(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）ノボラック型エポキシ化合物（ａ）と不飽和モノカルボン酸（ｂ）とのエステル化物の水酸基に飽和又は不飽和多塩基酸無水物（ｃ）を反応させて得られる感光性プレポリマー、（Ｂ）カルボキシル基含有共重合樹脂、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）希釈剤、及び（Ｅ）分子中に少なくとも２個のエポキシ基を有する多官能エポキシ化合物を含有し、前記カルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）は、（ｂ−１）不飽和カルボン酸（ｄ）と、置換基としてメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチル、カプリル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロヘキシル、イソボルニル、メトキシエチル、ブトキシエチル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルのいずれかを有する（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート及びポリプロピレングリコールのモノ（メタ）アクリレートよりなる群から選ばれる他の不飽和二重結合を有する化合物（ｅ）との共重合体、（ｂ−２）前記共重合体（ｂ−１）のカルボキシル基に、エポキシ基含有不飽和化合物を部分的に反応させて得られるプレポリマー、及び（ｂ−３）エポキシ基含有共重合体のエポキシ基にカルボキシル基含有化合物を付加反応させ、生成した水酸基に飽和又は不飽和多塩基酸無水物を反応させて得られるプレポリマーよりなる群から選ばれる少なくとも１種の樹脂であることを特徴とする艶消し皮膜形成用の光硬化性・熱硬化性組成物。
【請求項２】
（Ａ）ノボラック型エポキシ化合物（ａ）と不飽和モノカルボン酸（ｂ）とのエステル化物の水酸基に飽和又は不飽和多塩基酸無水物（ｃ）を反応させて得られる感光性プレポリマー、（Ｂ）カルボキシル基含有共重合樹脂、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）希釈剤、（Ｅ）分子中に少なくとも２個のエポキシ基を有する多官能エポキシ化合物、及び（Ｆ）無機充填剤を含有し、前記カルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）は、（ｂ−１）不飽和カルボン酸（ｄ）と、置換基としてメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチル、カプリル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロヘキシル、イソボルニル、メトキシエチル、ブトキシエチル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルのいずれかを有する（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート及びポリプロピレングリコールのモノ（メタ）アクリレートよりなる群から選ばれる他の不飽和二重結合を有する化合物（ｅ）との共重合体、（ｂ−２）前記共重合体（ｂ−１）のカルボキシル基に、エポキシ基含有不飽和化合物を部分的に反応させて得られるプレポリマー、及び（ｂ−３）エポキシ基含有共重合体のエポキシ基にカルボキシル基含有化合物を付加反応させ、生成した水酸基に飽和又は不飽和多塩基酸無水物を反応させて得られるプレポリマーよりなる群から選ばれる少なくとも１種の樹脂であることを特徴とする艶消し皮膜形成用の光硬化性・熱硬化性組成物。
【請求項３】
さらに（Ｇ）エポキシ樹脂用硬化剤を含有する請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
前記感光性プレポリマー（Ａ）とカルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）の配合比は、重量比で（Ａ）：（Ｂ）＝１００：５〜２５０である請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項５】
前記感光性プレポリマー（Ａ）とカルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）の配合比は、重量比で（Ａ）：（Ｂ）＝１００：５〜<１００である請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項６】
前記光重合開始剤（Ｃ）が、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ベンゾインとそのアルキルエーテル類、ケタール類、チオキサントン類、アントラキノン類、有機過酸化物類、チオール化合物、及び有機ハロゲン化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物であり、前記感光性プレポリマー（Ａ）１００重量部当たり０．２〜３０重量部の割合で含有する請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項７】
前記希釈剤（Ｄ）が有機溶剤であり、前記感光性プレポリマー（Ａ）とカルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）の合計量１００重量部当たり３０〜３００重量部の割合で含有する請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項８】
前記希釈剤（Ｄ）が光重合性モノマーであり、前記感光性プレポリマー（Ａ）とカルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）の合計量１００重量部当たり３〜５０重量部の割合で含有する請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項９】
前記多官能エポキシ化合物（Ｅ）が、使用する希釈剤（Ｄ）に難溶性のエポキシ樹脂、又は該難溶性エポキシ樹脂と使用する希釈剤（Ｄ）に可溶性のエポキシ樹脂との混合物である請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項１０】
前記多官能エポキシ化合物（Ｅ）を前記感光性プレポリマー（Ａ）とカルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）の合計量１００重量部当たり５〜１００重量部の割合で含有する請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項１１】
前記無機充填剤が１５ｍｌ／１００ｇ以上の吸油量を有する請求項２に記載の組成物。
【請求項１２】
さらに着色顔料を含有する請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項１３】
さらに消泡剤又はレベリング剤を含有する請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項１４】
前記請求項１又は２に記載の光硬化性・熱硬化性組成物のパターン化された硬化レジスト皮膜からなり、皮膜表面のＡＳＴＭ  Ｄ  ５２３−８９による６０°グロス値が５０以下のレジスト皮膜が形成されたプリント配線基板。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、低光沢の艶消し皮膜を形成できる光硬化性・熱硬化性の液状組成物に関し、さらに詳しくは、民生用乃至は産業用プリント配線基板のソルダーレジスト、層間絶縁層などの艶消し皮膜の形成に適したアルカリ水溶液で現像可能な光硬化性・熱硬化性組成物に関する。
背景技術
近年のプリント配線基板のファインパターン化に伴い、はんだフロー時に発生するレジスト皮膜上へのはんだの付着は、ブリッジ等の不良を引き起こす大きな要因となる。このような不良を防止するために、レジスト皮膜表面を艶消しにし、それによってはんだフロー時のレジスト皮膜上への耐はんだ付着性を向上させ、はんだの付着を抑制することは従来から行なわれている。このような艶消しレジスト皮膜の形成に用いる組成物としては、艶消し成分としてシリカやタルクなどの各種フィラーを混合したものが広く知られている。
しかしながら、かかる艶消しレジスト組成物では、フィラーの添加量が増えるに従い、チキソトロピーが増大し、印刷時に泡やスキップが発生したりして印刷性の低下が見られる。また、フィラーを多量に含有する場合、艶消し皮膜は得られるものの、形成される皮膜の電気絶縁性等に悪影響を及ぼすという欠点がある。
