(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルジアンを主結晶相とする反射鏡用結晶化ガラスであって、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯ、ＴｉＯ2を主要構成成分とするとともにＬｉ2Ｏを修飾成分とし、前記主要構成成分であるＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯ、ＴｉＯ2の含有量は、ＳｉＯ2が３５〜５５重量％、Ａｌ2Ｏ3が７〜２５重量％、ＢａＯが１８〜３８重量％、ＴｉＯ2が８〜１５重量％の範囲にあり、前記修飾成分であるＬｉ2Ｏの含有量は０．０５〜１．０重量％の範囲にあることを特徴とする反射鏡用結晶化ガラス。
【請求項２】
セルジアンを主結晶相とする反射鏡用結晶化ガラスであって、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯ、ＴｉＯ2を主要構成成分とするとともにＬｉ2ＯおよびＫ2Ｏを修飾成分とし、前記主要構成成分であるＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯ、ＴｉＯ2の含有量は、ＳｉＯ2が３５〜５５重量％、Ａｌ2Ｏ3が７〜２５重量％、ＢａＯが１８〜３８重量％、ＴｉＯ2が８〜１５重量％の範囲にあり、前記修飾成分であるＬｉ2Ｏの含有量は０．０５〜１．０重量％、Ｋ2Ｏの含有量は１．５重量％以下の範囲にあることを特徴とする反射鏡用結晶化ガラス。
【請求項３】
請求項１または２に記載の反射鏡用結晶化ガラスであって、Ｎａ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、Ｂ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＺｎＯ、Ｂｉ2Ｏ3の群から選択される１または複数の成分を修飾成分として含有することを特徴とする反射鏡用結晶化ガラス。
【請求項４】
表面に薄膜状の反射膜が蒸着されて反射鏡を形成する基体であり、当該基体は請求項１，２または３に記載の反射鏡用結晶化ガラスにて構成されていることを特徴とする反射鏡用基体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射鏡用結晶化ガラス、および、当該反射鏡用結晶化ガラスを構成材料とする反射鏡用基体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
結晶化ガラスは、耐熱性に優れていることから、高温に曝される用途に使用される種々の機器部品を構成する材料として有用なものである。高温に曝される用途に使用される機器部品の代表例としては、光源ランプが取付けられて光源ランプとともに照明機器を形成する反射鏡があり、当該反射鏡においては、光源ランプの発熱に曝されて高温化されることから高い耐熱性が要求される。このため、当該反射鏡を構成する基体には、当然のことながら、高い耐熱性が要求される。従来の基体は、一般には、耐熱性に優れたパイレックス（登録商標）級ガラスを構成材料として形成されている。
【０００３】
ところで、近年、照明装置や映写機等においては、使用される光源ランプが高輝度化される傾向にあり、高輝度の光源ランプを採用する照明機器を構成する反射鏡には、一段と高い耐熱性が要求される。
【０００４】
かかる要求に対処すべく、特公平７−９２５２７号公報には、反射鏡を構成する基体を、β−スポジュウメン固溶体やβ−ユークリプタイト固溶体を主要構成成分とする結晶化ガラスにて構成することが提案されている。かかる結晶化ガラスは、低膨張結晶化ガラスとして知られているもので、耐熱性に優れていることから、高い耐熱性の反射鏡を構成することができる。
【０００５】
また、基体を他の結晶化ガラスで構成している例は、米国特許第５７８６２８６号明細書に提案されている。当該明細書にて提案されている基体は、この種形式の反射鏡の基体とは異なり、高熱には曝されることがない基体であって、ヘキサセルジアンを主結晶相とする、結晶化度が約５０％の結晶化ガラスで構成されていて、熱膨張係数α（×１０−7／℃）が７８〜８８と極めて高いものである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、これらの基体においては、その結晶化ガラスを構成するガラス原料は高い融点を有するものであって、基体を成形する際には、ガラス原料を１５００℃以上という高い温度で溶融しなければならない。また、基体の成形には、プレス成形、ロール成形、キャスト成形、ブロー成形等の成形方法が採られるが、これらの成形方法においては、ガラス原料を１５００℃以上に溶融して成形することから、使用する成形型の型面が酸化して早期に表面荒れが発生して成形型の寿命を縮めることになる。
【０００７】
特に、成形型の型面に表面荒れが発生すると、基体の表面に要求される設定された面粗度が得られない。このような状態で、成形される基体の表面を設定された面粗度に保持するには、成形型をその型面の表面荒れに起因して早期に交換しなければならず、交換のために準備する多数の成形型の費用や、成形型を交換するための交換作業の費用が大幅に増大することになる。
【０００８】
本出願人は、先に出願した特願２０００−２９９５０７号出願で、反射鏡の基体を、β−スポジュウメン固溶体やβ−ユークリプタイト固溶体からなる結晶化ガラスとは異なる成分を主要構成成分とし、当該結晶化ガラスと同等の耐熱性を有する結晶化ガラスにて構成した耐熱性に優れた反射鏡を提案している。
【０００９】
当該反射鏡は、結晶化ガラスからなる基体の表面に薄膜の反射膜を蒸着してなる反射鏡であり、基体がＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯを主要構成成分とするとともにＴｉＯ2を結晶核成分とするセルジアンを主結晶相とする結晶化ガラスであって、熱膨張係数α（×１０−7／℃）が３０〜４５の範囲にあるものである。当該反射鏡は、反射鏡を構成する基体の成形に起因する上記した諸問題を解消し得る、耐熱性に優れたものである。
【００１０】
本発明者等は、当該反射鏡の基体を構成する、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯ、ＴｉＯ2が主要構成成分であるセルジアンを主結晶相とする結晶化ガラスについてさらに検討した結果、当該結晶化ガラスの結晶の生成には、特定の修飾成分であるＬｉ2Ｏが大きく拘わっていて、ガラス中のＬｉ2Ｏの含有量によって、ヘキサセルジアンの結晶が皆無または極めて少なくて、結晶相が実質的にセルジアンのみからなる結晶化ガラスが得られるとの知見を得た。
【００１１】
