(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の式(Ｉ)で示される化合物：
【化１】
0004080743.tif 000035
｛式中
R0はそれぞれ互いに独立に、ハロゲン、C1-C6アルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C1-C6ハロアルキル、シアノ-C1-C6アルキル、C2-C6ハロアルケニル、シアノ-C2-C6アルケニル、C2-C6ハロアルキニル、シアノ-C2-C6アルキニル、ヒドロキシ、ヒドロキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、ニトロ、アミノ、C1-C6アルキルアミノ、ジ(C1-C6アルキル)アミノ、C1-C6アルキルカルボニルアミノ、C1-C6アルキルスルホニルアミノ、C1-C6アルキルアミノスルホニル、C1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルキルカルボニル-C1-C6アルキル、C1-C6アコキシカルボニル-C1-C6アルキル、C1-C6アルキルカルボニル-C2-C6アルケニル、C1-C6アコキシカルボニル-C2-C6アルケニル、C1-C6アルキルカルボニル-C2-C6アルキニル、C1-C6アルコキシカルボニル-C2-C6アルキニル、C1-C6アルコキシカルボニル、シアノ、カルボキシル、フェニル、またはピリジル、ピロリジル、ピペリジル、ピラニル、ジオキサニル、アゼチジル、オキセタニル、ピリミジル、トリアジニル、チアゾールイル、トリアゾールイル、チアジアゾールイル、イミダゾールイル、オキサゾールイル、イソキサゾールイル、ピラジニル、フリール、チエニル、モルフォリル、ピペラジニル、ピラゾールイル、ベンゾキサゾールイル、ベンゾチアゾールイル、キノキサリル、インドールイル、及びキノールイルから成る群から選ばれるヘテロアリール基であって、後2者の芳香環はC1-C3アルキル、C1-C3ハロアルキル、C1-C3アルコキシ、C1-C3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロで置換されていてもよく、または
R0は隣接置換基R1、R2およびR3と共に飽和型または不飽和型C3- C6炭化水素橋を形成するが、この橋は窒素、酸素および硫黄からなる群より選択されるヘテロ原子１〜2個によって分断され、および／またはC1-C4アルキルによって置換されていてもよく、
R1、R2およびR3はそれぞれ互いに独立に、水素、ハロゲン、C1-C6アルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6シクロアルキル、C1-C6ハロアルキル、C2-C6ハロアルケニル、C1-C6アルコキシカルボニル-C2-C6アルケニル、C1-C6アルキルカルボニル-C2-C6アルケニル、シアノ-C2-C6アルケニル、ニトロ-C2-C6アルケニル、C2-C6ハロアルキニル、C1-C6アルコキシカルボニル-C2-C6アルキニル、C1-C6アルキルカルボニル-C2-C6アルキニル、シアノ-C2-C6アルキニル、ニトロ-C2-C6アルキニル、C3-C6ハロシクロアルキル、ヒドロキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルキルチオ-C1-C6アルキル、シアノ、C1-C4アルキルカルボニル、C1-C6アルコキシカルボニル、ヒドロキシ、C1-C10アルコキシ、C3-C6アルケニルオキシ、C3-C6アルキニルオキシ、C1-C6ハロアルコキシ、C3-C6ハロアルケニルオキシ、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルコキシ、メルカプト、C1-C6アルキルチオ、C1-C6ハロアルキルチオ、C1-C6アルキルスルフィニル、C1-C6アルキルスルホニル、ニトロ、アミノ、C1-C6アルキルアミノ、ジ(C1-C6アルキル)アミノ、またはフェニル環がC1-C3アルキル、C1-C3ハロアルキル、C1-C3アルコキシ、C1-C3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロで置換されていてもよいフェノキシであり、
R2はまた、フェニル、ナフチルまたは5〜6員芳香環であって、窒素、酸素および硫黄からなる群より選択されるヘテロ原子1〜2個を含み、その場合、フェニル環、ナフチル環および5〜6員芳香環はハロゲン、C3-C-8シクロアルキル、ヒドロキシ、メルカプト、アミノ、シアノ、ニトロ、またはホルミルで置換されていてもよく、および／または
フェニル環、ナフチル環および5〜6員芳香環の置換基はC1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、ヒドロキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルキルチオ、C1-C6アルキルスルフィニル、C1-C6アルキルスルホニル、モノ-C1-C6アルキルアミノ、ジ(C1-C6アルキル)アミノ、C1-C6アルキルカルボニルアミノ、C1-C6アルキルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノ、C2-C6アルケニル、C3-C6アルケニルオキシ、ヒドロキシ-C3-C6アルケニル、C1-C6アルコキシ-C2-C6アルケニル、C1-C6アルコキシ- C3-C6アルケニルオキシ、C2-C6アルケニルカルボニル、C2-C6アルケニルチオ、C2-C6アルケニルスルフィニル、C2-C6アルケニルスルホニル、モノ-またはジ-(C2-C6アルケニル)アミノ、C1-C6アルキル(C3-C6アルケニル)アミノ、C2-C6アルケニルカルボニルアミノ、C2-C6アルケニルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノ、C2-C6アルキニル、C3-C6アルキニルオキシ、ヒドロキシ-C3-C6アルキニル、C1-C6アルコキシ- C3-C6アルキニル、C1-C6アルコキシ- C4-C6アルキニルオキシ、C2-C6アルキニルカルボニル、C2-C6アルキニルチオ、C2-C6アルキニルスルフィニル、C2-C6アルキニルスルホニル、モノ-またはジ-(C3-C6アルキニル)アミノ、C1-C6アルキル(C3-C6アルキニル)アミノ、C2-C6アルキニルカルボニルアミノ、またはC2-C6アルキニルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノでもよく、および／または
フェニル環、ナフチル環および5〜6員芳香環の置換基はハロゲンで置換されたC1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、ヒドロキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ- C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルキルチオ、C1-C6アルキルスルフィニル、C1-C6アルキルスルホニル、モノ-C1-C6アルキルアミノ、ジ(C1-C6アルキル)アミノ、C1-C6アルキルカルボニルアミノ、C1-C6アルキルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノ、C2-C6アルケニル、C3-C6アルケニルオキシ、ヒドロキシ-C3-C6アルケニル、C1-C6アルコキシ-C2-C6アルケニル、C1-C6アルコキシ-C3-C6アルケニルオキシ、C2-C6アルケニルカルボニル、C2-C6アルケニルチオ、C2-C6アルケニルスルフィニル、C2-C6アルケニルスルホニル、モノ-またはジ-(C2-C6アルケニル)アミノ、C1-C6アルキル-(C3-C6アルケニル)アミノ、C2-C6アルケニルカルボニルアミノ、C2-C6アルケニルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノ、C2-C6アルキニル、C3-C6アルキニルオキシ、ヒドロキシ-C3-C6アルキニル、C1-C6アルコキシ-C3-C6アルキニル、C1-C6アルコキシ-C4-C6アルキニルオキシ、C2-C6アルキニルカルボニル、C2-C6アルキニルチオ、C2-C6アルキニルスルフィニル、C2-C6アルキニルスルホニル、モノ-またはジ-(C3-C6アルキニル)アミノ、C1-C6アルキル(C3-C6アルキニル)アミノ、C2-C6アルキニルカルボニルアミノ、またはC2-C6アルキニルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノでもよく、および／または
フェニル環、ナフチル環および5〜6員芳香環の置換基は式COOR50、CONR51、SO2NR53R54またはSO2OR55で示される基でもよく(式中R50、R51、R52、R53、R54およびR55はそれぞれ互いに独立にC1-C6アルキル、C2-C6アルケニルまたはC3-C6アルキニルであるかまたはハロゲン-、ヒドロキシ-、アルコキシ-、メルカプト-、アミノ-、シアノ-、ニトロ-、アルキルチオ-、アルキルスルフィニル-またはアルキルスルホニル-で置換されたC1-C6アルキル、C2-C6アルケニルまたはC3-C6アルキニルである)、
nは0、1または2であり、
R4とR5はそれぞれ互いに独立に水素、C1-C12アルキル、C1-C12ハロアルキル、C2-C8アルケニル、C2-C8アルキニル、C1-C10アルコキシ- C1- C8アルキル、ポリ-C1-C10アルコキシ-C1-C8アルキル、C1-C10アルキルチオ-C1-C8アルキル、C3-C8シクロアルキル、C3-C8ハロシクロアルキル、4〜8員環ヘテロシクリル、フェニル、α-またはβ-ナフチル、フェニル-C1-C6アルキル、α-またはβ-ナフチル-C1-C6アルキル、5〜6員環ヘテロアリールまたは5〜6員環ヘテロアリール-C1-C6アルキルであるが、それらの芳香環または芳香族複素環はハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6ハロアルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6ハロアルコキシ、ニトロまたはシアノで置換されていてもよく、ここで、上記4〜8員環ヘテロシクリル又は5〜6員環ヘテロアリールは、ピリジル、ピロリジル、ピペリジル、ピラニル、ジオキサニル、アゼチジル、オキセタニル、ピリミジル、トリアジニル、チアゾールイル、トリアゾールイル、チアジアゾールイル、イミダゾールイル、オキサゾールイル、イソキサゾールイル、ピラジニル、フリール、チエニル、モルフォリル、ピペラジニル、ピラゾールイル、ベンゾキサゾールイル、ベンゾチアゾールイル、キノキサリル、インドールイル、及びキノールイルから成る群から選ばれるまたは
R4とR5はそれらの結合相手となっている窒素原子と共に、飽和または不飽和5〜8員複素環を形成するが、この複素環は1)酸素、硫黄または-NR14-で分断され、および／またはハロゲン、C1-C10アルキル、C1-C10ハロアルキル、ヒドロキシ、C1-C6アルコキシ、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルコキシ、C1-C6ハロアルコキシ、メルカプト、C1-C6アルキルチオ、C3-C7シクロアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリール-C1-C6アルキル、フェニル、フェニル-C1-C6アルキルまたはベンジルオキシによって置換され、最後3つの置換基のフェニル環がまたハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6ハロアルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6ハロアルコキシまたはニトロによって置換されていてもよく、および／または2)
【化２】
0004080743.tif 000036
であることができ、上記多環中、
【化３】
0004080743.tif 000037
は以下の基：
【化４】
0004080743.tif 000038
を表し、またR14は水素、C1-C4アルキル、C1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルキルスルホニル、C3-C6アルケニル、またはC3-C6アルキニルであり、そしてGは水素、金属イオン、またはアンモニウム、スルホニウムまたはホスホニウム陽イオンであり、ここで、上記ヘテロアリールは、ピリジル、ピロリジル、ピペリジル、ピラニル、ジオキサニル、アゼチジル、オキセタニル、ピリミジル、トリアジニル、チアゾールイル、トリアゾールイル、チアジアゾールイル、イミダゾールイル、オキサゾールイル、イソキサゾールイル、ピラジニル、フリール、チエニル、モルフォリル、ピペラジニル、ピラゾールイル、ベンゾキサゾールイル、ベンゾチアゾールイル、キノキサリル、インドールイル、及びキノールイルから成る群から選ばれる。｝の製法において、以下の式(II)で示される化合物：
【化５】
0004080743.tif 000039
｛式中R0、R1、R2、R3およびnは前記のとおりであり、R6はR8R9N-、R7はR10R11N-またはR12O-であり、またR8、R9、R10、R11およびR12はそれぞれ互いに独立に水素、C1-C6アルキル、C1-C6ハロアルキル、C3-C6アルケニルまたはベンジルであり、その場合、ベンジル基のフェニル環はC1-C4アルキル、ハロゲン、C1-C4ハロアルキル、C1-C4アルコキシまたはニトロで置換されていてもよい。｝を、不活性有機溶媒中で、塩基の存在又は不存在下で、以下の式(IV)、(IVa)または(IVb)で示される化合物：
【化６】
0004080743.tif 000040
｛式中R4とR5は前記のとおりであり、またH・Halはハロゲン化水素である)と反応させるステップ、そして場合により、その結果得られる式Ｉ化合物(式中Gは金属イオンまたはアンモニウム陽イオンである。｝を、塩変換により、対応する式(Ｉ)化合物(式中Gはスルホニウムまたはホスホニウム陽イオンである)の塩へと、またはBroenstedの酸での処理により対応する式(Ｉ)化合物(式中Gは水素)へと、変換するステップを含む、前記式(Ｉ)化合物の製法。
【請求項２】