また、艶消し成分として粒径の大きいフィラーを用いた艶消しレジスト組成物では、そのフィラー粒径の大きさから、薄膜パターンを形成する場合、フィラーが塗膜表面から浮き出易くなり、その結果、水、薬品などがフィラーと樹脂の界面に沿って浸透して被塗面まで達し易くなり、耐薬品性や電気絶縁性などの皮膜信頼性に劣る。また、フィラー粒径の大きさからファインパターンの要求に対応できないという不利益もある。
従って、本発明の主たる目的は、このような艶消し剤成分としてのフィラーを含有しないか、又は含有量を少なくしても、良好な特性を有する艶消し皮膜を形成できる光硬化性・熱硬化性組成物を提供することにある。
本発明の他の目的は、ファインパターン形成性に優れ、また皮膜の低光沢を安定に保ち、はんだフロー時の耐はんだ付着性や、耐薬品性、無電解金めっき耐性、電気絶縁性、耐熱性、密着性、硬度等の皮膜特性に優れた艶消し皮膜の形成に有用な光硬化性・熱硬化性組成物を低コストで提供することにある。
発明の開示
前記目的を達成するために、本発明の基本的な第一の態様によれば、（Ａ）ノボラック型エポキシ化合物（ａ）と不飽和モノカルボン酸（ｂ）とのエステル化物の水酸基に飽和又は不飽和多塩基酸無水物（ｃ）を反応させて得られる感光性プレポリマー、（Ｂ）カルボキシル基含有共重合樹脂、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）希釈剤、及び（Ｅ）分子中に少なくとも２個のエポキシ基を有するエポキシ化合物（以下、多官能エポキシ化合物という）を含有し、前記カルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）は、（ｂ−１）不飽和カルボン酸（ｄ）と、置換基としてメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチル、カプリル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロヘキシル、イソボルニル、メトキシエチル、ブトキシエチル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルのいずれかを有する（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート及びポリプロピレングリコールのモノ（メタ）アクリレートよりなる群から選ばれる他の不飽和二重結合を有する化合物（ｅ）との共重合体、（ｂ−２）前記共重合体（ｂ−１）のカルボキシル基に、エポキシ基含有不飽和化合物を部分的に反応させて得られるプレポリマー、及び（ｂ−３）エポキシ基含有共重合体のエポキシ基にカルボキシル基含有化合物を付加反応させ、生成した水酸基に飽和又は不飽和多塩基酸無水物を反応させて得られるプレポリマーよりなる群から選ばれる少なくとも１種の樹脂であることを特徴とする艶消し皮膜形成用の光硬化性・熱硬化性組成物が提供される。
本発明の第二の態様によれば、（Ａ）ノボラック型エポキシ化合物（ａ）と不飽和モノカルボン酸（ｂ）とのエステル化物の水酸基に飽和又は不飽和多塩基酸無水物（ｃ）を反応させて得られる感光性プレポリマー、（Ｂ）カルボキシル基含有共重合樹脂、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）希釈剤、（Ｅ）多官能エポキシ化合物、及び（Ｆ）無機充填剤を含有し、前記カルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）は、（ｂ−１）不飽和カルボン酸（ｄ）と、置換基としてメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチル、カプリル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロヘキシル、イソボルニル、メトキシエチル、ブトキシエチル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルのいずれかを有する（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート及びポリプロピレングリコールのモノ（メタ）アクリレートよりなる群から選ばれる他の不飽和二重結合を有する化合物（ｅ）との共重合体、（ｂ−２）前記共重合体（ｂ−１）のカルボキシル基に、エポキシ基含有不飽和化合物を部分的に反応させて得られるプレポリマー、及び（ｂ−３）エポキシ基含有共重合体のエポキシ基にカルボキシル基含有化合物を付加反応させ、生成した水酸基に飽和又は不飽和多塩基酸無水物を反応させて得られるプレポリマーよりなる群から選ばれる少なくとも１種の樹脂であることを特徴とする艶消し皮膜形成用の光硬化性・熱硬化性組成物が提供される。
これらの光硬化性・熱硬化性組成物は、さらに（Ｇ）エポキシ樹脂用硬化剤を含有することができる。
また、前記感光性プレポリマー（Ａ）とカルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）の配合比は、重量比で（Ａ）：（Ｂ）＝１００：約５〜約２５０、好ましくは（Ａ）：（Ｂ）＝１００：５〜<１００であることが望ましい。
前記光硬化性・熱硬化性組成物は、はんだフロー時の耐はんだ付着性や、耐薬品性、無電解金めっき耐性、電気絶縁性、耐熱性、硬度等の皮膜特性に優れる艶消し皮膜を形成できると共に、皮膜表面の微小凹凸により銅箔や各種めっき層との密着性に優れるため、プリント配線基板のソルダーレジスト、層間絶縁層などの艶消し皮膜形成に有用である。特に有利な態様として、前記光硬化性・熱硬化性組成物のパターン化された硬化レジスト皮膜からなり、皮膜表面のＡＳＴＭ  Ｄ  ５２３−８９による６０°グロス値が約５０以下、好ましくは約３０以下のレジスト皮膜が形成されたプリント配線基板が提供される。
発明を実施するための最良の形態
本発明者らは、前記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、（Ａ）ノボラック型エポキシ化合物（ａ）と不飽和モノカルボン酸（ｂ）とのエステル化物の水酸基に飽和又は不飽和多塩基酸無水物（ｃ）を反応させて得られる感光性プレポリマーと、前記特定の（Ｂ）カルボキシル基含有共重合樹脂を組み合わせて含有する光硬化性・熱硬化性組成物は、意外にも、艶消し成分を添加しなくても良好な艶消し皮膜を形成できることを見出した。また、このような光硬化性・熱硬化性組成物に艶消し成分としての無機充填剤をより少ない配合量で添加することでも、さらにグロス値が低い、塗膜表面に微小凹凸を有する艶消し皮膜が得られることを見出した。かかる光硬化性・熱硬化性組成物は、樹脂成分自体に艶消し効果が現われるので、艶消し成分の添加を極力抑えることができる結果、組成物のチキソトロピーの経時的変化が小さく、長期保存後にも安定した低光沢を示し、またはんだフロー時のレジスト皮膜上への耐はんだ付着性、耐薬品性等に優れる艶消し皮膜を形成でき、さらにファインパターン対応性にも優れている。
前記光硬化性・熱硬化性組成物を用いることによって良好な艶消し皮膜を形成できる理由としては、前記感光性プレポリマー（Ａ）と前記カルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）は相溶性がないため、該組成物から形成される塗膜中において、カルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）が感光性プレポリマー（Ａ）中に分散した海島構造をとり、これらの屈折率の差により入射した光が乱反射するためと推測される。
また、光硬化性・熱硬化性組成物が無機充填剤を含有する場合にさらにグロス値が低い艶消し皮膜が得られる理由としては、無機充填剤が存在することによって塗膜表面に微小凹凸が形成され、この微小凹凸及び無機充填剤微粒子自体によって、入射した光の乱反射がさらに増大するためと推測される。
また、艶消し成分を多量に含む従来の組成物と比べて、耐薬品性、無電解金めっき耐性、電気絶縁性、密着性等の皮膜信頼性にも優れている。これは、無機充填剤を含有しないため、あるいは、含有する場合には少量で艶消し効果が得られることにより、容易に水、薬品などがフィラーとビヒクルの界面に沿って浸透し難いためと推測され、さらに用いる無機充填剤の粒径を細かく設定すればファインパターン形成性にも優れている。さらに、前記感光性プレポリマー（Ａ）と前記カルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）の配合比や無機充填剤の種類、無機充填剤の添加量の増減等により、上記特性を維持したまま皮膜の光沢をコントロールすることも可能となる。
上記のような感光性プレポリマー（Ａ）及びカルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）は、いずれも、バックボーン・ポリマーの側鎖に多数の遊離のカルボキシル基を付与したものであるため、これら感光性プレポリマー（Ａ）及びカルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）を含有する組成物は、希アルカリ水溶液による現像が可能となると同時に、露光、現像後、塗膜を後加熱することにより、別に熱硬化性の配合成分として加える多官能エポキシ化合物（Ｅ）のエポキシ基と上記側鎖の遊離のカルボキシル基との間で付加反応が起こり、塗膜の耐熱性、耐溶剤性、耐酸性、密着性、無電解金めっき耐性、電気絶縁性、耐電蝕性、硬度などの諸特性に優れた艶消し皮膜が得られる。
