(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基体の一面に設けられた第１導電型の第１半導体領域上に第１の絶縁膜を形成する工程と、
前記第１の絶縁膜上に導体層を形成する工程と、
前記導体層をパターニングして、前記導体層を複数の列に隔てる帯状の第１の開口と、前記列にその延伸方向に沿って所定間隔毎に設けられた複数の第２の開口と、前記第１の開口の内側に突出する突出部と、を形成する導体層パターニング工程と、
前記導体層をマスクとして前記第１半導体領域に第２導電型の不純物を選択的に拡散させ、前記第１の開口と重なる第２半導体領域と、前記第２の開口と重なる第３半導体領域と、を同時に形成する不純物拡散工程と、
前記導体層をマスクとして、前記第３半導体領域内に第１導電型の不純物を選択的に拡散させ、第４半導体領域を形成する工程と、
前記一面上に第２の絶縁膜を形成する工程と、
前記第２の絶縁膜をパターニングして、その底に前記突出部が露出するコンタクト開口を形成する工程と、
前記コンタクト開口を介して前記突出部と接触する電極層を形成する電極層形成工程と、
を備える、ことを特徴とする絶縁ゲート型半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記導体層パターニング工程では、前記第１の開口と前記第２の開口との間隔を、前記列方向の前記第２の開口同士の間隔と、略同一の大きさで形成する、ことを特徴とする請求項１に記載の絶縁ゲート型半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記導体層パターニング工程では、前記第２の開口を、前記列および前記行のいずれかに略平行な辺を有する略方形の平面形状に形成する、ことを特徴とする請求項１または２に記載の絶縁ゲート型半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記不純物拡散工程では、前記第２半導体領域は前記第１の開口の周囲で前記導体層と重なるように形成され、
前記導体層パターニング工程では、前記突出部を、前記導体層が前記第１の開口の周囲で前記第２半導体領域と重なる幅の２倍以下の幅を有する帯状に形成する、ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の絶縁ゲート型半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記電極層形成工程では、前記電極層を、前記第２半導体領域に沿って延伸する帯状に形成する、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の絶縁ゲート型半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、金属酸化物絶縁ゲート型電界効果トランジスタ（ＭＯＳＦＥＴ）等の絶縁ゲート型半導体装置の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
産業用パワースイッチ等に用いられるパワーデバイスとして、縦型の金属酸化物絶縁ゲート型電界効果トランジスタ（Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor：ＭＯＳＦＥＴ）が使用されている。縦型ＭＯＳＦＥＴは、半導体基板の表面側からプレーナ型拡散技術を用いて形成され、基板の厚み方向に主電流経路を持つ。
【０００３】
図６に、従来のＭＯＳＦＥＴ１０１の構成を示す。また、図７に、このＭＯＳＦＥＴ１０１の平面図を示し、図６はＡＡ線矢視断面を示す。図６に示すＭＯＳＦＥＴ１０１は、ドレイン領域１０２と、ドリフト領域１０３と、ボディ領域１０４と、ソース領域１０５と、を備える半導体基体１０６を備える。
【０００４】
ドレイン領域１０２は、例えば、シリコン半導体基板からなるＮ型の半導体領域から構成され、半導体基体１０６の一面を構成する。ドレイン領域１０２上には、アルミニウム等からなるドレイン電極層１０７が形成されている。
【０００５】
