(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に設けた樹脂層の上に直接又は別個の重畳層を介してエポキシ系樹脂の塗工液をシート状に展開し、その展開層を幅方向の温度変化を０．５℃／cm以下に制御した前記支持体上で硬化処理して前記樹脂層上に直接又は別個の重畳層を介し密着した厚さ１００μm以上の硬化シートを形成した後、その硬化シートを当該樹脂層と共に支持体より剥離回収することを特徴とするエポキシ系樹脂シートの連続製造法。
【請求項２】
請求項１において、金属からなる支持体の上下又はその一方に加温手段を配置して温度制御するエポキシ系樹脂シートの連続製造法。
【請求項３】
請求項１又は２において、支持体の幅と略同幅でエポキシ系樹脂の塗工液を展開するエポキシ系樹脂シートの連続製造法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の技術分野】
本発明は、光学特性に優れる厚さ１００μm以上のエポキシ系樹脂シートの量産性に優れる連続製造法に関する。
【０００２】
【発明の背景】
注型方式によるエポキシ系樹脂シートの製造では、注入や型開き等の煩雑な工程を要してシートの量産性に乏しく、厚さが例えば５００μm以下等と薄くなると光学歪が発生しやすくて光学用途に用いうるシートを得ることが困難な問題点があった。そのため熱可塑性樹脂シートに準じた流延法による連続製造法の開発が望まれるが、そのためには形成した硬化シートの支持体との接着問題を克服して剥離回収を可能とすることが必要となる。
【０００３】
また支持体の変形や傾斜等によるシート厚の変動や歪の転写による光学歪の発生を防止することも求められる。ちなみに厚さが１００μm以上の光学用シートを得る場合、光学歪防止の点より厚さ精度を１５％以内とし透過光の投影でスジ、ムラ等が現れないことが望まれる。
【０００４】
【発明の技術的課題】
本発明は、厚さ精度に優れて光学歪が少なく光学用途にも使用できるエポキシ系樹脂シートを量産性よく安定に連続製造できる方法の開発を課題とする。
【０００５】
【課題の解決手段】
本発明は、支持体上に設けた樹脂層の上に直接又は別個の重畳層を介してエポキシ系樹脂の塗工液をシート状に展開し、その展開層を幅方向の温度変化を０．５℃／cm以下に制御した前記支持体上で硬化処理して前記樹脂層上に直接又は別個の重畳層を介し密着した厚さ１００μm以上の硬化シートを形成した後、その硬化シートを当該樹脂層と共に支持体より剥離回収することを特徴とするエポキシ系樹脂シートの連続製造法を提供するものである。
【０００６】
【発明の効果】
本発明によれば、形成したエポキシ系樹脂シートを樹脂層を介し支持体との界面より剥離して破断なく容易に回収できると共に、支持体の幅方向における温度の均一化にて支持体の変形や歪を抑制して厚さ精度を向上でき、また光学歪を低減できて厚さのバラツキが１５％以内で、透過光の投影像にスジやムラ等が現れない厚さが１００μm以上のエポキシ系硬化シートも安定に効率よく得ることができる。
【０００７】
また支持体上下への加温手段の配置による温度制御、さらには塗工液の支持体との略同一幅の展開による傾斜防止等により支持体の変形や歪をより抑制できて厚さ精度等の光学特性により優れるエポキシ系樹脂シートを得ることができる。さらに支持体を介した展開層の移動速度の調節で量産速度を容易に制御できて、その移動速度や塗工液展開量の調節でシート厚も容易に制御でき、支持体の表面状態を前記樹脂層を介し良好に転写反映させることができて、鏡面や凹凸面等を介した光学特性に優れるシートも簡単な一連の操作を介し連続して効率よく製造することができる。
【０００８】
【発明の実施形態】
本発明による製造方法は、支持体上に設けた樹脂層の上に直接又は別個の重畳層を介してエポキシ系樹脂の塗工液をシート状に展開し、その展開層を幅方向の温度変化を０．５℃／cm以下に制御した前記支持体上で硬化処理して前記樹脂層上に直接又は別個の重畳層を介し密着した厚さ１００μm以上の硬化シートを形成した後、その硬化シートを当該樹脂層と共に支持体より剥離回収してエポキシ系樹脂シートを連続的に得るものである。
【０００９】
