(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
【化１】
0004171853.tif 000015
〔式中、Ｒ1は、Ｃ1-6アルキル基、アリール基又はアリールC1-6アルキル基を意味し、Ｘは酸素原子又は硫黄原子を意味し、Ｒ2は水素原子、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ2-6アルケニル基、Ｃ2-6アルキニル基又はハロゲン原子を意味し、Ｌ1及びＬ2はそれぞれ水素原子を意味するか又は、Ｌ1とＬ2が一緒になってＭＹ（Ｍは、希土類元素又は１３族元素を意味し、Ｙは、Ｃ1-6アルコキシ基、Ｃ1-6アルキルカルボニルオキシ基又はハロゲン原子を意味する。）を意味し、ｍは１から３の整数を意味する。〕で表される、光学活性ビナフチル化合物。
【請求項２】
Ｒ2が水素原子であり、ｍが１又は２である、請求項１記載の光学活性ビナフチル化合物。
【請求項３】
Ｒ1がフェニル基である請求項２記載の光学活性ビナフチル化合物。
【請求項４】
Ｌ1及びＬ2がともに水素原子である請求項３記載の光学活性ビナフチル化合物。
【請求項５】
Ｌ1とＬ2が一緒になってＡｌＣｌを意味する請求項３記載の光学活性ビナフチル化合物。
【請求項６】
Ｌ1とＬ2が一緒になってＭＹ（Ｍ及びＹは前記に同じ。）を意味する請求項１記載の光学活性ビナフチル化合物の存在下、一般式（２）
【化２】
0004171853.tif 000016
（式中、Ｒ3はＣ1-6アルキル基、アリール基、アリールC1-6アルキル基、Ｃ2-6アルケニル基、アリールＣ2-6アルケニル基、Ｃ2-6アルキニル基、芳香族系複素環基又は非芳香族系複素環基を意味する。）で表されるアルデヒド化合物とトリメチルシリルシアニドを反応させることを特徴とする、一般式（３）
【化３】
0004171853.tif 000017
（式中、Ｒ3は前記に同じ。）
で表される、光学活性シアノヒドリン化合物の製造法。
【請求項７】
反応系中に、一般式（４）
【化４】
0004171853.tif 000018
（式中、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に、Ｃ1-8アルキル基、アリール基又はアリールC1-6アルキル基を意味する。）で表されるホスフィンオキシドを添加する、請求項６記載の光学活性シアノヒドリン化合物の製造法。
【請求項８】
Ｒ2が水素原子であり、ｍが１又は２である、光学活性ビナフチル化合物を用いる請求項７記載の光学活性シアノヒドリン化合物の製造法。
【請求項９】
Ｒ1がフェニル基である、光学活性ビナフチル化合物を用いる請求項８記載の光学活性シアノヒドリン化合物の製造法。
【請求項１０】
Ｌ1とＬ2が一緒になってＡｌＣｌを意味する光学活性ビナフチル化合物を用いる請求項９記載の光学活性シアノヒドリン化合物の製造法。
【請求項１１】
Ｒ3が(ＣＨ2)2Ｐｈ、ＣＨ(ＣＨ3)2、Ｐｈ、(ＣＨ2)5ＣＨ3、ＣＨ(ＣＨ2ＣＨ3)2、ＣＨ＝ＣＨ(ＣＨ2)3ＣＨ3、ＣＨ＝ＣＨＰｈ、Ｃ(ＣＨ3)2ＣＨ2Ｐｈ、シクロヘキシル基、パラメチルフェニル基又は２−フリル基であるアルデヒド化合物を用いる請求項１０記載の光学活性シアノヒドリン化合物の製造法。
【請求項１２】
Ｒ4、Ｒ5及びＲ6がそれぞれ独立に、ＣＨ3、(ＣＨ2)3ＣＨ3、(ＣＨ2)7ＣＨ3又はＰｈであるホスフィンオキシドを用いる請求項１１記載の光学活性シアノヒドリン化合物の製造法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、求電子剤を活性化するルイス酸部位と、求核剤の位置を固定するルイス塩基部位の、二つの部位を分子内に有することにより、優れた立体選択性を示す光学活性金属錯体触媒化合物並びに該触媒化合物を構成する不斉配位子化合物及び該触媒化合物を用いる、光学活性シアノヒドリン化合物の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
光学活性体は、農薬、医薬品などの中間体や製品に多く用いられるようになってきており、工業的に実用可能なレベルでの光学活性体の合成法に対する需要は年々高まってきている。
【０００３】
光学活性体を不斉反応によって合成するにあたっては、少量の不斉源を用いて大量の光学活性体を入手しうる触媒的不斉合成が最も効率的であり、工業的にも優れた方法といえる。
【０００４】
触媒的不斉合成としては、中心金属が希土類元素又は１３属元素（Ａｌ、Ｇａ）であり、更にアルカリ金属と不斉配位子であるビナフトールを含む錯体を触媒として用いる方法が知られており、種々の光学活性体の効率的な合成に成功している。
【０００５】
これらの錯体は中心金属がルイス酸として求電子剤を活性化し、アルカリ金属ビナフトキシド部分がブレンステッド塩基として求核剤の位置を固定することによって、高い立体選択性を示すと考えられる。
【０００６】
即ち、上記の錯体は、求電子剤を活性化するルイス酸部位と、求核剤の位置を固定するブレンステッド塩基部位の、二つの部位を分子内に有することにより、優れた立体選択性を可能としている。
【０００７】
しかし、求電子剤を活性化するルイス酸部位と、求核剤の位置を固定するルイス塩基部位の、二つの部位を分子内に有する光学活性金属錯体触媒化合物に関しては、応用性の高いものの報告例はない。
【０００８】
一方、光学活性シアノヒドリン化合物は、化学的、酵素的な合成法が数多く報告されているが、用いる基質の種類において汎用性のあるものは、殆ど知られていない。
【０００９】
特に、脂肪族アルデヒドから芳香族アルデヒドまでを基質とする、効率的な不斉触媒は全く報告されていない。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、鋭意検討を重ねた結果、求電子剤を活性化するルイス酸部位と、求核剤の位置を固定するルイス塩基部位の、二つの部位を分子内に有する光学活性金属錯体触媒化合物を見出し、更に、該化合物を触媒として用いることにより、高い化学収率、高い光学収率でアルデヒド化合物から光学活性シアノヒドリン化合物が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１１】
即ち、本発明は、一般式（１）
【００１２】
【化５】
0004171853.tif 000002
【００１３】
