(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被製版ロールの軸をチャックで固定して取り付け、この被製版ロール外周の製版面に露光ビームを照射し、前記チャックを前記軸まわりに回転させるとともに前記露光ビームを前記軸方向に走査し、所定のパターンデータに基づいて前記露光ビームの照射／非照射を制御することにより、前記製版面上に露光パターンを形成する機能をもったパターン露光装置を用いて、前記製版面上に、少なくとも２つのパターンを重ねてなる多重パターンを形成する方法において、
「製版面上に形成すべき本来のパターンが配置されたパターン形成領域」と「位置決めマークが配置された位置合わせ領域」とを有する第１のパターンおよび第２のパターンを、それぞれパターンデータとして用意し、前記第１のパターンと前記第２のパターンとを正しい位置で重ねたときの、前記第１のパターンに含まれる第１の位置決めマークと前記第２のパターンに含まれる第２の位置決めマークとの正しい相互位置関係を認識する第１の段階と、
被製版ロールの製版面に第１回目のレジスト層をコーティングし、前記被製版ロールを前記パターン露光装置に取り付け、前記第１回目のレジスト層上に、前記第１のパターンの「パターン形成領域」および「位置合わせ領域」の双方に対応した露光パターンを形成する第２の段階と、
前記被製版ロールを前記パターン露光装置から取り外し、前記第１回目のレジスト層を現像した後、現像により露出した製版面の一部に腐食液を作用させて腐食させ、残存レジスト層を除去して洗浄することにより、製版面上に前記第１のパターンに対応した凹凸構造を得る第３の段階と、
前記被製版ロールの前記凹凸構造を有する製版面に第２回目のレジスト層をコーティングし、前記被製版ロールを前記パターン露光装置に取り付け、前記第２回目のレジスト層上に、前記第２のパターンの「位置合わせ領域」の部分に対応した露光パターンを形成する第４の段階と、
前記被製版ロールを前記パターン露光装置に取り付けた状態のまま、前記第２回目のレジスト層上の前記第２の位置決めマークに対応する露光パターンが形成されていると予想される領域を現像し、前記第２の位置決めマークに対応する露光パターンを顕在化させ、この顕在化させたレジスト層上の前記第２の位置決めマークと、既に製版面上に凹凸構造パターンとして形成されている前記第１の位置決めマークと、の実際の相互位置関係を認識する第５の段階と、
前記第１の段階で認識した正しい相互位置関係と前記第５の段階で認識した実際の相互位置関係とに基づいて、前記第２のパターンのパターンデータに対する位置補正処理を施し、この位置補正処理後のパターンデータを用いて、前記第２回目のレジスト層上に、前記第２のパターンの「パターン形成領域」の部分に対応した露光パターンを形成する第６の段階と、
前記被製版ロールを前記パターン露光装置から取り外し、前記第２回目のレジスト層を現像した後、現像により露出した製版面の一部に腐食液を作用させて腐食させ、残存レジスト層を除去して洗浄することにより、製版面上に前記第１のパターンと前記第２のパターンとの多重パターンに対応した凹凸構造を得る第７の段階と、
を有することを特徴とする被製版ロールへの多重パターン形成方法。
【請求項２】
請求項１に記載の多重パターン形成方法において、
本来のパターンを配置するパターン形成領域の外側に位置合わせ領域を定義し、この位置合わせ領域内に各位置決めマークを配置するようにし、前記位置合わせ領域が被製版ロールの軸方向端部にくるようにしてパターンの露光を行うことを特徴とする被製版ロールへの多重パターン形成方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の多重パターン形成方法において、
被製版ロールおよびチャックに、軸まわりの回転方向に関する両者の大まかな位置合わせを行うための目安マークを付加もしくは定義し、被製版ロールをチャックに取り付ける際に、前記目安マークを利用した大まかな位置合わせを行うようにすることを特徴とする被製版ロールへの多重パターン形成方法。
【請求項４】
請求項３に記載の多重パターン形成方法において、
第２回目のレジスト層の材料として、既に製版面上に形成されている第１の位置決めマークをレジスト層を通して確認するのに十分な透明度をもった材料を用い、第５の段階における相互位置関係の認識を、第２回目のレジスト層を通して行うことを特徴とする被製版ロールへの多重パターン形成方法。
【請求項５】
請求項４に記載の多重パターン形成方法において、
位置決めマークとして、寸法目盛りを含むマークを用いることを特徴とする被製版ロールへの多重パターン形成方法。
【請求項６】
請求項５に記載の多重パターン形成方法において、
第１の位置決めマークと第２の位置決めマークとを、複数の指標を所定ピッチで配置した寸法目盛りにより構成し、第１の位置決めマークを構成する指標のピッチと第２の位置決めマークを構成する指標のピッチとが等しくなるように設定するとともに、第１の位置決めマークを構成する指標の幅と第２の位置決めマークを構成する指標の幅とが異なるように設定したことを特徴とする被製版ロールへの多重パターン形成方法。
【請求項７】
請求項４に記載の多重パターン形成方法において、
第１の位置決めマークおよび第２の位置決めマークが相似形となるようにし、正しく位置合わせが行われたときに、両位置決めマークが同心の入れ子状になるように配置されていることを特徴とする被製版ロールへの多重パターン形成方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の多重パターン形成方法において、
認識した相互位置関係に基づいて両パターンのオフセット量を求め、第２のパターンのパターンデータに対して、記憶装置上で前記オフセット量だけずらすような編集を加えることにより、第６の段階における位置補正処理を実行することを特徴とする被製版ロールへの多重パターン形成方法。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれかに記載の多重パターン形成方法において、
認識した相互位置関係に基づいて両パターンのオフセット量を求め、第２のパターンのパターンデータを記憶装置から読み出すときに、前記オフセット量に基づいて読み出し先頭位置をずらすことにより、第６の段階における位置補正処理を実行することを特徴とする被製版ロールへの多重パターン形成方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は被製版ロールへの多重パターン形成方法に関し、特に、同一の被製版ロールに対して、異なるパターンを用いて複数回の露光を行い、多重パターンを形成する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
