(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）
【化１】
0004169450.tif 000182
［上記式中、
Ｒ1は、一般式
【化２】
0004169450.tif 000183
又は一般式
【化３】
0004169450.tif 000184
（式中、
Ｒ4は、置換基群αから選択される基で１乃至５個置換されたフェニル基又は置換基群αから選択される基で１乃至４個置換されてもよいピリジル基を示し、
Ｒ5は、水素原子又は置換基群αから選択される基を示し、
Ｒ6は、水素原子、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、置換基群βから選択される基で１乃至３個置換されてもよいＣ6−Ｃ10アリール基又は置換基群βから選択される基で１乃至３個置換されてもよいＣ7−Ｃ16アラルキル基を示し、
Ｄは、酸素原子を示し、
Ｅは、ＣＨを有する基を示す。）
を有する基を示し、
Ｒ2は、水素原子又は置換基群αから選択される基を示し、
Ｒ3は、式
【化４】
0004169450.tif 000185
を有する基を示し、
Ａは、Ｃ1−Ｃ6アルキレン基を示し、
Ｂは、酸素原子又は硫黄原子を示す。］
を有する置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
＜置換基群α＞
ハロゲン原子；ヒドロキシ基；Ｃ1−Ｃ6アルキル基；ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル基；Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基；Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ基；置換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノ基；置換基群βから選択される基で１乃至３個置換されてもよい、Ｃ3−Ｃ10シクロアルキル、Ｃ6−Ｃ10アリール、Ｃ7−Ｃ16アラルキル、Ｃ6−Ｃ10アリールオキシ、Ｃ7−Ｃ16アラルキルオキシ及びＣ6−Ｃ10アリールチオ基；Ｃ1−Ｃ7脂肪族アシルオキシ基；窒素原子を含有する４乃至７員飽和複素環基；窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環基；ニトロ基；並びにシアノ基。
＜置換基群β＞
ハロゲン原子、ヒドロキシ基、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基、置換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノ基、Ｃ6−Ｃ10アリール基、及びニトロ基。
＜置換基群γ＞
Ｃ1−Ｃ10アルキル基、置換されてもよい、Ｃ6−Ｃ10アリール及びＣ7−Ｃ16アラルキル基並びに、アシル基（該アシル基は、Ｃ1−Ｃ7脂肪族アシル基並びに置換されてもよい、Ｃ7−Ｃ11芳香族アシル、Ｃ８−Ｃ12芳香脂肪族アシル、Ｃ4−Ｃ11シクロアルキルカルボニル及び窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環カルボニル基を示す。）。
【請求項２】
請求項１において、Ｒ1が、一般式（ＩＩ）を有する基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項３】
請求項１又は２において、Ｒ2及びＲ5が、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基、Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ基又は置換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノ基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
＜置換基群γ＞
Ｃ1−Ｃ10アルキル基、置換されてもよい、Ｃ6−Ｃ10アリール及びＣ7−Ｃ16アラルキル基並びに、アシル基（該アシル基は、Ｃ1−Ｃ7脂肪族アシル基並びに置換されてもよい、Ｃ7−Ｃ11芳香族アシル、Ｃ８−Ｃ12芳香脂肪族アシル、Ｃ4−Ｃ11シクロアルキルカルボニル及び窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環カルボニル基を示す。）。
【請求項４】
請求項１又は２において、Ｒ2及びＲ5が、同一又は異なって、水素原子、弗素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、メチル基、エチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルチオ基又はアミノ基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項５】
請求項１又は２において、Ｒ2及びＲ5が、水素原子である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項６】
請求項１乃至５より選択されるいずれか１項において、Ｒ3が、式（ＩＶ−１）乃至（ＩＶ−３）を有する基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項７】
請求項１乃至５より選択されるいずれか１項において、Ｒ3が、式（ＩＶ−２）又は（ＩＶ−３）を有する基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項８】
請求項１乃至５より選択されるいずれか１項において、Ｒ3が、式（ＩＶ−２）を有する基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項９】
請求項１乃至８より選択されるいずれか１項において、Ｒ4が、下記置換基で１個置換されてもよいピリジル基（該置換基は、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ、置換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノ又はニトロである。）である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
＜置換基群γ＞
Ｃ1−Ｃ10アルキル基、置換されてもよい、Ｃ6−Ｃ10アリール及びＣ7−Ｃ16アラルキル基並びに、アシル基（該アシル基は、Ｃ1−Ｃ7脂肪族アシル基並びに置換されてもよい、Ｃ7−Ｃ11芳香族アシル、Ｃ８−Ｃ12芳香脂肪族アシル、Ｃ4−Ｃ11シクロアルキルカルボニル及び窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環カルボニル基を示す。）。
【請求項１０】
請求項１乃至８より選択されるいずれか１項において、Ｒ4が、下記置換基で１個置換されてもよいピリジル基（該置換基は、弗素、塩素、ヒドロキシ、メチル、エチル、ｔ−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシ、メチルチオ、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ又はニトロである。）である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項１１】
請求項１乃至８より選択されるいずれか１項において、Ｒ4が、ピリジル基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項１２】
請求項１乃至８より選択されるいずれか１項において、Ｒ4が、下記置換基群から選択される基で少なくとも１個置換されたフェニル基（該置換基群は、置換基群βから選択される基で１乃至３個置換されてもよい、Ｃ3−Ｃ10シクロアルキル、Ｃ6−Ｃ10アリール及びＣ7−Ｃ16アラルキル、窒素原子を含有する４乃至７員飽和複素環並びに窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環から成る。）である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
＜置換基群β＞
ハロゲン原子、ヒドロキシ基、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基、置換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノ基、Ｃ6−Ｃ10アリール基、及びニトロ基。
＜置換基群γ＞
Ｃ1−Ｃ10アルキル基、置換されてもよい、Ｃ6−Ｃ10アリール及びＣ7−Ｃ16アラルキル基並びに、アシル基（該アシル基は、Ｃ1−Ｃ7脂肪族アシル基並びに置換されてもよい、Ｃ7−Ｃ11芳香族アシル、Ｃ8−Ｃ12芳香脂肪族アシル、Ｃ4−Ｃ11シクロアルキルカルボニル及び窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環カルボニル基を示す。）。
【請求項１３】
請求項１２において、Ｒ4が、下記置換基で１個置換されたフェニル基（該置換基群は、置換基群βから選択される基で１個置換されてもよい、Ｃ3−Ｃ10シクロアルキル、Ｃ6−Ｃ10アリール若しくはＣ7−Ｃ16アラルキル、窒素原子を含有する４乃至７員飽和複素環又は窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環である。）である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
＜置換基群β＞
ハロゲン原子、ヒドロキシ基、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基、置換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノ基、Ｃ6−Ｃ10アリール基、及びニトロ基。
＜置換基群γ＞
Ｃ1−Ｃ10アルキル基、置換されてもよい、Ｃ6−Ｃ10アリール及びＣ7−Ｃ16アラルキル基並びに、アシル基（該アシル基は、Ｃ1−Ｃ7脂肪族アシル基並びに置換されてもよい、Ｃ7−Ｃ11芳香族アシル、Ｃ8−Ｃ12芳香脂肪族アシル、Ｃ4−Ｃ11シクロアルキルカルボニル及び窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環カルボニル基を示す。）。
【請求項１４】
請求項１２において、Ｒ4が、下記置換基で１個置換されたフェニル基（該置換基は、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ又は置換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノで１個置換されてもよい、Ｃ3−Ｃ10シクロアルキル、Ｃ6−Ｃ10アリール若しくはＣ7−Ｃ16アラルキル、窒素原子を含有する４乃至７員飽和複素環又は窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環である。）である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有する
インスリン抵抗性改善剤。
＜置換基群γ＞
Ｃ1−Ｃ10アルキル基、置換されてもよい、Ｃ6−Ｃ10アリール及びＣ7−Ｃ16アラルキル基並びに、アシル基（該アシル基は、Ｃ1−Ｃ7脂肪族アシル基並びに置換されてもよい、Ｃ7−Ｃ11芳香族アシル、Ｃ8−Ｃ12芳香脂肪族アシル、Ｃ4−Ｃ11シクロアルキルカルボニル及び窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環カルボニル基を示す。）。
【請求項１５】
請求項１２において、Ｒ4が、下記置換基で１個置換されたフェニル基（該置換基は、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ若しくは置換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノで１個置換されてもよい、フェニル若しくはベンジル、アダマンチル、ピロリジニル、モルホリニル、ピペリジニル、イミダゾリル、テトラゾリル又はピリジニル基である。）である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
＜置換基群γ＞
Ｃ1−Ｃ10アルキル基、置換されてもよい、Ｃ6−Ｃ10アリール及びＣ7−Ｃ16アラルキル基並びに、アシル基（該アシル基は、Ｃ1−Ｃ7脂肪族アシル基並びに置換されてもよい、Ｃ7−Ｃ11芳香族アシル、Ｃ8−Ｃ12芳香脂肪族アシル、Ｃ4−Ｃ11シクロアルキルカルボニル及び窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環カルボニル基を示す。）。
【請求項１６】
請求項１２において、Ｒ4が、下記置換基で１個置換されたフェニル基（該置換基は、弗素、塩素、ヒドロキシ、メチル、エチル、ｔ−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシ、アミノ、メチルアミノ若しくはジメチルアミノで１個置換されてもよい、フェニル若しくはベンジル、アダマンチル、ピロリジニル、モルホリニル、ピペリジニル、イミダゾリル、テトラゾリル又はピリジニル基である。）である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項１７】
請求項１２において、Ｒ4が、４−ビフェニリル、４−ベンジルフェニル、４‘−ヒドロキシビフェニリル、（ピロリジン−１−イル）フェニル、（モルホリン−４−イル）フェニル、（ピペリジン−１−イル）フェニル、（ピリジン−２−イル）フェニル、（ピリジン−３−イル）フェニル又は４−（１−アダマンチル）フェニル基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項１８】
請求項１乃至８より選択されるいずれか１項において、Ｒ4が、置換基群γから選択される基で置換されてもよいアシルアミノで１個置換され、更に、下記置換基群から選択される基で１乃至３個置換されてもよいフェニル基（該置換基群は、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ及びＣ1−Ｃ6アルキルチオから成る。）である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
＜置換基群γ＞
Ｃ1−Ｃ10アルキル基、置換されてもよい、Ｃ6−Ｃ10アリール及びＣ7−Ｃ16アラルキル基並びに、アシル基（該アシル基は、Ｃ1−Ｃ7脂肪族アシル基並びに置換されてもよい、Ｃ7−Ｃ11芳香族アシル、Ｃ8−Ｃ12芳香脂肪族アシル、Ｃ4−Ｃ11シクロアルキルカルボニル及び窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環カルボニル基を示す。）。
【請求項１９】
請求項１８において、Ｒ4が、置換基群γから選択される基で置換されてもよいアシルアミノで１個置換され、更に、下記置換基群から選択される基で１乃至３個置換されてもよいフェニル基（該置換基群は、ハロゲン及びＣ1−Ｃ6アルキルから成る。）である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
＜置換基群γ＞
Ｃ1−Ｃ10アルキル基、置換されてもよい、Ｃ6−Ｃ10アリール及びＣ7−Ｃ16アラルキル基並びに、アシル基（該アシル基は、Ｃ1−Ｃ7脂肪族アシル基並びに置換されてもよい、Ｃ7−Ｃ11芳香族アシル、Ｃ8−Ｃ12芳香脂肪族アシル、Ｃ4−Ｃ11シクロアルキルカルボニル及び窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環カルボニル基を示す。）。
【請求項２０】
請求項１８において、Ｒ4が、Ｃ1−Ｃ10アルキルまたは置換されてもよいＣ7−Ｃ12アラルキルで置換されてもよいアシルアミノで１個置換され、更に、Ｃ1−Ｃ6アルキルで１乃至３個置換されてもよいフェニル基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項２１】
請求項１８において、Ｒ4が、下記置換基で１個置換されたフェニル基（該置換基は、置換されてもよい、Ｃ7−Ｃ11芳香族アシルアミノ、Ｃ4−Ｃ11シクロアルキルカルボニルアミノ又は窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環カルボニルアミノである。）である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項２２】
請求項１８において、Ｒ4が、ベンゾイルアミノ、３−クロロベンゾイルアミノ、２，４−ジフルオロベンゾイルアミノ、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベンゾイルアミノ、ナフトイルアミノ、シクロペンタノイルアミノ、シクロヘキサノイルアミノ、ニコチノイルアミノ、イソニコチノイルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−ヘキシルアミノ又はアダマンチルカルボニルアミノで置換されたフェニル基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項２３】
請求項１乃至８より選択されるいずれか１項において、Ｒ4が、アミノ、１乃至２個の基で置換されたアミノ（該置換基は、同一又は異なって、Ｃ1−Ｃ10アルキル並びに、置換されてもよい、Ｃ6−Ｃ10アリール及びＣ7−Ｃ16アラルキルから成る。）、ニトロ又はシアノで１個置換され、更に、下記置換基群から選択される基で１乃至３個置換されてもよいフェニル基（該置換基群は、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ及びＣ1−Ｃ6アルキルチオから成る。）である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項２４】
請求項２３において、Ｒ4が、アミノ、モノ若しくはジ−Ｃ1−Ｃ10アルキルアミノ又はシアノで１個で置換され、更に、Ｃ1−Ｃ6アルキルで１乃至２個置換されてもよいフェニル基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項２５】
請求項２３において、Ｒ4が、４−アミノフェニル、４−アミノ−３，５−ジメチルフェニル、４−アミノ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル、３−ジメチルアミノフェニル、４−ジメチルアミノフェニル又は４−シアノフェニル基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項２６】
請求項１乃至８より選択されるいずれか１項において、Ｒ4が、置換基群βから選択される基で１乃至３個置換されてもよい、Ｃ6−Ｃ10アリールオキシ、Ｃ7−Ｃ16アラルキルオキシ又はＣ6−Ｃ10アリールチオで１個置換され、更に、下記置換基群から選択される基で１乃至３個置換されてもよいフェニル基（該置換基群は、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ及びＣ1−Ｃ6アルキルチオから成る。）である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
＜置換基群β＞
ハロゲン原子、ヒドロキシ基、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基、置換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノ基、Ｃ6−Ｃ10アリール基、及びニトロ基。
＜置換基群γ＞
Ｃ1−Ｃ10アルキル基、置換されてもよい、Ｃ6−Ｃ10アリール及びＣ7−Ｃ16アラルキル基並びに、アシル基（該アシル基は、Ｃ1−Ｃ7脂肪族アシル基並びに置換されてもよい、Ｃ7−Ｃ11芳香族アシル、Ｃ８−Ｃ12芳香脂肪族アシル、Ｃ4−Ｃ11シクロアルキルカルボニル及び窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環カルボニル基を示す。）。
【請求項２７】
請求項２６において、Ｒ4が、置換基群βから選択される基で１乃至３個置換されてもよいＣ6−Ｃ10アリールオキシ１個で置換され、更に、Ｃ1−Ｃ6アルキルで１乃至２個置換されてもよいフェニル基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
＜置換基群β＞
ハロゲン原子、ヒドロキシ基、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基、置換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノ基、Ｃ6−Ｃ10アリール基、及びニトロ基。
＜置換基群γ＞
Ｃ1−Ｃ10アルキル基、置換されてもよい、Ｃ6−Ｃ10アリール及びＣ7−Ｃ16アラルキル基並びに、アシル基（該アシル基は、Ｃ1−Ｃ7脂肪族アシル基並びに置換されてもよい、Ｃ7−Ｃ11芳香族アシル、Ｃ８−Ｃ12芳香脂肪族アシル、Ｃ4−Ｃ11シクロアルキルカルボニル及び窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環カルボニル基を示す。）。
【請求項２８】
請求項２６において、Ｒ4が、置換基群βから選択される基で１個置換されてもよいＣ6−Ｃ10アリールオキシ１個で置換されたフェニル基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
＜置換基群β＞
ハロゲン原子、ヒドロキシ基、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基、置換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノ基、Ｃ6−Ｃ10アリール基、及びニトロ基。
＜置換基群γ＞
Ｃ1−Ｃ10アルキル基、置換されてもよい、Ｃ6−Ｃ10アリール及びＣ7−Ｃ16アラルキル基並びに、アシル基（該アシル基は、Ｃ1−Ｃ7脂肪族アシル基並びに置換されてもよい、Ｃ7−Ｃ11芳香族アシル、Ｃ８−Ｃ12芳香脂肪族アシル、Ｃ4−Ｃ11シクロアルキルカルボニル及び窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環カルボニル基を示す。）。
【請求項２９】
請求項２６において、Ｒ4が、４−フェノキシフェニルである置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項３０】
請求項１乃至８より選択されるいずれか１項において、Ｒ4が、下記置換基群から選択される基で１乃至５個置換されたフェニル基（該置換基群は、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ及びＣ1−Ｃ7脂肪族アシルオキシから成る。）である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項３１】
請求項３０において、Ｒ4が、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ又はＣ1−Ｃ7脂肪族アシルオキシで１個置換され、更に、下記置換基群から選択される基で１乃至４個置換されてもよいフェニル基（該置換基群は、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ6アルキル及びハロゲノＣ1−Ｃ6アルキルから成る。）である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項３２】
請求項３０において、Ｒ4が、Ｃ1−Ｃ6アルキル、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ若しくはＣ1−Ｃ6アルキルチオで１個置換されたフェニル基又は１乃至５個のハロゲンで置換されたフェニル基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項３３】
請求項３０において、Ｒ4が、ハロゲノＣ1−Ｃ2アルキル、Ｃ1−Ｃ2アルコキシ若しくはＣ1−Ｃ2アルキルチオで１個置換されたフェニル基又は１乃至５個の弗素原子若しくは塩素原子で置換されたフェニル基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項３４】
請求項３０において、Ｒ4が、４−トリフルオロメチルフェニル、４−メチルチオフェニル、４−メトキシフェニル又はペンタフルオロフェニル基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項３５】
請求項３０において、Ｒ4が、ヒドロキシ若しくはＣ1−Ｃ7脂肪族アシルオキシで１個置換され、更に、下記置換基群から選択される基で１乃至３個置換されてもよいフェニル基（該置換基群は、ハロゲン及びＣ1−Ｃ6アルキルから成る。）である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項３６】
請求項３０において、Ｒ4が、ヒドロキシで１個置換され、更に、下記置換基群から選択される基で１乃至３個置換されてもよいフェニル基（該置換基群は、ハロゲン及びＣ1−Ｃ6アルキルから成る。）である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項３７】
請求項３０において、Ｒ4が、ヒドロキシで１個置換され、更に、下記置換基群から選択される基で１乃至３個置換されてもよいフェニル基（該置換基群は、弗素、塩素、メチル及びｔ−ブチルから成る。）である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項３８】
請求項３０において、Ｒ4が、４−ヒドロキシフェニル、４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル、４−ヒドロキシ−２，３，５−トリメチルフェニル又は２―クロロ−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項３９】
請求項１乃至３８より選択されるいずれか１項において、Ｒ6が、水素原子、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、又は下記置換基群から選択される基で１乃至３個置換されてもよい置換されてもよい、フェニル若しくはベンジル基（該置換基群は、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル及びハロゲノＣ1−Ｃ6アルキルから成る。）である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項４０】
請求項１乃至３８より選択されるいずれか１項において、Ｒ6が、水素原子、Ｃ1−Ｃ4アルキル基、又は下記置換基で１個置換されてもよい、フェニル若しくはベンジル基（該置換基は、弗素、塩素、ヒドロキシ、メチル又はエチルである。）である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項４１】
請求項１乃至３８より選択されるいずれか１項において、Ｒ6が、水素原子又はＣ1−Ｃ4アルキル基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項４２】
請求項１乃至３８より選択されるいずれか１項において、Ｒ6が、Ｃ1−Ｃ2アルキル基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項４３】
請求項１乃至３８より選択されるいずれか１項において、Ｒ6が、メチル基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項４４】
請求項１乃至４３より選択されるいずれか１項において、Ａが、Ｃ1−Ｃ4アルキレン基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項４５】
請求項１乃至４３より選択されるいずれか１項において、Ａが、Ｃ1−Ｃ2アルキレン基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項４６】
請求項１乃至４３より選択されるいずれか１項において、Ａが、メチレン基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項４７】
請求項１乃至４６より選択されるいずれか１項において、Ｂが、酸素原子である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
【請求項４８】
請求項１において、下記の化合物群から選択される化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインスリン抵抗性改善剤。
５−｛４−［６−（４−ヒドロキシフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
５−｛４−［１−メチル−６−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
５−｛４−［１−メチル−６−（４−メトキシフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
５−｛４−［１−メチル−６−（４−メチルチオフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
５−｛４−［６−（４−アミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
５−｛４−［６−（３−ジメチルアミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
５−｛４−［６−（４−アセチルアミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
５−｛４−［１−メチル−６−（４−フェニルフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
５−｛４−［６−（４’−ヒドロキシビフェニル−４−イルオキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
５−｛４−［６−（４−ベンジルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
５−｛４−（６−［２−（ピロリジン−１−イル）フェノキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
５−｛４−（６−［２−（ピペリジン−１−イル）フェノキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
５−｛４−（６−［２−（モルホリン−４−イル）フェノキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
５−｛４−（１−メチル−６−［３−（モルホリン−４−イル）フェノキシ］−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
５−｛４−［６−（２−クロロ−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−２−メチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
５−｛４−［６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
５−｛４−［６−（４−アミノ−３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
５−｛４−［６−（４−アセチルアミノ−３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
５−｛４−［６−（ピリジン−２−イルオキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
５−｛４−［１−メチル−６−（ピリジン−３−イルオキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
５−｛４−（６−［４−（イミダゾール−１−イル）フェノキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
５−｛４−（６−［４−（１−アダマンチル）フェノキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
５−｛４−［６−（４−シアノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
５−｛４−［６−（２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
５−［４−（６−ペンタフルオロフェノキシ−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル］チアゾリジン−２，４−ジオン、
５−｛４−［６−（４−ベンゾイルアミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
５−［４−｛６−［４−（２、４−ジフルオロベンゾイルアミノ）フェノキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ｝ベンジル］チアゾリジン−２、４−ジオン、
５−｛４−［６−（４−シクロペンタノイルアミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、及び
５−｛４−［６−（４−ニコチノイルアミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン。
【請求項４９】
請求項１乃至４８より選択されるいずれか１項に記載された置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有する血糖低下剤。
【請求項５０】
請求項１乃至４８より選択されるいずれか１項に記載された置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有する５−リポキシゲナーゼ阻害剤。
【請求項５１】
請求項１乃至４８より選択されるいずれか１項に記載された置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有する過酸化脂質生成抑制剤。
【請求項５２】
請求項１乃至４８より選択されるいずれか１項に記載された置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するＰＰＡＲ活性化剤。
【請求項５３】
請求項１乃至４８より選択されるいずれか１項に記載された置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有する脂肪細胞化促進剤。
【請求項５４】
請求項１乃至４８より選択されるいずれか１項に記載された置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するガン細胞増殖抑制剤。
【請求項５５】
請求項１乃至４８より選択されるいずれか１項に記載された置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有する糖尿病の予防剤又は治療剤。
【請求項５６】
請求項１乃至４８より選択されるいずれか１項に記載された置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有するガンの予防剤又は治療剤。
【請求項５７】
請求項１乃至４８より選択されるいずれか１項に記載された置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有する医薬。

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を含有する、優れた、インスリン抵抗性改善剤、血糖低下剤、抗炎症剤、免疫調節剤、アルドース還元酵素阻害剤、５−リポキシゲナーゼ阻害剤、過酸化脂質生成抑制剤、ＰＰＡＲ活性化剤、抗骨粗鬆症剤、ロイコトリエン拮抗剤、脂肪細胞化促進剤、ガン細胞増殖抑制剤、カルシウム拮抗剤に関する。
【０００２】
更に、本発明は、上記置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有する、上記作用により改善される疾病、例えば、糖尿病、高脂血症、肥満症、耐糖能不全、高血圧症、脂肪肝、糖尿病合併症（例えば、網膜症、腎症、神経症、白内障、冠動脈疾患等である。）、動脈硬化症、妊娠糖尿病、多嚢胞卵巣症候群、心血管性疾患（例えば、虚血性心疾患等である。）、アテローム性動脈硬化症又は虚血性心疾患により惹起される細胞損傷（例えば、脳卒中により惹起される脳損傷等である。）、痛風、炎症性疾患（例えば、骨関節炎、疼痛、発熱、リウマチ性関節炎、炎症性腸炎、アクネ、日焼け、乾癬、湿疹、アレルギー性疾患、喘息、ＧＩ潰瘍、悪液質、自己免疫疾患、膵炎等である。）、ガン、骨粗鬆症、白内障等の予防剤及び／又は治療剤に関する。
【０００３】
更に、本発明は、上記置換縮合複素環化合物若しくはその薬理上許容される塩と、α−グルコシダーゼ阻害剤、アルドース還元酵素阻害剤、ビグアナイド剤、スタチン系化合物、スクアレン合成阻害剤、フィブラート系化合物、ＬＤＬ異化促進剤及びアンジオテンシン変換酵素阻害剤の少なくとも1種を組み合わせてなる医薬（特に好適には、糖尿病又は糖尿病合併症の予防剤及び／又は治療剤である。）に関する。
【０００４】
【従来の技術】
現在、チアゾリジン系化合物、オキサゾリジン系化合物等は、糖尿病、高脂血症のような様々な疾病の予防剤又は治療剤として有用であることが報告されている。
【０００５】
例えば、数多くの血糖低下作用を有するチアゾリジン系化合物が、
Chem. Pharm. Bull., 30, 3580-3600 (1982)、Prog.Clin. Biol. Res., 265, 177-192 (1988)、Diabetes, 37(11), 1549-1558 (1988)，Arzneim.-Forsch., 40(1), 37-42 (1990) 、ＥＰ０４４１６０５Ａ号等に開示されている。
【０００６】
高脂血症に対するチアゾリジン系化合物の作用が、Diabetes, 40(12), 1669-1674 (1991)、Am.J.Physiol., 267(1 Pt 1), E95-E101(1994)、Diabetes,  43(10), 1203-1210(1994)等に報告されている。
【０００７】
耐糖能不全、インスリン抵抗性に対するチアゾリジン系化合物の作用が、
Arzneim.-Forsch., 40(2 Pt 1), 156-162 (1990)、Metabolism,  40(10), 1025-1230(1991)、Diabetes,  43(2), 204-211 (1994)等で報告されている。
【０００８】
また、近年、耐糖能不全を伴わずに、インスリン抵抗性を有する正常人が糖尿病を発症すること及びインスリン抵抗性を改善する医薬は上記のような正常人の糖尿病発症の予防剤としても有用であることがN.Engl.J.Med., 331(18), 1226-1227 (1994)で報告されている。
【０００９】
高血圧症に対するチアゾリジン系化合物の作用が、Metabolism, 42(1), 75-80(1993)、Am.J.Physiol.,  265(4 Pt 2), R726-R732(1993)、Diabetes,  43(2), 204-211 (1994)等で報告されている。
【００１０】
冠動脈疾患に対するチアゾリジン系化合物の作用が、Am.J.Physiol., 265(4 Pt 2), R726-R732 (1993)、Hypertension, 24(2), 170-175(1994)等で報告されている。
【００１１】
動脈硬化症に対するチアゾリジン系化合物の作用が、Am.J.Physiol.,  265(4 Pt 2), R726-R732(1993)等で報告されている。
【００１２】
悪液質に対するチアゾリジン系化合物の作用が、Endocrinology, 135(5), 2279-2282(1994)、Endrocrinology,  136(4), 1474-1481(1995)等に報告されている。
【００１３】
更に、血糖低下作用を有するチアゾリジン系化合物の中でも、複素環基を有する化合物が、ＷＯ９２／０７８３９Ａ号、ＷＯ９２／０７８５０Ａ号、ＥＰ００７４５６００Ａ号に、血糖低下作用を有するオキサゾリジン−２，４−ジオン化合物が、ＷＯ９２／０２５２０Ａ号等に開示されている。
【００１４】
血糖低下作用を有し、３，５−ジオキソオキサジアゾリジン−２−イルメチルフェニル基を有する化合物又はＮ−ヒドロキシウレイド基を有する化合物が、ＷＯ９２／０３４２５Ａ号に開示されている。
【００１５】
また、ＥＰ００６７６３９８Ａ号には、５−｛４−［５−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルチオ）−３−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオンが例示化合物としてのみ開示されている。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者らは、長年に亘り、一連の置換縮合複素環化合物の合成とそれらの薬理活性について検討してきた結果、新規な構造を有する置換縮合複素環化合物が、優れた、インスリン抵抗性改善作用、血糖低下作用、抗炎症作用、免疫調節作用、アルドース還元酵素阻害作用、５−リポキシゲナーゼ阻害作用、過酸化脂質生成抑制作用、ＰＰＡＲ活性化作用、抗骨粗鬆症作用、ロイコトリエン拮抗作用、脂肪細胞化促進作用、ガン細胞増殖抑制作用、カルシウム拮抗作用を有しており、副作用も少なく、更に、脂溶性が高いという特徴を有していることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１７】
本発明の他の目的は、上記置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有する、上記作用により改善される疾病、例えば、糖尿病、高脂血症、肥満症、耐糖能不全、高血圧症、脂肪肝、糖尿病合併症（例えば、網膜症、腎症、神経症、白内障、冠動脈疾患等である。）、動脈硬化症、妊娠糖尿病、多嚢胞卵巣症候群、心血管性疾患（例えば、虚血性心疾患等である。）、アテローム性動脈硬化症又は虚血性心疾患により惹起される細胞損傷（例えば、脳卒中により惹起される脳損傷等である。）、痛風、炎症性疾患（例えば、骨関節炎、疼痛、発熱、リウマチ性関節炎、炎症性腸炎、アクネ、日焼け、乾癬、湿疹、アレルギー性疾患、喘息、ＧＩ潰瘍、悪液質、自己免疫疾患、膵炎等である。）、ガン、骨粗鬆症、白内障等の予防剤及び／又は治療剤を提供することである。
【００１８】
更に、本発明の他の目的は、上記置換縮合複素環化合物若しくはその薬理上許容される塩と、α−グルコシダーゼ阻害剤、アルドース還元酵素阻害剤、ビグアナイド剤、スタチン系化合物、スクアレン合成阻害剤、フィブラート系化合物、ＬＤＬ異化促進剤及びアンジオテンシン変換酵素阻害剤の少なくとも1種を組み合わせてなる医薬（特に好適には、糖尿病又は糖尿病合併症の予防剤及び／又は治療剤である。）を提供することである。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
本発明のインスリン抵抗性改善剤、血糖低下剤、抗炎症剤、免疫調節剤、アルドース還元酵素阻害剤、５−リポキシゲナーゼ阻害剤、過酸化脂質生成抑制剤、ＰＰＡＲ活性化剤、抗骨粗鬆症剤、ロイコトリエン拮抗剤、脂肪細胞化促進剤、ガン細胞増殖抑制剤及びカルシウム拮抗剤は、一般式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩を含有する。
【００２０】
【化５】
0004169450.tif 000002
上記式中、
Ｒ1は、一般式
【００２１】
【化６】
0004169450.tif 000003
又は一般式
【００２２】
【化７】
0004169450.tif 000004
［式中、
Ｒ4は、置換基群αから選択される基で１乃至５個置換されたフェニル基又は置換基群αから選択される基で１乃至４個置換されてもよいピリジル基を示し、
Ｒ5は、水素原子又は置換基群αから選択される基を示し、
Ｒ6は、水素原子、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、置換基群βから選択される基で１乃至３個置換されてもよいＣ6−Ｃ10アリール基又は置換基群βから選択される基で１乃至３個置換されてもよいＣ7−Ｃ16アラルキル基を示し、
Ｄは、酸素原子又は硫黄原子を示し、
Ｅは、ＣＨを有する基又は窒素原子を示す。
］を有する基を示し、
Ｒ2は、水素原子又は置換基群αから選択される基を示し、
Ｒ3は、式
【００２３】
【化８】
0004169450.tif 000005
を有する基を示し、
Ａは、Ｃ1−Ｃ6アルキレン基を示し、
Ｂは、酸素原子又は硫黄原子を示す。
【００２４】
但し、５−｛４−［５−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルチオ）−３−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオンは除く。
＜置換基群α＞
ハロゲン原子；ヒドロキシ基；Ｃ1−Ｃ6アルキル基；ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル基；Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基；Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ基；置換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノ基；置換基群βから選択される基で１乃至３個置換されてもよい、Ｃ3−Ｃ10シクロアルキル、Ｃ6−Ｃ10アリール、Ｃ7−Ｃ16アラルキル、Ｃ6−Ｃ10アリールオキシ、Ｃ7−Ｃ16アラルキルオキシ及びＣ6−Ｃ10アリールチオ基；Ｃ1−Ｃ7脂肪族アシルオキシ基；窒素原子を含有する４乃至７員飽和複素環基；窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環基；ニトロ基；並びにシアノ基。
＜置換基群β＞
ハロゲン原子、ヒドロキシ基、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基、置換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノ基、Ｃ6−Ｃ10アリール基、及びニトロ基。
＜置換基群γ＞
Ｃ1−Ｃ10アルキル基、置換されてもよい、Ｃ6−Ｃ10アリール及びＣ7−Ｃ16アラルキル基並びに、アシル基（該アシル基は、Ｃ1−Ｃ7脂肪族アシル基並びに置換されてもよい、Ｃ7−Ｃ11芳香族アシル、Ｃ8−Ｃ12芳香脂肪族アシル、Ｃ4−Ｃ11シクロアルキルカルボニル及び窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環カルボニル基を示す。）。
【００２５】
上記において、置換基群α及びβの定義における「ハロゲン原子」は、弗素原子、塩素原子、臭素原子又は沃素原子であり、好適には、弗素原子又は塩素原子である。
【００２６】
上記において、Ｒ6並びに置換基群α及びβの定義における「Ｃ1−Ｃ6アルキル基」は、炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキル基を示し、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、２−メチルブチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、ヘキシル、４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、１−メチルペンチル、３，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、２−エチルブチル基であり、Ｒ6において、好適にはＣ1−Ｃ4アルキル基であり、更に好適にはＣ1−Ｃ2アルキル基であり、特に好適にはメチル基である。置換基群αにおいて、好適には、メチル又はｔ−ブチル基であり、置換基群βにおいて、好適には、メチル、エチル又はｔ−ブチル基である。
【００２７】
上記において、置換基群α及びβの定義における「ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル基」は、前記Ｃ1−Ｃ6アルキル基に１乃至３個の前記ハロゲン原子が結合した基を示し、例えば、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、トリブロモメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、ジブロモメチル、フルオロメチル、２，２，２−トリクロロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２−ブロモエチル、２−クロロエチル、２−フルオロエチル、２−ヨードエチル、３−クロロプロピル、４−フルオロブチル、６−ヨードヘキシル、２，２−ジブロモエチル基であり、好適にはハロゲノＣ1−Ｃ2アルキル基であり、特に好適にはトリフルオロメチル基である。
【００２８】
上記において、置換基群α及びβの定義における「Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基」は、前記Ｃ1−Ｃ6アルキル基が酸素原子に結合した基を示し、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ペントキシ、イソペントキシ、２−メチルブトキシ、ネオペントキシ、１−エチルプロポキシ、ヘキシルオキシ、４−メチルペントキシ、３−メチルペントキシ、２−メチルペントキシ、３，３−ジメチルブトキシ、２，２−ジメチルブトキシ、１，１−ジメチルブトキシ、１，２−ジメチルブトキシ、１，３−ジメチルブトキシ、２，３−ジメチルブトキシ、２−エチルブトキシ基であり、好適にはＣ1−Ｃ2アルコキシ基であり、特に好適にはメトキシ基である。
【００２９】
上記において、置換基群αの定義における「Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ基」は、前記Ｃ1−Ｃ6アルキル基が硫黄原子に結合した基を示し、例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、ｓ−ブチルチオ、ｔ−ブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチルチオ、２−メチルブチルチオ、ネオペンチルチオ、１−エチルプロピルチオ、ヘキシルチオ、４−メチルペンチルチオ、３−メチルペンチルチオ、２−メチルペンチルチオ、１−メチルペンチルチオ、３，３−ジメチルブチルチオ、２，２−ジメチルブチルチオ、１，１−ジメチルブチルチオ、１，２−ジメチルブチルチオ、１，３−ジメチルブチルチオ、２，３−ジメチルブチルチオ、２−エチルブチルチオ基であり、好適にはＣ1−Ｃ2アルキルチオ基であり、特に好適にはメチルチオ基である。
【００３０】
上記において、置換基群α及びβの定義における「置換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノ基」は、Ｃ1−Ｃ10アルキル基、置換されてもよい、Ｃ6−Ｃ10アリール及びＣ7−Ｃ16アラルキル基(該置換基は、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ及びＣ1−Ｃ6アルキルチオから成る群から選択される１乃至３個の基である。)並びに、アシル基（Ｃ1−Ｃ7脂肪族アシル基並びに、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ及びＣ1−Ｃ6アルキルチオから成る群から選択される基で１乃至３個置換されてもよい、Ｃ7−Ｃ11芳香族アシル、Ｃ８−Ｃ12芳香脂肪族アシル、Ｃ4−Ｃ11シクロアルキルカルボニル及び窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環カルボニル基を示す。）から成る置換基群γから選択される基で、同一又は異なって１乃至２個置換されてもよいアミノ基を示す。
【００３１】
上記において、置換基群γの定義における「Ｃ1−Ｃ10アルキル基」は、炭素数１乃至１０個の直鎖又は分岐鎖アルキル基を示し、例えば、前記Ｃ1−Ｃ6アルキル、ヘプチル、１−メチルヘキシル、２−メチルヘキシル、３−メチルヘキシル、４−メチルヘキシル、５−メチルヘキシル、１−プロピルブチル、４，４−ジメチルペンチル、オクチル、１−メチルヘプチル、２−メチルヘプチル、３−メチルヘプチル、４−メチルヘプチル、５−メチルヘプチル、６−メチルヘプチル、１−プロピルペンチル、２−エチルヘキシル、５，５−ジメチルヘキシル、ノニル、３−メチルオクチル、４−メチルオクチル、５−メチルオクチル、６−メチルオクチル、１−プロピルヘキシル、２−エチルヘプチル、６，６−ジメチルヘプチル、デシル、１−メチルノニル、３−メチルノニル、８−メチルノニル、３−エチルオクチル、３，７−ジメチルオクチル、７，７−ジメチルオクチル基であり、好適にはＣ1−Ｃ8アルキル基であり、特に好適には、メチル、ブチル、イソブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル又はオクチル基である。
【００３２】
