(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒状基材の外周面上に塗布液を塗布する塗布装置であり、電子写真感光体を製造するための塗布装置であって、
前記円筒状基材の前記外周面を取り囲むようにエンドレスに形成された塗布液流出口に前記塗布液を分配する塗布液分配スリットと、
該塗布液分配スリットの下側に連続して傾斜形成され、前記円筒状基材の外径より大なる内径で終端をなすように構成された塗布液スライド面と、
該塗布液スライド面に連続し、前記円筒状基材を取り囲むように前記円筒状基材と対向するホッパーエッジ部と、
を有し、
塗布液を供給しながら、固定した前記塗布装置に対して、前記円筒状基材を上昇させて塗布を行う塗布装置において、
前記ホッパーエッジ部の表面粗さＲｚが０．２〜２．０μｍであることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
エンドレスに形成された外周面を有する円筒状基材を上方に移動させながら、塗布液を外部から供給する供給口より環状の塗布液分配室を経て、該塗布液分配室の内方に開口する塗布液分配スリットを通じ、前記円筒状基材周面を取り囲むように、該円筒状基材全周にわたって近接形成され、前記塗布液分配スリットのエンドレスな塗布液流出口から塗布液を流出させ、前記円筒状基材と対向した表面粗さＲｚが０．２〜２．０μｍであるホッパーエッジ部に連続的に塗布液を供給して塗布することを特徴とする電子写真感光体用塗布液の塗布方法。
【請求項３】
各々複数の前記塗布液分配スリット及び前記塗布液流出口を設け、異なる塗布液を複数の前記塗布液分配スリットに供給し、複数の前記塗布液流出口から同一の塗布液スライド面上に流出させ、複数の塗布層を前記円筒状基材上に形成することを特徴とする請求項２記載の塗布方法。
【請求項４】
各々複数の前記塗布液分配スリット、前記塗布液流出口及び塗布液スライド面を設け、異なる塗布液を複数の前記塗布液分配スリットに供給して複数の前記塗布液流出口から複数の前記塗布液スライド面上に流出させる方法であって、
前記円筒状基材上に１層目を形成した後に、１層目が形成された前記円筒状基材上に塗布液を流出させることにより、２層目の塗布し、前記円筒状基材上に複数層を形成することを特徴とする請求項２記載の塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、円筒状基材に感光液を塗布装置を用いて塗布する事によって電子写真感光体を製造する際、前記円筒状基材に感光液を均一の膜厚に塗布する装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
エンドレスに形成された連続面を有する円筒状基材の外面上に対して薄膜で均一な塗布に関連してスプレー塗布法、浸漬塗布法、ブレード塗布法、ロール塗布法等の種々の方法が検討されている。特に電子写真感光体ドラムのような薄膜で均一な塗布については、生産性の優れた塗布装置を開発すべく検討されている。しかしながら、従来のエンドレスに形成された連続面を有する円筒状基材への塗布方法に於いては、均一な塗膜が得られなかったり、生産性が悪い等の欠点があった。
【０００３】
前記スプレー塗布法ではスプレーガンにより噴出した塗布液滴が、前記エンドレスに形成された連続面を有する円筒状基材の外面上に到達する迄に溶媒が蒸発するために、塗布液滴の固形分濃度が上昇してしまい、それに伴い塗布液滴の粘度上昇が起こって液滴が円筒状基材の外面上に到達した時、液滴が円筒状基材の外面上を充分に広がらないために、或いは乾燥固化してしまった粒子が前記外面上に付着する為に、塗布表面の平滑性の良いものが得られない。又前記連続面を有する円筒状基材への液滴の到達率が１００％ではなく、塗布液のロスが有ったり、部分的にも不均一である為、膜厚のコントロールが非常に困難である。更に、高分子溶液等では糸引きを起こす事がある為、使用する溶媒及び樹脂に制限がある。
【０００４】
前記ブレード塗布法、及びロール塗布法は、例えば円筒状基材の長さ方向にブレード若しくはロールを配置し、前記円筒状基材を回転させて塗布を行い、該円筒状基材を１回転させた後、前記ブレード若しくはロールを後退させるものである。しかしながら前記ブレード若しくはロールを後退させる際、塗布液の粘性により、塗布膜厚の一部に他の部分より厚い部分が発生し、均一な塗膜が得られない欠点がある。
【０００５】
浸漬塗布法は、前記に於ける様な塗布液表面の平滑性、塗布膜の均一性の悪い点は改良された。しかし、塗布膜厚の制限が塗布液物性、例えば粘度、表面張力、密度、温度等と塗布速度に支配され、塗布液物性の調整が非常に重要となる。又、塗布速度も遅く、塗布液槽を満たすためにはある一定以上の液量が必要である。更に重層する場合、下層成分が溶け出して塗布液槽が汚染されやすい等の欠点がある。
【０００６】
そこで前記欠点を改善する為、円筒状基材に感光液を塗布する装置として特開昭５８−１８９０６１が開発された。該装置は、エンドレスに形成された連続面を有する円筒状基材の外周面上に感光材を塗布するスライドホッパー型の塗布装置で、塗布液分配室及び塗布液分配室につながって塗布液分配スリットが連続して設けられており、又塗布液分配室に感光材よりなる塗布液を供給する塗布液供給手段が前記塗布液分配室に連続して設けされている。そして前記塗布液分配スリットの内側に位置し、該塗布液分配スリットの塗布液流出口の下側に連続して下方斜め方向に傾斜し、且つエンドレスに形成されたされた連続面を有し、前記円筒状基材の外径寸法よりやや大きな寸法で終端をなす様に構成された液スライド面を有し、前記円筒状基材が前記液スライド面内方を上方に移動する事で液スライド面を落下する感光材よりなる塗布液を前記円筒状基材に塗布する塗布装置で、少ない塗液量で塗布が可能で、塗布液が汚染されず、生産性の高い膜厚制御の容易な塗布が可能となった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記の円筒状基材の外周面上に感光材を塗布するスライドホッパー型の塗布装置に於いても、下記のような欠点が発生する。