(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ
【化１】
0004163771.tif 000043
式中、Ｒは水素または随時Ｃ１〜Ｃ４アルコキシまたはフェニル基１個で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６アルキルであり；
ｎは１、２、３、４、５、６、７または８の整数であり；
ＷはＣＮ、ＮＯ２、ＣＯＯＲ１またはＣＯＲ２であり；
【化２】
0004163771.tif 000044
Ｌは水素またはハロゲンであり；
Ｍ及びＱは各々独立して水素、ハロゲン、ＣＮ、ＮＯ２、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニルであるか、またはＭ及びＱが隣接する位置である場合、これらのものはこれらのものが結合する炭素原子と一緒になってＭＱが構造式
−ＯＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−
を表す環を形成することができ；
Ｒ１及びＲ２は各々独立してＣ１〜Ｃ４アルキルであり；
Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は各々独立して水素、ハロゲン、ＮＯ２、ＣＨＯであるか、またはＲ４及びＲ５はこれらのものが結合する原子と一緒になってＲ４Ｒ５が構造式
【化３】
0004163771.tif 000045
により表される環を形成することができ；
Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は各々独立して水素、ハロゲン、ＣＮまたはＮＯ２であり；そして
ＸはＯまたはＳである；
の化合物を製造する際に、式ＩＩ
【化４】
0004163771.tif 000046
式中、Ａ、Ｒ及びｎは式Ｉに対する上記のものである、
のアミドニトリルを酸及び溶媒の存在下並びに本質的に水を存在させずに少なくとも１モル当量の式ＩＩＩ
【化５】
0004163771.tif 000047
式中、Ｗは式Ｉに対する上記のものであり、そしてＹは水素、ＢｒまたはＣｌであり、但しＲが水素である場合、ＹはＢｒまたはＣｌでなければならない、
のジエネオフィルと反応させることからなる、式Ｉの化合物の製造方法。
【請求項２】
式ＩＶ
【化６】
0004163771.tif 000048
式中、Ｒは水素または随時Ｃ１〜Ｃ４アルコキシまたはフェニル基１個で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６アルキルであり；
ｎは１、２、３、４、５、６、７または８の整数であり；
ＷはＣＮ、ＮＯ２、ＣＯＯＲ１またはＣＯＲ２であり；
【化７】
0004163771.tif 000049
Ｌは水素またはハロゲンであり；
Ｍ及びＱは各々独立して水素、ハロゲン、ＣＮ、ＮＯ２、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニルであるか、またはＭ及びＱが隣接する位置である場合、これらのものはこれらのものが結合する炭素原子と一緒になってＭＱが構造式
−ＯＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−
を表す環を形成することができ；
Ｒ１及びＲ２は各々独立してＣ１〜Ｃ４アルキルであり；
Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は各々独立して水素、ハロゲン、ＮＯ２、ＣＨＯであるか、またはＲ４及びＲ５はこれらのものが結合する原子と一緒になってＲ４Ｒ５が構造式
【化８】
0004163771.tif 000050
により表される環を形成することができ；
Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は各々独立して水素、ハロゲン、ＣＮまたはＮＯ２であり；
ＸはＯまたはＳであり；そして
Ｈａｌはハロゲン原子である；
の化合物を製造する際に、式ＩＩ
【化９】
0004163771.tif 000051
式中、Ａ、Ｒ及びｎは式Ｉに対する上記のものである、
のアミドニトリルを酸及び溶媒の存在下並びに本質的に水を存在させずに少なくとも１モル当量の式ＩＩＩ
【化１０】
0004163771.tif 000052
式中、Ｗは式Ｉに対する上記のものであり、そしてＹは水素、ＢｒまたはＣｌであり、但しＲが水素である場合、ＹはＢｒまたはＣｌでなければならない、
のジエネオフィルと反応させ、式Ｉ
【化１１】
0004163771.tif 000053
の化合物を生成させ、そして該式Ｉの化合物をハロゲン化し、該式ＩＶの化合物を生成させることからなる、式ＩＶの化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の背景】
