(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）下記一般式（１）及び／又は一般式（２）に記載のグリコールエーテル類と（ｂ）テルペンアルコール類とを含有することを特徴とするスクリーン版洗浄剤。
【化１】
0004079678.tif 000011
（式中、Ｒ11は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基又はシクロアルキル基、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14は水素またはメチル基、ｎは０〜１の整数、ｍは１〜４の整数を示す）
【化２】
0004079678.tif 000012
（式中、Ｒ21は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基又はシクロアルキル基、Ｒ22は炭素数１〜４のアルキル基又はアルケニル基、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25は水素またはメチル基、ｎは０〜１の整数、ｍは１〜４の整数を示す）
【請求項２】
前記（ａ）一般式（１）及び／又は一般式（２）に記載のグリコールエーテル類が、プロピレングリコール類から選ばれる一種又は二種以上の化合物を含有することを特徴とする請求項１記載のスクリーン版洗浄剤。
【請求項３】
前記（ｂ）テルペンアルコール類が、テルピネオールであることを特徴とする請求項１又は２記載のスクリーン版洗浄剤。
【請求項４】
前記スクリーン版洗浄剤が、（ｃ）下記一般式（３）に記載のグリコールエーテルアセテート類、下記一般式（４）に記載のヒドロキシカルボン酸エステル類及び二塩基酸エステル類からなる群から選ばれる一種又は二種以上の化合物をさらに含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のスクリーン版洗浄剤。
【化３】
0004079678.tif 000013
（式中、Ｒ31は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基又はシクロアルキル基、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34は水素またはメチル基、ｎは０〜１の整数、ｍは１〜４の整数を示す）
【化４】
0004079678.tif 000014
（式中、Ｒ41は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基又はシクロアルキル基を示す）
【請求項５】
前記スクリーン版洗浄剤が、（ｄ）水をさらに含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のスクリーン版洗浄剤。
【請求項６】
前記スクリーン版洗浄剤が、蛍光体ペースト洗浄に用いるものであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のスクリーン版洗浄剤。
【請求項７】
テルペンアルコール類含有蛍光体ペーストと２０℃における蒸気圧１．３３×１０３Ｐａ未満のグリコールエーテル類とを含有する組成物を原料とし、蒸留又は限外ろ過により無機蛍光体粉末とバインダー成分を分離・除去し、溶剤成分を得る工程を含むことを特徴とする請求項１〜６記載のスクリーン版洗浄剤の製造方法。
【請求項８】
テルペンアルコール類含有蛍光体ペーストの印刷に使用したスクリーン版をグリコールエーテル類含有組成物で洗浄する工程、洗浄後、得られた洗浄剤廃液を回収する工程及び該洗浄剤廃液から無機蛍光体粉末とバインダー成分を分離・除去し、溶剤成分を得る工程を含むことを特徴とする請求項７記載のスクリーン版洗浄剤の製造方法。
【請求項９】
前記グリコールエーテル類含有組成物が、一般式（１）及び／又は一般式（２）に記載のグリコールエーテル類であることを特徴とする請求項７又は８記載のスクリーン版洗浄剤の製造方法。
【請求項１０】
前記一般式（１）及び／又は一般式（２）に記載のグリコールエーテル類が、プロピレングリコール類から選ばれる一種又は二種以上の化合物を含有することを特徴とする請求項９記載のスクリーン版洗浄剤の製造方法。
【請求項１１】
前記洗浄剤が（ｄ）水をさらに含有することを特徴とする請求項７〜１０のいずれか１項に記載のスクリーン版洗浄剤の製造方法。
【請求項１２】
前記洗浄剤廃液から無機蛍光体粉末とバインダー成分を分離・除去し、溶剤成分を得る工程が、蒸留時の液温が５０℃以上、減圧度が１．３３×１０4Ｐａ以下の条件で行う蒸留であることを特徴とする請求項８〜１１のいずれか１項に記載のスクリーン版洗浄剤の製造方法。
【請求項１３】
前記洗浄剤廃液から無機蛍光体粉末とバインダー成分を分離・除去し、溶剤成分を得る工程が、分画分子量が５０００〜１５０００の限外濾過膜を利用した限外濾過であることを特徴とする請求項８〜１１のいずれか１項に記載のスクリーン版洗浄剤の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、溶剤特に極性溶剤に対する耐性の低い構成部品を有する製品に付着した極性の高い汚れ、特に乳剤によってパターン形成されたスクリーン版に付着したペースト等を洗浄するのに適しており、中でもプラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰという）製造に使用される蛍光体ペーストの洗浄に好適である洗浄剤に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、スクリーン印刷法が電子工業分野をはじめとして広く活用されている。これは絹、ナイロン、テトロンなどの繊維、あるいはステンレスの針金などで織った布地（スクリーン）を枠に張って四周を固定し、その上にポリビニルアルコール、酢酸ビニルエマルジョン、アクリルモノマー等の主剤とジアゾニウム塩類や重クロム酸塩等の感光剤を攪拌混合したものを塗布し、光化学的方法で乳剤膜を作って必要な画線以外の目をふさぎ、パターンを形成したスクリーンと、スキージと呼ばれるウレタン製ゴムを取り付けた道具を使い、印刷を行なうものである。印刷を終えたスクリーンとスキージは保管または再使用のため、スクリーンおよびスキージに付着、残留したインキ、ペーストを洗浄、除去する必要がある。
【０００３】
これらの洗浄、除去には、不燃性で毒性が低く、優れた溶解性を示す等、多くの特徴を有することから、１，１，１−トリクロロエタン等の塩素系有機溶剤が広く使われてきたが、これら塩素系溶剤はオゾン層破壊等の地球環境汚染問題が指摘され、近年では安全で環境への影響の少ない非ハロゲン系の代替洗浄剤として、特公平８−２６３５０号公報、特開平７−１２６６９５号公報、特開平８−１５８０８１号公報等のグリコールエーテル系溶剤を組み合わせた洗浄剤の技術が開発されている。
【０００４】
しかし、特公平８−２６３５０号公報では２種類のグリコールエーテルを単に併用した組成であるために溶解力が弱く充分な洗浄性が得られない。また、特開平７−１２６６９５号公報には水への溶解性が異なる２種のグリコールエーテルと水を併用したハンダペースト洗浄剤が提案されている。この洗浄剤はハンダペーストの印刷に使用されるステンレス製のメタルマスクスクリーンの洗浄を目的としているが、水の添加量が多いためにハンダペースト以外のペーストに対する溶解性が低く、しかも、パターン形成に乳剤を使用したスクリーン版の洗浄では乳剤へのダメージ抑制が充分でない。また、特開平８−１５８０８１号公報にはジプロピレングリコールモノプロピルエーテルとジプロピレングリコールモノメチルエーテルと水の併用についての記載はあるが、極性の低い油分用の洗浄剤の開示であり、極性の高いペーストに対する洗浄性についての記載が全くない。いずれの洗浄剤もグリコールエーテルの単独もしくは併用した組成であるために溶解力が弱く充分な洗浄性が得られない。
