(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基板と、
ホール遮断層と、
任意の接着剤層と、
電荷輸送層と、
電荷発生層と、
任意の電荷捕獲層と、
架橋シリコーンゴムと、
弾性電気絶縁上塗層と、
を含み、前記ホール遮断層は下記反応式に記載されたような架橋反応から誘導される、ポリマー（Ｉ）と式（ＩＩ）によって表されるオルガノシランの反応から誘導された架橋ポリマー（ＩＩＩ）を含み、
【化１】
0004063648.tif 000010
（式中、Ｅは電子輸送部分であり、Ａ、Ｂ、ＤおよびＦは、シリル官能基（ＳｉＺ3）、電子輸送部分（Ｅ）およびヒドロキシ官能基（ＯＨ）をポリマー主鎖に接続または結合する適切な二価結合を含むポリマー主鎖のセグメントを表し、Ｚは、塩化物、臭化物、ヨウ化物、シアノ、炭素原子数１〜５のアルコキシ、炭素原子２〜６のアシルオキシ、炭素原子数６〜１０のアリールオキシから成る群から選択され、ａ、ｂ、ｃおよびｄは反復モノマー単位のモル分率であり、ここでａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは１に等しい。Ｒは、アルキル、置換アルキル、アリールまたは置換アリールであり、その置換基はハロゲン、アルコキシ、アリールオキシおよびアミノである。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の二つがアルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシおよびハロゲンから成る群から独立して選択されるかぎり、アルキル、アリール、アルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシ、ハロゲン化物、シアノおよびアミノから成る群から独立して選択される。）
式中ａが０〜０．９５であり、ｂが０．００１〜０．５０であり、ｃが０〜０．５０であり、ｄが０．０１〜０．９５であり、式中Ａがアルキレン、アリーレン、アルコキシカルボニルアルキレンおよびアルコキシカルボニルアリーレンの二価結合の群から選択され、Ｂ、ＤおよびＦが、
【化２】
0004063648.tif 000011
（式中、Ｒ’およびＲ’’は独立して炭素原子数２〜２４の三価結合または二価結合である。）から成る群から選択される画像形成部材。
【請求項２】
電荷注入面を有する支持基板と、
ホール遮断層と、
任意の接着剤層と、
電荷輸送層と、
電荷発生層と、
任意の電荷捕獲層と、
架橋シリコーンゴムと、
露出画像形成面を有する弾性電気絶縁上塗層と、
を含む画像形成部材を提供する工程と、
前記画像形成面上に第１の極性の均一電荷を形成する工程と、
前記電荷注入面に第２の極性の電荷を供給し、よって第２の極性の電荷が前記輸送層に注入され、前記上塗層に移動する工程と、
前記画像形成面上の第１の極性の電荷を中和するために第２の極性の電荷を前記画像形成面に供給する工程と、
静電潜像を形成させるために画像構成をとった活性化放射線に前記画像形成面を露光させる工程と、
前記潜像に対応するマーキング粒子画像を形成させるためにマーキング粒子で前記静電潜像を現像する工程と、
任意に受取り部材に前記マーキング粒子画像を輸送する工程と、
を含み、前記ホール遮断層は下記反応式に記載されたような架橋反応から誘導される、ポリマー（Ｉ）と式（ＩＩ）によって表されるオルガノシランの反応から誘導された架橋ポリマー（ＩＩＩ）を含み、
【化３】
0004063648.tif 000012
（式中、Ｅは電子輸送部分であり、Ａ、Ｂ、ＤおよびＦは、シリル官能基（ＳｉＺ3）、電子輸送部分（Ｅ）およびヒドロキシ官能基（ＯＨ）をポリマー主鎖に接続または結合する適切な二価結合を含むポリマー主鎖のセグメントを表し、Ｚは、塩化物、臭化物、ヨウ化物、シアノ、炭素原子数１〜５のアルコキシ、炭素原子２〜６のアシルオキシ、炭素原子数６〜１０のアリールオキシから成る群から選択され、ａ、ｂ、ｃおよびｄは反復モノマー単位のモル分率であり、ここでａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは１に等しい。Ｒは、アルキル、置換アルキル、アリールまたは置換アリールであり、その置換基はハロゲン、アルコキシ、アリールオキシおよびアミノである。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の二つがアルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシおよびハロゲンから成る群から独立して選択されるかぎり、アルキル、アリール、アルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシ、ハロゲン化物、シアノおよびアミノから成る群から独立して選択される。）
