(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（２）
【化１】
0004099986.tif 000035
（ここで、Ｍは周期表３族〜１２族より選ばれる遷移金属原子であり、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、トリフルオロメタンスルホネート基、ｐ−トルエンスルホネート基、テトラキス｛３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝ボレートアニオン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートアニオン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）アルミネートアニオン、ＳｂＦ6アニオン又はＰＦ6アニオンを示し、ｑが２以上の時、Ｘは互いに同じでも異なっていてもよい。Ｒ１は水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基、フェロセニル基、メチルフェロセニル基、ジメチルフェロセニル基又はｔｅｒｔ−ブチルフェロセニル基を示し、Ｒ２は水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子，ケイ素原子，窒素原子，酸素原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基、フェロセニル基、メチルフェロセニル基、ジメチルフェロセニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェロセニル基又はテトラメチルシクロペンタジエニル基を示す。Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、窒素原子，酸素原子，ハロゲン原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０炭化水素基を示す。ｍが２以上の時、Ｒ３は互いに同じでも異なっていてもよい。Ｒ４は水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するホスフィノ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するオキシ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するチオ基、又は窒素原子，リン原子，酸素原子，ハロゲン原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基を示し、ｎが２以上の時、Ｒ４は互いに同じでも異なっていてもよい。Ｒ３とＲ４が結合を有することもできる。Ｌはエチレン、プロピレン、スチレン、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、アセトニトリル、ベンゾニトリル、トリメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルジフェニルアミン、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィンである。ｍは１〜３の整数を示し、ｎは１〜５の整数を示す。ｑは１〜３の整数を示し、ｒは０〜３の整数を示す。）で表される遷移金属化合物。
【請求項２】
下記一般式（３）
【化２】
0004099986.tif 000036
（ここで、Ｍは周期表３族〜１２族より選ばれる遷移金属原子であり、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０の炭化水素オキシ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するアミノ基、トリフルオロメタンスルホネート基、ｐ−トルエンスルホネート基、テトラキス｛３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝ボレートアニオン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートアニオン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）アルミネートアニオン、ＳｂＦ6アニオン又はＰＦ6アニオンを示し、ｑが２以上の時、Ｘは互いに同じでも異なっていてもよい。Ｒ１は水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基、フェロセニル基、メチルフェロセニル基、ジメチルフェロセニル基又はｔｅｒｔ−ブチルフェロセニル基を示し、Ｒ２は水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子，ケイ素原子，窒素原子，酸素原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基、フェロセニル基、メチルフェロセニル基、ジメチルフェロセニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェロセニル基又はテトラメチルシクロペンタジエニル基を示す。Ｑは窒素原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基を示し、Ｑに配位性原子を含む場合、Ｍに配位結合することができる。Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、窒素原子，酸素原子，ハロゲン原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基を示す。ｍが２以上の時、Ｒ３は互いに同じでも異なっていてもよい。Ｒ４は水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するホスフィノ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するオキシ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するチオ基、又は窒素原子，リン原子，酸素原子，ハロゲン原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基を示し、ｎが２以上の時、Ｒ４は互いに同じでも異なっていてもよい。Ｒ３とＲ４が結合を有することもできる。Ｌはエチレン、プロピレン、スチレン、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、アセトニトリル、ベンゾニトリル、トリメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルジフェニルアミン、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィンである。ｍは１〜３の整数を示し、ｎは１〜５の整数を示す。ｑは１〜３の整数を示し、ｒは０〜３の整数を示す。）で表される遷移金属化合物。
【請求項３】
Ｍが周期表８族〜１２族より選ばれる遷移金属原子であることを特徴とする請求項１又は２に記載の遷移金属化合物。
【請求項４】
ＭがＮｉ，Ｐｄ，Ｆｅ又はＣｕより選ばれる遷移金属原子であることを特徴とする請求項１又は２に記載の遷移金属化合物。
【請求項５】
下記一般式（５）
【化３】
0004099986.tif 000037
（ここで、Ａは炭素原子又は窒素原子を示す。Ｒ１は水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基、フェロセニル基、メチルフェロセニル基、ジメチルフェロセニル基又はｔｅｒｔ−ブチルフェロセニル基を示し、Ｒ２は水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子，ケイ素原子，窒素原子，酸素原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基、フェロセニル基、メチルフェロセニル基、ジメチルフェロセニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェロセニル基又はテトラメチルシクロペンタジエニル基を示す。Ｑは窒素原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基を示す。Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、窒素原子，酸素原子，ハロゲン原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０炭化水素基を示す。ｍが２以上の時、Ｒ３は互いに同じでも異なっていてもよい。Ｒ４は水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するホスフィノ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するオキシ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するチオ基、又は窒素原子，リン原子，酸素原子，ハロゲン原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基を示し、ｎが２以上の時、Ｒ４は互いに同じでも異なっていてもよい。Ｒ３とＲ４が結合を有することもできる。ｍは１〜３の整数を示し、ｎは１〜５の整数を示す。ｐは０又は１の整数を示す。）で表される配位性化合物。
【請求項６】
（Ａ）請求項１又は２に記載の遷移金属化合物を構成成分としてなるオレフィン重合用触媒。
【請求項７】
（Ａ）請求項１又は２に記載の遷移金属化合物及び（Ｂ）活性化助触媒を構成成分としてなるオレフィン重合用触媒。
【請求項８】
請求項６又は７に記載のオレフィン重合用触媒を用いて、オレフィンの重合を行うことを特徴とするポリオレフィンの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、遷移金属化合物、配位性化合物、遷移金属化合物を用いたオレフィン重合用触媒及びオレフィンの重合方法に関するものである。詳しくは、アザフェロセン又はフェロセン構造を有する遷移金属化合物、その原料となる配位性化合物、及びその遷移金属化合物をオレフィン重合用触媒の構成成分として用いることにより、ポリオレフィンを効率よく製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
シクロペンタジエニル誘導体を配位子として有する周期表４族の遷移金属化合物とアルミノキサンを組み合わせて用いた均一系オレフィン重合用触媒は高い活性を有しており、ポリオレフィンの製造に有用であることが知られている（特開昭５８−１９３０９号公報など）。さらに、このようなシクロペンタジエニル基を有する有機金属錯体を触媒の構成成分としてオレフィン重合に用いると、得られるポリオレフィンは分子量分布が狭く、組成分布の均一な重合体であることが知られている。
【０００３】
ところで、近年、より優れた均一系オレフィン重合用触媒を開発するために、シクロペンタジエニル環以外のヘテロ原子を配位子として用いた遷移金属化合物を均一系オレフィン重合用触媒の構成成分とする検討が活発に行われている。例えば、窒素原子を配位子に有する遷移金属化合物を用いたオレフィン重合用触媒に関して、特開平８−１７６２１７号公報、特開平８−２４５７１３号公報に、ジアルキルアミン配位子がチタン原子に結合したチタンアミド化合物を構成成分とするオレフィン重合用触媒が開示されている。さらに、特開平１０−２９８２１６号公報には、架橋型の芳香族アミン化合物を配位子に有する遷移金属アミド化合物を触媒構成成分とするオレフィン重合用触媒が開示されている。
【０００４】
窒素原子を配位子に有する遷移金属錯体をオレフィン重合に用いた検討は、学術的な観点からも多く行われており、例えば、Ｄ．Ｈ．ＭｃＣｏｎｖｉｌｌｅらは、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１８巻，１０００８頁（１９９６年）．中で、［ＡｒＮ（ＣＨ2）3ＮＡｒ］ＴｉＭｅ2で示されるジアミド錯体とＢ（Ｃ6Ｆ5）3からなる触媒系を用いて、１−ヘキセンのリビング重合を行っている。また、Ｒ．Ｒ．Ｓｃｈｒｏｃｋらは、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１９巻，３８３０頁（１９９７年）．にて三座のジアミン錯体［（ｔ−ＢｕＮ−ｏｒｔｈｏ−Ｃ6Ｈ4）2Ｏ］ＺｒＭｅ2とＢ（Ｃ6Ｆ5）3からなる触媒系を用いて、１−ヘキセンのリビング重合を行っている。さらに、Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ，１５巻，５６２頁（１９９６年）．やＯｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ，１７巻，３０８頁（１９９８年）．には［Ｍｅｓ2ＢＮＣＨ2ＣＨ2ＮＢＭｅｓ2］2-などのビス（ボリルアミド）構造を有する配位子を用いて４族遷移金属化合物の合成を行い、該遷移金属化合物がエチレン重合活性を有することが示されている。
【０００５】
