(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、
（Ｃ）感放射線重合開始剤並びに１,７−ビス（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）−１,６−ヘプタジエン−３,５−ジオンおよびジベンジリデンアセトンよりなる群から選ばれる紫外線吸収剤
を含有することを特徴とする、ＥＬ表示素子の隔壁形成用感放射線性樹脂組成物。
【請求項２】
請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物から形成された、ＥＬ表示素子の隔壁。
【請求項３】
垂直断面形状が底辺の長さが上辺の長さよりも短くそして上部のパターンエッジと下部のパターンエッジを結んだ直線と、上辺とがなす角度が１５〜７５°をなす台形状である、請求項２に記載のＥＬ表示素子の隔壁。
【請求項４】
２５℃から２００℃までの加熱による揮発成分の発生量が隔壁の重量の１０％以下である、請求項２に記載のＥＬ表示素子の隔壁。
【請求項５】
請求項２に記載の隔壁を備えたＥＬ表示素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＥＬ表示素子の隔壁形成用感放射線性樹脂組成物、隔壁およびＥＬ表示素子に関する。さらに詳しくは、ＥＬ表示素子用隔壁を形成するための材料として好適な感放射線性樹脂組成物、それより形成された隔壁およびＥＬ表示素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、有機ＥＬ素子の陰極や有機ＥＬ媒体層をマイクロパターニングすることは、電荷注入層や発光層に用いられる有機ＥＬ媒体の耐熱性（一般に１００℃以下）、耐溶剤性、耐湿性が低いために困難である。例えば、通常薄膜のパターニングに用いられるフォトリソグラフィ法を有機ＥＬ素子に用いると、フォトレジスト中の溶剤の有機ＥＬ素子への浸入や、フォトレジストベーク中の高温雰囲気や、フォトレジスト現像液またはエッチング液の有機ＥＬ素子への浸入や、ドライエッチング時のプラズマによるダメージ等の原因により有機ＥＬ素子特性が劣化する問題が生じる。
【０００３】
また、蒸着マスクを用いてパターニングする方法もあるが、基板および蒸着間のマスクの密着不良による蒸着物の回り込みや、強制的に基板と蒸着マスクを密着させた場合のマスクとの接触により有機ＥＬ媒体層が傷ついてインジウム錫酸化物（以下、ＩＴＯという）などからなる陽極と陰極がショートすることや、陰極のストライプ状パターンなど開口部が大きくマスク部が細いパターンの場合にはマスク強度が不足しマスクが撓むこと等の問題により、微細なパタ−ンが形成できない。
【０００４】
前述の問題を解決する方法として、たとえば特開平２−６６８７３号公報に開示された技術は、有機ＥＬ媒体を溶解しない溶剤を用いたフォトレジストを有機ＥＬ素子上にパターニングし、希硫酸を用いて陰極をエッチングする方法である。しかし、エッチングの際、希硫酸により有機ＥＬ媒体が損傷を受ける。
【０００５】
また、特開平５−２７５１７２号公報、特開平５−２５８８５９号公報および特開平５−２５８８６０号公報に開示された技術は、ＩＴＯパターニング後の基板上に平行に配置した数〜数十μｍの高さの断面が順テーパー状隔壁を作製し、その基板に隔壁に対して垂直方向、基板面に対して斜めの方向から有機ＥＬ媒体や陰極材料を蒸着することによりパターニングする方法である。即ち、第１電極ラインおよび有機ＥＬ媒体の薄膜を、蒸着する際に、隔膜間が蒸着により汚染されるのを防止するため、予め基板に設けられている境界の高い隔壁により所定気体流れを遮って、選択的に斜め真空蒸着して形成する製造方法が採用されている。しかし、この斜めの蒸着方法では、隔壁間の開口部に有機ＥＬ媒体の付着しない部分を生じ、表示素子の輝度が不十分となる欠点を有する。特開平８−３１５９８１号公報では、断面形状がオーバーハング形状（底辺が上辺よりも短い台形状の）隔壁を用いることで、上方からの真空蒸着を可能とし、斜め蒸着の上記欠点を解消した。しかしながら、一般的に存在するレジスト材料は耐熱性が低く、硬化を行う際に軟化により逆テーパー形状を維持できないといった問題が生じる場合がある。
【０００６】
また、ＥＬ層中に、隔壁材料からの揮発成分が不純物として介入が生じた場合、ＥＬ発光素子の発光面積の低下が生じたり、点灯不良が生じるといった問題が生じる場合がある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
それ故、本発明の目的は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、必要な耐熱性、密着性を併せ持ち、かつ、逆テーパー形状を有する、ＥＬ表示素子用隔壁を形成するための感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
本発明の他の目的は、上記感放射線性樹脂組成物によって形成された隔壁、並びにその隔壁を使用したＥＬ表示素子を提供することにある。
本発明のさらに他の目的および利点は、以下の説明から明らかになろう。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第１に、
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、
（Ｃ）感放射線重合開始剤並びに１,７−ビス（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）−１,６−ヘプタジエン−３,５−ジオンおよびジベンジリデンアセトンよりなる群から選ばれる紫外線吸収剤
を含有することを特徴とする、ＥＬ表示素子の隔壁形成用感放射線性樹脂組成物によって達成される。
【０００９】
本発明の上記目的および利点は、第２に、本発明の感放射線性樹脂組成物から形成された、ＥＬ表示素子の隔壁によって達成される。
本発明の上記目的および利点は、第３に、本発明の隔壁を備えたＥＬ表示素子によって達成される。
本発明におけるＥＬ表示素子は有機ＥＬ表示素子および無機ＥＬ表示素子のいずれも包含する。これらのうち有機ＥＬ表示素子が好ましい。
【００１０】
以下、本発明の感放射線性樹脂組成物の各成分について詳述する。
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂
本発明に用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ可溶性である限りとくに制限はないが、ノボラック樹脂、フェノ−ル性水酸基またはカルボキシル基を有するラジカル重合性モノマ−の単独重合体、ならびに該ラジカル重合性モノマ−とそれ以外の他のラジカル重合性モノマ−の共重合体が好ましく用いられる。
【００１１】
上記ノボラック樹脂としては、アルカリ可溶性であり、フェノ−ル類、好ましくはｍ−クレゾ−ルを含有するフェノ−ル類をアルデヒド類と重縮合して得られるものである。かかるノボラック樹脂の製造において用いられる、ｍ−クレゾ−ル以外のフェノ−ル類（以下、単に「フェノ−ル性モノマ−」と称する）としては、例えばフェノ−ル、ｐ−クレゾ−ル、ｏ−クレゾ−ル、２,３−キシレノ−ル、２,５−キシレノ−ル、３,５−キシレノ−ル、２,３,５−トリメチルフェノ−ル、カテコ−ル、レゾルシノ−ル、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、ピロガロ−ル、フロログリシノ−ルなどが有利に使用される。これらのフェノ−ル性モノマ−は、１種単独であるいは２種以上一緒に、好ましくはｍ−クレゾ−ルと組み合わせて使用することができる。
【００１２】
ｍ−クレゾ−ルとフェノ−ル性モノマ−の配合比は、ｍ−クレゾ−ル／フェノ−ル性モノマ−＝２０／８０〜１００／０（モル比）の範囲が好ましく、より好ましくはｍ−クレゾ−ル／フェノ−ル性モノマ−＝３０／７０〜１００／０の範囲である。ｍ−クレゾ−ルの配合比が２０モル％に満たないと組成物の解像度が低下する傾向が見られる。
これらのフェノ−ル類を、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒドの如きアルデヒド類と、シュウ酸などの酸触媒の存在下で重縮合させることにより、目的とするノボラック樹脂が得られる。
【００１３】
重縮合の反応には、通常、反応媒質として水が用いられるが、重縮合の反応において使用するフェノール類がアルデヒド類の水溶液に溶解せず、反応初期から不均一系になる場合には、反応媒質として親水性有機溶媒を使用することもできる。この際使用される溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類を挙げることができる。これらの反応媒質の使用量は、反応原料１００重量部当たり、２０〜１００重量部が好ましい。
縮合の反応温度は、反応原料の反応性に応じて適宜調節することができるが、好ましくは、１０〜２００℃である。重縮合の反応終了後、系内に存在する未反応原料、酸触媒および反応媒質を除去するため、例えば温度を１３０〜２３０℃に上昇させ、減圧下に揮発分を留去し、ノボラック樹脂を回収することができる。
