(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、陽極と、少なくとも一層の発光性有機層と、陰極とを順次積層してなる有機エレクトロルミネッセンス装置において、
前記陰極は光透過性を有しており、
前記陰極の上に酸化防止層を備え、
前記酸化防止層は、第１酸化防止層と、当該第１酸化防止層の上に設けられた第２酸化防止層とを有し、
前記第１酸化防止層は、カルシウムからなり、
前記第２酸化防止層は、金からなることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項２】
前記第１酸化防止層と、前記第２酸化防止層と、を交互に積層したことを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項３】
表示体と、当該表示体に駆動信号を供給する駆動回路と、を備えた電子機器において、
前記表示体として、請求項１又は２に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、表示装置や光源として利用される有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬと称す）装置及びその製造方法、並びにそれを利用した電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
有機ＥＬ素子（少なくとも一層の発光性有機層が陰極と陽極との間に配置されてなる自発光性素子）を画素に対応させて備える有機ＥＬ表示体は、高輝度で自発光であること、直流低電圧駆動が可能であること、応答性が高速であること、固体有機膜による発光であることによって、優れた表示性能、薄型化、軽量化、 低消費電力化が可能であるため、将来的に液晶表示体に変わるものとして期待されている。
【０００３】
ところが、有機ＥＬ素子には、素子の構成部材が経時変化によって劣化することに伴って、上述した優れた特性が得られなくなるという問題点があった。この原因として、特に陰極と発光性有機層が、大気中の酸素や水分により酸化されることが挙げられている。
そこで、上記問題を解決するために、基板上に、陽極と、少なくとも一層の発光性有機層と、陰極と、を順次積層してなる有機ＥＬ素子において、陰極を二層構造とすることで、陰極側からの酸素及び水分の浸入を抑制する手段が取られている。ここで、発光性有機層と接する第一陰極層を、低仕事関数の形成材料（例えば、Ｃａ薄膜）から形成し、その上面に積層される第二陰極層を、この第一陰極層より高仕事関数の形成材料（例えば、Ａｌ薄膜）から形成している。
【０００４】
上記手段によって、第一陰極層は高い発光効率を有する陰極として機能するとともに、第二陰極層は第一陰極層及び発光性有機層への酸素及び水分の浸入を抑制するパッシベーション膜としての機能を果たしている。
【０００５】
【発明の解決しようとする課題】
しかしながら、上記陰極の二層構造のうち、第二陰極層として多々利用されているＡｌは、酸素や水分に対して安定性を有する金属ではあるが、層表面にピンホールができやすいという不具合があった。このため、このピンホールより、第一陰極層や発光性有機層へ酸素及び水分が浸入し、有機ＥＬ素子の劣化を促進してしまうという恐れがあった。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、陰極のさらに上面に酸素や水分を吸収可能な酸化防止層を積層することによって、陰極及び発光性有機層への酸素及び水分の浸入を抑制し、有機ＥＬ素子の寿命を向上させることを可能とした有機エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法、並びにそれを利用した電子機器を提供することを課題としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、基板上に、陽極と、少なくとも一層の発光性有機層と、陰極とを順次積層してなる有機エレクトロルミネッセンス装置において、前記陰極は光透過性を有しており、前記陰極の上に酸化防止層を備え、前記酸化防止層は、第１酸化防止層と、当該第１酸化防止層の上に設けられた第２酸化防止層とを有し、前記第１酸化防止層は、カルシウムからなり、前記第２酸化防止層は、金からなることを特徴とする。
