(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記一般式（１）
【化１】
0004135222.tif 000004
（式中、Ｒ１は炭化水素基、Ｒ２は水素または炭化水素基を示す）
で示されるジャスモン酸系化合物そのものよりなる液体および（Ｂ）該ジャスモン酸系化合物１００重量部に対して有機溶媒１〜５０重量部を混合してなる組成物
からなる群から選ばれた洗浄剤。
【請求項２】
請求項１記載の洗浄剤に、被洗浄物を接触させることを特徴とする洗浄法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、各種金属、プラスチックなどの脱脂洗浄などに使用される特定の洗浄剤およびそれを用いた洗浄法に関する。さらに詳しくは、自動車、機械、電気、電子、精密機器などの加工部品類に付着する機械油、グリース、ワックスなどの油脂類並びにフラックス類に対する脱脂能力に優れ、低毒性でかつ引火性の低いジャスモン酸系化合物よりなる洗浄剤およびそれを用いた洗浄法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、自動車、機械、電気、電子、精密機器などの加工部品類の脱脂洗浄については、高脱脂力、不燃性などの優れた特性を備えたトリクロロエタン、トリクロロエチレン等の塩素系化合物やトリフルオロトリクロロエタン（フロン１１３）などのフロン系化合物が洗浄剤として使用されてきている。
【０００３】
しかしながら、近年、地球環境保護の観点より、環境破壊物質の大気および水系への排出規制の動きが出ている。洗浄剤として優れた特徴を備えた塩素系化合物および塩素原子を含むフロン系化合物については、成層圏のオゾン層を破壊するなどの環境問題が懸念され、その使用量を低減し、さらには使用停止に向けた国際的世論が高まっている。こうした中で、これら塩素系、フロン系溶剤に替わる環境汚染の少ない代替洗浄剤が強く求められている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、以上のとおりの状況に鑑みてなされたものであり、機械油、グリースおよびワックスなどの油脂類並びにフラックス類に対する脱脂能力に優れ、低毒性でかつ引火性の低いジャスモン酸系化合物よりなる洗浄剤およびそれを用いた洗浄法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明の第1は、（Ａ）下記一般式（１）
【化２】
0004135222.tif 000002
（式中、Ｒ１は炭化水素基、Ｒ２は水素または炭化水素基を示す）
で示されるジャスモン酸系化合物そのものよりなる液体および（Ｂ）該ジャスモン酸系化合物１００重量部に対して有機溶媒１〜５０重量部を混合してなる組成物
からなる群から選ばれた洗浄剤に関する。
本発明の第２は、請求項１記載の洗浄剤に、被洗浄物を接触させることを特徴とする洗浄法に関する。
【０００６】
本発明は、前述のとおりジャスモン酸系化合物そのものよりなる液体またはその有機溶媒溶液からなる洗浄剤および該洗浄剤と被洗浄物を直接接触させる洗浄法に関するものである。
【０００７】
前記式中Ｒ1は、炭化水素基であり、とくに分岐していてもよいアルキル基またはアルケニル基が好ましく、その炭素数は特に限定されないが、通常１〜１０、好ましくは２〜６、より好ましくは５である。Ｒ2は水素または炭化水素基であり、この炭化水素基としては、とくに分岐していてもよいアルキル基が好ましく、その炭素数は、通常１〜１０、好ましくは１〜６、より好ましくは１〜３の範囲である。
【０００８】
Ｒ1の具体例としては、アルキル基の場合は、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、１−メチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、ノエル基、デシル基などがあり、アルケニル基の場合は、例えばアリル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、イソブテニル基、４−ペンテニル基、３−ペンテニル基、ｔｒａｎｓ−２−ペンテニル基、ｃｉｓ−２−ペンテニル基、１−ペンテニル基、３−メチル−２−ペンテニル基、５−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基などが挙げられる。これらの中でも、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、１−メチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、イソブテニル基、４−ペンテニル基、３−ペンテニル基、ｔｒａｎｓ−２−ペンテニル基、ｃｉｓ−２−ペンテニル基、１−ペンテニル基、３−メチル−２−ペンテニル基、５−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基などが好ましく、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、１−メチルブチル基、４−ペンテニル基、３−ペンテニル基、ｔｒａｎｓ−２−ペンテニル基、ｃｉｓ−２−ペンテニル基、１−ペンテニル基などが特に好ましい。