即ち、塗布液スライド面長が短いとビードの安定性に欠け、膜厚変動が大きくなる。甚だしい場合は塗布液のビード切れが起こり易い。しかし逆に長くなると、スライド面からの塗布溶媒の蒸発の影響が大きくなり一部スライド面が乾燥する。この為希望する膜厚が得られず、膜厚ムラも大となり、膜厚変動が起こり易い。又、一部乾燥又は付着した固形物の為、塗布欠陥も発生し易い。又前記塗布液スライド面の粗さＲｚが低い時は、塗布時に作用する送液の脈動、乾燥風等からくる漏れ風あるいは機械や搬送等からくる振動による塗布ムラや膜厚変動が発生する。更に多数本の円筒状基材を塗布する際の塗布液の安定性が悪くなる。更に従来の塗布装置だと、塗布液中の溶媒中の残存酸素、微量ハロゲン、酸、アルカリ等の腐食に弱いため、塗布液の膜厚精度が悪く、従って塗布ムラや膜厚変動が起こり易いため、長期連続塗布の作業に不安があった。又塗布装置内にサビの発生があり、塗布欠陥が出易く、サビの発生のため塗布工程を停止して塗布装置内の塗布液スライド面及びヘッドを磨く必要があり、又塗布装置全体が重く操作性が悪いため、交換、保守、運搬に多くの時間を必要とする。又多数本の円筒状基材の外周面上に感光材を塗布した場合の安定性が悪い。又ホッパーエッジである塗布液スライド面の粗さＲzが小さいと、送液の脈動、機械装置及び搬送系や送風系の振動、乾燥用の風による振動等を直接受ける事により、塗布ムラや膜厚変動が起こりやすい。又、前記ホッパーエッジである塗布液スライド面の粗さＲｚが大きくなると、前記脈動及び振動を阻止する力が小さくなり、むしろ前記塗布液スライド面での液の流れに乱れが発生し、塗布ムラが大きくなる。
【０００８】
本発明は前記の欠点を改善するため特に考えられたものである。即ち、円筒状基材に感光体よりなる塗布液を、塗布液供給手段より塗布装置内の塗布液分配室を介して、塗布液スライド面よりホッパー塗布面で前記円筒状基材に塗布する時、ビード切れを防止し、塗布液の膜厚を一定とする。更に塗布液の脈動や振動の影響を防止し、多数本の塗布時の安定性を保持し、更に溶媒中の残存酸素、微量ハロゲン、酸、アルカリ等の腐食を防止する事でサビの発生を防止し、膜厚精度を保持する事で、塗布ムラや、膜厚変動を発生させない塗布装置を提供する事を目的とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明においては、前記目的のために、
請求項１において、円筒状基材の外周面上に塗布液を塗布する塗布装置であり、電子写真感光体を製造するための塗布装置であって、
前記円筒状基材の前記外周面を取り囲むようにエンドレスに形成された塗布液流出口に前記塗布液を分配する塗布液分配スリットと、
該塗布液分配スリットの下側に連続して傾斜形成され、前記円筒状基材の外径より大なる内径で終端をなすように構成された塗布液スライド面と、
該塗布液スライド面に連続し、前記円筒状基材を取り囲むように前記円筒状基材と対向するホッパーエッジ部と、
を有し、
塗布液を供給しながら、固定した前記塗布装置に対して、前記円筒状基材を上昇させて塗布を行う塗布装置において、
前記ホッパーエッジ部の表面粗さＲｚが０．２〜２．０μｍであることを特徴とする塗布装置。
請求項２において、エンドレスに形成された外周面を有する円筒状基材を移動させながら、塗布液を外部から供給する供給口より環状の塗布液分配室を経て、該塗布液分配室の内方に開口する塗布液分配スリットを通じ、前記円筒状基材周面を取り囲むように、該円筒状基材全周にわたって近接形成され、前記塗布液分配スリットのエンドレスな塗布液流
出口から塗布液を流出させ、前記円筒状基材と対向した表面粗さＲｚが０．２〜２．０μｍであるホッパーエッジ部に連続的に塗布液を供給して塗布することを特徴とする電子写真感光体用塗布液の塗布方法。
請求項３において、各々複数の前記塗布液分配スリット及び前記塗布液流出口を設け、異なる塗布液を複数の前記塗布液分配スリットに供給し、複数の前記塗布液流出口から同一の塗布液スライド面上に流出させ、複数の塗布層を前記円筒状基材上に形成することを特徴とする請求項２記載の塗布方法。
請求項４において、各々複数の前記塗布液分配スリット、前記塗布液流出口及び塗布液スライド面を設け、異なる塗布液を複数の前記塗布液分配スリットに供給して複数の前記塗布液流出口から複数の前記塗布液スライド面上に流出させる方法であって、
前記円筒状基材上に１層目を形成した後に、１層目が形成された前記円筒状基材上に塗布液を流出させることにより、２層目の塗布し、前記円筒状基材上に複数層を形成することを特徴とする請求項２記載の塗布方法。
という手段を採り、前記課題を解決した。
【００１０】
【実施例】
次に前記目的を達成するための実施例により本発明を説明するが、特に該実施例に限定されるものではない。
【００１１】
図１に於いて、中心線Ｙに沿って垂直状に重ね合わせたエンドレスに形成された円筒状基材１Ａ、１Ｂと、該円筒状基材１Ａ、１Ｂに順次感光用の塗布液２を塗布する環状塗布装置３を示す。図の様に前記円筒状基材１Ａを取り囲む様に、塗布液２のホッパー塗布面と連続してホッパーエッジ部４が形成され、該ホッパーエッジ部４に供給される塗布液２を前記円筒状基材１Ａに順次塗布する様に構成している。塗布方法としては、前記環状塗布装置３を固定し、前記円筒状基材１Ａを中心線Ｙに沿って矢印方向に上昇移動させながら上端部より塗布を行う。前記環状塗布装置３のホッパーエッジ部４に塗布液２を供給するため、外部に設けた塗布液タンク５より送液ポンプ６の塗布液供給部６Ａを前記環状塗布装置３に接続し、塗布液２を供給する。次に供給された塗布液２は、前記環状塗布装置３内に形成した環状の塗布液分配室７に供給されて塗布液分配スリット８よりエンドレスの塗布液流出口９より傾斜角θで下方に傾斜し、且つＬＳの長さを有する塗布液スライド面１１より前記ホッパーエッジ４に塗布液２が連続的に供給され、塗布液２は前記円筒状基材１Ａの全周面に順次塗布れれる。１０は落下する塗布液を液溜めする液溜部である。
【００１２】
図２は、図１に示す前記環状塗布装置３の一部を切欠して示す斜視図である。
【００１３】
以上の環状塗布装置３を用いて円筒状基材１Ａ、１Ｂに塗布液２を塗布した時の実施例及び比較例を以下に示す。
