(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）で表される化合物であることを特徴とする発光素子材料。
一般式（Ｉ）
【化１】
0004076709.tif 000023
（一般式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は各々、アリール基、ヘテロ環基または脂肪族炭化水素基を表し、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3のうち少なくとも２つはアリール基またはヘテロ環基を表し、少なくとも１つは３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表す。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3で各々表されるアリール基、ヘテロ環基および脂肪族炭化水素基は置換基を有していてもよいが、少なくとも１つは下記一般式（II）で表される基を含有する置換基を有する。）
一般式（II）
【化２】
0004076709.tif 000024
（一般式（II）中、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は各々、水素原子または置換基を表し、Ｚ1はインダン−１，３−ジオン核を表す。ｍは０、１または２を表す。）
【請求項２】
一般式（Ｉ）で表される化合物が下記一般式（III）で表される化合物である請求項１に記載の発光素子材料。
一般式（III）
【化３】
0004076709.tif 000025
（一般式（III）中、Ａｒ31はアリール基またはヘテロ環基のニ価基を表し、Ｒ32はアリール基、ヘテロ環基または脂肪族炭化水素基を表し、Ｒ34、Ｒ35およびＲ36は各々、水素原子または置換基を表し、Ｚ3はインダン−１，３−ジオン核を表す。ｍは０、１または２を表し、ｎは２以上の整数を表し、Ａｒ31、Ｒ32、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｚ3およびｍの２以上の組み合わせは同一であっても異なっていてもよい。Ｌはアリール基、ヘテロ環基または脂肪族炭化水素基のｎ価の連結基を表し、Ｒ32およびＬのうち少なくとも１つはアリール基またはヘテロ環基を表し、Ａｒ31、Ｒ32およびＬのうち少なくとも１つは３以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わす。）
【請求項３】
一般式（Ｉ）で表される化合物が下記一般式（IV）で表される化合物であることを特徴とする請求項１に記載の発光素子材料。
一般式（IV）
【化４】
0004076709.tif 000026
（一般式（IV）中、Ａｒ41はアリール基またはヘテロ環基のニ価基を表し、Ｒ42はアリール基、ヘテロ環基または脂肪族炭化水素基を表し、Ｒ44、Ｒ45およびＲ46は各々、水素原子または置換基を表す。Ｚ4はインダン−１，３−ジオン核を表す。ｍは０、１または２を表し、ｐは１〜３のいずれかの整数を表し、ｐが２または３のとき、Ａｒ41、Ｒ44、Ｒ45、Ｒ46、Ｚ4およびｍの２または３の組み合わせは同一であっても異なっていてもよい。ｐが１のとき２つのＲ42は同一であっても異なっていてもよく、少なくとも１つはアリール基またはヘテロ環基を表す。Ａｒ41およびＲ42のうち少なくとも１つは３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わす。）
【請求項４】
一般式（III）で表される化合物が下記一般式（Ｖ）で表される化合物であることを特徴とする請求項２に記載の発光素子材料。
一般式（Ｖ）
【化５】
0004076709.tif 000027
（一般式（Ｖ）中、Ｒ52はアリール基またはヘテロ環基を表し、Ｒ54、Ｒ55およびＲ56は各々、水素原子または置換基を表し、Ｒ57は置換基を表す。ｑは０〜４のいずれかの整数を表し、ｑが２〜４のとき２以上のＲ57はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｚ5はインダン−１，３−ジオン核を表す。ｍは０、１または２を表す。ｎは２以上の整数を表し、Ｒ52、Ｒ54、Ｒ55、Ｒ56、Ｒ57、Ｚ5、ｍおよびｑの２以上の組み合わせは同一であっても異なっていてもよい。Ｌ1はアリール基、ヘテロ環基または脂肪族炭化水素基のｎ価の連結基を表す。Ｒ52およびＬ1のうち少なくとも１つは、３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わす。）
【請求項５】
一般式（IV）で表される化合物が下記一般式（VI）で表される化合物である請求項３に記載の発光素子材料。
一般式（VI）
【化６】
0004076709.tif 000028
（一般式（VI）中、Ｒ62はアリール基またはヘテロ環基を表し、Ｒ64、Ｒ65またはＲ66は各々、水素原子または置換基を表し、Ｒ67は置換基を表す。ｑは０〜４のいずれかの整数を表し、ｑが２〜４のとき２以上のＲ67は同一であっても異なっていてもよい。Ｚ6はインダン−１，３−ジオン核を表す。ｍは０、１または２を表す。ｒは１または２を表し、ｒが２のとき、Ｒ64、Ｒ65、Ｒ66、Ｒ67、Ｚ6、ｍおよびｑの２つの組み合わせは同一であっても異なっていてもよく、ｒが１のとき、２つのＲ62は同一であっても異なっていてもよい。ｒが１のとき、２つのＲ62のうち少なくとも１つは３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わし、ｒが２のときＲ62は３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わす。）
【請求項６】
一般式（Ｖ）で表される化合物が下記一般式（VII）で表される化合物である請求項４に記載の発光素子材料。
一般式（VII）
【化７】
0004076709.tif 000029
（一般式（VII）中、Ｒ72は３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表し、Ｒ74は水素原子または置換基を表し、Ｒ77は置換基を表す。ｑは０〜４のいずれかの整数を表し、ｑが２〜４のとき２以上のＲ77は同一であっても異なってもよい。Ｚ7はインダン−１，３−ジオン核を表す。ｎは２以上の整数を表し、Ｒ72、Ｒ74、Ｒ77、Ｚ7およびｑの２以上の組み合わせは同一であっても異なっていてもよい。Ｌ2はアリール基、ヘテロ環基または脂肪族炭化水素基のｎ価の連結基を表す。）
【請求項７】
一般式（VI）で表される化合物が下記一般式（VIII）で表される化合物である請求項５に記載の発光素子材料。
一般式（VIII）
【化８】
0004076709.tif 000030
（一般式（VIII）中、Ｒ82はアリール基またはヘテロ環基を表わし、Ｒ84は水素原子または置換基を表し、Ｒ87は置換基を表す。ｑは０〜４のいずれかの整数を表し、ｑが２〜４のとき２以上のＲ87は同一であっても異なっていてもよい。Ｚ8はインダン−１，３−ジオン核を表す。ｒは１または２を表し、ｒが２のとき、Ｒ84、Ｒ87、Ｚ8およびｑの２つの組み合わせは同一であっても異なっていてもよく、ｒが１のとき、２つのＲ82は同一であっても異なっていてもよい。ｒが１のとき、２つのＲ82のうち少なくとも１つは３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わし、ｒが２のときＲ82は３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わす。）
【請求項８】
下記一般式（IX）で表されるスチリルアミン化合物。
一般式（IX）
【化９】
0004076709.tif 000031
（一般式（IX）中、Ｒ92およびＲ93は各々、アリール基またはヘテロ環基を表し、Ｒ94は水素原子または置換基を表し、Ｒ97は置換基を表す。ｑは０〜４のいずれかの整数を表し、ｑが２〜４のとき２以上のＲ97は同一であっても異なってもよい。Ｚ9はインダン−１，３−ジオン核を表す。Ｒ92およびＲ93のうち少なくとも１つは、３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わす。）
【請求項９】
一対の電極間に少なくとも一層の有機薄膜を含有する有機発光素子において、請求項１から７までのいずれか１項に記載の発光素子材料を含有する層を少なくとも一つ有することを特徴とする発光素子。
【請求項１０】
一対の電極間に少なくとも一層の有機薄膜を含有する有機発光素子において、請求項８に記載のスチリルアミン化合物を含有する層を少なくとも一つ有することを特徴とする発光素子。
【請求項１１】
一対の電極間に少なくとも一層の有機薄膜を含有する有機発光素子において、請求項１から７までのいずれか１項に記載の発光素子材料をポリマー中に分散してなる層を少なくとも一つ有することを特徴とする発光素子。
【請求項１２】
一対の電極間に少なくとも一層の有機薄膜を含有する有機発光素子において、請求項８に記載のスチリルアミン化合物をポリマー中に分散してなる層を少なくとも一つ有することを特徴とする発光素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は平面光源や表示に使用される発光素子材料、スチリルアミン化合物およびそれを利用した高輝度の発光素子に関するものである。詳しくは低印加電圧にて高輝度、高効率で緑色から赤色に発光させることができる発光素子材料、スチリルアミン化合物およびそれを用いた発光素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】
有機物質を使用した有機発光素子、中でも有機電界発光素子（有機ＥＬ素子）は固体発光型の安価な大面積フルカラー表示素子としての用途が有望視され、多くの開発が行われている。一般に有機発光素子は、発光層及び該層を挟んだ一対の対向電極から構成されている。発光は、両電極間に電界が印加されると、陰極から電子が注入され、陽極から正孔が注入される。更に、この電子と正孔が発光層において再結合し、エネルギー準位が伝導帯から価電子帯に戻る際にエネルギーを光として放出する現象である。
【０００３】
従来の有機発光素子は、駆動電圧が高く、発光輝度や発光効率も低かったが、近年、１０Ｖ以下の低電圧で発光する高い蛍光量子効率を持った有機化合物を含有した薄膜を積層した有機ＥＬ素子が報告され（アプライド  フィジックス  レターズ、５１巻、９１３頁、１９８７年）、関心を集めている。この方法は、電子輸送層として金属キレート錯体を、発光層として蛍光体層、正孔輸送層としてアミン化合物を使用して、高輝度の緑色発光を得ている。また、フルカラーディスプレイや光源としての利用を考えた場合、実用上は三原色あるいは白色を出す必要があり、蛍光色素を発光素子材料にドープし、望む色を発光させる素子が報告されている（ジャーナル  オブ  アプライド  フィジックス、６５巻、３６１０頁、１９８９年）。この手法は濃度消光が大きく、蛍光色素を単独で発光層として用いることが困難な赤色発光に特に有効であり、良好な色純度、高輝度を達成している。しかしながら蒸着で色素をドープした素子を作製する場合、ホスト材料と微量の蛍光色素を共蒸着しており、操作が煩雑であり、性能にばらつきが生じ易いといった問題を抱えていた。そこで、製造工程の簡略化、素子の性能の安定化の観点から、良好な色純度を有し、色素を単独で発光層として用いることができる発光材料、特に単独で発光層として用いても良好な色度、輝度を達成する赤色発光材料の開発が望まれている。
