(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
層間導通穴が形成された被検査体の配線パターンを読み取って得た画素データからなるパターン画像を作成するパターン画像作成手段と，
前記パターン画像に含まれる各画素の１つを着目画素とし，その画素から同種の画素が続いている個数を複数の方角についてその着目画素を出発点として計数するとともに，各方角ごとにその計数値が０である場合または上限値を超える場合に不良と判定する径判定手段と，
前記被検査体において検査対象外領域が存在しうる範囲を示す穴認識有効信号を作成する穴認識領域作成手段と，
前記径判定手段の判定結果に基づいてその画素がマスク候補画素か否かを認定するマスク候補認定手段と，
前記マスク候補画素と前記穴認識有効信号とを対比してマスク画像を作成するマスク作成手段と，
前記パターン画像のうち前記マスク画像以外の部分から，欠陥形状を抽出する検査手段とを有し，
前記径判定手段における上限値は，層間導通穴のサイズに対応することを特徴とする配線パターン検査装置。
【請求項２】
請求項１に記載する配線パターン検査装置において，
前記マスク候補認定手段は，前記計数値が前記所定の値以内である方角の数が所定のしきい値以上である場合にその画素をマスク候補画素と認定することを特徴とする配線パターン検査装置。
【請求項３】
請求項２に記載する配線パターン検査装置において，
前記マスク候補認定手段は，前記計数値が前記所定の値以内である方角が連続して所定のしきい値以上の数存在している場合にその画素をマスク候補画素と認定することを特徴とする配線パターン検査装置。
【請求項４】
請求項２または請求項３に記載する配線パターン検査装置において，
前記マスク候補認定手段における方角の数のしきい値が可変であることを特徴とする配線パターン検査装置。
【請求項５】
請求項４に記載する配線パターン検査装置において，
前記しきい値の可変範囲に，前記方角の総数が含まれることを特徴とする配線パターン検査装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は，例えばプリント配線板などの被検査体であって層間導通穴のような検査対象外部分を有するものについてその表面に形成された微細な配線パターンの良否を検査する配線パターン検査装置に関する。さらに詳細には，フォトビアホールのような非貫通の検査対象外部分についても適用でき，誤検出なくかつ検査漏れを排除した配線パターン検査装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
この種の配線パターン検査装置では，プリント配線板などの被検査体に，欠陥と誤判定されやすい形状が含まれている場合がある。このため，そのような形状が含まれる部分を検査対象外としなければならない。スルーホールやフォトビアホールのような層間導通穴等（以下，「ビアホール」という）の部分がこれに該当する。そこで従来，例えば特開平６−２９４６２６号公報に記載されている配線パターン検査装置では，被検査体を撮像して得られたパターン画像と，別に作成された穴マスク画像とに基づいて真の欠陥データを抽出することにより，配線パターンの良否検査を行うものである。すなわち，パターン画像に含まれる欠陥候補データのうち，穴マスク画像と一致しないものが真の欠陥データである。この穴マスク画像は，パターン画像のうちスルーホールであると思われる形状を有する部分を示す穴計測信号と，被検査体の仕様から得られた穴認識有効信号とを比較対照して作成される。
【０００３】
ここにおいて，パターン画像からの穴計測信号の抽出は，次のようにして行われていた。すなわち，図１１に示すように，２値化されたパターン画像中の暗画素が４つ集まっている箇所から，Ｎ，ＮＥ，Ｅ，ＳＥ，Ｓ，ＳＷ，Ｗ，ＮＷの８つの方角ごとに暗画素がいくつ続いているかをカウントする。そして，暗画素が続いている個数が，どの方角についても所定の範囲（スルーホール半径に対応する個数の上限値と下限値）内であれば，その箇所の各画素について穴計測信号をオンとするのである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら，前記した従来の配線パターン検査装置には，以下に説明する問題点があった。すなわち，スルーホールのような貫通穴には対応できるが，レーザ加工されたブラインドビアホールやフォトビアホールのような非貫通穴には対応できないのである。その原因は，スルーホールとフォトビアホール等との，２値化されたパターン画像上での違いにある。すなわちスルーホールは貫通穴であるため，その内部の画素は２値化されれば必ず暗画素となる。このためスルーホールは，２値化されたパターン画像上では図３に示すようなほぼ円形の暗画素の固まりとして現れることになる。だからこそ図１１のような計測で認識できるのである。なお，図３中の数字「１」は明レベルを，「０」は暗レベルを，それぞれ示している（図４，図１３等においても同じ）。
