(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空装置との間にそれぞれの開閉バルブをもつ複数の排気経路を備えた真空ポンプの制御装置において、
前記開閉バルブの開閉状態の組合せと前記真空ポンプの回転速度との関係を設定する条件設定部と、
前記開閉バルブの開閉状態に対応した外部信号を入力し、その外部信号の組合せに対応した真空ポンプの回転速度を前記条件設定部から読み出し出力する制御部と、
前記制御部の出力に基づき前記真空ポンプの回転速度を制御するインバータとを備えたことを特徴とする真空ポンプの制御装置。
【請求項２】
それぞれの開閉バルブをもつ複数のプロセスガス導入経路を備えた真空装置を排気する真空ポンプの制御装置において、
前記開閉バルブの開閉状態の組合せと前記真空ポンプの回転速度との関係を設定する条件設定部と、
前記開閉バルブの開閉状態に対応した外部信号を入力し、その外部信号の組合せに対応した真空ポンプの回転速度を前記条件設定部から読み出し出力する制御部と、
前記制御部の出力に基づき前記真空ポンプの回転速度を制御するインバータとを備えたことを特徴とする真空ポンプの制御装置。
【請求項３】
前記外部信号は前記開閉バルブを制御する信号を含んでいる請求項１又は２に記載の真空ポンプの制御装置。
【請求項４】
前記開閉バルブはそれぞれ開閉状態を検知するセンサを備えており、
前記外部信号は前記センサからの信号を含んでいる請求項１又は２に記載の真空ポンプの制御装置。
【請求項５】
前記制御部は前記インバータを介さずに前記真空ポンプを所定の一定速度で回転させる直送運転モードも取りうるものである請求項１から４のいずれかに記載の真空ポンプの制御装置。
【請求項６】
前記制御部は電源投入時に直送運転モードをとる請求項５に記載の真空ポンプの制御装置。
【請求項７】
前記制御部は前記インバータ及び内部制御回路からも信号を入力し、それらの信号が予め設定された条件になったときにも直送運転モードをとる請求項５又は６に記載の真空ポンプの制御装置。
【請求項８】
真空ポンプとの間にそれぞれの開閉バルブをもつ複数の排気経路を備え前記真空ポンプにより排気される真空装置において、
前記真空ポンプには請求項１に記載の制御装置が設けられていることを特徴とする真空装置。
【請求項９】
それぞれの開閉バルブをもつ複数のプロセスガス導入経路を備え、真空ポンプにより排気される真空装置において、
前記真空ポンプには請求項２に記載の制御装置が設けられていることを特徴とする真空装置。
【請求項１０】
前記制御装置内の制御部は前記インバータを介さずに前記真空ポンプを所定の一定速度で回転させる直送運転モードも取りうるものである請求項８又は９に記載の真空装置。
【請求項１１】
前記制御部は電源投入時に直送運転モードをとる請求項１０に記載の真空装置。
【請求項１２】
前記制御部は前記インバータ及び内部制御回路からも信号を入力し、それらの信号が予め設定された条件になったときにも直送運転モードをとる請求項１０又は１１に記載の真空装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空ポンプの制御装置と真空装置に関し、特に長時間にわたって連続運転される真空装置における真空ポンプの制御に関するものである。
そのような真空装置の一例は、半導体製造プロセスにおいて基板に各種薄膜を堆積したり、基板を加工したりする際に使用される真空装置である。
【０００２】
【従来の技術】
半導体製造プロセスで使用される真空装置の一例では、試料である半導体ウエハを導入したり取り出したりするロボットを備えた搬送チャンバに、エッチング装置、薄膜堆積装置、その他のプロセスチャンバがゲートを介して接続され、また搬送チャンバには試料のウエハを交換するロードロック室がゲートを介して接続されている。各プロセスチャンバやロードロック室は開閉バルブを備えた排気経路を介して真空ポンプに接続されており、搬送チャンバも含めてプロセスチャンバもロードロック室も真空排気される。
