(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、該光源からの光を反射する反射面の傾きを独立制御可能な複数のミラーからなる空間光変調器と、該空間光変調器からの反射光を対象物上に結像する光学系とを備えた、該対象物上に光像を形成する光像形成装置であって、
該光源から該空間光変調器に照射される光のうち各ミラー間の間隙に向かって進行しようとする光を遮る遮光部を有する部分遮光部材と、
該部分遮光部材の位置を調整する位置調整機構と、
該空間光変調器からの反射光の強度を検出する光検出手段と、
該光検出手段の検出結果に基づいて該位置調整機構を制御する制御手段と、を設けたことを特徴とする光像形成装置。
【請求項２】
請求項１の光像形成装置において、
上記部分遮光部材として、透明基板上に光反射面からなる遮光部を形成したものを用いたことを特徴とする光像形成装置。
【請求項３】
請求項１の光像形成装置において、
上記空間光変調器及び上記部分遮光部材を微振動させる振動手段を設けたことを特徴とする光像形成装置。
【請求項４】
請求項１の光像形成装置において、
上記空間光変調器及び上記部分遮光部材の温度を一定に保持する温度保持手段を設けたことを特徴とする光像形成装置。
【請求項５】
光源、該光源からの光を反射する反射面の傾きを独立制御可能な複数のミラーからなる空間光変調器、および該空間光変調器からの反射光を加工対象物上に結像する光学系を有する光像形成装置と、
加工パターンのデータに基づいて該空間光変調器の各ミラーの反射面の傾きを制御する制御手段とを設け、
該光像形成装置として、請求項１乃至４のいずれかの光像形成装置を用いたことを特徴とする光加工装置。
【請求項６】
光源、該光源からの光を反射する反射面の傾きを独立制御可能な複数のミラーからなる空間光変調器、および該空間光変調器からの反射光を感光材料からなる露光対象物上に結像する光学系を有する光像形成装置と、
露光パターンのデータに基づいて該空間光変調器の各ミラーの反射面の傾きを制御する制御手段とを設け、
該光像形成装置として、請求項１乃至４のいずれかの光像形成装置を用いたことを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、対象物に対して光像を形成する光像形成装置に係り、詳しくは、反射面の傾きを独立制御可能な複数のミラーからなる空間光変調器の反射光を対象物に対して照射することにより、該対象物上に光像を形成する光像形成装置、並びに該装置を用いた光加工装置及び露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種の光像形成方法に用いることができる空間光変調器として、固定軸周りに回転するマイクロミラーと呼ばれる多数の小型ミラーがＳｉ等の半導体基板上に形成されたデバイス（以下、「ＤＭＤ（デジタル・マイクロミラー・デバイス）」という）が知られている。このＤＭＤは光源からの光が照射され、静電界作用などによって回転制御された各マイクロミラーで偏向される。ここで、各マイクロミラーを選択的に回転させて反射面の傾きを変化させることにより、各マイクロミラーからの反射光で対象物が選択的に照射され、該対象物上に光像を形成することができる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記従来の複数のミラーを用いた空間変調器に強力な光を照射する場合、各ミラー間の間隙を通過してミラー反射面以外の部分にあたった光によって、空間変調器の一部が損傷を受けるおそれがあった。
【０００４】
一方、従来、対象物に光を照射して該対象物を加工する光加工装置として、加工パターンの貫通孔が形成されたアパチャーマスクを通過した光を対象物上に結像するものが知られているが、本発明者は、上記空間光変調器を応用することにより、加工パターンに対応したアパチャーマスクを用意しなくても任意の加工パターンの貫通孔や凹部を対象物に形成することができることを見いだした。
【０００５】
本発明は以上の問題点に鑑みなされたものであり、その第１の目的は、空間光変調器の各ミラー間の間隙を通過した光によって該空間光変調器が損傷されることがない光像形成装置を提供することである。