また、最近、２座配位型のジイミンキレート型ニッケル錯体を触媒成分として用いることで、これまでのメタロセン触媒で製造できるポリオレフィンとは構造の異なる、数多くの分岐の入った構造を有するポリオレフィンを製造できることが報告されている。例えば、ＷＯ９６／２３０１０号などがある。さらに、特定の構造を有するアルドイミン４族遷移金属錯体をオレフィン重合用触媒の構成成分として用いると、きわめて高い重合活性が発現することが開示・報告されている（例えば、ＥＰ８７４００５（１９９８）、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１２３巻、６８４７頁（２００１年））。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、新規なアザフェロセン又はフェロセン構造を有する遷移金属化合物、ポリオレフィンを効率よく製造することが可能なオレフィン重合用触媒としての用途、及びそれを用いたポリオレフィンの製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは上記課題を達成するため、鋭意検討の結果、アザフェロセン又はフェロセン構造を有する遷移金属化合物を見出し、それ単独で、あるいは活性化助触媒を組み合わせることで、ポリオレフィンを効率よく製造できることを見出し、本発明を完成するに到った。すなわち、本発明は、アザフェロセン又はフェロセン構造を有する遷移金属化合物、その原料となる配位性化合物、及びその遷移金属化合物を構成成分とするオレフィン重合用触媒を提供するものであり、さらに、前記オレフィン重合用触媒を用いてオレフィンの重合を行うことを特徴とするポリオレフィンの製造方法を提供するものである。
【０００８】
以下に本発明を詳細に説明する。
【０００９】
本発明の遷移金属化合物は、下記一般式（１）で表される。即ち、
【００１０】
【化７】
0004099986.tif 000002
（ここで、Ｍは周期表３族〜１２族より選ばれる遷移金属原子であり、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０の炭化水素オキシ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するアミノ基、炭素数１〜２０の有機基を有するスルホネート基、又はＢ，Ａｌ，Ｐ，Ｓｂより選ばれる元素を含む非配位性アニオンを示し、ｑが２以上の時、Ｘは互いに同じでも異なっていてもよい。Ａは炭素原子、窒素原子、又はリン原子を示す。Ｒ1は水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基、フェロセニル基、又は置換フェロセニル基を示し、Ｒ2は水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子，ケイ素原子，窒素原子，酸素原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基、フェロセニル基、又は置換フェロセニル基を示し、Ｒ1とＲ2が環を形成することもできる。Ｑは水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するシリル基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するアミノ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するホスフィノ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するオキシ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するチオ基、窒素原子，リン原子，酸素原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基、酸素、又は硫黄を示し、Ｑに配位性原子を含む場合、Ｍに配位結合することができる。Ｒ3は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するシリル基、窒素原子，酸素原子，ハロゲン原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基を示し、Ｑと隣接する一つのＲ3が環を形成することもできる。ｍが２以上の時、Ｒ3は互いに同じでも異なっていてもよく、また隣接するＲ3同士が結合して環を形成することもできる。Ｒ4は水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するシリル基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するホスフィノ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するオキシ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するチオ基、又は窒素原子，リン原子，酸素原子，ハロゲン原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基を示し、ｎが２以上の時、Ｒ4は互いに同じでも異なっていてもよく、また隣接するＲ4同士が結合して環を形成することもできる。Ｒ3とＲ4が結合を有することもできる。Ｌは配位結合性化合物であり、π電子、エーテル、ニトリル、アミン、ホスフィンを示し、Ｘとの結合を有することもできる。ｍは１〜３の整数を示し、ｎは１〜５の整数を示す。ｐは０又は１の整数を示し、ＱとＭの結合は、Ｑが酸素又は硫黄の時、シグマ結合を示す。ｐが０で、Ａが窒素原子又はリン原子の場合、ＡはＭに配位結合することができる。ｑは１〜３の整数を示し、ｒは０〜３の整数を示す。）で表される遷移金属化合物である。
【００１１】
一般式（１）中、Ｍは周期表３族〜１２族より選ばれる遷移金属原子を示す。好ましくは周期表８族〜１２族より選ばれる遷移金属原子であり、より好ましくはＮｉ、Ｐｄ、Ｆｅ、Ｃｕである。
【００１２】
Ｘは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０の炭化水素オキシ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するアミノ基、炭素数１〜２０の有機基を有するスルホネート基、又はＢ，Ａｌ，Ｐ，Ｓｂより選ばれる元素を含む非配位性アニオンを示し、好ましくはハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０の有機基を有するスルホネート基、又はＢ，Ａｌ，Ｐ，Ｓｂより選ばれる元素を含む非配位性アニオンである。ｑは１〜３の整数を示し、ｑが２以上の時、Ｘは互いに同じでも異なっていてもよい。Ｘのハロゲン原子の具体例は、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、好ましくは塩素原子、臭素原子である。炭素数１〜２０の炭化水素基の具体例は、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基、アリル基、フェニル基、ｏ−トリル基等であり、炭素数１〜２０の炭化水素オキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、フェノキシ基等を挙げることができる。炭素数１〜２０の炭化水素基を有するアミノ基の例は、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジベンジルアミノ基などのジアルキルアミノ基やジアリールアミノ基等であり、炭素数１〜２０の有機基を有するスルホネート基の例は、トリフルオロメタンスルホネート基、ｐ−トルエンスルホネート基等であり、Ｂ，Ａｌ，Ｐ，Ｓｂより選ばれる元素を含む非配位性アニオンの具体例としては、テトラキス｛３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝ボレートアニオン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートアニオン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）アルミネートアニオン、ＳｂＦ6アニオン、ＰＦ6アニオンを挙げることができる。
【００１３】
一般式（１）中のＲ1は水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基、フェロセニル基、又は置換フェロセニル基を示し、好ましくは水素、炭素数１〜２０の炭化水素基である。炭素数１〜２０の炭化水素基の具体例として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基、フェニル基、２−メチルフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、好ましくはメチル基、フェニル基である。ハロゲン原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基の具体例として、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ジフルオロメチル基等が挙げられ、好ましくはトリフルオロメチル基である。置換フェロセニル基の具体例としては、メチルフェロセニル基、ジメチルフェロセニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェロセニル基等が挙げられる。
【００１４】
一般式（１）中のＲ2は水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子，ケイ素原子，窒素原子，酸素原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基、フェロセニル基、又は置換フェロセニル基を示し、好ましくは炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子，ケイ素原子，窒素原子，酸素原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基である。Ｒ2の炭素数１〜２０の炭化水素基の具体例は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基、フェニル基、２−メチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、２，６−ジイソプロピルフェニル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、メシチル基、２−ビフェニル基、ナフチル基、アダマンチル基等であり、好ましくは２−メチルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、２−ビフェニル基である。ハロゲン原子，ケイ素原子，窒素原子，酸素原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基の具体例は、２−（トリフルオロメチル）フェニル基、２−（トリクロロメチル）フェニル基、２−メチル−４−クロロフェニル基、２−（トリメチルシリル）フェニル基、２，６−ジ（トリメチルシリル）フェニル基、２−（ジメチルアミノメチル）フェニル基、２−（ジフェニルアミノメチル）フェニル基、２−（メトキシメチル）フェニル基、２−（フェノキシメチル）フェニル基、２−（メチルチオメチル）フェニル基、２−（フェニルチオメチル）フェニル基、２−ピリジル基、２−キノリル基等であり、好ましくは２−（トリフルオロメチル）フェニル基、２−（トリクロロメチル）フェニル基、２−メチル−４−クロロフェニル基、２−（トリメチルシリル）フェニル基、２−（ジフェニルアミノメチル）フェニル基、２−（メトキシメチル）フェニル基である。置換フェロセニル基の具体例としては、メチルフェロセニル基、ジメチルフェロセニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェロセニル基、テトラメチルシクロペンタジエニル（Ｃｐ*）基を有するフェロセニル基等を挙げることができる。
【００１５】
