(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
制御されたガス雰囲気の中において誘電障壁の電気放電により固体移動基板の表面を処理するためのシステムの操作のための制御装置であって、システムは処理すべき基板がその中を移動する処理装置を含み、この処理装置は、処理装置にガスを供給する手段と、電気放電を起こすために処理装置に電力を供給する手段と、ガス吸引手段とに接続されている制御装置において、入力として、基板が処理装置中を移動する速度に関するデータを受信するように設計されたデータ処理ユニットを含み、このデータ処理ユニットは、出力側において、ガス供給手段と、電力供給手段と、ガス吸引手段とに接続され、これは、
ａ）処理装置を始動するとき、および基板の移動速度が予め決定された速度を上回るときに、
−吸引手段の操作を起動し、
−ガス供給手段の操作を起動し、
−電力供給手段の操作を起動する動作を行い、および、
ｂ）処理装置を停止するとき、および／または基板の移動速度が予め決定された速度を下回るレベルに低下するときに、
−電力供給装置の操作を中断し、
−ガス供給手段の操作を中断し、
−吸引手段の操作を中断する動作を行うことを目的とすることを特徴とする制御装置。
【請求項２】
データ処理ユニットは、装置を始動するａ）の状況において、動作を、
１）吸引手段の操作を起動し、
２）ガス供給手段の操作を起動し、
３）電力供給手段の操作を起動する時系列にて行うことができることを特徴とする請求項１記載の制御装置。
【請求項３】
データ処理ユニットは、装置を停止する、および／または装置の処理速度が予め決定された速度を下回るレベルに低下した場合のｂ）の状況において、動作を、
１）電力供給装置の操作を中断し、
２）ガス供給手段の操作を中断し、
３）吸引手段の操作を中断する時系列にて行うことができることを特徴とする請求項１または２記載の制御装置。
【請求項４】
ガス供給手段は、還元ガス供給手段とキャリアガスおよび酸化性ガス供給手段とを含んでおり、データ処理ユニットは、これらのガス供給手段を起動するとき、キャリアガスおよび酸化性ガス供給手段の操作を起動した後に還元ガス供給手段の操作の起動を伴うように設計され、また、これらのガス供給手段を中断するとき、還元ガス供給手段の操作を中断した後に、キャリアガスおよび酸化性ガス供給手段の操作の中断を伴うように設計されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項記載の制御装置。
【請求項５】
データ処理ユニットは、処理システムの監視／制御を行うために、処理システムの状態センサーおよび／またはファンクショナルアクチュエーターに接続されていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項記載の制御装置。
【請求項６】
データ処理ユニットは、データ転送手段を介して、処理システムを遠隔操作／監視するセンターと接続されていることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項記載の制御装置。
【請求項７】
データ処理ユニットは、データ処理ユニットの故障時に警報手段および／または緊急ガス供給手段の操作を起動するために、処理装置のガス供給手段の状態センサーに接続されていることを特徴とする請求項５または６記載の制御装置。
【請求項８】
データ処理ユニットは、少なくとも１つのマン／マシーンインターフェースに接続されていることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項記載の制御装置。
【請求項９】
基板が処理装置の中を移動する速度に関するデータが、処理装置と関連する速度センサーによって、データ処理ユニットへ送られることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項記載の制御装置。
【請求項１０】
制御されたガス雰囲気の中で誘電障壁の電気放電により固体移動基板の表面を処理するためのシステムの操作のための制御方法であって、システムは処理すべき基板がその中を移動する処理装置を含み、この処理装置は、処理装置にガスを供給する手段と、電気放電を起こすために処理装置に電力を供給する手段と、ガス吸引手段とに接続されている制御方法において、
基板が装置の中を移動する速度を測定し、かつ、
ａ）処理装置を始動するとき、および基板の移動速度が予め決定された速度を上回る時に、
−吸引手段の操作を起動し、
−ガス供給手段の操作を起動し、
−電力供給手段の操作を起動する動作を行い、および
ｂ）処理装置を停止するとき、および／または基板の移動速度が予め決定された速度を下回るレベルに低下するときに、
