(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
照射野に供給される放射線量を調整するための装置において、
放射線ビームを発生させる放射線源と、
発生させた放射線ビームを限定するビーム限定手段と、
照射野の第１の領域内における位置の関数として放射線量を求め、位置の関数として求められた該放射線量に基づいて、時間の関数である線量率とビーム限定手段の速度を求める処理手段と、
求めた線量率を提供する放射線ビームを発生させるために放射線源を制御する線量制御器と、
求めた速度で動くようにビーム制限手段を制御するモータ制御器とを有することを特徴とする、照射野に供給される放射線量を調整するための装置。
【請求項２】
時間の関数である前記線量率は単調関数である、請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記処理手段はさらに、照射野の第２の領域内における位置の関数として第２の放射線量を求め、位置の関数として求められた第２の放射線量に基づいて、時間の関数である第２の線量率と第２のビーム限定手段速度を求め、
前記線量制御器はさらに、求めた第２の線量率を提供する第２の放射線ビームを発生させるために放射線源を制御し
前記モータ制御器はさらに、求めた第２の速度で動くようにビーム制限手段を制御する、請求項１記載の装置。
【請求項４】
求めた線量率と求めた速度を格納するためのメモリを有する、請求項１記載の装置。
【請求項５】
前記ビーム制限手段はマルチリーフコリメータである、請求項１記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、放射線照射装置、特に、放射線治療装置においてオブジェクトに照射される放射線出力を調整するための方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
放射線照射装置は、例えば患者の治療用の放射線療法装置として広く公知であり使用されている。放射線療法装置は、通常は療法学的治療のコースにおいて水平の回転軸のまわりを回転することができるガントリを有する。線形加速器が療法のための高エネルギ放射線ビームを発生するためにガントリ内に設けられる。この高エネルギ放射線ビームは、電子放射又は光子（Ｘ線）ビームでもよい。治療の間、この放射線ビームはガントリ回転のアイソセンタに横たわる患者の１つの領域（ゾーン）に向けられる。
【０００３】
オブジェクトに向かって照射される放射線を制御するために、プレート装置及び/又はコリメータのようなビーム遮蔽装置が放射線源とオブジェクトとの間の放射線ビームの軌道に通常は設けられる。プレート装置は、例えば、放射線ビームのための絞りを決定するのに使用される４つのジャーのセットである。このビーム遮蔽装置は、処方された量の放射線が照射されるべきオブジェクト上の照射野を決定する。
【０００４】
オブジェクトに照射される放射線は、基本成分及び散乱成分に分析される。基本放射線は、放射線源から放出された初期的な光子又はオリジナルな光子から成り、そして散乱放射線は、プレート装置自体によって散乱された光子の結果である。自由空間におけるビームの放射線出力は、基本ビームに加えられる増加されたプレート/コリメータ散乱のために増加する。言い換えれば、照射野内のポイントは基本成分である直接放射線だけでなく、プレート装置から散乱された放射線にもさらされる。（例えば１０ｃｍ×１０ｃｍの）基準照射野における、散乱のない放射線出力に対する散乱のある空気中の放射線出力の比は、共通的に「出力ファクタ」又は「コリメータ散乱ファクタ」と呼ばれている。この出力ファクタの概念及び定義は当業技術者にとってはよく理解されている。
【０００５】
こうして、これら散乱された光子のためにオブジェクトの表面に加えられる線量率は、プレート装置の絞りのサイズ、すなわち照射野サイズに依存する。このことは、同じスポット、例えばオブジェクト上の放射線ビームの中心に照射される放射線が、プレート装置の絞りのサイズによって変化するということを意味する。プレート装置が単に小さな絞りを示している時、同じスポットに累積する線量は、絞りが大きい時の同じスポットに累積する線量よりも小さい。
【０００６】
しばしば、特別なフィルタ又は吸収用ブロックが、その等線量分布を修正するために放射線ビーム軌道に設けられる。最も共通に使用されるフィルタはウェッジフィルタである。これはウェッジ（くさび）形状の吸収用ブロックであり、結果的に等線量曲線がそれらの通常位置に対して相対的に修正されるようにビームを横切る強度を漸進的に減少させる。このようなウェッジフィルタは通常は鉛又は鋼、又は他の吸収性材料のような密な材料から作られている。
【０００７】
ウェッジフィルタの存在は放射線照射装置の出力を減少させる。そして、この減少は治療計算で考慮されなければならない。この影響は「ウェッジファクタ」として特徴づけられている。このウェッジファクタは、放射線ビームの中心軸に沿ったオブジェクト内のポイントにおけるウェッジの有無による線量の比として定義される。ウェッジファクタは、ウェッジの材料、サイズそして角度に依存する。ウェッジそして特にウェッジファクタは、ウィリアムズ＆ウィルキンズ社発行のFaiz M.Khan, Ph.Dの“Physics of Radiation Therapy”の２３４〜２３８頁に記述されている。
