(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）
【化１】
0004132233.tif 000009
［式中、ＲはＣ1-10アルキル基、Ｃ3-10シクロアルキル基（該アルキル基およびシクロアルキル基は、いずれもＣ1-10アルキル基、Ｃ1-10アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ6-10芳香族基または複素環基で任意に置換されていてもよい。）、Ｃ6-10芳香族基、複素環基（該芳香族基および複素環基は、いずれもＣ1-10アルキル基、Ｃ1-10アルコキシ基、ハロゲン原子またはニトロ基で任意に置換されていてもよい。）を意味する。］
で表わされるスルホニルクロリド化合物を、式（２）
【化２】
0004132233.tif 000010
［式中、Ｒ1はＣ1-10アルキル基、Ｃ3-10シクロアルキル基（該アルキル基およびシクロアルキル基は、いずれもＣ1-10アルキル基、Ｃ1-10アルコキシ基、Ｃ6-10芳香族基または複素環基で任意に置換されていてもよい。）、複素環基（該複素環基は、Ｃ1-10アルキル基、Ｃ1-10アルコキシ基、Ｃ6-10芳香族基、複素環基、ハロゲン原子またはニトロ基で任意に置換されていてもよい。）を意味する。］
で表わされるヒドロキシ化合物と反応させる際に、塩基、および式（３）
【化３】
0004132233.tif 000011
［式中、Ｗ1、Ｗ2およびＷ3は、それぞれ独立にフェニル基（該フェニル基は、Ｃ1-10アルキル基、Ｃ1-10アルコキシ基、ハロゲン原子またはニトロ基で任意に置換されていてもよい。）を意味する。］
で表わされるトリアリールホスフィン化合物の存在下で行なうことを特徴とする、式（４）
【化４】
0004132233.tif 000012
［式中、ＲおよびＲ1は前記に同じ。］
で表わされるスルフィン酸エステル化合物の製造法。
【請求項２】
式（２）が光学活性ヒドロキシ化合物である請求項１記載の製造法。
【請求項３】
式（２）が光学活性ヒドロキシ化合物であり、式（４）で表わされるスルフィン酸エステル化合物が、式（５）
【化５】
0004132233.tif 000013
［式中、ＲおよびＲ1は前記に同じ。＊で表わされる硫黄原子の絶対配置はＲかＳを意味する。］
で表わされる光学活性スルフィン酸エステル化合物である請求項１記載の製造法。
【請求項４】
式（２）で表される化合物がｌ−メントールである請求項１記載の製造法。
【請求項５】
式（２）で表される化合物がジアセトン−Ｄ−グルコースである請求項１記載の製造法。
【請求項６】
式（３）で表される化合物のＷ1、Ｗ2及びＷ3がフェニル基である請求項１記載の製造法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、スルホニルクロリド化合物からのスルフィン酸エステル化合物の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
スルフィン酸エステル化合物は、医・農薬等の生理活性物質を始めとする、種々のファインケミカル誘導体の重要な中間体である。
従来、スルフィン酸エステル化合物を製造する方法としては、相当するスルフィニルクロリド化合物とアルコールを塩基存在下で反応させるのが一般的な合成法である（Chem. Commun., 547 (1974)、J. Org. Chem., 57, 6789 (1992)等）。
【０００３】
その他、スルフィン酸化合物とアルコールを脱水縮合させる方法（Bull. Chem. Soc. Jpn., 44, 862 (1971)等）や、スルフィン酸化合物の塩をアルキル化する方法（J. Org. Chem., 33, 3422 (1968)等）等が知られている。また、スルホニルクロリド化合物から直接スルフィン酸エステル化合物を製造する方法として、J. Org. Chem., 52, 2598 (1987)に記載されている方法が知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記のスルフィニルクロリド化合物から製造する方法、及びスルフィン酸化合物から製造する方法は、ともに原料が非常に不安定であり（J. Org. Chem., 28, 1162 (1963)等）、収率よく目的とするスルフィン酸エステル化合物を製造するのは困難である。
【０００５】
また、原料の基質が入手しにくい等の問題もある。
一方、より入手容易で安定なスルホニルクロリド化合物からスルフィン酸エステル化合物を直接製造する方法は、簡便で優れている。
