(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロセス流体の圧力を指示する出力を提供し、プロセス流体を充填することが可能な第一のフランジ流路を有するフランジに、取付け力によって取付けられるように構成された伝送器であって、
前記伝送器が前記フランジに取付けられるとき、前記第一のフランジ流路に隣接するように配置され、かつ前記第一フランジ流路からプロセス流体を受け取るように構成された第一の開口部を備えた本体であって、さらに、第一の流体によって充填され、前記第一の開口部に隣接する位置から、圧力に関連する出力を提供するための感知手段にまで延びた、第一の本体の流路を有し、また、前記第一の本体の流路を取り囲む前記開口部中に第一の支持面を備えた本体と、
前記本体の前記第一の開口部中に設けられる第一の隔離ダイアフラムであって、前記第一の開口部を前記第一の本体の流路から隔離し、それによって、プロセス流体が、前記第一の本体の流路に浸入することを防ぎ、前記第一の本体の流路を取り囲む前記第一の支持面を少なくとも部分的に覆うように取付けられた第一の隔離ダイアフラムと、
前記第一の開口部中に設けられ、前記第一の支持面に対向して位置決めされた第一の接触面で前記隔離ダイアフラムの周辺部の少なくとも一部を押圧する第一の溶接リングとからなり、
該第一の溶接リングは、前記第一の接触面から前記第一の開口部側に延びる第一の腕部と、該第一の腕部の端部に形成された前記フランジの支持面に当接される第二の接触面を有し、前記第一の接触面と前記第一の腕部との遷移部の外側の面にアーチ形の遷移面が形成されている伝送器。
【請求項２】
請求項１記載の伝送器において、
前記アーチ形である遷移面は、前記伝送器が前記フランジに取付けられるときにその曲率半径が増大する方向の取付け力を受け、該取付け力の増強に応じて前記第一の支持面に対向して位置決めされた前記第一の接触面の領域が増大するように構成されたことを特徴とする伝送器。
【請求項３】
請求項２記載の伝送器において、
前記第一の隔離ダイアフラムの周辺部は、前記第一の支持面に対向して位置決めされている前記第一の接触面と前記第一の支持面との間に少なくとも部分的に位置決めされていることを特徴とする伝送器。
【請求項４】
請求項３記載の伝送器において、
前記第一の支持面および前記第一の接触面が平面であることを特徴とする伝送器。
【請求項５】
請求項４記載の伝送器において、
前記アーチ形の遷移面は、前記伝送器が前記フランジに取付けられるとき、前記取付け力の増大に応じて平坦になる方向に開くことを特徴とする伝送器。
【請求項６】
請求項５記載の伝送器において、
前記第一の溶接リングは、前記第一の接触面を提供する基台部分を有し、
前記第一の溶接リングは、前記伝送器が前記フランジに取付けられるときに印加される取付け力によって、前記フランジが、前記基台部分に対して前記第一の腕部を変形させて、アーチ形である前記遷移面を平坦化し、前記第一の支持面に対向して配設された前記第一の接触面の面積を増加させるように構成されたことを特徴とする伝送器。
【請求項７】
請求項６に記載の伝送器において、
前記第一の溶接リングの前記基台部分および前記第一の隔離ダイアフラムは、溶接により前記第一の接触面に取付けられることを特徴とする伝送器。
【請求項８】
請求項７に記載の伝送器において、
前記溶接リングは、さらに前記基台部分から延びる第二の腕部を有し、前記第一の腕部と第二の腕部との間にチャンネルを形成され、
前記チャンネル中に設けられるシーリング部材であって、前記取付け力によって前記フランジに対して押し付けられ、プロセス流体が前記第一フランジの流路から漏洩したり、またはプロセス流体が、前記フランジを通過して前記第一フランジの開口部から漏洩したりすることを防止するシーリング部材とを含むことを特徴とする伝送器。
【請求項９】
請求項８に記載の伝送器において、
前記シーリング部材がＯリングを含むことを特徴とする伝送器。
【請求項１０】
請求項１に記載の伝送器において、
前記伝送器が取付けられるように構成された前記フランジが、プロセス流体を充填させることが可能な第二のフランジの流路を有し、