以下、本発明の光硬化性・熱硬化性組成物の各成分について詳細に説明する。
まず、前記感光性プレポリマー（Ａ）は、（ａ）ノボラック型エポキシ化合物のエポキシ基と（ｂ）不飽和モノカルボン酸のカルボキシル基をエステル化反応（全エステル化又は部分エステル化、好ましくは全エステル化）させ、生成した水酸基にさらに（ｃ）飽和又は不飽和の多塩基酸無水物を反応させて得られたものである。
ノボラック型エポキシ化合物（ａ）としては、例えば、フェノール、クレゾール、ハロゲン化フェノール、アルキルフェノールなどのフェノール類とホルムアルデヒドとを酸性触媒下で反応させて得られるノボラック類に、エピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン等のエピハロヒドリンを反応させて得られるものが挙げられる。市販品としては、東都化成（株）製ＹＤＣＮ−７０１、ＹＤＣＮ−７０４、ＹＤＰＮ−６３８、ＹＤＰＮ−６０２；ダウ・ケミカル社製ＤＥＮ−４３１、ＤＥＮ−４３９；チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製ＥＰＮ−１１３８、ＥＰＮ−１２３５、ＥＰＮ−１２９９；大日本インキ化学工業（株）製Ｎ−７３０、Ｎ−７７０、Ｎ−８６５、Ｎ−６６５、Ｎ−６７３、Ｎ−６９５、ＶＨ−４１５０、ＶＨ−４２４０、ＶＨ−４４４０；日本化薬（株）製ＥＯＣＮ−１２０、ＥＯＣＮ−１０４、ＢＲＲＮ−１０２０；旭化成工業（株）製ＥＣＮ−２６５、ＥＣＮ−２９３、ＥＣＮ−２８５、ＥＣＮ−２９９などが挙げられる。
また、上記ノボラック型エポキシ化合物の一部を、例えば油化シェルエポキシ（株）製エピコート８２８、エピコート１００７、エピコート８０７（エピコートは登録商標）；大日本インキ化学工業（株）製エピクロン８４０、エピクロン８６０、エピクロン３０５０、エピクロン８３０（エピクロンは登録商標）；ダウ・ケミカル社製ＤＥＲ−３３０、ＤＥＲ−３３７、ＤＥＲ−３６１；ダイセル化学工業（株）製セロキサイド２０２１、セロキサイド３０００（セロキサイドは登録商標）；三菱ガス化学（株）製ＴＥＴＲＡＤ−Ｘ、ＴＥＴＲＡＤ−Ｃ、；日本曹達（株）製ＥＰＢ−１３、ＥＰＢ−２７；東都化成（株）製ＹＤ−１１６、ＹＤ−１２８、ＹＤ−０１３、ＹＤ−０２０、ＹＤＧ−４１４、ＳＴ−３０００、ＳＴ−１１０、ＹＤＦ−１９０、ＹＤＦ−２００４、ＹＤＦ−２００７；チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製ＧＹ−２６０、ＧＹ−２５５、ＸＢ−２６１５；ダウ・ケミカル社製ＤＥＲ−３３２、ＤＥＲ−６６２、ＤＥＲ−５４２などの、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、水添ビスフェノールＡ型、臭素化ビスフェノールＡ型、アミノ基含有、脂環式、あるいはポリブタジエン変性などのグリシジルエーテル型のエポキシ化合物に置きかえることができる。それによって、硬化皮膜の密着性や可撓性が良くなるが、これらのエポキシ化合物の割合が多いと硬化皮膜の耐熱性が悪くなり易いので、プリント配線板用ソルダーレジストとしては、フェノールノボラック型又はクレゾールノボラック型エポキシ化合物、特にクレゾールノボラック型エポキシ化合物を用いるのが好ましい。
次に、前記感光性プレポリマー（Ａ）の合成に用いられる不飽和モノカルボン酸（ｂ）の具体例としては、例えば、アクリル酸、アクリル酸の２量体、メタクリル酸、β−スチリルアクリル酸、β−フルフリルアクリル酸、クロトン酸、α−シアノ桂皮酸、桂皮酸など；及び飽和又は不飽和二塩基酸無水物と分子中に１個の水酸基を有する（メタ）アクリレート類との反応物あるいは飽和又は不飽和二塩基酸と不飽和モノグリシジル化合物との反応物である半エステル類、例えば無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水イタコン酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸等の飽和又は不飽和二塩基酸無水物と、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、フェニルグリシジルエーテルの（メタ）アクリレート等の分子中に１個の水酸基を有する（メタ）アクリレート類を等モル比で反応させて得られた半エステル、あるいは、飽和又は不飽和二塩基酸（例えば、コハク酸、マレイン酸、アジピン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、イタコン酸、フマル酸等）と不飽和モノグリシジル化合物（例えば、グリシジル（メタ）アクリレートや後掲する化学式（１）〜（４）の化合物等）を等モル比で反応させて得られる半エステル等などが挙げられ、これらを単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、光硬化性の観点からアクリル酸及び／又はメタクリル酸（以下、これらを総称する場合、（メタ）アクリル酸という）、特にアクリル酸が好ましい。なお、本明細書中で用いる用語「（メタ）アクリレート」は、アクリレート、メタクリレート、又はそれらの混合物を意味し、他の類似の表現についても同様である。
前記感光性プレポリマー（Ａ）の合成に用いられる飽和又は不飽和の多塩基酸無水物（ｃ）としては、代表的なものとして無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸などの二塩基性酸無水物；無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物などの芳香族多価カルボン酸無水物；その他これに付随する例えば５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフリル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物のような多価カルボン酸無水物誘導体などが使用できるが、特にテトラヒドロ無水フタル酸又はヘキサヒドロフタル酸が好ましい。
前記エポキシ化合物と不飽和モノカルボン酸によるエポキシ基の全エステル化物（ＣＥ）及び部分エステル化物（ＰＥ）は、エポキシ基の当量数／カルボキシル基の当量数が０．８〜３．３、好ましくは全エステル化物（ＣＥ）では０．９〜１．１、部分エステル化物（ＰＥ）では１．１〜２．５の範囲で常法により反応が行なわれる。この当量数比が０．８未満では遊離酸が残存することにより、はんだ耐熱性が低下し、一方、３．３を越える場合には感光性が低下するので好ましくない。
例えば、前記ノボラック型エポキシ化合物をセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、メチルエチルケトンなどの有機溶剤に溶解し、ハイドロキノン、カテコール、ピロガロールなどの熱重合禁止剤及び触媒としてベンジルジメチルアミン、トリエチルアミンなどの３級アミン類あるいはベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリエチルアンモニウムブロマイドなどの４級アンモニウム塩類を加え、前記不飽和モノカルボン酸を混合し、７０〜１４０℃で加熱攪拌下に反応させて得られる。
次に、前記ノボラック型エポキシ化合物の全エステル化物（ＣＥ）又は部分エステル化物（ＰＥ）のエステル化反応によって生成する２級水酸基と前記多塩基酸無水物の付加反応の比率は、前記エステル化物（ＣＥ及びＰＥ）の有する２級水酸基の当量数に対し酸無水物の当量数は０．３以上が好ましく、生成樹脂の酸価の範囲は３０〜１６０ｍｇＫＯＨ／ｇ、好ましくは４５〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇである。この反応生成物を感光性プレポリマーとして用いた場合、得られる組成物はアルカリ現像液による現像が可能となる。酸価が３０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満ではアルカリ現像液に対する溶解性が悪くなり、逆に１６０ｍｇＫＯＨ／ｇを越えると硬化皮膜の耐アルカリ性、電気特性などのソルダーレジストとしての諸特性を低下させる要因となる。この場合のエステル化物（ＣＥ及びＰＥ）は、エポキシ基の残存が多いと飽和又は不飽和多塩基酸無水物との反応時にゲル化し易くなるため、エポキシ基の残存率は２０％以下が望ましく、好ましくは１５％以下である。
例えば、前記エステル化物（ＣＥ及びＰＥ）より少なくとも１種選択し、前記多塩基酸無水物より少なくとも１種選択し、混合し、常法により７０〜１２０℃で加熱攪拌下に反応させて得られる。