アリールピロールカルボニトリル化合物は、独特の作用様式及び広い範囲の活性を有する高度に有効な殺虫（insecticidal），殺ダニ（acaricidal）及び殺線虫剤（nematocidal agent）である。殊に、２−アリール−５−（トリフルオロメチル）ピロール−３−カルボニトリル化合物は広範囲の有害生物（pest）を防除し、そして耐性の有害生物例えばピレスロイド、有機リン酸塩、シクロジエン、有機塩素、有機スズ、カルバメート及びベンゾフェニル尿素に耐性の生物タイプのヘリコベルパ種（Helicoverpa spp.）／ヘリオチス種（Heliothis spp.）、スポドプテラ種（Spodoptera spp.）、トリコプルシア種（Trichoplusia spp.)、プソイドプルシア種（Pseudoplusia spp.）及びテトラニクス種（Teranychus spp.）を防除し得る。
【０００２】
明らかな交差耐性がないために、２−アリール−５−（トリフルオロメチル）ピロール−３−カルボニトリル化合物及びその誘導体は耐性管理プログラムに用いることができる。更に、該ピロールは有益な種に対して殆ど影響がないために、これらのものは統合した管理プログラムにも優れた候補となる。これらのプログラムは今日の作物生産において必要不可欠なものである。
【０００３】
従って、該ピロール及びその製造に役立つ中間体の製造方法は大いに利用できるものである。現在の製造規模での２−アリール−５−（トリフルオロメチル）ピロール−３−カルボニトリルの製造方法には３−オキサゾリン−５−オンと２−クロロアクリロニトリルとの１，３−双極性環式付加（米国特許第５，０３０，７３５号）及び適当なオキサゾールアミン誘導体と２−クロロアクリロニトリルまたは２，３−ジクロロプロピオニトリルとの環式付加反応（米国特許第５，４４６，１７０号）がある。
【０００４】
またW.M.McEwenら、J.Org.Chem.,1980,45,1301〜1308に記載されるように、適当なアルキンを用いるReissert化合物の酸触媒された環化のメシオニック（mesionic）中間体生成物の１，３−双極性環式付加によりＮ−置換されたピロール生成物を生じさせることは公知である。しかしながら、これらのメシオニック中間体はエチレン性ジエネオフィル(ethylenic dieneophile)により１，４−環式付加反応を受け、アリールピロール誘導体（殺虫性アリールピロール先駆体としては有用でない）を生成してしまう。
従って、高度に有効な有害生物防除剤（pesticide）のアリールピロール群の従来とは異なる効率的な製造方法を提供することが本発明の目的である。
【０００５】
アリールピロール有害生物防除剤の製造に有用である重要な中間体のアミドニトリル化合物源を提供することが本発明の他の目的である。
【０００６】
製造方法が、式Ｉのアリールピロール先駆体（広範囲の高度に有効な殺虫剤、殺ダニ剤及び殺線虫剤に転化させ得る）を生成させる単一の有効な工程からなることが本発明の利点である。
【０００７】
最初のストレッカー（Strecker）反応生成物から最後のアリールピロール生成物までの全合成工程数を、現在公知の方法、例えば上記のものを用いることにより必要とされる合成工程数よりも減少できることが本発明のさらなる利点である。
【０００８】
該方法が位置特異的(regiospecific)生成物を提供することが本発明の特徴である。本発明のこれらの及び他の特徴並びに目的は以下に記載の詳細な説明からより明らかになるであろう。
【０００９】
【発明の要約】
本発明は式Ｉ
【００１０】
【化１５】
0004163771.tif 000002
【００１１】
式中、Ｒは水素または随時Ｃ1〜Ｃ4アルコキシまたはフェニル基１個で置換されていてもよいＣ1〜Ｃ6アルキルであり；
ｎは１、２、３、４、５、６、７または８の整数であり；
ＷはＣＮ、ＮＯ2、ＣＯＯＲ1またはＣＯＲ2であり；
【００１２】
【化１６】
0004163771.tif 000003
【００１３】
Ｌは水素またはハロゲンであり；
Ｍ及びＱは各々独立して水素、ハロゲン、ＣＮ、ＮＯ2、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニルであるか、またはＭ及びＱが隣接する位置である場合、これらのものはこれらのものが結合する炭素原子と一緒になってＭＱが構造式
−ＯＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＦ2Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−
を表す環を形成することができ；
Ｒ1及びＲ2は各々独立してＣ1〜Ｃ4アルキルであり；
Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々独立して水素、ハロゲン、ＮＯ2、ＣＨＯであるか、またはＲ4及びＲ5はこれらのものが結合する原子と一緒になってＲ4Ｒ5が構造式
【００１４】
【化１７】
0004163771.tif 000004
【００１５】
により表される環を形成することができ；
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は各々独立して水素、ハロゲン、ＣＮまたはＮＯ2であり；そして
ＸはＯまたはＳである；
の２−アリール−５−パーフルオロアルキルピロールを製造する際に、式II
【００１６】
【化１８】
0004163771.tif 000005
