(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
エッジ放出形レーザアレーであって、前記エッジ放出形レーザの各々が、
基板と、
前記基板上に形成された複数の半導体層と、
前記複数の半導体層中の層であって、活性領域を形成する一つ以上の層と、
前記活性領域を流れる電流を制限するアパーチャであって、前記複数の半導体層中の混合領域によって形成され、かつ、前記複数の半導体層内に形成された断続的な直線上溝から延びている固有酸化物層によって境界を規定されるアパーチャと、
前記固有酸化物層であって、前記アレー内の隣り合ったエッジ放出形レーザ間を電気的に絶縁させる固有酸化物層と、
前記活性領域にバイアス電位を加え得る第一および第二の電極と、
を含むことを特徴とするエッジ放出形レーザアレー。
【請求項２】
前記固有酸化物層がアルミニウムを含む半導体材料からなる固有酸化物を含むことを特徴とする請求項１記載のエッジ放出形レーザアレー。
【請求項３】
前記混合領域が層無秩序化処理によって形成されることを特徴とする請求項１記載のエッジ放出形レーザアレー。
【請求項４】
第二の固有酸化物層を含み、前記第一の電極の一部が前記第二の固有酸化物層上に位置することを特徴とする請求項１記載のエッジ放出形レーザアレー。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、モノリシック半導体レーザアレーに関し、特に埋め込み形の選択酸化された固有（ネイティブ）酸化物層を用いて光アパーチャを形成する方式の個々にアドレス可能な高密度のレーザアレーに関する。
【０００２】
【従来の技術】
モノリシックの固体半導体レーザアレーは、高速レーザ印刷や光ファイバ通信およびその他の用途に対してきわめて有用な光源である。一般的なレーザ構造としていわゆる「エッジ放出形（エッジ  エミッティング）レーザ」があり、この構造において光はモノリシック半導体層構造のエッジから放出される。
【０００３】
一般に、レーザ内に固有（ネイティブ）酸化物を形成することが、前記構造内に良好な電気的および光学的閉じ込めを得る上で重要な工程である。酸化物形成の一方法として、周知の「表面酸化」手法がある。
【０００４】
前記「表面酸化」手法では、ＧａＡｓのキャップ層をアルミニウム含有量の高いＡｌＧａＡｓ厚膜層上に設置する。前記ＡｌＧａＡｓ層はレーザ構造中の活性層の上部に成膜される。この「表面酸化」手法においては、先ず試料表面を窒化シリコンを用いてパターン化し、これによってＧａＡｓキャップ層の一部を保護し、その他の部分を露出させる。前記露出したＧａＡｓの部分を化学エッチングによって除去し、下部の高アルミニウム含有量のＡｌＧａＡｓ層の表面を露出させる。次に試料を水蒸気中で酸化させる。この場合、ＡｌＧａＡｓ層の酸化は表面から下方に向かって進行し、アルミニウム含有量の低い活性層に達するまで続く。活性層のアルミニウム含有量は低いため、この酸化工程は本質的に活性層に達すると停止し、結果的に電気的および光学的閉じ込めがレーザ構造内に形成される。
【０００５】
別の酸化物形成法として、いわゆる「埋め込み層」式酸化方法がある。この方法では、ＡｌＡｓ層をレーザ構造中の活性層の上方および下方に設置する。次いで、複数の溝をエッチングで形成し、露出したストライプ状のメサ構造を各溝間に形成する。前記エッチングの結果、活性層を挟み込んだＡｌＡｓ層が前記メサの側壁沿いに露出する。酸化工程の間に、このＡｌＡｓ層はメサの側壁から内方向にメサの中心に向かって横方向に酸化されていく。しかしながら前記構造中の他の層は、アルミニウム含有量が低いため本質的に酸化されない。酸化されたＡｌＡｓ層は、該ＡｌＡＳ層の上部および下部領域の有効屈折率を低下させ、その結果横方向の電気的および光学的閉じ込めが前記挟み込まれた活性層中に形成される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
