(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学的異方性を有するパターンを所定周期で配列してなるホログラム回折格子素子の製造方法であって、
光重合性液晶モノマーと、非重合性材料とを含有する組成物層を形成し、
前記光重合性液晶モノマーを同一方向に向けて配向させた状態で前記組成物層に対してパターン露光を行うことにより、当該光重合性液晶モノマーを重合させてなる前記パターンを形成し、
前記パターン露光による重合が終了した後、前記組成物層全体に紫外線を一括照射する
ことを特徴とするホログラム回折格子素子の製造方法。
【請求項２】
光学的異方性を有するパターンを所定周期で配列してなるホログラム回折格子素子の製造方法であって、
光重合性液晶モノマーと、前記光重合性液晶モノマーとは異なる他の重合性モノマーとを含有する組成物層を形成し、
前記光重合性液晶モノマーを同一方向に向けて配向させた状態で前記組成物層に対してパターン露光を行うことにより、当該光重合性液晶モノマーを重合させてなる前記パターンを形成し、
前記パターン露光による重合が終了した後、前記組成物層全体に紫外線を一括照射する
ことを特徴とするホログラム回折格子素子の製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載のホログラム回折格子素子の製造方法において、
前記他の重合性モノマーは、前記光重合性液晶モノマーとは異なる重合過程で重合する
ことを特徴とするホログラム回折格子素子の製造方法。
【請求項４】
請求項１または３に記載のホログラム回折格子素子の製造方法において、
前記紫外線を一括照射する前に熱処理を行う
ことを特徴とするホログラム回折格子素子の製造方法。
【請求項５】
請求項２に記載のホログラム回折格子素子の製造方法において、
前記他の重合性モノマーは、前記光重合性液晶モノマーと同様の重合過程で重合する
ことを特徴とする記載のホログラム回折格子素子の製造方法。
【請求項６】
光学的異方性を有するパターンを所定周期で配列してなるホログラム回折格子素子の製造方法であって、
光重合性液晶モノマーと、添加剤とを含有する組成物層を形成し、
前記光重合性液晶モノマーを同一方向に向けて配向させた状態で前記組成物層に対してパターン露光を行うことにより、当該光重合性液晶モノマーを重合させてなる前記パターンを形成し、
前記パターン露光による重合が終了した後、前記組成物層全体に紫外線を一括照射する
ことを特徴とするホログラム回折格子素子の製造方法。
【請求項７】
請求項１，２，６のいずれかに記載のホログラム回折格子素子の製造方法において、
前記パターン露光は、干渉波形を用いて行われる
ことを特徴とするホログラム回折格子素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ホログラム回折格子素子およびその製造方法に関し、特には偏光分離素子として好適に用いることができるホログラム回折格子素子とその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在、液晶パネル（液晶ライトバルブ）を光スイッチング素子として利用した投射型ディスプレイ、いわゆる液晶プロジェクタの商品化が進んでいる。このうち特に、解像度や光利用効率に優れた反射型液晶パネル（すなわち反射型液晶ライトバルブ）を用いた反射型プロジェクタの開発が活発化している。この反射型液晶プロジェクタにおいては、反射型液晶ライトバルブが偏光変換素子として作用するため、その光学系には偏光ビームスプリッター（以下ＰＢＳ）などの偏光分離素子が必須となる。
【０００３】
ところが、通常、偏光分離素子として用いられているＰＢＳは、全可視域にわたる消光比が必ずしも十分ではなく、しかもガラスの立方体であるためバルキーで重いという難点がある。そこで、光重合相分離を用いたホログラフィック高分子分散型液晶素子（Holographic Polymer Dispersed Liquid Crystals、以下Ｈ−ＰＤＬＣ）を応用したホログラム回折格子を偏光分離素子として用いることが提案されている。
【０００４】
このＨ−ＰＤＬＣは、図８（１）に示すように、非重合性液晶１０１（以下、液晶）と等方相しか示さない光重合性モノマー１０２との混合相からなるホログラム記録材料層１０３に、ホログラム回折格子を露光記録（パターン露光）することによって形成される。そして、パターン露光の際に生じる光重合相分離により、図８（２）に示すように、液晶（１０１）を殆ど含まない高分子過多層１０５と、液晶が析出したドロプレット１０６が高分子中に分散された状態の液晶過多層１０７とからなる多層構造が構成され、液晶過多層１０７と高分子過多層１０５との屈折率差により、ある角度より入射した特定波長の光を回折させる回折格子として構成されるのである。
【０００５】
この方法により作製したＨ−ＰＤＬＣ素子は、薄い透明基板間にホログラム記録材料を挟み込んだ簡単な構造であるため、ＰＢＳに比較して非常に薄くて軽い。また、露光記録する回折格子により回折させる波長、角度などが任意に制御できる特徴も兼ね備えている。さらに、ホログラム記録材料と透明基板の屈折率を一致させることにより、回折光、非回折光ともにほとんどロスのない明るい光学素子となる。
【０００６】
このようなＨ−ＰＤＬＣ素子においては、ある種の光重合性モノマーと液晶との組み合わせを用いることにより、液晶過多層１０７内で液晶が回折格子の層構造に対してある角度を持って（例えば液晶分子長軸が垂直もしくは平行など）配列するという現象が起こる。
【０００７】