【００１４】
本発明に用いられるノボラック樹脂は、標準ポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」と称する）が、好ましくは２,０００〜３０,０００、特に好ましくは３,５００〜２０,０００の範囲にあることが望ましい。Ｍｗが３０,０００を超えると、本発明組成物の現像性が悪化する傾向があり、Ｍｗが２,０００未満であると、成膜性が悪化する傾向にある。本発明の感放射線性樹脂組成物においては、上述したノボラック樹脂は、１種単独または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００１５】
上記、フェノ−ル性水酸基またはカルボキシル基を有するラジカル重合性モノマ−の単独重合体、ならびに該ラジカル重合性モノマ−とそれ以外の他のラジカル重合性モノマ−の共重合体を合成するために用いられる、フェノ−ル性水酸基またはカルボキシル基を有するラジカル重合性モノマ−としては、例えば、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレンおよびｐ−ヒドロキシスチレン、ならびにこれらのアルキル、アルコキシ、ハロゲン、ハロアルキル、ニトロ、シアノ、アミド、エステル、カルボキシ置換体；
ビニルヒドロキノン、５−ビニルピロガロ−ル、６−ビニルピロガロ−ル、１−ビニルフロログリシノ−ル等のポリヒドロキシビニルフェノ−ル類；
ｏ−ビニル安息香酸、ｍ−ビニル安息香酸、およびｐ−ビニル安息香酸、ならびにこれらのアルキル、アルコキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、アミド、エステル置換体；
メタクリル酸およびアクリル酸、ならびにこれらのα−位のハロアルキル、アルコキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ置換体；
マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、無水フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸および１,４−シクロヘキセンジカルボン酸等の二価の不飽和カルボン酸、ならびにこれらのメチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒ−ブチル、フェニル、ｏ−、ｍ−、ｐ−トルイルハ−フエステルおよびハ−フアミドを好ましいものとして挙げることができる。
【００１６】
これらのうち、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレンおよびｐ−ヒドロキシスチレン、ならびにこれらのアルキル、アルコキシ置換体がパタ−ニング時の感度、解像度現像後の残膜率、耐熱変形性、耐溶剤性、下地との密着性、溶液の保存安定性等の面から好ましく用いられる。
これらは１種または２種以上一緒に用いることができる。
【００１７】
また、上記その他のラジカル重合性モノマ−としては、例えばスチレン、およびスチレンのα−位、ｏ−位、ｍ−位、またはｐ−位のアルキル、アルコキシ、ハロゲン、ハロアルキル、ニトロ、シアノ、アミド、エステル置換体；
ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等のジオレフィン類；
メタクリル酸またはアクリル酸のメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒ−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、イソアミルヘキシル、シクロヘキシル、アダマンチル、アリル、プロパギル、フェニル、ナフチル、アントラセニル、アントラキノニル、ピペロニル、サリチル、シクロヘキシル、ベンジル、フェネシル、クレシル、グリシジル、１,１,１−トリフルオロエチル、パ−フルオロエチル、パ−フルオロ−ｎ−プロピル、パ−フルオロ−ｉ−プロピル、トリフェニルメチル、トリシクロ［５.２.１.０2,6］デカン−８−イル（当該技術分野の慣用名として「ジシクロペンタニル」といわれている。）、クミル、３−（Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル、３−（Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ）エチル、フリル、フルフリルの各エステル化物；
メタクリル酸またはアクリル酸のアニリド、アミド、またはＮ,Ｎ−ジメチル、Ｎ,Ｎ−ジエチル、Ｎ,Ｎ−ジプロピル、Ｎ,Ｎ−ジイソプロピル、アントラニルアミド、アクリロニトリル、アクロレイン、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、弗化ビニル、弗化ビニリデン、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニルピリジン、酢酸ビニル、Ｎ−フェニルマレインイミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）マレインイミド、Ｎ−メタクリロイルフタルイミド、Ｎ−アクリロイルフタルイミド等を用いることができる。これらは１種または２種以上併用することができる。
【００１８】
これらのうち、スチレン、およびスチレンのα−位、ｏ−位、ｍ−位、ｐ−位のアルキル、アルコキシ、ハロゲン、ハロアルキル置換体；
ブタジエン、イソプレン；
メタクリル酸、またはアクリル酸のメチル、エチル、ｎ−プロピル、Ｎ−ブチル、グリシジルおよびジシクロペンタニルの各エステル物が、パタ−ニング時の感度、解像度現像後の残膜率、耐熱変形性、耐溶剤性、下地との密着性、溶液の保存安定性等の観点から特に好適に用いられる。
【００１９】
アルカリ可溶性樹脂としてフェノール性水酸基を有するラジカル重合性モノマ−とそれ以外の他のラジカル重合性モノマ−の共重合体を用いる場合、他のラジカル重合性モノマ−の好ましい共重合の割合は、フェノ−ル性水酸基を持つラジカル重合性モノマ−および他のラジカル重合性モノマ−との合計量に対して、好ましくは３０重量％以下、特に好ましくは５〜２０重量％である。
また、アルカリ可溶性樹脂としてカルボキシル基を有するラジカル重合性モノマ−とそれ以外の他のラジカル重合性モノマ−の共重合体を用いる場合、他のラジカル重合性モノマ−の好ましい共重合の割合は、カルボキシル基を有するラジカル重合性モノマ−および他のラジカル重合性モノマ−との合計量に対して、好ましくは９０重量％以下、特に好ましくは１０〜８０重量％である。
これらのラジカル重合性モノマ−の割合がフェノ−ル性水酸基またはカルボキシル基を有するラジカル重合性モノマ−に対して前述した割合を越えるとアルカリ現像が困難となる場合がある。
【００２０】
フェノ−ル性水酸基もしくはカルボキシル基を有するラジカル重合性モノマ−の単独重合体、または該ラジカル重合性モノマ−とそれ以外の他のラジカル重合性モノマ−の共重合体の製造に用いられる重合開始剤としては、一般的にラジカル重合開始剤として知られているものが使用でき、例えば２,２′−アゾビスイソブチロニトリル、２,２′−アゾビス−（２,４−ジメチルバレロニトリル）、２,２′−アゾビス−（４−メトキシ−２,４−ジメチルバレロニトリル）の如きアゾ化合物；
ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレ−ト、１,１′−ビス−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサンの如き有機過酸化物；
および過酸化水素が挙げられる。ラジカル重合開始剤として過酸化物を用いる場合には、過酸化物を還元剤とともに用いてレドックス型開始剤としてもよい。
【００２１】