次に、本発明で用いる前記カルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）としては、それ自体がエチレン性不飽和二重結合を有するカルボキシル基含有感光性樹脂、及びエチレン性不飽和二重結合を有さないカルボキシル基含有樹脂のいずれも使用可能である（オリゴマー及びポリマーのいずれでもよい）。カルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）としては、（ｂ−１）不飽和カルボン酸（ｄ）と他の不飽和二重結合を有する化合物（ｅ）との共重合体、（ｂ−２）不飽和カルボン酸（ｄ）と他の不飽和二重結合を有する化合物（ｅ）との前記共重合体（ｂ−１）のカルボキシル基にエポキシ基含有不飽和化合物を部分的に反応させて得られるプレポリマー、又は（ｂ−３）エポキシ基含有共重合体のエポキシ基にカルボキシル基含有化合物を付加反応させ、生成した水酸基に飽和又は不飽和多塩基酸無水物を反応させて得られるプレポリマーを用いることが好ましい。
まず、前記カルボキシル基含有樹脂（ｂ−１）は、（ｄ）不飽和カルボン酸と（ｅ）不飽和二重結合を有する化合物との共重合体である。
前記不飽和カルボン酸（ｄ）の具体的な例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、又はこれらの酸無水物、さらには、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水ピロメリット酸などの酸無水物と２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類などの水酸基を有する不飽和化合物との反応生成物等が挙げられる。これらの不飽和カルボン酸（ｄ）は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でもアクリル酸及び／又はメタクリル酸が好ましい。
前記不飽和二重結合を有する化合物（ｅ）としては、置換基としてメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチル、カプリル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロヘキシル、イソボルニル、メトキシエチル、ブトキシエチル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルのいずれかを有する（メタ）アクリレート；ポリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート又はポリプロピレングリコールのモノ（メタ）アクリレートが用いられる。これらの化合物（ｅ）は、単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。これらの化合物の中でも、好ましくは、低級アルキル（メタ）アクリレートが用いられる。
次に、前記カルボキシル基含有樹脂（ｂ−２）は、前記した（ｄ）不飽和カルボン酸と（ｅ）不飽和二重結合を有する化合物との共重合体（ｂ−１）のカルボキシル基に、エポキシ基含有不飽和化合物を部分的に反応させて得られるプレポリマーであり、前記共重合体（ｂ−１）のカルボキシル基の一部に、例えばグリシジル（メタ）アクリレートを反応させ、該グリシジル（メタ）アクリレートの不飽和二重結合を側鎖に導入した樹脂である。上記共重合体の一方のモノマー成分である不飽和カルボン酸（ｄ）の有するカルボキシル基の一部は未反応のまま残存するため、得られるカルボキシル基含有感光性樹脂は、アルカリ水溶液に対して可溶性である。そのため、このような樹脂を含有する光硬化性・熱硬化性組成物から形成した皮膜は、選択的露光後にアルカリ水溶液により安定した現像が可能となる。
エチレン性不飽和基を有するペンダントとしては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などがある。このようなペンダントを前記共重合体に付加させる方法は、共重合体のカルボキシル基に、グリシジル基を有するエチレン性不飽和化合物を付加反応させる方法が一般的である。
ここでいうグリシジル基を有するエチレン性不飽和化合物としては、グリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジルエーテル、α−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、α−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、クロトニルグリシジルエーテル、クロトン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエーテルや、下記式（１）〜（４）で示される化合物などが挙げられる。これらの中でもグリシジル（メタ）アクリレートが好ましい。
【化１】
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前記カルボキシル基含有樹脂（ｂ−３）は、エポキシ基含有共重合体のエポキシ基にカルボキシル基含有化合物を付加反応させ、生成した水酸基に飽和又は不飽和多塩基酸無水物を反応させて得られるプレポリマーであり、例えば以下のような樹脂が挙げられる。
（ｂ−３−１）前記（ｄ）不飽和カルボン酸を、前記（ｅ）不飽和二重結合を有する化合物と（ｈ）グリシジル基と不飽和二重結合を有する化合物との共重合体に反応させ、生成した２級の水酸基に前記（ｃ）飽和又は不飽和多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂、及び
（ｂ−３−２）前記（ｅ）不飽和二重結合を有する化合物と（ｈ）グリシジル基と不飽和二重結合を有する化合物の共重合体のグリシジル基に、（ｉ）分子中に１つのカルボキシル基を有し、エチレン性不飽和結合を持たない有機酸を反応させ、生成した２級の水酸基に前記（ｃ）飽和又は不飽和多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有樹脂。
前記カルボキシル基含有感光性樹脂（ｂ−３−１）は、前記（ｅ）不飽和二重結合を有する化合物と（ｈ）分子中にグリシジル基と不飽和二重結合を有する化合物との共重合体のエポキシ基に、前記（ｄ）不飽和カルボン酸のカルボキシル基を反応させ、該不飽和カルボン酸の不飽和二重結合を側鎖に導入すると共に、上記付加反応で生成した２級の水酸基に前記（ｃ）多塩基酸無水物をエステル化反応させ、側鎖にカルボキシル基を導入した樹脂である。例えば、アルキル（メタ）アクリレートとグリシジル（メタ）アクリレートのモル比で４０：６０〜８０：２０の共重合体、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとアルキル（メタ）アクリレートとグリシジル（メタ）アクリレートのモル比で１０〜５０：１０〜７０：２０〜６０の共重合体等に（メタ）アクリル酸を反応させた後、さらに飽和又は不飽和多塩基酸無水物（ｃ）を反応させて得られる樹脂が挙げられる。
上記分子中にグリシジル基と不飽和二重結合を含有する化合物（ｈ）の具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、α−メチルグリシジル（メタ）アクリレートや、前記化学式（１）〜（４）で示される化合物などが挙げられる。これらの化合物（ｈ）は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
前記カルボキシル基含有樹脂（ｂ−３−２）は、前記（ｅ）不飽和二重結合を有し、水酸基や酸性基を持たないアルキル（メタ）アクリレート、置換もしくは非置換スチレンなどの化合物と（ｈ）グリシジル基と不飽和二重結合を有する化合物を主鎖とする共重合体のグリシジル基に、（ｉ）分子中に１つのカルボキシル基を有し、エチレン性不飽和結合を持たない有機酸を反応させ、生成した２級の水酸基に前記（ｃ）飽和もしくは不飽和多塩基酸無水物を付加反応させて得られる樹脂である。
前記分子中に１つのカルボキシル基を有し、エチレン性不飽和二重結合を持たない有機酸（ｉ）としては、酢酸、プロピオン酸、ｎ−酪酸、イソ−酪酸、ｎ−ジメチル酪酸、エチル酪酸、ヘキサン酸、２−メチルペンタン酸、２−エチルペンタン酸、ヘプタン酸、２−メチルヘプタン酸、ラウリン酸、ステアリン酸、ｎ−ヘプタデカン酸など、炭素数２〜１７のアルキルカルボン酸、あるいは置換もしくは非置換安息香酸、（Ｒ）、（Ｓ）−２−フェニルプロピオン酸、（Ｒ）−フェニルイソプロピオン酸、２−フェニル酪酸、４−フェニル酪酸等の芳香族基含有アルキルカルボン酸などが挙げられる。これらの有機酸（ｉ）は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
