(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、
基材、
屈折率が１．４５〜２．１の範囲内の値である、島状に平面配置された非連続層である高屈折率膜、及び
屈折率が１．３５〜１．５の範囲内の値であって、該高屈折率膜の屈折率よりも低い値を有し、かつ該高屈折率膜と接している連続層としての低屈折率膜を含み、
該低屈折率膜が表面側に位置し、かつ、該高屈折率膜の非連続部分で該基材と接している反射防止膜積層体。
【請求項２】
少なくとも、
基材、
ハードコート層、
屈折率が１．４５〜２．１の範囲内の値である、島状に平面配置された非連続層である高屈折率膜、及び
屈折率が１．３５〜１．５の範囲内の値であって、該高屈折率膜の屈折率よりも低い値を有し、かつ該高屈折率膜と接している連続層としての低屈折率膜を含み、
該低屈折率膜が、該高屈折率膜の非連続部分で該ハードコート層と接している反射防止膜積層体。
【請求項３】
少なくとも、
基材、
屈折率が１．４５〜２．１の範囲内の値である、連続層としての高屈折率膜、
屈折率が１．４５〜２．１の範囲内の値である、島状に平面配置された非連続層である高屈折率膜、及び
屈折率が１．３５〜１．５の範囲内の値であって、該非連続層である高屈折率膜の屈折率よりも低い値を有し、かつ該非連続層である高屈折率膜と接している連続層としての低屈折率膜を含み、
該低屈折率膜が、該非連続層である高屈折率膜の非連続部分で該連続層としての高屈折率膜と接している反射防止膜積層体。
【請求項４】
前記非連続層である高屈折率膜が、少なくとも、無機酸化物粒子及び光重合性成分を含む組成物から形成されている請求の範囲第１項〜第３項のいずれか１項に記載の反射防止膜積層体。
【請求項５】
前記低屈折率膜の表面粗さ（ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠したＲｚ）をＲ１（μｍ）とし、前記高屈折率膜の表面粗さ（ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠したＲｚ）をＲ２（μｍ）とし、前記低屈折率膜の膜厚をＤ１（μｍ）としたときに、当該Ｒ１を２μｍ以下の値とし、Ｒ２をＲ１よりも大きな値であって、かつ０．０１〜２μｍの範囲内の値とするとともに、Ｒ１／Ｄ１の比率を０．０１〜２の範囲内の値とする請求の範囲第１項〜第４項のいずれか一項に記載の反射防止膜積層体。
【請求項６】
基材上に、屈折率が１．４５〜２．１の範囲内の値である、島状に平面配置された非連続層である高屈折率膜を形成する工程、及び
屈折率が１．３５〜１．５の範囲内の値であって、該高屈折率膜の屈折率よりも低い値を有し、かつ該高屈折率膜と接する連続層としての低屈折率膜を形成する工程
を含み、かつ
該低屈折率膜が表面側に位置し、かつ、該高屈折率膜の非連続部分で該基材と接している反射防止膜積層体の製造方法。
【請求項７】
基材上に、ハードコート層を形成する工程、
屈折率が１．４５〜２．１の範囲内の値である、島状に平面配置された非連続層である高屈折率膜を形成する工程、及び
屈折率が１．３５〜１．５の範囲内の値であって、該高屈折率膜の屈折率よりも低い値を有し、かつ該高屈折率膜と接する連続層としての低屈折率膜を形成する工程
を含み、かつ
該低屈折率膜が表面側に位置し、かつ、該高屈折率膜の非連続部分で該ハードコート層と接している反射防止膜積層体の製造方法。
【請求項８】
基材上に、屈折率が１．４５〜２．１の範囲内の値である、連続層としての高屈折率膜を形成する工程、
屈折率が１．４５〜２．１の範囲内の値である、島状に平面配置された非連続層である高屈折率膜を形成する工程、及び
屈折率が１．３５〜１．５の範囲内の値であって、該非連続層である高屈折率膜の屈折率よりも低い値を有し、かつ該非連続層である高屈折率膜と接する連続層としての低屈折率膜を形成する工程
を含み、かつ
該低屈折率膜が表面側に位置し、かつ、該非連続層である高屈折率膜の非連続部分で連続層としての高屈折率膜と接している反射防止膜積層体の製造方法。
【請求項９】
前記高屈折率膜を、塗布法、フォトリソグラフィ法、フィルム押圧法、またはエンボス法により形成する請求の範囲第６項〜第８項のいずれか１項に記載の反射防止膜積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、反射防止膜積層体およびその製造方法に関し、より詳細には、耐擦傷性や透明性に優れた反射防止膜積層体およびその製造方法に関する。
背景技術
反射防止膜の形成材料として、例えば、熱硬化型ポリシロキサン組成物が知られており、特開昭６１−２４７７４３号公報、特開平６−２５５９９号公報、特開平７−３３１１１５号公報および特開平１０−２３２３０１号公報等に開示されている。
しかしながら、このような熱硬化型ポリシロキサン組成物を利用して得られる反射防止膜は、いずれも平面方向において連続層から形成されており、耐擦傷性に乏しく、結果として、耐久性に乏しいという問題が見られた。
また、かかる反射防止膜を製造するにあたり、高温で、長時間にわたって加熱処理をする必要があり、生産性が低く、あるいは適用可能な基材の種類が限定されるという問題が見られた。
そこで、特開平８−９４８０６号公報に開示されているように、基材上に、微粒子を高屈折率バインダー樹脂中に極在化させ、平面方向において連続層からなる高屈折率膜と、フッ素系共重合体からなる低屈折率膜とを順次に積層した光学機能性フィルムが提案されている。
より具体的には、連続層からなる高屈折率膜を形成するのに、２００ｎｍ以下の金属酸化物粒子等の微粒子層を工程紙上に予め形成しておき、それを基材上の高屈折率バインダー樹脂に対して圧接することにより、高屈折率バインダー樹脂中に微粒子層を埋設して、極在化させている。
また、低屈折率膜については、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％およびヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部と、これらの合計量を１００重量部としたときに、０．５〜１０重量部の重合開始剤とからなる樹脂組成物を硬化して、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜としている。
しかしながら、特開平８−９４８０６号公報に開示された光学機能性フィルムは、連続層としての高屈折率膜の製造工程が複雑であり、結果として均一な特性を示す光学機能性フィルムを作成することが困難であった。
また、かかる光学機能性フィルムは、低屈折率膜における表面粗さと、膜厚との関係、および高屈折率膜における表面粗さの値を考慮しておらず、低屈折率膜の耐擦傷が乏しいという問題が見られた。
発明の開示
そこで、本発明の発明者らは鋭意検討した結果、表面側の低屈折率膜と、その下方で接する高屈折率膜とを含む反射防止膜積層体において、高屈折率膜を平面方向において、非連続層とすることにより、上述した問題を解決できることを見出した。
すなわち、本発明は、簡易な構造でありながら、耐擦傷性や透明性に優れた反射防止膜積層体を提供することを目的とする。
本発明によれば、表面側の低屈折率膜と、その下方で接する、非連続層である高屈折率膜とを含む反射防止膜積層体が提供され、上述した問題を解決することができる。
すなわち、高屈折率膜を非連続層とし、下地（例えば、ハードコート層）を部分的に露出させることにより、凹凸形状を有する膜として高屈折率膜を容易に構成することができる。したがって、高屈折率膜自体を低屈折率膜の内部に侵入させることができ、そのため低屈折率膜の動きを拘束して、低屈折率膜の耐擦傷性を著しく向上させることができる。
すなわち、比較的柔らかいフッ素系樹脂やシリコーン系樹脂からなる低屈折率膜を有する場合であっても、優れた透明性を維持したまま、当該低屈折率膜の耐擦傷性を向上させることができる。
また、本発明の反射防止膜積層体を構成するにあたり、高屈折率膜が、島状に平面配置してあることが好ましい。
このように比較的規則性を有する島状の高屈折率膜として形成することにより、高屈折率膜における表面粗さ（Ｒｚ）の値の制御がさらに容易となり、結果として、低屈折率膜における耐擦傷性をさらに向上させることができる。
すなわち、島状の高屈折率膜の膜厚を適宜変更することによって、幅広く、しかも精度良く表面粗さ（Ｒｚ）の値の制御ができるため、低屈折率膜における耐擦傷性の調整が容易となる。
また、本発明の反射防止膜積層体を構成するにあたり、低屈折率膜の屈折率を１．３５〜１．５の範囲内の値とし、高屈折率膜の屈折率を１．４５〜２．１の範囲内の値とするとともに、高屈折率膜の屈折率を、低屈折率膜の屈折率よりも大きな値とすることが好ましい。
このように低屈折率膜の屈折率および高屈折率膜の屈折率をそれぞれ制限することにより、反射防止膜等の用途において、優れた反射防止効果を確実に得ることができる。
また、本発明の反射防止膜積層体を構成するにあたり、高屈折率膜の下方に、ハードコート層が設けてあることが好ましい。
このようにハードコート層が形成してあると、かかるハードコート層が高屈折率膜を強固に固定することができるため、結果として、表面側の低屈折率膜における耐擦傷性をより向上させることができる。
また、本発明の反射防止膜積層体を構成するにあたり、高屈折率膜の下方に、さらに連続層としての高屈折率膜が設けてあることが好ましい。
このように構成すると、表面側の低屈折率膜が、必ず非連続層または連続層の高屈折率膜と接することができるため、結果として、より優れた反射防止効果を得ることができる。
また、本発明の反射防止膜積層体を構成するにあたり、低屈折率膜と、高屈折率膜との間に、低屈折率膜の屈折率よりも大きく、かつ、高屈折率膜の屈折率と同一かまたはそれ以下の値を有する中間層が設けてあることが好ましい。
このように中間層が形成してあると、非連続層としての高屈折率膜の表面凹凸を正確に制御することができ、結果として、低屈折率膜の耐擦傷性をより向上させることができる。
また、本発明の反射防止膜積層体を構成するにあたり、低屈折率膜の表面粗さ（ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠したＲｚ）をＲ１（μｍ）とし、高屈折率膜の表面粗さ（ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠したＲｚ）をＲ２（μｍ）とし、低屈折率膜の膜厚をＤ１（μｍ）としたときに、当該Ｒ１を２μｍ以下の値とし、Ｒ２をＲ１よりも大きな値であって、かつ０．０１〜２μｍの範囲内の値とするとともに、Ｒ１／Ｄ１の比率を０．０１〜２の範囲内の値とすることが好ましい。
