(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、前記光源からの出射光を光記録媒体上に集光させるための対物レンズと、前記光源と前記対物レンズとの間に設けられ前記出射光の波面を変化させる位相補正素子と、波面を変化させるための電圧を前記位相補正素子へ出力する制御電圧発生手段とを備えた光ヘッド装置であって、
前記位相補正素子はその表面に透明電極が形成された一対の透明基板と、前記透明基板間に挟持された液晶層とを備え、少なくとも一方の透明基板表面には、コマ収差を補正するための複数個のコマ収差補正電極と、前記対物レンズと前記位相補正素子の光軸のずれであるレンズシフトにより生じる収差の量に応じて補正用の位相差を発生させるためのレンズシフト補正電極とが形成され、
前記コマ収差補正電極は光軸を挟み光ディスクの径方向に対称に、島状の電極３１、３２および周縁部の円弧状の電極３４、３５とからなり、電極３１と電極３５とが同じ位相分布を有し、電極３２と電極３４とが同じ位相分布を有するように形成され、
前記レンズシフト補正電極は、電極３１と電極３４との間および電極３２と電極３５との間に円弧状の電極として光軸を挟み光ディスクの径方向に対称に形成されており、
残余の領域は電極３３が形成されており、
光軸ずれがない場合には、コマ収差を補正するために電極３１と電極３５、電極３２と電極３４、電極３３、３６、３７には夫々同じ位相補正用の同じ電圧が印加され、
光軸ずれがある場合には、コマ収差および非点収差を補正するために、電極３２と電極３４、電極３１と電極３５には夫々同じ位相補正用の同じ電圧が印加されるとともに、レンズシフト補正電極３６と電極３７は、電極３３と異なる電圧が印加されることを特徴とする光ヘッド装置。
【請求項２】
前記レンズシフト補正電極の前記位相補正素子表面における形成位置は、対物レンズ瞳直径の０.６倍の直径を有し中心と光軸が一致する円の外にあって、かつ前記光軸ずれが発生していない場合において、前記レンズシフト補正電極の形成位置におけるコマ収差分布の位相差が光軸位置におけるコマ収差分布の位相差と実質的に等しい位置であって、さらに、前記光記録媒体の径方向に配された少なくとも２つの位置である請求項１記載の光ヘッド装置。
【請求項３】
前記制御電圧発生手段は、前記レンズシフト補正電極を透過する波面に対して、前記光軸ずれ量と前記コマ収差補正電極が発生する位相差の積に比例する位相差を与える手段を有する請求項１または２記載の光ヘッド装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ディスクや光磁気ディスクなどの光記録媒体の情報の記録・再生を行う光ヘッド装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光ディスクであるＤＶＤは、同じく光ディスクであるＣＤに比べデジタル情報が高密度で記録されており、ＤＶＤを再生するための光ヘッド装置は、光源の波長をＣＤの７８０ｎｍよりも短い６６０ｎｍとしたり、対物レンズの開口数（ＮＡ）をＣＤの０．４５よりも大きい０．６〜０.６５にして光ディスク面上に集光するスポット径を小さくしている。
【０００３】
しかし、光源の短波長化や対物レンズの高ＮＡ化が原因で、光ディスク面が光軸に対して直角より傾くディスクチルトの許容量が小さくなる。
【０００４】
ディスクチルトの許容量が小さくなる理由は、ディスクチルトが生じた場合コマ収差が発生するために、光ヘッド装置の集光特性が劣化して信号の読み取りが困難になることによる。高密度記録において、ディスクチルトに対する光ヘッド装置の許容量を拡げるためにいくつかの方式が提案されている。
【０００５】
一つの方式として、２軸方向に移動する対物レンズのアクチュエータに、検出されたチルト角に応じて対物レンズを傾けるように傾斜用の軸を追加する方式がある。しかし、この追加方式ではアクチュエータの構造が複雑になるなどの問題がある。
【０００６】
また別の方式として、対物レンズと光源との間に備えた位相補正素子によりコマ収差を補正する方式がある。この補正方式では、アクチュエータに大幅な改造を施すことなく光ヘッド装置に素子を組み入れるだけでディスクチルトの許容量を拡げることができる。
【０００７】
