(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
銀、レニウム及びアルカリ金属を担体に担持させてなる触媒に、オレフィン、酸素及び炭素数１〜３の塩素化炭化水素を含む原料ガスを接触させてオレフィンオキシドを製造する方法において、オレフィンオキシドの選択率が１週間当り０．７％以上低下したならば、原料ガス中の塩素化炭化水素の濃度を、塩素分子換算で、１．５体積ｐｐｍを越えない範囲で、０．１５体積ｐｐｍ以上増加させることを特徴とするオレフィンオキシドの製造方法。
【請求項２】
オレフィンオキシドの選択率が１週間当り１．０％以上低下したならば原料ガス中の塩素化炭化水素の濃度を塩素分子換算で０．１５体積ｐｐｍ以上増加させることを特徴とする、請求項１記載のオレフィンオキシドの製造方法。
【請求項３】
オレフィンオキシドの選択率が１週間当り１．５％以上低下したならば原料ガス中の塩素化炭化水素の濃度を塩素分子換算で０．１５体積ｐｐｍ以上増加させることを特徴とする、請求項１記載のオレフィンオキシドの製造方法。
【請求項４】
オレフィンオキシドの選択率を２日間以上にわたって追跡し、その選択率の低下を外挿して１週間当りの選択率の低下を算出することを特徴とする、請求項１ないし３のいずれかに記載のオレフィンオキシドの製造方法。
【請求項５】
触媒が比表面積０．８〜１．７ｍ2／ｇの担体に、銀、レニウム及びアルカリ金属を担持させたものであることを特徴とする、請求項１ないし４のいずれかに記載のオレフィンオキシドの製造方法。
【請求項６】
触媒が、担体にアルカリ金属を担持したのち銀、レニウム及びアルカリ金属を担持する工程を経て製造されたものであることを特徴とする、請求項１ないし５のいずかに記載のオレフィンオキシドの製造方法。
【請求項７】
１週間当りのオレフィンオキシドの選択率が所定の値以上低下したならば、原料ガス中の塩素化炭化水素の濃度を塩素分子換算で０．２５体積ｐｐｍ以上増加させることを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載のオレフィンオキシドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はオレフィン、特にエチレンを気相接触酸化してオレフィンオキシドを製造する方法に関するものである。本発明によればオレフィンオキシドを長期間に亘り高選択率で製造することができる。
【０００２】
【従来の技術】
エチレンを気相接触酸化してエチレンオキシドを製造することは大規模に行われている。触媒としては銀を主体とし、これに種々の助触媒成分を添加した担体付触媒が主に用いられている。例えば特開昭４９−３０２８６号公報には、多孔性担体にカリウム、ルビジウム、セシウムなどのアルカリ金属を銀と同時に担持させた触媒が、高い選択率でエチレンオキシドを与えることが記載されている。特開昭５３−１１９１号公報には、銀にナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムなどを含有させると、触媒の活性及び選択性が向上すると記載されている。アルカリ金属以外の助触媒成分としては、レニウム（特開昭６３−１２６５５２号公報）、モリブデン（特開平２−１３１１４０、２４１５４４号公報）、タングステン（特開平６−２９６８６７、３４３８６４号公報）などが知られている。
【０００３】
また、この反応を行うに際しては、原料ガス中に有機ハロゲン化合物を微量含有させるのが好ましいことが知られており、その含有量の制御方法についても種々検討されている（特開平２−１０４５７９、１０４５８０号公報）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