【００１７】
式中、Ａ、Ｒ及びｎは式Ｉに対する上記のものである、
のアミドニトリルを酸及び溶媒の存在下並びに本質的に水を存在させずに少なくとも１モル当量の式III
【００１８】
【化１９】
0004163771.tif 000006
【００１９】
式中、Ｗは式Ｉに対する上記のものであり、そしてＹは水素、ＢｒまたはＣｌであり、但しＲが水素である場合、ＹはＢｒまたはＣｌでなければならない、
のジエネオフィル（dieneophile）と反応させることからなる、式Ｉのパーフルオロアルキルピロールの単一工程の有効な製造方法を提供する。本発明の方法はある程度の水が存在する場合、出発物質の加水分解が生じ、所望のアリールピロール最終生成物の低収率及び純度の減少が起こる。
【００２０】
本明細書及び特許請求の範囲に用いられるハロゲンなる用語はＣｌ、Ｂｒ、ＦまたはＩを表し、そしてハロアルキルなる用語は同一もしくは相異なることができる１〜２ｘ＋１のハロゲン原子を含有し得る炭素原子ｘ個のいずれかのアルキル基を含む。
【００２１】
また本発明は式IIａ
【００２２】
【化２０】
0004163771.tif 000007
【００２３】
式中、ｎ及びＡは式Ｉに対する上記のものであり、そしてＲ’は随時Ｃ1〜Ｃ4アルコキシまたはフェニル基１個で置換されていてもよいＣ1〜Ｃ6アルキルである、
のアミドニトリル化合物を提供する。
【００２４】
【発明の詳細な記述】
製造規模で有用である工程は主に高度に定量的な収率で得ることができ、単離の際か、またはその場のいずれかで安定であり、単純か、または容易に入手される出発物質から製造することができ、そして最小の反応工程で、最適な収率及び純度で、そして適当ならば部位または立体特異的に所望の製造の最終生成物に容易に転化し得る重要な中間体化合物を包含する。
【００２５】
式Ｉのアリール−５−パーフルオロアルキルピロールは酸及び溶媒の存在下並びに本質的に水を存在させない式IIの化合物と式IIIのジエネオフィルとの反応による単一の合成工程を介して式IIのアミノニトリル生成物から直接製造し得ることが見いだされた。反応を流れ図Ｉに示し、ここにｎ、Ａ、Ｒ及びＷは上記のものである。
【００２６】
【化２１】
0004163771.tif 000008
【００２７】
本発明の方法に用いるための溶媒は本質的な無水状態及び式IIのアミドニトリル化合物の部分的か、または完全な溶解を維持させ得る溶媒である。該溶媒には次のものが含まれる：芳香族炭化水素例えばベンゼン、キシレン、トルエンなど、好ましくはトルエン；塩素化された芳香族炭化水素例えばクロロベンゼン；カルボン酸アミド例えばジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなど、好ましくはジメチルホルムアミド；ニトリル例えばアセトニトリル、プロピオニトリルなど；アルコール例えばイソプロパノール、ｔ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノールなど、好ましくはｔ−ブタノール。これらの溶媒は単独にか、または２つまたはそれ以上の組み合わせで使用し得る。
【００２８】
本発明の化合物の製造における使用に適する酸は相対的な脱水を行い得るいずれかの酸である。適当な酸には硫酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、リン酸、テトラフルオロ硼酸、テトラフルオロ硼酸錯塩などがある。また三フッ化ホウ素錯塩例えば三フッ化ホウ素酢酸、三フッ化ホウ素二水和物なども適当な酸である。
【００２９】
本発明の方法により得られる式Ｉの好適なアリールピロール化合物はｎが１または２であり、ＷがＣＮであり、そしてＡが随時置換されていてもよいフェニルであるものである。本発明の方法により得られる式Ｉのより好適な化合物はｎが１または２であり、ＷがＣＮであり、Ａが随時置換されていてもよいフェニルであり、そしてＲが水素、メチルまたはエトキシメチルであるものであり；殊に好ましくはｎが１であり、ＷがＣＮであり、Ａがｐ−クロロフェニル、２，５−ジクロロフェニル、３，４，５−トリクロロフェニル、ｐ−ブロモフェニル、α，α，α−トリフルオロ−ｐ−トリルまたはｐ−トリフルオロメトキシフェニルであり、そしてＲが水素、メチルまたはエトキシメチルであるものである。
【００３０】
Ｒが水素である式IIのアミドニトリル化合物及びその製造は米国特許第５，４２６，２２５号に記載される。Ｒが水素以外のものであるである式IIのアミドニトリル化合物、即ち式IIａは式VIの適当なアミノニトリルのパーフルオロアセチル化を介して得ることができる。式VIのアミノニトリルは十分公知のストレッカー反応を介してその入手できるベンズアルデヒド、フルフリルアルデヒドまたはチエニルメチルアルデヒド先駆体から対応して容易に得られる。反応順序は流れ図IIに示され、ここにｎ、Ａ及びＲは式Ｉ及びIIに対する上記のものであり、ｍは１または２の整数であり、Ｘ1はＣｌ、ＯＲ10またはＯであり、そしてＲ10は水素またはＣ1〜Ｃ6アルキルであり、但しＸ1がＯである場合、ｍは２でなければならず、そしてＸ1がＣｌまたはＯＲ10である場合、ｍは１でなければならない。
【００３１】
【化２２】
