(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）
【化１】
0004126918.tif 000023
で表される３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジチオール）と、ジビニルベンゼンと、下記式（２）
【化２】
0004126918.tif 000024
で表されるビス（４−メタクリロイル−チオフェニル）スルフィドを含み、チオール基に対する不飽和二重結合のモル比が１．０以上３．０以下である光硬化性組成物に光ラジカル重合開始剤を添加し光重合して得られた屈折率１．６５以上、且つ鉛筆硬度Ｈ以上の硬化物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、眼鏡レンズ、プリズム、光ファイバー、情報記録基盤、フィルター等の光学材料、および光学材料用のコーティング剤、接着剤、封止剤等に有用な光硬化性組成物と、該光硬化性組成物から得られる高屈折率硬化物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
光学材料分野においてプラスチック材料は軽量かつ靭性に富むことから、眼鏡レンズ、プリズム、光ファイバー、情報記録基盤、フィルター等の光学材料、および光学材料用のコーティング剤、接着剤等に近年多用されている。特に、眼鏡レンズや光学フィルター等の材料において高屈折率を有する材料が求められている。
【０００３】
高屈折率を有する材料としては、ポリチオール化合物とポリイソシアネート化合物との反応により得られるチオウレタン構造を有する樹脂や、ポリエピスルフィド化合物の開環重合反応により得られる樹脂が提案されている。しかし、これらの材料の成形方法は熱硬化によるものであり、成形時間が長いことや、低温での成形が困難であることが問題点として挙げられる。従って短時間成形および低温成形が可能な光硬化性の材料がより求められている。
【０００４】
高屈折率を有する光硬化樹脂の１つとしてエン化合物とチオール化合物の組み合わせから成る樹脂（以下、エン-チオール樹脂と呼ぶ）が提案されている。チオール化合物は分子内に原子屈折率の高い硫黄原子を含有することから得られる硬化物は高い屈折率を有し、またチオール基と不飽和基の付加結合により硬化物は高い耐衝撃性を有する。しかし、屈折率を十分に高くするためにチオール化合物の含有量を大きくすると、得られる硬化物はゴム状になり十分な硬さが得られなくなる。高屈折率で高硬度の硬化物を得るために、屈折率が十分に高く、かつ架橋構造を形成しやすい多官能、好ましくは４官能以上のポリチオールが求められていた。
【０００５】
また、チオール化合物の相手となるエン化合物に関しても、屈折率だけでなく光硬化性や硬度等のバランスを考慮して適切な化合物を選択する必要がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は上記の問題点を解決することであり、即ち高屈折率で適度な硬度を有する光硬化性組成物、およびそれから得られる高屈折率硬化物を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者等はこの発明の課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、下記式（１）
【化６】
0004126918.tif 000002
で表される３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジチオール）がエン−チオール樹脂のチオール化合物として有用であることを見出した。該ポリチオール化合物は硫黄含有率が重量割合で６５％と高いため高屈折率であり、かつ４官能と架橋性が高いため適度な硬度を有する硬化物を得ることが出来る。また、該ポリチオール化合物の相手となるエン化合物として、下記一般式（６）
【化７】
0004126918.tif 000003
（式中、Ｒ1〜Ｒ4はそれぞれ、水素原子または下記構造式（３）
【化８】
0004126918.tif 000004
または下記構造式（４）
【化９】
0004126918.tif 000005
（式中、Ｒは水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表す。）のいずれかを表す。但し、R1〜R4の少なくとも２つ以上は上記構造式（３）のいずれかを表し、かつ、Ｒ1とＲ2、またはＲ3とＲ4が同時に上記構造式（４）を表すことはない。）
で表される２官能以上のポリエン化合物、ジビニルベンゼン、下記式（５）
【化１０】
0004126918.tif 000006
で表されるビス（４−メタクロイル−チオフェニル）スルフィド等を組み合わせることにより、屈折率および光硬化性および硬度のバランスのとれた硬化物が得られることを見出し、本発明に至った。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明の光硬化性組成物とは、下記式（１）
【化１１】
0004126918.tif 000007
で表される３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジチオール）および１種以上のポリエン化合物群および１種以上の光ラジカル重合開始剤を含有するものである。
【０００９】
該３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジチオール）は硫黄原子含有率が重量割合で６５％と高く、屈折率を高める効果が大きい。また、４つのチオール基を有するため架橋性に優れており、適度な硬度を持った硬化物を得ることが出来る。