〔式中、Ｒ1は、Ｃ1-6アルキル基、アリール基又はアリールC1-6アルキル基を意味し、Ｘは酸素原子又は硫黄原子を意味し、Ｒ2は水素原子、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ2-6アルケニル基、Ｃ2-6アルキニル基又はハロゲン原子を意味し、Ｌ1及びＬ2はそれぞれ水素原子を意味するか又は、Ｌ1とＬ2が一緒になってＭＹ（Ｍは、希土類元素又は１３族元素を意味し、Ｙは、Ｃ1-6アルコキシ基、Ｃ1-6アルキルカルボニルオキシ基又はハロゲン原子を意味する。）を意味し、ｍは１から３の整数を意味する。〕で表される、光学活性ビナフチル化合物に関するものであり、Ｌ1とＬ2が一緒になってＭＹ（Ｍ及びＹは前記に同じ。）を意味する一般式（１）で表される光学活性ビナフチル化合物の存在下、一般式（２）
【００１４】
【化６】
0004171853.tif 000003
【００１５】
（式中、Ｒ3はＣ1-6アルキル基、アリール基、アリールC1-6アルキル基、Ｃ2-6アルケニル基、アリールＣ2-6アルケニル基、Ｃ2-6アルキニル基、芳香族系複素換基又は非芳香族系複素換基を意味する。）で表されるアルデヒド化合物とトリメチルシリルシアニドを反応させることを特徴とする、一般式（３）
【００１６】
【化７】
0004171853.tif 000004
【００１７】
（式中、Ｒ3は前記に同じ。）
で表される、光学活性シアノヒドリン化合物の製造法に関するものである。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、更に詳細に本発明を説明する。
【００１９】
まず、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、ｍ、Ｘ、Ｌ1及びＬ2の各置換基における語句について説明する。
【００２０】
尚、本明細書中「n」はノルマルを、「i」はイソを、「s」はセカンダリーを、「t」はターシャリーを、「c」はシクロを、「o」はオルトを、「m」はメタを、「p」はパラを、「Et」はエチルを、「Bu」はブチルを、「Oct」はオクチルを、「Ph」はフェニルを、「Ms」はメタンスルホニルを、「Ts」は、パラトルエンスルホニルを「MOM」はメトキシメチルを意味する。
【００２１】
希土類元素としては、ランタン（Ｌａ）、セリウム（Ｃｅ）、プラセオジム（Ｐｒ）、ネオジム（Ｎｄ）、プロメチウム（Ｐｍ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、カドリニウム（Ｇｄ）、テルビウム（Ｔｂ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ホルミウム（Ｈｏ）、エルビウム（Ｅｒ）、ツリウム（Ｔｍ）、イッテルビウム（Ｙ）及びルテチウム（Ｌｕ）が挙げられる。
【００２２】
１３族元素としては、アルミニウム（Ａｌ）及びガリウム（Ｇａ）が挙げられる。
【００２３】
Ｃ1-6アルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、c-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、c-ブチル基、n-ペンチル基、2-ペンチル基、3-ペンチル基、i-ペンチル基、ネオペンチル基、t-ペンチル基、c-ペンチル基、n-ヘキシル基、2-ヘキシル基、3-ヘキシル基、c-ヘキシル基、1-メチル-1-エチル-n-プロピル基、1,1,2-トリメチル-n-プロピル基、1,2,2-トリメチル-n-プロピル基及び3,3-ジメチル-n-ブチル基等が挙げられ、Ｃ1-8アルキル基としては、上記に加え、n-ヘプチル基及びn-オクチル基等を挙げることができる。
【００２４】
Ｃ2-6アルケニル基としては、エテニル基、1-プロペニル基、2-プロペニル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、3-ブテニル基、1-ペンテニル基、2-ペンテニル基、3-ペンテニル基、4-ペンテニル基、1-ヘキセニル基、2-ヘキセニル基、3-ヘキセニル基、4-ヘキセニル基及び5-ヘキセニル基等が挙げられる。
【００２５】
Ｃ2-6アルキニル基としては、エチニル基、1-プロピニル基、2-プロピニル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基、1-ペンチニル基、2-ペンチニル基、3-ペンチニル基、4-ペンチニル基、1-ヘキシニル基、2-ヘキシニル基、3-ヘキシニル基、4-ヘキシニル基及び5-ヘキシニル基等が挙げられる。
【００２６】
Ｃ1-6アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、i-プロポキシ基、c-プロポキシ基、n-ブトキシ基、i-ブトキシ基、s-ブトキシ基、t-ブトキシ基、c-ブトキシ基、n-ペンチルオキシ基及びn-ヘキシルオキシ基等が挙げられる。
【００２７】
C1-6アルキルカルボニルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n-プロピルカルボニルオキシ基、i-プロピルカルボニルオキシ基、n-ブチルカルボニルオキシ基、i-ブチルカルボニルオキシ基、s-ブチルカルボニルオキシ基、t-ブチルカルボニルオキシ基、1-ペンチルカルボニルオキシ基、2-ペンチルカルボニルオキシ基、3-ペンチルカルボニルオキシ基、i-ペンチルカルボニルオキシ基、ネオペンチルカルボニルオキシ基、t-ペンチルカルボニルオキシ基、1-ヘキシルカルボニルオキシ基、2-ヘキシルカルボニルオキシ基、3-ヘキシルカルボニルオキシ基、1-メチル-n-ペンチルカルボニルオキシ基、1,1,2-トリメチル-n-プロピルカルボニルオキシ基、1,2,2-トリメチル-n-プロピルカルボニルオキシ基及び3,3-ジメチル-n-ブチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
【００２８】