この「埋め込み層」方法の重大な問題点として、酸化度の制御が困難なことがある。アルミニウム含有量の高いＡｌＡｓまたはＡｌＧａＡｓの酸化速度はアルミニウム組成比と処理条件の変化に依存するため、アルミニウム組成比や処理パラメータの変化は酸化速度の変化に反映されて、結果的に酸化度の不確定さの原因となる。この方法は温度変化に対して比較的敏感である。したがってこの手法をレーザの形成に適用した場合、一般に素子の量産性と歩留まりの面で問題が生じる。
【０００７】
電極の接点層は、前記エッチング形成されたメサの上面に直接成膜される。メサの寸法は十分大きくてワイヤボンド用の大形接点パッド（通常約５０×５０ｍｍ）を収納できることが必要であるため、この構造では密な間隔のアレーの形成は不可能である。
【０００８】
レーザアレーにおいては、各レーザ素子をできるだけ高密度に配置することが望ましい。しかしながら、素子間の間隔が密になると電気的接続とヒートシンクによる冷却が困難になる。さらに素子間の間隔が密になると、電気的、光学的および（あるいは）熱的に相互作用を起こしやすくなる。この相互作用は「クロストーク」と呼ばれ、大抵の場合望ましくないものである。
【０００９】
個々のレーザは出力エネルギの低い素子である。レーザアレーを用いることで出力エネルギを高め、光学システム設計を簡単にすることができる。アレー中の各レーザ素子を良好な位置関係に配置してかつその位置関係を保持し、さらに内部の機構を極力小さくするために、アレーの製作は、各レーザ素子が一つのモノリシック半導体構造に収まるように行われていた。
【００１０】
別の課題として、アレー中の個々のレーザ素子を個別にアドレスできるようにすることがある。各レーザ素子が密な間隔で高密度に充填されている程、各素子を個別に光放出させることが次第に難しくなる。
【００１１】
独立式接点はアレー中の各エミッタへの個々のアドレスを可能にするものであり、この接点は前記レーザ空洞と正確に位置合わせされることが望ましい。前記位置合わせが効果的である理由は、電気抵抗と、各エミッタへの電流拡散、および電極の寸法を最小にすることができるためである。またヒートシンクはできるだけ放出領域の近くに設置される。電流拡散を最小にすることにより、個々のレーザ素子の電気的絶縁が助長される。
【００１２】
したがって、正確に境界が規定され、かつ正確に制御された固有（ネイティブ）酸化物領域を備え、これによって光アパーチャを形成する方式の個々にアドレス可能なモノリシックレーザアレーを開発する必要がある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明により、個々にアドレス可能な高密度のエッジ放出形（エッジエミッティング）レーザアレー構造が提供され、前記構造は横方向湿式酸化処理によって形成される。レーザ構造中のアパーチャは選択的層混合および横方向湿式酸化処理によって形成される。前記酸化処理は隣接した溝から進行するものであり、この溝はレーザ構造内でエッチングにより形成される。
【００１４】
この半導体構造は、導電形式の異なる数種の半導体材料を含み、これら材料によって個々にアドレス可能な高密度のエッジ放出形（エッジエミッティング）レーザアレーが形成される。レーザ構造の活性領域の上部または下部のいずれかの被酸化層が層無秩序化処理によって混合されてアパーチャが形成され、次いで横方向湿式酸化処理によって閉じ込めを行うための固有（ネイティブ）酸化物領域が形成される。
【００１５】
【発明の実施の形態】
