(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁放射を提供する照明源と、
前記照明源からの電磁放射を受け取って、感光性レジストで被覆されたウェーハにレチクルの画像を投影するための照明スロットを形成し、当該照明スロットにより走査方向にレチクルを走査する光学系と、
前記光学系の一部として形成され、走査方向において位置に応じて増幅するエレメントのパターンであって、空間的に周波数変調されたパターンを有する多重アレイと、を有し、
これにより、前記多重アレイによって生ぜしめられるパターンノイズが減じられるようになっている、
走査式ホトリソグラフィ装置において使用するための照明系。
【請求項２】
前記照明源が、パルス源である、請求項１記載の照明系。
【請求項３】
前記照明源が、コヒレントである、請求項１記載の照明系。
【請求項４】
前記多重アレイの前記パターンが多重に印刷されるようになっている、請求項１記載の照明系。
【請求項５】
所定のパルスレートを有する電磁放射を提供するパルス照明源と、
前記照明源からの電磁放射を受け取って、感光性レジストで被覆されたウェーハにレチクルの画像を投影するための照明スロットを形成し、当該照明スロットにより走査方向にレチクルを走査する光学系と、
前記光学系の一部として形成され、走査方向において位置に応じて線形増幅するエレメントのパターンであって、空間的に周波数変調された周期的パターンを有する多重アレイと、を有し、
これによりパターンノイズが減じられるようになっている
走査式ホトリソグラフィ装置において使用するための照明系。
【請求項６】
前記多重アレイが、複数の区分から形成されており、該複数の区分の各隣接した区分がそれぞれ、異なる寸法を有する前記エレメントから形成されている、請求項５記載の照明系。
【請求項７】
前記複数の区分がそれぞれ、前記多重アレイの長さ方向に沿って長手方向に延びている、請求項６記載の照明系。
【請求項８】
前記多重アレイの長さ方向が、走査方向に対して垂直な方向である、請求項７記載の照明系。
【請求項９】
異なる寸法が、前記多重アレイの一方の端部から他方の端部にまで増大している、請求項８記載の照明系。
【請求項１０】
前記複数の区分が、多重のサイクルを形成するように繰り返されている、請求項８記載の照明系。
【請求項１１】
所定のパルスレートを有する電磁放射を提供するパルス照明源と、
前記照明源からの電磁放射を受け取って、感光性レジストで被覆されたウェーハにレチクルの画像を投影するための照明スロットを形成し、当該照明スロットにより走査方向にレチクルを走査する光学系と、
前記光学系の一部として形成され、走査方向において位置に応じて増幅するエレメントのパターンであって、空間的に周波数変調されたパターンを有する多重アレイと、
前記照明源に接続され、前記パルス照明源のパルスレートを周波数変調する変調器と、を有し、
これにより前記多重アレイによって生じるパターンノイズが減じられるようになっている、
走査式ホトリソグラフィ装置において使用するための照明系。
【請求項１２】
前記変調器が、周波数変調域と、周波数変調率とを有しており、レチクルの一回の走査の間に周波数変調域の少なくとも一回のサイクルが行われるようになっている、請求項１１記載の照明系。
【請求項１３】
ウェーハの与えられた部分を露光するために、少なくとも３０パルスが使用されるようになっている、請求項１１記載の照明系。
【請求項１４】
所定のパルスレートを有するパルスレーザ照明源と、
前記パルスレーザ照明源に接続され、パルスレーザ照明源のパルスレートを周波数変調する周波数変調器と、
前記パルスレーザ照明源から電磁放射を受け取るように配置されたビーム調整器と、
前記ビーム調整器から電磁放射を受け取るように配置され、走査方向において位置に応じて増幅するエレメントのパターンであって、空間的に周波数変調されたパターンを有する多重アレイと、
前記多重アレイから電磁放射を受け取るように配置されたコンデンサと、
前記コンデンサに後置され、方形の照明スロットが形成される照明面と、
レチクルの一部を照明する前記方形の照明スロットをレチクルに結合させるリレーと、
感光性レジストで被覆されたウェーハにレチクルの画像を投影する投影光学系と、