しかし、J. Org. Chem., 52, 2598 (1987)に記載されている方法では、反応基質により反応がかなり遅くなったり、収率が低い等の問題がある。
【０００６】
J. Org. Chem., 52, 2598 (1987)には、ｐ−トルエンスルホニルクロリドからｐ−トルエンスルフィン酸メンチルエステルが高収率で得られているが、基質が２，４，６−トリメチルベンゼンスルホニルクロリドの場合は、反応時間も長く（２７時間）、収率も低い（３６％）ことが記載されている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、スルフィン酸エステル化合物の製造法について鋭意検討を重ねた結果、相当するスルホニルクロリド化合物から、容易に製造する方法を見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、式（１）
【０００８】
【化６】
0004132233.tif 000002
【０００９】
［式中、ＲはＣ1-10アルキル基、Ｃ3-10シクロアルキル基（該アルキル基およびシクロアルキル基は、いずれもＣ1-10アルキル基、Ｃ1-10アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ6-10芳香族基または複素環基で任意に置換されていてもよい。）、Ｃ6-10芳香族基、複素環基（該芳香族基および複素環基は、いずれもＣ1-10アルキル基、Ｃ1-10アルコキシ基、ハロゲン原子またはニトロ基で任意に置換されていてもよい。）を意味する。］
で表わされるスルホニルクロリド化合物を、式（２）
【００１０】
【化７】
0004132233.tif 000003
【００１１】
［式中、Ｒ1はＣ1-10アルキル基、Ｃ3-10シクロアルキル基（該アルキル基およびシクロアルキル基は、いずれもＣ1-10アルキル基、Ｃ1-10アルコキシ基、Ｃ6-10芳香族基または複素環基で任意に置換されていてもよい。）、複素環基（該複素環基は、Ｃ1-10アルキル基、Ｃ1-10アルコキシ基、Ｃ6-10芳香族基、複素環基、ハロゲン原子またはニトロ基で任意に置換されていてもよい。）を意味する。］
で表わされるヒドロキシ化合物と反応させる際に、塩基、および式（３）
【００１２】
【化８】
0004132233.tif 000004
【００１３】
［式中、Ｗ1、Ｗ2およびＷ3は、それぞれ独立にフェニル基（該フェニル基は、Ｃ1-10アルキル基、Ｃ1-10アルコキシ基、ハロゲン原子またはニトロ基で任意に置換されていてもよい。）を意味する。］
で表わされるトリアリールホスフィン化合物の存在下で行なうことを特徴とする、式（４）
【００１４】
【化９】
0004132233.tif 000005
【００１５】
［式中、ＲおよびＲ1は前記に同じ。］
で表わされるスルフィン酸エステル化合物の製造法に関するものである。
以下、更に詳細に本発明を説明する。
尚、本明細書中「ｎ」はノルマルを「ｉ」はイソを「ｓ」はセカンダリーを「ｔ」はターシャリーを「ｐ」はパラを「ｏ」はオルトを意味する。
【００１６】
まず、置換基のＲ、Ｒ1、Ｗ1、Ｗ2およびＷ3について説明する。
Ｃ1-10アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｔ−ペンチル基、１−ヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基、１−メチル−１−エチル−ｎ−ペンチル基、１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピル基、１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピル基、３，３−ジメチル−ｎ−ブチル基、１−ヘプチル基、２−ヘプチル基、１−エチル−１，２−ジメチル−ｎ−プロピル基、１−エチル−２，２−ジメチル−ｎ−プロピル基、１−オクチル基、３−オクチル基、４−メチル−３−ｎ−ヘプチル基、６−メチル−２−ｎ−ヘプチル基、２−プロピル−１−ｎ−ヘプチル基、２，４，４−トリメチル−１−ｎ−ペンチル基、１−ノニル基、２−ノニル基、２，６−ジメチル−４−ｎ−ヘプチル基、３−エチル−２，２−ジメチル−３−ｎ−ペンチル基、３，５，５−トリメチル−１−ｎ−へキシル基、１−デシル基、２−デシル基、４−デシル基、３，７−ジメチル−１−ｎ−オクチル基及び３，７−ジメチル−３−ｎ−オクチル基等が挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−ペンチル基、１−ヘキシル基、１−ヘプチル基、１−オクチル基、１−ノニル基及び１−デシル基等が挙げられる。
【００１７】