また、本発明は、基板上に、陽極と、少なくとも一層の発光性有機層と、陰極とを順次積層してなる有機エレクトロルミネッセンス装置において、前記陰極の上に酸化防止層を備え、前記陰極は、前記発光機能層と接する第１陰極と、当該第１陰極層の上に設けられた第２陰極とを有し、前記酸化防止層は、第１酸化防止層と、当該第１酸化防止層の上に設けられた第２酸化防止層とを有し、前記第１陰極は、前記アルカリ金属或いはアルカリ土類金属からなり、前記第２陰極は、前記第１陰極層よりも仕事関数が大きい材料からなり、前記第１酸化防止層は、アルカリ金属或いはアルカリ土類金属からなり、前記第２酸化防止層は、前記第１酸化防止層よりも仕事関数の大きな材料からなり、前記第１及び第２酸化防止層は、前記陰極の上面及び端面を覆っていることを特徴とする。
また、本発明は、上記の有機エレクトロルミネッセンス装置であって、前記第１酸化防止層と、前記第２酸化防止層と、を交互に積層したことを特徴とする請求項１又は２に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
また、本発明は、上記の有機エレクトロルミネッセンス装置であって、前記第２酸化防止層が、アルミニウム、銀、金のいずれか、又はこれらを含んだ合金からなることを特徴とする。
また、本発明は、基板上の表示領域に、陽極と、少なくとも一層の発光性有機層と、陰極とを順次積層する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、第１酸化防止層と、当該第１酸化防止層の上に設けられた第２酸化防止層とを交互に積層することにより、酸化防止層を前記陰極上に形成する工程とを備え、前記陰極に接続される取り出し陰極を具備し、前記第１酸化防止層は、アルカリ金属或いはアルカリ土類金属からなり、前記第２酸化防止層は、前記第１酸化防止層よりも仕事関数の大きな材料からなり、前記酸化防止層の最上層は、前記第１酸化防止層であり、前記最上層を前記表示領域の上に形成するとともに、前記表示領域と前記取り出し陰極との間の部位に前記最上層が形成されることを特徴とする。
本発明は、基板上に、陽極と、少なくとも一層の発光性有機層と、陰極とを順次積層してなる有機エレクトロルミネッセンス装置において、前記陰極の上面に、少なくとも一層の酸化防止層を積層したことを特徴としている。
【０００８】
この有機エレクトロルミネッセンス装置において、前記陰極が、前記発光性有機層と接する第一陰極と、前記第一陰極よりも仕事関数の大きな第二陰極とを積層させた二層構造からなることを特徴としている。
この有機エレクトロルミネッセンス装置において、少なくとも前記陰極と接する前記酸化防止層が、当該接する陰極の形成材料よりも仕事関数の小さな材料からなることを特徴としている。
【０００９】
この有機エレクトロルミネッセンス装置において、前記酸化防止層が、アルカリ金属或いはアルカリ土類金属からなることを特徴としている。
この有機エレクトロルミネッセンス装置において、前記酸化防止層が、カルシウムからなることを特徴としている。
【００１０】
この有機エレクトロルミネッセンス装置において、前記酸化防止層として、少なくとも前記陰極の上面に積層され、当該接する陰極の形成材料よりも仕事関数の小さな材料からなる第一酸化防止層と、当該第一酸化防止層の上面に積層され、前記第一酸化防止層よりも仕事関数の大きな材料からなる第二酸化防止層と、を交互に積層したことを特徴としている。
【００１１】
ここで、交互に積層するとは、陰極の上面に第一酸化防止層と第二酸化防止層とを順次積層することを指し、例えば、第一酸化防止層及び第二酸化防止層をそれぞれ一層ずつ積層しても、第一酸化防止層及び第二酸化防止層をそれぞれ二層以上積層しても、或いは、第一酸化防止層を二層と第二酸化防止層を一層積層しても構わない。つまり、少なくとも陰極の上面に形成される酸化防止層が、接する陰極の形成材料よりも仕事関数の小さな材料からなる第一酸化防止層とするのであれば、最上面の層は、 第一酸化防止層或いは第二酸化防止層のいずれであっても構わない。
【００１２】
この有機エレクトロルミネッセンス装置において、前記第一酸化防止層が、アルカリ金属或いはアルカリ土類金属からなり、前記第二酸化防止層が、アルミニウム、 銀、金のいずれか、又はこれらを含んだ合金からなることを特徴としている。
この有機エレクトロルミネッセンス装置において、前記第一酸化防止層がカルシウムからなり、前記第二酸化防止層がアルミニウムからなることを特徴としている。
【００１３】
本発明は、基板上に、陽極と、少なくとも一層の発光性有機層と、陰極とを順次積層してなる有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、前記陰極の上面に、酸化防止層を、前記陰極形成時と同一のマスクを利用して蒸着する工程を備えたことを特徴としている。
本発明は、基板上に、陽極と、少なくとも一層の発光性有機層と、陰極とを順次積層してなる有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、前記陰極の上面に、酸化防止層を、前記陰極の上面及び端面を露出するマスクを利用して蒸着する工程を備えたことを特徴としている。