そして、液晶分子長軸が回折格子層に対して垂直に配列している場合には、回折格子層に対して垂直な面内で傾いた方向からの入射光のうち、その傾斜面と平行な偏光（Ｐ偏光）は、液晶の異常光屈折率と高分子過多層の屈折率の差により回折が起こる。また、この場合、上記傾斜面に対して垂直な偏光（Ｓ偏光）は、液晶の常光屈折率と高分子過多層の屈折率の差により回折が起こる。一方、液晶分子長軸が回折格子層に対して平行に配列している場合は、この逆の回折現象が生じる。
【０００８】
したがって、液晶の異常光屈折率または常光屈折率のいずれか一方と、高分子過多層の屈折率とを一致させれば、一方の偏光に対して回折は起こらず、Ｐ偏光とＳ偏光によりコントラスト比の高い偏光分離を実現できる。この場合、実効的な液晶の常光屈折率と異常光屈折率との差、つまり光学的異方性の大きい方が回折格子の屈折率変調が大きくなり、ひいては偏光分離度が高くなるため、このホログラム回折格子における光学的異方性の大きさ（複屈折）がＨ−ＰＤＬＣ素子の偏光分離度を決定する重要な要素となる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、Ｈ−ＰＤＬＣ素子においては、光重合性モノマーと液晶とを適宜選択して組み合わせることにより、液晶過多層内の液晶を回折格子に対して配列させることができるとはいえ、その複屈折は液晶材料固有の値に対して数パーセントから数十パーセントと非常に小さく、実現できるＰ偏光とＳ偏光の回折効率の比つまり偏光分離度は不十分であった。
【００１０】
これは、光重合性モノマーが重合する際、液晶過多層において高分子中の微小な球形空孔にドロップレット状に液晶が閉じ込められ、その閉じこめられた壁面に対して液晶が揃うため一様な液晶配向とならず、実効的な複屈折が、液晶の材料に固有の値に対して小さくなってしまうためである。（参考”Liquid Crystal Dispersions”, Paul S. Drzaic, World Scientific Publishing Co.）
【００１１】
また、このような液晶の配向を示す光重合性モノマーと液晶との組み合わせは非常に限られており、光重合性モノマーの屈折率と液晶モノマーの屈折率と一致させる場合に、光重合性モノマーの選択肢がほとんどない点も問題であった。
【００１２】
そこで本発明は、コントラスト比の高い偏光分離素子として用いることが可能なホログラム回折格子素子およびその製造方法を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
このような課題を解決するための本発明のホログラム回折格子素子は、光学的異方性を有するパターンを所定周期で配列してなるホログラム回折格子素子において、前記パターンが、単一相で構成され、かつその内部において液晶相を示す分子構造部分が同一方向に配向していることを特徴としている。
【００１４】
このような構成のホログラム回折格子素子では、所定周期で配列形成されたパターンが同一相で構成されているため、このパターン内で同一方向に配向している分子構造部分は、パターンの側壁に沿って配向することになる。このため、パターン内においてドロップレット状に分散された相分離部分内で液晶分子が配向している場合と比較し、パターン全体においての液晶相を示す分子構造部分の配向状態が良好になり、パターンにおける光学的異方性（複屈折）がより大きくなる。
【００１５】
また、本発明のホログラム回折格子素子の第１の製造方法は、先ず、光重合性液晶モノマーを含有する組成物層を形成し、次いで組成物層に対してパターン露光を行うことにより当該光重合性液晶モノマーを重合させてなる前記パターンを形成する。この際、光重合性液晶モノマーを配向させた状態でパターン露光を行う。このパターン露光は、干渉波形を用いて行っても良い。
【００１６】
さらに本発明のホログラム回折格子素子の第２の製造方法は、先ず、液晶モノマーを含有する組成物層を形成し、次いで液晶モノマーを配向させた状態で当該液晶モノマーを重合させることによって組成物層を硬化させる。そして、硬化させた組成物層を、パターニングすることによって前記パターンを形成する。
【００１７】
このような第１および第２の製造方法では、液晶モノマー（光重合成モノマー）を配向させた状態で重合させているため、これらの液晶モノマーは、露光部内、つまりパターン内において相分離することなく、配向状態を保ったまま重合されるため、重合によって形成されたパターン内においては液晶相を示す分子構造部分が良好な配向状態に保たれる。このため、光学的異方性（複屈折）が大きいパターンで構成されたホログラム回折格子素子が得られる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明のホログラム回折格子素子およびその製造方法の実施の形態を説明する。
【００１９】
＜ホログラム回折格子素子＞
図１は、本発明のホログラム回折格子素子を概念的に示す断面概略構成図である。
【００２０】
この図に示すホログラム回折格子素子１は、偏光分離素子として用いることを目的するものであり、光学的異方性を有するパターン３を所定周期で配列形成してなる。このパターン３間には、光学的等方性を有する材料が充填された等方性材料層５が配置されている。
【００２１】
パターン３は、単一相として構成されており、この内部において液晶相を示す分子構造部分（以下液晶コア部と記す）７が同一方向に配向しており、配向した状態で固定されていることとする。ここで液晶コア部７とは、単一相で構成されたパターン３内において、光学的異方性を示す骨格部分であることとする。また、単一相で構成されたパターン３内においては、液晶コア部７が同一方向に配向していれば、液晶コア部７のみが連続して結合することで固定されて単一相からなるパターン３が構成されていても良く、また液晶コア部７間に他の分子が挟まれる状態で結合することで固定されて単一相からなるパターンが構成されていても良い。ただし、パターン３内には、液晶相が示される程度に十分な配合比で液晶コア部７が含有されていることとする。
