(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェーハを収納する合成樹脂製のウェーハ収納容器であって、界面活性剤のコーティング層によって該ウェーハ収納容器の表面を被覆し、該界面活性剤のコーティング層が該ウェーハ収納容器の表面にわたって残存するように比抵抗が１０ＭΩ・ｃｍ以下の純水で洗浄しかつこの洗浄によって該界面活性剤のコーティング層に付着していたパーティクルを洗い落とし、該界面活性剤のコーティング層を乾燥し、該表面からの発塵を防止するようにしたことを特徴とするウェーハ収納容器。
【請求項２】
ウェーハを収納する合成樹脂製のウェーハ収納容器の表面に界面活性剤をコーティングする工程と、該ウェーハ収納容器を該界面活性剤のコーティング層が該ウェーハ収納容器の表面にわたって残存するように比抵抗が１０ＭΩ・ｃｍ以下の純水で洗浄するとともにこの洗浄によって該界面活性剤のコーティング層に付着していたパーティクルを洗い落とす工程と、該洗浄したウェーハ収納容器を乾燥する工程とからなり、該界面活性剤のコーティング層によって該ウェーハ収納容器の表面からの発塵を防止するようにしたことを特徴とするウェーハ収納容器の発塵防止方法。
【請求項３】
前記ウェーハ収納容器を界面活性剤水溶液に浸漬することによって該ウェーハ収納容器の表面に界面活性剤をコーティングすることを特徴とする請求項２記載のウェーハ収納容器の発塵防止方法。
【請求項４】
表面に界面活性剤をコーティングする前記ウェーハ収納容器が洗浄されたウェーハ収納容器であることを特徴とする請求項２又は３記載のウェーハ収納容器の発塵防止方法。
【請求項５】
前記洗浄されたウェーハ収納容器が界面活性剤洗浄及び純水洗浄されたウェーハ収納容器であることを特徴とする請求項４記載のウェーハ収納容器の発塵防止方法。
【請求項６】
請求項１記載のウェーハ収納容器にウェーハを収納することを特徴とするウェーハの収納方法。
【請求項７】
請求項２〜５のいずれか１項記載のウェーハ収納容器の発塵防止方法によって処理されたウェーハ収納容器にウェーハを収納することを特徴とするウェーハの収納方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
技術分野
本発明は、半導体ウェーハ、石英ガラス基板、光ディスク等の基板（以下単にウェーハということがある）の収納や輸送に際して用いられかつ高清浄度が要求される合成樹脂製のウェーハ収納容器の合成樹脂表面からの発塵を封鎖または抑止したウェーハ収納容器及びその発塵防止方法並びに当該ウェーハ収納容器を用いたウェーハの収納方法に関する。
【０００２】
背景技術
近年、半導体集積回路の集積度の大規模化や記録媒体の一層の大容量化を背景にして、これらに用いられるウェーハの一層の高清浄度化が要求されている。これらのウェーハはその表面に僅かなパーティクルが存在するだけで、半導体集積回路のパターン不良や、記録媒体の記録エラーの発生の原因となるからである。したがって、前記ウェーハは高清浄度に保つ必要があるが、必然的にこれらのウェーハを収納する容器の高清浄度化が要求されることになる。いくらウェーハを洗浄等によって高清浄度としても、これらを納める収納容器が汚染されていたのでは、結局、ウェーハを高清浄度になし得ないからである。
【０００３】
ところでウェーハの収納容器としては、例えば、図９〜図１１に示したような構造のものが知られている。同図において、ウェーハ収納容器１２は、ウェーハを収納する容器本体１４と該容器本体１４の上部開口部を閉塞する蓋体１６とから構成されている。該容器本体１４内には、図１１に示すごとく多数のウェーハを収納する基板収納カセット１８が装着される。なお、符号２０は容器本体１４の上部開口部の周縁部に取り付けられるパッキンであり、２２は基板収納用カセット１８の上側に取り付けられる基板押さえである。
【０００４】
一般に粉塵や化学物質による汚染防止、取り扱いの便宜、コスト等の点からポリプロピレンやポリカーボネート等の合成樹脂が使用され、その高清浄度化のための洗浄がなされる。従来、この種の洗浄方法には種々のものがあるが、一般に湿式の洗浄が用いられ、被洗浄物を超音波を用いて洗浄する超音波洗浄、高水圧を利用したシャワー洗浄、ブラシでケースをこするブラシ洗浄等が用いられている。
【０００５】
