(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
グルーブを情報記録媒体上に形成するグルーブ形成装置において、
電子ビームを射出する射出手段と、
前記射出された電子ビームを前記情報記録媒体上に集束させる集束手段であって、前記グルーブの大きさよりも小さい一定の範囲に前記電子ビームを集束させ、且つ、大きさ一定の一のビームスポットを形成する集束手段と、
前記集束される電子ビームの前記情報記録媒体上における集束位置を制御し、前記グルーブを当該情報記録媒体上に形成する制御手段と、
を備え、
前記制御手段は、前記グルーブを構成する二つの壁の形状を夫々示す二つの形状信号に基づいて、前記ビームスポットの前記情報記録媒体に対する相対的な移動速度を一定として前記グルーブとなるべき前記情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させる移動手段を備えることを特徴とするグルーブ形成装置。
【請求項２】
グルーブを情報記録媒体上に形成するグルーブ形成装置において、
電子ビームを射出する射出手段と、
前記射出された電子ビームを前記情報記録媒体上に集束させる集束手段であって、前記グルーブの大きさよりも小さい一定の範囲に前記電子ビームを集束させ、且つ、大きさ一定の一のビームスポットを形成する集束手段と、
前記集束される電子ビームの前記情報記録媒体上における集束位置を制御し、前記グルーブを当該情報記録媒体上に形成する制御手段と、
を備え、  
前記制御手段は、前記グルーブを構成する二つの壁の形状を夫々示す二つの形状信号に基づいて、前記ビームスポットの前記情報記録媒体に対する相対的な移動速度を可変とし且つ前記ビームスポットの移動における周波数が前記情報記録媒体上で一定となるようにして前記グルーブとなるべき前記情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させる移動手段を備えることを特徴とするグルーブ形成装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のグルーブ形成装置において、
前記移動手段は、直前の一走査における前記ビームスポットの走査軌跡の一部と、現在の走査における前記ビームスポットの走査軌跡の一部とが、前記グルーブの方向において重なるように当該ビームスポットを移動させることを特徴とするグルーブ形成装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載のグルーブ形成装置において、
前記形状信号は、前記壁の形状の変化により前記グルーブに担持させるべき情報に対応して変化することを特徴とするグルーブ形成装置。
【請求項５】
グルーブを情報記録媒体上に形成するグルーブ形成方法において、
電子ビームを射出する射出工程と、
前記射出された電子ビームを前記情報記録媒体上に集束させる集束工程であって、前記グルーブの大きさよりも小さい一定の範囲に前記電子ビームを集束させ、且つ、大きさ一定の一のビームスポットを形成する集束工程と、
前記集束される電子ビームの前記情報記録媒体上における集束位置を制御し、前記グルーブを当該情報記録媒体上に形成する制御工程と、
を備え、
前記制御工程においては、前記グルーブを構成する二つの壁の形状を夫々示す二つの形状信号に基づいて、前記ビームスポットの前記情報記録媒体に対する相対的な移動速度を一定として前記グルーブとなるべき前記情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させることを特徴とするグルーブ形成方法。
【請求項６】
グルーブを情報記録媒体上に形成するグルーブ形成方法において、
電子ビームを射出する射出工程と、
前記射出された電子ビームを前記情報記録媒体上に集束させる集束工程であって、前記グルーブの大きさよりも小さい一定の範囲に前記電子ビームを集束させ、且つ、大きさ一定の一のビームスポットを形成する集束工程と、
前記集束される電子ビームの前記情報記録媒体上における集束位置を制御し、前記グルーブを当該情報記録媒体上に形成する制御工程と、
を備え、
前記制御工程においては、前記グルーブを構成する二つの壁の形状を夫々示す二つの形状信号に基づいて、前記ビームスポットの前記情報記録媒体に対する相対的な移動速度を可変とし且つ前記ビームスポットの移動における周波数が前記情報記録媒体上で一定となるようにして前記グルーブとなるべき前記情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させることを特徴とするグルーブ形成方法。
【請求項７】
請求項５又は６に記載のグルーブ形成方法において、
前記移動工程においては、直前の一走査における前記ビームスポットの走査軌跡の一部と、現在の走査における前記ビームスポットの走査軌跡の一部とが、前記グルーブの方向において重なるように当該ビームスポットを移動させることを特徴とするグルーブ形成方法。
【請求項８】
請求項５から７のいずれか一項に記載のグルーブ形成方法において、
前記形状信号は、前記壁の形状の変化により前記グルーブに担持させるべき情報に対応して変化することを特徴とするグルーブ形成方法。
【請求項９】
グルーブを情報記録媒体上に形成して当該情報記録媒体を製造する情報記録媒体製造方法において、
電子ビームを射出する射出工程と、
前記射出された電子ビームを前記情報記録媒体上に集束させる集束工程であって、前記グルーブの大きさよりも小さい一定の範囲に前記電子ビームを集束させ、且つ、大きさ一定の一のビームスポットを形成する集束工程と、
前記集束される電子ビームの前記情報記録媒体上における集束位置を制御し、前記グルーブを当該情報記録媒体上に形成する制御工程と、
を備え、
前記制御工程においては、前記グルーブを構成する二つの壁の形状を夫々示す二つの形状信号に基づいて、前記ビームスポットの前記情報記録媒体に対する相対的な移動速度を一定として前記グルーブとなるべき前記情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させることを特徴とする情報記録媒体製造方法。
【請求項１０】
グルーブを情報記録媒体上に形成して当該情報記録媒体を製造する情報記録媒体製造方法において、
電子ビームを射出する射出工程と、
前記射出された電子ビームを前記情報記録媒体上に集束させる集束工程であって、前記グルーブの大きさよりも小さい一定の範囲に前記電子ビームを集束させ、且つ、大きさ一定の一のビームスポットを形成する集束工程と、
前記集束される電子ビームの前記情報記録媒体上における集束位置を制御し、前記グルーブを当該情報記録媒体上に形成する制御工程と、
を備え、
前記制御工程においては、前記グルーブを構成する二つの壁の形状を夫々示す二つの形状信号に基づいて、前記ビームスポットの前記情報記録媒体に対する相対的な移動速度を可変とし且つ前記ビームスポットの移動における周波数が前記情報記録媒体上で一定となるようにして前記グルーブとなるべき前記情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させることを特徴とする情報記録媒体製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、グルーブ形成装置、グルーブ形成方法及び情報記録媒体製造方法の技術分野に属し、より詳細には、光ディスク等の情報トラックとして当該光ディスク上に形成されるグルーブを形成するためのグルーブ形成装置、グルーブ形成方法及び情報記録媒体製造方法の技術分野に属する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、高記録密度且つ記録可能な光ディスクとして、いわゆるＤＶＤ−Ｒ（Digital  Versatile  Disc−Recordable）又はＤＶＤ−ＲＷ（Digital  Versatile  Disc−Re−Recordable）等が一般化しつつあるが、これらの記録可能な光ディスクにおいては、情報が記録される情報トラックとして当該光ディスク上に形成されているグルーブにおける二つの壁（壁面）の形状を変化させることにより、例えば当該光ディスクに情報を記録する際の記録位置を示すアドレス情報等を記録することが行われる。このとき、当該壁の形状変化として具体的には、当該壁を光ディスクの半径方向にうねらせ、そのうねりにおける周波数を記録すべき情報に基づいて変調することにより当該情報を情報トラックに担持させる場合がある。
【０００３】
