(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上にハードコート樹脂の塗工液をシート状に展開しその展開層を硬化処理してハードコート層を形成しつつ、そのハードコート層の上に直接又は別個の重畳層を介してエポキシ系樹脂の塗工液をシート状に展開しその展開層を硬化処理して前記ハードコート層上に直接又は別個の重畳層を介して密着した硬化シートを形成し、その硬化シートをそれを形成するエポキシ系硬化樹脂のガラス転移温度より１０〜８０℃低い温度に冷却して当該ハードコート層と共に支持体より剥離回収することを特徴とするエポキシ系樹脂シートの連続製造法。
【請求項２】
請求項１において、ハードコート層の上にガスバリア層を形成して、その上にエポキシ系樹脂の硬化シートを１２０〜１８０℃の加熱硬化処理方式で形成するエポキシ系樹脂シートの連続製造法。
【請求項３】
請求項１又は２において、冷却ロール、冷却用ガス又は液状冷却剤を用いて硬化シートを冷却するエポキシ系樹脂シートの連続製造法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の技術分野】
本発明は、光学特性に優れて液晶セル基板などに好適なエポキシ系樹脂シートの量産性に優れる連続製造法に関する。
【０００２】
【発明の背景】
従来、樹脂塗工液をエンドレスベルトやロール等の流延支持体の上に直接展開してシートとする方法を、エポキシ系樹脂の塗工液に適用して硬化シートを形成した場合、その硬化シートが支持体に強く接着し、それを剥離回収する際に硬化シートに亀裂や残留歪み等の損傷が発生する問題点があり、特に厚さが５００μm以下の光学用のシートを得ることが困難であった。
【０００３】
【発明の技術的課題】
本発明は、厚さが５００μm以下にても光学特性に優れるエポキシ系樹脂シートを効率よく得られる連続製造法の開発を課題とする。
【０００４】
【課題の解決手段】
本発明は、支持体上にハードコート樹脂の塗工液をシート状に展開しその展開層を硬化処理してハードコート層を形成しつつ、そのハードコート層の上に直接又は別個の重畳層を介してエポキシ系樹脂の塗工液をシート状に展開しその展開層を硬化処理して前記ハードコート層上に直接又は別個の重畳層を介して密着した硬化シートを形成し、その硬化シートをそれを形成するエポキシ系硬化樹脂のガラス転移温度より１０〜８０℃低い温度に冷却して当該ハードコート層と共に支持体より剥離回収することを特徴とするエポキシ系樹脂シートの連続製造法を提供するものである。
【０００５】
【発明の効果】
本発明によれば、樹脂シートと支持体との線膨張率差に基づいて冷却によりそれらの間に発生する応力が支持体よりの樹脂シートの剥離に有利に作用してエポキシ系樹脂の硬化シートをそれと良好に密着したハードコート層と共に支持体より容易に剥離できて亀裂や残留歪み等の発生を良好に防止しつつスムーズに回収でき、厚さが５００μm以下の場合にも厚さ精度等の光学特性や耐熱性に優れ、支持体における鏡面や凹凸等の表面状態を良好に反映したエポキシ系樹脂シートを簡単な操作を介し連続して効率よく得ることができる。
【０００６】
【発明の実施形態】
本発明による製造方法は、支持体上にハードコート樹脂の塗工液をシート状に展開しその展開層を硬化処理してハードコート層を形成しつつ、そのハードコート層の上に直接又は別個の重畳層を介してエポキシ系樹脂の塗工液をシート状に展開しその展開層を硬化処理して前記ハードコート層上に直接又は別個の重畳層を介して密着した硬化シートを形成し、その硬化シートをそれを形成するエポキシ系硬化樹脂のガラス転移温度より１０〜８０℃低い温度に冷却して当該ハードコート層と共に支持体より剥離回収してエポキシ系樹脂シートを連続に得るものである。
【０００７】
