(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の第１配線を有する第１基板と、複数の第２配線である引廻し配線を有し前記第１基板と所定の間隙をもって配置されている第２基板とを有する電気光学パネルであって、  前記第１基板の前記第１配線と、第２基板の前記第２配線である引廻し配線とを電気的に導通する導通部とを有し、
前記所定の間隙は、第１の間隙の領域と、前記導通部よりも小さい第２の間隙の領域とからなり、
前記第２配線である引廻し配線を前記第１基板へ射影した線と、前記第１配線との交点が、前記第２の間隙の領域に設けられていることを特徴とする電気光学パネル。
【請求項２】
前記第１の基板は、前記第２の基板に対向する面に基板表面を平坦化するためのオーバーコート層を有し、
前記第２の間隙の領域は、前記オーバーコート層上に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学パネル。
【請求項３】
前記第１の基板は、前記オーバーコート層上に前記第1配線と、当該第１配線上に積層された膜を有し、
前記膜は、前記第２の間隙の領域の中央から、前記第２配線である引廻し配線を前記第１基板へ射影した線と、前記第１配線との交点の外側にかけて形成されていることを特徴とする請求項２に記載の電気光学パネル。
【請求項４】
複数の第１配線を有する第１基板と、複数の第２配線である引廻し配線を有し前記第１基板と所定の間隙をもって配置されている第２基板とを有する電気光学パネルの製造方法であって、
前記第１基板の前記第１配線と、第２基板の前記第２配線である引廻し配線とを導通部により電気的に導通する工程と、
前記第２配線である引廻し配線を前記第１基板へ射影した線と前記第１配線との交点が存在する部分に、少なくとも前記導通部よりも小さい間隙の領域を形成する工程と、
を含むことを特徴とする電気光学パネルの製造方法。
【請求項５】
画像信号に応じて信号を供給する制御部と、
請求項１に記載の電気光学パネルと、
を有することを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項５に記載の表示装置と、
前記表示装置を駆動する駆動部と、
を有することを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気光学パネル、電気光学パネルの製造方法、表示装置及び電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電気光学パネルは、シール材を介して貼り合わされた一対の基板の間に、例えば液晶部を有する構成が一般的である。この種の電気光学パネルにおいては、各基板のうち他方の基板と対向する面に電極が形成されている。この電極には、当該電極に接続された引廻し配線を介して、表示すべき画像に応じた電圧が印加される。
【０００３】
さらに、両基板の電極に接続される引廻し配線が、一方の基板上に集約して形成された構成も提案されている。すなわち、この構成においては、一方の基板上に形成された電極が、例えばシール材に分散された導通粒子を介して、他方の基板上に形成された引廻し配線に接続されるようになっている。この構成によれば、液晶駆動用のＩＣチップやフレキシブル配線基板などを、引廻し配線が形成された一方の基板に実装すれば良い。このため、電気光学パネルの簡素化や、いわゆる額縁領域の狭小化を図ることができる。なお、以下では、一方の基板上の配線（電極）と他方の基板上の引廻し配線との間の導通を、「上下導通」という。
【０００４】
電気光学パネルの製造工程においては、シール材を介して貼り合わせた一対の基板からなる液晶セルの内部に、当該シール材に形成された液晶注入口から液晶が注入される。そして、液晶の注入後に、液晶注入口が封止材により封止される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、注入された液晶に金属性のごみ等の異物が含まれている場合、又は液晶注入以前から液晶セル内に異物が存在している場合がある。この場合、液晶セル内に注入された液晶が拡がってゆくのに応じて、異物が液晶セル内を移動する。そして、この異物は、異物自身のサイズよりも液晶セル間の間隙が小さくなる境目の領域において留まってしまう。このため、一方の基板上の配線（電極）と他方の基板上の引廻し配線との間で、異物を介して電気的な短絡、いわゆるショートが生じてしまうので問題である。
【０００６】