【００１４】
本発明は、基板上に、 陽極と、少なくとも一層の発光性有機層と、陰極とを順次積層してなる有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、前記陰極の上面に、酸化防止層を、表示領域が露出するマスクを利用して蒸着する工程を備えたことを特徴としている。
ここで、表示領域とは、有機エレクトロルミネッセンス装置において、表示機能を保有する領域のことを指す。
【００１５】
この有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、前記酸化防止層を、接する前記陰極の形成材料よりも仕事関数の小さな材料で形成することを特徴としている。
この有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、前記酸化防止層を、接する前記陰極の形成材料よりも仕事関数の小さな材料からなる第一酸化防止層と、その上面に積層され、前記第一酸化防止層よりも仕事関数の大きな材料からなる第二酸化防止層と、を交互に積層して形成することを特徴としている。
【００１６】
本発明は、基板上に、陽極と、少なくとも一層の発光性有機層と、陰極とを順次積層してなる有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、前記陰極の上面に、第一酸化防止層と、第二酸化防止層とを、前記陰極形成時と同一のマスクを利用して、順次交互に蒸着する工程と、前記酸化防止層における最上層となる第一酸化防止層或いは第二酸化防止層を、前記陰極の上面及び端面を露出するマスクを利用して蒸着する工程と、を備えたことを特徴としている。
【００１７】
本発明は、基板上に、 陽極と、 少なくとも一層の発光性有機層と、陰極とを順次積層してなる有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、前記陰極の上面に、第一酸化防止層と、第二酸化防止層とを、表示領域が露出するマスクを利用して、順次交互に蒸着する工程と、前記酸化防止層における最上層となる第一酸化防止層或いは第二酸化防止層を、前記陰極の上面及び端面が露出するマスクを利用して蒸着する工程と、を備えたことを特徴としている。
【００１８】
本発明は、表示体と、当該表示体に駆動信号を供給する駆動回路と、を備えた電子機器において、前記表示体として、上述した有機エレクトロルミネッセンス装置を備えたことを特徴としている。
本発明における有機エレクトロルミネッセンス装置において、陰極の上面に、少なくとも一層の酸化防止層を積層したことによって、陰極及び発光性有機層への酸素及び水分の浸入を抑制することが可能となるため、有機ＥＬ素子における特性の経時劣化を防止し、有機エレクトロルミネッセンス装置の長寿命化を図ることが可能となる。
【００１９】
ここで、酸化防止層を形成する仕事関数の小さな材料として、例えば、カルシウム（Ｃａ）、マグネシウム（Ｍｇ）、セシウム（Ｃｓ）、ストロンチウム（Ｓｒ）などのアルカリ金属或いはアルカリ土類金属などが挙げられる。
特に、酸化防止層として、少なくとも陰極の上面に積層し、当該接する陰極の形成材料よりも仕事関数の小さな材料からなる第一酸化防止層と、当該第一酸化防止層の上面に積層し、第一酸化防止層よりも仕事関数の大きな第二酸化防止層と、を交互に積層することによって、第一酸化防止層が酸素及び水分を吸収する吸収層として機能するとともに、第二酸化防止層が、第一酸化防止層の保護膜（パッシベーション膜）として機能するようになる。よって、有機ＥＬ素子の酸化防止をより効率よく行うことが可能となる。
【００２０】
ここで、第一酸化防止層を形成する仕事関数の小さな材料として、例えば、カルシウム（Ｃａ）、マグネシウム（Ｍｇ）、セシウム（Ｃｓ）、ストロンチウム（Ｓｒ）などのアルカリ金属或いはアルカリ土類金属などが挙げられる。また、第二酸化防止層を形成する第一酸化防止層よりも仕事関数の大きな材料として、アルミニウム（Ａｌ）、 銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）のいずれか、又は、これらを含んだ合金、例えば、アルミニウム−クロム（Ａｌ−Ｃｒ）合金や、アルミニウム−リチウム（Ａｌ−Ｌｉ）合金などが挙げられる。
【００２１】
この多層構造を形成する複数の第一酸化防止層は、全層をＣａなどの同一材料で形成するようにしても良いし、 例えば陰極と接する層はＣａとし、それ以外の層はＣｓとするなど、それぞれを異なる材料で形成するようにしても構わない。同様に、多層構造を形成する複数の第二酸化防止層も、全層を同一材料で形成するようにしても良いし、それぞれ異なる材料で形成するようにしても構わない。
