(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
母材表面に形成される少なくともＮｉ，Ｃｒ，Ｎを含有する鉄系皮膜において、
該皮膜は、磁場誘導型フィルタードアーク法、又は、スパッタリング法によりＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３０４Ｌ、ＳＵＳ３１６、又は、Ｆｅ−８Ｎｉ−２０Ｃｒのターゲットを用いて得られた皮膜であり、
Ｎｉ：３０質量％以下、
Ｃｒ：２５質量％以下、
Ｎ  ：２０質量％以下、
Ｆｅ：少なくとも５０質量％を含有すると共に、
該皮膜を厚さ方向に垂直に切断して鏡面研磨した断面を、電解放射型走査電子顕微鏡を用いて倍率１０００倍で反射電子像にて観察したとき、
各反射電子像の皮膜部分に存在するマトリックスより輝度が高く、且つ面積が０．０５μｍ2以上の不連続領域を合計した面積が、全面積の１５％以下（但し、５視野を観察したときの平均値）であることを特徴とする靭性に優れた耐摩耗性鉄系皮膜。
【請求項２】
透過型電子顕微鏡を用いて倍率１５０００倍で前記断面の５視野（各５μｍ2）を観察したとき、
マトリックスと不連続領域の境界に存在する空隙であって、その長さが０．１μｍ以上である空隙の数が平均３以下である請求項１に記載の耐摩耗性鉄系皮膜。
【請求項３】
前記皮膜が窒化物を有するオーステナイト相を含むものである請求項１または２に記載の耐摩耗性鉄系皮膜。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の皮膜を母材に形成するにあたり、
Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒを含む合金ターゲットとしてＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３０４Ｌ、ＳＵＳ３１６、又は、Ｆｅ−８Ｎｉ−２０Ｃｒのターゲットを用い、
窒素を含むプラズマ雰囲気中で磁場誘導型フィルタードアーク法にて、プロセスガス導入後の圧力を０．５〜３Ｐａ、成膜時のカソード電流を４０〜２００Ａ、成膜時のバイアス電圧を−５〜−１００Ｖ、成膜前の温度を１００〜１５０℃として成膜することを特徴とする耐摩耗性鉄系皮膜の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれかに記載の皮膜を母材に形成するにあたり、
Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒを含む合金ターゲットとしてＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３０４Ｌ、ＳＵＳ３１６、又は、Ｆｅ−８Ｎｉ−２０Ｃｒのターゲットを用い、
窒素を含むプラズマ雰囲気中でスパッタリング法にて、プロセスガス導入後の圧力を０．１〜０．５Ｐａ、成膜時のバイアス電圧を−５０〜−２００Ｖ、ＲＦ出力を５００〜２０００Ｗ、成膜前の温度を１００〜１５０℃として成膜することを特徴とする耐摩耗性鉄系皮膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は優れた靭性と耐摩耗性を兼ね備えた鉄系皮膜及びその製造方法に関し、詳細には輸送機，産業機械，レジャー用品などの分野において、高い耐摩耗性が要求される治工具，車軸，軸受け，等速ジョイント，レールガイド等の各種摺動，転動の要素を含んだ機械部品の靭性及び耐摩耗性向上に有用な鉄系皮膜、およびその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年の過酷な使用環境に対応すべく、摺動部材や転動部材などの各種機械部品には、硬度のみならず高い靭性が要求されている。この様な技術として例えば特開平５−７８８２１号には、Ｃｏ，Ｎｉ及びＭｏから選ばれる１種以上の金属と、Ｓｉ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｆｅ，Ｚｒ，Ｎｂ及びＷから選ばれる１種以上の金属の炭化物又は窒化物との混合組織からなる被膜をイオンプレーティング法によって母材表面に被覆することにより耐摩耗性，被膜靭性を向上させる技術が提案されている。