(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属基材の表面に光触媒を担持させてなる光触媒体の製造方法において，
上記金属基材の表面に，イオン化された親水基のイオンを照射する親水化処理を施す工程と，
上記親水化した金属基材の表面にチタンアルコキシドを主成分とする液を光触媒として付着させる工程と，
上記光触媒を付着させた金属基材を加熱する工程とからなることを特徴とする光触媒体の製造方法。
【請求項２】
請求項１において，上記金属基材は，アルミニウム材であることを特徴とする光触媒体の製造方法。
【請求項３】
請求項１において，上記金属基材は，熱交換器を構成する部品であることを特徴とする光触媒体の製造方法。
【請求項４】
請求項３において，上記熱交換器の部品は，上記親水化処理を行う前に予めろう付けされていることを特徴とする光触媒体の製造方法。
【請求項５】
イオン化された親水基のイオンを照射する親水化処理により表面が親水化した金属基材の表面に、チタンアルコキシドを主成分とする液を光触媒として付着させ，この金属基材を加熱することにより上記金属基材の表面の金属原子と上記光触媒の酸素原子との間で共有結合を形成してなることを特徴とする光触媒体。
【請求項６】
請求項５において，上記光触媒体は，熱交換器であることを特徴とする光触媒体。
【請求項７】
請求項６に記載の熱交換器と，少なくとも上記熱交換器の空気吹出し口側に配置された，光触媒活性用のランプとからなることを特徴とする温調機器。
【請求項８】
フィンとチューブとをろう付けしてなる熱交換器であって，
該熱交換器は、請求項５に記載の上記光触媒体からなることを特徴とする熱交換器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【技術分野】
本発明は，汚れ，臭い，有害微生物の原因となる有機物などを浄化，分解，無臭化，殺菌するなどの触媒機能を有する光触媒を担持させた，光触媒体，その製造方法，温調機器及び熱交換器に関する。
【０００２】
【従来技術】
室内用エアコン，自動車用エアコンなどの温調装置の熱交換フィンには，汚れ，臭い，微生物が付着して，異臭を放つことがある。そこで，従来，脱臭機能を有する温調装置が提案されている。かかる温調装置としては，例えば，特開昭６２−２５５７４１号公報に開示されているように，熱交換器と，これとは別途に光触媒を塗布した反射板と，光触媒を活性化させるランプとからなるものがある。
【０００３】
また，特開平８−２９６９９２号公報では，熱交換器のアルミフィン表面にバインダーを用いて光触媒を塗布したものが提案されている。また，その他に，光触媒の原液を熱交換器に塗布し焼成することにより光触媒層を形成するゾル−ゲル法，熱交換器を光触媒のアルコキシド溶液に浸漬し焼成するディップコーティング法などがある。
【０００４】
【解決しようとする課題】
しかしながら，上記特開昭６２−２５５７４１号公報に開示された技術では，光触媒と臭気成分との接触面積が小さく，両者の充分な接触時間が得られず，脱臭効果が小さい。
【０００５】
また，上記特開平８−２９６９９２号公報に開示された技術では，充分な脱臭効果は得難い。
また，上記ゾル−ゲル法では，熱交換器が水をはじき易いような材料，例えば，アルミニウムからなる場合には，相手部材とのなじみ性が悪いため耐久性が低い。
【０００６】
また，上記ディップコーティング法では，剥がれやすく，耐久性が低い。その理由は，アルミニウム材料の最表面にアルミニウム間に酸素が共有結合し，ディップコーティング後もチタンアルコキシドが均一に水素結合しない。そのため，焼成後もアルミニウム間とは加水分解が行われない。よって，二酸化チタンとアルミニウムの表面は，分子間力のみによって結合しているため，剥がれやすく，耐久性が低いと考えられる。
また，光触媒を活性化させるランプの配置場所によっては，ランプに埃が付着することがある。このため，光触媒の触媒機能が低下することもある。
【０００７】
本発明はかかる従来の問題点に鑑み，光触媒の担持強度が大きく，耐久性に優れ，かつ使用時の触媒機能の低下を防止することができる，光触媒体，その製造方法，温調機器及び熱交換器を提供しようとするものである。
