(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式：
Ｒ1（ＰＲ2Ｒ3）n
［式中、Ｒ1は、少なくとも一つの炭素−炭素二重結合をもつ１〜３０個の炭素原子を有するアルケニル基、２０個までの炭素原子を有するシクロアルケニル基、５〜２０個の炭素原子をもつ環状芳香族化合物のいずれかから派生したアリール基、およびアリール基によって置換されたアルキル置換基であるアラルキル基から選択され、これらはいずれも、一つ以上の以下の基によって置換されていてもよく：アルキル、アリール、アラルキル、アルコキシ、アルカノイル、クロロ、フルオロ、アルコキシカルボニル、シアノ、トリフルオロメチル、シクロアルキルまたはＣＯＮＲ4Ｒ5（ただし、Ｒ4およびＲ5は、独立して、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルである）；
Ｒ2およびＲ3は、独立して、５〜２０個の炭素原子をもつ環状芳香族化合物のいずれかから派生したアリール基、１〜３０個の炭素原子を有するアルキル基、またはアリール基によって置換されたアルキル置換基であるアラルキル基であり、これらはいずれも、一つ以上の以下の基によって置換されていてもよく：アルキル、アリール、アラルキル、アルコキシ、アルカノイル、クロロ、フルオロ、アルコキシカルボニル、シアノ、トリフルオロメチル、シクロアルキルまたはＣＯＮＲ4Ｒ5（ただし、Ｒ4およびＲ5は、独立して、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルである）；Ｒ1が二官能性基である場合、ｎは２であり、そして任意の他のＲ1の場合、ｎは１である］で表される化合物の製造方法であって、
式Ｒ1Ｘn［式中、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、ＩまたはＯＳＯ2Ｙであり；Ｙは、アルキル、トリハロメチル、フェニル、ハロフェニルまたはアルキルフェニルである］で表される化合物を、式Ｒ2Ｒ3ＰＣｌで表される化合物と、触媒および還元剤の存在下で処理する工程を含んでなる方法であり、触媒はニッケル化合物、還元剤は亜鉛である前記方法。
【請求項２】
Ｒ1は、フェニル、ベンジル、ナフチル、ナフチルメチル、１，１’−ビナフト−２，２’−ジイル、ピリジル、ピリジルメチル、フリル、フルフリル、チエニル、チエニルメチル、ピロリル、ピロリルメチル、フェニレンまたはキシリレンであり、これらはいずれも、一つ以上の以下の基によって置換されていてもよく：アルキル、アリール、アラルキル、アルコキシ、アルカノイル、クロロ、フルオロ、アルコキシカルボニル、シアノ、トリフルオロメチル、シクロアルキルまたはＣＯＮＲ4Ｒ5（ただし、Ｒ4およびＲ5は、独立して、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルである）；Ｒ2およびＲ3は、独立して、フェニル、アルキル、フリル、チエニル、ピロリル、ピリジル、ベンジルまたはナフチルであり、これらはいずれも、一つ以上の以下の基によって置換されていてもよく：アルキル、アリール、アラルキル、アルコキシ、アルカノイル、クロロ、フルオロ、アルコキシカルボニル、シアノ、トリフルオロメチル、シクロアルキルまたはＣＯＮＲ4Ｒ5（ただし、Ｒ4およびＲ5は、独立して、水素、アルキル、アリールまたはアラルキルである）；Ｒ1が１，１’−ビナフト−２，２’−ジイル、フェニレンまたはキシリレンである場合、ｎは２であり、任意の他のＲ1の場合、ｎは１である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ニッケル化合物は、ＮｉＺ2または式ＮｉＺ2Ｌm：