また特開平５−１２５５２１号には、ＴｉＮとＮｉからなる被膜をイオンプレーティング法によって母材表面に被覆して密着性を向上させる技術が開示されている。更に特開平９−７１８５６号にはＡｌ，Ｓｉ，Ｆｅ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｈｆ及びＷよりなる群から選択される１種以上の金属の炭化物，窒化物または炭窒化物中にＣｏ，Ｎｉ，Ｍｏ及びＣｕよりなる群から選択される１種以上の金属を含む被膜をイオンプレーティング法によって母材表面に被覆して靭性及び密着性を改善する方法が提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
これら提案されている技術は十分な靭性を確保するためにＮｉ，Ｃｏ，Ｍｏ，Ｃｕ等の高価な金属を多量に添加する必要があり、高コストの要因となっていた。特に成膜にイオンプレーティング法などの気相コーティング法を用いる場合、特殊な組成のターゲット材を溶製したり、或いは複数種のターゲットを用いるような複雑な成膜操作が必要となり、製造コストが大幅に上昇するため、その適用は一部の高級品に限られていた。
【０００４】
また従来技術の皮膜を施した耐摩耗部材は潤滑油存在下で使用されるため、潤滑油は鋼製部品への適用を前提に添加剤などの成分設計が行なわれている。しかしながら皮膜を構成する主成分がＦｅ以外であると、潤滑油と膜との相性が悪く、潤滑油が劣化するという問題が生じていた。例えば皮膜にＮｉが多量に含有されているとＮｉは潤滑油中のＳ系極圧剤と反応し、Ｎｉ硫化物を生成して潤滑油を黒変させると共に、極圧剤を消費するため、潤滑油の寿命が著しく低下するという問題が生じている。
【０００５】
本発明は上記問題を鑑みなされたものであって、その目的は優れた靭性と耐摩耗性を有する鉄系皮膜を提供すること、およびその成膜方法を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決し得た本発明の皮膜とは、母材表面に形成される少なくともＮｉ，Ｃｒ，Ｎを含有する鉄系皮膜において、該皮膜を厚さ方向に垂直に切断して鏡面研磨した断面を、電解放射型走査電子顕微鏡を用いて倍率１０００倍で反射電子像にて観察したとき、各反射電子像の皮膜部分に存在するマトリックスより輝度が高く、且つ面積が０．０５μｍ2以上の不連続領域を合計した面積が、全面積の１５％以下（但し、５視野を観察したときの平均値）であることに要旨する。また透過型電子顕微鏡を用いて倍率１５０００倍で前記断面の５視野（各５μｍ2）を観察したとき、マトリックスと不連続領域の境界に存在する空隙であって、その長さが０．１μｍ以上である空隙の数が平均３以下であることが推奨され、更に前記皮膜が窒化物を有するオーステナイト相を含むものであることが望ましい。
【０００７】
本発明の皮膜を母材に形成する方法としては、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒを含む合金ターゲットを用い、窒素を含むプラズマ雰囲気中で磁場誘導型フィルタードアーク法にて成膜するか、あるいは皮膜を母材に形成するにあたり、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒを含む合金ターゲットを用い、窒素を含むプラズマ雰囲気中でスパッタリング法にて成膜することが推奨される。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明者らは、前記従来技術の問題点を解決すべく、鋭意研究を重ねた結果、皮膜組織に不連続部分が存在すると、使用中における外部応力に対して該不連続部分とマトリックスとの界面部分が起点となってクラックが生じてしまうことを見出した。そしてＦｅ−Ｃｒ−Ｎｉ系窒素皮膜における微細構造を特定することによって皮膜の靭性及び密着性を著しく向上できることを知得し、本発明の皮膜を完成するに至った。以下本発明について詳述する。
【０００９】
本発明の対象とする皮膜は母材に形成する皮膜であって、Ｃｒ，Ｎｉ，Ｎ，及び残部は実質的にＦｅからなる皮膜であるが、残部が「実質的にＦｅ」とはＦｅ系合金中に通常含まれているＣ，Ｂ，Ｐ，Ｓｉ，Ｓ，Ｎｂ等やその他金属元素等が皮膜の特性に大きな影響を与えない範囲で含まれていても良い趣旨であり、また酸化物や硼化物などを混入させる場合も同様の趣旨であれば本発明の範囲内とする意味である。
