(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
１０μｍから５００μｍの間の厚さを有するガラスフィルムを備え、ディスプレイといった、特に電子構成要素及びデバイスで使用するためのガラス−プラスチック複合フィルムにおいて、
１μｍから２００μｍの間の厚さを有するポリマー層が、前記ガラスフィルムの各側面のうちの少なくとも一方に直接塗布され、かつその表面の少なくとも一側は、１００ｎｍより低いうねり，３０ｎｍより低い粗さＲＴを有しており、
前記フィルムは、その端部の少なくとも１つに更にポリマー層を具備していることを特徴とするガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項２】
光学的遅延が２０ｎｍを超えないことを特徴とする請求項１記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項３】
すじが１００ｎｍよりも低いことを特徴とする請求項１又は２の何れかに記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項４】
すじが５０ｎｍよりも低いことを特徴とする請求項３に記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項５】
すじが３０ｎｍよりも低いことを特徴とする請求項４に記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項６】
前記表面の両側が、１００ｎｍより低いうねりと、３０ｎｍより低い粗さＲＴを有していることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項７】
ガラス厚さが１０μｍから４００μｍの間の範囲であることを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項８】
ガラス厚さが１０μｍから２００μｍの間の範囲であることを特徴とする請求項７に記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項９】
ガラス厚さが１０μｍから１００μｍの間の範囲であることを特徴とする請求項８に記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項１０】
前記ポリマー層の厚さが、２μｍから１００μｍの間の範囲であることを特徴とする請求項１乃至９の何れか１項記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項１１】
前記ポリマー層の厚さが、２μｍから５０μｍの間の範囲であることを特徴とする請求項１０に記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項１２】
前記ポリマー層は、５０００Ｎ／ｍｍ２より低い弾性係数より低い弾性係数を有していることを特徴とする請求項１乃至１１の何れか１項記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項１３】
前記ポリマー層は、２６００Ｎ／ｍｍ２より低い弾性係数を有していることを特徴とする請求項１２に記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項１４】
前記ポリマー層は、１５００Ｎ／ｍｍ２より低い弾性係数を有していることを特徴とする請求項１３に記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項１５】
前記ガラス−プラスチック複合フィルムの透過性は、コーティングされないガラスフィルムの９０％よりも高く、かつポリマーコーティングの結果として生じる曇りが１％より低く生じることを特徴とする請求項１乃至１４の何れか１項記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項１６】
表面の粗さＲＴが、２０ｎｍより低く、かつ表面のうねりが、８０ｎｍより低く、かつ光学的遅延は１５ｎｍを超えないことを特徴とする請求項１乃至１５の何れか１項記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項１７】
表面の粗さＲＴが、２０ｎｍより低く、かつ表面のうねりが、５０ｎｍより低く、かつ光学的遅延は１５ｎｍを超えないことを特徴とする請求項１６に記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項１８】
表面の粗さＲＴが、２０ｎｍより低く、かつ表面のうねりが、３０ｎｍより低く、かつ光学的遅延は１５ｎｍを超えないことを特徴とする請求項１７に記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項１９】
表面の粗さＲＴが、１０ｎｍより低く、かつ表面のうねりが、８０ｎｍより低く、かつ光学的遅延は１５ｎｍを超えないことを特徴とする請求項１５に記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項２０】
表面の粗さＲＴが、１０ｎｍより低く、かつ表面のうねりが、５０ｎｍより低く、かつ光学的遅延は１５ｎｍを超えないことを特徴とする請求項１９に記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項２１】
表面の粗さＲＴが、１０ｎｍより低く、かつ表面のうねりが、３０ｎｍより低く、かつ光学的遅延は１５ｎｍを超えないことを特徴とする請求項２０に記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項２２】
連続使用では、フィルムが１３０℃までの耐熱性を有していることを特徴とする請求項１乃至２１の何れか１項記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項２３】
前記ポリマー層が、シリコーンポリマー、ゾル・ゲルポリマー、ポリカーボネート、ポリエーテルサルホン、ポリアクリレート、ポリイミド、シクロオレフィン共重合体又はポリアリレートを含むことを特徴とする請求項１乃至２２の何れか１項記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項２４】
前記ポリマー層が、シリコーン樹脂を含むことを特徴とする請求項１乃至２２の何れか１項記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項２５】
前記ガラスフィルムが、アルミノケイ酸ガラス、アルミノホウケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、好ましくは無アルカリホウケイ酸ガラスを含むことを特徴とする請求項１乃至２４の何れか１項記載のガラス−プラスチック複合フィルム。
