(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
隔壁が基板上に形成されたディスプレイ用部材の検査方法であって、該隔壁長軸に平行かつ基板面に垂直である面を隔壁平行面とし、該隔壁平行面と該基板面の何れに対しても４５°の角度をなす方向を圧子方向として、針状の圧子を、圧子の長手方向を圧子方向と平行にし、かつ該隔壁頂部の角付近に接するように配置して、隔壁平行面に垂直な方向に圧子を相対移動させることによって隔壁に生じた破断面において、直径３μｍ以上の破壊鏡面および長さ５μｍ以上のハックルラインの有無を判別することを特徴とするディスプレイ用部材の検査方法。
【請求項２】
請求項１記載のディスプレイ用部材の検査方法を用いたことを特徴とするディスプレイ用部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ガラス材料およびガラス材料を用いたプラズマディスプレイ（以下、ＰＤＰと略す）、プラズマアドレス液晶ディスプレイ（ＰＡＬＣ）、電界放出素子を用いたディスプレイ（ＦＥＤ）、蛍光表示管（ＶＦＤ）等のディスプレイ用部材およびディスプレイに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ガラス材料を用いた、隔壁を必要とするディスプレイの例として、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、プラズマアドレスディスプレイ（ＰＡＬＣ）、電界放出素子を用いたディスプレイ（ＦＥＤ）、蛍光表示管（ＶＦＤ）などが知られている。これらは一対の平行基板間に気密空間を備えてその気密空間内で発生させられた光あるいは電界を利用して表示する形式のディスプレイである。このようなディスプレイでは、表示画素に対応する発光あるいは放電区画を形成するための隔壁が気密空間内に形成される。
【０００３】
隔壁は、低軟化点のガラスを母体とし、その中に、骨材として無機化合物からなるフィラーや、発色等の目的から無機顔料等が添加分散されているのが一般的である。隔壁は、上述の無機原料粉末を有機バインダーと溶媒と共に混練したペーストに調製され、基板上に印刷・成形され、その後焼成によって有機成分を燃焼除去するとともに低軟化点ガラス材料を溶融接合させることによって形成されるのが一般的である。もともとの原料が粉末状態であることと、母体ガラスに対して溶融時の親和性の異なる他の無機材料粉末による焼結阻害の影響により、得られた隔壁は数〜十数μmの気泡を含むポーラスな状態で、蛍光体層形成工程でのハンドリング時や封着工程で破損を生じるなど、機械的強度は十分とは言い難いのが実状であった。
【０００４】
また、数μm〜十数μmオーダーのフィラーや顔料の凝集物が多数存在し、頂部に表れたフィラー粒子や隔壁ペーストの不均一に起因する焼成後の頂部の凹凸が生じることから、凸部に圧力が集中して隔壁が欠けてしまうと言う問題があった。
【０００５】
隔壁の形成方法によっては、これらの凝集物やフィラーが隔壁組織内に偏在するために、局部的に弱い部分が生じる原因となり、さらに、隔壁内部の連続組織部分に応力集中による微小クラックが生じた場合、この伸張を抑制する術がなく、隔壁に欠損が生じるなどの問題もあった。
【０００６】
隔壁の強度向上の試みとして、特開平１１−１８５６２９号公報および特開平１２−１３３４号公報では、隔壁に使用する材料についての強度評価が試みられてるが、脱バインダー工程が無く、評価用試料をプレス成形しているという点から、隔壁形成プロセスの影響を反映した組織を再現した評価とはなっておらず、したがって得られた隔壁も十分な強度設計が得られていなかった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上述した従来技術における問題点に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、ガラス材料の改良並びに、蛍光体層形成および封着などの工程に十分耐えうる強度を有するガラス材料よりなる隔壁を提供するものである。発明者らは隔壁の破壊メカニズムを精緻に検討した結果、微小クラックが生じても、このクラックの拡張を防止しパネル封着時の破損を防止できる隔壁設計を提案するに至り、その製造方法とともに隔壁欠損の少ないディスプレイ用部材およびディスプレイを提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明は基本的には以下の構成を有する。
【０００９】
すなわち本発明の第１発明は、隔壁が基板上に形成されたディスプレイ用部材の検査方法であって、該隔壁長軸に平行かつ該基板面に垂直である面を隔壁平行面とし、該隔壁平行面と該基板面の何れに対しても４５°の角度をなす方向を圧子方向として、針状の圧子を、圧子の長手方向を圧子方向と平行にし、かつ該隔壁頂部の角付近に接するように配置して、隔壁平行面に垂直な方向に圧子を相対移動させることによって隔壁に生じた破断面において、直径３μｍ以上の破壊鏡面および長さ５μｍ以上のハックルラインの有無を判別することを特徴とするディスプレイ用部材の検査方法である。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明をＰＤＰの作製手順に従って説明するが、なんらこれに限定されるものではない。本発明は、プラズマアドレス液晶ディスプレイ並びに電子放出素子または蛍光表示管を用いたディスプレイにおいても、好ましく適用できる。
【００１２】
ＰＤＰの基板には、ガラスが好適であり、具体的には、ソーダガラスやたとえば旭硝子株式会社製“ＰＤ２００”、日本電気硝子に代表されるＰＤＰ用ガラス基板が好ましく用いられる。
【００１３】
基板上に、導電性金属によりアドレス電極を形成することができる。導電性金属としては、銀、銅、クロム、アルミニウム、ニッケル、金等を用いることができる。アドレス電極は通常、幅２０〜１００μmのストライプ状に形成される。次いで電極を被覆するように誘電体層を形成するのが好ましい。
【００１４】
次いで、誘電体層上もしくは電極が形成された基板上に隔壁を形成する。ここでは感光性ペーストを用いたフォトリソグラフィー法による隔壁の形成法について述べるが、本発明における隔壁はこのような形成方法に限定されるものではない。フォトリソグラフィー技術による隔壁の形成は、通常は感光性ペーストを塗布し、露光し、露光部分と未露光部分の現像液に対する溶解度差を利用して現像した後に焼成して隔壁を形成することによって行われる。
【００１５】
本発明の第１発明であるガラス材料は、この隔壁に好適に用いることができる。以下、特に前記隔壁への用途に関連して、本発明のガラス材料について説明するが、なんらこれに限定されるものではない。
【００１６】
