(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気的表面処理を施してあるノルボルネン系樹脂フィルム(1) の処理面に、脂環式エポキシ樹脂を少なくとも一部含む活性エネルギー線硬化型エポキシ樹脂の硬化層(2) が設けられ、その硬化層(2) 上に無機質薄層(t) が設けられ、さらにその無機質薄層(t) 上に透明電極(3) が設けられた層構成を有すること、および、
前記の硬化層(2) が、カチオン重合開始剤の存在下に紫外線照射してエポキシ樹脂を硬化させた層であること、
を特徴とする透明電極付き基板。
【請求項２】
電気的表面処理が、短波長紫外線の照射処理、コロナ放電処理、プラズマ処理または電子線照射処理である請求項１記載の透明電極付き基板。
【請求項３】
硬化層(2) が、ノルボルネン系樹脂フィルム(1) の処理面に樹脂液をコーティングしてから活性エネルギー線を照射することにより硬化させた層、または、ノルボルネン系樹脂フィルム(1) と鋳型フィルムとの間に樹脂液を供給してロール間を通すことにより両フィルム間に樹脂液を挟持させた状態で活性エネルギー線を照射することにより硬化させた層である請求項１または２記載の透明電極付き基板。
【請求項４】
ノルボルネン系樹脂フィルム(1) の処理面に設置された硬化層(2) の表面が粗面に形成されている請求項１〜３のいずれか１つに記載の透明電極付き基板。
【請求項５】
タッチパネルまたは高分子強誘電液晶ディスプレイのため透明電極付き基板である請求項１〜４のいずれか１つに記載の透明電極付き基板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、タッチパネル、高分子強誘電液晶ディスプレイをはじめとする透明電極付き光学用基板として有用な透明電極付き基板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ノルボルネン系樹脂フィルム（アモルファスポレオレフィンフィルム）は、透明性が高いこと、レターデーション値が小さいこと（複屈折が小さいこと）、耐溶剤性を有することなどの性質を有するため、光学用シートとしての利用が期待できる。
【０００３】
ノルボルネン系樹脂フィルムの光学用途への利用については、たとえば、「プラスチックス、１９８７年７月号（Vol. 38, No. 7）」の４１〜４４頁に、アモルファスポリオレフィンに関する「ポリオレフィン系樹脂−光ディスク用新規ポリマー“ＡＰＯ”」と題する記事が掲載されており、また「機能材料、９４年１２月号 (Vol. 14, No. 12)」の４０〜５１頁に、「ＡＲＴＯＮの透明導電フィルムへの応用」と題する記事が掲載されている。
【０００４】
特開平４−３６１２３０号公報には、熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂シートを延伸配向してなるフィルムを複屈折性層として有する液晶ディスプレイ用位相板につき開示がある。
【０００５】
同じく特開平６−５１１１７号公報には、偏光膜の少なくとも一面に熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂シートを保護層として積層した液晶ディスプレイ用偏光フィルムにつき開示がある。
【０００６】
特開平８−２４４０５１号公報には、内的または外的架橋手段を講じることにより架橋化されたノルボルネン系樹脂フィルムからなる光学用シートが示されている。この光学用シート上には、有機または無機の耐透気性層、架橋性樹脂硬化物層などを設けることもできる。この光学用シートは、たとえば、液晶表示素子を構成する液晶セルの電極基板、偏光素膜の保護板、位相差素膜の保護板、偏光板兼用の電極基板、位相板兼用の電極基板、タッチパネル用の透明電極付きフィルム（偏光板の上だけでなく偏光板の下に積層して用いるものを含む）、ＣＲＴ用電磁波シールド板、バックライト、導光板、カラーフィルター、光カード、光テープ、光ディスクなどの用途に有用であるとの記載もある。
【０００７】
特開平６−３４０８４９号公報には、脂環式アクリレート成分、エラストマーおよび光重合開始剤からなる紫外線硬化性組成物が示されており、この紫外線硬化性組成物は、熱可塑性樹脂（特に熱可塑性ノルボルネン系樹脂）成形品と被着体とを接着する紫外線硬化性の接着剤として用いられることが示されている。熱可塑性樹脂成形品と被着体との接着とは、レンズ、プリズムと金属性の枠との接着、光学ディスク基板と金属ハブとの接着などである。接着性を向上させるために、成形品の接着面に表面改質処理（コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理、薬品処理等）やプライマー処理を施してもよいことについても記載がある。
