(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の絶縁基板を対向させ、該絶縁基板間に微小な放電表示セルとなる空間を形成する隔壁と複数の電極群を設け、該空間に放電可能なガスを封入した気密構造を形成するとともに、該電極間の放電によりプラズマを発生させ、該プラズマにより放電表示セル内の蛍光体を発光させて画面の発光素子とするプラズマディスプレイパネルにおいて、該隔壁が下記式：
【化１】
0004067691.tif 000014
ただし、Ｘは、フッ素原子、塩素原子またはメチル基を表し；ｋは、０〜４であり；およびｑは、１，０００〜１，０００，０００である、
で示される含フッ素芳香族樹脂を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用隔壁。
【請求項２】
該隔壁が下記式：
【化２】
0004067691.tif 000015
ただし、Ｘは、フッ素原子、塩素原子またはメチル基を表し；Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、臭素原子、塩素原子またはヨウ素原子を表し；ｋは、０〜４の整数である、
で示される含フッ素芳香族化合物の熱ＣＶＤによって形成される、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用隔壁。
【請求項３】
該含フッ素芳香族樹脂が下記式：
【化３】
0004067691.tif 000016
ただし、ｑは、１，０００〜１，０００，０００である、
で示される含フッ素芳香族樹脂である、請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネル用隔壁。
【請求項４】
隔壁を下記式：
【化４】
0004067691.tif 000017
ただし、Ｘは、フッ素原子、塩素原子またはメチル基を表し；Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、臭素原子、塩素原子またはヨウ素原子を表し；ｋは、０〜４の整数である、
で示される含フッ素芳香族化合物の熱ＣＶＤで形成する工程を含むプラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法。
【請求項５】
該含フッ素芳香族化合物が下記式：
【化５】
0004067691.tif 000018
ただし、Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、臭素原子、塩素原子またはヨウ素原子を表す、
で示される、請求項４に記載の製造法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高精度かつ安価な薄型の大型画面用カラー表示装置等に用いられるプラズマディスプレイパネル用隔壁及びその製造方法に関するものである。より詳しくは、本発明は、耐熱性、平坦性及びガスバリアー性に優れた含フッ素芳香族樹脂を含む高精度かつ安価な薄型の大型画面用カラー表示装置等に用いられるプラズマディスプレイパネル用隔壁およびその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
薄型の大型画面用のカラー表示装置等に用いられるプラズマディスプレイパネル（以下、単に「プラズマディスプレイパネル」と称する）は、微小な放電表示セルとなる一対の絶縁基板間を仕切る隔壁に囲まれて形成される空間に、対向する電極を設け、前記空間に希ガス（例えば、ネオンガスやキセノンガスとネオンガスとの混合ガス）等の放電可能なガスを封入した気密構造を成しており、前記対向する電極間に電圧を選択的に印加し、放電によりプラズマを発生させ、このプラズマにより放電表示セル内の３原色の蛍光体を励起発光させて画面の発光素子として利用するものである。
【０００３】
