(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を照射されることによって互いに結合する光反応性置換基を有する樹脂層に、紫外線からなる平行光を１Ｊ／cm2〜１０kJ／cm2の照射エネルギーで照射し、遅相軸を回転軸として回転させた場合に法線方向に対して非対称のレターデーションを示す位相差板を得ることを特徴とする位相差板の製造方法。
【請求項２】
光反応性置換基を有する樹脂層は、光を照射されることによって互いに結合する光反応性置換基を有する重合体からなる樹脂層である請求項１に記載の位相差板の製造方法。
【請求項３】
光反応性置換基を有する樹脂層は、光を照射されることによって互いに結合する光反応性置換基を有する重合体と他の重合体との混合物からなる請求項１に記載の位相差板の製造方法。
【請求項４】
光を照射されることによって互いに結合する光反応性置換基は、シンナモイル基である請求項１〜３のいずれかに記載の位相差板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、位相差板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
アクティブマトリックス駆動のツイステッドネマチック型液晶表示装置（ＡＭ−ＴＮ−ＬＣＤ）は、正面から見た場合の画質と比較して、斜め方向から見た場合の画質の低下、すなわちコントラストの低下と色相の変化が大きく、そのため、ＡＭ−ＴＮ−ＬＣＤの前面に位相差板を配置して、かかる画質の低下を防止することが広く行われている。
かかる位相差板としては、例えば、捩じれマチック液晶を用いた位相差板（特開平６−２５０１６６号公報）、ディスコチック液晶を用いた位相差板（特開平６−２１４１１６号公報）などが提案されているが、これらの位相差板は液晶を用いるものであるため、安定的に生産することが難しいという問題があった。
【０００３】
そこで、光異性化物質を含むシートに直線偏光紫外線が照射されてなる位相差板（特開平６−２６５７２８号公報）、光反応性物質に特定方向の静電場または静磁場を照射しながら反応させて得られる位相差板（特開平５−２１５９２１号公報）などが提案されているが、これらの位相差板は、直線偏光紫外線や、強力な静電場または静磁場を必要とするため、工業的規模での製造が難しいという問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
かかる状況のもと、本発明者は、位相差板をより簡便に製造し得る方法を開発するべく鋭意検討した結果、特定の置換基を有する重合体に平行紫外光を照射することにより容易に位相差板を製造し得ることを見出し、本発明に至った。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明は、光を照射されることによって互いに結合する光反応性置換基を有する樹脂層に、紫外線からなる平行光を１Ｊ／cm2〜１０kJ／cm2の照射エネルギーで照射し、遅相軸を回転軸として回転させた場合に法線方向に対して非対称のレターデーションを示す位相差板を得ることを特徴とする位相差板の製造方法を提供するものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】
一般に光反応性置換基とは、光によって励起され、反応する性質を有する置換基を意味し、例えば、光を照射されることによって互いに結合する置換基、光を照射されることによってシス−トランス異性化する置換基などを挙げることができるが、本発明では、光を照射されることによって互いに結合する置換基を採用する。
【０００７】
光を照射されることによって互いに結合する置換基としては、例えばシンナモイル基、２−ニトロエテニルフェニル基、２−シアノエテニルフェニル基、２−（２−ピリジル）エテニルフェニル基、２−（Ｎ−メチル−２−ピリジル）エテニルフェニル基、β−スチリルアクリロイル基、β−フリルアクリロイル基、アントラニル基などが挙げられる。これらの置換基は光を照射されることによって互いに結合する。
【０００８】
光を照射されることによってシス−トランス異性化する置換基としては、例えばフェニルアゾフェニル基、Ｎ−ベンジリデンアミノフェニル基、β−フェニルスチリル基などが挙げられる。これらの置換基は光を照射されることによってシス−トランス異性化する。
【０００９】
