(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学薄膜が成膜される少なくとも２つの成膜面を有した成膜基板を保持する本体と、この本体に設けられ、一の蒸着流に向けて成膜する成膜面と該成膜面に隣接した他の面とを区切るマスクが、前記成膜面と前記隣接した他の面との境界となる稜線に沿って形成され、前記マスクで区切られた各成膜面を露出させる少なくとも２つの開口部と、を備えていることを特徴とする基板ホルダ。
【請求項２】
前記隣接した他の面が成膜面であることを特徴とする請求項１に記載の基板ホルダ。
【請求項３】
前記隣接した他の面が成膜がなされない非成膜面であることを特徴とする請求項１に記載の基板ホルダ。
【請求項４】
前記マスクがエッジ状又は板状で、前記基板ホルダの全体がプラスチックによって形成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の基板ホルダ。
【請求項５】
前記成膜基板が、厚さ方向に貫通する少なくとも１つの穴が形成されているポリゴンミラーであって、上下に分割された上ホルダ及び下ホルダからなる本体を備え、前記上ホルダ及び前記下ホルダのそれぞれは、いずれか一方にボスが形成された正三角形のカバー面と、前記正三角形の各頂点に設けられ、該各頂点から前記正三角形の中心に向かう方向につれて先細るエッジ状に形成されたマスクとを有し、該マスクが、前記ポリゴンミラーの隣接する２面ずつの組を区切る開口部を形成し、前記ボスと前記ポリゴンミラーに形成された穴を嵌合させることにより前記ポリゴンミラーを位置決めして、前記マスクを上下から嵌合させることにより前記ポリゴンミラーを保持することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の基板ホルダ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、成膜基板への光学薄膜の形成時に、成膜基板を保持する基板ホルダに関する。
【０００２】
【従来の技術】
光学薄膜が成膜される成膜基板としての光学部品はプラスチックによって形成されている。すなわち、プラスチック製の光学部品は、射出成形、注型成形、射出圧縮成型などのプラスチック成形によって製造される他、プラスチック材料の研削・研磨によっても製造される。このように製造された光学部品は、保管・運搬用のトレーに入れられてコーティング工程へ送られる。コーティング工程に送られた光学部品は、基板ホルダに保持されて成膜装置内にセットされることにより、必要な面に光学薄膜が成膜される。
【０００３】
かかる光学薄膜の成膜においては、基板ホルダの形状により光学薄膜の生産性が左右されるため、数多くの構造の基板ホルダが開発されている。例えば、実開平６−７３１５６号公報では、略台形板状の金属からなる２枚のパレット板を突き合わせることにより基板ホルダを形成し、この２枚のパレット板でレンズなどの成膜基板の複数を挟持している。それぞれのパレット板には成膜基板を露呈させるための開口部が複数形成されており、この開口部を成膜のための蒸着流に向けて成膜が行われる。この基板ホルダは成膜装置内で反転可能なことが特徴であり、基板ホルダが成膜装置内で反転することにより、成膜基板が互いに離れた表裏の２つの成膜面を有していても、成膜装置から取り出すことなく各成膜面に対して順次、成膜することができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、実開平６−７３１５６号公報に記載されている基板ホルダを始めとした従来の基板ホルダでは、複数の成膜面が隣接している場合、一の成膜面を成膜しているときに、隣接した他の成膜面に成膜用の蒸着流が回り込んで他の成膜面に付着する。この付着によって他の成膜面の反射率などの光学特性に悪影響を与えている。このことは成膜を行う必要のない非成膜面が成膜面に隣接している場合にも同様に発生し、非成膜面の光学特性に悪影響を及ぼす原因となっている。すなわち、従来の基板ホルダでは、特定の成膜面への成膜時に隣接する他の面に対して悪影響を及ぼす問題を有するものである。
