(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性支持体上に感光層を設けた電子写真感光体において、該感光層のバインダー樹脂が少なくとも一般式（２）又は（３）で表された共重合体と下記一般式（４）で表される化合物の二種以上を共存させ硬化させたものであることを特徴とする電子写真感光体。
【化１】
0004079350.tif 000028
（式中、Ｒ１、Ｒ７、Ｒ３０、Ｒ３２は水素またはメチル基、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４のアルコキシ基を表し、これら置換基は同一でも異なってもよく、アルコキシ基は一つ以上、三つ以下置換されていてもよい。Ｒ９は水素またはメチル基を表す。Ａｒ１、Ａｒ２は置換もしくは無置換のアリール基を表し、これらは同一であっても異なってもよい。Ａｒ３、Ａｒ４は置換もしくは無置換のアリーレン基を表し、これらは同一であっても異なってもよい。Ｄは単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換シクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表す。Ｒ８は、炭素数１〜４の置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基を表し、Ｒ３１は水素、炭素数１〜４の置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基、Ｒ３３はポリシロキサン置換アルキル基を表す。ｎは１〜４の整数、Ｏ、Ｐ、Ｑ、Ｇ、Ｈは共重合比を表し、全重量比で０．１≦Ｏ≦０．７、０．２≦Ｐ≦０．８、０≦Ｑ≦０．５、０≦Ｇ≦０．５、０≦Ｈ≦０．５の範囲（Ｏ＋Ｐ＋Ｑ＋Ｇ＋Ｈ＝１）で表す。ｔは繰り返し単位を表し１０〜１０００の整数である。）
【化２】
0004079350.tif 000029
（式中、Ｒ１、Ｒ７、Ｒ３０、Ｒ３２は水素またはメチル基、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４のアルコキシ基を表し、これら置換基は同一でも異なってもよく、アルコキシ基は一つ以上、三つ以下置換されていてもよい。Ｒ１０は水素またはメチル基を表す。Ａｒ５、Ａｒ６は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ７は置換もしくは無置換のアリーレン基を表し、Ｒ８は、炭素数１〜４の置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基を表し、Ｒ３１は水素、炭素数１〜４の置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基を表し、Ｒ３３はポリシロキサン置換アルキル基を表す。ｎは１〜４の整数、ａ、ｂ、ｃ、ｅ、ｆは共重合比を表し、全重量比で０．１≦ａ≦０．７、０．２≦ｂ≦０．８、０≦ｃ≦０．５、０≦ｅ≦０．５、０≦ｆ≦０．５の範囲（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｅ＋ｆ＝１）で表す。ｕは繰り返し単位を表し１０〜１０００の整数である。）
【化３】
0004079350.tif 000030
（式中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14は水酸基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはアリール基を表す。）
【請求項２】
少なくとも感光体、帯電手段、画像露光手段、現像手段及び転写手段を備えた画像形成装置であって、該感光体が導電性支持体上に請求項１に記載のバインダー樹脂を用いた感光層を設けた電子写真感光体であることを特徴とする画像形成装置。
【請求項３】
感光体と、帯電手段、現像手段及びクリーニング手段から選ばれた少なくとも一つの手段とを一体的に支持してなり、画像形成装置に着脱自在とした画像形成装置用プロセスカートリッジであって、該感光体が請求項１に記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成装置用プロセスカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は電子写真感光体、該電子写真感光体を有する電子写真装置及びプロセスカートリッジに関し、詳しくは、感光層におけるバインダー樹脂を硬化させた電子写真感光体、該電子写真感光体を有する電子写真装置及び電子写真装置用プロセスカートリッジに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、電子写真感光体は有機光導電性物質を含有する有機感光体が最も広く用いられている。有機感光体は可視光から赤外光まで各種露光光源に対応した材料が開発し易いこと、環境汚染のない材料を選択できること、製造コストが安いこと等が他の無機光導電性物質を含有する感光体（無機電子写真感光体）に対して有利な点であるが、唯一の欠点は機械的強度が弱く、多数枚の複写やプリント時に感光体表面の劣化や傷の発生がしやすいことである。
【０００３】
電子写真感光体の表面には、帯電器、現像器、転写手段、及びクリーニングブラシ・ブレード等により、電気的、機械的な外力が直接加えられるため、それらに対する耐久性が要求される。具体的には、摺擦による感光体表面の摩耗や傷の発生、コロナ帯電時に発生するオゾンや活性酸素、放電による耐アーク性等による感光体表面の劣化等に対する耐久性が要求される。
【０００４】
上記のような感光体表面に要求される様々な特性を満たすため、これまで種々のことが検討されてきた。例えば、有機感光体の表面層にＢＰＺポリカーボネートをバインダー樹脂として用いることにより、表面層の摩耗特性、トナーフィルミング特性が改善されることが知られている。また、特開平６−１１８６８１号公報では感光体の表面保護層として、コロイダルシリカ含有硬化性シリコーン樹脂を用いることが報告されている。
しかし、ＢＰＺポリカーボネートバインダーを用いた有機感光体では、なお耐摩耗特性が不足しており、十分な耐久性を有していない。一方、コロイダルシリカ含有硬化性シリコーン樹脂の表面層では耐摩耗特性は改善されるが、繰り返し使用時の電子写真特性が不十分であり、カブリや画像ボケが発生しやすく、やはりこれも耐久性が不十分である。
【０００５】
この様な欠点を改善する方法として、特開平９−１２４９４３号公報や特開平９−１９０００４号公報では、有機ケイ素変性正孔輸送性化合物を硬化性有機ケイ素系高分子中に結合させた樹脂層を、表面層として有する感光体を提案している。しかし、この樹脂層は高湿環境下でカブリや画像ボケが発生しやすく十分な耐久性を有していない。また特開２０００−１７１９９０号公報では水酸基をもつ電荷輸送材とシランカップリング剤とを反応させて得られた硬化膜で保護層を設けているが、未反応シラノールが残存して高湿環境で画像ボケが発生し十分でない。また、シリコーン樹脂と従来の電荷輸送材とは相溶性が悪く白濁する。このため、シリコーン樹脂との相溶性基である水酸基をもつ電荷輸送材が使用される、しかし水酸基は電荷輸送でのトラップサイトとなり、感度低下をまねく、あるいは水酸基はオゾン、Ｎｏｘ、活性酸素との作用が大きく表面抵抗を下げ、そのために画像での解像力低下が発生する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、上記の問題点を解決するものであって、表面硬度が高く、耐摩耗性が高く、繰り返し時の電子写真特性が高温高湿下でも安定な、従って、良好な画像が繰り返し使用に於いても得られる電子写真感光体を提供し、さらには前記感光体を用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することにある。
【０００７】
上記課題は下記（１）〜（３）によって解決される。
【０００８】
（１）導電性支持体上に感光層を設けた電子写真感光体において、該感光層のバインダー樹脂が少なくとも一般式（２）又は（３）で表された共重合体と下記一般式（４）で表される化合物の二種以上を共存させ硬化させたものであることを特徴とする電子写真感光体。
【化１】
0004079350.tif 000002
（式中、Ｒ１、Ｒ７、Ｒ３０、Ｒ３２は水素またはメチル基、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４のアルコキシ基を表し、これら置換基は同一でも異なってもよく、アルコキシ基は一つ以上、三つ以下置換されていてもよい。Ｒ９は水素またはメチル基を表す。Ａｒ１、Ａｒ２は置換もしくは無置換のアリール基を表し、これらは同一であっても異なってもよい。Ａｒ３、Ａｒ４は置換もしくは無置換のアリーレン基を表し、これらは同一であっても異なってもよい。Ｄは単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換シクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表す。Ｒ８は、炭素数１〜４の置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基を表し、Ｒ３１は水素、炭素数１〜４の置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基、Ｒ３３はポリシロキサン置換アルキル基を表す。ｎは１〜４の整数、Ｏ、Ｐ、Ｑ、Ｇ、Ｈは共重合比を表し、全重量比で０．１≦Ｏ≦０．７、０．２≦Ｐ≦０．８、０≦Ｑ≦０．５、０≦Ｇ≦０．５、０≦Ｈ≦０．５の範囲（Ｏ＋Ｐ＋Ｑ＋Ｇ＋Ｈ＝１）で表す。ｔは繰り返し単位を表し１０〜１０００の整数である。）
