(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に順次凹凸を付与した酸素遮断層、感光性樹脂層を設けてなる光散乱層形成用転写フィルムであって、前記酸素遮断層中に平均粒子径が０．１〜４．０μｍの顔料を含有し、前記酸素遮断層の表面形状が十点平均粗さで０．２〜２．０μｍであり、ヘイズ度が３０〜６０％であることを特徴とする光散乱層形成用転写フィルム。
【請求項２】
前記酸素遮断層において樹脂固形分と顔料固形分の比率が９５／５〜５０／５０であることを特徴とする請求項１に記載の光散乱層形成用転写フィルム。
【請求項３】
請求項１に記載の光散乱層形成用転写フィルムの感光性樹脂層を被着体と合わせて加熱、加圧条件下で貼り合わせた後、支持体を取り去り、被着体表面に感光性樹脂層と酸素遮断層を転写し、続いて露光する工程、酸素遮断層を除去する工程を経て、被着体表面に光散乱層を形成することを特徴とする光散乱層の形成方法。
【請求項４】
請求項１に記載の光散乱層形成用転写フィルムの感光性樹脂層を被着体と合わせて加熱、加圧条件下で貼り合わせた後、支持体を取り去り、被着体表面に感光性樹脂層と酸素遮断層を転写し、続いて所定のパターンを有するマスクを介してパターン露光する工程、酸素遮断層及び未露光部分の感光性樹脂層を除去する現像工程を経て、被着体表面にパターン化された光散乱層を形成することを特徴とする光散乱層の形成方法。
【請求項５】
あらかじめ８０〜１５０℃に加熱した被着体に前記感光性樹脂層と酸素遮断層を転写することを特徴とする請求項３または請求項４に記載の光散乱層の形成方法。
【請求項６】
請求項３〜５のいずれかに記載の光散乱層の形成方法によって形成された光散乱層の全光線透過率が９０％以上、表面形状が十点平均粗さで１．０μｍ以下、ヘイズ度が２０〜６０％であることを特徴とする光散乱膜。
【請求項７】
請求項３〜５のいずれかに記載の光散乱層の形成方法によって形成された光散乱層上に金属薄膜を形成したことを特徴とする光散乱反射板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は反射型液晶表示装置などに用いられる光散乱シートまたは光散乱層を有する反射板を製造するための光散乱層形成用転写フィルム、およびそれを用いて光散乱層を形成する方法、その方法により製造された光散乱性を有する光散乱膜及び反射板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、フラットパネルディスプレイとして最も普及しているカラー液晶表示装置（以下ＬＣＤ：Liquid Crystal Display）において、液晶パネルの背面にバックライトと呼ばれる光源の配置された透過型ＬＣＤが一般的であった。しかし、近年携帯情報端末（以下ＰＤＡ：Personal Digital Assistant）用ディスプレイとして、また携帯電話用ディスプレイとして、反射型ＬＣＤが市場において急速な勢いで普及している。反射型ＬＣＤは、透過型ＬＣＤのバックライトの代わりに、やはり液晶パネルの背面に反射板を設置することで外光（周囲からの光）を前面に反射して、これを光源として表示を行うものである。このため、反射型ＬＣＤは透過型ＬＣＤに比べてバックライトがないので、薄くて軽量であり、また低消費電力であり、ＰＤＡや携帯電話などのモバイル用途に適している。
【０００３】
従来、反射型ＬＣＤはその構成上二枚の偏光板を使用していたが、偏光板の光吸収による光量損失でパネルの明るさが乏しかったため、現在は偏光板一枚と位相差板で表示を行う方式が一般的である。この場合、液晶相を挟んだ前面基板（カラーフィルターが形成されている基板）上の観測者側には位相差板、偏光板、及び光散乱板が設けられている構成となっている。この光散乱板は光散乱機能を有するものであり、鏡面である反射板への映り込み防止のため、またパネルに入射した光に適度の散乱を生じさせて視認性（コントラスト）を確保するために必要な部材である。
【０００４】
しかしながら、パネル前面に光散乱板が設置されるということは、入射光もその表面により散乱されてしまうため、必ずしも視認性を向上できるとは限らず、また入射光量が減少してしまうことから、パネルの明るさを損なう結果となっていた。また、カラーフィルターが前面基板に形成されていることから、入射光がカラーフィルターを通過後、液晶層を通過して反射板で反射されて再度液晶層、そしてカラーフィルターを通過してパネル外部に出て観測者に至る時、観測者の目の位置により色混ざり、いわゆる視差による画像ボケが発生してしまう問題があった。これらのことは、前面基板にカラーフィルター、その上に光散乱板を配置した反射型ＬＣＤでは避けられない問題であった。
【０００５】
そのため、より高品質な反射型ＬＣＤを得るためには、カラーフィルターを後面基板上に設け、反射板、光散乱板をできるだけカラーフィルターに近い位置に設置する方法や、カラーフィルター自身に光散乱性能を付与させて光散乱板を不要にさせる方法、あるいは光散乱性を有する反射板を用いる方法などが考えられている。
【０００６】
光散乱層の形成方法は種々検討されており、例えば感光性高分子樹脂層を基板上に付与し、フォトリソにより凹凸を形成させる方法、透明樹脂に微粒子顔料（有機顔料、無機顔料、あるいは金属フレーク等）を含有させたものを塗布して凹凸を形成する方法、そして二種類以上の透明樹脂を相分離状態で混合させて形成する方法等が知られている。
【０００７】
しかし、感光性高分子樹脂を用いるフォトリソ法では、基板上に感光性高分子樹脂組成物を塗布・乾燥後、あらかじめ所定のパターンを有したマスクを介して露光、そして現像処理、リンス処理、ベイク処理を経てガラス基板上にパターンを形成するため、作業は非常に繁雑で、行程数が多いことから歩留まり低下の原因となっていた。品質的にも形成するパターンを考慮しないと、最終的な光散乱反射板としての性能において、その表面で作製されたパターンによる光干渉（虹模様）が発生し、画質が著しく低下してしまう場合がある。なお、フォトリソ法で使用される感光性高分子樹脂組成物が高価であったり、また露光装置、現像装置などの製造装置自身も非常に高価なものであるため、フォトリソ法による光散乱板の製造では製造コストが高くなってしまう問題があった。
【０００８】
また、透明樹脂に微粒子顔料を含有させて基板上に付与する方法では使用する顔料の種類、形状、粒径を選択することで表面凹凸をコントロールすることが可能であり、またフォトリソを使用する方法に比べてランダムなパターン形成が可能なため、反射光の光干渉は発生せずに、高品質の光散乱層を形成するには有効な方法である。しかし、散乱層表面に顔料が存在するため、その上に金属薄膜を形成する場合、その表面に存在する樹脂部分と顔料部分において形成される金属薄膜の均一性が劣るため、目標の拡散反射率が得られないことがある。
【０００９】
また、暗所における使用を考慮した半透過タイプ反射型ＬＣＤの場合、暗所ではバックライトを使用して表示を確認することになるため、パネルの光透過性が重要になる。光散乱層中に顔料が含有されていると、バックライトの光を遮ることになり、また、顔料自身による光吸収のため目標の光透過性を得ることが難しい。光透過性を目標値まで高めるために金属薄膜を薄く形成すると、逆に金属薄膜が薄いため拡散反射率が低下してしまうという問題があった。