【０００８】
さらに、次の文献には、ノルボルネン系樹脂フィルム上にハードコート層を設けることが記載されている。
【０００９】
すなわち、特開平７−９７４６８号公報（文献１）には、熱可塑性ノルボルネン系樹脂で形成された基材の表面にシリコーン系ハードコート層を有する成形品が示されている。成形品の例は、窓ガラスやガラス扉のガラス代替、眼鏡類、自動車部品（ミラー等）などである。基材の表面の改質をエネルギー線照射処理（コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理等）により行うことができることについても記載がある。
【００１０】
また特開平８−１２７８７号公報（文献２）には、（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマーと（メタ）アクリル酸エステル系モノマーと光重合開始剤とからなる紫外線硬化型組成物を硬化させたハードコート層を有する熱可塑性ノルボルネン系樹脂成形品が示されている。成形品の用途は、たとえば光学用途である。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
上記の文献１においては、熱可塑性ノルボルネン系樹脂の基材にシリコーン系ハードコート層を形成しており、上記の文献２においては熱可塑性ノルボルネン系樹脂の成形品にアクリル系ハードコート層を形成しているが、基材であるノルボルネン系樹脂とこれらのハードコート層との間の密着性には、なお改良の余地がある。
【００１２】
上記の文献１、２にはそのハードコート層の上から透明電極を形成することについては開示がないが、上記のように文献１、２にあっては、土台となるハードコート層の密着性自体の点で必ずしも満足のいく状態にないため、たとえそのようなハードコート層の上から透明電極を形成することを考えたとしても、透明電極との密着性もやはり多くは期待でない。
【００１３】
本発明は、かねてよりノルボルネン系樹脂フィルム上にＩＴＯなどの透明電極を形成することにつき検討を行っていたが、本来極性の小さいノルボルネン系樹脂フィルム上に密着力のある透明電極を形成することは容易ではなかった。
【００１４】
本発明は、このような背景下において、ベースとなるノルボルネン系樹脂フィルムに特定の処理を行った後、さらにその上から特定の硬化層を設けてから、その硬化層の上に無機質薄層を介して透明電極を設けることにより、ベース層と硬化層との間の強力な密着力が得られ、その硬化層と無機質薄層と透明電極との間の密着性も良好である透明電極付き基板を提供することを目的とするものである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
本発明の透明電極付き基板は、
電気的表面処理を施してあるノルボルネン系樹脂フィルム(1) の処理面に、脂環式エポキシ樹脂を少なくとも一部含む活性エネルギー線硬化型エポキシ樹脂の硬化層(2) が設けられ、その硬化層(2) 上に無機質薄層(t) が設けられ、さらにその無機質薄層(t) 上に透明電極(3) が設けられた層構成を有すること、および、
前記の硬化層(2) が、カチオン重合開始剤の存在下に紫外線照射してエポキシ樹脂を硬化させた層であること、
を特徴とするものである。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下本発明を詳細に説明する。
【００１７】
〈ノルボルネン系樹脂フィルム(1) 〉
ノルボルネン系樹脂としては、たとえば、ノルボルネン系モノマーの開環（共）重合体、その水素添加物、ノルボルネン系モノマーの付加型重合体、ノルボルネン系モノマーとオレフィン系モノマーと付加型共重合体などがあげられる。
【００１８】
ここでノルボルネン系モノマーとしては、ノルボルネン、ノルボルネンのアルキルまたは／およびアルキリデン置換体（５−メチル−２−ノルボルネン、５−ジメチル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネン、５−ブチル−２−ノルボルネン、５−エチリデン−２−ノルボルネン等）、これらのハロゲン等の極性基置換体、ジシクロペンタジエン、２，３−ジヒドロジシクロペンタジエン、ジメタノオクタヒドロナフタレンまたはそのアルキルまたは／およびアルキリデン置換体あるいはハロゲン等の極性基置換体、シクロペンタジエンとテトラヒドロインデン等との付加物、シクロペンタジエンの３〜４量体などがあげられる。