【化２】
0004079350.tif 000003
（式中、Ｒ１、Ｒ７、Ｒ３０、Ｒ３２は水素またはメチル基、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４のアルコキシ基を表し、これら置換基は同一でも異なってもよく、アルコキシ基は一つ以上、三つ以下置換されていてもよい。Ｒ１０は水素またはメチル基を表す。Ａｒ５、Ａｒ６は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ７は置換もしくは無置換のアリーレン基を表し、Ｒ８は、炭素数１〜４の置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基を表し、Ｒ３１は水素、炭素数１〜４の置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基を表し、Ｒ３３はポリシロキサン置換アルキル基を表す。ｎは１〜４の整数、ａ、ｂ、ｃ、ｅ、ｆは共重合比を表し、全重量比で０．１≦ａ≦０．７、０．２≦ｂ≦０．８、０≦ｃ≦０．５、０≦ｅ≦０．５、０≦ｆ≦０．５の範囲（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｅ＋ｆ＝１）で表す。ｕは繰り返し単位を表し１０〜１０００の整数である。）
【化３】
0004079350.tif 000004
（式中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14は水酸基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはアリール基を表す。）
【００１１】
（２）少なくとも感光体、帯電手段、画像露光手段、現像手段及び転写手段を備えた画像形成装置であって、該感光体が導電性支持体上に上記（１）に記載のバインダー樹脂を用いた感光層を設けた電子写真感光体であることを特徴とする画像形成装置。
【００１２】
（３）感光体と、帯電手段、現像手段及びクリーニング手段から選ばれた少なくとも一つの手段とを一体的に支持してなり、画像形成装置に着脱自在とした画像形成装置用プロセスカートリッジであって、該感光体が上記（１）に記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成装置用プロセスカートリッジ。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明をさらに詳細に説明する。
本発明の電子写真感光体は、感光層におけるバインダーとして一般式（１）で表された共重合樹脂を用いることで従来の電荷輸送材との相溶性がよく、かつ電気特性がよい硬化膜を形成させたものである。
一般式（１）で表された共重合体はアルコキシシリル基が置換されたアクリルエステルあるいはメタクリルエステルの反応サイトと、フィルム成膜性と電荷輸送材との相溶サイトであるスチレン及びその誘導体と、アクリルエステルあるいはメタクリルエステルの共重合体である。
【化９】
0004079350.tif 000005
【００１４】
（式中、Ｒ1、Ｒ5、Ｒ7、Ｒ30、Ｒ32は水素またはメチル基、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４のアルコキシ基を表し、これら置換基は同一でも異なってもよく、アルコキシ基は一つ以上、三つ以下置換されていてもよい。
Ｒ6は水素、炭素数１〜４の置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、Ｒ8は、炭素数１〜４の置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基を表し、Ｒ31は水素、炭素数１〜４の置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基を表し、Ｒ33はポリシロキサン置換アルキル基を表す。
ｎは１〜４の整数、ｍは１〜５の整数、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｗ、Ｖは共重合比を表し、全重量比で０．１≦Ｘ≦０．７、０．２≦Ｙ≦０．８、０≦Ｚ≦０．５、０≦Ｗ≦０．５、０≦Ｖ≦０．５の範囲（Ｘ＋Ｙ＋Ｚ＋Ｗ＋Ｖ＝１）で表す。Ｓは繰り返し単位を表し１０〜１０００の整数である。）
【００１５】
▲１▼  Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4の炭素数１〜４のアルキル基とは直鎖、分岐のアルキル基を表し、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基で定義され、
▲２▼  炭素数１〜４のアルコキシ基とは直鎖、分岐のアルキル基を表し、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基で定義される。
【００１６】
Ｒ6の炭素数１〜４のアルキル基は前記▲１▼で定義される炭素数１〜４のアルコキシ基と同じであり、
▲３▼  置換アルキル基とは、上記▲１▼で定義されたアルキル基にフッ素原子、水酸基、シアノ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的にはトリフルオロメチル基、２−ヒドロキエチル基、２−エトキシエチル基、２−シアノエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−フェニルベンジル基、テトラヒドロフルフリル基、等が挙げられ、
▲４▼  置換もしくは無置換のアリール基としては具体例として、縮合多環式炭化水素基、非縮合炭素環式基及び複素環基が挙げられる。
【００１７】
該縮合多環式炭化水素基としては、好ましくは環を形成する炭素数が１８個以下のもの例えば、ペンタニル基、インデニル基、ナフチル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、ａｓ−インダセニル基、ｓ−インダセニル基、フルオレニル基、アセナフチレニル基、プレイアデニル基、アセナフテニル基、フェナレニル基、フェナントリル基、アントリル基、フルオランテニル基、アセフェナントリレニル基、アセアントリレニル基、トリフェニレル基、ピレニル基、クリセニル基、及びナフタセニル基等が挙げられる。
【００１８】
該非縮合炭素環式基としては、ベンゼン、ジフェニルエーテル、ポリエチレンジフェニルエーテル、ジフェニルチオエーテル及びジフェニルスルホン等の単環式炭化水素化合物の１価基、あるいはビフェニル、ポリフェニル、ジフェニルアルカン、ジフェニルアルケン、ジフェニルアルキン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン、１，１−ジフェニルシクロアルカン、ポリフェニルアルカン、及びポリフェニルアルケン等の非縮合多環式炭化水素化合物の１価基、あるいは９，９−ジフェニルフルオレン等の環集合炭化水素化合物の１価基が挙げられる。
【００１９】
複素環基としては、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、オキサジアゾール、及びチアジアゾール等の１価基が挙げられる。
【００２０】
アリール基は例えば以下に示すような置換基を有してもよい。
（１）ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等。
【００２１】
（２）トリフルオロメチル基、２−ヒドロキエチル基、２−エトキシエチル基、２−シアノエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−フェニルベンジル基等。
【００２２】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ20）であり、Ｒ20は▲１▼で定義したアルキル基を表す。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、ベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【００２３】
（４）アリールオキシ基であり、アリール基としてはフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基等が挙げられる。
【００２４】
（５）
【化１０】
0004079350.tif 000006
（式中、Ｒ21及びＲ22は各々独立に水素原子、▲１▼で定義したアルキル基、またはアリール基を表す。アリール基としては、例えばフェニル基、ビフェニル基又はナフチル基が挙げられ、これらは炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有してもよい。Ｒ21及びＲ22は共同で環を形成してもよい）
具体的には、アミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（トリール）アミノ基、ジベンジルアミノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基等が挙げられる。
【００２５】
（６）置換又は無置換のスチリル基、置換又は無置換のβ−フェニルスチリル基、ジフェニルアミノフェニル基、ジトリルアミノフェニル基等。
【００２６】
（７）下記アルキレン、ビニレンで連結された置換もしくは無置換のアリール基
【化１１】
0004079350.tif 000007
（Ｒ23は水素、アルキル基〔前記▲１▼で定義されるアルキル基と同じ〕、アリール基としては、フェニル基、ビフェニル基、トリフェニルアミノ基、ジトリルアミノフェニル基等、ｉは２〜４、ｋは１または２を表す。）
