(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理基板を、処理する処理工程ラインの途中において、所定の時間だけ保管するためのバッファ装置であって、処理基板をほぼ水平な状態で搬送でき、且つ、その上に静止して置き、保管することができる、複数のロールからなるコンベア兼用の段を、複数重ねて棚状に設けた棚部と、棚部全体を一体として、上下方向にその位置を管理しながら移動する上下移動部と、処理基板の受け入れを検知するセンサー部と、棚部の各段の処理基板の有無の管理と、保管されている処理基板をコンベア搬送する各段の動作における時間管理、棚段の上下動作における時間管理を行い、且つ、各部の動作を関連つけて制御する制御部とを備え、処理基板の受け入れの際には、処理基板が置かれていない、所定の空の段の位置を、受け入れする処理基板の高さに合わせて、処理基板を内部へ受け入れするもので、処理基板の送り出しの際には、所定の時間保管された処理基板の置かれている段の位置を、送り出す位置に合わせて、処理基板を外部へ送り出すものであり、且つ、棚部を２個以上、処理基板受け入れ側から順に、処理基板送り出し側にかけて、隣接するように配置し、隣接する棚段間の処理基板の搬送は、それぞれの各段のコンベア搬送により行われるものであることを特徴とするバッファ装置。
【請求項２】
プラズマディスプレイ用の基板を処理基板として、露光、現像処理を一貫して行う装置における、露光部と現像部間に設けられるバッファ部として用いられるもので、ネガ型感光性レジストの光励起されたラジカルの反応を完結させるためのものであることを特徴とする請求項１に記載のバッファ装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、処理基板を、処理する処理工程ラインの途中において、所定の時間だけ保管するためのパッファ装置に関し、更に具体的には、プラズマディスプレイ用の基板を処理基板として、露光、現像処理を一貫して行う装置における、露光部と現像部間に設けられるバッファ部として用いられるもので、ネガ型感光性レジストの光励起されたラジカルの反応を完結させるための装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、プラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰとも記す）は、その奥行きの薄いこと、軽量であること、更に鮮明な表示と液晶パネルに比べ視野角が広いことにより、種々の表示装置に利用されつつある。
一般に、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、２枚の対向するガラス基板にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、その間にネオン、キセノン等を主体とするガスを封入した構造となっている。そして、これらの電極間に電圧を印加し、電極周辺の微小なセル内で放電を発生させることにより、各セルを発光させて表示を行うようにしている。特に情報表示をするためには、規則的に並んだセルを選択的に放電発光させている。
【０００３】
ここで、ＰＤＰの構成を、図７に示すＡＣ型ＰＤＰの１例を挙げて説明しておく。
図７はＰＤＰ構成斜視図であるが、分かり易くするため前面板（ガラス基板７１０）、背面板（ガラス基板７２０）とを実際より離して示してある。
図７に示すように、２枚のガラス基板７１０、７２０が互いに平行に且つ対向して配設されており、両者は背面板となるガラス基板７２０上に互いに平行に設けられた障壁（セル障壁とも言う）７３０により、一定の間隔に保持されている。
前面板となるガラス基板７１０の背面側には、放電維持電極である透明電極７４０とバス電極である金属電極７５０とで構成される複合電極が互いに平行に形成され、これを覆って、誘電体層７６０が形成されており、更にその上に保護層（ＭｇＯ層）７７０が形成されている。
また、背面板となるガラス基板７２０の前面側には前記複合電極と直交するように障壁７３０間に位置してアドレス電極７８０が互いに平行に形成されており、更に障壁７３０の壁面とセル底面を覆うように螢光体７９０が設けられている。