【０００５】
また、特開平１０−１０７４４号公報、特開平１０−３６８９０号公報では、溶解力改良を目的にグリコールエーテルアセテートを添加した組成が開示されている。しかし、いずれの洗浄剤においてもグリコールエーテルアセテートの添加量が多くなると共に、パターン形成に使用される乳剤等へのダメージ抑制が不充分になる傾向にあり、グリコールエーテルアセテートの単独添加では洗浄性の向上と乳剤ダメージの抑制を同時に達成することが困難である。特に近年製品化されつつあるプラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰという）製造に使用されるスクリーン版洗浄剤としては、一般印刷用のスクリーン版と異なり非常に大型、高精細であるために、乳剤に対するダメージについて許容範囲が狭く、改善が望まれている。
以上のごとく、これまで提案されてきた組成物ではペースト洗浄が可能であっても毒性の低減が必要であったりや乳剤によりパターン形成されたスクリーン版へのダメージ抑制が充分でなかったり、ペースト洗浄性が充分でないのが現状である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、各種ペーストに対し高い洗浄力を有すると共に、特に蛍光体ペーストを洗浄しうる顕著な洗浄性を示し、かつ、乳剤の膨潤、乳剤膜表面の白化、スクリーンメッシュと乳剤膜の密着性低下等の乳剤ダメージを抑制した上で、引火の危険性が低く、オゾン層破壊の恐れがないスクリーン版用洗浄剤とその製造方法を提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を達成するための手段】
本発明者は、上記課題を達成するため鋭意検討を重ねた結果、グリコールエーテル類にテルペンアルコール類を添加することにより、洗浄剤のペーストへの浸透性を向上しつつ、乳剤へのダメージを抑制できるスクリーン版洗浄剤を見出し、さらに、その洗浄剤に適した製造方法を見出し、本発明を完成した。
【０００８】
すなわち、発明の第１は、（ａ）下記一般式（１）及び／又は一般式（２）に記載のグリコールエーテル類と（ｂ）テルペンアルコール類とを含有することを特徴とするスクリーン版洗浄剤。
【化５】
0004079678.tif 000002
（式中、Ｒ11は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基又はシクロアルキル基、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14は水素またはメチル基、ｎは０〜１の整数、ｍは１〜４の整数を示す）
【化６】
0004079678.tif 000003
（式中、Ｒ21は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基又はシクロアルキル基、Ｒ22は炭素数１〜４のアルキル基又はアルケニル基、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25は水素またはメチル基、ｎは０〜１の整数、ｍは１〜４の整数を示す）である。
発明の第２は、前記（ａ）一般式（１）及び／又は一般式（２）に記載のグリコールエーテル類が、プロピレングリコール類から選ばれる一種又は二種以上の化合物を含有することを特徴とする発明の第１に記載のスクリーン版洗浄剤である。
発明の第３は、前記（ｂ）テルペンアルコール類が、テルピネオールであることを特徴とする発明の第１又は第２記載のスクリーン版洗浄剤である。
発明の第４は、前記スクリーン版洗浄剤が、（ｃ）下記一般式（３）に記載のグリコールエーテルアセテート類、下記一般式（４）に記載のヒドロキシカルボン酸エステル類及び二塩基酸エステル類からなる群から選ばれる一種又は二種以上の化合物をさらに含有することを特徴とする発明の第１〜第３のいずれかに記載のスクリーン版洗浄剤である。
【０００９】
発明の第５は、前記スクリーン版洗浄剤が、（ｄ）水をさらに含有することを特徴とする発明の第１〜４のいずれかに記載のスクリーン版洗浄剤である。
発明の第６は、前記スクリーン版洗浄剤が、蛍光体ペースト洗浄に用いるものであることを特徴とする発明の第１〜５のいずれかに記載のスクリーン版洗浄剤である。
発明の第７は、テルペンアルコール類含有蛍光体ペーストと２０℃における蒸気圧１．３３×１０３Ｐａ未満のグリコールエーテル類とを含有する組成物を原料とし、蒸留又は限外ろ過により無機蛍光体粉末とバインダー成分を分離・除去し、溶剤成分を得る工程を含むことを特徴とする発明の第１〜６記載のスクリーン版洗浄剤の製造方法である。
【００１０】
発明の第８は、テルペンアルコール類含有蛍光体ペーストの印刷に使用したスクリーン版をグリコールエーテル類含有組成物で洗浄する工程、洗浄後、得られた洗浄剤廃液を回収する工程及び該洗浄剤廃液から無機蛍光体粉末とバインダー成分を分離・除去し、溶剤成分を得る工程を含むことを特徴とする発明の第７記載のスクリーン版洗浄剤の製造方法である。
発明の第９は、前記グリコールエーテル類含有組成物が、一般式（１）及び／又は一般式（２）に記載のグリコールエーテル類であることを特徴とする発明の第７又は８記載のスクリーン版洗浄剤の製造方法である。
発明の第１０は、前記一般式（１）及び／又は一般式（２）に記載のグリコールエーテル類が、プロピレングリコール類から選ばれる一種又は二種以上の化合物を含有することを特徴とする発明の第９記載のスクリーン版洗浄剤の製造方法である。
【００１１】
発明の第１１は、前記洗浄剤が（ｄ）水をさらに含有することを特徴とする発明の第７〜１０のいずれか１項に記載のスクリーン版洗浄剤の製造方法である。
発明の第１２は、前記洗浄剤廃液から無機蛍光体粉末とバインダー成分を分離・除去し、溶剤成分を得る工程が、蒸留時の液温が５０℃以上、減圧度が１．３３×１０4Ｐａ以下の条件で行う蒸留であることを特徴とする発明の第８〜１１のいずれか１項に記載のスクリーン版洗浄剤の製造方法である。
発明の第１３は、前記洗浄剤廃液から無機蛍光体粉末とバインダー成分を分離・除去し、溶剤成分を得る工程が、分画分子量が５０００〜１５０００の限外濾過膜を利用した限外濾過であることを特徴とする発明の第８〜１１のいずれか１項に記載のスクリーン版洗浄剤の製造方法である。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明者はグリコールエーテル類のペーストに対する溶解力を生かしつつ、スクリーン版上にパターン形成するために使われている乳剤に対する影響を充分抑制した溶剤組成物を見出すべく検討を重ね、次に示すような驚くべき事実を見いだし本発明を完成するに至った。
【００１３】
すなわち、単独で低いいペースト溶解性しか示さないグリコールエーテル類では、単に溶解力改良剤を添加したのでは、溶解性向上に伴い乳剤に対するダメージが上昇する問題があるのに対して、グリコールエーテル類を含む洗浄剤にテルペンアルコール類を添加することによって、乳剤に対するダメージを増加させることなく、蛍光体ペーストへの洗浄剤浸透性及び蛍光体ペーストの分散速度を向上することによって、ペースト洗浄性が改善できることを見出した。さらに、テルペンアルコール類の添加は、グリコールエーテルアセテート類、ヒドロキシカルボン酸エステル類、二塩基酸エステル類等のエステルとの併用による相乗効果により、これらエステルの添加量を抑制することが可能となり、乳剤のダメージを抑制しつつ、ペースト洗浄性を改善できることを見出した。