−電力供給装置の操作を中断し、
−ガス供給手段の操作を中断し、
−吸引手段の操作を中断する動作を行うことを特徴とする制御方法。
【請求項１１】
ａ）の状況において、前記動作を、
１）吸引手段の操作を起動し、
２）ガス供給手段の操作を起動し、
３）電力供給手段の操作を起動する時系列にて行うことを特徴とする請求項１０記載の制御方法。
【請求項１２】
ｂ）の状況において、前記動作を、
１）電力供給装置の操作を中断し、
２）ガス供給手段の操作を中断し、
３）吸引手段の操作を中断する時系列にて行うことを特徴とする請求項１０または１１記載の制御方法
【請求項１３】
ガス供給手段は、還元ガス供給手段とキャリアガスおよび酸化性ガス供給手段とを含んでおり、データ処理ユニットは、これらのガス供給手段の操作を起動するとき、キャリアガスおよび酸化性ガス供給手段の操作を起動した後に還元ガス供給手段の操作の起動を伴い、また、これらのガス供給手段の操作を中断するとき、還元ガス供給手段の操作を中断した後に、キャリアガスおよび酸化性ガス供給手段の操作の中断を伴うことを特徴とする請求項１０ないし１２のいずれか１項記載の制御装置。
【請求項１４】
処理装置は、データ転送手段を介して、遠隔操作／監視されることを特徴とする請求項１０ないし１３のいずれか１項記載の制御装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、制御されたガス雰囲気の中で誘電障壁の電気放電により固体移動基板の表面を処理するためのシステムの操作のための制御装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
具体例として、次の用途例について説明することができる：食物梱包用のポリマーフィルムの処理、またはコンデンサーの製造である。
【０００３】
例えば「南アフリカにおけるプラスチックス（Ｐｌａｓｔｉｃｓ  Ｓｏｕｔｈｅｒｎ  Ａｆｒｉｃａ）」（１９８３、６月）の５０ページ以下に現れるプリンツ（Ｅ．Ｐｒｉｎｚ）の名前の文献より、処理すべき基板がその中を移動する処理装置を含むこの種の表面処理システムが、従来技術においてすでに知られている。この処理装置は、処理装置にガスを供給する手段と、電気放電を起こすために処理装置に電力を供給する手段と、ガス吸引手段とに接続されている。
【０００４】
このような装置により、基板の塗れ性の、特に接着の特性、およびガス不透過性の特性を改善するように、基板を処理することができ、その結果、基板の用途分野を広げることができる。
【０００５】
それゆえ、本出願人の名義による文献EP-516,804により、ポリマー材料からなる基板に接着するシリコン酸化物の薄膜を堆積させることが、すでに提案されている。これは、基板の１つの表面を誘電障壁の電気放電に供し、この表面をシランを含む雰囲気にさらすことを含み、これにより、基板の表面に接着してシリコン酸化物が堆積される。
【０００６】
この種のプロセスを実施するための処理装置は、一般に基板の連続生産または連続改質を行うためのラインに組み込まれ（この改質工程には、例えば、メタライジング、インキング、またはラミネート工程が含まれ得る）、これらの装置は、例えば、この生産／改質ラインの関数として予め決定されたレシピを用いて調節される。
【０００７】
しかし、このような処理システムの操作制御、特にこの種のガスの操作制御には、このようなシステムの操作を特に安全上の点から管理する上において起こり得る不十分な調整に関連した、多くの問題が存在し得ることが認められる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、上述の問題を解決することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
この目的のために、本発明において対象としているのは、制御されたガス雰囲気の中において誘電障壁の電気放電により固体移動基板の表面を処理するためのシステムの操作のための制御装置であって、システムは処理すべき基板がその中を移動する処理装置を含み、この処理装置は、処理装置にガスを供給する手段と、電気放電を起こすために処理装置に電力を供給する手段と、ガス吸引手段とに接続されている制御装置において、入力として、基板が処理装置を移動する速度に関するデータを受信するように設計されたデータ処理ユニットを含み、このデータ処理ユニットは、出力側において、ガス供給手段と、電力供給手段と、ガス吸引手段とに接続され、これは、
ａ）処理装置を始動するとき、および基板の移動速度が予め決定された速度を上回るときに、
−吸引手段の操作を起動し、
−ガス供給手段の操作を起動し、