障壁７３０は放電空間を区画するためのもので、区画された各放電空間をセルないし単位発光領域と言う。
このＡＣ型ＰＤＰは面放電型であって、前面板上の複合電極間に交流電圧を印加し、で放電させる構造である。この場合、交流をかけているために電界の向きは周波数に対応して変化する。そして、この放電により生じる紫外線により螢光体７９０を発光させ、前面板を透過する光を観察者が視認できるものである。
なお、ＤＣ型ＰＤＰにあっては、電極は誘電体層で被膜されていない構造を有する点でＡＣ型と相違するが、その放電効果は同じである。
また、図７に示すものは、ガラス基板７２０の一面に下地層７６７を設けその上に誘電体層７６５を設けた構造となっているが、下地層７６７、誘電体層７６５は必ずしも必要としない。
【０００４】
そして、従来、上記ＰＤＰに使用する背面板の障壁の形成方法としては、ガラス基板上に障壁形成材料を障壁パターン形状に、スクリーン印刷にて複数回繰り返して重ねて印刷して所要の高さに積み上げ、乾燥させる第１の方法（スクリーン印刷法と呼ばれる）、あるいは、ガラス基板上に障壁形成材料を全面に塗布した後、塗布面上にサンドブラストに耐性を有するレジストを所定形状にパターニング形成し、該レジストをマスクとしてサンドブラストにより障壁形成材料を所定形状に形成する第２の方法（サンドブラスト法と呼ばれる）が採られていた。しかし、上記第１の方法によるＰＤＰに使用する背面板の障壁形成においては、障壁としての所定の厚さを得るには、数回〜１０数回程度のペーストのスクリーン印刷が必要で手間がかかる上に、印刷精度の管理が必要となり、品質的にも満足のいくものを得ることが難しく、現在では、第２の方法が主流となっている。
【０００５】
ここで、第２の方法（サンドブラスト法）による障壁の形成の１例を図６に挙げて、サンドブラスト法による障壁形成方法を、更に説明しておく。
図６（ａ）に示すように、ガラス基板６１０の一面上に下引き層６２０を介して電極配線６３０を形成した後、該電極配線６３０上に、ガラス基板６１０面を覆うように、更に、誘電体層６５０を形成する。
次いで、誘電体層６５０上全面に、障壁形成用の低融点ガラスペーストからなる加工用素材６６０を塗布した（図６（ｂ））後、加工用素材６６０上に、サンドブラスト処理に耐性のある感光性のレジスト６４０を配設し（図６（ｃ））、次いで、形成する障壁の形状に対応した所定形状の絵柄を有するフォトマスクを用いて、レジスト６４０の所定領域のみを所定の電離放射線で露光し、これを現像して、所定形状にパターン化する。（図６（ｄ））
そして、レジスト６４０を加工用素材６６０をサンドブラスト処理する際のマスクとして、サンドブラスト処理を行い、マスクから露出している加工用素材６６０のみを切削して、所定の形状にする。（図６（ｅ））
この後、レジスト６４０を除去して、焼成処理を施して障壁６６０Ａを誘電体層６５０上に形成する。（図６（ｆ））
【０００６】
上記のように、第２の方法によるＰＤＰに使用する背面板となるガラス基板への障壁形成においては、ガラス基板上に塗膜された障壁形成用材料をサンドブラストに耐性のある感光性のレジスト６４０を所定の形状にしたマスクで覆い、複数本のノズルからガラスビーズ等の研磨砂を高圧空気にて吹きつけ、マスクから露出した部分を選択的に切削して障壁を形成していた。
また、同様に、電極配線６３０の形成の際にも、感光性のレジスを用い、これを所定形状の絵柄を有するフォトマスクを用いて、レジスト６４０の所定領域のみを所定の電離放射線で露光し、これを現像して、所定形状にパターン化する工程が採られていた。
【０００７】
このように、ＰＤＰ用の基板の作製においては、感光性のレジストの露光、現像を行う工程が種々あるが、使用される感光性のレジストとしては、ドライフィルムレジスト等のネガ型の感光レジストが、一般的に用いられていた。
そしてまた、近年、ＰＤＰの量産の要求は強く、これらＰＤＰ用の基板の作製においても、できるだけ処理を確実に一貫して行うことができる生産ラインが求められている。
