(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
マッサージ用施療子が配設され、脹脛マッサージ用の脹脛施療状態と、足裏マッサージ用の足裏施療状態とに配置位置を切替可能な、回動自在な回動フレームに対してスライド自在に取り付けられた下肢マッサージ部を具備し、前記下肢マッサージ部を、回動フレームを回動させることにより被施療者が腰掛けた状態で被施療者の脹脛に沿って配置される脹脛施療状態と、被施療者が腰掛けた状態で被施療者の足裏に沿って配置される足裏施療状態との間で回動自在に形成し、且つ前記下肢マッサージ部を回動フレームに対してスライドさせることにより脹脛施療状態と足裏施療状態とにおいてそれぞれスライド移動自在に形成して施療部位を調整するようにして成ることを特徴とする椅子式マッサージ機。
【請求項２】
下肢マッサージ部の、足裏施療状態において足裏が載置される足裏施療面に、複数の突起を形成して成ることを特徴とする請求項１に記載の椅子式マッサージ機。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、下肢をマッサージする機能を有する椅子型マッサージ機に関する物である。
【０００２】
【従来の技術】
椅子型マッサージ機において、脹脛部分を支える足載台にローラー式のマッサージ施療子を配して脹脛にマッサージ施療を行なうものは、公知である。このように、一般的な椅子式マッサージ機の足載台は、主として脹脛を支える構造となっており、マッサージ施療子の施療部位は脹脛だけとなっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、人の下肢の疲れは、脹脛だけに起こるものではなく、特に足裏に対するマッサージ施療の要望が高くなっているものである。これに対して、従来では、被施療者が椅子式マッサージ機に腰掛けた状態で膝を曲げて、足載台に足裏を載せることにより、足裏に対するマッサージ施療を行なわなければならなかったが、この方法では、踏ん張りがきかず、足裏に対して充分な荷重がかからないものであり、足裏に対して充分なマッサージ施療を行なうことができないものであった。
【０００４】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、脹脛と足裏の双方に対して容易にマッサージ施療を行なうことができる下肢マッサージ部を備えた椅子式マッサージ機を提供することを目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１に係る椅子式マッサージ機は、マッサージ用施療子２が配設され、脹脛マッサージ用の脹脛施療状態と、足裏マッサージ用の足裏施療状態とに配置位置を切替可能な、回動自在な回動フレーム２０に対してスライド自在に取り付けられた下肢マッサージ部１を具備し、前記下肢マッサージ部１を、回動フレーム２０を回動させることにより被施療者が腰掛けた状態で被施療者の脹脛に沿って配置される脹脛施療状態と、被施療者が腰掛けた状態で被施療者の足裏に沿って配置される足裏施療状態との間で回動自在に形成し、且つ前記下肢マッサージ部１を回動フレームに対してスライドさせることにより脹脛施療状態と足裏施療状態とにおいてそれぞれスライド移動自在に形成して施療部位を調整するようにして成ることを特徴とするものである。
【０００８】
また請求項２の発明は、請求項１の構成に加えて、下肢マッサージ部１の、足裏施療状態において足裏が載置される足裏施療面３に、複数の突起４を形成して成ることを特徴とするものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を説明する。
【００１０】
本発明の椅子式マッサージ機Ａは、被施療者が着座した状態でマッサージを受けることができるものであり、図５〜８に示すように、側面視つ字状に形成されたパイプ材等からなる一対の側片６１，６１間に横片６２を架設して枠組６０を構成し、この枠組６０に、被施療者の腰部が載置される座部１１と、座部１１の後方側の一端に転倒自在に取り付けられた、被施療者の上半身が載置される背もたれ部１０と、座部１１の前方側の他端から下方に向けて設けられた、被施療者の下肢が載置される足載台１２とを設けて構成されている。足載台１２は、被施療者の脹脛又は足裏にマッサージ施療を施す下肢マッサージ部１として設けられている。
