(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式
【化１】
0004132671.tif 000045
［式中、Ｒ1はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ6アルキルおよびＣ1−Ｃ6アルコキシからなる群より選択される１〜３個の置換基であり；
Ｒ2は水素、または
【化２】
0004132671.tif 000046
（式中、Ｒ3は水素、Ｃ1−Ｃ4アルキルおよび−ＣＦ3からなる群より選択される）からなる群より選択される基であり；
Ａｒ1は
【化３】
0004132671.tif 000047
（式中、Ｒ4はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、ヒドロキシ、−ＣＦ3、Ｃ1−Ｃ6アルキルおよびＣ1−Ｃ6アルコキシからなる群より選択される１〜３個の置換基であり；
Ｒ5はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ6アルキルおよびＣ1−Ｃ6アルコキシからなる群より選択される１〜２個の置換基である）からなる群より選択される基であり；
Ａｒ2は
【化４】
0004132671.tif 000048
（式中、Ｒ6はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、−ＣＦ3、Ｃ1−Ｃ6アルキルおよびＣ1−Ｃ6アルコキシからなる群より選択される１〜３個の置換基であり；
Ｒ7はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ6アルキルおよびＣ1−Ｃ6アルコキシからなる群より選択される１〜２個の置換基である）からなる群より選択される基であり；
Ｘは
【化５】
0004132671.tif 000049
（式中、Ｙは−Ｏ−または−ＣＨ2−であり；
ｐは１〜４の整数であり；
Ｒ10は水素およびＣ1−Ｃ6アルキルからなる群より選択される）からなる群より選択される基である］
の化合物、その立体異性体および製薬上許容しうる塩。
【請求項２】
Ｒ1は３,４,５−トリメトキシである請求項１記載の化合物。
【請求項３】
Ｒ2は
【化６】
0004132671.tif 000050
（式中、Ｒ3は水素である）基である請求項１記載の化合物。
【請求項４】
Ｒ1は２−メトキシであり、Ｒ2は５−位の
【化７】
0004132671.tif 000051
（式中、Ｒ3は水素である）基である請求項１記載の化合物。
【請求項５】
Ａｒ1は
【化８】
0004132671.tif 000052
（式中、Ｒ4は請求項１で定義された通りである）基である請求項１記載の化合物。
【請求項６】
Ａｒ1はフェニル、３,４−ジクロロフェニルおよび４−フルオロフェニルからなる群より選択される請求項１記載の化合物。
【請求項７】
Ａｒ2はフェニルである請求項１記載の化合物。
【請求項８】
Ｘは
【化９】
0004132671.tif 000053
（式中、ｐおよびＲ10は請求項１で定義された通りである）基である請求項１記載の化合物。
【請求項９】
ｐは１である請求項８記載の化合物。
【請求項１０】
ｐは２である請求項８記載の化合物。
【請求項１１】
Ｒ10は水素である請求項９または１０記載の化合物。
【請求項１２】
Ｒ10はエチルである請求項９または１０記載の化合物。
【請求項１３】
Ｘは
【化１０】
0004132671.tif 000054
（式中、ｐは１または２であり、Ｒ10は水素およびエチルからなる群より選択される）基である請求項２、３、４、５、６または７の何れかの項記載の化合物。
【請求項１４】
Ｒ1は３,４,５−トリメトキシであり、Ａｒ1は
【化１１】
0004132671.tif 000055
（式中、Ｒ4は請求項１で定義された通りである)基であり、Ａｒ2はフェニルであり、そしてＸは
【化１２】
0004132671.tif 000056
（式中、ｐは１または２であり、Ｒ10は水素およびエチルからなる群より選択される）基である請求項１記載の化合物。
【請求項１５】
Ｒ2は
【化１３】
0004132671.tif 000057
（式中、Ｒ3は水素である）基であり、Ａｒ1は
【化１４】
0004132671.tif 000058
（式中、Ｒ4は請求項１で定義された通りである）基であり、Ａｒ2はフェニルであり、そしてＸは
【化１５】
0004132671.tif 000059
（式中、ｐは１または２であり、Ｒ10は水素およびエチルからなる群より選択される）基である請求項１記載の化合物。
【請求項１６】
Ｒ1は２−メトキシであり、Ｒ2は５−位の
【化１６】
0004132671.tif 000060
（式中、Ｒ3は水素である）基であり、Ａｒ1はフェニル、３,４−ジクロロフェニルおよび４−フルオロフェニルからなる群より選択され、Ａｒ2はフェニルであり、そしてＸは
【化１７】
0004132671.tif 000061
（式中、ｐおよびＲ10は請求項１で定義された通りである）基である請求項１記載の化合物。
【請求項１７】
ｐは１または２であり、Ｒ10は水素である請求項１６記載の化合物。
【請求項１８】
ｐは１または２であり、Ｒ10はエチルである請求項１６記載の化合物。
【請求項１９】
化合物が(Ｒ)−または(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド）ピペリジン−１−イル）−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル）−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミドまたはその混合物である請求項１記載の化合物。
【請求項２０】
請求項１記載の化合物および製薬上許容しうる担体を含有する医薬組成物。
【請求項２１】
請求項１記載の化合物からなるタキキニン受容体アンタゴニスト。
【請求項２２】
喘息治療用医薬の製造における請求項１記載の化合物の使用。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は新規なカルボキシ置換非環式カルボキサミド誘導体（以後化合物または式(１)の化合物と称する）、その立体異性体および製薬上許容しうる塩、並びにそれらのタキキニン受容体アンタゴニストとしての使用に関する。そのようなアンタゴニストは本明細書で開示したタキキニンが関与する疾患および症状、例えば喘息、咳および気管支炎の治療において有用である。
【０００２】
本発明は式(１)
【化１８】
0004132671.tif 000002
［式中、Ｒ1はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ6アルキルおよびＣ1-Ｃ6アルコキシからなる群より選択される１〜３個の置換基であり；
Ｒ2は水素、または
【化１９】
0004132671.tif 000003
（式中、Ｒ3は水素、Ｃ1−Ｃ4アルキルおよび−ＣＦ3からなる群より選択される）からなる群より選択される基であり；
【０００３】
Ａｒ1は
【化２０】
0004132671.tif 000004
（式中、Ｒ4はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、ヒドロキシ、−ＣＦ3、Ｃ1−Ｃ6アルキルおよびＣ1−Ｃ6アルコキシからなる群より選択される１〜３個の置換基であり；
Ｒ5はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ6アルキルおよびＣ1−Ｃ6アルコキシからなる群より選択される１〜２個の置換基である）からなる群より選択される基であり；
【０００４】
Ａｒ2は
【化２１】
0004132671.tif 000005
（式中、Ｒ6はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、−ＣＦ3、Ｃ1−Ｃ6アルキルおよびＣ1−Ｃ6アルコキシからなる群より選択される１〜３個の置換基であり；
Ｒ7はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ6アルキルおよびＣ1−Ｃ6アルコキシからなる群より選択される１〜２個の置換基である）からなる群より選択される基であり；
【０００５】
Ｘは
【化２２】
0004132671.tif 000006
（式中、Ｙは−Ｏ−または−ＣＨ2−であり；
ｐは１〜４の整数であり；
Ｒ10は水素およびＣ1−Ｃ6アルキルからなる群より選択される）からなる群より選択される基である］
の新規なカルボキシ置換非環式カルボキサミド誘導体、その立体異性体および製薬上許容しうる塩に関する。
【０００６】
当業者により理解されるように、式(１)の化合物は立体異性体として存在する。本明細書において、式(１)の化合物は特定の立体異性体または立体異性体の混合物を包含する。本化合物は旋光性については(＋)−および(−)−表示法に従って、また式(１)により表される化合物およびその中間体の立体化学については(Ｒ)−および(Ｓ)−のカーン・インゴールド・プレローグ表示法に従って表示される。特に、本発明の新規なカルボキシ置換非環式カルボキサミド誘導体はゴチルの２−位、すなわちＡｒ1置換基の結合点で不斉であり、(Ｒ)−または(Ｓ)−配置で存在するか、あるいはその混合物である。また、本発明の新規な置換非環式カルボキサミド誘導体は複素環式カルボキサミド上のカルボキシ置換基の結合点で不斉であってもよく、そしてその結合点で不斉である場合は(Ｒ)−または(Ｓ)−配置で存在するか、あるいはその混合物である。
【０００７】
特定の立体異性体は立体特異的合成により得られたエナンチオマー的に純粋なまたはエナンチオマー的に濃縮された出発物質を使用して製造することができる。出発物質または生成物の特定の立体異性体は当該技術分野で知られている方法、例えばキラルな固定相でのクロマトグラフィー、酵素的分割、または本目的のために使用される試薬により生成した付加塩の分別再結晶により分割し、回収することができる。特定の立体異性体を分割し、回収するための有用な方法は当該技術分野で知られており、E.L. ElielおよびS.H. Wilenの「有機化合物の立体化学」、Wiley (1994年)、並びにJ. Jacques、A. ColletおよびS.H. Wilenの「エナンチオマー、ラセミ化合物および分割」、Wiley (1981年）に記載されている。
【０００８】
本明細書で使用される用語：
ａ) 「ハロゲン」なる用語はフッ素原子、塩素原子、臭素原子または沃素原子を意味する；
ｂ) 「Ｃ1−Ｃ6アルキル」なる用語は１〜６個の炭素原子を含有する分枝状または直鎖状アルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどを意味する；
ｃ) 「Ｃ1−Ｃ6アルコキシ」なる用語は１〜６個の炭素原子を含有する分枝状または直鎖状アルコキシ基、例えばメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｔ−ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシ、シクロペントキシ、シクロヘキソキシなどを意味する；
ｄ) 実施例および製造例で使用される次の用語は下記の意味を有する：「kg」はキログラムを意味し、「ｇ」はグラムを意味し、「mg」はミリグラムを意味し、「μg」はミクログラムを意味し、「mol」はモルを意味し、「mmol」はミリモルを意味し、「nmole」はナノモルを意味し、「Ｌ」はリットルを意味し、「mL」または「ml」はミリリットルを意味し、「μL」はミクロリットルを意味し、「℃」は摂氏温度を意味し、「Ｒf」は保持因子を意味し、「mp」は融点を意味し、「dec」は分解を意味し、「bp」は沸点を意味し、「mmHg」は水銀柱の高さ(ミリメートル)で示した圧力を意味し、「cm」はセンチメートルを意味し、「nm」はナノメートルを意味し、「[α]」は１デシメートルのセルで得られた２０℃でのナトリウムのＤ線の比旋光度を意味し、「ｃ」はｇ／mlで示した濃度を意味し、「ＴＨＦ」はテトラヒドロフランを意味し、「ＤＭＦ」はジメチルホルムアミドを意味し、「ブライン」は飽和塩化ナトリウム水溶液を意味し、「Ｍ」はモルを意味し、「mM」はミリモルを意味し、「μM」はミクロモルを意味し、「nM」はナノモルを意味し、「psi」は１平方インチあたりのポンドを意味し、「ＴＬＣ」は薄層クロマトグラフィーを意味し、「ＨＰＬＣ」は高速液体クロマトグラフィーを意味し、「ＨＲＭＳ」は高分解能質量スペクトルを意味し、「μCi」はミクロキュリーを意味し、「i.p.」は腹腔内を意味し、「i.v.」は静脈内を意味し、そして「ＤＰＭ」は１分あたりの崩壊数を意味する；
【０００９】
ｅ) 表示
【化２３】
0004132671.tif 000007
はフェニルまたは置換フェニルを意味し、この基は１−位で結合し、Ｒにより表される置換基（複数可）は２、３、４、５または６−位の何れかで結合することができる；
ｆ) 表示
【化２４】
0004132671.tif 000008
はピリジン、置換ピリジン、ピリジルまたは置換ピリジルを意味し、この基は2-位、３−位または４−位の何れかで結合することができ、さらにこの基が２−位で結合する場合、Ｒにより表される置換基（複数可）は３、４、５または６−位の何れかで結合することができ、この基が３−位で結合する場合、Ｒにより表される置換基（複数可）は２、４、５または６−位の何れかで結合することができ、そしてこの基が４−位で結合する場合、Ｒにより表される置換基(複数可)は２、３、５または６−位の何れかで結合することができる；
【００１０】
ｇ) 表示
【化２５】
0004132671.tif 000009
はチオフェンまたはチエニルを意味し、この基は２または３−位で結合する；
ｈ) 表示
【化２６】
0004132671.tif 000010
はナフタレン、置換ナフタレン、ナフチルまたは置換ナフチルを意味し、この基は１−位または２−位の何れかで結合することができ、さらにこの基が１−位で結合する場合、Ｒにより表される置換基（複数可）は２、３、４、５、６、７または８−位の何れかで結合することができ、そしてこの基が2-位で結合する場合、Ｒにより表される置換基（複数可）は１、３、４、５、６、７または８−位の何れかで結合することができる；
【００１１】
ｉ) 「鏡像異性体過剰率」または「ｅｅ」なる用語は２種のエナンチオマーの混合物Ｅ1＋Ｅ2において一方のエナンチオマーＥ1が過剰に存在する百分率、すなわち
｛(Ｅ1−Ｅ2)−(Ｅ1＋Ｅ2)｝×１００％＝ｅｅ
を意味する；
ｊ) 「Ｃ1−Ｃ4アルキル」なる用語は１〜４個の炭素原子を含有する直鎖状または分枝鎖状飽和アルキル基を意味し、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、イソブチルおよびｔ−ブチルを含む；
0004132671.tif 000011
ｎ) 「その製薬上許容しうる塩」なる用語は酸付加塩または塩基付加塩の何れかを意味する。
【００１２】
「製薬上許容しうる酸付加塩」なる表現は式（１）により表される塩基化合物またはそれらの中間体の非毒性の有機または無機酸付加塩を意味する。適当な塩を生成する無機酸の例には塩酸、臭化水素酸、硫酸およびリン酸、並びにオルトリン酸一水素ナトリウムおよび硫酸水素カリウムのような酸金属塩がある。適当な塩を生成する有機酸の例にはモノ−、ジ−およびトリカルボン酸がある。このような酸の例は酢酸、グリコール酸、乳酸、ピルビン酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、フマル酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、アスコルビン酸、マレイン酸、ヒドロキシマレイン酸、安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、フェニル酢酸、ケイ皮酸、サリチル酸、２−フェノキシ安息香酸、ｐ−トルエンスルホン酸、およびメタンスルホン酸や２−ヒドロキシエタンスルホン酸のようなスルホン酸である。このような塩は水和物または実質的に無水の形態で存在しうる。一般に、これらの化合物の酸付加塩は水および種々の親水性有機溶媒に可溶であり、それらの遊離塩基形態と比較して一般により高い融点を有する。
【００１３】
「製薬上許容しうる塩基付加塩」なる表現は式（１）により表される化合物またはそれらの中間体の非毒性の有機または無機塩基付加塩を意味する。適当な塩を生成する塩基の例にはアルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムまたは水酸化バリウム; アンモニア、および脂肪族、脂環式または芳香族の有機アミン、例えばメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、およびピコリンがある。
【００１４】
特定の有用性を有する構造的に関連のある化合物と同様に、式(１)の化合物に関して特定の基および置換基配置が好ましい。好ましい態様を下記に示す：
１) Ｒ2は水素であり、Ｒ1は３,４,５−トリメトキシである化合物が好ましい；
２) Ｒ2は
【化２７】
0004132671.tif 000012
基である化合物が好ましい；
３) Ｒ2は
【化２８】
0004132671.tif 000013
（式中、Ｒ3は水素である）基である化合物がより好ましい；
【００１５】
４) Ｒ1は２−メトキシであり、Ｒ2は５−位にあり、
【化２９】
0004132671.tif 000014
（式中、Ｒ3は水素である）基である化合物が最も好ましい；
５) Ａｒ1は
【化３０】
0004132671.tif 000015
（式中、Ｒ4およびＲ5は上記で定義された通りである）からなる群より選択される基である化合物が好ましい；
【００１６】
６) Ａｒ1は
【化３１】
0004132671.tif 000016
（式中、Ｒ4は上記で定義された通りである）基である化合物がより好ましい；
７) Ａｒ1はフェニル、３,４−ジクロロフェニルまたは４−フルオロフェニルである化合物が最も好ましい；
８) Ｘは
【化３２】
0004132671.tif 000017
（式中、Ｒ10およびｐは上記で定義された通りである）基である化合物が好ましい；
【００１７】
９) Ｘは
【化３３】
0004132671.tif 000018
（式中、ｐは１または２である）基である化合物がより好ましい；
１０) Ｘは
【化３４】
0004132671.tif 000019
（式中、Ｒ10は水素またはエチルである）基である化合物がより好ましい。
【００１８】
式(１)のさらに好ましい態様は好ましい態様１〜１０の１つ以上を要求することにより、または本明細書に記載の実施例を参照することにより選択できることは理解されよう。
【００１９】
本発明に包含される化合物の例には次の化合物が含まれる。例示した化合物は化合物の個々の異性体およびその混合物を包含する。このリストは単なる例示であり、本発明の範囲を決して制限するものではない：
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−フェニルブチル)ベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)ベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(４−フルオロフェニルフェニル)ブチル)ベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−フェニルブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(４−フルオロフェニルフェニル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−フェニルブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド；
【００２０】
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(４−フルオロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−フェニルブチル)ベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)ベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(４−フルオロフェニルフェニル)ブチル)ベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−フェニルブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド；
【００２１】
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(４−フルオロフェニルフェニル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−フェニルブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシエチルピペラジン−ｌ−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(４−フルオロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−フェニルブチル)ベンズアミド；
【００２２】
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)ベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(４−フルオロフェニルフェニル)ブチル)ベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−フェニルブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(４−フルオロフェニルフェニル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボキシメチルピペラジン−ｌ−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−フェニルブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボキシメチルピペラジン−ｌ−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド；
【００２３】
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボキシメチルピペラジン−ｌ−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(４−フルオロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−フェニルブチル)ベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)ベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(４−フルオロフェニルフェニル)ブチル)ベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−フェニルブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−カルボキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(４−フルオロフェニルフェニル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド；
【００２４】
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−フェニルブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド；
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(４−フルオロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド。
【００２５】
式(１)の化合物を製造するための一般合成手順を反応スキームＡ.１およびＡ.２に示す。反応スキームＡ.１およびＡ.２の試薬および出発物質は当業者にとって容易に入手できるものである。反応スキームＡ.１およびＡ.２において、特に断りがなければ、全ての置換基は前記で定義された通りである。
【００２６】
【化３５】
0004132671.tif 000020
【００２７】
反応スキームＡ.１の工程１において、構造式２の適当なアルコールのヒドロキシ基を適当な脱離基に変換して構造式２ａの化合物を得る。構造式２の適当なアルコールとはその立体化学が式(１)の最終生成物において所望される通りであり、そしてＲ1、Ｒ2およびＡｒ1が式(１)の最終生成物において所望される通りであるアルコールである。あるいは、構造式２の適当なアルコールはその立体化学が分割後に式(１)の最終生成物において所望される立体化学になり、そしてＲ1、Ｒ2およびＡｒ1が式(１)の最終生成物において所望される通りであるものであってよい。構造式２の適当なアルコールはその立体化学、Ｒ1およびＲ2が式(１)の最終生成物において所望される通りであり、そしてＡｒ1が脱保護により式(１)の最終生成物において所望される通りのＡｒ1になるものであってもよい。あるいは、構造式２の適当なアルコールはまた、その立体化学が分割後に式(１)の最終生成物において所望される立体化学になり、Ｒ1およびＲ2が式(１)の最終生成物において所望される通りであり、そしてＡｒ1が脱保護により式(１)の最終生成物において所望される通りのＡｒ1になるものであってよい。
【００２８】
構造式２の適当なアルコールは本明細書に記載の方法により、また当該技術分野でよく知られており、理解されている方法、例えば米国特許第5,317,020号および第5,236,921号; 1991年5月22日に公開された欧州特許出願番号0 428 434、1994年12月28日に公開された同0 630 887および1993年9月8日に公開された同0 559 538; 1994年8月4日に公開されたＰＣＴ出願番号WO 94／17045、1995年6月15日に公開された同WO 95／415961および1997年8月28日に公開された同WO 97／30991に記載の方法により製造することができる。
【００２９】
適当な脱離基Ｌ1は、構造式３のピペリジンで置換されて式(１)の化合物を与えるものである。適当な脱離基Ｌ1はクロロ、ブロモ、ヨード、メシレート、トシレート、ベンゼンスルホネートなどであるが、これらに限定されない。ヒドロキシ基のクロロ、ブロモ、ヨード、メシレート、トシレートおよびベンゼンスルホネートのような脱離基への変換は当該技術分野でよく知られており、認められている。
【００３０】
例えば、Ｌ1がブロモである化合物は構造式２の適当なアルコールを１.０〜１.５モル当量の四臭化炭素および１.０〜１.７５モル当量のトリフェニルホスフィンと接触させることにより製造される(P.J. KocienskiらのJ. Org. Chem., 42, 353-355(1977年))。反応は構造式２のアルコールを適当な溶媒、例えばジクロロメタンまたはクロロホルム中で四臭化炭素と混合し、次に適当な溶媒、例えばジクロロメタンまたはクロロホルム中におけるトリフェニルホスフィンの溶液を加えることにより行なわれる。一般に、反応は−１０℃〜周囲温度の温度で行なわれる。一般に、反応は５分〜２４時間要する。生成物は当該技術分野でよく知られている方法、例えば抽出、蒸発、摩砕、クロマトグラフィーおよび再結晶により単離し、精製することができる。
【００３１】
Ｌ1がブロモである化合物はまた、構造式２の適当なアルコールを僅かにモル過剰のトリフェニルホスフィンジブロミドと接触させることにより製造される(R.F. BorchらのJ. Am. Chem. Soc., 99, 1612-1619(1977年))。構造式２の適当なアルコールを予め製造したトリフェニルホスフィンジブロミドと接触させることにより反応を行なうことができる。反応は適当な溶媒、例えばテトラヒドロフランやジエチルエーテル中で行なわれる。反応は適当な塩基、例えばピリジンの存在下で行なわれる。一般に、反応は０℃〜５０℃の温度で行なわれる。一般に、反応は５分〜２４時間要する。生成物は当該技術分野でよく知られている方法、例えば抽出、蒸発、摩砕、クロマトグラフィーおよび再結晶により単離し、精製することができる。