式中ａが０〜０．９５であり、ｂが０．００１〜０．５０であり、ｃが０〜０．５０であり、ｄが０．０１〜０．９５であり、式中Ａがアルキレン、アリーレン、アルコキシカルボニルアルキレンおよびアルコキシカルボニルアリーレンの二価結合の群から選択され、Ｂ、ＤおよびＦが、
【化４】
0004063648.tif 000013
（式中、Ｒ’およびＲ’’は独立して炭素原子数２〜２４の三価結合または二価結合である。）から成る群から選択される方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子写真用の画像形成部材および画像形成部材を用いた電子写真画像形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
静電的手段によって光導電性材料の画像形成面上に画像を形成し現像することは知られている。より一般的に電子写真として知られている一つの既知プロセスは、通常感光体と呼ばれる感光板の表面上に静電潜像を形成することを伴う。感光体自体は、その表面上に光導電性絶縁材料の層を含む導電性基板を含む。多くの場合、プレート表面が帯電すると基板からの光導電性層への電荷注入を妨げるために基板と光導電性層との間に薄いバリア層を用いることができる。電荷注入が可能にされるとすれば、これは得られる画像の品質に悪影響を及ぼすであろうからである。このプロセスは、最初に暗所において画像形成層の表面を均一に静電的に帯電させ、次に、この静電的に帯電した表面を活性化電磁放射線の画像状パターンに露光させることにより、画像形成部材の画像形成面上に静電潜像を形成させることを含む。画像形成層の受光領域は、こうして比較的導電性にされ、静電荷は、これらの照射された領域内で選択的に消滅する。光導電体が露光された後に、この画像保持面上の静電潜像は、典型的には、「トナー」として技術上知られている微細着色マーキング材料によって可視化される。このトナーは、静電荷を保持する画像保持面上の領域に主として引き付けられ、従って可視粉末画像を形成させる。静電潜像は、例えば、静電スキャニングシステムを用いて潜像を「読みとる」ことができ、または潜像を静電画像転写（ＴＥＳＩ）技術によって他の材料に転写でき、記憶できるような多くの他のやり方で用いてもよい。現像された画像は、読みとることができ、光導電体に恒久的に定着（ａｆｆｉｘ）させることができ、そこでは画像形成層は再使用されるべきではない。
【０００３】
商用「普通紙」複写システムにおいて、潜像は、典型的には、再使用可能な感光体の表面上に現像され、その後、一枚の紙に転写され、次にその紙に恒久的に定着されて原物体の恒久的複製を形成させる。その後、感光体の画像形成面は、一切の残留トナーを取り除かれ、同じ原物体または他の原物体の追加複製を画像形成面上で行うことが可能である。
【０００４】
【特許文献１】
米国特許第４，２７５，１３２号
【特許文献２】
米国特許第４，２５１，６１２号
【特許文献３】
米国特許第４，２６５，９９０号
【特許文献４】
米国特許第４，２５４，１９９号
【特許文献５】
米国特許第６，２０７，３３４号
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
種々の形式の感光体が電子写真複写機用に知られている。例えば、電荷キャリア発生機能および電荷キャリア輸送機能が別々の近接層によって行われる感光体が技術上知られている。電気絶縁高分子材料の上塗層を含む感光体も技術上知られている。こうしたいわゆる「上塗」感光体と合わせて、多くの画像形成法が提案されてきた。それでもやはり、電子写真の技術が進歩するにつれて、高まった標準性能のために、より多くの厳しい要求が搬送装置（ｃａｒｒｙｉｎｇ  ａｐｐａｒａｔｕｓ）に課され、新規画像形成法が発見され続けている。本願は、上塗りされた電子写真画像形成部材を用いる新規電子写真画像形成法に関する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の特徴は、画像形成部材および画像形成部材の電子写真画像形成法を提供することである。
【０００７】
本発明のもう一つの特徴は、電荷キャリア発生剤材料の層および電荷キャリア輸送材料の層を含む上塗された感光体を用いる画像形成部材を提供することである。
【０００８】
本発明のなおもう一つの特徴は、耐摩耗性上塗層を有する電子写真画像形成部材を提供することである。
【０００９】
本発明の別の特徴は、画像形成電位が電荷キャリア発生剤層および電荷キャリア輸送層のみを横切って設けられる電子写真画像形成部材を提供することである。
【００１０】