グラビア印刷用の刷版やエンボス加工用のエンボス版は、通常、円柱状の被製版ロールの外面に凹凸構造を形成することにより作成される。凹凸構造の形成方法としては、打刻針やレーザ光などで彫刻する彫刻方式と、エッチング液を用いて腐食する腐食方式とが、広く利用されている。後者の腐食方式を採る場合、パターン露光装置を用いた露光が行われる。すなわち、被製版ロールの製版面（ロールの外周面）に感光性レジスト層をコーティングし、このレジスト層上に所定のパターンを焼き付け、現像を行った後にエッチング液を作用させ、所定のパターンに応じた部分のみを腐食除去する工程が行われる。
【０００３】
被製版ロールの製版面にパターンを焼き付ける方法として、フィルムを用いた方法が古くから行われている。この方法では、所定のパターンが二値画像として描かれたフィルムを、レジスト層をコーティングした被製版ロールの外周面に巻き付け、フィルムごしに光を照射することになる。一方、フィルムを用いずに、ビーム走査により直接露光を行う方法も近年盛んに行われている。この方法では、焼き付けるパターンをデジタルデータの形式で用意し、このデジタルデータに基づいて、レーザ光などのビームを走査するとともに照射／非照射を制御し、製版面上に所望のパターンを描くことになる。このようなビームを用いた直接露光に利用されるパターン露光装置には、デジタルパターンデータに基づいて、ビームを走査する機構が備わっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
グラビア印刷用の刷版やエンボス加工用のエンボス版には、平面的な二次元パターンを表現するための凹凸構造が形成されるのが一般的である。しかしながら、最近は、三次元の情報をもったパターンを凹凸構造として形成し、製品の品質をより高めようとする提案がなされている。たとえば、特許協力条約に基づく国際公開第ＷＯ９５／２１０６０号公報には、木目模様の壁紙に、木目導管溝の凹凸構造をエンボス加工により表現する手法が開示されている。この手法によると、深部ほど径が小さくなるような導管溝がエンボス加工により形成される。このような三次元形状をもった導管溝用のエンボス版を腐食方式で作成するには、複数枚のパターンを用意し、個々のパターンごとに焼き付け、現像、腐食といった工程を繰り返す多重露光を行い、多重パターンを形成する必要がある。そのためは、複数のパターン間での位置合わせが必要になる。
【０００５】
パターンを焼き付ける際に、上述したフィルムを用いる方法を採る場合、被製版ロールの外周面にフィルムを巻き付けるときに、パターンの位置合わせを行うことが可能である。すなわち、既に第１枚目のパターンが形成された被製版ロール上に、第２枚目のパターンが描かれたフィルムを巻き付ける場合、肉眼で両パターンの位置関係を把握しながら、フィルムを正しい位置に合わせることが可能である。ところが、ビーム走査により直接露光を行う方法を採る場合、従来のパターン露光方法では、両パターンの位置合わせ作業が非常に困難である。一般に利用されているパターン露光装置は、もともと、同一の被製版ロール上に複数枚のパターンを重複露光させるような利用形態を想定していないため、第１回目の露光時の被製版ロールの位置（特に、軸回りの回転位置）と第２回目の露光時の被製版ロールの位置とを正確に合わせる機構をもちあわせていない。すなわち、既に第１枚目のパターンが形成された被製版ロール上に、第２枚目のパターンをビームによって描画する場合、第１枚目のパターンは肉眼で確認することができる物理的なパターンであるのに対し、第２枚目のパターンは、デジタルデータとして用意されたパターンであるので、両者を肉眼で位置合わせすることはできない。
【０００６】
このような事情から、ビーム走査による直接露光を行うパターン露光装置を用いて多重露光を行う際には、筆記具などを用いて被製版ロール上に目安線を描いておき、この目安線に基づいて大まかな位置合わせを行っている。しかしながら、木目導管溝のように、１０μｍ〜１００μｍのオーダーをもった細かなパターンについての多重露光を行う場合、このような目安線に基づく位置合わせでは、十分な精度は到底得ることができない。もちろん、被製版ロールによっては、パターン露光装置側のチャックに設けられたキー溝に嵌合するキーが形成されているタイプのものがあり、このようなタイプの被製版ロールを用いれば、被製版ロール側のキーを、チャック側のキー溝に嵌合させた状態で取り付けることにより、正確な位置合わせは可能である。ただ、キーとキー溝の組み合わせには種々の規格があり、実際には、キーなしタイプの被製版ロールが多数利用されているのが現状である。
【０００７】
そこで本発明は、ビーム走査による多重露光を行う露光装置を用いて、個々のパターンが正確に位置合わせされた多重パターンを、被製版ロール上に形成する方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
(1)   本発明の第１の態様は、被製版ロールの軸をチャックで固定して取り付け、この被製版ロール外周の製版面に露光ビームを照射し、チャックを軸まわりに回転させるとともに露光ビームを軸方向に走査し、所定のパターンデータに基づいて露光ビームの照射／非照射を制御することにより、製版面上に露光パターンを形成する機能をもったパターン露光装置を用いて、製版面上に、少なくとも２つのパターンを重ねてなる多重パターンを形成する被製版ロールへの多重パターン形成方法において、
「製版面上に形成すべき本来のパターンが配置されたパターン形成領域」と「位置決めマークが配置された位置合わせ領域」とを有する第１のパターンおよび第２のパターンを、それぞれパターンデータとして用意し、第１のパターンと第２のパターンとを正しい位置で重ねたときの、第１のパターンに含まれる第１の位置決めマークと第２のパターンに含まれる第２の位置決めマークとの正しい相互位置関係を認識する第１の段階と、
被製版ロールの製版面に第１回目のレジスト層をコーティングし、被製版ロールをパターン露光装置に取り付け、第１回目のレジスト層上に、第１のパターンの「パターン形成領域」および「位置合わせ領域」の双方に対応した露光パターンを形成する第２の段階と、
被製版ロールをパターン露光装置から取り外し、第１回目のレジスト層を現像した後、現像により露出した製版面の一部に腐食液を作用させて腐食させ、残存レジスト層を除去して洗浄することにより、製版面上に第１のパターンに対応した凹凸構造を得る第３の段階と、
被製版ロールの凹凸構造を有する製版面に第２回目のレジスト層をコーティングし、被製版ロールをパターン露光装置に取り付け、第２回目のレジスト層上に、第２のパターンの「位置合わせ領域」の部分に対応した露光パターンを形成する第４の段階と、
被製版ロールをパターン露光装置に取り付けた状態のまま、第２回目のレジスト層上の第２の位置決めマークに対応する露光パターンが形成されていると予想される領域を現像し、第２の位置決めマークに対応する露光パターンを顕在化させ、この顕在化させたレジスト層上の第２の位置決めマークと、既に製版面上に凹凸構造パターンとして形成されている第１の位置決めマークと、の実際の相互位置関係を認識する第５の段階と、