上記容器の洗浄やウェーハ自体の洗浄などの半導体向けの各種の洗浄には純水または超純水が用いられ、微粒子、有機物、水中の溶存ガスとして、溶存酸素、炭酸ガス、無機イオン等を除去した比抵抗（抵抗率ともいうことがある）が１０ＭΩ・ｃｍ以上のものが使用されている。特に半導体デバイスの集積度の向上と共に使用される純水（超純水）の水質も一層高純度化し、不純物がゼロの理論純水値１８．２４ＭΩ・ｃｍにほぼ近づいている。一般的なウェーハ加工プロセスでは、ウェーハのみならず、収納容器など高清浄度が要求されるものに対しても、１６ＭΩ・ｃｍ程度またはそれ以上の純水、超純水が用いられ、洗浄が行われている。
【０００６】
また、洗浄液に関しては純水をはじめ、界面活性剤、有機溶剤、酸等が用いられ、上記洗浄方法と組み合わせて合成樹脂製収納容器の洗浄が行われている。ウェーハ収納容器１２の代表的な洗浄方法である界面活性剤を用いる洗浄方法は、図１２に示すごとく、界面活性剤洗浄（ａ）→純水洗浄（イオン交換水）（ｂ）→純水洗浄（超純水）（ｃ）→クリーンオーブン乾燥（ｄ）、という手順で行われている。
【０００７】
しかし、近年のウェーハに対する清浄度の要求が一層激しくなるに伴ない、このウェーハを収納、輸送するための収納容器に対する清浄度の要求も一層厳しくなり、前記従来の洗浄方法では限界に達しつつある。すなわち、例え超高純度の洗浄液を用いて、前記洗浄方法によってこれらの収納容器を洗浄しても、ウェーハを収納容器に収納して輸送する過程で、ウェーハ上のパーティクルが増加しているという問題が生じている。これは、収納されたウェーハ自体からの発塵も考えられるが、現在の超高精度となった前記ウェーハにあっては、ウェーハ自体からの発塵は非常に少なく、収納容器の洗浄不良や収納容器自体からの発塵が主な原因となっている。
【０００８】
この原因は、従来から明確にはされていないが、例えば、次のように説明されていた。従来の洗浄方法においては、収納容器が合成樹脂のため表面が疎水性であり、いわゆる濡れ性が悪く水との接触を避けようとする。そのために、超音波等の物理的エネルギーを与えても、合成樹脂表面や表面上のパーティクルに物理的作用があまり伝搬されず、効率のよいパーティクル除去洗浄ができなかったものと考えられ、これによって洗浄不良が発生していたものと推察される。
【０００９】
また、その後の発塵はウェーハ収納容器の合成樹脂表面のミクロ単位のケバ立ちや突起に起因するパーティクルによるものと考えられ、これが輸送中の振動あるいは収納されたウェーハとの摺れ等によって時間の経過とともに合成樹脂表面から離脱し、ウェーハ表面に付着するものと考えられる。さらに、近年の収納容器の形状の複雑化がこの収納容器の洗浄不良や収納容器自体からの発塵を助長させているものと思われる（特開平８−５９８６３号参照）。
【００１０】
本発明者は、合成樹脂製のウェーハ収納容器における従来の洗浄方法とウェーハ収納容器表面からの発塵との関係について研究を進めたところ、図１３に示すように、合成樹脂の表面はポーラス状のため、高純度の洗浄をいくら行っても絶えずパーティクルが発生してしまうことを見い出した。このパーティクルの発生（発塵）の状況について、図１２に示した従来の界面活性剤を用いる洗浄方法によって洗浄した場合の合成樹脂表面とパーティクルの状態を図１４（ａ）〜（ｃ）に模式的に示すことによって説明する。
【００１１】
洗浄前のポーラス状の合成樹脂表面１２ａには、上記したように、多数のパーティクルＰが存在している（図１３）。この合成樹脂表面１２ａを界面活性剤（例えば、０．３％水溶液）によって洗浄すると、パーティクルＰが該表面１２ａから離脱して洗浄液中に移動するとともに洗浄後には該表面１２ａに付着した界面活性剤層Ｌが合成樹脂表面１２ａ上に新たに発生したパーティクルＰを封鎖した状態で形成される〔図１２（ａ）及び図１４（ａ）〕。
【００１２】
該界面活性剤層Ｌの表面には洗浄中に該合成樹脂表面１２ａから離脱して界面活性剤水溶液に移動して浮遊する遊離のパーティクルＰが再び吸着又は付着した状態となっている。このとき、合成樹脂表面１２ａに最初に存在したパーティクルＰは洗浄によって離脱して洗浄液中に移動するが、合成樹脂表面１２ａにはポーラス状の表面近傍又は内部から新たなパーティクルＰが発生するので合成樹脂表面１２ａ上には模式図に示すようにパーティクルＰが同様に存在している〔図１４（ａ）〕。このポーラス状内部のパーティクルは、洗浄不良や振動などにより、新たに発生する収納容器自体からの発塵と考えられる。
【００１３】