アリールＣ2-6アルケニル基としては、1-フェニルエテニル基、2-フェニルエテニル基、1-フェニル-1-プロペニル基、2-フェニル-1-プロペニル基、3-フェニル-1-プロペニル基、1-フェニル-2-プロペニル基、2-フェニル-2-プロペニル基、3-フェニル-2-プロペニル基、1-フェニル-1-ブテニル基、2-フェニル-1-ブテニル基、3-フェニル-1-ブテニル基、4-フェニル-1-ブテニル基、1-フェニル-2-ブテニル基、2-フェニル-2-ブテニル基、3-フェニル-2-ブテニル基、4-フェニル-2-ブテニル基、1-フェニル-3-ブテニル基、2-フェニル-3-ブテニル基、3-フェニル-3-ブテニル基、4-フェニル-3-ブテニル基、5-フェニル-1-ペンテニル基、5-フェニル-2-ペンテニル基、5-フェニル-3-ペンテニル基、5-フェニル-4-ペンテニル基、6-フェニル-1-ヘキセニル基、6-フェニル-2-ヘキセニル基、6-フェニル-3-ヘキセニル基、6-フェニル-4-ヘキセニル基及び6-フェニル-5-ヘキセニル基等が挙げられる。
【００２９】
アリール基としては、フェニル基、o-メチルフェニル基、m-メチルフェニル基、p-メチルフェニル基、o-クロルフェニル基、m-クロルフェニル基、p-クロルフェニル基、o-フルオロフェニル基、p-フルオロフェニル基、o-メトキシフェニル基、p-メトキシフェニル基、p-ニトロフェニル基、p-シアノフェニル基、α-ナフチル基、β-ナフチル基、o-ビフェニリル基、m-ビフェニリル基、p-ビフェニリル基、1-アントリル基、2-アントリル基、9-アントリル基、1-フェナントリル基、2-フェナントリル基、3-フェナントリル基、4-フェナントリル基及び9-フェナントリル基が挙げられる。
【００３０】
アリールC1-6アルキル基としては、ベンジル基、o-メチルベンジル基、m-メチルベンジル基、p-メチルベンジル基、o-クロルベンジル基、m-クロルベンジル基、p-クロルベンジル基、o-フルオロベンジル基、p-フルオロベンジル基、o-メトキシベンジル基、p-メトキシベンジル基、p-ニトロベンジル基、p-シアノベンジル基、フェネチル基、o-メチルフェネチル基、m-メチルフェネチル基、p-メチルフェネチル基、o-クロルフェネチル基、m -クロルフェネチル基、p-クロルフェネチル基、o-フルオロフェネチル基、p-フルオロフェネチル基、o-メトキシフェネチル基、p-メトキシフェネチル基、p-ニトロフェネチル基、p-シアノフェネチル基、3-フェニルプロピル基、4-フェニルブチル基、5-フェニルペンチル基、6-フェニルヘキシル基、α-ナフチルメチル基、β-ナフチルメチル基、o-ビフェニリルメチル基、m-ビフェニリルメチル基、p-ビフェニリルメチル基、1-アントリルメチル基、2-アントリルメチル基、9-アントリルメチル基、1-フェナントリルメチル基、2-フェナントリルメチル基、3-フェナントリルメチル基、4-フェナントリルメチル基、9-フェナントリルメチル基、α-ナフチルエチル基、β-ナフチルエチル基、o-ビフェニリルエチル基、m-ビフェニリルエチル基、p-ビフェニリルエチル基、1-アントリルエチル基、2-アントリルエチル基、9-アントリルエチル基、1-フェナントリルエチル基、2-フェナントリルエチル基、3-フェナントリルエチル基、4-フェナントリルエチル基及び9-フェナントリルエチル基が挙げられる。
【００３１】
芳香族系複素環基としては、５〜７員環までの単環式複素環基、構成原子数が８〜１０までの縮合二環式複素環基が挙げられ、酸素原子、窒素原子、硫黄原子が１〜３原子単独もしくは組み合わせて含むことができる。
【００３２】
芳香族系複素環基としては、例えば、2-チエニル基、3-チエニル基、2-フリル基、3-フリル基、2-ピラニル基、3-ピラニル基、4-ピラニル基、2-ベンゾフラニル基、3-ベンゾフラニル基、4-ベンゾフラニル基、5-ベンゾフラニル基、6-ベンゾフラニル基、7-ベンゾフラニル基、1-イソベンゾフラニル基、4-イソベンゾフラニル基、5-イソベンゾフラニル基、2-ベンゾチエニル基、3-ベンゾチエニル基、4-ベンゾチエニル基、5-ベンゾチエニル基、6-ベンゾチエニル基、7-ベンゾチエニル基、1-イソベンゾチエニル基、4-イソベンゾチエニル基、5-イソベンゾチエニル基、2-クロメニル基、3-クロメニル基、4-クロメニル基、5-クロメニル基、6-クロメニル基、7-クロメニル基、8-クロメニル基、1-ピロリル基、2-ピロリル基、3-ピロリル基、1-イミダゾリル基、2-イミダゾリル基、4-イミダゾリル基、1-ピラゾリル基、3-ピラゾリル基、4-ピラゾリル基、2-チアゾリル基、4-チアゾリル基、5-チアゾリル基、3-イソチアゾリル基、4-イソチアゾリル基、5-イソチアゾリル基、2-オキサゾリル基、4-オキサゾリル基、5-オキサゾリル基、3-イソオキサゾリル基、4-イソオキサゾリル基、5-イソオキサゾリル基、2-ピリジル基、3-ピリジル基、4-ピリジル基、2-ピラジニル基、2-ピリミジニル基、4-ピリミジニル基、5-ピリミジニル基、3-ピリダジニル基、4-ピリダジニル基、1-インドリジニル基、2-インドリジニル基、3-インドリジニル基、5-インドリジニル基、6-インドリジニル基、7-インドリジニル基、8-インドリジニル基、1-イソインドリル基、4-イソインドリル基、5-イソインドリル基、1-インドリル基、2-インドリル基、3-インドリル基、4-インドリル基、5-インドリル基、6-インドリル基、7-インドリル基、1-インダゾリル基、2-インダゾリル基、3-インダゾリル基、4-インダゾリル基、5-インダゾリル基、6-インダゾリル基、7-インダゾリル基、１−プリニル基、2-プリニル基、3-プリニル基、6-プリニル基、7-プリニル基、8-プリニル基、2-キノリル基、3-キノリル基、4-キノリル基、5-キノリル基、6-キノリル基、7-キノリル基、8-キノリル基、1-イソキノリル基、3-イソキノリル基、4-イソキノリル基、5-イソキノリル基、6-イソキノリル基、7-イソキノリル基、8-イソキノリル基、1-フタラジニル基、5-フタラジニル基、6-フタラジニル基、2-ナフチリジニル基、3-ナフチリジニル基、4-ナフチリジニル基、2-キノキサリニル基、5-キノキサリニル基、6-キノキサリニル基、2-キナゾリニル基、4-キナゾリニル基、5-キナゾリニル基、6-キナゾリニル基、7-キナゾリニル基、8-キナゾリニル基、3-シンノリニル基、4-シンノリニル基、5-シンノリニル基、6-シンノリニル基、7-シンノリニル基、8-シンノリニル基、2-プテニジニル基、4-プテニジニル基、6-プテニジニル基、7-プテニジニル基及び3-フラザニル基等が挙げられる。
【００３３】