【００２２】
また、第一酸化防止層を、 カルシウム（Ｃａ）薄膜から構成し、第二酸化防止層を、金（Ａｕ）薄膜から構成するようにすると、光透過性を有する酸化防止層を形成することも可能であるため、さらに陰極を光透過性を有するものとすれば、陰極側からの発光を実現させることが可能となる。
さらに、陰極を、仕事関数の小さな、 例えばアルカリ金属或いはアルカリ土類金属などからなる第一陰極と、当該第一陰極よりも仕事関数の大きな、 例えば、アルミニウム、 金、銀のいずれか或いはこれらの合金などからなる第二陰極との二層構造とすることによって、有機エレクトロルミネッセンス装置の発光効率を向上させるために有効である。
【００２３】
本発明における有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法によれば、本発明における有機エレクトロルミネッセンス装置を容易に製造することが可能となる。
また、従来から陰極として用いている金属薄膜を積層することで保護膜として利用するため、保護膜の製造にかかる製造工程及び製造コストを削減することが可能となる。
【００２４】
特に、陰極の上面及び端面を覆うように酸化防止層を積層することによって、周辺部からの酸素及び水分の浸入を効果的に防止することが可能となる。
本発明における電子機器において、その表示体として上述した有機エレクトロルミネッセンス装置を備えたことによって、優れた表示性能、薄型化、軽量化、低消費電力化を可能とする電子機器の長寿命化を図ることが可能となる。
【００２５】
また、酸化防止層によって有機ＥＬ素子の酸化を抑制できるため、酸化防止を目的とした封止基板や封止材などを形成しなくてもすむようになるため、電子機器の小型化、 薄膜化を実現するために有効である。
【００２６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施の形態について、図面を参照して説明する。
（第一実施形態）
図１は、本発明にかかる有機ＥＬパネルの一実施形態を示す断面図である。
有機ＥＬパネル１００ａは、図１に示すように、基板１と、その上面に形成される駆動用素子である薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）形成層２（なお、図中には個々のＴＦＴは省略している）と、このＴＦＴ形成層２の上面に順次積層され、基板１上を複数の発光領域（画素領域）Ｌに分割している絶縁性膜３、画素間隔壁（バンク）４と、このバンク４で区画された発光領域Ｌ内に順次積層される陽極層５、正孔注入層６、 発光性有機層７と、さらにその上の基板１面全体に積層される陰極層８と、この陰極層８のさらに上面に積層される酸化防止層９と、この酸化防止層９のさらに上面に封止材１０を介して張付けられる封止基板１１と、から構成されている。
【００２７】
ここで、有機ＥＬ素子Ｅは、陽極層５と、正孔注入層６と、発光性有機層７と、陰極層８、とから構成され、この陽極層５と陰極層８との間に電圧を印加することによって、発光性有機層７で電子とホールとが結合し、生じた光は基板１側から外部に照射されるようになっている。
陽極層５は、ＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）や、ＩＺＯ（亜鉛ドープ酸化インジウム）などから形成される。
【００２８】
正孔注入層６は、バイエル社製「Ｂｙｔｒｏｎ  Ｐ」（ＰＥＤＯＴ：ポリエチレンジオキシチオフェン）などの高分子材料、或いは、ＴＰＤ、ｍ−ＭＴＤＡＴＡ、銅フタロシアニンなどの低分子材料から形成される。
発光性有機層７は、ポリフルオレン誘導体や、ＰＰＶ（ポリパラフェニレンビニレン）などの高分子材料、或いは、Ａｌｑ3 （アルミキノリノール錯体）などの低分子材料から形成される。
【００２９】
陰極層８は、発光性有機層７と接する第一陰極層８Ａと、この第一陰極層８Ａよりも仕事関数の大きな材料からなる第二陰極層８Ｂとを積層させた二層構造としている。ここで、陰極層８は、基板１上面における表示領域Ｄの外側に形成された取り出し陰極８ａと接続されており、この取り出し陰極８ａから電圧が印加されるようになっている。
【００３０】
ここで、第一陰極層８Ａは、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓなどのアルカリ金属或いはアルカリ土類金属である仕事関数の小さな材料から形成される。また、第二陰極層８Ｂは、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇの単体或いはこれらを含む合金 (例えば、Ａｌ−Ｃｒ合金、Ａｌ−Ｌｉ合金）などの第一陰極層８Ａよりも仕事関数の大きな材料から形成され、安定な金属であれば、ピンホールの発生しやすい金属から形成してもよい。