【請求項２６】
２ｍ／分から１２ｍ／分の間の引抜速度で下向き引抜き工程を使用して、１０μｍから５００μｍの間の厚さを有するガラスフィルムを形成するステップと；
前記ガラスフィルムの表面を予熱するステップと；
１μｍから２００μｍの間の厚さのポリマー層を液相状態で直接塗布するステップと；
ポリマーコーティングされた前記ガラスフィルムを切断するステップと；
を備えることを特徴とする請求項１乃至２５の何れか１項記載のガラス−プラスチック複合フィルムの製造方法。
【請求項２７】
２ｍ／分から１２ｍ／分の間の引抜速度で下向き引抜き工程を使用して、１０μｍから５００μｍの間の厚さを有するガラスフィルムを形成するステップと；
前記ガラスフィルムを切断するステップと；
前記ガラスフィルムの表面を前処理するステップと；
１μｍから２００μｍの間の厚さのポリマー層を液相状態で直接塗布するステップと；
を備えることを特徴とする請求項１乃至２５の何れか１項記載のガラス−プラスチック複合フィルムの製造方法。
【請求項２８】
前記ポリマー層が、スピニング又はスプレースピニングにより塗布されることを特徴とする請求項２７記載の方法。
【請求項２９】
前記ポリマー層が、そそぎ込み又は圧延、又はスプレー、又はディップにより塗布されることを特徴とする請求項２６又は２７の何れかに記載の方法。
【請求項３０】
側面に加えて、少なくとも１つの端部がコーティングされることを特徴とする請求項２６乃至２９の何れか１項記載の方法。
【請求項３１】
１０μｍから４００μｍの間の厚さを有するガラスフィルムが、下向き引抜き方法によりガラス引抜き装置で形成されることを特徴とする請求項２６乃至３０の何れか１項記載の方法。
【請求項３２】
１０μｍから２００μｍの間の厚さを有するガラスフィルムが、下向き引抜き方法によりガラス引抜き装置で形成されることを特徴とする請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
１０μｍから１００μｍの間の厚さを有するガラスフィルムが、下向き引抜き方法によりガラス引抜き装置で形成されることを特徴とする請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
前記コーティングが、２μｍから１００μｍの間の厚さにポリマー層を形成することを特徴とする請求項２６乃至３３の何れか１項記載の方法。
【請求項３５】
前記コーティングが、２μｍから５０μｍの間の厚さにポリマー層を塗布することを特徴とする請求項３４に記載の方法。
【請求項３６】
コーティング前に、オゾン含有雰囲気中で、ＵＶ照射、又はコロナ処理，火炎処理により表面処理が行われることを特徴とする請求項２６乃至３５の何れか１項記載の方法。
【請求項３７】
前記ポリマーをコーティングすることに続いて、コーティングが、ＵＶ照射により及び／又は加熱作用状態での乾燥により焼き入れされることを特徴とする請求項２６乃至３６の何れか１項記載の方法。
【請求項３８】
前記ポリマーが、シリコーンポリマー、ゾル・ゲルポリマー、ポリカーボネート、ポリエーテルサルホン、ポリアクリレート、ポリイミド、シクロオレフィン共重合体又はポリアリレートを含むことを特徴とする請求項２６乃至３７の何れか１項記載の方法。
【請求項３９】
前記ポリマーが、シリコーン樹脂を含むことを特徴とする請求項２６乃至３７の何れか１項記載の方法。
【請求項４０】
前記ガラスフィルムを製造するために、アルミノケイ酸ガラス、アルミノホウケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、好ましくは無アルカリホウケイ酸ガラスのガラスフィルムが使用されることを特徴とする請求項２６乃至３９の何れか１項記載の方法。
【請求項４１】
エレクトロニクス構成要素、及びオプトエレクトロニクスデバイス、特に、液晶又は発光層を基礎とするデバイスを製造するための請求項１乃至２５の何れか１項記載のガラス−プラスチック複合フィルムの使用。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ガラス−プラスチック複合フィルムに関するもので、特に、ディスプレイといった電子構成要素及びデバイスで使用するためのものであって、１０μｍから５００μｍの間の厚さを有するガラスフィルムと、１μｍから２００μｍの間の厚さを有し、かつ前記ガラスフィルムの側面のうち少なくとも一方の側面に塗布されたポリマー層とを備えている。さらに、前記ガラス−プラスチック複合フィルムを製造するための方法とその使用に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
平坦なガラス基板は、透明であること、及び高耐薬品性及び高耐熱性、及び規定された化学的特性及び物理的特性が重要となる多くの応用に対して適切な基板材料である。特に、これらは、ディスプレイ、薄膜センサ及び厚膜センサ、太陽電池、マイクロメカニックス構成要素、及びリトグラフマスクといった薄膜技術及び厚膜技術に対する方法が使用される応用の領域である。近年、新製品の機能性と応用分野に対する要求としては、ガラス基板の公知の良好な特性を有するが、可撓性といったさらに新しい特性を部分的に有しているさらに薄い基板と極薄基板が求められてきている。さらに、通常の応用分野は、センサ及び膜構成要素といった電子的応用製品である。
【０００３】
特に、ディスプレイ（例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ））では、より魅力的なデザインへと流行が徐々に移行しており、よって、新たな機能性が要求されている。特に、これらは、例えばポータブルポケットデバイスのための極薄かつ特に軽量のディスプレイ、セル電話又は丸形ピンタイプデバイス（round pin-type device）といった丸形収容形態を有するデバイスのための可撓性ディスプレイ、スマートカード又は店頭価格タグ（shelf price tag）のためのディスプレイ、又は有機発光層又は無機発光層に基づくディスプレイ（いわゆる有機発光ポリマーディスプレイ（light emitting organic polymer display; OLED））である。
【０００４】
概して、このタイプのディスプレイは、以下に示すように構成されている：コアが液晶又はポリマーを収容するセルである。それは、各電極が付与されている前方プレートと後方プレートを具備している。大抵の液晶ディスプレイには、セルの前方壁部と後方壁部とが、何れも偏光子により結合されている。反射ディスプレイには、反射プレートが後方偏光子の背後に取り付けられている。発光ポリマーの場合には、さらに、ディスプレイが後方プレートにより密閉される前に、各対電極（counterelectrodes）をポリマーに直接蒸着可能である。ディスプレイが可能な限り良好に作動するために、例えば、液晶を可能な限り一様に配列可能であり、かつ各電極対の全てが可能ならば互いに同一の距離を有する（さもなくば、ひずみ又は局所化した強度変動がディスプレイに生じる）ようにされなければならない。影響を与える一要因は、個々の構成要素を製造するために使用される基板の表面品質である。
