(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
楕円錐体状に広がる照明光を放射する点光源と、その点光源からの照明光をスリット状に結像させるスリット照明光学系と、を備えた３次元形状測定光学系であって、
前記スリット照明光学系が、放射する照明光を平行光に変換するコリメータ光学系と、照明光をその楕円状の長軸方向にのみ拡大するアナモルフィックプリズム系と、照明光をその楕円状の短軸方向にのみ結像させるシリンドリカル光学系と、前記アナモルフィックプリズム系のプリズム面に照明光が入射する際の透過率が最大となるように照明光の偏光方向を変換する偏光方向変換素子と、を有することを特徴とする３次元形状測定光学系。
【請求項２】
前記コリメータ光学系により平行光に変換された照明光の光路中に、照明光の結像位置を所望の位置へ微調整するための光軸方向偏向手段が配置されていることを特徴とする請求項１記載の３次元形状測定光学系。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は３次元形状測定光学系に関するものであり、例えばスリット照明光学系に特徴のある共焦点検出方式の３次元形状測定光学系に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
３次元形状の測定に用いられる方式の一つとして、共焦点検出方式が知られている。共焦点検出方式にはピンホール方式，スリット方式等があるが、スリット方式によると一度のスキャニングで多点の高さ情報を得ることができるので、３次元形状の測定を高速化するにはスリット方式の方が有利である。ただし、点光源をスリット状に広げるため、単位面積当りの光量が減少するので、測定対象物の反射率が低かったり、光軸に対する被測定面の角度が大きかったりすると、高い測定精度を得ることは困難である。そのため、スリット長手方向に均一で高い光量の照明光が得られ、全長のコンパクトなスリット照明光学系が求められている。照明光をスリット長手方向に伸ばす方法としては、レーザー用のエキスパンダー光学系の使用が一般的である。例えば、欠陥検査装置用のスリット照明光学系として、レンズ群から成るエキスパンダー光学系を含んだものが、特開２０００−１０５２０３号公報に記載されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、特開２０００−１０５２０３号公報に記載されているように、エキスパンダー光学系をレンズ群で構成すると、スリット長手方向の両端において光束密度の低下が起こり、スリット長手方向の光量が不均一に低下することになる。また、拡大倍率が大きくなるにしたがって、エキスパンダー光学系の全長が長くなってしまう。さらに、コリメータレンズによりコリメートされたレーザービームは、レンズ群から成るエキスパンダー光学系によって、スリット長手方向だけでなくスリット短手方向にも拡大されてしまう。このため、エキスパンドされたコリメート光をスリット状に結像させるスリット結像光学系において所望のＮＡ(Numerical Aperture)を得たい場合には、スリット結像光学系の焦点距離が長くなり、スリット照明光学系の全長が長くなってしまう。
【０００４】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであって、均一で高い光量の照明光が得られるコンパクトなスリット照明光学系を備えた３次元形状測定光学系を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、第１の発明の３次元形状測定光学系は、楕円錐体状に広がる照明光を放射する点光源と、その点光源からの照明光をスリット状に結像させるスリット照明光学系と、を備えた３次元形状測定光学系であって、前記スリット照明光学系が、放射する照明光を平行光に変換するコリメータ光学系と、照明光をその楕円状の長軸方向にのみ拡大するアナモルフィックプリズム系と、照明光をその楕円状の短軸方向にのみ結像させるシリンドリカル光学系と、前記アナモルフィックプリズム系のプリズム面に照明光が入射する際の透過率が最大となるように照明光の偏光方向を変換する偏光方向変換素子と、を有することを特徴とする。
【０００６】