式(Ｉ)で示される化合物の製法であって、式中R0がそれぞれ互いに独立にハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6ハロアルキル、ヒドロキシ、C1-C6アルコキシ、ニトロ、アミノ、C1-C6アルキルアミノ、ジ(C1-C6アルキル)アミノ、C1-C6アルキルカルボニルアミノ、C1-C6アルキルスルホニルアミノ、C1-C6アルキルアミノスルホニル、C1-C4アルキルカルボニル、C1-C6アルコキシカルボニルまたはカルボキシであり、またR1、R2およびR3がそれぞれ互いに独立に水素、ハロゲン、C1-C6アルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6シクロアルキル、C1-C6ハロアルキル、C2-C6ハロアルケニル、C2-C6ハロアルキニル、C3-C6ハロシクロアルキル、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルキルチオ-C1-C6アルキル、シアノ、C1-C4アルキルカルボニル、C1-C6アルコキシカルボニル、ヒドロキシ、C1-C10アルコキシ、C3-C6アルケニルオキシ、C3-C6アルキニルオキシ、C1-C6ハロアルコキシ、C3-C6ハロアルケニルオキシ、C1-C6アルコキシ- C1-C6アルコキシ、メルカプト、C1-C6アルキルチオ、C1-C6ハロアルキルチオ、C1-C6アルキルスルフィニル、C1-C6アルキルスルホニル、ニトロ、アミノ、C1-C4アルキルアミノまたはジ(C1-C4アルキル)アミノである、請求項1記載の製法。
【請求項３】
式中、R1、R2およびR3がそれぞれ互いに独立に水素、ハロゲン、C1-C4アルキル、C2-C4アルケニル、C2-C4アルキニル、C1-C4ハロアルキル、C3-またはC4-ハロアルケニル、C3-C6シクロアルキル、C1-C4アルキルカルボニル、C1-C6アルコキシカルボニル、ヒドロキシ、C1-C4アルコキシ、C3-またはC4-アルケニルオキシ、C3-またはC4-アルキニルオキシ、C1-C4ハロアルコキシ、ニトロまたはアミノである、請求項2記載の方法。
【請求項４】
式中、R4とR5がその結合相手である窒素原子と共に、飽和型または不飽和型の複素環式6〜7員環を形成するが、その複素環は1)酸素または硫黄によって1回分断される場合があり、および／または2)
【化７】
0004080743.tif 000041
であることができ、上記多環中、
【化８】
0004080743.tif 000042
は以下の基：
【化９】
0004080743.tif 000043
を表す、請求項1記載の方法。
【請求項５】
式(II)中のR8、R9、R10、R11およびR12は、水素、C1-C6アルキル、またはベンジルである、請求項1記載の方法。
【請求項６】
式IV、IVaまたはIVbで示される化合物が式(II)で示される化合物を基準として等モル量、または5〜50モル%過剰量使用される、請求項1記載の方法。
【請求項７】
前記反応が0〜200℃の反応温度で行われる、請求項1記載の方法。
【請求項８】
前記反応用の不活性有機溶媒は、芳香族、脂肪族または脂環式炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、ニトリル、ジアルキルスルホキシド、アミドまたはラクタム、アルコール、グリコールまたは多価アルコール、カルボン酸、またはそうした溶媒の混合物である、請求項1記載の方法。
【請求項９】
前記溶媒は、トルエン、キシレン異性体(o-、m-およびp-キシレン)のうちの1つ、メチルシクロヘキサン、クロロベンゼンまたはジクロロベンゼン異性体(1,2-、1,3-および1,4-ジクロロベンゼン)のうちの1つである、請求項8記載の方法。
【請求項１０】
前記縮合反応は、不活性雰囲気中で行われる、請求項1記載の方法。
【請求項１１】
式(II)で示される化合物と式(IV)で示される化合物の反応は、塩基を添加してまたは塩基を添加せずに行われる、請求項1記載の方法。
【請求項１２】
式(II)で示される化合物と式(IVa)または(IVb)で示される化合物の反応は、塩基の存在下で行われる、請求項1記載の方法。
【請求項１３】
第三級アミン、ピリジン、アルカリ金属アルコラート、またはアルカリ金属かアルカリ土類金属の水素化物、水酸化物、炭酸塩または炭酸水素塩が、塩基として使用される、請求項12記載の方法。
【請求項１４】
前記塩基が、式(II)で示される化合物を基準として触媒量または最大5モル過剰量で使用される、請求項13記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は除草活性の置換型3-ヒドロキシ-4-アリール-5-オキソピラゾリン誘導体の新しい製法に関連する。
【０００２】
除草作用のある3-ヒドロキシ-4-アリール-5-オキソピラゾリンとその製法は、たとえばWO 92/16510、EP-A-0 508 126、WO 95/01971、WO 96/ 21652、WO 96/ 25395、WO 97/02243およびWO 99/47525に記載されている。
【０００３】
意外にも、置換型3-ヒドロキシ-4-アリール-5-オキソピラゾリンはアリールマロン酸ジアミドまたはアリールマロン酸モノアミドとヒドラジン誘導体との縮合により容易に、高収率、高純度で合成できることが判明するに至った。
【０００４】
したがって、本発明は以下の式(Ｉ)で示される化合物：
【０００５】
【化８】
0004080743.tif 000002
{式中
R0はそれぞれ互いに独立に、ハロゲン、C1-C6アルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C1-C6ハロアルキル、シアノ-C1-C6アルキル、C2-C6ハロアルケニル、シアノ-C2-C6アルケニル、C2-C6ハロアルキニル、シアノ-C2-C6アルキニル、ヒドロキシ、ヒドロキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、ニトロ、アミノ、C1-C6アルキルアミノ、ジ(C1-C6アルキル)アミノ、C1-C6アルキルカルボニルアミノ、C1-C6アルキルスルホニルアミノ、C1-C6アルキルアミノスルホニル、C1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルキルカルボニル-C1-C6アルキル、C1-C6アコキシカルボニル-C1-C6アルキル、C1-C6アルキルカルボニル-C2-C6アルケニル、C1-C6アコキシカルボニル-C2-C6アルケニル、C1-C6アルキルカルボニル-C2-C6アルキニル、C1-C6アルコキシカルボニル-C2-C6アルキニル、C1-C6アルコキシカルボニル、シアノ、カルボキシル、フェニル、または窒素、酸素および硫黄からなる群より選択されるヘテロ原子1〜2個を含む芳香環であって、後2者の芳香環はC1-C3アルキル、C1-C3ハロアルキル、C1-C3アルコキシ、C1-C3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロで置換される場合があり、または
R0は隣接置換基R1、R2およびR3と共に飽和型または不飽和型C3-C6炭化水素橋を形成するが、この橋は窒素、酸素および硫黄からなる群より選択されるヘテロ原子１〜2個によって分断され、および／またはC1-C4アルキルによって置換される場合があり、
R1、R2およびR3はそれぞれ互いに独立に、水素、ハロゲン、C1-C6アルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6シクロアルキル、C1-C6ハロアルキル、C2-C6ハロアルケニル、C1-C6アルコキシカルボニル-C2-C6アルケニル、C1-C6アルキルカルボニル-C2-C6アルケニル、シアノ-C2-C6アルケニル、ニトロ-C2-C6アルケニル、C2-C6ハロアルキニル、C1-C6アルコキシカルボニル-C2-C6アルキニル、C1-C6アルキルカルボニル-C2-C6アルキニル、シアノ-C2-C6アルキニル、ニトロ-C2-C6アルキニル、C3-C6ハロシクロアルキル、ヒドロキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルキルチオ-C1-C6アルキル、シアノ、C1-C4アルキルカルボニル、C1-C6アルコキシカルボニル、ヒドロキシ、C1-C10アルコキシ、C3-C6アルケニルオキシ、C3-C6アルキニルオキシ、C1-C6ハロアルコキシ、C3-C6ハロアルケニルオキシ、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルコキシ、メルカプト、C1-C6アルキルチオ、C1-C6ハロアルキルチオ、C1-C6アルキルスルフィニル、C1-C6アルキルスルホニル、ニトロ、アミノ、C1-C6アルキルアミノ、ジ(C1-C6アルキル)アミノ、またはフェニル環がC1-C3アルキル、C1-C3ハロアルキル、C1-C3アルコキシ、C1-C3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロで置換される場合があるフェノキシであり、
R2はまた、フェニル、ナフチルまたは5〜6員芳香環であって、窒素、酸素および硫黄からなる群より選択されるヘテロ原子1〜2個を含み、その場合、フェニル環、ナフチル環系および5〜6員芳香環はハロゲン、C3-C-8シクロアルキル、ヒドロキシ、メルカプト、アミノ、シアノ、ニトロ、またはホルミルで置換されてもよく、および／または
フェニル環、ナフチル環系および5〜6員芳香環の置換基はC1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、ヒドロキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルキルチオ、C1-C6アルキルスルフィニル、C1-C6アルキルスルホニル、モノ-C1-C6アルキルアミノ、ジ(C1-C6アルキル)アミノ、C1-C6アルキルカルボニルアミノ、C1-C6アルキルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノ、C2-C6アルケニル、C3-C6アルケニルオキシ、ヒドロキシ-C3-C6アルケニル、C1-C6アルコキシ-C2-C6アルケニル、C1-C6アルコキシ- C3-C6アルケニルオキシ、C2-C6アルケニルカルボニル、C2-C6アルケニルチオ、C2-C6アルケニルスルフィニル、C2-C6アルケニルスルホニル、モノ-またはジ-(C2-C6アルケニル)アミノ、C1-C6アルキル(C3-C6アルケニル)アミノ、C2-C6アルケニルカルボニルアミノ、C2-C6アルケニルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノ、C2-C6アルキニル、C3-C6アルキニルオキシ、ヒドロキシ-C3-C6アルキニル、C1-C6アルコキシ- C3-C6アルキニル、C1-C6アルコキシ- C4-C6アルキニルオキシ、C2-C6アルキニルカルボニル、C2-C6アルキニルチオ、C2-C6アルキニルスルフィニル、C2-C6アルキニルスルホニル、モノ-またはジ-(C3-C6アルキニル)アミノ、C1-C6アルキル(C3-C6アルキニル)アミノ、C2-C6アルキニルカルボニルアミノ、またはC2-C6アルキニルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノでもよく、および／または
フェニル環、ナフチル環系および5〜6員芳香環の置換基はハロゲン置換型のC1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、ヒドロキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ- C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルキルチオ、C1-C6アルキルスルフィニル、C1-C6アルキルスルホニル、モノ-C1-C6アルキルアミノ、ジ(C1-C6アルキル)アミノ、C1-C6アルキルカルボニルアミノ、C1-C6アルキルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノ、C2-C6アルケニル、C3-C6アルケニルオキシ、ヒドロキシ-C3-C6アルケニル、C1-C6アルコキシ-C2-C6アルケニル、C1-C6アルコキシ-C3-C6アルケニルオキシ、C2-C6アルケニルカルボニル、C2-C6アルケニルチオ、C2-C6アルケニルスルフィニル、C2-C6アルケニルスルホニル、モノ-またはジ-(C2-C6アルケニル)アミノ、C1-C6アルキル-(C3-C6アルケニル)アミノ、C2-C6アルケニルカルボニルアミノ、C2-C6アルケニルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノ、C2-C6アルキニル、C3-C6アルキニルオキシ、ヒドロキシ-C3-C6アルキニル、C1-C6アルコキシ-C3-C6アルキニル、C1-C6アルコキシ-C4-C6アルキニルオキシ、C2-C6アルキニルカルボニル、C2-C6アルキニルチオ、C2-C6アルキニルスルフィニル、C2-C6アルキニルスルホニル、モノ-またはジ-(C3-C6アルキニル)アミノ、C1-C6アルキル(C3-C6アルキニル)アミノ、C2-C6アルキニルカルボニルアミノ、またはC2-C6アルキニルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノでもよく、および／または
フェニル環、ナフチル環系および5〜6員芳香環の置換基は式COOR50、CONR51、SO2NR53R54またはSO2OR55 (式中R50、R51、R52、R53、R54およびR55はそれぞれ互いに独立にC1-C6アルキル、C2-C6アルケニルまたはC3-C6アルキニルであるかまたはハロゲン-、ヒドロキシ-、アルコキシ-、メルカプト-、アミノ-、シアノ-、ニトロ-、アルキルチオ-、アルキルスルフィニル-またはアルキルスルホニル-置換型のC1-C6アルキル、C2-C6アルケニルまたはC3-C6アルキニルである) で示されるラジカルでもよく、
nは0、1または2であり、