第１の段階で認識した正しい相互位置関係と第５の段階で認識した実際の相互位置関係とに基づいて、第２のパターンのパターンデータに対する位置補正処理を施し、この位置補正処理後のパターンデータを用いて、第２回目のレジスト層上に、第２のパターンの「パターン形成領域」の部分に対応した露光パターンを形成する第６の段階と、
被製版ロールをパターン露光装置から取り外し、第２回目のレジスト層を現像した後、現像により露出した製版面の一部に腐食液を作用させて腐食させ、残存レジスト層を除去して洗浄することにより、製版面上に第１のパターンと第２のパターンとの多重パターンに対応した凹凸構造を得る第７の段階と、
を行うようにしたものである。
【０００９】
(2)   本発明の第２の態様は、上述の第１の態様に係る被製版ロールへの多重パターン形成方法において、
本来のパターンを配置するパターン形成領域の外側に位置合わせ領域を定義し、この位置合わせ領域内に各位置決めマークを配置するようにし、位置合わせ領域が被製版ロールの軸方向端部にくるようにしてパターンの露光を行うようにしたものである。
【００１０】
(3)   本発明の第３の態様は、上述の第１または第２の態様に係る被製版ロールへの多重パターン形成方法において、
被製版ロールおよびチャックに、軸まわりの回転方向に関する両者の大まかな位置合わせを行うための目安マークを付加もしくは定義し、被製版ロールをチャックに取り付ける際に、この目安マークを利用した大まかな位置合わせを行うようにしたものである。
【００１１】
(4)   本発明の第４の態様は、上述の第３の態様に係る被製版ロールへの多重パターン形成方法において、
第２回目のレジスト層の材料として、既に製版面上に形成されている第１の位置決めマークをレジスト層を通して確認するのに十分な透明度をもった材料を用い、第５の段階における相互位置関係の認識を、第２回目のレジスト層を通して行うようにしたものである。
【００１２】
(5)   本発明の第５の態様は、上述の第４の態様に係る被製版ロールへの多重パターン形成方法において、
位置決めマークとして、寸法目盛りを含むマークを用いるようにしたものである。
【００１３】
(6)   本発明の第６の態様は、上述の第５の態様に係る被製版ロールへの多重パターン形成方法において
第１の位置決めマークと第２の位置決めマークとを、複数の指標を所定ピッチで配置した寸法目盛りにより構成し、第１の位置決めマークを構成する指標のピッチと第２の位置決めマークを構成する指標のピッチとが等しくなるように設定するとともに、第１の位置決めマークを構成する指標の幅と第２の位置決めマークを構成する指標の幅とが異なるように設定したものである。
【００１４】
(7)   本発明の第７の態様は、上述の第４の態様に係る被製版ロールへの多重パターン形成方法において、
第１の位置決めマークおよび第２の位置決めマークが相似形となるようにし、正しく位置合わせが行われたときに、両位置決めマークが同心の入れ子状になるように配置したものである。
【００１５】
(8)   本発明の第８の態様は、上述の第１〜第７の態様に係る被製版ロールへの多重パターン形成方法において、
認識した相互位置関係に基づいて両パターンのオフセット量を求め、第２のパターンのパターンデータに対して、記憶装置上でオフセット量だけずらすような編集を加えることにより、第６の段階における位置補正処理を実行するようにしたものである。
【００１６】
(9)   本発明の第９の態様は、上述の第１〜第７の態様に係る被製版ロールへの多重パターン形成方法において、
認識した相互位置関係に基づいて両パターンのオフセット量を求め、第２のパターンのパターンデータを記憶装置から読み出すときに、オフセット量に基づいて読み出し先頭位置をずらすことにより、第６の段階における位置補正処理を実行するようにしたものである。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図示する実施形態に基づいて説明する。
【００１８】
§１．  一般的なパターン露光装置の構成
図１は、現在、一般的に利用されている被製版ロールへのパターン露光装置の基本構成を示すブロック図である。この装置は、露光対象となる被製版ロール１００の製版面１１０にビームを照射して所定のパターンを露光する機能を有する。製版面１１０は、通常、銅や鉄などの金属から構成されており、この製版面１１０の表面に感光性のレジスト層（以下、単にレジスト層と呼ぶ）をコーティングした状態にして、被製版ロール１００をパターン露光装置に取り付けることになる。このパターン露光装置は、製版面１１０上のレジスト層にビームを照射し、露光部と非露光部とからなるパターンを形成する露光処理を行う。この露光処理が完了した被製版ロール１００は、別の現像装置において現像され、レジスト層のうちの露光部（ポジ型レジスト層の場合）もしくは非露光部（ネガ型レジスト層の場合）が除去されることになる。その後、製版面１１０に腐食液を作用させると、レジスト層が除去されて露出した金属面が腐食を受けて窪み、露光したパターンに応じた凹凸構造が形成されることになる。
【００１９】
このパターン露光装置の基本構成要素は、図１に示されているとおり、チャック１０と、回転駆動手段２０と、露光ビーム照射手段３０と、パターンデータ格納手段４０と、制御手段５０とである。なお、図１では、各構成要素間における電気信号の伝達経路を実線の矢印で示し、機械的な動力の伝達経路を白抜きの太矢印で示し、ビームの照射経路を破線の矢印で示してある。
【００２０】
チャック１０は、被製版ロール１００の軸を把持固定する機能をもった構成要素であり、図示のとおり被製版ロール１００の両端にそれぞれ設けられている。被製版ロール１００は、図に一点鎖線で示す回転軸Ａを中心軸として、この軸回りに回転駆動させられる円柱状のシリンダーであり、その両端には、円柱状の軸芯部１２０および軸端部１３０が設けられている。チャック１０は、３組の把持爪１１を備えており、この３組の把持爪１１によって、軸端部１３０を把持固定することができる。図２は、チャック１０による軸端部１３０の固定状態を示す図であり、図１に示すチャック１０を、回転軸Ａに沿った方向からみた図に相当する。図の中央に描かれた円は、軸端部１３０の位置を示すものである。３組の把持爪１１は、チャック１０の半径方向に摺動可能になっており、それぞれを中心方向に摺動させ、内端面を軸端部１３０の外周面に当接した状態で固定することにより、軸端部１３０をしっかりと把持固定することができる。
【００２１】