本発明による方法は、ハードコート樹脂の塗工液とエポキシ系樹脂の塗工液を少なくとも用いて、例えばロールコート法やワイヤバーコート法、エクストルージョンコート法やカーテンコート法、スプレコート法やドクターブレード法などの、エポキシ系樹脂塗工液等を流動展開させてシート状に成形しうる適宜な方式を適用して行うことができる。就中、塗布効率や製造効率などの点より流延法、特にダイを介してエポキシ系樹脂塗工液を流動展開させるエクストルージョンコート法が好ましく適用することができる。
【０００８】
図１に前記のエクストルージョンコート法による連続製造方式の工程例を示した。この方法では先ず、エンドレスベルト４からなる支持体を駆動ドラム５と従動ドラム６を介し矢印方向に例えば０．１〜５０ｍ／分、就中０．２〜５ｍ／分等の一定速度で回転走行させつつ、その上にダイ１１を介しハードコート樹脂の塗工液を連続的にシート状に塗布し、その展開層１２を乾燥、あるいは必要に応じ加熱又は光照射などにより硬化処理して皮膜からなるハードコート層１とする。なお図例では、紫外線照射装置１３が配置されている。
【０００９】
次に、前記により支持体上にハードコート層１を順次形成しつつそのハードコート層の上に、又はそのハードコート層に準じて必要に応じ別個に設けた重畳層２の上にダイ３１を介しエポキシ系樹脂の塗工液を順次塗布してシート状に展開し、その展開層３２を加熱方式や光照射方式等の適宜な硬化装置３３を介し硬化処理して、前記のハードコート層１等と密着した硬化シート３を順次形成しつつ、その硬化シート３をそれを形成するエポキシ系硬化樹脂のガラス転移温度より１０〜８０℃低い温度に冷却して当該ハードコート層１等と共に支持体４より回収して目的のエポキシ系樹脂シートが連続製造される。
【００１０】
前記の方法によれば、エポキシ系樹脂シートを簡単な一連の操作を介し連続製造できて量産性に優れており、支持体４の上に最初に形成するハードコート層１が、得られたエポキシ系樹脂シートを支持体より容易に効率よく剥離回収することを可能にする。また支持体を介した展開層の移動速度の調節で量産速度を容易に制御でき、その移動速度や塗工液展開量の調節で得られるエポキシ系樹脂シートの厚さも容易に制御することができる。
【００１１】
前記において支持体としては、エンドレスベルトの如きベルト状物や板状物、ドラムなどの、エポキシ系樹脂塗工液を順次連続的に展開でき、その展開層を支持してシート状に維持できる適宜なものを用いうる。支持体を形成する材質は、エポキシ系樹脂の硬化処理に耐えるものであればよく、従って例えばステンレスや銅やアルミニウムの如き金属、ガラス、プラスチックなどの適宜なものであってよい。就中、耐久性などの点よりステンレスが好ましい。
【００１２】
また前記の方法によれば、支持体の表面形態を前記のハードコート層を介し良好に転写反映させることができる。従って支持体の表面は、形成目的のエポキシ系樹脂シートの表面形態に応じて例えば平滑面、あるいは微細プリズム状や微細レンズ状等の凹凸面などの適宜な形態とすることができる。一般には平滑面とされ、表面粗さＲａが０．０２μm以下の支持体を用いて表面が鏡面状のエポキシ系樹脂シートを得ることも可能である。
【００１３】
支持体上に最初に設けるハードコート層は、得られるエポキシ系樹脂シートの表面をコートして傷付きにくくすることなどを目的とするが、その形成には支持体と接着しないか、接着してもその接着力が弱くて支持体より容易に剥離できるハードコート樹脂が好ましく用いられる。
【００１４】
前記したハードコート樹脂の種類については特に限定はなく、適宜なものを用いうる。ちなみにその例としては、ウレタン系樹脂やアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂やポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール共重合体の如きポリビニルアルコール系樹脂、塩化ビニル系樹脂や塩化ビニリデン系樹脂、ポリアリレート系樹脂やスルホン系樹脂、アミド系樹脂やイミド系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂やポリエーテルイミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂やシリコーン系樹脂、フッ素系樹脂やポリオレフィン系樹脂、スチレン系樹脂やビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂やアクリロニトリル系樹脂などがあげられる。ハードコート層の形成には、適宜なハードコート樹脂の２種以上のブレンド物なども用いうる。