この界面活性剤による洗浄後の合成樹脂表面１２ａを純水によってさらに洗浄すると、合成樹脂表面１２ａ上に形成された界面活性剤層Ｌが洗浄されるために該界面活性剤層Ｌ上のパーティクルＰは洗い落されるとともに該界面活性剤層Ｌの一部分が洗い落され、該界面活性剤層Ｌは部分的に合成樹脂表面１２ａ上に残存する〔図１２（ｂ）及び図１４（ｂ）〕。このとき、界面活性剤層Ｌによって封鎖されていたパーティクルＰは界面活性剤層Ｌが洗い落されてベアな表面１２ａが露出するために洗浄中に該露出された表面１２ａから離脱して純水洗浄液中に移動する。また、パーティクルの離脱したベアな表面１２ａには新たなパーティクルＰが発生するので合成樹脂表面１２ａ上には模式図に示すようにパーティクルＰが同様に存在している〔図１４（ｂ）〕。
【００１４】
この純水による洗浄を繰り返し行うと、合成樹脂表面１２ａ上に部分的に残存する界面活性剤層Ｌがさらに純水によって洗浄されるために該残存する界面活性剤層Ｌはさらに縮小した状態で合成樹脂表面１２ａ上に残存する〔図１２（ｃ）及び図１４（ｃ）〕。このとき、残存した界面活性剤層Ｌによって封鎖されていたパーティクルＰは界面活性剤層Ｌがさらに洗い落されてベアな表面１２ａが拡大するためにさらに純水洗浄液中に移動する。また、上述したようにパーティクルの離脱したベアな表面１２ａには新たなパーティクルＰが発生するので合成樹脂表面１２ａ上には多数のパーティクルＰが同様に存在している〔図１４（ｃ）〕。
【００１５】
最後に、洗浄後のウェーハ収納容器１２はそのまま乾燥（例えば、クリーンオーブン乾燥）される〔図１２（ｄ）及び図１４（ｄ）〕。したがって、合成樹脂表面１２ａには多数のパーティクルＰが拘束されることなく存在するために、これらのパーティクルＰは運搬中の振動や擦れによって簡単に離脱し、発塵の原因となってしまうものである。
【００１６】
このように、本発明者は、上記したような合成樹脂製ウェーハ収納容器に対する発塵防止のために行われる従来の洗浄が発塵防止に対してはほとんど効果がないことを確認した。本発明者は、このような従来の発塵防止対策が、合成樹脂表面から絶えずパーティクルが発生していることを見落しているために、いくら高精度の洗浄を行っても発塵を防止できず、根本的な解決策に到達できない点を考慮し、発塵防止についての完全な解決手段を提案すべく鋭意研究を重ねた結果、従来方法が固執していた洗浄手法を用いないという逆転の発想を行うことによって本発明を完成したものである。
【００１７】
発明の開示
本発明は、合成樹脂製のウェーハ収納容器の表面から絶えず発生するパーティクルの遊動を界面活性剤のコーティング層によって封鎖又は抑止することによって発塵を効果的に防止することができるようにしたウェーハ収納容器の発塵防止構造及び方法並びに当該ウェーハ収納容器を用いたウェーハの収納方法を提供することを目的とする。
【００１８】
上記した課題を解決するために、本発明のウェーハ収納容器は、ウェーハを収納する合成樹脂製のウェーハ収納容器であって、界面活性剤のコーティング層によって該ウェーハ収納容器の表面を被覆し、該界面活性剤のコーティング層が該ウェーハ収納容器の表面にわたって残存するように比抵抗が１０ＭΩ・ｃｍ以下の純水で洗浄しかつこの洗浄によって該界面活性剤のコーティング層に付着していたパーティクルを洗い落とし、該界面活性剤のコーティング層を乾燥し、該表面からの発塵を防止するようにしたことを特徴とする。
【００１９】
本ウェーハ収納容器の発塵防止方法は、ウェーハを収納する合成樹脂製のウェーハ収納容器の表面に界面活性剤をコーティングする工程と、該界面活性剤がコーティングされたウェーハ収納容器を乾燥する工程と、該乾燥したウェーハ収納容器を該界面活性剤のコーティング層が該ウェーハ収納容器の表面にわたって残存するように純水で洗浄するとともにこの洗浄によって該界面活性剤のコーティング層に付着していたパーティクルを洗い落とす工程と、該洗浄したウェーハ収納容器を乾燥する工程と、からなり、該コーティング剤のコーティング層によって該ウェーハ収納容器の表面からの発塵を防止するようにしたものである。
【００２０】
また、本発明のウェーハ収納容器の発塵防止方法は、ウェーハを収納する合成樹脂製のウェーハ収納容器の表面に界面活性剤をコーティングする工程と、該ウェーハ収納容器を該界面活性剤のコーティング層が該ウェーハ収納容器の表面にわたって残存するように比抵抗が１０ＭΩ・ｃｍ以下の純水で洗浄するとともにこの洗浄によって該界面活性剤のコーティング層に付着していたパーティクルを洗い落とす工程と、該洗浄したウェーハ収納容器を乾燥する工程とからなり、該界面活性剤のコーティング層によって該ウェーハ収納容器の表面からの発塵を防止するようにしたことを特徴とする。
【００２１】
