(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
開放型磁気共鳴イメージング（ＭＲＩ）システムで使用するためのマグネット・アセンブリ・システムであって、
静磁場を生成させるための第１のアセンブリ（１４）及び第２のアセンブリ（２６）であって、該第１のアセンブリ（１４）及び第２のアセンブリ（２６）が、前記生成される静磁場の方向において、長手方向に離間した関係で互いに反対の位置にあり、
各アセンブリ（１４、２６）は、超伝導主コイルと、磁化可能な磁極片（１８、３０）とを備え、各アセンブリ（１４、２６）の前記磁極片の大部分は前記主コイルの半径方向内側に配置されている、前記第１のアセンブリ（１４）及び第２のアセンブリ（２６）と、
前記第１のアセンブリ（１４）及び第２のアセンブリ（２６）が、前記生成される静磁場の方向において、長手方向に離間した関係を維持するために前記第１と第２のアセンブリの間に取り付られている、複数の支持ポスト（４２）であって、
該複数の支持ポスト（４２）は、前記第１と第２のアセンブリの間に開放撮像ボリュームを維持すると共にさらに構造的支持を提供し、
該支持ポストの各々は前記第１のアセンブリ（１４）及び第２のアセンブリ（２６）の磁極片（１８、３０）の間に取り付けられ、前記撮像ボリュームの半径方向外側に配置された第１の支持要素（３１０）を備えている複数の支持ポスト（４２）と、
を備え、
前記支持ポストの各々は、前記第１の支持要素の背面の半径方向外側に取り付けられ、前記第１の支持要素を剛性化して、撮像中の振動を減少させる第２の支持要素（３２０）を備え、該第２の支持要素（３２０）は、外部ポスト境界を半径方向外側に変位させる、マグネット・アセンブリ・システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、全般的には、開放型磁気共鳴イメージング（ＭＲＩ）のマグネット・システムに関し、さらに詳細には、開放型マグネット・アセンブリ内に包含される支持構造に関する。
【０００２】
【発明の背景】
開放型ＭＲＩマグネットは一般に、厚い円盤形状をした２つの磁極片を用いて製作されている。水平開放型のマグネットでは、その磁極片は上側の水平極と下側の水平極を有するように配列させる。撮像対象はこれらの極の間のギャップに挿入する。別の配置では、磁極片（「２重ドーナツ」と呼ぶことが多い）からなる面を有しており、患者は磁極片の中心にある穴（「ドーナツ穴」）を通るように挿入している。この配置では、医師その他の介助者がこのドーナツの間に立つことができ、これにより患者にアクセスすることができる。
【０００３】
典型的には、磁極片間には強い磁気力が存在しており、また水平マグネット配置の場合では、その上側磁極片はかなりの重さがあり支持しなければならない。磁極片の間には強靱でありかつ剛性がなかり大きい支持ポストがあると都合がよい。スキャナの開放性を高めるためには、そのポストをできるだけ狭い角度領域に押し込めることが望ましい。しかし、狭いポストは振動を起こしやすく、振動が起こると撮像に悪影響を及ぼす。
【０００４】
０．７テスラ（Ｔ）やこれ以上の高磁場のマグネット・システムでは、支持ポストの振動が撮像中に高速スピンエコーのシーケンスにより検出されることがある。この影響は、ＭＲＩシステムの機械系による共鳴を発生させるような撮像傾斜の周期的印加に起因する。支持ポストが若干曲がると、撮像ボリューム内の磁場が乱される。
【０００５】
開放型ＭＲＩシステムにおいて、望ましいシステムの開放性を維持しながら撮像に悪影響を及ぼす振動を減少させるようなマグネット配置が必要である。
【特許文献１】
米国特許第６３４０８８８号
【０００６】
【課題を解決するための手段】
第１の態様では、開放型磁気共鳴イメージング（ＭＲＩ）システムで使用するためのマグネット・アセンブリ・システムであって、長手方向に離間した関係で互いに反対の位置にある第１のアセンブリと第２のアセンブリを備えるマグネット・アセンブリ・システムを提供する。この第１及び第２のアセンブリによって撮像の際に使用する静磁場を発生させている。さらに、第１と第２のアセンブリの間には、第１と第２のアセンブリの間の開放撮像ボリュームを維持しさらに構造的支持を提供するための複数の支持ポストを設けている。この支持ポストの各々は、第１の支持要素と、撮像ボリュームから離れた表面上でこの第１の支持要素に取り付けた第２の支持要素と、を備えている。