また、その第２の目的は、加工パターンに対応したアパチャーマスクを用意しなくても任意の加工パターンの貫通孔や凹部を対象物に形成することができる光加工装置を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記第１の目的を達成するために、請求項１の発明は、光源と、該光源からの光を反射する反射面の傾きを独立制御可能な複数のミラーからなる空間光変調器と、該空間光変調器からの反射光を対象物上に結像する光学系とを備えた、該対象物上に光像を形成する光像形成装置であって、該光源から該空間光変調器に照射される光のうち各ミラー間の間隙に向かって進行しようとする光を遮る遮光部を有する部分遮光部材と、該部分遮光部材の位置を調整する位置調整機構と、該空間光変調器からの反射光の強度を検出する光検出手段と、該光検出手段の検出結果に基づいて該位置調整機構を制御する制御手段と、を設けたことを特徴とするものである。
【０００９】
この請求項１の光像形成装置では、光源から空間光変調器に照射される光のうち各ミラー間の間隙に向かって進行しようとする光を、部分遮光部材の遮光部で遮ることにより、光源からの光が各ミラー間の間隙を通過してミラー反射面以外の部分にあたらないようにする。
特に、本光像形成装置では、位置調整機構で部分遮光部材の位置を変化させながら光検出手段で空間光変調器からの反射光の強度を検出する。この光検出手段の検出結果に基づいて位置調整機構を制御し、該反射光の強度が最大になるように部分遮光部材の位置を調整する。この調整により、部分遮光部材の遮光部以外の部分を通過した光が、各ミラーの反射面に確実に照射されるようにする。
【００１０】
請求項２の発明は、請求項１の光像形成装置において、上記部分遮光部材として、透明基板上に光反射面からなる遮光部を形成したものを用いたことを特徴とするものである。
【００１１】
この請求項２の光像形成装置では、透明基板上に光反射面からなる遮光部を形成した簡易構成の部分遮光部材により、光源から空間光変調器に照射される光のうち各ミラー間の間隙に向かって進行しようとする光を遮る。
【００１２】
なお、上記部分遮光部材の光反射面は、光源からの光が入射する側の面に形成することが望ましい。この場合には、該部分遮光部材の内部での光の吸収が少なくなり、該部分遮光部材の損傷が発生しにくくなる。
【００１３】
また、上記部分遮光部材の光反射面は、高反射率で且つ光散乱面にしてもよい。このように光反射面を光散乱面にした場合は、光反射面から反射されて周囲の部材に照射される光のエネルギー密度が小さくなるため、該周囲の部材の損傷が発生しにくくなる。
また、上記部分遮光部材の光反射面を、光源からの光の光軸に対して垂直にならないようにわずかに傾けるとともに、周囲の部材の該光反射面で反射された光が当たる部分を、該光による損傷を受けにくいファインセラミックス等の材質で形成しておいてもよい。
【００１６】
なお、上記位置調整をより精度の高いものにするために、該位置調整時に、各ミラーの反射面の中心部に進行しようとする光を遮る第２の部分遮光部材を、上記部分遮光部材の表面側又は裏面側に挿入し、上記光検出手段で検知される光の強度変化率を大きくするのが好ましい。
【００１７】
請求項３の発明は、請求項１の光像形成装置において、上記空間光変調器及び上記部分遮光部材を微振動させる振動手段を設けたことを特徴とするものである。
【００１８】
この請求項３の光像形成装置では、振動手段で空間光変調器及び部分遮光部材を微振動させることにより、該空間光変調器の各ミラー間の間隙が投影された未照射部が対象物上に発生しないようにする。
【００１９】
請求項４の発明は、請求項１の光像形成装置において、上記空間光変調器及び上記部分遮光部材の温度を一定に保持する温度保持手段を設けたことを特徴とするものである。
【００２０】
この請求項４の光像形成装置では、温度保持手段で空間光変調器及び部分遮光部材の温度を一定に保持することにより、装置周囲の環境温度の変動や光による加熱によって該空間光変調器及び該部分遮光部材が膨張・収縮しないようにし、該部分遮光部材の遮光部以外の部分を通過した光が、各ミラーの反射面に確実に照射されるようにする。
【００２１】