【０００４】
一方、有機発光素子において高輝度発光を実現しているものは有機物質を真空蒸着によって積層している素子であるが、製造工程の簡略化、加工性、大面積化等の観点から塗布方式による素子作製が望ましい。しかしながら、従来の塗布方式で作製した素子では発光輝度、発光効率の点で蒸着方式で作製した素子に劣っており、高輝度、高効率発光化が大きな課題となっている。また、有機低分子化合物を有機ポリマー媒体に分散して塗布した素子では、長時間発光させた場合有機低分子化合物が凝集するなどの原因により均質な面状発光が難しいといった課題がある。
【０００５】
また、近年、フィルター用染料、色変換フィルター、写真感光材料染料、増感色素、パルプ染色用染料、レーザー色素、医療診断用蛍光薬剤、有機発光素子用材料等に蛍光を有する物質が種々用いられ、その需要が高まっているが、蛍光強度が強く、かつ色純度の高い赤色蛍光色素はあまりなく、新たな材料開発が望まれている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の第一の目的は色純度の高い赤色発光有機発光素子材料および有機発光素子を提供することにある。
本発明の第二の目的は、低電圧駆動で高輝度、高効率の発光が可能で、繰り返し使用時、高温下での安定性に優れ、均質面状発光可能な緑から赤色のいずれかの発光が可能な発光素子材料および発光素子の提供にある。
本発明の第三の目的は、素子間でばらつきがなく性能の安定した素子およびその作製を可能にする緑色から赤色のいずれかの発光が可能な発光素子材料の提供にある。
本発明の第四の目的は、塗布方式で作製しても高輝度、高効率発光可能な発光素子材料およびそれを用いた発光素子の提供にある。
本発明の第五の目的は蛍光強度の強い緑色から赤色のいずれかの蛍光を有するスチリルアミン化合物を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するための手段は以下の通りである。
＜１＞  下記一般式（Ｉ）で表される化合物であることを特徴とする発光素子材料である。
【０００８】
一般式（Ｉ）
【化１０】
0004076709.tif 000002
【０００９】
一般式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は各々、アリール基、ヘテロ環基または脂肪族炭化水素基を表し、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3のうち少なくとも２つはアリール基またはヘテロ環基を表し、少なくとも１つは３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表す。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3で各々表されるアリール基、ヘテロ環基および脂肪族炭化水素基は置換基を有していてもよいが、少なくとも１つは下記一般式（II）で表される基を含有する置換基を有する。
【００１０】
一般式（II）
【化１１】
0004076709.tif 000003
【００１１】
一般式（II）中、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は各々、水素原子または置換基を表し、Ｚ1はインダン−１，３−ジオン核を表す。ｍは０、１または２を表す。
【００１２】
＜２＞  一般式（Ｉ）で表される化合物が下記一般式（III）で表される化合物である＜１＞に記載の発光素子材料である。
【００１３】
一般式（III）
【化１２】
0004076709.tif 000004
【００１４】
一般式（III）中、Ａｒ31はアリール基またはヘテロ環基のニ価基を表し、Ｒ32はアリール基、ヘテロ環基または脂肪族炭化水素基を表し、Ｒ34、Ｒ35およびＲ36は各々、水素原子または置換基を表し、Ｚ3はインダン−１，３−ジオン核を表す。ｍは０、１または２を表し、ｎは２以上の整数を表し、Ａｒ31、Ｒ32、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｚ3およびｍの２以上の組み合わせは同一であっても異なっていてもよい。Ｌはアリール基、ヘテロ環基または脂肪族炭化水素基のｎ価の連結基を表し、Ｒ32およびＬのうち少なくとも１つはアリール基またはヘテロ環基を表し、Ａｒ31、Ｒ32およびＬのうち少なくとも１つは３以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わす。
【００１５】
＜３＞  一般式（Ｉ）で表される化合物が下記一般式（IV）で表される化合物であることを特徴とする＜１＞に記載の発光素子材料である。
【００１６】
一般式（IV）
【化１３】
0004076709.tif 000005
【００１７】
一般式（IV）中、Ａｒ41はアリール基またはヘテロ環基のニ価基を表し、Ｒ42はアリール基、ヘテロ環基または脂肪族炭化水素基を表し、Ｒ44、Ｒ45およびＲ46は各々、水素原子または置換基を表す。Ｚ4はインダン−１，３−ジオン核を表す。ｍは０、１または２を表し、ｐは１〜３のいずれかの整数を表し、ｐが２または３のとき、Ａｒ41、Ｒ44、Ｒ45、Ｒ46、Ｚ4およびｍの２または３の組み合わせは同一であっても異なっていてもよい。ｐが１のとき２つのＲ42は同一であっても異なっていてもよく、少なくとも１つはアリール基またはヘテロ環基を表す。Ａｒ41およびＲ42のうち少なくとも１つは３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わす。
【００１８】
＜４＞  一般式（III）で表される化合物が下記一般式（Ｖ）で表される化合物であることを特徴とする＜２＞に記載の発光素子材料である。
【００１９】
一般式（Ｖ）
【化１４】
0004076709.tif 000006
【００２０】
一般式（Ｖ）中、Ｒ52はアリール基またはヘテロ環基を表し、Ｒ54、Ｒ55およびＲ56は各々、水素原子または置換基を表し、Ｒ57は置換基を表す。ｑは０〜４のいずれかの整数を表し、ｑが２〜４のとき２以上のＲ57はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｚ5はインダン−１，３−ジオン核を表す。ｍは０、１または２を表す。ｎは２以上の整数を表し、Ｒ52、Ｒ54、Ｒ55、Ｒ56、Ｒ57、Ｚ5、ｍおよびｑの２以上の組み合わせは同一であっても異なっていてもよい。Ｌ1はアリール基、ヘテロ環基または脂肪族炭化水素基のｎ価の連結基を表す。Ｒ52およびＬ1のうち少なくとも１つは、３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わす。
【００２１】
＜５＞  一般式（IV）で表される化合物が下記一般式（VI）で表される化合物である＜３＞に記載の発光素子材料である。
【００２２】
一般式（VI）
【化１５】
0004076709.tif 000007
【００２３】
一般式（VI）中、Ｒ62はアリール基またはヘテロ環基を表し、Ｒ64、Ｒ65またはＲ66は各々、水素原子または置換基を表し、Ｒ67は置換基を表す。ｑは０〜４のいずれかの整数を表し、ｑが２〜４のとき２以上のＲ67は同一であっても異なっていてもよい。Ｚ6はインダン−１，３−ジオン核を表す。ｍは０、１または２を表す。ｒは１または２を表し、ｒが２のとき、Ｒ64、Ｒ65、Ｒ66、Ｒ67、Ｚ6、ｍおよびｑの２つの組み合わせは同一であっても異なっていてもよく、ｒが１のとき、２つのＲ62は同一であっても異なっていてもよい。ｒが１のとき、２つのＲ62のうち少なくとも１つは３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わし、ｒが２のときＲ62は３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わす。
【００２４】
＜６＞  一般式（Ｖ）で表される化合物が下記一般式（VII）で表される化合物である＜４＞に記載の発光素子材料である。
【００２５】
一般式（VII）
【化１６】
0004076709.tif 000008
【００２６】
一般式（VII）中、Ｒ72は３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表し、Ｒ74は水素原子または置換基を表し、Ｒ77は置換基を表す。ｑは０〜４のいずれかの整数を表し、ｑが２〜４のとき２以上のＲ77は同一であっても異なってもよい。Ｚ7はインダン−１，３−ジオン核を表す。ｎは２以上の整数を表し、Ｒ72、Ｒ74、Ｒ77、Ｚ7およびｑの２以上の組み合わせは同一であっても異なっていてもよい。Ｌ2はアリール基、ヘテロ環基または脂肪族炭化水素基のｎ価の連結基を表す。
【００２７】
＜７＞  一般式（VI）で表される化合物が下記一般式（VIII）で表される化合物である＜５＞に記載の発光素子材料である。
【００２８】
一般式（VIII）
【化１７】
0004076709.tif 000009
【００２９】
一般式（VIII）中、Ｒ82はアリール基またはヘテロ環基を表わし、Ｒ84は水素原子または置換基を表し、Ｒ87は置換基を表す。ｑは０〜４のいずれかの整数を表し、ｑが２〜４のとき２以上のＲ87は同一であっても異なっていてもよい。Ｚ8はインダン−１，３−ジオン核を表す。ｒは１または２を表し、ｒが２のとき、Ｒ84、Ｒ87、Ｚ8およびｑの２つの組み合わせは同一であっても異なっていてもよく、ｒが１のとき、２つのＲ82は同一であっても異なっていてもよい。ｒが１のとき、２つのＲ82のうち少なくとも１つは３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わし、ｒが２のときＲ82は３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わす。
【００３０】
＜８＞  下記一般式（IX）で表されるスチリルアミン化合物である。
【００３１】
一般式（IX）
【化１８】
0004076709.tif 000010
【００３２】
一般式（IX）中、Ｒ92およびＲ93は各々、アリール基またはヘテロ環基を表し、Ｒ94は水素原子または置換基を表し、Ｒ97は置換基を表す。ｑは０〜４のいずれかの整数を表し、ｑが２〜４のとき２以上のＲ97は同一であっても異なってもよい。Ｚ9はインダン−１，３−ジオン核を表す。Ｒ92およびＲ93のうち少なくとも１つは、３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わす。
【００３３】
＜９＞  一対の電極間に少なくとも一層の有機薄膜を含有する有機発光素子において、＜１＞から＜７＞までのいずれかに記載の発光素子材料を含有する層を少なくとも一つ有することを特徴とする発光素子である。