Ｃ3-10シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、１−メチルシクロプロピル基、２−メチルシクロプロピル基、４−メチルシクロヘキシル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基等が挙げられ、好ましくはシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。
【００１８】
Ｃ1-10アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基及びｎ−デシルオキシ基等が挙げられる。
【００１９】
Ｃ6-10芳香族基としては、例えば、フェニル基、１−インデニル基、２−インデニル基、３−インデニル基、４−インデニル基、５−インデニル基、６−インデニル基、７−インデニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−テトラヒドロナフチル基、２−テトラヒドロナフチル基、５−テトラヒドロナフチル基及び６−テトラヒドロナフチル基等が挙げられ、好ましくは、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−テトラヒドロナフチル基及び２−テトラヒドロナフチル基が挙げられる。
【００２０】
複素環基としては、芳香族系複素環基及び非芳香族系複素環基が挙げられる。芳香族系複素環基としては、５〜７員環までの単環式複素環基、構成原子数が８〜１０までの縮合二環式複素環基が挙げられ、酸素原子、窒素原子、硫黄原子が１〜３原子単独もしくは組み合わせて含むことができる。
非芳香族系複素環基としては、５〜７員環までの単環式複素環基、構成原子数が６〜１０までの縮合二環式複素環基が挙げられ、酸素原子、窒素原子、硫黄原子が１〜３原子単独もしくは組み合わせて含むことができる。
【００２１】
芳香族系複素環基としては、例えば、２−チエニル基、３−チエニル基、２−フリル基、３−フリル基、２−ピラニル基、３−ピラニル基、４−ピラニル基、２−ベンゾフラニル基、３−ベンゾフラニル基、４−ベンゾフラニル基、５−ベンゾフラニル基、６−ベンゾフラニル基、７−ベンゾフラニル基、１−イソベンゾフラニル基、４−イソベンゾフラニル基、５−イソベンゾフラニル基、２−ベンゾチエニル基、３−ベンゾチエニル基、４−ベンゾチエニル基、５−ベンゾチエニル基、６−ベンゾチエニル基、７−ベンゾチエニル基、１−イソベンゾチエニル基、４−イソベンゾチエニル基、５−イソベンゾチエニル基、２−クロメニル基、３−クロメニル基、４−クロメニル基、５−クロメニル基、６−クロメニル基、７−クロメニル基、８−クロメニル基、１−ピロリル基、２−ピロリル基、３−ピロリル基、１−イミダゾリル基、２−イミダゾリル基、４−イミダゾリル基、１−ピラゾリル基、３−ピラゾリル基、４−ピラゾリル基、２−チアゾリル基、４−チアゾリル基、５−チアゾリル基、３−イソチアゾリル基、４−イソチアゾリル基、５−イソチアゾリル基、２−オキサゾリル基、４−オキサゾリル基、５−オキサゾリル基、３−イソオキサゾリル基、４−イソオキサゾリル基、５−イソオキサゾリル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピラジニル基、２−ピリミジニル基、４−ピリミジニル基、５−ピリミジニル基、３−ピリダジニル基、４−ピリダジニル基、１−インドリジニル基、２−インドリジニル基、３−インドリジニル基、５−インドリジニル基、６−インドリジニル基、７−インドリジニル基、８−インドリジニル基、１−イソインドリル基、４−イソインドリル基、５−イソインドリル基、１−インドリル基、２−インドリル基、３−インドリル基、４−インドリル基、５−インドリル基、６−インドリル基、７−インドリル基、１−インダゾリル基、２−インダゾリル基、３−インダゾリル基、４−インダゾリル基、５−インダゾリル基、６−インダゾリル基、７−インダゾリル基、１−プリニル基、２−プリニル基、３−プリニル基、６−プリニル基、７−プリニル基、８−プリニル基、２−キノリル基、３−キノリル基、４−キノリル基、５−キノリル基、６−キノリル基、７−キノリル基、８−キノリル基、１−イソキノリル基、３−イソキノリル基、４−イソキノリル基、５−イソキノリル基、６−イソキノリル基、７−イソキノリル基、８−イソキノリル基、１−フタラジニル基、５−フタラジニル基、６−フタラジニル基、２−ナフチリジニル基、３−ナフチリジニル基、４−ナフチリジニル基、２−キノキサリニル基、５−キノキサリニル基、６−キノキサリニル基、２−キナゾリニル基、４−キナゾリニル基、５−キナゾリニル基、６−キナゾリニル基、７−キナゾリニル基、８−キナゾリニル基、３−シンノリニル基、４−シンノリニル基、５−シンノリニル基、６−シンノリニル基、７−シンノリニル基、８−シンノリニル基、２−プテニジニル基、４−プテニジニル基、６−プテニジニル基、７−プテニジニル基及び３−フラザニル基等が挙げられる。