ドリフト領域１０３は、例えば、シリコン半導体基板上にエピタキシャル成長により形成された、ドレイン領域１０２よりも不純物濃度の低いＮ型半導体領域から構成される。ドリフト領域１０３は、半導体基体１０６の他面を構成する。
【０００６】
ボディ領域１０４は、ドリフト領域１０３の表面領域に島状に形成され、Ｐ型の半導体領域から構成される。ボディ領域１０４は、所定間隔毎に複数配置され、単位素子活性領域（セル領域）を構成する。また、ソース領域１０５は、Ｎ型の半導体領域から構成され、ボディ領域１０４の表面領域に形成されている。
【０００７】
図７を参照して、ボディ領域１０４はドリフト領域１０３内に格子状に配置され、Ｘ方向とＹ方向とで異なる間隔で配置されている。ボディ領域１０４は、略方形の平面形状を有する。ソース領域１０５は、帯状に、環状に露出している。環状のソース領域１０５の内側には、ボディ領域１０４が略方形に露出している。
【０００８】
また、図６および図７に示すように、Ｙ方向に配列されたボディ領域１０４の列の間には、Ｐ型の拡散領域からなる電界緩和領域１０８が形成されている。電界緩和領域１０８は、ボディ領域１０４のＹ方向の列に沿って、帯状に形成されている。電界緩和領域１０８は、後述するように、Ｘ方向に隣接するボディ領域１０４の間の電界を緩和し、電界集中を防ぐ機能を有する。
【０００９】
図６を参照して、半導体基体１０２の他面上には、シリコン酸化膜等からなるゲート絶縁膜１０９を介して、ポリシリコン等からなる導体層１１０が形成されている。導体層１１０は、半導体基体１０６の他面のほぼ全体を覆うように設けられている。ゲート絶縁膜１０９と導体層１１０との上には絶縁膜１１１が形成されている。
【００１０】
導体層１１０は、ゲート電極部１１２と、接続部１１３と、から構成されている。ゲート電極部１１２は、ソース領域１０５とドリフト領域１０３とに挟まれたボディ領域１０４（チャネル形成領域）と重なるように設けられている。
【００１１】
接続部１１３は、各セルのゲート電極部１１２を電気的に接続する部分を構成し、導体層１１０のゲート電極部１１２以外の部分を指す。なお、ゲート電極部１１２と接続部１１３との間には、物理的な境界は存在しないことは勿論である。
【００１２】
各ボディ領域１０４と重なる部分には、ゲート絶縁膜１０９と絶縁膜１１１とを貫通するソースコンタクト開口１１４が形成されている。ソースコンタクト開口１１４は、導体層１１０に設けられた開口１１０ａ（図７に点線にて示す）の内側を通る。ソースコンタクト開口１１４の内部には、ソース領域１０５の内周縁と、その内部のボディ領域１０４が露出している。ソースコンタクト開口１１４の内部には、それぞれ、アルミニウム等からなるソース電極層１１５が埋め込まれている。各セルのソース電極層１１５は、一体に形成され、Ｙ方向に延伸するソースバスラインを構成する。
【００１３】
また、絶縁膜１１１には、ゲートコンタクト開口１１６が形成されている。ゲートコンタクト開口１１６の内側には、導体層１１０の接続部１１３が露出している。ゲートコンタクト開口１１６は、ゲート電極層１１７が埋め込まれている。
【００１４】
図７に示すように、ゲートコンタクト開口１１６は、Ｙ方向に延伸する電界緩和領域１０８に所定間隔毎に形成され、各ゲートコンタクト開口１１６内に埋め込まれたゲート電極層１１７は、Ｙ方向に延伸するゲートバスラインを構成する。ゲート電極層１１７（ゲートバスライン）への所定電圧の印加により、接続部１１３を介して、ゲート電極部１１２にゲート電圧が印加され、各ボディ領域１０４にチャネル（反転領域）が形成される。
【００１５】
ここで、ゲート電極層１１７（ゲートバスライン）の下方のドリフト領域１０３には、ボディ領域１０４を設けることはできない。隣接するボディ領域１０４の間隔が大きすぎ、また、Ｘ方向とＹ方向とで配置間隔が異なると、間隔が大きい部分で電界集中が起きやすく、耐圧が低下する。電界緩和領域１０８は、このようなＰ型拡散領域の「ぬけ」を補い、耐圧を向上させるために設けられている。
【００１６】
すなわち、好適には、電界緩和領域１０８は、そのボディ領域１０４までの距離ｂが、隣接するボディ領域１０４同士の距離ａと等しくなるように設けられている。また、電界緩和領域１０８は、ボディ領域１０４とほぼ等しい拡散深さで形成されている。このように、ゲートバスライン下のドリフト領域１０３を電界緩和領域１０８で埋め、ボディ領域１０４間の間隔をＸ方向とＹ方向とでほぼ同一とすることにより、電界集中は防止され、耐圧の向上が図れる。