【００３２】
あるいは、例えばＬ1がメシレートである化合物は構造式２の適当なアルコールをモル過剰の塩化メタンスルホニルと接触させることにより製造される。反応は適当な溶媒、例えばジクロロメタン、クロロホルム、トルエン、ベンゼンまたはピリジン中で行なわれる。反応は適当な塩基、例えばトリエチルアミン、Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンまたはピリジンの存在下で行なわれる。一般に、反応は−２０℃〜５０℃の温度で行なわれる。一般に、反応には１時間〜２４時間要する。生成物は当該技術分野でよく知られている方法、例えば抽出、蒸発、摩砕、クロマトグラフィーおよび再結晶により単離し、精製することができる。
【００３３】
Ｌ1がヨードである構造式２ａの化合物はＬ1がメシレート、クロロまたはブロモである構造式２ａの化合物から交換反応、例えばフィンケルシュタイン(Finkelstein)反応により製造することができる。
【００３４】
例えば、構造式２ａの化合物を約１.０〜１０.０モル当量の沃化物塩、例えば沃化ナトリウムと接触させ、または沃化カリウムを加えることもできる。反応は適当な溶媒、例えばアセトン、ブタノン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロフラン／水混合物、トルエンおよびアセトニトリル中で行なわれる。一般に、反応は周囲温度から溶媒の還流温度までの温度で行なわれる。一般に、反応には１時間〜２４時間要する。生成物は当該技術分野でよく知られている方法、例えば抽出、蒸発、摩砕、クロマトグラフィーおよび再結晶により単離し、精製することができる。
【００３５】
反応スキームＡ.１の工程２において、構造式２ａの化合物を構造式３の適当なピペリジンまたはその塩と反応させて式(１)の保護化合物または式(１)の化合物を得る。式３の適当なピペリジンはＡｒ2が式(１)の最終生成物において所望される通りであり、Ｘ′が脱保護後に式(１)の最終生成物において所望される通りのＸになるか、または脱保護および官能化後に式(１)の最終生成物において所望される通りのXになるものである。また、Ｘ′は式(１)の最終生成物においてＸに関して所望される立体化学を有してもよい。
【００３６】
例えば、構造式２ａの適当な化合物を式３の適当なピペリジンまたはその塩と接触させて式(１)の化合物または式(１)の保護化合物を得る。反応は適当な実質的に無水の溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ピリジン、アセトニトリル、トルエンまたはジメチルホルムアミド中で１.０〜６.０モル当量の適当な塩基、例えばトリエチルアミン、ピリジンまたはＮ,Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを使用して行なわれる。式３の適当なピペリジンの塩が使用される場合、追加のモル過剰の適当な塩基が使用される。反応は触媒量、すなわち約０.１〜０.５モル当量の沃化物塩、例えば沃化ナトリウムまたは沃化カリウムを加えて促進することができる。一般に、反応は周囲温度から溶媒の還流温度までの温度で行なわれる。一般に、反応には１〜７２時間要する。生成物は当該技術分野でよく知られている方法、例えば抽出、蒸発、摩砕、クロマトグラフィーおよび再結晶により単離し、精製することができる。
【００３７】
別法として、反応は適当な混合溶媒、例えばトルエン／水混合物、酢酸エチル／水混合物またはテトラヒドロフラン／水混合物中で１.０〜６.０モル当量の適当な塩基、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸カリウムまたは重炭酸カリウムを使用して行なわれる。上記のように、式３の適当なピペリジンの塩が使用される場合、追加のモル過剰の適当な塩が使用される。反応は触媒量、すなわち約０.１〜０.５モル当量の沃化物塩、例えば沃化ナトリウムまたは沃化カリウムを加えて促進することができる。一般に、反応は周囲温度から混合溶媒の還流温度までの温度で行なわれる。一般に、反応には１〜１５０時間要する。生成物は当該技術分野でよく知られている方法、例えば抽出、蒸発、摩砕、クロマトグラフィーおよび再結晶により単離し、精製することができる。
【００３８】
反応スキームＡの任意の工程３において、式(１)の保護化合物を脱保護し、または脱保護および官能化して式(１)の化合物を得る。脱保護反応、例えばT. Greeneの「有機合成の保護基」に記載のような適当な保護基を使用するカルボキシまたはヒドロキシ保護基の脱保護は当該技術分野でよく知られており、理解されている。脱保護および官能化にはエステルの加水分解、エステルの生成、エステル交換、活性中間体の生成、および反応スキームＣの工程３に記載のような適当なカルボキシ置換環状アミンを使用するアミドの生成が含まれる。当該技術分野で理解されているように、Ｘ′の脱保護後の官能化により製造された式(１)の化合物は式(１)の最終生成物を得るためにさらに脱保護する必要がある。
【００３９】
また、式(１)の化合物の製薬上許容しうる塩は式(１)の化合物から当該技術分野でよく知られており、理解されている方法および技術により容易に製造される。
【００４０】
【化３６】
0004132671.tif 000021
【００４１】
反応スキームＡ.２の工程１において、構造式２ｂの適当なアルデヒドを還元的アミノ化により構造式３の適当なピペリジンまたはその塩と反応させて式(１)の保護化合物または式(１)の化合物を得る。このような還元的アミノ化反応は当該技術分野でよく知られている;「生物有機化学および薬化学レターズ」, 3, 319-322(1993年)およびJ. Am. Chem. Soc., 93, 2897-2904(1971年)を参照。
【００４２】
構造式２ｂの適当なアルデヒドはその立体化学が式(１)の最終生成物において所望される通りであり、そしてＲ1、Ｒ2およびＡｒ1が式(１)の最終生成物において所望される通りであるアルデヒドである。あるいは、構造式２ｂの適当なアルデヒドはその立体化学が分割後に式(１)の最終生成物において所望される立体化学になり、そしてＲ1、Ｒ2およびＡｒ1が式(１)の最終生成物において所望される通りであるものであってよい。構造式２ｂの適当なアルデヒドはその立体化学、Ｒ1およびＲ2が式(１)の最終生成物において所望される通りであり、そしてＡｒ1が脱保護により式(１)の最終生成物において所望される通りのＡｒ1になるものであってもよい。別法として、構造式２ｂの適当なアルデヒドはまた、その立体化学が分割後に式(１)の最終生成物において所望される立体化学になり、Ｒ1およびＲ2が式(１)の最終生成物において所望される通りであり、そしてＡｒ1が脱保護により式(１)の最終生成物において所望される通りのＡｒ1になるものであってよい。
【００４３】
構造式２ｂの適当なアルデヒドは「生物有機化学および薬化学レターズ」, 3, 319-322(1993年)に記載のようにして同族アルケンからシス−ジオールの生成、その後の酸化的開裂により；または同様の方法、例えばJ. Am. Chem. Soc., 104, 1737(1982年)およびTet., 44, 5525(1988年)に記載の方法により；または当該技術分野でよく知られている方法に従って同族アルケンとオゾンを反応させることにより製造することができる。構造式２ｂの適当なアルデヒドは当該技術分野でよく知られており、理解されているスワーン(Swern)法により構造式２のアルコールを酸化して製造することができる。構造式３の適当なピペリジンまたはその塩は反応スキームＡ.１の工程２で記載したようなものである。
【００４４】
例えば、構造式２ｂの適当なアルデヒドを構造式３の適当なピペリジン化合物またはその塩と接触させて式(１)の保護化合物または式(１)の化合物を得る。反応は適当な溶媒、例えばメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、あるいはメタノールまたはエタノールおよびテトラヒドロフランの混合物中で行なわれる。反応は乾燥剤、例えば硫酸ナトリウムまたはモレキュラーシーブの存在下で行なうことができる。反応は１.０〜６.０モル当量の適当な還元剤、例えばホウ水素化ナトリウムまたはシアノホウ水素化ナトリウムの存在下で行なわれ、シアノホウ水素化ナトリウムが好ましい。有利には、適当な還元剤を加える前にシッフ塩基の生成を進行させる。一般に、反応は０℃から溶媒の還流温度までの温度で行なわれる。一般に、反応には１〜７２時間要する。生成物は当該技術分野でよく知られている方法、例えばろ過、抽出、蒸発、摩砕、クロマトグラフィーおよび再結晶により単離し、精製することができる。
【００４５】
反応スキームＡ.２の任意の工程２において、反応スキームＡ.１の任意の工程３に記載のように式(１)の保護化合物を脱保護し、または脱保護および官能化して式(１)の化合物を得る。
【００４６】
また、式(１)の化合物の製薬上許容しうる塩は式(１)の化合物から当該技術分野でよく知られており、理解されている方法および技術により容易に製造される。
【００４７】
構造式２のアルコールを製造するための一般合成手順を反応スキームＢに示す。反応スキームＢの試薬および出発物質は当業者にとって容易に入手可能である。スキームＢにおいて、特に断りがなければ、全ての置換基は前記で定義された通りである。
【００４８】
【化３７】
0004132671.tif 000022
反応スキームＢの工程１において、構造式５の適当なニトリルを構造式４の適当な保護アルコールでアルキル化して構造式６の４−(保護ヒドロキシ)ブチロニトリルを得る。
【００４９】
構造式５の適当なニトリルはＡｒ1が式(１)の最終生成物において所望される通りであるか、またはＡｒ1が脱保護後に式(１)の最終生成物において所望される通りのＡｒ1になるものである。構造式４の適当な保護アルコールは脱離基Ｌ2が構造式５の適当なニトリルから誘導されるアニオンで置換できるものである。好適な脱離基にはクロロ、ブロモ、ヨードおよびメシレートが含まれるが、これらに限定されない。ブロモおよびヨードが好ましい。T. Greeneの「有機合成の保護基」に記載のような好適なヒドロキシ保護基Ｐｇ1の選択および使用は当該技術分野でよく知られており、理解されている。テトラヒドロピラン−２−イルおよびｔ−ブチルジメチルシリルヒドロキシ保護基の使用が一般に好ましい。
【００５０】
例えば、構造式５の適当なニトリルを相転移触媒反応条件下で０.８〜１.２モル当量の構造式４の適当な保護アルコールと接触させる。反応は２〜１０倍モル過剰の適当な塩基、例えば水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムの存在下で行なわれる。反応は溶媒、例えば水、酢酸エチル／水混合物、ジクロロメタン／水混合物、またはテトラヒドロフラン／水混合物中で行なわれる。反応は適当な相転移触媒、例えば塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、臭化ベンジルトリエチルアンモニウム、沃化ベンジルトリエチルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジルトリブチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、沃化テトラブチルアンモニウム、硫酸水素テトラブチルアンモニウムなどの存在下で行なわれる。反応は一般に−２０℃〜６０℃の温度で行なわれる。一般に、反応には１〜７２時間要する。生成物は当該技術分野でよく知られている方法、例えば抽出、蒸発、摩砕、クロマトグラフィーおよび再結晶により単離し、精製することができる。
【００５１】
別法として、例えば、構造式５の適当なニトリルを１.０〜１.２モル当量の構造式４の適当な保護アルコールと接触させる。反応は等モル量の適当な塩基、例えば水素化ナトリウム、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド、カリウムビス(トリメチルシリル)アミド、カリウムｔ−ブトキシド、ｓ−ブチルリチウムおよびリチウムジイソプロピルアミドの存在下で行なわれる。反応は溶媒、例えばジメチルホルムアミドまたはテトラヒドロフラン中で行なわれる。反応は一般に−７８℃〜０℃の温度で行なわれる。一般に、反応には１〜７２時間要する。生成物は当該技術分野でよく知られている方法、例えば抽出、蒸発、蒸留、摩砕、クロマトグラフィーおよび再結晶により単離し、精製することができる。
【００５２】
反応スキームＢの工程２において、構造式６の４−(保護ヒドロキシ)ブチロニトリルを還元して構造式７のアミノ化合物を得る。
【００５３】
例えば、構造式６の４−(保護ヒドロキシ)ブチロニトリルを過剰の適当な還元剤、例えば塩化コバルト(II)六水和物の存在下でのホウ水素化ナトリウム、あるいはラネーニッケルまたは酸化白金のような適当な触媒の存在下での水素と接触させる。Ａｒ1がチエニルおよびピリジルである構造式６の化合物の場合、塩化コバルト(II)六水和物の存在下でのホウ水素化ナトリウムが好ましい。
【００５４】
塩化コバルトの存在下でのホウ水素化ナトリウムが使用される場合、反応は適当な溶媒、例えばメタノールまたはエタノール中で行なわれる。反応は一般に０℃〜５０℃の温度で行なわれる。一般に、反応には１〜７２時間要する。生成物は当該技術分野でよく知られている方法、例えば水性酸での抽出、蒸発、摩砕、蒸留、クロマトグラフィーおよび再結晶により単離し、精製することができる。
【００５５】
ラネーニッケルが使用される場合、反応はアンモニアを含有する適当な溶媒、例えばエタノール／水性水酸化アンモニウムまたはメタノール／水性水酸化アンモニウム中で行なわれる。反応は一般に周囲温度〜７０℃の温度で行なわれる。反応は加圧下で反応を実施できるように設計された装置、例えばParr水素化装置において１５psi〜１２０psiの圧力で水素を用いて行なわれる。生成物はろ過により触媒を注意しながら除去し、蒸発させて単離することができる。生成物は抽出、蒸発、摩砕、クロマトグラフィーおよび再結晶により精製することができる。
【００５６】
酸化白金が使用される場合、反応は適当な溶媒、例えばエタノール、メタノール、クロロホルム、エタノール／クロロホルム混合物、またはメタノール／クロロホルム混合物中で行なわれる。反応は一般に周囲温度〜５０℃の温度で行なわれる。反応は加圧下で反応を実施できるように設計された装置、例えばParr水素化装置において１５psi〜１２０psiの圧力で水素を用いて行なわれる。一般に、アミン中間体はこれらの条件下で得られ、ろ過により触媒を注意しながら除去し、蒸発させることにより単離される。一般に、反応には８〜４８時間要する。生成物は抽出、蒸発、摩砕、クロマトグラフィーおよび再結晶により精製することができる。
【００５７】
反応スキームＢの工程３において、構造式７のアミノ化合物を適当なベンゾイル化剤でベンゾイル化して構造式８のベンズアミドを得る。適当なベンゾイル化剤は、ベンゾイル基または置換ベンゾイル基を移して構造式８のベンズアミドを与えることができる物質、例えばハロゲン化ベンゾイル、置換ハロゲン化ベンゾイル、ベンゾイル無水物、置換ベンゾイル無水物、ベンゾイル混合無水物または置換ベンゾイル混合無水物である。適当なベンゾイル化剤は、Ｒ1およびＲ2が式(１)の最終生成物において所望される通りである構造式８のベンズアミドを与える。
【００５８】
例えば、構造式７のアミノ化合物を１〜１.５モル当量の適当なベンゾイル化剤と接触させる。反応は適当な溶媒、例えばジクロロメタン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミドまたはピリジン中で行なわれる。反応は塩基、例えば炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンまたはピリジンの存在下で行なわれる。反応は一般に−２０℃〜５０℃の温度で行なわれる。一般に、反応には１〜６時間要する。生成物は当該技術分野でよく知られている方法、例えば抽出、蒸発、摩砕、クロマトグラフィーおよび再結晶により単離し、精製することができる。
【００５９】
別法として、例えば、構造式７のアミノ化合物をショッテン−バウマン条件下で１〜１.５モル当量の適当なベンゾイル化剤と接触させる。反応は適当な溶媒、例えば酢酸エチル／水混合物、アセトン／水混合物、テトラヒドロフラン／水混合物、またはジクロロメタン／水混合物中で行なわれる。反応は塩基、例えば炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸カリウムまたは水酸化ナトリウムの存在下で行なわれる。反応は一般に０℃から溶媒の還流温度までの温度で行なわれる。一般に、反応には１〜６時間要する。生成物は当該技術分野でよく知られている方法、例えば抽出、蒸発、摩砕、クロマトグラフィーおよび再結晶により単離し、精製することができる。
【００６０】
反応スキームＢの工程４において、構造式８のベンズアミドを適当なメチル化剤でメチル化して構造式９のＮ−メチルベンズアミドを得る。適当なメチル化剤はメチルを構造式８のベンズアミドに移すもの、例えばヨードメタン、ブロモメタン、ジメチルスルフェート、トリメチルオキソニウムテトラフルオロボレートなどである。
【００６１】
例えば、構造式８のベンズアミドを１〜４モル当量の適当なメチル化剤と接触させる。反応は１〜４モル当量の適当な塩基、例えば水素化ナトリウム、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド、カリウムｔ−ブトキシド、ｎ−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウムおよびリチウムジイソプロピルアミドの存在下で行なわれる。水素化ナトリウムおよびナトリウムビス(トリメチルシリル)アミドが好ましい。反応は溶媒、例えばジメチルホルムアミドまたはテトラヒドロフラン中で行なわれる。反応は一般に−２０℃〜６０℃の温度で行なわれる。一般に、反応には１〜７２時間要する。生成物は当該技術分野でよく知られている方法、例えば抽出、蒸発、摩砕、クロマトグラフィーおよび再結晶により単離し、精製することができる。
【００６２】
反応スキームＢの工程５において、構造式９のＮ−メチルベンズアミドを脱保護して構造式２のアルコールを得る。脱保護反応、例えばT. Greeneの「有機合成の保護基」に記載のような適当な保護基を使用するヒドロキシ保護基の除去は当該技術分野でよく知られており、理解されている。
【００６３】
反応スキームＣは反応スキームＡ.１およびＡ.２で出発物質として使用される構造式３のピペリジン化合物を製造するための一般合成手順を示す。反応スキームＣの試薬および出発物質は当業者にとって容易に入手可能である。スキームＣにおいて、特に断りがなければ、全ての置換基は前記で定義された通りである。
【００６４】
【化３８】
0004132671.tif 000023
【００６５】
反応スキームＣの工程１において、式１０の適当な保護ビス−(２−クロロエチル)−アミンを式５ａの適当なアリール−アセトニトリルでアルキル化して式１１の保護４−アリール−４−シアノピペリジンを得る。式１０の適当な保護ビス−(２−クロロエチル)−アミンは保護基Ｐｇ2がＣ1−Ｃ4アルキル、ベンジル、置換ベンジル、ｐ−トルエンスルホニル、ベンゼンスルホニルまたはカルバメート、例えばｔ−ブトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルであるものである。式５ａの適当なアリール-アセトニトリルはＡｒ2が式(１)の最終生成物において所望される通りであるものである。このタイプのアルキル化は当該技術分野でよく知られており、理解されている；T. CammackおよびP.C. ReevesのJ. Heterocyclic Chem. 12, 73-75(1986年)、並びにC.V. BerczおよびR.D. IceのJ. Pharmaceutical Sci., 10, 1316-1317(1972年)を参照。
【００６６】
例えば、式１０の適当な保護ビス−(２−クロロエチル)−アミンを式５ａの適当なアリール−アセトニトリルと接触させる。反応は塩基、例えばナトリウムアミド、水素化ナトリウム、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド、カリウムｔ−ブトキシドおよびリチウムジイソプロピルアミドの存在下で行なわれる。反応は溶媒、例えばジメチルスルホキシドまたはテトラヒドロフラン中で行なわれる。反応は０.０１〜０.５モル当量の適当な触媒、例えば沃化ナトリウムまたは沃化カリウムの存在下で行なうことができる。反応は一般に０℃〜８０℃の温度で行なわれる。一般に、反応には１〜７２時間要する。生成物は当該技術分野でよく知られている方法、例えば抽出、蒸発、摩砕、クロマトグラフィーおよび再結晶により単離し、精製することができる。
【００６７】
別法として、例えば、式１０の適当な保護ビス−(２−クロロエチル)−アミンを相転移条件下で式５ａの適当なアリール−アセトニトリルと接触させる。反応は水中、または有機相および水相からなる溶媒系中で行なうことができる。反応は水酸化物塩基、例えば水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムの存在下で行なわれる。反応は第４アンモニウムおよびホスホニウム塩、例えば臭化テトラブチルアンモニウム、硫酸水素テトラブチルアンモニウム、臭化ヘキサデシルトリブチルホスホニウム、塩化ベンジルトリメチルアンモニウムなどの適当な触媒の存在下で行なわれる。反応は激しく攪拌され、一般に０℃〜１００℃の温度で行なわれる。一般に、反応には１〜２４時間要する。生成物は当該技術分野でよく知られている方法、例えば抽出、蒸発、摩砕、クロマトグラフィーおよび再結晶により単離し、精製することができる。
【００６８】
反応スキームＣの工程２において、式１１の４−アリール−４−シアノピペリジンを加水分解して式１２の４−アリール−ピペリジン−４−カルボン酸を得る。ニトリルの酸への加水分解は当該技術分野でよく知られており、理解されているような酸性または塩基性条件下で行なうことができる。保護基Ｐｇ2に適合した加水分解条件の選択および使用は当該技術分野でよく知られており、理解されている。当業者により理解されるように、工程２の前か後にアミン保護基Ｐｇ2の除去が必要である。
【００６９】
例えば、Ｐｇ2がベンジルである場合、ニトリルの加水分解を容易にするために保護基を除去し、加水分解後に再び導入することができる。除去する場合、加水分解後にベンジルまたは他の保護基のような保護基を再び導入して式１２の４−アリール−ピペリジン−４−カルボン酸を得る。
【００７０】
別法として、反応スキームＣの工程１および２で使用される保護基は反応スキームＣの工程４において化合物１３の脱保護を容易にするために除去し、他の保護基で置換することができる。アミン保護基の導入は当該技術分野でよく知られており、理解されている。また、T. Greeneの「有機合成の保護基」、Wiley-Interscience(1981年)に記載されている。
【００７１】
また、当業者により容易に理解されるように、式１２の４−アリール−ピペリジン−４−カルボン酸は式１１の４−アリール−４−シアノピペリジンから、第１アミドを得る式１１の４−アリール−４−シアノピペリジンの部分加水分解により製造した４−アリール−ピペリジン−４−カルボン酸アミドをさらに加水分解することにより製造することができる。
【００７２】
例えば、式１１の適当な４−アリール−４−シアノピペリジンを塩基性過酸化水素と接触させて４−アリール−４−カルボン酸アミド−ピペリジンまたは４−アリール−４−カルボン酸アミド−ピペリジンＮ−オキシドを得る。ニトリルのカルボキサミドへの加水分解における塩基性過酸化水素の使用は当該技術分野でよく知られており、理解されている。FieserおよびFieserの「有機合成の試薬」、John Wiley & Sons社(1967年)。アルカリ金属の水酸化物、例えば水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムはこの反応に適した塩基である。反応は適当な溶媒、例えば水、エタノール、メタノール、水／エタノール混合物、または水／メタノール混合物中で行なわれる。反応は０℃から適当な溶媒の還流温度までの温度で行なわれる。一般に、反応は約４時間〜４日間要する。生成物は当該技術分野でよく知られている方法、例えば抽出、蒸発、摩砕、クロマトグラフィーおよび再結晶により単離し、精製することができる。
【００７３】
このようなアミドが得られる場合、それを脱保護して４−アリール−ピペリジン−４−カルボン酸アミドを得ることができる。４−アリール−４−カルボン酸アミド−ピペリジンＮ−オキシドが得られる場合、それを還元し、脱保護して４−アリール−ピペリジン−４−カルボン酸アミドを得ることができる。当該技術分野でよく理解されているように、４−アリール−ピペリジン−４−カルボン酸アミドをさらに酸性または塩基性条件下で加水分解して４−アリール−ピペリジン−４−カルボン酸を得ることができる。上記のように、除去する場合、加水分解後にベンジルまたは他の保護基のような保護基Ｐｇ2を再び導入して式１２の４−アリール−ピペリジン−４−カルボン酸を得る。
【００７４】
反応スキームＣの工程３において、適当なカルボキシ置換環状アミンを用いて式１２の４−アリール−ピペリジン−４−カルボン酸のアミド化反応を行なって式１３の保護４−アリール−４−カルボキサミド−ピペリジンを得る。適当なカルボキシ置換環状アミンは式(１)の最終生成物において所望される通りのＸであるＸ′基を与える、あるいは脱保護または脱保護および官能化後に式(１)の最終生成物において所望される通りのＸ基になるものである。このような適当なカルボキシ置換環状アミンの代表的な例は４−カルボエトキシピペリジン、３−カルボエトキシピペリジン、２−カルボエトキシピペリジン、４−カルボメトキシピペリジン、３−カルボメトキシピペリジン、２−カルボメトキシピペリジン、４−カルボ−ｎ−プロピルオキシピペリジン、４−カルボ−ｔ−ブチルオキシピペリジン、３−カルボエトキシピロリジン、２−カルボエトキシピロリジン、３−カルボメトキシピロリジン、２−カルボメトキシピロリジン、２−カルボエトキシモルホリン、３−カルボエトキシモルホリン、４−カルボメトキシメチルピペラジン、４−カルボエトキシメチルピペラジン、４−カルボエトキシエチルピペラジン、４−カルボエトキシプロピルピペラジン、４−カルボエトキシブチルピペラジン、４−カルボ−ｎ−プロピルオキシメチルピペラジン、４−カルボイソプロピルオキシメチルピペラジン、４−カルボ−ｎ−ブチルオキシメチルピペラジン、４−カルボ−ｔ−ブチルオキシメチルピペラジンなどである。当業者により理解されるように、適当なカルボキシ置換環状アミンのカルボキシ官能基をさらに脱保護し、または所望により脱保護後に官能化して式(１)の最終化合物において所望される通りのＸを得ることができる。このような脱保護または官能化にはエステルの加水分解、エステルの生成およびエステル交換が含まれる。
【００７５】
例えば、アミド化反応は式１２の酸を通して行なうことができる、すなわち式１２の化合物の酸官能基を最初に活性中間体；例えば酸無水物；置換リン酸、例えばジアルキルリン酸、ジフェニルリン酸、ハロリン酸の混合無水物；脂肪族カルボン酸、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ピバル酸、２−エチル酪酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸などの混合無水物；活性エステル、例えばフェノールエステル、ｐ−ニトロフェノールエステル、２,４−ジニトロフェノールエステル、ペンタフルオロフェノールエステル、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドエステル、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドエステル、１−ヒドロキシベンズトリアゾールエステルなど；活性アミド、例えばイミダゾール、ジメチルピラゾール、トリアゾールまたはテトラゾール；あるいはカップリング剤、例えばジシクロヘキシルカルボジイミドまたは１−(３−ジメチルアミノプロピル)−３−エチルカルボジイミドの存在下で生成する中間体に変換することができる。活性中間体は製造し、直接使用することができる、または製造および単離した後に適当なカルボキシ置換環状アミンを加える。別法として、活性中間体を製造、単離、精製した後で適当なカルボキシ置換環状アミンを加えることができる。活性中間体の使用および生成は当該技術分野でよく知られており、理解されている。
