(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
【化１】
0004144814.tif 000013
（式中、Ｒ1 は置換基を有してもよい炭化水素基又は複素環式基を示し、Ｒ2 はＲ1 及び隣接する炭素原子と共に置換基を有してもよい脂肪族環を形成するか、又は単独に置換基を有してもよい炭化水素基若しくは複素環式基を示す）で表されるカルボニル化合物を、遷移金属と二座配位子として第３級ホスフィンを含む遷移金属錯体、塩基及びジアミンの存在下（ここで、該二座配位子としての第３級ホスフィンがラセミ体であるときジアミンが光学活性体であり、該二座配位子としての第３級ホスフィンが光学活性体であるときジアミンがラセミ体である）に不斉水素化させることを特徴とする一般式（２）
【化２】
0004144814.tif 000014
（式中、Ｒ1 及びＲ2 は上記と同じ、＊は不斉炭素原子を意味する）で表される光学活性アルコール化合物の製造方法。
【請求項２】
遷移金属錯体が、一般式（３）
RumXnLpAq         （３）
（式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｌは第３級ホスフィンの二座配位子化合物を示し、Ａはトリエチルアミン（Et3N) 又はジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）を示し、ｍ、ｎ、ｐ及びｑは整数であり、ＡがEt3Nのとき、ｍは２、ｎは４、ｐは２、ｑは１であり、ＡがＤＭＦのとき、ｍは１、ｎは２、ｐは１、ｑは２乃至５である）で表されるルテニウムホスフィン錯体；
又は、一般式（４）
[RuX(D)(L)]X        （４）
（式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｌは第３級ホスフィンの二座配位子化合物を示し、Ｄはベンゼン、ｐ−シメン、１，３，５−トリメチルベンゼン又はヘキサメチルベンゼンを示す。）
で表されるルテニウムホスフィン錯体（Ｌはラセミ体又は光学活性体である）である請求項１記載の光学活性アルコール化合物の製造方法。
【請求項３】
ジアミンが、エチレンジアミン誘導体である請求項１記載の光学活性アルコール化合物の製造方法。
【請求項４】
ジアミンが、ジフェニルエチレンジアミンである請求項１記載の光学活性アルコール化合物の製造方法。
【請求項５】
塩基が、アルカリ金属化合物又はアルカリ土類金属化合物である請求項１記載の光学活性アルコール化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学活性アルコール化合物の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、本発明は、香料、医薬品の合成中間体や、液晶材料等の各種用途において有用な、光学活性アルコール化合物の実用性に優れた新しい製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、光学活性アルコール類を不斉合成する方法としては、1 ）パン酵母などの酵素を用いる方法、2 ）金属錯体触媒を用いてカルボニル化合物を不斉水素化する方法などが知られている。とくに後者の方法においては、これまでにも多くの不斉触媒反応の例が報告されている。例えば、（１）Asymmetric Catalysis In 0rganic Synthesis,56〜82頁（1994）Ed., R. Noyoriに詳細に記載されている光学活性ルテニウム触媒による官能基を有するカルボニル化合物の不斉水素化方法や、（２）Chem. Rev., Vo1. 92, 1051 〜1069頁（1992）に記載されているルテニウム、ロジウム、イリジウムの不斉錯体触媒による水素移動型還元反応による方法、（３）油化学822 〜831 （1980）およびAdvances in Catalysis Vol. 32, 215頁（1983）Ed., Y. Izumi に記載されている酒石酸を修飾したニッケル触媒を用いて不斉水素化する方法、（４）Asymmetic Syntheis, Vo1. 5, Chap. 4 （1985）Ed. J. D. MorrisonおよびJ. Organomet. Chem., Vo1. 346, 413〜424頁（1988）に記載されている不斉ヒドロシリル化による方法、（５）J. Chem. Soc., Perkin Trans. 1, 2039〜2044頁（1985）およびJ. Am. Chem. Soc., Vol. 109,5551〜5553頁（1987）に記載されている不斉配位子の存在下にボラン還元する方法などが知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、酵素を用いる方法は比較的高い光学純度のアルコール類を得ることができるものの反応基質の種類に制約があり、しかも得られるアルコ−ル類の絶対配置も特定のものに限られるという欠点がある。また、遷移金属の不斉水素化触媒による方法の場合には、分子内の官能基を含む、例えば、ケト酸のような基質に対しては高い選択性で光学活性アルコール類は製造できるものの、反応速度の点で難点があり、しかも、官能基を分子内にもたない比較的単純なカルボニル化合物に対しては有効でないという欠点があった。
