(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも文字または図形の描画オブジェクトを入力として描画処理を行う描画処理システムにおいて、
前記描画オブジェクトを複数の高さで分割することにより構成する描画要素エレメントのリストを生成するリスト生成手段を有する端末装置と、
前記リストを構成する前記描画要素エレメントの位置及び高さ情報の組である長さ情報に対し一定の基準値を用いて、前記描画要素エレメントを分類する描画要素エレメント分類手段と、分類された前記描画要素エレメントを前記基準値に対応させて格納する描画要素エレメント格納手段と、前記描画要素エレメントの並列描画処理を行う複数の描画処理手段と、描画領域を分割して前記描画処理手段に割り当てる描画領域割当て手段と、前記描画領域の描画処理に必要な前記描画要素エレメントを前記描画要素エレメント格納手段から前記基準値に対応させて、前記描画処理手段に転送する描画要素エレメント転送制御手段と、前記描画処理手段で描画処理した処理結果を合成して出力する合成出力手段と、から構成される描画処理装置と、
を有することを特徴とする描画処理システム。
【請求項２】
前記リスト生成手段は、前記端末装置内のプリンタドライバ内に含まれることを特徴とする請求項１記載の描画処理システム。
【請求項３】
少なくとも文字または図形の描画オブジェクトを入力として描画処理を行う描画処理装置において、
前記描画オブジェクトを複数の高さで分割することにより構成する描画要素エレメントのリストに対し、前記描画要素エレメントの位置及び高さ情報の組である長さ情報に対し一定の基準値を用いて、前記描画要素エレメントを分類する描画要素エレメント分類手段と、
分類された前記描画要素エレメントを前記基準値に対応させて格納する描画要素エレメント格納手段と、
前記描画要素エレメントの並列描画処理を行う複数の描画処理手段と、
描画領域を分割して前記描画処理手段に割り当てる描画領域割当て手段と、
前記描画領域の描画処理に必要な前記描画要素エレメントを前記描画要素エレメント格納手段から前記基準値に対応させて、前記描画処理手段に転送する描画要素エレメント転送制御手段と、
前記描画処理手段で描画処理した処理結果を合成して出力する合成出力手段と、
を有することを特徴とする描画処理装置。
【請求項４】
少なくとも文字または図形の描画オブジェクトを入力として描画処理を行う描画処理方法において、
リスト生成手段は、前記描画オブジェクトを複数の高さで分割することにより構成する描画要素エレメントのリストを生成し、
描画要素エレメント分類手段は、前記リストを構成する前記描画要素エレメントの位置及び高さ情報の組である長さ情報に対し一定の基準値を用いて、前記描画要素エレメントを分類し、
描画要素エレメント格納手段は、分類された前記描画要素エレメントを前記基準値に対応させて格納し、
複数の描画処理手段は、前記描画要素エレメントの並列描画処理を行い、
描画領域割当て手段は、描画領域を分割して前記描画処理手段に割り当て、
描画要素エレメント転送制御手段は、前記描画領域の描画処理に必要な前記描画要素エレメントを前記描画要素エレメント格納手段から前記基準値に対応させて、前記描画処理手段に転送し、
合成出力手段は、前記描画処理手段で描画処理した処理結果を合成して出力する、
ことを特徴とする描画処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は描画処理システム、描画処理装置及び描画処理方法に関し、特に文字または図形の描画オブジェクトを入力として描画処理を行う描画処理システム、少なくとも文字または図形の描画オブジェクトを入力として描画処理を行う描画処理装置及び少なくとも文字または図形の描画オブジェクトを入力として描画処理を行う描画処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在、ページプリンタでは文書を印刷する場合には、PostScript（米国アドビ・システムズ社の商標）などのＰＤＬ（ページ記述言語）を入力として印刷イメージを指示している。
【０００３】
このようなＰＤＬを入力として印刷を実行する際には、ＰＤＬ形式のデータからラスタ出力デバイスに適した形式のデータに変換するイメージング処理を行わなければならない。ところが一般にイメージング処理にかかる時間は非常に長く、このことは特に高速のページプリンタに出力するシステムなどでは問題となっている。
【０００４】
