(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ金属の合計含有量が５重量％以下であって酸化ビスマスを１０〜６０重量％含むガラス粉末またはセラミックス粉末と有機成分からなり、光または熱重合性の成分を含む誘電体ペーストを塗布、乾燥した後に光または加熱により硬化したガラス基板上に、ガラス粉末と感光性有機成分からなる感光性ガラスペーストを塗布、露光、現像の工程を経て隔壁パターンを形成した後に、該誘電体ペーストの塗布層および該隔壁パターンを同時に焼成して誘電体層および隔壁を形成するプラズマディスプレイの製造方法であって、該誘電体層に含まれるアルカリ金属の合計含有量が５重量％以下であり、かつ、該隔壁がアルカリ金属の酸化物を合計で２〜２０重量％含むプラズマディスプレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰと略す）に関する。ＰＤＰは大型化と薄型化が可能であり、家庭用テレビ、コンピューターモニターなどに適したディスプレイである。より詳細には、ＰＤＰ用の基板を作製する際に、基板のそり・割れを低減し、高歩留まりでＰＤＰを作製するためのＰＤＰ用基板およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、大型ディスプレイとしてプラズマディスプレイが注目されている。プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、且つ大型化が容易であることから、ＯＡ機器および広報表示装置などの分野に浸透している。また高品位テレビジョンの分野などでの進展が非常に期待されている。このような用途の拡大にともなって、微細で多数の表示セルを有するカラーＰＤＰが注目されている。
【０００３】
ＰＤＰは前面板と背面板をはり合わせて構成されている。前面板ではガラス基板の裏面にＩＴＯや酸化錫からなる透明電極が形成されている。透明電極は帯状に複数本形成されている。この隣り合う透明電極間に通常１０ｋＨｚ〜数１０ｋＨｚのパルス状ＡＣ電圧を印加し表示用の放電を得るが、透明電極のシート抵抗は数１０Ω／ｃｍ2と高いため、電極抵抗が数１０ｋΩ程度になり、印過電圧パルスが十分に立ち上がらずに駆動が困難になる。そこで、透明電極状に通常金属製のバス電極を形成して抵抗値を下げる。
【０００４】
次に、これら電極を透明誘電体層によって被覆する、透明誘電体層は低融点ガラスを用いる。その後、保護層として、ＭｇＯを電子ビーム蒸着法により形成する。前面板に形成される誘電体は、放電のための電荷を蓄積するためのコンデンサーとしての役割を有している。
【０００５】
一方、背面パネルは、ガラス基板上に表示データを書き込むデータ電極を感光性銀ペーストを用いて作製し、誘電体層で被覆する。その上に、隔壁を形成し、スクリーン印刷によって、赤、緑、青の各色に発光する蛍光体を塗布後、乾燥、焼成を行って蛍光体層を形成する。赤色蛍光体粉末としては（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ、緑色蛍光体粉末としては（Ｚｎ，Ｍｎ）2ＳｉＯ、青色蛍光体粉末としては（Ｂａ，Ｅｕ）ＭｇＡｌ10Ｏ7等のものが一般的に用いられる。
【０００６】
前面板と背面板をマトリクス駆動が可能になるように合わせて、封着した後、排気、Ｈｅ、Ｎｅ、Ｘｅの混合ガスを封入し、駆動回路を実装してＰＤＰを作製される。
【０００７】
隣り合う透明電極の間にパルス状の交流電圧を印加するとガス放電が生じ、プラズマが形成される。ここで生じた紫外線が蛍光体を励起して可視光を発光し前面板を通して表示発光を得る。放電を生じる透明電極は走査電極と維持電極からなっている。実際のパネル駆動において、放電電極である透明電極には維持放電パルスが印加されており、放電を生じさせるときには、背面板上のデータ電極との間に電圧を印加して対向放電を生じさせ、この放電が維持パルスによって放電電極間で維持される。
上記のＰＤＰを作製する場合に、基板が加工時にそりや割れが生じることによって、歩留まりが低下するという課題があった。特に、基板のほぼ全面に形成する誘電体に起因する基板そりや基板割れが生じやすい。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、ガラス基板上に誘電体層を形成する場合に生じる基板のそりや割れを抑制し、歩留まりよくＰＤＰ用基板を提供することを目的とする。本発明の方法は、ガラス基板上に電極、誘電体、隔壁および蛍光体を設けたＰＤＰ用背面基板の誘電体層を形成する場合に有効である。特に、隔壁を感光性ペースト法で形成して、高精細のＰＤＰ用の基板を得る場合に有効である。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、アルカリ金属の合計含有量が５重量％以下であって酸化ビスマスを１０〜６０重量％含むガラス粉末またはセラミックス粉末と有機成分からなり、光または熱重合性の成分を含む誘電体ペーストを塗布、乾燥した後に光または加熱により硬化したガラス基板上に、ガラス粉末と感光性有機成分からなる感光性ガラスペーストを塗布、露光、現像の工程を経て隔壁パターンを形成した後に、該誘電体ペーストの塗布層および該隔壁パターンを同時に焼成して誘電体層および隔壁を形成するプラズマディスプレイの製造方法であって、該誘電体層に含まれるアルカリ金属の合計含有量が５重量％以下であり、かつ、該隔壁がアルカリ金属の酸化物を合計で２〜２０重量％含むプラズマディスプレイの製造方法によって達成される。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明のＰＤＰ用基板に用いるガラス基板としては、ソーダガラス基板や旭硝子社製の”ＰＤ−２００”などのＰＤＰ用耐熱ガラス基板を用いることができる。このガラス基板上に、電極を形成する場合、電極材質としては、銀を５０重量％以上、より好ましくは、銀を９０〜９９重量％含む材質を用いることが抵抗値・ガラス基板との接着性の点から好ましい。電極中に１〜１０重量％のガラス成分を含有させることにより、基板ガラスとの接着性に優れた電極層を得ることができる。この電極を形成する方法としては、スクリーン印刷法や感光性ペースト法が用いられる。感光性ペースト法では平均粒子径１〜４ミクロンの銀粉末と平均粒子径０．１〜２ミクロンのガラスフリットを感光性有機成分と混練して得られる感光性銀ペーストをガラス基板上に塗布、乾燥後、露光、現像、焼成の工程を経ることにより形成することができる。