【００１４】
さらに、水の添加により引火点を消去することが可能となり、この場合引火危険性を低減するとともに消防法の危険物に該当せず、洗浄剤としての取り扱いが容易となることを見出した。
さらに好ましくは、これら（ａ）グリコールエーテル類、（ｂ）テルペンアルコール類、（ｃ）グリコールエーテルアセテート類、ヒドロキシカルボン酸エステル類及び二塩基酸エステル類からなる群から選ばれる一種又は二種以上の化合物いずれもの１．０１３×１０5Ｐａにおける沸点範囲を１５０〜２５０℃にすることにより、水添加量を低減することが可能となり、水添加によるペースト洗浄性低下及び乳剤に対するダメージを抑制できることを見出したのである。
【００１５】
本発明の組成物によれば、溶剤特に極性溶剤に対する耐性の低い構成部品を有する製品に付着した極性の高い汚れの洗浄するのに適している。
特に、本発明の組成物によれば、被洗物であるスクリーンに用いられる乳剤等の耐溶剤性の低いスクリーン版材質に対する影響を抑制しつつ、種々のタイプのペースト、特に蛍光体ペーストを容易にスクリーン版から溶解洗浄する事ができる。
【００１６】
本発明の洗浄剤に使用する（ａ）グリコールエーテル類とは２個の水酸基が２個の相異なる炭素原子に結合している脂肪族あるいは脂環式化合物において、該水酸基のうち１個または２個の水酸基の水素が炭化水素残基またはエーテル結合を含む炭化水素残基に置換されている化合物である。これらのうち、１個の水酸基のみの水素が置換されたものが、グリコールエーテルモノアルキルエーテル類であり、２個の水酸基の水素のいずれもが置換されたものがグリコールエーテルジアルキルエーテル類である。例えば、下記一般式（１）で特定されるグリコールエーテルモノアルキルエーテル類および下記一般式（２）で特定されるグリコールエーテルジアルキルエーテル類を挙げることができる。
【００１７】
【化７】
0004079678.tif 000004
【００１８】
（式中、Ｒ11は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基又はシクロアルキル基、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14は水素またはメチル基、ｎは０〜１の整数、ｍは１〜４の整数を示す）
【００１９】
【化８】
0004079678.tif 000005
【００２０】
（式中、Ｒ21は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基又はシクロアルキル
基、Ｒ22は炭素数１〜４のアルキル基又はアルケニル基、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25は水素またはメチル基、ｎは０〜１の整数、ｍは１〜４の整数を示す）
【００２１】
グリコールエーテルモノアルキルエーテル類の具体例としては、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｉ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、３−メトキシブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノール、エチレングリコールモノ−ｎ−ヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｉ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテル等を挙げることができる。
【００２２】
また、グリコールエーテルジアルキルエーテルの具体例としては、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等を挙げることができる。この中で特に人体における代謝系でアルコキシ酢酸を生成しないジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルおよびジプロピレングリコールジメチルエーテル、３−メトキシブタノールおよび３−メチル−３−メトキシブタノールが毒性が低く好ましい。
【００２３】
本発明の洗浄剤に使用する（ｂ）テルペンアルコール類とは−（Ｃ5Ｈ8）n−の構造の炭化水素から導かれるアルコールである。例えば、具体例としてはシトロネロール、ゲラニオール、ネロール、リナロール、メントール、α−テルピネオール、β−テルピネオール、γ−テルピネオール、カルベオール、ツイルアルコール、ピノカンフェオール、フェンチルアルコール、ボルネオ−ル等のモノテルペンアルコールを挙げることができる。また、ファルネソール、ネロリドール、カジノール、オイデスモール、グアヨール、パチュリアルコール、カロトール、ランセオール、セドロール、ケッソグリコール等のセスキテルペンアルコール、フィトール、スクラレオール、マノール、ヒノキオール、フェルギノール、トタロール等のジテルペンアルコール等を挙げることができる。特に洗浄剤の組成変動を抑制するためには１．０１３×１０5Ｐａにおける沸点が１５０〜２５０℃のモノテルペンアルコールが好ましく、さらにα−テルピネオール、β−テルピネオール、γ−テルピネオール又はこれらの化合物から選ばれる２種又は３種の混合物が好ましい。
【００２４】
本発明の洗浄剤においては、あらゆる汚れに対する洗浄力の向上を目的に（ｃ）グリコールエーテルアセテート類、ヒドロキシカルボン酸エステル類、二塩基酸エステル類からなる群から選ばれる一種以上の化合物を使用することができる。本発明の洗浄剤に使用するグリコールエーテルアセテート類とは、水酸基を有するグリコールエーテル類をアセテート化した化合物である。ここで言うグリコールエーテル類とは２個の水酸基が２個の相異なる炭素原子に結合している脂肪族あるいは脂環式化合物において、その２個の水酸基のうちいずれか１個の水酸基の水素が炭化水素残基またはエーテル結合を含む炭化水素残基に置換されている化合物である。好ましくは、下記一般式（３）で特定されるグリコールエーテルアセテート類を挙げることができる。
【００２５】
【化９】
0004079678.tif 000006
【００２６】
（式中、Ｒ31は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基又はシクロアルキル基、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34は水素またはメチル基、ｎは０〜１の整数、ｍは１〜４の整数を示す）
【００２７】
グリコールエーテルアセテート類の具体例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコールおよびトリプロピレングリコール等に対応するモノアルキルエーテルのアセテート、３−メトキシ−１−ブチルアセテート、３−メトキシ−３−メチル−１−ブチルアセテート等を挙げることができる。
【００２８】
