(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶材料を介在して対向配置された一対の電極基板と、前記電極基板間に選択的に分散配置されて前記電極基板の間隔を保持するスペーサとを備えた液晶表示装置であって、前記スペーサは電子写真方式を用いて所定の位置に分散配置されたものであり、
該スペーサが、固体微粒子と該固体微粒子表面に形成されたバインダー樹脂からなる樹脂層とを含み、帯電量が−５〜−５０μＣ／ｇであり、
該樹脂層が、ポリエステル樹脂、酸基を導入した（メタ）アクリル系樹脂およびスチレン／（メタ）アクリル系樹脂から選択される負帯電性樹脂であるバインダー樹脂、および／または、アゾ系含金属染料、サリチル酸誘導体の金属錯体、塩素化パラフィン、塩素化ポリエステルおよび負帯電性疎水性シリカからなる群から選択される少なくとも１つの電荷制御剤を含む
液晶表示装置。
【請求項２】
液晶材料を介在して対向配置された一対の電極基板と、前記電極基板間に選択的に分散配置されて前記電極基板の間隔を保持するスペーサとを備えた液晶表示装置であって、前記スペーサは電子写真方式を用いて所定の位置に分散配置されたものであり、
該スペーサが、固体微粒子と該固体微粒子表面に形成されたバインダー樹脂からなる樹脂層とを含み、帯電量が＋２〜＋５０μＣ／ｇであり、
該樹脂層が、窒素を導入した（メタ）アクリル系樹脂およびスチレン／（メタ）アクリル系樹脂から選択される正帯電性樹脂であるバインダー樹脂、および／または、塩基性染料、第４級アンモニウム化合物、脂肪酸金属塩、ベンゾグアナミン系樹脂、アミノ基で表面処理した疎水性シリカおよび疎水性チタニアからなる群から選択される少なくとも１つの電荷制御剤を含む
液晶表示装置。
【請求項３】
前記電子写真方式がカールソン法またはトナージェット方式である、請求項１または２記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記所定の位置が非表示領域である、請求項１から３のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記固体微粒子が有機質無機質複合体微粒子である、請求項１から４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項６】
液晶材料を介在して対向配置された一対の電極基板と、前記電極基板間に選択的に分散配置されて前記電極基板の間隔を保持するスペーサとを備えた液晶表示装置の製造方法において、前記スペーサを電子写真方式を用いて所定の位置に分散配置することを含み、
該スペーサが、固体微粒子と該固体微粒子表面に形成されたバインダー樹脂からなる樹脂層とを含み、帯電量が−５〜−５０μＣ／ｇであり、
該樹脂層が、ポリエステル樹脂、酸基を導入した（メタ）アクリル系樹脂およびスチレン／（メタ）アクリル系樹脂から選択される負帯電性樹脂であるバインダー樹脂、および／または、アゾ系含金属染料、サリチル酸誘導体の金属錯体、塩素化パラフィン、塩素化ポリエステルおよび負帯電性疎水性シリカからなる群から選択される少なくとも１つの電荷制御剤を含む
液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
液晶材料を介在して対向配置された一対の電極基板と、前記電極基板間に選択的に分散配置されて前記電極基板の間隔を保持するスペーサとを備えた液晶表示装置の製造方法において、前記スペーサを電子写真方式を用いて所定の位置に分散配置することを含み、
該スペーサが、固体微粒子と該固体微粒子表面に形成されたバインダー樹脂からなる樹脂層とを含み、帯電量が＋２〜＋５０μＣ／ｇであり、
該樹脂層が、窒素を導入した（メタ）アクリル系樹脂およびスチレン／（メタ）アクリル系樹脂から選択される正帯電性樹脂であるバインダー樹脂、および／または、塩基性染料、第４級アンモニウム化合物、脂肪酸金属塩、ベンゾグアナミン系樹脂、アミノ基で表面処理した疎水性シリカおよび疎水性チタニアからなる群から選択される少なくとも１つの電荷制御剤を含む
液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
基板上にスペーサを分散配置させる方法であって、請求項１から５のいずれかに記載のスペーサを電子写真方式を用いて所定の位置に分散配置することを特徴とする、スペーサの分散配置方法。
【請求項９】
電子写真方式を用いて分散配置するための液晶表示板用スペーサであって、
固体微粒子と該固体微粒子表面に形成されたバインダー樹脂からなる樹脂層とを含み、帯電量が−５〜−５０μＣ／ｇであり、
該樹脂層が、ポリエステル樹脂、酸基を導入した（メタ）アクリル系樹脂およびスチレン／（メタ）アクリル系樹脂から選択される負帯電性樹脂であるバインダー樹脂、および／または、アゾ系含金属染料、サリチル酸誘導体の金属錯体、塩素化パラフィン、塩素化ポリエステルおよび負帯電性疎水性シリカからなる群から選択される少なくとも１つの電荷制御剤を含む
液晶表示板用スペーサ。
【請求項１０】
電子写真方式を用いて分散配置するための液晶表示板用スペーサであって、
固体微粒子と該固体微粒子表面に形成されたバインダー樹脂からなる樹脂層とを含み、帯電量が＋２〜＋５０μＣ／ｇであり、
該樹脂層が、窒素を導入した（メタ）アクリル系樹脂およびスチレン／（メタ）アクリル系樹脂から選択される正帯電性樹脂であるバインダー樹脂、および／または、塩基性染料、第４級アンモニウム化合物、脂肪酸金属塩、ベンゾグアナミン系樹脂、アミノ基で表面処理した疎水性シリカおよび疎水性チタニアからなる群から選択される少なくとも１つの電荷制御剤を含む