＜１０＞  一対の電極間に少なくとも一層の有機薄膜を含有する有機発光素子において、＜８＞に記載のスチリルアミン化合物を含有する層を少なくとも一つ有することを特徴とする発光素子である。
＜１１＞  一対の電極間に少なくとも一層の有機薄膜を含有する有機発光素子において、＜１＞から＜７＞までのいずれかに記載の発光素子材料をポリマー中に分散してなる層を少なくとも一つ有することを特徴とする発光素子である。
＜１２＞  一対の電極間に少なくとも一層の有機薄膜を含有する有機発光素子において、＜８＞に記載のスチリルアミン化合物をポリマー中に分散してなる層を少なくとも一つ有することを特徴とする発光素子である。
【００３４】
【発明の実施の形態】
本発明の発光素子材料は、前記一般式（Ｉ）で表されることを特徴とする。前記一般式（Ｉ）で表される化合物は、赤色から緑色のいずれかに高い発光特性を示し、特に、従来の材料と比較して高い赤色発光を示す。従って、本発明の発光素子材料を含有する有機薄層を有する発光素子は、赤色から緑色のいずれかの高輝度発光が可能であり、特に従来に比べて高輝度かつ色純度の高い赤色発光が可能となる。また、本発明の発光素子材料は、単独で発光層に用いても高輝度発光が可能であり、さらに、本発明の発光素子材料を用いれば、塗布方式で発光素子を作製した場合も、従来の材料を用いた場合と比較して、発光輝度が良好な発光特性を示す発光素子が作製できる。
【００３５】
以下、前記一般式（Ｉ）で表される化合物について詳細に説明する。
前記一般式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は各々、アリール基、ヘテロ環基または脂肪族炭化水素基を表し、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3のうち少なくとも２つは、アリール基またはヘテロ環基であり、少なくとも１つは、３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基である。
【００３６】
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3で各々表されるアリール基としては、好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環〜四環のアリール基（例えばフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、ピレニル、インデニルなどが挙げられる）であり、より好ましくは炭素数６〜２０のフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ピレニル基であり、更に好ましくは炭素数６〜１４のフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基である。
【００３７】
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3で各々表されるヘテロ環基は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子の少なくとも一つを含む３ないし１０員の飽和もしくは不飽和のヘテロ環であり、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成していてもよい。前記ヘテロ環基としては、好ましくは、５ないし６員の芳香族ヘテロ環基であり、より好ましくは窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも１原子を含む５ないし６員の芳香族ヘテロ環基であり、更に好ましくは窒素原子および硫黄原子から選ばれる１または２原子を含む５ないし６員の芳香族ヘテロ環基である。該へテロ環基のヘテロ環は、他の環と縮合環を形成し、２ないし４環からなる縮合環であってもよい。
【００３８】
前記へテロ環基に含まれるヘテロ環の具体例としては、例えばピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルフォリン、チオフェン、フラン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデン、カルバゾールおよびベンゾアゼピンなどが挙げられる。前記ヘテロ環として好ましくは、チオフェン、ピリジンおよびキノリンである。
【００３９】
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3で各々表される脂肪族炭化水素基には直鎖、分岐または環状のアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）が含まれる。前記脂肪族炭化水素基として好ましくはアルキル基である。
【００４０】
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3で各々表されるアリール基、ヘテロ環基および脂肪族炭化水素基は置換基を有してもよく、該置換基としては、例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、ピレニルなどが挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、
【００４１】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、
【００４２】
アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、
【００４３】
カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数1〜２０、より好ましくは炭素数1〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルフォリン、チオフェン、フラン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデン、カルバゾール、ベンゾアゼピンなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは炭素数３〜４０、より好ましくは３〜３０、特に好ましくは３〜２４であり、例えばトリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる。）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同一でも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【００４４】
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3で各々表されるアリール基、ヘテロ環基および脂肪族炭化水素基の置換基としては、好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基またはヘテロ環基であり、より好ましくはアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、カルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基またはヘテロ環基である。さらに好ましくはアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基または置換アミノ基である。ここで、前記置換アミノ基とは、−ＮＲa（Ｒb）で表される基であり、ＲaおよびＲbは同一または異なっていてもよく、各々アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。
【００４５】
但し、前記一般式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3のうち少なくとも１つは置換基を有し、該置換基は下記一般式（II）で表される基を含有する。
【００４６】
一般式（II）
【化１９】
0004076709.tif 000011
【００４７】
前記一般式（II）中、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は各々、水素原子または置換基を表す。Ｒ4、Ｒ5およびＲ6のうち２以上が結合して環を形成してもよく、各々がＲ1、Ｒ2またはＲ3と結合して環を形成してもよい。Ｒ4、Ｒ5およびＲ6の表す置換基の例としては、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3で表されるアリール基、ヘテロ環基または脂肪族炭化水素基の置換基として挙げたものが挙げられる。ｍは０、１または２を表し、ｍは０または１が好ましく、ｍは０であるのがより好ましい。
【００４８】
前記一般式（II）中、Ｚ1はインダン−１，３−ジオン核を表す。Ｚ1がインダン−１，３−ジオン核は、他の環と縮環していてもよい。形成される環としては好ましくは通常メロシアニン色素で酸性核として用いられるものが挙げられる。
【００５６】
上記インダン−１，３−ジオン核としては、より具体的には以下に示した例やその誘導体などが挙げられる。
【００５７】
【化２２】
0004076709.tif 000012
【００７６】
次に、前記一般式（III）で表される化合物について説明する。
前記一般式（III）中、Ａｒ31はアリール基またはヘテロ環基を表し、Ｒ32はアリール基、ヘテロ環基または脂肪族炭化水素基を表す。Ａｒ31で表されるアリール基またはヘテロ環基、およびＲ32で表されるアリール基またはヘテロ環基としては、前記一般式（Ｉ）中のＲ1、Ｒ2およびＲ3で各々表されるアリール基、ヘテロ環基および脂肪族炭化水素基と各々同義であり、好ましい範囲も同様である。前記一般式（III）中、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36およびＺ3は、前記一般式（II）中の、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＺ1と各々同義であり、好ましい範囲も同様である。前記一般式（III）中、ｍは０、１または２を表し、ｎは２以上の整数を表し、Ａｒ31、Ｒ32、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｚ3およびｍの２以上の組み合わせは同一であっても異なっていてもよい。Ｌはアリール基、ヘテロ環基または脂肪族炭化水素基のｎ価の連結基を表す。Ｒ32およびＬのうち少なくとも１つはアリール基またはヘテロ環基を表す。また、Ａｒ31、Ｒ32およびＬのうち少なくとも１つは３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わす。
【００７７】