【００２７】
Ｒ8は炭素数１〜４の置換もしくは無置換のアルキル基（前記▲１▼で定義されるアルキル基と同じ）であり、置換アルキル基としては前記▲３▼で定義されたものと同じ、置換もしくは無置換のアリール基としては前記▲４▼で定義されたものと同じである。
【００２８】
Ｒ31は水素、炭素数１〜４の置換もしくは無置換のアルキル基（前記▲１▼で定義されるアルキル基と同じ）であり、置換アルキル基として前記▲３▼で定義されたものと同じ、置換もしくは無置換のアリール基としては前記▲４▼で定義されたものと同じである。
【００２９】
Ｒ33はポリシロキサン置換アルキル基を表し、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン置換アルキル基である。
【００３０】
一般式（１）の共重合体を構成するための具体例モノマー化合物としては以下に挙げられるが、これに限定されるものでない。
３−メタクリルオキシプロピルジメトキシメチルシラン、３−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、スチレン、４−メチルスチレン、３−メチルスチレン、２，５−ジメチルスチレン、４−エチルスチレン、３−エチルスチレン、４−イソプロピルスチレン、４−ブチルスチレン、４−メトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、α−メチルスチレン、４−クロル−α−メチルスチレン、４−ビニル−ｏ−テルフェニル、４−ジフェニルアミノスチレン、４−ジトリルアミノスチレン、４−フェニルスチレン、４−トリフェニルメチルスチレン、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、アリルメタクリレート、ｉ−ブチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ｐ−ビフェニルメタクリレート、ｍ−ビフェニルメタクリレート、トリフルオロメチルメタクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート等。
【００３１】
一般式（２）、（３）で表わされた共重合体は、一般式（１）の共重合体と同様に、アルコキシシリル基が置換されたアクリルエステルあるいはメタクリルエステルと、電荷輸送機能及び相溶サイトであるアリールアミン（メタ）アクリルエステルと、アクリルエステルあるいはメタクリルエステルとの共重合体である。
【００３２】
【化１２】
0004079350.tif 000008
【００３３】
【化１３】
0004079350.tif 000009
【００３４】
ここでＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ31、Ｒ32及びＲ33は一般式（１）で説明した置換基と同様であり、Ｒ9、Ｒ10は水素、メチル基を表し、Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ5、Ａｒ6は置換もしくは無置換のアリール基で同一であっても異なってもよく、前記▲４▼で定義された１価のアリール基、Ａｒ3、Ａｒ4、Ａｒ7は置換もしくは無置換のアリーレン基で同一であっても異なってもよく、前記▲４▼で定義された２価のアリーレン基、Ｄは単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換シクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表す。
Ｏ、Ｐ、Ｑ、Ｇ、Ｈは共重合比を表し、全重量比で０．１≦Ｏ≦０．７、０．２≦Ｐ≦０．８、０≦Ｑ≦０．５、０≦Ｇ≦０．５、０≦Ｈ≦０．５（Ｏ＋Ｐ＋Ｑ＋Ｇ＋Ｈ＝１）で表され、ａ、ｂ、ｃ、ｅ、ｆは共重合比を表し、全重量比で０．１≦ａ≦０．７、０．２≦ｂ≦０．８、０≦ｃ≦０．５、０≦ｅ≦０．５、０≦ｆ≦０．５（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｅ＋ｆ＝１）で表される。ｔは繰り返し単位を表し１０〜１０００の整数、ｕは繰り返し単位を表し１０〜１０００の整数である。
【００３５】
上記アリールアミン（メタ）アクリル化合物の具体例としては以下のものが挙げられる。
【００３６】
【表１】
0004079350.tif 000010
【００３７】
【表２】
0004079350.tif 000011
【００３８】
これら共重合体は２〜５のモノマー成分をトルエン、あるいはトルエンとイソプロピルアルコールとの混合溶媒中でアゾビスイソブチロニトリル、アゾビスジメチルバレロニトリルなどのアゾ系、あるいは過酸化ベンゾイルなどの過酸化物の開始剤を用いて溶液重合される。反応液は粘度が上昇して１２０〜３００ｃｐ（２０℃）で得られる。モノマー固形分濃度は３０％以上で、好ましくは５０％以上で重合する。共重合体はポリスチレン換算分子量Ｍｗで１万以上が好ましく、さらに好ましくは１万〜１０万である。１万以下であると塗工液粘度が低く塗工膜厚が得られない。
【００３９】
共重合比はアルコキシシリル（メタ）アクリルモノマーの重量比で５％以上で好ましくは１０％以上であり、電荷輸送化合物との相溶性から８０％以下が望ましい、８０％以上であると電荷輸送化合物との相溶性が悪くなり、塗膜が濁り不透明化する。従って、スチレンあるいはその誘導体（又はアリールアミン（メタ）アクリルモノマー）、メタクリルモノマー、あるいはアクリルモノマーの共重合比率は２０〜９０％である。膜の硬度はアルコキシシリル（メタ）アクリルモノマーの比率が増すと未硬化膜硬度が下がるが、主鎖のモノマー種によるところも大きく、スチレンあるいは電荷輸送モノマーの比率が多くなると膜硬度が上昇する、
【００４０】
上記一般式（１）、（２）、（３）で表されるバインダー樹脂は反応性のアルコキシシリル基を含有していることから縮重合し、分子鎖間で架橋構造をとり、硬化し、硬い膜になる特徴をもち、またアルコキシシリル置換アクリレートは従来の電荷輸送化合物は相溶せず白化し不透明になるが、相溶サイトとしてスチレンまたはその誘導体、あるいは一般式２、及び３で表されるアリールアミン（メタ）アクリルモノマーを使用することで透明な相溶した膜が得られる。感光層の透明化は露光光源の光を透過することで感度劣化防止、残留電位発生抑制で重要であり、電荷輸送材と相溶することが必須である。
【００４１】
ポリスチレンと電荷輸送化合物との分子分散膜は電荷の移動機能がポリカーボネート樹脂より高く、感光体としては好ましいバインダー樹脂であるが、膜は脆く、摩耗量が大きく、実際には使用できない、従ってバインダー樹脂の架橋硬化は機械的特性で硬度の向上で耐久性の高いものとなる。
【００４２】
一般式（１）、（２）、（３）で表されたバインダー樹脂は単独で塩酸、硫酸、酢酸などの酸触媒、あるいはジブチル錫化合物の触媒を用いて硬化反応が進行して硬化膜が得られるが、下記一般式（４）で表されるシランカップリング剤をバインダー樹脂間の架橋として用いるのが好ましい。この場合、シランカップリング剤に前記の酸触媒を添加しておき、その後バインダー樹脂とを混合することが望ましい。
【００４３】
【化１４】
0004079350.tif 000012
（式中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14は水酸基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、アリール基を表す。）
【００４４】
具体的には、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジメトキシメチルフェニルシラン、ジエトキシメチルフェニルシラン、ジフェニルシランジオール、フェニルトリエトキシシラン、テトラエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ジエトキシジメチルシラン、トリエトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、トリエトキシビニルシラン、アリルトリエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、ジブトキシジメチルシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３，３，３−トリフロオロプロピルトリメトキシシラン、ジメトキシ−３，３，３−トリフロロオロプロピルシラン、ベンジルトリエトキシシラン等があげられる。
【００４５】
これらシランカップリング剤はそれぞれ１〜４官能基をもち、１官能基の調合が多いと架橋度が下がり、硬度が下がり、４官能基の調合が多いと架橋度が上昇し硬度が上がるが、塗工溶液の寿命、固体高分子反応のために未反応シラノールが残るため、それが湿度依存性を発生させ、画像ボケの原因となるため、１〜４官能基調合量、及び添加量が適宜決められる。
【００４６】
一般式（１）、（２）、（３）のバインダー樹脂とそれを硬化させる一般式（４）のシランカップリング剤に電荷輸送化合物、特に下記一般式（５）または（６）の電荷輸送化合物が添加されるのが好ましい。これら電荷輸送材はポリカーボネート、ポリスチレン、メタクリル樹脂などフィルム成膜性のよいバインダー樹脂とは相溶するが、特に反応サイトをもった硬化性樹脂とは相溶しないが一般式（１）、（２）、（３）の樹脂には相溶する。一般式（５）、（６）の電荷輸送材は硬化反応には組み込まれないがバインダー樹脂は硬化する。
【００４７】
【化１５】
0004079350.tif 000013
（式中、Ａｒ8、Ａｒ9は置換もしくは無置換のアリール基で同一であっても、異なってもよい、Ｒ15は置換基もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のアルキル基、アルコキシ基を表す。ｌは１〜４の整数である。）