さらに透明樹脂の相分離状態を使用して光散乱性能を付与する方法では、その表面に凹凸はほとんどないため、この上に金属薄膜を形成すると、その表面は鏡面状態になり光散乱効果はほとんど発生しなくなる。このため、本来目標である光散乱反射板は得られない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、反射型液晶表示装置などに用いられる光散乱反射板の製造方法において、上述のような従来の光散乱層形成方法における種々の問題点を解決し、良好な光拡散性能を有する光散乱層を、非常に簡便で、安価に製造することができる転写フィルムを提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題は、請求項１によれば支持体上に順次凹凸を付与した酸素遮断層、感光性樹脂層を設けてなる光散乱層形成用転写フィルムであって、前記酸素遮断層の表面形状が十点平均粗さで０．２〜２．０μｍであり、ヘイズ度が３０〜６０％であることを特徴とする光散乱層形成用転写フィルムによって達成される。
この光散乱層形成用転写フィルムにより、被着体上には所定の表面凹凸を有した感光性樹脂層を付与することができ、しかもこの層は表面凹凸により目標とする光散乱性能を有する。
また、上記課題は、請求項２によれば前記酸素遮断層中に顔料を含有したことを特徴とする請求項１に記載の光散乱層形成用転写フィルムによって達成される。このように酸素遮断層中に顔料を含有することにより酸素遮断層表面を目標とする表面形状で形成することが出来る。
【００１２】
また、上記課題は、請求項３によれば前記酸素遮断層中に含有される顔料の平均粒子径が０．１〜４．０μｍであることを特徴とする請求項２に記載の光散乱層形成用転写フィルムによって達成される。
このような粒子径をもった顔料を酸素遮断層中に含有することにより目標とする表面形状の酸素遮断層を形成することが出来る。
また、上記課題は、請求項４によれば前記酸素遮断層において樹脂固形分と顔料固形分の比率が９５／５〜５０／５０であることを特徴とする請求項２または請求項３に記載の光散乱層形成用転写フィルムによって達成される。
このように顔料を所定の割合で酸素遮断層中に含有することにより目標とする表面形状が得られる。
また、上記課題は、請求項５によれば請求項１に記載の光散乱層形成用転写フィルムの感光性樹脂層を被着体と合わせて加熱、加圧条件下で貼り合わせた後、支持体を取り去り、被着体表面に感光性樹脂層と酸素遮断層を転写し、続いて露光する工程、酸素遮断層の除去を伴う現像工程を経て、被着体表面に光散乱層を形成することを特徴とする光散乱層の形成方法によって達成される。
このようにして本発明の光散乱層形成用転写フィルムを用いて所定の表面形状を有する光散乱層を簡便で安価に高品質で形成することが出来る。
【００１３】
また、上記課題は、請求項６によれば請求項１に記載の光散乱層形成用転写フィルムの感光性樹脂層を被着体と合わせて加熱、加圧条件下で貼り合わせた後、支持体を取り去り、被着体表面に感光性樹脂層と酸素遮断層を転写し、続いて所定のパターンを有するマスクを介してパターン露光する工程、酸素遮断層及び未露光部分の感光性樹脂層を除去する現像工程を経て、被着体表面にパターン化された光散乱層を形成することを特徴とする光散乱層の形成方法によって達成される。
このように、光散乱層を所定のパターンに形成する必要がある場合、露光工程で所定のパターンを有するマスクを使用して露光することにより達成される。
また、上記課題は、請求項７によればあらかじめ８０〜１５０℃に加熱した被着体に前記感光性樹脂層と酸素遮断層を転写することを特徴とする請求項５または請求項６に記載の光散乱層の形成方法によって達成される。
被着体をあらかじめ加熱することにより転写性が向上し、被着体全面において均一な転写が達成されるばかりでなく、感光性樹脂層と被着体との密着強度が強くなることで露光、現像工程において感光性樹脂層が被着体から剥落することが抑制されるし、またパターンを形成する場合の露光マージン、現像マージンが広くなり、製造安定性が向上する。
また、上記課題は、請求項８によれば請求項５〜７のいずれかに記載の光散乱層の形成方法によって形成された光散乱層の全光線透過率が９０％以上、表面形状が十点平均粗さで１．０μｍ以下、ヘイズ度が２０〜６０％であることを特徴とする光散乱膜によって達成される。
このような特性をもった光散乱膜により目標とする反射性能を有する光散乱反射板を得るために必要な表面形状が得られる。
また、上記課題は、請求項９によれば請求項５〜７のいずれかに記載の光散乱層の形成方法によって形成された光散乱層上に金属薄膜を形成したことを特徴とする光散乱反射板によって達成される。
本発明による所定の表面形状を有する光散乱層上に金属薄膜を付与して得られた光散乱反射板は光散乱反射性能に優れ、従来方法で得られる反射板と比べても著しく良好な光散乱反射性能を有する。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明により提供する光散乱層形成用転写フィルムは、一例としては図１の構成よりなる。最も大きな特徴は所定の表面形状を既に形成してある酸素遮断層の上に感光性樹脂を主成分とした層が形成されており、この感光性樹脂層と被着体とを合わせて加熱、加圧条件下で貼り合わせた後、感光性樹脂層と酸素遮断層以外の層を取り去り、被着体表面に感光性樹脂層と酸素遮断層を転写し、さらに露光及び現像工程を施すことによって酸素遮断層が除去されることにより被着体上には感光性樹脂層のみが付与できることであり、またこの時、感光性樹脂層表面は、所定の凹凸が付与されている酸素遮断層（マット化酸素遮断層）の表面形状を移し取っていることが大きな特徴である。なお、露光工程で所定のパターンを有するマスクを介してパターン露光することにより、要望のパターンで光散乱層を形成することができることも大きな特徴である。
【００１５】
つまり、本発明の光散乱層形成用転写フィルムにより、被着体上には所定の表面凹凸を有した感光性樹脂層を全面に、又はパターン化して付与することができ、しかもこの層は顔料を含有しないが、表面凹凸により光散乱性能を有することが特徴である。
【００１６】
以下、本発明の光散乱層形成用転写フィルムの実施形態について説明する。
図１において、１は保護フィルムであり、感光性樹脂層を保護するために設けてある。感光性樹脂層を被着体に転写する際に剥がしてしまうので、感光性樹脂層から剥離することが可能な程度に疑似接着していることが必要である。使用可能な基材としてはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等のフィルムをそのまま使用するか、場合によってはこれらのフィルム基材に離型処理を施して使用することができる。保護フィルムの厚さは特に制限はないが、１０μｍ厚〜５０μｍ厚が好ましい。
【００１７】
２は感光性樹脂層である。本発明において、感光性樹脂層は、感光性を有する樹脂のみから構成される場合だけでなく、感光性樹脂に非感光性の樹脂を混合して使用、積層して使用することもでき、このような態様も含まれる。また二種類以上の感光性樹脂を積層して使用したり、また感光性樹脂層と非感光性樹脂層とを積層して使用することもできる。