液晶表示板用スペーサ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置、その製造方法、スペーサの分散配置方法および液晶表示板用スペーサに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、ＬＣＤを製造する際にスペーサの基板上への散布は湿式や乾式散布が行われている。しかしながら、スペーサは画素上にも分散配置されるため、スペーサの存在部分は表示されず、しかも、スペーサ自身や、液晶の配向乱れによるスペーサ周囲は、バックライトの光が通過するという光抜けが発生し、その結果、ＬＣＤのコントラスト低下やざらつきの要因となって表示品位が大幅に低下するという問題があった。
【０００３】
そこで、画素以外の非表示領域へスペーサを配置する方法や、カラーフィルタのブラックマトリクス上に柱状のスペーサを形成する方法が知られている。
スペーサを配置する方法としては、スペーサをフォトレジストと混合してフォトリソグラフィー技術により露光、現像処理を行って、ブラックマトリクス上にスペーサを存在させる方法（特開平９−１６０００９号公報）、液晶注入時の流れを利用して非画素領域へスペーサを移動させる方法（特開平１０−６８９５２号公報）、電気泳動法により基板上へ付着させる方法（特開平１０−１０４６３８号公報）等が知られている。
【０００４】
一方、ブラックマトリクス上に柱状のスペーサを形成する方法としては、フォトリソグラフィー技術により感光性樹脂からなる柱状のスペーサを形成する方法が知られている（特開平１０−７３８２７号公報）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、フォトリソグラフィー技術を用いる方法ではその工程が煩雑であり、所望の高さに調整することが困難であり、逆にギャップの不均一性が発生して色むらが発生しやすく、経済性の面でも問題がある。また、他の方法では非画素領域へ正確にスペーサを分散配置することが困難であった。
【０００６】
したがって、本発明の課題は、これら従来の問題を一気に解決することにあり、スペーサの非表示領域への正確な分散配置と、所望の高さへの調整が容易かつ簡便にでき、その結果、コントラストの低下、ざらつき、色むら等がなく、表示品位に非常に優れた液晶表示装置、その製造方法、スペーサの分散配置方法および液晶表示板用スペーサを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は、以下の構成を提供する。
(1) 液晶材料を介在して対向配置された一対の電極基板と、前記電極基板間に選択的に分散配置されて前記電極基板の間隔を保持するスペーサとを備えた液晶表示装置であって、前記スペーサは電子写真方式を用いて所定の位置に分散配置されたものであることを特徴とする液晶表示装置。
(2) 液晶材料を介在して対向配置された一対の電極基板と、前記電極基板間に選択的に分散配置されて前記電極基板の間隔を保持するスペーサとを備えた液晶表示装置の製造方法において、前記スペーサを電子写真方式を用いて所定の位置に分散配置することを特徴とする、液晶表示装置の製造方法。
(3) 基板上にスペーサを分散配置させる方法であって、前記スペーサを電子写真方式を用いて所定の位置に分散配置することを特徴とする、スペーサの分散配置方法。
(4) 電子写真方式を用いて分散配置するための液晶表示板用スペーサであって、固体微粒子とバインダー樹脂とを含み、帯電量が＋２〜＋５０μＣ／ｇ、または、−５〜−５０μＣ／ｇであることを特徴とする、液晶表示板用スペーサ。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明の液晶表示装置の構成について図１を参照しながら説明する。
本発明の液晶表示装置は、液晶材料を介在して対向配置された一対の電極基板（第１電極基板１１０と第２電極基板１２０）と、スペーサとを備える。第１電極基板１１０は、第１基板１１と、第１基板１１の表面に形成された電極５とを有する。第２電極基板１２０は、第２基板１２と、第２基板１２の表面に形成された電極５とを有する。第１電極基板１１０と第２電極基板１２０とはその周辺部でシール材２によって接着されている。スペーサは、前記基板間に選択的に分散配置されて、前記基板の間隔を保持するものであり、シール材２中に分散するシール部スペーサ３と面内に分散する面内スペーサ８とが存在する。液晶材料７は、第１電極基板１１０と第２電極基板１２０との間に封入されており、第１電極基板１１０と第２電極基板１２０とシール材２とで囲まれた空間に充填されている。
【０００９】
本発明ではスペーサ（主として面内スペーサ）を電子写真方式を用いて所定の位置に分散配置することを特徴とする。電子写真方式とは、感光体または絶縁体の表面に静電潜像を形成し、その潜像に現像剤を付与して可現像化し、得られた像を必要に応じて転写体に転写し、定着して転写物を得る方法である。電子写真方式によると、スペーサの正確な分散配置が可能であり、しかも所望の高さへの調整が極めて簡便であるため、フォトリソ法で問題となるギャップの不均一性の問題はない。
【００１０】
電子写真方式には種々の方式が知られており、カールソン法、ＰＩＰ（持続性内部分極法，光エレクトレット法）、電荷移動法、光注入法、電解電子写真法、イオンフロー法、バリア変調法、Organic Memory Coating法（ＯＭＣ）、粒子移動法、光電気泳動法、ＥＰＭ（Electro-Plate Marking ）、光サーモプラスチック記録、γ−ルチコン、トナージェット法式等が挙げられるが、これらの中でもカールソン法またはトナージェット方式によることが特に好ましい。
【００１１】
カールソン法は、絶縁性の光導電体層（厚さ１００μｍ以下）の表面に、コロナ放電によって均一な電荷（〜１０7Ｃ／ｃｍ2）を与え、次いで光によって露光部の電荷を消失させて静電潜像を得た後、トナー現像し、被転写物に転写、定着する方法である。トナージェット法は、制御電極アレイからトナーを被転写物に噴出し、被転写物の裏側から逆電極を通じて定着させる方式である。光源やドラムが不要な簡単な構造で、危機の小型化、低価格化が可能である。これらの方法によると、スペーサを分散配置したい所定の位置（例えば、液晶表示装置における非表示領域（カラーフィルターのブラックマトリクス上等））を容易に設計でき、しかもその設計した所定の位置へ高精度で簡便にスペーサを分散配置することができる。
