(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板が搬送されるループ状の準備室軌道が設けられ内部が真空状態とされる真空準備室と、基板が搬送されるループ状の処理室軌道が設けられ内部が真空状態とされて移動する基板に対して成膜処理するように構成された真空処理室と、真空準備室の内部と真空処理室の内部とを直線状に連通させた連絡室とを備える真空成膜装置であって、
前記連絡室は、前記真空準備室内に搬入された基板を前記真空処理室に移動させる直線状の搬入軌道と、前記真空処理室で成膜処理された基板を前記真空準備室に移動させる直線状の搬出軌道と、前記真空処理室に近接した端部に設けられ前記真空処理室との間での遮断および連通を制御する開閉扉とを備え、前記真空処理室および前記真空準備室に対向して配置されていることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項２】
請求項１に記載の真空成膜装置であって、
前記準備室軌道に沿って基板をループ状に搬送する準備室ローラーコンベアと、前記処理室軌道に沿って基板をループ状に搬送する処理室ローラーコンベアと、前記搬入軌道に沿って基板を直線状に搬送する搬入ローラーコンベアと、前記搬出軌道に沿って基板を直線状に搬送する搬出ローラーコンベアと、前記真空準備室で前記連絡室に対向して配置され前記真空準備室の中心側の端部を中心として外周側の端部が前記連絡室から離れる方向へ回動する構成とされた一対の準備室搬送ローラーと、前記搬入軌道の端部に配置され前記真空準備室／前記真空処理室に近い側が側方にずらされ前記真空準備室／前記真空処理室の内部に向かって回動される構成とされた一対の搬入軌道端部搬送ローラーと、前記搬出軌道の端部に配置され前記真空準備室／前記真空処理室に近い側が側方にずらされ前記真空準備室／前記真空処理室の内部に向かって回動される構成とされた一対の搬出軌道端部搬送ローラーと、前記真空処理室で前記連絡室に対向して配置され前記真空処理室の中心側の端部を中心として外周側の端部が前記連絡室から離れる方向へ回動する構成とされた一対の処理室搬送ローラーとを備え、
前記真空準備室に搬入された基板を前記真空処理室に搬入するときは、前記準備室搬送ローラー、前記搬入軌道端部搬送ローラー、および前記処理室搬送ローラーが回動されて相互に連続した状態とされ、前記真空処理室での成膜を終了した基板を前記真空準備室に搬出するときは、前記準備室搬送ローラー、前記搬出軌道端部搬送ローラー、および前記処理室搬送ローラーが回動されて相互に連続した状態とされる構成としてあることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の真空成膜装置であって、
基板は、搬送具に保持されて搬送されることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれか一つに記載の真空成膜装置を使用した真空成膜方法であって、
前記準備室軌道および前記搬入軌道を通って前記処理室軌道に搬入された基板が前記開閉扉を閉状態として前記処理室軌道で成膜処理されている間に、成膜処理される新たな基板を前記準備室軌道に搬入することを特徴とする真空成膜方法。
【請求項５】
請求項４に記載の真空成膜方法であって、
前記準備室軌道に搬入された基板を、前記搬入軌道を介して前記処理室軌道に移動させる間に、前記処理室軌道で成膜処理された基板を、前記搬出軌道を介して前記準備室軌道に移動させることを特徴とする真空成膜方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、液晶表示装置に使用される透明電極基板等を製造するために、透明基板に対して、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等によって、ＩＴＯ膜等を成膜する真空成膜装置および真空成膜方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