つまり、被着体に転写付与後、所定の表面形状が感光性樹脂層表面に付与されるが、その後工程で加熱処理（ベイキング処理）が施される。これにより、光散乱層の耐溶剤性、表面強度が付与できるのであるが、このとき加熱処理により表面の凹凸がメルトして表面形状が変化することがある。つまり光散乱特性が変化してしまうのである。そのため、感光性樹脂を使用して光照射により表面を硬化させて、加熱処理により表面形状が変化しないようにするか、場合によっては、上述のように感光性樹脂と非感光性樹脂を混合して使用し、光照射により表面を硬化させるか、または感光性樹脂と非感光性樹脂を積層させる構成にして、表面に現れる方に感光性樹脂を使用して光照射により表面を硬化させ、被着体に接する方を被着体との接着性を重視した非感光性樹脂を使用することも有効である。ただし、所定のパターンで光散乱層を被着体上に形成したい場合は、感光性を有する樹脂の組み合わせで使用するか、あるいは非感光性樹脂を併用する場合には現像工程で未露光部分が除去できるように樹脂を選択することが必要である。
【００１８】
感光性樹脂層２の塗布量は酸素遮断層の表面形状を移し取れる厚みが必要であり、０．５〜２０μｍ厚が好ましい。
感光性樹脂層２として用いることができる感光性樹脂の具体例を以下に示す。水溶性の感光性樹脂としては、
（１）ゼラチン、フィッシュグルー、アラビアゴム、ポリビニルアルコール等の水溶性樹脂と重クロム酸アンモニウム、重クロム酸カリウム、クロム酸アンモニウムとの組成物。
（２）クエン酸第二鉄アンモニウム、蓚酸第二鉄アンモニウムの如き露光によって第一鉄イオンを与える感光性第二鉄とゼラチンの如き水溶性樹脂からなる組成物。
（３）ゼラチン、フィッシュグルー、アラビアゴム、ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等の水溶性樹脂と、ｐ−アミノジフェニルアミン、ベンジン、ジアニシジン、トルイソジンなどのジアミノ化合物のテトラゾニウム塩、またはｐ−ジアゾジフェニルアミンとパラホルムアルデヒドを縮合したジアゾ樹脂とからなる組成物。
（４）ｐ−ジアゾジフェニルアミンの如きジアゾ化合物とパラホルムアルデヒドを縮合したジアゾ樹脂とからなる組成物。
（５）４，４'−ジアジドスチルベンゼン、２，２'−ジスルホン酸ソーダの如きアジド化合物とポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ゼラチン等の水溶性樹脂からなる組成物。
（６）４，４'−ジアジドスチルベンゼン、４，４'−ジアジドカルコンなどのアジド化合物の環化ゴムとからなる組成物。
（７）ナフトキノン−（１，２）−ジアジドスルホン酸エステル等のキノンジアジド化合物とアルカリ可溶性フェノールホルムアルデヒド樹脂との組成物。
（８）ポリビニルアルコールの桂皮酸エステルのような分子中に桂皮酸基が導入されたポリマーとニトロアセナフテン、１，２−ベンザンスラキノン、ミヒラーズケトン等の増感剤からなる組成物。
（９）ポリビニルアルコールにスチルビニリウム基、スチルバゾリウム基、スチルキノリウム基等の感光性基を付加した変性ポリビニルアルコール組成物。
などが使用できる。
【００１９】
感光性樹脂で溶剤系のものについては、カルボン酸基と不飽和二重結合を有する単量体から得られる重合体樹脂、あるいは二種類以上の単量体を共重合させて得られる重合体樹脂に、光重合性モノマー、光重合性開始剤、溶剤を混合し、必要に応じて界面活性剤を添加して得た感光性樹脂が挙げられる。
【００２０】
上記重合体樹脂の具体例としては、カルボン酸基と不飽和二重結合を有する単量体としてアクリル酸、メタアクリル酸、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートに酸無水物を付加させたもの、そして共重合体を形成する他の単量体としてメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート等を挙げることができ、これらを一種類、または二種類以上を組み合わせて得た共重合体を挙げることができる。
【００２１】
光重合性モノマーの具体例としては、二官能モノマー、三官能モノマー、多官能モノマーがある。二官能モノマーとしては、トリエチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート等がある。三官能モノマーとしては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等がある。多官能モノマーとしては、ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等がある。
【００２２】
光重合性モノマーの添加量は特に限定されないが、重合体樹脂の固形分と光重合性モノマーの固形分の比率が９０／１０〜３０／７０であることが好ましい。ここで重合体樹脂量の添加量が多い場合、光重合性モノマー量が少ないために光重合が弱くなりやすく、かなり多量の紫外線を照射する必要が出てくるし、場合によっては光重合しなくなる。また光重合性モノマーの添加量が過剰に多い場合、感光性樹脂層の凝集力が低下するため被着体への転写行程において、転写フィルムのエッジ部から透明樹脂のはみ出しが発生したり、支持体を剥離除去する際に感光性樹脂層が凝集破壊を起こすなどのトラブルが発生することがある。
【００２３】
また光重合性開始剤としてはトリアジン系化合物として、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４'−メトキシ−１'−ナフチル）４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等、及びこれらの混合物が使用できる。
【００２４】
さらに、アセトフェノン系化合物としては、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル（４−ドデシル）プルパン−１−オン、２−ベンジルー２−ジメチルアミノー１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンー１等がある。
【００２５】
ベンゾフェノン系化合物としては、ベンゾフェノン、４，４−ジエチルアミノベンゾフェノン、３，３−ジメチルー４−メトキシベンゾフェノン、ｏ−ベンゾフェノン安息香酸メチル等がある。
チオキサンソン系化合物としては、２，４−ジエチルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピルチオキサンソン、２，４−ジメチルチオキサンソン等がある。
イミダゾール系化合物としては、２−（２，３−ジクロロフェニル）−４，５−ジフェニルーイミダゾール二量体、２−（２，３−ジクロロフェニル）−４，５−ビス（３−メトキシフェニル）―イミダゾール二量体があげられる。
【００２６】