【０００５】
これに対しフォトビアホール等は，底面の銅が鈍く光るため，必ずしもその全体が暗画素となるわけではない。このため，２値化されたパターン画像上で図４に示すようにいびつな形状の暗画素領域として現れる場合がある。その暗画素領域には，１画素分の幅しかない部分Ｔもあり得る。そのような部分Ｔで図１１の計測を行おうとすると，図１２に示すように，カウント開始画素が暗画素とならない方角（Ｎ，ＮＥ，ＮＷ）が出てしまう。このためこの部分Ｔについては穴計測信号をオンとすることができない。すなわち，この部分Ｔでは図１１のような計測はできないのである。なお，図１２において，方角記号の右に付した記号「×」は，その方角のカウントができないことを示している。また，方角記号の右の括弧内の数字は，カウントができた方角についてのカウント数を示している（図１３等においても同じ）。
【０００６】
また，図４の形状中の部分Ｔ以外の領域に着目した場合には，図１１のような計測が一応は可能であるように見える。しかしながら，その計測値のすべてが所定の範囲内にあるわけではないので，図１１の計測が実際に可能なのは極めて限られた範囲でしかない。このため，フォトビアホール等の被覆性が悪く，適切な穴マスク画像を作成することができなかった。この結果，配線パターンの検査の際，虚報が多く出て不便であった。
【０００７】
なお，図１２において，各方角の暗画素数の和をとれば，図４の部分Ｔでも和の値は正の有限値（３＋１＋１＋１＋２＝８）となる。したがって，和の値に一定の上限値を設定しておけば，図１１のような計測でも部分Ｔを認識することが可能である。しかしながらこの場合には，図１３に示すように，フォトビアホール等の径と一致した幅の線間Ｚを有する並列パターンを測定したときに和の値（４＋４＋４＝１２）が上限値以下となることがある。すなわち，フォトビアホール等でない場所をフォトビアホール等と認識してしまうのである。もしその近くに穴認識有効信号があれば，不要な穴マスクが生成され，検査の信頼性が落ちてしまうこととなる。また，パターン画像にアフィン変換（平行移動，倍率補正，回転移動）を施してマッチングさせることも考えられるが，検査タクトが大幅に低下してしまう。
【０００８】
本発明は，前記した従来の技術が有する問題点の解決を目的としてなされたものである。すなわちその課題とするところは，非貫通穴についても適切に暗画素部分を認識し，高精度に最小限の穴マスクを生成することにより，非貫通穴の周辺における検査の信頼性を確保しつつ，非貫通穴に起因する虚報の発生を抑えた配線パターン検査装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
この課題の解決のためになされた本発明に係る配線パターン検査装置は，パターン画像作成手段と，径判定手段と，穴認識領域作成手段と，マスク候補認定手段と，マスク作成手段と，検査手段とを有している。パターン画像作成手段は，層間導通穴が形成された被検査体の配線パターンを読み取って得た画素データからなるパターン画像を作成するものである。この画素データは，２値化されたデータであってもよい。径判定手段は，前記パターン画像に含まれる各画素の１つを着目画素とし，その画素から同種の画素が続いている個数を複数の方角についてその着目画素を出発点として計数するとともに，各方角ごとにその計数値が０である場合または上限値を超える場合に不良と判定するものである。穴認識領域作成手段は，前記被検査体において検査対象外領域が存在しうる範囲を示す穴認識有効信号を作成するものである。マスク候補認定手段は，前記径判定手段の判定結果に基づいてその画素がマスク候補画素か否かを認定するものである。マスク作成手段は，前記マスク候補画素と前記穴認識有効信号とを対比してマスク画像を作成するものである。検査手段は，前記パターン画像のうち前記マスク画像以外の部分から，欠陥形状を抽出するものである。
【００１０】
この配線パターン検査装置では，まず被検査体の配線パターンが読み取られる。そして，読み取られた配線パターンの画像に含まれる各画素データによるパターン画像が作成される。画素データが２値化されている場合には，パターン画像中の各画素は，暗画素か明画素かのいずれかである。通常，配線パターン上の画素は明画素となり，パターン間の画素は暗画素となる。ビアホールの穴内の画素は，すべて暗画素となるのが理想的である。しかし実際には２値化前の明度値がランダムな値になっていることが多く，２値化により一部は明画素となってしまい，いびつな形状の暗画素群となることがある。ここまでの操作は，パターン画像作成手段により行われる。
【００１１】