【００１０】
尚、皮膜を構成するＣｒ，Ｎｉ，Ｎ，Ｆｅの成分比については特に限定されないが、Ｆｅの含有量が多いほど皮膜と潤滑油との相性を向上させることができるので皮膜中のＦｅ含有率は少なくとも５０質量％とすることが推奨される。Ｃｒ，Ｎｉ，Ｎは皮膜靭性・耐摩耗性を向上させるのに有効な成分であるが、これらの含有量は特に限定されず、目的に応じて適宜調節すればよい。例えばＮｉは高価な元素であるため多量に添加するとコスト上昇の要因となり、また添加効果も飽和する傾向にあるので、上限は３０質量％とすることが好ましい。この際、潤滑油劣化を防止しつつ、十分なＮｉ添加効果を発揮させるという観点からＮｉ含有量上限を１０質量％としてもよい。Ｃｒが多量に含有されると膜自体が脆くなることがあるので好ましくは２５質量％以下、より好ましくは２０質量％以下とすることが望ましい。またＮは皮膜特性劣化防止の観点から好ましくは２０質量％以下，より好ましくは１５質量％以下とすることが望ましい。
【００１１】
本発明は上記した様な少なくともＮｉ，Ｃｒ，Ｎを含有する鉄系皮膜において、該皮膜を厚さ方向に垂直に切断して鏡面研磨した断面を、電解放射型走査電子顕微鏡を用いて倍率１０００倍で反射電子像にて５視野観察したとき、各反射電子像の皮膜部分に存在するマトリックスより輝度が高く、且つ面積が０．０５μｍ2以上の不連続領域を合計した面積が、全面積の１５％以下（５視野の平均値）であることに要旨を有する皮膜である。
【００１２】
本発明において「不連続領域」とは、母材に形成した皮膜を厚さ方向に垂直に切断して鏡面研磨した断面を、電解放射型走査電子顕微鏡を用いて倍率１０００倍で反射電子像にて観察したときに、該反射電子像の皮膜部分に存在するマトリックスと明度が異なる粒子部分をいう。図３ｂは本発明に係る皮膜の反射電子像（１０００倍）である。マトリックスと明度が異なる粒子部分とは該写真１に示される如く、明度の異なる粒子状の部分（例えば図３ｂにおける数字が付与された白抜き部分）であって、マトリックスよりも輝度が高い部分が組織的に不連続な領域である。
【００１３】
尚、不連続領域の構造は必ずしも明確ではないが、不連続領域はマトリックスよりも窒素の固溶度が小さく、マトリックスと機械的特性（硬度，ヤング率など）が異なるα相、あるいはマトリックスと比較して窒素量の少ないγ相などの相を含む組織であって、マトリックスと機械的特性が異なる構造を有する領域である。
【００１４】
皮膜ミクロ組織に不連続領域が存在すると、使用中における外部応力に対して該不連続領域とマトリックスとの界面部分が起点となってクラックが生じるが、皮膜マトリックス中の不連続領域が占める割合（面積総計比率）を１５％以下とすれば、不連続領域に起因するクラックの発生を抑止することができる。したがって同一の成分組成を有する皮膜と比べても不連続領域が１５％以下である皮膜は、不連続領域が１５％を超える皮膜と比べて密着性，靭性に優れている。
【００１５】
尚、１個の不連続領域の面積が０．０５μｍ2未満である場合は、靭性や密着性などの各種皮膜特性への影響が小さいことから、本発明における「不連続領域」とは、１個の不連続領域の面積が０．０５μｍ2以上である領域を意味する。本発明においては、皮膜を厚さ方向に垂直に切断し、更に切断面を鏡面研磨して得られた断面を電解放射型示差電子顕微鏡（日立製作所製，電解放射型走査電子顕微鏡Ｓ４５００）を用いて該断面の反射電子像（１０００倍）を５視野観察したときの皮膜部分に存在するマトリックスより輝度が高く、且つ面積が０．０５μｍ2以上の不連続領域を合計した面積が、全面積の１５％以下（但し、５視野を観察したときの平均値）であることが推奨され、好ましくは１０％以下、より好ましくは５％以下である。特に使用条件が過酷な部材においては３％以下であることが望ましい。
【００１６】
