(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基体上に、少なくとも、銀、銅若しくは金又はこれらを主成分とする合金である低放射率金属層及び屈折率が２．０以上の酸化物層を形成してなる低放射率積層体の製造方法であって、前記低放射率金属層を成膜した後、直接、前記酸化物層を、該酸化物の還元性のターゲットを用いて直流スパッタ法により成膜することを特徴とする低放射率積層体の製造方法。
【請求項２】
前記酸化物は、二酸化チタン、五酸化ニオブ、五酸化タンタル、三酸化タングステン、三酸化モリブデン、もしくは、これらを２つ以上含む酸化物であることを特徴とする請求項１に記載の低放射率積層体の製造方法。
【請求項３】
前記ターゲットは、チタニア粉末若しくはこれとチタン粉末の混合物を原材料とし、高圧圧縮法、焼結法若しくは熔射法により製造したものであることを特徴とする請求項１又は２に記載の低放射率積層体の製造方法。
【請求項４】
前記酸化物層は、スパッタガスとして、０．１〜１０体積％の酸化性ガスを含む不活性ガスを用いてスパッタ法により成膜することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の低放射率積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は低放射率積層体の製造方法に係り、特に可視光透過率が高く、放射率の小さい大面積積層体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
低放射率積層体は、熱線の放射を抑制して冷暖房の負荷を軽減する等の目的のため、建築物や自動車等の窓ガラスなどに広く応用されている。
【０００３】
この積層体の特性としては、熱線の放射を少なくするとともに、窓ガラス等に応用されるため、可視光をできるだけ多く透過することが要求され、これに応えるべく、積層体の構成として、ガラス等の透明基体の上に、酸化物層、低放射率金属層、酸化物層を積層したもの、あるいはさらに低放射率金属層、酸化物層を繰り返し積層したものが一般的に採用されている。
【０００４】
一方、積層体の形成方法としては、蒸着、スパッタ、塗布等の種々の方法があるが、窓ガラスのような大面積基板上に積層体を均一に形成する場合には、一般に、スパッタ法が用いられ、高速成膜を行う必要上、直流スパッタ法が用いられる。
【０００５】
積層体は、基板上に、酸化物層、金属層、酸化膜層の順に所望の膜厚成膜して形成するが、酸化物層の成膜には、通常、酸化物を構成する金属のターゲットを用いた反応性スパッタ法が用いられる。しかし、この方法で金属層上に酸化物層を成膜すると、酸化物層の形成時に金属層表面が酸化されてしまい、その結果、積層体の特性が低下してしまうという問題があった。
【０００６】
そこで、金属層の酸化を防止するため、金属層形成後、酸化物を構成する金属又はその窒化物等からなるバリヤ層を設け、酸化物層成膜時に金属層表面の酸化を防ぐとともに、酸化物成膜時にこのバリヤ層を酸化して、金属層上に酸化物層を形成するという検討がなされている。
【０００７】
しかし、金属層を酸化させない状態でバリヤ層を完全に酸化するのは容易でない。バリヤ層が完全に酸化しないときは可視光透過率が低下してしまうし、一方、バリヤ層のみならず金属層の一部でも酸化してしまうと、積層体の放射率が上昇してしまうことになる。即ち、この方法は、成膜中の条件を高精度に制御する必要があるとともに、このバリヤ層を形成するための工程が必要となり、積層体の生産性が悪いという問題があった。
【０００８】
また、可視光領域全体の透過率を高め、しかも放射率を低く保つためには、少なくとも、金属層上に成膜される酸化物層には、屈折率が２．０以上の高屈折率酸化物を用いるのが好ましいが、このような酸化物の反応性スパッタ法による成膜速度は小さく、また、成膜速度を大きくすると膜厚分布が大きくなるため、大面積において均一な低放射率積層体を作ることは困難となるという問題がある。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