本発明は、上記した知見に基づくもので、その目的は、耐熱性、機械的強度、光学特性に優れた機器部品を構成する材料として極めて有用なガラス質材料を提供し、かつ、当該ガラス質材料を構成材料とする高品質の反射鏡を構成し得る基体を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明は、反射鏡用結晶化ガラスに関するものであり、本発明に係る第１の反射鏡用結晶化ガラスは、セルジアンを主結晶相とする結晶化ガラスであって、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯ、ＴｉＯ2を主要構成成分とするとともにＬｉ2Ｏを修飾成分とし、前記主要構成成分であるＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯ、ＴｉＯ2の含有量は、ＳｉＯ2が３５〜５５重量％、Ａｌ2Ｏ3が７〜２５重量％、ＢａＯが１８〜３８重量％、ＴｉＯ2が８〜１５重量％の範囲にあり、前記修飾成分であるＬｉ2Ｏの含有量は０．０５〜１．０重量％の範囲にあることを特徴とするものである。
【００１３】
また、本発明に係る第２の反射鏡用結晶化ガラスは、セルジアンを主結晶相とする結晶化ガラスであって、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯ、ＴｉＯ2を主要構成成分とするとともにＬｉ2ＯおよびＫ2Ｏを修飾成分とし、前記主要構成成分であるＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯ、ＴｉＯ2の含有量は、ＳｉＯ2が３５〜５５重量％、Ａｌ2Ｏ3が７〜２５重量％、ＢａＯが１８〜３８重量％、ＴｉＯ2が８〜１５重量％の範囲にあり、前記修飾成分であるＬｉ2Ｏの含有量は０．０５〜１．０重量％、Ｋ2Ｏの含有量は１．５重量％以下の範囲にあることを特徴とするものである。
【００１４】
本発明に係るこれらの反射鏡用結晶化ガラスにおいては、Ｎａ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、Ｂ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＺｎＯ、Ｂｉ2Ｏ3の群から選択される１または複数の成分を修飾成分として含有する構成とすることができる。
【００１５】
また、本発明は反射鏡用基体に関するものであり、本発明に係る反射鏡用基体は、表面に薄膜状の反射膜が蒸着されて反射鏡を形成する基体であって、上記した本発明に係る第１の反射鏡用結晶化ガラスまたは第２の反射鏡用結晶化ガラスにて構成されていることを特徴とするものである。
【００１６】
本発明に係る反射鏡用基体においては、当該基体の構成材料である反射鏡用結晶化ガラスの結晶粒子の粒子径を０．１〜１μｍの範囲に設定することが好ましい。
【００１７】
また、本発明に係る反射鏡用基体は、曲げ強度が、室温においては１２５〜１５５ＭＰａ、３００℃においては１４５〜１７５ＭＰａ、６００℃においては１８０〜２２０ＭＰａの範囲にあり、かつ、弾性率が、室温においては８０〜８５ＧＰａ、３００℃においては７０〜７５ＧＰａ、６００℃においては３５〜４０ＧＰａの範囲にあることが好ましい。但し、前記曲げ強度は４点曲げ試験（ＪＩＳ１６０１）に基づく４点曲げ強度であり、前記弾性率は４点曲げ試験（ＪＩＳ１６０１）に基づく剛性率であり、以下に示す曲げ強度および弾性率は全て当該曲げ強度および当該弾性率を意味する。
【００１８】
本発明に係る反射鏡基体においては、当該基体を構成する反射鏡用結晶化ガラスを透過する光の最短波長は、厚み０．１ｍｍの反射鏡用結晶化ガラスにおいて８００ｎｍ以上であること、当該基体を構成する反射鏡用結晶化ガラスを透過する透過率が５０％の光の波長は、厚み０．１ｍｍの反射鏡用結晶化ガラスにおいて８５０ｎｍ以上であることが好ましい。
【００１９】
また、本発明に係る反射鏡用基体は、曲げ強度が、室温においては１２５〜１５５ＭＰａ、３００℃においては１４５〜１７５ＭＰａ、６００℃においては１８０〜２２０ＭＰａの範囲にあり、弾性率が、室温においては８０〜８５ＧＰａ、３００℃においては７０〜７５ＧＰａ、６００℃においては３５〜４０ＧＰａの範囲にあり、かつ、当該基体を構成する結晶化ガラスを透過する光の最短波長は、厚み０．１ｍｍの結晶化ガラスにおいて８００ｎｍ以上であり、当該基体を構成する結晶化ガラスを透過する透過率が５０％の光の波長は、厚み０．１ｍｍの結晶化ガラスにおいて８５０ｎｍ以上であることが好ましい。
【００２０】
また、本発明に係る反射鏡用基体は、上記した各特性を有する厚みが３〜６ｍｍのもので、当該基体を構成する反射鏡用結晶化ガラスを透過する光の最短波長は８５０ｎｍ以上であることが好ましく、また、当該基体を構成する反射鏡用結晶化ガラスを透過する光の最短波長は１０００ｎｍ以上であることが好ましい。
【００２１】
【発明の作用・効果】
本発明に係る反射鏡用結晶化ガラスは、その第１の反射鏡用結晶化ガラスにあっては、セルジアンを主結晶相とする結晶化ガラスであって、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯ、ＴｉＯ2を主要構成成分とするとともにＬｉ2Ｏを修飾成分とし、同修飾成分であるＬｉ2Ｏの含有量が０．０５〜１．０重量％の範囲にある。
【００２２】
また、本発明に係る反射鏡用結晶化ガラスは、その第２の反射鏡用結晶化ガラスにあっては、セルジアンを主結晶相とする結晶化ガラスであって、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯ、ＴｉＯ2を主要構成成分とするとともにＬｉ2ＯおよびＫ2Ｏを修飾成分とし、同修飾成分であるＬｉ2Ｏの含有量が０．０５〜１．０重量％、Ｋ2Ｏの含有量が１．５重量％以下の範囲にある。
【００２３】
本発明に係る第１の反射鏡用結晶化ガラスにおいては、修飾成分として必須不可欠としているＬｉ2Ｏが微量な範囲でガラスの溶解性を向上させ、セルジアン結晶の析出を促進し、かつ、セルジアン結晶の成長速度を増大するべく機能する。このため、当該反射鏡用結晶化ガラスのガラス原料は、これらの主要構成成分と修飾成分が相乗して１４５０℃以下という、上記した従来の結晶化ガラスのガラス原料の融点（１５００℃以上）に比較して著しく低い融点となるとともに、最低限８００℃という低い結晶化温度によって、実質的にセルジアン結晶相のみからなる結晶化ガラスとなる。また、本発明に係る第２の反射鏡用結晶化ガラスにおいては、Ｌｉ2Ｏとともに修飾成分として付加されているＫ2Ｏが微量な範囲で、Ｌｉ2Ｏの機能を補助すべく機能する。
【００２４】
従って、本発明に係るこれらの反射鏡用結晶化ガラスは、耐熱性、機械的強度、光学特性に優れた機器部品を構成する材料として極めて有用なガラス質材料であって、これらの各種の機器部品を構成する材料として好適である。当該反射鏡用結晶化ガラスは、例えば、ガラス質材料を構成材料とする反射鏡用基体を構成する材料として最適である。