このようなプラズマディスプレイパネルの放電表示セルを構成するための隔壁を製造する方法としては、一般に、印刷積層（スクリーン印刷）法が良く知られている。この印刷積層法は、ガラスフリットを主成分とする隔壁材料のペーストを用いて厚膜印刷法により放電表示セルの所定形状をパターンとして絶縁基板上に印刷形成するものであり、１回の印刷で形成できる膜の厚さが約１０〜１５μｍ程度であることから、印刷、乾燥工程を繰り返すことにより約１００〜２００μｍの高さになるまで放電表示セルの隔壁を形成した後、絶縁基板と共に焼成一体化することからなるものである。しかしながら、上記印刷積層法では、所定の高さの隔壁を形成するためには、印刷、乾燥工程を何回も繰り返して積層しなければならず、極めて工程数が多くなり、その上、積層毎に精度良く印刷することが必要であるにもかかわらず、印刷製版の伸び等のために位置ずれを生じ易く、製造歩留りが悪い上、スクリーン印刷の場合には、第１層目の印刷が重要であるものの、しばしば隔壁の裾に乱れが生じ易いため、より高精度のパターニングが困難であるという問題があった。
【０００４】
このような問題を解決するために、フォトリソグラフィー技術を用いたサンドブラスト法が提案された。上記サンドブラスト法は、絶縁基板上に所定厚さの隔壁形成層を被覆した後、仮焼し、仮焼体の表面に形成した隔壁形状のレジストマスクを介してサンドブラストにて隔壁以外の仮焼体部分を除去し、更に絶縁基板とともに焼成一体化して隔壁を形成する方法である（特開平４−２５９，７２８号公報）。しかしながら、上記サンドブラスト法は、レジストマスク形成にフォトレジストを用いることから高精度なパターニングが可能となるものの、ブラスト加工に用いる研磨剤を回収し、繰り返して使用する場合には、研磨剤の摩耗劣化による研削力の低下や経時変化があり、工程管理が難しく安定して量産することが困難であるという課題がある。加えて、ガラスを主成分とする無機材料から構成される隔壁成形体は、前述のようにして隔壁成形体を作製した後、最後の製造工程において約５００〜６００℃の温度で焼成する必要があり、該焼成に伴う歩留り低下や、コスト高である点から、高精度で微細なピッチを有するプラズマディスプレイパネル用隔壁を容易に歩留り良く、低コストで製造することが困難であるという課題もあった。
【０００５】
このため、このような課題を解決する方法が試みられ、その一例として、耐熱性樹脂であるポリイミド系樹脂を主成分とする隔壁用組成物を用いて形成されるプラズマディスプレイパネル用隔壁が報告された（特開平１０−１４９，７７５号公報）。このプラズマディスプレイパネル用隔壁は、成形型にポリイミド系樹脂を含有する隔壁用組成物を充填して絶縁基板と密着させることによって、あるいは絶縁基板に直接形成した感光性樹脂からなる開口部を有する成形型にポリイミド系樹脂を含有する隔壁用組成物を充填した後、この感光性樹脂を除去することによって、絶縁基板と一体化されたポリイミド系樹脂を主成分とする隔壁として形成される。しかしながら、この製造方法によって、確かにプラズマディスプレイパネルの放電表示セルを構成する隔壁を簡単な製造工程で高精度に再現性良く成形することができかつ低コストで寸法精度の優れた大型画面化が容易で高精細度化が実現できるものであるが、表面が粗く平坦性が十分でなく、隔壁表面に気孔が発生して微細化が困難であるといった問題がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
したがって、本発明の目的は、プラズマディスプレイパネルの放電表示セルを構成する隔壁を簡単な製造工程で高精度に再現性良く成形することができ、低コストで寸法精度の優れた大型画面化が容易で高精細度化が実現でき、さらに平坦性に優れかつ微細化が可能なプラズマディスプレイパネル用の隔壁およびその製造方法を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記諸目的を達成するために鋭意検討した結果、本願発明者らがこれまで研究を行ってきた含フッ素芳香族樹脂が耐熱性、ガスバリアー性及び平坦性に優れていること着目し、このような含フッ素芳香族樹脂を用いてプラズマディスプレイパネル用の隔壁を製造することによって、隔壁を簡単な製造工程で高精度に再現性良く形成することができ、さらに製造された隔壁は優れた平坦性を有しかつ微細化も可能であることを発見した。これらの知見に基づいて、本発明を完成するに至った。
【０００８】