また、上記第２の目的を達成するために、請求項５の発明は、光源、該光源からの光を反射する反射面の傾きを独立制御可能な複数のミラーからなる空間光変調器、および該空間光変調器からの反射光を加工対象物上に結像する光学系を有する光像形成装置と、加工パターンのデータに基づいて該空間光変調器の各ミラーの反射面の傾きを制御する制御手段とを設け、該光像形成装置として、請求項１乃至４のいずれかの光像形成装置を用いたことを特徴とする光加工装置である。
【００２２】
この請求項５の光加工装置では、制御手段により加工パターンのデータに基づいて空間光変調器の各ミラーの反射面の傾きを制御し、該加工パターンに対応する光像を加工対象物上に形成する。この光像により加工対象物の一部を除去し、該加工対象物上に該加工パターンに対応した貫通孔または凹部を形成する。
【００２３】
請求項６の発明は、光源、該光源からの光を反射する反射面の傾きを独立制御可能な複数のミラーからなる空間光変調器、および該空間光変調器からの反射光を感光材料からなる露光対象物上に結像する光学系を有する光像形成装置と、露光パターンのデータに基づいて該空間光変調器の各ミラーの反射面の傾きを制御する制御手段とを設け、該光像形成装置として、請求項１乃至４のいずれかの光像形成装置を用いたことを特徴とする露光装置である。
【００２４】
この請求項６の露光装置では、制御手段により露光パターンのデータに基づいて空間光変調器の各ミラーの反射面の傾きを制御し、該露光パターンに対応する光像を感光材料からなる露光対象物上に形成する。この光像により該露光対象物の一部を感光し、該露光対象物を溶剤で部分的に溶かしてフォトレジストパターンを形成したり、該露光対象物の電位を部分的に低下させて帯電パターンを形成したりすることができるようにする。
【００２５】
また、請求項５の光加工装置及び請求項６の露光装置においては、光源から空間光変調器に照射される光のうち各ミラー間の間隙に向かって進行しようとする光を、部分遮光部材の遮光部で遮ることにより、光源からの光が各ミラー間の間隙を通過してミラー反射面以外の部分にあたらないようにすることができる。また、空間光変調器からの反射光の強度を検出する光検出手段の検出結果に基づいて位置調整機構を制御し、該反射光の強度が最大になるように部分遮光部材の位置を調整することができる。この調整により、部分遮光部材の遮光部以外の部分を通過した光が、各ミラーの反射面に確実に照射される。
特に、請求項５の光加工装置及び請求項６の露光装置において、請求項２の光像形成装置を用いた場合は、透明基板上に光反射面からなる遮光部を形成した簡易構成の部分遮光部材により、光源から空間光変調器に照射される光のうち各ミラー間の間隙に向かって進行しようとする光を遮ることができる。
また、請求項５の光加工装置及び請求項６の露光装置において、請求項３の光像形成装置を用いた場合は、空間光変調器及び部分遮光部材を微振動させることにより、該空間光変調器の各ミラー間の間隙が投影された未照射部が加工対象物上又は露光対象物上に発生しないようにすることができる。
また、請求項５の光加工装置及び請求項６の露光装置において、請求項４の光像形成装置を用いた場合は、温度調整手段で空間光変調器及び遮光部材の温度を一定に保持し、装置周囲の環境温度の変動や光による加熱によって該空間光変調器及び該遮光部材が膨張・収縮しないようにし、部分遮光部材の遮光部以外の部分を通過した光が、各ミラーの反射面に確実に照射されるようにすることができる。
【００２６】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の実施の形態について説明する。
図１は本発明に係る光像形成装置を備えた印刷マスク製造用の光加工装置の概略構成図である。この装置は、光源１と、反射面の傾きを独立制御可能な複数のミラーからなる空間光変調器としてのＤＭＤ（デジタル・マイクロミラー・デバイス）２と、ＤＭＤ２からの反射光を加工対象物５上に結像する光学系としてのマイクロレンズ３と、加工パターンに基づいてＤＭＤ２の各ミラーの反射面の傾きを制御する制御手段としての制御装置４と、光源１からＤＭＤ２に照射される光のうち各ミラー間の間隙に向かって進行しようとする光を遮る部分遮光部材としてのダメージ防止マスク６とを用いて構成されている。