【０００９】
前記Ｒ2が炭化水素である場合の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、１−メチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基などが挙げられる。
これらの中でも、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、１−メチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基などが好ましく、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基などが特に好ましい。
【００１０】
本発明にかかるジャスモン酸系化合物の具体例としては、例えば、２−メチル−３−オキソ−シクロペンチルアセティックアシッド、２−エチル−３−オキソ−シクロペンチルアセティックアシッド、２−イソプロピル−３−オキソ−シクロペンチルアセティックアシッド、２−アリル−３−オキソ−シクロペンチルアセティックアシッド、２−ブチル−３−オキソ−シクロペンチルアセティックアシッド、２−ペンチル−３−オキソ−シクロペンチルアセティックアシッド、２−（２−ペンテニル）−３−オキソ−シクロペンチルアセティクアシッド、２−ヘキシル−３−オキソ−シクロペンチルアセティックアシッド、２−オクチル−３−オキソ−シクロペンチルアセテイックアシッド、２−デシル−３−オキソ−シクロペンチルアセティックアシッドなどのジャスモン酸類；メチル（２−ペンチル−３−オキソ−シクロペンチル）アセテート、メチル〔２−（３−ペンテニル）−３−オキソ−シクロペンチル〕アセテート、エチル（２−ペンチル−３−オキソ−シクロペンチル）アセテート、エチル〔２−（２−ペンテニル）−３−オキソ−シクロペンチル〕アセテート、プロピル（２−ペンチル−３−オキソ−シクロペンチル）アセテート、プロピル〔２−（２−ペンテニル）−３−オキソ−シクロペンチル〕アセテート、プロピル〔２−（３−ペンテニル）−３−オキソ−シクロペンチル〕アセテート、プロピル〔２−（２−メチルブチル）−３−オキソ−シクロペンチル〕アセテート、プロピル〔２−（２，２−ジメチルプロピル）−３−オキソ−シクロペンチル〕アセテート、イソプロピル（２−ペンチル−３−オキソ−シクロペンチル）アセテート、イソプロピル〔２−（２−ペンテニル）−３−オキソ−シクロペンチル〕アセテート、イソプロピル〔２−（３−ペンテニル）−３−オキソ−シクロペンチル〕アセテート、ブチル（２−ペンチル−３−オキソ−シクロペンチル）アセテート、ブチル〔２−（２−ペンテニル）−３−オキソ−シクロペンチル〕アセテート、ブチル〔２−（３−ペンテニル）−３−オキソ−シクロペンチル〕アセテート、イソブチル（２−ペンチル−３−オキソ−シクロペンチル）アセテート、イソブチル〔２−（２−ペンテニル）−３−オキソ−シクロペンチル〕アセテート、ｓｅｃ−ブチル（２−ペンチル−３−オキソ−シクロペンチル）アセテート、ｓｅｃ−ブチル〔２−（２−ペンテニル）−３−オキソ−シクロペンチル〕アセテート、ｔ−ブチル（２−ペンチル−３−オキソ−シクロペンチル）アセテート、ペンチル（２−ペンチル−３−オキソ−シクロペンチル）アセテート、ペンチル〔２−（２−ペンテニル）−３−オキソ−シクロペンチル〕アセテート、２−メチルブチル（２−ペンチル−３−オキソ−シクロペンチル）アセテート、ヘキシル〔２−ペンチル−３−オキソ−シクロペンチル〕アセテート、ヘキシル〔２−（２−ペンテニル）−３−オキソ−シクロペンチル〕アセテート、ヘプチル（２−（２−ペンテニル）−３−オキソ−シクロペンチル）アセテート、オクチル（２−ペンチル−３−オキソ−シクロペンチル）アセテート、オクチル〔２−（２−ペンテニル）−３−オキソ−シクロペンチル〕アセテート、デシル（２−ペンチル−３−オキソ−シクロペンチル）アセテートなどのジャスモン酸エステル類などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００１１】