【００７６】
例えば、式１２の酸化合物を僅かにモル過剰のカップリング剤、例えばジシクロヘキシルカルボジイミドまたは１−(３−ジメチルアミノプロピル)−３−エチルカルボジイミドの存在下で、僅かにモル過剰の適当なカルボキシ置換環状アミンまたは適当なカルボキシ置換環状アミンの塩および１−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物と接触させる。反応は適当な塩基、例えばＮ,Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリンまたはトリエチルアミンの存在下で行なわれ、適当なカルボキシ置換環状アミンの塩が使用される場合、さらに約１モル量の適当な塩基が加えられる。反応は適当な溶媒、例えばジクロロメタン、クロロホルムまたはジメチルホルムアミド中で行なわれる。生成物は当該技術分野でよく知られている方法、例えば抽出、蒸発、クロマトグラフィーおよび再結晶により単離し、精製することができる。
【００７７】
別法として、例えば、式１２の酸を適当な溶媒、例えばテトラヒドロフラン中で１.２〜１.７当量の適当な塩基、例えばＮ−メチルモルホリンと接触させる。上記のように、適当なカルボキシ置換環状アミンの塩が使用される場合、さらに約１モル量の適当な塩基が加えられる。反応混合物を５０℃〜０℃の温度好ましくは−２５℃〜−２０℃に冷却してから１.２〜１.７当量のイソブチルクロロホルメートを加える。反応混合物を３０分〜３時間攪拌して活性中間体の混合無水物を生成する。温度を−５０℃〜０℃に維持しながら適当なカルボキシ置換環状アミンを加える。アミンの添加終了後、反応混合物を室温まで加温することができる。一般に、反応には２〜４８時間要する。生成物は当該技術分野でよく知られている方法、例えば抽出、蒸発、クロマトグラフィーおよび再結晶により単離し、精製することができる。
【００７８】
反応スキームＣの工程４において、式１３の保護４−アリール−４−カルボキサミド−ピペリジンを脱保護して式３のピペリジンを得る。アミン保護基の除去は当該技術分野でよく知られており、理解されている。また、T. Greeneの「有機合成の保護基」、Wiley-Interscience(1981年)に記載されている。
【００７９】
以下の実施例および製造例は式(１)の化合物の典型的な合成を示す。これらの実施例は単なる例示であり、本発明の範囲を決して制限するものではない。
【００８０】
製造例１
２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンゾイルクロライド
アセトン(５００ml)中で２−ヒドロキシ−５−ニトロ安息香酸(２１.５ｇ、１１７ミリモル)、炭酸カリウム(１６２.３ｇ、１.１７４モル)および沃化メチル(１３６.８ｇ、９６.４ミリモル)を混合した。加熱還流した。１８時間後、反応混合物を周囲温度まで冷却し、沃化メチル(１３６.８g、９６.４ミリモル)を加えた。再び加熱還流した。５６時間後、反応混合物を周囲温度まで冷却し、ろ過し、アセトンで洗浄し、ろ液を真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物をエタノールから再結晶して第２の残留物を得た。第２の残留物およびクロロホルム(約１００ml)を混合し、ろ過し、ろ液を真空下で蒸発させてメチル−２−メトキシ−５−ニトロベンゾエートを得た。Ｒf＝０.３８(シリカゲル、酢酸エチル／メタノール＝１／１)。
【００８１】
メチル２−メトキシ−５−ニトロベンゾエート(１３.３ｇ、６３ミリモル)およびメタノールを混合した。５％パラジウム／炭素(０.６６ｇ)を加えた。加圧装置において５０psiで水素化した。１７時間後、セライトを通してろ過して触媒を除去し、ろ液を真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物およびジクロロメタンを混合し、水で抽出した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させてメチル２−メトキシ−５−アミノベンゾエートを得た。Ｒf＝０.１８(シリカゲル、酢酸エチル／メタノール＝１／１)。
元素分析値(C9H11NO3として)：
理論値：Ｃ％ 59.66；Ｈ％ 6.12；Ｎ％ 7.73
実測値：Ｃ％ 59.44；Ｈ％ 6.04；Ｎ％ 7.62
【００８２】
氷酢酸(２０ml)中でメチル２−メトキシ−５−アミノベンゾエート(３.９４ｇ、２１.７ミリモル)およびオルトギ酸トリエチル(１２.８ｇ、８６.７ミリモル)を混合した。２０時間後、反応混合物を真空下で濃縮してエタノールを除去した。氷酢酸(２０ml)およびアジ化ナトリウム(５.６４ｇ、８６.７ミリモル)を加えた。７０℃まで加熱した。１時間後、氷酢酸(１０ml)を加え、７０℃まで加熱を続けた。さらに１時間後、反応混合物を周囲温度まで冷却し、水(５００ml)で希釈した。ろ過により固体を集め、水で洗浄し、乾燥してメチル２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンゾエートを得た。
【００８３】
メタノール／水(１００ml、５：１ 容量／容量)中でメチル２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンゾエート(２.８６ｇ、１２.２ミリモル)および水酸化ナトリウムの１Ｍ水溶液(１３.４３ml、１３.４３ミリモル)を混合した。加熱還流した。４時間後、真空下で濃縮して殆んどのメタノールを除去し、水(５０ml)を加え、１Ｍ塩酸水溶液を使用してpHを約４に調整した。真空下で蒸発させて固体を得、その固体を水でスラリーにし、ろ過し、乾燥して２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)安息香酸を得た。
【００８４】
別法として、メチル２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンゾエート(１３.３ｇ、５６.８ミリモル)およびメタノール(１５０ml)を混合した。水酸化ナトリウムの１Ｍ水溶液(６２.５ml、６２.５ミリモル)を加えた。加熱還流した。３０分後、メタノール(５０ml)および水(５０ml)を加え、加熱還流を続けた。１時間後、真空下で濃縮して殆んどの溶媒を除去した。１Ｍ塩酸水溶液を使用してpHを約１〜２に調整して固体を得た。固体をろ過により集め、水で洗浄し、乾燥して２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)安息香酸を得た。
【００８５】
２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)安息香酸(１.２ｇ、５.５ミリモル)およびジクロロメタン(４０ml)を混合した。塩化オキサリル(０.７２ml、８.２５ミリモル)、次にジメチルホルムアミド(３滴)を滴加した。４時間後、真空下で蒸発させ、乾燥して表題化合物を得た。
【００８６】
製造例２
３,４−ジクロロフェニルアセチルクロライド
３,４−ジクロロフェニル酢酸(９ｇ、４４ミリモル)およびジクロロメタン(１００ml)を混合した。ジクロロメタン中における塩化オキサリルの溶液(３０ml、２Ｍ、６０ミリモル)を滴加した。ジメチルホルムアミド(６滴)を加えた。２.５時間後、真空下で蒸発させて残留物を得、２回ジクロロメタンで抽出し、真空下で蒸発させて表題化合物を得、それをさらに精製することなく使用した。
【００８７】
製造例３
３,４−ジクロロフェニル酢酸トリメチルアセチルエステル
３,４−ジクロロフェニル酢酸(３１.５ｇ、１５４ミリモル)、トリエチルアミン(２５.７ml、１８４ミリモル)およびテトラヒドロフラン(３００ml)を混合した。ドライアイス／アセトン浴で冷却した。トリメチルアセチルクロライド(１８.５ｇ、１５４ミリモル)およびテトラヒドロフラン(２００ml)を加えた。周囲温度まで加温して表題化合物の溶液を得た。
【００８８】
製造例４
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−オキソブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド
(Ｓ)−４−ベンジル−２−オキサゾリジノン(２.６ｇ、３４ミリモル)およびテトラヒドロフラン(８０ml)を混合した。ドライアイス／アセトン浴で冷却した。ｎ−ブチルリチウム溶液(１３.５ml、２.５Ｍ、２７ミリモル)を滴加した。１５分後、テトラヒドロフラン(２０ml)中における３,４−ジクロロフェニルアセチルクロライド(９.４ｇ、４４ミリモル)の溶液をゆっくりと加えた。２０分後、周囲温度まで加温した。２時間後、反応混合物をジエチルエーテルで希釈し、飽和重炭酸ナトリウム水溶液を加えた。層を分離し、有機層を飽和塩化アンモニウム溶液、次に水で抽出した。ＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を５％酢酸エチル／ヘキサン、１０％酢酸エチル／ヘキサンおよび１５％酢酸エチル／ヘキサンで連続して溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理した。生成物を含有するフラクションを合一して残留物を得た。残留物を再び５％酢酸エチル／ヘキサン、１０％酢酸エチル／ヘキサン、１５％酢酸エチル／ヘキサンおよび２０％酢酸エチル／ヘキサンで連続して溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して残留物を得た。ジエチルエーテル／ヘキサンから再結晶して(Ｓ)−４−ベンジル−３−(３,４−ジクロロフェニル)アセチル−２−オキサゾリジノンを得た。融点：７０.５〜７１.５℃。Ｒf＝０.７５(シリカゲル、５０％酢酸エチル／ヘキサン)。
【００８９】
別法として、(Ｓ)−ベンジル−２−オキサゾリジノン(２５ｇ、１４０ミリモル)およびテトラヒドロフラン(２５０ml)を混合した。トリフェニルメタン(３０mg)を指示薬として加えた。約−４０℃まで冷却した。ｎ−ブチルリチウム(約５６ml、ヘキサン中１Ｍ、１４０ミリモル)をオレンジ色が持続するまで加えた。３０分後、製造例３で得られた３,４−ジクロロフェニル酢酸トリメチルアセチルエステルの溶液をドライアイス／アセトン浴で冷却し、上記で得られたリチオ(Ｓ)−ベンジル−２−オキサゾリジノンの溶液をカニューレにより加えた。添加終了後、周囲温度まで加温した。１８時間後、反応混合物をジエチルエーテルおよび飽和重炭酸ナトリウム水溶液に分配した。層を分離し、有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を５％酢酸エチル／ヘキサンおよび１０％酢酸エチル／ヘキサンで連続して溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して(Ｓ)−４−ベンジル−３−(３,４−ジクロロフェニル)アセチル−２−オキサゾリジノンを得た。
【００９０】
(Ｓ)−４−ベンジル−３−(３,４−ジクロロフェニル)アセチル−２−オキサゾリジノン(１３.９ｇ、３８.２ミリモル)およびテトラヒドロフラン(１４０ml)を混合した。ドライアイス／アセトン浴で冷却した。ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド(４２ml、テトラヒドロフラン中１.０Ｍ、４２ミリモル)の溶液を滴加した。３０分後、沃化アリル(１９ｇ、１１４.５ミリモル)を加え、浴をドライアイス／四塩化炭素浴に代えた。１時間後、反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液およびジエチルエーテルに分配した。層を分離し、有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を５％酢酸エチル／ヘキサンで溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して(Ｓ)−４−ベンジル−３−(２−(３,４−ジクロロフェニル)ペンタ−４−エノイル)−２−オキサゾリジノンを得た：Ｒf＝０.５０(シリカゲル、２０％酢酸エチル／ヘキサン)。
【００９１】
(Ｓ)−４−ベンジル−３−(２−(３,４−ジクロロフェニル)ペンタ−４−エノイル)−２−オキサゾリジノン(１３.７ｇ、３４.０モル)、テトラヒドロフラン(３００ml)および水(６０ml)を混合した。氷浴で冷却した。水酸化リチウム水和物(１.７ｇ、７１.０ミリモル)および過酸化水素水溶液(１２ml、３０％、１４０ミリモル)を加えた。２時間後、１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液(１００ml)を加えることにより急冷した。１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで２回抽出した。水層を氷浴で冷却し、濃塩酸水溶液(約２０ml)で酸性にし、ジクロロメタンで２回抽出した。有機層を合一し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて(Ｓ)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ペンタ−４−エン酸を得た。
【００９２】
(Ｓ)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ペンタ−４−エン酸(６.５５ｇ、２６.７ミリモル)、ジクロロメタン(１０ml)およびジメチルホルムアミド(２滴)を混合した。ジクロロメタン中における塩化オキサリルの溶液(１６ml、２Ｍ、３２ミリモル)を加えた。２時間後、真空下で蒸発させて(Ｓ)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ペンタ−４−エノイルクロライドを得た。トルエン(２０ml)と混合し、反応混合物の温度を１０℃以下に維持しながら激しく攪拌してメチルアミンの冷(氷浴)水溶液(４ml、４０％)にゆっくりと加えた。添加終了後、トルエン(４０ml)を加えた。１時間後、反応混合物を水およびジクロロメタンに分配した。層を分離し、有機層を飽和重炭酸ナトリウム水溶液で抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を１０％酢酸エチル／ヘキサン、２０％酢酸エチル／ヘキサンおよび３０％酢酸エチル／ヘキサンで連続して溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して(Ｓ)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ペンタ−４−エン酸、Ｎ−メチルアミドを得た：Ｒf＝０.５０(シリカゲル、５０％酢酸エチル／ヘキサン)。
【００９３】
水素化アルミニウムリチウム溶液(４２.６ml、テトラヒドロフラン中１.０Ｍ、４２.６ミリモル)を約−１０℃まで冷却した。反応混合物の温度を０℃以下に維持しながら、テトラヒドロフラン(５ml)中における硫酸(２.１ｇ)の溶液を滴加した。２０分後、周囲温度まで加温した。(Ｓ)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ペンタ−４−エン酸、Ｎ−メチルアミド(４.８ｇ、１８.８ミリモル)およびテトラヒドロフラン(２５ml)の溶液を加えた。添加終了後、反応混合物を約３５℃に加熱した。１５時間後、氷浴で冷却し、水(５ml)およびテトラヒドロフラン(５ml)を加えることにより注意しながら急冷した。テトラヒドロフラン(６０ml)を加え、ろ過し、ろ液を真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物およびジクロロメタンを混合し、水で抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。１％メタノール／ジクロロメタン、２％メタノール／ジクロロメタン、３％メタノール／ジクロロメタンおよび４％メタノール／ジクロロメタンで連続して溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して(Ｓ)−Ｎ−メチル−(２−(３,４−ジクロロフェニル)ペンタ−４−エニル)アミンを得た：Ｒf＝０.５４(シリカゲル、９／１／０.１のジクロロメタン／メタノール／濃アンモニア水)。
【００９４】
アセトン(１００ml)中で２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンゾイルクロライド(３.９７ｇ、１６.５ミリモル)および重炭酸ナトリウム(５.３３ｇ、６３.５ミリモル)を混合した。アセトン(４０ml)／水(４０ml)中における(Ｓ)−Ｎ−メチル−(２−(３,４−ジクロロフェニル)ペンタ−４−エニル)アミン(３.１ｇ、１２.７ミリモル)の溶液を加えた。激しく攪拌しながら氷浴で冷却した。１８時間後、ろ過し、酢酸エチル(２５０ml)で洗浄した。ろ液を分離して層にし、有機層を飽和重炭酸ナトリウム水溶液で抽出した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を酢酸エチルで溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)ペンタ−４−エニル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミドを得た：Ｒf＝０.４３(シリカゲル、６％メタノール／ジクロロメタン)。
【００９５】
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)ペンタ−４−エニル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド(５.１２ｇ、１１.５ミリモル)、アセトン／ｔ−ブタノール／水(２／１／１、１２０ml)およびＮ−メチルモルホリンＮ−オキシド溶液(３.３ｇ、水中５０％)を混合した。四酸化オスミウム溶液(４.４ｇ、水中４％、１３.８ミリモル)を加えた。２時間後、真空下で蒸発させて殆んどのアセトンを除去し、蒸発させた反応混合物をジクロロメタンおよび１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液に分配した。層を分離し、有機層をブラインで抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物およびテトラヒドロフラン／水(４／１、１５０ml)を混合した。メタ過沃素酸ナトリウム(２.９５ｇ、１３.８ミリモル)を加えた。１.５時間後、反応混合物をろ過し、固体をテトラヒドロフランで洗浄し、ろ液を蒸発させて殆んどのテトラヒドロフランを除去した。蒸発させた反応混合物をジクロロメタンで希釈した。水で抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を１％メタノール／ジクロロメタン、２％メタノール／ジクロロメタンおよび３％メタノール／ジクロロメタンで連続して溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して表題化合物を得た：Ｒf＝０.２０(シリカゲル、６％メタノール／ジクロロメタン)。
【００９６】
製造例５
４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン沃化水素酸塩
４−フェニルピペリジン−４−カルボン酸ｐ−トルエンスルホン酸(９７.５ｇ、０.２５８モル)、Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン(５５ml、０.３１６モル)およびジメチルホルムアミド(９００ml)を混合した。ジメチルホルムアミド(３００ml)中におけるジ−ｔ−ブチルジカーボネート(６５.０ｇ、０.３０モル)の溶液を滴加した。２０時間後、反応混合物をジエチルエーテルで希釈し、水で３回、次にブラインで抽出した。有機層をＭｇＳＯ４上で乾燥し、ろ過し、ＭｇＳＯ4をジクロロメタンで洗浄した。真空下で蒸発させて１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−フェニル−ピペリジン−４−カルボン酸を得た。
【００９７】
ジクロロメタン(４００ml)中で１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−フェニル−ピペリジン−４−カルボン酸(２７.０ｇ、８８.５ミリモル)、Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン(３４ml、０.１９５モル)、４−カルボエトキシメチルピペラジン(５.８ｇ)および１−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物(１３.２ｇ、９８ミリモル)を混合した。１−(３−ジメチルアミノプロピル)−３−エチルカルボジイミド塩酸塩(１８.７ｇ、８７.５ミリモル)を加えた。２０時間後、反応混合物をジクロロメタンで希釈し、水で２回抽出した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を２０％酢酸エチル／ヘキサン、酢酸エチル、９４／６のジクロロメタン／メタノール、次に９０／１０のジクロロメタン／メタノールで連続して溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル))カルボキサミド)ピペリジンを得た。
【００９８】
１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル))カルボキサミド)ピペリジン(２６.０ｇ、５６.７ミリモル)およびジクロロメタン(４０ml)を混合した。沃化水素酸(気体、２.８ｇ)を加えた。３時間後、乾燥してから真空下で蒸発させて表題化合物を得た。
【００９９】
別法として、１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル))カルボキサミド)ピペリジン(１０.０ｇ、２１.８ミリモル)およびエタノール(７００ml)を混合した。沃化水素酸水溶液(５７％、６.１ml、４５.７５ミリモル)を加えた。２時間後、加熱還流した。１９時間後、周囲温度まで冷却し、反応混合物をジエチルエーテル(３００ml)で希釈して固体を得た。氷浴で冷却した。１時間後、固体をろ過により集め、ジエチルエーテルで洗浄し、乾燥して表題化合物を得た。
元素分析値(C20H29N3O3・2HIとして)：
理論値：Ｃ％ 39.04；Ｈ％ 5.08；Ｎ％ 6.83
実測値：Ｃ％ 39.14；Ｈ％ 5.38；Ｎ％ 6.88
【０１００】
実施例１
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド
【化３９】
0004132671.tif 000024
１.１  (Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミドの合成
メタノール(３０ml)中で(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−オキソブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド(０.４０ｇ、０.８９ミリモル)、４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン沃化水素酸塩(０.６０ｇ、０.９８ミリモル)および３Åモレキュラーシーブ(約５ｇ)を混合した。２５時間後、シアノホウ水素化ナトリウム溶液(０.９０ml、テトラヒドロフラン中１Ｍ、０.９ミリモル)を加えた。１８時間後、反応混合物をろ過し、ろ液を真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を１.０％メタノール／ジクロロメタン、２％メタノール／ジクロロメタンおよび３％メタノール／ジクロロメタンで連続して溶離するクロマトグラフィーにより処理して表題化合物を得た：Ｒf＝０.３０(シリカゲル、６％メタノール／ジクロロメタン)。
１.２  (Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド塩酸塩の合成
ジクロロメタン(１０ml)中で(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド(０.３３ｇ、０.４２ミリモル)を混合した。塩酸(気体)でパージした。５分後、反応混合物を真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物をジエチルエーテルで摩砕し、攪拌後、固体を得た。固体をろ過により集め、乾燥後、表題化合物を得た。
【０１０１】
製造例６
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−フルオロフェニル)−４−オキソブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミドの合成
(Ｓ)−４−ベンジル−２−オキサゾリジノン(２２.９ｇ、１２９ミリモル)およびテトラヒドロフラン(１２０ml)を混合した。ドライアイス／アセトン浴で冷却した。ｎ−ブチルリチウム溶液(５２ml、２.５Ｍ、１３０ミリモル)を滴加した。１５分後、テトラヒドロフラン(５０ml)中における４−フルオロフェニルアセチルクロライド(２２.３ｇ、１２９ミリモル)の溶液をゆっくりと加えた。周囲温度まで加温した。２時間後、飽和重炭酸ナトリウム水溶液を加えることにより反応混合物を急冷した。層を分離し、水層をジエチルエーテルで抽出した。有機層を合一し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を１５％酢酸エチル／ヘキサンで溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理した。生成物を含有するフラクションを合一し、蒸発させ、ジエチルエーテル／ヘキサンから再結晶して(Ｓ)−４−ベンジル−３−(４−フルオロフェニル)アセチル−２−オキサゾリジノンを得た。
【０１０２】
別法として、(Ｓ)−ベンジル−２−オキサゾリジノン(５５.４ｇ、３１３ミリモル)およびテトラヒドロフラン(５５０ml)を混合した。ドライアイス／アセトン浴で冷却した。ｎ−ブチルリチウム(１２５ml、ヘキサン中１Ｍ、３１２ミリモル)を加えた。３０分後、４−フルオロフェニルアセチルクロライド(５６.７ｇ、３２８ミリモル)を滴加した。３０分後、周囲温度まで加温し、飽和重炭酸ナトリウム水溶液を加え、攪拌した。４５分後、層を分離し、水層を酢酸エチルで３回抽出し、有機層を合一し、ブラインで抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて粘稠な油状物を得た。粘稠な油状物を真空下で攪拌して残留する溶媒を除去し、イソプロパノールで摩砕して固体を得た。固体をろ過により集め、イソプロパノールで洗浄し、乾燥後、(Ｓ)−４−ベンジル−３−(４−フルオロフェニル)アセチル−２−オキサゾリジノンを得た。
【０１０３】
(Ｓ)−４−ベンジル−３−(４−フルオロフェニル)アセチル−２−オキサゾリジノン(１４.２８ｇ、４５.６ミリモル)およびテトラヒドロフラン(１５０ml)を混合した。ドライアイス／アセトン浴で冷却した。ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液(５０ml、テトラヒドロフラン中１.０Ｍ、５０ミリモル)を滴加した。２５分後、沃化アリル(１３ml、１４２.２ミリモル)を加え、次に浴をドライアイス／四塩化炭素浴に代えた。１時間後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えることにより反応混合物を急冷し、ジエチルエーテルで抽出し、層を分離した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を１／６の酢酸エチル／ヘキサンで溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理した。生成物を含有するフラクションを合一し、蒸発させ、クロロホルム／ヘキサンから再結晶して(Ｓ)−４−ベンジル−３−(２−(４−フルオロフェニル)ペンタ−４−エノイル)−２−オキサゾリジノンを得た：融点１０３〜１０４℃。Ｒf＝０.５７(シリカゲル、２０％酢酸エチル／ヘキサン)。
【０１０４】