すなわち、表面側に位置する低屈折率膜の表面粗さ（Ｒ１）および膜厚（Ｄ１）との関係と、非連続層としての高屈折率膜の表面粗さの値（Ｒ２）をこのように考慮することにより、高屈折率膜の表面に設けられた凹凸が、低屈折率膜中に適度に入り込むことになる。
したがって、外部から応力（摩擦力）が与えられた場合に、低屈折率膜の動きを拘束して、低屈折率膜に生じる歪みを著しく低下させることができ、その結果、低屈折率膜における耐擦傷性を著しく向上させることができる。
また、低屈折率膜の表面粗さ（Ｒ１）および膜厚（Ｄ１）との関係をこのように考慮していることから、低屈折率膜での光の散乱を有効に防止することができる。したがって、可視光域における光透過率（全光線透過率）を高い値とすることができ、透明性に優れた低屈折率膜を含む反射防止膜積層体を提供することができる。
また、本発明の別の態様は、屈折率が１．３５〜１．５の低屈折率膜を形成し、屈折率が１．４５〜２．１の高屈折率膜を、平面方向において非連続層として形成することを含む反射防止膜積層体の製造方法である。
このように反射防止膜積層体を製造することにより、簡易な構造でありながら、耐擦傷性や透明性に優れた反射防止膜積層体を効果的に得ることができる。
すなわち、比較的柔らかいフッ素系樹脂やシリコーン系樹脂を用いて低屈折率膜を形成した場合であっても、優れた透明性を維持したまま、耐擦傷性が向上した低屈折率膜を含む反射防止膜積層体を製造することができる。
また、本発明の反射防止膜積層体の製造方法を実施するにあたり、高屈折率膜を、塗布法、フォトリソグラフィ法、フィルム押圧法、またはエンボス法（マット処理含む。）により形成することが好ましい。
このように反射防止膜積層体を製造することにより、容易であって、しかも精度良く、非連続層である高屈折率膜を含む反射防止膜積層体を提供することができる。
発明を実施するための最良の形態
本発明の反射防止膜積層体およびその製造方法の実施形態を、図面を参照しながら具体的に説明する。
すなわち、第１の実施形態は、図１に示すように、基材上１２に、非連続層としての高屈折率膜（第２層と称する場合がある。）２０と、連続層としての低屈折率膜（第１層と称する場合がある。）１４とを順次に含む反射防止膜積層体１６である。
なお、第１の実施形態の変形例として、図２に示すように、基材１２と、非連続層の高屈折率膜２０との間にハードコート層１８を介在させた反射防止膜積層体２４とすることも好ましい。
また、第２の実施形態は、基材上１２に、非連続層としての高屈折率膜（第２層と称する場合がある。）２０を形成する工程と、連続層としての低屈折率膜（第１層と称する場合がある。）１４を形成する工程とを順次に含む反射防止膜積層体の製造方法である。
［第１の実施形態］
第１の実施形態は、図１または図２に例示するような反射防止膜積層体１６、２４であって、表面側の低屈折率膜１４と、その下方で接する高屈折率膜２０とを含む反射防止膜積層体において、高屈折率膜２０が、下地（基材１２またはハードコート層１８）が露出した非連続層であることを特徴とした反射防止膜積層体１６、２４である。
１．低屈折率膜
（１）低屈折率膜用硬化性組成物
低屈折率膜を形成するための低屈折率膜用硬化性組成物としては、特に制限されるものでないが、例えば、以下の（ａ）〜（ｄ）成分から構成してあることが好ましい。
（ａ）水酸基を有する含フッ素共重合体
（ｂ）水酸基と反応し得る官能基を有する熱硬化剤
（ｃ）硬化触媒
（ｄ）有機溶剤
▲１▼（ａ）水酸基を有する含フッ素共重合体
（ａ）成分としては、分子内に水酸基を有する含フッ素共重合体であれば、好適に使用することができる。より具体的には、フッ素原子を含有する単量体と、水酸基またはエポキシ基を含有する単量体とを共重合して得ることができる。また、必要に応じて、（ａ）成分および（ｂ）成分以外のエチレン性不飽和単量体を添加することも好ましい。
フッ素原子を含有する単量体としては、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、（フルオロアルキル）ビニルエーテル、（フルオロアルコキシアルキル）ビニルエーテル、パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）、パーフルオロ（アルコキシビニルエーテル）、フッ素含有（メタ）アクリル酸エステル等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
また、水酸基またはエポキシ基を含有する単量体としては、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシプロピルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ヒドロキシペンチルビニルエーテル、ヒドロキシヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルアリルエーテル、ヒドロキシブチルアリルエーテル、グリセロールモノアリルエーテル、アリルアルコール、ヒドロキシエチル（メタ）アクリル酸エステル等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
▲２▼水酸基と反応し得る官能基を有する熱硬化剤
水酸基と反応し得る官能基を有する熱硬化剤（以下、単に熱硬化剤と称する場合がある。）としては、分子内にメチロール基およびアルコキシ化メチル基あるいはいずれか一方を２個以上有するメラミン化合物を使用することが好ましい。
より具体的には、ヘキサメチルエーテル化メチロールメラミン化合物、ヘキサブチルエーテル化メチロールメラミン化合物、メチルブチル混合エーテル化メチロールメラミン化合物、メチルエーテル化メチロールメラミン化合物、ブチルエーテル化メチロールメラミン化合物等のメチル化メラミン化合物等がより好ましい。
また、熱硬化剤の添加量を、水酸基を有する含フッ素共重合体１００重量部に対して、１〜７０重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる熱硬化剤の添加量が、１重量部未満となると、水酸基を有する含フッ素共重合体の硬化が不十分となる場合があるためであり、一方、７０重量部を超えると、低屈折率膜用硬化性組成物の保存安定性が低下する場合があるためである。
▲３▼硬化触媒
硬化触媒としては、水酸基含有重合体と硬化剤との間の反応を促進するものであれば、好適に使用することができるが、高屈折率膜用硬化性組成物における硬化触媒と同様の硬化触媒を使用することが好ましい。
また、硬化触媒の添加量についても特に制限されるものでは無いが、上述した水酸基を有する含フッ素共重合体と、水酸基と反応し得る官能基を有する熱硬化剤との合計量を１００重量部としたときに、当該硬化触媒の添加量を０．１〜３０重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる硬化触媒の添加量が０．１重量部未満となると、硬化触媒の添加効果が発現しない場合があるためであり、一方、硬化触媒の添加量が３０重量部を超えると、低屈折率膜用硬化性組成物の保存安定性が低下する場合があるためである。
▲４▼有機溶剤
低屈折率膜用硬化性組成物に使用する有機溶剤としては、高屈折率膜用硬化性組成物に使用する有機溶剤と同様の種類を使用することが好ましい。
また、有機溶剤の添加量を、水酸基を有する含フッ素共重合体１００重量部に対して、５００〜１０，０００重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる有機溶剤の添加量が１００重量部未満となると、均一な膜厚を有する低屈折率膜を形成することが困難となる場合があるためであり、一方、１０，０００重量部を超えると、低屈折率膜用硬化性組成物の保存安定性が低下する場合があるためである。
（２）表面粗さ
低屈折率膜における表面粗さ（Ｒ１＝ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠したＲｚ）を２μｍ以下の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる表面粗さ（Ｒ１）が、２μｍを超えると、耐擦傷性が著しく低下する場合があるためである。
したがって、低屈折率膜の表面粗さ（Ｒ１）を１．４μｍ以下の値とすることがより好ましく、０．０２〜１μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
（３）屈折率
また、低屈折率膜における屈折率（Ｎａ−Ｄ線の屈折率、測定温度２５℃）を１．３５〜１．５０の範囲内の値とすることがより好ましい。
この理由は、かかる屈折率が１．３５未満の値となると、使用可能な材料の種類が過度に制限される場合があり、一方、かかる屈折率が１．５を超えると、高屈折率膜と組み合わせた場合に、反射防止効果が低下する場合があるためである。
したがって、低屈折率膜の屈折率を、より好ましくは１．３５〜１．４５の範囲内の値とすることであり、１．３５〜１．４２の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
また、低屈折率膜を設ける場合、より優れた反射防止効果が得られることから、高屈折率膜との間の屈折率差を０．０５以上の値とすることが好ましい。この理由は、低屈折率膜と、高屈折率膜との間の屈折率差が０．０５未満の値となると、これらの反射防止膜層での相乗効果が得られず、却って反射防止効果が低下する場合があるためである。
したがって、低屈折率膜と、高屈折率膜との間の屈折率差を０．１〜０．５の範囲内の値とすることがより好ましく、０．１５〜０．５の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
（４）膜厚
また、低屈折率膜の膜厚についても特に制限されるものではないが、例えば、０．０５〜１μｍの範囲内の値であることが好ましい。
この理由は、低屈折率膜の膜厚が０．０５μｍ未満の値となると、下地としての高屈折率膜に対する密着力や擦傷性が低下する場合があるためであり、一方、かかる膜厚が１μｍを超えると、均一に製造することが困難となるばかりか、光透過率や耐擦傷性が低下する場合があるためである。