上記において、置換基群γの定義における「置換されてもよいＣ6−Ｃ10アリール」のＣ6−Ｃ10アリール部分は、炭素数６乃至１０個の芳香族炭化水素基を示し、例えば、フェニル、インデニル、ナフチル基であり、好適にはフェニル基である。
【００３３】
上記において、置換基群γの定義における「置換されてもよいＣ7−Ｃ16アラルキル」のＣ7−Ｃ16アラルキル部分は、前記Ｃ6−Ｃ10アリール基が前記Ｃ1−Ｃ6アルキル基に結合した基を示し、例えば、ベンジル、ナフチルメチル、インデニルメチル、ジフェニルメチル、１−フェネチル、２−フェネチル、１−ナフチルエチル、２−ナフチルエチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、１−ナフチルプロピル、２−ナフチルプロピル、３−ナフチルプロピル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−フェニルブチル、４−フェニルブチル、１−ナフチルブチル、２−ナフチルブチル、３−ナフチルブチル、４−ナフチルブチル、５−フェニルペンチル、５−ナフチルペンチル、６−フェニルヘキシル、６−ナフチルヘキシル基であり、好適にはベンジル基である。
【００３４】
上記において、置換基群γの定義における「Ｃ1−Ｃ7脂肪族アシル基」は、水素原子又は飽和若しくは不飽和のＣ1−Ｃ6鎖状炭化水素基がカルボニル基に結合した基を示し、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、アクリロイル、メタクリロイル、クロトノイル基であり、好適には、アセチル、プロピオニル又はピバロイル基であり、特に好適にはアセチル基である。
【００３５】
上記において、置換基群γの定義における「置換されてもよいＣ7−Ｃ11芳香族アシル」のＣ7−Ｃ11芳香族アシル部分は、Ｃ6−Ｃ10アリール基がカルボニル基に結合した基を示し、例えば、ベンゾイル、１−インダンカルボニル、２−インダンカルボニル、１−若しくは２−ナフトイル基であり、好適には、ベンゾイル又はナフトイル基である。
【００３６】
上記において、置換基群γの定義における「置換されてもよいＣ8−Ｃ12芳香脂肪族アシル」のＣ8−Ｃ12芳香脂肪族アシル部分は、フェニル基がＣ2−Ｃ6脂肪族アシル基に結合した基を示し、例えば、フェニルアセチル、３−フェニルプロピオニル、４−フェニルブチリル、５−フェニルペンタノイル、６−フェニルヘキサノイル基であり、好適には、フェニルアセチル基である。
【００３７】
上記において、置換基群γの定義における「置換されてもよいＣ4−Ｃ11シクロアルキルカルボニル」のＣ4−Ｃ11シクロアルキルカルボニル部分は、Ｃ3−Ｃ10シクロアルキル基（縮環していてもよい３乃至１０員飽和環状炭化水素基を示し、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、ノルボルニル、アダマンチル基であり、好適にはＣ3−Ｃ6シクロアルキル基である。）にカルボニル基が結合した基を示し、例えば、シクロプロパノイル、シクロブチリル、シクロペンタノイル、シクロヘキサノイル、シクロヘプチルカルボニル、ノルボルニルカルボニル、アダマンチルカルボニル基であり、好適には、Ｃ4−Ｃ7シクロアルキルカルボニル基であり、特に好適には、シクロペンタノイル又はシクロヘキサノイル基である。
【００３８】
上記において、置換基群γの定義における「置換されてもよい窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環カルボニル」の窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環カルボニル部分は、窒素原子を少なくとも１個含み、更に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から成るヘテロ原子群から選択されたヘテロ原子を含有してもよい５乃至６員芳香複素環（例えば、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、チアゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル基である。）にカルボニル基が結合した基を示し、例えば、ピロリルカルボニル、イミダゾリルカルボニル、ピラゾリルカルボニル、トリアゾリルカルボニル、テトラゾリルカルボニル、ニコチノイル、イソニコチノイル、ピラジニルカルボニル、ピリミジニルカルボニル、ピリダジニルカルボニル、チアゾリルカルボニル、オキサゾリルカルボニル、オキサジアゾリルカルボニル、チアジアゾリルカルボニル基であり、好適には、ピリジルカルボニル基であり、特に好適には、ニコチノイル又はイソニコチノイル基である。
【００３９】
そのような置換基群α及びβの定義における「置換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノ基」は、例えば、アミノ；メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、ｓ−ブチルアミノ、ｔ−ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ、フェニルアミノ、２−，３−若しくは４−フルオロフェニルアミノ、２−，３−若しくは４−クロロフェニルアミノ、２−，３−若しくは４−ブロモフェニルアミノ、２，３−ジフルオロフェニルアミノ、２，４−ジフルオロフェニルアミノ、２，４−ジクロロフェニルアミノ、１−若しくは２−インデニルアミノ、１−若しくは２−ナフチルアミノ、ジフェニルアミノ、ベンジルアミノ、２−，３−若しくは４−フルオロベンジルアミノ、２−，３−若しくは４−クロロベンジルアミノ、２−，３−若しくは４−ブロモベンジルアミノ、２，３−ジフルオロベンジルアミノ、２，４−ジフルオロベンジルアミノ、２，４−ジクロロベンジルアミノ、１−若しくは２−ナフチルメチルアミノ、１−インデニルメチルアミノ、１−若しくは２−フェネチルアミノ、１−、２−若しくは３−フェニルプロピルアミノ、４−フェニルブチルアミノ、１−フェニルブチルアミノ、５−フェニルペンチルアミノ、６−フェニルヘキシルアミノ、ジベンジルアミノ、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、イソブチリルアミノ、バレリルアミノ、イソバレリルアミノ、ピバロイルアミノ、ヘキサノイルアミノ、アクリロイルアミノ、メタクリロイルアミノ、クロトイルアミノ、ベンゾイルアミノ、１−インダンカルボニルアミノ、１−若しくは２−ナフトイルアミノ、２−，３−若しくは４−フルオロベンゾイルアミノ、２−，３−若しくは４−クロロベンゾイルアミノ、２−，３−若しくは４−ブロモベンゾイルアミノ、２，３−ジフルオロベンゾイルアミノ、２，４−ジフルオロベンゾイルアミノ、２，４−ジクロロベンゾイルアミノ、２，６−ジイソプロピルベンゾイルアミノ、４−トリフルオロメチルベンゾイルアミノ、４−ヒドロキシー３，５−ジメチルベンゾイルアミノ、４−ヒドロキシー３，５−ジ−ｔ−ブチルベンゾイルアミノ、１−インダンカルボニルアミノ、１−若しくは２−ナフトイルアミノ、フェニルアセチルアミノ、３−フェニルプロピオニルアミノ、４−フェニルブチリルアミノ、５−フェニルペンタノイルアミノ、６−フェニルヘキサノイルアミノ、２−，３−若しくは４−フルオロフェニルアセチルアミノ、２−，３−若しくは４−クロロフェニルアセチルアミノ、２−，３−若しくは４−ブロモフェニルアセチルアミノ、２，３−ジフルオロフェニルアセチルアミノ、２，４−ジフルオロフェニルアセチルアミノ、２，４−ジクロロフェニルアセチルアミノ、シクロプロピオニルアミノ、シクロブチリルアミノ、シクロペンタノイルアミノ、シクロヘキサノイルアミノ、ピロリルカルボニルアミノ、イミダゾリルカルボニルアミノ、ピラゾリルカルボニルアミノ、トリアゾリルカルボニルアミノ、テトラゾリルカルボニルアミノ、ニコチノイルアミノ、イソニコチノイルアミノ、ピラジニルカルボニルアミノ、ピリミジニルカルボニルアミノ、ピリダジニルカルボニルアミノ、チアゾリルカルボニルアミノ、オキサゾリルカルボニルアミノ、オキサジアゾリルカルボニルアミノ、チアジアゾリルカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジアセチルアミノ、Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−ブチルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−ペンチルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−ブチルアミノ、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−ペンチルアミノ、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−ベンジル−Ｎ−ベンゾイルアミノ、Ｎ−４−トリフルオロメチルベンジル−Ｎ−２，４−ジフルオロベンゾイルアミノ、Ｎ−２，４−ジフルオロベンジル−Ｎ−ニコチノイルアミノ、Ｎ−３−クロロベンゾイル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−３−クロロベンゾイル−Ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ−３−クロロベンジル−Ｎ−アセチルアミノ、Ｎ−２，４−ジフルオロベンゾイル−Ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ−２，４−ジフルオロベンゾイル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−２，４−ジフルオロベンゾイル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−４−トリフルオロメチルベンゾイル−Ｎ−ブチルアミノ、Ｎ−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾイル−Ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−１−ナフトイルアミノ、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−２−ナフトイルアミノ、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−フェニルアセチルアミノ、Ｎ−イソブチル−Ｎ−シクロヘプタノイルアミノ、Ｎ−ブチル−Ｎ−ニコチノイルアミノ、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−ニコチノイルアミノ、Ｎ−イソニコチノイル−Ｎ−ヘキシルアミノ基であり、好適には、アミノ基、1若しくは２個の基で置換されたアミノ基（該置換基は、同一又は異なって、Ｃ1−Ｃ10アルキル基並びに、置換されてもよい、Ｃ6−Ｃ10アリール及びＣ7−Ｃ16アラルキル基から成る群から選択される基である。）又は、置換基群γから選択される基で置換されてもよいアシルアミノ基（該アシルアミノ基とは、上記アシル基で置換されたアミノ基を示す。）であり、更に好適には、アミノ基、モノ若しくはジ−Ｃ1−Ｃ10アルキルアミノ基或いは、Ｃ1−Ｃ10アルキル又は置換されてもよいＣ7−Ｃ16アラルキルで置換されてもよいアシルアミノ基であり、更により好適には、アミノ基、モノ若しくはジ−Ｃ1−Ｃ10アルキルアミノ基或いは、置換されてもよい、Ｃ7−Ｃ11芳香族アシルアミノ、Ｃ4−Ｃ11シクロアルキルカルボニルアミノ又は窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環カルボニルアミノ基であり、特に好適には、アミノ、ジメチルアミノ、ヘキシルアミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、３−クロロベンゾイルアミノ、２，４−ジフルオロベンゾイルアミノ、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベンゾイルアミノ、ナフトイルアミノ、シクロペンタノイルアミノ、シクロヘキサノイルアミノ、ニコチノイルアミノ、イソニコチノイルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−ヘキシルアミノ又はアダマンチルカルボニルアミノ基である。
【００４０】
上記において、置換基群αの定義における「置換基群βから選択される基で１乃至３個置換されてもよいＣ3−Ｃ10シクロアルキル基」のＣ3−Ｃ10シクロアルキル部分は前述したものと同意義を示し、好適には、置換基群βから選択される基で１個置換されてもよいＣ3−Ｃ10シクロアルキル基であり、更に好適には、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル及びハロゲノＣ1−Ｃ6アルキルから成る群から選択される基で１個置換されてもよいＣ3−Ｃ10シクロアルキル基であり、より好適には、弗素、塩素、ヒドロキシ、メチル、エチル、ｔ−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシ、アミノ、メチルアミノ又はジメチルアミノで１個置換されてもよいアダマンチル基であり、特に好適には、アダマンチル基である。
【００４１】
上記において、Ｒ6及び置換基群αの定義における「置換基群βから選択される基で１乃至３個置換されてもよいＣ6−Ｃ10アリール基」及び置換基群βの定義における「Ｃ6−Ｃ10アリール基」のＣ6−Ｃ10アリール部分は前述したものと同意義を示し、Ｒ6において、好適には、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル及びハロゲノＣ1−Ｃ6アルキルから成る群から選択される基で１乃至３個置換されてもよいフェニル基であり、特に好適には、弗素、塩素、ヒドロキシ、メチル、エチル及びトリフルオロメチル基から成る群から選択される基で１個置換されてもよいフェニル基である。置換基群αにおいて、好適には、置換基群βから選択される基で１個置換されてもよいＣ6−Ｃ10アリール基であり、更に好適には、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ又は置換気群γから選択される基で置換されてもよいアミノで１個置換されてもよいＣ6−Ｃ10アリール基であり、より好適には、弗素、塩素、ヒドロキシ、メチル、エチル、ｔ−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシ、アミノ、メチルアミノ又はジメチルアミノで１個置換されてもよいフェニル基であり、特に好適には、フェニル又は４−ヒドロキシフェニル基である。置換基群βにおいて、好適にはフェニル基である。
【００４２】
上記において、Ｒ6及び置換基群αの定義における「置換基群βから選択される基で１乃至３個置換されてもよいＣ7−Ｃ16アラルキル基」のＣ7−Ｃ16アラルキル部分は前述したものと同意義を示し、Ｒ6において、好適には、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル及びハロゲノＣ1−Ｃ6アルキルから成る群から選択される基で１乃至３個置換されてもよいベンジル基であり、特に好適には、弗素、塩素、ヒドロキシ、メチル、エチル及びトリフルオロメチル基から成る群から選択される基で置換されてもよいベンジル基である。置換基群αにおいて、好適には、置換基群βから選択される基で１個置換されてもよいＣ7−Ｃ16アラルキル基であり、更に好適には、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ又は置換気群γから選択される基で置換されてもよいアミノで１個置換されてもよいベンジル基であり、より好適には、弗素、塩素、ヒドロキシ、メチル、エチル、ｔ−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシ、アミノ、メチルアミノ又はジメチルアミノで１個置換されてもよいベンジル基であり、特に好適には、ベンジル基である。
【００４３】
上記において、置換基群αの定義における「置換基群βから選択される基で１乃至３個置換されてもよいＣ6−Ｃ10アリールオキシ基」のＣ6−Ｃ10アリールオキシ部分は、前記Ｃ6−Ｃ10アリールが酸素原子に結合した基を示し、例えば、フェノキシ、１−インデニルオキシ、２−インデニルオキシ、３−インデニルオキシ、１−ナフチルオキシ、２−ナフチルオキシ基であり、好適にはフェノキシ基である。
【００４４】
上記において、置換基群αの定義における「置換基群βから選択される基で１乃至３個置換されてもよいＣ7−Ｃ16アラルキルオキシ基」のＣ7−Ｃ16アラルキルオキシ部分は、前記Ｃ7−Ｃ16アラルキル基が酸素原子に結合した基を示し、例えば、ベンジルオキシ、ナフチルメトキシ、インデニルメトキシ、ジフェニルメトキシ、１−フェネチルオキシ、２−フェネチルオキシ、１−ナフチルエトキシ、２−ナフチルエトキシ、１−フェニルプロポキシ、２−フェニルプロポキシ、３−フェニルプロポキシ、１−ナフチルプロポキシ、２−ナフチルプロポキシ、３−ナフチルプロポキシ、１−フェニルブトキシ、２−フェニルブトキシ、３−フェニルブトキシ、４−フェニルブトキシ、１−ナフチルブトキシ、２−ナフチルブトキシ、３−ナフチルブトキシ、４−ナフチルブトキシ、５−フェニルペンチルオキシ、５−ナフチルペンチルオキシ、６−フェニルヘキシルオキシ、６−ナフチルヘキシルオキシ基であり、好適にはベンジルオキシ基である。
【００４５】
上記において、置換基群αの定義における「置換基群βから選択される基で１乃至３個置換されてもよいＣ6−Ｃ10アリールチオ基」のＣ6−Ｃ10アリールチオ部分は、前記Ｃ6−Ｃ10アリール基が硫黄原子に結合した基を示し、例えば、フェニルチオ、１−インデニルチオ、２−インデニルチオ、３−インデニルチオ、１−ナフチルチオ、２−ナフチルチオ基であり、好適にはフェニルチオ基である。
【００４６】
上記において、置換基群αの定義における「Ｃ1−Ｃ７脂肪族アシルオキシ基」は、前記Ｃ1−Ｃ７脂肪族アシル基に酸素原子が結合した基を示し、例えば、ホルミルオキシ、アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、イソブチリルオキシ、バレリルオキシ、イソバレリルオキシ、ピバロイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ、クロトイルオキシ基であり、好適にはアセトキシ基である。
【００４７】
上記において、置換基群αの定義における「窒素原子を含有する４乃至７員飽和複素環基」は、窒素原子を少なくとも１個含み、更に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から成るヘテロ原子群から選択されたヘテロ原子を含有してもよい４乃至７員飽和複素環基を示し、例えば、アゼチジニル、ピロリジニル、イミダゾリジニル、チアゾリジニル、ピラゾリジニル、ピペリジニル、モルホリニル、チオモルホリニル、ピペラジニル、ホモピペラジニル基であり、好適には、ピロリジニル、ピペリジニル又はモルホリニル基であり、特に好適には、ピロリジン―１―イル、ピペリジン−１−イル又はモルホリン―４―イル基である。
【００４８】
上記において、置換基群αの定義における「窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環基」は、前述したものと同意義を示し、好適には、イミダゾリル、テトラゾリル又はピリジニル基であり、特に好適には、ピリジン−２−イル又はピリジン―３―イル基である。
上記において、Ｒ4の定義における「置換基群αから選択される基で１乃至５個置換されたフェニル基」とは、ハロゲン原子；ヒドロキシ基；Ｃ1−Ｃ6アルキル基；ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル基；Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基；Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ基；置換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノ基；置換基群βから選択される基で１乃至３個置換されてもよい、Ｃ3−Ｃ10シクロアルキル、Ｃ6−Ｃ10アリール、Ｃ7−Ｃ16アラルキル、Ｃ6−Ｃ10アリールオキシ、Ｃ7−Ｃ16アラルキルオキシ及びＣ6−Ｃ10アリールチオ基；Ｃ1−Ｃ7脂肪族アシルオキシ基；窒素原子を含有する４乃至７員飽和複素環基；窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環基；ニトロ基；並びにシアノ基から成る群から選択される基で１乃至５個置換されたフェニル基であり、例えば、２−，３−若しくは４−フルオロフェニル、２−，３−若しくは４−クロロフェニル、２−，３−若しくは４−ブロモフェニル、２−，３−若しくは４−ヨードフェニル、２，４−ジフルオロフェニル、３，５−ジフルオロフェニル、ペンタフルオロフェニル、３，５−ジクロロフェニル、２−，３−若しくは４−ヒドロキシフェニル、３，５−ジヒドロキシフェニル、２−，３−若しくは４−メチルフェニル、２−，３−若しくは４−エチルフェニル、２−，３−若しくは４−プロピルフェニル、２−，３−若しくは４−イソプロピルフェニル、２−，３−若しくは４−ブチルフェニル、２−，３−若しくは４−ｓ−ブチルフェニル、２−，３−若しくは４−ｔ−ブチルフェニル、２−，３−若しくは４−トリフルオロメチルフェニル、２−，３−若しくは４−メトキシフェニル、２−，３−若しくは４−エトキシフェニル、２−，３−若しくは４−プロポキシフェニル、２−，３−若しくは４−イソプロポキシフェニル、２−，３−若しくは４−ブトキシフェニル、２−，３−若しくは４−ｓ−ブトキシフェニル、２−，３−若しくは４−ｔ−ブトキシフェニル、２−，３−若しくは４−メチルチオフェニル、２−，３−若しくは４−エチルチオフェニル、２−，３−若しくは４−イソプロピルチオフェニル、２−，３−若しくは４−アミノフェニル、３，５−ジアミノフェニル、２−，３−若しくは４−メチルアミノフェニル、２−，３−若しくは４−ジメチルアミノフェニル、２−，３−若しくは４−（Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ）フェニル、２−，３−若しくは４−ジエチルアミノフェニル、２−，３−若しくは４−（ｎ−ペンチルアミノ）フェニル、２−，３−若しくは４−（ｎ−ヘキシルアミノ）フェニル、２−，３−若しくは４−フェニルアミノフェニル、２−，３−若しくは４−ベンジルアミノフェニル、２−，３−若しくは４−ホルミルアミノフェニル、２−，３−若しくは４−アセチルアミノフェニル、２−，３−若しくは４−プロピオニルアミノフェニル、２−，３−若しくは４−ベンゾイルアミノフェニル、２−，３−若しくは４−（２−，３−若しくは４−フルオロベンゾイルアミノ）フェニル、２−，３−若しくは４−（２−，３−若しくは４−クロロベンゾイルアミノ）フェニル、２−，３−若しくは４−（２，４−ジフルオロベンゾイルアミノ）フェニル、２−，３−若しくは４−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンゾイルアミノ）フ���ニル、２−，３−若しくは４−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベンゾイルアミノ）フェニル、２−，３−若しくは４−（１−若しくは２−ナフトイルアミノ）フェニル、２−，３−若しくは４−フェニルアセチルアミノフェニル、２−，３−若しくは４−（２−，３−若しくは４−フルオロフェニルアセチルアミノ）フェニル、２−，３−若しくは４−（２−，３−若しくは４−クロロフェニルアセチルアミノ）フェニル、２−，３−若しくは４−（３−フェニルプロピオニルアミノ）フェニル、２−，３−若しくは４−シクロペンタノイルアミノフェニル、２−，３−若しくは４−シクロヘキサノイルアミノフェニル、２−，３−若しくは４−ニコチノイルアミノフェニル、２−，３−若しくは４−イソニコチノイルアミノフェニル、２−，３−若しくは４−（Ｎ−アセチル−Ｎ−メチルアミノ）フェニル、２−，３−若しくは４−（Ｎ−アセチル−Ｎ−ペンチルアミノ）フェニル、２−，３−若しくは４−（Ｎ−アセチル−Ｎ−ヘキシルアミノ）フェニル、２−，３−若しくは４−（Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−ヘキシルアミノ）フェニル、２−，３−若しくは４−（Ｎ−３−クロロベンゾイル−Ｎ−メチルアミノ）フェニル、２−，３−若しくは４−（Ｎ−３−クロロベンゾイル−Ｎ−ヘキシルアミノ）フェニル、２−，３−若しくは４−（Ｎ−２，４−ジフルオロベンゾイル−Ｎ−ヘキシルアミノ）フェニル、２−，３−若しくは４−［Ｎ−（１−若しくは２−ナフトイル）−Ｎ−ヘキシルアミノ］フェニル、２−，３−若しくは４−（Ｎ−ヘキシル−Ｎ−フェニルアセチルアミノ）フェニル、２−，３−若しくは４−（Ｎ−イソブチル−Ｎ−シクロヘプタノイルアミノ）フェニル、２−，３−若しくは４−（Ｎ−ブチル−Ｎ−ニコチノイルアミノ）フェニル、２−，３−若しくは４−シクロペンチルフェニリル、２−，３−若しくは４−シクロヘキシルフェニリル、２−，３−若しくは４−（１−アダマンチル）フェニル、２−，３−若しくは４−ビフェニリル、２−，３−若しくは４−（２´−，３´−若しくは４´−ヒドロキシ）ビフェニリル、２−，３−若しくは４−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）フェニル、２−，３−若しくは４−（４−ヒドロキシ−３，５−ジイソプロピルフェニル）フェニル、２−，３−若しくは４−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）フェニル、２−，３−若しくは４−ベンジルフェニル、２−，３−若しくは４−（４−ヒドロキシベンジル）フェニル、２−，３−若しくは４−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル）フェニル、２−，３−若しくは４−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェニル、２−，３−若しくは４−フェノキシフェニル、２−，３−若しくは４−（４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル、２−，３−若しくは４−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェノキシ）フェニル、２−，３−若しくは４−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル、２−，３−若しくは４−ベンジルオキシフェニル、２−，３−若しくは４−（４−ヒドロキシベンジルオキシ）フェニル、２−，３−若しくは４−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルオキシ）フェニル、２−，３���若しくは４−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルオキシ）フェニル、２−，３−若しくは４−フェニルチオフェニル、２−，３−若しくは４−（４−ヒドロキシフェニルチオ）フェニル、２−，３−若しくは４−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニルチオ）フェニル、２−，３−若しくは４−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルチオ）フェニル、２−，３−若しくは４−ホルミルオキシフェニル、２−，３−若しくは４−アセトキシフェニル、２−，３−若しくは４−プロピオニルオキシフェニル、２−，３−若しくは４−（１−アゼチジニル）フェニル、２−，３−若しくは４−（１−，２−若しくは３−ピロリジニル）フェニル、２−，３−若しくは４−（１−，２−，３−若しくは４−ピペリジニル）フェニル、２−，３−若しくは４−（２−，３−若しくは４−モルホリニル）フェニル、２−，３−若しくは４−（２−，３−若しくは４−チオモルホリニル）フェニル、２−，３−若しくは４−（１−若しくは２−ピペラジニル）フェニル、２−，３−若しくは４−（１−，２−若しくは４−イミダゾリル）フェニル、２−，３−若しくは４−（テトラゾール−５−イル）フェニル、２−，３−若しくは４−（２−，３−若しくは４−ピリジル）フェニル、２−，３−若しくは４−ニトロフェニル、２−，３−若しくは４−シアノフェニル、２−若しくは３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル、４−クロロ−３，５−ジヒドロキシフェニル、３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル、２−フルオロ−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル、３−フルオロ−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチルフェニル、４−フルオロ−３−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル、２−クロロ−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル、３−クロロ−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチルフェニル、４−クロロ−３−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル、２−若しくは３−アミノ−４−クロロフェニル、２，３−ジクロロ−４−アミノフェニル、２−若しくは３−クロロ−４−メチルアミノフェニル、２−ヒドロキシ−３−若しくは４−メチルフェニル、２−ヒドロキシ−３，４−ジメチルフェニル、３−ヒドロキシ−４−若しくは５−メチルフェニル、３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル、４−ヒドロキシ−２−若しくは３−メチルフェニル、２−若しくは３−エチル−４−ヒドロキシフェニル、４−ヒドロキシ−２−若しくは３−プロピルフェニル、４−ヒドロキシ−２−若しくは３−イソプロピルフェニル、２−若しくは３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル、４−ヒドロキシ−２，３−ジメチルフェニル、４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル、４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル、３，５−ジエチル−４−ヒドロキシフェニル、３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル、４−ヒドロキシ−３，５−ジプロピルフェニル、４−ヒドロキシ−３，５−ジイソプロピルフェニル、２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル、４−ヒドロキシ−２，３，５−トリメチルフェニル、４−ヒドロキシ−２，３，６−トリメチルフェニル、４−ヒドロキシ−２，３，５，６−テ���ラメチルフェニル、４−ヒドロキシ−３，５−ジメトキシフェニル、２−若しくは３−ヒドロキシ−４−ジメチルアミノフェニル、４−ベンジル−（２−若しくは３−ヒドロキシ）フェニル、３−，５−若しくは６−ベンジル−２−ヒドロキシフェニル、３−ヒドロキシ−４−ニトロフェニル、３−アミノ−４−メチルフェニル、４−アミノ−２，３−ジメチルフェニル、４−アミノ−２，６−ジメチルフェニル、４−アミノ−３，５−ジメチルフェニル、４−アミノ−３，５−ジエチルフェニル、４−アミノ−３，５−ジプロピルフェニル、４−アミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル、４−アミノ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル、４−メチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル、４−（Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ）−３，５−ジメチルフェニル、４−アセチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル、４−アセチルアミノ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル、４−ベンゾイルアミノ−３，５−ジメチルフェニル、４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル、４−アセトキシ−２，３，５−トリメチルフェニル、３，５−ジメチル−４−ニトロフェニル基を挙げることができる。
【００４９】
上記において、Ｒ4の定義における「置換基群αから選択される基で１乃至４個置換されてもよいピリジル基」は、ハロゲン原子；ヒドロキシ基；Ｃ1−Ｃ6アルキル基；ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル基；Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基；Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ基；置換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノ基；置換基群βから選択される基で１乃至３個置換されてもよい、Ｃ3−Ｃ10シクロアルキル、Ｃ6−Ｃ10アリール、Ｃ7−Ｃ16アラルキル、Ｃ6−Ｃ10アリールオキシ、Ｃ7−Ｃ16アラルキルオキシ及びＣ6−Ｃ10アリールチオ基；Ｃ1−Ｃ7脂肪族アシルオキシ基；窒素原子を含有する４乃至７員飽和複素環基；窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環基；ニトロ基；並びにシアノ基から成る群から選択される基で１乃至４個置換されてもよいピリジル基であり、例えば、２−，３−若しくは４−ピリジル、３−，４−，５−若しくは６−フルオロ−２−ピリジル、２−，４−，５−若しくは６−フルオロ−３−ピリジル、２−若しくは３−フルオロ−４−ピリジル、３−，４−，５−若しくは６−クロロ−２−ピリジル、２−，４−，５−若しくは６−クロロ−３−ピリジル、２−若しくは３−クロロ−４−ピリジル、３−，４−，５−若しくは６−ブロモ−２−ピリジル、２−，４−，５−若しくは６−ブロモ−３−ピリジル、２−若しくは３−ブロモ−４−ピリジル、３−，４−，５−若しくは６−ヨード−２−ピリジル、２−，４−，５−若しくは６−ヨード−３−ピリジル、２−若しくは３−ヨード−４−ピリジル、３−，４−，５−若しくは６−ヒドロキシ−２−ピリジル、２−，４−，５−若しくは６−ヒドロキシ−３−ピリジル、２−若しくは３−ヒドロキシ−４−ピリジル、３−，４−，５−若しくは６−メチル−２−ピリジル、２−，４−，５−若しくは６−メチル−３−ピリジル、２−若しくは３−メチル−４−ピリジル、３，５−ジメチル−４−ピリジル、３−，４−，５−若しくは６−エチル−２−ピリジル、２−，４−，５−若しくは６−エチル−３−ピリジル、２−若しくは３−エチル−４−ピリジル、３，５−ジエチル−４−ピリジル、３−，４−，５−若しくは６−プロピル−２−ピリジル、２−，４−，５−若しくは６−プロピル−３−ピリジル、２−若しくは３−プロピル−４−ピリジル、３，５−ジプロピル−４−ピリジル、３−，４−，５−若しくは６−イソプロピル−２−ピリジル、２−，４−，５−若しくは６−イソプロピル−３−ピリジル、２−若しくは３−イソプロピル−４−ピリジル、３，５−ジイソプロピル−４−ピリジル、３−，４−，５−若しくは６−ｔ−ブチル−２−ピリジル、２−，４−，５−若しくは６−ｔ−ブチル−３−ピリジル、２−若しくは３−ｔ−ブチル−４−ピリジル、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ピリジル、３−，４−，５−若しくは６−トリフルオロメチル−２−ピリジル、２−，４−，５−若しくは６−トリフルオロメチル−３−ピリジル、２−若しくは３−トリフルオロメチル−４−ピリジル、３−，４−，５−若しくは６−メトキシ−２−ピリジル、２−，４−，５−若しくは６−メトキシ−３−ピリジル、２−若しくは３−メトキシ−４−ピリジル、３−，４−，５−若しくは６−エトキシ−２−ピリジル、２−，４−，５−若しくは６−エトキ���−３−ピリジル、２−若しくは３−エトキシ−４−ピリジル、３−，４−，５−若しくは６−プロポキシ−２−ピリジル、２−，４−，５−若しくは６−プロポキシ−３−ピリジル、２−若しくは３−プロポキシ−４−ピリジル、３−，４−，５−若しくは６−イソプロポキシ−２−ピリジル、２−，４−，５−若しくは６−イソプロポキシ−３−ピリジル、２−若しくは３−イソプロポキシ−４−ピリジル、３−，４−，５−若しくは６−ｔ−ブトキシ−２−ピリジル、２−，４−，５−若しくは６−ｔ−ブトキシ−３−ピリジル、２−若しくは３−ｔ−ブトキシ−４−ピリジル、４−メチルチオ−２−ピリジル、６−イソプロピルチオ−３−ピリジル、６−ｔ−ブチルチオ−２−ピリジル、３−，４−，５−若しくは６−アミノ−２−ピリジル、２−，４−，５−若しくは６−アミノ−３−ピリジル、２−若しくは３−アミノ−４−ピリジル、３−，４−，５−若しくは６−メチルアミノ−２−ピリジル、２−，４−，５−若しくは６−メチルアミノ−３−ピリジル、２−若しくは３−メチルアミノ−４−ピリジル、５−フェニルアミノ−２−ピリジル、５−ベンジルアミノ−２−ピリジル、５−アセチルアミノ−２−ピリジル、５−ベンゾイルアミノ−２−ピリジル、５−フェニルアセチルアミノ−２−ピリジル、６−フェニル−２−ピリジル、６−（４−ヒドロキシフェニル）−２−ピリジル、６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−２−ピリジル、６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ピリジル、６−ベンジル−２−ピリジル、６−（４−ヒドロキシベンジル）−２−ピリジル、６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル）−２−ピリジル、６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ピリジル、６−フェノキシ−２−ピリジル、６−（４−ヒドロキシフェノキシ）−２−ピリジル、６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェノキシ）−２−ピリジル、６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−２−ピリジル、６−ベンジルオキシ−２−ピリジル、６−（４−ヒドロキシベンジルオキシ）−２−ピリジル、６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルオキシ）−２−ピリジル、６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルオキシ）−２−ピリジル、６−フェニルチオ−２−ピリジル、６−（４−ヒドロキシフェニルチオ）−２−ピリジル、６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニルチオ）−２−ピリジル、６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルチオ）−２−ピリジル、３−，４−，５−若しくは６−ホルミルオキシ−２−ピリジル、２−，４−，５−若しくは６−ホルミルオキシ−３−ピリジル、２−若しくは３−ホルミルオキシ−４−ピリジル、３−，４−，５−若しくは６−アセトキシ−２−ピリジル、２−，４−，５−若しくは６−アセトキシ−３−ピリジル、２−若しくは３−アセトキシ−４−ピリジル、６−（１−ピロリジニル）−２−ピリジル、６−（１−ピペリジニル）−２−ピリジル、６−（４−モルホリニル）−２−ピリジル、３−，４−，５−若しくは６−ニトロ−２−ピリジル、２−，４−，５−若しくは６−ニトロ−３−ピリジル、２−若しく���３−ニトロ−４−ピリジル、５−アミノ−６−フルオロ−２−ピリジル、５−アミノ−６−クロロ−２−ピリジル、６−クロロ−３−ニトロ−２−ピリジル、６−メトキシ−５−メチル−３−ピリジル、６−メチル−２−ニトロ−３−ピリジル、６−クロロ−３−ニトロ−２−ピリジル、６−メトキシ−３−ニトロ−２−ピリジル、６−イソプロポキシ−３−ニトロ−２−ピリジル、６−ｔ−ブトキシ−３−ニトロ−２−ピリジル、６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェノキシ）−５−ニトロ−２−ピリジル基を挙げることができる。
【００５０】
そのような「置換基群αから選択される基で１乃至４個置換されてもよいピリジル基」としては、好適には、下記置換基で１個置換されてもよいピリジル基（該置換基は、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ、置換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノ又はニトロである。）であり、更に好適には、下記置換基で１個置換されてもよいピリジル基（該置換基は、弗素、塩素、ヒドロキシ、メチル、エチル、ｔ−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシ、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ又はニトロである。）であり、特に好適には、ピリジル基である。
【００５１】
上記において、Ａの定義における「Ｃ1−Ｃ6アルキレン基」は、炭素数１乃至６個の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し、例えば、メチレン、メチルメチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、メチルエチレン、エチルエチレン、テトラメチレン、１−メチルトリメチレン、２−メチルトリメチレン、３−メチルトリメチレン、１，１−ジメチルエチレン、ペンタメチレン、１−メチルテトラメチレン、２−メチルテトラメチレン、３−メチルテトラメチレン、４−メチルテトラメチレン、プロピルエチレン、１，１−ジメチルトリメチレン、２，２−ジメチルトリメチレン、３，３−ジメチルトリメチレン、ヘキサメチレン、１−メチルペンタメチレン、２−メチルペンタメチレン、３−メチルペンタメチレン、４−メチルペンタメチレン、５−メチルペンタメチレン、１，１−ジメチルテトラメチレン、２，２−ジメチルテトラメチレン、３，３−ジメチルテトラメチレン、４，４−ジメチルテトラメチレン、ブチルエチレン、イソブチルエチレン基であり、好適にはＣ1−Ｃ4アルキレン基であり、更に好適にはＣ1−Ｃ2アルキレン基であり、特に好適にはメチレン基である。
【００５２】
本発明の化合物（Ｉ）は、常法に従って塩にすることができる。そのような塩としては、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩のようなアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩のようなアルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、鉄塩、亜鉛塩、銅塩、ニッケル塩、コバルト塩等の金属塩；アンモニウム塩のような無機塩、ｔ−オクチルアミン塩、ジベンジルアミン塩、モルホリン塩、グルコサミン塩、フェニルグリシンアルキルエステル塩、エチレンジアミン塩、Ｎ−メチルグルカミン塩、グアニジン塩、ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン塩、クロロプロカイン塩、プロカイン塩、ジエタノールアミン塩、Ｎ−ベンジル−Ｎ−フェネチルアミン塩、ピペラジン塩、テトラメチルアンモニウム塩、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン塩のような有機塩等のアミン塩；弗化水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩のようなハロゲン化水素酸塩；硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩；メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩のような低級アルカンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p-トルエンスルホン酸塩のようなアリ−ルスルホン酸塩、酢酸、りんご酸、フマ−ル酸塩、コハク酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、蓚酸塩、マレイン酸塩等の有機酸塩；及び、オルニチン酸塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のようなアミノ酸塩を挙げることができ、好適には、ハロゲン化水素酸塩又は有機酸塩である。
【００５３】
又、本発明の化合物（Ｉ）は、大気中に放置しておいたり、再結晶することにより、水分を吸収し、吸着水が付いたり、水和物となる場合があり、そのような溶媒和物を形成する場合には、これら全て本発明に包含される。
【００５４】
更に、本発明の化合物（Ｉ）は、他のある種の溶媒を吸収し、溶媒和物となる場合があるが、そのようなものも本発明に包含される。
【００５５】
更に、生体内において代謝されて本発明の化合物（Ｉ）またはその薬理上許容される塩に変換される化合物、いわゆるプロドラッグも全て含むものである。
【００５６】
なお、本発明の化合物（Ｉ）は、種々の異性体を有する。
【００５７】
即ち、Ｒ3が、２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル基（ＩＶ−２）又は２，４−ジオキソオキサゾリジン−５−イルメチル基（ＩＶ−３）を示す場合、該チアゾリジン環又はオキサゾリジン環の５位は不斉炭素原子を有し、Ｒ配位、Ｓ配位である立体異性体が存在する。その各々、或はそれらの任意の割合の化合物いずれも本発明に包含される。そのような立体異性体は、光学分割された原料化合物を用いて化合物（Ｉ）を合成するか又は合成した化合物（Ｉ）を所望により通常の光学分割法若しくは分離法を用いて光学分割することができる。
【００５８】
また、本発明の化合物（Ｉ）において、Ｒ3が、２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル基（ＩＶ−２）、２，４−ジオキソオキサゾリジン−５−イルメチル基（ＩＶ−３）又は３，５−ジオキソオキサジアゾリジン−２−イルメチル基（ＩＶ−４）である場合、種々の互変異性体の存在が考えられ、その各々、或はそれらの任意の割合の化合物いずれも本発明に含有される。そのような異性体は、例えば、以下に示す通りである。
【００５９】
【化９】
0004169450.tif 000006
【００６０】
【化１０】
0004169450.tif 000007
【００６１】
【化１１】
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【００６２】
【化１２】
0004169450.tif 000009
また、本発明の化合物（Ｉ）又はその薬理上許容される塩と組み合わせて医薬をなす薬剤としては、α−グルコシダーゼ阻害剤、アルドース還元酵素阻害剤、ビグアナイド剤、スタチン系化合物、スクアレン合成阻害剤、フィブラート系化合物、ＬＤＬ異化促進剤およびアンジオテンシン変換酵素阻害剤を挙げることができる。
【００６３】
上記において、α−グルコシダーゼ阻害剤とは、アミラーゼ、マルターゼ、α−デキストリナーゼ、スクラーゼなどの消化酵素を阻害して、澱粉や蔗糖の消化を遅延させる作用を有する薬剤であり、例えば、アカルボース、Ｎ−（１，３−ジヒドロキシ−２−プロピル）バリオールアミン（一般名：ボグリボース）、ミグリトール等を挙げることができる。
【００６４】
上記において、アルドース還元酵素阻害剤とは、ポリオール経路の最初のステップの律速酵素を阻害することにより糖尿病性合併症を阻止する薬剤であり、例えば、トルレスタット、エパルレスタット、２,７−ジフルオロ−スピロ（９Ｈ−フルオレン−９,４'−イミダゾリジン）−２',５'−ジオン（一般名：イミレスタット）、３−〔（４−ブロモ−２−フルオロフェニル）メチル〕−７−クロロ−３,４−ジヒドロ−２,４−ジオキソ−１（２Ｈ）−キナゾリン酢酸（一般名：ゼナレスタット）、６−フルオロ−２,３−ジヒドロ−２',５'−ジオキソ−スピロ〔４Ｈ−１−ベンゾピラン−４,４'−イミダゾリジン〕−２−カルボキサミド  （ＳＮＫ−８６０）、ゾポルレスタット、ソルビニル、１−〔（３−ブロモ−２−ベンゾフラニル）スルフォニル〕−２,４−イミダゾリジンジオン（Ｍ−１６２０９）等を挙げることができる。
【００６５】
上記において、ビグアナイド剤とは、嫌気性解糖促進作用、抹消でのインスリン作用増強、腸管からのグルコース吸収抑制、肝糖新生の抑制、脂肪酸酸化阻害などの作用を有する薬剤であり、例えば、フェンホルミン、メトホルミン、ブホルミン等を挙げることができる。
【００６６】
上記において、スタチン系化合物とは、ヒドロキシメチルグルタリルＣｏＡ（ＨＭＧ−ＣｏＡ）リダクターゼを阻害することにより、血中コレステロールを低下させる薬剤であり、例えば、プラバスタチンおよびそのナトリウム塩、シンバスタチン、ロバスタチン、アトルバスタチン、フルバスタチン等を挙げることができる。
【００６７】
上記において、スクアレン合成阻害剤とは、スクアレン合成を阻害することにより、血中コレステロールを低下させる薬剤であり、例えば、（Ｓ）−α−〔ビス（２,２−ジメチル−１−オキソプロポキシ）メトキシ〕ホスフィニル−３−フェノキシベンゼンブタンスルホン酸モノカリウム塩（ＢＭＳ−１８８４９４）等を挙げることができる。
【００６８】
上記において、フィブラート系化合物とは、肝臓でのトリグリセリド合成および分泌を抑制し、リポタンパク質リパーゼを活性化することにより、血中トリグリセリドを低下させる薬剤であり、例えば、ベザフィブラート、ベクロブラート、ビニフィブラート、シプロフィブラート、クリノフィブラート、クロフィブラート、クロフィブリン酸、エトフィブラート、フェノフィブラート、ゲムフィブロジル、ニコフィブラート、ピリフィブラート、ロニフィブラート、シムフィブラート、テオフィブラート等を挙げることができる。
【００６９】
上記において、ＬＤＬ異化促進剤とは、ＬＤＬ（低密度リポタンパク質）受容体を増加することにより血中コレステロールを低下させる薬剤であり、例えば、特開平７−３１６１４４に記載された化合物またはその塩、具体的にはＮ−〔２−〔４−ビス（４−フルオロフェニル）メチル−１−ピペラジニル〕エチル〕−７,７−ジフェニル−２,４,６−ヘプタトリエン酸アミド等を挙げることができる。
【００７０】
上記したスタチン系化合物、スクアレン合成阻害剤、フィブラート系化合物およびＬＤＬ異化促進剤は、血中のコレステロールやトリグリセリドを低下させる作用を有する他の薬剤と置き換えてもよい。このような薬剤としては、例えばニコモールやニセリトロール等のニコチン酸誘導体製剤；プロブコール等の抗酸化剤；コレスチラミン等のイオン交換樹脂製剤などを挙げることができる。
【００７１】
上記において、アンジオテンシン変換酵素阻害剤とは、アンジオテンシン変換酵素を阻害することにより、血圧を低下させると同時に糖尿病患者において部分的に血糖を低下させる薬剤であり、例えば、カプトプリル、エナラプリル、アラセプリル、デラプリル、ラミプリル、リジノプリル、イミダプリル、ベナゼプリル、セロナプリル、シラザプリル、エナラプリラート、フォシノプリル、モベルトプリル、ペリンドプリル、キナプリル、スピラプリル、テモカプリル、トランドラプリル等を挙げることができる。
【００７２】
本発明の、インスリン抵抗性改善剤、血糖低下剤、抗炎症剤、免疫調節剤、アルドース還元酵素阻害剤、５−リポキシゲナーゼ阻害剤、過酸化脂質生成抑制剤、ＰＰＡＲ活性化剤、抗骨粗鬆症剤、ロイコトリエン拮抗剤、脂肪細胞化促進剤、ガン細胞増殖抑制剤又はカルシウム拮抗剤、或いは、糖尿病、高脂血症、肥満症、耐糖能不全、高血圧症、脂肪肝、糖尿病合併症、動脈硬化症、妊娠糖尿病、多嚢胞卵巣症候群、心血管性疾患、アテローム性動脈硬化症若しくは虚血性心疾患により惹起される細胞損傷、痛風、炎症性疾患、ガン、骨粗鬆症又は白内障の予防剤又は治療剤の有効成分として含有される一般式（Ｉ）を有する化合物において、好適には、
（１）Ｒ1が、一般式（ＩＩ）を有する基である化合物、
（２）Ｒ2及びＲ5が、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基、Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ基又は置換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノ基である化合物、
（３）Ｒ2及びＲ5が、同一又は異なって、水素原子、弗素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、メチル基、エチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルチオ基又はアミノ基である化合物、
（４）Ｒ2及びＲ5が、水素原子である化合物、
（５）Ｒ3が、式（ＩＶ−１）乃至（ＩＶ−３）を有する基である化合物、
（６）Ｒ3が、式（ＩＶ−２）又は（ＩＶ−３）を有する基である化合物、
（７）Ｒ3が、式（ＩＶ−２）を有する基である化合物、
（８）Ｒ4が、下記置換基で１個置換されてもよいピリジル基（該置換基は、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ、置換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノ又はニトロである。）である化合物、