前記したようなカルボキシル基含有感光性樹脂及びカルボキシル基含有樹脂は、単独で又は混合して用いてもよいが、いずれの場合でもこれらは前記感光性プレポリマー（Ａ）１００重量部当たり約５〜２５０重量部の割合、好ましくは５重量部以上、１００重量部未満の割合である。これらの樹脂の配合量が上記範囲よりも少な過ぎる場合、充分に低いグロス値を有する皮膜を形成することが困難になる。一方、上記範囲よりも多過ぎると、カルボキシル基含有樹脂の選定によっては充分な光硬化性が得られ難く、選択的露光、現像によるパターニングが困難となる。
また、前記カルボキシル基含有感光性樹脂及びカルボキシル基含有樹脂としては、その種類によって好適な範囲は異なるが、それぞれ重量平均分子量約１，０００〜１００，０００、好ましくは約５，０００〜５０，０００、及び酸価約２０〜１６０ｍｇＫＯＨ／ｇ、好ましくは約４０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇを有し、かつ、カルボキシル基含有感光性樹脂の場合、その二重結合当量が約３５０〜２，０００、好ましくは約４００〜１，５００のものを好適に用いることができる。
前記樹脂の分子量が１，０００より低い場合、塗膜の指触乾燥性が低下し、また現像時の塗膜の密着性に悪影響がある。一方、前記樹脂の分子量が１００，０００よりも高い場合、現像不良を生じ易くなるので好ましくない。また、酸価が２０ｍｇＫＯＨ／ｇより低い場合、アルカリ水溶液に対する溶解性が不充分で現像不良を生じ易くなり、一方、１６０ｍｇＫＯＨ／ｇより高い場合、現像時に艶消し皮膜の密着性の劣化や光硬化部（露光部）の溶解が生じ易くなるので好ましくない。
さらに、カルボキシル基含有感光性樹脂の場合、感光性樹脂の二重結合当量が３５０よりも小さい場合、充分な光硬化性や光硬化深度が得られ難くなり、一方、２，０００よりも大きい場合、現像時の作業余裕度が狭く、また光硬化時に高露光量を必要とするので好ましくない。
光重合開始剤（Ｃ）としては、例えば、アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノアセトフェノン等のアセトフェノン類；ベンゾフェノン、  メチルベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４´−ジクロロベンゾフェノン、４，４´−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、４，４´−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４−ベンゾイル−４´−メチルジフェニルサルファイド等のベンゾフェノン類；ベンジル；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類；アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類；チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類；２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン等のアントラキノン類；ベンゾイルパーオキシド、クメンパーオキシド等の有機過酸化物；２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体、リボフラビンテトラブチレート、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール等のチオール化合物；２，４，６−トリス−ｓ−トリアジン、２，２，２−トリブロモエタノール、トリブロモメチルフェニルスルホン等の有機ハロゲン化合物；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。これらの化合物は、単独で用いることもでき、また２種以上を組み合わせて使用することもできる。
さらに、上記光重合開始剤（Ｃ）は、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ペンチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の三級アミン類のような光増感剤の１種あるいは２種以上と組み合わせて用いることができる。
前記光重合開始剤（Ｃ）の好ましい組合せは、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン（例えばチバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製、イルガキュアー９０７：イルガキュアーは登録商標）と、２−クロロチオキサントン（例えば日本化薬（株）製カヤキュアーＣＴＸ：カヤキュアーは登録商標）や２，４−ジエチルチオキサントン（例えば日本化薬（株）製カヤキュアーＤＥＴＸ）、２−イソプロピルチオキサントン、４−ベンゾイル−４´−メチルジフェニルサルファイド等との組合せである。
また、上記のような光重合開始剤（Ｃ）の使用量の好適な範囲は、前記感光性プレポリマー（Ａ）（前記（Ｂ）成分がカルボキシル基含有感光性樹脂の場合には感光性プレポリマーとカルボキシル基含有感光性樹脂の合計量）１００重量部に対して約０．２〜３０重量部、好ましくは２〜１０重量部となる割合である。光重合開始剤の配合割合が上記範囲よりも少ない場合、得られる組成物の光硬化性が悪くなる。一方、上記範囲よりも多い場合には、得られる硬化塗膜の特性が悪くなり、また、組成物の保存安定性が悪くなるので好ましくない。
前記（Ｄ）成分の希釈剤としては、有機溶剤及び／又は光重合性モノマーが使用できる。
有機溶剤としては、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類；セロソルブ、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類；酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類；エタノール、プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類；オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素；石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサ等の石油系溶剤などが挙げられる。これらの有機溶剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
有機溶剤の使用目的は、前記感光性プレポリマー（Ａ）及びカルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）を溶解し、希釈せしめ、それによって液状として塗布し、次いで仮乾燥させることにより造膜せしめ、接触露光を可能とするためである。
有機溶剤の使用量は特定の割合に限定されるものではないが、前記感光性プレポリマー（Ａ）及びカルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）の合計量１００重量部当たり約３０〜３００重量部程度の範囲が適当であり、選択する塗布方法等に応じて適宜設定できる。
一方、光重合性モノマーの代表的なものとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン、アクリロイルモルフォリン、メトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレグリコールジ（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロ−ル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、グリセリンジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、グリセリントリグリシジルエーテルトリ（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、シクロペンタジエン  モノ−あるいはジ−（メタ）アクリレート；ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール、トリス−ヒドロキシエチルイソシアヌレート等の多価アルコールの多価（メタ）アクリレート類又はこれら多価アルコールのエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイド付加物の多価（メタ）アクリレート類；多塩基酸とヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとのモノ−、ジ−、トリ−又はそれ以上のポリエステルなどが挙げられる。これらの光重合性モノマーは、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