かかる状況に鑑み、本発明は、上記従来の問題を解決し、可視光透過率が高く、しかも放射率の低い大面積積層体を、均一にかつ高速に製造することが可能な製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、高歩留まりで、しかも高い生産性で、低放射率積層体を製造することが可能な製造方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の低放射率積層体の製造方法は、透明基体上に、少なくとも、銀、銅若しくは金又はこれらを主成分とする合金である低放射率金属層及び屈折率が２．０以上の酸化物層を形成してなる低放射率積層体の製造方法であって、前記低放射率金属層を成膜した後、直接、前記酸化物層を、該酸化物の還元性のターゲットを用いて直流スパッタ法により成膜することを特徴とする。
【００１１】
本発明において、前記酸化物は、二酸化チタン、五酸化ニオブ、五酸化タンタル、三酸化タングステン、三酸化モリブデン、もしくは、これらを２つ以上含む酸化物とすることが好ましい。
【００１２】
また、前記ターゲットは、チタニア粉末若しくはこれとチタン粉末の混合物を原材料とし、高圧圧縮法、焼結法若しくは熔射法により製造したものであることを特徴とする。
また、前記酸化物層は、スパッタガスとして、０．１〜１０体積％の酸化性ガスを含む不活性ガスを用いてスパッタ法により成膜することを特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明により製造される低放射率積層体は、透明基板上に、低放射率の金属層、屈折率が２．０以上の酸化物層を積層したものであって、金属層上に酸化物層を形成する際の金属層表面の酸化を防止して、優れた可視光透過率特性及び放射率特性を示す積層体である。なお、積層体の構成としては、上記屈折率が２．０以上の酸化物層の上に、さらに金属層及び酸化物層の単位で繰り返し積層してもよい。また、透明基体上に、酸化物層、特に屈折率が２．０以上の酸化物層を設けるのが好ましい形態である。かかる積層体の製造方法の一例を以下に説明する。
【００１４】
本発明において、低放射率金属層上に屈折率２．０以上の酸化物層の成膜には、還元性ターゲット、即ち、酸化物の化学量論組成に対し酸素が欠乏しているターゲットを用い、直流スパッタ法により行う。
【００１５】
このようなターゲットを用いることにより、金属層表面の酸化を抑制して、酸化物層を形成することが可能となり、また、安定した放電状態が維持できるため、大面積基板への均一な成膜が可能となる。
【００１６】
なお、本発明の積層体の屈折率が２．０以上の酸化物層としては、可視光透過率が高く、しかも放射率の小さい積層体を得る観点から、二酸化チタン（ＴｉＯ2）、五酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ3）、五酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）、三酸化タングステン（ＷＯ3）、三酸化モリブデン（ＭｏＯ3）若しくはこれらを２以上含む酸化物が好適に用いられるが、これら酸化物層成膜用のターゲットの具体的な組成としては、ＴｉＯx（１＜ｘ＜２）；Ｎｂ2Ｏx，Ｔａ2Ｏx（４＜ｘ＜５）；ＷＯx，ＭｏＯx（２＜ｘ＜３）とするのが好ましく、比抵抗としては、１０Ω・ｃｍ以下が好ましく、１Ω・ｃｍ以下とするのがより好ましい。
【００１７】
このターゲットの製造方法としては、酸化物粉末又はこれと酸化物構成金属粉末との混合物を用い、例えば、国際公開ＷＯ９７／０８３５９号公報に記載された高圧圧縮法、焼結法、溶射法等により作製することができる。例えば、ＴｉＯ2成膜用のターゲットは、チタニア粉末又はこれとＴｉ粉末の混合物を上記方法で作製する。
【００１８】
また、本発明のスパッタガスとして、０．１〜１０体積％の酸化性ガスを含む不活性ガスを用いるのが好ましい。さらには、酸化ガス濃度を０．１〜５体積％とするのがより好ましい。酸化性ガス濃度を上記範囲とすることにより、屈折率が２．０以上の酸化物層を形成時において、低反射率金属層の酸化をより一層抑制することができ、放射率の低い積層体を製造することが可能となる。なお、本発明において、酸化性ガスには、酸素ガスが一般的に用いられるが、一酸化窒素、二酸化窒素、一酸化炭素、二酸化炭素、オゾン等を用いることもできる。