すなわち、上記諸目的は、以下の（ア）〜（オ）によって達成される。
【０００９】
（ア）一対の絶縁基板を対向させ、前記絶縁基板間に微小な放電表示セルとなる空間を形成する隔壁と複数の電極群を設け、前記空間に放電可能なガスを封入した気密構造を形成するとともに、前記電極間の放電によりプラズマを発生させ、前記プラズマにより放電表示セル内の蛍光体を発光させて画面の発光素子とするプラズマディスプレイパネルにおいて、前記隔壁が下記式：
【化１】
0004067691.tif 000002
ただし、Ｘは、フッ素原子、塩素原子またはメチル基を表し；ｋは、０〜４であり；およびｑは、１，０００〜１，０００，０００である、
で示される含フッ素芳香族樹脂を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用隔壁。
【００１０】
（イ）前記隔壁が下記式：
【化２】
0004067691.tif 000003
ただし、Ｘは、フッ素原子、塩素原子またはメチル基を表し；Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、臭素原子、塩素原子またはヨウ素原子を表し；ｋは、０〜４の整数である、
で示される含フッ素芳香族化合物の熱ＣＶＤによって形成される、前記（ア）に記載のプラズマディスプレイパネル用隔壁。
【００１１】
（ウ）前記含フッ素芳香族樹脂が下記式：
【００１２】
【化３】
0004067691.tif 000004
ただし、ｑは、１，０００〜１，０００，０００である、
で示される含フッ素芳香族樹脂である、前記（ア）または（イ）に記載のプラズマディスプレイパネル用隔壁。
【００１３】
（エ）隔壁を下記式：
【化４】
0004067691.tif 000005
ただし、Ｘは、フッ素原子、塩素原子またはメチル基を表し；Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、臭素原子、塩素原子またはヨウ素原子を表し；ｋは、０〜４の整数である、
で示される含フッ素芳香族化合物の熱ＣＶＤで形成する工程を含むプラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法。
【００１４】
（オ）前記含フッ素芳香族化合物が下記式：
【化５】
0004067691.tif 000006
ただし、Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、臭素原子、塩素原子またはヨウ素原子を表す、
で示される、前記（エ）に記載の方法。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１６】
第一の概念によると、本発明は、一対の絶縁基板を対向させ、前記絶縁基板間に微小な放電表示セルとなる空間を形成する隔壁と複数の電極群を設け、前記空間に放電可能なガスを封入した気密構造を形成するとともに、前記電極間の放電によりプラズマを発生させ、前記プラズマにより放電表示セル内の蛍光体を発光させて画面の発光素子とするプラズマディスプレイパネルにおいて、前記隔壁が含フッ素芳香族樹脂を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用隔壁を提供する。
【００１７】
本発明のプラズマディスプレイパネル用隔壁（以下、「ＰＤＰ用隔壁」と略称する）を構成する含フッ素芳香族樹脂は、特に制限されるものではなく、含フッ素芳香族化合物を重合することによって得られる。本発明において使用される含フッ素芳香族化合物としては、特に制限されないが、プラズマディスプレイパネルを構成する一対の絶縁基板である前面板と背面板を気密封止するのに必要な温度に耐え得る材料であることが好ましい。このような含フッ素芳香族化合物の具体例としては、環状骨格部に２個のＣＦ2Ｚ（Ｚ＝Ｂｒ、ＩまたはＣｌ）基を有するベンゼン、ビフェニル、フェニルエーテル、インデン、インダン、ナフタレン、１，４−ジヒドロナフタレン、テトラリン、ビフェニレン、アセナフチレン、アセナフテン、フルオレン、フェナントレン、アントラセン、フルオランテン、アセアントレン、ピレン、１−フェニルナフタリン及び２−フェニルナフタリン；ならびに下記式（１）〜（３）で示される化合物が挙げられる。