【０００８】
【課題の解決手段】
請求項１の発明は，金属基材の表面に光触媒を担持させてなる光触媒体の製造方法において，
上記金属基材の表面に，イオン化された親水基のイオンを照射する親水化処理を施す工程と，
上記親水化した金属基材の表面にチタンアルコキシドを主成分とする液を光触媒として付着させる工程と，
上記光触媒を付着させた金属基材を加熱する工程とからなることを特徴とする光触媒体の製造方法である。
【０００９】
本発明においては，金属基材に親水化処理を行った後に，光触媒を担持させている。そのため，光触媒の担持強度が大きい光触媒体が得られる。それゆえ，得られた光触媒体は，耐久性に優れ，かつ使用時の触媒機能の低下が少ない。
その理由は，金属基材に親水化処理を行うと，金属基材表面が水と馴染む性質になり，水を滴下したときに水滴が基材表面全体に均一に広がるため，光触媒は，基材表面に強固に担持されると考えられる。
【００１０】
この現象を化学的に説明すると，図１に示すごとく，金属基材1の表面は，一般に金属酸化物２により被覆されている（図１（ａ））。この金属酸化物２に，親水化処理を施すと，加水分解により，金属酸化物の結合が切断され，その切断部位にＯＨ基が導入される（図１（ｂ））。この金属基材１に，光触媒（例えば，ＴｉＯ２）３を担持すると，表面のＯＨ基と，光触媒３の酸素原子とが水素結合を形成する（図１（ｃ））。この状態でこれらを加熱すると，脱水反応により，基材表面の金属原子と，光触媒の酸素原子との間で共有結合が形成される（図１（ｄ））。このため，光触媒３は，基材表面に化学的に強固に結合することになる。よって，本発明の製造方法によれば，金属基材表面に，光触媒を強固に担持させた光触媒体５を得ることができる。
【００１１】
また，光触媒は，臭い，汚れ，微生物などの原因となる有機物を，無臭化，分解，殺菌，浄化する性能に優れている。特に，臭いの原因となる乳酸，アルデヒドなどの分解能に優れている。このため，光触媒を担持した光触媒体は，上記の有機物を，無臭化，分解，殺菌，浄化する性能に優れている。
【００１２】
次に，本発明の詳細について説明する。
（親水化処理）
金属基材には親水化処理を行う。親水化処理は，例えば，以下の４種の方法により行うことができる。
第１の方法は，上記親水化処理は，アルカリ水溶液を用いて行う方法である。この方法は，金属基材表面に形成されることがある金属酸化膜を除去することにより，基材表面を親水化することができる。また，この方法によれば，簡便に親水化処理を行うことができる。特に，金属基材表面に金属酸化膜が形成されていないか又は薄く形成されている場合には，この方法は有効である。
金属が薄く形成されている状態とは，おおよそ１μｍ以下の状態をいう。
【００１３】
上記アルカリ水溶液は，例えば，珪酸塩を含有することが好ましい。これにより，金属基材表面の親水化を効果的に行うことができる。珪酸塩としては，例えば，Ｎａ２ＳｉＯ３等を用いることができる。
【００１４】
アルカリ水溶液を用いて親水化処理を行うに当たっては，例えば，浸漬法，塗布法，スプレー掛け方法などにより行うことができるが，これらに限定されない。
上記親水化処理においては，上記珪酸塩を含有する溶液とともに，界面活性剤を用いることが好ましい。これにより，金属基材表面の親水化を効果的に行うことができる。界面活性剤としては，例えば，ノニオン界面活性剤，カチオン界面活性剤などを用いることができる。
【００１５】
第２の方法は，上記親水化処理は，珪酸塩を含有するエッチング溶液により上記金属基材の表面処理をし，その後流水洗及び酸洗浄をすることにより行う方法がある。
この方法によれば，親水化処理を効果的に行うことができる。特に，金属基材表面に金属酸化膜が厚く形成されている場合には，この方法は有効である。金属基材表面に金属酸化膜が厚く形成されている場合に第２の方法を行うと，エッチング溶液で表面処理を行った後に，金属基材表面にスマットが形成されることが多い。スマットは，その後の酸洗浄により除去でき，平面な親水表面となる。
金属が厚く形成されている状態とは，おおよそ１μｍ以上の状態をいう。
【００１６】
第２の方法における上記珪酸塩を含有するエッチング溶液としては，珪酸塩と，ＮａＯＨなどの一般的な金属腐蝕剤とを含有する溶液を用いることができる。