【００２５】
また、当該反射鏡用結晶化ガラスを構成材料とする機器部品を成形する場合には、そのガラス原料の溶融温度を、従来のガラス原料の溶融温度（１５００℃以上）に比較して著しく低温度（１４５０℃以下）に設定することができる。このため、当該機器部品を成形する際には、使用する成形型の型面の高温加熱に起因する酸化を抑制し得て、型面の早期の表面荒れを防止することができ、これにより、成形型の寿命を向上させることができる。また、成形型の寿命の向上によって成形型の交換の頻度が低減し、交換用に準備する成形型の数を大幅に低減し得て、成形型の準備に要するコストや交換作業のコストを大幅に軽減することができる。
【００２６】
さらにまた、成形型の型面の表面荒れを抑制し得るため、成形の対象とする機器部品に要求されている表面の面粗度に対応して設定してある成形型の型面の面粗度を長期間維持することができ、要求されている表面面粗度の機器部品を容易に成形することができるとともに、適正な面粗度の機器部品を長期間にわたって安定した状態で成形できる利点がある。
【００２７】
本発明に係るこれらの反射鏡用結晶化ガラスは、表面に薄膜状の反射膜が蒸着されて反射鏡を形成する基体（反射鏡用基体）を構成する材料として最適であり、反射鏡用基体を構成する反射鏡用結晶化ガラスの結晶粒子の粒子径を０．１〜１μｍの範囲に設定することができる。かかる特性を有する反射鏡用基体は、機械的特性、熱的特性、光学的特性に一段と優れたものとなり、当該反射鏡用基体を構成部材とする反射鏡は、高輝度化されて発熱が著しい高機能化された光源ランプに対応する反射鏡として最適であって、反射鏡の長期間の使用を可能とする。
【００２８】
本発明に係る反射鏡用結晶化ガラスにおいては、ガラス原料の組成の選定および結晶化温度等を制御することにより、曲げ強度、弾性率、光透過性等の特性を異にする各種の特性の結晶化ガラスを構成することができる。これらの特性を有する結晶化ガラスから、反射鏡用基体として極めて優れた反射鏡用結晶化ガラスを選択して、下記に示す特性を有する高品質の反射鏡用基体を構成することができる。
【００２９】
すなわち、反射鏡用基体として、曲げ強度が、室温においては１２５〜１５５ＭＰａ、３００℃においては１４５〜１７５ＭＰａ、６００℃においては１８０〜２２０ＭＰａの範囲にあり、かつ、弾性率が、室温においては８０〜８５ＧＰａ、３００℃においては７０〜７５ＧＰａ、６００℃においては３５〜４０ＧＰａの範囲にある、機械的特性および熱的特性に優れた耐久性の高い反射鏡用基体を構成することができる。
【００３０】
また、反射鏡用基体として、基体を構成する反射鏡用結晶化ガラスを透過する光の最短波長が厚み０．１ｍｍの反射鏡用結晶化ガラスにおいて８００ｎｍ以上であり、また、基体を構成する反射鏡用結晶化ガラスを透過する透過率が５０％の光の波長が厚み０．１ｍｍの反射鏡用結晶化ガラスにおいて８５０ｎｍ以上である、光学特性に優れた反射鏡用基体を構成することができる。
【００３１】
また、反射鏡用基体として、以上の全ての特性を有する反射鏡用基体、すなわち、曲げ強度が、室温においては１２５〜１５５ＭＰａ、３００℃においては１４５〜１７５ＭＰａ、６００℃においては１８０〜２２０ＭＰａの範囲にあり、かつ、弾性率が、室温においては８０〜８５ＧＰａ、３００℃においては７０〜７５ＧＰａ、６００℃においては３５〜４０ＧＰａの範囲にあり、基体を構成する反射鏡用結晶化ガラスを透過する光の最短波長が厚み０．１ｍｍの反射鏡用結晶化ガラスにおいて８００ｎｍ以上であり、かつ、基体を構成する反射鏡用結晶化ガラスを透過する透過率が５０％の光の波長が厚み０．１ｍｍの反射鏡用結晶化ガラスにおいて８５０ｎｍ以上である、機械的特性、熱的特性、および光学特性に優れた反射鏡用基体を構成することができる。
【００３２】
以上の各反射鏡用基体の構成思想を総合すれば、最も好ましい反射鏡用基体は、上記した全ての特性を有する厚みが３〜６ｍｍのもので、当該基体を構成する反射鏡用結晶化ガラスを透過する光の最短波長が８５０ｎｍ以上であり、好適には、当該基体を構成する反射鏡用結晶化ガラスを透過する光の最短波長が１０００ｎｍ以上のものである。当該反射鏡用基体は、機械的特性、熱的特性、および光学特性に一層優れたものである。
【００３３】
【発明の実施の形態】
本発明に係る反射鏡用結晶化ガラスは、耐熱性、機械的強度、光学特性に優れた特性を有するもので、これらの特性を要求されている機器部品を構成する材料として極めて有用なガラス質材料である。以下では、本発明に係る反射鏡用結晶化ガラスを、簡略して結晶化ガラスを称する。
【００３４】
また、本発明に係る反射鏡用基体は、本発明に係る結晶化ガラスを構成材料とするもので、耐熱性、機械的強度、光学特性に優れた特性を有し、これらの特性を要求されている反射鏡を構成する基体として極めて有用なものである。
【００３５】
本発明に係る第１の結晶化ガラスは、セルジアンを主結晶相とする結晶化ガラスであって、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯ、ＴｉＯ2を主要構成成分とするとともにＬｉ2Ｏを修飾成分とし、前記主要成分であるＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯ、ＴｉＯ2の含有量は、ＳｉＯ2が３５〜５５重量％、Ａｌ2Ｏ3が７〜２５重量％、ＢａＯが１８〜３８重量％、ＴｉＯ2が８〜１５重量％の範囲にあり、前記修飾成分であるＬｉ2Ｏの含有量が０．０５〜１．０重量％の範囲にあるものである。
【００３６】
また、本発明に係る第２の結晶化ガラスは、セルジアンを主結晶相とする結晶化ガラスであって、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯ、ＴｉＯ2を主要構成成分とするとともにＬｉ2ＯおよびＫ2Ｏを修飾成分とし、前記主要成分であるＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯ、ＴｉＯ2の含有量は、ＳｉＯ2が３５〜５５重量％、Ａｌ2Ｏ3が７〜２５重量％、ＢａＯが１８〜３８重量％、ＴｉＯ2が８〜１５重量％の範囲にあり、前記修飾成分であるＬｉ2Ｏの含有量が０．０５〜１．０重量％、Ｋ2Ｏの含有量が１．５重量％以下の範囲にあるものである。
【００３７】
本発明者等は、光源ランプが取付けられて照明機器を構成する反射鏡の特性を検討するに当たり、優れた特性の反射鏡を構成するには、反射鏡用基体が耐熱性、機械的強度、光学特性等の種々の特性に優れていること、反射鏡用基体を構成する構成材料が耐熱性、機械的強度、光学特性等の特性に優れていることが必要であることに着目し、本発明においては、反射鏡用基体を構成する最適な構成材料について検討している。
