(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）′：
【化１】
0004154018.tif 000011
［式中、Ｃ＝Ｃ二重結合は、Ｚ又はＥ配置にあり、可変項は、下記の意味を有する：
Ｒ1は、Ｈ、ＣＨ3を表し、Ｒ2は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルを表し、Ｒ3は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルを表し、Ａｒは、アルコキシカルボニルを置換基として有するフェニルを表す］のアリールアミノメチレンショウノウ誘導体からなるＵＶ−Ａフィルター。
【請求項２】
請求項１に記載のＵＶ−Ａフィルターを含有する化粧品。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、式（１）：
【０００２】
【化２】
0004154018.tif 000002
【０００３】
のアリールアミノメチレンショウノウ誘導体及び光線防遮剤としての、殊に化粧品及び製剤学的調製剤（formulation）中でのその使用に関する。
【０００４】
【従来の技術】
ショウノウ誘導体をベースとする遮光フィルターは公知である。ドイツ特許第２３３６２１９号明細書では、スルホン化ベンジリデン−及びシンナミリデンショウノウ誘導体が記載されており、これらは、フェニル環の４位で非置換であるか又はメチル、メトキシ若しくは塩素で置換されている。
【０００５】
ドイツ特許第３４４５７１２号明細書では、薬剤として皮膚疾患の治療に適する一連の不飽和ショウノウ誘導体、有利にベンジリデンショウノウ誘導体が記載されている。
【０００６】
ドイツ特許第４４２６２１６号明細書では、太陽光フィルターとして、並びに炎症及び皮膚疾患の予防のために使用可能であるベンジリデン−ノルショウノウ誘導体が記載されている。
【０００７】
ドイツ特許第４４２４４８９号明細書には、置換４−メチリデンケイ皮酸誘導体の製法が記載されている。
【０００８】
ビニローグアミド（vinylogous amide）をベースとする遮光フィルターは、同様に公知である。ドイツ特許第３３１６２８７号明細書には、サンスクリーン剤剤中の光フィルターとして適している、開鎖構造を有する一連のビニローグアミドが記載されている。
【０００９】
ＵＶ−Ａフィルターとして使用されるべき光線防遮剤に対する要求条件は多い（Sunscreens, N.J. Lowe 編, N.A. Shaath, Marcel Dekker Inc., New York 1990, 230〜231 頁）。最も重要なのは：
１）光線防遮剤は、その吸収極大を３２０〜３６０ｎｍのＵＶ−Ａ領域の範囲に有する；
２）光線防遮剤は、この範囲に高い比吸収を有する；
３）使用後、皮膚保護剤又は衣服の着色が生じないように、光線防遮剤は無色である、即ち４００ｎｍを越える吸収は僅少であるべきである；
４）光線防遮剤は、光安定性かつ熱安定性である；
５）光線防遮剤は、皮膚適合性でありかつ皮膚に対して刺激性又は毒性作用をもたらさない；
６）光線防遮剤は、皮膚上で良好に接着する；
７）光線防遮剤は、化粧品物質と相溶性であり、化粧品溶剤及び化粧品中で易溶である；
８）光線防遮剤は、異性体として純粋（isomerically pure）である、
ということである。
【００１０】
公知のシンナミリデンショウノウ誘導体は、ＵＶ−Ａ領域で十分な保護作用を示さない広帯域ＵＶフィルターである。更に、その溶解性は、特に油相中で幾つかの用途のためには不十分である。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
従って、特に、良好な光安定性、油相中での良好な溶解性及びＵＶ−Ａ領域での優良な吸収極大を有する、ＵＶ−Ａフィルターとして好適な化合物を提供するという課題が存在した。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
式（１）：
【００１３】
【化３】
0004154018.tif 000003
【００１４】
［式中、Ｃ＝Ｃ二重結合はＺ又はＥ配置にあり、
Ｒ1は、Ｈ、ＣＨ3を表し、Ｒ2は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ2〜Ｃ6−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルケニル、アリール又は置換アリールを表し、Ｒ3は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、アリール、置換アリール、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ8−アシルを表し、Ａｒは、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、置換ヘテロアリールを表す］のアリールアミノメチレンショウノウ化合物が現存の課題を良好に解決することを見いだした。
【００１５】
（１）の製造は、一般式（２）のヒドロキシメチレンショウノウ化合物（L. Claisen, Ann. 281, 1894, 306 頁により製造される）を一般式（３）のアミンと、塩基又は酸の存在で、及び場合により１種又は数種の溶剤の添加の下に、０℃〜２００℃の温度で反応させることにより行われる。