【００１５】
ハードコート層は、エポキシ系硬化シートと密着してそれと共に支持体より剥離回収されてエポキシ系樹脂シートの片側表面層を形成することより、光学用途では透明性等の光学特性に優れるものであることが好ましい。かかる光学特性及び易剥離性、特にステンレス系支持体に対する易剥離性などの点よりハードコート層の形成に好ましく用いうるものは、ウレタン系樹脂である。
【００１６】
ハードコート層の形成は、例えばハードコート樹脂を必要に応じ有機溶媒や水等の適宜な溶媒にて溶液化して上記等の適宜な方式で支持体の所定面に塗布し、必要に応じそれを乾燥後、加熱処理や光照射等の樹脂に応じた方式にて硬化処理する方式などの適宜な方式にて皮膜化することにより行うことができる。塗工液の粘度は、適宜に決定しうるが、一般には塗工効率などの点より１〜１００ｃＰとされる。なおハードコート樹脂の塗工液には、支持体よりの剥離性の向上等を目的に直鎖飽和炭化水素等の適宜な透明添加剤を配合することができる。
【００１７】
形成するハードコート層の厚さは、適宜に決定しうるが一般には易剥離性や剥離の際にヒビ割れの生じることを防止する点などより、１〜１０μm、就中８μm以下、特に２〜５μmとすることが好ましい。なおウレタン系樹脂等の塗布層を光照射にて硬化処理する場合には、中心波長が３６５nmや２５４nmの高圧や低圧の紫外線ランプを用いることが処理効率などの点より好ましい。
【００１８】
図１に仮装線で示した如くエポキシ系樹脂シートの形成に際しては、ハードコート層１の上に必要に応じ別個の重畳層２を設けてその上にエポキシ系樹脂の硬化シート３を設けることができる。図例では前記したハードコート層の形成に準じて、ダイ２１を介し重畳用の塗工液をハードコート層上に順次シート状に展開し、その展開層２２を硬化装置２３を介し皮膜化して重畳層２を形成するようになっている。かかるハードコート層１とエポキシ系樹脂の硬化シート３の間に必要に応じて設ける重畳層は、例えば耐薬品性や光学的異方性、低吸水性や低透湿性、低酸素透過性等のガスバリア性などの適宜な機能付与を目的とするものであってよい。従って別個に設ける当該重畳層は、１層又は２層以上であってもよい。
【００１９】
ちなみに液晶セルにおいては、水分や酸素がセル基板を透過してセル内に侵入すると液晶の変質や気泡の形成による外観不良、透明導電膜パターンの断線などを発生させるおそれがある。従って液晶セルの場合には、水蒸気や酸素ガスの透過阻止が重要となり、それらガスの透過を阻止しうるガスバリア層を設けたセル基板が好ましく用いられる。
【００２０】
前記のガスバリア層を形成するための塗工液は、目的とするガスの透過を阻止しうる液体化が可能な適宜な材料を用いて調製することができる。一般には水蒸気や酸素ガス等の目的とするガスの透過阻止能に優れる、就中、酸素透過係数が小さい例えばポリビニルアルコールやその部分けん化物、エチレン・ビニルアルコール共重合体やポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニリデンなどのポリマー類が用いられる。特にガスバリア性や水分の拡散性ないし吸水度の均一性などの点よりビニルアルコール系ポリマーが好ましく用いうる。
【００２１】