特にコーティング剤のコーティング層がウェーハ収納容器の表面にわたって残存するように、純水で洗浄する工程で使用する純水は、比抵抗が小さい、例えば１０ＭΩ・ｃｍ以下の純水を用いるのが好ましい。この比抵抗の下限値については特別の限定はないが、０．１ＭΩ・ｃｍ程度を下限とすれば充分である。この本発明方法の第２の態様によれば、コーティング剤層をより均一に形成できる他、乾燥工程が１回で済み、工程の簡略化を図ることができるという利点がある。なお、通常の純水の比抵抗は１６〜１８ＭΩ・ｃｍ程度である。この通常の純水に炭酸ガス（二酸化炭素）を溶解することによってその比抵抗を下げることができる。
【００２２】
上記した界面活性剤のコーティング方法としては、特別の限定はないが、前記ウェーハ収納容器を界面活性剤の水溶液に浸漬することによって該ウェーハ収納容器の全表面に界面活性剤をコーティングするのが好適である。浸漬する以外にもシャワーやスプレー方式によってコーティングすることができる。
【００２３】
ウェーハ収納容器の合成樹脂表面をコーティングするために用いられる界面活性剤は、合成樹脂表面に薄くかつ均一に吸着又は付着しうるものであれば、特別の限定はなく、アニオン系、ノニオン系、カチオン系の界面活性剤のいずれも使用することができる。また、界面活性剤水溶液の濃度も特別の限定なないが、１ｐｐｍ〜１０％程度の水溶液を用いることができる。なお、界面活性剤層の厚さが厚すぎるときは後の純水洗浄工程によって余分の界面活性剤を洗い落すように洗浄すればよい。
【００２４】
表面に界面活性剤がコーティングされる前記ウェーハ収納容器としては新品及び再利用品を用いることができるが、再利用品を用いる場合には界面活性剤のコーティングを行う前に従来の洗浄、例えば、界面活性剤洗浄及び純水洗浄しておくこととなる。これにより、容器の汚れやある程度のパーティクルの除去を行っておく。また、ウェーハ収納容器を構成する合成樹脂材料としては、従来公知の材料が用いられるが、例えば、ポリプロピレン、ポリカーボネート等をあげることができる。
【００２５】
本発明のウェーハ収納容器の発塵防止方法の第１の態様の眼目とするところは次の通りである。まず、ウェーハ収納容器の合成樹脂表面に吸着又は付着しやすい界面活性剤の水溶液にウェーハ収納容器を浸漬する。該ウェーハ収納容器を界面活性剤の水溶液から引き上げ、該合成樹脂表面に形成された界面活性剤の層をより強固に吸着又は付着させるために該ウェーハ収納容器を乾燥する。
【００２６】
該合成樹脂表面にコーティングされた界面活性剤の層の表面を純水で洗浄し、界面活性剤層の表面のパーティクルを除去する。該合成樹脂表面に形成された界面活性剤の層は、合成樹脂からの発塵を抑え、かつその界面活性剤層の表面は、純水によって洗浄されているため、パーティクルが存在しない状態となる。
【００２７】
このため、界面活性剤によって表面がコーティングされたウェーハ収納容器は、その合成樹脂表面のパーティクルが界面活性剤層によって封鎖又は抑止されているので合成樹脂表面から発塵することはなく、また界面活性剤層の表面にもパーティクルが存在しないため界面活性剤層表面からも発塵することはない。したがって、ウェーハ収納容器からの発塵は効果的に防止される。
【００２８】
本発明のウェーハ収納容器の発塵防止方法の第２の態様では、上記した第１の態様と同様に、まず、ウェーハ収納容器の合成樹脂表面に吸着又は付着しやすい界面活性剤の水溶液にウェーハ収納容器を浸漬する。該ウェーハ収納容器を界面活性剤の水溶液から引き上げ、該合成樹脂にコーティングされた界面活性剤の層の表層を純水を用い洗浄する。純水を用い洗浄すると界面活性剤層の表面は、純水によって洗浄されているため、パーティクルが存在しない状態となるとともに均一な状態となる。
【００２９】
この時、該純水としては比抵抗の小さい（１０ＭΩ・ｃｍ以下）純水を用いるのが好ましい。比抵抗が小さい純水を用いることにより、界面活性剤の部分的な剥離が抑えられ、通常の純水による洗浄の場合よりも一層均一な状態で形成され、該合成樹脂表面に形成された界面活性剤の層は、合成樹脂からの発塵を抑え、かつその状態で乾燥するため上記した第１の態様と同様な効果が得られる。さらに、この第２の態様によれば乾燥工程が１回で済み、工程の簡略化を図ることができる利点がある。
【００３０】
本発明でいう界面活性剤による被覆コーティングの対象となるウェーハ収納容器の表面とはウェーハが収納される空間に面している表面を意味する。つまり、必ずしも容器全体（容器の内側及び外側）をコーティングする必要はなく、少なくとも容器が密閉された内側の空間、例えば、容器本体の内面や蓋体の内面、基板収納カセット及び基板押さえなど容器内部にある部材の表面を被覆コーティングすれば本発明の作用効果が達成されるものである。このように、少なくとも容器本体及び蓋体の内面や基板収納カセット及び基板押さえなどの部材などの全表面が界面活性剤でコーティングされ、これからの発塵が防止されていればウェーハ収納時及び輸送中等にウェーハ上に付着するパーティクルなどを防止する事ができる。