R4とR5はそれぞれ互いに独立に水素、C1-C12アルキル、C1-C12ハロアルキル、C2-C8アルケニル、C2-C8アルキニル、C1-C10アルコキシ- C1- C8アルキル、ポリ-C1-C10アルコキシ-C1-C8アルキル、C1-C10アルキルチオ-C1-C8アルキル、C3-C8シクロアルキル、C3-C8ハロシクロアルキル、4〜8員環ヘテロシクリル、フェニル、α-またはβ-ナフチル、フェニル-C1-C6アルキル、α-またはβ-ナフチル- C1-C6アルキル、5〜6員環ヘテロアリールまたは5〜6員環ヘテロアリール-C1-C6アルキルであるが、それらの芳香環または芳香族複素環はハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6ハロアルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6ハロアルコキシ、ニトロまたはシアノで置換される場合があり、または
R4とR5はそれらの結合相手となっている窒素原子と共に、飽和または不飽和5〜8員複素環を形成するが、この複素環は1)酸素、硫黄または-NR14-で分断され、および／またはハロゲン、C1-C10アルキル、C1-C10ハロアルキル、ヒドロキシ、C1-C6アルコキシ、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルコキシ、C1-C6ハロアルコキシ、メルカプト、C1-C6アルキルチオ、C3-C7シクロアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリール-C1-C6アルキル、フェニル、フェニル-C1-C6アルキルまたはベンジルオキシによって置換され、最後3つの置換基のフェニル環がまたハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6ハロアルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6ハロアルコキシまたはニトロによって置換される場合があり、および／または2)酸素または硫黄で随意に分断される2〜6個の炭素原子をもつ縮合またはスピロ結合アルキレンまたはアルケニレン鎖を、もしくはそのアルキレンまたはアルケニレン鎖を橋渡しする飽和または不飽和複素環の1以上の環原子を含む場合があり、またR14は水素、C1-C4アルキル、C1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルキルスルホニル、C3-C6アルケニル、またはC3-C6アルキニルであり、そして
Gは水素、金属イオン相当物、またはアンモニウム、スルホニウムまたはホスホニウム陽イオンである。}の製法に関連し、その製法は以下の式(II)で示される化合物：
【０００６】
【化９】
0004080743.tif 000003
{式中R0、R1、R2、R3およびnは前記のとおりであり、R6はR8R9N-、R7はR10R11N-またはR12O-であり、またR8、R9、R10、R11およびR12はそれぞれ互いに独立に水素、C1-C6アルキル、C1-C6ハロアルキル、C3-C6アルケニルまたはベンジルであり、その場合、ベンジル基のフェニル環はC1-C4アルキル、ハロゲン、C1-C4ハロアルキル、C1-C4アルコキシまたはニトロで置換されていてもよい。}を、不活性有機溶媒中で、随意に塩基の存在下で、以下の式(IV)、(IVa)または(IVb)で示される化合物：
【０００７】
【化１０】
0004080743.tif 000004
{式中R4とR5は前記のとおりであり、またH・Halはハロゲン化水素である。}と反応させるステップ、および随意に、その結果得られる式(Ｉ)化合物(式中Gは金属イオン相当物またはアンモニウム陽イオンである)を、塩変換により、対応する式(Ｉ)化合物(式中Gはスルホニウムまたはホスホニウム陽イオンである)の塩へと、またはBroenstedの酸での処理により対応する式(Ｉ)化合物(式中Gは水素)へと、変換するステップを含む。
【０００８】
本発明はまた、式(Ｉ)で示される化合物の以下の式(Ｉa)で示される化合物：
【０００９】
【化１１】
0004080743.tif 000005
{式中
R0、R1、R2、R3、R4、R5およびnは式Ｉの場合と同じであり、
G0は基-C(O)-R30、-C(X1)-X2-R31、-C(X3)-N(R32)-R33、-SO2-R34または-P(X4)(R35)-R36であり、
X1、X2、X3およびX4はそれぞれ互いに独立に酸素または硫黄であり、
R30は非置換型またはハロゲン置換型のC1-C20アルキル、C2-C20アルケニル、C1-C8アルコキシ-C1-C8アルキル、C1-C8アルキルチオ-C1-C8アルキル、ポリ-C1-C8アルコキシ-C1-C8アルキル、もしくは非置換型またはハロゲン-、C1-C6アルキル-またはC1-C6アルコキシ-置換型のC3-C8シクロアルキル(この場合、随意に1以上の環員は酸素および／または硫黄に入れ替わっている)、C3-C6シクロアルキル-C1-C6アルキル、ヘテロシクリル-C1-C6アルキル、ヘテロアリール-C1-C6アルキル、非置換型またはハロゲン-、シアノ-、ニトロ-、C1-C6アルキル-、C1-C6アルコキシ-、C1-C6ハロアルキル-、C1-C6ハロアルコキシ-、C1-C6アルキルチオ-またはC1-C6アルキルスルホニル-置換型のフェニル、非置換型またはハロゲン-、ニトロ-、シアノ-、C1-C6アルキル-、C1-C6アルコキシ-、C1-C6ハロアルキル-またはC1-C6ハロアルコキシ-置換型のフェニル-C1-C6アルキル、非置換型またはハロゲン-またはC1-C6アルキル-置換型のヘテロアリール、非置換型またはハロゲン-またはC1-C6アルキル-置換型のフェノキシ-C1-C6アルキル、もしくは非置換型またはハロゲン-、アミノ-またはC1-C6アルキル-置換型のヘテロアリールオキシ-C1-C6アルキルであり、
R31は非置換型またはハロゲン置換型のC1-C20アルキル、C2-C20アルケニル、C1-C8アルコキシ-C2-C8アルキル、ポリ-C1-C8アルコキシ-C2-C8アルキル、非置換型またはハロゲン-、C1-C6アルキル-またはC1-C6アルコキシ-置換型のC3-C8シクロアルキル、C3-C6シクロアルキル-C1-C6アルキル、ヘテロシクリル-C1-C6アルキル、ヘテロアリール-C1-C6アルキル、非置換型またはハロゲン-、シアノ-、ニトロ-、C1-C6アルキル-、C1-C6アルコキシ-、C1-C6ハロアルキル-またはC1-C6ハロアルコキシ-置換型のフェニルまたはベンジルであり、
R32とR33はそれぞれ互いに独立に、水素、非置換型またはハロゲン置換型のC1-C8アルキル、C3-C8シクロアルキル、C1-C8アルコキシ、C3-C8アルケニル、C1-C8アルコキシ-C1-C8アルキル、非置換型またはハロゲン-、C1-C8ハロアルキル-、C1-C8アルキル-またはC1-C8アルコキシ-置換型のフェニルまたはベンジルであるか、または
R32とR33は共に、炭素原子が随意に酸素または硫黄へと入れ替わったC3-C6アルキレン鎖を形成し、
R34は非置換型またはハロゲン置換型のC1-C8アルキル、C3-C8アルケニル、C3-C8ハロアルケニル、C3-C8アルキニル、C3-C8ハロアルキニル、あるいは非置換型またはハロゲン-、C1-C6アルキル-、C1-C6アルコキシ-、C1-C4ハロアルキル-、C1-C4ハロアルコキシ-、シアノ-またはニトロ-置換型のフェニルまたはベンジルであり、
R35とR36はそれぞれ互いに独立に、非置換型またはハロゲン置換型のC1-C8アルキル、C1-C8アルコキシ、C1-C8アルキルアミノ、ジ(C1-C8アルキル)アミノ、C1-C8アルキルチオ、C2-C8アルケニルチオ、C3-C7シクロアルキルチオ、もしくは非置換型またはハロゲン-、ニトロ-、シアノ-、C1-C4アルコキシ-、C1-C4ハロアルコキシ-、C1-C4アルキルチオ-、C1-C4ハロアルキルチオ-、C1-C4アルキル-またはC1-C4ハロアルキル-置換型のフェニル、フェノキシまたはフェニルチオである。}へのワンポット反応による直接(in situ)変換に関連し、その変換は式(Ｉ)で示される化合物を、随意に酸結合剤または触媒の存在下で、以下の式(XII)または(XIId)で示される求電子試薬：
G0-L      (XII)または      R32-N=C=X3      (XIId)
{式中G0、R32およびX3はR32が水素ではない点を除けば前述のとおりであり、Lは脱離基たとえばR30C(O)O-、R31X2-またはハロゲン、好ましくは塩素、臭素またはヨウ素である。}と反応させるステップを含む。
【００１０】
置換基R0〜R5、GおよびG0次第で式(Ｉ)および(Ｉa)で示される化合物は幾何および／または光学異性体または異性体混合物(アトロプ異性体)の形をとる場合があり、またGが水素、金属イオン相当物、あるいはアンモニウム、スルホニウムまたはホスホニウム陽イオンのときは互変異性体または互変異性体混合物の形をとる場合がある。
【００１１】
使用する出発原料が鏡像異性的に純粋でない場合には、前記の方法で得られる式(Ｉ)および(Ｉa)化合物は一般にラセミ混合物またはジアステレオ異性体混合物の形をとり、それらはもしも望むなら、その物理化学的性質に基づいて周知の方法、たとえば分別結晶とそれに続く光学的に純粋な塩基、酸または金属錯体との塩形成により、またはアセチルセルロース使用の高速液体クロマトグラフィー(HPLC)などのようなクロマトグラフ法により、分離することができる。
【００１２】
本発明では式(Ｉ)および(Ｉa)化合物は、濃縮された、光学的に純粋な形態の各立体異性体とラセミ混合物、ジアステレオ異性体の両方をいうものとする。個別の光学異性体に特に言及する場合を除き、掲げた式は本発明に基づく分離法によって得られるラセミ混合物を表すものとする。脂肪族C=C二重結合が存在する場合には、幾何異性もまた生じることになろう。
【００１３】
本発明はまた、式(Ｉ)および(Ｉa)化合物が酸と共に形成しうる塩に関連する。酸付加塩の形成に適する酸には有機酸と無機酸の両方が含まれる。たとえば塩酸、臭化水素酸、硝酸、リン酸、硫酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、シュウ酸、マロン酸、フマル酸、有機スルホン酸、乳酸、酒石酸、クエン酸およびサリチル酸などである。
【００１４】
Gが水素である式(Ｉ)および(Ｉa)化合物は酸性であるため、たとえばEP-A-0 508 126に記載されているように、塩基(プロトン受容体)の存在下で対応する塩(その場合、Gはたとえば金属イオン相当物またはアンモニウム陽イオンである)へと容易に変換させうる。塩基としては任意の通常のプロトン受容体を使用してよい。その種の塩はたとえば、アルカリ金属塩たとえばナトリウムおよびカリウム塩、アルカリ土類金属塩たとえばカルシウムおよびマグネシウム塩、アンモニウム塩すなわち非置換型および一置換または多置換型アンモニウム塩たとえばトリエチルアンモニウムおよびメチルアンモニウム塩、あるいは他の有機塩基または他の陽イオンたとえばスルホニウムまたはホスホニウム陽イオンとの塩などである。スルホニウム陽イオンはたとえばトリ(C1-C4アルキル)スルホニウム陽イオンであり、これは対応するアルカリ金属塩から、たとえば塩変換法により、たとえば陽イオン交換体を使用して、得ることができる。
【００１５】
造塩剤としてのアルカリ金属およびアルカリ土類金属水酸化物のなかでは、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウムおよびカルシウムの水酸化物、とりわけナトリウムとカリウムの水酸化物が特筆されよう。適当な造塩剤はたとえばWO 97/41112に記載されている。
【００１６】
アンモニウム塩形成用の適当なアミンはアンモニアと第一級、第二級および第三級のC1-C18アルキルアミン、C1-C4ヒドロキシアルキルアミンおよびC2-C4アルコキシアルキルアミン (たとえば、メチルアミン、エチルアミン、n-プロピルアミン、イソプロピルアミン、4種類のブチルアミン異性体、n-アミルアミン、イソアミルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ペンタデシルアミン、ヘキサデシルアミン、ヘプタデシルアミン、オクタデシルアミン、メチル-エチルアミン、メチル-イソプロピルアミン、メチル-ヘキシルアミン、メチル-ノニルアミン、メチル-ペンタデシルアミン、メチル-オクタデシルアミン、エチル-ブチルアミン、エチル-ヘプチルアミン、エチル-オクチルアミン、ヘキシル-ヘプチルアミン、ヘキシル-オクチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ-n-プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ-n-ブチルアミン、ジ-n-アミルアミン、ジイソアミルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、エタノールアミン、n-プロパノールアミン、イソプロパノールアミン、N,N-ジエタノールアミン、N-エチルプロパノールアミン、N-ブチルエタノールアミン、アリルアミン、n-ブテニル-2-アミン、n-ペンテニル-2-アミン、2,3-ジメチルブテニル-2-アミン、ジブテニル-2-アミン、n-ヘキセニル-2-アミン、プロピレンジアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ-n-プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ-n-ブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリ-s-ブチルアミン、トリ-n-アミルアミン、メトキシエチルアミンおよびエトキシエチルアミン)、複素環式アミン(たとえば、ピリジン、キノリン、イソキノリン、モルホリン、N-メチルモルホリン、チオモルホリン、ピペリジン、ピロリジン、インドリン、キヌクリジンおよびアゼピン)、第一級アリールアミン(アニリン、メトキシアニリン、エトキシアニリン、o-、m-およびp-トルイジン、フェニレンジアミン、ベンジジン、ナフチルアミンおよびo-、m-およびp-クロロアニリン)の両方を、特にトリエチルアミン、イソプロピルアミンおよびジイソプロピルアミンを含む。
【００１７】
前記定義中のハロゲンはフッ素、塩素、臭素またはヨウ素、特にフッ素、塩素および臭素として理解されるものとする。
【００１８】