また、本発明の洗浄剤に使用するヒドロキシカルボン酸エステル類とは水酸基を有するエステル化合物であり、好ましくは、乳酸エステル、リンゴ酸エステル、酒石酸エステル、クエン酸エステル、グリコールモノエステル、グリセリンモノエステル、グリセリンジエステル、リシノール酸エステルおよびヒマシ油等を挙げることができる。特に好ましいヒドロキシカルボン酸エステル類としては下記一般式（４）で特定される乳酸エステル類を挙げることができる。
【００２９】
【化１０】
0004079678.tif 000007
【００３０】
（式中、Ｒ41は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基又はシクロアルキル基を示す）
【００３１】
乳酸エステル類の具体例としては乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチルおよび乳酸ペンチル等を挙げることができる。
本発明の洗浄剤には二塩基酸エステルを使用できる。二塩基酸エステルとしては、コハク酸、グルタル酸およびアジピン酸のジアルキルエステルまたはそれらの混合物を挙げることができる。これらのアルキル基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル等が挙げられる。好ましくはコハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、アジピン酸ジメチル又はこれら化合物の混合物を挙げることができる。成分（ｃ）としては、グリコールエーテルアセテート類、ヒドロキシカルボン酸エステル類、二塩基酸エステル類からなる群から選ばれた１種又は２種以上を組み合わせて使用することができる。好ましい成分（ｃ）としては、乳剤に対する影響の少ないグリコールエーテルアセテート類とヒドロキシカルボン酸エステル類中で乳酸エステル類を挙げることができ、より好ましくはグリコールエーテルアセテート類である。
【００３２】
本発明の洗浄剤に使用できる（ａ）グリコールエーテル、（ｂ）テルペンアルコール、（ｃ）グリコールエーテルアセテート、ヒドロキシカルボン酸エステル及び二塩基酸エステルからなる群から選ばれる一種又は二種以上の化合物の沸点としては、１．０１３×１０5Ｐａにおいて１５０〜２５０℃が好ましい。この範囲では、洗浄剤使用時の組成変動が少なく、安定した性能を維持したまま洗浄することが可能となる。具体的には３−メチル−３−メトキシブタノール（１７４℃）、乳酸ブチル（１８５℃）、コハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチル及びアジピン酸ジメチルの混合物（１９６〜２２５℃、商品名：ＤＢＥ、デュポン社製）、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（１８７℃）、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート（１８８℃）、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル（２１２℃）、ジプロピレングリコールモノ−ｉ−プロピルエーテル（１９９℃）、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（２１０℃）、α−テルピネオール（２１９℃）、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル（２４２℃）、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（２４６℃）等が挙げられる。
【００３３】
本発明の洗浄剤においては引火危険性を低減することを目的に（ｄ）水を添加することができる。洗浄剤への（ｄ）水の添加は、引火危険性を低減し、さらには引火点を消去することが可能となり、消防法の危険物に該当しない洗浄剤とすることができる。ここでいう、「引火点を消去した」とは、ＪＩＳ Ｋ ２２６５に記載の「タグ密閉式」及び「クリーブランド開放式」で測定し、いずれの測定方法においても洗浄剤に引火点なしと認められることを意味する。
【００３４】
次に各成分の添加量及び質量割合については、本発明の洗浄剤の特徴である、高浸透性、低毒性、低引火性が損なわれない範囲であれば、特に制限はないが、成分（ａ）に対する成分（ｂ）の添加量が０．００１〜１０質量％であることがより好ましい。添加量が０．００１質量％より大きいときに、各種ペーストに対するより好ましいペーストへの洗浄剤の浸透性が得られ、１０質量％より小さいときにより好ましい液安定性が得られる。洗浄剤としての高浸透性と液安定性のバランスを考慮した、さらに好ましい成分（ａ）に対する成分（ｂ）の添加量は０．０１〜５質量％である。
【００３５】
成分（ａ）、成分（ｂ）、成分（ｃ）の合計質量に対する成分（ｃ）の量の範囲が５〜６０質量％であることがより好ましい。成分（ｃ）の質量割合が５質量％より大きいときに、ペーストに対するより好ましい溶解力改善効果が得られ、６０質量％より小さいときにより好ましい乳剤ダメージの抑制効果が得られる。洗浄剤の溶解力と乳剤ダメージのバランスを考慮した、より好ましい成分（ａ）、成分（ｂ）、成分（ｃ）の合計質量に対する成分（ｃ）の量は１０〜３０質量％である。
【００３６】
成分（ａ）、成分（ｂ）、成分（ｃ）、成分（ｄ）の合計質量に対する成分（ｄ）の量の範囲が、５〜５０質量％であることがより好ましい。成分（ｄ）の質量が５質量％より大きいときにより好ましい低引火性を達成でき、５０質量％より小さいときにより好ましい溶解力改善効果が得られる。洗浄剤の溶解力と低引火性のバランスを考慮した、さらに好ましい成分（ａ）、成分（ｂ）、成分（ｃ）、成分（ｄ）の合計質量に対する成分（ｄ）の量の範囲は、１０〜３０質量％である。
本発明の洗浄剤には本願発明の効果を損なわない範囲で、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、各種ペーストの溶解力改良剤、エステルの加水分解防止剤、界面活性剤および消泡剤等の添加剤を必要に応じて添加しても良い。
【００３７】
以下に本発明の洗浄剤に添加できる添加剤の具体例を例示する。
安定剤としては、例えば、ニトロメタン、ニトロエタン等のニトロアルカン類、ブチレンオキサイド等のエポキシド類、１，４−ジオキサン等のエーテル類、トリエタノールアミン等のアミン類、ベンゾトリアゾール類等が挙げられる。
【００３８】
酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤としては、１−オキシ−３−メチル−４−イソプロピルベンゼン、２，４−ジメチル−６−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、ブチルヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシメチルフェノール、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート等の化合物を挙げることができる。
【００３９】
アミン系酸化防止剤としては、ジフェニル−ｐ−フェニレン−ジアミン、４−アミノ−ｐ−ジフェニルアミン、ｐ，ｐ’−ジオクチルジフェニルアミン等の化合物を挙げることができる。
リン系酸化防止剤としては、フェニルイソデシルホスファイト、ジフェニルジイソオクチルホスファイト、ジフェニルジイソデシルホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔブチルフェニル）ペンタエリストールジホスファイト等の化合物を挙げることができる。
【００４０】