【００１２】
電極層を形成したガラス基板上に、絶縁体からなる誘電体層を形成する。電極層の上に誘電体層を形成することによって、隔壁を形成する場合に、剥がれや倒れが生じにくくなる。特に、隔壁を感光性ペースト法で形成した場合には、隔壁上部と下部の重合硬化の差に起因する剥がれが生じやすく、隔壁層の下に、誘電体層を形成することは、歩留まり向上のために有効である。
【００１３】
誘電体層の厚みは、３〜２０μｍ、より好ましくは６〜１５μｍであることが均一な誘電体層の形成のために好ましい。厚みが２０μｍを越えると、焼成の際、脱媒が困難でありクラックが生じやすく、またガラス基板へかかる応力が大きいために基板がそる等の問題が生じる。また、３μｍ未満では厚みの均一性を保持するのが困難である。誘電体材料の誘電率は７〜１３のものを用いることができるが、７〜１０が好ましい。誘電率７以下の材料はガラス基板上への焼き付けが難しく、１３以上の材料はＰＤＰを表示する場合に放電電圧が高くなるため好ましくない。
【００１４】
誘電体層は、５０〜４００℃の範囲の熱膨張係数α50〜400の値が、７０〜８５×１０-7／°Ｋ、より好ましくは７２〜８０×１０-7／°Ｋであるガラスからなることが、基板ガラスの熱膨張係数と整合し、焼成の際にガラス基板にかかる応力を減らすので好ましい。８５×１０-7／°Ｋを越えると、誘電体層の形成面側に基板が反るような応力がかかり、７０×１０-7／°Ｋ未満では誘電体層のない面側に基板が反るような応力がかかる。このため、基板の加熱、冷却を繰り返すと基板が割れる場合がある。また、前面基板との封着の際、基板のそりのために両基板が平行にならず封着できない場合もある。
【００１５】
基板にそりが生じている場合、前面板と背面板の封着の際、隔壁頭部と前面板表面との間に隙間が生じることで、各セル間で誤放電が生じたり、封着時に基板が破損したりする。これらの問題が生じないためには、反り量の絶対値を３×１０-3ｍ-1以下にする必要がある。すなわち、基板のそり量を次式の範囲内にする必要がある。
−３×１０-3ｍ-1≦１／Ｒ≦３×１０-3ｍ-1（Ｒは基板の曲率半径を表す）
【００１６】
誘電体層中に含まれるアルカリ金属の合計含有量を５重量％以下、より好ましくは３重量％以下にすることによって、焼成時の基板のそりや割れを抑制することができる。熱膨張係数が基板ガラスと整合していても、アルカリ金属、具体的には、ナトリウム、リチウム、カリウムを合計５重量％より多く含有する場合は、焼成時にガラス基板や電極中のガラス成分とイオン交換が起こるため、基板ガラスの表面部分や誘電体ガラスの特性が変化するため、基板ガラスの熱特性と一致しなくなり熱変形が生じる。
【００１７】
特に、リチウムを含有する場合に生じやすく、誘電体層に含まれるリチウムの合計含有量を３重量％以下にすることが好ましい。誘電体層には、酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛のうち少なくとも１種類を１０〜６０重量％含むガラスを用いることによって熱軟化温度、熱膨張係数のコントロールが容易になる。特に、酸化ビスマスを１０〜６０重量％含有するガラスを用いることは、ペーストの安定性などの利点がある。  酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛の添加量は６０重量％を越えるとガラスの耐熱温度が低くなり過ぎてガラス基板上への焼き付けが難しくなる。具体的なガラス組成の例としては、酸化物換算表記で以下のものがあげられるが、本発明は、このガラス組成に限定されるものではない。
【００１８】
酸化ビスマス        １０〜４０重量部
酸化珪素              ３〜５０重量部
酸化ホウ素          １０〜４０重量部
酸化バリウム          ５〜２０重量部
酸化亜鉛            １０〜２０重量部
誘電体層は、無機粉末と有機バインダーからなる誘電体ペーストをガラス基板上に塗布し、焼成することによって形成できる。誘電体層用ペーストに用いるガラス粉末の量は、ガラス粉末と有機成分の和に対して５０〜９０重量％であるのが好ましい。５０重量％未満では、誘電体層の緻密性、表面の平坦性が欠如し、９０重量％を越えるとペースト粘度が上昇し、塗布時の厚みムラが大きくなる。この場合、ガラス基板の変形を抑制するために、５００〜６００℃で焼成する必要がある。このため、誘電体用ペーストに用いる無機粉末としては、ガラス転移温度（Ｔｇ）４３０〜５００℃、荷重熱軟化温度（Ｔｓ）４７０〜５８０℃のガラス粉末を３０重量％以上、さらには、６０重量％以上含有することが好ましい。ガラス転移温度（Ｔｇ）が４３０℃よりも低い場合や荷重熱軟化温度（Ｔｓ）が４７０℃よりも低い場合は、後の工程中にガラスが溶融して、誘電体の厚み均一性や特性が低下する。また、ガラス転移温度（Ｔｇ）が５００℃よりも低い場合や荷重熱軟化温度（Ｔｓ）が５８０℃よりも高い場合は、ガラス基板上での焼成が不十分になり、誘電体層の剥離や欠落を生じやすくなる。
【００１９】
また、誘電体ペーストの塗布後、隔壁用ペーストを用いて隔壁パターンを形成し、誘電体層と隔壁パターンを同時に焼成することによって、剥がれや倒れのない均一な隔壁層を形成することができる。隔壁を無機粉末と感光性有機成分からなる感光性ペーストを用いて形成することは、ＰＤＰの高精細化および作製工程の低減に有効である。
【００２０】