【０００５】
個々の構成要素を製造するための好適な基板材料は、ガラスとプラスチックである。ガラスの特別な有利点は、ガラスが化学的かつ光化学的に不活性であり、かつ光学的に等方性を有し、かつ耐熱性を有し、かつ機械的に安定であり、さらにガラスは硬質表面を有していることである。しかしながら、ガラスは比較的高い密度を有し、ガラスは脆性を有しており、よって、非常に破壊しやすい。製造工程におけるガラスの破壊は、非常に浪費になるだけでなく、装置から全てのガラス破片を除去するために、その都度工程を停止なければならないので、製造者にとって損失になる。
【０００６】
プラスチックは、低密度でありかつ弾性を有し、かつ破壊に対して抵抗するが、プラスチックは種々の欠点をも有している。過去数年間に、基板材料が開発され、かつ薄いガラス基板の代わりとしてディスプレイを製造するための高品質プラスチックフィルムに基づいて製造されてきた。これら全てのフィルムは、必要とされる特性を達成するために、複雑かつ特別な製造工程を必要とする。このような複雑な製造工程により、基板が非常に高価になる。多大な開発努力にも拘わらず、このような基板フィルムの水及び蒸気の透過性を適切に低減することができないことが分かっていた。結果として、このような基板フィルムからなるＬＣＤの品質と寿命が非常に制限されている。いわゆるＯＬＥＤでは、フィルムを介して拡散する酸素により、有機半導体層と卑金属からなる各電極とを酸化することになり、よって酸素がさらにディスプレイの寿命を減らすであろう。プラスチックがディスプレイに対する保護層として使用される場合には、スクラッチを受けやすいことにより寿命が短くなるであろう。
【０００７】
安全ガラス産業と同様に、ガラスの有利な特性をプラスチックの良好な特性と組み合わせるための試みがなされている。DE-OS 36 15 277 A1 には、粉々になることに対する保護を提供するために、窓ガラス（glass pane）が溶融によりプラスチックでコーティングされている。DE-OS 31 27 721 A1 は、スクラッチ保護としてガラスフィルムでコーティングされたプラスチックシートを明記している。ここで、加圧及び／又は加熱作用のもとで（しかし、好ましくは中間挿入されたホットメルト接着フィルム（hot-melt adhesive film）を使用して）コーティングが生じる。
【０００８】
類似のいくつかの例が、ガラスとプラスチックの各特性が組み合わされたディスプレイ技術の分野で知られている。保護プラスチック層をガラスに備えるアプローチは、大韓民国特許 KR-A 98-3695 号公開公報により知られている。全ての可能性において、ガラスがエッチングにより所望の厚さに形成され、次いで保護プラスチック層が、エッチングにより生じた孔を閉じる必要があり、さらに破壊に対する保護としても機能する。
【０００９】
破壊保護機能は、主として、既に存在しているマイクロクラックの伝播を防止することにある。熱硬化性プラスチックの群からの１樹脂であると述べることを除いて、ポリマーの選択についてはより詳細には議論されていない。さらに、保護コーティングが如何になされるかについては詳細には開示されていない。特許出願の時点で、ディスプレイを製造するために通常使用されるガラス厚さが通常０．５５ｍｍから１．１ｍｍの間であったと仮定すると、（ガラス−プラスチック複合材料が製造される）エッチングされたガラス表面は、ディスプレイ応用に対する現在の要求に見合っていない。
【００１０】
偏光子フィルムの製造に関して、DE-OS 196 06 386 A1 には、機械的安定性のために圧縮、溶融、好ましくは接着によりガラスフィルムに対して貼付されるプラスチックの光学活性色素延伸フィルム（oriented optically active dye film）が記載されている。接着剤は色素フィルムに対してさらなる機械的安定性を提供する。ガラスフィルムの厚さは１０μｍから２００μｍの間の範囲とされ、色素フィルムの厚さは５μｍから６０μｍの間の範囲である。
【００１１】
色素フィルムを貼付することは、問題が無いわけではない。ガラスを破壊した結果としての廃棄は非常に高くつく。つまり、溶融は色素フィルムの特性に有害な影響を与え得る複雑な工程である。接着は以下の欠点を有している。つまり、各フィルムを接着する（この場合、ポリマーフィルムをガラスフィルムに接着する）工程は、ラミネート加工（laminating）とも称されている。ラミネート加工は、概して、各ローラにより加圧されることで行われる。これにより、ガラスフィルム（特に、非常に薄いフィルム）に非常に大きな応力が生じ、この応力により（例えば、表面を引っ掻いて）ガラスフィルムを破壊するか又は損傷させることになる。
【００１２】
少なくとも４つの分離製造工程が必要とされる。すなわち、薄いガラスを製造し、フィルムを製造し、接着剤でコーティングし、実際にラミネート加工する工程が必要である。これは非常にコストがかかる。さらに、製品（特に、ディスプレイ応用製品）が空気及び塵粒子を一切含んではならないので、接着方法及びラミネート加工方法が高い要求に見合っている必要がある。接着剤の選択については、接着剤は概して温度と溶媒抵抗性を制限することを考慮に入れねばならない。延性接着層の厚さに変化があるので、ガラスラミネートの厚さを適切に均一することはできない。
【００１３】
それ自体でポリマーフィルムを使用することには問題がある。これは、温度が変化した場合に、架橋の程度が高いので、その温度変化によりラミネート内の圧力と引張り強さが非常に増大するからである。プラスチックの熱膨張係数はガラスの熱膨張係数よりも１オーダーの大きさだけ高い。さらに、プラスチックのガラス転移温度近くまで上昇する温度サイクルに続いて、全てのポリマーフィルムが、非常に大きな不可逆的な収縮を受ける。この収縮はガラスの収縮よりも１〜２オーダーだけ大きさが高く、かつこの収縮はラミネートの永久的なワーピングになる。この影響は、しばしば不均一であり、かつ引抜きフィルムの場合には異方性になる可能性がある。
【００１４】
さらに、ポリマーフィルムは、通常、明らかに２０ｎｍ以上である小さくない光学的遅延（optical retardation）（複屈折）を有している。液晶の複屈折効果を使用するディスプレイでは、フィルムの光学的異方性は許容できない。フィルムの横断方向の複屈折は、フィルムの加工方向に対して平行な屈折率と垂直な屈折率との差の結果である。厚さｄを有するフィルムの光学的遅延は、フィルムの加工方向に対して平行な屈折率と垂直な屈折率との差と、フィルム厚さとの積である。液晶の複屈折を使用するＬＣＤ応用製品に対しては、光学的遅延＜２０ｎｍである基板又は基板フィルムのみを使用可能である。しかしながら、市販の入手可能な引抜きフィルムは、大抵前記値の倍数の値を有している。前記値より小さいいくつかのフィルムだけが利用可能であるが、より複雑な製造工程のために、それらは非常に高価である。