【００４８】
上記アリール基としては前記▲４▼で定義されたもの、アルキル基としては前記▲１▼及び前記▲３▼で定義されるものである。表３及び表４に具体例を示す。
【００４９】
【表３】
0004079350.tif 000014
【００５０】
【表４】
0004079350.tif 000015
【００５１】
【化１６】
0004079350.tif 000016
（式中、Ａｒ10、Ａｒ11は置換もしくは未置換のアリール基で同一であっても、異なってもよい、Ｒ16は置換基もしくは未置換のアリール基、置換基もしくは未置換のアルキル基である。）
ここでＡｒ10、Ａｒ11は前記▲４▼で定義されるアリール基、Ｒ16は前記▲４▼で定義されるアリール基、前記▲１▼、▲３▼で定義されるアルキル基である。表５に具体例を示す。
【００５２】
【表５】
0004079350.tif 000017
【００５３】
次に、本発明の電子写真感光体の層構成について説明する。
導電性支持体としては、体積抵抗１０10Ω以下の導電性を示すもの、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、銀、金、白金、鉄等の金属、酸化スズ、酸化インジウム等の酸化物を、蒸着またはスパッタリングによりフィルム状もしくは円筒状のプラスチック、紙等に被覆したもの、又はアルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス等の板及びそれらをＤ．Ｉ．，Ｉ．Ｉ．，押出し、引き抜き等の工法で素管化後、切削、超仕上げ、研磨等で表面処理した管等を使用することができる。
【００５４】
本発明における感光層は、単層型であっても積層型であってもよいが、ここでは積層型について説明する。
【００５５】
まず、電荷発生層について説明する。
電荷発生層は、電荷発生材を主成分とする層で、必要に応じてバインダー樹脂を用いることもある。電荷発生材としては、無機系材料と有機系材料を用いることができる。
【００５６】
無機系材料には、結晶セレン、アモルファス・セレン、セレン−テルル、セレン−テルル−ハロゲン、セレン−ヒ素化合物やアモルファス・シリコン等が挙げられる。
アモルファス・シリコンにおいては、ダングリングボンドを水素原子、ハロゲン原子でターミネートしたものやホウ素原子、リン原子等をドープしたものが良好に用いられる。
【００５７】
一方、有機系材料としては、公知の材料を用いることができる。
例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系または多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料等が挙げられる。
これらの電荷発生材は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【００５８】
電荷発生層に必要に応じて用いられるバインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミド等が用いられる。
これらのバインダー樹脂は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【００５９】
さらに、必要に応じて電荷発生層には電荷輸送材を添加してもよい。
電荷輸送材としては、電子供与性物質が挙げられ、例えば、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン誘導体、９−（ｐ−ジエチルアミノスチリルアントラセン）、１，１−ビス−（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン誘導体、チアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェナジン誘導体、アクリジン誘導体、ベンゾフラン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、チオフェン誘導体等が挙げられる。
これらの正孔輸送物質は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【００６０】
電荷発生層を形成する方法には、真空薄膜作製法と、溶液分散系からのキャスティング法とが挙げられる。
前者の真空薄膜作製法には、真空蒸着法、グロー放電分解法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、ＣＶＤ法等が用いられ、上記した無機系材料、有機系材料により良好に形成できる。
また、後記のキャスティング法によって電荷発生層を設けるには、上記した無機系又は有機系電荷発生材を、必要ならばバインダー樹脂と共にテトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、ジオキサン、ジクロロエタン、ブタノン等の溶媒を用いてボールミル、アトライター、サンドミル等により分散し、分散液を適度に希釈して塗布することにより形成できる。
【００６１】
塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート法等を用いて行なうことができる。
このようにして設けられる電荷発生層の膜厚は、０．０１〜５μｍ程度が適当であり、好ましくは０．０５〜２μｍである。
【００６２】
次に、電荷輸送層について説明する。
一般式（１）、（２）及び／又は（３）のバインダー樹脂溶液に一般式（５）及び／又は（６）で表される電荷輸送材を溶解ないし分散し、あるいは一般式（１）、（２）及び／又は（３）のバインダー樹脂溶液に一般式（４）で示されるシランカップリング剤と一般式（５）及び／又は（６）で表される電荷輸送材とを溶解ないし分散し、これを塗工するが、バインダー樹脂と電荷輸送材との比率は固形分濃度でバインダー樹脂の０．５〜１．５倍量で好ましくは０．７〜１．１倍量である。電荷輸送層の膜厚は５〜５０μｍ、好ましくは１０〜２５μｍである。
なお、電荷輸送層のバインダー樹脂には、従来から使用されてきた樹脂を本発明の効果が阻害されない範囲で加えることができる。
【００６３】
重合溶媒がトルエン、トルエン−イソプロピルアルコールなどの混合溶媒であると、電荷輸送材の溶解には限度があり、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの環状エーテル溶媒、メチルエチケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒で溶解する。この溶液に塩酸、硫酸、酢酸などの酸触媒、あるいはジブチル錫化合物の触媒を添加して、上記電荷発生層上に浸漬法、スプレー法、リングコート法などで１０〜３０μｍの電荷輸送層を設ける。
【００６４】
また一般式（４）の化合物を添加する場合、アルコキシシラン化合物を塩酸水溶液、硫酸水溶液、酢酸水溶液などの酸水溶液、ジブチル錫化合物で加水分解させた溶液を準備し、バインダー樹脂と電荷輸送材溶液中に添加する、添加量はバインダー樹脂の固形分に対して０．１〜１倍量で添加されるのが好ましい。乾燥、及び硬化反応は５０℃以上で望ましくは１２０℃以上で行う。
【００６５】
次に感光層が単層構成３３の場合について述べる。上述した電荷発生材、電荷輸送材（好ましくは一般式（５）及び／又は（６）で表されるもの）を本発明の結着樹脂中に分散した感光体が使用できる。感光層は、電荷発生材および電荷輸送材および結着樹脂をテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロエタン、シクロヘキサン等の溶剤に溶解ないし分散し、これを浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート、リングコートなどで塗工して形成できる。また、必要により可塑剤やレベリング剤、酸化防止剤等を添加することもできる。感光層３３の膜厚は５〜２５μｍ程度が適当である。
【００６６】
上記感光層又は電荷輸送層の上に、耐久性の向上を目的として必要に応じて、フィラー、分散剤、結着樹脂、さらに電荷輸送材等を適当な溶媒に分散あるいは溶解し、塗布及び乾燥を行うことによって、保護層を設けてもよい。
【００６７】
前記保護層に用いることができるフィラーは、耐摩耗性を向上させる目的で添加される。フィラーは有機フィラー及び無機フィラーとに分類され、有機フィラー材料としては、ポリテトラフルオロエチレンのようなフッ素樹脂微粒子、シリコーン樹脂微粒子、ａ−カーボン粉末等が挙げられ、無機フィラー材料としては、銅、スズ、アルミニウム、インジウムなどの金属粉末、シリカ、酸化錫、酸化亜鉛、酸化チタン、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化ビスマス、酸化カルシウム、アンチモンをドープした酸化錫、錫をドープした酸化インジウム等の金属酸化物、フッ化錫、フッ化カルシウム、フッ化アルミニウム等の金属フッ化物、チタン酸カリウム、窒化硼素などの無機材料が挙げられる。これらのフィラーの中で、フィラーの硬度の点から無機材料を用いることが耐摩耗性の向上に対し有利である。
【００６８】
フィラーの平均一次粒径は、０．０１〜０．５μｍであることが、保護層の光透過率や耐摩耗性の点から好ましい。フィラーの平均一次粒径が０．０１μｍ以下の場合は、凝集、分散性の低下等から耐摩耗性の低下を引き起こし、０．５μｍ以上の場合には、フィラーの沈降性が促進されたり、それを用いて作製した感光体によって得られる画像に異常画像が発生したりする可能性がある。
【００６９】
