(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
カラーフィルター基板の製造方法であって、
（ａ）基板上にアルミニウム膜またはアルミニウム合金膜を形成する工程と、
（ｂ）前記アルミニウム膜またはアルミニウム合金膜が形成された基板を、アルカリ金属の水酸化物が０．０００５〜０．００１ｇ／Ｌ含有された水溶液を用いて、処理温度２０〜５０℃、処理時間１〜２分で洗浄する工程と、
（ｃ）前記アルミニウム膜またはアルミニウム合金膜上に色レジストを形成する工程と、
（ｄ）前記色レジストを露光する工程と、
（ｅ）アルカリ金属の水酸化物を０．０００８〜０．００１２ｇ／Ｌ含有する水溶液を用いて、処理温度２１〜２５℃、処理時間１〜２分で前記色レジストを現像する工程と、を含み、
前記色レジストは、少なくとも３つの異なる色調の色レジストからなり、前記（ｃ）〜（ｅ）工程は、前記３つの異なる色調の色レジストごとに行われることを特徴とするカラーフィルター基板の製造方法。
【請求項２】
前記アルカリ金属の水酸化物は水酸化カリウムであり、
前記３つの色レジストの色調は、それぞれ赤、緑、青であることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルター基板の製造方法。
【請求項３】
カラーフィルター基板の製造方法であって、
（ａ）基板上にアルミニウム膜またはアルミニウム合金膜を形成する工程と、
（ｂ）前記アルミニウム膜またはアルミニウム合金膜が形成された基板を、アルカリ金属の水酸化物が０．０００５〜０．００１ｇ／Ｌ含有された水溶液を用いて、処理温度２０〜５０℃、処理時間１〜２分で洗浄する工程と、
（ｃ）前記アルミニウム膜またはアルミニウム合金膜上に色レジストを形成する工程と、
（ｄ）前記色レジストを露光する工程と、
（ｅ）アルカリ金属炭酸塩又はアルカリ金属炭酸水素塩を０．００２〜０．００５５ｇ／Ｌ含有する水溶液を用いて、処理温度２８〜３２℃、処理時間１〜３分で前記色レジストを現像する工程と、を含み、
前記色レジストは、少なくとも３つの異なる色調の色レジストからなり、前記（ｃ）〜（ｅ）工程は、前記３つの異なる色調の色レジストごとに行われることを特徴とするカラーフィルター基板の製造方法。
【請求項４】
前記アルカリ金属の水酸化物は水酸化カリウムであり、
前記アルカリ金属炭酸塩は炭酸ナトリウム、前記アルカリ金属炭酸水素塩は炭酸水素ナトリウムからそれぞれなり、
前記３つの色レジストの色調は、それぞれ赤、緑、青であることを特徴とする請求項３に記載のカラーフィルター基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラーフィルター基板の製造方法、該製造方法により製造されるカラーフィルター基板、該カラーフィルター基板を備える液晶装置及び電子機器に係り、特に、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の溶出を抑制し、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上にカラーフィルター層を形成する技術に関する。
【０００２】
【背景技術】
一般の液晶表示装置においては、液晶パネルの裏側等に内蔵された光源から発せられた光が液晶パネルを通過して観察者側に放出される透過型液晶表示装置と、観察者側から入射した太陽光や照明光などの外光が液晶パネルに入射し、液晶パネルの内部に設けられた反射層で反射され、観察者側に放出される反射型液晶表示装置とが知られている。
【０００３】
反射型液晶表示装置は消費電力の大きい光源がなくても表示が可能である、光源を内蔵しないため軽量化が可能である、太陽光の存在する屋外で視認性が高いなどの利点を有し、携帯型電子機器などを中心に普及している。しかしながら、一般の反射型液晶表示装置においては、光源を内蔵していないため暗所では表示が暗くなるという欠点を有する。
【０００４】
そこで、明所では外光を利用する反射型により表示を行い、暗所では液晶パネルの裏側等に内蔵された光源を点灯させることにより、透過型により表示を行う反射半透過型液晶表示装置も知られている。
【０００５】
図６に単純マトリックスタイプの反射型液晶表示装置１００の概略断面図を示し、この液晶表示装置の構造を説明する。
【０００６】
図６に示すように、基板（下側基板）１０１と対向基板（上側基板）１０２とがそれぞれの基板の周縁部においてシール材１０４を介して所定間隔で貼着され、基板１０１、対向基板１０２間に液晶層１０３が封入されている。対向基板１０２の内面上にはストライプ状に透明電極１１０が形成されている。
【０００７】
基板１０１の内面上にはアルミニウム膜（反射層）１０５、アルミニウム膜１０５を保護するため絶縁層１０６が順次形成されている。絶縁層１０６は二酸化ケイ素や酸化アルミニウムなどから構成される。
【０００８】
絶縁層１０６上には着色層１０７ａ及び遮光層（ブラックマトリックス）１０７ｂからなるカラーフィルター層１０７が形成されている。着色層１０７ａは、顔料分散法、染色法、転写法、印刷法などにより形成され、例えばＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色が所定のパターンで配列している。また、遮光層１０７ｂは着色層１０７ａが形成されない箇所に形成され、クロムなどの金属や、黒色顔料を分散させたカラーレジストなどから構成される。