透明基板に対して、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等によってＩＴＯ膜等を成膜するために使用される真空成膜装置として、特開平７−７８５２６号公報には、インライン型スパッタ装置が開示されている。このインライン型スパッタ装置では、図４に示すように、成膜処理される基板を保持するキャリア６１が内部に搬入される取り入れ室６２と、キャリアに保持された基板を加熱してＩＴＯ膜を成膜する第１真空処理室６３と、ＩＴＯ膜が成膜された基板を加熱処理する加熱室６４と、加熱処理された基板にさらにＩＴＯ膜を成膜する第２真空処理室６５と、成膜処理された基板を保持するキャリア６１を搬出する取り出し室６６とが、直線状に並んで配置されている。
【０００３】
このような構成のインライン型スパッタ装置では、基板を保持したキャリア６１が取り入れ室６２内に搬入されると、第１真空処理室６３、加熱室６４、第２真空処理室６５、取り出し室６６へと、順次、直線状に移動されて、第１真空処理室６３内にて第１のＩＴＯ膜が基板上に成膜された後に、加熱室６４にて基板が加熱処理され、さらにその後に、第２真空処理室６５にて第２のＩＴＯ膜が基板に成膜されて、取り出し室６６から成膜処理された基板を保持するキャリア６１が取り出される。
【０００４】
また、特開平５−１７１４４１号公報には、図５に示すように、真空処理室７１の一方の側部に、基板を保持するキャリア６１が搬入される準備室７２、および、成膜処理された基板を保持するキャリア６１を取り出す取り出し室７３が設けられたスパッタリング装置が開示されている。このスパッタリング装置では、真空処理室７１の内部に基板を保持するキャリア６１が循環する循環ラインが構成されており、取り出し室７３から真空処理室７１内に搬入されたキャリア６１が、循環ラインに沿って所定方向に移動する間に、基板の一方の面に膜が形成され、反対方向にキャリア６１が移動する間に、基板の反対側の面に膜が形成される。そして、基板の両面が成膜処理されると、基板を保持するキャリア６１が、取り出し室７３から取り出される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
特開平７−７８５２６号公報に開示されたインラインスパッタ装置では、取り入れ室６２〜取り出し室６６が直線状に並んで配置されているために、大型になっており、広い設置面積が必要になるという問題がある。しかも、取り入れ室６２および取り出し室６６が離れているために、取り入り室６２および取り出し室６６それぞれを監視するための監視員が必要であり、人件費が嵩むという問題もある。さらには、第１真空処理室６２および第２真空処理室６４内では、基板を移動させている間に、スパッタリングによって基板に対して成膜するようになっているために、均一に成膜することが容易でないという問題もある。
【０００６】
これに対して、特開平５−１７１４４１号公報に開示されたスパッタリング装置では、真空処理室７１内に循環ラインを形成して、循環ラインを循環されている間に基板の両面に成膜するようになっているために、真空処理室７１が小型化され、設置面積を小さくすることができる。しかも、準備室７２と取り出し室７３とが、真空処理室７１の同じ側部に配置されているために、キャリアの搬入および搬出のための監視員を削減することができる。
【０００７】
しかしながら、準備室７２および取り出し室７３がそれぞれ別になっており、しかも、準備室７２および取り出し室７３の大きさも限られているために、準備室内へのキャリア６１の搬入作業、および、取り出し室７３からのキャリア６１の搬出作業をそれぞれ個別に、しかも、それぞれにおいて頻繁に実施しなければならず、作業効率が悪いという問題がある。
【０００８】
本発明は、このような直線型インライン装置の問題を解決するものであり、特開平７−１３８７４６号公報等に開示されているように、従来多用されている丸形のバッチ処理用カルーセル型成膜装置を、成膜部を大気に開放することなく連続して成膜することができるようにインライン化することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る真空成膜装置は、基板が搬送されるループ状の準備室軌道が設けられ内部が真空状態とされる真空準備室と、基板が搬送されるループ状の処理室軌道が設けられ内部が真空状態とされて移動する基板に対して成膜処理するように構成された真空処理室と、真空準備室の内部と真空処理