保護層全体の膜厚としては、１μｍ〜１０μｍ、好ましくは２〜６μｍが適当である。膜厚が極度に薄い場合には、膜の均一性が低下したり、十分な耐摩耗性が得られない場合があり、膜厚が極度に厚い場合には、残留電位上昇の影響が増大したり、光透過率の低下により解像度やドット再現性の低下を引き起こす場合がある。
【００７０】
本発明の感光体においては、導電性支持体と感光層との間に下引き層を設けることができる。下引き層は一般には樹脂を主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶剤で塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対して耐溶剤性の高い樹脂であることが望ましい。
【００７１】
このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が挙げられる。
【００７２】
また、下引き層にはモアレ防止、残留電位の低減等のために酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示できる金属酸化物の微粉末顔料を加えてもよい。
【００７３】
これらの下引き層は、前述の感光層の如く適当な溶媒及び塗工法を用いて形成することができる。
【００７４】
更に本発明の下引き層として、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を使用することもできる。さらに、各種分散剤を添加することも可能である。この他、下引き層には、Ａｌ2Ｏ3を陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシリレン（パリレン）等の有機物やＳｉＯ2、ＳｎＯ2、ＴｉＯ2、ＩＴＯ、ＣｅＯ2等の無機物を真空薄膜作成法にて設けたものも良好に使用できる。このほかにも公知のものを用いることができる。
下引き層の膜厚は０〜５μｍが適当である。
【００７５】
また、本発明においては、耐環境性の改善のため、とりわけ、感度低下、残留電位の上昇を防止する目的で、酸化防止剤、可塑剤、滑剤、紫外線吸収剤などを添加することができる。
これら酸化防止剤等は、有機物を含む層（例えば、電荷発生層、電荷輸送層、下引き層、保護層、中間層等の少なくとも一層であればいずれに添加してもよいが、電荷輸送材を含む層に添加すると良好な結果が得られる。
【００７６】
本発明に用いることができる酸化防止剤としては、例えば、下記のものが挙げられる。
【００７７】
（ａ）モノフェノール系化合物として、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート等が挙げられる。
【００７８】
（ｂ）ビスフェノール系化合物として、２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）等が挙げられる。
【００７９】
（ｃ）高分子フェノール系化合物として、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス［３，３’−ビス（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアッシド］クリコールエステル、トコフェロール類等が挙げられる。
【００８０】
（ｄ）パラフェニレンジアミン類として、Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン等が挙げられる。
【００８１】
（ｅ）ハイドロキノン類として、２，５−ジ−ｔ−オクチルハイドロキノン、２，６−ジドデシルハイドロキノン、２−ドデシルハイドロキノン、２−ドデシル−５−クロロハイドロキノン、２−ｔ−オクチル−５−メチルハイドロキノン、２−（２−オクタデセニル）−５−メチルハイドロキノン等が挙げられる。
【００８２】
（ｆ）有機硫黄化合物類として、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネ−ト、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジテトラデシル−３，３’−チオジプロピオネート等が挙げられる。
【００８３】
（ｇ）有機燐化合物類として、トリフェニルホスフィン、トリ（ノニルフェニル）ホスフィン、トリ（ジノニルフェニル）ホスフィン、トリクレジルホスフィン、トリ（２，４−ジブチルフェノキシ）ホスフィン等が挙げられる。
【００８４】
これら化合物は、ゴム、プラスチック、油脂類等の酸化防止剤として知られており、市販品を容易に入手できる。
本発明における酸化防止剤の添加量は、電荷輸送材１００重量部に対して０．１〜１００重量部、好ましくは２〜３０重量部である。
【００８５】
各層に添加できる可塑剤として、例えば下記のものが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【００８６】
（ａ）リン酸エステル系可塑剤
リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、リン酸トリオクチル、リン酸オクチルジフェニル、リン酸トリクロルエチル、リン酸クレジルジフェニル、リン酸トリブチル、リン酸トリ−２−エチルヘキシル、リン酸トリフェニルなど。
【００８７】
（ｂ）フタル酸エステル系可塑剤
フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジ−２−エチルヘキシル、フタル酸ジイソオクチル、フタル酸ジ−ｎ−オクチル、フタル酸ジノニル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ジウンデシル、フタル酸ジトリデシル、フタル酸ジシクロヘキシル、フタル酸ブチルベンジル、フタル酸ブチルラウリル、フタル酸メチルオレイル、フタル酸オクチルデシル、フマル酸ジブチル、フマル酸ジオクチルなど。
【００８８】
（ｃ）芳香族カルボン酸エステル系可塑剤
トリメリット酸トリオクチル、トリメリット酸トリ−ｎ−オクチル、オキシ安息香酸オクチルなど。
【００８９】
（ｄ）脂肪族二塩基酸エステル系可塑剤
アジピン酸ジブチル、アジピン酸ジ−ｎ−ヘキシル、アジピン酸ジ−２−エチルヘキシル、アジピン酸ジ−ｎ−オクチル、アジピン酸−ｎ−オクチル−ｎ−デシル、アジピン酸ジイソデシル、アジピン酸ジカプリル、アゼライン酸ジ−２−エチルヘキシル、セバシン酸ジメチル、セバシン酸ジエチル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジ−ｎ−オクチル、セバシン酸ジ−２−エチルヘキシル、セバシン酸ジ−２−エトキシエチル、コハク酸ジオクチル、コハク酸ジイソデシル、テトラヒドロフタル酸ジオクチル、テトラヒドロフタル酸ジ−ｎ−オクチルなど。
【００９０】
（ｅ）脂肪酸エステル誘導体
オレイン酸ブチル、グリセリンモノオレイン酸エステル、アセチルリシノール酸メチル、ペンタエリスリトールエステル、ジペンタエリスリトールヘキサエステル、トリアセチン、トリブチリンなど。
【００９１】
（ｆ）オキシ酸エステル系可塑剤
アセチルリシノール酸メチル、アセチルリシノール酸ブチル、ブチルフタリルブチルグリコレート、アセチルクエン酸トリブチルなど。
【００９２】
（ｇ）エポキシ可塑剤
エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシステアリン酸デシル、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシステアリン酸ベンジル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジデシルなど。
【００９３】
（ｈ）二価アルコールエステル系可塑剤
ジエチレングリコールジベンゾエート、トリエチレングリコールジ−２−エチルブチラートなど。
【００９４】
（ｉ）含塩素可塑剤
塩素化パラフィン、塩素化ジフェニル、塩素化脂肪酸メチル、メトキシ塩素化脂肪酸メチルなど。
【００９５】
（ｊ）ポリエステル系可塑剤
ポリプロピレンアジペート、ポリプロピレンセバケート、ポリエステル、アセチル化ポリエステルなど。
【００９６】
（ｋ）スルホン酸誘導体
ｐ−トルエンスルホンアミド、ｏ−トルエンスルホンアミド、ｐ−トルエンスルホンエチルアミド、ｏ−トルエンスルホンエチルアミド、トルエンスルホン−Ｎ−エチルアミド、ｐ−トルエンスルホン−Ｎ−シクロヘキシルアミドなど。
【００９７】
（ｌ）クエン酸誘導体
クエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリエチル、クエン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリ−２−エチルヘキシル、アセチルクエン酸−ｎ−オクチルデシルなど。
【００９８】
（ｍ）その他
ターフェニル、部分水添ターフェニル、ショウノウ、２−ニトロジフェニル、ジノニルナフタリン、アビエチン酸メチルなど。
【００９９】
各層に添加できる滑剤としては、例えば下記のものが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０１００】
（ａ）炭化水素系化合物
流動パラフィン、パラフィンワックス、マイクロワックス、低重合ポリエチレンなど。
【０１０１】
（ｂ）脂肪酸系化合物
ラウリン酸、ミリスチン酸、パルチミン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸など。
【０１０２】
（ｃ）脂肪酸アミド系化合物
ステアリルアミド、パルミチルアミド、オレインアミド、メチレンビスステアロアミド、エチレンビスステアロアミドなど。
【０１０３】
（ｄ）エステル系化合物
脂肪酸の低級アルコールエステル、脂肪酸の多価アルコールエステル、脂肪酸ポリグリコールエステルなど。