上記光重合性モノマーの使用目的は、前記感光性プレポリマー（Ａ）及びカルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）を希釈せしめ、塗布しやすい状態にするとともに、光重合性を与えるものである。
光重合性モノマーの好適な使用量は、前記感光性プレポリマー（Ａ）及びカルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）の合計量１００重量部当たり約３〜５０重量部である。光重合性モノマーの使用量が上記範囲よりも少ない場合には、光硬化性付与効果が充分ではなく、一方、上記範囲を超えると塗膜の指触乾燥性が低下するため好ましくない。
本発明の光硬化性・熱硬化性組成物は、前記した各成分の他に、さらに熱硬化性成分として（Ｅ）分子中に少なくとも２個のエポキシ基を有する多官能エポキシ化合物を含有し、これによって、各種樹脂絶縁層の形成、エッチングレジストやマーキングインキなどとしての用途の他、プリント配線板のソルダーレジスト形成に好適に用いることができる。
このような多官能エポキシ化合物としては、例えば日本化薬（株）製ＥＢＰＳ−２００、旭電化工業（株）製ＥＰＸ−３０、大日本インキ化学工業（株）製エピクロンＥＸＡ−１５１４（エピクロンは登録商標）等のビスフェノールＳ型エポキシ樹脂；日本油脂（株）製ブレンマーＤＧＴ（ブレンマーは登録商標）等のジグリシジルフタレート樹脂；日産化学（株）製ＴＥＰＩＣ（登録商標）、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製アラルダイトＰＴ８１０（アラルダイトは登録商標）等の複素環式エポキシ樹脂；油化シェルエポキシ（株）製ＹＸ−４０００等のビキシレノール型エポキシ樹脂；油化シェルエポキシ（株）製ＹＬ−６０５６等のビフェノール型エポキシ樹脂；東都化成（株）製ＺＸ−１０６３等のテトラグリシジルキシレノイルエタン樹脂などの希釈剤に難溶性のエポキシ樹脂や、油化シェルエポキシ（株）製エピコート−１００９、−１０３１（エピコートは登録商標）、大日本インキ化学工業（株）製エピクロンＮ−３０５０、Ｎ−７０５０、Ｎ−９０５０、旭化成工業（株）製ＡＥＲ−６６４、ＡＥＲ−６６７、ＡＥＲ−６６９、東都化成（株）製ＹＤ−０１２、ＹＤ−０１４、ＹＤ−０１７、ＹＤ−０２０、ＹＤ−００２、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製ＸＡＣ−５００５、ＧＴ−７００４、６４８４Ｔ、６０９９、ダウ・ケミカル社製ＤＥＲ−６４２Ｕ、ＤＥＲ−６７３ＭＦ、旭電化工業（株）製ＥＰ−５４００、ＥＰ−５９００等のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂；東都化成（株）製ＳＴ−２００４、ＳＴ−２００７等の水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂；東都化成（株）製ＹＤＦ−２００４、ＹＤＦ−２００７、新日鉄化学（株）製ＧＫ−５０７９Ｌ等のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂；坂本薬品工業（株）製ＳＲ−ＢＢＳ、ＳＲ−ＴＢＡ−４００、旭電化工業（株）製ＥＰ−６２、ＥＰ−６６、旭化成工業（株）製ＡＥＲ−７５５、ＡＥＲ−７６５、東都化成（株）製ＹＤＢ−６００、ＹＤＢ−７１５等の臭素化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂；日本化薬（株）製ＥＰＰＮ−２０１、ＥＯＣＮ−１０３、ＥＯＣＮ−１０２０、ＥＯＣＮ−１０２５、ＢＲＥＮ、旭化成工業（株）製ＥＣＮ−２７８、ＥＣＮ−２９２、ＥＣＮ−２９９、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製ＥＣＮ−１２７３、ＥＣＮ−１２９９、東都化成（株）製ＹＤＣＮ−２２０Ｌ、ＹＤＣＮ−２２０ＨＨ、ＹＤＣＮ−７０２、ＹＤＣＮ−７０４、ＹＤＰＮ−６０１、ＹＤＰＮ−６０２、大日本インキ化学工業（株）製エピクロンＮ−６７３、Ｎ−６８０、Ｎ−６９５、Ｎ−７７０、Ｎ−７７５等のノボラック型エポキシ樹脂；旭電化工業（株）製ＥＰＸ−８００１、ＥＰＸ−８００２、ＥＰＰＸ−８０６０、ＥＰＰＸ−８０６１、大日本インキ化学工業（株）製エピクロンＮ−８８０等のビスフェノールＡのノボラック型エポキシ樹脂；旭電化工業（株）製ＥＰＸ−４９−６０、ＥＰＸ−４９−３０等のキレート型エポキシ樹脂；東都化成（株）製ＹＤＧ−４１４等のグリオキザール型エポキシ樹脂；東都化成（株）製ＹＨ−１４０２、ＳＴ−１１０、油化シェルエポキシ（株）製ＹＬ−９３１、ＹＬ−９３３等のアミノ基含有エポキシ樹脂；大日本インキ化学工業（株）製エピクロンＴＳＲ−６０１、旭電化工業（株）製ＥＰＸ−８４−２、ＥＰＸ−４０６１等のゴム変性エポキシ樹脂；山陽国策パルプ（株）製ＤＣＥ−４００等のジシクロペンタジエンフェノリック型エポキシ樹脂；旭電化工業（株）製Ｘ−１３５９等のシリコーン変性エポキシ樹脂；ダイセル化学工業（株）製プラクセルＧ−４０２、Ｇ−７１０等のε−カプロラクトン変性エポキシ樹脂などの希釈剤に可溶性のエポキシ樹脂などが挙げられる。これらのエポキシ樹脂は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができるが、特に希釈剤に難溶性の微粒状のエポキシ樹脂、あるいは難溶性のエポキシ樹脂と可溶性のエポキシ樹脂を組み合わせて用いることが好ましい。
上記熱硬化性成分としての多官能エポキシ化合物（Ｅ）の配合量は、前記感光性プレポリマー（Ａ）及びカルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）の合計量１００重量部当たり約５〜１００重量部が望ましく、好ましくは約１５〜６０重量部である。
本発明の光硬化性・熱硬化性組成物の第二の態様においては、前記したように、皮膜表面に微小凹凸を形成させてさらにグロス値を下げる目的、及び密着性、硬度などの特性を向上させる目的で、無機充填剤（Ｆ）が添加される。
無機充填剤（Ｆ）の具体例としては、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、結晶シリカ等の酸化ケイ素粉、無定形シリカ、タルク、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、ガラス繊維、炭素繊維、雲母粉などが挙げられる。
使用する無機充填剤の粒径は、約０．０５〜１０μｍの範囲内にあることが望ましく、好ましくは約０．１〜５μｍの範囲である。また、吸油量の大きな無機充填剤を用いた場合、光沢度がより一層低い艶消し皮膜が得られる。この点から見て、無機充填剤の吸油量は、約１５ｍｌ／１００ｇ以上あることが望ましく、好ましくは約３０〜２００ｍｌ／１００ｇである。ここでいう吸油量とは、無機充填剤粉末１００ｇにアマニ油を少しずつ加え、練り合わせながら無機充填剤の状態を観察し、ばらばらな分散した状態から一つのかたまりをなす点を見出し、そのときの油のｍｌ数である。
無機充填剤（Ｆ）の配合割合は、前記感光性プレポリマー（Ａ）及びカルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）の合計量１００重量部当たり約２５０重量部以下が望ましく、好ましくは約５０〜１００重量部である。
かくして得られる光硬化性・熱硬化性組成物は、前記感光性プレポリマー（Ａ）及びカルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）中に水酸基及び／又はカルボキシル基が含有され、これらの水酸基及び／又はカルボキシル基が前記多官能エポキシ化合物（Ｅ）の硬化剤として働くため、さらにエポキシ樹脂用硬化剤を併用することなく、ソルダーレジストとして十分に機能する。また前記光重合開始剤（Ｃ）として、感光性向上のために使用されるアミノ基含有の光重合開始剤や光増感剤が含まれる場合、光重合開始剤、光増感剤中のアミノ基の効果により、前記多官能エポキシ化合物（Ｅ）の硬化がさらに促進される。しかながら、密着性、耐薬品性、耐熱性などの特性をより一層上げる目的で、さらにエポキシ樹脂用硬化剤（Ｇ）を併用することが好ましい。