【０００８】
このような放射線療法装置による放射線照射は、腫瘍学者によって処方され承認された。しかし、放射線装置の実際の操作は普通療法士によって行われる。腫瘍学者によって処方された通りに、療法士が治療放射線の実際の照射を管理している時、この装置は特定の治療放射線を照射するようにプログラムされている。治療のプログラムを行う場合、療法士は、オブジェクトの表面に処方された放射線出力を達成するように、出力ファクタを考慮する必要があり、そしてプレート装置の絞りに基づいて線量照射を調整する必要がある。この調整は、公知の計算によって行うことができるが、療法士は通常は手動的に行う必要があり、これはエラーを引き起こしうる。放射線療法の状況では、計算ミスは、低すぎて効果がない線量か又は高すぎて危険な線量かのいずれかに導く。大きなミス（例えば小数点の置き違い）は致命的になりうる。
【０００９】
米国特許第５１４８０３２号明細書は、放射線治療装置を開示しており、ここにおいてオブジェクトにおける等線量曲線は、照射の間に制御される少なくとも１つの可動プレートを含むプレート装置によって、さらに照射の間に放射線ビームの放射線出力を変化させることによって調整され、この結果、可能な等線量曲線において広範囲の変化が得られる。ウェッジ状等線量分布は、例えば一定速度で１つのプレートを移動させ、しかも同時に放射線ビームの放射線出力を変化させることによって確立される。この放射線治療装置では、放射線ビーム軌道に物理的な吸収用ブロックが存在せず、療法士はこれを考慮する必要がない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、ウェッジ関数の使用には無関係に、実際に照射される放射線出力が所望の放射線出力と正確に同じであることを確実にするためにオブジェクトへの放射線照射を調整する方法及び相応する装置を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題は、放射線源からオブジェクトに照射される放射線出力を調整するための方法において、照射のためのオブジェクトの領域を決定するステップを有し、可変放射出力及び放射線源からオブジェクトまで実質的に損失のないビーム路を有する放射線ビームを発生するステップを有し、領域を多数のセクションに分割するステップを有し、多数のセクションの各々が所定のパラメータを有しており、多数のセクションの各々に対するウェッジ補正を計算するステップを有し、放射線源とオブジェクトとの間の絞りを決定するステップを有し、この絞りはセクションのうちの１つの上方に配置され、この絞りは放射線ビームをセクションの所定のパラメータに限定することができ、ウェッジ補正を使用してセクションの各々を放射線で治療するステップを有することによって解決される。
【００１２】
そして、オブジェクトの照射野に照射される放射線出力を調整するための装置において、放射線ビーム発生のための放射線源を有し、この放射線ビームは可変放射線出力を有し、出力放射線ビームを所定のパラメータに限定するためのビーム遮蔽手段を有し、放射線源からの放射線出力量を変化させるための線量制御器を有し、照射野を多数のセクションに分割し、この多数のセクションの各々に対してウェッジ補正及び単調関数のうちの少なくとも１つを計算するための処理手段を有し、この各セクションは所定のパラメータを有することによって解決される。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明によれば、放射線源からオブジェクトへ照射される放射線出力が調整される。照射野は最初に決定される。この照射野はオブジェクト上に設けられる。放射線ビームが発生される。この放射線ビームは可変放射線出力を有し、放射線源からオブジェクトまで実質的に損失のないビーム路を有する。放射線源と絞りとの間の絞りが決定される。この絞りは多数の有効なパラメータを有し、さらにこの多数の有効なパラメータのうちのどれでも１つに放射線ビームを限定することができる。照射野は、所定のパラメータを有する多数のセクションに分割される。この多数のセクションの各々に対するウェッジ補正が計算される。そしてこのウェッジ補正は各セクションの放射線治療に使用される。
【００１４】
【実施例】
Ｘ線放射線を患者の照射野に照射し、放射線源からのビーム路において少なくとも１つの可動プレート又はジョー（jaw）を使用してこの照射野を限定するためのシステムを基本的に参照しながら、以下に本発明を説明する。本発明は、照射野に照射されるエネルギの量を感知又は推定できるならば、（人間の患者だけでなく）あらゆる種類のオブジェクトへのあらゆる種類のエネルギ、例えば（Ｘ線のかわりに）電子の照射を調整することに使用されうる。
【００１５】