【０００５】
又、従来の基板ホルダは、金属によって成形されているのがほとんどであり、基板ホルダが複雑な構造の場合には、その成形が難しく、高価となっているばかりでなく、成膜基板の出し入れなどの際にプラスチックからなる成膜基板に傷を付ける問題も発生している。
【０００６】
本発明は、このような従来の問題点を考慮してなされたものであり、特定の成膜面への成膜時に、隣接した面への悪影響をなくすことができる基板ホルダを提供することを目的とする。又、本発明は、成膜基板に傷を発生させることなく保持することができる基板ホルダを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項１の発明は、光学薄膜が成膜される少なくとも２つの成膜面を有した成膜基板を保持する本体と、一の蒸着流に向けて成膜する成膜面と該成膜面に隣接した他の面とを区切るマスクが、前記成膜面と前記隣接した他の面との境界となる稜線に沿って形成され、前記マスクで区切られた各成膜面を露出させる少なくとも２つの開口部と、この本体に設けられ、を備えていることを特徴とする。
【０００８】
請求項２の発明は、請求項１に記載の発明であって、前記隣接した他の面が成膜面であることを特徴とする。
【０００９】
この発明では、本体が成膜基板を保持することにより、本体に設けられたマスクは成膜面の稜線に沿って成膜面を区切った状態となる。この状態で成膜面を成膜用の蒸着流に向けて成膜を行うと、成膜用の蒸着流はマスクによって遮蔽されて隣接している他の成膜面に回り込むことがなくなる。このため、隣接している成膜面へ蒸着分子が付着することがなく、隣接している成膜面の光学特性に悪影響を及ぼすことがなくなる。
【００１０】
請求項３の発明は、請求項１に記載の発明であって、前記隣接した他の面が成膜がなされない非成膜面であることを特徴とする。
【００１１】
この発明では、成膜面と非成膜面とをマスクが区切るため、成膜面を成膜する際に蒸着流が非成膜面に回り込むことがなく、蒸着分子が非成膜面に付着しない。このため、非成膜面の光学特性に悪影響を及ぼすことがなくなる。
【００１２】
請求項４の発明は、請求項１乃至３に記載のいずれかの発明であって、前記マスクがエッジ状又は板状で、前記基板ホルダの全体がプラスチックによって形成されていることを特徴とする。
【００１３】
この発明では、マスクがエッジ状又は板状となっているため、蒸着流を確実に遮断することが可能である。この発明では、基板ホルダの全体がプラスチックによって形成されており、プラスチックからなる成膜基板と同様な硬さのため、成膜基板を保持しても傷付けることがなくなる。又、プラスチックによって形成することにより、量産が容易となると共に、金属加工と比べてコスト的に有利になる。このプラスチックによる成形には、射出成形、射出圧縮成型、注型成形方法などを用いることができる。
【００１４】
さらに、プラスチックからなる基板ホルダを多量に保有することで、基板ホルダへの成膜基板の詰め込みを成膜基板が製造された段階で行い、そのまま保管することが可能である。さらには、基板ホルダの形状を、複数の成膜面の成膜部と非成膜部を区切るように作成することにより、プラスチックからなる成膜基板を基板ホルダから出し入れすることなしに複数の成膜面の成膜を行うことが可能となる。
【００１５】