もっとも、図示したチャック１０は、現在、一般的に利用されているチャックの一例を示したものであり、この他にも種々の形態のチャックが利用されている。たとえば、被製版ロール１００によっては、軸芯部１２０および軸端部１３０を有しておらず、単なる中空の円筒シリンダー状のタイプもある。このようなタイプの被製版ロールについては、別途用意した軸芯部１２０および軸端部１３０に相当するホルダー部品を両端に嵌合させた後、チャック１０に固定することになる。
【００２２】
回転駆動手段２０は、チャック１０を回転軸Ａまわりに回転駆動させる手段であり、この実施形態では、電動モータを内蔵した駆動装置により構成されている。制御手段５０から与えられる回転制御信号Ｃに基づいて、回転駆動手段２０は、所定の回転速度でチャック１０を回転駆動させる機能を有する。なお、図示の例では、一対のチャック１０のうち、右側のチャック１０に対してのみ回転駆動手段２０からの動力が伝達され、左側のチャック１０は、単に、被製版ロール１００を把持固定する機能のみを有する。なお、被製版ロール１００とチャック１０との円周方向に関する相対的な位置関係は、チャック１０への取り付け作業を行うたびに変動する。すなわち、図２に示すように、軸端部１３０を把持爪１１によって把持固定した状態では、被製版ロール１００とチャック１０との相対的な回転位置は固定されるが、把持爪１１を緩め、被製版ロール１００をチャック１０から取り外してしまうと、両者の相対的な位置関係は失われてしまう。本発明に係る多重パターン形成方法は、このように、被製版ロール１００をチャック１０から取り外し、再び取り付けた場合にも、常に同一の位置基準でパターン露光を行うことができる手法を提供するものである。
【００２３】
露光ビーム照射手段３０は、被製版ロール１００の製版面１１０に照射する露光用のビームＢ（この例は、レーザ光ビームを用いた例であるが、電子線ビームなど他の荷電粒子や電磁波のビームを用いる装置もある）を発生するビーム発生部３１と、発生したビームＢを被製版ロール１００の軸方向に走査するビーム走査部３２と、を有する。回転駆動手段２０によって、製版面１１０を回転させると、露光用のビームＢを製版面１１０の円周方向に走査させることができるが、ビーム走査部３２によってビーム発生部３１を軸方向に移動させれば、露光用のビームＢを製版面１１０の回転軸Ａ方向に走査させることができる。こうして、露光ビーム照射手段３０は、制御手段５０から与えられるパターン描画信号Ｓに基づいて、製版面１１０の全面をビーム走査により露光する処理を行う。
【００２４】
パターンデータ格納手段４０は、製版面１１０上に露光すべきパターンを示すパターンデータを格納している。通常、パターンデータは、縦横に配列された多数の画素からなるラスターデータの形式で用意されており、個々の画素ごとに、描画／非描画のいずれかを示す画素値が定義されている。本発明では、後述するように、複数のパターンを重ねることにより、製版面１１０上に多重パターンを形成することになるので、パターンデータ格納手段４０内には、重ね合わせるべき複数のパターンについてのパターンデータが格納されていることになる。
【００２５】
制御手段５０は、回転駆動手段２０に対して回転制御信号Ｃを与えるとともに、パターンデータ格納手段４０内に格納されているパターンデータに基づいて、露光ビーム照射手段３０にパターン描画信号Ｓを与える機能を有する。パターン描画信号Ｓは、ビーム発生部３１に対して、ビームの照射／非照射を指示するとともに、ビーム走査部３２に対して走査指示を与える信号である。制御手段５０は、回転駆動手段２０の回転速度およびビーム走査部３２による走査速度を考慮して、製版面１１０上における露光用のビームＢの走査位置を認識し、パターンデータ格納手段４０内のパターンデータを参照した上で、当該走査位置に対して、露光用のビームＢを照射すべきか、非照射とすべきかを判断することになる。パターン描画信号Ｓは、このような照射／非照射を示すビット列を含む信号になる。
【００２６】
§２．  多重露光を必要とするエンボス製品
本発明は、§１で述べたパターン露光装置を用いて多重露光を行う新規な手法を提案するものであるが、ここでは、このような多重露光を必要とする具体的なエンボス製品の一例を示しておく。たとえば、図３に側断面図を示すような木目柄の壁紙シート２００を考える。この壁紙シート２００の表面には、木目導管溝を模した溝がエンボス加工により形成されている。天然木には、生理作用を営むために必要な物資の通り道となる微細な導管が存在し、天然木から切り出した材木面には、この導管を切断することによって得られる木目導管溝が現れる。木目柄の壁紙シートなどには、この天然木の木目導管溝を模したエンボス溝が形成されることが多い。図３は、こうして形成された疑似的なエンボス溝の拡大断面図であり、第１段目の溝２０１と第２段目の溝２０２とによって、疑似的な木目導管溝が形成されている。このような段差構造をもった疑似的な木目導管溝は、天然木の木目導管溝に近い構造を有しているため、壁紙シート２００の表面などに形成すると、より自然な風合いを表現することができる。
【００２７】
このような段差構造をもった溝を壁紙シート２００上に形成するためには、段差構造をもったエンボス版を作成する必要がある。段差構造をもったエンボス版を作成する手法には、いくつかの方法が知られているが、最も単純な方法は、複数のパターンを用いて複数回の腐食工程を繰り返す方法である。たとえば、図４の平面図に示すような第１枚目のパターンを用意し、この第１枚目のパターンに基づいて、製版面１１０を腐食すれば、図５の側断面図に示すように、第１の段差部１１１を形成することができる。続いて、図６の平面図に示すような第２枚目のパターンを用意し、この第２枚目のパターンに基づいて、図５に示す製版面１１０に対して再度の腐食を行えば、図７の側断面図に示すように、第１の段差部１１１上に第２の段差部１１２が形成された段差構造を得ることができる。この図７に示すような段差構造をもったエンボス版を用いてエンボス加工を行えば、図３に示すような壁紙シート２００を製造することができる。
【００２８】
ところが、壁紙シート２００上に形成される疑似的な木目導管溝は、幅が数１０μｍ〜５００μｍ程度、長さが数１００μｍ〜数ｍｍ程度と、比較的小さな寸法をもった模様である。このため、２枚のパターンの位置合わせ誤差を、少なくとも５００μｍ以下に抑えなければ、実用上、利用することはできない。しかしながら、現在、一般的に利用されている§１で述べたパターン露光装置を用いて多重露光を行った場合、５００μｍという精度での位置合わせを行うことは非常に困難である。第１のパターンを製版面１１０上に形成するためには、被製版ロール１００の表面にレジスト層をコーティングし、§１で述べたパターン露光装置を用いて第１回目の露光を行った後、被製版ロール１００を、このパターン露光装置から一旦取り外して、現像、腐食、洗浄などの工程を施す必要がある。そして、この第１のパターンの上に、更に重ねて第２のパターンを形成するためには、再び、被製版ロール１００の表面にレジスト層をコーティングし、§１で述べたパターン露光装置を用いて第２回目の露光を行う必要があるが、従来公知のチャック１０により軸端部１３０を把持固定するパターン露光装置には、第１回目の露光時と第２回目の露光時とにおける位置合わせ精度を十分に確保するための機構は元来備わっていない。本発明は、このような問題を解決するための新規な手法を提案するものである。