本発明において、上記した光を照射されることによって互いに結合する光反応性置換基は、それぞれ１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。また、光を照射されることによって互いに結合する置換基の１種または２種以上に、光を照射されることによってシス−トランス異性化する置換基の１種または２種以上を組み合わせることもできる。これらの光反応性置換基は、紫外線によって励起され、反応する性質を有するものである。これにより、位相差板としての使用中に通常の可視光で反応することがない。
【００１０】
かかる光反応性置換基を有する樹脂層を構成する樹脂は、例えば光反応性置換基を有する単量体が重合されてなる重合体であってもよいし、そのような光反応性置換基を有する重合体と光反応性置換基を有さない重合体との混合物であってもよい。単量体単位は、光反応性置換基を１個有していてもよいし、２個以上有していてもよい。
【００１１】
かかる単量体単位としては、例えばビニルシンナメート、ビニル−ｐ−メトキシシンナメート、ビニル−３，４−ジメトキシシンナメート、ビニル−ｐ−ニトロシンナメート、ビニル−α−シアノシンナメートなどのビニルシンナメート誘導体；ｐ−シンナモイルスチレン；ｐ−シンナモイルフェニルアクリレート、ｐ−シンナモイルフェニルメタクリレート、３−（ｐ−シンナモイルフェニルオキシ）−２−ヒドロキシプロピル  メタクリレート、２−（ｐ−シンナモイルフェニルオキシ）エチル  アクリレートなどのシンナモイル基を有するアクリレート誘導体；ビニル  β−フリルアクリレートなどのフリルアクリレート誘導体；ｐ−（２−ピリジルエテニル）スチレン、ｐ−（２−ピリミジルエテニル）スチレンなどのスチリルピリジン誘導体；７−クマリルアクリレートなどのクマリン誘導体などが挙げられる。
これらの単量体単位を有する重合体は、上記各単量体の単独重合体であってもよいし、２種以上の共重合体であってもよい。
【００１２】
また、かかる重合体において、光反応性置換基は側鎖に存在していてもよいし、主鎖中に存在していてもよい。
【００１３】
側鎖に光反応性置換基が存在する重合体としては、例えば化学式（Ｐ−０１）
0004182563.tif 000002
〔式中、ｎは自然数を表す。〕
で示されるポリビニルシンナメート誘導体構造を有する重合体、
化学式（Ｐ−０２）
0004182563.tif 000003
〔式中、ｎは自然数を表す。〕
で示されるポリビニルシンナメート誘導体構造を有する重合体、
化学式（Ｐ−０３）
0004182563.tif 000004
〔式中、ｎは自然数を表す。〕
で示されるポリビニルシンナメート誘導体構造を有する重合体、
化学式（Ｐ−０４）
0004182563.tif 000005
〔式中、ｎは自然数を表す。〕
で示されるポリビニルシンナメート誘導体構造を有する重合体、
化学式（Ｐ−０５）
0004182563.tif 000006
〔式中、ｎは自然数を表す。〕
で示されるポリビニルシンナメート誘導体構造を有する重合体、
【００１４】
化学式（Ｐ−０６）
0004182563.tif 000007
〔式中、ｎは自然数を表す。〕
で示されるカルコン誘導体構造を有する重合体、
化学式（Ｐ−０７）
0004182563.tif 000008
〔式中、ｎは自然数を表す。〕
で示されるカルコン誘導体構造を有する重合体、
化学式（Ｐ−０８）
0004182563.tif 000009
〔式中、ｎは自然数を表す。〕
で示されるカルコン誘導体構造を有する重合体、
化学式（Ｐ−０９）
0004182563.tif 000010
〔式中、ｎは自然数を表す。〕
で示されるカルコン誘導体構造を有する重合体、
化学式（Ｐ−１０）
0004182563.tif 000011
〔式中、ｎは自然数を表す。〕
で示されるカルコン誘導体構造を有する重合体、
【００１５】
化学式（Ｐ−１１）
0004182563.tif 000012
〔式中、ｎは自然数を表す。〕
で示されるβ−フリルアクリレート構造を有する重合体、
【００１６】
化学式（Ｐ−１２）
0004182563.tif 000013
〔式中、ｎは自然数を表す。〕
で示されるβ−スチルピリジン構造を有する重合体、
化学式（Ｐ−１３）
0004182563.tif 000014
〔式中、ｎは自然数を示す。〕
で示されるβ−スチルピリミジン構造を有する重合体、
【００１７】
化学式（Ｐ−１４）
0004182563.tif 000015
〔式中、ｎは自然数を表す。〕