【００２２】
非芳香族複素環としては、例えば、２−テトラヒドロフラニル基、３−テトラヒドロフラニル基、２−テトラヒドロピラニル基、３−テトラヒドロピラニル基、４−テトラヒドロピラニル基、１−ピロリジニル基、２−ピロリジニル基、３−ピロリジニル基、１−ピロリニル基、２−ピロリニル基、３−ピロリニル基、４−ピロリニル基、５−ピロリニル基、１−イミダゾリジニル基、２−イミダゾリジニル基、４−イミダゾリジニル基、１−イミダゾリニル基、２−イミダゾリニル基、４−イミダゾリニル基、１−ピラゾリジニル基、３−ピラゾリジニル基、４−ピラゾリジニル基、１−ピラゾリニル基、２−ピラゾリニル基、３−ピラゾリニル基、４−ピラゾリニル基、５−ピラゾリニル基、１−ピペリジル基、２−ピペリジル基、３−ピペリジル基、４−ピペリジル基、１−ピペラジニル基、２−ピペラジニル基、３−ピペラジニル基、１−インドリニル基、２−インドリニル基、３−インドリニル基、４−インドリニル基、５−インドリニル基、６−インドリニル基、７−インドリニル基、１−イソインドリニル基、２−イソインドリニル基、４−イソインドリニル基、５−イソインドリニル基、２−キヌクリジニル基、３−キヌクリジニル基、４−キヌクリジニル基、２−モルフォリニル基、３−モルフォリニル基、４−モルフォリニル基、１−アゼチジニル基、２−アゼチジニル基、３−アゼチジニル基、１−アゼチジノニル基、３−アゼチジノニル基及び４−アゼチジノニル基等が挙げられる。
【００２３】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
Ｒの具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｔ−ペンチル基、１−ヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基、１−ヘプチル基、１−オクチル基、１−ノニル基、１−デシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、２−チエニル基、３−チエニル基、２−ベンゾフラニル基、３−ベンゾフラニル基、４−ベンゾフラニル基、５−ベンゾフラニル基、６−ベンゾフラニル基、７−ベンゾフラニル基、２−ベンゾチエニル基、３−ベンゾチエニル基、４−ベンゾチエニル基、５−ベンゾチエニル基、６−ベンゾチエニル基、７−ベンゾチエニル基、３−ピラゾリル基、４−ピラゾリル基、２−チアゾリル基、４−チアゾリル基、５−チアゾリル基、３−イソチアゾリル基、４−イソチアゾリル基、５−イソチアゾリル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、４−ピリミジニル基、５−ピリミジニル基、１−イソインドリル基、４−イソインドリル基、５−イソインドリル基、１−インドリル基、２−インドリル基、３−インドリル基、４−インドリル基、５−インドリル基、６−インドリル基、７−インドリル基、２−キノリル基、３−キノリル基、４−キノリル基、５−キノリル基、６−キノリル基、７−キノリル基、８−キノリル基、１−イソキノリル基、３−イソキノリル基、４−イソキノリル基、５−イソキノリル基、６−イソキノリル基、７−イソキノリル基、８−イソキノリル基、２−キノキサリニル基、５−キノキサリニル基及び６−キノキサリニル基等が挙げられ、好ましくは、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、１−ヘキシル基、１−オクチル基、１−デシル基、シクロヘキシル基、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、２−チエニル基、３−チエニル基、３−ピラゾリル基、４−ピラゾリル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−キノリル基、３−キノリル基、４−キノリル基、５−キノリル基、６−キノリル基、７−キノリル基、８−キノリル基、２−キノキサリニル基、５−キノキサリニル基及び６−キノキサリニル基等が挙げられる。
【００２４】
