(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
成膜予備排気室内で基板の光記録層形成面に行う真空紫外光照射を、前記成膜予備排気室内に酸素ガスを導入しながら行ない、次いで真空紫外光照射を行った基板を、前記成膜予備排気室と真空環境下に連接されているチャンバーに移送し、該チャンバー内で前記基板の光記録層形成面に光記録層を形成することを特徴とする光ディスク媒体の製造方法。
【請求項２】
前記成膜予備排気室内の酸素ガス圧が１０〜５０００Ｐａである、請求項１に記載の光ディスク媒体の製造方法。
【請求項３】
前記基板の光記録層形成面への真空紫外光照射を、紫外光をパルス照射して行なう、請求項２に記載の光ディスク媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は光ディスク媒体の製造方法に関するものであり、更に詳細には成膜前の基板表面を平坦にし、常に一定の状態を有する低ノイズかつ高品質の光ディスク媒体を製造することのできる光ディスク媒体の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
レーザ光を用いた光情報記録方式は、大容量の情報の非接触かつ高速アクセスが可能であるため、大容量メモリとして実用化されている。このような光情報記録方式を用いた光学式記録再生媒体としては、コンパクトディスクやレーザディスクとして知られている再生専用型、ユーザ自身において記録することができる追記型、及びユーザ側において繰り返して記録再生が可能な書換型の記録再生媒体として分類することができる。
【０００３】
前記追記型及び書換型の光学式情報記録再生媒体は、コンピュータの外部メモリや文書、画像ファイルとして使用されつつある。書換型の光学式情報再生媒体には、記録膜の相変化を利用して情報を記録する相変化型光ディスクと垂直磁化膜の磁化方向の変化を利用して情報を記録する光磁気ディスクとがある。上記のうち、相変化型光ディスクは、情報を記録する際に光磁気ディスクにおいて必要とされる外部磁界が必要でなく、さらに記録情報の重ね書き、即ちオーバーライトが容易に可能であることから、今後、書換型の光学式情報記録再生媒体の主流になると期待されている。
【０００４】
従来より、レーザ光の照射により、記録膜の結晶−非晶質間の相変化を利用した書換可能な相変化型光ディスクが用いられている。相変化型光ディスクにおいては、記録膜に高パワーのレーザ光を照射し、記録膜の温度を局所的に上昇させることにより記録膜の結晶−非晶質間の相変化を発生させることにより情報の記録を行っている。記録された情報の再生は、記録時に比べ比較的低パワーのレーザ光を照射し、前記情報記録部の光学定数の変化を反射光強度差として検出することにより行われている。
【０００５】
相変化型光ディスクの記録膜には、カルコゲナイド系の材料である、ＧｅＳｂＴｅ系、ＩｎＳｂＴｅ系及びＡｇＩｎＳｂＴｅ系の材料が用いられており、これらの材料からなる記録膜は、いずれも抵抗加熱真空蒸着法、電子ビーム真空蒸着法又はスパッタリング法等の成膜方法により形成される。成膜直後の記録膜の状態は一種の非晶質状態にあり、この記録膜に情報の記録を行って、非晶質の記録部を形成するため、記録膜全体を結晶質にするための初期化処理が行われる。記録は、この結晶化された状態の中に非晶質部分を形成することにより行われている。
【０００６】
一般的な相変化型光ディスクの記録再生方法は、レーザ光のパワーを２つのレベル間で変化させることにより、結晶化又は非晶質を行なうことにより実施される。すなわち、記録時には記録膜の温度を融点以上に上昇させることが可能なパワーのレーザ光を記録膜に照射し、その照射部分が冷却時に非晶質状態となり、一方、情報を消去する場合には、記録膜の温度が結晶化温度以上で融点以下の温度に達するようなパワーのレーザ光を記録膜に照射する。再生は低パワーのレーザ光を照射することにより反射光強度差として読みとっている。
【０００７】