前記レチクルに接続されたレチクルステージと、
前記ウェーハに接続されたウェーハステージと、
前記レチクルステージおよび前記ウェーハステージに接続され、ウェーハの一部にレチクルの画像を投影しながら前記レチクルおよび前記ウェーハが同期的に走査されるように、前記レチクルステージおよび前記ウェーハステージの動作を制御するステージ制御系と、
を有する走査式ホトリソグラフィ装置。
【請求項１５】
前記変調器が、周波数変調域と、周波数変調率とを有しており、レチクルの一回の走査の間に周波数変調域の少なくとも一回のサイクルが行われるようになっている、請求項１４記載の走査式ホトリソグラフィ装置。
【請求項１６】
ウェーハの与えられた部分を露光するために、少なくとも３０パルスが使用されるようになっている、請求項１５記載の走査式ホトリソグラフィ装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置の製造のためのホトリソグラフィにおいて使用される照明系、特に多重アレイもしくは多像光学素子を使用する照明系に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体装置の製造時には、感光性レジストによって被覆された半導体ウェーハにレチクルの画像を再生するために、ホトリソグラフィ技術が用いられる。レチクルは、感光性レジストによって被覆されたウェーハ上に描かれるパターンを有している。一連の露光と、それに続く処理とを行った後、回路パターンを備えた半導体装置が製造される。電磁放射線束を提供して半導体ウェーハにレチクルの画像を投影するために、照明系が使用される。レチクルの画像は、投影光学系によって形成される。この投影光学系は、電磁放射をレチクルを通過した後に集束させて、感光性のレジストで覆われた半導体ウェーハにレチクルの画像を投影する。半導体装置製造技術が進歩するにしたがって、半導体装置を製造するために使用されるホトリソグラフィ装置の各コンポーネントに課せられる要求が、ますます増大している。このコンポーネントには、レチクルを照明するために使用される照明系も含まれる。照明の均一性を高め、光の損失を最小限に抑えるような、多数の従来の照明系が存在している。
【０００３】
このような照明系の１つは、１９９４年４月５日にクドーに発行された米国特許第５３００９７１号明細書、「投影露光装置」（Projection Exposure Apparatus）に開示されている。この明細書に開示された照明系は、回転偏光プリズムを備えたパルス光源を有しており、回転偏光プリズムは、光軸から離れた複眼レンズにパルス光を方向付けるために使用される。次いで、コンデンサが、複眼レンズからの光を集光してレチクルを照明するために使用される。別の照明系は、１９９４年３月２２日にモリに発行された米国特許第５２９６８９２号明細書、「照明装置およびこのような照明装置が設けられた投影露光装置」（Illuminating Apparatus and Projection Exposure Apparatus Provided With Such Illuminating Apparatus）に開示されている。この明細書に開示された照明系は、コンデンサの前に配置された集光器または複眼レンズを有している。集光器または複眼レンズは、照明系の放出側における開口数を変えられるように、交換可能に構成されている。別の照明系は、１９９３年９月１４日にモリに発行された米国特許第５２４５３８４号明細書、「照明光学装置およびこれを有する露光装置」（Illuminating Optical Apparatus and Exposure Apparatus Having The Same）に開示されている。この明細書に開示された照明系は、複数の二次的な光源のサイズを変化させるために集光器もしくは複眼レンズの前に配置された、アフォーカルズーム光学系を有している。さらに別の照明系は、１９９３年８月１７日にクドーに発行された米国特許第５２３７３６７号明細書、「照明光学系およびこれを使用する露光装置」（Illuminating Optical System and Exposure Apparatus Utilizing The Same）に開示されている。