図１に、本発明による選択的層混合と横方向湿式酸化処理によって製作した、個々にアドレス可能な高密度の４点式（クワドースポット）半導体レーザ構造１００を示す。
【００１６】
図１に示すように、ｎ型Ａｌ0.7Ｇａ0.3Ａｓ下部クラッド層１０４を、有機金属化学的気相成長法（ＭＯＣＶＤ）と呼ばれる周知のエピタキシャル成長法を用いてｎ型ＧａＡｓ基板１０２上に成長させる。他の結晶成長法、例えば液相エピタキシ（ＬＰＥ）、分子線エピタキシ（ＭＢＥ）およびその他の公知の結晶成長法等も使用可能である。下部クラッド層１０４中のアルミニウムのモル比は約７０％である。またこの下部クラッド層のドーピングレベルは約１×１０18ｃｍ-3である。ＡｌＧａＡｓクラッド層１０４の膜厚は約１ミクロン（μｍ）である。ｎ型ＧａＡｓ基板１０２のドーピングレベルは約５×１０18ｃｍ-3以上である。図示していないが、スループット低下の余地がある場合は下部クラッド層１０４の成膜前にバッファ層を成膜してもよい。
【００１７】
上記各層の上部に、ドーピングなしのＡｌ0.4Ｇａ0.6Ａｓ下部閉じ込め層１０６が位置し、この層のアルミニウム含有量は約４０％で、膜厚は約１２０ナノメータである。前記下部閉じ込め層１０６を成膜した後、ＧａＡｓ活性層１０８を成膜し、最終的に活性層１０８から８４０ナノメータの光放出を得る。活性層１０８は、単一の量子井戸、複数の量子井戸、あるいは一量子井戸より膜厚が厚い単一層のいずれからも形成することができる。量子井戸の厚さは、一般に５ナノメータから２０ナノメータの範囲にあり、本実施形態では８ナノメータである。活性層１０８の上部に、ドーピングなしのＡｌ0.4Ｇａ0.6Ａｓ上部閉じ込め層１１０が位置する。上部閉じ込め層１１０の典型的なアルミニウム含有量は４０％であり、膜厚は約１２０ナノメータである。一般に、下部閉じ込め層１０６および上部閉じ込め層１１０（および活性層１０８）によって、しきい値電圧が低くて、光放散の少ないレーザ構造が製作される。
【００１８】
上部閉じ込め層１１０を形成した後、ｐ型被酸化層１１２を成膜し、被酸化層１１２からレーザアパーチャが形成される。このレーザアパーチャによって電流の経路が制御され、それによって活性層１０８中のレーザ発振位置が制御される。
【００１９】
被酸化層１１２は、ｐ型ＡｌＡｓ層１１４とｐ型ＡｌＧａＡｓ層１１６との５層半導体層対超格子からなる。被酸化層１１２中の上記二つの層１１４と１１６は、各々約１０ナノメータの膜厚をもつ。典型的なＡｌＧａＡｓ層１１６のアルミニウム含有量は約４０％である。ｐ型ＡｌＡｓ層１１４とｐ型ＡｌＧａＡｓ層１１６には大量のｐ型ドーピングが施されており、各々がドーピングレベル約５×１０18ｃｍ-3のマグネシウムを含む。この二つの埋め込み層対により、層無秩序化処理を用いた層混合と横方向湿式酸化処理を行うことができる。
【００２０】
埋め込み層中の酸化領域は電流経路を規定するものであり、この領域が活性層の上方に位置するため、電流の閉じ込め効果が高まる。一般に、前記酸化領域がｐ型領域に位置する場合は、電流の拡散効果は著しく低下する。この理由は、この状況下では正孔の拡散長が短くなる、あるいは正孔の移動度が低下するためである。
【００２１】
被酸化層１１２が、ＡｌＡｓ層１１４とＡｌＧａＡｓ層１１６の５層対の成膜によって形成された後、膜厚約１ミクロンのｐ型Ａｌ0.7Ｇａ0.3Ａｓ上部クラッド層１１８が成膜される。一般に、この上部クラッド層１１８のアルミニウム含有量は約７０％で、マグネシウムのドーピングレベルは約１×１０18ｃｍ-3である。ｐ型Ａｌ0.7Ｇａ0.3Ａｓ上部クラッド層１１８の上にｐ+型ＧａＡｓキャップ層１２０を成膜して、レーザ構造へのオーム接触の形成を助長する。一般に、ｐ+型ＧａＡｓキャップ層１２０の膜厚は１００ナノメータで、マグネシウムのドーピングレベルは約１×１０19ｃｍ-3である。