【０００４】
そこで、本発明者等はこの欠点を解決すべく検討した結果、不斉水素化触媒と塩基と光学活性含窒素化合物の存在下に不斉水素化することによって解決することができた（特開平8 −225466号公報参照）が、使用する光学活性配位子は高価であり、必ずしも工業的には満足できるものてはなかった。
【０００５】
一方、本発明者の一人である三上等によって、ラセミ体の触媒に光学活性化剤を加えることにより、ラセミ体触媒の一方のエナンチオマーのみが活性化され、結果的に有効な不斉触媒となることがNature,  385巻, 613〜615 頁（1997）に報告されている。しかしながら、この方法は不斉水素化反応に用いることはできない制約があった。従って、光学活性アルコール類を製造するための一般性の高い、しかも高活性かつ安価な触媒を用いる新しい合成方法の実現が望まれていた。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
そこで、本発明者等は上記課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、反応系内において光学活性体に比べて安価なラセミ体の遷移金属錯体に、光学活性なジアミン化合物を活性化剤として加えるか、又は光学活性な遷移金属錯体に、ラセミ体のジアミン化合物を活性化剤として加えて、２種類の錯体を生成させれば、該２種類の錯体のカルボニル化合物に対する反応性が異なることから一方の錯体のみにカルボニル化合物が配位し、水素化が進行して、光学活性アルコールが高い光学純度、且つ高収率で得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち、本発明は、下記一般式（１）
【０００８】
【化３】
0004144814.tif 000002
【０００９】
（式中、Ｒ1 は置換基を有してもよい炭化水素基又は複素環式基を示し、Ｒ2 はＲ1 及び隣接する炭素原子と共に置換基を有してもよい脂肪族環を形成するか、又は単独に置換基を有してもよい炭化水素基若しくは複素環式基を示す）で表されるカルボニル化合物を、遷移金属と二座配位子として第３級ホスフィンを含む遷移金属錯体、塩基及びジアミンの存在下（ここで、該二座配位子としての第３級ホスフィンがラセミ体であるときジアミンが光学活性体であり、該二座配位子としての第３級ホスフィンが光学活性体であるときジアミンがラセミ体である）に不斉水素化させることを特徴とする一般式（２）
【００１０】
【化４】
0004144814.tif 000003
【００１１】
（式中、Ｒ1 及びＲ2 は上記と同じ、＊は不斉炭素原子を意味する）で表される光学活性アルコール化合物の製造方法を提供するものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明方法の原料であるカルボニル化合物を示す一般式（１）中、Ｒ1 及びＲ2 で示される置換基を有していてもよい炭化水素基又は複素環式基としては、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、単環若しくは多環の芳香族炭化水素基、単環若しくは多環の脂環式炭化水素基、単環若しくは多環の複素環式基が挙げられる。このうち、脂肪族炭化水素基としては飽和又は不飽和の直鎖又は分岐鎖の炭化水素基が挙げられ、より具体的には例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル等のアルキル基、ビニル、アリル等のアルケニル基が挙げられる。また、単環又は多環の芳香族炭化水素基としては、具体的にはフェニル基、2 −メチルフェニル、2 −エチルフェニル、2 −イソプロピルフェニル、2 −ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、2 −メトキシフェニル、2 −クロロフェニル、2 −ビニルフェニル、3 −メチルフェニル、3 −エチルフェニル、3 −イソプロピルフェニル、3 −メトキシフェニル、3 −クロロフェニル、3 −ビニルフェニル、4 −メチルフェニル、4 −エチルフェニル、4 −イソプロピルフェニル、4 −ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、4 −ビニルフェニル、クメニル、メシチル、キシリル、1 −ナフチル、2 −ナフチル、アントリル、フェナントリル、インデニル基等が挙げられる。また、単環又は多環の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等のシクロアルキル基等が挙げられる。更に、単環又は多環の複素環式基としてはチエニル、フリル、ピラニル、キサンテニル、ピリジル、イミダゾリニル、インドリル、カルバゾイル、フェナントロリル等の複素環式基が挙げられる。これらの基に置換しうる基としては、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシル基等が挙げられる。更には上記の炭化水素基や複素環式基が相互に結合した基、例えばアラルキル基、フェロセニル基等も挙げられる。