このような状況のもと、ＰＤＰ用の基板を処理基板として、露光、現像処理を一貫して行う装置においても、ネガ型感光性レジストを露光した後、光励起されたラジカルの反応を完結させる所定の時間が必要であるが、生産ライン全体を長くせず、且つ、露光後の処理基板に対し、ネガ型感光性レジストを露光した後、確実に、光励起されたラジカルの反応を完結させる所定の時間を確保させることができるバッファ部を設けることが難しく、問題となっていた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、ＰＤＰ用の基板の作製における露光、現像処理を一貫して行う装置においては、ネガ型感光性レジストを露光した後、光励起されたラジカルの反応を完結させために、露光部と現像処理部間に設けられ、できるだけ場所をとらず、露光後の処理基板を保管でき、且つ、所定の時間経過後に処理基板を現像処理部側へ送り出すことが、確実にできるバッファ装置が求められていた。
本発明は、これに対応するもので、ＰＤＰ用の基板の作製における露光、現像処理を一貫して行う装置であって、ネガ型感光性レジストを露光した後、光励起されたラジカルの反応を完結させために、露光部と現像処理部間に設けられ、できるだけ場所をとらず、露光後の処理基板を保管でき、且つ、所定の時間経過後に処理基板を現像処理部側へ送り出すことが、確実にできるバッファ装置を提供しようとするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明のバッファ装置は、処理基板を、処理する処理工程ラインの途中において、所定の時間だけ保管するためのバッファ装置であって、処理基板をほぼ水平な状態で搬送でき、且つ、その上に静止して置き、保管することができる、複数のロールからなるコンベア兼用の段を、複数重ねて棚状に設けた棚部と、棚部全体を一体として、上下方向にその位置を管理しながら移動する上下移動部と、処理基板の受け入れを検知するセンサー部と、棚部の各段の処理基板の有無の管理と、保管されている処理基板をコンベア搬送する各段の動作における時間管理、棚段の上下動作における時間管理を行い、且つ、各部の動作を関連つけて制御する制御部とを備え、処理基板の受け入れの際には、処理基板が置かれていない、所定の空の段の位置を、受け入れする処理基板の高さに合わせて、処理基板を内部へ受け入れするもので、処理基板の送り出しの際には、所定の時間保管された処理基板の置かれている段の位置を、送り出す位置に合わせて、処理基板を外部へ送り出すものであり、且つ、棚部を２個以上、処理基板受け入れ側から順に、処理基板送り出し側にかけて、隣接するように配置し、隣接する棚段間の処理基板の搬送は、それぞれの各段のコンベア搬送により行われるものであることを特徴とするものである。
そして、上記のバッファ装置であって、プラズマディスプレイ用の基板を処理基板として、露光、現像処理を一貫して行う装置における、露光部と現像部間に設けられるバッファ部として用いられるもので、ネガ型感光性レジストの光励起されたラジカルの反応を完結させるためのものであることを特徴とするものである。
【００１０】
【作用】
本発明のバッファ装置は、このような構成にすることにより、ＰＤＰ用の基板の作製における露光、現像処理を一貫して行う装置で、ネガ型感光性レジストを露光した後、光励起されたラジカルの反応を完結させるために、露光部と現像処理部間に設けられ、できるだけ場所をとらず、露光後の処理基板を保管でき、且つ、所定の時間経過後に処理基板を現像処理部側へ送り出すことが、確実にできるバッファ装置の提供を可能とするものである。
具体的には、処理基板をほぼ水平な状態で搬送でき、且つ、その上に静止して置き、保管することができる、複数のロールからなるコンベア兼用の段を、複数重ねて棚状に設けた棚部と、棚部全体を一体として、上下方向にその位置を管理しながら移動する上下移動部と、処理基板の受け入れを検知するセンサー部と、棚部の各段の処理基板の有無の管理と、保管されている処理基板をコンベア搬送する各段の動作における時間管理、棚段の上下動作における時間管理を行い、且つ、各部の動作を関連つけて制御する制御部とを備え、処理基板の受け入れの際には、処理基板が置かれていない、所定の空の段の位置を、受け入れする処理基板の高さに合わせて、処理基板を内部へ受け入れするもので、処理基板の送り出しの際には、所定の時間保管された処理基板の置かれている段の位置を、送り出す位置に合わせて、処理基板を外部へ送り出すものであることにより、これを達成している。