0004163771.tif 000009
【００３２】
有利には、式IIのアミドニトリルは上の流れ図Ｉにおいて示される単一工程において所望の式Ｉの２−アリール−５−パーフルオロアルキルピロールに直接転化させ得る。
【００３３】
本発明の方法によれば、式IIのアミドニトリルは適当な溶媒または溶媒混合物中に分散させ、そして酸の存在下において本質的に無水の反応条件下で少なくとも１モル当量の適当な式IIIのジエネオフィルと混合し得る。かくて得られる式Ｉのピロールは通常の方法例えば抽出、濾過、蒸留、クロマトグラフィー分離などを用いて単離し得る。式Ｉのピロールの生成の割合は温度の上昇とともに増大し得る。しかしながら、過剰に高い反応温度は分解または望ましくない副反応並びにそれに付随する生成物の収率及び純度の低下を生じさせ得る。代表的な反応温度は２０℃から溶媒または溶媒混合物の還流温度の範囲であり得る。代表的には、約２０〜１５０℃、好ましくは４０〜１００℃の温度を用いる。
【００３４】
また本発明は式IIａ
【００３５】
【化２３】
0004163771.tif 000010
【００３６】
式中、ｎは１、２、３、４、５、６、７または８の整数であり；
Ｒ’は随時Ｃ1〜Ｃ4アルコキシまたはフェニル基１個で置換されていてもよいＣ1〜Ｃ6アルキルであり；
【００３７】
【化２４】
0004163771.tif 000011
【００３８】
Ｌは水素またはハロゲンであり；
Ｍ及びＱは各々独立して水素、ハロゲン、ＣＮ、ＮＯ2、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニルであるか、またはＭ及びＱが隣接する位置である場合、これらのものはこれらのものが結合する炭素原子と一緒になってＭＱが構造式
−ＯＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＦ2Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−
を表す環を形成することができ；
Ｒ1及びＲ2は各々独立してＣ1〜Ｃ4アルキルであり；
Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々独立して水素、ハロゲン、ＮＯ2、ＣＨＯであるか、またはＲ4及びＲ5はこれらのものが結合する原子と一緒になってＲ4Ｒ5が構造式
【００３９】
【化２５】
0004163771.tif 000012
【００４０】
により表される環を形成することができ；
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は各々独立して水素、ハロゲン、ＣＮまたはＮＯ2であり；そして
ＸはＯまたはＳである；
のアミドニトリル中間体を提供する。
【００４１】
本発明の好適な式IIａの中間体化合物はｎが１または２であり、Ｒ’がメチルまたはエトキシメチルであり、そしてＡが随時置換されていてもよいフェニルであるものである。
【００４２】
より好適な式IIａの化合物はｎが１であり、ｎが１であり、Ｒ’がメチルであり、そしてＡがｐ−クロロフェニル、ｐ−ブロモフェニル、３，５−ジクロロフェニル、３，４，５−トリクロロフェニル、ｐ−（α，α，α−トリフルオロ）トリルまたはｐ−トリフルオロメトキシフェニルであるものである。
【００４３】
式Ｉの化合物は殺虫活性を有するが、その最大の用途はある式IVの化合物に対する先駆体としてであり得る。有利には、本発明の方法により式IVの２−アリール−４−ハロ−５−（パーフルオロアルキル）ピロール−３−カルボニトリル殺虫、殺ダニ及び殺線虫剤が容易に入手されるアリールアルデヒド出発物質から４段程度以下の工程で製造される。かくて、本発明の工程に従うストレッカー反応生成物（VI）のパーフルオロアシル化によりアリールピロール先駆体（I）が生成され、このものをハロゲン化して所望の有害生物防除生成物（IV）を生成させ得る。合成は流れ図IIIで示され、ここにｎ、Ａ、Ｒ、Ｙ及びＷは上記のものであり、そしてＨａｌはハロゲン、好ましくはＢｒまたはＣｌである。
【００４４】
【化２６】
0004163771.tif 000013
【００４５】
ハロゲン化法は米国特許第５，０１０，０９８号または同第５，４４９，７８９号に記載されるもののごときいずれかの公知の方法であり得る。
【００４６】
本発明のより明らかな理解を与えるために、次の実施例を下に示す。これらの実施例は単に説明的なものであり、そして本発明の範囲または基礎となる原理をいずれにおいても限定しないことを理解されたい。事実、本明細書に示され、そして記載されるものに加えて本発明の種々の変法が次の実施例及び上記の記載から本分野に精通せる者には明らかになろう。またかかる変法は付属の特許請求の範囲の範囲内のものである。
【００４７】
1Ｈ  ＮＭＲ、13Ｃ  ＮＭＲ及び19Ｆ  ＮＭＲなる用語はそれぞれプロトン、炭素１３及びフッ素１９核磁気共鳴を表す。ＨＰＬＣなる用語は高速液体クロマトグラフィーを表す。
【００４８】
【実施例】
実施例１
Ｎ−イソプロピルアミノ（ｐ−クロロフェニル）アセトニトリルの製造
【００４９】
【化２７】
0004163771.tif 000014
【００５０】