これらのジャスモン酸系化合物の中では、特にジャスモン酸エステル類が好ましい。その中でも前記式（１）のＲ1については、炭素数２〜６のものが好ましく、とりわけ炭素数５のものが好ましく、またＲ2については、炭素数が１〜６のアルキルエステル類、さらには炭素数が１〜３のアルキルエステル類が好ましい。
【００１２】
かかるジャスモン酸系化合物は、常法に従い製造することができる。例えば、前記式（１）においてＲ1がペンチル基でＲ2が炭素数１〜１０のアルキル基であるジャスモン酸系化合物は、２−ペンチルシクロペンテン−１−オンとマロン酸のアルキルエステルとをマイケル付加させた後、脱炭酸させることにより得ることができる。
【００１３】
本発明において、自動車、機械、電気、電子、精密機器などの加工部品類の脱脂洗浄剤として、かかるジャスモン酸系化合物は単独、または２種以上組み合わせて、さらにはアルコール類や他の炭化水素系の溶媒と混合された形で使用することができる。これら混合使用される他の溶媒としては、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール、アミルアルコール等のアルコール類；アセトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；シクロペンタン、シクロヘキサン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素等が挙げられる。
他の溶媒の混合割合は、ジャスモン酸系化合物１００重量部に対して、１〜５０重量部、好ましくは５〜３０重量部である（本出願人の特開平１０−７１３７２号公報参照）。
【００１４】
本発明の洗浄剤は、汚染物質が付着した物品（被洗浄物）を清浄化させるのに広く用いられる。
被洗浄物としては、格別な限定はなく、例えば、精密機械工業、金属加工工業、光学機械工業、電子工業、プラスチック工業などにおける金属、セラミックス、ガラス、プラスチック、エラストマーなどの部品、半製品および完成品などが用いられ、具体的には、バンパー、ギアー、ミッション部品、ラジエーター部品などの自動車部品；プリント基板、リードフレーム、モーター部品、コンデンサーなどの電子電気部品；ベアリング、ギア、時計部品、カメラ部品などの精密機械部品；印刷機械、印刷ロール、圧延製品、建設機械、大型重機部品などの大型機械部品；食器類などの生活製品など、多種多彩の例をあげることができる。
汚染物質の種類としては、例えば、切削油、焼き入れ油、圧延油、潤滑油、機械油、プレス加工油、打ち抜き油、引き抜き油、組立油、線引き油などのオイル類、グリース類、ワックス類、接着剤、油脂類、成型時の離型剤、手垢、ハンダ付け後のフラックス、レジスト、ソルダーペーストなどの様々なものが挙げられる。
【００１５】
また、本発明のジャスモン酸系化合物を有効成分とした洗浄剤は、洗浄時の加熱、汚れの混入や蒸留回収時の加熱などによる劣化を防止するために各種の安定剤を混合しておいてもよい。その具体例としては、たとえばニトロメタン、ニトロエタン等の脂肪族ニトロ化合物；３−メチル−１−ブチン−３−オール、３−メチル−１−ペンチン−３−オール等のアセチレンアルコール類；グリシドール、メチルグリシジルエーテル等のエポキシド類；ジメトキシメタン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；ヘキセン、ヘプテン、シクロペンテン、シクロヘキセン等の不飽和炭化水素類；アリルアルコール、１−ブテン−３−オール等の不飽和アルコール類が例示される。また、さらに、相乗的安定効果を得るために、フェノール類、アミン類、ベンゾトリアゾール類を併用してよい。
安定剤の使用量は、特に限定されないが、通常、ジャスモン酸系化合物１００重量部に対して、０．０１〜５重量部である。
【００１６】
本発明の洗浄方法としては、被洗浄物と前記本発明の洗浄剤あるいはそれと他の洗浄剤との混合物とを任意の手段で接触させればよい。具体的な接触手段としては、例えば、手拭き、浸漬、スプレー、シャワーなどの方法を挙げることができ、特に浸漬方法が好適に用いられる。浸漬による処理に際しては、超音波振動、揺動、撹拌、ブラッシングなどの物理的な手段を併用してもよい。洗浄剤の温度は、被洗浄物の性状に応じて適宜選択すればよい。
【００１７】
本発明においては、洗浄の後に、洗浄剤が付着した被洗浄物をリンス洗浄剤と接触させてリンス洗浄することができる（特開平１０−７１３７２号公報参照）。
【００１８】
リンス洗浄方法としては、洗浄後の洗浄剤が付着した被洗浄物を前記リンス洗浄浴に浸漬する方法が用いられる。浸漬に際しては、超音波振動、揺動、撹拌、ブラッシングなどの物理的な手段を併用してもよい。リンス洗浄浴の温度は、被洗浄物の性状に応じて適宜選択すれば良い。
【００１９】