もう一つの特徴は、露出画像形成面を有するとともにエラストマーを含む弾性電気絶縁上塗層に存する。
【００１１】
【発明の実施の形態】
実施の形態１
本発明の態様は、支持基板、前記支持基板上の任意のホール遮断層、任意の接着剤層、電荷輸送層、電荷発生層、任意の電荷捕獲層、架橋シリコーンゴムおよび弾性電気絶縁上塗層を含む画像形成部材であって、前記ホール遮断層が、ポリマー（Ｉ）と式（ＩＩ）によって表されるオルガノシランの反応から誘導された架橋ポリマーを含む画像形成部材に関する。本発明のホール遮断層ポリマーである加水分解シランは、機構１に記載された架橋反応から誘導される（ＩＩＩ）によって概略的に表すことができ、
【化５】
0004063648.tif 000002
（式中、Ｅは電子輸送部分であり、Ａ、Ｂ、ＤおよびＦは、シリル官能基（ＳｉＺ3）、電子輸送部分（Ｅ）およびヒドロキシ官能基（ＯＨ）をポリマー主鎖に接続または結合する適切な二価結合を含むポリマー主鎖のセグメントを表し、Ｚは、塩化物、臭化物、ヨウ化物、シアノ、例えば、炭素原子数約１〜約５のアルコキシ、例えば、炭素原子約２〜約６のアシルオキシ、例えば、炭素原子数約６〜約１０のアリールオキシから成る群から選択され、ａ、ｂ、ｃおよびｄは反復モノマー単位のモル分率であり、ここでａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは約１に等しい。Ｒは、アルキル、置換アルキル、アリールまたは置換アリールであり、その置換基はハロゲン、アルコキシ、アリールオキシおよびアミノなどである。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の二つがアルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシおよびハロゲンから成る群から独立して選択されるかぎり、アルキル、アリール、アルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシ、ハロゲン化物、シアノおよびアミノから成る群から独立して選択される。）、式中ａが約０〜約０．９５であり、ｂが約０．００１〜約０．５０であり、ｃが約０〜約０．５０であり、ｄが約０．０１〜約０．９５であり、式中Ａがアルキレン、アリーレン、アルコキシカルボニルアルキレンおよびアルコキシカルボニルアリーレンなどの二価結合の群から選択され、Ｂ、ＤおよびＦが、例えば、
【化６】
0004063648.tif 000003
【化７】
0004063648.tif 000004
【化８】
0004063648.tif 000005
（式中、Ｒ’およびＲ’’は独立して炭素原子数約２〜約２４の三価結合または二価結合である。）
から成る群から選択される画像形成部材に関する。
【００１２】
実施の形態２
第２の態様において、本発明は、支持基板が炭素、グラファイトまたは金を含む電荷注入面を含み、支持基板厚さが約７５マイクロメートル〜約２７５マイクロメートルであり、支持基板が可撓性、シームレスまたは硬質である画像形成部材に関する。こうした基板は、プレート、円筒ドラム、スクロールまたはエンドレス可撓性ベルトを含む異なる構成の基板であることが可能である。
【００１３】
実施の形態３
本発明のもう一つの態様において、接着剤層が存在し、接着剤層は約０．００１〜約０．２マイクロメートルの厚さである。
【００１４】
実施の形態４
本発明のなおもう一つの態様において、電荷輸送層が存在し、電荷輸送層は式
【化９】
0004063648.tif 000006
（式中、Ｘはアルキルおよびハロゲンから成る群から選択される。）
のアリールアミンを含み、このアリールアミンは約１〜約１２個の炭素原子を含み、高度に絶縁性で透明の樹脂結合剤に分散されている。電荷輸送層は、約１０マイクロメートル〜約７５マイクロメートルの厚さであり、ヒドロキシガリウムフタロシアニンの光導電性粒子を含み、そして電荷輸送ポリマーは、ポリエーテルカーボネート（ＰＥＣ）またはポリセバコイル−ＴＢＤ（ＰＳＥＢ）を含む。
【００１５】
実施の形態５
本発明の別の態様において、電荷発生層は、約０．２マイクロメートル〜約０．７マイクロメートルの厚さであることが可能であり、膜形成性結合剤に分散された光導電性粒子を含む。
【００１６】
実施の形態６
本発明のさらになおもう一つの態様は、架橋の前にジメチルポリシロキサン水解物である架橋シリコーンに関する。活性化放射線に対して実質的に透明で電気的に絶縁性で、約５マイクロメートル〜約１０マイクロメートルの厚さの上塗層が架橋シリコーン上にあることが可能である。
【００１７】