［式中、Ｚはクロロまたはブロモであり；Ｌは（Ｒ6）3Ｐであり、かつｍは２である、あるいはＬは（Ｒ6）2Ｐ（ＣＨ2）kＰ（Ｒ6）2であり、かつｍは１である（ただし、Ｒ6は、フェニルであるか、一つ以上のアルキル置換基またはアルコキシカルボニル置換基によって置換されたフェニルであるか、アルキルあるいはシクロアルキルであり、ｋは１〜６の整数である。）］で表される化合物である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記ニッケル化合物は、［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］ニッケル（ＩＩ）クロリドである、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
Ｒ2およびＲ3はフェニルである、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
Ｒ1は１，１’−ビナフト２，２’−ジイルである、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
ＸはＯＳＯ2Ｙであり、Ｙはトリフルオロメチルである、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
Ｒ1は（Ｓ）−１，１’−ビナフト−２，２’−ジイルである、請求項５に記載の方法。
【請求項９】
Ｒ1は（Ｒ）−１，１’−ビナフト−２，２’−ジイルである、請求項５に記載の方法。
【請求項１０】
ＸはＯＳＯ2Ｙであり、Ｙはトリフルオロメチルである、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
ＸはＯＳＯ2Ｙであり、Ｙはトリフルオロメチルである、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
Ｒ1は１−カルボメトキシ−２−ナフチルである、請求項５に記載の方法。
【請求項１３】
ＸはＯＳＯ2Ｙであり、Ｙはトリフルオロメチルである、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
Ｒ2およびＲ3はフェニルである、請求項２に記載の方法。
【請求項１５】
Ｒ1は（Ｓ）−１，１’−ビナフト−２，２’−ジイルである、請求項２に記載の方法。
【請求項１６】
Ｒ1は（Ｒ）−１，１’−ビナフト−２，２’−ジイルである、請求項２に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
発明の背景
発明の分野
本発明は、触媒および還元剤存在下で、ハロゲン化アリール、ハロゲン化アルケニル、ハロゲン化シクロアルケニル、もしくはハロゲン化アラルキル、またはアリールスルホン酸エステル、アルケニルスルホン酸エステル、シクロアルケニルスルホン酸エステル、もしくはアラルキルスルホン酸エステルを、クロロホスフィンとクロスカップリングさせることによって、第三級ホスフィンを調製するための改良された方法に関する。
関連する背景技術
第三級ホスフィン、とりわけ、トリアリールホスフィンは、遷移金属触媒に対するリガンドとしてよく知られている。第三級ホスフィンの調製は、典型的には、次の４つの方法、すなわち、ハロホスフィンとアリールグリニャール試薬または有機リチウム試薬との反応、ジアリールホスフィンのメタル化後のハロゲン化アリールもしくはアリールスルホン酸エステルとの反応、ハロホスフィンと活性化芳香族環とのフリーデル−クラフツ反応、および、ハロゲン化アリールもしくはアリールトリフレートとジアリールホスフィンとのクロスカップリングのうちの一つによって行われる。
アリールグリニャール試薬、または有機リチウム試薬とハロホスフィンとの反応は、ハロ置換基、アルカノイル置換基、またはエステル置換基など、グリニャール試薬と反応する官能基がアリール基部分に存在しない場合に限定される。さらに、この方法には、感湿性で、比較的不安定なグリニャール試薬、または有機リチウム試薬に対する特別な取り扱い手順を踏む必要がある。