【００１８】
【化２】
0004067691.tif 000007
【００１９】
【化３】
0004067691.tif 000008
【００２０】
【化４】
0004067691.tif 000009
上記式（１）及び（２）において、Ｘ1及びＸ2は、それぞれ独立して、フッ素原子、塩素原子またはメチル基、好ましくはフッ素原子を表し；ならびにｋ及びｋ’は、それぞれ独立して、０〜４、好ましくは０、３、４の整数、より好ましくは０、４の整数である。また、上記式（３）において、Ｙ1及びＹ2は、それぞれ独立して、フッ素原子またはメチル基、好ましくはフッ素原子を表し；ｐ及びｐ’は、それぞれ独立して、０〜４、好ましくは０、３、４の整数、より好ましくは０、４の整数であり；かつＹ1及びＹ2の少なくとも一はフッ素原子を表す。
【００２１】
上記した含フッ素芳香族化合物のうち、環状骨格部において２個のＣＦ2Ｚ（Ｚ＝Ｂｒ、ＩまたはＣｌ；以下、同様）基を有するベンゼン、ナフタレン及びアントラセン；ならびに式（１）〜（３）で示される化合物、より好ましくは環状骨格部において２個のＣＦ2Ｚ基を有するベンゼン、ナフタレン及びアントラセンが好ましく使用される。さらに、本発明において好ましく使用される環状骨格部に２個のＣＦ2Ｚ基を有するベンゼン、ナフタレン及びアントラセンにおいて、置換基であるＣＦ2Ｚ基の結合位置は、重合する際の含フッ素芳香族樹脂の２次構造の点を考慮すると、環状骨格部において対称の位置となることが望ましく、即ち、下記含フッ素芳香族化合物が本発明において特に好ましく使用される。
【００２２】
【化５】
0004067691.tif 000010
上記式において、Ｘ、Ｘ1、Ｘ2及びＸ3は、それぞれ独立して、フッ素原子、塩素原子またはメチル基、好ましくはフッ素原子を表し；Ｚ1及びＺ2は、それぞれ独立して、臭素原子、塩素原子またはヨウ素原子、好ましくは臭素原子を表し；ｋ及びｋ’は、それぞれ独立して、０〜４、好ましくは０、３、４の整数、より好ましくは０、４の整数であり；ｍ及びｍ’は、それぞれ独立して、０〜３、好ましくは０、３の整数であり；ならびにｎは０〜２、好ましくは０、２の整数である。
【００２３】
本発明によると、含フッ素芳香族樹脂は、上記含フッ素芳香族化合物を、必要であれば重合開始剤等の他の添加剤と共に重合することによって得られる。含フッ素芳香族樹脂としては、好ましくは、以下の６種のいずれかが使用される。なお、本発明において、一種の含フッ素芳香族樹脂がＰＤＰ用隔壁を形成することが好ましいが、所望の特性によっては、二種以上の含フッ素芳香族樹脂からＰＤＰ用隔壁を形成してもよい。
【００２４】
【化６】
0004067691.tif 000011
上記式において、Ｘ、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、ｋ、ｋ’、ｍ、ｍ’、及びｎは、上記含フッ素芳香族化合物の好ましい例で記載された定義と同様であり、ならびにｑは、隔壁の所定の形状［すなわち、幅、高さ及びピッチ（間隔）など］によって異なるが、平均、通常、１，０００〜１，０００，０００、好ましくは１０，０００〜１００，０００である。
【００２５】
本発明において、隔壁の幅、高さ及びピッチ（間隔）は、特に制限されず公知と同様の値が用いられる。
【００２６】
本発明による隔壁は、含フッ素芳香族樹脂に加えて、さらに他の成分を含んでいてもよい。さらなる成分としては、例えば、ベンゾフェノン、イルガキュアー１８４（チバガイギー社製）、イルガキュアー９０７（チバガイギー社製）、イルガキャアー６５１（チバガイギー社製）、およびダロキュアー（メルク社製）等の重合開始剤などが挙げられる。
【００２７】
さらに、前記含フッ素芳香族化合物の重合を阻害したり、前記気密封止温度で含フッ素芳香族樹脂自体に変形等の悪影響を及ぼしたりせず、本発明の範疇を逸脱しない範囲において、分散剤や溶剤、着色剤、無機充填材等の各種添加剤を含有させることも可能である。
【００２８】
また、本発明はプラズマディスプレイパネルを構成する隔壁に特徴を有するものであり、それ以外の構成部材、例えば、絶縁基板、電極及び蛍光体は、特に制限されず従来公知のものと同様のものが使用される。