（９）Ｒ4が、下記置換基で１個置換されてもよいピリジル基（該置換基は、弗素、塩素、ヒドロキシ、メチル、エチル、ｔ−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシ、メチルチオ、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ又はニトロである。）である化合物、
（１０）Ｒ4が、ピリジル基である化合物、
（１１）Ｒ4が、下記置換基群から選択される基で少なくとも１個置換されたフェニル基（該置換基群は、置換基群βから選択される基で１乃至３個置換されてもよい、Ｃ3−Ｃ10シクロアルキル、Ｃ6−Ｃ10アリール及びＣ7−Ｃ16アラルキル、窒素原子を含有する４乃至７員飽和複素環並びに窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環から成る。）である化合物、
（１２）Ｒ4が、下記置換基で１個置換されたフェニル基（該置換基群は、置換基群βから選択される基で１個置換されてもよい、Ｃ3−Ｃ10シクロアルキル、Ｃ6−Ｃ10アリール若しくはＣ7−Ｃ16アラルキル、窒素原子を含有する４乃至７員飽和複素環又は窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環である。）である化合物、
（１３）Ｒ4が、下記置換基で１個置換されたフェニル基（該置換基は、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ又は置換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノで１個置換されてもよい、Ｃ3−Ｃ10シクロアルキル、Ｃ6−Ｃ10アリール若しくはＣ7−Ｃ16アラルキル、窒素原子を含有する４乃至７員飽和複素環又は窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環である。）である化合物、
（１４）Ｒ4が、下記置換基で１個置換されたフェニル基（該置換基は、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ若しくは置換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノで１個置換されてもよい、フェニル若しくはベンジル、アダマンチル、ピロリジニル、モルホリニル、ピペリジニル、イミダゾリル、テトラゾリル又はピリジニル基である。）である化合物、
（１５）Ｒ4が、下記置換基で１個置換されたフェニル基（該置換基は、弗素、塩素、ヒドロキシ、メチル、エチル、ｔ−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシ、アミノ、メチルアミノ若しくはジメチルアミノで１個置換されてもよい、フェニル若しくはベンジル、アダマンチル、ピロリジニル、モルホリニル、ピペリジニル、イミダゾリル、テトラゾリル又はピリジニル基である。）である化合物、
（１６）Ｒ4が、４−ビフェニリル、４−ベンジルフェニル、４‘−ヒドロキシビフェニリル、（ピロリジン−１−イル）フェニル、（モルホリン−４−イル）フェニル、（ピペリジン−１−イル）フェニル、（ピリジン−２−イル）フェニル、（ピリジン−３−イル）フェニル又は４−（１−アダマンチル）フェニル基である化合物、
（１７）Ｒ4が、置換基群γから選択される基で置換されてもよいアシルアミノで１個置換され、更に、下記置換基群から選択される基で１乃至３個置換されてもよいフェニル基（該置換基群は、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ及びＣ1−Ｃ6アルキルチオから成る。）である化合物、
（１８）Ｒ4が、置換基群γから選択される基で置換されてもよいアシルアミノで１個置換され、更に、下記置換基群から選択される基で１乃至３個置換されてもよいフェニル基（該置換基群は、ハロゲン及びＣ1−Ｃ6アルキルから成る。）である化合物、
（１９）Ｒ4が、Ｃ1−Ｃ10アルキルまたは置換されてもよいＣ7−Ｃ12アラルキルで置換されてもよいアシルアミノで１個置換され、更に、Ｃ1−Ｃ6アルキルで１乃至３個置換されてもよいフェニル基である化合物、
（２０）Ｒ4が、下記置換基で１個置換されたフェニル基（該置換基は、置換されてもよい、Ｃ7−Ｃ11芳香族アシルアミノ、Ｃ4−Ｃ11シクロアルキルカルボニルアミノ又は窒素原子を含有する５乃至６員芳香複素環カルボニルアミノである。）である化合物、
（２１）Ｒ4が、ベンゾイルアミノ、３−クロロベンゾイルアミノ、２，４−ジフルオロベンゾイルアミノ、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベンゾイルアミノ、ナフトイルアミノ、シクロペンタノイルアミノ、シクロヘキサノイルアミノ、ニコチノイルアミノ、イソニコチノイルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−ヘキシルアミノ又はアダマンチルカルボニルアミノで置換されたフェニル基である化合物、
（２２）Ｒ4が、アミノ、１乃至２個の基で置換されたアミノ（該置換基は、同一又は異なって、Ｃ1−Ｃ10アルキル並びに、置換されてもよい、Ｃ6−Ｃ10アリール及びＣ7−Ｃ16アラルキルから選択される基である。）、ニトロ又はシアノで１個置換され、更に、下記置換基群から選択される基で１乃至３個置換されてもよいフェニル基（該置換基群は、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ及びＣ1−Ｃ6アルキルチオから成る。）である化合物、
（２３）Ｒ4が、アミノ、モノ若しくはジ−Ｃ1−Ｃ10アルキルアミノ又はシアノで１個で置換され、更に、Ｃ1−Ｃ6アルキルで１乃至２個置換されてもよいフェニル基である化合物、
（２４）Ｒ4が、４−アミノフェニル、４−アミノ−３，５−ジメチルフェニル、４−アミノ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル、３−若しくは４−ジメチルアミノフェニル又は４−シアノフェニル基である化合物、
（２５）Ｒ4が、置換基群βから選択される基で１乃至３個置換されてもよい、Ｃ6−Ｃ10アリールオキシ、Ｃ7−Ｃ16アラルキルオキシ又はＣ6−Ｃ10アリールチオで１個置換され、更に、下記置換基群から選択される基で１乃至３個置換されてもよいフェニル基（該置換基群は、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ及びＣ1−Ｃ6アルキルチオから成る。）である化合物、
（２６）Ｒ4が、置換基群βから選択される基で１乃至３個置換されてもよいＣ6−Ｃ10アリールオキシで置換され、更に、Ｃ1−Ｃ6アルキルで１乃至２個置換されてもよいフェニル基である化合物、
（２７）Ｒ4が、置換基群βから選択される基で１個置換されてもよいＣ6−Ｃ10アリールオキシで置換されたフェニル基である化合物、
（２８）Ｒ4が、４−フェノキシフェニルである化合物、
（２９）Ｒ4が、下記置換基群から選択される基で１乃至５個置換されたフェニル基（該置換基群は、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ及びＣ1−Ｃ7脂肪族アシルオキシから成る。）である化合物、
（３０）Ｒ4が、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ又はＣ1−Ｃ7脂肪族アシルオキシで１個置換され、更に、下記置換基群から選択される基で１乃至４個置換されてもよいフェニル基（該置換基群は、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ6アルキル及びハロゲノＣ1−Ｃ6アルキルから成る。）である化合物、
（３１）Ｒ4が、Ｃ1−Ｃ6アルキル、ハロゲノＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ若しくはＣ1−Ｃ6アルキルチオで１個置換されたフェニル基又は１乃至５個のハロゲンで置換されたフェニル基である化合物、
（３２）Ｒ4が、ハロゲノＣ1−Ｃ2アルキル、Ｃ1−Ｃ2アルコキシ若しくはＣ1−Ｃ2アルキルチオで１個置換されたフェニル基又は１乃至５個の弗素原子若しくは塩素原子で置換されたフェニル基である化合物、
（３３）Ｒ4が、４−トリフルオロメチルフェニル、４−メチルチオフェニル、４−メトキシフェニル又はペンタフルオロフェニル基である化合物、
（３４）Ｒ4が、ヒドロキシ若しくはＣ1−Ｃ7脂肪族アシルオキシで１個置換され、更に、下記置換基群から選択される基で１乃至３個置換されてもよいフェニル基（該置換基群は、ハロゲン及びＣ1−Ｃ6アルキルから成る。）である化合物、
（３５）Ｒ4が、ヒドロキシで１個置換され、更に、下記置換基群から選択される基で１乃至３個置換されてもよいフェニル基（該置換基群は、ハロゲン及びＣ1−Ｃ6アルキルから成る。）である化合物、
（３６）Ｒ4が、ヒドロキシで１個置換され、更に、下記置換基群から選択される基で１乃至３個置換されてもよいフェニル基（該置換基群は、弗素、塩素、メチル及びｔ−ブチルから成る。）である化合物、
（３７）Ｒ4が、４−ヒドロキシフェニル、４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル、４−ヒドロキシ−２，３，５−トリメチルフェニル、２―クロロ−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル基である化合物、
（３８）Ｒ6が、水素原子、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、又は下記置換基群から選択される基で１乃至３個置換されてもよい置換されてもよい、フェニル若しくはベンジル基（該置換基群は、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ6アルキル及びハロゲノＣ1−Ｃ6アルキルから成る。）である化合物、
（３９）Ｒ6が、水素原子、Ｃ1−Ｃ4アルキル基、又は下記置換基で１個置換されてもよい、フェニル若しくはベンジル基（該置換基は、弗素、塩素、ヒドロキシ、メチル又はエチルである。）である化合物、
（４０）Ｒ6が、水素原子又はＣ1−Ｃ4アルキル基である化合物、
（４１）Ｒ6が、Ｃ1−Ｃ2アルキル基である化合物、
（４２）Ｒ6が、メチル基である化合物、
（４３）Ａが、Ｃ1−Ｃ4アルキレン基である化合物、
（４４）Ａが、Ｃ1−Ｃ2アルキレン基である化合物、
（４５）Ａが、メチレン基である化合物、
（４６）Ｂが、酸素原子である化合物、
（４７）Ｄが、酸素原子である化合物、
（４８）Ｄが、硫黄原子である化合物、
（４９）Ｅが、ＣＨを有する基である化合物、
（５０）Ｅが、窒素原子である化合物
を挙げることができる。
【００７３】
また、（１）、（２）−（４）、（５）−（７）、（８）−（３７）、（３８）−（４２）、（４３）−（４５）、（４６）、（４７）−（４８）及び（４９）−（５０）から２乃至９個選択し、それらを任意に組み合わせたものも好適である。
【００７４】
本発明の化合物として、例えば、表１−表１０に記載する化合物を挙げることができるが、本発明はこれらの化合物に限定されるものではない。なお、表１−表１０の化合物は、それぞれ式（Ｉ−１）−（Ｉ−１０）の構造式を有する。但し、表中の略記は以下の通りである。
Ac：アセチル基
Ada(1):１−アダマンチル基
Bu：ブチル基
sBu ：ｓ−ブチル基
tBu ：ｔ−ブチル基
Bz：ベンジル基
Et：エチル基
Hx：ヘキシル基
cHx：シクロヘキシル基
Imid(1)：１−イミダゾリル基
Me：メチル基
Mor(4)：４−モルホリニル基
Np(1)：１−ナフチル基
Np(2)：２−ナフチル基
Ph：フェニル基
Pip(1)：１−ピペリジニル基
Pipra(1): １−ピペラジニル基
Pn：ペンチル基
cPn：シクロペンチル基
Pr：プロピル基
iPr ：イソプロピル基
Pyr(2)：２−ピリジル基
Pyr(3)：３−ピリジル基
Pyr(4)：４−ピリジル基
Pyrd(1) ：１−ピロリジニル基
TioMor(4) ：４−チオモルホリニル基
Tz：テトラゾール−５−イル基。
【００７５】
【表１】
【００７６】
【化１３】
0004169450.tif 000010
0004169450.tif 000011
0004169450.tif 000012
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【００７７】
【表２】
【００７８】
【化１４】
0004169450.tif 000057
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【００７９】
【表３】
【００８０】
【化１５】
0004169450.tif 000078
0004169450.tif 000079
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0004169450.tif 000098
【００８１】
【表４】
【００８２】
【化１６】
0004169450.tif 000099
0004169450.tif 000100
0004169450.tif 000101
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【００８３】
【表５】
【００８４】
【化１７】
0004169450.tif 000109
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【００８５】
【表６】
【００８６】
【化１８】
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【００８７】
【表７】
【００８８】
【化１９】
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【００８９】
【表８】
【００９０】
【化２０】
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【００９１】
【表９】
【００９２】
【化２１】
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【００９３】
【表１０】
【００９４】
【化２２】
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【００９５】
また、上記表１−表１０において、インスリン抵抗性改善剤、血糖低下剤、抗炎症剤、免疫調節剤、アルドース還元酵素阻害剤、５−リポキシゲナーゼ阻害剤、過酸化脂質生成抑制剤、ＰＰＡＲ活性化剤、抗骨粗鬆症剤、ロイコトリエン拮抗剤、脂肪細胞化促進剤、ガン細胞増殖抑制剤及びカルシウム拮抗剤に有効成分として含有される一般式（Ｉ）を有する化合物として好適には、
化合物番号1-2 、1-3 、1-6 、1-7 、1-8 、1-10、1-11、1-13、1-18、1-25、1-41、1-42、1-43、1-48、1-51、1-60、1-68、1-69、1-70、1-71、1-72、1-77、1-80、1-86、1-89、1-90、1-94、1-97、1-104 、1-127 、1-128 、1-129 、1-130 、1-131 、1-132 、1-133 、1-134 、1-135 、1-136 、1-137 、1-141 、1-142 、1-143 、1-144 、1-148 、1-149 、1-150 、1-153 、1-154 、1-155 、1-156 、1-157 、1-159 、1-160 、1-161 、1-162 、1-163 、1-164 、1-165 、1-168 、1-169 、1-170 、1-171 、1-172 、1-175 、1-181 、1-182 、1-184 、1-185 、1-186 、1-191 、1-193 、1-195 、1-199 、1-200 、1-201 、1-206 、1-208 、1-213 、1-214 、1-215 、1-216 、1-221 、1-223 、1-230 、1-236 、1-241 、1-242 、1-243 、1-244 、1-245 、1-246 、1-248 、1-249 、1-250 、1-251 、1-253 、1-256 、1-257 、1-258 、1-259 、1-260 、1-264 、1-267 、1-269 、1-282 、1-284 、1-285 、1-286 、1-287 、1-288 、1-289 、1-290 、1-292 、1-293 、1-294 、1-295 、1-296 、1-297 、1-298 、1-299 、1-300 、1-302 、1-303 、1-304 、1-305 、1-307 、1-309 、1-312 、1-325 、1-329 、1-330 、1-331 、1-332 、1-333 、1-335 、1-339 、1-342 、1-344 、1-351 、1-354 、1-357 、1-358 、1-359 、1-362 、1-363 、1-366 、1-367 、1-368 、1-369 、1-370 、1-371 、1-375 、1-378 、1-408 、1-421 、1-429 、1-430 、1-433 、1-438 、1-439 、1-440 、1-441 、1-442 、1-447 、1-458 、1-463 、1-465 、1-468 、1-469 、1-470 、1-476 、1-481 、1-482 、1-483 、1-486 、1-487 、1-488 、1-489 、1-497 、1-499 、1-501 、1-502 、1-503 、1-504 、1-506 、1-507 、1-508 、1-513 、1-514 、1-515 、1-519 、1-520 、1-521 、1-522 、1-523 、1-528 、1-538 、1-540 、1-541 、1-543 、1-544 、1-560 、1-561 、1-565 、1-566 、1-567 、1-569 、1-572 、1-574 、1-575 、1-577 、1-578 、1-579 、1-590 、1-592 、1-593 、1-594 、1-595 、1-597 、1-598 、1-599 、1-600 、1-601 、1-602 、1-603 、1-607 、1-608 、1-609 、1-610 、1-613 、1-624 、1-627 、1-631 、1-633 、1-634 、1-635 、1-636 、1-637 、1-638 、1-639 、1-640 、1-641 、1-642 、1-643 、1-644 、1-645 、1-646 、1-647 、1-650 、1-651 、1-652 、1-653 、1-660 、1-661 、1-666 、1-668 、1-669 、1-670 、1-671 、1-690 、1-692 、1-693 、1-696 、1-697 、1-698 、1-705 、1-706 、1-707 、1-708 、1-710 、1-711 、1-713 、1-715 、1-722 、1-723 、1-724 、1-727 、1-728 、1-729 、1-738 、1-739 、1-740 、1-741 、1-742 、1-743 、1-747 、1-748 、1-749 、1-757 、1-758 、1-759 、1-764 、1-765 、1-767 、1-773 、1-777 、1-779 、1-786 、1-796 、1-800 、1-808 、1-809 、1-812 、1-814 、1-820 、1-821 、1-822 、1-823 、1-824 、1-829 、1-830 、1-831 、1-832 、1-839 、1-840 、1-841 、1-846 、1-859 、1-877 、1-878 、1-879 、1-881 、1-883 、1-888 、1-895 、1-897 、1-907 、1-909 、1-910 、1-911 、1-912 、1-913 、1-916 、1-917 、1-920 、1-922 、1-925 、1-926 、1-927 、1-930 、1-932 、1-937 、1-938 、1-939 、1-940 、1-941 、1-946 、1-948 、1-954 、1-956 、1-957 、1-958 、1-979 、1-984 、1-988 、1-989 、1-994 、1-998 、1-1001、1-1006、1-1010、1-1018、1-1019、1-1020、1-1021、1-1026、1-1028、1-1030、1-1110、1-1111、1-1112、1-1115、1-1126、1-1127、1-1128、1-1154、1-1182、1-1183、1-1184、1-1185、1-1210、1-1211、1-1212、1-1213、1-1230、1-1234、1-1235、1-1236、1-1237、1-1242、1-1248、1-1249、1-1256、1-1263、1-1264、1-1265、1-1269、1-1270、1-1271、1-1277、1-1285、1-1286、1-1287、1-1292、1-1293、1-1294、1-1298、1-1299、1-1305、1-1306、1-1307、1-1311、1-1312、1-1313、1-1318、1-1319、1-1320、1-1327、2-18、2-19、2-20、2-21、2-22、2-55、2-56、2-57、2-58、2-59、2-60、2-76、2-77、2-78、2-81、2-83、2-86、2-87、2-88、2-94、2-95、2-96、2-99、2-105 、2-115 、2-116 、2-117 、2-119 、2-121 、2-122 、2-123 、2-127 、2-134 、2-135 、2-153 、2-154 、2-155 、2-173 、2-185 、2-186 、2-187 、2-205 、2-206 、2-218 、2-219 、2-229 、2-230 、2-231 、2-232 、2-233 、2-234 、2-262 、2-263 、2-264 、2-265 、2-266 、2-267 、2-270 、2-286 、2-292 、2-296 、2-297 、2-298 、2-299 、2-300 、2-325 、2-326 、2-334 、2-335 、2-339 、2-340 、2-341 、2-342 、2-378 、2-379 、2-380 、2-381 、2-384 、2-385 、2-406 、2-430 、2-431 、2-432 、2-433 、2-513 、2-534 、2-541 、2-545 、2-547 、2-548 、2-549 、2-552 、2-553 、3-1 、3-2 、3-3 、3-4 、3-6 、3-10、3-19、3-20、3-21、3-22、3-53、3-54、3-55、3-56、3-57、3-58、3-59、3-60、3-69、3-76、3-78、3-81、3-83、3-86、3-87、3-88、3-94、3-95、3-96、3-105 、3-106 、3-107 、3-115 、3-116 、3-117 、3-119 、3-120 、3-127 、3-134 、3-136 、3-137 、3-142 、3-148 、3-149 、3-153 、3-154 、3-155 、3-156 、3-184 、3-188 、3-189 、3-205 、3-206 、3-218 、3-219 、3-229 、3-230 、3-231 、3-232 、3-234 、3-239 、3-241 、3-248 、3-250 、3-263 、3-264 、3-265 、3-266 、3-267 、3-272 、3-275 、3-276 、3-296 、3-297 、3-298 、3-299 、3-306 、3-326 、3-334 、3-335 、3-338 、3-339 、3-340 、3-341 、3-342 、3-344 、3-349 、3-351 、3-378 、3-379 、3-380 、3-381 、3-383 、3-385 、3-388 、3-406 、3-408 、3-430 、3-431 、3-432 、3-433 、3-521 、3-522 、3-530 、3-531 、3-532 、3-534 、3-540 、3-541 、3-542 、3-545 、3-547 、3-552 、3-553 、4-11、4-13、4-24、4-25、4-32、4-38、4-44、4-49、4-59、4-60、4-62、4-63、4-66、4-87、4-90、4-105 、4-118 、4-120 、4-121 、4-131 、4-132 、4-133 、4-134 、4-135 、4-145 、4-146 、4-147 、4-159 、4-166 、4-167 、4-168 、4-180 、4-181 、4-182 、4-200 、4-201 、4-202 、4-238 、4-239 、4-243 、4-245 、4-247 、4-252 、5-11、5-13、5-24、5-25、5-32、5-33、5-35、5-39、5-44、5-45、5-49、5-50、5-51、5-59、5-60、5-62、5-63、5-65、5-66、5-71、5-77、5-78、5-79、5-80、5-105 、5-112 、5-118 、5-119 、5-120 、5-122 、5-131 、5-132 、5-133 、5-134 、5-135 、5-137 、5-145 、5-146 、5-147 、5-148 、5-159 、5-163 、5-166 、5-167 、5-168 、5-170 、5-171 、5-180 、5-181 、5-182 、5-183 、5-192 、5-200 、5-201 、5-202 、5-236 、5-238 、5-242 、5-245 、5-247 、5-252 、5-253 、6-7 、6-8 、6-9 、6-26、6-45、6-47、6-48、6-58、6-59、6-60、6-67、6-82、6-93、6-107 、6-108 、6-109 、6-116 、6-117 、6-134 、6-149 、6-166 、6-199 、6-200 、6-208 、7-1 、7-2 、7-3 、7-4 、7-11、7-13、7-24、7-25、7-32、7-38、7-44、7-49、7-59、7-60、7-62、7-63、7-66、7-87、7-90、7-105 、7-118 、7-120 、7-121 、7-131 、7-132 、7-133 、7-134 、7-135 、7-145 、7-146 、7-147 、7-159 、7-166 、7-167 、7-168 、7-180 、7-181 、7-182 、7-200 、7-201 、7-202 、7-236 、7-238 、7-239 、7-241 、7-242 、7-243 、7-244 、7-245 、7-247 、7-248 、7-249 、7-250 、7-251 、7-252 、7-253 、8-7 、8-9 、8-19、8-26、8-31、8-34、8-38、8-45、8-47、8-48、8-51、8-58、8-67、8-82、8-93、8-95、8-96、8-105 、8-106 、8-107 、8-108 、8-109 、8-117 、8-118 、8-119 、8-130 、8-137 、8-138 、8-139 、8-149 、8-150 、8-151 、8-166 、8-167 、8-168  、8-199 、8-206 、8-213 、9-11、9-13、9-24、9-32、9-33、9-35、9-39、9-44、9-45、9-49、9-50、9-51、9-59、9-60、9-62、9-63、9-65、9-66、9-71、9-77、9-78、9-79、9-80、9-105 、9-118 、9-119 、9-120 、9-122 、9-131 、9-132 、9-133 、9-134 、9-135 、9-137 、9-145 、9-146 、9-147 、9-148 、9-159 、9-163 、9-166 、9-167 、9-168 、9-170 、9-171 、9-180 、9-181 、9-182 、9-183 、9-192 、9-200 、9-201 、9-202 、9-236 、9-238 、9-239 、9-242 、9-245 、9-247 、9-250 、9-252 、10-7、10-8、10-9、10-26 、10-45 、10-47 、10-48 、10-58 、10-59 、10-60 、10-67 、10-82 、10-93 、10-107、10-108、10-109、10-116、10-117、10-133、10-149、10-166、10-197、10-200、10-203、10-211及び10-213の化合物を挙げることができ、
更に好適には、
化合物番号1-69、1-70、1-72、1-131 、1-132 、1-136 、1-137 、1-142 、1-149 、1-150 、1-153 、1-154 、1-155 、1-157 、1-160 、1-161 、1-164 、1-168 、1-169 、1-171 、1-172 、1-184 、1-185 、1-193 、1-199 、1-200 、1-201 、1-214 、1-215 、1-216 、1-221 、1-241 、1-242 、1-243 、1-246 、1-257 、1-258 、1-259 、1-284 、1-285 、1-286 、1-290 、1-292 、1-302 、1-329 、1-330 、1-357 、1-368 、1-369 、1-370 、1-371 、1-375 、1-378 、1-408 、1-476 、1-481 、1-486 、1-501 、1-502 、1-503 、1-506 、1-513 、1-514 、1-515 、1-520 、1-521 、1-522 、1-523 、1-560 、1-577 、1-593 、1-594 、1-595 、1-603 、1-607 、1-609 、1-633 、1-634 、1-640 、1-650 、1-651 、1-652 、1-653 、1-660 、1-708 、1-727 、1-729 、1-739 、1-740 、1-741 、1-742 、1-747 、1-757 、1-759 、1-808 、1-821 、1-822 、1-823 、1-824 、1-831 、1-877 、1-878 、1-879 、1-938 、1-939 、1-940 、1-1126、1-1182、1-1210、1-1211、1-1212、1-1234、1-1235、1-1236、1-1237、1-1242、1-1248、1-1263、1-1269、1-1270、1-1271、1-1277、1-1285、1-1292、1-1298、1-1305、1-1306、1-1307、1-1311、1-1312、1-1313、1-1318、2-19、2-76、2-115 、2-121 、2-153 、2-185 、2-205 、2-229 、2-233 、2-264 、2-266 、2-267 、2-296 、2-298 、2-339 、2-378 、2-545 、2-547 、3-94、3-115 、3-153 、3-229 、3-231 、3-263 、3-266 、3-267 、3-298 、3-339 、3-340 、3-341 、3-342 、3-430 、3-432 、3-530 、5-11、5-44、5-78、5-118 、5-133 、5-135 、5-145 、5-146 、5-147 、5-166 、5-180 、5-236 、5-245 、9-11、9-44、9-78、9-118 、9-133 、9-135 、9-145 、9-147 、9-180 、9-238及び9-239の化合物を挙げることができ、
特に好適には、
化合物番号1-70：５−｛４−［６−（４−ヒドロキシフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
化合物番号1-131 ：５−｛４−［１−メチル−６−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
化合物番号1-132 ：５−｛４−［１−メチル−６−（４−メトキシフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
化合物番号1-136 ：５−｛４−［１−メチル−６−（４−メチルチオフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
化合物番号1-142 ：５−｛４−［６−（４−アミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
化合物番号1-153 ：５−｛４−［６−（３−ジメチルアミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
化合物番号1-164 ：５−｛４−［６−（４−アセチルアミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
化合物番号1-169 ：５−｛４−［１−メチル−６−（４−フェニルフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
化合物番号1-171 ：５−｛４−［６−（４’−ヒドロキシビフェニル−４−イルオキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
化合物番号1-184 ：５−｛４−［６−（４−ベンジルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
化合物番号1-199 ：５−｛４−（６−［２−（ピロリジン−１−イル）フェノキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
化合物番号1-241 ：５−｛４−（６−［２−（ピペリジン−１−イル）フェノキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
化合物番号1-284 ：５−｛４−（６−［２−（モルホリン−４−イル）フェノキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
化合物番号1-292 ：５−｛４−（１−メチル−６−［３−（モルホリン−４−イル）フェノキシ］−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
化合物番号1-368 ：５−｛４−［６−（２−クロロ−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
化合物番号1-481 ：５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−２−メチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
化合物番号1-486 ：５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
化合物番号1-513 ：５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
化合物番号1-520 ：５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
化合物番号1-593 ：５−｛４−［６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
化合物番号1-595 ：５−｛４−［６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルチオ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
化合物番号1-650 ：５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
化合物番号1-651 ：５−｛４−［５−（４−ヒドロキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）−３−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
化合物番号1-739 ：５−｛４−［６−（４−アミノ−３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
化合物番号1-808 ：５−｛４−［６−（４−アセチルアミノ−３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
化合物番号1-821 ：５−｛４−［６−（ピリジン−２−イルオキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
化合物番号1-823 ：５−｛４−［１−メチル−６−（ピリジン−２−イルチオ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
化合物番号1-938 ：５−｛４−［１−メチル−６−（ピリジン−３−イルオキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
化合物番号1-1126：５−｛４−（６−［４−（イミダゾール−１−イル）フェノキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
化合物番号1-1182：５−｛４−（６−［４−（１−アダマンチル）フェノキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
化合物番号1-1210：５−｛４−［６−（４−シアノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、
化合物番号1-1234：５−｛４−［６−（２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
化合物番号1-1235：５−［４−（６−ペンタフルオロフェノキシ−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル］チアゾリジン−２，４−ジオン、
化合物番号1-1248：５−｛４−［６−（４−ベンゾイルアミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
化合物番号1-1263：５−［４−｛６−［４−（２、４−ジフルオロベンゾイルアミノ）フェノキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ｝ベンジル］チアゾリジン−２、４−ジオン、
化合物番号1-1292：５−｛４−［６−（４−シクロペンタノイルアミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、
化合物番号1-1305：５−｛４−［６−（４−ニコチノイルアミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、及び
化合物番号5-135：５−｛４−［６−（３、５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルチオ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジリデン｝チアゾリジン−２、４−ジオン
を挙げることができる。
【００９６】
【発明の実施の形態】
本発明の一般式（Ｉ）を有する化合物は、以下の方法に従って容易に製造することができる。
【００９７】
【化２３】
0004169450.tif 000166
上記式中、Ｒ1、Ｒ2、Ａ及びＢは、前述したものと同意義を示し、Ｒ1aは、Ｒ1の基の定義に含まれるアミノ基及び／又は水酸基が、保護されていてもよいアミノ基及び／又は水酸基である他、Ｒ1の基の定義における基と同様の基を示し、Ｒ2aは、Ｒ2の基の定義に含まれるアミノ基及び／又は水酸基が、保護されていてもよいアミノ基及び／又は水酸基である他、Ｒ2の基の定義における基と同様の基を示し、Ｒ3aは、
【００９８】
【化２４】
0004169450.tif 000167
（上記式中、Ｒ8は、トリフェニルメチル基を示す。）
を示し、Ｒ3bは、
【００９９】
【化２５】
0004169450.tif 000168
を示す。
【０１００】
上記において、Ｒ1a及びＲ2aの定義における「保護されてもよいアミノ基」の「保護基」は、有機合成化学の分野で使用されるアミノ基の保護基であれば特に限定はされないが、例えば、前記Ｃ1−Ｃ7脂肪族アシル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハロゲノＣ2−Ｃ7アルキルカルボニル基、メトキシアセチルのようなＣ1−Ｃ6アルコキシで置換されたＣ2−Ｃ7アルキルカルボニル基等の「脂肪族アシル類」；前記Ｃ7−Ｃ11芳香族アシル基、２−ブロモベンゾイル、４−クロロベンゾイルのようなハロゲノＣ7−Ｃ11芳香族アシル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル、４−トルオイルのようなＣ1−Ｃ6アルキルで置換されたＣ7−Ｃ11芳香族アシル基、４−アニソイルのようなＣ1−Ｃ6アルコキシで置換されたＣ7−Ｃ11芳香族アシル基、４−ニトロベンゾイル、２−ニトロベンゾイルのようなニトロで置換されたＣ7−Ｃ11芳香族アシル基、２−（メトキシカルボニル）ベンゾイルのようなＣ2−Ｃ7アルコキシカルボニルで置換されたＣ7−Ｃ11芳香族アシル基、４−フェニルベンゾイルのようなＣ6−Ｃ10アリ−ルで置換されたＣ7−Ｃ11芳香族アシル基等の「芳香族アシル類」；前記Ｃ2−Ｃ7アルコキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル、２−トリメチルシリルエトキシカルボニルのようなハロゲン又はトリＣ1−Ｃ6アルキルシリルで置換されたＣ2−Ｃ7アルコキシカルボニル基等の「アルコキシカルボニル類」；ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニルのような「アルケニルオキシカルボニル類」；ベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、２−ニトロベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニルのような、「１乃至２個のＣ1−Ｃ6アルコキシ又はニトロでアリ−ル環が置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル類」；トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ−ｔ−ブチルシリル、トリイソプロピルシリルのようなトリＣ1−Ｃ6アルキルシリル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブチルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェニルジイソプロピルシリルのようなアリ−ル及びＣ1−Ｃ6アルキルから選択された基で３個置換されたシリル基等の「シリル類」；ベンジル、フェネチル、３−フェニルプロピル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、９−アンスリルメチルのような１乃至３個のアリ−ル基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基、４−メチルベンジル、２，４，６−トリメチルベンジル、３，４，５−トリメチルベンジル、４−メトキシベンジル、４−メトキシフェニルジフェニルメチル、２−ニトロベンジル、４−ニトロベンジル、４−クロロベンジル、４−ブロモベンジル、４−シアノベンジル、４−シアノベンジルジフェニルメチル、ビス（２−ニトロフェニル）メチル、ピペロニルのようなＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、シアノでアリ−ル環が置換された１乃至３個のアリ−ル基で置換されたＣ1−Ｃ6アル���ル基等の「アラルキル類」；又はＮ，Ｎ−ジメチルアミノメチレン、ベンジリデン、４−メトキシベンジリデン、４−ニトロベンジリデン、サリシリデン、５−クロロサリシリデン、ジフェニルメチレン、（５−クロロ−２−ヒドロキシフェニル）フェニルメチレンのような「シッフ塩基を形成する置換されたメチレン基」；であり、好適には、Ｃ1−Ｃ7脂肪族アシル基、Ｃ7−Ｃ11芳香族アシル基又はＣ2−Ｃ7アルコキシカルボニル基であり、更に好適にはＣ2−Ｃ7アルコキシカルボニル基であり、特に好適にはｔ−ブトキシカルボニル基である。
【０１０１】
上記において、Ｒ1a及びＲ2aにおける「保護されてもよい水酸基」の「保護基」は、有機合成化学の分野で使用される水酸基の保護基であれば特に限定はされないが、例えば、前記Ｃ1−Ｃ7脂肪族アシル基、スクシノイル、グルタロイル、アジポイルのようなカルボキシで置換されたＣ2−Ｃ7アルキルカルボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハロゲノＣ2−Ｃ7アルキルカルボニル基、メトキシアセチルのようなＣ1−Ｃ6アルコキシで置換されたＣ2−Ｃ7アルキルカルボニル基等の「脂肪族アシル類」；前記Ｃ7−Ｃ11芳香族アシル基、２−ブロモベンゾイル、４−クロロベンゾイルのようなハロゲノＣ7−Ｃ11芳香族アシル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル、４−トルオイルのようなＣ1−Ｃ6アルキルで置換されたＣ7−Ｃ11芳香族アシル基、４−アニソイルのようなＣ1−Ｃ6アルコキシで置換されたＣ7−Ｃ11芳香族アシル基、２−カルボキシベンゾイル、３−カルボキシベンゾイル、４−カルボキシベンゾイルのようなカルボキシで置換されたＣ7−Ｃ11芳香族アシル基、４−ニトロベンゾイル、２−ニトロベンゾイルのようなニトロで置換されたＣ7−Ｃ11芳香族アシル基、２−（メトキシカルボニル) ベンゾイルのようなＣ2−Ｃ7アルコキシカルボニルで置換されたＣ7−Ｃ11芳香族アシル基、４−フェニルベンゾイルのようなＣ6−Ｃ10アリ−ルで置換されたＣ7−Ｃ11芳香族アシル基等の「芳香族アシル類」；テトラヒドロピラン−２−イル、３−ブロモテトラヒドロピラン−２−イル、４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イル、テトラヒドロチオピラン−２−イル、４−メトキシテトラヒドロチオピラン−４−イルのような「テトラヒドロピラニル又はテトラヒドロチオピラニル類」；テトラヒドロフラン−２−イル、テトラヒドロチオフラン−２−イルのような「テトラヒドロフラニル又はテトラヒドロチオフラニル類」；トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ−ｔ−ブチルシリル、トリイソプロピルシリルのようなトリＣ1−Ｃ6アルキルシリル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブチルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェニルジイソプロピルシリルのようなアリ−ル及びＣ1−Ｃ6アルキルから選択された基で３個置換されたシリル基等の「シリル類」；メトキシメチル、１，１−ジメチル−１−メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、ブトキシメチル、ｔ−ブトキシメチルのような（Ｃ1−Ｃ6アルコキシ）メチル基、２−メトキシエトキシメチルのようなＣ1−Ｃ6アルコキシで置換された（Ｃ1−Ｃ6アルコキシ）メチル基、２，２，２−トリクロロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキシ) メチルのようなハロゲノ（Ｃ1−Ｃ6アルコキシ）メチル等の「アルコキシメチル類」；１−エトキシエチル、１−( イソプロポキシ) エチルのような（Ｃ1−Ｃ6アルコキシ）エチル基、２，２，２−トリクロロエチルのようなハロゲン化エチル基等の「置換エチル類」；ベンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、９−アンスリルメチルのような１乃至３個のアリ−ル基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基、４−メチルベンジル、２，４，６−トリメチルベンジル、３，４，５−トリメチルベンジル、４−メトキシベンジル、４−メトキシフェニルジフェニルメチル、２−ニトロベンジル、４−ニトロベンジル、４−クロロベンジル、４−ブロモベンジル、４−シアノベンジル、メチル、ピペロニルのようなＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、ハロゲン、シアノでアリ−ル環が置換された１乃至３個のアリ−ル基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基等の「アラルキル類」；前記Ｃ2−Ｃ7アルコキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル、２−トリメチルシリルエトキシカルボニルのようなハロゲン又はトリＣ1−Ｃ6アルキルシリル基で置換されたＣ2−Ｃ7アルコキシカルボニル基等の「アルコキシカルボニル類」；ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニルのような「アルケニルオキシカルボニル類」；ベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、２−ニトロベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニルのような、１乃至２個のＣ1−Ｃ6アルコキシ又はニトロでアリ−ル環が置換されていてもよい「アラルキルオキシカルボニル類」であり、好適には、Ｃ1−Ｃ7脂肪族アシル基、Ｃ7−Ｃ11芳香族アシル基、Ｃ2−Ｃ7アルコキシカルボニル基又は（Ｃ1−Ｃ6アルコキシ）メチル基であり、更に好適には、Ｃ7−Ｃ11芳香族アシル基又は（Ｃ1−Ｃ6アルコキシ）メチル基であり、特に好適にはベンゾイル基又はメトキシメチル基である。
【０１０２】
Ａ法は、化合物（Ｉ）において、Ｒ3が式（ＩＶ−１）乃至（ＩＶ−４）を有する基である化合物（Ｉａ）を製造する方法である。
【０１０３】
第Ａ１工程は、一般式（ＶＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、ホスフィン類（好適には、トリブチルホスフィン又はトリフェニルホスフィンである。）及びアゾジカルボン酸化合物類（好適には、アゾジカルボン酸ジエチル又は１，１−アゾジカルボン酸ジピペリジンである。）の存在下、一般式（Ｖ’）を有する化合物と一般式（ＶＩ）を有する化合物を反応させることにより行われる。
【０１０４】
上記反応に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；又は上記溶媒の混合溶媒；であり、好適には、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類又は上記溶媒の混合溶媒（更に好適には、芳香族炭化水素類又はエーテル類であり、特に好適には、トルエン又はテトラヒドロフラン）である。
【０１０５】
反応温度は、原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至１５０℃（好適には、０℃乃至６０℃）である。
【０１０６】
反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分間乃至５日間（好適には、５時間乃至７２時間）である。
【０１０７】
反応終了後、本反応の目的化合物（ＶＩＩ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０１０８】
第Ａ２工程は、一般式（Ｉａ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒の存在下又は非存在下（好適には、存在下）、化合物（ＶＩＩ）を酸と反応させ、Ｒ8におけるトリフェニルメチル基を除去した後、所望によりＲ1a及びＲ2aにおけるアミノ基及び／又は水酸基の保護基を除去することにより行われる。
【０１０９】
上記前段の反応に使用される酸は、通常の反応において酸触媒として使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、燐酸のような無機酸；酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸等のブレンステッド酸；塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリクロリド、ボロントリフルオリド、ボロントリブロミドのようなルイス酸；酸性イオン交換樹脂；であり、好適には、無機酸又は有機酸（特に好適には、塩酸、酢酸又はトリフルオロ酢酸）である。
【０１１０】
上記前段の反応に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；水；或は水又は上記溶媒の混合溶媒；であり、好適には、エーテル類、アルコ−ル類又は水（特に好適には、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エタノール又は水）である。
【０１１１】
反応温度は、原料化合物、使用される酸、溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至沸点温度（好適には、０℃乃至１００℃）である。
【０１１２】
反応時間は、原料化合物、使用される酸、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１５分間乃至４８時間（好適には、３０分間乃至２０時間）である。
【０１１３】
また、本工程は、不活性溶媒中、大気圧下乃至加圧下（好適には、加圧下）化合物（ＶＩＩ）に接触還元反応を行い、Ｒ8におけるトリフェニルメチル基を除去した後、所望によりＲ1a及びＲ2aにおけるアミノ基及び／又は水酸基の保護基を除去することにより、目的化合物（Ｉａ）を製造することもできる。