ここで、近年、上述した如くグルーブの壁の形状を変化させつつ必要な情報を情報トラックに担持させる方法として、いわゆるＧＢＲ（Groove  Baseband  Recording）方式が考案されている。このとき、当該ＧＢＲ方式については、例えば、「S.Kobayashi,et.al,"GBR(Groove Baseband Recording)for an optical disc ROM"Tech.digest of ODS2000」等に詳しい。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記した従来のＧＢＲ方式においては、二つのレーザビームをグルーブの夫々の壁に対応させて照射し、各壁の形状の変化を示す形状信号により当該二つのレーザビームの照射位置を制御する構成であったため、その原理上、周期がトラックピッチの長さから（レーザビームの波長）／（集光用対物レンズの開口数）により求められる長さより小さい形状変化は壁として形成できないと言う問題点があった。
【０００５】
より具体的には、上記ＧＢＲ方式における情報の記録密度を向上させるためにはグルーブの壁における形状変化の周期を短縮化する必要があるが、現状で最も高記録密度を実現し得るレーザビームを用いたＧＢＲ方式の場合でも、情報トラックとして形成し得るトラックピッチの最小値は約０．３μｍが限界なのである。
【０００６】
一方、ＧＢＲ方式によりその壁に情報を担持させつつグルーブを形成する場合には、当該情報の再生時における信号対雑音比の向上の観点から、その壁は光ディスクの情報記録面に対してより垂直に近く形成することが望ましい。
【０００７】
しかしながら、上記従来のレーザビームを用いたＧＢＲ方式によると、当該壁を情報記録面に垂直に形成することは困難であり、当該情報記録面に対して一定の傾斜を有して壁が形成されてしまう。これは、当該壁形成時にレーザビームにより露光されるフォトレジストの露光特性によるものであるが、ＧＢＲ方式においては上記したように基本的に壁の光ディスク半径方向の位置変化を検出するものであるため、その傾斜が緩やかな壁では信号対雑音比の高い良好な情報の再生信号が得られ難いという問題点もあった。
【０００８】
そこで、本発明は、上記の各問題点に鑑みて為されたもので、その課題は、グルーブの形状の変化により情報トラックに情報を担持させる場合に、高記録密度で当該情報を担持させることができると共に当該情報の再生時における信号対雑音比も改善することが可能なグルーブ形成装置、グルーブ形成方法及び情報記録媒体製造方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、グルーブを情報記録媒体上に形成するグルーブ形成装置において、電子ビームを射出する射出手段と、前記射出された電子ビームを前記情報記録媒体上に集束させる集束手段であって、前記グルーブの大きさよりも小さい一定の範囲に前記電子ビームを集束させ、且つ、大きさ一定の一のビームスポットを形成する集束手段と、前記集束される電子ビームの前記情報記録媒体上における集束位置を制御し、前記グルーブを当該情報記録媒体上に形成する制御手段と、を備え、前記制御手段は、前記グルーブを構成する二つの壁の形状を夫々示す二つの形状信号に基づいて、前記ビームスポットの前記情報記録媒体に対する相対的な移動速度を一定として前記グルーブとなるべき前記情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させる移動手段を備える。
【００１０】
よって、電子ビームを集束してビームスポットを形成し、更に当該ビームスポットの情報記録媒体上の集束位置を制御して当該情報記録媒体上にグルーブを形成するので、従来のレーザビームを用いてグルーブを形成する場合に比して高密度且つ正確にグルーブを形成することができ、さらに、一の電子ビームを用いて、二つの形状信号に基づき、ビームスポットの情報記録媒体に対する相対的な移動速度を一定としてグルーブとなるべき情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させるので、より高密度化したグルーブを正確に形成することができる。
【００１１】
上記の課題を解決するために、請求項２に記載の発明は、グルーブを情報記録媒体上に形成するグルーブ形成装置において、電子ビームを射出する射出手段と、前記射出された電子ビームを前記情報記録媒体上に集束させる集束手段であって、前記グルーブの大きさよりも小さい一定の範囲に前記電子ビームを集束させ、且つ、大きさ一定の一のビームスポットを形成する集束手段と、前記集束される電子ビームの前記情報記録媒体上における集束位置を制御し、前記グルーブを当該情報記録媒体上に形成する制御手段と、を備え、前記制御手段は、前記グルーブを構成する二つの壁の形状を夫々示す二つの形状信号に基づいて、前記ビームスポットの前記情報記録媒体に対する相対的な移動速度を可変とし且つ前記ビームスポットの移動における周波数が前記情報記録媒体上で一定となるようにして前記グルーブとなるべき前記情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させる移動手段を備えることを特徴とする。
【００１２】
よって、電子ビームを集束してビームスポットを形成し、更に当該ビームスポットの情報記録媒体上の二つの壁位置制御信号から、グルーブの幅の変化を示す幅制御信号と、当該グルーブの前記情報記録媒体における半径方向の位置を示す位置制御信号と、を生成し、これらに基づいて電子ビームの前記情報記録媒体に対する照射態様を制御して当該情報記録媒体上にグルーブを形成するので、従来のレーザビームを用いてグルーブを形成する場合に比して高密度且つ正確にグルーブを形成することができ、さらに、一の電子ビームを用いて、二つの形状信号に基づき、ビームスポットの情報記録媒体に対する相対的な移動速度を可変とし且つビームスポットの移動における周波数が情報記録媒体上で一定となるようにしてグルーブとなるべき情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させるので、より高密度化したグルーブを正確に形成することができる。
【００１３】
上記の課題を解決するために、請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載のグルーブ形成装置において、前記移動手段は、直前の一走査における前記ビームスポットの走査軌跡の一部と、現在の走査における前記ビームスポットの走査軌跡の一部とが、前記グルーブの方向において重なるように当該ビームスポットを移動させるように構成される。
【００１４】
よって、直前の一走査におけるビームスポットの走査軌跡の一部と、現在の走査におけるビームスポットの走査軌跡の一部とが、グルーブの方向において重なるように当該ビームスポットを移動させるので、グルーブを形成する壁の表面をより平滑に形成することができる。
【００１５】
上記の課題を解決するために、請求項４に記載の発明は、請求項１から３のいずれか一項に記載のグルーブ形成装置において、前記形状信号は、前記壁の形状の変化により前記グルーブに担持させるべき情報に対応して変化するように構成される。
【００１６】
よって、形状信号が壁の形状の変化によりグルーブに担持させるべき情報に対応して変化するので、当該グルーブに情報を担持させつつ高密度且つ正確に当該グルーブを形成することができる。
【００１７】
上記の課題を解決するために、請求項５に記載の発明は、グルーブを情報記録媒体上に形成するグルーブ形成方法において、電子ビームを射出する射出工程と、前記射出された電子ビームを前記情報記録媒体上に集束させる集束工程であって、前記グルーブの大きさよりも小さい一定の範囲に前記電子ビームを集束させ、且つ、大きさ一定の一のビームスポットを形成する集束工程と、前記集束される電子ビームの前記情報記録媒体上における集束位置を制御し、前記グルーブを当該情報記録媒体上に形成する制御工程と、を備え、前記制御工程においては、前記グルーブを構成する二つの壁の形状を夫々示す二つの形状信号に基づいて、前記ビームスポットの前記情報記録媒体に対する相対的な移動速度を一定として前記グルーブとなるべき前記情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させる。
【００１８】
よって、電子ビームを集束してビームスポットを形成し、更に当該ビームスポットの情報記録媒体上の集束態様を制御して当該情報記録媒体上にグルーブを形成するので、従来のレーザビームを用いてグルーブを形成する場合に比して高密度且つ正確にグルーブを形成することができ、さらに、一の電子ビームを用いて、二つの形状信号に基づき、ビームスポットの情報記録媒体に対する相対的な移動速度を一定としてグルーブとなるべき情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させるので、より高密度化したグルーブを正確に形成することができる。
【００１９】