この明細書に開示された照明系は、第１の集光器もしくは複眼レンズと、第１のコンデンサを有しており、これらの後に第２の集光器もしくは複眼レンズと、第２のコンデンサとが配置されている。したがって、第２のコンデンサが、レチクルに照明を提供するようになっている。第１の集光器もしくは複眼レンズも、第１のコンデンサも、可変焦点距離を有している。さらに別の照明系が、１９９０年７月３日にキクチその他に発行された米国特許第４９３９６３０号明細書、「照明光学装置」（Illumination Optical Apparatus）に開示されている。この明細書に開示された照明系は、第１の集光器または複数の光源画像を形成するための手段を有しており、この後に、第２の光インテグレータまたは第３の光源形成手段が配置されており、さらにこの後にコンデンサが配置されており、このコンデンサが照明をレチクルに方向付ける。さらに別の照明系が、１９９６年７月９日にナカシマその他に発行された米国特許第５５３４９７０号明細書に開示されている。この明細書に開示された照明系は、走査式露光装置において所望の照明を得ることを目的として干渉縞を走査するために、走査式旋回鏡を使用している。さらに、より所望の照明特性を得るために、過去には可動ディフーザおよび別の確立した技術が使用されている。
【０００４】
これらの多くの従来の照明系は、特定の適用例のために改良された照明を提供しているが、未だに、容易に製造することができ、均一な照明を提供し、パターンノイズ効果を排除または低減するような照明装置を提供することが要求されている。このパターンノイズは、レーザ等の、コヒーレンス特性を有する照明源が走査式ホトリソグラフィ装置において使用される場合に、これらの従来の照明系において生じる
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
したがって、本発明の課題は、照明系、特にパルスレーザ源を使用する照明系において使用される多重アレイまたは多層光学素子の使用により生じるパターンノイズ効果を低減することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
この課題を解決するために本発明の構成では、照明源が設けられており、該照明源が、電磁放射を提供するようになっており、前記照明源からの電磁放射を受け取る光学系が設けられており、該光学系が、感光性レジストで被覆されたウェーハにレチクルの画像を投影するための照明スロットを形成しており、該照明スロットがレチクルを走査するようになっており、前記光学系の一部として形成された多重アレイが設けられており、照明スロットにおける空間的なミクロの欠点によって生ぜしめられる周期的な複合コンポーネントによるエイリアシングを回避するための、前記光学系に関連した手段が設けられており、この場合、前記多重アレイによって生ぜしめられるパターンノイズが減じられるようにした。
【０００７】
本発明の別の構成では、パルス照明源が設けられており、該パルス照明源が、電磁放射を提供しかつパルスレートを有しており、前記パルス照明源から電磁放射を受け取るための光学系が設けられており、該光学系が、感光性レジストで被覆されたウェーハにレチクルの画像を投影するための照明スロットを形成しており、該照明スロットが、走査方向でレチクルを走査するようになっており、前記光学系の一部として形成された多重アレイが形成されており、前記多重アレイが、走査方向で空間的に周波数変調されたパターンを有しており、これによりパターンノイズが減じられるようにした。
【０００８】
本発明のさらに別の構成では、パルス照明源が設けられており、該パルス照明源が、電磁放射を提供しかつパルスレートを有しており、前記パルス照明源から電磁放射を受け取るための光学系が設けられており、該光学系が、感光性レジストで被覆されたウェーハにレチクルの画像を投影するための照明スロットを有しており、該照明スロットが、走査方向でレチクルを走査するようになっており、前記光学系の一部として形成された多重アレイが設けられており、前記照明源に接続された変調器が設けられており、該変調器が、前記パルス照明源のパルスレートを周波数変調するようになっており、これにより前記多重アレイによって生じるパターンノイズが減じられるようにした。