【００２２】
尚、液晶コア部７の配向方向は、パターン３の配列方向に対して垂直または平行であることとする。
【００２３】
このようなパターン３は、可視光領域の光（概ね波長４００ｎｍ〜７００ｎｍ）を偏光分離することを目的として、その波長と同程度の周期ｐで配置されていることとする。そして、このパターン３の周期ｐ方向の幅は、周期ｐの半分程度であることとするが、これに限定されることはない。また、パターン３の高さｈは数μｍから１０μｍ程度であり、長さ（図面奥行き方向）は所望の長さに設定されることとする。
【００２４】
そして、パターン３間に配置される等方性材料層５は、光学的等方性を示していれば良く、好ましくは液晶コア部７の異常光屈折率または常光屈折率のいずれか一方と、略同一の屈折率を有していることとする。また、この等方性材料層５に光学的異方性を示す分子構造（例えば液晶分子構造部分）が含有されていたとしても、これらの構造分子が配向状態に無ければ良い。
【００２５】
このようなホログラム回折格子素子１は、ここでの図示を省略した基板上に形成されていても良く、また対向配置された基板間に挟持されていても良い。
【００２６】
このような構成のホログラム回折格子素子１では、所定周期ｐで配列形成されたパターン３が同一相で構成されているため、このパターン３内で同一方向に配向している液晶コア部７は、パターン３の側壁に沿って配向することになる。このため、例えばパターン内においてドロップレット状に分散された相分離部分内で液晶分子が配向している場合と比較し、パターン３全体においての液晶コア部７の配向状態が良好になり、パターン３における光学的異方性（複屈折）がより大きくなる。したがって、このホログラム回折格子素子１は、屈折率変調が大きい、すなわち偏光分離度が十分に高いものとなる。
【００２７】
尚、パターン３間には、必ずしも上述した等方性材料層５が設けられている必要はなく、パターン３間に大気やその他の気体が充填されていても良い。この場合、パターン３とその間の部分との屈折率差が大きく回折効率の良好なホログラム回折格子素子が得られる。尚、偏光分離度を決めるＰ波およびＳ波に対するパターン３と等方性材料層５との屈折率差による回折効率は、H.kogelnik,Bell Syst.Tech.J.,48,2909(1969)に記述されるCoupled wave theoryにより精度良く計算することができる。
【００２８】
＜ホログラム回折格子素子の製造方法−１＞
次に、このようなホログラム回折格子素子の製造方法の実施形態を、図２および必要に応じて他の図を用いて説明する。
【００２９】
先ず、図２（１）に示すように、１対の透明基板１１，１２の表面に、必要に応じて透明材料からなる配向膜１３をそれぞれ形成する。配向膜１３は、一般的に液晶配向に用いられている高分子ラビング膜や、一酸化珪素、二酸化珪素などの斜方蒸着膜であることとする。そして、一方の透明基板１１の配向膜１３上に球状のスペーサー１４を散布し、他方の透明基板１２の配向膜１３上に光重合性液晶モノマー２１を含有する光重合性混合材料を滴下する。
【００３０】
次いで、配向膜１３の溝が平行または反平行となるように透明基板１１，１２を対向配置し、その周縁部を接着剤１５で封止する。これにより、スペーサー１４によって決められた膜厚を有する組成物層２３を形成する。
【００３１】
この組成物層２３には、「光重合性液晶モノマー２１」の他に、必要に応じて「非重合性材料」や、液晶モノマー以外の「他の重合性モノマー」が含有されていることとする。さらにこの組成物層２３には、含有されている「光重合性液晶モノマー」や「他の重合性モノマー」に応じた、重合開始剤および光重合増感剤などの「添加剤」も含有されていることとする。
【００３２】
このため、組成物層２３の構成は、次のような各材料の組み合わせ▲１▼〜▲３▼に大きく類別される。
▲１▼「光重合性液晶モノマー２１」＋「非重合性材料」＋「添加剤」
▲２▼「光重合性液晶モノマー２１」＋「他の重合性モノマー」＋「添加剤」
▲３▼「光重合性液晶モノマー２１」＋「添加剤」
尚、これらの組み合わせ▲１▼〜▲３▼で構成される組成物層２３内には、液晶相が示される程度に十分な配合比で光重合液晶モノマー２１が含有されていることとする。ただし、以降に説明するように、光重合液晶モノマー２１の重合過程において相分離が生じる場合には、光重合性液晶モノマー２１の重合部分において液晶相が示されれば良い。
【００３３】
ここで、「光重合性液晶モノマー２１」としては、シッフ塩基系、アゾ及びアゾキシ系、ビフェニル系、ターフェニル系、エステル系、シクロヘキサン環系、複素環系、環置換導入系、などベンゼン環やシクロヘキサン環などの環状構造及びそれに挟まれた部分から成る液晶相を示す基となる剛直な骨格部（すなわち上述したコア部）に、光重合を起こすアクリル基やメタクリル基、エポキシ基などの官能基が結合した構造の化合物が使用できる。尚、「光重合性液晶モノマー２１」の具体的な物質例としては、Angeloni, et. Al, Makromol. Chem. 186, 977(1985), Broer, et. al, Makromol. Chem. 190, 2255(1989)、特開平１１−１１６５３４号に記載された材料を用いることができる。なかでも、次に行うパターン露光において可視光波長領域の露光光を用いる場合、この可視光波長領域の露光光においては主としてラジカル重合過程が進行する。したがって、「光重合性液晶モノマー２１」としては、次のパターン露光において重合が進行しやすい、ラジカル重合過程において光重合するアクリル基を持つ物質を選択することが好ましい。