感光性ペースト法は、主としてガラス粉末からなる無機成分と感光性を持つ有機成分からなる感光性ペーストをガラス基板上に塗布し、露光によりフォトマスクのパターンを焼き付け、現像により、隔壁パターンを形成し、その後焼成して隔壁を得る方法である。塗布する方法として、感光性ペーストをフィルム上に塗布した感光性シート（グリーンテープ）をガラス基板上に転写する方法を用いることもできる。感光性ペースト法によって形成した隔壁パターンは、厚み方向に光硬化の不均一による歪み応力が生じやすいため、焼成の際に剥がれが生じやすい。隔壁の剥がれが生じると剥がれた箇所で色の混色が起こり、また剥がれた隔壁がパネル上に残り画素をつぶしてしまい歩留まりが低下する。これを抑制するために、隔壁パターンを未焼成の誘電体層上で形成し、該隔壁パターンと誘電体層を同時に焼成することにより、剥がれが抑制され、歩留まりが向上する。
【００２１】
隔壁に用いる場合は、ガラス転移点、熱軟化点の低いガラス基板上にパターン形成するため、隔壁用材料として、ガラス転移点が４３０〜５００℃、熱軟化温度が４７０〜５８０℃のガラス材料を用いることが好ましい。また、平均屈折率１．５〜１．７のガラスを用いることにより、ペースト中のガラス粉末の屈折率を有機成分の屈折率と近づけて、ペースト中の光散乱を抑制し、塗布・露光回数を減らすことができる。ガラス基板上に焼き付け可能な熱軟化温度を有し、平均屈折率を１．５〜１．７のガラスを得るためには、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウムのうち少なくとも１種類を３〜２０重量％含むガラス微粒子を用いることが簡便な方法である。酸化ナトリウム、酸化リチウム、酸化カリウム等のアルカリ金属の酸化物を合計で２〜２０重量％含有するガラスを用いることによって、熱軟化温度、熱膨張係数のコントロールが容易になるだけでなく、ガラスの平均屈折率を低くすることができるため、有機物との屈折率差を小さくすることが容易になる。２％より小さい時は、熱軟化温度の制御が難しくなる。２０％より大きい場合は、ペーストの安定性が低下する。しかし、隔壁材料にアルカリ金属を含有する場合、誘電体層にアルカリ金属やその酸化物を含有すると、隔壁層／誘電体層／ガラス基板の３層間でイオン交換反応が生じて、基板のそりや割れ、また、銀電極との反応による基板の黄着色が生じる。しかし、誘電体層に含まれるアルカリ金属の合計含有量を５重量％以下、好ましくは０．５重量％以下にすることによって、黄色化や基板のそりや割れを抑制できる。
【００２２】
隔壁材質の組成としては、酸化珪素はガラス中に、３〜６０重量％の範囲で配合することが好ましく、３重量％未満の場合はガラス層の緻密性、強度や安定性が低下し、また熱膨張係数が所望の値から外れ、ガラス基板とのミスマッチが起こりやすい。また６０重量％以下にすることによって、熱軟化点が低くなり、ガラス基板への焼き付けが可能になるなどの利点がある。
【００２３】
酸化ホウ素はガラス中に、５〜５０重量％の範囲で配合することによって、電気絶縁性、強度、熱膨張係数、絶縁層の緻密性などの電気、機械および熱的特性を向上することができる。５０重量％を越えるとガラスの安定性が低下する。
【００２４】
また、ガラス微粒子中に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど、特に酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化亜鉛を添加することにより、硬度や加工性を改良することができるが、熱軟化点、熱膨張係数、屈折率の制御の点からは、その含有量は４０重量％以下が好ましく、より好ましくは２５重量％以下である。
【００２５】
酸化リチウムを含むガラス組成としては、酸化物換算表記で
酸化リチウム          ２〜１５重量部
酸化珪素            １５〜５０重量部
酸化ホウ素          １５〜４０重量部
酸化バリウム          ２〜１５重量部
酸化アルミニウム      ６〜２５重量部
の組成を含むものを５０重量％以上含有することが好ましい。
【００２６】
また、上記組成で、酸化リチウムの代わりに、酸化ナトリウム、酸化カリウムを用いても良いが、ペーストの安定性の点で、酸化リチウムが好ましい。
【００２７】
感光性ペースト法に用いるガラス粉末の量は、ガラス粉末と有機成分の和に対して６５〜８５重量％であるのが好ましい。６５重量％より小さいと、焼成時の収縮率が大きくなり、隔壁の断線、剥がれの原因となるため、好ましくない。またパターン太り、現像時の残膜の発生が起こりやすい。８５重量％より大きいと、感光性成分が少ないことにより、パターンの形成性が悪くなる。
【００２８】
本発明の隔壁材料にガラス軟化点が６５０〜８５０℃であるフィラーを１０〜５０重量％含ませてもよい。これにより、感光性ペースト法において、パターン形成後の焼成時の収縮率が小さくなり、パターン形成が容易になる。フィラーとしては、熱軟化温度が６００℃以上の高融点ガラスやセラミックスなどを用いることができる。
【００２９】
高融点ガラス粉末としては、酸化珪素、酸化アルミニウムを１５重量％以上含有するガラス粉末が好ましく、これらの含有量合計がガラス粉末中５０重量％以上であることが、必要な熱特性を持たせるためには有効である。一例としては、以下の組成を含有するガラス粉末を用いることが好ましい。
【００３０】
酸化珪素        ：１５〜５０重量％
酸化ホウ素      ：  ５〜２０重量％
酸化アルミニウム：１５〜５０重量％
酸化バリウム    ：  ２〜１０重量％
誘電体層用ペーストおよび隔壁ペーストに用いる有機成分には、一般的な有機バインダー、可塑剤、溶媒などを添加できる。有機バインダーの具体的な例としては、ポリビニルアルコール、セルロース系ポリマー、シリコンポリマー、ポリエチレン、ポリビニルピロリドン、ポリスチレン、ポリアミド、高分子量ポリエーテル、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体、α−メチルスチレン重合体、ブチルメタクリレート樹脂などがあげられる。また、ペーストの粘度を調整する際には溶媒として、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が用いられる。
【００３１】