【０００９】
カラーフィルター層１０７上にはカラーフィルター層１０７を保護するための有機膜などからなる保護層１０８が形成され、保護層１０８上にはストライプ状に透明電極１０９が形成されている。透明電極１０９、１１０上には液晶を配向するための配向膜１１１、１１２が形成されている。また、配向膜１１１、１１２間に、液晶セルのセル厚を均一にするためのガラスやプラスチック、セラミックなどから形成される球状のスペーサー１１３が配置されている。基板１０１、対向基板１０２の外側には位相差板、偏光板が形成されるが、図示では省略している。
【００１０】
この液晶表示装置１００においては、観察者側より入射した外光が対向基板１０２、液晶層１０３を通過し、アルミニウム膜１０５表面で反射され、液晶層１０３、対向基板１０２を通過し、液晶パネルの外部に放出され、観察者の目に到る。
【００１１】
次に、反射半透過型液晶表示装置について説明する。図７に単純マトリックスタイプの反射半透過型液晶表示装置２００の概略断面図を示し、この液晶表示装置の構造を説明する。図７において、液晶表示装置１００と同じ構成要素には同じ参照番号を付し、説明は省略する。
【００１２】
液晶表示装置２００においては、液晶パネルの裏側に冷陰極管などの光源２２０と、光源２２０に沿った入射端面を有し、光源２２０から発せられる光を液晶パネルの内部に導く導光板２２１が設けられている。また、液晶表示装置１００におけるアルミニウム膜（反射層）１０５の代わりに、多数のスリット状などの貫通孔を有するアルミニウム膜（反射半透過層）２０５が設けられている。
【００１３】
この液晶表示装置２００は明所では反射型による表示を行う。対向基板外側から入射した外光が対向基板１０２、液晶層１０３を通過し、アルミニウム膜２０５の貫通孔が形成されていない表面で反射され、液晶層１０３で変調され、対向基板１０２を通過し、液晶パネルの外部に放出されて、画像として認識される。一方、暗所では透過型による表示を行い、光源２２０より発せられる光が導光板２２１により液晶パネルの内部に導かれ、基板１０１、アルミニウム膜２０５の貫通孔を通過し、液晶層１０３によって変調され、対向基板１０２を通過し、液晶パネルの外部に放出されて画像として認識される。
【００１４】
なお、液晶表示装置１００（２００）において、アルミニウム膜１０５（２０５）、カラーフィルター層１０７、透明電極１０９等を形成した基板１０１がカラーフィルター基板である。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
上記の液晶表示装置１００（２００）においては、アルミニウム膜１０５（２０５）上にアルミニウム膜１０５（２０５）を保護するための絶縁層１０６が形成されている。
【００１６】
アルミニウム膜１０５（２０５）上に直接カラーフィルター層１０７を形成すると、カラーフィルター層の形成工程において、アルミニウム膜１０５（２０５）が溶出し、時には消失するため、アルミニウム膜１０５（２０５）、カラーフィルター層１０７間に絶縁層１０６を形成し、アルミニウム膜１０５（２０５）の溶出を防止する必要がある。
【００１７】
そのため、液晶表示装置１００（２００）の製造工程において、絶縁層１０６を形成する工程を加えることにより、生産効率が低下しスループットが低下する。
【００１８】
ここで、アルミニウム膜１０５（２０５）上に絶縁層１０６を介さずにカラーフィルター層１０７を直接形成した場合の問題について詳しく説明する。
【００１９】
図８(a)〜(e)に、例として従来の顔料分散による、基板１０１上にカラーフィルター層１０７を形成する工程図を示し、カラーフィルター層１０７の形成方法を説明する。図８(a)〜(e)において、簡略化のために、アルミニウム膜１０５（２０５）の図示は省略している。
【００２０】
図８(a)に示すように、アルミニウム膜１０５（２０５）を形成した基板１０１を純水又は弱アルカリ性の洗浄剤で洗浄した後、基板１０１上の所定の位置にクロム（Ｃｒ）膜あるいは黒色顔料を分散させたレジスト膜を形成し、フォトリソグラフィー法などによりパターンエッチングすることにより遮光層１０７ｂを形成する。
【００２１】
基板１０１の洗浄は、純水又は弱アルカリ性の洗浄剤を基板１０１にスプレー噴霧する方法、基板１０１を純水又は弱アルカリ性の洗浄剤に浸漬する方法などにより行われ、一般に処理温度２０〜５０℃程度、処理時間２〜４分程度で行われる。また、基板１０１の洗浄に使用される弱アルカリ性の洗浄剤としては、界面活性剤と水酸化カリウム（ＫＯＨ）などのアルカリ金属の水酸化物とを主成分とするｐＨ１１〜１３程度のものが用いられる。
【００２２】
次に、図８(b)に示すように、基板１０１上に、ポリビニルアルコール、アクリル樹脂などの有機高分子を感光化したものから構成される色レジスト３００の塗布を行う。
【００２３】
次に、図８(c)に示すように、所定のパターンが形成されたフォトマスク３０１を用い、光Ｌ３０を照射し、所定の位置の色レジスト３００を露光する。
【００２４】
次に、図８(d)に示すように、現像液として水酸化カリウム（ＫＯＨ）などのアルカリ金属の水酸化物の水溶液、あるいは炭酸ナトリウム（Ｎａ2ＣＯ3）、炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ3）などのアルカリ金属の炭酸塩又は炭酸水素塩の水溶液を用い、現像液を基板１０１にスプレー噴霧することにより、図８(c)で露光を行った色レジスト３００の現像を行い、所定の色の着色層１０７ａを形成する。
