(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持層上に配された記録層の一主面側に透明カバー層を有し、この透明カバー層側から光が照射されて情報の記録及び／又は再生が行われる光記録媒体において、
上記透明カバー層の表面側がヤング率７０（ＧＰａ）以上の材料よりなり、
上記記録層中の少なくとも情報信号が記録される情報信号部の領域において、上記透明カバー層の厚さｔがｔ＝３〜１７７（μｍ）であって、該透明カバー層厚さむらをΔｔとしたときに、当該光記録媒体を記録及び／又は再生する光を照射する光学系の開口数ＮＡ及び上記光の波長λとの間に、Δｔ ≦±５．２６( λ／ＮＡ４）（μｍ）の関係が成り立つことを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
上記光学系の開口数ＮＡが０．７以上であることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項３】
上記透明カバー層が、表面側に配される第１の層と記録層側に配される第２の層よりなることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項４】
上記第１の層がヤング率１５０（ＧＰａ）以上の材料よりなることを特徴とする請求項３記載の光記録媒体。
【請求項５】
上記透明カバー層の表面側がＣ１００−ＸＨＸ（１（原子％）＜Ｘ＜４５（原子％）），Ｓｉ３Ｎ４，ＭｇＦ２，Ａｌ２Ｏ３，ＳｉＯ２のうちの少なくとも１種類を含む材料よりなることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項６】
トラックピッチをＰ、スキューをΘとすると、Ｐ≦０．６４（μｍ）且つΘ≦±８４．１１５°（λ／ＮＡ３／ｔ）を満たすことを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項７】
上記波長λがλ≦０．６８（μｍ）、上記開口数ＮＡがＮＡ／λ≧１．２０をみたす記録再生光学系で記録又は再生されることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項８】
平面円形をなし、外径が１２５（ｍｍ）以下であって、厚さが１．６０（ｍｍ）以下であることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項９】
記録容量が８（ＧＢ）とされる線密度であることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項１０】
上記透明カバー層の屈折率をＮとしたときに、グルーブ又は情報ピット深さが（λ／８）／Ｎから（３λ／８）Ｎの範囲にあることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項１１】
トラックピッチをＰ（μｍ）としたとき、トラックピッチむらΔＰがΔＰ≦±０．０４Ｐ（μｍ）であり、偏心ＥがＥ≦６７．５７Ｐ（μｍ）、スキューが０．４°以下であることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項１２】
記録及び／又は再生する光が照射される面の表面粗さＲａが、その表面上のスポットサイズ領域内で±３λ／１００以下であることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項１３】
上記支持層が熱可塑性樹脂からなり０．３〜１．２（ｍｍ）の厚さを有する基板とされ、上記基板上に案内溝が転写形成され、上記案内溝上に順次多層膜が形成あるいは有機色素がスピンコートされて記録層とされており、その上に少なくとも１種類の紫外線硬化性樹脂が３〜１７７（μｍ）の厚さでコートされて透明カバー層とされていることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項１４】
上記支持層が熱可塑性樹脂からなり０．３〜１．２（ｍｍ）の厚さを有する基板とされ、上記基板上に案内溝が転写形成され、上記案内溝上に順次多層膜が形成あるいは有機色素がスピンコートされて記録層とされており、その上に透明カバー層として、紫外線硬化性樹脂を介して光透過性フィルムが貼られ、両者の厚さの和が３〜１７７（μｍ）とされていることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項１５】
上記透明カバー層は、射出成形又はキャスト法によって作られたシートにマスタスタンパーから高温加熱により信号または案内溝を転写したものであることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項１６】
上記信号又は案内溝を転写したシートに厚さが０．６〜１．２（ｍｍ）の支持基板が貼り合わされてなることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項１７】
上記支持基板が透明板であることを特徴とする請求項１６記載の光記録媒体。
【請求項１８】
上記支持基板は、紫外線硬化性樹脂を介して信号または案内溝を転写したシートに接着されていることを特徴とする請求項１６記載の光記録媒体。
【請求項１９】
上記紫外線硬化性樹脂はスピンコートにより塗布されていることを特徴とする請求項１８記載の光記録媒体。
【請求項２０】
両面同時成形あるいは貼り合わせにより、両面に情報信号部と透明カバー層を有する両面構造になっていることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項２１】
情報記録膜あるいは反射膜と、透明カバー層が複数積層される、多層構造であることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項２２】
上記複数の反射膜の反射率が、光の入射する側に向かうに従って小さくなるようにされていることを特徴とする請求項２１記載の光記録媒体。
【請求項２３】
上記透明カバー層とは反対側の面にも紫外線硬化性樹脂が塗布されていることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項２４】
上記透明カバー層とは反対側に塗布される紫外線硬化性樹脂が、上記透明カバー層を形成する材料よりも硬化収縮率が高いものであることを特徴とする請求項２３記載の光記録媒体。
【請求項２５】
上記透明カバー層の表面に、ハードコートがなされていることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項２６】
上記紫外線硬化性樹脂が塗布される記録層の表面にシラン処理がなされていることを特徴とする請求項１３記載の光記録媒体。
【請求項２７】
上記紫外線硬化性樹脂が塗布される記録層の表面にシラン処理がなされていることを特徴とする請求項１４記載の光記録媒体。
【請求項２８】
上記透明カバー層の表面に、反射防止膜が形成されていることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項２９】
上記反射防止膜の屈折率Ｎが、上記透明カバー層の屈折率よりも低く、上記反射防止膜の厚さは、記録及び／又は再生を行う光の波長をλとした場合に、（λ／３）／Ｎ（ｎｍ）以下であることを特徴とする請求項２８記載の光記録媒体。
【請求項３０】
記録層の一主面側に透明カバー層を有し、上記記録層中の少なくとも情報信号が記録される情報信号部の領域において、上記透明カバー層の厚さｔがｔ＝３〜１７７（μｍ）である光学ディスクを記録及び／又は再生する光学ディスク装置であって、
波長が６８０（ｎｍ）以下のレーザー光を出射するレーザー光源と、上記光学ディスク信号記録面にレーザー光を収束させるための光学系とを備え、
上記光学ディスクは、該ディスクの透明カバー層の厚さむらをΔｔとしたときに、上記光学ディスクを記録及び／又は再生する光学系の開口数ＮＡ及び上記レーザー光の波長λとの間に、Δｔ ≦±５．２６( λ／ＮＡ４）（μｍ）の関係が成り立つものであることを特徴とする光学ディスク装置。
【請求項３１】
上記光学系の開口数ＮＡが０．７以上であることを特徴とする請求項３０記載の光学ディスク装置。
【請求項３２】
上記光学系は２群構成のレンズであることを特徴とする請求項３０記載の光学ディスク装置。
【請求項３３】
上記レンズは開口数ＮＡが０．７８以上であることを特徴とする請求項２８記載の光学ディスク装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、記録層の一主面側に透明カバー層を有し、この透明カバー層側から開口数０．７以上の対物レンズを用いて光が照射されて情報の記録及び／又は再生が行われる光記録媒体に関するものである。詳しくは透明カバー層の表面側の硬度を比較的高いものとし、破損しにくく、信頼性も高い光記録媒体に係わるものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、情報記録の分野においては光学情報記録方式に関する研究が各所で進められている。この光学情報記録方式は、非接触で記録・再生が行えること、磁気記録方式に比べて一桁以上も高い記録密度が達成できること、再生専用型，追記型，書換可能型のそれぞれのメモリー形態に対応できる等の数々の利点を有し、安価な大容量ファイルの実現を可能とする方式として産業用から民生用まで幅広い用途の考えられているものである。