前記一般式（III）中、Ｌは、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、メチレン基、ビニル基、アセチレン基、ベンゼン、アニリンおよびへテロ環から選ばれる基および環を組み合わせてなるｎ価の連結基を表すのが好ましい。Ｌで表される連結基は置換されていてもよく、Ｌが環を含む場合、該環は縮環を形成していてもよい。ここで、前記へテロ環としては好ましくは炭素数1〜２０、より好ましくは炭素数1〜１２のヘテロ環であり、該へテロ環に含まれるヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子およびセレン原子が挙げられる。前記へテロ環としては、例えば、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルフォリン、チオフェン、セレノフェン、フラン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン  フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾールおよびテトラザインデン等が挙げられる。また、前記へテロ環の置換基としては、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の置換基として挙げたものが挙げられる。
【００７８】
Ｌは、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、メチレン基、ビニル基、アセチレン基、アニリン、ベンゼン、チオフェン、ピロール、チオフェン、ピロール、フラン、セレノフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾールの組合せからなるｎ価の連結基であるのがより好ましく、環を含む場合、該環は縮環を形成していてもよい。
【００７９】
Ｌは、アニリン、ベンゼン、チオフェン、ピロール、フラン、セレノフェン、ナフタレン、アントラセン、フェナントラセン、ピレン、ペリレン、ピリジン、フェナントロリン、ピリダジン、ピリミジン、アズレン、カルバゾール、アリレンビニレン、アリレンエチニレン、アリレンフェニレンおよびトリアリールアミン（アリレン基またはアリール基としては、フェニレン、チオフェン、ピロール、チオフェン、ピロール、フラン、セレノフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾールを表す。）から選ばれる環を１以上含む連結基を表すのが特に好ましい。また、Ｌは該環を連結する酸素原子、窒素原子、硫黄原子またはメチレン基を有していてもよい。Ｌは前記例示した環を１〜２０含むのが好ましく、１〜１０含むのがより好ましく、１〜５含むのが特に好ましい。
【００８０】
次に、前記一般式（IV）について説明する。
前記一般式（IV）中、Ａｒ41はアリール基またはヘテロ環基を表し、Ｒ42はアリール基、ヘテロ環基または脂肪族炭化水素基を表す。前記一般式（IV）中、Ｒ44、Ｒ45およびＲ46は各々水素原子または置換基を表す。Ａｒ41、Ｒ42、Ｒ44、Ｒ45、Ｒ46およびＺ4は、前記一般式（III）のＡｒ31、Ｒ32、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36およびＺ3と各々同義である。
【００８１】
前記一般式（IV）中、ｍは０、１または２を表す。ｐは１〜３のいずれかの整数を表す。ｐが２または３の場合、Ａｒ41、Ｒ44、Ｒ45、Ｒ46、Ｚ4およびｍの２以上の組み合わせは同一であっても異なっていてもよい。また、ｐが１の場合、２つのＲ42は同一でも異なっていてもよい。但し、Ａｒ41およびＲ42のうち少なくとも１つは、３以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わす。
【００８２】
次に一般式（Ｖ）について説明する。
前記一般式（Ｖ）中、Ｒ52はアリール基またはヘテロ環基を表し、前記一般式（Ｉ）のＲ1、Ｒ2およびＲ3で各々表されるアリール基およびヘテロ環基と各々同義である。前記一般式（Ｖ）中、Ｒ54、Ｒ55およびＲ56は各々、水素原子または置換基を表し、Ｒ57は置換基を表す。ｑは０から４の整数を表す。但しｑが２〜４の場合、２以上のＲ57は各々同一であっても異なっていてもよい。Ｒ54、Ｒ55、Ｒ56およびＺ5は、前記一般式（III）のＲ34、Ｒ35、Ｒ36およびＺ3と各々同義である。Ｒ57が表す置換基の例としては、一般式（Ｉ）のＲ1、Ｒ2およびＲ3の置換基として挙げたものが挙げられる。前記一般式（Ｖ）中、ｍは０、１または２を表す。ｎは２以上の整数を表し、Ｒ52、Ｒ54、Ｒ55、Ｒ56、Ｒ57、Ｚ5、ｍおよびｑの２以上の組み合わせは同一であっても異なっていてもよい。前記一般式（Ｖ）中、Ｌ1はアリール基、ヘテロ環基または脂肪族炭化水素基のｎ価の連結基を表す。但し、Ｒ52およびＬ1のうち少なくとも１つは３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わす。
【００８３】
Ｌ1はアニリン、ベンゼン、チオフェン、ピロール、フラン、セレノフェン、ナフタレン、アントラセン、フェナントラセン、ピレン、ペリレン、ピリジン、フェナントロリン、ピリダジン、ピリミジン、アズレン、アリレンビニレン、アリレンエチニレン、アリレンフェニレン、トリアリールアミン（アリレン基またはアリール基としては、フェニレン、チオフェン、ピロール、チオフェン、ピロール、フラン、セレノフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾールを表す。）から選ばれる環を１以上含む連結基を表すのが好ましい。また、Ｌ1は該環を連結する酸素原子、窒素原子、硫黄原子またはメチレン基を有してもよい。Ｌ1はより好ましくは、前記例示した環のいずれかを１〜２０含む連結基である。
【００８４】
次に、前記一般式（VI）について説明する。
前記一般式（VI）中、Ｒ62はアリール基またはヘテロ環基を表し、Ｒ64、Ｒ65およびＲ66は各々水素原子または置換基を表し、Ｒ67は置換基を表す。ｑは０〜４のいずれかの整数を表す。但し、ｑが２、３または４のとき、２以上のＲ67は同一であっても異なっていてもよい。Ｒ62、Ｒ64、Ｒ65、Ｒ66、Ｒ67およびＺ6は、前記一般式（Ｖ）のＲ52、Ｒ54、Ｒ55、Ｒ56、Ｒ57およびＺ5と各々同義である。ｍは０、１または２を表す。ｒは１または２を表し、ｒが２の場合、Ｒ64、Ｒ65、Ｒ66、Ｒ67、Ｚ6、ｍおよびｑの２つの組み合わせは同一であっても異なっていてもよく、ｒが１の場合、２つのＲ62は同一であっても異なっていてもよい。ｒが２の場合、Ｒ62で表される基は３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わし、ｒが１の場合、２つのＲ62で表される基のうち少なくとも１つは３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わす。
【００８５】
次に、前記一般式（VII）について説明する。
前記一般式（VII）中、Ｒ72は３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表し、Ｒ74は水素原子または置換基を表し、Ｒ77は置換基を表す。ｑは０〜４のいずれかの整数を表す。但し、ｑが２〜４のとき、２以上のＲ77は同一であっても異なっていてもよい。Ｒ72、Ｒ74、Ｒ77およびＺ7は、前記一般式（Ｖ）のＲ52、Ｒ54、Ｒ57およびＺ5と各々同義である。Ｌ2はアリール基、ヘテロ環基または脂肪族炭化水素基のｎ価の連結基を表す。ｎは２以上の整数を表し、Ｒ72、Ｒ74、Ｒ77、Ｚ7およびｑの２以上の組み合わせは同一であっても異なっていてもよい。
【００８６】
Ｌ2はアニリン、ベンゼン、チオフェン、ピロール、フラン、セレノフェン、ナフタレン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、アズレン、アリレンビニレン、アリレンエチニレン、アリレンフェニレンおよびトリアリールアミン（アリレン基またはアリール基としては、フェニレン、チオフェン、ピロール、チオフェン、ピロール、フラン、セレノフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾールを表す。）から選ばれる環を１以上有する連結基であるのが好ましく、前記例示した環を連結する酸素原子、窒素原子、硫黄原子またはメチレン基を有していてもよい。Ｌ2は、前記例示した環のいずれかを１〜２０含む連結基であるのが好ましく、Ｌ2は単環または２環のアリール環またはヘテロ環を含む連結基であるのが好ましい。
【００８７】
次に、前記一般式（VIII）について説明する。
前記一般式（VIII）中、Ｒ82はアリール基またはヘテロ環基を表し、Ｒ84は水素原子または置換基を表し、Ｒ87は置換基を表す。ｑは０〜４のいずれかの整数を表す。但し、ｑが２〜４であるとき、２以上のＲ87は各々同一であっても異なっていてもよい。Ｒ82、Ｒ84、Ｒ87およびＺ8は、前記一般式（Ｖ）のＲ52、Ｒ54、Ｒ57およびＺ5と各々同義である。ｒは１または２を表し、ｒが２のとき、Ｒ84、Ｒ87、Ｚ8およびｑの２つの組み合わせは互いに同一であっても異なっていてもよく、ｒが１のとき、２つのＲ82は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｒが２のとき、Ｒ82で表される基は３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わし、ｒが１のとき、２つのＲ82で表される基はのうち少なくとも１つは、３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わす。
【００８８】
以下、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の好ましい範囲について説明する。
前記一般式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は各々、炭素数６〜３０の単環または二環〜四環のアリール基（例えばフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、ピレニル、インデニルなどが挙げられる。）；窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも１原子を含む５ないし６員の芳香族ヘテロ環基；炭素数１〜２０のアルキル基；炭素数１〜２０のアルケニル基；または炭素数１〜２０のアルキニル基；であり、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の少なくとも２つは前記アリール基またはヘテロ環基であり、置換基として一般式（II）で表される基を少なくとも１つ含有する。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は各々置換基を有していてもよく、該置換基としてはアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基またはヘテロ環基であり、これらの置換基はさらに置換されていてもよい。前記一般式（II）中、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は各々、水素原子または置換基を表し、前記置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルケニル基、アシル基、スルホニル基、アルコキシカルボニル基、カルボンアミド基またはシアノ基である。Ｚ1は前記インダン−１，３−ジオン核である。