そして，パターン画像に含まれる各画素については，径判定手段により径判定が行われる。径判定は，次のようにして行われる。すなわち，着目している１つの画素を出発点として，その画素から暗画素が続いている個数が，複数の方角（４方，８方，１２方，１６方など）について計数される。すなわち図１に示すように各方角の計測開始画素を１点の画素としている。この点で，図１１のように計測開始画素が必ずしも１点でない従来のものと相違している。したがって計数値は，０または自然数である。そして，各方角についての計数値が判定値（上限値）と比較され，その値以内の自然数であれば良と判定され，０または超えている場合は不良と判定される。これが径判定であり，パターン画像に含まれる各画素についてなされる。
【００１２】
なお上限値は，ビアホールなど検査対象外領域のサイズに対応するものであるが，すべての方角について同じとは限らない。画像のＸ方向またはＹ方向と一致する方角と，そうでない斜めの方角とでは上限値が違ってくる可能性があるからである。また，検査対象外領域の形状自体も，常に円形とは限らないからである。なお，各方角における計数は，暗画素がとぎれるまで行う必要は必ずしもなく，計数値が上限値を超えたらそこで中止してもよい。
【００１３】
この配線パターン検査装置では，上記の径判定作業の一方で，穴認識有効信号の作成が，穴認識領域作成手段により行われる。穴認識有効信号は，被検査体において検査対象外領域が存在しうる範囲を示すものである。その作成は，次のようにして行われる。すなわち，配線パターン検査装置には，被検査体においてビアホール等の検査対象外領域が存在する標準的な位置が別途入力されている。これは，被検査体の設計データから持ってきてもよいし，ビアホール等のみを形成した測定基準板を作成しこれについての測定結果から取得してもよい。実際の被検査体では，個体のばらつきのために検査対象外領域の位置が標準的な位置から若干ずれているので，これを適度な幅で拡大することにより，穴認識有効信号が作成されることが多い。このときの計数は，被検査体の要求精度等により定めればよい。
【００１４】
径判定の結果は，マスク候補認定手段に送られ，判定結果に基づいてその画素についてマスク候補画素か否かの認定が行われる。この認定は，好ましくは次のようにして行われる。すなわち，判定結果が良である方角の数が計数される。そして，計数された方角の数が所定のしきい値と比較され，しきい値以上であれば着目している画素がマスク候補画素と認定される。しきい値が方角の総数である場合には，マスク候補画素と認定される画素は，暗画素が，上限値に対応する直径の中にのみ存在する領域の画素である。ビアホール内の暗画素がその例である。配線パターン上の画素は，明画素であるためマスク候補画素とはならない。また，パターン間の画素は，暗画素であるが，通常，長い距離にわたって連続しており上限値に対応する直径の中に収まらないのでマスク候補画素とはならない。なお，ピンホール欠陥は，この時点ではマスク候補画素となるが，後に排除される。
【００１５】
上記の作業がパターン画像に含まれるすべての暗画素について行われる。これにより，暗画素のうち，ビアホール等の検査対象外領域に属するものと，ピンホール等の欠陥に起因するもの等とが，マスク候補画素となる。
【００１６】
ここで，計数された方角の数と比較される所定のしきい値は，通常は方角の総数（４方，８方，１２方，１６方など）と同じである。その理由は次の通りである。ビアホールのような検査対象外領域は，通常，配線パターンのランドに囲まれているので，着目画素からいかなる方角にカウントしても，必ずランドの明画素に突き当たって上限値以内でカウントが終了するはずだからである。もし，上限値を超えてしまうような長い距離にわたって暗画素が続くならば，通常それはビアホール等ではなくパターン間部分などであると考えられる。
【００１７】
しかしながら常にそうとは限らない。被検査体の要求精度によっては，ビアホール等の回りのランドにある程度の座切れが許容される場合がある。その場合には，座切れ部分をよぎった方角についての計数値が上限値を超えてしまうことがある。これをマスク候補画素として認定するためには，しきい値を方角の総数より少ない値にする必要がある。好ましくは，しきい値を可変とするとともにその可変範囲に方角の総数を含め，両方の場合に対応できるようにするとよい。
【００１８】
ただし，座切れは普通，１つのビアホールの周囲に１カ所だけであり残りはランドが連続しているはずである。座切れの原因はビアホールとランドとの中心位置の合わせ精度にあるからである。したがって，しきい値を方角の総数より少ない値にするにしても，計数値が上限値以内である方角が連続してしきい値以上の数存在している場合に限り着目画素をマスク候補画素として認定することが望ましい。
【００１９】
マスク候補画素と穴認識有効信号とがそろったら，マスク作成手段によりそれらが対比され，マスク画像が作成される。すなわち，マスク候補画素であってかつ穴認識有効信号に該当するものが抽出されてマスクとされる。これにより，マスク候補画素のうちビアホール等の検査対象外領域に属するもの以外は排除される。ピンホール等の欠陥に起因するものはここではねられ，マスクにはならない。ここで，穴認識有効信号に一致するマスク候補画素が抽出されたときに，その画素そのもののみをマスクとしてもよいし，若干の倍率を掛けてマスクとしてもよい。かくして作成されたマスクは，２値化されたパターン画像の暗画素部分に沿ってこれを最小限に網羅するものである。