【０００９】
本発明のさらに別の構成では、パルスレートを有するパルスレーザ照明源が設けられており、該パルスレーザ照明源に接続された周波数変調器が設けられており、該周波数変調器が、パルスレーザ照明源のパルスレートを周波数変調するようになっており、前記パルスレーザ照明源から電磁放射を受け取るために位置決めされたビーム調整器が設けられており、該ビーム調整系から電磁放射を受け取るために位置決めされた多重アレイが設けられており、該多重アレイから電磁放射を受け取るために位置決めされたコンデンサが設けられており、前記コンデンサに後置された照明面が設けられており、該照明面に形成される方形の照明スロットが設けられており、該方形の照明スロットをレチクルに共役させるリレーが設けられており、前記方形の照明スロットが、レチクルの一部を照明するようになっており、投影光学系が設けられており、該投影光学系が、感光性レジストで被覆されたウェーハにレチクルの画像を投影するようになっており、前記レチクルに接続されたレチクルステージと、前記ウェーハに接続されたウェーハステージとが設けられており、前記レチクルステージと、前記ウェーハステージとに接続されたステージ制御系が設けられており、該ステージ制御系が、前記レチクルステージと前記ウェーハステージとの運動を制御するになっており、これにより前記レチクルと前記ウェーハとが、ウェーハの一部にレチクルの画像を投影しながら同期的に走査されるようにした。
【００１０】
【発明の効果】
本発明は、感光性レジストで被覆されたウェーハにレチクルの一部を投射するために使用される走査式ホトリソグラフィ装置における照明系の一部として多重アレイもしくは多像光学素子を用いるような照明系において用いられる。本発明による照明系は、パルスレーザ等の照明源と、ビーム調整装置等の光学コンポーネントと、（少なくとも１つの）多重アレイもしくは多像光学素子と、コンデンサと、リレーとから成っている。空間的な周波数変調器が、（少なくとも１つの）多重アレイもしくは多像光学素子に接続されている。空間的周波数変調器は、走査式ホトリソグラフィ装置の空間的な走査方向で、多重アレイもしくは多像光学素子を効果的に移動させる。多重アレイは、走査寸法において空間的に周波数変調されたパターンも有している。変調は、周期的なパターンが位置に応じて線形の増幅変調を有するのに十分である。本発明による別の実施例の場合には、レーザのパルスレートが周波数変調される。周波数変調域および周波数変調レートは、一回の走査の間に複数のサイクルを完了できるように選択されている。
【００１１】
本発明は、多重アレイもしくは多像光学素子を使用するほとんどの照明系を改良するために利用されると有利である。
【００１２】
本発明の特徴は、多重アレイもしくは多像光学素子に変調器が接続されていることである。
【００１３】
本発明の別の特徴は、多重アレイが、走査方向で空間的に周波数変調されるパターンを有していることである。
【００１４】
本発明のさらに別の特徴は、レーザ源のパルスレートが、周波数変調されることである。
【００１５】
これらの課題、利点および特徴ならびに別の課題、利点および特徴を、以下のさらに詳しい説明で明らかにする。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を図面につき詳しく説明する。
【００１７】
図１には、本発明の１つの実施例が示されている。照明源１０は、電磁放射をビーム調整装置１２に方向付ける。照明源という言葉は、波長に関係なくあらゆる電磁放射源を意味するように最も広い意味で使用されている。したがって、照明源１０は、可視域ではない波長を有するレーザであってもよい。さらに、照明源は、パルスレーザであっても連続光レーザであってもよい。ビーム調整装置１２は、照明源１０からの電磁放射のビームを拡開もしくは修正する。これは、屈折光学系または反射光学系等のビーム拡大器によって行われる。調整された電磁放射線は、多重アレイもしくは多像光学素子１４を貫通するように方向付けられる。多重アレイもしくは多像光学素子１４は、複数の屈折レンズエレメントまたは回折性光学素子から成るマイクロレンズアレイであってよい。