【０１１４】
上記接触還元反応に使用される触媒は、通常の接触還元反応において使用されるものであれば特に限定はされないが、例えば、パラジウム−炭素、ラネ−ニッケル、ロジウム−酸化アルミニウム、トリフェニルホスフィン−酸化ロジウム、パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム黒、酸化白金、白金黒であり、好適には、パラジウム−炭素である。
【０１１５】
上記接触還元反応に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；酢酸、トリフルオロ酢酸のような有機酸類；又は上記溶媒の混合溶媒；であり、好適には、エーテル類、アルコ−ル類又は有機酸類（特に好適には、アルコ−ル類）である。
【０１１６】
反応温度は、原料化合物、使用される触媒、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至１００℃（好適には、１０℃乃至５０℃）である。
【０１１７】
反応時間は、原料化合物、使用される触媒、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分間乃至４８時間（好適には、１時間乃至２４時間）である。
【０１１８】
アミノ基及び水酸基の保護基の除去はその種類によって異なるが、一般に有機合成化学の技術において周知の方法、例えば、T.W.Green,（Protective Groups in Organic Synthesis）,John Wiley & Sons:J.F.W.McOmis,（Protective  Groups in OrganicChemistry）,Plenum  Pressに記載の方法により以下のように行うことができる。
【０１１９】
アミノ基の保護基が、シリル類である場合には、通常、弗化テトラブチルアンモニウム、弗化水素酸、弗化水素酸−ピリジン、弗化カリウムのような弗素アニオンを生成する化合物で処理することにより除去される。
【０１２０】
上記反応に使用される溶媒は、反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類が好適である。
【０１２１】
反応温度及び反応時間は、特に限定はないが、通常、０℃乃至５０℃で１０時間乃至１８時間実施される。
【０１２２】
アミノ基の保護基が、脂肪族アシル類、芳香族アシル類、アルコキシカルボニル類又はシッフ塩基を形成する置換されたメチレン基である場合には、水性溶媒の存在下に、酸又は塩基で処理することにより除去することができる。
【０１２３】
上記反応に使用される酸としては、通常酸として使用されるもので反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、例えば、臭化水素酸、塩酸、硫酸、過塩素酸、燐酸、硝酸のような無機酸であり、好適には塩酸である。
【０１２４】
上記反応に使用される塩基としては、化合物の他の部分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、好適には、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−ｔ−ブトキシドのような金属アルコキシド類；アンモニア水、濃アンモニア−メタノ−ルのようなアンモニア類；が用いられる。
【０１２５】
上記反応に使用される溶媒としては、通常の加水分解反応に使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；水；水と上記有機溶媒との混合溶媒；であり、好適にはエーテル類（特に好適にはジオキサン）である。
【０１２６】
反応温度及び反応時間は、原料化合物、溶媒及び使用される酸若しくは塩基等により異なり、特に限定はないが、副反応を抑制するために、通常、０℃乃至１５０℃で、1 時間乃至１０時間反応させる。
【０１２７】
アミノ基の保護基が、アラルキル類又はアラルキルオキシカルボニル類である場合には、通常、不活性溶媒中、還元剤と接触させることにより（好適には、触媒下、常温にて接触還元）除去する方法又は酸化剤を用いて除去する方法が好適である。
【０１２８】
接触還元による除去に使用される溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；酢酸のような有機酸類；水；上記溶媒と水との混合溶媒；であり、好適には、アルコ−ル類、エーテル類、有機酸類又は水（特に好適には、アルコール類又は有機酸類）である。
【０１２９】
接触還元による除去に使用される使用される触媒としては、通常、接触還元反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、好適には、パラジウム−炭素、ラネ−ニッケル、酸化白金、白金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、トリフェニルホスフィン−塩化ロジウム、パラジウム−硫酸バリウムが用いられる。
【０１３０】
圧力は、特に限定はないが、通常１乃至１０気圧で行なわれる。
【０１３１】
反応温度及び反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至１００℃で、５分間乃至２４時間実施される。
【０１３２】
酸化による除去において使用される溶媒としては、本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好適には、含水有機溶媒である。
【０１３３】
このような有機溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；アセトニトリルのようなニトリル類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；アセトンのようなケトン類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；及びジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類；スルホラン；であり、好適には、ハロゲン化炭化水素類、エ−テル類又はスルホキシド類（特に好適には、ハロゲン化炭化水素類又はスルホキシド類）である。
【０１３４】
使用される酸化剤としては、酸化に使用される化合物であれば特に限定はないが、好適には、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、アンモニウムセリウムナイトレイト（ＣＡＮ）、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン（ＤＤＱ）が用いられる。
【０１３５】
反応温度及び反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至１５０℃で、１０分間乃至２４時間実施される。
【０１３６】
アミノ基の保護基がアルケニルオキシカルボニル類である場合は、通常、アミノ基の保護基が前記の脂肪族アシル類、芳香族アシル類、アルコキシカルボニル類又はシッフ塩基を形成する置換されたメチレン基である場合の除去反応の条件と同様にして、塩基と処理することにより行われる。
【０１３７】
尚、アリルオキシカルボニル基の場合は、特に、パラジウム、及びトリフェニルホスフィン若しくはニッケルテトラカルボニルを使用して除去する方法が簡便で、副反応が少なく実施することができる。
【０１３８】
水酸基の保護基として、シリル類を使用した場合には、通常、弗化テトラブチルアンモニウム、弗化水素酸、弗化水素酸−ピリジン、弗化カリウムのような弗素アニオンを生成する化合物で処理するか、又は、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、燐酸のような無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸で処理することにより除去できる。
【０１３９】
尚、弗素アニオンにより除去する場合に、蟻酸、酢酸、プロピオン酸のような有機酸を加えることによって、反応が促進することがある。
【０１４０】
上記反応に使用される不活性溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、好適には、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；酢酸のような有機酸；水；上記溶媒の混合溶媒；である。
【０１４１】
反応温度及び反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至１００℃（好適には、１０℃乃至５０℃）で、１時間乃至２４時間実施される。
【０１４２】
水酸基の保護基が、アラルキル類又はアラルキルオキシカルボニル類である場合には、通常、不活性溶媒中、還元剤と接触させることにより（好適には、触媒下、常温にて接触還元）除去する方法又は酸化剤を用いて除去する方法が好適である。
【０１４３】
接触還元による除去に使用される溶媒としては、本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；蟻酸、酢酸のような脂肪酸類；水；上記溶媒の混合溶媒；であり、好適にはアルコ−ル類（特に好適にはメタノール）である。
【０１４４】
接触還元による除去に使用される触媒としては、通常、接触還元反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、例えば、パラジウム−炭素、パラジウム−黒、ラネ−ニッケル、酸化白金、白金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、トリフェニルホスフィン−塩化ロジウム、パラジウム−硫酸バリウムであり、好適にはパラジウム−炭素である。
【０１４５】
圧力は、特に限定はないが、通常１乃至１０気圧で行なわれる。
【０１４６】
反応温度及び反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至１００℃（好適には、２０℃乃至７０℃）、５分間乃至４８時間（好適には、１時間乃至２４時間）である。
【０１４７】
酸化による除去において使用される溶媒としては、本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好適には、含水有機溶媒である。
【０１４８】
このような有機溶媒として好適には、アセトンのようなケトン類、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類、アセトニトリルのようなニトリル類、ジエチルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類及びジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類を挙げることができる。
【０１４９】
使用される酸化剤としては、酸化に使用される化合物であれば特に限定はないが、好適には、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、アンモニウムセリウムナイトレイト（ＣＡＮ）、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン（ＤＤＱ）が用いられる。
【０１５０】
反応温度及び反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至１５０℃で、１０分間乃至２４時間実施される。
【０１５１】
また、液体アンモニア中若しくはメタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロプアノール、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類中において、−７８℃乃至０℃で、金属リチウム、金属ナトリウムのようなアルカリ金属類を作用させることによっても除去できる。
【０１５２】
更に、溶媒中、塩化アルミニウム−沃化ナトリウム又はトリメチルシリルイオダイドのようなアルキルシリルハライド類を用いて除去することができる。
【０１５３】
使用される溶媒としては、本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好適には、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；アセトニトリルのようなニトリル類；上記溶媒の混合溶媒；が挙げられる。
【０１５４】
反応温度及び反応時間は、原料化合物、溶媒等により異なるが、通常は０℃乃至５０℃で、５分間乃至７２時間実施される。
【０１５５】
尚、反応基質が硫黄原子を有する場合は、好適には、塩化アルミニウム−沃化ナトリウムが用いられる。
【０１５６】
水酸基の保護基が、脂肪族アシル類、芳香族アシル類又はアルコキシカルボニル基類である場合には、溶媒中、塩基で処理することにより除去される。
【０１５７】
上記反応において使用される塩基としては、化合物の他の部分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−ｔ−ブトキシドのような金属アルコキシド類；アンモニア水、濃アンモニア−メタノ−ルのようなアンモニア類；であり、好適には、アルカリ金属水酸化物類、金属アルコキシド類又はアンモニア類（特に好適には、アルカリ金属水酸化物類又は金属アルコキシド類）である。
【０１５８】
使用される溶媒としては、通常の加水分解反応に使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；水；上記溶媒の混合溶媒が好適である。
【０１５９】
反応温度及び反応時間は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により異なり特に限定はないが、副反応を抑制するために、通常、−２０℃乃至１５０℃で、１時間乃至１０時間実施される。
【０１６０】
水酸基の保護基が、アルコキシメチル類、テトラヒドロピラニル類、テトラヒドロチオピラニル類、テトラヒドロフラニル類、テトラヒドロチオフラニル類又は置換されたエチル類である場合には、通常、溶媒中、酸で処理することにより除去される。
【０１６１】
使用される酸としては、通常、ブレンステッド酸又はルイス酸として使用されるものであれば特に限定はなく、好適には、塩化水素；塩酸、硫酸、硝酸のような無機酸；又は酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸のような有機酸等のブレンステッド酸：三弗化ホウ素のようなルイス酸であるが、ダウエックス５０Ｗのような強酸性の陽イオン交換樹脂も使用することができる。
【０１６２】
上記反応に使用される溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；水；上記溶媒の混合溶媒；であり、好適には、エ−テル類（特に好適には、テトラヒドロフラン）又はアルコール類（特に好適には、メタノール）である。
【０１６３】
反応温度及び反応時間は、原料化合物、使用される酸、溶媒等により異なるが、通常、−１０℃乃至２００℃（好適には、０乃至１５０℃）で、５分間乃至４８時間（好適には、３０分間乃至１０時間）である。
【０１６４】
水酸基の保護基が、アルケニルオキシカルボニル類である場合は、通常、水酸基の保護基が前記の脂肪族アシル類、芳香族アシル類又はアルコキシカルボニル類である場合の除去反応の条件と同様にして、塩基と処理することにより達成される。
【０１６５】
尚、アリルオキシカルボニル基の場合は、特にパラジウム、及びトリフェニルホスフィン、又はビス（メチルジフェニルホスフィン）（１，５−シクロオクタジエン）イリジウム（Ｉ）・ヘキサフルオロホスフェートを使用して除去する方法が簡便で、副反応が少なく実施することができる。
【０１６６】
なお、前述された、化合物（ＶＩＩ）と酸を接触させる反応又は化合物（ＶＩＩ）に接触還元反応を行うことにより、アミノ基及び／又は水酸基の保護基が同時に除去されることもある。
【０１６７】
また、アミノ基及び／又は水酸基の保護基の除去は、順不同で希望する除去反応を順次実施することができる。
反応終了後、本反応の目的化合物（Ｉａ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応用し適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０１６８】
【化２６】
0004169450.tif 000169
上記式中、Ｒ1、Ｒ1a、Ｒ2、Ｒ2a、Ａ及びＢは、前述したものと同意義を示し、Ｘは、前記ハロゲン原子を示し、Ｙは、酸素原子又は硫黄原子を示す。
【０１６９】
Ｂ法は、化合物（Ｉ）において、Ｒ3が、式（ＩＶ−２）又は（ＩＶ−３）を有する基である化合物（Ｉｂ）或は式（ＩＶ−１）を有する基である化合物（Ｉｃ）を製造する工程である。
【０１７０】
第Ｂ１工程は、一般式（ＩＸ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒の存在下又は非存在下（好適には存在下）、化合物（Ｖ）と塩基を反応させた後、一般式（ＶＩＩＩ）を有する化合物と反応させることにより行われる。
【０１７１】
上記反応に使用される塩基は、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）のような有機アミン類；であり、好適にはアルカリ金属水素化物類（特に好適には水素化ナトリウム）である。
【０１７２】
上記反応に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；又は上記溶媒の混合溶媒；であり、好適には、アミド類（特に好適にはジメチルホルムアミド）である。
【０１７３】
化合物（Ｖ）と塩基を反応させる際の反応温度は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により異なるが、通常、−５０℃乃至２００℃（好適には、０℃乃至１２０℃）である。
【０１７４】
化合物（Ｖ）と塩基を反応させる際の反応時間は、原料化合物、使用される塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１５分間乃至２４時間（好適には、１時間分乃至１０時間）である。
【０１７５】
化合物（Ｖ）と化合物（ＶＩＩＩ）を反応させる際の反応温度は、通常、−２０℃乃至２００℃（好適には、０℃乃至１５０℃）である。
【０１７６】
化合物（Ｖ）と化合物（ＶＩＩＩ）を反応させる際の反応時間は、通常、３０分間乃至４８時間（好適には、１時間乃至２４時間）である。
【０１７７】
反応終了後、本反応の目的化合物（ＩＸ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０１７８】
第Ｂ２工程は、一般式（ＸＩ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、酢酸ナトリウム、ピペリジニウムアセテート、ピペリジニウムベンゾエートのような触媒の存在下又は非存在下（好適には存在下）、化合物（ＩＸ）と一般式（Ｘ）を有する化合物を反応させることにより行われる。
【０１７９】
上記反応に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；又は上記溶媒の混合溶媒；であり、好適には、アミド類（特に好適には、ジメチルホルムアミド又はジメチルアセトアミド）である。
【０１８０】
反応温度は、原料化合物、使用される触媒、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至２００℃（好適には、１０℃乃至１５０℃）である。
【０１８１】
反応時間は、原料化合物、使用される触媒、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間乃至５０時間（好適には、２時間乃至２４時間）である。
【０１８２】
反応終了後、本反応の目的化合物（ＸＩ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０１８３】
第Ｂ３工程は、一般式（Ｉｂ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物（ＸＩ）に接触還元反応を行った後、所望によりＲ1a及びＲ2aにおけるアミノ基及び／又は水酸基の保護基を除去することにより行われる。接触還元反応及び所望によりアミノ基及び／又は水酸基の保護基を除去する反応は、前記Ａ法第Ａ２工程と同様に行われる。
【０１８４】
また、本工程は、化合物（ＸＩ）と金属水素化物を反応させた後、所望によりＲ1a及びＲ2aにおけるアミノ基及び／又は水酸基の保護基を除去することによっても行われる。化合物（ＸＩ）と金属水素化物を反応させる方法は、ＷＯ９３／１３０９Ａに開示された方法に準じて行うことができる。
【０１８５】
第Ｂ４工程は、一般式（Ｉｃ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＩ）において、Ｙが硫黄原子である化合物（ＸＩａ）のＲ1a及びＲ2aにおけるアミノ基及び／又は水酸基の保護基を除去することにより行われ、本工程は、前記Ａ法第Ａ２工程のアミノ基及び／又は水酸基の保護基を除去する方法と同様に行われる。
【０１８６】
【化２７】
0004169450.tif 000170
上記式中、Ｒ1、Ｒ1a、Ｒ2、Ｒ2a、Ａ及びＢは、前述したものと同意義を示す。
【０１８７】
Ｃ法は、化合物（Ｉ）において、Ｒ3が式（ＩＶ−４）を有する基である化合物（Ｉｄ）又は式（ＩＶ−５）を有する基である化合物（Ｉｅ）を製造する方法である。
【０１８８】
第Ｃ１工程は、一般式（ＸＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物（ＩＸ）とヒドロキシルアミン（塩酸塩）と反応させた後、還元剤と接触させることにより行われる。
【０１８９】
化合物（ＩＸ）とヒドロキシルアミン（塩酸塩）を反応させる際に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；水；又は上記溶媒の混合溶媒；であり、好適には、アルコール類との混合溶媒（特に好適には、メタノール又はエタノール）である。
【０１９０】
化合物（ＩＸ）とヒドロキシルアミン（塩酸塩）を反応させる際の反応温度は、原料化合物、使用される触媒、溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至２００℃（好適には、１０℃乃至１２０℃）である。
【０１９１】
化合物（ＩＸ）とヒドロキシルアミン（塩酸塩）を反応させる際の反応時間は、原料化合物、使用される触媒、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間乃至５０時間（好適には、２時間乃至２４時間）である。
【０１９２】
後段の反応において使用される還元剤は、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化シアノホウ素ナトリウムのような水素化ホウ素アルカリ金属、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化リチウムトリエトキシドアルミニウムのような水素化アルミニウム化合物であり、好適には水素化ホウ素アルカリ金属類（特に好適には水素化ホウ素ナトリウム）である。
【０１９３】
後段の反応において還元剤と接触させる際に使用される溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、好適には、化合物（ＩＸ）とヒドロキシルアミン（塩酸塩）と反応させる際に使用される溶媒と同様である。
【０１９４】
後段の反応において還元剤と接触させる際の反応温度は、原料化合物、使用される還元剤、溶媒等により異なるが、通常、−５０℃乃至２００℃（好適には、０℃乃至１２０℃）である。
【０１９５】
後段の反応において還元剤と接触させる際の反応時間は、原料化合物、使用される還元剤、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１５分乃至２４時間（好適には、１時間乃至１２時間）である。
【０１９６】
反応終了後、本反応の目的化合物（ＸＩＩ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０１９７】
第Ｃ２工程は、一般式（ＸＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物（ＸＩＩ）とトリメチルシリルイソシアネートを反応させることにより行われる。
【０１９８】
上記反応に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；又は上記溶媒の混合溶媒；であり、好適には、芳香族炭化水素類、エーテル類又はアミド類（特に好適には、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジメチルホルムアミド）である。
【０１９９】
反応温度は、原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、−５０℃乃至２００℃（好適には、０℃乃至１２０℃）である。
【０２００】
反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１５分間乃至４８時間（好適には、１時間乃至２４時間）である。
【０２０１】
反応終了後、本反応の目的化合物（ＸＩＩＩ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０２０２】
第Ｃ３工程は、一般式（Ｉｄ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物（ＸＩＩＩ）とカルボニル化剤を反応させた後、所望によりＲ1a及びＲ2aにおけるアミノ基及び／又は水酸基の保護基を除去することにより行われる。
【０２０３】
上記反応に使用されるカルボニル化剤は、通常、カルボニル化反応に使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、ホスゲン、ジホスゲン、トリホスゲン、１，１’−カルボニルジイミダゾールである。
【０２０４】
化合物（ＸＩＩＩ）とカルボニル化剤を反応させる際に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；又は上記溶媒の混合溶媒；であり、好適には、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類又はアミド類（特に好適には、テトラヒドロフラン、ジオキサン又はジメチルホルムアミド）である。
【０２０５】
化合物（ＸＩＩＩ）とカルボニル化剤を反応させる際の反応温度は、原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、−５０℃乃至２００℃（好適には、０℃乃至１２０℃）である。
【０２０６】
化合物（ＸＩＩＩ）とカルボニル化剤を反応させる際の反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１５分間乃至５０時間（好適には、１時間乃至２４時間）である。
【０２０７】
所望によりＲ1a及びＲ2aにおけるアミノ基及び／又は水酸基の保護基を除去する方法は、前記Ａ法第Ａ２工程のアミノ基及び／又は水酸基の保護基を除去する方法と同様に行われる。
【０２０８】
反応終了後、本反応の目的化合物（Ｉｄ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０２０９】
第Ｃ４工程は、一般式（Ｉｅ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物（ＸＩＩＩ）のＲ1a及びＲ2aにおけるアミノ基及び／又は水酸基の保護基を除去することにより行われ、本工程は前記Ａ法第Ａ２工程のアミノ基及び／又は水酸基の保護基を除去する方法と同様に行われる。
【０２１０】
第Ｃ５工程は、一般式（Ｉｄ）を有する化合物を別途製造する工程であり、不活性溶媒の存在下又は非存在下（好適には、存在下）、化合物（ＸＩＩ）をＮ−（クロロカルボニル）イソシアネートと反応させた後、所望によりＲ1a及びＲ2aにおけるアミノ基及び／又は水酸基の保護基を除去することにより行われる。
【０２１１】
化合物（ＸＩＩ）をＮ−（クロロカルボニル）イソシアネートと反応させる際に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；又は上記溶媒の混合溶媒；であり、好適には、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類又はアミド類（特に好適には、テトラヒドロフラン、ジオキサン又はジメチルホルムアミド）である。
【０２１２】
反応温度は、原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、−５０℃乃至１００℃（好適には、−２０℃乃至５０℃）である。
【０２１３】
反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１５分間乃至５０時間（好適には、１時間乃至２４時間）である。
【０２１４】
所望によりＲ1a及びＲ2aにおけるアミノ基及び／又は水酸基の保護基を除去する方法は、前記Ａ法第Ａ２工程のアミノ基及び／又は水酸基の保護基を除去する方法と同様に行われる。
【０２１５】
反応終了後、本反応の目的化合物（Ｉｄ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０２１６】
【化２８】
0004169450.tif 000171
上記式中、Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ａ、Ｂ、Ｄ、Ｅ及びＹは、前述したものと同意義を示し、Ｒ4aは、Ｒ4の基の定義に含まれるアミノ基及び／又は水酸基が、保護されていてもよいアミノ基及び／又は水酸基である他、Ｒ4の基の定義における基と同様の基を示し、Ｒ5aは、Ｒ5の基の定義に含まれるアミノ基及び／又は水酸基が、保護されていてもよいアミノ基及び／又は水酸基である他、Ｒ5の基の定義における基と同様の基を示し、Ｒ7は、ホルミル基、カルボキシ基又はＣ2−Ｃ7アルコキシカルボニル基を示し、Ｂｏｃはｔ−ブトキシカルボニル基を示す。
Ｄ法は、化合物（Ｉ）において、Ｒ1が一般式（ＩＩ）を有する基であり、Ｒ3が式（ＩＶ−２）又は（ＩＶ−３）を有する基である化合物（Ｉｆａ）或はＲ1が一般式（ＩＩＩ）を有する基であり、Ｒ3が式（ＩＶ−２）又は（ＩＶ−３）を有する基である化合物（Ｉｆｂ）を製造する方法である。
【０２１７】
第Ｄ１工程は、一般式（Ｉｆａ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＸＩＶ）を有する化合物と一般式（ＸＶａ）を有する化合物を反応させた後、所望によりＲ2a、Ｒ4a及びＲ5aにおけるアミノ基及び／又は水酸基の保護基を除去することにより行われる。
化合物（ＸＩＶ）においてＲ7がホルミル基である場合、不活性溶媒中、化合物（ＸＩＶ）と化合物（ＸＶａ）を反応させた後、アミノ基の保護基であるｔ−ブトキシカルボニル基を酸を用いて除去して閉環させ、更に酸化剤と反応させることにより行われる。
また、本工程は、化合物（ＸＩＶ）と化合物（ＸＶａ）を反応させた後、アミノ基の保護基であるｔ−ブトキシカルボニル基を酸を用いて除去して閉環させることによって得られる中間体を単離精製した後、酸化剤と接触させることによっても行うことができる。
【０２１８】
化合物（ＸＩＶ）と化合物（ＸＶａ）を反応させる際に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；酢酸、プロピオン酸のような酸類；ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類；スルホラン；又は上記溶媒の混合溶媒；であり、好適には、エーテル類（特に好適にはテトラヒドロフラン）である。
【０２１９】
化合物（ＸＩＶ）と化合物（ＸＶａ）を反応させる際の反応温度は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至２００℃（好適には、１０℃乃至１２０℃）である。
【０２２０】
化合物（ＸＩＶ）と化合物（ＸＶａ）を反応させる際の反応時間は、原料化合物、使用される塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間乃至５０時間（好適には、５時間乃至２４時間）である。
【０２２１】
酸を用いてアミノ基の保護基であるｔ−ブトキシカルボニル基を除去する方法は、前記Ａ法第Ａ２工程のアミノ基の保護基がアルコキシカルボキシ類である場合の酸を用いて除去する方法と同様に行われる。
【０２２２】
上記反応に使用される酸化剤としては、通常、酸化反応に使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、過マンガン酸カリウム、二酸化マンガンのような酸化マンガン類；四酸化ルテニウムのような酸化ルテニウム類；二酸化ゼレンのようなゼレン化合物；塩化鉄のような鉄化合物；四酸化オスミウム、オスミン酸カリウム・二水和物(K2OsO4・2H2O) のようなオスミウム化合物；酸化銀のような銀化合物；酢酸水銀のような水銀化合物；酸化鉛、四酢酸鉛のような酸化鉛化合物；クロム酸カリウム、クロム酸−硫酸錯体、クロム酸−ピリジン錯体のようなクロム酸化合物、アンモニウムセリウムナイトレイト（ＣＡＮ）のようなセリウム化合物等の無機金属酸化剤；塩素分子、臭素分子、沃素分子のようなハロゲン分子；過沃素酸ナトリウムのような過沃素酸類；オゾン；過酸化水素水；亜硝酸のような亜硝酸化合物；亜塩素酸カリウム、亜塩素酸ナトリウムのような亜塩素酸化合物；過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウムのような過硫酸化合物等の無機酸化剤；ＤＭＳＯ酸化に使用される試薬類（ジメチルスルホキシドとジシクロヘキシルカルボジイミド、オキザリルクロリド、無水酢酸若しくは五酸化燐との錯体又はピリジン−無水硫酸の錯体）；ｔ−ブチルヒドロパーオキシドのようなパーオキシド類とバナジウム又はモリブデン錯体との組合せ；トリフェニルメチルカチオンのような安定なカチオン類；Ｎ−ブロモコハク酸イミドのようなコハク酸イミド類とアルカリの組合せ；ジメチルジオキシランのようなオキシラン類；次亜塩素酸ｔ−ブチルのような次亜塩素酸化合物；アゾジカルボン酸エステルのようなアゾジカルボン酸化合物；ｍ−クロロ過安息香酸、過フタル酸のような過酸類；ジメチルジスルフィド、ジフェニルジスルフィド、ジピリジルジスルフィドのようなジスルフィド類とトリフェニルホスフィン；亜硝酸メチルのような亜硝酸エステル類；四臭化メタンのようなテトラハロゲン化炭素、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン（ＤＤＱ）のようなキノン化合物等の有機酸化剤；であり、好適には、ハロゲン分子（特に好適には沃素分子）である。
【０２２３】
酸化剤と接触させる際に使用される溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、好適には、化合物（ＸＩＶ）と化合物（ＸＶａ）を反応させる際に使用される溶媒である。
【０２２４】
酸化剤と接触させる際の反応温度及び反応時間は、化合物（ＸＩＶ）と化合物（ＸＶａ）を反応させる際の反応温度及び反応時間と同様である。
【０２２５】
化合物（ＸＩＶ）においてＲ7がカルボキシ基である場合、不活性溶媒中、一般式（ＸＩＶ）を有する化合物またはその反応性誘導体（酸ハライド類、活性エステル類または混合酸無水物類）と一般式（ＸＶａ）を有する化合物またはその酸付加塩（例えば、塩酸塩、硝酸塩、硫酸塩のような鉱酸塩）を反応させた後、アミノ基の保護基であるｔ−ブトキシカルボニル基を酸を用いて除去し、閉環させることにより行われる。
【０２２６】
また、本工程において、中間体となるアミド化合物を単離精製した後、上記反応と同様にアミノ基の保護基であるｔ−ブトキシカルボニル基を酸を用いて除去し、次いで閉環させることによっても行われる。
【０２２７】
酸ハライド法は、不活性溶媒中、化合物（ＸＩＶ）をハロゲン化剤（例えば、塩化チオニル、臭化チオニル、シュウ酸クロリド、シュウ酸ジクロリド、オキシ塩化リン、三塩化リン、五塩化リン等）と反応させ、酸ハライド類を製造し、その酸ハライド類と化合物（ＸＶａ）またはその酸付加塩を、不活性溶媒中、塩基の存在下又は非存在下（好適には存在下）、反応させることにより行われる。
【０２２８】
上記反応に使用される塩基は、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）のような有機アミン類であり、好適には、有機アミン類（特に好適には、トリエチルアミン）である。
【０２２９】
上記反応に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロインまたは石油エ−テルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトンのようなケトン類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシドようなスルホキシド類；スルホラン；であり、好適には、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類又はアミド類（特に好適には、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン又はジメチルホルムアミド）である。
【０２３０】
反応温度は、原料化合物、試薬等により異なるが、ハロゲン化剤と化合物（ＸＩＶ）の反応および酸ハライド類と化合物（ＸＶａ）またはその酸付加塩との反応とも、通常、−２０℃乃至１５０℃であり、好適には、ハロゲン化剤と化合物（ＸＩＶ）との反応は−１０℃乃至１００℃であり、酸ハライド類と化合物（ＸＶａ）またはその酸付加塩との反応は−２０℃乃至１００℃である。
【０２３１】
反応時間は、原料化合物、試薬、反応温度等により異なるが、ハロゲン化剤と化合物（ＸＩＶ）の反応および酸ハライド類と化合物（ＸＶａ）またはその酸付加塩との反応とも、通常、３０分間乃至８０時間（好適には、１時間乃至４８時間）である。
【０２３２】
活性エステル法は、不活性溶媒中、化合物（ＸＩＶ）と活性エステル化剤を反応させ、活性エステル類を製造した後、不活性溶媒中、塩基の存在下又は非存在下（好適には存在下）、化合物（ＸＶａ）またはその酸付加塩と反応させることによって行われる。
【０２３３】
上記反応に使用される活性エステル化剤は、例えば、Ｎ−ヒドロキシサクシンイミド、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミドのようなＮ−ヒドロキシ化合物；ジピリジルジスルフィドのようなジスルフィド化合物；ジシクロヘキシルカルボジイミドのようなカルボジイミド；カルボニルジイミダゾール；トリフェニルホスフィン；のような縮合剤の存在下に好適に行われる。
【０２３４】
上記反応に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロインまたは石油エ−テルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトンのようなケトン類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類；スルホラン；であり、好適には、エーテル類又はアミド類（特に好適には、ジオキサン、テトラヒドロフラン又はジメチルホルムアミド）である。
【０２３５】
上記反応に使用される塩基は、例えば、前記酸ハライド法において使用されるものと同様の塩基を挙げることができる。
【０２３６】
反応温度は、原料化合物、試薬等により異なるが、通常、活性エステル化反応では、−７０℃乃至１５０℃（好適には、−１０℃乃至１００℃）であり、活性エステル類と化合物（ＸＶａ）またはその酸付加塩との反応では、−２０℃乃至１００℃（好適には、０℃乃至５０℃）である。
【０２３７】
反応時間は、原料化合物、試薬、反応温度等により異なるが、活性エステル化反応及び活性エステル類と化合物（ＸＶａ）またはその酸付加塩との反応ともに、通常、３０分間乃至８０時間（好適には、１時間乃至４８時間）である。
【０２３８】
混合酸無水物法は、不活性溶媒中、塩基存在下または非存在下（好適には、存在下）、化合物（ＸＩＶ）と混合酸無水物化剤を反応させ、混合酸無水物類を製造した後、不活性溶媒中、混合酸無水物類と化合物（ＸＶａ）またはその酸付加塩を反応させることにより行われる。
【０２３９】
上記反応に使用される塩基は、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）のような有機アミン類であり、好適には有機アミン類（特に好適には、トリエチルアミン）である。
【０２４０】
上記反応に使用される混合酸無水物化剤は、例えば、クロル炭酸エチル、クロル炭酸イソブチルのような炭酸Ｃ1−Ｃ4アルキルハライド；ピバロイルクロリドのようなＣ1−Ｃ5アルカノイルハライド；シアノホスホン酸ジエチル、シアノホスホン酸ジフェニルのようなジＣ1−Ｃ4アルキル若しくはジＣ6−Ｃ14アリールシアノリン酸であり、好適には、ジＣ1−Ｃ4アルキル若しくはジＣ6−Ｃ14アリールシアノリン酸（特に好適には、シアノホスホン酸ジエチル）である。
【０２４１】
混合酸無水物類を製造する際に使用される不活性溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解する物であれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロインまたは石油エ−テルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトンのようなケトン類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類；スルホラン；であり、好適には、エーテル類又はアミド類（特に好適には、テトラヒドロフラン又はジメチルホルムアミド）である。
【０２４２】
混合酸無水物類を製造する反応に於ける反応温度は、原料化合物、試薬等により異なるが、通常、−５０℃乃至１００℃（好適には、０℃乃至６０℃）である。
【０２４３】
混合酸無水物類を製造する反応に於ける反応時間は、原料化合物、試薬、反応温度等により異なるが、通常、３０分間乃至７２時間（好適には、１時間乃至２４時間）である。
【０２４４】
混合酸無水物類と化合物（ＸＶａ）またはその酸付加塩との反応は、不活性溶媒中、塩基の存在下または非存在下（好適には、存在下）で行われ、使用される塩基および不活性溶媒は、前述された混合酸無水物類を製造する反応において使用されるものと同様である。
【０２４５】
混合酸無水物類と化合物（ＸＶａ）またはその酸付加塩の反応に於ける反応温度は、原料化合物、試薬等により異なるが、通常、−３０℃乃至１００℃（好適には、０℃乃至８０℃）である。
【０２４６】
混合酸無水物類と化合物（ＸＶａ）またはその酸付加塩の反応に於ける反応時間は、原料化合物、試薬、反応温度等により異なるが、通常、５分間乃至２４時間（好適には、３０分間乃至１６時間）である。
【０２４７】
また、本反応において、ジＣ1−Ｃ4アルキルシアノリン酸またはジＣ6−Ｃ14アリールシアノリン酸を使用する場合には、塩基の存在下、化合物（ＸＩＶ）と化合物（ＸＶａ）を直接反応させることもできる。
酸を用いてアミノ基の保護基であるｔ−ブトキシカルボニル基を除去する方法は、前記Ａ法第Ａ２工程のアミノ基の保護基がアルコキシカルボニル類である場合の酸を用いて除去する方法と同様に行われる。
【０２４８】
酸を用いてアミノ基の保護基であるｔ−ブトキシカルボニル基を除去し閉環させる方法は、前記Ａ法第Ａ２工程のアミノ基の保護基がアルコキシカルボキシ類である場合の酸を用いて除去する方法と同様に行われる。
【０２４９】
化合物（ＸＩＶ）においてＲ7がＣ2−Ｃ7アルコキシカルボニル基である場合、不活性溶媒の存在下又は非存在下（好適には非存在下）、塩基の存在下又は非存在下、化合物（ＸＩＶ）と化合物（ＸＶａ）を反応させた後、酸を用いてアミノ基の保護基であるｔ−ブトキシカルボニル基を除去し、閉環させることにより行われる。
【０２５０】
また、本工程において、中間体となるアミド化合物を単離精製した後、上記反応と同様にアミノ基の保護基であるｔ−ブトキシカルボニル基を酸を用いて除去し、次いで閉環させることによっても行われる。
【０２５１】
化合物（ＸＩＶ）と化合物（ＸＶａ）を反応させる反応において使用される塩基は、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）のような有機アミン類であり、好適には有機アミン類（特に好適にはトリエチルアミン）である。
【０２５２】
化合物（ＸＩＶ）と化合物（ＸＶａ）を反応させる反応に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；又は上記溶媒の混合溶媒；であり、好適には、エーテル類又はアミド類（特に好適には、テトラヒドロフラン、ジオキサン又はジメチルホルムアミド）である。
【０２５３】
反応温度は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至２００℃（好適には、５０℃乃至１５０℃）である。
【０２５４】
反応時間は、原料化合物、使用される塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間乃至５０時間（好適には、５時間乃至２４時間）である。
【０２５５】
酸を用いてアミノ基の保護基であるｔ−ブトキシカルボニル基を除去し閉環させる方法は、前記Ａ法第Ａ２工程のアミノ基の保護基がアルコキシカルボキシ類である場合の酸を用いて除去する方法と同様に行われる。
【０２５６】
所望によりＲ2a、Ｒ4a及びＲ5aにおけるアミノ基及び／又は水酸基の保護基を除去する方法は、前記Ａ法第Ａ２工程のアミノ基及び／又は水酸基の保護基を除去する方法と同様に行われる。
【０２５７】
反応終了後、本反応の目的化合物（Ｉｆａ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０２５８】
第Ｄ２工程は、一般式（Ｉｆｂ）を有する化合物を製造する工程であり、前記Ｄ法第Ｄ１工程と同様に行われ、一般式（ＸＩＶ）を有する化合物と一般式（ＸＶｂ）を有する化合物を反応させた後、所望によりＲ2a、Ｒ4a及びＲ5aにおけるアミノ基及び／又は水酸基の保護基を除去することにより行われる工程である。また、前記Ａ法、Ｂ法、Ｃ法及びＤ法により得られた化合物（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）、（Ｉｄ）、（Ｉｅ）、（Ｉｆａ）及び（Ｉｆｂ）のＲ4がアミノ基で置換されたフェニル基又はピリジル基である場合、更に所望によりアミノ基に、アルキル化、アリール化、アラルキル化又はアシル化を行うことができる。これらの反応は、公知か、公知の方法又はそれに類似した方法に従って容易に製造される［
The Chemistry of the Amino Group, chapter6, 1968，John Wiley & Sons、
The Chemistry of the Amino Group, chapter2, 1970，John Wiley & Sons等。］。
【０２５９】
原料化合物（Ｖ）、（Ｖ’）、（ＶＩ）、（ＶＩＩＩ）、（Ｘ）、（ＸＩＶ）、（ＸＶａ）及び（ＸＶｂ）は、公知か、公知の方法又はそれに類似した方法に従って容易に製造される。
【０２６０】
原料化合物（Ｖ）、（Ｖ’）、（ＸＩＶ）、（ＸＶａ）及び（ＸＶｂ）は、例えば、以下の方法によっても製造できる。
【０２６１】
【化２９】
0004169450.tif 000172
上記式中、Ｒ4a、Ｒ5a、Ｒ6、Ｒ7、Ａ、Ｂ、Ｄ、Ｅ及びＢｏｃは前述したものと同意義を示す。
【０２６２】
Ｅ法は、化合物（Ｖａ）及び（Ｖｂ）を製造する工程である。
【０２６３】
第Ｅ１工程は、化合物（Ｖａ）を製造する工程であり、一般式（ＸＶＩ）を有する化合物と化合物（ＸＶａ）を反応させ、酸を用いてアミノ基の保護基であるｔ−ブトキシカルボニル基を除去し、閉環させることにより行われる。本工程は、前記Ｄ法第Ｄ１工程において、化合物（ＸＩＶ）と化合物（ＸＶａ）を反応させ、酸を用いてアミノ基の保護基であるｔ−ブトキシカルボニル基を除去し、閉環させる方法と同様に行われる。
【０２６４】
特に、化合物（ＸＶａ）においてＥが窒素原子である場合、閉環させる方法において、好適には化合物（ＸＶＩ）を大過剰に用いて溶媒の非存在下に行われる。
【０２６５】
第Ｅ２工程は、化合物（Ｖｂ）を製造する工程であり、化合物（ＸＶＩ）と化合物（ＸＶｂ）を反応させ、酸を用いてアミノ基の保護基であるｔ−ブトキシカルボニル基を除去することにより行われる。本工程は、前記Ｄ法第Ｄ１工程において、Ｒ7がカルボキシ基である場合の化合物（ＸＩＶ）と化合物（ＸＶａ）を反応させ、酸を用いてアミノ基の保護基であるｔ−ブトキシカルボニル基を除去する方法と同様に行われる。
【０２６６】
閉環させる方法においても前記Ｄ法第Ｄ１工程と同様に行われるが、化合物（ＸＶａ）においてＥが窒素原子である場合、好適には化合物（ＸＶＩ）を大過剰に用いて溶媒の非存在下に行われる。
【０２６７】
反応終了後、本反応の目的化合物（Ｖａ）及び（Ｖｂ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０２６８】
【化３０】
0004169450.tif 000173
上記式中、Ｒ2a、Ｒ7、Ｒ8、Ａ、Ｂ、Ｘ及びＹは前述したものと同意義を示し、Ｒ7aは、Ｒ7の基の定義に含まれるホルミル基又はカルボキシ基が、保護されてもよいホルミル基又はカルボキシ基である他、Ｒ7の定義における基と同様の基を示す。
【０２６９】
上記において、「保護されてもよいホルミル基」の「保護基」は、有機合成化学の分野で使用されるホルミル基の保護基であれば特に限定はされないが、例えば、ジメトキシメチル、ジエトキシメチル、ジプロポキシメチル、ジブトキシメチルのような前記Ｃ1−Ｃ6アルコキシで置換されたメチル基、１，３−ジオキサン−２−イル、１、３−ジオキソラン−２−イル、１，３−ジチアン−２−イル、１，３−ジチオラン−２−イルであり、好適には、ジメトキシメチル、ジエトキシメチル、１、３−ジオキソラン−２−イル又は１，３−ジチアン−２−イルである。
【０２７０】
上記において、「保護されてもよいカルボキシ基」の「保護基」は、有機合成化学の分野で使用されるカルボキシ基の保護基であれば特に限定はされないが、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチルのようなＣ1−Ｃ6アルキル基、ベンジル、フェネチル、３−フェニルプロピル、１−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、４−メチルベンジル、４−メトキシベンジル、４−ニトロベンジル、４−フルオロベンジル、４−シアノベンジルのようなＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、ニトロ、ハロゲン若しくはシアノで置換されてもよい１乃至３個のＣ6−Ｃ10アリールで置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基であり、好適には、Ｃ1−Ｃ6アルキル基又はベンジル基である。
【０２７１】
Ｆ法は、化合物（ＸＩＶ）を製造する方法である。
【０２７２】
第Ｆ１工程は、化合物（ＸＩＶ）を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、一般式（ＸＶＩＩ）を有する化合物を一般式（ＸＶＩＩＩ）を有する化合物と反応させた後、Ｒ7aにおけるホルミル基又はカルボキシ基が保護されたホルミル基又はカルボキシ基である場合、その保護基を除去することにより行われる。
【０２７３】
一般式（ＸＶＩＩ）を有する化合物を一般式（ＸＶＩＩＩ）を有する化合物と反応させる際に使用される塩基は、前記Ｂ法第Ｂ１工程で使用されるものと同様であり、好適にはアルカリ金属水素化物（特に好適には水素化ナトリウム）である。
【０２７４】
一般式（ＸＶＩＩ）を有する化合物を一般式（ＸＶＩＩＩ）を有する化合物と反応させる際に使用される溶媒は、前記Ｂ法第Ｂ１工程で使用されるものと同様であり、好適には、アミド類又はアミド類と他の混合溶媒（特に好適にはジメチルホルムアミド）である。
【０２７５】
一般式（ＸＶＩＩ）を有する化合物を一般式（ＸＶＩＩＩ）を有する化合物と反応させる際の反応温度は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により異なるが、通常、−５０℃乃至２００℃（好適には、０℃乃至１２０℃）である。
【０２７６】
一般式（ＸＶＩＩ）を有する化合物を一般式（ＸＶＩＩＩ）を有する化合物と反応させる際の反応時間は、原料化合物、使用される塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分間乃至２４時間（好適には、１時間乃至１０時間）である。
【０２７７】
所望によるホルミル基又はカルボキシ基の保護基の除去はその種類によって異なるが、一般に有機合成化学の技術において周知の方法、例えば、T.W.Green,（Protective Groups in Organic Synthesis）, John Wiley & Sons; J.F.W.Mcomie,（Protective Groups in Organic Synthesis）, Plenum Pressに準じて行うことができる。
【０２７８】
また、化合物（ＸＩＶ）のＲ7又は化合物（ＸＶＩＩＩ）のＲ7aがカルボキシ基である化合物は、Ｒ7又はＲ7aが、ホルミル基、保護されたホルミル基である化合物から、常法に従って容易に製造することができる。
【０２７９】
反応終了後、本反応の目的化合物（ＸＩＶ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０２８０】