前記伝送器本体はさらに、前記第二のフランジの流路に隣接した位置に設けられており、また前記伝送器が前記フランジに取付けられるとき、前記第二のフランジの流路から、プロセス流体を受け取るように適応された第二の開口部を含み、前記伝送器本体はまた、流体が充填され、前記第二の開口部に隣接する位置から、圧力に関する出力を提供するための前記感知手段にまで延びた第二の本体の流路を有し、前記伝送器本体はさらに、前記第二の本体の流路を取り囲む前記第二の開口部中に第二の支持面を提供し、
前記伝送器はさらに、
前記本体の前記第二の開口部中に設けられ、前記第二の開口部を前記第二の本体の流路から隔離する第二の隔離ダイアフラムであって、それによって、プロセス流体が前記第二の本体の流路に浸入することを防止し、前記第二の本体の流路を取り囲む前記第二の支持面を少なくとも部分的に覆うように取付けられた第二の隔離ダイアフラムと、
前記第二の開口部中に設けられ、前記第二の支持面に対向して位置決めされた第一の接触面で前記第二の隔離ダイアフラムの周辺部の少なくとも一部を押圧する第二の溶接リングとからなり、
該第二の溶接リングは、前記第一の接触面から前記第二の開口部側に延びる第一の腕部と、該第一の腕部の端部に形成された前記フランジの支持面に当接される第二の接触面を有し、前記第一の接触面と前記第一の腕部との遷移部の外側の面にアーチ形の遷移面が形成されている伝送器。
【請求項１１】
プロセス流体を充填されるように構成された第一の流路を有するフランジに取付けられたとき、前記第一の流路に隣接するように配置され、前記第一の流路からプロセス流体を受け取るように構成された開口部を備えた本体であって、さらに、第一の流体を充填され、前記開口部に隣接する位置から、圧力に関連する出力を提供するための感知手段にまで延びる第二の流路を有し、また、前記第二の流路を取り囲む前記開口部中に平面性の支持面を提供する伝送器の本体と、
前記本体の前記開口部中に配設された隔離ダイアフラムであって、前記伝送器が前記フランジに取付けられるときに、前記開口部と前記第一の流路を前記第二の流路から隔離し、それによって、プロセス流体が前記第二の流路に浸入するのを防ぐように構成され、さらに前記第二の流路を取り囲む前記支持面を少なくとも部分的に覆うように取付けられた隔離ダイアフラムと、
前記開口部中に配設された溶接リングとからなるプロセス流体の圧力を指示する出力を提供する伝送器であって、
前記溶接リングは、
前記支持面に対向して位置決めされ、前記支持面によって支持された平面性の第一の接触面を提供する溶接受け取り部と、
前記溶接受け取り部から延び、前記伝送器が前記フランジに取付けられたときに、前記フランジに接触するように位置決めできるように構成された第一フランジ接触面を備えた第一の腕部であって、前記取付け力が増大するのに応じて変形する第一の腕部と、
前記第一の接触面と前記第一の腕部との遷移部の外側の面に形成された湾曲した遷移面と、
前記溶接リングの溶接受け取り部および前記隔離ダイアフラムを、前記支持面に固着する溶接とを含むことを特徴とする伝送器。
【請求項１２】
請求項１１に記載の伝送器において、
前記支持面に対向して位置決めされ、かつ該支持面によって支持されている前記第一の接触面が、前記支持面に隣接するように位置決めされ、かつ前記支持面によって支持されている前記第一の接触面を含み、前記隔離ダイアフラムが少なくとも部分的に前記第一の接触面と前記支持面との間に位置決めされていることを特徴とする伝送器。
【請求項１３】
請求項１２に記載の伝送器において、
前記第一の腕部は、前記取付け力が増大するにつれて、前記湾曲した遷移面が前記支持面に対して平坦になる方向に開くことを特徴とする伝送器。
【請求項１４】
請求項１３に記載の伝送器において、
前記溶接リングがさらに、
前記溶接受け取り部から延びており、前記第一の腕部との間にチャンネルを形成する第二の腕部と、
前記チャンネルに設置され、前記取付け力によって、前記フランジに対して押し付けられ、プロセス流体が前記第一の流路から漏洩したり、前記フランジを通って開口部から漏洩したりするのを防止するシール部材とを具備したことを特徴とする伝送器。
【請求項１５】
請求項１４に記載の伝送器において、
前記シール部材がＯリングを含むことを特徴とする伝送器。
【請求項１６】
プロセス流体の圧力を指示する出力を提供し、プロセス流体を充填されるように構成された第一の流路を備えたフランジに、取付け力によって取付けられることが可能な伝送器であって、