上述したような相変化型光ディスクを構成する記録膜は螺旋状又は同心円状の案内溝、すなわち記録トラック（ランド部：凹部及びグルーブ部：凸部）が予め配設された透明ディスク基板上に形成される。この記録トラックによって情報記録再生装置の光ヘッドから出射されるレーザ光が情報列に沿ってガイドされる。この記録トラックの形状は凹形と凸形方とが交互に配置されている。光ヘッドから見て凹形、すなわち遠い側をランド部と称し、逆に凸形、すなわち近い側をグルーブ部と称している。また、ランド部又はグルーブ部の中心から隣接するランド部又はグルーブ部の中心までの距離をトラックピッチと称している。
【０００８】
上述したような、記録膜及び基板を用いて相変化形光ディスク媒体を形成するには、透明ディスク基板上に第１の誘電体層、記録膜及び第２の誘電体層が順次配設されるか、又は透明ディスク基板上に第１の誘電体層、記録膜、第２の誘電体層及び反射膜等が準備配設されるか、又は透明ディスク基板上に第１の誘電体層、第２の誘電体層、記録膜、第３の誘電体層及び反射膜等が順次配設されて形成されることが一般的である。
【０００９】
また、上述したような層変化形光ディスク媒体は、通常、上述した透明ディスク基板側からレーザ光が入射されて前記記録膜に対して情報の記録及び再生が行われている。
【００１０】
近年における記録密度の高密度化の要求に伴い、記録トラックのトラックピッチの狭トラック化及び案内溝の凹部（ランド部）と該ランド部の間にある凸部（グルーブ部）の両方に情報を記録するランド／グルーブ記録が一般的になりつつある。また、記録密度を向上させるために、レーザ光のスポット径の微少化が進められている。
【００１１】
レーザ光のスポット径は、記録再生径のλ／ＮＡ（λ：レーザ光の波長、ＮＡ：対物レンズの開口数）に依存するため、レーザ光の波長を短波長化し、対物レンズの開口数を増加させることによりレーザ光のスポット径が微少化され、記録密度の高密度化が可能となる。
【００１２】
しかしながら、上述したように対物レンズの開口数を増加させると、コマ収差が大きくなり、このため信号品質の劣化が懸念される。コマ収差はスキュー角（ディスクの光軸に対する傾斜角）とレーザ光が通過する透明基板の厚みと対物レンズの開口数の３乗の積に比例する量である。従って、コマ収差を抑制するための一手段としてレーザ光が通過する透明基板の厚みを薄くする方法が提案されている。
【００１３】
このような、透明基板の厚みを薄くする方法としては、透明基板上に光反射層、記録層、薄い光透過層を順次形成し、薄い光透過層側からレーザ光を入射させて記録層に対して信号の記録及び再生を行なう方法が提案されている。この方法は、上述したような従来から広く用いられている、透明基板側からレーザ光を入射させて信号の記録及び再生を行なう方法とはレーザ光の入射方向が異なっている。
【００１４】
上述した、光透過層を形成する方法としては、透明基板上に光反射層及び記録層を順次形成した後に、厚さが１００μｍ程度の樹脂シートを厚さ数μｍの接着剤層を介して貼り付ける方法や、記録層上に紫外線硬化樹脂を滴下し展開した後、紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させ、薄い光透過膜を形成する方法等が知られている。
【００１５】
一方、上述したように、透明基板上に光反射層、記録層（誘電体層及び相変化記録層を含む）を順次形成した後、前述したような薄い光透過層を形成した層変化記録媒体においては、信号を記録し再生した際の再生信号に、大きなノイズ成分が含まれるという問題が生じることが知られている。ノイズ成分が大きくなると、再生信号が劣化し、記録された信号を安定して再生することができないため、記録密度の向上に支障をきたす。この大きなノイズ成分は、光反射層成膜前の基板表面のミクロな荒れや基板表面に付着したミクロな有機物がその上に積層された光反射層に転写され、結果的に光反射層の表面があれてしまうこと、及びミクロな有機物の影響を受け手基板に対する光反射層の付着力が弱まり、膜が部分的に剥離することにより起こるものである。