【０００７】
第２の態様では、開放型ＭＲＩシステムの振動の減少方法であって、撮像ボリュームから離れた表面上で支持ポストの各々に第２の支持要素を取り付けることを含む振動減少方法を提供する。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明の特徴及び利点は、本発明の以下の詳細な説明を添付の図面と共に読むことによって明らかとなろう。
【０００９】
ここで図面を参照すると、図面全体にわたって同じ参照番号は同じ要素を表しており、図１〜２は本発明のマグネット１０の実施の一形態を表している。ある用途では、マグネット１０は、医学的診断に使用する磁気共鳴イメージング（ＭＲＩ）システム（図示せず）向けの静磁場を提供する。本発明の記載にあたり、あるマグネットが１つのコイル、１つの磁極片、１つのデュワーなど１つの構成要素を含むように記述している場合、そのマグネットには少なくとも１つのコイル、少なくとも１つの磁極片、少なくとも１つのデュワー、などを含むことを意味していると理解すべきであることに留意されたい。
【００１０】
第１の実施形態では、超伝導マグネット１０は、長手方向に延びる軸１２及び第１のアセンブリ１４を含む。この第１のアセンブリ１４は、超伝導主コイル１６及び磁化可能な磁極片１８を含む。この主コイル１６は、軸１２と概して同軸状に整列し、第１の主電流を第１の方向に流し、かつ軸１２から第１の放射方向距離に配置される。この第１の方向は、電流方向の僅かな長手方向成分を無視すると、軸１２の周りの時計廻りあるいは反時計廻りのいずれかの円周方向と規定される。磁極片１８は軸１２と概して同軸状に整列し、かつ第１のアセンブリ１４の主コイル１６から離間している。第１のアセンブリ１４の磁極片１８の大部分は、第１のアセンブリ１４の主コイル１６の放射方向内側に配置される。第１のアセンブリ１４の磁極片１８は軸１２から放射方向外側に第１の放射方向距離の少なくとも７５パーセントに等しい距離だけ延びている。マグネット１０の動作時には、第１のアセンブリ１４の磁極片１８は第１のアセンブリ１４の主コイル１６の温度と概して等しい温度を有する。第１のアセンブリ１４はテーブル・マグネット（図示せず）として単独で用いられることがあり、あるいは（図に示すような）開放型マグネットの２つのアセンブリの一方になることがあることに留意されたい。マグネット１０の動作時には、第１のアセンブリ１４の主コイル１６及び磁極片１８はクライオクーラのコールドヘッド（図示せず）及び／または極低温流体その他により冷却される。
【００１１】
第２の実施形態では、超伝導マグネット１０は長手方向に延びる軸１２及び第１のアセンブリ１４を含む。この第１のアセンブリ１４は、超伝導主コイル１６、磁化可能な磁極片１８及び極低温流体用デュワー２０を含む。この超伝導主コイル１６は、軸１２と概して同軸状に整列し、かつ第１の主電流を第１の方向に流している。この磁極片１８は、軸１２と概して同軸状に整列し、主コイル１６から離間しており、かつ表面部分２２を有する。磁極片１８の大部分は、主コイル１６の放射方向内側に配置される。デュワー２０は主コイル１６を囲繞し、かつ磁極片１８の表面部分２２によりその一部が画定されるような内部表面２４を有する。
【００１２】
具体的なマグネット設計では、当業者には周知のように、その超伝導コイルで使用している超伝導体の臨界電流密度を超えないようにマグネットの撮像ボリューム内に大きな磁場強度を実現するために、第１のアセンブリ１４内に追加的な超伝導主コイル（図示せず）を必要とすることがある。超伝導主コイル１６用の超伝導体の一例はニオブ・チタンである。磁極片１８用の素材の一例は鉄である。
【００１３】