非芳香族系複素環基としては、５〜７員環までの単環式複素環基、構成原子数が６〜１０までの縮合二環式複素環基が挙げられ、酸素原子、窒素原子、硫黄原子が１〜３原子単独もしくは組み合わせて含むことができる。
【００３４】
非芳香族複素環としては、例えば、2-テトラヒドロフラニル基、3-テトラヒドロフラニル基、2-テトラヒドロピラニル基、3-テトラヒドロピラニル基、4-テトラヒドロピラニル基、1-ピロリジニル基、2-ピロリジニル基、3-ピロリジニル基、1-ピロリニル基、2-ピロリニル基、3-ピロリニル基、4-ピロリニル基、5-ピロリニル基、1-イミダゾリジニル基、2-イミダゾリジニル基、4-イミダゾリジニル基、1-イミダゾリニル基、2-イミダゾリニル基、4-イミダゾリニル基、1-ピラゾリジニル基、3-ピラゾリジニル基、4-ピラゾリジニル基、1-ピラゾリニル基、2-ピラゾリニル基、3-ピラゾリニル基、4-ピラゾリニル基、5-ピラゾリニル基、1-ピペリジル基、2-ピペリジル基、3-ピペリジル基、4-ピペリジル基、1-ピペラジニル基、2-ピペラジニル基、3-ピペラジニル基、1-インドリニル基、2-インドリニル基、3-インドリニル基、4-インドリニル基、5-インドリニル基、6-インドリニル基、7-インドリニル基、1-イソインドリニル基、2-イソインドリニル基、4-イソインドリニル基、5-イソインドリニル基、2-キヌクリジニル基、3-キヌクリジニル基、4-キヌクリジニル基、2-モルフォリニル基、3-モルフォリニル基、4-モルフォリニル基、1-アゼチジニル基、2-アゼチジニル基、3-アゼチジニル基、1-アゼチジノニル基、3-アゼチジノニル基及び4-アゼチジノニル基等が挙げられる。
【００３５】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
【００３６】
次に、好ましいＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、ｍ、Ｘ、Ｌ1及びＬ2について説明する。
【００３７】
好ましいＲ1としては、フェニル基が挙げられる。
【００３８】
好ましいＲ2としては、水素原子が挙げられる。
【００３９】
好ましいＲ3としては、(ＣＨ2)2Ｐｈ、ＣＨ(ＣＨ3)2、Ｐｈ、(ＣＨ2)5ＣＨ3、ＣＨ(ＣＨ2ＣＨ3)2、ＣＨ＝ＣＨ(ＣＨ2)3ＣＨ3、ＣＨ＝ＣＨＰｈ、Ｃ(ＣＨ3)2ＣＨ2Ｐｈ、シクロヘキシル基、パラメチルフェニル基及び２−フリル基が挙げられる。
【００４０】
好ましいＲ4、Ｒ5及びＲ6 としては、それぞれ独立に、ＣＨ3、(ＣＨ2)3ＣＨ3、(ＣＨ2)7ＣＨ3及びＰｈが挙げられる。
【００４１】
好ましいｍとしては、１又は２が挙げられる。
【００４２】
好ましいＸとしては、酸素原子が挙げられる。
【００４３】
好ましいＬ1及びＬ2 としては、それぞれ独立に、水素原子が挙げられ、又、Ｌ1及びＬ2 が一緒になって、ＡｌＣｌが挙げられる。
【００４４】
次に一般式（１）で表される光学活性ビナフチル化合物の合成法について説明する。
【００４５】
一般式（１）で表される光学活性ビナフチル化合物のうち、Ｌ1及びＬ2がともに水素原子である一般式（６）で表される光学活性ビナフチル化合物の合成法を反応式１に示した。
反応式１
【００４６】
【化８】
0004171853.tif 000005
【００４７】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、ｍ及びＸは前記に同じ。）
一般式（５）で表される化合物にp-トルエンスルホン酸を作用させることにより、目的とする一般式（６）で表される化合物を合成することができる。
【００４８】
反応溶媒としては、反応に関与しないものであれば何でもよく、ベンゼン、トルエン等の芳香族系溶媒、テトロヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル系溶媒、ホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒、クロロホルム、メチレンクロリド、エチレンジクロリド等のハロゲン系溶媒、その他、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド等の溶媒、水等、或いはこれらの混合溶媒を挙げることができる。
【００４９】
反応温度は、０℃〜反応に使用する溶媒の沸点までの範囲を採用することができるが、好ましい温度としては、２０〜８０℃が挙げられる。
【００５０】
反応時間は、反応の温度等により変動するが、１〜１００時間、好ましくは、３〜３０時間が挙げられる。
【００５１】
p-トルエンスルホン酸の使用量は、基質に対して１０〜２００ｍｏｌ％の範囲が挙げられ、好ましくは、３０〜１５０ｍｏｌ％の範囲が挙げられる。
【００５２】
一般式（１）で表される光学活性ビナフチル化合物のうち、Ｌ1とＬ2が一緒になってＭＹを意味する一般式（８）で表される光学活性ビナフチル化合物の合成法を反応式２に示した。
反応式２
【００５３】
【化９】
0004171853.tif 000006
【００５４】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｍ、Ｙ、ｍ及びＸは前記に同じ。Ｙ1及びＹ2は、それぞれ独立に、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ1-6アルコキシ基、Ｃ1-6アルキルカルボニルオキシ基又はハロゲン原子を意味する。）
一般式（６）で表される化合物に三価金属化合物（７）を作用させることにより、目的とする一般式（８）で表される化合物を合成することができる。
【００５５】
反応溶媒としては、反応に関与しないものであれば何でもよく、n-ペンタン、n-ヘキサン、シクロヘキサン、石油エーテル等の飽和脂肪族系溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族系溶媒、テトロヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル系溶媒、クロロホルム、メチレンクロリド、エチレンジクロリド等のハロゲン系溶媒、或いはこれらの混合溶媒を挙げることができる。
【００５６】
反応温度は、−１０℃〜反応に使用する溶媒の沸点までの範囲を採用することができるが、好ましい温度としては、０〜５０℃が挙げられる。