【０００３】
その中でも特に、再生専用型のメモリー形態に対応した光ディスクであるデジタルオーディオディスクや光学式ビデオディスク等は広く普及している。
【０００４】
上記デジタルオーディオディスク等の光ディスクは、情報信号を示すピットやグルーブ等の凹凸パターンが形成された透明基板の凹凸パターンが形成された一主面上にアルミニウム膜等の金属薄膜よりなる反射膜が形成されて記録層となされ、さらにこの反射膜を大気中の水分，Ｏ2 から保護するための保護膜が上記反射膜上に形成された構成とされる。
【０００５】
また、書換可能型のメモリー形態に対応した光磁気ディスクは、以下に示すような構成を有する。すなわち、透明基板の一主面上に窒化珪素等の透明誘電体膜が形成され、その上にＴｂＦｅＣｏ等の光磁気記録膜が記録層として形成され、さらに窒化珪素等の透明誘電体膜が形成され、さらにはアルミニウム膜等の反射膜が形成され、さらにまた紫外線硬化型樹脂等よりなる保護膜が形成された構成とされる。そして、この光磁気ディスクにおいては、透明基板側から光を照射して情報の記録再生を行う。
【０００６】
ところで、上記のような光ディスクや光磁気ディスク等の光記録媒体を高記録容量化する方法として、光学ピックアップの対物レンズの開口数を大きくして再生光のスポット径を小さくし、これに合わせて記録を行うことで、高記録密度化する方法が提案されている。
【０００７】
そこで、最近では画像、音楽、コンピュータデータ等の多様なデータを記録するためのＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ  Ｄｉｓｃ、以下、ＤＶＤと称する。）も上市されている。このＤＶＤにおいては、基板の厚さを０．６（ｍｍ）程度として短波長の光学系に対応可能とするとともに高開口数化された光学系に対応可能として高記録密度化するようにしている。
【０００８】
このような状況の中、更なる次世代の光記録媒体として、特願平９−１０９６６０号公報に示すような片面にＮＴＳＣ（Ｎａｔｉｏｎａｌ  Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍ  Ｃｏｍｍｉｔｔｅｅ）方式で４時間記録再生が可能な光記録媒体が提案されている。
【０００９】
この光記録媒体においては、家庭用ビデオディスクレコーダーとして４時間の記録再生を可能とすることにより、現在主流とされているビデオテープレコーダー（Ｖｉｄｅｏ  Ｔａｐｅ  Ｒｅｃｏｒｄｅｒ）に代わる新しい記録媒体としての機能を備えることを目的としている。また、この光記録媒体においては、音楽データが記録されたデジタルオーディオディスクと同じ形状、サイズとすることにより、デジタルオーディオディスクの手軽さ、使い勝手に慣れ親しんだユーザーにとって使いやすい製品とすることも考えられている。さらに、この光記録媒体においては、形状をディスク状とすることにより、ディスク形状の最大の特徴であるアクセスの速さを利用し、小型、簡便な記録媒体というだけでなく、瞬時の録画再生やトリックプレイや編集といった多彩な機能を盛り込むことも考えられている。
【００１０】
そこで、上記光記録媒体においては、このような多彩な機能を盛り込むべく、８（ＧＢ）以上の記憶容量が要求されている。
【００１１】
ところが、従来の光記録媒体の何れにおいても、特にデジタルオーディオディスクと同等のサイズであって、片面のみに情報記録層を有するものにおいては、８（ＧＢ）の記憶容量は達成されていない。例えば、高記憶容量とされているＤＶＤにおいても、情報信号部の領域内、すなわち、中心から半径２４〜５８（ｍｍ）の範囲においては、波長λが０．６５（μｍ）、光学系の開口数（以下、ＮＡと称する。）が０．６とされて、４．７（ＧＢ）の記憶容量しか確保されていない。
【００１２】
例えば、ＥＣＣ（Ｅｒｒｏｒ  Ｃｏｌｌｅｃｔｉｏｎ  Ｃｏｄｅ）や変調方式といった信号フォーマットをＤＶＤの方式としたままで、８（ＧＢ）以上の記憶容量を確保するためには、下記式１を満たす必要がある。
【００１３】
４．７×（０．６５／０．６０×ＮＡ／λ）2 ≧８２・・・（式１）
そして、上記式１よりＮＡ／λ≧１．２０であることが必要となる。すなわち、短波長化或いは高ＮＡ化が必要となる。
【００１４】
ここで、例えば高ＮＡ化すると、再生光が照射されてこれが透過する部分の厚さを薄くする必要がある。これは、高ＮＡ化に伴い、光学ピックアップの光軸に対してディスク面が垂直からズレる角度（いわゆるチルト角、光源の波長の逆数と対物レンズの開口数の積の２乗に比例する。）により発生する収差の許容量が小さくなるためであり、このチルト角が基板の厚さによる収差の影響を受け易いためである。従って基板の厚さを薄くしてチルト角に対する収差の影響をなるべく小さくするようにしている。
【００１５】
また、同様の理由から、再生光が透過する部分の厚さのばらつきも所定の範囲内に収める必要がある。
【００１６】
しかしながら、今後、さらなる高記録密度化が要求されるものと思われ、基板のさらなる薄型化が必要となってくるものと思われる。そこで、例えば基板の一主面上に凹凸を形成して記録層とし、その上に反射膜を設け、さらにこの上に光を透過する薄膜である光透過層を設けるようにし、光透過層側から再生光を照射して記録層の情報を再生するような光記録媒体や、基板の一主面上に反射膜を設け、その上に光磁気記録膜を形成して記録層とし、さらにこの上に光を透過する薄膜である光透過層を設けるようにし、光透過層側から再生光を照射して記録層の情報を再生するような光記録媒体が提案されている。このようにすれば、光透過層を薄型化していくことで対物レンズの高ＮＡ化に対応可能である。なお、このような光透過層はアクリル系の高分子材料等の紫外線硬化型樹脂により形成されるのが一般的である。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように光学ピックアップの対物レンズの開口数を大きくした場合に、対物レンズとして、対物レンズと光記録媒体間の距離であるワーキングディスタンスが従来の対物レンズと同様のものを使用すると、レンズの大きさが非常に大きくなり、重量も重くなり、アクセスタイムが遅くなる、或いはトラッキング，フォーカスサーボの帯域が十分確保できなくなるといった問題が発生する。
【００１８】
そこで、対物レンズの軽量化、言い換えれば小型化が検討されているが、この場合においては、対物レンズを光記録媒体に近づける、すなわちワーキングディスタンスを狭める必要がある。しかしながら、このようにワーキングディスタンスを狭めると、当然のことながら光学ピックアップと光記録媒体との衝突が発生し易くなる。
【００１９】
先に述べた光ディスク及び光磁気ディスクにおいては、透明基板側から光を照射して情報の再生及び／又は記録を行っており、この透明基板は、安価であること、案内溝等の形状を射出成形で容易に形成できることから、ポリカーボネート等のプラスチックにより形成されるのが一般的である。
【００２０】
従って、上述のように光学ピックアップと光記録媒体が衝突した場合、光記録媒体が破損してしまうことが多い。すなわち、例えば光学ピックアップの対物レンズが光記録媒体に衝突してしまった場合、透明基板を形成するポリカーボネート等のプラスチックが対物レンズを形成するガラスに比べて非常に柔らかいために、透明基板は容易に変形し、傷が発生して破損してしまう。また、対物レンズを保持する例えばプラスチックよりなるホルダーが設けられており、対物レンズと光記録媒体間の距離よりも上記ホルダーと光記録媒体間の距離の方が小さいときには、ホルダーが透明基板に衝突することとなる。この場合、ホルダーを形成するプラスチックが対物レンズを形成するガラスよりも柔らかいため、ホルダーが透明基板を傷つけることはないものの、ホルダーと透明基板間に大気中の粉塵や微小ゴミが挟まれてしまうと、これらにより傷が発生して破損してしまう。このような大気中の粉塵や微小ゴミによる擦り傷は、離散的に発生している場合にはエラー訂正等の信号処理で対処可能であるが、トラック方向に沿って発生すると、エラー長が長く、エラー訂正が困難であり、且つトラッキング或いはフォーカスサーボ信号に誤差信号を連続して与えてしまい、サーボを外してしまい、信頼性を損なうことから好ましくない。
【００２１】
そこで、ある種の光磁気ディスクにおいては、環境温度や湿度の変化による厚さ方向の変位を±０．２（ｍｍ）以下に抑えて光学ピックアップとの衝突をなるべく抑えるようにしているが、ワーキングディスタンスが狭まれば、やはり衝突が起こりやすくなる。
【００２２】
ところで、前述したように光透過層を設け、光透過層側から光を照射するような光記録媒体においては、光透過層が薄い層であることから、この表面にゴミが付着すると、エラーレートが悪化して十分な信頼性を得ることが困難となる。
【００２３】