例えば、カラーの高速ページプリンタは毎分４０枚以上の出力能力を持つものがあるにもかかわらず、イメージング処理にかかる時間は、十数秒から数分かかってしまい、高価な高速ページプリンタの能力を十分に生かせなかった。したがって、イメージング処理を高速に行うためには、並列描画処理を行う必要がある。
【０００５】
並列描画処理の技術としては、特開平４−１７０６８６号公報では、描画領域を矩形上に分割し、それぞれの領域内の塗りつぶし領域に対し、並列処理を行っている。
【０００６】
また、特開平６−２８１２６号公報では、描画領域をバンド上に分割し、複数のコンピュータや複数のプリンタ装置により並列描画処理を行っている。
これらの技術はいずれもＰＤＬを解釈してから後の描画処理の並列処理に関するものであり、描画処理部だけを並列処理により高速化しても、ＰＤＬを解釈して内部表現に変換する処理がボトルネックとなってしまっていた。
【０００７】
この問題に対し、印刷を指示するホストコンピュータ側との処理の分担を行うもの、例えば特開平１０−４００３１号公報では、ホストコンピュータのプリンタドライバ内で、従来プリンタ内部で行われていた中間コードの生成処理を分担させている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記のようにして処理を分担させても、並列描画処理を行う場合の前処理がオーバヘッドかつボトルネックとして残ってしまう。
【０００９】
また、上記で説明した描画領域を分割して並列描画を行う場合には、分割した各領域について並列に描画する前に、前もって各領域毎に描画オブジェクトのデータを整理し直す必要があった。
【００１０】
つまり、これらの技術では各描画オブジェクトがそれぞれどの分割された領域に属するかをチェックし、さらに複数の領域に入る場合にはデータのコピーや分割などを施して、各分割された領域毎に独立に描画処理を行えるように準備するという処理を描画処理に先だって行う必要があった。
【００１１】
特に領域を細かく分割したり、領域毎の負荷を予測したりして並列処理を行う装置の負荷をバランスさせる場合には、上記の前処理の時間が大きくなる。
すなわち、領域を細かく分割した場合には描画オブジェクトに対して分割処理を行う確率が増えることにより処理時間が大きくなる。
【００１２】
一方、領域の大きさや形状が均一でなくなると個々の描画オブジェクトがどの分割された領域に属するかを調べる処理が単純な算術演算ではなく、より処理負荷が重い探索問題になってしまう。
【００１３】
このため上記の従来技術では、前処理自体のオーバヘッドと、前処理の負荷が大きくなりすぎないようにするために処理負荷をバランスさせることができないことによる損失と、から十分に並列化の効果を得ることができなかった。
【００１４】
これに対し、分割された領域毎の描画オブジェクトデータを前もって用意せずに、領域を割り当てられた描画処理部それぞれがすべての描画オブジェクトデータを読み込んでそれぞれで取捨選択するという方式も考えられる。
【００１５】
この方式ではデータの転送量が多くなることと、それぞれの描画処理部がすべてのデータについてデータの要不要のチェックを行う必要がある。このためオーバヘッドが大きくなってしまい、やはり並列処理の効果を十分に得ることができなかった。
【００１６】
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、前もって領域毎のデータを用意する処理をなくし、かつ複数の描画処理部に対するデータ転送及び不要なデータに関する処理のオーバヘッドを削減し、高速な並列描画処理を行う描画処理システムを提供することを目的とする。
【００１７】
また、本発明の他の目的は、前もって領域毎のデータを用意する処理をなくし、かつ複数の描画処理部に対するデータ転送及び不要なデータに関する処理のオーバヘッドを削減し、高速な並列描画処理を行う描画処理装置及び描画処理方法を提供することである。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