運転中、実施形態において、部材は最初に第１の極性の静電荷で帯電され、次に部材の電気絶縁表面上に存在する電荷を実質的に中和するために第１の極性とは逆の極性の静電荷で帯電され、活性化電磁放射線の画像状パターンに露光され、それによって静電潜像が形成される。静電潜像は可視画像を形成させるためにトナーで現像してよく、可視画像は受取り部材に転写してよい。その後、画像形成部材は、消去工程および洗浄工程を行った後に追加の複製を形成するために再使用してよい。
【００１８】
本発明および本発明の別の特徴のより良い理解のために、以下の図面について述べる。
【００１９】
図１は、基板１、電荷注入面２、ホール遮断層３、任意の接着剤層４、電荷輸送層５、電荷発生層６、任意の捕獲層７、架橋シリコーンゴム層８および上塗層９を含む多層画像形成部材の断面図である。絶縁性透明樹脂結合剤１０は、電荷輸送層および電荷発生層全体を通して分散されている。
【００２０】
コロトロンが上塗層９の上に負電荷を置き、正電荷が注入接点に置かれる場合、負に帯電する。これらの電荷は、図２に示されたように輸送層に注入され、発生剤層６と上塗層９との間の界面に移動する。
【００２１】
正電荷が電荷発生層６の最上面上に置かれ、負電荷を中和する場合、正に帯電する。注入接点に置かれた負電荷は所定の位置に置かれたままである。
【００２２】
上の正味効果は、逆アクティブマトリックスアクティブ輸送構造の変化を可能にする。これは、画像状に露光され、現像され、ここで順応性上塗の特性は、同時に液浸漬耐現像性でありつつ紙への直接画像転写を可能にする。
【００２３】
図２は、接着剤層４も電荷捕獲層７も含んでいない、もう一つの特定の多層画像形成部材の断面図である。
【００２４】
本発明の特定の実施形態は、支持基板、ホール遮断層、接着剤層、電荷輸送層、光発生層、任意の電荷捕獲層、架橋シリコーンゴムおよび弾性電気絶縁上塗層をこの順序で含む画像形成部材、支持基板が電荷注入面を有する画像形成部材、支持基板が約７５〜約２７５マイクロメートルの厚さを有する画像形成部材、電荷注入面が炭素、グラファイトまたは金を含有する画像形成部材、ホール遮断層がヒドロキシ官能化ポリマーおよび光発生顔料で含浸された架橋ポリシロキサンポリマー網目を含む画像形成部材、ホール遮断層が任意に例えばオルガノアミン例えばトリエチルアミンの適するシラン架橋触媒またはカルボン酸例えば酢酸の存在下で以下の式（ＩＶ）によって表されるオルガノシラン試薬を架橋することから生成する架橋ポリシロキサン網目中で絡み合うヒドロキシ官能化ポリマーを含有する画像形成部材に関する。
【化１０】
0004063648.tif 000007
式中、Ｒは、例えば炭素原子数約１〜約２０のアルキル、または例えば炭素原子数約６〜約３０のアリールであり、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立して、例えば炭素原子数約１〜約１２の例えばアルコキシ、例えば炭素原子数約６〜約２４のアリールオキシ、例えば炭素原子数約２〜約２０のアシルオキシ、ハロゲン化物、シアノおよびアミノなどを含む群から選択される。本発明の特定の実施形態は、さらに、ホール遮断層が約０．００１〜約５マイクロメートルの厚さまたは約０．１〜約５マイクロメートルの厚さである画像形成部材、ホール遮断層が約７０，０００のＭwおよび約３５，０００のＭnを有するポリエステルを含有する画像形成部材、接着剤層が例えば約２０，０００〜約１００，０００、より特に約３５，０００のＭwおよび約１０，０００〜約５０，０００、より特に約１４，０００のＭnを有するポリエステルを含有する画像形成部材、接着剤層が約０．００１〜約０．２マイクロメートルの厚さである画像形成部材、輸送層が約１０〜約７５マイクロメートルの厚さである画像形成部材、電荷輸送層がアリールアミン分子を含む画像形成部材、アリールアミンが以下の式であり、アリールアミンが高度に絶縁性で透明の樹脂結合剤に分散されている画像形成部材に関する。
【化１１】
0004063648.tif 000008
Ｘは、アルキルおよびハロゲンから成る群から選択される。本発明の特定の実施形態は、さらに、アリールアミンアルキルが１〜約１２個の炭素原子を含む画像形成部材、アリールアミンアルキルが１〜約５個の炭素原子を含む画像形成部材、アリールアミンアルキルがメチルであり、ハロゲンが塩化物であり、樹脂結合剤がポリカーボネートおよびポリスチレンから成る群から選択される画像形成部材、光発生剤層が約０．２〜約０．