前記方法の実施は、樹脂の塗工液とエポキシ系樹脂の塗工液を少なくとも用いて、例えばロールコート法やスピンコート法、ワイヤバーコート法やエクストルージョンコート法、カーテンコート法やスプレーコート法、ディップコート法やドクターブレード法などの、エポキシ系樹脂塗工液等を流動展開させてシート状に成形しうる適宜な方式を適用して行うことができる。就中、塗布効率や製造効率などの点より流延法、特にダイを介してエポキシ系樹脂塗工液を流動展開させるエクストルージョンコート法が好ましく適用することができる。
【００１０】
図１に前記のエクストルージョンコート法による連続製造方式の工程例を示した。この方法では先ず、エンドレスベルト１からなる支持体を駆動ドラム２と従動ドラム３を介し矢印方向に例えば０．１〜５０ｍ／分、就中０．２〜５ｍ／分等の一定速度で回転走行させつつ、その上にダイ５１を介し樹脂の塗工液を連続的にシート状に塗布し、その展開層５２を乾燥、あるいは必要に応じ加熱又は光照射などにより硬化処理して皮膜からなる樹脂層５とする。なお図例では、紫外線照射装置５３が配置されている。
【００１１】
次に、前記により支持体１の上に樹脂層５を順次形成しつつその樹脂層の上に、又はその樹脂層に準じて必要に応じ別個に設けた重畳層６の上に、ガイドロール７３を介し水平レベルを維持した支持体１の上部に配置のダイ７１を介しエポキシ系樹脂塗工液を順次塗布して通例１００μm厚以上のシート状に展開し、その展開層７２を硬化装置４を介し硬化処理する。
【００１２】
硬化装置４は、複数のゾーンに区分され、支持体１の上下に配置した加温手段４３，４４を介して前記のゾーン毎に温度制御できるようになっており、それにより支持体の幅方向の温度変化を０．５℃／cm以下に制御しながら前記展開層７２をその粘度の調節下に硬化処理し、前記の樹脂層５等と密着した厚さ１００μm以上の硬化シート７を順次形成しつつ、その硬化シート７を当該樹脂層５等と共に支持体１より回収して目的のエポキシ系樹脂シートが連続製造される。
【００１３】
前記の方法によれば、エポキシ系樹脂シートを簡単な一連の操作を介し連続製造できて量産性に優れており、支持体１の上に最初に形成する樹脂層５が、得られたエポキシ系樹脂シートを支持体より容易に効率よく剥離回収することを可能にする。
【００１４】
また支持体１の幅方向における温度のバラツキの抑制により、展開層が硬化シートとなる過程での粘度を制御して幅方向の厚さの均一性に優れ光学歪の少ないエポキシ系樹脂シートを得ることを可能にする。さらに支持体を介した展開層の移動速度の調節で量産速度を容易に制御でき、その移動速度や塗工液展開量の調節で得られるエポキシ系樹脂シートの厚さも容易に制御することができる。
【００１５】
従って樹脂層や硬化シートの形成過程では、支持体の表面を可及的に水平状態に維持することが厚さの均一化を図る点より好ましい。ちなみに硬化処理時に支持体の水平レベルを、形成する硬化シートの目的とする有効幅の５倍量あたり、就中２０倍量あたり、特に４０倍量あたり１mm以下に維持することで、形成されるエポキシ系樹脂シートの厚さ精度を±１５％以下、就中±１０％以下とすることも可能である。
【００１６】
上記した図例の硬化装置４では、区分した各ゾーン毎に水平度レベルセンサ４１と、支持体１を支持するガイドロール４２を設置し、その水平度レベルセンサによる検知を介しガイドロールを制御して支持体を修正してその水平レベルが維持されるようになっている。
【００１７】
上記において支持体としては、エンドレスベルトの如きベルト状物や板物やドラムなどの、エポキシ系樹脂塗工液を順次連続的に展開でき、その展開層を支持してシート状に維持できる適宜なものを用いうる。前記した水平状態の維持にはベルト状物や板状物等からなる支持体が有利に用いうる。支持体を形成する材質は、エポキシ系樹脂の硬化処理に耐えるものであればよく、従って例えばステンレスや銅やアルミニウムの如き金属、ガラス、プラスチックなどの適宜なものであってよい。
【００１８】
就中、加温手段を介した速やかな温度制御性等の点より金属からなる支持体が好ましく、特に耐久性等の点よりステンレスからなる支持体が好ましい。支持体の厚さは、強度等に応じて適宜に決定され、一般には０．１〜１０mmとされる。金属からなる場合には、強度と温度制御性等の点より０．５〜２mmの厚さが好ましい。