置換基の定義中に現れるアルキル基はたとえばメチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、s-ブチル、イソブチルまたはt-ブチル、それにペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシルおよびドデシル異性体である。
【００１９】
ハロアルキル基は好ましくは鎖長が1〜6炭素原子である。ハロアルキルはたとえばフルオロメチル、ジフルオロメチル、ジフルオロクロロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、ジクロロフルオロメチル、トリクロロメチル、2,2,2-トリフルオロメチル、2-フルオロエチル、2-クロロエチル、2,2-ジフルオロエチル、2,2-ジクロロエチル、2,2,2-トリクロロエチルまたはペンタフルオロエチル、好ましくはトリクロロメチル、ジフルオロメチル、ジフルオロクロロメチル、トリフルオロメチルまたはジクロロフルオロメチルである。
【００２０】
アルコキシは好ましくは鎖長が1〜6炭素原子である。アルコキシはたとえばメトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、イソブトキシ、s-ブトキシ、t-ブトキシまたはペンチルオキシまたはヘキシルオキシ、好ましくはメトキシ、エトキシまたはn-プロポキシである。
【００２１】
ハロアルコキシは、たとえばフルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、2,2,2-トリフルオロエトキシ、1,1,2,2-テトラフルオロエトキシ、2-フルオロエトキシ、2-クロロエトキシまたは2,2,2-トリクロロエトキシである。
【００２２】
アルケニルラジカルの例としてはビニル、アリル、メチルアリル、1-メチルビニル、ブト-2-エン-1-イル、ペンテニルおよび2-ヘキセニル、好ましくは鎖長3〜6炭素原子のアルケニルラジカルが挙げられよう。
【００２３】
アルキニルラジカルの例としてはエチニル、プロパルギル、1-メチル-プロパルギル、3-ブチニル、ブト-2-イン-1-イル、2-メチルブト-3-イン-2-イル、ブト-3-イン-2-イル、1-ペンチニル、ペント-4-イン-1-イルおよび2-ヘキシニル、好ましくは鎖長3〜6炭素原子のアルキニルラジカルが挙げられる。
【００２４】
適当なハロアルケニルラジカルはハロゲン特に臭素またはヨウ素とりわけフッ素または塩素により1回以上置換されたアルケニル基、たとえば2-および3-フルオロプロペニル、2-および3-クロロプロペニル、2-および3-ブロモプロペニル、2,2-ジフルオロ-1-メチルビニル、2,3,3,-トリフルオロプロペニル、3,3,3-トリフルオロプロペニル、2,3,3-トリクロロプロペニル、4,4,4-トリフルオロブト-2-エン-1-イルおよび4,4,4-トリクロロブト-2-エン-1-イルなどである。ハロゲンで1回、2回または3回置換されるアルケニルラジカルは好ましくは鎖長が3〜6炭素原子である。アルケニル基のハロゲン置換位置は飽和、不飽和炭素原子のいずれでもよい。
【００２５】
適当なハロアルキニル基はたとえば、ハロゲン特に臭素またはヨウ素とりわけフッ素または塩素により1回以上置換されたアルキニル基、たとえば3-フルオロプロピニル、3-クロロプロピニル、3-ブロモプロピニルおよび4,4,4-トリフルオロブト-2-イン-1-イルなどである。
【００２６】
アルケニルオキシはたとえばアリルオキシ、メチルアリルオキシまたはブト-2-エン-1-イルオキシなどである。
【００２７】
アルキニルオキシはたとえばプロパルギルオキシまたは1-メチルプロパルギルオキシなどである。
【００２８】
適当なハロアルケニルオキシ基はハロゲン特に臭素またはヨウ素とりわけフッ素または塩素によって1回以上置換されたアルケニルオキシ基、たとえば2-および3-フルオロプロペニルオキシ、2-および3-クロロプロペニルオキシ、2-および3-ブロモプロペニルオキシ、2,3,3-トリフルオロプロペニルオキシ、2,3,3-トリクロロプロペニルオキシ、4,4,4-トリフルオロブト-2-エン-1-イルオキシおよび4,4,4-トリクロロブト-2-エン-1-イルオキシである。
【００２９】
アルコキシアルキル基は好ましくは炭素原子数が1〜6である。アルコキシアルキルはたとえばメトキシメチル、メトキシエチル、エトキシメチル、エトキシエチル、n-プロポキシメチル、n-プロポキシエチル、イソプロポキシメチルまたはイソプロポキシエチルなどである。
【００３０】
ハロアルコキシはたとえばフルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、2,2,2-トリフルオロエトキシ、1,1,2,2-テトラフルオロエトキシ、2-フルオロエトキシ、2-クロロエトキシまたは2,2,2-トリクロロエトキシなどである。
【００３１】
ポリアルコキシ-アルキルはたとえばメトキシメトキシ-メチル、エトキシメトキシ-メチル、エトキシエトキシ-メチル、n-プロポキシエトキシ-メチル、イソプロポキシエトキシ-メチル、メトキシメトキシ-エチル、エトキシメトキシ-エチル、エトキシエトキシ-エチル、n-プロポキシエトキシ-エチル、イソプロポキシエトキシ-エチルまたは(エトキシ)3-エチルなどである。
【００３２】
適当なシクロアルキル置換基は3〜8個の炭素原子を含み、たとえぱシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルまたはシクロオクチルなどである。それらはハロゲン好ましくはフッ素、塩素および／または臭素により1回以上置換されていもよい。
【００３３】
アルキルカルボニルは特にアセチルまたはプロピオニルである。
【００３４】
アルコキシカルボニルは、たとえばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n-プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニルまたはブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニルまたはヘキシルオキシカルボニル異性体、好ましくはメトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルである。
【００３５】
フェニル、フェノキシおよびナフチルは置換体でもよく、その場合には置換基は自在にオルト、メタおよび／またはパラ位を占めることができ、またナフチル環系の場合にはさらに5、6、7および／または8位を占めることができる。好ましい置換基配置はオルトおよびパラである。フェニル、フェノキシおよびナフチル置換基は、明示されていない場合には、たとえばC1-C4アルキル、ハロゲン、C1-C6ハロアルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6ハロアルコキシ、ニトロ、シアノ、アミノ、C1-C4アルキルアミノまたはジ(C1-C4アルキル)アミノなどである。
【００３６】
アルキルチオ基は好ましくは鎖長が1〜6炭素原子である。アルキルチオはたとえばメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオ、ペンチルチオまたはヘキシルチオ、もしくはその枝分かれ異性体であるが、好ましくはメチルチオまたはエチルチオである。
【００３７】
ハロアルキルチオはたとえば2,2,2-トリフルオロエチルチオまたは2,2,2-トリクロロエチルチオである。
【００３８】
アルキルスルフィニルは、たとえばメチルスルフィニル、エチルスルフィニル、n-プロピルスルフィニル、イソプロピルスルフィニル、n-ブチルスルフィニル、イソブチルスルフィニル、s-ブチルスルフィニルまたはt-ブチルスルフィニル、好ましくはメチルスルフィニルまたはエチルスルフィニルである。
【００３９】
アルキルスルホニルは、たとえばメチルスルホニル、エチルスルホニル、n-プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、n-ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、s-ブチルスルホニルまたはt-ブチルスルホニル、好ましくはメチルスルホニルまたはエチルスルホニルである。
【００４０】
アルキルアミノは、たとえばメチルアミノ、エチルアミノ、n-プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、もしくはブチル-、ペンチル-またはヘキシル-アミン異性体である。
【００４１】
ジアルキルアミノは、ジメチルアミノ、メチルエチルアミノ、ジエチルアミノ、n-プロピルメチルアミノ、ジブチルアミノまたはジイソプロピルアミノである。
【００４２】
アルキルチオアルキルは、たとえばメチルチオメチル、メチルチオエチル、エチルチオメチル、エチルチオエチル、n-プロピルチオメチル、n-プロピルチオエチル、イソプロピルチオメチルまたはイソプロピルチオエチルである。
【００４３】
ヘテロシクリルラジカルは好ましくは、1〜2個のヘテロ原子たとえばN、Sおよび／またはOを含む4〜8員環であり、通常は飽和型である。
【００４４】
ヘテロアリールラジカルは通常、好ましくは1〜3個のヘテロ原子たとえばN、Sおよび／またはOを含む5〜6員芳香族複素環である。適当なヘテロシクリルおよびヘテロアリールラジカルの例は次のとおりである: ピリジル、ピロリジル、ピペリジル、ピラニル、ジオキサニル、アゼチジル、オキセタニル、ピリミジル、トリアジニル、チアゾリル、トリアゾリル、チアジアゾリル、イミダゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、ピラジニル、フリル、チエニル、モルホリル、ピペラジニル、ピラゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、キノキサリル、インドリルおよびキノリル。さらに、それらの複素環および複素環式芳香族ラジカルは置換されていてもよく、置換基は明示されていない場合には、たとえばハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6ハロアルキル、C1-C6ハロアルコキシ、C1-C6アルキルチオ、アミノ、C1-C6アルキルアミノ、ジ(C1-C6アルキル)アミノ、フェニル、ニトロまたはシアノなどである。
【００４５】
「R4とR5はそれらの結合相手となっている窒素原子と共に、飽和または不飽和5〜8員複素環を形成するが、この複素環は1)酸素、硫黄または-NR14-で分断され、および／またはハロゲン、C1-C10アルキル、C1-C10ハロアルキル、ヒドロキシ、C1-C6アルコキシ、C1-C6アルコキシ- C1-C6アルコキシ、C1-C6ハロアルコキシ、メルカプト、C1-C6アルキルチオ、C3-C7シクロアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリール-C1-C6アルキル、フェニル、フェニル- C1-C6アルキルまたはベンジルオキシによって置換され、最後3つの置換基のフェニル環がまたハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6ハロアルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6ハロアルコキシまたはニトロによって置換される場合があり、および／または2)酸素または硫黄で随意に分断される2〜6個の炭素原子をもつ縮合またはスピロ結合アルキレンまたはアルケニレン鎖を、もしくはそのアルキレンまたはアルケニレン鎖を橋渡しする飽和または不飽和複素環の1以上の環原子を含む場合がある」とされるときの置換基の定義はたとえば次のような複素環系を意味する：
【００４６】
【化１２】
0004080743.tif 000006
上記の多環式環系において、省略表示の
【００４７】
【化１３】
0004080743.tif 000007
は、以下の基：
【００４８】
【化１４】
0004080743.tif 000008
を意味する。
【００４９】
置換基R4およびR5が一緒になって形成し、かつ縮合またはスピロ結合アルキレンまたはアルケニレン鎖が2〜6個の炭素原子をもつような5〜8員複素環はしたがって、たとえば酸素などのようなヘテロ原子によって1回または2回分断されることになろう。
【００５０】
前記の定義に基づく意味は、たとえばアルコキシ-アルコキシ、アルキル-スルホニルアミノ、アルキル-アミノスルホニル、アルコキシ-カルボニル、アルキル-カルボニルアミノ、フェニル-アルキル、ナフチル-アルキルおよびヘテロアリール-アルキルなどのような複合体の定義における置換基にも与えることができる。
【００５１】
アルキルカルボニル、アルキルカルボニルアミノおよびアルコキシカルボニルの定義では、各個別事例の炭素原子数に関する上限と下限にカルボニル基中の炭素原子は含まれていない。
【００５２】
式(Ｉa)中の置換基G0のラジカルR31、R31およびR34、たとえばシクロアルキル-チオ、シクロアルキル-アルキル、ヘテロシクリル-アルキル、ヘテロアリール-アルキル、フェニル-アルキル、フェノキシ-アルキルおよびヘテロアリールオキシ-アルキルラジカルなどに関連して持ち上がる複合体の定義は、前述のラジカルの対応するラジカルから派生する。へテロシクリルラジカルは好ましくは1〜2個のヘテロ原子たとえばN、Sおよび／またはOを含むものであり、通常は飽和型である。ヘテロアリールラジカルは通常、好ましくは1〜3個のヘテロ原子たとえばN、SおよびOなどを含む芳香族複素環である。こうした複素環および複素環式芳香族ラジカルはさらに、たとえばハロゲン、C1-C4アルキルおよび／またはアミノによって置換されていてもよい。R31によって表されるC2-C20アルケニル基は一不飽和型または多不飽和型であろう。それらは好ましくは2〜12個の、特に2〜6個の炭素原子を含む。
【００５３】
式(XII)で示される求電子試薬G-Lには次の試薬が含まれる: L-C(O)-R30 (XIIa)、L-C(X1)-X2-R31(XIIb)、L-C(X3)-N(R32)-R33 (XIIc)、R32N=C=X3 (XIId)、L-SO2-R34 (XIIe)およびL-P(X4)(R35)-R36 (XIIf)。
【００５４】