ジアリールホスフィンのメタル化による第三級ホスフィンの調製にも、上記の付随問題に伴う、グリニャール試薬、または有機リチウム試薬の取り扱いが必要であるとともに、ジアリールホスフィンが感光性で自燃性があるという事実によって必要となる特別の処置が必要である。この方法のもう一つの欠点は、メタル化されたジアリールホスフィンが極度に求核性で、出発物質のアリール部分にある、ハロ置換基やアルコキシ置換基などの一定の官能基と反応するということである。
フリーデル−クラフツ反応は、典型的には、臭化アルミニウム、塩化アルミニウム、塩化鉄、または硫酸など、強酸性の触媒を用いるため、不都合である。このような触媒は、アリール部分にあるさまざまな官能基と親和性がないかもしれない。さらに、これらの触媒は、腐食性で感湿性であるため、取り扱いが難しい。
前記のように、トリアリールホスフィンを産生するために、ハロゲン化アリールもしくはアリールトリフレートと、ジアリールホスフィンとをクロスカップリングさせることも知られている。タニーとスティール（Ｔｕｎｎｅｙ  ａｎｄ  Ｓｔｉｌｌｅ）、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  ５２巻、７４８頁、（１９８７）は、ハロゲン化アリールと、（トリメチルシリル）ジフェニルホスフィンまたは（トリメチルスタンニル）ジフェニルホスフィンのいずれかとの、パラジウム触媒によるクロスカップリングを行うことにより、トリアリールホスフィンを調製した。この方法の主な欠点は、（トリメチルシリル）ジフェニルホスフィンと（トリメチルスタンニル）ジフェニルホスフィンが自燃性で、そのために、特別な取り扱い手順が必要になることである。さらに別の欠点は、これらの試薬は高価だということである。タニーとスティール（Ｔｕｎｎｅｙ  ａｎｄ  Ｓｔｉｌｌｅ）の方法の限界は、トリメチルスタンニル化合物の毒性の方がかなり高いため、トリメチルシリル置換された出発物質の方が好ましいが、これが、アリール部分にあるヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、およびアルデヒド基と反応することであり、このため、これらの官能基をもつトリアリールホスフィンの調製には、この方法を適用することができない。もう一つの限界は、出発物質としてハロゲン化アリールだけが用いられ、アリールスルホン酸エステルは用いられないということである。さらにもう一つの限界は、ハロゲン化アリールだけが出発物質として用いられるために、この方法では、トリアリールホスフィンしか製造できないということである。出発物質としてハロゲン化ベンジルを用いて、ベンジルアリールホスフィンを作ることは示されていない。
トリアリールホスフィンを調製するためのクロスカップリングは、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチルを製造するために、１，１’−ビ−２−ナフトールジスルホン酸エステルとジフェニルホスフィンとのニッケル触媒によるクロスカップリング反応を用いることを開示している米国特許第５，３９９，７７１号にも記載されている。この参考文献は、上記した特定の成分置換のみを例示していて、ジスルホン酸エステル出発物質を、トリフレート、メシレート、またはトシレートに制限しており、ハロゲン化物を出発物質として用いる可能性を示唆していない。この方法の欠点は、出発物質の一つであるジフェニルホスフィンが、感光性かつ自燃性であるため、特殊な取り扱いが必要となることである。
前記の参考文献では、第三級ホスフィンの触媒による調製において、ジアリールクロロホスフィンを試薬として用いることが示唆されてもいなければ、例示されてもいない。
出発物質が安価で取り扱い容易であり、また、アリールまたはベンジル出発物質で、ハロ置換基またはスルホン酸エステル置換基のいずれかを含むものを使用するのにも応用可能な第三級ホスフィン製造法は、非常に有利であろう。
発明の概要
次の式をもつ化合物を調製するための方法が提供される。
Ｒ1（ＰＲ2Ｒ3）n