【００２９】
具体的には、絶縁基板としては、ソーダライムガラスや低ソーダガラス、鉛アルカリケイ酸ガラス、ホウケイ酸塩ガラス等の一般の透明ガラス基板を用いることができ、特に高歪点低ソーダガラスが好適に使用される。本発明において、このような絶縁基板は、公知の方法を用いて、上記素材を板状、シート状あるいはフィルム状に成形することによって製造され、絶縁基板の厚みは、目的とする特性及びその材質に合わせて適宜選択することができる。
【００３０】
また、電極としては、クロム（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、タングステン（Ｗ）及び銀（Ａｇ）等の材料を真空蒸着、メッキ及びスパッタなどにより製膜することによって、上記したような絶縁基板上に形成される。また、電極の大きさは、絶縁基板の場合と同様、用途及びその材質などに合わせて適宜選択することができる。
【００３１】
さらに、蛍光体は、赤（Ｒ）［例えば、（Ｙ，Ｇａ）ＢＯ3：Ｅｕ］、緑（Ｇ）（例えば、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ）及び青（Ｂ）（例えば、ＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ2+）を１画素とする組み合わせあるいはシアン、マゼンタ及びイエローを１画素とする組み合わせ；ならびに上記組み合わせのうち２種の画素を有するものが挙げられる。また、これらの画素の配列は、ストライプ状やモザイク状など、規則的であればいずれの配列でもよい。さらに、蛍光体の厚みは、絶縁基板の場合と同様、用途及びその材質などに合わせて適宜選択することができる。
【００３２】
本発明のＰＤＰ用隔壁の製造方法は、本願発明による含フッ素芳香族化合物を用いられる方法であれば特に制限されることなく使用できるが、例えば、スクリーン印刷法、サンドブラスト法、アディティブ法、感光性フィルムペースト法、金型法及び化学的蒸着（ＣＶＤ）法が挙げられる。これらのうち、隔壁表面の平坦性や構造の微細化などを考慮すると、化学的蒸着（ＣＶＤ）法が好ましく使用される。
【００３３】
ここで、本発明の一実施態様による化学的蒸着（ＣＶＤ）法を用いたＰＤＰ用隔壁の製造方法を、図１を参照しながら、以下に詳述する。図１は、本発明によるＰＤＰ用隔壁の作製方法の一実施態様を示す工程図を示す。なお、以下の実施態様においては、含フッ素芳香族化合物のみから構成される隔壁用組成物を使用する。
【００３４】
まず、絶縁基板１上に、含フッ素芳香族化合物を所定の厚さになるように化学的蒸着（ＣＶＤ）し、含フッ素芳香族樹脂層２を形成し、この含フッ素芳香族樹脂層２上に蒸着によりアルミニウム層３を形成する［図１（ａ）］。次に、フォトレジスト塗布、プリベーク、露光、現像、アフターベークを行い、パターニングされたレジスト層４を得る［図１（ｂ）］。続いて、レジスト層４で被覆されなかったアルミニウム層部分をウェットエッチングにより除去した［図１（ｃ）］後、レジスト層４及び相当するアルミニウム層で被覆されていない含フッ素芳香族樹脂部分を異方性ドライエッチングにより除去する［図１（ｄ）］。さらに、残ったアルミニウム層３をウェットエッチングで除去する［図１（ｅ）］。
【００３５】
または、本発明のＰＤＰ用隔壁を、感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィー法によって形成してもよい。この態様を、第二の実施態様として以下に簡単に説明する。まず、絶縁基板上に、含フッ素芳香族化合物を所定の厚さになるように化学的蒸着（ＣＶＤ）し、含フッ素芳香族樹脂層を形成し、この含フッ素芳香族樹脂層上に感光性樹脂を均一に塗布することによって、感光性樹脂層を形成する。次に、この感光性樹脂層上に隔壁形状に対応したフォトマスクを置き、このフォトマスクを介して光照射装置から光線を照射して露光し、感光性樹脂層の露光部を硬化させ、未露光部を現像、洗浄する。その後、感光性樹脂層で被覆されていない含フッ素芳香族樹脂部分を異方性ドライエッチングにより除去し、さらに残りの感光性樹脂層を弱アルカリ溶液中に含浸することにより、この感光性樹脂層を溶出、除去、水洗する。このようにして、本発明のＰＤＰ用隔壁が作製される。