【００８９】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物のさらに好ましい組み合わせについて説明する。
前記一般式（Ｉ）で表される化合物中、さらに好ましい化合物は前記一般式（III）で表される化合物および前記一般式（IV）で表される化合物である。
前記一般式(III)で表される化合物の好ましい範囲としては、Ａｒ31が炭素数６〜３０の単環または二環のアリール基（例えばフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）；または窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも１原子を含む５ないし６員の芳香族ヘテロ環基；である。Ｒ32は炭素数６〜３０の単環または二環〜四環のアリール基（例えばフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、ピレニル、インデニルなどが挙げられる。）；窒素原子、酸素原子または硫黄原子を含む５ないし６員の芳香族ヘテロ環基；または炭素数１〜２０のアルキル基；炭素数１〜２０のアルケニル基；または炭素数１〜２０のアルキニル基；を表す。Ａｒ31およびＲ32は各々置換基を有していてもよく、該置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基または置換アミノ基（置換基としてはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。）である。Ｒ34、Ｒ35およびＲ36は各々水素原子または置換基を表し、該置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルケニル基、アシル基、スルホニル基、アルコキシカルボニル基、カルボンアミド基またはシアノ基である。Ｚ3は前記インダン−１，３−ジオン核である。Ｌはアニリン、ベンゼン、チオフェン、ピロール、フラン、セレノフェン、ナフタレン、アントラセン、フェナントラセン、ピレン、ペリレン、ピリジン、フェナントロリン、ピリダジン、ピリミジン、アズレン、カルバゾール、アリレンビニレン、アリレンエチニレン、アリレンフェニレンおよびトリアリールアミン（アリレン基またはアリール基としては、フェニレン、チオフェン、ピロール、チオフェン、ピロール、フラン、セレノフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾールを表す。）から選ばれる環を１以上含むｎ価の連結基を表し、Ｌは前記環を連結する酸素原子、窒素原子、硫黄原子またはメチレン基を有していてもよく、好ましくは１〜２０の前記環を含む連結基である。
【００９０】
前記一般式（IV）で表される化合物の好ましい範囲としては、Ａｒ41が炭素数６〜３０の単環または二環のアリール基（例えばフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）；または窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも１原子を含む５ないし６員の芳香族ヘテロ環基；である。Ｒ42は炭素数６〜３０の単環または二環〜四環のアリール基（例えばフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、ピレニル、インデニルなどが挙げられる。）；窒素原子、酸素原子または硫黄原子を含む５ないし６員の芳香族ヘテロ環基；炭素数１〜２０のアルキル基；炭素数１〜２０のアルケニル基；または炭素数１〜２０のアルキニル基；を表す。Ａｒ41とＲ42は各々置換基を有していてもよく、該置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基または置換アミノ基（置換基としてはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。）である。Ｒ44、Ｒ45およびＲ46は各々、水素原子または置換基を表し、該置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルケニル基、アシル基、スルホニル基、アルコキシカルボニル基、カルボンアミド基またはシアノ基である。Ｚ4は前記インダン−１，３−ジオン核である。
【００９１】
前記一般式（III）で表される化合物のうち、さらに好ましい化合物は、前記一般式（Ｖ）で表される化合物である。
前記一般式（Ｖ）の好ましい範囲としては、Ｒ52がアリール基またはヘテロ環基を表し、前記一般式（III）のＲ32が表すアリール基およびヘテロ環基の好ましい範囲と各々同義である。Ｒ54、Ｒ55およびＲ56は、前記一般式（III）のＲ34、Ｒ35およびＲ36の好ましい範囲と各々同義であり、Ｚ5は前記インダン−１，３−ジオン核である。Ｒ57はアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基または置換アミノ基（置換基としてはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。）である。Ｌ1は、アニリン、ベンゼン、チオフェン、ピロール、フラン、セレノフェン、ナフタレン、アントラセン、フェナントラセン、ピレン、ペリレン、ピリジン、フェナントロリン、ピリダジン、ピリミジン、アズレン、アリレンビニレン、アリレンエチニレン、アリレンフェニレンおよびトリアリールアミン（アリレン基またはアリール基としては、フェニレン、チオフェン、ピロール、チオフェン、ピロール、フラン、セレノフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾールを表す。）から選ばれる環を１以上含む連結基を表し、前記環を連結する酸素原子、窒素原子、硫黄原子またはメチレン基を有していてもよく、好ましくは１〜２０の前記環を含む連結基を表す。
【００９２】
前記一般式（IV）で表される化合物のうち、さらに好ましい化合物は、前記一般式（VI）で表される化合物である。
前記一般式（VI）で表される化合物の好ましい範囲としては、Ｒ62が炭素数６〜３０の単環または二環〜四環のアリール基（例えばフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、ピレニル、インデニルなどが挙げられる。）；または窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくも１原子を含む５ないし６員の芳香族ヘテロ環基；を表す。Ｒ62は置換基を有しててもよい。Ｒ62の置換基およびＲ67で表される置換基は、各々、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基または置換アミノ基（置換基としてはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。）である。Ｒ64、Ｒ65およびＲ66は各々、水素原子または置換基を表し、該置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルケニル基、アシル基、スルホニル基、アルコキシカルボニル基、カルボンアミド基またはシアノ基である。Ｚ6は前記インダン−１，３−ジオン核である。
【００９３】
前記一般式（Ｖ）で表される化合物のうち、さらに好ましい化合物は、前記一般式（VII）で表される化合物である。
前記一般式（VII）で表される化合物の好ましい範囲としては、Ｒ72およびＲ74が、前記一般式（Ｖ）のＲ52およびＲ54の好ましい範囲と各々同義であり、Ｚ7が前記インダン−１，３−ジオン核であり、Ｚ7は他の環と縮環していてもよい。Ｒ77は、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基または置換アミノ基（置換基としてはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。）である。Ｌ2は、アニリン、ベンゼン、チオフェン、ピロール、フラン、セレノフェン、ナフタレン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、アズレン、アリレンビニレン、アリレンエチニレン、アリレンフェニレンおよびトリアリールアミン（アリレン基またはアリール基としては、フェニレン、チオフェン、ピロール、チオフェン、ピロール、フラン、セレノフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾールを表す。）から選ばれる環を１以上含む連結基を表し、前記環を連結する酸素原子、窒素原子、硫黄原子またはメチレン基を有していてもよい。好ましくは１〜２０の前記環を含む連結基であり、単環または２環からなるアリール環またはヘテロ環を含む連結基である。
【００９４】
前記一般式（VI）で表される化合物のうち、より好ましい化合物は、前記一般式（VIII）で表される化合物である。
前記一般式（VIII）で表される化合物の好ましい範囲としては、Ｒ82、Ｒ84およびＲ87が各々、前記一般式（VI）の好ましい範囲のＲ62、Ｒ64およびＲ67と同義であり、Ｚ8が前記インダン−１，３−ジオン核であり、Ｚ8は他の環と縮環していてもよい。
【００９５】
次に、前記一般式（IX）について説明する。
前記一般式（IX）で表されるスチリルアミン化合物は、赤色から緑色のいずれかに高い発光特性を示し、特に、従来の発光材料等に用いられていた化合物と比較して高い赤色発光を示す。従って、一般式（IX）で表されるスチリルアミン化合物を含有する有機薄層を有する発光素子は、赤色から緑色のいずれかの高輝度発光が可能であり、特に従来に比べて高輝度かつ色純度の高い赤色発光が可能となる。また、前記スチリルアミン化合物は、単独で発光層として用いても高輝度発光が可能であり、さらに、前記スチリルアミン化合物を用いれば、塗布方式で発光素子を作製した場合も、従来の材料を用いた場合と比較して、発光輝度が良好な発光特性を示す発光素子が作製できる。
【００９６】
前記一般式（IX）中、Ｒ92およびＲ93はアリール基またはヘテロ環基を表し、少なくとも一方は３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基を表わす。Ｒ94は水素原子または置換基を表し、Ｒ97は置換基を表す。Ｒ94およびＲ97は、前記一般式(VIII)のＲ84およびＲ87と各々同義である。ｑは０〜４のいずれかの整数を表す。但し、ｑが２、３または４のとき、２以上のＲ97は各々同一であっても異なっていてもよい。
【００９７】
前記一般式（IX）中、Ｚ9はインダン−１，３−ジオン核である。
【００９８】
次に、前記一般式（IX）で表される化合物の好ましい範囲について説明する。