感光性樹脂層２に、上記の感光性の樹脂を使用する場合、被着体に付与後、紫外線照射により光重合、あるいは光架橋を充分させる。つまり、被着体に感光性樹脂層２と酸素遮断層３を転写後、感光性樹脂層２に酸素遮断層３を通して露光を実施する。感光性樹脂層２として選択した感光性樹脂の特徴により、最適な転写・露光条件を選ぶことができる。
【００２７】
また、前述の感光性樹脂と非感光性樹脂を併用する場合における非感光性の樹脂としては、一般に塗膜形成樹脂として用いられている樹脂が使用可能であり、塗膜形成後無色透明である樹脂が好ましい。例えば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。また、硬化型樹脂の場合、エポキシ系硬化剤、メラミン系硬化剤、イソシアネート系硬化剤などを使用する熱硬化系が使用できる。
なお、感光性樹脂と非感光性樹脂を１層中に併用して使用する場合は、相溶性の良いものを選択すれば、その種類に限定されるものではない。
しかしながら、光散乱層を所定のパターンで被着体上に形成する場合において、特に細線のパターンを形成する場合は、非感光性の樹脂を併用することは好ましくない。
【００２８】
３は酸素遮断層であり、該酸素遮断層を通して感光性樹脂層２を露光する場合、酸素を遮断して光硬化反応が効率的に行われるようにするために必要である。さらに、酸素遮断層３の表面には所定の凹凸が付与されるため、この上に設けられる感光性樹脂層が転写工程、露光工程、現像工程を経て光散乱層となる際に、酸素遮断層の表面形状を硬化後の感光性樹脂層、すなわち光散乱層の表面に移し、その結果、光散乱層が所定の表面形状を有することになる。
また、このような表面形状をコントロールするために酸素遮断層３中には顔料が含有されることが必要である。酸素遮断層３として使用される樹脂は酸素遮断性が良好で、支持体または支持体上に設けられたクッション層との剥離性が良好な、例えば１８０度剥離試験で剥離速度３００ｍｍ／分で測定した剥離力が０．８〜１０．０g/25mmの範囲（好ましくは１．０〜５．０g/25mm）となる樹脂が使用でき、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性ナイロン、あるいはこれらとの共重合物、混合物等が挙げられる。
【００２９】
また酸素遮断層３の表面粗さを十点平均粗さで０．２〜２．０μｍになるように、またヘイズ度が３０〜６０％となるように形成することが好ましい。酸素遮断層３の表面形状は、そのまま感光性樹脂層２を被着体に転写付与した際の表面形状、つまり光散乱層の表面形状を決めることになる。この表面形状が光散乱層上に金属薄膜を形成して光散乱反射板とした時の光反射性能を左右する。十点平均粗さが０．２μｍ未満であると、全反射光量に対する正反射光成分が多くなるため充分な光散乱反射性能が得られず光源の映り込みが大きくなるため、光散乱反射板としての性能低下となる。また十点平均粗さが２．０μｍを超えると、表面の凹凸が大きいために、金属薄膜の形成が均一にできなかったり、反射板上に形成されるカラーフィルター層が不均一になり色ムラが発生したり、また透明電極の断線などの問題が発生する。
また、十点平均粗さが０．２〜２．０μｍであっても、その表面凹凸の密度が光反射性能を左右する。そこで表面凹凸の突起密度の指標としてヘイズ度の管理が必要である。良好な光散乱性能を得るためには、ヘイズ度は３０〜６０％であることが望ましい。ヘイズ度が３０％を下回る状態では表面の突起密度が低いため、金属薄膜を形成しても正反射光成分が多くなり充分な光散乱反射性能は得られない。ヘイズ度が６０％を超える状況では、その表面は当然突起密度が密な状態になるため表面平滑性が劣るため、金属薄膜の形成が不均一になったり、カラーフィルター層が不均一になり色ムラが発生する。
本発明では特に酸素遮断層の十点平均粗さが０．５〜１．５μｍ、ヘイズ度が４０〜６０％であることがより好ましい。
なお、十点平均粗さの測定方法に関してはＪＩＳ Ｂ ０６０１、ヘイズ度の測定方法に関してはＪＩＳ Ｋ ７１０５に記載されている。
【００３０】
さて、酸素遮断層３を十点平均粗さ０．２〜２．０μｍで作製するには、顔料としては平均粒子径が０．１〜４．０μｍの範囲のものであれば、無機系、有機系のいずれのものも使用することができる。また、これらの顔料を二種以上混合して使用することもできる。平均粒子径が０．１μｍ未満の顔料を使用する場合、酸素遮断層表面を所定の表面形状で形成するためには樹脂成分を極端に減配する必要があり、この場合表面強度が弱くなるため顔料の欠落が発生しやすくなる。また、平均粒子径が４．０μｍを越えるものであると、顔料が大きいため、十点平均粗さ０．２〜２．０μｍで酸素遮断層を作製することが困難となる。樹脂成分の増配によりある程度のコントロールはできるが、酸素遮断層表面の顔料密度が低下してしまうため、光散乱層の突起密度が低下することになり光散乱性能は著しく低下するし、金属薄膜形成後の反射特性として、光源の映り込みが大きくなってしまう。本発明では上記平均粒子径が１．０〜３．０μｍの範囲であることが特に好ましい。
【００３１】
顔料の具体例としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、硫酸バリウム、酸化セリウム、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウムや、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、シリコン系樹脂などの顔料が使用できる。このなかでも、特に有機系のものは粒度分布の非常に狭いものが得られやすく、表面性のコントロールが容易になり好ましい。
【００３２】
また、酸素遮断層３中の顔料添加量は、顔料が酸素遮断層の樹脂固形分と顔料固形分の比率が９５／５〜５０／５０であることが望ましいが、前述のごとく使用される樹脂の種類や顔料の種類、そして粒径などにより最適添加量を決める必要がある。顔料の添加量が少ないと、所定の表面形状を形成することが困難であり、また顔料の添加量が多くなると、前述のヘイズ度が６０％を超える場合がある。なお、本発明では上記比率が９０／１０〜６０／４０であることが特に望ましい。
酸素遮断層３の厚さは特に限定されるものではないが、０．５〜５．０μｍの乾燥膜厚が好ましい。
【００３３】
また、４はクッション層で、感光性樹脂層と酸素遮断層を被着体に加熱、加圧下で転写する際、被着体の表面に多少の凹凸があってもエアーの混入がなく確実に転写することができるため、設けることが好ましい。また、そのためにはクッション層の厚さはその材料特性にもよるが、５〜５０μｍが好ましい。５μｍ未満であると、場合によっては転写不良（エアー混入）の発生することがあるし、また５０μｍを超えると、クッション層が厚いために転写フィルムの熱伝導性が劣り、転写の際に転写ロールからの熱でクッション層を充分軟化できないため、やはり転写不良の原因となる場合があるし、転写条件によっては軟化できても、転写フィルムのエッヂ部からクッション層材料がはみ出して、転写ロールや被着体表面を汚してしまうことがある。
【００３４】