イオウ系酸化防止剤としては、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル等の化合物を挙げることができる。
これら例示された化合物のなかで、フェノール系酸化防止剤の添加効果が高く、特に２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールが好ましい。また、洗浄剤を連続して加熱使用する場合には、フェノール系酸化防止剤およびアミン系酸化防止剤の群から選ばれる少なくとも一種以上の化合物とリン系酸化防止剤およびリン系酸化防止剤の群から選ばれる一種以上の化合物を併用することによって、長期間洗浄剤の酸化分解を抑制することが可能となる。
【００４１】
紫外線吸収剤としては、例えば、４−ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−クロロベンゾフェノン、２、２’−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、５−クロロ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４−ドデシル−２−ヒドロキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、フェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、４−オクチルフェニルサリシレート、ビスフェノールＡ−ジ−サリシレート等のフェニルサリシレート類および２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α、α’−ジジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾ−ル類を挙げることができる。
【００４２】
溶解力改良剤としては、例えば、シリコン系インキに対して、直鎖または分岐の脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、オレフィン系炭化水素等の炭化水素を添加しても良い。炭化水素の具体例としては、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、メンタン、シクロドデカン、α−ピネン、ジペンテン、１−デセン、１−ウンデセン、１−ドデセン、１−トリデセン、１−テトラデセン等が挙げられる。
【００４３】
エステルの加水分解防止剤としては、例えば、エポキシ化合物および／またはカルボジイミド化合物を添加しても良い。エポキシ化合物としては、１分子内にエポキシ基を１つ以上有する化合物であり、具体的には、例えば、１，２−ブチレンオキサイド、１，２−エポキシオクタン、１，２−エポキシテトラデカン、シクロヘキセンオキサイド、１，２−エポキシシクロドデカン、ブタジエンジオキサイド、メチルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、ステアリルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル及びエポキシ基を含む樹脂等が挙げられる。カルボジイミド化合物としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジフェニルカルボジイミド、ジブチルフェニルカルボジイミド、ジトリルカルボジイミド、ジナフチルカルボジイミド等が挙げられる。
【００４４】
界面活性剤としては、例えば、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤及び両性界面活性剤を添加しても良い。アニオン系界面活性剤としては、炭素数が６〜２０の脂肪酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等のアルカリ金属、アルカノールアミンおよびアミン塩等が挙げられる。カチオン系界面活性剤としては、第４級アンモニウム塩等が挙げられる。ノニオン系界面活性剤としては、アルキルフェノール、炭素数が８〜１８の直鎖または分岐の脂肪族アルコールのエチレンオキサイド付加物、ポリエチレンオキサイドポリプロピレンオキサイドのブロックポリマー等が挙げられる。両性界面活性剤としては，ベタイン型、アミノ酸型等が挙げられる。
消泡剤としては、例えば、自己乳化シリコーン、シリコン、脂肪酸、高級アルコール、ポリプロピレングリコールポリエチレングリコールおよびフッ素系界面活性剤等が挙げられる。
【００４５】
スクリーン版洗浄剤は、以下に示す製造方法を利用することによって、最も効果的な製造を行うことができる。本製造法は、本願発明のスクリーン版洗浄剤の製造にも有用である。
本発明の製造方法としては、（ｅ）蛍光体ペーストに含まれる溶剤成分と（ｆ）２０℃における蒸気圧が１．３３×１０3Ｐａ未満の成分とを含有する組成物を原料とする方法であれば、いかなる方法でも製造することができる。例えば、成分（ｅ）と成分（ｆ）とを必須成分として、必要に応じて（ｄ）水を添加して調合タンクで混合撹拌する製造方法を挙げることができる。さらに、（ｆ）２０℃における蒸気圧が１．３３×１０3Ｐａ未満の成分を含有するスクリーン版洗浄剤で（ｅ）蛍光体ペーストを洗浄したあとのスクリーン版洗浄剤廃液を原料として蒸留または限外濾過を行い、スクリーン版洗浄剤廃液に含まれる成分のうち、スクリーン版洗浄剤の溶剤成分と蛍光体ペーストに含まれる溶剤成分とを回収し、蛍光体ペースト成分である無機蛍光体粉体及びバインダー成分を分離することにより，スクリーン版洗浄剤を製造する方法を挙げることができる。特に蒸留や限外濾過により蛍光体ペーストを洗浄したスクリーン版洗浄剤廃液を再生し再利用する方法は、蛍光体ペーストに含まれるスクリーン版洗浄に有効なペースト成分をスクリーン版洗浄剤廃液から回収することにより、環境負荷を低減しつつ、低コストで廃液処理を行うと共にペースト浸透性に優れるスクリーン版洗浄剤の製造が可能となる。さらに分離された無機蛍光体粉体及びバインダー成分の混合物は４５０℃で焼成することにより、容易に高価な無機蛍光体粉体だけを選択的に回収することが可能となり、現在ＰＤＰ製造における最大の課題である製造コストの低減に結びつくので好ましい。
【００４６】
蛍光体ペーストには、他のレジストインキやプロセスインキに含まれないペースト浸透性向上に最も効果のあるテルペンアルコール類が溶剤として含まれており、スクリーン版洗浄剤の製造原料としては蛍光体ペーストを洗浄したスクリーン版洗浄剤廃液を使用することが好ましい。
【００４７】
蒸留において使用する蒸留塔は多段式、充填式等のものが使用できるが、通常は単蒸留で充分である。この時の圧力は常圧でも良いが、例えば、１．３３×１０4Ｐａ以下の減圧度で行うことにより、沸点の比較的高い洗浄剤を低い温度で効率良く製造することが可能であり、また、蒸留における（ａ）グリコールエーテル類等の酸化を抑制することができるのでより好ましい。例えば，水を添加して引火点を消去した洗浄剤を減圧度１．３３×１０4Ｐａで蒸留する場合には塔頂温度が５０℃〜１５０℃の比較的低い温度範囲で蒸留することができる。蒸留の形式は回分式、半回分式または連続式のいずれでもよい。このような蒸留による洗浄剤の製造量は、洗浄剤組成物の汚れの程度にもよるが通常は供給量の８０〜９５質量％程度である。
【００４８】