本発明では上記課題を解決するために、少なくとも文字または図形の描画オブジェクトを入力として描画処理を行う描画処理システムにおいて、前記描画オブジェクトを複数の高さで分割することにより構成する描画要素エレメントのリストを生成するリスト生成手段を有する端末装置と、前記リストを構成する前記描画要素エレメントの位置及び高さ情報の組である長さ情報に対し一定の基準値を用いて、前記描画要素エレメントを分類する描画要素エレメント分類手段と、分類された前記描画要素エレメントを前記基準値に対応させて格納する描画要素エレメント格納手段と、前記描画要素エレメントの並列描画処理を行う複数の描画処理手段と、描画領域を分割して前記描画処理手段に割り当てる描画領域割当て手段と、前記描画領域の描画処理に必要な前記描画要素エレメントを前記描画要素エレメント格納手段から前記基準値に対応させて、前記描画処理手段に転送する描画要素エレメント転送制御手段と、前記描画処理手段で描画処理した処理結果を合成して出力する合成出力手段と、から構成される描画処理装置と、を有することを特徴とする描画処理システムが提供される。
【００１９】
ここで、リスト生成手段は、描画オブジェクトを複数の高さで分割することにより構成する描画要素エレメントのリストを生成する。描画要素エレメント分類手段は、リストを構成する描画要素エレメントの位置及び高さ情報の組である長さ情報に対し一定の基準値を用いて、描画要素エレメントを分類する。描画要素エレメント格納手段は、分類された描画要素エレメントを基準値に対応させて格納する。複数の描画処理手段は、描画要素エレメントの並列描画処理を行う。描画領域割当て手段は、描画領域を分割して描画処理手段に割り当てる。描画要素エレメント転送制御手段は、描画領域の描画処理に必要な描画要素エレメントを描画要素エレメント格納手段から基準値に対応させて、描画処理手段に転送する。合成出力手段は、描画処理手段で描画処理した処理結果を合成して出力する。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。図１は第１の実施の形態の描画処理システムの原理図である。描画処理システム１は、ホストコンピュータに該当する端末装置２０と描画処理装置１０から構成され、少なくとも文字または図形の描画オブジェクトを入力として描画処理を行う。また、端末装置２０と描画処理装置１０は、ネットワーク３０に接続する。
【００２１】
端末装置２０は、デバイスドライバとして、プリンタ（図示せず）の制御を行うプリンタドライバＰＤを有し、プリンタドライバＰＤはリスト生成手段１１を含む。
【００２２】
リスト生成手段１１は、端末装置２０内のＡＰＩ（Application Programming Interface)を通じて入力された描画オブジェクトに対し、描画オブジェクトを構成する描画要素エレメントのリストを生成する。
【００２３】
ここで描画オブジェクトとは、ＰＤＬなどの描画データを解釈・展開して生成される中間イメージデータのことである。また、描画要素エレメントとは、描画オブジェクトを構成するエッジデータやベクタデータ及び文字や図形などの塗りつぶし領域などの描画要素のことである。
【００２４】
描画要素エレメント分類手段１２は、リストを構成する描画要素エレメントの位置及び高さ情報の組である長さ情報に対し一定の基準値を用いて、描画要素エレメントを分類する。長さ情報については後述する。描画要素エレメント格納手段１３は、分類された描画要素エレメントを基準値に対応させて格納する。
【００２５】
描画処理手段１４ａ〜１４ｎは、描画要素エレメントの並列描画処理を行う。描画領域割当て手段１５は、描画領域を分割して描画処理手段１４ａ〜１４ｎに割り当てる。
【００２６】
描画要素エレメント転送制御手段１６は、描画領域の描画処理に必要な描画要素エレメントを描画要素エレメント格納手段１３から基準値に対応させて、描画処理手段１４ａ〜１４ｎに転送する。
【００２７】
合成出力手段１７は、描画処理手段１４ａ〜１４ｎで描画処理した処理結果を合成してプリンタなどの出力装置から出力する。
また、描画処理装置１０はネットワークインタフェースＩ／Ｆ１を、端末装置２０はネットワークインタフェースＩ／Ｆ２を含み、ネットワーク３０を介しての通信時には、これらネットワークインタフェースＩ／Ｆがインタフェース処理を行う。
【００２８】
なお、上記の説明では、ネットワーク３０を介して、端末装置２０と描画処理装置１０が通信を行う構成としたが、ネットワーク３０を介さず、双方をケーブル接続して通信を行っても構わない。
【００２９】
次に具体的な描画サンプルを用いて動作を詳しく説明する。図２は描画サンプル４０を示す図である。描画サンプル４０は描画オブジェクトである２つの楕円４１、４２と、１つの台形図形４３と、からなる。以降の説明においては、図に示した描画サンプル４０が描画処理システム１に対して入力されるものとする。
【００３０】