【００１７】
上記構成のＭＯＳＦＥＴ１０１は、以下のように製造される。まず、Ｎ型のドリフト領域１０３と、これよりも不純物濃度の高いＮ型ドレイン領域１０２と、を備える半導体基体１０６を用意する。次いで、ドリフト領域１０３上に、シリコン酸化膜等からなる絶縁膜２０１を形成し、パターニングにより開口２０１ａを形成する。次いで、絶縁膜２０１をマスクとして、ボロン等のＰ型不純物を開口２０１ａ内に選択的に導入し、図８（ａ）に示すようなＰ型拡散領域２０２を形成する。このＰ型拡散領域２０２は、上述した電界緩和領域１０８を構成する。
【００１８】
次に、マスクとして用いた絶縁膜２０１をエッチングにより除去する。続いて、図８（ｂ）に示すように、Ｎ型半導体領域１０３の表面領域に、シリコン酸化膜等からなる絶縁膜２０３を熱酸化等により形成する。この絶縁膜２０３は、上述したゲート絶縁膜１０９を構成する。
【００１９】
次いで、形成した絶縁膜２０３上に、ポリシリコン等からなる導体層２０４を気相成長等により形成する。続いて、導体層２０４をパターニングして、図８（ｃ）に示すように、開口２０４ａ（図７の開口１１０ａ）を形成する。
【００２０】
次に、パターニングされた導体層２０４をマスクとして、ボロン等のＮ型不純物を開口２０４ａ内に選択的に導入する。これにより、図９（ｄ）に示すような、Ｐ型拡散領域２０５が形成される。Ｐ型拡散領域２０５は、上述したボディ領域１０４を構成する。
【００２１】
さらに、同じ拡散マスク（導体層２０４）を使用して、開口２０４ａ内に選択的にリン等のＮ型不純物を導入する。これにより、図９（ｅ）に示すような、環状のＮ型拡散領域２０６が形成される。ここで、例えば、ボディ領域１０４の中央にレジストを設けることにより、環状の拡散領域２０６を形成することができる。このＮ型拡散領域２０６は、上述したソース領域１０５を構成する。
【００２２】
次いで、絶縁膜２０３と導体層２０４との上に、シリコン酸化膜等からなる絶縁膜２０７を形成する。続いて、エッチングにより、図９（ｆ）に示すように、絶縁膜２０３と絶縁膜２０７とを貫通するソースコンタクト開口１１４を形成するとともに、Ｐ型拡散領域上の導体層２０４に通じるゲートコンタクト開口１１６を形成する。
【００２３】
次いで、半導体基体１０６の一面上に金属層２０８を形成し、パターニングする。これにより、ソースコンタクト開口１１４に埋め込まれたソース電極層１１５（ソースバスライン）と、ゲートコンタクト開口１１６に埋め込まれたゲート電極層１１７（ゲートバスライン）と、が形成される。さらに、半導体基体１０６の他面上のドレイン領域１０２上に金属層（ドレイン電極層１０７）を形成する。以上のようにして、図６に示すＭＯＳＦＥＴが製造される。
【００２４】
【発明が解決しようとする課題】
上記した、ＭＯＳＦＥＴ１０１の製造工程では、電界緩和領域１０８と、ボディ領域１０４と、は、別の工程で、異なるマスク（絶縁膜２０３および導体層２０４）を用いて形成している。このため、電界緩和領域１０８とボディ領域１０４とを、実質的に同一の拡散深さおよび拡散濃度で形成することは難しい。また、マスク合わせの精度から、隣接するボディ領域１０４の間隔と、ボディ領域１０４と電界緩和領域１０８との間隔と、を等しくすることは難しい。
【００２５】
このような、拡散深さの不均一や、配置間隔のばらつきは、特定領域への電界集中を発生させやすく、耐圧の低下を招来する。このように、従来のＭＯＳＦＥＴには、ボディ領域と電界緩和領域とを別の工程で形成することから、電界緩和効果が十分に得られず、高耐圧などの高い信頼性が得られない、という問題があった。
【００２６】
上記事情を鑑みて、本発明は、信頼性の高い絶縁ゲート型半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、耐圧の高い絶縁ゲート型半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。