【００３１】
この二層構造を有する陰極層８のうち、第一陰極層８Ａは、電子の注入効率が高いため、高い発光効率を可能とする陰極として機能し、第二陰極層８Ｂは、酸素及び水分と反応しやすい第一陰極層８Ａを保護するためのパッシベーション膜として機能している。
また、酸化防止層９は、 第二陰極層８Ｂよりも仕事関数の小さな材料からなる少なくとも一層の第一酸化防止層９Ａから構成される。ただし、高い酸化防止効果を得るためには、この第一酸化防止層９Ａと、この層よりも仕事関数の大きな材料からなる第二酸化防止層９Ｂとを交互に積層させた多層構造とすることが望ましい。
【００３２】
ここで、第一酸化防止層９Ａとしては、第二陰極層８Ｂよりも仕事関数の小さなＣａ、Ｓｒ、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓなどのアルカリ金属或いはアルカリ土類金属などの材料から形成される。また、第二酸化防止層９Ｂとしては、この第一酸化防止層９Ａよりも仕事関数の大きな材料、例えば、Ａｌ−Ｃｒ合金や、Ａｌ−Ｌｉ合金などＡｕ、Ａｇなどの単体或いはこれらを含む合金などから形成されるが、安定な金属であれば、ピンホールの発生しやすい金属から形成してもよい。なお、多層構造を形成する複数の第一酸化防止層９Ａ及び第二酸化防止層９Ｂは、全層を同一形成材料で形成してもよいし、それぞれの層を異なる形成材料で形成しても構わない。
【００３３】
この酸化防止層９のうち、第一酸化防止層９Ａは、安定な金属からなる第二陰極層８Ｂの上面に形成されるため、大気中の酸素や水分を吸収する機能を有し、第二酸化防止層９Ｂは、第一酸化防止層９Ａを保護するパッシベーショ膜としての機能を有している。
さらに、絶縁性膜３は、ＳｉＯ2 膜から形成され、バンク４は、絶縁体材料であるポリイミドやアクリル樹脂などから形成される。
【００３４】
さらに、封止基板１１は、ガラス、金属、シリコン等の半導体、プラスチック等から形成され、封止剤１０として、２液性のエポキシ系熱硬化性樹やＵＶ硬化型樹脂等を用いて、基板１と張り合わせ封止している。
次に、第１実施形態に記載の有機ＥＬパネル１００ａの製造方法について説明する。
【００３５】
まず、ガラスからなる基板１上に、ＴＦＴ形成層２に具備される個々のＴＦＴを構成する機能層、絶縁層、保護層、電極層などの形成材料を、例えば、プラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）による成膜と、フォトリソグラフィ工程によるパターニング及びエッチングを複数回繰り返し行うことによって、表示領域Ｄとなる基板１上にＴＦＴ形成層２を形成する。
【００３６】
次いで、さらにその上面にＳｉＯ2 膜を、例えば、プラズマＣＶＤで成膜したのち、フォトリソグラフィ工程によりパターニング及びエッチングを行うことによって、絶縁性膜３を形成する。そして、この上面に、ポリイミドなどの絶縁性材料を、同様にプラズマＣＶＤで成膜したのち、フォトリソグラフィ工程によりパターニング及びエッチングを行うことによってバンク４を形成する。この絶縁性膜３及びバンク４によって、基板１上が複数の発光領域Ｌに分割される。
【００３７】
次いで、このバンク４の上面から、ＩＴＯからなる薄膜をスパッタリング法などによって成膜したのち、フォトリソグラフィ工程によりパターニング及びエッチングを行うことで、発光領域Ｌ内に陽極層５を形成するとともに、基板１上における表示領域Ｄの外側に取り出し陰極８ａを形成する。
次いで、陽極層５の上面に、正孔注入層６としてＰＥＤＯＴを、溶媒に溶解させて溶液とし、インクジェット法などによって成膜する。
【００３８】
次いで、正孔注入層６の上面に、発光性有機層７として赤、緑、青の発光材料となるポリフルオレン誘導体を、キシレン溶媒に溶解させて溶液とし、インクジェット法などで各発光領域Ｌ内に成膜する。なお、正孔注入層６や発光性有機層７の材料として低分子材料を用いる場合には、蒸着法等で形成することが望ましい。
【００３９】
次いで、発光性有機層７の上面において、取り出し陰極８ａよりも外側（図１における左側）の基板１上方は覆い、取り出し陰極８ａよりも内側 (図１における右側）の基板１上方は露出するマスクを利用して、第一陰極層８ＡとなるＣａ薄膜を、真空蒸着法などによって２〜２０ｎｍの膜厚で成膜する。次いで、その上面に、Ｃａ薄膜形成時と同一のマスクを利用して、第二陰極層８ＢとなるＡｌ薄膜を、同様に真空蒸着法などによって１００〜２００ｎｍの層厚で成膜し、二層構造を有する陰極層８を形成する。このとき、安定な金属からなる第二陰極層８Ｂは、スパッタリング法などで成膜することも可能である。