【００１６】
上述したようなノイズの上昇を抑制するために、光反射層を成膜する前に、大気中で低圧水銀ランプを用いて紫外線を照射する方法が特開平10-36536号公報に開示されている。低圧水銀ランプは波長が１８５ｎｍ及び２５４ｎｍの光を主に発生し、この１８５ｎｍの波長の紫外光が大気中の酸素に吸収されてオゾンを発生させる。このオゾンに２５４ｎｍの紫外光が吸収されると、励起酸素原子が生成される。一方、１８５ｎｍの短波長紫外光は光子エネルギーが強く、基板表面に付着した有機物の分子結合を切断する。この切断された分子に前記の非常に強い酸化力を有する励起酸素原子が反応して二酸化炭素（ＣＯ２）や水分（Ｈ２Ｏ）等の気体となり飛散除去される。従って、基板表面の洗浄速度は上述した励起酸素原子の数に強く影響を受けることとなる。
【００１７】
しかしながら、上記公報に開示された方法によっては、基板表面のミクロな荒れの平坦化や基板表面に付着したミクロな有機物等を除去するために、５分〜２０分程度の比較的長い照射時間を要し、量産性に劣る。また、多数枚の基板を一度に処理することができるような大面積の低圧水銀では、パレットにセットできる基板全ての処理（通常は８枚〜１０枚）が終わった後、基板がパレットに装着され、真空排気されることになる。従って、このような方法においては、最初に処理された基板は、処理後４０分以上大気中に放置されることになり、その間の基板表面の有機物による汚染は避けられない。更に、上述した低圧水銀ランプの分光特性を考慮すると、主には１８５ｎｍ及び２５４ｎｍの紫外光が照射されるが、この他にも波長の長い赤外光も照射される。このため、上述したような比較的長時間の照射が行われると、基板の温度が上昇し基板が変形してしまうという問題がある。
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、成膜前の基板表面を平坦にし、常に一定の状態を有する低ノイズかつ高品質の光ディスク媒体を製造することのできる光ディスク媒体の製造方法を提供することにある。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決する本発明の光ディスク媒体の製造方法は、成膜予備排気室内で基板の光記録層形成面に行う真空紫外光照射を、前記成膜予備排気室内に酸素ガスを導入しながら行ない、次いで真空紫外光照射を行った基板を、前記成膜予備排気室と真空環境下に連接されているチャンバーに移送し、該チャンバー内で前記基板の光記録層形成面に光記録層を形成することを特徴とする。
【００１９】
かかる構成とすることにより、真空紫外光照射を、前記成膜予備排気室内に酸素ガスを導入しながら行なうので、紫外光照射によって基板表面に付着した有機物の分子結合が切断され、フリーラジカルが発現し、これに対して、積極的に酸素を導入することで、ＣＯ２やＨ２Ｏなどの気体となり飛散除去され、ノイズの低下した光ディスク媒体を製造することができる。しかも成膜予備排気室とチャンバーとが真空環境下で連接されているので、紫外光照射された基板が大気暴露されずにチャンバー内に移送され、成膜前の基板表面を平坦にし、常に一定の状態を有する低ノイズかつ高品質の光ディスク媒体を製造することができる。
【００２０】
前記成膜予備排気室内の酸素ガス圧を１０〜５０００Ｐａとすることができ、さらに前記基板の光記録層形成面への真空紫外光照射を、紫外光をパルス照射して行なうことにより、複数枚の基板を処理する場合に、複数枚の基板を均一にエッチングすることが可能となる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、先ず本発明の光ディスク媒体の製造方法に適用される光ディスク媒体製造装置について図面を参照して説明する。