【００５７】
反応時間は、反応の温度等により変動するが、０．１〜１０時間、好ましくは、０．５〜３時間が挙げられる。
【００５８】
三価金属化合物（７）の使用量は、基質に対して０．１〜２当量の範囲が挙げられ、好ましくは、０．５〜１．２当量の範囲が挙げられる。
【００５９】
器具、溶媒等は、充分に乾燥してから用いることが好ましく、反応中は、アルゴンガス等の不活性ガスの気流下で行うことが望ましい。
【００６０】
得られた一般式（８）で表される化合物を、アルデヒド化合物から光学活性シアノヒドリン化合物を製造する際の触媒として用いる場合、一般式（８）で表される化合物を単離することなく、反応溶液をそのまま光学活性シアノヒドリン化合物の製造に使用することが望ましい。
【００６１】
又、反応系中に、ホスフィンオキシド（４）を添加して光学活性シアノヒドリン化合物を製造する場合、一般式（８）で表される化合物を調製する際に、事前にホスフィンオキシド（４）を加えておくことが望ましい。
【００６２】
次に、一般式（６）の合成中間体である一般式（５）で表される化合物の合成法について説明する。
【００６３】
一般式（５）で表される化合物のうち、ｍが１である一般式（１４）で表される化合物の合成法を反応式３に示した。
反応式３
【００６４】
【化１０】
0004171853.tif 000007
【００６５】
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＸは前記に同じ。）
水素化ナトリウムの存在下、光学活性ビナフトール（９）に、メトキシメチルクロリドを反応させて、メトキシメチル化を行った後、n-ブチルリチウムでリチオ化し、ジメチルホルムアミドでホルミル化する事により、ジホルミル体（１０）を合成することができる。
【００６６】
ジホルミル体（１０）を水素化ホウ素ナトリウムでホルミルを還元する事により、ジオール体（１１）を合成することができる。
【００６７】
トリメチルアミンの存在下、ジオール体（１１）とメタンスルホニルクロリドを反応させてメタンスルホニル化を行い、続いて塩化リチウムを反応させることにより、ジクロル体（１２）を合成することができる。
【００６８】
ジクロル体（１２）をナトリウムt-ブトキシドの存在下、一般式（１３）で表されるホスフィンオキシド又はホスフィンスルフィドを反応させることにより、一般式（５）で表される化合物のうち、ｍが１である一般式（１４）で表される化合物を合成することができる。
【００６９】
一般式（５）で表される化合物のうち、ｍが２である一般式（１８）で表される化合物の合成法を反応式４に示した。
反応式４
【００７０】
【化１１】
0004171853.tif 000008
【００７１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＸは前記に同じ。）
ジホルミル体（１０）に一般式（１５）で表されるリチウム試薬を反応させることにより、一般式（１６）で表される化合物を合成することができる。
【００７２】
一般式（１６）で表される化合物にメタンスルホニルクロリドを反応させ、メタンスルホニル化を行った後、ＤＢＵ（1,8-DIAZABICYCLO[5,4,0]UNDEC-7-ENE）を反応させることにより、一般式（１７）で表される化合物を合成することができる。
【００７３】
一般式（１７）で表される化合物を水素気流下、触媒量のパラジウム−炭素で処理することにより、一般式（５）で表される化合物のうち、ｍが２である一般式（１８）で表される化合物を合成することができる。
【００７４】
一般式（５）で表される化合物のうち、ｍが３である一般式（２３）で表される化合物の合成法を反応式５に示した。
反応式５
【００７５】
【化１２】
0004171853.tif 000009
【００７６】
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＸは前記に同じ。）
ジホルミル体（１０）に、水素化ナトリウムの存在下、ジエチルホスホノ酢酸エチルを反応させることにより、一般式（１９）で表される化合物を合成することができる。
【００７７】
一般式（１９）で表される化合物を水素気流下、触媒量のパラジウム−炭素で処理することにより、一般式（２０）で表される化合物を合成することができる。
【００７８】
一般式（２０）で表される化合物を、水素化アルミニウムリチウムで還元することにより、一般式（２１）で表されるジオール体を合成することができる。
【００７９】
一般式（２１）で表される化合物に、トリフェニルホスフィンの存在下、四臭化炭素を反応させることにより、一般式（２２）で表されるジブロム体を合成することができる。
【００８０】
ジブロム体（２２）をナトリウムt-ブトキシドの存在下、一般式（１３）で表されるホスフィンオキシド又はホスフィンスルフィドを反応させることにより、一般式（５）で表される化合物のうち、ｍが３である一般式（２３）で表される化合物を合成することができる。
【００８１】
次に、光学活性シアノヒドリン化合物の製造法について説明する。
反応式６
【００８２】
【化１３】
0004171853.tif 000010
【００８３】
反応式２により合成された一般式（８）で表される化合物、一般式（８）で表される化合物を含む溶液又は一般式（８）で表される化合物と一般式（４）で表されるホスフィンオキシドを含む溶液に、一般式（２）で表されるアルデヒド化合物を加え、この溶液にトリメチルシリルシアニド（(ＣＨ3)3ＳｉＣＮ）を滴下して加えることにより、目的とする一般式（３）で表される光学活性シアノヒドリン化合物を製造することができる。
【００８４】
一般式（８）で表される化合物の使用量は、一般式（２）で表されるアルデヒド化合物に対して０．１モル％〜１００モル％、好ましくは５モル％〜３０モル％用いれば充分である。
【００８５】
一般式（４）で表されるホスフィンオキシドを添加して反応を行う際の使用量は、一般式（８）で表される化合物に対して１〜２０当量、好ましくは、３〜１０当量用いれば充分である。
【００８６】
用いるホスフィンオキシドの種類は、Ｒ3が(ＣＨ2)2Ｐｈ、ＣＨ(ＣＨ3)2、(ＣＨ2)5ＣＨ3、ＣＨ(ＣＨ2ＣＨ3)2、ＣＨ＝ＣＨ(ＣＨ2)3ＣＨ3、ＣＨ＝ＣＨＰｈ、Ｃ(ＣＨ3)2ＣＨ2Ｐｈ及びシクロヘキシル基等の脂肪族アルデヒドを用いる時は、例えば n-Ｂｕ3Ｐ(Ｏ)のようにルイス酸性の強いホスフィンオキシドを用いるのが好ましく、Ｒ3がＰｈ、パラメチルフェニル基及び２−フリル基等の芳香族アルデヒドを用いるときは、例えば ＣＨ3Ｐ(Ｏ)Ｐｈ2のようにルイス酸性が若干弱くなったホスフィンオキシドを用いるのが好ましい。