一例では、マグネット１０はまた、第１のアセンブリ１４から長手方向に離間させた第２のアセンブリ２６を含む。この第２のアセンブリ２６は、超伝導主コイル２８、磁化可能な磁極片３０及び極低温流体用デュワー３２を含む。超伝導主コイル２８は、軸１２と概して同軸状に整列し、かつ第１の主電流を上述の第１の方向に流している。磁極片３０は、軸１２と概して同軸状に整列し、主コイル２８から離間しており、かつ表面部分３４を有する。この磁極片３０の大部分は、主コイル２８の放射方向内側に配置される。デュワー３２は、主コイル２８を囲繞し、かつ磁極片３０の表面部分３４によりその一部が画定されるような内部表面３６を有する。図１及び２に示す例では、その磁極片１８はデュワー２０の内部表面２４の画定に寄与していない別の表面部分２３を含み、またその磁極片３０はデュワー３２の内部表面３６の画定に寄与していない別の表面部分３５を含む。
【００１４】
ある構造では、マグネット１０はまた、磁極片１８に取り付けられると共に第１のアセンブリ１４の主コイル１６を支持する概して磁化されないコイルサポート３８を含み、またさらに磁極片３０に取り付けられると共に第２のアセンブリ２６の主コイル２８を支持する概して磁化されないコイルサポート４０を含む。ここで「磁化されない」とは、非磁性のステンレス鋼と同程度にしか磁化できないことを意味する。コイルサポート３８及び４０用の素材の一例は、非磁性のステンレス鋼またはガラス繊維である。
【００１５】
あるマグネット設計では、マグネット１０はまた、第１のアセンブリ１４の磁極片１８に構造上取り付けた（例えば、溶着させた）第１の端部を有し、第２のアセンブリ２６の磁極片３０に構造上取り付けた（例えば、溶着させた）第２の端部を有し、かつ表面部分４４を有するような、概して磁化されない（第１の）支持ポスト４２を含む。この（第１の）支持ポスト４２用の素材の一例は非磁性のステンレス鋼である。この設計では、マグネット１０はさらに、第１のアセンブリ１４のデュワー２０及び第２のアセンブリ２６のデュワー３２と流体連通する（第１の）デュワー・コンジット４６を含む。この（第１の）デュワー・コンジット４６は（第１の）支持ポスト４２の表面部分４４によりその一部が画定されるような内部表面４８を有する。ここで、プレート・アセンブリ５０は、第１のアセンブリ１４のデュワー２０の内部表面の一部を画定している第１の部分５２と、第２のアセンブリ２６のデュワー３２の内部表面の一部を画定している第２の部分５４と、（第１の）デュワー・コンジット４６の内部表面の一部を画定している第３の部分５６とを含むような内部表面を有する。この例では、マグネット１０はさらに、熱シールド５８及び真空容器６０を含む。熱シールド５８は、第１及び第２のアセンブリ１４及び２６に関する磁極片１８及び３０とデュワー２０及び３２、（第１の）支持ポスト４２、並びに（第１の）デュワー・コンジット４６から離間していると共に、これらを全体的に囲繞している。真空容器６０は、熱シールド５８から離間させると共にこれをハーメチックに囲繞している。プレート・アセンブリ５０、熱シールド５８及び真空容器６０用の素材の一例は非磁性のステンレス鋼である。この例において、上述した「離間」は、従来のスペーサ６２を用いて達成できることに留意されたい。
【００１６】
動作時には、マグネット１０は、第１及び第２のアセンブリ１４及び２６のデュワー２０及び３２内、並びに（第１の）デュワー・コンジット４６内に配置された極低温流体６４を含むことになる。極低温流体の一例は液体ヘリウムである。クライオクーラのコールドヘッド（図示せず）は、コールドヘッドの第１段を熱シールド５８と接触させ、かつコールドヘッドの第２段をデュワー２０及び３２の最高点近くでデュワーの無効空間内に貫通させることにより、気化した液体ヘリウムを再凝縮させるために使用することができる。本発明のマグネットの別の実施形態（図示せず）では、第１及び第２のアセンブリ１４及び２６はそれぞれ、自己完結型のデュワー、熱シールド及び真空容器を有することになる。この際、支持ポストにより真空容器を相互接続させるか、あるいは２つのアセンブリ１４及び２６は「Ｃ」字形アーム、床及び／または壁に対するボルト留め、またはその他の手段によって離隔させた関係で支持されることになる。図示しないこの実施形態では、その極低温流体６４は（第１の）デュワー・コンジット４６がないため、第１及び第２のアセンブリ１４及び２６のデュワー２０及び３２内のみに配置されることになる。図１及び２に示す実施形態では、マグネット１０はまた、全体として軸１２上で第１アセンブリ１４及び第２のアセンブリ２６の間の長手方向に等距離に位置させた中心を有する磁気共鳴撮像ボリューム６６を含む。撮像ボリューム６６の形状の１つは球形である。第２のアセンブリ２６は通常、軸１２と垂直でありかつ第１アセンブリ１４と第２のアセンブリ２６間で全体として等距離に配置される面（図示せず）に関して、全体として第１のアセンブリ１４の鏡像となることに留意されたい。