【００１２】
電子写真方式、特にカールソン法は、複写機において広く利用されている技術であり、その複写プロセスをまず説明する。
電子写真方式の基本構成は、図２に示すように、感光体ドラム２１、帯電器２２、露光器２３、現像器２４、転写器２５、定着器２６、除電器２７、クリーナ２８から構成されている。図２の複写機の構成を用いて、複写プロセスの説明をする。電子写真プロセスは、(1)帯電プロセス、(2)潜像形成プロセス、(3)現像プロセス、(4)転写プロセス、(5)定着プロセス、(6)クリーニングプロセスと除電プロセスから基本的に構成される。
【００１３】
(1)の帯電プロセスは、帯電器２２を用いて感光体ドラム２１の表面に、イオンあるいは電子を付着させて一定電位に均一に帯電する工程である。帯電方式は非接触帯電法と接触帯電法とに大別される。非接触帯電法としてはコロナ帯電が一般的である。一方、接触帯電法としては、導電ブラシ帯電、導電ローラ帯電等がある。
【００１４】
(2)の潜像形成プロセスは、露光器２３を用いて光導電現象を利用して感光体ドラム２１上に静電潜像を形成する工程である。潜像には２種類の形態があり、画像部以外の所に光を照射し、光が照射された部分の帯電電荷を除去し、画像部に電荷を残すポジ潜像と、逆に画像部のみ帯電電荷を除去するネガ潜像とがある。
【００１５】
(3)の現像プロセスは、感光体ドラム２１の表面に形成された静電潜像に、帯電した着色した帯電微粒子であるトナーを静電的に付着させて可現像とする工程である。
静電潜像の現像法には、図３で示したような正現像法および反転現像法がある。正現像法は、潜像電荷と逆極性の電荷をもったトナーを静電的に付着させる方法である。一方、反転現像法は、電荷の抜けた所に現像電極の助けをかりて電場を形成し、この電場により一様帯電と同極性に帯電したトナーを付着させる方法である。現像は、▲１▼トナー粒子の帯電、▲２▼現像領域への帯電トナーの搬送、▲３▼静電潜像へのトナーの付着、という三つの過程から行われる。トナーの移動により帯電した現像剤あるいは現像部材は、その後、中和されて初期状態に戻る。トナーの帯電法としては、主に摩擦帯電、現像電極からの電荷注入に基づく電荷注入帯電、液体中での電気泳動帯電の三つがある。トナーの保持・搬送手段としては、静電気力、磁力、重力、および液流や空気流を用いるもの等がある。これらのトナー帯電法およびトナー保持・搬送手段を組み合わせることにより各種の現像法が用いられる。代表例を表１に示す。
【００１６】
【表１】
0004163323.tif 000002
【００１７】
現像プロセスの要点は、静電潜像にトナーを忠実に早く、必要量付着させて鮮明で十分濃い印字を得ることである。さらに背景部にトナーの付着がないことも必要である。現像速度および付着トナー量は、現像領域での静電潜像の電場構造とトナー粒子の帯電電荷量とに依存する。
(4)の転写プロセスは、感光体ドラム２１の表面に形成されたトナー像に、記録紙２９を重ね、記録紙の裏側からコロナ帯電器でトナーの帯電極性とは逆極性の電荷を記録紙に与え、静電気力によりトナー像を記録紙に転写する工程である。転写に使用する力には、静電気力以外に、機械力および粘着力等がある。機械力を利用する圧力転写法では、記録紙と感光体間に圧力を加え、機械的に記録紙の繊維にトナーをすり込むことにより記録紙にトナーを転写する。粘着力を利用した粘着転写法では、感光体上のトナー像を粘着力で転写する。
【００１８】
感光体ドラム２１から記録紙２９へ転写されたトナーは弱い力でしか付着していないので簡単にはがれ落ちる。そのため、永久的に固着させることが必要である。(5)の定着プロセスは、転写されたトナー像に熱あるいは圧力を加え、記録紙に融着させて永久像とする工程である。
転写後の感光体ドラム２１上の潜像電荷は光により除電される。また、転写されずに感光体ドラム２１上に残った残留トナーはクリーナで除去される。この工程が(6)のクリーニングプロセスと除電プロセスである。
【００１９】
複写機では、以上の(1)〜(6)の一連のプロセスを繰り返すことにより連続的に印字を行う。
本発明では、上述した電子写真方式を用いた複写プロセスを、液晶表示装置におけるスペーサの分散配置へ応用することを基本とする。電子写真方式を用いてスペーサを分散配置する場合の、上述した記録紙への複写との相違点を具体的に述べながら、本発明について説明する。
【００２０】
スペーサを分散配置する場合には、まず液晶表示装置の電極基板上、あるいはカラーフィルタ上のどの位置に配置するのか決めなければならない。液晶表示装置のコントラスト向上や高表示品位の達成には画素領域すなわち表示領域にスペーサを分散配置するのは好ましくなく、非画素領域すなわち非表示領域にスペーサを分散配置することが好ましい。画素領域に分散配置されるとスペーサの存在部分が表示されず、スペーサ自身や、液晶の配向乱れによりスペーサ周囲は光抜けが発生するからである。したがって、例えば、ＴＮモードの場合には、文字や図案の周辺や間隙等、表示に直接かかわらない領域のみにスペーサを分散配置させることが好ましい。また、例えば、ＳＴＮモードの場合には、電極基板の透明電極がストライプ状に配列されているので、それらの透明電極の間隙にスペーサを分散配置させることが好ましい。また、例えば、ＴＦＴやＳＴＮのカラー表示の場合、カラーフィルタの画素のＲ、Ｇ、Ｂ以外の部分、すなわち、ブラックマトリクス上に分散配置させることが好ましい。また、カラーフィルタのある基板と対向した電極基板上に分散配置する場合は、ブラックマトリクスに対する位置へ分散配置させることが好ましい。
【００２１】
また、分散配置させるスペーサの位置の数は、液晶表示装置のセルギャップが均一に保持できれば特に限定はないが、少なすぎるとギャップの均一性が悪くなり、多すぎると低温発泡等が発生し易くなる。また、分散配置の数は表示領域の一つの画素の大きさによっても左右される。