［式中、Ｒ1は、アリール基、アルケニル基、シクロアルケニル基、またはアラルキル基であり、そのうちのいずれも、一つ以上の以下の基で置換されていてもよい：アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルカノイル基、クロロ基、フルオロ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、トリフルオロメチル基、シクロアルキル基、またはＣＯＮＲ4Ｒ5、ただし、Ｒ4およびＲ5は、独立して、水素基、アルキル基、アリール基、もしくはアラルキル基である；Ｒ2およびＲ3は、独立して、アリール基、アルキル基もしくはアラルキル基であり、そのうちのいずれも、以下の基の一つ以上で置換されていてもよい：アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、クロロ基、フルオロ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、トリフルオロメチル基、シクロアルキル基、またはＣＯＮＲ4Ｒ5、ただし、Ｒ4およびＲ5は、独立して、水素基、アルキル基、アリール基、もしくはアラルキル基である；Ｒ1が、１，１’−ビナフト−２，２’−ジイル、フェニレン、またはキシリレンなど、２官能基部であるときには、ｎは２であり、その他の場合には、ｎは、すべて１である］。当該方法は、式Ｒ1Ｘn（式中、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、またはＯＳＯ2Ｙであり、Ｙは、アルキル基、トリハロメチル基、フェニル基、ハロフェニル基、またはアルキルフェニル基である）で表される化合物を、式Ｒ2Ｒ3ＰＣｌで表される化合物、触媒、および還元剤によって処理する工程を含む。
発明の詳細な説明
以下の略語と用語が、本明細書で用いられている。「アルキル基」という用語は、置換されていないか、または、フルオロ基、クロロ基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、もしくはシクロアルキル基で置換された、１〜３０個の炭素原子をもつ、直鎖、または分岐したアルキル基を意味する。「シクロアルキル基」という用語は、３〜２０個の炭素原子をもつ環状アルキル置換基を意味する。「アルケニル基」という用語は、少なくとも一つの炭素−炭素二重結合をもつ１〜３０個の炭素原子をもち、置換されていないか、または、フルオロ基、クロロ基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、もしくはシクロアルキル基で置換することができる、直鎖、または分岐した基を意味する。「シクロアルケニル基」という用語は、２０個までの炭素原子をもつ環状アルケニル基を意味する。「アルコキシ基」という用語は、水素原子に付着し、水素原子を通して結合しているアルキル基を含む置換基を意味する。「ハロ基」という用語は、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素から派生した置換基を意味する。「アリール基」という用語は、５〜２０個の炭素原子をもつ環状芳香族化合物のいずれかから派生した置換基を意味する。「アラルキル基」という用語は、アリール基によって置換されたアルキル置換基を意味する。「Ｐｈ」という用語は、フェニル置換基を意味する。「ｄｐｐｅ」という用語は、１，２−ビス−（ジフェニルホスフィノ）エタンを意味する。「トリフレート」という用語は、トリフルオロメタンスルホニルエステルを意味する。「ＢＩＮＡＰ」という用語は、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチルを意味する。「１，１’−ビナフト−２，２’−ジイル基」という用語は、以下に示す構造をもつ二価置換基部分を意味する。
0004080548.tif 000002
本発明の好ましい態様において、下記の反応図式に示すように、スルホン酸エステルまたはハロ置換基によって置換されたアリール基、アルケニル基、シクロアルケニル基もしくはアラルキル基部分は、ニッケル触媒および亜鉛存在下で、ジアリールクロロホスフィンと反応する。