【００３４】
また、「非重合性材料」としては、光重合性液晶モノマー２１や添加剤などの他の材料成分との相溶性から、セルロースエステル系、シクロヘキサン系、ビニルカルバゾール系などのバインダーポリマーと呼ばれる高分子材料が適している。このような「非重合性材料」は、光重合性液晶モノマー２１の光重合過程を阻害しなければ、光重合性液晶モノマー２１と一致する屈折率を持ち、他の成分との相溶性から適当に材料を選択すればよい。また、適当な官能基により修飾すれば、光重合性液晶モノマー２１の光重合速度を向上させることも可能である。
【００３５】
さらに、「他の重合性モノマー」としては、光重合性液晶モノマーとは異なる過程で重合する他の重合性モノマーであることが好ましい。例えば、光重合性液晶モノマー２１として、上述したように、ラジカル重合過程において光重合するアクリル基を持つ物質が選択された場合、「他の重合性モノマー」としては主として紫外線照射時において重合が進行し易いカチオン重合過程において光重合する物質（例えばカチオン重合過程において光重合するエポキシ系の等方性モノマー）や、アニオン重合過程などの他の光重合過程により光重合する官能基を持つ物質、さらには光照射以外の要因（例えば熱）によって重合する物質を選択して用いることとする。またこれらの他にも、光重合性液晶モノマー２１と逆の官能基を持つ物質を「他の重合性モノマー」として用い、次に行われるパターン露光でおこる光重合過程に対して、さらにその後に行われる紫外線照射時において逆の光重合過程が起こるようにしても良い。
【００３６】
このような「他の重合性モノマー」の具体例としては、ラジカル重合する重合性モノマーとして、ポリエステル系、エポキシ系、ウレタン系、アルキッド樹脂系、スピラン樹脂系、シリコーン樹脂系、イミド系などのアクリレートもしくはメタクリレート、またはＮ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルピロリジノンなどがある。また、カチオン重合する光重合性モノマーとして、エポキシ化合物、オキセタン化合物、多官能性ビニルエーテルなどがある。
【００３７】
そして、「添加剤」のうち、重合開始剤としては、ベンゾフェノン、アントラキノン、チオキサントンなどの芳香族ケトン、トリス（トリクロロメチル）-s-トリアジンに代表されるハロゲン系化合物、過酸化ベンゾイルなどの有機過酸化物、ヘキサアリールビスイミダゾール系化合物、シアニンボレートなどのボレート系化合物、ビスペンタジエニルチタニウム−ジ（ペンタフルオロフェニル）やチタノセン化合物などの有機金属化合物、Ｎ−フェニルグリシン、もしくはその一部にこれらと同等の構造を持った化合物などが有効である。
【００３８】
また特に、ラジカル重合とともにカチオン重合を開始させる光重合開始剤として、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、鉄−アレーン錯体、シラノール／アルミニウム錯体、スルホン酸エステル、イミドスルホネート類などがある。
【００３９】
さらに、「添加剤」のうち、光重合増感剤としては、スチリル系、フルオロン系、クマリン系、ケトクマリン系、チオピリリウム系、ピラゾトリアゾール系、スクワリリウム系、ポルフィリン系、シアニン系などの可視光波長領域において吸収を持つ色素が適している。ただし、鉄アレイ錯体やチタノセンに代表されるように、光重合開始剤として作用する化合物自体にホログラム回折格子露光を行うレーザー光波長領域に吸収を持つ場合には、光重合増感剤は不要となる場合がある。
【００４０】
以上で例示した各物質は、上記各組み合わせ▲１▼〜▲３▼に用いられている各材料として、単独であるいは複数を混合して用いることができる。
【００４１】
例えば、光重合性液晶モノマー２１が液晶相を示す温度範囲を広げるために、光重合性液晶モノマー２１として例示される複数の物質を混合して用いても良い。
【００４２】
さらに、組成物層２３が▲１▼または▲２▼の組み合わせからなる場合には、光重合性液晶モノマー２１以外の材料の屈折率を光重合性液晶モノマー２１の屈折率と一致させるために、非重合性材料や、他の重合性モノマーとして例示される複数の物質を混合することによって屈折率調整を行うことが好ましい。
【００４３】
以上のようにして各材料を含有する組成物層２３を形成した後、図２（２）に示すように、基板１１，１２間に形成された組成物層２３中の光重合性液晶モノマー２１が一定方向に向かうように配向させる。
【００４４】
この際、光重合性液晶モノマー２１が液晶相を示す条件（例えば温度条件）を整えることで、光重合性液晶モノマー２１を配向膜１３の溝方向に沿って配向させる。
【００４５】
また、基板１１，１２上に配向膜１３を設けていない場合には、光重合性液晶モノマー２１が液晶相を示す条件を整えた状態において、外的要因を与えることで光重合性液晶モノマー２１を配向させる。このような配向処理としては、一般的に行われている、ずり応力配向法、温度勾配法、電場もしくは磁場による外場配向法などを適用することができる。
【００４６】
そして、図２（３）に示すように、光重合性モノマー２１を配向させた状態で、この組成物層２３に対して回折格子パターンをパターン露光する。
【００４７】
このパターン露光においては、光の干渉によって形成した干渉波形（いわゆる干渉縞）を露光光Ｈとして組成物層２３に照射することで、４００ｎｍ〜７００ｎｍ程度の短い周期でのパターン露光を行うことが好ましい。また、干渉波形を用いたパターン露光に限定されることはなく、マスクを用いたパターン露光であっても良い。