銀を主成分とし、これに上述した種々の助触媒成分を含有させた触媒は、いずれも使用中にその性能が漸次劣化する。公知のエチレンオキシド製造用触媒のなかでも好ましいものの一つとして知られている、銀を主成分とし、レニウム及びアルカリ金属を助触媒成分とする触媒では、この劣化傾向が特に顕著であり、使用中にそのエチレンオキシドの選択率が漸次低下する。この選択率の低下は、エチレンオキシド製造のエチレン原単位を悪化させるので、看過し得ない大きな問題である。従って本発明は、この選択率の低下を抑制して、工業的に有利にオレフィンオキシド、特にエチレンオキシドを製造する方法を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、銀、レニウム及びアルカリ金属を担体に担持させてなる触媒に、オレフィン、酸素及び炭素数１〜３の塩素化炭化水素を含む原料ガスを接触させてオレフィンオキシドを製造する方法において、オレフィンオキシドの選択率が１週間当り０．７％以上低下したならば原料ガス中の塩素化炭化水素の濃度を、塩素分子換算で、１．５体積ｐｐｍを越えない範囲で、０．１５体積ｐｐｍ以上増加させることにより、長期間にわたり高選択率でオレフィンオキシドを製造することができる。
【０００６】
【発明の実施の形態】
本発明では、銀、レニウム及びアルカリ金属の少なくとも三者を担体に担持させた担体付触媒を用いる。担体としては、アルミナ、チタニア、ジルコニア、マグネシア、炭化ケイ素など常用の耐火性担体を用いる。なかでもアルミナ、特にα−アルミナを用いるのが好ましい。担体の比表面積は、０．１〜３．０ｍ2 ／ｇ、特に０．８〜１．７ｍ2 ／ｇであるのが好ましい。
【０００７】
銀、レニウム及びアルカリ金属の担体への担持は、常法に従って行うことができる。通常はそれぞれの成分を単独で、又は他の成分との混合溶液として担体に含浸させる。含浸の順序は任意であり、例えば先ず銀を担持させたのち、アルカリ金属及びレニウムを担持させることもできるし、銀と一緒にアルカリ金属やレニウムを担持させることもできる。好ましくは担体にアルカリ金属の溶液を含浸して乾燥させたのち、これに銀及びレニウムを担持させる。銀及びレニウムを担持させる際にアルカリ金属をもう一度担持させるのも好ましい。なお、担体にアルカリ金属の溶液を含浸させたのちの乾燥は、窒素、ヘリウム、アルゴンなどの不活性気体中で行ってもよく、また空気や過熱水蒸気中で行ってもよい。なかでも過熱水蒸気中で行うのが好ましい。乾燥は１２０〜５００℃、特に１２０〜２５０℃で行うのが好ましい。
【０００８】
アルカリ金属としてはセシウム、リチウム、ナトリウムなどのいずれを用いることもできるが、セシウム又はセシウムと他のものとを併用するのが好ましい。通常は水酸化物、ハロゲン化物、硝酸塩、酢酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、硫酸塩などを用い、水溶液として担体に含浸させる。レニウムとしては酸化レニウムや過レニウム酸のアンモニウム塩やアルカリ金属塩などを用いればよい。銀としては、通常はアンモニアやアミノ基、カルボニル基、カルボキシル基などを有する化合物と錯体を形成して水や有機溶媒に溶解し、かつ５００℃以下の温度で分解して銀を析出する銀化合物を用いる。なかでも３００℃以下、特に２６０℃以下の温度で分解して銀を析出する銀化合物を用いるのが好ましい。例えば酸化銀、硝酸銀、炭酸銀、硫酸銀、酢酸銀、シュウ酸銀などを用いる。なかでもシュウ酸銀を用いるのが好ましい。錯体形成に用いるアミノ基を有する化合物としては、通常はピリジンや炭素数１〜６のアルキルアミンなどのモノアミン；エチレンジアミン、１，３−ジアミノプロパンなどのポリアミン；エタノールアミン、プロパノールアミンなどのアルカノールアミンなどが用いられる。なかでもエチレンジアミンや１，３−ジアミノプロパンを用いるのが好ましく、両者の混合物を用いるのがより好ましい。またカルボニル基を有する化合物としてはアセチルアセトンなどのβ−ジケトンが、カルボキシル基を有する化合物としてはネオデカン酸などがそれぞれ用いられる。
【０００９】