前記伝送器が前記フランジに取付けられるときに、前記第一の流路に隣接するように配置され、前記第一の流路からプロセス流体を受け取るように構成された開口部を備えた本体であって、さらに、第一の流体で充填され、かつ前記開口部に隣接する位置から圧力に関連する出力を提供するための感知手段まで延びている第二の流路を有し、また、前記第二の流路を取り囲む前記開口部中に、周辺を取り巻く平面性の支持面を提供する本体と、
前記本体の前記開口部中に配設された隔離ダイアフラムであって、前記開口部と前記第一の流路を、前記第二の流路から隔離するように構成され、それによって、プロセス流体が前記第二の流路に浸入するのを防止し、さらに前記第二の流路を取り囲む前記支持面を少なくとも部分的に覆うように取付けられた隔離ダイアフラムと、
前記フランジに対向して設けられることが可能なシールと、
前記開口部に設置され、前記隔離ダイアフラムを前記支持面に取付けると共に、前記伝送器が前記フランジに取付けられたとき、前記シールを前記フランジに向って支持するための溶接リング手段であって、該溶接リング手段は、前記支持面に対向する第一の接触面と、該第一の接触面から前記開口部側に延びる腕部と、該腕部の端部に形成された前記フランジの支持面に当接される第二の接触面とを有し、前記第一の接触面と前記第一の腕部との遷移部の外側の面にアーチ形の遷移面が形成されている伝送器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
発明の背景
本発明はプロセス制御用機器に関する。より詳細には、本発明は隔離ダイアフラムを備えた圧力伝送器に関する。
【０００２】
圧力を感知する伝送器は、少なくとも一つの隔離ダイアフラムと結合された圧力センサを有する。伝送器は、典型的には、フランジに取付けられ、フランジ中の流路からプロセス流体を受け取るように整列された開口部を含む。隔離ダイアフラムは、開口部中に設置され、感知されようとしている腐蝕性のプロセス流体から、圧力センサを隔離する。圧力は、隔離ダイアフラムから流路（連通路）内に充満された実質的に非圧縮性隔離流体を介して、感知ダイアフラムを備えたセンサに伝達される。米国特許第４，８３３，９２２号の「モジュラ圧力伝送器」および米国特許第５，０９４，１０９号の「ストレス遮断凹部を有する圧力伝送器」は、このタイプの圧力伝送器を開示している。
【０００３】
圧力伝送器は、隔離ダイアフラムを取り囲む開口部内に設置された溶接リングを含むことが多い。溶接リングは伝送器本体および隔離ダイアフラムに溶接されることが可能であり、このようにして、隔離ダイアフラムは伝送器本体に固着される。溶接リングはまた、Ｏリングなどのシールを支持するために用いることもできる。伝送器が、ボルトなどによって組み付けられるような固着力でプロセス・フランジに取付けられると、シールおよび溶接リングはフランジに対して押し付けられ、プロセス流体が開口部から漏洩するのを防止する。
【０００４】
溶接リングをフランジに対して押し付ける固着力によって、溶接リングの部分の形状が変形したり、あるいは歪められる傾向がある。溶接リングが変形した結果、取付け（固着）力は、隔離ダイアフラムのある集中部分に伝達される。この結果、さらに隔離ダイアフラムにダメージを与える可能性がある。隔離ダイアフラムが、溶接リングによって伝達された集中力によって、決定的なダメージまでは与えられないとしても、この集中力によって、隔離ダイアフラムをへこませたり、または、しわを生じさせたりすることがある。この結果、伝送器はキャブリレーション（較正）をやり直すことが必要になる。
【０００５】
発明の要約
本明細書においては、プロセス流体のパラメータを指示する出力を提供するのに好適なプロセス制御用機器について開示する。プロセス制御用機器は、プロセス流体が充満される第一の流路を備えたフランジに取付けられるように設計されている。このプロセス制御用機器の本体は、第一の流路に隣接する開口部を有しており、この開口部は、第一の流路からプロセス流体を受け入れるように適応されている。隔離ダイアフラムは、プロセス制御用機器の本体の開口部に設けられ、前記開口部と第一の流路とを第二の流路から隔離する。開口部に設けられた溶接リングは、隔離ダイアフラムに対するダメージを最少限に抑えるために、取付け力を支持面上に均等に分布させる。
【０００６】
図面の簡単な説明
図１は、本発明による、溶接リングおよび支持面を備えた圧力伝送器の一部破断断面図である。