クッション層４の材料としては、熱可塑性の樹脂が使用でき、例えばエチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、エチレン酢酸ビニル共重合体、低密度ポリエチレン、エチレンエチルアクリレート共重合体、スチレンとイソプレン、あるいはブタジエンの共重合体、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂等があげられる。これらの樹脂を単独で、あるいは適当な配合で混合したり、適当な組み合わせで積層させて使用することができる。また必要であれば、可塑剤、または酸素遮断層との剥離力コントロールのために離型剤を添加しても良い。
【００３５】
５の支持体は従来公知のプラスチックフィルムが利用できる。例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネート、トリアセテート等があげられる。特に機械強度に強く、熱安定性に優れたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムが好ましい。支持体の厚さは特に制限はないが、１５０μｍ〜３５μｍが好ましい。これは転写フィルムの製品形態、つまりロール状製品に仕上げる時、支持体が１５０μｍを超える厚さのフィルムの場合では転写フィルムの剛度が高くなるため、ロール仕上げや既定幅へのスリット作業でカバーフィルムにウキが発生したり、製品重量が重くなり既定長にロールが仕上げられない等の、作業上のトラブルが発生することがある。また、転写フィルムの熱伝導性が劣るため、被着体への転写の際に転写温度を高くするか、転写速度を落とさないと良好な転写が得られないことになり、作業性、経済性の点で好ましくない。
【００３６】
また３５μｍ未満の厚さではフィルムにシワが入りやすく作業性に劣ったり、あるいはバック層、クッション層付与時のカールの問題が顕著になり好ましくない。
なお、剥離帯電によるゴミの混入防止のために、プラスチックフィルムの表面固有抵抗値は１０8〜10Ωが好ましい。このため、帯電防止処理フィルムを使用するか、又は／及び帯電防止性能（例えば帯電防止層６）を付与したフィルムを支持体として使用することが好ましい。
【００３７】
次に、上述の構成による図１の光散乱層形成用転写フィルムの製造方法について説明する。まず帯電防止処理された支持体、又は／及び裏面に帯電防止層を付与した支持体上にクッション層を塗設する。クッション層は樹脂塗布液をロールコート、バーコート、コンマコート、ダイコート、グラビアコートなど公知の塗布方式を用いて塗布、乾燥して塗設したり、樹脂を溶融させて支持体と共に共押し出しすることによって塗設することができる。支持体との接着性が悪い場合は、支持体上に接着補助処理（アンカー処理）を施すか、易接着処理された支持体を使用しても良い。なお、本発明におけるクッション層を設けた支持体には、支持体自身がクッション性を有するものも包含されるが、この場合、クッション層を新たに塗設する必要はない。
【００３８】
次に酸素遮断層をクッション層上に塗設する。酸素遮断層は顔料を含有する酸素遮断性樹脂の塗布液をロールコート、バーコート、コンマコート、ダイコート、グラビアコートなど公知の塗布方式を用いて塗布、乾燥して塗設する。塗布液の調製について、粉体である顔料は樹脂中にダイレクトに添加しても均一な分散状態を得ることが困難であるため、まず顔料を適当な溶媒中で分散機で分散するか、あるいはガラスビーズを添加して分散機で分散する。また必要に応じて分散剤を添加したりすることで顔料分散液を調製してから樹脂中に添加することで塗布液を調製する。
次に酸素遮断層上に感光性樹脂層を塗設する。感光性樹脂層もクッション層や酸素遮断層の塗設方法と同様にロールコート、バーコート、コンマコート、ダイコート、グラビアコートなど公知の塗布方式を用いて塗布、乾燥して塗設することができる。
【００３９】
最後に感光性樹脂層を保護するために保護フィルムを貼合する。貼合は適当な条件の温度、圧力下で貼合することで、容易に実施することができる。
【００４０】
以上説明した図１の転写フィルムを用いて被着体上に所定の表面形状を有する光散乱層を付与する工程について図２及び図３を参照しながら説明する。
まず保護フィルム１を剥離し（図２（ａ）参照）、現れた感光性樹脂層２と被着体７表面とを貼合させる（同（ｂ）参照）。貼合は公知のラミネーターを使用し、ラミネーターのロール温度８０〜１５０℃、圧力３〜１０Kg/cm2、速度３００〜１５００mm/minの条件で実施するのが実用上好ましい。
【００４１】
貼合時のロール温度に関して、８０℃未満の貼合温度では感光性樹脂層２と被着体７との接着性に劣り貼合不良の発生することがある。また１５０℃を超える貼合温度では転写フィルムの熱変形によるシワの発生や転写フィルムのエッヂから溶融したクッション層樹脂がはみ出して被着体上に残渣として残ったり、ラミネーターロールを汚してしまうなどの問題が発生するので好ましくない。貼合時の圧力に関しては、３Kg/cm2未満の圧力では貼合力が弱くなり、貼合不良となる可能性が高くなり、また１０Kg/cm2を超える圧力では貼合力は強くなるものの、ラミネーターロールを痛めたり、転写フィルムの物理的変形によるシワの発生や被着体の破損などの問題が起きやすくなる。なお、貼合速度は貼合温度や貼合圧力との兼ね合いがあるものの、３００mm/min未満の速度では生産性の面で実用的ではないし、また１５００mm/minを超える速度では転写フィルムの走行不良が発生しやすくなったり、被着体、及び転写フィルムの熱伝導性の点で貼合面の温度が充分高くならないため、貼合不良の発生することがある。また、被着体７をあらかじめ８０〜１５０℃に加熱すると転写性は向上し、感光性樹脂層２と被着体７との密着強度が強くなるので、被着体７から感光性樹脂層２が剥がれにくくなり好ましい。８０℃未満の加熱では転写速度にもよるが、充分な効果が得られにくく、また１５０℃を超える加熱では転写フィルムが被着体７に接触した瞬間の熱変形によりシワが発生したり、感光性樹脂層２と被着体間にエアーが発生する場合がある。本発明では特に９０〜１３０℃の範囲に被着体を加熱することが好ましい。
【００４２】
ラミネーターによる貼合が終了した後、酸素遮断層３とクッション層４間から感光性樹脂層２と酸素遮断層３以外の物（帯電防止層６、支持体５、クッション層４）を剥離し（同（ｃ）参照）、被着体７上には感光性樹脂層２と酸素遮断層３のみを残す（同（ｄ）参照）。
【００４３】
次に酸素遮断層３を通して感光性樹脂層２に紫外線照射する。この場合、転写付与した部分の全面に対して紫外線照射するか、あるいは所定のパターンを有する光散乱層を形成したいのであれば、図３（ｄ）に示すように、そのパターンを有するマスク９を介して紫外線照射する。なお、図３は所定のパターンを有する光散乱層を形成する場合を示している。その後、現像工程、リンス工程を経て酸素遮断層及び未露光部分の感光性樹脂層を除去し、全面光硬化した、あるいはパターンで光硬化した感光性樹脂層２を得る（図２（ｅ）、図３（ｅ）参照）。光散乱反射板製造のために感光性樹脂層の上に金属膜を蒸着法で作製する場合、蒸着中に感光性樹脂層に熱がかかるため、感光性樹脂層中の揮発成分により金属膜が均一に付与できなかったり、感光性樹脂層表面の熱変形により金属膜が均一に付与できないことがある。このため、感光性樹脂層を前処理として１３０〜２５０℃の熱で加熱処理しておくと良い。