室の内部とを直線状に連通させた連絡室とを備える真空成膜装置であって、前記連絡室は、前記真空準備室内に搬入された基板を前記真空処理室に移動させる直線状の搬入軌道と、前記真空処理室で成膜処理された基板を前記真空準備室に移動させる直線状の搬出軌道と、前記真空処理室に近接した端部に設けられ前記真空処理室との間での遮断および連通を制御する開閉扉とを備え、前記真空処理室および前記真空準備室に対向して配置されていることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明に係る真空成膜装置では、前記準備室軌道に沿って基板をループ状に搬送する準備室ローラーコンベアと、前記処理室軌道に沿って基板をループ状に搬送する処理室ローラーコンベアと、前記搬入軌道に沿って基板を直線状に搬送する搬入ローラーコンベアと、前記搬出軌道に沿って基板を直線状に搬送する搬出ローラーコンベアと、前記真空準備室で前記連絡室に対向して配置され前記真空準備室の中心側の端部を中心として外周側の端部が前記連絡室から離れる方向へ回動する構成とされた一対の準備室搬送ローラーと、前記搬入軌道の端部に配置され前記真空準備室／前記真空処理室に近い側が側方にずらされ前記真空準備室／前記真空処理室の内部に向かって回動される構成とされた一対の搬入軌道端部搬送ローラーと、前記搬出軌道の端部に配置され前記真空準備室／前記真空処理室に近い側が側方にずらされ前記真空準備室／前記真空処理室の内部に向かって回動される構成とされた一対の搬出軌道端部搬送ローラーと、前記真空処理室で前記連絡室に対向して配置され前記真空処理室の中心側の端部を中心として外周側の端部が前記連絡室から離れる方向へ回動する構成とされた一対の処理室搬送ローラーとを備え、前記真空準備室に搬入された基板を前記真空処理室に搬入するときは、前記準備室搬送ローラー、前記搬入軌道端部搬送ローラー、および前記処理室搬送ローラーが回動されて相互に連続した状態とされ、前記真空処理室での成膜を終了した基板を前記真空準備室に搬出するときは、前記準備室搬送ローラー、前記搬出軌道端部搬送ローラー、および前記処理室搬送ローラーが回動されて相互に連続した状態とされる構成としてあることを特徴とする。
【００１２】
また、本発明に係る真空成膜装置では、基板は、搬送具に保持されて搬送されることを特徴とする。
【００１３】
また、本発明に係る真空成膜方法は、本発明に係る真空成膜装置を使用した真空成膜方法であって、前記準備室軌道および前記搬入軌道を通って前記処理室軌道に搬入された基板が前記開閉扉を閉状態として前記処理室軌道で成膜処理されている間に、成膜処理される新たな基板を前記準備室軌道に搬入することを特徴とする。
【００１４】
また、本発明に係る真空成膜方法では、前記準備室軌道に搬入された基板を、前記搬入軌道を介して前記処理室軌道に移動させる間に、前記処理室軌道で成膜処理された基板を、前記搬出軌道を介して前記準備室軌道に移動させることを特徴とする。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、図面に基づいて詳細に説明する。
【００１６】
図１は、本発明の真空成膜装置の構成を示す概略平面図である。この真空成膜装置は、円筒リング状に構成された真空処理室１０と、同じく円筒リング状に構成された真空準備室２０と、これら真空処理室１０の内部と真空準備室２０の内部とを直線状に連通する連絡室３０とを有している。
【００１７】
円筒状の真空処理室１０は、円筒状をした外周壁１１と、この外周壁１１内に同心状態で配置された円筒状の内周壁１２とによって中空リング状に構成されており、外周壁１１と内周壁１２との間を、成膜される基板が搬送具に保持された状態で移動するループ状の軌道１３（処理室軌道としての軌道１３）になっている。真空処理室１０の軌道１３内は、真空状態に保持されるようになっており、真空処理室１０における外周壁１１および内周壁１２には、軌道１３を挟んで相互に対向する複数のターゲット１５がそれぞれ設けられている。
【００１８】