【００１１】
背もたれ部１０には、図示はしないが、ローラ式のマッサージ施療子が配設されている。このマッサージ施療子は、椅子式マッサージ機Ａに腰掛けている被施療者の背中をマッサージするものである。このマッサージ施療子は上下動自在に形成されており、背中における施療部位を調節することができる。
【００１２】
また、背もたれ部１０は、図５に示すような起立した通常状態と、図７，８に示すような斜め後方に向けて傾斜するように転倒したリクライニング姿勢状態との間で回動自在に形成されており、リクライニング姿勢状態において、椅子式マッサージ機Ａに腰掛けている被施療者はリクライニング姿勢をとることができる。このとき、背もたれ部１０の下部は、背もたれ部１０が後方に転倒するに従って前方に突出するように形成されている。
【００１３】
座部１１は、前後方向にスライド移動自在に形成されており、図７，８に示すように背もたれ部１０が転倒してリクライニング姿勢状態となり、背もたれ部１０の下部が前方に突出したときに、それに連動して前方に向けてスライドし、背もたれ部１０が図５に示す通常状態に復帰したときに、それに連動して後方に向けてスライドして元の状態に復帰するように形成されている。
【００１４】
また、足載台１２は、座部１１の前方側の一端部から下方に向けて延設された支持フレーム１４の前面側に配設されている。この支持フレーム１４は、座部１１の前方側の一端部に、略水平方向の回動軸を中心にして回動自在に枢着されており、図７．８に示すように背もたれ部１０が後方に転倒してリクライニング姿勢状態となったときに、それに連動して前方に向けて突出するように回動して略水平状態となり、背もたれ部１０が図５に示す通常状態に復帰したときに、それに連動して後方に向けて回動して元の状態に復帰するように形成されている。
【００１５】
足載台１２は、その一端部が支持フレーム１４の下端部に、水平方向の回動軸を中心にして回動自在に枢着されている。また、足載台１２の一面側は、脹脛施療面５として形成されていると共に、他面側は、足裏施療面３として形成されている。ここで、脹脛施療状態においては、図５に示すように、足載台１２は支持フレーム１４に沿って配置されると共に足裏施療面３が後方側の支持フレーム１４側に配置され、脹脛施療面５が前方側に配置される。この脹脛施療状態から、足載台１２を、図６に示すように前方に回動させると、足裏施療状態とすることができる。この足裏施療状態においては、足載台１２は支持フレーム１４の下端から前方に向けて突出した状態に配置されると共に、足裏施療面３が上面側に配置され、脹脛施療面５が下面側に配置される。
【００１６】
以下に、支持フレーム１４及び足載台１２の構成を、図１〜４を示して詳述する。
【００１７】
一端側が座部１１に対して回動自在に取り付けられる支持フレーム１４は、支持フレーム１４の両側部を構成する側部フレーム１５と、側部フレーム１５の下端同士を連結する下フレーム１６からなる略Ｕ字状の主フレーム９を有しており、各側部フレーム１５の上端には、座部１１の前端部に回動自在に枢着される軸支部１９が形成されている。支持フレーム１４の上端側においては、側部フレーム１５の上端側の端部間に、上フレーム１７が架設されている。また下フレーム１６と上フレーム１７との間には、一対の背部フレーム１８が架設されており、この背部フレーム１８は、支持フレーム１４の後方側に弓なり状に突出するように湾曲されている。
【００１８】
主フレーム９の下端部には、下フレーム１６に沿って一対の回動支持部２５が、間隔をあけて設けられている。この回動支持部２５は、下フレーム１６から前方に向けて突出された支持部２６と、支持部２６の先端に形成された枢着部２７にて構成されている。枢着部２７には、回動フレーム２０が回動自在に取り付けられている。ここで、枢着部２７には、ねじりコイルばね２４が設けられており、このねじりコイルばね２４によって、回動フレーム２０の回動方向が、上方から後方に向けて支持フレーム１４側に向かう方向に付勢されてる。
【００１９】