また、ペースト中に可塑剤を含むこともできる。可塑剤の具体的な例としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコール、グリセリンなどがあげられる。
【００３２】
誘電体ペーストおよび隔壁ペーストに感光性を付与することにより、パターン加工が容易になることや溶媒や現像液に対する溶解性を制御できる利点がある。ペースト中に、感光性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーのうち少なくとも１種類から選ばれる感光性成分を含有し、さらに必要に応じて、光重合開始剤、紫外線吸収剤、増感剤、増感助剤、重合禁止剤などの添加剤成分を加えることで感光性が付与される。この場合、ペーストをガラス基板上に塗布後に、乾燥を行った後、露光して光硬化できる。また、パターン露光後に不要部分を現像して取り除き、パターン形成することができる。
【００３３】
感光性成分としては、光不溶化型のものと光可溶化型のものがあり、光不溶化型のものとして、
（Ａ）分子内に不飽和基などを１つ以上有する官能性のモノマー、オリゴマー、ポリマーを含有するもの
（Ｂ）芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機ハロゲン化合物などの感光性化合物を含有するもの
（Ｃ）ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物などいわゆるジアゾ樹脂といわれるもの等がある。
【００３４】
また、光可溶型のものとしては、
（Ｄ）ジアゾ化合物の無機塩や有機酸とのコンプレックス、キノンジアゾ類を含有するもの
（Ｅ）キノンジアゾ類を適当なポリマーバインダーと結合させた、例えばフェノール、ノボラック樹脂のナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルフォン酸エステル等がある。
【００３５】
本発明において用いる感光性成分は、上記のすべてのものを用いることができる。感光性ペーストとして、無機微粒子と混合して簡便に用いることができる感光性成分は、（Ａ）のものが好ましい。
【００３６】
感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデカフロロデシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、イソボニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレート、オクタフロロペンチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、トリフロロエチルアクリレート、アリル化シクロヘキシルジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、グリセロールジアクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリグリセロールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、アクリルアミド、アミノエチルアクリレート、フェニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、１−ナフチルアクリレート、２−ナフチルアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノールＡ−エチレンオキサイド付加物のジアクリレート、ビスフェノールＡ−プロピレンオキサイド付加物のジアクリレート、チオフェノールアクリレート、ベンジルメルカプタンアクリレート等のアクリレート、また、これらの芳香環の水素原子のうち、１〜５個を塩素または臭素原子に置換したモノマー、もしくは、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボキシメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、および、上記化合物の分子内のアクリレートを一部もしくはすべてをメタクリレートに変えたもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドンなどが挙げられる。本発明ではこれらを１種または２種以上使用することができる���
【００３７】
これら以外に、不飽和カルボン酸等の不飽和酸を加えることによって、パターン露光後の現像性を付与することができる。不飽和カルボン酸の具体的な例としては、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれらの酸無水物などがあげられる。
【００３８】
これらモノマーの含有率は、ガラス粉末と感光性成分の和に対して、５〜３０重量％が好ましい。これ以外の範囲では、パターンの形成性の悪化、硬化後の硬度不足が発生するため好ましくない。
【００３９】
バインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体、α−メチルスチレン重合体、ブチルメタクリレート樹脂などがあげられる。
【００４０】
また、前述の炭素−炭素二重結合を有する化合物のうち少なくとも１種類を重合して得られたオリゴマーやポリマーを用いることができる。重合する際に、これら光反応性モノマーの含有率が、１０重量％以上、さらに好ましくは３５重量％以上になるように、他の感光性のモノマーと共重合することができる。
【００４１】
共重合するモノマーとしては、不飽和カルボン酸等の不飽和酸を共重合することによって、隔壁パターンを形成する場合の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の具体的な例としては、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれらの酸無水物などがあげられる。こうして得られた側鎖にカルボキシル基等の酸性基を有するポリマーもしくはオリゴマーの酸価（ＡＶ）は５０〜１８０、さらには７０〜１４０の範囲が好ましい。酸価が５０未満であると、現像許容幅が狭くなる。また、酸価が１８０を越えると未露光部の現像液に対する溶解性が低下するようになるため現像液濃度を濃くすると露光部まで剥がれが発生し、高精細なパターンが得られにくい。