【００１５】
非常に薄いポリマーフィルムについては、ラミネート工程での取扱が非常に難しく、よって歩留まりが低いという事実が付記されねばならない。前記ポリマーフィルムは、ラミネートに圧力と歪みを与えることになるワーピングをなくしてラミネート加工することが難しい。厚さ＜２５μｍのポリマーフィルムを有するフィルムラミネートは、経済的にかつ工業製品のために製造することが事実上不可能である。
【００１６】
日本国特開平4-235527号には、各電極を取り付けるための導電層を付与できるようにプラスチック基板の表面特性を向上させるために、ガラスフィルムが貼付されたプラスチック基板が明記されている。透明エポキシ樹脂はプラスチック基板にとって好適な材料である。基板厚さは、使用目的に応じて、特に製造するディスプレイの領域サイズに応じて、１００μｍから１０ｍｍまでの範囲を取りうる。ガラスフィルムの厚さは１０μｍから５００μｍの間の範囲を取る。ガラスフィルムとプラスチック基板とが互いに接着されるか、又は樹脂がガラスに注がれる。接着は、上記した問題（光学特性と最終製品の表面特性に悪影響を及ぼす可能性がある）の原因となるであろう。さらに、厚さ＞１００μｍの基板は、ガラス−プラスチック複合フィルムの可撓性が制限されるとの欠点を有している。
【００１７】
既に紹介された上記最終製品の全てについて、どの面が更に加工されるのか及びどのようにさらに加工可能であるのかは、最終製品それ自体により定められる。日本国特開平4-235527号では、最初に、このことをガラスフィルムがプラスチックフィルムの両面に貼付されるように変更しようと試みている。しかしながら、このためには少なくとも１つの加工ステップが必要とされ、接着には少なくとも２つの追加加工ステップが必要であり、さらに材料を必要とする。従って、両面が更に加工可能である最終製品を製造することは非常に高価になる。
【００１８】
欧州特許第 0 838 723 号公開公報により、ガラス担体上に１層を具備している材料が知られている。前記材料はリトグラフプリント（lithograph print）及び液晶ディスプレイに適している。前記材料は、１．２ｍｍより薄く、かつ５×１０７Ｐａまでの引張応力及び５×１０７Ｐａを超える引張応力に耐えるガラス担体を備えている。さらに、長手方向端部が、担体の厚さの概略０．５倍の半径で半円状に形成されている。
【００１９】
欧州特許第 0 272 875 号公開公報には、光学メモリカードと該カードを製造するための方法が記載されている。ここで、カードはプラスチックとアルミニウムとからなっている。
【００２０】
欧州特許第 0 759 565 号公開公報には、カラーフィルタアレイ素子を製造するための方法が記載されている。これについては、画素セルの着色パターンが、水平方向ラインに剛性を有している薄い担体に塗布される。次いで、透明担体が、該担体側又は画素セル側にラミネート加工される。ここで、まず、薄い窓ガラス（１２７μｍ）がスピンコーティングによりポリカーボネートでコーティングされる。画素セルを製造した後に、ホウケイ酸ガラスプレートが圧力を作用させた状態で画素セルにラミネート加工される。
【００２１】
欧州特許第 0 669 205 号公開公報には、少なくとも１つの透明プラスチックシートと、少なくとも１つの窓ガラスと、接着促進中間層とを備える透明ガラス−プラスチック複合シートが記載されている。窓ガラスは、３０μｍから１０００μｍの間の厚さの層を有するガラスフィルムである。複合シートは、乗用車にはめて光スクラッチ検査として使用されることを目的としているので、プラスチックシートは数ｍｍの厚さを有している。
【００２２】
英国特許第 131 98 46 号文献には、４μｍ〜２００μｍの厚さを有するガラスフィルムを備え、２μｍから２００μｍの厚さのプラスチックで片面又は両面にコーティングされたガラス−プラスチック複合フィルムが記載されている。該フィルムは接着剤又は接着促進物質で製造される。あるいは、プラスチックを液相状態から直接塗布することも可能である。使用されるプラスチックは、ポリオレフィン，ＰＶＣ，ＰＡ，ポリ塩化ビニリデン，セルロース，酢酸セルロース，ポリスチロール又はポリマー混合物、又は前記ポリマーの共重合体を含んでいる。特に、ポリエステル又はポリエチレン・テレフタレートが好ましい。英国特許第 131 98 46 号文献に明記されたガラス−プラスチック複合フィルムは、好ましくは、引抜き（drawing）用フィルム材料、又は気体及び真空不透過性封止材料（gas and vacuum impermeable packaging material）として使用されている。結果として、電子構成要素の分野での応用で重要である光学的特性は、英国特許第 131 98 46 号文献発明とは関連がなく、かつ前記特許には述べられていない。
【００２３】
後になって公表された国際公開第 99/21707 号文献及び国際特許第 99/21708 号文献には、ガラス基板と透明プラスチックから成るとしてよい少なくとも１つの担体とを備えているラミネートが記載されている。ガラス層は１０μｍ〜４５０μｍの厚さを有し、かつプラスチック層は５００μｍの厚さを有している。
【００２４】
接着剤を使用することなく、負圧ラミネート加工（vacuum lamination）によりプラスチック層をガラスに塗布することも可能である。連続圧延も提案されている。接着剤が使用される場合には、２００℃まで熱的に安定であるべきである。特に、負圧ラミネート加工については、プラスチックとガラスの表面粗さが低いことが重要であるが、これはさらに定量化されない。接着層については、ＵＶ光で架橋可能であるシリコーン、アクリル酸塩及びポリマーが提案されている。ガラスに機能層を塗布する必要がある場合には、エポキシシラン（epoxy silane）といった接着促進物質をガラスに付与することも可能である。ラミネート全体が、必要ならば、ゾル・ゲル（sol-gel）でコーティング可能である。ラミネートを特にディスプレイ用に使用するので、同一の屈折率を有するように、プラスチックとガラスが選択されるべきである。
【００２５】
国際公開第 99/21708 号文献には、機能層を基板に塗布している半導体デバイスを製造するための方法が記載されている。ここで、前記基板は７００μｍより薄い厚さを有する担体とガラス層とを備えるラミネートである。これは、国際公開第 99/21707 号文献に記載されたラミネートと実質的に同様のラミネートである。
【００２６】
続いて公表された英国特許第 233 58 84 号文献には、構成要素が、少なくとも１つの電子活性有機層を備えるオプトエレクトロニクス構成要素又は電子構成要素のための保護要素として使用されている。ここで、前記構成要素は、厚さ＞２００μｍのガラス層と厚さ＞１ｍｍ（好ましくは、概略２００μｍ）のプラスチック層とを備えている。英国特許第 233 58 84 号文献発明の欠点は、複雑な工程を必要とする活性有機機能層（active organic functional layer）の処理である。