【００２２】
半導体レーザ構造１００の形成においては、先ず層無秩序化処理を横方向酸化処理の前に行う。
【００２３】
すなわち、図１の半導体レーザ構造１００中の全ての半導体層を成膜した後、膜厚約８０ナノメータの５本の窒化シリコンストライプ１２４，１２６，１２８，１３０および１３２を、フォトリソグラフィ法によって半導体構造の上面１２２上に形成する。５本の窒化シリコンストライプは各々平行であって、幅約５０ミクロンで約３ミクロン間隔に存在し、半導体構造の上面１２２の長さ方向に延びている。本事例では、ｐ型ドーパントを用いて層無秩序化を誘起するため、窒化シリコンストライプ１２４，１２６，１２８，１３０および１３２が覆う上面１２２の領域は、ストライプ間の開口窓領域１３６を除いた領域である。開口窓領域１３６の下方位置で混合領域１３８が混合される。
【００２４】
この後、半導体構造はガリウム（Ｇａ）過剰の雰囲気中で、約８４０℃の温度で約８時間アニールされる。ＡｌＡｓおよびＡｌＧａＡｓ被酸化層１１２は開口窓領域１３６の下部位置において混合され、混合領域１３８が形成される。
【００２５】
埋め込み形無秩序化の源は、ＡｌＡｓ層１１４中のドーパントから形成される。ＩＩＬＤ処理の間に、III族元素のガリウムとアルミニウムの混合が領域１３８で生じる。領域１３８は、窒化シリコンストライプ１２４，１２６，１２８，１３０および１３２で覆われていない開口窓領域１３６の下部領域である。
【００２６】
周知のように、ＩＩＬＤ処理によってIII族とＶ族の半導体ヘテロ構造中のIII族原子を混合することができる。
【００２７】
また周知のように、ガリウム過剰または砒素不足の状態で拡散された亜鉛またはベリリウムを用いて、ｐ型の無秩序化を起こすことができる。
【００２８】
したがって、種々の不純物源を用いた不純物誘起式層混合は公知のものである。本実施形態では層無秩序化処理を用いて酸化が起こり得る範囲を規定する。言い換えれば、酸化処理の前に層無秩序化処理を行う。この酸化前無秩序化処理の間に、前記ヘテロ構造における層内のIII族元素が混合されて各層のアルミニウム組成比が変化する。
【００２９】
この混合処理の間に、当初高アルミニウム含有量であった層のアルミニウム組成比は減少し、低アルミニウム含有量であった層のアルミニウム組成比は増加する。一般にＩＩＬＤ処理の後では、開口窓領域１３６下部領域でのＡｌＡｓ層１１４中のアルミニウム含有量は１００％より少なくなり、同時に当該領域のＡｌＧａＡｓ層１１６中のアルミニウム含有量は高くなる。この処理は、二つの領域（すなわち酸化が望まれる領域と望まれない領域）でのアルミニウムのモル比の違いに基づくものである。言い換えれば、本発明は二つの領域でのアルミニウムのモル比の絶対値には依存しない。一般にアルミニウムを含む半導体の酸化速度はアルミニウムのモル比に指数関数的に依存するため、この処理はきわめて再現性が高い。したがって、本発明によって製作されるレーザは高い歩留まりをもつ。
【００３０】
この混合により、ＡｌＡｓ層１１４中にガリウムが導入される、あるいはＡｌＡｓ層１１４からアルミニウムが除去され、その結果層１１４でのアルミニウムのモル比が低下する。同様に、この混合によりＡｌＧａＡｓ層１１６中にアルミニウムが導入される、あるいはＡｌＧａＡｓ層１１６からガリウムが除去され、その結果層１１６でのアルミニウムのモル比が増加する。III族元素の混合は、窒化シリコンストライプ１２４，１２６，１２８，１３０および１３２で覆われた領域の下部ではほとんど生じない。この理由は、窒化シリコンが砒素の散逸を防ぐためである。この方法によれば、界面間の混合を、該界面の上方、下方または隣接部における界面間の混合を伴わずに起こすことができる。前記窒化シリコンストライプによって、混合領域１３８の基板表面と直角方向の境界が規定される。一般に、混合領域と被混合領域との間には比較的明確な界面の形成がみられている。ヘテロ構造中の混合される領域は、該構造中に埋め込み形の無秩序化源を配置することで規定されるため、著しく局在化した混合が得られる。層無秩序化の源となる他の材料として、上記以外のｐ型またはｎ型の不純物並びにIII族またはＶ族の空孔がある。