請求項５の発明は、請求項１乃至４に記載のいずれかの発明であって、前記成膜基板が、厚さ方向に貫通する少なくとも１つの穴が形成されているポリゴンミラーであって、上下に分割された上ホルダ及び下ホルダからなる本体を備え、前記上ホルダ及び前記下ホルダのそれぞれは、いずれか一方にボスが形成された正三角形のカバー面と、前記正三角形の各頂点に設けられ、該各頂点から前記正三角形の中心に向かう方向につれて先細るエッジ状に形成されたマスクとを有し、該マスクが、前記ポリゴンミラーの隣接する２面ずつの組を区切る開口部を形成し、前記ボスと前記ポリゴンミラーに形成された穴を嵌合させることにより前記ポリゴンミラーを位置決めして、前記マスクを上下から嵌合させることにより前記ポリゴンミラーを保持することを特徴とする。
【００１６】
図１はポリゴンミラー１への成膜を示し、ポリゴンミラー１は６面の反射面（成膜面）を有している。隣接する２つの成膜面２ａ、２ｂに対して同時に成膜を行う場合、図１（ｂ）で示すように、成膜面２ａと隣接する他の成膜面３ａとの稜線９に沿ってマスク５を配置してこれらの成膜面２ａ、３ａを区切ると共に、成膜面２ｂと隣接する他の成膜面３ｂとの稜線９に沿ってマスク５を配置して成膜面２ｂ、３ｂを区切る。そして、成膜面２ａ、２ｂを蒸着分子の蒸着流４に向けて成膜する。
【００１７】
マスク５がない場合、図１（ａ）で示すように、成膜面２ａ、２ｂだけでなく、これらと奥側で隣接している成膜面３ａ、３ｂにも蒸着流４が回り込んで蒸着分子が到達し、成膜面３ａ、３ｂの反射率などの光学特性に悪影響を及ぼす。これに対し、マスク５を設けた場合には、図１（ｂ）で示すように、蒸着流４がマスク５によって遮蔽されるため、マスク５の奥側で隣接している成膜面３ａ、３ｂには蒸着分子が回り込むことがなく、成膜面３ａ、３ｂの光学特性の変化を防ぐことができる。
【００１８】
図１（ｃ）は、ポリゴンミラー１の６面の成膜面をマスク５によって２面ずつ区切った場合を示す。すなわち、成膜面２ａ、２ｂの２面が蒸着流７ａによって成膜され、成膜面３ｂ、６ｂの２面が蒸着流７ｂによって成膜され、成膜面６ａ、３ａが蒸着流７ｃによって成膜される。この場合にも、マスク５によって区切られているため、他の成膜面への悪影響を防止することができる。このように隣接している２面の成膜面を順次、成膜する場合は、基板ホルダによってポリゴンミラー１を保持したままで基板ホルダを回転させて、ポリゴンミラー１の向きを蒸着流７ａ、７ｂ、７ｃ向きに対向するように置き換えることにより、全ての成膜面のコーティングを行うことができる。
【００１９】
従って、請求項４の発明では、ポリゴンミラーのそれぞれの反射面に対し、光学特性に悪影響を及ぼすことなく光学薄膜を成膜することができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
（実施の形態１）
図２〜図４は本発明の実施の形態１であり、図２は成膜が行われる成膜基板としてのポリゴンミラー１０を示す。このポリゴンミラー１０はプラスチックの射出成形によって成形される。
【００２１】
ポリゴンミラー１０は薄い正六角柱形状に成形されており、６つの側面が成膜面１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆとなっている。これらの成膜面１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆは境界となる稜線１１によって相互に隣接している。
【００２２】
ポリゴンミラー１０には２つの位置決め穴１０ａ、１０ｂが厚さ方向に貫通するように形成されている。この内、中央の位置決め穴１０ａはポリゴンミラー１０の位置決めを行うと共に、回転中心軸８ともなるものである。位置決め穴１０ｂは中央の位置決め穴１０ａよりも外側に変位した位置に設けられている。