−電力供給手段の操作を起動する動作を行い、および、
ｂ）処理装置を停止するとき、および／または基板の移動速度が予め決定された速度を下回るレベルに低下するときに、
−電力供給装置の操作を中断し、
−ガス供給手段の操作を中断し、
−吸引手段の操作を中断する動作を行うことを目的とすることを特徴とする。
【００１０】
装置を始動するａ）の状況において、動作は、
１）吸引手段の操作を起動し、
２）ガス供給手段の操作を起動し、
３）電力供給手段の操作を起動する時系列にて行われることが好ましい。
【００１１】
装置を停止する、および／または装置の処理速度が予め決定された速度を下回るレベルに低下した場合のｂ）の状況において、動作は、
１）電力供給装置の操作を中断し、
２）ガス供給手段の操作を中断し、
３）吸引手段の操作を中断する時系列にて行われることが好ましい。
【００１２】
本発明における「予め決定された速度」は、ａ）およびｂ）の状況において同一であっても良いが、違っていても良い。
【００１３】
当該技術分野に精通した者にとっては自明であるように、状況ａ）および／またはｂ）に含まれる予め決定された速度は、各ユーザーでの操作条件に依存しながら、例えば、以下の方法の少なくとも１つを考慮することによって、場合ごとに設定される。
【００１４】
−それを下回ると基板処理が満足できるものでない最低速度を用いる
−それを下回ると基板劣化の危険が生じる最低速度を用いる（基板が放電と接触している間の時間）。この速度は特に基板の性質による。
【００１５】
従って、事情によるが、状況ａ）もしくは状況ｂ）に含まれる「起動」または「中断」は、即座に、または、事実上即座に起こり得ることが理解される（従って、状況ａ）において大変低い予め決定された速度のレベルにより、または、状況ｂ）において装置が停止する前に採用していた移動速度に大変近い速度により）。
【００１６】
本発明の態様の１つとして、ガス供給手段は、還元ガス供給手段とキャリアガスおよび酸化性ガス供給手段とを含んでおり、データ処理ユニットは、これらのガス供給手段の操作を起動するとき、キャリアガスおよび酸化性ガス供給手段の操作を起動した後に還元ガス供給手段の操作の起動を伴うように設計され、また、これらのガス供給手段の操作を中断するとき、還元ガス供給手段の操作を中断した後に、キャリアガスおよび酸化性ガス供給手段の操作の中断を伴うように設計されている。
【００１７】
【発明の実施の形態】
本発明に係る制御の構造および操作を例示する概略図を示す図面を参照して実施例のみとして示される以下の説明を読むことにより、本発明はより明瞭に理解される。
【００１８】
実際にはこの図において、制御されたガス状の雰囲気の中で誘電障壁の電気放電により固体移動基板の表面を処理するためのシステムの操作のための制御装置が認められる。
【００１９】
この処理プロセスについてさらに知りたい場合には、前述の従来の文献を参照符号すれば良い（EP-516,804）。
【００２０】
この図において、処理システムは一般的に参照符号１で示され、この処理システムには、その中を処理すべき基板が移動する処理装置（一般的な参照符号２で示す）が含まれている。
【００２１】
この基板は一般的な参照符号３で示され、そして、例えば、静止部４と回転部５の間を通って処理装置の中を移動するように設計されたフィルムの形状をなす。静止部４と回転部５は、支持手段６上に配置されている（静止部４は処理相の間は静止しているが、他の相の間にシステムを上昇、下降できるジャッキ上に、システムは通常載置されている）。
【００２２】
このような処理装置は、より具体的には処理装置の静止部４は、処理装置にガスを供給する手段（一般的な参照符号７で示す）と、電気放電を起こすように処理装置に電力を供給する手段（一般的な参照符号８で示す）と、ガス吸引手段（一般的な参照符号９で示す）とに接続されている。
【００２３】
本発明において、制御装置には、データ記憶手段と関連する何らかの適切なコンピューターが含まれるデータ処理ユニット（図中、一般的な参照符号１０で示す）が含まれている。コンピューターは、図中、一般的な参照符号１１で示し、データ記憶手段は、図中、一般的な参照符号１２で示す。
【００２４】
このデータ処理ユニット１０は、入力として、基板が処理装置を移動する速度に関するデータを、例えば処理装置の回転部５と関連する、例えば速度センサー１３から受信する。
【００２５】
さらに、データ処理ユニット１０は、出力側において、ガス供給手段７と、電力供給手段８と、およびガス吸引手段９とに接続されており、これは、処理装置を始動するとき、および基板の移動速度が予め決定された速度を上回るときに、例えば連続して、
１）吸引手段９の操作を起動し、
２）ガス供給手段７の操作を起動し、