【００１４】
参考例１
（参考例及び比較例）
円筒状基材（以下表では塗布液ドラムと云う）を導電性支持体として鏡面加工を施し、直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。
【００１５】
前記導電性支持体上に下記の如く塗布液組成物ＵＣＬ−１〜３を調製し、図１〜２に記載の如くのスライドホッパー型の環状塗布装置（塗布液スライド長と、スライド角度は表１の如く）を用いて、表１に記載の如く塗布し、塗布液ドラムＮｏ．１−１〜１−６を得た。
【００１６】
ＵＣＬ−１塗布液組成物
共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００  東レ社製）                ２ｇ
メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比）      １０００ｍｌ
ＵＣＬ−２塗布液組成物
塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体（エスレックＭＦ−１０  積水化学社製）５ｇ
アセトン／シクロヘキサノン＝１０／１（Ｖｏｌ比）        ７００ｍｌ
ＵＣＬ−３塗布液組成物
エチレン−酢酸ビニル系共重合体（エルバックス４２６０  三井デュポンケミカル社製                                                    ５０ｇ
トルエン／ｎ−ブタノール＝５／１（Ｖｏｌ比）          ２０００ｍｌ
結果を表１に示す。
【００１７】
【表１】
0004049276.tif 000002
【００１８】
参考例２
（参考例及び比較例）
円筒状基材を導電性支持体として鏡面加工を施し、直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。
【００１９】
前記導電性支持体上に下記の如く塗布液組成物ＣＧＬ−１、−３、−４を調製し、図１〜２に記載の如くのスライドホッパー型の環状塗布装置（塗布液スライド長及び、スライド角度は表２の如く）を用いて、表２に記載の如く塗布し、塗布液ドラムＮｏ．２−１〜２−６得た。
【００２０】
ＣＧＬ−１塗布液組成物
フルオレノン型ジスアゾ顔料（ＣＧＭ−１）                ２５ｇ
ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ  積水化学社製）      １０ｇ
メチルエチルケトン                                １４３０ｍｌ
上記塗布液組成物をサンドミルを用いて２０時間分散したもの。
【００２１】
【化１】
0004049276.tif 000003
【００２２】
ＣＧＬ−３塗布液組成物
Ｙ−型チタニルフタロシアニン（ＣＧＭ−３）                １０ｇ
シリコーン樹脂（ＫＲ−５２４０  信越化学社製）            １０ｇ
ｔ−酢酸ブチル                                      １０００ｍｌ
上記塗布液組成物をサンドミルを用いて１７時間分散したもの。
【００２３】
【化２】
0004049276.tif 000004
【００２４】
ＣＧＬ−４塗布液組成物
ペリレン系顔料（ＣＧＭ−４）                              ５０ｇ
ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ  積水化学社製）        ５０ｇ
メチルエチルケトン                                  ２４００ｍｌ
上記塗布液組成物をサンドミルを用いて２０時間分散したもの。
【００２５】
【化３】
0004049276.tif 000005
【００２６】
塗布結果を表２に示す。
【００２７】
【表２】
0004049276.tif 000006
【００２８】
参考例３
（参考例及び比較例）
円筒状基材１Ａ、１Ｂを導電性支持体とし、鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。
【００２９】
前記導電性支持体上に下記の如く塗布液組成物ＣＴＬ−１を調製し、図１〜３に記載の如くのスライドホッパー型の環状塗布装置（塗布液スライド長、スライド角度は表３の如く）を用いて、表３に従い塗布し、塗布液ドラムＮｏ．３−１〜３−５を得た。
【００３０】
ＣＴＬ−１塗布液組成物
ＣＴＭ−１                                              ５００ｇ
ポリカーボネート（Ｚ−２００  三菱瓦斯化学社製）        ５６０ｇ
１，２−ジクロロエタン                              ２８００ｍｌ
【００３１】
【化４】
0004049276.tif 000007
【００３２】
結果を表３に示す。また塗布液ドラムＮｏ．３−１とＮｏ．３−４の長手方向の膜厚プロフィ−ルを図３（ａ），（ｂ）に示す。図３（ａ）が膜厚プロフィールを示す。
【００３３】
【表３】
0004049276.tif 000008
【００３４】
参考例４
円筒状基材を導電性支持体とし、鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。前記参考例２の塗布液ドラムＮｏ．２−１〜２−４上に、前記参考例３の塗布液組成物ＣＴＬ−１を表４の如く、図１〜２に記載のスライドホッパー型の環状塗布装置（スライド長、スライド角度は表４の如く）を用いて逐次重層塗布した。
【００３５】
塗布結果を表４に示す。塗布欠陥もなく塗布性は極めて良好であり、長手方向の塗布膜厚ムラもなかった。
【００３６】
【表４】
0004049276.tif 000009
【００３７】
表１〜４から明らかな如く塗布ムラ、色ムラ、塗布欠陥や膜厚変動特に長手方向のムラ、段ムラがなく、また重層性も優れることがわかる。
【００３８】
多層からなる有機感光体を組み上げ実写テストを行ったところ、塗布ムラに起因する画像ムラはなく良好な画像が得られた。