式(XII)で示される求電子試薬において、Lは脱離基たとえばR30C(O)O-またはR31O-(式中R30とR31は式(Ｉa)の場合と同じである)、あるいはハロゲン好ましくは塩素、臭素またはヨウ素である。
【００５５】
本発明に基づく方法は式(Ｉ)で示され化合物(式中R0はそれぞれ互いに独立にハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6ハロアルキル、ヒドロキシ、C1-C6アルコキシ、ニトロ、アミノ、C1-C6アルキルアミノ、ジ(C1-C6アルキル)アミノ、C1-C6アルキルカルボニルアミノ、C1-C6アルキルスルホニルアミノ、C1-C6アルキルアミノスルホニル、C1-C4アルキルカルボニル、C1-C6アルコキシカルボニルまたはカルボキシであり、またR1、R2およびR3はそれぞれ互いに独立に水素、ハロゲン、C1-C6アルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6シクロアルキル、C1-C6ハロアルキル、C2-C6ハロアルケニル、C2-C6ハロアルキニル、C3-C6ハロシクロアルキル、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルキルチオ-C1-C6アルキル、シアノ、C1-C4アルキルカルボニル、C1-C6アルコキシカルボニル、ヒドロキシ、C1-C10アルコキシ、C3-C6アルケニルオキシ、C3-C6アルキニルオキシ、C1-C6ハロアルコキシ、C3-C6ハロアルケニルオキシ、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルコキシ、メルカプト、C1-C6アルキルチオ、C1-C6ハロアルキルチオ、C1-C6アルキルスルフィニル、C1-C6アルキルスルホニル、ニトロ、アミノ、C1-C4アルキルアミノまたはジ(C1-C4アルキル)アミノである)の合成に特に適する。
【００５６】
本発明に基づく方法は、式(Ｉ)で示される化合物(式中R1、R2およびR3はそれぞれ互いに独立に水素、ハロゲン、C1-C4アルキル、C2-C4アルケニル、C2-C4アルキニル、C1-C4ハロアルキル、C3-またはC4-ハロアルケニル、C3 -C6シクロアルキル、C1-C4アルキルカルボニル、C1-C6アルコキシカルボニル、ヒドロキシ、C1-C4アルコキシ、C3-またはC4-アルケニルオキシ、C3-またはC4-アルキニルオキシ、C1-C4ハロアルコキシ、ニトロまたはアミノである)の合成にもまた特に適する。
【００５７】
本発明に基づく方法は、式(Ｉ)で示される化合物(式中R4とR5はそれらの結合相手である窒素原子と共に、飽和型または不飽和型の複素環式6〜7員環を形成するが、その複素環は1)酸素または硫黄によって1回分断される場合があり、および／または2)酸素または硫黄によって1回または2回随意に分断されることがある炭素原子数2〜5の縮合またはスピロ結合アルキレン鎖を、またはそのアルキレン鎖を橋渡しする複素環式の飽和または不飽和環の少なくとも1個の環原子を含む場合がある)の合成にもまた特に適する。
【００５８】
本発明に基づく方法の好ましい変法では、R8、R9、R10、R11およびR12が水素、C1-C6アルキルまたはベンジルである式(II)化合物が使用される。
【００５９】
式(Ｉ)および式(Ｉa)で示される化合物の合成について以下の反応スキーム1および2で詳しく説明する。
【００６０】
【化１５】
0004080743.tif 000009
式(II)と式(IV)、(IVa)または(IVb)で示される化合物は等モル量の使用が可能であるが、式(IV)、(IVa)または(IVb)化合物を5〜50 mol%過剰量とするのが有利である場合もある。
【００６１】
式(II)化合物と式(IV)、(IVa)または(IVb)化合物との反応は0℃〜200℃の反応温度で行わせるが、好ましいのは80℃〜150℃の温度範囲である。
【００６２】
式(II)化合物と式(IV)、(IVa)または(IVb)化合物との反応のための適当な不活性有機溶媒は、芳香族、脂肪族および脂環式炭化水素(ベンゼン、トルエン、キシレン異性体のo-、m-およびp-キシレン、シクロヘキサンおよびメチルシクロヘキサンなど); ハロゲン化炭化水素(クロロベンゼンやジクロロベンゼン異性体の1,2-、1,3-および1,4-ジクロロベンゼンなど); エーテル(ジブチルエーテル、t-ブチルメチルエーテル、1,2-ジメトキシエタン(DME)、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1,3-ジオキソランおよびジオキサンなど); ニトリル(アセトニトリル、プロピオニトリルおよびベンゾニトリルなど); ジアルキルスルホキシド(ジメチルスルホキシド(DMSO)など); アミドおよびラクタム(N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N-ジエチルホルムアミドおよびN-メチルピロリドン(NMP)など); アルコール、グリコール(ジオール)および多価アルコール(プロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、エチレングリコールおよび2-エトキシエタノールなど); それに一般にカルボン酸たとえば酢酸およびプロピオン酸、またはこれらの溶媒の混合物である。好ましいのは、沸点が≧80℃、特に≧100℃の有機溶媒である。
【００６３】
特に好ましいのはトルエン、キシレン異性体のo-、m-およびp-キシレン、メチルシクロヘキサン、クロロベンゼンおよびジクロロベンゼン異性体の1,2-、1,3-および1,4-ジクロロベンゼンである。
【００６４】
本発明に基づく反応は好ましくは不活性ガス雰囲気中で、たとえば窒素またはアルゴンガス雰囲気中で行わせる。
【００６５】
式(II)化合物と式(IV)化合物の縮合反応は塩基を添加して、または添加せずに行わせることができる。(式(IV)化合物ではなく)式(IVa)または(IVb)化合物との同じ縮合反応は塩基の存在下で行わせると有利である。その場合の適当な塩基はたとえば一般に窒素系塩基、たとえばC1-C6トリアルキルアミン、キヌクリジンおよび4-ジメチルアミノピリジンなどのような第三級アミンおよびピリジンである。適当な塩基としてはさらに、たとえばアルカリ金属アルコラート(ナトリウムおよびカリウムのメタノラート、ナトリウムおよびカリウムのエタノラート、それにナトリウムおよびカリウムのt-ブタノラートなど)もある。無機塩基たとえばアルカリ金属およびアルカリ土類金属の水素化物(水素化ナトリウム、カリウムまたはカルシウムなど)、水酸化物(水酸化ナトリウムまたはカリウムなど)、炭酸塩(炭酸ナトリウムまたはカリウムなど)、炭酸水素塩(炭酸水素ナトリウムまたはカリウムなど)、特にそれらのアルコール溶液もまた使用可能である。この種の塩基は触媒量を、または式(II)化合物を基準にした最高5モル過剰量を使用する。
【００６６】
本発明に基づく方法の好ましい実施態様では、沸点＞80℃の芳香族炭化水素たとえばキシレンを、式(II)と式(IV)、(IVa)または(IVb)で示される反応物を溶かす反応溶媒として使用する。好ましくは式(IV)、(IVa)または(IVb)化合物は式(II)化合物を基準にした5〜20 mol%過剰量を使用する。反応混合物は、式(IV)化合物を使用するときは塩基を添加し、または添加しないで、また式(IVa)または(IVb)を使用するときは等モル量の、または最高5倍過剰量の有機塩基たとえばトリエチルアミンの存在下で、不活性ガス雰囲気下、還流温度で1〜3時間加熱する。冷却および希釈酸添加後、所望の生成物(G=水素)が結晶質の固体として沈殿するので、直接ろ取し、適当な洗浄剤たとえば水および／またはヘキサンで洗うことができる。
【００６７】
式(Ｉ)で示される化合物(式中R0、R1、R2、R3、R4、R5およびnは前記のとおりであり、Gは水素、金属イオン相当物またはアンモニウム陽イオンである)は
a)本発明にしたがって、直接、反応溶液中で、単離せずにワンポット反応により、または
b)単離後に後続の反応ステップにより、
随意に酸結合剤または触媒の存在下で、式(XII)の求電子試薬(式中G0は前記のとおりであり、またLは脱離基たとえばR30C(O)O-またはR31O-―式中R30とR31は式Ｉaの場合と同じ―、またはハロゲン好ましくは塩素、臭素またはヨウ素である)と反応させることにより、式(Ｉa)で示される化合物へと容易に変換することができる。反応スキーム2はその誘導ステップを示す。
【００６８】
【化１６】
0004080743.tif 000010
式(Ｉ)で示される化合物と式(XII)で示される求電子試薬との反応に使用する酸結合剤は通常のプロトン受容体たとえばアルカリ金属水素化物、アルカリ金属アルコラート、アルカリ金属またはアルカリ土類金属炭酸塩または炭酸水素塩、または一般に窒素系塩基たとえばトリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ピリジン、キノリン、ジアザビシクロノネン(DBN)およびジアザビシクロウンデセン(DBU)でよい。式(Ｉ)で示される化合物と式(IId)で示される求電子試薬の反応には触媒として、反応を促進する触媒たとえばジブチルスズジラウレートなどのような有機スズ化合物を加えてもよい。
【００６９】
使用する溶媒は式(XII)および(XIIa)〜(XIIf)で示される求電子試薬に対して不活性である任意の溶媒、たとえば芳香族炭化水素(ベンゼン、トルエンまたはキシレン異性体など) 、ハロゲン化炭化水素(ジクロロメタン、トリクロロメタン、クロロベンゼンまたはジクロロベンゼン異性体など)、アミド(N,N-ジメチルホルムアルデヒド(DMF)または1-メチル-2-ピロリドン(NMP)など)、またはエーテル(ジブチルエーテル、1,2-ジメトキシエタン(DME)、1,3-ジオキソラン、テトラヒドロフランまたはジオキサンなど)でよい。
【００７０】
前記の変法b)に基づく、すなわち別個の反応ステップとしての式(Ｉ)化合物(式中Gは水素である)の類似反応については、たとえばWO 97/02243およびEP-A-0 508 126に記載されている。
【００７１】
本発明に基づいて合成される式(Ｉ)化合物(式中Gは水素、金属イオン相当物、あるいはアンモニウム、スルホニウムまたはホスホニウム陽イオンである)はしたがって特に式(Ｉa)で示される化合物(式中G0は基-C(O)-R30、-C(X1)-X2-R31、-C(X3)-N(R32)-R33、-SO2-R34または-P(X4)(R35)-R36であり、R30、R31、R32、R33、R34、R35、R36、X1、X2、X3およびX4は式(Ｉa)の場合と同じである)のin situ合成のための出発化合物として使用される。
【００７２】
以下の式(Ｉ)：
【００７３】
【化１７】
0004080743.tif 000011
{式中
R0はそれぞれ互いに独立に、ハロゲン、C1-C6アルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C1-C6ハロアルキル、シアノ-C1-C6アルキル、C2-C6ハロアルケニル、シアノ-C2-C6アルケニル、C2-C6ハロアルキニル、シアノ-C2-C6アルキニル、ヒドロキシ、ヒドロキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、ニトロ、アミノ、C1-C6アルキルアミノ、ジ(C1-C6アルキル)アミノ、C1-C6アルキルカルボニルアミノ、C1-C6アルキルスルホニルアミノ、C1-C6アルキルアミノスルホニル、C1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルキルカルボニル-C1-C6アルキル、C1-C6アコキシカルボニル-C1-C6アルキル、C1-C6アルキルカルボニル-C2-C6アルケニル、C1-C6アコキシカルボニル-C2-C6アルケニル、C1-C6アルキルカルボニル-C2-C6アルキニル、C1-C6アルコキシカルボニル-C2-C6アルキニル、C1-C6アルコキシカルボニル、シアノ、カルボキシル、フェニル、または窒素、酸素および硫黄からなる群より選択されるヘテロ原子1〜2個を含む芳香環であって、後2者の芳香環はC1-C3アルキル、C1-C3ハロアルキル、C1-C3アルコキシ、C1-C3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロで置換される場合があり、または
R0は隣接置換基R1、R2およびR3と共に飽和型または不飽和型C3-C6炭化水素橋を形成するが、この橋は窒素、酸素および硫黄からなる群より選択されるヘテロ原子１〜2個によって分断され、および／またはC1-C4アルキルによって置換される場合があり、
R1、R2およびR3はそれぞれ互いに独立に、水素、ハロゲン、C1-C6アルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6シクロアルキル、C1-C6ハロアルキル、C2-C6ハロアルケニル、C1-C6アルコキシカルボニル-C2-C6アルケニル、C1-C6アルキルカルボニル-C2-C6アルケニル、シアノ-C2-C6アルケニル、ニトロ-C2-C6アルケニル、C2-C6ハロアルキニル、C1-C6アルコキシカルボニル-C2-C6アルキニル、C1-C6アルキルカルボニル-C2-C6アルキニル、シアノ-C2-C6アルキニル、ニトロ-C2-C6アルキニル、C3-C6ハロシクロアルキル、ヒドロキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルキルチオ-C1-C6アルキル、シアノ、C1-C4アルキルカルボニル、C1-C6アルコキシカルボニル、ヒドロキシ、C1-C10アルコキシ、C3-C6アルケニルオキシ、C3-C6アルキニルオキシ、C1-C6ハロアルコキシ、C3-C6ハロアルケニルオキシ、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルコキシ、メルカプト、C1-C6アルキルチオ、C1-C6ハロアルキルチオ、C1-C6アルキルスルフィニル、C1-C6アルキルスルホニル、ニトロ、アミノ、C1-C6アルキルアミノ、ジ(C1-C6アルキル)アミノ、またはフェニル環がC1-C3アルキル、C1-C3ハロアルキル、C1-C3アルコキシ、C1-C3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロで置換される場合があるフェノキシであり、