【００４４】
以上のようにして、図１の転写フィルムを用いて被着体７上に所定の表面形状を有する感光性樹脂層２を形成することができる。なお、得られた感光性樹脂層２はマット化酸素遮断層３の表面形状を映し取っており、その表面の凹凸形状のために光散乱性を有する。
また、このようにして形成された感光性樹脂層（光散乱層）の全光線透過率が９０％以上で、十点平均粗さが１．０μｍ以下、ヘイズ度が２０〜６０％であることが好ましい。光透過性が低いと半透過タイプ反射型ＬＣＤに使用することが困難になる。また、ヘイズ度が２０％を下回る状態では光散乱性能が低いため、金属薄膜を形成しても正反射光成分が多くなり充分な光散乱反射性能は得られない。ヘイズ度が６０％を超える状態では、その表面は突起が大きかったり、密な状態になっているため表面平滑性が劣り、金属薄膜の形成が不均一になったり、また金属膜上に形成されるカラーフィルター層に色ムラが発生したり、オーバーコート層の表面平滑性が劣るなどの問題が発生する。
なお、本発明では、光散乱層の十点平均粗さが０．５〜１．０μｍ、ヘイズ度が３０〜６０％の範囲であることが特に望ましい。
【００４５】
またこのようにして形成した光散乱層に対して、表面の凹凸を覆うように金属薄膜８を形成すると光散乱反射板を作製することができる（図２（ｆ）、図３（ｆ）参照）。金属薄膜はアルミニウム、クロム、ニッケル、パラジウム、銀などが単体で、あるいは複合物のかたちで形成することができ、金属薄膜形成方法としては蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法などの公知の方法が採用できる。また、金属薄膜の厚みは２００〜１０００Å、好ましくは３００〜５００Åの範囲で、目標透過率と目標光散乱性を得ることができる厚みに設定することができる。
【００４６】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、請求項１の発明によれば、被着体上には所定の表面凹凸を有した感光性樹脂層を付与することができ、しかもこの層は表面凹凸により目標とする光散乱性能を有する。
また、請求項２の発明によれば、酸素遮断層中に顔料を含有することにより酸素遮断層表面を目標とする表面形状で形成することが出来る。
また、請求項３の発明によれば、平均粒子径が０．１〜４．０μｍである顔料を酸素遮断層中に含有することにより目標とする表面形状の酸素遮断層を形成することが出来る。
また、請求項４の発明によれば、顔料を所定の割合で酸素遮断層中に含有することにより目標とする表面形状とクッション層との適度な剥離性が得られる。
また、請求項５の発明によれば、本発明の光散乱層形成用転写フィルムを用いて所定の表面形状を有する光散乱層を簡便で安価に高品質で形成することが出来る。
【００４７】
また、請求項６の発明によれば、光散乱層を所定のパターンに形成する必要がある場合、露光工程で所定のパターンを有するマスクを使用して露光することにより達成される。
また、請求項７の発明によれば、被着体をあらかじめ加熱することにより転写性が向上し、被着体全面において均一な転写が達成されるばかりでなく、感光性樹脂層と被着体との密着強度が強くなることで露光、現像工程において感光性樹脂層が被着体から剥落することが抑制され、またパターンを形成する場合の露光マージン、現像マージンが広くなり、製造安定性が向上する。
また、請求項８の発明によれば、形成された光散乱層の全光線透過率が９０％以上、表面形状が十点平均粗さで１．０μｍ以下、ヘイズ度が２０〜６０％であるような特性をもった光散乱膜により目標とする反射性能を有する光散乱反射板を得るために必要な表面形状が得られる。
また、請求項９の発明によれば、本発明による光散乱層の形成方法によって形成された光散乱層上に金属薄膜を形成したことで得られた光散乱反射板は光散乱反射性能に優れ、従来方法で得られる反射板と比べても著しく良好な光散乱反射性能を有する。
【００４８】
【実施例】
以下、実施例を用いて本発明の特徴とするところをより具体的に説明する。
実施例１
（転写フィルムの製造）
支持体として、７５μｍＰＥＴフィルム（裏面に帯電防止層を付与：表面固有抵抗値１０8Ω）を用い、クッション層は、低密度ポリエチレン（ビカット軟化点８６℃、ミラソンＭ１１Ｐ：三井・デュポンポリケミカル株式会社製）３０μｍをＴダイによる溶融膜で支持体上に付与した。なおこの時、クーリングロールはミラーロールを使用して表面平滑性を高めた。
【００４９】
酸素遮断層は主たる樹脂としてポリビニルアルコールＢ-17（ケン化度87.0〜89.0、重合度1700、電気化学工業製）を選択し、蒸煮により１０％水溶液として調整した。これに添加顔料としてエポスターＭＳ（平均粒子径2.0μｍ、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合物：株式会社日本触媒製）を用い、これを水／メタノール混合溶媒中でビーズ分散して得た２０％顔料分散液の状態で樹脂水溶液に添加して充分混合することで塗液を得た。なお、顔料の平均粒径はレーザー回折式粒度分布測定装置で測定し、体積５０％の粒径値で示した。
この塗液をバーコートにてクッション層上に塗布、乾燥して酸素遮断層を形成した。この時、樹脂固形分と顔料固形分の比率が８５／１５になるように調整し、これをクッション層上に乾燥塗布厚３μｍになるように塗設した。
得られたマット化酸素遮断層の表面形状として、十点平均粗さは０．９５μｍ（三次元表面粗さ測定器  ＳＥ−３０Ｋ  小坂研究所製使用。以下同じ）であり、ヘイズ度は５８．６％（直読ヘイズメーター  東洋精機製作所製使用。以下同じ）であった。
【００５０】
次に感光性樹脂層は主成分のベンジルメタクリレート／メチルメタアクリレート／メタアクリレート共重合体（分子量15000、酸価98.0 mgKOH/g）とモノマー成分として多官能アクリレート（Ｍ−４００：東亞合成株式会社製）を固形分比で４０／６０になるようにし、これに開始剤としてイルガキュア３６９（アセトフェノン系：チバガイギー株式会社製）を対固形１０％で添加した。これを溶剤であるポリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート中で溶解混合して２０％塗布液とし、バーコートでクッション層上に乾燥後の塗布厚が２μｍになるように塗設した。
【００５１】
保護フィルムは両面未処理のポリプロピレンフィルム２０μｍを感光性樹脂層と６０℃で貼合し擬似接着させた。
（被着体への転写付与）
カバーフィルムを剥がした後、現れた感光性樹脂層と被着体であるガラス基板を合わせてラミネーター（大成ラミネーター製）で貼合し、その後支持体をクッション層と酸素遮断層の間から剥離除去することで、ガラス基板上に感光性樹脂層と顔料含有の酸素遮断層を転写した。なおラミネーターでの転写条件を下に示す。この時、ガラス基板は転写直前に１００℃になるように予め加熱した。
［転写条件］
転写温度：１２０℃、転写圧力：６Ｋｇｆ／ｃｍ2、転写速度：１ｍ／分