例えば、位相補正素子を用いてディスクチルトを補正する上記の補正方式に特開平１０−２０２６３がある。これは、位相補正素子を構成している液晶などの複屈折性材料を挟持している一対の基板のそれぞれに、電極が分割されて形成された分割電極に電圧を印加して、複屈折性材料の実質的な屈折率を光ディスクのチルト角に応じて変化させ、この屈折率の変化により発生した透過光の位相（波面）変化により、光ディスクのチルトで発生したコマ収差を補正する方式である。したがって、位相補正素子が発生する位相差分布と、補正する波面収差分布が概ね一致する必要がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、位相補正素子を光ヘッド装置に組み込む場合に生ずる位置ずれや、トラッキングサーボ時の対物レンズ移動のように、位相補正素子の光軸と対物レンズの光軸との位置ずれであるレンズシフトが生じた場合、位相補正素子の位相差分布が補正すべき波面収差分布からずれてしまうために、波面収差補正機能が低下し信号特性が劣化する。
【０００９】
特に、コマ収差補正においてレンズシフトが生じた場合には、非点収差が発生してしまい、信号品質が大きく劣化する。近年、情報記録の高密度化が進行中であり、このレンズシフトによる非点収差の発生が問題となっており、これを解決する手段が求められている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであり、光源と、前記光源からの出射光を光記録媒体上に集光させるための対物レンズと、前記光源と前記対物レンズとの間に設けられ前記出射光の波面を変化させる位相補正素子と、波面を変化させるための電圧を前記位相補正素子へ出力する制御電圧発生手段とを備えた光ヘッド装置であって、前記位相補正素子はその表面に透明電極が形成された一対の透明基板と、前記透明基板間に挟持された液晶層とを備え、少なくとも一方の透明基板表面には、コマ収差を補正するための複数個のコマ収差補正電極と、前記対物レンズと前記位相補正素子の光軸のずれであるレンズシフトにより生じる収差の量に応じて補正用の位相差を発生させるためのレンズシフト補正電極とが形成され、前記コマ収差補正電極は光軸を挟み光ディスクの径方向に対称に、島状の電極３１、３２および周縁部の円弧状の電極３４、３５とからなり、電極３１と電極３５とが同じ位相分布を有し、電極３２と電極３４とが同じ位相分布を有するように形成され、前記レンズシフト補正電極は、電極３１と電極３４との間および電極３２と電極３５との間に円弧状の電極として光軸を挟み光ディスクの径方向に対称に形成されており、残余の領域は電極３３が形成されており、光軸ずれがない場合には、コマ収差を補正するために電極３１と電極３５、電極３２と電極３４、電極３３、３６、３７には夫々同じ位相補正用の同じ電圧が印加され、光軸ずれがある場合には、コマ収差および非点収差を補正するために、電極３２と電極３４、電極３１と電極３５には夫々同じ位相補正用の同じ電圧が印加されるとともに、レンズシフト補正電極３６と電極３７は、電極３３と異なる電圧が印加されることを特徴とする光ヘッド装置を提供する。
【００１１】
また、前記レンズシフト補正電極の前記位相補正素子表面における形成位置は、対物レンズ瞳直径の０.６倍の直径を有し中心と光軸が一致する円の外にあって、かつ前記光軸ずれが発生していない場合において、前記レンズシフト補正電極の形成位置におけるコマ収差分布の位相差が光軸位置におけるコマ収差分布の位相差と実質的に等しい位置であって、さらに、前記光記録媒体の径方向に配された少なくとも２つの位置である上記の光ヘッド装置を提供する。
【００１２】
さらに、前記制御電圧発生手段は、前記レンズシフト補正電極を透過する波面に対して、前記光軸ずれ量と前記コマ収差補正電極が発生する位相差の積に比例する位相差を与える手段を有する上記の光ヘッド装置を提供する。
【００１３】
【発明の実施の形態】
図２に本発明における光ヘッド装置の原理構成の一例を示す。図２に示した光ヘッド装置はＣＤまたはＤＶＤなどの光ディスク８に情報を記録、再生するためのものであり、光源である半導体レーザ１から出射した光は例えばホログラムタイプの偏光ビームスプリッタ２を透過した後、コリメートレンズ３により平行光となり、位相補正素子４を透過後、４分の１波長板５を透過し、立ち上げミラー１１で９０°方向に反射され、アクチュエータ７に設置された対物レンズ６により光ディスク８上に集光される。
【００１４】