【０００３】
例えばロードロック室について考えると、試料を交換するために大気に開放された状態から真空排気する期間、ロボットによりウエハを交換する期間、ロードロック室が閉じられている期間というように、種々の稼動状態がある。それらの期間は排気経路の開閉バルブの開閉操作により、排気能力が調節される。
【０００４】
そのような真空装置の稼動中は、製造途中で真空ポンプのモータが停止して真空装置の真空状態を維持できなくなると、処理中の製品などが不良になる。そのため、そような事態を避ける必要から真空ポンプは連続して常時駆動するように制御されている。しかもその回転速度は、真空装置の動作状態によらず、常に一定になるように設定されている。
【０００５】
真空装置の真空状態を維持しながら真空ポンプを過負荷から保護するために、真空ポンプを駆動しているモータの消費電力の値が所定値以上になるとモータの回転数を低下させることが提案されている（特開２０００−1１０７３５号公報参照）。また真空ポンプの運転中に変化するケース温度やモータの電流値などの物理量を測定し、この測定値がある設定値に達すると警報を発することにより、ポンプが停止する事態に至る前に保守を促すようにすることも提案されている（特開平５−１１８２８９号公報参照）。
【０００６】
これらの提案は、真空ポンプを過負荷から保護することにより、真空装置が真空状態を維持できなくなる事態を避けることが目的であり、真空ポンプでの消費電力を抑えるという意図はない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
真空ポンプを一定の回転速度で駆動していると、真空装置の稼動状態によっては真空ポンプは必要以上の回転数で回転している場合が起こる。真空装置の稼動中は真空ポンプを停止することはできないが、稼動状態によっては必要以上の回転数で駆動していることになり消費電力の無駄が発生している。
そこで、本発明は真空装置の稼動状態に応じて真空ポンプの回転数を変化させることにより真空ポンプによる消費電力を抑えることを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、真空ポンプを駆動するモータの電流値などではなく、真空装置の真空状態を所定の状態に維持するための排気経路の開閉バルブなどからの外部信号に基づいて真空装置の稼動状態を判定し、判定した稼動状態に対応して、予め設定しておいた適当な回転速度になるように真空ポンプを制御して、必要以上の回転数での真空ポンプ駆動を避けることによって消費電力を抑えるようにする。ここで、外部信号とは、真空ポンプ以外から発生する信号の意味である。
【０００９】
本発明の真空装置及び真空ポンプ制御装置の概要を図１に示す。条件設定部４は真空装置１０の稼動状態と真空装置１０を排気する真空ポンプ２の回転速度との関係を設定している。この関係は真空ポンプ２の回転速度が必要以上の回転速度にならないように適当な値に設定されている。制御部６は真空装置１０の稼動状態に対応した開閉バルブからの信号Ｓ１〜Ｓｎなどの外部信号を入力し、その外部信号に対応した真空ポン２プの回転速度を条件設定部４から読み出して出力するものである。インバータ８は制御部６の出力に基づき真空ポンプの回転速度を制御する。
また本発明の真空装置１０は、そのような制御装置６により制御される真空ポンプ２を備えたものである。
【００１０】