イソプロピルアミン（８８．７ｇ、１．５モル）を２５〜３０℃で水中の濃塩酸（１２５ｍｌ、１．５モル）の水溶液に加えた。生じた混合物を順次３０℃で水中のシアン化ナトリウム（５３．９ｇ、１．１モル）の溶液及び塩化メチレンで処理し、３５℃に加熱し、塩化メチレン中のｐ−クロロベンズアルデヒド（１４０．６ｇ、１モル）の溶液で１５〜２５分間にわたって処理し、加熱し、４５℃で３時間保持し、そして室温に冷却した。相を分離し、有機相を水で洗浄し、そして真空中で濃縮し、残渣を生成させた。残渣をヘプタンから結晶化させ、表題の生成物を淡黄色の結晶性固体として生成させた、１９０．３ｇ（収率９１．２％）、融点７２．０〜７３．０℃、1Ｈ及び13Ｃ  ＮＭＲ分析により同定。
【００５１】
実施例２
Ｎ−（ｐ−クロロ−α−シアノベンジル）−２，２，２−トリフルオロ−Ｎ−イソプロピルアセトアミドの製造
【００５２】
【化２８】
0004163771.tif 000015
【００５３】
トリフルオロ酢酸中のＮ−イソプロピルアミノ（ｐ−クロロフェニル）アセトニトリル（２５．０ｇ、０．１２モル）のスラリーを一般に還流温度で２０時間加熱し、そして真空中で濃縮し、油状残渣を生成させた。油をトルエン／ヘプタンから結晶化させ、表題の生成物を白色固体として生成させた、２６．５ｇ（収率７２．４％）、融点７８．５〜７９．５℃、1Ｈ、13Ｃ及び19Ｆ  ＮＭＲ分析により同定。
【００５４】
実施例３
Ｎ−ベンジル−Ｎ−（ｐ−クロロ−α−シアノベンジル）−２，２，２−トリフルオロ−Ｎ−イソプロピルアセトアミドの製造
【００５５】
【化２９】
0004163771.tif 000016
【００５６】
水（１００ｍｌ）中の水性塩酸（１２Ｎの６２．５ｍｌ、０．７５モル）を＜２０℃でベンジルアミン（８０．４ｇ、０．７５モル）で処理し、次に順次水中のシアン化ナトリウム（２７．０ｇ、０．５５モル）及び塩化メチレンで処理し、３５℃に加熱し、塩化メチレン中のｐ−クロロベンズアルデヒド（７０．３ｇ、０．５モル）で処理し、５０℃に加熱し、そして４５℃で３．５時間保持した。相を分離し、有機相を水で洗浄し、そしてシロップ状の残渣に濃縮した。残渣をトルエン及び酢酸エチルに溶解し、２０〜３０℃で３０分間にわたって無水トリフルオロ酢酸（１０５．０ｇ、０．５モル）で処理し、そしてヘプタンで希釈した。生じた羽毛状固体沈殿を濾過し、そして乾燥し、表題の生成物を生成させた、１１９．８ｇ（収率７０．７％）、融点１３１〜１３２℃、1Ｈ、13Ｃ及び19Ｆ  ＮＭＲ分析により同定。
【００５７】
実施例４
２−（ｐ−クロロフェニル）−５−（トリフルオロメチル）−ピロール−３−カルボニトリルの製造
【００５８】
【化３０】
0004163771.tif 000017
【００５９】
Ｎ−（ｐ−クロロ−α−シアノベンジル）−２，２，２−トリフルオロアセトアミド（１０．５ｇ、０．０４モル）及びトルエンの混合物を５〜１０℃に窒素雰囲気下で冷却し、２０分間にわたってトリフルオロメタンスルホン酸（１２．０ｇ、０．０８モル）で処理し、室温に加熱し、そして２５℃で３時間保持した。中間体である５−アミノオキサゾール塩の生成は19Ｆ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）により監視した。中間体の塩生成が完了した場合、混合物を２０℃以下に冷却し、ジメチルホルムアミド及び２−クロロアクリロニトリル（５．２５ｇ、０．０６モル）で処理し、２５℃で１６〜１８時間保持し、そして酢酸エチル及び水で処理した。相を分離し、有機相を水で洗浄し、そして真空中で濃縮し、固体残渣を生成させた。それぞれヘプタン中の１５％及び２０％酢酸エチルで充填し、かつ溶出させたシリカゲル上での残渣のフラッシュカラムクロマトグラフィーにより、表題の生成物が淡黄色の結晶として生成された、６．１４ｇ（収率５７％）、融点２３７〜２４０℃、ＨＰＬＣ及びＮＭＲ分析により同定。
【００６０】
実施例５
２−アリール−５−（トリフルオロメチル）ピロール誘導体の製造
【００６１】
【化３１】
0004163771.tif 000018
【００６２】
本質的に実施例４に記載されるものと同様の方法を用い、そして適当なトリフルオロアセチル化されたアミノニトリル出発物質に置換し、次の生成物を得た：
【００６３】
【表１】
0004163771.tif 000019
【００６４】
実施例６
２−（ｐ−クロロフェニル）−５−（トリフルオロメチル）ピロール−カルボニトリルの製造
【００６５】
【化３２】
0004163771.tif 000020
【００６６】
トルエン中のｐ−トルエンスルホン酸（ｐｔｓａ）、一水和物（１９．１ｇ、０．１モル）の混合物をディーン−スターク（Dean-Stark）トラップを用いて共沸的に乾燥し、酸無水物を得た。次にトルエンを真空中で除去し、そしてプロピオニトリルと共に置いた。生じた固体をＮ−（ｐ−クロロ−α−シアノベンジル）−２，２，２−トリフルオロアセトアミド（１３．１ｇ、０．０５モル）及び２−クロロアクリロニトリル（８．７５ｇ、０．１モル）で処理し、９８〜１００℃で１８時間加熱し、室温に冷却し、そして水及び酢酸エチルの混合物で希釈した。相を分離し、有機相を水で洗浄し、そして真空中で濃縮し、残渣を生成させた。ヘプタン中の２０％酢酸エチルで充填し、かつ溶出させたシリカゲル上での残渣のフラッシュカラムクロマトグラフィーにより、表題の生成物が淡黄色の結晶として生成された、４．２ｇ（収率３９％）、ＨＰＬＣ及びＮＭＲ分析により同定。