【００１９】
また前記の方法によれば、支持体の表面形態を前記の樹脂層を介し良好に転写反映させることができる。従って支持体の表面は、形成目的のエポキシ系樹脂シートの表面形態に応じて例えば平滑面、あるいは微細プリズム状や微細レンズ状等の凹凸面などの適宜な形態とすることができる。一般には平滑面とされ、表面粗さＲａが０．０２μm以下の支持体を用いて表面が鏡面状のエポキシ系樹脂シートを得ることも可能である。
【００２０】
本発明において支持体の上に最初に設ける樹脂層は、得られたエポキシ系樹脂シートを一体的に支持体より容易に剥離できるようにすることを目的する。従ってその樹脂層の形成には、支持体と接着しないか、接着してもその接着力が弱くて容易に剥離できるものが用いられる。
【００２１】
前記した樹脂の種類については特に限定はなく、適宜なものを用いうる。ちなみにその例としては、ウレタン系樹脂やアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂やポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール共重合体の如きポリビニルアルコール系樹脂、塩化ビニル系樹脂や塩化ビニリデン系樹脂、ポリアリレート系樹脂やスルホン系樹脂、アミド系樹脂やイミド系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂やポリエーテルイミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂やシリコーン系樹脂、フッ素系樹脂やポリオレフィン系樹脂、スチレン系樹脂やビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂やアクリロニトリル系樹脂などがあげられる。樹脂層の形成には、適宜な樹脂の２種以上のブレンド物なども用いうる。
【００２２】
樹脂層は、エポキシ系硬化シート等と密着してそれと共に支持体より剥離回収されてエポキシ系樹脂シートの片側表面層を形成することより、光学用途では透明性等の光学特性に優れるものであることが好ましい。またエポキシ系樹脂シートの表面をコートして傷付きにくくするものが好ましい。かかる易剥離性や光学特性、ハードコート性、特にステンレス系支持体に対する易剥離性などの点より樹脂層の形成に好ましく用いうるものは、ウレタン系樹脂であり就中、下記の化学式で表されるものである。
【００２３】
0004202529.tif 000002
【００２４】
樹脂層の形成は、例えば樹脂を必要に応じ有機溶媒や水等の適宜な溶媒にて溶液化して上記等の適宜な方式で支持体の所定面に塗布し必要に応じてそれを乾燥後、加熱処理や光照射等の樹脂に応じた方式にて硬化処理する方式などの適宜な方式にて皮膜化することにより行うことができる。
【００２５】
樹脂層を形成する塗工液の粘度は、適宜に決定しうるが、一般には塗工効率や均一塗布などの点より１〜１００ｃＰとされ、上記したエクストルージョンコート法による場合には特に１〜１０センチポイズに調製した樹脂液が好ましく用いうる。
【００２６】
形成する樹脂層の厚さは、適宜に決定しうるが一般には易剥離性や剥離の際にヒビ割れの生じることを防止する点などより、１〜１０μm、就中８μm以下、特に２〜５μmとすることが好ましい。なおウレタン系樹脂等の塗工層を光照射にて硬化処理する場合には、中心波長が３６５nmや２５４nmの高圧や低圧の紫外線ランプを用いることが処理効率などの点より好ましい。
【００２７】
なお樹脂層の形成に際してはその塗工液に、支持体よりの剥離性の向上を目的とした例えばエチレンオキサイドを付加した炭素数２５〜１００のエチレンポリマーやパラフィン等の直鎖飽和炭化水素などの適宜な薬剤を配合することができる。
【００２８】
図１に仮装線で例示した如くエポキシ系樹脂シートの形成に際しては、樹脂層５の上に必要に応じ別個の重畳層６を設けてその上にエポキシ系樹脂の硬化シート７を設けることができる。図例では前記した樹脂層の形成に準じて、ダイ６１を介し重畳用の塗工液を樹脂層の上に順次シート状に展開し、その展開層６２を硬化装置６３を介し皮膜化して重畳層６を形成するようになっている。
【００２９】