なお、それぞれの楕円４１、４２と台形図形４３は、それぞれ異なる色やハッチパターンで塗りつぶされることや、重ね塗りの順序も指定されているものとするが、これらの処理は本発明と関係が薄いため説明は省略する。
【００３１】
次に描画要素エレメントについて説明する。図３は描画要素エレメントの概念図である。リスト生成手段１１は、楕円４１を描画要素エレメント４１ａ〜４１ｇとし、楕円４２を描画要素エレメント４２ａ〜４２ｇとし、台形図形４３を標準描画要素エレメント４３として、リストを生成する。
【００３２】
次に長さ情報について説明する。図４は長さ情報を示す概念図である。ＸＹ座標軸を図に示したようにとり、主走査方向をＸ軸方向とし、副走査方向をＹ軸方向とする。
【００３３】
また、水平方向に描画領域を分割した場合に、描画領域間の境界線に対し、この境界線と直交する垂直線の高さを長さ情報とする。
例えば、このような座標系に対し、描画要素エレメント４１ａの長さ情報は、２番目の走査線から描画領域がはじまり、副走査線方向の高さは走査線１本分である( 位置２、高さ１）。また、描画要素データ４１ｃは４番目の走査線から描画領域が始まり、副走査線方向の高さが２となる（位置４、高さ２）。このようにして各描画要素エレメントの位置、高さを長さ情報とする。
【００３４】
なお、垂直方向に描画領域を割り当てれば、描画領域間の境界線に対し、境界線と直交する垂直線の幅が長さ情報となるが、以降、長さ情報は各描画要素エレメントの位置、高さとして説明する。
【００３５】
次に描画領域割当て手段１５について説明する。図５は描画領域を示す図である。描画領域割当て手段１５は、Ｘ軸に対し平行に描画領域を複数個分割する。
そして、走査線３本ずつの分割描画領域を描画処理手段１４ａ〜１４ｎにそれぞれ割り当てるものとする。例えば、分割描画領域Ａを描画処理手段１４ａ、分割描画領域Ｂを描画処理手段１４ｂ、分割描画領域Ｃを描画処理手段１４ｃ、…というように割り当てる。
【００３６】
次に描画要素エレメント分類手段１２について説明する。図６は描画要素エレメント分類結果を示す図である。描画要素エレメント分類手段１２は、リストを構成する描画要素エレメントの長さ情報に対し一定の基準値を用いて、描画要素エレメントを分類する。
【００３７】
例えば、描画要素エレメント４１ａは副走査線方向の位置が２で副走査線方向の高さが１として分類され、描画要素エレメント４１ｃは副走査線方向の位置が４で副走査線方向の高さが２として分類される。このように高さ１、高さ２、それ以外の描画要素エレメント、というような基準値で分類を行っている。
【００３８】
次に描画要素エレメント格納手段１３について説明する。図７は分類された描画要素エレメントを格納した状態の概念図である。高さ１、あるいは高さ２の分類に入らない描画要素エレメント（以降、標準描画要素エレメントと呼ぶ。）が標準描画要素エレメント格納部１３ａに、高さ１の描画要素エレメントが高さ１描画要素エレメント格納部１３ｂに、高さ２の描画要素エレメントが高さ２描画要素エレメント格納部１３ｃに、それぞれ分類されて格納される。
【００３９】
次に描画処理手段の描画領域割当てについて説明する。ただし、簡単のため描画処理手段１４ａ〜１４ｃの３つからなるシステムについて説明する。描画処理の開始が告げられると、各描画処理手段１４ａ〜１４ｃは同時、あるいは順序づけられて最初の処理の担当部分を描画領域割当て手段１５に問い合わせる。
【００４０】
描画領域割当て手段１５は処理の単位を割り当てる操作を排他的に行い、要求の順に割り当てる。
ここでは、描画処理の開始時の最初の処理の割り当てであるため、各々の描画処理手段１４ａ〜１４ｃがほぼ同時に担当処理を要求することになり、図５で説明したように分割描画領域Ａ、Ｂ、Ｃ…が、それぞれ描画処理手段１４ａ〜１４ｃに割り当てられるものとする。
【００４１】
次に描画処理手段１４ａについて説明する。図８は描画処理手段１４ａが分割描画領域Ａを処理する際の描画要素エレメントの読み込みを示す概念図である。なお、図の斜線部分が分割描画領域Ａである。
【００４２】
描画処理手段１４ａは標準描画要素エレメント格納部１３ａから走査線１の標準描画要素エレメント、高さ１描画要素エレメント格納部１３ｂから走査線１で高さ１の描画要素エレメント、高さ２描画要素エレメント格納部１３ｃから走査線１で高さ２の描画要素エレメントを読み込む。
【００４３】