本発明は、上述の問題点を解決するためになされたものであり、基板の間に異物が混入した場合でも、両基板に形成された配線同士を確実に上下導通させることができる電気光学パネル、その製造方法、表示装置、及び電子機器を提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、複数の第１配線を有する第１基板と、複数の第２配線である引廻し配線を有し前記第１基板と所定の間隙をもって配置されている第２基板とを有する電気光学パネルであって、  前記第１基板の前記第１配線と、第２基板の前記第２配線である引廻し配線とを電気的に導通する導通部とを有し、前記所定の間隙は、第１の間隙の領域と、前記導通部よりも小さい第２の間隙の領域とからなり、前記第２配線である引廻し配線を前記第１基板へ射影した線と、前記第１配線との交点が、前記第２の間隙の領域に設けられていることを特徴とする電気光学パネルを提供する。
【０００８】
これにより、第１基板と第２基板との間の所定の間隙に、導通部と略同程度大きさの異物が存在する場合でも、この異物は第１の間隙の領域に留まり、第２の間隙の領域に進入することができない。この結果、導通部と略同程度大きさの異物により第１配線と第２配線とが短絡されることを防止できる。
【０００９】
また、本発明の好ましい態様によれば、前記第１の基板は、前記第２の基板に対向する面に基板表面を平坦化するためのオーバーコート層を有し、前記第２の間隙の領域は、前記オーバーコート層上に設けられていることが望ましい。これにより、導通部と略同程度の大きさの異物は、オーバーコート層上に進入できない。この結果、導通部と略同程度大きさの異物により第１配線と第２配線とが短絡されることをさらに効果的に防止できる。
さらに、前記第１の基板は、前記オーバーコート層上に前記第1配線と、当該第１配線上に有機薄膜を有し、前記有機薄膜は、前記第２の間隙の領域の中央から、前記第２配線を前記第１基板へ射影した線と、前記第１配線との交点の外側にかけて形成されていることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明によれば、複数の第１配線を有する第１基板と、複数の第２配線を有し前記第１基板と所定の間隙をもって配置されている第２基板とを有する電気光学パネルの製造方法であって、前記第１基板の前記第１配線と、第２基板の前記第２配線とを導通部により電気的に導通する工程と、前記第２配線を前記第１基板へ射影した線と前記第１配線との交点が存在する部分に、少なくとも前記導通部よりも小さい間隙の領域を形成する工程とを含むことを特徴とする電気光学パネルの製造方法を提供する。
【００１１】
これにより、第１基板と第２基板との間の所定の間隙に、導通部と略同程度大きさの異物が存在する場合でも、この異物は第１の間隙の領域に留まり、第２の間隙の領域に進入することができない。この結果、導通部と略同程度大きさの異物により第１配線と第２配線とが短絡されることを防止できる。
【００１２】
また、本発明によれば、画像信号に応じて信号を供給する制御部と、請求項１に記載の電気光学パネルとを有することを特徴とする表示装置を提供できる。さらに、本発明によれば、請求項４に記載の表示装置と、前記表示装置を駆動する駆動部とを有することを特徴とする電子機器を提供できる。これにより、基板の配線間で短絡が低減され、高い品質の表示を達成できる表示装置、又は電子機器を得ることができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下に添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態を詳細に説明する。
（第１実施形態）
本発明にかかる第１実施形態は、スイッチング素子としてＴＦＤ(Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ)素子を備えるアクティブマトリクス方式の反射型液晶パネルに本発明を適用したものである。本実施形態の特徴的な構成は、図５に示すように、異物６００の大きさよりも小さい第２の間隙ｄ２の領域を所定部分に設けることで、不要な短絡を防止している点である。かかる構成は、図５を用いて後述する。まず、最初に、本実施形態の全体構成から説明する。図１は、本実施形態にかかる液晶パネルの電気的構成を示すブロック図である。同図に示すように、この液晶パネル１は、Ｘ方向に延在する複数の走査線２５と、Ｙ方向に延在する複数のデータ線１１と、走査線２５及びデータ線１１の各交差に設けられたサブ画素５０とを有する。さらに、複数の走査線２５のうち図１における上から数えて奇数本目の走査線(以下、「奇数本目の走査線」という。)２５は第１のＹドライバＩＣ４０１に接続される。一方、図１における上から数えて偶数本目の走査線(以下、「偶数本目の走査線」という。)２５は第２のＹドライバＩＣ４０２に接続されている。一方、各データ線１１はＸドライバＩＣ４１に接続されている。また、マトリクス状に配列する複数のサブ画素５０の各々は、Ｒ(赤色)、Ｇ(緑色)またはＢ(青色)のいずれかの色に対応するものである。各サブ画素５０は、液晶表示要素５１とＴＦＤ素子１３とが直列接続された構成となっている。