図２は、溶接リングが、伝送器をフランジに取付ける力によって変形されたとき、隔離ダイアフラムに集中した力を加えるような従来の溶接リングを示す、従来技術による圧力伝送器の一部分の断面図である。
図３は、図２に示された従来技術による圧力伝送器の一部分の断面図であり、変形されたり、あるいは歪められ（曲げられ）たりした溶接リングが隔離ダイアフラムに集中した力を加える状態を示している。
図４は、図１に示された本発明の圧力伝送器の一部分の断面図であり、溶接リングと支持面をより詳細に示している。
図５は、図４に示された本発明の圧力伝送器の一部分の断面図であり、変形されたり、あるいは歪められたりした溶接リングを示している。
【０００７】
好適な実施形態の詳細な説明
図１は、本発明による圧力伝送器１０を示している。この圧力伝送器１０は伝送器本体１２と、フランジ（あるいは、共面マニホールド）１３と、センサ本体１４とを有している。ここでは、共面フランジを有するように図示されているが、本発明は、プロセス流体を受け入れるように適応された、どのようなタイプのフランジやマニホールドを用いてもよいし、その他の連結装置を用いてもよい。センサ本体１４は圧力センサ１６を含み、伝送器本体１２は伝送回路２０を含んでいる。センサ回路１８は、通信バス２２を介して、伝送回路２０に接続されている。
【０００８】
伝送回路２０は、プロセス流体の圧力に関する情報を、二線式４−２０ｍＡプロセス制御ループ２３を介して送信する。圧力伝送器１０は、プロセス流体の圧力に関する情報を、プロセス制御ループ２３に接続された制御室６０、あるいは、その他の装置（図示せず）に送信する。制御室６０は、電源６２および抵抗器６４として、代表的に図示されている。圧力伝送器１０は、プロセス制御ループ２３を通して受け取る電力によって、完全に給電される。
【０００９】
圧力センサ１６は、絶対圧力センサあるいは差圧センサである。圧力センサ１６が差圧センサである実施の形態においては、圧力センサ１６は、流路２４における圧力Ｐ１と、フランジ１３の流路２６における圧力Ｐ２との圧力差を計測する。圧力Ｐ１は、流路３２を介して圧力センサ１６に結合されている。一方の圧力Ｐ２は、流路３４を介して圧力センサ１６に結合されている。
【００１０】
流路３２は、カプリング３６とチューブ４０を介して延びている。流路３４は、カプリング３８とチューブ４２を介して延びている。流路３２および流路３４は、油のような、比較的非圧縮性の流体によって満たされている。カプリング３６および３８は、センサ本体１４にねじ止めされ、センサ回路１８があるセンサ本体の内部と、流路２４および２６内に含まれるプロセス流体との間に、長い火炎冷却通路を構成する。
【００１１】
流路２４は、センサ本体１４における開口部２８に隣接して設けられている。流路２６は、センサ本体１４における開口部３０に隣接して設けられている。ダイアフラム４６は、開口部２８内に位置し、流路２４の近くでセンサ本体１４に結合される。流路３２は、カプリング３６とセンサ本体１４を通して、ダイアフラム４６にまで延びている。ダイアフラム５０は流路２６の近くでセンサ本体１４に結合される。流路３４は、カプリング３８とセンサ本体１４を通してダイアフラム５０にまで延びている。
【００１２】
溶接リング４８は開口部２８内に位置し、センサ本体１４の支持面４９に溶接される。溶接リング５２は開口部３０内に位置し、センサ本体１４の支持面５３に溶接される。溶接リング４８および５２は、典型的には、実質的に互いに同一である。溶接リング４８および５２は環状であるのが好ましく、また、隔離ダイアフラム４６および５０を取り囲む開口部２８および３０内に位置するのが好ましい。
【００１３】
ある好適な実施の形態においては、溶接リングをセンサ本体１４に取付けるために行なわれる溶接によって、各々の隔離ダイアフラムをセンサ本体に取付けている。溶接リング４８および５２は、プロセス流体が流路２４および２６から漏洩することを防ぐ目的で、開口部２８と３０を封鎖するシールを支持するために用いることもできる。図示されるように、溶接リング４８および５２はそれぞれ、Ｏリング・シール５４および５６を支持している。
【００１４】