そして、標準描画要素エレメント格納部１３ａから走査線２の標準描画要素エレメント、高さ１描画要素エレメント格納部１３ｂから走査線２で高さ１の描画要素エレメント、高さ２描画要素エレメント格納部１３ｃから走査線２で高さ２の描画要素エレメントを読み込む。
【００４４】
さらに、標準描画要素エレメント格納部１３ａから走査線３の標準描画要素エレメント、高さ１描画要素エレメント格納部１３ｂから走査線３で高さ１の描画要素エレメント、高さ２描画要素エレメント格納部１３ｃから走査線３で高さ２の描画要素エレメントを読み込む。
【００４５】
このような読み込み結果として、標準描画要素エレメント４３、描画要素エレメント４１ａ、４１ｂが描画要素エレメント格納手段１３から読み出されて描画処理が行われる。
【００４６】
次に描画処理手段１４ｂについて説明する。図９は描画処理手段１４ｂが分割描画領域Ｂを処理する際の描画要素エレメントの読み込みを示す概念図である。なお、図の斜線部分が分割描画領域Ｂである。
【００４７】
描画処理手段１４ｂは、最初は標準描画要素エレメント格納部１３ａから描画要素エレメントを読み込む。まず、走査線の１番目から順にデータを読み込む。このとき、標準描画要素エレメントが分割描画領域Ｂに交わるかどうかのチェックを行い、分割描画領域Ｂに交わる描画要素エレメントだけを読み込む。
【００４８】
すなわち、走査線位置１から分割描画領域Ｂの走査線位置の一番小さい位置４よりも１小さい位置である走査線位置３までについて順に上記のチェックを行いながら標準描画要素エレメントを読み込む。この場合は、走査線位置２に標準描画要素エレメント４３があり、かつ分割描画領域Ｂと交わるので、標準描画要素エレメント４３が読み込まれることになる。
【００４９】
描画処理手段１４ｂは、次に高さ２描画要素エレメント格納部１３ｃから描画要素エレメントを読み込む。この場合、分割描画領域Ｂの走査線位置の一番小さい位置４よりも１（高さの値２から１単位小さい値）小さい位置、すなわち、走査線位置３で分類が高さ２となっている描画要素エレメントを読み込む。図では、該当する描画要素エレメントは存在しないので読み込まない。
【００５０】
このような処理を行った後、描画処理手段１４ｂは標準描画要素エレメント格納部１３ａから走査線４の標準描画要素エレメント、高さ１描画要素エレメント格納部１３ｂから走査線４で高さ１の描画要素エレメント、高さ２描画要素エレメント格納部１３ｃから走査線４で高さ２の描画要素エレメントを読み込む。
【００５１】
そして、標準描画要素エレメント格納部１３ａから走査線５の標準描画要素エレメント、高さ１描画要素エレメント格納部１３ｂから走査線５で高さ１の描画要素エレメント、高さ２描画要素エレメント格納部１３ｃから走査線５で高さ２の描画要素エレメントを読み込む。
【００５２】
さらに、標準描画要素エレメント格納部１３ａから走査線６の標準描画要素エレメント、高さ１描画要素エレメント格納部１３ｂから走査線６で高さ１の描画要素エレメント、高さ２描画要素エレメント格納部１３ｃから走査線６で高さ２の描画要素エレメントを読み込む。
【００５３】
このような読み込み結果として、標準描画要素エレメント４３、描画要素エレメント４１ｄ、４１ｃが描画要素エレメント格納手段１３から読み出されて描画処理が行われる。
【００５４】
以上説明したように、描画処理手段１４ｂは、分割描画領域Ｂの描画処理に必要な描画要素エレメントはすべて読み込んでおり、それ以外の描画要素エレメントの読み込みや、その他のチェック処理などを行う必要がないため、オーバヘッドを大幅に削減することが可能になる。
【００５５】
次に描画処理手段１４ｃについて説明する。図１０は描画処理手段１４ｃが分割描画領域Ｃを処理する際の描画要素エレメントの読み込みを示す概念図である。なお、図の斜線部分が分割描画領域Ｃである。ここでの処理は描画処理手段１４ｃが分割描画領域Ｂの処理を行った場合と基本的に同等である。
【００５６】
描画処理手段１４ｃは、最初は標準描画要素エレメント格納部１３ａから描画要素エレメントを読み込む。まず、走査線の１番目から順にデータを読み込む。このとき、標準描画要素エレメントが分割描画領域Ｃ内に入るかどうかのチェックを行い、分割描画領域Ｃに入る描画要素エレメントだけを読み込む。
【００５７】
すなわち、走査線位置１から分割描画領域Ｃの走査線位置の一番小さい位置７よりも１小さい位置である走査線位置６までについて順に上記のチェックを行いながら標準描画要素エレメントを読み込む。この場合は、走査線位置２に標準描画要素エレメント４３があり、かつ分割描画領域Ｃに含まれるので、結局標準描画要素エレメント４３が読み込まれることになる。