磁気記録媒体である磁気ディスクにおいては、ライナーと称される繊維を磁気ディスク表面に接触させてゴミを取り除くようにしており、このような手法は上記の光記録媒体においても非常に有効であり、実施が望まれている。しかしながら、この場合においては、光記録媒体表面、ここでは光透過層表面が繊維の接触又は間に大気中の粉塵やゴミを挟み込んだ状態での繊維の接触により傷付かない強度を有することが必要であり、このような要求が高まってきている。
【００２４】
さらに、このような光透過層を設け、光透過層側から光を照射するような光記録媒体における８（ＧＢ）以上の記憶容量の達成も強く望まれている。
【００２５】
そこで本発明は、従来の実状に鑑みて提案されたものであり、光が照射される透明基板或いは光透過層といった記録層上に形成される透明カバー層に傷が発生しにくく、破損が起こりにくく、信頼性が確保される光記録媒体を提供することを目的とする。また、本発明は、特に高ＮＡ化に対応可能で、高容量化して、例えば８（ＧＢ）以上の情報を記録可能とする光記録媒体を提供することを目的とする。
【００２６】
【課題を解決するための手段】
上述の課題を解決するために本発明者等が鋭意検討した結果、光記録媒体の透明基板或いは光透過層といった、記録層上に形成されて光が照射される透明カバー層の表面側の硬度を高めることにより、透明カバー層への傷の発生を抑え、光記録媒体の破損を抑え、信頼性を確保することが可能であることを見出した。
【００２７】
また、本発明者等は更なる検討を重ね、高ＮＡ化に対応可能とし、高容量化して、例えば８（ＧＢ）以上の情報を記録可能とする光記録媒体の適正な条件、この光記録媒体の記録及び／又は再生に好適な光学ディスク装置の適正な条件を見出した。
【００２８】
すなわち、上述の目的を達成するために提案される本発明に係る光記録媒体は、支持層上に配された記録層の一主面側に透明カバー層を有し、この透明カバー層側から光が照射されて情報の記録及び／又は再生が行われる光記録媒体において、上記透明カバー層の表面側がヤング率７０（ＧＰａ）以上の材料よりなり、上記記録層中の少なくとも情報信号が記録される情報信号部の領域において、上記透明カバー層の厚さｔがｔ＝３〜１７７（μｍ）であって、該透明カバー層厚さむらをΔｔとしたときに、当該光記録媒体を記録及び／又は再生する光を照射する光学系の開口数ＮＡ及び上記光の波長λとの間に、Δｔ ≦±５．２６( λ／ＮＡ４）（μｍ）の関係が成り立つようにしたものである。ここで、上記光学系は、開口数ＮＡが０．７以上のものを用いることが望ましい。
【００２９】
表面の硬度の指標としては、モース硬度やロックウェル硬度、鉛筆硬度等が挙げられるが、統一されたものがなく、比較が難しい。そこで本発明においては、材料の硬さと密接な関係があるバルク状態のヤング率（弾性率）を指標として用いることとした。
【００３０】
なお、上記本発明の光記録媒体においては、透明カバー層の厚さが１５０（μｍ）以下であっても良い。
【００３１】
また、上記本発明の光記録媒体において、透明カバー層を表面側に配される第１の層と記録層側に配される第２の層により形成するようにすれば、容易に形成され、好ましい。
【００３２】
なお、この場合、第１の層がヤング率１５０（ＧＰａ）以上の材料よりなることが好ましく、第１の層のヤング率が１５０（ＧＰａ）よりも小さいと十分な硬度を確保することが難しく、好ましくない。また、第１の層の厚さが２（ｎｍ）以上，２３０（ｎｍ）以下であることが好ましく、第１の層の厚さが２（ｎｍ）未満であると強度を確保することが難しく、第１の層の厚さが２３０（ｎｍ）よりも厚いと表面反射が大きくなり過ぎて好ましくない。
【００３３】
さらに、上記本発明の光記録媒体においては、透明カバー層の表面側がＣ100-XＨX（１（原子％）＜Ｘ＜４５（原子％）），Ｓｉ3Ｎ4，ＭｇＦ2，Ａｌ2Ｏ3，ＳｉＯ2のうちの少なくとも１種類を含む材料よりなることが好ましい。
【００３４】
また、本発明の光記録媒体は、記録層が、支持層上に配されており、上記記録層中の少なくとも情報信号が記録される情報信号部の領域において、上記透明カバー層の厚さｔがｔ＝３〜１７７（μｍ）であって、該透明カバー層厚さむらをΔｔとしたときに、当該光記録媒体を記録及び／又は再生する光学系の開口数ＮＡおよび波長λとの間に、Δｔ ≦±５．２６( λ／ＮＡ4）（μｍ）の関係が成り立つことを特徴とするものである。
【００３５】
なお、上記本発明の光記録媒体においては、トラックピッチＰがＰ≦０．６４（μｍ）、スキューΘがΘ≦±８４．１１５°（λ／ＮＡ3／ｔ）を満たすことが好ましい。
【００３６】
さらに、上記本発明の光記録媒体は上記波長λがλ≦０．６８（μｍ）、上記開口数ＮＡがＮＡ／λ≧１．２０をみたす記録再生光学系で記録または再生されることが好ましく、波長が６８０（ｎｍ）以下のレーザー光源と、信号記録面にレーザー光を収束させるための開口数ＮＡが０．７以上のレンズとを備えた光学ディスク装置を用いるのが好ましい。
【００３７】
本発明の光記録媒体においては、記録層の一主面側に表面側がヤング率７０（ＧＰａ）以上の材料よりなる透明カバー層が形成されているため、この透明カバー層側から開口数０．７以上の対物レンズを用いてワーキングディスタンスを狭めて光を照射するようにした場合に光学ピックアップとの衝突が発生しても、透明カバー層への傷の発生が抑えられ、光記録媒体表面への傷の発生が抑えられる。また、本発明の光記録媒体においては、透明カバー層に前述の磁気ディスクに使用されている繊維を接触させて表面のゴミを取り除くようにしても、透明カバー層への傷の発生が抑えられ、光記録媒体表面への傷の発生が抑えられる。
【００３８】
なお、上記本発明の光記録媒体において、透明カバー層の厚さを１５０（μｍ）以下とすれば、光学ピックアップの対物レンズの高開口数化に十分対応する。
【００３９】
また、上記本発明の光記録媒体において、透明カバー層を表面側に配される第１の層と記録層側に配される第２の層により形成するようにすれば、容易に表面側の硬度が高くなされ、且つ透明カバー層が容易に形成される。
【００４０】
さらに、上記本発明の光記録媒体において、上記記録層中の少なくとも情報信号が記録される情報信号部の領域において、上記透明カバー層の厚さｔをｔ＝３〜１７７（μｍ）とし、該透明カバー層厚さむらをΔｔとしたときに、当該光記録媒体を記録及び／又は再生する光学系の開口数ＮＡおよび波長λとの間に、Δｔ ≦±５．２６( λ／ＮＡ4）（μｍ）の関係が成り立つようにし、トラックピッチＰがＰ≦０．６４（μｍ）、スキューΘがΘ≦±８４．１１５°（λ／ＮＡ3／ｔ）となるようにし、上記波長λがλ≦０．６８（μｍ）、上記開口数ＮＡがＮＡ／λ≧１．２０をみたす記録再生光学系で記録または再生するようにすれば、高ＮＡ化に十分対応可能で、高容量化され、例えば８（ＧＢ）以上の記録容量が達成される。
【００４１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の具体的な実施の形態について詳細に説明する。
【００４２】
本例の光記録媒体は、記録層の一主面側に表面側がヤング率７０（ＧＰａ）以上の材料よりなる透明カバー層を有するものであり、この透明カバー層側から開口数０．７以上の対物レンズを用いて光が照射されて情報の記録及び／又は再生が行われるものである。
【００４３】
なお、本発明の光記録媒体の第１の例として、本発明を光磁気ディスクに適用した例について述べる。
【００４４】
すなわち、本例の光磁気ディスクにおいては、透明基板の一主面上に窒化珪素等の透明誘電体膜が形成され、その上にＴｂＦｅＣｏ等の光磁気記録膜が記録層として形成され、さらに窒化珪素等の透明誘電体膜が形成され、さらにはアルミニウム膜等の反射膜が形成され、さらにまた紫外線硬化型樹脂等よりなる保護膜が形成されている。
【００４５】
そして、本例の光磁気ディスクにおいては、透明基板側から光を照射することから、透明基板が透明カバー層となされ、透明基板の表面側がヤング率７０（ＧＰａ）以上の材料により形成されていることとなる。
【００４６】
なお、本例の光磁気ディスクにおいては、透明カバー層、すなわち透明基板の厚さが１５０（μｍ）以下となされている。
【００４７】
さらに、上記本発明の光磁気ディスクにおいては、透明カバー層、すなわち透明基板の表面側がＣ100-XＨX（１（原子％）＜Ｘ＜４５（原子％）），Ｓｉ3Ｎ4，ＭｇＦ2，Ａｌ2Ｏ3，ＳｉＯ2のうちの少なくとも１種類を含む材料により形成されて、上記のようにヤング率が７０（ＧＰａ）以上となされている。
【００４８】
本例の光磁気ディスクにおいては、表面側がヤング率７０（ＧＰａ）以上の材料よりなる透明基板を透明カバー層としており、この透明カバー層側から開口数０．７以上の対物レンズを用いてワーキングディスタンスを狭めて光を照射するようにした場合に光学ピックアップとの衝突が発生しても、透明カバー層への傷の発生が抑えられ、光磁気ディスク表面への傷の発生が抑えられ、破損が起こりにくく、信頼性が確保される。
【００４９】
また、本例の光磁気ディスクにおいては、透明カバー層に磁気ディスクで使用されているライナーと称される繊維を接触させても、透明カバー層への傷の発生が抑えられ、光磁気ディスク表面への傷の発生が抑えられ、破損が起こりにくく、信頼性が確保される。また、上記のような繊維としては、レーヨン、ポリエステル、ポリプロピレン、ナイロンよりなる不織布を使用することも可能であり、この場合、光磁気ディスク及び不織布の磨耗を防止するべく、光磁気ディスクの透明カバー層表面或いは不織布表面を潤滑材料によりコーティングしても良い。