で示されるクマリン構造を有する重合体などが挙げられる。
【００１８】
このような、側鎖に光反応性置換基が存在する重合体は、共重合成分として他の単量体単位を含んでいてもよい。他の単量体単位としては、例えば、エチレン単位、プロピレン単位などのオレフィン単位、アクリル酸エステル単位、スチレン単位などが挙げられる。かかる他の単量体単位を含む場合、光反応性置換基が側鎖に存在する単量体単位の含有量は、目的とする位相差板の位相差の大きさに応じて適宜選択される。
【００１９】
光反応性置換基が主鎖中に存在する重合体としては、例えば化学式（Ｐ−１５）
0004182563.tif 000016
〔式中、ｎは自然数を表す。〕
で示される重合体、
化学式（Ｐ−１６）
0004182563.tif 000017
〔式中、ｎは自然数を表す。〕
で示される重合体、
化学式（Ｐ−１７）
0004182563.tif 000018
〔式中、ｎは自然数を表す。〕
で示される重合体、
化学式（Ｐ−１８）
0004182563.tif 000019
〔式中、ｎは自然数を表す。〕
で示される重合体、
【００２０】
化学式（Ｐ−１９）
0004182563.tif 000020
〔式中、ｎは自然数を表す。〕
で示される重合体、
化学式（Ｐ−２０）
0004182563.tif 000021
〔式中、ｎは自然数を表す。〕
で示される重合体、
化学式（Ｐ−２１）
0004182563.tif 000022
〔式中、ｎは自然数を表す。〕
で示される重合体、
化学式（Ｐ−２２）
0004182563.tif 000023
〔式中、ｎは自然数を表す。〕
で示される重合体などが挙げられる。
【００２１】
このような、光反応性置換基が主鎖中に存在する重合体は、共重合成分として他の単量体単位を含んでいてもよい。他の単量体単位としては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ビスフェノール−Ａ、ハイドロキノン、４，４’−ジヒドロキシジフェニル、芳香族ジオール、アジピン酸、テレフタル酸、２，６−ジカルボキシナフタレン、芳香族ジカルボン酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、乳酸、芳香族ヒドロキシカルボン酸などが挙げられる。かかる他の単量体単位を含む場合、光反応性置換基が主鎖中に存在する単量体単位の含有量は、目的とする位相差板の位相差の大きさに応じて適宜選択される。
主鎖中に光反応性置換基を有する重合体は、より透明性に優れた位相差板が得られる点で、好ましく使用される。
【００２２】
光反応性置換基を有する重合体と光反応性置換基を有さない重合体との混合物における光反応性置換基を有さない重合体としては、透明性を有する重合体であれば特に限定されるものではない。また、光反応性置換基を有する重合体と相分離することなく、混合できるものであるのが好ましい。かかる光反応性置換基を有さない重合体としては、例えばポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチルなどのアクリル系重合体、ポリカーボネート、ポリビニルアルコールおよびこれらの混合物などが挙げられる。
【００２３】
これらの重合体または混合物から樹脂層を得るには、例えば、これらの重合体または混合物を溶媒に溶解した後、基材上に塗布し、乾燥させればよい。溶媒としては、例えば塩化メチレンなどが、基材としては、例えばガラス板、フィルムなどが、それぞれ挙げられる。また、平滑な型の上に塗布し、溶媒を蒸発させて膜を形成し、これを型から離型してもよい。さらに、押出成形法、熱プレス法などによって、フィルム状に成形してもよい。樹脂層の厚みは通常０.５μm以上であり、好ましくは０.５〜５００μm程度である。
【００２４】
本発明においては、かくして得られた樹脂層に紫外線からなる平行光を照射する。照射される平行光は、光の進行方向が概ね一方向となっている光であり、通常、全光線エネルギーの８０％以上が主光線方向から±２０°の範囲にあること、さらには±１５°の範囲にあること、とりわけ±１０°の範囲にあることが好ましい。
【００２５】
このような平行光は、例えば凸レンズなどを用いて光源からの光を平行光とする方法、反射鏡などを用いて光源からの光を集光したのちスリットを通す方法、レーザー光線などを用いる方法などによって、容易に得ることができる。平行光の照射エネルギーは、光反応性置換基の種類やその含有量、樹脂層の厚みなどに応じて、１Ｊ／cm2〜１０kJ／cm2の範囲から適宜選択され、好ましくは１０Ｊ／cm2〜５kJ／cm2程度の範囲である。