【化３１】
0004169450.tif 000174
上記式中、Ｒ2a、Ｒ7、Ｒ7a、Ａ、Ｂ、Ｘ及びＹは前述したものと同意義を示し、Ｒ9は、カルボキシ基の保護基（前述したものと同意義を示す。）を示す。
【０２８１】
Ｇ法は、Ｆ法とは別に化合物（ＸＩＶ）を製造する方法である。
【０２８２】
第Ｇ１工程は、一般式（ＸＸＩ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、一般式（ＸＩＸ）を有する化合物を一般式（ＸＸ）を有する化合物と反応させることにより行われ、本工程は前記Ｆ法第Ｆ１工程と同様に行われる。
【０２８３】
第Ｇ２工程は、一般式（ＸＸＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＸＩ）を還元することにより行われる。本反応は、接触還元反応又は一般的なニトロ基の還元法である亜鉛−酢酸法、錫−アルコール法若しくは錫−塩酸法を用いることにより行われる。
【０２８４】
第Ｇ３工程は、一般式（ＸＸＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＸＩＩ）にMeerwein Arylation反応を行うことにより、達成される。Meerwein Arylation反応は、特開昭５５−２２６５７号公報（ＵＳＰ４２５８１９３）及びS.Oae らの方法［Bull. Chem. Soc. Jpn., 53, 1065 (1980)等。］に記載された方法に準じて行われる。
【０２８５】
第Ｇ４工程は、化合物（ＸＩＶ）を製造する工程であり、化合物（ＸＸＩＩＩ）と一般式（ＸＸＩＶ）を有する化合物とを反応させた後、加水分解した後、所望によりＲ7aの基の定義におけるホルミル基又はカルボキシ基の保護基を除去することにより行われる。
【０２８６】
化合物（ＸＸＩＩＩ）と一般式（ＸＸＩＶ）を有する化合物とを反応させた後、加水分解する反応は、特開昭５５−２２６５７号公報（ＵＳＰ４２５８１９３）に記載された方法に準じて行われる。
【０２８７】
Ｒ7aの基の定義におけるホルミル基又はカルボキシ基の保護基を除去する方法は、前記Ｆ法におけるホルミル基又はカルボキシ基の保護基を除去する方法と同様に行われる。
【０２８８】
反応終了後、本反応の目的化合物（ＸＩＶ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０２８９】
【化３２】
0004169450.tif 000175
上記式中、Ｒ4a、Ｒ5a、Ｒ6、Ｄ、Ｅ、Ｘ及びＢｏｃは前述したものと同意義を示す。
【０２９０】
Ｈ法は、化合物（ＸＶａ）及び（ＸＶｂ）を製造する方法である。
【０２９１】
第Ｈ１工程は、一般式（ＸＸＶＩＩａ）を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、一般式（ＸＸＶ）を有する化合物を一般式（ＸＸＶＩａ）を有する化合物と反応させることにより行われ、本工程は前記Ｆ法第Ｆ１工程と同様に行われる。
【０２９２】
第Ｈ２工程は、化合物（ＸＶａ）を製造する工程であり、化合物（ＸＸＶＩＩａ）を還元することにより行われ、本工程は、前記Ｇ法第Ｇ２工程と同様に行われる。
【０２９３】
第Ｈ３工程は、化合物（ＸＸＶＩＩｂ）を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、化合物（ＸＸＶ）を有する化合物を一般式（ＸＸＶＩｂ）を有する化合物と反応させることにより行われ、本工程は前記Ｆ法第Ｆ１工程と同様に行われる。
【０２９４】
第Ｈ４工程は、化合物（ＸＶｂ）を製造する工程であり、化合物（ＸＸＶＩＩｂ）を還元することにより行われ、本工程は、前記Ｇ法第Ｇ２工程と同様に行われる。
【０２９５】
反応終了後、本反応の目的化合物（ＸＶａ）及び（ＸＶｂ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０２９６】
【化３３】
0004169450.tif 000176
上記式中、Ｒ5a、Ｒ6、Ｅ、Ｘ及びＢｏｃは前述したものと同意義を示す。
【０２９７】
Ｉ法は、化合物（ＸＸＶＩａ）及び（ＸＸＶＩｂ）を製造する方法である。
【０２９８】
第Ｉ１工程は、一般式（ＸＸＩＸａ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＸＸＶＩＩＩａ）を有する化合物のアミノ基をｔ−ブトキシカルボニル基で保護することにより行われ、その方法は一般に有機合成化学の技術において周知の方法、例えば、T.W.Green,（Protective Groups in Organic Synthesis）, John Wiley & Sons; J.F.W.Mcomie,（Protective Groups in Organic Synthesis）, Plenum Pressに準じて行うことができる。
【０２９９】
第Ｉ２工程は、化合物（ＸＸＶＩａ）を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、化合物（ＸＸＩＸａ）を一般式（ＸＸＸ）を有する化合物と反応させることにより行われる。
【０３００】
上記反応において使用される塩基は、前記Ｂ法第Ｂ１工程で使用されるものと同様であり、好適にはアルカリ金属水素化物（特に好適には水素化ナトリウム）である。
【０３０１】
上記反応において使用される溶媒は、前記Ｂ法第Ｂ１工程で使用されるものと同様であり、好適には、エ−テル類又はアミド類（特に好適には、テトラヒドロフラン、ジオキサン又はジメチルホルムアミド）である。
【０３０２】
反応温度は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により異なるが、通常、−５０℃乃至２００℃（好適には、０℃乃至１２０℃）である。
【０３０３】
反応時間は、原料化合物、使用される塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分間乃至２４時間（好適には、１時間乃至１０時間）である。
【０３０４】
第Ｉ３工程は、一般式（ＸＸＩＸｂ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＸＸＶＩＩＩｂ）を有する化合物のアミノ基をｔ−ブトキシカルボニル基で保護することにより行われ、本工程は前記Ｉ法第Ｉ１工程と同様に行われる。
【０３０５】
第Ｉ４工程は、化合物（ＸＸＶＩｂ）を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、化合物（ＸＸＩＸｂ）を一般式（ＸＸＸ）を有する化合物と反応させることにより行われ、本工程は前記Ｉ法第Ｉ２工程と同様に行われる。
【０３０６】
反応終了後、本反応の目的化合物（ＸＸＶＩａ）及び（ＸＸＶＩｂ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０３０７】
【化３４】
0004169450.tif 000177
上記式中、Ｒ5a、Ｒ6、Ｄ、Ｅ及びＢｏｃは前述したものと同意義を示し、Ｒ10は、水素原子又はトリフェニルメチル基を示し、式
【０３０８】
【化３５】
0004169450.tif 000178
を有する基は、置換基群αから選択される基で1乃至4個置換されてもよいフェニル基又は置換基群αから選択される基で1乃至３個置換されてもよいピリジル基を示す。
【０３０９】
J法は、Ｈ法とは別途にＲ4aが、保護されてもよいテトラゾリル基で置換されたフェニル基又はピリジル基ある化合物（ＸＶｄ）または（ＸＶｆ）を製造する方法である。
【０３１０】
第Ｊ１工程は、一般式（ＸＶｄ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物（ＸＶａ）において、Ｒ4aがシアノ基で置換されたフェニル基又はピリジル基ある化合物（ＸＶｃ）とアジド化合物を反応させた後、所望により、得られた化合物のテトラゾリル基を保護することにより行われる。
【０３１１】
上記反応に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；アセトニトリルのようなニトリル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；アセトンのようなケトン類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；及びジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類；であり、好適には芳香族炭化水素類（特に好適にはトルエン）である。
【０３１２】
上記反応に使用されるアジド化合物は、例えば、ジフェニル燐酸アジドのようなジアリール燐酸アジド誘導体；トリメチルシリルアジド、トリエチルシリルアジドのようなトリアルキルシリルアジド類又はアジ化ナトリウム、アジ化カリウムのようなアジ化アルカリ金属塩類；アジ化トリ−ｎ−ブチル錫のようなトリアルキル錫アジド；であり、好適にはトリアルキル錫アジド（特に好適にはアジ化トリ−ｎ−ブチル錫）である。
【０３１３】
また、上記反応において、アジド化合物は単独で用いる他、例えば、トリメチルシリルトリフレ−ト、トリエチルシリルトリフレ−トのようなトリアルキルシリルトリフレ−ト類、トリフルオロボランエテレ−ト、塩化アルミニウム、塩化亜鉛のようなルイス酸と併用してもよい。
【０３１４】
反応温度は、原料化合物、使用されるアジド類、溶媒の種類等により異なるが、通常、−１０℃乃至２００℃（好適には、５０℃乃至１５０℃）である。
【０３１５】
反応時間は、原料化合物、使用されるアジド類、溶媒の種類、反応温度等により異なるが、通常、１５分乃至４８時間（好適には３０分乃至３０時間）である。
【０３１６】
所望により行われるテトラゾリル基を保護する反応は、不活性溶媒中、塩基の存在下、上記反応により得られた化合物とハロゲン化トリフェニルメタンを反応させることにより行われる。
【０３１７】
使用される塩基は、前記Ｂ法第Ｂ１工程に使用されものと同様であり、好適には、有機アミン類（特に好適には、トリエチルアミン）である。
【０３１８】
使用される不活性溶媒は、化合物（ＸＶｃ）とアジド化合物を反応させる際に使用されるものと同様であり、好適には、エ−テル類とアミド類の混合溶媒（特に好適には、テトラヒドロフラン及びジメチルホルムアミドの混合溶媒）である。
【０３１９】
反応温度は、原料化合物、塩基、溶媒の種類等により異なるが、通常、−１０℃乃至１５０℃（好適には、０℃乃至６０℃）である。
【０３２０】
反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒の種類、反応温度等により異なるが、通常、１５分乃至４８時間（好適には３０分乃至３０時間）である。
【０３２１】
第Ｊ２工程は、一般式（ＸＶｆ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物（ＸＶｂ）において、Ｒ4aがシアノ基で置換されたフェニル基又はピリジル基ある化合物（ＸＶｅ）とアジド化合物を反応させた後、所望により、得られた化合物のテトラゾリル基を保護することにより行われ、本工程は前記Ｊ法第Ｊ１工程と同様に行われる。
【０３２２】
反応終了後、本反応の目的化合物（ＸＶｄ）及び（ＸＶｆ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０３２３】
原料化合物（ＸＶＩ）、（ＸＶＩＩ）、（ＸＶＩＩＩ）、（ＸＩＸ）、（ＸＸ）、（ＸＸＩＶ）、（ＸＸＶ）、（ＸＸＶＩＩＩａ）、（ＸＸＶＩＩＩｂ）及び（ＸＸＸ）は、公知か、公知の方法又はそれに類似した方法に従って容易に製造される［例えば、特開平９−１８８６６９号公報（ＥＰ５４３６６２Ａ）等］。
【０３２４】
本発明の前記一般式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩は、優れた、インスリン抵抗性改善作用、血糖低下作用、抗炎症作用、免疫調節作用、アルドース還元酵素阻害作用、５−リポキシゲナーゼ阻害作用、過酸化脂質生成抑制作用、ＰＰＡＲ活性化作用、抗骨粗鬆症作用、ロイコトリエン拮抗作用、脂肪細胞化促進作用、ガン細胞増殖抑制作用、カルシウム拮抗作用を有し、糖尿病、高脂血症、肥満症、耐糖能不全、高血圧症、脂肪肝、糖尿病合併症（例えば、網膜症、腎症、神経症、白内障、冠動脈疾患等である。）、動脈硬化症、妊娠糖尿病、多嚢胞卵巣症候群、心血管性疾患（例えば、虚血性心疾患等である。）、非アテローム性動脈硬化症又は虚血性心疾患により惹起される細胞損傷（例えば、脳卒中により惹起される脳損傷等である。）、痛風、炎症性疾患（例えば、骨関節炎、疼痛、発熱、リウマチ性関節炎、炎症性腸炎、アクネ、日焼け、乾癬、湿疹、アレルギー性疾患、喘息、ＧＩ潰瘍、悪液質、自己免疫疾患、膵炎である。）、ガン、骨粗鬆症、白内障等；の予防剤及び／又は治療剤として有用である。
【０３２５】
更に、本発明の前記一般式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩と、α−グルコシダーゼ阻害剤、アルドース還元酵素阻害剤、ビグアナイド剤、スタチン系化合物、スクアレン合成阻害剤、フィブラート系化合物、ＬＤＬ異化促進剤及びアンジオテンシン変換酵素阻害剤の少なくとも1種を組み合わせてなる医薬（特に好適には、糖尿病又は糖尿病合併症の予防剤及び／又は治療剤である。）も有用である。
【０３２６】
本発明の前記一般式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩を、上記治療剤又は予防剤として使用する場合には、それ自体或は適宜の薬理学的に許容される、賦形剤、希釈剤等と混合し、例えば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤等による経口的又は注射剤若しくは坐剤等による非経口的に投与することができる。
【０３２７】
また、本発明の前記一般式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩を、α−グルコシダーゼ阻害剤、アルドース還元酵素阻害剤、ビグアナイド剤、スタチン系化合物、スクアレン合成阻害剤、フィブラート系化合物、ＬＤＬ異化促進剤及びアンジオテンシン変換酵素阻害剤の少なくとも1種を組み合わせて医薬として使用する場合には、これらの有効成分を別々に又は同時にそれ自体或は適宜の薬理学的に許容される、賦形剤、希釈剤等と混合し、例えば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤等による経口的又は注射剤若しくは坐剤等による非経口的に投与することができる。このとき有効成分を別々に製剤化した場合、別々に製剤化したものを使用時に希釈剤などを用いて混合して投与できることができるが、別々に製剤化したものを、別々に、同時に、又は時間差をおいて同一対象に投与してもよい。
【０３２８】
これらの製剤は、賦形剤（例えば、乳糖、白糖、葡萄糖、マンニトール、ソルビトールのような糖誘導体；トウモロコシデンプン、バレイショデンプン、α澱粉、デキストリンのような澱粉誘導体；結晶セルロースのようなセルロース誘導体；アラビアゴム；デキストラン；プルランのような有機系賦形剤：及び、軽質無水珪酸、合成珪酸アルミニウム、珪酸カルシウム、メタ珪酸アルミン酸マグネシウムのような珪酸塩誘導体；燐酸水素カルシウムのような燐酸塩；炭酸カルシウムのような炭酸塩；硫酸カルシウムのような硫酸塩等の無機系賦形剤を挙げることができる。）、滑沢剤（例えば、ステアリン酸、ステアリン酸カルシウム、ス
テアリン酸マグネシウムのようなステアリン酸金属塩；タルク；コロイドシリカ；ビーガム、ゲイ蝋のようなワックス類；硼酸；アジピン酸；硫酸ナトリウムのような硫酸塩；グリコール；フマル酸；安息香酸ナトリウム；ＤＬロイシン；脂肪酸ナトリウム塩；ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸マグネシウムのようなラウリル硫酸塩；無水珪酸、珪酸水和物のような珪酸類；及び、上記澱粉誘導体を挙げることができる。）、結合剤（例えば、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、マクロゴール、及び、前記賦形剤と同様の化合物を挙げることができる。）、崩壊剤（例えば、低置換度ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルセルロースカルシウム、内部架橋カルボキシメチルセルロースナトリウムのようなセルロース誘導体；カルボキシメチルスターチ、カルボキシメチルスターチナトリウム、架橋ポリビニルピロリドンのような化学修飾されたデンプン・セルロース類を挙げることができる。）、安定剤（メチルパラベン、プロピルパラベンのようなパラオキシ安息香酸エステル類；クロロブタノール、ベンジルアルコール、フェニルエチルアルコールのようなアルコール類；塩化ベンザルコニウム；フェノール、クレゾールのようなフェノール類；チメロサール；デヒドロ酢酸；及び、ソルビン酸を挙げることができる。）、矯味矯臭剤（例えば、通常使用される、甘味料、酸味料、香料等を挙げることができる。）、希釈剤等の添加剤を用いて周知の方法で製造される。
【０３２９】
その使用量は症状、年齢、投与方法等により異なるが、例えば、経口投与の場合には、１回当り、下限として０．００１mg/kg 体重（好ましくは、０．０１mg/kg 体重）、上限として、５００mg/kg 体重（好ましくは、５０mg/kg 体重）を、静脈内投与の場合には、１回当り、下限として０．００５mg/kg 体重（好ましくは、０．０５mg/kg 体重）、上限として、５０mg/kg 体重（好ましくは、５mg/kg 体重）を１日当り１乃至数回症状に応じて投与することが望ましい。
【０３３０】
【実施例】
以下に、実施例、参考例および試験例を示し、本発明を更に詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定するものではない。
【０３３１】
実施例１
５−｛４−［５−（４−ヒドロキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）−３−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオンおよびその塩酸塩（例示化合物番号１−６５１）
（１−１）５−｛４−［５−（４−アセトキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）−３−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−２−イルメトキシ］ベンジル｝−３−トリフェニルメチルチアゾリジン−２，４−ジオン
１６．４ｇの５−（４−アセトキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）−２−ヒドロキシメチル−３−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン、３２．２ｇの５−（４−ヒドロキシベンジル）−３−トリフェニルメチルチアゾリジン−２，４−ジオン、１７．５ｇのアゾジカルボニルジピペリジンおよび４００ｍｌのトルエンの混合物中に、トリブチルホスフィン１７．２ｍｌのトルエン溶液５０ｍｌを、室温で滴下し、超音波照射で１時間、室温で３時間攪拌した後、室温で１晩放置した。反応液より不溶物をろ別し、ろ液を濃縮した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／１→１／１）で分離精製し、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル（２／１）の混合溶剤で結晶化させた。得られた結晶をろ取し、３１．７ｇの標記化合物を得た。
【０３３２】
融点：１９０−１９１℃。
（１−２ａ）５−｛４−［５−（４−ヒドロキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）−３−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン
２７．０ｇの５−｛４−［５−（４−アセトキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）−３−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−２−イルメトキシ］ベンジル｝−３−トリフェニルメチルチアゾリジン−２，４−ジオン、１５０ｍｌの６規定塩酸および２００ｍｌの酢酸の混合液を、８０℃で５時間攪拌した後、氷水中に注ぎ、炭酸ナトリウムを加え中和した。混合液に酢酸エチルを加え、不溶物をろ別した後、エタノ−ルで洗浄し、１０．２ｇの標記化合物を得た。また、ろ液より有機層を分離し、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層および抽出液を合わせ飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１→１／２→酢酸エチル）で分離精製し、エタノールで結晶化させ、結晶をろ取し、６．９０ｇの標記化合物を得た。
【０３３３】
融点：２1５−２１７℃。
（１−２ｂ）５−｛４−［５−（４−ヒドロキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）−３−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン塩酸塩
１０．２ｇの５−｛４−［５−（４−ヒドロキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）−３−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン、１００ｍｌの酢酸エチルおよび１００ｍｌの４規定塩酸／酢酸エチルの混合物を、室温で６時間攪拌した後、反応液を室温で一晩放置した。反応混合物より結晶をろ取し、１０．７ｇの標記化合物を得た。
【０３３４】
融点：１４８−１５０℃。
【０３３５】
実施例２
５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオンおよびその塩酸塩（例示化合物番号１−６５０）
（２−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−メトキシメトキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１８．７ｇのＮ−［２−アミノ−５−（４−メトキシメトキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１２．６ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、４．５５ｇのトリエチルアミンおよび３００ｍｌの無水テトラヒドロフランの混合物に、７．３４ｇのシアノホスホン酸ジエチルを加え、室温で１７時間攪拌した。反応液を濃縮し、水を加え、酢酸エチルで抽出した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。減圧下、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で分離精製し、２３．１ｇの標記化合物を得た。
【０３３６】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／３）：Ｒｆ値＝０．４１。
（２−２ａ）５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン
０．４９ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−メトキシメトキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルを１０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサン溶液に溶解させ、室温で２日間放置した。反応液に、水、重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した後、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣を酢酸エチルを溶出溶剤とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し、０．２７ｇの標記化合物を得た。
【０３３７】
軟化点：１３７−１４７℃
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）：Ｒｆ値＝０．２１。
【０３３８】
（２−２ｂ）５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン塩酸塩
１８．０ｇの５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオンの粗生成物を酢酸エチルを溶出溶剤とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し、１００ｍｌの４規定塩酸／酢酸エチル溶液に懸濁させ、室温で一晩攪拌した。混合物より結晶をろ取し、酢酸エチルで洗浄し、１４．７ｇの標記化合物を得た。
【０３３９】
融点：１６０−１６５℃。
【０３４０】
実施例３
５−｛４−［６−（４−ヒドロキシフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン（例示化合物番号１−７０）
（３−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
０．７９ｇのＮ−［２−アミノ−５−（４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．８４ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．４９ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．３０ｇのトリエチルアミンおよび６０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、１．４９ｇの標記化合物を得た。
【０３４１】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）：Ｒｆ値＝０．３５。
（３−２）５−｛４−［６−（４−ヒドロキシフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン
１．４９ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび１０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサン溶液を用いて、実施例（２−２ａ）と同様に反応させ、精製して、０．２６ｇの標記化合物を得た。
【０３４２】
融点：１２６−１３１℃
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／３）：Ｒｆ値＝０．１３。
【０３４３】
実施例４
５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオンおよびその塩酸塩（例示化合物番号１−５２０）
（４−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−メトキシメトキシ−３，５−ジメチルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
０．９６ｇのＮ−［２−アミノ−５−（４−メトキシメトキシ−３，５−ジメチルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．８４ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．４９ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．３０ｇのトリエチルアミンおよび６０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、１．４４ｇの標記化合物を得た。
【０３４４】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）：Ｒｆ値＝０．２７。
（４−２ａ）５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン
１．４４ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−メトキシメトキシ−３，５−ジメチルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび１０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサン溶液を用いて、実施例（２−２ａ）と同様に反応させ、精製して、０．６２ｇの標記化合物を得た。
【０３４５】
融点：１４７−１５７℃
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）：Ｒｆ値＝０．２１。
（４−２ｂ）５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン塩酸塩
３．１１ｇの５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオンおよび５０ｍｌの４規定塩酸／酢酸エチル溶液を用いて、実施例（２−２ｂ）と同様に反応させ、精製して、標記化合物を３．１８ｇ得た。
【０３４６】
融点：２０６−２０９℃。
【０３４７】
実施例５
５−｛４−［６−（２−クロロ−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオンおよびその塩酸塩（例示化合物番号１−３６８）（５ａ）５−｛４−［６−（２−クロロ−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン
９．１９ｇのＮ−［５−（２−クロロ−４−メトキシメトキシ−３，５−ジメチルフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、２．５ｇの１０％パラジウム−炭素および４００ｍｌのメタノールの混合物を、水素雰囲気下、室温で９０分間激しく攪拌した後、触媒をろ去し、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣を２５０ｍｌの無水テトラヒドロフランに溶解させ、１５．８ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、９．１８ｇのシアノホスホン酸ジエチルおよび５．６９ｇのトリエチルアミンを加え、室温で６４時間攪拌した。反応液を濃縮し、水を加え、酢酸エチルで抽出した後、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で分離精製した後、２００ｍｌの２規定塩酸／ジオキサン溶液に溶解させ、室温で１９時間放置した。反応液を濃縮し、重曹水で中和した後、酢酸エチルとテトラヒドロフランの混合溶媒で抽出し、得られた抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）および逆層分取高速液体クロマトグラフィー（展開溶剤：アセトニトリル／水＝７／３）で分離精製し、２．５６ｇの標記化合物を得た。
【０３４８】
融点：２４０−２４３℃
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）：Ｒｆ値＝０．２１。
（５ｂ）５−｛４−［６−（２−クロロ−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン塩酸塩
２．５４ｇの５−｛４−［６−（２−クロロ−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオンおよび５０ｍｌの４規定塩酸／酢酸エチル溶液を用いて、実施例（２−２ｂ）と同様に反応させ、精製して、標記化合物を２．６７ｇ得た。
【０３４９】
融点：１７４−１７６℃。
【０３５０】
実施例６
５−｛４−［６−（ピリジン−２−イルオキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン（例示化合物番号１−８２１）
（６−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（ピリジン−２−イルオキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
０．３４ｇのＮ−［２−ニトロ−５−（ピリジン−２−イルオキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、５０ｍｇの１０％パラジウム−炭素および１０ｍｌのメタノールの混合物を、水素雰囲気下、室温で９０分間激しく攪拌した。反応液より触媒をろ去し、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣を１０ｍｌの無水テトラヒドロフランに溶解させ、０．３４ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．２０ｇのシアノホスホン酸ジエチルおよび０．１２ｇのトリエチルアミンを加え、室温で１８時間攪拌した。反応液を濃縮し、水を加え、酢酸エチルで抽出した後、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）で分離精製し、０．３７ｇの標記化合物を得た。
【０３５１】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）：Ｒｆ値＝０．３６。
（６−２）５−｛４−［６−（ピリジン−２−イルオキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン
０．３７ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（ピリジン−２−イルオキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび２０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサン溶液を用いて、実施例（２−２ａ）と同様に反応させ、精製して、０．２０ｇの標記化合物を得た。
【０３５２】
融点：２００−２１０℃
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：酢酸エチル）：Ｒｆ値＝０．２８。
【０３５３】
実施例７
５−｛４−［６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルチオ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン１／２塩酸塩および塩酸塩（例示化合物番号１−５９５）
（７−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルチオ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
３５９ｍｇのＮ−［２−ニトロ−５−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルチオ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、３６０ｍｇの１０％パラジウム−炭素および５０ｍｌのメタノールの混合物を、水素雰囲気下、室温で９時間激しく攪拌した。反応液より触媒をろ去し、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣を２０ｍｌの無水テトラヒドロフランに溶解させ、２４８ｍｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、１４４ｍｇのシアノホスホン酸ジエチルおよび８９ｍｇのトリエチルアミンを加え、室温で１５時間放置した。反応液を濃縮し、水を加え、酢酸エチルで抽出した後、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／２）で分離精製し、２７５ｍｇの標記化合物を得た。
【０３５４】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）：Ｒｆ値＝０．４４。
（７−２ａ）５−｛４−［６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルチオ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン１／２塩酸塩
２５９ｍｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルチオ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルを１０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサン溶液に溶解させ、室温で１８時間放置した。反応液を減圧下乾固させ、エーテルを加えて不溶物をろ取した後、エーテルを用いて洗浄した。得られた固体物質を逆層分取薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：アセトニトリル／水＝５／１）で分離精製し、１１５ｍｇの標記化合物を得た。
【０３５５】
融点：１２０−１２３℃。
（７−２ｂ）５−｛４−［６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルチオ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン塩酸塩
２．２９ｇの５−｛４−［６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルチオ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオンおよび４規定塩酸／酢酸エチル溶液を用いて、実施例（２−２ｂ）と同様に反応させ、精製して、１．２５ｇの標記化合物を得た。
【０３５６】
融点：１４４−１４６℃。
【０３５７】
実施例８
５−｛４−［６−（４−アミノ−３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオンおよびその２塩酸塩（例示化合物番号１−７３９）
（８−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３，５−ジメチルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．５６ｇのＮ−［２−アミノ−５−（４−ｔ−ブトキシカルボニルアミン−３，５−ジメチルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．０５ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．６１ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．３８ｇのトリエチルアミンおよび３０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、１．８９ｇの標記化合物を得た。
【０３５８】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／２）：Ｒｆ値＝０．１９。
（８−２ａ）５−｛４−［６−（４−アミノ−３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン
１．８８ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３，５−ジメチルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび２０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサン溶液を用いて、実施例（２−２ａ）と同様に反応させ、精製して、０．２６ｇの標記化合物を得た。
【０３５９】
融点：２０９−２１１℃
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）：Ｒｆ値＝０．２９。
（８−２ｂ）５−｛４−［６−（４−アミノ−３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン２塩酸塩
０．２５ｇの５−｛４−［６−（４−アミノ−３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオンおよび５０ｍｌの４規定塩酸／酢酸エチル溶液を用いて、実施例（２−２ｂ）と同様に反応させ、精製して、０．２５ｇの標記化合物を得た。
【０３６０】
融点：１６５−１７５℃。
【０３６１】
実施例９
５−｛４−［６−（４−アセチルアミノ−３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン塩酸塩（例示化合物番号１−８０８）
１５５ｍｇの５−｛４−［６−（４−アミノ−３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン・２塩酸塩、３６ｍｇの無水酢酸、１０７ｍｇのピリジン、７．３ｍｇの４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン及び５ｍｌの無水テトラヒドロフランの混合物を２時間加熱還流した。反応液を濃縮し、水を加え、酢酸エチルで抽出した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣に、１０ｍｌの４規定塩酸／酢酸エチルを加え、室温で２１時間攪拌した。不溶性の成績体をろ取した後、エーテルで洗浄し、９７ｍｇの標記化合物を得た。
【０３６２】
軟化点：１６０−１６５℃。
【０３６３】
実施例１０
５−｛４−（１−メチル−６−［２−（モルホリン−４−イル）フェノキシ］−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン及びその２塩酸塩（例示化合物番号１−２８４）
（１０−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−［２−（モルホリン−４−イル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．１８ｇのＮ−｛２−アミノ−５−［２−（モルホリン−４−イル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．９２ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．５３ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．３３ｇのトリエチルアミン及び３０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、１．４７ｇの標記化合物を得た。
【０３６４】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）：Ｒｆ値＝０．３０。
（１０−２ａ）５−｛４−（１−メチル−６−［２−（モルホリン−４−イル）フェノキシ］−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン
１．４５ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−［２−（モルホリン−４−イル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル及び２０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンを用いて、実施例２ａと同様に反応させ、精製して、０．９４ｇの標記化合物を得た。
【０３６５】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）：Ｒｆ値＝０．３３。
（１０−２ｂ）５−｛４−（１−メチル−６−［２−（モルホリン−４−イル）フェノキシ］−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン・２塩酸塩
０．６４ｇの５−｛４−（１−メチル−６−［２−（モルホリン−４−イル）フェノキシ］−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオンを、３０ｍｌの濃塩酸及び３０ｍｌの１，４−ジオキサンの混合液に溶解させ、室温で９０分間攪拌した。得られた反応液を、減圧下乾固させ、エーテルを加えた。不溶性の成績体をろ取した後、エーテルで洗浄し、０．７１ｇの標記化合物を得た。
【０３６６】
軟化点：１２０−１３０℃。
【０３６７】
実施例１１
５−｛４−（１−メチル−６−［３−（モルホリン−４−イル）フェノキシ］−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン・２塩酸塩（例示化合物番号１−２９２）
（１１−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−［３−（モルホリン−４−イル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．１８ｇのＮ−｛２−アミノ−５−［３−（モルホリン−４−イル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．９２ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．５３ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．３３ｇのトリエチルアミン及び３０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、１．４８ｇの標記化合物を得た。
【０３６８】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）：Ｒｆ値＝０．２６。
（１１−２）５−｛４−（１−メチル−６−［３−（モルホリン−４−イル）フェノキシ］−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン・２塩酸塩
１．４４ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−［３−（モルホリン−４−イル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル及び２０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンの混合物を室温で３時間攪拌した。反応液を減圧下乾固させ、エーテルを加えた。不溶性の成績体をろ取した後、エーテルで洗浄し、１．２７ｇの標記化合物を得た。
【０３６９】
軟化点：１５０−１６０℃。
【０３７０】
実施例１２
５−｛４−（１−メチル−６−［２−（ピペリジン−１−イル）フェノキシ］−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン・２塩酸塩（例示化合物番号１−２４１）
（１２−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−［２−（ピペリジン−１−イル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．１９ｇのＮ−｛２−アミノ−５−［２−（ピペリジン−１−イル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．９３ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．５４ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．３３ｇのトリエチルアミンおよび２０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、１．８０ｇの標記化合物を得た。
【０３７１】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）：Ｒｆ値＝０．３９。
（１２−２）５−｛４−（１−メチル−６−［２−（ピペリジン−１−イル）フェノキシ］−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン・２塩酸塩
１．８０ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−［２−（ピペリジン−１−イル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび２０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンの混合物を室温で１９時間攪拌した。反応液を減圧下乾固させ、酢酸エチルを加えた。不溶性の成績体をろ取した後、逆層分取高速液体クロマトグラフィー（溶出溶剤：アセトニトリル／水＝１／１）で分離精製し、４規定塩酸／酢酸エチルで処理して０．４７ｇの標記化合物を得た。
【０３７２】
融点１５１−１５４℃。
【０３７３】
実施例１３
５−｛４−［１−メチル−６−（ピリジン−２−イルチオ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオンおよびその２塩酸塩（例示化合物番号１−８２３）
（１３−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（ピリジン−２−イルチオ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
０．７８ｇのＮ−［２−アミノ−５−（ピリジン−２−イルチオ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．０６ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．６１ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．３８ｇのトリエチルアミンおよび２０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、０．６８ｇの標記化合物を得た。
【０３７４】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）：Ｒｆ値＝０．５１。
（１３−２ａ）５−｛４−［１−メチル−６−（ピリジン−２−イルチオ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン
０．６３ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（ピリジン−２−イルチオ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび２０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンを用いて、実施例（２−２ａ）と同様に反応させ、精製して、０．２０ｇの標記化合物を得た。
【０３７５】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：酢酸エチル）：Ｒｆ値＝０．２６。
（１３−２ｂ）５−｛４−［１−メチル−６−（ピリジン−２−イルチオ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン・２塩酸塩
０．２０ｇの５−｛４−［１−メチル−６−（ピリジン−２−イルチオ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオンおよび５０ｍｌの４規定塩酸／酢酸エチルを用いて、実施例（２−２ｂ）と同様に反応させ、精製して、０．２１ｇの標記化合物を得た。
【０３７６】
融点：１３９−１４７℃。
【０３７７】
実施例１４
５−｛４−（１−メチル−６−［２−（ピロリジン−１−イル）フェノキシ］−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン（例示化合物番号１−１９９）
（１４−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−［２−（ピロリジン−１−イル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
０．７７ｇのＮ−｛２−アミノ−５−［２−（ピロリジン−１−イル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．９０ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．５２ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．３２ｇのトリエチルアミンおよび３０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、１．２６ｇの標記化合物を得た。
【０３７８】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）：Ｒｆ値＝０．４０。
（１４−２）５−｛４−（１−メチル−６−［２−（ピロリジン−１−イル）フェノキシ］−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン
１．２５ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−［２−（ピロリジン−１−イル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび２５ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンを用いて、実施例（２−２ａ）と同様に反応させ、精製して、０．９４ｇの標記化合物を得た。
【０３７９】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）：Ｒｆ値＝０．２７。
【０３８０】
実施例１５
５−｛４−［６−（２−ヒドロキシフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩（例示化合物番号１−１１）
（１５−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（２−ヒドロキシフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
０．９９ｇのＮ−［２−アミノ−５−（２−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．９３ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．５４ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．３３ｇのトリエチルアミンおよび２０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、１．１８ｇの標記化合物を得た。
【０３８１】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／３）：Ｒｆ値＝０．４７。
（１５−１）５−｛４−［１−メチル−６−（２−ヒドロキシフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩
１．１６ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（２−ヒドロキシフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび２０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンを用いて、実施例（２−２ａ）と同様に反応させ、精製した。引き続き２０ｍｌの４規定塩酸／酢酸エチルを用いて、実施例（２−２ｂ）と同様に反応させ、精製して、０．７９ｇの標記化合物を得た。
【０３８２】
融点：１５５−１６５℃。
【０３８３】
実施例１６
５−｛４−（６−［４−（１−アダマンチル）フェノキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩（例示化合物番号１−１１８２）
（１６−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−［４−（１−アダマンチル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．３４ｇのＮ−｛２−アミノ−５−［４−（１−アダマンチル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．９３ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．５４ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．３３ｇのトリエチルアミンおよび２０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、１．８３ｇの標記化合物を得た。
【０３８４】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）：Ｒｆ値＝０．２９。
（１６−２）５−｛４−（６−［４−（１−アダマンチル）フェノキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩
１．８２ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−［４−（１−アダマンチル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび２０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンの混合物を室温で２９時間攪拌した。反応液を減圧下乾固させ、エーテルを加えた。不溶性の成績体をろ取した後、エーテルで洗浄し、１．３５ｇの標記化合物を得た。
【０３８５】
融点：１６０−１６５℃。
【０３８６】
実施例１７
５−｛４−［６−（３−ジメチルアミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン（例示化合物番号１−１５３）
（１７−１）Ｎ−｛５−（３−ジメチルアミノフェノキシ）−２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．００ｇのＮ−［２−アミノ−５−（３−ジメチルアミノフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．５７ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．９１ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．５７ｇのトリエチルアミンおよび４０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、１．６９ｇの標記化合物を得た。
【０３８７】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）：Ｒｆ値＝０．２６。
（１７−２）５−｛４−［６−（３−ジメチルアミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン
１．６８ｇのＮ−｛５−（３−ジメチルアミノフェノキシ）−２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび３０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンを用いて、実施例（２−２ａ）と同様に反応させ、精製して、０．５７ｇの標記化合物を得た。
【０３８８】
融点：１８０−１８６℃。
【０３８９】
実施例１８
５−｛４−［１−メチル−６−（ピリジン−３−イルオキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン・２塩酸塩（例示化合物番号１−９３８）
（１８−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（ピリジン−３−イルオキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
０．６３ｇのＮ−［２−アミノ−５−（ピリジン−３−イルオキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．６２ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．３６ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．２２ｇのトリエチルアミンおよび１５ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、０．８８ｇの標記化合物を得た。
【０３９０】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）：Ｒｆ値＝０．３８。
（１８−２）５−｛４−［１−メチル−６−（ピリジン−３−イルオキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン・２塩酸塩
０．８７ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（ピリジン−３−イルオキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび１５ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンの混合物を室温で４．５時間攪拌した後、同温で９日間放置した。不溶性の成績体をろ取した後、酢酸エチルで洗浄し、０．７７ｇの標記化合物を得た。
【０３９１】
融点：１４６−１５６℃。
【０３９２】
実施例１９
５−｛４−（６−［４−（イミダゾール−１−イル）フェノキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン・２塩酸塩（例示化合物番号１−１１２６）
（１９−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−［４−（イミダゾール−１−イル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．１４ｇのＮ−｛２−アミノ−５−［４−（イミダゾール−１−イル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．９３ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．５４ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．３３ｇのトリエチルアミンおよび３０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、１．７５ｇの標記化合物を得た。
【０３９３】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：酢酸エチル／メタノール＝１０／１）：Ｒｆ値＝０．５１。
（１９−２）５−｛４−（６−［４−（イミダゾール−１−イル）フェノキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン・２塩酸塩
１．７５ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−［４−（イミダゾール−１−イル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび２０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンの混合物を室温で１９時間攪拌した。反応液を減圧下乾固させ酢酸エチルを加えた。不溶性の成績体をろ取した後、逆層分取高速液体クロマトグラフィー（溶出溶剤：アセトニトリル／水＝７／１３）で分離精製し、４規定塩酸／酢酸エチルで処理して０．２０ｇの標記化合物を得た。
【０３９４】
融点：１８３−１８６℃。
【０３９５】
実施例２０
５−｛４−［１−メチル−６−（２−フェニルフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩（例示化合物番号１−１３２７）
（２０−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（２−フェニルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．６０ｇのＮ−［２−アミノ−５−（２−フェニルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．２６ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．７３ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．４５ｇのトリエチルアミンおよび２０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、２．３３ｇの標記化合物を得た。
【０３９６】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／２）：Ｒｆ値＝０．２５。
（２０−２）５−｛４−［１−メチル−６−（２−フェニルフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩
２．３３ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（２−フェニルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび２０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンの混合物を室温で２０時間攪拌した。反応液を減圧下乾固させ、酢酸エチルを加えた。不溶性の成績体をろ取した後、酢酸エチルで洗浄し、１．８７ｇの標記化合物を得た。
【０３９７】
融点：１４２−１５２℃。
【０３９８】
実施例２１
５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−２，３−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩（例示化合物番号１−５０６）
（２１−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−ヒドロキシ−２，３−ジメチルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．６０ｇのＮ−［２−アミノ−５−（４−ヒドロキシ−２，３−ジメチルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．３８ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．８０ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．５０ｇのトリエチルアミンおよび２０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、２．３５ｇの標記化合物を得た。
【０３９９】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）：Ｒｆ値＝０．５４。
（２１−２）５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−２，３−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩
２．３５ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−ヒドロキシ−２，３−ジメチルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび２０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンの混合物を室温で４４時間攪拌した。反応液を減圧下乾固させ、酢酸エチルを加えた。不溶性の成績体をろ取した後、酢酸エチルで洗浄し、１．８２ｇの標記化合物を得た。
【０４００】
融点：１６８−１７０℃。
【０４０１】
実施例２２
５−｛４−［１−メチル−６−（４−フェノキシフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩（例示化合物番号１−１９３）
（２２−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−フェノキシフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．６６ｇのＮ−［２−アミノ−５−（４−フェノキシフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．２６ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．７３ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．４５ｇのトリエチルアミンおよび２０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、１．９９ｇの標記化合物を得た。
【０４０２】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）：Ｒｆ値＝０．６２。
（２２−２）５−｛４−［１−メチル−６−（４−フェノキシフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩
１．９９ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−フェノキシフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび２０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンの混合物を室温で２２時間攪拌した。反応液を減圧下乾固させ、酢酸エチルを加えた。不溶性の成績体をろ取した後、酢酸エチルで洗浄し、１．５７ｇの標記化合物を得た。
【０４０３】
融点：１９０−２００℃。
【０４０４】
実施例２３
５−｛４−［６−（４−ヒドロキシフェニルチオ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオンおよびその塩酸塩（例示化合物番号１−７２）
（２３−２ａ）５−｛４−［６−（４−ヒドロキシフェニルチオ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン
２．３６ｇのＮ−［２−アミノ−５−（４−ヒドロキシフェニルチオ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、２．８７ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、１．６７ｇのシアノホスホン酸ジエチル、１．０３ｇのトリエチルアミンおよび６０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製した。引き続き２０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンを用いて、実施例（２−２ａ）と同様に反応させ、精製して、０．７２ｇの標記化合物を得た。
【０４０５】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）：Ｒｆ値＝０．１９。
（２３−２ｂ）５−｛４−［６−（４−ヒドロキシフェニルチオ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩
０．７２ｇの５−｛４−［６−（４−ヒドロキシフェニルチオ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオンおよび４０ｍｌの４規定塩酸／酢酸エチルを用いて、実施例（２−２ｂ）と同様に反応させ、精製して、０．６３ｇの標記化合物を得た。
【０４０６】
融点：２０４−２０７℃。
【０４０７】
実施例２４
５−｛４−［１−メチル−６−（３−フェニルフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩（例示化合物番号１−１６８）
（２４−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（３−フェニルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．６０ｇのＮ−［２−アミノ−５−（３−フェニルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．２６ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．７３ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．４５ｇのトリエチルアミンおよび２０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、２．５７ｇの標記化合物を得た。
【０４０８】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）：Ｒｆ値＝０．３２。
（２４−２）５−｛４−［１−メチル−６−（３−フェニルフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩
２．５７ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（３−フェニルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび３０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンの混合物を室温で６３時間攪拌した。反応液を減圧下乾固させ、酢酸エチルを加えた。不溶性の成績体をろ取した後、酢酸エチルで洗浄し、２．０１ｇの標記化合物を得た。
【０４０９】
融点：１５０−１６０℃。
【０４１０】
実施例２５
５−｛４−［６−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩（例示化合物番号１−５０１）
（２５−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．１１ｇのＮ−［２−アミノ−５−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．８９ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．５２ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．３２ｇのトリエチルアミンおよび２０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、１．７５ｇの標記化合物を得た。
【０４１１】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）：Ｒｆ値＝０．２６。
（２５−２）５−｛４−［６−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩
１．７５ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび２０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンの混合物を室温で１４時間攪拌した。反応液を減圧下乾固させ、酢酸エチルを加えた。不溶性の成績体をろ取した後、酢酸エチルで洗浄し、１．１１ｇの標記化合物を得た。
【０４１２】
融点：１６０−１７０℃。
【０４１３】
実施例２６
５−｛４−［６−（２−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩（例示化合物番号１−４９９）
（２６−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（２−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
０．９５ｇのＮ−［２−アミノ−５−（２−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．７６ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．４４ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．２７ｇのトリエチルアミンおよび２０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、１．２４ｇの標記化合物を得た。
【０４１４】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）：Ｒｆ値＝０．１９。
（２６−２）５−｛４−［６−（２−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩
１．２４ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（２−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび２０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンの混合物を室温で１４時間攪拌した。反応液を減圧下乾固させ、酢酸エチルを加えた。不溶性の成績体をろ取した後、酢酸エチルで洗浄し、０．７５ｇの標記化合物を得た。
【０４１５】
融点：１６７−１７２℃。
【０４１６】
実施例２７
５−｛４−［１−メチル−６−（４−フェニルフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩（例示化合物番号１−１６９）
（２７−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−フェニルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．６０ｇのＮ−［２−アミノ−５−（４−フェニルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．２６ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．７３ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．４５ｇのトリエチルアミンおよび２０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、２．３９ｇの標記化合物を得た。
【０４１７】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）：Ｒｆ値＝０．３２。
（２７−２）５−｛４−［１−メチル−６−（４−フェニルフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩
２．３９ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−フェニルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび２０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンの混合物を室温で２１時間攪拌した。反応液を減圧下乾固させ、酢酸エチルを加えた。不溶性の成績体をろ取した後、酢酸エチルで洗浄し、１．９０ｇの標記化合物を得た。
【０４１８】
融点：１７０−１８０℃。
【０４１９】
実施例２８
５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩（例示化合物番号１−５１３）
（２８−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
０．５４ｇのＮ−［２−アミノ−５−（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．５１ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．２９ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．１８ｇのトリエチルアミンおよび１０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、０．７１ｇの標記化合物を得た。
【０４２０】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）：Ｒｆ値＝０．６８。
（２８−２）５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩
０．７１ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび１０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンの混合物を室温で１７時間攪拌した。反応液を減圧下乾固させ、酢酸エチルを加えた。不溶性の成績体をろ取した後、逆層分取高速液体クロマトグラフィー（溶出溶剤：アセトニトリル／水＝９／１１）で分離精製し、４規定塩酸／酢酸エチルで処理して０．４１ｇの標記化合物を得た。
【０４２１】
融点：１７０−１７１℃。
【０４２２】
実施例２９
５−｛４−［６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩（例示化合物番号１−５９３）
（２９−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
０．５５ｇのＮ−［２−アミノ−５−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．４２ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．２４ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．１５ｇのトリエチルアミンおよび２０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、０．７２ｇの標記化合物を得た。
【０４２３】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）：Ｒｆ値＝０．６８。
（２９−２）５−｛４−［６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩
０．７２ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび２０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンの混合物を室温で１７時間攪拌した。反応液を減圧下乾固させ、酢酸エチルを加えた。不溶性の成績体をろ取した後、酢酸エチルで洗浄し、０．４１ｇの標記化合物を得た。
【０４２４】
融点：１７３−１７８℃。
【０４２５】
実施例３０
５−｛４−［６−（４’−ヒドロキシビフェニル−４−イルオキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩（例示化合物番号１−１７１）
（３０−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４’−ヒドロキシビフェニル−４−イルオキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
０．６１ｇのＮ−［２−アミノ−５−（４’−ヒドロキシビフェニル−１−イルオキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．５１ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．２９ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．１８ｇのトリエチルアミンおよび１０ｍｌの無水テトラヒドロフランの混合物を室温で２日間攪拌した。反応液を濃縮し、水を加え、酢酸エチルで抽出した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で分離精製し、標記化合物を得た。
（３０−２）５−｛４−［６−（４’−ヒドロキシビフェニル−４−イルオキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩
２０ｍｌのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４’−ヒドロキシビフェニル−４−イルオキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルを４規定塩酸／ジオキサンに溶解し、室温で４日間放置した。反応液を減圧下乾固させ、酢酸エチルを加えた。不溶性の成績体をろ取した後、酢酸エチルで洗浄し、０．２３ｇの標記化合物を得た。
【０４２６】
融点：１６０−１６３℃。
【０４２７】
実施例３１
５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−２−メチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩（例示化合物番号１−４８１）および５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩（例示化合物番号１−４８６）
（３１−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−ヒドロキシ−２−メチルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．８８ｇのＮ−［２−アミノ−５−（４−ヒドロキシ−２−メチルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよびＮ−［２−アミノ−５−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルの混合物、１．６９ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．９８ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．６１ｇのトリエチルアミンおよび２０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、１．５７ｇの標記化合物の混合物を得た。
【０４２８】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）：Ｒｆ値＝０．５３。
（３１−２ａ）５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−２−メチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩および
（３１−２ｂ）５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩
１．５７ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−ヒドロキシ−２−メチルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよびＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルの混合物を２０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンに溶解し室温で６６時間攪拌した。反応液を減圧下乾固させ、酢酸エチルを加えた。不溶性の成績体１．２４ｇをろ取した後、逆層分取高速液体クロマトグラフィー［溶出溶媒：アセトニトリル／水（含０．２％酢酸および０．２％トリエチルアミン）＝２／３］で分離精製し、４規定塩酸／酢酸エチルで処理して、５０ｍｇの５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−２−メチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩および１８３ｍｇの５−｛４−［６−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩を得た。
【０４２９】
（３１−２ａ）融点：１６５−１６８℃
（３１−２ｂ）融点：１６５−１６８℃。
【０４３０】
実施例３２
５−［４−｛６−［４−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾイルアミノ）フェノキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ｝ベンジル］チアゾリジン−２、４−ジオン（例示化合物番号１−１２６９）
４００ｍｇの５−｛４−［６−（４−アミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン・２塩酸塩、２０４ｍｇのシクロペンタンカルボン酸および３０４ｍｇのトリエチルアミンを８ｍｌの無水Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解させた後、２８７ｍｇの１−エチル−３−（３‘−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩を加え、室温で１時間攪拌した後、同温で二晩放置した。反応液を濃縮した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２〜１／３）で分離精製した。目的物を含む画分を濃縮して、得られた残渣をｎ−ヘキサン−酢酸エチル（１：３）より再結晶して、１７６ｍｇの標記化合物を得た。
【０４３１】
融点：１５９．８−１６２．０℃。
【０４３２】
実施例３３
５−｛４−［６−（４−ベンジル−３−ヒドロキシフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩（例示化合物番号１−１２３０）
（３３−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−ベンジル−３−ヒドロキシフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよびＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．８ｇのＮ−［２−アミノ−５−（４−ベンジル−３−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．１６ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．９９ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．７６ｇのトリエチルアミンおよび３０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、１．５ｇの標記化合物を得た。
【０４３３】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）：Ｒｆ値＝０．３２。
（３３−２）５−｛４−［６−（４−ベンジル−３−ヒドロキシフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩
１．４ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−ベンジル−３−ヒドロキシフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび２０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンの混合物を室温で３日間攪拌した。反応液に酢酸エチルおよびｎ−ヘキサンを加え、不溶性の成績体をろ取して、１．５ｇの標記化合物を得た。
【０４３４】
融点：２０５−２１９℃。
【０４３５】
実施例３４
５−｛４−［１−メチル−６−（４−メチルチオフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオンおよびその塩酸塩（例示化合物番号１−１３６）
（３４−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−メチルチオフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．９３ｇのＮ−［２−アミノ−５−（４−メチルチオフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、３．０１ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、１．７５ｇのシアノホスホン酸ジエチル、１．０８ｇのトリエチルアミンおよび８０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、２．９６ｇの標記化合物を得た。
【０４３６】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝７／３）：Ｒｆ値＝０．１１。
（３４−２ａ）５−｛４−［１−メチル−６−（４−メチルチオフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン
２．９５ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−メチルチオフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび６０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンを用いて、実施例（２−２ａ）と同様に反応させ、精製して、２．１５ｇの標記化合物を得た。
【０４３７】
融点：１９９−２００℃。
（３４−２ｂ）５−｛４−［１−メチル−６−（４−メチルチオフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン・塩酸塩
１．１５ｇの５−｛４−［１−メチル−６−（４−メチルチオフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオンおよび２０ｍｌの４規定塩酸／酢酸エチルを用いて、実施例（２−２ｂ）と同様に反応させ、精製して、１．０６ｇの標記化合物を得た。
【０４３８】
融点：１３７−１４７℃。
【０４３９】
実施例３５
５−｛４−［１−メチル−６−（４−メトキシフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオンおよびその塩酸塩（例示化合物番号１−１３２）
（３５−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−メトキシフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
２．０ｇのＮ−［２−アミノ−５−（４−メトキシフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、２．０ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、１．３ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．８１ｇのトリエチルアミンおよび５０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、３．３ｇの標記化合物を得た。
【０４４０】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）：Ｒｆ値＝０．６１。
（３５−２ａ）５−｛４−［１−メチル−６−（４−メトキシフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン
３．２８ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−メトキシフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルを５０ｍｌのトリフルオロ酢酸に溶解させ、６５℃で８時間攪拌した後、室温で一晩放置した。反応液を濃縮し、水を加え、５％重曹水で中和した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去した。得られた残渣にエーテル−酢酸エチル（１：１）混合溶媒を加え、析出した結晶をろ取して、１．９１ｇの標記化合物を得た。
【０４４１】
融点：１２２−１２６℃。
（３５−２ｂ）５−｛４−［１−メチル−６−（４−メトキシフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン・塩酸塩
１．８ｇの５−｛４−［１−メチル−６−（４−メトキシフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオンおよび５０ｍｌの４規定塩酸／酢酸エチルを用いて、実施例（２−２ｂ）と同様に反応させ、精製して、１．８５ｇの標記化合物を得た。
【０４４２】
融点：１４８−１５１℃。
【０４４３】
実施例３６
５−｛４−［１−メチル−６−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオンおよびその塩酸塩（例示化合物番号１−１３１）
（３６−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
０．６８ｇのＮ−［２−アミノ−５−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．７３ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．４９ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．３０ｇのトリエチルアミンおよび５０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、０．９７ｇの標記化合物を得た。
【０４４４】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）：Ｒｆ値＝０．２３。
（３６−２ａ）５−｛４−［１−メチル−６−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン
０．９５ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルを２０ｍｌのトリフルオロ酢酸に溶解させ、６０℃で３時間攪拌した後、室温で一晩放置した。反応液を濃縮し、水を加え、５％重曹水で中和した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）で精製して、０．６０ｇの標記化合物を得た。
【０４４５】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）：Ｒｆ値＝０．２９。
（３６−２ｂ）５−｛４−［１−メチル−６−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン・塩酸塩
０．５８ｇの５−｛４−［１−メチル−６−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオンおよび２０ｍｌの４規定塩酸／酢酸エチルを用いて、実施例（２−２ｂ）と同様に反応させ、精製して、０．５５ｇの標記化合物を得た。
【０４４６】
融点：１４５−１４７℃。
【０４４７】
実施例３７
５−｛４−［６−（４−ベンジルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩（例示化合物番号１−１８４）
（３７−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−ベンジルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
０．６１ｇのＮ−［２−アミノ−５−（４−ベンジルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．５１ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．２９ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．１８ｇのトリエチルアミンおよび１０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、０．９１ｇの標記化合物を得た。
【０４４８】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）：Ｒｆ値＝０．２６。
（３７−２）５−｛４−［６−（４−ベンジルフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩
０．９１ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（４−ベンジルフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび１０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンの混合物を室温で３日間放置した。反応液を減圧下乾固させ、酢酸エチルを加えた。不溶性の成績体をろ取した後、酢酸エチルで洗浄し、０．６９ｇの標記化合物を得た。
【０４４９】
融点：１７０−１８０℃。
【０４５０】
実施例３８
５−｛４−［６−（３−ヒドロキシフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩（例示化合物番号１−４１）
（３８−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（３−ヒドロキシフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
０．９５ｇのＮ−［２−アミノ−５−（３−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．８９ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．５２ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．３２ｇのトリエチルアミンおよび３０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、１．１８ｇの標記化合物を得た。
【０４５１】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）：Ｒｆ値＝０．２８。
（３８−２）５−｛４−［６−（３−ヒドロキシフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩
１．１８ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（３−ヒドロキシフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび２０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンの混合物を室温で１８時間放置した。反応液を濃縮した後、酢酸エチルを加え、超音波を照射した。不溶性の成績体をろ取した後、酢酸エチルで洗浄して、０．８６ｇの標記化合物を得た。
【０４５２】
融点：１９２−１９５℃。
【０４５３】
実施例３９
５−［４−｛６−［４−（テトラゾール−５−イル）フェノキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ｝ベンジル］チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩（例示化合物番号１−１１５４）
（３９−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−［４−（テトラゾール−５−イル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
０．６９ｇのＮ−｛２−アミノ−５−［４−（テトラゾール−５−イル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．３７ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．２１ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．１３ｇのトリエチルアミンおよび３０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、０．７６ｇの標記化合物を得た。
【０４５４】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）：Ｒｆ値＝０．４９。
（３９−２）５−［４−｛６−［４−（テトラゾール−５−イル）フェノキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ｝ベンジル］チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩
０．７６ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−［４−（テトラゾール−５−イル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび２０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンの混合物を室温で２４時間攪拌した。反応液を濃縮し、酢酸エチルを加えた。不溶性の成績体をろ取した後、酢酸エチルで洗浄して、０．４４ｇの標記化合物を得た。
【０４５５】
融点：２３２−２３５℃。
【０４５６】
実施例４０