【００２７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明の第１の観点にかかる絶縁ゲート型半導体装置の製造方法は、
半導体基体の一面に設けられた第１導電型の第１半導体領域上に第１の絶縁膜を形成する工程と、
前記第１の絶縁膜上に導体層を形成する工程と、
前記導体層をパターニングして、前記導体層を複数の列に隔てる帯状の第１の開口と、前記列にその延伸方向に沿って所定間隔毎に設けられた複数の第２の開口と、前記第１の開口の内側に突出する突出部と、を形成する導体層パターニング工程と、
前記導体層をマスクとして前記第１半導体領域に第２導電型の不純物を選択的に拡散させ、前記第１の開口と重なる第２半導体領域と、前記第２の開口と重なる第３半導体領域と、を同時に形成する不純物拡散工程と、
前記導体層をマスクとして、前記第３半導体領域内に第１導電型の不純物を選択的に拡散させ、第４半導体領域を形成する工程と、
前記一面上に第２の絶縁膜を形成する工程と、
前記第２の絶縁膜をパターニングして、その底に前記突出部が露出するコンタクト開口を形成する工程と、
前記コンタクト開口を介して前記突出部と接触する電極層を形成する電極層形成工程と、
を備える、ことを特徴とする。
【００３３】
上記方法において、前記導体層パターニング工程では、例えば、前記第１の開口と前記第２の開口との間隔を、前記列方向の前記第２の開口同士の間隔と、略同一の大きさで形成する。
【００３４】
上記方法において、前記導体層パターニング工程では、例えば、前記第２の開口を、前記列および前記行のいずれかに略平行な辺を有する略方形の平面形状に形成する。
【００３５】
上記方法において、前記不純物拡散工程では、例えば、前記第２半導体領域は前記第１の開口の周囲で前記導体層と重なるように形成され、
前記導体層パターニング工程では、例えば、前記突出部を、前記導体層が前記第１の開口の周囲で前記第２半導体領域と重なる幅の２倍以下の幅を有する帯状に形成する。
【００３６】
上記方法において、前記電極層形成工程では、例えば、前記電極層を、前記第２半導体領域に沿って延伸する帯状に形成する。
【００３７】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態にかかる絶縁ゲート型電界効果トランジスタの製造方法について、以下図面を参照して説明する。本実施の形態の絶縁ゲート型電界効果トランジスタは、ＭＯＳ（Metal Oxide Semiconductor）型の電界効果トランジスタ（Field Effect Transistor：ＦＥＴ）を構成する。
【００３８】
図１に、本実施の形態に係る電界効果トランジスタ（以下、ＭＯＳＦＥＴ）１１の断面構成を示す。図２は、その平面図を示し、図１は、図２のＡＡ線矢視断面を示す。
【００３９】
図１に示すように、本実施の形態のＭＯＳＦＥＴ１１は、ドリフト領域１２と、ドレイン領域１３と、ボディ領域１４と、ソース領域１５と、電界緩和領域１６と、を備えた半導体基体１７を備える。
【００４０】
ドリフト領域１２は、Ｎ型のシリコン半導体基板から構成されている。なお、シリコン基板に限らず、ガリウム−ヒ素、ガリウム−窒素、シリコン−ゲルマニウム等の化合物半導体からなる基板であってもよい。ドリフト領域１２は、半導体基体１７の一面を構成する。
【００４１】
ドレイン領域１３は、Ｎ型のドリフト領域１２の一面上に設けられている。ドレイン領域１３は、ドリフト領域１２と同一の導電型を有し、これよりも高い不純物濃度を有する。ドリフト領域１２とドレイン領域１３とには、その厚み方向にドレイン電流が流れる。ドレイン領域１３は、Ｎ型のシリコン基板にＮ型の不純物を導入して、または、シリコン基板上に不純物を含むシリコン層をエピタキシャル成長させて形成される。半導体基体１７の他面を構成するドレイン領域１３の一面上には、アルミニウム、ニッケル、銅等からなるドレイン電極層１８が形成されている。
【００４２】
ボディ領域１４は、ドリフト領域１２の表面領域に形成され、Ｐ型の拡散領域から構成される。ボディ領域１４と、これを包囲するドリフト領域１２と、の界面には、ＰＮ接合が形成される。ボディ領域１４は、スパッタリング等によりＰ型不純物を導入して形成される。ボディ領域１４は、単位素子活性領域（セル領域）を構成する。