【００６７】
実施例７
２−（ｐ−クロロフェニル）−５−（トリフルオロメチル）ピロール−３−カルボン酸メチルの製造
【００６８】
【化３３】
0004163771.tif 000021
【００６９】
トルエン中のＮ−（ｐ−クロロ−α−シアノベンジル）−２，２，２−トリフルオロアセトアミド（１０．５ｇ、０．０４モル）のスラリーを窒素雰囲気下で１０℃に冷却し、１０〜１５分間にわたってトリフルオロメタンスルホン酸（１２．０ｇ、０．０８モル）で処理し、室温に加温し、そして３時間撹拌した。反応を19Ｆ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）分析により監視し、中間体の塩生成の完了が示された。生成が完了した場合、混合物を１０℃に冷却し、ジメチルホルムアミドで処理し、２−クロロアクリル酸メチル（７．２ｇ、０．０６モル）で処理し、室温に加温し、１８時間撹拌し、そして水及び酢酸エチルで希釈した。相を分離し、有機相を水で洗浄し、そして濃縮し、ワックス状固体残渣を生成させた。ヘプタン中の２０％酢酸エチルで充填し、かつ溶出させたシリカゲル上での残渣のフラッシュカラムクロマトグラフィーにより、表題の生成物が白色の結晶性固体として生成された、７．６ｇ（収率６２％）、融点１２３〜１２５℃、1Ｈ及び19Ｆ  ＮＭＲ分析により同定。
【００７０】
実施例８
２−（ｐ−クロロフェニル）−１−メチル−５−（トリフルオロメチル）ピロール−３−カルボニトリルの製造
【００７１】
【化３４】
0004163771.tif 000022
【００７２】
トルエン中のＮ−（ｐ−クロロ−α−シアノベンジル）−２，２，２−トリフルオロ−Ｎ−メチルアセトアミド（１３．８ｇ、０．０５ｇ）の溶液をアクリロニトリル（５．３ｇ、０．１モル）及びメタンスルホン酸（９．６ｇ、０．１モル）で処理し、１０８〜１１０℃で３０時間加熱し、水で希釈し、そして酢酸エチルで抽出した。有機相を一緒にし、そして真空中で濃縮し、残渣を生成させた。残渣をヘプタン中の１５％酢酸エチルで充填し、かつ溶出させたシリカゲル上でのフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題の生成物を淡黄色の固体として生成させた、０．９ｇ（収率６３％）、融点１２９〜１３０℃、1Ｈ及び19Ｆ  ＮＭＲ分析により同定。
【００７３】
実施例９
２−（ｐ−クロロフェニル）−１−メチル−５−（トリフルオロメチル）ピロール−３−カルボニトリルの製造
【００７４】
【化３５】
0004163771.tif 000023
【００７５】
トルエン中のＮ−（ｐ−クロロ−α−シアノベンジル）−２，２，２−トリフルオロ−Ｎ−メチルアセトアミド（１３．８ｇ、０．０５モル）の溶液を室温でテトラフルオロ硼酸−ジエチルエーテラート（そのままで１０．５ｇ、実際は８．９ｇ、０．０５５モル）を用いて処理し、６０℃に加熱し、２５分間にわたって２−クロロアクリロニトリル（６．９ｇ、０．０７５モル）で処理し、６０℃で２〜２．５時間保持し、冷却し、そして酢酸エチルで処理した。生じた溶液を水で洗浄し、そして濃縮し、ワックス状残渣を生成させた。ヘプタン中の２０％酢酸エチルで充填し、かつ溶出させたシリカゲル上での残渣のフラッシュカラムクロマトグラフィーにより、表題の生成物が淡黄色の結晶として生成された、３．１ｇ（収率２２％）、融点１２９〜１３０℃、1Ｈ、13Ｃ及び19Ｆ  ＮＭＲ分析により同定。
【００７６】
実施例１０
２−（ｐ−クロロフェニル）−１−メチル−５−（トリフルオロメチル）ピロール−３−カルボニトリルの製造
【００７７】
【化３６】
0004163771.tif 000024
【００７８】
トルエン中のＮ−（ｐ−クロロ−α−シアノベンジル）（１３．８ｇ、０．０５モル）の溶液を２−クロロアクリロニトリル（４．４ｇ、０．０５モル）及びメタンスルホン酸（４．８ｇ、０．０５モル）で処理し、１１０℃で４時間加熱し、２−クロロアクリロニトリル（４．４ｇ、０．０５モル）及びメタンスルホン酸（４．８ｇ、０．０５モル）の第二の部分で処理し、１１０℃で１２時間加熱し、冷却し、そして酢酸エチル及び水で処理した。相を分離し、有機相を水で洗浄し、そして濃縮し、残渣を生成させた。残渣をヘプタン中の１５％酢酸エチルで充填し、かつ溶出させたシリカゲルを用いてクロマトグラフにかけ、表題の生成物を淡黄色の結晶として生成させた、４．８ｇ（収率３４％）、融点１２９〜１３０℃。
【００７９】
実施例１１
２−（ｐ−クロロフェニル）−１−イソプロピル−５−（トリフルオロメチル）ピロール−３−カルボニトリルの製造
【００８０】
【化３７】
0004163771.tif 000025
【００８１】