【００５８】
描画処理手段１４ｃは、次に高さ２描画要素エレメント格納部１３ｃから描画要素エレメントを読み込む。この場合、分割描画領域Ｃの走査線位置の一番小さい位置７よりも１（高さの値２から１単位小さい値）小さい位置、すなわち、走査線位置６で高さ２となっている描画要素エレメントを読み込む。図の例では、該当する描画要素エレメントは存在しないので読み込まない。
【００５９】
このような処理を行った後、描画処理手段１４ｃは標準描画要素エレメント格納部１３ａから走査線７の標準描画要素エレメント、高さ１描画要素エレメント格納部１３ｂから走査線７で高さ１の描画要素エレメント、高さ２描画要素エレメント格納部１３ｃから走査線７で高さ２の描画要素エレメントを読み込む。
【００６０】
そして、標準描画要素エレメント格納部１３ａから走査線８の標準描画要素エレメント、高さ１描画要素エレメント格納部１３ｂから走査線８で高さ１の描画要素エレメント、高さ２描画要素エレメント格納部１３ｃから走査線８で高さ２の描画要素エレメントを読み込む。
【００６１】
さらに、標準描画要素エレメント格納部１３ａから走査線９の標準描画要素エレメント、高さ１描画要素エレメント格納部１３ｂから走査線９で高さ１の描画要素エレメント、高さ２描画要素エレメント格納部１３ｃから走査線９で高さ２の描画要素エレメントを読み込む。
【００６２】
このような読み込み結果として、標準描画要素エレメント４３、描画要素エレメント４２ａ、４１ｆ、４２ｂ、４１ｅ、４２ｃが描画要素エレメント格納手段１３から読み出されて描画処理が行われる。
【００６３】
以上説明したように、描画処理手段１４ｃは、分割描画領域Ｃの描画処理に必要な描画要素エレメントはすべて読み込んでおり、それ以外の描画要素エレメントの読み込みや、その他のチェック処理などを行う必要がないため、オーバヘッドを大幅に削減することが可能になる。
【００６４】
次に描画処理手段１４ａが行っていた分割描画領域Ａの処理が最初に終了したと仮定して、分割描画領域Ｄが描画処理手段１４ａに割り当てられた場合の処理について説明を行う。図１１は描画処理手段１４ａが分割描画領域Ｄを処理する際の描画要素エレメントの読み込みを示す概念図である。なお、図の斜線部分が分割描画領域Ｄである。
【００６５】
描画処理手段１４ａは、処理の終了した分割描画領域Ａの処理の終了位置、ここでは走査線位置３の位置情報を保存する。そして、描画領域割当て手段１５に問い合わせを行う。
【００６６】
その後、描画領域割当て手段１５は、次に処理すべき分割描画領域Ｄをその描画領域の両端の走査線位置情報１０、１２を用いて、描画処理手段１４ａに対して通知する。
【００６７】
分割描画領域Ａの処理の際に読み込まれた描画要素エレメントの内で、分割描画領域Ｄにある描画要素エレメントは標準描画要素エレメント４３だけであるので、この標準描画要素エレメント４３は保持される。そして、他の描画要素エレメント４１ａ、４１ｂは分割描画領域Ｄにはないので、描画処理が行われる以前に破棄される。
【００６８】
次に、標準描画要素エレメント格納部１３ａ内で、前回の処理の終了位置である走査線位置３の次の位置から分割描画領域Ｄの走査線位置の一番小さい位置１０よりも１小さい位置まで、すなわち走査線位置４から走査線位置９までに登録されている標準描画要素エレメントを読み込むが、ここでは新たな描画要素エレメントは存在しない。
【００６９】
次に高さ２描画要素エレメント格納部１３ｃから描画要素エレメントを読み込む。この場合、分割描画領域Ｄの走査線位置の一番小さい位置１０よりも１（高さの値２から１単位小さい値）小さい位置、すなわち、走査線位置９で高さ２の描画要素エレメントを読み込む。図の例では、該当する描画要素エレメントは存在しないので読み込まない。
【００７０】
そして、標準描画要素エレメント格納部１３ａから走査線１０の標準描画要素エレメント、高さ１描画要素エレメント格納部１３ｂから走査線１０で高さ１の描画要素エレメント、高さ２描画要素エレメント格納部１３ｃから走査線１０で高さ２の描画要素エレメントを読み込む。
【００７１】
そして、標準描画要素エレメント格納部１３ａから走査線１１の標準描画要素エレメント、高さ１描画要素エレメント格納部１３ｂから走査線１１で高さ１の描画要素エレメント、高さ２描画要素エレメント格納部１３ｃから走査線１１で高さ２の描画要素エレメントを読み込む。
【００７２】