上記の課題を解決するために、請求項６に記載の発明は、グルーブを情報記録媒体上に形成するグルーブ形成方法において、電子ビームを射出する射出工程と、前記射出された電子ビームを前記情報記録媒体上に集束させる集束工程であって、前記グルーブの大きさよりも小さい一定の範囲に前記電子ビームを集束させ、且つ、大きさ一定の一のビームスポットを形成する集束工程と、前記集束される電子ビームの前記情報記録媒体上における集束位置を制御し、前記グルーブを当該情報記録媒体上に形成する制御工程と、を備え、前記制御工程においては、前記グルーブを構成する二つの壁の形状を夫々示す二つの形状信号に基づいて、前記ビームスポットの前記情報記録媒体に対する相対的な移動速度を可変とし且つ前記ビームスポットの移動における周波数が前記情報記録媒体上で一定となるようにして前記グルーブとなるべき前記情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させる。
【００２０】
よって、電子ビームを集束してビームスポットを形成し、更に当該ビームスポットの情報記録媒体上の集束態様を制御して当該情報記録媒体上にグルーブを形成するので、従来のレーザビームを用いてグルーブを形成する場合に比して高密度且つ正確にグルーブを形成することができ、さらに、一の電子ビームを用いて、二つの形状信号に基づき、ビームスポットの情報記録媒体に対する相対的な移動速度を可変とし且つビームスポットの移動における周波数が情報記録媒体上で一定となるようにしてグルーブとなるべき情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させるので、より高密度化したグルーブを正確に形成することができる。
【００２１】
上記の課題を解決するために、請求項７に記載の発明は、請求項５又は６に記載のグルーブ形成方法において、前記移動工程においては、直前の一走査における前記ビームスポットの走査軌跡の一部と、現在の走査における前記ビームスポットの走査軌跡の一部とが、前記グルーブの方向において重なるように当該ビームスポットを移動させるように構成される。
【００２２】
よって、直前の一走査におけるビームスポットの走査軌跡の一部と、現在の走査におけるビームスポットの走査軌跡の一部とが、グルーブの方向において重なるように当該ビームスポットを移動させるので、グルーブを形成する壁の表面をより平滑に形成することができる。
【００２３】
上記の課題を解決するために、請求項８に記載の発明は、請求項５から７のいずれか一項に記載のグルーブ形成方法において、前記形状信号は、前記壁の形状の変化により前記グルーブに担持させるべき情報に対応して変化するように構成される。
【００２４】
よって、形状信号が壁の形状の変化によりグルーブに担持させるべき情報に対応して変化するので、当該グルーブに情報を担持させつつ高密度且つ正確に当該グルーブを形成することができる。
【００２５】
上記の課題を解決するために、請求項９に記載の発明は、グルーブを情報記録媒体上に形成して当該情報記録媒体を製造する情報記録媒体製造方法において、電子ビームを射出する射出工程と、前記射出された電子ビームを前記情報記録媒体上に集束させる集束工程であって、前記グルーブの大きさよりも小さい一定の範囲に前記電子ビームを集束させ、且つ、大きさ一定の一のビームスポットを形成する集束工程と、前記集束される電子ビームの前記情報記録媒体上における集束位置を制御し、前記グルーブを当該情報記録媒体上に形成する制御工程と、を備え、前記制御工程においては、前記グルーブを構成する二つの壁の形状を夫々示す二つの形状信号に基づいて、前記ビームスポットの前記情報記録媒体に対する相対的な移動速度を一定として前記グルーブとなるべき前記情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させる。
【００２６】
よって、電子ビームを集束してビームスポットを形成し、更に当該ビームスポットの情報記録媒体上の集束態様を制御して当該情報記録媒体上にグルーブを形成するので、従来のレーザビームを用いてグルーブを形成する場合に比して高密度且つ正確にグルーブを形成することができ、さらに、一の電子ビームを用いて、二つの形状信号に基づき、ビームスポットの情報記録媒体に対する相対的な移動速度を一定としてグルーブとなるべき情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させるので、より高密度化したグルーブを正確に形成することができる。
【００２７】
上記の課題を解決するために、請求項１０に記載の発明は、グルーブを情報記録媒体上に形成して当該情報記録媒体を製造する情報記録媒体製造方法において、電子ビームを射出する射出工程と、前記射出された電子ビームを前記情報記録媒体上に集束させる集束工程であって、前記グルーブの大きさよりも小さい一定の範囲に前記電子ビームを集束させ、且つ、大きさ一定の一のビームスポットを形成する集束工程と、前記集束される電子ビームの前記情報記録媒体上における集束位置を制御し、前記グルーブを当該情報記録媒体上に形成する制御工程と、を備え、前記制御工程においては、前記グルーブを構成する二つの壁の形状を夫々示す二つの形状信号に基づいて、前記ビームスポットの前記情報記録媒体に対する相対的な移動速度を可変とし且つ前記ビームスポットの移動における周波数が前記情報記録媒体上で一定となるようにして前記グルーブとなるべき前記情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させる。
【００２８】
よって、電子ビームを集束してビームスポットを形成し、更に当該ビームスポットの情報記録媒体上の集束態様を制御して当該情報記録媒体上にグルーブを形成するので、従来のレーザビームを用いてグルーブを形成する場合に比して高密度且つ正確にグルーブを形成することができ、さらに、一の電子ビームを用いて、二つの形状信号に基づき、ビームスポットの情報記録媒体に対する相対的な移動速度を可変とし且つビームスポットの移動における周波数が情報記録媒体上で一定となるようにしてグルーブとなるべき情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させるので、より高密度化したグルーブを正確に形成することができる。
【００３３】
【発明の実施の形態】
次に、本発明に好適な実施の形態について、図面に基づいて説明する。
【００３４】
なお、以下に説明する各実施形態は、記録可能な光ディスク内に形成されている情報トラックとしての一のグルーブにおける二つの壁の形状、すなわち外周側の壁及び内周側の壁夫々の光ディスク半径方向の位置を、当該各壁の形状変化として担持させるべき情報、例えば当該光ディスクに記録すべき記録情報の記録位置を示すアドレス情報等の情報に基づいて変化させる場合に対して本発明を適用した場合の実施の形態である。
【００３５】
（Ｉ）本発明の原理
先ず、具体的な実施の形態について説明する前に、本発明の原理について図１乃至図8を用いて説明する。
【００３６】
本発明においては、上述したように、一のグルーブにおける二つの壁の形状変化として担持させるべき情報に基づいて当該二つの壁夫々の光ディスクの半径方向の位置を変化させるのであるが、このとき、当該壁の半径方向の位置が変化するグルーブＧの形状としては、図１（ａ）に示すように、光ディスクＤＫにおける外周側の壁ＯＵＴと内周側の壁ＩＮとが、当該壁ＯＵＴの形状を示す壁位置制御信号Ｒ(t)と壁ＩＮの形状を示す壁位置制御信号Ｓ(t)とに夫々対応して独立に変化することで、グルーブＧとしての幅Ｗが変化する。
【００３７】
そして、本発明では、上記二つの壁位置制御信号Ｒ(t)及びＳ(t)から、グルーブＧ自体の幅Ｗの変化を示す幅制御信号Ｗ(t)と、当該グルーブＧの光ディスクＤＫにおける半径方向の位置を示す位置制御信号Ｄ(t)と、を生成し、これらに基づいて電子ビームの光ディスクＤＫに対する照射態様を制御することでグルーブＧを当該光ディスクＤＫ上に形成する。
【００３８】
このとき、図１（ｂ）に示すように、当該幅制御信号Ｗ(t)及び位置制御信号Ｄ(t)は、図１（ａ）に示すようにグルーブＧの平均的な幅をＷ0とすると元の壁位置制御信号Ｒ(t)及びＳ(t)を用いて、
【００３９】
【数１】
Ｗ(t)＝Ｗ0＋Ｒ(t)−Ｓ(t)  …（１）
Ｄ(t)＝｛Ｒ(t)＋Ｓ(t)｝／２  …（２）
と表すことができる。このとき、上記式（１）及び（２）においては、図１（ａ）に示すように、壁ＯＵＴの位置変化量（すなわち、当該壁ＯＵＴの、その基準位置からの位置変化量）Ｒについては、当該基準位置から見て光ディスクＤＫの外側に壁ＯＵＴの位置があるときに位置変化量Ｒが正の値を取るものと扱っており、一方、壁ＩＮの位置変化量（同様に、当該壁ＩＮの、その基準位置からの位置変化量）Ｓについては、当該基準位置から見て光ディスクＤＫの外側に壁ＩＮの位置があるときに位置変化量Ｓが正の値を取るものとして扱っている。