【００１７】
第３の例示的な実施形態では、開放型超伝導マグネット１０は長手方向に延びる軸１２と、第１のアセンブリ１４と、第１のアセンブリ１４と長手方向に離間した第２のアセンブリ２６とを含む。第１のアセンブリ１４は、超伝導主コイル１６と、超伝導シールドコイル６８と、磁化可能であり概して円筒形の磁極片１８と、極低温流体用デュワー２０とを含む。超伝導主コイル１６は、軸１２と概して同軸状に整列し、かつ第１の主電流を第１の方向に流している。超伝導シールドコイル６８は、軸１２と概して同軸状に整列し、主コイル１６から長手方向外側に配置され、かつ第１のシールド電流を上述の第１の方向と反対方向に流している。磁極片１８は、軸１２と概して同軸状に整列しかつこれと交差し、主コイル１６及びシールドコイル６８から離間しており、かつ表面部分２２を有する。磁極片１８の大部分は、長手方向で主コイル１６とシールドコイル６８の間にあり、かつこれらの放射方向内側に配置されている。デュワー２０は主コイル１６及びシールドコイル６８を囲繞し、かつ磁極片１８の表面部分２２によりその一部が画定されるような内部表面２４を有する。第２のアセンブリ２６は、超伝導主コイル２８と、超伝導シールドコイル７０と、磁化可能であり概して円筒形の磁極片３０と、極低温流体用デュワー３２とを含む。超伝導主コイル２８は、軸１２と概して同軸状に整列し、かつ第２の主電流を上述の第１の方向に流している。超伝導シールドコイル７０は、軸１２と概して同軸状に整列し、主コイル２８より長手方向外側に配置され、かつ第２のシールド電流を上述の反対方向に流している。磁極片３０は、軸１２と概して同軸状に整列しかつこれと交差し、主コイル２８及びシールドコイル７０から離間しており、かつ表面部分３４を有する。磁極片３０の大部分は、長手方向で主コイル２８とシールドコイル７０の間にあり、かつこれらの放射方向内側に配置させている。デュワー３２は主コイル２８及びシールドコイル７０を囲繞し、かつ磁極片３０の表面部分３４によりその一部が画定されるような内部表面３６を有する。
【００１８】
ある構造では、その開放型マグネット１０はまた、磁極片１８に取り付けられると共に第１のアセンブリ１４の主コイル１６及びシールドコイル６８を支持する概して磁化されないコイルサポート３８及び７２を含み、またさらに磁極片３０に取り付けられると共に第２のアセンブリ２６の主コイル２８及びシールドコイル７０を支持する概して磁化されないコイルサポート４０及び７４を含む。あるマグネット設計では、その開放型マグネット１０はまた、その各々が第１のアセンブリ１４の磁極片１８に構造上取り付けられた第１の端部を有し、その各々が第２のアセンブリ２６の磁極片３０に構造上取り付けられた第２の端部を有し、かつその各々が表面部分４４を有するような、概して磁化されない第１の支持ポスト４２及び第２の支持ポスト（図示しないが第１の支持ポスト４２と同一である）を含む。この設計では、その開放型マグネット１０はさらに、それぞれ第１のアセンブリ１４のデュワー２０及び第２のアセンブリ２６のデュワー３２と流体連通する第１のデュワー・コンジット４６及び第２のデュワー・コンジット（図示しないが第１のデュワー・コンジット４６と同一である）を含む。第１のデュワー・コンジット４６は、第１の支持ポスト４２の表面部分４４によりその一部が画定されるような内部表面４８を有し、また第２のデュワー・コンジットは、第２の支持ポストの表面部分によりその一部が画定されるような内部表面を有する。この例では、その開放型マグネット１０はさらに、熱シールド５８及び真空容器６０を含む。