R2はまた、フェニル、ナフチルまたは5〜6員芳香環であって、窒素、酸素および硫黄からなる群より選択されるヘテロ原子1〜2個を含み、その場合、フェニル環、ナフチル環系および5〜6員芳香環はハロゲン、C3-C-8シクロアルキル、ヒドロキシ、メルカプト、アミノ、シアノ、ニトロ、またはホルミルで置換されてもよく、および／または
フェニル環、ナフチル環系および5〜6員芳香環の置換基はC1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、ヒドロキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルキルチオ、C1-C6アルキルスルフィニル、C1-C6アルキルスルホニル、モノ-C1-C6アルキルアミノ、ジ(C1-C6アルキル)アミノ、C1-C6アルキルカルボニルアミノ、C1-C6アルキルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノ、C2-C6アルケニル、C3-C6アルケニルオキシ、ヒドロキシ-C3-C6アルケニル、C1-C6アルコキシ-C2-C6アルケニル、C1-C6アルコキシ- C3-C6アルケニルオキシ、C2-C6アルケニルカルボニル、C2-C6アルケニルチオ、C2-C6アルケニルスルフィニル、C2-C6アルケニルスルホニル、モノ-またはジ-(C2-C6アルケニル)アミノ、C1-C6アルキル(C3-C6アルケニル)アミノ、C2-C6アルケニルカルボニルアミノ、C2-C6アルケニルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノ、C2-C6アルキニル、C3-C6アルキニルオキシ、ヒドロキシ-C3-C6アルキニル、C1-C6アルコキシ- C3-C6アルキニル、C1-C6アルコキシ- C4-C6アルキニルオキシ、C2-C6アルキニルカルボニル、C2-C6アルキニルチオ、C2-C6アルキニルスルフィニル、C2-C6アルキニルスルホニル、モノ-またはジ-(C3-C6アルキニル)アミノ、C1-C6アルキル(C3-C6アルキニル)アミノ、C2-C6アルキニルカルボニルアミノ、またはC2-C6アルキニルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノでもよく、および／または
フェニル環、ナフチル環系および5〜6員芳香環の置換基はハロゲン置換型のC1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、ヒドロキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ- C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルキルチオ、C1-C6アルキルスルフィニル、C1-C6アルキルスルホニル、モノ-C1-C6アルキルアミノ、ジ(C1-C6アルキル)アミノ、C1-C6アルキルカルボニルアミノ、C1-C6アルキルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノ、C2-C6アルケニル、C3-C6アルケニルオキシ、ヒドロキシ-C3-C6アルケニル、C1-C6アルコキシ-C2-C6アルケニル、C1-C6アルコキシ-C3-C6アルケニルオキシ、C2-C6アルケニルカルボニル、C2-C6アルケニルチオ、C2-C6アルケニルスルフィニル、C2-C6アルケニルスルホニル、モノ-またはジ-(C2-C6アルケニル)アミノ、C1-C6アルキル-(C3-C6アルケニル)アミノ、C2-C6アルケニルカルボニルアミノ、C2-C6アルケニルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノ、C2-C6アルキニル、C3-C6アルキニルオキシ、ヒドロキシ-C3-C6アルキニル、C1-C6アルコキシ-C3-C6アルキニル、C1-C6アルコキシ-C4-C6アルキニルオキシ、C2-C6アルキニルカルボニル、C2-C6アルキニルチオ、C2-C6アルキニルスルフィニル、C2-C6アルキニルスルホニル、モノ-またはジ-(C3-C6アルキニル)アミノ、C1-C6アルキル(C3-C6アルキニル)アミノ、C2-C6アルキニルカルボニルアミノ、またはC2-C6アルキニルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノでもよく、および／または
フェニル環、ナフチル環系および5〜6員芳香環の置換基は式COOR50、CONR51、SO2NR53R54またはSO2OR55で示されるラジカルでもよく(式中R50、R51、R52、R53、R54およびR55はそれぞれ互いに独立にC1-C6アルキル、C2-C6アルケニルまたはC3-C6アルキニルであるかまたはハロゲン-、ヒドロキシ-、アルコキシ-、メルカプト-、アミノ-、シアノ-、ニトロ-、アルキルチオ-、アルキルスルフィニル-またはアルキルスルホニル-置換型のC1-C6アルキル、C2-C6アルケニルまたはC3-C6アルキニルである)、
nは1または2であり、
R4とR5はそれらの結合相手となっている窒素原子と共に、飽和または不飽和5〜8員複素環を形成するが、この複素環は1)酸素、硫黄または-NR14-で分断され、かつハロゲン、C1-C10アルキル、C1-C10ハロアルキル、ヒドロキシ、C1-C6アルコキシ、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルコキシ、C1-C6ハロアルコキシ、メルカプト、C1-C6アルキルチオ、C3-C7シクロアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリール-C1-C6アルキル、フェニル、フェニル-C1-C6アルキルまたはベンジルオキシによって置換され、最後3つの置換基のフェニル環がまたハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6ハロアルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6ハロアルコキシまたはニトロによって置換される場合があり、また2)酸素または硫黄で随意に分断される2〜6個の炭素原子をもつ縮合またはスピロ結合アルキレンまたはアルケニレン鎖を、もしくはそのアルキレンまたはアルケニレン鎖を橋渡しする飽和または不飽和複素環の1以上の環原子を含む場合があり、またR14は水素、C1-C4アルキル、C1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルキルスルホニル、C3-C6アルケニル、またはC3-C6アルキニルであり、そして
Gは水素、金属イオン相当物、またはアンモニウム、スルホニウムまたはホスホニウム陽イオンである。}で示される化合物類は新規である。本発明はしたがってこれらの化合物に関連する。
【００７４】
以下の式(Ｉa)：
【００７５】
【化１８】
0004080743.tif 000012
{式中
R0はそれぞれ互いに独立に、ハロゲン、C1-C6アルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C1-C6ハロアルキル、シアノ-C1-C6アルキル、C2-C6ハロアルケニル、シアノ-C2-C6アルケニル、C2-C6ハロアルキニル、シアノ-C2-C6アルキニル、ヒドロキシ、ヒドロキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、ニトロ、アミノ、C1-C6アルキルアミノ、ジ(C1-C6アルキル)アミノ、C1-C6アルキルカルボニルアミノ、C1-C6アルキルスルホニルアミノ、C1-C6アルキルアミノスルホニル、C1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルキルカルボニル-C1-C6アルキル、C1-C6アコキシカルボニル-C1-C6アルキル、C1-C6アルキルカルボニル-C2-C6アルケニル、C1-C6アコキシカルボニル-C2-C6アルケニル、C1-C6アルキルカルボニル-C2-C6アルキニル、C1-C6アルコキシカルボニル-C2-C6アルキニル、C1-C6アルコキシカルボニル、シアノ、カルボキシル、フェニル、または窒素、酸素および硫黄からなる群より選択されるヘテロ原子1〜2個を含む芳香環であって、後2者の芳香環はC1-C3アルキル、C1-C3ハロアルキル、C1-C3アルコキシ、C1-C3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロで置換される場合があり、または
R0は隣接置換基R1、R2およびR3と共に飽和型または不飽和型C3-C6炭化水素橋を形成するが、この橋は窒素、酸素および硫黄からなる群より選択されるヘテロ原子１〜2個によって分断され、および／またはC1-C4アルキルによって置換される場合があり、
R1、R2およびR3はそれぞれ互いに独立に、水素、ハロゲン、C1-C6アルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6シクロアルキル、C1-C6ハロアルキル、C2-C6ハロアルケニル、C1-C6アルコキシカルボニル-C2-C6アルケニル、C1-C6アルキルカルボニル-C2-C6アルケニル、シアノ-C2-C6アルケニル、ニトロ-C2-C6アルケニル、C2-C6ハロアルキニル、C1-C6アルコキシカルボニル-C2-C6アルキニル、C1-C6アルキルカルボニル-C2-C6アルキニル、シアノ-C2-C6アルキニル、ニトロ-C2-C6アルキニル、C3-C6ハロシクロアルキル、ヒドロキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルキルチオ-C1-C6アルキル、シアノ、C1-C4アルキルカルボニル、C1-C6アルコキシカルボニル、ヒドロキシ、C1-C10アルコキシ、C3-C6アルケニルオキシ、C3-C6アルキニルオキシ、C1-C6ハロアルコキシ、C3-C6ハロアルケニルオキシ、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルコキシ、メルカプト、C1-C6アルキルチオ、C1-C6ハロアルキルチオ、C1-C6アルキルスルフィニル、C1-C6アルキルスルホニル、ニトロ、アミノ、C1-C6アルキルアミノ、ジ(C1-C6アルキル)アミノ、またはフェニル環がC1-C3アルキル、C1-C3ハロアルキル、C1-C3アルコキシ、C1-C3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロで置換される場合があるフェノキシであり、
R2はまた、フェニル、ナフチルまたは5〜6員芳香環であって、窒素、酸素および硫黄からなる群より選択されるヘテロ原子1〜2個を含み、その場合、フェニル環、ナフチル環系および5〜6員芳香環はハロゲン、C3-C-8シクロアルキル、ヒドロキシ、メルカプト、アミノ、シアノ、ニトロ、またはホルミルで置換されてもよく、および／または
フェニル環、ナフチル環系および5〜6員芳香環の置換基はC1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、ヒドロキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルキルチオ、C1-C6アルキルスルフィニル、C1-C6アルキルスルホニル、モノ-C1-C6アルキルアミノ、ジ(C1-C6アルキル)アミノ、C1-C6アルキルカルボニルアミノ、C1-C6アルキルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノ、C2-C6アルケニル、C3-C6アルケニルオキシ、ヒドロキシ-C3-C6アルケニル、C1-C6アルコキシ-C2-C6アルケニル、C1-C6アルコキシ- C3-C6アルケニルオキシ、C2-C6アルケニルカルボニル、C2-C6アルケニルチオ、C2-C6アルケニルスルフィニル、C2-C6アルケニルスルホニル、モノ-またはジ-(C2-C6アルケニル)アミノ、C1-C6アルキル(C3-C6アルケニル)アミノ、C2-C6アルケニルカルボニルアミノ、C2-C6アルケニルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノ、C2-C6アルキニル、C3-C6アルキニルオキシ、ヒドロキシ-C3-C6アルキニル、C1-C6アルコキシ- C3-C6アルキニル、C1-C6アルコキシ- C4-C6アルキニルオキシ、C2-C6アルキニルカルボニル、C2-C6アルキニルチオ、C2-C6アルキニルスルフィニル、C2-C6アルキニルスルホニル、モノ-またはジ-(C3-C6アルキニル)アミノ、C1-C6アルキル(C3-C6アルキニル)アミノ、C2-C6アルキニルカルボニルアミノ、またはC2-C6アルキニルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノでもよく、および／または
フェニル環、ナフチル環系および5〜6員芳香環の置換基はハロゲン置換型のC1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、ヒドロキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ- C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルキルチオ、C1-C6アルキルスルフィニル、C1-C6アルキルスルホニル、モノ-C1-C6アルキルアミノ、ジ(C1-C6アルキル)アミノ、C1-C6アルキルカルボニルアミノ、C1-C6アルキルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノ、C2-C6アルケニル、C3-C6アルケニルオキシ、ヒドロキシ-C3-C6アルケニル、C1-C6アルコキシ-C2-C6アルケニル、C1-C6アルコキシ-C3-C6アルケニルオキシ、C2-C6アルケニルカルボニル、C2-C6アルケニルチオ、C2-C6アルケニルスルフィニル、C2-C6アルケニルスルホニル、モノ-またはジ-(C2-C6アルケニル)アミノ、C1-C6アルキル-(C3-C6アルケニル)アミノ、C2-C6アルケニルカルボニルアミノ、C2-C6アルケニルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノ、C2-C6アルキニル、C3-C6アルキニルオキシ、ヒドロキシ-C3-C6アルキニル、C1-C6アルコキシ-C3-C6アルキニル、C1-C6アルコキシ-C4-C6アルキニルオキシ、C2-C6アルキニルカルボニル、C2-C6アルキニルチオ、C2-C6アルキニルスルフィニル、C2-C6アルキニルスルホニル、モノ-またはジ-(C3-C6アルキニル)アミノ、C1-C6アルキル(C3-C6アルキニル)アミノ、C2-C6アルキニルカルボニルアミノ、またはC2-C6アルキニルカルボニル(C1-C6アルキル)アミノでもよく、および／または
