(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）Ｆｅ及びＳｉをそれぞれ６〜６０ｐｐｍ、（２）Ｃｕを１５〜７０ｐｐｍ、（３）Ｎｉを０．５〜５０ｐｐｍ及び（４）Ｎｉ含有量に対して１〜５０重量％のＰｂを含有し、（５）残部がＡｌ及び不可避不純物からなる電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔。
【請求項２】
箔表面から深さ０．１μｍまでの表層部分におけるＰｂ含有量が４０〜２０００ｐｐｍである請求項１記載の電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔に関する。なお、本発明において「ｐｐｍ」とあるのは「重量ｐｐｍ」を示す。
【０００２】
【従来技術】
一般に、電解コンデンサの陽極用アルミニウム箔としては、Ｆｅ及びＳｉの含有量を極力抑え、必要に応じて少量のＣｕを添加した純度９９．９８％以上の高純度アルミニウム箔が使用されている。電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔では、コンデンサとしての静電容量がその表面積に比例することから、塩酸等の酸性溶液中で電気化学的にエッチング処理することによって有効表面積を拡大させて静電容量の増大が図られている。
【０００３】
近年、電子機器の小型化に伴い、コンデンサについても同様に小型化が要求されている。小型化されたコンデンサに必要とされる電極用アルミニウム箔は、単位面積当たりの静電容量、すなわちエッチング後の表面拡大率である拡面率が高いことが必要である。それと同時に、エッチングされたアルミニウム箔（エッチド箔）を小径のコンデンサ筒に巻き込む際、巻き込み径を小さくしても折損しないような高い機械的強度がエッチド箔に要求される。
【０００４】
このような要求に対し、従来では、鉄、銅、銀、亜鉛、カドミウム、ガリウム、インジウム、錫、ニッケル等を添加した電解コンデンサ陽極用高純度アルミニウム箔等が開発されている。これらのアルミニウム箔は、エッチング液として塩酸水溶液を用いる場合には優れた箔強度と静電容量を有するエッチド箔を得ることができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、これらの合金箔では、エッチング液が塩酸及び硫酸を含む混合水溶液である場合、塩酸水溶液を用いた場合と同様の効果を得ることができない。最近では、目的とするエッチド箔のタイプに応じて、エッチング液として上記混合水溶液も多用されている。このため、塩酸及び硫酸を含む混合水溶液でエッチングしても優れた箔強度及び静電容量が得られるアルミニウム合金箔の開発が切望されている。
【０００６】
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、塩酸及び硫酸を含む混合水溶液でエッチングすることにより優れた静電容量と箔強度が得られるアルミニウム合金箔を提供することを主な目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記従来技術の問題に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、特定の組成からなるアルミニウム合金箔が上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
すなわち、本発明は、（１）Ｆｅ及びＳｉをそれぞれ６〜６０ｐｐｍ、（２）Ｃｕを１５〜７０ｐｐｍ、（３）Ｎｉを０．５〜５０ｐｐｍ及び（４）Ｎｉ含有量に対して１〜５０重量％のＰｂを含有し、（５）残部がＡｌ及び不可避不純物からなる電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔に係るものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明の電解コンデンサ用陽極アルミニウム合金箔は、（１）Ｆｅ及びＳｉをそれぞれ６〜６０ｐｐｍ、（２）Ｃｕを１５〜７０ｐｐｍ、（３）Ｎｉを０．５〜５０ｐｐｍ及び（４）Ｎｉ含有量に対して１〜５０重量％のＰｂを含有し、（５）残部がＡｌ及び不可避不純物からなる。以下、本発明アルミニウム合金箔の各成分の含有量及びそれらの主な作用について説明する。
【００１０】
（１）Ｆｅ及びＳｉ
Ｆｅ及びＳｉの含有量は、通常６〜６０ｐｐｍ程度、好ましくは１０〜３５ｐｐｍとする。各成分の含有量が６ｐｐｍ未満の場合は結晶粒の粗大化によるエッチド箔の強度低下及び静電容量のバラツキが生じやすい。また、各含有量が６０ｐｐｍを超える場合はエッチングの際の腐食開始点となる金属間化合物が多くなり、表面積の増加に寄与しない過剰な溶解が増加して静電容量の低下を招く。
【００１１】
（２）Ｃｕ