図１は、一般的な設計の放射線治療装置２を図示しており、この放射線治療装置２では、プレート４、ハウジング９内の制御ユニット及び本発明の原理によって構成された治療ユニット１００が使用される。この放射線治療装置２は、ガントリ６を有し、このガントリ６は療法学的治療のコースにおいて回転の水平軸８のまわりを旋回することができる。プレート４は、ガントリ６の張り出し部に固定されている。療法に必要な高出力放射線を発生させるために、ガントリ６に線形加速器が設けられている。線形加速器及びガントリ６から照射される放射線束の軸は１０で表されている。電子、光子、又は他の検出可能な放射線をこの療法に使用することができる。治療の間、放射線ビームは、（例えば、治療をうける、ガントリ回転のアイソセンタに横たわる患者である）オブジェクト１３の領域１２に向けられている。ガントリ６の回転軸８、治療をうけるオブジェクト上の領域の回転軸１４そしてビーム軸１０はすべてアイソセンタにおいて交差すると有利である。
【００１６】
照射される患者の領域、照射野として既知である。プレート４は、照射される放射線を実質的に透過させない。このプレート４は、照射野を限定するために放射線と患者との間に取り付けられる。それゆえ、（例えば健康な組織のある）肉体の領域はできるだけ少ない放射線を受け、さらに有利には全く放射線を受けない。本発明の有利な実施形態では、少なくとも１つのプレートが可動であり、このため照射野にわたる放射線の分布は一様である必要がない（つまり、ある領域が他の領域よりも高い線量を受けてもよい）。さらに、ガントリは、有利には、患者を回転させることなしに異なるビーム角度及び放射線分布が可能となるように回転させることができる。これらの特徴のいずれもが本発明に必要であるわけではない。本発明は、固定照射野装置（非可動プレート）、一定放射線照射率及び固定角度ビーム（非回転型ガントリ）とともに使用することもできる。
【００１７】
放射線治療装置２は、中央治療処理又は制御ユニット１００も含んでいる。この中央治療処理又は制御ユニット１００は、普通はこの放射線治療装置２から離れて設けられる。この放射線治療装置２は、通常は療法士を放射線から保護するために別室に設けられる。治療ユニット１００は、少なくとも１つのビジュアルディスプレイユニット又はモニタ７０のような出力装置とキーボード１９のような入力装置を有している。データは、データ格納装置のようなデータ担体あるいは検査及び記録システム又は自動セットアップシステム１０２によって入力することもできる。この自動セットアップ装置１０２については後で説明する。治療処理ユニット１００は、典型的には、腫瘍学者によって処方された通りに放射線治療の実際の照射を管理する療法士によって操作される。キーボード１９又は他の入力装置を利用することによって、療法士は、この治療ユニット１００の制御ユニット７６に、（例えば腫瘍学者の処方に従って）患者に照射される放射線を決定するデータを入力する。プログラムもデータ格納装置のような他の入力装置を介して、データ伝送によって、又は自動セットアップシステム１０２を使用して入力することができる。モニタ７０のスクリーンには、様々なデータを治療の前及び治療中に表示することができる。
【００１８】
図２は概略的な放射線治療装置２の部分及び治療ユニット１００の部分がより詳細に示されている。電子ビーム１は、電子加速器２０で発生される。加速器２０は、電子銃２１、導波管２２及び真空エンベロープ又はガイド磁石２３を有している。トリガシステム３はインジェクタトリガ信号を生成し、これをインジェクタ５に供給する。これらのインジェクタトリガ信号に基づいて、インジェクタ５はインジェクタパルスを生成し、このインジェクタパルスを電子ビーム１を発生させるための加速器２０の電子銃２１に供給する。電子ビーム１は加速され、導波管２２によってガイドされる。このために、高周波（ＨＦ）源が設けられており、この高周波（ＨＦ）源は導波管２２に供給される電磁界発生のためのラジオ周波数（ＲＦ）信号を供給する。インジェクタ５によって注入され電子銃２１によって放出された電子は、この電磁界によって導波管内で加速され、電子銃２１の反対側端部から電子ビームとして射出される。電子ビーム１は、それからガイド磁石２３に入り、そこからウインドウ７によって軸１０に沿ってガイドされる。第１の散乱フォイル１５を通過した後で、このビームはシールドブロック５０の通路５１を通って第２の散乱フォイル１７に達する。次に、このビームは測定チャンバ６０を通過し、この測定チャンバ６０で線量が確認される。放射線ビームがＸ線ビームである場合、散乱フォイルはターゲット及びフラットニングフィルタに置き換えられる。最後に、アパーチャプレート装置４が放射線ビーム路に設けられており、このアパーチャプレート装置４によって検査主体の照射野が決定される。アパーチャプレート装置４は、一対のプレート４１及び４２を含んでいる。上述したように、これは本発明で使用できるビーム遮蔽装置のほんの１例にすぎない。本発明は、照射野を決定するアパーチャプレート装置がある限り他の装置によって作動することもできる。
【００１９】