したがって、低屈折率膜の膜厚を０．０５〜０．５μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、０．０５〜０．３μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
また、このような関係を容易に理解できるように、図６に、低屈折率膜の膜厚（Ｄ１）と、耐擦傷性および反射率との関係を示す。
なお、低屈折率膜の膜厚は、例えば、断面切片の透過型電子顕微鏡写真から実測した平均値（１０個所）と定義できるが、下面が平坦でない塗膜の場合には、ＪＩＳ  Ｂ０６０１で規定される粗さ曲線（測定長１μｍ）における平均線間の距離として定義する。
２．高屈折率膜
（１）非連続層
第１の実施形態の反射防止膜積層体において、高屈折率膜が、平面方向に対して非連続であることを特徴としている。
すなわち、高屈折率膜が、均一な連続層でなく、規則的または不規則に、下地（例えば、ハードコート層）が露出した領域（部分）を有することを特徴としている。したがって、後述するように、離間した島状の高屈折率膜であっても良く、あるいは、平坦な高屈折率膜の一部に、穴やスリット等からなる空隙部が設けられた高屈折率膜であっても良い。
いずれにしても、このように構成すると、表面に凹凸形状や空隙部を有する膜として容易に構成することができるため、高屈折率膜の一部を低屈折率膜の内部に侵入させて、接触面積を大きくすることができる。そのため、高屈折率膜によって低屈折率膜の動きを拘束し、当該低屈折率膜の耐擦傷性を著しく向上させることができる。
また、高屈折率膜を非連続層とするに際して、島状に形成することが好ましい。このように規則的に平面配置された非連続の高屈折率膜を形成することにより、高屈折率膜における表面粗さ（Ｒｚ）の調節が極めて良好となる。また、このような島状の高屈折率膜であれば、少なくとも頂点部分が低屈折率膜中に十分に侵入し、動きを拘束して、低屈折率膜の耐擦傷性を著しく向上させることができる。
ここで、図８および図９に、高屈折率膜を島状に形成した状態の断面写真例を示す。ただし、島状の高屈折率膜の平面形状については、特に円形である必要はなく、例えば、図１０に示すように、複数の円形が結合した構成の異形であっても良い。
また、高屈折率膜を島状に形成した場合、その平均粒径を１μｍ〜３０ｍｍの範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかる平均粒径が１μｍ未満の値となると、高屈折率膜を低屈折率膜の内部に侵入させて、接触面積を大きくすることが困難となる場合があるためである。一方、かかる平均粒径が３０ｍｍを超えると、逆に高屈折率膜を低屈折率膜の内部に侵入させることが困難となったり、あるいは膜厚が過度に厚くなる場合があるためである。
また、高屈折率膜を島状に形成した場合、隣接する島と島の中心間距離についても特に制限されるものでないが、例えば、３０ｍｍ以下の値とすることが好ましく、１μｍ〜２０ｍｍの範囲内の値とすることがより好ましく、１０μｍ〜１０ｍｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
この理由は、かかる中心間距離が１μｍ未満の値となると、高屈折率膜を低屈折率膜の内部に侵入させて、接触面積を大きくすることが困難となる場合があるためである。一方、かかる中心間距離が３０ｍｍを超えると、高屈折率膜によって低屈折率膜を拘束する力が低下し、かかる低屈折率膜の耐擦傷性が向上しない場合があるためである。
その他、島状の高屈折率膜（第１の高屈折率膜と称する場合がある。）は、基板上やハードコート層上に直接的に形成することが好ましいが、図１１に示すように、これらの基板１２上やハードコート層（図示せず。）上に、さらに連続層としての高屈折率膜（第２の高屈折率膜と称する場合がある。）３２を予め設けておき、その上に島状の高屈折率膜（第１の高屈折率膜）２０を形成することも好ましい。
この理由は、連続層としての第２の高屈折率膜と、非連続層としての第１の高屈折率膜を組み合わせることにより、低屈折率膜が必ず高屈折率膜（第１および第２の高屈折率膜）と接することになるためである。すなわち、島状の高屈折率膜（第１の高屈折率膜）のみを用いた場合と比較して、より優れた反射防止効果を得ることができる。
（２）高屈折率膜用組成物１
また、高屈折率膜を形成するための高屈折率膜用組成物は、特に制限されるものでないが、例えば、以下の（Ａ）〜（Ｇ）成分から構成してあることが好ましい。
（Ａ）平均粒子径が０．１μｍ以下の無機酸化物粒子
（Ｂ）水酸基含有重合体
（Ｃ）水酸基と反応し得る官能基および光重合可能な官能基を併有する化合物
（Ｄ）光重合開始剤
（Ｅ）アクリレート化合物
（Ｆ）熱酸発生剤
（Ｇ）有機溶剤
▲１▼（Ａ）無機酸化物粒子
（Ａ）成分としての、無機酸化物粒子の平均粒子径を０．１μｍ以下の値とすることが好ましい。
この理由は、無機酸化物粒子の平均粒子径が０．１μｍを超えると、反射防止膜積層体において無機酸化物粒子を均一に分散させることが困難となり、また、製造時に、高屈折率膜用組成物において無機酸化物粒子が沈降しやすくなり、保存安定性に欠ける場合があるためである。
一方、無機酸化物粒子の平均粒子径が０．１μｍを超えると、得られる反射防止膜の透明性が低下したり、濁度（ヘイズ値）が上昇する場合があるためである。
したがって、無機酸化物粒子の平均粒子径を０．０８μｍ以下の値とすることがより好ましく、０．０５μｍ以下の値とすることがより好ましい。
なお、無機酸化物粒子の平均粒子径は、電子顕微鏡によって測定される粒径の平均値である。
また、（Ａ）成分である無機酸化物粒子の種類は、屈折率の調整の容易さや透明性等を考慮して決定することが好ましいが、より具体的には、酸化ケイ素（ＳｉＯ２、１．４７）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２、屈折率２．０５）、酸化スズ（ＳｎＯ２、屈折率２．００）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ、屈折率１．９５）、酸化チタン（ＴｉＯ２、屈折率２．３〜２．７）、酸化亜鉛（ＺｎＯ、屈折率１．９０）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ、屈折率１．９５）、酸化セリウム（ＣｅＯ、屈折率２．２）、酸化セレン（ＳｅＯ２、屈折率１．９５）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５、屈折率１．７１）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３、屈折率１．６３）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３、屈折率１．８７）、およびアンチモン酸亜鉛（ＡＺＯ、屈折率１．９０）等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
ただし、これらの無機酸化物粒子のうち、比較的少量の添加で硬化後の屈折率の値を１．５以上の値に容易に調節することができ、しかも帯電防止機能を付与できることから、屈折率が１．９以上の導電性金属酸化物粒子を使用することが好ましい。具体的には、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化アンチモンスズ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウムスズ、酸化セレン等を使用することが好ましい。
また、無機酸化物粒子に対して、カップリング剤処理することが好ましい。この理由は、無機酸化物粒子がカップリング剤処理してあることにより、高屈折率膜における無機酸化物粒子間の結合力を高めることができ、結果として、低屈折率膜における耐擦傷性を著しく向上させることができるためである。また、このようにカップリング剤処理することにより、無機酸化物粒子の分散性を向上させ、製造時における高屈折率膜用組成物の保存安定性を向上させることも可能である。
ここで、カップリング剤処理を実施するにあたり、好ましいカップリング剤としては、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、等の分子内に不飽和２重結合を有する化合物群、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等の分子内にエポキシ基を有する化合物群、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどの分子内にアミノ基を有する化合物群、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランなどの分子内にメルカプト基を有する化合物群、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン等のアルキルシラン類、テトラブトキシシチタン、テトラブトキシジルコニウム、テトライソプロポキシアルミニウム等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
また、有機化合物と共重合もしくは架橋反応させたカップリング剤を使用することがより好ましい。このようなカップリング剤としては、例えば、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、イソホロンジイソシアネート、ペンタエリスリトールトリアクリレートとを反応させ、チオウレタンおよびウレタン結合を介して結合させたアクリル基含有シラン化合物が挙げられる。
また、カップリング剤処理量を、無機酸化物粒子１００重量部に対して、０．１〜２００重量部の割合とすることが好ましく、１〜１００重量部の割合とすることがより好ましく、５〜５０重量部の割合とすることがさらに好ましい。
また、（Ａ）成分である無機酸化物粒子の含有量を、全体量に対して、１０〜９０ｖｏｌ％の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる無機酸化物粒子の含有量が、１０ｖｏｌ％未満の値となると、高屈折率膜の表面粗さを調節することが困難となる場合があるためであり、結果として、低屈折率膜の耐擦傷性が低下する場合があるためである。一方、無機酸化物粒子の含有量が、９０ｖｏｌ％を超えた値となると、高屈折率膜の機械的強度が低下し、結果として、低屈折率膜の耐擦傷性が低下する場合があるためである。