【００１０】
該３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジチオール）は公知の製法やメルカプト化合物の製法により容易に合成できる。例えば、特願２００１−２０９０３１号明細書に記載された方法で製造することができ、即ち、ビス（β−エピチオプロピル）スルフィドと硫化水素を塩基の存在下で反応させることにより得ることができる。
【００１１】
本発明の光硬化性組成物に含有されるエン化合物とは末端に反応性不飽和結合基を有する化合物を意味し、具体的にはビニル化合物類、アリル化合物類、アクリル化合物類、メタクリル化合物類が挙げられる。
【００１２】
ビニル化合物類の具体例としては、ビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ビニルグリシジルエーテル、ビニルアルコール、メチルビニルカルビノール、エチレングリコールモノビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、テトラメチレングリコールモノビニルエーテル、ジビニルスルフィド、ビニルエチルスルフィド、ビニルフェニルスルフィド、メチルビニルケトン、ジビニルジカーボネイト、ビニルジグリコールカーボネイト、ビニレンカーボネイト、酢酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ヘキサン酸ビニル、２−エチルヘキサン酸ビニル、アジピン酸ジビニル、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、アクリル酸ビニル、メタクリル酸ビニル、ビニルブロマイド、ビニルアイオダイド、ビニルリン酸、ビニル尿素、スチレン、２−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、α−メチルスチレン、２，４，６−トリメチルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレン、スチルベン、ビニルフェノール、３−ビニルベンジルアルコール、４−ビニルベンジルアルコール、２−（４−ビニルフェニルチオ）エタノール、２−（３−ビニルフェニルチオ）エタノール、２−（４−ビニルベンジルチオ）エタノール、２−（３−ビニルベンジルチオ）エタノール、１，３−ビス（４−ビニルベンジルチオ）−２−プロパノール、１，３−ビス（３−ビニルベンジルチオ）−２−プロパノール、２，３−ビス（４−ビニルベンジルチオ）−１−プロパノール、２，３−ビス（３−ビニルベンジルチオ）−１−プロパノール、シンナミルアルコール、シンナムアルデヒド、１，３−ジビニルベンゼン、１，４−ジビニルベンゼン、トリビニルベンゼン、ジビニルフタレート、２−クロロスチレン、３−クロロスチレン、４−クロロスチレン、３−クロロメチルスチレン、４−クロロメチルスチレン、４−アミノスチレン、３−シアノメチルスチレン、４−シアノメチルスチレン、４−ビニルビフェニル、２，２’−ジビニルビフェニル、４，４’−ジビニルビフェニル、２，２’−ジスチリルエーテル、４，４’−ジスチリルエーテル、２，２’−ジスチリルスルフィド、４，４’−ジスチリルスルフィド、２，２−ビス（４−ビニルフェニル）プロパン、ビス（４−ビニルフェニル）エーテル、２，２−ビス（４−ビニロキシフェニル）プロパン等が挙げられるが、これらに限定されない。
【００１３】
アリル化合物類の具体例としては、上記のビニル化合物類で例示した化合物のビニル基の一部もしくは全部がアリル基に置き換わった化合物類が挙げられるが、これらに限定されない。
【００１４】
アクリル化合物類の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートモノアクリレート、２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートジアクリレート、２−ヒドロキシエチルシアヌレートモノアクリレート、２−ヒドロキシエチルシアヌレートジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、１、３−プロパンジオールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、１、４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、２−ヒドロキシ−１，３−ジアクリロキシプロパン、２，２−ビス〔４−（アクリロキシエトキシ）フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−（アクリロキシエトキシ）シクロヘキシル〕プロパン、２，２−ビス〔４−（２−ヒドロキシ−３−アクリロキシプロポキシ）フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−（アクリロキシ・ポリエトキシ）フェニル〕プロパン、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ビス（２，２，２−トリメチロールエチル）エーテルのペンタアクリレート、ビス（２，２，２−トリメチロールエチル）エーテルのヘキサアクリレート、ビス（４−アクロイル−チオフェニル）スルフィド等が挙げられるが、これらに限定されない。
【００１５】
メタクリル化合物類の具体例としては、上記のアクリル化合物類で例示した化合物のアクリル基の一部もしくは全部がメタクリル基に置き換わった化合物類が挙げられるが、これらに限定されない。
【００１６】
その他のエン化合物として、下記一般式（６）