【００４０】
次いで、陰極層８の上面に、陰極層８形成時と同一のマスクを利用して、第一酸化防止層９ＡとなるＣａ薄膜、第二酸化防止層９ＢとなるＡｌ薄膜、第一酸化防止層９ＡとなるＣａ薄膜、第二酸化防止層９ＢとなるＡｌ薄膜を順次真空蒸着法などによって成膜し、四層構造を有する酸化防止層９を形成する。ここで、第一酸化防止層９Ａは、第一陰極層８Ａと同様に、２〜２０ｎｍの膜厚で成膜し、第二酸化防止層９Ｂは、第二陰極層８Ｂと同様に、１００〜２００ｎｍの層厚で成膜する。このとき、安定な金属からなる第二酸化防止層９Ｂは、スパッタリング法などで成膜することも可能である。ここで、この第一酸化防止層９Ａ及び第二酸化防止層９Ｂの層厚は、上述の下限範囲以下にならないようにすれば、その上限はこれに限らない。
【００４１】
次いで、酸化防止層９の最上層であるＡｌ薄膜の上面に、ガラスからなる封止基板１１を、封止剤１０である２液性のエポキシ熱硬化性樹脂を用いて、基板１と張り合わせ封止し、有機ＥＬパネル１００ａを完成させる。
このように、陰極８の上面に、酸化防止層９を積層したことによって、大気中の酸素及び水分が酸化防止層９で吸収されるため、陰極８及びその下面に積層される発光性有機層７の酸化を抑制することが可能となる。よって、有機ＥＬ素子Ｅの経時劣化を抑制することができるため、有機ＥＬパネル１００ａの長寿命化を図ることが可能となる。
【００４２】
また、第一陰極層８Ａで高い発光効率を実現可能としながら、その第二陰極層８Ｂがピンホールを発生しやすく酸化されやすいという二層構造を有する陰極層８の上面に酸化防止層９を積層したことによって、ピンホールからの酸素及び水分の浸入を抑制することが可能となる。よって、有機ＥＬパネル１００ａにおける高い発光効率を実現させるとともに、長寿命化を図ることが可能となる。
【００４３】
さらに、従来より陰極層８として多々利用されている金属薄膜を積層することで酸化を防止できることによって、保護膜の製造にかかる工程及びコストを削減させることも可能となる。
さらに、酸化防止を目的とする封止剤及び封止基板を形成しなくてもよくなるため、装置の小型化及び薄型化を実現することが可能となる。
【００４４】
特に、第一陰極層８Ａ及び第一酸化防止層９ＡのＣａ膜厚を薄くするとともに、第二陰極層９Ａ及び第二酸化防止層８Ｂを例えば、Ａｕ薄膜などで形成するようにすれば、透明性を確保することが可能となるため、陰極側から外部に照射させるようにすることも可能となる。
なお、本実施形態において、酸化防止層９を４層構造として説明したが、少なくとも陰極８と接触する部分に第一酸化防止層９Ａを積層するのであれば、これに限らない。例えば、第一酸化防止層９Ａのみを積層した一層構造や、第一酸化防止層９Ａ、第二酸化防止層９Ｂ、第一酸化防止層９Ａを順次積層した三層構造、或いは本実施形態よりもさらに積層した４層以上の多層構造としてもよい。ただし、積層する層が増加するほど、陰極８までの酸素及び水分の浸入経路が長くなるので、 有機ＥＬ素子Ｅの経時劣化をさらに抑制するには、酸化防止層を多層構造にするのが好ましい。
【００４５】
また、本実施形態において、酸化防止層９の最上層を第二酸化防止層９Ｂとしたが、これに限らず、第一酸化防止層９Ａを最上層としても構わない。
（第二実施形態）
図２は、本発明にかかる有機ＥＬパネルの他の実施形態を示す断面図である。有機ＥＬパネル１００ｂは、図２に示すように、第一実施形態の有機ＥＬパネル１００ａにおける酸化防止層９のうち、最上層を形成している第二酸化防止層９Ｂのみを、その下面に積層した陰極８及び酸化防止層９の上面及び端面を覆うように形成したものである。
【００４６】
その製造方法は、まず、第一実施形態における有機ＥＬパネル１００ａと同様に、陰極８の上面に第一酸化防止層９ＡとなるＣａ薄膜、第二酸化防止層９ＢとなるＡｌ薄膜、第一酸化防止層９ＡとなるＣａ薄膜を、順次積層する。次いで、酸化防止層９における最上層の第二酸化防止層９ＢとなるＡｌ薄膜を、下面に積層した陰極８及び酸化防止層９の上面及び端面が露出するマスクを利用して、真空蒸着法などにより形成している。
【００４７】
このように、最上層の酸化防止層９を、下面に積層した陰極８及び酸化防止層９の上面及び端面を覆うように形成したことによって、陰極８及び酸化防止層９の上面及び端面からの酸素及び水分の浸入を抑制することができ、有機ＥＬ素子Ｅの経時劣化をさらに効率よく抑制することができる。
なお、本実施形態において、最上層の酸化防止層９のみで、陰極８及びその他の酸化防止層９の上面及び端面を覆うようにしたが、これに限らず、酸化防止層９の全ての層で陰極８の上面及び端面を覆うように形成しても構わない。
（第三実施形態）
図３は、本発明にかかる有機ＥＬパネルの他の実施形態を示す断面図である。