第２の発明の３次元形状測定光学系は、上記第１の発明の構成において、前記コリメータ光学系により平行光に変換された照明光の光路中に、照明光の結像位置を所望の位置へ微調整するための光軸方向偏向手段が配置されていることを特徴とする。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を実施した３次元形状測定光学系を、図面を参照しつつ説明する。図１に、３次元形状測定光学系の一部を成すスリット照明光学系(9)の構成例を示す。また図２に、図１のスリット照明光学系(9)を備えたスリット共焦点検出方式の３次元形状測定光学系を示す。
【０００８】
図１及び図２において、1はレーザーダイオード、2はコリメータレンズ、3は矩形開口板、4はウェッジプリズムペア、5は１／２波長板、6は可変ＮＤ(Neutral Density)フィルター、7はアナモルフィックプリズムペア、8はシリンドリカルレンズ、9はスリット照明光学系、10はスリットマスク、11は偏光ビームスプリッター、12は対物光学系、13はＸＹステージ、14はラインセンサー、15は測定対象物、16は遮光マスクである。また、L1はレーザービーム(照明光)、L2は反射光、AX1はスリット照明光学系(9)の光軸、AX2は対物光学系(12)の光軸である。なお、各図中のＸ，Ｙ，Ｚは、光路展開状態において互いに直交する方向を示しており、図１(Ａ)はＹＺ断面に相当し、図１(Ｂ)はＸＺ断面に相当する。
【０００９】
レーザーダイオード(1)は、照明光としてレーザービーム(L1)を放射する点光源である。そして、レーザーダイオード(1)から放射されるレーザービーム(L1)は、楕円錐体状に放射するガウシアンビームである。レーザーダイオード(1)から放射されたレーザービーム(L1)は、コリメータレンズ(2)，矩形開口板(3)，ウェッジプリズムペア(4)，１／２波長板(5)，可変ＮＤフィルター(6)，アナモルフィックプリズムペア(7)及びシリンドリカルレンズ(8)から成るスリット照明光学系(9)によって、以下に説明するようにスリットマスク(10)の開口位置{すなわちスリット(10h)の位置}でスリット状に結像することになる。
【００１０】
レーザーダイオード(1)から放射されたレーザービーム(L1)は、まず回転対称なコリメータ光学系であるコリメータレンズ(2)によって、放射光からコリメート光(すなわち平行光)に変換される。そしてレーザービーム(L1)は、矩形開口板(3)の矩形開口(3h)を通過することにより、必要な光束範囲だけに制限される。図３に、レーザービーム(L1)のビーム形状と、矩形開口(3h)に対応する楕円錐体状ガウシアンビーム使用範囲の断面光量分布(i：光強度，r：ビーム径位置)と、スリット方向(dL,dS)との関係を示す。レーザーダイオード(1)は、図３に示すようにレーザービーム(L1)の楕円の長軸方向がスリット(10h)のスリット長手方向(dL)と一致するように配置されている。これにより、スリット長手方向(dL)の光量分布を概略均一に保ちながら光量利用効率を高めることができる。
【００１１】
矩形開口(3h)を通過したレーザービーム(L1)は、ウェッジプリズムペア(4)に入射する。ウェッジプリズムペア(4)は、レーザービーム(L1)の結像位置を所望の位置へ微調整するための光軸方向偏向手段である。このウェッジプリズムペア(4)の鏡筒を光軸(AX1)中心に回転させることにより、スリット状の光源像を微小に平行シフトさせることが可能である。したがって、レーザービーム(L1)位置の微調整により、光学調整時のスリットマスク(10)の位置とスリット結像位置との位置合わせを行うことができる。
【００１２】
ウェッジプリズムペア(4)を射出したレーザービーム(L1)は、１／２波長板(5)，可変ＮＤフィルター(6)，アナモルフィックプリズムペア(7)，シリンドリカルレンズ(8)を順に通って、スリット(10h)位置でスリット状の光源像を形成する。１／２波長板(5)は、図１(Ａ),(Ｂ)中に示すようにレーザービーム(L1)の偏光方向を９０°回転させる偏光方向変換素子である。第１，第２プリズム(7a,7b)から成るアナモルフィックプリズムペア(7)は、レーザービーム(L1)をその楕円状の長軸方向{つまりスリット長手方向(dL)}にのみ拡大するエキスパンダー光学系である。レーザーダイオード(1)は、一般的なレーザーダイオードと同様、その接合面に対して平行な方向(つまり楕円錐体状ビームの短軸方向)に偏光したレーザービーム(L1)を放射し、また前述したように、レーザービーム(L1)の楕円の長軸方向がスリット長手方向(dL)と一致するように配置されている(図３)。したがってレーザービーム(L1)は、１／２波長板(5)によりＳ偏光からＰ偏光に変換された状態でアナモルフィックプリズムペア(7)に入射することになる。