プレート装置４は、一対のアパーチャプレート４１及び４２そしてこのプレート４１及び４２に対して垂直に配置される（ここでは図示されていない）付加的な一対のアパーチャプレートを有する。照射野のサイズを変えるために、各アパーチャプレートは、図２ではプレート４１に関してのみ示されている駆動ユニット４３によって軸１０を基準に移動される。駆動ユニット４３は電気モータを有しており、この電気モータはプレート４１及び４２に結合され、モータ制御器４０によって制御される。位置センサ４４及び４５もプレート４１及び４２の位置を感知するためにこのプレート４１及び４２に個々に結合される。これはこのようなシステムのほんの１例である。本発明は、照射野を決定するビーム遮蔽装置がある限り、そしてセンサが照射野のサイズを示すために設けられている限り、他のシステムによって作動することができる。例えば、これらのプレートは、多くの（例えば６０個の）放射線遮断リーフ（radiation blocking leaf）を含んだコリメータによって置き換えることができる。
【００２０】
モータ制御器４０は、線量制御ユニット６１に結合され、この線量制御ユニット６１は、線量計測制御器を含み、さらに所定の等線量曲線を達成するための放射線ビームに対する設定値を提供するために中央処理ユニット１８に結合されている。放射線ビームの出力は測定チャンバ６０によって測定される。設定値と実際値との間の偏差に応答して、線量制御ユニット６１はトリガシステム３に信号を供給し、この信号がパルス繰り返し周波数を変化させ、放射線ビーム出力の設定値と実際値との間の偏差を最小化する。このような放射線治療装置では、オブジェクト１３によって吸収される線量は、この放射線ビームを整形するために使用されるフィルタのタイプに依存する。吸収性材料から形成されたウェッジフィルタが放射線ビーム軌道に挿入された場合には、予め設定された線量は、オブジェクト１３に所望の線量を供給するためにウェッジフィルタに従って増加される必要がある。
【００２１】
図３は、放射線源１７からオブジェクト１３に照射された放射線ビーム路の従来のウェッジフィルタ４６に対する等線量曲線を示す。この放射線ビームは、一方でウェッジフィルタによって、他方でアパーチャプレート４１及び４２によって整形される。このウェッジフィルタ４６の吸収性材料のために、オブジェクト１３のビーム中心１０における等線量曲線はＤｍａｘの最大値を有し、このＤｍａｘはウェッジフィルタ４６がない場合のオブジェクト１３の表面上のビームの中心１０のスポットにおける最大値である。図示された例では、Ｄｍａｘはほぼ７２％である。従って、ウェッジフィルタ４６の有無による線量の比として定義されるウェッジファクタは、この場合０.７２である。
【００２２】
本発明の第１の実施形態では、ウェッジ状の吸収体がシミュレートされる。図４は、本発明による放射線治療装置における等線量曲線を示す。放射線ビーム路にウェッジ状の吸収体を有する代わりに、放射線ビームの放射線出力を変化させ、同時に少なくとも１つのプレート４１を移動させ、プレート装置４の他のプレートを固定しておくことによって、フィルタ機能が実現される。このようなフィルタ装置を有する放射線治療装置は、米国特許第５１４８０３２号明細書に開示されている。この米国特許はどのプレートも移動できると記述しているが、以下のように、本発明は、ただ１つのプレートのみを移動し他のプレートを固定しておくことに関して説明する。これは単に簡単さを目的とするためである。本発明は、多数の移動プレートに対しても同様に使用される。
【００２３】
図４で、プレート４１がプレート４２に対して矢印Ａの方向に移動し、同時に放射線出力を、プレート４１の速度を調整することによって及び/又は相応に所望のウェッジ角度に応じて変化させる場合、オブジェクト１３の表面のビーム中心を通る等線量曲線の値はＤｍａｘ＝１００％である。従って、ウェッジ状の吸収体の代わりにウェッジ関数を使用することによって、「１」又は１００％の効率ファクタ（efficiency factor）を確立することができる。言い換えると、同じ相対的な等線量プロフィールを維持するが、この地点に照射される線量は、処方された線量の１００％である。これは、治療を規定する場合に、療法士がウェッジファクタを考慮に入れる必要がなく、しかもウェッジ状の等線量曲線が確立されることを意味している。
【００２４】
図２は、本発明を実施するために必要な治療ユニット１００のそれらの部分を示している。治療ユニット１００は、腫瘍学者の指導に従って療法士によってプログラムされる中央処理ユニット１８を有し、これによりこの放射線治療装置は処方された放射線治療を実施する。キーボード１９によって、放射線治療の処方された照射を入力する。
【００２５】
中央処理ユニット１８は一方で器ボード１９のような入力装置に、放射線治療の処方された照射を入力するために接続され、他方で制御トリガシステム３のために放射線の所望の値を発生させる線量制御ユニット６１に接続される。そして、トリガシステム３は、相応する従来のやり方で、パルス繰り返し周波数又は他のパラメータを適応させる。放射線出力を変化させる能力は一般に公知であり、デジタル線量計測システムを使用するととりわけ有利である。というのも、デジタル線量計測システムは中央処理ユニット１８のデジタル出力によって容易に制御できるからである。
【００２６】