【００２７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、液晶セル、ＯＬＥＤにおける発光層又は電極層を収容するためのセルといったあらゆる構成要素の製造の基礎として、広く（特にディスプレイを製造するために）使用することができるフィルムを提供することである。該フィルムは、フィルム品質に対する現在の要求に見合うだけでなく、将来的な要求にも見合うものであり、かつガラスとプラスチックとの有利な特性を有している。その製造方法は、最も少ない可能なステップに限られるべきであり、かつ可能な限り単純であるべきである。
【００２８】
【課題を解決するための手段】
上記課題は、特にラミネート加工の欠点を避けるために、通常のガラス−プラスチック複合フィルム上に、ポリマー層が少なくとも一方の側面に直接塗布されており、かつその表面の一側面が、１００ｎｍより小さなうねり及び／又は粗さＲＴ＜３０ｎｍを有していることを特徴とするガラス−プラスチック複合フィルムにより解消される。すじ（streak）が１００ｎｍよりも小さいならば、特に好ましい。電子構成要素及びデバイスの分野で使用するためには、光学的遅延が２０ｎｍを超えない場合に特に有利である。塗布されたポリマー層の厚さが１μｍから１００μｍの間の範囲内にある場合に、特に可撓性複合材料を達成することができる。
【００２９】
さらに、上記課題は、以下の２つの方法により解消される。第１方法は、２ｍ／分〜１２ｍ／分の引抜き速度で下方引抜き工程により１０μｍ〜５００μｍの厚さを有するガラスフィルムを製造するステップ、該ガラスフィルム表面を前処理するステップと、液相状態で厚さ１μｍ〜２００μｍのポリマー層を直接塗布するステップと、ポリマーコーティングされたガラスフィルムを切断するステップとを有している。
【００３０】
第２の方法は、同様のステップを備えている。ここで、ガラスフィルムが製造された後であって、その表面を前処理しかつプラスチックを塗布する前に、ガラスフィルムが切断される。
【００３１】
公知のラミネート加工方法とは対称的に、非常に薄くかつ均一なポリマーフィルムをガラスフィルム上に製造することは上記方法により可能である。
【００３２】
偏光子フィルム、及び電極用担体プレート及び最外保護シートとして使用するための担体プレートをさらに加工するための高い表面特性を有しているので、ディスプレイを製造する場合に、本発明のガラス−プラスチック複合フィルムは適している。プラスチック層のために、フィルムは破壊に対して抵抗すると同時により軽量となっており、ガラスフィルム層のために、フィルムは耐スクラッチ性、堅牢性、機械的安定性、化学的不活性を有している。ガラス側又はプラスチック側の何れかが更に処理されるかに応じて、プラスチック側が破壊保護として作用するか、又はガラス側がスクラッチ保護として作用する。低複屈折のために、本発明のガラス−プラスチック複合フィルムがオプトエレクトロニクス構成要素及びデバイスでの使用に特に適している。粗い表面により付与される方向の層（applied orientation layer）における液晶のアライメントが容易に不規則になるというように、粗い表面によりディスプレイに欠陥を導きうるので、発光層に基づく液晶セル及び発光ディスプレイの製造にとって、複合フィルムの高い表面特性は特に重要なことである。表面うねりは、（液晶といった）活性層の層厚さの変動を導き、よって不均質なディスプレイを導く。
【００３３】
粗さＲＴは、ドイツ工業規格（ＤＩＮ）4762 Part 1-08.60 に従って計測され、かつ基準経路内の輪郭上位点と輪郭下位点との間の最大距離に対応している。粗さＲＴは、全ての距離の算術平均に対応し、かつ概してＲＴの一部分（a fraction of RT）でしかない粗さＲＡと混同すべきではない。粗さは、理想的平坦面からの変動の小さなうねりの部分（short-wave portion）を表している。（０．８ｍｍ〜８．０ｍｍのカットオフ、2CRPC 50 フィルタを使用しDIN/ISO 11562に従って計測される）表面うねりは、理想的平坦面からの変動の平均波長部分を表している。表面うねりは、計測距離２０ｍｍを超えて求められる。すじは、表面うねりと同様のデバイスパラメータで計測され、分析用計測長さは２ｍｍである。
【００３４】
本発明では、ガラス−プラスチック複合フィルムの両面が、１００ｎｍより小さな表面うねり、３０ｎｍより小さな粗さＲＴといった高い表面特性を有している。これについては、ガラス−プラスチック複合フィルムの各面を等しくさらに処理することが可能であり、かつ該フィルムの両面をさらに処理することの可能性を視野に入れているので、ガラス−プラスチック複合フィルムの使用がより多様とされている。
【００３５】
可能な限り最も軽くかつ可能な限り最も薄いガラス−プラスチック複合フィルムと、最も高い表面特性を有する該フィルムとを達成するために、該フィルムは実際ポリマーとガラスフィルムからのみなること、及び接着層を有していないことは、避けられない。
【００３６】
特に、オプトエレクトロニクス応用の分野では、複合フィルムを経た光学信号のひずみを抑制するために、光学的遅延が有利なことに２０ｎｍより小さい、好ましくは１５ｎｍより小さい。
【００３７】
ディスプレイの重量と厚さを減らす点に関しては、ガラスフィルム層が好ましくは１０μｍ〜４００μｍの厚さ、特に好ましくは１０μｍ〜２００μｍの厚さ、特別に好ましくは１０μｍ〜１００μｍの厚さを有し、かつポリマー層が好ましくは２μｍ〜１００μｍの厚さ、特に好ましくは２μｍ〜５０μｍの厚さを有し、かつ光学的遅延が１５ｎｍを超えない。
【００３８】
ガラスフィルム内でガラスを破壊する原因の大部分は、各端部で開始するマイクロクラックによるので、ガラス−プラスチック複合フィルムの少なくとも一端部がプラスチックで十分に被覆されているならば有利である。これは、新たなクラックが発展すること、及び既存のクラックが伝播することを防止する。
【００３９】
ガラス−プラスチック複合フィルムを（鋭い点のある物体による突きといった）点応力に対して反応しないようにするために、弾性係数＜５，０００ Ｎ／ｍｍ２、好ましくは弾性係数＜２，６００Ｎ／ｍｍ２、特に好ましくは弾性係数＜１，５００Ｎ／ｍｍ２であるように、プラスチック層用にポリマーを選択することは、有利なことであることが分かっている。生ずる引張応力は、ポリマー層により広い領域に分配され、かつ実質的に減少する。
【００４０】
非常に薄いプラスチック層の弾性係数は、力の貫通深さを計測することにより求めることができる。これについては、負荷増大状態で規定された形状の試験片（通常、ピラミッド形に作られたダイヤモンド）を表面に押し込み、かつその後再び除荷する。弾性係数は除荷直線の傾き（負荷に依存する貫通深さ）である。いわゆるピコ・インデンタ（pico indentor）により計測される。このピコ・インデンタによれば、１０ｎｍから１００ｎｍの間の非常に小さなくぼみ深さを達成可能である。貫通深さが層厚さの約１０％を超えた場合に、基板が計測に影響を与え始めるので、これは必要である。