【００４８】
これにより、組成物層２３における露光光Ｈの照射部分部で、光重合性液晶モノマー２１の重合を進行させ、これにより組成物層２３内に光重合性液晶モノマー２１を配向状態を保って重合させてなるパターン２５を形成する。
【００４９】
ここで、図３には、上述した▲１▼の組み合わせ、すなわち「光重合性液晶モノマー２１」＋「非重合性材料３１」＋「添加剤（図示省略）」で構成された組成物層２３においての光重合性液晶モノマー２１の重合過程を示す。
【００５０】
この場合、図３（１）に示すように、光重合性液晶モノマー２１と非重合成材料３１とを含有している組成物層２３に対して、上述したように光重合性液晶モノマー２１を一定方向に向かうように配向させた状態で、図３（２）に示すように、この組成物層２３に対して回折格子パターンの露光光Ｈを照射するパターン露光を行う。これにより、組成物層２３内においては、露光光Ｈの照射部に光重合性液晶モノマー２１が析出して層分離が進み、この照射部において光重合性液晶モノマー２１を重合させたパターン２５が形成される。
【００５１】
またここでは、パターン露光による重合が終了した後、図３（３）に示すように、パターン２５間に残された非重合成材料３１やその他の材料の定着させる。この際、例えば組成物層２３全体に紫外線ＵＶを一括照射することにより、材料の定着と共に組成物層２３に含まれる色素の脱色を行う。ただし、パターン２５間に多量の光重合性液晶モノマー２１が残されている場合には、光重合性液晶モノマー２１が液晶相を示さない条件（例えば温度条件）を整えた上で上記定着を行い、これによりパターン２５間の材料を光学的等方性に保つ。また、紫外線ＵＶを一括照射させる前に、熱処理を行うことにより、反応部分と未反応部分の分離を加速させ、回折効率を向上させても良い。
【００５２】
次に、図４には、上述した▲２▼の組み合わせ、すなわち「光重合性液晶モノマー２１」＋「他の重合性モノマー３３」＋「添加剤（図示省略）」のうち、他の重合性モノマー３３が光重合性液晶モノマー２１と異なる重合過程で重合する物質である場合の組成物層２３においての光重合性液晶モノマー２１の重合過程を示す。
【００５３】
この場合、図４（１）に示すように、光重合性液晶モノマー２１と、これとは異なる重合過程で重合する他の重合性モノマー３３とを含有している組成物層２３に対して、上述したように光重合性液晶モノマー２１を一定方向に向かうように配向させた状態で、図４（２）に示すように、この組成物層２３に対して回折格子パターンの露光光Ｈを照射するパターン露光を行う。これにより、組成物層２３内においては、露光光Ｈの照射部に光重合性液晶モノマー２１が析出して層分離が進み、この照射部において光重合性液晶モノマー２１を重合させたパターン２５が形成される。
【００５４】
またここでは、パターン露光による重合が終了した後、図４（３）に示すように、パターン２５間に残された他の重合性モノマー３３の重合を行う。この際、例えば組成物層２３全体に紫外線ＵＶを一括照射するか、または、他の重合成モノマー３３として用いている物質によっては熱を加えることによって重合を行うようにしても良い。ただし、パターン２５間に多量の光重合性液晶モノマー２１が残されている場合には、光重合性液晶モノマー２１が液晶相を示さない条件（例えば温度条件）を整えた上で重合を行い、これによりパターン２５間の材料を光学的等方性に保つ。尚、材料の定着と共に組成物層２３に含まれる色素の脱色を行うためには、紫外線ＵＶの一括照射を行うこととする。さらに、紫外線ＵＶの一括照射によって重合を行う場合には、紫外線ＵＶを一括照射させる前に、熱処理を行うことにより、反応部分と未反応部分の分離を加速させ、回折効率を向上させても良い。
【００５５】
さらに、図５には、上述した▲２▼の組み合わせ、すなわち「光重合性液晶モノマー２１」＋「他の重合性モノマー３３’」＋「添加剤（図示省略）」のうち、他の重合性モノマー３３’が光重合性液晶モノマー２１と同様の光重合過程で重合する物質である場合の組成物層２３においての光重合性液晶モノマー２１の重合過程を示す。
【００５６】
この場合、図５（１）に示すように、光重合性液晶モノマー２１と、これと同様の重合過程で重合する他の重合性モノマー３３’とを含有している組成物層２３に対して、上述したように光重合性液晶モノマー２１を一定方向に向かうように配向させた状態で、図５（２）に示すように、この組成物層２３に対して回折格子パターンの露光光Ｈを照射するパターン露光を行う。これにより、組成物層２３内においては、露光光Ｈの照射部において光重合性液晶モノマー２１と他の重合性モノマー３３’とを重合させたパターン２５が形成される。この際、層分離は起こらない。
【００５７】
このような場合であっても、パターン露光による重合が終了した後、図５（３）に示すように、パターン２５間に残された組成物の重合を行う。この際、パターン２５間には光重合性液晶モノマー２１が残されるため、光重合性液晶モノマー２１が液晶相を示さない条件（例えば温度条件）を整えることで、光重合性液晶モノマー２１を未配向状態とし、組成物層２３全体に露光光Ｈ’を一括照射する。この際、材料の定着と共に組成物層２３に含まれる色素の脱色を行うためには、露光光Ｈ’として紫外線を照射する。
【００５８】
また、図６には、上述した▲３▼の組み合わせ、すなわち「光重合性液晶モノマー２１」＋「添加剤（図示省略）」で構成された組成物層２３においての光重合性液晶モノマー２１の重合過程を示す。
【００５９】