中央処理ユニット１８は、制御ユニット７６を含む。この制御ユニット７６は、プログラムの実行を制御し、プレート装置４の開口を制御するための位置信号Ｐと放射線源１７の出力側で放射線出力を調整するための（従来技術の方法を使用して、すなわち出力ファクタ補償を顧慮することなしに、要求されたプレート位置に対応する）規定線量信号Ｄを供給する。メモリ７７も補正信号Ｃを供給するために中央処理ユニット１８内に配置されるか又は中央処理ユニット１８に接続される。この補正信号Ｃを処理ユニットは位置センサ４４及び４５から供給される位置信号Ｐに依存して放射線出力を調整するために使用し、所定の一定出力ファクタを達成する。
【００２７】
メモリユニットの有利な配置は、各プレート位置（照射野サイズ）に対して、これが相応するウェッジ補正信号Ｃを格納していることである。従って、メモリはウェッジ補正ファクタのテーブルを格納する。もし１組より多い組の可動プレートがこのシステムに含まれているならば、このテーブルは相応に多次元となり公知のいかなるデータ構造を用いて配置される。この結果、ウェッジ補正ファクタは、プレート位置のどのような組み合わせに対しても利用可能となる。
【００２８】
制御ユニット７６及びメモリ７７は、規定線量信号Ｄ及びウェッジ補正信号Ｃを個々に組み合わせ回路７８に供給する。この組み合わせ回路は、設定信号Ｓを発生するための値を組み合わせる。この設定信号Ｓは、今度は放射線出力を設定する線量制御ユニット６１に供給される。
【００２９】
組み合わせ回路７８は、ウェッジ補正信号が発生され格納される形式に依存する。ウェッジ補正信号Ｃが、設定された放射線出力への加算オフセットとして格納されると仮定する。この場合、この組み合わせ回路は、ウェッジ補正信号Ｃを規定線量信号Ｄに加算する加算器となる。これは、極めて簡単なので有利な実施形態である。しかし、もしウェッジ補正ファクタが乗数であれば、例えば放射線出力を７２％の感知された値から増加させるには、ほぼ１３９％の乗算補正信号が必要となる。ウェッジ補正信号Ｃの実際値を格納する代わりに、様々な照射野サイズに対するウェッジ補正関数のパラメータを格納することもできる。そして処理ユニットは、メモリに格納されているパラメータを使用して現在の各照射野に対するウェッジ補正関数を評価し、（加算又は乗算方式で）ウェッジ補正信号自体を発生する。
【００３０】
患者の実際の治療の前に、１回又は複数回の較正実行時にウェッジ補正信号を決定する。相対的なウェッジ補正値を決定するために、既知の基準プレート位置を用いて基準表面が照射され、この表面に亘る放射線出力が従来のセンシング装置によって感知され、このセンシング装置は放射線出力信号を発生する。次にこれらの出力信号は処理ユニット１８に供給される。とりわけ基準点（例えばビームの中心）における放射線出力が感知される。基準表面は患者平面に存在する必要はないが、もしそうであれば、較正はより容易により正確になる。
【００３１】
次に、プレートが新しい絞り位置に移動され、放射線出力がセンシングされ、この位置に対して適正な等線量プロフィールを発生させるために必要な調整量が決定される。このプロセスは、プレートの移動の全範囲に亘る基準表面に対して補正値が格納されるまで続けられる。もし１組より多い組の可動プレートが含まれているならば、補正値はプレート位置の各組み合わせに対してセンシングされ格納される。組み合わせの数は所望の又は必要な分解能に依存する。
【００３２】
補正値は、照射される線量分布が所望の線量分布に等しくなるためには、すなわち、放射線出力が一定に保持され物理的ウェッジがビーム路内に含まれている場合に存在するべき等線量プロフィールに相応して等線量プロフィールが発生されるためには、どれだけ放射線出力（例えば線量率）を（ウェッジ補正信号を介して）変化させるべきか、を示している。実際の治療中に、各プレート位置に対して、処理ユニットは、正確な等線量プロフィールを発生させるために必要な量に相応するように放射線出力を調整する。しかし、実際の物理的ウェッジが含まれておらず、システムが基準点において１００％出力に対して較正されているので、療法士はウェッジファクタに対して調整するための計算を行う必要はない。加算オフセットがウェッジ補正ファクタに対して選択された場合には、感知された出力値と所望の出力値との差を格納する。乗算補正ファクタが選択された場合には、比が選択される。必要な加算又は乗算ウェッジ補正ファクタの近似関数のパラメータを発生させるために、選択的に、あらゆる公知の関数近似方法を使用できる。
【００３３】
放射線治療の「コース」は、１つより多い照射野を有するかもしれないし、また１つより多い照射野を有することがしばしば起こるし、幾つかの異なるセッションを実行するかもしれない。例えば、複雑な幾何学的形状又は処方される線量プロフィールを有する照射野の適正な照射を提供するために、患者への不快感を低減するために、又は治療中の腫瘍の縮小に応じて照射野を調整するために、幾つかの場合には、異なるウェッジを有する数百の異なる（そして幾つかの場合には、固定された）シーケンシャルな照射野が治療中に使用される。それゆえ本発明も任意の検査及び記録又は「自動セットアップ」システム１０２（図２参照）を有する。この検査及び記録又は「自動セットアップ」システム１０２は、例えば幾何学的形状、治療のコースの様々な照射野のパラメータ及び/又は様々な照射野に対する早期の較正実行中に得られたウェッジ補正ファクタのテーブルをこの放射線システムに（ＣＰＵ１８を介して又は直接メモリに）格納及びダウンロードする。