【００２５】
このとき、現像液としてアルカリ金属の水酸化物の水溶液を用いる場合には、その濃度は0.0005〜0.001ｇ／Ｌ程度、処理温度は２０〜３０℃程度、処理時間は１〜４分程度となっている。現像液としてアルカリ金属の炭酸塩又は炭酸水素塩の水溶液を用いる場合には、その濃度は0.005〜0.02ｇ／Ｌ程度、処理温度は２０〜３０℃程度、処理時間は１〜４分程度となっている。
【００２６】
図８(b)〜(d)で示した工程を３回繰り返すことにより、図８(e)に示すように、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３種類の着色層１０７ａが所定のパターンに形成されたカラーフィルター層１０７を形成することができる。
【００２７】
上記のカラーフィルター層１０７の形成工程において、アルミニウムは両性であるため、図８(d)で示した色レジスト現像工程においてアルカリ性の現像液を使用する際に、アルミニウム膜１０５（２０５）が溶出し、時には完全に消失することが問題となっている。また、アルミニウム膜１０５（２０５）を形成した後、遮光層１０７ｂを形成する前に基板１０１を洗浄する際に、弱アルカリ性の洗浄剤を使用するときにも同様の問題は生じる。
【００２８】
そこで、本発明は、反射膜として機能するアルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜と、カラーフィルター層と、を少なくとも具備するカラーフィルター基板の製造方法において、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上にカラーフィルター層を形成するに際し、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の溶出を抑制することにより、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上に絶縁層を介することなく、カラーフィルター層を形成することを可能にし、生産効率の向上を可能にするカラーフィルター基板の製造方法を提供することを目的とする。
【００２９】
また、この製造方法により、基板上に、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜とアルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上に形成されたカラーフィルター層とを少なくとも具備するカラーフィルター基板、このカラーフィルター基板を備える液晶装置及び電子機器を提供することを目的とする。
【００３０】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明者が種々の条件で検討を行った結果、カラーフィルター基板の製造工程において、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上にカラーフィルター層を形成するに際し、基板洗浄工程と色レジスト現像工程において、使用する洗浄剤又は現像液中のアルカリ成分の濃度、処理温度、処理時間を以下に記載の条件に設定することにより、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上に絶縁層を形成することなく、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の溶出を抑制できることを見出した。
上記課題を解決するために本発明が講じた第一の手段は、基板上に、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜と該アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上に形成されたカラーフィルター層とを少なくとも具備するカラーフィルター基板の製造方法において、前記アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上に前記カラーフィルター層を形成するに際し、該アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上に色レジストを塗布し、該色レジストを露光した後、該色レジストを現像する工程において、現像液としてアルカリ金属の水酸化物を０．０００８〜０．００１２ｇ／Ｌ含有する水溶液を用い、処理温度を２１〜２５℃、処理時間を１〜２分とすることを特徴とする。
【００３１】
この手段において、前記アルカリ金属の水酸化物は水酸化カリウムであることが望ましい。
【００３２】
上記課題を解決するために本発明が講じた第二の手段は、基板上に、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜と該アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上に形成されたカラーフィルター層とを少なくとも具備するカラーフィルター基板の製造方法において、前記アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上に前記カラーフィルター層を形成するに際し、該アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上に色レジストを塗布し、該色レジストを露光した後、該色レジストを現像する工程において、現像液としてアルカリ金属炭酸塩又はアルカリ金属炭酸水素塩を０．００２〜０．００５５ｇ／Ｌ含有する水溶液を用い、処理温度を２８〜３２℃、処理時間を１〜３分とすることを特徴とする。