【００１３】
１／２波長板(5)での偏光方向変換により、アナモルフィックプリズムペア(7)のプリズム面{特に第１，第２プリズム(7a,7b)の各第１面}にレーザービーム(L1)が入射する際の透過率を最大にすることができる。このため、アナモルフィックプリズムペア(7)での光量損失が少なくなり、光量利用の高効率化を達成することができる。さらに、入射角をブリュースター角に近づけることで、プリズム入射面の反射防止膜を不要にすることができる。また、偏光方向がスリット方向と一致するので、効率良くレーザービーム(L1)がスリットを通過することができる。なお、図１には示していないが、１／２波長板(5)のすぐ後に偏光板を配置し、レーザービーム(L1)の偏光方向をより精度良く揃える構成としてもよい。
【００１４】
アナモルフィックプリズムペア(7)は、レーザービーム(L1)をスリット長手方向(dL)へのみ拡大することができる。所望のスリット長を得ながらもスリット短手方向(dS)の光束幅は変化しないので、スリット結像光学系であるシリンドリカルレンズ(8)の焦点距離を伸ばすことなく所望のＮＡ(Numerical Aperture)を得ることができ、スリット照明光学系(9)の全長を短くコンパクトにすることができる。図５(Ａ)に示すように、負のシリンドリカルレンズ(G1)と正のシリンドリカルレンズ(G2)から成るレンズ群をエキスパンダー光学系として用いることによっても、一方向への光束拡大は可能である。しかし、アナモルフィックプリズムペア(7)を用いれば、レンズ群(G1,G2)を用いた場合よりも、図５(Ｂ)に示すように拡大方向の両端部における光束密度の低下が少なくなる。つまり、レンズ群を用いた場合、収差の小さな光学系を構成することは容易でない。したがってアナモルフィックプリズムペア(7)の使用は、拡大方向であるスリット長手方向(dL)の光量を概略均一に保つことに対しても有効である。
【００１５】
可変ＮＤフィルター(6)は、図４に示すように、ガラス基板上にＮＤ蒸着膜が形成されたＮＤ蒸着部(6a)と、ガラス基板上にＮＤ蒸着膜が形成されていないＮＤ非蒸着部(6b)と、を有する構造になっている。そして、レーザービーム(L1)がＮＤ蒸着部(6a)、ＮＤ非蒸着部(6b)のいずれか一方のみを通過するように、レーザービーム(L1)の光路に対してＮＤ蒸着部(6a)又はＮＤ非蒸着部(6b)を切替挿入することが可能になっている。
【００１６】
測定対象物(15)の高さ位置(Ｚ方向)を測定する際、そのスキャニングは往路と復路との２回行われる。往路のスキャニング{測定対象物(15)の低い位置から高い位置へのＺ方向のスキャニング}では、レーザービーム(L1)がＮＤ非蒸着部(6b)を通過し、復路のスキャニング{測定対象物(15)の高い位置から低い位置へのＺ方向のスキャニング}では、レーザービーム(L1)がＮＤ蒸着部(6a)を通過する。このように可変ＮＤフィルター(6)を用いてレーザービーム(L1)による照明の明暗を切り替えれば、ラインセンサー(14)による計測のダイナミックレンジを拡大することができ、したがって測定対象物(15)の測定可能な反射率範囲を広げることができる。
【００１７】
アナモルフィックプリズムペア(7)によってスリット長手方向(dL)へ拡大されたレーザービーム(L1)は、スリット結像光学系であるシリンドリカルレンズ(8)によって、その楕円状光束断面の短軸方向{つまりスリット短手方向(dS)，図１(Ｂ)}にのみ結像し、長軸方向{つまりスリット長手方向(dL)，図１(Ａ)}にはコリメート状態が保たれる。レーザービーム(L1)の結像位置は、スリットマスク(10)のスリット(10h)位置である。このようにスリット状に結像させてスリットマスク(10)を通過させる、いわゆるクリティカル照明を用いることにより、光量損失を軽減することができる。なお、スリット照明光学系(9)でスリット(10h)位置に光源像を形成する代わりに、その光源像と同様の発散光を放射するスリット光源をスリット(10h)位置に配置してもよい。