Ｃｕの含有量は、通常１５〜７０ｐｐｍ程度、好ましくは２０〜６０ｐｐｍとする。Ｃｕは、主としてエッチング時の溶解性を向上させ、静電容量の向上に寄与する。その含有量が１５ｐｐｍ未満の場合は上記の効果が十分に得られない。各含有量が７０ｐｐｍを超える場合は過剰な溶解による静電容量の低下を招く。
【００１２】
（３）Ｎｉ
Ｎｉの含有量は、通常０．５〜５０ｐｐｍ程度とし、好ましくは１〜２０ｐｐｍとする。Ｎｉは、主としてエッチングピット数を増加させ、静電容量の向上に寄与する。その含有量が０．５ｐｐｍ未満の場合は上記の効果が十分に得られない。含有量が５０ｐｐｍを超える場合は過剰な溶解による静電容量及びエッチド箔強度の低下を招く。
【００１３】
（４）Ｐｂ
Ｐｂは、主としてエッチング時におけるＮｉによる溶解量を制御する働きをもつ。すなわち、Ｎｉはエッチング時における溶解量を高める働きをもつが、Ｐｂがこの働きを制御する。従って、Ｐｂの含有量は、Ｎｉの含有量に応じて適宜設定することができ、通常はＮｉ含有量に対して１〜５０重量％程度とすれば良い。Ｐｂの含有量が１重量％未満の場合は上記の効果が十分に得られない。その含有量が５０重量％を超える場合は表面溶解性が大きくなり、静電容量及びエッチド箔強度の低下を招く。
【００１４】
また、Ｐｂは、上記含有量の範囲内において、箔表面から０．１μｍまでの表層部分でのＰｂ含有量が４０〜２０００ｐｐｍであることが望ましい。この範囲において、Ｐｂがより効果的に作用する。
【００１５】
（５）残部
残部はＡｌと不可避不純物からなる。本発明のアルミニウム合金箔におけるアルミニウム純度は、電解コンデンサ陽極用として使える範囲内であれば特に制限されない。また、不可避不純物としては、例えばＭｇ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｖ、Ｇａ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｂ等が含まれていても良い。
【００１６】
本発明のアルミニウム合金箔は、公知の製造方法に従って製造すれば良い。例えば、まず高純度アルミニウムに所定の成分を添加してアルミニウム合金スラブを製造し、このスラブを通常のソーキング、熱間圧延、冷間圧延等の処理を行い、所定の箔厚さとした後、最終焼鈍を行えば良い。各工程における操作条件も常法に従えば良い。
【００１７】
本発明のアルミニウム合金箔は、酸性水溶液を用いる公知のエッチング方法に従ってエッチングすれば良い。この場合、エッチング液も、塩酸、硝酸、リン酸、硫酸等の酸性水溶液であれば特に制限されないが、この中でも塩酸と硫酸を含む混合水溶液を用いる場合に特に優れた効果が得られる。また、本発明のアルミニウム合金箔は、芯残りタイプ、貫通タイプ等のいずれのタイプのエッチド箔の製造にも適している。
【００１８】
具体的なエッチング方法としては、例えば塩酸２〜８重量％と硫酸２〜３５重量％を主成分として含有する混合水溶液中において、液温６０〜９０℃で電流密度０．１〜０．５Ａ／ｃｍ2程度で電解エッチングを行えば良い。エッチング後、得られたエッチド箔を公知の方法に従って化成処理すれば良い。
【００１９】
【発明の効果】
本発明のアルミニウム合金箔は、Ｎｉ及びＰｂを含む特定の合金組成から構成されているので、特に塩酸及び硫酸を含む混合水溶液でエッチングした場合、優れた静電容量と箔強度を得ることができる。従って、本発明アルミニウム合金箔は、電解コンデンサ陽極用として有効に利用することができる。
【００２０】
【実施例】
以下、実施例及び比較例を示し、本発明の特徴とするところを明確にする。
【００２１】
実施例１
純度９９．９重量％以上の高純度アルミニウムに対して種々の成分を添加し、表１に示す合金組成（ｐｐｍ）となるように調整されたアルミニウム合金スラブをそれぞれ製造した。各スラブを通常のソーキング、熱間圧延及び冷間圧延に供し、厚さ１００μｍの箔とした後、真空中で５２０℃×５時間の条件下で焼鈍した。次いで、５重量％塩酸＋３重量％硫酸を含む混合水溶液（液温７５℃）中において、電流密度０．３Ａ／ｃｍ2にて直流エッチングを行った。エッチング前後の箔の重量差によりエッチング時の溶解減量を求めた後、５重量％のホウ酸アンモニウム水溶液（液温９０℃）中で３８０Ｖの電圧を２０分間印加して化成処理を行い、ＬＣＲメーターにて静電容量を測定した。また、エッチド箔の強度は、化成処理後のエッチド箔を１０ｍｍ幅に切断し、その引張強度を測定した。
【００２２】
試料Ｎｏ．１を標準（１００％）として、各試料における溶解減量、静電容量及び強度の比較値を求めた。その結果を表１に示す。なお、静電容量は１０１％が合格基準であり、引張強度は９５％以上が合格基準である。また、表１には、本発明範囲外のものを比較例として示す。
【００２３】
【表１】
0004088726.tif 000002
【００２４】
表１の結果より、本発明の合金箔は、塩酸及び硫酸を含む混合水溶液でエッチングすることにより優れた静電容量と箔強度をもつエッチド箔が得られることがわかる。