(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
排気可能な真空容器内の交換可能な蒸着源の上または下にある支持手段に取り付けたプラスチックの眼鏡のガラスのような光学基体の表面に反射防止膜を蒸着する方法において、
蒸着過程の間毎に反射防止膜を発生させるため、支持手段に取り付けた基体の蒸着源に対向する面を先ず蒸着し、
次いで支持手段を全て基体と共に同時に、しかも蒸着ビームを中断することなく、あるいは支持手段を蒸着源の動作を止めることなく急速に反転させ、基体の蒸着源に対向する面も同じように蒸着し、
その後、新しい蒸着過程の間に基体面に他の反射防止膜を付けるため蒸着源を周期的に入れ替えることを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、排気可能な真空容器内の交換可能な蒸着源の上または下にある支持手段に取り付けたプラスチックの眼鏡のガラスのような光学基体の表面に反射防止膜を蒸着する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
真空中で光学基体、特に眼鏡のガラスに少なくとも一種の表面層を蒸着するこのような周知の全ての方法では、予め与えられた数のこのような基体が通常多数の層を蒸着した後、基体表面が交換可能な蒸着源の作用に曝される面から外れ、もう一度同じ数の基体表面がこの面に導入され、この面が以後一度あるいは数度蒸着される。換言すれば、最初、基体の片側の表面に個々の反射防止膜を順次蒸着し、次いで基体を反転させて、つまり裏返して他方の基板面を蒸着する。
【０００３】
このような方法は非常にコストがかかる。何故なら、蒸着工程毎に蒸着源の電源を止めて、冷却した後に、新しい反射防止膜のために新しい蒸着源を使用する必要がある。これは、反転させた基体の表面に蒸着する場合に何時ももう一度繰り返し行われる。
更に、例えば電子ビーム蒸着器あるいは抵抗加熱による熱蒸着器である蒸着源を何度も加熱することにより、蒸着材料が分解したり、亜酸化物が形成したり、それから生じる屈折率の変化を与える恐れが生じる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
この発明の課題は、上に述べた難点を排除する冒頭の述べた種類の方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記の課題は、この発明により、排気可能な真空容器内の交換可能な蒸着源の上または下にある支持手段に取り付けたプラスチックの眼鏡のガラスのような光学基体の表面に反射防止膜を蒸着する方法にあって、蒸着過程の間毎に反射防止膜を発生させるため、支持手段に取り付けた基体の蒸着源に対向する面を先ず蒸着し、次いで支持手段を全て基体と共に同時に、しかも蒸着ビームを中断することなく、あるいは支持手段を蒸着源の動作を止めることなく急速に反転させ、基体の蒸着源に対向する面も同じように蒸着し、その後、新しい蒸着過程の間に基体面に他の反射防止膜を付けるため蒸着源を周期的に入れ替えることによって解決されている。
【０００６】
【発明の実施の形態】
この処置により蒸着源の周期的な入替えは半分に低減するので、加熱回数も半分になる。これは蒸着材料が分解したり、亜酸化物が形成したり、それから生じる屈折率の変化を与える恐れを著しく低減する。
好ましくは、全ての基体を同時に、しかも蒸着ビームを止めることなく反転させる、つまり裏返す。
【０００７】
【実施例】
以下、図面を参照して好適実施例に基づきこの発明の方法をより詳しく説明する。
図１に例示的に示す光学基体、例えばここではプラスチックの眼鏡のガラス１０上に反射防止膜を蒸着する真空成膜装置には、真空ポンプ２で排気される真空容器１がある。
【０００８】
この真空容器の上部空間領域には円形の支持板２３の周りに多数（ここでは二つしか示していない）配置された反転ホルダー２１を備えたこの発明による反転ホルダー装置３がある。これ等の反転ホルダー２１は時折 180°ほど回転する回転軸２２に支持されている。反転ホルダー２１の各々には両側に膜を付ける基体を挟持する、あるいは片側に膜を付ける二つの基体を挟持する手段（いずれも図示せず）がある。
【０００９】
真空容器１の下部領域には蒸着源１００がある。この蒸着源はここでは加熱フィラメント１５付きの所謂電子ビーム銃を備えている。熱によりフィラメントから出た電子は集束装置１６内でビーム状に集束する。例えばこの電子ビームは負の高圧の印加するタンスグテン陰極から発生し、成形されたウェーネルト・シリンダで予備集束されている。この電子ビームは偏向磁石手段１３により蒸着材料の存在する坩堝１７に向けて偏向される。
【００１０】
排気された真空容器１内で移動させるべき装置部品、例えばシャッター１４等を駆動ないしは操作するため、外から真空室に達する操作部品（図示せず）を備えた装置が必要である。このような真空成膜装置の構造と機能は既に周知であるから、構造に関する詳しい説明は省略する。
ここで重要なことは、先ず反転ホルダー２１あるいは回転軸２２に全ての反転ホルダーを同時に回転させる回転手段が嵌まり点にある。これには、反転手段が支持板２３から大きく突出した歯車リム２５を有し、この歯車リム２５にそれぞれ一つの駆動歯車２４が嵌まる。この駆動歯車２４は反転ホルダー２１の回転軸２２と、一時的に回転する他の相手の歯車リム２６と動作連結している。
【００１１】
従って、反転ホルダー２１が基体と共に各駆動歯車リム２４により 180°回転するまで、適当な時点で相手の歯車リム２６を歯車リム２５に対して回転させることができる。これは、数分の１秒で行われ、蒸着ビーム９９を止める必要のないほど早く行われる。
そのような装置で出来ることは、この発明により反射防止膜を発生させる蒸着過程内でその都度、最初に支持手段上に取り付けた基体の蒸着源に対向する面を蒸着し、次いで、蒸着源を止めることなく、支持手段を基体と共に急速に反転させ、基体の蒸着源に対向する面も同じように蒸着し、その後、新しい蒸着過程の間に基体面に他の反射防止膜を付けるため、蒸着源の周期的な入替えが行われる点にある。
【００１２】
この処置により、蒸着源の周期的な入替えを半分に低減でき、それ故に加熱回数も同じように低減できる。これは蒸着材料が分解したり、亜酸化物が形成したり、それから生じる屈折率の変化を与える恐れを著しく低減する。
全ての基体を同時に、しかも蒸着ビーム９９を止めることなく反転すると好ましい。
【００１３】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明の方法により、基体に真空蒸着で反射防止膜を付ける場合、蒸着材料が分解したり、亜酸化物が形成したり、それから生じる屈折率の変化を与える恐れを著しく低減する。
【図面の簡単な説明】
【図１】  反転ホルダー装置上に多数の光学基体を蒸着する真空成膜装置の模式縦断面図。
【符号の説明】
１          真空容器
２          真空ポンプ
３          反転ホルダー装置
１０          基体（眼鏡のガラス）
１３          偏向磁石手段
１４          シャッター
１５          加熱フィラメント
１６          集束装置
１７          坩堝
２１          反転ホルダー
２２          回転軸
２３          支持板
２４          駆動歯車
２５          歯車リム
２６          相手の歯車リム
９９          蒸着ビーム
１００          蒸着源
【図１】
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