【００３４】
本発明の第２の実施形態では、（補償フィルタとしても公知の）補償器をシミュレートする。カスタム補償器（custom compensator）は、照射野が複雑な幾何学的形状を有する場合、この治療すべき領域の形状への放射線照射を支援する。前述のように、放射線は異なる線量で照射野に分配される（例えば図３参照）。図５は、カスタム補償器から結果的に得られる放射線分布線量を示している。ガントリ２００はカスタム補償器２１０を介してオブジェクト２２０に放射線ビーム２０２を供給する。脊髄２２２がオブジェクト２２０の中にある。脊髄の性質により、治療すべき領域から脊髄２２２を除去することが望ましい。前述のように、平坦でない又は傾斜のある表面に入射される放射線ビームは、等線量/放射線曲線の歪みを発生させる。この例では、脊髄２２２が放射線で治療されないように補償器２１０は放射線を吸収する。放射線量曲線２３０〜２３４は、脊髄２２２が放射線にさらされずにこの領域がどのように治療されるかを示す。従って、補償器を使用すると、線量分布は、放射線にさらされてはならない領域を回避しながら、治療すべき領域に正確に整合するように制御されうる。
【００３５】
カスタム補償器が使用される場合、各患者毎に新しい補償器が作られる。例えば、機械で型を作られた鋳型に金属を注入するか、又は方形のブロック（例えば１ｃｍ×１ｃｍ）を積み重ねてテープで縛って金属製補償器を製作することができる。カスタム補償器を各患者毎に変化させることも行う。普通は金属製補償器は第３の補助スロットの加速器のブロックトレイに取り付けられている。この第３の補助スロットは患者に最も近いスロットであり、普通は患者の皮膚から１５〜２０ｃｍの距離にある。補償器は、ウィリアムズ＆ウィルキンズ社発行のFaiz M.Khan, Ph.Dの“Physics of Radiation Therapy”1994の３００〜３０７頁に非常に詳しく説明されている。この書籍は、あらゆる目的に対して役立つ参考文献である。
【００３６】
図６は、放射線ビームのサイズをジョーによってどのように限定できるかを図示している。金属製補償器に到達する前に、放射線ビームは、ジョー２５０、２５２、２５４、２５６によって決定される領域２４０を通過する。これらのジョー２５０、２５２、２５４、２５６は図１のプレート４と類似しており、実質的に照射された放射線を通過させない。これらのジョー２５０、２５２、２５４、２５６はこのビームを所定の矩形の形状に限定する。そして、このビームは、オブジェクトの放射線治療に使用される前に、金属製補償器を通過する。付加的にマルチリーフコリメータ（multi-leaf collimator）をジョー２５０、２５２、２５４、２５６と共に使用することができる。コリメータが使用される場合、コリメータ内のリーフは、放射線ビームを限定してオブジェクトの照射野のパラメータにほぼ整合するパターンを発生させるように位置決めされる。コリメータを回転させて照射野のパラメータによりよく整合させることもできる。ジョー及び/又はマルチリーフコリメータのいずれが使用されるにせよ、限定されたビームは患者に到達する前に補償器を通過する。
【００３７】
図７は患者平面上の所望の放射線パターンの例を示している。この例では、領域２６０によって示されているように脊髄が回避されており、この領域２６０は放射線２６２によって治療されない。それゆえ、放射線ビームがジョー２５０、２５２、２５４、２５６によって矩形に限定された後で、補償器は、脊髄を放射線治療しないようにこの放射線ビームの放射線を吸収する。本発明の第２の実施形態では、図７に図示された３次元放射線量が補償器なしで得られる。これは、まず治療すべき領域をセクションに分割し次に各セクションに対して（第１の実施形態で説明したように）ウェッジ補正を使用することによって行われる。ウェッジ補正信号が使用される場合には、このウェッジ補正信号は加算オフセットか又は乗数であればよい。
【００３８】
図８は、補償器なしで所望の放射線パターンを得るためのプロセスフローチャートである。広範囲にわたるソフトウェアプログラムが所望の放射線パターンを得るために使用される。ステップ２７０では、Ｎが１にセットされる。ステップ２７２では、照射野がシステムの制御ユニットに入力される。これは図１のキーボード１９のような入力装置によって行われる。このシステムの制御ユニットは、図１の治療ユニット１００の制御ユニット７６でもよい。ステップ２７４では、このソフトウェアプログラムは、入力された照射野を個々のセクションに分割する効率的な方法を計算する。小さめのセクションは照射野の端の近傍に及び放射線を回避すべき領域（例えば脊髄）の近傍に配置される。これらの小さめのセクションは、これらの重要な領域のより正確な放射線被曝のための準備である。
【００３９】