【００３８】
本発明者等は、反射鏡用基体の構成材料としては結晶ガラスが最適であるとの認識の下、セルジアンを結晶相とする結晶化ガラスを構成するＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3−ＢａＯ系ガラスに着目して、ガラスの構成成分、結晶相、および、熱膨張係数αの関係を種々検討すべく実験を試みた。
【００３９】
図１のグラフは、本実験の結果を示すもので、各ガラスの構成成分の成分割合と、溶解性および結晶化性を示すグラフである。当該グラフは、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯを主要構成成分（１００ｗｔ％）とし、ＴｉＯ2を結晶核成分（１４ｗｔ％：外添加）とするガラス原料を、１５００℃で溶融した場合の結果であり、ガラス原料の１５００℃の溶融過程に着目したところ、１４５０℃〜１５００℃の範囲の溶融状態において、特異なゾーンとして、第１ゾーン（１）、第２ゾーン（２）、第３ゾーン（３）、第４ゾーン（４）、第５ゾーン（５）、第６ゾーン（６）および第７ゾーン（７）の７つのゾーンを確認した。
【００４０】
これらのゾーンのうち、第１ゾーン（１）は、ガラス原料の１４５０℃における溶解性はやや悪いが、結晶化性および耐熱性に良好な結果が期待し得る領域である。第２ゾーン（２）は、ガラス原料の溶解性が良好な領域である。第３ゾーン（３）は、ガラス原料の溶解性は良好であるが、ガラス原料が溶解と同時に飛散を生じる領域である。第４ゾーン（４）は、ガラス原料の溶解性は良好であるが、成形する際に即結晶化を生じる領域である。第５ゾーン（５）は、ガラス原料の溶解性は良好であるが、成形後の徐冷時に結晶化を生じる領域である。第６ゾーン（６）は、ガラス原料の１４５０℃での溶解性に難点がある領域である。第７ゾーン（７）は、ガラス原料の溶解性に難点があり、１４５０℃においてはガラス原料が溶解しない領域である。
【００４１】
これらのゾーンのうち、良好な結果を予測し得る第１ゾーン（１）および第２ゾーン（２）の成分割合のガラス原料について、さらに詳細に検討したところ、図２に示すグラフの結果を得ている。図２は、図１のグラフの第１ゾーン（１）および第２ゾーン（２）の領域における、ガラスの構成成分の成分割合の良否について検討したものである。この結果では、第２ゾーン（２）の領域の成分割合のガラス原料は、１４５０℃における溶解性は良好であるが、成形後の結晶化処理（加熱処理）においては、９００℃での加熱処理では成形物（基体に相当する成形物）が軟化変形して、厚肉の中央部が十分に結晶化しないことが判明した。
【００４２】
また、第１ゾーン（１）の領域の成分割合のガラス原料は、１４５０℃における溶解性には若干難点はあるが、１５００℃における溶解性には大きな問題はなく、第１ゾーン（１）の領域では、結晶化性および耐熱性が良好であることが判明した。第１ゾーン（１）の領域でのＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯの各成分の割合は、各成分の合計を１００ｗｔ％した場合、ＳｉＯ2は５０〜５５ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3は１５〜２０ｗｔ％、ＢａＯは３０〜３５ｗｔ％の範囲にある。
【００４３】
本発明者等は、上記した実験結果から、ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3−ＢａＯ系ガラスに着目して、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯおよびＴｉＯ2を基本組成とするガラス原料の融点を低減させること、および、当該ガラス原料を成形材料とする成形体の結晶化性、および、結晶後の耐熱性についてさらに検討したところ、下記のごとき種々の利点を確認した。
【００４４】
すなわち、上記した基本組成の成分を主要構成成分とし、かつ、少なくともＬｉ2Ｏを修飾成分とすれば、融点が１５００℃より著しく低い１４５０℃以下の融点のガラス原料を構成することができるものである。また、このような低融点のガラス原料を成形材料とするガラス成形体は、加熱処理により、セルジアンを主結晶相とする結晶化ガラスに変換でき、耐熱性の高い成形体を構成することができるものである。さらにまた、当該ガラス成形体は加熱温度、換言すれば結晶化温度を制御することにより、一層機械的特性および光学特性に優れた成形体を構成することができるものである。
【００４５】
修飾成分であるＬｉ2Ｏは、微量な範囲で、ガラスの溶解性を向上し、セルジアン結晶の析出を促進し、かつ、セルジアン結晶の成長速度を増大するべく機能する。この場合のＬｉ2Ｏの含有量は、０．０５〜１．０重量％であることが好ましい。Ｌｉ2Ｏの含有量が０．０５重量％未満では溶解性が悪化し、Ｌｉ2Ｏの含有量が１．０重量％を越えると成形時の失透性（光学特性）が悪化する。
【００４６】
また、上記した基本組成の成分を主要構成成分とし、かつ、少なくともＬｉ2ＯおよびＫ2Ｏを修飾成分とすれば、Ｌｉ2Ｏの上記した機能に加えて、修飾成分であるＫ2Ｏは、微量な範囲で、Ｌｉ2Ｏの機能を補助すべく機能する。この場合のＫ2Ｏの含有量は、１．５重量％以下であることが好ましい。Ｋ2Ｏの含有量が多い場合いは、セルジアン結晶以外にヘキサセルジアン結晶の析出が助長されて、耐熱性や機械的強度が悪化することから、Ｋ2Ｏの含有量は、１．５重量％以下の範囲のできるだけ少ない範囲である、０．０〜１．０重量％の範囲であることが好ましい。
【００４７】
このような成分組成を有するガラス原料は、融点が１５００℃より著しく低い１４５０℃以下の融点のガラス原料を構成することができる。また、このような低融点のガラス原料を成形材料とするガラス成形体は、加熱処理により、結晶相が実質的にセルジアンのみからなる結晶化ガラスに変換でき、耐熱性の高い成形体を構成することができる。また、ガラス成形体における結晶化ガラスの結晶粒子の粒子径を、０．１〜１μｍという極めて微粒子の結晶粒子とすることができて、ガラス成形体の反射特性を著しく向上させることができる。
【００４８】
本発明に係る結晶化ガラスにおいては、ガラス原料の組成の選定と合わせて、結晶化温度を例えば８００〜９００℃の範囲で適宜制御することにより、曲げ強度、弾性率、透過性等の特性を異にする各種の特性の結晶化ガラスを構成することができる。これらの特性を有する結晶化ガラスから、反射鏡用基体として極めて優れた結晶化ガラスを選択して、高品質の反射鏡用基体を構成することができる。なお、このような成分組成を有するガラス原料には、修飾成分として、Ｌｉ2Ｏ、Ｋ2Ｏの他に、Ｎａ2Ｏ、Ｂ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＺｎＯおよびＢｉ2Ｏ3の群から選択される１または複数の成分を追加することができる。