したがって、無機酸化物粒子の含有量を２０〜７０ｖｏｌ％の範囲内の値とすることがより好ましく、かかる無機酸化物粒子の含有量を３０〜５０ｖｏｌ％の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
▲２▼（Ｂ）水酸基含有重合体
（Ｂ）成分は、分子内に水酸基を有する重合体であれば、好適に使用することができる。具体的には、ポリビニルアセタール樹脂（ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリフェノール系樹脂、フェノキシ樹脂等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
また、（Ｂ）成分の添加量を、（Ａ）成分の無機酸化物粒子１００重量部に対して、１〜１００重量部の範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、（Ｂ）成分の添加量が１重量部未満となると、得られる高屈折率膜の基材に対する密着力が低下する場合があるためであり、一方、（Ｂ）成分の添加量が１００重量部を超えると、相対的に無機酸化物粒子量が減少し、硬化後における反射防止膜の屈折率の調整が困難となる場合があるためである。
したがって、（Ｂ）成分の添加量を（Ａ）成分１００重量部に対して、３〜７０重量部の範囲内の値とすることがより好ましく、５〜５０重量部の範囲内の値とすることがより好ましい。
▲３▼（Ｃ）水酸基と反応し得る官能基および光重合可能な官能基を併有する化合物
（Ｃ）成分（以下、併有化合物と称する場合がある。）としては、水酸基と反応し得る官能基（水酸基反応性官能基と称する場合がある。）と、光重合可能な官能基（光重合性官能基と称する場合がある。）とをそれぞれ有する化合物であることが好ましい。
このような化合物を添加することにより、光重合性官能基を利用して（Ｃ）成分を光硬化させることもできるし、また、水酸基反応性官能基を利用して、加熱することにより、（Ｃ）成分と（Ｂ）成分とを同時に反応させて、より強固な硬化膜とすることも可能である。
ここで、（Ｃ）成分が有する水酸基反応性官能基としては、例えば、アミノ基、イソシアナート基、カルボキシル基、酸無水物基、アルデヒド基、ハロゲン等が挙げられる。
また、同様に、（Ｃ）成分が有する光重合性官能基としては、例えば、エポキシ基、オキセタン基、ビニル基等が挙げられる。
なお、これらの両官能基は、化合物中にそれぞれ一種単独または二種以上を組み合わせて含むことが好ましい。
また、（Ｃ）成分の具体例としては、ｔ−ブチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ−メタクリロキシ−Ｎ，Ｎ−ジカルボキシメチル−ｐ−フェニレンジアミン、メラミン・ホルムアルデヒド・アルキルモノアルコール、２−［ｏ−（１’メチルプロピリデンアミノ）カルボキシアミノ］エチルアクリレート、２，３−ジブロモプロピルアクリレート、２，３−ジブロモプロピルメタクリレート、メタクリロキシエチルフタレート、Ｎ−メタクリロキシ−Ｎ−カルボキシメチルピペリジン、４−メタクリロキシエチルトリメリット酸、アクリロキシエチルテレフタラート、エチレンオキシド変性フタル酸アクリレート、エチレンオキシド変性コハク酸アクリレート、４−メタクリロキシエチル無水トリメリット酸等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
また、（Ｃ）成分の添加量を、（Ａ）成分の無機酸化物粒子１００重量部に対して、１０〜３００重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる（Ｃ）成分の添加量が１０重量部未満となると、（Ｂ）成分の水酸基含有重合体の硬化が不十分となる場合があるためであり、一方、（Ｃ）成分の添加量が３００重量部を超えると、得られる高屈折率膜の屈折率が低下する場合があるためである。
したがって、かかる（Ｃ）成分の添加量を（Ａ）成分１００重量部に対して、２０〜２００重量部の範囲内の値とすることがより好ましく、５０〜１５０重量部の範囲内の値とすることがより好ましい。
▲４▼（Ｄ）光重合開始剤
（Ｄ）成分としては、光ラジカル発生剤や、光酸発生剤が挙げられる。また、（Ｄ）成分は、それぞれ単独で使用することもできるが、光ラジカル発生剤と、光酸発生剤とを併用することがより好ましい。この理由は、光ラジカル発生剤と、光酸発生剤とを併用することにより、上述した（Ｃ）成分である併有化合物、例えば、メラミン・ホルムアルデヒド・アルキルモノアルコールを使用した場合における、当該併有化合物に含まれる官能基をより反応させることができるためである。
また、（Ｄ）成分の使用量も特に制限されるものではないが、例えば、（Ｃ）成分１００重量部に対して、０．１〜２０重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、（Ｄ）成分の使用量が０．１重量部未満となると、（Ｃ）成分の硬化が不十分となる場合があるためである。一方、（Ｄ）成分の使用量が２０重量部を超えると、高屈折率膜用硬化性組成物の保存安定性が低下する場合があるためである。
したがって、（Ｄ）成分の使用量を、（Ｃ）成分１００重量部に対して、０．５〜１０重量部の範囲内の値とすることがより好ましい。
▲５▼（Ｅ）アクリレート化合物
（Ｅ）成分は、（Ｃ）成分中のアクリレート化合物以外の（メタ）アクリレート化合物であって、分子内に少なくとも一つの（メタ）アクリロイル基を含有する化合物である。
したがって、その種類は特に制限されるものではないが、例えば、単官能（メタ）アクリレート化合物および多官能（メタ）アクリレート化合物、あるいはいずれか一方の（メタ）アクリレート化合物である。特に、多官能（メタ）アクリレート化合物を添加することにより、高屈折率膜用硬化性組成物の反応性を向上させることができる。
また、（Ｅ）成分の添加量についても特に制限されるものではないが、例えば、（Ａ）成分１００重量部あたり、０．０１〜１，０００重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる（Ｅ）成分の添加量が０．０１重量部未満となると、高屈折率膜用硬化性組成物の反応性が低下する場合があるためであり、かかる（Ｅ）成分の添加量が１，０００重量部を超えると、製造時における高屈折率膜用硬化性組成物の保存安定性が低下する場合があるためである。
したがって、（Ｅ）成分の添加量をこのような範囲に制限することにより、均一に反応させることができるため、得られる硬化物の耐擦傷性、耐溶剤性、透明性等がさらに良好となる。
よって、高屈折率膜用硬化性組成物の反応性と保存安定性等とのバランスがより良好となるため、（Ｅ）成分の添加量を、（Ａ）成分１００重量部あたり、０．１〜３００重量部の範囲内の値とすることがより好ましく、１〜２００重量部の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
▲６▼（Ｆ）硬化触媒
（Ｆ）成分は、脂肪族スルホン酸、脂肪族スルホン酸塩、脂肪族カルボン酸、脂肪族カルボン酸塩、芳香族スルホン酸、芳香族スルホン酸塩、芳香族カルボン酸、芳香族カルボン酸塩、金属塩、リン酸エステル等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
また、（Ｆ）成分の硬化触媒の添加量についても特に制限されるものではないが、（Ｂ）成分と（Ｃ）成分の合計を１００重量部としたときに、当該硬化触媒の添加量を０．１〜３０重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる硬化触媒の添加量が０．１重量部未満となると、硬化触媒の添加効果が発現しない場合があるためであり、一方、硬化触媒の添加量が３０重量部を超えると、高屈折率膜用硬化性組成物の保存安定性が低下する場合があるためである。
したがって、かかる硬化触媒の添加量を０．５〜２０重量部の範囲内の値とすることがより好ましく、１〜１０重量部の範囲内の値とすることがより好ましい。
▲７▼（Ｇ）有機溶剤
また、硬化性樹脂組成物において、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン、ｎ−ブタノール、エチルセルソルブ、乳酸エチル（ＥＬ）、ジアセトンアルコール（ＤＡＡ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、アセチルアセトン（ＡｃＡｃ）、およびアセト酢酸エチル（ＥＡｃＡｃ）からなる群から選択される少なくとも一種の有機溶剤を使用することが好ましい。
この理由は、このような有機溶剤を使用することにより、高屈折率膜用硬化性組成物から高屈折率膜を形成する際に、高屈折率膜における表面粗さ（Ｒｚ）の制御が容易となるためである。
また、（Ｇ）成分として、アルコール系溶剤と、ケトン系溶剤からなる混合溶剤を使用することも好ましい。この理由は、高屈折率膜用硬化性組成物の取り扱いが良好となり、しかも、得られる高屈折率膜の反射防止性や透明性が優れたものとなるためである。
また、（Ｇ）成分の添加量についても特に制限されるものではないが、（Ａ）成分の無機酸化物粒子１００重量部に対し、当該有機溶剤の添加量を５０〜２０，０００重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、（Ｇ）成分の添加量が５０重量部未満となると、高屈折率膜用硬化性組成物の粘度調整が困難となる場合があるためであり、一方、（Ｆ）成分の添加量が２０，０００重量部を超えると、高屈折率膜用硬化性組成物の粘度が過度に低下し、取り扱いが困難となる場合があるためである。
したがって、（Ａ）成分１００重量部に対し、（Ｇ）成分の添加量を１００〜１０，０００重量部の範囲内の値とすることがより好ましく、２００〜５，０００重量部の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
▲８▼添加剤