また該不連続領域とマトリックスとの境界部分に空隙（図４参照）が存在していると、該空隙部分が起点となって皮膜クラックの原因となることがあり、上記不連続領域の面積が１５％以下であっても空隙が存在するとクラックが発生することがある。特に１個の空隙の長さ（空隙の長さとは、空隙２点間の最大長さである。）が０．１μｍ以上とクラック発生に与える影響も大きいため、本発明においてはマトリックスと不連続領域の境界部分に存在する空隙の長さは０．１μｍ未満であることが皮膜膜靭性劣化抑止の観点からも望ましい。また空隙の長さが０．１μｍ未満であれば、靭性や密着性などの各種皮膜特性への影響が小さく、またクラック発生に与える影響も小さい。
【００１７】
したがって本発明においては、不連続領域の面積比率を小さくすると共に空隙が少ないことが推奨され、透過型電子顕微鏡（日立製作所製ＨＦ２０００）を用いて倍率１５０００倍にて皮膜を厚さ方向に切断した断面（鏡面研磨せず）の５視野（各５μｍ2）を観察したとき、マトリックスと不連続領域の境界に存在する０．１μｍ以上の長さを有する空隙の数が平均３以下であれば、空隙がクラック，靭性，密着性へ及ぼす影響がほとんどないので好ましい。より好ましくは１以下であって、最も好ましくは０である。
【００１８】
上記した様な組織を有する皮膜であれば、皮膜のＦｅ組織については特に限定されず、例えばフェライト相（以下、「α相」ということがある。）主体であってもよく、あるいはオーステナイト相（以下、「γ相」ということがある。）主体であってもよいが、皮膜が窒化物を有するγ相で構成されていると、皮膜の靭性が更に改善されるので望ましい。特に皮膜中に含まれる窒化物を有するγ相の割合（体積率（％）、以下同じ）が好ましくは１０％以上であれば優れた靭性を示す。より好ましくは２０％以上、最も好ましくは１００％である。この様なγ相を有する皮膜とするためには、例えばＮｉ，Ｎ，Ｃｒ含有量を適宜調節すればよく、Ｎｉはγ相の生成を促進させると共に、靭性を確保するという観点から好ましくは２．５質量％以上含有させることが望ましい。Ｎはγ相の生成を促進させると共に、皮膜硬度，靭性を向上させるという観点から好ましくは４質量％以上含有させることが望ましく、Ｃｒはγ相の生成を阻害させずに皮膜硬度，耐摩耗性，皮膜靭性などの皮膜特性を向上させるという観点から好ましくは５質量％以上含有させることが望ましい。γ相，窒化物の有無並びに体積比率はリートベルト法を用いたＸ線回折（ＸＲＤ）により皮膜中に含まれるγ相、α相及び窒化物の比率により測定することができる。
【００１９】
本発明において皮膜の硬度は少なくともＨｖ９００を有することが好ましい。Ｈｖ９００以上であれば、耐摩耗性部材として窒化処理鋼や浸炭窒化処理鋼を用いた場合、母材硬度として同程度の硬度を有する皮膜を施すことができ、広範な用途に用いることができる。より優れた耐摩耗性が要求される分野に適用するためには皮膜の硬度はＨｖ１０００以上であることが好ましい。この様な硬度を有する皮膜とするためには皮膜の組成を適宜調節すればよい。
【００２０】
本発明に係る皮膜が被覆される母材の種類は特に限定されず、Ｔｉ合金，Ａｌ合金，Ｍｇ合金などの軽量材料；機械構造用鋼、工具用鋼，軸受け鋼などのＦｅ基合金；超硬材料；セラミックスなどを用いることができる。これらのうち高い硬度を有する素材が好ましく、高い硬度を有していれば局部的な面圧がかかる環境下で使用しても、皮膜及び母材自身の変形量を軽減し、母材の変形に伴う皮膜の破壊，剥離を防止することができる。特にＦｅ基合金は耐摩耗部品としても優れており、しかも本発明の皮膜とのヤング率差が小さくＦｅ基合金であれば皮膜／母材界面に生じる剪断応力を抑えることができると共に、密着性を維持することができる。この様な観点から硬度の高いＦｅ基合金が好ましく、Ｈｖ６００以上を有するものがより好ましく、より好ましくはＨｖ９００以上、最も好ましくは１０００Ｈｖ以上を有するＦｅ基合金である。
【００２１】
本発明に係る皮膜の膜厚は特に限定されず、使用環境，適用部材，要求される寸法精度等の種々の要因に基づいて必要な膜厚を選定すればよい。極端に膜厚が薄い場合や逆に厚い場合は、皮膜の十分な効果が得られなくなることがある。したがって膜厚は通常、好ましくは２μｍ以上、より好ましくは５μｍ以上であって、好ましくは５０μｍ以下、より好ましくは２０μｍ以下の範囲で用いることが推奨される。
【００２２】