【００４９】
このような特殊な成分組成のガラス原料は、通常のガラス原料を用いたガラスの成形と同様に、溶融状態で成形型に供給されて、プレス成形、ロール成形、キャスト成形、ブロー成形等の成形手段により、基体と同一形状のガラス成形体に成形される。ガラス成形体の成形時におけるガラス原料の溶融温度は、ガラス原料の融点の関係から、１４５０℃以下に設定することができる。
【００５０】
当該ガラス原料の溶融温度では、ガラス成形体の成形工程での成形型の型面の酸化の助長を抑制し得て、成形型の型面の表面荒れを大幅に抑制することができる。このため、ガラス成形体に要求される表面粗度に適合した成形型の型面の面粗度を長期間維持し得て、成形されるガラス成形体の表面の面粗度を、ガラス成形体に要求される面粗度、例えば、反射鏡用基体に要求される面粗度、０．０３μｍ以下という面粗度に形成することができる。但し、面粗度は、ＪＩＳＢ０６０１の「中心線平均粗さＲａ」を意味する。
【００５１】
反射鏡用基体は、上記した組成成分のガラス原料を溶融して成形されたガラス成形体を熱処理して、ガラス成形体を構成するガラスを結晶化することにより形成される。ガラス成形体の結晶化処理は加熱炉で行い、一般的には、１００℃〜３００℃／ｈｒの昇温速度でガラスの変形温度以下の温度、例えば、６００℃〜７５０℃に昇温してこの温度で１〜３時間熱処理し、引き続き、８００℃〜１１００℃に昇温してこの温度範囲で１〜３時間熱処理をする。後者の熱処理が主たる結晶化処理であり、主たる結晶化処理の温度を結晶化温度と称する。
【００５２】
かかる熱処理により、ガラス成形体を構成するガラスにおいては、その内部で微細で均一な結晶が生成されて、セルジアンを主結晶相とし、ヘキサセルジアンの結晶相が皆無または皆無に近い、実質的にセルジアン結晶相のみからなる結晶化ガラスに変換され、ガラス成形体は実質的にセルジアン結晶相のみからなる基体に変換される。ガラス成形体におけるＬｉ2Ｏ、または、Ｌｉ2ＯおよびＫ2Ｏの含有量を適正に設定することにより、また、付与すべき熱処理温度（結晶化温度）を適正に設定することにより、ヘキサセルジアン結晶相が存在しないセルジアン結晶相のみからなる結晶化ガラスに変換できる。
【００５３】
当該基体（反射鏡用基体）には、通常の手段で、その表面に薄膜多層の反射膜が蒸着されて反射鏡に形成される。形成された反射鏡は、高い反射率で散乱光を反射するとともに赤外線を透過し、その際、結晶化ガラスの結晶構造が透過しようとする赤外線を散乱させて、反射鏡の背面側に配設される部品の温度上昇を抑制する。
【００５４】
本発明に係る反射鏡用基体は、実質的にセルジアンを結晶相とする結晶化ガラスにて構成されていて、高い耐熱性を有するため、反射鏡は耐熱衝撃性に優れ、高い温度での使用が可能な優れた反射鏡となる。また、当該基体を構成する結晶化ガラスを、結晶粒子が０．１〜１．０μｍという微小の結晶粒子に形成することができて、反射率を一層向上させることができる。
【００５５】
得られる高品質の第１の反射鏡用基体としては、曲げ強度が、室温においては１２５〜１５５ＭＰａ、３００℃においては１４５〜１７５ＭＰａ、６００℃においては１８０〜２２０ＭＰａの範囲にあり、かつ、弾性率が、室温においては８０〜８５ＧＰａ、３００℃においては７０〜７５ＧＰａ、６００℃においては３５〜４０ＧＰａの範囲にある、機械的特性および熱的特性に優れた耐久性の高い反射鏡用基体を挙げることができる。
【００５６】
また、得られる高品質の第２の反射鏡用基体としては、基体を構成する結晶化ガラスを透過する光の最短波長が厚み０．１ｍｍの結晶化ガラスにおいて８００ｎｍ以上であり、かつ、基体を構成する結晶化ガラスを透過する透過率が５０％の光の波長が厚み０．１ｍｍの結晶化ガラスにおいて８５０ｎｍ以上である、光学特性に優れた反射鏡用基体を挙げることができる。
【００５７】
さらにまた、得られる高品質の第３の反射鏡用基体としては、曲げ強度が、室温においては１２５〜１５５ＭＰａ、３００℃においては１４５〜１７５ＭＰａ、６００℃においては１８０〜２２０ＭＰａの範囲にあり、かつ、弾性率が、室温においては８０〜８５ＧＰａ、３００℃においては７０〜７５ＧＰａ、６００℃においては３５〜４０ＧＰａの範囲にあり、基体を構成する結晶化ガラスを透過する光の最短波長が厚み０．１ｍｍの結晶化ガラスにおいて８００ｎｍ以上であり、かつ、基体を構成する結晶化ガラスを透過する透過率が５０％の光の波長が厚み０．１ｍｍの結晶化ガラスにおいて８５０ｎｍ以上である、機械的特性、熱的特性、および光学的特性に優れた反射鏡用基体を挙げることができる。
【００５８】
反射鏡用基体の最適な形態は、上記した曲げ強度および弾性率を有する厚みが３〜６ｍｍのもので、基体を構成する結晶化ガラスを透過する光の最短波長が８５０ｎｍ、好ましくは１０００ｎｍのものである。本発明に係る反射鏡用基体においては、ガラス原料の選定および結晶化温度の制御により、当該形態の反射鏡用基体を容易に構成することができる。
【００５９】
なお、反射鏡用基体を構成するガラス原料としては、融点が１４５０℃以下のものを選択することができる。この場合には、ガラス成形体を成形する際のガラス原料の溶融温度を１４５０℃以下という、通常のガラス原料の溶融温度である１５００℃に比較して著しく低温度に設定することができる。
【００６０】
このため、当該基体を成形する際に使用する成形型の型面は、１５００℃以上の高温に曝されることがなくて、成形型の型面に対する高温加熱に起因する酸化の助長を抑制し得て、型面の表面荒れを抑制することができる。これにより、成形型の寿命が向上して、成形型の交換用の成形型を多数準備することに費やされる費用や、成形型の交換作業の費用を大幅に低減することができる。さらには、成形型の型面の表面荒れを抑制し得るため、当該基体に要求されている表面の面粗度（０．０３μｍ以下）に対応して設定される成形型の型面の面粗度を長期間維持することができて、面粗度が０．０３μｍ以下である基体を長期にわたって成形できる利点がある。
【００６１】
当該基体を構成する結晶化ガラスの組成成分については、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯ、ＴｉＯ2は結晶化ガラスの基本構造を形成するもので、ＳｉＯ2は３５〜５５重量％、Ａｌ2Ｏ3は７〜２５重量％、ＢａＯは１８〜３８重量％、ＴｉＯ2は８〜１５重量％の範囲にあることが好ましく、また、不可欠な修飾成分であるＬｉ2Ｏは０．０５〜１．０重量％であり、他の修飾成分であるＫ2Ｏの存在は好ましい。
【００６２】