高屈折率膜用硬化性組成物には、本発明の目的や効果を損なわない範囲において、光増感剤、重合禁止剤、重合開始助剤、レベリング剤、濡れ性改良剤、界面活性剤、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、無機充填剤、顔料、染料等の添加剤をさらに含有させることも好ましい。
（２）高屈折率膜用硬化性組成物２
また、高屈折率膜を形成するための別な高屈折率膜用硬化性組成物として、以下の（ａ−１）および（ａ−２）を有機溶媒中で反応させて得られる硬化性組成物であることも好ましい。
（ａ−１）１次粒子径が０．１μｍ以下であって、粉体抵抗が１００Ω・ｃｍ以下の導電性金属酸化物粒子
（ａ−２）分子内にウレタン結合［−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−］およびチオウレタン結合［−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−］、あるいはいずれか一方のウレタン結合と、不飽和二重結合とを有するアルコキシシラン化合物
このような高屈折率膜用硬化性組成物であれば、帯電防止性、透明性、硬度、耐擦傷性、および密着性に優れるとともに、高屈折率の塗膜（被膜）を形成することができる。
（３）表面粗さ（Ｒ２）
また、高屈折率膜の表面粗さＲ２（ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠のＲｚ）を０．０１〜２μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるＲ２が、０．０１μｍ未満の値となると、低屈折率膜中に侵入する高屈折率膜の割合が少なくなり、結果として、低屈折率膜を拘束することが困難になって、低屈折率膜における耐擦傷性が低下する場合があるためである。
一方、かかるＲ２が２μｍを超えると、低屈折率膜における表面粗さが相対的に大きくなり、光散乱が生じやすくなり、結果として、反射率や、透明性が低下する場合があるためである。
したがって、高屈折率膜の表面粗さＲ２を０．０２〜１μｍの範囲内の値とすることが好ましく、０．０５〜０．５μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
（４）屈折率
また、高屈折率膜の屈折率（Ｎａ−Ｄ線の屈折率、測定温度２５℃）を１．４５〜２．１の範囲内の値とすることがより好ましい。
この理由は、かかる屈折率が１．４５未満の値となると、低屈折率膜と組み合わせた場合に、反射防止効果が著しく低下する場合があるためであり、一方、２．１を超えると、使用可能な材料が過度に制限される場合があるためである。
したがって、低屈折率膜の屈折率を、より好ましくは１．５５〜２．０の範囲内の値とすることであり、１．６〜１．９の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
（５）膜厚
また、高屈折率膜の膜厚についても特に制限されるものではないが、例えば、５０〜３０，０００ｎｍの範囲内の値であることが好ましい。
この理由は、高屈折率膜の膜厚が５０ｎｍ未満となると、低屈折率膜と組み合わせた場合に、反射防止効果や基材に対する密着力がそれぞれ低下する場合があるためであり、一方、高屈折率膜の膜厚が３０，０００ｎｍを超えると、非連続の高屈折率膜を均一に形成することが困難となる場合があるためである。
したがって、高屈折率膜の膜厚を５０〜１，０００ｎｍの範囲内の値とすることがより好ましく、６０〜５００ｎｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、高屈折率膜の膜厚は、低屈折率膜と同様に、例えば、断面切片の透過型電子顕微鏡写真から実測した平均値（１０個所）と定義できるが、下面が平坦でない塗膜の場合には、ＪＩＳ  Ｂ０６０１で規定される粗さ曲線（測定長１μｍ）における平均線間の距離として定義される。
また、平坦な高屈折率膜の一部に穴やスリット等が形成され、実質的に平坦な底面および上面を有する非連続層である場合には、かかる高屈折率膜の膜厚は、底面から上面までの垂直方向距離（断面高さ）を意味する。
３．Ｒ１／Ｄ１の比率
低屈折率膜の表面粗さをＲ１とし、低屈折率膜の膜厚をＤ１としたときに、Ｒ１／Ｄ１を０．０１〜２の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるＲ１／Ｄ１の比率が、０．０１未満の値となると、低屈折率膜の膜厚が相対的に厚くなり、高屈折率膜の表面粗さの影響が発揮されずに、耐擦傷性が著しく低下する場合があるためである。一方、かかるＲ１／Ｄ１の比率が、２を超えると、低屈折率膜における表面粗さが相対的に大きくなって、光散乱が生じやすくなり、結果として、反射率や、透明性が低下する場合があるためである。
したがって、Ｒ１／Ｄ１の比率を０．０１４〜１の範囲内の値とすることが好ましく、０．０１４〜０．８の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
この点、図３を参照してより詳細に説明する。
図３は、横軸にＲ１／Ｄ１の比率を採ってあり、左縦軸に耐擦傷性の評価点を採って示してあり、右縦軸に全光線透過率の値（％）を採って示してある。
図３中、曲線Ａが耐擦傷性の変化を示すが、Ｒ１／Ｄ１の比率が０〜０．１６の範囲では、かかる比率が大きいほど耐擦傷性の評価点が向上することが理解される。また、Ｒ１／Ｄ１の比率が０．１以上であれば、許容範囲である評価点３以上の耐擦傷性が得られることが理解される。一方、Ｒ１／Ｄ１の比率が０．１６〜０．８の範囲では、すべて耐擦傷性の評価点は５である。したがって、Ｒ１／Ｄ１の比率を０．１６以上にすることにより、安定して優れた耐擦傷性が得られることが理解される。
また、図３中、曲線Ｂが全光線透過率の変化を示すが、耐擦傷性の評価とほぼ同様の傾向をもって変化することが理解される。
ただし、Ｒ１／Ｄ１の比率が０．２超〜０．８における光透過率は、Ｒ１／Ｄ１の比率が０．１６〜０．２における光透過率と比較して、若干低下している傾向が見られる。これは、Ｒ１／Ｄ１の比率が大きくなるにつれて、低屈折率膜における表面粗さが相対的に大きくなり、光散乱が生じやすくなったためと思われる。
なお、図４に、Ｒ１／Ｄ１の比率と、反射率との関係を曲線Ｂで示すが、Ｒ１／Ｄ１の比率が０．１２以下では、反射率の値が大きくなり、一方、Ｒ１／Ｄ１の比率が０．８程度となると、再び反射率の値が若干大きくなり、光散乱の影響を示唆しているものと考えられる。したがって、図４に示す結果は、図３における結果と一致することが理解される。
４．Ｒ１／Ｒ２
また、第１の実施形態において、低屈折率膜の表面粗さをＲ１とし、高屈折率膜の表面粗さをＲ２としたときに、Ｒ１／Ｒ２の比率を０．０５〜１の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるＲ１／Ｒ２の比率が、０．０５未満の値となると、低屈折率膜に対する高屈折率膜の表面粗さの影響が発揮されずに、耐擦傷性が著しく低下するためである。一方、かかるＲ１／Ｒ２の比率が、１を超えると、低屈折率膜における表面粗さが相対的に大きくなり、光散乱が生じやすくなり、結果として、反射率や、透明性が低下する場合があるためである。
したがって、Ｒ１／Ｒ２の比率を０．１〜１の範囲内の値とすることが好ましく、０．２〜１の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
この点、図５を参照してより詳細に説明する。
図５は、横軸にＲ１／Ｒ２の比率を採ってあり、左縦軸に耐擦傷性の評価点を採って示してあり、右縦軸に全光線透過率の値（％）を採って示してある。
図５中、曲線Ａが耐擦傷性の変化を示すが、Ｒ１／Ｒ２の比率が０〜０．２の範囲では、かかる比率が大きいほど耐擦傷性の評価点が向上することが理解される。一方、Ｒ１／Ｒ２の比率が０．２〜１の範囲では、ほぼすべて耐擦傷性の評価点は５である。したがって、Ｒ１／Ｒ２の比率を０．２以上にすることにより、安定して優れた耐擦傷性が得られることが理解される。
また、図５中、曲線Ｂが全光線光透過率の変化を示すが、耐擦傷性の評価とほぼ同様の傾向をもって変化することが理解される。
ただし、Ｒ１／Ｒ２の比率が０．８〜１の範囲では、Ｒ１／Ｒ２の比率が０．２〜０．８未満における全光線光透過率と比較して、若干低下している傾向が見られる。これは、Ｒ１／Ｒ２の比率が大きくなるにつれて、低屈折率膜における表面粗さが相対的に大きくなり、光散乱が生じやすくなったためと思われる。
５．Ｒ２／Ｄ１
また、第１の実施形態において、高屈折率膜の表面粗さをＲ２とし、低屈折率膜の膜厚をＤ１としたときに、Ｒ２／Ｄ１の比率を０．０６〜２の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるＲ２／Ｄ１の比率が、０．０６未満の値となると、低屈折率膜に対する高屈折率膜の表面粗さの影響が発揮されずに、耐擦傷性が著しく低下する場合があるためである。一方、かかるＲ２／Ｄ１の比率が、２を超えると、低屈折率膜における表面粗さが相対的に大きくなり、光散乱が生じやすくなり、結果として、反射率や、透明性が低下する場合があるためである。
したがって、Ｒ２／Ｄ１の比率を０．２〜２の範囲内の値とすることが好ましく、０．４〜２の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
この点、図７を参照してより詳細に説明する。
図７は、横軸にＲ２／Ｄ１の比率を採ってあり、左縦軸に耐擦傷性の評価点を採って示してあり、右縦軸に全光線透過率の値（％）を採って示してある。
図７中、曲線Ａが耐擦傷性の変化を示すが、Ｒ２／Ｄ１の比率が０〜０．２の範囲では、かかる比率が大きいほど耐擦傷性の評価点が著しく向上することが理解される。一方、Ｒ２／Ｄ１の比率が０．２〜１．２の範囲では、ほぼすべて耐擦傷性の評価点は５である。したがって、Ｒ２／Ｄ１の比率を０．２以上にすることにより、安定して優れた耐擦傷性が得られることが理解される。
また、図７中、曲線Ｂが全光線光透過率の変化を示すが、耐擦傷性の評価とほぼ同様の傾向をもって変化することが理解される。
６．ハードコート層
また、第１の実施形態において、高屈折率膜（第２層と称する場合がある。）の下方にハードコート層（第３層と称する場合がある。）を設けることが好ましい。
このようにハードコート層を設けることにより、高屈折率膜を強固に固定することができる。したがって、かかる高屈折率膜が内部に侵入した低屈折率膜（第１層と称する場合がある。）についても、その耐擦傷性をより向上させることができる。