トルエン中のＮ−（ｐ−クロロ−α−シアノベンジル）−２，２，２−トリフルオロ−Ｎ−イソプロピルアセトアミド（６．１ｇ、０．０２モル）の溶液をテトラフルオロ硼酸ジエチルエーテラート（そのままで４．２ｇ、実際は３．６ｇ、０．０２２モル）を用いて窒素雰囲気下にて室温で処理し、６０℃に加熱し、１５〜２０分間にわたって２−クロロアクリロニトリル（２．６２ｇ、０．０３モル）で処理し、６０℃で３時間保持し、室温に冷却し、そして酢酸エチル及び水で処理した。相を分離し、有機相を水で洗浄し、そして濃縮し、褐色のゴム状残渣を生成させた。ヘプタン中の１５％酢酸エチルで充填し、かつ溶出させたシリカゲル上のフラッシュカラムクロマトグラフィーにより、表題の生成物が褐色の油として生成された、１．３ｇ（収率２０％）、1Ｈ及び19Ｆ  ＮＭＲ並びに質量スペクトル分析により同定。
【００８２】
実施例１２
１−ベンジル−２−（ｐ−クロロフェニル）−５−（トリフルオロメチル）ピロール−３−カルボニトリルの製造
【００８３】
【化３８】
0004163771.tif 000026
【００８４】
トルエン中のＮ−（ｐ−クロロ−α−シアノベンジル）−２，２，２−トリフルオロ−Ｎ−ベンジルアセトアミド（１０．６ｇ、０．０３モル）の溶液をメタンスルホン酸（３．２ｇ、０．０３３モル）及びアクリロニトリル（３．９ｇ、０．０４５モル）で処理し、１００〜１０５℃で１８時間加熱し、冷却し、追加のメタンスルホン酸（１．６ｇ、０．０１７モル）で処理し、１００〜１０５℃で２２時間加熱し、水で希釈し、そして酢酸エチルで抽出した。有機抽出液を一緒にし、そして真空中で濃縮し、残渣を生成させた。残渣をヘプタン中の１５％酢酸エチルで充填し、かつ溶出させたシリカゲルを用いるフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題の生成物を白色の結晶として生成させた、４．４ｇ（収率４０．６％）、融点１０３．５〜１０５．５℃、1Ｈ、13Ｃ及び19Ｆ  ＮＭＲ並びに質量スペクトル分析により同定。
【００８５】
本発明の主なる特徴及び態様は以下のとおりである。
【００８６】
１．式Ｉ
【００８７】
【化３９】
0004163771.tif 000027
【００８８】
式中、Ｒは水素または随時Ｃ1〜Ｃ4アルコキシまたはフェニル基１個で置換されていてもよいＣ1〜Ｃ6アルキルであり；
ｎは１、２、３、４、５、６、７または８の整数であり；
ＷはＣＮ、ＮＯ2、ＣＯＯＲ1またはＣＯＲ2であり；
【００８９】
【化４０】
0004163771.tif 000028
【００９０】
Ｌは水素またはハロゲンであり；
Ｍ及びＱは各々独立して水素、ハロゲン、ＣＮ、ＮＯ2、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニルであるか、またはＭ及びＱが隣接する位置である場合、これらのものはこれらのものが結合する炭素原子と一緒になってＭＱが構造式
−ＯＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＦ2Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−
を表す環を形成することができ；
Ｒ1及びＲ2は各々独立してＣ1〜Ｃ4アルキルであり；
Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々独立して水素、ハロゲン、ＮＯ2、ＣＨＯであるか、またはＲ4及びＲ5はこれらのものが結合する原子と一緒になってＲ4Ｒ5が構造式
【００９１】
【化４１】
0004163771.tif 000029
【００９２】
により表される環を形成することができ；
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は各々独立して水素、ハロゲン、ＣＮまたはＮＯ2であり；そして
ＸはＯまたはＳである；
の化合物を製造する際に、式II
【００９３】
【化４２】
0004163771.tif 000030
【００９４】
式中、Ａ、Ｒ及びｎは式Ｉに対する上記のものである、
のアミドニトリルを酸及び溶媒の存在下並びに本質的に水を存在させずに少なくとも１モル当量の式III
【００９５】
【化４３】
0004163771.tif 000031
【００９６】
式中、Ｗは式Ｉに対する上記のものであり、そしてＹは水素、ＢｒまたはＣｌであり、但しＲが水素である場合、ＹはＢｒまたはＣｌでなければならない、
のジエネオフィルと反応させることからなる、式Ｉの化合物の製造方法。
【００９７】
２．酸がメタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、テトラフルオロ硼酸、テトラフルオロ硼酸エーテラート及びテトラフルオロ硼酸アルコラートよりなる群から選ばれる、上記１に記載の方法。
【００９８】
３．溶媒が芳香族炭化水素、ハロゲン化された芳香族炭化水素、有機アミド、ニトリル、アルカノールまたはその混合物である、上記１に記載の方法。
【００９９】
４．溶媒がトルエン、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、プロピオニトリル、ｔ−ブタノール及びその混合物よりなる群から選ばれる、上記３に記載の方法。
【０１００】
５．Ａが基
【０１０１】
【化４４】
0004163771.tif 000032
【０１０２】