５−｛４−［６−（４−シアノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン塩酸塩（例示化合物番号１−１２１０）
０．６９ｇの５−｛４−［６−（４−シアノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝−３−トリフェニルメチルチアゾリジン−２，４−ジオン、２５ｍｌの８０％酢酸水の混合物を７０℃で３時間攪拌した。反応液を濃縮し、２５０ｍｌの１０％重曹水を加え、室温で数時間攪拌した後、不溶性の成績体をろ取、水洗し、風乾した。得られた５−｛４−［６−（４−シアノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオンに１０ｍｌの４Ｎ塩酸／ジオキサンを加え、室温で２時間攪拌した後、不溶性の成績体をろ取し、酢酸エチルで洗浄して、０．４１ｇの標記成績体を得た。
【０４５７】
融点：２１５−２１８℃。
【０４５８】
実施例４１
５−［４−（６−ペンタフルオロフェノキシ−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル］チアゾリジン−２，４−ジオン塩酸塩（例示化合物番号１−１２３５）
（４１−１ａ）５−［４−（６−ペンタフルオロフェノキシ−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル］チアゾリジン−２，４−ジオン
１．１７ｇの２−ヒドロキシメチル−１−メチル−６−ペンタフルオロフェノキシ−１Ｈ−ベンツイミダゾール、１．８６ｇの５−（４−ヒドロキシベンジル）−３−トリフェニルメチルチアゾリジン−２，４−ジオン、１．０１ｇのアゾジカルボニルジピペリジン、０．８１ｇのトリ−ｎ−ブチルホスフィンおよび５０ｍｌのトルエンの混合物を室温で１６時間攪拌した。反応液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／２で溶出された画分を集め、溶媒を留去した。得られた５−［４−（６−ペンタフルオロフェノキシ−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル］−３−トリフェニルメチルチアゾリジン−２，４−ジオンに１００ｍｌの８０％酢酸水を加え、７０℃で１時間攪拌した。反応液を濃縮した後、１０％重曹水で中和して、析出した結晶をろ取し、水洗した。得られた粗結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で分離精製して、１．２９ｇの標記化合物を得た。
【０４５９】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）：Ｒｆ値＝０．４２。
（４１−１ｂ）５−［４−（６−ペンタフルオロフェノキシ−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル］チアゾリジン−２，４−ジオン塩酸塩
１．２９ｇの５−［４−（６−ペンタフルオロフェノキシ−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル］チアゾリジン−２，４−ジオンおよび３０ｍｌの４規定塩酸／酢酸エチルを用いて、実施例（２−２ｂ）と同様に反応させ、精製して、１．１３ｇの標記化合物を得た。
【０４６０】
融点：１６９−１７２℃。
【０４６１】
実施例４２
５−｛４−［６−（２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオンおよびその塩酸塩（例示化合物番号１−１２３４）
（４２−１）Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
０．７１ｇのＮ−［２−アミノ−５−（２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．６８ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、０．３９ｇのシアノホスホン酸ジエチル、０．２４ｇのトリエチルアミンおよび３０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、１．１３ｇの標記化合物を得た。
【０４６２】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）：Ｒｆ値＝０．４１。
（４２−２ａ）５−｛４−［６−（２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン
１．１２ｇのＮ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび２５ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンを用いて、実施例（２−２ａ）と同様に反応させ、精製して、０．７３ｇの標記化合物を得た。
【０４６３】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）：Ｒｆ値＝０．１９。
（４２−２ｂ）５−｛４−［６−（２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン・塩酸塩
０．７３ｇの５−｛４−［６−（２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオンおよび２０ｍｌの４規定塩酸／酢酸エチルを用いて、実施例（２−２ｂ）と同様に処理して、０．３１ｇの標記化合物を得た。
【０４６４】
融点：１８２−１９５℃。
【０４６５】
実施例４３
５−｛４−［６−（３、５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルチオ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジリデン｝チアゾリジン−２、４−ジオン（例示化合物番号５−１３５）
５０２ｍｇの４−［６−（３、５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルチオ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンツアルデヒド、２３４ｍｇのチアゾリジン−２、４−ジオン、１７０ｍｇのピペリジンおよび６０ｍｌのエタノールの混合物を１９時間加熱還流した。反応終了後、得られた反応液を乾固し、注水した。不溶性の成績体をろ取し、水およびジイソプロピルエーテルで洗浄して、５１７ｍｇの標記化合物を得た。
【０４６６】
融点：２４７−２４９℃。
【０４６７】
実施例４４
５−｛４−［６−（４−ｎ−ヘキシルアミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン（例示化合物番号１−１２４２）
４．１０ｇのＮ−［２−アミノ−５−（４−ｔ−ブトキシカルボニル−ｎ−ヘキシルアミノフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、２．８１ｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、１．６３ｇのシアノホスホン酸ジエチル、１．０１ｇのトリエチルアミンおよび１００ｍｌの無水テトラヒドロフランの混合物を室温で２８時間攪拌した。反応液を濃縮した後、水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。抽出液より溶剤を留去し、得られた残渣に５０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンを加え、室温で６６時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ、重曹で中和した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶剤を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／３）で精製して、２．８９ｇの標記化合物を得た。
【０４６８】
融点：１７７−１７９℃。
【０４６９】
実施例４５
５−｛４−（６−［４−（Ｎ−アセチル−Ｎ−ｎ−ヘキシルアミノ）フェノキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ）ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン塩酸塩（例示化合物番号１−１３１８）
５０２ｍｇの５−｛４−［６−（４−ｎ−ヘキシルアミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン、１１２ｍｇの無水酢酸、３５６ｍｇのピリジン、３７ｍｇの４−ジメチルアミノピリジンおよび３０ｍｌの無水テトラヒドロフランの混合溶液を室温で１４時間放置した。反応液を濃縮した後、水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。抽出液より溶剤を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／３）で精製後、２０ｍｌの４規定塩酸／酢酸エチルで処理して、４１０ｍｇの標記化合物を得た。
【０４７０】
実施例４６
５−｛４−［６−（４−アミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン・２塩酸塩（例示化合物番号１−１４２）
（４６−１）Ｎ−｛５−（４−アミノフェノキシ）−２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
５００ｍｇのＮ−［２−アミノ−５−（４−ｔ−ブトキシカルボニルアミノフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、３６６ｍｇの４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ酢酸、２１２ｍｇのシアノホスホン酸ジエチル、１３２ｍｇのトリエチルアミンおよび１０ｍｌの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例（２−１）と同様に反応させ、精製して、３９５ｍｇの標記化合物を得た。
【０４７１】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／３）：Ｒｆ値＝０．５１。
（４６−２）５−｛４−［６−（４−アミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン・２塩酸塩
２７．０８ｇのＮ−｛５−（４−アミノフェノキシ）−２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルを５０ｍｌの１、４−ジオキサンに溶解し、１５０ｍｌの４規定塩酸／ジオキサンを加え、室温で２日間攪拌した。析出した成績体をろ取し、酢酸エチルで洗浄して、１４．４３ｇの標記化合物を得た。
【０４７２】
融点：１９５℃（分解点）。
【０４７３】
実施例４７
５−｛４−［６−（４−アセチルアミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン（例示化合物番号１−１６４）
４００ｍｇの５−｛４−［６−（４−アミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン・２塩酸塩、７１ｍｇの塩化アセチル、２６３ｍｇのトリエチルアミンおよび８ｍｌの無水Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドの混合物を室温で１時間攪拌した。反応終了後、反応液を濃縮し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶剤を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／４→酢酸エチル→酢酸エチル／メタノール＝１／１０）で精製して、３２０ｍｇの標記化合物を得た。
【０４７４】
融点：９２．２−９５．０℃。
【０４７５】
実施例４８
５−｛４−［６−（４−ベンゾイルアミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン（例示化合物番号１−１２４８）
４００ｍｇの５−｛４−［６−（４−アミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン・２塩酸塩、１２６ｍｇの塩化ベンゾイル、２６３ｍｇのトリエチルアミンおよび８ｍｌの無水Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、実施例４７と同様に反応させ、精製して、２４７ｍｇの標記化合物を得た。
【０４７６】
融点：２００．２−２０４．４℃。
【０４７７】
実施例４９
５−［４−｛６−［４−（３−クロロベンゾイルアミノ）フェノキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ｝ベンジル］チアゾリジン−２、４−ジオン（例示化合物番号１−１２５６）
４００ｍｇの５−｛４−［６−（４−アミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン・２塩酸塩、１２３ｍｇの塩化３−クロロベンゾイル、２６３ｍｇのトリエチルアミンおよび８ｍｌの無水Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、実施例４７と同様に反応させ、精製して、２３２ｍｇの標記化合物を得た。
【０４７８】
融点：２３７．８−２３８．８℃。
【０４７９】
実施例５０
５−｛４−［６−（４−イソニコチノイルアミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン（例示化合物番号１−１３１１）
４００ｍｇの５−｛４−［６−（４−アミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン・２塩酸塩、１４２ｍｇの塩化イソニコチノイル塩酸塩、２３２ｍｇのトリエチルアミンおよび８ｍｌの無水Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、実施例４７と同様に反応させ、精製して、３０６ｍｇの標記化合物を得た。
【０４８０】
融点：２２２℃（分解点）。
【０４８１】
実施例５１
５−｛４−［６−（４−ニコチノイルアミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン（例示化合物番号１−１３０５）
４００ｍｇの５−｛４−［６−（４−アミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン・２塩酸塩、１９５ｍｇの塩化ニコチノイル塩酸塩、３５４ｍｇのトリエチルアミンおよび８ｍｌの無水Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、実施例４７と同様に反応させ、精製して、２９７ｍｇの標記化合物を得た。
【０４８２】
融点：２１３．０−２１４．７℃。
【０４８３】
実施例５２
５−［４−｛６−［４−（２、４−ジフルオロベンゾイルアミノ）フェノキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ｝ベンジル］チアゾリジン−２、４−ジオン（例示化合物番号１−１２６３）
４００ｍｇの５−｛４−［６−（４−アミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン・２塩酸塩、１４１ｍｇの塩化２、４−ジフルオロベンゾイル、２３２ｍｇのトリエチルアミンおよび８ｍｌの無水Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、実施例４７と同様に反応させ精製して、２５１ｍｇの標記化合物を得た。
【０４８４】
融点：１７１．５−１７４．２℃。
【０４８５】
実施例５３
５−［４−｛６−［４−（２−ナフトイルアミノ）フェノキシ］−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ｝ベンジル］チアゾリジン−２、４−ジオン（例示化合物番号１−１２７７）
４００ｍｇの５−｛４−［６−（４−アミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン・２塩酸塩、１５３ｍｇの塩化２−ナフトイル、２３２ｍｇのトリエチルアミンおよび８ｍｌの無水Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、実施例４７と同様に反応させ、精製して、３３７ｍｇの標記化合物を得た。
【０４８６】
融点：２２０．７−２２２．７℃。
【０４８７】
実施例５４
５−｛４−［６−（４−シクロヘキサノイルアミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン（例示化合物番号１−１２９８）
９０ｍｇのシクロヘキサンカルボン酸および２３２ｍｇのトリエチルアミンを８ｍｌの無水Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解させた後、８７ｍｇのクロロ蟻酸エチルを室温下滴下し、同温で１．５時間攪拌した。次いで４００ｍｇの５−｛４−［６−（４−アミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン・２塩酸塩を少しづつ加え、室温で２時間、５０℃で１．５時間攪拌した。反応液を濃縮した後、水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。抽出液より溶媒を留去し、得られた残渣に酢酸エチルを加え、析出した結晶をろ取、酢酸エチルで洗浄して、２６２ｍｇの標記化合物を得た。
【０４８８】
融点：１８１．７−１８３．７℃。
【０４８９】
実施例５５
５−｛４−［６−（４−シクロペンタノイルアミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン（例示化合物番号１−１２９２）
９０ｍｇのシクロペンタンカルボン酸および２３２ｍｇのトリエチルアミンを８ｍｌの無水Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解させた後、８７ｍｇのクロロ蟻酸エチルを室温下滴下し、同温で１．５時間攪拌した。次いで４００ｍｇの５−｛４−［６−（４−アミノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２、４−ジオン・２塩酸塩を少しづつ加え、室温で５時間攪拌した後、同温で一晩放置した。反応液を濃縮した後、水を加え、析出した結晶をろ取し、水および酢酸エチルで洗浄して、２３６ｍｇの標記化合物を得た。
【０４９０】
融点：２２７．３−２２８．４℃。
【０４９１】
参考例１
４−メトキシメトキシ−２，３，５−トリメチルフェノール
５０ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）をｎ−ヘキサンで洗浄し、２０００ｍｌの無水テトラヒドロフランを加え、この混合液に、氷冷下、２，３，６−トリメチル−４−ピバロイルオキシフェノール２４０ｇの無水テトラヒドロフラン溶液５００ｍｌを９０分間かけて滴下し、室温で２時間攪拌した。氷冷下、反応液に８６ｍｌのクロロメチルメチルエーテルを３０分間かけて滴下し、室温で１時間攪拌した後、減圧下、テトラヒドロフランを約５０％留去し、氷水中へ注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水酢酸ナトリウムで乾燥させた後、減圧下、溶媒を留去し、２９４ｇの黄色油状物を得た。得られた黄色油状物に１０００ｍｌのメタノールを加え、氷冷下、水酸化カリウム１１６ｇのメタノール溶液５００ｍｌを滴下し、室温で１時間攪拌した。減圧下、溶媒を留去し、得られた残渣を氷水中に注ぎ、６規定塩酸水溶液を用いて中和した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝５／１→３／１）で分離精製し、１９３ｇの標記化合物を得た。
【０４９２】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）：Ｒｆ値＝０．４７。
【０４９３】
参考例２
６−（４−メトキシメトキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）−２−メチルアミノ−３−ニトロピリジン
４−メトキシメトキシ−２，３，５−トリメチルフェノール１９３ｇの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液３００ｍｌを、５０ｇの水素化ナトリウム（５５重量％、ｎ−ヘキサンで洗浄）と１０００ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの懸濁液中に、氷冷下、１時間かけて滴下した後、室温で２時間攪拌した。反応液に６−クロロ−２−メチルアミノ−３−ニトロピリジン１９７ｇの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液８００ｍｌを、氷冷下、１時間かけて滴下し、室温で２時間攪拌した。減圧下、溶媒を留去し、残渣を氷水中に注ぎ、酢酸エチルおよび水を加え、不溶物をろ取した後、水、エタノールで洗浄し、１４１ｇの標記化合物を得た。また、ろ液より有機層を分離し、水層を酢酸エチルで抽出した後、有機層と抽出液を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。減圧下、溶媒を留去し、エタノールで洗浄し、１２６ｇの標記化合物を得た。
【０４９４】
融点：１０２−１０３℃。
【０４９５】
参考例３
２−ヒドロキシメチル−５−（４−ヒドロキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）−３−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン
２８８ｇの６−（４−メトキシメトキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）−２−メチルアミノ−３−ニトロピリジン、１４ｇの１０％パラジウム−炭素および１５００ｍｌのメタノールの混合液を、水素雰囲気下、室温で２時間攪拌した。反応液に、１４ｇの１０％パラジウム−炭素、５００ｍｌのメタノールおよび５００ｍｌのテトラヒドロフランを加え、水素雰囲気下、更に５０℃で８時間攪拌した。反応液より触媒をろ別し、ろ液を濃縮した後、得られた残渣に５００ｇのグリコール酸を加え、１５０℃で６時間攪拌した。反応液に、１０００ｍｌの４規定塩酸水溶液を加え、１２０℃で１時間攪拌し、室温で一晩放置した。反応液を、氷水中に注ぎ、水酸化ナトリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液を用いて中和し、不溶物をろ別した。得られた固型物をテトラヒドロフランを溶出溶剤とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し、得られた固型物をエタノールで洗浄し、４５．５ｇの標記化合物を得た。
【０４９６】
融点：１８１−１８２℃。
【０４９７】
参考例４
２−アセトキシメチル−５−（４−アセトキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）−３−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン
２−ヒドロキシメチル−５−（４−ヒドロキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）−３−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン３８．０ｇのピリジン溶液４００ｍｌに、氷冷下、６９ｍｌの無水酢酸を滴下し、室温で３時間攪拌した後、室温で一晩放置した。減圧下、溶媒を留去し、水を加え、酢酸エチルで抽出した後、抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。減圧下、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）で分離精製し、３９．５ｇの標記化合物を得た。
【０４９８】
融点：１２８−１２９℃。
【０４９９】
参考例５
５−（４−アセトキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）−２−ヒドロキシメチル−３−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン
２−アセトキシメチル−５−（４−アセトキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）−３−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン２６．０ｇのメタノール溶液５００ｍｌに、−１８℃で１．２ｍｌのナトリウムメトキシドのメタノール溶液（２８％）を滴下し、同温で１時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した後、抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。減圧下、溶媒を留去し、得られた残渣をエタノールで結晶化させ、結晶をろ取し、２０．５ｇの標記化合物を得た。
【０５００】
融点：１７９−１８０℃。
【０５０１】
参考例６
Ｎ−［５−（４−メトキシメトキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
６．１１ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）を３００ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに懸濁させ、２７．５ｇの４−メトキシメトキシ−２，３，５−トリメチルフェノールを加え、室温で１時間攪拌した。次いで反応液に、４０．１ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルを少しずつ加え、１２０℃で２時間攪拌し、濃縮した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）で分離精製し、５７．０ｇの標記化合物を得た。
【０５０２】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）：Ｒｆ値＝０．５５。
【０５０３】
参考例７
Ｎ−［２−アミノ−５−（４−メトキシメトキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
５７．０ｇのＮ−［５−（４−メトキシメトキシ−２，３，５−トリメチルフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、３ｇの１０％パラジウム−炭素および５００ｍｌのメタノ−ル混合物を、水素雰囲気下、室温で８時間激しく攪拌した。反応液より触媒をろ去し、ろ液を濃縮した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で分離精製し、５２．５ｇの標記化合物を得た。
【０５０４】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）：Ｒｆ値＝０．３１。
【０５０５】
参考例８
２−クロロ−３，５−ジメチルベンゼン−１，４−ジオール
１２．０８ｇの３，５−ジメチル−４−ニトロフェノール、１１．４５ｇの酸化第一銅、１００ｍｌの１，４−ジオキサン、１０ｍｌのアセトンおよび１００ｍｌの６規定塩酸の混合液を２時間加熱還流した。反応液を氷水中へ注ぎ、エーテルで抽出し、得られた抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣を１５０ｍｌのジクロロメタンに溶解させ、氷冷下、３．６１ｇの水素化ホウ素ナトリウムを加えた後、５０ｍｌのメタノールを内温１０℃以下で滴下し、室温で９０分間攪拌した。反応液を濃縮し、氷水中へ注ぎ、３規定塩酸を用いて酸性にして析出した生成物をろ取した後、水洗し、さらにｎ−ヘキサンで洗浄し、５．９３ｇの標記化合物を得た。
【０５０６】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）：Ｒｆ値＝０．３５。
【０５０７】
参考例９
３−クロロ−２，６−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェノール
５．９１ｇの２−クロロ−３，５−ジメチルベンゼン−１，４−ジオール、８．１３ｇのピリジンおよび３０ｍｌのジクロロメタンの混合物に、氷冷下、ピバリン酸クロリド４．５４ｇを含有するジクロロメタン溶液１０ｍｌを滴下し、同温で１時間、室温で９０分間攪拌した。反応液を濃縮し、水を加え、酢酸エチルで抽出した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）で分離精製し、８．０２ｇの標記化合物を得た。
【０５０８】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）：Ｒｆ値＝０．５３。
【０５０９】
参考例１０
２−クロロ−４−メトキシメトキシ−３，５−ジメチルフェノール
１．７８ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）を含有する２０ｍｌの無水テトラヒドロフラン懸濁液に、３−クロロ−２，６−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェノール８．０２ｇの無水テトラヒドロフラン溶液３０ｍｌを滴下し、室温で３０分攪拌した。反応液に３．２８ｇのクロロメチルメチルエーテルを加え、室温で１３時間攪拌した後、反応液を濃縮し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留去した後、得られた残渣９．３０ｇを３０ｍｌのメタノールに溶解させ、水酸化カリウム３．５１ｇのメタノール溶液３０ｍｌを滴下し、室温で３０分間攪拌した。反応液を濃縮し、３規定塩酸および重曹を用いて中和し、酢酸エチルで抽出した後、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）で分離精製し、５．６５ｇの標記化合物を得た。
【０５１０】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）：Ｒｆ値＝０．２９。
【０５１１】
参考例１１
２，６−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェノール
６．９０ｇの２，６−ジメチルベンゼン−１，４−ジオール、６．６３ｇのピバリン酸クロリド、１１．８５ｇのピリジンおよび６０ｍｌのジクロロメタンを用いて、参考例９と同様に反応させ、精製して、６．７７ｇの標記化合物を得た。  融点：９２−９４℃。
【０５１２】
参考例１２
４−メトキシメトキシ−３，５−ジメチルフェノール
１．７２ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）を含む５０ｍｌの無水テトラヒドロフランの懸濁液に、６．７５ｇの２，６−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェノ−ルを少しずつ加え、室温で３０分間攪拌した後、反応液に３．１８ｇのクロロメチルメチルエーテルを加え、同温で３時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した後、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留去し、８．１７ｇの粗製ピバリン酸  ４−メトキシメトキシ−３，５−ジメチルフェニルエステルを得た。
【０５１３】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）：Ｒｆ値＝０．３９
８．０９ｇの粗製ピバリン酸  ４−メトキシメトキシ−３，５−ジメチルフェニルエステルを３０ｍｌのメタノールに溶解させ、水酸化カリウム３．４０ｇのメタノール溶液３０ｍｌを滴下し、室温で４時間攪拌した。反応液を濃縮して、水を加え、３規定塩酸および重曹を用いて中和した後、酢酸エチルで抽出し、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。減圧下、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で分離精製し、５．５８ｇの標記化合物を得た。
【０５１４】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）：Ｒｆ値＝０．１０。
【０５１５】
参考例１３
Ｎ−［５−（４−ベンジルオキシフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．６０ｇの４−ベンジルオキシフェノール、２．２９ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．３５ｇの水素化ナトリウム（５５％重量）および２０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、３．３３ｇの標記化合物を得た。
【０５１６】
融点：１０８−１１０℃
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）：Ｒｆ値＝０．３６。
【０５１７】
参考例１４
Ｎ−［５−（４−メトキシメトキシ−３，５−ジメチルフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．４６ｇの４−メトキシメトキシ−３，５−ジメチルフェノール、２．２９ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．３５ｇの水素化ナトリウム（５５％重量）および３０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、３．１４ｇの標記化合物を得た。
【０５１８】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）：Ｒｆ値＝０．２９。
【０５１９】
参考例１５
Ｎ−［５−（２−クロロ−４−メトキシメトキシ−３，５−ジメチルフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
５．６５ｇの２−クロロ−４−メトキシメトキシ−３，５−ジメチルフェノール、８．８８ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．３５ｇの水素化ナトリウム（５５％重量）および１００ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、９．１９ｇの標記化合物を得た。
【０５２０】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）：Ｒｆ値＝０．４７。
【０５２１】
参考例１６
Ｎ−［５−（ピリジン−２−イルオキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
０．７６ｇの２−ヒドロキシピリジン、２．２９ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．３５ｇの水素化ナトリウム（５５％重量）および１０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、０．３６ｇの標記化合物を得た。
【０５２２】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）：Ｒｆ値＝０．３２。
【０５２３】
参考例１７
Ｎ−［５−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルチオ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
４７６ｍｇの３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゼンチオール、５７３ｍｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチルエステル、１７５ｍｇの水素化ナトリウム（５５％重量）および１０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、３７１ｍｇの標記化合物を得た。
【０５２４】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）：Ｒｆ値＝０．５９。
【０５２５】
参考例１８
Ｎ−［５−（４−アミノ−３，５−ジメチルフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．１０ｇの４−アミノ−３，５−ジメチルフェノール、２．２９ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．３５ｇの水素化ナトリウム（５５％重量）および３０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、２．２７ｇの標記化合物を得た。
【０５２６】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）：Ｒｆ値＝０．２４。
【０５２７】
参考例１９
Ｎ−［５−（４−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３，５−ジメチルフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
２．２７ｇのＮ−［５−（４−アミノ−３，５−ジメチルフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．２８ｇの重炭酸ジ−ｔ−ブチル、０．５９ｇのトリエチルアミンおよび２０ｍｌの無水テトラヒドロフランの混合物を、６時間加熱還流した。反応液を濃縮し、水を加え、酢酸エチルで抽出した後、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）で分離精製し、１．７４ｇの標記化合物を得た。
【０５２８】
融点：１５４−１５６℃。
【０５２９】
参考例２０
Ｎ−［２−アミノ−５−（４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
３．３２ｇのＮ−［５−（４−ベンジルオキシフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．３９ｇの１０％パラジウム−炭素、１００ｍｌのメタノールおよび１００ｍｌの１，４−ジオキサンを用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、２．４０ｇの標記化合物を得た。
【０５３０】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）：Ｒｆ値＝０．５９。
【０５３１】
参考例２１
Ｎ−［２−アミノ−５−（４−メトキシメトキシ−３，５−ジメチルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
３．１２ｇのＮ−［５−（４−メトキシメトキシ−３，５−ジメチルフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．３３ｇの１０％パラジウム−炭素および３０ｍｌのメタノールを用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、２．７２ｇの標記化合物を得た。
【０５３２】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）：Ｒｆ値＝０．１４。
【０５３３】
参考例２２
Ｎ−［２−アミノ−５−（４−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３，５−ジメチルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．７１ｇのＮ−［５−（４−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３，５−ジメチルフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．２ｇの１０％パラジウム−炭素および１００ｍｌのメタノールの混合液を、水素雰囲気下、室温で１１時間激しく攪拌した。反応液より触媒をろ去し、ろ液を濃縮し、１．５６ｇの標記化合物を得た。
【０５３４】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）：Ｒｆ値＝０．１４。
【０５３５】
参考例２３
Ｎ−｛５−［２−（モルホリン−４−イル）フェノキシ］−２−ニトロフェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
０．７２ｇの２−（４−モルホリノ）フェノール、１．１５ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．１７ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）及び１０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、１．４４ｇの標記化合物を得た。
【０５３６】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）：Ｒｆ値＝０．３４。
【０５３７】
参考例２４
Ｎ−｛５−［３−（モルホリン−４−イル）フェノキシ］−２−ニトロフェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
２．１６ｇの３−（４−モルホリノ）フェノール、３．３７ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル及び１５ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、５．０ｇの標記化合物を得た。
【０５３８】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ベンゼン／酢酸エチル＝１０／１）：Ｒｆ値＝０．３４。
【０５３９】
参考例２５
Ｎ−｛２−アミノ−５−［２−（モルホリン−４−イル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．４４ｇのＮ−｛５−［２−（モルホリン−４−イル）フェノキシ］−２−ニトロフェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．２０ｇの１０％パラジウム−炭素及び５０ｍｌのメタノールを用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、１．２０ｇの標記化合物を得た。
【０５４０】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）：Ｒｆ値＝０．２５。
【０５４１】
参考例２６
Ｎ−｛２−アミノ−５−［３−（モルホリン−４−イル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
５．０ｇのＮ−｛５−［３−（モルホリン−４−イル）フェノキシ］−２−ニトロフェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．５ｇの１０％パラジウム−炭素、３０ｍｌのメタノール及び７０ｍｌのトルエン混合溶媒を用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、４．５ｇの標記化合物を得た。
【０５４２】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ベンゼン／酢酸エチル＝４／１）：Ｒｆ値＝０．２３。
【０５４３】
参考例２７
Ｎ−［２−アミノ−５−（２−ピペリジノフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
窒素雰囲気中氷冷下に１．０４ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）を３．４ｇの２−ピペリジノフェノールを含む３５ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに加え、室温で１５分間攪拌した。ついで反応液に、５．２５ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルを少しづつ加え、約６０℃で２時間攪拌した。反応終了後、溶媒を留去し水を加え、濃塩酸で中和した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｃ−ヘキサン／イソプロピルエーテル＝５／１）で分離精製し、Ｒｆ値＝０．２７［シリカゲル薄層クロマトグラフィー（ｃ−ヘキサン／イソプロピルエーテル＝５／１）］を有するＮ−［２−ニトロ−５−（２−ピペリジノフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルを得た。このニトロ化合物を１００ｍｌのトルエン−メタノール（７：３）混合溶媒に溶解し、０．６３ｇの１０％パラジウム−炭素を加え、水素雰囲気下、室温で１４．５時間激しく攪拌した。反応液より触媒をろ去した後、溶媒を留去し、得られた残渣を氷冷したメタノールおよびｎ−ヘキサンで洗浄し、４．２ｇの標記化合物を得た。
【０５４４】
融点：１０８−１１０℃。
【０５４５】
参考例２８
Ｎ−メチル−Ｎ−［２−ニトロ−５−（ピリジン−２−イルチオ）フェニル］カルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
０．８９ｇの２−メルカプトピリジン、２．２９ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．１１ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）および４０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、１．１３ｇの標記化合物を得た。
【０５４６】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）：Ｒｆ値＝０．２０。
【０５４７】
参考例２９
Ｎ−［２−アミノ−５−（２−ピロリジノフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．８８ｇの２−ピロリジノフェノール、３．３４ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．５２ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）、および２２ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例２７と同様に反応させ、精製して、Ｒｆ値＝０．２５［シリカゲル薄層クロマトグラフィー（ｃ−ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）］を有するＮ−［２−ニトロ−５−（２−ピロリジノフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルを得た。さらに、０．４５ｇの１０％パラジウム−炭素および５０ｍｌのトルエン−メタノール（７：３）混合溶媒を用いて、参考例２７と同様に反応させ、精製して、３．０ｇの標記化合物を得た。
【０５４８】
融点：１３６−１３８℃。
【０５４９】
参考例３０
Ｎ−［５−（２−ベンジルオキシフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
２．００ｇの２−ベンジルオキシフェノール、２．８７ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．４４ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）および２０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、４．１６ｇの標記化合物を得た。
【０５５０】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）：Ｒｆ値＝０．６２。
【０５５１】
参考例３１
Ｎ−｛５−［４−（１−アダマンチル）フェノキシ］−２−ニトロフェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
２．２８ｇの４−（１−アダマンチル）フェノール、２．８７ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．４４ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）および４０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、４．３０ｇの標記化合物を得た。
【０５５２】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）：Ｒｆ値＝０．７６。
【０５５３】
参考例３２
Ｎ−［５−（３−ジメチルアミノフェノキシ）−２−ニトロフェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
０．８２ｇの３−ジメチルアミノフェノール、１．７２ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．２６ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）および５０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、２．１７ｇの標記化合物を得た。
【０５５４】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）：Ｒｆ値＝０．２１。
【０５５５】
参考例３３
Ｎ−［２−アミノ−５−（ピリジン−３−イルオキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
３．１ｇの３−ヒドロキシピリジン、９．３ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．４ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）、および２５ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例２７と同様に反応させ、精製して、Ｎ−［２−ニトロ−５−（ピリジン−３−イルオキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルを９．２ｇ得た。さらに、１．０ｇの１０％パラジウム−炭素および１００ｍｌのトルエン−メタノール（７：３）混合溶媒を用いて、参考例２７と同様に反応させ、精製して、７．５ｇの標記化合物を得た。
【０５５６】
融点：１０１−１０２℃。
【０５５７】
参考例３４
Ｎ−｛５−［４−（イミダゾール−１−イル）フェノキシ］−２−ニトロフェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
４．１ｇの４−（イミダゾール−１−イル）フェノール、７．８５ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．２５ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）および４５ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、８．８ｇの標記化合物を得た。
【０５５８】
融点：１８２−１８４℃。
【０５５９】
参考例３５
Ｎ−メチル−Ｎ−［２−ニトロ−５−（２−フェニルフェノキシ）フェニル］カルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
３．５ｇの２−フェニルフェノール、５．６ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．０８ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）および３５ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、８．３ｇの標記化合物を得た。
【０５６０】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：トルエン／酢酸エチル＝１０／１）：Ｒｆ値＝０．５６。
【０５６１】
参考例３６
Ｎ−［５−（４−ヒドロキシ−２，３−ジメチルフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．３８ｇの２、３−ジメチルヒドロキノン、２．８７ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．８７ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）および２０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、１．９２ｇの標記化合物を得た。