一般式（１）中のＱは水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するシリル基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するアミノ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するホスフィノ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するオキシ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するチオ基、窒素原子，リン原子，酸素原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基、酸素、又は硫黄を示し、好ましくは炭素数１〜２０の炭化水素基を有するアミノ基、窒素原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基である。Ｑに配位性原子を含む場合、遷移金属原子Ｍに配位結合することができる。Ｑの炭素数１〜２０の炭化水素基の具体例は、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、フェニル基等であり、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するシリル基の具体例としては、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基等を挙げることができる。炭素数１〜２０の炭化水素基を有するアミノ基の具体例としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、隣接したＲ3と結合したピリジル基若しくは置換ピリジル基等を挙げることができ、好ましくは隣接したＲ3と結合したピリジル基若しくは置換ピリジル基である。炭素数１〜２０の炭化水素基を有するホスフィノ基の例は、ジメチルホスフィノ基、ジ（シクロヘキシル）ホスフィノ基、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基等及びビス（ジイソプロピルアミノ）ホスフィノ基、ビス（ピロリジニル）ホスフィノ基、１−（Ｎ，Ｎ−ジメチル−２，５−ジアザ−１−ホスフィノシクロペンチル）基、１−（Ｎ，Ｎ−ジフェニル−２，５−ジアザ−１−ホスフィノシクロペンチル）基等のアザホスフィンであり、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するオキシ基の具体例は、メチルオキシ基、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、ベンジルオキシ基等であり、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するチオ基の具体例としては、メチルチオ基、フェニルチオ基、２−メチルフェニルチオ基等を挙げることができる。窒素原子，リン原子，酸素原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基の具体例としては、Ｎ−フェニルイミノメチル基、Ｎ−（２−トリル）イミノメチル基、ジメチルアミノメチル基、ジフェニルアミノメチル基、フェニルアミノメチル基、ジフェニルホスフィノメチル基、ジシクロヘキシルホスフィノメチル基、ジ（ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）メチル基、メトキシメチル基、（１−メトキシメチル）エチル基、フェノキシメチル基、（２−メチルフェノキシ）メチル基、メチルチオメチル基、フェニルチオメチル基等であり、好ましくはＮ−フェニルイミノメチル基、Ｎ−（２−トリル）イミノメチル基を好適に挙げることができる。なお、Ｑが酸素又は硫黄である場合、Ｑは遷移金属原子Ｍにシグマ結合することができる。ｐは０又は１の整数を示し、０であることが好ましい。
【００１６】
一般式（１）中のＲ3は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するシリル基、窒素原子，酸素原子，ハロゲン原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基を示し、好ましくは水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、酸素原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基である。炭素数１〜２０の炭化水素基の具体例は、メチル基、エチル基、ブチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、フェニル基、２−メチルフェニル基、４−メトキシフェニル基等であり、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するシリル基の具体例としては、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基等を挙げることができる。窒素原子，酸素原子，ハロゲン原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基の具体例としては、クロロメチル基、メトキシメチル基、ジメチルアミノメチル基、ホルミル基、Ｎ−（２−メチルフェニル）イミノメチル基、Ｎ−（２−イソプロピルフェニル）イミノメチル基、メチルチオメチル基、フェニルチオメチル基等である。なお、Ｑと隣接する一つのＲ3が結合し、環を形成することもできる。この環の具体例は、例えばピリジン環である。ｍは１〜３の整数であり、ｍが２以上の時、それぞれ互いに同じでも異なっていてもよく、また隣接するＲ3同士が結合して環を形成することもできる。
【００１７】
一般式（１）中の（Ｒ4）nのｎは１〜５の整数を示し、ｎが２以上の時、それぞれ互いに同じでも異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するシリル基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するホスフィノ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するオキシ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するチオ基、又は窒素原子，リン原子，酸素原子，ハロゲン原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基を示し、好ましくは水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するシリル基、窒素原子，酸素原子，若しくはハロゲン原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基である。Ｒ4の炭素数１〜２０の炭化水素基の具体例は、メチル基、エチル基、ブチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、フェニル基、２−メチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基等であり、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するシリル基の具体例としては、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基等を挙げることができる。炭素数１〜２０の炭化水素基を有するホスフィノ基の例は、ジメチルホスフィノ基、ジ（シクロヘキシル）ホスフィノ基、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基等であり、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するオキシ基の具体例は、メチルオキシ基、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、ベンジルオキシ基等であり、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するチオ基の具体例としては、メチルチオ基、フェニルチオ基、２−メチルフェニルチオ基等を挙げることができる。窒素原子，リン原子，酸素原子，ハロゲン原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基の具体例としては、Ｎ−（ｔｅｒｔ）−ブチルイミノメチル基、Ｎ−（フェニル）イミノメチル基、Ｎ−（２−トリル）イミノメチル基、３−（ジメチルアミノメチル）フェニル基、ジメチルアミノメチル基、１−（ジメチルアミノ）エチル基、ジフェニルアミノメチル基、フェニルメチルアミノメチル基、ジフェニルホスフィノメチル基、ジシクロヘキシルホスフィノメチル基、ジ（ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）メチル基、４−メトキシフェニル基、３−（メトキシメチル）フェニル基、メトキシメチル基、１−（メトキシメチル）エチル基、フェノキシメチル基、（２−メチルフェノキシ）メチル基、４−フルオロフェニル基、３−（トリフルオロメチル）フェニル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、メチルチオメチル基、フェニルチオメチル基等を好適に挙げることができる。
【００１８】
一般式（１）中のＬは、π電子、エーテル、ニトリル、アミン、ホスフィンの配位結合性化合物であり、具体的にはエチレン、プロピレン、スチレン、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、アセトニトリル、ベンゾニトリル、トリメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルジフェニルアミン、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン等である。ｒは０〜３の整数を示す。
【００１９】
一般式（１）中のＸとＬは結合を有することができ、その場合の具体的な例としては、π−アリル基、１−メチル−π−アリル基、２−メチル−π−アリル基、１−フェニル−π−アリル基等を挙げることができる。
【００２０】
本発明の一般式（１）で示されるアザフェロセン又はフェロセン構造を有する遷移金属化合物の好ましい形態としては、一般式（２）〜（４）で示すことができる。
【００２１】
【化８】
0004099986.tif 000003
【化９】
0004099986.tif 000004
【化１０】
0004099986.tif 000005
本発明の一般式（４）中のＲ5は水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するアミノ基を示す。炭素数１〜２０の炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、ブチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、フェニル基、２−メチルフェニル基等であり、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するアミノ基の具体例は、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−ピペラジニル基、Ｎ−ピペリジニル基、Ｎ−ピロリジニル基、ジフェニルアミノ基等である。本発明の一般式（４）中のｍは１又は２の整数である。
【００２２】
本発明のアザフェロセン又はフェロセン配位子を有する遷移金属化合物の具体的な例として、次のような遷移金属錯体を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。なお、本発明のアザフェロセン又はフェロセン配位子を有する遷移金属化合物で、（アザ）フェロセン環に面不斉を有する場合及び置換基Ｒ2に不斉炭素を有する場合は、ラセミ体及び光学活性体のいずれかであることもできる。
【００２３】
【化１１】
0004099986.tif 000006
【化１２】
0004099986.tif 000007
【化１３】
0004099986.tif 000008
【化１４】
0004099986.tif 000009
【化１５】
0004099986.tif 000010
【化１６】
0004099986.tif 000011
【化１７】
0004099986.tif 000012
【化１８】
0004099986.tif 000013
本発明の一般式（１）で示されるアザフェロセン又はフェロセン構造を有する遷移金属化合物の合成方法として、対応するアザフェロセン又はフェロセン構造を有する配位性化合物を合成した後、その配位性化合物を用いて錯体を合成する方法が挙げられる。対応するアザフェロセン構造を有する配位性化合物は、以下の一般式（５）で示すことができる。
【００２４】
【化１９】
0004099986.tif 000014
（ここで、Ａは炭素原子、窒素原子、又はリン原子を示す。Ｒ1は水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基、フェロセニル基、又は置換フェロセニル基を示し、Ｒ2は水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子，ケイ素原子，窒素原子，酸素原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基、フェロセニル基、又は置換フェロセニル基を示し、Ｒ1とＲ2が環を形成することもできる。Ｑは水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するシリル基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するアミノ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するホスフィノ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するオキシ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するチオ基、窒素原子，リン原子，酸素原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基、水酸基、又はチオール基を示す。Ｒ3は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するシリル基、窒素原子，酸素原子，ハロゲン原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０炭化水素基を示し、Ｑと隣接する一つのＲ3が環を形成することもできる。ｍが２以上の時、Ｒ3は互いに同じでも異なっていてもよく、また隣接するＲ3同士が結合して環を形成することもできる。Ｒ4は水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するシリル基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するホスフィノ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するオキシ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するチオ基、又は窒素原子，リン原子，酸素原子，ハロゲン原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基を示し、ｎが２以上の時、Ｒ4は互いに同じでも異なっていてもよく、また隣接するＲ4同士が結合して環を形成することもできる。Ｒ3とＲ4が結合を有することもできる。ｍは１〜３の整数を示し、ｎは１〜５の整数を示す。ｐは０又は１の整数を示す。）