回動フレーム２０は、平行並列に配設されると共に一端が各回動支持部２５の枢着部２７にそれぞれ回動自在に枢着されている一対のレールフレーム２１と、レールフレーム２１の他端同士間に架設された連結フレーム２２とから構成されている。レールフレーム２１は、略直線状に形成されたストレート部２１ａの両端に、斜め方向に突出する湾曲部２１ｂ，２１ｃを形成した弓なり状に形成されている。
【００２０】
ここで、枢着部２７は、図３に示すように、その両側部を構成する側片４６と、側片４６の下端部同士を連結する連結片４７とから構成されており、また一対の側片４６の先端は連結片４７よりも前方に突出しており、この突出部分には回動軸が挿通される通孔４９がそれぞれ穿設され、また連結片４７の先端はストッパー４８として形成されている。一方、レールフレーム２１の一端側に形成されている湾曲部２１ｂの端部には、回動軸が挿通される通孔５１が形成された被枢着部５０が設けられており、枢着部２７の側片４６の突出部間に、レールフレーム２１の被枢着部５０を配置すると共に、各通孔４９，５１にヒンジ等を挿通することにより、回動フレーム２０が回動自在に取り付けられている。また回動フレーム２０の下方から後方に向かう回動運動は、回動フレーム２０のレールフレーム２１が枢着部２７のストッパー４８に当接することにより規制されることとなる。回動フレーム２０の回動は、回動フレーム２０が支持フレーム１４と略直交する方向の前方に向けて突出した状態となったときに、レールフレーム２１とストッパー４８が当接して規制されるようにする。
【００２１】
回動フレーム２０には、足載台１２が、レールフレーム２１のストレート部２１ａに沿ってスライド自在に取り付けられており、そのため足載台１２は、回動フレーム２０の回動に従って、水平方向の回動軸を中心に回動自在に取り付けられている。
【００２２】
足載台１２の構成を説明すると、足載台１２のスライド方向と略平行の平板状に形成されると共に矩形状の開口部２８を有する枠体２３が、支持フレーム１４と回動フレーム２０との間に配設されている。足載台１２には、この枠体２３の、支持フレーム１４側の一面側に足裏施療面３が形成され、支持フレーム１４とは反対側の他面側に脹脛施療面５が形成される。枠体２３の一面側の両側端部には、マッサージ用施療子２を構成する回転シャフト２９の両端をそれぞれ軸回転自在に保持する軸受部３０が設けられている。この回転シャフト２９は、枠体２３の一面側において枠体２３の矩形状の開口部２８を略水平方向に横切るように配設される。
【００２３】
一方、枠体２３の、他面側の両側端部には、枠体２３をレールフレーム２１に対して摺動自在に取り付けるためのレールガイド３４が設けられている。このレールガイド３４は、押さえ金具３７と、ゴム体３８と、摺動係止体３９にて構成されている。
【００２４】
図４に示すように、摺動係止体３９は樹脂成形品にて形成されており、筒状の主体４０の両端部には、外周方向に突出するフランジ４２が形成されている。また主体４０には、主体４０の内部と外部とを連通すると共に主体４０の両端面において開口する切れ込み状のスリット４１が形成されている。また、主体４０の周面の、スリット４１とは反対側の面には、主体４０の内部と外部とを連通する矩形状の開口４３が形成されている。また主体４０の内面には、周方向に沿ってリブ４４が突設されている。
【００２５】
摺動係止体３９は、弾性変形しながらレールフレーム２１をスリット４１に通すことにより、レールフレーム２１に挿着される。ここで、各レールフレーム２１のストレート部２１ａの外周面には、それぞれ複数個（図中では３個）の、周方向全周に亘る係止溝４５が、適宜の間隔をあけて形成されており、摺動係止体３９はその内周のリブ４４がレールフレーム２１のいずれかの係止溝４５に係止された状態で挿着される。
【００２６】
ゴム体３８は断面略Ｕ字状に形成されており、摺動係止体３９の外周面に沿って配置される。
【００２７】
押さえ金具３７は、両側端部に形成された固着部５２の間に、断面Ｕ字状に形成された押さえ片５３を設けている。この押さえ金具３７の押さえ片５３の内面を、摺動係止体３９の外周面に配置されたゴム体３８の外面に沿って配置すると共に、この押さえ金具３７の固着部５２を枠体２３の他面側に固着するものであり、このとき押さえ金具３７の押さえ片５３と摺動係止体３９との間の隙間にゴム体３８が配置されることにより、押さえ金具３７にて摺動係止体３９が安定して保持されている。