【００２０】
こうしてマスクが作成されると，検査手段での最終検査が行われる。すなわち，パターン画像のうちマスク画像以外の部分から欠陥形状が抽出される。マスク画像の部分は，たとえ欠陥形状が存在しても，それはビアホール等に起因するものと考えられるので無視される。ここで，マスク作成手段により作成されたマスクが最小限のものであることから，ビアホール等の検査対象外領域の近辺における検査の信頼性を損なわずに，虚報の発生が防止されている。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下，本発明の配線パターン検査装置を具体化した実施の形態について，図面を参照しつつ詳細に説明する。本実施の形態に係る配線パターン検査装置は，プリント配線板上に形成された配線パターンの良否検査を行うものである。この配線パターン検査装置は，図２のブロック構成図に示すように，撮像系２と，検査部３１と，それらの間のマスク処理部４とを有している。そしてさらに，全体の統括制御を行うマスタＣＰＵ３２と，オペレータによる操作や検査結果の表示等のための端末３３とが設けられている。検査部３１とマスタＣＰＵ３２とは，通信バス５３により接続されている。
【００２２】
まず，撮像系２について説明する。撮像系２は，プリント配線板１０上に銅などの金属で形成された配線パターン１１を読み取ってパターン画像を取得する機能を有している。このため，配線パターン１１を撮像するＣＣＤカメラ２１と，そのアナログ画像をデジタルに変換するＡ／Ｄ変換部２２と，そのデジタル信号を２値化する２値化回路２３とを有している。すなわち，２値化回路２３から出力されるパターン画像ＰＩは，暗画素と明画素とからなる２値画像である。このパターン画像ＰＩは，おおむね，配線パターン１１のある場所の画素が明画素であり，それ以外の場所の画素が暗画素である。それ以外の場所とは，パターン間の隙間部分や，ビアホールの中の部分，ピンホール等の欠陥などである。
【００２３】
次に，マスク処理部４について説明する。マスク処理部４は，パターン画像のうち検査対象から除外する部分を示すマスク画像を作成し，パターン画像とともに検査部３１に供給する機能を有している。この機能のためマスク処理部４は，以下の各ブロックを有している。すなわち，撮像系２の２値化回路２３からパターン画像ＰＩの入力を受けてその中に含まれる各画素について暗画素の径判定を行う径判定部４１，プリント配線板１０のビアホールのデータを格納する穴情報メモリ部４２，そのビアホールのデータＤＨに基づいて穴認識有効信号ＭＥを作成する穴認識領域作成部４３，径判定部４１の判定結果ＭＣと穴認識有効信号ＭＥとを対比する穴判定部４４，その判定結果に基づいてマスク画像ＭＩを作成するマスク作成部４５，各ブロックに駆動クロックを供給するタイミング発生部４６，マスク処理部４を統括制御するマスク処理ＣＰＵ部４９，パターン画像ＰＩをマスク画像ＭＩの作成に要する時間の分遅延させて検査部３１へ供給する遅延回路４７，の各ブロックである。これらの各ブロックは，ローカルバス５１により相互に接続されている。また，マスク処理ＣＰＵ部４９は，通信バス５２によりマスタＣＰＵ３２に接続されている。
【００２４】
マスク処理部４の各ブロックのうち主なものについて簡単に説明する。まず径判定部４１は，前述のように，暗画素についての径判定を行うブロックである。径判定とは，簡単にいえば，パターン画像ＰＩに含まれる暗画素から，パターン間の隙間部分に起因するものを除いた画素である。パターン間の隙間部分は，虚報の原因となるようなものでないのでマスクとする必要がなく，また配線パターン１１に沿って長い距離にわたっている点でビアホール等と明確に区別できるからである。判定結果ＭＣは，穴判定部４４へ送られる。
【００２５】
次に穴情報メモリ部４２は，前述のように，プリント配線板１０のビアホールのデータＤＨを格納するブロックである。ビアホールは，プリント配線板１０の良否検査に当たって虚報の発生原因となりやすいものである一方，その存在しうる位置はプリント配線板１０の品種ごとに決まっているからである。このデータを用意する方法としては，例えば，プリント配線板１０の設計データから持ってくる方法がある。あるいは，測定の基準板を用意してこれについてのパターン画像ＰＩから作成する方法がある。いずれの方法でもよいが，ここでは設計データから持ってくる方法を採用している。基準板を用いる場合，その基準板としては，ビアホールのみをプリント配線板１０と同一の仕様で形成した基板を用いることができる。あるいは，同一の製造ロットで製造された多数の同一品種のプリント配線板１０のうちの最初のものを基準板としてもよい。データＤＨは，穴認識領域作成部４３へ送られる。
【００２６】