即ち、処理基板をその上に静止して置き、保管することができる複数のロールからなるコンベア兼用の段を棚状に設けていることにより、場所をとらないものとし、且つ、処理基板の受け入れを検知するセンサー部や、棚部の各段の処理基板の有無の管理と、保管されている処理基板をコンベア搬送する各段の動作における時間管理、棚段の上下動作における時間管理を行い、更に、各部の動作を関連つけて制御する制御部とを備えていることにより、処理基板毎に、保管の時間を管理することを可能としている。
【００１１】
特に、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）用の基板を処理基板として、露光、現像処理を一貫して行う装置における、露光部と現像部間に設けられるバッファ部として用いられるもので、ネガ型感光性レジストの光励起されたラジカルの反応を完結させるために適用される場合には、有効である。
ＰＤＰ用のバッファ部として用いられる場合には、ＰＤＰの大型化（６０インチ級で、サイズ１０００ｍｍ×１５００ｍｍ、厚さ５ｍｍ程度）のため、棚部は１０段程度が、その重さから実用的である。
そして、棚部を１０段程度とした場合には、棚部を２個、処理基板受け入れ側から順に、処理基板送り出し側にかけて、隣接するように配置することにより、２個の棚段を用い、処理基板を保管でき、結果、各処理基板を露光後所定の時間を経過して、確実に現像処理部へ送り出すことができ、実用的と言える。
尚、隣接する棚段間の処理基板の搬送は、それぞれの各段のコンベア搬送により行うことができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明のバッファ装置の実施の形態を挙げ、図に基づいて説明する。
図１は本発明のバッファ装置の実施の形態の１例の概略断面図で、図２（ａ）は、図１におけるＡ１−Ａ２からみた図で、図３は上下移動の位置を検出するセンサー部の図で、図４、図５は、本例のバッファ装置の動作を説明するための図である。
尚、図３（ａ）は、図２中のＢ１−Ｂ２方向から見た羽根付近の図で、図３（ｂ）は図３（ａ）のＣ１−Ｃ２における一部断面図である。
図１〜図３中、１００はバッファ装置、１１０は棚部、１１１は段、１１３はローラ、１１３Ａは軸、１１５は保持部、１２０は制御部、１３０は上下移動部、１３１はボールネジ、１３２はモータ、１４１、１４２、１４３はセンサー、１４５は位置センサー、１４５Ａは投光部、１４５Ｂは受光部、１４８は羽根、１４８Ｓは面、１５１、１５２はローラ、１６１は受け入れ部、１６２は送り出し部、１７０はブース、１８０は処理基板である。
図１に示す本例のバッファ装置１００は、ＰＤＰ用の基板の作製の際に用いられ、露光装置と現像装置との間に設けて使用されるもので、ネガ型の感光性レジストの所定箇所のみを露光した後、保管して所定の時間だけ経過させて、現像処理部へ送り出すための装置である。
そして、図１に示すように、処理基板１８０をほぼ水平な状態で搬送でき、且つ、その上に静止して置き、保管することができる、複数のロール１１３からなるコンベア兼用の段１１１を、複数重ねて棚状に設けた棚部１１０を２個（１１０Ａ、と１１０Ｂ）と、棚部１１０全体を一体として、上下方向にその位置を管理しながら移動する上下移動部１３０と、処理基板１８０の受け入れ部１６１において、処理基板１８０の受け入れと、処理基板１８０のサイズとを検知するセンサー１４１と、棚部１１０の各段１１１の処理基板の有無の管理と、保管されている処理基板をコンベア搬送する各段１１１の動作における時間管理、棚段１１０の上下動作における時間管理を行い、且つ、各部の動作を関連つけて制御する制御部１２０とを備えている。