【００３１】
ＡｌＡｓおよびＡｌＧａＡｓ被酸化層は、開口窓領域の下部では混合されてＡｌＡｓ層中のＡｌ含有量を低下させるが、該窓領域の外側の、表面が窒化シリコンストライプで覆われた領域では被酸化層は安定であり、ＡｌＡｓ層の状態は変化しない。被酸化層が完全に混合された場合、混合領域でのＡｌ含有比率は０．７である。
【００３２】
層無秩序化処理終了後、窒化シリコンストライプを除去し、図２に示すように、もう一つの別パターンの窒化シリコンマスク１４０を半導体構造１００の上面１２２全体の上に成膜する。窒化シリコンマスク１４０の膜厚は８０ナノメータである。このマスクを用いて、エッチングによる溝形成および横方向湿式酸化処理が行われる。
【００３３】
半導体レーザ構造１００は４点式（クワドースポット）レーザであり、このレーザには四つの独立したレーザ空洞が備わり、各空洞から四つの独立したコヒーレント光ビームが放出される。
【００３４】
図２の上面図に示すように、窒化シリコンマスク１４０は五つの平行な直線状溝用窓１４２，１４４，１４６，１４８および１５０を含み、これによって半導体構造内に五つの平行な溝が形成される。レーザ空洞は隣り合った溝間に形成される。
【００３５】
中央すなわち第三の溝用窓１４６は断線部のない直線状である。内側すなわち第二および第四の溝用窓１４４および１４８は、各々中央に一カ所の断線部１５２および１５４を有した直線状である。この中央断線部には溝は形成されない。この断線部によって平面部分が残され、該平面部分を用いて後に電極の内部接続配線が形成される。外側すなわち第一および第五の溝用窓１４２および１５０は、各々三つの断線部１５６，１５８および１６０、並びに１６２，１６４および１６６をもつ。これら三つの断線部にはいずれも溝は形成されない。この断線部によって平面部分が残され、該平面部分を用いて後に電極の内部接続配線が形成される。
【００３６】
混合領域１３８を隣接し合った溝用窓間に等間隔に配置して示す。
【００３７】
なお、窒化シリコンマスク１４０はフォトリソグラフィ法によって半導体構造の上面１２２上に形成される。
【００３８】
図３に示すように、半導体レーザ構造１００をマスク１４０中の溝用窓内でエッチングして、溝１６８，１７０，１７２，１７４および１７６を形成する。溝のエッチングは、反応性イオンエッチングまたは湿式エッチングなどの、垂直に近い角度の側壁をもつ深い窪みが形成される方法によって行う。
【００３９】
溝は所定の断続的な直線パターンからなり、このパターンを用いて後に半導体レーザ構造１００中で形成されるアパーチャの境界が規定されると共に、レーザ構造の上部電極パターンの境界が規定され、さらに前記パターンによって隣接したレーザ空洞間が光学的および電気的に絶縁される。
【００４０】
溝１６８，１７０，１７２，１７４および１７６は、キャップ層１２０、上部クラッド層１１８、被酸化層１１２、上部閉じ込め層１１０、活性層１０８、下部閉じ込め層１０６を順に貫通してエッチング形成され、一部が下部クラッド層１０４内に入り込む。各溝１６８，１７０，１７２，１７４および１７６は対応する溝用窓１４２，１４４，１４６，１４８および１５０を用いて形成される。したがって、外側の溝１６８および１７６は三つの断線部（この図には示さず）をもつ断続した直線状で、内側の溝１７０および１７４は一つの断線部（この図には示さず）をもつ断続した直線状であり、中央溝１７２は断線部のない直線状である。