【００１３】
Ｒ1 とＲ2 が隣接する炭素原子と一緒になって形成する脂肪族環としては、５〜１２員環の環状ケトン、例えばシクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロヘキセノン、シクロヘプテノン等が挙げられる。これら環状ケトンには、アルキル基、アルケニル基、芳香族炭化水素基、複素環式基、アルコキシル基等が置換していてもよい。
【００１４】
これらのうち、Ｒ1 としては脂肪族炭化水素、特にアルキル基が好ましく、Ｒ2 としては脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基又は複素環式基が特に好ましく、またＲ1 及びＲ2 が隣接する炭素原子とともに置換基を有していてもよい環状ケトンを形成する場合も好ましい。
【００１５】
本発明で用いられる遷移金属錯体としては、例えば、一般式（３）
【００１６】
RumXnLpAq         （３）
【００１７】
（式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｌは第３級ホスフィンの二座配位子化合物を示し、Ａはトリエチルアミン（Et3N) 又はジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）を示し、ｍ、ｎ、ｐ及びｑは整数であり、ＡがEt3Nのとき、ｍは２、ｎは４、ｐは２、ｑは１であり、ＡがＤＭＦのとき、ｍは１、ｎは２、ｐは１、ｑは２乃至５である）で表されるルテニウムホスフィン錯体；
また、一般式（４）
【００１８】
[RuX(D)(L)]X        （４）
【００１９】
（式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｌは第３級ホスフィンの二座配位子化合物を示し、Ｄはベンゼン、ｐ−シメン、１，３，５−トリメチルベンゼン又はヘキサメチルベンゼンを示す。）で表されるルテニウムホスフィン錯体（Ｌはラセミ体又は光学活性体である）が挙げられる。
【００２０】
第３級ホスフィンのＬとしては具体的には、一般式（５）
【００２１】
【化５】
0004144814.tif 000004
【００２２】
（式中、Ｒ3 はフェニル基、４−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、４−メトキシフェニル基、３，５−ジメチル−４−メトキシフェニル基、シクロヘキシル基又はシクロペンチル基を示す）で表されるホスフィン化合物を挙げることができる。また、一般式（５）以外の化合物としては、一般式（６）
【００２３】
【化６】
0004144814.tif 000005
【００２４】
（式中、Ｒ3 はフェニル基、４−メチルフェニル基、４−メトキシフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、４−メトキシフェニル基、３，５−ジメチル−４−メトキシフェニル基又はシクロヘキシル基を示す）で表されるホスフィン化合物を挙げることができる。また、一般式（６）以外の化合物としては、一般式（７）
【００２５】
【化７】
0004144814.tif 000006
【００２６】
（式中、Ｒ3 はフェニル基、４−メチルフェニル基、４−メトキシフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、４−メトキシフェニル基、３，５−ジメチル−４−メトキシフェニル基又はシクロヘキシル基を示し、Ｒ4 は水素、メチル基又はメトキシ基を示し、Ｒ5 は水素、メチル基、メトキシ基又は塩素を示し、Ｒ6 はメチル基、メトキシ基又はトリフロロメチル基を表す）で表されるホスフィン化合物を挙げることができる。
【００２７】