図１は、本発明の光ディスク媒体の製造方法に適用される光ディスク媒体製造装置の一実施の形態についての断面構成図を示す図である。図１に示すように、本発明の光ディスク媒体製造装置は、導入された基板１を支持するパレット２、及び前記基板１を支持したパレット２に対向して波長が１８０ｎｍ以下の単一真空紫外光照射装置６を備えた成膜予備排気室３を備えている。図１に示す光ディスク媒体製造装置においては、前記パレット２は自公転式パレットであり、回転モータによって回転するようになされている。
前記基板１は、プリピットを有する基板であることが好ましい。
【００２２】
また、前記単一真空紫外光照射装置６が有するランプ５から単一真空紫外光が照射されるようになっている。図１に示す光ディスク媒体製造装置が備えている単一真空紫外光照射装置から照射される真空紫外光の波長は１８０ｎｍ以下の波長のものであればよく、例えば１７２の波長を有する単一紫外光が照射されるようになっている。
また、図１には示していないが、本発明の光ディスク媒体製造装置は、基板１上に少なくとも１層の薄膜、例えば光記録層を形成するチャンバーを備えている。
【００２３】
なお、前記真空予備排気室２と前記チャンバーとは、真空環境下で連接されていることが好ましい。
このように構成されているので、紫外光照射された基板１が大気暴露されずにチャンバー内に位相されるので、成膜前の基板１の表面を平坦にし、常に一定の状態を有する低ノイズかつ高品質の光ディスク媒体を製造することが可能となる。
【００２４】
また、前記パレット２は回転可能になされており、前記単一真空紫外光照射装置６が前記パレット２に支持された基板１に単一真空紫外光を照射可能に配設されている。図１に示す光ディスク媒体製造装置においてはパレット２は自公転式パレットであり、一度に８枚の基板１を支持できるように構成されている。そして、前記単一真空紫外光照射装置６は、前記パレット２に支持された基板１に単一真空紫外光を照射可能に配設されている。
【００２５】
また、前記単一真空紫外光照射装置６の紫外光発光面７と前記基板１を支持するパレット２との距離は３０ｍｍ以下となっている。このような距離にされていることにより、更にノイズの低下した光ディスク媒体を製造することが可能となる。また、前記距離は更に好ましくは１ｍｍ〜３０ｍｍである。この距離が３０ｍｍを超えると急激にノイズが増加する場合がある。
【００２６】
また、図１に示す光ディスク媒体製造装置においては、前記単一真空紫外光照射装置６は、紫外光４をパルス照射し得るようにされている。このように、紫外光４をパルス照射することにより、複数枚の基板１を処理する場合に、複数枚の基板１を均一にエッチングすることが可能となる。
【００２７】
また、図１には示していないが、図１に示される本発明の光ディスク媒体製造装置は成膜予備排気室３に酸素ガス導入部を備えている。このような酸素ガス導入部が備えられていることにより、基板１の表面に付着した有機物の分子結合が紫外光照射によって切断され、これに対して積極的に酸素を導入することで、ＣＯ２やＨ２Ｏなどの気体となり飛散除去されやすくなり、さらにノイズの低下した光ディスク媒体を製造することが可能となる。
なお、前記酸素ガス導入部から前記成膜予備排気室３に導入した際の酸素ガス圧が１０〜５０００Ｐａになるようにされていることが好ましい。
【００２８】
次に、本発明の光ディスク媒体の製造方法の一実施の形態について説明する。
本発明の光ディスク媒体の製造方法は、上述した光ディスク媒体製造装置を用いて実施することができる。本発明の光ディスク媒体の製造方法は、成膜予備排気室３内で基板１の光記録層形成面に真空紫外光照射を行い、次いで真空紫外光照射を行った基板１を大気暴露せずに、前記基板の光記録層形成面に光記録層を形成することからなる。
【００２９】
前記基板としては、光ディスク媒体を製造するために通常に用いられる材料からなる基板を用いることができ、例えばポリカーボネートからなる透明樹脂基板を用いることができる。また、前記光記録層としては、光ディスク媒体の光記録層を形成するために通常に用いられる材料を用いることができ、例えば紫外線硬化樹脂からなるものを用いることができる。