0004080548.tif 000003
Ｒ1がアリール基の場合、好ましい基は、フェニル基、ピリジル基、フリル基、チエニル基、ピロリル基、ナフチル基、１，１’−ビナフト−２，２’−ジイル基、およびそれらの立体異性体、またはフェニレン基である。１，１’−ビナフト−２，２’−ジイル基とフェニレン基は二官能性であるから、これらの場合には、上記の反応図式の反応体も産物も、ｎは２となる。それ以外の上記のアリール基は一官能性であるから、それらに関するｎは１である。上記のアリール基のいずれも、一つ以上の以下の基で置換されていてもよい：アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、クロロ基、フルオロ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、トリフルオロメチル基、シクロアルキル基、または、ＣＯＮＲ4Ｒ5、ただし、Ｒ4およびＲ5は、独立して、水素基、アルキル基、アリール基、もしくはアラルキル基である。
Ｒ1がアラルキル基の場合、好ましい基は、ベンジル基、ピリジルメチル基、フルフリル基、チエニルメチル基、ピロリルメチル基、ナフチルメチル基、またはキシリレン基である。キシリレン基は二官能性であるから、この場合には、上記の反応図式の反応体も産物も、ｎは２となる。それ以外の上記のアリールメチル基は一官能性であるから、それらに関するｎは１である。上記のアリールメチル基のいずれも、一つ以上の以下の基で置換されていてもよい：アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、クロロ基、フルオロ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、トリフルオロメチル基、シクロアルキル基、または、ＣＯＮＲ4Ｒ5、ただし、Ｒ4およびＲ5は、独立して、水素基、アルキル基、アリール基、もしくはアラルキル基である。
上に示した反応図式において、Ｘで表される、Ｒ1部分に付着した反応基は、スルホン酸エステルかハロゲン化物でありうる。アリール基またはアラルキル基におけるスルホン酸エステル置換基は、例えば、アルキルスルホニルオキシ基、トリハロメチルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、ハロアリールスルホニルオキシ基、アラキルスルホニルオキシ基、またはアルカリルスルホニルオキシ基である。本発明の方法を実施するためにもっとも好ましいスルホン酸エステル置換基は、トリフレートとしても知られるトリフルオロメチルスルホニルオキシ基である。Ｘは、ハロ置換基でもよい。もっとも好ましいハロ置換基はブロモ基である。
Ｒ2およびＲ3は、独立して、アルキル基、アリール基、もしくはアラルキル基であり得、そのうちのいずれも、以下の基の一つ以上で置換されていてもよい：アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、クロロ基、フルオロ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、トリフルオロメチル基、シクロアルキル基、またはＣＯＮＲ4Ｒ5、ただし、Ｒ4およびＲ5は、独立して、水素基、アルキル基、アリール基、もしくはアラルキル基である。好ましくは、Ｒ2およびＲ3は、独立して、フェニル基、アルキル基、フリル基、チエニル基、ピロリル基、ピリジル基、ベンジル基、またはナフチル基であり、これらの基のいずれも、一つ以上の以下の基で置換されていてもよい：アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、クロロ基、フルオロ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、トリフルオロメチル基、シクロアルキル基、または、ＣＯＮＲ4Ｒ5、ただし、Ｒ4およびＲ5は、独立して、水素基、アルキル基、アリール基、もしくはアラルキル基である。