次に穴認識領域作成部４３は，前述のように，穴認識有効信号ＭＥを作成するブロックである。このブロックでは，穴情報メモリ部４２から供給されたデータＤＨをそのまま穴認識有効信号ＭＥとしてもよいが，ここではそのホール部分を所定の幅（画素数または倍率）で拡大して穴認識有効信号ＭＥとする。プリント配線板１０において実際にビアホールがある位置は，正確にデータＤＨの通りであるとは限らず，加工精度により若干のばらつきがあるからである。したがってその拡大幅は，プリント配線板１０の加工精度のグレード（品種ごとに決まっている）に応じて可変としておくとよい。これより穴認識有効信号ＭＥは，プリント配線板１０においてビアホールが存在しうる範囲内の画素を被覆している。この範囲内にマスク候補たる暗画素があれば，それは実際のビアホールを現していると考えられる。逆に，この範囲外にマスク候補たる暗画素があっても，それはプリント配線板１０のビアホールとは関係がないので，これを基準にマスクを生成すべきではないのである。作成された穴認識有効信号ＭＥは，穴判定部４４へ送られる。
【００２７】
次に穴判定部４４は，前述のように，径判定部の判定結果ＭＣと穴認識有効信号ＭＥとを対比するブロックである。その目的は，パターン画像ＰＩに含まれる暗画素から，真にプリント配線板１０のビアホールに起因するもののみを選び出すことにある。このためこのブロックは，判定結果ＭＣに基づいてマスク候補たる暗画素を選び出し，さらにこれを穴認識有効信号ＭＥと対比する。すなわち，穴認識有効信号ＭＥの範囲内の暗画素は，真にビアホールに起因する信号であると判定する。一方，穴認識有効信号ＭＥの範囲外のものは，真にビアホールに起因する信号ではないと判定する。真にビアホールに起因すると判定された画素の信号ＭＲがマスク作成部４５へ送られる。
【００２８】
次にマスク作成部４５は，前述のように，穴判定部４４の判定結果に基づいてマスク画像ＭＩを作成するブロックである。このブロックでは基本的には，穴判定部４４から送られた穴認識信号ＭＲに含まれる各画素に対し当該１画素をマスク画像ＭＩとする。これにより，ビアホールをぎりぎりカバーするマスクが得られる。その後，要求される検査精度に応じて信号ＭＲに含まれる各画素に対しある程度の倍率（９倍等）を掛けてもよい。その場合には少し大きめ（９倍なら１画素幅分大きい）のマスクが得られる。作成されたマスク画像ＭＩは，検査部３１へ送られる。
【００２９】
続いて，検査部３１について説明する。検査部３１は，パターン画像ＰＩから最終的にパターンの欠陥であると考えられる形状を検出して，その検出信号ＤＤをマスタＣＰＵ３２に向けて出力するものである。このため検査部３１には，マスク作成部４５からマスク画像ＭＩが入力され，また，マスク画像ＭＩの入力とタイミングを合わせるために遅延回路４７を介してパターン画像ＰＩが入力されるようになっている。そして検査部３１では，パターン画像ＰＩのうち，マスク画像ＭＩにより検査対象外とされる範囲以外の範囲について，断線，短絡，欠け等の欠陥形状を抽出する。そのための欠陥形状データは，検査部３１の中にあらかじめ格納しておいてもよいし，マスタＣＰＵ３２から供給されるようにしてもよい。
【００３０】
次に，この配線パターン検査装置によるプリント配線板１０の良否検査の動作について説明する。ここでは，検査対象たるプリント配線板１０について，その品種の設計データから得られたビアホールのデータＤＨが，穴情報メモリ部４２にあらかじめ格納されているものとする。
【００３１】
まず，検査するプリント配線板１０をＣＣＤカメラ２１の下に置き，その配線パターン１１を撮像する。すると，そのアナログ画像がＡ／Ｄ変換部２２でデジタルに変換され，さらに２値化回路２３で２値化される。これにより，暗画素と明画素とからなる２値画像のパターン画像ＰＩが得られる。得られたパターン画像ＰＩは，マスク処理部４に送られ，径判定部４１に入力される。パターン画像ＰＩには，スルーホール（図３），フォトビアホール（図４），ピンホール欠陥（図５），線間（図６）のような，暗画素により構成される形状が含まれている。このうち図４のフォトビアホールは，従来技術の項で説明した理由によりいびつな形状を呈している。
【００３２】
径判定部４１では，パターン画像ＰＩに含まれる暗画素について，次の作業を行う。すなわち図７に示すように，ある暗画素Ａに着目し，その暗画素ＡからＮ，ＮＥ，Ｅ，ＳＥ，Ｓ，ＳＷ，Ｗ，ＮＷの８つの方角ごとに暗画素がいくつ続いているかをカウントする。このとき着目画素Ａを１としてカウントする。図７では，各方角記号の右の括弧内の数字に示すように，方角Ｅについてはカウント値が「２」であり，方角Ｗについてはカウント値が「４」である。これら以外の方角のカウント値はいずれも「１」である。
【００３３】
各方角についてのカウント値が得られたら，それらのカウント値が，プリント配線板１０に含まれるスルーホールやフォトビアホールの直径の設計値に対応する画素数と比較され，ＯＫかＮＧかの判定がなされる。図４に示すフォトビアホールの直径は，画素数「１１」（図中横方向）と読み取ることができる。以下，これを用いて説明する。この比較のため径判定部４１には，表１のようなルックアップテーブルが用意されている。なお，表１における「カウント値」は，実際のルックアップテーブルでは２進数で表現されている。