ハードコート層上に設けるガスバリア層等の重畳層を形成するための塗工液は、例えば１種又は２種以上の形成材料を必要に応じ溶媒を併用して、ポリマー溶液の如く流動展開しうる状態とすることにより調製することができる。形成するガスバリア層等の重畳層の厚さは、適宜に決定でき特に限定はない。一般には透明性や着色防止、ガスバリア性等の機能性や薄型化、得られるエポキシ系樹脂シートのフレキシビリティーなどの点より１５μm以下、就中１３μm以下、特に１〜１０μmの厚さとすることが好ましい。
【００２２】
ハードコート層又はその上の重畳層の上に展開するエポキシ系樹脂塗工液の調製には、エポキシ系樹脂シートの使用目的などに応じて熱硬化型や紫外線硬化型等の適宜なエポキシ系樹脂を用いることができ、その種類について特に限定はない。耐熱性に優れるエポキシ系樹脂シートを得る点よりは熱硬化型のエポキシ系樹脂が好ましく用いうる。
【００２３】
ちなみに前記エポキシ系樹脂の例としては、ビスフェノールＡ型やビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型やそれらの水添型の如きビスフェノール型、フェノールノボラック型やクレゾールノボラック型の如きノボラック型、トリグリシジルイソシアヌレート型やヒダントイン型の如き含窒素環型、脂環式型や脂肪族型、ナフタレン型の如き芳香族型やグリシジルエーテル型、ビフェニル型の如き低吸水率タイプやジシクロ型、エステル型やエーテルエステル型、それらの変性型などがあげられる。
【００２４】
硬化変色を生じにくくて透明性等の光学特性などの点より好ましく用いうるエポキシ系樹脂は、ビスフェノールＡ型や脂環式型、トリグリシジルイソシアヌレート型のものなどである。またセル基板等として用いる場合における樹脂シートの剛性や強度等の物性などの点より好ましく用いうるエポキシ系樹脂は、エポキシ当量が１００〜１０００で、軟化点が１２０℃以下の硬化樹脂を形成するものである。
【００２５】
さらに塗工性やシート状への展開性等に優れるエポキシ系樹脂塗工液を得る点などよりは、塗工時の温度以下、就中、常温において液体状態を示す二液混合型のものが好ましく用いうる。その場合、粘度調製や強度、耐熱性の向上等を目的に固形状のエポキシ系樹脂を併用することもできる。従ってエポキシ系樹脂は、１種又は２種以上を用いることができる。
【００２６】
一方、エポキシ系樹脂塗工液には必要に応じて硬化剤を配合でき、熱硬化型のエポキシ系樹脂塗工液の場合には通例、硬化剤が配合される。用いる硬化剤については、特に限定はなく、併用のエポキシ系樹脂に応じた適宜な硬化剤を１種又は２種以上用いることができる。
【００２７】
ちなみに前記硬化剤の例としては、テトラヒドロフタル酸やメチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸やメチルヘキサヒドロフタル酸の如き有機酸系化合物類、エチレンジアミンやプロピレンジアミン、ジエチレントリアミンやトリエチレンテトラミン、それらのアミンアダクトやメタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタンやジアミノジフェニルスルホンの如きアミン系化合物類があげられる。
【００２８】
また、ジシアンジアミドやポリアミドの如きアミド系化合物類、ジヒドラジットの如きヒドラジド系化合物類、メチルイミダゾールや２−エチル−４−メチルイミダゾール、エチルイミダゾールやイソプロピルイミダゾール、２，４−ジメチルイミダゾールやフェニルイミダゾール、ウンデシルイミダゾールやヘプタデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾールの如きイミダゾール系化合物類も前記硬化剤の例としてあげられる。
【００２９】
さらに、メチルイミダゾリンや２−エチル−４−メチルイミダゾリン、エチルイミダゾリンやイソプロピルイミダゾリン、２，４−ジメチルイミダゾリンやフェニルイミダゾリン、ウンデシルイミダゾリンやヘプタデシルイミダゾリン、２−フェニル−４−メチルイミダゾリンの如きイミダゾリン系化合物類、その他、フェノール系化合物類やユリア系化合物類、ポリスルフィド系化合物類も前記硬化剤の例としてあげられる。