【００５０】
なお、上記本例の光磁気ディスクにおいては、透明カバー層、すなわち透明基板の厚さを１５０（μｍ）以下としており、光学ピックアップの対物レンズの高開口数化に十分対応する。
【００５１】
上述の例においては、透明カバー層である透明基板を単層とする例について述べたが、この透明基板を表面側に配される第１の層と記録層側に配される第２の層により形成するようにしても良く、このようにすれば、容易に表面側の硬度を高くすることができる。
【００５２】
なお、この場合、第１の層がヤング率１５０（ＧＰａ）以上の材料よりなることが好ましく、第１の層のヤング率が１５０（ＧＰａ）よりも小さいと十分な硬度を確保することができず、好ましくない。また、第１の層の厚さが２（ｎｍ）以上，２３０（ｎｍ）以下であることが好ましく、第１の層の厚さが２（ｎｍ）未満であると強度を確保することが難しく、第１の層の厚さが２３０（ｎｍ）よりも厚いと表面反射が大きくなり過ぎて好ましくない。
【００５３】
さらに、本例においては、本発明を光磁気ディスクに適用した例について述べたが、本発明が光ディスク、光透過層を有しこれを透明カバー層として光が照射される光記録媒体の何れにも適用可能であることは言うまでもない。
【００５４】
なお、透明カバー層がアクリル系高分子材料等よりなる紫外線硬化型樹脂よりなる場合においては、紫外線硬化型樹脂の組成を変更したり、紫外線硬化型樹脂中にガラス等の粒子を混入させることにより、表面側の硬度を高めることが可能である。
【００５５】
次に、本発明の光記録媒体の第２の例として、光透過層を有しこれを透明カバー層として光が照射される光ディスクに適用した例について述べる。
【００５６】
本例の光ディスクにおいても、先に述べた光磁気ディスクと同様であり、記録層の一主面側に表面側がヤング率７０（ＧＰａ）以上の材料よりなる透明カバー層を有するものであり、この透明カバー層側から開口数０．７以上の対物レンズを用いて光が照射されて情報の記録及び／又は再生が行われるものである。
【００５７】
そして、本例の光磁気ディスクにおいては、光透過層側から光を照射することから、光透過層が透明カバー層となされ、光透過層の表面側がヤング率７０（ＧＰａ）以上の材料により形成されていることとなる。
【００５８】
さらに、本例の光ディスクにおいては、８（ＧＢ）程度の情報の記録を可能とするようにしている。
【００５９】
先ず、透明カバー層の厚さについて述べる。一般的にディスクスキューマージンΘと記録再生光学系の波長λ、開口数ＮＡ、透明カバー層の厚さｔとは相関関係にあり、実用上十分そのプレイヤビリティが実証されているデジタルオーディオディスク（いわゆるコンパクトディスク（以下、ＣＤと称する。））の例を基準にこれらのパラメータとスキューΘとの関係が、特開平３−２２５６５０号公報に示されている。
【００６０】
これによると、Θ≦±８４．１１５°（λ／ＮＡ3／ｔ）であればよく、これは本発明の光記録媒体にも適用することができ、本例の光ディスクにおいても適用している。
【００６１】
ここで、ディスクを実際に量産する場合のスキューΘの具体的な限界値を考えると、０．４°とするのが妥当である。これは、量産を考えた場合、これより小さくすると歩留まりが低下し、コストが高価となってしまうためである。なお、既存の光記録媒体についても、ＣＤでは０．６°、ＤＶＤでは０．４°とされている。なお、本例の光ディスクにおいても、スキューΘを０．４゜以下としている。
【００６２】
従って、Θ＝０．４°として記録及び／又は再生に使用されるレーザー光の短波長化、高ＮＡ化に対応するべく光透過層の厚さをどの程度に設定すべきかを計算すると、まずλ＝０．６５（μｍ）とすると、ＮＡはＮＡ／λ≧１．２０から０．７８以上が要求される。これからｔ≦２８８（μｍ）が導き出される。
【００６３】
また、今後、短波長化が進みλ＝０．４（μｍ）となった場合を仮定し、ＮＡをＮＡ≧０．７８のままにすると、ｔ＝１７７（μｍ）になる。この場合、基板の厚さが１．２（ｍｍ）であるＣＤ等の製造設備を流用することを考慮すると、本発明を適用した光ディスクの厚さは最大約１．３８（ｍｍ）となる。
【００６４】
また、光磁気記録媒体（以下、ＭＯと称する。）の磁界変調を考慮すると透明カバー層厚さは薄い方がよく、例えば３０（μｍ）以下に設定するとＭＯでの記録再生が容易になる。
【００６５】
一方、透明カバー層の厚さの下限は記録膜あるいは反射膜を保護する透明カバー層の保護機能によって決まり、信頼性や、後に記述する、２群レンズの衝突の影響を考慮すると３（μｍ）以上が望ましい。
【００６６】
前述のように、記録密度を上げるためにはＮＡ／λを上げることが不可欠である。この場合、例えば記憶容量として８（ＧＢ）を達成させるために、少なくともＮＡを０．７以上とし、レーザーの波長λを０．６８（μｍ）以下とすることが必要となる。このとき、上記のように透明カバー層の厚さとスキューとの間には上記に記述された関係があるが、現状の赤色レーザーから将来的に普及が見込まれる青色レーザーまで対応することを考慮すると、透明カバー層の厚さは３〜１７７（μｍ）に設定するのが適切である。
【００６７】
従って、本例の光ディスクにおいては、透明カバー層の厚さｔを３〜１７７（μｍ）としている。
【００６８】
次に、トラックピッチについて述べる。本発明のように８（ＧＢ）の記録容量を達成するためには、トラックピッチＰ及び線密度ｄを変える必要がある。その条件としては、下記式２及び式３を満たせば良い。
【００６９】
（０．７４／Ｐ）×（０．２６７／ｄ）×４．７≧８・・・（式２）
ｄ≦０．１１６１／Ｐ（μｍ／ｂｉｔ）・・・（式３）
例えば、Ｐ＝０．５６（μｍ）のときｄ≦０．２０６（μｍ／ｂｉｔ）となるが、これはＤＶＤのＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）を基準にしており、記録再生の信号処理技術の進歩（具体的には、ＰＲＭＬの適用や、ＥＣＣの冗長度を減らす等）を考慮すると、さらに１５（％）程度の線密度の増加が見込まれ、その分トラックピッチＰを増やすことが可能である。このことから、トラックピッチＰは最大で０．６４（μｍ）となることが導き出される。
【００７０】
従って、本例の光ディスクにおいては、トラックピッチＰをＰ≦０．６４（μｍ）としている。
【００７１】
さらに、本例の光ディスクにおいては、トラックピッチむらΔＰについても公差が厳しくなる。ＣＤやＤＶＤの記録再生パラメータをそのまま転用すると、ＤＶＤでのピッチ０．７４（μｍ）、公差±０．０３から、ΔＰ≦±０．０３Ｐ／０．７４＝±０．０４Ｐとなる。したがって、Ｐ＝０．５６とすると、ΔＰ≦±０．０２３（μｍ） となる。
【００７２】
従って、本例の光ディスクにおいては、トラックピッチむらΔＰをΔＰ≦±０．０４Ｐとしている。
【００７３】
続いて、透明カバー層厚さむらについて述べる。本例の光ディスクにおいては、透明カバー層の厚さむらΔｔについてもさらなる高精度さが要求される。
【００７４】
透明カバー層の厚さが再生対物レンズの設計中心からずれた場合、その厚さ誤差がスポットに与える収差量はＮＡの４乗に、また波長に比例する。従って高ＮＡ化、または短波長化による高密度化を行う場合、その量（透明カバー層厚さむら）はさらに厳しく制限される。
【００７５】
具体的なシステム例としてＣＤを挙げると、ＣＤはＮＡ＝０．４５が実用化されており透明カバー層の厚さ誤差規格は±１００（μｍ）である。また、ＤＶＤではＮＡ＝０．６で±３０（μｍ）と規定されている。すなわち、透明カバー層厚さむらΔｔはＣＤでの許容量±１００（μｍ）を基準にすると、下記式４のように表わされる。
【００７６】
0004099549.tif 000002
ここで、透明カバー層厚さ１００（μｍ）中心に対し，波長λ＝０．６８（μｍ） 、ＮＡ＝０．８７５で透明カバー層厚さ誤差とジッター値との関係について実験を行った結果を図１に示す。
【００７７】
図１より、例えばＤＶＤにおいてスキューなど摂動がない場合のジッター基準である８（％）になるところを見ると約±７（μｍ）であることがわかる。上式から導き出される数値は±６（μｍ）であり、この規格を満足するディスク媒体からは良好な信号が得られることになる。
【００７８】
したがって、高密度化に従い、透明カバー層厚さに許容されるむらΔｔは、±５．２６×（λ／ＮＡ4）（μｍ）以下でなければならない。
【００７９】
そこで、本例の光ディスクにおいては、透明カバー層厚さむらをΔｔとしたときに、当該光ディスクを記録及び／又は再生する光学系の開口数ＮＡおよび波長λとの間に、Δｔ ≦±５．２６( λ／ＮＡ4）（μｍ）の関係が成り立つようにしている。
【００８０】
次いで、記録及び／又は再生する光が照射される面の表面粗さＲａについて述べる。上述した透明カバー層厚さむらは、記録及び／又は再生を行うレーザー光が照射されるディスク表面内で、均一であることを前提としており、フォーカス点をずらすことによって収差補正可能である。ところが、この領域内（スポット内）でもし透明カバー層厚さむらがあるとフォーカス点の調整では補正できない。そしてこの量は厚さ中心値に対して±３λ／１００以下に押さえる必要がある。