【００２７】
上記光源１としては、加工対象物５としてのプラスチックシート（例えばＰＥＴシート）をアブレーション加工可能な紫外レーザ光を出射するエキシマレーザを用いている。光源１とＤＭＤ２との間には、必要に応じてスリットを挿入してもよい。また、加工対象物５は、図示しないＸ−Ｙステージ上にセットされている。
【００２８】
図２（ａ）および（ｂ）はそれぞれ、光照射面に垂直な方向から見たＤＭＤ２及びダメージ防止マスク６の説明図である。なお、図１及び図２（ａ），（ｂ）には、説明の都合上、座標Ｘ’、Ｘ”及びＹも併せて示している。ＤＭＤ２は、図２（ａ）に例示するように、Ｌｘ’×Ｌｙの四角形の形状をした多数のミラーＭで構成されている。このミラーＭが、間隙（ギャップ）ｇｘ’及びｇｙで配列されている。
【００２９】
ここで、図１に示すようにＤＭＤ２が水平面に対して角度θだけ傾けて配設されているので、加工対象物５上の各ミラーの像を正方形（Ｌｘ＝Ｌｙ）とするために、各ミラーＭの寸法及びギャップは、Ｌｙ＝Ｌｘ’・ｃｏｓθ及びｇｙ＝ｇｘ’・ｃｏｓθの関係を満足するように設定されている（図２（ａ）参照）。例えば、θ＝４５度、Ｌｙ＝１６μm及びｇｙ＝１μmの場合、Ｌｘ’≒２２．６μm及びｇｘ’≒１．４μmとなる。
【００３０】
また、各ミラーＭは２つの固定端Ｍａを結ぶ対角線を中心にして可動端Ｍｂ側が揺動し、反射面が傾くようになっている。図２（ａ）の例では、可動端Ｍｂは図示しない基板側の電極で生じた電界により静電気力を受けて揺動する。
【００３１】
上記ダメージ防止マスク６は、上記レーザ光に対して透明な透明基板（石英板、ガラス板など）の上記各ミラーＭ間の間隙に対応する部分６ａ及び外周部６ｂに、遮光部としての光反射面（図２（ｂ）のハッチングを付した部分）が形成されている。この光反射面は、真空蒸着法等を用いてＡｌ等の金属薄膜を形成することにより形成することができる。より大きな反射率を得るために誘電体多層コーティング層にしてもよい。また、上記光反射面は、その投影がＤＭＤ２の各ミラー間の間隙を確実に覆うように設定される。
【００３２】
ここで、図１に示すようにＤＭＤ２が水平面に対して角度θだけ傾けて配設されているので、光源１からＤＭＤ２に照射されるレーザ光Ｌが平行ビームである条件下で加工対象物５上の各ミラーの像を正方形（Ｌｘ＝Ｌｙ）とするために、ダメージ防止マスク６の光反射面で囲まれた光通過部６ｃの寸法及びギャップは、Ｌｙ＝（Ｌｘ”／ｓｉｎθ）・ｃｏｓθ及びｇｙ＝（ｇｘ”／ｓｉｎθ）・ｃｏｓθの関係を満足するように設定されている。例えば、θ＝４５度、Ｌｙ＝１６μm及びｇｙ＝１μmの場合、Ｌｘ”＝１６μm及びｇｘ”＝１μmとなる。
【００３３】
また、本実施形態では、ＤＭＤ２及びダメージ防止マスク６の温度を一定に保持する温度保持手段を設けている。この温度保持手段は、レーザ光Ｌの光路に光通過窓を形成したカバー部材７と、カバー部材７内の温度を調整する図示しない温度調整装置とにより構成されている。温度調整装置は、例えばカバー部材７内の温度を検知する温度センサ、カバー部材内に冷却ガスを送り込む冷却ファン、それらの制御装置等で構成することができる。この温度保持手段でＤＭＤ２及びダメージ防止マスク６の温度を一定に保持することにより、装置周囲の環境温度の変動又は光による加熱がある場合でも、ＤＭＤ２及びダメージ防止マスク６が膨張・収縮しないようになるので、ダメージ防止マスク６の光通過部６ｃを通過した光が、各ミラーＭの反射面に確実に照射される。
【００３４】
上記マイクロレンズ３は複数のレンズからなり、各ミラーＭの反射面Ｒからの反射光を収束して加工対象物５上に照射するものである。このマイクロレンズ３としては、例えば撮像素子であるＣＣＤ等の検知面の各受光要素に光を集光するためのマイクロレンズと同様なものを用いることできる。
【００３５】
上記制御装置４は、画像データ処理部とミラー駆動制御部とを備えている。画像データ処理部では、外部のコンピュータ等から送られてきた加工パターンの画像データに基づいて、ＤＭＤ２の各ミラーを駆動制御を制御するための駆動制御データを生成する。上記ミラー駆動制御部では、画像データ処理部で生成した駆動制御データに基づいて、ＤＭＤ２の各ミラーの反射面の傾きを独立制御する。この制御により、光源１からの紫外レーザ光がＤＭＤ２で選択的に反射され、この反射光（光像）がレンズ３で加工対象物５上に結像される。この加工対象物５上に到達した紫外レーザ光で引き起こされるアブレーションにより、加工対象物５の一部が除去され、加工対象物５に上記加工パターンに対応した貫通孔又は凹部からなるパターンが形成される。