Ｒ1の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｔ−ペンチル基、１−ヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基、１−ヘプチル基、１−オクチル基、１−ノニル基、１−デシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、２−テトラヒドロフラニル基、３−テトラヒドロフラニル基、２−テトラヒドロピラニル基、３−テトラヒドロピラニル基、４−テトラヒドロピラニル基、２−ピロリジニル基、３−ピロリジニル基、２−イミダゾリジニル基、４−イミダゾリジニル基、３−ピラゾリジニル基、４−ピラゾリジニル基、２−ピペリジル基、３−ピペリジル基、４−ピペリジル基、２−ピペラジニル基及び３−ピペラジニル基等が挙げられ、好ましくは、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、１−ヘキシル基、１−オクチル基、１−デシル基、シクロヘキシル基、２−テトラヒドロフラニル基、３−テトラヒドロフラニル基、２−テトラヒドロピラニル基、３−テトラヒドロピラニル基、４−テトラヒドロピラニル基、２−ピロリジニル基、３−ピロリジニル基、２−ピペリジル基、３−ピペリジル基及び４−ピペリジル基等が挙げられる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
次に、反応の具体的な方法について説明する。
式（４）で表されるスルフィン酸エステル化合物は以下の反応式１で示される方法によって製造することができる。
反応式１
【００２６】
【化１０】
0004132233.tif 000006
【００２７】
（式中、Ｒ、Ｒ1、Ｗ1、Ｗ2およびＷ3は前記に同じ。）
反応式１は、スルホニルクロリド化合物（１）とヒドロキシ化合物（２）を、塩基とトリアリールホスフィン化合物（３）の存在下、反応させることにより、直接スルフィン酸エステル化合物（４）を製造する方法である。
反応の際に、ヒドロキシ化合物として、ｌ−メントールやアセトン−Ｄ−グルコース等の光学活性ヒドロキシ化合物を用いると、得られるスルフィン酸エステル化合物は、硫黄原子の絶対配置の違いに伴う２種類のジアステレオマー混合物となる。
【００２８】
このジアステレオマー混合物は塩基の種類、溶媒の種類により一方に片寄らせることも可能である。
反応基質となる式（１）で表されるスルホニルクロリド化合物としては、メタンスルホニルクロリド、エタンスルホニルクロリド、シクロヘキサンスルホニルクロリド等のアルキルスルホニルクロリド化合物、ｐ−トルエンスルホニルクロリド、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホニルクロリド、２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニルクロリド、１−ナフタレンスルホニルクロリド、２−キノリルスルホニルクロリド及び２−ピリジルスルホニルクロリド等のアリールスルホニルクロリド化合物等が挙げられる。
【００２９】
一方、式（２）で表されるヒドロキシ化合物としては、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、ｉ−プロパノール、シクロヘキサノール及びｌ−メントール等のアルカノール類、ジアセトン−Ｄ−グルコース等の糖類が挙げられる。
使用する塩基としては、トリエチルアミン、ジｉ−プロピルエチルアミン、トリｎ−ブチルアミン、トリｎ−オクチルアミン、ＤＢＮ（１，５−ジアザビシクロ[４，３，０]ノナ−５−エン）、ＤＢＵ（１，８−ジアザビシクロ[５，４，０]ウンデカ−７−エン）等の第三級アミン類、ピリジン、２−ピコリン、２，６−ルチジン及び２−メチル−５−エチルピリジン等のピリジン類が挙げられ、中でもトリエチルアミンが好ましい。
【００３０】
塩基の使用量は、基質に対して１モル当量〜１０モル当量の範囲、好ましくは１モル当量〜５モル当量の範囲である。
式（３）で表されるトリアリールホスフィン化合物としては、トリフェニルホスフィン、トリオルトトリルホスフィン、トリメタトリルホスフィン、トリパラトリルホスフィン及びトリス−４−メトキシフェニルホスフィン等が挙げられ、トリフェニルホスフィンが好ましい。
【００３１】
トリアリールホスフィン化合物の使用量は、基質に対して１モル当量〜１０モル当量の範囲、好ましくは１モル当量〜３モル当量の範囲である。