この場合、図６（１）に示すように、光重合性液晶モノマー２１と添加剤とを含有している組成物層２３に対して、上述したように光重合性液晶モノマー２１を一定方向に向かうように配向させた状態で、図６（２）に示すように、この組成物層２３に対して回折格子パターンの露光光Ｈを照射するパターン露光を行う。これにより、組成物層２３内においては、露光光Ｈの照射部において光重合性液晶モノマー２１を重合させたパターン２５が形成される。この際、層分離は起こらない。
【００６０】
このような場合であっても、パターン露光による重合が終了した後、図６（３）に示すように、パターン２５間に残された光重合性液晶モノマー２１の重合を行う。この際、光重合性液晶モノマー２１が液晶相を示さない条件（例えば温度条件）を整えることで、光重合性液晶モノマー２１を未配向状態とし、組成物層２３全体に露光光Ｈを一括照射する。この際、材料の定着と共に組成物層２３に含まれる色素の脱色を行うためには、露光光Ｈ’として紫外線を照射する。
【００６１】
以上説明したような各重合過程をへて、図１を用いて説明したと同様のホログラム回折格子素子１が得られる。
【００６２】
以上の製造方法−１によれば、光重合性液晶モノマー２１を配向させた状態で重合させているため、光重合性液晶モノマー２１は、露光部内、つまりパターン２５内において相分離することなく、配向状態を保ったまま重合される。このため、パターン２５内においては液晶相を示す分子構造部分（液晶コア部２１ａ）が良好な配向状態に保たれる。したがって、パターンにおける光学的異方性（複屈折）がより大きく、コントラスト比の高い偏光分離が可能なホログラム回折格子素子を得ることができる。
【００６３】
さらに、このような製造方法によれば、パターン２５に複屈折を与える光重合性液晶モノマー２１が高分子化されるため、高分子空孔中に非重合性液晶が閉じ込められるだけのＨ−ＰＤＬＣ素子に比較して、長期安定性が高いホログラム回折格子素子を得ることができる。また、外部からの相互作用により光重合性液晶モノマー２１を配向させるため、液晶材料を配向させることを目的として他の材料を選択する必要はなく、他の材料の選択範囲を広げることもできる。したがって、液晶コア部７の屈折率と、パターン２５間に配置される等方性材料層５の屈折率を一致させる場合に、材料の選択肢が広く、実現が容易である。
【００６４】
また、露光記録するホログラム回折格子方向に対して、配向処理方向を平行もしくは垂直にすることにより、等方性材料層５の屈折率を液晶コア部７の常光線に対する屈折率、異常光線に対する屈折率にそれぞれ一致させることができる。すなわち、形成する回折格子に対して相対的に配向処理方向を変えるだけで、Ｓ偏光、Ｐ偏光のいずれを回折させるかを簡単に制御することができる。
【００６５】
尚、以上の製造方法においては、パターン２５間の材料は必要に応じて除去しても良い。この場合、パターン露光によって光重合性液晶モノマー２１を重合させた後に、パターン２５間の材料の定着を行うことなく、この部分に残された材料を、例えばウェットエッチングによって除去する工程を行う。
【００６６】
＜ホログラム回折格子素子の製造方法−２＞
次に、図１に示したホログラム回折格子素子の製造方法の他の実施形態を、図７を用いて説明する。
【００６７】
先ず、図７（１）に示すように、上述した製造方法−１と同様にして、例えば透明基板に形成した配向膜間に、液晶モノマー７１を含有する組成物層７３を形成する。この組成物層７３内には、液晶相が示される程度に十分な配合比で液晶モノマー７１が含有されていることとする。
【００６８】
この組成物層７３に含有させる液晶モノマー７１は、その重合過程が光重合であることに限定されず、例えば加熱によって重合反応が進む物質であっても良い。また、この組成物層７３には、液晶モノマー７１の他に、必要に応じて非重合性材料や、他の重合性モノマー、さらには液晶モノマー７１や他の重合性モノマーに応じた、重合開始剤などの添加剤も含有されていることとする。尚、他の重合性モノマーを含有させる場合には、液晶モノマー７１と同一の重合過程で重合する物質を選択して用いることが好ましい。
【００６９】
次に、図７（２）に示すように、組成物層７３中の液晶モノマー７１を一定方向に配向させる。この際、液晶モノマー７１が液晶相を示す条件（例えば温度条件）を整えることで、液晶モノマー７１を配向膜の溝方向に沿って配向させる。このような配向方法の他にも、上述した製造方法−１で説明したと同様に、一般的な配向方法を適用することができる。
【００７０】
このような状態で、図７（３）に示すように、この組成物層７３全体に対して、液晶モノマー７１の重合を進める処理を行う。この場合、液晶モノマー７１の重合過程によってそれぞれ適する処理を行うこととし、液晶モノマー７１が光重合性である場合には、この組成物層７３全体に対して、一括して露光光を照射する処理を行う。また、この液晶モノマー７１が加熱によって重合が進む物質である場合には、液晶モノマー７１が配向状態を保ち、かつ重合が進む範囲で組成物層７３を加熱する処理を行う。
【００７１】
以上の後、図７（４）に示すように、重合によって硬化させた組成物層７３上に、リソグラフィ法によってレジストパターン７５を形成する。このレジストパターン７５は、回折格子パターンと同様のデザイン、すなわち可視光領域の光（概ね波長４００ｎｍ〜７００ｎｍ）を偏光分離することを目的として、その波長と同程度の周期ｐで配置され、その幅ｗは周期ｐの半分程度であることとする。また、レジストパターン７５の配列方向は、液晶モノマー７１の配向方向と平行または垂直であることとする。このようなレジストパターン７５形成の際のリソグラフィにおいては、露光光として干渉波形を用いても良い。
【００７２】