【００１９】
ノルボルネン系樹脂は、物理的特性および成形性を考慮して、数平均分子量（トルエン溶媒によるＧＰＣ法で測定）がたとえば２５０００〜１０００００程度、好ましくは３００００〜８００００程度のものが適当である。
【００２０】
ノルボルネン系樹脂の市販品としては、日本ゼオン株式会社製の「ゼオネックス」、三井石油化学工業株式会社製の「ＡＰＯ」、日本合成ゴム株式会社製の「ＡＲＴＯＮ」などがある。
【００２１】
ノルボルネン系樹脂フィルム(1) は、溶融押出により得ることができる。一般の透明性の高い樹脂は押出成形ではレターデーション値が高くなることが多いが、ノルボルネン系樹脂の場合には押出成形によってもレターデーション値が極めて低いものを得ることができる。押出成形品は製造コストの点で有利である。
【００２２】
ノルボルネン系樹脂フィルム(1) は、ノルボルネン系樹脂を流延製膜することによって得ることができる。このとき、架橋剤を配合して流延を行ってもよく、あるいは流延製膜後に紫外線、電子線またはγ線照射を行って外的架橋することもできる。溶剤としては、ノルボルネン系樹脂を溶解する溶剤（架橋剤を併用するときは架橋剤との共通溶剤）を用いればよい。
【００２３】
いずれの成形法を採用する場合も、成形時に、必要に応じ、熱劣化防止剤、老化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、滑剤などの添加剤を添加することができる。フィルム成形後に延伸処理することもできる。
【００２４】
ノルボルネン系樹脂フィルム(1) の厚みに特に限定はないが、タッチパネル用の場合を例にとると、３０〜３００μm 程度、特に５０〜２００μm 程度とすることが多い。なおノルボルネン系樹脂フィルム(1) は、他のプラスチックス層の上に流延や溶融押出により形成された層であってもよく、このときにはノルボルネン系樹脂フィルム(1) の厚みは上記よりずっと薄くすることもできる。ノルボルネン系樹脂フィルム(1) は、また、その２枚以上を接着剤層を介してラミネートしたものであってもよく、他のプラスチックス層と接着剤層を介してラミネートしたものであってもよい。
【００２５】
〈電気的表面処理〉
本発明においては、上記のノルボルネン系樹脂フィルム(1) に電気的表面処理を施す。この処理は、ノルボルネン系樹脂フィルム(1) の片面であっても両面であってもよい。電気的表面処理を施さないときは、後述の硬化層(2) との間の充分な密着性が得られない。
【００２６】
上記の電気的表面処理としては、短波長紫外線の照射処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理などがあげられ、特に最初の２者、なかんづく最初の短波長紫外線の照射処理が重要である。ここで短波長紫外線は、典型的には低圧紫外線ランプの照射により得られる。低圧紫外線ランプのピーク波長は 184.9nmと 253.7nmである。
【００２７】
〈硬化層(2) 〉
電気的表面処理を施したノルボルネン系樹脂フィルム(1) の処理面には、脂環式エポキシ樹脂を少なくとも一部含む活性エネルギー線硬化型（紫外線硬化型、電子線硬化型）エポキシ樹脂の硬化層(2) が形成される。硬化層(2) に占める脂環式エポキシ樹脂の割合は、１０〜１００重量％、好ましくは２０〜１００重量％以上、さらに好ましくは２５〜１００重量％とすることが望ましい。脂環式エポキシ樹脂の割合が余りに少ないときには、活性エネルギー線照射時の硬化速度が遅くなったり、硬化層(2) の密着性が不足したりする。
【００２８】
ここで脂環式エポキシ樹脂を少なくとも一部含む活性エネルギー線硬化型エポキシ樹脂としては、次の機構の樹脂が用いられる。すなわち、カチオン重合開始剤の存在下に紫外線照射してエポキシ樹脂を硬化させるもの（つまりカチオン重合機構によるもの）が用いられる。
【００２９】
上記における脂環式エポキシ樹脂の例は、図２に示すような化学構造を持つ脂環式ジエポキシアセタール、脂環式ジエポキシアジペート、脂環式ジエポキシカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキサイドなどである。市販品としては、ダイセル化学工業株式会社製の「セロキサイド２０２１」、ダイセル化学工業株式会社製の「セロキサイド２０８１」、チバガイギー社の「ＣＹ１７５」、ユニオンカーバイド社の「ＥＲＬ４２３４」、チバガイギー社の「ＣＹ１７７」、ユニオンカーバイド社の「ＥＲＬ４２９９」、チバガイギー社の「ＣＹ１７９」、ユニオンカーバイド社の「ＥＲＬ４２２１」、ユニオンカーバイド社の「ＥＲＬ４２０６」などがある。