多重アレイもしくは多像光学素子１４は、コンデンサ１６に光を方向付ける。走査式ホトリソグラフィ装置のためには、コンデンサ１６が、アナモルフィック・コンデンサであり、このコンデンサにおいて方形のスリット照明フィールドが形成されると有利である。コンデンサ１６は、多重アレイもしくは多像光学素子１４からの光を集束し、この光をアレイ光学素子１８に方向付ける。アレイ光学素子１８は、いくつかの照明装置においては使用されていない。しかしながら、アレイ光学素子１８の使用は、１９９５年５月２４日に出願された米国特許出願第０８／４４９３０１号明細書、「ホトリソグラフィで使用するためのハイブリッド照明系」（Hybrid Illumination System for Use in Photolithography）に示されているようないくつかの使用例において望ましい。照明面２０は、コンデンサ１６と選択的なアレイ光学素子１８との後に配置されている。リレー２２は、単に照明面２０をレチクル２４に共役させるためだけに使用されている。レチクル２４の像は、投影光学系２６によってウェーハ２８に投影される。レチクル２４は、レチクルステージ３２によって配置および移動させられる。ウェーハは、ウェーハステージ３０によって配置および移動させられる。ステージ制御系３４は、レチクルステージ３２とウェーハステージ３０との動きを制御する。レチクルステージ３２とウェーハステージ３０との動きは、概して、装置が拡大するにつれて大きくなる。変調器３６は、多重アレイもしくは多像光学素子１４に接続されている。変調器３６は、多重アレイもしくは多像光学素子１４を走査寸法において空間的に周波数変調するので、周期的なパターンは位置に応じて線形の増幅を有する。このパターンが走査過程において多重に印刷されるとき、このパターンを、エイリアシングが生じないようにすることができる。本発明は、説明した図示の照明装置に限定されるものではなく、マクロの均一性、照明装置の開口数、またはホトリソグラフィ装置の部分コヒーレンスを制御するために多重アレイもしくは多像光学素子を使用するあらゆる照明装置に適用可能である。この装置は、複数の露光時間に亘って多くのずらされたフィールドが被せられて規則的なパターンノイズが平均化されるように、空間的に僅かにずらされた多重の照明「部分」を有することによって、あらゆる残余パターン（または照明の規則的な変化）を分散させる。
【００１８】
図２には本発明の別の実施例が示されている。図２の場合には、パルスレーザ源１１０が電磁放射を、ビーム調整装置１２に、次いで多重アレイもしくは多像光学素子１４に、次いでコンデンサ１６に、さらにアレイ光学素子１８に供給して照明面２０を形成する。照明面２０は、レチクル２４を照明するためにリレー２２によって共役させられている。レチクル２４の像は、投影光学系２６によって、感光性レジストで被覆されたウェーハ２８に投影される。レチクル２４とウェーハ２８との位置は、レチクルステージ３２と、ウェーハステージ３０と、ステージ制御系３４とによって制御される。図２に示した実施例は図１に示した実施例に類似しているが、パルスレーザ源１１０に周波数変調器１３６が接続されている。周波数変調器１３６は、パルスレーザ源１１０のパルスレートを変調する。周波数変調域および周波数変調率は、周波数変調域の複数のサイクルを走査時間の間または一回の走査で完了または実施することができるように、選択されている。これにより、エイリアシングが確実に生じない。各パルスは、周期的な空間的変調に関係している。露光時間に亘ってパルスレートが変化すると、これらのパターンは空間においてオーバラップせず、平均化が生じる。つまり、パターンは、走査時にパルスレートが変化しながら、露光されるウェーハに対して移動し、異なる位置を占めて、あらゆるオーバラップ、ひいては画質を低下させるおそれのあるあらゆる累積効果を回避する。
【００１９】
図３には、本発明に基づき形成された走査式の照明スロットもしくはフィールドがより明確に示されている。レチクルフレーム３８が、レチクル２４を保持している。幅Ｗを有する方形の照明スロットもしくはフィールド４０が形成されている。照明スロットもしくはフィールド４０は、矢印４１によって示された方向ｘで、レチクル２４に亘って長手方向に走査させられる。通常、レチクルフレーム３８は、レチクルステージ（図示せず）に接続されており、照明スロットもしくはフィールド４０に対してレチクル２４を移動させる。