【００３９】
以上の様に塗布液スライド面１１の範囲を０．５〜３０ｍｍにする事により塗布液のビード切れがなく、安定した塗布が出来る。又塗布ムラや膜厚変動も発生しない。この場合は好ましくは塗布液スライド面11の範囲は、１〜１５ｍｍがよい。
【００４０】
前記塗布液スライド面１１が０．５より短いと、塗布液のビートに安定性が欠け、膜厚変動が大きくなる。そして３０ｍｍより長くなると、塗布液スライド面１１からの塗布溶媒の蒸発の影響が大きくなり、塗布液スライド面１１の一部が乾燥する。この為、希望する膜厚が得られず、膜厚ムラも大きくなる。又一部乾燥或いは付着した固形物の為塗布欠陥も発生し易くなる。
【００４１】
塗布液の塗布組成物の粘度は１〜６００ミリパスカルｓｅｃが良く、好ましくは５〜５００ミリパスカルｓｅｃが良い。円筒状基材の移動速度、即ち塗布速度は５〜５０ｍｍ／ｓｅｃが良く、好ましくは６〜４０ｍｍ／ｓｅｃが良い。更に前記塗布液スライド面11の傾斜角度θは水平面に対して４０°〜７０°が好ましい。
【００４２】
参考例５
（参考例及び比較例）
円筒状基材を導電性支持体とし、鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。
【００４３】
前記導電性支持体上に下記の如く塗布液組成物ＵＣＬ−１〜３を調製し、図１に記載の如くのスライドホッパー型の環状塗布装置（塗布液スライド面の粗さは表１の如く）を用いて、表５に記載の如く塗布し、塗布液ドラムＮｏ．４−１〜４−６を得た。なお送液ポンプ６塗布液供給口６Ａの送液はステンレスパイプを用いた。
【００４４】
ＵＣＬ−１塗布液組成物
共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００  東レ社製）              ２ｇ
メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比）    １０００ｍｌ
ＵＣＬ−２塗布液組成物
塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体（エスレックＭＦ−１０  積水化学社製）５ｇ
アセトン／シクロヘキサノン＝１０／１（Ｖｏｌ比）      ７００ｍｌ
ＵＣＬ−３塗布液組成物
エチレン−酢酸ビニル系共重合体（エルバックス４２６０  三井デュポンケミカル社製                                                  ５０ｇ
トルエン／ｎ−ブタノール＝５／１（Ｖｏｌ比）        ２０００ｍｌ
結果を表５に示す。
【００４５】
【表５】
0004049276.tif 000010
【００４６】
参考例６
（参考例及び比較例）
円筒状基材を導電性支持体とし、鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。
【００４７】
前記導電性支持体上に下記の如く塗布液組成物ＣＧＬ−１、−３、−４を調製し、図１に記載の如くのスライドホッパー型の環状塗布装置（塗布液スライド面の粗さは表６の如し）を用いた。表６に記載の如く塗布を行い、塗布液ドラムＮｏ．５−１〜５−６得た。なお送液系は参考例５と同様である。
【００４８】
ＣＧＬ−１塗布液組成物
フルオレノン型ジスアゾ顔料（ＣＧＭ−１）                ２５ｇ
ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ  積水化学社製）      １０ｇ
メチルエチルケトン                                １４３０ｍｌ
上記塗布液組成物をサンドミルを用いて２０時間分散したもの。
【００４９】
ＣＧＬ−３塗布液組成物
Ｙ−型チタニルフタロシアニン（ＣＧＭ−３）            １０ｇ
シリコーン樹脂（ＫＲ−５２４０  信越化学社製）        １０ｇ
ｔ−酢酸ブチル                                    １０００ｍｌ
上記塗布液組成物をサンドミルを用いて１７時間分散したもの。
【００５０】
ＣＧＬ−４塗布液組成物
ペリレン系顔料（ＣＧＭ−４）                            ５０ｇ
ブチラ−ル樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ  積水化学社製）      ５０ｇ
メチルエチルケトン                                ２４００ｍｌ
上記塗布液組成物をサンドミルを用いて２０時間分散したもの。
【００５１】
参考例のフルオレノン型ジスアゾ顔料（ＣＧＭ−１）と、Ｙ−型チタニルフタロシアニン（ＣＧＭ−３）及びペリレン系顔料（ＣＧＭ−４）の構造式は前記化１〜化３と同一であるため省略する。
【００５２】
塗布結果を表６に示す。
【００５３】
【表６】
0004049276.tif 000011
【００５４】
参考例７
（参考例及び比較例）
円筒状基材を導電性支持体とし、鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。
【００５５】
前記導電支持体上に下記の如く塗布液組成物ＣＴＬ−１を調製し、図１に記載の如くのスライドホッパー型の環状塗布装置（塗布液スライド面の粗さは表７の如く）を用いて、下記表７に従い塗布を行い、塗布液ドラムＮｏ．６−１〜６−５を得た。なお送液系は参考例５と同様である。
【００５６】
ＣＴＬ−１塗布液組成物 ＣＴＭ−１ ５００ｇ ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製） ５６０ｇ １，２−ジクロロエタン ２８００ｍｌ本参考例のＣＴＭ−１は前記化４の構造式と同一のため省略する。
【００５７】
結果を表７に示す。また塗布液ドラムＮｏ．６−１とＮｏ．６−４の長手方向の膜厚プロフィールを図４（ａ），（ｂ）に示す。図４（ａ）が本発明の膜厚プロフィールを示す。
【００５８】
【表７】
0004049276.tif 000012
【００５９】
参考例８