【化１２】
0004126918.tif 000008
（式中、Ｒ1〜Ｒ4はそれぞれ、水素原子または下記構造式（３）
【化１３】
0004126918.tif 000009
または下記構造式（４）
【化１４】
0004126918.tif 000010
（式中、Ｒは水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表す。）
のいずれかを表す。但し、R1〜R4の少なくとも２つ以上は上記構造式（３）のいずれかを表し、かつＲ1とＲ2、またはＲ3とＲ4が同時に上記構造式（４）を表すことはない。）
で表される２官能以上のポリエン化合物が挙げられる。
【００１７】
以下に一般式（６）で表されるポリエン化合物の代表的な具体例を示すが、これらに限定されない。
【化１５】
0004126918.tif 000011
(式中、Phはフェニル基を表す。）
【００１８】
以上、エン化合物の具体例を挙げたが、例示化合物の中で屈折率および硬化性および硬度のバランスを考慮して特に好ましいものは、ジビニルベンゼンおよび下記式（5）
【化１６】
0004126918.tif 000012
で表されるビス（４−メタクロイル−チオフェニル）スルフィドおよび下記式（７）
【化１７】
0004126918.tif 000013
で表される化合物であり、これらの化合物を組み合わせて用いてもよい。また、屈折率、硬化性、硬度等を調整するために上記化合物以外のエン化合物を加えてもよい。
【００１９】
前記一般式（６）で表されるポリエン化合物の合成方法は特に限定されないが、例えば下記一般式（８）
【化１８】
0004126918.tif 000014
（式中、Ｒ5〜Ｒ8はそれぞれ、水素原子または下記構造式（４）
【化１９】
0004126918.tif 000015
（式中、Ｒは水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表す。）
のいずれかを表す。但し、R1〜R4の少なくとも２つ以上は水素原子を表し、かつ、Ｒ1とＲ2、またはＲ3とＲ4が同時に上記構造式（４）を表すことはない。）
で表される２官能以上のポリチオール化合物と下記一般式（９）
【化２０】
0004126918.tif 000016
（式中、Ｒ’は下記構造式（３）
【化２１】
0004126918.tif 000017
のいずれかを表す。Ｘはハロゲン原子を表す。）
で表されるハロゲン誘導体１種以上を塩基存在下で反応させることで製造することができる。ここで塩基は、上記一般式（８）の化合物と共に予め塩形成させた形で存在してもよい。
【００２０】
本発明の光硬化性組成物に含まれる３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジチオール）およびエン化合物群の含有量は、（不飽和結合基）/（チオール基）で表される官能基モル比が１．０〜１０、好ましくは１．０〜５、より好ましくは１．０〜３となる範囲である。
【００２１】
本発明の光硬化性組成物に含有される光ラジカル重合開始剤は特に限定されず、公知のものを用いることができる。また２種以上の光ラジカル重合開始剤を用いても構わない。
【００２２】
光ラジカル重合開始剤の代表的な具体例としては、アセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、２，２−ジエトキンアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、ベンジル、メチルベンゾイルホルメート、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（o−ベンゾイル）オキシム、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、［４−（メチルフェニルチオ）フェニル］フェニルメタン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、１，４−ジベンゾイルベンゼン、２−ベンゾイルナフタレン、４−ベンゾイルジフェニル、４−ベンゾイルジフェニルエーテル、キサントン、チオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、エチルアントラキノン、１０−ブチル−２−クロロアクリドン等が挙げられるがこれらに限定されない。
【００２３】
本発明の光硬化性組成物における光ラジカル重合開始剤の含有量は、３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジチオール）とエン化合物群の合計量１００重量部に対して０．００１〜１０重量部、好ましくは０．００５〜５重量部の割合で用いられる。
【００２４】
本発明の硬化性組成物には、本発明の効果が損なわれない範囲で、必要に応じて、増感剤、紫外線吸収剤、熱ラジカル重合開始剤、酸化防止剤、黄変防止剤、ブルーイング剤、顔料、離型剤、密着剤等を添加しても構わない。
【００２５】
本発明の高屈折率硬化物は、本発明の光硬化性組成物を重合硬化して得られるものである。硬化方法は公知の光重合により行われるが、必要に応じて公知の熱硬化を併用しても構わない。
【００２６】
本発明の光硬化性組成物を光硬化させる際に用いることのできる光源としては、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。
【００２７】
【実施例】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、得られた硬化物の屈折率および鉛筆硬度は以下の試験法により評価した。