上記皮膜を母材に形成するにあたり、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒを含む合金ターゲットを用いて、窒素を含むプラズマ雰囲気中で磁場誘導型フィルタードアーク法、あるいはスパッタリング法にて成膜することが推奨される。また成膜時のプロセスガスとして窒素以外にも窒素−メタン混合ガスなどの窒素含有ガスを用いてもよい。該プロセスガス雰囲気中でプラズマを発生させ、母材に向って蒸発もしくは飛散させたターゲット材料とプラズマを反応させながら磁場誘導型フィルタードアーク（図１参照，尚、図中１は電磁コイル，２はプラズマ，３は母材，４はターゲット，ＭＰはマクロパーティクルである）、或いはスパッタリング法によって成膜すれば、ターゲット材に起因する不連続領域の発生、及びマトリックスと不連続領域との界面における空隙の発生を抑制することができると共に、マトリックスをγ相＋窒化物とすることができる。
【００２３】
本発明で採用している磁場誘導型フィルタードアーク法とは図１に例示される様な直線型フィルタードアーク法、或いは９０°偏向型フィルタードアーク法のいずれであってもよいが、カソード型アークイオンプレーティング法の様にフィルターを用いないで成膜すると、皮膜組織中に不可避的に不連続領域が混入してしまうと共に、マトリックスと不連続領域との界面に空隙が形成されてしまい本発明の上記皮膜が得られないので好ましくない。
【００２４】
成膜時のバイアス電圧としては十分な皮膜硬度を得るために好ましくは１０Ｖ以上、より好ましくは３０Ｖ以上とすることが望ましいが、電圧上昇に伴って温度が上昇し過ぎると所望のγ層等が得られなくなることがあるので好ましくは２００Ｖ以下、より好ましくは１００Ｖ以下とすることが望ましい。
母材の温度はターゲット合金の組成や成膜条件によって異なるが、温度が高くなりすぎると皮膜特性が劣化することがあるので成膜時の最高温度を好ましくは３００℃以下、より好ましくは２００℃以下とすることが望ましいが、十分な皮膜−母材間の密着性を得るためには好ましくは１００℃以上、より好ましくは１５０℃以上である。
【００２５】
また成膜時のカソード電流は効率的に所望の皮膜を成膜するためには好ましくは４０Ａ以上、より好ましくは５０Ａ以上とすることが望ましく、温度上昇に伴う皮膜特性劣化抑止の観点から好ましくは２００Ａ以下、より好ましくは１００Ａ以下である。
【００２６】
プロセスガス導入後の圧力は窒素を十分含有させると共に、所望の皮膜硬度を得るためには少なくとも０．５Ｐａとなる様に制御することが好ましく、より好ましくは１Ｐａ以上であることが望ましい。上限については特に限定されないが、ある程度の高圧で効果も飽和することから生産性の観点から好ましくは５Ｐａ以下、より好ましくは３Ｐａ以下である。
【００２７】
本発明で用いることのできるターゲット材としては、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒを含有するものであればよく、例えば市販のオーステナイト系ステンレス若しくはニッケルクロムモリブデン鋼等の合金鋼をターゲットとして用いることができる。本発明では市販の鉄系合金をターゲット材料として用いることができるので、特殊な合金の溶製を必要とせず、また複数種のターゲットを用いた複雑な成膜操作を必要としないので経済性にも優れている。
【００２８】
以下実施例に基づいて本発明を詳述する。尚、下記実施例は本発明を限定する趣旨のものではなく、前・後記の趣旨を逸脱しない範囲で変更を加えて実施することは全て本発明の技術範囲に包含される。
【００２９】
【実施例】
母材としてクロムモリブデン浸炭窒化鋼を用い、この母材表面に図２（図中１，２，３，４，ＭＰは図１と同じ）に示す様な９０°偏向型フィルタードアーク法（Ｎｏ．１〜４）、スパッタリング法（Ｎｏ．５〜７）、或いはカソード型アークイオンプレーティング法（Ｎｏ．８〜１２）を用いて下記表１に示す条件で被覆（膜厚については全試験材共に同一）した。この際、導入ガスとして窒素を用いるとともに圧力調整用にＡｒガスを必要に応じて適宜混入させた。また成膜温度を抑えるために必要に応じて間欠成膜を行なった。
【００３０】
＜９０°偏向型フィルタードアーク法成膜条件＞
ガス導入前真空度    ：１×１０-3〜５×１０-5Ｐａ
スパッタクリーニング：−５００×―８００Ｖ
ガス導入後圧力      ：０．５〜３Ｐａ