本発明で用いる触媒は、ニッケル触媒である。好ましいニッケル触媒は、例えば、ＮｉＣｌ2、ＮｉＢｒ2、またはＮｉＺ2Ｌmであり得る。ただし、Ｚはクロロ基、またはブロモ基であり、Ｌが（Ｒ6）3Ｐで、かつｍが２であるか、またはＬが（Ｒ6）2Ｐ（ＣＨ2）kＰ（Ｒ6）2で、かつｍが１であり、ここで、Ｒ6は、フェニル基であるか、一つ以上のアルキル置換基もしくはアルコキシカルボニル置換基で置換されたフェニル基であるか、アルキル基、またはシクロアルキル基であり、また、ｋは、１〜６の整数である。もっとも好ましい触媒は、ＮｉＣｌ2（ｄｐｐｅ）と示されていない限り、ＮｉＣｌ2［Ｐｈ2Ｐ（ＣＨ2）2ＰＰｈ2］である。
クロロホスフィンの出発物質を活性化するためには、還元剤が必要であり、触媒されたクロスカップリングを促進し、第三級ホスフィンが直接産生される。好ましくは、亜鉛を、ニッケル触媒と組み合わせて、還元剤として用いることができる。もっとも好ましくは、亜鉛を塩酸で洗浄して、水で濯いでから乾燥させることによって、予め活性化しておく。この亜鉛を、添加の間、温度が５℃から１５℃の間になるようにして、還元剤と溶媒の混合液に加えることが好ましい。
本発明において行われる反応に関して適当な溶媒には、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、およびテトラヒドロフランなどの極性の非プロトン性溶媒が含まれる。本発明の方法を実施するのにもっとも好ましい溶媒は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。しかし、本発明の方法を用いて、第三級ホスフィンの調製が行なえるものであれば、どのような溶媒を用いてもよい。
触媒および還元剤存在下で、反応物を加熱したときに反応が進行する。一般的には、約６０℃から約１５０℃の範囲、好ましくは、約８０℃から約１２０℃の範囲の温度に反応混合液を加熱する。例えば、出発物質がなくなった、または、それらのレベルがそれ以上低下しないと判定するための、ガスクロマトグラフィーなどの技術によって反応混合液を解析して、反応が実質的に完了したと判定されるまで、典型的には、これらの範囲内に温度を維持する。反応時間は、約１時間から１９時間までとさまざまでありうる。
第三級ホスフィンを産生するためにクロスカップリングを利用する既知の２つの方法に対して、本発明の方法が有利な点の一つは、ハロゲン化物置換基をもつアリール基およびアラルキル基も、スルホン酸エステル置換基をもつそれらの基も、本発明の結合反応には適しているという点である。従来の方法はどれも、ハロゲン化物置換基をもつ出発物質か、スルホン酸エステル置換基をもつ出発物質のどちらかしか利用できなかった。これらの方法のいずれも、スルホン酸とハロゲン化物の両方を出発物質とすることができるという特徴を持っていない。
本発明の方法の、もう一つの利点は、ジアリールクロロホスフィン出発物質、特に、Ｐｈ2ＰＣｌは、容易に入手でき、かつ安価であり、ジフェニルホスフィン、（トリメチルスタンニル）ジフェニルホスフィン、および（トリメチルシリル）ジフェニルホスフィンのように自燃性ではないということである。
以下の実施例は、本発明の特定の好ましい態様を例示するよう意図したものであり、発明を制約することを意図するものではない。
実施例１
ＢＩＮＡＰの１，１’−ビナフト−２，２’−ジイルジトリフレートからの調製
８．２５ｇ（３０ｍｍｏｌ）の１，１’−ビナフト−２，２’−ジイルジトリフレートを４０ｍｌのＤＭＦに含む溶液に、５．４ｍｌのＣｌＰＰｈ2（３０ｍｍｏｌ）および５００ｍｇのＮｉＣｌ2（ｄｐｐｅ）（０．９５ｍｍｏｌ）の全量を一度に加えた。亜鉛粉末（２．３１ｇ、３６ｍｍｏｌ）を少量ずつ、反応混合物に、激しく機械的に攪拌しながら加えた。この間、混合物を氷−水浴で外部から冷却した。次いで、混合物を加熱し、１００℃で１９時間攪拌した。次いで、混合物を室温に冷却し、ろ過し、１０ｍｌのメタノールで２回洗浄した。単離した固体（５ｇ）は、９６〜９７％の純度であり、これは、ガスクロマトグラフィー分析により決定された。さらなる精製を、ソックスレー装置で塩化メチレンを用いた連続抽出により行った；実質的に純粋な生成物が抽出され、亜鉛塩が残渣に残留した。ＢＩＮＡＰの全体的な収率は５２％であった。