【００４３】
ソース領域１５は、ボディ領域１４の表面領域に形成され、Ｎ型の拡散領域から構成されている。ソース領域１５とボディ領域１４との界面には、ＰＮ接合が形成される。ソース領域１５は、Ｎ型の不純物をスパッタリング等によりＮ型不純物を導入することにより形成される。
【００４４】
図２を参照して、ボディ領域１４は、略方形の平面形状を有する。また、ソース領域１５は、ボディ領域１４の内側に、帯状の環状に形成されている。環状のソース領域１５の内側にはボディ領域１４が、略方形の平面形状で露出している。また、ソース領域１５の外側のボディ領域１４は、後述するように、チャネル形成領域を構成する。
【００４５】
図２に示すように、セルを構成するボディ領域１４はドリフト領域１２内に複数設けられ、格子状に配置されている。ボディ領域１４は、そのＸ方向およびＹ方向の辺が、隣接する他のボディ領域１４の辺と略平行となるように配置されている。ボディ領域１４は、Ｘ方向（行）とＹ方向（列）とで、それぞれ、異なる間隔で配置されている。
【００４６】
図１を参照して、Ｘ方向に隣接するボディ領域１４の間には、電界緩和領域１６が形成されている。電界緩和領域１６は、Ｐ型の不純物拡散によって形成されたＰ型拡散領域から構成される。後述するように、電界緩和領域１６は、ボディ領域１４と同一の不純物拡散工程で形成され、ボディ領域１４と実質的に同一の拡散深さを有する。
【００４７】
図２を参照して、電界緩和領域１６は帯状の形状を有し、ボディ領域１４の列の間をＹ方向に延伸して設けられている。電界緩和領域１６は、略方形のボディ領域１４のＹ方向に延びる辺と略平行に対向している。ここで、対向するボディ領域１４と、電界緩和領域１６との間の距離ｂは、Ｙ方向に隣接するボディ領域１４間の距離ａとほぼ等しい大きさに設定されている。
【００４８】
図１に戻り、半導体基体１７の一面上には、シリコン酸化膜等からなるゲート絶縁膜１９を介して、ポリシリコン等からなる導体層２０が形成されている。導体層２０は、半導体基体１７の一面のほぼ全体にわたって形成されている。
【００４９】
導体層２０は、少なくとも、各セルのソース領域１５とドリフト領域１２とに挟まれたボディ領域１４（チャネル形成領域）と重なるように設けられている。導体層は、ゲート電極として機能する。
【００５０】
図３に、導体層２０の平面図を示す。図３に示すように、導体層２０は、帯状の第１の開口２０ａと、略方形の第２の開口２０ｂと、を備える。第１の開口２０ａはＹ方向に延伸して形成されている。複数の第１の開口２０ａによって、導体層２０はＹ方向に延伸する複数の列に分離され、各列には第２の開口２０ｂが所定間隔毎に形成されている。なお、第１の開口２０ａによって隔てられた導体層２０の列は、各列毎に電気的に分離されていてもよく、または、半導体基体１７の端部において接続されていても良い。
【００５１】
第１の開口２０ａは、帯状の電界緩和領域１６と重なるように形成されている。後述するように、電界緩和領域１６は、導体層２０をマスクとして、第１の開口２０ａ内に選択的にＰ型不純物を拡散することにより形成される。このため、電界緩和領域１６の外周縁は、第１の開口２０ａの周囲の導体層２０と、横方向に拡散した幅ｆだけ重なって形成されている。
【００５２】
また、第２の開口２０ｂは、ボディ領域１４と重なる位置に形成されている。後述するように、ボディ領域１４は、導体層２０をマスクとして、第２の開口２０ｂ内に選択的にＰ型不純物を拡散することにより形成される。このボディ領域１４の形成は、上述した電界緩和領域１６の形成と同一の工程で形成される。このため、ボディ領域１４の外周縁は、第２の開口２０ｂの周囲の導体層２０と、横方向に拡散した分だけ重なって形成されている。
【００５３】
Ｙ方向に隣接する第２の開口２０ｂ同士の間隔ｃと、第１の開口２０ａと第２の開口２０ｂとの間隔ｄと、は、ほぼ同一に設定されている。このように構成された導体層２０を拡散マスクとして用いることにより、上述したように隣接するボディ領域１４同士の間隔ａと、ボディ領域１４と電界緩和領域１６との間隔ｂと、は、ほぼ等しいものとなる。
【００５４】