【００３３】
この手段において、前記アルカリ金属炭酸塩又はアルカリ金属炭酸水素塩は炭酸ナトリウム又は炭酸水素ナトリウムであることが望ましい。
【００３４】
上記課題を解決するために本発明が講じた第三の手段は、基板上に、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜と該アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上に形成されたカラーフィルター層とを少なくとも具備するカラーフィルター基板の製造方法において、前記アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜を形成した後、前記基板を洗浄するに際し、洗浄剤としてアルカリ金属の水酸化物を０．０００５〜０．００１ｇ／Ｌ含有する水溶液を用い、処理温度を２０〜５０℃、処理時間を１〜２分とすることを特徴とする。
【００３５】
この手段において、前記アルカリ金属の水酸化物は水酸化カリウムであることが望ましい。
【００３６】
以上の手段によれば、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上にカラーフィルター層を形成するに際し、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の溶出を抑制することができるので、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上に絶縁層を介することなく、カラーフィルター層を形成することを可能にし、生産効率の向上を可能にするカラーフィルター基板の製造方法を提供することができる。
【００３７】
また、以上の製造方法により、基板上にアルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜と該アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上に形成されたカラーフィルター層とを少なくとも具備したことを特徴とするカラーフィルター基板を提供することができる。
【００３８】
また、このカラーフィルター基板と他方の基板とがシール材を介して対向配置されるとともに、これら基板間に液晶層が挟持されることにより、生産効率が向上された液晶装置を提供することができる。また、この液晶装置を備えることにより、生産効率の向上された電子機器を提供することができる。
【００３９】
【発明の実施の形態】
次に、本発明に係る実施形態について詳細に説明する。
【００４０】
図１(a)〜(d)に、本発明に係る実施形態の単純マトリックスタイプの反射型液晶装置１０の製造工程を示し、製造方法を説明する。
【００４１】
図１(a)に示すように、基板１１上に、アルミニウムあるいはアルミニウム合金をターゲットとするスパッタリングにより、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜膜（反射層）１５を形成する。
【００４２】
次に、図１(b)に示すように、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜１５上に、着色層１７ａ及び遮光層（ブラックマトリックス）１７ｂからなるカラーフィルター層１７を形成する。着色層１７ａは、顔料分散法、染色法、転写法、印刷法などにより形成され、例えばＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色が所定のパターンで配列している。また、遮光層１７ｂは着色層１７ａが形成されない箇所に形成され、クロムなどの金属や、黒色顔料を分散させたカラーレジストなどから構成される。カラーフィルター層１７の形成工程の詳細については後述する。
【００４３】
次に、図１(c)に示すように、カラーフィルター層１７上に、カラーフィルター層１７を保護するための有機膜などからなる保護層１８を形成し、保護層１８上にストライプ状に透明電極１９を形成し、透明電極１９上には配向膜２１を形成する。
【００４４】
次に、図１(d)に示すように、内表面上にストライプ上に透明電極２０を形成し、透明電極２０上に配向膜２２を形成した対向基板１２と基板１１とを、配向膜２１、２２が互いに対向するように、シール材１４、スペーサー２３を介して所定の間隔で貼着し、基板１１、対向基板１２間に液晶層１３を封入する。
【００４５】
最後に図示では省略しているが、液晶セルの裏表に偏光板、位相差板などを取り付け、さらに、液晶セルに液晶駆動用の回路を接続することにより、反射型液晶装置１０は製造される。
【００４６】
ここで、本実施形態におけるカラーフィルター層１７の形成工程を図２(a)〜(e)に示し、カラーフィルター層１７の形成方法を詳しく説明する。図２(a)〜(e)において、簡略化のために、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜１５の図示は省略している。
【００４７】