【００３０】
脂環式エポキシ樹脂と共に併用することのできる他のエポキシ樹脂の例は、脂肪族や芳香族をはじめとする種々のエポキシ樹脂である。
【００３１】
上記における光重合開始剤としては、たとえば、ブレンステッド酸（ＨＰＦ6 、ＨＳｂＦ6 、ＨＢＦ4 、ＨＡｓＦ6 等）のオニウム塩（芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨウドニウム塩等）；ブレンステッド酸の鉄芳香族化合物塩；アルミニウム錯体／光分解性ケイ素化合物；などがあげられる。市販品としては、旭電化株式会社製の「ＡＤＥＫＡ  ＯＰＴＯＭＥＲ  ＳＰ−１５０」、「ＡＤＥＫＡ  ＯＰＴＯＭＥＲ  ＳＰ−１５０」等（化学構造式は、「ポリファイル」、１９９８、Ｖｏｌ．３５、Ｎｏ．４０８の３８〜３９頁参照）、旭電化株式会社の製造にかかるユニオンカーバイド社の「ＣＹＲＡＣＵＲＥ」用光重合開始剤「ＵＶＩ−６９７４」、「ＵＶＩ−６９９０」等（化学構造式は、「ポリファイル」、１９９６、Ｖｏｌ．３３、Ｎｏ．３８４の３７〜３９頁参照）、三新化学工業株式会社製の「サンエイドＳＩ−６０Ｌ」、「サンエイドＳＩ−８０Ｌ」、「サンエイドＳＩ−１００Ｌ」等（「ポリファイル」の１９９８．Ｖｏｌ．３５、Ｎｏ．４０９の２８頁参照）などがある。
【００３２】
脂環式エポキシ樹脂を少なくとも一部含む活性エネルギー線硬化型エポキシ樹脂の硬化層(2) の厚みに限定はないが、通常は 0.5〜８０μm 程度、好ましくは１〜３０μm 程度とすることが多い。
【００３３】
ノルボルネン系樹脂フィルム(1) の処理面にエポキシ樹脂の硬化層(2) を形成する方法としては、脂環式エポキシ樹脂を少なくとも一部含む活性エネルギー線硬化型エポキシ樹脂の樹脂液を流延法などによりコーティングしてから、活性エネルギー線（紫外線、電子線）を照射して硬化させる方法が採用される。
【００３４】
また、ノルボルネン系樹脂フィルム(1) と鋳型フィルムとの間に上記の樹脂液を供給してロール間を通すことにより両フィルム間に樹脂液を挟持させた状態で活性エネルギー線を照射することにより硬化させる方法を採用することもできる。
【００３５】
後者の方法における鋳型フィルムとしては、二軸延伸ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）フィルム、二軸延伸ポリプロピレンフィルムなどのフィルムが好適に用いられる。この鋳型フィルム表面の平滑度は任意に選択できるので、この鋳型フィルムを用いれば、硬化層(2) の表面を、極めて平滑度の高いものから、粗面にしたもの（干渉縞防止、防眩性付与または入射光線の入射率の向上などのために故意にランダムな微細凹凸またはレンズ状の微細凹凸を付したもの）まで、任意の平滑度ないし粗度を有するものとすることができる。
【００３６】
〈透明電極(3) 〉
上記硬化層(2) 上には、後述の無機質薄層(t) を介して、透明電極(3) が設けられる。透明電極(3) としては、ＩＴＯ、ＩｎＯ2 、ＳｎＯ2 、ＺｎＯ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄなどの層があげられ、特にＩＴＯが重要である。透明電極(3) は、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、ゾル−ゲル法、コーティング法などによりなされ、特にスパッタリング法により形成することが望ましい。透明電極(3) は複層構造とすることもできる。
【００３７】
透明電極(3) の厚みは、透明性を確保できる限り任意に設定することができるが、ＩＴＯを用いた場合でタッチパネル用の場合を例にとると、１００〜７００オングストローム、殊に１５０〜６００オングストロームとすることが多い。
【００３８】
〈無機質薄層(t) 〉
なお本発明においては、透明電極(3) の形成に先立ち、上記の硬化層(2) 上に金属酸化物、金属窒化物、金属ホウ化物等の無機質薄層(t) を設け、その上から透明電極(3) を形成するようにする。無機質薄層(t) の存在は、透明電極(3) 密着性の点で有利であり、また用途によっては、防湿性、耐熱性、防気性、耐酸・耐アルカリ性などの点で有利であるからである。
【００３９】
〈用途〉