【００８７】
反応溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロルベンゼン、フルオロベンゼン、ｏ−ジクロルベンゼン等の芳香族系溶媒、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−オクタン、ｎ−デカン等の脂肪族炭化水素系溶媒、クロロホルム、メチレンクロリド、エチレンジクロリド等のハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒等が挙げられ、好ましくは、ハロゲン系溶媒が挙げられ、更に好ましくは、メチレンクロリドが挙げられる。
【００８８】
更に、これらは、単独または混合溶媒として使用することができる。
【００８９】
トリメチルシリルシアニドの滴下時間は、１〜５０時間の範囲、好ましくは、５〜２０時間の範囲がよい。
【００９０】
又、トリメチルシリルシアニドを滴下する際、トリメチルシリルシアニドが結晶化しないように、反応容器の上部より滴下することが望ましい。
【００９１】
反応温度は、通常−１００℃〜５０℃の範囲、好ましくは−６０℃〜０℃の範囲がよい。
【００９２】
反応時間は、通常０．１〜１０００時間であり、好ましくは、１０〜１００時間である。
【００９３】
反応終了後は、希塩酸等の適当な酸で処理した後、酢酸エチル等の適当な溶媒により抽出し、溶媒を減圧濃縮して、結晶化、シリカゲルカラムクロマトグラフィーまたは蒸留等により分離すれば、目的とする光学活性シアノヒドリン化合物を単離する事が出来る。
【００９４】
【実施例】
以下、実施例により更に詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００９５】
尚、光学純度は、HPLC（カラム：ダイセル  キラルセルOJ,OD、移動相： イソルロパノール−ヘキサン）にて決定した。
【００９６】
参考例１
３，３’−ジホルミル−２，２’−ビス（メトキシメチル）−１，１’−ビナフトールの合成
【００９７】
２，２’−ビス（メトキシメチル）−１，１’−ビナフトールの（Ｒ）体１０ｇ（２６．７ｍｍｏｌ）をジエチルエーテル４００ｍＬに溶解し、室温にてn-ブチルリチウムの１．６１Ｍヘキサン溶液５３．１ｍＬ（８５．５ｍｍｏｌ）を加えた。
室温で２時間攪拌した後、０℃に冷却し、ジメチルホルムアミド７．２４ｍＬ（９３．５ｍｍｏｌ）を１５分かけて滴下した。
室温に戻した後、更に２時間攪拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液で中和した後、酢酸エチルで抽出した。
有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。
溶媒を減圧下留去した後、残査をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１〜５：１）に付し、表題化合物９．０ｇ（７８％）を黄色油状物として得た。
【００９８】
1H NMR(CDCl3)δ 10.55(s,2H),8.62(s,2H),8.08(dd,J=8.2,1.2Hz,2H),7.52(ddd,J=9.2,7.05,1.20Hz,2H),7.43(ddd,J=8.2,7.05,1.50Hz,2H),7.22(dd,J=9.2,1.50Hz,2H),4.71(d,J=6.1Hz,2H),4.69(d,J=6.1Hz,2H),2.88(s,6H);
【００９９】
13C NMR(CDCl3)δ 190.6,154.0,136.7,132.3,130.3,129.6,128.9,126.3,126.1,125.9,100.6,57.0
【０１００】
参考例２
３，３’−ビス（ハイドロキシメチル）−２，２’−ビス（メトキシメチル）−１，１’−ビナフトールの合成
【０１０１】
３，３’−ジホルミル−２，２’−ビス（メトキシメチル）−１，１’−ビナフトール４．０ｇ（９．２９ｍｍｏｌ）をメタノール１４０ｍＬに溶解し、０℃に冷却した後、水素化ホウ素ナトリウム７００ｍｇ（１８．６ｍｍｏｌ）を加えた。
飽和塩化アンモニウム水溶液で中和した後、減圧下、溶液が半量になるまで 濃縮した。
酢酸エチル５０ｍＬを加え抽出し、有機層を水で洗浄した。
水層を更に酢酸エチルで抽出し（６０ｍＬ×４）、有機層をあわせ、飽和食塩水で洗浄した。（５０ｍＬ×１）
無水硫酸ナトリウムにて乾燥した後、溶媒を減圧下留去し、残査をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：アセトン＝３：１）に付し、表題化合物９２．６％を無色固体として得た。
【０１０２】
1H NMR(CDCl3)δ 8.02(s,2H),7.91(m,2H),7.43(ddd,J=8.25,6.7,0.9Hz,2H),7.27(ddd,J=8.25,7.0,1.5Hz,2H),7.15(m,2H),4.98(d,J=12.8Hz,2H),4.85(d,J=12.8Hz,2H),4.48(d,J=6.1Hz,2H),4.45(d,J=6.1Hz,2H),3.12(s,6H);
【０１０３】
13C NMR(CDCl3)δ 153.1,134.6,133.7,130.9,129.7,128.2,126.8,125.7,125.4,125.2,99.3,61.9,57.1
【０１０４】
参考例３
３，３’−ビス（クロロメチル）−２，２’−ビス（メトキシメチル）−１，１’−ビナフトールの合成
【０１０５】
３，３’−ビス（ハイドロキシメチル）−２，２’−ビス（メトキシメチル）−１，１’−ビナフトール３．６４ｇ（８．３８ｍｍｏｌ）をトルエン６０ｍＬに溶解し、０℃に冷却した。
この溶液に、メタンスルホニルクロリド３．２４ｍＬ（４１．９ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン８．１７ｍＬ（５８．６ｍｍｏｌ）を加えた。
一時間後、更に、塩化リチウム１．７８ｇ（４１．９ｍｍｏｌ）及びジメチルホルムアミド６０ｍＬを加え、原料が消失するまで、室温にて攪拌した。