【００２６】
平行光の波長は、用いる光反応性置換基を反応させることができる波長であればよく、用いる光反応性置換基によって適宜選択されるが、得られた位相差板を可視光の下で使用している際に光反応性置換基が反応することがない点から、本発明では紫外線を用いる。紫外線の光源としては、例えば高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、レーザーなどの通常の光源を用いることができる。
【００２７】
かかる紫外線からなる平行光が樹脂層に照射される。平行光が樹脂層を透過することによって、光反応性置換基が励起されて反応し、特定の方向に光軸を有する位相差板が得られる。得られる位相差板における光軸の方向は、樹脂層を透過する平行光の方向によって決められる。したがって、目的とする方向の光軸を有する位相差板を得るには、樹脂層への平行光の照射角度を、その樹脂層の屈折率を勘案して適宜選択すればよい。
【００２８】
かくして得られた位相差板は、樹脂層が設けられた基材から剥離することなくそのまま基材と一体的に積層された状態で使用されてもよいし、基材から剥離して用いられてもよい。
【００２９】
また、他のフィルムと貼合して用いることもできる。かかる他のフィルムは、その面内の位相差が１００nm以下であることが好ましい。さらに、用いた光反応性置換基を有する樹脂層が反応する波長の光を選択的に遮蔽するフィルムであることが好ましい。他のフィルムは、位相差板が基材から剥離されることなく用いられる場合には、通常、その位相差板の基材とは反対側の面に貼合される。基材から剥離して用いる場合には、その位相差板の両面に貼合してもよいし、片面に貼合してもよい。
【００３０】
【発明の効果】
本発明の方法によれば、位相差板を容易に製造することができる。
【００３１】
【実施例】
以下、実施例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。
【００３２】
なお、各実施例において照射した紫外線の平行性は、全光線エネルギーの８０％が照射される範囲として以下のようにして測定した。
すなわち、５mm径の穴を開けたアルミニウム板を樹脂層の位置に置き、アルミニウム板の下１０cmの位置における紫外線の照射光量分布を、紫外線照度計を用いて求め、得られた照射光量分布から全光線エネルギーの８０％が照射される角度範囲を求めた。
【００３３】
実施例１
〔樹脂層の製造〕
遮光下、化学式（Ｐ−０１）で示される重合体（ポリビニルシンナメート、平均重合度１７００）１ｇを塩化メチレン３ｇに溶解して得た溶液を、ガラス基板上にウェット厚み２００μm で塗布した。その後、遮光下、６０℃で１時間乾燥し、さらに６０℃で１夜真空乾燥して、ポリビニルシンナメートの樹脂層（厚み４０μm）をガラス基板上に得た。
【００３４】
〔位相差板の製造〕
図１に示すように、上記でガラス基板（５）上に形成された樹脂層（４）に、その法線（８）に対して４５°の方向から、高圧水銀ランプ（１）と凸レンズ（２）を用いて得られた平行光（３）（紫外線、２kJ／cm2 ）を照射して、位相差板を得た。なお、照射された紫外線の全光線エネルギーの８０％は主光線方向から ±１１.５°の範囲に照射されており、また紫外線照射前の樹脂層（４）と、得られた位相差板とでは、外観的な変化はなかった。
次に図３に示すように、位相差板（９）の位相差の角度依存性は、この位相差板（９）をガラス基板（５）上に保持したまま、ガラス基板（５）をその照射傾斜軸（６）を中心にして回転させながら、基準線（７）方向からの位相差を求めることにより測定した。ガラス基板の法線方向（８）と基準線（７）との角度をθとした。この角度（θ）と位相差板の位相差（レターデーション）との関係を図４に示す。
【００３５】
実施例２
〔化学式（Ｐ−０２）で示される重合体の製造〕
遮光下で窒素気流下、ｐ−メトキシけい皮酸２５.９ｇを２５ml の塩化チオニルに加熱溶解し、還流下で１時間反応させた。未反応の塩化チオニルを減圧下、完全に留去した。得られた固体を乾燥テトラヒドロフラン２５mlに溶解し、ポリビニルアルコール（クラレ製、重合度１７００）５.３ｇを乾燥テトラヒドロフラン５０ml に溶解させた溶液に滴下し、還流下で２時間反応させた。反応溶液を冷却後、１５００mlのメタノールにて沈殿させ、化学式（Ｐ−０２）で示される重合体を得た。この重合体をクロロホルムに再溶解した後、メタノールにて再沈殿させ、精製した（収量１７.７ｇ）。