また、ハードコート層の構成材料についても特に制限されるものでないが、シロキサン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂などの一種単独または二種以上の組み合わせを挙げることができる。
これらの中で高い硬度を有し、低屈折率膜における耐擦傷性をより向上させることができる材料としては、例えば、特開昭６３−１１７０７４に示されるアルキルアルコキシシランとコロイド状シリカとを親水性溶媒中で反応させて得られる熱硬化型ハードコート材や、特開平９−１００１１１に示される反応性シリカ粒子が分散された紫外線硬化型のハードコート材や、ウレタンアクリレートと多官能性アクリレートとを主成分とする紫外線硬化型ハードコート材を挙げることができる。
また、ハードコート層の膜厚を０．１〜５０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、ハードコート層の膜厚が０．１μｍ未満となると、低屈折率膜を強固に固定することが困難となる場合があるためであり、一方、膜厚が５０μｍを超えると、製造が困難となったり、あるいは、フィルム用途に用いた場合に屈曲性が低下する場合があるためである。
したがって、高屈折率膜の膜厚を０．５〜３０μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、１〜２０μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
７．中間層
また、第１の実施形態において、上述した低屈折率膜と、高屈折率膜との間に、低屈折率膜の屈折率よりも大きく、かつ、高屈折率膜の屈折率と同一か、あるいはそれより小さい屈折率を有する中間層が設けてあることが好ましい。
このように構成すると、非連続層としての高屈折率膜の表面凹凸を正確に制御することができ、結果として、低屈折率膜における耐擦傷性をより向上させることができる。また、中間層の屈折率を、低屈折率膜および高屈折率膜の屈折率と関係付けていることから、反射防止効果をさらに向上させることができる。
ここで、中間層は、低屈折率膜と同様に連続層であっても、高屈折率膜と同様に非連続層であっても良い。
例えば、中間層を、高屈折率膜と同様に連続層とした場合、その上に形成される低屈折率膜の表面凹凸をより正確に制御することができる。また、中間層を非連続層とした場合、低屈折率膜と高屈折率膜との間の密着力をさらに向上させることができる。
また、中間層の厚さを０．０１〜３０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、中間層の膜厚が０．０１μｍ未満となると、低屈折率膜と高屈折率膜との間の密着力の向上が図れない場合があるためであり、一方、膜厚が３０μｍを超えると、低屈折率膜に対する高屈折率膜の侵入性が低下して、低屈折率膜を強固に固定して、拘束することが困難となる場合があるためである。
したがって、中間層の膜厚を０．０２〜２０μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、０．０５〜１０μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
また、中間層は、上述した低屈折率膜用硬化性組成物をベースとした硬化性組成物や、上述した高屈折率膜用硬化性組成物をベースとした硬化性組成物から構成することが好ましい。低屈折率膜用硬化性組成物をベースとした場合には、当該低屈折率膜用硬化性組成物に、高屈折粒子等を添加することにより、中間層用硬化性組成物とすることができる。一方、高屈折率膜用硬化性組成物をベースとした場合には、当該高屈折率膜用硬化性組成物に、低屈折率樹脂等を添加することにより、中間層用硬化性組成物とすることができる。
８．基材
次に、高屈折率膜、あるいは必要に応じてハードコート層等を設けるための基材について説明する。
かかる基材の種類は特に制限されるものではないが、例えば、ポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリルカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアクリレート樹脂、ノルボルネン樹脂、アクリルスチレン樹脂、およびガラス等からなる基材を挙げることができる。
例えば、これらの基材を含む反射防止膜積層体とすることにより、カメラのレンズ部、テレビ（ＣＲＴ）の画面表示部、あるいは液晶表示装置におけるカラーフィルター等の広範な反射防止膜等の利用分野において、反射防止効果はもちろんのこと、優れた耐擦傷性や透明性が得られ、しかも優れた機械的強度や耐久性を得ることができる。
［第２の実施形態］
本発明の反射防止膜積層体の製造方法に関する実施形態は、図１または図２に示すような反射防止膜積層体１６、２４を対象にしたものであって、表面側の低屈折率膜１４と、その下方で部分的に接する高屈折率膜２０とを含む反射防止膜積層体の製造方法において、以下の非連続層である高屈折率膜２０を形成する工程、およびその上に連続層である低屈折率膜１４を形成する工程を含むことを特徴とする。
（１）屈折率が低屈折率膜よりも大きく、かつ、１．４５〜２．１の範囲の高屈折率膜を、平面方向における非連続層として形成する工程
（２）屈折率が１．３５〜１．５の範囲の低屈折率膜を形成する工程
１．非連続層の高屈折率膜を形成する工程
（１）形成方法１
非連続層の高屈折率膜を形成する工程において、高屈折率膜用硬化性組成物を基材に対して、部分的に塗布（コーティング）し、非連続（島状含む。）である塗膜を形成することが好ましい。
このようなコーティング方法としては、特に制限されるものでないが、例えば、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、またはインクジェット法等のコーティング方法を用いることができる。
次いで、非連続の高屈折率膜を形成する工程において、図１２に示すように、高屈折率膜用硬化性組成物からなる塗膜を紫外線または電子線１５を照射して光硬化することが好ましい。図１２（ａ）〜（ｃ）に、このような光硬化を用いた製造工程の一例を示す。
図１２（ａ）は、基材１２を準備した段階を示しており、図１２（ｂ）は、その基材１２上に、高屈折率膜用硬化性組成物を部分的に塗布して、非連続の塗膜（島状含む。）を形成した後、この塗膜に対して紫外線や電子線１５を照射し、硬化させた状態を示している。
また、図１２（ｃ）は、高屈折率膜用の塗膜を硬化して高屈折率膜２０とした後に、この形成した高屈折率膜２０上に、低屈折率膜１４を形成した状態を示している。
この場合、例えば、紫外線照射装置（メタルハライドランプ等）を用い、０．００１〜１０Ｊ／ｃｍ２の光照射条件とすることが好ましい。
この理由は、このような照射条件であれば、十分硬化した高屈折率膜が得られる一方、製造時間が過度に長くなることが無いためである。
したがって、照射条件を、０．０１〜５Ｊ／ｃｍ２とすることがより好ましく、０．１〜３Ｊ／ｃｍ２とすることがさらに好ましい。
（２）形成方法２
また、非連続の高屈折率膜を形成する工程において、高屈折率膜用硬化性組成物を多数回塗りすることが好ましい。この理由は、同じ膜厚の高屈折率膜を形成することを想定した場合、一度で塗布形成すると、無機酸化物粒子が膜内で沈降し、表面凹凸を形成することが困難となる場合があるためである。
すなわち、高屈折率膜用硬化性組成物を多数回塗りすることにより、無機酸化物粒子を表面に突出または露出させることが容易となるため、高屈折率膜表面に精度良く凹凸を形成することができる。
したがって、例えば、０．３μｍの膜厚を有する非連続の高屈折率膜を形成する場合に、高屈折率膜用硬化性組成物を一度塗りするのではなく、０．１μｍごとに、３回に分けて多数回塗りを実施することが好ましい。また、０．２５μｍの膜厚を有する比較的厚い非連続の高屈折率膜を予め形成しておき、その上に０．５μｍの膜厚を有する比較的薄い非連続の高屈折率膜を形成することも好ましい。
（３）形成方法３
また、非連続の高屈折率膜を形成する工程において、高屈折率膜を比較的規則性を有する島状に形成することが好ましい。
このように島状の高屈折率膜を形成することにより、高屈折率膜における表面粗さ（Ｒｚ）の調節が極めて良好となる。また、このような島状の高屈折率膜であれば、頂点部分が低屈折率膜中に十分に侵入し、低屈折率膜の動きを拘束して、耐擦傷性を著しく向上させることができる。
また、かかる島状の高屈折率膜は、印刷法や、シルクスクリーン法によって、部分的に高屈折率膜を塗布することにより、形成することもできるし、あるいは、バーコーター法やロールコーター法を用いた場合であっても、比較的薄い膜を形成することにより、島状の高屈折率膜を容易に形成することができる。
また、かかる島状の高屈折率膜は、均一な高屈折率膜を一旦形成しておき、次いで、いわゆる海に該当する部分を、研磨手段やエンボス手段等により除去することにより形成することもできる。
（４）形成方法４
また、非連続の高屈折率膜を形成する工程において、離型性を有するとともに表面凹凸を有するフィルムあるいは穴開きフィルムを積層した状態で、高屈折率膜を紫外線硬化や電子線硬化、あるいは熱硬化することが好ましい（フィルム押圧法と称する場合がある。）。図１３（ａ）〜（ｄ）に、このようなフィルム１１を用いた製造工程の一例を示す。
図１３（ａ）は、基材１２を準備した段階を示しており、図１３（ｂ）は、その基材１２上に、高屈折率膜用硬化性組成物を塗布した後、表面凹凸を有するフィルムを押圧した状態で、塗膜を紫外線硬化や電子線硬化させた状態を示している。
また、図１３（ｃ）は、高屈折率膜用の塗膜の硬化後に、フィルム１１を剥離した状態を示しており、図１３（ｄ）は、形成した高屈折率膜２０上に、低屈折率膜１４を形成した状態を示している。
このようにフィルム１１を積層した状態で高屈折率膜用の塗膜を硬化させることにより、高屈折率膜２０を非連続層とするとともに、高屈折率膜２０の表面に対して、フィルムが有する表面凹凸を精度良く転写することが可能である。また、このように表面凹凸等を有するフィルム１１を介して高屈折率膜２０を硬化させることにより、高屈折率膜における単位面積当りの凹凸数や島の大きさ等を制御することも容易である。