かかるガラス材料は、ガラスを有してなる海部、および金属酸化物を有してなる平均径５μｍ以下の島部からなる海島構造を有するガラス材料である。
【００１７】
前記ガラスとしては低軟化点ガラス材料を含有することが好ましい。低軟化点ガラス材料を用いることにより、焼成後に強度の高い隔壁等を得ることが可能となる。ここで、低軟化点ガラス材料とは、ホウ珪酸ガラスに酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛、およびアルカリ金属酸化物からなる群から少なくとも１種以上を合計３重量％以上含有することによって低軟化点化を図ったガラスを言うが、転移点４００〜５５０℃、荷重軟化点４５０〜６００℃であることが望ましい。荷重軟化点を４５０℃以上とすることで、ディスプレイ形成の後工程において隔壁が変形することが無く、荷重軟化点を６００℃以下とすることで焼成時に溶融し、強度の高い隔壁を得ることができる。なお、焼成は通常５２０〜５９０℃で行われる。
【００１８】
また、低軟化点ガラス材料の屈折率は、感光性ペーストにおける感光性有機成分の平均屈折率との整合をとることで露光光の散乱を抑制し、良好なパターニング特性を得ることができることから１．６５以下とする事が好ましい。このような特性を満たす低軟化点ガラス材料は、酸化物換算表記で以下のような組成であることが好ましい。
【００１９】
酸化リチウム、酸化ナトリウムまたは酸化カリウム：３〜１５重量％
酸化ケイ素：５〜３０重量％
酸化ホウ素：２０〜４５重量％
酸化バリウムまたは酸化ストロンチウム：２〜１５重量％
酸化アルミニウム：１０〜２５重量％
酸化マグネシウムまたは酸化カルシウム：２〜１５重量％
酸化リチウム、酸化ナトリウムまたは酸化カリウムのアルカリ金属酸化物のうち少なくとも１種を用い、その合計量が３〜１５重量％、さらには３〜１０重量％であることが好ましい。
【００２０】
アルカリ金属酸化物は、ガラスの荷重軟化点、熱膨張係数のコントロールを容易にするのみならず、ガラスの屈折率を低くすることができるため、感光性有機成分との屈折率差を小さくすることが容易になる。アルカリ金属酸化物の合計量が３重量％以上とすることでガラスの低軟化点化の効果を得ることができ、１５重量％以下とすることでガラスの化学的安定性を維持すると共に熱膨張係数を小さく抑えることができる傾向がある。アルカリ金属としては、ガラスの屈折率を下げる効果やイオンのマイグレーションを防止することを考慮すると、リチウムを選択するのが好ましい。
【００２１】
酸化ケイ素の配合量は５〜３０重量％が好ましく、より好ましくは１０〜３０重量％である。酸化ケイ素は、ガラスの強度や安定性の向上に有効であり、また、ガラスの低屈折率化にも効果がある傾向がある。また、ガラスの熱膨張係数をコントロールして、このガラスで作成された隔壁が、ガラス基板との熱膨張係数のミスマッチによる剥離などを防ぐこともできる。５重量％以上とすることで、ガラスの熱膨張係数を小さく抑え、このガラスで作成した隔壁をガラス基板に焼き付けたときにクラックを生じにくい。また、屈折率を低く抑えることができやすい。３０重量％以下とすることで、ガラス転移点、荷重軟化点を低く抑え、隔壁のガラス基板への焼き付け温度を低くすることができる傾向がある。
【００２２】
酸化ホウ素は、鉛などの重金属を含有しないガラスにおいて低軟化点化のために加えられるものであり、さらに低屈折率化にも有効であり、２０〜４５重量％、さらに２０〜４０重量％の範囲で配合することが好ましい。２０重量％以上とすることで、ガラス転移点、荷重軟化点を低く抑えガラス基板への焼き付けを容易にする。また、４５重量％以上とすることでガラスの化学的安定性を維持することができやすくなる。
【００２３】
酸化バリウムおよび酸化ストロンチウムのうち少なくとも１種を用い、その合計量が２〜１５重量％さらには２〜１０重量％であることが好ましい。これらの成分はガラスの低軟化点化や熱膨張係数の調整に有効であり、耐熱性の高い基板への焼き付けへの適用、電気絶縁性、形成される隔壁の安定性や緻密性の点でも好ましい。２重量％以上とすることで低軟化点化の効果を得ることができると共に結晶化による失透を防ぐこともできる。また、１５重量％以下とすることにより、熱膨張係数を小さく抑え、屈折率も小さくおさえることができる。また、ガラスの化学的安定性も維持できる。
【００２４】
酸化アルミニウムはガラス化範囲を広げてガラスを安定化させる効果があり、ペーストのポットライフ延長にも有効であるため、１０〜２５重量％の範囲で配合することが好ましく、この範囲とする事でガラス転移点、荷重軟化点を低く保ち、ガラス基板上への焼き付けを容易とする事ができる。さらに酸化カルシウムおよび酸化マグネシウムは、ガラスを溶融しやすくすると共に熱膨張係数を制御するために配合されることが好ましい。酸化カルシウムおよび酸化マグネシウムは合計で２〜１５重量％配合するのが好ましい。合計量が２重量％以上とすることで結晶化によるガラスの失透を防ぎ、１５重量％以下とすることでガラスの化学的安定性を維持することができる。
【００２５】
また、上記の組成には表記されていないが、酸化亜鉛はガラスの熱膨張係数を大きく変化させることなく低軟化点化させる成分であり、これも配合させることが好ましい。多く配合しすぎると屈折率が大きくなる傾向にあるので、１〜２０重量％の範囲で配合するのが好ましい。
【００２６】
なお、着色剤としては、コバルト、銅、セリウム、ランタン、鉄、プラセオジウム、ランタン、ニッケル、エルビウム、バナジウム、ディスプロシウム、インジウム、ホルミウム、アンチモン、ガドリニウム、ユーロピウム、テルビウム、イッテルビウム、ネオジウム、クロム、マンガン等の酸化物を適宜加えることができる。
【００２７】
以上のガラスを構成する成分は、ガラスが焼成されて最終的に完成した後の組成である。従って、製造方法や原料はなんら限定されるものではなく、例えば、原料として、金属酸化物を用いず、金属の炭酸塩などを用いても、焼成過程等により、酸化されて金属酸化物となる。
【００２８】
感光性ペーストに用いる低軟化点ガラス材料は、ペースト形成時の充填性および分散性が良好でありように保持し、ペーストの均一な厚さでの塗布が可能であると共にパターン形成性を保つためには、平均粒子径が１〜５μmであることが好ましい。このような粒度分布を有するガラス粉末がペーストへの充填性および分散性の点で優れている。
【００２９】