反応溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、アセトン、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロルベンゼン及びｏ−ジクロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−オクタン及びｎ−デカン等の脂肪族炭化水素類、酢酸メチル、酢酸エチル及び酢酸ブチル等のエステル類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム及び四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル及びジメトキシエタン等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及びＮ−メチルピロリドン等のアミド類、１，３−ジメチルイミダゾリジノン及びテトラメチル尿素等の尿素類等が挙げられ、好ましくは、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン及びトルエンが挙げられる。
【００３２】
更に、これらの溶媒は、単独又は組み合わせて使用することも出来る。
反応温度は、通常−５０℃〜１５０℃の範囲、好ましくは−３０℃〜１００℃の範囲がよい。
反応時間は、基質の反応性にもよるが、通常０．１〜１０００時間である。
反応終了後は、酸処理により反応を止めた後適当な溶媒により抽出し、溶媒を減圧濃縮して、目的とするスルフィン酸エステル化合物を単離する事が出来る。
【００３３】
必要により、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等により精製すれば、高純度のスルフィン酸エステル化合物を単離する事が出来る。
【００３４】
【実施例】
以下、実施例により更に詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例１
ｐ−トルエンスルフィン酸メンチルエステルの製造
ｌ−メントール６０５ｍｇ（３．８７ｍｍｏｌ）とｐ−トルエンスルホニルクロリド７３１ｍｇ（３．８３ｍｍｏｌ）を塩化メチレン１０ｍｌに溶かして、０℃で激しく攪拌させながら、トリエチルアミン５．４ｍｌ（３８．４ｍｍｏｌ）を加え、トリフェニルホスフィン１００６ｍｇ（３．８４ｍｍｏｌ）を塩化メチレン１０ｍｌに溶かした溶液を滴下ロートを用いてゆっくりと滴下した。
【００３５】
約１時間で滴下は終了し、シリカゲル薄層クロマトグラフィーで原料の消失を確認して、１Ｎ塩酸水溶液１０ｍｌで２回と飽和食塩水溶液１０ｍｌで１回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）により精製して目的物を１．０８４ｇ（収率９５％）得た。
【００３６】
硫黄原子上の絶対配置ＲとＳの比率はＮＭＲより３８：６２であった。
1H NMR (200 MHz, CDCl3)
δ=0.70-2.32(18H,m,protons of the menthyl skeleton),2.42(3H,s,-C6H4CH3),4.12(1H,dt,J=4.6,10.7Hz,(SS)-HCOS),4.20(1H,dt,J=4.8,10.7Hz,(RS)-HCOS),7.30-7.32(2H,d,J=7.9Hz,-C6H4CH3),7.58-7.62(2H,d,J=8.3Hz,-C6H4CH3)
IR (KBr) 1130 cm-1 (-O-SO-)
実施例２〜７
実施例１のｐ−トルエンスルホニルクロリドを下表のスルホニルクロリド化合物に変えた以外は実施例１と同様に反応を行なった結果を下表に示す。
0004132233.tif 000007
実施例８
ｐ−トルエンスルフィン酸エチルエステルの製造
エタノール０．２４ｍｌ（４．０９ｍｍｏｌ）とｐ−トルエンスルホニルクロリド７７７ｍｇ（４．０８ｍｍｏｌ）を塩化メチレン１０ｍｌに溶かして、０℃で激しく攪拌させながら、トリエチルアミン０．５７ｍｌ（４．０９ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン１０６９ｍｇ（４．０８ｍｍｏｌ）を塩化メチレン１０ｍｌに溶かした混合溶液を滴下ロートを用いてゆっくりと滴下した。
【００３７】
約１時間で滴下は終了し、シリカゲル薄層クロマトグラフィーでスルフィナートの生成を確認した。１Ｎ塩酸水溶液５ｍｌで１回と飽和食塩水溶液１０ｍｌで１回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）により精製して目的物を４１８ｍｇ（収率５５％）得た。
【００３８】
1H NMR (200 MHz, CDCl3)
δ=1.28(3H,t,J=7.1Hz,CH3CH2O-),2.43(3H,s,p-CH3C6H4-),3.72(1H,dq,J=10.0,7.1Hz,CH3CHHO-),4.10(1H,dq,J=10.0,7.1Hz,CH3CHHO-),7.33(2H,d,J=7.9Hz,p-CH3C6H4-),7.60(2H,d,J=8.3Hz,p-CH3C6H4-)