そして、処理基板１８０の受け入れの際には、棚段１１０Ｂの処理基板１８０が置かれていない、所定の空の段１１１の位置を、受け入れする処理基板の高さに合わせて、処理基板１８０を内部へ受け入れ、処理基板１８０の送り出しの際には、処理基板１８０の置かれている段１１１の位置を、送り出す位置に合わせて、処理基板１８０を外部へ送り出すものである。
尚、必要に応じ、棚段１１０Ｂの処理基板のある段を、棚段１１０Ａの空の段の高さに合わせ、空の段側に処理基板を各段のローラーを回転させて、送り込む。
【００１３】
棚部１１０の各段１１１は、ほぼ水平に位置する複数の回転駆動できるローラ１１３からなり、処理基板１８０をほぼ水平な状態でコンベア搬送でき、且つ、その上に静止して置き、保管することができるものであり、各段のコンベア搬送、静止の制御は、制御部１２０により行われる。
各ローラ１１３の回転の駆動は、図１では図示していないが、例えば、ローラーの両端部の軸に所定のカップリング部を設け、適宜、これに嵌合する回転部を嵌めて、回転させてる方法が挙げられるが、特にこれに限定はされない。
【００１４】
上下移動部１３０は、ボールネジ１３１をモータ１３２で回転駆動させることにより、保持部１１５を上下移動させ、結果、上下移動する保持部１１５に固定された棚部１１０全体を上下移動させるものである。
尚、保持部の内側は、ボールネジ１３１に嵌合するネジ部が設けられている。
【００１５】
センサー１４５は、所定の位置に固定され、棚段１１０の上下移動の位置を検出するもので、棚段の位置が把握でき、且つ、処理基板の受け入れ、送り出しが、正常にでき、棚段間の処理基板のコンベア搬送ができるように、上下の位置制御をするためのセンサーである。
センサーとしては、本例ではフォトセンサーを挙げたが、これに限定されない、機械的なセンサーでも良い。
【００１６】
センサー１４１は受け入れる処理基板１８０を確認するとともに、処理基板１８０のサイズを把握し、この情報を基に、受け入れる棚段のローラー１１３の駆動を制御し、ほぼ棚段の中心に位置するようにセットする。
処理基板のサイズは、ローラー１５１、ローラー１１３による搬送速度から算出することができる。
センサー１４２は、所定時間保管された、処理基板の送り出しを確認するものであるが、これは必ずしも必要ではない。
センサー１４３は、棚段１１０Ｂから１１０Ａへ処理基板の移動を把握するものである。
【００１７】
制御部１２０は、各センサーからの情報等をもとに、予め決められた、後述する図４や図５に示す動作フローに従い、装置１００の状態を把握し、各部へ動作の指示を行うものである。
具体的には、制御部１２０は、各棚部１１０の各段１１１の処理基板１８０の有無の管理と、保管されている処理基板１８０をコンベア搬送する各段１１１の動作における時間管理、棚段１１０の上下動作における時間管理を行い、且つ、各部の動作を関連つけて制御するが、その制御方法には、種々あり、特に限定はされない。
尚、処理基板のサイズが複数ある場合は、制御部は、各段の処理基板のサイズも把握して、段のローラー回転駆動を制御する。
【００１８】
次に、各センサー部について、さらに図３を基に説明する。
センサー１４５は、棚段１１０の上下の移動位置を把握するためのもので、例えば、図３（ａ）に示すように、棚段に一体的に固定された羽根１４８を多数所定の距離間隔で設けておき、羽根の一面からの反射光を感知するものである。
即ち、図３（ｂ）に示すように、センサー１４５は所定の位置に固定された投光部１４５Ａと受光部１４５Ｂを持つフォトセンサーで、ボールネジ１３１の回転による棚段の位置の移動により、羽根１４８の面１４８Ｓを検出することにより、その位置に対応した信号（データ）を得ることができる。
尚、他にも、ボールネジの回転軸にロータリーエンコーダを設け、その出力により位置管理することも可能である。
【００１９】
図４に、本例の装置への処理基板の受け入れ動作フローの１例を示し、図５に本例の装置から処理基板をおくり出す動作フローの１例を示し、図に基づいて各動作を説明する。
図４、図５に示す動作は、基本的に図１に示す、棚部１１０Ａの段に、棚部１１０Ｂよりも優先的に保管用の基板を送り込み、１度処理基板が、段に保管されたら、その段で所定の時間を経過させて、処理基板をその段から外部へ送り出すものである。