【００３６】
上記第二の実施態様において、感光性樹脂としては、紫外線や可視光線、赤外線、Ｘ線あるいは電子線等により硬化する樹脂であればいずれでもよく特に限定されるものではないが、例えば、ラジカル重合型のアクリル系紫外線硬化性樹脂やカチオン重合型のエポキシ系あるいはアゾ系紫外線硬化性樹脂、チオール・エン付加型の紫外線硬化性樹脂が挙げられ、これらの紫外線硬化性樹脂には、硬化触媒としてアセトフェノン類やベンゾフェノン類、有機過酸化物、アゾ化合物、チオキサントン類を含有させてもよい。
【００３７】
本発明において使用される化学的蒸着（ＣＶＤ）としては、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ及び光ＣＶＤ等公知の化学的蒸着法が使用されるが、これらのうち、熱によって活性種を容易に生成することができるから、熱ＣＶＤが好ましく使用され、特に、特開平６−３３，２２４号に記載される方法が好ましく使用される。
【００３８】
また、ＣＶＤ工程において、上記含フッ素芳香族化合物を必須に使用するが、必要であれば、アルゴン、窒素、ヘリウムガス等のキャリアガスをさらに使用してもよい。
【００３９】
さらに、ＣＶＤ法において、反応条件は使用するＣＶＤの種類および目的とする薄膜の均一性や厚さなどによって異なるが、例えば、熱ＣＶＤ法を用いる際には、温度は、蒸発室では、０〜３００℃、好ましくは１００〜２００℃であり、分解室では、４００〜１０００℃、好ましくは６００〜８００℃であり、さらに蒸着室では、−５０〜３００℃、好ましくは室温である。この際、抵抗線加熱、高周波誘導加熱、赤外線ランプ加熱やレーザビーム加熱等の公知の手段によって上記温度範囲に設定できる。また、圧力は、７６０〜１０ｍｍＴｏｒｒである。
【００４０】
さらにまた、ＣＶＤ法に使用される反応装置としては、特に制限されず、例えば、特開平６−３３，２２４号に記載される装置、常圧ＣＶＤの際には、縦型常圧ＣＶＤ装置、インライン型常圧ＣＶＤ装置やベルトコンベア型常圧ＣＶＤ装置などが；減圧ＣＶＤの際には、ホットウォール型減圧ＣＶＤ装置やコールドウォール型減圧ＣＶＤ装置などが；プラズマＣＶＤの際には、丸型平行平板電極型プラズマＣＶＤ装置、誘導コイル型プラズマＣＶＤ装置、ホットウォール型プラズマＣＶＤ装置やマイクロ波電子サイクロトロン共鳴（ＥＣＲ）型プラズマＣＶＤ装置などが；ならびに光ＣＶＤの際には、低圧水銀ランプ、エキシマレーザ、アルゴンレーザ、超高圧水銀ランプ、重水素ランプ、希ガス共鳴線、ハロゲンランプやＦｅ／Ｈｇ金属・ハロゲンランプを光源として用いたＣＶＤ装置およびこれらの２種以上のフォトンを同時に吸収させて所定のエネルギー準位まで電子を励起させる多光子吸収法などが挙げられる。これらのうち、特開平６−３３，２２４号に記載される装置が特に好ましく使用される。
【００４１】
上記態様では、隔壁の形成に、本発明による含フッ素芳香族化合物、及び必要であればキャリアガスを使用したが、さらに必要であれば、重合開始剤を使用してもよい。重合開始剤を使用する際の重合開始剤の例としては、ベンゾフェノン、イルガキュアー１８４（チバガイギー社製）、イルガキュアー９０７（チバガイギー社製）、イルガキャアー６５１（チバガイギー社製）、およびダロキュアー（メルク社製）などが挙げられる。
【００４２】
このようにして製造された本願発明のプラズマディスプレイパネル隔壁は、簡単な製造工程で高精度に再現性良く成形され、低コストで寸法精度の優れた大型画面化が容易で高精細度化が実現でき、さらに、表面に凹凸の少ない優れた平坦性を有するものである。
【００４３】
このようにして隔壁を形成した後は、既知の方法によって、例えば、書き込み電極を印刷・焼成した後、書き込み電極上及び隔壁の側面に各色（赤、緑、青）の蛍光体を印刷することによって、ＰＤＰ用の裏面パネルが製造される。このようにして製造された背面パネルと、既知の方法によって製造された前面パネルとの間に放電によって紫外線を発生するキセノン（Ｘｅ）と主放電ガスのネオン（Ｎｅ）を混合したガスを封入することによって、本願発明による隔壁を有するプラズマディスプレイパネルが得られる。