さらに、標準描画要素エレメント格納部１３ａから走査線１２の標準描画要素エレメント、高さ１描画要素エレメント格納部１３ｂから走査線１２で高さ１の描画要素エレメント、高さ２描画要素エレメント格納部１３ｃから走査線１２で高さ２の描画要素エレメントを読み込む。
【００７３】
このような読み込み結果として、描画要素エレメント４１ｇ、４２ｄ、４２ｃ、４２ｅが描画要素エレメント格納手段１３から読み出されて描画処理が行われる。
【００７４】
以上説明したように、描画処理手段１４ａは、分割描画領域Ｄの描画処理に必要な描画要素エレメントはすべて読み込んでおり、それ以外の描画要素エレメントの読み込みや、その他のチェック処理などを行う必要がないため、オーバヘッドを大幅に削減することが可能になる。
【００７５】
次に合成出力結果について説明する。図１２は合成出力結果を示す図である。描画処理手段１４ａ〜１４ｃにより描画サンプル４０は描画されて、図のような合成出力結果１７ａが生成される。
【００７６】
以上説明したように、第１の実施の形態の描画処理システム１は、プリンタドライバＰＤを有する端末装置２０と、描画処理装置１０とから構成され、端末装置２０内で描画要素エレメントのリストを生成し、描画処理装置１０で分類された基準値にもとづいて、描画要素エレメントの並列描画処理を行う構成とした。
【００７７】
これにより、分割描画領域毎のデータを用意するための前処理がなくなり、かつ担当する描画領域以外に属する不要なデータに関する処理も減らすことができるのでオーバヘッドを大幅に削減し、高速描画処理が可能になる。
【００７８】
また、端末装置２０と描画処理装置１０の機能を１台の専用機に持たせるのではなく、リスト生成手段１１を端末装置２０のプリンタドライバＰＤ内に持たせるように分離する構成とした。
【００７９】
これにより、端末装置２０が高速な装置の場合は、全体の描画処理速度をさらに向上させることが可能になる。また、ＡＰＩからプリンタドライバＰＤへ送信されるほとんど似たような形状を持つデータに関しては、ＰＤＬなどに一旦解凍してリストを生成せずに、プリンタドライバＰＤで受信した時点でリストにして転送できるので、描画処理速度の向上を図ることが可能になる。
【００８０】
次に第２の実施の形態の描画処理システムについて説明する。第２の実施の形態は、プリンタドライバＰＤ内にリスト生成手段１１と描画要素エレメント分類手段１２が含まれる構成をとる。
【００８１】
図１３は第２の実施の形態の構成を示す図である。描画処理システム１ａは、端末装置２０ａと描画処理装置１０ａから構成され、それぞれネットワーク３０に接続する。
【００８２】
端末装置２０ａは、プリンタドライバＰＤ内にリスト生成手段１１と描画要素エレメント分類手段１２を含む。なお、その他の構成は上述したので説明は省略する。
【００８３】
このように、第２の実施の形態の描画処理システム１ａは、描画要素エレメント分類手段１２もさらにプリンタドライバＰＤ内に含める構成した。
これにより、端末装置２０ａでリスト生成及び分類までの処理を担当させることにより、端末装置２０ａが高速な装置の場合には、全体の描画処理速度をさらに向上させることが可能になる。
【００８４】
次に第３の実施の形態の描画処理システムについて説明する。第３の実施の形態は、プリンタドライバＰＤ内にリスト生成手段１１と描画要素エレメント分類手段１２と描画要素エレメント格納手段１３が含まれる構成をとる。
【００８５】
図１４は第３の実施の形態の構成を示す図である。描画処理システム１ｂは、端末装置２０ｂと描画処理装置１０ｂから構成され、それぞれネットワーク３０に接続する。
【００８６】
端末装置２０ｂは、プリンタドライバＰＤ内にリスト生成手段１１と描画要素エレメント分類手段１２と描画要素エレメント格納手段１３を含む。
また、描画処理装置１０ｂには、描画要素エレメント一時格納手段１８が設置される。描画要素エレメント一時格納手段１８は、必要に応じて端末装置２０ｂ内の描画要素エレメント格納手段１３から間接あるいは直接に描画要素エレメントを引き出して格納する。
【００８７】
描画要素エレメント一時格納手段１８は、分類に応じて、例えば、複数の描画領域の描画処理に対して参照されるような分類の場合に、一時的にデータの格納・保持を行う。なお、その他の構成は上述したので説明は省略する。
【００８８】
このように、第３の実施の形態の描画処理システム１ｂは、描画要素エレメント格納手段１３もさらにプリンタドライバＰＤ内に含める構成とした。