以上のようにしてスペーサを分散配置させる位置を決定した後、上述した(1) の帯電プロセス、(2)の潜像形成プロセスを行って、感光体上に分散配置させたい位置の静電潜像を形成させる。
【００２２】
次に、(3)の現像プロセスでは、トナーの代わりに、後述のスペーサを用いて、上記で得られた静電潜像にスペーサを静電的に付着させる。スペーサの帯電方法としては、静電潜像へ正確に付着させるための帯電電荷量を付与させ易い摩擦帯電が好ましく、スペーサの保持・搬送手段としては、静電気力や磁力が好ましく、乾式現像法、特に二成分磁気ブラシ現像法や一成分絶縁トナー現像法の現像方式が好ましい。
【００２３】
(4)の転写プロセスでは、感光体表面に形成されたスペーサ像に電極基板やカラーフィルタを重ね、所定の位置、好ましくは非表示領域へ転写する。また、感光体表面に形成されたスペーサ像を一旦中間転写ベルトや他のフィルムへ転写して、更に再度電極基板やカラーフィルタへ転写してもよい。
(5)の定着プロセスでは、感光体から電極基板やカラーフィルタ上の所定の位置へ転写されたスペーサに、熱又は圧力を加え融着させて固定化する。加熱温度としては、スペーサに含まれるバインダーが溶融する温度以上、分解温度以下が好ましく、また、電極基板やカラーフィルタ上のスペーサ以外の部材へダメージを与えない温度であればよく、具体的には後述のスペーサの所で説明する。また、圧力としては、電極基板やカラーフィルタへダメージを与えない程度が好ましい。
【００２４】
(6)のクリーニングプロセスと除電プロセスは、感光体に残存する潜像や残留スペーサを除去するために必要であり、特に続けて他の電極基板やカラーフィルタ上へスペーサを連続的に分散配置する場合は必要である。
トナージェット方式は、上述したプロセスの内、(1)の帯電プロセス、(2)の潜像形成プロセス、(3)の現像プロセスを必要とせず、帯電したスペーサを直接電極基板やカラーフィルタ上の所定の位置へ定着させる方式である。また、一旦、他のフィルム等へスペーサを転写してから再度、電極基板やカラーフィルタへ転写してもよい。
本発明の液晶表示装置に用いられるスペーサについて説明する。
【００２５】
本発明ではスペーサは、電子写真方式により分散配置され得ることが必要であるため、いわゆるトナーとしての性質を有するものが使用される。本発明において好ましいスペーサは、固体微粒子とバインダー樹脂とを含み、帯電量が＋２〜＋５０μＣ／ｇ、または−５〜−５０μＣ／ｇのものである。より好ましくは、＋５〜＋３０μＣ／ｇ、または−７〜−３０μＣ／ｇである。帯電量の絶対値が小さい場合（＋２〜−５μＣ／ｇ）、スペーサを所定の位置へ分散配置することができなく、一方、帯電量の絶対値が大きい場合（−５０μＣ／ｇより負、＋５０μＣ／ｇより正）、スペーサ同士の静電凝集が生じてしまい、スペーサを分散配置した場合、所望の高さに調整できなかったり、高精度で分散配置できなくなる。スペーサの帯電量を上記範囲とするための方法は特に限定されるものではないが、後述するような電荷制御性のバインダー樹脂および／または電荷制御剤を用いることが好ましい。なお、ここでいう帯電量の測定は、ブローオフ法に基づいて行われる。ブローオフ帯電量測定装置としては、東芝ケミカル（株）製ＴＢ−２００等が市販されている。
【００２６】
上記固体微粒子の平均粒子径は、好ましくは１〜３０μｍ、より好ましくは１〜２０μｍ、最も好ましくは１〜１５μｍである。平均粒子径が上記範囲を外れると、スペーサーとして用いられないことがある。
上記固体微粒子の粒子径の変動係数（ＣＶ）は、好ましくは１０％以下、より好ましくは８％以下、さらに好ましくは６％以下である。粒子径の変動係数が１０％を超えると、液晶層の厚みを均一かつ一定に保持することが困難となり、画像ムラを起こしやすくなる。
【００２７】
上記固体微粒子の形状は、球状、針状、板状、鱗片状、破砕状、俵状、まゆ状、金平糖状等の任意の粒子形状で良く、特に限定されないが、液晶表示板の隙間距離を均一に一定とする上では球状が好ましい。これは、粒子が球状であると、すべてまたはほぼすべての方向について一定またはほぼ一定の粒径を有することができるからである。
【００２８】
上記固体微粒子としては、種々のものがあり、特に限定はされないが、たとえば、有機架橋重合体粒子、無機系粒子、有機質無機質複合体粒子等が挙げられる。これらの中でも、ビニル系架橋重合体粒子および有機質無機質複合体粒子が、電極基板、配向膜またはカラーフィルターの損傷防止や両電極基板間の隙間距離の均一性を得やすい点で好ましく、有機質無機質複合体粒子が最も好ましい。
【００２９】
前記有機架橋重合体粒子としては、特に限定はされないが、たとえば、ジビニルベンゼンを単独で重合あるいは他のビニル単量体と共重合させて得られるジビニルベンゼン架橋樹脂粒子（特開平１−１４４４２９号公報参照）等が挙げられる。
前記無機系粒子としては、特に限定はされないが、たとえば、ガラス、シリカ、アルミナ等の球状微粒子等が挙げられる。
【００３０】
前記有機質無機質複合体粒子は、有機質部分と無機質部分とからなる複合粒子である。この有機質無機質複合体粒子において、前記無機質部分の割合は、特に限定はされないが、たとえば、前記有機質無機質複合体粒子の重量に対して、無機酸化物換算で、好ましくは１０〜９０ｗｔ％、より好ましくは２５〜８５ｗｔ％、より好ましくは３０〜８０ｗｔ％の範囲である。無機質部分の割合を示す無機酸化物換算とは、有機質無機質複合体粒子を空気中などの酸化雰囲気中で高温（たとえば１０００℃）で焼成した前後の重量を測定することにより求めた重量百分率で示される。有機質無機質複合体粒子の無機質部分の割合が、無機酸化物換算で前記範囲を下回ると、有機質無機質複合体粒子が軟らかくなり、電極基板への散布個数が増えることがあり、また、前記範囲を上回ると、硬すぎて配向膜の損傷やＴＦＴの断線が生じやすくなることがある。
【００３１】