本発明のガラス材料は、ガラスの海構造中に存在する金属酸化物を有してなる島構造が必要である。前記島構造に含まれる金属酸化物としては特に限定されるものではないが、好ましくは、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化バナジウム、酸化クロム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化コバルト、酸化ゲルマニウム、酸化ニオブ、酸化インジウム、酸化錫、酸化鉛、酸化ニッケル、酸化銅、酸化砒素、または酸化マグネシウムのうち少なくとも１種以上の金属酸化物を有してなるものである。前記島構造により、隔壁色を白または黒あるいは他の色に発色させるため無機の顔料等を添加する事も可能である。酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、窒化アルミニウム、窒化ホウ素等は白色を発色し、また、銅−クロム系酸化物、コバルト−鉄−クロム系酸化物、ニッケル−コバルト系酸化物、銅−鉄−マンガン系酸化物、鉄−マンガン系酸化物、酸化コバルト、窒化珪素、窒化アルミニウム等は黒色を発色し、ウルトラマリン、コバルトブルー、セルリアンブルー、群青、紺青等は青色を発色する。また、べんがら（酸化鉄）、鉛丹（酸化鉛）等は赤色を発色し、クロム緑（黄鉛と紺青の複合材料）、酸化クロム、ギネー緑（酸化クロム）、コバルト緑（酸化亜鉛と酸化コバルトの複合材料）エメラルド緑（酸化銅）は緑色を発色する。その他の発色を目的とした材料としてはルテニウム、マンガン、ニッケル、クロム、鉄、コバルトの金属もしくはその酸化物があり、これらのうち１種または数種を好ましく選択し、組み合わせることによって調色が可能である。特に酸化チタン、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化アルミニウムまたは酸化マグネシウムが好ましい。この島構造中には、前記のような金属酸化物を好ましくは１重量％以上含有し、より好ましくは、５重量％以上、更に好ましくは１０重量％以上、特に好ましくは７０重量％以上、その上好ましくは８０重量％以上、それ以上好ましくは９５重量％以上含有するものである。一方、酸化物以外のガラス成分やガラス状物等は殆ど含まれないものであり、好ましくは２０重量％以下（より好ましくは１０重量％以下、更に好ましくは５重量％以下）である。これら金属酸化物以外には本発明の効果を妨げない限り特に限定されないが、窒化珪素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素などが含有されていても良い。これらの金属酸化物は多結晶、単結晶、準結晶、アモルファス、ガラス体、または固溶体等、あるいはそれらの混合したものであっても良いが、好ましくは多結晶、単結晶、準結晶、または固溶体等、あるいはそれらの混合したものである。従って、島構造全体も同様である。
【００３０】
また、島構造のドメイン径の平均値は、断面にて５μｍ以下である必要があり、また、０．０５μｍ以上であることが好適である。好ましくは０．０５〜５μｍ、より好ましくは０．０５〜３μｍ、更に好ましくは０．０５〜２μｍである。前記数値範囲の下限値を下回ると応力緩衝効果が小さくなり、逆に上限値を上回ると頂部の凹凸が大きくなり、応力集中点を形成する原因となり好ましくないことがあるからである。また、この島構造が本発明のガラス材料中に占める比率は好ましくは１〜８０重量％より好ましくは２〜７０重量％、更に好ましくは３〜６０重量％である。前記数値範囲の下限値を下回ると応力緩衝効果を呈することが難しくなり、逆に上限値を上回ると緻密性の低下により連続体としての特性を維持することが困難となり好ましくないことがあるからである。
【００３１】
なお、例えば、半径ｒの球を任意に切断した時の円断面の平均直径は
π＊ｒ2／（２＊ｒ）＝ｒ＊π／２
となり、実際の球の直径のπ／４倍である。また、楕円体やその他の複雑な立体の場合は、更に複雑な換算を要する。これらの換算により、断面径から実際の立体の径をおおよそ求めることもできる。
なお、前記島構造の内部付近には微細な気泡が存在しているケースが多い。島構造から独立した気泡は、概して大きいものである。本発明のガラス材料中に存在する気泡の平均径は好ましくは０．０１〜２μm、より好ましくは０．０１〜１．５μm、更に好ましくは０．０１〜１μmである。
【００３２】
本発明の海島構造を有するガラス材料の島構造の生成方法は特に限定されるものではなく、例えば、金属酸化物等の粉末を予め本発明のガラス材料の原料として添加しておいても良いし、焼成工程などで酸化されて金属酸化物に変化する金属酸化物前駆体をガラス材料の原料に加えて生成させても良い。しかし、金属酸化物や窒化物、およびいわゆる高軟化点ガラスなどのように焼成工程での加熱温度以上の荷重軟化点または融点を有する島成分原料の場合は、そのまま隔壁中または隔壁表面に残留するのでその平均粒子径は小さいことが好ましく０．１〜３μmであることが適当である。この範囲であれば、充填性および分散性を満足させて、塗布性およびパターン形成性の優れた感光性ペーストを構成することができる。０．１μm以上とすることでペースト中での分散性が良好となり、形状保持性の効果を得ることができる。また、金属酸化物原料は焼成工程で溶融することがないので３μmより大きすぎると、形成された隔壁の頂部の凹凸が大きくなり封着時の応力集中点となったり、クロストークの原因となるなどの問題を生じる傾向にある。また、前記金属酸化物原料は、焼成前のパターン形成性を維持しつつ、焼成後の隔壁の焼成収縮率を抑制し、母体低軟化点ガラス材料の流動に抗する効果によって、形状保持性を高める効果がある場合がある。
【００３３】
平均粒子径０．１〜３μmの金属酸化物等島構造を形成する粉末原料は、感光性ペーストにおける感光性有機成分や低軟化点ガラス材料の平均屈折率との整合を図ることによって露光光の散乱を抑えるために、屈折率が１．４５〜１．６５の範囲内にあることが好ましい。この金属酸化物等粉末原料の屈折率を上記の範囲内とするための材料としては、組成を調整した高軟化点ガラスやコーディエライトが好ましく用いられる。
【００３４】
一方、液状あるいは溶液状、場合によっては固体状の有機金属化合物又は有機金属試薬を金属酸化物の前駆体としてペースト中に導入することも有効である。フォトリソグラフィー工程の容易さや焼成された組織の品質を考慮すると、前記酸化物原料を用いるよりも優れていて好ましい。たとえば焼成後酸化チタン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛または酸化マグネシウム等に変化して隔壁中に残留するようなものが好適に選ばれる。このような有機金属化合物で酸化珪素に変化するものとしてはトリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができる。
【００３５】
酸化アルミニウムに変化するものとしては、トリエトキシアルミネート、トリプロポキシアルミネート、アルミニウムジイソプロポキシエチルアセトネート、テトラエトキシアルミネート、アルミニウムアセチルアセトネート等を挙げることができる。
【００３６】