【００２９】
§３．  本発明に係る多重パターン形成方法の手順
続いて、本発明に係る被製版ロールへの多重パターン形成方法の手順を、図８の流れ図に基づいて説明する。ここでは、説明の便宜上、図９(a) に示す第１のパターンＰ１と、図９(b) に示す第２のパターンＰ２とを重ね合わせることにより、図９(c) に示すような多重パターンＰ１２を形成する場合を例にとり、図８の流れ図の手順の説明を行うことにする。多重パターンＰ１２は、§２で述べたように、木目導管溝を疑似的に二段階の溝として表現するためのエンボス版を作成するのに必要なパターンであり、図９(a) に示す第１のパターンＰ１は、木目導管溝の平面図に相当し、図４に示す第１枚目のパターンを多数並べたものであり、図９(b) に示す第２のパターンＰ２は、図６に示す第２枚目のパターンを多数並べたものである。この第２のパターンＰ２は、第１のパターンＰ１と同形状で、面積は１／４に縮小されたものである。図９(c) の多重パターンＰ１２に示されているように、第１のパターンＰ１を構成する多数の楕円状パターンの中に、第２のパターンＰ２を構成する多数の楕円状パターンが、それぞれ入れ子状に重なっていることがわかる。ただ、第２のパターンＰ２を構成する楕円状パターンの中心位置は、第１のパターンＰ１を構成する楕円状パターンの中心位置よりも一方向（図示の例では下方）に偏っている。§２で述べたように、エンボス加工によって木目導管溝を疑似的に表現するためには、個々の楕円状パターンがすべて入れ子状になる必要があり、２枚のパターンＰ１，Ｐ２の位置合わせ誤差を、少なくとも５００μｍ以下に抑えなければ、実用上、利用することはできない。
【００３０】
そこで、図９(a) ，(b) に示されているように、第１のパターンＰ１および第２のパターンＰ２の一部に、相互の位置合わせの指標となるべき第１の位置決めマークＭ１および第２の位置決めマークＭ２をそれぞれ形成しておく。図示の例では、本来のパターンを配置するパターン形成領域ａ１の右外側に位置合わせ領域ａ２が定義されており、この位置合わせ領域ａ２内に各位置決めマークＭ１，Ｍ２が配置されている。このように、パターン形成領域ａ１と位置合わせ領域ａ２とを別個に定義しておくようにすると、以下に述べる位置合わせ作業を、位置合わせ領域ａ２のみを用いて行うことができるようになり、位置合わせ作業が本来のパターンに悪影響を与えることがない。しかも、図９に示されている軸Ａを、被製版ロール１００の回転軸として用いるようにすれば、位置合わせ領域ａ２が被製版ロール１００の右側端部にくるようになるので、後述する位置合わせ作業を効率良く行うことができるようになる。
【００３１】
もっとも、本来のパターンの部分に、位置合わせ作業の影響が多少なりとも及んでもかまわない場合には、敢えて位置合わせ領域ａ２を定義せずに、パターン形成領域ａ１内に位置決めマークＭ１，Ｍ２を配置してもかまわないし、第１のパターンＰ１や第２のパターンＰ２の特定の一部分を、そのまま位置決めマークＭ１，Ｍ２として利用してもかまわない。また、図９に示す例では、位置決めマークＭ１，Ｍ２として、十字状のマークを用いているが、位置を示すことができるマークであれば、どのような形状のマークを位置決めマークＭ１，Ｍ２として用いてもかまわない。ただ、位置合わせ作業を効率的に行うためには、両マークの相互位置関係を認識しやすい形状をもった位置決めマークを用いるのが好ましい（位置決めマークＭ１，Ｍ２のより好ましい形状例については後述する）。
【００３２】
ここで、第１のパターンＰ１と第２のパターンＰ２とを正しい位置で重ね合わせたときの、位置決めマークＭ１と位置決めマークＭ２との相互位置関係は、予め認識しておく必要がある。たとえば、図９に示す例の場合、図９(c) に示すように、両パターンＰ１，Ｐ２を正しい位置で重ねた場合、位置決めマークＭ１，Ｍ２は、縦方向（矢印Ｒで示す被製版ロール１００の回転方向）に距離ｄ０だけ隔たった相互位置関係をもっていることを認識しておく必要がある。別言すれば、位置決めマークＭ１，Ｍ２が縦方向に距離ｄ０だけ隔たるようにして、両パターンＰ１，Ｐ２を重ね合わせるようにすれば、正しく位置合わせされたことになる（もちろん、ｄ０＝０として、両マークを同位置に配置してもよい）。
【００３３】
図８の流れ図におけるステップＳ１は、このような位置決めマークＭ１，Ｍ２を有する２つのパターンＰ１，Ｐ２を、パターンデータとして準備する処理である。すなわち、図１に示す露光装置のパターンデータ格納手段４０内に、図９(a) に示すような第１のパターンＰ１のパターンデータと、図９(b) に示すような第２のパターンＰ２のパターンデータとが用意されることになる。
【００３４】
続くステップＳ２では、まず、被製版ロール１００の製版面１１０上に第１回目のレジスト層をコーティングする処理が行われ、続いて、この被製版ロール１００を図１に示すパターン露光装置に取り付け、コーティングした第１回目のレジスト層上に、第１のパターンＰ１に対応した露光パターンを形成する露光処理が行われる。被製版ロール１００をパターン露光装置に取り付ける際には、軸端部１３０を把持爪１１で固定することになる。制御手段５０は、パターンデータ格納手段４０内に用意されている第１のパターンＰ１についてのパターンデータに基づいて、露光ビーム照射手段３０に回転制御信号Ｃを与えるとともに、露光ビーム照射手段３０にパターン描画信号Ｓを送信する。かくして、図９(a) に示す第１のパターンＰ１の白い部分（あるいは黒い部分）に相当する製版面１１０上の領域にビームが照射されることになる。もちろん、製版面１１０上には、位置決めマークＭ１に対応するパターンも露光形成される。
【００３５】
次に、ステップＳ３において、露光された第１のパターンＰ１についての現像・腐食・洗浄が行われる。すなわち、露光済みの被製版ロール１００を、パターン露光装置から取り外し、第１回目のレジスト層に対する現像が施される。これにより、レジスト層上の非露光領域（あるいは露光領域）が除去され、製版面１１０の表面（金属面）が部分的に露出することになる。こうして露出した製版面１１０の一部に腐食液（たとえば、製版面１１０が銅の場合には、塩化第２銅溶液など）を作用させて腐食させ、更に、残存レジスト層を除去して洗浄することにより、製版面１１０上に第１のパターンＰ１に対応した凹凸構造を得ることができる。すなわち、製版面１１０上には、図５に示すような第１の段差部１１１が多数形成されることになる。
【００３６】