この場合、修飾成分であるＫ2Ｏは、結晶化助剤として機能するものであるが、その含有量によっては、セルジアンの結晶のみならずヘキサセルジアンの結晶をも析出するおそれがある。このため、基体を構成する結晶化ガラスが実質的にセルジアンの結晶相のみからなる構成とするためには、ガラス中のＫ2Ｏの含有量を適切に設定することが必要である。
【００６３】
ヘキサセルジアンの結晶の析出を極力抑制するには、ガラス中のＫ2Ｏの含有量は１．５重量％以下である。好ましくは１重量％以下であり、一層好ましくは０．５重量％以下である。但し、Ｋ2Ｏは、低温度でのセルジアンの結晶を析出する機能を有することから、少なくとも５０ｐｐｍのＫ2Ｏを含有していることが好ましい。
【００６４】
なお、その他の好ましい修飾成分としては、ＺｎＯ、Ｂｉ2Ｏ3、Ｎａ2Ｏ、Ｓｂ2Ｏ3等を挙げることができる。ＺｎＯは、ガラスの熱膨張率を低下させ化学的耐久性を向上すべく機能するもので、０．５〜５重量％含有していることが好ましい。Ｂｉ2Ｏ3は、ガラスの溶解、清澄化を容易にし、熱膨張率に影響を及ぼすことなくガラスの粘性を低下すべく機能するもので、０．５〜７重量％含有していることが好ましい。
【００６５】
Ｎａ2Ｏは、ガラスの溶解、清澄化を容易にするが、化学的耐久性を低下させ、熱膨張率を増加すべく機能するもので、０．５〜３重量％含有していることが好ましい。Ｓｂ2Ｏ3は、低温で硝酸塩から酸素を奪ってＳｂ2Ｏ5となって、溶融ガラスの清澄段階でＳｂ2Ｏ5中のＯ2を放出して溶解ガラスを清澄化すべく機能するもので、０．１〜１重量％含有していることが好ましい。
【００６６】
当該基体を構成する結晶化ガラスを構成する結晶相は、実質的にセルジアンの結晶のみからなるもので、その結晶の粒子径（粒子の大きさ）は、好ましくは０．１〜１μｍであり、より好ましくは０．１〜０．５μｍである。結晶の粒子径が０．１μｍを下回ると、当該基体の反射鏡の構成材料としての強度低下をきたし、また、結晶の粒子径が１μｍを上回ると、基体を反射鏡に形成した場合の反射光の反射強度低下をきたす。また、結晶の粒子径が０．５μｍの値は、反射光のうちの短波長である青色の散乱が始まる時点である。
【００６７】
本発明に係る基体を構成部材とする反射鏡においては、基体を構成する結晶化ガラスが上記したごとき構成成分であって、実質的にセルジアンの結晶相のみからなる結晶化ガラスであって耐熱性が高く、結晶化ガラスの結晶粒子を０．１〜１．０μｍの微粒子状に設定することができる。
【００６８】
このため、冒頭に記載の本出願人の先願に係る反射鏡に比較して、機械的強度が向上し、結晶粒子サイズの微小化および均一化に起因して表面粗さが一層向上して研磨加工の低減を図ることができ、実質的にセルジアンのみからなる結晶相に起因して、耐熱性および耐熱特性が向上する。特に、熱応力に対する耐衝撃性が向上するとともに、可視光透過率の低減等の光学特性の適正化を図ることができる。
【００６９】
図３および図４の各グラフは、後述する実施例の第３実験および第４実験の実験結果の一部をまとめたものである。これらのグラフのうち、図３のグラフは、ガラス成形体における構成成分Ｋ2Ｏが０．５重量％以下の場合の、構成成分Ｌｉ2Ｏの含有量と、結晶化温度と、結晶相の３者の関係を示すグラフ、図４のグラフは、ガラス成形体における構成成分Ｌｉ2Ｏの含有量が一定（０．４重量％）の場合の、構成成分Ｋ2Ｏの含有量と、結晶化温度と、結晶相の３者の関係を示すグラフである。
【００７０】
これらのグラフにおいては、ａ領域、ｂ領域、ｃ領域およびｄ領域の４つの領域に区画されているが、ａ領域はセルジアン結晶の単相領域、ｂ領域はセルジアン結晶とヘキサセルジアン結晶との混晶領域で、セルジアン結晶＞ヘキサセルジアン結晶の領域、ｃ領域はセルジアン結晶とヘキサセルジアン結晶との混晶領域で、セルジアン結晶＜ヘキサセルジアン結晶の領域、ｄ領域はヘキサセルジアン結晶の単相領域を示している。
【００７１】
図３に示すグラフの結果からは、ガラス成形体の構成成分中のＫ2Ｏが０．５重量％以下から零の範囲内においては、構成成分Ｌｉ2Ｏの含有量を適正に設定し、かつ、結晶化温度を適正に設定することにより、ガラス成形体をセルジアン結晶相のみからなる結晶化ガラスに変換することができることを確認することができる。また、図４に示すグラフの結果からは、ガラス成形体の構成成分中のＬｉ2Ｏを一定量に規定した場合においては、構成成分Ｋ2Ｏの含有量を適正に設定し、かつ、結晶化温度を適正に設定することにより、ガラス成形体をセルジアン結晶相のみからなる結晶化ガラスに変換することができることを確認することができる。これらの構成成分Ｌｉ2Ｏ、Ｋ2Ｏの含有量、結晶化温度の設定に当たっては、ガラス原料の溶解性を考慮することが必要である。
【００７２】
図５、図６および図７は、第３実験で作成した結晶化ガラスからなる椀形状の一ガラス成形体の内側表面を示す電子顕微鏡写真（複写図）である、また、図８および図９は、第３実験で作成した結晶化ガラスからなる椀形状の他のガラス成形体における内側表面を示す電子顕微鏡写真（複写図）である。
【００７３】
これらの電子顕微鏡写真のうち、図５は、第３実験のＮＯ．２０のガラス成形体（Ｌｉ2Ｏが０．４１重量％、Ｋ2Ｏが０．４９重量％で、結晶化温度が８００℃）のもので、椀殻形状の開口側における内周面の表面形状および椀殻形状の中心側における内周面の表面形状に対応するものである。図６は、第３実験のＮＯ．２１のガラス成形体（Ｌｉ2Ｏが０．４１重量％、Ｋ2Ｏが０．４９重量％で、結晶化温度が８５０℃）のもので、椀殻形状の開口側の内周面の表面形状および椀殻形状の中心側の内周面の表面形状に対応するものである。図７は、第３実験のＮＯ．２２のガラス成形体（Ｌｉ2Ｏが０．４１重量％、Ｋ2Ｏが０．４９重量％で、結晶化温度が９００℃）のもので、椀殻形状の開口側における内周面の表面形状および椀殻形状の中心側における内周面の表面形状に対応するものである。
【００７４】
また、図８および図９は、第３実験のＮＯ．２５のガラス成形体（Ｌｉ2Ｏが０．００重量％、Ｋ2Ｏが０．００重量％で、結晶化温度が９００℃）のもので、椀殻形状の開口側における内周面の表面形状および椀殻形状の中心側における内周面の表面形状に対応するものである。但し、図８は倍率が１０００倍、図９は３０００倍である。
【００７５】
これら各電子顕微鏡写真に表示されている符号、×１．０ｋは１０００倍率、×３．０ｋは３０００倍率、×５．０ｋは５０００倍率を示し、２０ｋＶ，２５ｋＶは加速電圧を示し、１０μｍ，５０μｍは白線の寸法尺度を示している。これらの寸法尺度を基準にすれば、ガラス成形体に構成成分として適当量のＬｉ2Ｏ、Ｋ2Ｏを含有している場合には、ガラス成形体の内側表面を構成する結晶の粒子は、Ｌｉ2Ｏ、Ｋ2Ｏを含有していないガラス成形体の内側表面を構成する結晶の粒子に比較して極めて小さい。前者のガラス成形体では、結晶粒子は０．１〜１．０μｍの範囲にあり、後者のガラス成形体では、結晶粒子は１．０μｍよりはるかに大きいことが確認される。