別法として、(Ｓ)−４−ベンジル−３−(４−フルオロフェニル)アセチル−２−オキサゾリジノン(４３.０８ｇ、４２６ミリモル)およびテトラヒドロフラン(４５０ml)を混合した。ドライアイス／アセトン浴で冷却した。ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液(１５３.０ml、テトラヒドロフラン中１Ｍ、１３７.５ミリモル)を滴加した。４０分後、沃化アリル溶液(３９.０ml、４２６ミリモル)を加え、浴をドライアイス／四塩化炭素浴に代えた。１.５時間後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えることにより反応混合物を急冷し、ジエチルエーテル(２００ml)を加え、攪拌した。約３０分後、層を分離し、水層をジエチルエーテルで２回抽出した。合一した有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を真空下で乾燥し、酢酸エチル(約４００ml)に溶解し、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液で抽出した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を１３％酢酸エチル／ヘキサンで溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して(Ｓ)−４−ベンジル−３−(２−(４−フルオロフェニル)ペンタ−４−エノイル)−２−オキサゾリジノンを得た。
【０１０５】
(Ｓ)−４−ベンジル−３−(２−(４−フルオロフェニル)ペンタ−４−エノイル)−２−オキサゾリジノン(９.６６ｇ、２７.３４モル)、テトラヒドロフラン(１６０ml)および水(４０ml)を混合した。氷浴で冷却した。水酸化リチウム水和物(２.５２ｇ、６０ミリモル)および過酸化水素水溶液(１０ml、３０％、１１６ミリモル)を加えた。３時間後、反応混合物を１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液で希釈し、ジエチルエーテルで２回抽出した。水層を氷浴で冷却し、濃塩酸水溶液(約１５ml)で酸性にし、ジクロロメタンで２回抽出した。合一した有機層を飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液で抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて(Ｓ)−２−(４−フルオロフェニル)ペンタ−４−エン酸を得た。
【０１０６】
(Ｓ)−２−(４−フルオロフェニル)ペンタ−４−エン酸(３.６１ｇ、１８.６ミリモル)、ジクロロメタン(２０ml)およびジメチルホルムアミド(２滴)を混合した。塩化オキサリル(１.９４ml、２２.３ミリモル)を加えた。２時間後、真空下で蒸発させて(Ｓ)−２−(４−フルオロフェニル)ペンタ−４−エノイルクロライドを得た。トルエン(１０ml)と混合し、激しく攪拌しながらゆっくりとメチルアミンの冷(氷浴)水溶液(４ml、４０％)に加えた。１時間後、反応混合物を水およびジクロロメタンに分配した。層を分離し、有機層を飽和重炭酸ナトリウム水溶液で抽出した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物をヘキサンで摩砕して固体を得た。固体をろ過により集め、乾燥して(Ｓ)−２−(４−フルオロフェニル)ペンタ−４−エン酸、Ｎ−メチルアミドを得た：融点１０４〜１０５℃。Ｒf＝０.４２(シリカゲル、５０％酢酸エチル／ヘキサン)。
【０１０７】
(Ｓ)−２−(４−フルオロフェニル)ペンタ−４−エン酸、Ｎ−メチルアミド(３.１ｇ、１４.９６ミリモル)およびテトラヒドロフラン(３５ml)を混合した。氷浴で冷却し、水素化アルミニウムリチウム溶液(３５ml、テトラヒドロフラン中１.０Ｍ、３５ミリモル)を加えた。添加終了後、反応混合物を加熱還流した。２.５時間後、氷浴で冷却し、水(１.３ml)、１５％水酸化ナトリウム水溶液(１.３ml)、次に水(４ml)で注意しながら急冷した。急冷した反応混合物をジエチルエーテル(７５ml)で希釈し、ＭｇＳＯ4を加え、攪拌した。１時間後、セライトを通してろ過し、固体をジクロロメタンで洗浄した。ろ液を真空下で蒸発させて(Ｓ)−Ｎ−メチル−(２−(４−フルオロフェニル)ペンタ−４−エニル)アミンを得た：Ｒf＝０.４７(シリカゲル、１８.５／１.５／０.２のジクロロメタン／メタノール／濃アンモニア水)。
【０１０８】
(Ｓ)−Ｎ−メチル−(２−(４−フルオロフェニル)ペンタ−４−エニル)アミン(２.１３ｇ、１１.０ミリモル)、アセトン(１００ml)、水(２５ml)および重炭酸ナトリウム(２.９８ｇ、３５.５ミリモル)を混合した。激しく攪拌しながら氷浴で冷却した。２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンゾイルクロライド(２.８２ｇ、１１.７ミリモル)を滴加した。添加終了後、周囲温度まで加温した。１.５時間後、真空下で蒸発させて殆んどのアセトンを除去した。蒸発させた反応混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重炭酸ナトリウム水溶液、次にブラインで抽出した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を酢酸エチルで溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−フルオロフェニル)ペンタ−４−エニル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミドを得た：Ｒf＝０.５０(シリカゲル、酢酸エチル)。
【０１０９】
別法として、(Ｓ)−Ｎ−メチル−(２−(４−フルオロフェニル)ペンタ−４−エニル)アミン(２.２５ｇ、１１ミリモル)、テトラヒドロフラン(２０ml)、水(５ml)および重炭酸ナトリウム(１.２３ｇ、１１.６ミリモル)を混合した。２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンゾイルクロライド(２.７８ｇ、１１.６ミリモル)を滴加した。４時間後、真空下で蒸発させて殆んどのテトラヒドロフランを除去した。層を分離し、水層をジクロロメタンで４回抽出した。有機層を合一し、飽和重炭酸ナトリウム水溶液で抽出した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を酢酸エチルで溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−フルオロフェニル)ペンタ−４−エニル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミドを得た。
【０１１０】
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−フルオロフェニル)ペンタ−４−エニル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド(４.４６ｇ、１１.３ミリモル)、アセトン／ｔ−ブタノール／水(２／１／１、６４ml)およびＮ−メチルモルホリンＮ−オキシド溶液(３.０ml、水中５０％、１４.５ミリモル)を混合した。四酸化オスミウム溶液(３.０ml、水中４％、０.５ミリモル)を加えた。３時間後、真空下で蒸発させて殆んどのアセトンを除去し、蒸発させた反応混合物をジクロロメタンおよび１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液に分配した。層を分離し、有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物、テトラヒドロフラン(８０ml)および水(２０ml)を混合した。メタ過沃素酸ナトリウム(３.６３ｇ)を加えた。１.５時間後、反応混合物をろ過し、固体をジクロロメタンで洗浄し、ろ液を蒸発させて残留物を得た。残留物を酢酸エチルで溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して表題化合物を得た：Ｒf＝０.２２(シリカゲル、酢酸エチル)。
【０１１１】
実施例２
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(４−フルオロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド
【化４０】
0004132671.tif 000025
２.１  (Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(４−フルオロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミドの合成
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−オキソブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミドおよび４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン沃化水素酸塩を使用して実施例１.１の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１１２】
製造例７
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−フェニル−４−オキソブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミドの合成
(Ｓ)−４−ベンジル−２−オキサゾリジノン(２２.９ｇ、１２９ミリモル)およびテトラヒドロフラン(１２０ml)を混合した。ドライアイス／アセトン浴で冷却した。ｎ−ブチルリチウム溶液(５２ml、２.５Ｍ、１３０ミリモル)を滴加した。１５分後、テトラヒドロフラン(５０ml)中におけるフェニルアセチルクロライド(２０ｇ、１２９.４ミリモル)の溶液をゆっくりと加えた。２０分後、周囲温度まで加温した。２時間後、飽和重炭酸ナトリウム水溶液を加えることにより反応混合物を急冷した。層を分離し、水層をジエチルエーテルで抽出した。有機層を合一し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を１５％酢酸エチル／ヘキサンで溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理した。生成物を含有するフラクションを合一し、蒸発させ、ジエチルエーテル／ヘキサンから再結晶して(Ｓ)−４−ベンジル−３−フェニルアセチル−２−オキサゾリジノンを得た。
【０１１３】
(Ｓ)−４−ベンジル−３−フェニルアセチル−２−オキサゾリジノン(１４.１３ｇ、４７.９ミリモル)およびテトラヒドロフラン(１５０ml)を混合した。ドライアイス／アセトン浴で冷却した。ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液(５２.６ml、テトラヒドロフラン中１.０Ｍ、５２.６ミリモル)を滴加した。２５分後、沃化アリル(１３.１２ml、１４３.５ミリモル)を加え、浴をドライアイス／四塩化炭素浴に代えた。１時間後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えることにより反応混合物を急冷し、ジエチルエーテルで抽出し、層を分離した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を１５％酢酸エチル／ヘキサンで溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理した。生成物を含有するフラクションを合一し、蒸発させ、クロロホルム／ヘキサンから再結晶して(Ｓ)−４−ベンジル−３−(２−フェニルペンタ−４−エノイル)−２−オキサゾリジノンを得た：Ｒf＝０.４０(シリカゲル、１５％酢酸エチル／ヘキサン)。
【０１１４】
別法として、(Ｓ)−４−ベンジル−３−フェニルアセチル−２−オキサゾリジノン(８.０ｇ、２７ミリモル)およびテトラヒドロフラン(５０ml)を混合した。ドライアイス／アセトン浴で冷却した。ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液(３０ml、テトラヒドロフラン中１.０Ｍ、３０ミリモル)を滴加した。３０分後、沃化アリル(９.１ｇ、５４ミリモル)を加え、浴をドライアイス／四塩化炭素浴に代えた。１.５時間後、飽和塩化ナトリウム水溶液を加えることにより反応混合物を急冷し、ジエチルエーテルで抽出し、層を分離した。水層をジエチルエーテルで３回抽出した。有機層を合一し、１Ｍ塩酸水溶液、飽和重炭酸ナトリウム水溶液で抽出し、有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。酢酸エチルに溶解し、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液で抽出し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を１０％酢酸エチル／ヘキサンで溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理した。生成物を含有するフラクションを合一し、蒸発させ、クロロホルム／ヘキサンから再結晶して(Ｓ)−４−ベンジル−３−(２−フェニルペンタ−４−エノイル)−２−オキサゾリジノンを得た。
【０１１５】
(Ｓ)−４−ベンジル−３−(２−フェニルペンタ−４−エノイル)−２−オキサゾリジノン(３.３５ｇ、１０モル)、テトラヒドロフラン(８０ml)および水(２０ml)を混合した。氷浴で冷却した。水酸化リチウム水和物(０.８４ｇ、２０ミリモル)および過酸化水素水溶液(４ml、３０％、４６.４ミリモル)を加えた。３時間後、反応混合物を約半分の容量になるまで濃縮し、濃縮した反応混合物を１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液で希釈し、ジエチルエーテルで２回抽出した。水層を氷浴で冷却し、３Ｍ塩酸水溶液で酸性にし、ジクロロメタンで２回抽出した。合一した有機層を飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液で抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて(Ｓ)−２−フェニルペンタ−４−エン酸を得た：Ｒf＝０.４８(シリカゲル、５％メタノール／ジクロロメタン)。
【０１１６】
(Ｓ)−２−フェニルペンタ−４−エン酸(１.５３ｇ、８.７ミリモル)、ジクロロメタン(１０ml)およびジメチルホルムアミド(１滴)を混合した。塩化オキサリル(１ml、１１.４６ミリモル)を加えた。２時間後、真空下で蒸発させて(Ｓ)−２−フェニルペンタ−４−エノイルクロライドを得た。トルエン(１０ml)と混合し、激しく攪拌しながらメチルアミンの冷(氷浴)水溶液(２ml、４０％)に加えた。１時間後、反応混合物を水およびジクロロメタンに分配した。層を分離し、有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物をヘキサンで摩砕して固体を得た。固体をろ過により集め、乾燥して(Ｓ)−２−フェニルペンタ−４−エン酸、Ｎ−メチルアミドを得た：融点９７〜９９℃。Ｒf＝０.５３(シリカゲル、５０％酢酸エチル／ヘキサン)。
【０１１７】
(Ｓ)−２−フェニルペンタ−４−エン酸、Ｎ−メチルアミド(１.３５ｇ、７.１３ミリモル)およびテトラヒドロフラン(２０ml)を混合した。氷浴で冷却し、水素化アルミニウムリチウム溶液(１７ml、テトラヒドロフラン中１.０Ｍ、１７ミリモル)を加えた。添加終了後、反応混合物を加熱還流した。２４時間後、氷浴で冷却し、水(０.６ml)、１５％水酸化ナトリウム水溶液(０.６ml)、次に水(２ml)で注意しながら急冷した。急冷した反応混合物をジエチルエーテル(５０ml)で希釈し、ＭｇＳＯ4を加え、攪拌した。２時間後、セライトを通してろ過し、固体をジクロロメタンで洗浄した。ろ液をＭｇＳＯ4で乾燥し、真空下で蒸発させて(Ｓ)−Ｎ−メチル−(２−フェニルペンタ−４−エニル)アミンを得た：Ｒf＝０.５１(シリカゲル、１８／２／０.２のジクロロメタン／メタノール／濃アンモニア水)。
【０１１８】
(Ｓ)−Ｎ−メチル−(２−フェニルペンタ−４−エニル)アミン(１.９３ｇ、１１.０ミリモル)、アセトン／水(４／１、１２５ml)および重炭酸ナトリウム(３.０ｇ、３５.５ミリモル)を混合した。激しく攪拌しながら氷浴で冷却した。２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンゾイルクロライド(２.８６ｇ、１１.８ミリモル)を滴加した。添加終了後、周囲温度まで加温した。１.５時間後、真空下で蒸発させて殆んどのアセトンを除去した。蒸発させた反応混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重炭酸ナトリウム水溶液、次にブラインで抽出した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を酢酸エチルで溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−フェニルペンタ−４−エニル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミドを得た：Ｒf＝０.３５(シリカゲル、酢酸エチル)。
【０１１９】
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−フェニルペンタ−４−エニル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド(３.１３ｇ、８.３ミリモル)、アセトン／ｔ−ブタノール／水(２／１／１、９０ml)およびＮ−メチルモルホリンＮ−オキシド溶液(２.０６ml、水中５０％、９.９５ミリモル)を混合した。四酸化オスミウム溶液(２.５６ml、水中４％、０.５ミリモル)を加えた。１８時間後、真空下で蒸発させて殆んどのアセトンを除去し、蒸発させた反応混合物をジクロロメタンで抽出した。有機層を１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液で抽出した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た：Ｒf＝０.２２(シリカゲル、７％メタノール／ジクロロメタン／０.１％濃水酸化アンモニウム)。残留物(３.６ｇ、８.３ミリモル)およびテトラヒドロフラン／水(９０ml、４／１)を混合した。メタ過沃素酸ナトリウム(２.１３ｇ、９.９５ミリモル)を加えた。１時間後、反応混合物をろ過し、固体をテトラヒドロフランで洗浄し、ろ液を蒸発させて残留物を得た。残留物を酢酸エチル(１５０ml)で希釈し、ブラインで抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を５％メタノール／ジクロロメタン／０.１％濃水酸化アンモニウムで溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して表題化合物を得た：Ｒf＝０.３３(シリカゲル、７％メタノール／ジクロロメタン／０.１％濃水酸化アンモニウム)。[α]D20＝−１３.７°(ｃ＝０.５９、クロロホルム)。
【０１２０】
実施例３
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−フェニルブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド
【化４１】
0004132671.tif 000026
３.１  (Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−フェニルブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミドの合成
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−フェニル−４−オキソブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミドおよび４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン沃化水素酸塩を使用して実施例１.１の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１２１】
実施例４
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド塩酸塩
【化４２】
0004132671.tif 000027
４.１  (Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド塩酸塩の合成
テトラヒドロフラン／水(１０ml／１０ml)中で(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド(０.２９ｇ、０.３４ミリモル)および水酸化リチウム(５０ｍｇ、２.１ミリモル)を混合した。２時間後、真空下で蒸発させて殆んどのテトラヒドロフランを除去した。１Ｍ塩酸水溶液を使用してpHを６に調整した。水性反応混合物を真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物およびエタノールを混合し、再び真空下で蒸発させて残留物を得、少量の水を加え、攪拌し、デカントして残留物を得た。残留物および１Ｍ塩酸溶液を混合し、真空下で蒸発させ、次にエタノールを加え、真空下で蒸発させ、乾燥後、表題化合物を得た。
【０１２２】
製造例８
４−フェニル−４−((４−カルボエトキシピペリジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン塩酸塩
４−フェニルピペリジン−４−カルボン酸ｐ−トルエンスルホン酸(９７.５ｇ、０.２５８モル)、Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン(５５ml、０.３１６モル)およびジメチルホルムアミド(９００ml)を混合した。ジメチルホルムアミド(３００ml)中におけるジ−ｔ−ブチルジカーボネート(６５.０ｇ、０.３０モル)の溶液を滴加した。２０時間後、反応混合物をジエチルエーテルで希釈し、水で３回、次にブラインで抽出した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、ＭｇＳＯ4をジクロロメタンで洗浄した。真空下で蒸発させて１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−フェニル−ピペリジン−４−カルボン酸を得た。
【０１２３】
ジクロロメタン(４００ml)中で１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−フェニル−ピペリジン−４−カルボン酸(１８.７ｇ、９７.５ミリモル)、Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン(３４.０ml、０.１９５モル)を混合した。１−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物(１３.２ｇ、９７.７ミリモル)およびエチルイソニペコテート(４−カルボエトキシピペリジン)(１４.０ｇ、８８.８ミリモル)を加えた。１−エチル−３−(３−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩を加えた。１８時間後、反応混合物をジクロロメタンで希釈し、水で２回抽出した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−フェニル−４−((４−カルボエトキシピペリジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジンを得た。
【０１２４】
１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−フェニル−４−((４−カルボエトキシピペリジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン(２５.０ｇ、５６.６ミリモル)およびジクロロメタン(２００ml)を混合した。ジオキサン中の塩酸溶液(５０ml、４Ｍ、２００ミリモル)を加えた。３時間後、ジエチルエーテル(４００ml)を加え、ろ過し、乾燥後、表題化合物を得た。
【０１２５】
また、製造例８の方法により、
ａ) エチルニペコテート(３−カルボエトキシピペリジン)を使用して４−フェニル−４−((３−カルボエトキシピペリジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン塩酸塩；
ｂ) エチルピペコリネート(２−カルボエトキシピペリジン)を使用して４−フェニル−４−((２−カルボエトキシピペリジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン塩酸塩；
ｃ) ＤＬ−プロリンメチルエステル塩酸塩(２−カルボメトキシピロリジン塩酸塩)を使用して４−フェニル−４−((２−カルボメトキシピロリジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン塩酸塩；
ｄ) ２−カルボエトキシモルホリンを使用して４−フェニル−４−((２−カルボエトキシモルホリン−４−イル)カルボキサミド)ピペリジン塩酸塩を製造した。
【０１２６】
製造例９
１−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)−２−ブロモエタンの合成
イミダゾール(５９.９ｇ、８８０ミリモル)、ｔ−ブチルジメチルシリルクロライド(６０.３ｇ、４００ミリモル)およびジメチルホルムアミド(３００ml)を混合した。塩−氷浴で０℃に冷却した。２−ブロモエタノール(５０.０ｇ、４００ミリモル)を反応混合物の温度が０℃を越えないような速度で滴加した。２時間後、周囲温度まで加温した。１８時間後、反応混合物をヘキサンで３回抽出した。ヘキサン層を合一し、飽和塩化アンモニウム水溶液で３回、飽和重炭酸ナトリウム水溶液で３回、次にブラインで抽出した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて表題化合物を得た。
【０１２７】
製造例１０
１−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)−２−ヨードエタンの合成
２−ヨードエタノールを使用して製造例９の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１２８】
実施例５
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシピペリジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(４−フルオロフェニル)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド
【化４３】
0004132671.tif 000028
５.１.１  ２−(４−フルオロフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチロニトリルの合成
Org. Syn. Collective, 第VI巻, 897-900(1988年)に記載の方法を適合させて、水(１００ml)中で４−フルオロフェニルアセトニトリル(５６.５ｇ、４１８ミリモル)、５０％水酸化ナトリウム水溶液(１０６.３ｇ、１３３０ミリモル)およびベンジルトリエチルアンモニウムクロライド(０.９５ｇ)を混合した。約３０℃まで加温し、激しく攪拌した。約３０分にわたって１−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)−２−ブロモエタン(５０ｇ、２０９ミリモル)を滴加した。添加終了後、約４０℃まで加温し、激しく攪拌し続けた。１８時間後、反応混合物を酢酸エチルで希釈し、攪拌した。３０分後、有機層を分離し、飽和塩化アンモニウム水溶液で３回、飽和重炭酸ナトリウム水溶液で２回、次にブラインで抽出した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で濃縮して残留物を得た。残留物を蒸留して表題化合物を得た：沸点１００〜１１５℃／０.２mmHg。Ｒf＝０.３５(シリカゲル、１／１のジクロロメタン／ヘキサン)。