図２(a)に示すように、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜１５を形成した基板１１を純水又は弱アルカリ性の洗浄剤で洗浄した後、基板１１上の所定の位置にクロム（Ｃｒ）膜あるいは黒色顔料を分散させたレジスト膜を形成し、フォトリソグラフィー法などによりパターンエッチングすることにより遮光層１７ｂを形成する。
【００４８】
基板１１の洗浄は、純水又は弱アルカリ性の洗浄剤を基板１１にスプレー噴霧する方法、基板１１を純水又は弱アルカリ性の洗浄剤に浸漬する方法などにより行われる。
【００４９】
本実施形態において、洗浄剤として純水を使用する場合には、基板１１の洗浄は、処理温度２０〜３０℃、処理時間１〜２分で行われる。洗浄剤として弱アルカリ性の洗浄剤を使用する場合には、基板１１の洗浄は界面活性剤と０．０００５〜０．００１ｇ／Ｌ（グラム／リットル）の水酸化カリウム（ＫＯＨ）などのアルカリ金属とを含有する洗浄剤を用い、処理温度２０〜５０℃、処理時間１〜２分で行われる。
【００５０】
次に、図２(b)に示すように、基板１１上に、ポリビニルアルコール、アクリル樹脂などの有機高分子を感光化したものから構成される色レジスト３０の塗布を行う。
【００５１】
次に、図２(c)に示すように、所定のパターンが形成されたフォトマスク３１を用い、光Ｌ３を照射し、所定の位置の色レジスト３０を露光する。
【００５２】
次に、図２(d)に示すように、現像液として水酸化カリウム（ＫＯＨ）などのアルカリ金属の水酸化物を含有する水溶液あるいは炭酸ナトリウム（Ｎａ2ＣＯ3）、炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ3）などのアルカリ金属の炭酸塩又は炭酸水素塩を含有する水溶液を用い、現像液を基板１１にスプレー噴霧することにより、図２(c)で露光を行った色レジスト３０の現像を行い、所定の色の着色層１７ａを形成する。
【００５３】
本実施形態において、現像液として水酸化カリウム（ＫＯＨ）などのアルカリ金属の水酸化物を含有する水溶液を用いる場合には、アルカリ金属の濃度を０．０００８〜０．００１２ｇ／Ｌ、処理温度を２１〜２５℃、処理時間を１〜２分に設定する。
【００５４】
また、現像液として、炭酸ナトリウム（Ｎａ2ＣＯ3）、炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ3）などのアルカリ金属の炭酸塩又は炭酸水素塩の水溶液を用いる場合には、アルカリ金属の炭酸塩又は炭酸水素塩の濃度を０．００２〜０．００５５ｇ／Ｌ、処理温度を２８〜３２℃、処理時間を１〜３分に設定する。
【００５５】
図２(b)〜(d)で示した工程を３回繰り返すことにより、図２(e)に示すように、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３種類の着色層１７ａが所定のパターンに形成されたカラーフィルター層１７を形成することができる。
【００５６】
本実施形態においては、顔料分散法についてのみ説明したが、本発明はこれに限らず、染色法、転写法、印刷法などにも適用することができる。
【００５７】
また、本実施形態においては、反射型液晶装置について説明したが、反射半透過型液晶装置にも適用することができる。また、本実施形態において、単純マトリックスタイプの液晶装置についてのみ説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、ＴＦＤ（Thin-Film-Diode）に代表される２端子型素子やＴＦＴ（Thin-Film Transistor）に代表される３端子型素子を用いるアクティブマトリックスタイプの液晶装置にも適用することができ、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜とカラーフィルター層とを少なくとも具備する反射型又は反射半透過型液晶装置であればいかなる液晶装置にも適用することができる。
【００５８】
また、本実施形態においては、液晶装置について説明したが、反射層１５、カラーフィルター層１７、保護層１８、透明電極１９、配向膜２１が形成された基板１１がカラーフィルター基板である。
【００５９】
本実施形態によれば、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上にカラーフィルター層を形成するに際し、基板洗浄工程と色レジスト現像工程において、使用する洗浄剤又は現像液中のアルカリ成分の濃度、処理温度、処理時間を最適化したことにより、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の溶出を抑制することができるので、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上に絶縁層を介することなく、カラーフィルター層を形成することを可能にし、生産効率の向上、省エネルギー、原料の省量化を可能にするカラーフィルター基板の製造方法を提供することができる。
【００６０】
また、このカラーフィルター基板の製造方法により、基板上にアルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜と該アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上に形成されたカラーフィルター層とを少なくとも具備することを特徴とするカラーフィルター基板を提供することができる。
【００６１】