【００３４】
【表１】
0004071866.tif 000002
【００３５】
すなわち，カウント値の「０」と「１２」以上に対しては出力値「０」が割り付けられており，「１」〜「１１」のカウント値に対しては出力値「１」が割り付けられている。出力値の「０」はその方角のカウント結果がＮＧであることを意味し，出力値の「１」はカウント結果がＯＫであることを意味している。また，出力値「１」が割り付けられる最大のカウント数「１１」は，ビアホールの直径の設計値に対応する画素数である。これより，カウント値が最大径である「１１」以下の正の数であった場合にその方角についてＯＫと判定され，カウント値がこれを超えていた場合にはその方角についてＮＧと判定される。こういったルックアップテーブルが，ビアホールの各サイズに応じて複数種用意されている。
【００３６】
ここで，カウント値が「０」であるときに判定結果がＮＧであることは，着目画素が明画素であった場合にはマスク候補として認定され得ないことを意味している。また，カウント値が「１２」以上である場合に判定結果がＮＧであることは，暗画素が長い距離にわたって続いているので，ビアホールではないと考えられることを意味している。この結果，着目画素が図７のＡであった場合には，すべての方角についてＯＫと判定されることとなる。同様に，着目画素がスルーホール（図３）やピンホール欠陥（図５）に属するものであった場合にも，すべての方角についてＯＫと判定される。これに対し，着目画素が線間（図６）に属するものであった場合には，方角Ｎと方角ＳとについてはＮＧと判定されることとなる。
【００３７】
径判定部４１では，図８に示すように，ＳＲＡＭを用いてこの判定を行うようにしている。すなわち図８のシステムでは，カウント値がマルチプレクサを介してＳＲＡＭのアドレス線（Ａ０〜Ａ３）に入力され，その入力に応じて表１のルックアップテーブルに示される出力値（０（ＮＧ）または１（ＯＫ））がＳＲＡＭのデータ線（I/O０〜I/O３）に出力される。カウント値は図７に示す方角の数，すなわち８個あるから，これら方角数分の図８の回路が用意されており，並列してこの処理がなされる。図８ではＳＲＡＭのデータ線が４ビットであるから，ＯＫかＮＧかの判定基準を４通り設定することが可能である。ただしここでは１通りのみ設定している。あるいは，４ビットを，穴径の異なる４種類の径判定を同時に行うルックアップテーブルとして使用することも可能である。出力された各方角の出力値（以下，「径判定値ＭＣ」という）は，穴判定部４４へ送られる。この処理は，パターン画像ＰＩの各画素についてなされる。なお，図８のＳＲＡＭに表１のルックアップテーブルを書き込むときには，ＣＰＵアドレスとＣＰＵデータバスとが接続されて指定のデータが入力される。以上が径判定部４１での処理である。
【００３８】
以上の径判定部４１での処理と並列して，穴情報メモリ部４２および穴認識領域作成部４３で，穴認識有効信号ＭＥの作成が行われる。このため穴情報メモリ部４２には，検査するプリント配線板１０におけるビアホールの位置や大きさに関するデータＤＨが，あらかじめ設計データから抽出されて用意されている。データＤＨは，ビアホール内の画素については値が「１」であり，それ以外の画素については値が「０」である。ビアホールが最大８種類あるとすれば，穴情報メモリ部４２のデータ幅は８ビットあればよいことになる。そして穴認識領域作成部４３では，そのデータＤＨを所定の画素幅で拡大して穴認識有効信号ＭＥを作成してもよい。実際のプリント配線板１０では，ビアホールの位置が，所定の公差内で設計値からずれていることがあるからである。すなわち，穴認識有効信号ＭＥは，ビアホールが設計値からずれうる最大範囲を考慮したものである。作成された穴認識有効信号ＭＥは，穴判定部４４へ送られる。
【００３９】
次に，穴判定部４４における処理について説明する。穴判定部４４には，径判定部４１から，パターン画像ＰＩの各暗画素についての各方角の径判定値ＭＣが入力される。また，穴認識領域作成部４３から，穴認識有効信号ＭＥが入力される。さらに，マスク処理ＣＰＵ部４９から，連続ＯＫ本数という信号が入力される。連続ＯＫ本数についての詳細な説明は後に譲るが，原則的にはその値は，径判定部４１で行われる径判定の際の方角の数，すなわち「８」と同じである。これらにより穴判定部４４では，パターン画像ＰＩの各暗画素について穴判定が行われる。
【００４０】