【００４０】
そして、本発明では、上述のようにして得られた幅制御信号Ｗ(t)及び位置制御信号Ｄ(t)に基づき、電子ビームの照射態様を制御してグルーブＧを光ディスクＤＫ（より正確には、その光ディスクＤＫの原盤上に塗布されているレジスト）上に形成していく。
【００４１】
このとき、本発明では、二通りの方法、すなわち、電子ビームの照射により光ディスクＤＫ上に形成されるビームスポットの形状を変えないで、その照射位置を走査してグルーブＧを形成する方法（下記第１実施形態）と、当該ビームスポットの形状自体を変更しつつその照射位置を移動してグルーブＧを形成する方法（下記第２実施形態）と、によりグルーブＧを形成する。
【００４２】
次に、各方法毎にその原理を説明する。
【００４３】
（Ａ）第１の方法の原理
先ず、第１の方法の原理について、図２乃至図７を用いて説明する。
【００４４】
上述したように、第１の方法においては、ビームスポットの形状自体を変化させることなくこれをグルーブＧとなるべき光ディスクＤＫ上の領域内を走査させることで当該グルーブＧを形成する。
【００４５】
このとき、理解の容易化のために、始めにグルーブＧの壁の位置を光ディスクＤＫの半径方向に一定とし、且つ一回の走査毎の重複領域を設けない場合の当該ビームポットの走査態様について、図２を用いて説明する。なお、図２は光ディスクＤＫ上にグルーブＧを形成する際のビームスポットの移動の状態を示す図（図２（ａ））並びに当該形成時における光ディスクＤＫ上のビームスポットの位置の変化を示す図（図２（ｂ）及び（ｃ））である。
【００４６】
図２（ａ）に示すように、仮に光ディスクＤＫが回転していないと仮定した場合であって、ビームスポットＢＳを走査することにより幅が値Ｗで一定のグルーブＧを形成する場合には、光ディスクＤＫ上における電子ビームの照射による電子のドーズ量を常に一定とする必要があることから、当該ビームスポットＢＳをグルーブＧの形成方向（すなわち、光ディスクＤＫの周方向。以下、当該方向をＸ方向と称する。）に垂直な方向（すなわち、光ディスクＤＫの半径方向。以下、当該方向をＹ方向と称する。）に一定の線速度ＶY＝Ｖ0で走査すると共に、幅Ｗ分の走査が終了した時点でＸ方向にそのビームスポットＢＳの直径ｄ分だけ移動させ、その後、直前の走査とは反対方向にやはり線速度Ｖ0で走査することを繰り返す必要がある。
【００４７】
次に、図２（ａ）に示したビームスポットＢＳの移動に伴う光ディスクＤＫ上の位置の時間変化（光ディスクＤＫが回転していないと仮定した場合）を図２（ｂ）を用いて説明すると、先ず、Ｙ方向の位置の時間変化（以下、当該時間変化を適宜位置変化と称する。）については、図２（ｂ）上図に示すようにビームスポットＢＳの上記したＹ方向への移動に伴って三角波形状となる。そして、その振幅はＷで一定となり、傾きは線速度Ｖ0で一定となる。
【００４８】
一方、光ディスクＤＫの回転成分を含まないＸ方向の位置変化（上記したビームスポットＢＳの直径ｄ分毎の移動）については、図２（ｂ）下図に示すように、図２（ｂ）上図における折り返しタイミングでＸ方向にビームスポットＢＳ自体の直径ｄ分だけステップ的に変化することとなる。そして、この階段状のＸ方向の位置変化における平均直線成分（図２（ｂ）において一点鎖線で示す。）が光ディスクＤＫの回転における線速度ＶL自体を示すこととなる。
【００４９】
従って、光ディスクＤＫの回転成分を考慮したビームスポットＢＳの当該光ディスクＤＫ上の位置変化は、Ｘ方向については、図２（ｃ）に示すように、図２（ｂ）下図から光ディスクＤＫの回転に伴う成分を減算したいわゆるランプ波形状の位置変化となり、一方、Ｙ方向については図２（ｂ）上図に示すものと同様の位置変化となる。
【００５０】
ここで、図２に示した場合の位置変化を示すに当たって必要な各パラメータについて、図２（ｂ）上図に示す三角波における周期をＴとしその周波数をｆとすると共に上で定義づけた各符号を用いてこれらを表現すると、下記に示す式（３）乃至式（６）の如きものになる。
【００５１】
【数２】
0004080170.tif 000002
【００５２】
次に、グルーブＧの壁の位置を光ディスクＤＫの半径方向に一定とし、且つ一回の走査毎に重複領域を設ける場合の当該ビームポットの移動態様について、図３を用いて説明する。なお、図３は光ディスクＤＫ上にグルーブＧを形成する際のビームスポットの移動の状態を示す図（図３（ａ））並びに当該形成時における光ディスクＤＫ上のビームスポットの位置の変化を示す図（図３（ｂ）及び（ｃ））である。
【００５３】
上述した図２に示す場合においては、一回の走査毎の重複領域を設けないことから、図２（ａ）に示すように形成されるグルーブＧの壁ＯＵＴ及び壁ＩＮはビームスポットＢＳの形状に相当する円弧が連続した形状となり、このことは当該壁ＯＵＴ及び壁ＩＮの形状を変化させて記録される情報の再生時における信号対雑音比を低下させる原因となる。そこで、図３に示す場合には、壁ＯＵＴ及び壁ＩＮの形状を極力平滑とすべく、Ｘ方向の単位長さ当たりの重ね書き数をＮとして（すなわち、Ｘ方向の単位長さ当たりＮ回走査することとして）グルーブＧの形成を行う。
【００５４】
すなわち、図３（ａ）に示すように、図２の場合と同様に光ディスクＤＫが回転していないと仮定した場合であって、ビームスポットＢＳを走査することにより幅が値Ｗで一定のグルーブＧを形成する場合には、上記電子のドーズ量を図２に示す場合と同じ値で常に一定とする必要があることから、当該ビームスポットＢＳをＹ方向に一定の線速度ＶY'＝ＮＶ0で走査すると共に、幅Ｗ分の走査が終了した時点でＸ方向に上記直径ｄを重ね書き数Ｎで除した分だけ移動させ、その後、直前の走査とは反対方向にやはり線速度ＶY'で走査することを繰り返す必要がある。
【００５５】
次に、図２の場合と同様に、図３（ａ）に示したビームスポットＢＳの移動に伴う光ディスクＤＫ上の位置の時間変化（光ディスクＤＫが回転していないと仮定した場合）を図３（ｂ）を用いて説明すると、先ず、Ｙ方向の位置変化については、図３（ｂ）上図に示すようにビームスポットＢＳの上記したＹ方向への移動に伴って三角波形状となる。そして、その振幅はＷで一定となり、傾きは線速度ＮＶ0で一定となる。
【００５６】
一方、光ディスクＤＫの回転成分を含まないＸ方向の位置変化については、図３（ｂ）下図に示すように、図３（ｂ）上図における折り返しタイミングでＸ方向にビームスポットＢＳ自体の直径ｄを重ね書き数Ｎで除した分だけステップ的に変化することとなる。そして、この階段状のＸ方向の位置変化における平均直線成分（図３（ｂ）において一点鎖線で示す。）が光ディスクＤＫの回転における線速度ＶL自体を示すこととなる。
【００５７】
従って、光ディスクＤＫの回転成分を考慮したビームスポットＢＳの当該光ディスクＤＫ上の位置変化は、Ｘ方向については、図３（ｃ）に示すように、図３（ｂ）下図から光ディスクＤＫの回転に伴う成分を減算したいわゆるランプ波形状の位置変化となり、一方、Ｙ方向については図３（ｂ）上図に示すものと同様の位置変化となる。
【００５８】
ここで、図３に示した場合の位置変化を示すに当たって必要な各パラメータについて、図３（ｂ）上図に示す三角波における周期をＴとしその周波数をfとすると共に上で定義づけた各符号を用いてこれらを表現すると、下記に示す式（７）乃至式（１０）の如きものになる。
【００５９】
【数３】
0004080170.tif 000003
【００６０】
なお、換言すれば、上述した式（３）乃至（６）及び式（７）乃至（１０）については、夫々の場合において電子のドーズ量を一定とするためのビームスポットＢＳの移動に関する条件であると言うこともできる。
【００６１】
次に、以下の各実施形態に対応する、壁ＯＵＴ及び壁ＩＮの半径方向の位置をそれに担持させるべき情報により変化させる場合について図４乃至図７を用いて説明する。
【００６２】
なお、以下の説明では、壁ＯＵＴ及び壁ＩＮの平滑性を向上させるべく、必要に応じてビームスポットＢＳの各走査毎に走査軌跡の一部を重複させる場合について説明する。
【００６３】
先ず、上述した式（９）及び（１０）に重ね書き数Ｎ＝ｄ／δを代入すると、下記の式（１１）及び（１２）を得る。
【００６４】
【数４】
0004080170.tif 000004
【００６５】
ここで、上記式（１１）は図２又は図３で示した線速度Ｖ0を一定としてグルーブＧを形成するのと同じドーズ量を得るための条件に相当する。
【００６６】