フェノ−ル性水酸基またはカルボキシル基を有するラジカル重合性モノマ−の単独重合体、ならびに該ラジカル重合性モノマ−とそれ以外の他のラジカル重合性モノマ−の共重合体の製造に用いられる溶媒としては、例えばメタノ−ル、エタノ−ルなどのアルコ−ル類；テトラヒドロフランなどのエ−テル類；エチレングリコ−ルモノメチルエ−テル、エチレングリコ−ルモノエチルエ−テルなどのグリコ−ルエ−テル類；メチルセロソルブアセテ−ト、エチルセロソルブアセテ−トなどのエチレングリコ−ルアルキルエ−テルアセテ−ト類；ジエチレングリコ−ルモノメチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルモノエチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジエチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルエチルメチルエ−テルなどのジエチレングリコ−ル類；プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テル、プロピレングリコ−ルモノエチルエ−テル、プロピレングリコ−ルモノプロピルエ−テル、プロピレングリコ−ルモノブチルエ−テルなどのプロピレングリコ−ルモノアルキルエ−テル類；プロピレングリコ−ルメチルエ−テルアセテ−ト、プロピレングリコ−ルエチルエ−テルアセテ−ト、プロピレングリコ−ルプロピルエ−テルアセテ−トプロピレングリコ−ルブチルエ−テルアセテ−トなどのプロピレングリコ−ルアルキルエ−テルアセテ−ト類；プロピレングリコ−ルメチルエ−テルプロピオネ−ト、プロピレングリコ−ルエチルエ−テルプロピオネ−ト、プロピレングリコ−ルプロピルエ−テルプロピオネ−ト、プロピレングリコ−ルブチルエ−テルプロピオネ−トなどのプロピレングリコ−ルアルキルエ−テルアセテ−ト類；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどのケトン類；および酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチルなどのエステル類が挙げられる。
これらの溶媒の使用量は、反応原料１００重量部当たり、好ましくは２０〜１,０００重量部である。
【００２２】
フェノ−ル性水酸基もしくはカルボキシル基を有するラジカル重合性モノマ−の単独重合体、または該ラジカル重合性モノマ−とそれ以外の他のラジカル重合性モノマ−の共重合体の製造のポリスチレン換算重量平均分子量は、好ましくは２,０００〜１００,０００、より好ましくは３,０００〜５０,０００、特に好ましくは５,０００〜３０,０００である。
平均分子量が２,０００未満ではパタ−ン形状、解像度、現像性、耐熱性が劣化し易く、１００,０００を越えると現像性が悪化し易く、特に感度が悪化する傾向が大となる。
【００２３】
これらのフェノ−ル性水酸基もしくはカルボキシル基を有するラジカル重合性モノマ−の単独重合体、または該ラジカル重合性モノマ−とそれ以外の他のラジカル重合性モノマ−の共重合体は、単独でまたは２種以上用いてもよい。
また重合前にカルボキシル基やフェノ−ル性水酸基に保護基を導入しておき、重合後に脱保護することによってアルカリ可溶性を付与する方法でアルカリ可溶性樹脂を合成してもよい。さらに水添処理等によって可視光における透明性や軟化点を変化させてもよい。
【００２４】
上記のように、本発明に用いられるアルカリ可溶性樹（Ａ）としては、ノボラック樹脂、フェノ−ル性水酸基またはカルボキシル基を有するラジカル重合性モノマ−の単独重合体、ならびに該ラジカル重合性モノマ−とそれ以外の他のラジカル重合性モノマ−の共重合体が好ましく用いられる。また、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）の一部を他のフェノール化合物で置き換えることができる。
本発明に用いる他のフェノ−ル化合物としては、分子量が１,０００以下のフェノ−ル性化合物が挙げられる。フェノ−ル性化合物の分子量が１,０００を超えると解像度が低下する。かかる低分子フェノ−ル性化合物としては、例えば下記の構造を有する化合物を挙げることができる。
【００２５】
【化１】
0004108911.tif 000002
【００２６】
【化２】
0004108911.tif 000003
【００２７】
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）の一部を他のフェノール化合物で置き換える場合の他のフェノール化合物の使用量は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と他のフェノール化合物の合計量に対して、好ましくは８０重量％以下、より好ましくは５０重量％以下である。他のフェノール化合物の使用量が８０重量％を越えると、塗膜形成ができない場合がある。
【００２８】
重合性化合物（Ｂ）
本発明で用いられるエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物（Ｂ）としては、エポキシ基を持たず且つ単官能、２官能または３官能以上の（メタ）アクリレートが、重合性が良好であり、得られる隔壁の強度が向上する点から好ましく用いられる。
上記単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレートなどが挙げられる。
【００２９】
その市販品としては、例えばアロニックスＭ−１０１、同Ｍ−１１１、同Ｍ−１１４（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＣ−１１０Ｓ、同ＴＣ−１２０Ｓ（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート１５８、同２３１１（以上、大阪有機化学工業（株）製）が挙げられる。
【００３０】
上記２官能（メタ）アクリレートとしては、例えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１,９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートなどが挙げられる。その市販品としては、例えばアロニックスＭ−２１０、同Ｍ−２４０、同Ｍ−６２００（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＨＤＤＡ、同ＨＸ−２２０、同Ｒ−６０４（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート２６０、同３１２、同３３５ＨＰ（以上、大阪有機化学工業（株）製）などが挙げられる。
【００３１】
上記３官能以上の（メタ）アクリレートとしては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイロキシエチル）フォスフェート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。その市販品としては、例えばアロニックスＭ−３０９、同Ｍ−４００、同Ｍ−４０２、同Ｍ−４０５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−７１００、同Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０、同Ｍ−１３１０、同Ｍ−１６００、同Ｍ−１９６０、同Ｍ−８１００、同Ｍ−８５３０、同Ｍ−８５６０、同Ｍ−９０５０（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ、同ＤＰＨＡ、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ−１２０（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート２９５、同３００、同３６０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）などが挙げられる。
【００３２】
さらに、本発明で用いられる重合性化合物（Ｂ）としては、上記（メタ）アクリレート化合物のほかにウレタンアクリレート、ウレタンアダクト体、ポリエステルアクリレートを好適に使用することができる。これら重合性化合物の市販品としてはアロニックスＭ−７１００、同Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０、同Ｍ−１３１０、同Ｍ−１６００、同Ｍ−１９６０、同Ｍ−８１００、同Ｍ−８５３０、同Ｍ−８５６０、同Ｍ−９０５０（以上、東亞合成（株）製）が挙げられる。
【００３３】
上記のうち、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、トリ（（メタ）アクリロイロキシエチル）フォスフェート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが、反応性の観点から好ましく用いられる。
本発明における重合性化合物（Ｂ）の使用量は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは４０〜２００重量部、より好ましくは６０〜１５０重量部である。
【００３４】
重合性化合物（Ｂ）の使用量が４０重量部未満の場合は得られる隔壁の膜べりを生じやすくなる場合がある。一方、この値が２００重量部を超える場合は隔壁の下地基板との密着性が低下しやすくなる場合がある。
これらの単官能、２官能または３官能以上の（メタ）アクリレート、ウレタンアクリレート、ウレタンアダクト体、ポリエステルアクリレートは、単独であるいは組み合わせて用いられる。
【００３５】
感放射線重合開始剤（Ｃ）
本発明における感放射線重合開始剤（Ｃ）とは、露光により分解または結合の開裂を生じ、ラジカル、アニオン、カチオン等の、前記重合性化合物（Ｂ）の重合を開始することができる活性種を発生する化合物を意味する。
このような重合開始剤としては、例えば、ビイミダゾール系化合物、ベンゾフェノン系の光ラジカル発生剤、トリアジン系化合物等を好ましいものとして挙げることができる。