本発明では、制御部６はＳ１〜Ｓｎなどの外部信号から真空装置１０の稼動状態を判定し、それに対応して条件設定部４から設定回転速度を呼び出して、真空ポンプ２の回転速度がその設定回転速度になるようにインバータ８を介して真空ポンプ２の回転を制御するので、条件設定部４に消費電力を抑えるように条件設定をしておくことにより、真空ポンプ２による無駄な電力消費を抑えることができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明が対象にする真空装置の一例は、真空ポンプとの間に開閉バルブをもつ複数の排気経路を備えたものである。その場合、外部信号の一例は開閉バルブを制御する信号を含んでいる。
【００１２】
本発明が対象になる真空装置の他の一例は、真空ポンプとの間に開閉バルブをもつ複数の排気経路を備えたものであるが、それらの開閉バルブはそれぞれ開閉状態を検知するセンサを備えたものである。その場合、外部信号の一例はそれらのセンサからの信号を含んだものとすることができる。
【００１３】
複数の排気経路の開閉バルブの状態は真空装置の稼動状態を表しているので、それらの開閉バルブの開閉動作に関連して得られる信号から真空装置の稼動状態を判定することができ、それに基づいて、真空ポンプの回転数を設定されたように制御すれば消費電力を抑えることができる。
【００１４】
インバータを備えた真空ポンプ制御装置であっても、インバータが故障したり、インバータを介して真空ポンプを制御するのに適さない条件下では、インバータを介さずに真空ポンプを制御できるように、制御部はインバータを介さずに真空ポンプを所定の一定速度で回転させる直送運転モードも取りうるものであることが好ましい。
直送運転モードをとる場合の例として、電源投入時や、インバータや内部制御回路からの信号が予め設定された条件になったときなどを挙げることができる。
【００１５】
【実施例】
図２は本発明を半導体製造装置において、半導体ウエハを処理装置に出し入れするためのロードロック室の真空ポンプを制御する制御装置に適用した第１の実施例を表わしたものである。
【００１６】
ウエハの交換を行うロボット１２を備えた搬送室（ハンドリングモジュールとも呼ばれる）１４に、薄膜堆積やエッチングなどの処理を行う複数台のプロセスチャンバ１６ａ〜１６ｃが接続されている。搬送室１４にはさらに外部から処理しようとするウエハを導入し、処理済みのウエハを取り出すためにロードロック室１８ａ，１８ｂも接続されている。処理済ウエハが高温であるため、ウエハを冷却をするためにクーリングチャンバ２０が設けられている。プロセスチャンバ１６ａ〜１６ｃ、クーリングチャンバ及びロードロック室１８ａ，１８ｂと搬送室１４の間には開閉可能で、気密を保って閉じることのできるゲートバルブ機構などのインターフェースが設けられている。
【００１７】
プロセスチャンバ１６ａ〜６ｃ及びロードロック室１８ａ，１８ｂのそれぞれには真空ポンプにつながる排気経路が設けられている。
この実施例ではロードロック室１８ａ，１８ｂの排気経路に設けられた開閉バルブＶ１〜Ｖ４の状態に基づいて、真空装置としてのロードロック室１８ａ，１８ｂの稼動状態を判定し、その排気経路につながるロードロック用ドライポンプ２２の回転速度を制御する制御装置を示す。
【００１８】
ロードロック室１８ａ，１８ｂとポンプ２２の間は排気経路２４ａと２４ｂでそれぞれ接続されており、また排気経路２４ａ，２４ｂはそれぞれ２本の排気経路に分岐し、それぞれの分岐した排気経路に設けられた開閉バルブＶ１〜Ｖ４の開閉により、排気能力を調節できるようになっている。排気経路２４ａの分岐した２つの排気経路の内径は、開閉バルブＶ２が設けられている排気経路の方が開閉バルブＶ１が設けられている排気経路よりも大きくなっていて、開閉バルブＶ２のある方が排気能力が大きい。排気経路２４ｂについては、開閉バルブＶ４が設けられている排気経路の方が開閉バルブＶ３が設けられている排気経路よりも内径が大きくなっていて、開閉バルブＶ４のある方が排気能力が大きい。
【００１９】