樹脂層５とエポキシ系樹脂の硬化シート７の間に必要に応じて設ける前記の重畳層は、例えば耐薬品性や光学的異方性、低吸水性や低透湿性、低酸素透過性等のガスバリア性などの適宜な機能付与を目的とするものであってよい。従って別個に設ける当該重畳層は、１層又は２層以上であってもよい。
【００３０】
ちなみに液晶セルにおいては、水分や酸素がセル基板を透過してセル内に侵入すると液晶の変質や気泡の形成による外観不良、透明導電膜パターンの断線などを発生させるおそれがある。従って液晶セルの場合には、水蒸気や酸素ガスの透過阻止が重要となり、それらガスの透過を阻止しうるガスバリア層を設けたセル基板が好ましく用いられる。
【００３１】
前記のガスバリア層を形成するための塗工液は、目的とするガスの透過を阻止しうる液体化が可能な適宜な材料を用いて調製することができる。一般には水蒸気や酸素ガス等の目的とするガスの透過阻止能に優れる、就中、酸素透過係数が小さい例えばポリビニルアルコールやその部分けん化物、エチレン・ビニルアルコール共重合体やポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニリデンなどのポリマー類が用いられる。特にガスバリア性や水分の拡散性ないし吸水度の均一性などの点よりビニルアルコール系ポリマーが好ましく用いうる。
【００３２】
樹脂層の上に設けるガスバリア層等の重畳層を形成するための塗工液は、例えば１種又は２種以上の形成材料を必要に応じ溶媒を併用して、ポリマー溶液の如く流動展開しうる状態とすることにより調製することができる。形成するガスバリア層等の重畳層の厚さは、適宜に決定でき特に限定はない。一般には透明性や着色防止、ガスバリア性等の機能性や薄型化、得られるエポキシ系樹脂シートのフレキシビリティーなどの点より１５μm以下、就中１３μm以下、特に１〜１０μmの厚さとすることが好ましい。
【００３３】
樹脂層又はその上の重畳層の上に展開するエポキシ系樹脂塗工液の調製には、エポキシ系樹脂シートの使用目的などに応じて熱硬化型や紫外線硬化型等の適宜なエポキシ系樹脂を用いることができ、その種類について特に限定はない。
【００３４】
ちなみに前記エポキシ系樹脂の例としては、ビスフェノールＡ型やビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型やそれらの水添型の如きビスフェノール型、フェノールノボラック型やクレゾールノボラック型の如きノボラック型、トリグリシジルイソシアヌレート型やヒダントイン型の如き含窒素環型、脂環式型や脂肪族型、ナフタレン型の如き芳香族型やグリシジルエーテル型、ビフェニル型の如き低吸水率タイプやジシクロ型、エステル型やエーテルエステル型、それらの変性型などがあげられる。
【００３５】
硬化変色を生じにくくて透明性等の光学特性などの点より好ましく用いうるエポキシ系樹脂は、ビスフェノールＡ型や脂環式型、トリグリシジルイソシアヌレート型のものなどである。またセル基板等として用いる場合における樹脂シートの剛性や強度等の物性などの点より好ましく用いうるエポキシ系樹脂は、エポキシ当量が１００〜１０００で、軟化点が１２０℃以下の硬化樹脂を形成するものである。
【００３６】
さらに塗工性やシート状への展開性等に優れるエポキシ系樹脂塗工液を得る点などよりは、塗工時の温度以下、就中、常温において液体状態を示す二液混合型のものが好ましく用いうる。その場合、粘度調製や強度、耐熱性の向上等を目的に固形状のエポキシ系樹脂を併用することもできる。従ってエポキシ系樹脂は、１種又は２種以上を用いることができる。
【００３７】
エポキシ系樹脂塗工液には必要に応じて硬化剤を配合でき、熱硬化型のエポキシ系樹脂塗工液の場合には通例、硬化剤が配合される。用いる硬化剤については、特に限定はなく、併用のエポキシ系樹脂に応じた適宜な硬化剤を１種又は２種以上用いることができる。
【００３８】
ちなみに前記硬化剤の例としては、テトラヒドロフタル酸やメチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸やメチルヘキサヒドロフタル酸の如き有機酸系化合物類、エチレンジアミンやプロピレンジアミン、ジエチレントリアミンやトリエチレンテトラミン、それらのアミンアダクトやメタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタンやジアミノジフェニルスルホンの如きアミン系化合物類があげられる。