上記珪酸塩としては，例えば，上記第１の方法における珪酸塩と同様のものを用いることができる。第２の方法における表面処理は，例えば，浸漬法，塗布法，スプレー掛け方法などにより行うことができるが，これらに限定されない。
上記表面処理においては，上記珪酸塩を含有する溶液とともに，界面活性剤を用いることが好ましい。これにより，スマットなどの新規付着物を除去することができる。界面活性剤としては，例えば，ノニオン界面活性剤，カチオン界面活性剤などを用いることができる。
【００１７】
第２の方法における流水洗は，金属基材を流水に浸漬する方法，流水に晒す方法などがあるが，これらに限定されない。
第２の方法における酸洗浄は，金属基材を酸に浸漬する方法，酸を塗布する方法，酸に晒す方法などがあるが，これらに限定されない。かかる酸としては，
例えば，硫酸，フッ酸，塩酸などがあるが，これらに限定されない。
【００１８】
第３の方法は，上記親水化処理は，上記金属基材を酸洗浄し，その後流水にて洗浄し，乾燥させることが好ましい。この方法によれば，簡便に親水化処理を行うことができる。特に，金属基材表面に金属酸化膜が厚く形成されている場合には，この方法は有効である。金属が厚く形成されている状態とは，第２の方法で説明した状態をいう。
【００１９】
上記酸洗浄は，１．０重量％以下の希フッ酸溶液を用いて行うことが好ましい。これにより，金属基材表面の親水化を効果的に行うことができる。一方，１．０重量％未満の場合には，親水化を効果的に行うことができないおそれがある。
【００２０】
第４の方法は，上記親水化処理は，上記金属基材に，イオン化された親水基のイオンを照射する方法である。この方法によれば，親水化処理を効果的に行うことができる。また，金属基材表面に金属酸化膜が形成されている場合にも，その厚みに拘わらず，均一に親水化を行うことができる。
【００２１】
第４の方法は，例えば，特開平９−３２２０号公報に示されたイオン照射装置を用いることができる。このイオン照射装置は，金属基材を装着するための真空容器と，該真空容器内に親水基を含むガス又は水蒸気をイオン化するイオン源と，該イオン化された親水基のイオンを金属基材の表面に照射するイオン照射手段とから構成されている。このイオン照射装置によれば，親水基を含むガス又は水蒸気のイオンが金属基材表面に直接照射されるのみでその物理的なエネルギによる表面原子と水酸基との置換又は表面の酸素原子に水素が結合されることに基づく同水酸基の吸着がおこるようになる。このため，その後光触媒を担持すると，光触媒の原子と金属基材表面の上記原子とが水素結合により結合され，極めて強固な付着となる。
【００２２】
請求項２記載のように，上記金属基材は，例えば，アルミニウム材であるが，これに限定されることはない。例えば，その他に金属基材として，クロム，シリコン，銅などを用いることができる。
【００２３】
（光触媒の担持）
光触媒としては，例えば，ＴｉＯ２，ＳｒＴｉＯ３，Ｋ４ＮｂＯ１７，ＺｎＯなどを用いることができる。ＴｉＯ２の中でも，アナターゼ型が触媒活性能が高い点で望ましい。また，ルチル型のＴｉＯ２でもよい。
また，光触媒は，チタンアルコキシドを主成分とする液であることが好ましい。これにより，触媒活性の高い光触媒体となる。
また，光触媒は，上記チタンアルコキシド以外のほかの触媒活性を有する金属アルコキシド化合物を主成分とする液であってもよい。
【００２４】
上記光触媒を金属基材表面に担持する方法としては，ゾル−ゲル法，アルコキシド法，浸漬法，塗布法，スプレー掛け法などがあるが，これらに限定されることはない。
【００２５】
次に，請求項３記載のように，上記金属基材は，たとえば，熱交換器を構成する部品である。この場合，請求項４記載のように，上記熱交換器の部品は，上記親水化処理を行う前に予めろう付けされていることが好ましい。これにより，熱交換器の製造を容易に行うことができる。
【００２６】
（光触媒体）
次に，上記光触媒体の製造方法により得られる光触媒体としては，例えば，請求項５に記載のように，イオン化された親水基のイオンを照射する親水化処理により表面が親水化された金属基材の表面に、チタンアルコキシドを主成分とする液を光触媒として付着させ，この金属基材を加熱することにより上記金属基材の表面の金属原子と上記光触媒の酸素原子との間で共有結合を形成してなることを特徴とする光触媒体がある。