【０１０４】
（ｅ）アルコール系化合物
セチルアルコール、ステアリルアルコール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリグリセロールなど。
【０１０５】
（ｆ）金属石けん
ステアリン酸鉛、ステアリン酸カドミウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウムなど。
【０１０６】
（ｇ）天然ワックス
カルナバロウ、カンデリラロウ、蜜ロウ、鯨ロウ、イボタロウ、モンタンロウなど。
【０１０７】
（ｈ）その他
シリコーン化合物、フッ素化合物など。
【０１０８】
各層に添加できる紫外線吸収剤として、例えば下記のものが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０１０９】
（ａ）ベンゾフェノン系
２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ４−メトキシベンゾフェノンなど。
【０１１０】
（ｂ）サルシレート系
フェニルサルシレート、２，４ジ−ｔ−ブチルフェニル３，５−ジ−ｔ−ブチル４ヒドロキシベンゾエートなど。
【０１１１】
（ｃ）ベンゾトリアゾール系
（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、（２’−ヒドロキシ５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、（２’−ヒドロキシ５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、（２’−ヒドロキシ３’−ターシャリブチル５’−メチルフェニル）５−クロロベンゾトリアゾール
【０１１２】
（ｄ）シアノアクリレート系
エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、メチル２−カルボメトキシ３（パラメトキシ）アクリレートなど。
【０１１３】
（ｅ）クエンチャー（金属錯塩系）
ニッケル（２，２’チオビス（４−ｔ−オクチル）フェノレート）ノルマルブチルアミン、ニッケルジブチルジチオカルバメート、ニッケルジブチルジチオカルバメート、コバルトジシクロヘキシルジチオホスフェートなど。
【０１１４】
（ｆ）ＨＡＬＳ（ヒンダードアミン）
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−４−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−３−オクチル−１，３，８−トリアザスピロ〔４，５〕ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなど。
【０１１５】
次に図面に基づいて、本発明の画像形成装置について説明する。
図１は、本発明の画像形成装置を説明するための概略図であり、下記するような変形例も本発明の範疇に属するものである。
図１において、感光体１は導電性支持体上に少なくとも感光層を有するものである。
感光体１はドラム状の形状を示しているが、シート状、エンドレスベルト状のものであってもよい。
帯電チャージャ３、転写前チャージャ７、転写チャージャ１０、分離チャージャ１１、クリーニング前チャージャ１３には、コロトロン、スコロトロン、固体帯電器（ソリッド・ステート・チャージャー）、帯電ローラをはじめとする公知の手段が用いられる。
転写手段には、一般に上記の帯電器が使用できるが、図に示されるように転写チャージャーと分離チャージャーを併用したものが効果的である。
【０１１６】
また、画像露光部５、除電ランプ２等の光源には、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード（ＬＥＤ）、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）等の発光物全般を用いることができる。
【０１１７】
そして、所望の波長域の光のみを照射するために、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター、干渉フィルター、色温度変換フィルター等の各種フィルターを用いることもできる。
このような光源等は、図１に示される工程の他に光照射を併用した転写工程、除電工程、クリーニング工程、又は前露光等の工程を設けることにより、感光体に光が照射される。
【０１１８】
そして、現像ユニット６により感光体１上に現像されたトナーは、転写紙９に転写されるが、全部が転写されるわけではなく、感光体１上に残存するトナーも生ずる。
このようなトナーは、ファーブラシ１４及びブレード１５により、感光体より除去される。
クリーニングは、クリーニングブラシだけで行なわれることもあり、クリーニングブラシにはファーブラシ、マグファーブラシをはじめとする公知のものが用いられる。
【０１１９】
電子写真感光体に正（負）帯電を施し、画像露光を行なうと、感光体表面上には正（負）の静電潜像が形成される。これを負（正）極性のトナー（検電微粒子）で現像すれば、ポジ画像が得られ、また正（負）極性のトナーで現像すれば、ネガ画像が得られる。この現像手段には、公知の方法が適用され、また、除電手段にも公知の方法が用いられる。
【０１２０】
図２に、本発明の画像形成装置の別の例を示す。
感光体２１はエンドレスベルト状であり、これが駆動ローラ２２ａ、２２ｂにより駆動され、帯電器２３による帯電、光源２４による像露光、現像（図示せず）、帯電器２５を用いる転写、光源２６によるクリーニング前露光、ブラシ２７によるクリーニング、光源２８による除電が繰返し行なわれる。
図２においては、感光体２１（この場合は支持体が透光性である）に支持体側よりクリーニング前露光の光照射が行なわれる。
【０１２１】
以上の図示した電子写真プロセスは、本発明における実施形態を例示するものであって、他の実施形態も可能である。
例えば、図２において支持体側よりクリーニング前露光を行っているが、これは感光層側から行ってもよいし、また、像露光、除電光の照射を支持体側から行ってもよい。
一方、光照射工程は、像露光、クリーニング前露光、除電露光が図示されているが、他に転写前露光、像露光のプレ露光、及びその他公知の光照射工程を設けて、感光体に光照射を行なうこともできる。
【０１２２】
図３には現像部、クリーニング部、帯電ローラーを一体化したユニットを示した、感光体３１は帯電ローラー３３で帯電され、露光光源４１は蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、発光ダイオード、半導体レーザーなどを用いて表面電荷を減衰させ、現像ユニット３４、現像スリーブ、３７上にドクター３９で薄層化されたトナーで現像し、トナーは転写紙上に転写する（図示せず）、未転写トナーはクリーニングユニット３５でクリーニングブレード３２でクリーニングされる。除去されたトナーはトナー搬送コイルで再度現像ユニットに回収され利用される。
【０１２３】
このような一体化ユニットは複写装置、ファクシミリ、プリンター内に固定して組み込まれてもよいが、プロセスカートリッジの形でそれらの装置内に組み込まれてもよい。プロセスカートリッジとは、感光体を内蔵し、他に帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段、除電手段の少なくとも１つを含んだ一つの装置（部品）である。
【０１２４】
【実施例】
次に実施例を上げて、本発明を具体的に説明する。ここでの部は重量基準である。
【０１２５】
［重合例１］
１００ｍｌの四つ口フラスコにメタアクリル酸３−トリメトキシシリルプロピル（ＬＳ３３８０、信越化学社製）１０ｇ、スチレン（Ｓｔ）１０ｇ、トルエン１３．３ｇ、アゾビスイソブチロニトリル０．２ｇを取り、攪拌しながらフラスコ中に窒素ガスを流し、窒素置換する。その後７０℃に昇温し、３時間反応し、７５℃に温度を上げ３時間、８０℃で２時間反応させ、重合を終了させて一般式（１）でＸ：０．５、Ｙ：０．５、Ｚ、Ｗ及びＶは０の共重合体（ポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ（以下同じ）：２５０００の共重合体１）を得た。
【０１２６】
［重合例２〜１４］
表６の組成で重合例１と同様にして重合し、一般式（１）で表わされる共重合体２〜１４を製造した。
【表６】
0004079350.tif 000018
ＬＳ３３７５        ：メタアクリル酸３−ジメトキシメチルシリルプロピ
ル（信越化学社製）
ＢｉＰＭＡ          ：ビフェニルメタクリレート
ＰｈＭＡ            ：フェニルメタクリレート
ＭＭＡ              ：メチルメタクリレート
ＢＭＡ              ：ｎ−ブチルメタクリレート
ＭＡ                ：メタクリル酸
ＨＥＭＡ            ：２−ヒドロキシエチルメタクリレート
Ｘ−２２−１７４ＤＸ：片末端アクリル変性シリコーンオイル（信越化学社製）
ＩＰＡ              ：イソプロピルアルコール
【０１２７】
この重合例２〜１４で製造された共重合体は下記のとおりである。
共重合体２はＸ：０．３３、Ｙ：０．６７、Ｚ、Ｗ、Ｖは０でＭｗ＝１５０００。
共重合体３はＸ：０．２５、Ｙ：０．７５、Ｚ、Ｗ、Ｖは０でＭｗ＝１２０００。
共重合体４はＸ：０．２、Ｙ：０．７、Ｚ：０．１、Ｗ、Ｖは０でＭｗ＝１８０００。
共重合体５はＸ：０．５、Ｙ：０．２５、Ｚ＝．２５、Ｗ、Ｖは０でＭｗ＝３５０００。
共重合体６はＸ：０．２５、Ｙ：０．３７５、Ｚ＝０．３７５、Ｗ、Ｖは０でＭｗ＝２７０００。
共重合体７はＸ：０．５、Ｙ：０．５、Ｚ、Ｗ、Ｖは０でＭｗ＝１９０００。