なお、フィルム上の表面凹凸を精度良く転写するために、フィルムの表面粗さ（ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠したＲｚ）をＲ３としたときに、当該Ｒ３の値を０．０１〜２μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
また、フィルムが離型性を有していれば、高屈折率膜の硬化後に、容易に除去することが可能となる。したがって、フィルムをフッ素樹脂や、シリコーン樹脂等の離型性樹脂から構成することが好ましい。
（５）形成方法５
また、非連続の高屈折率膜を形成する工程において、高屈折率膜を紫外線硬化や電子線硬化、あるいは熱硬化した後、あるいは、硬化前や、さらには硬化中に、エンボス処理（マット処理を含む。）することが好ましい。図１４（ａ）〜（ｄ）に、このようなエンボス処理を含む製造工程の一例を示す。
図１４（ａ）は、基材１２を準備した段階を示しており、図１４（ｂ）は、その基材１２上に、高屈折率膜用硬化性組成物を塗布した後、塗膜１７に対して、紫外線や電子線を照射し硬化させた状態を示している。
また、図１４（ｃ）は、高屈折率膜用の塗膜の硬化後に、エンボスロール３０を用いて、表面の一部を押圧して変形させるか、あるいは一部の表面を切削して、島状とした状態を示しており、図１４（ｄ）は、形成した高屈折率膜２０上に、低屈折率膜１４を形成した状態を示している。
このようにエンボス処理を施すことにより、図１４に示すように、平坦な高屈折率膜１７の表面に、エンボスロール３０を用いて、凹凸を精度良く形成し、非連続層とすることが可能である。
さらに、凹凸形状についても、エンボス処理やマット処理を施すことにより、ピラミッド状、台形状、ひし形状等の任意の形状に調節することができる。
また、エンボス処理時に、図１４に示すように、０．１〜１００μｍの突起高さを有するエンボスロール３０を使用することが好ましい。
この理由は、エンボスロールの突起高さが０．１μｍ未満の値となると、転写圧力が過度に高くなったり、あるいは、高屈折率膜の表面に均一にエンボス処理することが困難となる場合があるためである。一方、エンボスロールの突起高さが１００μｍを超えると、逆に精度良くエンボス処理することが困難となったり、処理スピードが低下する場合があるためである。
したがって、エンボス処理時に、０．２〜７０μｍの突起高さを有するエンボスロールを使用することがより好ましく、０．５〜５０μｍの突起高さを有するエンボスロールを使用することがさらに好ましい。
また、エンボス処理時に、＃５０〜１００のメッシュを有するエンボスロールを使用することが好ましい。
この理由は、かかるエンボスロール（突起）のメッシュが＃５０未満の値となると、高屈折率膜の表面に均一にエンボス処理することが困難となったり、あるいは、耐擦傷性の効果が低下する場合があるためである。一方、エンボスロールのメッシュが＃１０００を超えると、突起を精度良く製造することが困難となったり、あるいは精度良くエンボス処理することが困難となる場合があるためである。
したがって、エンボス処理時に、＃７５〜５００のメッシュを有するエンボスロールを使用することがより好ましく、＃１００〜３００のメッシュを有するエンボスロールを使用することがさらに好ましい。
（６）形成方法６
また、非連続の高屈折率膜を形成するにあたり、フォトリソグラフィ法を利用することも好ましい。すなわち、パターン化されたフォトマスクを介して、光硬化性樹脂を含む高屈折率膜用塗膜を部分的に光硬化した後、未露光部を現像することにより、非連続の高屈折率膜を形成することが好ましい。図１５（ａ）〜（ｄ）に、このようなフォトリソグラフィ法を利用した高屈折率膜の製造工程の一例を示す。
図１５（ａ）は、基材１２を準備した段階を示しており、図１５（ｂ）は、その基材１２上に、高屈折率膜用硬化性組成物を均一に塗布して、平坦な塗膜１７を形成した後、パターン化されたフォトマスク１９を介して、紫外線や電子線１５を照射した状態を示している。
また、図１５（ｃ）は、高屈折率膜用の塗膜を部分的に硬化した後に、現像剤を用いて、非硬化部（未露光部）を現像した状態を示しており、図１５（ｄ）は、形成した非連続の高屈折率膜２０上に、低屈折率膜１４を形成した状態を示している。
このようにフォトリソグラフィ法を利用することにより、高屈折率膜用硬化性組成物を均一に塗布した後であっても、極めて精度良く非連続の高屈折率膜を形成することが可能となる。
（７）高屈折率膜用硬化性組成物および高屈折率膜
第２の実施形態でも、第１の実施形態で説明したのと同様の高屈折率膜用硬化性組成物および高屈折率膜とすることができる。
したがって、ここでの説明は省略する。
２．低屈折率膜を形成する工程
（１）形成方法
低屈折率膜を形成するにあたり、低屈折率膜用硬化性組成物を高屈折率膜に対して塗布（コーティング）して、次いで、低屈折率膜形成用の塗膜を硬化させることが好ましい。
このようなコーティング方法としては、特に制限されるものでないが、例えば、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、またはインクジェット法等のコーティング方法を用いることができる。
次いで、高屈折率膜の一部と反応させて、全体として強固な塗膜を形成できることから、低屈折率膜用硬化性組成物からなる塗膜を熱硬化することが好ましい。
また、低屈折率膜用硬化性組成物を熱硬化する場合、塗膜を３０〜２００℃、１〜１８０分の条件で加熱することが好ましい。
この理由は、このような加熱条件であれば、基材や形成される反射防止膜を損傷することなく、より効率的に反射防止性に優れた反射防止膜積層体を得ることができるためである。
したがって、低屈折率膜を形成する際の加熱条件としては、５０〜１８０℃で、２〜１２０分間の条件で加熱することがより好ましく、６０〜１５０℃で、５〜６０分間の条件で加熱することがさらに好ましい。
（２）低屈折率膜用硬化性組成物および低屈折率膜
第２の実施形態でも、第１の実施形態で説明したのと同様の低屈折率膜用硬化性組成物および低屈折率膜とすることができる。
したがって、ここでの説明は省略する。
３．ハードコート層の形成工程
反射防止膜積層体を製造するにあたり、ハードコート層を形成する工程を含むことが好ましい。すなわち、反射防止膜積層体を製造するにあたり、例えば、基材上であって、非連続の高屈折率膜の下方にハードコート層を、コーティング法等により設けることが好ましい。
このようにハードコート層を設けることにより、非連続の高屈折率膜を強固に固定して、拘束することができる。したがって、ハードコート層の働きにより、かかる高屈折率膜が内部に侵入した低屈折率膜における耐擦傷性をより向上させることができる。
実施例
以下、本発明の実施例を詳細に説明するが、本発明の範囲はこれら実施例の記載に限定されるものではない。また、実施例中、各成分の配合量は特に記載のない限り重量部を意味している。
［実施例１］
（１）低屈折膜用硬化性組成物の調製
▲１▼水酸基を有する含フッ素重合体の調製
内容積１．５リットルの電磁攪拌機付きステンレス製オートクレーブ内を窒素ガスで十分置換処理した後、酢酸エチル５００ｇと、エチルビニルエーテル（ＥＶＥ）３４．０ｇと、ヒドロキシエチルビニルエーテル（ＨＥＶＥ）４１．６ｇと、パーフルオロプロピルビニルエーテル（ＦＰＶＥ）７５．４ｇと、過酸化ラウロイル１．３ｇと、シリコーン含有高分子アゾ開始剤（和光純薬工業（株）製、商品名：ＶＰＳ１００１）７．５ｇと、反応性乳化剤（旭電化（株）製、商品名：ＮＥ−３０）１ｇとを仕込み、ドライアイス−メタノールで−５０℃まで冷却した後、再度窒素ガスで系内の酸素を除去した。
次いで、ヘキサフロロプロピレン（ＨＦＰ）１１９．０ｇをさらに仕込み、昇温を開始した。オートクレーブ内の温度が７０℃に達した時点での圧力は、５．５×１０５Ｐａを示した。その後、攪拌しながら、７０℃、２０時間の条件で反応を継続し、圧力が２．３×１０５Ｐａに低下した時点でオートクレーブを水冷し、反応を停止させた。室温に達した後、未反応モノマーを放出し、オートクレーブを開放し、固形分濃度３０．０重量％のポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液を、メタノールに投入し、ポリマーを析出させた後、メタノールによりさらに洗浄し、５０℃で真空乾燥を行い、１７０ｇの水酸基を有する含フッ素重合体を得た。
得られた水酸基を有する含フッ素共重合体について、固有粘度（Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶剤使用、測定温度２５℃）を測定したところ、０．２８ｄｌ／ｇであった。
また、かかる含フッ素重合体について、ガラス転移温度を、ＤＳＣを用い、昇温速度５℃／分、窒素気流中の条件で測定したところ、３１℃であった。
また、かかる含フッ素重合体について、フッ素含量を、アリザリンコンプレクソン法を用いて測定したところ、５１．７％であった。
さらに、かかる含フッ素重合体について、水酸基価を、無水酢酸を用いたアセチル法により測定したところ、１０２ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
▲２▼低屈折膜用硬化性組成物の調製
攪拌機付の容器内に、▲１▼で得られた水酸基を有する含フッ素共重合体１００ｇと、サイメル３０３（三井サイテック（株）製、アルコキシ化メチルメラミン化合物）１１．１ｇと、メチルイソブチルケトン（以下、ＭＩＢＫと称する。）３，７３６ｇとをそれぞれ添加し、１１０℃、５時間の条件で攪拌し、水酸基を有する含フッ素共重合体とサイメル３０３とを反応させた。
次いで、キャタリスト４０４０（三井サイテック（株）製、固形分濃度４０重量％）１１．１ｇをさらに添加し、１０分間攪拌して、粘度１ｍＰａ・ｓ（測定温度２５℃）の低屈折率膜用硬化性組成物（以下、塗布液Ａと称する場合がある。）を得た。
なお、得られた低屈折率膜用硬化性組成物から得られる低屈折率膜の屈折率を測定した。すなわち、低屈折率膜用硬化性組成物を、ワイヤーバーコータ（＃３）を用いて、シリコンウェハー上に塗工し、室温で５分間風乾して、塗膜を形成した。
次いで、オーブンを用いて１４０℃、１分の条件で加熱し、０．３μｍの膜厚の低屈折率膜を形成した。得られた低屈折率膜におけるＮａ−Ｄ線の屈折率を、測定温度２５℃の条件で、分光エリプソメーターを用いて測定した。得られた結果を表１に示す。