【００４１】
ガラス−プラスチック複合フィルムの透過率が、コーティングされないガラスフィルムの９０％以上であり、ポリマーコーティングによる曇りが増大してもコーティングされないガラスフィルムと比較して１％より小さいように、プラスチック層用にポリマーを選択することが、特に有利であることが分かっている。ガラス−プラスチック複合フィルムをさらに処理するために可能な限り多くのオプションを有し、かつガラス−プラスチック複合フィルムに基づいて製造された製品の寿命が長くなるように、ガラス−プラスチック複合フィルムは、有利なことに、１３０℃までの温度に連続的に（数時間）耐えられ、かつ１４０℃（好ましくは１８０℃、特に好ましくは２００℃）までの温度に短時間（数分間）耐える。
【００４２】
ガラス−プラスチック複合フィルムが表面粗さＲＴ＜１０ｎｍ、特に好ましくはＲＴ＜３ｎｍであり、かつ表面うねり＜８０ｎｍであるならば、ＬＣＤ及びＯＬＥＤディスプレイの製造のために、ガラス−プラスチック複合フィルムが特に有利であることが分かっている。
【００４３】
最適なガラス−プラスチック複合フィルムを得るための好適な材料は、プラスチック層に対して、シリコーンポリマー、（Nanocomposite社のOrmocere(登録商標)といった）ゾル・ゲルポリマー、ポリカーボネート、ポリエーテル・サルホン、ポリアクリレート、ポリイミド、シクロオレフィン共重合体（cycloolefin copolymer）、又はポリアリレート（polyarylate）であり、ガラス層に対して、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、アルミノホウケイ酸ガラス（aluminoborosilicate glass）、好ましくは無アルカリホウケイ酸ガラスである。
【００４４】
ガラス−プラスチック複合フィルムを製造するために、ガラスフィルム自体が最初に製造されねばならない。必要な表面特性を有するガラスフィルムを製造するために、これは、２ｍ／分から１２ｍ／分の間の引抜き速度で下向き引抜き処理を使用して行われるべきである。ガラスフィルムの表面特性は、ガラス−プラスチック複合フィルムのプラスチック側の対応する表面特性を達成するための前提条件である。ガラスフィルムを製造した後に、該フィルムをさらに直接処理することができる。あるいは、ガラスフィルム表面を前処理するステップとポリマー層を塗布するステップがガラスフィルム製造から空間的に離れているならば、ガラスフィルムを最初に切断することができる（これは、より小さなサイズ及び中間サイズで大量に製造するためには好ましい）。
【００４５】
ポリマー層に対して良好に接着できるように、ガラスフィルム表面が前処理される。
【００４６】
接着剤を用いずにかつ液相状態でガラスフィルム表面にポリマーを直接塗布することは、ポリマー層の表面がガラスフィルムの表面を映し、いわば、優れた表面特性を有することを達成する。ガラスフィルムを製造する場合には、前処理及びコーティングは連続工程として計画され、すぐにポリマーコーティング済みガラスが切断される。
【００４７】
さらに、剛性ガラスフィルムに液相状態で塗布することにより、ポリマーフィルム内でひずみ方向が発展することがなく、よって、ポリマーフィルム（よって、複合フィルム）の光学的遅延は２０ｎｍより小さい。
【００４８】
コーティング前にガラスフィルムが切断される場合、及び極端に薄いポリマー層を達成する場合には、コーティングは好ましくはスピニング又はスプレースピニング（spray spinning）により行われる。連続工程にも適しているコーティング方法は、そそぎ込み（pouring）、圧延（rolling）、又はスプレーである。ディップ（dipping）は、ガラスフィルムの両面にポリマー層を塗布するために好ましい。
【００４９】
破壊に対する抵抗を増大させるために、フィルムの端部のうち少なくとも１つをさらにコーティングすべきである。連続工程では、引抜き方向と平行な端部がコーティングされ、切断されたフィルムピースでは４端部全てがコーティング可能である。
【００５０】
製造するガラス−プラスチック複合フィルムの特性に関して、１０μｍ〜４００μｍ、好ましくは１０μｍ〜２００μｍ、特に好ましくは１０μｍ〜１００μｍのガラスフィルムを使用すること、及び１μｍ〜２００μｍ、好ましくは２μｍ〜１００μｍ、特に好ましくは１０μｍ〜８５μｍのポリマー層に塗布することは、有利である。ポリマー層のガラスフィルムへの接着を促進するために、オゾン含有雰囲気中でガラスフィルム表面をＵＶ照射することにより、コロナ処理、又は火炎（flaming）処理により表面処理することで、最も良い結果が得られる。
【００５１】
ポリマー層の堅さを支持するために、フィルムを紫外線光により照射しかつ／又は熱の影響下で乾燥させるべきである。
【００５２】
使用するポリマーがシリコーンポリマー又はゾル・ゲルポリマー、又はポリカーボネート又はポリエーテル・サルホン又はポリアクリレート又はポリイミド又はシクロオレフィン共重合体又はポリアリレートの何れかである場合には、特に良好な特性を有するガラス−プラスチック複合フィルムが得られる。さらに、本方法では、とりわけホウケイ酸ガラス、好ましくは無アルカリホウケイ酸ガラスの使用が、ガラスフィルムの製造にとって有利である。
【００５３】
本発明のガラス−プラスチック複合フィルムを電子構成要素及びオプトエレクトロニクスデバイス、特に、液晶又は発光層に基づくデバイスの製造との組み合わせも、同様に保護されるべきである。
【００５４】
【発明の実施の形態】
図１は、ガラス−プラスチック複合フィルムの一端部における断面を示している。ガラスフィルム１上には、ポリマーフィルム４がガラスフィルム面２に直接塗布されている。前記ポリマーフィルム４は、ガラス端部３を超えて延在しており、よって、ガラス端部３を充分覆う端部拡大部５を形成している。この様式では、ガラス−プラスチック複合フィルムの端部が振動に対してさらに保護され、かつ端部でのマイクロクラック（このクラックは端部に存在する）の伝播が防止される。
【００５５】
図２は、ガラス−プラスチック複合フィルムを製造するための可能性のある製造ラインを示している。ガラス引抜き装置１０では、ガラスフィルム１５がいわゆる改良下向き引抜方法（modified down-draw method）により製造されている。該方法は、高温形成段階において、ガラスフィルム１５がガラスタンク１１とデビットユース（debiteuse）１２から垂直方向に引き抜かれ、かつ必要ならば冷却経路１３で改質される。コーティング経路を直接結合することにより、次のコーティングの前に、ガラス表面の汚染を最小にし、かつ表面変化を最小にしている。これは特に、ポリマー層の接着力について好都合である。最小の処理、搬送、及び中間蓄積段階数により、表面損傷及び粒子混入も最小に低減される。処理速度と起こりうる寸法公差の調整を補正するために、ガラス引抜き工程とコーティング工程とが分離されたガラス引抜装置１０に続いて、ループ形状でバッファ経路１６が形成されている。ガラスフィルム１５が大きく自由に垂れているので、ガラスフィルム１５の受容不可能なワーピング（これは気泡（tearing）を導く可能性がある）とガラス表面の汚染とが防止される。