開閉バルブＶ１〜Ｖ４の開閉動作は、ニューマチックボード２６から配管を経て送られる空気圧により制御される。その配管にはそれぞれ圧力スイッチＰＳ１〜ＰＳ４が設けられており、それらの圧力スイッチＰＳ１〜ＰＳ４の検出信号は外部信号となって、バルブＶ１〜Ｖ４の開閉状態を検知するのに利用することができる。
【００２０】
また、ニューマチックボード２６からは、配管を通して空気圧を送るための制御信号が電気信号として生成しており、その電気信号も外部信号となって、バルブＶ１〜Ｖ４の開閉状態を検知するのに利用することができる。
【００２１】
３０はポンプ２２の制御装置であるインバータユニットであり、主要な機構としてインバータ３６と制御部であるＣＰＵユニット３８を備えている。インバータ３６はポンプ２２のモータに駆動電力を与えてモータを回転させるとともに、入力信号により駆動電力の周波数を変化させてモータの回転数を変化させるようにポンプ２２の回転速度を可変に制御するものである。インバータ３６にはＡＣ２００Ｖの入力電源がＡＣリアクトル３４で高調波成分が除去されて供給され、インバータ３６はＣＰＵユニット３８からの指示により所定の周波数の駆動電源にしてポンプ２２に供給する。パルス電力変換器３２はポンプ２２に供給された電力を消費電力に変換するものである。
【００２２】
真空装置の稼動状態と真空ポンプの回転速度の関係は、設定パネル４２からＣＰＵユニット３８に設定される。設定された条件は表示パネル４４に表示される。
セレクタスイッチ４６は、ＣＰＵユニット３８からの指示により、ポンプ２２の駆動をインバータ３６を介して行うか、インバータ３６を介さずに一定周波数で駆動する直送運転モードにするかを切り替えるものである。
ＣＰＵユニット３８には２００ＶのＡＣ電源から２４ＶのＤＣ電源を作成する電源回路４０によってＤＣ２４Ｖが供給される。
【００２３】
ロードロック室１８ａ，１８ｂの稼動状態を検知するために、開閉バルブＶ１〜Ｖ４を駆動する配管の圧力スイッチＰＳ１〜ＰＳ４の検出信号を外部信号として取り込む端子台４８が設けられており、端子台４８により取り込まれた外部信号がＣＰＵユニット３８に供給される。
【００２４】
ロードロック室１８ａ，１８ｂの稼動状態を検知するための他の方法として、ニューマチックボード２６から外部に出力される開閉バルブ駆動電気信号がインバータユニット３０内のターミナルリレーボックス５０を経てＣＰＵユニット３８に取り込まれる。
【００２５】
ＣＰＵユニット３８と表示パネル４４は図１における制御部６と条件設定部４を実現している。図１におけるインバータ８はインバータ３６、ポンプ２はポンプ２２、真空装置１０はロードロック室１８ａ，１８ｂにそれぞれ対応している。また、図１における外部信号Ｓ１〜Ｓｎは圧力スイッチＰＳ１〜ＰＳ４の検出信号とニューマチックボード２６から出力される開閉バルブ駆動電気信号に対応している。
【００２６】
この実施例におけるロードロック室１８ａ，１８ｂの動作を説明する。ロードロック室１８ａについて説明すると、大気状態から真空引きする際には、まず開閉バルブＶ１が開き開閉バルブＶ２が閉じた状態で粗引きを行われる。ある真空度まで到達すると、開閉バルブＶ１が閉じられ、開閉バルブＶ２が開いて設定真空度まで真空引きが行われる。真空引き終了後は開閉バルブＶ２も閉じられてその真空状態が維持される。もしウエハ処理中にロードロック室の真空度が設定真空度から外れた場合は、再度開閉バルブＶ２が開き設定真空度まで真空引きされる。ロードロック室１８ｂについても同様に、大気状態からの粗引きには開閉バルブＶ４が閉じられ開閉バルブＶ３が開けられ、設定真空度以降の真空引きには開閉バルブＶ３が閉じられ開閉バルブＶ４が開けられる。真空引き終了後は開閉バルブＶ４も閉じられてその真空状態が維持される。
【００２７】