実施例２
２−（ジフェニルホスフィノ）安息香酸メチルの調製
１７．０８ｇ（５８ｍｍｏｌ）の２−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）安息香酸メチルを９５ｍｌのＤＭＦに含む溶液に、１．１６３ｇのＮｉＣｌ2（ｄｐｐｅ）（２．２ｍｍｏｌ）および１０．８ｍｌのＣｌＰＰｈ2（６０ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を氷−水浴で冷却し、５．３ｇの亜鉛（８３ｍｍｏｌ）を少量ずつ８〜１５℃で加えた。反応混合物を、１０８℃に４時間加熱し、次いで、８０℃でろ過した。ろ液量の１／３を減圧下で除いた。ろ液を一晩冷蔵庫に入れた後に、８．６６ｇの表題化合物が、９７％を超える純度で回収された。
操作を繰り返し、ろ液から、２番晶の表題化合物（３．８７ｇ）が、９７％を超える純度で得られた。
ろ液を真空下で蒸発させ、揮発物を除いて、粘稠性オイルを得た。このオイルのシリカゲルでのクロマトグラフィーを、溶出液として２０％酢酸エチル／ヘキサンを使用して行い、３．３ｇの所望の生成物が得られた。全体的な収率は８２〜８４％であった。
実施例３
２−（ジフェニルホスフィノ）ナフタレンの２−ブロモナフタレンからの調製
４．１４ｇ（２０ｍｍｏｌ）の２−ブロモナフタレンを４０ｍｌのＤＭＦに含む溶液に、０．３７６ｇＮｉＣｌ2（ｄｐｐｅ）（０．７１２ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を０℃に冷却し、３．６ｍｌのＣｌＰＰｈ2（２０ｍｍｏｌ）を滴下して加え、その後、１．７４ｇの亜鉛（２７ｍｍｏｌ）を少量ずつ加えた。この間、内部の温度を８〜１４℃に保った。反応混合物を、１００℃に２時間加熱した。この時、基質の８９％の変換が、ガスクロマトグラフィー分析によって観測された。反応物を、シリカゲルの短いパッドを通して熱時ろ過した。ろ液を減圧下で１／３の容量に濃縮した。ろ液を−１０℃で一晩冷却した。３．６６ｇの表題化合物が、９７％を超える純度で得られた。揮発物を真空下でろ液から除き、３．２ｇの生成物が下記の組成でさらに得られた：
ナフタレン  ６％
２−ブロモナフタレン  ７％
生成物  ７８％
総収率：  ９１％
実施例４
ベンジルジフェニルホスフィンの臭化ベンジルからの調製
２．７ｍｌの臭化ベンジル（２０ｍｍｏｌ）を４０ｍｌのＤＭＦに含む溶液に、０．４３６ｇのＮｉＣｌ２（ｄｐｐｅ）（０．８２６ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を５℃に冷却し、３．６ｍｌのＣｌＰＰｈ2（２０ｍｍｏｌ）を滴下して加え、その後、１．７４ｇの亜鉛（２７ｍｍｏｌ）を少量ずつ加えた。この間、内部の温度を８〜１４℃で保った。反応混合物を、８３℃で４５分間加熱し、この時、表題化合物への８１％の変換がガスクロマトグラフィー分析によって観測された。
実施例５
（Ｓ）−ＢＩＮＡＰの（Ｓ）−１，１’−ビナフト−２，２’−ジイルジトリフレートからの調製
亜鉛を塩酸および水で洗浄し、次いで乾燥することにより予備活性化した亜鉛粉末（１．３４ｇ、２１ｍｍｏｌ）を含む５ｍｌのテトラヒドロフランおよび一粒のヨウ素結晶に、（Ｓ）−１，１’−ビナフト−２，２’−ジイルジトリフレート（３．８２ｇ、６．９ｍｍｏｌ）を含むＤＭＦを３０分かけて４５℃で滴下して加えた。反応混合物を室温に冷却し、ＮｉＣｌ2（ｄｐｐｅ）（３６２ｍｇ、０．６８ｍｍｏｌ）を一度に加え、その後、ＣｌＰＰｈ2（２．５ｍｌ、１３．８ｍｍｏｌ）を含む８ｍｌのＤＭＦを１５分かけて４〜７℃で滴下して加えた。混合物を加熱し、１００℃で１９時間攪拌した。反応を、出発物質がなくなるまでガスクロマトグラフィーによってモニターした。暗赤色の混合物を熱時ろ過した。固体を、冷却して沈澱させ、これをろ過によって集め、５ｍｌのメタノールで２回洗浄して、０．５４ｇの（Ｓ）−ＢＩＮＡＰが得られた。