【００１９】
本発明の製造方法により、金属膜の酸化を抑制しつつ、屈折率の高い酸化膜を形成することができ、その結果、可視領域全体の透過率を向上し、かつ低放射率の積層体が得られるのは、以下の理由によるものと考えられる。
【００２０】
一般に、酸化物を反応性スパッタ法により成膜すると、酸化性ガスを多く含んだスパッタガスを用いて成膜する必要がある。ここで、酸化性ガスが、一般に用いられる酸素ガスである場合、酸素原子は数十ｅＶの運動エネルギーを持つ電子と衝突した際に最も負イオンになりやすく、その確率は２０から３０％にも達する。このようにして生じた酸素負イオンは、負に印加されたターゲット付近の電界により、基板方向に進み、既に成膜されている低放射率の金属層に衝突する。本発明者の実験結果によると、このときの酸素負イオンの運動エネルギーは平均で１００から２００ｅＶであり、低放射率の金属層に平均深さで１．５ｎｍ程度打ち込まれ、かかる金属を酸化する。この酸化により放射率は増加し、低い放射率を持った積層体を得ることができない。
【００２１】
このため、従来は、低放射率の金属上に２ｎｍ程度の厚さのバリヤ層を成膜し、これに続く酸化物の成膜の際にバリヤ層がもっぱら酸化し、低放射率の金属を酸化させないようにしていた。しかし、バリヤ層が完全に酸化しなければ可視光透過率は低下し、また、バリヤ層の膜厚が不十分であれば低放射率の金属が酸化され放射率の低い積層体は得られなくなる。このように、バリヤ層を最適にするのは極めて困難であり、高い可視光透過率と低い放射率を持った積層体を得ることは従来の技術では容易ではない。
【００２２】
これに対し、本発明のように化学量論組成よりも酸素が欠乏した酸化物のターゲット（還元性酸化物ターゲット）を用い、反応性スパッタ法に比べてスパッタガス中の酸化性ガスを低濃度とすることにより、酸化性負イオンによる低放射率金属層の酸化はほとんど生じなくなる。これは、次に述べる理由によるものと考えられる。つまり、酸化物ターゲットからスパッタされて放出される酸素は遊離してスパッタガス成分とはならず、およそ数ｅＶから数十ｅＶの運動エネルギーを持って基板に衝突する。このときの酸素の低放射率金属層への平均の進入深さは１〜２オングストローム以下であり、低放射率金属層の酸化はほとんど無視できうる程度のものである。
【００２３】
以上のことから、還元性酸化物ターゲットを用いて成膜した場合は、バリヤ層を用いる必要がなくなり、高い可視光透過率と低い放射率を持つ積層体を容易に得ることができたと考えられる。
【００２４】
また、従来の成膜方法、即ち、金属ターゲットを用いた反応性スパッタ法により、屈折率を２．０以上の酸化物層を成膜するのは、その成膜速度が非常に小さく、しかも大面積の均一成膜は困難という問題がある。成膜速度を改善するために、ターゲット表面が金属状態もしくは部分酸化状態であり、しかも、基板では酸化物が得られる状態を維持するように、投入電力に応じて成膜室のスパッタガス中の酸化性ガス濃度を適正値に制御する必要がある。しかし、ターゲット表面の酸化状態の維持はプラズマ中の金属の発光強度を測定しながら、その発光強度に応じて、導入する酸化性ガスの量をダイナミック制御するなどの方法により実現されるが、ターゲット表面の状態の変化が数秒以下の時間で生じるのに対し、導入する酸化性ガス量を変化させるのに数十秒近くかかることから、このダイナミック制御を正確に行うのは容易なことではない。さらに、大面積の基板に、このダイナミック制御を用いた方法を適用しようとすると、ターゲットの各場所において、主にマグネトロンスパッタのための磁場強度と酸化性ガスの濃度に分布が生じるために、ターゲット表面の酸化状態が異なり、これに伴って成膜速度が異なって、成膜される酸化物の膜厚に分布が生じることとなる。この膜厚不均一性を改善することは容易ではなく、大面積に均一に積層体を成膜することは困難である。
【００２５】
この従来の方法に対し、本発明においては、還元性酸化物ターゲットを用い、少ない酸化性ガスを含むスパッタガスにより成膜を行うため、ターゲットの各位置での成膜速度の均一性は極めて優れており、容易に大面積に均一に積層体を成膜することができる。