７マイクロメートルの厚さである画像形成部材、光発生層が約１０重量％〜約９５重量％の量で樹脂結合剤に分散された光発生顔料を含有する画像形成部材、樹脂結合剤がポリエステル、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリスチレン−ｂ−ポリビニルピリジンおよびポリビニルホルマールから成る群から選択される画像形成部材、アリールアミンがＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンである画像形成部材、光発生層が金属フタロシアニン、無金属フタロシアニンまたはそれらの混合物を含有する画像形成部材、光発生層がチタニルフタロシアニン、ベンズイミダゾールペリレンまたはビス（ベンズイミダゾール）（ＢＺＰ）などのペリレン、あるいはヒドロキシガリウムフタロシアニンを含有する画像形成部材、光発生層がタイプＶヒドロキシガリウムフタロシアニンを含有する画像形成部材、画像形成部材上に静電潜像を発生させる工程、既知の乾燥トナーで潜像を現像する工程、現像された静電画像を適する基板に輸送する工程を含む画像形成の方法、電荷捕獲層がポリビニルブチラール、オルガノシラン、エポキシ樹脂、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、シリコーンまたはポリシロキサンを含んでよい画像形成部材、架橋シリコーンが約６Ｊ〜約９Ｊの架橋を含む画像形成部材、および弾性電気絶縁上塗層が約５マイクロメートル〜約１０マイクロメートルの間の厚さを有する画像形成部材に関する。
【００２５】
本発明の画像形成部材のために選択された基板層の説明例は、不透明または実質的に透明であることが可能であり、必要な機械的特性を有する適するいかなる材料も含んでよい。従って、基板は、無機材料または市販ポリマーであるＭＹＬＡＲ（登録商標）、チタンを含有するＭＹＬＡＲ（登録商標）などの有機材料を含む絶縁材料の層、層上に配列された酸化インジウム錫またはアルミニウムなどの、半導電性表面層を有する有機材料または無機材料、あるいはアルミニウム、クロム、ニッケルまたは真鍮などを含む導電性材料の層を含んでよい。基板は、可撓性、シームレスまたは硬質であってよく、そして例えば、プレート、円筒ドラム、スクロールおよびエンドレス可撓性ベルトなどのかなり多数の異なる構成を有してよい。一実施形態において、基板は、シームレス可撓性ベルトの形である。一部の状況において、特に基板が可撓性有機高分子材料である時、例えば、ＭＡＫＲＯＬＯＮ（登録商標）として市販されているポリカーボネート材料などのカール防止層を基板の裏面上に被覆することが望ましい場合がある。
【００２６】
基板層の厚さは、経済的配慮を含む多くの要素に応じて決まり、従って、この層は、例えば３，０００マイクロメートルを超える実質的厚さであってよく、または最小厚さの層であってよい。実施形態において、この層の厚さは、約７５マイクロメートル〜約２７５マイクロメートルであることが可能である。
【００２７】
正に帯電した感光体のための任意の電子遮断層は、例えば、感光体の画像形成面からホールが導電性層に向けて移動することを可能にする。負に帯電した感光体に関しては、導電性層から反対側の光導電性層へのホール注入を妨げるバリアを形成することが可能な適するいかなるホール遮断層も用いてよい。ホール遮断層は、ポリビニルブチラール、エポキシ樹脂、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリアミドおよびポリウレタンなどのポリマーを含んでよく、あるいは米国特許第４，３３８，３８７号、第４，２８６，０３３号および第４，２９１，１１０号に開示されたようなトリメトキシシリルプロピレンジアミン、加水分解トリメトキシシリルプロピルエチレンジアミン、Ｎ−ベータ−（アミノエチル）ガンマ−アミノ−プロピルトリメトキシシラン、イソプロピル４−アミノベンゼンスルホニル、ジ（ドデシルベンゼンスルホニル）チタネート、イソプロピルジ（４−アミノベンゾイル）イソステアロイルチタネート、イソプロピルトリ（Ｎ−エチルアミノ−エチルアミノ）チタネート、イソプロピルトリアントラニルチタネート、イソプロピルトリ（Ｎ，Ｎ−ジメチル−エチルアミノ）チタネート、チタニウム−４−アミノベンゼンスルホネートオキシアセテート、チタニウム４−アミノベンゾエートイソステアレートオキシアセテート、［Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）4］ＣＨ3Ｓｉ（ＯＣＨ3）2、（ガンマ−アミノブチル）メチルジエトキシシランおよび［Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）3］ＣＨ3Ｓｉ（ＯＣＨ3）2（ガンマ−アミノプロピル）メチルジエトキシシランなどの窒素含有シロキサン化合物または窒素含有チタニウム化合物であってよい。これらの特許の各々の開示は本願に全体的に引用して援用する。特定のホール遮断層は、加水分解シランまたは加水分解シランの混合物と金属接地平面層の酸化面との反応生成物から生成される。酸化面は、本質的に、沈着後に空気にさらされる時に大部分の金属接地平面層の外面上に生じる。この組み合わせは、低い相対湿度（ＲＨ）での電気的安定性を強化する。