【００４２】
以上示した、ポリマーもしくはオリゴマーに対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させることによって、感光性を持つ感光性ポリマーや感光性オリゴマーとして用いることができる。好ましい光反応性基は、エチレン性不飽和基を有するものである。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基などがあげられる。
【００４３】
このような側鎖をオリゴマーやポリマーに付加させる方法は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカルボキシル基に対して、グリシジル基やイソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライドを付加反応させて作る方法がある。
【００４４】
グリシジル基を有するエチレン性不飽和化合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロトン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエーテルなどがあげられる。
【００４５】
イソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリロイルイソシアネート、（メタ）アクリロイルエチルイソシアネート等がある。
【００４６】
また、グリシジル基やイソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライドは、ポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカルボキシル基に対して０．０５〜１モル当量付加させることが好ましい。
【００４７】
感光性ペースト中の感光性ポリマー、感光性オリゴマーおよびバインダーからなるポリマー成分の量としては、パターン形成性、焼成後の収縮率の点で優れていることから、ガラス粉末と感光性成分の和に対して、５〜３０重量％であることが好ましい。この範囲外では、パターン形成が不可能もしくは、パターンの太りがでるため好ましくない。
【００４８】
光重合開始剤の具体的な例として、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾインおよびエオシン、メチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノールアミンなどの還元剤の組み合わせなどがあげられる。本発明ではこれらを１種または２種以上使用することができる。
【００４９】
光重合開始剤は、感光性成分に対し、０．０５〜２０重量％の範囲で添加され、より好ましくは、０．１〜１５重量％である。重合開始剤の量が少なすぎると、光感度が不良となり、光重合開始剤の量が多すぎれば、露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれがある。
【００５０】
紫外線吸収剤を添加することも有効である。紫外線吸収効果の高い化合物を添加することによって高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外線吸収剤としては有機系染料からなるもの、中でも３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する有機系染料が好ましく用いられる。具体的には、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系、ベンゾフェノン系、ジフェニルシアノアクリレート系、トリアジン系、ｐ−アミノ安息香酸系染料などが使用できる。有機系染料は吸光剤として添加した場合にも、焼成後の絶縁膜中に残存しないで吸光剤による絶縁膜特性の低下を少なくできるので好ましい。これらの中でもアゾ系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。
【００５１】
有機染料の添加量はガラス粉末に対して０．０５〜１重量部が好ましい。０．０５重量％以下では紫外線吸光剤の添加効果が減少し、１重量％を越えると焼成後の絶縁膜特性が低下するので好ましくない。より好ましくは０．１〜０．１８重量％である。
【００５２】
有機染料からなる紫外線吸光剤の添加方法の一例を上げると、有機染料を予め有機溶媒に溶解した溶液を作製し、それをペースト作製時に混練する方法以外に、該有機溶媒中にガラス微粒子を混合後、乾燥する方法があげられる。この方法によってガラス微粒子の個々の粒子表面に有機の膜をコートしたいわゆるカプセル状の微粒子が作製できる。
【００５３】
増感剤は、感度を向上させるために添加される。増感剤の具体例としては、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾールなどがあげられる。本発明ではこれらを１種または２種以上使用することができる。なお、増感剤の中には光重合開始剤としても使用できるものがある。増感剤を本発明の感光性ペーストに添加する場合、その添加量は感光性成分に対して通常０．０５〜１０重量％、より好ましくは０．１〜１０重量％である。増感剤の量が少なすぎれば光感度を向上させる効果が発揮されず、増感剤の量が多すぎれば露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれがある。
【００５４】
重合禁止剤は、保存時の熱安定性を向上させるために添加される。重合禁止剤の具体的な例としては、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロラニール、ピロガロールなどが挙げられる。重合禁止剤を添加する場合、その添加量は、感光性ペースト中に、通常、０．００１〜１重量％である。