この溶液を水で洗浄し（２０ｍＬ×２）、分離した水層は、更に酢酸エチルで抽出した。（８０ｍＬ×３）
有機層をあわせ、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
減圧下溶媒を留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：アセトン＝４：１）に付し、表題化合物３．４４ｇ（８７％）を得た。
【０１０６】
1H NMR(CDCl3)δ 8.11(s,2H),7.90(d,J=8.25Hz,2H),7.43(m,2H),7.28(m,2H),7.17(d,J=8.5Hz,2H),4.99(d,J=11.9Hz,2H),4.94(d,J=11.9Hz,2H),4.63(dd,J=5.5,0.6Hz,2H),4.52(dd,J=5.5,0.6Hz,2H),2.97(s,6H);
【０１０７】
13C NMR(CDCl3)δ 152.2,134.2,131.2,130.9,130.6,128.1,127.2,126.0,125.5,125.5,99.5,56.9,42.3
【０１０８】
参考例４
３，３’−ビス（ジフェニルホスフィノイルメチル）−２，２’−ビス（メトキシメチル）−１，１’−ビナフトールの合成
【０１０９】
ジフェニルホスフィンオキシド２．９３ｇ（１３．３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン４０ｍＬに溶解し、０℃に冷却した後、ナトリウムt-ブトキシド１．４ｇ（１５ｍｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン２０ｍＬよりなる溶液を加えた。
室温で３０分攪拌後、溶液は、白色の懸濁液となった。
この懸濁液を−４０℃に冷却し、これに３，３’−ビス（クロロメチル）−２，２’−ビス（メトキシメチル）−１，１’−ビナフトール２．５ｇ（５．３ｍｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン３０ｍＬよりなる溶液を滴下し、徐々に室温に戻した。
原料の消失を確認した後、  飽和塩化アンモニウム水溶液で中和し、減圧下、溶液が半量になるまで 濃縮した。
酢酸エチル８０ｍＬを加え抽出し、有機層を水で洗浄した。（５０ｍＬ×２）水層を更に酢酸エチルで抽出し（５０ｍＬ×３）、有機層をあわせ、飽和食塩水で洗浄した。（５０ｍＬ×２）
無水硫酸ナトリウムにて乾燥した後、溶媒を減圧下留去し、残査をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（メチレンクロリド：メタノール＝３０：１）に付し、表題化合物３．９５ｇ（９３％）を得た。
【０１１０】
1H NMR(CDCl3)δ 8.30(d,J=2.45Hz,2H),7.92-7.76(m,10H),7.52-7.41(m,12H),7.35(m,2H),7.15(m,2H),6.85(d,J=8.55Hz,2H),4.21(d,J=6.5Hz,2H),4.20(d,J=6.5Hz,2H),4.15(dd,J=13.5,13.5Hz,2H),4.01(dd,J=13.5,13.5Hz,2H),2.84(s,6H)
【０１１１】
参考例５
３，３’−ビス（１−ヒドロキシ−２−ジフェニルホスフィノイルエチル）−２，２’−ビス（メトキシメチル）−１，１’−ビナフトールの合成
メチルジフェニルホスフィンオキシド４２２ｍｇ（１．９５ｍｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン１５ｍＬよりなる溶液にn-ブチルリチウム（１．５６Ｎ、n-ヘキサン溶液）１．３ｍＬ（１．９５ｍｍｏｌ）を加え、−７８℃に冷却して１時間攪拌した。
３，３’−ジホルミル−２，２’−ビス（メトキシメチル）−１，１’−ビナフトール２８０ｍｇ（０．６５ｍｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン１．５ｍＬよりなる溶液を−７８℃で加えて１時間攪拌した。
室温に戻した後、更に１時間攪拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液で中和した後、酢酸エチルで抽出した。
有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。
溶媒を減圧下留去した後、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（アセトン：メチレンクロリド＝１：４）に付し、表題化合物５７９ｍｇ（定量的）を淡黄色アモルファスとして得た。（ジアステレオマーの混合物、４３７ｍｇ＋１４２ｍｇ）
【０１１２】
参考例６
３，３’−ビス（２−ジフェニルホスフィノイルー１−エチレン）−２，２’−ビス（メトキシメチル）−１，１’−ビナフトールの合成
【０１１３】
３，３’−ビス（１−ヒドロキシ−２−ジフェニルホスフィノイルエチル）−２，２’−ビス（メトキシメチル）−１，１’−ビナフトール４０３ｍｇ（０．４６８ｍｍｏｌ）及びメチレンクロリド２ｍＬよりなる溶液を氷冷し、トリエチルアミン０．４６ｍＬ（３．２８ｍｍｏｌ）及びメタンスルホニルクロリド０．１８ｍＬ（２．３４ｍｍｏｌ）を加えた。
室温に戻した後、１時間攪拌し、ＤＢＵ０．７ｍＬ（４．６８ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。
水を加え、メチレンクロリドで抽出した。
無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、溶媒を減圧下留去した後、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝１：１９）に付し、表題化合物３４７ｍｇ（９０％）を淡黄色アモルファスとして得た。
【０１１４】
参考例７
３，３’−ビス（２−ジフェニルホスフィノイルエチル）−２，２’−ビス（メトキシメチル）−１，１’−ビナフトールの合成
【０１１５】
３，３’−ビス（２−ジフェニルホスフィノイルー１−エチレン）−２，２’−ビス（メトキシメチル）−１，１’−ビナフトール３１０ｍｇ（０．３７５ｍｍｏｌ）をメタノール３ｍＬ及び酢酸エチル１ｍＬよりなる溶液に溶解した。
１０％パラジウム−炭素５０ｍｇを加え、水素気流下で１時間攪拌した。