本発明の一般式（５）で示される配位性化合物の置換基Ｒ1〜Ｒ4は、遷移金属化合物である一般式（１）〜（３）中の置換基Ｒ1〜Ｒ4と同一である。
【００２５】
本発明の一般式（５）で示される配位性化合物の具体的な例として、次のような化合物を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００２６】
【化２０】
0004099986.tif 000015
【化２１】
0004099986.tif 000016
本発明の一般式（５）で示される配位性化合物の内、Ａが窒素原子であるものは、以下の一般式（６）で示されるアザフェロセン化合物を原料として合成することができる。
【００２７】
一般式（６）は、即ち
【００２８】
【化２２】
0004099986.tif 000017
（ここで、Ｒ3は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するシリル基、窒素原子，酸素原子，ハロゲン原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０炭化水素基を示す。ｍが２以上の時、Ｒ3は互いに同じでも異なっていてもよく、また隣接するＲ3同士が結合して環を形成することもできる。Ｒ4は炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するシリル基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するホスフィノ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するオキシ基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するチオ基、又は窒素原子，リン原子，酸素原子，ハロゲン原子若しくは硫黄原子を含む炭素数１〜２０の炭化水素基を示し、ｎが２以上の時、Ｒ4は互いに同じでも異なっていてもよく、また隣接するＲ4同士が結合して環を形成することもできる。Ｒ3とＲ4が結合を有することもできる。ｍは１〜３の整数を示し、ｎは１〜５の整数を示す。但し、Ｒ4はすべて同時にメチル基であることはない。）
で表される一般式（５）で示される配位性化合物の前駆化合物である。
【００２９】
一般式（６）で示される前駆化合物の具体的な例として、次のような化合物を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００３０】
【化２３】
0004099986.tif 000018
本発明の一般式（６）で示されるアザフェロセン化合物は、例えば、Ｇ．Ｃ．Ｆｕらによって開示されている方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，６１巻，７２３０頁（１９９６年））あるいはＫ．Ｋ．Ｊｏｓｈｉらによって開示されている方法（Ｊ．Ｏｒｇｏｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．，I，４７１頁（１９６４年））に従って合成することができる。
【００３１】
本発明の一般式（５）で示される配位性化合物は、一般式（６）で示されるアザフェロセン化合物を原料として合成することができるが、
例えば、一般式（６）で示されるアザフェロセン化合物をｎ−ブチルリチウム等のリチオ化剤でリチオ化し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ベンゾニトリル、又はアセトニトリル等と反応させることにより、ホルミル基あるいはアセチル基等のカルボニル基を導入することができる。アザフェロセンのリチオ化の方法としては、例えば、Ｖ．Ｎ．Ｓｅｔｋｉｎａらによって開示されている方法（Ｊ．Ｏｒｇｏｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．，２５１巻，Ｃ４１頁（１９８３年））を用いることができる。なお、このリチオ化の時に、（−）−スパルテインのようなキラルジアミンを存在させると一方の鏡像体が過剰に存在する、即ち光学活性なアザフェロセン体を合成することができる。あるいは、酸塩化物と塩化アルミニウムを用いるフリーデルクラフツアシル化によっても、カルボニル基を導入することができる。さらに、芳香族アミン又は脂肪族アミンとの脱水縮合反応によりイミノ化し、一般式（５）の配位性化合物を合成することができる。イミノ化反応の条件としては、例えば、酢酸を触媒としてエタノール中で実施する方法、ｐ−トルエンスルホン酸を触媒としてトルエン中で実施する方法を挙げることができる。
【００３２】
本発明の一般式（４）で示される遷移金属化合物の原料となる配位性化合物は、ピリンジン環を有するフェロセン誘導体から合成することができる。ピリンジン環を有するフェロセン誘導体は、例えばＧ．Ｃ．Ｆｕらによって開示されている方法（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１２３巻，３５３頁（２００１年））に従って合成することができる。それによって得られたピリンジン環を有するフェロセンをｎ−ブチルリチウム等のリチオ化剤でリチオ化し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ベンゾニトリル、又はアセトニトリル等と反応させることにより、ホルミル基あるいはアセチル基等のカルボニル基を導入することができる。あるいは、酸塩化物と塩化アルミニウムを用いるフリーデルクラフツアシル化によっても、カルボニル体とすることができる。さらに、芳香族アミン又は脂肪族アミンとの脱水縮合反応によりイミノ化し、一般式（５）の配位性化合物を合成することができる。イミノ化反応の条件としては、例えば、酢酸を触媒としてエタノール中で実施する方法、ｐ−トルエンスルホン酸を触媒としてトルエン中で実施する方法を挙げることができる。
【００３３】
一方、本発明の一般式（５）で示される配位性化合物の内、Ａが炭素原子であるものは、フェロセン誘導体から合成することができる。上下のＣｐ環に置換基を有するフェロセン化合物を合成する方法として、例えば、Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．、１９９１年、４１２巻、３８１頁及びＯｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ、１９９９年、１８巻、１２６７頁に記載されているように、上下のＣｐ環にホルミル基を導入し、アミンとの脱水縮合によりイミノ基を導入する方法を挙げることができる。また、同一のＣｐ環に置換基を有するフェロセン化合物を合成する方法としては、例えば、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．、１９８０年、５３巻、１１３８頁及びＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、１９９７年、６２巻、６７３３頁に記載されているように、各種のヘテロ原子を有する置換基を導入する方法を挙げることができる。さらに、これらの方法を組み合わせることにより、上下及び同一のＣｐ環に多様な置換基を容易に導入することが可能である。また、Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．、２０００年、５９８巻、３６５頁に記載されているように、置換シクロペンタジエニルアルカリ金属の特異的な反応を利用して、非対称なフェロセン構造を構築することもできる。
【００３４】
該アザフェロセン又はフェロセン配位子を有する本発明の一般式（１）で示される遷移金属化合物を合成する方法として、既存の錯体合成反応で用いる方法をそのまま用いることが可能である。例えば、ＷＯ９６／２３０１０号及びＪ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、１９９９年、１２１巻、８７２８頁に記載されている方法を用いることができる。なお、該アザフェロセン又はフェロセン配位子を有する遷移金属化合物は、常法により単離した後、重合触媒に供することもできるし、単離することなく、ｉｎ−ｓｉｔｕで調製し、そのまま重合触媒として供することもできる。
【００３５】
本発明におけるオレフィン重合用触媒の構成成分の一つである活性化助触媒（Ｂ）とは、該遷移金属化合物、又は該遷移金属化合物と有機金属化合物との反応生成物と作用若しくは反応することにより、オレフィンを重合することが可能な重合活性種を形成させる役割を持つ化合物を示している。活性化助触媒は、重合活性種を形成した後、生成した重合活性種に対して弱く配位又は相互作用するものの、該活性種と直接反応しない化合物を提供する化合物である。活性化助触媒の例として、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロライド、エチルアルミニウムセスキクロライド等のハロゲン化アルキルアルミニウム、１，３−ジクロロ−１，３−ジエチルアルミノキサン、１，３−ジクロロ−１，３−ジイソプロピルアルミノキサン等のハロゲン化アルキルアルミノキサン、近年、均一系オレフィン重合用触媒系の助触媒成分として多く用いられているアルキルアルミノキサンや、非配位性のアニオンを有するイオン化イオン性化合物、さらに、変性粘土化合物などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００３６】
例えば、活性化助触媒（Ｂ）がアルキルアルミノキサンである場合、その構造は下記一般式（７）及び／又は（８）
【００３７】
【化２４】
0004099986.tif 000019
（式中、Ｒ6は各々同一でも異なっていてもよく、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などの炭素数１〜２０の炭化水素基である。また、ｓは２〜６０の整数である。）
で表される化合物であることが望ましい。なお、アルキルアルミノキサンには少量の有機金属化合物が含まれていてもよい。
【００３８】
活性化助触媒（Ｂ）が非配位性のアニオンを有するイオン化イオン性化合物である場合、その構造は下記一般式（９）で表されるプロトン酸、一般式（１０）で表されるイオン化イオン性化合物、一般式（１１）で表されるルイス酸、一般式（１２）で表されるルイス酸性化合物、ＡｇＳｂＦ6又はＡｇＰＦ6のいずれかの構造を有する化合物であることが望ましい。
【００３９】
［ＨＬ1］［Ｂ（Ａｒ）4］      （９）
［ＡＬ2u］［Ｂ（Ａｒ）4］    （１０）
［Ｄ］［Ｂ（Ａｒ）4］        （１１）
Ｂ（Ａｒ）3                  （１２）
（ここで、Ｈはプロトンであり、Ｂはホウ素原子又はアルミニウム原子である。Ｌ1はルイス塩基、Ｌ2はルイス塩基又はシクロペンタジエニル基である。Ａはリチウム、鉄又は銀から選ばれる金属の陽イオンであり、Ｄはカルボニウムカチオン又はトロピリウムカチオンである。Ａｒは炭素数６〜２０のハロゲン置換アリール基である。ｕは０〜２の整数である。）
一般式（９）で表されるプロトン酸の具体例としては、ジエチルオキソニウムテトラキス｛３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝ボレート、ジエチルオキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチルオキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラメチレンオキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ヒドロニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリＮ−ブチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジエチルオキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）アルミネート、ジメチルオキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）アルミネート、テトラメチレンオキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）アルミネート、ヒドロニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）アルミネート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）アルミネート、トリｎ−ブチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）アルミネート等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００４０】