フェニル環、ナフチル環系および5〜6員芳香環の置換基は式COOR50、CONR51、SO2NR53R54またはSO2OR55で示されるラジカルでもよく(式中R50、R51、R52、R53、R54およびR55はそれぞれ互いに独立にC1-C6アルキル、C2-C6アルケニルまたはC3-C6アルキニルであるかまたはハロゲン-、ヒドロキシ-、アルコキシ-、メルカプト-、アミノ-、シアノ-、ニトロ-、アルキルチオ-、アルキルスルフィニル-またはアルキルスルホニル-置換型のC1-C6アルキル、C2-C6アルケニルまたはC3-C6アルキニルである)、
nは1または2であり、
R4とR5はそれらの結合相手となっている窒素原子と共に、飽和または不飽和5〜8員複素環を形成するが、この複素環は1)酸素、硫黄または-NR14-で分断され、かつハロゲン、C1-C10アルキル、C1-C10ハロアルキル、ヒドロキシ、C1-C6アルコキシ、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルコキシ、C1-C6ハロアルコキシ、メルカプト、C1-C6アルキルチオ、C3-C7シクロアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリール-C1-C6アルキル、フェニル、フェニル-C1-C6アルキルまたはベンジルオキシによって置換され、最後3つの置換基のフェニル環がまたハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6ハロアルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6ハロアルコキシまたはニトロによって置換される場合があり、また2)酸素または硫黄で随意に分断される2〜6個の炭素原子をもつ縮合またはスピロ結合アルキレンまたはアルケニレン鎖を、もしくはそのアルキレンまたはアルケニレン鎖を橋渡しする飽和または不飽和複素環の1以上の環原子を含む場合があり、またR14は水素、C1-C4アルキル、C1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルキルスルホニル、C3-C6アルケニル、またはC3-C6アルキニルであり、そして
G0は基-C(O)-R30、-C(X1)-X2-R31または-SO2-R34であり、
X1、X2、X3およびX4はそれぞれ互いに独立に酸素または硫黄であり、
R30は非置換型またはハロゲン置換型のC1-C20アルキル、C2-C20アルケニル、C1-C8アルコキシ-C1-C8アルキル、C1-C8アルキルチオ-C1-C8アルキル、ポリ-C1-C8アルコキシ-C1-C8アルキル、もしくは非置換型またはハロゲン置換型のC3-C8シクロアルキル、C3-C6シクロアルキル-C1-C6アルキル、ヘテロシクリル-C1-C6アルキル、ヘテロアリール-C1-C6アルキル、非置換型またはハロゲン-、シアノ-、ニトロ-、C1-C6アルキル-、C1-C6アルコキシ-、C1-C6ハロアルキル-、C1-C6ハロアルコキシ-、C1-C6アルキルチオ-またはC1-C6アルキルスルホニル-置換型のフェニル、非置換型またはハロゲン-、ニトロ-、シアノ-、C1-C6アルキル-、C1-C6アルコキシ-、C1-C6ハロアルキル-またはC1-C6ハロアルコキシ-置換型のフェニル-C1-C6アルキル、非置換型またはハロゲン-またはC1-C6アルキル-置換型のヘテロアリール、非置換型またはハロゲン-またはC1-C6アルキル置換型のフェノキシ-C1-C6アルキル、もしくは非置換型またはハロゲン-、アミノ-またはC1-C6アルキル-置換型のヘテロアリールオキシ-C1-C6アルキルであり、
R31は非置換型またはハロゲン置換型のC1-C20アルキル、C2-C20アルケニル、C1-C8アルコキシ-C2-C8アルキル、ポリ-C1-C8アルコキシ-C2-C8アルキル、非置換型またはハロゲン-またはC1-C6アルコキシ-置換型のC3-C8シクロアルキル、C3-C6シクロアルキル-C1-C6アルキル、ヘテロシクリル-C1-C6アルキル、ヘテロアリール-C1-C6アルキル、非置換型またはハロゲン-、シアノ-、ニトロ-、C1-C6アルキル-、C1-C6アルコキシ-、C1-C6ハロアルキル-またはC1-C6ハロアルコキシ-置換型のフェニルまたはベンジルであり、また
R34は非置換型またはハロゲン置換型のC1-C8アルキル、あるいは非置換型またはハロゲン-、C1-C6アルキル-、C1-C6アルコキシ-、C1-C4ハロアルキル-、C1-C4ハロアルコキシ-、シアノ-またはニトロ-置換型のフェニルである。}で示される化合物類は新規である。本発明はしたがってこれらの化合物類にも関連する。
【００７６】
以下の式(II)：
【００７７】
【化１９】
0004080743.tif 000013
{式中R0、R1、R2、R3、R6、R7およびnは前記のとおりである。}で示される化合物類は新規であり、本発明に基づく方法のために特に開発された。本発明はしたがってこれらの化合物にも関連する。
【００７８】
好ましい式II化合物は、式中、R1、R2およびR3がそれぞれ互いに独立に水素、ハロゲン、C1-C4アルキル、C1-C4ハロアルキル、C2-C4アルケニル、C2-C4ハロアルケニル、C2-C4アルキニル、C3-C6シクロアルキル、C1-C4アルキルカルボニル、C1-C6アルコキシカルボニル、ヒドロキシ、C1-C4アルコキシ、C3-またはC4-アルケニルオキシ、C3-またはC4-アルキニルオキシ、C1-C4ハロアルコキシ、ニトロまたはアミノである化合物である。
【００７９】
R1がC2-C6アルキルである式(II)化合物もまた好ましい。
【００８０】
同様に、nが0である式(II)化合物もまた好ましい。
【００８１】
なかでも特に好ましいのはR1がC2-C4アルキル、C1-C4アルコキシ、C2-C4アルキニルまたはC3-C6シクロアルキルであり、R3がC1-C4アルキル、C1-C4アルコキシ、C2-C4アルキニルまたはC3-C6シクロアルキルである式(II)化合物である。
【００８２】
同様に、R1がC2-C6アルキニルである式(II)化合物も好ましい。
【００８３】
R1とR3がそれぞれ互いに独立にC2-C6アルキル、C2-C6アルキニル、C1-C10アルコキシまたはC3-C6シクロアルキルである式(II)化合物も好ましい。なかでも特に好ましいのはR1がC2-C6アルキルであり、R3がC2-C6アルキル、C2-C6アルキニルまたはC1-C10アルコキシである化合物である。
【００８４】
また、式(II)(式中R6はR8R9N-であり、R7はR10R11N-であり、R8、R9、R10およびR11は式(II)の場合と同じである) で示される化合物もまた重要である。
【００８５】
以下の式(IIa)：
【００８６】
【化２０】
0004080743.tif 000014
{式中R0、R1、R2、R3およびnは式Ｉで定義したとおりであり、またR8、R9、R10およびR11は水素である。}で示される化合物類は、たとえば、以下の式(VI)：
【００８７】
【化２１】
0004080743.tif 000015
{式中R0、R1、R2、R3およびnは前記のとおりである。}で示される対応するフェニルマロン酸ジニトリルから直接、加水分解によって得ることができる。加水分解剤としては濃鉱酸たとえば硫酸または硝酸が適するが、適当な場合には水を添加する。
【００８８】
以下の式(IIa)：
【００８９】
【化２２】
0004080743.tif 000016
{式中R0、R1、R2、R3およびnは式(Ｉ)で定義したとおりであり、またR8、R9、R10およびR11はそれぞれ互いに独立に水素、C1-C6アルキル、C1-C6ハロアルキル、C3-C6アルケニルまたはベンジルであり、ベンジル基のフェニル環はC1-C4アルキル、ハロゲン、C1-C4ハロアルキル、C1-C4アルコキシまたはニトロで置換される場合がある。}で示される化合物は、たとえば次の要領で合成することができる。
【００９０】
1)  以下の式(VII)：
【００９１】
【化２３】
0004080743.tif 000017
{式中R0、R1、R2、R3、R8、R9およびnは前記のとおりである。}で示されるフェニルアセトアミドを、
a)  以下の式(XI)：
R10N=C=O                  (XI)
{式中R10はR10が水素ではない点を除けば前記のとおりである。}で示されるイソシアナートと、随意に塩基を触媒として、不活性反応溶媒中で反応させる(R11=式(IIa)化合物中の水素)か、または
b)  以下の式(XIV)：
【００９２】
【化２４】
0004080743.tif 000018
{式中R12はC1-C6アルキル、C1-C6ハロアルキル、C3-C6アルケニルまたはベンジルであり、ベンジル基のフェニル環はC1-C4アルキル、ハロゲン、C1-C4ハロアルキル、C1-C4アルコキシまたはニトロによって置換される場合がある。}で示される炭酸エステルと還流温度で反応させることにより、まず以下の式(IIb)：
【００９３】
【化２５】
0004080743.tif 000019
{式中R0、R1、R2、R3、R8、R9、R12およびnは前記のとおりである。}で示される化合物を得て、次にその化合物を以下の式(X)：
R10R11NH                (Ｘ)
(式中R10とR11は前記のとおりである)で示されるアミンと、不活性溶媒中で反応させるという方法、または
2)  以下の式(VIII)：
【００９４】
【化２６】
0004080743.tif 000020
{式中R0、R1、R2、R3、R12およびnは前記のとおりである。}で示されるフェニル酢酸エステルを
c)  以下の式(XV)：
R8N=C=O                      (XV)
(式中R8は、R8が水素ではない点を除けば前記のとおりである)で示されるイソシアナートと、随意に塩基を触媒とし不活性溶媒中で反応させて、まず以下の式(IIb)：
【００９５】
【化２７】
0004080743.tif 000021
{式中R0、R1、R2、R3、R8、R12およびnは前記のとおりであり、R9は水素である。}で示される化合物を得て、次にその化合物を式Ｘで示されるアミンと不活性溶媒中で、1)b)記載の要領で反応させるか、または
d)  以下の式(XVI)：
【００９６】
【化２８】
0004080743.tif 000022
(式中R13はR12と同じ意味をもつ)で示される炭酸エステルと高温で反応させて、以下の式(III)：
【００９７】
【化２９】
0004080743.tif 000023
{式中R0、R1、R2、R3、R12、R13およびnは前記のとおりである。}で示されるフェニルマロン酸ジエステルをまず得て、次にその化合物を不活性溶媒中で、1)b)記載の要領で、式IXまたはX
R8R9NH    (IX)    または    R10R11NH    (X)
(式中R8、R9、R10またはR11は前記のとおりである)で示されるアミンと反応させるという方法。
【００９８】
以上の変法を図示すると反応スキーム3のようになる。
【００９９】
【化３０】
0004080743.tif 000024
式(IIa)で示されるフェニルマロン酸ジアミドは反応スキーム3(変法a)に従って周知の方法により、式(VII)で示されるフェニルアセトアミドから、式(XI)で示されるイソシアナートを使用して、随意に塩基を触媒として不活性溶媒中で反応させることにより、得ることができる。
【０１００】
反応スキーム3(変法b)では、式(IIa)で示されるフェニルマロン酸ジアミドをやはり式(VII)で示されるフェニルアセトアミドから、式(XIV)で示される溶媒としての炭酸エステル中で、還流温度で数時間加熱し、式(IIb)で示される化合物を経由して、次に式(Ｘ)で示されるアミンにより溶媒中でアミド化することにより得ることができる。フェニル酢酸エステルおよび式(XVI)で示される炭酸エステルとの類似反応についてはたとえばWO 97/02243に記載されている。
【０１０１】
式(IIa)で示されるフェニルマロン酸ジアミドの、式(VIII)で示されるフェニル酢酸エステルから出発するさらなる代替製法は反応スキーム3に基づく次の2変法により提供される。すなわち変法c)により、式(VIII)で示される化合物をたとえば、まずTetrahedron Lett. 1974, 2427に準じて、式(XV)で示されるイソシアナートと、随意に塩基を触媒とし不活性反応溶媒中で反応させて式(IIb)(R9=水素)で示される化合物を形成し、それを変法b)と同様の要領により不活性溶媒中で、式(Ｘ)で示されるアミンによりアミド化する。あるいは変法d)により、式(VIII)で示される化合物をたとえば、まず式(XVI)で示される溶媒としての炭酸エステル中で、還流温度で反応させ、式(III)で示されるフェニルマロン酸ジエステルを形成し、次いで変法b)と同様の要領により溶媒中で、式(IX)または(Ｘ)で示されるアミンによりアミド化する。
【０１０２】
式(IV)、(IVa)または(IVb)で示される化合物は周知であるか、または周知の方法に準じて合成することができる。式(IV)化合物の製法はたとえばWO 95/00521およびPCT/EP Application no. 99/01593に記載されている。
【０１０３】
式(VI)で示されるフェニルマロン酸ジニトリル誘導体は周知であるか、またはChem. Commun. 1984, 932またはJ. Am. Chem. Soc. 121, 1473 (1999)などに記載されている周知の方法に準じて合成することができる。
【０１０４】
式(VII)および(VIII)で示されるフェニルアセトアミドおよびフェニル酢酸エステルは周知である。式(VIII)で示されるフェニル酢酸エステルについてはたとえばWO 97/02243に記載されている。