【００３０】
前記基板に真空紫外光照射を行なう前に、成膜予備排気室３内を先ず真空にし、酸素ガスを導入しながら行なうことが好ましい。真空にする場合、その真空度は１×１０-4Ｐａ〜１×１０-3Ｐａであることが好ましい。また、酸素ガスの導入量は５０ＳＣＣＭ程度であることが好ましく、前記成膜予備排気室３内の酸素ガス圧は１０〜５０００Ｐａであることが好ましい。
酸素ガスを導入しながら真空紫外光照射を行なうのは、基板１の表面に付着した有機物の分子結合が紫外光照射によって切断され、フリーラジカルが発現し、これに対して、積極的に酸素を導入することで、ＣＯ２やＨ２Ｏなどの気体となり飛散除去されやすくして、さらにノイズの低下した光ディスク媒体を製造するためである。
【００３１】
また、真空紫外光照射は紫外光をパルス照射して行なうことが好ましい。真空紫外光照射を紫外光をパルス照射して行なうことにより、複数枚の基板を処理する場合であっても複数枚の基板を均一にエッチングすることができる。
また、本発明の光ディスク媒体の製造方法においては、基板に真空紫外光照射を行った後、該基板を大気暴露せずに、基板の光記録層形成面に光記録層を形成する。このように真空紫外光照射を行った基板を大気暴露せずに光記録層を形成しているので、基板を大気中に放置することがなく、大気中の有機物により基板表面が汚染されることがない。従って、成膜前の基板の表面を平坦にし、常に一定の状態を有する低ノイズかつ高品質の光ディスク媒体を製造することが可能となる。
【００３２】
本発明の光ディスク媒体の製造方法においては、光記録層が形成された後、順次所望の反射膜層、誘電体層及び相変化記録層等を適宜成膜し、最後に基板を回収して光ディスク媒体を得る。前記反射膜層としては例えばＡｌＴｉ合金、誘電体層としては例えばＺｎＳ・ＳｉＯ２、層変化層としては例えばＧｅ２Ｓｂ２Ｔｅ５からなるものを材料として用いて形成することができる。
【００３３】
次に、本発明の光ディスク媒体の製造方法の他の実施形態について説明する。
本発明の光ディスク媒体の製造方法の他の実施形態は、成膜予備排気室内で基板の光記録層形成面に真空紫外光照射を行い、次いで真空紫外光照射を行った基板を、前記成膜予備排気室と真空環境下に連接されているチャンバーに移送し、該チャンバー内で前記基板の光記録層形成面に光記録層を形成することからなる。
この実施形態は、上述した実施形態とは、真空紫外光照射を行った基板を、成膜予備排気室と真空環境下に連接されているチャンバーに移送し、該チャンバー内で前記基板の光記録層形成面に光記録層を形成する点において異なっている。その他の点については、上述した実施形態と同様である。
【００３４】
本実施の形態においては、真空紫外光照射を行った基板を、成膜予備排気室と真空環境下に連接されているチャンバーに移送し、該チャンバー内で前記基板の光記録層形成面に光記録層を形成するので、真空紫外光照射を行った基板が大気に暴露されずに光記録層が形成されるので、基板が大気中に放置されることがなく、大気中の有機物により基板表面が汚染されることがない。
【００３５】
【実施例】
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明する。なお、本発明の範囲は、かかる実施例に限定されないことはいうまでもない。
実施例１
図１に示すような光ディスク媒体製造装置を用いて光ディスク媒体を製造した。自公転式パレットに透明樹脂基板を８枚セットし、Ｘｅガスを封入した誘電体バリア放電エキシマランプを用いて波長１７２ｎｍ（放射照度７ｍＷ／ｃｍ２）の単一真空紫外光を前記８枚の基板に照射した。
【００３６】
まず、図１に示す光ディスク媒体製造装置に、レーザ光をガイドする案内溝が形成された８枚の透明樹脂基板１（厚さ０．６ｍｍ、直径１２０ｍｍ）を自公転式パレット２に支持し、該自公転式パレット２を予備排気室３に導入した。次いで、予備排気室３内を１×１０−４〜１×１０−３Ｐａの圧力まで予備排気した後、前記自公転式パレット２を回転させながら酸素ガスを５０ＳＣＣＭ導入し、酸素ガス圧を１００Ｐａにした。次いで、基板に波長１７２ｎｍの単一紫外光４を３０秒間照射した。