よって、予め線速度Ｖ0とビームスポットＢＳの直径ｄを決めると、ビームスポットＢＳの走査における周波数（以下、当該周波数を適宜ウォブル周波数と称する。）fとＸ方向のステップ幅δの積ｆ×δを壁ＯＵＴ及び壁ＩＮに担持させるべき情報に対応させて制御すれば（すなわち、変調すれば）、グルーブＧの幅、すなわち壁ＯＵＴ及び壁ＩＮの半径方向の位置を電子のドーズ量を一定としつつそれに担持させるべき情報に対応させて変化させることができることとなる。換言すれば、積ｆ×δを一定としてグルーブＧを形成した場合にはグルーブＧの幅の広い部分とその狭い部分とでは電子のドーズ量に差が出てしまうことになる。
【００６７】
一方、上記式（１２）は、上述した如く積ｆ×δを壁ＯＵＴ及び壁ＩＮに担持させるべき情報に基づいて変調することは、すなわち光ディスクＤＫの線速度ＶLをその情報に基づいて変調することと等価であることを示している。
【００６８】
従って、電子のドーズ量を一定に保ちつつグルーブＧの幅Ｗをそれに担持させる情報に基づいて変調するには、当該幅Ｗに反比例してウォブル周波数ｆ又はステップ幅δを変化させればよいが、結果としてこれらいずれの場合も光ディスクＤＫ自体の線速度ＶLを制御すれば可能となることとなる。このとき、実際には、壁ＯＵＴ及び壁ＩＮの半径方向の位置変化として記録すべき情報に対応する信号の低域周波数成分が小さければ、上記線速度ＶLをその平均値として一定とし、上記図２（ｃ）又は図３（ｃ）に示したようにＸ方向のビームスポットＢＳの位置を制御することで、上記した線速度ＶLを制御することと等価的な結果が得られることとなる。
【００６９】
次に、上述した如くビームスポットＢＳの位置を、走査軌跡を一部重畳させつつ電子のドーズ量を一定として変化させる方法について具体的に説明する。
【００７０】
（ａ）ウォブル周波数ｆを制御する場合
始めに、上記したウォブル周波数ｆをグルーブＧに担持させるべき情報に基づいて制御することにより積ｆ×δを変更する場合について図４及び図５を用いて説明する。
【００７１】
なお、図４はＹ方向のビームスポットＢＳの移動の線速度ＶY'及び重ね書き数Ｎ（＝ｄ／δ）を一定とし、ウォブル周波数ｆを、形成されるべきグルーブＧの幅Ｗに反比例させて変化させることでグルーブＧを形成する場合の当該ビームスポットＢＳの位置変化を示す。ここで、当該図４における各円は、一定時間毎のビームスポットＢＳの位置を示すものである。
【００７２】
図４から明らかなように、Ｙ方向の線速度ＶY'が一定であるため、各タイミングにおけるビームスポットＢＳ同士の重なり具合が常に一定となり、この結果グルーブＧとなるべき領域内における電子のドーズ量が一定となっている。そして、図４における各円の抱絡線部分（図４において太い実線で示す。）が夫々に壁ＯＵＴ及び壁ＩＮとなることとなる。
【００７３】
次に、図４に示す場合について、光ディスクＤＫ上にグルーブＧを形成する際における光ディスクＤＫ上におけるビームスポットの位置の変化を、図５を用いて説明する。
【００７４】
図４に示す場合に、光ディスクＤＫが回転していないと仮定した場合における図４に示したビームスポットＢＳの光ディスクＤＫ上におけるＸ方向の位置変化、光ディスクＤＫ自体の回転成分、ビームスポットＢＳの光ディスクＤＫ上におけるＹ方向の位置変化（上記図２又は図３の場合と同様に、光ディスクＤＫの回転を考慮する場合でも考慮しない場合でも同じ位置変化となる。）並びに光ディスクＤＫの回転を考慮した場合におけるビームスポットＢＳの光ディスクＤＫ上におけるＸ方向の位置変化の関係は図５に示す如きものとなるが、この場合に、Ｙ方向の位置変化を示す三角波形は、線速度ＶY'が常に一定（すなわちその三角波形の傾斜が常に一定）であるため、グルーブＧとしての幅Ｗを広く形成すべき期間では当該三角波形の振幅が大きくなると共にウォブル周波数ｆは低くなり、一方、グルーブＧとしての幅Ｗを狭く形成すべき期間では当該三角波形の振幅が小さくなると共にウォブル周波数ｆは高くなる。
【００７５】
次に、光ディスクＤＫの回転成分を考慮したＸ方向の位置変化は、図２又は図３の場合と同様にランプ波状に変化するのであるが、このとき、グルーブＧとしての幅Ｗを広く形成すべき期間ではＸ方向の線速度は速くなり、反対にグルーブＧとしての幅Ｗを狭く形成すべき期間ではＸ方向の線速度は遅くなる。そして、これにより、光ディスクＤＫの回転を考慮したＸ方向の位置変化は、上記した光ディスクＤＫの回転成分を考慮しないＸ方向の位置変化から当該回転成分を差し引いたものとして、同様にグルーブＧとしての幅Ｗを広く形成すべき期間ではＸ方向の線速度は速くなり、反対にグルーブＧとしての幅Ｗを狭く形成すべき期間ではＸ方向の線速度は遅くなる。
【００７６】
そして、図５における光ディスクＤＫの回転成分を考慮したＸ方向の位置変化に対応する信号をビームスポットＢＳのＸ方向の位置を制御するための時間的に変化する信号（以下、当該信号を位置制御信号Ｘ(t)と称する。）とすると共に、図５におけるY方向の位置変化に対応する信号をビームスポットＢＳのY方向の位置を制御するための時間的に変化する信号（以下、当該信号を位置制御信号Y(t)と称する。）としてビームスポットＢＳの照射位置の制御を行うことで、図４に示す態様でビームスポットＢＳを位置制御してグルーブＧを形成することができるのである。
【００７７】
（ｂ）ステップ幅δを制御する場合
次に、上記したステップ幅δをグルーブＧに担持させるべき情報に基づいて制御することにより積ｆ×δを変更する場合について図６及び図７を用いて説明する。
【００７８】
なお、図６はウォブル周波数ｆを一定とし、Ｙ方向のビームスポットＢＳの移動の線速度ＶY'及びステップ幅δを形成されるべきグルーブＧの幅Ｗに反比例させて変化させることでグルーブＧを形成する場合の当該ビームスポットＢＳの位置変化を示す。ここで、当該図６における各円は、一定時間毎のビームスポットＢＳの位置を示すものである。
【００７９】
図６から明らかなように、ウォブル周波数ｆが一定であるため、グルーブＧとなるべき領域内における電子のドーズ量を一定とするためには、各タイミングにおけるビームスポットＢＳ同士の重なり具合を形成されるべきグルーブＧの幅Ｗによって変化させる必要がある。そして、図６における各円の抱絡線部分（図６において太い実線で示す。）が夫々に壁ＯＵＴ及び壁ＩＮとなることとなる。
【００８０】
次に、図６に示す場合について、光ディスクＤＫ上にグルーブＧを形成する際における光ディスクＤＫ上におけるビームスポットの位置の変化を、図７を用いて説明する。
【００８１】
図６に示す場合に、光ディスクＤＫが回転していないと仮定した場合における図６に示したビームスポットＢＳの光ディスクＤＫ上におけるＸ方向の位置変化、光ディスクＤＫ自体の回転成分、ビームスポットＢＳの光ディスクＤＫ上におけるＹ方向の位置変化（上記図２又は図３の場合と同様に、光ディスクＤＫの回転を考慮する場合でも考慮しない場合でも同じ位置変化となる。）並びに光ディスクＤＫの回転を考慮した場合におけるビームスポットＢＳの光ディスクＤＫ上におけるＸ方向の位置変化の関係は図７に示す如きものとなるが、この場合に、Ｙ方向の位置変化を示す三角波形は、ウォブル周波数ｆが一定（すなわち、その周期Ｔも一定）であることに起因して幅Ｗが狭い期間ではＹ方向の線速度ＶY'を遅くする（すなわち、その三角波形の傾斜を幅Ｗが狭い期間では緩やかにする）必要があるため、グルーブＧとしての幅Ｗを広く形成すべき期間では各走査毎の重なり具合を大きくし（すなわちステップ幅δを小さくし）、一方、グルーブＧとしての幅Ｗを狭く形成すべき期間では各走査毎の重なり具合を小さく（すなわちステップ幅δを大きく）することが必要となる。
【００８２】
次に、光ディスクＤＫの回転成分を考慮したＸ方向の位置変化は、図２又は図３の場合と同様にランプ波状に変化するのであるが、このとき、グルーブＧとしての幅Ｗを広く形成すべき期間ではＸ方向の線速度は遅くなり、反対にグルーブＧとしての幅Ｗを狭く形成すべき期間ではＸ方向の線速度は早くなる。そして、これにより、光ディスクＤＫの回転を考慮したＸ方向の位置変化は、上記した光ディスクＤＫの回転成分を考慮しないＸ方向の位置変化から当該回転成分を差し引いたものとして、同様にグルーブＧとしての幅Ｗを広く形成すべき期間ではＸ方向の線速度は遅くなり、反対にグルーブＧとしての幅Ｗを狭く形成すべき期間ではＸ方向の線速度は早くなる。
【００８３】
そして、図７における光ディスクＤＫの回転成分を考慮したＸ方向の位置変化に対応する信号を位置制御信号Ｘ(t)とすると共に、図７におけるY方向の位置変化に対応する信号を位置制御信号Y(t)としてビームスポットＢＳの照射位置の制御を行うことで、図６に示す態様でビームスポットＢＳを位置制御してグルーブＧを形成することができるのである。
【００８４】
（Ｂ）第２の方法の原理
次に、第２の方法の原理について、図８を用いて説明する。
【００８５】
なお、図８は第２の方法によりグルーブＧが形成される状態を示す光ディスクＤＫの上面図である。
【００８６】
上述したように、第２の方法においては、電子ビームの照射により光ディスクＤＫ上に形成されるビームスポットの形状自体を変更しつつその照射位置を移動してグルーブＧを形成する。