【００２３】
図３は基板ホルダ１３がポリゴンミラー１０を保持した状態を、図４は基板ホルダ１３の分解状態を示す。基板ホルダ１３は上下に分割された上ホルダ１３ａと下ホルダ１３ｂとからなる本体１９と、上ホルダ１３ａ及び下ホルダ１３ｂに設けられた複数のマスク１５ａ、１５ｂとを備えている。
【００２４】
本体１９を構成する上ホルダ１３ａ及び下ホルダ１３ｂは共に同寸法の正三角形に成形されたカバー面１４ａ、１４ｂを対向するように有している。この内、上ホルダ１３ａのカバー面１４ａは後述するマスク１５ａが突出する以外の全体が平面となっている。一方、下ホルダ１３ｂのカバー面１４ｂには、カバー面１４ｂよりも小さな正三角形に成形された載置面１４ｃが段状に高くなるように一体成形されている。この載置面１４ｃのそれぞれの頂点はカバー面１４ｂの各頂点に一致している。
【００２５】
載置面１４ｃはポリゴンミラー１０が載置されるものであり、ポリゴンミラー１０の位置決め穴１０ａ、１０ｂのそれぞれに嵌まり込んでポリゴンミラー１０を位置決め状態で固定すると共にポリゴンミラー１０の相対回転を防止するボス１７ａ、１７ｂが突出している。
【００２６】
上ホルダ１３ａのマスク１５ａは正三角形の各頂点に設けられていると共に、下ホルダ１３ｂのマスク１５ｂも正三角形の各頂点に設けられている。これらのマスク１５ａ及び１５ｂは正三角形の各頂点から正三角形の中心に向かうと共に、正三角形の中心に向かうにつれて先細るエッジ状に成形されている。この場合、上ホルダ１３ａのマスク１５ａの先端は自由端となっているが、下ホルダ１３ｂのマスク１５ｂは載置面１４ｃの各頂点に連設している。
【００２７】
上下のマスク１５ａ及び１５ｂの内、下ホルダ１３ｂのマスク１５ｂは載置面１４ｃと同じ高さとなっている。これに対し、上ホルダ１３ａのマスク１５ａはそのカバー面１４ａよりも下方に長く突出する長さとなっている。この上ホルダ１３ａのマスク１５ａの突出長さはポリゴンミラー１０の厚さと同一となっている。従って、下ホルダ１３ｂの載置面１４ｃにポリゴンミラー１０を載置して上ホルダ１３ａを被せると、下ホルダ１３ｂの載置面１４ｃ及び上ホルダ１３ａのカバー面１４ａによってポリゴンミラー１０を挟み込むことができ、これにより上ホルダ１３ａ及び下ホルダ１３ｂからなる本体１９がポリゴンミラー１０を保持する。
【００２８】
上述したように上下のホルダ１３ａ、１３ｂのマスク１５ａ、１５ｂが正三角形の各頂点に設けられることにより、上下のホルダ１３ａ、１３ｂを組み合わせた状態では、各頂点で対向しているマスク１５ａ、１５ｂが対となる。又、基板ホルダ１３がポリゴンミラー１０を保持した状態では、対となっているマスク１５ａ、１５ｂがポリゴンミラー１０の稜線１１に沿うことができ、これにより対となっているマスク１５ａ及び１５ｂの内、ポリゴンミラー１０の厚さと同じ長さで突出している上ホルダ１３ａのマスク１５ａがポリゴンミラー１０の成膜面を区切るように作用する。
【００２９】
この実施の形態では、上ホルダ１３ａのマスク１５ａはポリゴンミラー１０の稜線１１と僅かな隙間を有して稜線１１に沿うようになっている。このように隙間を設けることにより、先鋭のマスク１５ａが稜線１１と接触して稜線１１を傷付けることを防止することを防止することができる。又、隙間の寸法は蒸着分子が通過してマスク１５ａの後側に回り込まない程度に設定され、このためには１ｍｍ以下に設定するのが良好である。
【００３０】
さらに、上下のホルダ１３ａ、１３ｂのマスク１５ａ、１５には、相互に嵌合する位置決め穴１６ａ及び位置決め突起１６ｂが設けられている。これらの位置決め穴１６ａ及び位置決め突起１６ｂが嵌合することにより、上下のホルダ１３ａ、１３ｂ組み合わせ状態が固定されてずれることがなくなる。なお、このような位置決め部材としては、相互に噛合する波状の凹凸やクリップなどの挟み込み、その他のものを適宜使用することができる。