【００３６】
以上、本実施形態によれば、加工パターンに対応したアパチャーマスクを用意しなくても、任意の加工パターンに対応する光像を加工対象物５上に形成することにより、該加工対象物５上に該加工パターンに対応した貫通孔または凹部を形成することができる。
特に、アパチャーマスクを用いた光加工装置の場合に該アパチャーマスクの加工対象物５上に投影されるパターンを傾けようとすると、該アパチャーマスク自体を回転させる必要があるが、本実施形態の加工装置によれば制御装置４内のデータを修正するだけで任意の角度に傾けたパターンを形成することができる。
【００３７】
また、本実施形態によれば、光源１からの光がＤＭＤ２の各ミラーＭ間の間隙を通過してミラー反射面以外の部分にあたらないので、該間隙を通過した光によるＤＭＤ２の損傷を防止することができる。
【００３８】
なお、上記実施形態において、ダメージ防止マスク６の位置を調整する位置調整機構と、ＤＭＤ２からの反射光の強度を検出する光検出手段と、該光検出手段の検出結果に基づいて該位置調整機構を制御する制御手段とを設け、該光検出手段の検出結果に基づいて該位置調整機構を制御し、該反射光の強度が最大になるように部分遮光部材の位置を調整するるように構成してもよい。この構成により、ダメージ防止マスク６の遮光部（光反射面６ａ、６ｂ）以外の部分（光通過部６ｃ）を通過した光が、各ミラーＭの反射面に確実に照射されるようにすることができる。上記制御手段としては前述の制御装置４を用い、上記位置調整機構としてはサブミクロンオーダーの微小移動が可能な圧電素子等を用いたアクチュエータを用いることができる。また、上記光検出手段としては、図３に例示するように、ＤＭＤ２とレンズ３との間に挿入された光検出位置とＤＭＤ２からの反射光を遮らない退避位置とを取り得るように取付けられた光センサ８を用いることができる。この構成の場合は、上記ダメージ防止マスク６の位置調整を行うときだけ、上記光センサ８を上記光検知位置に移動させる。
【００３９】
また、図４に示すように、ＤＭＤ２とレンズ３との間に挿入したハーフミラー９と、ハーフミラー９から反射された反射光を集光するレンズ１０と、レンズ１０で集光された光を検出する光センサ８とを組み合わせたものを用いることもできる。この構成の場合は、加工対象物５の加工中にダメージ防止マスク６の位置がずれているか否かをモニターすることができる。
【００４０】
また、上記図３及び図４に示すようにＤＭＤ２から反射した光を光センサ８で検知してダメージ防止マスク６の位置調整を行う場合、該位置調整時に、各ミラーの反射面の中心部に進行しようとする光を遮る第２の部分遮光部材を、上記部分遮光部材の表面側又は裏面側に挿入し、光センサ８で検知される光の強度変化率を大きくするように構成してもよい。この構成の場合は、上記ダメージ防止マスク６の位置調整をより精度の高いものにすることができる。
【００４１】
また、上記実施形態において、上記ＤＭＤ２及び上記ダメージ防止マスク６を微振動させる振動手段を設けてもよい。このようにダメージ防止マスク６を微振動させることにより、加工対象物５上に、ＤＭＤ２の各ミラー間の間隙が投影された未照射部が対象物上に発生しないようにすることができる。上記振動手段としては、圧電素子等を用いることができる。
【００４２】
また、上記実施形態においては、光源１として平行ビームからなるレーザ光Ｌを出射するレーザを用い、該レーザ光ＬをＤＭＤ２に照射するように光学系を構成しているが、図５に示すように、光源１として発散光を出射するものを用い、該光源１からの光を集光光学系１１でダメージ防止マスク６上に集光し、該マスク６を通過した光を結像光学系１２でＤＭＤ２上に結像するように構成してもよい。図５において、ダメージ防止マスク６の遮光パターンは、結像光学系１２でＤＭＤ２上に拡大又は縮小されて投影されるので、該遮光パターンは拡大率又は縮小率を考慮して設定される。また、高解像度の光像を加工対象物５上に形成する場合には、必要に応じて、ダメージ防止マスク６をＤＭＤ２の反射面と平行になるように配置し、上記集光光学系１１及び結像光学系１２としてあおり光学系を用いてもよい。上記ＤＭＤ２で反射された光像は結像光学系としてのレンズ３’で加工対象物５上に照射される。