【００１８】
上記スリット照明光学系(9)は、図２に示すように、対物光学系(12)の光軸(AX2)に対して角度を持って配置されている。つまり、スリット照明光学系(9)の光軸(AX1)が対物光学系(12)の光軸(AX2)に対して傾いた配置になっている。このため、スリットマスク(10)のスリット(10h)を通過したレーザービーム(L1)は、斜入射照明光として対物光学系(12)に入射することになる。ただし、レーザービーム(L1)は対物光学系(12)に入射する前に偏光ビームスプリッター(11)に入射する。偏光ビームスプリッター(11)は、対物光学系(12)に入射する照明光(L1)と対物光学系(12)から射出した反射光(L2)との光路分離を行う偏光分離素子である。照明光としてのレーザービーム(L1)はＹ方向に偏光しているため、偏光ビームスプリッター(11)に対してＳ偏光として入射する。したがって、レーザービーム(L1)は光路を対物光学系(12)側へ偏向されることになる。
【００１９】
対物光学系(12)は両側テレセントリック光学系であり、照明光(L1)を測定対象物(15)に向けてスリット状に結像させるとともに、測定対象物(15)からの反射光(L2)をラインセンサー(14)に向けてスリット状に結像させる。この対物光学系(12)内には、１／４波長板(12q)が偏光方向変換素子として配置されている。対物光学系(12)に対して斜入射した照明光(L1)は、光軸(AX2)を中心として２分割された一方の領域において１／４波長板(12q)を通過し、測定対象物(15)の被測定面(15s)からの反射光(L2)は、光軸(AX2)を中心として２分割された他方の領域において１／４波長板(12q)を通過する。
【００２０】
上記のように１／４波長板(12q)を光路が往復することにより、反射光(L2)の偏光方向は照明光(L1)の偏光方向に対して９０°回転したものとなる。その結果、対物光学系(12)を射出した反射光(L2)は、偏光ビームスプリッター(11)に対しＰ偏光として入射することになる。したがって、反射光(L2)は偏光ビームスプリッター(11)を透過することができ、偏光ビームスプリッター(11)を通過した反射光(L2)はラインセンサー(14)の受光面(14s)に入射する。なお、１／４波長板(12q)を用いて照明光(L1)と反射光(L2)に対する偏光方向変換を行う代わりに、１／２波長板を用いて照明光(L1)又は反射光(L2)に対する偏光方向変換を行う構成としてもよい。
【００２１】
ラインセンサー(14)は１次元配列型のＣＣＤ(Charge Coupled Device)から成っており、複数の受光素子で構成された受光面(14s)をスリット(10h)の共焦点位置に有するとともに、その受光面(14s)上に測定対象物(15)の像が投影されるように固定配置されている。つまり、スリット(10h)と受光面(14s)は、共に測定対象物(15)に対して共役な位置関係{すなわち対物光学系(12)について光学的に等価な共焦点位置}に配置されているのである。したがって、測定対象物(15)の被測定面(15s)に対して焦点が合っている場合には、その共役位置にあるラインセンサー(14)の受光面(14s)上で反射光(L2)が結像し、反射光(L2)の光量が画素毎に検出されることになる。
【００２２】
対物光学系(12)は、その内部に配置されたフォーカスレンズ群(12f)の移動により、像側共役位置{つまり測定対象物(15)側の共役位置}のみを移動させて、測定対象物(15)の高さ方向(Ｚ方向)のスキャニングを行う。このＺ方向のスキャニングはフォーカスレンズ群(12f)の移動による簡単な構成で行われるため、スキャニング機構の小型化及びスキャニングの高速化が可能である。またＸＹステージ(13)は、載置された測定対象物(15)と共にＸ，Ｙ方向に移動することにより、測定対象物(15)と照明光(L1)とのＸ，Ｙ方向の相対位置を変化させて、測定対象物(15)に対する測定領域全域の計測を行う。
【００２３】