動作について説明すると、圧力伝送器１０がフランジ１３にボルトで締めつけられると、フランジ１３の支持面５８は、溶接リング４８および５２を圧迫すると共に、またシール５４および５６をも圧迫する。溶接リングおよびシールに加えられるボルト締め、あるいは取付け力によってシールが圧迫され、それによって、プロセス流体が、流路２４および２６から、または開口部２８および３０から漏洩するのを防ぐことができる。取付け力はまた、溶接リング４８および５２を変形させる。
【００１５】
隔離ダイアフラム４６および５０は、各溶接リング４８および５２と支持面４９と５３との間に、部分的に設けられるか、あるいは、溶接リングとセンサ本体支持面との間に配置されることなく、溶接リングに直接隣接して設けられるかのどちらかである。隔離ダイアフラム４６および５０が各溶接リングの極く近傍に配置されるときは、取付け力によって溶接リングが変形すると、隔離ダイアフラムに永久的なダメージを与えることがある。たとえ、それが永久的なダメージにならない場合でも、極度に集中した、すなわち高度に局所化した力を、溶接リングの隅部から伝達することによって、隔離ダイアフラムにしわを生じさせたり、へこませたりするので、キャブリレーションのやり直しが必要となる。
【００１６】
図２および図３は、従来の圧力伝送器の一部分を断面図で示した線図であり、伝送器をプロセス流体フランジに取付けるボルトの締め付け力が、溶接リングによって隔離ダイアフラムに伝達されるとき隔離ダイアフラムにダメージを与えることがあり得るような、従来の溶接リング設計を示している。まず、図２に示されるように、従来技術による溶接リング１００は、基台部分１０２と腕部１０４および１０６からなる。腕部１０４および１０６は、Ｏリング、あるいは他のタイプのシールを保持するために用いることが可能なチャンネル（溝）１１０を形成している。
【００１７】
基台部分１０２は、センサ本体１４に形成されたほぼ平面状の支持面４９に対向して配置される、ほぼ平面状の接触面１０８を有している。接触面１０８は、支持面４９に対向し、かつこの面に衝き合わせられるように配設されており、前記二つの面１０８および４９の間には、隔離ダイアフラム４６が、少なくとも部分的に介在するように配置されている。レーザ溶接などの溶接１１１で、溶接リング１００をセンサ本体１４に固着する。必要に応じて、前記の溶接１１１は、隔離ダイアフラム４６をもセンサ本体１４に取付けることができる。
【００１８】
腕部１０６は、鋭角の隅部１１２で、接触面１０８から分離される面１０９を有している。典型的には、隔離ダイアフラム４６は隅部１１２を支持面４９から分離させている。腕部１０６および１０４によって形成される面１１６および１１８は、伝送器がフランジに取付けられたとき、フランジ１３の面５８に接触するようになる。
【００１９】
図３は、腕部１０４および１０６の面１１６および１１８に対して、取付け力１１４が加えられたときの、溶接リング１００を示している。取付け力１１４は、伝送器がフランジ１３にボルトで締め付けられるとき、それに応じて変化する。図３に示すとおり、腕部１０６の面１１６に対して加えられる取付け力１１４によって、腕部１０６は、矢印１２０の方向に変形、あるいは曲げられる。腕部１０６がこの様に変形した結果、溶接リング１００の隅部１１２が、高度に集中した、すなわち、極めて局所的な力を、隔離ダイアフラム４６に与えるようになる。
【００２０】
隅部１１２によって隔離ダイアフラム４６に与えられる極度に局所的な力が隔離ダイアフラム４６にしわを生じさせたり、へこませたりし、そうでない場合でも、これにダメージを与えることがある。たとえ、隅部１１２によって永久的なダメージを与えられることがないとしても、隔離ダイアフラム４６にしわを生じさせたり、へこませたりすると、その伝送器は、キャブリレーションをやり直す必要が出てくる。
【００２１】
図４および図５は、本発明の圧力伝送器の一部分を示した断面図であり、本発明の伝送器１０の好適な実施の形態において用いられる溶接リング４８を示している。図４に示されるように、溶接リング４８は、基台部分、すなわち溶接予定部分２００、および腕部２０２と２０４からなる。腕部２０２と２０４は、シール部材５４（図１参照）を保持するために用いることが可能なチャンネル２０８を形成する。
【００２２】
基台部分２００は、センサ本体１４によって提供される実質上平面状の支持面４９に対向して配設される、実質上平面性の接触面２０６を有している。前記接触面２０６は、支持面４９に衝き合わせられるように配置され、二つの面２０６と４９との間には、隔離ダイアフラム４６が少なくとも部分的に介在されている。レーザ溶接などの溶接２０９で、溶接リング４８をセンサ本体１４に取付ける。必要に応じては、溶接２０９で、隔離ダイアフラム４６をセンサ本体１４に取付けることもできる。