【００３７】
次いで、単一紫外光が照射された基板を支持した自公転式パレット２を真空環境下で連接されている次のチャンバーである、インライン方のスパッタ装置に移送した。
図２は、本実施例で製造される光ディスク媒体の断面図を示すものである。図２を用いて、順次説明する。
【００３８】
先ず、基板１上に、Ｔｉを２質量％含有するＡｌＴｉ合金ターゲットを用いてアルゴンガス雰囲気中でターゲットと基板との間の距離を１５ｃｍにしてパワー密度１．６Ｗ／ｃｍ２、ガス圧０．０８Ｐａにて１００ｎｍの厚みの反射膜層１１を形成した。
次いで、ＺｎＳ・ＳｉＯ２ターゲットを用いてアルゴンガス雰囲気中でターゲットと基板との間の距離を１５ｃｍにしてパワー密度２．２Ｗ／ｃｍ２、ガス圧０．１Ｐａにて３５ｎｍの厚みの第１誘電体層１２を形成した。
【００３９】
次いで、Ｇｅ２Ｓｂ２Ｔｅ５ターゲットを用いてアルゴンガス雰囲気中でターゲットと基板との間の距離を１５ｃｍにしてパワー密度０．２７Ｗ／ｃｍ２、ガス圧１．０Ｐａにて１５ｎｍの厚みの相変化記録層１３を形成した。
次いで、ＺｎＳ・ＳｉＯ２ターゲットを用いてアルゴンガス雰囲気中でターゲットと基板との間の距離を１５ｃｍにしてパワー密度２．２Ｗ／ｃｍ２、ガス圧０．１Ｐａにて１３０ｎｍの厚みの第２誘電体層１４を形成した。
【００４０】
なお、各層の成膜時間は、適宜所望の厚みになるように調整した。第２誘電体層１４を成膜した後、第２誘電体層１４の上に紫外線硬化樹脂を塗布及び展開し、紫外線を照射して該紫外線硬化樹脂を硬化させて１００μｍの厚みの光透過層１５を形成し、光ディスク媒体を得た。なお、ここで用いられる紫外線硬化樹脂の塗布量及び展開時間は、適宜所望の膜厚になるように調整した。図２に示した光ディスク媒体の断面図においては、真空紫外光照射面１０を示してあるが、実際には該真空紫外光照射面１０の厚みは測定することはできないが、図２においては、概念的に真空紫外光照射面を示した。
【００４１】
試験例１
基板に単一真空紫外光照射した後に、該基板を一旦大気暴露し、大気中に６０分間放置した。大気暴露した直後の基板及び大気中に６０分間放置した基板について、濡れ性の一指標である水の接触角を測定したところ、大気暴露した直後の基板の水の接触角は５度程度であったのに対し、大気中に６０分間放置したものの水の接触角は１５度程度であった。従って、一旦、単一紫外光照射を行った基板を大気暴露したり、大気中で照射した後長時間放置することが好ましくないことがわかる。以下の実施例においては、単一紫外光照射を行った基板については真空度を下げることなく、以下の成膜プロセスを行っている。
【００４２】
実施例２
単一紫外光照射装置の発光面と透明樹脂基板１の最表面との間の距離ｄを１〜５０ｍｍの範囲で変化させて実施例１と同様に操作を行って光ディスク媒体を作成し、それぞれの光ディスク媒体について媒体ノイズを測定した。図３は、発光面と透明樹脂基板の最表面との間の距離ｄと媒体ノイズレベルとの関係を示すグラフである。図３に示されるように、媒体ノイズレベルは、前記距離が１〜３０ｍｍの間では、照射距離の増加に伴いわずかに増加するが、３０ｍｍを超えると急激に増加することがわかる。図３には、紫外光未照射の媒体のノイズレベルも示した。
【００４３】
図３に示されるように、前記距離が５０ｍｍの場合は、真空紫外光を照射しない媒体と同程度のノイズレベルを示している。これは、単一真空紫外光発光面と基板表面との間の距離が大きくなると、基板表面に紫外光が到達する前に酸素原子に吸収され、エネルギーが低下し、基板表面に付着している有機物の分子結合の切断が行われなくなるため、基板表面のエッチング能力が失われることによるものである。従って、単一紫外光の発光面と透明樹脂基板の最表面との間の距離は３０ｍｍ以下であることが好ましい。
【００４４】
実施例３