【００３１】
このような構成において、プラスチックの射出成形によって成形されたポリゴンミラー１０は、ゲートカットされて離型され、このゲートカット後のポリゴンミラー１０が基板ホルダ１３の下ホルダ１３ｂに載置される。このとき、ポリゴンミラー１０の位置決め穴１０ａ、１０ｂに載置面１４ｃのボス１７ａ、１７ｂが嵌め合わせられることにより、ポリゴンミラー１０が位置決めされる。
【００３２】
その後、上ホルダ１３ａを下ホルダ１３ｂに被せて上ホルダ１３ａ及び下ホルダ１３ｂによってポリゴンミラー１０を保持する。この保持によって上ホルダ１３ａのマスク１５ａがポリゴンミラー１０の稜線１１に沿うため、成膜面は図３に示すように、隣接する２面ずつが組となった状態でマスク１５ａにより区切られる。
【００３３】
基板ホルダ１３に保持されたポリゴンミラー１０は図示を省略した保管箱に入れられて、コーティング工程に送られる。コーティング工程では、保管箱から取り出された基板ホルダ１３を成膜装置（図示省略）に挿入してセットする。そして、真空蒸着法によって成膜面にアルミニウム膜を蒸着させる。
【００３４】
この成膜は、マスク１５ａによって区切られた一区画の２面の成膜面（例えば、成膜面１２ａ、１２ｂ）をアルミニウム分子の蒸着流に向けることにより、その２面の成膜面に対して行う。その後、基板ホルダ１３を１２０°回転させて、次の一区画の２面の成膜面（例えば、成膜面１２ｃ、１２ｄ）を蒸着流に向けて成膜し、さらに、基板ホルダ１３を１２０°回転させて、次の一区画の２面の成膜面（例えば、成膜面１２ｅ、１２ｆ）を蒸着流に向けて成膜する。この成膜によってポリゴンミラー１０の全ての成膜面にアルミニウム膜が成膜されてミラー面となる。
【００３５】
このような実施の形態では、エッジ状のマスク１５ａがポリゴンミラー１０の稜線１１に沿って成膜面を区切るため、蒸着流がマスク１５ａによって遮蔽されてマスク１５ａよりも奥側の他の成膜面に回り込むことがなくなる。このため、他の成膜面へ蒸着分子が付着することがなく、その成膜面の光学特性に悪影響を及ぼすことがなくなる。
【００３６】
又、この実施の形態では、基板ホルダ１３の全体をプラスチックによって形成しているため、ポリゴンミラー１０がプラスチックによって成形されていても、ポリゴンミラー１０を傷付けることがなくなる。さらに、量産が容易となると共に、金属加工と比べてコスト的に有利となる。
【００３７】
なお、マスク１５ａ、１５ｂとしては、板状などのエッジ状以外の形状であっても良く、基板ホルダ１３及びポリゴンミラー１０を射出成形以外の他の手段、例えば、注型成形、射出圧縮成型などによって作製しても良い。
【００３８】
（実施の形態２）
図５〜図１１は本発明の実施の形態２を示し、図５及び図６は成膜される成膜基板としてのプリズム２０である。このプリズム２０はプラスチックの射出成形によって成形される。
【００３９】
プリズム２０は四角状柱体を傾斜させた形状となっており、側面から見て斜め四角形状となっている。このプリズム２０では、底面が成膜面２１ｂとなっていると共に、底面の成膜面２１ｂから斜め方向に立ち上がって隣接する両側面が成膜面２１ａ、２１ｃとなっており、これらの成膜面２１ａ、２１ｂ、２１ｃは稜線４１を介して隣接している。又、成膜面２１ａ、２１ｂ、２１ｃと上面２２と、前後の側面２３との境界にも稜線４１が設けられている。
【００４０】