測定対象物(15)の３次元形状の測定において、Ｘ方向のサイズは、ＸＹステージ(13)による測定対象物(15)の移動走査により求められ、Ｙ方向のサイズは、対物光学系(12)により受光面(14s)上に投影された像のサイズから求められる。ただし、投影像が受光面(14s)のＹ方向範囲を超える場合には、ＸＹステージ(13)をＹ方向に移動させる制御が行われる。一方、Ｚ方向{光軸(AX2)に対して平行な方向}のサイズ(すなわち高さ位置)は、フォーカスレンズ群(12f)を光軸(AX2)に沿って移動させながら、ラインセンサー(14)の各受光素子からの出力変動を読み取り、測定対象物(15)が受光面(14s)で合焦したとき{つまり、被測定面(15s)と受光面(14s)との共役関係の成立により出力がピークになったとき}のフォーカスレンズ群(12f)の位置を検出することにより求められる。したがって、ＸＹステージ(13)で測定対象物(15)を移動させながらフォーカスレンズ群(12f)を移動させると、測定対象物(15)の断面形状が順次検出されて、それを演算することにより測定対象物(15)の３次元形状が測定される。
【００２４】
一般的な共焦点光学系により、例えば鏡面と拡散面とが表面に混在するような測定対象物の高さ位置を検出した場合、対物光学系の焦点が被測定面に合っていなくても、拡散面からの拡散反射光が測定対象物に対する照射光路と同様の光路を通ってセンサーに入射し、測定精度に影響を与えることがある。これを図６を用いて説明する。図６(Ａ)は全開口照明の場合、図６(Ｂ)は斜入射照明の場合である。いずれの場合も被測定面(15s)は像側共役位置(P2)から外れているが、物体側共役位置(P1)に配置したピンホール板(19)のピンホール(19h)を、拡散反射光(R1,R2)の一部(R1)が通過している。このようにピンホール板(19)を空間フィルターとして配置しても拡散反射光(R1)がピンホール(19h)を通過してしまうため、測定対象物(15)の高さ方向のスキャニング時においてセンサー出力がピークとなる高さ位置を検出する場合に、拡散反射光(R1)がノイズとして測定精度に影響を及ぼし、鏡面と拡散面とで高さ測定データにズレを生じさせてしまう。
【００２５】
上記拡散反射光(R1)を遮光する方法としては、測定対象物をセットするステージ面の法線方向に対して光軸を傾斜させて配置した照明光学系と、照明光学系の光軸の正反射方向に光軸を合わせて配置した集光光学系と、で光学構成することにより、上記拡散反射光(R1)をセンサーに入射させない方法が知られている。しかしその構成では、高さ方向にスキャニングする場合に光学系全体又はステージを上下方向に移動させる機構が必要となる。したがって、装置構成が大がかりなものとなるため、スキャニングの高速化に対しては有効でない。
【００２６】
図２に示す３次元形状測定光学系では、図７(Ａ),(Ｂ)に示すように各像高の照明光(L1)が両側テレセントリックの対物光学系(12)に対して斜入射し(ST：絞り)、図７(Ｃ)に示すように対物光学系(12)の光軸(AX2)を中心として２分割された、対物光学系(12)の瞳(EP)の片側領域(A1)のみを通過して被測定面(15s)を照明する。そして、被測定面(15s)からの反射光(L2)は、他方の片側領域(A2)を通過して対物光学系(12)を射出する。問題となる前記拡散反射光(R1)は、照明光(L1)と同様の光路をたどって片側領域(A1)を通ることになるが、図２及び図８に示すように偏光ビームスプリッター(11)とラインセンサー(14)との間に配置されている遮光マスク(16)によって遮光される。このように、測定対象物(15)からの反射光(L2)のうち片側領域(A1)を通過した拡散反射光(R1)は、空間フィルターとしての遮光マスク(16)によって遮光されるため、被測定面(15s)が像側共役位置(P2)から外れている場合でも、拡散反射光(R1)による測定ノイズは軽減され、高さ位置検出精度が向上する。なお、この構成はスリット共焦点検出方式に限らず、ピンホール共焦点検出方式を採用した場合でも有効である。
【００２７】
図９(Ａ)〜(Ｃ)は全開口照明の場合、図９(Ｄ)〜(Ｆ)は斜入射照明の場合において、ラインセンサー(14)の受光面(14s)に対するデフォーカス光路の変化(Ａ，Ｄ)、その光強度分布の変化(Ｂ，Ｅ；i：光強度)及び検出光量の変化(Ｃ，Ｆ；q：光量)をそれぞれ示している。図９(Ａ)〜(Ｃ)と図９(Ｄ)〜(Ｆ)とを比較すると分かるように、斜入射照明光(L1)を用いることによって、受光面(14s)でのデフォーカスに対する入射光量変化のコントラストが良くなり、高さ位置検出精度も向上する。また、照明光(L1)はできるだけ対物光学系(12)の光軸(AX2)から離れた位置を通過するようにした方が、拡散反射光(R1)に対する遮光効果が良くなり、さらに検出光量変化のコントラストも良くなる。