【００２０】
図４には、照明スロットもしくはフィールドの幅方向に亘って形成された照明強度の分布がグラフで示されている。波形４２は、幅方向もしくはｘ方向で見た照明強度を示している。照明強度は、所望のように比較的均一ではあるが、しばしばミクロの不均一が存在する。
【００２１】
図５は、図４に示した波形４２の一部を拡大した区分であり、照明強度のミクロの不均一を示している。波形４４は、使用される投影光学系の空間的な周波数通過帯域によって設定された下限から、特徴的な空間的な不均一性を示している。より高い空間的な周波数が存在するが、これは問題ではない。通常、高い開口数のためには０．２μｍであり、必要に応じて拡大スケーリングを備えた装置のためには０．６０μｍである。このミクロの不均一は望ましくない。なぜならば、この不均一はしばしば、画像の問題、たとえば線幅増分の欠如、線幅変化、エッジラフネスおよび当業者に公知のその他の現象を生ぜしめるからである。
【００２２】
図６には、図５に示したミクロの不均一の周波数の関数として、強度がグラフで示されている。ピーク波形部分４６は、固定されたもしくは周期的なコンポーネントを表しており、波形部分４８は、ランダムなパターンを表している。これは、パルスレーザ源に関するものであるが、多少の制限を備えた連続レーザ源にも当てはまる。箇所５０は、装置の帯域通過上限である。走査式ホトリソグラフィ装置においては、波形部分４８で示されたランダムなコンポーネントは平均化され、ユニット露光位置ごとのパルス数の平方根の、ノイズまたは照明のミクロ不均一性の変分が減じられる。周期的な複合コンポーネントは、走査速度と、パルスレートと、パターン周波数との間のエイリアシングに応じて振幅が小さくなる場合も、小さくならない場合もある。
【００２３】
図７には、波形５２で示された第１のパルスパターンと、波形５４で示された第２のパルスパターンとがグラフで示されている。図７には、不都合な、位相のエイリアシング状態が示されている。これらのエイリアシング部分は複合的に発生するので、所定の速度コンポーネントにおける走査ステージの作業を回避するための参照用テーブルは、不都合で信頼性がない。本発明によりエイリアシングが確実になくなり、結果的にホトリソグラフィ装置の信頼性が向上する。走査されるフィールドにおけるあらゆる１つの小さな部分が、多重パルスからの露光を受けるので、これらの周期的な複合コンポーネントは、オーバラップし、平均化されない。このことは、露光および画像の質を低下させる。
【００２４】
図８には、多重アレイが概略的に示されており、この多重アレイは、図１及び図２に示した多重アレイもしくは多像光学素子１４および／またはアレイ光学素子１８の位置において使用される空間的に周波数変調されたパターンを有している。しかしながら、図８に示した多重アレイが、多重アレイもしくは多像光学素子１４および／またはアレイ光学素子１８の位置において使用される場合には、図１に示した変調器３６と、図２に示された周波数変調器とは通常不要である。図６に示した規則的なパターンもしくはコンポーネント、つまりピーク波形部分４６は、概して多重アレイの周期的な構造の結果として生じる。多重アレイに、本発明による空間的に周波数変調されたパターンのエレメントを提供することにより、結果的なあらゆるパターンはその位置に応じて線形の増幅を有する。つまり、結果的なパターンの走査方向での波形間の距離は不均等となる。図９には、結果的なパターンに生ぜしめられた隣接した波形間の不均等な距離が示されている。このパターンが、走査過程において多重に印刷されると、エイリアシングを生じないようにパターンが形成される。
【００２５】