【００２８】
このようにして構成されるレールガイド３４では、摺動係止体３９のリブ４４がレールフレーム２１の係止溝４５に弾性係止されていることにより、枠体２３がレールガイド３４に対して安定して保持されている。また枠体２３にリブ４４の係止溝４５への弾性係止力以上の荷重をレールガイド３４に沿ってかけると、リブ４４の係止溝４５への弾性係止が解除され、枠体２３がレールガイド３４に沿って摺動する。そして、リブ４４が他の係止溝４５に達したら、リブ４４はクリック感を生じさせながらこの他の係止溝４５に弾性係止される。このように枠体２３はレールガイド３４に沿ってスライド自在に配置されていると共に、所定の配置位置においてその配置位置が安定に保持されるものである。
【００２９】
マッサージ用施療子２の構成を説明すると、回転シャフト２９には、開口部２８を横切る部分における両端部に、それぞれ回転シャフト２９の外周面と同心円状の外周面を有する円盤状のロール保持板３１が回転シャフト２９に対して固定して設けられており、このロール保持板３１の一部は開口部２８を通って枠体２３の他面側に突出している。一対のロール保持板３１間には、複数本（図中では五本）のマッサージロール３２が回転シャフト２９を取り囲むように、軸回転自在に架設されている。ここで、回転シャフト２９に対して枠体２３側に配置されるマッサージロール３２の一部は、開口部２８を通って枠体２３の他面側に突出している。マッサージロール３２の外周には、周方向に複数の突条３３が形成されている。この突条３３の断面形状は、滑らかな円弧状に形成されている。
【００３０】
また、枠体２３には、その一面側の一側部に、回転シャフト２９に回転駆動力を伝達するモータ３６が配設されている。
【００３１】
このように構成される足載台１２は、全体が布や樹脂製シート材等の可撓性のシート材からなる外装材３５にて覆われている。ここで、足載台１２の一面側及び他面側に配置される外装材３５は、マッサージ用施療子２に沿って配置されるものである。すなわち、足載台１２の一面側においては、外装材３５は回転シャフト２９に対して枠体２３とは反対側に配置されるマッサージロール３２の表面に沿って配置され、この枠体２３の一面側に配置される外装材３５の表面にて、足裏施療面３が形成される。また、枠体２３の他面側において、外装材３５は回転シャフト２９に対して枠体２３側に配置されているマッサージロール３２の、開口部２８を通って枠体２３の他面側に配置されている部分に沿って配置され、この枠体２３の他面側に配置される外装材３５の表面にて脹脛施療面５が形成される。
【００３２】
このように構成される足載台１２において、モータ３６を駆動させてマッサージ用施療子２を作動させると、モータ３６の回転駆動力が回転シャフト２９に伝達され、回転シャフト２９が回転する。それに応じてロール保持板３１が回転し、一対のロール保持板３１にて保持されている複数本のマッサージロール３２が回転シャフト２９の周りを回転する。そして、このマッサージロール３２の回転に起因する波打ちが、脹脛施療面５及び足裏施療面３に発生し、脹脛施療面５に載置される脹脛や足裏施療面３に載置される足裏に対して、マッサージ効果が得られるものである。
【００３３】
このように構成される椅子式マッサージ機Ａでは、脹脛にマッサージ施療を施す場合には、図１に示すように、足載台１２を、支持フレーム１４の下端側に連結されていない側の他端部を上方に起こすように水平方向の回動軸を中心に回動させて、足裏施療面３が支持フレーム１４側に配置されると共に脹脛施療面５が支持フレーム１４とは反対側に配置されるように、支持フレーム１４に沿って配置することによって、図５，７に示すような脹脛施療状態にする。ここで、椅子式マッサージ機Ａが図５に示すように通常姿勢状態にある場合は、足載台１２は座部１１の前端から下方に向けて配置され、このとき脹脛施療面５は前面側に配置される。一方、椅子式マッサージ機Ａが図７に示すようにリクライニング姿勢状態にある場合は、足載台１２は座部１１の前端から前方に向けて略水平に配置され、このとき脹脛施療面５は上面側に配置される。このとき足載台１２は、ねじりコイルばね２４が回動フレーム２０にかけている付勢力によって後方への回動力がかけられる一方、足裏施療面３側において支持フレーム１４の背部フレーム１８に当接してそれ以上後方へ回動することが阻止され、足載台１２の姿勢が保持される。