【０１２９】
５.１.２  ２−(４−フルオロフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチロニトリルの合成
４−フルオロフェニルアセトニトリル(５.０ｇ、３７.０ミリモル)およびテトラヒドロフラン(４５ml)を混合した。ドライアイス／アセトン浴を使用して約−６５℃まで冷却した。カリウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液(８９ml、トルエン中０.５Ｍ、４４.５ミリモル)を加えた。１時間後、テトラヒドロフラン(１０ml)中における１−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)−２−ヨードエタン(１２.７ｇ、４４.４ミリモル)の溶液を加えた。１−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)−２−ヨードエタンの添加が終了した後、周囲温度まで加温した。１８時間後、反応混合物をテトラヒドロフランで希釈し、飽和塩化アンモニウム水溶液で３回、次にブラインで２回抽出した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で濃縮して残留物を得た。残留物を１／１のジクロロメタン／ヘキサンで溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して表題化合物を得た。
【０１３０】
５.１.３  ２−(４−フルオロフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチロニトリルの合成
４−フルオロフェニルアセトニトリル(１.０ｇ、７.４ミリモル)およびテトラヒドロフラン(９ml)を混合した。ドライアイス／アセトン浴を使用して約−７０℃まで冷却した。カリウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液(１４.８ml、トルエン中０.５Ｍ、７.４ミリモル)を加えた。２時間後、上記で製造した溶液をカニューレによりテトラヒドロフラン(４ml)中における１−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)−２−ヨードエタン(２.１ｇ、７.４ミリモル)の冷(−２５℃)溶液に加えた。１−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)−２−ヨードエタンへの添加が終了した後、周囲温度まで加温した。１８時間後、反応混合物をテトラヒドロフランで希釈し、飽和塩化アンモニウム水溶液で３回、次にブラインで２回抽出した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で濃縮して残留物を得た。残留物を１／１のジクロロメタン／ヘキサンで溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して表題化合物を得た。
【０１３１】
５.１.４  ２−(４−フルオロフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチロニトリルの合成
４−フルオロフェニルアセトニトリル(１.０ｇ、７.４ミリモル)およびテトラヒドロフラン(２０ml)を混合した。ドライアイス／アセトン浴を使用して約−７０℃まで冷却した。ｓ−ブチルリチウム溶液(６.３ml、シクロヘキサン中１.３Ｍ、８.１ミリモル)を加えた。１時間後、テトラヒドロフラン(４ml)中における１−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)−２−ヨードエタン(２.１ｇ、７.４ミリモル)の溶液を加えた。２時間後、周囲温度まで加温した。１８時間後、反応混合物を酢酸エチルで希釈し、飽和塩化アンモニウム水溶液で３回、次にブラインで２回抽出した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で濃縮して残留物を得た。残留物を１／１のジクロロメタン／ヘキサンで溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して表題化合物を得た。
【０１３２】
５.２  ２−(４−フルオロフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチルアミンの合成
Parr瓶中で２−(４−フルオロフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチロニトリル(４３.０ｇ、１４６.５ミリモル)およびエタノール(２００ml)を混合した。ラネーニッケル(１２９ｇ)を反応混合物に加えた。濃水酸化アンモニウム溶液(４０ml)を加えた。Parr振騰器において５０psiで水素化した。２４時間後、セライトパッドを通してろ過し、固体をエタノールで洗浄した。ろ液を真空下で濃縮して表題化合物を得た。
【０１３３】
５.３  Ｎ−(２−(４−フルオロフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
４／１の酢酸エチル／水(４００ml)中で２−(４−フルオロフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチルアミン(７.３３ｇ、２４.６ミリモル)および炭酸ナトリウム(２.６１ｇ、２４.６ミリモル)を混合した。反応混合物を塩−氷浴で０℃まで冷却した。酢酸エチル(５０ml)中における３,４,５−トリメトキシベンゾイルクロライド(５.９６、２５.９ミリモル)の溶液を反応混合物の温度が５℃を越えないような速度でゆっくりと加えた。２時間後、周囲温度まで加温した。１８時間後、層を分離し、有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液で２回、飽和重炭酸ナトリウム水溶液で２回、次にブラインで抽出した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で濃縮して残留物を得た。残留物を５０％酢酸エチル／ヘキサンで溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理し、乾燥後、表題化合物を得た：融点１１３〜１１４℃。
元素分析値(C26H38FNO3Siとして)：
理論値：Ｃ％, 63.51；Ｈ％, 7.79；Ｎ％ 2.85
実測値：Ｃ％, 63.43；Ｈ％, 7.51；Ｎ％ 2.66
Ｒf＝０.３０(シリカゲル、５０％酢酸エチル／ヘキサン)。
【０１３４】
５.４  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−フルオロフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
ヘキサン洗浄した水素化ナトリウム(０.４８ｇ、油中５０％、１０.０ミリモル)およびジメチルホルムアミド(５ml)を混合した。反応混合物を塩−氷浴で０℃まで冷却した。ジメチルホルムアミド(１０ml)中におけるＮ−(２−(４−フルオロフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド(４.０ｇ、８.１ミリモル)の溶液をゆっくりと加えた。気体の発生がやむまで攪拌した。ヨードメタン(０.６２ml、１０.０ミリモル)を加えた。１６時間後、反応混合物を酢酸エチルで希釈し、水で３回、次にブラインで抽出した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で濃縮して残留物を得た。残留物を１／１の酢酸エチル／ヘキサンで溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理し、乾燥後、表題化合物を得た：Ｒf＝０.１５(シリカゲル、１／１の酢酸エチル／ヘキサン)。
元素分析値(C27H40FNO3Siとして)：
理論値：Ｃ％, 64.13；Ｈ％, 7.97；Ｎ％ 2.77
実測値：Ｃ％, 63.73；Ｈ％, 7.90；Ｎ％ 2.88
【０１３５】
５.５  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−フルオロフェニル)−４−(ヒドロキシブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−フルオロフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド(３.９ｇ、７.６５ミリモル)およびメタノール(４０ml)を混合した。フッ化アンモニウム(１.７１ｇ、４６.０ミリモル)を加えた。加熱還流した。２０時間後、真空下で濃縮して残留物を得た。残留物を水およびジクロロメタンと混合した。層を分離し、水層をジクロロメタンで２回抽出した。有機層を合一し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で濃縮して表題化合物を得た：融点３０〜３５℃。Ｒf＝０.３０(シリカゲル、１０／１の酢酸エチル／メタノール)。
【０１３６】
５.６  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−フルオロフェニル)−４−(メタンスルホニルブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−フルオロフェニル)−４−ヒドロキシブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド(２.５ｇ、６.３６ミリモル)、Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン(２.４ml、１４.０ミリモル)および無水ジクロロメタン(２５ml)を混合した。反応混合物を氷浴で０℃まで冷却した。塩化メタンスルホニル(０.６９ml、８.９ミリモル)をゆっくりと加えた。１時間後、反応混合物をジクロロメタンで希釈し、１Ｍ塩酸水溶液で３回、飽和重炭酸ナトリウム溶液で２回、次にブラインで抽出した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で濃縮して表題化合物を得た：Ｒf＝０.４３(シリカゲル、１０／１の酢酸エチル／メタノール)。
【０１３７】
５.７  Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシピペリジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(４−フルオロフェニル)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
アセトニトリル(１２ml)中でＮ−メチル−Ｎ−(２−(４−フルオロフェニル)−４−メタンスルホニルブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド(０.７４ｇ、１.６４ミリモル)、(０.８６ｇ、１.６４ミリモル)、４−フェニル−４−((４−カルボエトキシピペリジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン塩酸塩(０.５７ｇ、１.９７ミリモル)、沃化ナトリウム(０.２５ｇ、１.６４ミリモル)およびＮ,Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン(０.８４ｇ、６.６ミリモル)を混合した。加熱還流した。１０時間後、反応混合物を冷却し、酢酸エチルで希釈した。飽和塩化アンモニウム水溶液で３回、飽和重炭酸ナトリウム水溶液で２回、次にブラインで抽出した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で濃縮して表題化合物を得た。
【０１３８】
製造例１１
１−(テトラヒドロピラン−２−イルオキシ)−２−ブロモエタンの合成
ジクロロメタン(２０ml)中で２−ブロモエタノール(１４.２ml、２００ミリモル)およびジヒドロピラン(１８.２５ml、２００ミリモル)を混合した。ピリジニウムｐ−トルエンスルホン酸(５ｇ、２０ミリモル)を加えた。２.５時間後、反応混合物をジエチルエーテルで希釈し、水、１／１の水／ブライン、水、次にブラインで抽出した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を蒸留して表題化合物を得た：沸点８０〜９０℃／１５〜２０mmHg。
【０１３９】
実施例６
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((３−カルボエトキシピペリジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)ベンズアミド
【化４４】
0004132671.tif 000029
６.１  ２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−(テトラヒドロピラン−２−イルオキシ)ブチロニトリルの合成
水素化ナトリウム(１.２ｇ、５０ミリモル)およびテトラヒドロフラン(２０ml)を混合した。約０℃でテトラヒドロフラン(５０ml)中における３,４−ジクロロフェニルアセトニトリル(８.９ｇ、４７.８ミリモル)の溶液を滴加した。添加終了後、周囲温度まで加温し、攪拌した。２.５時間後、０℃まで冷却し、１−(テトラヒドロピラン−２−イルオキシ)−２−ブロモエタン(１０.０ｇ、４７.９ミリモル)を加えた。周囲温度まで加温した。１６時間後、反応混合物を飽和塩化アンモニウム溶液に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を分離し、水およびブラインで抽出した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で濃縮して残留物を得た。残留物を５％酢酸エチル／ヘキサン、１０％酢酸エチル／ヘキサンおよび２０％酢酸エチル／ヘキサンで連続して溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して表題化合物を得た。
【０１４０】
６.２  ２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−(テトラヒドロピラン−２−イルオキシ)ブチルアミンの合成
Parr瓶中で２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−(テトラヒドロピラン−２−イルオキシ)ブチロニトリル(７ｇ)およびエタノール(２０ml)を混合した。ラネーニッケル(１ｇ)を反応混合物に加えた。濃水酸化アンモニウム溶液(３.５ml)を加えた。Parr振騰器において５０psiで水素化した。２４時間後、セライトパッドを通してろ過し、固体をエタノールで洗浄した。ろ液を真空下で濃縮して残留物を得た。残留物を真空下、５０％酢酸エチル／ヘキサンおよび１０％メタノール／ジクロロメタンで連続して溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して表題化合物を得た。
【０１４１】
６.３  Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−(テトラヒドロピラン−２−イルオキシ)ブチル)ベンズアミドの合成
無水ジクロロメタン(２５ml)中で２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−(テトラヒドロピラン−２−イルオキシ)ブチルアミン(３.０５ｇ、９.６ミリモル)およびＮ−メチルモルホリン(２.２ml、２０ミリモル)を混合した。反応混合物を塩−氷浴で０℃まで冷却した。塩化ベンゾイル(１.２ml、１０.３ミリモル)をゆっくりと加えた。１時間後、反応混合物を飽和重炭酸ナトリウム溶液、次に水で抽出した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で濃縮して残留物を得た。残留物を３５％酢酸エチル／ヘキサン、次に５０％酢酸エチル／ヘキサンで連続して溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して表題化合物を得た。
【０１４２】
６.４  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−(テトラヒドロピラン−２−イルオキシ)ブチル)ベンズアミドの合成
Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−(テトラヒドロピラン−２−イルオキシ)ブチル)ベンズアミド(３.８４ｇ)およびテトラヒドロフラン(２０ml)を混合した。水素化ナトリウム(０.２８ｇ、１１.５ミリモル)を加え、気体の発生がやむまで攪拌した。ヨードメタン(１.５ml、２４.１ミリモル)を加えた。６時間後、反応混合物をジエチルエーテルで希釈し、飽和塩化アンモニウム溶液で抽出した。有機層を分離し、重亜硫酸ナトリウム溶液、水およびブラインで抽出した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で濃縮して表題化合物を得た。
【０１４３】
６.５  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−ヒドロキシブチル)ベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−(テトラヒドロピラン−２−イルオキシ)ブチル)ベンズアミド(３.７ｇ)およびメタノール(３０ml)を混合した。ｐ−トルエンスルホン酸水和物(０.７３ｇ)を加え、攪拌した。１８時間後、真空下で濃縮して残留物を得た。残留物およびジクロロメタンを混合し、飽和重炭酸ナトリウム溶液、次に水で抽出した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で濃縮して残留物を得た。残留物を５０％酢酸エチル／ヘキサン、次に酢酸エチルで連続して溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して表題化合物を得た。
【０１４４】
６.６  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−メタンスルホニルブチル)ベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−ヒドロキシブチル)ベンズアミド(０.５ｇ)、Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン(０.３ml、１.７ミリモル)および無水ジクロロメタン(８ml)を混合した。反応混合物を氷浴で０℃まで冷却した。塩化メタンスルホニル(０.１３ml、１.７ミリモル)をゆっくりと加えた。周囲温度まで加温した。１８時間後、氷を加えることにより反応混合物を急冷した。有機層を分離し、１Ｍ塩酸溶液で３回、飽和重炭酸ナトリウム溶液で２回抽出した。有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥し、ろ過し、真空下で濃縮して表題化合物を得た。
【０１４５】
６.７  Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((３−カルボエトキシピペリジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−ベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−メタンスルホニルブチル)ベンズアミドおよび４−フェニル−４−((３−カルボエトキシピペリジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン塩酸を使用して実施例５.７の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１４６】
実施例７
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−(４−フェニル−４−((２−カルボエトキシピペリジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(４−メトキシフェニル)ブチル)ベンズアミド
【化４５】
0004132671.tif 000030
７.１  ２−(４−メトキシフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチロニトリルの合成
４−メトキシフェニルアセトニトリルおよび１−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)−２−ブロモエタンを使用して実施例５.１.１の方法により製造して表題化合物を得た。
７.２  ２−(４−メトキシフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチルアミンの合成
２−(４−メトキシフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチロニトリルを使用して実施例５.２の方法により製造して表題化合物を得た。
７.３  Ｎ−(２−(４−メトキシフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)ベンズアミドの合成
２−(４−メトキシフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチルアミンおよび塩化ベンゾイルを使用して実施例５.３の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１４７】
７.４  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−メトキシフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)ベンズアミドの合成
Ｎ−(２−(４−メトキシフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)ベンズアミドを使用して実施例５.４の方法により製造して表題化合物を得た。
７.５  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−メトキシフェニル)−４−ヒドロキシブチル)ベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−メトキシフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)ベンズアミドを使用して実施例５.５の方法により製造して表題化合物を得た。
７.６  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−メトキシフェニル)−４−メタンスルホニルブチル)ベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−メトキシフェニル)−４−ヒドロキシブチル)ベンズアミドおよび塩化メタンスルホニルを使用して実施例５.６の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１４８】
７.７  Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−(４−フェニル−４−((２−カルボエトキシピペリジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(４−メトキシフェニル)ブチル)ベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−メトキシフェニル)−４−メタンスルホニルブチル)ベンズアミドおよび４−フェニル−４−((２−カルボエトキシピペリジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン塩酸塩を使用して実施例５.７の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１４９】
実施例８
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−フェニル−４−((２−カルボメトキシピロリジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−フェニルブチル)ベンズアミド
【化４６】
0004132671.tif 000031
８.１  ２−フェニル−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチロニトリルの合成
フェニルアセトニトリルおよび１−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)−２−ブロモエタンを使用して実施例５.１.１の方法により製造して表題化合物を得た。
８.２  ２−フェニル−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチルアミンの合成
２−フェニル−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチロニトリルを使用して実施例５.２の方法により製造して表題化合物を得た。
８.３  Ｎ−(２−フェニル−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)ベンズアミドの合成
２−フェニル−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチルアミンおよび塩化ベンゾイルを使用して実施例５.３の方法により製造して表題化合物を得た。
８.４  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−フェニル−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)ベンズアミドの合成
Ｎ−(２−フェニル−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)ベンズアミドを使用して実施例５.４の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１５０】
８.５  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−フェニル−４−ヒドロキシブチル)ベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−フェニル−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)ベンズアミドを使用して実施例５.５の方法により製造して表題化合物を得た。
８.６  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−フェニル−４−メタンスルホニルブチル)ベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−フェニル−４−ヒドロキシブチル)ベンズアミドおよび塩化メタンスルホニルを使用して実施例５.６の方法により製造して表題化合物を得た。
８.７  Ｎ−メチル−Ｎ−(４−フェニル−４−((４−フェニル−４−((２−カルボメトキシピロリジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−フェニルブチル)ベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−フェニル−４−メタンスルホニルブチル)ベンズアミドおよび４−フェニル−４−((２−カルボメトキシピロリジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン塩酸塩を使用して実施例５.７の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１５１】
実施例９