【００３０】
加えて、酸無水物系化合物類なども前記硬化剤の例としてあげられ、低刺激性による作業環境性や得られるエポキシ系樹脂シートの耐熱性向上による高温耐久性、変色防止性などの点よりは、かかる酸無水物系硬化剤が好ましく用いうる。その例としては無水フタル酸や無水マレイン酸、無水トリメリット酸や無水ピロメリット酸、無水ナジック酸や無水グルタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸やメチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸やメチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチル無水ナジック酸やドデセニル無水コハク酸、ジクロロ無水コハク酸やベンゾフェノン無水テトラカルボン酸や無水クロレンディック酸などがあげられる。
【００３１】
就中、前記の変色防止性などの点より無水フタル酸やテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸やメチルヘキサヒドロ無水フタル酸の如く無色系ないし淡黄色系で、分子量が約１４０〜約２００の酸無水物系硬化剤が好ましく用いうる。
【００３２】
硬化剤の使用量は、その種類やエポキシ系樹脂のエポキシ当量などに応じて適宜に決定でき、通例のエポキシ系樹脂硬化の場合に準じうる。一般には、得られるエポキシ系樹脂シートの色相や耐湿性の低下防止などの点よりエポキシ基１当量に対し、０．５〜１．５当量、就中０．６〜１．４当量、特に０．７〜１．２当量の割合で硬化剤を使用することが好ましい。
【００３３】
エポキシ系樹脂塗工液の調製に際しては、必要に応じて硬化促進剤やレベリング剤などの適宜な添加剤を配合することもできる。硬化促進剤は、硬化速度の促進による必要硬化処理時間の短縮を目的に配合され、その配合にて支持体の必要長を不配合の場合の数分の１程度に短縮することもできる。従って量産性の向上や連続製造設備の小型化などの点より硬化促進剤を配合することが好ましい。
【００３４】
用いる硬化促進剤については特に限定はなく、エポキシ系樹脂や硬化剤の種類などに応じて例えば、第三級アミン類やイミダゾール類、第四級アンモニウム塩類や有機金属塩類、リン化合物類や尿素系化合物類の如き適宜なものを１種又は２種以上用いることができる。硬化促進剤の使用量は、促進効果などに応じて適宜に決定しうるが、一般には変色防止性などの点よりエポキシ系樹脂１００重量部あたり、０．０５〜７重量部、就中０．１〜５重量部、特に０．２〜３重量部が好ましい。
【００３５】
一方、レベリング剤は、エポキシ系樹脂塗工液の展開層を空気との接触下に硬化処理する場合に、硬化剤等の飛散による表面張力のバラツキなどで梨地状の表面となることを防止して平滑な表面を形成することなどを目的に配合するものであり、例えばシリコーン系やアクリル系、フッ素系等の各種界面活性剤などの表面張力を低下させうる適宜なものを１種又は２種以上用いうる。
【００３６】
また、例えばフェノール系やアミン系、有機硫黄系やホスフィン系等の老化防止剤、グリコール類やシリコーン類、アルコール類等の変性剤、発泡防止剤や水酸基含有化合物、染料や変色防止剤、紫外線吸収剤などの添加剤も配合することができる。前記の発泡防止剤は、得られるエポキシ系樹脂シート中に光学特性の低下原因となる気泡が混入することの防止などを目的に添加され、グリセリン等の多価アルコールなどが好ましく用いうる。
【００３７】
さらに紫外線照射により硬化処理するエポキシ系樹脂塗工液の場合には、光重合開始剤や増感剤などを配合することもできる。その光重合開始剤や増感剤としては、例えばアリルジアゾニウム塩やベンゾフェノン、ベンゾインなどの、エポキシ系樹脂の紫外線硬化処理で公知の適宜なものを用いることができる。
【００３８】