このような有機質無機質複合体粒子としては、特に限定はされないが、たとえば、有機ポリマー骨格と、前記有機ポリマー骨格中の少なくとも１個の炭素原子にケイ素原子が直接化学結合した有機ケイ素を分子内に有するポリシロキサン骨格とを含み、前記ポリシロキサン骨格を構成するＳｉＯ2の量が１０ｗｔ％以上である、有機質無機質複合体粒子等を挙げることができる。有機ポリマー骨格としては、ビニル系ポリマーがギャップコントロールを制御できる高復元性を与えるため、好ましい。有機質無機質複合体粒子は、染料および／または顔料を含むことで着色されていてもよい。
【００３２】
有機質無機質複合体粒子の製造方法としては、特に限定されないが、たとえば、縮合工程と重合工程と熱処理工程とを含む下記の製造方法が挙げられる。
縮合工程は、ラジカル重合性基含有シリコン化合物を用いて加水分解・縮合する工程である。
ラジカル重合性基含有シリコン化合物は、次の一般式（１）：
【００３３】
【化１】
0004163323.tif 000003
【００３４】
（ここで、Ｒaは水素原子またはメチル基を示し；Ｒbは、置換基を有していても良い炭素数１〜２０の２価の有機基を示し；Ｒcは、水素原子と、炭素数１〜５のアルキル基と、炭素数２〜５のアシル基とからなる群から選ばれる少なくとも１つの１価基を示す）
と、次の一般式（２）：
【００３５】
【化２】
0004163323.tif 000004
【００３６】
（ここで、Ｒdは水素原子またはメチル基を示し；Ｒeは、水素原子と、炭素数１〜５のアルキル基と、炭素数２〜５のアシル基とからなる群から選ばれる少なくとも１つの１価基を示す）
と、次の一般式（３）：
【００３７】
【化３】
0004163323.tif 000005
【００３８】
（ここで、Ｒfは水素原子またはメチル基を示し；Ｒgは、置換基を有していても良い炭素数１〜２０の２価の有機基を示し；Ｒhは、水素原子と、炭素数１〜５のアルキル基と、炭素数２〜５のアシル基とからなる群から選ばれる少なくとも１つの１価基を示す）
とからなる群から選ばれる少なくとも１つの一般式で表される化合物またはその誘導体であることが好ましい。
【００３９】
重合工程は、縮合工程中および／または縮合工程後に、ラジカル重合性基をラジカル重合反応させて粒子を得る工程である。
熱処理工程は、重合工程で生成した重合体粒子を好ましくは８００℃以下、より好ましくは６００℃以下の温度で乾燥および焼成する工程である。熱処理工程は、たとえば、１０容量％以下の酸素濃度を有する雰囲気中や減圧下で行われることが好ましい。
【００４０】
縮合工程、重合工程および熱処理工程から選ばれる少なくとも１つの工程中および／または後に、生成した粒子を着色する着色工程をさらに含んでいてもよい。
上記固体微粒子は、染料および顔料からなる群から選ばれる少なくとも１つ等を含むことで着色されていてもよい。その色は、光が透過しにくいか、または、透過しない色が、スペーサー自身の光抜けを防止でき画質のコントラストを向上できる点で好ましい。光が透過しにくいか、または、透過しない色としては、たとえば、黒、濃青、紺、紫、青、濃緑、緑、茶、赤等の色が挙げられるが、特に好ましくは、黒、濃青、紺色である。
【００４１】
なお、染料および／または顔料は、単に固体微粒子に含まれるものでもよく、あるいは、染料および／または顔料と粒子本体を構成するマトリックスとが化学結合によって結び付けられた構造を有するものでもよい。
上記バインダー樹脂としては、エチレン性不飽和単量体の単独重合体または共重合体、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。これらのバインダー樹脂は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００４２】
エチレン性不飽和単量体の単独重合体または共重合体の原料となるエチレン性不飽和単量体としては、特に限定はされないが、たとえば、ビニルエステル系単量体（酢酸ビニル等）、ビニル芳香族系単量体（スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、α−クロロスチレン、ビニルナフタレン、ビニルキシレン等）、（メタ）アクリル系単量体（（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等）、共役ジオレフィン系単量体（ブタジエン、イソブチレン、クロロプレン等）、エチレン性不飽和カルボン酸（フマル酸、無水マレイン酸等）等が挙げられる。これらの中でも、（メタ）アクリル酸エステルおよびスチレンが、定着性が高いため好ましい。
【００４３】
前記バインダー樹脂としては、定着性をより向上させる観点から、エチレン性不飽和単量体の単独重合体または共重合体が好ましく、中でも（メタ）アクリル系樹脂および（メタ）アクリル−スチレン系樹脂からなる群の中から選ばれた少なくとも１種が最も好ましい。
バインダー樹脂のガラス転移温度は、好ましくは４０〜１００℃、より好ましくは４５〜９０℃、さらに好ましくは５０〜８０℃である。ガラス転移温度が４０℃未満では、スペーサが貯蔵中に融着等を起こしたり、電極基板上に分散配置する際の分散性が悪くなる場合がある。一方、ガラス転移温度が１００℃を超えると、分散配置させる際の加熱又は加圧時に、バインダー樹脂が溶融しにくく、そのため、電極基板やカラーフィルタへの定着性が不充分となる場合がある。
【００４４】
バインダー樹脂の軟化温度は、好ましくは５０〜１６０℃、より好ましくは６０〜１５０℃、さらに好ましくは７０〜１４０℃である。軟化温度が５０℃未満では、スペーサが貯蔵中に融着等を起こしたり、電極基板上に分散配置する際の分散性が悪くなる場合がある。一方、軟化温度が１６０℃を超えると、分散配置させる際の加熱又は加圧時に、バインダー樹脂が溶融しにくく、そのため、電極基板やカラーフィルタへの定着性が不充分となる場合がある。
【００４５】
一般にバインダー樹脂は、塩基性窒素等の電子供与性の置換基を含むものは正帯電性を示し、塩素、フッ素等の電子受容性の置換基を含むものは負帯電性を示す。例えば、ポリエステル樹脂は負帯電性が強く、（メタ）アクリル系樹脂やスチレン／（メタ）アクリル系樹脂は中性から弱い負帯電性を示す。