【００３６】
上記ビイミダゾール系化合物の具体例としては、２,２’−ビス（２−クロロフェニル）−４,４’,５,５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１,２’−ビイミダゾール、２,２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４,４’,５,５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１,２’−ビイミダゾール、２,２’−ビス（２−クロロフェニル）−４,４’,５,５’−テトラフェニル−１,２’−ビイミダゾール、２,２’−ビス（２,４−ジクロロフェニル）−４,４’,５,５’−テトラフェニル−１,２’−ビイミダゾール、２,２’−ビス（２,４,６−トリクロロフェニル）−４,４’,５,５’−テトラフェニル−１,２’−ビイミダゾール、２,２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４,４’,５,５’−テトラフェニル−１,２’−ビイミダゾール、２,２’−ビス（２,４−ジブロモフェニル）−４,４’,５,５’−テトラフェニル−１,２’−ビイミダゾールおよび２,２’−ビス（２,４,６−トリブロモフェニル）−４,４’,５,５’−テトラフェニル−１,２’−ビイミダゾール等を挙げることができる。
【００３７】
これらのビイミダゾール系化合物のうち、２,２’−ビス（２−クロロフェニル）−４,４’,５,５’−テトラフェニル−１,２’−ビイミダゾール、２,２’−ビス（２,４−ジクロロフェニル）−４,４’,５,５’−テトラフェニル−１,２’−ビイミダゾール、２,２’−ビス（２,４,６−トリクロロフェニル）−４,４’,５,５’−テトラフェニル−１,２’−ビイミダゾール等が好ましく、特に、２,２’−ビス（２,４−ジクロロフェニル）−４,４’,５,５’−テトラフェニル−１,２’−ビイミダゾールが好ましい。
【００３８】
これらのビイミダゾール系化合物は、溶剤に対する溶解性に優れ、未溶解物、析出物等の異物を生じることがなく、しかも感度が高く、少ないエネルギー量の露光により硬化反応を十分進行させるとともに、コントラストが高く、未露光部で硬化反応が生じることがないため、露光後の塗膜は、現像液に対して不溶性の硬化部分と、現像液に対して高い溶解性を有する未硬化部分とに明確に区分され、これにより、アンダーカットのない画素パターンが所定の配列に従って配置された高精細な画素アレイを形成することができる。
【００３９】
また、前記ベンゾフェノン系の光ラジカル発生剤としては、ベンゾイル構造を有する化合物、およびベンゾフェノン系の他の光ラジカル発生剤が使用できる。これらの具体例としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−ｉ−プロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２,２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、ベンゾフェノン、３,３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、２,４−ジエチルチオキサントン、４−アジドベンズアルデヒド、４−アジドアセトフェノン、４−アジドベンザルアセトフェノン、アジドピレン、４−ジアゾジフェニルアミン、４−ジアゾ−４’−メトキシジフェニルアミン、４−ジアゾ−３−メトキシジフェニルアミン、ビス（２,６−ジメトキシベンゾイル）−２,４,４−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド、ジベンゾイル、ベンゾインイソブチルエーテル、Ｎ−フェニルチオアクリドン、トリフェニルピリリウムパークロレート等を挙げることができる。
【００４０】
これらのベンゾフェノン系の光ラジカル発生剤のうち、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン等が、形成された隔壁パターンが現像時に基板から脱離し難く、パターン強度および感度も高い点で好ましい。
【００４１】
さらに、前記トリアジン系化合物の具体例としては、トリス（２,４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−クロロフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−クロロフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−クロロフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メトキシフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メトキシフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メチルチオフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メチルチオフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メチルチオフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシナフチル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メトキシナフチル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メトキシナフチル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−β−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メトキシ−β−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メトキシ−β−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３,４,５−トリメトキシ−β−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メチルチオ−β−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メチルチオ−β−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メチルチオ−β−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペロニル−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル］−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル］−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等を挙げることができる。
【００４２】
これらのトリアジン化合物のうち、２−（４−メトキシフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−β−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等が放射線に対する感度が高い点から好ましく用いられる。
【００４３】
これらの感放射線ラジカル重合開始剤の市販品としては、たとえばＩＲＧＡＣＵＲＥ−１８４、同３６９、同５００、同６５１、同９０７、同１７００、同８１９同１２４、同１０００、同２９５９、同１４９、同１８００、同１８５０、Ｄａｒｏｃｕｒ−１１７３、同１１１６、同２９５９、同１６６４、同４０４３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ＫＡＹＡＣＵＲＥ−ＤＥＴＸ、同ＭＢＰ、同ＤＭＢＩ、同ＥＰＡ、同ＯＡ（以上、日本化薬（株）製）、ＶＩＣＵＲＥ−１０、同５５（以上、ＳＴＡＵＦＦＥＲ  Ｃｏ.ＬＴＤ  製）、ＴＲＩＧＯＮＡＬＰ１（ＡＫＺＯ  Ｃｏ.ＬＴＤ  製）、ＳＡＮＤＯＲＡＹ  １０００（ＳＡＮＤＯＺ  Ｃｏ.ＬＴＤ  製）、ＤＥＡＰ（ＡＰＪＯＨＮ  Ｃｏ.ＬＴＤ  製）、ＱＵＡＮＴＡＣＵＲＥ−ＰＤＯ、同  ＩＴＸ、同  ＥＰＤ（以上、ＷＡＲＤ  ＢＬＥＫＩＮＳＯＰ  Ｃｏ.ＬＴＤ  製）等が挙げられる。
【００４４】
前記感放射線重合開始剤は、単独でまたは２種以上を組合せて使用することができる。