ここで、ボディ領域１４と、電界緩和領域１６と、は、同一の拡散マスク（導体層２０）を使用して、同一の工程で形成されることから、マスク合わせに基づく誤差は存在しない。従って、ボディ領域１４領域同士の間隔ａと、ボディ領域１４と電界緩和領域１６との間隔ｂと、は、高い精度で一致する。また、同一の拡散工程で形成することから、上述したように、ボディ領域１４と、電界緩和領域１６と、は、ほぼ同一の拡散深さで形成される。
【００５５】
また、導体層２０には、第１の開口２０ａ内に突出するコンタクト部２０ｃが形成されている。コンタクト部２０ｃは、帯状に形成されており、例えば、導体層２０の各列から略垂直に突出している。コンタクト部２０ｃは、各セルのソース領域１５の内側のボディ領域１４とほぼ同じＹ方向位置に配置されている。また、例えば、コンタクト部２０ｃは、導体層２０の列の両側に所定間隔毎に交互に設けられている。
【００５６】
ここで、コンタクト部２０ｃの幅ｅは、第１の開口２０ａの周囲の導体層２０が電界緩和領域１６と重なる幅ｆの、２倍以下に設定されている。すなわち、第１の開口２０ａ内に不純物を拡散させた際に、コンタクト部２０ｃの下方のドリフト領域１２の表面領域においても十分に不純物拡散領域が形成される。これにより、切れ目のない、帯状の電界緩和領域１６が形成される。
【００５７】
図１を参照して、ゲート絶縁膜１９および導体層２０の上には、シリコン酸化膜等からなる絶縁膜２１が形成されている。各ボディ領域１４と重なる位置には、ゲート絶縁膜１９と導体層２０と絶縁膜２１とを貫通するソースコンタクト開口２１ａが形成されている。ソースコンタクト開口２１ａの底には、ソース領域１５の内周縁と、その内側のボディ領域１４と、が露出している。
【００５８】
ソースコンタクト開口２１ａには、アルミニウム、ニッケル、銅等からなるソース電極層２２が埋め込まれ、ソース電極はソースコンタクト開口２１ａ内でソース領域１５と接触している。各ソース電極層２２は、Ｙ方向に一体に構成され、ソースバスライン２２Ｌを構成する。なお、各ソースバスライン２２Ｌは、互いに電気的に接続され、例えば、その端部等で接続されていても良い。ソースバスライン２２Ｌは外部電極に接続され、ソース電極層２２を介してソース領域１５にソース電流が供給される。
【００５９】
図１および図２に示すように、絶縁膜２１には、導体層２０のコンタクト部２０ｃと重なる位置に、ゲートコンタクト開口２１ｂが形成されている。ゲートコンタクト開口２１ｂの内部には、アルミニウム、ニッケル、銅等からなるゲート電極層２３が埋め込まれている。各ゲート電極層２３は、Ｙ方向に一体に形成され、ゲートバスライン２３Ｌを構成する。各ゲートバスライン２３Ｌは、互いに電気的に接続され、例えば、その端部において接続されている。ゲートバスライン２３Ｌは、外部電極に接続され、導体層２０には所定の電圧が印加される。
【００６０】
導体層２０へのゲート電圧に印加により、導体層２０下のボディ領域１４に反転層（チャネル）が形成される。チャネルを介して、ソース領域１５とドリフト領域１２との間に電流が流れる。電流は、さらにドレイン領域１３を通ってドレイン電極層１８から外部に流れる。このようにして、本実施の形態のＭＯＳＦＥＴ１１はいわゆる縦型ＭＯＳＦＥＴを構成する。
【００６１】
以上のように構成されたＭＯＳＦＥＴ１１において、電界緩和領域１６は、ゲートバスライン２３Ｌの下方における電界集中を防止するために設けられている。すなわち、上記のような電界緩和領域１６が設けられていない場合には、Ｘ方向とＹ方向とで隣接するボディ領域１４の間隔が異なったものとなる。このようなボディ領域１４間の間隔が局所的に異なる部分では、ＭＯＳＦＥＴ１１の動作時に電界集中が発生しやすい。従って、この場合、ゲートバスライン２３Ｌの下方において、電界集中が発生しやすく、高い耐圧が得られない。
【００６２】
しかし、図１に示すように、ゲートバスライン２３Ｌの下に電界緩和領域１６を設けた構成では、ボディ領域１４の周囲には、ボディ領域１４または電界緩和領域１６のいずれかのＰ型拡散領域がほぼ等距離に存在する。このため、特定の領域、特に、ゲートバスライン２３Ｌの下方における電界集中は防止され、高い耐圧が得られる。
【００６３】