ガラス基板に転写後、感光性樹脂層に酸素遮断層を通して全面露光（ＵＶ照射）した。なお、必要であれば所定のパターンを有するマスクを介して露光する。露光量は５０ｍｊ/ｃｍ2（３６５ｎｍでの積算光量）を照射した。露光後、アルカリ水溶液（０．５％炭酸ナトリウム／炭酸水素ナトリウム混合水溶液）で現像して、その後蒸留水で充分洗浄した。これによって、全面ベタパターンである、あるいは所定のパターンを有する光散乱性を有する樹脂層をガラス基板上に作製した。その後２４０℃、４０分の加熱処理をして目的の光散乱層を得た。
この光散乱層は、十点平均粗さが０．８５μｍ、ヘイズ度５７．７％、全光線透過率９０．４％であった。
【００５２】
（金属薄膜の形成）
このようにしてガラス基板上に形成した光散乱層上に、アルミニウムの薄膜を形成して、光散乱反射板を作製した。アルミニウム薄膜は真空蒸着法により厚さ３００Åで形成した。蒸着機は高真空蒸着装置（ＪＥＥ−４Ｘ  日本電子製）を使用し、ターゲット金属はアルミニウム９９．９９％を使用した。
こうして作製した光散乱反射板の拡散反射率を分光光度計（Ｕ−３３１０形分光光度計：日立製作所製。以下同じ）で測定したところ６７．１％（５５０ｎｍ）であり、きわめて優れた光散乱反射特性を示した。また、このとき透過率は４．５％であった。
【００５３】
実施例２
（転写フィルムの製造）
支持体として、７５μｍＰＥＴフィルム（裏面に帯電防止層を付与：表面固有抵抗値１０8Ω）を用い、クッション層はアクリル系共重合樹脂（Ｍｎ１２７０００、Ｔｇ３５℃：三菱レイヨン株式会社）を選択し、この樹脂に酸素遮断層との剥離力をコントロールするためにシリコーンオイル（ＫＦ３５１：信越化学工業株式会社製）を対樹脂固形分６．０％添加したものを乾燥後の塗布厚が１５μｍになるように塗設した。
酸素遮断層は主たる樹脂としてポリビニルアルコールＢ-17（ケン化度87.0〜89.0、重合度1700、電気化学工業製）を選択し、蒸煮により１０％水溶液として調整した。これに添加顔料としてシリコーン樹脂微粒子（トスパール１２０、平均粒子径2.0μｍ：東芝シリコーン株式会社製）を用い、これを水／メタノール混合溶媒中でビーズ分散して得た２０％顔料分散液の状態で樹脂水溶液に添加して充分混合することで塗液を得た。
【００５４】
この塗液をバーコートにてクッション層上に塗布、乾燥して酸素遮断層を形成した。この時、樹脂固形分と顔料固形分の比率が８５／１５になるように調整し、これをクッション層上に乾燥塗布厚３μｍになるように塗設した。
得られたマット化酸素遮断層の表面形状として、十点平均粗さは１．０９μｍであり、ヘイズ度は５６．７％であった。
次に感光性樹脂層は主成分のベンジルメタクリレート／メチルメタアクリレート／メタアクリレート共重合体（分子量16000、酸価95.8 mgKOH/g）とモノマー成分として４官能アクリレート（ＥＢ１４０：ダイセル・ユーシービー株式会社製）を固形分比で４０／６０になるようにし、これに開始剤として２，４，６ートリメチルベンゾイルフェニルフォスフィンオキサイド（LucirinＴＰＯ：ＢＡＳＦ製）を対固形１０％で添加した。これを溶剤であるポリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート中で溶解混合して２０％塗布液とし、バーコートでクッション層上に乾燥後の塗布厚が２μｍになるように塗設した。
保護フィルムは両面未処理のポリプロピレンフィルム２０μｍを感光性樹脂層と６０℃で貼合し擬似接着させた。
【００５５】
（被着体への転写付与）
実施例１と同じプロセス、各条件でガラス基板へ転写した。
ガラス基板に転写後、感光性樹脂層に酸素遮断層を通して露光（ＵＶ照射）した。この時解像度が評価できる標準パターンが形成されているガラスマスクを介して、露光量４０  ｍｊ/ｃｍ2（３６５ｎｍでの積算光量）を照射した。その後、アルカリ水溶液（０．５％炭酸ナトリウム／炭酸水素ナトリウム混合水溶液）で現像して、その後蒸留水で充分洗浄した。その後２４０℃、４０分の加熱処理をして目的のパターンを有した光散乱層を得た。この光散乱層は、十点平均粗さが０．８９μｍ、ヘイズ度５４．８％、全光線透過率９１．０％であった。なお得られたパターンから解像度を評価したところ、２０μｍのラインパターンが得られていた。
（金属薄膜の形成）
このようにしてガラス基板上に形成した光散乱層上に、実施例１と同じ条件でアルミニウム薄膜を付与した。こうして作製した光散乱反射板の拡散反射率は６５．７％（５５０ｎｍ）であり、きわめて優れた光散乱反射特性を示した。また、このとき透過率は４．８％であった。
【００５６】
実施例３
（転写フィルムの製造）
支持体として、７５μｍＰＥＴフィルム（裏面に帯電防止層を付与：表面固有抵抗値１０8Ω）を用い、クッション層は実施例２と同じ材料を同じ方法で支持体上に塗設した。
酸素遮断層に使用した樹脂も実施例２と同じであるが、顔料はエポスターＳ１２（平均粒径１．２μｍ、メラミン・ホルムアルデヒド縮合物：株式会社日本触媒製）を水／メタノール混合溶媒中でビーズ分散して得た２０％顔料分散液の状態で樹脂水溶液に添加して充分混合することで塗液を得た。
この塗液をバーコートにてクッション層上に塗布、乾燥して酸素遮断層を形成した。この時、樹脂固形分と顔料固形分の比率が８５／１５になるように調整し、これをクッション層上に乾燥塗布厚３μｍになるように塗設した。
得られたマット化酸素遮断層の表面形状として、十点平均粗さは０．７８μｍであり、ヘイズ度は５５．８％であった。
【００５７】
次に感光性樹脂層は主成分のベンジルメタクリレート／メチルメタアクリレート／メタアクリレート共重合体（分子量16000、酸価95.8 mgKOH/g）とモノマー成分として多官能アクリレート（Ｍ−４００：東亜合成株式会社製）と４官能アクリレート（ＥＢ１４０：ダイセル・ユーシービー株式会社製）を固形分比で４０／１０／５０になるようにし、これに開始剤として２，４，６ートリメチルベンゾイルフェニルフォスフィンオキサイド（LucirinＴＰＯ：ＢＡＳＦ製）を対固形１０％で添加した。これを溶剤であるポリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート中で溶解混合して２０％塗布液とし、バーコートでクッション層上に乾燥後の塗布厚が２μｍになるように塗設した。
保護フィルムは両面未処理のポリプロピレンフィルム２０μｍを感光性樹脂層と６０℃で貼合し擬似接着させた。
【００５８】
（被着体への転写付与）
実施例１と同じプロセス、各条件でガラス基板へ転写した。また実施例２で使用したのと同じガラスマスクを介して同じ露光量でＵＶを照射した。その後やはり実施例２と同じ現像液を用いて同じ条件で現像し蒸留水で充分洗浄した。これに２４０℃、４０分の加熱処理をして目的のパターンを有した光散乱層を得た。得られた光散乱層は十点平均粗さが０．７２μｍ、ヘイズ度５４．３％、全光線透過率９０．３％であった。なお得られたパターンから解像度を評価したところ、１５μｍのラインパターンが得られていた。
（金属薄膜の形成）
このようにしてガラス基板上に形成した光散乱層上に、実施例１と同じ条件でアルミニウム薄膜を付与した。こうして作製した光散乱反射板の拡散反射率は６６．０％（５５０ｎｍ）であり、きわめて優れた光散乱反射特性を示した。また、このとき透過率は５．０％であった。
【００５９】
【比較例】
比較例１