【００２６】
従来の積層体の製造方法では、低放射率金属層上にバリヤ層を設け、この上に屈折率が２．０未満の酸化物層を成膜して、積層体を形成するのが一般的であった。
【００２７】
これに対し、本発明において、屈折率が２．０以上の酸化物層を用いるのは、低放射率金属の膜厚を大きくしても、可視光透過率の減少が屈折率が２．０未満の酸化物を用いた場合に比較して抑えることができ、バリヤ層を設けずにすむことと相まって、高い可視光透過率を維持しつつ、さらに低い放射率を持つ積層体の形成が可能となるからである。そして、かかる酸化物層の高速成膜を可能としたからである。
【００２８】
即ち、本発明は、本発明者らがより高特性の低放射率積層体の開発を目的に行った一連の実験を通して得られた上記新規知見に基づくものであり、低放射率の金属層上に直接屈折率が２．０以上の酸化物層を成膜することにより、さらには、かかる酸化物層を還元性の酸化物ターゲットを直流スパッタにより成膜することにより、大面積に均一に低い放射率を持つ積層体を高速に成膜することを可能ならしめたものである。そして、安定した成膜が可能となるため、特性の揃った低放射率積層体を再現性良く製造することが可能となる。さらに、バリヤ層を形成する必要がないため、積層体の生産性が向上する。
【００２９】
なお、本発明において、ガラス等の透明基板に形成する酸化物層（屈折率２．０以上の酸化物層の場合も含む）も、金属層上に形成する場合と同様の方法で形成してもよいが、これに限らず公知の方法で形成してもよい。また、金属層は、不活性ガスにより直流スパッタ法に形成するのが好ましいが、これに限るものではない。
【００３０】
本発明の低放射率金属としては、銀、銅、金またはこれらを主成分とする合金が用いられる。
【００３１】
また、透明基体としては、ソーダライムガラス、網入りガラス、フロストガラス等の一般の窓ガラス、自動車用のガラスの他、ＰＥＴ等のプラスチックフィルム等にも用いられる。
【００３２】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明が実施例に限定るされることない。
【００３３】
（実施例１）
図１に示すスパッタ装置を用いて、ガラス基板（３００ｍｍ×３００ｍｍ）を搬送しながら、基板上にＴｉＯ2／Ａｇ／ＴｉＯ2の積層膜を形成した。
【００３４】
まず、４３２ｍｍ×１２７ｍｍの面積を持つＴｉＯx（ｘ＝１．９４）をターゲットとして用い、投入電力を４ｋＷとし、２体積％の酸素を含むアルゴンガスをスパッタガスとして、ソーダライムガラス上に、３３ｎｍのチタニア（ＴｉＯ2）を成膜した。
【００３５】
このＴｉＯ2上に、４３２ｍｍ×１２７ｍｍの面積を持つパラジウム（Ｐｄ）を１原子％含むＡｇをターゲットを用い、スパッタガスをアルゴンガスとして、０．３ｋＷの電力を投入して、Ｐｄを１原子％含むＡｇを１０ｎｍ成膜した。
【００３６】
さらに、これらの上に、先と同様の方法で、ＴｉＯ2を３３ｎｍ成膜した。なお、成膜速度は８８ｎｍ／分であった。
【００３７】
得られた積層体の可視光透過率、日射透過率、放射率をＪＩＳ  Ｒ３１０６に従って、基板上の１０点について測定したところ、可視光透過率は７９．４±２．３％、日射透過率は６５．１±１．７％、放射率は０．１２±０．００３であった。
【００３８】
即ち、本実施例の製造方法により、以上のいずれの特性においても優れた積層体が均一にかつ高速得られることが分かった。
【００３９】
（実施例２）
実施例１と同様にして、Ｐｄを１原子％含む銀層の膜厚を１２，１４，１６，１８，２０ｎｍに変えて積層体を形成し、可視光透過率、日射透過率、放射率を測定した。得られた可視光透過率、日射透過率、放射率を実施例１の結果と共に表１に示す。
【００４０】
【表１】
0004066101.tif 000002
表１が示すように、銀層の厚さを２０ｎｍまで増加しても、なお高い透過率を示し、積層体としての優れた特性を示すことが分かった。
【００４１】
（比較例１）
４３２ｍｍ×１２７ｍｍの面積を持つＴｉＯx（ｘ＝１．９４）をターゲットとして用い、投入電力を４ｋＷとし、２体積％の酸素ガスを含むアルゴンガスをスパッタガスとして、ソーダライムガラス上に、３３ｎｍのＴｉＯ2を成膜した。