酸化チタンに変化するものとしてはテトラメトキシチタネート、トリエトキシチタネート、テトラエトキシチタネート、テトラプロポキシチタネート、エチルトリメトキシチタネート、メチルトリエトキシチタネート、ジエチルジエトキシチタネート、フェニルトリメトキシチタネート、フェニルトリエトキシチタネート、イソプロピルトリス（ジオクチルピロホスフェート）チタネート、ブチルチタネートダイマー、イソプロピルトリス（ジオクチルピロホスフェート）チタネート、チタンラクテート、チタニウムペルオキソビス（ニトリロ三酢酸）ビス（ジプロピルアミネート）、チタニウムアセチルアセトネートビス（１，３−ブタンジオール）、チタニウムペルオキソエチレンジアミン四酢酸ピリジニウム、チタニウムグルタミン酸二酢酸ビス（３，５−ジメチルピリジニウム）、チタニウムペルオキソエチレンジアミン四酢酸ジブチルアミネート、チタニウムベンゾイルアセトネートビス（１，３−ブタンジオール）などが挙げられる。
【００３７】
酸化ジルコニウムに変化するものとしてはトリメトキシジルコネート、テトラメトキシジルコネート、トリエトキシジルコネート、テトラエトキシジルコネート、テトラプロポキシジルコネート、クロロトリメトキシジルコネート、クロロトリエトキシジルコネート、エチルトリメトキシジルコネート、メチルトリエトキシジルコネート、エチルトリエトキシジルコネート、ジエチルジエトキシジルコネート、フェニルトリメトキシジルコネート、フェニルトリメトキシジルコネート、フェニルトリエトキシジルコネート、ジルコニウムノルマルプロピレート、ジルコニウムノルマルブチレート、ジルコニウムペルオキソジエチレントリアミン五酢酸トリス（イソブチルアミネート）、ジルコニウムペルオキソビス（ニトリロ三酢酸）ビス（イソブチルアミネート）、ジルコニウムジエチレントリアミン五酢酸ビスジプロピルアミネート、ジルコニウムアセチルアセトネートビス（アミノカプロン酸）、ジルコニウムベンゾイルアセトネートビス（１，３−ブタンジオール）、ジルコニウムペルオキソエチレンジアミン四酢酸ジブチルアミネート、ジルコニウムペルオキソトリス（メチレンリン酸）ピリジニウム、ジルコニウムトリリジン、ジルコニウムペルオキソグルタミン酸二酢酸ビス（３，５−ジメチルピリジニウム）、ジルコニウムアセチルアセトネートビス（１，３−ブタンジオール）等を挙げることができる。
【００３８】
酸化亜鉛に変化するものとしては、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、ジビニル亜鉛、ジフェニル亜鉛、メチル亜鉛メトキシド、アセチル亜鉛、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノアセテート亜鉛、蟻酸亜鉛、アセチルアセテート亜鉛等を挙げることができる。
【００３９】
酸化バナジウム、酸化クロム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化コバルト、酸化ゲルマニウム、酸化ニオブ、酸化インジウム、酸化錫、酸化鉛、酸化ニッケル、酸化銅、酸化砒素、または酸化マグネシウムについては、前記と同様の有機金属化合物で当該金属を置換した化合物、乃至はその他の適切な有機金属化合物を用いることにより容易に得られるものである
これらの内、特に好ましいものとしてはフェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アルミニウムジイソプロポキシエチルアセトネート、アルミニウムアセチルアセトネート、イソプロピルトリス（ジオクチルピロホスフェート）チタネート、チタンラクテート、ブチルチタネートダイマー、チタニウムグルタミン酸二酢酸ビス（３，５−ジメチルピリジニウム）、チタニウムペルオキソエチレンジアミン四酢酸ジブチルアミネート、チタニウムベンゾイルアセトネートビス（１，３−ブタンジオール）ジルコニウムノルマルブチレート、ジルコニウムノルマルプロピレート、ジルコニウムペルオキソエチレンジアミン四酢酸ジブチルアミネート、ジルコニウムペルオキソトリス（メチレンリン酸）ピリジニウム、ジルコニウムアセチルアセトネートビス（１，３−ブタンジオール）等を挙げることができる。
【００４０】
有機金属試薬等、有機金属化合物溶液等の金属酸化物の前駆体は一般的にインテグラルブレンド法によりペースト中に添加されるが、これらはペースト中では低軟化点ガラス材料やフィラーや無機顔料などの無機粉末原料の表面に多く分布し、ペースト中の有機成分との親和性を良好にする効果があるが、焼成過程でその中心金属部以外は分解消失する。中心金属部の多くは酸化物として原料無機粉末の周辺に存在するが、母体ガラスの軟化によって焼結が進行してゆく過程でその間隙に残留する。また、これらは母体ガラスの表面に多く分布し、適度に母体ガラスの流動を阻害することから、焼成条件との組み合わせにより隔壁中に微細な気泡を導入することが可能となる。その結果、隔壁中には隔壁の母体ガラス組織からなる海部の中に金属酸化物の凝集体と気孔からなる微細な凝集構造を島部からなる海島構造が形成される。
【００４１】
勿論、島成分の原料として、前記金属酸化物と金属酸化物の前駆体を併用しても良い。特に、金属酸化物に金属酸化物の前駆体である有機金属化合物が併用されると、金属酸化物の２次粒子や巨大気泡の形成が抑制されて好ましい。その機構の詳細は不明であるが、以下の通りと推定される。即ち、有機金属化合物が加水分解することにより、径の微細なために凝集力が強い金属酸化物粒子のカップリング剤となる、つまり、流動性を高めて、分散性を向上することによると推測される。
【００４２】
隔壁形成に用いる感光性ペーストは、低軟化点ガラス材料、島成分原料（金属酸化物や金属酸化物前駆体）、感光性有機成分等を所定の組成となるように調合した後、３本ローラーや混練機で均質に混合分散することにより調製される。
【００４３】
有機成分に含まれる感光性モノマー、感光性オリゴマー、もしくはポリマー、種々の添加剤の熱分解点がガラス粉末成分の軟化点より高くなると、隔壁が褐色に着色したり、隔壁が基板から剥がれたりする欠陥が発生する傾向にあるので、これらの整合を図ることも肝要である。
【００４４】
感光性ペーストの粘度は、有機溶媒により１万〜２０万cP（センチ・ポイズ）程度に調整して使用される。このとき使用される有機溶媒としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、３−メチル−３−メトキシブタノール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ジエチレングリコールブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ―ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ニトロメタンなどやこれらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が挙げられる。