【００５６】
続いて、ガラスフィルム１５がコンベヤローラ２０上を水平に案内され、かつ一定の搬送速度と一定の引張り応力となるように、かつガラスフィルム１５に気泡が生成することを防ぐように、フィルムの引張り応力が牽引ローラ（traction roller）２１を介して制御されている。コーティングされる表面が表面処理装置２２でオゾン雰囲気中でのＵＶ照射により処理される。ポリマーを塗布する前に、必要なガラス温度にセットするために、コーティングモジュール２４の前に、焼き入れユニット２３が形成されている。この焼き入れユニットは、リボン状ガラスを精確に規定された一様温度に予熱する。コーティングモジュール２４によりコーティングがなされる。ポリマー２５がシートダイ（sheet die）２６を介して移送ローラ２７へ流され、かつ最小圧力（＜１ｋｇ／ｃｍ２）を作用させる間に、前記移送ローラにより伸ばされてガラスフィルムにされる。第１乾燥経路２８では、溶剤が気化される。この気化した溶剤は、環境への影響と汚染を低減させるために、コンディショニング（conditioning）又は洗浄後の工程に戻される。ガラスフィルム１５の高温により、表面上にドライスキン（dry skin）（これは体積内に封じ込められた溶媒が気化することを妨げる）を形成することなく、溶媒が急速に気化する。ポリマー層の焼き入れ及び乾燥が、ＵＶ放射経路３０と第２乾燥経路３１で生じる。経路の最後には、中間層解放装置３２を有する巻回ユニット３３がある。ここでは、中間層が、ガラス−プラスチック複合フィルム層間に封入されている。次いで、ガラス−プラスチック複合フィルムロールが切断器具へと運ばれる。
【００５７】
＜実施例１＞
ローラコーティングによる１００μｍ／４０μｍのガラス／ポリシリコーン複合材料の製造
【００５８】
厚さ１００μｍを有するガラスタイプＤ−２６３（社内刊行物Schott-DESAG）のホウケイ酸ガラスのガラスフィルムが使用される。これは、５．５ｍ／分のガラスリボンの引抜速度で下向き引抜ガラス引抜方法により製造される。ガラス基板の表面は、６０ｎｍのうねり、４５ｎｍのすじ（streak）、及び９ｎｍの粗さＲＴを有している。ガラスリボンの表面は、コロナ処理により活性化される。マルチメータ金属電極は幅５００ｍｍを有し、かつ電極とガラス表面との間の距離が２ｍｍである。周波数は、３０〜５０ｋＨｚ（自動周波数制御）であり、かつ出力は１５０Ｗである。ローラコーティング方法により塗布されるポリジメチルシロキサン（Wacker-Chemie 有限会社の製品名 Elastosil；２シリコーン成分の混合比９：１）を主成分とする２成分シリコーンポリマーフィルムは、厚さ４０μｍを有している。ローラの直径は２３８ｍｍであり、かつローラの長さは５５０ｍｍであり、平均加圧力０．５ｋｇ／ｃｍ２を有している。後続の焼き入れ工程において、シリコーンコーティングされたガラスリボンが、１０分間１５０℃で焼き入れされ、次いで切断される。シリコーン層の弾性係数は１１００Ｎ／ｃｍ２であり、かつ表面は５０ｎｍのうねり，４１ｎｍのすじ，かつ２０ｎｍの粗さを有している。ローラコーティングの結果、転がり方向に平行に位置する横断方向端部がシリコーンポリマーでコーティングされている。光学的遅延は１５ｎｍである。
【００５９】
＜実施例２＞
スピニング方法による５０μｍ／２μｍのガラス／ポリシリコーン複合材料５０の製造
【００６０】
フィルム厚さ５０μｍ、８０ｎｍのうねり、５２ｎｍのすじ、４ｎｍの粗さＲ Tを有する無アルカリホウケイ酸ガラスＡＦ４５（社内刊行物 Schott-DESAG）のガラスフィルムが使用される。これは、引抜速度１０ｍ／分で下向き引抜き方法で製造される。フィルムサイズは３００×２００ｍｍ２である。ガラス基板は、洗浄工程により洗浄され、続いてオゾンを生成するために１８４．９ｎｍで、また酸素中心ラジカル（oxygen centered radical）を生成するために２５３．７ｎｍでＵＶオゾン処理（アマルガム低圧放射器：５００Ｗ）することにより、ガラス基板の表面が５分間活性化される。スピニング工程（２４００回転／分）により、ガラスフィルムが、（ポリマー／ヘキサン比１：２１でヘキサンに溶解された）１成分シリコーンエラストマー（Wacker-Chemie 有限会社の製品名 Elastosil）でコーティングされ、続いて、通風オーブン内で１２０℃で１５分間乾燥される。層の厚さは２μｍである。スピニングコーティングの結果、４つの全横断方向端部がシリコーンポリマーでコーティングされる。シリコーン層の弾性係数は５００Ｎ／ｍｍ２であり、表面は、６７ｎｍのうねり，４３ｎｍのすじ，及び９ｎｍの粗さＲＴを有している。光学的遅延は５ｎｍである。
【００６１】
＜実施例３＞
スピニング工程による１４５μｍ／３μｍのＤ２６３ガラス／ポリカーボネート複合材料
【００６２】
ガラスタイプＤ２６３（社内刊行物 Schott-DESAG）のガラスフィルムが、厚さ１４５μｍを有するガラス基板として使用される。これは、引抜速度４．２ｍ／分で下向き引抜き方法により製造され、かつ２８ｎｍのうねり，１２ｎｍのすじ，及び８ｎｍの粗さＲＴを有している。ガラス基板が洗浄工程により洗浄され、続いて、オゾンを生成するために１８４．９ｎｍで、また酸素中心ラジカルを生成するために２５３．７ｎｍでＵＶオゾン処理（アマルガム低圧放射器、１０００Ｗ）により５分間表面が活性化される。
【００６３】
スピニング工程（１４００回転／分）により、ガラスフィルムがポリカーボネートフィルム（１：１９の比のポリカーボネート／塩化メチレン液）によりコーティングされ、続いて、通風オーブン内で２０分間８０℃で乾燥される。層の厚さは３μｍである。スピニングコーティングの結果、４つの横断方向端部全てが、ポリカーボネートフィルムによりコーティングされている。ポリカーボネート層の弾性係数は１３５０Ｎ／ｍｍ２であり、かつその表面が、３０ｎｍのうねり，１６ｎｍのすじ，かつ９ｎｍの粗さＲＴを有している。光学的遅延は９ｎｍである。
【００６４】
＜実施例４＞
押出しによる２００μｍ／８５μｍのＡＦ４５ガラス／ポリエーテル・サルホン（ＰＥＳ）
【００６５】
フィルム厚さ２００μｍの無アルカリホウケイ酸ＡＦ４５（社内刊行物 Schott-DESAG）のガラスフィルムが使用される。ガラス基板の表面は、５５ｎｍのうねり、３６ｎｍのすじ，及び７ｎｍの粗さ（ＲＴ）を有している。ガラスリボンの引抜速度は２．８ｍ／分である。
【００６６】