ろ液を５℃で一晩放置することにより、０．８１ｇの粗生成物が得られた。シリカゲルカラムでのフラッシュクロマトグラフィーの後に、０．７ｇの白色の結晶性物質（ガスクロマトグラフィーにより９４％の純度）が回収された。この物質は、文献値と同一な４１℃の融点を有し、２０℃で［α］D＝−２１０（ベンゼン、ｃ＝０．１）｛文献値：［α］D＝−２０８（ベンゼン、ｃ＝０．５）、２０℃｝であった。
実施例６
１−カルボメトキシ−２−（ジフェニルホスフィノ）ナフタレンの調製
６６．６ｇ（０．１９５ｍｍｏｌ）の１−カルボメトキシ−２−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ナフタレンを４５０ｍｌのＤＭＦに含む溶液に、窒素雰囲気下で、３．６５ｇのＮｉＣｌ2（ｄｐｐｅ）（６．９ｍｍｏｌ）および３５ｍｌのＣｌＰＰｈ2（０．１９５ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を氷−水浴で冷却し、１５ｇの亜鉛（２０％過剰）を少量ずつ８〜１５℃で加えた。次いで、混合物を、１０８℃に２時間加熱して、５０℃に冷却し、シリカを通して、ろ過し、２０ｍｌのメタノールで３回洗浄した。ろ液を真空下でその最初の容量の半分に濃縮し、０〜４℃で結晶化させた。生成物を集め、メタノールで洗浄した。ろ液をさらに濃縮して、さらに物質を結晶化させた。表題化合物の総収量は６６．３ｇ（９２％）であった。
実施例７
１−ベンジルアミド−２−（ジフェニルホスフィノ）ベンゼンの調製
４．７ｇ（１３ｍｍｏｌ）の２−トリフルオロメチルスルホニルオキシ−Ｎ−ベンジルベンズアミドをＤＭＦ（５０ｍｌ）に含む溶液に、ＮｉＣｌ2（ｄｐｐｅ）（０．３３６ｇ、０．６４ｍｍｏｌ）およびＰｈ2ＰＣｌ（２．５ｍｌ、１３．９ｍｍｏｌ）を窒素雰囲気下で加えた。反応混合物を氷浴で冷却し、亜鉛（０．９８ｇ、１５ｍｍｏｌ）を少量ずつ５〜１０℃で加えた。次いで、反応混合物を１０８℃に加熱し、ガスクロマトグラフィーによってモニターした。１２時間後、７３％の変換が観測された。混合物を室温に冷却し、次いで、シリカゲルパッドを通して、ろ過した。ろ液を水（１００ｍｌ）で希釈し、５０ｍｌのジクロロメタンで２回抽出した。溶媒を減圧下で除き、残留したペーストを熱ジクロロメタン−ヘキサン−メタノールから結晶化させ、３．７４ｇ（６７％）の物質が、１６０℃の融点を有する白色針状形態で得られた。この物質の1Ｈ  ＮＭＲおよびマススペクトルは表題化合物と一致した。
実施例８
臭化ベンジルおよびＰｈ2ＰＣｌのＴＨＦ中でのクロスカップリング
臭化ベンジル（３．４２ｇ、２０ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（５０ｍｌ）に含む溶液に、ＮｉＣｌ2（ｄｐｐｅ）（０．２７５ｇ、０．５２ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を氷浴で冷却し、Ｐｈ2ＰＣｌ（３．６ｍｌ、２０ｍｍｏｌ）を滴下して加え、その後、亜鉛（１．５７ｇ、２４ｍｍｏｌ）を少量ずつ加えた。この間、反応温度を５〜９℃の間の範囲に維持した。次いで、反応混合物を室温に加温し、室温で１．２５時間維持し、この時、出発物質の完全な消失および生成物への８５％の変換が、ガスクロマトグラフィーによって観測された。混合物を、シリカゲルパッドを通して、熱時ろ過した。溶媒を減圧下で除き、オイルを得た。このオイルを水（５０ｍｌ）で希釈し、２０ｍｌのジクロロメタンで２回抽出した。有機層を合わせ、溶媒を減圧下で除き、白色残渣を得た。これをヘキサン−ジクロロメタンから再結晶して、９０％を超える収率で白色の結晶性物質が得られた。これは、ホスフィンが空気に敏感であることによるベンジルジフェニルホスフィンの酸化物であることが見出された。
本発明の他の変化および改変は、当業者には明らかである。本発明は、請求の範囲に示されることを除いて限定されない。