ステップ２７６では、ウェッジ補正（詳しくは第１の実施形態の説明を参照）が個々のセクション毎に得られる。ステップ２７８では、ジョーがセクションＮ（Ｎは第１セクション）の上方に位置決めされる。ステップ２８０では、ウェッジ補正が使用され、ジョー及び放射線量はセクションＮの治療中に制御される。有利な実施形態では、放射線量は、治療されるセクションのアイソセンタにおいて決定される。さらなる制御のために、ガントリ６の放射線源を（図１に図示されているように）回転させてもよい。この放射線源が回転されるのは、ジョーが治療のためにセットアップされている時である。放射線源の回転は放射線治療中には行われない。放射線治療は第１の実施形態において詳細に説明した。ステップ２８２では、ソフトウェアプログラムは全てのセクションが治療されたかどうかをチェックする。全てのセクションが治療されたのではない場合には、プログラムはステップ２８４に移り、計算Ｎ＝Ｎ＋１を行う。次にプログラムはステップ２７８に戻り、セクションＮ（この時Ｎは第２セクション）のためにジョーを位置決めする。ステップ２８０では、このセクションＮが放射線治療される。全てのセクションが治療されるまでこれが続けられ、このプログラムはステップ２８６で終了する。
【００４０】
図９は、４つのセクションを含む照射野の２次元図である。セクション２９０、２９２、２９４、２９６は異なるモニタユニット５０ｍｕ、４５ｍｕ、４０ｍｕ及びを４０ｍｕを個々に有する。モニタユニットの構成は線形加速器の内部較正から決定される。第１の実施形態で説明したように、ジョー（又はプレート）は、一定の速度で移動することができる。そして、放射線量率は必要なモニタユニットを提供し所望のウェッジ効果を得るために変化させることができる。第１の配置では、セクション２９０、２９２、２９４、２９６はすべて４つの別個のセクションとして治療される。これらのセクションの各々は、相応のウェッジ補正信号及び/又は相応のウェッジ補正関数を有する。これらの値を計算するか、もしくはこれらの値を個々のセクションの次元に基づくテーブルから取り出すことができる。第２の配置では、セクション２９０、２９２、２９４、２９６の下部セクション２９８は、第１セクション又は第１層として放射線治療を受け、次にセクション２９０、２９２、２９４、２９６の上部領域が各々第２セクション（全部で５つのセクション）として治療を受ける。この配置では、照射野の中の最大の可能な方形ブロックが最初に治療され、次にその他の残りの領域が、個々のウェッジ関数による個別治療のためにセクションに分割される。それゆえ、層及びセクションは、普通でない形状の領域を治療するのに使用される。この第２の配置は治療セッションを迅速化することができる。
【００４１】
第２の実施形態の別の配置では、金属製補償器に加えて、マルチリーフコリメータも本発明の広範囲にわたるソフトウェアによってシミュレートされる。このマルチリーフコリメータは、治療すべき領域をより小さいセクションに分割することによってシミュレートされる。それゆえ、放射線パターンは、マルチリーフコリメータなしで領域の形状に整合する。
【００４２】
本発明の別の実施形態では、可変放射線量率は、任意の単調関数を生成するために、一定のジョー速度とともに使用される。図１０は、例として図示された、任意の単調関数を使用して効率的に治療される領域の２次元図である。この例では、この領域は、１インチ幅のストリップ３００、３０２、３０４、３０６に分割される。各ストリップ３００、３０２、３０４、３０６は、次に個々に放射線治療を受ける。放射線量率を変化させることによって、普通でない形状のストリップが得られる。それゆえ、ストリップ３００、３０２、３０４、３０６がウェッジの形状でなくても、これらのストリップ３００、３０２、３０４、３０６を効率的に治療することができる。これらの普通でない形状のストリップを治療するために、複雑な計算をソフトウェアプログラムによって行う。この計算は、ジョー（又はコリメータのプレート）の所望の運動及び放射線量率の所望の変化を決定するために使用される。
【００４３】
ソフトウェアプログラムは、まず線量率を位置の関数として計算することからはじめる。すなわち、
【００４４】
【数１】
0004082759.tif 000002
【００４５】
ｍｕ(ｘ)は、領域内の地点に与えられるモニタユニットの数である。領域内のこの地点の位置をｘとする。この位置は、１次元（線）に限定される（すなわちこの線に沿ってコリメータ又はジョーが一定速度ｖjで移動される）。ｍｕ(ｘ)は、通常は関数項（すなわち閉じた解析形式(closed analytic form)）では記述されない。代わりに、ｍｕ(ｘ)は、領域の長さにわたる離散値の集合｛ ｍｕ(ｘi)、ここでｘiはこの領域のi番目の地点の位置｝として通常は記述される（例えば、｛ｍｕ(１)＝５、ｍｕ(２)＝４、ｍｕ(３)＝３、ｍｕ(４)＝２｝）。ｍｕ(ｘ)は、ｖjとｍｕ(ｔ)の時間微分とによって表される。このｍｕ(ｔ)は、コリメータ/ジョーが移動する時間ｔの関数としての線量率である。
【００４６】
ｖjとｍｕ(ｔ)の時間微分とを決定するために次式が使用される。
【００４７】
ｍｕ(ｘ)＝ｍｕidle＋ｍｕj(ｘ)