【００３１】
これらの複雑な形状の部材の表面にコーティング層を形成するコーティング剤としては液体状で処理でき、しかも均一に薄くコーティングできる界面活性剤が用いられる。界面活性剤は界面活性剤自身からの発塵及び有機物などの発生も殆どなく、また帯電防止の作用もあり静電気によるパーティクルの再付着も防止できる事から好適なコーティング層として利用できる。
【００３２】
本発明のウェーハの収納方法の第１の態様は、本発明のウェーハ収納容器にウェーハを収納することを特徴とする。
【００３３】
本発明のウェーハの収納方法の第２の態様は、本発明のウェーハ収納容器の発塵防止方法の第１の態様又は第２の態様によって処理されたウェーハ収納容器にウェーハを収納することを特徴とする。
【００３４】
本発明のウェーハ収納方法において、収納容器に収納すべきウェーハとしては、シリコンやガリウムヒ素等の半導体ウェーハ、石英ガラス基板、光ディスク等の基板を例示することができる。
【００３５】
発明を実施するための最良の形態
以下に本発明の実施の形態を添付図中、図１〜図８に基づいて説明するが、本発明の技術思想から逸脱しない限り、下記する実施の形態以外にも種々の変形が可能なことはいうまでもない。
【００３６】
図１は本発明のウェーハ収納容器の発塵防止方法の第１の態様の工程図を示すフローチャート、図２は本発明のウェーハ収納容器の発塵防止方法の第１の態様を適用したウェーハ収納容器の合成樹脂表面とパーティクルの状態を工程順に示す模式図である。
【００３７】
本発明のウェーハ収納容器の発塵防止方法の第１の態様は、図１に示したように、界面活性剤コーティング（ａ）→乾燥（例えば、クリーンオーブン乾燥）（ｂ）→純水洗浄（ｃ）→乾燥（例えば、クリーンオーブン乾燥）（ｄ）、という手順によって基本的に行われる。本発明のウェーハ収納容器の発塵防止方法の第１の態様による処理前のウェーハ収納容器１２の合成樹脂表面１２ａには前述しかつ図１３に示したように多数のパーティクルＰが存在する。まず、この合成樹脂表面１２ａに界面活性剤をコーティングすることによって、該合成樹脂表面１２ａ上にパーティクルＰを封鎖した状態で界面活性剤層Ｌを形成する〔図１（ａ）及び図２（ａ）〕。該界面活性剤層Ｌの表面にはコーティング中に該合成樹脂表面１２ａから離脱して界面活性剤側に移動して浮遊する遊離のパーティクルＰが吸着又は付着した状態となっている。
【００３８】
この界面活性剤のコーティング処理は合成樹脂表面１２ａ上に界面活性剤層Ｌが形成されればよいもので、特別の限定はないが、例えば界面活性剤水溶液中にウェーハ収納容器１２を浸漬してもよいし、また従来方法の図１２（ａ）の界面活性剤洗浄を適用して図１４（ａ）に示したような界面活性剤層Ｌを形成してもよい。このとき、合成樹脂表面１２ａに最初に存在したパーティクルＰは単なる浸漬の場合は少量が、又洗浄の場合には大量が離脱して界面活性剤側に移動するが、合成樹脂表面１２ａには新たなパーティクルＰが発生するので、図１３に示した処理前と同様に多数のパーティクルＰが存在している状態となっている〔図２（ａ）〕。
【００３９】
次に、この界面活性剤コーティング処理後の合成樹脂表面１２ａをそのまま乾燥（例えば、クリーンオーブン乾燥）する〔図１（ｂ）〕。この乾燥によって、界面活性剤層Ｌが存在しかつ該界面活性剤層Ｌの表面にパーティクルＰが付着しかつ該合成樹脂表面１２ａに位置するパーティクルＰは該界面活性剤層Ｌによって封鎖され拘束された状態となっている〔図２（ｂ）〕。
【００４０】
続いて、この乾燥した界面活性剤層Ｌを形成した状態の合成樹脂表面１２ａを純水によって洗浄する〔図１（ｃ）〕。この純水洗浄によって、乾燥した界面活性剤層Ｌの表面に付着していたパーティクルＰを洗い落す〔図２（ｃ）〕。このとき、界面活性剤層Ｌが合成樹脂表面１２ａの全面を被覆した状態を維持するように洗浄を行うことが重要である。もしも、界面活性剤層Ｌが部分的に消失すると、ベアな合成樹脂表面１２ａが露出するため有効な発塵防止を行うことができなくなるので、界面活性剤層Ｌの部分的な消失が生じないように注意して純水洗浄を行う必要がある。
【００４１】
最後に、純水洗浄後のウェーハ収納容器１２は再び乾燥（例えば、クリーンオーブン乾燥）される〔図１（ｄ）及び図２（ｄ）〕。したがって、合成樹脂表面１２ａには多数のパーティクルＰが存在するものの全てのパーティクルＰは界面活性剤層Ｌによって封鎖され拘束されているので、例え、運搬中等にウェーハ収納容器１２に振動や摺れ等の力が加わったとしてもパーティクルＰは合成樹脂表面１２ａから離脱することなく、発塵は効果的に防止されることとなる。