【００４５】
感光性ペーストの塗布は、スクリーン印刷法、バーコーター法、ロールコーター法、ドクターブレード法などの一般的な方法で行うことができる。塗布厚さは、所望の隔壁の高さとペーストの焼成による収縮率を考慮して決めることができる。
塗布・乾燥した感光性ペースト膜にフォトマスクを介して露光を行って、隔壁パターンを形成する。露光の際、ペースト塗布膜とフォトマスクを密着して行う方法と一定の間隔をあけて行う方法（プロキシミティ露光）のいずれを用いても良い。露光用の光源としては、水銀灯やハロゲンランプが適当であるが、超高圧水銀灯が最もよく使用される。超高圧水銀灯を光源として、プロキシミティ露光を行うのが一般的である。露光条件はペーストの塗布膜厚によって異なるが、通常は５〜３０mW/cm2の出力の超高圧水銀灯を用いて２０秒から１０分間露光を行うのが適当である。
【００４６】
露光後、露光部分と未露光部分の現像液に対する溶解度差を利用して、現像を行うが、この場合、浸漬法、スプレー法、ブラシ法などが用いられる。本発明で好ましく用いられる感光性ペーストの感光性有機成分としては、側鎖にカルボキシル基を有するものが好ましく採用され、この場合にはアルカリ水溶液での現像が可能になる。アルカリとしては、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去し易いので好ましい。有機アルカリとしては、一般的なアミン化合物を用いることができる。具体的にはテトラメチルアンモニウムヒドロオキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロオキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は通常０．０５〜１重量％、より好ましくは０．１〜０．６重量％である。アルカリ濃度が低すぎると可溶部が完全に除去されない傾向にあり、アルカリ濃度が高すぎると、露光部のパターンが剥離したり、浸食したりする傾向にある。現像時の温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
【００４７】
感光性ペーストを用いたフォトリソグラフィー技術による隔壁形成では、感光性ペーストの塗布膜から露光・現像の工程を経て形成した隔壁パターンを次に焼成炉で焼成し、有機成分を熱分解して除去し、同時に無機成分中の低軟化点ガラス材料を溶融させて隔壁を形成する。
【００４８】
サンドブラスト法の場合、隔壁形成用ガラスペーストは、低軟化点ガラス、島成分原料（金属酸化物や金属酸化物前駆体）、バインダーとしてセルロース系樹脂またはアクリル系樹脂を所定の組成となるように調合した後、３本ローラーや混練機で均質に混合分散するように調製される。これをスクリーン印刷、ロールコータ、テーブルコータ、バーコータ等のコータで基板上に塗布し、乾燥する。低軟化点ガラスペーストは特開平８−２５５５１０号公報に開示されているようにシート状ペースト材（グリーンテープ）を貼り付けることにより基板の上に層形成することも可能である。この基板はセラミック、ガラス板、金属、表面に電極を形成したガラス板等、基板上に形成した低軟化点ガラスの焼成温度での耐熱性のあるものであればどんなものでも良い。
【００４９】
次に低軟化点ガラス層を仮焼することによって、有機成分を除去し、低軟化点ガラス同士を部分的に融着させ、後のサンドブラスト加工における研削を容易にする。
【００５０】
続いて、低軟化点ガラス層の表面に感光性オリゴマーおよび／またはモノマーを含む感光性レジストを塗布またはラミネートし、これを所望のパターンのネガまたはポジのガラスマスクまたはフィルムマスクにより露光、現像し、切削マスクを形成する。
【００５１】
その後基板と同程度の硬度のガラスビーズを研磨材としてサンドブラスト加工を行い低軟化点ガラス層を研削する。
【００５２】
サンドブラスト法による隔壁形成では、感光性レジスト層に容易に熱分解する有機成分を選択することにより研削後の隔壁パターンをそのまま焼成炉で焼成することで除去し、さらに低軟化点ガラスを溶融させて隔壁を形成する。
【００５３】
焼成の雰囲気や温度は、ペーストや基板の特性によって異なるが、通常は、空気中で焼成される。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることが出来る。バッチ式の焼成を行うには通常、隔壁パターンが形成されたガラス基板を通常、室温から５００℃程度まで数時間かけてほぼ等速で昇温した後、焼成温度として設定した５１０〜６００℃に３０〜１２０分間で上昇させて、約１５〜３０分間保持して焼成を行うことが好ましい。焼成温度は用いるガラス基板のガラス転移点より低くなければならないので、ガラス基板を用いる場合には自ずから好ましい上限が存在する。焼成温度が高すぎたり、焼成時間が長すぎたりすると隔壁形状にダレなどの欠陥が発生する傾向にある。
【００５４】
隔壁に挟まれたセル内に、赤、緑、青に発光する蛍光体ペーストを塗布して必要に応じて焼成し、本発明のディスプレイ用部材としてプラズマディスプレイパネル用の背面板を製造することができる。この背面板と前面板を張り合わせた後、封着、ガス封入して本発明のディスプレイとしてプラズマディスプレイが作製される。
【００５５】
本発明の第１発明のガラス材料を有してなるディスプレイ用部材は、基板上に低軟化点ガラスを含有する隔壁が形成されたディスプレイ用部材であって、該隔壁長軸に平行かつ該基板面に垂直である面を隔壁平行面とし、該隔壁平行面と該基板面の何れに対しても４５°の角度をなす方向を圧子方向として、圧子が該隔壁頂部の角付近に接し、かつ該圧子の長軸を該圧子方向に平行となるように配置された隔壁を被負荷隔壁として、該圧子を、該隔壁平行面に垂直であり該被負荷隔壁へ向かう方向に負荷させることによって生じた破断面に実質的な破壊鏡面および／または５μｍ以上のハックルラインが観察されない隔壁を有することが好ましい。
【００５６】
まず、上記の負荷方法を図１を参照しながら説明する。隔壁がストライプタイプならば、当該ストライプの走向方向が当該隔壁の長軸方向となる。格子状ならば、画素を隔てる辺の延長方向が長軸方向となる。図１はこの長軸に垂直な面でディスプレイ部材を切った断面となる。この隔壁長軸に平行かつ該基板面に垂直である面（隔壁平行面）は、図１の断面図では上下に走向する直線となる。隔壁平行面は、圧子方向を規定するための設定した面であり、面の角度さえ変わらなければ基板上のどの位置にあってもよい。負荷をかけるための圧子はその長軸が基板面と隔壁平行面に対して４５°となる方向（圧子方向）に設定する。図１の右方向をｘ軸の正方向、上方向をｙ軸の正方向とすれば、圧子方向は直線ｙ＝ｘに平行となる。この状態で測定すべきディスプレイ部材の隔壁頂部の角付近に接するように圧子を配置する。角が真っ直ぐに切り欠いてあるならばその切り欠き面の中央、Ｒが付けられているならば、両面のＲの曲面が始まる位置から等距離の点を角とする。測定目的を考慮すると隔壁の側面よりであることが好ましい。その場合、前記正確な角から±１０μm以内を角付近の範囲内とするのが適切である。このように圧子を設置して、隔壁平行面に垂直でありこの隔壁（被負荷隔壁）へ向かう方向（図１では左方向）に徐々に負荷をかけ隔壁が破断するまで測定する。これにより、隔壁頂部付近に剪断力が負荷され隔壁の弾性率、脆性、基板との密着力等の成分の合成値としての引っ掻き強度が測定される。