【００４１】
直線状の溝１６８，１７０，１７２，１７４および１７６は、側壁沿いに被酸化層１１２を露出させ、特に被酸化層中のＡｌＡｓ層１１４を露出させる。
【００４２】
この後、前記構造は水蒸気を含んだ窒素雰囲気中で４００℃〜４５０℃程度の温度で約１時間酸化処理が施され、この酸化処理は固有（ネイティブ）酸化領域がＡｌＡｓ層１１４中の領域１８０の周囲を取り巻くまで継続される。
【００４３】
この酸化処理の間、被酸化層１１２は、溝１６８，１７０，１７２，１７４および１７６を通して外部環境にさらされる。この結果、例えばアルミニウム含有量の高いＡｌＧａＡｓを含む被酸化層１１２の酸化が、溝１７０から第一の非混合領域１７８を通って第一の混合領域１８２の方向に内向きに進行すると共に、溝１７０から第二の非混合領域１７８を通って第二の混合領域１８０の方向に外向きに進行する。
【００４４】
この段階では、ＡｌＡｓ層１１４中の混合領域１３８のモル比と該ＡｌＡｓ層１１４中の残部である非混合領域のモル比は異なる。このアルミニウムのモル比の相違は酸化速度の不均衡をもたらす。この理由は、ＡｌＧａＡｓの酸化速度はアルミニウムのモル比に指数関数的に依存するためである。例えば、ＡｌＡｓの酸化速度は約４５０℃で毎分約１．５μｍであり、約８０％のアルミニウム含有のＡｌＧａＡｓでは毎分約０．０５μｍである。このようにＡｌＡｓ層１１４中の混合領域１３８と残部の非混合領域との酸化速度が著しく異なるために、酸化処理は前記混合領域と非混合領域の界面に達すると実質的に停滞する。
【００４５】
この酸化処理の間、前記構造中の他の層はアルミニウム含有量が低いため本質的に酸化されない。ＡｌＧａＡｓの酸化速度は、一定温度ではアルミニウム含有量の増加にしたがって通常指数関数的に増加する。
【００４６】
図３の側面図および図４の上面図に示すように、酸化物形成後、固有（ネイティブ）酸化物層１７８が被酸化層１１２中のＡｌＡｓ層１１４の領域から形成される。この固有（ネイティブ）酸化物層１７８は、横方向の混合領域１８０，１８２，１８４および１８６の周囲を取り巻いて、その境界を規定する。前記各混合領域はレーザ構造におけるアパーチャとなるものである。さらに、前記境界はエピタキシャル成長法およびフォトリソグラフィ法によって規定されるので、比較的滑らかでかつ明確である。フォトリソグラフィ法は精度が高いため、アパーチャ周囲の隙間を最小にすることができる。また、上記酸化領域はエピタキシャル成長工程の完了後に境界を規定されるため、この方法によれば自由度の高い処理条件が得られる。
【００４７】
窒化シリコンマスク１４０を除去した後、例えばアパーチャ１８０の周囲を固有酸化物層１７８が取り囲む。アパーチャ１８０により活性層１０８を通る電流経路が制御される。活性層１０８中であって、アパーチャ１８０の下方に位置する部分を流れる電流は、ｐ型キャリア及びｎ型キャリアの注入密度となり、光増幅の原因となる。十分な高電流下で、この光増幅によりアパーチャ１８０内でのレーザ発振および放出が半導体レーザ構造１００のエッジから起こる。
【００４８】
溝１６８，１７０，１７２，１７４および１７６のエッチングの間、あるいは個々のエッチング工程のいずれかにおいて、キャップ層１２０をアパーチャ１８０，１８２，１８４および１８６近傍の領域での半導体レーザ構造１００の上面１２２から除去して、酸化の前に上部クラッド層１１８を露出させる。
【００４９】
図３に示すように、上部クラッド層１１８の上部および側壁もまた前記酸化処理の間に固有（ネイティブ）酸化物層１８８に変換される。この層１８８は高抵抗であり、電気的に絶縁されている。金属接点１９０および電極１９２が各々キャップ層１２０の上面１２２上および基板１０２の底面上に形成され、この接点を用いてレーザにバイアス電位がかけられる。典型的な接点形成用材料としてチタンと金の二層膜がある。