【００４８】
有機ＥＬパネル１００ｃは、図３に示すように、第一実施形態の有機ＥＬパネル１００ａにおける酸化防止層９の最上層に第一酸化防止層９Ａを積層した五層構造とし、その最上層である第一酸化防止層９Ａ以外の酸化防止層９を、表示領域Ｄのみに積層した構造としている。
その製造方法は、まず、第一実施形態における有機ＥＬパネル１００ａと同様に形成した陰極層８の上面に、第一酸化防止層９ＡとなるＣａ薄膜、第二酸化防止層９ＢとなるＡｌ薄膜、第一酸化防止層９ＡとなるＣａ薄膜、第二酸化防止層９ＢとなるＡｌ薄膜を、表示領域Ｄの外側領域は覆い、表示領域Ｄの内側領域は露出するマスクを利用して、順次真空蒸着法などによって成膜する。
【００４９】
次いで、酸化防止層９における最上層の第一酸化防止層９ＡとなるＣａ薄膜を、その下面に積層した陰極８及び酸化防止層９の上面及び端面が露出するマスクを利用して、真空蒸着法などにより成膜する。
このように、最上層以外の酸化防止層９を表示領域Ｄのみに積層することによって、有機ＥＬパネル１００ｃの製造にかかるコストを削減させることが可能となる。
【００５０】
なお、本実施形態において、最上層以外の酸化防止層９を表示領域Ｄのみに積層するようにしたが、これに限らず、酸化防止層９の全ての層を表示領域Ｄのみに形成するようにしても構わない。
(第三実施形態の変形例）
図４は、本発明にかかる有機ＥＬパネルの他の実施形態を示す断面図である。図５は、図４の有機ＥＬパネルを示す平面図である。
【００５１】
有機ＥＬパネル１００ｄは、図４及び図５に示すように、第三実施形態の有機ＥＬパネル１００ｃにおける表示領域Ｄの周囲を覆うように、Ｃａからなる吸収剤（ゲッター剤）１２を形成している。
その製造方法は、第三実施形態の有機ＥＬパネル１００ｃと同様に積層した四層の酸化防止層９のさらに上面に、最上層の第一酸化防止層９ＡとなるＣａ薄膜を、陰極８及び酸化防止層９の上面及び端面と、表示領域Ｄの周囲を覆うゲッター剤１２の形成予定部位とを露出させ、このゲッター剤１２の形成予定部位と取り出し陰極８ａとの間、及びゲッター剤１２の形成予定部位と有機ＥＬパネル１００ｄ周縁との間を覆うマスクを利用して、真空蒸着法などにより成膜する。すると、陰極８及び酸化防止層９の上面及び端面を覆う第一酸化防止層９Ａが２〜２０ｎｍの層厚で積層されるとともに、図５に示すように、表示領域Ｄの周縁を覆うように、ゲッター剤１２が形成されるようになる。ここで、本実施形態において、ゲッター剤１２をＣａにより形成したが、酸素及び水分を吸収可能な材料であれば、例えば、Ｓｒ、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓなどのアルカリ金属或いはアルカリ土類金属で形成してもよい。
【００５２】
このように、有機ＥＬパネル１００ｄの表示領域Ｄの周辺を覆うようにゲッター剤１２を形成することによって、さらなる酸化防止効果が期待できる。
（第四実施形態）
図６は、本発明における有機ＥＬパネルを搭載した電子機器の一例としてのモバイル型パーソナルコンピューターを示す斜視図である。
【００５３】
モバイル型パーソナルコンピュータ２００は、キーボード２０１を備えた本体部２０２と、前述の有機ＥＬパネル１００ａ、１００ｂ、１００ｃ、１００ｄからなる表示ユニット２０３と、を備えている。
(第五実施形態）
図７は、本発明における有機ＥＬパネルを搭載した電子機器の一例としての携帯電話を示す斜視図である。
【００５４】
携帯電話３００は、複数の操作ボタン３０１と、受話口３０２と、送話口３０３と、上述の有機ＥＬパネル１００ａ、１００ｂ、１００ｃ、１００ｄからなる表示パネル３０４と、を備えている。
(第六実施形態）
図８は、本発明における有機ＥＬパネルを搭載した電子機器の一例としてのディジタルスチルカメラを示す斜視図である。なお、外部機器との接続についても簡易的に示している。
【００５５】
ディジタルスチルカメラ４００は、ケース４０１と、その背後に設けられ、前述した有機ＥＬパネル１００ａ、１００ｂ、１００ｃ、１００ｄからなる表示パネル４０２と、ケース４０１の観察側 (図においては裏面側）に設けられる光学レンズやＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ）等を含んだ受光ユニット４０３と、シャッタボタン４０４と、そのシャッタボタン４０４を押した時点におけるＣＣＤの撮像信号が転送・格納される回路基板４０５と、を備えている。この表示パネル４０２には、ＣＣＤ等の撮像素子により光電変換して生成された撮像信号に基づいて、表示が行われる。
【００５６】