集光された光は光ディスク８により反射され対物レンズ６、立ち上げミラー１１、４分の１波長板５、位相補正素子４、コリメートレンズ３を順次先程とは逆に透過した後、偏光ビームスプリッタ２により回折され光検出器９に入射する。前述の半導体レーザ１からの出射光が光ディスク８により反射される際、光ディスクの面上に記録された情報により反射光は変調され、光検出器９により記録情報を読み取ることができる。
【００１５】
偏光ビームスプリッタ２は例えば偏光性のホログラムを備えており、異方性方向（屈折率に差がある方向）に偏光成分を有する光を強く回折して光検出器９に導く。光検出器９より得られる光ディスクの例えば再生信号の強度が最適となるように、位相補正素子４に向けて制御電圧発生手段である位相補正素子制御回路１０により電圧が出力される。位相補正素子制御回路１０より出力される電圧は、ディスクチルトに応じた電圧であり、位相補正素子４の電極に印加する実質的に変化する電圧となる。
【００１６】
次に本発明において使用する位相補正素子の構成を図３を用いて説明する。透明基板２１ａ、２１ｂが、例えばエポキシ系樹脂を主成分とするシール材２２により接着され液晶セルを形成している。透明基板２１ａ、２１ｂには、ガラス、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリカーボネートなどが使用できるが、耐久性などの点からガラスの基板が好ましい。したがって、以下では基板の材料としてガラスを使用する場合について説明する。
【００１７】
シール材２２には例えばガラス製のスペーサと、例えば樹脂の表面に金などを被膜した導電性スペーサが含有されている。ガラス基板２１ａの内側表面には、内側表面から電極２４ａ、シリカなどを主成分とする絶縁膜２５ａ、配向膜２６ａがこの順に、またガラス基板２１ｂの内側表面には、内側表面から電極２４ｂ、シリカなどを主成分とする絶縁膜２５ｂ、配向膜２６ｂがこの順に被膜されている。液晶セルの外側表面には反射防止膜が被膜されていてもよい。
【００１８】
電極２４ａは電極引出部２７でフレキシブル基板などによって位相補正素子制御回路と接続できるようパターン配線されている。また電極２４ｂは上述の金などを被膜した導電性スペーサによりガラス基板２１ａ上に形成された電極２４ａと電気的に接続しており、したがって、電極２４ｂは電極引出部２７で接続線によって位相補正素子制御回路と接続できる。図３には、電極２４ｂと電極２４ａとがシール材２２と接している様子が示されていないが、紙面と平行なシール材とは接しており両電極は導電性スペーサを通じて電気的に接続されている。液晶セル内部には液晶が充填され液晶層２３とされており、図３に示した液晶分子２８は、一方向に配向されたホモジニアス配向の状態にある。使用される液晶はディスプレイなどで用いられているネマティック液晶が好ましく、ツイストしていてもよい。
【００１９】
配向膜２６ａ、２６ｂの材料としては、液晶分子２８のプレチルト角が２〜１０゜となれば好ましく、ポリイミド膜を図２の紙面に平行で左右方向にラビングしたものや、シリカ膜を斜め蒸着したものなどがよい。電極２４ａ、２４ｂの材質は透過率が高い方が望ましく、ＩＴＯ膜などの透明導電膜を使用すればよい。
【００２０】
以上は位相補正素子を用いて波面を変化させる機能に必要な構成を述べたが、波長板や偏光性のホログラムを位相補正素子４に積層することにより、波長板５や偏光ビームスプリッタ２の機能を位相補正素子４が併せ持つようにできる。この場合、光ヘッド装置を構成する光学部品の点数が減ることで組立、調整が簡易となり、生産性が向上して好ましい。
【００２１】
また位相補正素子４に、回折格子や光源の波長により光束径を変化させるためのダイクロイック開口制限層などを積層し、またガラス基板２１ａ、２１ｂの外側表面上に直接形成することもでき、この場合も個々の部品を新たに追加することに比べて生産性が向上して好ましい。波長板を積層する場合には、光ディスク側のガラス基板に直接貼り合せるか、または貼り合わせたガラス基板をさらに積層すればよい。
【００２２】
次に本発明における位相補正素子を用いて波面収差を補正する方法について述べる。図４はディスクチルト角が１°において発生するコマ収差分布を示すものであり、光源波長が６６０ｎｍ、対物レンズＮＡが０.６５、光ディスク厚さが０.６ｍｍである。コマ収差は波長λを単位として大きさごとに表してある。