エポキシ系樹脂塗工液は、配合成分を必要に応じ溶媒を併用して流動展開しうる状態とすることにより調製することができる。塗工液の粘度は、適宜に決定しうるが、一般には厚さムラの抑制等による厚さ精度の向上や塗工効率などの点より１００ポイズ以上、就中１２０〜５００ポイズ、特に１５０〜３００ポイズの粘度とすることが好ましい。なお厚さムラの抑制等の点よりエポキシ系樹脂塗工液の展開層を支持する支持体は、可及的に水平状態に維持することが好ましい。
【００３９】
エポキシ系樹脂塗工液の展開層の硬化処理は、加熱硬化方式や紫外線硬化方式などのエポキシ系樹脂に応じた適宜な方式にて行うことができ、２種以上の硬化処理方式を併用することもできる。得られる硬化シートの耐熱性の点よりは上記したように通例、加熱による硬化方式が好ましい。
【００４０】
加熱手段には、例えば熱風や赤外線ヒータなどの適宜な手段を１種又は２種以上用いることができる。加熱による処理温度としては２５０℃以下、就中２２０℃以下、特に１２０〜１８０℃とすることが、得られる硬化シートの耐熱性や光学特性等の点より好ましい。
【００４１】
加熱時間は、５〜６０分間、就中１０〜４０分間、特に１５〜３０分間などが一般的であるが、これに限定されない。光学特性の向上等の点よりは通例、例えば１５〜３０分間等の比較的短時間の加熱時間が好ましい。また厚さ精度の向上の点よりは、展開層の幅方向における温度のバラツキを可及的に防止することが好ましい。
【００４２】
エポキシ系樹脂シートの厚さは、セル基板等の使用目的などに応じて適宜に決定することができる。一般には、曲げ強度等の剛直性ないし柔軟性や表面平滑性、低位相差性や薄型軽量性などの点より１mm以下、就中１００〜８００μm、特に２００〜５００μmの厚さとされる。また光学用途の場合、厚さ精度は、±２０％以下、就中±１５％以下、特に±１０％以下であることが好ましい。
【００４３】
本発明による連続製造法において、形成したエポキシ系樹脂シートの支持体よりの剥離回収は、硬化シートを形成するエポキシ系硬化樹脂のガラス転移温度より１０〜８０℃低い温度に冷却して行う。これにより割れや残留歪みの発生を防止しつつ支持体よりスムーズに剥離することができる。これは、冷却によりエポキシ系樹脂シートと支持体の界面に線膨張率差に基づく剥離に有利な応力が発生することによる。
【００４４】
前記した剥離の際の冷却によるガラス転移温度との温度差が１０℃未満では塑性変形や残留歪み等の永久歪みが発生しやすくなり、８０℃を超えると割れや亀裂等が発生しやすくなる。永久歪みや割れ等の発生を防止しうるバランスのとれた柔軟性と冷却による剥離に有利な応力の発生性などの点より好ましい前記温度は、１５〜７５℃、就中２０〜７０℃低い温度である。
【００４５】
冷却処理は、図例の如くエポキシ系樹脂シートの支持体よりの剥離部ないしその近傍に施されるが、冷却手段については特に限定はなく、適宜な方式を採ることができる。ちなみにその例としては、図に仮装線で示した如く冷却ロール７による方式、冷却用のガスやエチルセロソルブの如き液状冷却剤を吹き付ける方式８などがあげられる。製造ラインの短縮化などの点よりは可及的に急速に硬化シートを冷却する急冷方式が好ましい。
【００４６】
なお前記した支持体よりのエポキシ系樹脂シートの回収に際しては、必要に応じ剥離手段を用いることができる。ちなみに上記したハードコート層又は必要に応じての重畳層の形成後その端部等に耐熱テープを接着し、その上にエポキシ系樹脂の硬化シートを形成する方式などにより、その耐熱テープを把持持ち上げてエポキシ系樹脂シートを支持体より効率よく剥離回収することができる。
【００４７】
形成されたエポキシ系樹脂シートの連続体は、必要に応じてレーザー光線や超音波カッター、ダイシングやウォータージェットなどの適宜な切断手段を介し適宜な寸法に切断して回収することもできる。
【００４８】
本発明によるエポキシ系樹脂シートは、例えば液晶セル等の各種セルにおけるセル基板などに好ましく用いうる。特に耐熱性や光学特性、表面平滑性等に優れて高温処理に耐え曲げ強度等に優れて位相差が小さく軽量性に優れることなどが要求される液晶セル基板の如く、光学用途のセル基板に好ましく用いることができる。