この穴判定は，図９に示すようにＳＲＡＭを用いて行われる。すなわち図９のシステムでは，パターン画像ＰＩのある暗画素についての各方角の径判定値ＭＣがＳＲＡＭのアドレス線に入力されている。また，連続ＯＫ本数の信号および穴認識有効信号ＭＥも入力されている。これにより次のようにして，穴認識信号ＭＲが作成され，データ線から出力される。まず，各径判定値ＭＣのうち値が「１」，すなわちＯＫである方角が何本連続しているかがカウントされる。例えば着目画素が図７に示すＡであった場合には，すべての方角について判定がＯＫであるからカウント値は「８」となる。同様に着目画素がスルーホール（図３）やピンホール欠陥（図５）に属するものであった場合にも，カウント値は「８」となる。これに対し，着目画素が線間（図６）に属するものであった場合には，方角Ｎと方角Ｓとについては判定がＮＧであるから，連続して判定がＯＫである方角は，「ＮＥ，Ｅ，ＳＥ」および「ＳＷ，Ｗ，ＮＷ」であり，カウント値は「３」となる。
【００４１】
そして，このカウント値と連続ＯＫ本数とが比較される。カウント値が連続ＯＫ本数以上であった場合には着目画素はマスク候補であるとされる。カウント値が連続ＯＫ本数を下回っていた場合には着目画素はマスク候補でないとされる。例えば着目画素が図７に示すＡであった場合には，カウント値が「８」であるから，マスク候補とされる。同様に着目画素がスルーホール（図３）やピンホール欠陥（図５）に属するものであった場合にも，マスク候補とされる。これに対し，着目画素が線間（図６）に属するものであった場合には，カウント値が「３」であり，連続ＯＫ本数を下回っているので，マスク候補ではないとされる。
【００４２】
なお，連続ＯＫ本数を方角の総数と同じとしたのは，通常のプリント配線板１０ではビアホールの周囲のランドに座切れがないはずだからである。ただしプリント配線板１０の仕様により加工精度のグレードが低い場合には，多少の座切れが許容されることがある。その場合には図１０に示すように，ランドがどこか一箇所で切れており，そこを通る方角の判定がＮＧとなることがある。この場合にこのような画素がマスク候補ではないとされてしまうのは不適当である。連続ＯＫ本数を方角の総数より少し小さくしておけば，これを回避することができる。このため連続ＯＫ本数は，方角の総数を含む範囲内で可変とし，その可変範囲内で設定できるようにされている。
【００４３】
着目画素がマスク候補であったばあいには，さらに穴認識有効信号ＭＥによる選別に供される。すなわち，マスク候補と認定された画素であってかつ穴認識有効信号ＭＥの範囲内の画素のみが選別され真の穴認識信号と判定される。この選別により，穴認識有効信号ＭＥの範囲外のマスク候補画素が排除される。穴認識有効信号ＭＥの範囲外のマスク候補画素は，ビアホールに基づくものではあり得ず，ピンホール等の欠陥に基づくと考えられる。したがってこのような画素をマスクとするのは不適当だからである。
【００４４】
以上の，マスク候補の認定および穴認識有効信号ＭＥによる選別が，パターン画像ＰＩに含まれる各暗画素について行われる。穴判定部４４からマスク作成部４５へと送られる穴認識信号ＭＲは，このように最終的に真にマスク作成の基準となるべきものとして選別された画素に関する情報である。
【００４５】
続いて，穴認識信号ＭＲの入力を受けたマスク作成部４５では，マスク画像ＭＩの作成が行われる。すなわち，穴認識信号ＭＲに含まれる各画素に対し当該１画素をマスク画素とする。これにより，ビアホールをぎりぎりカバーするマスク画像ＭＩが得られる。ただし，穴認識信号ＭＲに含まれる各画素に対しある程度の倍率（９倍等）を掛けてもよい。その場合には少し大きめ（９倍なら１画素幅分大きい）のマスクが得られる。このようにマスク作成部４５は，任意のマスクサイズを得るための拡大フィルターといえる。作成されたマスク画像ＭＩは，パターン画像ＰＩのうち，良否検査の対象外とされる部分を表している。
【００４６】
かくしてマスク画像ＭＩが作成されると，検査部３１での検査処理が行われる。このため検査部３１には，マスク画像ＭＩとパターン画像ＰＩとが入力される。ちなみに，検査部３１に入力されるパターン画像ＰＩは，マスク画像ＭＩとの位置合わせのため，マスク処理時間分の遅延処理を遅延回路４７で受けている。また，検査部３１には，断線，短絡，欠け等の欠陥形状のデータが，あらかじめマスタＣＰＵ３２から供給されて格納されている。これにより検査部３１は，パターン画像ＰＩのうちマスク画像ＭＩ以外の範囲について，欠陥形状もしくはこれに類似する形状を抽出する処理を行う。抽出された欠陥形状等のデータＤＤは，マスタＣＰＵ３２へ送られ，集計される。ここで，プリント配線板１０の仕様によっては，正しい配線パターンの中に上記の欠陥に類似する形状が含まれている場合がある。そのような場合には，あらかじめこれを検査対象から除外するデータを検査部３１に用意しておくことが好ましい。マスタＣＰＵ３２に集計された欠陥データは，端末３３を通じて表示したり出力したりすることができる。
【００４７】
以上のようにして，プリント配線板１０についての検査がなされる。そして，同一の製造ロットに属する同一品種のプリント配線板１０について続けて良否検査を行う場合でも，１枚目と同様に当該プリント配線板１０のパターン画像ＰＩから穴認識信号ＭＲを抽出し，改めてマスク画像ＭＩを作成することとなる。当該プリント配線板１０の穴形状にマッチングした高精度なマスク画像ＭＩにて良否検査を行うためである。