【００８１】
従って、本例の光ディスクにおいては、記録及び／又は再生する光が照射される面の表面粗さＲａが、その表面上のスポットサイズ領域内で±３λ／１００以下とされている。
【００８２】
次に、偏心について述べる。上記偏心Ｅに関してもＤＶＤの５０（μｍ）に対し、Ｅ≦５０×Ｐ／０．７４＝６７．５７Ｐ（μｍ）となる。
【００８３】
そこで、本例の光ディスクにおいては、偏心ＥをＥ≦６７．５７Ｐ（μｍ）としている。
【００８４】
すなわち、本例の光ディスクにおいては、少なくとも情報信号が記録される情報記録部の領域における透明カバー層の厚さｔを３〜１７７（μｍ）とし、上記透明カバー層厚さむらΔｔと上記光ディスクを記録及び／又は再生する光学系の開口数ＮＡおよび波長λとの間に、Δｔ ≦±５．２６( λ／ＮＡ4）（μｍ）が成り立つようにし、トラックピッチＰをＰ≦０．６４（μｍ）とし、トラックピッチむらΔＰをΔＰ≦±０．０４Ｐとし、線密度ｄをｄ≦０．１１６１／Ｐ（μｍ／ｂｉｔ）とし、ディスクスキューΘをΘ≦±８４．１１５°（λ／ＮＡ3／ｔ）とし、偏心ＥをＥ＝６７．５７Ｐ（μｍ）とし、スポットサイズ領域内での表面粗さＲａをＲａ＝±３λ／１００以下とするとともに、記録再生光学系を波長λがλ≦０．６８（μｍ）となり、ＮＡ／λ≧１．２０をみたすものとすることで、８（ＧＢ）の記録容量を確保して高密度化を達成するようにしている。
【００８５】
本例の光ディスクを製造するには、前述した本発明における光記録媒体に必要なスペックをみたすピッチおよびピッチむらを実現したスタンパを用い、射出成形法にて基板を作成する。このようなピッチむらの少ない高精度スタンパは従来の送りをネジで行う構造では達成が困難である為、リニアモータによる送り構造をもった原盤露光装置で製造する。さらに光学系は空気の揺らぎを排除する為のカバーで覆われており、露光用レーザーの冷却水の振動を除去するため、レーザーと露光装置の間に防振材を設置して作成される。
【００８６】
また、本例の場合、この基板の情報信号面上に反射膜、または記録膜を成膜し、その上方から記録再生するので、予め成膜による信号形状の変形を考慮して、基板上にピットを形成する必要がある。
【００８７】
例えば１０（ＧＢ）容量のＲＯＭの場合は、基板側から見たときの信号ピットのアシンメトリーが２５（％）であるとすると、基板と反対側から見たときのアシンメトリーは１０（％）である。即ち、本例においては基板側とは反対側から信号を読み取ろうとする為、例えば光照射側から見てアシンメトリー１０（％）であるピットを形成する為には、基板に形成するピット形状をアシンメトリー２５（％）にしておく必要がある。
【００８８】
同様に記録ディスクに形成される案内用溝（グルーブ）に関しても記録膜でグルーブデューティが変化すること、例えばグルーブ記録（記録再生面からみて凹部への記録再生）の場合、溝が狭まるので、スタンパの形状を広めにしておく等の対応が必要となる。例えばランド／グルーブ記録の場合、光照射側からみて、ランドとグルーブの巾デューティ５０（％）を得るためには基板側からみて５５〜６５（％）に設定するのが好適である。
【００８９】
なお、この基板は、単板でディスクを構成する場合、ある程度の剛性が要求される為０．６（ｍｍ）以上であることが望ましい。同様に、２枚貼り合わせた構造の場合はその半分である０．３（ｍｍ）以上であることが好適である。
【００９０】
次に、図２に示すように、この基板１０の情報信号部１１に情報記録膜または反射膜を形成して、記録層とする。このとき、上記基板１０は支持層となる。例えば該ディスクがＲＯＭの場合はＡｌなどの反射膜を２０〜６０（ｎｍ）の厚さで成膜する。
【００９１】
情報記録膜としては、例えば相変化材料を例に取るとＡｌ膜、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＧｅＳｂＴｅ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2をこの順で成膜する。
【００９２】
また、光磁気ディスクの場合は、Ａｌ膜、ＳｉＮ、ＴｂＦｅＣｏ、ＳｉＮの順で形成される。
【００９３】
また、追記型の場合は、ＡｕまたはＡｌをスパッタした後、シアニン系または、フタロシアニン系の有機色素膜をスピンコートで塗布、乾燥させて形成する。
【００９４】
図２の例では、基板１０とは反対側から記録再生用対物レンズＬを通じて記録再生光の照射がなされる。
【００９５】
次に図３に示すように、更にその上に紫外線硬化性樹脂で、透明カバー層１２が形成される。例えば、上述のように形成されるいずれかの構造で成膜された基板１０の成膜面に、紫外線硬化性樹脂を滴下回転延伸することにより透明カバー層１２を作成する。
【００９６】
この紫外線硬化性樹脂の粘度としては、３００（ｃｐｓ）以上６０００（ｃｐｓ）以下のものが上記に記述した厚さを形成するのに適切である。
【００９７】
例えば、２５（℃）で５８００（ｃｐｓ）の粘度の紫外線硬化性樹脂を適用した場合には、基板上に紫外線硬化性樹脂を滴下した後、基板を２０００（ｒｐｍ）で１１秒間回転させることにより、最終的に１００（μｍ）程度の透明カバー層１２を形成することができる。
【００９８】
ここで、透明カバー層１２形成の際、基板１０の内周部、例えば半径２５（ｍｍ）の位置に紫外線硬化性樹脂を滴下し、回転延伸させると、遠心力と粘性抵抗との関係から厚さに内外周差が生じる。この量は３０（μｍ）以上にもなり、記述した厚さ範囲を満たすことができない。
【００９９】
これを回避するためには、基板１０の中心孔１３を何らかの手段を用いて埋めた状態で、紫外線硬化性樹脂滴下を行うことが有効である。例えば、０．１（ｍｍ）厚さのポリカーボネートのシートを、直径Φが３０（ｍｍ）の円形に加工し、基板１０の中心部に接着した後、中心から紫外線硬化性樹脂を滴下し、回転延伸を行い、紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂を硬化させ、その後、中心孔を打ち抜く方法が考えられる。このプロセスによれば、内外周差１０（μｍ）ｐ−ｐ（ピーク・トゥ・ピーク）以内の厚さの光透過層を得ることができる。
【０１００】
なお、透明カバー層１２を形成する際に、ディスク外周へはみ出すことが考えられるので、ディスクの径は、ＣＤ等の径（１２０（ｍｍ））を基準として、１２０（ｍｍ）＋５（ｍｍ）を最大値としておくことが望ましい。
【０１０１】
また、図４に示すように、例えば厚さ１００（μｍ）のポリカーボネートのシート１４を紫外線硬化性樹脂１５で接着することにより、透明カバー層１２を形成してもよい。この場合のシート１４の厚さむらと接着用の紫外線硬化性樹脂１５の厚さむらとの和が１０（μｍ）ｐ−ｐ（ピーク・トゥ・ピーク）以下であればよい。
【０１０２】
例えば、基板１０と同径に加工したシート１４を接着用の紫外線硬化性樹脂１５を介して基板１０上に設置し、回転延伸させることにより、シート１４が紫外線硬化性樹脂１５の重しとなって極薄の紫外線硬化性樹脂の層が形成され、トータルの厚さむらを１０（μｍ）ｐ−ｐ（ピーク・トゥ・ピーク）以下にすることができる。
【０１０３】
なお、本発明は、図５に示すように基板１０に形成された第１の記録層１７上に、中間層１６を介して第２の記録層１８が形成された多層構造の光記録媒体にも適用することができる。
【０１０４】
また、上述した構成の光ディスクの場合、スキューが発生しやすい。本発明においては特にこのスキューを軽減する為に、図６に示すように、基板１０上であって透明カバー層１２形成面側とは反対の面側にスキュー補正部材１９として紫外線硬化性樹脂を塗布することが有効である。
【０１０５】
この場合、スキュー補正部材１９は透明カバー層１２と同じ材料でコートして形成してもよいし、または、透明カバー層１２の材料である紫外線硬化性樹脂よりも硬化収縮率が高い材料を薄く塗布して形成してもよい。
【０１０６】
なお、上記のような高密度光ディスクを記録再生するためには、後述する高ＮＡの対物レンズを有したピックアップが必要となる。この場合、前述のように対物レンズとディスク面との間の距離、ワーキングディスタンスを従来の距離に対して狭くすることが望ましい。
【０１０７】
この場合、対物レンズがディスク面に衝突してディスク表面を傷つけてしまうことが予想される。
【０１０８】
これを防止するために、前述した例のように透明カバー層の表面側の硬度を比較的高いものとするべく、図７に示すように透明カバー層１２上にハードコート（鉛筆硬度Ｈ以上）２０を施すことが考えられる。また透明カバー層１２の厚さが薄くなると、ごみの影響を受けやすくなるので、ハードコート２０は帯電防止の機能を備えてもよい。この帯電防止により光ディスク表面へのごみの吸着を防ぐことが可能となる。
【０１０９】
また、本例の光ディスクにおいては、記録及び／又は再生を行う光の波長を７８０（ｎｍ）とした場合、透明カバー層の面内複屈折量は、往復で平均１５（ｎｍ）以下、周内変動が１５（ｎｍ）ｐ−ｐ（ピーク・トゥー・ピーク）以下であることが好ましい。
【０１１０】