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((２−カルボエトキシモルホリン−４−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジメトキシフェニル)ブチル)ベンズアミド
【化４７】
0004132671.tif 000032
９.１  ２−(３,４−ジメトキシフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチロニトリルの合成
３,４−ジメトキシフェニルアセトニトリルおよび１−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)−２−ブロモエタンを使用して実施例５.１.１の方法により製造して表題化合物を得た。
９.２  ２−(３,４−ジメトキシフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチルアミンの合成
２−(３,４−ジメトキシフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチロニトリルを使用して実施例５.２の方法により製造して表題化合物を得た。
９.３  Ｎ−(２−(３,４−ジメトキシフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)ベンズアミドの合成
２−(３,４−ジメトキシフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチルアミンおよび塩化ベンゾイルを使用して実施例５.３の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１５２】
９.４  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジメトキシフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)ベンズアミドの合成
Ｎ−(２−(３,４−ジメトキシフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)ベンズアミドを使用して実施例５.４の方法により製造して表題化合物を得た。
９.５  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジメトキシフェニル)−４−ヒドロキシブチル)ベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジメトキシフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)ベンズアミドを使用して実施例５.５の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１５３】
９.６  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジメトキシフェニル)−４−メタンスルホニルブチル)ベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジメトキシフェニル)−４−ヒドロキシブチル)ベンズアミドおよび塩化メタンスルホニルを使用して実施例５.６の方法により製造して表題化合物を得た。
９.７  Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((２−カルボエトキシモルホリン−４−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジメトキシフェニル)−ブチル)ベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジメトキシフェニル)−４−メタンスルホニルブチル)ベンズアミドおよび４−フェニル−４−((２−カルボエトキシモルホリン−４−イル)カルボキサミド)ピペリジン塩酸塩を使用して実施例５.７の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１５４】
製造例１２
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−オキソブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド
アセトン(１５ml)／水(１５ml)中で(Ｓ)−Ｎ−メチル−２−(３,４−ジクロロフェニル)ペンタ−４−エニル)アミン(０.８３ｇ、３.４ミリモル)および重炭酸ナトリウム(１.４ｇ、１６.９ミリモル)を混合した。氷浴で冷却した。テトラヒドロフラン(５ml)中における塩化３,４,５−トリメトキシベンジル(１.０９ｇ、４.７２ミリモル)の溶液を加えた。１８時間後、ろ過し、酢酸エチル(２５０ml)で洗浄した。ろ液を層に分離し、有機層を飽和重炭酸ナトリウム水溶液で抽出した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を１０％酢酸エチル／ヘキサン、２０％酢酸エチル／ヘキサン、３０％酢酸エチル／ヘキサン、４０％酢酸エチル／ヘキサンおよび５０％酢酸エチル／ヘキサンで連続して溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)ペンタ−４−エニル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドを得た：  Ｒｆ＝０.２２  (シリカゲル、５０％酢酸エチル／ヘキサン)。
【０１５５】
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)ペンタ−４−エニル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド(１.３９ｇ、３.１７ミリモル)、アセトン／ｔ−ブタノール／水(２／１／１、３２ml)およびＮ−メチルモルホリンＮ−オキシド溶液(０.８９ｇ、水中５０％、１.２)を混合した。四酸化オスミウム溶液(１.２ｇ、水中４％、０.０６ミリモル)を加えた。２時間後、真空下で蒸発させて殆んどのアセトンを除去し、蒸発させた反応混合物をジクロロメタンおよび１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液に分配した。層を分離し、有機層をブラインで抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た：Ｒf＝０.２６(シリカゲル、６％メタノール／ジクロロメタン)。残留物およびテトラヒドロフラン／水(４／１、４０ml)を混合した。メタ過沃素酸ナトリウム(０.８１ｇ、３.８ミリモル)を加えた。１.５時間後、反応混合物をろ過し、固体をテトラヒドロフランで洗浄し、ろ液を蒸発させて殆んどのテトラヒドロフランを除去した。蒸発させた反応混合物をジクロロメタンで希釈した。水で抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を１％メタノール／ジクロロメタンで溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して表題化合物を得た。
【０１５６】
製造例１３
４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン塩酸塩
１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン(３７.５ｇ、７８ミリモル)およびジクロロメタン(３００ml)を混合した。ジオキサン中の塩酸溶液(７０ml、４Ｍ、２８０ミリモル)を加えた。５時間後、ジエチルエーテルを加え、攪拌を続けて固体を得た。固体を集め、ジエチルエーテルで洗浄し、乾燥して表題化合物を得た。
【０１５７】
実施例１０
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド
【化４８】
0004132671.tif 000033
１０.１  (Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−オキソブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドおよび４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン沃化水素酸塩を使用して実施例１.１の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１５８】
実施例１１
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(ナフタ−２−イル)ブチル)ベンズアミド
【化４９】
0004132671.tif 000034
１１.１  ２−(ナフタ−２−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチロニトリルの合成
ナフタ−２−イルアセトニトリルおよび１−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)−２−ブロモエタンを使用して実施例５.１.１の方法により製造して表題化合物を得た。
１１.２  ２−(ナフタ−２−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチルアミンの合成
２−(ナフタ−２−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチロニトリルを使用して実施例５.２の方法により製造して表題化合物を得た。
１１.３  Ｎ−(２−(ナフタ−２−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)ベンズアミドの合成
２−(ナフタ−２−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチルアミンおよび塩化ベンゾイルを使用して実施例５.３の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１５９】
１１.４  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(ナフタ−２−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)ベンズアミドの合成
Ｎ−(２−(ナフタ−２−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)ベンズアミドを使用して実施例５.４の方法により製造して表題化合物を得た。
１１.５  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(ナフタ−２−イル)−４−ヒドロキシブチル)ベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(ナフタ−２−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)ベンズアミドを使用して実施例５.５の方法により製造して表題化合物を得た。
１１.６  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(ナフタ−２−イル)−４−メタンスルホニルブチル)ベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(ナフタ−２−イル)−４−ヒドロキシブチル)ベンズアミドおよび塩化メタンスルホニルを使用して実施例５.６の方法により製造して表題化合物を得た。
１１.７  Ｎ−メチル−Ｎ−(４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(ナフタ−２−イル)ブチル)ベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(ナフタ−２−イル)−４−メタンスルホニルブチル)ベンズアミドおよび４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン塩酸塩を使用して実施例５.７の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１６０】
実施例１２
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(チエン−２−イル)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド
【化５０】
0004132671.tif 000035
１２.１  ２−(チエン−２−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチロニトリルの合成
チエン−２−イルアセトニトリルおよび１−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)−２−ブロモエタンを使用して実施例５.１.１の方法により製造して表題化合物を得た。
１２.２  ２−(チエン−２−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチルアミンの合成
メタノール(５０ml)中で２−(チエン−２−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチロニトリル(３.２４ミリモル)および塩化コバルト(ＩＩ)六水和物(１.５４ｇ、６.４８ミリモル)を混合した。氷浴で温度を２０℃以下に維持しながら、ホウ水素化ナトリウム(２.１７ｇ、５７ミリモル)を滴加した。添加終了後、反応混合物を周囲温度で１８時間放置した。反応混合物を真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物をジクロロメタンおよび飽和塩化アンモニウム水溶液に分配した。１Ｍ塩酸水溶液を使用して水層のｐＨを約８に調整した。層を分離し、水層をジクロロメタンで数回抽出し、有機層を合一し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥し、ろ過し、真空下で濃縮して表題化合物を得た。
【０１６１】
１２.３  Ｎ−(２−(チエン−２−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
２−(チエン−２−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチルアミンおよび３,４,５−トリメトキシベンゾイルクロライドを使用して実施例５.３の方法により製造して表題化合物を得た。
１２.４  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(チエン−２−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
Ｎ−(２−(チエン−２−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドを使用して実施例１.４の方法により製造して表題化合物を得た。
１２.５  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(チエン−２−イル)−４−ヒドロキシブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(チエン−２−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドを使用して実施例５.５の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１６２】
１２.６  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(チエン−２−イル)−４−メタンスルホニルブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(チエン−２−イル)−４−ヒドロキシブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドおよび塩化メタンスルホニルを使用して実施例５.６の方法により製造して表題化合物を得た。
１２.７  Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(チエン−２−イル)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(チエン−２−イル)−４−メタンスルホニルブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドおよび４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン塩酸塩を使用して実施例５.７の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１６３】
実施例１３
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(ピリド−３−イル)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド
【化５１】
0004132671.tif 000036
１３.１  ２−(ピリド−３−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチロニトリルの合成
ピリド−３−イルアセトニトリルおよび１−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)−２−ブロモエタンを使用して実施例５.１.２の方法により製造して表題化合物を得た。
１３.２  ２−(ピリド−３−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチルアミンの合成
２−(ピリド−３−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチロニトリルを使用して実施例１２.２の方法により製造して表題化合物を得た。
１３.３  Ｎ−(２−(ピリド−３−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
２−(ピリド−３−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチルアミンおよび３,４,５−トリメトキシベンゾイルクロライドを使用して実施例５.３の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１６４】
１３.４  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(ピリド−３−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
Ｎ−(２−(ピリド−３−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドを使用して実施例５.４の方法により製造して表題化合物を得た。
１３.５  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(ピリド−３−イル)−４−ヒドロキシブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(ピリド−３−イル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドを使用して実施例５.５の方法により製造して表題化合物を得た。
１３.６  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(ピリド−３−イル)−４−メタンスルホニルブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(ピリド−３−イル)−４−ヒドロキシブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドおよび塩化メタンスルホニルを使用して実施例５.６の方法により製造した。飽和重炭酸ナトリウム溶液を使用する抽出により単離して表題化合物を得た。
１３.７  Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(ピリド−３−イル)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(ピリド−３−イル)−４−メタンスルホニルブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドおよび４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン塩酸塩を使用して実施例５.７の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１６５】
実施例１４
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(４−クロロフェニル)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド
【化５２】
0004132671.tif 000037
１４.１  ２−(４−クロロフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチロニトリルの合成
４−クロロフェニルアセトニトリルおよび１−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)−２−ブロモエタンを使用して実施例５.１.１の方法により製造して表題化合物を得た。
１４.２  ２−(４−クロロフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチルアミンの合成
２−(４−クロロフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチロニトリルを使用して実施例５.２の方法により製造して表題化合物を得た。
１４.３  Ｎ−(２−(４−クロロフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
２−(４−クロロフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチルアミンおよび３,４,５−トリメトキシベンゾイルクロライドを使用して実施例５.３の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１６６】
１４.４  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−クロロフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
Ｎ−(２−(４−クロロフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドを使用して実施例５.４の方法により製造して表題化合物を得た。
１４.５  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−クロロフェニル)−４−ヒドロキシブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−クロロフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドを使用して実施例５.５の方法により製造して表題化合物を得た。
１４.６  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−クロロフェニル)−４−メタンスルホニルブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−クロロフェニル)−４−ヒドロキシブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドを使用して実施例５.６の方法により製造して表題化合物を得た。
１４.７  Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−)−２−(４−クロロフェニル)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−クロロフェニル)−４−メタンスルホニルブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドおよび４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン塩酸塩を使用して実施例５.７の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１６７】
実施例１５
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジメチルフェニル)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミド
【化５３】
0004132671.tif 000038
１５.１  ２−(３,４−ジメチルフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチロニトリルの合成
３,４−ジメチルフェニルアセトニトリルおよび１−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)−２−ブロモエタンを使用して実施例５.１.１の方法により製造して表題化合物を得た。
１５.２  ２−(３,４−ジメチルフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチルアミンの合成
２−(３,４−ジメチルフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチロニトリルを使用して実施例５.２の方法により製造して表題化合物を得た。
１５.３  Ｎ−(２−(３,４−ジメチルフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
２−(３,４−ジメチルフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチルアミンおよび３,４,５−トリメトキシベンゾイルクロライドを使用して実施例５.３の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１６８】
１５.４  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジメチルフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
Ｎ−(２−(３,４−ジメチルフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドを使用して実施例５.４の方法により製造して表題化合物を得た。
１５.５  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジメチルフェニル)−４−ヒドロキシブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジメチルフェニル)−４−(ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドを使用して実施例５.５の方法により製造して表題化合物を得た。
１５.６  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジメチルフェニル)−４−メタンスルホニルブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジメチルフェニル)−４−ヒドロキシブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドを使用して実施例５.６の方法により製造して表題化合物を得た。