ｍｕidleは、ジョーが静止しこの領域が完全に被曝した時に全ての地点が受け取るモニタユニットの数である。ｍｕj(ｘ)は、地点ｘがジョーの移動中に受け取るモニタユニットの数である。ｍｕidleに対する線量率は最大有効線量率である。ｍｕj(ｘ)に対する線量率は次式で記述される。
【００４８】
【数２】
0004082759.tif 000003
【００４９】
ここで、この積分の上限及び下限は、ジョーが移動している間に地点ｘが放射線にさらされる全時間を表す。ｘｓは静止したジョーの位置であり、ｘfは移動するジョーの最後の位置である。静止したジョーの端部は、移動するジョーの端部と平行である。ｍｕ(ｔ)の時間微分は、次の多項式として記述されうる。
【００５０】
【数３】
0004082759.tif 000004
【００５１】
そしてｍｕj(ｘ)の理論的な多項式表現をつくるために、次のやり方で積分が行われる。
【００５２】
【数４】
0004082759.tif 000005
【００５３】
これらの式によって、多項式の係数ａn及び速度ｖjの組を見つけることができる。この多項式の係数ａn及び速度ｖjの組は、ｍｕ(ｘi)の全集合を再生するために使用することができる。これは線形回帰法によって行われ、この時ｍｕ(ｘi) のデータ値（例えば、｛ｍｕ(１)＝５、ｍｕ(２)＝４、ｍｕ(３)＝３、ｍｕ(４)＝２｝）は、ｍｕ(ｘ)の理論的な多項式表現に適合される。線形回帰法は係数を決定するための公知の方法である。他の適合手法を利用してもよい。例えば、“Numeral Recipes in C”,Vetterling,Press,Flannery and Teukolsky,1992,Cambridge University Press は、様々な適合手法を記述している。係数の個数Ｎは、ｍｕ(ｘi)の集合のデータ地点の個数に等しくなくてはならない。例えば、｛ｍｕ(１)＝５、ｍｕ(２)＝４、ｍｕ(３)＝３、ｍｕ(４)＝２｝の場合、Ｎ＝４である。一度係数ａnが分かれば、ｍｕ(ｔ)の時間微分は完全に記述され、（ジョーが移動する間の時間の関数である）必要な線量率そしてジョーの速度が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に従って構成された治療コンソールを含む放射線治療装置の概略図である。
【図２】図１の放射線治療装置の中の処理ユニット及びビーム発生システムの部分を示すブロック線図である。
【図３】放射線ビーム路における吸収用ブロックから構成された従来のウェッジフィルタに対する等線量曲線の線図である。
【図４】プレート装置の１つのプレートを移動させ、放射線ビームの放射線出力を変化させることによって実現されたウェッジフィルタを有する装置に対する等線量曲線の線図である。
【図５】カスタム補償器による放射線分布線量の概略図である。
【図６】どのように放射線ビームのサイズがジョーによって限定されるのかを示す概略図である。
【図７】患者面における所望の放射線パターンの例を示す概略図である。
【図８】補償器なしで所望の放射線パターンを得るためのプロセスフローチャートである。
【図９】４つのセクションを含む照射野の２次元図である。
【図１０】例として任意の単調関数を使用して効果的に治療される領域の２次元図である。
【符号の説明】
１  電子ビーム
２  放射線治療装置
３  トリガシステム
４  プレート
５  インジェクタ
６  ガントリ
７  ウィンドウ
８  水平軸
９  ハウジング
１０  放射線束の軸
１２  領域
１３  オブジェクト
１４  回転軸
１５  第１の散乱フォイル
１７  第２の散乱フォイル
１８  ＣＰＵ（中央処理ユニット）
１９  キーボード
２０  電子加速器
２１  電子銃
２２  導波管
２３  ガイド磁石
４０  モータ制御器
４１  プレート
４２  プレート
４３  駆動ユニット
４４  位置センサ
４５  位置センサ
４６  ウェッジフィルタ
５０  シールドブロック
５１  通路
６０  測定チャンバ
６１  線量制御ユニット
７０  モニタ
７６  制御ユニット
７７  メモリ
７８  組み合わせ回路
１００  治療ユニット
１０２  自動セットアップ装置
２００  ガントリ
２０２  放射線ビーム
２１０  カスタム補償器
２２０  オブジェクト
２２２  脊髄
２３０  放射線量曲線
２３１  放射線量曲線
２３２  放射線量曲線
２３３  放射線量曲線
２３４  放射線量曲線
２４０  領域
２５０  ジョー
２５２  ジョー
２５４  ジョー
２５６  ジョー
２６０  領域
２６２  放射線
２９０  セクション
２９２  セクション
２９４  セクション
２９６  セクション
２９８  下部セクション
３００  ストリップ
３０２  ストリップ
３０４  ストリップ
３０６  ストリップ
【図１】
0004082759.tif 000006
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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