本発明における感放射線重合開始剤（Ｃ）の使用量は、（Ｂ）重合性化合物１００重量部に対して、好ましくは、０.０１〜５００重量部、より好ましくは１〜３００重量部、特に好ましくは１０〜２００重量部である。この場合、感放射線重合開始剤の使用量が０.０１重量部未満では、露光による硬化が不十分となり、パターンに欠落、欠損やアンダーカットを生じるおそれがあり、一方５００重量部を超えると、形成されたパターンが現像時に基板から脱落しやすく、またパターンが形成される部分以外の領域で地汚れ、膜残り等を生じやすくなる。
また、前記紫外線吸収剤としては、１,７−ビス（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）−１,６−ヘプタジエン−３,５−ジオンまたはジベンジリデンアセトンが用いられる。これらの紫外線吸収化合物の添加量は、共重合体（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは２０重量部以下、より好ましくは１０重量部以下の量である。
【００４５】
本発明においては、必要に応じて、前記感放射線重合開始剤と共に、増感剤、硬化促進剤および高分子化合物からなる光架橋剤あるいは光増感剤（以下、「高分子光架橋・増感剤」という。）の群から選ばれる１種以上をさらに併用することもできる。
【００４６】
前記増感剤の具体例としては、４,４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４,４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４−ジエチルアミノベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、２−エチルヘキシル−１,４−ジメチルアミノベンゾエート、２,５−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、７−ジエチルアミノ−３−（４−ジエチルアミノベンゾイル）クマリン、４−（ジエチルアミノ）カルコン、ジエチルチオキサントン等を挙げることができる。
【００４７】
また、前記硬化促進剤の具体例としては、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２,５−ジメルカプト−１,３,４−チアジアゾール、２−メルカプト−４,６−ジメチルアミノピリジン、１−フェニル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、３−メルカプト−４−メチル−４Ｈ−１,２,４−トリアゾール等の連鎖移動剤を挙げることができる。
【００４９】
さらに、前記高分子光架橋・増感剤は、光架橋剤および／または光増感剤として機能しうる官能基を主鎖および／または側鎖中に有する高分子化合物であり、その具体例としては、４−アジドベンズアルデヒドとポリビニルアルコールとの縮合物、４−アジドベンズアルデヒドとフェノールノボラック樹脂との縮合物、４−アクリロイルフェニルシンナモイルエステルの単独重合体あるいは共重合体、１,４−ポリブタジエン、１,２−ポリブタジエン等を挙げることができる。
【００５０】
前記増感剤、硬化促進剤および高分子光架橋・増感剤のうち、４,４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノベンゾフェノンおよび２−メルカプトベンゾチアゾールが、形成されたパターンが現像時に基板から脱落し難く、パターン強度および感度も高い点で好ましい。
【００５１】
本発明においては、感放射線重合開始剤として、ビイミダゾール系化合物の群から選ばれる１種以上と、ベンゾフェノン系の光ラジカル発生剤、ベンゾフェノン系の増感剤およびチアゾール系の硬化促進剤よりなる群から選ばれる１種以上との組合わせ；またはベンゾイル構造を有する化合物よりなる群から選ばれる１種単独あるいはそれとベンゾフェノン系の増感剤との組合せ、を使用することが特に好ましい。
【００５２】
前記特に好ましい組み合わせの具体例としては、
２,２’−ビス（２−クロロフェニル）−４,４’,５,５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１,２’−ビイミダゾール／４,４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、
２,２’−ビス（２−クロロフェニル）−４,４’,５,５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１,２’−ビイミダゾール／４,４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン／２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、
２,２’−ビス（２−クロロフェニル）−４,４’,５,５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１,２’−ビイミダゾール／４,４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン／１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２,２’−ビス（２−クロロフェニル）−４,４’,５,５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１,２’−ビイミダゾール／４,４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン／１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン／２−メルカプトベンゾチアゾール、
２,２’−ビス（２,４−ジクロロフェニル）−４,４’,５,５’−テトラフェニル−１,２’−ビイミダゾール／４,４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、
２,２’−ビス（２,４−ジブロモフェニル）−４,４’,５,５’−テトラフェニル−１,２’−ビイミダゾール／４,４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン／２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、
２,２’−ビス（２,４−ジブロモフェニル）−４,４’,５,５’−テトラフェニル−１,２’−ビイミダゾール／４,４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン／１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、
２,２’−ビス（２,４,６−トリクロロフェニル）−４,４’,５,５’−テトラフェニル−１,２’−ビイミダゾール／４,４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン／１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン／２−メルカプトベンゾチアゾール、
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン／４−ジエチルアミノベンゾフェノン、２−メチル−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン／４−ジエチルアミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン／４−ジエチルアミノベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン／４−ジエチルアミノベンゾフェノン／ジエチルチオキサントン、２−メチル−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン／４−ジエチルアミノベンゾフェノン／ジエチルチオキサントン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン／４−ジエチルアミノベンゾフェノン／ジエチルチオキサントン
等を挙げることができる。
【００５３】
本発明において、ベンゾフェノン系の光ラジカル発生剤、トリハロメチル基を有する化合物の合計使用割合は、感放射線重合開始剤全体の８０重量％以下であることが好ましく、また増感剤および硬化促進剤の合計使用割合は、感放射線重合開始剤全体の８０重量％以下であることが好ましく、さらに高分子光架橋・増感剤の使用割合は、ビイミダゾール系化合物１００重量部に対して、好ましくは、２００重量部以下、より好ましくは１８０重量部以下である。
【００５４】
その他の添加剤
本発明の感放射線性樹脂組成物は、本発明の目的を損なわない範囲で、必要に応じて上記以外に他の成分を含有していてもよい。
ここで、他の成分としては、架橋剤、界面活性剤、接着助剤等を挙げることができる。
【００５５】