一般式（１０）で表されるイオン化イオン性化合物としては、具体的にはナトリウムテトラキス｛３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝ボレート、リチウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、リチウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）アルミネート等のリチウム塩、又はそのエーテル錯体、フェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、フェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）アルミネート等のフェロセニウム塩、シルバーテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、シルバーテトラキス（ペンタフルオロフェニル）アルミネート等の銀塩等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００４１】
一般式（１１）で表されるルイス酸としては、具体的にはトリチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）アルミネート、トロピリウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トロピリウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）アルミネート等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００４２】
一般式（１２）で表されるルイス酸性化合物の具体的な例としては、トリス｛３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝ボラン、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４，５−テトラフェニルフェニル）ボラン、トリス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボラン、フェニルビス（パーフルオロフェニル）ボラン、トリス（３，４，５−トリフルオロフェニル）アルミニウム等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００４３】
本発明のオレフィン重合用触媒の構成成分である活性化助触媒（Ｂ）が変性粘土化合物である場合、用いる粘土化合物はカチオン交換能を有するものが好ましい。また、本発明において用いられる粘土化合物は、酸，アルカリによる処理、塩類処理及び有機化合物，無機化合物処理による複合体生成などの化学処理を行うことが好ましい。
【００４４】
粘土化合物としては、天然に存在するカオリナイト、ディッカイト、ハロイサイト等のカオリン鉱物、モンモリロナイト、ヘクトライト、バイデライト、サポナイト、テニオライト、ソーコナイト等のスメクタイト族、白雲母、パラゴナイト、イライト等の雲母族、バーミキュライト族、マーガライト、クリントナイト等の脆雲母族、ドンバサイト、クッケアイト、クリノクロア等の縁泥石族、セピオライト・パリゴルスカイトなどや、人工合成された粘土化合物を挙げることができるが、これらに限定されない。
【００４５】
化学処理に用いられる酸としては塩酸、硫酸、硝酸、酢酸等のブレンステッド酸が例示され、アルカリとしては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウムが好ましく用いられる。塩類処理において用いられる化合物としては、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化リチウム、塩化マグネシウム、塩化アルミニウム、塩化鉄、塩化アンモニウム等のイオン性ハロゲン化物；硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アルミニウム、硫酸アンモニウム等の硫酸塩；炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カルシウム等の炭酸塩；リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸アルミニウム、リン酸アンモニウム等のリン酸塩などの無機塩及び酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、シュウ酸カリウム、クエン酸ナトリウム、酒石酸ナトリウム等の有機酸塩などを挙げることができる。
【００４６】
粘土化合物の有機複合体生成に用いられる有機化合物としては、オニウム塩や、トリチルクロライド、トロピリウムブロマイド等の炭素カチオンを生成するような化合物、フェロセニウム塩等の金属錯体カチオンを生成する錯体化合物が例示される。無機複合体生成に用いられる無機化合物としては、水酸化アルミニウム、水酸化ジルコニウム、水酸化クロム等の水酸化物陽イオンを生成する金属水酸化物等を挙げることができる。
【００４７】
本発明において用いられる変性粘土化合物のうち特に好ましくは、粘土化合物中に存在する交換性カチオンである金属イオンを、特定の有機カチオン成分と交換した粘土化合物−有機イオン複合体である変性粘土化合物である。この変性粘土化合物に導入される有機カチオンとして、具体的にはブチルアンモニウム、ヘキシルアンモニウム、デシルアンモニウム、ドデシルアンモニウム、ジアミルアンモニウム、トリブチルアンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジメチルデシルアンモニウム等の脂肪族アンモニウムカチオン、アニリニウム、Ｎ−メチルアニリニウム、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウム、Ｎ−エチルアニリニウム、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウム、ベンジルアンモニウム、トルイジニウム、ジベンジルアンモニウム、トリベンジルアンモニウム、Ｎ，Ｎ，２，４，６−ペンタメチルアニリニウム等の芳香族アンモニウムカチオン等のアンモニウムイオン、あるいはジメチルオキソニウム、ジエチルオキソニウム等のオキソニウムイオンなどが例示されるが、これらに限定されるものではない。
【００４８】
本発明のオレフィン重合用触媒の構成成分である活性化助触媒（Ｂ）が電子移動を伴うトポタクティックな還元反応生成物である場合、その反応生成物は一般式（１３）
Ｅr+（ｋ／ｒ）（Ｌ3）ｈ［Ｇ］k-      （１３）
（式中、［Ｇ］はホスト化合物であり、ｋは還元量であり、Ｅr+はｎ価のゲストカチオンであり、Ｌ3はルイス塩基であり、ｈはルイス塩基量である。）
で表される化合物を例示することができる。
【００４９】
ここで、［Ｇ］としては、３次元構造を有するホスト化合物、２次元構造を有するホスト化合物、１次元構造を有するホスト化合物及び分子性固体であるホスト化合物を例示することができる。
【００５０】
３次元構造を有するホスト化合物としては、八硫化六モリブデン、五酸化二バナジウム、三酸化タングステン、二酸化チタン、二酸化バナジウム、二酸化クロム、二酸化マンガン、二酸化タングステン、二酸化ルテニウム、二酸化オスミウム、二酸化イリジウムを例示することができる。
【００５１】
２次元構造を有するホスト化合物としては、二硫化チタン、二硫化ジルコニウム、二硫化ハフニウム、二硫化バナジウム、二硫化ニオブ、二硫化タンタル、二硫化クロム、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、二硫化レニウム、二硫化白金、二硫化スズ、二硫化鉛、三硫化リンマグネシウム、三硫化リンマンガン、タンタルスルフィドカーバイド、三酸化モリブデン、五酸化バナジウムゲル、グラファイト、ポリアセンを例示することができる。
【００５２】
１次元構造を有するホスト化合物としては、三硫化チタン、三セレン化ニオブを例示することができる。
【００５３】
分子性固体であるホスト化合物としては、テトラシアノキノジメタン、テトラチオフルバレンを例示することができる。
【００５４】
さらに、［Ｇ］としては、上記ホスト化合物を複数混合して用いることもできる。
【００５５】
ｋは特に限定はないが、高い触媒活性でオレフィン重合体を製造することを目的に、好ましくは０＜ｋ≦３の範囲を用いることができる。さらに好ましくは０＜ｋ≦２の範囲を用いることができる。
【００５６】
Ｌ3としては、Ｅr+に配位可能なルイス塩基又はシクロペンタジエニル基を用いることができ、ルイス塩基としては、水、アミン化合物、窒素を含む複素環化合物、エチルエーテル若しくはｎ−ブチルエーテル等のエーテル類、ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド若しくはＮ−メチルアセトアミド等のアミド類、メチルアルコール若しくはエチルアルコール等のアルコール類、１，２−ブタンジオール若しくは１，３−ブタンジオール等のジオール類を例示することができるが、これらに限定されるものではない。これら２種以上を混合して用いることもできる。
【００５７】
ｈは０≦ｈ≦１０の範囲を用いることができる。
【００５８】
Ｅr+としては、周期表１〜１４族の原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含むカチオンを用いることができ、ｒは０＜ｒ≦１０の範囲を用いることができるが、高い触媒活性でオレフィン重合体を製造することを目的に、好ましくは、一般式（１４）又は（１５）
Ｒ72Ｒ8ＮＨ+      （１４）
（式中、Ｒ72Ｒ8Ｎはアミン化合物であり、Ｒ7は各々独立して水素原子又は炭素数１〜３０の脂肪族炭化水素基であり、Ｒ8は水素原子、炭素数１〜３０の脂肪族炭化水素基又は炭素数６〜５０の芳香族炭化水素基である。）
（Ｒ9）+          （１５）
（式中、（Ｒ9）+は炭素数１〜５０のカルボニウムカチオン又はトロピリウムカチオンである。）
で表されるカチオンからなる群より選ばれる少なくとも１種のカチオンを用いることができる。
【００５９】
Ｒ72Ｒ8Ｎで表されるアミン化合物としては、メチルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、アリルアミン、Ｎ−メチルシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルオクチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルドデシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルオクタデシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルメチルアミン、トリヘキシルアミン、トリイソオクチルアミン、トリドデシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミン等の脂肪族アミン、アニリン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ−エチルアニリン、Ｎ−アリルアニリン、ｏ−トルイジン、ｐ−トルイジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチル−ｏ−トルイジン、Ｎ−メチル−ｍ−トルイジン、Ｎ−エチル−ｏ−トルイジン等の芳香族アミンを例示することができる。
【００６０】
一般式（１５）で表されるカチオンとしては、トリフェニルメチルカチオン、トロピリウムカチオンを例示することができる。
【００６１】
本発明における触媒は、通常の重合方法、すなわちスラリー重合、気相重合、高圧重合、溶液重合、塊状重合のいずれにも使用できる。本発明において重合とは、単独重合のみならず共重合も意味し、これら重合により得られるポリオレフィンは、単独重合体のみならず共重合体も含む意味で用いられる。
【００６２】
本発明のオレフィン重合用触媒においては、遷移金属化合物及び活性化助触媒と共に有機金属化合物を共存させることができる。該有機金属化合物は、重合系中に存在する触媒毒となる成分を不活性化する役割を持つと同時に、遷移金属化合物のアルキル体を形成させることが可能な化合物が好ましく、具体的にはメチルリチウム、ｎ−ブチルリチウムなどのアルキルリチウム化合物、メチルマグネシウムクロライド、エチルマグネシウムクロライド、イソプロピルマグネシウムクロライド、ベンジルマグネシウムクロライド、メチルマグネシウムブロマイド、エチルマグネシウムブロマイド、イソプロピルマグネシウムブロマイド、ベンジルマグネシウムブロマイドなどのグリニャール試薬、ジメチルマグネシウムなどのジアルキルマグネシウム、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛などのジアルキル亜鉛、トリメチルボラン、トリエチルボランなどのアルキルボラン、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウムなどのアルキルアルミニウム、メチルアルミノキサン、ブチルアルミノキサン、ｔｅｒｔ−ブチルアルミノキサンなどのアルキルアルミノキサンなどを挙げることができる。