Ｒ92およびＲ93は各々、炭素数６〜３０の単環または二環〜四環のアリール基（例えばフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、ピレニル、インデニルなどが挙げられる。）；または窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも１原子を含む５ないし６員の芳香族ヘテロ環基（例えばピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルフォリン、チオフェン、フラン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられ、更に縮環を形成しても良い。）；を表す。 Ｒ92およびＲ93のうち少なくとも１つは、３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基である。Ｒ94は水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルケニル基、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のスルホニル基、炭素数１〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜２０のカルボンアミド基またはシアノ基であり、Ｒ97は水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基または炭素数１〜２０の置換アミノ基（置換基としてはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。）である。Ｚ9で表される酸性核はインダン−１，３−ジオン核である。
【００９９】
前記一般式（IX）で表される化合物のさらに好ましい範囲としては、Ｒ92およびＲ93が各々、炭素数６〜３０の単環または二環〜四環のアリール基（例えばフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、ピレニル、インデニルなどが挙げられる。）；または窒素原子および硫黄原子から選ばれる１〜２原子を含む５ないし６員の芳香族ヘテロ環基（例えばピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルフォリン、チオフェン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン フェナントロリン、フェナジン、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられ、更に縮環を形成しても良い。）；である。Ｒ92およびＲ93のうち少なくとも１つは、３つ以上の環が縮合したアリール基またはヘテロ環基である。Ｒ94は水素原子、炭素数１〜２０のアルケニル基、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のスルホニル基、炭素数１〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜２０のカルボンアミド基またはシアノ基であり、Ｒ97は炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基または炭素数１〜２０の置換アミノ基（置換基としてはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。）である。Ｚ9で表される酸性核は、インダン−１，３−ジオン核であり、更に縮環を形成してもよい。
【０１００】
前記一般式（IX）の特に好ましい範囲としては、Ｒ92およびＲ93が炭素数６〜３０の単環または二環〜四環のアリール基（例えばフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、ピレニル、インデニルなどが挙げられる。）である。
Ｒ92およびＲ93のうち少なくとも１つは、３つ以上の環が縮合したアリール基である。Ｒ94は水素原子、炭素数１〜１０のアルケニル基、炭素数１〜１０のアシル基、炭素数１〜１０のスルホニル基、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜１０のカルボンアミド基またはシアノ基であり、Ｒ97は炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基または炭素数１〜２０の置換アミノ基（置換基としてはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、チオフェン、ピロール、フラン、セレノフェン、ナフタレン、アントラセン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、アズレン、カルバゾールを表す。）である。Ｚ9で表される酸性核は、１，３−インダンジオン核、２，４，６−トリケトヘキサヒドロピリミジン核（チオケトン体も含む）、ピラゾロン核、イソオキサゾリノン核、オキサゾリノン核、フラノン核、オキシインドール核、イミダゾリドン核、１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−３，６−ジオン核、ベンゾチオフェン−３−オン核、オキソベンゾチオフェン−３−オン核、ジオキソベンゾチオフェン−３−オン核、クマラノン核、オキシインドール核、２−チオ−２，４−チアゾリジンジオン核、２−チオ−２，４−オキサゾリジンジオン核、２−チオ−２，５−チアゾリジンジオン核または２，４−チアゾリジンジオン核であり、更に縮環を形成していてもよい。
【０１０１】
前記一般式（Ｉ）および前記一般式（III）〜（IX）で表される化合物は低分子量化合物であってもよいし、前記一般式（Ｉ）および前記一般式（III）〜（IX）で表される化合物が残基として、ポリマー主鎖に接続された高分子量化合物（好ましくは重量平均分子量１０００〜５００００００、特に好ましくは５０００〜２００００００、さらに好ましくは１００００〜１００００００）もしくは、一般式（Ｉ）および前記一般式（III）〜（IX）の骨格を主鎖にもつ高分子量化合物（好ましくは重量平均分子量１０００〜５００００００、特に好ましくは５０００〜２００００００、更に好ましくは１００００〜１００００００）であってもよい。高分子量化合物の場合は、ホモポリマーであってもよいし、他のモノマーとの共重合体であってもよい。前記一般式（Ｉ）および前記一般式（III）〜（IX）で表される化合物としては、好ましくは、低分子量化合物である。
尚、前記一般式（Ｉ）および前記一般式（III）〜（IX）は便宜的に極限構造式で表しているが、本発明にはその互変異性体も含まれる。
【０１０２】
以下に、前記一般式（Ｉ）および（IX）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は以下の具体例に何ら限定されるものではない。
【０１０３】
【化３４】
0004076709.tif 000013
【０１０４】
【化３５】
0004076709.tif 000014
【０１０５】
【化３６】
0004076709.tif 000015
【０１０６】
【化３７】
0004076709.tif 000016
【０１０７】
【化３８】
0004076709.tif 000017
【０１０８】
次に、前記一般式（Ｉ）および（IX）で表される化合物の合成例を以下に示す。
前記一般式（Ｉ）および（IX）で表される化合物は、種々の合成法により合成することができるが、例えばトリアリールアミンのアリール基をホルミル化した後、活性メチレン化合物と塩基存在下反応させる方法などが適用できる。
【０１０９】
合成例−１
例示化合物（Ｄ−１）の合成
【０１１０】
【化３９】
0004076709.tif 000018
【０１１１】
エタノール  ５０ミリリットルに、４−（Ｎ−９−アントリル−Ｎ−フェニルアミノ）ベンズアルデヒド  ０．７５ｇと、インダン−１，３−ジオン  ０．３２ｇとを溶解した溶液を、８時間加熱還流した。この反応液を放冷し、析出した結晶を濾取した。得られた粗結晶をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、エタノール−クロロホルムで晶析し、目的の例示化合物（Ｄ−１）を０．８２ｇ得た（吸収スペクトルλmax  ４８３ｎｍ（溶媒：ＣｌＣＨ2ＣＨ2Ｃｌ））。
【０１１２】
合成例−２
合成例−１と同様の方法で目的の例示化合物（Ｄ−２）を合成した（吸収スペクトルλmax  ５０６ｎｍ（溶媒：ＣｌＣＨ2ＣＨ2Ｃｌ））。
合成例−３
合成例−１と同様の方法で目的の例示化合物（Ｄ−３）を合成した（吸収スペクトルλmax  ４８７ｎｍ（溶媒：ＣｌＣＨ2ＣＨ2Ｃｌ））。
合成例−４
合成例−１と同様の方法で目的の例示化合物（Ｄ−４）を合成した（吸収スペクトルλmax  ５０９ｎｍ（溶媒：ＣｌＣＨ2ＣＨ2Ｃｌ））。
合成例−５
合成例−１と同様の方法で目的の例示化合物（Ｄ−５）を合成した（吸収スペクトルλmax  ４９０ｎｍ（溶媒：ＣｌＣＨ2ＣＨ2Ｃｌ））。
合成例−６
合成例−１と同様の方法で目的の例示化合物（Ｄ−６）を合成した（吸収スペクトルλmax  ４９６ｎｍ（溶媒：ＣｌＣＨ2ＣＨ2Ｃｌ））。
【０１１３】
［発光素子］
本発明の発光素子は、一対の電極と、該電極に挟持された、前記一般式（Ｉ）〜（IX）のいずれかで表される化合物（以下、単に「アミン化合物」という場合がある）の少なくとも１種を含有する有機薄層を有する。前記化合物は、高輝度の発光特性を示すので、前記有機薄層は発光層として機能させることができる。
また、前記有機薄層に、前記例示化合物以外の他の材料を含有させることによって、発光層および他の層の機能を兼ね備えた層とすることもできる。また、本発明の発光素子は、前記有機薄層以外にも、他の発光層、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、保護層等を有してもよく、またこれらの各層はそれぞれ他の機能を備えたものであってもよい。各層の形成にはそれぞれ種々の材料を用いることができる。
【０１１４】
有機薄層の形成方法は、特に限定されるものではなく、抵抗加熱蒸着、電子ビーム、スパッタリング、分子積層法、コーティング法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）、ＬＢ法、インクジェット法、印刷法などが用いられる。発光素子の諸特性および製造の容易性等の観点から、抵抗加熱蒸着、またはコーティング法により形成するのが好ましい。コーティング法による場合、前記有機薄層は、前記アミン化合物を溶媒に溶解または分散させた塗布液を、陽極等に塗布し、乾燥することによって形成することができる。この場合、前記アミン化合物を樹脂成分とともに、溶媒に溶解または分散して、塗布液を調製することもできる。用いる樹脂成分としては、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド、エチルセルロース、酢酸ビニル、ＡＢＳ樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂等が挙げられる。