減圧蒸留装置としては一般に汎用的に使用されている供給バルブ又はタンク、蒸発缶、減圧器及び冷却コンデンサーによって構成される減圧蒸留装置であって、５０℃以上、好ましくは１００〜２００℃程度の加温能力と１．３３×１０4Ｐａ以下、好ましくは１．３３×１０3Ｐａ以下の減圧能力を具備しているものを使用すれば良く、また、バッチ仕様、連続仕様のいずれの仕様とすることもできる。
【００４９】
本発明で使用する限外濾過膜の素材は、ポリアクリロニトリル、酢酸セルロース、ポリスルホン等の従来の限外濾過に使用されているものが使用できる。限外濾過膜を使用する上で大きな濾過膜面積を得るためには中空繊維状の膜を円筒形の容器の中に多数充填し、中空繊維の両端が、開口した状態でエポキシ樹脂やポリウレタン樹脂等のシール剤でシールされたモジュール使用するのが好ましい。限外濾過膜の膜厚は１０〜５００μｍが好ましく、１００〜３００μｍがさらに好ましい。また、限外濾過膜の内径は１００〜３０００μｍが好ましく、５００〜２０００μｍがさらに好ましい。また、限外濾過膜の分画分子量は５０００〜１５０００が好ましく、６０００〜１３０００がさらに好ましい。本発明の限外濾過による製造方法では膜表面の水をエタノール等のアルコールに置換することで処理速度を挙げることができる。
【００５０】
蒸留および限外濾過により製造したスクリーン版洗浄剤は、原料組成および製造工程において組成が変動する場合があり、必要に応じて（ｆ）２０℃における蒸気圧が１．３３×１０3Ｐａ未満の成分や（ｄ）水の添加により組成調整を行い目的組成に調整することができる。
本発明の製造方法では、（ｄ）水及び本発明のスクリーン版洗浄に必要に応じて添加しても良い成分として例示した、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、各種ペーストの溶解力改良剤、エステルの加水分解防止剤、界面活性剤および消泡剤等を添加することができる。
【００５１】
本発明の製造方法においては、（ｆ）２０℃における蒸気圧が１．３３×１０3Ｐａ未満の成分から選ばれる化合物の一種、または二種以上の組み合わせと（ｅ）蛍光体ペースト成分とを含有する組成物を原料として使用することを特徴とする。これにより、成分（ｆ）だけでは解決できなかった溶解性向上と乳剤に対するダメージ抑制の両立を達成し、効率的に組成物を得ることができる。（ｆ）２０℃における蒸気圧が１．３３×１０3Ｐａ未満の成分としては例えば、（ａ）グリコールエーテル類、（ｃ）グリコールエーテルアセテート類、ヒドロキシカルボン酸エステル類及び二塩基酸エステル類からなる群から選ばれる一種又は二種以上の化合物及び炭化水素類、アルコール類、ケトン類等の内で、各種汚れに対して良好な洗浄性を有し、且つ２０℃における蒸気圧が１．３３×１０3Ｐａ未満の化合物である。好ましくは、２０℃において６．６６×１０2Ｐａ以下であり、さらに好ましくは１．３３×１０2Ｐａ以下である。以下、成分（ｆ）を溶剤の種類ごとに例示する。
【００５２】
（ａ）グリコールエーテル類ではジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｉ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｓｅｃ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｉ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｓｅｃ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、３−メトキシブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノール等が挙げられる。この中で特に人体における代謝系でアルコキシ酢酸を生成しないジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、３−メトキシブタノールおよび３−メチル−３−メトキシブタノールが毒性が低く好ましい。
【００５３】
（ｃ）グリコールエーテルアセテート類、ヒドロキシカルボン酸エステル類及び二塩基酸エステル類からなる群から選ばれる一種又は二種以上の化合物では酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソアミル、酢酸−２−エチルヘキシル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、γ−ブチロラクトン、コハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、アジピン酸ジメチル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等が挙げられる。
【００５４】
炭化水素類ではデカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、メンタン、ビシクロヘキシル、シクロドデカン、２，２，４，４，６，８，８−ヘプタメチルノナン等があげられる。
アルコール類ではｎ−ブタノール、イソブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソアミルアルコール、ｎ−ヘプタノール、ｎ−オクタノール、ｎ−ノナノール、ｎ−デカノール、ｎ−ウンデカノール、ベンジルアルコール、フルフリルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール等が挙げあれる。
ケトン類ではメチル−ｎ−アミルケトン、ジイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、ホロン、イソホロン、シクロヘキサノン、アセトフェノン等を挙げられる。
これら成分（ｆ）のうち、スクリーン版洗浄には（ａ）グリコールエーテル類、（ｃ）グリコールエーテルアセテート類、ヒドロキシカルボン酸エステル類及び二塩基酸エステル類からなる群から選ばれる一種又は二種以上の化合物、ケトン類が好ましく、なかでも（ａ）グリコールエーテル類が特に好ましい。
【００５５】
原料となる（ｅ）蛍光体ペースト成分としては、無機蛍光体粉末、バインダー成分及び溶剤成分を挙げることができる。
無機蛍光体粉末には、ＰＤＰ用蛍光体物質として公知の青色蛍光物質、赤色蛍光物質及び緑色蛍光物質を挙げることができる。例えば、赤色ではＹ2Ｏ3：Ｅｕ、Ｙ2ＳｉＯ5：Ｅｕ、Ｙ3Ａｌ5Ｏ12：Ｅｕ、Ｚｎ3（ＰＯ4）2：Ｍｎ、ＹＢＯ3：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ、ＳｃＢＯ3：Ｅｕ、ＬｕＢＯ3：Ｅｕ等があり、青色ではＹ2ＳｉＯ5：Ｃｅ、Ｙ2ＳｉＯ3：Ｃｅ、ＣａＷＯ4：Ｐｂ、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ、Ｓｒ5（ＰＯ4）3Ｃｌ：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ16Ｏ27：Ｅｕ、ＢａＭｇ2Ａｌ14Ｏ24：Ｅｕ等があり、緑色ではＺｎＳｉＯ4：Ｍｎ、ＢａＡｌ12Ｏ19：Ｍｎ、ＳｒＡｌ13Ｏ19：Ｍｎ、ＣａＡｌ12Ｏ19：Ｍｎ、ＹＢＯ3：Ｔｂ、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｍｎ、ＬｕＢＯ3：Ｔｂ、ＧｄＢＯ3：Ｔｂ、ＳｃＢＯ3：Ｔｂ、Ｓｒ6Ｓｉ3Ｏ3Ｃl4：Ｅｕ等を挙げることができる。各蛍光体粉体の粒径は０．０１〜１００μｍの範囲内にあり、特に０．１〜１０μｍの範囲内にある粒径のものが一般的に使用されている。