【００１４】
次に、図２は、本実施形態にかかる液晶パネル１を背面側、即ち観察側（表示画像を視認する観察者が位置すべき側）とは反対側から見た場合の構成を示す斜視図である。なお、以下では、図２に示すように、Ｘ軸の負方向を「Ａ側」、正方向を「Ｂ側」と表記する。
【００１５】
図２に示すように、液晶パネル１は、相互に対向する素子基板１０と対向基板２０とがシール材３０によって貼り合わされる。この両基板１０、２０とシール材３０とによって囲まれた領域に液晶(図２においては図示が省略されている)が封入された構成となっている。シール材３０は、対向基板２０の縁辺に沿って略長方形の枠状に形成される。ただし、シール材３０のうちＹ方向に延在する一辺の一部には、液晶を封入するために開口した部分(以下、「液晶注入口」という。)３０ａが形成される。液晶注入口３０ａは、液晶の注入後に封止材３１によって封止されている。さらに、シール材３０には導電性を有する多数の導通粒子が分散されている。この導通粒子は、例えば金属のメッキが施されたプラスチックの粒子や、導電性を有する樹脂の粒子である。導通粒子は、基板１０と対向基板２０との各々に形成された配線同士を上下導通させる機能と、両基板の間隙(セルギャップ)を一定に保つための機能とを兼ね備える。なお、実際には、素子基板１０及び対向基板２０の外側の表面に、入射光を偏光させるための偏光板や、干渉色を補償するための位相差板などが適宜貼着されるが、本発明とは直接の関係がないため、その図示及び説明を省略する。
【００１６】
素子基板１０及び対向基板２０は、ガラスや石英、プラスチックなどの光透過性を有する板状部材である。このうち観察側に位置する素子基板１０の内側(液晶側)面上には上述した複数のデータ線１１が形成される。一方、背面側に位置する対向基板２０の内側の面上には複数の走査線２５が形成される。また、素子基板１０は、シール材３０の外周縁から一方の側に張り出した領域(すなわち、シール材３０及び液晶と対向しない領域である。以下、「縁辺領域」という。)１０ａを有する。そして、縁辺領域１０ａのうちＸ方向の中央部近傍にはＸドライバＩＣ４１が、このＸドライバＩＣ４１を挟んでＸ方向に対向する位置には、第１のＹドライバＩＣ４０１及び第２のＹドライバＩＣ４０２が、それぞれＣＯＧ（Ｃｈｉｐ  Ｏｎ  Ｇｌａｓｓ）技術を用いて実装されている。すなわち、これらのドライバＩＣは、接着材中に導通粒子を分散させた異方性導電膜を介して素子基板１０上に接合されている。また、縁辺領域１０ａのうち素子基板１０の縁端部近傍には複数のパッド１７が形成されるとともに、各パッドが形成された部分の近傍には、フレキシブル基板(図示略)の一端が接合される。このフレキシブル基板の他端には、例えば回路基板などの外部機器が接合される。
【００１７】
かかる構成の下、ＸドライバＩＣ４１は、外部機器からフレキシブル基板及びパッド１７を介して入力された信号に応じてデータ信号を生成し、これをデータ線１１に対して出力する。他方、ＹドライバＩＣ４０１、４０２は、外部機器からフレキシブル基板及びパッド１７を介して入力された信号に応じて走査信号を生成して出力する。走査信号は、素子基板１０上に形成された引廻し配線１６からシール材３０中の導通粒子を介して対向基板２０上の各走査線２５に与えられる。
【００１８】
図３は、素子基板１０上に形成された引廻し配線１６と、シール材３０中の導通粒子を介して対向基板２０上の各走査線２５とが上下導通する構成を、背面側から見た概略図である。なお、簡単のため、図３においては液晶パネル１のＢ側（図２）近傍の配線のみを示す。ＹドライバＩＣ４０１（図２）からの引廻し配線１６は、素子基板１０上に形成され、図３中Ｙ方向に沿って配線されている。これに対して、走査線２５は、対向基板２０上に形成され、図３中Ｘ方向に沿って配線されている。そして、引廻し配線１６と走査線２５とが、上述したように導通部１６ａにおいて導通している。ここで、引廻し配線１６を対向基板２０へ射影した線と、走査線２５との交点（クロスポイント）ＣＰについて考える。交点ＣＰの数は、図３から明らかなように、＋Ｙ方向（図３下側）へ行くに従って増加する。この交点ＣＰが分布している領域において、ごみ等の異物が存在すると、走査線２５と引廻し配線１６とが短絡してしまう。本実施形態では、素子基板１０と対向基板２０との間隙が、異物の大きさよりも小さい領域に交点ＣＰが分布する構成である。このため、異物は交点ＣＰが存在する領域に侵入することができず、短絡を生ずることがない。
【００１９】