このようなエポキシ樹脂用硬化剤もしくは硬化触媒（Ｇ）としては、例えば、イミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、４−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−（２−シアノエチル）−２−エチル−４−メチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体；グアナミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン等のグアナミン類；ジシアンジアミド、ベンジルジメチルアミン、４−（ジメチルアミノ）−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、４−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、４−メチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、メラミン等のアミン化合物などが挙げられ、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。市販されているものとしては、例えば四国化成（株）製の２ＭＺ−Ａ、２ＭＺ−ＯＫ、２ＰＨＺ、２Ｐ４ＢＨＺ、２Ｐ４ＭＨＺ（いずれもイミダゾール系化合物の商品名）、サンアプロ社製のＵ−ＣＡＴ３５０３Ｘ、Ｕ−ＣＡＴ３５０２Ｘ（いずれもジメチルアミンのブロックイソシアネート化合物の商品名）などがある。上記のようなエポキシ樹脂用硬化剤を配合して硬化反応の反応開始温度を引き下げることが好ましい。
上記エポキシ樹脂用硬化剤（Ｇ）の配合量は通常の量的割合で充分であり、例えば前記感光性プレポリマー（Ａ）及びカルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）の合計量１００重量部当たり約０．０１〜１０重量部、好ましくは約０．１〜２．０重量部の割合である。
なお、前記のような熱硬化性成分（多官能エポキシ化合物（Ｅ）及びエポキシ樹脂用硬化剤（Ｇ））は、予め前記光硬化性液状レジスト組成物に混合してもよいが、この場合、組成物は回路板ブランクへの塗布前に増粘し易いので、使用に際して両者を混合して用いるのが望ましい。すなわち、前記エポキシ化合物（Ｅ）を主体とした硬化剤溶液と、前記感光性プレポリマー（Ａ）及びカルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）を主体とし、これに前記エポキシ樹脂用硬化剤（Ｇ）等を配合した主剤溶液の二液型に組成し、使用に際してこれらを混合して用いることが好ましい。また、前記した光重合性モノマーや着色顔料等を前記熱硬化性成分としての多官能エポキシ化合物（Ｅ）の有機溶剤溶液に混合することもできる。
本発明の光硬化性・熱硬化性組成物は、艶消し剤及びチキソトロピー調整効果を持つフィラー沈降防止剤を用いることなく艶消し皮膜を形成することができるが、皮膜特性に悪影響を及ぼさない範囲で艶消し剤及びフィラー沈降防止剤を含有することは差し支えない。
艶消し剤及びフィラー沈降防止剤としては、日本特許出願公開９−１５７５７４号及び対応する米国特許Ｎｏ．５，７５３，７２２号に記載されているものを好適に用いることができ、これらの教示内容はここに引用加入する。
艶消し剤の使用量は、前記感光性プレポリマー（Ａ）及びカルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）の合計量１００重量部当たり約１００重量部以下が適当であり、好ましくは約５０重量部以下である。一方、フィラー沈降防止剤の使用量は、前記感光性プレポリマー（Ａ）及びカルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）の合計量１００重量部当たり約１０重量部以下が適当であり、好ましくは約５重量部以下である。艶消し剤及びフィラー沈降防止剤の使用量が多過ぎると、硬度や耐薬品性、絶縁性等のレジスト皮膜の特性に影響を及ぼすので好ましくない。
また、本発明の組成物には、さらに必要に応じて、フタロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グリーン、アイオジン・グリーン、ジスアゾイエロー、クリスタルバイオレット、酸化チタン、カーボンブラック、ナフタレンブラックなどの公知慣用の着色剤、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、ピロガロール、フェノチアジンなどの公知慣用の熱重合禁止剤、アスベスト、微粉シリカなどの公知慣用の増粘剤、シリコーン系、フッ素系、高分子系などの消泡剤及び／又はレベリング剤、イミダゾール系、チアゾール系、トリアゾール系、シランカップリング剤などの密着性付与剤のような公知慣用の添加剤類を配合することができる。
本発明の光硬化性・熱硬化性組成物は、必要に応じて塗布方法に適した粘度に調整し、これを例えば、回路形成されたプリント配線板にスクリーン印刷法、カーテンコート法、スプレーコート法、ロールコート法等の方法により塗布し、例えば約６０〜１００℃の温度で組成物中に含まれる有機溶剤を揮発乾燥させることにより、タックフリーの塗膜を形成できる。その後、接触式又は非接触方式によりパターンを形成したフォトマスクを通して選択的に活性光線により露光し、未露光部を希アルカリ水溶液（例えば約０．５〜５％炭酸ソーダ水溶液）により現像してレジストパターンを形成できる。さらに、例えば約１４０〜１８０℃の温度に加熱して熱硬化させる。これにより、前記熱硬化性成分の硬化反応に加えて、光硬化性樹脂成分の重合促進ならびに熱硬化性成分との共重合を通して、得られるレジスト皮膜の耐熱性、耐はんだ付着性、耐溶剤性、耐酸性、密着性、無電解金めっき耐性、電気特性、硬度などの諸特性を向上せしめることができ、特にソルダーレジストとして有用である。
上記現像に使用されるアルカリ水溶液としては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、リン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、アンモニア、アミン類などのアルカリ水溶液が使用できる。
また、塗膜を光硬化させるために用いる照射光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプまたはメタルハライドランプなどが適当である。その他、レーザー光線なども露光用活性光線として利用できる。
以下、実施例及び比較例を示して本発明について具体的に説明するが、以下の実施例は本発明の例示の目的のためのみのものであり、本発明を限定するものではない。なお、以下において「部」とあるのは、特に断りのない限り全て「重量部」を表わす。
合成例１
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂（大日本インキ化学工業（株）製、登録商標“エピクロン”Ｎ−６９５、エポキシ当量：２２０）２２０部を撹拌機及び還流冷却器の付いた四つ口フラスコに入れ、カルビトールアセテート２１４部を加え、加熱溶解した。次に、重合禁止剤としてハイドロキノン０．１部と、反応触媒としてジメチルベンジルアミン２．０部を加えた。この混合物を９５〜１０５℃に加熱し、アクリル酸７２部を徐々に滴下し、１６時間反応させた。この反応生成物を８０〜９０℃まで冷却し、テトラヒドロフタル酸無水物１０６部を加え、８時間反応させ、冷却後、取り出した。
このようにして得られたエチレン性不飽和結合及びカルボキシル基を併せ持つ感光性樹脂は、不揮発分６５％、固形物の酸価１００ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量Ｍｗ約３，５００であった。以下、この樹脂溶液をａワニスと称す。
なお、得られた樹脂の重量平均分子量の測定は、（株）島津製作所製ポンプＬＣ−８０４、ＫＦ−８０３、ＫＦ−８０２を三本つないだ高速液体クロマトグラフィーにより測定した。
合成例２
２リットルのセパラブルフラスコに溶媒としてジプロピレングリコールモノメチルエーテル４５０部と触媒としてアゾビスイソブチロニトリル（以下、ＡＩＢＮと略称する）２部を加え、テフロン（登録商標）製の撹拌棒、冷却管、滴下漏斗をセットした３つ口セパラブルフラスコカバーを装着し、これをオイルバスに浸し、液温が均一になるように撹拌しながら１１０℃に加温した。滴下漏斗に重合体の組成成分（メチルメタクリレート１２０部、イソボルニルメタクリレート２３３部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート９９．５部、及びメタクリル酸４６．４部）をＡＩＢＮ０．９部と均一に混合して入れ、全量が１時間で滴下し終わるように滴下量を調整しながら上記セパラブルフラスコ中に滴下した。全量滴下終了後、滴下漏斗に上記溶媒５０部を加え、滴下漏斗に付着している組成成分を洗い流しながら完全に滴下した。この滴下後さらに１時間加熱し、固形分５０％の粘調な樹脂溶液を得た。以下、この樹脂溶液をｂ−１ワニスと称す。
合成例３
温度計、攪拌機、滴下ロート、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、及びメタクリル酸をモル比で１：１：２となるように仕込み、溶媒としてジプロピレングリコールモノメチルエーテル、触媒としてＡＩＢＮを入れ、窒素雰囲気下、８０℃で４時間攪拌し、樹脂溶液を得た。
この樹脂溶液を冷却し、重合禁止剤としてメチルハイドロキノン、触媒としてテトラブチルホスホニウムブロミドを用い、グリシジルメタクリレートを、９５〜１０５℃で１６時間の条件で、上記樹脂のカルボキシル基に対し２０モル％付加反応させ、冷却後、取り出した。