用いることの出来る光学活性第３級ホスフィンとしては、Chem.Pharm.Bull.,1991 年、39巻、1085頁に示される、（４，４’６，６’−テトラメチル−５，５’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）−ビス（ジフェニルホスフィン）、（４，４’６，６’−テトラメチル−５，５’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）−ビス（ジ−ｐ−メトキシフェニルホスフィン）が挙げられる。また、Synlett,1991年、827 頁に示される、（４，４’６，６’−テトラトリフルオロメチルビフェニル−２，２’−ジイル）−ビス（ジフェニルホスフィン）、（４，６−ジトリフロロメチル−４’，６’−ジメチル−５’−メトキシビフェニル−２，２’−ジイル）−ビス（ジフェニルホスフィン）も用いることが出来る。また、Tetrahedron:Asymmetry, 1992 年、3 巻、13頁に示される、２−ジシクロヘキシル−２’−ジフェニルホスフィノ−４，４’，６，６’−テトラメチル−５，５’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）−ビス（ジフェニルホスフィン）も用いることが出来る。更に、特公平4-15796号公報に開示されているもの、（６，６’−ジメチル−２，２’−ビフェニレン）−ビス（ジフェニルホスフィン）、（４，４’，６，６’−テトラメチル−２，２’−ビフェニレン）−ビス（ジフェニルホスフィン）、（３，３’，６，６’−テトラメチル−２，２’−ビフェニレン）−ビス（ジフェニルホスフィン）、（４，４’−ジフルオロ−６，６’−ジメチル−２，２’−ビフェニレン）−ビス（ジフェニルホスフィン）、（４，４’−ビス（ジメチルアミノ）−６，６’−ジメチル−２，２’−ビフェニレン）−ビス（ジフェニルホスフィン）、（６，６’−ジメチル−２，２’−ビフェニレン）−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィン）、（６，６’−ジメチル−２，２’−ビフェニレン）−ビス（ジ−ｏ−トリルホスフィン）、（６，６’−ジメチル−２，２’−ビフェニレン）−ビス（ジ−ｍ−フルオロフェニルホスフィン）、１，１１−ビス（ジフェニルホスフィノ）−５，７−ジヒドロジベンゾ〔ｃ，ｅ〕オキセピンも用いることができる。また、特開平3-5492号公報に開示されているもの、例えば、（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）−ビス（ジフェニルホスフィン）、（５，５’，６，６’−テトラメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）−ビス（ジフェニルホスフィン）、（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィン）、（４，４’，５，５’，６，６’−テトラヘキサメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）−ビス（ジフェニルホスフィン）等も用いることができる。
【００２８】
また、一般式（７）以外の化合物としては、一般式（８）、
【００２９】
【化８】
0004144814.tif 000007
【００３０】
（式中Ｒ7 はメチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基を示す）で表されるホスフィン化合物を挙げることができる。この光学活性第三級ホスフィンとしては、J. Am. Chem. Soc., 1993 年、115 巻、10125 頁に示される、１，２−ビス（２，５−ジメチルホスホラノ）ベンゼン、１，２−ビス（２，５−ジエチルホスホラノ）ベンゼン、１，２−ビス（２，５−ジプロピルホスホラノ）ベンゼン、１，２−ビス（２，５−ジイソプロピルホスホラノ）ベンゼンが挙げられる。また、一般式（８）以外の化合物としては、CHIRAPHOS （２，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）ブタン (９),  PROPHOS （１，２−ビス−（ジフェニルホスフイノ）プロパン）(10)、NORPHOS （５，６−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−２−ノルボルネン）(11)、DEGPHOS （1 −置換−３，４−ビス−（ジフェルホスフィノ）ピロリジン）(12)、 BDPP （２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）ペンタン）(13)、DIOP（2,3 −Ｏ−イソプロピリデン−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）ブタン）(14)、DIPAMP（１，２−ビス−[ （ｏ−メトキシフェニル）フェニルホスフィノ] エタン）(15)、 BPPHFOH（1 −［１’，２−ビス−（ジフェニルホスフイノ）フェロセニル] エタノ−ル）(16)、BPPM（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ジフェニルホスフィノ−２−ジフェニルホスフィノメチルピロリジン）（17）等が挙げられる。
【００３１】
【化９】
0004144814.tif 000008
【００３２】