成膜時カソード電流  ：１００〜２００Ａ
成膜時バイアス電圧  ：−５〜−１００Ｖ
成膜前温度          ：１００〜１５０℃
＜スパッタリング成膜条件＞
ガス導入前真空度    ：５×１０-4〜５×１０-5Ｐａ
スパッタクリーニング：−７００Ｖ，２ｍｉｎ（間欠）
ガス導入後圧力      ：０．１〜０．５Ｐａ
成膜時バイアス電圧  ：−５０〜−２００Ｖ
ＲＦ出力            ：５００〜２０００Ｗ
成膜前温度          ：１００〜１５０℃
＜カソード型アークイオンプレーティング成膜条件＞
ガス導入前真空度    ：５×１０-3〜１×１０-2Ｐａ
スパッタクリーニング：４００Ｖ，５ｍｉｎ（間欠）
ガス導入後圧力      ：１〜３Ｐａ
成膜時バイアス電圧  ：１０〜１００Ｖ
成膜前温度          ：１００〜３００℃
皮膜組織における不連続領域面積比率及び空隙部の評価方法を以下に示す。
【００３１】
＜膜中粒状部面積比測定方法＞
皮膜厚み  ：１０μｍ
切断研磨  ：基板面に対して垂直に切断，鏡面研磨
観察方法  ：日立製作所製電解放射型走査電子顕微鏡Ｓ４５００（加速電圧２０ｋＶ）
観察像    ：反射電子像
観察倍率  ：１００００倍（５視野で粒状部の面積を測定）
その他    ：反射電子像観察時に不連続領域と周辺部（マトリックス）のコントラストが最大となる様に観察条件を設定し、得られた像に対して画像処理を行い、周囲より輝度の高い部分を粒状部として面積比率を計算した。
【００３２】
＜空隙部測定方法＞
皮膜厚み    ：４μｍ
切断研磨    ：基板面に対して垂直に切断，ＴＥＭ試料用に薄片化
観察方法    ：電解放射型透過電子顕微鏡（日立製作所製ＨＦ２０００）
観察倍率    ：１５０００倍
観察視野    ：５μｍ角
観察視野数  ：５視野
膜の靭性は異化のスクラッチ試験機を用いて試験した。
【００３３】
＜靭性評価方法＞
圧子        ：ダイヤモンド，先端径１００μｍＲ
速度        ：１０ｎｍ／ｍｉｎ
荷重        ：１００Ｎ／ｍｉｎ
評価基準    ：靭性  →  チッピング発生荷重
＜硬度評価方法＞
装置        ：マイクロビッカース硬度計
荷重        ：２５ｇｆ
採用値      ：３点測定平均
0004112814.tif 000002
【００３４】
γ相および析出相以外に同定された相は主にα相である。その他同定不能相が見られる場合があったが、量的にはわずかであるために定量する際は無視した。また相対感度係数はリートベルト法によるシュミレーションで分離ピークにフィットする値を計算して求めた。
γ相中Ｎ量：使用ピークγ（１１１），（２２０）より格子定数を算出した平均Ｎ（質量％）＝−１１６．２５２＋３２．６１８×平均格子定数（Å）
＜皮膜中Ｎ含有量測定＞
面分析    ：１００μｍφ領域の表面から分析
定量      ：ＳＵＳ３０４合金を使用して感度微調整
【００３５】
【表１】
0004112814.tif 000003
【００３６】
９０°偏向型フィルタードアーク法及びスパッタリングで成膜したＮｏ．１〜７は、皮膜の靭性と硬度（耐摩耗性）に特に優れている。
【００３７】
【発明の効果】
本発明によれば、優れた靭性と耐摩耗性に優れた皮膜を提供することができる。また本発明の成膜方法によれば優れた耐摩耗性を有する表面処理膜を安価で簡便な方法によって施すことが可能であり、結果として実用性に優れた耐摩耗性部品を得ることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明で用いることができる直線型フィルタードアーク法を示す一概念図である。
【図２】本発明で用いることができる９０°偏向型フィルタードアーク法を示す一概念図である。
【図３】電解放射型走査電子顕微鏡を用いた皮膜断面の反射電子像である。
【図４】電解放射型透過電子顕微鏡を用いた皮膜写真である。
【符号の説明】
１．電磁コイル
２．プラズマ
３．母材
４．ターゲット
ＭＰ．マクロパーティクル
【図１】
0004112814.tif 000004
【図２】
0004112814.tif 000005
【図３】
0004112814.tif 000006
【図４】
0004112814.tif 000007