【００１６】
【化４】
0004154018.tif 000004
【００１７】
本発明による化合物の製造のためには、（２）及び（３）を等モルで反応させる。
【００１８】
反応は、一般的にプロトン性溶剤、例えばメタノール又はエタノール中で実施する。しかしながら、反応を、エーテル、例えばジエチルエーテル若しくはテトラヒドロフラン中で、Ｃ1〜Ｃ20を有するパラフィン混合物中で又は他の脂肪族若しくは芳香族溶剤、例えばヘキサン、トルエン若しくはキシレン中で実施することもできる。
【００１９】
しかしながら、反応を塊状で、即ち溶剤なしで実施することも可能である。低級アルコール中で作業するのが有利であり、良好な空時収率を得るためには、反応温度で撹拌可能な混合物が生じる程に少ない溶剤中で作業する。
【００２０】
（２）及び（３）を反応させる順序は任意である。触媒を予め装入するか又は計量添加してもよい。反応は、１ポット反応（one-pot reaction）として実施可能である。同様に、（２）を触媒と一緒に予め装入し、（３）を計量添加することができ、また、その逆でもよい。触媒を（３）と一緒に予め装入し、（２）を計量添加することも可能である。
【００２１】
反応は、０℃〜＋２００℃の広い温度範囲で実施することができる。２０℃〜１００℃の温度範囲が有利である。６０℃〜９０℃の温度範囲が特に有利である。
【００２２】
反応時間は、直接に反応温度に依存する。一般的に、反応は特に有利な温度範囲で１〜５時間後に終了する。より低い温度又は低い定常状態濃度では、反応時間は著しく長くなり、４８時間まで要することがある。
【００２３】
触媒として、任意の有機若しくは無機塩基又はそれらの混合物を使用することができる。典型的な塩基性触媒は、例えばピリジン、トリメチルアミン又は無機炭酸塩である。塩基は、反応混合物中に均一に又は不均一に存在してよい。
【００２４】
反応に、有機若しくは無機酸又はそれらの混合物を触媒として使用するのが有利である。無機酸としては、特に、塩酸、硫酸、硝酸及び／又はリン酸を使用することができる。
【００２５】
有機酸としては、特にギ酸、酢酸、シュウ酸、コハク酸、アスコルビン酸及び／又はスルホン酸、例えばメタンスルホン酸若しくはトルエンスルホン酸を使用することができる。
【００２６】
更に、酸性イオン交換体が、（２）と（３）との反応用の触媒として同様に適する。
【００２７】
目的生成物（１）の単離は、慣用の技術、例えば沈殿、濾過、遠心分離、相分離及び溶剤での抽出により行われる。
【００２８】
目的生成物（１）の精製は、有機溶剤及びその混合物及び／又は水からの再結晶により行うことができる。アルコールを含有する混合物が有利である。
【００２９】
精製は、帯域融解及びクロマトグラフィー法により、及び蒸留により行うこともできる。
【００３０】
本発明による化合物（１）は、ショウノウ部分（Ｒ1＝ＣＨ3）又はノルショウノウ部分（Ｒ1＝Ｈ）から成っていてよい。
【００３１】
基Ｒ2は、下記の意味を有する：
Ｈ；Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、有利にはＣ3−及びＣ4−アルキル、例えばｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル；Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、有利にはシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル；Ｃ2〜Ｃ6−アルケニル、有利にはビニル及びプロペニル；Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルケニル、有利にはシクロペンテニル及びシクロヘキセニル；アリール又は置換アリール、有利にはフェニル、一若しくは二置換フェニル、ナフチル又はヘテロアリール、例えばフリル、チエニル若しくはピリジル。
【００３２】
基Ｒ3は、下記の意味を有する：
Ｈ；Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、有利にはＣ1〜Ｃ4−アルキル、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル；Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、有利にはシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル；アリール又は置換アリール、有利にはフェニル、一若しくは二置換フェニル；Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、有利にはメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ又はイソプロポキシ；Ｃ1〜Ｃ8−アシル、有利にはホルミル、アセチル、プロピオニル、ピバロイル、ｎ−ブチリル、イソブチリル、ベンゾイル。
【００３３】
基Ａｒは、下記の意味を有する：
アリール、有利にはフェニル、ナフチル；ヘテロアリール、有利にはフリル、チエニル、ピリリル又はピリジル；置換アリール、有利には一若しくは二置換フェニル；置換へテロアリール、有利には一又は二置換フリル、チエニル、ピリル若しくはピリジル（その際、置換基は同じか又は異なっていてよく、下記の意味を有してよい：アルキル、シクロアルキル、アルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、ヒドロキシ、ハロゲン、アシル、特に有利にはアシルオキシ又はアシルアミノ及びアルコキシカルボキシ又はアミノカルボキシ、ヒドロキシカルボキシ、オキシスルホニル、アミノスルホニル）。