【００５０】
固有酸化物のアパーチャ１８０，１８２，１８４および１８６の外側の金属接点１９０は、固有酸化物層１８８の上面に位置する。電流は活性領域上方のアパーチャを経て活性領域への流入するように制限され、これにより他の部分への漏洩電流が防止される。電気的絶縁は浅い陽子のイオン注入によっても得られるが、表面固有酸化物層法の方がより簡単でかつ経済的である。
【００５１】
図４に示されているように、得られた半導体レーザ構造１００は、四つのレーザ素子２００，２０２，２０４および２０６をもつ４点式（クワドースポット）赤色レーザである。各レーザ素子は５００μｍ長さの空洞をもち、この空洞は半導体レーザ構造１００の長さ方向に延びる。また、このレーザ素子の後面（図示せず）は高反射率の積層誘電体ミラー（反射率９５％以上）で被覆され、前面すなわち放出面（同じく図示せず）は保護層（反射率約２５％）で被覆される。
【００５２】
四つのレーザ素子２００，２０２，２０４および２０６は共通の下部電極すなわちｎ型の電極１９２を有する。またそれぞれの素子は分離された個々にアドレス可能な上部すなわちｐ型の電極２０８，２１０，２１２および２１４をもつ。各レーザ素子は、ドーピングなしのＡｌ0.4Ｇａ0.6Ａｓ下部閉じ込め層１０６、ＧａＡＳ活性層１０８、およびドーピングなしのＡｌ0.4Ｇａ0.6Ａｓ上部閉じ込め層１１０を含み、レーザ構造の前面エッジから光を放出する。
【００５３】
モノリシック半導体構造では、高密度のレーザ素子が密な間隔で配置しているため、内側のストライプ状レーザ素子用の電気接点には図４に示すような特別のパターン形成が必要になる。
【００５４】
接点パッド２１６から内側ストライプ電極２１０への電気的内部接続を簡単に行うために、細い断線部すなわち窓１５２および１５８を溝１６８および１７０を横切って開けて、露出した上部クラッド層表面もまた酸化されるようにする。この窓は電極のようにメタライズはされず、固有（ネイティブ）酸化物層１８８のままであり、フォトリソグラフィを用いたマスキングとエッチング処理によって形成される。この断線部すなわち窓１５２および１５８によって、内側ストライプ状電極２１０用の金属製内部接続用電極２１８が溝１６８および１７０を横切って延び、大形接点パッド２１６に達し得る。溝を横切る断線部すなわち窓１５２および１５８の幅は１０μｍである。一方、本実施形態でのレーザ空洞の長さは５００μｍである。二分割された電極２０８の各々は、一方が窓すなわち断線部１５６を横切る内部接続用電極２２０によって接点パッド２２２に接続され、もう一方が断線部すなわち窓１６０を横切る内部接続用電極２２３によって同じ接点パッド２２２に接続される。接点パッド２１６および２２２は、ストライプ状電極群の同じ側、すなわち外部電極２０８の外側に位置する。
【００５５】
溝１６８および１７０を横切る窓すなわち断線部１５２および１５８は、下部のレーザ素子２００の放出機能には影響を与えない。
【００５６】
同様に、接点パッド２２４から内側ストライプ状電極２１２への電気的接続を簡単に行うために、細い窓すなわち断線部１５４および１６４を溝１７４および１７６を横切って開けて、露出した上部クラッド層表面もまた酸化されるようにする。この窓は電極のようにメタライズはされず、固有酸化物層１８８のままであり、フォトリソグラフィを用いたマスキングとエッチング処理によって形成される。この窓すなわち断線部１５４および１６４によって、内側ストライプ状電極２１２用の金属製内部接続用電極２２６が溝１７４および１７６を横切って延び、大形接点パッド２２４に達し得る。