このようにして得られたエチレン性不飽和結合及びカルボキシル基を併せ持つ感光性樹脂は、不揮発分６５％、固形物の酸価１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ約２０，０００であった。以下、この樹脂溶液をｂ−２ワニスと称す。
合成例４
温度計、攪拌機、滴下ロート、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルメタクリレートとグリシジルメタクリレートをモル比が４：６となるように仕込み、溶媒としてカルビトールアセテート、触媒としてＡＩＢＮを用い、窒素雰囲気下、８０℃で４時間攪拌し、樹脂溶液を得た。この樹脂溶液を冷却し、重合禁止剤としてメチルハイドロキノン、触媒としてテトラブチルホスホニウムブロミドを用い、アクリル酸を９５〜１０５℃で１６時間の条件で上記樹脂のエポキシ基に対して１００％付加反応させた。この反応生成物を８０〜９０℃まで冷却し、テトラヒドロフタル酸無水物を８時間反応させ、冷却後、取り出した。
このようにして得られたエチレン性不飽和結合及びカルボキシル基を併せ持つ感光性樹脂は、不揮発分６５％、固形物の酸価１００ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ約１５，０００であった。以下、この樹脂溶液をｂ−３ワニスと称す。
下記実施例及び比較例で用いた原材料を表１に示す。
【表１】
0004152106.tif 000003
実施例１〜１２
表２に示す配合割合で主剤の各成分を配合し、３本ロールミルを用いて混練して主剤を調製した。一方、硬化剤についても、同様に表２に示す配合割合で各成分を配合し、３本ロールミルを用いて混練して硬化剤を調製した。このようにして調製された２液形態の液状レジスト組成物は、使用に際して主剤と硬化剤を混合して用いた。
【表２】
0004152106.tif 000004
比較例１〜３
表３に示す配合割合で主剤の各成分を配合し、３本ロールミルを用いて混練して主剤を調製した。一方、硬化剤についても、同様に表３に示す配合割合で各成分を配合し、３本ロールミルを用いて混練して硬化剤を調製した。このようにして調製された２液形態の液状レジスト組成物は、使用に際して主剤と硬化剤を混合して用いた。
【表３】
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試験例：
前記のようにして得られた実施例１〜１２及び比較例１〜３の各液状レジスト組成物について、以下の各項目について試験を行い、評価した。
（１）印刷性
各液状レジスト組成物を、ＩＰＣ規格、Ｂパッケージの基板に印刷機（セリア（株）製）を用いてＰＥＴ製１００メッシュのスクリーンで印刷した。硬化後の皮膜の回路間を光学顕微鏡（倍率３０倍）を用いて観察し、泡及び印刷スキップの発生について次の基準で評価した。
泡：
○：泡が認められず良好。
△：泡が若干認められる。
×：泡が著しく認められる。
スキップ：
○：スキップが認められず良好。
△：スキップが若干認められる。
×：スキップが著しく認められる。
（２）光沢度
各液状レジスト組成物を銅箔基板上にスクリーン印刷で全面塗布し、８０℃で３０分乾燥し、タックフリーの塗膜を形成した。この基板にネガフィルムを当て、所定のパターン通りに露光し、スプレー圧１．５ｋｇ／ｃｍ２の１ｗｔ％Ｎａ２ＣＯ３水溶液で現像し、パターン形成した。この基板を、１５０℃で６０分熱硬化し、試験基板を作製した。
各試験基板の表面を、マイクロトリグロス（ビック・ケミー・ジャパン社製）を用い、６０度光沢度（グロス値）を測定した。なお、６０度光沢度は、平均値の少数点以下１桁目を四捨五入して整数で表示した。
（３）濡れ試験
前記項目（２）で作製した試験基板について、ＪＩＳ（日本工業規格）  Ｋ−６７６８に規定される試験方法により、２３℃、５０％Ｒ．Ｈ．の条件で濡れ指数（ｍＮ／ｍ）を測定した。
（４）耐はんだ付着性
前記項目（２）の試験基板の作製方法と同様にして試験基板を作製した。このようにして作製された膜厚２０μｍのレジスト膜を有する試験基板を、フローソルダーリング装置（東京生産技研（株）製）を用い、フラックスを塗布せず、大気中で、はんだ温度２６０℃、ダブルウェーブ、コンベアスピード１．４ｍ／分ではんだフローし、レジスト膜表面のはんだ付着状態を目視で観察し、次の基準で評価した。
○：はんだの付着認められず良好。
×：とげ状、蜘蛛の巣状のはんだ付着が認められる。
（５）無電解金めっき耐性
試験基板の製作：
前記項目（２）の試験基板の作製方法と同様にして試験基板を作製した。
無電解金めっき方法：
上記のようにして作製した試験基板を、３０℃の酸性脱脂液（（株）日本マクダーミッド製、Ｍｅｔｅｘ  Ｌ−５Ｂの２０ｖｏｌ％水溶液）に３分間浸漬して脱脂し、次いで流水中に３分間浸漬して水洗した。次に試験基板を１４．３ｗｔ％過硫酸アンモン水溶液に室温で３分間浸漬し、ソフトエッチングを行い、次いで流水中に３分間浸漬して水洗した。１０ｖｏｌ％硫酸水溶液に室温で試験基板を１分間浸漬した後、流水中に３０秒〜１分間浸漬して水洗した。次いで、試験基板を３０℃の触媒液（（株）メルテックス製、メタルプレートアクチベーター３５０の１０ｖｏｌ％水溶液）に７分間浸漬し、触媒付与を行った後、流水中に３分間浸漬して水洗した。触媒付与を行った試験基板を、８５℃のニッケルめっき液（（株）メルテックス製、メルプレートＮｉ−８６５Ｍの２０ｖｏｌ％水溶液、ｐＨ４．６）に２０分間浸漬して、無電解ニッケルめっきを行った。１０ｖｏｌ％硫酸水溶液に室温で試験基板を１分間浸漬した後、試験基板を流水中に３０秒〜１分間浸漬して水洗した。次いで、試験基板を８５℃の金めっき液（（株）メルテックス製、オウロレクトロレスＵＰ１５ｖｏｌ％とシアン化金カリウム３ｖｏｌ％の水溶液、ｐＨ６）に１０分間浸漬して無電解金めっきを行った後、流水中に３分間浸漬して水洗し、また６０℃の温水に３分間浸漬して湯洗した。十分に水洗後、水をよくきり、乾燥し、無電解金めっきした試験基板を得た。
無電解金めっき耐性：
以上のように試験基板に金めっきを行った後、セロハン粘着テープで剥離したときのレジスト層の剥がれの有無やめっきのしみ込みの有無を評価した。判定基準は以下のとおりである。
○：全く変化が認められない。
△：レジスト層がほんの僅かに剥がれ、しみ込みした。
×：レジスト層に剥がれがある。
（６）密着性
前記項目（２）の試験基板の作製方法と同様にして作製した試験基板を用い、ＪＩＳ  Ｄ−０２０２に規定される試験方法に従い、レジスト層に碁盤目状にクロスカットを入れ、セロハン粘着テープによるピールテストを行ない、レジスト層の剥がれについて評価した。判定基準は以下のとおりである。
○：全く剥がれが認められない。
△：レジスト層にほんの僅かに剥がれがある。
×：レジスト層に剥がれがある。
（７）耐電蝕性
前記項目（２）の試験基板において、銅箔基板に代えてＩＰＣ  Ｂ−２５のクシ型電極Ｂクーポンを用いる以外は同様にして試験基板を作製し、このクシ型電極にＤＣ１００Ｖのバイアス電圧を印加し、プレッシャークッカー試験機にて、１２１℃、９８％Ｒ．Ｈ．（２ａｔｍ）の条件下で４８時間処理後、マイグレーションの有無を確認した。判定基準は以下のとおりである。
○：全く変化が認められない。
△：僅かにマイグレーションが認められる。
×：マイグレーションが発生している。
上記各試験の結果を表４にまとめて示す。
【表４】
0004152106.tif 000006
表４に示す結果から明らかなように、本発明の実施例１〜１２の液状レジスト組成物は印刷性やファインパターン形成性に優れ、またそれを用いて作製されたレジスト膜は耐はんだ付着性や無電解金めっき耐性、密着性に優れた低光沢の艶消し膜であった。また、実施例３及び１１と実施例１２を対比すれば明らかなように、吸油量の大きなフィラーＡ又はＢを用いたレジスト組成物（実施例３及び１１）からは、吸油量の小さなフィラーＣを用いたレジスト組成物（実施例１２）に比べて光沢度がより一層低い艶消し皮膜が得られ、またその濡れ性も向上することがわかる。
一方、前記感光性プレポリマー（Ａ）又はカルボキシル基含有共重合樹脂（Ｂ）のいずれか一方のみを含有するレジスト組成物（比較例１〜３）の場合、フィラーを含有しない比較例１の組成物では艶消し皮膜は得られず、フィラーを含有する比較例２及び３の組成物でも光沢度の高い皮膜となり、また濡れ指数や耐はんだ付着性、無電解金めっき耐性等の特性でも劣っていた。
産業上の利用可能性
以上のように、本発明の光硬化性・熱硬化性組成物は、低い光沢度を有し、かつ、はんだフロー時の耐はんだ付着性や、耐薬品性、無電解金めっき耐性、電気絶縁性、耐熱性、硬度等の皮膜特性に優れる艶消し皮膜を形成できると共に、皮膜表面の微小凹凸により銅箔や各種めっき層との密着性に優れるため、プリント配線基板の艶消しソルダーレジストの形成に特に有用である。その他、プリント配線基板の層間絶縁層など各種樹脂絶縁層の形成や、エッチングレジスト、マーキングインキ等としても用いることができる。