酢酸エチル１０ｍＬを加え、セライト濾過を行った後、減圧下溶媒を留去した。
残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝１：３０）に付し、淡黄色油状物２８１ｍｇを得た。
【０１１６】
この油状物は、表題化合物２２％とメトキシメチル基が１つ脱離した３，３’−ビス（２−ジフェニルホスフィノイルー１−エチレン）−２−メトキシメチル−１，１’−ビナフトール７２％（３：１０）を含んでいた。
【０１１７】
実施例１
不斉配位子１（３，３’−ビス（ジフェニルホスフィニノイルメチル）−１，１’−ビナフトール）の合成
【０１１８】
３，３’−ビス（ジフェニルホスフィノイルメチル）−２，２’−ビス（メトキシメチル）−１，１’−ビナフトール３．８ｇ（４．７３ｍｍｏｌ）をメタノール４０ｍＬ及びメチレンクロリド４０ｍＬよりなる溶媒に溶解した。
触媒量のp-トルエンスルホン酸１水和物を加え、４０℃で一晩攪拌した。
減圧下濃縮し、酢酸エチルで抽出した。
有機層を水で洗浄し、（３０ｍＬ×２）水層は更に酢酸エチルで抽出した。（３０ｍＬ×３）
有機層をあわせ、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
減圧下溶媒を留去した。
得られた粗物を再結晶により精製し、表題化合物３．０ｇ（８９％）を得た。
【０１１９】
1H NMR(CDCl3)δ 7.80-7.67(m,12H),7.53-7.41(m,12H),7.24(m,2H),7.14(t,J=7.65Hz,2H),6.88(d,J=8.55Hz,2H),4.06(dd,J=14.4,14.4Hz,2H),3.92(dd,J=14.4,14.4Hz,2H);
【０１２０】
13C NMR(CDCl3)δ 151.4,151.3,133.2,132.1(d,J=3.13Hz),132.1(d,J=2.13Hz),131.9,131.7,131.5,131.4,131.1(d,J=7.13Hz),131.0(d,J=7.13Hz),130.9,129.0(d,J=2.0Hz),128.7(d,J=3.13Hz),128.6(d,J=2.0Hz),127.7,126.4,124.8,123.6,121.6,121.5,117.1,34.0(d,J=66.8Hz);
【０１２１】
31P NMR(CDCl3)δ 37.94
【０１２２】
［α］23D +131.5°(c=1.0,CH3OH)
【０１２３】
実施例２
不斉配位子２（３，３’−ビス（２−ジフェニルホスフィノイルー１−エチレン）−１，１’−ビナフトール）の合成
【０１２４】
実施例１と同様の操作により、３，３’−ビス（２−ジフェニルホスフィノイルエチル）−２，２’−ビス（メトキシメチル）−１，１’−ビナフトールと３，３’−ビス（２−ジフェニルホスフィノイルエチル）−２−メトキシメチル−１，１’−ビナフトールが３：１０の比率で構成された油状物から４８％の収率で表題化合物を得た。
【０１２５】
実施例３
４ｍｏｌ等量のトリn-ブチルホスフィンオキシドを含む不斉触媒１の合成
【０１２６】
【化１４】
0004171853.tif 000011
【０１２７】
火炎乾燥したフラスコに、トリn-ブチルホスフィンオキシド１５ｍｇ（６８．８μｍｏｌ）を入れ、減圧下、８０℃で２時間乾燥した。
０．１ｍＬのメチレンクロリドを加え、アルゴン気流下、ジエチルアルミニウムクロリドの０．９６Ｍ  n-ヘキサン溶液１８μＬ（１７．２８μｍｏｌ）を加えた。
１０分攪拌した後、不斉配位子１（３，３’−ビス（ジフェニルホスフィニノイルメチル）−１，１’−ビナフトール）１３ｍｇ（１８．２μｍｏｌ）及びメチレンクロリド０．３５ｍＬよりなる溶液を、室温下加えた。
反応溶液を同温下１時間攪拌すると、透明な溶液となった。
光学活性シアノヒドリンを製造するために、この溶液を直接用いた。
【０１２８】
実施例４〜８
【０１２９】
実施例３と同様の操作により、添加するホスフィンオキシドの種類並びに添加量のみが異なった不斉触媒１を含む溶液を調製した。
【０１３０】
0004171853.tif 000012
【０１３１】
実施例９
不斉触媒２の合成
【０１３２】
【化１５】
0004171853.tif 000013
【０１３３】
実施例４と同様の操作により、不斉配位子２からホスフィンオキシドを含まない、表題の不斉触媒を含む溶液を調製した。
【０１３４】
実施例１０〜１９
光学活性シアノヒドリン化合物の合成
不斉触媒１を含む溶液を−４０℃に冷却し、アルデヒド化合物を加えた。
トリメチルシリルシアニド（アルデヒド化合物に対して１．８ｍｏｌ当量）をシリンジポンプを用いて１０時間かけてゆっくり加えた。（トリメチルシリルシアニドの融点は１１〜１２℃であるため、温度が１５℃以上と考えられるフラスコの上端から滴下すべきである。）
反応溶液は同温（−４０℃）にて攪拌した。
２規定の塩酸を加え、室温で１時間激しく攪拌し、酢酸エチルを加え、更に３０分攪拌した。
有機層を分離し、水で洗浄した。
水層を酢酸エチルで２回抽出した。
有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
減圧下溶媒を留去した後、残査をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーに付し、（n-ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）
目的とする光学活性シアノヒドリン化合物を合成した。
【０１３５】
種々のアルデヒド化合物を用いた結果を下表に示した。
【０１３６】
尚、生成物の不斉収率は、通常の方法で、酢酸エステル、ベンゾイルエステル、p-ニトロベンゾイルエステル、エチル炭酸エステル又はt-ブチルジメチルシリルエーテルへ誘導して決定した。
【０１３７】
又、表中、不斉触媒の量はアルデヒド化合物に対するｍｏｌ％で表し、ホスフィンオキシドの添加量は、不斉触媒１に対するｍｏｌ当量として表した。
【０１３８】
【化１６】
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【０１３９】
【発明の効果】
本発明の方法によれば、高い化学収率及び高い光学収率で、産業上有用な、光学活性シアノヒドリン化合物を、容易に製造することができる。