【００７６】
図１０は、結晶化ガラスからなる板状のガラス成形体の分光特性を示すグラフであり、第３実験のＮＯ．２０（結晶化温度８００℃）、ＮＯ．２１（８５０℃）、ＮＯ．２２（結晶化温度９００℃）のガラス成形体と同一の条件で成形しかつ結晶化させた板状で、肉厚の異なるガラス成形体についてのガラス成形体の肉厚（ｍｍ）と、透過する光の最短波長（ｎｍ）と、結晶化温度の関係を示すグラフである。
【００７７】
図１０に示すグラフから、結晶化温度を制御することにより、透過する光の最短波長が異なるガラス成形体を得ることができること、結晶化温度を高く設定するほど、透過する光の最短波長が長いガラス成形体を得ることができることが確認される。結晶化ガラスのガラス成形体を反射鏡用の基体として採用する場合には、基体からの可視光の漏れが皆無または皆無に近いほど好ましい。このような好ましい光学的特性を有する反射鏡用基体を構成する結晶化ガラスは、厚みが０．１ｍｍにおける結晶化ガラスを透過する光の最短波長が８００ｎｍ以上のものであり、当該結晶化ガラスはガラス成形体の結晶化温度を制御することにより容易に得られるものである。
【００７８】
また、図１１および図１２のグラフは、結晶化ガラスからなる板状のガラス成形体の分光特性を示すグラフであり、第３実験のＮＯ．２１（８５０℃）、ＮＯ．２２（結晶化温度９００℃）のガラス成形体と同一の条件で成形しかつ結晶化させた板状で、肉厚０．１ｍｍおよび５．０ｍｍのガラス成形体における光の各波長（ｎｍ）における透過率（％）の関係を示すグラフである。
【００７９】
図１１および図１２に示すグラフから、結晶化温度を制御することにより、光の波長の透過率が異なるガラス成形体を得ることができること、結晶化温度を高く設定するほど、光の透過率の低いガラス成形体を得ることができることが確認される。結晶化ガラスのガラス成形体を反射鏡用基体として採用する場合には、基体からの可視光の漏れが皆無または皆無に近いほど好ましい。このような好ましい光学的特性を有する反射鏡用基体を構成する結晶化ガラスは、厚みが０．１ｍｍにおける結晶化ガラスを透過する透過率が５０％の光の波長が８５０ｎｍ以上のものであり、当該結晶化ガラスはガラス成形体の結晶化温度を制御することにより容易に得られるものである。
【００８０】
ガラス成形体の結晶化温度を制御することにより、光学的特性の異なる種々の結晶化ガラスのガラス成形体を得ることができるが、これにより、曲げ強度（ＭＰａ）および弾性率（ＧＰａ）の異なるガラス成形体を得ることができることも確認している。結晶化ガラスのガラス成形体を反射鏡用基体として採用する場合には、基体は光源ランプにより相当高い温度に長時間曝される。この場合においても基体は高い機械的強度を保持し続けることが好ましい。このような好ましい機械的特性および熱的特性を有する反射鏡用基体は、下記の曲げ強度および弾性率を有するものである。
【００８１】
すなわち、曲げ強度については、室温においては１２５〜１５５ＭＰａ、３００℃においては１４５〜１７５ＭＰａ、６００℃においては１８０〜２２０ＭＰａの範囲の曲げ強度を有し、弾性率については、室温においては８０〜８５ＧＰａ、３００℃においては７０〜７５ＧＰａ、６００℃においては３５〜４０ＧＰａの範囲の弾性率を有するものである。このような好適な反射鏡用基体は、結晶化温度を制御することにより容易に得られるものである。
【００８２】
【実施例】
本実施例では、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯ、ＴｉＯ2を主要構成成分とするとともに、Ｌｉ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、その他の成分を修飾成分とする各種のガラス原料を調製して、これらのガラス原料を使用して結晶化ガラスを生成する第１実験、第２実験、第３実験、第４実験を試みて、得られたガラスおよび結晶化ガラスのガラス特性、含有するＬｉ2Ｏ、Ｋ2Ｏの含有量、結晶化温度、および、（セルジアン／ヘキサセルジアン）結晶量比の３者の関係を確認した。また、得られた結晶化ガラスのうちから、実質的にセルジアンの結晶相からなる結晶化ガラスと、実質的にヘキサセルジアンの結晶相からなる結晶化ガラスを選択して、その表面（反射面）の微構造の観察を行うとともに、機械的特性および光学的特性を測定した。
【００８３】
（第１実験）：第１実験では、主要構成成分であるＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯ、ＴｉＯ2の成分割合をほぼ一定にし、かつ、修飾成分中のＢ2Ｏ3、ＺｎＯ、Ｌｉ2Ｏの成分割合をほぼ一定にするとともにＳｂ2Ｏ3の成分割合を零にし、かつ、修飾成分中のＫ2Ｏ、Ｎａ2Ｏの成分割合を適宜変更したガラス原料を調製して、これらの各ガラス原料からガラスを生成するとともに、得られた各ガラスを８００℃，８５０℃，９００℃でそれぞれ熱処理（結晶化処理）して結晶化ガラスを生成した。生成した各ガラスについては、ガラス特性（溶解性、Ｔｇ，Ｔｄ）および熱膨張係数（α）を測定し、各結晶化ガラスについては、各結晶化処理温度でのガラス特性であるセルジアン（Ｃｅ）、ヘキサセルジアン（ＨＣｅ）の結晶の量および熱膨張係数（α）を測定した。
【００８４】
本実験で採用した各ガラス原料の構成成分を表１に示すとともに、各ガラス原料にて生成された各ガラスおよび各結晶化ガラスの特性を表２に示す。但し、表２に示すガラス特性における溶解性は２段階評価した結果であって、○印は良好な状態を、×は不良（わずかに未溶解物有り）な状態を意味する。また、ガラス特性におけるＴｇはガラス転移点（℃）、Ｔｄはガラス屈伏点（℃）を意味する。また、結晶化ガラス特性におけるＣｅ、ＨＣｅは、それぞれＸ線回折測定でのセルジアン、ヘキサセルジアンの第１ピークのピーク強度（ｃｐｓ）を意味する。なお、これらの各ピーク強度は、セルジアン、ヘキサセルジアンの結晶割合を直接的に示すものである。
【００８５】
【表１】
0004033665.tif 000002
【００８６】
【表２】
0004033665.tif 000003
【００８７】
（第２実験）：第２実験では、主要構成成分であるＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯ、ＴｉＯ2の成分割合をほぼ一定とするとともに、修飾成分中のＢ2Ｏ3、ＺｎＯ、Ｌｉ2Ｏ、Ｓｂ2Ｏ3の成分割合をほぼ一定し、修飾成分中のＫ2Ｏ、Ｎａ2Ｏの成分割合を変更したガラス原料を調製して、これらの各ガラス原料からガラスを生成するとともに、得られた各ガラスを８００℃，８５０℃，９００℃でそれぞれ熱処理（結晶化処理）して、結晶化ガラスを生成した。生成した各ガラスについては、ガラス特性（溶解性、Ｔｇ，Ｔｄ）および熱膨張係数（α）を測定し、各結晶化ガラスについては、各結晶化温度でのガラス特性であるセルジアン（Ｃｅ）、ヘキサセルジアン（ＨＣｅ）の結晶の量および熱膨張係数（α）を測定した。