【００６３】
本発明において重合に供されるオレフィンは、エチレン、プロピレン、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン等のα−オレフィン、スチレン及びスチレン誘導体、ブタジエン、１，４−ヘキサジエン、５−エチリデン−２−ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、７−メチル−１，６−オクタジエン等の共役及び非共役ジエン、シクロブテン、シクロヘキセン等の環状オレフィン、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、ビシクロ（２，２，１）−５−ヘプテン−２，３−ジカルボン酸などのα，β−不飽和カルボン酸、及びこれらのナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩、亜鉛塩、マグネシウム塩、カルシウム塩などの金属塩、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチルなどのα，β−不飽和カルボン酸エステル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、トリフルオロ酢酸ビニルなどのビニルエステル、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、イタコン酸グリシジル、イタコン酸モノグリシジル等の不飽和グリシジルエステル、メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン、アクリトニトリル、メタアクリロニトリル、１−フェニルアクリロニトリル等のα，β−不飽和ニトリルが挙げられ、さらにエチレンとプロピレン、エチレンと１−ブテン、エチレンと１−ヘキセン、エチレンと１−オクテン、エチレンと酢酸ビニル、エチレンとアクリル酸メチル、エチレンとメタクリル酸メチル、エチレンとプロピレンとスチレン、エチレンと１−ヘキセンとスチレン、エチレンとプロピレンとエチリデンノルボルネンのように２種以上の成分を混合して重合することもできる。
【００６４】
本発明におけるオレフィンの重合は、気相でも液相でも行うことができ、液相で行う場合、用いる溶媒は一般に用いられている有機溶媒であればいずれでもよく、具体的にはベンゼン、トルエン、キシレン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、２，２，２−トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロピルアルコール等が挙げられ、プロピレン、１−ブテン、１−オクテン、１−ヘキセンなどのオレフィンそれ自身を溶媒として用いることもできる。
【００６５】
本発明の方法を用いてポリオレフィンを製造する上で、重合温度、重合時間、重合圧力、モノマー濃度などの重合条件について特に制限はないが、重合温度は−１００〜３００℃、重合時間は１０秒〜２０時間、重合圧力は常圧〜３０００ｋｇ／ｃｍ2Ｇの範囲で行うことが好ましい。また、重合時に水素などを用いて分子量の調節を行うことも可能である。重合はバッチ式、半連続式、連続式のいずれの方法でも行うことが可能であり、重合条件を変えて２段以上に分けて行うことも可能である。また、重合終了後に得られるポリオレフィンは、従来既知の方法により重合溶媒から分離回収され、乾燥して得ることができる。
【００６６】
【発明の効果】
本発明のアザフェロセン又はフェロセン構造を有する遷移金属化合物は、合成が容易で、しかも各種の多様な置換基を有することができる。さらに、重合用触媒として、オレフィン重合に対して極めて有効であり、本触媒をオレフィン重合用触媒として用いることで、ポリオレフィンを効率よく製造することが可能である。さらに、本発明のアザフェロセン又はフェロセン構造を有する遷移金属化合物は、オレフィン重合用触媒以外にもポリカーボネートの合成用触媒や不斉合成用の触媒、例えば不斉シクロプロパン化用の触媒としても有効であると考えられる。
【００６７】
【実施例】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例にのみ限定されるものではない。
【００６８】
遷移金属化合物の合成は、シュレンクテクニック若しくはドライボックスを用いて行い、すべての操作をアルゴン又は窒素雰囲気下で行った。遷移金属化合物の調製に用いた溶媒は、全て公知の方法で脱酸素、脱水を行ったものを用いた。重合反応は２ｌオートクレーブを用い、エチレンガスを連続的に供給しながら所定の時間、所定の温度で行った。重合に用いた溶媒は、公知の方法にて脱酸素、脱水を行ったものを用いた。エチレンガスは重合グレードをそのまま用いた。
【００６９】
実施例１
錯体Ａ−１の合成：
［配位性化合物の合成］
Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９９７年，６２巻，６７３３頁に記載されている方法に従い、１，２−ジホルミルフェロセンを合成した。
【００７０】
５０ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、１，２−ジホルミルフェロセン（６２５ｍｇ，２．５８ｍｍｏｌ）を加え、エタノール８ｍｌに溶解させた。アニリン（４９３ｍｇ，５．２９ｍｍｏｌ）を加え、室温で終夜攪拌を行った。反応終了後、減圧下で溶媒を留去した後、得られた固体残渣にシクロヘキサン（２０ｍｌ）を加え、再結晶化を行った。析出した結晶をろ過し、減圧乾燥し、濃赤色固体（６２０ｍｇ，１．５８ｍｍｏｌ）を得た。収率６１％。
【００７１】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）δ＝３．９９（ｓ、５Ｈ）、４．２５（ｔ、Ｊ＝２．６Ｈｚ、１Ｈ）、５．０２（ｄ、Ｊ＝２．６Ｈｚ、２Ｈ）、７．０２−７．２８（ｍ、１０Ｈ）、８．９１（ｓ、２Ｈ）
ＭＳ  ｍ／ｚ  ３９２（Ｍ+）
［錯体Ａ−１の合成］
５０ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、（１，５−シクロオクタジエン）ＰｄＭｅＣｌ（１４３ｍｇ，０．５３９ｍｍｏｌ）及び上記で得られた配位子（２１９ｍｇ，０．５５８ｍｍｏｌ）を加えた。トルエン（６ｍｌ）を加え、室温で２０時間攪拌した。得られた反応溶液を減圧濃縮し、トルエン（２ｍｌ）で洗浄した。残渣を減圧乾燥し、錯体Ａ−１の赤色固体（２５４ｍｇ，０．４９７ｍｍｏｌ）を得た。収率８９％。
【００７２】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ2Ｃｌ2）δ＝０．１４（ｓ、３Ｈ）、４．３９（ｓ、５Ｈ）、５．１２（ｂｒｓ、１Ｈ）、５．２２（ｂｒｓ、２Ｈ）、７．１０−７．５５（ｍ、６Ｈ）、７．６５−７．８３（ｍ、４Ｈ）、８．５６（ｓ、１Ｈ）、８．５９（ｓ、１Ｈ）
ＭＳ  ｍ／ｚ  ５４９（Ｍ+）
【００７３】
【化２５】
0004099986.tif 000020
実施例２
錯体Ａ−２の合成：
５０ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、実施例１で得られた錯体Ａ−１（２０４ｍｇ，０．３７１ｍｍｏｌ）及びＡｇＳｂＦ6（１２９ｍｇ，０．３７５ｍｍｏｌ）を加えた。−５０℃に冷却し、アセトニトリル（０．１５ｍｌ）及びジクロロメタン（６ｍｌ）からなる溶液を滴下した。４時間かけて−１０℃まで昇温した後、得られたスラリー溶液をろ過し、さらにジクロロメタンで抽出した。合わせたジクロロメタン溶液を減圧濃縮した。固体残渣をジクロロメタン（４ｍｌ）に溶解させた後、ペンタン（９ｍｌ）を滴下した。上澄みを除去し、得られた残渣を減圧乾燥し、錯体Ａ−２の濃赤色固体（２９１ｍｇ，０．３６８ｍｍｏｌ）を得た。収率９９％。
【００７４】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ2Ｃｌ2）δ＝０．３３（ｓ、３Ｈ）、１．９５（ｓ、３Ｈ）、４．４７（ｓ、５Ｈ）、５．２８（ｂｒｓ、１Ｈ）、５．３７（ｂｒｓ、１Ｈ）、５．４５（ｂｒｓ、１Ｈ）、７．４２−７．７５（ｍ、１０Ｈ）、８．６０（ｓ、１Ｈ）、８．７３（ｓ、１Ｈ）
ＭＳ  ｍ／ｚ  ７９０（Ｍ+）
【００７５】
【化２６】
0004099986.tif 000021
実施例３
錯体Ａ−３の合成：
５０ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、実施例１で得られた錯体Ａ−１（９０ｍｇ，０．１６３ｍｍｏｌ）及びナトリウムテトラキス｛３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝ボレート（１６５ｍｇ，０．１８７ｍｍｏｌ）を加えた。−５０℃に冷却し、アセトニトリル（０．０９ｍｌ）及びジクロロメタン（５ｍｌ）からなる溶液を滴下した。４時間かけて−１０℃まで昇温した後、得られたスラリー溶液をろ過し、さらにジクロロメタンで抽出し、合わせたジクロロメタン溶液を減圧濃縮した。残渣をジエチルエーテル（３ｍｌ）に溶解後、ペンタン（４ｍｌ）を添加した。上澄みを除去し、得られた残渣を減圧乾燥し、錯体Ａ−３の濃赤色固体（１３５ｍｇ，０．０９５ｍｍｏｌ）を得た。収率５８％。
【００７６】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ2Ｃｌ2）δ＝０．３４（ｓ、３Ｈ）、１．９０（ｓ、３Ｈ）、４．４７（ｓ、５Ｈ）、５．２５（ｓ、１Ｈ）、５．４９（ｓ、１Ｈ）、５．６４（ｓ、１Ｈ）、７．４０−７．６７（ｍ、１０Ｈ）、７．５８（ｓ、４Ｈ）、７．７３（ｓ、８Ｈ）、８．５８（ｓ、１Ｈ）、８．６９（ｓ、１Ｈ）
ＭＳ  ｍ／ｚ  １４１８（Ｍ+）
【００７７】
【化２７】
0004099986.tif 000022
実施例４
錯体Ａ−４の合成：
５０ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、（ジメトキシエタン）ＮｉＢｒ2（１１５ｍｇ，０．３７３ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（３ｍｌ）を加えた。この懸濁溶液に実施例１で合成した配位子（１５３ｍｇ，０．３９０ｍｍｏｌ）とジクロロメタン（５ｍｌ）からなる溶液を添加した。室温で３時間攪拌後、ろ過し、ジクロロメタンで抽出し、合わせたジクロロメタン溶液を減圧濃縮した。残渣をシクロヘキサン（４０ｍｌ）で洗浄し、減圧乾燥し、錯体Ａ−４の濃赤色固体（２１３ｍｇ，０．３４８ｍｍｏｌ）を得た。収率９３％。
【００７８】
ＭＳ  ｍ／ｚ  ６１０（Ｍ+）
【００７９】
【化２８】
0004099986.tif 000023
実施例５
錯体Ｂ−１の合成：
［配位性化合物の合成］
Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．，１９９１年，４１２巻，３８１頁に記載されている方法に従い、１，１’−ジホルミルフェロセンを合成した。
【００８０】
５０ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、１，１’−ジホルミルフェロセン（１．０４ｇ，４．３０ｍｍｏｌ）、モレキュラーシーブス４Ａ（５ｇ）、トルエン８ｍｌ及びｔｅｒｔ−ブチルアミン（１．２６ｇ、１７．２ｍｍｏｌ）を加えた。室温で１５時間攪拌後、揮発分を減圧留去した。ジエチルエーテル（２０ｍｌ）で抽出し、減圧濃縮、乾燥し、茶色固体（１．３５ｇ，３．８３ｍｍｏｌ）を得た。収率８９％。
【００８１】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）δ＝１．３０（ｓ、１８Ｈ）、４．１２（ｔ、Ｊ＝２．２Ｈｚ、４Ｈ）、４．６４（ｔ、Ｊ＝２．２Ｈｚ、４Ｈ）、８．０５（ｓ、２Ｈ）
ＭＳ  ｍ／ｚ  ３５２（Ｍ+）
［錯体Ｂ−１の合成］
５０ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、（１，５−シクロオクタジエン）ＰｄＭｅＣｌ（１２０ｍｇ，０．４５２ｍｍｏｌ）及び上記で得られた配位子（１５６ｍｇ，０．４４３ｍｍｏｌ）を加えた。トルエン（２．５ｍｌ）を加え、室温で７時間攪拌した。得られたスラリー溶液をろ過し、トルエン（３ｍｌ）で洗浄した。残渣を減圧乾燥し、錯体Ｂ−１のレンガ色固体（１３５ｍｇ，０．２６５ｍｍｏｌ）を得た。収率６０％。
【００８２】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ2Ｃｌ2）δ＝０．５５（ｓ、３Ｈ）、１．７２（ｓ、１８Ｈ）、４．５５（ｂｒｓ、４Ｈ）、４．８２（ｂｒｓ、２Ｈ）、６．０２（ｂｒｓ、２Ｈ）、８．１５（ｓ、１Ｈ）、８，７０（ｂｒｓ、１Ｈ）
【００８３】
【化２９】
0004099986.tif 000024
実施例６
錯体Ｂ−２の合成：
［配位性化合物の合成］
５０ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、１，１’−ジホルミルフェロセン（１．００ｇ，４．１３ｍｍｏｌ）、エタノール２５ｍｌ、２，６−ジメチルアニリン（１．２６ｇ，１０．４ｍｍｏｌ）及び酢酸（１０ｍｇ）を加えた。加熱還流下で８時間攪拌後、揮発分を減圧留去した。ジエチルエーテル（９０ｍｌ）で抽出し、減圧濃縮した。得られた固体をヘキサン／トルエン（５／１）から再結晶化し、ろ過乾燥後、橙色固体（０．９０ｇ，２．００ｍｍｏｌ）を得た。収率４９％。