リンス洗浄剤としては、通常のリンス洗浄溶媒として用いられるものを用いることができ、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコールなどの低級アルコール類；アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類；およびジメチルエーテル、ジエチルエーテルなどのエーテル類；酢酸ビニルなどのエステル類などを挙げることができる。
【００２０】
【実施例】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【００２１】
実施例１
３００メッシュの金網にマシーン油の０．３ｇを付着させ、１日放置したものを被洗浄物とし、これを洗浄剤としてメチル（２−ペンチル−３−オキソ−シクロペンチル）アセテートの５００ｍｌが入ったビーカー中に２５℃の条件で浸漬した。
１分間後に金網を引き上げ、金網に付着したマシーン油の除去率を測定した。除去率は洗浄剤への浸漬前後の重量変化を測定して求めた。
その除去率は９５％であり、同様な方法で、洗浄剤として１，１，１−トリクロロエタンを使用した場合と同等の洗浄性能を示した。
【００２２】
実施例２
フラックス（千住金属工業株式会社製  スパークルフラックスＰＯ−Ｚ−７）を平滑なガラス板（５×５０×２ｍｍ）上に塗布し、１日放置したものを被洗浄物とし、これを洗浄剤としてのメチル（２−ペンチル−３−オキソ−シクロペンチル）アセテート５００ｍｌに浸漬し、５０℃、３分間超音波をかけ洗浄処理を行った。
その後、洗浄処理を行ったガラス板をリンス液としてのイソプロピルアルコール５００ｍｌ中に浸漬し、５０℃、１分間超音波をかけリンス処理を行った。
フラックスの付着量と、洗浄、リンス処理後のフラックスの残存量とより、除去率を計算した。
その除去率は９９％以上であり、同様な方法で、洗浄剤として従来のフロン１１３を使用した場合と同等に完全に除去された。
【００２３】
実施例３
ステンレス鋼（ＳＵＳ３０４）製の試験片（５×５０×２ｍｍ）を、密閉した容器中でメチル（２−ペンチル−３−オキソ−シクロペンチル）アセテートに浸漬し、５０℃で５日間放置した時の試験片の重量変化率の測定し、かつ肉眼による試験片の観察を行った。試験片の重量の変化はなく、表面の状態も全く変化がなかった。
【００２４】
実施例４
アルミニウム製の試験片を用いた以外は、実施例３と同様な方法で洗浄試験を行ったところ、アルミニウム試験片の重量の変化はなく、表面の状態も全く変化がなかった。
【００２５】
実施例５
ポリアセタール製の試験片（５×５０×２ｍｍ）を、密閉した容器中でメチル（２−ペンチル−３−オキソ−シクロペンチル）アセテートに浸漬し、５０℃で１０分間放置した時の試験片の重量変化率の測定し、かつ肉眼による試験片の観察を行った。
試験片の重量変化率は０．１％以下であり、表面の状態は全く変化がなかった。
【００２６】
実施例６
試験片をテフロン製とした以外は、実施例５と同様な方法で洗浄試験を行ったところ、試験片の重量変化率は０．５％以下であり、表面の状態は全く変化がなかった。
【００２７】
【発明の効果】
本発明の洗浄剤は、使用時において熱的に安定で、機械油、グリースおよびワックス等の油脂類、並びにフラックス類に対する脱脂能力に優れ、かつ、被洗浄物であるプラスチック、金属等へ悪影響を及ぼすことはない。
しかも低毒性でかつ引火性が低く、安全なものであり、かつ、塩素原子を含まないため、地球環境問題として注目されているオゾン層を破壊する心配も全くない。
【００２８】
以下に本発明の実施態様項を列記する。
（１）下記一般式（１）
【化３】
0004135222.tif 000003
（式中、Ｒ1は炭化水素基、Ｒ2は水素または炭化水素基を示す）
で示されるジャスモン酸系化合物を有効成分として含有することを特徴とする洗浄剤。
（２）Ｒ1が分岐していてもよいアルキル基またはアルケニル基である前項（１）記載の洗浄剤。
（３）Ｒ1が炭素数１〜１０の分岐していてもよいアルキル基またはアルケニル基である前項（１）記載の洗浄剤。
（４）Ｒ2が分岐していてもよいアルキル基である前項（１）〜（３）いずれか記載の洗浄剤。
（５）Ｒ2が炭素数１〜１０の分岐していてもよいアルキル基である前項（１）〜（３）いずれか記載の洗浄剤。
（６）前項（１）〜（５）いずれか記載の洗浄剤と他の溶剤とを含有する洗浄組成物。
（７）前項（１）〜（５）いずれか記載の洗浄剤と安定剤とを含有することを特徴とする洗浄組成物。
（８）被洗浄物を前項（１）〜（５）いずれか記載の洗浄剤を含有する溶液で洗浄することを特徴とする洗浄法。
（９）他の溶剤を併用する前項（８）記載の洗浄法。
（１０）安定剤を併用する前項（８）または（９）記載の洗浄法。
（１１）洗浄後に、アルコールでリンスを行う前項（８）〜（１０）いずれか記載の洗浄法。
（１２）超音波を併用する前項（８）〜（１１）いずれか記載の洗浄法。