本発明においてバインダー樹脂としては電荷制御性を示すものが好ましく、負帯電性としては、ポリエステル樹脂、（メタ）アクリル酸等の酸基を導入した（メタ）アクリル系樹脂やスチレン／（メタ）アクリル系樹脂が好ましい。正帯電性としては、ジメチルアミノエチルメタクリレート等の窒素を導入した（メタ）アクリル系樹脂やスチレン／（メタ）アクリル系樹脂が好ましい。
【００４６】
また、バインダー樹脂全体の２〜２０重量％の割合で、低分子量ポリプロピレン、低分子量ポリエチレン等の低分子量オレフィン樹脂、パラフィンワックス、カルナバロウ等の各種ワックスをオフセット防止剤として加えることも可能である。
バインダー樹脂は、染料および顔料からなる群から選ばれる少なくとも１つ等を含むことで着色されていてもよい。その色は、光が透過しにくいか、または、透過しない色が、光抜けを防止でき画質のコントラストを向上できる点で好ましい。光が透過しにくいか、または、透過しない色としては、たとえば、黒、濃青、紺、紫、青、濃緑、緑、茶、赤等の色が挙げられるが、特に好ましくは、黒、濃青、紺色である。
【００４７】
バインダー樹脂の着色に使用できる染料および顔料としては、特に限定はされない。
固体微粒子に対するバインダー樹脂の重量割合は、特に限定はされないが、好ましくは１〜２００％、より好ましくは３〜１００％、特に好ましくは５〜５０％である。バインダー樹脂の重量割合が２００％を超えると、樹脂分が多くなって、溶融した際にスペーサの分散配置の面積が大きくなり、液晶表示板の表示領域へスペーサを分散配置したり、非表示領域へ分散配置しても表示領域まで被覆して、液晶表示板の画質低下を招く恐れがある。一方、バインダー樹脂の重量割合が少ないと、定着性が低下する。
【００４８】
上記バインダー樹脂は固体微粒子表面に存在していることが好ましく、固体微粒子表面の少なくとも一部を被覆するものであってもよいし、固体微粒子表面と化学結合していてもよい。
その場合のバインダー樹脂層の厚みは、特に限定はされないが、通常、０．０１〜５μｍの範囲、好ましくは０．０５〜２μｍの範囲である。厚みが上記範囲より小さいと、定着性が低下するおそれがあり、また、厚みが上記範囲より大きいと、スペーサの分散配置の面積が広くなって、液晶表示板の表示領域へスペーサを分散配置したり、非表示領域へ分散配置しても表示領域まで被覆して、液晶表示板の表示品位が低下するおそれがある。
【００４９】
バインダー樹脂層が固体微粒子表面に存在している場合の平均粒子径（固体微粒子本体にバインダー樹脂層の厚みが付与されたものの平均粒子径）は特に限定されないが、好ましくは１．５〜２５μｍ、より好ましくは２〜２５μｍ、さらに好ましくは２．５〜１７μｍである。
固体微粒子をバインダー樹脂で被覆する方法、もしくは固体微粒子表面とバインダー樹脂とを化学結合させる方法としては、特に限定はされないが、たとえば、バインダー樹脂の溶液中に、固体微粒子を分散させ、充分攪拌混合した後、溶剤を蒸発除去し、得られた塊状物を粉砕する方法や、溶融させたバインダー樹脂中に、固体微粒子を分散させ、混練して充分に分散させ、冷却後に塊状物を粉砕する方法；固体微粒子表面に各種官能基（ビニル基、エポキシ基、水酸基等）を導入し、その官能基を起点としてモノマーを重合させたり、その官能基とポリマーとを反応させて、粒子表面にグラフトさせる方法等がある。
【００５０】
また、上記方法以外に、「表面の改質」（日本化学会編化学総説No.44 、第45〜52頁、1987年発行）や「粉体の表面改質と高機能化技術」（「表面」第25巻第１号第１〜19頁および表紙写真、1987年発行）に詳細に記載されている、Ｉｎ  ｓｉｔｕ重合法、コアセルベーション法、界面重合法、液中硬化被覆法、液中乾燥法、高速気流中衝撃法、気中懸濁被覆法、スプレードライング法等の従来公知の樹脂被覆方法によっても、被覆することができる。特に、高速気流中衝撃法は、たとえば、固体微粒子と、バインダー樹脂の粉体とを混合し、この混合物を気相中に分散させ、衝撃力を主体とする機械的熱的エネルギーを前記粒子と前記バインダー樹脂粉体とに与えることで、前記粒子の表面を前記バインダー樹脂で被覆する方法であり、簡便に被覆することができるので、最も好ましい。この高速気流中衝撃法を行う際に用いられる前記バインダー樹脂粉体の平均粒子径は、特に限定はされないが、たとえば、好ましくは２μｍ以下、より好ましくは１．８μｍ以下、最も好ましくは１μｍ以下である。
【００５１】
上記高速気流中衝撃法を利用した装置としては、特に限定はされないが、たとえば、奈良機械製作所（株）製ハイブリダイゼーションシステムや、ホソカワミクロン（株）製メカノフュージョンシステム、川崎重工業（株）製クリプトロンシステム等がある。
上述したように本発明のスペーサは、さらに電荷制御剤を含むことができる。電荷制御剤としては、特に限定されず、有機物であっても無機物であってもよい。正帯電性を示すものとしては、電子供与性物質であり、例えば、有機物では、ニグロシン染料等の塩基性染料、第４級アンモニウム化合物、脂肪酸金属塩、ベンゾグアナミン系樹脂等、無機物では、アミノ基で表面処理した（疎水性）シリカ、（疎水性）チタニア等がある。負帯電性を示すものとしては、電子受容性物質であり、例えば、有機物では、アゾ系含金属染料、サリチル酸誘導体の金属錯体、塩素化パラフィン、塩素化ポリエステル等、無機物では（疎水性）シリカ等がある。
【００５２】
電荷制御剤の量は、特に限定されないが、バインダー樹脂に対して０．０１〜２０重量％が好ましく、より好ましくは０．５〜１５重量％、さらに好ましくは１〜１０重量％である。電荷制御剤の量が多すぎても少なすぎても、スペーサの帯電量が上述の範囲に入らなくなる。
さらに本発明のスペーサは、上記以外の添加剤として、フェライト系の磁性体、シリカ等の外添剤、酸化防止剤、離型剤等を必要に応じて含んでいても良い。
【００５３】
本発明の液晶表示装置において、スペーサ以外の、電極基板、シール材、液晶材料などについては従来と同様のものを従来と同様に使用することができる。