【００８４】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）δ＝２．２０（ｓ、１２Ｈ）、４．２３（ｔ、Ｊ＝２．２Ｈｚ、４Ｈ）、４．７０（ｔ、Ｊ＝２．２Ｈｚ、４Ｈ）、６．９６（ｔ、Ｊ＝７．８Ｈｚ、２Ｈ）、７．０５（ｄ、Ｊ＝７．８Ｈｚ、４Ｈ）、７．７０（ｓ、２Ｈ）
ＭＳ  ｍ／ｚ  ４４８（Ｍ+）
［錯体Ｂ−２の合成］
５０ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、（ジメトキシエタン）ＮｉＢｒ2（１４８ｍｇ，０．４７９ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（３ｍｌ）を加えた。この懸濁溶液に上記で合成した配位子（２２２ｍｇ，０．４９５ｍｍｏｌ）とジクロロメタン（５ｍｌ）からなる溶液を添加した。室温で４８時間攪拌後、ろ過し、ジクロロメタンで抽出し、合わせたジクロロメタン溶液を減圧濃縮した。残渣をトルエン（２０ｍｌ）で洗浄し、減圧乾燥し、錯体Ｂ−２の濃赤色固体（１４２ｍｇ，０．２１３ｍｍｏｌ）を得た。収率４５％。
【００８５】
ＭＳ  ｍ／ｚ  ６６７（Ｍ+）
【００８６】
【化３０】
0004099986.tif 000025
実施例７
［錯体溶液の調製］
１００ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、実施例４で合成した錯体Ａ−４（５９ｍｇ，０．０９７ｍｍｏｌ）及びトルエン（４０ｍｌ）を加え、３０分間攪拌した。
【００８７】
［エチレン重合］
２ｌのオートクレーブに、トルエン（５００ｍｌ）及びメチルアルミノキサン（東ソー・アクゾ（株）製  ＰＭＡＯ，３．５ｍｌ、アルミニウム原子換算で１０ｍｍｏｌ）を充填した。オートクレーブ内の温度を４０℃とし、１０ｋｇ／ｃｍ2Ｇのエチレンで加圧した。上記で得られた錯体溶液を圧入し、１０ｋｇ／ｃｍ2Ｇの圧になるようにエチレンを連続的に供給しながら４０℃で１時間重合を行った。得られた反応液を定法に従って処理し、液状の重合物１２．８ｇを得た。
【００８８】
実施例８
［エチレン重合］
１００ｍｌのガラス製オートクレーブに、トルエン（５０ｍｌ）及び実施例４で合成した錯体Ａ−４（３３．４ｍｇ，０．０５５ｍｍｏｌ）を加え、１０ｋｇ／ｃｍ2Ｇのエチレンで加圧した。トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン（東ソー・アクゾ（株）製  ２．９重量％アイソパール−Ｅ溶液、４ｍｌ、０．１６ｍｍｏｌ）及びトリメチルアルミニウム（２０重量％トルエン溶液，０．０７ｍｌ、０．１７ｍｍｏｌ）を加え、１０ｋｇ／ｃｍ2Ｇのエチレン圧下、室温で２時間重合を行った。得られた反応液を定法に従って処理し、液状の重合物１．１ｇを得た。
【００８９】
実施例９
［錯体溶液の調製］
１００ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、実施例４で合成した錯体Ａ−４（６９ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）及びトルエン（５０ｍｌ）を加え、３０分間攪拌した。
【００９０】
［エチレン／アクリル酸メチル共重合］
２ｌのオートクレーブに、トルエン（４５０ｍｌ）及びメチルアルミノキサン（東ソー・アクゾ（株）製  ＰＭＡＯ，４．０ｍｌ、アルミニウム原子換算で１２．８ｍｍｏｌ）を充填した。１０ｋｇ／ｃｍ2Ｇのエチレンで加圧した。上記で得られた錯体溶液を圧入し、５分間攪拌後、アクリル酸メチル（５ｍｌ、５６ｍｍｏｌ）、トルエン（４０ｍｌ）及びメチルアルミノキサン（０．５ｍｌ）から成る溶液を圧入した。１０ｋｇ／ｃｍ2Ｇの圧になるようにエチレンを連続的に供給しながら室温で２４時間重合を行った。得られた反応液を０．１Ｎ塩酸（３５０ｍｌ）でクエンチし、分相し、有機相を水洗した。得られた有機相を減圧濃縮し、得られた粘性物をヘキサン抽出し、さらに減圧濃縮した。粘性液体１．８２ｇを得た。1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）より、アクリル酸メチル単位が１９重量％含まれていた。ＧＰＣより、Ｍｗ＝１．０×１０3、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８であった。
【００９１】
実施例１０
錯体Ａ−４を６７ｍｇ用い、アクリル酸メチルを１５ｍｌ用いた以外は実施例９と同じ操作を繰り返した。粘性液体１．２５ｇを得た。1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）より、アクリル酸メチル単位が５０重量％含まれていた。ＧＰＣより、Ｍｗ＝１．０×１０3、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９であった。
【００９２】
実施例１１
錯体Ｂ−２を５９ｍｇ（０．０８８ｍｍｏｌ）及びメチルアルミノキサン３．１ｍｌ（東ソー・アクゾ（株）製、アルミニウム原子換算で８．８ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例７と同じ操作を繰り返した。固体４４ｍｇを得た。融点は１２４．４℃であった。
【００９３】
実施例１２
錯体Ｃ−１の合成：
［配位性化合物の合成］
Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９９６年，６１巻，７２３０頁に記載されている方法に従い、１’，２’，３’，４’，５’−ペンタメチルアザフェロセンを合成した。
【００９４】
５０ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、１’，２’，３’，４’，５’−ペンタメチルアザフェロセン（４０４ｍｇ，１．５７ｍｍｏｌ）を加え、ジエチルエーテル７ｍｌに溶解させた。（−）−スパルテイン（７４０ｍｇ，３．１０ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下ｎ−ＢｕＬｉ（１．５９Ｍヘキサン溶液、２ｍｌ、３．２ｍｍｏｌ）を滴下した。氷冷下１時間攪拌し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２４０ｍｇ，３．３ｍｍｏｌ）を加えた。２０分後、水を加えてクエンチし、ジエチルエーテルで抽出した。有機相を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル）により精製した。濃赤色液体（３５０ｍｇ，１．２２ｍｍｏｌ）を得た。収率７８％。
【００９５】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）δ＝１．５９（ｓ、１５Ｈ）、３．９９（ｓ、１Ｈ）、４．６３（ｓ、１Ｈ）、４．９９（ｓ、１Ｈ）、１０．１（ｓ、１Ｈ）
５０ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、上記で合成した２−ホルミルアザフェロセン（３４１ｍｇ、１．１９ｍｍｏｌ）及びエタノール（７ｍｌ）を加えた。ｏ−トルイジン（１４０ｍｇ，１．３１ｍｍｏｌ）及び酢酸（１０ｍｇ）を添加した。室温で２日間攪拌した後、反応液を減圧濃縮した。残渣をヘキサンで抽出し、減圧濃縮後、配位性化合物である濃赤色液体（４５５ｍｇ）を得た。
【００９６】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）δ＝１．７２（ｓ、１５Ｈ）、２．５８（ｓ、３Ｈ）、４．０７（ｓ、１Ｈ）、４．９２（ｓ、１Ｈ）、５．０６（ｓ、１Ｈ）、６．９０−７．４０（ｍ、４Ｈ）、８．５４（ｓ、１Ｈ）
［錯体Ｃ−１の合成］
５０ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、（ＤＭＥ）ＮｉＢｒ2（１５２ｍｇ，０．４９ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（２ｍｌ）を加えた。攪拌下、上記の配位性化合物（１９１ｍｇ）のジクロロメタン（６ｍｌ）溶液をキャヌラーを用いて加えた。室温で２時間攪拌後、生成したスラリー反応液をろ過し、得られた固体をジクロロメタンで洗浄した。残渣を減圧乾燥し、赤色の固体（２１０ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）を得た。収率７１％。
【００９７】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ2Ｃｌ2）δ＝−８．１５（ｓ、１Ｈ）、−７．７０（ｓ、１Ｈ）、−１．８０（ｓ、１Ｈ）、１．４８（ｓ、１５Ｈ）、１．８０（ｓ、３Ｈ）、１６．５０（ｓ、１Ｈ）、２２．８５（ｓ、１Ｈ）、２３．３０（ｓ、１Ｈ）、３４．１０（ｓ、２Ｈ）
ＦＡＢ−ＭＡＳＳ：ｍ／ｚ  ５９３（Ｍ+）、５１３（Ｍ+−Ｂｒ）、４３３（Ｍ+−２Ｂｒ）、３７４（Ｍ+−ＮｉＢｒ2）
【００９８】
【化３１】
0004099986.tif 000026
実施例１３
錯体Ｃ−２の合成：
５０ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、塩化鉄（ＩＩ）（４３．８ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（７ｍｌ）を加えた。攪拌下、実施例１２で合成した配位性化合物（１５７ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液をキャヌラーを用いて加えた。室温で２時間攪拌後、得られた反応液をろ過し、固体をさらにＴＨＦで洗浄した。減圧乾燥し、赤−オレンジ色の固体（１２４ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）を得た。収率７１％。
【００９９】
ＦＡＢ−ＭＡＳＳ：ｍ／ｚ  ４６５（Ｍ+−Ｃｌ）、４２９（Ｍ+−２Ｃｌ）、３７４（Ｍ+−ＦｅＣｌ2）
【０１００】
【化３２】
0004099986.tif 000027
実施例１４
錯体Ｃ−３の合成：
５０ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、塩化銅（ＩＩ）（４５．９ｍｇ，０．３２ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（１０ｍｌ）を加えた。攪拌下、実施例１２で合成した配位性化合物（１３３ｍｇ，０．３６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１２ｍｌ）溶液をキャヌラーを用いて加えた。室温で２時間攪拌後、得られた黒色均一反応液を冷凍庫で一晩保存した。生成した固体をろ別し、減圧乾燥し、オレンジ色固体（４７ｍｇ，０．０９２ｍｍｏｌ）を得た。収率２８％。
【０１０１】
ＦＡＢ−ＭＡＳＳ：ｍ／ｚ  ４７３（Ｍ+−Ｃｌ）、４３７（Ｍ+−２Ｃｌ）、３７４（Ｍ+−ＣｕＣｌ2）
【０１０２】
【化３３】
0004099986.tif 000028
実施例１５
錯体Ｃ−４の合成：
［前駆化合物の合成］
１００ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、塩化鉄（ＩＩ）（２５５ｍｇ，２．０１ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（１０ｍｌ）を加えた。一方、５０ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、ペンタフェニルシクロペンタジエン（７８５ｍｇ，１．７５ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（２０ｍｌ）を加えた。室温でｎ−ＢｕＬｉ（１．５６Ｍヘキサン溶液、１．２４ｍｌ、１．９３ｍｍｏｌ）を滴下し、５分間攪拌した。この溶液をキャヌラーを用いて、塩化鉄のＴＨＦスラリー液に導入した。さらに、カリウムピロリド（２１６ｍｇ，２．０５ｍｍｏｌ）とＴＨＦ（１０ｍｌ）からなる溶液をキャヌラーを用いてフィードした。室温で２時間攪拌した後、水（１５ｍｌ）を加えクエンチした。ジクロロメタン（２５ｍｌ）を加えて抽出し、有機相を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し（溶媒：ジクロロメタン、酢酸エチル）、オレンジ色の固体である１’，２’，３’，４’，５’−ペンタフェニルアザフェロセン（８６８ｍｇ，１．５３ｍｍｏｌ）を得た。収率８７％。
【０１０３】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ2Ｃｌ2）δ＝４．７１（ｔ、Ｊ＝０．７Ｈｚ、２Ｈ）、５．４４（ｔ、Ｊ＝０．７Ｈｚ、２Ｈ）、７．０７−７．１２（ｍ、１０Ｈ）、７．１４−７．２０（ｍ、１５Ｈ）．
［配位性化合物の合成］
５０ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、１’，２’，３’，４’，５’−ペンタフェニルアザフェロセン（９８５ｍｇ，１．７３ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ２１ｍｌを加えた。−５０℃に冷却し、ｎ−ＢｕＬｉ（１．５９Ｍヘキサン溶液、２．３５ｍｌ、３．７４ｍｍｏｌ）を滴下した。−５０℃で３時間攪拌した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２８４ｍｇ，３．８９ｍｍｏｌ）を加えた。徐々に昇温しながら４０分間反応後、水を加えてクエンチした。エーテルで抽出し、有機相を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／ジクロロメタン、酢酸エチル）により精製した。オレンジ色液体（７４３ｍｇ，１．２５ｍｍｏｌ）を得た。収率７２％。