なお、膜厚は、断面切片の透過型電子顕微鏡写真から実測し、平均値（１０個所）を算出したが、下面が平坦でない塗膜の場合には、ＪＩＳ  Ｂ０６０１で規定される粗さ曲線（測定長１μｍ）における平均線間の距離として定義した。
また、非連続の低屈折率膜における表面粗さ（Ｒｚ）を、ＪＩＳＢ０６０１に準拠して測定した。すなわち、硬化フィルムの断面切片における透過型電子顕微鏡写真において、測定長１μｍでの低屈折率膜における表面粗さ（Ｒｚ）として求めた。得られた結果を表１に示す。
（２）高屈折率膜用硬化性組成物の調製
▲１▼反応性アルコキシシランの製造
容器内のメルカプトプロピルトリメトキシシラン７．８ｇと、ジブチルスズジラウレート０．２ｇとからなる溶液に対し、イソホロンジイソシアネート２０．６ｇを、乾燥空気中、５０℃、１時間の条件で滴下した後、６０℃、３時間の条件で、さらに攪拌した。
これにペンタエリスリトールトリアクリレート７１．４ｇを、３０℃、１時間の条件で滴下した後、６０℃、３時間の条件で、さらに攪拌し、反応液とした。
この反応液中の生成物、すなわち反応性アルコキシシランにおける残存イソシアネート量をＦＴ−ＩＲで測定したところ、０．１重量％以下であり、各反応がほぼ定量的に行われたことを確認した。また、分子内に、チオウレタン結合と、ウレタン結合と、アルコキシシリル基と、反応性不飽和結合とを有することを確認した。
▲２▼高屈折膜用硬化性組成物の調製
攪拌機付きの容器内に、アンチモンドープ酸化錫分散液（石原テクノ（株）製、ＳＮＳ−１０Ｍ、分散溶媒メチルエチルケトン、アンチモンドープ酸化錫含量２７．４重量％、固形分３０重量％、動的光散乱法による重量平均粒子径４０ｎｍ、数平均粒子径２２ｎｍ、以下、ＡＴＯ微粒子分散液と称する場合がある。）２６０ｇと、▲１▼で製造した反応性アルコキシシラン２５ｇと、蒸留水０．３ｇと、ｐ−ヒドロキシモノメチルエーテル０．０３ｇとを混合し、６５℃で、加熱攪拌した。５時間後、オルト蟻酸メチルエステル８ｇを添加し、さらに１時間加熱した。
これに光重合開始剤として、イルガキュア９０７（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）６．１ｇと、ＭＩＢＫ１，７０８ｇとを添加して、高屈折膜用硬化性組成物（固形分５重量％、固形分中のＡＴＯ微粒子量７８重量％、以下、塗布液Ｂと称する場合がある。）を得た。
なお、得られた高屈折率膜用硬化性組成物から得られる高屈折率膜の屈折率を測定した。すなわち、高屈折率膜用硬化性組成物を、ワイヤーバーコータ（＃３）を用いて、シリコンウェハー上に塗工し、オーブン中、８０℃、１分間の条件で乾燥し、塗膜を形成した。
次いで、メタルハライドランプを用いて、０．３Ｊ／ｃｍ２の光照射条件で塗膜を光硬化させ、０．３μｍの膜厚の高屈折率膜を形成した。得られた高屈折率膜におけるＮａ−Ｄ線の屈折率を、測定温度２５℃の条件で、分光エリプソメーターを用いて測定した。得られた結果を表１に示す。
なお、膜厚、および表面粗さ（Ｒｚ）については低屈折率膜と同様に測定した。得られた結果を表１に示す。
（３）ハードコート層の作成
乾燥空気下、反応性アルコキシシラン８．７ｇと、メチルエチルケトン分散シリカゾル（日産化学工業株式会社製、商品名：ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径２２ｎｍ、シリカ濃度３０重量％）９１．３ｇと、イソプロピルアルコール０．２ｇと、イオン交換水０．１ｇとからなる混合液を、８０℃、３時間の条件で攪拌後、オルト蟻酸メチルエステル１．４ｇを添加し、さらに１時間同一温度で攪拌した。
室温まで冷却後、トリメチロールプロパントリアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名：ＮＫエステルＡ−ＴＭＰＴ）２１．９ｇと、トリメチロールプロパントリオキシエチルアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名ＮＫエステルＡ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ）１０．９５ｇと、２−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバスペシャルティケミカルズ（株）製、商品名：イルガキュア１８４）３．２７ｇを混合して、ハードコート組成物（以下、塗布液Ｃと記載する場合がある。）を調製した。
（４）反射防止膜積層体の作成
得られた塗布液Ｃを、ワイヤーバーコータ（＃１２）を用いて、ポリエステルフィルムＡ４３００（東洋紡績（株）製、膜厚１８８μｍ、）上に塗工し、オーブン中、８０℃、１分間の条件で乾燥し、塗膜を形成した。次いで、大気中、メタルハライドランプを用いて、０．３Ｊ／ｃｍ２の光照射条件で塗膜を紫外線硬化させ、膜厚１０μｍのハードコート層を形成した。
次いで、得られた塗布液Ｂを、ワイヤーバーコータ（＃３）を用いて、ハードコート層上に塗工し、オーブン中、８０℃、１分間の条件で乾燥し、塗膜を形成した。次いで、大気中、メタルハライドランプを用いて、０．３Ｊ／ｃｍ２の光照射条件で塗膜を紫外線硬化させ、膜厚が０．０５μｍである島状（直径０．１〜１μｍ）の高屈折率膜を形成した。
さらに、得られた塗布液Ａを、高屈折率膜上に、ワイヤーバーコータ（＃３）を用いて塗工し、室温で５分間風乾して、塗膜を形成した。この塗膜を、オーブンを用いて１４０℃、１分の条件で加熱し、膜厚が０．０５μｍの連続層としての低屈折率膜とした。
（５）反射防止膜積層体の評価
得られた反射防止膜積層体における耐擦傷性を以下の基準で評価した。
また、得られた反射防止膜積層体における耐擦傷性、反射率、全光線透過率、および濁度（ヘイズ値）を下記に示す測定法により測定した。
▲１▼耐擦傷性
得られた反射防止膜積層体の表面を＃００００スチールウールにより、荷重２００ｇ／ｃｍ２の条件で３０回こすり、反射防止膜積層体の耐擦傷性を以下の基準から目視にて評価した。得られた結果を表１に示す。
評価５：傷の発生が全く観察されなかった。
評価４：１〜５本の傷の発生が観察された。
評価３：６〜５０本の傷の発生が観察された。
評価２：５１〜１００本の傷の発生が観察された。
評価１：塗膜剥離が観察された。
なお、評価３以上の耐擦傷性であれば、実用上許容範囲であり、評価４以上の耐擦傷性であれば実用上の耐久性が優れていることから好ましく、評価５の耐擦傷性であれば、実用上の耐久性が著しく向上することからさらに好ましいといえる。
▲２▼反射率および全光線透過率
得られた反射防止膜積層体における反射率（測定波長における最低反射率）および全光線透過率を、分光反射率測定装置（大型試料室積分球付属装置１５０−０９０９０を組み込んだ磁気分光光度計Ｕ−３４１０、日立製作所（株）製）により、ＪＩＳ  Ｋ７１０５（測定法Ａ）に準拠して、波長３４０〜７００ｎｍの範囲で測定した。
すなわち、アルミの蒸着膜における反射率を基準（１００％）として、各波長における反射防止膜積層体（反射防止膜）における最低反射率および全光線透過率を測定した。結果を表１に示す。
▲３▼濁度（ヘイズ値）
得られた反射防止膜積層体につき、カラーヘイズメーター（須賀製作所（株）製）を用いて、ＡＳＴＭ  Ｄ１００３に準拠してヘイズ値を測定した。得られた結果を表１に示す。
［実施例２〜５］
実施例２〜５では、表１に示すように、島状の高屈折率膜における平均粒径や厚さを変更することによりＲ１、Ｒ２、およびＲ１／Ｄ１の比率を変えた反射防止膜積層体を作製し、耐擦傷性等の評価を行った。得られた結果を表１に示す。
［比較例１］
比較例１では、表１に示すように、連続層としての高屈折率膜を設けるとともに、Ｒ１およびＲ１／Ｄ１の比率を調整した反射防止膜積層体を作製し、耐擦傷性等の評価を行った。得られた結果を表１に示す。
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［実施例６］
膜厚１μｍの連続層としての高屈折率膜（第２の高屈折率膜）を形成した後に、膜厚が０．１μｍである島状（直径０．１〜１μｍ）の高屈折率膜（第１の高屈折率膜）を形成したほかは、実施例１と同様に反射防止膜積層体を作製して、評価した。得られた結果を表１に示す。
産業上の利用可能性
本発明の反射防止膜積層体によれば、非連続の高屈折率膜を設けることにより、耐擦傷性や透明性に優れた反射防止膜積層体を効果的に提供できる。
また、本発明の反射防止膜積層体の好ましい態様によれば、低屈折率膜の表面粗さ（Ｒ１）、高屈折率膜の表面粗さ（Ｒ２）、低屈折率膜の膜厚（Ｄ１）および高屈折率膜の膜厚（Ｄ２）等の関係を考慮することにより、耐擦傷性や透明性により優れた反射防止膜積層体を提供できる。
したがって、例えば屈折率を低下させるために表面側にフッ素化合物や、ケイ素化合物等の比較的耐擦傷性に乏しい樹脂を使用したとしても、本発明の構造を採ることにより、透明性を損なうことなく、優れた耐擦傷性を示す反射防止膜積層体を提供することができる。
また、本発明の反射防止膜積層体の製造方法によれば、非連続の高屈折率膜を形成することにより、耐擦傷性や透明性に優れた反射防止膜積層体を効率的に提供できる。
【図面の簡単な説明】
図１は、本発明の反射防止膜積層体例の断面図である。
図２は、本発明のハードコート層を含む反射防止膜積層体例の断面図である。
図３は、反射防止膜積層体におけるＲ１／Ｄ１の影響を説明するために供する図である。
図４は、反射防止膜積層体におけるＲ１／Ｄ１の影響を説明するために供する第１の図である。
図５は、反射防止膜積層体におけるＲ１／Ｒ２の影響を説明するために供する第２の図である
図６は、反射防止膜積層体におけるＤ１の影響を説明するために供する図である。
図７は、反射防止膜積層体におけるＲ２／Ｄ１の影響を説明するために供する図である。
図８は、島状の高屈折膜の第１の断面写真である。
図９は、島状の高屈折膜の第２の断面写真である。
図１０は、島状の高屈折膜の平面写真である。
図１１は、連続層の高屈折率膜を含む反射防止膜積層体例の断面図である。
図１２は、反射防止膜積層体例の第１の製造工程図である。
図１３は、反射防止膜積層体例の第２の製造工程図である。
図１４は、反射防止膜積層体例の第３の製造工程図である。
図１５は、反射防止膜積層体例の第４の製造工程図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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