【０５６２】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）：Ｒｆ値＝０．３５。
参考例３７
Ｎ−メチル−Ｎ−［２−ニトロ−５−（４−フェノキシフェノキシ）フェニル］カルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
４．０ｇの４−フェノキシフェノール、５．８ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．１ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）および３５ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、８．６ｇの標記化合物を得た。
【０５６３】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：トルエン／イソプロピルエーテル＝２０／１）：Ｒｆ値＝０．４１。
【０５６４】
参考例３８
Ｎ−［５−（４−ヒドロキシフェニルチオ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．２６ｇの４−ヒドロキシチオフェノール、２．８７ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．８７ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）および２０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、２．８６ｇの標記化合物を得た。
【０５６５】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）：Ｒｆ値＝０．２７。
【０５６６】
参考例３９
Ｎ−メチル−Ｎ−［２−ニトロ−５−（３−フェニルフェノキシ）フェニル］カルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
４．０ｇの３−フェニルフェノール、６．５ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．１３ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）および３５ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、８．７ｇの標記化合物を得た。
【０５６７】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）：Ｒｆ値＝０．２２。
【０５６８】
参考例４０
Ｎ−［５−（３―ｔ―ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよびＮ−［５−（２―ｔ―ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．６６ｇのｔ−ブチルヒドロキノン、２．８７ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．８７ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）および２０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）にて分離精製し、１．３５ｇのＮ−［５−（３―ｔ―ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル［シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）：Ｒｆ値＝０．４５］および１．１１ｇのＮ−［５−（２―ｔ―ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル［シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）：Ｒｆ値＝０．３５］を得た。
【０５６９】
参考例４１
Ｎ−メチル−Ｎ−［２−ニトロ−５−（４−フェニルフェノキシ）フェニル］カルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
４．０ｇの４−フェニルフェノール、６．５ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．１３ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）および３５ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、５．５ｇの標記化合物を得た。
【０５７０】
融点：１６６−１６７℃。
【０５７１】
参考例４２
Ｎ−［５−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
４．４４ｇの２、６−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、８．６０ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、２．１８ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）および５０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、０．６０ｇの標記化合物を得た。
【０５７２】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）：Ｒｆ値＝０．２２。
【０５７３】
参考例４３
Ｎ−［５−（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．３８ｇの２、５−ジメチルヒドロキノン、２．８７ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．８７ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）および２０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、１．７２ｇの標記化合物を得た。
【０５７４】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：トルエン／酢酸エチル＝５／１）：Ｒｆ値＝０．５８。
【０５７５】
参考例４４
Ｎ−［２−アミノ−５−（４−ヒドロキシ−２−メチルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよびＮ−［２−アミノ−５−（４−ヒドロキシ−３―メチルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
０．８７ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）を２０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに懸濁させ、１．２４ｇのメチルヒドロキノンを加え、室温で１５分間攪拌した。ついで反応液に、２．８７ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルを少しづつ加え、１２０℃で２時間攪拌し、濃縮した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エリル＝３／１）で分離精製し、Ｎ−［５−（４−ヒドロキシ−２−メチルフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよびＮ−［５−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルの混合物２．２０ｇを得た。この混合物を４０ｍｌのメタノールに溶解し、０．２１ｇの１０％パラジウム−炭素を加え、水素雰囲気下、室温で２時間激しく攪拌した。反応終了後、反応液より触媒をろ去し、溶媒を留去して、１．８８ｇの標記化合物の混合物を得た。
【０５７６】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）：Ｒｆ値＝０．１６。
【０５７７】
参考例４５
Ｎ−［５−（４’−ベンジルオキシビフェニル−４−イルオキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１１．０７ｇの４’−ベンジルオキシビフェニル−４−オール、１１．５ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、２．２ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）、３６０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド−無水テトラヒドロフラン−無水トルエン（１：１：１）混合溶媒を用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、１４．７５ｇの標記化合物を得た。
【０５７８】
融点：１２３−１２５℃。
【０５７９】
参考例４６
Ｎ−［５−（４−シアノフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
５．１ｇの４−シアノフェノール、１１．５ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．１９ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）および８０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド−無水テトラヒドロフラン（５：３）混合溶媒を用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、８．４５ｇの標記化合物を得た。
【０５８０】
融点：１４１−１４３℃。
【０５８１】
参考例４７
Ｎ−メチル−Ｎ−［２−ニトロ−５−（ペンタフルオロフェノキシ）フェニル］アミン
１．６６ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）を５０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに懸濁させ、６．３８ｇのペンタフルオロフェノールを加え、室温で数分間攪拌した。次いで反応液に、１０ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルを少しづつ加え、１５０℃にて１５時間加熱し、溶媒を留去した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ｎ−ヘキサン／トルエン＝４／１）で分離精製し、２．２ｇの標記化合物を得た。
【０５８２】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／トルエン＝２／１）：Ｒｆ値＝０．１４。
【０５８３】
参考例４８
Ｎ−［２−アミノ−５−（ピリジン−２−イルチオ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．０８ｇのＮ−メチル−Ｎ−［２−ニトロ−５−（ピリジン−２−イルチオ）フェニル］カルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．００ｇの１０％パラジウム−炭素および２０ｍｌのメタノールを用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、０．７８ｇの標記化合物を得た。
【０５８４】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／２）：Ｒｆ値＝０．３３。
【０５８５】
参考例４９
Ｎ−［２−アミノ−５−（２−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
４．１４ｇのＮ−［５−（２−ベンジルオキシフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．４１ｇの１０％パラジウム−炭素および６０ｍｌのメタノールを用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、２．８９ｇの標記化合物を得た。
【０５８６】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）：Ｒｆ値＝０．２６。
【０５８７】
参考例５０
Ｎ−｛５−［４−（１−アダマンチル）フェノキシ］−２−アミノフェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
４．２８ｇのＮ−｛５−［４−（１−アダマンチル）フェノキシ］−２−ニトロフェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．４２ｇの１０％パラジウム−炭素および６０ｍｌのメタノールを用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、４．００ｇの標記化合物を得た。
【０５８８】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）：Ｒｆ値＝０．４９。
【０５８９】
参考例５１
Ｎ−［２−アミノ−５−（３−ジメチルアミノフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
２．１４ｇのＮ−［５−（３−ジメチルアミノフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、２．１４ｇの１０％パラジウム−炭素および４０ｍｌのメタノールを用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、１．６３ｇの標記化合物を得た。
【０５９０】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）：Ｒｆ値＝０．４１。
【０５９１】
参考例５２
Ｎ−｛２−アミノ−５−［４−（イミダゾール−１−イル）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
８．８ｇのＮ−｛５−［４−（イミダゾール−１−イル）フェノキシ］−２−ニトロフェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．８ｇの１０％パラジウム−炭素および１６０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、５．７ｇの標記化合物を得た。
【０５９２】
融点：１１５−１１６℃。
【０５９３】
参考例５３
Ｎ−［２−アミノ−５−（２−フェニルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
８．３ｇのＮ−メチル−Ｎ−［２−ニトロ−５−（２−フェニルフェノキシ）フェニル］カルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．６６ｇの１０％パラジウム−炭素および１００ｍｌのトルエン−メタノール（７：３）混合溶媒を用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、６．９ｇの標記化合物を得た。
【０５９４】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ベンゼン／酢酸エチル＝４／１）：Ｒｆ値＝０．３０。
【０５９５】
参考例５４
Ｎ−［２−アミノ−５−（４−ヒドロキシ−２,３−ジメチルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．９０ｇのＮ−［５−（４−ヒドロキシ−２，３−ジメチルフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．２０ｇの１０％パラジウム−炭素および２０ｍｌのメタノールを用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、１．６１ｇの標記化合物を得た。
【０５９６】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）：Ｒｆ値＝０．１３。
【０５９７】
参考例５５
Ｎ−［２−アミノ−５−（４−フェノキシフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
８．６ｇのＮ−［２−ニトロ−５−（４−フェノキシフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．６ｇの１０％パラジウム−炭素および１９０ｍｌのトルエン−メタノール（１６：３）混合溶媒を用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、７．２ｇの標記化合物を得た。
【０５９８】
融点：１０５−１０６℃。
【０５９９】
参考例５６
Ｎ−［２−アミノ−５−（４−ヒドロキシフェニルチオ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
２．８４ｇのＮ−［５−（４−ヒドロキシフェニルチオ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．５２ｇの１０％パラジウム−炭素および５０ｍｌのメタノールを用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、２．３７ｇの標記化合物を得た。
【０６００】
融点：６２−６７℃。
【０６０１】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）：Ｒｆ値＝０．５９。
【０６０２】
参考例５７
Ｎ−［２−アミノ−５−（３−フェニルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
８．７ｇのＮ−［２−ニトロ−５−（３−フェニルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．６９ｇの１０％パラジウム−炭素および１００ｍｌのトルエン−メタノール（７：３）混合溶媒を用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、６．０６ｇの標記化合物を得た。
【０６０３】
融点：１１４−１１５℃。
【０６０４】
参考例５８
Ｎ−［２−アミノ−５−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．２９ｇのＮ−［５−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．１６ｇの１０％パラジウム−炭素および４０ｍｌのメタノールを用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、１．１１ｇの標記化合物を得た。
【０６０５】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）：Ｒｆ値＝０．１８。
【０６０６】
参考例５９
Ｎ−［２−アミノ−５−（２−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．０９ｇのＮ−［５−（２−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．１５ｇの１０％パラジウム−炭素および２０ｍｌのメタノールを用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、０．９５ｇの標記化合物を得た。
【０６０７】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）：Ｒｆ値＝０．１８。
【０６０８】
参考例６０
Ｎ−［２−アミノ−５−（４−フェニルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
５．３２ｇのＮ−［２−ニトロ−５−（４−フェニルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．６８ｇの１０％パラジウム−炭素および１４０ｍｌのトルエン−酢酸エチル（１：１）混合溶媒を用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、４．８２ｇの標記化合物を得た。
【０６０９】
融点：１２２−１２３℃。
【０６１０】
参考例６１
Ｎ−［２−アミノ−５−（４−ヒドロキシ−２,５−ジメチルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．７３ｇのＮ−［５−（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．１７ｇの１０％パラジウム−炭素および５０ｍｌのメタノールを用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、１．４４ｇの標記化合物を得た。
【０６１１】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）：Ｒｆ値＝０．１７。
【０６１２】
参考例６２
Ｎ−［２−アミノ−５−（４’−ヒドロキシビフェニル−４−イルオキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１４．７５ｇのＮ−［５−（４’−ベンジルオキシビフェニル−４−イルオキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．８６ｇの１０％パラジウム−炭素および１４０ｍｌのトルエン−酢酸エチル（１：１）混合溶媒を用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、１０．２ｇの標記化合物を得た。
【０６１３】
融点：８９−９１℃。
【０６１４】
参考例６３
Ｎ−［２−アミノ−５−（４−ヒドロキシ−３,５−ジ−ｔ−ブチルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
０．５８ｇのＮ−［５−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．１２ｇの１０％パラジウム−炭素および２０ｍｌのメタノールを用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、０．５５ｇの標記化合物を得た。
【０６１５】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）：Ｒｆ値＝０．２９。
【０６１６】
参考例６４
［２−アミノ−５−（４−シアノフェノキシ）フェニル］メチルアミン
３．２９ｇのＮ−［５−（４−シアノフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルおよび１０．０６ｇの塩化すず（II）二水和物を１００ｍｌのｔ−ブタノール−酢酸エチル（１：９）混合溶媒に溶解させ、６０℃で１時間攪拌した後、０．１７ｇの水素化ホウ素ナトリウムを加え、さらに同温で２．５時間攪拌した。反応液を濃縮した後、氷水に注ぎ、重曹で中和した。酢酸エチルを加え、不溶物をセライトでろ去した後、有機層を水層から分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／２）で分離精製し、１．４９ｇの標記化合物を得た。
【０６１７】
融点：８０−８２℃。
【０６１８】
参考例６５
Ｎ−［５−（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
４．５ｇの２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、６．０ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．７５ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）および１３０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、２．２ｇの標記化合物を得た。
【０６１９】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）：Ｒｆ値＝０．３６。
【０６２０】
参考例６６
Ｎ−［２−アミノ−５−（４−ベンジル−３−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
２．１ｇのＮ−［５−（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルを８０ｍｌのメタノール−テトラヒドロフラン（５：３）混合溶媒に溶解させ、０．５ｇの２０％パラジウム−炭素を加え、水素雰囲気下室温で４時間攪拌した。反応液より触媒をろ去した後、ろ液より溶媒を留去して、１．８ｇの標記化合物を得た。
【０６２１】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）：Ｒｆ値＝０．２６。
【０６２２】
参考例６７
Ｎ−メチル−Ｎ−［５−（４−メチルチオフェノキシ）−２−ニトロフェニル］カルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
０．９８ｇの４−メチルチオフェノール、２．００ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．３１ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）および６０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、２．５６ｇの標記化合物を得た。
【０６２３】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）：Ｒｆ値＝０．１７。
【０６２４】
参考例６８
Ｎ−メチル−Ｎ−［５−（４−メトキシフェノキシ）−２−ニトロフェニル］カルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
５．０ｇの４−メトキシフェノール、１０．９ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、２．２ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）および１２０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、１２．２ｇの標記化合物を得た。
【０６２５】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝８／１）：Ｒｆ値＝０．３２。
【０６２６】
参考例６９
Ｎ−メチル−Ｎ−［２−ニトロ−５−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］カルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
３．０ｇの４−トリフルオロメチルフェノール、４．３ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．１ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）および７０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、１．２６ｇの標記化合物を得た。
【０６２７】
融点：９２−９３℃。
【０６２８】
参考例７０
Ｎ−メチル−Ｎ−［５−（４−ベンジルフェノキシ）−２−ニトロフェニル］カルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
７ｇの４−ベンジルフェノール、９．１５ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．７４ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）および７０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、１２．２ｇの標記化合物を得た。
【０６２９】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：トルエン／ジイソプロピルエーテル＝２０／１）：Ｒｆ値＝０．４０。
【０６３０】
参考例７１
Ｎ−メチル−Ｎ−［５−（３−ベンジルオキシフェノキシ）−２−ニトロフェニル］カルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
５ｇの３−ベンジルオキシフェノール、６ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．１ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）および４０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、７．８ｇの標記化合物を得た。
【０６３１】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）：Ｒｆ値＝０．３２。
【０６３２】
参考例７２
Ｎ−［２−アミノ−５−（４−メチルチオフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
２．５３ｇのＮ−メチル−Ｎ−［５−（４−メチルチオフェノキシ）−２−ニトロフェニル］カルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、２．５ｇの１０％パラジウム−炭素および５５ｍｌのメタノールを用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、１．９４ｇの標記化合物を得た。
【０６３３】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）：Ｒｆ値＝０．１５。
【０６３４】
参考例７３
Ｎ−［２−アミノ−５−（４−メトキシフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
７．２ｇのＮ−［５−（４−メトキシフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．５ｇの１０％パラジウム−炭素および１００ｍｌのメタノールを用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、６．２３ｇの標記化合物を得た。
【０６３５】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）：Ｒｆ値＝０．１８。
【０６３６】
参考例７４
Ｎ−［２−アミノ−５−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．２４ｇのＮ−メチル−Ｎ−［５−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）−２−ニトロフェニル］カルバミン酸  ｔ−ブチルエステルを６０ｍｌの水−ジオキサン（１：５）混合溶媒に溶解させた後、４．２ｇの重曹および３．５ｇの亜二チオン酸ナトリウムを加え、１時間加熱還流した。反応終了後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／１〜２／１）で精製して、０．７ｇの標記化合物を得た。
【０６３７】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）：Ｒｆ値＝０．２７。
【０６３８】
参考例７５
Ｎ−［２−アミノ−５−（４−ベンジルフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１２．２ｇのＮ−［５−（４−ベンジルフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．９１ｇの１０％パラジウム−炭素および１４０ｍｌのトルエン−酢酸エチル（１：１）混合溶媒を用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、１０．１ｇの標記化合物を得た。
【０６３９】
融点：１１４−１１５℃。
【０６４０】
参考例７６
Ｎ−［２−アミノ−５−（３−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
７．８ｇのＮ−［５−（３−ヒドロキシフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．９ｇの１０％パラジウム−炭素および１４０ｍｌのトルエン−酢酸エチル（１：１）混合溶媒を用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、６ｇの標記化合物を得た。
【０６４１】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）：Ｒｆ値＝０．５０。
【０６４２】
参考例７７
Ｎ−メチル−Ｎ−［２−ニトロ−５−（４−テトラゾール−５−イルフェノキシ）フェニル］カルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
２．９５ｇのＮ−［５−（４−シアノフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、７．９７ｇのアジ化トリ−ｎ−ブチル錫および３０ｍｌの無水トルエンの混合物を２３時間加熱還流した。反応液を濃縮し、水を加え、酢酸エチルで抽出した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下、溶媒を留去し、得られた残渣を逆層分取液体クロマトグラフィー（溶出溶剤：水／アセトニトリル＝１／１）で精製して、３．２０ｇの標記化合物を得た。
【０６４３】
融点：８１−８４℃。
【０６４４】
参考例７８
Ｎ−メチル−Ｎ−｛２−ニトロ−５−［４−（２−トリフェニルメチルテトラゾール−５−イル）フェノキシ］フェニル｝カルバミン酸  ｔ−ブチルエステル３．２２ｇのＮ−メチル−Ｎ−［２−ニトロ−５−（４−テトラゾール−５−イルフェノキシ）フェニル］カルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、２．１８ｇの塩化トリフェニルメタン、０．７９ｇのトリエチルアミン、３０ｍｌの無水テトラヒドロフランおよび３０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの混合物を室温で２４時間攪拌した。反応液を濃縮し、水を加え、酢酸エチルで抽出した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）で精製して、３．１５ｇの標記化合物を得た。
【０６４５】
融点：１６１−１６３℃。
【０６４６】
参考例７９
Ｎ−メチル−Ｎ−｛２−アミノ−５−［４−（２−トリフェニルメチルテトラゾール−５−イル）フェノキシ］フェニル｝カルバミン酸  ｔ−ブチルエステル０．９８ｇのＮ−メチル−Ｎ−｛２−ニトロ−５−［４−（２−トリフェニルメチルテトラゾール−５−イル）フェノキシ］フェニル｝カルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．１３ｇの１０％パラジウム−炭素および１００ｍｌの酢酸エチルを用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、０．７０ｇの標記化合物を得た。
【０６４７】
融点：１９２−１９３℃。
【０６４８】
参考例８０
２−ヒドロキシメチル−１−メチル−６−ペンタフルオロフェノキシ−１Ｈ−ベンツイミダゾール
２．１０ｇのＮ−メチル−Ｎ−［２−ニトロ−５−（ペンタフルオロフェノキシ）フェニル］アミン、０．２３ｇの１０％パラジウム−炭素、３００ｍｌのメタノールの混合物を水素雰囲気下、室温で４時間攪拌した。反応液より触媒をろ別し、ろ液を濃縮した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で分離精製して、Ｒｆ値０．２６（展開溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）を有するＮ−［２−アミノ−５−（ペンタフルオロフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルアミンを１．４８ｇ得た。この中間体に０．７６ｇのグリコール酸、２５ｍｌの４Ｎ塩酸および２５ｍｌのジオキサンを加え、１６時間加熱還流した。反応液を濃縮し、水を加え、重曹で中和した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：酢酸エチル／メタノール＝２０／１）に付した。溶媒留去後、超音波照射下ｎ−ヘキサンより析出する結晶をろ取し、ｎ−ヘキサンで洗浄して、１．１７ｇの標記化合物を得た。
【０６４９】
融点：１２１−１２８℃。
【０６５０】
参考例８１
４−シアノフェノキシ−２−ヒドロキシメチル−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール
１．０８ｇのＮ−［２−アミノ−５−（４−シアノフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルアミン、０．６８ｇのグリコール酸、２０ｍｌの４Ｎ塩酸および２０ｍｌの１，４−ジオキサンの混合物を９時間加熱還流した。反応液を濃縮し、水を加え、重曹で中和した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：酢酸エチル／メタノール＝２０／１）で精製して、０．８６ｇの標記化合物を得た。
【０６５１】
融点：１８３−１８５℃。
参考例８２
５−｛４−［６−（４−シアノフェノキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝−３−トリフェニルメチルチアゾリジン−２，４−ジオン
２７９ｍｇの４−シアノフェノキシ−２−ヒドロキシメチル−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール、５５８ｍｇの５−（４−ヒドロキシベンジル）−３−トリフェニルメチルチアゾリジン−２，４−ジオン、３７８ｍｇのアゾジカルボニルジピペリジン、３０３ｍｇのトリ−ｎ−ブチルホスフィンおよび２０ｍｌのトルエンの混合物を室温で１５時間攪拌した。反応液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で分離精製して、７０６ｍｇの標記化合物を得た。
【０６５２】
融点：１３５−１３８℃。
【０６５３】
参考例８３
酢酸  ４−ベンジルオキシ−２，５−ジ−ｔ−ブチルフェニルエステル
５．３ｇの酢酸  ２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルエステルを４０ｍｌのアセトンに溶解させた後、５．１７ｇの臭化ベンジルおよび４．１５ｇの炭酸カリウムを加え、室温で４８時間攪拌した。反応終了後、注水し、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｃ−ヘキサン／ジイソプロピルエーテル＝１０／１）で精製して、４．９ｇの標記化合物を得た。
【０６５４】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｃ−ヘキサン／ジイソプロピルエーテル＝１０／１）：Ｒｆ値＝０．３５。
【０６５５】
参考例８４
４−ベンジルオキシ−２，５−ジ−ｔ−ブチルフェノール
１．５１ｇの水酸化カリウムを１２ｍｌのメタノールに溶解させた後、４．９ｇの酢酸  ４−ベンジルオキシ−２，５−ジ−ｔ−ブチルフェニルエステルを加え、室温で一晩放置した。反応混合物に希塩酸を加え中和し、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去して、４．３ｇの標記化合物を得た。
【０６５６】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｃ−ヘキサン／ジイソプロピルエーテル＝１０／１）：Ｒｆ値＝０．４４。
【０６５７】
参考例８５
Ｎ−［５−（４−ベンジルオキシ−２，５−ジ−ｔ−ブチルフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
４．３ｇの４−ベンジルオキシ−２，５−ジ−ｔ−ブチルフェノール、３．５１ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．７２ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）および１５ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、７．１ｇの標記化合物を得た。
【０６５８】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｃ−ヘキサン／ジイソプロピルエーテル＝１０／１）：Ｒｆ値＝０．２０。
【０６５９】
参考例８６
Ｎ−［２−アミノ−５−（２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
７．１ｇのＮ−［５−（４−ベンジルオキシ−２，５−ジ−ｔ−ブチルフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、０．７ｇの１０％パラジウム−炭素および５７ｍｌのトルエン−メタノール−酢酸エチル（１６：１６：２５）混合溶媒を用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、３．６５ｇの標記化合物を得た。
【０６６０】
融点：２０８−２１０℃。
【０６６１】
参考例８７
６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ）フェニルチオ−２−ヒドロキシメチル−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール
N−［５−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−N−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステルを水素添加および酸処理することにより得られる［２−アミノ−５−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒエオドロキシフェニルチオ）フェニル］メチルアミン１１．６８ｇを４規定塩酸３００ｍｌに溶解し、７．４３ｇのグリコール酸を加え、６時間加熱還流した。反応混合物を氷水に注ぎ、重曹で中和した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：酢酸エチル／メタノール＝２０／１）で精製して、８．６６ｇの標記化合物を得た。
【０６６２】
融点：１９５−１９８℃。
【０６６３】
参考例８８
４−［６−（３、５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルチオ）−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンツアルデヒド
５．３３ｇの６−（３、５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ）フェニルチオ−２−ヒドロキシメチル−１−メチル−１Ｈ−ベンツイミダゾール、２．２２ｇの４−ヒドロキシベンツアルデヒド、４．５９ｇの１、１’−（アゾジカルボニル）ジピペリジン、３．６８ｇのトリ−ｎ−ブチルホスフィンおよび３００ｍｌの無水トルエンの混合物を室温で６４時間攪拌した。反応混合物を濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製して、３．７４ｇの標記化合物を得た。
【０６６４】
融点：２１９−２２１℃。
【０６６５】
参考例８９
Ｎ−［５−（４−ｔ−ブトキシカルボニルアミノフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１５．６ｇの（４−ヒドロキシフェニル）カルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、２１ｇのＮ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチルエステル、３．２２ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）および１３０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例６と同様に反応させ、精製して、２７．７ｇの標記化合物を得た。
【０６６６】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：トルエン／ジイソプロピルエーテル＝１０／１）：Ｒｆ値＝０．３３。
【０６６７】
参考例９０
Ｎ−［２−アミノ−５−（４−ｔ−ブトキシカルボニルアミノフェノキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
２７．７ｇのＮ−［５−（４−ｔ−ブトキシカルボニルアミノフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．０７ｇの１０％パラジウム−炭素および１７０ｍｌのテトラヒドロフラン−酢酸エチル（９：８）混合溶媒を用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、２６．２ｇの標記化合物を得た。
【０６６８】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ｃ−ヘキサン／テトラヒドロフラン＝２／１）：Ｒｆ値＝０．３７。
【０６６９】
参考例９１
Ｎ−｛５−［４−（ｔ−ブトキシカルボニル−ｎ−ヘキシルアミノ）フェノキシ］−２−ニトロフェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１．２６ｇの水素化ナトリウム（５５重量％）を１００ｍｌの無水Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドに懸濁させ、１２．１ｇのＮ−［５−（４−ｔ−ブトキシカルボニルアミノフェノキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチルエステルを加え、室温で数分間攪拌した。次いで６．５ｇの臭化ヘキシルを氷冷下加え、同温で３０分間さらに室温で１時間攪拌した。反応混合物を濃縮した後、注水し、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：トルエン／ジイソプロピルエーテル＝１００／７）で精製して、１３．８ｇの標記成績体を得た。
【０６７０】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：トルエン／ジイソプロピルエーテル＝１００／７）：Ｒｆ値＝０．３２。
【０６７１】
参考例９２
Ｎ−｛２−アミノ−５−［４−（ｔ−ブトキシカルボニル−ｎ−ヘキシルアミノ）フェノキシ］フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル
１３．８ｇのＮ−｛５−［４−（ｔ−ブトキシカルボニル−ｎ−ヘキシルアミノ）フェノキシ］−２−ニトロフェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸  ｔ−ブチルエステル、１．０ｇの１０％パラジウム−炭素および１４０ｍｌのトルエン−酢酸エチル（１：１）混合溶媒を用いて、参考例７と同様に反応させ、精製して、１３．１ｇの標記化合物を得た。
【０６７２】
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：トルエン／酢酸エチル＝３／１）：Ｒｆ値＝０．４４。
試験例１
抗過酸化脂質作用
ラット肝ミクロゾームにおける過酸化脂質の生成阻害効果を調べた。
【０６７３】
緩衝液［０．１Ｍトリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン水溶液に塩酸を加えｐＨ７．４に調製した水溶液］と０．１５Ｍ塩化カリウム水溶液の１：２混合液４００μｌに、一定濃度の試験化合物のジメチルスルホキサイド溶液５μｌとＷｉｓｔｅｒラット（１０週齢）から調整した肝ミクロゾーム１００μｌを加え、３７℃で５分間攪拌した。これに、反応を開始させるために、０．５ｍＭ硫酸第１鉄７水和物水溶液と５０ｍＭシステイン水溶液１：１混合溶液１０μｌを加え、３７℃で３０分間攪拌した。攪拌液に１０％トリクロロ酢酸水溶液１ｍｌを加え、反応を停止させた。反応液を、５℃で３０００ｒｐｍで１０分間遠心分離し、上清を分取した。上清１．０ｍｌに、０．６７％のチオバルビツル酸を含む５０％水性酢酸１．０ｍｌを加え、１００℃で１５分間煮沸した。室温で１５分間放置した後、５３５ｎｍの波長における吸光度を測定した。試験化合物を用いずに求めたコントロールの吸光度と一定濃度の試験化合物を用いた時の吸光度から阻害率（％）を求め、過酸化脂質を５０％阻害する試験化合物の濃度を調べた。その結果を表１１に示す。
【０６７４】
【表１１】
0004169450.tif 000179
上記の結果から、本願発明の化合物は優れた抗過酸化脂質作用を示すことが明らかとなった。
試験例２
５−リポキシゲナーゼ阻害作用
ジメチルスルホキシドに溶解した試験化合物５μｌに、１／１５Ｍリン酸緩衡液［リン酸緩衡液用粉末（ヤトロン）１包を水１０ｍｌに溶解させ、ｐＨ７．４に調製した水溶液］７５０μｌ、３０ｍＭ塩化カルシウム水溶液４０μｌ、２０ｍＭＧＳＨ（還元型グルタチオン）水溶液５０μｌ、４０ｍＭＡＴＰ（アデノシン−５−トリフォスフェート）水溶液５０μｌ及びモルモット多形核白血球酵素１００μｌを加え、２５℃で５分間攪拌した。これに反応を開始させるため、アラキドン酸（１０ｍｇ／ｍｌエタノール）５μｌを加え、２５℃で５分間攪拌した。攪拌液に２規定塩酸５０μｌを加え反応を停止させた。内部標準物質入り酢酸エチル２．０ｍｌ（内部標準物質：イソアミルパラベン２μｇ／ｍｌ）を加えた後、ミキサーを用いて１分間抽出した後、３０００ｒｐｍで５分間遠心分離した。酢酸エチル層を分取した後、減圧下蒸発乾固し、アセトニトリル２００μｌに溶解させた後、高速液体クロマトグラフィーにて生成した５−ＨＥＴＥを定量した。試験化合物を用いないコントロールの５−ＨＥＴＥの定量と、試験化合物を用いた時の５−ＨＥＴＥの定量から阻害率（％）を求め、５−リポキシゲナーゼを５０％阻害する試験化合物の濃度を調べた。その結果を表１２に示す。
【０６７５】
【表１２】
0004169450.tif 000180
上記の結果から、本願発明の化合物は、優れた５−リポキシゲナーゼ阻害作用を示すことが明らかとなった。
試験例３
血糖低下作用
糖尿病を発症したＫＫマウス（４−５か月齢）の尾静脈より血液を採取し、その血糖値を測定した。次に、各群のマウスの血糖値の平均が同じになるようにマウスを郡分け（１群４匹）した後、試験化合物を０．０１％含むように調整したマウス用粉末飼料（Ｆ−１，船橋農場）をマウスに３日間与えた。試験化合物を与えたマウス群を薬物投与群とした。なお、試験化合物を含まない粉末飼料を与えた群を対照群とした。３日後にマウスの尾静脈より血液を採取し、遠心分離により得られた血漿中のグルコース濃度を、グルコースアナライザー（グルコローダー，Ａ＆Ｔ社）にて測定した。下記の式より、血糖低下率を求めた。
血糖低下率（％）＝
（対照群の平均血糖値−薬物投与群の平均血糖値）×１００／対照群の血糖値
【０６７６】
【表１３】
0004169450.tif 000181
【０６７７】
上記の結果から、本願発明の化合物は、優れた血糖低下作用を示すことが明らかとなった。
【０６７８】
【発明の効果】
本発明の前記一般式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩は、優れた、インスリン抵抗性改善作用、血糖低下作用、抗炎症作用、免疫調節作用、アルドース還元酵素阻害作用、５−リポキシゲナーゼ阻害作用、過酸化脂質生成抑制作用、ＰＰＡＲ活性化作用、抗骨粗鬆症作用、ロイコトリエン拮抗作用、脂肪細胞化促進作用、ガン細胞増殖抑制作用、カルシウム拮抗作用を有し、糖尿病、高脂血症、肥満症、耐糖能不全、高血圧症、脂肪肝、糖尿病合併症（例えば、網膜症、腎症、神経症、白内障、冠動脈疾患等である。）、動脈硬化症、妊娠糖尿病、多嚢胞卵巣症候群、心血管性疾患（例えば、虚血性心疾患等である。）、非アテローム性動脈硬化症又は虚血性心疾患により惹起される細胞損傷（例えば、脳卒中により惹起される脳損傷等である。）、痛風、炎症性疾患（例えば、骨関節炎、疼痛、発熱、リウマチ性関節炎、炎症性腸炎、アクネ、日焼け、乾癬、湿疹、アレルギー性疾患、喘息、ＧＩ潰瘍、悪液質、自己免疫疾患、膵炎である。）、ガン、骨粗鬆症、白内障等；の予防剤及び／又は治療剤として有用である。
【０６７９】
更に、本発明の前記一般式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩と、α−グルコシダーゼ阻害剤、アルドース還元酵素阻害剤、ビグアナイド剤、スタチン系化合物、スクアレン合成阻害剤、フィブラート系化合物、ＬＤＬ異化促進剤及びアンジオテンシン変換酵素阻害剤の少なくとも1種を組み合わせてなる医薬組成物（特に好適には、糖尿病又は糖尿病合併症の予防剤及び／又は治療剤である。）も有用である。