また、本実施形態で説明したように、このカラーフィルター基板を備えることにより、生産効率が向上された液晶装置を提供することができる。また、この液晶装置を備えることにより、生産効率の向上された電子機器を提供することができる。
【００６２】
次に、前記の実施形態により製造された液晶装置１０を備えた電子機器の具体例について説明する。
【００６３】
図３(a)は携帯電話の一例を示した斜視図である。図３(a)において、５０は携帯電話本体を示し、５１は前記の液晶装置１０を備えた液晶表示部を示している。
【００６４】
図３(b)はワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図３(b)において、６０は情報処理装置、６１はキーボードなどの入力部、６３は情報処理本体、６２は前記の液晶装置１０を備えた液晶表示部を示している。
【００６５】
図３(c)は腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図３(c)において、７０は時計本体を示し、７１は前記の液晶装置１０を備えた液晶表示部を示している。
【００６６】
図３(a)〜(c)に示すそれぞれの電子機器は、前記の液晶装置１０を備えたものであるので、生産効率が向上されたものとなる。
【００６７】
【実施例】
（実施例１）
表面上に膜厚１５０〜２５０ｎｍのアルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜を形成したガラスからなる基板を、３０±１℃で、０．０００５〜０．００５ｇ／Ｌの範囲の種々の濃度の炭酸ナトリウム水溶液に浸漬し、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の膜厚の経時変化を測定した。経時時間に対するアルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の残存率の変化を図４に示す。処理前の膜厚をｔ0、時間Ｔでの膜厚をｔTとすると、時間Ｔにおけるアルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の残存率を、ｔT／ｔ0×１００［％］と定義する。処理前のアルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の膜厚が１５０〜２５０ｎｍである場合、残存率が９５％以上のときに良品と考えられる。
【００６８】
いずれの濃度の炭酸ナトリウム水溶液を使用した場合においても、図４に示すように、経時時間に比例してアルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の膜厚は減少した。しかしながら、０．００５５ｇ／Ｌより大きい炭酸ナトリウム水溶液を使用した場合には、２分後にアルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の残存率が良品と考えられる９５％より低くなったのに対し、０．００５５ｇ／Ｌ以下の炭酸ナトリウム水溶液を使用した場合には、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の溶出速度は遅く、３分後でも９５％以上のアルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜が残存した。
【００６９】
一方、０．００１ｇ／Ｌ以下の炭酸ナトリウム水溶液を使用した場合には、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の溶出速度は小さかったが、１０分以上処理を行っても色レジストを現像することはできなかった。
【００７０】
したがって、０．００２〜０．００５５ｇ／Ｌの炭酸ナトリウム水溶液を用いることにより、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の溶出を良品と考えられる範囲に抑制することができ、望ましいスループットで、色レジストを現像することがわかった。
【００７１】
（実施例２）
表面上に膜厚１５０〜２５０ｎｍのアルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜を形成したガラスからなる基板を、３０±１℃で、０．０００１〜０．００５ｇ／Ｌの範囲の種々の濃度の水酸化カリウム水溶液に浸漬し、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の膜厚の経時変化を測定した。経時時間に対するアルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の残存率の変化を図５に示す。
【００７２】
いずれの濃度の水酸化カリウム水溶液を使用した場合においても、経時時間に比例してアルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の膜厚は減少した。しかしながら、０．００１２ｇ／Ｌより大きい水酸化カリウム水溶液を用いた場合には、３分後にアルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の残存率は良品と考えられる９５％より低くなったのに対し、０．００１２ｇ／Ｌ以下の水酸化カリウム水溶液を用いた場合には、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の溶出速度は遅く、３分後でも９５％以上のアルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜が残存した。