真空処理室１０内のループ状の軌道１３には、成膜される複数の基板が保持された搬送具を搬送するローラーコンベア１４（処理室ローラーコンベアとしてのローラーコンベア１４）が、全周にわたって連続したループ状に設けられている。各ローラーコンベア１４には、複数の搬送ローラー１４ａ（処理室搬送ローラーとしての搬送ローラー１４ａ）が、それぞれの軸方向をループ状の軌道１３の周方向と直交状態で、周方向に一定の間隔をあけて水平に配置されている。全ての搬送ローラー１４ａには、チェーン（図示せず）が巻き掛けられており、図示しない駆動源によってチェーンが周回移動されることにより、全ての搬送ローラー１４ａが同期して回転されるようになっている。
【００１９】
図２は、真空処理室１０にてＩＴＯ膜等が成膜される基板５０を保持する保持具４０の一例を示すものであり、搬送具４０は、真空処理室１０のローラーコンベア１４に載置される水平状の支持板４１に、基板取付板４２が垂直に取り付けられて構成されている。基板５０は、基板取付板４２の両面に、複数枚ずつ取り付けられるようになっており、基板取付板４２に基板５０が保持された状態で、支持板４１が、ローラーコンベア１４の搬送ローラー１４ａ上を転接することによって、搬送具４０が搬送される。
【００２０】
図１に示すように、円筒リング状の真空準備室２０も、円筒状をした外周壁２１と、この外周壁２１内に同心状態で配置された内周壁２２とによって構成されており、外周壁２１と内周壁２２との間を、成膜される基板が保持された搬送具が移動するループ状の軌道２３になっている。ループ状の軌道２３内は、真空状態に保持されるようになっており、真空準備室２０における外周壁２１には、軌道２３内を移動される基板５０が保持された搬送具４０の出入り口２５が、周方向の１箇所に設けられている。
【００２１】
真空準備室２０内のループ状の軌道２３（準備室軌道としての軌道２３）にも、成膜される複数の基板５０が保持された搬送具４０を搬送するループ状のローラーコンベア２４（準備室ローラーコンベアとしてのローラーコンベア２４）が全周にわたって設けられている。ローラーコンベア２４には、複数の搬送ローラー２４ａ（準備室搬送ローラーとしての搬送ローラー２４ａ）が、それぞれの軸方向をループ状の軌道２３の周方向と直交状態で、周方向に一定の間隔をあけて水平に配置されている。全ての搬送ローラー２４ａには、チェーン（図示せず）が巻き掛けられており、図示しない駆動源によってチェーンが周回移動されることにより、全ての搬送ローラー２４ａが同期して回転されるようになっている。
【００２２】
真空処理室１０と真空準備室２０とを直線状に連通する連絡室３０の内部には、真空準備室２０のループ状の軌道２３内を移動する搬送具４０を、真空処理室１０の軌道１３に搬入する直線状の搬入軌道３１と、真空処理室１０のループ状の軌道１３内を移動する搬送具４０を、真空準備室２０のループ状の軌道２３に搬出する直線状の搬出軌道３２とが、幅方向の各側部にそれぞれ設けられている。搬入軌道３１および搬出軌道３２には、搬送具４０を搬送する直線状のローラーコンベア３４（搬入ローラーコンベアとしてのローラーコンベア３４）およびローラーコンベア３５（搬出ローラーコンベアとしてのローラーコンベア３５）が、それぞれ設けられている。搬入軌道３１および搬出軌道３２にそれぞれ設けられた各ローラーコンベア３４および３５は、各端部を除いて、複数の搬送ローラー３４ａおよび３５ａが、それぞれの軸方向を搬入軌道３１および搬出軌道３２の直線状に延びる方向に対して直交した状態で、等しい間隔をあけて水平に配置されている。
【００２３】
図３は、連絡室３０に設けられたローラーコンベア３４および３５の概略構成図である。図３に示すように、各ローラーコンベア３４および３５の各端部にそれぞれ配置された各一対の搬送ローラー３４ａ（搬入軌道端部搬送ローラーとしての搬送ローラー３４ａ）および搬送ローラー３５ａ（搬出軌道端部搬送ローラーとしての搬送ローラー３５ａ）は、それぞれ、真空処理室１０および真空準備室２０側になるにつれて、順次、各側方にずれた状態になっており、これら各一対の搬送ローラー３４ａおよび３５ａは、搬入軌道３１および搬出軌道３２の外側に位置する端部を中心として、内側の端部が、真空処理室１０および真空準備室２０の内部に向かってそれぞれ一体的に回動し得るように、それぞれ構成されている。
【００２４】