【００２３】
図１は本発明における位相補正素子の電極パターンの一例を示す模式図であり、光ディスクの径方向であるラディアル方向（図中Ｘ軸の方向）のディスクチルトにより発生したコマ収差を補正するものである。分割されたコマ収差補正電極３１〜３５およびレンズシフト補正電極３６、３７は、図３に例示した位相補正素子内部の電極２４ａまたは２４ｂを、フォトリソグラフィー技術を用いてパターニングしたものである。
【００２４】
レンズシフトがない場合、すなわち図１の電極中心と対物レンズ瞳（図１破線）の中心が一致している場合には、コマ収差補正電極３１〜３５により生じる位相差分布と図４に示したコマ収差分布が概ね一致するために、ディスクチルトにより発生するコマ収差を精度よく補正できる。具体的には、図４のコマ収差分布と等しい大きさで反対の符号を持つ位相差分布が生じるように、コマ収差補正電極３１〜３５の形状を決め、適切な電圧を各電極に印加すればよい。
【００２５】
図５は位相補正素子が発生する対物レンズ瞳内の位相差分布を模式的に示したした図であり、斜線部はコマ収差補正電極３３を透過する光と同じ位相を発生させる電極、白抜き部はコマ収差補正電極３３を透過する光の位相より進んだ位相を発生させる電極、黒塗り部はコマ収差補正電極３３を透過する光の位相より遅れた位相を発生させる電極を示す。
【００２６】
レンズシフトがない場合（図５の（ａ））では、レンズシフト補正電極３６、３７はコマ収差補正電極３３と同じ位相差になればよいので、同じ電圧を印加すればよい。コマ補正電極３１、３２、３４、３５には、ディスクチルトにより発生したコマ収差量に応じて位相差を変化できるように、コマ収差補正電極３３とは異なる電圧を印加する。図４に示したコマ収差分布から、コマ収差補正電極３１と３５、およびコマ収差補正電極３２と３４の収差量は概ね等しいため、各々の電極の組には同じ電圧を印加してもよい。
【００２７】
ラディアル方向にレンズシフトが生じた場合、レンズシフトの向きと大きさ、およびディスクチルト量に応じてレンズシフト補正電極３６、３７にコマ収差補正電極３３とは異なる電圧を印加する。図５の（ｂ）はＸ軸の正方向にレンズシフトが生じた場合であり、レンズシフト補正電極３６、３７にコマ収差補正電極３１、３５と同程度の電圧を印加して、コマ収差補正電極３３と異なる位相差を発生させている様子を示している。
【００２８】
この場合、レンズシフト補正電極３６、３７に対して適切な電圧を印加することにより、電極３１〜３７により発生する位相分布は、レンズシフトが生じた場合においても、図４に示したコマ収差分布と概ね同等にできる。
【００２９】
すなわち、本発明における位相補正素子を用いれば、レンズシフトが生じた場合においても、レンズシフト補正電極の発生する位相差によって、コマ収差補正性能の改善、および非点収差発生の抑制が期待できる。同様に、Ｘ軸の負方向にレンズシフトが生じた場合（図５の（ｃ））においても、レンズシフト補正電極３６、３７にコマ収差補正電極３２、３４と同程度の電圧を印加することで、レンズシフトに応じた位相差を発生させればよい。
【００３０】
レンズシフト補正電極３６、３７の形成位置は、コマ収差分布がレンズシフトにより非点収差となることを抑制するために、コマ収差の方向であるラディアル方向に沿って配置することが最も効果的に非点収差の発生が抑えられるために好ましい。さらに、図５を用いた上記の説明で述べたように、レンズシフトがない場合では、レンズシフト電極は光軸を通るコマ収差補正電極３３と同じ電圧を印加するため、コマ収差補正電極３３と等位相面を形成する。
【００３１】
したがって、レンズシフト補正電極３６、３７の形成位置は、図４に示したコマ収差分布において、光軸位置の位相差と実質的に等しい位相差を有する領域に形成することが好ましい。例えば、図１に例示した電極においては、コマ収差補正電極３２と３５の間、またはコマ収差補正電極３１と３４の間の領域が相当する。すなわち、２つのレンズシフト補正電極は、径方向にありかつ光軸に関して対称の位置にある。また、図４から明らかなように、この領域の位相差は補正するコマ収差分布の最大位相差（位相の最も進んだ部分と、位相の最も遅れた部分との位相差）の３０％程度以内であれば、実質的に等しいとしてよい。
【００３２】