本発明の透明電極付き基板は、タッチパネル用の透明電極付きフィルム（偏光板の上だけでなく偏光板の下に積層して用いるものを含む）として特に有用である。このときには、上記のようにして得られた２枚の光学用シートの透明電極(3) 側を対向させると共に、両シート間にたとえば0.02〜１mm程度の厚みのドット・スペーサを介在させればよい。この場合、片方のシートの透明電極(3) は全面電極、他方のシートの透明電極(3) はパターン電極とするのが通常であるので、パターン電極とする方のシートは、全面電極形成後にレジスト形成、露光、現像、エッチングによるパターン出し、硬化レジストの剥離除去を行う。このときの処理液としては、たとえば、現像液としては炭酸ソーダ、炭酸カリウム等のアルカリの稀薄水溶液、エッチング液としては塩化第二鉄や塩化第二銅の水溶液あるいは塩酸等の酸の水溶液、硬化レジスト剥離液としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の１〜５重量％濃度の水溶液からなるアルカリ剥離液が用いられる。インナータッチパネルとするときは、このようにして得られたパネルを、液晶表示素子の入射光側の偏光板の下に組み込む。
【００４０】
本発明の透明電極付き基板は、また、強誘電高分子液晶表示素子のための透明電極付き基板としても有用である。強誘電高分子液晶表示素子を作成するときは、典型的には、上記の光学用シートと相手方のシート（この相手方のシートはガラスであってもよい）とを、それら２枚のシートの透明電極(3) 側を対向させると共に、両シート間に強誘電高分子液晶層が介在配置されるようにすればよい。
【００４１】
本発明の透明電極付き基板は、そのほか、液晶表示素子を構成する液晶セルの電極基板、偏光板兼用の電極基板、位相板兼用の電極基板などの用途にも使用することができる。
【００４２】
〈作用〉
本発明の透明電極付き基板にあっては、ベースとなるノルボルネン系樹脂フィルム(1) に電気的表面処理を施し、その処理面に脂環式エポキシ樹脂を少なくとも一部含む活性エネルギー線硬化型エポキシ樹脂の硬化層(2) を設けると共に、さらにその硬化層(2) の上から無機質薄層(t) を介して透明電極(3) を設けた層構成を有するので、ベース層と硬化層(2) との間の強力な密着力が得られ、その硬化層(2) と無機質薄層(t) と透明電極(3) との間の密着性も良好である。
【００４３】
従って、ノルボルネン系樹脂フィルム(1) の本来有する性質をそのまま生かしながら、その応用の難しさを克服し、実用性あるタッチパネルや強誘電高分子液晶表示素子を提供することができる。
【００４４】
【実施例】
次に実施例をあげて本発明をさらに説明する。
【００４５】
実施例１
図１は本発明の透明電極付き基板およびその製造工程の一例を示した説明図である。
【００４６】
ノルボルネン系樹脂の一例としての日本ゼオン株式会社製の「ゼオネックス」の厚み１００μm のフィルム(1) を準備した。このフィルム(1) は押出成形により製造されたものであり、そのレターデーション値は４nmである。
【００４７】
このフィルム(1) をエタノール洗浄してから、その両面に、次の条件にて短波長紫外線照射処理を行った。
・紫外線照射装置：ランテクニカルサービス株式会社製のＵＶ表面改質装置（ラボ機、低圧紫外線ランプ）
・ランプ：２００Ｗ合成石英、グリッドタイプ
・照射距離：２０mm
・照射時間：９０秒、１２０秒
【００４８】
ついでそのフィルム(1) の片方の処理面（Ａ面）に、下記の組成の紫外線硬化型脂環式エポキシ樹脂液をバーを用いてコーティングした後、６５℃で５分間乾燥してから、１２０Ｗの紫外線ランプを用いて、照射距離１５cm、積算光量９０８mJ/cm2の条件で紫外線照射を行って硬化させ、厚み１０μm の硬化層(2) を形成させた。フィルム(1) の他方の処理面（Ｂ面）にも、同様にして厚み１０μm の硬化層(2) を形成させた。
【００４９】
（紫外線硬化型エポキシ樹脂液の組成１）
・３０重量％の脂環式エポキシ樹脂（ダイセル化学工業株式会社製の「セロキサイド２０２１」）
・６３重量％の水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（東都化成株式会社製の「エポトートＳＴ−３０００」）
・２重量％の光開始剤（旭電化株式会社製の「ＯＰＴＯＭＥＲ  ＳＰ−１７０」）
・５重量％のイソプロパノール
【００５０】
なお、上記で用いた「セロキサイド２０２１」の化学構造は、次の化１の通りである。
【００５１】
【化１】
0004139480.tif 000002
【００５２】
硬化層(2) 形成後のフィルム(1) につき、密着性を測定した。剥離強度の測定結果を表１に、クロスカット試験の測定結果を表２に示す。いずれの場合も測定数ｎは５とし、平均を求めた。秒数は、フィルム(1) に対する短波長紫外線照射処理の時間である。
【００５３】
【表１】
剥離強度 (gf/inch) 
Ａ面                   Ｂ面          