【００３４】
本発明によるアリールアミノメチレンショウノウ誘導体（１）のＣ＝Ｃ二重結合は、合成後、Ｅ配置でもＺ配置でも存在する。結晶化により、Ｃ＝Ｃ二重結合での置換基がトランス位にある式（１）の化合物を得るのが有利である。
【００３５】
本発明による化合物（１）は、高い光安定性により優れており、光線防遮剤として、特にＵＶ−Ａフィルターとして、殊に化粧品用及び製剤学的使用に特に適する。しかしながら、ＵＶフィルター作用は、プラスチック、染料調製剤又は塗料の安定化のために使用することもできる。
【００３６】
化粧品又は化粧用組成物は、化粧品で慣用の賦形剤又は希釈剤及び場合により慣用の化粧品助剤の他に、化合物（１）を一般的に、調製剤に対して０．１〜１５重量％、有利には５〜１０重量％含有する。
【００３７】
完成した光線防遮剤含有製品が、溶液、油状物、クリーム、軟膏、ローション、ゲル又は粉末であるかは、賦形剤、助剤又は希釈剤の種類に依存する。このような組成物は、例えば雑誌 "Seifen, Oel, Fette, Wachse" （1995）、１４７頁から認識することができる。
【００３８】
添加物に該当する通常使用される化粧品助剤は例えば、乳化剤、例えば脂肪アルコールエトキシレート、ソルビタン脂肪酸エステル又はラノリン誘導体、増粘剤、例えばカルボキシメチルセルロース又は架橋ポリアクリル酸、防腐剤及び香料である。
【００３９】
サンスクリーン油状物のベースは例えば、植物油、例えば落花生油、オリーブ油、ごま油、綿実油、やし油、ブドウ種油（grapeseed oil）、ヒマシ油、又は鉱油、例えばワセリン油、又は殊に液体パラフィン、合成脂肪酸エステル及びグリセリドである。軟膏のベースは、例えばワセリン、ラノリン、ユーセリン（eucerin）又はポリエチレングリコールである。
【００４０】
クリームのベースは、例えば高脂肪クリーム、グリセリンクリーム、多糖類クリーム、チロースクリームであり、脂肪及びワックスをベースとするクリームのベースは、セチルアルコール、ラノリンクリーム、カカオ脂、蜜ろう、ステアリン酸、ステアリルアルコール、グリセリンモノステアレート、天然又は鉱物油及び脂肪である。
【００４１】
エマルジョンのベースは、例えば、ステアリルグリコール、植物油及び／若しくは鉱油、例えば扁桃油、パラフィン油及びワセリン、並びに水から成る混合物、又はエチルアルコール、水、ラノリン及びトラガカントから成る混合物、又はエチルアルコール、ステアリン、水、トラガカント及びグリセリンから成る混合物、又はステアリン酸、パラフィン油、プロピルアルコール若しくはイソプロピルアルコール及び水から成る混合物である。
【００４２】
本発明による化合物を、唯一のＵＶ吸収剤として相応する組成物中で使用することができるが；本発明による化合物を、他のＵＶ吸収剤、例えばＵＶ−Ｂ吸収剤と組み合わせて使用することもできる。
【００４３】
このような化合物の例は、ｐ−アミノ安息香酸エチルエステル、ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルエステル、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２−フェニルベンズイミダゾールスルホン酸及び塩、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸、３−（４′−メチルベンジリデン）−ｄ,ｌ−ショウノウ、２，４，６−トリアニリノ−（ｐ−カルボ−２′−エチルヘキシル−１′−オキシ）−１，３，５−トリアジンである。
【００４４】
本発明による化合物（１）の製造のためには、下記の一般的作業規定を用いるのが特に有利である：
ヒドロキシメチレンショウノウ化合物（２）及びアミン（３）の等モル量（２２ミリモル）を、メタノール２０ｍｌに溶かし、濃塩酸０．１ｍｌを加え、６５℃まで２時間加熱する。反応混合物を１０℃まで冷却させた後、目的生成物（１）が晶出し、これを、濾過、洗浄及び引き続く乾燥により、分析上純粋に単離させる。
【００４５】
【実施例】
例１
一般的作業規定に従って、ヒドロキシメチレンショウノウ４ｇ（２２ミリモル）を、ｐ−アミノ安息香酸−２′−エチルヘキシルエステル５．４５ｇ（２２ミリモル）と反応させた。式：
【００４６】
【化５】
0004154018.tif 000005
【００４７】
の化合物９ｇを得た。
【００４８】
【外１】
0004154018.tif 000006
【００４９】
【外２】
0004154018.tif 000007
【００５０】
例２
一般的作業規定に従って、ヒドロキシメチレンショウノウ４ｇ（２２ミリモル）を、ｏ−アミノ安息香酸ブチルエステル４．２９ｇ（２２ミリモル）を反応させた。式：
【００５１】
【化６】
0004154018.tif 000008
【００５２】
の化合物４．９ｇを得た。
【００５３】
【外３】
0004154018.tif 000009
【００５４】
例３
例１及び例２と同様に、第１表に記載の化合物３．１〜３．１５を製造した。
【００５５】
【表１】
0004154018.tif 000010