屈折率：アッベ屈折計を用い、２５℃で測定した。
鉛筆硬度：ＪＩＳ５４００に準拠して測定した。
【００２８】
合成例１
撹拌機、温度計、窒素導入管を装着したフラスコにビス（β−エピチオプロピル）スルフィド５０ｇ、水酸化カリウム３．７ｇ、溶媒としてメタノール１０００ｍｌを仕込み、１０℃で硫化水素を吹き込み、飽和状態を維持させながら３時間反応させた。反応後、過剰の硫化水素を追い出し、メタノールを留去し、無色液状の生成物５５．８ｇを得た。生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し、３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジチオール）２０．４ｇと１，２−エピチオ−６，７−ジメルカプト−４−チアヘプタン１７．８ｇを得た。
【００２９】
合成例２
攪拌機、温度計、滴下ロートを備えた容量２００ｍｌの４つ口のフラスコに２０％水酸化ナトリウム水溶液６０．０g（０．３０モル）を仕込み、３０℃以下に保ちながら滴下ロートより３,３’−チオビス(プロパン−１，２−ジチオール)１２．３ｇ（０．０５モル）を５分かけて滴下した。さらに反応温度を３０℃以下に保ち１時間攪拌した。反応温度を０℃まで冷却し、アリルクロライド２３．０ｇ（０．３０モル）を１５分かけて滴下した。滴下終了後さらに同温度で１時間攪拌した。反応生成物をヘキサンで抽出し水洗した後、減圧濃縮し、ヘキサン及び過剰のアリルクロライドを除いた。続いて濃縮液を塩化メチレンとヘキサンの混合溶媒に溶解し、シリカゲルを充填したカラムを通過させた後、再び減圧濃縮することにより、 下記式（１０）
【化２２】
0004126918.tif 000018
で表される３，３’−チオビス(１，２−ジ(1-プロペニルチオ)プロパン)１９．９ｇを得た。
【００３０】
合成例３
攪拌機、温度計、滴下ロートを備えた容量１００ｍｌの４つ口のフラスコに３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジチオール）１．６ｇ（６．５ミリモル）、メタクロイルクロライド３．５ｇ（５５ミリモル）、塩化メチレン３０ｍｌを仕込み、−１０℃に冷却した。反応温度を−８℃以下に保ちながら滴下ロートよりピリジンを１時間かけて滴下した。滴下終了後、反応温度３０℃でさらに１時間攪拌した。反応生成物を酸洗、水洗した。メチルハイドロキノンを１０００ｐｐｍ加えた後、減圧濃縮を行った。続いて濃縮液を塩化メチレンとヘキサンの混合溶媒に溶解し、シリカゲルを充填したカラムを通過させた後、再び減圧濃縮することにより、下記式（１１）
【化２３】
0004126918.tif 000019
で表される３，３’−チオビス(１，２−ジメタクロイルチオプロパン)を得た。
【００３１】
実施例１
合成例１の３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジチオール）３５重量部、合成例２の３，３’−チオビス(１，２−ジ(1-プロペニルチオ)プロパン)６５重量部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン１重量部をよく混合し、減圧により脱泡することで光硬化性組成物を得た。この光硬化性組成物を２枚のガラス板とゴム製リングから構成される、厚さ３ｍｍのモールドに注入し、１００Ｗ/ｃｍのメタルハライドランプの光を光源から３０ｃｍの距離で３０分間照射し硬化させた。室温まで放冷した後、モールドから離型し、硬化物を得た。得られた硬化物の屈折率および鉛筆硬度の測定結果を表１に示した。
【００３２】
実施例２
合成例１の３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジチオール）２７重量部、合成例２の３，３’−チオビス(１，２−ジ(1-プロペニルチオ)プロパン)５０重量部、ビス（４−メタクロイル−チオフェニル）スルフィド２３重量部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン１重量部をよく混合し、減圧により脱泡することで光硬化性組成物を得た。この光硬化性組成物から実施例１と同様にして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折率および鉛筆硬度の測定結果を表１に示した。
【００３３】
実施例３
合成例１の３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジチオール）３０重量部、合成例３の３，３’−チオビス(１，２−ジメタクロイルチオプロパン)７０重量部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン１重量部をよく混合し、減圧により脱泡することで光硬化性組成物を得た。この光硬化性組成物から実施例１と同様にして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折率および鉛筆硬度の測定結果を表１に示した。
【００３４】
実施例４
合成例１の３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジチオール）４０重量部、ジビニルベンゼン６０重量部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン１重量部をよく混合し、減圧により脱泡することで光硬化性組成物を得た。この光硬化性組成物から実施例１と同様にして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折率および鉛筆硬度の測定結果を表１に示した。