前記架橋剤としては、永久膜としての性能を向上させる目的で１分子中に２つ以上の反応基を有する架橋剤を挙げることができる。このような架橋剤としては、アルコキシメチル化メラミン樹脂、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン樹脂、アルコキシメチル化グリコールウリル樹脂およびアルコキシメチル化尿素樹脂などがある。これらは、それぞれメチロール化メラミン樹脂、メチロール化ベンゾグアナミン樹脂、メチロール化グリコールウリル樹脂およびメチロール化尿素樹脂のメチロール基をアルコキシメチル基に変換することにより得られる。このアルコキシメチル基の種類については特に限定されるものではなく、例えばメトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基等を挙げることができる。
【００５６】
これらの架橋剤のうち、アルコキシメチル化メラミン樹脂およびアルコキシメチル化ベンゾグアナミン樹脂が好ましく使用される。
また、架橋剤として、サイメル３００、同３０１、同３０３、同３７０、同３２５、同３２７、同７０１、同２６６、同２６７、同２３８、同１１４１、同２７２、同２０２、同１１５６、同１１５８、同１１２３、同１１７０、同１１７４、同ＵＦＲ６５、同３００（以上、三井サイアナミッド（株）製）、ニカラックＭｘ−７５０、同Ｍｘ−０３２、同Ｍｘ−７０６、同Ｍｘ−７０８、同Ｍｘ−４０、同Ｍｘ−３１、同Ｍｓ−１１、同Ｍｗ−３０（以上、三和ケミカル（株）製）等の商品名で市販されているものを好ましく使用することができる。
【００５７】
これらの架橋剤は、単独でまたは２種類以上を組み合わせて用いることができる。
これらの架橋剤は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは５０重量部以下、より好ましくは５重量部〜５０重量部、特に好ましくは１０重量部〜３０重量部用いられる。
前記界面活性剤は、塗布性を向上するために添加されるものである。
このような界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤およびシリコーン系界面活性剤を好適に用いることができる。
【００５８】
フッ素系界面活性剤としては、末端、主鎖および側鎖の少なくともいずれかの部位にフルオロアルキルまたはフルオロアルキレン基を有する化合物を好適に用いることができる。その具体例としては、１,１,２,２−テトラフロロオクチル（１,１,２,２−テトラフロロプロピル）エーテル、１,１,２,２−テトラフロロオクチルヘキシルエーテル、オクタエチレングリコールジ（１,１,２,２−テトラフロロブチル）エーテル、ヘキサエチレングリコール（１,１,２,２,３,３−ヘキサフロロペンチル）エーテル、オクタプロピレングリコールジ（１,１,２,２−テトラフロロブチル）エーテル、ヘキサプロピレングリコールジ（１,１,２,２,３,３−ヘキサフロロペンチル）エーテル、パーフロロドデシルスルホン酸ナトリウム、１,１,２,２,８,８,９,９,１０,１０−デカフロロドデカン、１,１,２,２,３,３−ヘキサフロロデカン、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキルホスホン酸ナトリウム、フルオロアルキルカルボン酸ナトリウム、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、ジグリセリンテトラキス（フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル）、フルオロアルキルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルベタイン、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、パーフルオロアルキルポリオキシエタノール、パーフルオロアルキルアルコキシレート、フッ素系アルキルエステル等を挙げることができる。
【００５９】
これらの市販品としては、例えばＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（以上、ＢＭ  ＣＨＥＭＩＥ社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、同Ｆ１７８、同Ｆ１９１、同Ｆ４７１（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ  １７０Ｃ、ＦＣ−１７１、ＦＣ−４３０、ＦＣ−４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５、同Ｓ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６（以上、旭硝子（株）製）、エフトップＥＦ３０１、同３０３、同３５２（以上、新秋田化成（株）製）、フタージェントＦＴ−１００、同ＦＴ−１１０、同ＦＴ−１４０Ａ、同ＦＴ−１５０、同ＦＴ−２５０、同ＦＴ−２５１、同ＦＴＸ−２５１、同ＦＴＸ−２１８、同ＦＴ−３００、同ＦＴ−３１０、同ＦＴ−４００Ｓ（以上、（株）ネオス製）等を挙げることができる。
【００６０】
また、シリコーン系界面活性剤としては、例えばトーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＤＣ７ＰＡ、同ＳＨ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、同ＳＨ−１９０、同ＳＨ−１９３、同ＳＺ−６０３２、同ＳＦ−８４２８、同ＤＣ−５７、同ＤＣ−１９０（以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）、ＴＳＦ−４４４０、ＴＳＦ−４３００、ＴＳＦ−４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ−４４６０、ＴＳＦ−４４５２（以上、東芝シリコーン（株）製）等の商品名で市販されているものを挙げることができる。
【００６１】
その他にも、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンアリールエーテル類；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキルエステル類などのノニオン系界面活性剤；オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフローＮｏ.５７、９５（共栄社化学（株）製）などが挙げられる。
【００６２】
これらの界面活性剤は、共重合体（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは５重量部以下、より好ましくは２重量部以下で用いられる。界面活性剤の量が５重量部を超える場合は、塗布時の膜あれが生じやすくなる。
前記接着助剤は、基体との接着性を向上させるために使用されるものである。
【００６３】
このような接着助剤としては、官能性シランカップリング剤が好ましく使用され、例えばカルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシランカップリング剤が挙げられる。具体的にはトリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３,４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどが挙げられる。
このような接着助剤は、共重合体（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは２０重量部以下、より好ましくは１０重量部以下の量で用いられる。接着助剤の量が２０重量部を超える場合は、現像残りが生じやすくなる。
【００６４】
感放射線性樹脂組成物の調製
本発明の感放射線性樹脂組成物は、上記のアルカリ可溶性樹脂（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、感放射線重合開始剤（Ｃ）および紫外線吸収剤ならびに任意的に使用される他の添加剤の各成分を均一に混合することによって調製される。本発明の感放射線性樹脂組成物は、有利には、適当な溶媒に溶解されて溶液状態で用いられる。例えば共重合体（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、重合開始剤（Ｃ）および紫外線吸収剤ならびに任意的に添加されるその他の配合剤を、所定の割合で混合することにより、溶液状態の感放射線性樹脂組成物を調製することができる。
【００６５】
本発明の感放射線性樹脂組成物の調製に用いられる溶媒としては、共重合体（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、重合開始剤（Ｃ）および紫外線吸収剤ならびに任意的に添加されるその他の添加剤の各成分を均一に溶解し、各成分と反応しないものが用いられる。
【００６６】