また、塩基としては、無機塩基又は第４級アンモニウム塩が挙げられ、好ましくはアルカリ金属化合物又はアルカリ土類金属化合物及び第４級アンモニウム塩が挙げられ、より好ましくはアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物又はその塩及び第４級アンモニウム塩が挙げられる。更に好ましい例としては、例えば、下記一般式（１８）
【００３３】
MY          （１８）
【００３４】
（Ｍはアルカリ金属又はアルカリ土類金属を示し、Ｙはヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基又はナフチル基を示す。）で表される金属塩あるいは４級アンモニウム塩が挙げられる。
また、具体的にはLiOH、LiOMe 、LiOEt 、LiOCH(CH3)2 、 LiOC(CH3)3 、NaOH、NaOMe 、NaOEt 、NaOCH(CH3)2 、NaOC(CH3)3、KOH 、KOCH3 、KOCH(CH3)2、 KOC(CH3)3、KC10H8等が例示される。更に第４級アンモニウム塩も利用できる。
【００３５】
本発明においてジアミン化合物は、遷移金属錯体の活性化剤として機能するものであり、遷移金属錯体がセラミ体のときには光学活性なジアミン化合物を用い、遷移金属錯体が光学活性体のときにはラセミのジアミン化合物を用いる。
【００３６】
かかるジアミン化合物としては、エチレンジアミン化合物、例えば、一般式（１９）
【００３７】
【化１０】
0004144814.tif 000009
【００３８】
（Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14及びＲ15は水素、又は飽和若しくは不飽和炭化水素基、アリール基、ウレタン基、スルホニル基等であり、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13はこれら置換基が結合している炭素が不斉中心となるように同じかもしくは異なる基であり、水素、アルキル基、単環若しくは多環の芳香族炭化水素基、飽和若しくは不飽和炭化水素基、環式炭化水素基等を示す。）で表される光学活性あるいはラセミのジアミン化合物が挙げられる。具体的には、光学活性あるいはラセミの１，２−ジフェニルエチレンジアミン、１，２−シクロヘキサンジアミン、１，２−シクロヘプタンジアミン、２，３−ジメチルプタンジアミン、１−メチル−２，２−ジフェニルエチレンジアミン、１−イソブチル−２，２−ジフェニルエチレンジアミン、１−イソプロピル−２，２−ジフェニルエチレンジアミン、１−メチル−２，２−ジ（ｐ−メトキシフェニル）エチレンジアミン、１−イソブチル−２，２−ジ（ｐ−メトキシフェニル）エチレンジアミン、1-イソプロピル−２，２−ジ（ｐ−メトキシフェニル）エチレンジアミン、１−ベンジル−２，２−ジ（ｐ−メトキシフェニル）エチレンジアミン、１−メチル−２，２−ジナフチルエチレンジアミン、１−イソブチル−２，２−ジナフチルエチレンジアミン、１−イソプロピル−２，２−ジナフチルエチレンジアミンなどの光学活性体あるいはラセミ体のエチレンジアミン化合物、更にＲ8 ないしＲ15の置換基のうち１つないし２つがスルホニル基、又はウレタン基である光学活性ジアミン化合物を例示することができる。更に光学活性あるいはラセミのプロパンジアミン、ブタンジアミン、フェニレンジアミン誘導体も用いることができる。
【００３９】
本発明においては、触媒として使用する遷移金属錯体と塩基と光学活性化剤のジアミン化合物の３成分は不斉水素反応が円滑に進行し、高い不斉収率を達成するためには必要不可欠の成分であり、１成分でも不足すると充分な反応活性で高い光学純度のアルコール体は得られない。
【００４０】
本発明における遷移金属錯体の使用量は、反応容器や反応の形式あるいは経済性によっても異なるが、反応基質であるカルボニル化合物に対してモル比で１／１００〜１／１００，０００の範囲で用いることができ、好ましくは、１／５００〜１／１０，０００の範囲で用いることができる。また、塩基の使用量は遷移金属錯体に対して０．５〜１００当量が好ましく、より好ましくは２〜４０当量である。また、ジアミン化合物の使用量は遷移金属錯体に対し０．５〜２．５当量が好ましく、より好ましくは１〜２当量の範囲である。
【００４１】
本発明では、溶媒として、反応原料、触媒系を可溶化するものであれば適宜なものを用いることができる。例として、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶媒、ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素溶媒、塩化メチレンなどのハロゲン含有炭化水素溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、2 −プロパノ−ル、ブタノール、ベンジルアルコールなどのアルコール系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）やジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）などヘテロ原子を含む有機溶媒を用いることができる。このうち、生成物がアルコールであることからアルコール系溶媒が最適である。さらにより好ましくは２−プロパノールである。反応基質が溶媒に可溶化しにくい場合は、上記溶媒から選択して混合溶媒として用いることができる。