【００５５】
可塑剤の具体的な例としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコール、グリセリンなどがあげられる。
【００５６】
感光性ペーストの粘度を調整したい場合、有機溶媒を加えてもよい。このとき使用される有機溶媒としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が用いられる。
【００５７】
また、誘電体層用ペースト中にラジカル重合性モノマーおよびラジカル重合開始剤を添加することによって、熱重合性のペーストを得ることができる。ペーストを塗布後に加熱して架橋構造を得ることができる。この場合は、ラジカル重合性モノマーの具体的な例としては、エチレン、スチレン、ブタジエン、塩化ビニル、酢酸ビニル、アクリル酸、アクリル酸メチル、メチルビニルケトン、アクリルアミド、アクリロニトリル等がある。ラジカル開始剤としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、過硫酸カリウム、アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイル−ジメチルアニリン等があげられる。
【００５８】
また誘電体ペースト中に有機染料等の紫外線吸収剤を添加することによって、隔壁をパターン加工する際に露光した場合の誘電体表面からの反射・散乱によるパターン不良を抑制することができる。つまり、誘電体用ペーストのｇ線における全光線透過率Ｔ１と隔壁用感光性ペーストの全光線透過率Ｔ２の間に、Ｔ１＜Ｔ２の関係が成り立つ場合には、隔壁パターンが良好に形成できる。用いる紫外線吸収剤としては、前述の化合物を用いることができる。
【００５９】
上記の各成分を混合した後、プラネタリーミキサーや三本ローラーなどで混練して誘電体および隔壁用のペーストを作製することができる。
【００６０】
次に、本発明のＰＤＰ用基板の作製工程の例を述べる。ただし、本発明は、これに限定されるものではない。
【００６１】
本発明のＰＤＰ用基板に用いるペーストは、上記の無機および有機の各種成分を所定の組成となるように調合した後、３本ローラーや混練機で均質に混合分散し作製する。
【００６２】
ペーストの粘度は無機微粒子、増粘剤、有機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの添加割合によって適宜調整されるが、その範囲は２０００〜２０万ｃｐｓ（センチ・ポイズ）である。例えばガラス基板への塗布をスクリーン印刷法以外にスピンコート法で行う場合は、２００〜５０００ｃｐｓが好ましい。スクリーン印刷法で１回塗布して膜厚１０〜２０μｍを得るには、４０００〜２０万ｃｐｓが好ましい。
【００６３】
電極を形成したガラス基板の上に、誘電体層用ペーストを５〜４０μｍの厚みで塗布する。
【００６４】
ここでペーストを基板上に塗布する場合、基板と塗布膜との密着性を高めるために基板の表面処理を行うことができる。表面処理液としてはシランカップリング剤、例えばビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、トリス−（２−メトキシエトキシ）ビニルシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタクリロキシプロピル）トリメトキシシラン、γ（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシランなどあるいは有機金属例えば有機チタン、有機アルミニウム、有機ジルコニウムなどである。シランカップリング剤あるいは有機金属を有機溶媒、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコールなどで０．１〜５％の濃度に希釈したものを用いる。次にこの表面処理液をスピナーなどで基板上に均一に塗布した後に８０〜１４０℃で１０〜６０分間乾燥することによって表面処理ができる。
【００６５】
誘電体層用ペーストの塗布の後、ペースト中の溶媒を除去するため、乾燥を行う。次に、誘電体層用ペースト中に、光もしくは熱重合性の成分が含まれる際は、光、または加熱により硬化し、隔壁パターン形成の際の現像液による浸食を防ぐ。
【００６６】
形成した誘電体層上に隔壁パターンを塗布する。この場合、直接感光性ペーストを全面塗布、もしくは部分的に塗布した後パターニングする方法と、ポリマー製フィルムの上に感光性ペーストを塗布、パターニングしたものを誘電体層上に転写する方法がある。塗布方法としては、スクリーン印刷、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、ブレードコーター等の方法を用いることができる。塗布厚みは、塗布回数、ペーストの粘度を選ぶことによって調整できる。
【００６７】
塗布した後、露光装置を用いて露光を行う。露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する方法が一般的である。用いるマスクは、感光性有機成分の種類によって、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。また、フォトマスクを用いずに、赤色や青色のレーザー光などで直接描画する方法を用いても良い。
【００６８】
露光装置としては、ステッパー露光機、プロキシミティ露光機等を用いることができる。また、大面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基板上に感光性ペーストを塗布した後に、搬送しながら露光を行うことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積を露光することができる。
【００６９】