【００４３】
なお、上記実施形態では印刷マスク製造用の光加工装置について説明したが、本発明は、露光パターンのデータに基づいてＤＭＤ２の各ミラーの反射面の傾きを制御し、該露光パターンに対応する光像を感光材料からなる露光対象物上に形成する露光装置にも適用できるものであり、同様な効果が得られるものである。。この露光装置では、上記光像で露光対象物（例えば、フォトレジスト法に用いるレジスト膜や、電子写真方式の複写機等において静電潜像が形成される感光体）の一部を感光し、該露光対象物を溶剤で部分的に溶かしてレジストパターンを形成したり、該感光体の電位を部分的に低下させて帯電パターンを形成したりする。
【００４４】
【発明の効果】
請求項１乃至６の発明によれば、光源からの光が各ミラー間の間隙を通過してミラー反射面以外の部分にあたらないので、該間隙を通過した光による空間光変調器の損傷を防止することができる。しかも、光検出手段の検出結果に基づいて位置調整機構を制御して部分遮光部材の位置を調整することにより、部分遮光部材の遮光部以外の部分を通過した光が、各ミラーの反射面に確実に照射されるようにすることができる、という効果がある。
【００４５】
特に、請求項２の発明によれば、透明基板上に光反射面からなる遮光部を形成するという簡易構成の部分遮光部材により、光源から空間光変調器に照射される光のうち各ミラー間の間隙に向かって進行しようとする光を遮ることができる。しかも、金属材料で作成した場合に機械的に支えることができないという理由で作成が困難であった遮光パターンも容易に作成することができるという効果がある。
【００４７】
また特に、請求項３の発明によれば、空間光変調器の各ミラー間の間隙が投影された未照射部が対象物上に発生しないようにすることができるという効果がある。
【００４８】
また特に、請求項４の発明によれば、装置周囲の環境温度の変動や光による加熱がある場合でも、空間光変調器及び遮光部材の温度を一定にして膨張・収縮しないようにすることにより、部分遮光部材の遮光部以外の部分を通過した光が、各ミラーの反射面に確実に照射されるようにするができるという効果がある。
【００４９】
また特に、請求項５の発明によれば、加工パターンに対応したアパチャーマスクを用意しなくても、加工対象物上に任意形状の加工パターンに対応した貫通孔または凹部を形成することができるという効果がある。
【００５０】
また特に、請求項６の発明によれば、感光材料からなる露光対象物上に任意形状のフォトレジストパターンや帯電パターンを形成することができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係る光像形成装置を備えた光加工装置の概略構成図。
【図２】（ａ）は、同光像形成装置に用いたＤＭＤの説明図。
（ｂ）は、同光像形成装置に用いたダメージ防止マスクの説明図。
【図３】他の実施形態に係る光加工装置の概略構成図。
【図４】更に他の実施形態に係る光加工装置の概略構成図。
【図５】更に他の実施形態に係る光加工装置の概略構成図。
【符号の説明】
１      光源
２      ＤＭＤ（デジタル・マイクロミラー・デバイス）
３      マイクロレンズ
３’    結像用レンズ
４      制御装置
５      加工対象物
６      ダメージ防止用マスク
６ａ    光反射面（遮光部）
６ｂ    外周部の光反射面
６ｃ    光通過部
７      カバー部材
８      光センサ
９      ハーフミラー
１０    集光レンズ
１１    集光光学系
１２    結像光学系
Ｍ      ミラー
【図１】
0004159139.tif 000002
【図２】
0004159139.tif 000003
【図３】
0004159139.tif 000004
【図４】
0004159139.tif 000005
【図５】
0004159139.tif 000006