【００２８】
画像形成部材は、実施形態において、金属導電性層を金属酸化物層上に沈着させる工程と、約４〜約１０のｐＨで加水分解アミノシランの水溶液を被覆する工程と、シロキサンフィルムを形成させるために反応生成物層を乾燥する工程と、接着剤層を塗布する工程と、その後光発生層とホール輸送層などの電気的動作層を接着剤層に塗布する工程とによって作製される。遮断層は連続であるのがよく、約０．５マイクロメートル未満の厚さを有するのがよい。より厚い厚さは望ましくないほど高い残留電圧の原因になりうるからである。約０．００５マイクロメートル〜約０．３マイクロメートルのホール遮断層を規定することが可能である。露光後の電荷中和が促進され、最適電気性能が達成されるからである。約０．０３マイクロメートル〜約０．０６マイクロメートルの厚さは電気的挙動を最適化する。遮断層は、噴霧、浸漬被覆、引張棒被覆、グラビア被覆、シルクスクリーニング、エアナイフ被覆、リバースロール被覆、真空蒸着および化学処理などの適するいかなる従来技術によっても塗布してよい。薄い層を得るに際して便利のために、遮断層は、より特に薄い溶液の形で塗布され、溶媒は、真空および加熱によるなどの従来の技術によって、被膜の沈着後に除去される。一般に、約０．０５：１００〜約０．５：１００の間の遮断層材料と溶媒の重量比は噴霧被覆のために満足である。
【００２９】
任意に、遮断層と隣接電荷発生・光発生層との間の中間層は密着を促進するために望ましい場合がある。例えば、接着剤層を用いてよい。こうした層を用いる場合、こうした層は、より特に、約０．００１マイクロメートル〜約０．２マイクロメートルの乾燥厚さを有する。典型的な接着剤層は、ポリエステルであるｄｕ  Ｐｏｎｔ４９，０００樹脂（デュポン・ヌムール（Ｅ．Ｉ．ｄｕＰｏｎｔ  ｄｅ  Ｎｅｍｏｕｒｓ  ＆  Ｃｏ．）製）、Ｖｉｔｅｌ−ＰＥ１００（グッドイヤーラバーアンドタイヤ（Ｇｏｏｄｙｅａｒ  Ｒｕｂｂｅｒ  ＆  Ｃｏ．）製）、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリウレタンおよびポリメチルメタクリレートなどの膜形成性ポリマーを含む。任意に、この層は、例えば、本発明の実施形態において一層望ましい電気的特性および光学的特性をもたらすために酸化亜鉛、二酸化チタン、窒化珪素およびカーボンブラックなどの導電性粒子および非導電性粒子を例えば約１から約１０重量％までの適する有効量で含んでよい。
【００３０】
一般に約５マイクロメートル〜約７５マイクロメートルの厚さ、より特に約１０マイクロメートル〜約４０マイクロメートルの厚さである、電荷輸送層、特にホール輸送層のために選択されるアリールアミンは、ポリマー結合剤に分散された以下の式の分子を含む。
【化１２】
0004063648.tif 000009
式中、Ｘは、アルキル基、ハロゲンまたはそれらの混合基であり、特に置換基はＣｌおよびＣＨ3から成る群から選択される。
【００３１】
特定のアリールアミンの例は、アルキルがメチル、エチル、プロピル、ブチルおよびヘキシルなどから成る群から選択されるＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（アルキルフェニル）−１，１−ビフェニル−４，４’−ジアミン、およびハロ置換基がより特にクロロ置換基であるＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（ハロフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンである。他の既知の電荷輸送層分子は、例えば、米国特許第４，９２１，７７３号および第４，４６４，４５０号を参照して選択することが可能である。それらの特許の開示は本願に全体的に引用して援用する。
【００３２】
輸送層のために選択されたポリマー結合剤材料の例には、米国特許第３，１２１，００６号に記載されたものなどの成分が挙げられる。その特許の開示は本願に全体的に引用して援用する。ポリマー結合剤材料の特定の例には、ポリカーボネート、アクリレートポリマー、ビニルポリマー、セルロースポリマー、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリウレタンおよびエポキシ、ならびにそれらのブロックコポリマー、ランダムコポリマーまたは交互コポリマーが挙げられる。実施形態における好ましい電気不活性結合剤は、約２０，０００〜約１００，０００の重量平均分子量Ｍwを有するとともに約５０，０００〜約１００，０００の重量平均分子量Ｍwが特に好ましいポリカーボネート樹脂を含有する。輸送層は、一般には約１０〜約７５重量％の電荷輸送材料、より好ましくは約３５％〜約５０％のこの材料を含有する。