続いて、ステップＳ４において、この第１の段差部１１１に相当する凹凸構造が形成された製版面１１０に、第２回目のレジスト層をコーティングする。そして、この被製版ロール１００を、再び、図１に示すパターン露光装置に取り付けて、第２のパターンＰ２についての露光処理を行う。ただし、今回は、第２のパターンＰ２全体をいきなり露光するのではなく、まず、位置合わせ領域ａ２についての露光のみを先行して行うようにする。別言すれば、製版面１１０の右側の一部分に対してのみ露光が行われることになり、位置決めマークＭ２のパターンのみが露光されることになる。
【００３７】
図１０は、このとき、製版面１１０上に形成されているパターンの概念図である。軸Ａは被製版ロール１００の回転軸を示し、矢印Ｒは被製版ロール１００の回転方向を示している。既に、製版面１１０上には、第１のパターンＰ１が形成されており、その上に、新たに位置決めマークＭ２のパターンが露光形成されたことになる。ここで、パターン形成領域ａ１内に形成されている多数の楕円状パターンＰ１や、位置合わせ領域ａ２内に形成されている位置決めマークＭ１は、製版面１１０上に凹凸構造として形成されているパターンであり、実際には、その上に第２回目のレジスト層がコーティングされている。これに対し、新たに形成された位置決めマークＭ２のパターンは、第２回目のレジスト層に形成された露光パターンであり、この時点では視覚的に観察しても、十分な認識を行うことができない。
【００３８】
そこで、続くステップＳ５において、位置決めマークＭ２についての現像を行う。このとき、被製版ロール１００は、パターン露光装置に取り付けた状態のままにする。すなわち、チャック１０は取り外さずにそのままの状態にしておく。一般に、被製版ロール１００全体に対する現像処理を行うには、被製版ロール１００をパターン露光装置から取り外し、専用の現像処理装置に取り付ける必要がある。しかしながら、位置決めマークＭ２についての現像だけを行うのであれば、パターン露光装置に取り付けた状態のまま処理を行うことが可能である。すなわち、第２回目のレジスト層上の第２の位置決めマークＭ２に対応する露光パターンが形成されていると予想される領域に対して、現像液（この例では、炭酸ナトリウムの０．５％水溶液）を作用させればよい。具体的には、現像液に浸した刷毛などを用いて、製版面１１０の右側部分（位置合わせ領域ａ２に相当する部分）に現像液を塗布すればよい。
【００３９】
このステップＳ５において行われる現像処理は、位置決めマークＭ２に対応する露光パターンを顕在化（視覚的に認識可能な状態とすること）させることを目的とした処理であるため、たとえば、レジスト層上の非露光部分もしくは露光部分が変色を始める程度の現像でかまわない。別言すれば、レジスト層上の非露光部分もしくは露光部分を除去するまでの本格的な現像処理は必要ない。したがって、上述したように、刷毛を用いて、レジスト層の表面に現像液を塗布する程度の作業で十分である。
【００４０】
こうして、位置決めマークＭ２が顕在化したら、この顕在化した位置決めマークＭ２と、既に製版面１１０上に形成されている位置決めマークＭ１に対応する凹凸構造パターンとの相互位置関係を認識する作業を行う。たとえば、図１０に示すように、回転方向Ｒに沿った両者の隔たりｄ１を測定する作業を行えばよい。位置決めマークＭ１は凹凸パターンとしてレジスト層上から肉眼で認識することができ、位置決めマークＭ２はレジスト層上の変色部分として肉眼で認識することができるので、両者の隔たりｄ１は、スケールなどを用いて容易に測定することが可能である。ただ、本実施形態では、用いるレジスト層として、透明な材料を用いているため、位置決めマークＭ１に相当する製版面１１０上の凹凸構造を直接肉眼で認識することが可能である。このように、レジスト層としては、既に製版面１１０上に形成されている第１の位置決めマークＭ１を確認するのに十分な透明度をもった材料を用いるのが好ましい。
【００４１】
なお、この位置決めマークＭ１，Ｍ２の認識は、目視で行う代わりに、機械的に行うことも可能である。たとえば、被製版ロールを回転させながら、位置合わせ領域ａ２をレーザー光ビームで走査し、反射光を光電管等の光センサで検知し、反射光強度の変化として位置決めマークの位置を認識する方法を採ればよい。
【００４２】
こうして、位置決めマークＭ１，Ｍ２の相互位置関係が認識できたら、続くステップＳ６において、認識した相互位置関係に基づいて、第２のパターンＰ２のパターンデータに対する位置補正処理を施し、この位置補正処理後のパターンデータを用いて、第２回目のレジスト層上に、第２のパターンＰ２に対応した露光パターンを形成する処理を行う。すなわち、今度は、パターン形成領域ａ１に対して、本来のパターンの露光処理が行われることになる。このとき、パターンデータ格納手段４０内に用意されている第２のパターンＰ２についてのパターンデータに対して位置補正処理が行われるため、正しい位置合わせが行われることになる。たとえば、図９(c) に示すように、両パターンＰ１，Ｐ２が正しく位置合わせされたときの両位置決めマークＭ１，Ｍ２の隔たりがｄ０であるにもかかわらず、実際に認識された両位置決めマークＭ１，Ｍ２の隔たりが、図１０に示すようにｄ１であったとしたら、このままの状態で製版面１１０のパターン形成領域ａ１に第２のパターンＰ２を露光すると、第２のパターンＰ２は、本来の位置よりも上方にΔｄ＝ｄ１〜ｄ０なるオフセット量だけずれてしまうことになる。そこで、このオフセット量Δｄだけ逆にずらすような位置補正処理を施した上で、第２のパターンＰ２の露光を行うようにすれば、正しい位置への露光が可能になる。
【００４３】
このような位置補正処理の具体的な方法として、ここでは２通りの方法を述べておく。まず、第１の方法は、パターンデータ格納手段４０の記憶装置（たとえば、メモリ）上で、第２のパターンＰ２のパターンデータに対して、このオフセット量Δｄだけずらすような編集を加える方法である。すなわち、図１０に示す状態のままでは、第２のパターンＰ２が本来の位置よりも上方にオフセット量Δｄだけずれてしまっているので、パターンデータを下方にオフセット量Δｄだけずらすような編集処理を行えばよい。図１１は、このような編集処理の概念図である。まず、第２のパターンＰ２の下辺からオフセット量Δｄだけ隔てた位置に切断線Ｊを定義する。そして、この切断線Ｊより下の部分のパターンを上方へと移動し、図１２に示すような位置補正後の第２のパターンＰ２＊を形成する。このような編集により、第２のパターンＰ２は全体的に、図の下方にオフセット量Δｄだけずれることになり、下辺から食み出した部分は、循環するようにして上辺にもってゆく組み替えが行われたことになる。このようなパターンデータの組み替え作業は、たとえばメモリ上でデータを転送することにより容易に行うことができる。
【００４４】