共重合体８はＸ：０．２５、Ｙ：０．２５、Ｚ＝０．２５、Ｗ＝０．２５、Ｖは０でＭｗ＝４７０００。
共重合体９はＸ：０．２５、Ｙ：０．２５、Ｚ＝０．２５、Ｗ＝０．２５、Ｖは０でＭｗ＝３５０００。
共重合体１０はＸ：０．５、Ｙ：０．２５、Ｚ＝．２５、Ｗ、Ｖは０でＭｗ＝３００００。
共重合体１１はＸ：０．５、Ｙ：０．４、Ｚ＝０．０５、Ｗ＝０、Ｖ＝０．０５でＭｗ＝４５０００。
共重合体１２はＸ：０．５、Ｙ：０．３、Ｚ＝０．１、Ｗ＝０．０５、Ｖ＝０．０５でＭｗ＝６５０００。
共重合体１３はＸ：０．５、Ｙ：０．３、Ｚ＝０．１、Ｗ＝０．０５、Ｖ＝０．０５でＭｗ＝７１０００。
共重合体１４はＸ：０．５、Ｙ：０．３、Ｚ＝０．０５、Ｗ＝０．０５、Ｖ＝０．１でＭｗ＝８００００。
【０１２８】
［重合例１５］
１００ｍｌの四つ口フラスコにメタアクリル酸３−トリメトキシシリルプロピル（ＬＳ３３８０、信越化学社製）１０ｇ、Ｎｏ．１０の化合物  １０ｇ、トルエン  ２０ｇ、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．２ｇを取り、攪拌しながらフルスコ中に窒素ガスを流し、窒素置換する。その後７０℃に昇温し、３時間反応し、７５℃に温度を上げ３時間、８０℃で２時間反応させ、重合を終了させて、一般式（２）でＯ＝０．５、Ｐ＝０．５、Ｑ、Ｇ及びＨは０の共重合体（Ｍｗ：１１０００）の共重合体１５を得た。
【０１２９】
［重合例１６〜２４］
表７の組成で重合例１５と同様にして重合し、一般式（２）又は（３）で表わされる共重合体１６〜２４を製造した。
【０１３０】
【表７】
0004079350.tif 000019
【０１３１】
この重合例１６〜２４で製造された共重合体は下記のとおりである。
共重合体１６はＯ＝０．４、Ｐ＝０．６、Ｑ、Ｇ、Ｈは０の一般式（２）で表される共重合体でＭｗ２４０００である。
共重合体１７はａ＝０．３５、ｂ＝０．５、ｃ＝０．１５、ｅ、ｆは０の一般式（３）で表される共重合体でＭｗ２８０００である。
共重合体１８はａ＝０．５、ｂ＝０．５、ｃ、ｅ、ｆは０の一般式（３）で表される共重合体でＭｗ１５０００である。
共重合体１９はＯ＝０．５、Ｐ＝０．５、Ｑ、Ｇ、Ｈは０の一般式（２）で表される共重合体でＭｗ２２０００である。
共重合体２０はＯ＝０．４５、Ｐ＝０．５５、Ｑ、Ｇ、Ｈは０の一般式（２）で表される共重合体でＭｗ２５０００である。
共重合体２１はＯ＝０．５、Ｐ＝０．４、Ｑ＝０、Ｇ＝０．０５、Ｈ＝０．０５の一般式（２）で表される共重合体でＭｗ３００００である。
共重合体２２はａ＝０．５、ｂ＝０．３、ｃ＝０．１、ｅ＝０．０５、ｆ＝０．０５の一般式（３）で表される共重合体でＭｗ１９０００である。
共重合体２３はＯ＝０．５、Ｐ＝０．３、Ｑ＝０．１、Ｇ＝０．０５、Ｈ＝０．０５の一般式（２）で表される共重合体でＭｗ２５０００である。
共重合体２４はＯ＝０．５、Ｐ＝０．３、Ｑ＝０．０５、Ｇ＝０．０５、Ｈ＝０．１の一般式（２）で表される共重合体でＭｗ２６０００である。
【０１３２】
（参考例１）
φ３０、３４０ｍｍのアルミニウムシリンダーに、下記の下引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液を浸漬法により塗工した後、電荷輸送層用塗工液をリング塗工し、１５０℃で３０分間乾燥、硬化させて電子写真感光体を作製した。膜厚は、下引き層：４μｍ、電荷発生層：０．２μｍ、電荷輸送層：２０μｍであった。
【０１３３】
〔下引き層用塗工液〕
下記組成をボールミルで２４時間分散して調製した。
アルキッド樹脂（ベッコゾール  １３０７−６０−ＥＬ、
大日本インキ化学工業製）                                  ６部
メラミン樹脂（スーパーベッカミン  Ｇ−８２１−６０、
大日本インキ化学工業製）                                  ４部
酸化チタン（ＣＲＥＬ  石原産業社製）                        ４０部
メチルエチルケトン                                        ２００部
【０１３４】
〔電荷発生層用塗工液〕
下記組成をボーリミルで７２時間粉砕、分散して調整した。
【化１７】
0004079350.tif 000020
ポリビニルブチラール（ＵＣＣ：ＸＹＨＬ）                      １部
テトラヒドロフラン                                          ５０部
【０１３５】
〔電荷輸送層用塗工液〕
重合例１の共重合体（固形分６０％）                        １．７部
Ｎｏ．２２の電荷輸送材                                        １部
テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）                                  ２部
ジブチル錫アセテート                                    ０．０２部
の溶液を３時間攪拌して調製した。
【０１３６】
（参考例２）
参考例１と同様に下引き層、電荷発生層を設けた上に、下記電荷輸送層用塗工液をリング塗工で塗工、１５０℃で３０分間乾燥、硬化させ２０μｍの電荷輸送層を設けて電子写真感光体を作製した。
［電荷輸送層塗工液］
重合例２の共重合体（固形分６０％）                                １．７部
Ｎｏ．２２の電荷輸送材                                                １部
ＴＨＦ                                                               ２部
トリメトキシメチルシラン                                          ０．２部
ジメチルジメトキシシラン                                          ０．２部
ジブチル錫アセテート                                            ０．０２部
の溶液を３時間攪拌して調製した。
【０１３７】
（参考例３〜１２）
参考例２と同様にして表８に示した組成で電子写真感光体を作製した。
【表８】
0004079350.tif 000021
【０１３８】
［比較重合例１］
１００ｍｌの四つ口フラスコにＬＳ３３８０  （信越化学社製）２０ｇ、イソプロピルアルコール  ２０ｇ、ＡＩＢＮ  ０．２ｇを取り、攪拌しながらフルスコ中に窒素ガスを流し、窒素置換する。その後７０℃に昇温し、３時間反応し、７５℃に温度を上げ３時間、８０℃で２時間反応させ、重合を終了させた。この単重合体Ｍｗは３３０００であった。
【０１３９】
［比較重合例２］
比較重合例１と同様にしてＬＳ３３７５（信越化学社製）を重合した。この単重合体Ｍｗは３５０００であった。
【０１４０】
［比較重合例３］
１００ｍｌの四つ口フラスコにＬＳ３３８０（信越化学社製）１８ｇ、Ｓｔ  ２ｇ、トルエン  １０ｇ、イソプロピルアルコール  １０ｇ、ＡＩＢＮ  ０．２ｇを取り、攪拌しながらフルスコ中に窒素ガスを流し、窒素置換する。その後７０℃に昇温し、３時間反応し、７５℃に温度を上げ３時間、８０℃で２時間反応させ、重合を終了させた。
この共重合体は一般式（１）のＸ＝０．９、Ｙ＝０．１、Ｚ、Ｗ及びＶは０の組成で、Ｍｗ：２８０００であった。
【０１４１】
［比較重合例４］
１００ｍｌの四つ口フラスコにＬＳ３３８０（信越化学社製）１６ｇ、Ｓｔ  ２ｇ、トルエン  １０ｇ、ＭＭＡ  ２ｇ、イソプロピルアルコール  １０ｇ、ＡＩＢＮ  ０．２ｇを取り、攪拌しながらフルスコ中に窒素ガスを流し、窒素置換する。その後７０℃に昇温し、３時間反応し、７５℃に温度を上げ３時間、８０℃で２時間反応させ、重合を終了させた。
この共重合体は一般式（１）のＸ＝０．８、Ｙ＝０．１、Ｚ＝０．１、Ｗ及びＶは０の組成で、Ｍｗ：４８０００であった。
【０１４２】
（比較例１）
参考例１と同様に下引き層、電荷発生層を設けた上に下記電荷輸送層用塗工液をリング塗工で塗工し、１５０℃で３０分間乾燥して、硬化させ、２０μｍの電荷輸送層を設けて電子写真感光体を作製した。電荷輸送層は相溶性が悪く、透明性がなく白化した。
［電荷輸送層用塗工液］
比較重合例１の重合体（固形分５０％）                                  ２部
Ｎｏ．２２の電荷輸送材                                                １部
ＴＨＦ                                                               ２部
トリメトキシメチルシラン                                          ０．２部
ジメチルジメトキシシラン                                          ０．２部
ジブチル錫アセテート                                            ０．０２部
の溶液を３時間攪拌して調製した。
【０１４３】
（比較例２）
比較例１の比較合成例１を比較合成例２に変更以外は同様にして電子写真感光体を作製した。電荷輸送層は相溶性が悪く、透明性がなく白化した。
【０１４４】
（比較例３）
比較例１の比較合成例１を比較合成例３に変更以外は同様にして電子写真感光体を作製した。塗膜は比較例１、２に比較すると白化はないものの濁りがあり、透明性に欠けるものであった。
【０１４５】
（比較例４）
参考例１と同様に下引き層、電荷発生層を設けた上に下記電荷輸送層（厚さ２０μｍ）をもうけて電子写真感光体を作製した。