円筒状基材を導電性支持体とし、鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。
【００６０】
参考例６の塗布液ドラムＮｏ．５−１〜５−４上に、参考例８の塗布液組成物ＣＴＬ−１を表８の如く、図１に記載のスライドホッパー型の環状塗布装置（塗布液スライド面の粗さは表８の如く）を用いて逐次重層塗布した。なお送液系は参考例５と同じである。
【００６１】
塗布結果を表８に示す。塗布欠陥の発生もなく、重層塗布性は良好であり、長手方向の塗布膜厚ムラが発生しなかった。
【００６２】
【表８】
0004049276.tif 000013
【００６３】
表５〜８から明らかな如く塗布ムラ、色ムラ、塗布欠陥や膜厚変動特に長手方向のムラ、段ムラがなく、また重層性も優れることがわかる。
【００６４】
また、多層からなる有機感光体を組み上げ実写テストを行ったところ、塗布ムラに起因する画像ムラはなく良好な画像が得られた。
【００６５】
塗布液スライド面１１の粗さを０．１０より大きく３．０μｍ以下の比較的粗い状態にする事により、塗布時に作用する塗布液の送液より発生する脈動、乾燥風等から起こる漏れ風、或いは機械や搬送等からくる振動による塗布ムラや膜厚変動が無い。推測するに塗布液スライド面11に抵抗があるため、これらの影響が減じられると思われる。
【００６６】
粗さＲｚが０．１０以下の時、上記効果は期待されない。又３．０より大きくなると塗布液スライド面１１上の塗布液の乱れが顕著となって膜厚ムラが大きくなり、脈動等を阻止する効果が隠れてしまう。粗さＲｚは０．２０〜２．０が最も良い。
【００６７】
本発明中の粗さはＪＩＳＢ０６０１に記載の如く十点平均粗さＲｚをいう。好ましくはＲｍａｘ表示で３．０μｍ以下が良い。所望の粗さＲｚは通常の切削加工で達成される。
【００６８】
参考例９
円筒状基材を導電性支持体とし、鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。
【００６９】
前記導電性支持体上に下記の如く塗布液組成物ＵＣＬ−１〜３を調製し、図１に記載の如くのスライドホッパー型の環状塗布装置を用いて、表９に記載の如く塗布液を塗布し、塗布液ドラムＮｏ．７−１〜７−３を得た。前記環状塗布装置はＡｌ焼結体（接触角７５°）を用いた。
【００７０】
ＵＣＬ−１塗布液組成物
共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００  東レ社製）                ２ｇ
メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比）      １０００ｍｌ
ＵＣＬ−２塗布液組成物
塩化ビニルー酢酸ビニル系共重合体（エスレックＭＦ−１０  積水化学社製）５ｇ
アセトン／シクロヘキサノン＝１０／１（Ｖｏｌ比）        ７００ｍｌ
ＵＣＬ−３塗布液組成物
エチレン−酢酸ビニル系共重合体（エルバックス４２６０  三井デュポンケミカル社製                                                    ５０ｇ
トルエン／ｎ−ブタノール＝５／１（Ｖｏｌ比）          ２０００ｍｌ
結果を表９に示す。
【００７１】
【表９】
0004049276.tif 000014
【００７２】
参考例１０
円筒状基材を導電性支持体とし、鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。
【００７３】
前記導電性支持体上に下記の如く塗布液組成物ＣＧＬ−１、−３、−４を調製し、図１に記載の如くのスライドホッパー型の環状塗布装置を用いて、下記表１０に記載の如く塗布し、塗布液ドラムＮｏ．８−１〜８−３得た。環状塗布装置の本体は、ポリアセタール樹脂にＮｉメッキを施したもの（接触角１５°）を用いた。
【００７４】
ＣＧＬ−１塗布液組成物
フルオレノン型ジスアゾ顔料（ＣＧＭ−１）                    ２５ｇ
ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ  積水化学社製）          １０ｇ
メチルエチルケトン                                    １４３０ｍｌ
上記塗布液組成物をサンドミルを用いて２０時間分散したもの。
【００７５】
ＣＧＬ−３塗布液組成物
Ｙ−型チタニルフタロシアニン（ＣＧＭ−３）                  １０ｇ
シリコーン樹脂（ＫＲ−５２４０  信越化学社製）              １０ｇ
ｔ−酢酸ブチル                                        １０００ｍｌ
上記塗布液組成物をサンドミルを用いて１７時間分散したもの。
【００７６】
ＣＧＬ−４塗布液組成物
ペリレン系顔料（ＣＧＭ−４）                                ５０ｇ
ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ  積水化学社製）          ５０ｇ
メチルエチルケトン                                    ２４００ｍｌ
上記塗布液組成物をサンドミルを用いて２０時間分散したもの。
【００７７】
本参考例のフルオレノン型ジスアゾ顔料（ＣＧＭ−１）と、Ｙ−型チタニルフタロシアニン（ＣＧＭ−３）及びペリレン系顔料（ＣＧＭ−４）の構造式は前記化１〜化３と同一であるため省略する。
【００７８】
塗布結果を表１０に示す。
【００７９】
【表１０】
0004049276.tif 000015
【００８０】
参考例１１
円筒状基材を導電性支持体とし、鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。
【００８１】
前記導電性支持体上に下記の如く塗布液組成物ＣＴＬ−１を調製し、図１に記載の如くのスライドホッパー型の環状塗布装置１、２を用いて、表１１に従い塗布し、塗布液ドラムＮｏ．９−１，９−２を得た。前記環状塗布装置の本体はフェノール樹脂製であり、スライド部とホッパーエッジ部に金メッキを施したもの（接触角２５°）を用いた。