これにより、端末装置２０ｂから分類した結果を一度に送るのではなく、描画処理装置１０ｂが必要な描画要素エレメントを取ってくることが可能になり、柔軟度の高い描画処理を行うことが可能になる。
【００８９】
なお、上記で説明した第１〜第３の実施の形態のいずれに対しても、端末装置と描画処理装置のネットワーク３０上での通信時には、転送するデータをコード化または圧縮して転送することができる。
【００９０】
この場合、受信時にはデコード化及び伸張して、その後の必要な処理を行うことになる。
次に描画処理方法について説明する。図１５は描画処理方法の処理手順を示すフローチャートである。描画処理方法は、少なくとも文字または図形の描画オブジェクトを入力として描画処理を行う。
〔Ｓ１〕描画オブジェクトを構成する描画要素エレメントのリストをプリンタドライバ内で生成し、ネットワーク上に送出する。
〔Ｓ２〕送出されたリストを受信し、リストを構成する描画要素エレメントの長さ情報に対し、一定の基準値を用いて、描画要素エレメントを分類する。
〔Ｓ３〕分類された描画要素エレメントを基準値に対応させて格納する。
〔Ｓ４〕描画領域を分割して描画処理の割り当てを行う。
〔Ｓ５〕格納された描画領域の描画処理に必要な描画要素エレメントを基準値に対応させて描画処理部へ転送する。
〔Ｓ６〕描画処理部は並列に描画要素エレメントの描画処理を行う。
〔Ｓ７〕描画処理された処理結果を合成して出力する。
【００９１】
以上説明したように、描画処理方法は、描画要素エレメントのリストをプリンタドライバ内で生成し、分割描画領域を割り当てられた描画処理部が描画要素エレメントを分類した基準値を使用して、描画要素エレメントの並列描画処理を行う方法とした。
【００９２】
これにより、分割描画領域毎のデータを用意するための前処理がなくなり、かつ担当する描画領域以外に属する不要なデータに関する処理も減らすことができるのでオーバヘッドを大幅に削減し、高速描画処理が可能になる。
【００９３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の描画処理システムは、端末装置と、描画処理装置とから構成され、端末装置内で描画要素エレメントのリストを生成し、描画処理装置内で描画要素エレメントの位置及び高さ情報の組である長さ情報に対し一定の基準値を用いて分類した後に、描画要素エレメントの並列描画処理を行う構成とした。これにより、分割描画領域毎のデータを用意するための前処理がなくなり、かつ担当する描画領域以外に属する不要なデータに関する処理も減らすことができるのでオーバヘッドを大幅に削減し、高速描画処理が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  第１の実施の形態の描画処理システムの原理図である。
【図２】  描画サンプルを示す図である。
【図３】  描画要素エレメントの概念図である。
【図４】  長さ情報を示す概念図である。
【図５】  描画領域を示す図である。
【図６】  描画要素エレメント分類結果を示す図である。
【図７】  分類された描画要素エレメントを格納した状態の概念図である。
【図８】  描画処理手段が分割描画領域Ａを処理する際の描画要素エレメントの読み込みを示す概念図である。
【図９】  描画処理手段が分割描画領域Ｂを処理する際の描画要素エレメントの読み込みを示す概念図である。
【図１０】  描画処理手段が分割描画領域Ｃを処理する際の描画要素エレメントの読み込みを示す概念図である。
【図１１】  描画処理手段が分割描画領域Ｄを処理する際の描画要素エレメントの読み込みを示す概念図である。
【図１２】  合成出力結果を示す図である。
【図１３】  第２の実施の形態の構成を示す図である。
【図１４】  第３の実施の形態の構成を示す図である。
【図１５】  描画処理方法の処理手順を示すフローチャートである。
【符号の説明】
１  描画処理システム
１０  描画処理装置
１１  リスト生成手段
１２  描画要素エレメント分類手段
１３  描画要素エレメント格納手段
１４ａ、１４ｎ  描画処理手段
１５  描画領域割当て手段
１６  描画要素エレメント転送制御手段
１７  合成出力手段
２０  端末装置
３０  ネットワーク
Ｉ／Ｆ１、Ｉ／Ｆ２  ネットワークインタフェース
ＰＤ  プリンタドライバ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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