電極基板は、ガラス基板、フィルム基板などの基板と、基板の表面に形成された電極とを有しており、必要に応じて、電極基板の表面に電極を覆うように形成された配向膜をさらに有する。また、カラー対応の液晶表示装置の場合、カラーフィルタを有する。シール材としては、エポキシ樹脂接着シール材などが使用される。液晶としては、従来より用いられているものでよく、たとえば、ビフェニル系、フェニルシクロヘキサン系、シッフ塩基系、アゾ系、アゾキシ系、安息香酸エステル系、ターフェニル系、シクロヘキシルカルボン酸エステル系、ビフェニルシクロヘキサン系、ピリミジン系、ジオキサン系、シクロヘキシルシクロヘキサンエステル系、シクロヘキシルエタン系、シクロヘキセン系、フッ素系などの液晶が使用できる。
【００５４】
本発明の液晶表示装置を製造する方法としては、たとえば、面内スペーサを２枚の電極基板のうちの一方の電極基板に電子写真方式により所定の位置に分散配置したものの上に、エポキシ樹脂等の接着シール材にシール部スペーサを分散させたものをもう一方の電極基板の接着シール部分にスクリーン印刷などの手段により塗布したものを載せ、適度の圧力を加え、１００〜１８０℃の温度で１〜６０分間の加熱、または、照射量４０〜３００ｍＪ／cm2の紫外線照射により、接着シール材を加熱硬化させた後、液晶を注入し、注入部を封止する方法を挙げることができるが、これに限定されるものではない。
【００５５】
本発明の液晶表示装置は、従来の液晶表示装置と同じ用途、たとえば、テレビ、モニター、パーソナルコンピューター、ワードプロセッサー、カーナビゲーションシステム、ＤＶＤ、デジタルビデオカメラ、ＰＨＳ（携帯情報端末）などの画像表示素子として使用される。
【００５６】
【実施例】
以下に実施例によりさらに詳細に本発明を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
実施例中で「部」、「％」とは特にことわりがない限り、それぞれ「重量部」、「重量％」を表すものとする。
＜固体微粒子の平均粒子径、粒子径の変動係数＞
固体微粒子を電子顕微鏡により観察して、その撮影像の任意の粒子２００個の粒子径を実測し、次式に従って、平均粒子径、粒子径の標準偏差および粒子径の変動係数を求めた。
【００５７】
【数１】
0004163323.tif 000006
【００５８】
【数２】
0004163323.tif 000007
【００５９】
【数３】
0004163323.tif 000008
【００６０】
＜バインダー樹脂のガラス転移温度＞
パーキンエルマー社製のＤＳＣ−７を用いて測定した。
＜バインダー樹脂の軟化温度＞
島津製作所製フローテスタＣＦＴ−５００Ｃ型を用いて、以下の条件で昇温法により測定し、流出開始温度を軟化温度とした。
【００６１】
開始温度：室温
終了温度：２３０℃
昇温速度：６℃／分
試験荷重：２０．０ｋｇｆ
ダイ穴径：０．５０ｍｍ
ダイ長さ：１．００ｍｍ
＜バインダー樹脂の平均粒子径＞
上記固体微粒子の平均粒子径の測定方法に準じた。
＜スペーサの帯電量＞
ブローオフ法に基づき、鉄粉（同和鉄粉（株）製ＤＳＰ−１２８）とスペーサを２５℃、６０％ＲＨ中で２４時間放置後、鉄粉２８．５０ｇとスペーサ１．５０ｇをボトル中で１分間混合した後、ブローオフ帯電量測定機（東芝ケミカル（株）製ＴＢ−２００）にて測定した。
＜固体微粒子の合成例＞
冷却管、温度計、滴下口のついた四つ口フラスコ中に２５％アンモニア水溶液４．５ｇ、水３８７．３ｇを混合した溶液（Ａ液）を入れ、２５±２℃に保持し、攪拌しながら該溶液中に、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン６２ｇ、ビニルトリメトキシシラン２８ｇ、テトラエトキシシランの四〜五量体５ｇ、ラジカル重合開始剤として２，２′−アゾビス−（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）０．３４ｇを混合した溶液（Ｂ液）を滴下口から添加して、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランと、ビニルトリメトキシシランと、テトラエトキシシランの四〜五量体との共加水分解・重縮合を行った。攪拌を継続しながら２０分後、Ｎ2雰囲気中で６０±５℃に加熱し、ラジカル重合を行った。
【００６２】
２時間加熱を続けた後、室温まで冷却し、重合体粒子の懸濁体を得た。この懸濁体を濾過により固液分離し、得られたケーキをメタノールによるデカンテーションで３回洗浄した。
洗浄したケーキを濾過し、得られた粒子を窒素雰囲気中で３００℃で２時間焼成して球状の固体微粒子（１）を得た。
【００６３】
得られた固体微粒子（１）は、有機質無機質複合体であり、平均粒子径５．７μｍ、粒子径の変動係数３．５％、ポリシロキサン骨格の割合が固体微粒子（１）の重量に対してＳｉＯ2換算量で４６．０ｗｔ％であった。
＜バインダー樹脂の合成例＞
バインダーとして表２に示すモノマー組成からなる樹脂をソープフリー重合で合成した。表２にガラス転移温度、軟化温度、平均粒子径もあわせて示した。
【００６４】
【表２】
0004163323.tif 000009
【００６５】
［実施例１］
固体微粒子として、合成例で得られた固体微粒子（１）３５ｇと、バインダー（１）１４ｇ、負帯電用の電荷制御剤として下記化学式で示されるアゾ染料金属錯体（ただし、Ｍ＝Ｃｒ、Ｒ１＝Ｒ３＝Ｃｌ、Ｒ２＝Ｒ４＝Ｈ）０．２ｇ、低分子量ポリプロピレン０．５ｇとを混合した後、奈良機械製作所（株）製ハイブリダイゼーションシステムＮＨＳ−０型を使用して高速気流中衝撃法により固体微粒子（１）の表面をバインダー（１）で被覆処理して接着性粒子（１）を得た。該接着性粒子（１）のバインダー中には、電荷制御剤と低分子量ポリプロピレンが含有されていた。
【００６６】
【化４】
0004163323.tif 000010
【００６７】