【００８２】
ＣＴＬ−１塗布液組成物 ＣＴＭ−１ ５００ｇ ポリカーボネート（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製） ５６０ｇ １，２−ジクロロエタン ２８００ｍｌ本参考例のＣＴＭ−１の構造式は前記化４と同一のため省略する。
【００８３】
結果を表１１に示す。又塗布液ドラムＮｏ．９−１〜９−２の長手方向の膜厚プロフィールを図５（ａ），（ｂ）に示す。図５（ａ）が本発明の膜厚プロフィールを示す。
【００８４】
【表１１】
0004049276.tif 000016
【００８５】
参考例１２
円筒状基材を導電性支持体とし、鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。
【００８６】
前記導電性支持体３本上にそれぞれ前記参考例９のＵＣＬ−１液を用い、塗布液ドラムＮｏ．１−１と同じようにして塗布を行った。触指乾燥後、前記塗布液上に参考例９のＣＧＬ−１、ＣＧＬ−３及びＣＧＬ−４液を前記表１０の塗布液ドラムＮｏ．８−１と同じようにして各々重層した。重層性は良好であった。触指乾燥後、更にこの上に各々、参考例１１の塗布液組成物ＣＴＬ−１を図１に記載のスライドホッパー型の環状塗布装置（参考例９と同じ）を用いて逐次重層塗布し、９０Ｃ°の乾燥ゾーンを経て塗布液ドラム（電子写真感光体ドラム）Ｎｏ．10−１〜１０−３を得た。
【００８７】
塗布結果を表１２に示す。表に示すように、塗布欠陥もなく重層塗布性は良好であり、長手方向の塗布膜厚ムラもなかった。
【００８８】
【表１２】
0004049276.tif 000017
【００８９】
（電子写真感光体の評価）
以上のようにして得られた塗布液ドラム（電子写真感光体ドラム）Ｎｏ．１０−１〜１０−３をコニカ（株）社製複写機Ｕ−ＢＩＸ４０４５を用いて以下に述べる画像評価を行った。その結果を表１３に示す。
【００９０】
［画像評価］
１０００枚コピー後の画像サンプルを見て、カブリ、画像ムラ、黒ポチ、白ポチ及び中間調画像での白スジ、  黒スジ、濃淡ムラ等の塗布欠陥による画像欠陥が出ていないか調べた。又、画像ムラは反射濃度計で測定した。最高濃度Ｄｍａｘは、１０点の濃度測定を行いそのバラツキ幅により下記の如く評価した。
【００９１】
Ｄmax   ０．０１〜０．０５→  ○（実用レベルで良好）
０．０６〜０．１５→  △（実用レベルでやや不可）
０．１６〜        →  ×（不可）
黒スジは黒い部分のＤｍａｘを測定し、０．０６以上を不可、×とした。尚カブリは感度低下によると考えられる。
【００９２】
【表１３】
0004049276.tif 000018
【００９３】
表９〜１３に示すように、塗布ムラ、色ムラ、塗布欠陥や膜厚変動特に長手方向のムラ、段ムラがなく、膜厚精度が良くまた重層性も優れ、画像ムラ、画像欠陥、カブリ等電子写真性能を悪化させる事がない。又、スライドホッパー型の環状塗布装置は軽いので交換、保守、運搬に費やす時間が短縮された。更に重量を軽くする事が出来るので交換、保守に優れる。
【００９４】
好ましい材料としてはプラスッチクやセラミック材のうち低接触角材が良く、別の様態としてはプラスチックやセラミック材上の金属メッキや蒸着あるいは低接触角材料の張り合わせや被覆が良い。これらプラスッチクやセラミックは塗布溶媒、洗浄溶媒に不活性であるのは無論である。別の好ましい形態としては少なくとも塗布液スライド面１１とホッパーエッジ部４が低接触角材で覆われていれば良い。接触角は２２℃での測定値であり、水に対する値である。
【００９５】
測定は接触角計（例えば協和界面科学（株）のＣＡ−ＤＴ型）による液滴法やMillerの液滴法が良い。Millerの液滴法は表面に一定容積の水滴を滴下し、水滴の直径より算出する方法であって R.N.Miller Materials Protection & Performance（１９７３年発行１２巻５号３１頁）に詳しく述べられている。環状塗布装置（コータとも云う）のように表面形状が比較的複雑なものについて便利な方法である。
【００９６】
前記接触角は５°〜９０°が良く、更には５°〜８０°が良い。５°よりも小さいと塗布液がホッパーエッジ部４の下方に逃げ易くビードの形成が困難となるし、９０°よりも大きいと塗布液スライド面１１上の塗布液の流れが悪く、しかもビードの形成が悪くなる。
【００９７】
低接触角材としてはＮｉ、Ｃｒ、真鍮、Ｃｕ、Ａｕ等の金属や合金あるいはその蒸着、アルミナ、ジルコニア等のセラミックあるいはセラミック系コーティング、フェノール樹脂、ポリエステル等のプラスチックがある。
【００９８】
参考例の塗布により感光体の感度低下が起きない事がわかった。推測するに塗布液特に環状塗布装置内の滞留ＣＴＭに対して分解を促進する金属イオンの流出がないと思われる。
【００９９】
実施例１（実施例及び比較例）円筒状基材を導電性支持体として、鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。
【０１００】
前記導電性支持体上に下記の如く塗布液組成物ＵＣＬ−１〜３を調製し、図１に記載の如くのスライドホッパー型の塗布装置（塗布液ホッパーエッジ部の粗さは表１４の如く）を用いて、下記表１４に記載の如く塗布を行い、塗布液ドラムＮｏ．１１−１〜１１−６を得た。なお循環ポンプから塗布液供給口の送液はステンレスパイプを用いた。
【０１０１】
ＵＣＬ−１塗布液組成物
共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００  東レ社製）            ２ｇ
メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比）  １０００ｍｌ
ＵＣＬ−２塗布液組成物
塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体（エスレックＭＦ−１０  積水化学社製）５ｇ
アセトン／シクロヘキサノン＝１０／１（Ｖｏｌ比）    ７００ｍｌ
ＵＣＬ−３塗布液組成物