【００５６】
バインダー成分としては、例えば、セルロース誘導体（メチルセルロース、エチルセルロース、プロピルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等）、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂（アクリル酸エステル系重合体、メタクリル酸エステル系重合体、アクリル酸エステル系共重合体及びメタクリル酸エステル系共重合体等）、メラミン系樹脂等を挙げることができる。特に蛍光体物質の分散性及び熱分解性に優れるエチルセルロースやメタクリル酸エステル系共重合体が一般的に使用される。
【００５７】
溶剤成分としては、例えば、スクリーン版洗浄剤成分として例示した（ａ）グリコールエーテル類、（ｂ）テルペンアルコール類及び成分（ｃ）の中でグリコールエーテルアセテート類を挙げることができ、いずれも洗浄剤成分として有効である。特に（ｂ）テルペンアルコール類としてはペーストへの洗浄剤浸透性を向上させる効果が最も高いテルピネオールが含有されている。
また、本願の（ｅ）蛍光体ペースト成分は本願の（ｆ）２０℃における蒸気圧が１．３３×１０3Ｐａ未満の成分に相当する成分を含むことができる。この場合、（ｅ）蛍光体ペースト成分中の（ｆ）２０℃における蒸気圧が１．３３×１０3Ｐａ未満の成分以外の成分を本願において不揮発成分と呼ぶ。
【００５８】
本願の（ｅ）蛍光体ペーストと（ｆ）２０℃における蒸気圧が１．３３×１０3Ｐａ未満の成分とを含有する組成物中の（ｆ）２０℃における蒸気圧が１．３３×１０3Ｐａ未満の成分の割合（（ｅ）蛍光体ペースト成分は本願の（ｆ）２０℃における蒸気圧が１．３３×１０3Ｐａ未満の成分に相当する成分を含む場合はその量も含む）は特に限定されないが、好ましくは９０．０〜９９．９９質量％、より好ましくは９５．０〜９９．９である。同様に（ｅ）蛍光体ペースト（（ｆ）２０℃における蒸気圧が１．３３×１０3Ｐａ未満の成分を含む場合は不揮発成分）は好ましくは０．０１〜１０．０質量％、より好ましくは０．１〜５．０質量％である。
【００５９】
さらに、本願の（ｅ）蛍光体ペーストと（ｆ）２０℃における蒸気圧が１．３３×１０3Ｐａ未満の成分とを含有する組成物に（ｄ）水を含有する場合の（ｄ）水の割合は特に限定されないが、好ましくは０．１〜５０質量％、より好ましくは１〜２０質量％である。
本発明の洗浄剤は、各成分を定法に従って混合し均一化して得られる。
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。なお、洗浄剤の各種物性は以下のようにして測定、評価した。
【００６０】
【実施例１〜５】
（１）洗浄剤浸透性
蛍光体ペーストの調整
・青色蛍光体ペースト
ＢａＭｇ2Ａｌ１４Ｏ23：Ｅｕで表される青色蛍光物質
（平均粒径７．０μｍ）；６５質量部
エチルセルロース（平均分子量１８０，０００）；４．５質量部
テルピネオール；１５質量部
ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート；１５質量部
をボールミル中で３０分間良くかき混ぜ、混合し、ＰＤＰ用青色蛍光体ペースト組成物を調整した。
【００６１】
・赤色蛍光体ペースト
Ｙ2Ｏ2：Ｅｕで表される赤色蛍光物質（平均粒径５．２μｍ）；６５質量部
エチルセルロース（平均分子量１８０，０００）；４．５質量部
テルピネオール；１５質量部
ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート；１５質量部
をボールミル中で３０分間良くかき混ぜ、混合し、ＰＤＰ用赤色蛍光体ペースト組成物を調整した。
【００６２】
・緑色蛍光体ペースト
Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎで表される緑色蛍光物質（平均粒径５．２μｍ）；６２．５質量部
エチルセルロース（平均分子量８５，０００）；２．５質量部
テルピネオール；１５質量部
ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート；１５質量部
をボールミル中で３０分間良くかき混ぜ、混合し、ＰＤＰ用緑色蛍光体ペースト組成物を調整した。
【００６３】
操作
調整した各種蛍光体ペーストをガラス製シャーレに約０．３５ｇ塗布し、５分間室温で放置後、ペーストの最大直径をノギスで測定する。次にシャーレに洗浄剤１０ｃｃを入れた状態で静置し、４時間経過後にペーストの最大直径をノギスで測定し，浸漬前後の変化率を計算する。変化率の計算及びペーストへの洗浄剤浸透性評価は以下の基準による。
変化率［％］＝（浸漬後直径−浸漬前直径）／浸漬前直径×１００
◎：１００％以上
○：９０％以上〜１００％未満
△：８０％以上〜９０％未満
×：８０％未満
【００６４】
（２）乳剤に対する影響
各種乳剤（ジアゾ系乳剤（（株）ムラカミ製、商品名：ＤＸ−Ｗ）、ジアゾラジカル系乳剤（メッシュ工業（株）製、商品名：メッシュコートＮｏ．７）、ＳＢＱ系乳剤（（株）ムラカミ製、商品名：５０Ｐ））で各々パターンの形成されているポリエステル製スクリーンを小型超音波洗浄機（３６ｋＨｚ、８０ｗ）を使い、３０℃、５分間の条件で洗浄した。評価は以下の基準による。
○：変化なし
△：表面が若干白化
×：表面が白化又は膨潤
【００６５】
表１に記載の組成で各成分を混合し、目的の洗浄剤を得た。各洗浄剤について、ペーストへの洗浄剤浸透性試験、乳剤に対する影響の試験を行ない、結果を表１にまとめた。グリコールエーテルにα−テルピネオールを加えたことで、優れたペーストへの洗浄剤浸透性と乳剤に対する影響の少ない組成となり、さらに二塩基酸エステル等を添加することによってペーストへの洗浄剤浸透性が格段に改善された。
【００６６】
【比較例１】
表１に記載の組成で各成分を混合し洗浄剤を得た。この洗浄剤について実施例１〜５と同じ評価試験を行った。結果を表１にまとめた。
プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル単独では充分なペーストへの洗浄剤浸透性が得られなかった。
【００６７】
【比較例２】
表１に記載の組成で各成分を混合し洗浄剤を得た。この洗浄剤について実施例１〜５と同じ評価試験を行った。結果を表１にまとめた。
３−メチル−３−メトキシブタノールと少量の二塩基酸エステルでは充分なペーストへの洗浄剤浸透性が得られなかった。
【００６８】
【比較例３】
表１に記載の組成で各成分を混合し洗浄剤を得た。この洗浄剤について実施例１〜５と同じ評価試験を行った。結果を表１にまとめた。
ジプロピレングリコールジメチルエーテルと二塩基酸エステルではペーストへの浸透性は得られるものの、乳剤ダメージの大きいことが確認された。
【００６９】
【実施例６〜１０】
（３）水添加試験
各洗浄剤組成に一定量の水を添加し引火点危険性の評価を行うと共に、前記（１）洗浄剤浸透性及び（２）乳剤への影響試験を行った。
・引火点測定
消防法に定める危険物判定フローに従い、まず、タグ密閉式引火点測定装置で８０℃まで測定した。引火点が測定されなかった場合には、再度クリーブランド開放式引火点測定装置で沸騰状態になるまで測定を行った。各測定方法はＪＩＳＫ  ２２６５に従い測定を行った。評価は以下の基準による。
○：引火点なし＊
×：引火点あり
＊タグ密閉式及びクリーブランド開放式で測定し、いずれの測定方法においても、引火点が確認されない場合に「引火点なし」と評価した。
【００７０】
