(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
原料であるごみを圧縮成形前に乾燥させる乾燥装置を備えたＲＤＦ製造システムにおいて、乾燥機によるごみの乾燥が不十分となるシステム立上げ時およびシステム停止時に乾燥機から出た高水分ごみを系外に排出させる装置であって、
乾燥装置から出たごみの水分を測定する水分計と、水分測定後のごみの経路を系内と系外とに切り替えるダンパと、水分計から出力された水分測定データが設定値よりも低い場合にはごみの経路を系内に、設定値よりも高い場合にはごみの経路を系外に切り替えるようにダンパを制御する制御装置とを備えてなり、
制御装置が、水分計から設定値よりも低いまたは高い水分測定データが所定時間継続して出力された場合にのみ、ごみの経路を系内または系外に切り替えるようにダンパを制御するようになっている、ＲＤＦ製造システムにおける高水分ごみ系外排出装置。
【請求項２】
水分計が、乾燥機から出たごみを搬送する第１コンベヤの上方に配置され、第１コンベヤの前端部の下方にホッパが配置され、ダンパが、ホッパの下端部の外側に１対の取付軸によって前後方向揺動可能に取り付けられた筒状体からなる、請求項１に記載のＲＤＦ製造システムにおける高水分ごみ系外排出装置。
【請求項３】
水分計が、乾燥機から出たごみを搬送する第１コンベヤの上方に配置され、第１コンベヤの前端部の下方に、下端部に前後に分岐した分岐部が形成されているホッパが配置され、ダンパが、板状であって、ホッパの両分岐部の付け根に前後方向傾動可能に取り付けられている、請求項１に記載のＲＤＦ製造システムにおける高水分ごみ系外排出装置。
【請求項４】
制御装置が、ダンパの姿勢を検出する検出部と、ダンパの姿勢を切替操作する操作部と、検出部から出力されたダンパ姿勢データおよび水分計から出力されたごみの水分測定データに基づいて処理を行い、操作部に操作データを出力する命令処理部とを備えているプログラムシーケンサよりなる、請求項１〜３のいずれか１つに記載のＲＤＦ製造システムにおける高水分ごみ系外排出装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
都市ごみ処理の技術分野において、廃棄物資源循環型社会を目指したリサイクル関連の新技術が注目されており、その１つとしてごみ固形燃料化技術、すなわち、ＲＤＦ(Refuse Derived Fuel)化技術がある。
【０００２】
ＲＤＦ化技術は、▲１▼ごみのリサイクル率が高い、▲２▼ダイオキシン対策が比較的容易である、▲３▼保管性、運搬性が良い等の利点があり、さらに、ゴミ処理施設で一番問題となる住民の同意も焼却炉と比べて得やすいといった利点があるため、中小規模のゴミ処理技術として今後普及することが見込まれる。
【０００３】
また、厚生省のダイオキシン対策の新ガイドラインにおいても、「中小規模のゴミ処理施設ではＲＤＦ化はダイオキシン防止対策として有効」とされており、今後益々注目される技術になると予想される。
【０００４】
この発明は、上記ＲＤＦ製造システムに関するものであり、より詳細には、ＲＤＦ製造システムにおいて、ＲＤＦの原料であるごみのうち高水分ごみを系外に排出する装置に関するものである。
【０００５】
【従来の技術】
図１は、ＲＤＦ製造システムのフローの１例を示すものである。原料であるごみは、破砕機により破砕されてから、乾燥機で乾燥され、磁選機および非鉄選別機において鉄類や非鉄金属等の異物が除去された後、成形機で圧縮成形されてＲＤＦ化される。この間、ごみは、ベルトコンベアや、定量供給のためのスクリューコンベア、ロータリーバルブ等によって移送される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上記システムにおいて、ごみが乾燥機によって十分に乾燥されないと、ＲＤＦ成形率が低下したり、カビや腐敗臭が発生し易くなるという問題が起きる。特に、乾燥機がまだ十分に暖機されていないシステム立上げ時や、乾燥機の熱源をオフにするシステム停止時に、高水分ごみが発生し易い。現状では、システムの立上げ時および停止時に、一定時間だけ、ごみを系外に排出するようにして、上記の問題に対処している。しかし、この方法では、低水分ごみも一緒に排出されてしまうため、歩留まりが低下してしまう。
【０００７】
この発明の目的は、ＲＤＦ製造システムにおいて、乾燥機によるごみの乾燥が不十分となる場合に、高水分ごみだけを系外に効率良く排出できるようにして、無駄なごみの排出を回避することにより、歩留まりを向上させることにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
この発明によるＲＤＦ製造システムにおける高水分ごみ系外排出装置は、原料であるごみを圧縮成形前に乾燥させる乾燥装置を備えたＲＤＦ製造システムにおいて、乾燥装置から出たごみの水分を測定する水分計と、水分測定後のごみの経路を系内と系外とに切り替えるダンパと、水分計から出力された水分測定データが設定値よりも低い場合にはごみの経路を系内に、設定値よりも高い場合にはごみの経路を系外に切り替えるようにダンパを制御する制御装置とを備えてなるものである。
【０００９】
上記の高水分ごみ系外排出装置にあっては、乾燥機から出たごみの水分が水分計によって測定され、そこから出力された水分測定データに基づいて、制御装置により、ダンパがごみの経路を適宜系内と系外とに切り替えるように制御される。即ち、水分計から出力された水分測定データが設定値よりも低い場合にはごみの経路を系内に切り替え、水分測定データが設定値よりも高い場合にはごみの経路を系外に切り替えるようにダンパが制御される。したがって、上記装置によれば、乾燥機によるごみの乾燥が不十分となるシステム立上げ時やシステム停止時等に、高水分ごみだけを系外に自動的に排出させることができる。