【００４８】
以上詳細に説明したように本実施の形態の配線パターン検査装置では，プリント配線板１０の撮像データを２値化して得られたパターン画像ＰＩに含まれる各暗画素について，径判定部４１にて，その暗画素から８つの方角ごとに暗画素がいくつ続いているかをカウントし径判定値ＭＣを出力することとしている。ここで，各方角とも着目している画素のカウント値を「１」としてカウントすることとしているので，暗画素が１画素の部分も見逃すことなく抽出できる。このため，ビアホールのようないびつな形状の暗画素群を形成するものであっても，もれなく抽出して穴認識信号ＭＲとすることができる。もちろん，従来のように半径基準判定によるスルーホール抽出もできる。したがって，フォトビアホールを含むプリント配線板１０であっても，マスク作成部４５で，穴形状をぎりぎり被覆する適切なマスクを作成できる。これにより，ビアホール等に起因する虚報の発生を排除しつつ，かつ検査漏れの発生しにくい配線パターン検査装置が実現されている。
【００４９】
また，径判定値ＭＣと穴認識有効信号ＭＥとに基づいて穴判定部４４で穴認識信号ＭＲを抽出するに際し，連続ＯＫ本数の値を抽出の判断基準として用いている。そしてその値を，方角の総数を含む範囲内で可変とし，その可変範囲内で設定できるようにしたので，プリント配線板１０の仕様が，加工精度のグレードが低くある程度の座切れが許容されるものであったとしても，座切れのためにビアホール等の抽出漏れが起こることを防止できるものである。
【００５０】
なお，本実施の形態は単なる例示にすぎず，本発明を何ら限定するものではない。したがって本発明は当然に，その要旨を逸脱しない範囲内で種々の改良，変形が可能である。例えば，穴認識有効信号ＭＥを基にパターン画像ＰＩを径判定することにより，より高速にマスク画像を作成するようにしてもよい。また，２値化データに限らず３値化以上のデータでも利用できる。また，径判定部４１における径判定の方角の数は，「８」に限らない。例えば，「４」，「１２」，「１６」等も考えられるし，４の倍数でなくてもよい。
【００５１】
また，穴情報メモリ部４２から穴認識領域作成部４３へ供給するビアホールのデータＤＨは，プリント配線板１０の設計データから持ってくる代わりに別の手段で用意してもよい。例えば，検査するプリント配線板１０と同じ穴形成を行った基準板についてパターン画像ＰＩを作成するとともに，それについての穴判定部４４での処理（図９）において，穴認識有効信号ＭＥを用いず，径判定値ＭＣおよび連続ＯＫ本数のみで穴認識信号ＭＲを作成し，これを穴情報メモリ部４２へフィードバックしてデータＤＨとすることが考えられる。さらにこの場合には，各プリント配線板１０の検査をするたびに穴認識信号ＭＲを穴情報メモリ部４２へフィードバックして学習効果を持たせることも考えられる。
【００５２】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように本発明によれば，底面が鈍く光るフォトビアホールのような非貫通穴についても適切に暗画素部分を認識し，高精度に最小限の穴マスクを生成することができ，これににより非貫通穴の周辺における検査の信頼性を確保しつつ，非貫通穴に起因する虚報の発生を抑えた配線パターン検査装置が提供されている。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の配線パターン検査装置での各方角の画素数のカウント方法を示す図である。
【図２】  実施の形態に係る配線パターン検査装置のブロック構成を示す図である。
【図３】  スルーホールの２値化画像を示す図である。
【図４】  フォトビアホールの２値化画像を示す図である。
【図５】  ピンホールの２値化画像を示す図である。
【図６】  配線と配線との間の絶縁部分の２値化画像を示す図である。
【図７】  実施の形態の配線パターン検査装置での各方角の暗画素数のカウントを説明する図である。
【図８】  ＳＲＡＭを用いた径判定処理を説明する図である。
【図９】  ＳＲＡＭを用いた穴判定処理を説明する図である。
【図１０】  座切れを説明する図である。
【図１１】  従来の配線パターン検査装置での各方角の暗画素数のカウント方法を示す図である。
【図１２】  従来の配線パターン検査装置でのフォトビアホールの測定を示す図である。
【図１３】  従来の配線パターン検査装置での線間絶縁部分の測定を示す図である。
【符号の説明】
２    撮像系
３１  検査部
４１  径判定部
４３  穴認識領域作成部
４４  穴判定部
４５  マスク作成部
ＰＩ  パターン画像（２値画像）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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