【００２８】
図２に示す３次元形状測定光学系では、スリット(10h)位置に形成される光源像の共焦点位置にラインセンサー(14)の受光面(14s)が位置しているが、光量検出位置は、対物光学系(12)に関する光源像の共焦点位置に限らず、対物光学系(12)に関する光源(例えば前記スリット光源を用いた場合)の共焦点位置であってもよく、対物光学系(12)に関する共焦点位置のリレー光学系に関する共役位置であってもよい。図１０(Ａ),(Ｂ)に、ラインセンサー(14)側にリレー光学系(18)を備えた３次元形状測定光学系を示す。この３次元形状測定光学系の特徴は、スリットマスク(10)の共焦点位置にスリットマスク(17)を配置し、スリットマスク(17)とラインセンサー(14)との間にリレー光学系(18)を配置した点にある。そのほかは図２に示す３次元形状測定光学系と同様の構成になっている。この場合、対物光学系(12)に関するスリット(10h)の共焦点位置にスリット(17h)が位置しており、リレー光学系(18)に関するスリット(17h)の共役位置にラインセンサー(14)の受光面(14s)が位置している。リレー光学系を用いればセンサーの位置に自由度ができ、また被測定部を３次元形状測定用の対物光学系(12)を通して観察する観察光学系(図示しない)も設けるようにできる。
【００２９】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、アナモルフィックプリズム系で照明光の拡大が行われるためスリット照明光学系の小型化が可能となるとともに、収差の小さな光学系が容易にできる。また、偏光方向変換素子で照明光の偏光方向変換が行われるためアナモルフィックプリズム系での光量損失を少なくすることができる。したがって、均一で高い光量の照明光が得られるコンパクトなスリット照明光学系を備えた３次元形状測定光学系を実現することができるので、ダイナミックレンジが全測定領域にわたり一定になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るスリット照明光学系の構成例を模式的に示す光学構成図。
【図２】図１のスリット照明光学系を備えた３次元形状測定光学系を模式的に示す概略構成図。
【図３】レーザービームのビーム形状とその断面光量分布とスリット方向との関係を説明するための図。
【図４】計測システムのダイナミックレンジを拡大するための可変ＮＤフィルターの動作を説明するための図。
【図５】エキスパンダー光学系によるレーザービームのビーム整形を説明するための光路図。
【図６】測定精度に影響を与える拡散反射光の光路を説明するための図。
【図７】瞳面における反射光通過領域と反射光遮光領域との関係を説明するための図。
【図８】図２の３次元形状測定光学系における遮光マスクの配置を示す斜視図。
【図９】ラインセンサーの受光面に対するデフォーカス光路の変化、その光強度分布の変化及び検出光量の変化を説明するための図。
【図１０】ラインセンサー側にリレー光学系を備えた３次元形状測定光学系を模式的に示す光学構成図。
【符号の説明】
1  …レーザーダイオード(点光源)
2  …コリメータレンズ(コリメータ光学系)
3  …矩形開口板
3h  …矩形開口
4  …ウェッジプリズムペア(光軸方向偏向手段)
5  …１／２波長板(偏光方向変換素子)
6  …可変ＮＤフィルター
7  …アナモルフィックプリズムペア(アナモルフィックプリズム系)
8  …シリンドリカルレンズ(シリンドリカル光学系)
9  …スリット照明光学系
10  …スリットマスク
10h  …スリット
11  …偏光ビームスプリッター
12  …対物光学系
14  …ラインセンサー
14s  …受光面
15  …測定対象物
15s  …被測定面
16  …遮光マスク
L1  …照明光(レーザービーム)
L2  …反射光
AX1  …スリット照明光学系の光軸
AX2  …対物光学系の光軸
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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