【００１０】
この発明によるＲＤＦ製造システムにおける高水分ごみ系外排出装置において、制御装置が、水分計から設定値よりも低いまたは高い水分測定データが所定時間継続して出力された場合にのみ、ごみの経路を系内または系外に切り替えるようにダンパを制御するようになっているのが好ましい。
【００１１】
原料となるごみの中には水分にバラツキのある生ごみも含まれているため、ダンパによってごみの経路が頻繁に切り替わる事態も生じ得る。そこで、上記のように、水分計から設定値よりも低いまたは高い水分測定データが所定時間継続した出力された場合にのみ、ダンパによってごみの経路を切り替えるようにすれば、より安定した処理が可能となる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
図２〜図５は、この発明の実施形態を示すものである。なお、ＲＤＦ製造システム全体のフローは、図１に示すものと同じである。
【００１３】
図２に示すように、ＲＤＦ製造システムは、原料であるごみを圧縮成形前に乾燥させる乾燥機(1)を備えている。そして、このＲＤＦ製造システムに、乾燥機(1)から出たごみの水分を測定する水分計(2)と、水分測定後のごみの経路を系内と系外とに切り替えるダンパ(3)と、水分計(2)から出力された水分測定データが設定値よりも低い場合にはごみの経路を系内に、設定値よりも高い場合にはごみの経路を系外に切り替えるようにダンパ(3)を制御するプログラムシーケンサ(4)とを備えてなる高水分ごみ系外排出装置が設けられている。
【００１４】
水分計(2)は、乾燥機(1)から出たごみを搬送する第１コンベヤ(5)の上方に配置されている。水分計(2)としては、例えば、赤外線の水分子による吸収スペクトルを測定する赤外線水分計が用いられる。
【００１５】
第１コンベヤ(5)の前端部の下方に、ホッパ(6)が配置されている。ダンパ(3)は、上端部がホッパ(6)の下端部に前後方向揺動可能に取り付けられた筒状体からなる。図３に詳しく示すように、ダンパ(3)は、ホッパ(6)の下端部の外側に１対の取付軸(7)によって取り付けられているので、取付軸(7)にごみが付着したり、ダンパ(3)とホッパ(6)との間にごみが詰まったりするおそれがない。ダンパ(3)の下方には、ごみを磁選機（図示略）に搬送する第２コンベヤ(8)と、系外排出ごみ回収用コンテナ(9)とが、前後に並んで配置されている。ダンパ(3)の下端部が、前方、即ち、第２コンベヤ(8)の方に向けられると、ごみの経路が系内となる。一方、ダンパ(3)が、後方、即ち、コンテナ(9)の方に向けられると、ごみの経路が系外となる。
【００１６】
図４は、ダンパの他の実施形態を示すものである。図４において、ホッパ(16)の下端部には、前後に分岐した分岐部(161)(162)が形成されている。両分岐部(161)(162)は、それぞれ下端部が第２コンベヤ(8)とコンテナ(9)の方を向いている。そして、両分岐部(161)(162)の付け根に、板状のダンパ(13)が、前後方向傾動可能に取り付けられている。
【００１７】
プログラムシーケンサ(4)は、ダンパの姿勢（向き）を検出する検出部と、ダンパの姿勢（向き）を切替操作する操作部と、検出部から出力されたダンパ姿勢データおよび水分計から出力されたごみの水分測定データに基づいて処理を行い、操作部に操作データを出力する命令処理部とを備えている。操作部は、例えばモータや油圧・空気圧シリンダ装置によって構成される。
【００１８】
図５は、プログラムシーケンサ(4)による制御フローを示すものである。シーケンサ(4)を始動させると、まず、検出部から出力されるダンパ姿勢データにより、ダンパ(3)(13)の姿勢（向き）が系内および系外のいずれになっているかを確認する。ダンパ(3)が系外になっている場合には、次のステップに移行する。一方、ダンパ(3)(13)が系内になっている場合には、ダンパ(3)(13)を系外に切り替えるように、操作部に操作データを出力する。次に、水分計(2)から出力される水分測定データを予め設定しておいた設定値と比較する。ここで、設定値は、圧縮成形に適したごみの理想水分値に合わせておけばよい。そして、設定値よりも低い低水分データの出力が一定時間（ｔｓｅｃ）継続した場合には、ダンパ(3)(13)を系内に切り替える。低水分データの出力が一定時間継続しなかった場合には、1つ前のステップに戻る。一方、設定値よりも高い高水分データの出力が一定時間（ｔｓｅｃ）継続した場合には、ダンパ(3)(13)を系外に切り替える。高水分データの出力が一定時間継続しなかった場合には、1つ前のステップに戻る。こうして、乾燥機(1)から出たごみのうち圧縮成形に適さない高水分ごみだけが、自動的にかつ安定して系外に排出処理される。
【図面の簡単な説明】
【図１】ＲＤＦ製造システムのフローを示す図である。
【図２】この発明による高水分ごみ系外排出装置の垂直断面図である。
【図３】高水分ごみ系外排出装置のダンパを示す水平断面図である。
【図４】高水分ごみ系外排出装置のダンパの他の実施形態を示す水平断面図である。
【図５】高水分ごみ系外排出装置のプログラムシーケンサによる制御フローを示す図である。
【符号の説明】
(1)…乾燥機（乾燥装置）
(2)…水分計
(3)…ダンパ
(13)…ダンパ
(4)…プログラムシーケンサ（制御装置）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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