エチレン−酢酸ビニル系共重合体（エルバックス４２６０  三井デュポンケミカル社製                                                ５０ｇ
トルエン／ｎ−ブタノール＝５／１（Ｖｏｌ比）      ２０００ｍｌ
結果を表１４に示す。
【０１０２】
【表１４】
0004049276.tif 000019
【０１０３】
実施例２（実施例及び比較例）円筒状基材を導電性支持体として、鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。
【０１０４】
前記導電性支持体上に下記の如く塗布液組成物ＣＧＬ−１、−３、−４を調製し、図１に記載の如くのスライドホッパー型の環状塗布装置（塗布液エッジ面の粗さは表２の如し）を用いて、下記表１５に記載の如く塗布し、塗布液ドラムＮｏ．１２−１〜１２−６得た。なお送液系は参考例５と同様である。
【０１０５】
ＣＧＬ−１塗布液組成物
フルオレノン型ジスアゾ顔料（ＣＧＭ−１）                  ２５ｇ
ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ  積水化学社製）        １０ｇ
メチルエチルケトン                                  １４３０ｍｌ
上記塗布液組成物をサンドミルを用いて２０時間分散したもの。
【０１０６】
ＣＧＬ−３塗布液組成物
Ｙ−型チタニルフタロシアニン（ＣＧＭ−３）                １０ｇ
シリコーン樹脂（ＫＲ−５２４０  信越化学社製）            １０ｇ
ｔ−酢酸ブチル                                      １０００ｍｌ
上記塗布液組成物をサンドミルを用いて１７時間分散したもの。
【０１０７】
ＣＧＬ−４塗布液組成物
ペリレン系顔料（ＣＧＭ−４）                              ５０ｇ
ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ  積水化学社製）        ５０ｇ
メチルエチルケトン                                  ２４００ｍｌ
上記塗布液組成物をサンドミルを用いて２０時間分散したもの。
【０１０８】
本実施例のフルオレノン型ジスアゾ顔料（ＣＧＭ−１）と、Ｙ−型チタニルフタロシアニン（ＣＧＭ−３）及びペリレン系顔料（ＣＧＭ−４）の構造式は前記化１、化２、化３と同一であるため省略する。
【０１０９】
塗布結果を表１５に示す。
【０１１０】
【表１５】
0004049276.tif 000020
【０１１１】
実施例３（実施例及び比較例）
円筒状基材を導電性支持体とし、鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。
【０１１２】
前記導電性支持体上に下記の如く塗布液組成物ＣＴＬ−１を調製し、図１に記載の如くのスライドホッパー型の環状塗布装置（塗布液エッジ面の粗さは表１６の如く）を用いて、下記表１６に従い塗布し、塗布液ドラムＮｏ．１３−１〜１３−５を得た。なお送液系は実施例５と同じ。
【０１１３】
ＣＴＬ−１塗布液組成物
ＣＴＭ−１                                              ５００ｇ
ポリカーボネート（Ｚ−２００  三菱瓦斯化学社製）        ５６０ｇ
１，２−ジクロロエタン                              ２８００ｍｌ
本実施例のＣＴＭ−１は前記化４の構造式と同一のため省略する。
【０１１４】
結果を表１６に示す。また塗布液ドラムＮｏ．１３−１とＮｏ．１３−４の長手方向の膜厚プロフィールを図６（ａ），（ｂ）に示す。図６（ａ）が本発明の膜厚プロフィールを示す。
【０１１５】
【表１６】
0004049276.tif 000021
【０１１６】
実施例４
円筒状基材１Ａ、１Ｂを導電性支持体とし、鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。
【０１１７】
実施例２の塗布液ドラムＮｏ．１２−１〜１２−４上に、実施例３の塗布液組成物ＣＴＬ−１を下記表１７の如く、図１に記載のスライドホッパー型の塗布装置（エッジ面の粗さは表１７の如く）を用いて逐次重層塗布した。なお送液系は参考例５と同様である。
【０１１８】
塗布結果を表１７に示す。塗布欠陥もなく重層塗布性は良好であり、長手方
の塗布膜厚ムラもなかった。
【０１１９】
【表１７】
0004049276.tif 000022
【０１２０】
本発明の塗布方法によれば、表１４〜１７から明らかな如く塗布ムラ、色ムラ、塗布欠陥や膜厚変動特に長手方向のムラ、段ムラがなく、また重層性も優れることがわかる。
【０１２１】
ホッパーエッジ部４の粗さＲｚを０．１０より大きく３．０μｍ以下の比較的粗い状態にする事により、塗布液の塗布時に作用する送液の脈動、乾燥風等からくる漏れ風あるいは機械や搬送等からくる振動による塗布ムラや膜厚変動が無い。推測するにエッジ面に抵抗があるためこれらの影響が減じられるとおもわれる。
【０１２２】
粗さＲｚが０．１０μｍ以下の時、上記効果は期待されない。又粗さが３．０μｍより大きくなるとホッパーエッジ部４の乱れが顕著となって膜厚ムラが大きくなり、脈動等を阻止する効果が隠れてしまう。好ましくは粗さＲｚが０．２０〜２．０μｍが良い。
【０１２３】
本発明中の粗さＲｚはＪＩＳＢ０６０１に記載の如く十点平均粗さをいう。好ましくはＲｍａｘ表示で３．０μｍ以下が良い。所望の粗さは通常の切削加工で達成される。
【０１２４】
図７は、前記図１の実施例に用いられた環状塗布装置３を用いてエンドレスに形成した円筒状基材１Ａ、１Ｂに感光体となる塗布液を同時に重層塗布する他の実施例を示す。
【０１２５】