位置補正処理の第２の方法は、メモリ上でパターンデータの編集を行う代わりに、読出時に補正を行う方法である。すなわち、第２のパターンＰ２を製版面１１０上に露光する際には、制御手段５０が、パターンデータ格納手段４０から第２のパターンＰ２に対応するパターンデータを順次読出し、この読出したパターンデータに基づいて、ビーム発生部３１におけるビームの照射／非照射を制御することになる。そこで、この読出時に、オフセット量Δｄに対応する分だけ読み出し先頭位置をずらすようにすればよい。図１３は、このように読み出し先頭位置をずらす処理の概念図である。たとえば、本来であれば、右下の点Ｑの位置にある画素を先頭画素として、回転方向Ｒの方向（図の上方向）に並んでいる画素のデータを次々と読出し、ビームの照射／非照射の制御を行うことになっている場合であれば、点Ｑを図の上方にオフセット量Δｄだけずらすことにより得られる点Ｑ＊の位置にある画素を先頭画素とする補正を行い、同様の読出しを行うことにすればよい。
【００４５】
こうして、位置補正処理を行った後に第２のパターンＰ２を露光すれば、既に製版面１１０上に凹凸構造として形成されている第１のパターンＰ１に対して正確に位置合わせされた状態で、第２回目のレジスト層上に第２のパターンＰ２が形成されることになる。
【００４６】
最後に、ステップＳ７において、第２のパターンＰ２についての現像・腐食・洗浄が行われる。すなわち、被製版ロール１００をパターン露光装置から取り外し、第２回目のレジスト層を現像した後、現像により露出した製版面１１０の一部に腐食液を作用させて腐食させる。そして、残存レジスト層を除去して洗浄すれば、製版面１１０上に第１のパターンＰ１と第２のパターンＰ２との多重パターンＰ１２に対応した凹凸構造（図７に示すような第１の段差部１１１上に第２の段差部１１２が形成された二段階の段差構造）を得ることができる。
【００４７】
§４．  より実用的な実施形態
以上、本発明に係る被製版ロールへの多重パターン形成方法の基本的な実施形態を述べたが、ここでは、より実用的な工夫を盛り込んだ実施形態をいくつか述べることにする。
【００４８】
まずはじめに、被製版ロール１００をパターン露光装置に取り付ける際に、大まかな目安マークを付加する実施形態を説明する。既に述べたように、本発明に係る方法では、２つのパターンＰ１，Ｐ２の正確な位置合わせは、位置決めマークＭ１，Ｍ２の相互位置関係に基づいて行われる。したがって、原理的には、被製版ロール１００をパターン露光装置に取り付ける際、両者の位置関係はどのようなものであってもかまわない。しかしながら、実用上は、図８のステップＳ５において、位置決めマークＭ１，Ｍ２の距離があまり離れすぎていると、両者の相対位置関係を測定する作業負担が増えることになり好ましくない。そこで、できれば位置決めマークＭ１，Ｍ２がある程度近傍になるように、被製版ロール１００をパターン露光装置に取り付ける際に、何らかの配慮を行うのが好ましい。
【００４９】
そのためには、被製版ロール１００およびチャック１０に、回転方向に関する両者の大まかな位置合わせを行うための目安マークを付加しておき、被製版ロールをチャックに取り付ける際に、この目安マークを利用した大まかな位置合わせを行うようにすればよい。たとえば、図１４には、被製版ロール１００の軸芯部１２０の部分に第１の目安マークＬ１を付加し、チャック１０の本体部分に第２の目安マークＬ２を付加した例を示す図である。目安マークＬ１，Ｌ２は、一般的な筆記具を用いた簡単な線で構成すれば十分である。あるいは、特別な目安マークを付加する代わりに、被製版ロール１００およびチャック１０のある特徴的な部分を目安マークとして利用するようにしてもよい。
【００５０】
このように、一対の目安マークＬ１，Ｌ２を付加もしくは定義しておけば、図８に示す手順のステップＳ２およびステップＳ４において、レジスト層をコーティングした被製版ロール１００をチャック１０に取り付ける作業を行う際に、この一対の目安マークＬ１，Ｌ２を利用して大まかな位置合わせを行うことができるようになる。その結果、第１回目のレジスト層に対する露光時と第２回目のレジスト層に対する露光時とで、被製版ロール１００とチャック１０との相互位置関係に大きな差は生じなくなり、ステップＳ５において認識される位置決めマークＭ１，Ｍ２は互いに近傍に位置することになる。こうして、位置決めマークＭ１，Ｍ２が近傍に位置すると、ステップＳ５の後段で行われる両者の相互位置関係の測定作業が容易になるというメリットが得られるとともに、ステップＳ５の前段で行われる位置決めマークＭ２に対する現像作業も容易になる。すなわち、ステップＳ５の前段では、第２回目のレジスト層上における位置決めマークＭ２が形成されていると予想される部分に、刷毛などで現像液を塗布し、変色が確認できる程度の現像を行うことになるが、位置決めマークＭ２がＭ１の近傍にあることが予想されれば、刷毛による現像液の塗布作業は、肉眼で確認可能な位置決めマークＭ１の近傍に対してだけ行えば十分である。
【００５１】
なお、§３で述べた実施形態では、図９(c) あるいは図１０に示すように、２つの位置決めマークＭ１，Ｍ２のずれは、被製版ロール１００の回転方向Ｒに関してのみ存在し、被製版ロール１００の回転軸Ａの方向には存在しないという前提で話を進めてきたが、もちろん、両位置決めマークＭ１，Ｍ２のずれ量の成分には、回転方向Ｒの方向成分と回転軸Ａに沿った方向成分とが存在するので、ステップＳ６の位置補正処理は、各方向成分ごとにそれぞれオフセット量を求め、これらのオフセット量を補正する処理を行うのが好ましい。ただ、実用上は、この種の露光装置の回転軸Ａに沿った方向に関する位置決めは、ある程度の高い精度で行うことができ、位置決めマークＭ１，Ｍ２の回転軸Ａに沿った方向に関するずれ量は無視することができる。これは、一般的なチャック１０の場合、軸芯部１２０の端面を把持爪１１の端面に当接させた状態で固定することができるためである。すなわち、回転軸Ａの方向に関しては、被製版ロール１００とチャック１０との相対位置関係を常に同一に維持させることができ、回転軸Ａの方向に関する位置ずれは、ほとんど生じないと考えてよい。
【００５２】
最後に、本発明で利用する位置決めマークＭ１，Ｍ２として、より実用的な形態を述べておく。好ましい第１の形態は、位置決めマークとして、寸法目盛りを含むマークを用いることである。位置決めマーク自身が寸法目盛りを含んでいれば、オフセット量Δｄを測定する際に、スケールなどを用いる必要はなくなる。図１５は、このような寸法目盛りを含む位置決めマークの一例を示す平面図である（図の破線は、位置を示すための補助線である）。図１５(a) には、上述した位置決めマークＭ１に相当する一対の目盛りマークＭ１１，Ｍ１２が示されており、１５(b) には、位置決めマークＭ２に相当する一対の目盛りマークＭ２１，Ｍ２２が示されている。互いに直交する補助線上にこれら一対の目盛りマークを配置することにより、回転方向Ｒの方向のずれ量とともに、回転軸Ａに沿った方向のずれ量を測定することができる。図１６(a) は、両位置決めマークが完全に重なったときの状態（オフセット量Δｄが０の状態）を示している。オフセット量Δｄが０でない場合には、たとえば、図１６(b) のようなずれが生じるため、寸法目盛りを参照することにより、オフセット量Δｄの値を目測することができる。