【００５７】
第１発明の海島構造の導入によって、隔壁組織は適度にポーラスになり、その破断面には実質的な破壊鏡面が観察されない状態とすることができる。ここで、破壊鏡面とは、ガラスモールドを割断する際に加えた応力の起点付近に臨界荷重以上で形成された垂直亀裂面の微小鏡面を指す。一方、本発明のディスプレイ用部材では破断面は微小な気泡や凝集体が隈無く観察されるポーラスな面となり、破壊鏡面は観察されないものである。なお、実質的な破壊鏡面が観察されないとは、勿論、破壊鏡面が全く観察されない場合も含まれるが、直径３μm以上の破壊鏡面が観察されない場合も含まれる。破壊鏡面が形成されるということはそのガラス組織が緊密であることを表す。
【００５８】
十分な強度を有し、かつ応力緩衝効果を呈するためには海島構造の島の大きさは微細で均一に分布していることが好ましく、具体的には前記海島構造を有するガラス材料を用いることにより好適に達成される。十分な強度応力緩衝効果を呈するためには上述の海島構造の導入により破壊断面に５μm以上のハックルラインが観察されない状態に調製することが肝要である。なお、ハックルラインとはガラスモールドを割断する際に加えた応力にしたがって伸展する亀裂と垂直方向に生じる破面上の段差を指す。ハックルラインが形成されるということは、そのガラス組織が緊密であることを表す。本発明のディスプレイ用部材では、破断面に、実質的な破壊鏡面および／または５μm以上のハックルラインが観察されないものであり、より好ましくは両者とも観察されないことである。
【００５９】
本発明の第２発明は、隔壁の破壊荷重が５００〜２５００ｍＮの範囲内にある、または、ダイナミック硬度が９０〜３００の範囲内にあることが必要である。隔壁の破壊荷重は、好ましくは５００〜２５００ｍＮ、より好ましくは５５０〜２４００ｍＮ、特に好ましくは６００〜２３００ｍＮである。破壊荷重が５００ｍＮよりも低い隔壁は蛍光体層形成時のハンドリングおよび封着時の前面板からの荷重に耐えられない。また２５００ｍＮよりも高い隔壁は、隔壁組織中で母体ガラスの焼結が過剰に進行していることを表し、頂部凹凸、あるいは異物の噛み込みがきっかけとなり封着時の応力集中により微小なクラックを生じると、これが容易に拡張し隔壁の大きな欠損を生じて欠陥となる。また、本発明の別の態様である第３発明では、隔壁のダイナミック硬度は、９０〜３００Ｎ／mm2であり、より好ましくは１００〜２８０Ｎ／mm2、特に好ましくは１２０〜２８０Ｎ／mm2である。なお、ダイナミック硬度は前記破壊荷重と破壊点における圧縮変位から以下の式で求められる。
式：   (ダイナミック硬度)＝(破壊荷重)÷(破壊点における圧縮変位)2×3.858
ダイナミック硬度は、破壊荷重を破壊点における圧子の接触面積で割った値であり、破壊点における単位面積あたりの破壊荷重を表す。この算出は硬度に類似しているが、硬度は、荷重後に試料から圧子を除いた痕跡により塑性変形のしやすさを評価する値であるのに対して、ダイナミック硬度は破壊点に至る圧子の最進入位置から算出することより、試料の弾性変形、および塑性変形の両方の寄与を含んだ形での変形のし難さを表す値であると言える。
かかる隔壁を得るためには、前述の本発明の第１発明であるガラス材料を用いることにより好適に達成することができる。つまり、前記海島構造を有するガラス材料の島構造の平均ドメイン径を０．０５μm以上とすることによりおよび／または前記島構造のガラス材料中の比率を１重量％以上とすることにより、隔壁の破壊荷重は２５００ｍＮ以下となる。一方、前記海島構造を有するガラス材料の島構造の平均ドメイン径を１μm以下とすることによりおよび／または前記島構造のガラス材料中の比率を８０重量％以下とすることにより、隔壁の破壊加重は２５００ｍＮ以上となる。
【００６０】
本発明（第１、２、３発明）のディスプレイ部材の隔壁は、以下の性質を有することも好ましい。即ち、隔壁頂部の線幅Ｗは好ましくは２０〜１００μｍである。前記数値範囲の下限値を下回ると隔壁のパターン形成が著しく困難となり、さらに焼成工程で形状を維持することが困難となり、上限値を上回ると隔壁の構造体としての強度は高くなるがパネルを構成した場合の発光面積が小さくなるため、事実上輝度が低下することとなり好ましくない場合がある。高さＨは好ましくは６０〜２００μmである。前記数値範囲の下限値を下回るとパネル駆動時のプラズマ放電空間が小さくなるため、発光効率が著しく低い状態となり、上限値を上回るとパネル駆動時のプラズマ放電空間が著しく大きくなるため、蛍光体を励起し発光させる紫外光が隔壁間および／または隔壁表面に形成された蛍光体層に到達する強度が小さくなり、輝度、発光効率共に低下することとなり好ましくない場合がある。アスペクト比Ｈ／Ｗは好ましくは１〜５である。隔壁頂部の表面粗さＲａは好ましくは０．０１〜４μｍ、より好ましくは０．０２〜３μm、更に好ましくは０．０５〜１μmである。前記数値範囲の下限値を下回ると前面パネルとの封着時の排気時間が著しく長くなることから生産効率の低下を招くこととなり、上限値を上回ると前面パネルとの封着時の応力集中点を生じる原因となり、さらに、パネル駆動時に必要の有無にかかわらず隣接画素をも発光させてしまうクロストークが起きる原因となり好ましくない場合がある。
【００６１】
以下、本発明における測定条件と評価方法を説明する。
（１）ドメイン径の評価方法
該背面板がディスプレイを構成する際の画面の縦方向（主ストライプ）に垂直方向に基板片を切断し、形成された隔壁の断面を透過電顕（ＴＥＭ）で５０００〜２００００倍で観察する。なお、０．００５μｍ以下のものは無視するものとする。低軟化点ガラス材料が軟化溶融して連続体となった母体ガラスのなかに観察される金属酸化物と気泡によって形成される島部（金属酸化物の凝集体のみで構成される形態と、金属凝集体に、気泡を含む形態および／または気泡がまとわりついている形態がある）を略球状と見なし、その長径を測長し、数平均値を算出する。
（２）隔壁の破壊鏡面およびハックルライン試験