【００４２】
溶媒の量は反応基質の溶解度および経済性により判断される。２−プロパノールの場合の基質濃度は、基質によっては１％以下の低濃度から無溶媒に近い状態で反応を行うことができるが、２０〜５０重量％で用いることが望ましい。
【００４３】
本発明における水素の圧力は、本触媒系が極めて高活性であることから１気圧で十分であるが、経済性を考慮すると１〜１００気圧の範囲で、より好ましくは３〜５０気圧の範囲であるが、プロセス全体の経済性を考慮して１０気圧以下でも高い活性を維持することも可能である。
【００４４】
反応温度については、０℃〜４０℃で行うことが好ましいが、−３０℃〜１００℃のの範囲内で反応を実施することもできる。また、反応時間は反応基質濃度、温度、圧力等の反応条件によって異なるが数分から１０時間が好ましい。
【００４５】
本発明における反応は、反応形式がバッチ式においても連続式においても実施することができる。
【００４６】
【実施例】
以下、実施例によって本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらによって何ら限定されるものではない。
尚、実施例中の物性データーは以下の測定機器及び条件で測定した。
【００４７】
１）収率、光学純度；
ガスクロマトグラフィー（実施例１、３）；
機器：ＨＰ−６８９０（ヒューレットパッカード社製）
カラム：Chirasil−ＤＥＸ  ＣＢ（0.32mm×25m ）（クロムパック社製）
温度：９０℃
高速液体クロマトグラフィー（実施例５、６）；
機器：LC-6A （島津製作所製）
カラム： CHIRALPAK AS         （ダイセル化学社製）
溶媒：実施例３、ヘキサン：２−プロパノール（１００：１）
実施例５、ヘキサン：２−プロパノール（９８：２）
流速：1 ml/min.
検出器：紫外線吸光光度計SPD-6A（２５４ｎｍ）（島津製作所製）
【００４８】
２）プロトン核磁気共鳴スペクトル（1Ｈ−ＮＭＲ）；
＜Ａ＞（実施例１、３）
機器：ＬＡＭＢＤＡ−５００型（500 ＭＨｚ）（日本電子社製）
＜Ｂ＞（実施例５、６）
機器：ＧＥＭＩＮＩ−３００型（300 ＭＨｚ）（バリアン社製）
【００４９】
３）旋光度；
機器：ＤＩＰ−３７０（日本分光株式会社製）
【００５０】
実施例１
（Ｓ）−２，４，４−トリメチル−２−シクロヘキセノールの合成
２００mlのガラス製耐圧容器にRuCl2[(R,S)-tolbinap](dmf)n (9.4 mg,０．０１mmol) と（Ｓ，Ｓ）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン（２．１mg，０．０１mmol) を仕込み、容器をアルゴンガスで置換する。
この中に、２−プロパノール（３ml）、トルエン（１ml）、KOH の０．５Ｍ
2−プロパノール溶液（４０ml，０．０２mo1）をアルゴン気流下で導入する。この溶液の脱気一アルゴン置換を繰り返し行った後、超音波処理を15分間行って均一溶液とする。この溶液に、あらかじめ脱気−アルゴン置換を行った２，４，４−トリメチル−２−シクロヘキセノン（６９１mg，５．０mmo1) の２−プロパノール（４ml）溶液をアルゴン気流下で導入する。反応容器を氷水冷し、水素を８気圧まで圧入することにより反応を開始させ、０℃で６時間撹拌した後常温にもどし、容器をアルゴン置換する。反応液を濃縮後、得られた粗製品をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し（溶出液、エーテル：ｎ−ヘキサン＝１：４）、（Ｓ）−２，４，４−トリメチル−２−シクロヘキセノール（６８４mg）を得た。
【００５１】
収率：９８％
光学純度：95％ e.e.
旋光度：[α]D24＝-88.3 °
0004144814.tif 000010
【００５２】
実施例２
実施例１と同様にして、 RuCl2[(R,S)-tolbinap](dmf)nの代わりに、 RuCl2[(R)-tolbinap](dmf)nを用い、（Ｓ，Ｓ）−１，２−ジフェニルエチレンジアミンのかわりに、（±）−ジフェニルエチレンジアミンを用いて反応を行い、生成物として（Ｓ）−２，４，４−トリメチル−２−シクロヘキセノールが得られた。収率：９９％
光学純度：９０％e.e.
【００５３】
比較例１
実施例１の方法と同様にして、 RuCl2[(R,S)-tolbinap](dmf)nのかわりにRuCl2[(R)-tolbinap](dmf)n（特開平8−225466号公報）を用いて反応を行い、（Ｓ）−２，４，４−トリメチル−2 −シクロヘキセノールを得た。
【００５４】
収率：９８％
光学純度：９６% e.e.