【００４９】
液晶セル基板としては、液晶セルの製造過程の高温雰囲気等に耐えるものとする点などよりガラス転移温度が１２０℃以上、就中１３０℃以上、特に１４０℃以上のエポキシ系樹脂シートであることが好ましい。なお上記のガラス転移温度は、ＴＭＡ（熱機械分析法）による引張モードにて昇温速度２℃／分の条件により測定することができる。
【００５０】
本発明によるエポキシ系樹脂シートを用いた液晶セルの形成に際しては、従来に準じ必要に応じて透明導電膜や配向膜、偏光板や位相差板等の種々の機能層を重畳することもできる。また形成する液晶セルは、例えばＴＮ型やＳＴＮ型、ＴＦＴ型や強誘電性液晶型など任意である。
【００５１】
【実施例】
実施例１
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート１００部（重量部、以下同じ）、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物１２５部、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムｏ，ｏ−ジエチルホスホロジチオエート３．７５部、グリセリン２．２５部及びシリコーン系界面活性剤（レベリング剤、楠本化成社製、ディスパロンＬＳ−００９）０．０７部を撹拌混合し、４９℃にて９０分間エージングしてエポキシ系樹脂塗工液を調製した。
【００５２】
次に図１に例示の流延法にて、ウレタン系紫外線硬化型樹脂（新中村化学社製、ＮＫオリゴＵＮ−０１）の１７重量％トルエン溶液をダイより吐出させて０．２ｍ／分の一定速度で回転走行するステンレス製エンドレスベルト上に流延塗布し、トルエンを揮発乾燥後、紫外線照射装置を介し硬化処理し（中心波長２５４nm、積算光量２０００mJ／cm２）、幅５００mm、厚さ２μmのハードコート層を形成した。
【００５３】
ついで前記の操作を継続しつつ、硬化したハードコート層の上に上記のエポキシ樹脂塗工液をダイより１００ｇ／分の割合で連続に吐出させてシート状に流延展開し、その展開層を加熱装置を介し１４０℃で２５分間加熱硬化処理してガラス転移温度が１４０℃の硬化シートを形成した後、１３０℃に温調した従動ドラム上で図例の如くシートの上面に配置した８０℃に温調の冷却ロール７を介しその剥離部を急冷させて、硬化シートをそれに密着したハードコート層と共にエンドレスベルトより剥離回収し、それを流れ方向に４９０mmの間隔で切断して幅４５０mm、平均厚さ４００μm、厚さ精度±５０μm以下で表面が平滑な光学特性の均一性に優れるエポキシ系樹脂シートを連続的に得た。
【００５４】
実施例２
冷却ロールに代えて、シートの下側に配置したエアーナイフ８より３０℃のエアーを剥離部に吹き付ける方式にて、その剥離部の温度が６０℃以下にならないように吹き付け量を制御しながら急冷させたほかは実施例１に準じてエポキシ系樹脂シートを連続的に得た。
【００５５】
実施例３
ハードコート層の上に展開したエポキシ樹脂塗工液の展開層を１２０℃で２５分間加熱硬化処理してガラス転移温度が１２０℃の硬化シートを形成した後、１１０℃に温調した従動ドラム上で図例の如くシートの下側に配置した吹き出し口８より１００℃のエチルセロソルブを剥離部に吹き付けて急冷させたほかは実施例１に準じて、幅４５０mm、平均厚さ４００μm、厚さ精度±５０μm以下で表面が平滑な光学特性の均一性に優れるエポキシ系樹脂シートを連続的に得た。
【図面の簡単な説明】
【図１】製造工程例の説明図
【符号の説明】
１：ハードコート層
２：重畳層（ガスバリア層）
３：エポキシ系樹脂の硬化シート
１１，２１，３１：ダイ
１２，２２，３２：展開層
１３，２３，３３：硬化装置
４：支持体（エンドレスベルト）
７：冷却ロール
８：冷却用のガス又は液状冷却剤の吹き出し装置
【図１】
0004171133.tif 000002