そして、このレジストパターン７５をマスクに用いて組成物層７３をパターンエッチングし、重合によって硬化させた組成物層７３からなるパターン７７を形成する。
【００７３】
次に、図７（５）に示すように、パターン７７間に光学的等方性を有する材料を埋め込む。この材料は、好ましくは液晶コア部７の異常光屈折率または常光屈折率のいずれか一方と、略同一の屈折率を有していることとする。以上によって、パターン７７と、この材料からなる等方性材料層７９とを交互に配置してなるホログラフ回折格子素子を得る。
【００７４】
以上説明した製造方法−２によれば、上述した製造方法−１と同様に、液晶モノマー７１を配向させた状態で重合させているため、製造方法−１と同様に、パターン７７内においては液晶相を示す分子構造部分（液晶コア部７１ａ）が良好な配向状態に保たれ、パターン７７における光学的異方性（複屈折）がより大きく、コントラスト比の高い偏光分離が可能なホログラム回折格子素子を得ることができる等、製造方法−１と同様の効果を得ることができる。しかも、パターン７７がほぼ液晶モノマーのみからなるため、その固有の複屈折がほとんど損なわれることがない。また、相分離を用いていないため、液晶モノマーと他の材料（等方性材料）との組み合わせが自在である。
【００７５】
尚、以上の製造方法においては、必ずしもパターン７７間に等方性材料層７９を設ける必要はなく、この場合には光学的等方性を有する材料の埋め込み工程を省略することとする。
【００７６】
【実施例】
次に、本発明の実施例を、図面に基づいて説明する。
【００７７】
＜第１実施例＞
本第１実施例においては、上述した実施の形態において、図３を用いて説明した重合過程を適用してホログラム回折格子素子を製造した例を説明する。
【００７８】
先ず、液晶相を示す骨格の両末端に光ラジカル重合を起こすアクリレート基を持つ液晶ジアクリレート（光重合性液晶モノマー２１）と、光学的に等方性で非重合性のセルロースエステル系バインダーポリマー（非重合性材料３１）とを、液晶ジアクリレート９５重量％、バインダーポリマー５重量％の配合比で混合した。さらに、次のパターン露光において露光光として使用するレーザー光波長において光重合開始剤として作用するトリス（トリクロロメチル）-s-トリアジンと、増感剤としてクマリン系色素とを、上記配合物：光重合開始剤：増感剤＝９７：１．５：１．５の重量配合比で混合した。以上から成る混合材料を加熱しながら攪拌し、均一な光重合性混合材料を得た。
【００７９】
また、２枚の透明ガラス基板を洗浄後、ポリイミド配向剤をスピンコート塗布、焼成後、コットン布にて配向剤表面にラビング処理を行った。そして、一方の基板の配向処理した表面上に球状スペーサーを均一に散布し、他方の基板の配向処理した表面上には上記の光重合性混合材料を滴下し、ラビング処理方向が反平行となり、かつ配向処理表面でスペーサー及び光重合性混合材料を狭持するように基板を対向配置し、エポキシ系接着剤で二枚の基板をその周縁部で固定したセルを形成した。
【００８０】
その後、液晶ジアクリレート（光重合性液晶モノマー２１）の均一配向を得るために、光重合性混合材料が液晶相もしくは等方相となる温度領域まで加熱後、除冷した。これにより、図３（１）に示すように、配向処理方向に沿った一方向に液晶ジアクリレートを配向させた。
【００８１】
次いで、以上の手順で作製したセルを光重合性混合材料が液晶相を示す温度領域に保持しながら、図３（２）に示すように、波長４７７ｎｍのレーザー光の干渉波形を露光光Ｈとして照射した。すると、干渉波形の明部では光重合が起こり、液晶ジアクリレートが均一な配向状態を保持したまま重合して高分子化した。一方、暗部には非重合性のバインダーポリマー（非重合性材料３１）が、相分離により析出し、これによって干渉波形に応じて高分子化した液晶性層のパターン２５と光学的な等方性層との屈折率変調を持った多層構造、つまりホログラム回折格子が形成された。
【００８２】
その後、図３（３）に示すように、液晶相を示さない温度領域において光重合性混合材料からなる組成物層２３の全面に紫外線ＵＶを一括照射することにより、色素を脱色及び回折格子を定着させた。
尚、以上の手順はすべて暗室中で行われた。
【００８３】
以上のようにして得られたホログラム回折格子素子１は、偏光分離度が１００：１程度のコントラスト比の高い偏光分離が可能であり、例えば反射型液晶ライトバルブを用いた反射型プロジェクタ用の偏光分離素子として十分に用いることが可能であった。
【００８４】
＜第２実施例＞
本第２実施例においては、上述した実施の形態において、図４を用いて説明した重合過程を適用してホログラム回折格子素子を製造した例を説明する。
【００８５】
先ず、液晶相を示す骨格の両末端に光ラジカル重合を起こすアクリレート基を持つ液晶ジアクリレート（光重合性液晶モノマー２１）と、光学的に等方性で光カチオン重合を起こす脂環式エポキシオリゴマー（他の重合性モノマー３３）とを、液晶ジアクリレート９０重量％、脂環式エポキシオリゴマー１０重量％の配合比で混合した。さらに、ラジカル重合及びカチオン重合の双方の光重合開始剤として作用するジフェニルヨードニウム塩、増感剤としてケトクマリン系色素とを、上記配合物：光重合開始剤：増感剤＝９７：１．５：１．５の重量配合比で混合した。以上から成る混合材料を加熱しながら攪拌し、均一な光重合性混合材料を得た。
【００８６】
そして、第１実施例と同様にして、光重合性混合材料を狭持してなるセルを形成した。
【００８７】
その後、液晶ジアクリレート（光重合性液晶モノマー２１）の均一配向を得るために、光重合性混合材料が液晶相もしくは等方相となる温度領域まで加熱後、除冷した。これにより、図４（１）に示すように、配向処理方向に沿った一方向に液晶ジアクリレートを配向させた。