【００４２】
図１及び図２に示した本発明のウェーハ収納容器の発塵防止方法の第１の態様の例では、界面活性剤コーティング処理後、合成樹脂表面１２ａをそのまま乾燥した場合について説明したが、この乾燥処理〔図１（ｂ）及び図２（ｂ）〕を省略することも可能であり、その場合を図３及び図４に基づいて説明する。
【００４３】
図３は本発明のウェーハ収納容器の発塵防止方法の第２の態様の工程図を示すフローチャート、図４は本発明のウェーハ収納容器の発塵防止方法の第２の態様を適用したウェーハ収納容器の合成樹脂表面とパーティクルの状態を工程順に示す模式図である。
【００４４】
本発明のウェーハ収納容器の発塵防止方法の第２の態様は、図３に示したように、界面活性剤コーティング（ａ）→純水洗浄（ｃ）→乾燥（例えば、クリーンオーブン乾燥）（ｄ）、という手順、即ち界面活性剤コーティング後の乾燥（ｂ）を省略した点を除いて図１に示した本発明のウェーハ収納容器の発塵防止方法の第１の態様と同様の手順によって行われる。つまり、界面活性剤コーティングは本発明のウェーハ収納容器の発塵防止方法の第１の態様の図１（ａ）及び図２（ａ）と同様に行われる〔図３（ａ）及び図４（ａ）〕。
【００４５】
次に、この界面活性剤コーティング処理後の合成樹脂表面１２ａを純水によって洗浄する〔図３（ｃ）〕。この純水洗浄によって、界面活性剤層Ｌの表面に付着していたパーティクルＰを洗い落す。この時、同時に界面活性剤層Ｌの界面活性剤も洗い落されるが、界面活性剤層Ｌが合成樹脂表面１２ａの全面を被覆した状態を維持するように洗浄を行うことが必要である。もしも界面活性剤層Ｌが部分的に消失すると、前述したように、ベアな合成樹脂表面１２ａが露出するため有効な発塵防止を行うことができなくなるので、界面活性剤層Ｌの部分的な消失が生じないように注意して純水洗浄を行うことが必要である。
【００４６】
この純水洗浄の対象となる界面活性剤層Ｌは、図１（ｂ）及び図２（ｂ）に示した第１の態様の場合と異なり乾燥処理を受けていないため、流失し易く、乾燥した界面活性剤層Ｌに対する純水洗浄〔図１（ｃ）及び図２（ｃ）〕と同様の純水洗浄を行うと多分に界面活性剤層Ｌの部分的な消失が生じる虞がある。
【００４７】
乾燥処理を行うことなく界面活性剤層Ｌの表面に付着したパーティクルＰを洗い落すことができれば、乾燥工程を１回省略することができて工程の簡略化を実現でき、さらに界面活性剤層Ｌの均一化を同時に達成できる利点がある。そこで、本発明者は純水洗浄についての検討を続けたところ、比抵抗の小さい純水によって洗浄を行うと、界面活性剤層Ｌの部分的な剥離が抑えられ、より均一な状態の界面活性剤層Ｌが形成されることを見出した。
【００４８】
したがって、純水洗浄工程〔図３（ａ）〕で用いられる純水としては、比抵抗の小さい純水、例えば１０ＭΩ・ｃｍ以下の純水を用いるのが好適である。なお、通常の純水の比抵抗は、１６〜１８ＭΩ・ｃｍ程度である。この通常の純水に炭酸ガスを溶解することによって比抵抗を１０ＭΩ・ｃｍ以下に下げることができ、この炭酸ガスを溶解した純水を用いるのが好ましい。このように炭酸ガスを用いた場合、パーティクルと共に問題となる金属や有機物などの汚染も防止しつつ比抵抗を下げることができる。
【００４９】
最後に、純水洗浄後のウェーハ収納容器１２は、第１の態様の図１（ｄ）及び図２（ｄ）と同様に乾燥（例えば、クリーンオーブン乾燥）される〔図３（ｄ）及び図４（ｄ）〕。図４（ｄ）に示した第２の態様においても、合成樹脂表面１２ａに存在するパーティクルＰは界面活性剤層Ｌによって封鎖され拘束されているので、第１の態様の場合と同様に、発塵は効果的に防止される。
【００５０】
図１〜図４の例では、新品のウェーハ収納容器１２を用いた場合について説明したが、使用済のウェーハ収納容器１２を再利用する場合にも本発明方法が適用できることはいうまでもなく、まず、本発明方法の第１態様（図１）を適用する場合を図５及び図６に基づいて説明する。
【００５１】
使用済のウェーハ収納容器１２は通常汚染されているので、図５に示すように、まずウェーハ収納容器１２を洗浄（Ｔ）し、その後界面活性剤コーティング（ａ）→乾燥（ｂ）→純水洗浄（ｃ）→乾燥（ｄ）の各処理が行われる。このウェーハ収納容器１２の洗浄としては、従来公知の洗浄方法が適用可能である。例えば、超音波洗浄、シャワー洗浄、ブラシ洗浄等が用いられる。洗浄液に関しては、純水の他に界面活性剤、有機溶剤、酸等を用いることができる。