本例の光ディスクにおいて、例えば厚さ１００（μｍ）のポリカーボネートのシートを用いて透明カバー層を形成し、記録層を相変化膜とした場合に記録再生実験を行った。この場合、線密度が０．２１（μｍ／ｂｉｔ）でジッター８（％）が得られた。また、このような光ディスクの複屈折量を測定した。この測定結果を図２３に示す。図２３において、横軸は半径方向の位置（ｍｍ）を示し、縦軸は複屈折量（ｎｍ）を示す。図２３においては、その分布を縦方向の線分で表示し、各線分を横切る横線分位置が平均値となる。この複屈折量は、往復で平均１５（ｎｍ）以下、周内変動は１５（ｎｍ）ｐ−ｐ（ピーク・トゥ・ピーク）以下とすることができた。
【０１１１】
また、本例の光ディスクにおいて、透明カバー層を液状光硬化性樹脂を情報記録層上に塗布し、回転延伸した後、光硬化して形成し、記録層を相変化膜とした場合に同様の記録再生実験を行った。
【０１１２】
この場合、線密度が０．２１（μｍ／ｂｉｔ）でジッター７（％）が得られた。また、このような光ディスクの複屈折量を測定した。この測定結果を図２４に示す。図２４において、横軸は半径方向の位置（ｍｍ）を示し、縦軸は複屈折量（ｎｍ）を示す。図２４においては、その分布を縦方向の線分で表示し、各線分を横切る横線分位置が平均値となる。この複屈折量は、透明カバー層をポリカーボネートシートにより形成した場合よりもさらに少なくすることができ、往復で平均５（ｎｍ）以下、周内変動は５（ｎｍ）ｐ−ｐ（ピーク・トゥ・ピーク）以下とすることができた。
【０１１３】
このように本例の光ディスクは、従来のＣＤやＤＶＤの面内複屈折量が１００（ｎｍ）であることと比較しても安定した優れた特性を有することがわかる。
【０１１４】
また、本発明の光記録媒体においては、記録層の形成面に、シラン処理を施しても良い。このようにシラン処理を施すことにより、透明カバー層を形成する紫外線硬化性樹脂と、記録層表面との密着性を向上させることができる。
【０１１５】
また、本例の光記録媒体においては、透明カバー層の表面に、反射防止膜を例えばスパッタ等の方法で形成してもよい。
【０１１６】
この反射防止膜の屈折率Ｎは、透明カバー層の屈折率よりも低いものであることが望ましく、また、この反射防止膜の厚さは、記録及び／又は再生を行う光の波長をλとした場合に、（λ／３）／Ｎ（ｎｍ）以下、更には（λ／４）／Ｎ（ｎｍ）程度とすることが望ましい。
【０１１７】
本例の光記録媒体のように高ＮＡになると、記録及び／又は再生を行う記録再生光の入射角も大きくなり、これにより透明カバー層の表面における光の反射が無視できなくなる。
【０１１８】
例えば、ＮＡ＝０．４５の場合には、記録再生光の入射角は、２６．７°、ＮＡ＝０．６の場合には、３６．９°となる。
【０１１９】
そして、ＮＡ＝０．８の場合には、記録再生光の入射角は、５３．１°にもなる。透明カバー層の表面における光の反射率は、記録再生光の入射角に依存していることが確かめられており、透明カバー層の屈折率が例えば１．５２の場合には、ｓ偏光成分の表面反射率は１５（％）を越える。（キノメレスグリオ株式会社出版「レーザーアンドオプティクスガイド」の１６８頁参照）この場合、光量の損失という問題を生じるとともに実効ＮＡの低下をもたらす。
【０１２０】
このため、このような問題を回避するために透明カバー層の表面に、反射防止膜を形成することが有効である。
【０１２１】
反射防止膜の材料には、透明カバー層の屈折率を１．５２とした場合には、光学的に屈折率が１．２３程度のものを用いることが理想であることが知られている（共立出版  光学技術シリーズ１１  光学薄膜  第２８頁参照）。しかし工業的には、例えばＭｇＦ2が用いられる。ＭｇＦ2の屈折率Ｎは１．３８である。
【０１２２】
記録再生光の波長を６５０（ｎｍ）とすると、ＭｇＦ2よりなる反射防止膜の厚さは、（λ／４）／Ｎ（ｎｍ）の式に各数値を代入することにより、約１２０（ｎｍ）の厚さに形成することが好ましいことがわかる。
【０１２３】
ところで、透明カバー層の表面における光の反射量は、反射防止膜の厚さを零から（λ／４）／Ｎ（ｎｍ）の範囲で減少させていくと、（λ／４）／Ｎ（ｎｍ）とした場合に最少となることが確かめられている。一方、反射防止膜の厚さが（λ／４）／Ｎ（ｎｍ）を越えると光の反射量は増大し、（λ／２）／Ｎ（ｎｍ）となったときに最大となることも確かめられている。このことから、反射防止膜の厚さは、工業上に成膜技術も考慮し、また、実用上（λ／３）／Ｎ（ｎｍ）以下であれば良いことが確認された。
【０１２４】
上述したように透明カバー層の表面に反射防止膜を形成したとき、例えば屈折率１．５２の透明カバー層上に反射防止膜としてＭｇＦ2を単層で（λ／４）／Ｎ（ｎｍ）の厚さに形成したとき、記録再生光として５５０（ｎｍ）のものを使用した場合には、記録再生光の入射角が６０°程度までは、５０（％）以上の光量の低減を防止することができる（キノメレスグリオ株式会社出版「レーザーアンドオプティクスガイド」の１７４頁参照）。
【０１２５】
本発明は、単板構造のディスクのみならず、図８に示すような、最終的に得る基板１０の半分の厚さの２枚の基板５１、５２を、２枚貼り合わせる構造の光記録媒体（光ディスク）にも適用可能である。この場合、厚さ０．６（ｍｍ）の基板５１，５２に、最大１７０（μｍ）の透明カバー層を形成して貼り合わせるので、ディスクの厚さは（０．６＋０．１７）×２＋（接着層の厚さ）となり、接着層の厚さを０．０６（ｍｍ）とすると、光ディスクの厚さは１．６０（ｍｍ）となる。また、図９に示すように、１枚の基板５０の両面に情報信号部と透明カバー層１２を有するような構造の光記録媒体（光ディスク）にも適用可能である。
【０１２６】
上記のような光ディスクの製造例についてを説明する。図１０に示すように、押し出し成形、またはキャスト法で作られた例えば１００（μｍ）厚さのポリカーボネートのシート４０を用意し、ガラス転移点よりも高い温度に熱せられたスタンパー４１にローラー４２に圧力をかけることで圧着させる。この場合の圧力は、たとえば２８０（Ｋｇｆ）とすることができる。
【０１２７】
この操作により、図１１に示すように、シート４０にスタンパー４１の情報ピットあるいは案内溝が転写される。そしてこれを冷却した後、スタンパー４１からシートを剥離して例えば１００（μｍ）厚の薄板基板４３を形成する。
【０１２８】
続いて、先に述べた製造方法と同様に、記録膜または反射膜を成膜して、最終的に薄型の光記録媒体を得ることができる。
【０１２９】
また、この図１１に示した薄板基板４３を用いて、多層構造の光記録媒体を作製することができる。
【０１３０】
この場合、先ず、図１２に示すように、スタンパー１４１上に液状紫外線硬化性樹脂６０を滴下し、図１１において示した薄板基板４３を記録層側を液状紫外線硬化性樹脂６０に接触させて設置する。
【０１３１】
そして、図１３に示すように、液状紫外線性樹脂６０を介して回転基台６１上に配置した状態で薄板基板４３が重ね合わされたスタンパー１４１を回転させて、液状紫外線硬化性樹脂６０を延伸し、所要の厚さ、例えば２０（μｍ）とし、その後、図１４に示すように薄板基板４３側からランプ６２により紫外線を照射し、液状紫外線硬化性樹脂６０を光硬化させる。
【０１３２】
続いて、図１５に示すように、薄板基板４３と、例えば２０（μｍ）の厚さの光硬化された紫外線硬化性樹脂６０を一体として、スタンパー１４１から剥離する。
【０１３３】
上述のようにして、スタンパー１４１により紫外線硬化性樹脂６０に転写された微細凹凸に、例えばＳｉ化合物や、Ａｌ、Ａｕ等の金属薄膜を成膜することにより記録層を形成することができる。
【０１３４】
また、更に図１２〜図１５を用いて説明した工程を繰り返し行うことによって、情報記録膜あるいは反射膜と、透明カバー層が３層以上で積層された光ディスクを作製することもできる。
【０１３５】
そして、最終的に得られた記録層上に、図１６に示すように、例えば射出成形によって得られた基板１０を紫外線硬化性樹脂６０を介して例えば２０（μｍ）の間隔で貼り合わせることにより、剛性の高い光ディスクが得られる。
【０１３６】
また、図１７に示すように、最終的に得られた記録層上に例えばＡｌ，Ａｕ等の高反射膜７０を成膜し、さらに保護膜７１を形成することにより、多層構造の薄型の光ディスクを作製することができる。
【０１３７】
この場合、記録層の層数をＮとしたとき、最終的に得られる光ディスクの厚さは、薄板基板４３の厚さの例えば１００（μｍ）と、各層間の紫外線硬化性樹脂層のＮ倍の厚さと、高反射膜７０と保護膜７１の厚さの例えば５（μｍ）との和となる。すなわち、例えば各層間の紫外線硬化性樹脂層の厚さを２０（μｍ）とし高反射膜７０と保護膜７１の厚さを５（μｍ）とした場合であって、４層構造の光ディスクを作製したとき、光ディスク全体としては１８５（μｍ）の厚さになる。
【０１３８】
しかし、このようにして得られる光ディスクは剛性が非常に低いので、薄板基板４３側に、剛性を有する厚板を貼り合わせて支持するとか、記録再生時において高速回転によってフレキシブルな光ディスクがフラットになることを利用して記録再生を行う等の工夫が必要となる。
【０１３９】
上記において説明した各記録層間の厚さの例の２０（μｍ）という数値は、最終的に得られる光ディスクの層数と、この光ディスクを記録再生するピックアップのレンズの可動距離とで決定される。