【００５７】
二分割された電極２１４の各々は、一方が窓すなわち断線部１６２を横切る内部接続用電極２２７によって接点パッド２２８に接続され、もう一方が窓すなわち断線部１６６を横切る内部接続用電極２３０によって同じ接点パッド２２８に接続される。接点パッド２２４および２２８は、ストライプ状電極群の同じ側、すなわち外部電極２１４の外側に位置する。
【００５８】
溝１７４および１７６を横切る窓すなわち断線部１５４および１６４は下部のレーザ素子２０６の放出機能には影響を与えない。
【００５９】
電極ストライプ群の外側に接点パッドをもつ、内側ストライプ状電極用の窓および内部接続用電極の使用により、高密度でかつ個々にアドレス可能なレーザ素子の形成が可能になる。
【００６０】
湿式酸化手法を用いたモノリシックレーザアレーの製造にはいくつかの利点がある。第一に、エッチングおよび再成長法の代わりに湿式酸化処理を用いて埋め込み形リッジ素子の境界規定を行うことにより、高い歩留まりと良好なダイオード特性が得られる。第二に、各内側ストライプへの電気的内部接続が容易であり、電気的絶縁のために必要であったイオン注入は用いない。第三に、６点式あるいは８点式といった４点式以上のレーザ素子配置の設計が可能である。
【００６１】
以上示した組成、ドーパント元素、ドーピングレベル、および寸法は一例であり、これらパラメータは種々変更が可能である。さらに、各図に示した諸層にその他の層を追加することも包含される。また、温度や時間などの実験条件の変更も可能である。最後に、ＧａＡｓおよびＧａＡｌＡｓの代わりに、ＧａＡｌＳｂ、ＩｎＡｌＧａＰ、およびその他のアルミニウム含有のIII族とＶ族の合金などの他の半導体材料を使用することもできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本実施形態のエッジ放出形（エッジエミッティング）レーザアレー構造中の半導体層の層無秩序化処理後の側面図である。
【図２】  本実施形態のエッジ放出形（エッジエミッティング）レーザアレー構造中の半導体層のエッチング用マスク形成後の上面図である。
【図３】  本実施形態のエッジ放出形（エッジエミッティング）レーザアレー構造中のエッチングおよび横方向湿式酸化処理後の側面図である。
【図４】  本実施形態のエッジ放出形（エッジエミッティング）レーザアレー構造中の四つのレーザ素子に個々にアドレスするための電極パターンの上面図である。
【符号の説明】
１００  半導体レーザ構造、１０２  基板、１０４  下部クラッド層、１０６下部閉じ込め層、１０８  活性層、１１０  上部閉じ込め層、１１２  被酸化層、１１４  ＡｌＡｓ層、１１６  ＡｌＧａＡｓ層、１１８  上部クラッド層、１２０  キャップ層、１２２  上面、１２４，１２６，１２８，１３０，１３２窒化シリコンストライプ、１３６  開口窓領域、１３８  混合領域、１４０  窒化シリコンマスク、１４２，１４４，１４６，１４８  溝用窓、１５６，１５８，１６０，１６２，１６４  断線部、１６８，１７０，１７２，１７４，１７６  溝、１７８，１８８  固有（ネイティブ）酸化物層（非混合領域）、１８０，１８２，１８４，１８６  アパーチャ（混合領域）、１９０  金属接点、１９２  電極（ｎ型）、２００，２０２，２０４，２０６  レーザ素子、２０８，２１０，２１２，２１４，２１８  電極（ｐ型）、２１６，２２２，２２４  接点パッド、２２０，２２６，２２７，２３０  内部接続用電極。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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