そして、真空処理室１０に近接して配置された各一対の搬送ローラー３４ａおよび３５ａに隣接して配置された各搬送ローラー３４ａおよび３５ａは、それぞれの内側の端部が真空処理室１０側に接近するように、それぞれ傾斜した状態になっている。また、真空準備室２０に近接して配置された各一対の搬送ローラー３４ａおよび３５ａに隣接して配置された各搬送ローラー３４ａおよび３５ａは、それぞれの内側の端部が真空準備室２０側に接近するように、それぞれ傾斜した状態になっている。
【００２５】
搬入軌道３１に配置されたローラーコンベア３４の全ての搬送ローラー３４ａには、チェーン（図示せず）が巻き掛けられており、図示しない駆動源によってチェーンが周回移動されることにより、全ての搬送ローラー３４ａが同期して回転されるようになっている。また、搬出軌道３２に配置されたローラーコンベア３５の全ての搬送ローラー３５ａにも、チェーン（図示せず）が巻き掛けられており、図示しない駆動源によってチェーンが周回移動されることにより、全てのローラー３４が同期して回転されるようになっている。
【００２６】
真空処理室１０の軌道１３内に配置されたループ状のローラーコンベア１４では、連絡室３０に対向して一対の搬送ローラー１４ａが配置されており、これら一対の搬送ローラー１４ａを挟んでそれぞれ配置された各一対の搬送ローラー１４ａは、真空処理室１０の中心側に位置する各端部をそれぞれ中心として、真空処理室１０の外周側に位置する各端部が、連絡室３０から離れる方向にそれぞれ一体的に回動して、真空処理室１０の放射方向に対して傾斜状態になるように構成されている。そして、各一対の搬送ローラー１４ａがそれぞれ傾斜した状態になると、連絡室３０の端部において、傾斜状態になった各３つの搬送ローラー３４ａおよび３５ａにほぼ平行な状態になるとともに、これら３つのローラー３４ａおよび３５ａとは反対側に隣接して配置された真空処理室１０内のローラーコンベア１４の搬送ローラー１４ａに対しても、ほぼ平行な状態になる。
【００２７】
真空準備室２０の軌道２３内に配置されたループ状のローラーコンベア２４でも、連絡室３０に対向して一対の搬送ローラー２４ａが配置されており、これら一対の搬送ローラー２４ａを挟んでそれぞれ配置された各一対の搬送ローラー２４ａは、真空準備室２０の中心側に位置する各端部をそれぞれ中心として、真空準備室２０の外周側に位置する各端部が、連絡室３０から離れる方向にそれぞれ一体的に回動して、真空準備室２０の放射方向に対して傾斜状態になるように構成されている。そして、各一対の搬送ローラー２４ａがそれぞれ傾斜した状態になると、連絡室３０の端部において、傾斜状態になった各３つの搬送ローラー３４および３５ａにほぼ平行な状態になるとともに、これら３つのローラー３４ａおよび３５ａとは反対側に隣接して配置された真空準備室２０内のローラーコンベア２４の搬送ローラー２４ａに対しても、ほぼ平行な状態になる。
【００２８】
連絡室３０における真空処理室１０に近接した端部には、真空処理室１０の内部と連絡室３０の内部とを遮断および連通する開閉扉３３が設けられている。開閉扉３３が連絡室３０の内部と真空処理室１０の内部を遮断状態にすると、真空処理室１０の内部は真空状態に保持され、連絡室３０の内部と真空処理室１０の内部を連通状態にすると、真空処理室１０の内部の真空状態が解除される。
【００２９】
このような構成の真空成膜装置では、複数の基板５０が保持された搬送具４０が、真空準備室２０の出入り口２５を通って、真空準備室２０内に搬入される。この場合、真空準備室２０内の軌道２３に設けられたローラーコンベア２４は、全ての搬送ローラー２４ａが真空準備室２０の放射方向に沿った状態とされて、ループ状に連続した状態になっており、また、連絡室３０に設けられた開閉扉３３は、真空処理室１０との間を遮断した状態とされている。このような状態で、真空準備室２０の出入り口２５から、複数の基板５０がそれぞれ保持された複数の搬送具４０が、順次、真空準備室２０の軌道２３内に搬入されて、軌道２３内のローラーコンベア２４によって、ループ状の軌道２３内を所定方向に搬送される。
【００３０】
真空準備室２０内に所定数の搬送具４０が搬入されると、出入り口２５が閉鎖されるとともに、開閉扉３３が開放されて、真空準備室２０の内部が真空状態とされる。
【００３１】