【００４４】
【実施例】
以下、本発明の実施例により具体的に説明する。
【００４５】
実施例１
厚さが２ｍｍで２６インチサイズ画面相当の高歪点低ソーダガラスからなる絶縁基板上で、下記式の含フッ素芳香族化合物をアルゴンガス中に０．５（ｖ／ｖ）％で、蒸発室において１７５℃の温度かつ１Ｔｏｒｒの圧力で、分解室において６８０℃の温度でかつ０．５Ｔｏｒｒの圧力で、さらに蒸着室において３０℃の温度でかつ０．１Ｔｏｒｒの圧力で熱ＣＶＤ処理することによって、１００μｍの厚さの含フッ素芳香族樹脂層を形成した。
【００４６】
【化７】
0004067691.tif 000012
次に、このようにして形成された含フッ素芳香族樹脂層上に蒸着により厚さ０．５μｍのアルミニウム層を形成した後、フォトレジスト塗布、プリベーク、露光、現像、アフターベークを行い、パターニングされた厚さ１μｍのレジスト層をさらに形成した。続いて、このレジスト層で被覆されなかったアルミニウム層部分をウェットエッチングにより除去した。さらに、レジスト層及び相当するアルミニウム層で被覆されていない含フッ素芳香族樹脂部分を、異方性ドライエッチングにより除去した。最後に、残ったアルミニウム層をウェットエッチングで除去し、ＰＤＰ用隔壁１を作製した。
【００４７】
実施例２
厚さが２ｍｍで２６インチサイズ画面相当の高歪点低ソーダガラスからなる絶縁基板上で、下記式の含フッ素芳香族化合物をアルゴンガス中に０．５（ｖ／ｖ）％で、蒸発室において１７５℃の温度かつ１Ｔｏｒｒの圧力で、分解室において６８０℃の温度でかつ０．５Ｔｏｒｒの圧力で、さらに蒸着室において３０℃の温度でかつ０．１Ｔｏｒｒの圧力で熱ＣＶＤ処理することによって、１００μｍの厚さの含フッ素芳香族樹脂層を形成した。
【００４８】
【化８】
0004067691.tif 000013
次に、このようにして形成された含フッ素芳香族樹脂層上に、感光性ポリイミドを均一に塗布することによって、感光性ポリイミド層を形成した。次に、この感光性ポリイミド層上に中心間距離が１５０μｍピッチでかつ幅が３０μｍの隔壁形状に対応したフォトマスクを置き、このフォトマスクを介して露光し、感光性ポリイミド層の露光部を硬化させ、未露光部を現像、洗浄した。その後、感光性ポリイミド層で被覆されていない含フッ素芳香族樹脂部分を異方性ドライエッチングにより除去し、さらに残りの感光性ポリイミド層を弱アルカリ溶液中に含浸することにより、この感光性ポリイミド層を溶出、除去、水洗し、ＰＤＰ用隔壁２を作製した。
【００４９】
比較例１
ポリイミドをロールコーター処理することによって、幅３０μｍ、高さ１００μｍ及びピッチ１５０μｍの比較用ＰＤＰ用隔壁を製造した。
【００５０】
実施例３
実施例１、２および比較例１で作製されたＰＤＰ用隔壁１、２及び比較用ＰＤＰ用隔壁について、それぞれ、表面の平坦性を電子顕微鏡で評価したところ、実施例１、２で作製されたＰＤＰ用隔壁１、２の表面には凹凸が少なく平坦性に優れていた。これに対して比較例１で作製された比較用ＰＤＰ用隔壁には凹凸が認められ平坦性が劣っていることが分かった。
【００５１】
【発明の効果】
上述したように、本願発明のプラズマディスプレイパネル用隔壁は、含フッ素芳香族樹脂を含むことを特徴とするものである。したがって、本願発明のプラズマディスプレイパネル用隔壁は、簡単な製造工程で成形することができ、また、隔壁を耐熱性、ガスバリアー性及び平坦性に優れた含フッ素芳香族樹脂の化学的蒸着によって形成することによって、表面には凹凸が少なく平坦性に優れるプラズマディスプレイパネル用隔壁が製造できる。
【００５２】
上記利点に加え、本願発明のプラズマディスプレイパネル用隔壁は、従来の隔壁に比べて、微細化することができ、これにより、プラズマディスプレイパネルのより薄型化／小型化がはかれる。
【図面の簡単な説明】
【図１】は、本発明の一実施態様によるプラズマディスプレイパネル用隔壁の主要製造工程での要部断面図を示すものである。
【付号の説明】
１  絶縁基板
２  含フッ素芳香族樹脂層
３  アルミニウム層
４  レジスト層
【図１】
0004067691.tif 000019