熱シールド５８は、第１及び第２のアセンブリ１４及び２６の磁極片１８及び３０とデュワー２０及び３２、第１の支持ポスト４２及び第２の支持ポスト、並びに第１のデュワー・コンジット４６及び第２のデュワー・コンジットから離間させると共に全体としてこれらを囲繞している。真空容器６０は、熱シールド５８から離間させると共にこれをハーメチックに囲繞している。第１の支持ポスト４２及び第１のデュワー・コンジット４６は真空容器６０の第１の部分７６の内部に配置されること、第２の支持ポスト及び第２のデュワー・コンジットはこの真空容器の第２の部分７８の内部に配置されること、並びに真空容器６０のこれら第１及び第２の部分７６及び７８は図１に示していることに留意されたい。動作時には、マグネット１０は、上述の極低温流体６４及び磁気共鳴撮像ボリューム（単に「撮像ボリューム」とも言う）６６を含むことになる。ある構造では、第１の支持ポスト４２及び第２の支持ポストは（図１に示す真空容器６０の第１及び第２の部分７６及び７８を囲繞することから分かるように）軸１２の周りに概ね１１０〜１５０度の角度離隔をもたせ、かつ撮像ボリューム６６から放射方向外側に配置させている。一例では、概ね１３０度の角度離隔を設けて、撮像ボリューム６６内に患者（図示せず）を都合よく配置できる。
【００１９】
ある用途では、その開放型マグネット１０はその撮像ボリューム６６内に概ね１．４〜１．５テスラの磁場を有する。開放型マグネット１０がある向きにある場合、その真空容器６０の第１及び第２の部分７６及び７８は（図１に示すように）水平方向に整列させ、また患者は通常、撮像ボリューム６６内で立った姿勢をとることになる。開放型マグネット１０が別の向きにある場合（図示せず）には、真空容器６０の第１及び第２の部分７６及び７８は垂直方向に整列させ、また患者は通常、撮像ボリューム６６内で患者用寝台に横たえられることになる。磁極片１８及び３０によりコイル１６、２８、６８及び７０、並びにデュワー２０及び３２を含むマグネット１０の主構造サポートが提供されること、並びに磁極片１８及び３０は撮像ボリューム６６内により均一な磁場を提供するような形状とする（例えば、リング状ステップを有する）ことに留意されたい。磁場不均一性に対する別の補正を、当業者の技術範囲内にあるような能動型シミングにより達成させることがある。図面に示す例において、マグネット１０は、アセンブリ１４及び２６のそれぞれについて一対の分離させた平坦なシールド型傾斜／ＲＦコイルに関して真空容器６０内で撮像ボリューム６６に対面した１つのくぼみ８０を有するように設計されること、その際、磁極片１８及び３０の磁極面は、当業者であれば理解するように、積層させないことにも留意されたい。
【００２０】
ここで図３を参照すると、本発明の実施形態を適用できる支持ポスト構成の実施の一形態の断面図を表している。この実施形態では、開放型マグネット・システムの支持ポスト（図１では第１の支持ポスト４２で示しており、また第２の支持ポストは表示されていないが第１の支持ポストと同一である）に関する代替的な実施形態を提供している。さらに図３を参照すると、図１のマグネット・アセンブリ・システムは、長手方向に離間した関係で互いに反対の位置にある第１のアセンブリ１４と第２のアセンブリ２６を備えている。第１及び第２のアセンブリは、ＭＲイメージングで使用するための静磁場を発生させている。図３では第１のアセンブリ１４のみを図示しているが、第２のアセンブリ２６も同一であることを理解されたい。第１のアセンブリ１４の一方の表面上（並びに、第２のアセンブリ２６の相対する表面上）には、典型的には、支持ポスト４２などの構成要素を取り付けるためのリング３００が存在する。リング３００は典型的には、第１のアセンブリ１４及び第２のアセンブリ２６の外側表面で、かつ撮像ボリューム６６に面した表面に付けられている。このマグネット・システムはさらに、支持ポスト４２（並びに、図３の断面図では図示していないが第２のポスト）を備えている。本発明の実施の一形態では、支持ポスト４２は、図１及び２を参照しながら記載したような支持ポストである第１の支持要素３１０と、撮像ボリューム６６から離れた表面上（以下、「背面（ｂａｃｋ）」という）で、第１の支持要素３１０に取り付けられている第２の支持要素３２０と、を備えている。図３に示す実施形態では、第２の支持要素３２０及び第１の支持要素３１０によって支持ポスト４２を形成している。第２の支持要素３２０は、第１の支持要素３１０に溶着させると共に、さらに、支持を高めるためにリング３００にも溶着させ（すなわち、同様に取り付け）ている。この実施形態は振動を減少させるように既存の開放型ＭＲＩシステムを修正するために有用であることを理解されたい。