この実施の形態では、成膜面２１ａに対しては、５００ｎｍ以下の可視光を反射するダイクロックミラー面、成膜面２１ｂに対しては５００〜６００ｎｍの光の反射量を小さくする反射防止膜、成膜面２１ｃに対しては、６００ｎｍ以下の可視光を反射するダイクロックミラー面を形成する。これによりプリズム２０は、図６で示すように、入射する白色光２６ａから成膜面２１ａが青色光２６ｃを分離し、成膜面２１ａを通過した光２６ｂから成膜面２１ｃが緑色光２６ｄと赤色光２６ｅに分解するダイクロックプリズムとなる。なお、以下の説明では、成膜面２１ｃへの成膜は説明を省略する。この成膜面２１ｃへの成膜は別途に行うものである。
【００４１】
プリズム２０における上面２２及び前後の側面２３は光学的に機能することがない。このため、前後の側面２３の上部には、プリズム２０が他の部品と共に、取付枠（図示省略）に取り付けられる際にプリズム２０を保持するリブ２５が配置されている。
【００４２】
図７〜図９はこの実施の形態の基板ホルダ２７を示す。基板ホルダ２７は前後方向で対向するホルダ板２８ａ、２８ｂからなる本体２８と、この本体２８に設けられたマスク２９とを備え、全体がプラスチックの射出成形によって形成されている。
【００４３】
前後のホルダ板２８ａ、２８ｂはプリズム２０の前後の側面２３に類似した斜め四角形状に成形されている。このホルダ板２８ａ、２８ｂはプリズム２０が嵌まり込むことができる間隔となっており、それぞれの上面には、プリズム２０のリブ２５が入り込むことによって、プリズム２０を位置決め状態で固定する位置決め凹部３０が形成されている。従って、プリズム２０をホルダ板２８ａ、２８ｂに挿入してリブ２５を位置決め凹部３０に入り込ませることにより、ホルダ板２８ａ、２８ｂはプリズム２０を保持することができる。
【００４４】
マスク２９は斜め四角状のホルダ板２８ａ、２８ｂの隣接した３つの角部を連結するように設けられている。それぞれのマスク２９はホルダ板２８ａ、２８ｂを連結するが、内方の先端部分は、く字形に屈曲されたエッジ状となっている。
【００４５】
３つの角部のマスク２９は図８及び図９に示すように、プリズム２０の上面２２と成膜面２１ａとの境界となる稜線４１、成膜面２１ａと成膜面２１ｂとの境界となる稜線４１及び成膜面２１ｂと成膜面２１ｃとの境界となる稜線４１に沿っており、これらの各面を区切っている。これにより、マスク２９は蒸着流が後側に回り込まないように遮蔽することができる。又、マスク２９はそれぞれの稜線４１とは、１ｍｍ以下の隙間を有して沿っており、これにより稜線４１を傷付けることがない。
【００４６】
次に、この実施の形態による成膜を説明する。図８及び図１０はプリズム２０の成膜面２１ｂに成膜する場合を示し、プリズム２０が挿入された基板ホルダ２７を図８に示すように、成膜面２１ｂが蒸着流（図示省略）に向くように成膜装置内にセットする。図１０はこの基板ホルダ２７を同一姿勢で複数の隣接させた状態であり、３１が隣接している基板ホルダである。この隣接している複数の基板ホルダ２７、３１は、保管箱内に入れられており、保管箱から取り出されて成膜装置内にセットされる。
【００４７】
図８及び図１０の状態で成膜面２１ｂに対して、蒸着流を下方から供給することにより、５００〜６００ｎｍの光の反射量を小さくする反射防止膜を成膜する。この成膜時には、隣接している成膜面２１ａ及び２１ｃがマスク２９によって区切られているため、蒸着流がこれらの成膜面２１ａ、２１ｃに回り込むことがなく、成膜面２１ａ、２１ｃに付着することを防止することができる。
【００４８】
成膜面２１ｂへの成膜を終了した後、基板ホルダ２７を９０°回転させて、図９及び図１１に示す状態とする。この状態では成膜面２１ａが下方に位置している。この状態で蒸着流を下方から供給して、５００ｎｍ以下の可視光を反射するダイクロックミラー薄膜を成膜する。この成膜時にも、隣接している成膜面２１ｂ及び上面２２がマスク２９によって区切られているため、蒸着流がこれらの面２１ｂ、２２に回り込むことがなく、これらの面への付着を防止することができる。なお、成膜面２１ｃへの成膜は、図示を省略した他の基板ホルダにプリズムを保持させて行うものである。