【００５２】
特に好適な洗浄は、図６に示したように界面活性剤洗浄（Ｔ１）→純水洗浄（Ｔ２）→であり、その洗浄後に、界面活性剤コーティング（ａ）→乾燥（ｂ）→純水洗浄（ｃ）→乾燥（ｄ）の各処理を行うのが好ましい。
【００５３】
また、本発明方法の第２の態様（図３）を使用済のウェーハ収納容器１２を再利用に適用する場合について、図７及び図８に示した。この場合も、図５及び図６に示した前処理洗浄を行った後、図３の工程を適用すればよい。図７及び図８においても、界面活性剤コーティング後の純水洗浄〔図７（ｃ）及び図８（ｃ）〕においては比抵抗の小さい（１０ＭΩ・ｃｍ以下）純水を用いるのが好ましいことはいうまでもない。
【００５４】
本発明のウェーハの収納方法の第１の態様は、シリコンやガリウムひ素等の半導体ウェーハ、石英ガラス基板や光ディスク等の基板で例示されるウェーハを洗浄後に、界面活性剤コーティング層によって表面を被覆し、該表面からの発塵を防止した図９〜図１１に示したような合成樹脂製のウェーハ収納容器１２に収納するものである。
【００５５】
また、本発明のウェーハの収納方法の第２の態様は、本発明のウェーハ収納容器の発塵防止方法の第１の態様（図１、図２、図５及び図６）又は第２の態様（図３、図４、図７及び図８）によって処理されたウェーハ収納容器１２に洗浄後のウェーハを収納するものである。
【００５６】
本発明のウェーハの収納容器１２に収納されたウェーハは、収納された状態で保管されまた輸送が行われる。このウェーハ収納容器１２によるウェーハの保管や輸送を行う場合には、例えば、このウェーハ収納容器１２をポリプロピレンとポリエチレンのラミネートフィルム製の袋（図示せず）で包装し、さらにアルミニウムとポリプロピレンのラミネート製の袋（図示せず）で包装し、この包装後のウェーハ収納容器１２をポリプロピレン製の箱（図示せず）に詰めた状態にするのが好ましい。
【００５７】
実施例
以下に本発明の実施例をあげて説明するが、これらの実施例は例示的に示されるもので、限定的に解釈されるべきものでないことはいうまでもない。
【００５８】
（実施例１）
図９〜図１１に示したものと同様の容器本体及び蓋体共にポリプロピレン製のウェーハ収納容器に対して次の処理を行った。該ウェーハ収納容器をＨＬＢ（Ｈｙｄｒｏｐｈｉｌｅ−Ｌｉｐｏｐｈｉｌｅ  Ｂａｌａｎｃｅ）が８．８〜１０．０である界面活性剤〔スコアロール、花王（株）製ノニオン界面活性剤の商品名〕の０．１％水溶液に１〜２秒浸漬し、次いで該界面活性剤水溶液から引き上げ、その全表面に界面活性剤水溶液が塗布された状態のウェーハ収納容器をクリーンオーブン〔エアテック（株）製〕を用いて５０℃で５０分間乾燥し、ウェーハ収納容器の全表面に界面活性剤層を形成した。次に、この界面活性剤層を形成したウェーハ収納容器を純水で３０秒間洗浄し、続いてクリーンオーブン〔エアテック（株）製〕を用いて再び５０℃で５０分間乾燥した。
【００５９】
この界面活性剤層をコーティングした本発明のウェーハ収納容器について、その収納容器内のパーティクルの評価を次の方法によって行い、その結果を表１に示した。下記する比較例１と比較してパーティクル数が大幅に減少していることがわかった。収納容器内のパーティクル数が少ないことから、ウェーハへの付着なども大幅に抑制されることがわかる。
【００６０】
＜パーティクル評価方法＞
ウェーハ収納容器内に純水を３０００ｃｃ入れ、２分間揺動し、その後２０分間放置する。ウェーハ収納容器内の純水中のパーティクルを液中パーティクルカウンタ〔リオン（株）製〕で測定する。
【００６１】
（実施例２）
界面活性剤水溶液がコーティングされた状態のウェーハ収納容器を乾燥することなく、純水（比抵抗：８ＭΩ・ｃｍ程度）で３０秒間洗浄した以外は、実施例１と同様にしてウェーハ収納容器に対して界面活性剤をコーティングし、純水洗浄→乾燥した後、同様にそのパーティクルの評価を行い、その結果を表１に示した。液中パーティクルが実施例１の結果と同様に低下していることがわかった。
【００６２】
容器本体及び蓋体共にポリカーボネート製のウェーハ収納容器、容器本体がポリカーボネート製及び蓋体がポリプロピレン製のウェーハ収納容器、容器本体がポリプロピレン製及び蓋体がポリカーボネート製のウェーハ収納容器についてもそれぞれ実施例１及び２と同様にコーティングを行い、収納容器内のパーティクルの評価を行ったところ、同様に収納容器内パーティクル数が少なく、ウェーハの付着なども大幅に抑制されることを確認した。
【００６３】
（比較例１）