この際使用される活性光源は、たとえば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー光などが挙げられるが、これらの中で紫外線が好ましく、その光源としてはたとえば低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。露光条件は塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ／cm2 の出力の超高圧水銀灯を用いて０．５〜３０分間露光を行う。
【００７０】
塗布した感光性ペースト表面に酸素遮蔽膜を設けることによって、パターン形状を向上することができる。酸素遮蔽膜の一例としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）やセルロースなどの膜、あるいは、ポリエステルなどのフィルムが上げられる。
【００７１】
ＰＶＡ膜の形成方法は濃度が０．５〜５重量％の水溶液をスピナーなどの方法で基板上に均一に塗布した後に７０〜９０℃で１０〜６０分間乾燥することによって水分を蒸発させて行う。また水溶液中にアルコールを少量添加すると絶縁膜との塗れ性が良くなり蒸発が容易になるので好ましい。さらに好ましいＰＶＡの溶液濃度は、１〜３重量％である。この範囲にあると感度が一層向上する。ＰＶＡ塗布によって感度が向上するのは次の理由が推定される。すなわち感光性成分が光反応する際に、空気中の酸素があると光硬化の感度を妨害すると考えられるが、ＰＶＡの膜があると余分な酸素を遮断できるので露光時に感度が向上すると考えられる。
【００７２】
ポリエステルやポリプロピレン、ポリエチレン等の透明なフィルムを用いる場合は、塗布後の感光性ペーストの上に、これらのフィルムを張り付けて用いる方法もある。
【００７３】
露光後、感光部分と非感光部分の現像液に対する溶解度差を利用して、現像を行うが、この場合、浸漬法、シャワー法、スプレー法、ブラシ法で行う。
【００７４】
用いる現像液は、感光性ペースト中の有機成分が溶解可能である有機溶媒を使用できる。また該有機溶媒にその溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。感光性ペースト中にカルボキシル基等の酸性基を持つ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。アルカリ水溶液として水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム、水酸化カルシウム水溶液などのような金属アルカリ水溶液を使用できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいので好ましい。
【００７５】
有機アルカリとしては、アミン化合物を用いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は通常０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が低すぎると可溶部が除去されず、アルカリ濃度が高すぎると、パターン部を剥離させ、また非可溶部を腐食させるおそれがあり好ましくない。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
【００７６】
次に焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気や、温度はペーストや基板の種類によって異なるが、空気中、窒素、水素等の雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式もしくはローラーハース式の連続型焼成炉を用いることができる。ガラス基板上にパターン加工する場合は、５４０〜６１０℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行う。
【００７７】
また、以上の塗布や露光、現像、焼成の各工程中に、乾燥、予備反応の目的で、５０〜３００℃加熱工程を導入しても良い。
【００７８】
次に、赤、青、緑の各色を発光する蛍光体ペーストをスクリーン印刷でパターン印刷することにより、フルカラー表示可能なＰＤＰ用の背面基板を作製することができる。
【００７９】
本発明におけるガラス材質の光線透過率および屈折率測定は、感光性ペースト法で露光する光の波長で測定することが効果を確認する上で正確である。特に、３５０〜６５０ｎｍの範囲の波長の光で測定することが好ましい。さらには、ｉ線（３６５ｎｍ）もしくはｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率測定が好ましい。光線透過率は分光光度計、屈折率測定方法としては、エリプソ法やＶブロック法、ベッケ法を用いることができる。
【００８０】
【実施例】
以下に、本発明を実施例を用いて、具体的に説明する。ただし、本発明はこれに限定はされない。なお、実施例、比較例中の濃度（％）は特にことわらない限り重量％である。評価方法は、黄色度はスガ試験機社製のカラーコンピューターを用いて反射法により測定した。基板のそり量は東京精密社製の表面粗さ計を用いて測定した。基板の割れについては、前面基板、背面基板の封着時に割れた場合は×、割れない場合は○として評価を行った。
【００８１】
基板ガラスの反りについては、以下のように規定した。反り量はガラス基板の曲率半径の逆数によって規定することができ、すなわち、反り量は曲率半径に反比例する。反り量の正負の値は基板の反る方向を表す。
【００８２】
ガラス基板の曲率半径は、種々の方法で測定できるが、表面荒さ計を用い、ガラス基板面のうねりを測定する方法がもっとも簡便である。測定長さ（Ｌ）、曲線の最大偏差（Ｈ）の間にはＬがＨに対して十分大きい値の時以下の関係が成り立つ。
Ｒ＝Ｌ２／８Ｈ
【００８３】
実施例１
下記に示す各溶媒およびポリマー１を４０％溶液となるように混合し、攪拌しながら６０℃まで加熱し、すべてのポリマーを均質に溶解させた。
【００８４】
ポリマー１：４０％のメタアクリル酸（ＭＡＡ）、３０％のメチルメタアクリレート（ＭＭＡ）および３０％のスチレン（Ｓｔ）からなる共重合体のカルボキシル基に対して０．４当量のグリシジルメタアクリレート（ＧＭＡ）を付加反応させた重量平均分子量４３０００、酸価９５の感光性ポリマー。