この光触媒体によれば，光触媒が金属基材に強固に担持されているため，耐久性に優れ，かつ使用時の触媒機能の低下を防止することができる。
【００２７】
また，上記光触媒体は，請求項１〜４の製造方法により形成されたものであることが好ましい。上記光触媒体においては，光触媒が金属基材に強固に担持されているため，耐久性に優れ，かつ使用時の触媒機能の低下を防止することができる。
【００２８】
上記金属基材は，請求項６記載のように，例えば，熱交換器である。これにより，光触媒による触媒能力により臭い，汚れ，微生物などの原因となる有機物を分解，除去，浄化，殺菌することができる。
【００２９】
また，請求項８記載のように，フィンとチューブとをろう付けしてなる熱交換器であって，該熱交換器は、請求項５に記載の上記光触媒体からなることを特徴とする熱交換器がある。
この熱交換器も，上記と同様に光触媒によって，臭い，汚れ，微生物などの原因となる有機物を分解，除去，浄化，殺菌することができる。
【００３０】
上記熱交換器を用いた温調機器としては，たとえば，光触媒を担持させた熱交換器と，少なくとも上記熱交換器の空気吹出し口側に配置された，光触媒活性用のランプとからなることを特徴とする温調機器がある。
【００３１】
上記熱交換器を設けた温調装置は，温度調整を行いながら，周辺環境の汚れ，臭い，有害微生物の原因となる有機物などを浄化，分解，無臭化，殺菌することができる。このため，周辺環境をクリーンな環境に保持することができる。
特に，上記温調装置は，光触媒活性用のランプを，少なくとも熱交換器の空気吹出し側に配置している。そのため，ほこりが付着しにくく，長期使用でも照射強度が低下せず触媒活性能が保持される。
【００３２】
上記光触媒活性用のランプは，たとえば，４００ｎｍ以下の波長領域の紫外線であることが好ましい。これにより，光触媒を効果的に活性させることができる。
上記温調装置としては，たとえば，室内用エアコンディショナ，自動車用エアコンディショナ，工場用エアコンディショナ等がある。
【００３３】
また，請求項７記載のように，請求項６に記載の熱交換器と，少なくとも上記熱交換器の空気吹出し口側に配置された，光触媒活性用のランプとからなることを特徴とする温調機器がある。この温調装置も，上記温調装置と同様に，温度調整を行いながら，周辺環境の汚れ，臭い，有害微生物の原因となる有機物などを浄化，分解，無臭化，殺菌することができる。
【００３４】
【発明の実施の形態】
参考例１
本発明の実施形態例に係る温調装置について，図２を用いて説明する。
本例の温調装置６は，図２に示すごとく，光触媒を担持した熱交換器５０を設けている。かかる熱交換器の製造方法について説明する。
まず，アルミニウム材を，フィン，プレート等の熱交換器の部品に加工し，これらを６００℃以上でろう付けしてろう付け部材を得る。
【００３５】
次に，ろう付け部材に親水化処理を行う。親水化処理は，ろう付け部材表面のアルカリ洗浄により行う。洗浄に用いるアルカリ溶液は，ギルディオンＮＤ−６（商品名）の４％希釈液である。ギルディオンＮＤ−６は，１５重量％のＮａ２ＳｉＯ３と，５９重量％のノニオン界面活性剤と，１重量％のカチオン界面活性剤とを含有する。
次に，ろう付け部材を流水にて水洗し，液きり乾燥を行う。
【００３６】
次に，チタンアルコキシドの加水分解（ゾル−ゲル法）により光触媒を担持させる。光触媒としては，アナターゼ型の酸化チタン（ＴｉＯ２）を用いる。
次いで，ろう付け部材を，ろう付け温度未満の温度，たとえば５５０℃で，加熱炉などの加熱手段で加熱する。
以上により，光触媒を担持した熱交換器が得られる。
【００３７】
次に，図２に示すごとく，得られた熱交換器５０を温調装置６に装着される。
温調装置６は，ケース６１と，その中に設けた熱交換器５０と，ヒータ６２と，コンプレッサ６３と，空気吸入装置６４と，空気吹出し口６５とからなる。熱交換器５０の空気吹出し口側及び空気吸入側には，光触媒を活性化させるためのランプ６６が配置されている。ランプ６６は，波長４００ｎｍ以下の紫外線を，熱交換器に向けて照射するよう構成されている。