実施例１と同様のウェーハ収納容器に対して次のように従来の洗浄処理を行った。該ウェーハ収納容器に対して界面活性剤〔スコアロール、花王（株）製ノニオン界面活性剤の商品名〕の０．３％水溶液によって５秒間ブラシ洗浄を行い、次に純水（比抵抗：１６〜１８ＭΩ・ｃｍ）で６秒間洗浄し、続いてクリーンオーブン〔エアテック（株）製〕を用いて５０℃で５０分間乾燥した。
【００６４】
この従来方法によって洗浄したウェーハ収納容器について実施例１と同様にしてその収納容器中の液中パーティクルの評価を行い、その結果を表１に示した。実施例１と比較してパーティクル数が大幅に増大していることがわかった。
【００６５】
【表１】
0004117598.tif 000002
【００６６】
（実施例３、４及び比較例２）
実施例１および２、比較例１と同様の方法で界面活性剤コーティング処理あるいは洗浄処理をおこなったウェーハ収納容器に、予め光散乱方式のパーティクル測定装置で表面のパーティクル数を測定した直径２００ｍｍのシリコンウエーハ２５枚ずつを収納した。これらのウェーハ収納容器をポリプロプレンとポリエチレンのラミネートフィルム製の袋で包装し、さらにアルミニウムとポリプロピレンのラミネート製の袋で包装した。包装後のウェーハ収納容器をポリプロピレン製の緩衝材を介してポリプロピレン製の箱に詰め、トラックと航空機による輸送テストを行った。輸送経路は福島県の白河から東京までトラックで輸送し、東京から大阪まで航空機により輸送後、大阪市内にトラックで輸送した。そして、大阪市内から逆の経路で福島県の白河まで輸送した。トラックによる輸送は福島県の白河と東京の間及び大阪空港と大阪市内の間で合計４００ｋｍであり、航空機による輸送は東京−大阪間の合計約９００ｋｍである。
【００６７】
輸送後のウェーハ収納容器からウェーハを取出して、光散乱方式のパーティクル測定装置で表面のパーティクル数を測定し輸送前のパーティクル数との比較を行った。結果を表２に示す。
【００６８】
【表２】
0004117598.tif 000003
【００６９】
実施例３と実施例４では輸送後のウェーハ表面のパーティクル数の増加が僅かであるのに対して、比較例２ではウェーハ表面のパーティクル数が大きく増加したウェーハが存在していた。
【００７０】
産業上の利用可能性
以上述べたごとく、本発明は合成樹脂製のウェーハ収納容器の表面から絶えず発生するパーティクルの遊動を界面活性剤のコーティング層によって封鎖又は抑止することによって発塵を効果的に防止することができるという著大な効果が達成される。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本発明のウェーハ収納容器の発塵防止方法の第１の態様の工程図を示すフローチャートである。
【図２】本発明のウェーハ収納容器の発塵防止方法の第１の態様を適用したウェーハ収納容器の合成樹脂表面とパーティクルの状態を工程順に示す模式図である。
【図３】本発明のウェーハ収納容器の発塵防止方法の第２の態様の工程図を示すフローチャートである。
【図４】本発明のウェーハ収納容器の発塵防止方法の第２の態様を適用したウェーハ収納容器の合成樹脂表面とパーティクルの状態を工程順に示す模式図である。
【図５】本発明のウェーハ収納容器の発塵防止方法の第１の態様をウェーハ収納容器の再利用品に適用する場合の第１の工程図を示すフローチャートである。
【図６】本発明のウェーハ収納容器の発塵防止方法の第１の態様をウェーハ収納容器の再利用品に適用する場合の第２の工程図を示すフローチャートである。
【図７】本発明のウェーハ収納容器の発塵防止方法の第２の態様をウェーハ収納容器の再利用品に適用する場合の第１の工程図を示すフローチャートである。
【図８】本発明のウェーハ収納容器の発塵防止方法の第２の態様をウェーハ収納容器の再利用品に適用する場合の第２の工程図を示すフローチャートである。
【図９】ウェーハ収納容器の一例を示す斜視図である。
【図１０】図９のウェーハ収納容器の蓋体を上方に開けた状態を示す斜視図である。
【図１１】図９のウェーハ収納容器の分解斜視図である。
【図１２】従来のウェーハ収納容器の洗浄方法の工程図の一例を示すフローチャートである。
【図１３】ウェーハ収納容器の合成樹脂表面とパーティクルの状態を示す模式図である。
【図１４】図１２の工程図に示した従来の洗浄方法によってウェーハ収納容器を洗浄する場合の合成樹脂表面とパーティクルの状態を工程順に示す模式図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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