【００５３】
図１７は、図１６(a) に示した位置決めマークＭ１１，Ｍ１２，Ｍ２１，Ｍ２２のより好ましい形状を示す平面図である。第１の位置決めマークＭ１１，Ｍ１２と第２の位置決めマークＭ２１，Ｍ２２とは、いずれも複数の指標を所定ピッチで配置した寸法目盛りにより構成されており、第１の位置決めマークＭ１１，Ｍ１２を構成する指標のピッチと第２の位置決めマークＭ２１，Ｍ２２を構成する指標のピッチとが等しくなるように設定されている。しかも、第１の位置決めマークＭ１１，Ｍ１２を構成する指標の幅と、第２の位置決めマークＭ２１，Ｍ２２を構成する指標の幅とが異なるように設定されている。指標のピッチを等しく設定したことにより、オフセット量Δｄを目測で直ちに測定できるというメリットが得られるとともに、各位置決めマークごとに指標の幅を異ならせるようにしたため、両者が重なり合った状態であっても、両者を視覚的に識別しうるというメリットが得られる。
【００５４】
図１８は、位置決めマークとして用いるのに好ましい第２の形態を示す平面図である。すなわち、第１の位置決めマークＭ１５および第２の位置決めマークＭ２５が相似形となるようにし、正しく位置合わせが行われたときに、両位置決めマークが同心の入れ子状になるように配置されている（すなわち、両位置決めマークの中心位置が重なるように配置されている）。この例では、各位置決めマークＭ１５，Ｍ２５は、正方形状をなしており、両者が正しく位置合わせされた場合（オフセット量Δｄが０の場合）には、図１８(a) に示すように、位置決めマークＭ１５の内側の中心に位置決めマークＭ２５が入れ子状に配置されることになり、両正方形の対角線の交点位置は重なることになる。これに対して、たとえば両者の位置関係が図の上下方向にずれた場合、図１８(b) に示すように、位置決めマークＭ１５に対して、位置決めマークＭ２５が偏りを生じることになる。図における間隔Δｄ１，Δｄ２を測定することができれば、オフセット量Δｄは、Δｄ＝（Δｄ２−Δｄ１）／２として求めることができる。
【００５５】
以上、本発明を図示する実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではなく、この他にも種々の態様で実施可能である。特に、上述の実施形態では、２つのパターンＰ１，Ｐ２を重ね合わせて多重パターンを形成する方法を示したが、本発明は３つ以上のパターンを重ね合わせて多重パターンを形成する場合にも同様に適用可能である。たとえば、第３のパターンＰ３を更に重ねる場合には、このパターンＰ３に第３の位置決めマークＭ３を設けておくようにし、パターンＰ３の露光時には、まず第３の位置決めマークＭ３の部分のみを現像し、第１の位置決めマークＭ１あるいは第２の位置決めマークＭ２との相互位置関係を測定してオフセット量Δｄを求めるようにすればよい。
【００５６】
【発明の効果】
以上のとおり本発明に係る被製版ロールへの多重パターン形成方法によれば、位置決めマークを利用してオフセット量Δｄを求め、露光位置に対する補正を行うようにしたため、ビーム走査による多重露光を行う露光装置を用いて、個々のパターンを正確に位置合わせすることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】現在、一般的に利用されている被製版ロールへのパターン露光装置の基本構成を示すブロック図である。
【図２】図１に示すパターン露光装置のチャック１０による軸端部１３０の固定状態を示す図である。
【図３】本発明に係る多重パターン形成方法を利用して作成された壁紙シート２００の側断面図である。
【図４】図３に示す壁紙シート２００を作成するために用いるエンボス版を製版するために利用される第１枚目のパターンの平面図である。
【図５】図４に示す第１枚目のパターンを用いた腐食工程により形成される段差構造の側断面図である。
【図６】図３に示す壁紙シート２００を作成するために用いるエンボス版を製版するために利用される第２枚目のパターンの平面図である。
【図７】図５に示す段差構造に、更に、図６に示す第２枚目のパターンを用いた腐食工程により形成される段差構造の側断面図である。
【図８】本発明に係る被製版ロールへの多重パターン形成方法の手順を示す流れ図である。
【図９】本発明に係る被製版ロールへの多重パターン形成方法によって形成すべきパターンの一例を示す平面図である。
【図１０】２つの位置決めマークＭ１，Ｍ２の相互位置関係を認識する作業を示す概念図である。
【図１１】２つの位置決めマークＭ１，Ｍ２の相互位置関係に基づいて、第２のパターンＰ２をメモリ上で編集する作業の概念図である。
【図１２】図１１に示す編集作業の結果として得られる第２のパターンＰ２＊を示す平面図である。
【図１３】２つの位置決めマークＭ１，Ｍ２の相互位置関係に基づいて、第２のパターンＰ２をメモリから読み出す先頭位置を変更する作業の概念図である。
【図１４】被製版ロール１００とチャック１０とに目安マークＬ１，Ｌ２を付加し、大まかな位置合わせを行えるようにした実施形態を示す正面図である。
【図１５】本発明で用いるのに適した目盛りを含む位置決めマークの一例を示す平面図である。
【図１６】図１５に示す位置決めマークを用いた相互位置関係の認識作業の原理を示す平面図である。
【図１７】図１５に示す位置決めマークのより詳細な構成を示す平面図である。
【図１８】本発明で用いるのに適した入れ子状の相似形の位置決めマークの一例を示す平面図である。
【符号の説明】
１０…チャック
１１…把持爪
２０…回転駆動手段
３０…露光ビーム照射手段
３１…ビーム発生部
３２…ビーム走査部
４０…パターンデータ格納手段
５０…制御手段
１００…被製版ロール
１１１…第１の段差部
１１２…第２の段差部
１１０…製版面
１２０…軸芯部
１３０…軸端部
２００…壁紙シート
２０１…第１段目の溝
２０２…第２段目の溝
Ａ…回転軸
ａ１…パターン形成領域
ａ２…位置合わせ領域
Ｂ…露光用のビーム
Ｃ…回転制御信号
ｄ０，ｄ１…位置決めマークの隔たり
Δｄ…位置決めマークのオフセット量
Δｄ１，Δｄ２…位置決めマークの隔たり
Ｊ…切断線
Ｌ１，Ｌ２…目安マーク
Ｍ１，Ｍ２…位置決めマーク
Ｍ１１，Ｍ１２，Ｍ１５，Ｍ２１，Ｍ２２，Ｍ２５…位置決めマーク
Ｐ，Ｐ１，Ｐ２…パターン
Ｐ１２…多重パターン
Ｑ，Ｑ＊…読出し先頭位置
Ｒ…回転方向
Ｓ…パターン描画信号
【図１】
0004071327.tif 000002
【図２】
0004071327.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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