１ミリΦの注射針をイマダ株式会社製荷重試験機ＤＰＸ−５Ｔのチャック部に取りつけ、これを水平に設置したサンプル台に対して４５°傾けて設置する。サンプル台上に背面板から画素に平行に切り出したサンプル小片を固定し、注射針の先端が隔壁の頂部付近に接するように注射針の位置を調整する。サンプル台をネジなどで徐々に水平移動させ、注射針による負荷がかかるようにする。移動に従って隔壁に対する負荷が増加し、ついには隔壁が破壊する。破壊された隔壁の破断面をＳＥＭで１０００〜３０００倍で観察し、破壊鏡面の有無、ハックルラインの長さを測定する。
（３）隔壁の破壊荷重の測定方法
本発明の隔壁部分の強度は以下のようにして評価した。まず、背面板もしくは焼成後の隔壁が形成された基板を１．５〜２ｃｍ角程度に切り出した。隔壁パターンのうち、長さ２００μm以上にわたって交差のない部分の中央部を選択する。望ましくは、ストライプ状になっている部分を選択する。また、望ましくは隔壁頂部の線幅が４５〜８０μmの範囲内となっている部分を選択する。
株式会社島津製作所製微小圧縮試験機（ＭＣＴＭ−５００）にダイヤモンド三角錐圧子（稜間隔１１５°）を取り付ける。隔壁付き基板試料片を試料台に固定する。あらかじめ調べておいた圧子の重心部が隔壁の線幅の中央部に当たるようにマイクロメーターヘッドで試料位置をセットする。モード１の圧縮試験、負荷速度２０７．２７mN/ｓを選択し、最大荷重４９０３．０mNとして圧縮破壊試験を行う。図２のような荷重−変位曲線が得られるが、負荷過程の初めての屈曲点を一次破壊点とする。破壊点は、解析ソフトの読み値とするが、荷重−変位曲線上の一次破壊点と一致している点を有効データとする。１０〜３０点、同一の条件で測定位置を変えてデータを収集する。
【００６２】
【実施例】
以下、実施例を用いて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに何ら限定されるものではない。
【００６３】
なお、実施例１〜８、１７〜１９、比較例１〜５、１１については後述のサンドブラスト法にて、実施例９〜１６、比較例６〜１０については、後述の感光性ペースト法にてパターニングした。又、島部が形成された例では何れの島部の析出物に結晶質の存在が確認された。
（実施例１〜４、比較例１〜２）
隔壁形成用ペーストは、エチルセルロース１０重量部にテルピネオール９０重量部を５０℃に加熱しながら溶解し、十分冷却後有機金属群を添加混合した。その後低軟化点ガラス材料とフィラー、発色剤の混合粉末からなる無機粉末を９０重量部添加し、混練機を用いて混練した。低軟化点ガラス材料としては、組成が重量％表示でＰｂＯ：６０、ＳｉＯ2：１８、Ｂ2Ｏ3：１０、ＺｎＯ：４、Ａｌ2Ｏ3：６、ＴｉＯ2：２である平均粒子径１．２μmのガラス微粒子を用いた。このガラスの荷重軟化点は５５０℃である。この有機金属群添加量および無機粉末組成を表１に示した。
【００６４】
【表１】
0004135385.tif 000002
【００６５】
（実施例５〜８、比較例３）
隔壁形成用ペーストは、ヒドロキシエチルセルロース１０重量部にブチルカルビトールアセテート９０重量部を５０℃に加熱しながら溶解し、十分冷却後有機金属群を添加混合した。その後低軟化点ガラス材料とフィラー、発色剤、の混合粉末からなる無機粉末を９０重量部添加し、混練機を用いて混練した。低軟化点ガラス材料としては、組成がＬｉ2Ｏ：１４、ＳｉＯ2：２４、Ａｌ2Ｏ3：２１、Ｂ2Ｏ3：３３、ＢａＯ：５、ＺｎＯ：３、ＭｇＯ：８である平均粒子径１．８μmのガラス微粒子を用いた。このガラスの荷重軟化点は４９５℃である。この有機金属群添加量および無機粉末組成を表２に示した。
【００６６】
【表２】
0004135385.tif 000003
【００６７】
（実施例９〜１１、比較例４〜５）
感光性ペーストは、メチルメタクリレート／メタクリル酸コポリマ（重量組成比８０／２０）１０重量部、トリメチロールプロパントリアクリレート５重量部、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート５重量部に光重合開始剤（２−メチル−１−（４−メチルチオ）フェニル）２−モルフォリノプロパン−１−オン）６重量部、増感剤（２，４−ジエチルチオキサントン）３重量部、有機染料（ベーシックブルー２６）０．０１重量部、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル６０重量部を５０℃に加熱しながら溶解し、十分冷却後有機金属群を添加混合した。その後低軟化点ガラス材料とフィラー、発色剤、の混合粉末からなる無機粉末を８０重量部添加し、混練機を用いて混練した。低軟化点ガラス材料としては、組成がＬｉ2Ｏ：７．５、ＳｉＯ2：２３．５、Ａｌ2Ｏ3：１９、Ｂ2Ｏ3：３３、ＢａＯ：４、ＺｎＯ：３、ＭｇＯ：６であるガラス微粒子を用いた。このガラスの平均屈折率は１．５９、荷重軟化点は５３０℃、平均粒子径は２．２μmである。この有機金属群添加量および無機粉末組成を表３に示した。
【００６８】
【表３】
0004135385.tif 000004
【００６９】
（実施例１２，１３、比較例６、７）
感光性ペーストは、スチレン／メチルメタクリレート／メタクリル酸コポリマー（重量組成比３５／３０／３５）１０重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０重量部に光重合開始剤（２−メチル−１−（４−メチルチオ）フェニル）２−モルフォリノプロパン−１−オン）６重量部、増感剤（２，４−ジエチルチオキサントン）３重量部、有機染料（ベーシックブルー２６）０．０１重量部、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル６０重量部を５０℃に加熱しながら溶解し、十分冷却後有機金属群として、テトラエトキシジルコニウムの加水分解生成物を添加混合した。その後低軟化点ガラス材料とフィラー、発色剤、の混合粉末からなる無機粉末を８０重量部添加し、混練機を用いて混練した。低軟化点ガラス材料としては、組成がＫ2Ｏ：９％、ＳｉＯ2：２２％、Ａｌ2Ｏ3：２３％、Ｂ2Ｏ3：３３％、ＢａＯ：４％、ＺｎＯ：２％、ＭｇＯ：７％であるガラス微粒子を用いた。このガラスの平均屈折率は１．５９、荷重軟化点は５１９℃、平均粒子径は２．６μmである。この有機金属群添加量および無機粉末組成を表４に示した。
【００７０】
【表４】
0004135385.tif 000005
【００７１】
（実施例１４〜１６、比較例８〜１０）