次に外添剤として疎水性シリカ超微粒子（日本アエロジル（株）製アエロジルＲ９７２、平均粒子径１６ｎｍ）０．０７ｇをコーヒーミル中で１０秒間攪拌した後、上記で得られた接着性粒子（１）３５ｇを添加して２０秒間攪拌混合し、接着性粒子（１）の表面に外添剤を付着させてスペーサ（１）を得た。
得られたスペーサ（１）は平均粒子径６．３μｍ、帯電量が−２６μＣ／ｇであった。
［実施例２］
実施例１において、バインダー（１）の代わりに負帯電性を示す電荷制御性のバインダー（２）を用い、アゾ染料金属錯体からなる電荷制御剤を使用せずに、その他は実施例１と同様にして、スペーサ（２）を得た。
【００６８】
得られたスペーサ（２）は平均粒子径６．２μｍ、帯電量が−１８μＣ／ｇであった。
［実施例３］
実施例１において、電荷制御剤としてアゾ染料金属錯体の代わりに正帯電性の電荷制御剤であるニグロシン０．２ｇを用い、疎水性シリカ超微粒子からなる外添剤を使用せずに、その他は実施例１と同様にして、スペーサ（３）を得た。
【００６９】
得られたスペーサ（３）は平均粒子径６．４μｍ、帯電量が＋１５μＣ／ｇであった。
［比較例１］
実施例１において、電荷制御剤を用いずに、その他は実施例１と同様にして、比較スペーサ（１）を得た。
【００７０】
得られた比較スペーサ（１）は平均粒子径６．４μｍ、帯電量が−２μＣ／ｇであった。
［比較例２］
実施例１において、アゾ染料金属錯体からなる電荷制御剤の量を３．０ｇとした以外は実施例１と同様にして、比較スペーサ（２）を得た。
【００７１】
得られた比較スペーサ（２）は平均粒子径６．１μｍ、帯電量が−７４μＣ／ｇであった。
［比較例３］
実施例３において、ニグロシンからなる電荷制御剤の量を３．０ｇとした以外は実施例３と同様にして、比較スペーサ（３）を得た。
【００７２】
得られた比較スペーサ（３）は平均粒子径６．５μｍ、帯電量が＋６７μＣ／ｇであった。
［実施例４］
ＴＦＴ型液晶表示装置において、カラーフィルタが設置されている電極基板のカラーフィルタのブラックマトリクス上に７０μｍおきにスペーサを分散配置するためにまずスペーサを分散配置すべきパターンを作製した。
【００７３】
次に図２に示すようなカールソン法からなる電子写真方式を用い、カラーフィルタ上のブラックマトリクス上にスペーサを固定化して、カラーフィルタのブラックマトリクス上にスペーサを分散配置した。すなわち、まず前記パターンを感光体上に静電潜像として形成させ、次いで、実施例１で得られたスペーサ（１）を前記静電潜像へ付着させ、カラーフィルタが設置された電極基板へ転写した後、１５０℃で加熱して定着させた。スペーサはブラックマトリクス上の所定の位置に７０μｍおきに分散配置されており、分散配置の密度は２０４個／ｍｍ2であった。
【００７４】
次に以下の手順でＴＦＴ型液晶表示装置を作製した。ＴＦＴ素子を有する透明電極基板と、上記のようにしてスペーサが分散配置されたカラーフィルタを有する透明電極基板とを、接着シール材で貼り合わせ、その後両電極基板の隙間を真空として更に大気圧に戻すことによりＴＦＴ用フッ素系ＴＮ液晶を注入し、注入部を封止した。そして、上下電極基板の外側に偏光フィルムを貼り、ＴＦＴ型液晶表示装置（１）を得た。
【００７５】
得られた液晶表示装置（１）は、色ムラがないものであった。これから、液晶表示装置（１）はギャップ均一性が優れたものであり、スペーサの分散配置が高精度で行われて高さにばらつきのないことがわかる。また、液晶表示装置（１）はコントラストが高く、ザラツキのないものであった。これから、スペーサが表示領域には存在しないことがわかる。以上のように、液晶表示装置（１）は良好な表示品位を示した。これらの結果を表３，４に示す。
［実施例５，６］
実施例４において、静電潜像へ付着させるスペーサとしてスペーサ（１）の代わりに、実施例２，３で得られたスペーサ（２），（３）を用いた以外は、実施例４と同様にしてＴＦＴ型液晶表示装置（２），（３）を得た。その結果を表３，４に示す。
［実施例７］
実施例４において、スペーサの分散配置方法をカールソン法からトナージェット法に変更した以外は、実施例４と同様にしてＴＦＴ型液晶表示装置（４）を得た。その結果を表３，４に示す。
［比較例４〜６］
実施例４において、静電潜像へ付着させるスペーサとしてスペーサ（１）の代わりに、比較例１〜３で得られた比較スペーサ（１）〜（３）を用いた以外は、実施例４と同様にして比較ＴＦＴ型液晶表示装置（１）〜（３）を得た。その結果を表３，４に示す。
［比較例７］
実施例４において、スペーサの分散配置方法を電子写真法式から、従来から用いられている高速気流式の乾式散布法に変更した以外は、実施例４と同様にして比較ＴＦＴ型液晶表示装置（４）を得た。スペーサの散布には、日清エンジニアリング（株）製ＤＩＳＰＡ−μＲを用い、散布個数は約２００±２０個／ｍｍ2とした。その結果を表３，４に示す。
【００７６】
【表３】
0004163323.tif 000011
【００７７】
【表４】
0004163323.tif 000012
【００７８】
【発明の効果】
本発明によると、スペーサの非表示領域への正確な分散配置と、所望の高さへの調整が容易かつ簡便にでき、その結果、コントラストの低下、ざらつき、色むら等がなく、表示品位に非常に優れた液晶表示装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の液晶表示装置の一例を表わす概略断面図である。
【図２】電子写真方式の基本構成を表わす図である。
【図３】正現像法と反転現像法を示す図である。
【符号の説明】
２  シール材
３  シール部スペーサー
４  配向膜
５  電極
６  偏光膜
７  液晶
８  面内スペーサー
１１  下側ガラス基板
１２  上側ガラス基板
２１  感光体ドラム
２２  帯電器
２３  露光器
２４  現像器
２５  転写器
２６  定着器
２７  除電器
２８  クリーナ
２９  記録紙
１１０  下側電極基板
１２０  上側電極基板
【図１】
0004163323.tif 000013
【図２】
0004163323.tif 000014
【図３】
0004163323.tif 000015