またこの領域の位置、すなわちレンズシフト補正電極３６、３７の位置は、対物レンズ瞳（図１破線）直径の０.６倍の直径を有する円の外にあることが好ましい。０.６倍としたのはレンズシフトが発生していない場合においても残留収差の発生を抑制できることによる。
【００３３】
次に、レンズシフト補正電極３６、３７の印加電圧の例を詳細に説明する。コマ収差補正電極３３には基準電圧として電圧Ｖｃを印加する。一方、コマ収差補正電極３１と３５、およびコマ収差補正電極３２と３４には、Ｖｃ＋ΔＶθ、およびＶｃ−ΔＶθをそれぞれ印加する。ここで、ΔＶθはディスクチルト角に応じて変化するコマ収差補正電圧であり、ディスクチルトにより発生したコマ収差の大きさに概ね比例した電圧である。ここで、ΔＶθとディスクチルトとの間に比例関係を得るためには、電圧制御範囲が液晶の位相差電圧特性における線形領域にあればよく、例えば、基準電圧Ｖｃを前記線形領域の中心電圧になるよう設定すればよい。
【００３４】
一方、レンズシフト補正電極３６、３７には例えばＶｃ＋ΔＶＳを印加する。ここで、ΔＶＳはレンズシフト補正電圧であり、レンズシフト量εとコマ収差補正電圧ΔＶθに概ね比例する。したがって、比例係数をβとすれば、（１）式が成立する。
【００３５】
【数１】
0004082072.tif 000002
【００３６】
レンズシフトがない場合（ε＝０）にはΔＶＳ＝０となり、レンズシフト補正電極３６、３７にはコマ収差補正電極３３と同じ電圧を印加すればよい。一方、レンズシフトが発生した場合には、コマ収差補正電圧に連動する形で、レンズシフト補正電圧を変化する必要がある。比例係数βは光ヘッド装置における対物レンズのＮＡなどの光学条件や、コマ収差補正電極形状などにより決まる値である。このようにレンズシフト電極をコマ収差補正電圧の１次式で制御できれば、実使用上、レンズシフト電極制御回路が単純化されるので好ましい。
【００３７】
次に一例として、位相補正素子を光ヘッド装置に組み込む場合に発生する、組立誤差に起因したレンズシフトを補正する場合について述べる。この場合、組立後に画像計測などの方法を用いてレンズシフト量εを得て、これを例えば駆動回路上の可変抵抗値を増減するなどの手段により位相補正素子制御回路に値β、εを反映させる。これにより、コマ収差補正の発生に追従して、自動的にレンズシフトの影響を正しく補正しながらディスクチルト補正を行うことができる。
【００３８】
同様に、トラッキングサーボによるレンズシフトεの影響を補正する例については、レンズシフトに対応するトラッキングサーボ信号を（１）式に対してその都度、動的に帰還させΔＶＳを変化させればよい。
【００３９】
図１に示した電極パターンの電極数、電極形状、印加電圧数などは、コマ収差の補正性能、位相補正素子制御回路の製作コストなどの条件に対して最適になるよう選択すればよい。例えば、コマ収差補正性能を高めるためには、コマ収差補正電極３１、３２を相似な形を有する複数の電極が同心円的に配列された構成にしてもよい。しかし、電極数を増やすことは、信号線が増えたり駆動回路が複雑になるなどの課題が生じる場合もある。
【００４０】
また、上述の説明では、レンズシフト補正電極３６、３７に同じ電圧を印加するとしたが、最適にレンズシフト補正を行うために、各々の電極に異なる電圧を印加してもよい。
【００４１】
図１に示した例では、コマ収差補正電極と同一基板面上にレンズシフト補正電極を形成したが、例えばコマ収差補正電極と対向する基板表面に形成された、球面収差補正用電極などとの同一基板面上にレンズシフト補正電極を形成してもよい。
【００４２】
以上のように、本発明における位相補正素子では、コマ収差補正電極３１〜３５にレンズシフト補正電圧３６、３７を付加しこれを適切に制御することにより、レンズシフトが生じた場合においても、ディスクチルトによるコマ収差を補正することができるために、レンズシフト許容量やディスクチルト許容量を拡大することができる。
【００４３】
【実施例】
本例の光ヘッド装置は、ディスクチルトにより発生するコマ収差および光ディスクの厚みムラにより発生する球面収差を補正する位相補正素子を備えており、コマ収差補正電極と同一基板面上に形成されたレンズシフト補正電極により、レンズシフトが生じた場合においても広いディスクチルトのマージンを確保できる。
【００４４】