（転写フィルムの製造）
支持体は実施例１と同じものを使用した。酸素遮断層は顔料を添加しない前記ポリビニルアルコール樹脂をクッション層上に乾燥塗布厚３μｍになるように塗設した。
感光性樹脂層は、使用する材料、配合割合は実施例１と同様であるが、これに樹脂固形分と顔料固形分の比率が８５／１５になるように実施例１で使用した顔料をポリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート溶媒中でビーズ分散して得た顔料分散液の状態で添加して充分混合することで塗液とした。これを酸素遮断層上に乾燥塗布厚が３μｍになるように塗布した。
保護フィルムとして実施例１と同じポリプロピレンフィルムを６０℃で貼合し、疑似接着させた。
【００６０】
（被着体への転写付与）
実施例１と同方法、同条件で被着体であるガラス基板に転写した。転写後、実施例１と同方法、同条件で露光、現像、洗浄を行った。その後２４０℃、４０分の加熱処理を実施し、目的の光散乱層を得た。この光散乱層は、十点平均粗さが１．０３μｍ、ヘイズ度６２．３％、全光線透過率８３．４％であった。
（金属薄膜の形成）
このようにしてガラス基板上に形成した光散乱層上に、実施例１と同様にアルミニウムの薄膜を形成して、光散乱反射板を作製した。作製した光散乱反射板の拡散反射率は７２．２％（５５０ｎｍ）、透過率は１．７％であった。比較例１の場合、光散乱層中には顔料が存在するため、実施例１と比較して光散乱層はヘイズ度の割に全光線透過率が低くなる。そのため、アルミニウム形成後の透過率を所定値まで上げるには、アルミニウム蒸着量を少なくする必要があり、従って拡散反射率も下がってしまうことになる。
【００６１】
比較例２
（転写フィルムの製造）
実施例１の酸素遮断層処方において、樹脂固形分と顔料固形分の比率が９８／２になるように調製した以外は全て同じ材料を使用して、同じ方法で転写フィルムを製造した。得られたマット化酸素遮断層の表面形状として、十点平均粗さは０．８３μｍ、ヘイズ度は２０．２％であった。
（被着体への転写付与）
実施例１と同じ条件、方法で被着体であるガラス基板に転写し、次いで全面露光、現像、洗浄、加熱処理を行った。得られた光散乱層は、十点平均粗さが０．６７μｍ、ヘイズ度１８．７％、全光線透過率８９．２％であった。
【００６２】
（金属薄膜の形成）
実施例１と同じ条件、方法でアルミニウムの薄膜を形成した。作製した光散乱反射板の拡散反射率は３９．４％（５５０ｎｍ）、透過率は５．６％であり、実施例１に比べてマット化酸素遮断層中の顔料添加量が少なく、目標のヘイズ度まで至らなかったことにより、アルミニウム薄膜形成後の性能として正反射光が強くなり、拡散反射率がかなり低い値になってしまった。
【００６３】
比較例３
（転写フィルムの製造）
実施例１の酸素遮断層処方において、樹脂固形分と顔料固形分の比率が４５／５５になるように調製した以外は全て同じ材料を使用して、同じ方法で転写フィルムを製造した。ただし、酸素遮断層の塗液をバーコートにてクッション層上に塗布する際、酸素遮断層中の顔料割合が多くなったためクッション層とバーに巻かれているワイヤーとの溝に沿って顔料が配列する塗工欠陥（バー筋）が発生しやすく、均一な塗工面が得られにくかった。また酸素遮断層中の含有量が多いため、クッション層との密着力が低下し、酸素遮断層が剥がれやすかった。得られたマット化酸素遮断層の表面形状として、十点平均粗さは１．５７μｍであり、ヘイズ度は７２．５％であった。
【００６４】
（被着体への転写付与）
実施例１と同じ条件、方法で被着体であるガラス基板に転写し、その後、全面露光、現像、洗浄、加熱処理を行った。得られた光散乱層は、十点平均粗さが１．３５μｍ、ヘイズ度７１．２％、全光線透過率９０．３％であった。
（金属薄膜の形成）
実施例１と同じ条件、方法でアルミニウムの薄膜を形成した。作製した光散乱反射板の拡散反射率は８７．４％（５５０ｎｍ）、透過率は５．２％であった。マット化酸素遮断層の表面粗さが高くなり、ヘイズ度が高くなったため、ガラス基板に転写した酸素遮断層を除去した後の光散乱層の表面粗さ、ヘイズ度も高くなり、アルミニウム蒸着後の拡散反射率が高くなった。ただし、光散乱層の十点平均粗さが１．０μｍを越えており表面性が悪化してるため、金属薄膜上に形成される機能層（例えばカラーフィルター層、オーバーコート層、透明電極など）を付与する過程での塗布トラブルが発生したり、あるいは付与した層に欠陥が発生したりする。
【００６５】
比較例４
（転写フィルムの製造）
支持体は実施例１と同じものを使用した。酸素遮断層は実施例１で使用したポリビニルアルコール樹脂を用い、顔料にＫＭＰ−５９７（平均粒径５．０μｍ、シリコンパウダー：信越化学工業株式会社）を用いたこと以外は実施例１と同様にして塗液を得た。
これを実施例１と同様にクッション層上に塗布、乾燥して酸素遮断層を形成した。なお、この時の樹脂固形分と顔料固形分の比率が実施例１と同様になるように調整した。また、塗布厚はウエット状態では実施例１と同様に塗布したが、顔料粒子径が大きいため乾燥後の塗布厚は８μｍであった。得られたマット化酸素遮断層の表面形状は十点平均粗さが３．２７μｍであり、ヘイズ度は８８．３％であった。
感光性樹脂層は実施例１と同処方を同方法にて塗設した。乾燥後の塗布厚が３μｍになるように塗設したが、表面粗さが大きいため塗布厚は不均一であった。
保護フィルムとして実施例１と同じポリプロピレンフィルムを６０℃で貼合し、疑似接着させた。
【００６６】
（被着体への転写付与）
実施例１と同方法、同条件で被着体であるガラス基板に転写し、その後実施例１と同様にして露光、現像、洗浄を行った。その後２４０℃、４０分の加熱処理を実施し、目的の光散乱層を得た。この光散乱層は、十点平均粗さが２．１５μｍ、ヘイズ度８１．９％、全光線透過率９０．３％であった。
（金属薄膜の形成）
このようにしてガラス基板上に形成した光散乱層上に、実施例１と同様にアルミニウムの薄膜を形成して、光散乱反射板を作製した。作製した光散乱反射板の拡散反射率は８８．５％（５５０ｎｍ）、透過率は５．５％であった。光散乱層表面の粗さが大きいため金属薄膜形成後の光散乱性は良好であったものの、金属薄膜形成後でも表面粗さが大きいため、その上に形成される機能層（例えばカラーフィルター層、オーバーコート層、透明電極など）を付与する過程での塗布トラブルが発生したり、あるいは付与した層に欠陥が発生したりする。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光散乱層形成用転写フィルムの一実施例を示す概略縦断面図である。
【図２】本発明の光散乱層の形成方法を工程順に示す概略縦断面図である。
【図３】パターン化された光散乱層を形成する場合の工程の一部を示す概略縦断面図である。
【符号の説明】
１  保護フィルム
２  感光性樹脂層
３  マット化酸素遮断層
４  クッション層
５  支持体
６  帯電防止層
７  被着体
８  金属薄膜
９  マスク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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