本例の温調装置６は，自動車用熱交換器である。
【００３８】
次に，本例の作用及び効果について説明する。
本例の熱交換器は，アルミ製のろう付け部材に親水化処理を行った後に，光触媒を担持させているため，光触媒の担持強度が大きい。このため，熱交換器は耐久性に優れ，かつ使用時の触媒機能の低下が少ない。
【００３９】
また，かかる熱交換器を設けた温調装置は，温度調整を行いながら，周辺環境の汚れ，臭い，有害微生物の原因となる有機物などを浄化，分解，無臭化，殺菌することができる。このため，周辺環境をクリーンな環境に保持することができる。特に，図２に示すごとく，温調装置は，光触媒活性用のランプ６６を，少なくとも熱交換器５０の空気吹出し側に配置している。そのため，ランプ６６にほこりが付着しにくく，長期使用でも照射強度が低下せず触媒活性能が保持される。
【００４０】
参考例２
本例においては，熱交換器のろう付け部材に親水化処理を行うに当たり，エッチング溶液により表面処理をし，その後流水洗及び酸洗浄をした。その詳細を以下に説明する。
【００４１】
まず，熱交換器のろう付け部材を，ＦＣ−４３８５（商品名）の４％希釈液からなるエッチング溶液（７０℃）に６０秒間浸漬した。ＦＣ−４３８５は，約５０重量％のＮａ２ＳｉＯ３と，１５重量％以下のＮａＯＨと，微量のノニオン界面活性剤とを含有する。
エッチング溶液に浸漬したろう付け部材の表面には，スマットが形成される。
【００４２】
次に，ろう付け部材を流水にて水洗する。
次に，５重量％の硫酸水溶液（常温）にろう付け部材を６０秒間浸漬する。
次に，ろう付け部材を流水にて水洗し，液きり乾燥を行う。
以上の親水化処理をした後には，実施形態例１と同様に光触媒をろう付け部材に担持させる。
その他は，参考例１と同様である。
本例によれば，参考例１と同様の効果を得ることができる。
【００４３】
実施形態例１
本例においては，光触媒体の耐久性試験及び基材表面性状の評価を行った。
（光触媒体の製造）
試験に供する本例に係る試料としては，光触媒体を用いた。この光触媒体の製造方法について説明する。
まず，金属基材として，アルミニウム製のプレートで大きさ５０ｍｍ×３０ｍｍ×１ｍｍのものを準備した。
【００４４】
次に，金属基材に２種類の親水化処理を行った。図３（ａ）に示すごとく，親水化処理は，希フッ酸処理及びＯＨイオン照射法である。
希フッ酸処理は，金属基材に，有機溶剤（アセトン／エタノールによる洗浄，２．５重量％フッ酸で１０秒洗浄，純流水洗浄をすることにより行った。
ＯＨイオン照射法は，水蒸気圧ＰＨ２０＝４×１０−２Ｐａ，加速電圧３００Ｖ，電流密度１２５μＡ／ｃｍ２の条件で，金属基材にＯＨイオンを照射した。
【００４５】
次に，図３（ｂ）に示すごとく，金属基材に光触媒を担持させた。光触媒の担持は，Ｔｉ（ＯＣ３Ｈ７）４，Ｃ２Ｈ５ＯＨ，ＮＨ（Ｃ２Ｈ４ＯＨ）２溶液の中に，金属基材を１０ｍｍ／ｍｉｎ．ディップするというアルコキシド法により行った。
次に，金属基材を図３（ｂ）のタイムチャートに示す温度条件で焼成した。
以上により，光触媒体５を得た。これを本発明の試料とした。
【００４６】
一方，比較用の試料として，光触媒を担持させなかったアルミニウム製のプレートを用いた。
【００４７】
（耐久性試験）
次に，図３（ｃ）に示すごとく，本発明の試料及び比較用の試料について耐久性試験を行った。耐久性試験は，本発明及び比較用の試料５１を５０ｐｐｍのローダミンＢ溶液８に入れ，紫外線７（日立殺菌ランプＧＬ−１５，波長２５３．７ｎｍ，３．００ｍＷ／ｃｍ２）を照射した。８時間後のローダミンＢ溶液の吸光度を測定した。光触媒を担持させなかった比較用の試料の吸光度を１００％とし，それに対しての百分率を色素残存率とした。この試験を繰り返し，試験回数に応じて色素残存率を調べた。
【００４８】
その結果を図４に示した。図４より，ＯＨイオン照射後に光触媒を担持させた本例の試料は，２０回繰返し使用後も色素残存率が低く，高い分解性能を維持した。また，初期状態分解性能も高いことがわかった。これに対して，光触媒を担持させていない比較用の試料は，試験回数を重ねるにつれて色素残存率が高くなった。
また，図示はしないが，希フッ酸処理後に光触媒を担持させた場合にも，上記ＯＨイオン照射後に光触媒を担持させた場合には劣るものの未処理のものと比較して色素残存率が低かった。