真空予備排気室内の酸素ガス圧を１Ｐａ〜１×１０４Ｐａの間で変化させ、真空紫外光を基板に照射し、その後実施例１と同様に操作を行って光ディスク媒体を製造した。なお、真空紫外光の発光面と基板の最表面との間の距離は５ｍｍに固定して行った。得られた光ディスク媒体について媒体ノイズを測定した。
【００４５】
図４は、真空予備排気室内の酸素ガス圧と光ディスク媒体のノイズレベルとの関係を示すグラフである。図４に示されるように、真空予備排気室内の酸素ガス圧が１０Ｐａ〜５×１０３Ｐａの範囲では、媒体ノイズは比較的低かったが、それ以外の範囲では媒体ノイズが上昇する傾向が見られた。１Ｐａにおいてはノイズが高い要因は、真空紫外光が吸収される酸素量が少なくため、励起酸素原子の生成量が少なく、そのため基板表面のエッチング能力が低下したことによるものである。一方、１×１０４Ｐａにおいては、低真空のために酸素原子過多となり、基板表面に紫外光が到達する前に酸素原子に吸収されてしまい、紫外光のエネルギーが低下し、基板表面に付着した有機物の分子結合の切断が積極的に行われなくなり、基板表面のエッチング能力が失われ、ノイズが増加する。従って、真空紫外光を照射する際の真空予備排気室内の真空度は１０〜５×１０３Ｐａであることが好ましい。
【００４６】
なお、上述した方法によって製造された光ディスク媒体には、いずれも反りや変形等は認められなかった。
【００４７】
上記実施例においては、真空紫外光の照射は連続光の照射により行ったが、自公転パレットの回転数と照射時間とのかねあいによっては、多数の基板に対して均一に紫外光を照射することが困難な場合がある。このような場合には、比較的長い時間の照射時間を設定し、複数枚の基板を均一にエッチングするためにパルス照射を行ってもよい。パルス照射を行った場合にも同様の効果が得られた。
【００４８】
また、上記実施例においては、Ｘｅガスを封入した誘電体バリア放電エキシマランプを用いて波長が１７２ｎｍの単一真空紫外光を照射しているが、封入ガスとしてＡｒを用いた波長１２６ｎｍ、又はＫｒガスを用いた波長１４６ｎｍの単一真空紫外光を照射した場合にも同様の効果が得られた。また、真空紫外光の照射照度は上述のものに限定されず、成膜タクト等のかねあいによって適宜最適な照射照度を選定してもよい。
【００４９】
上述した実施例における、記録膜、反射膜、誘電体層の材料や層の数、各々の膜の成膜方法は上述したものに限定されず、所望の記録再生特性及び用途に応じて適宜選択される。また、各膜の成膜方法や材料、層の数等によって、効果が変わるものではない。また、基板の材料及び厚みも上述のものに限定されず、適宜選択してもよい。また、上記実施例では光透過層１５として紫外線硬化樹脂を用いたが、例えば厚みが１００μｍのＰＣフィルムを用いても同様の効果が得られた。
【００５０】
【発明の効果】
以上詳述した通り、本発明の光ディスク製造方法によれば、成膜前の基板表面を平坦にし、しかも紫外光照射によって分子結合が切断された有機物が除去されやすくして、常に一定の状態を有する低ノイズかつ高品質の光ディスク媒体を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の光ディスク媒体の製造方法に適用される光ディスク媒体製造装置の一実施の形態についての断面構成図を示す図である。
【図２】  本実施例で製造される光ディスク媒体の断面図を示すものである。
【図３】  発光面と透明樹脂基板の最表面との間の距離ｄと媒体ノイズレベルとの関係を示すグラフである。
【図４】  真空予備排気室内の酸素ガス圧と光ディスク媒体のノイズレベルとの関係を示すグラフである。
【符号の説明】
１  基板
２  パレット
３  真空予備排気室
４  真空紫外光
５  ランプ
６  真空紫外光照射装置
７  紫外光発光面
８  回転モータ
【図１】
0004081981.tif 000002
【図２】
0004081981.tif 000003
【図３】
0004081981.tif 000004
【図４】
0004081981.tif 000005