【００２３】
腕部２０２と２０４によって形成される面２１４および２１６は、伝送器がフランジに取付けられたとき、フランジ１３の面５８に接触するようになる。腕部２０４は、回転ヒンジ部（ポイント）２１０によって、接触面２０６から分離された面２０７を有している。回転ヒンジ部２１０は、溶接リング４８の面２０６および２０７の間に介在する、ほぼアーチ形、あるいは湾曲した遷移面であるのが好ましい。
【００２４】
回転ヒンジ部２１０の実質的なアーチ形あるいは、湾曲した遷移面は、半径Ｒ1によって定義される湾曲面の一部であるような曲率を有する。半径Ｒ1は、溶接リング４８が取付け力によって変形されるとき、隔離ダイアフラム４６の局部に伝達される力を最少にするような半径であるのが好ましい。強力な取付け力によって圧縮されるとき、遷移面が支持面４９に対して平坦になるのに十分な大きさであるような曲率半径Ｒ1を選択することによって、隔離ダイアフラム４６に伝達される力を最小限に抑えることができる。
【００２５】
このようにして、鋭角をなす隅部を無くすることによって、溶接リング４８が、高度に局部集中した力を隔離ダイアフラム４６に伝達するのを防止する一方、取付け力がその上で均等に分配される接触面２０６の表面領域を、効率良く増大することができる。一般的に、曲率半径Ｒ1の値が大きいほど、回転ヒンジ部２１０は円滑に平坦になる。しかしながら、半径Ｒ1を最適化する場合には、寸法および製造に関する考慮が必要である。
【００２６】
図５は、腕部２０２および２０４の面２１４と２１６に対して取付け力２１２が加えられている状態での、溶接リング４８を示している。取付け力２１２は、伝送器１０がフランジ１３にボルトで締め付けられるときに、その面５８から溶接リング４８に伝達される力である。図５に示されるように、取付け力２１２を腕部２０４の面２１４に加えることによって、腕部は、矢印２１８の方向に、変形されるか、あるいは曲げられる。このように、腕部２０４が変形されることによって、回転ヒンジ部２１０の湾曲した遷移面は、支持面４９および隔離ダイアフラム４６に対して平坦に（なるように）延びる。
【００２７】
湾曲した遷移面が延びて平坦に広がることによって、遷移面の曲率半径はＲ1からＲ2に増大する。回転ヒンジ部を面４９および隔離ダイアフラム４６に対して平坦化することによって、接触面２０６の面領域を効率良く増加することができ、フランジ１３に伝送器１０を取付ける力が均等に分配され、隔離ダイアフラムに対するダメージが避けられることになる。このようにして、本発明は修繕の費用と時間を減らすことができる。また本発明によれば、フランジ１３に取付けた後に、伝送器１０のキャリブレーションをやり直す必要がなくなる。
【００２８】
本発明を好適な実施の形態について説明してきたが、本発明の精神と範囲から逸脱することなしに、形式および詳細について変形が可能であることは、当業者が理解できるであろう。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明による、溶接リングおよび支持面を備えた圧力伝送器の一部破断断面図である。
【図２】  溶接リングが、伝送器をフランジに取付ける力によって変形されたとき、隔離ダイアフラムに集中した力を加えるような従来の溶接リングを示す、従来技術による圧力伝送器の一部分の断面図である。
【図３】  図２に示された従来技術による圧力伝送器の一部分の断面図であり、変形されたり、あるいは歪められ（曲げられ）たりした溶接リングが隔離ダイアフラムに集中した力を加える状態を示している。
【符号の説明】
１４……センサ本体、４６……隔離ダイアフラム、４８……溶接リング、４９……支持面、２００……基台部分、２０２，２０４……腕部、２０６……接触面、２０７，２１４，２１６……面、２０８……チャンネル、２０９……溶接、２１０……回転ヒンジ部、２１２……取付け力、２１８……矢印
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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