【００３９】
またジシアンジアミドやポリアミドの如きアミド系化合物類、ジヒドラジットの如きヒドラジド系化合物類、メチルイミダゾールや２−エチル−４−メチルイミダゾール、エチルイミダゾールやイソプロピルイミダゾール、２，４−ジメチルイミダゾールやフェニルイミダゾール、ウンデシルイミダゾールやヘプタデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾールの如きイミダゾール系化合物類も前記硬化剤の例としてあげられる。
【００４０】
さらにメチルイミダゾリンや２−エチル−４−メチルイミダゾリン、エチルイミダゾリンやイソプロピルイミダゾリン、２，４−ジメチルイミダゾリンやフェニルイミダゾリン、ウンデシルイミダゾリンやヘプタデシルイミダゾリン、２−フェニル−４−メチルイミダゾリンの如きイミダゾリン系化合物類、その他、フェノール系化合物類やユリア系化合物類、ポリスルフィド系化合物類も前記硬化剤の例としてあげられる。
【００４１】
加えて酸無水物系化合物類なども前記硬化剤の例としてあげられ、低刺激性による作業環境性や得られるエポキシ系樹脂シートの耐熱性向上による高温耐久性、変色防止性などの点よりは、かかる酸無水物系硬化剤が好ましく用いうる。その例としては無水フタル酸や無水マレイン酸、無水トリメリット酸や無水ピロメリット酸、無水ナジック酸や無水グルタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸やメチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸やメチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチル無水ナジック酸やドデセニル無水コハク酸、ジクロロ無水コハク酸やベンゾフェノン無水テトラカルボン酸や無水クロレンディック酸などがあげられる。
【００４２】
就中、前記の変色防止性などの点より無水フタル酸やテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸やメチルヘキサヒドロ無水フタル酸の如く無色系ないし淡黄色系で、分子量が約１４０〜約２００の酸無水物系硬化剤が好ましく用いうる。
【００４３】
硬化剤の使用量は、その種類やエポキシ系樹脂のエポキシ当量などに応じて適宜に決定でき、通例のエポキシ系樹脂硬化の場合に準じうる。一般には、得られるエポキシ系樹脂シートの色相や耐湿性の低下防止などの点よりエポキシ基１当量に対し、０．５〜１．５当量、就中０．６〜１．４当量、特に０．７〜１．２当量の割合で硬化剤を使用することが好ましい。
【００４４】
エポキシ系樹脂塗工液の調製に際しては、必要に応じて硬化促進剤やレベリング剤などの適宜な添加剤を配合することもできる。硬化促進剤は、硬化速度の促進による必要硬化処理時間の短縮を目的に配合され、その配合にて支持体の必要長を不配合の場合の数分の１程度に短縮することもできる。従って量産性の向上や連続製造設備の小型化などの点より硬化促進剤を配合することが好ましい。
【００４５】
用いる硬化促進剤については特に限定はなく、エポキシ系樹脂や硬化剤の種類などに応じて例えば、第三級アミン類やイミダゾール類、第四級アンモニウム塩類や有機金属塩類、リン化合物類や尿素系化合物類の如き適宜なものを１種又は２種以上用いることができる。硬化促進剤の使用量は、促進効果などに応じて適宜に決定しうるが、一般には変色防止性などの点よりエポキシ系樹脂１００重量部あたり、０．０５〜７重量部、就中０．１〜５重量部、特に０．２〜３重量部が好ましい。
【００４６】
一方、レベリング剤は、エポキシ系樹脂塗工液の展開層を空気との接触下に硬化処理する場合に、硬化剤等の飛散による表面張力のバラツキなどで梨地状の表面となることを防止して平滑な表面を形成することなどを目的に配合するものであり、例えばシリコーン系やアクリル系、フッ素系等の各種界面活性剤などの表面張力を低下させうる適宜なものを１種又は２種以上用いうる。
【００４７】