１５.７  Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−)−２−(３,４−ジメチルフェニル)ブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジメチルフェニル)−４−メタンスルホニルブチル)−３,４,５−トリメトキシベンズアミドおよび４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン塩酸塩を使用して実施例５.７の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１６９】
製造例１４
２−メトキシ−５−(４Ｈ−トリアゾール−４−イル)ベンゾイルクロライドの合成
J. Chem. Soc. (C), 1664(1967年)に記載の方法に従って、トルエン(２５ml)中でメチル２−メトキシ−５−アミノベンゾエート(２.０ｇ、１１ミリモル)、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミドアジン(１.５６ｇ、１１ミリモル)、ｐ−トルエンスルホン酸(１９０ｍｇ)を混合した。容器のヘッドスペースをアルゴンで洗い流すようにガス送入管を反応容器に取り付け、流出ガスを希塩酸水溶液で洗浄した。加熱還流した。２０時間後、反応混合物を真空下で濃縮して残留物を得た。残留物をジクロロメタンおよび飽和重炭酸ナトリウム水溶液に分配した。水層をジクロロメタンで２回抽出した。有機層を合一し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を７０％酢酸エチル／ジクロロメタン、次に５％メタノール／ジクロロメタンで連続して溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して残留物を得た。残留物を酢酸エチル／ヘキサンから再結晶してメチル２−メトキシ−５−(４Ｈ−トリアゾール−４−イル)ベンゾエートを得た：融点１９１〜１９５.５℃。別法として、J. Med. Chem., 21, 1100(1978年)に記載の方法に従って、メチル２−メトキシ−５−アミノベンゾエート(１.８ｇ、１０ミリモル)、ジホルミルヒドラジン(０.９７ｇ、１１ミリモル)および五酸化リン(１.８４ｇ、１３ミリモル)を混合した。１６０℃まで加熱した。１.５時間後、反応混合物を冷却し、飽和重炭酸ナトリウム水溶液を加えた。ジクロロメタンで３回抽出した。合一した有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を４０％酢酸エチル／ジクロロメタン、次に５％メタノール／ジクロロメタンで連続して溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理してメチル２−メトキシ−５−(４Ｈ−トリアゾール−４−イル)ベンゾエートを得た：融点１７９〜１８２℃。
【０１７０】
メチル２−メトキシ−５−(４Ｈ−トリアゾール−４−イル)ベンゾエート(５６ミリモル)およびメタノール(２００ml)および水(５０ml)を混合した。１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液(６２.５ml、６２.５ミリモル)を加えた。加熱還流した。８時間後、真空下で濃縮して殆んどの溶媒を除去した。１Ｍ塩酸水溶液を使用してpHを約１〜２に調整し、ジクロロメタンで抽出した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて２−メトキシ−５−(４Ｈ−トリアゾール−４−イル)安息香酸を得た。
【０１７１】
２−メトキシ−５−(４Ｈ−トリアゾール−４−イル)安息香酸(５ミリモル)およびジクロロメタン(４０ml)を混合した。塩化オキサリル(０.７２ml、８.２５ミリモル)、次にジメチルホルムアミド(３滴)を滴加した。４時間後、真空下で蒸発させ、乾燥して表題化合物を得た。
【０１７２】
製造例１５
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−フェニル−４−オキソブチル)−２−メトキシ−５−(４Ｈ−トリアゾール−４−イル)ベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−(２−フェニルペンタ−４−エニル)アミン(１.００ｇ、５.７ミリモル)、アセトン(５０ml)、水(２０ml)および重炭酸ナトリウム(０.３ｇ、２.８５ミリモル)を混合した。アセトン(５０ml)中における２−メトキシ−５−(４Ｈ−トリアゾール−４−イル)ベンゾイルクロライド(１.４ｇ、６.３ミリモル)の溶液を少しずつ加えた。１０時間後、反応混合物を飽和重炭酸ナトリウム水溶液で希釈し、真空下で蒸発させて殆んどのアセトンを除去した。ジクロロメタンで５回抽出した。合一した有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を５％メタノール／ジクロロメタンで溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−フェニルペンタ−４−エニル)−２−メトキシ−５−(４Ｈ−トリアゾール−４−イル)ベンズアミドを得た：Ｒf＝０.２５(シリカゲル、５％メタノール／ジクロロメタン)。
【０１７３】
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−フェニルペンタ−４−エニル)−２−メトキシ−５−(４Ｈ−トリアゾール−４−イル)ベンズアミド(１.０３ｇ、２.７４ミリモル)、アセトン(１５ml)、ｔ−ブタノール(７.５ml)、水(７.５ml)およびＮ−メチルモルホリンＮ−オキシド溶液(０.７４ml、水中５０％、３.５６ミリモル)を混合した。四酸化オスミウム溶液(１.０ml、水中４％)を加えた。３６時間後、真空下で蒸発させて殆んどのアセトンを除去し、蒸発させた反応混合物をジクロロメタンで抽出した。有機層を１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液で抽出した。水層をジクロロメタンで５回抽出した。合一した有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物およびテトラヒドロフラン／水(２０ml、４／１)を混合した。メタ過沃素酸ナトリウム(０.７ｇ、３.２９ミリモル)を加えた。２５分後、反応混合物をろ過し、固体をテトラヒドロフランで洗浄し、ろ液を蒸発させて残留物を得た。残留物をジクロロメタン(１００ml)で希釈し、水で抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を１０％メタノール／ジクロロメタンで溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して表題化合物を得た。
【０１７４】
実施例１６
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−フェニルブチル)−２−メトキシ−５−(４Ｈ−トリアゾール−４−イル)ベンズアミド
【化５４】
0004132671.tif 000039
１６.１  (Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−フェニルブチル)−２−メトキシ−５−(４Ｈ−トリアゾール−４−イル)ベンズアミドの合成
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−フェニル−４−オキソブチル)−２−メトキシ−５−(４Ｈ−トリアゾール−４−イル)ベンズアミドおよび４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン沃化水素酸塩を使用して実施例１.１の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１７５】
製造例１６
４−フェニル−４−((４−カルボエトキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン沃化水素酸塩
エタノール(３０ml)中でｔ−ブチル１−ピペラジンカルボキシレート(１０.４７ｇ、５６.２ミリモル)、アクリル酸エチル(８ml)を混合した。加熱還流した。５.５時間後、反応混合物を冷却し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物およびジエチルエーテル(２００ml)を混合し、１Ｍ塩酸水溶液で抽出した。重炭酸ナトリウムを使用して水層のｐＨを塩基性に調整し、次に酢酸エチルで抽出した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させてｔ−ブチル４−カルボエトキシエチル−１−ピペラジンカルボキシレートを得た。
【０１７６】
ｔ−ブチル４−カルボエトキシエチル−１−ピペラジンカルボキシレート(１４.３ｇ、５０ミリモル)およびジクロロメタン(２５０ml)を混合した。攪拌し、約０℃まで冷却し、塩酸ガスでパージした。４時間後、反応混合物を真空下で濃縮し、ジエチルエーテル(２００ml)を２回加え、真空下で蒸発させて固体を得た。固体をジエチルエーテルで摩砕し、ろ過により集めて４−カルボエトキシエチル−１−ピペラジン塩酸塩を得た。
【０１７７】
ジクロロメタン(２５０ml)中で４−カルボエトキシエチル−１−ピペラジン塩酸塩(６.８ｇ、２６.２ミリモル)、１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−フェニル−ピペリジン−４−カルボン酸(８.０ｇ、２６.２ミリモル)、Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン(１４ml)および１−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物(３.９ｇ)を混合した。１−(３−ジメチルアミノプロピル)−３−エチルカルボジイミド塩酸塩(５.５３ｇ)を加えた。１７時間後、反応混合物をジクロロメタン(３００ml)で希釈し、飽和重炭酸ナトリウム水溶液、水、次に１Ｍ塩酸水溶液で抽出した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物をヘキサン、２０％酢酸エチル／ヘキサン、３０％酢酸エチル／ヘキサン、５０％酢酸エチル／ヘキサン、６０％酢酸エチル／ヘキサン、２.０mlのトリエチルアミンを含有する５０％酢酸エチル／ヘキサン、次に酢酸エチルで連続して溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−フェニル−４−((４−カルボエトキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジンを得た。
【０１７８】
１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−フェニル−４−((４−カルボエトキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン(７.３ｇ、１５.３ミリモル)およびジクロロメタン(２５０ml)を混合した。攪拌し、約０℃まで冷却し、塩酸ガスでパージした。２時間後、周囲温度まで加温し、再び塩酸ガスでパージした。３時間後、反応混合物を真空下で濃縮し、ジエチルエーテル(５０ml)を３回加え、真空下で蒸発させて固体を得た。固体、ジクロロメタン(１００ml)および重炭酸ナトリウム水溶液を混合した。層を分離し、水層を塩化ナトリウムで飽和させ、ジクロロメタンで２回抽出した。有機層を合一し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて４−フェニル−４−((４−カルボエトキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジンを得た。
【０１７９】
４−フェニル−４−((４−カルボエトキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン(６.０ｇ)およびエタノール(６０ml)を混合した。沃化水素酸水溶液(７.９ｇ、５７％)を加えた。３０分後、ジエチルエーテル(２００ml)を加えて固体を得た。ろ過し、固体をジエチルエーテルで洗浄し、乾燥して表題化合物を得た。
【０１８０】
実施例１７
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−フェニル−４−カルボエトキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド
【化５５】
0004132671.tif 000040
１７.１  Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−(テトラヒドロピラン−２−イルオキシ)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)−ベンズアミドの合成
２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−(テトラヒドロピラン−２−イルオキシ)ブチルアミンおよび２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)−ベンゾイルクロライドを使用して実施例６.３の方法により製造して表題化合物を得た。
１７.２  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−(テトラヒドロピラン−２−イルオキシ)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)−ベンズアミドの合成
Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−(テトラヒドロピラン−２−イルオキシ)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)−ベンズアミドを使用して実施例６.４の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１８１】
１７.３  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−ヒドロキシブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)−ベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−(テトラヒドロピラン−２−イルオキシ)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)−ベンズアミドを使用して実施例６.５の方法により製造して表題化合物を得た。
１７.４  Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−メタンスルホニルブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)−ベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−ヒドロキシブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)−ベンズアミドを使用して実施例６.６の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１８２】
１７.５  Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−カルボエトキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミドの合成
アセトニトリル(４０ml)中でＮ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−メタンスルホニルブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)−ベンズアミド(１.８ｇ、６.６ミリモル)、４−フェニル−４−カルボエトキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン沃化水素酸(４.０ｇ、６.３６ミリモル)およびトリエチルアミン(２.７ml)を混合した。加熱還流した。１２時間後、反応混合物を冷却し、真空下で濃縮し、蒸発させた反応混合物をジクロロメタン(２００ml)で希釈した。飽和重炭酸ナトリウム水溶液、次に水で抽出した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて表題化合物を得た。
【０１８３】
製造例１７
４−(ピリド−３−イル)−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン
水酸化ナトリウム水溶液(５０重量％、４００ml)中でＮ−ベンジル−Ｎ−ビス−(２−クロロエチル)アミン塩酸塩(７２.０ｇ、２６９ミリモル)、ピリド−３−イルアセトニトリル(３１.８ｇ、２６９ミリモル)およびヘキサデシルトリブチルホスホニウムブロミド(６ｇ)を混合した。蒸気浴で加熱し、激しく攪拌した。１.５時間後、反応混合物を周囲温度まで冷却した。反応混合物をジクロロメタンで３回抽出した。有機層を合一し、１０％塩酸水溶液で２回抽出した。水層を合一し、水酸化ナトリウム水溶液(５０重量％)で塩基性にした。塩基性の水層をジエチルエーテルで３回抽出した。合一したエーテル層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過してろ液を得た。ろ液を塩化水素(気体)でパージして固体を得た。固体をろ過により集め、真空下、６５℃で乾燥して１−ベンジル−４−(ピリド−３−イル)−４−シアノピペリジン塩酸塩を得た。
【０１８４】
エチレングリコール(１２０ml)中で１−ベンジル−４−(ピリド−３−イル)−４−シアノピペリジン塩酸塩(１０.０ｇ、２８ミリモル)、水酸化ナトリウム(７.６ｇ、１９０ミリモル)および水(２ml)を混合した。加熱還流した。１５時間後、真空下で蒸発させて残留物を得た。
【０１８５】
残留物をメタノール(２０ml)およびエタノール(２０ml)と混合し、攪拌して固体を得た。ろ過して固体を除去した。ろ液にエタノール(５０ml)を加え、１時間攪拌して第２の固体を得た。第２の固体をろ過により除去し、ろ液を１２Ｍ塩酸水溶液で酸性にした。酸性のろ液を真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物およびジクロロメタンを混合した。水で抽出した。重炭酸ナトリウムを使用して水層のpHを７に調整した。水層を真空下で蒸発させて残留物を得、残留物およびエタノールを混合し、再び真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物をメタノールと混合し、約５０℃まで加熱してスラリーを得た。スラリーをろ過し、ろ液にアセトン(３０ml)を加えて固体を得た。固体をろ過により集め、アセトンで洗浄し、乾燥して１−ベンジル−４−(ピリド−３−イル)−ピペリジン−４−カルボン酸を得た。ジメチルホルムアミド(１３０ml)中で１−ベンジル−４−(ピリド−３−イル)−ピペリジン−４−カルボン酸(５.１ｇ)、４−カルボエトキシメチルピペラジン(５.８ｇ)、１−(３−ジメチルアミノプロピル)−３−エチルカルボジイミド塩酸塩(５.０ｇ)および１−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物(３.６ｇ)を混合した。６０時間後、反応混合物を酢酸エチル(１Ｌ)で希釈した。希釈した反応混合物を飽和重炭酸ナトリウム水溶液で抽出した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物をジエチルエーテルで摩砕し、ろ過し、乾燥して１−ベンジル−４−(ピリド−３−イル)−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジンを得た。Ｒf＝０.５２(シリカゲル、ジクロロメタン／メタノール／濃アンモニア水、９０／１０／１)。
【０１８６】
１−ベンジル−４−(ピリド−３−イル)−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン(１.９ｇ)およびエタノール(９２００ml)を混合した。５％パラジウム／炭素(１.２ｇ)を加えた。加圧装置において６５  ｐｓｉで水素化した。１７時間後、セライトを通してろ過して触媒を除去し、ろ液を真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を９８／２のジクロロメタン／メタノール、９６／４のジクロロメタン／メタノール、９４／６／０.６のジクロロメタン／メタノール／濃アンモニア水、次に９４／８／０.６のジクロロメタン／メタノール／濃アンモニア水で連続して溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して表題化合物を得た。
【０１８７】
実施例１８
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−(ピリド−３−イル)−４−カルボエトキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド
【化５６】
0004132671.tif 000041
１８.１  Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−(ピリド−３−イル)−４−カルボエトキシエチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミドの合成
アセトニトリル(４０ml)中でＮ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−メタンスルホニルブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)−ベンズアミド(１.１ｇ)、４−(ピリド−３−イル)−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン(５.９ｇ)およびＮ,Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン(１.５３ｇ)を混合した。加熱還流した。１２時間後、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物をシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して表題化合物を得た。
【０１８８】
製造例１８
２−メトキシ−５−(５−トリフルオロメチル−１Ｈ−テトラゾール−１−イル)安息香酸の合成
テトラヒドロフラン(１０ml)中で２−メトキシ−５−アミノベンゾエート(１.８ｇ、１０ミリモル)およびピリジン(０.８８ml、１１ミリモル)を混合した。氷浴で冷却した。無水トリフルオロ酢酸(１.５６ml、１１ミリモル)を加えた。周囲温度まで加温した。２時間後、水を加え、反応混合物を酢酸エチルで希釈した。有機層を分離し、ブラインで抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させてメチル２−メトキシ−５−トリフルオロアセチルアミドベンゾエートを得た。テトラヒドロフラン(３０ml)中でメチル２−メトキシ−５−トリフルオロアセチルアミドベンゾエート(３.１ｇ、１５ミリモル)、トリフェニルホスフィン(５.２ｇ、２０ミリモル)および四塩化炭素(３０ml)を混合した。加熱還流した。１８時間後、四塩化炭素(１００ml)を加え、加熱還流を続けた。１８時間後、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を３０％酢酸エチル／ヘキサンで溶離する短カラムのシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理してメチル２−メトキシ−５−(２−トリフルオロメチル−２−クロロイミノベンゾエートを得た。
【０１８９】
氷酢酸(６０ml)中でメチル２−メトキシ−５−(２−トリフルオロメチル−２−クロロイミノベンゾエート(３.４ｇ、１２ミリモル)およびアジ化ナトリウム(３.１２ｇ、４８ミリモル)を混合した。７０℃まで加熱した。３時間後、反応混合物を氷浴で冷却し、水(８００ml)を加え、攪拌して固体を得た。１時間後、固体をろ過により集め、乾燥してメチル２−メトキシ−５−(５−トリフルオロメチル−１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンゾエートを得た：Ｒf＝０.５８(シリカゲル、３０％酢酸エチル／トルエン)。
【０１９０】
メタノール／テトラヒドロフラン(２０ml／１０ml)中でメチル２−メトキシ−５−(５−トリフルオロメチル−１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンゾエート(１.４６ｇ、５.２７ミリモル)および水酸化ナトリウム水溶液(２０ml、２Ｍ、４０ミリモル)を混合した。２時間後、１Ｍ塩酸水溶液を使用して反応混合物のｐＨを約２に調整した。反応混合物を酢酸エチル、次にジクロロメタンで抽出した。合一した有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて表題化合物を得た：  Ｒｆ＝０.５５  (シリカゲル、８５％クロロホルム／１０％メタノール／５％酢酸)。
【０１９１】
製造例１９
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−フルオロフェニル)−４−オキソブチル)−２−メトキシ−５−(５−トリフルオロメチル−１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−フルオロフェニル)ペンタ−４−エニル)アミン(０.２ｇ、１.０ミリモル)およびジクロロメタン(１０ml)を混合した。(５−トリフルオロメチル−１Ｈ−テトラゾール−１−イル)安息香酸(１.０ミリモル)、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物(０.１６ｇ、１.２ミリモル)、Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン(０.１７ml、１.０ミリモル)および１−エチル−３−(３−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(０.２３ｇ、１.２ミリモル)を混合した。１８時間後、反応混合物を酢酸エチルで希釈し、ブラインで抽出した。有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物をシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−フルオロフェニル)ペンタ−４−エニル)−２−メトキシ−５−(５−トリフルオロメチル−１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミドを得た。
【０１９２】
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−フルオロフェニル)ペンタ−４−エニル)−２−メトキシ−５−(５−トリフルオロメチル−１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド(１０ミリモル)、アセトン／ｔ−ブタノール／水(２／１／１、５６ml)およびＮ−メチルモルホリンＮ−オキシド溶液(２.６ml、水中５０％、１２.７ミリモル)を混合した。四酸化オスミウム溶液(２.６ml、水中４％、０.４４ミリモル)を加えた。３時間後、真空下で蒸発させて殆んどのアセトンを除去し、蒸発させた反応混合物をジクロロメタンおよび１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液に分配した。層を分離し、有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物、テトラヒドロフラン(７０ml)および水(１７.５ml)を混合した。メタ過沃素酸ナトリウム(３.２ｇ)を加えた。１.５時間後、反応混合物をろ過し、固体をジクロロメタンで洗浄し、ろ液を蒸発させて表題化合物を得た。
【０１９３】
実施例１９
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(４−フルオロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(５−トリフルオロメチル−１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド
【化５７】
0004132671.tif 000042
１９.１  ((Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(４−フルオロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(５−トリフルオロメチル−１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミドの合成
(Ｓ)−Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(４−フルオロフェニル)−４−オキソブチル)−２−メトキシ−５−(５−トリフルオロメチル−１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミドおよび４−フェニル−４−((４−カルボエトキシメチルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン沃化水素酸塩を使用して実施例１.１の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１９４】
製造例２０
４−フェニル−４−((４−カルボエトキシプロピルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン沃化水素酸塩
ジメチルホルムアミド(６０ml)中でｔ−ブチル１−ピペラジンカルボキシレート(１０.７ｇ、５７.５ミリモル)、エチル４−クロロブチレート(１０.４ml)および炭酸カリウム(８ｇ)を混合した。加熱還流した。４.５時間後、反応混合物を冷却し、重炭酸ナトリウム水溶液で希釈し、ジエチルエーテル(２００ml)で２回抽出した。有機層を合一し、１Ｍ塩酸水溶液で抽出した。重炭酸ナトリウムを使用して水層のpHを塩基性にし、次にジエチルエーテルで２回抽出した。合一した有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物を１０％酢酸エチル／ヘキサン、２０％酢酸エチル／ヘキサン、２５％酢酸エチル／ヘキサンで連続して溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理してｔ−ブチル４−カルボエトキシプロピル−１−ピペラジンカルボキシレートを得た。Ｒf＝０.５(シリカゲル、酢酸エチル)。
【０１９５】
ｔ−ブチル４−カルボエトキシプロピル−１−ピペラジンカルボキシレート(７.０ｇ、２３.３ミリモル)およびジクロロメタン(１００ml)を混合した。攪拌し、約０℃まで冷却し、塩酸ガスでパージした。２時間後、反応混合物を真空下で濃縮し、ジエチルエーテル(５０ml)を２回加え、真空下で蒸発させて固体を得た。固体をジエチルエーテルで摩砕し、ろ過により集めて４−カルボエトキシプロピル−１−ピペラジン塩酸塩を得た。
【０１９６】
ジクロロメタン(２５０ml)中で４−カルボエトキシプロピル−１−ピペラジン塩酸塩(５.６ｇ、２０.５ミリモル)、１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−フェニル−ピペリジン−４−カルボン酸(８.１３ｇ、２６.６ミリモル)、Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン(７.９ｇ)および１−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物(３.３ｇ、２４.６ミリモル)を混合した。１−(３−ジメチルアミノプロピル)−３−エチルカルボジイミド塩酸塩(４.７２ｇ、２４.６ミリモル)を加えた。２４時間後、反応混合物をジクロロメタン(１００ml)で希釈し、飽和重炭酸ナトリウム水溶液および１Ｍ塩酸水溶液で抽出した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、ろ過し、真空下で蒸発させて残留物を得た。残留物をヘキサン、２０％酢酸エチル／ヘキサン、４０％酢酸エチル／ヘキサン、６０％酢酸エチル／ヘキサン、８０％酢酸エチル／ヘキサン、酢酸エチル、次に６％メタノール／酢酸エチルで連続して溶離するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−フェニル−４−((４−カルボエトキシプロピルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジンを得た。
【０１９７】
１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−フェニル−４−((４−カルボエトキシプロピルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン(６.７ｇ、１２.５ミリモル)およびエタノール(９０ml)を混合した。沃化水素酸水溶液(６.２ｇ、５７％)を加えた。加熱還流した。１５時間後、周囲温度まで冷却し、ジエチルエーテル(３００ml)を加えて固体を得た。ろ過し、固体をジエチルエーテルで洗浄し、乾燥して表題化合物を得た。
【０１９８】
実施例２０
Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−((４−フェニル−４−カルボエトキシプロピルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミド
【化５８】
0004132671.tif 000043
２０.１  Ｎ−メチル−Ｎ−(４−(４−フェニル−４−カルボエトキシプロピルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン−１−イル)−２−(３,４−ジクロロフェニル)ブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)ベンズアミドの合成
Ｎ−メチル−Ｎ−(２−(３,４−ジクロロフェニル)−４−メタンスルホニルブチル)−２−メトキシ−５−(１Ｈ−テトラゾール−１−イル)−ベンズアミドおよび４−フェニル−４−カルボエトキシプロピルピペラジン−１−イル)カルボキサミド)ピペリジン沃化水素酸を使用して実施例１７.５の方法により製造して表題化合物を得た。
【０１９９】
タキキニンは共通のＣ−末端配列、Phe-Xaa-Gly-Leu-Met-NH2を有する神経ペプチド類である。タキキニンは末梢および中枢神経系に広く分布し、そこで少なくとも３種の受容体と結合する。ＮＫ1、ＮＫ2およびＮＫ3受容体はそれぞれＰ物質、ニューロキニンＡ（ＮＫＡ）およびニューロキニンＢ（ＮＫＢ）の好ましい結合親和性により定義される。
【０２００】
タキキニンアンタゴニストの使用は膀胱炎；気管支収縮；過敏性反応；痛みの治療；末梢神経障害；帯状疱疹後の神経痛；有害な免疫反応；呼吸性疾患、例えば喘息、気管支炎、せき、鼻炎およびアレルギーなど；眼の疾患、例えば結膜炎および春季カタル；皮膚の疾患、例えば接触性皮膚炎、アトピー性皮膚炎および蕁麻疹; 炎症性疾患、例えばリウマチ性関節炎、変形性関節炎など；胃腸の症状、例えばクローン病、嘔吐、および潰瘍性大腸炎；血管拡張による症状、例えば狭心症および偏頭痛；並びに中枢神経系疾患および症状、例えば不安症、鬱病、精神病、精神分裂症、痴呆を含む種々のタキキニンが関与する疾患および症状の治療において必要とされる。
タキキニンが関与する疾患および症状とは臨床的に徴候として、タキキニンが全体として、または部分的に関与する疾患および症状であると理解される。さらに、タキキニンの関与は必ずしもタキキニンが関与する特定の疾患および症状の原因というわけではない。タキキニンアンタゴニストはタキキニンが関与する疾患および症状の治療的軽減を調節または提供するのに有用である。
【０２０１】
本発明は新規で有用な式(１)のタキキニンアンタゴニスト、並びにその立体異性体および製薬上許容しうる塩を提供する。特に、本発明はＮＫ1およびＮＫ2受容体アンタゴニストである式(１)の化合物を提供する。
【０２０２】
別の態様において、本発明は治療の必要な患者に治療的に有効な量の式(１)の化合物を投与することからなる、タキキニンが関与する疾患および症状の治療法を提供する。本明細書で記載した治療対象の様々な疾患および症状は当業者によく知られており、理解されている。
【０２０３】
当業者が、治療的に有効な量の式(１)の化合物を用いて当該疾患および症状に現在苦しむ患者を治療することにより、または当該疾患および症状の患者を予防的に治療することにより関連する疾患および症状に影響を与えることもまたわかる。
【０２０４】
本明細書で使用される「患者」なる用語は温血動物、例えば特定のタキキニンが関与する疾患または症状に苦しむ哺乳動物を意味する。モルモット、イヌ、ネコ、ラット、マウス、ウマ、ウシ、ヒツジおよびヒトが本用語の意味の範囲内の動物の例であることは理解されよう。患者が本明細書に記載の１種以上の疾患または症状に苦しむ場合、患者はタキキニンが関与する疾患および症状の治療を必要としている。
【０２０５】
タキキニンが関与する疾患または症状の治療が必要な患者の識別は当業者の技術および知識の範囲内である。熟練の臨床医は臨床試験、身体検査および病歴／家系歴によりこのような治療が必要な患者を容易に識別することができる。
【０２０６】
本明細書で使用される式(１)の化合物の「治療的に有効な量」なる用語はタキキニンが関与する疾患および症状を調節するのに有効な量を意味する。「調節」なる用語は本明細書に記載の疾患および症状の進行を遅くする、妨げる、阻止する、または停止する全過程を意味するが、必ずしもすべての疾患および症状の徴候を完全に排除することを示しているわけではなく、またタキキニンが関与する疾患および症状の予防的治療を包含する。
【０２０７】
治療的に有効な量は当業者として担当する診断医により慣用の方法を使用して、また同様の状況下で得られる結果を観察することにより容易に決定される。治療的に有効な量、すなわち投与量を決定する際に担当する診断医が考慮する幾つかの要因は哺乳動物の種類、その大きさ、年齢および健康状態；関与する特定の疾患；関与の度合いまたは疾患の深刻さ；個々の患者の反応；投与する特定の化合物；投与方法；投与する製剤の生物学的利用能；選択した投与方法；共働薬剤の使用；および他の関連する状況であるが、これらに限定されない。
【０２０８】
式(１)の化合物の治療的に有効な量は１日につき体重１キログラムあたり約０.１ミリグラム(mg／kg／日)〜約１００mg／kg／日の範囲で変動することが予想される。好ましい量は当業者が決定することができる。
【０２０９】
上記のタキキニンが関与する疾患および症状に苦しむ患者の治療を行なう際、式(１)の化合物は本化合物を有効な量で生物学的利用可能性のあるものにする何れかの形態または方法で、例えば経口、吸入、非経口および局所経路により投与することができる。例えば、式(１)の化合物は経口的に、エアゾル剤または乾燥粉末の吸入により、皮下的に、筋肉内的に、静脈内的に、鼻内的に、経腸的に、経皮的に、局所的に投与することができる。呼吸性疾患および症状、例えば喘息、気管支炎および咳の治療には、経口または吸入投与が一般に好ましい。製薬分野の当業者は選択された化合物の特性、治療する疾患または症状、疾患または症状の時期、および他の関連する状況に応じて適切な投与の形態および方法を容易に選択することができる(レミントンの製薬学、第18版、Mack出版社(1990年))。
【０２１０】
本発明の化合物は単独で、あるいは製薬上許容しうる担体または賦形剤と組み合せた医薬組成物の形態で投与することができ、その比率および性質は選択された化合物の溶解性および化学的特性、選択された投与経路および標準的な製薬実務により決定される。本発明の化合物はそれ自体有効であるが、安定性、結晶化の容易さ、溶解度の増大などの理由でそれらの製薬上許容しうる塩、例えば酸付加塩または塩基付加塩の形態で製剤化し、投与することができる。
【０２１１】
他の態様において、本発明は治療的に有効な量の式(１)の化合物を１種以上の製薬上許容しうる担体または賦形剤と混合して、または一緒に含有する医薬組成物を提供する。
【０２１２】
医薬組成物は製薬分野でよく知られている方法により製造される。担体または賦形剤は活性成分のビヒクルまたは媒質として働く固体状、半固体状または液状物質である。適当な担体または賦形剤は当該技術分野でよく知られている。医薬組成物は経口、吸入、非経口または局所使用に適合させることができ、錠剤、カプセル剤、エアゾル剤、吸入剤、座剤、液剤、懸濁剤などの形態で患者に投与することができる。
【０２１３】
本発明の化合物は例えば不活性希釈剤または可食性担体を用いて経口的に投与することができる。これらはゼラチンカプセルに封入したり、または圧縮して錠剤とすることができる。治療的に経口投与する場合、式(１)の化合物は賦形剤と混和して錠剤、トローチ剤、カプセル剤、エリキシル剤、懸濁剤、シロップ剤、カシェ剤、チューインガムなどの形態で使用することができる。これらの製剤は少なくとも４％の式(１)の化合物、すなわち活性成分を含有するが、特定の形態に応じて変動し、好都合には投与単位の４〜約７０重量％の範囲である。組成物中に存在する活性成分の量は投与に適した単位投与形態が得られるような量である。
【０２１４】
錠剤、丸剤、カプセル剤、トローチ剤などはさらに１種以上の次の補助剤：微結晶性セルロース、トラガカントゴムまたはゼラチンのような結合剤；スターチまたはラクトースのような賦形剤；アルギン酸、プリモゲル、コーンスターチなどのような崩壊剤；ステアリン酸マグネシウムまたはステロテックスのような潤滑剤；コロイド性二酸化ケイ素のような滑剤；およびスクロースまたはサッカリンのような甘味剤を含有することができ、あるいはペパーミント、サリチル酸メチルまたはオレンジフレーバーのような芳香剤を加えることができる。投与単位形態がカプセル剤の場合、それは上記のような物質の他にポリエチレングリコールまたは脂肪油のような液状担体を含有することができる。他の投与単位形態は例えばコーチングとして、投与単位の物理的形態を変える種々の物質を含有することができる。したがって、錠剤または丸剤は糖、シェラックまたは他の腸溶コーチング剤で被覆することができる。シロップ剤は本発明の化合物の他に甘味剤としてのスクロース、特定の保存剤、色素、着色剤および芳香剤を含有することができる。これらの種々の組成物を製造するのに使用される物質は薬学的に純粋であり、その使用する量において非毒性である。
【０２１５】
治療的な非経口投与の場合、本発明の化合物は溶液または懸濁液と混和することができる。これらの製剤は少なくとも０.１％の本発明の化合物を含有すべきであるが、その重量の０.１％〜約５０％の範囲である。このような組成物中に存在する活性成分の量は適当な投与量となるような量である。好ましい組成物および製剤は当業者が決定することができる。
【０２１６】
溶液または懸濁液はさらに１種以上の次の補助剤: 注射用水、塩水、不揮発性油、ポリエチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコールまたは他の合成溶媒のような滅菌希釈剤；ベンジルアルコールまたはメチルパラベンのような抗菌剤；アスコルビン酸または重亜硫酸ナトリウムのような抗酸化剤；エチレンジアミン四酢酸のようなキレート化剤；酢酸塩、クエン酸塩またはリン酸塩のような緩衝剤；および塩化ナトリウムまたはデキストロースのような張度調整剤を含有することができる。非経口製剤はガラスまたはプラスチック製のアンプル、使い捨てシリンジまたは多投与バイアルに封入することができる。
【０２１７】
本発明の化合物はまた、例えばエアゾル剤または乾燥粉末の吸入により投与することができる。液化ガスまたは圧縮ガスにより、あるいは本発明の化合物またはその製剤を計量分配する適当なポンプシステムによりデリバリーすることができる。式(１)の化合物を吸入により投与するための製剤は単相、二相または三相系でデリバリーすることができる。様々な系を式(１)の化合物のエアゾル剤による投与に使用することができる。乾燥粉末製剤は式(１)の化合物を適当な粒度までペレット化または微粉砕することにより、あるいはペレット化または微粉砕した式(１)の化合物を適当な担体物質、例えばラクトースなどと混合することにより製造される。吸入によるデリバリーは必要な容器、活性剤、バルブ、副容器などからなる。吸入により投与するための好ましいエアゾル剤および乾燥粉末製剤は当業者が決定することができる。
【０２１８】
本発明の化合物は局所的に投与することもでき、その場合、担体は好適には溶液、軟膏またはゲル基剤である。例えば、基剤は１種以上の下記成分からなる：ペトロラタム、ラノリン、ポリエチレングリコール、密蝋、鉱油、水およびアルコールのような希釈剤、乳化剤および安定剤。局所製剤は式(１)の化合物またはその製薬上許容しうる塩を約０.１〜約１０％ ｗ／ｖ (単位容量あたりの重量)の濃度で含有しうる。
【０２１９】
本発明のタキキニン受容体アンタゴニストは下記の方法により評価することができる。
試験例Ａ
推定上のアンタゴニストによるＮＫ1およびＮＫ2受容体と結合する沃素化タキキニンの拮抗作用
当業者は次のようにして試験管内でＮＫ1受容体およびＮＫ2受容体の親和性を測定することができる。タキキニンアンタゴニストのＮＫ1受容体親和性はモルモット肺(Keystone Biologicals、クリーヴランド、OH)で評価され、そしてＮＫ2受容体に対する親和性は(ヒト空腸ＮＫ2受容体を表現するマウス３Ｔ３線維芽細胞である)ＨＳＫＲ−１細胞で評価される。組織または細胞を１５容量の５０mMのトリス−ＨＣｌ緩衝液(pH７.４、４℃)中、ポリトロン(Polytron)で均質化し、遠心する。ペレットをトリス−ＨＣｌ緩衝液中で再び懸濁し、遠心する；ペレットを再懸濁により２回洗浄する。最終ペレットをインキュベーション緩衝液中で組織については４０mg／ml、細胞については２０mg／mlの濃度で再び懸濁し、使用前に少なくとも１５分間室温に置く。２５０μlの膜標本を０.１nMの次の放射性リガンドに２回加えることにより受容体結合を開始する：５０mMのトリス−ＨＣｌ(室温でpH７.４)、０.１％ウシ血清アルブミン、２mMの塩化マンガン、４０μg／mlのバシトラシン、４μg／mlのロイペプチンおよびキモスタチン、１０μMのチオルファンおよび様々な投与量の推定上のタキキニンアンタゴニストを含有する最終容量が５００μlの緩衝液中における、１２５ Ｉ−ボルトンハンター Ｌｙｓ−３で標識した物質Ｐおよび１２５ ヨードヒスチジル−１−ニューロキニンＡ。インキュベーションを室温で９０分間(ＮＫ1受容体アッセイ)または２時間(ＮＫ2受容体アッセイ)実施する；５０mMのトリス−ＨＣｌ緩衝液(pH７.４、４℃)を加え、０.１％ポリエチレンイミン(ＮＫ1受容体アッセイ)または０.５％ウシ血清アルブミン(ＮＫ2受容体アッセイ)に予め浸漬したＧＦ／Ｂフィルターを通して真空ろ過することにより結合を終了させる。フィルター結合放射能をガンマ計数器で定量する。非特異的結合は１μMの物質ＰまたはニューロキニンＡの存在下での結合として定義される。特異的結合は全結合から非特異的結合を引くことにより計算される。試験化合物または標準による沃素化ＳＰまたはＮＫＡ結合の競合はこの最大結合の百分率として表わされる。各試験化合物のＩＣ50値(受容体結合の５０％を阻害するのに必要な濃度)は繰り返しの曲線当てはめプログラム(GraphPAD Inplot, サンディエゴ, CA)を使用して非線形回帰分析により得られる。
【０２２０】
試験例Ｂ
試験管内での推定上のアンタゴニストによるタキキニンが誘発するホスファチジルイノシトール(ＰＩ)代謝回転の拮抗作用
当業者はまた、次のようにして試験管内でＮＫ1受容体およびＮＫ2受容体拮抗作用の効力を測定することができる。タキキニンが関与するホスファチジルイノシトール(ＰＩ、イノシトールリン酸)の蓄積はUCllまたはSKLKB82#3細胞において、それぞれＮＫ1またはＮＫ2受容体アンタゴニストの存在下または不在下で測定される。組織を３７℃でクレブス−ヘンゼライト緩衝液中、９５％の酸素／５％の二酸化炭素のガスを供給しながらインキュベートする。次に、穏やかにガスを供給しながら、組織を１００μCiのmyo-[2-3H(N)]イノシトールを含有する新しい緩衝液中、３７℃で６０分間インキュベートする。１０mMの塩化リチウムを含有する５mlの緩衝液(室温)で２回洗浄した後に、１５分で緩衝液を交換しながら組織を室温で３０分間インキュベートする。緩衝液を除去し、試験化合物を含むクレブス−ヘンゼライト緩衝液(４０μg／mlのバシトラシン、それぞれ４μg／mlのロイペプチンおよびキモスタチン、０.１％ウシ血清アルブミン、１０μMのチオルファンおよび１０mMの塩化リチウムを含有する)を加える。１５分後、様々な濃度でＳＰをUCll細胞に、またはＮＫＡをSKLKB82#3細胞に加えて反応を開始する。室温で６０分間インキュベートした後に、９３０μlのクロロホルム：メタノール(容量で１：２)、次に３１０μlのクロロホルムおよび３１０μlの２回蒸留した水をそれぞれの試験官に加えて反応を終了させる。試料を攪拌し、遠心し、０.９mlの水相(上部)を取り出し、そして２mlの２回蒸留した水に加える。混合物を攪拌し、５０％ Bio-Rad AG l-X8(ギ酸塩型、１００−２００メッシュ)交換カラム(Bio-Radラボラトリーズ、ハーキュリーズ、CA)に負荷する。カラムを１)１０mlの２回蒸留した水、２)５mlの５mMテトラホウ酸二ナトリウム／６０mMギ酸ナトリウム、および３)５mlの１mMギ酸アンモニウム／０.１Ｍギ酸の順番で洗浄する。第３の溶出液を集め、１mlを７mlのシンチレーション液中で計数する。５０μlの有機相(下部)アリコートを取り出し、シンチレーションバイアル中で乾燥し、そして７mlのシンチレーション液中で計数する。
【０２２１】
それぞれの試料について、水相アリコート(全イノシトールリン酸)中におけるＤＰＭと５０μlの有機相アリコート(結合した全[３Ｈ]イノシトール)中におけるＤＰＭの比率を計算する。データを基本量に対するアゴニストが誘発する[３Ｈ]−イノシトールリン酸の蓄積の百分率として表す。試験化合物および／または標準の存在下での比率を対照試料(すなわちアゴニストを刺激しない)の比率と比較する。
【０２２２】
用量−反応グラフを作成し、コンピュータープログラムを用いて、タキキニンが誘発するホスファチジルイノシトール代謝回転を阻害する試験化合物の能力を決定する。データを基本量に対する全イノシトールリン酸蓄積の刺激率として表し、タキキニンがもたらす最大反応に正規化する。用量−反応曲線を使用してシールド分析を行なって競合的なアンタゴニストの強さを示す値を得、ｐＡ２として表わす。それは所定量のアゴニストの効果をその量のアゴニストで予想されるものの半分まで減らすアンタゴニストのモル濃度の負の対数である。シールド分析により得られる直線の傾きが殆んど１と差がない場合、その化合物は競合的なアンタゴニストとして作用している。
【０２２３】
試験例Ｃ
生体内でのＮＫ1拮抗作用の評価
当業者はまた、本発明の化合物が生体内でＮＫ1受容体アンタゴニストであることを、モルモット気管においてＰ物質が誘発する血漿タンパク質遊出を阻害する本化合物の能力を評価することにより測定することができる。毛細管後方の細静脈を通じてのＰ物質が誘発するタンパク質漏出はモルモット気管におけるエバンスブルー色素の蓄積を測定することにより評価される。ペントバルビタールを使用して動物に麻酔をかけ、次にエバンスブルー色素（２０mg／kg、静脈内、０.９％塩化ナトリウム溶液として調製した）を注射する。色素投与してから１分後に、アンタゴニスト（静脈内）、次にＰ物質（１.０ナノモル／kg、静脈内）を投与し、５分後に５０mlの０.９％塩化ナトリウム溶液での経心臓灌流により過剰の色素を血液循環から除去する。気管および主要な気管支を取り出し、ふき取って乾かして計量する。
【０２２４】
色素の定量は組織を５０℃で２４時間、ホルムアミドで抽出した後、分光光度計(６２０nm)を使用して行なわれる。数値をバックグラウンド（色素だけでアゴニストを含まない）から引く。ＥＤ５０（Ｐ物質が誘発する血漿タンパク質遊出を５０％阻害する化合物の量）は線形回帰分析により得られる。
【０２２５】
試験例Ｄ
生体内でのＮＫ2拮抗作用の評価
当業者は本発明の化合物が生体内でＮＫ2受容体アンタゴニストであることを、モルモットにおいて選択的ＮＫ2受容体アゴニスト〔β−Ａｌａ8〕ＮＫＡ４−１０が引き起こす気管支収縮を阻害する本化合物の能力を評価することにより測定することができる。ウレタンを使用して動物に麻酔をかけ、次に頚静脈、頚動脈および気管にカニューレを挿入する。頚動脈カニューレをt Statham圧力変換器に連結して血圧を測定し、そして頚静脈に入れたカテーテルを使用して試験化合物を投与する。気管カニューレをＴ−連結器に挿入し、Ｔ−連結器の一方のアームを呼吸ポンプに連結し、もう一方のアームを他の圧力変換器に連結する。呼吸ポンプを１分あたり６４ストロークとなるように調整し、送り出す空気の量を通気圧が１０cmの水となるようにする。安定した呼吸および血圧になるまで、動物を約１５分間順応させる。推定上のタキキニンアンタゴニストまたはビヒクルを静脈内的に投与し、ラインを水で洗い流す。次に、１〜３０ナノモル／kg（静脈内）の様々な投与量の選択的ＮＫ2受容体アンタゴニスト〔β−Ａｌａ8〕ＮＫＡ４−１０について投与量−反応曲線を作成する。アゴニストに反応して起こる肺通気圧が投与量に依存して増加することから気管支収縮が推測される。アゴニスト投与量−反応曲線が右側にシフトし、〔β−Ａｌａ8〕ＮＫＡ４−１０に反応して生じた最大通気圧が抑制されることから試験化合物の拮抗作用が推測される。
【０２２６】
試験例Ｅ
生体内でのＮＫ1およびＮＫ2拮抗作用の評価
当業者は本発明の化合物が生体内でＮＫ2受容体アンタゴニストであることを、気道の知覚神経からＳＰおよびＮＫＡの両方を放出することが知られているカプサイシンに誘発される呼吸作用を本化合物が阻害する能力を評価することにより測定することができる。意識のあるモルモットにおけるカプサイシンが誘発する呼吸作用の拮抗作用は次のようにして行なわれる。生体内での実験は雄のダンキンハートレーモルモット（２５０〜３５０ｇ）を使用して行なう。意識のある呼吸パターンの変化を４匹の動物においてValidyne DP 45-16差圧変換器を経て参照ボックスにそれぞれ連結した４個の小さなプレキシグラスボックスからなる改良された全身的プレチスモグラフィを使用して同時に監視する。４個のボックスに空気の供給ライン（エアゾル剤の導入にも使用される）および排気ラインを備えつける。供給ラインおよび排気ラインは同じ長さの細い内腔を有し、共通の供給室から出てきて、共通の排気室に出ていく。このシステムを使用して確実に相中の供給空気および大気圧の変動を一定にし、差圧変換器により正味の信号から排除する。アナログの圧力信号をデータトランスレーションＤＴ２８２１ Ａ〜Ｄボードによりディジタル化する。データを１００サンプル／秒／動物の速度で集める。次のパラメーターを使用して各サイクルの圧力変化を分析する：最小および最大圧力間で測定した上昇および下降する傾き、下降する傾きに対する上昇する傾きの比率、並びに初期の最低圧力およびサイクルのピーク圧力間の変化度。これらの数値を使用して（また動物を観察して）、圧力サイクルの特性、すなわち正常な呼吸、強制的呼気（腹部の隆起により明らか）、有意な呼吸事象（ＳＲＥ；通常はノイズから区別できる一時的な極端に大きい圧力増加を特徴とする咳、それほど多くないくしゃみ、または喘ぎ）、およびシステム Ｖ ＵＮＩＸオペレーションシステムを作動するＰＣＡＴ ２８６による動作／ノイズを決定する。呼吸困難な動物の苦しい呼吸への目に見える変化に伴なう、プレチスモグラフによる圧力の有意な持続した増加として定義される。
【０２２７】
種々の気管支収縮剤に対する気道の反応性を調べる典型的な実験の間に、DeVilbiss Ultraneb 99 超音波噴霧器を使用してエアゾル剤を１９分間導入（０.３３ml／分）し、この間ずっと動物を監視する。噴霧する前、ベースラインの圧力を確立するために、１分間の安静時の呼吸を採集する。予備実験で様々な濃度のカプサイシンを評価し、そして０.００１％の濃度を選択した。この濃度では呼吸困難を示す動物の数は最大であるが、反応の深刻さは最小である。エアゾル剤導入開始の２０分前静脈内的に、またはエアゾル剤導入開始の１時間前経口的に、推定上のタキキニンアンタゴニストを投与する。
【０２２８】
代表的な本発明の化合物に関するタキキニン受容体結合（ＩＣ50値）を表１に示す。表１の値は試験例Ａの方法により測定して得られたものであり、数回の実験の平均である。本化合物はＮＫ1およびＮＫ2受容体の両方に対して高い親和性を示す。
【０２２９】
【表１】
0004132671.tif 000044