３）電力供給手段８の操作を起動する動作を行うことを目的とする。
【００２６】
さらに、処理装置を停止するとき、および／または基板の移動速度が予め決定された速度を下回るレベルに低下するときに、データ処理ユニットは、例えば連続して、
１）電力供給装置８の操作を中断する、
２）ガス供給手段７の操作を中断する、
３）吸引手段９の操作を中断するように設計されている。
【００２７】
また、図において、ガス供給手段７に、シランのような還元ガスを供給する手段（図中、一般的な参照符号１４によって示す）、キャリアガスおよび酸化性ガスを供給する手段（例えば、それぞれ参照符号１５および１６によって示す）が含まれていても良いことが示されている。
【００２８】
この場合において、これらのガス供給手段７の操作を起動するとき、データ処理ユニット１０は、例えばキャリアガスおよび酸化性ガス供給手段１５、１６の操作を起動した後に、還元ガス供給手段１４の操作の起動を伴うように設計されており、また、これらのガス供給手段の操作を中断するとき、還元ガス供給手段１４の操作を中断した後に、キャリアガスおよび酸化性ガス供給手段１５、１６のそれぞれの操作の中断を伴うように設計されている。
【００２９】
従って、このデータ処理ユニットにより、処理システムの様々な手段を制御するある特定の手順を実施することが可能となり、その結果、処理システムを管理する上での不十分な調整から起こるかも知れないどんな問題も、防止または解決することができることが認められる。
【００３０】
さらに、このデータ処理ユニット１０は、また、処理システムの操作を監視／制御するために、処理システムの状態センサーおよび／または操作アクチュエーターに接続されることが好ましい。
【００３１】
これらの様々なセンサーおよび／またはアクチュエーターは、例えば、処理装置２における一般的な参照符号１７、電力供給手段８における１８、吸引手段９における１９、およびガス供給手段７における２０によって示されている。
【００３２】
例えば、上述の状態センサーは、処理ガスフローメータからなるか、または圧力センサーからなるか、または吸引速度センサーからなっていても良い。
【００３３】
また、例えば、ガス供給手段７と関連する手段２０は、データ処理ユニットの故障時にデータ処理ユニット１０に接続された警報手段２１の操作を起動するために、装置の種々のガス供給手段の状態センサーのような手段と関連していても良いことに注意されたい。
【００３４】
このようにして、例えば還元ガス供給手段１４は検出器２２と関連していても良く、一方、キャリアガスおよび酸化性ガス供給手段１５、１６は、それぞれ検出器２３、２４と関連していても良い。
【００３５】
上述の検出器は、警報を発してシステムを操作している者の注意を喚起することを可能にする、またはシステムを遠隔操作／監視するためのシステムに警報を送るために、例えば、これらの手段の供給障害を検出する装置を含む。
【００３６】
例えば、主ガス供給源から補助または緊急ガス供給源に切り換えるために、対応する供給障害データを発生させて使用しても良い。
【００３７】
最後に、データ処理ユニット１０は、なんらかの適切なコンピューターターミナルからなるマン／マシーンインターフェース２５に接続されていても良く、また、適切な種類のデータ転送手段２６によって処理システムを遠隔操作／監視するセンターと接続されていても良い。
【００３８】
また、これらのデータ転送手段２６およびデータ処理ユニット１０を介して、システムを遠隔操作／監視するこのセンターへ供給障害データが転送されても良い。
【００３９】
もちろん、処理システムの対応する手段の動作を起動および中断は、処理システムの性質に依存する。
【００４０】
従って、例えば、ガス供給手段は、データ処理ユニットによって制御される電気制御の出力バルブと関連していても良く、一方で、吸引手段および電力供給手段は、例えばこのユニットによりオン／オフされても良い。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る制御の構造および操作を具体的に示す概略図。
【符号の説明】
１…処理システム、
２…処理装置、
３…基板、
４…静止部、
５…回転部、
６…支持手段、
７…ガス供給手段、
８…電力供給手段、
９…ガス吸引手段、
１０…データ処理ユニット、
１１…コンピューター、
１２…データ記憶手段、
１３…速度センサー、
１４…還元ガス供給手段、
１５…キャリアガス供給手段、
１６…酸化性ガス供給手段、
１７、１８、１９、２０…状態センサーおよび／またはアクチュエーター、
２１…警報手段、
２２、２３、２４…検出器、
２５…マン／マシーンインターフェース、
２６…データ転送手段。
【図１】
0004080571.tif 000002