光ヘッド装置の光源波長は６６０ｎｍ、対物レンズのＮＡは０.６５、瞳径は３.０ｍｍである。図３は本例で使用した位相補正素子の断面図であり、透明電極２４ａには図１に示すコマ収差補正電極３１〜３５と、レンズシフト補正電極３６、３７が透明基板の同一面上に形成されている。なお、レンズシフト補正電極３６、３７の形成位置は、光軸を中心とする直径が１．８ｍｍの円の外側となる位置とした。
【００４５】
一方、透明電極２４ｂには、図６に示す球面収差補正電極４１〜４５が備えられており、各電極の中心（光軸）が一致するように位相補正素子は構成されており、図２に示した光ヘッド装置の位相補正素子４として組み込まれている。また、図１、図５および図６に示したＸ軸方向は図２におけるラディアル方向、すなわち光ディスクの光記録媒体の中心を通って対物レンズが移動する半径方向に一致している。
【００４６】
位相補正素子４には位相補正素子制御回路１０が接続されており、コマ収差補正電極３３に電圧Ｖｃ＝１.８Ｖｒｍｓ、コマ収差補正電極３１、３５に電圧Ｖｃ＋ΔＶθ、コマ収差補正電極３２、３４に電圧Ｖｃ−ΔＶθ、レンズシフト補正電極３６、３７に電圧Ｖｃ＋ΔＶＳが印加され、また球面収差補正電極４１〜４５には球面収差補正用電圧が印加される。ΔＶθはコマ収差補正電圧であり、補正するコマ収差量に応じて−１.０Ｖｒｍｓ〜＋１.０Ｖｒｍｓまで印加できる。同様に、ΔＶＳはレンズシフト補正電圧であり、−１.０Ｖｒｍｓ〜＋１.０Ｖｒｍｓまで印加できる。
【００４７】
ΔＶθとΔＶＳとの間には（１）式に示される関係になるように、位相補正素子制御回路１０が構成されている。本例の場合、（１）式のβは６.７／ｍｍが最適であり、εは位相補正素子を光ヘッド装置に組み込んだ後に、画像計測によりＸ軸方向の位置ズレとして計測した結果、０．０９ｍｍであった。したがって、比例係数βεは０.６となり、位相補正素子制御回路内の分圧抵抗トリマーを調整することにより、ΔＶＳ＝０.６ΔＶθとなるよう構成した。
【００４８】
図７に本発明における位相補正素子により得られた、波面収差（残留収差値）とディスクチルトとの関係のグラフ示す。図中実線（Ａ）はβε＝０．６としてレンズシフト補正を行った場合である。一方、破線（Ｂ）は比較のために、βε＝０としてレンズシフト補正を行わなかった場合である。全波面収差はレンズシフト補正の有無で変わらなかったものの、レンズシフト補正を行ったものは、非点収差を大きく減少することができた結果、光ディスクの信号品質を大幅に改善することができた。
【００４９】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の光ヘッド装置においては、複数個のコマ収差補正電極を形成した透明基板と同一基板上にレンズシフト補正電極を形成することにより、レンズシフトが生じた場合においても非点収差の発生を抑制できるために、ディスクチルト許容量を拡大できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明における位相補正素子の電極パターンの一例を示す模式図。
【図２】本発明の光ヘッド装置の原理構成の一例を示す概念的断面図。
【図３】本発明における位相補正素子の一例を示す断面図。
【図４】光ディスクのチルトが１゜のとき発生したコマ収差分布を示す図。
【図５】本発明における位相補正素子の位相差分布の一例を示す概念図であり、（ａ）レンズシフトがない場合、（ｂ）Ｘ軸の正方向にレンズシフトが発生した場合、（ｃ）Ｘ軸の負方向にレンズシフトが発生した場合。
【図６】本発明における位相補正素子の電極パターンの一例を示す模式図。
【図７】実施例１における波面収差とディスクチルトの関係を示すグラフ。
【符号の説明】
１：半導体レーザ
２：偏光ビームスプリッタ
３：コリメートレンズ
４：位相補正素子
５：４分の１波長板
６：対物レンズ
７：アクチュエータ
８：光ディスク
９：光検出器
１０：位相補正素子制御回路
１１：立ち上げミラー
２１ａ、２１ｂ：ガラス基板
２２：シール材
２３：液晶層
２４ａ、２４ｂ：電極
２５：絶縁膜
２６：配向膜
２７：電極引出部
２８：液晶分子
３１〜３５：コマ収差補正電極
３６、３７：レンズシフト補正電極
４１〜４５：球面収差補正電極
【図１】
0004082072.tif 000003
【図２】
0004082072.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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