具体的には、例えばメタノール、エタノールなどのアルコール類；テトラヒドロフランなどのエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどのジエチレングリコール類；プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；プロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブチルエーテルプロピオネートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどのケトン類；および酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチルなどのエステル類が挙げられる。
【００６７】
これらの溶剤の中で、溶解性、各成分との反応性および塗膜の形成のしやすさから、グリコールエーテル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類、エステル類およびジエチレングリコール類が好ましく用いられる。
【００６８】
さらに前記溶媒とともに高沸点溶媒を併用することもできる。併用できる高沸点溶媒としては、例えばＮ−メチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテートなどが挙げられる。
【００６９】
本発明の感放射線性樹脂組成物は、上記の如き溶剤を用いて調製されるが、その使用目的により適宜の固形分濃度とすることができる。
固形分濃度は、例えば、３〜６０重量％とすることができ、好ましくは１０〜５０重量％とすることができる。
また上記のように調製された組成物溶液は、孔径０.５μｍ程度のミリポアフィルタなどを用いて濾過した後、使用に供することもできる。
【００７０】
隔壁の形成方法
次に、本発明の感放射線性樹脂組成物を用いて、本発明の隔壁を形成する方法について詳述する。
基板表面に本発明の感放射性樹脂組成物溶液を塗布し、加熱により溶媒を除去することによって、塗膜が形成される。基板表面への感放射性樹脂組成物溶液の塗布方法としては、例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法、バー塗布法などの各種の方法を採用することができる。
次いでこの塗膜は、加熱（プレベーク）される。加熱することによって、溶剤が揮発し、流動性のない塗膜が得られる。
加熱条件は、各成分の種類、配合割合などによっても異なるが、好ましくは６０〜１２０℃、１０〜６００秒間程度の幅広い範囲で使用できる。
次に加熱された塗膜に所定パターンのマスクを介して放射線を照射した後、現像液により現像し、不要な部分を除去する。
【００７１】
現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水などの無機アルカリ類；エチルアミン、ｎ−プロピルアミンなどの第一級アミン類；ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミンなどの第二級アミン類；トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、Ｎ−メチルピロリドンなどの第三級アミン類；ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアルコールアミン類；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリンなどの第四級アンモニウム塩；ピロール、ピペリジン、１,８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン、１,５−ジアザビシクロ［４.３.０］−５−ノナンなどの環状アミン類のアルカリ類からなるアルカリ水溶液を用いることができる。
また上記アルカリ水溶液に、メタノール、エタノールなどの水溶性有機溶媒、界面活性剤などを適当量添加した水溶液を現像液として使用することもできる。
【００７２】
現像時間は、例えば３０〜１８０秒間である。また現像方法は液盛り法、ディッピング法などのいずれでもよい。現像後、流水洗浄を３０〜９０秒間行い、圧縮空気や圧縮窒素で風乾させることによって、基板上の水分を除去し、隔壁パターンが形成される。続いて、ホットプレート、オーブンなどの加熱装置により、所定温度、例えば１５０〜２５０℃で、所定時間、例えばホットプレート上なら５〜３０分間、オーブン中では３０〜９０分間加熱処理をすることによって、本発明の隔壁を得ることができる。
【００７３】
本発明による隔壁は、放射線照射方向における断面形状が好ましくは上辺が底辺よりも長い台形状（逆テーパー形状）をなし、さらに好ましくは上部のパターンエッジと下部のパターンエッジを結んだ直線と、上辺とがなす角度が１５〜７５°である。断面形状が逆テーパー形状であることにより、斜め方向ではなく上方からの有機ＥＬ媒体の蒸着を可能とする。すなわち、上方から有機ＥＬ媒体を蒸着することにより、有機ＥＬ媒体が隔壁間の開口部に均一に付着し十分な表示素子の輝度を確保できる。また陰極材料を上方から蒸着した際には陰極材料が逆テーパー形状の下方にまで廻り込むことを防ぐことができるので、陰極間の絶縁を確保することができる。
【００７４】
また、本発明の隔壁は、２５℃〜２００℃までの加熱による揮発成分の発生量が好ましくは１０重量％以下、さらに好ましくは５重量％以下、特に好ましくは２重量％以下、就中１重量％以下である。
このような揮発成分発生量とすることにより、ＥＬ層中への不純物の介入を防ぐことができ、ＥＬ表示素子の点灯不良の発生や、発光輝度の低下といった問題を防止することができる。
揮発成分発生量は、例えばＴＤＳ（Ｔｈｅｒｍａｌ  Ｄｅｓｏｒｐｔｉｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）測定等により評価することができる。
【００７５】
有機ＥＬ表示素子の製造
本発明の有機ＥＬ表示素子は、前記の如くして形成された隔壁を備えている。
本発明の有機ＥＬ表示素子は例えば下記の如くして製造される。
ガラス基板上にＩＴＯ等の透明電極をスパッタリングで形成し、その上にポジ型フォトレジストを塗布し、プリベークする。マスクを介してレジストに露光し次いで現像してパターン化し、塩化第２鉄等の塩酸系エッチャントでＩＴＯ膜をエッチングし、レジスト膜を剥離して透明電極をパターン化例えばストライプ状にパターン化する。このパターン化された透明電極を持つ基盤上に、次いで、本発明の感放射線樹脂組成物を塗布し、前記の如くして、逆テーパー状の隔壁を設ける。その後、正孔輸送層、有機ＥＬ媒体層、カソード層を蒸着法により順次形成する。正孔輸送層としては例えばＣｕＰｃ、Ｈ2Ｐｃの如きフタロシアニン系材料、あるいは芳香族アミンが用いられる。また、有機ＥＬ媒体としては、例えばＡｌｑ3、ＢｅＢｑ3の如き基材母体にキナクリドンやクマリンをドープした材料が用いられる。さらに、カソード材料としては、例えばＭｇ−Ａｌ、Ａｌ−Ｌｉ、Ａｌ−Ｌｉ2Ｏ、Ａｌ−ＬｉＦなどが用いられる。
次に、中空構造のＳＵＳ缶と上記基板をエポキシ樹脂等の封止材で封止したのち、モジュールに組立て、有機ＥＬ表示素子とする。
【００７６】
【実施例】
以下に合成例、実施例を示して、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、実施例１〜４および７〜１０は紫外線吸収剤を含有していず、参考例である。
【００７７】
合成例１（樹脂Ａ−１の合成）
冷却管、攪拌機および温度計を装着したフラスコに、ｔ−ブトキシスチレン１７６ｇ（０.１ｍｏｌ）およびアゾビスブチロニトリル５.８ｇ（０.０４ｍｏｌ）を入れ、プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テル２５０ｍｌを加えて溶解させて、７５℃で４時間重合させた。得られたポリｔ−ブトキシスチレン溶液に５重量％硫酸水溶液５０ｇを混合して、１００℃で３時間加水分解反応を行った。反応生成物を脱イオン水１０００ｍｌで３回洗浄し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５００ｍｌを加えて溶剤置換を行い、Ｍｗ２４,０００のアルカリ可溶性樹脂（ポリヒドロキシスチレン）を得た。このアルカリ可溶性樹脂を、樹脂Ａ−１とした。
【００７８】
合成例２（樹脂Ａ−２の合成）
冷却管、攪拌機および温度計を装着したフラスコに、メタクレゾ−ル５７ｇ（０.６ｍｏｌ）、パラクレゾ−ル３８ｇ（０.４ｍｏｌ）、３７重量％ホルムアルデヒド水溶液７５.５ｇ（ホルムアルデヒド０.９３ｍｏｌ）、シュウ酸二水和物０.６３ｇ（０.００５ｍｏｌ）、メチルイソブチルケトン２６４ｇを仕込んだ後、フラスコを油浴中に浸し、反応液を還流させながら、攪拌下４時間重縮合を行った。次いで油浴の温度を３時間かけて昇温し、その後に、フラスコ内の圧力を３０〜５０ｍｍＨｇまで減圧し、揮発分を除去し、溶融している樹脂ａを室温まで冷却して回収した。この樹脂を酢酸エチルに樹脂成分が３０％になるように溶解した後、この溶液重量の１.３倍量のメタノ−ルと、０.９倍量の水を加えて、攪拌放置した。次いで２層に分離した下層を取り出し、濃縮し、乾燥して、Ｍｗ８,０００のアルカリ可溶性樹脂（ノボラック樹脂）を得た。このアルカリ可溶性樹脂を、樹脂Ａ−２とした。