また例えばフェノール系やアミン系、有機硫黄系やホスフィン系等の老化防止剤、グリコール類やシリコーン類、アルコール類等の変性剤、発泡防止剤や水酸基含有化合物、染料や顔料、変色防止剤や紫外線吸収剤などの添加剤も配合することができる。前記の発泡防止剤は、得られるエポキシ系樹脂シート中に光学特性の低下原因となる気泡が混入することの防止などを目的に添加され、グリセリン等の多価アルコールなどが好ましく用いうる。
【００４８】
さらに紫外線照射により硬化処理するエポキシ系樹脂塗工液の場合には、光重合開始剤や増感剤などを配合することもできる。その光重合開始剤や増感剤としては、例えばアリルジアゾニウム塩やベンゾフェノン、ベンゾインなどの、エポキシ系樹脂の紫外線硬化処理で公知の適宜なものを用いることができる。
【００４９】
エポキシ系樹脂塗工液は、配合成分を必要に応じ溶媒を併用して流動展開しうる状態とすることにより調製することができる。塗工液の粘度は、適宜に決定しうるが、一般には厚さムラの抑制等による厚さ精度の向上や塗工効率などの点より１ポイズ以上、就中５〜５００ポイズ、特に１０〜３００ポイズの粘度で支持体上に展開することが好ましい。
【００５０】
特にエクストルージョンコート法では厚さ精度の向上等の点より、ダイの温度を１０〜４０℃、就中１５〜３５℃、特に２０〜３０℃の範囲に制御し、その温度変化を±０．５℃以下、就中±０．３℃以下、特に±０．１℃以下に制御しつつ塗工液の粘度を１０〜３００ポイズに調節して支持体上に展開することが好ましい。
【００５１】
またエポキシ系樹脂塗工液の展開は、支持体のバランスを制御してその傾斜や変形等による流動で塗工層に厚さムラを生じることの抑制、ひいてはシートの厚さ精度の向上などの点より支持体の幅に対して９０％以上、就中９５％以上の幅、特に可及的に同幅の展開層とすることが好ましい。従って支持体は、可及的に水平な状態で前記展開層を支持しうることが層厚を均一化する点より好ましい。
【００５２】
樹脂層等の上に形成したエポキシ系樹脂塗工液の展開層の硬化処理は、加熱硬化方式や紫外線硬化方式などのエポキシ系樹脂に応じた適宜な方式にて行うことができ、２種以上の硬化処理方式を併用することもできる。得られる硬化シートの耐熱性の点よりは通例、加熱による硬化方式が好ましい。
【００５３】
本発明において前記の硬化処理は、支持体の幅方向の温度変化を０．５℃／cm以下に制御した下で行う。これはエポキシ系樹脂塗工液の展開層が硬化する過程における粘度変化を制御して、得られる硬化シートの厚さ精度の向上や光学歪の低減を図ることを目的とする。
【００５４】
すなわち前記において展開層の粘度は、例えば加熱硬化方式では当初、加熱による温度上昇と共に低下し所定温度に達して硬化剤による硬化が始まると粘度増加に転じて硬化の進行と共に増粘して硬化シートとなる如く、硬化の進行過程で変化する。その場合に展開層の幅方向において粘度が相違すると硬化段階にズレが生じて表面張力差や内部応力の発生等による波形化や屈折率異常などで厚さが変化したり透過光にスジやムラ等が現れる光学歪が内在する原因となる。
【００５５】
従って支持体の幅方向の温度を均一化して展開層の幅方向における粘度の相違を抑制し、展開層が幅方向に可及的に均等な状態で硬化過程を終了するようにして厚さ変化や光学歪の内在が生じないようにすることを目的とする。かかる目的の点より、支持体の幅方向における温度のバラツキは可及的に少ないことが好ましく、就中±０．３℃以下、特に±０．１℃以下であることが好ましい。
【００５６】
前記した支持体の幅方向における温度制御は、適宜な方式にて行いうるが、厚さ精度の向上や光学歪の低減等の点よりは展開層の硬化の進行段階に応じて温度制御できることが好ましく、かかる点より上記した図例の如く硬化装置を１〜１０ゾーン、就中２〜６ゾーンに区分してそのゾーン毎に温度制御する方式が好ましい。
【００５７】
また前記の温度制御は、加熱の時間や温度、昇温の速度等の加熱条件を調節する方式などにて行いうるが、速やかな温度制御の点よりは支持体の上下又はその一方に加温手段を配置し、その加温手段を介して例えば支持体の上下面の加熱、あるいは上面又は下面のみの加熱を組合せる方式などの適宜な方式にて温度制御する方式が好ましい。その加温手段には、例えば熱風や赤外線ヒータなどの適宜な手段を１種又は２種以上用いることができる。