【００３５】
実施例５
合成例１の３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジチオール）２７重量部、ジビニルベンゼン５０重量部、ビス（４−メタクロイル−チオフェニル）スルフィド２３重量部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン１重量部をよく混合し、減圧により脱泡することで光硬化性組成物を得た。この光硬化性組成物から実施例１と同様にして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折率および鉛筆硬度の測定結果を表１に示した。
【００３６】
実施例６
合成例１の３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジチオール）２６重量部、ジビニルベンゼン４５重量部、ビス（４−メタクロイル−チオフェニル）スルフィド２２重量部、トリメチロールプロパントリメタクリレート７重量部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン１重量部をよく混合し、減圧により脱泡することで光硬化性組成物を得た。この光硬化性組成物から実施例１と同様にして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折率および鉛筆硬度の測定結果を表１に示した。
【００３７】
比較例１
下記構造式（１２）で表される４，８−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチア−１，１１−ウンデカンジチオール４０重量部、合成例２の３，３’−チオビス(１，２−ジ(1-プロペニルチオ)プロパン)６０重量部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン１重量部をよく混合し、減圧により脱泡することで光硬化性組成物を得た。この光硬化性組成物から実施例１と同様にして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折率および鉛筆硬度の測定結果を表１に示した。
【化２４】
0004126918.tif 000020
【００３８】
比較例２
前記構造式（１２）で表される４，８−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチア−１，１１−ウンデカンジチオール４５重量部、ジビニルベンゼン５５重量部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン１重量部をよく混合し、減圧により脱泡することで光硬化性組成物を得た。この光硬化性組成物から実施例１と同様にして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折率および鉛筆硬度の測定結果を表１に示した。
【００３９】
比較例３
合成例１の３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジチオール）３５重量部、トリメチロールプロパントリメタクリレート６５重量部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン１重量部をよく混合し、減圧により脱泡することで光硬化性組成物を得た。この光硬化性組成物から実施例１と同様にして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折率および鉛筆硬度の測定結果を表１に示した。
【００４０】
比較例４
合成例１の３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジチオール）２０重量部、下記構造式（１３）で表されるビス（β-メタクリロイルオキシエチルチオ）キシリレン８０重量部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン１重量部をよく混合し、減圧により脱泡することで光硬化性組成物を得た。この光硬化性組成物から実施例１と同様にして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折率および鉛筆硬度の測定結果を表１に示した。
【化２５】
0004126918.tif 000021
【００４１】
【表１】
0004126918.tif 000022
化合物略号
Ａ：３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジチオール）
Ｂ：４，８−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチア−１，１１−ウンデカンジチオール
Ｐ：３，３’−チオビス(１，２−ジ(1-プロペニルチア)プロパン)
Ｑ：３，３’−チオビス(１，２−ジチオメタクリレート)
Ｒ：ビス（４−メタクロイル−チオフェニル）スルフィド
Ｓ：ジビニルベンゼン
Ｔ：トリメチロールプロパントリメタクリレート
Ｕ：ビス（β-メタクリロイルオキシエチルチオ）キシリレン
Ｘ：２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン
【００４２】
【発明の効果】
本発明の３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジチオール）および１種以上のエン化合物群を含有する組成物は光硬化が可能であり、高屈折率で適度な硬度を有する硬化物を得ることができた。