【０１０４】
５０ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、上記で合成した２−ホルミルアザフェロセン（９２ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）及びエタノール（４ｍｌ）を加えた。ｏ−トルイジン（２５ｍｇ，０．２３ｍｍｏｌ）及び酢酸（５ｍｇ）を添加した。室温で１日間攪拌した後、反応液を減圧濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄し、減圧乾燥後、配位性化合物である赤色固体（７６ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）を得た。収率７３％。
【０１０５】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）δ＝２．３１（ｓ、３Ｈ）、４．４８（ｓ、１Ｈ）、５．４５（ｓ、１Ｈ）、５．５５（ｓ、１Ｈ）、６．１４（ｄ、Ｊ＝７．０Ｈｚ、１Ｈ）、６．７８−７．０６（ｍ、１８Ｈ）、７．４２（ｄ、Ｊ＝６．２Ｈｚ、１０Ｈ）、８．４４（ｓ、１Ｈ）
［錯体Ｃ−４の合成］
５０ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、（ＤＭＥ）ＮｉＢｒ2（２０ｍｇ，０．０６５ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（２ｍｌ）を加えた。攪拌下、上記の配位性化合物（４０ｍｇ，０．０５８ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（３ｍｌ）溶液をキャヌラーを用いて加えた。室温で３時間攪拌後、得られた反応液をろ過し、さらにジクロロメタンで抽出した。合わせたジクロロメタン溶液を減圧濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄し、減圧乾燥し、赤茶色の固体（４４ｍｇ，０．０４８ｍｍｏｌ）を得た。収率８４％。
【０１０６】
ＦＡＢ−ＭＡＳＳ：ｍ／ｚ  ８２３（Ｍ+−Ｂｒ）、７４３（Ｍ+−２Ｂｒ）、６８４（Ｍ+−ＮｉＢｒ2）
【０１０７】
【化３４】
0004099986.tif 000029
実施例１６
錯体Ｃ−５の合成：
［配位性化合物の合成］
５０ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、実施例１５で合成した１’，２’，３’，４’，５’−ペンタフェニル−２−ホルミルアザフェロセン（２９１ｍｇ，０．４９ｍｍｏｌ）及びエタノール（１０ｍｌ）を加えた。２−イソプロピルアニリン（８６ｍｇ，０．６４ｍｍｏｌ）及び酢酸（１０ｍｇ）を添加した。室温で２日間攪拌した後、反応液を減圧濃縮した。残渣を少量のエタノールで洗浄し、減圧乾燥後、配位性化合物である赤色固体（２８９ｍｇ，０．４１ｍｍｏｌ）を得た。収率８３％。
【０１０８】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）δ＝１．１６（ｄ、Ｊ＝６．４Ｈｚ、３Ｈ）、１．３１（ｄ、Ｊ＝６．４Ｈｚ、３Ｈ）、３．６５−３．７８（ｍ、１Ｈ）、４．４６（ｓ、１Ｈ）、５．４７（ｓ、１Ｈ）、５．５５（ｓ、１Ｈ）、６．０１（ｄ、Ｊ＝７．０Ｈｚ、１Ｈ）、６．７８−７．０４（ｍ、１８Ｈ）、７．４０（ｄ、Ｊ＝６．２Ｈｚ、１０Ｈ）、８．４９（ｓ、１Ｈ）
［錯体Ｃ−５の合成］
５０ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、（ＤＭＥ）ＮｉＢｒ2（５６ｍｇ，０．１８ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（２ｍｌ）を加えた。攪拌下、上記の配位性化合物（１２９ｍｇ，０．１８ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（６ｍｌ）溶液をキャヌラーを用いて加えた。室温で３時間攪拌後、得られた反応液を減圧濃縮し、残渣を少量のジクロロメタンで洗浄した。減圧乾燥し、赤色の固体（１６０ｍｇ，０．１７ｍｍｏｌ）を得た。収率９５％。
【０１０９】
ＦＡＢ−ＭＡＳＳ：ｍ／ｚ  ７１２（Ｍ+−ＮｉＢｒ2）
【０１１０】
【化３５】
0004099986.tif 000030
実施例１７
錯体Ｃ−６の合成：
［配位性化合物の合成］
５０ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、実施例１５で合成した１’，２’，３’，４’，５’−ペンタフェニル−２−ホルミルアザフェロセン（１３２ｍｇ，０．２２ｍｍｏｌ）及びエタノール（６ｍｌ）を加えた。２−アミノビフェニル（４９ｍｇ，０．２９ｍｍｏｌ）及び酢酸（５ｍｇ）を添加した。室温で２日間攪拌した後、反応液を減圧濃縮した。残渣を少量のエタノールで洗浄し、減圧乾燥後、配位性化合物である赤色固体（１２２ｍｇ，０．１６ｍｍｏｌ）を得た。収率７４％。
【０１１１】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）δ＝４．３９（ｓ、１Ｈ）、５．２９（ｓ、１Ｈ）、５．５１（ｓ、１Ｈ）、６．９９（ｄ、Ｊ＝７．６Ｈｚ、１Ｈ）、６．８０−７．１０（ｍ、１８Ｈ）、７．１２−７．２０（ｍ、３Ｈ）、７．３６（ｄ、Ｊ＝７．０Ｈｚ、１０Ｈ）、７．５１（ｄ、Ｊ＝７．０Ｈｚ、２Ｈ）、８．５３（ｓ、１Ｈ）
［錯体Ｃ−６の合成］
５０ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、（ＤＭＥ）ＮｉＢｒ2（４０ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（２ｍｌ）を加えた。攪拌下、上記の配位性化合物（１０５ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５ｍｌ）溶液をキャヌラーを用いて加えた。室温で３時間攪拌後、得られた反応液を減圧濃縮し、残渣をヘキサンで洗浄した。減圧乾燥し、赤色の固体（１１０ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）を得た。収率８５％。
【０１１２】
ＦＡＢ−ＭＡＳＳ：ｍ／ｚ  ８８５（Ｍ+−Ｂｒ）、８０５（Ｍ+−２Ｂｒ）、７４７（Ｍ+−ＮｉＢｒ2）
【０１１３】
【化３６】
0004099986.tif 000031
実施例１８
［前駆化合物の合成］
Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１９９８年，１８８９頁に記載されている方法に従い、１’，２’，３’，４’，５’−ペンタ（ｐ−フルオロフェニル）シクロペンタジエンを合成した。
【０１１４】
１’，２’，３’，４’，５’−ペンタフェニルシクロペンタジエンの代わりに１’，２’，３’，４’，５’−ペンタ（ｐ−フルオロフェニル）シクロペンタジエンを用いた以外は、実施例１５の前駆化合物の合成方法を繰り返した。オレンジ色の固体である１’，２’，３’，４’，５’−ペンタ（ｐ−フルオロフェニル）アザフェロセンを収率４７％で得た。
【０１１５】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）δ＝４．０８（ｄ、Ｊ＝０．８Ｈｚ、２Ｈ）、５．１０（ｔ、Ｊ＝０．８Ｈｚ、２Ｈ）、６．５８−６．６８（ｍ、１０Ｈ）、７．００−７．１０（ｍ、１０Ｈ）．
実施例１９
［前駆化合物の合成］
Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１９９８年，１８８９頁に記載されている方法に従い、１’，２’，３’，４’，５’−ペンタ（ｐ−メトキシフェニル）シクロペンタジエンを合成した。
【０１１６】
１’，２’，３’，４’，５’−ペンタフェニルシクロペンタジエンの代わりに１’，２’，３’，４’，５’−ペンタ（ｐ−メトキシフェニル）シクロペンタジエンを用いた以外は、実施例１５の前駆化合物の合成方法を繰り返した。オレンジ色の固体である１’，２’，３’，４’，５’−ペンタ（ｐ−メトキシフェニル）アザフェロセンを収率７２％で得た。
【０１１７】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）δ＝３．２３（ｓ、１５Ｈ）、４．４７（ｓ、２Ｈ）、５．４８（ｓ、２Ｈ）、６．６０（ｄ、Ｊ＝８．８Ｈｚ、１０Ｈ）、７．４０（ｄ、Ｊ＝８．８Ｈｚ、１０Ｈ）．
実施例２０
［錯体溶液の調製］
１００ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、実施例１２で合成した錯体Ｃ−１（２８ｍｇ，４７μｍｏｌ）及びトルエン（５０ｍｌ）を加え、２０分間攪拌した。
【０１１８】
［エチレン重合］
２ｌのオートクレーブに、トルエン（５００ｍｌ）及びメチルアルミノキサン（東ソー・アクゾ（株）製  ＰＭＡＯ，１．６ｍｌ、アルミニウム原子換算で４．６ｍｍｏｌ）を加えた。１０ｋｇ／ｃｍ2Ｇのエチレンを充填した後、上記で得られた錯体溶液を室温で圧入し、１０ｋｇ／ｃｍ2Ｇの圧になるようにエチレンを連続的に供給しながら１時間重合を行った。メタノールを圧入して反応をクエンチし、脱圧した。メタノールをさらに投入し、ポリマーを析出させた。ろ過し、ポリマーをメタノールで洗浄した。減圧乾燥し、固体の重合物８２．７ｇを得た（活性：１．７Ｋｇ／Ｎｉ・ｍｍｏｌ・ｈ）。ＤＳＣによる融点は７７．５℃であり、ＧＰＣ（１，２，４−トリクロロベンゼン、１４０℃）測定の結果、Ｍｗ＝１．０×１０4、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．２であった。
【０１１９】
実施例２１〜２４
錯体として表１に示した化合物を用いた以外は実施例２０と同じ操作を繰り返した。結果を表１に示した。
【０１２０】
【表１】
0004099986.tif 000032
実施例２５
［錯体溶液の調製］
１００ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、実施例１６で合成した錯体Ｃ−５（５２ｍｇ，０．０５６ｍｍｏｌ）及びトルエン（６０ｍｌ）を加え、２０分間攪拌した。
【０１２１】
［エチレン／アクリル酸メチル共重合］
２ｌのオートクレーブに、トルエン（４５０ｍｌ）及びメチルアルミノキサン（東ソー・アクゾ（株）製  ＰＭＡＯ，２．０ｍｌ、アルミニウム原子換算で５．７ｍｍｏｌ）を充填した。１ｋｇ／ｃｍ2Ｇのエチレンで加圧した。上記で得られた錯体溶液を圧入し、５分間攪拌後、アクリル酸メチル（５ｍｌ、５６ｍｍｏｌ）、トルエン（４０ｍｌ）及びメチルアルミノキサン（０．５ｍｌ）から成る溶液を圧入した。５ｋｇ／ｃｍ2Ｇの圧になるようにエチレンを連続的に供給しながら室温で２７時間重合を行った。得られた反応液を０．１Ｎ塩酸（３５０ｍｌ）でクエンチし、分相し、有機相を水洗した。得られた有機相をろ過し、ろ液を減圧濃縮し、ゴム状粘性固体４．０ｇを得た。1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）より、アクリル酸メチル単位が７重量％含まれていた。
【０１２２】
実施例２６
錯体Ｃ−７の合成：
１００ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、実施例１６で合成した配位性化合物（１５２ｍｇ，０．２１ｍｍｏｌ）及び（１，５−シクロオクタジエン）Ｐｄ（Ｍｅ）Ｃｌ（５５．４ｍｇ、０．２１ｍｍｏｌ）を加えた。ジエチルエーテル（１２ｍｌ）を加え、室温で３時間攪拌した。上澄みを除き、さらに残渣をジエチルエーテル（６ｍｌ）を用いて洗浄した。得られた固体を乾燥し、ピンク色の固体（１６６ｍｇ，０．１９ｍｍｏｌ）得た。収率９２％。
【０１２３】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ2Ｃｌ2）δ＝０．４０（ｓ、３Ｈ）、０．８６（ｄ、Ｊ＝６．６Ｈｚ、３Ｈ）、１．２６（ｄ、Ｊ＝６．６Ｈｚ、３Ｈ）、３．３４−３．５０（ｍ、１Ｈ）、５．２９（ｓ、１Ｈ）、５．３５（ｓ、１Ｈ）、５．８４（ｓ、１Ｈ）、５．９０（ｄ、Ｊ＝８．４Ｈｚ、１Ｈ）、６．９３−７．４４（ｍ、２８Ｈ）、８．２３（ｓ、１Ｈ）
【０１２４】
【化３７】
0004099986.tif 000033
実施例２７
錯体Ｃ−８の合成：
５０ｍｌのシュレンクフラスコを窒素置換し、実施例２５で合成した遷移金属化合物（７１ｍｇ，０．０８２ｍｍｏｌ）及びＡｇＳｂＦ6（２９ｍｇ，０．０８５ｍｍｏｌ）を加えた。−５０℃に冷却し、ジエチルエーテル（８ｍｌ）を加えた。冷バスを外し、室温で１時間攪拌した。得られた反応液をろ過し、さらに残渣をジクロロメタンとジエチルエーテルの１：１溶液（１６ｍｌ）で抽出し、先のろ液と合わせた。全体が１０ｍｌになるまで減圧濃縮し、ヘキサン（２０ｍｌ）を添加し、固体を析出させた。上澄みを除き、得られた固体を乾燥し、あずき色の固体（７６ｍｇ）を得た。収率８１％。
【０１２５】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ3ＣＮ）δ＝１．１３（ｔ、Ｊ＝７．０Ｈｚ、６Ｈ）、１．２０（ｓ、１．５Ｈ）、１．２２（ｓ、１．５Ｈ）、２．０４−２．３０（ｂｒｓ）、３．４３（ｑ、Ｊ＝７．０Ｈｚ、４Ｈ）、５．７２（ｄ、Ｊ＝１．５Ｈｚ、１Ｈ）、５．８１（ｄ、Ｊ＝２．５Ｈｚ、１Ｈ）、６．０８（ｓ、１Ｈ）、６．２６（ｄ、Ｊ＝７．７Ｈｚ、１Ｈ）、７．００−７．３７（ｍ、２８Ｈ）、８．８０（ｓ、１Ｈ）
【０１２６】
【化３８】
0004099986.tif 000034