【００３３】
光発生層は、フタロシアニン、セレン、ペリレン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、特にタイプＶヒドロキシガリウムフタロシアニンなどの多くの成分を含み、例えば、約５０重量％のタイプＶヒドロキシガリウムフタロシアニンおよび約５０重量％のポリスチレン／ポリビニルピリジンのような樹脂結合剤を含有する。光発生層は、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、ペリレン、特にビス（ベンズイミダゾール）ペリレン（ＢＺＰ）およびチタニルフタロシアニンなど、より特にバナジルフタロシアニン、タイプＶヒドロキシガリウムフタロシアニンなどの既知の光発生顔料、およびセレン、特に三方晶セレンなどの無機成分を含有することが可能である。光発生顔料は、電荷輸送層のために選択された樹脂結合剤に似た樹脂結合剤に分散させることが可能であるか、あるいは別法として樹脂結合剤を必要としない。一般に、光発生剤層の厚さは、他の層の厚さおよび光発生層に含まれた光発生剤材料の量を含む多くの要素に応じて決まる。従って、この層は、例えば、光発生剤組成物が約３０〜約７５体積％の量で存在する時、例えば、約０．０５マイクロメートル〜約１０マイクロメートル、より特に約０．３マイクロメートル〜約０．７マイクロメートルの厚さであることが可能である。実施形態におけるこの層の最大厚さは、感光性、電気特性および機械的配慮などの要素に応じて主として決まる。例えば、約１〜約５０、より特に約１〜約１０重量％の適する種々の量で存在する光発生層結合剤樹脂は、ポリ（ビニルブチラール）、ポリ（ビニルカルバゾール）、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリ（塩化ビニル）、ポリアクリレートおよびメタクリレート、塩化ビニルと酢酸ビニルのコポリマー、フェノキシ樹脂、ポリウレタン、ポリ（ビニルアルコール）、ポリアクリロニトリルおよびポリスチレンなどの多くの既知ポリマーから選択してよい。デバイスの前に被覆された他の層を実質的に乱さないし、悪影響を及ぼさない被覆溶媒を選択することが好ましい。光発生剤層用の被覆溶媒として用いるために選択できる溶媒の例は、ケトン、アルコール、芳香族炭化水素、ハロゲン化脂肪族炭化水素、エーテル、アミン、アミドおよびエステルなどである。特定の例は、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、ブタノール、アミルアルコール、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロエチレン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、酢酸ブチル、酢酸エチルおよび酢酸メトキシエチルなどである。
【００３４】
本発明の実施形態における光発生層の被覆は、例えば約４０℃〜約１５０℃で約１５〜約９０分にわたり乾燥させた後に光発生剤層の最終乾燥厚さが例えば約０．０１〜約３０マイクロメートル、より特に約０．１〜約１５マイクロメートルであるように噴霧法、浸漬法またはワイヤ棒法で達成することが可能である。
【００３５】
光発生剤層のために選択できる高分子結合剤材料の説明例は本願に指示された通りであり、米国特許第３，１２１，００６号において開示されたポリマーを含む。その特許の開示は本願に全体的に引用して援用する。光発生剤層中で用いられるポリマー結合剤の有効量は、光発生剤層の一般には約０〜約９５重量％、より特に約２５〜約６０重量％の範囲である。
【００３６】
適する電荷遮断層は導電性層と光発生層との間に挿入してよい。典型的な遮断層は、ポリビニルブチラール、オルガノシラン、エポキシ樹脂、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタンおよびシリコーンなどを含む。電荷遮断層は、好ましくは約２０オングストローム〜約２，０００オングストロームの間の乾燥厚さを有する。
【００３７】
米国特許第４，４６４，４５０号に記載されたシラン反応生成物は、伸びたサイクル安定性を有する遮断層材料の例である。米国特許第４，４６４，４５０号の開示全体は本願に引用して援用する。典型的な加水分解性シランには、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリス（エチルエトキシ）シラン、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルジエチルメチルシラン、（Ｎ，Ｎ’−ジメチル３−アミノ）プロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−メチルアミノプロピルトリエトキシシラン、メチル［２−（３−トリメトキシシリルプロピルアミノ）エチルアミノ］−３−プロピオネート、（Ｎ，Ｎ’ジメチル３−アミノ）プロピルトリエトキシシラン、Ｎ，Ｎジメチルアミノフェニルトリエトキシシラン、トリメトキシシリルプロピルジエチレントリアミンおよびそれらの混合物が挙げられる。