図７に於いて、中心線Ｙに沿って垂直状に重ね合わせた円筒状基材１Ａ、１Ｂと、該円筒状基材１Ａ、１Ｂに順次感光用の塗布液２を塗布する環状塗布装置３を示す。図の様に前記円筒状基材１Ａを取り囲む様に、図１と同様のθ角と、長さを有し、下方に傾斜した塗布液スライド面１１と、塗布液２，２Ａのホッパーエッジ部４よりなる塗布面が形成され、該ホッパーエッジ部４に供給される塗布液２，２Ａを前記円筒状基材１Ａに順次塗布する様に構成している。塗布方法としては、前記環状塗布装置３を固定し、前記円筒状基材１Ａを中心線Ｙに沿って矢印方向に上昇移動させながら上端部より塗布を行う。前記環状塗布装置３のホッパーエッジ部４に塗布液２，２Ａを供給するため、外部に設けた塗布液タンク５，５１より送液ポンプ６の塗布液供給部６Ａを下位置に、送液ポンプ６１の塗布液供給部６Ｂを上位置に各々取り付けて前記環状塗布装置３に接続し、塗布液２，２Ａを供給する。
【０１２６】
次に供給された塗布液２，２Ａは、前記環状塗布装置３内に形成した環状の塗布液分配室７には前記塗布液２を供給し、該環状塗布装置３内に形成した環状の塗布液分配室７１には前記塗布液２Ａを供給する。先ず供給された塗布液２は塗布液分配スリット８よりエンドレスの塗布液流出口９より前記ホッパーエッジ部４に塗布液２が連続的に供給され、前記円筒状基材１Ａの全周面に先ず塗布液２に塗布される。更に前記塗布液分配室71には前記塗布液２Ａが供給される。供給された塗布液２Ａは塗布液分配スリット８１よりエンドレスの塗布液流出口９１より前記塗布された塗布液２面上に連続的に供給され、前記円筒状基材１Ａの全周面に先ず塗布液２の表面に塗布液２Ａが重層塗布される。１０は、落下する塗布液二、二Ａを液溜めする液溜部である。
【０１２７】
図８は前記図１の実施例に使用されている環状塗布装置３を上下に配置し、円筒状基材１Ａ、１Ｂに塗布液の重層塗布を行う実施例である。先ず前記図１と同様にホッパーエッジ４部に供給される塗布液２を前記円筒状基材１Ａに順次塗布する。塗布方法としては、前記環状塗布装置３を固定し、前記円筒状基材１Ａを中心線Ｙに沿って矢印方向に上昇移動させながら上端部より塗布を行う。前記環状塗布装置３のホッパーエッジ部４に塗布液２を供給するため、外部に設けた塗布液タンク５より送液ポンプ６の塗布液供給部６Ａを前記環状塗布装置３に接続し、塗布液２を供給する。次に供給された塗布液２は、前記環状塗布装置３内に形成した環状の塗布液分配室７に供給されて塗布液分配スリット８よりエンドレスの塗布液流出口９より下方に傾斜した塗布液スライド面１１より前記ホッパーエッジ部４に塗布液２が連続的に供給され、塗布液２は前記円筒状基材１Ａの全周面に一層目が塗布されれる。
【０１２８】
更に前記環状塗布装置３の上部に環状塗布装置32が設けられており、一層目の塗布液２が塗布された塗布液２は熱源Ｈで乾燥され、円筒状基材１Ａは矢示方向に上昇し、環状塗布装置32のホッパーエッジ４２部に進入する。ホッパーエッジ部４２に供給される塗布液２Ａを前記円筒状基材１Ａに塗布された塗布液２面上に順次重ねて重層塗布する。塗布方法としては、前記同様に前記環状塗布装置３２を固定し、前記円筒状基材１Ａを中心線Ｙに沿って矢印方向に上昇移動させながら上端部より重層塗布を行う。前記環状塗布装置３２のホッパーエッジ部４２に塗布液２Ａを供給するため、外部に設けた塗布液タンク５２より送液ポンプ６２の塗布液供給部６Ｃを前記環状塗布装置３２に接続し、塗布液２Ａを供給する。次に供給された塗布液２Ａは、前記環状塗布装置３２内に形成した環状の塗布液分配室７２に供給されて塗布液分配スリット８２よりエンドレスの塗布液流出口９２より前記ホッパー塗布面42に塗布液２Ａが連続的に供給され、塗布液２Ａは前記円筒状基材１Ａに塗布された塗布液２の全周面に塗布れれる。１０，１０１は、落下する塗布液を液溜めする液溜部である。
【０１２９】
【発明の効果】
請求項１に於いて、環状塗布装置３に形成した前記円筒状基材をエンドレスで囲むホッパーエッジ部の表面粗さＲｚを０．２μｍより大きく２．０μｍ以下で構成したので、前記円筒状基材に対する塗布液の塗布ムラや、膜厚変動が発生しない。
【０１４６】
請求項２に於いて、環状塗布装置３の塗布液スライド面１１上を塗布液を流し、前記円筒状基材をエンドレスで囲む表面粗さＲｚを０．２μｍ〜２．０μｍとしたホッパーエッジ部より連続的に塗布液を流出させる方法で、前記円筒状基材に対する塗布液の塗布ムラや、膜厚変動が発生しない。
【０１４７】
請求項３に於いて、前記請求項２の構成を用いて、塗布液スライド面１１上に同時に複数の塗布液を流し、ホッパーエッジ部に連続的に塗布液を流出させる方法により、前記円筒状基材に対して重層塗布した塗布液に、塗布ムラや、膜厚変動が発生しない。
【０１４８】
請求項４に於いて、前記請求項２の構成を用いて、複数の環状塗布装置３を上下に設け、複数の塗布液スライド面１１上に順次複数の塗布液を流し、ホッパーエッジ部に連続的に塗布液を流出させる方法により、前記円筒状基材に対して重層塗布した塗布液に、塗布ムラや、膜厚変動が発生しない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の塗布装置の塗布状態を示す縦断面図。
【図２】本発明の塗布装置の斜視図。
【図３】ドラムに対する塗布液の膜厚プロフィールを示す特性図で、（ａ）が本発明の特性図。（ｂ）が従来の特性図。
【図４】ドラムに対する塗布液の他の膜厚プロフィールを示す特性図で、（ａ）が本発明の特性図。（ｂ）が従来の特性図。
【図５】本発明のドラムに対する塗布液の他の膜厚プロフィールを示す特性図。
【図６】ドラムに対する塗布液の他の膜厚プロフィールを示す特性図で、（ａ）が本発明の特性図。（ｂ）が従来の特性図。
【図７】本発明の他の実施例の塗布装置による塗布状態を示す縦断面図。
【図８】本発明の他の実施例の塗布装置による塗布状態を示す縦断面図。
【符号の説明】
１Ａ，１Ｂ  円筒状基材
２，２Ａ  塗布液
３，３２  環状塗布装置
４，４２  ホッパーエッジ部
５，５２  塗布液タンク
６，６２  送液ポンプ
６Ａ，６Ｂ，６Ｃ  塗布液供給部
７，７２  塗布液分配室
８，８２  塗布液分配スリット
９，９２  塗布液流出口
１１，１１０，１１１  塗布液スライド面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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