このことを図４と図５とに基づいてさらに説明する。図４において、各引廻し配線１６の導通部１６ａは、走査線２５の導通部２５ａと対向するように形成されている。すなわち、対向基板２０上に形成された奇数本目の走査線２５の導通部２５ａは、シール材３０に分散された導通粒子３２（図５）のうち当該シール材３０のＢ側の辺に位置するものを介して、素子基板１０上に形成された引廻し配線１６の導通部１６ａと上下導通する。図４においては、走査線２５と引廻し配線１６とが、シール材３０を介して上下導通する部分に斜線が付されている。同様に、偶数本目の走査線２５は、端部が液晶注入口３０ａ（図２）に至った走査線２５を除き、シール材３０のＡ側の辺に位置する導通粒子３２を介して、素子基板１０上に形成された引廻し配線１６の導通部１６ａと導通する。
【００２０】
また、各引廻し配線１６の延在部１６ｂは、その一端が、シール材３０の内周縁によって囲まれた領域内において導通部１６ａに連結されるとともに、当該領域内においてＹ方向に延在する。そして、この延在部１６ｂは、図２に示すように、シール材３０の一辺を横切って縁辺領域１０ａに至り、その端部が第１のＹドライバＩＣ４０１の出力端子に接続されるようになっている。偶数本目の引廻し配線１６の延在部１６ｂについても同様であり、縁辺領域１０ａのＡ側の部分に至った端部が第２のＹドライバＩＣ４０２の出力端子に接続される。
【００２１】
図５は、図４のＤ−Ｄ’断面の構成を示す図である。図５に基づいて、液晶パネル１の断面構成を説明する。図５に示すように、素子基板１０の内側(液晶３５側)表面には、上述した複数のデータ線１１と複数の画素電極１２とが形成されている。
【００２２】
画素電極１２は、例えばＩＴＯ(Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ)などの透明導電材料によって形成された略矩形状の電極であり、素子基板１０上にマトリクス状に配列している。一方、データ線１１は、各画素電極１２の間隙部分においてＹ方向に延在する配線である。そして、各画素電極１２と、当該画素電極１２に一方の側において隣接するデータ線１１とはＴＦＤ素子（不図示）を介して接続されている。各ＴＦＤ素子は、データ線１１から分岐した部分である第１金属膜と、この第１金属膜の表面に陽極酸化によって形成された絶縁体たる酸化膜と、この酸化膜の上面に例えばクロムなどによって形成された第２金属膜とからなり、非線形な電流−電圧特性を有する二端子型非線形素子である。そして、このＴＦＤ素子の第２金属膜が画素電極１２に接続されている。
【００２３】
また、図５に示すように、データ線１１、画素電極１２及びＴＦＤ素子が形成された素子基板１０の表面は、配向膜１４によって覆われている。この配向膜１４は、ポリイミドなどからなる有機薄膜であり、電圧が印加されていないときの液晶３５の配向方向を規定するためのラビング処理が施されている。
【００２４】
一方、対向基板２０の面上には、反射層２１、カラーフィルタ２２、遮光層２３、オーバーコート層２４、複数の走査線２５及び配向膜２６が形成されている。
【００２５】
反射層２１は、例えばアルミニウムや銀といった光反射性を有する金属によって形成された薄膜である。観察側から液晶パネル１に入射した光は、この反射層２１の表面において反射して観察側に出射し、これによりいわゆる反射型表示が実現される。ここで、対向基板２０の内側表面のうち反射層２１によって覆われた領域は、多数の微細な山部(突起)及び谷部(窪み)が形成された粗面となっている。したがって、かかる粗面を覆うように薄膜状に形成された反射層２１の表面には、当該粗面を反映した微細な山部及び谷部(すなわち散乱構造)が形成される。この結果、観察側からの入射光は、反射層２１の表面において適度に散乱した状態で反射するから、反射層２１表面における鏡面反射を回避して広い視野角が実現される。
【００２６】
カラーフィルタ２２は、各サブ画素５０（図１）に対応して反射層２１の面上に形成された層であり、染料や顔料によってＲ(赤色)、Ｇ(緑色)またはＢ(青色)のうちのいずれかに着色されている。そして、相互に異なる色に対応した３つのサブ画素５０によって、表示画像の画素(ドット)が構成される。遮光層２３は、素子基板１０上にマトリクス状に配列する画素電極１２の間隙部分に対応して格子状に形成され、各画素電極１２同士の隙間を遮光する役割を担っている。本実施形態における遮光層２３は、Ｒ、Ｇ及びＢの３色分のカラーフィルタ２２が積層された構成を有する。オーバーコート層２４は、カラーフィルタ２２及び遮光層２３上面の段差を平坦化するための層であり、例えばエポキシ系やアクリル系などの樹脂材料によって形成される。
【００２７】