尚、有機薄層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常１ｎｍ〜５μｍであり、好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、より好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。
【０１１５】
前記有機薄層は、前記アミン化合物以外に、他の発光材料を含有していてもよい。該発光材料としては、例えば、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘導体、ペリレン誘導体、ペリノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、アルダジン誘導体、ピラリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、スチリルアミン誘導体、芳香族ジメチリディン化合物、８−キノリノール誘導体の金属錯体や希土類錯体に代表される各種金属錯体等、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物等が挙げられる。
【０１１６】
本発明の発光素子は、陽極と陰極とからなる一対の電極を有する。前記陽極は正孔注入層、正孔輸送層、発光層などに正孔を供給するものであり、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物などを用いて構成することができ、仕事関数が４ｅＶ以上の材料で構成するのが好ましい。具体的には、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の導電性金属酸化物、あるいは金、銀、クロム、ニッケル等の金属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物または積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、およびこれらとＩＴＯとの積層物などが挙げられる。好ましくは、導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、透明性等の点からＩＴＯが好ましい。陽極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常１０ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１００ｎｍ〜５００ｎｍである。
【０１１７】
陽極は、通常、ソーダライムガラス、無アルカリガラスまたは透明樹脂等からなる基板上に、前記材料からなる層を形成したものが用いられる。基板としてガラスを用いる場合、その材質については、ガラスからの溶出イオンを少なくするため、無アルカリガラスを用いるのが好ましい。また、ソーダライムガラスを用いる場合、シリカなどのバリアコートを施したものを使用するのが好ましい。前記基板の厚みは、機械的強度を保つのに十分であれば特に制限はないが、ガラスを用いる場合には、通常０．２ｍｍ以上、好ましくは０．７ｍｍ以上のものを用いる。基板上に前記材料からなる層を形成する際には、材料に応じて種々の方法が用いられるが、例えばＩＴＯ電極を作製する場合は、電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、化学反応法（ゾル−ゲル法など）、酸化インジウムスズの分散物の塗布等の方法を用いることができる。作製した陽極に、洗浄処理やその他の処理を施すことによって、素子の駆動電圧を低下させたり、発光効率を向上させることも可能である。例えば、ＩＴＯ電極の場合、ＵＶ−オゾン処理、プラズマ処理などが効果的である。
【０１１８】
前記陰極は電子注入層、電子輸送層、発光層などに電子を供給するものであり、電子注入層、電子輸送層、発光層などの負極と隣接する層との密着性やイオン化ポテンシャル、安定性等を考慮して選ばれる。陰極の材料としては金属、合金、金属ハロゲン化物、金属酸化物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物を用いることができ、具体的には、アルカリ金属（例えばＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ等）及びそのフッ化物ならびに酸化物、アルカリ土類金属（例えばＭｇ、Ｃａ等）及びそのフッ化物ならびに酸化物、金、銀、鉛、アルニウム、ナトリウム−カリウム合金またはそれらの混合金属、リチウム−アルミニウム合金またはそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金またはそれらの混合金属、インジウム、イッテリビウム等の希土類金属等が挙げられる。好ましくは仕事関数が４ｅＶ以下の材料であり、より好ましくはアルミニウム、リチウム−アルミニウム合金またはそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金またはそれらの混合金属等である。陰極は、上記化合物及び混合物の単層構造であっても、上記化合物及び混合物の層を２以上積層した積層構造であってもよい。陰極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常１０ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１００ｎｍ〜１μｍである。陰極の作製には電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、コーティング法などの方法が用いられ、金属を単体で蒸着することも、二成分以上を同時に蒸着することもできる。さらに、複数の金属を同時に蒸着して合金電極を形成することも可能であり、またあらかじめ調整した合金を蒸着させてもよい。陽極及び陰極のシート抵抗は低い方が好ましく、数百Ω／□以下が好ましい。
【０１１９】
本発明の発光素子は、発光層を少なくとも１層有する。前記発光層は、電界印加時に陽極、正孔注入層または正孔輸送層から正孔を注入することができるとともに、陰極、電子注入層または電子輸送層から電子を注入することができる機能や、注入された電荷を移動させる機能、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する層である。本発明において、前記発光層は、前記一般式（Ｉ）〜（IX）のいずれかで表される化合物の少なくとも１種であるのが好ましいが、他の発光材料を併用することもできる。他の発光材料としては、例えば、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘導体、ペリレン誘導体、ペリノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、アルダジン誘導体、ピラリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、スチリルアミン誘導体、芳香族ジメチリディン化合物、８−キノリノール誘導体の金属錯体や希土類錯体に代表される各種金属錯体等、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物等が挙げられる。発光層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常１ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。
前記発光層の形成方法は、特に限定されるものではないが、抵抗加熱蒸着、電子ビーム、スパッタリング、分子積層法、コーティング法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）、ＬＢ法、インクジェット法、印刷法などの方法が用いられ、好ましくは抵抗加熱蒸着、コーティング法である。
【０１２０】
本発明の発光素子は、正孔注入層および／または正孔輸送層を有していてもよい。正孔注入層および正孔輸送層に含有させる材料としては、陽極から正孔を注入する機能、正孔を輸送する機能、陰極から注入された電子を障壁する機能のいずれか有しているものであればよい。その具体例としては、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）誘導体、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマー等が挙げられる。正孔注入層および正孔輸送層の膜厚は、特に限定されるものではないが、通常１ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。正孔注入層および正孔輸送層は上述した材料の１種または２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成または異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
尚、前述した様に、前記アミン化合物を前記材料とともに、正孔注入層および／または正孔輸送層に含有させて、発光層と、正孔注入層および／または正孔輸送層との機能を兼ね備えた層としてもよい。
【０１２１】
正孔注入層および正孔輸送層の形成方法としては、真空蒸着法、ＬＢ法、インクジェット法、印刷法、前記正孔注入輸送剤を溶媒に溶解または分散させてコーティングする方法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）が用いられる。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解または分散することができ、樹脂成分としては例えば、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド、エチルセルロース、酢酸ビニル、ＡＢＳ樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂などが挙げられる。
【０１２２】
本発明の発光素子は、電子注入層および／または電子輸送層を有していてもよい。電子注入層、電子輸送層の材料は、陰極から電子を注入する機能、電子を輸送する機能、陽極から注入された正孔を障壁する機能のいずれか有しているものであればよい。その具体例としては、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルビジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、８−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体等が挙げられる。本発明の発光素子に用いられる電荷輸送材料としては、好ましくは、縮合へテロ環構造を有する化合物であり、具体的には、特願平１１−２０７９５７号の明細書に記載された化合物（より好ましくは、前記明細書中に記載された一般式（IX）で表される化合物）が好ましい。電子注入層および電子輸送層の膜厚は、特に限定されるものではないが、通常、１ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。電子注入層および電子輸送層は、前記材料の１種または２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成または異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