銀は最終的に生成する触媒の銀の含有量が５〜３０重量％となるように担体に担持させるのが好ましい。またアルカリ金属及びレニウムは、通常は最終的に生成する触媒中の含有量が、それぞれ２０〜１０，０００重量ｐｐｍ、及び１０〜５，０００重量ｐｐｍとなるように担持させる。アルカリ金属及びレニウムの好ましい担持量はそれぞれ１００〜２，０００重量ｐｐｍ及び５０〜１，０００重量ｐｐｍである。銀、レニウム及びアルカリ金属はいずれも溶液として担体に含浸させ、次いで加熱して担体に担持させるのが好ましい。この処理により銀は化合物から金属として析出して担体に担持されるが、加熱による銀の析出は、空気又は窒素、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス中で１２０〜５００℃で３０分〜２４時間行えばよい。好ましくは０．３〜５ｍ／秒の過熱水蒸気の流通下に、１２０〜３００℃、特に１３０〜２６０℃で、１分〜３時間、特に３分〜３０分間加熱して析出させる。過熱水蒸気を用いると一般に性能の良好な触媒が得られるが、これは触媒中における銀、レニウム、及びアルカリ金属の分布が均一になるためと考えられる。通常は触媒成分を含浸させた担体を、固定床方式又は移動床方式の熱処理装置に収容し、床内に加熱されたガスを流通させることにより触媒の調製を行う。
【００１０】
本発明では、この担体に銀、レニウム及びアルカリ金属を担持させた触媒に、オレフィン、酸素及び微量のハロゲン化合物を含む原料ガスを接触させてオレフィンオキシドを生成させる。オレフィンとしてはブタジエンなども用い得るが通常はエチレンを用いる。エチレンを原料とする場合には、原料ガスの組成はエチレンが１〜４０体積％、酸素が１〜２０体積％であり、残部は窒素、メタンその他の希釈剤である。また、原料ガス中にはハロゲン化合物を１〜５０体積ｐｐｍ程度含有させる。ハロゲン化合物としては通常は塩素化合物、例えば塩素、塩化水素、炭素数１〜５の有機塩素化合物などが用いられる。取扱いの容易な点からして、モノクロロメタン、モノクロロエタン、１，２−ジクロロエタン、モノクロロプロパン、１，２−ジクロロプロパン、１，３−ジクロロプロパン、塩化ビニルなど、炭素数１〜３の塩素化炭化水素を用いるのが好ましい。所望ならば、これらの２種以上を併用してもよい。これらの有機塩素化合物を用いる場合には、原料ガス中のその濃度は、反応初期において０．５〜１０体積ｐｐｍ程度が好ましい。
【００１１】
反応は通常は１８０〜３５０℃、好ましくは２００〜３００℃の温度、０．１〜４ＭＰａの圧力下で行われる。原料ガスの空塔速度（ＧＨＳＶ）は、通常は０℃、１気圧で１，０００〜１０，０００ｈｒ-1である。
銀、レニウム及びアルカリ金属を含む触媒を用いて上記の条件で反応を行わせると、エチレンオキシドの選択率は、反応開始時から次第に上昇して最高値に達する。この間は原料ガス中のハロゲン化合物の濃度は一定、好ましくは濃度変化が±０．５ｐｐｍの範囲におさまるようにするのが好ましい。エチレンオキシドの選択率が最高値に達した後は、選択率は次第に低下する。本発明では反応生成ガスを分析して選択率の低下を経時的に追跡し、選択率が１週間当り０．７％以上低下したならば、原料ガス中のハロゲン化合物の濃度をハロゲン分子換算で０．１５体積ｐｐｍ以上、好ましくは０．２５体積ｐｐｍ以上増加させる。選択率の低下が小さいうちにハロゲン化合物の濃度を増加させると、選択率が逆に低下するおそれがあるので、選択率の低下が十分に大きくなってからハロゲン化合物の濃度を増加させるのが好ましい。なお、ハロゲン分子換算で０．１５ｐｐｍ以上とは、モノクロロエタンや塩化ビニルのようなモノクロロ有機化合物であれば０．３体積ｐｐｍ以上であり、ジクロロエタンやジクロロプロパンのようなジクロロ有機化合物であれば０．１５体積ｐｐｍ以上であることを意味する。
【００１２】
エチレンオキシドの選択率に１週間当り１．０％以上、特に１．５％以上の低下が認められてからハロゲン化合物の濃度を増加させるのが好ましい。これにより低下した選択率を回復させることができる。なお、１週間当りの選択率の低下とは、エチレンオキシドの空時収率（ＳＴＹ）が一定となるように反応温度などを制御して反応を行った場合に生ずると考えられる選択率の低下であり、反応生成ガスを分析してその選択率を経時的に追跡し、その変化傾向を外挿することにより、一週間当りの選択率の低下を算出することができる。反応生成ガスの分析はガスクロマトグラフィーや質量分析計などで行えばよい。なお、分析精度の問題があるので、少なくとも２日間の分析値に基づいて１週間当りの選択率の低下を算出するのが好ましい。また、選択率の変化を追跡する途中で反応条件を変化させた場合には、経験的に求められるプラント固有の推算式に基づいて、選択率に及ぼす反応条件の変化の影響を補正すればよい。
【００１３】
