の可動シャワーノズル処理に備える。
【００３９】
このスプレー処理を行った後、エアーナイフ部材６により液切りされ、槽の出口側（図で右側）にあるシャッター（図示省略）が開いて処理済みのガラス基板が搬出され、同時に槽入口側のシャッターが開き、次のガラス基板が処理をするために槽内に搬入される。
【００４０】
そして処理槽１０から搬出された処理済みのガラス基板３０は、コンベアーにて搬送された後、アンローダーユニットにてカセットに収納される。
【００４１】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の効果は、スプレー処理時に処理液のかかり具合の違いから生じる処理ムラを低減する為に槽の入口側に取り付けているシャワーノズルを、基板搬送方向とは逆方向に徐々に回転駆動させる事により基板の先端部分側だけではなく末端部分側にもシャワーノズルからの処理液（洗浄液もしくはエッチング液）が流れて落ちるようにするから、末端部分もこの処理液に晒される時間が長くなり、これにより先端部分と末端部分とのシャワー処理差を抑制することができ、スプレー処理前の基板面の先端部分から末端部分の液置換状態をより均等にして両部分間の処理差を改善することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態の処理方法の１状態を示す図であり、（Ａ）は装置全体の図、（Ｂ）は可動シャワーノズル及びその近傍の拡大図である。
【図２】図１の後の状態を示す図であり、（Ａ）は装置全体の図、（Ｂ）は可動シャワーノズル及びその近傍の拡大図である。
【図３】図２の後の状態を示す図であり、（Ａ）は装置全体の図、（Ｂ）は可動シャワーノズル及びその近傍の拡大図である。
【図４】図３の後の状態を示す図であり、（Ａ）は装置全体の図、（Ｂ）は可動シャワーノズル及びその近傍の拡大図である。
【図５】従来技術を示す図である。
【符号の説明】
１    可動シャワーノズル
１Ａ    可動シャワーノズルの基板進行と逆の方向の回転
１Ｂ    可動シャワーノズルの基板進行と同じ方向の回転
２    シャワー処理室
３    スプレーノズル
４    スプレー処理室
５    搬送機構
６    液切り部材
７    駆動軸
８    シャワーノズルによる処理液
９    スプレーノズルによる処理液
１０    処理槽
２０    処理液槽
２１    第１のバルブ
２２    第２のバルブ
２３    第３のバルブ
２４    ポンプ
３０    ガラス基板
３０Ａ    ガラス基板の進行方向
３１    従来技術のシャワーノズル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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