【００４２】
このＴｉＯ2上に、４３２ｍｍ×１２７ｍｍの面積を持つＰｄを１原子％含むＡｇをターゲットとし、スパッタガスをアルゴンガスとして、０．３ｋＷの電力を投入して、Ｐｄを１原子％含むＡｇを１４ｎｍ成膜した。
【００４３】
この後、４３２ｍｍ×１２７ｍｍの面積を持つＴｉをターゲットとして用い、投入電力を４ｋＷとし、酸素ガス（１００％）をスパッタガスとして、ＴｉＯ2を３３ｎｍ成膜した。なお、成膜速度は９．２ｎｍ／分であった。
【００４４】
得られた積層体の銀層は酸化しており、積層体の可視光透過率は６９．４±１５％であり、日射透過率は６６．７±１３％、放射率は０．８７±０．１２となり、実施例１に比べて低い特性しか得られず、バラツキも大きいものであった。
【００４５】
（比較例２）
４３２ｍｍ×１２７ｍｍの面積を持つＴｉＯx（ｘ＝１．９４）をターゲットとして用い、投入電力を４ｋＷとし、２体積％の酸素ガスを含むアルゴンガスをスパッタガスとして、ソーダライムガラス上に、３３ｎｍのＴｉＯ2を成膜した。
【００４６】
このＴｉＯ2上に、４３２ｍｍ×１２７ｍｍの面積を持つＰｄを１原子％含むＡｇをターゲットとし、スパッタガスをアルゴンガスとして、０．３ｋＷの電力を投入して、Ｐｄを１原子％含むＡｇを１０ｎｍ成膜した。
【００４７】
さらに、これらの上に、４３２ｍｍ×１２７ｍｍの面積を持つＴｉをターゲットとして用い、投入電力を０．２５ｋＷとし、アルゴンガスをスパッタガスとして、Ｔｉを０．５ｎｍ成膜した。
【００４８】
この後、４３２ｍｍ×１２７ｍｍの面積を持つＴｉをターゲットとして用い、投入電力を４ｋＷとし、酸素ガス（１００％）をスパッタガスとして、ＴｉＯ2を２７ｎｍ成膜した。
【００４９】
得られた積層体の銀層は、比較例１と同様に酸化されて、放射率は０．７２となり、低い放射率を持った積層体は得られなかった。
【００５０】
また、チタンの膜厚を１ｎｍに変えても、積層体の銀層は酸化されて、放射率は０．５６となり、低い放射率を持った積層体は得られなかった。
【００５１】
（比較例３）
４３２ｍｍ×１２７ｍｍの面積を持つＴｉＯx（ｘ＝１．９４）をターゲットとして用い、投入電力を４ｋＷとし、２体積％の酸素ガスを含むアルゴンガスをスパッタガスとして、ソーダライムガラス上に、３３ｎｍのＴｉＯ2を成膜した。
【００５２】
このＴｉＯ2上に、４３２ｍｍ×１２７ｍｍの面積を持つＰｄを１原子％含むＡｇをターゲットとし、スパッタガスをアルゴンガスとして、０．３ｋＷの電力を投入して、Ｐｄを１原子％含むＡｇを１４ｎｍ成膜した。
【００５３】
さらに、これらの上に、４３２ｍｍ×１２７ｍｍの面積を持つＴｉをターゲットとして用い、投入電力を０．２５ｋＷとし、アルゴンガスをスパッタガスとして、Ｔｉを１．５ｎｍ成膜した。
【００５４】
この後、４３２ｍｍ×１２７ｍｍの面積を持つＴｉをターゲットとして用い、投入電力を４ｋＷとし、酸素ガス（１００％）をスパッタガスとして、ＴｉＯ2を２９ｎｍ成膜した。
【００５５】
プラズマの密度に分布が存在するためによると考えられるが、得られた積層体の銀層の一部は酸化されていた。
【００５６】
積層体の可視光透過率は７５±８％であり、日射透過率は６９±９％、放射率は０．４±０．２となり、特性のバラツキは大きいものであった。
【００５７】
なお、酸化されていない部分の特性を測定すると、可視光透過率は８３．７％であり、日射透過率は６２．７％、放射率は０．０８であった。
【００５８】
また、チタンの膜厚を２ｎｍに変えても、やはり、積層体の銀層の一部は酸化されており、酸化されていない部分の特性を測定すると、可視光透過率は８３．０％であり、日射透過率は６０．８％、放射率は０．０８であった。
【００５９】
さらに、チタンの膜厚を２．５ｎｍに変えると、積層体の銀層は酸化されなくなり、可視光透過率は８０．２％であり、日射透過率は５７．７％、放射率は０．０８であった。
【００６０】
このように、バリヤ層としてのＴｉの膜厚を増していくことにより、可視光透過率は低下し、また、Ｔｉ層が次のＴｉＯ2の成膜時に一部酸化されるが、一部が酸化されずに存在することから、高い可視光透過率を維持しながら、低い放射率を持つ積層体を得ることが困難であることがわかる。