0 秒    90秒   120秒    0 秒    90秒   120秒  
1      15     230     240      17     260     210
2      23     180     270      22     225     260
3      21     210     300      22     255     240
4      18     205     315      19     230     250
5  9  175  290   16  185  240  
平均     17  200  283   19  231  240  
【００５４】
【表２】
クロスカット試験                                              
Ａ面                         Ｂ面            
0 秒      90秒     120秒      0 秒      90秒     120秒  
1     0/100   100/100   100/100     0/100   100/100   100/100
2     0/100   100/100   100/100     0/100   100/100   100/100
3     0/100   100/100   100/100     0/100   100/100   100/100
4     0/100   100/100   100/100     0/100   100/100   100/100
5  1/100  100/100  100/100  0/100  100/100  100/100 
平均    0/100  100/100  100/100  0/100  100/100  100/100 
【００５５】
次に、参考例として、上記で得た(2)/(1)/(2）の層構成のシートの片面（Ａ面）に、スパッタリング法により透明電極(3) の一例としての厚み５００μm のＩＴＯ層を形成させた。ＩＴＯ層の密着性は良好であった。
【００５６】
また、実施例として、上記で得た(2)/(1)/(2）の層構成のシートの片面（Ａ面）に、無機質薄層(t) の一例としての厚み９０オングストロームのＳｉＯ2 層をスパッタリング法により形成させてから、上記と同様にスパッタリング法により透明電極(3) の一例としての厚み５００μm のＩＴＯ層を形成させた。このときのＩＴＯ層の密着性は、上記参考例の場合よりもさらに良好であった。
【００５７】
このようにして得た実施例の(2)/(1)/(2)/(t)/(3）の層構成の透明電極付き基板２枚を用い、常法に従って、その２枚のうち片方のシートの透明電極(3) 面に予めドット・スペーサを形成してから、２枚のシートの透明電極(3) 側を対向させてインナータッチパネル（液晶表示素子の前面側偏光板の下に配置するタッチパネル）を作製した。このインナータッチパネルにあっては、打鍵、ペン入力操作を繰り返したときに層間剥離を生ずることがなく、長寿命であり、ユーザーの厳しい基準を充分に満たしていた。
【００５８】
また、上記で得た実施例の(2)/(1)/(2)/(t)/(3）の層構成の透明電極付き基板２枚の透明電極(3) 側を対向させると共に、両シート間に強誘電高分子液晶層が介在配置されるようにしてセルを作り、強誘電高分子液晶表示素子を作製したときも、寿命は非常に好ましいものであった。
【００５９】
実施例２
実施例１と同様にして、ノルボルネン系樹脂フィルム(1) の表面の短波長紫外線処理を行ってから（照射時間は１２０秒とした）、下記の紫外線硬化型脂環式エポキシ樹脂液を用いて硬化層(2) を形成させ、ついでその上から無機質薄層(t) を形成させた後、ＩＴＯをスパッタリングして透明電極(3) を形成した。結果を表３に示す。
【００６０】
（紫外線硬化型エポキシ樹脂液の組成２）
・４０重量％の脂環式エポキシ樹脂（ダイセル化学工業株式会社製の「セロキサイド２０２１」）
・５１重量％のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ株式会社製の「エピコート８２８」）
・４重量％の光開始剤（旭電化株式会社製の「ＯＰＴＯＭＥＲ  ＳＰ−１５０」）
・５重量％のイソプロパノール
【００６１】
実施例３
実施例１と同様にして、ノルボルネン系樹脂フィルム(1) の表面の短波長紫外線処理を行ってから（照射時間は１２０秒とした）、下記の紫外線硬化型脂環式エポキシ樹脂液を用いて硬化層(2) を形成させ、ついでその上から無機質薄層(t) を形成させた後、ＩＴＯをスパッタリングして透明電極(3) を形成した。結果を表３に示す。