【００８８】
次いで、以上の手順で作製したセルを光重合性混合材料が液晶相を示す温度領域に保持しながら、図４（２）に示すように、波長５３２ｎｍのレーザー光の干渉波形を露光光Ｈとして照射した。すると、干渉波形の明部では光ラジカル重合が選択的に起こり、液晶ジアクリレートが均一な配向状態を保持したまま高分子化した。一方、暗部には光ラジカル重合を起こさない脂環式エポキシオリゴマーが相分離により析出し、これによって干渉波形に応じて高分子化した液晶性層のパターン２５と光学的な等方性層との屈折率変調を持った多層構造、つまりホログラム回折格子が形成された。
【００８９】
その後、図４（３）に示すように、液晶相を示さない温度領域において光重合性混合材料からなる組成物層２３の全面に紫外線ＵＶを一括照射することにより、カチオン重合が起こり、等方性層部分も高分子化した。これにより、回折格子を定着させるとともに、色素を脱色させた。
尚、以上の手順はすべて暗室中で行われた。
【００９０】
以上のようにして得られたホログラム回折格子素子１も、第１実施例で作製したホログラム回折格子素子と同様に、偏光分離度が１５０：１程度のコントラスト比の高い偏光分離が可能であり、例えば反射型液晶ライトバルブを用いた反射型プロジェクタ用の偏光分離素子として十分に用いることが可能であった。
【００９１】
＜第３実施例＞
本第３実施例においては、上述した実施の形態において、図６を用いて説明した重合過程を適用してホログラム回折格子素子を製造した例を説明する。
【００９２】
先ず、液晶相を示す骨格の両末端に光ラジカル重合を起こすアクリレート基を持つ液晶ジアクリレート（光重合性液晶モノマー２１）に、使用するレーザー光波長において光重合開始剤として作用するトリス（トリクロロメチル）-s-トリアジン、増感剤としてクマリン系色素を、光重合性液晶モノマー２１：光重合開始剤：増感剤＝９７：１．５：１．５の重量配合比で混合した。以上から成る混合材料を加熱しながら攪拌し、均一な光重合性混合材料を得た。
【００９３】
そして、第１実施例と同様にして、光重合性混合材料を狭持してなるセルを形成した。
【００９４】
その後、液晶ジアクリレート（光重合性液晶モノマー２１）の均一配向を得るために、光重合性混合材料が液晶相もしくは等方相となる温度領域まで加熱後、除冷した。これにより、図６（１）に示すように、配向処理方向に沿った一方向に液晶ジアクリレートを配向させた。
【００９５】
次いで、以上の手順で作製したセルを光重合性混合材料が液晶相を示す温度領域に保持しながら、図６（２）に示すように、波長４７７ｎｍのレーザー光の干渉波形を露光光Ｈとして照射した。すると、干渉波形の明部では光重合が起こり、液晶ジアクリレートが均一な配向状態を保持したまま高分子化した。一方、暗部では十分な光エネルギーが得られないことで光重合が起こらず、干渉波形に応じて高分子化した液晶性層のパターン２５と、高分子化していない液晶性層の多層構造が形成された。
【００９６】
このままでは屈折率変調を示さないため、その後、図６（３）に示すように、等方相もしくは結晶相などの液晶相を示さない温度領域において紫外線ＵＶもしくは可視光線照射することにより、パターン露光により未重合であった部分を光学的に等方性とした状態で高分子化し、屈折率変調を持った多層構造を形成した。また、この光照射により色素を脱色及び回折格子を定着させた。
以上の手順はすべて暗室中で行われた。
【００９７】
以上のようにして得られたホログラム回折格子素子１も、第１実施例で作製したホログラム回折格子素子と同様に、偏光分離度が８０：１程度のコントラスト比の高い偏光分離が可能であり、例えば反射型液晶ライトバルブを用いた反射型プロジェクタ用の偏光分離素子として十分に用いることが可能であった。
【００９８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のホログラム回折格子素子によれば、同一相で構成されたパターン内で液晶相を示す分子構造部分を一方向に配向させる構成としたことで、所定周期で配列されたパターンにおける光学的異方性（複屈折）を最大限とすることができ、よりコントラスト比の高い偏光分離を行うことが可能になる。
また、本発明のホログラム回折格子素子の製造方法によれば、液晶モノマーを配向させた状態で重合させることで、より良好な配向状態のパターンを形成する構成としたことで、コントラスト比の高い偏光分離が可能な偏光分離素子として用いることができるホログラム回折格子素子を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のホログラム回折格子素子の一例を説明する断面図である。
【図２】本発明のホログラム回折格子素子の製造方法−１を説明する図である。
【図３】製造方法−１における第１の重合過程を示す図である。
【図４】製造方法−１における第２の重合過程を示す図である。
【図５】製造方法−１における第２の重合過程の他の例を示す図である。
【図６】製造方法−１における第３の重合過程を示す図である。
【図７】本発明のホログラム回折格子素子の製造方法−２を説明する図である。
【図８】Ｈ−ＰＤＬＣ素子からなるホログラム回折格子素子を説明する図である。
【符号の説明】
１…ホログラム回折格子素子、３，２５，７７…パターン、５，７９…等方性材料層、７，２１ａ，７１ａ…液晶コア部、２１…光重合性液晶モノマー、２３，７３…組成物層、７１…液晶モノマー、Ｈ…露光光
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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