電子注入層、電子輸送層の形成方法としては、真空蒸着法やＬＢ法やインクジェット法、印刷法、前記電子注入輸送剤を溶媒に溶解または分散させてコーティングする方法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）などが用いられる。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解または分散することができ、樹脂成分としては例えば、正孔注入輸送層の場合に例示したものが適用できる。
尚、前述した様に、前記アミン化合物を前記材料とともに、電子注入層および／または電子輸送層に含有させて、発光層と、電子注入層および／または電子輸送層との機能を兼ね備えた層としてもよい。
【０１２３】
本発明の発光素子は保護層を有していてもよい。前記保護層の材料としては、保護層は、水分や酸素等の素子劣化を促進する成分が素子内に浸入するのを抑止する機能を有する層である。該層に含有される具体的には、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｎｉ等の金属、ＭｇＯ、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＧｅＯ、ＮｉＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、Ｆｅ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、ＴｉＯ2等の金属酸化物、ＭｇＦ2、ＬｉＦ、ＡｌＦ3、ＣａＦ2等の金属フッ化物、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレート、ポリイミド、ポリウレア、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンとジクロロジフルオロエチレンとの共重合体、テトラフルオロエチレンと少なくとも１種のコモノマーとを含むモノマー混合物を共重合させて得られる共重合体、共重合主鎖に環状構造を有する含フッ素共重合体、吸水率１％以上の吸水性物質、吸水率０．１％以下の防湿性物質等を含有する層が挙げられる。保護層の形成方法についても特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、ＭＢＥ（分子線エピタキシ）法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法（高周波励起イオンプレーティング法）、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、ガスソースＣＶＤ法、コーティング法、インクジェット法を適用できる。
【０１２４】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例により何ら限定されるものではない。
（実施例１）
２５ｍｍ×２５ｍｍ×０．７ｍｍのガラス基板上にＩＴＯを１５０ｎｍの厚さで製膜したもの（東京三容真空（株）製）を透明支持基板とした。この透明支持基板をエッチングおよび洗浄後、 銅フタロシアニンを約１０ｎｍ蒸着した。次に、第２層として、ＴＰＤ（Ｎ，Ｎ' −ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ' −ジフェニルベンジジン）を約４０ｎｍ、第３層として、下記表１に記載の化合物の各々を約４０ｎｍ、および第４層として、Ａｌｑ（トリス（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム）を約２０ｎｍ、順に１０-3〜１０-4Ｐａの真空中で、基板温度室温の条件下で蒸着した。次に、各々の透明支持基板を、有機薄膜上にパターニングしたマスク（発光面積が５ｍｍ×５ｍｍとなるマスク）を設置し、蒸着装置内でマグネシウム：銀＝１０：１を２５０ｎｍ共蒸着した後、銀３００ｎｍを蒸着し、発光素子１０１〜１０５を作製した。
【０１２５】
作製した発光素子１０１〜１０５の各々に、東陽テクニカ製ソースメジャーユニット２４００型を用いて、直流定電圧を印加し、発光させて、その輝度をトプコン社の輝度計ＢＭ−８で測定した。また、発光波長を浜松ホトニクス社製スペクトルアナライザーＰＭＡ−１１を用いて各々測定し、その測定値から計算により色度座標を求めた。赤色の発光としては色度座標（ｘ，ｙ）がｘ＞０．６０およびｙ＜０．４０であるのが好ましい。さらに、１０１〜１０５の発光素子について８５℃で恒温保存を２週間行い、その後、素子作成直後と同電流で駆動し、そのときの駆動電圧の上昇を測定した。
また、第４層の電子輸送材料をＡｌｑから下記構造式で表される化合物ＥＴ−１に代えた発光素子を作製し（発光素子Ｎｏ．１０６）、同様に評価した。これらの結果を下記表１に示す。
【０１２６】
【表１】
0004076709.tif 000019
【０１２７】
【化４０】
0004076709.tif 000020
【０１２８】
表１の結果から、本発明の化合物を単独で発光層の発光材料として用いて作製した発光素子は、比較化合物Ａを発光材料として用いた発光素子と比較して、色純度に優れた赤色発光を示し、且つ高輝度発光が可能であることが実証された。さらに、高温保存後も駆動電圧の上昇がなく耐久性に優れていることがわかった。また、電子輸送材料としてＥＴ−１と組み合わせることにより高輝度化できることが示された。
【０１２９】
（実施例２）
実施例１と同様にＩＴＯ基板をエッチングおよび洗浄後、ＴＰＤを約４０ｎｍ蒸着し、その後、表２記載の化合物の各々、およびＡｌｑ（トリス（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム）をそれぞれ蒸着速度０．００４ｎｍ／秒および０．４ｎｍ／秒で膜厚約４０ｎｍとなるように共蒸着した。さらにＡｌｑを単独で２０ｎｍ蒸着し、次いで実施例１と同様に陰極を蒸着し、同様に評価を行った。表か結果を下記表２に示す。
【０１３０】
【表２】
0004076709.tif 000021
【０１３１】
前記表２中、のダークスポットの欄の記号は以下の意味で用いた。
○  ：  目視でダークスポットが確認できない
△  ：  ダークスポットが少ない
×  ：  ダークスポットが多い
【０１３２】
表２の結果から、本発明の化合物をドープ色素として用いて作製した発光素子は、例示化合物Ａを用いて同様に作製した発光素子と比較して、高輝度発光が可能で、且つ面状に優れていることが実証された。さらに、耐久性にも優れているることがわかった。
【０１３３】
（実施例３）
実施例１と同様にＩＴＯ基板をエッチングおよび洗浄後、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）４０ｍｇ、ＰＢＤ（２−（４−ビフェニルイル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール）１２ｍｇ、表３に記載の化合物の各々  ０．５ｍｇを１，２−ジクロロエタン  ３ミリリットルに溶解し、洗浄したＩＴＯ基板上にスピンコートした。生成した有機薄膜の膜厚は、約１２０ｎｍであった。次いで実施例１と同様に陰極を蒸着し、同様に評価を行った。結果を表３に示す。
【０１３４】
【表３】
0004076709.tif 000022
【０１３５】
表３の結果から、塗布方式により発光素子を作製した場合、比較化合物Ａを用いると、輝度が顕著に低化したのに対して、本発明の化合物を用いると、一般的には発光輝度が低くなる塗布方式により発光素子を作製した場合も、作製された発光素子は、高輝度発光が可能であることが実証された。さらに、低電圧駆動も可能であることもわかった。
【０１３６】
（実施例４）
実施例１と同様にＩＴＯ基板をエッチングおよび洗浄後、例示化合物Ｄ−２を約６０ｎｍ蒸着し、その後、Ａｌｑを約４０ｎｍ蒸着した。次いで実施例１と同様に陰極を蒸着し、発光素子を作製した。
この発光素子を同様に評価した結果、１５Ｖで輝度７００ｃｄ／ｍ2を示した。また、発光波長λmaxは６４５ｎｍで、ＣＩＥ色度（ｘ、ｙ）＝（０．６４、０．３５）の色純度の高い赤色発光が観測された。この結果より、本発明の化合物が正孔注入輸送材料兼発光材料として有効であることがわかった。
【０１３７】
（実施例５）
実施例１と同様にエッチングおよび洗浄したＩＴＯガラス基板上に、ＴＰＤ（Ｎ，Ｎ' −ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ' −ジフェニルベンジジン）を約４０ｎｍ、例示化合物Ｄ−２を約２０ｎｍ、バソクプロインを約１０ｎｍおよびＡｌｑ（トリス（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム）約３０ｎｍを蒸着した。次いで実施例１と同様に陰極を蒸着し、発光素子を作製した。
この発光素子を評価した結果、１４Ｖで輝度１１２０ｃｄ／ｍ2を示した。発光波長λmaxは６４３ｎｍで、ＣＩＥ色度（ｘ、ｙ）＝（０．６５、０．３４）の色純度の高い赤色発光が観測された。
【０１３８】
（実施例６）
実施例１と同様にエッチングおよび洗浄したＩＴＯガラス基板上に、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）４０ｍｇ、２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール  １２ｍｇ、１，１，４，４−テトラフェニルブタジエン  １０ｍｇ、および例示化合物Ｄ−１  ０．１ｍｇを１，２−ジクロロエタン  ３ミリリットルに溶解した溶液をスピンコートした。次いで実施例１と同様に陰極を蒸着し、発光素子を作製した。
この発光素子にＩＴＯ電極を陽極、Ｍｇ：Ａｇ電極を陰極として直流電圧を印加して発光特性を調べたところ、１５ＶでＣＩＥ色度図上（ｘ、ｙ）＝（０．３６、０．３４）の白色発光（輝度１２００ｃｄ／ｍ2）が得られ、白色発光に有効であることがわかった。
【０１３９】
【発明の効果】
本発明によれば、色純度の高い赤色発光有機発光素子材料および有機発光素子を提供することができる。また、低電圧駆動で高輝度、高効率の発光が可能で、繰り返し使用時、高温下での安定性に優れ、均質面状発光可能な緑〜赤色有機発光素子用材料および有機発光素子を提供することができる。また、本発明によれば、素子間でばらつきがなく性能の安定した素子およびその作製を可能にする緑色から赤色に発光する発光素子材料が提供できる。また、本発明によれば、塗布方式で作製しても高輝度、高効率発光可能な発光素子材料およびそれを用いた発光素子が提供できる。また、本発明によれば、蛍光強度の強い緑色から赤色に蛍光を有するスチリルアミン化合物を提供することができる。