【００８７】
すなわち、図８に示すように、第２の方法においては、図１を用いて説明した幅制御信号Ｗ(t)及び位置制御信号Ｄ(t)を用いて直接ビームスポットＢＳ’全体の幅を制御すると共にその光ディスクＤＫ上の照射位置を制御しつつ光ディスクＤＫを回転させる。
【００８８】
これにより、グルーブＧとしては、ビームスポットＢＳ’の移動に伴って壁ＯＵＴと壁ＩＮが同時に形成されつつグルーブＧとして形成されていくこととなる。従って、第２の方法による場合には、上述した第１の方法の如く（図４又は図６参照）壁ＯＵＴと壁ＩＮとの間でビームスポットＢＳ’が走査されることはない。
【００８９】
（II）第１実施形態
次に、本発明に係り上述した第１の方法に対応する第１実施形態について、図９乃至図１１を用いて説明する。
【００９０】
なお、図９は第１実施形態に係るディスク製造装置の概要構成を示すブロック図であり、図１０及び図１１はその細部構成を夫々示すブロック図である。
【００９１】
また、図９に示されるディスク製造装置は、上述したグルーブＧを備えた記録用の光ディスクを販売用に大量製造する際に用いられるいわゆるスタンパディスクを製造するためのディスク製造装置である。
【００９２】
図９に示すように、第１実施形態のディスク製造装置Ｍは、表面に露光用のレジスト２が塗布されたガラス又はシリコン等よりなる原盤１と、スピンドルモータ３と、送りユニット４と、回転サーボ回路５と、回転検出器６と、位置検出器７と、送りサーボ回路８と、射出手段としての電子ビーム発生器９と、集束手段としての対物レンズ１０と、制御手段としてのＸ方向偏向器１１と、制御手段としてのＹ方向偏向器１２と、信号発生部１４と、制御部１５と、により構成されている。
【００９３】
このとき、レジスト２が塗布されている原盤１が上述した光ディスクＤＫに相当している。
【００９４】
次に、全体動作を説明する。
【００９５】
先ず、大出力の電子ビーム発生装置である電子ビーム発生器９によって生成される電子ビームＥＢは、制御部１５から出力される上記位置制御信号Ｘ(t)及び位置制御信号Y(t)に基づき、Ｘ方向偏向器１１及びＹ方向偏向器１２によって夫々Ｘ及びＹの両方向に偏向され対物レンズ１０に供給される。
【００９６】
そして、対物レンズ１０は、供給された電子ビームＥＢをレジスト２におけるグルーブＧを形成すべき位置に集束させる。
【００９７】
一方、原盤１はスピンドルモータ３上に固定されており、当該スピンドルモータ３は、その回転速度を検出する回転検出器６及び当該検出された回転速度をサーボ制御する回転サーボ回路５によって予め設定された線速度で回転制御される。
【００９８】
更に、当該原盤１は、送りユニット４によってその半径方向に移動可能とされており、その移動中の半径方向の位置を検出する位置検出器７及びその位置をサーボ制御する送りサーボ回路８によって予め設定された半径方向の送り速度で送り制御される。
【００９９】
そして、上述した回転サーボ回路５による回転制御及び送りサーボ回路８による送り制御により、原盤１のレジスト２上にその中心から外周側に向かって渦巻き状にグルーブＧが形成（カッティング）される。
【０１００】
他方、信号発生部１４は、グルーブＧに担持させる情報に基づいて、上述した壁位置制御信号Ｒ(t)及び壁位置制御信号Ｓ(t)を夫々別個に生成し、制御部１５へ出力する。
【０１０１】
そして、制御部１５は、後述する動作により、上記出力されている壁位置制御信号Ｒ(t)及び壁位置制御信号Ｓ(t)に基づいて上記位置制御信号Ｘ(t)及び位置制御信号Y(t)を生成し、夫々Ｘ方向偏向器１１及びＹ方向偏向器１２に供給する。
【０１０２】
次に、当該制御部１５の細部構成及び動作について、図１０を用いて説明する。
【０１０３】
なお、図１０は制御部１５の細部構成を示すブロック図である。
【０１０４】
図１０に示すように、壁位置制御信号Ｒ(t)及び壁位置制御信号Ｓ(t)から位置制御信号Ｘ(t)及び位置制御信号Y(t)を生成する制御部１５は、信号変換器２０と、記録補償器２１及び２２と、ＸＹ位置制御信号発生器２３と、Ｘ位置制御回路２４と、Ｙ位置制御回路２５と、により構成されている。
【０１０５】
次に、動作を説明する。
【０１０６】
先ず、信号変換器２０は、上記式（１）及び式（２）に則り、壁位置制御信号Ｒ(t)及び壁位置制御信号Ｓ(t)から夫々上記幅制御信号Ｗ(t)及び位置制御信号Ｄ(t)を生成し、記録補償器２１及び２２へ出力する。
【０１０７】
そして、記録補償器２１及び２２は、幅制御信号Ｗ(t)及び位置制御信号Ｄ(t)に対し、レジスト２への記録時及び当該原盤１から製造された光ディスクに対する情報記録時における信号劣化等を補償するための補償処理を施し、補償幅制御信号ＭＷ(t)及び補償位置制御信号ＭＤ(t)を生成してＸＹ位置制御信号発生器２３に出力する。
【０１０８】
次に、後述する細部構成を有するＸＹ位置制御信号発生器２３は、上述した一連の原理に則り、補償幅制御信号ＭＷ(t)及び補償位置制御信号ＭＤ(t)に基づいて上記位置制御信号Ｘ(t)及び位置制御信号Y(t)を生成して夫々Ｘ位置制御回路２４及びＹ位置制御回路２５に出力する。
【０１０９】
最後に、Ｘ位置制御回路２４及びＹ位置制御回路２５は、夫々位置制御信号Ｘ(t)及び位置制御信号Y(t)に対して予め設定された波形整形処理等を施し、上記Ｘ方向偏向器１１及びＹ方向偏向器１２に出力する。
【０１１０】
次に、上記ＸＹ位置制御信号発生器２３の細部構成及び動作について、図１１及び図１２を用いて説明する。
【０１１１】
なお、図１１は上述したステップ幅δを制御する場合の原理に則って位置制御信号Ｘ(t)及び位置制御信号Y(t)を生成する場合の当該ＸＹ位置制御信号発生器２３の細部構成を示すブロック図であり、図１２は上述したウォブル周波数ｆを制御する場合の原理に則って位置制御信号Ｘ(t)及び位置制御信号Y(t)を生成する場合の当該ＸＹ位置制御信号発生器２３の細部構成を示すブロック図である。
【０１１２】
先ず、具体的なＸＹ位置制御信号発生器２３の構成を説明する前に、上述したステップ幅δを制御する場合の原理に則って補償幅制御信号ＭＷ(t)（実質的には幅制御信号Ｗ(t)と同一である。）及び補償位置制御信号ＭＤ(t)（実質的には位置制御信号Ｄ(t)と同一である。）から位置制御信号Ｘ(t)及び位置制御信号Y(t)を生成する場合の工程について説明する。
【０１１３】
ＸＹ位置制御信号発生器２３においては、最初に、時間の関数としての幅制御信号Ｗ(t)から、上記式（１１）及び式（１２）に基づき位置制御信号Y(t)及びＸ方向の（すなわち光ディスクＤＫの回転の）線速度ＶL(t)を下記により求める。
【０１１４】
すなわち、位置制御信号Y(t)については、
【０１１５】
【数５】
Y(t)＝（Ｗ(t)／２）Tr(2πｆt)＋Ｄ(t)  …（１３）
となる。ここで、Tr(2πｆt)は周波数ｆで単位振幅を有する三角波を示している。
【０１１６】
一方、上記式（１２）により、
【０１１７】
【数６】
ＶL(t)＝Ｖ0ｄ／Ｗ(t)  …（１４）
となる。
【０１１８】
このとき、幅制御信号Ｗ(t)の値がグルーブＧの平均幅Ｗ0となる光ディスクＤＫの基準平均線速度ＶREFは、
【０１１９】
【数７】
ＶREF＝Ｖ0ｄ／Ｗ0  …（１５）
となる。
【０１２０】
他方、線速度ＶL(t)は、位置制御信号Ｘ(t)の微分値、すなわち、ビームスポットＢＳの光ディスクＤＫの線速度ＶL(t)を考慮した場合のＸ方向の移動速度Ｖ(t)と基準平均線速度ＶREFとの和であるから、
【０１２１】
【数８】
ＶL(t)＝ＶREF＋Ｖ(t)  …（１６）
となる。よって、
【０１２２】
【数９】
0004080170.tif 000005
【０１２３】
となる。従って、ＸＹ位置制御信号発生器２３の細部構成としては上記式（１３）と式（１７）とを実現するような構成を有すればよいのであるが、この具体的な回路構成としては、図１１に示すように、外部から供給される三角波信号Tr(2πｆt)を用いて、加算器２６と、除算部２７と、振幅変調部２８と、積分部２９と、乗算部３０と、加算器３１と、により当該ＸＹ位置制御信号発生器２３を構成することができる。
【０１２４】
次に、上述したウォブル周波数ｆを制御する場合の原理に則って幅制御信号Ｗ(t)及び位置制御信号Ｄ(t)から位置制御信号Ｘ(t)及び位置制御信号Y(t)を生成する場合におけるＸＹ位置制御信号発生器２３’の構成について説明する。
【０１２５】
当該場合にＸＹ位置制御信号発生器２３’としてどのように構成するかについては種々の方法があるが、例えば、上記図４及び図５に示した原理に則り、図１２に示すように、乗算器４４と、Ａ／Ｄ(Analog/Digital)コンバータ３２及び３３と、インバータ３４と、アップダウンカウンタ３５及び４２と、リミット検出器３６と、パルス発生器３７及び３８と、Ｄ／Ａ(Digital/Analog)コンバータ３９及び４３と、オア回路４０と、加算器４１と、により構成することができる。