表２に記載の組成で各成分を混合し、目的の洗浄剤を得た。各洗浄剤について、ペーストへの洗浄剤浸透性試験、乳剤に対する影響の試験を行ない、結果を表２にまとめた。グリコールエーテルとα−テルピネオールと水により、引火点を消去した上で、優れたペーストへの洗浄剤浸透性と乳剤に対する影響の少ない組成となり、さらに二塩基酸エステル等を添加することによってペーストへの洗浄剤浸透性が格段に改善された。
【００７１】
【比較例４】
表２に記載の組成で各成分を混合し洗浄剤を得た。この洗浄剤について実施例６〜１０と同じ評価試験を行った。結果を表２にまとめた。
３−メチル−３−メトキシブタノールと水では引火点消去が可能となるが、ペーストへの洗浄剤浸透性が不十分であった。
【００７２】
【比較例５】
表２に記載の組成で各成分を混合し洗浄剤を得た。この洗浄剤について実施例６〜１０と同じ評価試験を行った。結果を表２にまとめた。
ジプロピレングリコールモノメチルエーテルと二塩基酸エステルと水では、ペーストへの洗浄剤浸透性が不十分であった。
【００７３】
【比較例６】
表２に記載の組成で各成分を混合し洗浄剤を得た。この洗浄剤について実施例６〜１０と同じ評価試験を行った。結果を表２にまとめた。
二塩基酸エステルと飽和水分濃度の水では引火点を消去できず、ペーストへの洗浄剤浸透性が低下すると共に乳剤ダメージも大きかった。
【００７４】
【実施例１１〜１４】
（４）製造試験
・スクリーン版洗浄剤廃液の作製
評価試験（１）の洗浄剤浸透性試験で調整した各種蛍光体ペーストおよび各種インキ（熱硬化型マーキングインキ（太陽インキ（株）社製、商品名：Ｓ２００Ｙ）、熱硬化型レジストインキ（アサヒ化研（株）社製、商品名：ＣＣＲ２３２ＧＶ）、ＵＶ硬化型ソルダーレジスト（タムラ化研（株）社製、商品名：ＵＳＲ２Ｇ））をパターンを形成した４１×５６ｃｍのスクリーン版とウレタン製のスキージで模造紙に印刷した後、表３に記載の洗浄剤とスクリーン版用超音波洗浄機（シャープマニファクチャリングシステム（株）製）でスクリーン版を洗浄する。同一の洗浄剤５０Ｌで印刷に使用したスクリーン版を２００枚洗浄し、各ペースト及びインキごとに５０Ｌのスクリーン版洗浄剤廃液を得た。
【００７５】
洗浄条件
洗浄機  ：ＵＣ４００（周波数３５ｋＨｚ、出力６００ｗ）
容量    ：５０Ｌ
液温    ：３０℃
洗浄時間：５分間
【００７６】
操作
１）蒸留によるスクリーン版洗浄剤の製造
各スクリーン版洗浄剤廃液５００ｍＬをナス型フラスコに仕込み、ロータリーエバポレーターにセット後、１．３３×１０4Ｐａまで減圧した状態で加熱し、仕込み量の９０％まで留出して、スクリーン版洗浄剤を製造する。製造したスクリーン版洗浄剤中のテルペンアルコール類の濃度を測定すると共に、前記（１）洗浄剤浸透性及び（２）乳剤への影響試験を行った。
２）限外濾過によるスクリーン版洗浄剤の製造
各スクリーン版洗浄剤廃液５００ｍＬを下記に示す濾過条件で限外濾過し、スクリーン版洗浄剤を製造する。製造したスクリーン版洗浄剤中のテルペンアルコール類の濃度を測定すると共に、前記（１）洗浄剤浸透性及び（２）乳剤への影響試験を行った。
【００７７】
＜濾過条件＞
モジュール：ＡＣＰ−１０１０（旭化成（株）製）
前処理    ：膜表面の水をエタノールで置換
分画分子量：１３０００
膜内径    ：０．８ｍｍ
膜厚      ：０．２５ｍｍ
入口圧力  ：１．２ｋｇ／ｃｍ2
出口圧力  ：０．８ｋｇ／ｃｍ2
平均圧力  ：１．０ｋｇ／ｃｍ2
・組成分析
蒸留及び限外濾過操作により製造されたスクリーン版洗浄剤中のテルペンアルコール類の存在をガスクロ分析により測定する。評価基準及び分析条件を以下に示す。
○：０．０１％以上検出      ×：検出されず
【００７８】
分析条件
カラム    ：Ｊ＆Ｗ社製  ＤＢ−１  ３０ｍ  内径０．３２ｍｍ、膜厚１μｍ
カラム温度：８０℃（ＨＯＬＤ４ｍｉｎ）
昇温速度  ：３０℃／ｍｉｎ
最終温度  ：３００℃
表３に記載の組成で各成分を混合して得られた洗浄剤で、各蛍光体ペーストを印刷したスクリーン版を２００枚洗浄し目的のスクリーン版洗浄剤廃液を得た。各洗浄剤廃液について、洗浄剤廃液を原料として蒸留によりスクリーン版洗浄剤を製造し、ペーストへの洗浄剤浸透性試験、乳剤に対する影響の試験を行ない、結果を表３にまとめた。製造した洗浄剤中にはα−テルピネオールが確認され、ペーストへの優れた洗浄剤浸透性と乳剤に対する影響の少ないことが確認された。
【００７９】
【実施例１５〜１８】
実施例１１〜１４と同様に、表３に記載の組成で各成分を混合して得られた洗浄剤で、各蛍光体ペーストを印刷したスクリーン版を２００枚洗浄し目的のスクリーン版洗浄剤廃液を得た。各洗浄剤廃液について、洗浄剤廃液を原料として限外濾過によりスクリーン版洗浄剤を製造し、ペーストへの洗浄剤浸透性試験、乳剤に対する影響の試験を行ない、結果を表３にまとめた。製造した洗浄剤中にはα−テルピネオールが確認され、ペーストへの優れた洗浄剤浸透性と乳剤に対する影響の少ないことが確認された。
【００８０】
【比較例７〜９】
実施例１１〜１４と同様に、表３に記載の組成で各成分を混合して得られた洗浄剤で、各種インキを印刷したスクリーン版を２００枚洗浄し目的のスクリーン版洗浄剤廃液を得た。各洗浄剤廃液について、各洗浄剤廃液を原料として蒸留によりスクリーン版洗浄剤を製造し、実施例と同じ評価試験を行った。結果を表３にまとめた。製造した洗浄剤中にはテルペンアルコール類が確認されず、ペーストへの洗浄剤浸透性が不十分であった。
【００８１】
【比較例１０〜１２】
実施例１１〜１４と同様に、表３に記載の組成で各成分を混合して得られた洗浄剤で、各種インキを印刷したスクリーン版を２００枚洗浄し目的のスクリーン版洗浄剤廃液を得た。各洗浄剤廃液について、各洗浄剤廃液を原料として限外濾過によりスクリーン版洗浄剤を製造し、実施例と同じ評価試験を行った。結果を表３にまとめた。製造した洗浄剤中にはテルペンアルコール類が確認されず、ペーストへの洗浄剤浸透性が不十分であった。
【００８２】
【表１】
0004079678.tif 000008
【００８３】
【表２】
0004079678.tif 000009
【００８４】
【表３】
0004079678.tif 000010
【００８５】
【発明の効果】
本発明の洗浄剤は、各種ペーストへの優れた洗浄剤浸透性を有するとともに、乳剤に対するダメージを抑制でき、かつ水を添加することで引火点がなく安全である。
すなわち、各種ペースト汚れに対する溶解性に劣る（ａ）グリコールエーテル類に、（ｂ）テルペンアルコールを添加することで、乳剤ダメージの少ないというグリコールエーテルの特性をそのままに、各種ペースト汚れに対する優れた洗浄性を有する洗浄剤を提供できる。また、水を添加することで洗浄剤の引火危険性が低減できるので、洗浄機等の設備上、引火，爆発等を防ぐための防爆構造とする必要がなく、かつ、既存の洗浄設備をそのまま使用できるため低コストの洗浄システムを確立することが可能となる。
【００８６】
さらに（ｆ）２０℃における蒸気圧が１．３３×１０3Ｐａ未満の成分を含有するスクリーン版洗浄剤で（ｅ）蛍光体ペーストを洗浄したあとのスクリーン版洗浄剤廃液を原料として蒸留または限外濾過を行い、スクリーン版洗浄剤廃液に含まれる成分のうち、スクリーン版洗浄剤の溶剤成分と蛍光体ペーストに含まれる溶剤成分とを回収し、蛍光体ペースト成分である無機蛍光体粉体及びバインダー成分を分離することにより，環境負荷を低減しつつ、低コストで廃液処理を行うと共にペースト浸透性に優れるスクリーン版洗浄剤の製造を同時に行うことができる。