【００５８】
なお展開層の硬化処理を加熱方式で行う場合には、その加熱手段を前記の加温手段に兼ねさせることもできる。加熱硬化処理方式における加熱条件としては、３０〜２５０℃、就中４５〜２２０℃、特に６０〜１７０℃の加熱温度で、５〜６０分間、就中１０〜４０分間、特に１５〜３０分間の加熱時間などが一般的であるが、これに限定されない。
【００５９】
光学特性の向上等の点よりは通例、例えば１５〜３０分間等の比較的短時間の加熱時間が好ましい。また熱風により加熱する場合には、０．１〜５ｍ／秒、就中３ｍ／秒以下、特に０．２〜１ｍ／秒の風速とすることが厚さ精度の向上等の点より好ましい。さらに厚さ精度の向上の点よりは、展開層の幅方向における温度差を可及的に抑制することが好ましい。
【００６０】
上記した硬化処理により通例、樹脂層等と硬化シートが良好に密着して一体化し、それらを一体物として取扱いうるエポキシ系樹脂シートが形成される。なお紫外線等による硬化処理方式は、上記した樹脂層の場合に準じうる。また硬化処理に際しては加熱硬化方式と紫外線等による硬化方式を併用することもできる。
【００６１】
形成する硬化シートの厚さは、エポキシ系樹脂シートの使用目的などに応じ１００μm以上の厚さで適宜に決定することができる。一般には、曲げ強度等の剛直性ないし柔軟性や表面平滑性、低位相差性や薄型軽量性などの点より１mm以下、就中９００μm以下、特に８００μm以下とされる。なお光学用途などでは２００〜５００μmの厚さが有利な場合も多い。
【００６２】
また液晶セル基板等の光学用途の場合、厚さ精度は±２０％以下、就中±１５％以下、特に±１０％以下であることが好ましく、特に幅方向における厚さ精度が±１５％以下、特に±１０％以内にあるものが好ましい。幅方向の厚さ精度は、形成したエポキシ系樹脂シートの両端部を切断除去する方式にても高めうるが、その場合には切断ロスが発生して歩留まりを低下させる。従って本発明にては可及的に広幅で目的とする厚さ精度のエポキシ系樹脂シートを形成することが好ましい。
【００６３】
なお上記した連続製造法において、形成したエポキシ系樹脂シートの支持体よりの回収は、割れの防止などの点よりガラス転移温度近傍等の高温雰囲気下又は急冷による収縮応力の作用下に剥離することが好ましい。特に割れや亀裂と塑性変形や残留歪みの発生を防止しうるバランスのとれた柔軟性を達成する点より、エポキシ系樹脂硬化層のガラス転移温度の２０℃低い温度以上、就中±１０℃の温度範囲にて剥離することが好ましい。従って得られた樹脂シートの回収は、ガラス転移温度近傍等の高温雰囲気にても塑性変形しない硬化状態となった後に行うことが前記の割れや歪の発生防止などの点より好ましい。
【００６４】
前記の支持体よりのエポキシ系樹脂シートの回収に際しては、必要に応じ剥離手段を用いることができる。ちなみに上記した樹脂層又は必要に応じての重畳層の形成後その端部等に耐熱テープを接着し、その上にエポキシ系樹脂の硬化シートを形成する方式などにより、その耐熱テープを把持持ち上げてエポキシ系樹脂シートを支持体より効率よく剥離回収することができる。
【００６５】
形成されたエポキシ系樹脂シートの連続体は、必要に応じてレーザー光線や超音波カッター、ダイシングやウォータージェットなどの適宜な切断手段を介し適宜な寸法に切断して回収することもできる。
【００６６】
本発明によるエポキシ系樹脂シートは、例えば液晶セル等の各種セルにおけるセル基板などの従来に準じた各種の目的に好ましく用いうる。特に１００μm以上の厚さを有して耐熱性や光学特性、厚さ精度や表面平滑性等に優れて高温処理に耐え曲げ強度等に優れて位相差が小さく軽量性に優れることなどが要求される液晶セル基板の如く、光学用途のセル基板に好ましく用いることができる。
【００６７】
液晶セル基板としては、液晶セルの製造過程の高温雰囲気等に耐えるものとする点などよりガラス転移温度が１２０℃以上、就中１３０℃以上、特に１４０℃以上のエポキシ系樹脂シートであることが好ましい。なお前記のガラス転移温度は、ＴＭＡ（熱機械分析法）による引張モードにて昇温速度２℃／分の条件により測定することができる。
【００６８】