【００２１】
上述した支持ポストは振動を減少させるように構成されている。支持ポストにかかる曲げモーメントＭにより誘導される曲率１／Ｒは、断面の慣性モーメントＩ並びに弾性係数Ｅに依存し、式Ｍ＝ＥＩ／Ｒで与えられる。高磁場開放型の幾何学構成では、支持ポストが曲がることにより、磁極の一番上は撮像で検出される磁場変動を生成させるような角度θ（ｔｈｅｔａ）だけ偏向を受ける。支持ポストの中立軸はある距離（典型的な構成では、３０ｃｍ）だけ中心からずれているため、この角度により第１のアセンブリ１４間と第２のアセンブリ２６間のそれぞれのギャップ間の中心距離の振動振幅に影響を及ぼす。ポストの長さｄ、曲率半径Ｒ及び角度は、ｄ＝Ｒθの関係をもつ。図３の支持構造を利用することによって、第２の支持要素３２０の追加的な材料により外部ポスト境界はｙ方向でＭＲＩシステムの背面に向かって変位を受ける。加えた撮像傾斜によって磁極にかかるトルク、磁極内部の慣性モーメント、及びポストのばね定数（ｓｐｒｉｎｇ  ｃｏｎｓｔａｎｔ）の組み合わせにより３０Ｈｚの共鳴が生じる。これによりその慣性モーメントが１０倍大きくなりポストが剛性化（ｓｔｉｆｆｅｎ）される。さらに、これにより共振周波数が上昇し振動の振幅が小さくなる。
【００２２】
開放型ＭＲＩにおいて振動を減少させるための方法に関する実施の一形態は、上述のように、支持ポストの各々に撮像ボリュームから離れた表面上で第２の支持要素を取り付けることを含む。この方法は、振動及び振動の影響を低下させるための一修正形態として既存の開放型ＭＲＩシステムに適用可能であることを理解されたい。
【００２３】
本発明の好ましい実施形態について図示すると共に本明細書に記載してきたが、こうした実施形態が例としてのみ提供されていることは明らかであろう。当業者であれば、ここに示した本発明を逸脱することなく、多くの変形形態、変更形態及び置換形態を生じさせるであろう。したがって、本発明は添付の特許請求の範囲の精神及び趣旨によってのみ限定させようとする意図である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のマグネットの実施の一形態の斜視図である。
【図２】図１のマグネットを図１の線２−２に沿って切った断面図である。
【図３】本発明の実施形態を適用できる支持ポストの断面図である。
【符号の説明】
１０  開放型マグネット
１２  長手方向に延びる軸
１４  第１のアセンブリ
１６  超伝導主コイル
１８  磁極片
２０  デュワー
２２  磁極片の表面部分
２３  磁極片の別の表面部分
２４  デュワーの内部表面
２６  第２のアセンブリ
２８  超伝導主コイル
３０  磁極片
３２  デュワー
３４  磁極片の表面部分
３５  磁極片の別の表面部分
３６  デュワーの内部表面
３８  超伝導主コイルのコイルサポート
４０  超伝導主コイルのコイルサポート
４２  支持ポスト
４４  支持ポストの表面部分
４６  デュワー・コンジット
４８  デュワー・コンジットの内部表面
５０  プレート・アセンブリ
５２  プレート・アセンブリ内部表面の第１の部分
５４  プレート・アセンブリ内部表面の第２の部分
５６  プレート・アセンブリ内部表面の第３の部分
５８  熱シールド
６０  真空容器
６２  スペーサ
６４  極低温流体
６６  撮像ボリューム
６８  超伝導シールドコイル
７０  超伝導シールドコイル
７２  シールドコイル用コイルサポート
７４  シールドコイル用コイルサポート
７６  真空容器の第１の部分
７８  真空容器の第２の部分
８０  くぼみ
３００  リング
３１０  第１の支持要素
３２０  第２の支持要素
【図１】
0004152737.tif 000002
【図２】
0004152737.tif 000003
【図３】
0004152737.tif 000004