【００３６】
〔樹脂層および位相差板の製造〕
ポリビニルシンナメートに代えて上記で得た化学式（Ｐ−０２）で示される重合体を用いる以外は、実施例１と同様に操作して、樹脂層を得、位相差板を得た。この位相差板における角度（θ）と位相差板の位相差（レターデーション）との関係を図５に示す。
【００３７】
実施例３
〔化学式（Ｐ−１９）で示される重合体の製造〕
遮光下、フェルラ酸５０ｇをメタノール１７０mlに溶解させた溶液に濃硫酸を ６.９ｇ添加し、２時間加熱還流した。反応混合物を冷却し、１０００mlの氷水に注入し、析出した固体を濾過、水洗し、真空乾燥を行い、フェルラ酸メチル５２.８ｇを得た。
フェルラ酸メチル１０ｇ、アセトニトリル４０ml、炭酸カリウム ３８.８ｇ、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウム ０.１８ｇの混合物に窒素気流下、加熱還流させながら３−ブロモプロパノール １５.６ｇを３０分かけて滴下した後、４時間反応させた。冷却後、反応混合物を濾過し、濾液を濃縮した。残さを酢酸エチルに再溶解し、炭酸ナトリウム水溶液、次に水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後濃縮して、化学式（Ｐ−１９）で示される重合体を得るための単量体を得た。粗生成物は、トルエンから再結晶して精製した。
精製した単量体 １０.０ｇを入れたナス型フラスコをオイルバスで１００℃に加熱し、モノマーを溶融した状態で真空脱気／窒素導入を繰り返し、系内の脱気を行った。窒素で常圧に戻した後、 ０.５３４ｇのテトライソプロポキシチタンの２０wt％トルエン溶液を加えた。系内を３mmHgまで減圧し、トルエンの揮発が止んだ後、１時間かけて２００℃まで昇温した。反応器を冷却後、内容物を１００mlのクロロホルムで抽出し、メタノールにて再沈殿して、化学式（Ｐ−１９）で示される重合体を得た。
【００３８】
〔樹脂層の製造〕
上記で得た化学式（Ｐ−１９）で示される重合体を、鏡面ステンレス板の間にポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み３８μm ）をスペーサーとして挟持し、２００℃にて２０分間の熱プレスを行い、樹脂層をフィルム（厚み５０μm ）として得た。同様にして複数の樹脂層をフィルムとして得た。
【００３９】
〔位相差板の製造〕
図２に示すように、上記で得た複数の樹脂層（４）に、その法線方向（１０）に対して角度４５°の方向から平行光（１４）を照射して位相差板（９）を得た。平行光は、長さ６０cmの棒状の高圧水銀ランプ（１１）と、平行光型反射鏡（１２）と、２cm間隔で配置された長さ２０cmのルーバー（１３）を用いて得た。平行光は紫外線であり、照射エネルギーは１２Ｊ／cm2 であった。この平行光は照射距離３０cmで樹脂層（４）に照射した。なお、照射された紫外線の全光線エネルギーの８０％は主光線方向から±１０°の範囲に照射されていた。また、紫外線照射前の樹脂層（４）と得られた位相差板（９）とでは、外観的な変化はなかった。この位相差板における角度（θ）と位相差板の位相差（レターデーション）との関係を図６に示す。
【００４０】
実施例４
〔化学式（Ｐ−２０）で示される重合体の製造〕
フェルラ酸５０ｇに代えてイソフェルラ酸５０ｇを用いる以外は実施例３と同様に操作して、化学式（Ｐ−２０）で示される重合体を得た。
【００４１】
〔樹脂層および位相差板の製造〕
化学式（Ｐ−１９）で示される重合体に代えて、上記で得た化学式（Ｐ−２０）で示される重合体を用いた以外は、実施例３と同様に操作して、樹脂層を得、位相差板を得た。なお、紫外線照射前の樹脂層と、得られた位相差板とでは、外観的な変化はなかった。この位相差板における角度（θ）と位相差板の位相差（レターデーション）との関係を図７に示す。
【００４２】
実施例５
〔化学式（Ｐ−２１）で示される重合体の製造〕
遮光下で、フェルラ酸メチル ２５.０ｇ、アセトニトリル２５０ml、炭酸カリウム８９ｇ、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウム ０.４１ｇの混合物に、窒素気流下、加熱還流させながら１，３−ジブロモプロパン １２.３ｇを３０分かけて滴下した後、４時間反応させた。冷却後、反応混合物を濾過し、濾液を濃縮した。残さを酢酸エチルに再溶解し、炭酸ナトリウム水溶液で、次に水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮、乾固し、ジメチルエステルを得た。粗生成物はトルエンから再結晶して精製した。