真空準備室２０内が真空状態とされると、真空準備室２０の軌道２３内に設けられたローラーコンベア２４は、連絡室３０に近接して設けられた各一対の搬送ローラー２４ａがそれぞれ回動されて傾斜状態とされる。また、連絡室３０に設けられた各一対のローラーコンベア２４では、各端部にそれぞれ設けられた各一対の搬送ローラー３４ａおよび３５ａもそれぞれ回動されて傾斜状態とされる。これにより、真空準備室２０のローラーコンベア２４と、連絡室３０の搬入軌道３１および搬出軌道３２に設けられた各ローラーコンベア３４および３５とは、傾斜状態になった各搬送ローラー２４ａと、傾斜状態になった各搬送ローラー３４ａおよび３５ａとによって、相互に連続した状態になり、また、真空処理室１０のローラーコンベア１４と連絡室３０の搬入軌道３１および搬出軌道３２に設けられた各ローラーコンベア３４および３５も、傾斜状態になった各搬送ローラー１４ａと、傾斜状態になった各搬送ローラー３４ａおよび３５ａとによって、相互に連続した状態になる。
【００３２】
その結果、真空準備室２０内にてローラーコンベア２４によって所定方向に搬送されている各搬送具４０は、連絡室３０の搬入軌道３１に設けられたローラーコンベア３４が、このローラーコンベア２４に連続した状態になっていることにより、搬入軌道３１内のローラーコンベア３４に移載されて、ローラーコンベア３４にて搬送される。そして、真空処理室１０の軌道１３内に設けられたローラーコンベア１４が、搬入軌道３１内のローラーコンベア３４に連続した状態になっていることにより、搬入軌道３１のローラーコンベア３４によって搬送される搬送具４０が、真空処理室１０の軌道１３内に配置されたローラーコンベア１４に移載されて、そのローラーコンベア１４にて搬送される。
【００３３】
真空準備室２０内に搬入された全ての搬送具４０が、真空処理室１０内に搬入されると、真空処理室１０の軌道１３に設けられたローラーコンベア１４は、傾斜状態になった各一対の搬送ローラー１４ａが、真空処理室１０の放射方向に沿った状態にそれぞれ戻されて、ループ状に連続される。連絡室３０の搬入軌道３１および搬出軌道３２に設けられた各ローラーコンベア３４および３５も、各端部においてそれぞれ傾斜状態になった各一対のローラー３４ａおよび３５ａが、それぞれ連絡室３０に直交する状態とされて、直線状に戻される。さらに、真空準備室２０においても、同様に、軌道２３に設けられたローラーコンベア２４は、傾斜状態になった各一対のローラー２４ａが、真空準備室２０の放射方向に沿った状態にそれぞれ戻されて、ループ状に連続される。
【００３４】
真空処理室１０の軌道１３に設けられたローラーコンベア１４がループ状になると、連絡室３０に設けられた開閉扉３３が閉鎖状態とされて、真空処理室１０内が真空状態に保持される。そして、真空処理室１０内に導入された各搬送具４０が、ローラーコンベア１４によって真空処理室１０内を所定方向に搬送されると、各搬送具４０に保持された各基板５０が加熱されるとともに、各ターゲット１５によって、例えばＩＴＯ膜が、それぞれ成膜される。この場合、各ターゲット１５によってそれぞれ成膜する間は、基板５０を保持する搬送具４０の移動停止されて、均一に膜が形成される。
【００３５】
このように、開閉扉３３によって真空状態に保持された真空処理室１０内にて、各搬送具４０に保持された各基板５０に対して成膜されている間に、真空準備室２０では、大気に開放された状態で、出入り口２５から、複数枚の基板５０が保持された搬送具４０が、順次、軌道２３内に搬入されて、ローラーコンベア２４によって、真空準備室２０の軌道２３内を所定方向に搬送される。そして、前述したように、真空準備室２０内が真空状態とされる。
【００３６】
真空処理室１０内において、各搬送具４０に保持された各基板５０に対する成膜が終了し、かつ、真空準備室２０内が真空状態になると、開閉扉３３が開放されるとともに、真空処理室１０のローラーコンベア１４および真空準備室２０のローラーコンベア２４と、連絡室３０の搬入軌道３１および搬出軌道３２に設けられた各ローラーコンベア３４および３５とが、それぞれ相互に連続した連続した状態とされる。そして、真空処理室１０内の各搬送具４０が、順次、連絡室３０の搬出軌道３２に設けられたローラーコンベア３５によって、順次、真空準備室２０内に設けられたローラーコンベア２４に搬送されるとともに、真空準備室２０内の各搬送具４０が、連絡室３０の搬入軌道３１に設けられたローラーコンベア３４によって、順次、真空処理室１０内に設けられたローラーコンベア１４に搬送される。