本発明はエチレンからのエチレンオキシドの製造に特に好適であるが、他のオレフィン、例えばブタジエンのエポキシ化にも適用できる。
【００１４】
【実施例】
以下に実施例により本発明を更に具体的に説明する。なお、実施例で用いた触媒は下記により調製した。
触媒の調製；
α−アルミナ担体（表面積１．０４ｍ2 ／ｇ、吸収率３２．３％、平均細孔径１．４μｍ、シリカ含有量３．０重量％、外径８ｍｍ、内径３ｍｍ、高さ８ｍｍの筒状）９０ｇを、炭酸リチウム（Ｌｉ2 ＣＯ3 ）１．４０ｇと炭酸セシウム（Ｃｓ2 ＣＯ3 ）０．１２９ｇが溶解している水溶液１５０ｍＬに投入し、担体に水溶液を含浸させた。担体を取り出し、これに１５０℃の過熱水蒸気を２ｍ／秒で１５分間接触させて乾燥させた。得られた担体のリチウム含有量は５６８重量ｐｐｍであり、セシウム含有量は２２７重量ｐｐｍであった。
【００１５】
硝酸銀（ＡｇＮＯ3 ）２２８ｇを１Ｌの水に溶解した水溶液と、シュウ酸カリウム（Ｋ2 Ｃ2 Ｏ4 ・Ｈ2 Ｏ）１３５ｇを１Ｌの水に溶解した水溶液を調製し、両溶液を６０℃で徐々に混合してシュウ酸銀の白色沈澱を生成させた。濾過して沈澱を回収し、蒸留水で洗浄してシュウ酸銀の沈澱（Ａｇ2 Ｃ2 Ｏ4 、含水率２１．２％）を得た。
【００１６】
エチレンジアミン２．０５ｇ、１，３−ジアミノプロパン０．５６２ｇ及び水２．６５ｇから成る混合アミン水溶液に、上記で得たシュウ酸銀の含水沈澱７．３１ｇを徐々に添加して溶解させ、銀アミン錯体溶液を調製した。これに硝酸セシウム（ＣｓＮＯ3 ）の５．５４重量％水溶液０．６ｍＬ及び過レニウム酸アンモニウム（ＮＨ4 ＲｅＯ4 ）の３．０５重量％水溶液０．６ｍＬを添加して、銀、レニウム及びセシウムを含む溶液を得た。この溶液をエバポレーターに入れ、これに上記で調製したリチウム及びセシウムを担持させた担体３０ｇを加え、減圧下に４０℃で保持して溶液を担体に含浸させた。次いでこの担体を取出し、これに２００℃の過熱水蒸気を２ｍ／秒で１５分間接触させて触媒を調製した。得られた触媒の銀、レニウム、セシウム及びリチウムの担持量は、それぞれ１２重量％、３７０重量ｐｐｍ、６７０重量ｐｐｍ及び４７０重量ｐｐｍであった。この触媒を破砕し、６〜１０メッシュの部分を以下の実験に用いた。
【００１７】
実施例１
内径７．５ｍｍのステンレススチール製反応管に、触媒３ｍＬを充填し、これに原料ガス（エチレン３０体積％、酸素８．５体積％、塩化ビニル１．５体積ｐｐｍ、二酸化炭素６．０体積％、残部窒素）を０℃、１気圧でのＧＨＳＶとして４３００ｈｒ-1、圧力０．８ＭＰａで供給し、エチレンオキシドの触媒１Ｌ当りの空時収率（ＳＴＹ）が０．１９ｋｇ−エチレンオキシド／ｈｒとなるように反応温度を制御した。反応の経過に伴う反応温度、エチレンオキシドの選択率を表−１に示す。
【００１８】
なお、エチレンオキシドの選択率は４時間間隔で反応生成ガスを分析してエチレンオキシドの選択率を算出し、その１日の平均値をもってその日のエチレンオキシドの選択率とした。塩化ビニル濃度を変化させる操作はその日の分析結果がでてから行った。
【００１９】
【表１】
0004042332.tif 000002
反応開始から約１８日でエチレンオキシドの選択率が最高値に達し、その後、選択率は低下した。２４日目から２９日目の５日間で選択率が１週間当り２．７％低下したので原料ガス中の塩化ビニル濃度を１．０体積ｐｐｍ増加させ２．５ｐｐｍとしたところ、エチレンオキシドの選択率は３４日目で８８．０％に向上した。その後、選択率がまた低下し、４４日目に１週間当りの選択率の低下が１．０％に達したことが確認されたので、原料ガス中の塩化ビニル濃度を更に０．５体積ｐｐｍ増加させて３．０体積ｐｐｍとしたところ、選択率は４８日目で８７．１％と再び向上した。その後、選択率は６２日目までゆるやかにほぼ直線的に低下したが、１週間当りの選択率の低下は約０．４％であった。この状態で原料ガス中の塩化ビニル濃度を更に０．５体積ｐｐｍ増加させて３．５体積ｐｐｍとしたところ、選択率は逆に低下しはじめた。６６日目に選択率が８３．８％まで低下したので、原料ガス中の塩化ビニル濃度を０．５体積ｐｐｍ減少させて３．０体積ｐｐｍとした。その結果、選択率は向上し、７７日目で８５．９％にまで回復した。