図８に示したように、多重アレイは、４つの異なる区分６０，６２，６４，６６にエレメントを有している。各区分６０，６２，６４，６６は、隣接した区分とは異なるエレメントから成っている。たとえば、区分６０は、１００ユニットの寸法を有するエレメントから成っており、区分６２は、１１０ユニットの寸法を有するエレメントから成っており、区分６４は、１２０ユニットの寸法を有するエレメントから成っており、区分６６は、１３０ユニットの寸法を有するエレメントから成っている。ユニットは、相対的なサイズを示すためだけに提供されており、多重アレイのためのあらゆる典型的なユニット寸法であってよい。すなわち、多重アレイは、空間的に周波数変調されたパターンを有している。この空間的に周波数変調されたパターンは、走査方向でだけ変調されればよい。矢印７６が走査方向を示している。さらに、区分６０，６２，６４，６６として図８に示された、空間的に周波数変調されたパターンは、多重アレイを概略的に示しているだけである。エレメント６８，７０，７２，７４は、異なるサイズの円として概略的に示されているが、多重アレイに設けられたエレメントに対して一般的に使用されているようなあらゆる形状またはパターンであってよい。エレメント６８，７０，７２，７４は、各区分６０，６２，６４，６６の長手方向の全長に沿って延びている。さらに、図８には４つの区分６０，６２，６４，６６しか示されていないが、あらゆる数の区分が設けられてよい。また、区分が繰り返されていてもよい。つまり、区分のグループが繰り返されて、単一の多重アレイにおいて多重サイクルを形成していてもよい。
【００２６】
図１０には、このような形式の、空間的に周波数を変調する多重アレイが示されている。図１０に示したように、多重アレイは、繰り返される長手方向の区分８０，８２，９０から形成されている。各区分８０，８２，９０はそれぞれ、異なる寸法を有するエレメント８６，８８，９０から成っている。長手方向の区分８０，８２，９０はパターンの１サイクルを形成しており、このサイクルが走査方向で繰り返されている。つまり、３サイクルが図示されている。走査方向は、区分８０，８２，９０の長手方向の寸法に対してほぼ直角を成していると有利である。
【００２７】
したがって、本発明は、多重アレイもしくは多像アレイを使用する照明系におけるパターンノイズ効果を排除するのに役立つ。その結果、本発明は、走査式ホトリソグラフィ装置において使用するための改良された照明を提供して、線幅制御、エッジラフネスおよびその他の画像形成特性を向上させる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施例を概略的に示す図である。
【図２】本発明の第２実施例を示す図である。
【図３】照明スロットもしくはフィールドを示すレチクルの概略的な図である。
【図４】照明スロットもしくはフィールドの幅に沿った強度分布を示すグラフである。
【図５】図４に示した強度分布の一部を拡大して示すグラフである。
【図６】規則的なパターンとランダムなノイズとを示すパワースペクトルグラフである。
【図７】第１のレーザパルスパターンと、第２のレーザパルスパターンとを示すグラフである。
【図８】空間的に周波数変調されたパターンの多重アレイを示す図である。
【図９】不均等な距離を備えたパターンを示すグラフである。
【図１０】別の形式の、空間的に周波数変調されたパターンを備えた多重アレイを概略的に示す図である。
【符号の説明】
１０  照明源、  １２  ビーム調整装置、  １４  多重アレイもしくは多像光学素子、  １６  コンデンサ、  １８  アレイ光学素子、  ２０  照明面、  ２２  リレー、  ２４  レチクル、  ２６  投影光学系、  ２８  ウェーハ、  ３０  ウェーハステージ、  ３２  レチクルステージ、  ３４  ステージ制御系、３６  変調器、  ３８  レチクルフレーム、  ４０  照明スロットもしくはフィールド、  ４２，４４  波形、  ４６  ピーク波形部分、  ４８  波形部分、５０  箇所、  ５２，５４  波形、  ６０，６２，６４，６６  区分、  ６８，７０，７２，７４  エレメント、  ７６  矢印、  ８０，８２，９０  区分、１１０  パルスレーザ源、  １３６  周波数変調器
【図１】
0004202452.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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