【００７９】
合成例３
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２,２’−アゾビス（２,４−ジメチルバレロニトリル）5重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００重量部を仕込んだ。引き続きスチレン２５重量部、メタクリル酸４０重量部、ジシクロペンタニルメタクリレ−ト３０重量部を仕込み窒素置換した後さらに１,３−ブタジエン５重量部を仕込み、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を４時間保持し共重合体（Ａ−３）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３３.５％であった。
【００８０】
合成例４
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２,２’−アゾビス（２,４−ジメチルバレロニトリル）7重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００重量部を仕込んだ。引き続きスチレン１０重量部、メタクリル酸２０重量部、メタクリル酸グリシジル４５重量部およびジシクロペンタニルメタクリレ−ト２５重量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ−４）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３３.５％であった。
【００８１】
実施例１
感放射線性樹脂組成物の調製
合成例１で得られた樹脂Ａ−１を含む溶液（樹脂Ａ−１  １００重量部に相当）と、成分（Ｂ）としてのＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）１００重量部と、成分（Ｃ）としての２,２’−ビス（２−クロロフェニル）−４,４’,５,５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１,２’−ビイミダゾール５重量部、４,４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン５重量部および２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン１０重量部添加し、さらにγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン５重量部添加した。固形分濃度が３６重量％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させた後、孔径０.５μｍのミリポアフィルタで濾過して感放射線性樹脂組成物の溶液（Ｓ−１）を調製した。
【００８２】
（Ｉ）隔壁の形成
ガラス基板上にスピンナーを用いて、上記組成物溶液（Ｓ−１）を塗布した後、９０℃で３分間ホットプレート上でプレベークして膜厚各５μｍの塗膜を形成した。
上記で得られた塗膜に１０μｍ角の残しパターンのマスクを介して、３６５ｎｍでの強度が１０ｍＷ／ｃｍ2である紫外線を３０秒間照射した。この際の紫外線照射は酸素雰囲気下（空気中）で行った。次いでテトラメチルアンモニウムヒドロキシド０.１重量％水溶液で２５℃で９０秒間現像した後、純水で１分間流水洗浄した。上記で形成された隔壁をオーブン中で２２０℃で６０分間加熱し硬化させ、膜厚４.５μｍの隔壁を得た。
（II）隔壁形状の評価
上記（Ｉ）で得られた隔壁において断面形状の上部テーパー角（断面台形形状において、上部のパターンエッジと下部のパターンエッジを結んだ直線と、上辺とがなす角度）を測定した。この値を表１に示す。この値が、１５〜７０゜のとき、隔壁の断面形状は良好といえる。
（III）耐熱性の評価
上記（Ｉ）で形成した隔壁をオーブン中、２５０℃で６０分加熱した。膜厚の寸法変化率を表１に示した。加熱前後の寸法変化率がで５％以内のとき、耐熱寸法安定性が良好であるといえる。
（IV）密着性の評価
上記（Ｉ）で得られた隔壁の密着性をテープ剥離試験により評価した。結果を表１に示した。評価結果は隔壁１００個中、残った隔壁の数で表した。
（Ｖ）揮発成分の評価
上記（Ｉ）で得られた隔壁の揮発成分の観測をＴＤＳ測定（電子科学（株）製ＥＭ
Ｄ−ＷＡ１０００Ｓ）により評価した。測定は昇温速度を１℃／ｓにて２５℃から２００℃まで行った。結果を表１に示した。評価結果は隔壁材料が１０ｍｍｘ１０ｍｍｘ４.５μｍにおける基板サイズに較正して、揮発成分の発生量を重量％で表した。
【００８３】
実施例２
成分（Ｃ）として２,２’−ビス（２−クロロフェニル）−４,４’,５,５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１,２’−ビイミダゾール５重量部、４,４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン５重量部および２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン１０重量部の代わりに２−メチル−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン２０重量部および２,４−ジエチルチオキサントン１０重量部を使用した他は、実施例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−２）を調製し評価した。結果を表１に示す。
【００８４】
実施例３
成分（Ｃ）として２−（４−メトキシ−β−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン１０重量部を使用した他は、実施例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−３）を調製し評価した。結果を表１に示す。
実施例４
成分（Ｃ）として２−メチル−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン２０重量部および４−Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノベンゾフェノン１０重量部を使用した他は、実施例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−４）を調製し評価した。結果を表１に示す。
実施例５
実施例１において、紫外線吸収剤である１,７−ビス（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）−１,６−ヘプタジエン−３,５−ジオン５重量部を加えた他は、実施例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−５）を調製し、評価した。結果を表１に示す。
【００８５】
実施例６
実施例１において、紫外線吸収剤であるジベンジリデンアセトン５重量部を加えた他は、実施例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−６）を調製し、評価した。結果を表１に示す。
実施例７
実施例１において、添加剤として架橋剤であるヘキサメトキシメチロールメラミン２０重量部を加えた他は、実施例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−７）を調製し、評価した。結果を表１に示す。
【００８６】
実施例８
実施例１において、共重合体（Ａ−１）の重合体溶液の代わりに、合成例２で得られた共重合体（Ａ−２）１００重量部を用いた他は、実施例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−８）を調製し、評価した。結果を表１に示す。
実施例９
実施例１において、共重合体（Ａ−１）の重合体溶液の代わりに、合成例３で得られた共重合体（Ａ−３）の重合体溶液を用いた他は、実施例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−９）を調製し、評価した。結果を表１に示す。
実施例１０
実施例１において、共重合体（Ａ−１）の重合体溶液の代わりに、合成例４で得られた共重合体（Ａ−４）の重合体溶液を用いた他は、実施例２と同様にして組成物溶液（Ｓ−１０）を調製し、評価した。結果を表１に示す。
【００８７】
【表１】
0004108911.tif 000004
【００８８】
【発明の効果】
本発明によれば、逆テーパー形状、耐熱性、低揮発性などの諸性能に優れた隔壁を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物が提供される。
【００８９】
また、上記の感放射線性樹脂組成物より、信頼性の高い隔壁が得られる。