【００８５】
ついで溶液を室温まで冷却し、以下に示す有機成分を構成する各成分を下記に示す割合になるように加えて溶解させ有機成分を得た。その後、この溶液を４００メッシュのフィルターを用いて濾過し、有機ビヒクルを作製した。
【００８６】
有機染料：スダン：アゾ系有機染料（化学式Ｃ24Ｈ20Ｎ4 Ｏ）      ０．５ｇ
モノマー：ＴＭＰＴＡ（トリメチロールプロパントリアクリレート）１５０ｇ
ポリマー：ポリマー１                                          １５０ｇ
開始剤：チバガイギー社製  イルガキュア３６９                    ３０ｇ
増感剤：２，４−ジエチルチオキサントン                          ３０ｇ
増感助剤：ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル              ２０ｇ
可塑剤：ジブチルフタレート（ＤＢＰ）                            ５０ｇ
溶媒：γ−ＢＬ：ガンマブチロラクトン                          ３００ｇ
得られた有機ビヒクル４０ｇに下記に示すガラス粉末Ａ６０ｇを添加し、混練機で混練することにより誘電体層用ペーストを製造した。ガラス粉末は、あらかじめアトラクターにて微粉末にしたものを用いた。
【００８７】
上記有機ビヒクル４０ｇにガラス粉末Ｂ６０ｇを添加し、混練機で混練することにより隔壁用感光性ペーストを製造した。ガラス粉末は、あらかじめアトラクターにて微粉末にしたものを用いた。
【００８８】
ガラス粉末Ａ：組成  Ｂi2Ｏ3  ３８％、ＳｉＯ2  ７％、Ｂ2Ｏ3  １９％、ＢａＯ  １２％、Ａｌ2Ｏ3  ３％、ＺｎＯ  ２１％。平均粒径３．４μｍの非球状粉末。Ｔｇ  ４７６℃、Ｔｓ  ５２５℃。熱膨張係数  ７７×１０-7／°Ｋ。ｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率  １．７５。
【００８９】
ガラス粉末Ｂ：組成  Ｌi2Ｏ  ９％、ＳｉＯ2  ２０％、Ｂ2Ｏ3  ３１％、ＢａＯ  ４％、Ａｌ2Ｏ3  ２４％、ＺｎＯ  ２％、ＭｇＯ  ６％、ＣａＯ  ４％。平均粒径２．６μｍの非球状粉末。Ｔｇ（ガラス転移点）４８０℃、Ｔｓ（軟化点）５２０℃。熱膨張係数  ７９×１０-7／°Ｋ。ｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率１．５８。
【００９０】
感光性銀ペーストを用いて、ピッチ１５０μm、線幅４０μmのストライプ状電極を形成した３００ｍｍ角のガラス基板（旭硝子社製ＰＤ−２００）上に、上記の誘電体ペーストをスクリーン印刷により３０μmの厚みになるように全面塗布し、８０℃で３０分乾燥後、超高圧水銀灯で１Ｊ／ｃｍ2の露光量で、光照射を行った。
【００９１】
次に、上記の隔壁ペーストを３５０μm厚み（乾燥後厚み：１８０μm）になるように塗布した後、８０℃で４０分乾燥後、ピッチ１５０μｍ、線幅２０μｍのストライプ状のネガマスクを介して、上面から５０ｍＷ／ｃｍ2 出力の超高圧水銀灯でマスク紫外線露光した。露光量は１．５Ｊ／ｃｍ2 であった。
【００９２】
次に、３５℃に保持したモノエタノールアミンの０．３重量％の水溶液を８５秒間（実施例３のみ７０秒間）シャワーすることにより現像し、その後シャワースプレーを用いて水洗浄し、光硬化していないスペース部分を除去してストライプ状の隔壁パターンを形成した。このようにして誘電体層および隔壁を形成したガラス基板を、空気中で５７０℃で３０分間焼成を行い、隔壁を作製した。
【００９３】
次に、ＲＧＢ各色蛍光体を用いた蛍光体ペーストをスクリーン印刷によって、パターン印刷してプラズマディスプレイ背面基板を作製した。また、ガラス基板上に、透明電極、バス電極、誘電体層、保護膜（ＭｇＯ）を形成した前面基板と封着ガラスを用いて封着を行った。封着時の温度は４５０℃である。作製したＰＤＰ用背面基板の評価結果を表１に示す。
【００９４】
実施例２
誘電体ペースト用のガラスとして、次に示すガラス粉末Ｃを用いて作製した以外は、実施例１と同様に基板を作製した。作製したＰＤＰ用背面基板の評価結果を表１に示す。
【００９５】
ガラス粉末Ｃ：組成  Ｂi2Ｏ3  ２７％、ＳｉＯ2  １４％、Ｂ2Ｏ3  １８％、ＢａＯ  １４％、Ａｌ2Ｏ3  ４％、ＺｎＯ  ２１％、Ｎａ2Ｏ  ２％。平均粒径３．４μｍの非球状粉末。Ｔｇ  ４８６℃、Ｔｓ  ５３１℃。熱膨張係数  ７４×１０-7／°Ｋ。ｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率  １．７５。
【００９６】
比較例１
誘電体ペースト用のガラスとして、ガラス粉末Ｂを用いて作製した以外は、実施例１と同様に基板を作製した。作製したＰＤＰ用背面基板の評価結果を表１に示す。
【００９７】
比較例２
誘電体ペースト用のガラスとして、次に示すガラス粉末Ｄを用いて作製した以外は、実施例１と同様に基板を作製した。作製したＰＤＰ用背面基板の評価結果を表１に示す。
【００９８】
ガラス粉末Ｄ：組成  Ｌｉ2Ｏ  ３％、Ｋ2Ｏ  ６％、ＳｉＯ2  ２１％、Ｂ2Ｏ3  ３３％、ＢａＯ  ４％、Ａｌ2Ｏ3  ２０％、ＺｎＯ  １３％。平均粒径２．６μｍの非球状粉末。Ｔｇ（ガラス転移点）４７３℃、Ｔｓ（軟化点）５２０℃。熱膨張係数  ７９×１０-7／°Ｋ。ｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率１．６０。
【００９９】
【表１】
0004159002.tif 000002
【０１００】
【発明の効果】
本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、焼成の際の隔壁の剥がれが生じないため、高精細のＰＤＰを歩留まりよく製造できるようになる。これにより高精細のプラズマディスプレイを提供することができる。