また、本実施の形態において、電界緩和領域１６は、ボディ領域１４と同一の拡散工程で、同一の拡散マスク（導体層２０）を用いて形成される。このため、マスク合わせに基づく誤差等が無いことから、電界緩和領域１６とボディ領域１４との距離ｂを、隣接するボディ領域１４間の距離ａと、高い精度で一致させることができる。さらに、電界緩和領域１６と、ボディ領域１４と、を、同一の拡散深さで形成することができる。これにより、電界緩和領域１６の電界緩和効果を一層向上させることができ、高いレベルで電界集中が防がれた、耐圧の高いＭＯＳＦＥＴ１１が得られる。
【００６４】
以下、上記ＭＯＳＦＥＴ１１の製造方法について、図４（ａ）〜（ｃ）および図５（ｄ）〜５（ｅ）を参照して説明する。なお、以下に示す工程は一例であり、同様の結果物が得られる方法であれば、どのようなものであってもよい。
【００６５】
まず、一面に相対的に不純物濃度の低いＮ型半導体領域３０と、他面に相対的に不純物濃度の高いＮ＋型半導体領域３１と、を備える半導体基体３２を用意する。半導体基体３２は、例えば、Ｎ型のシリコン半導体基板にＮ型不純物を拡散して、あるいは、Ｎ型のシリコン半導体基板上にＮ型の不純物を含むシリコン層をエピタキシャル成長させて形成される。なお、Ｎ型の半導体領域３０は上述したドリフト領域１２を構成し、Ｎ＋型の半導体領域３１は上述したドレイン領域１３を構成する。
【００６６】
用意した半導体基体３２の一面上に、図４（ａ）に示すように、シリコン酸化膜等からなる第１の絶縁膜３３を、例えば、熱酸化により形成する。第１の絶縁膜３３は、上述したゲート絶縁膜１９を構成する。
【００６７】
次いで、第１の絶縁膜３３上に、ポリシリコン等からなる導体層２０を気相成長法等により形成する。さらに、形成した導体層２０をエッチングして、図４（ｂ）に示すように、第１の開口２０ａと、第２の開口２０ｂと、を形成する。なお、エッチング後のポリシリコン層は、図３に示すような平面形状を有し、第１の開口２０ａに突出するコンタクト部２０ｃが形成される。
【００６８】
次いで、上記のようにパターニングされた導体層２０をマスクとして、ドリフト領域１２内にボロン等のＰ型不純物を拡散させる。これにより、図４（ｃ）に示すような、第１の開口２０ａと第２の開口２０ｂとからそれぞれ露出する第１のＰ型拡散領域３４と、第２のＰ型拡散領域３５と、を構成する。第１および第２のＰ型拡散領域３４、３５は、上述した電界緩和領域１６と、ボディ領域１４と、をそれぞれ構成する。勿論、第１および第２のＰ型拡散領域３４、３５は、実質的に同一の拡散深さを有する。
【００６９】
また、横方向の拡散により、第１および第２のＰ型拡散領域３５の周縁は、マスクとしての導体層２０の第１および第２の開口２０ｂの周囲と重なって形成される。ここで、コンタクト部２０ｃの幅は、この横方向の拡散幅の２倍以下に設定されており、コンタクト部２０ｃの下方においても、Ｐ型拡散領域が切れ目なく連続的に形成される。
【００７０】
次いで、再び導体層２０をマスクとして、第２の開口２０ｂを介して、Ｎ型の不純物を第２のＰ型拡散領域３５内に拡散させる。このとき、不純物拡散は、例えば、第１の開口２０ａ内と、第２の開口２０ｂ内の中央には、レジストを形成した状態で行われる。こうして、第２のＰ型拡散領域３５内に環状のＮ型拡散領域３６が形成される。Ｎ型拡散領域３６は、上述したソース領域１５を構成する。
なお、導体層２０をマスクとした上記不純物導入により、導体層２０にも不純物が導入され、導電性が高められる。
【００７１】
続いて、導体層２０が形成された半導体基体３２の一面上に、シリコン酸化膜等からなる第２の絶縁膜３７を気相成長等により形成する。次いで、第１の絶縁膜３３と第２の絶縁膜３７をエッチングして、図５（ｄ）に示すように、ソースコンタクト開口２１ａと、ゲートコンタクト開口２１ｂと、を形成する。上述したように、ソースコンタクト開口２１ａの底には環状のＮ型拡散領域３６（ソース領域１５）と、Ｐ型拡散領域（ボディ領域１４）と、が露出している。また、ゲートコンタクト開口２１ｂの底には、導体層２０のコンタクト部２０ｃが露出している。
【００７２】