式中、Ｌは水素またはハロゲンであり；Ｍ及びＱは各々独立して水素、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルまたはＣ1〜Ｃ4ハロアルコキシであり；ｎは１または２であり；ＷはＣＮであり；そしてＲは水素またはメチルである；
である、上記１に記載の方法。
【０１０３】
６．式IV
【０１０４】
【化４５】
0004163771.tif 000033
【０１０５】
式中、Ｒは水素または随時Ｃ1〜Ｃ4アルコキシまたはフェニル基１個で置換されていてもよいＣ1〜Ｃ6アルキルであり；
ｎは１、２、３、４、５、６、７または８の整数であり；
ＷはＣＮ、ＮＯ2、ＣＯＯＲ1またはＣＯＲ2であり；
【０１０６】
【化４６】
0004163771.tif 000034
【０１０７】
Ｌは水素またはハロゲンであり；
Ｍ及びＱは各々独立して水素、ハロゲン、ＣＮ、ＮＯ2、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニルであるか、またはＭ及びＱが隣接する位置である場合、これらのものはこれらのものが結合する炭素原子と一緒になってＭＱが構造式
−ＯＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＦ2Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−
を表す環を形成することができ；
Ｒ1及びＲ2は各々独立してＣ1〜Ｃ4アルキルであり；
Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々独立して水素、ハロゲン、ＮＯ2、ＣＨＯであるか、またはＲ4及びＲ5はこれらのものが結合する原子と一緒になってＲ4Ｒ5が構造式
【０１０８】
【化４７】
0004163771.tif 000035
【０１０９】
により表される環を形成することができ；
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は各々独立して水素、ハロゲン、ＣＮまたはＮＯ2であり；
ＸはＯまたはＳであり；そして
Ｈａｌはハロゲン原子である；
の化合物を製造する際に、式II
【０１１０】
【化４８】
0004163771.tif 000036
【０１１１】
式中、Ａ、Ｒ及びｎは式Ｉに対する上記のものである、
のアミドニトリルを酸及び溶媒の存在下並びに本質的に水を存在させずに少なくとも１モル当量の式III
【０１１２】
【化４９】
0004163771.tif 000037
【０１１３】
式中、Ｗは式Ｉに対する上記のものであり、そしてＹは水素、ＢｒまたはＣｌであり、但しＲが水素である場合、ＹはＢｒまたはＣｌでなければならない、
のジエネオフィルと反応させ、式Ｉ
【０１１４】
【化５０】
0004163771.tif 000038
【０１１５】
の化合物を生成させ、そして該式Ｉの化合物をハロゲン化し、該式IVの化合物を生成させることからなる、式IVの化合物の製造方法。
【０１１６】
７．式IIａ
【０１１７】
【化５１】
0004163771.tif 000039
【０１１８】
式中、ｎは１、２、３、４、５、６、７または８の整数であり；
Ｒ’は随時Ｃ1〜Ｃ4アルコキシまたはフェニル基１個で置換されていてもよいＣ1〜Ｃ6アルキルであり；
【０１１９】
【化５２】
0004163771.tif 000040
【０１２０】
Ｌは水素またはハロゲンであり；
Ｍ及びＱは各々独立して水素、ハロゲン、ＣＮ、ＮＯ2、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニルであるか、またはＭ及びＱが隣接する位置である場合、これらのものはこれらのものが結合する炭素原子と一緒になってＭＱが構造式
−ＯＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＦ2Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−
を表す環を形成することができ；
Ｒ1及びＲ2は各々独立してＣ1〜Ｃ4アルキルであり；
Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々独立して水素、ハロゲン、ＮＯ2、ＣＨＯであるか、またはＲ4及びＲ5はこれらのものが結合する原子と一緒になってＲ4Ｒ5が構造式
【０１２１】
【化５３】
0004163771.tif 000041
【０１２２】
により表される環を形成することができ；
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は各々独立して水素、ハロゲン、ＣＮまたはＮＯ2であり；そして
ＸはＯまたはＳである；
の化合物。
【０１２３】
８．ｎが１または２である、上記７に記載の化合物。
【０１２４】
９．Ｒ’がメチルまたはエトキシメチルである、上記７に記載の化合物。
【０１２５】
１０．Ａが基
【０１２６】
【化５４】
0004163771.tif 000042
【０１２７】
式中、Ｌは水素またはハロゲンであり；そしてＭ及びＱは各々独立して水素、ハロゲンまたはＣ1〜Ｃ4ハロアルキルである；
である、上記７に記載の化合物。