【００８８】
本実験で採用した各ガラス原料の構成成分を表３に示すとともに、各ガラス原料にて生成された各ガラスおよび各結晶化ガラスの特性を表４に示す。なお、表４中の各符号および文言は、表２に示す各符号および文言と同一の意味を示す。
【００８９】
【表３】
0004033665.tif 000004
【００９０】
【表４】
0004033665.tif 000005
【００９１】
（第３実験）：第３実験では、組成成分であるＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯ、ＴｉＯ2、ＺｎＯ、Ｂ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3の成分割合をほぼ一定にして、Ｐ2Ｏ5、Ｂｉ2Ｏ3の成分割合を零とし、Ｋ2Ｏを零または０．４９重量％とし、かつ、Ｌｉ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、Ｎａ2Ｏの成分割合を適宜変更したガラス原料を調製して、これらの各ガラス原料から反射鏡用基板である椀形状のガラス成形体を成形するとともに、得られた各ガラス成形体を各種の温度でそれぞれ熱処理（結晶化処理）して、各ガラス成形体を構成するガラスを結晶化ガラスに変換して反射鏡用の基体（結晶化ガラスからなるガラス成形体）を構成した。
【００９２】
得られたガラス成形体の、結晶化温度と結晶相の割合の関係を算出して、この結果を、表５および表６に示すとともに、Ｋ2Ｏの含有量を０．５重量％未満とした場合の、Ｌｉ2Ｏの含有量と結晶化温度と結晶相の割合の関係を図３のグラフに示す。また、これらのガラス成形体の一部のものについては、内側の表面の電子顕微鏡写真を撮って、その複写図を図５〜図９に示す。
【００９３】
【表５】
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【００９４】
【表６】
0004033665.tif 000007
【００９５】
（第４実験）：第４実験では、組成成分であるＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯ、ＴｉＯ2、ＺｎＯ、Ｂ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3の成分割合をほぼ一定にし、Ｐ2Ｏ5、Ｂｉ2Ｏ3の成分割合を零とし、Ｌｉ2Ｏの成分割合を約０．４重量％の一定とし、かつ、Ｋ2Ｏ、Ｎａ2Ｏの成分割合を適宜変更したガラス原料を調製して、これらの各ガラス原料から反射鏡用基板である椀形状のガラス成形体を成形するとともに、得られた各ガラス成形体を各種の温度でそれぞれ熱処理（結晶化処理）して、各ガラス成形体を構成するガラスを結晶化ガラスに変換して反射鏡用の基体（結晶化ガラスからなるガラス成形体）を構成した。得られたガラス成形体の、結晶化温度と結晶相の割合の関係を算出して、この結果を、表７および表８に示すとともに、Ｌｉ2Ｏの含有量を一定とした場合の、Ｋ2Ｏの含有量と結晶化温度と結晶相の割合の関係を図４のグラフに示す。
【００９６】
【表７】
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【００９７】
【表８】
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【００９８】
（第５実験）：第５実験では、第３実験のＮＯ．２０（結晶化温度８００℃）、ＮＯ．２１（結晶化温度８５０℃）、ＮＯ．２２（結晶化温度９００℃）のガラス成形体と同一の条件で成形しかつ結晶化させた平板状（幅４ｍｍで長さ４０ｍｍ）で異なる厚みのガラス成形体について、機械的特性、熱的特性、および光学的特性についての検討を行った。機械的特性および熱的特性については、結晶化温度８５０℃で結晶化させたガラス成形体（肉厚３ｍｍ）を４点曲げ試験（ＪＩＳ１６０１）に付して、各温度での曲げ強度および弾性率を測定した。得られた結果を表９に示す。
【００９９】
【表９】
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【０１００】
また、光学的特性については、結晶化温度８００℃、８５０℃、９００℃で結晶化させた各ガラス成形体（肉厚０．１５〜５ｍｍ）と、これを透過する光の最短波長との関係（第１の光学的特性）を測定するとともに、光の各波長における透過率の関係（第２の光学的特性）を測定した。得られた結果を、第１の光学的特性については表１０と図１０のグラフに示すとともに、第２の光学的特性については図１１および図１２のグラフに示す。
【０１０１】
【表１０】
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【図面の簡単な説明】
【図１】ガラス原料を１５００℃で溶融した場合の、各ガラス原料の成分割合と、溶解性および結晶化性を示すグラフである。
【図２】図１のグラフにおける第１ゾーンおよび第２ゾーンの領域でのガラス原料の成分割合における良否の検討結果を示すグラフである。
【図３】ガラス成形体における構成成分Ｋ2Ｏが０．５重量％以下の場合の、構成成分Ｌｉ2Ｏの含有量と、結晶化温度と、結晶相の３者の関係を示すグラフである。
【図４】ガラス成形体における構成成分Ｌｉ2Ｏの含有量が一定（０．４重量％）の場合の、構成成分Ｋ2Ｏの含有量と、結晶化温度と、結晶相の３者の関係を示すグラフである。
【図５】結晶化ガラスからなる一成形体の内側表面の電子顕微鏡写真を複写した複写図である。
【図６】同成形体で結晶化温度を異にする場合の内側表面の電子顕微鏡写真を複写した複写図である。
【図７】同成形体で結晶化温度をさらに異にする場合の内側表面の電子顕微鏡写真を複写した複写図である。
【図８】異なる組成成分の結晶化ガラスからなる他の成形体における内側表面の電子顕微鏡写真を複写した複写図である。
【図９】異なる組成成分の結晶化ガラスからなる他の成形体の内側表面における電子顕微鏡写真で、異なる倍率の写真を複写した複写図である。
【図１０】結晶化ガラスからなる一成形体における透過する光の最短波長と肉厚の関係を示すグラフである。
【図１１】結晶化ガラスからなる一成形体における透過する光の波長と透過率の関係を示すグラフである。
【図１２】結晶化ガラスからなる一成形体における透過する光の波長と透過率の関係を示すグラフである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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