IR (Neat) 1140 cm-1 (-O-SO-)
実施例９
４−（４’−ブロモブトキシ）−２，６−ジメチルベンゼンスルフィン酸メンチルエステルの製造
ｌ−メントール４８．３ｍｇ（０．３０９１ｍｍｏｌ）と４−（４’−ブロモブトキシ）−２，６−ジメチルベンゼンスルホニルクロリド１５８．２ｍｇ（０．４５７４ｍｍｏｌ）を塩化メチレン４．０ｍｌに溶かして激しく撹拌し、トリエチルアミン０．０６５ｍｌ（０．４６２５ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン１５９．５ｍｇ（０．６０８１ｍｍｏｌ）を加えて還流させた。
【００３９】
原料の消失が確認されたら、反応溶液をエーテル５ｍｌと１Ｎ塩酸水溶液２ｍｌの混合溶液に加えて反応を止め、水層をエーテルで３回抽出し、有機層を飽和重曹水と飽和食塩水で１回づつ洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的物を９７．３ｍｇ（収率７０％）得た。
実施例１０
２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルフィン酸  １，２，５，６−ジ−ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコフラノシルエステルの製造
ジアセトン−Ｄ−グルコース（１，２，５，６−ジ−ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコフラノース）１．０００ｇ（３．８４ｍｍｏｌ）と２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニルクロリド１．１６７ｇ（３．８５ｍｍｏｌ）を塩化メチレン１０．０ｍｌに溶かして、０℃で激しく撹拌させながら、トリエチルアミン５．４ｍｌ（３８．４ｍｍｏｌ）を加え、トリフェニルホスフィン１．００７ｇ（３．８４ｍｍｏｌ）を塩化メチレン１０．０ｍｌに溶かした溶液を滴下ロートを用いてゆっくりと滴下した。
【００４０】
約１時間で滴下は終了し、シリカゲル薄層クロマトグラフィーで原料の消失を確認して、１Ｎ塩酸水溶液１０ｍｌで２回と飽和食塩水１０ｍｌで１回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝８５：１５）により精製して、目的物を１．７６４ｇ（収率９０％）得た。
【００４１】
硫黄原子上の絶対配置ＲとＳの比率はＮＭＲより４７：５３であった。
1H NMR (200 MHz, CDCl3)
δ=1.17-1.52(30H,m,p-C6H2CHCH3,o-C6H2CHCH3,and OCMe2O),2.79-2.98(1H,m,p-C6H2CHCH3),3.90-4.40(6H,m,H-4,H-5,H-6,and o-C6H2CHCH3),4.61-4.89(2H,m,H-2,H-3),5.81(1H,d,J=3.7Hz,(SS)-H-1),5.89(1H,d,J=3.8Hz,(RS)-H-1),7.08(1H,s,(RS)-(C3H7)3C6H2-),7.10(1H,s,(SS)-(C3H7)3C6H2-)
IR (Neat) 1140 cm-1 (-O-SO-)
実施例１１〜１３
実施例１０の２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニルクロリドを下表のスルホニルクロリド化合物に変えた以外は実施例１０と同様に反応を行なった結果を下表に示す。
0004132233.tif 000008
参考例１
実施例９のｌ−メントールと４−（４’−ブロモブトキシ）−２，６−ジメチルベンゼンスルホニルクロリドの反応の際に、J. Org. Chem., 52, 2598 (1987)に記載の亜リン酸トリメチル存在下で反応させたところ、１７時間反応させて目的物の収率は１１％であった。
参考例２
実施例１０のジアセトン−Ｄ−グルコース（１，２，５，６−ジ−ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコフラノース）と２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニルクロリドの反応の際に、J. Org. Chem., 52, 2598 (1987)に記載の亜リン酸トリメチル存在下で反応させたところ、２４時間反応させても目的物は全く得られなかった。
【００４２】
【発明の効果】
本発明の方法によれば、効率的に、スルフィン酸エステル化合物を製造することができる。