【００６２】
（紫外線硬化型エポキシ樹脂液の組成３）
・５０重量％の脂環式エポキシ樹脂（ダイセル化学工業株式会社製の「セロキサイド２０８１」）
・４６重量％の多官能脂環式エポキシ樹脂（ダイセル化学工業株式会社製の「エポリードＧＴ−３０」）
・４重量％の光開始剤（三新化学株式会社製の「サンエイドＳＩ−１００Ｌ」）
【００６３】
なお、上記で用いた「セロキサイド２０８１」の化学構造は、次の化２の通りである。
【００６４】
【化２】
0004139480.tif 000003
【００６５】
実施例４
短波長紫外線処理に代えて、ノルボルネン系樹脂フィルム(1) の表面をコロナ放電処理（レベル４×３パス）したほかは、実施例３を繰り返した。結果を表３に示す。
【００６６】
【表３】
(1)/(2) 間の剥離強度 (gf/inch) 
実施例２  実施例３  実施例４
1       360       580       490
2       250       555       520
3       215       600       530
4       240       580       560
5  240  545  535  
平均      261  572  527  
【００６７】
実施例５
実施例１と同様にして、フィルム(1) の両面に短波長紫外線照射処理（照射時間は１２０秒とした）を行った。
【００６８】
わずかに間隙をあけて並行に配置した１対のロールに、このフィルム(1) と第１の鋳型フィルム(M1)とを供給し、ロールの間隙に向けて実施例１で用いた紫外線硬化型エポキシ樹脂液を吐出すると共に、両ロールを互いに喰い込む方向に回転させて、両フィルムの間に上記樹脂液が挟持されるようにし、そのように挟持された状態で紫外線照射を行って樹脂液を硬化させることにより厚み１２μm の硬化層(2) となした。続いて、このようにして(1)/(2)/(M1)の積層フィルムと第２の鋳型フィルム(M2)とを用いて同様の操作を行うことにより厚み１３μm の硬化層(2) となし、(M2)/(2)/(1)/(2)/(M1) の層構成の積層フィルムを得た。そして、爾後の適当な段階で両側の鋳型フィルム(M1), (M2)を剥離除去した。なお、鋳型フィルム(M1)としては表面粗度Ｒa が平均で0.15μm の粗面化された二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、鋳型フィルム(M2)としては平滑な二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。
【００６９】
このようにして得た(2)/(1)/(2) のフィルムの片面（鋳型フィルム(M1)側の片面）に、実施例１と同様にして、無機質薄層(t) を形成させた後、ＩＴＯをスパッタリングして透明電極(3) を形成し、目的とする光学用シートを得た。
【００７０】
得られた透明電極付き基板を用いて、実施例１と同様にしてインナータッチパネルを作製した。このインナータッチパネルにあっては、打鍵、ペン入力操作を繰り返したときに層間剥離を生ずることがなく、長寿命であり、ユーザーの厳しい基準を充分に満たしていた。
【００７１】
【発明の効果】
作用の項でも述べたように、本発明の透明電極付き基板にあっては、ベースとなるノルボルネン系樹脂フィルム(1) と脂環式エポキシ樹脂を少なくとも一部含む活性エネルギー線硬化型エポキシ樹脂の硬化層(2) との間の強力な密着力が得られる。また、その硬化層(2) の上から無機質薄層(t) を介して設けた透明電極(3) の密着性も良好である。従って、ノルボルネン系樹脂フィルム(1) の本来有する好ましい性質（高透明性、低複屈折性、高耐熱性、耐湿・耐水性、耐酸・耐アルカリ性、極性溶剤耐性等）をそのまま生かしながら、その応用の難しさが克服され、透明電極密着性を顕著に向上し、また表面硬度、耐薬品性、耐溶剤性も一段と向上し、実用性あるタッチパネルや強誘電高分子液晶表示素子を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の透明電極付き基板およびその製造工程の一例を示した説明図である。
【図２】  脂環式エポキシ樹脂の化学構造の例を示した図である。
【符号の説明】
(1) …ノルボルネン系樹脂フィルム、
(2) …硬化層、
(t) …無機質薄層、
(3) …透明電極
【図２】
0004139480.tif 000004
【図１】
0004139480.tif 000005