【０１４０】
例えば、レンズの可動距離すなわち２群レンズの間隔が５０（μｍ）である場合には、図１８に示すように基板１０と薄板基板４３とを５０（μｍ）の間隔で紫外線硬化性樹脂を介して貼り合わせればよく、また、図１９に示すように３層構造の光ディスクを作製する場合には、薄板基板４３と基板１０との間に、２５（μｍ）の間隔で記録層を挟んで形成すればよい。
【０１４１】
また、本発明は、上述した構造の光ディスクの他、図２０に示すように、薄板基板４３と、例えば射出成形で作成した例えば１．１（ｍｍ）の厚さのディスク状基板５０とを、紫外線硬化性樹脂を介して貼り合わせて圧着し、透明基板側から紫外線を照射する事により接着してた光ディスクにも適用することができる。
【０１４２】
さらに、本発明においては、図２１に示すように、射出成形によって両面に記録層を形成する微細凹凸が転写された基板５０と、薄板基板４３とを、紫外線硬化性樹脂を介して貼り合わせて圧着し、薄板基板４３側から紫外線を照射して接着して、最終的に４層構造とされる光ディスクにも適用可能である。
【０１４３】
次に基板上に形成されるピット、またはグルーブの深さについて説明する。以下において、透明カバー層の屈折率をＮとする。
【０１４４】
最も変調度が得られるピットまたはグルーブの深さは（λ／４）／Ｎであり、ＲＯＭ等はこの深さに設定する。
【０１４５】
また、グルーブ記録やランド記録において、プッシュプルでトラッキングエラー信号を得ようとする場合、プッシュプル信号はピットまたはランドの深さが（λ／８）／Ｎのときに最大となる。
【０１４６】
さらに、ランド／グルーブ記録において、グルーブ深さはサーボ信号の特性とともに、クロストークやクロスイレースの特性を考慮すべきであり、実験的にはクロストークは（λ／６）／Ｎ若しくは（λ／３）／Ｎ近辺で最小になり、クロスイレースは深い方が影響が少ないことが確認されている。また、グルーブ傾き等を考慮し、両特性を満足させようとすると、（３λ／８）／Ｎが近辺が最適となる。本発明においては、ピットまたはグルーブの深さは上記範囲内とされることが好ましい。
【０１４７】
次に、本発明の光学ディスク装置に適用して好適な高ＮＡを実現させるレンズの実施例について説明する。図２２は高ＮＡを実現させるレンズの構成を示す。
【０１４８】
すなわち、第１のレンズ３１と光ディスク２１との間に第２のレンズ３２を配置する。このように、２群レンズ構成にすることで、ＮＡを０．７以上にすることが可能となり、第２のレンズ３２の第１面３２ａと光ディスク２１の表面との間隔（Ｗ．Ｄ．）を狭くすることができる。
【０１４９】
また、第１のレンズ３１及び第２のレンズ３２の第１面３１ａ、第２面３１ｂ、第３面３２ａ、及び第４面３２ｂは夫々非球面形状にすることが望ましい。
【０１５０】
この２群レンズを用いた光学ディスク装置においては、上述した光ディスクの高密度記録再生を行うことが可能となる。
【０１５１】
【実施例】
次に、本発明の効果を確認するべく、以下に示すような実験を行った。
【０１５２】
実験例１
本実験例においては、透明カバー層の表面側を形成する材料のヤング率と傷の発生のし易さの関係を調査した。
【０１５３】
すなわち、光記録媒体として半径６０（ｍｍ）の各種光記録媒体を用意し、この光記録媒体の透明カバー層となる透明基板或いは光透過層の表面にＪＩＳ規格により定められている粉塵ＪＩＳ−１５を少量載置した。そして、その上にポリエステル製の繊維を被せて０．２（ｇ／ｃｍ2 ）の圧力で押し付けた状態で、回転数１８００（ｒｐｍ）で１分間回転させ、半径４０（ｍｍ）の位置における傷の発生程度を目視により観察した。
【０１５４】
なお、光記録媒体としては、透明カバー層がポリカーボネートよりなるもの、透明カバー層が紫外線硬化型樹脂よりなるものを用意し、ポリカーボネートよりなる透明カバー層上に厚さ１００（μｍ）のポリカーボネートよりなる膜を形成したもの、紫外線硬化型樹脂よりなる透明カバー層上に厚さ１００（μｍ）の紫外線硬化型樹脂よりなる膜を形成したもの、紫外線硬化型樹脂よりなる透明カバー層上に厚さ５０（ｎｍ）のＣＨ（アモルファス水素化炭素）をＣＶＤ法により形成したもの、Ｓｉ3Ｎ4，ＭｇＦ2，Ａｌ2Ｏ3，ＳｉＯ2をそれぞれスパッタ法により形成したものを用意した。すなわち、結果的に、透明カバー層を表面側に配される第１の層と記録層側に配される第２の層により構成することとした。
【０１５５】
結果を表１に示す。
【０１５６】
【表１】
0004099549.tif 000003
【０１５７】
なお、表１においては、第１の層形成材料、第１の層厚さ、第１の層形成材料ヤング率、第１の層形成材料鉛筆硬度、第２の層形成材料、傷の程度を併せて示すこととする。ただし、上記ヤング率はバルク状態におけるヤング率を示し、上記鉛筆硬度は正確なヤング率の測定が不可能である紫外線硬化型樹脂の硬さを表すために示すこととし、ここで示す各樹脂の鉛筆硬度はガラス基板上に硬化させた状態での硬度を示す。
【０１５８】
表１の結果から、表面側の第１の層を柔らかい材料であるポリカーボネートや紫外線硬化型樹脂により形成している光記録媒体においては、非常に多くの擦り傷が見られることがわかる。ただし、これらの中でも第１の層を比較的硬度が高い紫外線硬化型樹脂により形成している光ディスクの方が傷の発生が抑えられており、透明カバー層の表面側の硬さが傷の発生に大きく関与していることがわかる。
【０１５９】
また、表１の結果から、表面側の第１の層をヤング率が７０（ＧＰａ）以上のＳｉＯ2，ＭｇＦ2により形成している光記録媒体においては、擦り傷がかなり抑えられており、表面側の第１の層をヤング率が１５０（ＧＰａ）以上のＡｌ2Ｏ3，Ｓｉ3Ｎ4，ＣＨ（アモルファス水素化炭素）により形成している光記録媒体においては、擦り傷が全く発生していないことがわかる。これは表面の硬度が十分に硬いためと思われる。
【０１６０】
すなわち、本発明のように、透明カバー層の表面側のヤング率を７０（ＧＰａ）以上の材料により形成すれば、透明カバー層の表面側の傷の発生が抑えられ、光記録媒体表面への傷の発生が抑えられ、破損が起こりにくく、信頼性が確保されることが確認された。
【０１６１】
また、本発明のように、透明カバー層を表面側に配される第１の層と記録層側に配される第２の層により形成し、第１の層をヤング率１５０（ＧＰａ）以上の材料により形成すれば、透明カバー層の表面側の傷の発生がさらに抑えられ、光記録媒体表面への傷の発生がさらに抑えられ、破損がさらに起こりにくく、信頼性がさらに確保されることが確認された。
【０１６２】
さらに、本発明のように透明カバー層の表面側をＣ100-XＨX（１（原子％）＜Ｘ＜４５（原子％）），Ｓｉ3Ｎ4，ＭｇＦ2，Ａｌ2Ｏ3，ＳｉＯ2のうちの少なくとも１種類を含む材料により形成すれば、透明カバー層の表面側の硬度を容易に向上させることが可能であることが確認された。
【０１６３】
実験例２
本実験例においては、透明カバー層の表面側となる第１の層の厚さと傷の発生し易さの関係、透明カバー層の表面側となる第１の層の厚さと反射率の関係を調査した。
【０１６４】
すなわち、光記録媒体として実験例１と同様に直径６０（ｍｍ）で透明カバー層が紫外線硬化型樹脂よりなるものを用意し、紫外線硬化型樹脂よりなる透明カバー層上にＳｉＯ2よりなる膜をスパッタ法により厚さ１（ｎｍ），２（ｎｍ），１０（ｎｍ），５０（ｎｍ），２００（ｎｍ）でそれぞれ形成したもの、紫外線硬化型樹脂よりなる透明カバー層上にＳｉ3Ｎ4よりなる膜を厚さ１（ｎｍ），２（ｎｍ），１０（ｎｍ），５０（ｎｍ）でそれぞれ形成したものを用意した。
【０１６５】
そして、これら光記録媒体の傷の発生し易さを実験例１と同様にして調査した。結果を表２に示す。
【０１６６】
【表２】
0004099549.tif 000004
【０１６７】
なお、表２においても、第１の層形成材料、第１の層厚さ、第２の層形成材料、傷の程度を併せて示すこととする。
【０１６８】
表２の結果から、第１の層形成材料の種類に関係なく、第１の層厚さが厚い程、傷の発生が抑えられることがわかる。また、第１の層形成材料をＳｉ3Ｎ4で形成した場合においては、第１の層厚さが２（ｎｍ）で効果が得られることがわかる。
【０１６９】
ところで、第１の層厚さには、成膜時間の問題の他、光学的な問題に起因して上限がある。
【０１７０】
すなわち、屈折率の異なる第１の層と第２の層を重ねることとなるため、大気と第１の層の境界での反射光と第１の層と第２の層の境界での反射光が干渉し、ある厚さにおいて反射率が非常に高くなり、記録層に達する光量が減少してしまう。これにより、再生信号のレベルの低下や記録パワーの不足等の問題が生じてしまうためである。
【０１７１】
そこで、透明カバー層の大気に対する屈折率を１．５２に固定し、第１の層厚さを変更した場合における波長６４０（ｎｍ）の光に対する反射率の変化を計算により求めた。なお、第１の層はＭｇＦ2，ＳｉＯ2，Ａｌ2Ｏ3，ＣＨ，Ｓｉ3Ｎ4のそれぞれにより形成することとした。結果を図２５に示す。図２５中横軸は第１の層厚さを示し、縦軸は反射率を示し、図中×はＭｇＦ2の結果を示し、図中○はＳｉＯ2の結果を示し、図中△はＡｌ2 Ｏ3 の結果を示し、図中◎はＣＨの結果を示し、図中□はＳｉ3Ｎ4の結果を示す。