但し、各棚段の１番下側の段は、空にしておき、処理基板の受け入れ動作、送り出し動作の際に搬送用のコンベアとして用いるものである。
ここでは、段部１１０Ａ、１１０Ｂの１番下側の段を、それぞれ、段Ａ０、段Ｂ０として以下説明を行う。
尚、図４、図５に示す動作フローは１例で、別の動作フローを用いて、本例の装置を動作させても良いことは言うまでもない。
また、これを以て、制御部１２０の動作、棚段１１０の動作等の説明に代える。
【００２０】
先ず図３に示す本例の装置への処理基板の受け入れ動作を、図４に基づき、図１、図２を参照にしながら説明する。
まず、受け入れ用の処理基板がローラー１５１にセットされる。（Ｓ４１０）受け入れ部１６１の手前で、処理基板１８０は静止した状態で受け入れ動作を待つ。
装置１００が送り出しの動作や受け入れ動作等の動作中である場合は、処理基板はそのまま静止つづけ、受け入れを中止し、装置１００が動作中でない場合には受け入れ動作を開始する。（Ｓ４１１）
装置１００が送り出しの動作や受け入れ動作等の動作中でない場合は、まず棚段１１０Ａに空きの段があるか否かを確認する。（Ｓ４１２）
そして、棚段１１０Ａに空きがある場合、一応棚段１１０Ｂの搬送用の段Ｂ０が空であることを確認し（Ｓ４１３）、段Ｂ０が受け入れ位置の高さ位置にあることを確認する。（Ｓ４１４）
段Ｂ０が受け入れ位置の高さ位置にない場合には、棚段１１０Ｂを上下移動させ、段Ｂ０を受け入れ位置の高さ位置に移動する。
段Ｂ０が受け入れ位置の高さ位置において、棚段１１０Ａの空の段のうち、処理基板を受け入れる段を選定する。（Ｓ４１５）
選定された段を受け入れ位置と同じ高さ位置に移動する。（Ｓ４１６）
次いで、ローラー１５１、段Ｂ０のローラー１１３、棚段１１０Ａの選定された段のローラーを回転駆動し（Ｓ４１７）、処理基板を選定された段の所定の位置まで搬送してまず選定された段のローラーを停止し（Ｓ４１８）、次いで適宜、各ローラーの駆動を停止する。（Ｓ４１９）
このようにして、棚段の選定された段の所定の位置に処理基板が保管されたこととなるが、制御部１２０は、該受け入れられた処理基板の、受け入れ時間、該当する棚段、保管段等を対応して把握し、必要応じ、このデータを送り出し動作フロー側等に送る。
そして、受け入れが完了する。
【００２１】
また、棚段１１０Ａに、段Ａ０の他に空きの段がない場合、棚段１１０Ｂに、段Ｂ０の他に空きの段があるか否かを確認する。（Ｓ４２１）
空きの段がある場合には、受け入れる段を選定する。（Ｓ４２２）
次いで、選定された段を受け入れ位置と同じ高さ位置に移動させる。（Ｓ４２３）
次いで、ローラ１５１と棚段１１０Ｂの選定された段のローラー１１３を回転駆動し、処理基板を受け入れる。（Ｓ４２４）
選定された段の所定の位置に処理基板が入った状態で、選定された段のローラー１１３を停止し（Ｓ４２５）、次いでローラー１５１も停止する。（Ｓ４２６）
同様に、棚段の選定された段の所定の位置に処理基板が保管されたこととなるが、制御部１２０は、該受け入れられた処理基板の、受け入れ時間、該当する棚段、保管段等を対応して把握し、必要に応じ、このデータを送り出し動作フロー側等に送る。
そして、受け入れが完了する。
【００２２】
次に、図５に示す本例の装置への処理基板の送り出し動作を、図５に基づき、図１、図２を参照にしながら説明する。
各棚段の各段について、保管時間が所定の時間に達したものがあるか否かを逐次確認し、該当する段がある場合、その段の処理基板の送り出し動作を行う。
そして、まず、保管時間が所定の時間に達した段を選定（特定）する。（Ｓ５１０）
次いで、装置１００が送り出しの動作や受け入れ動作等の動作中である場合は、処理基板は特定された段でそのまま静止つづけ、送り出しを中止し、装置１００が動作中でない場合には、送り出し動作を開始する。（Ｓ５１１）
また、装置１００が送り出しの動作や受け入れ動作等の動作中でない場合は、特定された段がまず棚段１１０Ａにあるか否かを確認する。（Ｓ５１２）
特定された段が棚段１１０Ａにある場合、特定された段を、送り出し位置と同じ高さに移動する。（Ｓ５１３）
移動後、ローラー１５２と棚段１１０Ａの特定された段のローラー１１３を回転駆動して、処理基板を送り出す。（Ｓ５１４）