【００７３】
また、０．０００５ｇ／Ｌ以下の水酸化カリウム水溶液を用いた場合には、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の溶出速度は小さかったが、１０分以上処理を行っても色レジストを現像することができなかった。
【００７４】
したがって、現像工程の制御性などを考慮して、温度２１〜２５℃、０．０００８〜０．００１２ｇ／Ｌの水酸化カリウム水溶液を用いて、１〜２分現像処理することにより、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の溶出を良品と考えられる範囲内に抑制することができ、望ましいスループットで、色レジストを現像することができた。
【００７５】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、カラーフィルター基板の製造方法において、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上にカラーフィルター層を形成するに際し、基板洗浄工程と色レジスト現像工程において、使用する洗浄剤又は現像液中のアルカリ成分の濃度、処理温度、処理時間を最適化したことにより、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の溶出を抑制することができるので、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上に絶縁層を介することなく、カラーフィルター層を形成することを可能にし、生産効率の向上、省エネルギー、原料の省量化を可能にするカラーフィルター基板の製造方法を提供することができる。
【００７６】
また、このカラーフィルター基板の製造方法により、基板上にアルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜と該アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上に形成されたカラーフィルター層とを少なくとも具備することを特徴とするカラーフィルター基板を提供することができる。
【００７７】
また、このカラーフィルター基板を備えることにより、生産効率が向上された液晶装置を提供することができる。また、この液晶装置を備えることにより、生産効率の向上された電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１(a)〜(d)は本発明に係る実施形態の単純マトリックスタイプの反射型液晶装置の製造方法を示す工程図である。
【図２】  図２(a)〜(e)は本発明に係る実施形態の単純マトリックスタイプの反射型液晶装置の製造方法において、カラーフィルター層の形成方法を示す工程図である。
【図３】  図３(a)は上記実施形態により製造された液晶装置を備えた携帯電話の一例を示す図、図３(b)は上記実施形態により製造された液晶装置を備えた携帯型情報処理装置の一例を示す図、図３(c)は上記実施形態により製造された液晶装置を備えた腕時計型電子機器の一例を示す図である。
【図４】  図４は本発明に係る実施例において、経時時間に対するアルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の残存率の変化を示す図である。
【図５】  図５は本発明に係る実施例において、経時時間に対するアルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の残存率の変化を示す図である。
【図６】  図６は一般の単純マトリックスタイプの反射型液晶表示装置の構造を示す概略断面図である。
【図７】  図７は一般の単純マトリックスタイプの反射半透過型液晶表示装置の構造を示す概略断面図である。
【図８】  図８(a)〜(e)は従来の技術によるカラーフィルター層の形成方法を示す工程図である。
【符号の説明】
１０                液晶装置
１１                基板
１２                対向基板
１３                液晶層
１４                シール材
１５                アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜
１７                カラーフィルター層
１７ａ              着色層
１７ｂ              遮光層（ブラックマトリックス）
１８                保護層
１９、２０          透明電極
２１、２２          配向膜
２３                スペーサー
３０                色レジスト
３１                    フォトマスク
Ｌ３                    光
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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