【０１７２】
なお、各材料の屈折率は、ＭｇＦ2が１．３８、ＳｉＯ2が１．４６、Ａｌ2Ｏ3が１．６０、ＣＨが１．８０、Ｓｉ3Ｎ4が２．００である。
【０１７３】
また、透明カバー層の大気に対する屈折率を１．３８に固定し、第１の層厚さを変更した場合における波長６４０（ｎｍ）の光に対する反射率の変化を計算により求めた。なお、第１の層はＳｉＯ2，Ａｌ2Ｏ3，ＣＨ，Ｓｉ3Ｎ4のそれぞれにより形成することとした。結果を図２６に示す。図２６中横軸は第１の層厚さを示し、縦軸は反射率を示し、図中○はＳｉＯ2 の結果を示し、図中△はＡｌ2Ｏ3の結果を示し、図中◎はＣＨの結果を示し、図中□はＳｉ3Ｎ4の結果を示す。
【０１７４】
図２５及び図２６の結果から、屈折率が高いＣＨ，Ｓｉ3Ｎ4を用いた場合においては、第１の層厚さによっては反射率が１０（％）以上となってしまうことがわかる。通常のポリカーボネートよりなる透明基板の反射率は５（％）程度であり、再生信号レベルは表面反射により表面反射が全くない場合に比べて０．９５×０．９５＝０．９０となる。この従来の値の０．９に比べて１０（％）低い値までを許容量とすると、表面反射率は１０（％）まで許容される。
【０１７５】
この条件を満たすには、第１の層形成材料の屈折率が１．６５以下であるか、もしくは第１の層形成材料の屈折率が１．６５よりも大きい場合、例えば屈折率が２．０の場合において、第１の層厚さが３０（ｎｍ）以下又は１３０（ｎｍ）以上，１９０（ｎｍ）以下である必要がある。
【０１７６】
しかしながら、本実験例で使用されている材料の屈折率程度の範囲の屈折率を有する材料を用いる場合には、上記の表面反射率の変化と、厚さが厚い程、強度が向上することを考え併せるとその厚さの上限は２３０（ｎｍ）程度と考えられる。これ以上の厚さとすると、屈折率が高い材料を使用した場合において厚さの変動等により表面反射率が許容値とならなくなることが懸念され、また成膜時間が実用的でなくなることから好ましくない。
【０１７７】
すなわち、本実験例の結果から、本発明の光記録媒体において、透明カバー層を表面側に配される第１の層と記録層側に配される第２の層により形成する場合においては、第１の層の厚さを２（ｎｍ）以上，２３０（ｎｍ）以下とすることが好ましいことが確認された。
【０１７８】
【発明の効果】
以上の説明からも明らかなように、本発明の光記録媒体においては、記録層の一主面側に表面側がヤング率７０（ＧＰａ）以上の材料よりなる透明カバー層が形成されているため、この透明カバー層側から開口数０．７以上の対物レンズを用いてワーキングディスタンスを狭めて光を照射するようにした場合に光学ピックアップとの衝突が発生しても、透明カバー層表面への傷の発生が抑えられ、光記録媒体表面への傷の発生が抑えられ、破損が起こりにくく、信頼性が確保される。
【０１７９】
また、本発明の光記録媒体においては、透明カバー層に磁気ディスクで使用されているような繊維を接触させても、透明カバー層への傷の発生が抑えられ、光記録媒体表面への傷の発生が抑えられ、破損が起こりにくく、信頼性が確保される。
【０１８０】
なお、上記本発明の光記録媒体において、透明カバー層の厚さを１５０（μｍ）以下とすれば、光学ピックアップの対物レンズの高開口数化に十分対応する。
【０１８１】
また、上記本発明の光記録媒体において、透明カバー層を表面側に配される第１の層と記録層側に配される第２の層により形成するようにすれば、容易に表面側の硬度が高くなされ、且つ透明カバー層が容易に形成される。
【０１８２】
さらに、上記本発明の光記録媒体において、上記記録層中の少なくとも情報信号が記録される情報信号部の領域において、上記透明カバー層の厚さｔをｔ＝３〜１７７（μｍ）とし、該透明カバー層厚さむらをΔｔとしたときに、当該光記録媒体を記録及び／又は再生する光学系の開口数ＮＡおよび波長λとの間に、Δｔ ≦±５．２６( λ／ＮＡ4）（μｍ）の関係が成り立つようにし、トラックピッチＰがＰ≦０．６４（μｍ）、スキューΘがΘ≦±８４．１１５°（λ／ＮＡ3／ｔ）となるようにし、上記波長λがλ≦０．６８（μｍ）、上記開口数ＮＡがＮＡ／λ≧１．２０をみたす記録再生光学系で記録または再生するようにすれば、高ＮＡ化に十分対応可能で、高容量化され、例えば８（ＧＢ）以上の記録容量が達成される。また、本発明の光記録媒体は、簡便な記録再生装置のままで従来に比べ高容量化を図ることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】透明カバー層の厚さ誤差によるジッター値の変化の関係を示す。
【図２】基板上に記録層が形成された状態を模式的に示す要部概略断面図である。
【図３】本発明を適用した光ディスクの一例を模式的に示す要部概略断面図である。
【図４】本発明を適用した光ディスクの他の例を模式的に示す要部概略断面図である。
【図５】本発明を適用した光ディスクのさらに他の例を模式的に示す要部概略断面図である。
【図６】本発明を適用した光ディスクのさらに他の例を模式的に示す要部概略断面図である。
【図７】本発明を適用した光ディスクのさらに他の例を模式的に示す要部概略断面図である。
【図８】本発明を適用した光ディスクのさらに他の例を模式的に示す要部概略断面図である。
【図９】本発明を適用した光ディスクのさらに他の例を模式的に示す要部概略断面図である。
【図１０】シートをスタンパーに圧着させる工程を模式的に示す側面図である。
【図１１】薄板基板を用意する工程を示す側面図である。
【図１２】スタンパー上に紫外線硬化性樹脂を介して薄板基板を配する工程を模式的に示す断面図である。
【図１３】紫外線硬化性樹脂を延伸させる工程を模式的に示す断面図である。
【図１４】紫外線硬化性樹脂を硬化させる工程を模式的に示す断面図である。
【図１５】スタンパーから剥離する工程を模式的に示す断面図である。
【図１６】本発明を適用した光ディスクのさらに他の例を模式的に示す要部概略断面図である。
【図１７】本発明を適用した光ディスクのさらに他の例を模式的に示す要部概略断面図である。
【図１８】本発明を適用した光ディスクのさらに他の例を模式的に示す要部概略断面図である。
【図１９】本発明を適用した光ディスクのさらに他の例を模式的に示す要部概略断面図である。
【図２０】本発明を適用した光ディスクのさらに他の例を模式的に示す要部概略断面図である。
【図２１】本発明を適用した光ディスクのさらに他の例を模式的に示す要部概略断面図である。
【図２２】本発明を適用した光ディスクを記録再生する光学ディスク装置に用いる２群レンズを示す拡大図である。
【図２３】本発明を適用した光ディスクの透明カバー層の複屈折量の測定結果の一例を示す。
【図２４】本発明を適用した光ディスクの透明カバー層の複屈折量の測定結果の他の例を示す。
【図２５】第１の層厚さと反射率の関係の一例を示す特性図である。
【図２６】第１の層厚さと反射率の関係の他の例を示す特性図である。
【符号の説明】
１０，５０，５１，５２  基板、１１  情報信号部、１２  透明カバー層、１３  中心孔、１４，４０  シート、１５  紫外線硬化性樹脂、１６  中間層、１７  第１の記録層、１８  第２の記録層、１９  スキュー補正部材、２０  ハードコート、２１  光ディスク、３１  第１のレンズ、３２  第２のレンズ、４１，１４１  スタンパー、４２  ローラー、４３  薄板基板、６０  液状紫外線硬化性樹脂、６１  回転基台、６２  ランプ、７０  高反射膜、７１  保護膜
【図１】
0004099549.tif 000005
【図２】
0004099549.tif 000006
【図３】
0004099549.tif 000007
【図４】
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【図５】
0004099549.tif 000009
【図６】
0004099549.tif 000010
【図７】
0004099549.tif 000011
【図８】
0004099549.tif 000012
【図９】
0004099549.tif 000013
【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
0004099549.tif 000017
【図１４】
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【図１５】
0004099549.tif 000019
【図１６】
0004099549.tif 000020
【図１７】
0004099549.tif 000021
【図１８】
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【図１９】
0004099549.tif 000023
【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
0004099549.tif 000028
【図２５】
0004099549.tif 000029
【図２６】
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