この後、各ローラーの回転を、適宜停止させる。
棚段の特定された段は空となるが、制御部１２０は、この情報を把握して、必要に応じ、受け入れ動作フロー側等に送る。
このようにして、送り出し動作を完了させる。
【００２３】
また、特定された棚段が１１０Ｂである場合には、棚段１１０Ａの段Ａ０が空であることを一応確認し（Ｓ５２０）、段Ａ０が送り出し位置と同じ高さの位置であるかを確認し、その位置になければ、その位置に移動させる。（Ｓ５２１）段Ａ０が送り出し位置と同じ高さの位置にした状態で、棚段１１０Ｂの特定された段を、送り出し位置と同じ高さの位置に移動させる。（Ｓ５２２）
移動後、ローラー１５２と、段Ａ０と棚段１１０Ｂの特定された段のローラー１１３とを回転駆動して、処理基板を送り出す。（Ｓ５２３）
この後、各ローラーの回転を、適宜停止させる。
棚段の特定された段は空となるが、制御部１２０は、この情報を把握して、必要に応じ、受け入れ動作フロー側等に送る。
このようにして、送り出し動作を完了させる。
【００２４】
【発明の効果】
本発明は、上記のように、処理基板を、処理する処理工程ラインの途中において、所定の時間だけ保管するためのパッファ装置で、省スペースで、多数の処理基板の保管ができ、且つ、所定の時間経過後に処理基板を、外部へ送り出すことが、確実にできる装置の提供を可能とした。
特に、ＰＤＰ用の基板の作製における露光、現像処理を一貫して行う装置に適用され、ネガ型感光性レジストを露光した後、光励起されたラジカルの反応を完結させために、露光部と現像処理部間に設けられた場合、場所をとらず、露光後の処理基板を保管でき、且つ、所定の時間経過後に処理基板を現像処理部側へ送り出すことが、確実にできるものとし、結果、品質的にも、作業面でもその効果は大である。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施の形態の１例のバッファ装置の概略図
【図２】実施の形態の１例のバッファ装置の一断面図
【図３】上下移動の位置を検出するセンサー部を説明するための図
【図４】処理基板の受け入れ動作フロー図
【図５】処理基板の送り出し動作フロー図
【図６】サンドブラスト処理による障壁の形成を説明するための図
【図７】ＰＤＰ基板を説明するための図
【符号の説明】
１００                            装置
１１０、１１０Ａ、１１０Ｂ        棚部
１１１                            段
１１３                            ローラ
１１３Ａ                          軸
１１５                            保持部
１２０                            制御部
１３０                            上下移動部
１３１                            ボールネジ
１３２                            モータ
１４１、１４２、１４３            センサー
１４５                            位置センサー
１４５Ａ                          投光部
１４５Ｂ                          受光部
１４８                            羽根
１４８Ｓ                          面
１５１、１５２                    ローラ
１６１                            受け入れ部
１６２                            送り出し部
１７０                            ブース
１８０                            処理基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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