〔電荷輸送層用塗工液〕
下記組成を溶解し調製した。
ポリスチレン（ＭＷ１  トーヨースチロール社製）                      １０部
Ｎｏ．２２の電荷輸送材                                                ７部
テトラヒドロフラン                                                 ７０部
１％シリコーンオイル（ＫＦ５０  信越シリコーン社製）
（テトラヒドフラン溶液）                                          １部
【０１４６】
（比較例５）
参考例１と同様に下引き層、電荷発生層を設けた上に下記電荷輸送層（厚さ２０μｍ）をもうけた。
〔電荷輸送層用塗工液〕
下記組成を溶解し調製した。
ポリカーボネートＺ（ＴＳ２０５０  帝人化成社製）                    １０部
Ｎｏ．２２の電荷輸送材                                                ７部
テトラヒドロフラン                                                 ７０部
１％シリコーンオイル（ＫＦ５０  信越シリコーン社製）
（テトラヒドフラン溶液）                                          １部
【０１４７】
参考例１〜１２及び比較例１〜５の感光体をローラー帯電方式、６５５ｎｍのレーザー露光、２成分現像方式、ウレタンゴムブレードカウンタークリーニング方式を具備したリコー製イマジオＭＦ２２００に装着し、１万枚のランニング試験を行った。結果を表９に示す。なお、感光層の摩耗量はフィッシャー製渦電流膜厚計で計測した。
【０１４８】
【表９】
0004079350.tif 000022
【０１４９】
（参考例１３）
φ３０ｍｍアルミニウムシリンダー上に、下記組成の下引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液を順次、塗布乾燥することにより、３．５μｍの下引き層、０．２μｍの電荷発生層を設けた。この上に、下組成の電荷輸送層用塗工液をリング塗工し、１５０℃で３０分間乾燥、硬化させ２０μｍの電荷輸送層を形成させ電子写真感光体を得た。
【０１５０】
〔下引き層用塗工液〕
アルキッド樹脂                                                ６部
（ベッコゾール  １３０７−６０−ＥＬ、大日本インキ化学工業製）
メラミン樹脂                                                  ４部
（スーパーベッカミン  Ｇ−８２１−６０、大日本インキ化学工業製）
酸化チタン                                                  ４０部
（ＣＲＥＬ  石原産業社製）
メチルエチルケトン                                        ２００部
【０１５１】
〔電荷発生層用塗工液〕
オキソチタニウムフタロシアニン顔料                            ２部
ポリビニルブチラール（ＵＣＣ：ＸＹＨＬ）                  ０．２部
テトラヒドロフラン                                          ５０部
【０１５２】
〔電荷輸送層用塗工液〕
重合例１１固形分５０％                                        ４部
Ｎｏ．３１の電荷輸送材                                    ０．７部
ジメトキシジメチルシラン                                ０．２５部
メチルトリメトキシシラン                                ０．７５部
ＴＨＦ                                                        １部
ジブチル錫アセテート                                    ０．０５部
の溶液を４時間攪拌して調製した。
【０１５３】
（参考例１４）
参考例１３と同様に下引き層、電荷発生層を設けた上に、下記電荷輸送層（厚さ２０μｍ）を設けて電子写真感光体を作製した。
［電荷輸送層用塗工液］
重合例１２の共重合体（固形分５０％）                                  ４部
Ｎｏ．２３の電荷輸送材                                                ２部
ジメトキシジメチルシラン                                        ０．２５部
メチルトリメトキシシラン                                        ０．７５部
ＴＨＦ                                                               ２部
ジブチル錫アセテート                                            ０．０５部
の溶液を４時間攪拌して調製した。
【０１５４】
（参考例１５〜１７）
参考例１３と同様にして表１０の組成で電子写真感光体を作製した。
【０１５５】
【表１０】
0004079350.tif 000023
【０１５６】
続いて、参考例１３〜１７で得られた感光体を図３に示したプロセスカートリッジに装着して、リコー製イマジオ２２００で１万枚のランニング試験を行った。結果を表１１に示した。
【０１５７】
【表１１】
0004079350.tif 000024
【０１５８】
（参考例１８）
比較例４の感光体上に参考例１１で用いた電荷輸送塗工液をリング塗工して、１５０℃３０分間乾燥、硬化して最上層に３μｍ設けた。
【０１５９】
（参考例１９）
比較例４の感光体上に重合例１２（固形分濃度５０％）１部、電荷輸送材（Ｎｏ．３２）、０．３部、エタノール１．７部、ジブチル錫アセテート０．０２部の溶液をリング塗工して、１５０℃３０分間乾燥、硬化させて３μｍ膜厚の最上層を設けた。
【０１６０】
（参考例２０）
比較例５の感光体上に以下の塗工液をリング塗工して、１５０℃３０分間乾燥、硬化させて３μｍ膜厚の最上層を設けた。
【０１６１】
（塗工液）
重合例１４を５部、アルミナ（ＡＡ０３  住友化学社製）１．５部、エタノール８部を振動ミルで２時間分散後、Ｎｏ．３２の電荷輸送材１．７部添加して再度３０分間分散して塗工液とした。
【０１６２】
続いて、参考例１８〜２０で得られた感光体を図３に示したプロセスカートリッジに装着して、リコー製イマジオ２２００で１万枚のランニング試験を行った。結果を表１２に示した。
【０１６３】
【表１２】
0004079350.tif 000025
【０１６４】
（参考例２１）
参考例１と同様に下引き層、電荷発生層を設けた上に重合例１５化合物（固形分濃度５０％）２部、ジブチル錫アセテート  ０．０５部の塗工液をリング塗工で塗工し、１５０℃で３０分間乾燥、硬化させ２０μｍの電荷輸送層を設けて電子写真感光体を作製した。
【０１６５】
（参考例２２、２３、実施例１〜３）
参考例１と同様に下引き層、電荷発生層を設けた上に、下記表１３に示した電荷輸送層塗工液を塗布し参考例２１と同様に感光体を作製した。
【表１３】
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【０１６６】
参考例２１〜２３、実施例１〜３の感光体を参考例１と同様にリコー製イマジオＭＦ２２００に装着し、１万枚のランニング試験を行った。結果を表１４に示した。
【表１４】
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【０１６７】
参考例１〜２３、実施例１〜３の感光体を温度３０℃、湿度９０％の環境で画像出しを行った結果、全ての感光体で画像ボケは観察されなかった。
【０１６８】
【発明の効果】
本発明によれば、相溶性が良く、感光特性が良好な硬化バインダー樹脂を使用することで高耐久性な電子写真感光体が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の画像形成・装置の概略図である。
【図２】本発明の別の画像形成・装置の概略図である。
【図３】本発明の画像形成装置用プロセスカートリッジの概略図である。
【符号の説明】
１  感光体
２  除電ランプ
３  帯電チャージャ
４  イレーサ
５  画像露光部
６  現像ユニット
７  転写前チャージャ
８  レジストローラ
９  転写紙
１０  転写チャージャ
１１  分離チャージャ
１２  分離爪
１３  クリーニング前チャージャ
１４  ファーブラシ
１５  クリーニングブラシ
１６  感光体
１７  帯電チャージャ
１８  クリーニングブラシ
１９  画像露光部
２０  現像ローラ
２１  感光体
２２  駆動ローラ
２３  帯電チャージャ
２４  像露光源
２５  転写チャージャ
２６  クリーニング前露光
２７  クリーニングブラシ
２８  除電光源
３１  感光体
３２  クリーニングブレード
３３  帯電ローラ
３４  現像ユニット
３５  クリーニングユニット
３６  搬送スクリュー
３７  現像スリーブ
３８  現像剤セットケース
３９  ドクター
４０  トナー搬送コイル
４１  画像露光部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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