【０１０５】
反応スキーム1、2および3でそれぞれ使用される式(IX)、(Ｘ)、(XI)、(XII)と(XIIa)、(XIIb)、(XIIc)、(XIId)、(XIIe)および(XIIf)、(XIV)、(XV)、それに(XVI)で示される試薬は周知であるか、または周知の方法に準じて合成することができる。
【０１０６】
本発明の方法の独自性は
a)  式(II)で示される出発化合物の入手しやすさ
b)  単純な反応手順および後処理
c)  一般に高い生成物収率
d)  経済、環境面で有利なワンポット法による式(Ｉ)化合物の式(Ｉa)化合物へのさらなる誘導(たとえば、置換基GのG0への変換)、および
e)  式(II)化合物の合成(反応スキーム3)に始まり式(IV)、(IVa)または(IVb)化合物とのその反応による式(Ｉ)化合物の形成および式(XII)、(XIIa)、(XIIb)、(XIIc)または(XIId)で示される求電子試薬とのその反応に至るまでの個別プロセスステップを式(Ｉa)化合物合成のための連続反応手順に用いることができるという事実に由来する経済、環境面の利点
に求められる。
【０１０７】
本発明の製法は、特に式(Ｉ)および(Ｉa)で示される4-アリール-5-オキソピラゾリン誘導体の大規模合成にも適する。
【０１０８】
以下の実施例は本発明に基づく方法を例示するものであり、限定するものではない。
【０１０９】
合成実施例
実施例P1: 2,4,6-トリメチルフェニルマロン酸ジアミドの合成
【０１１０】
【化３１】
0004080743.tif 000025
2,4,6-トリメチルフェニルマロン酸ジニトリル2.0 g (0.0109モル)のジクロロメタン5 ml溶液を、濃硫酸(97%) 5 mlと水0.4 ml (0.022モル)の混合液に2分間かけて滴下する。20℃で100時間かくはん後、反応混合液を氷上に注ぎ、酢酸エチルで2回抽出する。有機層を合わせ塩化ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、60℃で減圧濃縮する。所望の表題化合物2.0 g(理論値の83%)が融点177-179℃の黄色みがかった結晶として得られる。
【０１１１】
実施例P2: 2,6-ジエチル-4-メチルフェニルマロン酸ジアミドの合成
【０１１２】
【化３２】
0004080743.tif 000026
2,6-ジエチル-4-メチルフェニルマロン酸ジニトリル2.1 g (0.0099モル)を濃硫酸(97%) 5 mlと水0.36 ml (0.0198モル)の混合液に加える。50℃で5分間かくはん後、均一な赤色溶液が形成されるのでそれを50℃でさらに5時間かくはんする。次に反応混合物液を22 ℃に冷却し、氷水に注ぐ。酢酸エチルで2回抽出後、有機層を合わせ飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、60℃で減圧濃縮する。所望の表題化合物2.35 g(理論値の95.6%)が融点184-186℃の黄色みがかった結晶として得られる。1H-NMR (CDCl3): 7.19 ppm (broad s, 1H); 6.99 ppm(s, 2H); 5.78 ppm (broad s, 1H); 4.69 ppm(s, 1H); 2.55 ppm (q, 4H); 2.32 ppm(s, 3H); 1.21 ppm (t, 6H)。
【０１１３】
実施例P3: 8-(2,4,6-トリメチルフェニル)テトラヒドロピラゾロ[1,2-d][1,4,5]オキサジアゼピン-7,9-ジオンの合成
【０１１４】
【化３３】
0004080743.tif 000027
2,4,6-トリメチルフェニルマロン酸ジアミド1.5 g(0.0068モル)、[1,4,5]オキサジアゼパンジヒドロブロミド2.16 g(0.0082モル) およびトリエチルアミン2.93 g(0.029モル)のキシレン50 ml溶液を窒素雰囲気下、還流温度で2時間加熱する。形成される懸濁液を22℃に冷却し、1N塩酸と共にかくはんし、ろ過する。結晶質の残留物を水で、次いでジエチルエーテルで洗い60℃で減圧乾燥させる。所望の表題化合物は融点248-250℃である。
【０１１５】
実施例P4: 8-(2,6-ジエチル-4-メチルフェニル)テトラヒドロピラゾロ[1,2-d][1,4,5]オキサジアゼピン-7,9-ジオンの合成
【０１１６】
【化３４】
0004080743.tif 000028
2,6-ジエチル-4-メチルフェニルマロン酸ジアミド2.15 g (0.00866モル)、[1,4,5]オキサジアゼパンジヒドロブロミド2.64 g (0.010モル)およびトリエチルアミン3.54 g (0.035モル)のキシレン50 ml溶液を窒素雰囲気下、還流温度で2時間加熱する。形成される懸濁液を22℃に冷却し、1N塩酸50 mlを加え、このバッチを5分間かくはんする。ヘキサン50 mlを加えた後、形成される固形物をろ取し少量の水とヘキサンで洗い、80℃で減圧乾燥させる。所望の表題化合物2.15 gが融点193-194℃の無色固形物として得られる。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、60℃で減圧濃縮すると、所望の表題化合物がさらに0.23 g得られる。合計収量2.38 g(理論値の87%)。1H- NMR (CDCl3): 6.92 ppm (d, 2H); 4.72 ppm(s, 1H); 4.30 ppm(m, 2H): 3.98 ppm (m, 4H); 3.79 ppm (m, 2H); 2.80 ppm (s, 3H); 2.70 ppm(q, 2H); 2.27 ppm(q, 2H); 1.27 ppm (t, 3H); 1.20 ppm (t, 3H)。
【０１１７】
実施例P5: 8-(2,6-ジエチル-4-メチルフェニル)テトラヒドロピラゾロ[1,2-d][1,4,5]オキサジアゼピン-7,9-ジオンの合成
【０１１８】
【化３５】
0004080743.tif 000029
2-(2,6-ジエチル-4-メチルフェニル)-N,N’-ジメチルマロンアミド0.55 g (0.002モル)、[1,4,5]オキサジアゼパンジヒドロブロミド0.42 g (0.0024モル)およびトリエチルアミン1.17 ml (0.0084モル)のヘキサン6 ml溶液を窒素雰囲気下、還流温度で18時間加熱する。次に反応混合液を水中に注ぎ、2N塩酸で酸性化し、懸濁液をヘキサンと共にかくはんする。固形物をろ取し、水とヘキサンで洗い、50℃で減圧乾燥させる。所望の表題化合物0.33 gが融点192-193.5℃のベージュ色の結晶として得られる。
【０１１９】
実施例P6: 2,2-ジメチルプロピオン酸8-(2,6-ジエチル-4-メチルフェニル)-9-オキソ-1,2,4,5-テトラヒドロ-9H-ピラゾロ[1,2-d][1,4,5]オキサジアゼピン-7-イル=エステルのワンポット合成法
【０１２０】
【化３６】
0004080743.tif 000030
2,6-ジエチル-4-メチルフェニルマロン酸ジアミド1.0 g (0.004モル)、[1,4,5]オキサジアゼパンジヒドロブロミド0.84 g (0.0048モル)およびトリエチルアミン1.62 g (0.016モル)のキシレン25 ml溶液を窒素雰囲気下、還流温度で2時間加熱する。次いで反応混合液を室温に冷却し、塩化ピバロイル0.87 g (0.0072モル)を加えて、このバッチを22℃でさらに2時間かくはんする。次に反応混合液を1N塩酸25 mlと共にかくはんし、酢酸エチルで抽出する。有機抽出物を飽和塩化ナトリウム溶液で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥させ、60℃で減圧濃縮する。褐色油2.3 gが得られる。ヘキサンからの再結晶化により所望の表題化合物1.0 gが融点120-122℃の無色の結晶として得られる。1H-NMR (CDCl3): 6.89 ppm (s, 2H); 4.29 ppm (m, 2H); 3.95 ppm (m, 2H); 3.87 ppm (m, 4H); 2.49 ppm (m, 4H); 2.30 ppm(s 3H); 1.12 ppm (t, 6H); 1.04 ppm (s, 9H)。
【０１２１】
実施例P7: 2-(2,6-ジエチル-4-メチルフェニル)-N,N’-ジメチルマロンアミドの合成
【０１２２】
【化３７】
0004080743.tif 000031
メチルアミンの33%エタノール溶液30 mlを2-(2,6-ジエチル-4-メチルフェニル)マロン酸ジメチルエステル4.18 g(0.015モル)に22℃で加え、バッチを75℃で30分間かくはんする。次に反応混合液を水中に注ぎ、反応液を濃塩酸で酸性化し、エーテルで抽出する。有機抽出物を飽和塩化ナトリウムで洗い、硫酸マグネシウムで乾燥させ、60℃で減圧濃縮する。得られる残留物(4.0 gの褐色油)をヘキサンと共にかくはんすると、所望の表題化合物1.74 gが融点98-100℃の結晶質生成物として得られる。
【０１２３】
実施例P8: 2-(2,4,6-トリメチルフェニル)テトラヒドロピラゾロ[1,2-d]ピリダジン-1,3-ジオンの(塩基添加を伴わない)合成
【０１２４】
【化３８】
0004080743.tif 000032
2,4,6-トリメチルフェニルマロン酸ジアミド2.05 g (0.0093モル)とヘキサヒドロピリダジン0.95 g (0.0110モル)のヘキサン50 ml溶液を窒素雰囲気下、還流温度で2時間沸騰させる。次に反応混合液を22℃に冷却し、1N塩酸50 mlを加えてかくはんする。得られた懸濁液をろ過し、結晶質の残留物をまずジエチルエーテルで、次に水で洗い、減圧乾燥させる。所望の表題化合物2.2 gが融点247-248℃の無色の結晶として得られる。1H-NMR (CDCl3): 6.93 ppm (s, 1H); 6.83 ppm(s, 1H); 4.65 ppm(s, 1H): 3.67 ppm (broad s, 4H); 2.40 ppm (s, 3H); 2.27 ppm(s, 3H); 2.04 ppm (s, 3H); 1.83 ppm (broad s, 4H)。
【０１２５】
実施例P9: 2,6-ジエチル-4-(4-ピリジル)フェニルマロン酸ジアミドの合成
【０１２６】
【化３９】
0004080743.tif 000033
硫酸(97%)0.5 mlに水36 mg (0.002モル)を、次いで2,6-ジエチル-4-(4-ピリジル)フェニルマロン酸ジニトリル360 mg (約75%、0.001モル)を加え、このバッチを50℃で5.5時間かくはんする。反応液を冷却後、飽和炭酸水素ナトリウム溶液で中和し、得られた沈殿をろ取し水で洗い、結晶を少量のジエチルエーテルで懸濁させ、ろ取し、乾燥させる。所望の表題化合物145 mg(理論値の47%)が得られる。融点184-186℃。1H-NMR (CDCl3): 8.63 ppm (d, 2H); 7.48 ppm (d, 2H); 7.40 ppm (s, 2H); 7.20 ppm (broad signal, 2H); 5.81 ppm (broad signal, 2H); 4.80 ppm(s, 1H); 2.68 ppm(q, 4H); 1.30 ppm (t, 6H)。
【０１２７】
次の化合物(実施例P10)も上記の方法と同様にして得られる。
【０１２８】
実施例:
2,6-ジエチル-4-(2-ピリジル)フェニルマロン酸ジアミド。融点230℃(分解)および1H-NMR (CDCl3): 8.68 ppm (d, 1H); 4.66-7.80 ppm (m, 4H); 7.23 ppm (m, 1H); 7.20 ppm (broad signal, 2H); 5.67 ppm (broad signal, 2H); 4.80 ppm(s, 1H); 2.67 ppm(q, 4H); 1.30 ppm (t, 6H)。
【０１２９】
実施例P11: 2.2-ジメチルプロピオン酸8-(2,6-ジエチル-2-ピリジン-4-イルフェニル)-9-オキソ-1,2,4,5-テトラヒドロ-9H-ピラゾロ[1,2-d][1,4,5]オキサジアゼピン-7-イル・エステルの合成
【０１３０】
【化４０】
0004080743.tif 000034
[1,4,5]オキサジアゼパンジヒドロブロミド290 mg (0.0011モル)とトリエチルアミン0.56 ml (0.004モル)を、脱気処理したキシレン7 ml中に導入し、2,6-ジエチル-4-(2-ピリジル)フェニルマロン酸ジアミド311 mg(0.001モル)を加えてから、このバッチを150℃で4時間かくはんする。反応混合液を一晩20℃で放置し、次いで0〜5℃へと冷却し、塩化ピバル酸0.135 ml (0.0011モル)を滴下する。バッチを20℃で3時間かくはんして反応を完了させ、氷水に注ぎ、酢酸エチルで2回抽出する。有機層を合わせ水と食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮する。粗生成物345 mg(理論値の75%)をジエチルエーテルから結晶化する。所望の表題化合物の収量は160 mg(理論値の35%)である。融点146-147℃。1H-NMR (CDCl3): 8.70 ppm (m, 1H); 7.72 ppm (m, 2H); 7.70 ppm (s, 2H); 7.22 ppm (m, 1H); 4.30 ppm (m, 2H); 3.97 ppm (m, 2H); 3.89 ppm(m, 4H); 2.62 ppm(m, 4H); 1.21 ppm (t, 6H); 1.03 ppm (s, 9H)。
【０１３１】
次の化合物(実施例P10)も上記の方法と同様にして得られる。
【０１３２】
実施例:
2,2-ジメチルプロピオン酸8-(2,6-ジエチル-4-ピリジン-4-イルフェニル)-9-オキソ-1,2,4,5-テトラヒドロ-9.H.-ピラゾロ[1,2-d][1,4,5]オキサジアゼピン-7-イル・エステル。1H-NMR (CDCl3): 8.19 ppm (broad signal, 2H); 7.53 ppm (broad signal, 2H); 7.35 ppm (s, 2H); 4.30 ppm (m, 2H); 3.96 ppm (m, 2H); 3.89 ppm(m, 4H); 2.62 ppm(m, 4H); 1.20 ppm (t, 6H); 1.05 ppm (s, 9H)。