走査線２５は、オーバーコート層２４の面上に、ＩＴＯなどの透明導電材料によって形成された帯状の電極である。各走査線２５は、素子基板１０上においてＸ方向に列をなす複数の画素電極１２と対向するようにＸ方向に延在して形成される。そして、画素電極１２と、これに対向する走査線２５と、両者によって挟まれた液晶３５とによって、図１に示した液晶表示要素５１が構成される。すなわち、図１に示すように、走査線２５に走査信号を供給するとともにデータ線１１にデータ信号を供給することによって、ＴＦＤ素子１３にしきい値以上の電圧を印加すると、当該ＴＦＤ素子１３はオン状態となる。この結果、ＴＦＤ素子１３に接続された液晶表示要素５１に電荷が蓄積され、液晶３５（図５）の配向方向が変化する。こうしてサブ画素５０ごとに液晶３５の配向方向を変化させることにより、所望の表示を行なうことができるのである。一方、電荷が蓄積された後に当該ＴＦＤ素子１３がオフ状態となっても液晶表示要素５１における電荷の蓄積は維持される。また、複数の走査線２５が形成されたオーバーコート層２４の表面は、素子基板１０上の配向膜１４と同様の配向膜２６によって覆われている。
【００２８】
本実施形態では、図５に示すように、素子基板１０と対向基板２０との間に基板間隙部５００が設けられている。基板間隙部５００は、第１の間隙ｄ１の領域５０１と、第１の間隙ｄ１よりも小さい第２の間隙ｄ２の領域５０２とを有する。そして、引廻し配線１６ｂを対向基板２０へ射影した線と、走査線２５とが交わる点ＣＰが、前記第２の間隙ｄ２の領域５０２に設けられている。このため、ごみ等の異物６００は、第１の領域５０１に留まり、第２の領域５０２にまで進入することができない。この結果、異物６００による引廻し配線１６ｂと走査線２５との短絡を防止できる。
【００２９】
（第２実施形態）
図６（ａ）、（ｂ）、（ｃ）はそれぞれ、本発明にかかる液晶表示装置を使用した電子機器の例である。図６（ａ）は携帯電話の例を示す斜視図である。１０００は携帯電話本体を示し、そのうち１００１は本発明の液晶表示装置である。図６（ｂ）は腕時計型電子機器の例を示す斜視図である。１１００は時計本体を示し、１１０１が本発明の液晶表示装置である。図６（ｃ）はワープロ、パソコン等の携帯型情報処理装置の例を示す斜視図である。図中１２００は情報処理装置を示し、１２０２はキーボード等の入力部、１２０４は情報処理装置本体、１２０６は本発明の液晶表示装置である。
【００３０】
なお、上記各実施形態では、ＴＦＤ素子の例を説明したが、本発明はこれに限られるものではなく、例えば単純マトリックスタイプの電気光学パネル、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子を用いる電気光学パネルにも適用できる。さらに、反射型の電気光学パネルに限られず、透過型の電気光学パネルであっても適用できる。
【００３１】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、基板の間に異物が混入した場合でも、両基板に形成された配線同士を確実に上下導通させることができる電気光学パネル、その製造方法、表示装置、及び電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態にかかる液晶パネルの電気的構成を示す図である。
【図２】上記第１実施形態の液晶パネルを背面側から見たときの外観を示す斜視図である。
【図３】上記第１実施形態の液晶パネルの配線が交差する部分の概略構成を示す図である。
【図４】上記第１実施形態の液晶パネルの上下導通する部分の近傍を拡大して示す平面図である。
【図５】図４におけるＤ−Ｄ’線から見た断面図である。
【図６】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、それぞれ本発明の液晶パネルを使用した電子機器の例を示す外観図である。
【符号の説明】
１      液晶パネル
１０    素子基板
１０ａ  縁辺領域
１１    データ線
１３    ＴＦＤ素子
１６    引廻し配線
１６ａ  導通部
１７    パッド
２０    対向基板
２５    走査線
２５ａ  導通部
３０    シール材
３０ａ  液晶注入口
３１    封止材
４１    ＸドライバＩＣ
５０    サブ画素
５１    液晶表示要素
４０１  第１のＹドライバＩＣ
４０２  第２のＹドライバＩＣ
５００  基板間隙部
５０１  第１の間隙の領域
５０２  第２の間隙の領域
６００  異物
ＣＰ    交点
１０００  携帯電話本体
１１００  時計本体
１２００  情報処理装置
【図１】
0004036004.tif 000002
【図２】
0004036004.tif 000003
【図３】
0004036004.tif 000004
【図４】
0004036004.tif 000005
【図５】
0004036004.tif 000006
【図６】
0004036004.tif 000007