【００５５】
上記結果より明らかなように、高価な光学活性な錯体で製造した製造物と同じ水準の製造物を、安価なラセミ体の錯体で製造できた。
【００５６】
実施例３
（Ｒ）−１−（ｏ−メチルフェニル）エタノールの合成
２００mlのガラス製耐圧容器にRuCl2[(R,S)-tolbinap](dmf)n（９．４mg，０．０１mmol）と（Ｓ，Ｓ）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン（２．１mg，０．０１mmol) を仕込み、容器をアルゴンガスで置換する。この中に、２−プロパノール（３ml）、トルエン（１mg）、KOC(CH3)3 の１．０Ｍ  ｔｅｒｔ−ブチルアルコール溶液（２０ml，０．０２mo1)をアルゴン気流下で導入する。
この溶液の脱気−アルゴン置換を繰り返し行った後、超音波処理を15分間行って均一溶液とする。この溶液に、あらかじめ脱気一アルゴン置換を行ったｏ−メチルアセトフェノン（６７１mg，５．０mmo1）の２−プロパノール（４m1）溶液をアルゴン気流下で導入する。
反応容器を氷水冷し、水素を４気圧まで圧入することにより反応を開始させた。０℃で10時間撹拌した後常温にもどし、容器をアルゴン置換する。
反応液のガスクロマトグラフィーおよびＮＭＲの測定により、生成物として
（Ｒ）−１−（ｏ−メチルフェニル）エタノールを同定し、収率９９％以上であることを確認した。
【００５７】
光学純度：９０％ e.e.
【００５８】
実施例４
実施例３と同様にして、 RuCl2[(R,S)-tolbinap](dmf)nの代わりに、 RuCl2[(R)-tolbinap](dmf)nを用い、（Ｓ，Ｓ）−１，２−ジフェニルエチレンジアミンのかわりに、（±）−ジフェニルエチレンジアミンを用いて反応を行い、生成物として（Ｓ）−１−（ｏ−メチルフェニル）エタノールが得られた。
収率：９９％
光学純度：８５％e.e.
【００５９】
実施例５
（Ｒ）−１−（１−ナフチル) エタノールの合成
実施例１の方法と同様にして、反応基質として、１−アセトナフトンを用い、反応を行った。
反応液の高速液体クロマトグラフィ−およびＮＭＲの測定により、生成物として（Ｒ）−１−（１−ナフチル) エタノールを同定し、収率９９％以上であることを確認した。
【００６０】
光学純度：７３％ e.e.
0004144814.tif 000011
【００６１】
実施例６
実施例５の方法と同様にしてRuCl2[(R,S)-tolbinap](dmf)nの代わりにRuCl2[(S)-tolbinap](dmf)nを用い、（Ｓ，Ｓ）−１，２−ジフェニルエチレンジアミンの代わりに（±）−ジフェニルエチレンジアミンを用いて反応を行い、（Ｒ）−１−（１−ナフチル）エタノールを得た。
【００６２】
収率：９９％
光学純度：８４％e.e.
【００６３】
比較例２
実施例５の方法と同様にして、RuCl2[(R,S)-tolbinap](dmf)n の代わりにRuCl2[(S)-tolbinap](dmf)n を用いて反応を行い、（Ｒ）−１−（１−ナフチル）エタノ−ルを得た。
【００６４】
収率：９９％
光学純度：９８％e.e.
【００６５】
実施例７
（Ｒ）−１−（９−アントリル）エタノールの合成
実施例１の方法と同様にして、反応基質として、9-アセチルアントラセンを用いて反応を行い、生成物として（Ｒ）−１−（９−アントリル）エタノールを得た。
【００６６】
収率：９９％
光学純度：８０％e.e.
0004144814.tif 000012
【００６７】
比較例３
実施例７の方法と同様にして、RuCl2[(R,S)-tolbinap](dmf)n の代わりにRuCl2[(S)-tolbinap](dmf)n を用いて反応を行い、（Ｒ）−１−（９−アントリル）エタノールを得た。
【００６８】
収率：９９％
光学純度：８２％e.e.
【００６９】
【発明の効果】
本発明によれば、高純度、高収率でかつ安価に工業的に有利な方法で各種光学活性アルコール類の取得が可能になる。