【０１２６】
このとき、乗算器４４は幅制御信号Ｗ(t)に対して値１／２を乗算するものであり、Ａ／Ｄコンバータ３２及び３３の出力信号は、夫々アップダウンカウンタ３５における計数の上限値を示す上限信号ＵＰ及び当該下限値を示す下限信号ＬＷとして当該アップダウンカウンタ３５に出力される。
【０１２７】
そして、アップダウンカウンタ３５は、上限信号ＵＰ及び下限信号ＬＷに基づいて、計数値が当該上限値となったタイミングを示す上限リミット信号ＵＬを生成すると共に計数値が当該下限値となったタイミングを示す下限リミット信号ＬＬを生成する。
【０１２８】
これにより、リミット検出器３６は、上限リミット信号ＵＬが入力されたタイミングでアップダウンカウンタ３５に入力されるクロック信号をダウン入力側Ｄに切り換えると共に、下限リミット信号ＬＬが入力されたタイミングで当該クロック信号をアップ入力側Uに切り換える。
【０１２９】
一方、パルス発生器３７及び３８は夫々に上限リミット信号ＵＬに基づいて正リミットパルスを生成すると共に下限リミット信号ＬＬに基づいて負リミットパルスを生成するが、この正リミットパルス及び負リミットパルスのタイミングについては、正リミットパルスは図５に示す位置制御信号Y(t)における上ピークと同じタイミングで「ＨＩＧＨ」となるものであり、負リミットパルスは当該位置制御信号Y(t)における下ピークと同じタイミングで「ＨＩＧＨ」となるものである。
【０１３０】
また、アップダウンカウンタ４２においては、オア回路４０の出力信号がそのアップ入力側Ｕに入力されており、上記基準平均線速度ＶREFに相当する基準パルスがそのダウン入力側Ｄに入力されている。
【０１３１】
そして、当該アップダウンカウンタ４２の出力信号がアナログ化されて上記位置制御信号Ｘ(t)となると共に加算器４１の出力信号がそのまま位置制御信号Ｙ(t)として出力される。
【０１３２】
（III）第２実施形態
次に、本発明に係り上述した第２の方法に対応する第２実施形態について、図１３及び図１４を用いて説明する。
【０１３３】
なお、図１３は第２実施形態に係るディスク製造装置の概要構成を示すブロック図であり、図１４はその細部構成を夫々示すブロック図である。
【０１３４】
また、図１３に示されるディスク製造装置は、上述したグルーブＧを備えた記録用の光ディスクを販売用に大量製造する際に用いられるスタンパディスクを製造するためのディスク製造装置であり、図１３において図９に示す第１実施形態のディスク製造装置Mと同様の部材については、同様の部材番号を付して細部の説明を省略する。
【０１３５】
図１３に示すように、第２実施形態のディスク製造装置Ｍ’では、第１実施形態のディスク製造装置ＭにおけるＸ方向偏向器１１及びＹ方向偏向器１２に代えて、ビームスポットＢＳのＹ方向の幅を上記幅制御信号Ｗ(t)に基づいて制御する幅制御器４５と、ビームスポットＢＳのＹ方向の照射位置を上記位置制御信号Ｄ(t)に基づいて制御する位置制御器４６と、を備えている。
【０１３６】
また、第１実施形態のディスク製造装置Ｍにおける制御部１５に代わる移動手段としての制御部４７は、後述する動作により、上記壁位置制御信号Ｒ(t)及び壁位置制御信号Ｓ(t)に基づいて記録補償された上記補償幅制御信号ＭＷ(t)及び補償位置制御信号ＭＤ(t)を生成し、夫々幅制御器４５及び位置制御器４６に供給する。
【０１３７】
そして、幅制御器４５は当該補償幅制御信号ＭＷ(t)に基づいてビームスポットＢＳ自体のＹ方向の幅を制御し、更に位置制御機４６は当該補償位置制御信号ＭＤ(t)に基づいてビームスポットＢＳのＹ方向の照射位置を制御し、夫々図８に示す原理に則ってグルーブＧをレジスト２上に形成することとなる。
【０１３８】
次に、当該制御部４７の細部構成及び動作について、図１４を用いて説明する。
【０１３９】
なお、図１４は制御部４７の細部構成を示すブロック図であり、図１０に示す制御部１５の構成部材と同様の構成部材については同様の部材番号を付して細部の説明は省略する。
【０１４０】
図１４に示すように、壁位置制御信号Ｒ(t)及び壁位置制御信号Ｓ(t)から補償幅制御信号ＭＷ(t)及び補償位置制御信号ＭＤ(t)を生成する制御部４７は、第１実施形態の場合と同様の信号変換器２０並びに記録補償器２１及び２２と、ビーム幅制御回路４８と、ビーム位置制御回路４９と、により構成されている。
【０１４１】
次に、動作を説明する。
【０１４２】
先ず、信号変換器２０並びに記録補償器２１及び２２は、上述した第１実施形態の場合と同様の動作により、壁位置制御信号Ｒ(t)及び壁位置制御信号Ｓ(t)から補償幅制御信号ＭＷ(t)及び補償位置制御信号ＭＤ(t)を生成する。
【０１４３】
そして、ビーム幅制御回路４８は、これらのうち補償幅制御信号ＭＷ(t)に対して予め設定された波形整形処理等を施し、上記幅制御器４５へ出力する。
【０１４４】
一方、ビーム位置制御回路４９は、補償位置制御信号ＭＤ(t)に対して予め設定された波形整形処理等を施し、上記位置制御器４６へ出力する。
【０１４５】
以上説明したように、各実施形態のディスク製造装置Ｍ又はＭ’によれば、電子ビームＥＢを集束してビームスポットＢＳを形成し、更に当該ビームスポットＢＳの光ディスクＤＫ上の集束態様を制御して当該光ディスクＤＫ上にグルーブＧを形成するので、従来のレーザビームを用いてグルーブを形成する場合に比して高密度且つ正確にグルーブＧを形成することができる。
【０１４６】
また、第１の方法による場合であってウォブル周波数fを制御する場合には、一の電子ビームＥＢを用いて、幅制御信号Ｗ(t)及び位置制御信号Ｄ(t)に基づき、ビームスポットＢＳの光ディスクＤＫに対する相対的な移動速度を一定としてグルーブＧとなるべき光ディスクＤＫ上の領域内を走査するように当該ビームスポットＢＳを移動させるので、より高密度化したグルーブＧを正確に形成することができる。
【０１４７】
更に、第１の方法による場合であってステップ幅δを制御する場合には、一の電子ビームＥＢを用いて、幅制御信号Ｗ(t)及び位置制御信号Ｄ(t)に基づき、ビームスポットＢＳの光ディスクＤＫに対する相対的な移動速度を可変とし且つウォブル周波数fが光ディスクＤＫ上で一定となるようにしてグルーブＧとなるべき光ディスクＤＫ上の領域内を走査するように当該ビームスポットＢＳを移動させるので、より高密度化したグルーブＧを正確に形成することができる。
【０１４８】
また、第１の方法による場合に直前の一走査におけるビームスポットＢＳの走査軌跡の一部と、現在の走査におけるビームスポットＢＳの走査軌跡の一部とが、グルーブＧの方向において重なるように当該ビームスポットＢＳを移動させるので、グルーブＧを形成する壁の表面をより平滑に形成することができる。
【０１４９】
更に、第２の方法による場合には、一の電子ビームＥＢを用いて、幅制御信号Ｗ(t)及び位置制御信号Ｄ(t)に基づき、ビームスポットＢＳの形状を制御しつつグルーブＧとなるべき光ディスクＤＫ上の領域内を移動するように当該ビームスポットＢＳを制御するので、簡易な構成で従来のレーザビームを用いてグルーブを形成する場合に比して高密度且つ正確にグルーブＧを形成することができる。
【０１５０】
更にまた、幅制御信号Ｗ(t)及び位置制御信号Ｄ(t)が壁の形状の変化によりグルーブＧに担持させるべき情報に対応して変化するので、当該グルーブＧに情報を担持させつつ高密度且つ正確に当該グルーブＧを形成することができる。
【０１５１】
なお、本発明に適用される光ディスクは、上記した各実施の形態の如き記録可能な光ディスクＤＫに限られるものではなく、読取専用（すなわち、ＲＯＭ（Read  Only  Memory）型）の光ディスクであってもよい。
【０１５２】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１に記載の発明によれば、電子ビームを集束してビームスポットを形成し、更に当該ビームスポットの情報記録媒体上の集束位置を制御して当該情報記録媒体上にグルーブを形成するので、従来のレーザビームを用いてグルーブを形成する場合に比して高密度且つ正確にグルーブを形成することができる。
【０１５３】
従って、当該グルーブの形状の変化により情報トラックにアドレス情報等の情報を担持させる場合にも、高記録密度で当該情報を担持させることができると共に当該情報の再生時における信号対雑音比も改善することができる。
【０１５４】
さらに、一の電子ビームを用いて、二つの形状信号に基づき、ビームスポットの情報記録媒体に対する相対的な移動速度を一定としてグルーブとなるべき情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させるので、より高密度化したグルーブを正確に形成することができる。