【００３８】
実施形態において、加水分解シランと金属酸化物層の反応生成物は、約２０オングストローム〜約２，０００オングストロームの間の厚さを有する遮断層を形成する。
【００３９】
光導電性画像形成部材は、任意に、導電性基板と光発生層との間に位置する電荷遮断層を含む。この層は、酸化アルミニウムなどの金属酸化物、またはシランおよびナイロンなどの材料を含んでよい。適する材料の別の例には、ポリイソブチルメタクリレート、スチレン／ｎ−ブチルメタクリレートなどのスチレンとアクリレートのコポリマー、スチレンとビニルトルエンのコポリマー、ポリカーボネート、アルキル置換ポリスチレン、スチレン−オレフィンコポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリテルペン、シリコーンエラストマー、それらの混合物およびそれらのコポリマーなどが挙げられる。この層の目的は、帯電中および帯電後に基板からの電荷注入を防ぐことである。この層は、約５０オングストローム〜約１０マイクロメートル、好ましくは約２マイクロメートル以下の厚さである。
【００４０】
絶縁層は、デュポン・ヌムール（Ｅ．Ｉ．ｄｕＰｏｎｔ  ｄｅＮｅｍｏｕｒｓａｎｄ  Ｃｏｍｐａｎｙ）製のメトキシ硬化ＲＴＶ（登録商標）に似た高度に架橋したシリコーンゴムを含む。架橋シリコーン層は、隆起サイズ、電磁界パターンから生じる変調伝達関数および材料の誘電特性に基づいて約５マイクロメートル〜約１０マイクロメートルの厚さであってよい。
【００４１】
上塗層は、電気絶縁性または若干導電性である有機ポリマーまたは無機ポリマーを含んでよい。上塗層は、約２マイクロメートル〜約８マイクロメートル、より特に約３マイクロメートル〜約６マイクロメートル、または約３マイクロメートル〜約５マイクロメートルの厚さであってよい。
【００４２】
【実施例】
実施例
電荷遮断層を有する例証的な光応答性画像形成デバイスを次の通り作製した。
【００４３】
テトラヒドロフラン／エタノール／水の８６．１／１０．４／３．５（重量％）混合物９．２ｇ中の３−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３２ｇの溶液からホール遮断層を厚さ７５マイクロメートルのチタン処理ＭＹＬＡＲ（登録商標）基板上に引張棒技術によって被覆した。１３５℃で１５分にわたり乾燥した後、式（ＩＩＩ）によって包含された厚さ約０．５〜０．７マイクロメートルのホール遮断層を得た。ジクロロメタン中のＤｕＰｏｎｔ  ４９Ｋ（４９，０００）ポリエステル２重量％の溶液から作製された厚さ０．０５マイクロメートルの接着剤層を遮断層の上に上塗りした。その後、トルエン２０ｇ中のヒドロキシガリウムフタロシアニンタイプＶ（０．４６ｇ）およびポリスチレン−ｂ−ポリビニルピリジンブロックコポリマー結合剤（０．４８ｇ）の分散液から０．２マイクロメートルの光発生層を接着剤層の上に被覆し、続いて１００℃で１０分にわたり乾燥した。その後、ジクロロメタン４０ｇ中のＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（２．６４ｇ）およびポリカーボネート（３．５ｇ）の溶液から２５マイクロメートルの電荷輸送層（ＣＴＬ）を光発生層の上に被覆した。
【００４４】
遮断層を用いずに似たやり方で対照デバイスも作製した。本発明を実施例に関して記載してきたけれども、それらの実施形態に限定する積もりではなく、むしろ当業者は、均等物、実質的な均等物および類似の均等物などを含む変形および修正を本発明の精神および請求の範囲内である実施形態において行うことができることを認めるであろう。
【図面の簡単な説明】
【図１】  基板１、電荷注入面２、ホール遮断層３、任意の接着剤層４、電荷輸送層５、電荷発生層６、任意の捕獲層７、架橋シリコーンゴム層８および上塗層９を含む多層画像形成部材の断面図である。
【図２】  接着剤層４も電荷捕獲層７も含んでいない、もう一つの特定の多層画像形成部材の断面図である。
【符号の説明】
１  基板、２  電荷注入面、３  ホール遮断層、４  接着剤層、５  電荷輸送層、６  電荷発生層、７  捕獲層（任意）、８  架橋シリコーンゴム、９  上塗層、１０  絶縁性透明樹脂結合剤。
【図１】
0004063648.tif 000014
【図２】
0004063648.tif 000015