続いて、半導体基体３２の一面上に、アルミニウム、ニッケル、銅等からなる金属層を形成する。その後、金属層をエッチングして、ソースコンタクト開口２１ａを介してソース領域１５と接触するソースバスライン２２Ｌと、ゲートコンタクト開口２１ｂを介してコンタクト部２０ｃと接触するゲートバスライン２３Ｌと、を形成する。さらに、半導体基体３２の他面上に、アルミニウム、ニッケル、同等からなる金属層を形成する。金属層は、上述したドレイン電極層１８を構成する。以上で、図５（ｅ）に示すＭＯＳＦＥＴ１１が形成される。
【００７３】
以上説明したように、本実施の形態では、ゲートバスライン２３Ｌの下の電界緩和領域１６を、ゲート電極を構成する導体層２０をマスクとして、同一の不純物拡散工程で形成している。これにより、マスク合わせの誤差を除き、ボディ領域１４と電界緩和領域１６とを高精度に配列されることができ、また、これらを実質的に同一の拡散深さで形成することができる。
【００７４】
詳細には、導体層２０に帯状の第１の開口２０ａと、略方形の第２の開口２０ｂと、を所定間隔で形成することにより、隣接するボディ領域１４同士の間隔ａと、ボディ領域１４と電界緩和領域１６との間隔ｂと、が略同一に高精度に形成することができる。この構成では、格子状に配列されたボディ領域１４の周囲には、それぞれＰ型の拡散領域（ボディ領域１４または電界緩和領域１６）が、略同一の距離に高精度で設けられている。このように構成されたＭＯＳＦＥＴ１１においては、特定のボディ領域１４の近傍における電界集中は高度に抑制され、高耐圧等の信頼性の向上が図られる。
【００７５】
本発明は、上記実施の形態に限られず、種々の変形、応用が可能である。以下、本発明に適用可能な上記実施の形態の変形態様について、説明する。
【００７６】
上記実施の形態では、コンタクト部２０ｃは各セルのソース領域１５の内側のボディ領域１４とほぼ同じＹ方向位置に配置するものとした。しかし、コンタクト部２０ｃを設ける位置は、上記のものに限られず、隣接するボディ領域１４の間のＹ方向位置に配置するなど、どのように配置してもよい。また、コンタクト部２０ｃの形状も帯状に限らず、どのように形成されても良い。
【００７７】
上記実施の形態では、ボディ領域１４は、略方形の平面形状を有する構成とした。しかし、ボディ領域１４の形状は、方形に限らず、多角形、円形等の他の形状であってもよい。また、ボディ領域１４が構成するセルは、ストライプ状であってもよい。
【００７８】
上記実施の形態では、Ｎ型のシリコン半導体基板を用いるものとした。しかし、これに限らず、上記例とは逆の導電型の構成としてもよい。
【００７９】
上記実施の形態では、本発明を縦型ＭＯＳＦＥＴに適用した例について説明した。しかし、本発明は、ＭＯＳＦＥＴに限らず、ＭＩＳＦＥＴ、絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ等の、絶縁ゲートを有する他のいかなる半導体素子にも適用することができる。
【００８０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、信頼性の高い絶縁ゲート型半導体装置の製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態にかかるＭＯＳＦＥＴの断面構成を示す図である。
【図２】図１に示すＭＯＳＦＥＴの平面図を示す。
【図３】図１に示す導体層の平面図を示す。
【図４】図１に示すＭＯＳＦＥＴの製造工程を示す図である。
【図５】図１に示すＭＯＳＦＥＴの製造工程を示す図である。
【図６】従来のＭＯＳＦＥＴの断面構成を示す図である。
【図７】図６に示すＭＯＳＦＥＴの平面図を示す。
【図８】図６に示すＭＯＳＦＥＴの製造工程を示す図である。
【図９】図６に示すＭＯＳＦＥＴの製造工程を示す図である。
【符号の説明】
１１  ＭＯＳＦＥＴ
１２  ドリフト領域
１３  ドレイン領域
１４  ボディ領域
１５  ソース領域
１６  電界緩和領域
１７  半導体基体
１９  ゲート絶縁膜
２０  導体層
２０ａ  第１の開口
２０ｂ  第２の開口
２０ｃ  コンタクト部
２３Ｌ  ゲートバスライン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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