【００６１】
（比較例４）
４３２ｍｍ×１２７ｍｍの面積を持つＴｉＯx（ｘ＝１．９４）をターゲットとして用い、投入電力を４ｋＷとし、２体積％の酸素ガスを含むアルゴンガスガスをスパッタガスとして、ソーダライムガラス上に、３３ｎｍのＴｉＯ2を成膜した。
【００６２】
このＴｉＯ2上に、４３２ｍｍ×１２７ｍｍの面積を持つＰｄを１原子％含むＡｇをターゲットとし、スパッタガスをアルゴンガスとして、０．３ｋＷの電力を投入して、Ｐｄを１原子％含むＡｇを１０ｎｍ成膜した。
【００６３】
さらに、これらの上に、４３２ｍｍ×１２７ｍｍの面積を持つＴｉをターゲットとして用い、投入電力を０．２５ｋＷとし、アルゴンガスをスパッタガスとして、Ｔｉを１．５ｎｍ成膜した。
【００６４】
この後、４３２ｍｍ×１２７ｍｍの面積を持つＴｉをターゲットとして用い、投入電力を４ｋＷとし、酸素ガスをスパッタガスとして、ＴｉＯ2を２７ｎｍ成膜した。
【００６５】
得られた積層体の銀層の一部は酸化されており、積層体の基板全体としての特性は、可視光透過率は７７±７％であり、日射透過率は６６±９％、放射率は０．４±０．３となり、バラツキは大きいものであった。
【００６６】
同様の積層体を銀層の膜厚を１２，１４，１６，１８，２０ｎｍに変えて成膜し、酸化されていない部分の特性を測定した。結果を表２に示す。
【００６７】
【表２】
0004066101.tif 000003
（比較例５）
４３２ｍｍ×１２７ｍｍの面積を持つアルミニウムを３原子％含む亜鉛をターゲットとして用い、投入電力を２ｋＷとし、アルゴンガスに３０体積％の酸素を含むガスをスパッタガスとして、ソーダライムガラス上に、４６ｎｍの酸化亜鉛を成膜した。
【００６８】
この酸化亜鉛上に、４３２ｍｍ×１２７ｍｍの面積を持つＰｄを１原子％含むＡｇをターゲットとし、スパッタガスをアルゴンガスとして、０．３ｋＷの電力を投入して、Ｐｄを１原子％含むＡｇを１０ｎｍ成膜した。
【００６９】
さらに、これらの上に、４３２ｍｍ×１２７ｍｍの面積を持つガリウムを５．７重量％含む酸化亜鉛をターゲットとして用い、投入電力を０．５ｋＷとし、アルゴンガスをスパッタガスとして、酸化亜鉛を２ｎｍ成膜した。
【００７０】
この後、４３２ｍｍ×１２７ｍｍの面積を持つアルミニウムを３原子％含む亜鉛をターゲットとして用い、投入電力を２ｋＷとし、３０体積％の酸素を含むアルゴンガスをスパッタガスとして、酸化亜鉛を４０ｎｍ成膜した。
【００７１】
同様にして、銀層の膜厚だけを１２，１４，１６，１８，２０ｎｍに変えて、積層体を作製した。得られた積層体の特性を表３に示す。
【００７２】
【表３】
0004066101.tif 000004
実施例１と２の結果である表１と比較例５の結果である表３を比較すると、ＴｉＯ2（屈折率２．５）を酸化物層として用いた積層体では、酸化亜鉛（屈折率１．９）を用いた積層体に比べ、銀層の膜厚を大きくして積層体の放射率を低くした場合でも可視光透過率を高く維持することができることがわかる。
【００７３】
（実施例３）
ターゲットを４３２ｍｍ×１２７ｍｍの面積を持つＴｉＯx（ｘ＝１．８４）を用いた以外は、実施例１と同様にして積層体を形成し、得られた積層体の可視光透過率、日射透過率、放射率を測定した。その結果を表４に示す。
【００７４】
【表４】
0004066101.tif 000005
実施例１、２と異なる組成のターゲットを用いても、同様の優れた特性の積層体が得られることが分かった。
【００７５】
【発明の効果】
本発明により、低放射率金属層の酸化を容易に防止することができるため、高特性の低放射率積層体を容易にしかも再現性良く製造することが可能となる。また、バリヤ層を不要とし、しかも、金属層上の酸化物層形成が均一かつ高速に行えるため、歩留まり、生産性が著しく向上する。
【００７６】
即ち、本発明により、高性能の低放射率積層体を高い歩留まり、高い生産性で提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の積層体の製造に好適に用いられるスパッタ装置を示す概念図である。
【図１】
0004066101.tif 000006