【００３４】
被施療者はこの状態で、通常姿勢状態又はリクライニング姿勢状態の椅子式マッサージ機Ａに腰掛けると共に、脹脛を足載台１２の脹脛施療面５上に載置する。この状態で足載台１２のマッサージ用施療子２を作動させて、脹脛のマッサージ施療を行なうものである。
【００３５】
ここで、既述のように、枠体２３は回動フレーム２０のレールフレーム２１に沿ってスライド自在に配置されていると共に、所定の配置位置においてその配置位置が安定に保持されるものであり、そのため足載台１２も、レールフレーム２１に沿ってスライド自在に配置されていると共に、所定の配置位置においてその配置位置が安定に保持される。そのため、脹脛施療状態において、足載台１２を支持フレーム１４に沿って、図５に示す通常姿勢状態では上下方向に、図７に示すリクライニング姿勢状態では前後方向にスライド移動させると共に所定の配置位置に安定して保持することができ、脹脛に対する施療部位を調節して、足載台２を脹脛にマッサージ施療を施すために好適な位置に配置することがことができるものである。
【００３６】
また、足裏にマッサージ施療を行なう場合には、図１に示すように、足載台１２を、支持フレーム１４の下端側に連結されていない側の他端部を前方側に倒すように回動させて、支持フレーム１４の下端から前方に向けて突出すると共に支持フレーム１４に対して略直交する姿勢に配置することにより図６に示すように足裏施療状態とする。ここで、椅子式マッサージ機Ａが図６に示すように通常姿勢状態にある場合は、足載台１２は支持フレーム１４の下端から前方に向けて略水平に突出すると共に足裏施療面３が上面側に配置される。このとき回動フレーム２０のレールフレーム２１が支持フレーム１４の枢着部２７のストッパー４８に当接することにより、足載台１２のそれ以上下方への回動が阻止され、足載台１２の姿勢が保持される。またこのとき、足載台１２の自重によってねじりコイルばね２４の回動付勢力が相殺されるように、ねじりコイルばね２４の付勢力を適宜設計しておくものであり、このようにすると足裏施療状態にある足載台１２が不用意に回動して脹脛施療状態となるようなことがない。
【００３７】
被施療者はこの状態で、通常姿勢状態又はリクライニング姿勢状態の椅子式マッサージ機Ａに腰掛けると共に、足裏を足載台１２の足裏施療面３上に載置する。この状態で足載台１２のマッサージ用施療子２を作動させて、足裏へのマッサージ施療を行なうものである。この足裏施療状態では、被施療者が椅子式マッサージ機Ａに腰掛けた状態における、足裏の自然な配置位置に足載台１２が配置されることとなり、被施療者は楽な姿勢で足裏のマッサージを行なうことができる。また、この姿勢では、被施療者は足裏に荷重をかけるように踏ん張ることが容易であり、足裏に充分な荷重をかけて充分なマッサージ効果を得ることができるものである。
【００３８】
ここで、既述のように、枠体２３は回動フレーム２０のレールフレーム２１に沿ってスライド自在に配置されていると共に、所定の配置位置においてその配置位置が安定に保持されるものであり、そのため足載台１２も、レールガイド３４に沿ってスライド自在に配置されていると共に、所定の配置位置においてその配置位置が安定に保持される。そこで、足裏施療状態において、足載台１２を支持フレーム１４に対して直交する方向に移動させると共に所定の配置位置に安定して保持することにより、足裏に対する施療部位を調節することができる。そのため、足裏施療状態において、足載台１２を支持フレーム１４と直交する方向に沿って、図６に示す通常姿勢状態では前後方向にスライド移動させると共に所定の配置位置に安定して保持することができ、足裏に対する施療部位を調節して、足載台１２を足裏にマッサージ施療を施すために好適な位置に配置することがことができるものである。
【００３９】