本発明によるエポキシ系樹脂シートを用いた液晶セルの形成に際しては、従来に準じ必要に応じて透明導電膜や配向膜、偏光板や位相差板等の種々の機能層を重畳することもできる。また形成する液晶セルは、例えばＴＮ型やＳＴＮ型、ＴＦＴ型や強誘電性液晶型など任意である。
【００６９】
【実施例】
例１
0004202529.tif 000003
【００７０】
上式で表される３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート４００部（重量部、以下同じ）、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸５００部、下式で表されるテトラ−ｎ−ブチルホスホニウムｏ，ｏ−ジエチルホスホロジチオエート１５部、グリセリン９部及びシリコーン系界面活性剤（レベリング剤、楠本化成社製、ディスパロンＬＳ−００９）１部を撹拌混合して２５℃で２００ポイズのエポキシ樹脂塗工液を調製した。
【００７１】
0004202529.tif 000004
【００７２】
次に図１に例示の流延法にて、ウレタン系紫外線硬化型樹脂（新中村化学社製、ＮＫオリゴＵＮ−０１）の１７重量％トルエン溶液をダイより吐出させて０．２ｍ／分の一定速度で回転走行する幅５００mmのステンレス製エンドレスベルト上に流延塗布し、トルエンを揮発乾燥後、低圧水銀灯を介し紫外線（２５４nm）を２０００mJ／cm２照射して硬化処理し、幅５００mm、厚さ２μmのウレタン系樹脂層を形成した。
【００７３】
ついで前記の操作を継続しつつ、硬化したウレタン系樹脂層の上に支持体の水平レベルを２００μm／ｍに維持しつつ上記で得たエポキシ系樹脂塗工液を２５℃のダイより連続に吐出させて幅４９０mmのシート状に展開し、その展開層を支持体上下よりの熱風加熱式の硬化装置の各ゾーンを順次介して、かつ支持体の幅方向の温度変化を０．４℃／cm以下に制御しつつ７０℃で１０分間、８０℃で５分間、９０℃で５分間、１２０℃で５分間の加熱処理で硬化させた後、１１０℃に温調した従動ドラム上で硬化シートをそれに密着したウレタン系樹脂層と共にエンドレスベルトより剥離回収し、幅４９０mmのエポキシ系樹脂シートを連続的に得、それを４９０mm角に切断した。
【００７４】
前記で得た製造開始２４０時間後のエポキシ系樹脂シートについてその内側４８０mm角の範囲内における６０点の厚さをレーザ厚さ計にて測定し、その平均厚さと標準偏差を調べたところ、平均厚さ４００μm、標準偏差１２μmであった。またキセノンランプによる光をエポキシ系樹脂シートに入射させてその透過光による像を投影させたところ、支持体の歪の転写によるスジ等の光学歪は認められなかった。
【００７５】
例２
ウレタン系樹脂層の形成幅を４００mmとし、エポキシ系樹脂塗工液の展開幅を３５０mmとしたほかは例１に準じて幅３５０mm、長さ４９０mmのエポキシ系樹脂シートを得た。その製造開始３６０時間後のエポキシ系樹脂シートについてその内側３４０mm×４８０mmの範囲内における平均厚さと標準偏差及び投影像を例１に準じて調べたところ、平均厚さ４００μm、標準偏差３２μmであり、さらに製造過程の加熱硬化段階ではエンドレスベルトの端部に反りによる数mmの変形が認められたが、投影像には支持体の歪の転写によるスジ等の光学歪は認められなかった。
【００７６】
例３
熱風による加熱を上側のみとして下面側よりの加熱を停止したほかは例１に準じて４９０mm角のエポキシ系樹脂シートを得た。その場合、硬化装置内での支持体の幅方向における温度変化は１．５℃／cmであった。次に製造開始４４０時間後のエポキシ系樹脂シートについてその内側４８０mm角の範囲内における平均厚さと標準偏差及び投影像を例１に準じて調べたところ、平均厚さ３９５μm、標準偏差２６μmであり、投影像に支持体の歪の転写による流れ方向の連続スジからなる光学歪が認められた。
【図面の簡単な説明】
【図１】製造工程例の説明図
【符号の説明】
１：支持体（エンドレスベルト）
２，３：駆動・従動ドラム
４：硬化装置
４１：水平度レベルセンサ
４２：ガイドロール
４３，４４：加温手段
５：樹脂層
６：重畳層
７：エポキシ系樹脂の硬化シート
５１，６１，７１：ダイ
５２，６２，７２：展開層
【図１】
0004202529.tif 000005