【００４９】
（光触媒担持後の表面状態）
図５に示すごとく，触媒担持後のプレート表面をＳＥＭにより観察した。図５（ａ）にはＯＨイオン照射後に光触媒を担持した場合，図５（ｂ）には希フッ酸処理後に光触媒を担持した場合，図５（ｃ）にはＯＨイオン照射及び希フッ酸処理のいずれもすることなくアルミニウム製のプレートに光触媒を担持した場合のプレート表面状態を示した。
【００５０】
図５より，ＯＨイオン照射及び希フッ酸処理の親水化処理を行うことにより，光触媒が均一に付着することがわかった。また，ＯＨイオン照射後に光触媒を担持させたものは，希フッ酸処理後に光触媒を担持させたものよりも，触媒膜の亀裂が少なかった。
【００５１】
（金属基材表面の親水性評価）
次に，親水化処理による金属基材表面への影響を評価した。
評価に当たり，図３（ｂ）に示すごとく，上記ＯＨイオン照射又は希フッ酸処理にて親水化処理を行う前と後において，アルミニウム製のプレート表面に，それぞれ同量のローダミンＢ溶液を垂らした。
【００５２】
そして，これらのプレート表面状態を図６に示した。図６（ａ）は親水化処理をする前のプレート，図６（ｂ）は親水化処理をした後のプレートの表面を示す。
図６（ａ）に示すごとく，親水化処理前のプレート１０の表面には，ローダミンＢ溶液が水玉２９を形成していた。図６（ｂ）に示すごとく，親水化処理を行った後には，ローダミンＢ溶液はプレート１０の表面に一様な水膜２０を形成していた。
このことから，親水化処理を行うことにより，撥水性のプレート表面が親水状態になることがわかる。
【００５３】
（ＯＨイオン照射法による基材表面性状への影響）
次に，図７に示すごとく，ＯＨイオン照射法による金属基材の表面性状への影響について測定した。
まず，アルミニウム製のプレートにイオン照射装置を用いてＯＨイオンを照射した。イオン照射装置４は，図７（ａ）に示すごとく，プレート１０を装着するための真空容器４１と，真空容器４１内のガスを真空吸引する排気装置４２と，プレート１０にイオンビーム４３を照射するイオン源４４と，プレート１０を固定するための固定具４５とから構成されている。イオンビーム４３は，水蒸気発生器４６により発生した水蒸気をイオン化するための，イオン引出しグリッド及び熱電子放出用フィラメントが設けられている。
【００５４】
水蒸気圧（ＰＨ２Ｏ）は４×１０−２（Ｐａ），イオンの加速電圧は３００Ｖ，電流密度は１２５μＡ／ｃｍ２の条件でイオンビームを照射した。照射イオン数を図７（ｂ）に示すごとく変化させ，プレート表面における水素蓄積量を測定した。
【００５５】
その結果，図７（ｂ）に示すごとく，イオン数が増加するに連れてイオン蓄積量が増加し，８×１０１６ｉｏｎｓ／ｃｍ２以上は飽和状態に達したことがわかる。この現象は，プレート表面の酸素原子に，イオンビームの成分である水（Ｈ２Ｏ）が水素結合によって付着するために生じるものと考えられる。
また，ＯＨイオン照射を行ったプレートに光触媒を付着させたとこと，強固に担持された。触媒能も長期間維持した。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の作用及び効果を示す説明図。
【図２】  参考例１の温調装置の断面説明図。
【図３】  実施形態例１における，光触媒体の耐久性試験の方法を示す説明図。
【図４】  実施形態例１における，光触媒体の耐久性の試験結果を示す線図。
【図５】  実施形態例１における，光触媒体の表面状態の説明図。
【図６】  実施形態例１における，親水化処理による基材表面の表面状態への影響を示すための説明図。
【図７】  実施形態例１における，ＯＨイオン照射法による基材表面性状への影響を示す説明図。
【符号の説明】
１．．．金属基材，
２．．．金属酸化物，
３．．．光触媒，
４．．．イオン照射装置，
５．．．光触媒体，
５０．．．熱交換器，
６．．．温調装置，
【図１】
0004161419.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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