感光性ペーストは、メチルメタクリレート／メタクリル酸コポリマ（重量組成比６０／４０）にコポリマ１００重量部に対してグリシジルアクリレートを４０重量部付加させたコポリマ１０重量部、トリメチロールプロパントリアクリレート１０重量部に光重合開始剤（２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モリフォリノフェニル）ブタノン）５重量部、増感剤（２，４−ジエチルチオキサントン）２重量部、有機染料（ベーシックブルー２６）０．０１重量部、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル６０重量部を５０℃に加熱しながら溶解し、十分冷却後有機金属群を添加混合した。その後低軟化点ガラス材料とフィラー、発色剤、の混合粉末からなる無機粉末を８０重量部添加し、混練機を用いて混練した。低軟化点ガラス材料としては、組成がＬｉ2Ｏ：５％、ＳｉＯ2：２６％、Ａｌ2Ｏ3：２３％、Ｂ2Ｏ3：３３％、ＢａＯ：４％、ＺｎＯ：２％、ＭｇＯ：７％であるガラス微粒子を用いた。このガラスの平均屈折率は１．５９、荷重軟化点は５３３℃、平均粒子径は２．９μmである。この有機金属群添加量および無機粉末組成を表５に示した。
【００７２】
【表５】
0004135385.tif 000006
【００７３】
（実施例１７〜１９、比較例１１）
隔壁形成用ペーストは、ヒドロキシエチルセルロース１０重量部にブチルカルビトールアセテート９０重量部を５０℃に加熱しながら溶解し、十分冷却後有機金属群を添加混合した。その後低軟化点ガラス材料とフィラー、発色剤、の混合粉末からなる無機粉末を９０重量部添加し、混練機を用いて混練した。低軟化点ガラス材料としては、組成がＢｉ2Ｏ3：６２、ＳｉＯ2：４、Ａｌ2Ｏ3：３、Ｂ2Ｏ3：１５、ＢａＯ：５、ＺｎＯ：８、ＭｇＯ：８である平均粒子径１．７μmのガラス微粒子を用いた。このガラスの荷重軟化点は５１０℃である。この有機金属群添加量および無機粉末組成を表６に示した。
【００７４】
【表６】
0004135385.tif 000007
【００７５】
（サンドブラスト法）
サンドブラスト用マスクを構成するフォトレジストとして、光硬化型ドライフィルム（東京応化工業製、ＯＳＢＲフィルム）を用いた。
【００７６】
障壁形成用ガラスペーストを基板にブレードコート法により乾燥厚みを２１０μｍとなるように塗布した。そして、ペースト中の有機バインダーに含まれる溶剤を除去するために９０分間８０℃で乾燥を行った。
次いで、基板を５０〜８０℃に加熱し、前記のサンドブラスト用マスクを構成するドライフィルムをラミネートした後、超高圧水銀灯を光源とする平行光をプリンターを用い、ラインパターンマスクを介して紫外線によりパターン露光を行った。露光条件は、３６５ｎｍで測定した時に、強度２００μｗ／ｃｍ2、照射量７０ｍＪ／ｃｍ2 である。続いて、現像工程では、無水炭酸ナトリウム０．２ｗｔ％水溶液により液温３０〜５０℃でスプレー現像を行った。以上の工程によりサンドブラスト用マスクが得られた。
【００７７】
その後、乾燥工程を経てのサンドブラストによる不要部分の除去処理を行った。
サンドブラストによる不要部分の除去工程では、研磨材として褐色溶融アルミナ＃４００を用い、噴出圧力３ｋｇ／ｃｍ2でサンドブラスト処理を行うことにより、障壁のパターンを得た。パターン形成が済んで不要となった残余のドライフィルムは除去した。
【００７８】
（感光性ペースト法）
電極、誘電体層を形成したガラス基板上に、スクリーン印刷により感光性ペーストを均一に塗布した。塗布膜にピンホールなどの発生を回避するために塗布、乾燥を数回以上繰り返して行い、乾燥厚みが２１０μmになるように塗布した。途中の乾燥は８０℃で１０分間行った。その後、８０℃で６０分乾燥した。
【００７９】
次に、プラズマディスプレイの隔壁パターン形成を目的としたフォトマスクを介して露光を行った。このとき、該マスクが汚染されるのを防ぐため、マスクと塗膜面に１００μmのギャップを設けた。その後、３５℃に保持したモノエタノールアミンの０．３重量％水溶液をシャワーで１８０秒間かけることにより現像し、その後、３５℃に保持したモノエタノールアミンの０．３重量％水溶液をシャワーで１８０秒間かけることにより現像し、その後シャワースプレーを用いて水洗浄し、光硬化していないスペース部分を除去してガラス基板上にストライプ状の隔壁パターンを形成した。さらに、シャワースプレーを用いてパターンの水洗浄を行った。
【００８０】
以上の通り、隔壁パターンの加工を終了したガラス基板（実施例１〜６、比較例１〜５についてはサンドブラスト法、実施例７〜１１、比較例６〜１０については感光性ペースト法）を８０℃で１５分乾燥した後、表１〜５に記載の温度で１５分焼成し隔壁を形成した。焼成後、投入基板のうち数枚を抽出し、破壊強度とドメイン径、破壊面の評価を行った。評価結果を表７に示した。
【００８１】
【表７】
0004135385.tif 000008
【００８２】
なお、発色剤及びフィラーの平均粒径は以下の表８の通りであった。
【００８３】
【表８】
0004135385.tif 000009
【００８４】
次に、上記の評価を行っていない基板上の隣り合う隔壁間に蛍光体を塗布した。蛍光体の塗布は、口径１３０μmの穴が形成されたノズル先端から蛍光体ペーストを塗布するディスペンサー法により行った。蛍光体は隔壁側面に焼成後厚み２５μm、誘電体層上に焼成後厚み２５μmになるように塗布した後に、５００℃で１０分間の焼成を行った。
【００８５】
さらに作製した前面基板と背面基板を封着ガラスを用いて封着して、キセノン５％を含有するネオンガスをパネル内部ガス圧６６５００Ｐａになるように封着した。さらに駆動回路を実装してＰＤＰを作製した。
【００８６】
作製したＰＤＰのクロストークおよび混色などの表示欠陥の発生状況は表７に記した。
【００８７】
【発明の効果】
本発明のディスプレイ用部材は、十分な強度的耐性と応力緩衝効果を持つために蛍光体層形成および封着などの工程に十分耐えうる強度を有し、さらにはもし、微小クラックが生じても、このクラックの拡張を防止しパネル封着時の破損を防止でき、隔壁欠損の少ないディスプレイ用部材およびディスプレイを歩留まりよく得ることができる。を形成することで、強度が十分に高く、製造工程中に欠けなどが発生し難い、精細度の高いディスプレイ用部材およびディスプレイを提供する。
【００８８】
すなわちフィラー等の無機添加物またはその凝集構造あるいは微細な気孔を隔壁組織中に導入することによって、製造工程中に何らかの理由で隔壁に応力集中した場合にも緩衝効果を呈する隔壁を有するディスプレイ用部材およびディスプレイに関するものである。これは金属酸化物の集合体により構成される海島構造を導入することにより隔壁形成以降の工程歩留まりの高いディスプレイ用部材およびそれを用いた各種ディスプレイを提供するものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】  隔壁頂部付近に剪断力が負荷された際の引っ掻き強度の測定方法を図示したものである。
【図２】  測定動作ダイヤグラムと変位−荷重曲線グラフである。
【図１】
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【図２】
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