【００３７】
成膜された複数の基板５０がそれぞれ保持された各搬送具４０が真空準備室２０内のローラーコンベア２４上に搬送され、しかも、複数の基板５０がそれぞれ保持された各搬送具４０が真空処理室１０内のローラーコンベア１４上に搬送された状態になると、開閉扉３３が閉鎖されるとともに、真空処理室１０内のローラーコンベア１４および真空準備室２０内のローラーコンベア２４が、周方向に連続したループ状に戻されるとともに、連絡室３０内の各ローラーコンベア３４および３５は、直線状に連続した状態に戻される。そして、このような状態で、真空処理室１０内のローラーコンベア１４にて、各搬送具４０が周方向に搬送される間に、各搬送具４０に保持されたそれぞれの基板５０にＩＴＯ膜が成膜される。そして、真空処理室１０内にて各基板５０に成膜されている間に、同時に、真空準備室２０内のローラーコンベア２４にて搬送された各搬送具４０が、真空準備室２０から取り出されるとともに、新たな基板５０が保持された搬送具４０が、順次、真空準備室２０内に搬入されてローラーコンベア２４にて搬送される。以後、前述の動作と同様の動作が繰り返されることにより、各搬送具４０に保持された複数の基板５０に対して、連続して成膜が実施される。
【００３８】
なお、上記実施の形態では、真空処理室１０および真空準備室２０に、それぞれ１つのループ状の軌道１３および２３を設ける構成であったが、それぞれに、２つ以上の軌道をそれぞれ設けるとともに、連絡室３０の内部にも、各ループ状の軌道に連続するように、２つ以上の搬入軌道および搬出軌道を設けるようにしてもよい。このように、真空処理室１０および真空準備室２０に複数のループ状の軌道を設けることにより、作業効率はさらに向上することになる。
【００３９】
また、上記上記実施の形態では、真空処理室１０の軌道１３内において、加熱および成膜処理する構成であったが、真空準備室２０の内部にて、基板５０を加熱するようにしてもよい。また、真空処理室１０内には、２組のターゲットを設ける構成であったが、さらにターゲットを増加して、２層以上にわたって成膜するようにしてもよい。
【００４０】
【発明の効果】
本発明の真空成膜装置および真空成膜方法は、このように、ループ状の軌道を有する真空準備室に、成膜処理される基板を搬入して、ループ状の真空処理室によって成膜処理した後に、成膜処理された基板も、ループ状の真空準備室から搬出されるようになっているために、基板に対する成膜作業を効率よく実施することができる。また、真空成膜装置は、ループ状の軌道を有する真空準備室とループ状の軌道を有する真空処理室とを直線状の連絡室によって連結した簡潔な構造であるために、小型であり、設置面積が小さくなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の真空成膜装置の実施の形態の一例を示す概略平面構成図である。
【図２】その真空成膜装置にて成膜される基板を保持した搬送具の構成図である。
【図３】図１に示す真空成膜装置の要部の構成を示す平面概略図である。
【図４】従来の真空成膜装置の一例を示す概略構成図である。
【図５】従来の真空成膜装置の他の例を示す概略構成図である。
【符号の説明】
１０  真空処理室
１１  外周壁
１２  内周壁
１３  軌道（処理室軌道）
１４  ローラーコンベア（処理室ローラーコンベア）
１４ａ  搬送ローラー（処理室搬送ローラー）
２０  真空準備室
２１  外周壁
２２  内周壁
２３  軌道（準備室軌道）
２４  ローラーコンベア（準備室ローラーコンベア）
２４ａ  搬送ローラー（準備室搬送ローラー）
３０  連絡室
３１  搬入軌道
３２  搬出軌道
３３  開閉扉
３４  ローラーコンベア（搬入ローラーコンベア）
３４ａ  搬送ローラー（搬入軌道端部搬送ローラー）
３５  ローラーコンベア（搬出ローラーコンベア）
３５ａ  搬送ローラー（搬出軌道端部搬送ローラー）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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