また、このディジタルスチルカメラ４００にあっては、ケース４０１の側面にビデオ信号出力端子４０６と、データ通信用の入出力端子４０７とが設けられている。そして、図に示されるように、前者のビデオ信号出力端子４０６には、テレビモニタ５００が、また、後者のデータ通信用の入出力端子４０７にはパーソナルコンピュータ６００が、それぞれ必要に応じて接続され、所定の操作によって、回路基板４０５のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ５００や、パーソナルコンピュータ６００に出力される構成となっている。
【００５７】
なお、本発明における有機ＥＬパネル１００ａ、１００ｂ、１００ｃ、１００ｄを表示体として備えた電子機器としては、これに限らず、テレビ、携帯用テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、ＰＤＡ、携帯用ゲーム機、車載用オーディオ機器、自動車用計器、ＣＲＴ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、時計、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器などを挙げることができる。
【００５８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置によれば、陰極の上面に少なくとも一層の酸化防止層を形成したことによって、陰極側からの酸素及び水分の浸入を抑制することができるため、有機ＥＬ素子の経時劣化を抑制することが可能となる。よって、優れた表示性能、小型化、薄型化、低消費電力化を可能とした有機エレクトロルミネッセンス装置の長寿命化を図ることが可能となる。
【００５９】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法によれば、本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置を容易に実現することが可能となる。
本発明における電子機器によれば、その表示体として上述した有機エレクトロルミネッセンス装置を備えたことによって、優れた表示性能、薄型化、軽量化、低消費電力化を可能とする電子機器の長寿命化を図ることが可能となる。
【００６０】
また、酸化防止層によって有機ＥＬ素子の酸化を抑制できることによって、酸化防止を目的とした封止基板や封止材などを形成しなくてもすむようになるため、電子機器の小型化、 薄膜化を実現することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかる有機ＥＬパネルの一実施形態を示す断面図である。
【図２】本発明にかかる有機ＥＬパネルの他の実施形態を示す断面図である。
【図３】本発明にかかる有機ＥＬパネルの他の実施形態を示す断面図である。
【図４】本発明にかかる有機ＥＬパネルの他の実施形態を示す断面図である。
【図５】図４における有機ＥＬパネルを示す平面図である。
【図６】本発明における有機ＥＬパネルを搭載した電子機器の一例としてのモバイル型パーソナルコンピューターを示す斜視図である。
【図７】本発明における有機ＥＬパネルを搭載した電子機器の一例としての携帯電話を示す斜視図である。
【図８】本発明における有機ＥＬパネルを搭載した電子機器の一例としてのディジタルスチルカメラを示す斜視図である。
【符号の説明】
１      基板
２      ＴＦＴ形成層
３      絶縁層
４      画素間隔壁（バンク）
５      陽極層（陽極）
６      正孔注入層
７      発光性有機層
８      陰極層（陰極）
８Ａ    第一陰極層
８Ｂ    第二陰極層
９      酸化防止層
９Ａ    第一酸化防止層
９Ｂ    第二酸化防止層
１０    封止剤
１１    封止基板
１２    吸収剤（ゲッター剤）
１００ａ、１００ｂ、１００ｃ、１００ｄ    有機ＥＬパネル（有機エレクトロルミネッセンス装置）
２００  モバイル型パーソナルコンピュー（電子機器）
２０１  キーボード
２０２  本体部
２０３  表示ユニット
３００  携帯電話（電子機器）
３０１  操作ボタン
３０２  受話口
３０３  送話口
３０４  表示パネル
４００  ディジタルスチルカメラ（電子機器）
４０１  ケース
４０２  表示パネル
４０３  受光ユニット
４０４  シャッタボタン
４０５  回路基板
４０６  ビデオ信号出力端子
４０７  入出力端子
５００  テレビモニタ
６００  パーソナルコンピュータ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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