【０１５５】
請求項２に記載の発明によれば、電子ビームを集束してビームスポットを形成し、更に当該ビームスポットの情報記録媒体上の集束位置を制御して当該情報記録媒体上にグルーブを形成するので、従来のレーザビームを用いてグルーブを形成する場合に比して高密度且つ正確にグルーブを形成することができる。従って、当該グルーブの形状の変化により情報トラックにアドレス情報等の情報を担持させる場合にも、高記録密度で当該情報を担持させることができると共に当該情報の再生時における信号対雑音比も改善することができる。さらに、一の電子ビームを用いて、二つの形状信号に基づき、ビームスポットの情報記録媒体に対する相対的な移動速度を可変とし且つビームスポットの移動における周波数が情報記録媒体上で一定となるようにしてグルーブとなるべき情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させるので、より高密度化したグルーブを正確に形成することができる。
【０１５６】
請求項３に記載の発明によれば、請求項１又は２に記載の発明の効果に加えて、直前の一走査におけるビームスポットの走査軌跡の一部と、現在の走査におけるビームスポットの走査軌跡の一部とが、グルーブの方向において重なるように当該ビームスポットを移動させるので、グルーブを形成する壁の表面をより平滑に形成することができる。
【０１５７】
請求項４に記載の発明によれば、請求項１から３のいずれか一項に記載の発明の効果に加えて、形状信号が壁の形状の変化によりグルーブに担持させるべき情報に対応して変化するので、当該グルーブに情報を担持させつつ高密度且つ正確に当該グルーブを形成することができる。
【０１５８】
請求項５に記載の発明によれば、電子ビームを集束してビームスポットを形成し、更に当該ビームスポットの情報記録媒体上の集束位置を制御して当該情報記録媒体上にグルーブを形成するので、従来のレーザビームを用いてグルーブを形成する場合に比して高密度且つ正確にグルーブを形成することができる。
【０１５９】
従って、当該グルーブの形状の変化により情報トラックにアドレス情報等の情報を担持させる場合にも、高記録密度で当該情報を担持させることができると共に当該情報の再生時における信号対雑音比も改善することができる。
【０１６０】
さらに、一の電子ビームを用いて、二つの形状信号に基づき、ビームスポットの情報記録媒体に対する相対的な移動速度を一定としてグルーブとなるべき情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させるので、より高密度化したグルーブを正確に形成することができる。
【０１６１】
請求項６に記載の発明によれば、電子ビームを集束してビームスポットを形成し、更に当該ビームスポットの情報記録媒体上の集束位置を制御して当該情報記録媒体上にグルーブを形成するので、従来のレーザビームを用いてグルーブを形成する場合に比して高密度且つ正確にグルーブを形成することができる。従って、当該グルーブの形状の変化により情報トラックにアドレス情報等の情報を担持させる場合にも、高記録密度で当該情報を担持させることができると共に当該情報の再生時における信号対雑音比も改善することができる。さらに、一の電子ビームを用いて、二つの形状信号に基づき、ビームスポットの情報記録媒体に対する相対的な移動速度を可変とし且つビームスポットの移動における周波数が情報記録媒体上で一定となるようにしてグルーブとなるべき情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させるので、より高密度化したグルーブを正確に形成することができる。
【０１６２】
請求項７に記載の発明によれば、請求項５又は６に記載の発明の効果に加えて、直前の一走査におけるビームスポットの走査軌跡の一部と、現在の走査におけるビームスポットの走査軌跡の一部とが、グルーブの方向において重なるように当該ビームスポットを移動させるので、グルーブを形成する壁の表面をより平滑に形成することができる。
【０１６３】
請求項８に記載の発明によれば、請求項５から７のいずれか一項に記載の発明の効果に加えて、形状信号が壁の形状の変化によりグルーブに担持させるべき情報に対応して変化するので、当該グルーブに情報を担持させつつ高密度且つ正確に当該グルーブを形成することができる。
【０１６４】
請求項９に記載の発明によれば、電子ビームを集束してビームスポットを形成し、更に当該ビームスポットの情報記録媒体上の集束位置を制御して当該情報記録媒体上にグルーブを形成するので、従来のレーザビームを用いてグルーブを形成する場合に比して高密度且つ正確にグルーブを形成することができる。従って、当該グルーブの形状の変化により情報トラックにアドレス情報等の情報を担持させる場合にも、高記録密度で当該情報を担持させることができると共に当該情報の再生時における信号対雑音比も改善することができる。さらに、一の電子ビームを用いて、二つの形状信号に基づき、ビームスポットの情報記録媒体に対する相対的な移動速度を一定としてグルーブとなるべき情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させるので、より高密度化したグルーブを正確に形成することができる。
【０１６５】
請求項１０に記載の発明によれば、電子ビームを集束してビームスポットを形成し、更に当該ビームスポットの情報記録媒体上の集束位置を制御して当該情報記録媒体上にグルーブを形成するので、従来のレーザビームを用いてグルーブを形成する場合に比して高密度且つ正確にグルーブを形成することができる。従って、当該グルーブの形状の変化により情報トラックにアドレス情報等の情報を担持させる場合にも、高記録密度で当該情報を担持させることができると共に当該情報の再生時における信号対雑音比も改善することができる。さらに、一の電子ビームを用いて、二つの形状信号に基づき、ビームスポットの情報記録媒体に対する相対的な移動速度を可変とし且つビームスポットの移動における周波数が情報記録媒体上で一定となるようにしてグルーブとなるべき情報記録媒体上の領域内を走査するように当該ビームスポットを移動させるので、より高密度化したグルーブを正確に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の原理を説明する図である。
【図２】第１の方法の原理を説明する図（Ｉ）である。
【図３】第１の方法の原理を説明する図（II）である。
【図４】第１の方法の原理を説明する図（III）である。
【図５】第１の方法の原理を説明する図（IV）である。
【図６】第１の方法の原理を説明する図（V）である。
【図７】第１の方法の原理を説明する図（VI）である。
【図８】第２の方法の原理を説明する図である。
【図９】第１実施形態のディスク製造装置の概要構成を示すブロック図である。
【図１０】第１実施形態のディスク製造装置の細部構成を示すブロック図（Ｉ）である。
【図１１】第１実施形態のディスク製造装置の細部構成を示すブロック図（II）である。
【図１２】第１実施形態のディスク製造装置の細部構成を示すブロック図（III）である。
【図１３】第２実施形態のディスク製造装置の概要構成を示すブロック図である。
【図１４】第２実施形態のディスク製造装置の細部構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
１…原盤
２…レジスト
３…スピンドルモータ
４…送りユニット
５…回転サーボ回路
６…回転検出器
７…位置検出器
８…送りサーボ回路
９…電子ビーム発生器
１０…対物レンズ
１１…Ｘ方向偏向器
１２…Ｙ方向偏向器
１４…信号発生部
１５、４７…制御部
２０…信号変換器
２１、２２…記録補償器
２３、２３’…ＸＹ位置制御信号発生器
２４…Ｘ位置制御回路
２５…Ｙ位置制御回路
２６、３１、４１…加算器
２７…除算部
２８…振幅変調部
２９…積分部
３０…乗算部
３２、３３…Ａ／Ｄコンバータ
３４…インバータ
３５、４２…アップダウンカウンタ
３６…リミット検出器
３７、３８…パルス発生器
３９、４３…Ｄ／Ａコンバータ
４０…オア回路
４４…乗算器
４５…幅制御器
４６…位置制御器
４８…ビーム幅制御回路
４９…ビーム位置制御回路
Ｇ…グルーブ
ＥＢ…電子ビーム
ＤＫ…光ディスク
ＯＵＴ、ＩＮ…壁
Ｒ(t)、Ｓ(t)…壁位置制御信号
Ｗ(t)…幅制御信号
Ｄ(t)…位置制御信号
ＢＳ、ＢＳ’…ビームスポット
Ｍ、Ｍ’…ディスク製造装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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