また、足載台１２の外装材３５には、図９に示すように、足裏施療面３に、ゴム等で形成される複数の軟質の突起４を設けることが好ましい。このようにすると、足裏施療状態において、被施療者が足裏を足載台１２の足裏施療面３に載置し、この状態でマッサージ用施療子２を作動させると、足裏のマッサージと共に突起４による足裏のツボの刺激も行なうことができるものである。また足裏における充分なマッサージ効果を得るために被施療者が足裏に荷重をかけるように踏ん張った場合に、突起４が滑り止めとなって、足裏に容易に荷重をかけることができるものである。ここで、図９（ａ）は、足裏施療面３に足裏の形状に沿った一対の足裏載置領域３ａを設定し、この足裏載置領域３ａのみに突起４を形成したものである。また図９（ｂ）は、足裏施療面３に図９（ａ）に示す足裏再治療域３ａを含む広い範囲に亘る一つの足裏載置領域３ｂを設定し、この足裏載置領域３ｂに突起４を形成したものである。
【００４０】
【発明の効果】
上記のように本発明の請求項１に係る椅子式マッサージ機は、マッサージ用施療子が配設され、脹脛マッサージ用の脹脛施療状態と、足裏マッサージ用の足裏施療状態とに配置位置を切替可能な、回動自在な回動フレームに対してスライド自在に取り付けられた下肢マッサージ部を具備し、前記下肢マッサージ部１を、回動フレーム２０を回動させることにより被施療者が腰掛けた状態で被施療者の脹脛に沿って配置される脹脛施療状態と、被施療者が腰掛けた状態で被施療者の足裏に沿って配置される足裏施療状態との間で回動自在に形成し、且つ前記下肢マッサージ部を回動フレームに対してスライドさせることにより脹脛施療状態と足裏施療状態とにおいてそれぞれスライド移動自在に形成して施療部位を調整するようにしたため、一つの下肢マッサージ部の配置位置を切り替えることにより、脹脛と足裏の双方に容易にマッサージ施療を施すことができ、且つ脹脛施療状態にある下肢マッサージ部を回動フレームに対してスライドさせてスライド移動させることにより下肢マッサージ部による施療部位を最適な位置に調節することができ、また足裏施療状態にある下肢マッサージ部を回動フレームに対してスライドさせてスライド移動させることにより下肢マッサージ部による施療部位を最適な位置に調節することができものである。また、回動フレームを回動させることにより下肢マッサージ部の配置位置を回動させて切り替えることにより、被施療者は無理な姿勢をとることなく、脹脛に対するマッサージ施療と足裏に対するマッサージ施療を行なうことができ、しかも足裏に対する施療を行なっている際に、施療者は、足裏に充分な荷重がかかるように踏ん張ることが容易となり、足裏に充分な荷重をかけて足裏に対するマッサージ効果を高めることができるものである。
【００４３】
また請求項２の発明は、請求項１の構成に加えて、下肢マッサージ部の、足裏マッサージ用の施療状態において足裏が載置される足裏施療面に、複数の突起を形成したため、足裏施療状態において、足裏のマッサージと共に突起による足裏のツボの刺激も行なうことができるものであり、また足裏における充分なマッサージ効果を得るために被施療者が足裏に荷重をかけるように踏ん張った場合に、突起が滑り止めとなって、足裏に容易に荷重をかけることができるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態の一例を示すものであり、下肢マッサージ部の動作を示す側面の断面図である。
【図２】同上の下肢マッサージ部を示すものであり、（ａ）は平面図、（ｂ）は正面図、（ｃ）は側面図である。
【図３】同上の一部の斜視図である。
【図４】同上の一部の分解斜視図である。
【図５】同上の実施の形態の動作の一例を示すものであり、（ａ）は平面図、（ｂ）は正面図、（ｃ）は側面図である。
【図６】同上の他の動作を示すものであり、（ａ）は平面図、（ｂ）は正面図、（ｃ）は側面図である。
【図７】同上の更に他の動作を示すものであり、（ａ）は平面図、（ｂ）は正面図、（ｃ）は側面図、（ｄ）は背面図、（ｅ）は底面図である。
【図８】（ａ）は図７（ａ）のＡ−Ａ断面図、（ｂ）は図７（ｃ）のＢ−Ｂ断面図である。
【図９】（ａ）及び（ｂ）は、下肢マッサージ部の外観の例を示す斜視図である。
【符号の説明】
Ａ  椅子式マッサージ機
１  下肢マッサージ部
２  マッサージ用施療子
３  足裏施療面
４  突起
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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