得られたジエステル１９.９ｇとメタノール１５０ml の混合物に５規定の苛性カリ水溶液４０mlを加え、８０℃で４時間加熱、攪拌した。反応溶液を冷却後、６規定塩酸で酸性化し、析出した沈殿物を濾過、乾燥してジカルボン酸を得た。
得られたジカルボン酸１１ｇ、ピペラジン２ｇ、亜リン酸トリフェニル ７.２ｇ、ピリジン１０ml、塩化リチウム０.５ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン４０ml の混合物を、窒素下１００℃で３時間加熱、攪拌した。反応混合物を１０００mlのメタノールに加え、生成した沈殿を濾過、乾燥して化学式（Ｐ−２１）で示される重合体を得た。この重合体をクロロホルムからメタノールに再沈殿させて精製した。
【００４３】
〔樹脂層の製造〕
遮光下、化学式（Ｐ−２１）で示される重合体１ｇをジメチルスルホキシド ２.５ｇに加熱溶解して得た溶液を、１００℃に加熱したガラス基板上にウェット厚み２００ミクロンで塗布した。その後、遮光下、８０℃で１時間乾燥し、さらに６０℃で１夜真空乾燥して、化学式（Ｐ−２１）で示される重合体の樹脂層（厚み４０μm ）をガラス基板上に得た。
【００４４】
〔位相差板の製造〕
化学式（Ｐ−１９）で示される重合体のフィルムに代えて、上記でガラス基板上に得た化学式（Ｐ−２１）で示される重合体の樹脂層を用いた以外は、実施例３と同様に操作して位相差板を得た。なお、紫外線照射前の樹脂層と、得られた位相差板とでは、外観的な変化はなかった。この位相差板における角度（θ）と位相差板の位相差（レターデーション）との関係を図８に示す。
【００４５】
実施例６
〔化学式（Ｐ−２２）で示される重合体の製造〕
遮光下、カヤラッドＲ−６０４（日本化薬株式会社製のハードコート剤）１.６３ｇ と４，４’−ジヨードビフェニル２.０３ｇと １，８−ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ナフタレン ２.８９ｇとを窒素気流下で２０mlのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解し、酢酸パラジウム（II）１１.３mgとトリ−ｍ−トルイルフォスフィン６０.９mgを加えた。窒素気流下で１００℃にて４時間加熱した後、２００mlのメタノールに注入して、化学式（Ｐ−２２）で示される重合体を沈殿させた。この重合体をクロロホルムからメタノールに再沈殿させて精製した。
【００４６】
〔樹脂層および位相差板の製造〕
ポリビニルシンナメートに代えて、上記で得た化学式（Ｐ−２２）で示される重合体を用いた以外は、実施例１と同様に操作して、樹脂層を得、位相差板を得た。この位相差板における角度（θ）と位相差板の位相差（レターデーション）との関係を図９に示す。
【図面の簡単な説明】
【図１】  位相差板を製造する工程を示す模式図である。
【図２】  位相差板を製造する工程を示す模式図である。
【図３】  位相差板の位相差の角度依存性を測定する方法を示す模式図である。
【図４】  実施例１で得た位相差板の、角度（θ）と位相差との関係を示す図である。
【図５】  実施例２で得た位相差板の、角度（θ）と位相差との関係を示す図である。
【図６】  実施例３で得た位相差板の、角度（θ）と位相差との関係を示す図である。
【図７】  実施例４で得た位相差板の、角度（θ）と位相差との関係を示す図である。
【図８】  実施例５で得た位相差板の、角度（θ）と位相差との関係を示す図である。
【図９】  実施例６で得た位相差板の、角度（θ）と位相差との関係を示す図である。
【符号の説明】
１：高圧水銀ランプ
２：凸レンズ
３：平行光
４：樹脂層
５：ガラス基板
６：照射傾斜軸
７：基準線
８：位相差板の法線方向
９：位相差板
θ：位相差板の法線方向と基準線とのなす角度
１０：樹脂層の法線方向
１１：棒状の高圧水銀ランプ
１２：平行光型反射鏡
１３：ルーバー
１４：平行光
１５：平行光と樹脂層の法線とのなす角度
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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