【００４９】
このような実施の形態においても、隣接する成膜面或いは成膜がなされない隣接面に蒸着流が回り込まないため、隣接した面の光学特性に悪影響となることがない。又、この実施の形態では、プリズム２０のような基板ホルダ２７の製作が難しい場合であっても、基板ホルダ２７がプラスチックの射出成形により作製されるため、高い形状精度しかも安価で作製することができる。さらに、プリズム２０と基板ホルダ２７の干渉による傷の発生が起こることがなくなる。
【００５０】
なお、この実施の形態では、成膜する光学薄膜をダイクロックミラー膜及び反射防止膜としたが、他の光学薄膜であっても良い。又、基板ホルダ２７を注型成形、射出圧縮成型など他の成型によって作製しても良く、プリズム２０も同様である。
【００５１】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１の発明によれば、基板ホルダのマスクが成膜面の稜線に沿って成膜面を区切った状態となるため、蒸着流がマスクによって遮蔽されて隣接している他の成膜面に回り込むことがなく、隣接している成膜面へ蒸着分子が付着することがなくなる。このため、隣接している成膜面の光学特性に悪影響を及ぼすことがなくなる。
【００５２】
請求項２の発明によれば、マスクが成膜面と非成膜面とを区切るため、成膜面を成膜する際に蒸着流が非成膜面に回り込むことがなく、非成膜面の光学特性に悪影響を及ぼすことがなくなる。
【００５３】
請求項３の発明によれば、  マスクが成膜部と非成膜部とを区切ることにより、成膜を行う際に非成膜部に蒸着流が回り込むことがなく、非成膜部の光学特性に悪影響を及ぼすことがなくなる。又、基板ホルダの全体がプラスチックによって形成されているため、成膜基板を傷付けることがなくなると共に、量産が容易となり、安価に製造することができる。
【００５４】
請求項４の発明によれば、ポリゴンミラーのそれぞれの反射面に対し、光学特性に悪影響を及ぼすことなく光学薄膜を成膜することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）はマスクがない場合の成膜を示し、（ｂ）はマスクを設けた場合の成膜を示す平面図である。（ｃ）はマスクと蒸着流との関係を示す平面図である。
【図２】実施の形態１で成膜されるポリゴンミラーの斜視図である。
【図３】実施の形態１における基板ホルダの保持状態の斜視図である。
【図４】実施の形態１の基板ホルダの分解斜視図である。
【図５】実施の形態２で成膜されるプリズムの斜視図である。
【図６】プリズムの正面図である。
【図７】実施の形態２における基板ホルダの保持状態の斜視図である。
【図８】図８におけるＡ−Ａ線断面図である。
【図９】図８におけるＡ−Ａ線断面を回転させた断面図である。
【図１０】複数の基板ホルダを用いた成膜を示す正面図である。
【図１１】複数の基板ホルダを用いた成膜であり、図１０の状態を回転させた正面図である。
【符号の説明】
１０  ポリゴンミラー
１２ａ  １２ｂ  １２ｃ  １２ｄ  １２e   １２ｆ  成膜面
１３  基板ホルダ
１５ａ  マスク
１９  本体
【図１】
0004081180.tif 000002
【図２】
0004081180.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
0004081180.tif 000008
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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