ガラスリボンの表面がコロナ処理により活性化される。スティック電極は幅５００ｍｍであり、電極とガラス表面との間の距離が４．５ｍｍである。周波数は３０〜５０ｋＨｚ（自動周波数制御）であり、出力は２５０Ｗである。３８０℃で引抜速度２．８ｍ／分で押出し方法により塗布されるＰＥＳフィルムの厚さは、８５μｍである。ガラス−ＰＥＳ複合材料は、５分間の冷却期間後に切断される。ＰＥＳ層の弾性係数は３２００Ｎ／ｍｍ２であり、かつ表面は、６８ｎｍのうねり，４９ｎｍのすじ、及び１５ｎｍの粗さＲＴを有している。
【００６７】
押出しコーティングの結果として、引抜方向と平行に位置している横断方向端部がＰＥＳポリマーによりコーティングされている。光学的遅延は１８ｎｍである。
【００６８】
＜実施例５＞
スプレーコーティングによる５０μｍ／１０μｍのＡＦ４５ガラス／ポリアクリレート複合材料
【００６９】
５０μｍのフィルム厚さ，８０ｎｍのうねり，５６ｎｍのすじ，及び４ｎｍの粗さＲＴを有する無アルカリホウケイ酸ガラスＡＦ４５（社内刊行物 Schott-DESAG）のガラスフィルムが使用される。これは引抜速度１０ｍ／分で下向き引抜き方法により製造される。フィルムサイズは３００×２００ｍｍ２である。ガラス基板が洗浄工程により洗浄され、続いて、オゾンを生成するために１８４．９ｎｍ，又は酸素中心ラジカルを生成するために２５３．７ｎｍでＵＶオゾン処理（アマルガム低圧放射器、５００Ｗ）により表面が５分間活性化される。１０μｍ厚さのポリアクリレート層がアクリレートエアロゾルからスプレー工程により製造される。ここで、４つの横断方向端部の全てがポリマーによりコーティングされる。使用したスプレー工程は、高圧低体積（ＨＰＬＶ：high pressure low volume）方法である。４０℃に予熱されたＮ，Ｎジメチルオルマミド（N,N-dimethyl ormamide）中の１０％ポリアクリレート溶液が、直径０．６ｍｍ，自動圧力０．５５ｂａｒ、ノズル用フィーダー圧力４ｂａｒを有するスプレーノズルを介してスプレーされる。アクリレート層の弾性係数は５０００Ｎ／ｍｍ２であり、その表面は、７５ｎｍのうねり，４８ｎｍのすじ，及び１０ｎｍの粗さＲＴを有している。光学的遅延は８ｎｍである。
【００７０】
＜実施例６＞
押出しによる１４５μｍ／１５μｍのＤ２６３ガラス／シクロオレフィン共重合体（ＣＯＣ）
【００７１】
ガラスタイプＤ２６３（社内刊行物 Schott-DESAG）のガラスフィルムが、厚さ１４５μｍを有するガラス基板（これは、下向き引抜き方法により製造される）として使用され、かつ２８ｎｍのうねり，１６ｎｍのすじ，８ｎｍの粗さＲＴを有している。
【００７２】
ガラスリボンの表面がコロナ処理により活性化される。幅５００ｍｍをそれぞれ有し、ガラス表面からの距離が７ｍｍである３つの連続配置されたマルチメータ金属電極が使用される。周波数は３０〜５０ｋＨｚ（自動周波数制御）であり、かつ各金属電極を経ての出力は１２０Ｗである。ガラスフィルムに対する引抜速度は４．２ｍ／分である。厚さ１５μｍのＣＯＣフィルムが、押出し方法により４．２ｍ／分、２７０℃で塗布される。ここで、引抜き方向と平行なガラス端部がポリマーによりコーティングされている。コーティングされたガラスリボンが、７分の冷却期間の後に切断される。表面は、２６ｎｍのうねり，１４ｎｍのすじ，１５ｎｍの粗さＲＴを有し、かつ弾性係数が２８００Ｎ／ｍｍ２である。光学的遅延は１０ｎｍである。
【００７３】
＜実施例７＞
ディップ方法（dipping method）による１４５μｍ／３．５μｍのＤ２６３ガラス／ポリアクリレート複合材料
【００７４】
ガラスタイプＤ２６３（社内刊行物 Schott-DESAG）のガラスフィルムが、２８ｎｍのうねり，１６ｎｍのすじ，８ｎｍの粗さＲＴを有し、かつ厚さ１４５μｍのガラス基板（これは、下向き引抜き方法により製造される）として使用される。ガラス基板のサイズは２００×２００ｍｍ２である。ガラス基板が洗浄工程により洗浄され、続いてオゾンを生成するために１８４．９ｎｍで、また酸素中心ラジカルを生成するために２５３．７ｎｍでＵＶオゾン処理（アマルガム低圧放射器、１０００Ｗ）により、表面が５分間活性化される。ポリアクリレートは、オーブン内で１３０℃で前乾燥され、かつナトリウム乾燥トルオール（sodium-dried toluol）が溶媒として使用される。厚さ３５μｍのポリアリレートフィルム(polyarylate film)が、窒素雰囲気下でディップ方法（１：１８のポリアリレート／トルオール比、処理温度８０℃）により塗布され、かつ後続の焼入れ工程により１０分間、１６０℃で乾燥される。４つの横断方向端部の全てが、厚さ３．５μｍのポリアリレートフィルムによりコーティングされている。弾性係数が２４００Ｎ／ｍｍ２であり、かつ表面は、１９ｎｍのうねり、１１ｎｍのすじ，１０ｎｍの粗さＲＴを有している。光学的遅延は８ｎｍである。
【００７５】
＜実施例８＞
スピニング工程による１００μｍ／４．５μｍのＤ２６３ガラス／シリコーン樹脂複合材料
【００７６】
ガラスタイプＤ２６３（社内刊行物 Schott-DESAG）のガラスフィルムが、厚さ１００μｍを有し、かつ３３ｎｍのうねり、１５ｎｍのすじ，及び６ｎｍの粗さＲＴを有するガラス基板（これは、下向き引抜き方法により製造される）として使用される。ガラス基板のサイズは１００×１００ｍｍ２である。ガラス基板が、洗浄工程により洗浄され、続いて、オゾンを生成するために１８４．９ｎｍ、また酸素中心ラジカルを生成するために２５３．７ｎｍでＵＶオゾン処理（アマルガム低圧放射器、１０００Ｗ）により表面が５分間活性化される。ガラスフィルムが、スピニング方法（５０００回転／分）により、メチルフェニルシリコーン樹脂（Wacker-Chemie 有限会社の製品名 Silres (登録商標)、１：３のシリコーン樹脂／キシレン液比）でコーティングされ、続いて、通風オーブン内で１５分間２２０℃で乾燥される。層の厚さは４．５μｍである。スピニングコーティングの結果として、４つの横断方向端部の全てがシリコーン樹脂でコーティングされる。表面は、３５ｎｍのうねり，１７ｎｍのすじ，及び９ｎｍの粗さＲＴを有している。光学的遅延は１４ｎｍである。
【図面の簡単な説明】
【図１】  １つの端部におけるガラス−プラスチック複合フィルムの形状を示す図である。
【図２】  本実施形態によるガラス−プラスチック複合フィルムを製造するための製造ラインを示す図である。
【符号の説明】
１，１５  ガラスフィルム
２  ガラスフィルム表面
３  ガラス端部
４  ポリマーフィルム
５  端部拡大部
１０  ガラス引抜き装置
１１  ガラスタンク
１２  デビットユース
１３  冷却経路
１４，２１  ローラ
１６  バッファ経路
２０  コンベアローラ
２２  表面処理装置
２３  焼き入れユニット
２４  コーティングモジュール
２５  ポリマー
２６  シートダイ
２７  移送ローラ
２８  第１乾燥経路
２９  引抜き部
３０  ＵＶ照射経路
３１  第２乾燥経路
３２  中間層解放装置
３３  巻回ユニット
【図１】
0004122139.tif 000002
【図２】
0004122139.tif 000003