両方のロードロック室１８ａと１８ｂを同時に使用する場合は、粗引きは同時に始められるが、真空引きは一方のロードロック室の真空引きが終了した後に、他方のロードロック室の真空引きが始められる。
真空引きが終了してすべての開閉バルブが閉じられた状態はアイドリング状態になるが、ポンプ２２は回転を続ける。
【００２８】
インバータユニット３０は開閉バルブＶ１〜Ｖ４の開閉状態を圧力スイッチＰＳ１〜ＰＳ４の検出信号又はニューマチックボード２６からの電気信号により検知し、その開閉状態に応じてポンプ２２の回転速度を調節する。例えば、開閉バルブＶ１〜Ｖ４が全て閉じているアイドリング時はインバータ３６はポンプ２２の回転数を３０Ｈｚの低速回転で運転する。開閉バルブＶ１〜Ｖ４の少なくとも１つが開いている場合には、インバータ３６はポンプ２２の回転数を３０Ｈｚから５０Ｈｚ又は６０Ｈｚに上昇させて高速回転で運転する。
【００２９】
この実施例は、インバータユニットに異常が発生した場合にもポンプ２２が運転を継続するように直送運転モードを備えている。図３はインバータを介した駆動とインバータを介さない直送運転モードの切替えを行う動作を示したものである。ここでは、次の（１）から（４）の４つの状態のときにインバータを介さずに直送運転モードに入るようにＣＰＵユニット３８に設定されている。
【００３０】
（１）  起動時、所定の時間までの間。すなわち、電源投入後、内蔵制御回路が自己診断後、正常に立ち上がるまでの間、又はポンプのモータの起動が完了するまでの間である。この間はインバータが正常に動作しないことがあるためである。
【００３１】
（２）  荷負荷などでインバータから異常一括信号が出た場合。
（３）  インバータによる運転中にインバータからのフィードバックが途切れた場合。
（４）  制御回路駆動用のＤＣ電源の異常や制御回路の中枢であるシーケンサの故障時など内蔵制御回路の故障が生じた場合。
【００３２】
（２）〜（４）は運転中の異常であり、インバータによる制御が支障をきたす虞れがあるので、これらの場合は直ちに５０Ｈｚ又は６０Ｈｚによる直送運転モードの切り替えられる。
【００３３】
図４（Ａ）は条件設定部に条件設定を行う設定パネル４２の例を示したものである。ここでは４つの開閉バルブＶ１〜Ｖ４に関連した圧力スイッチＰＳ１〜ＰＳ４又はニューマチックボード２６からの４つの駆動電気信号が数字１，２，３，４の４チャネルの信号として表示されている。それらの４つの信号の組合わせによりポンプ２２の回転速度を何Ｈｚにするかを設定する。一般的な例として、図示の場合は２チャンネルの信号１と２が入力されたときは回転速度２である３０Ｈｚに設定することを示している。
【００３４】
図４（Ｂ）は運転モードを切り替える際のタイマ設定を行なう設定パネル４２の例を示したものである。ここでは５０Ｈｚ又は６０Ｈｚによる直送運転モードの他に、４段階の速度に設定できることを示している。４つの外部入力信号からどの設定回転速度に移行するかがＣＰＵユニット３８で判定され、このタイマ設定により設定された移行待ち時間の後にその回転速度に切り替えられる。いま、例えば速度１を６０Ｈｚ、速度２を３０Ｈｚに設定したものとする。この例では、起動時は１０秒間直送運転モードを行った後にインバータモードの運転に切り替えられる。
【００３５】
図４（Ａ），（Ｂ）のように設定された場合に、インバータモードの運転中に回転速度を移行する際の動作を図５に示す。
外部入力信号１〜４を取り込み、その信号の組合せが設定されているものかどうかを判定する。外部入力信号１〜４の組合せが設定された以外の入力であった場合や、設定そのものの重複があった場合は、３秒後に強制的に速度１に移行する。外部入力信号１〜４の組合せが設定された入力であった場合にはタイマ設定された時間の後にその設定された回転速度に移行する。たとえば、外部入力信号１と２に同時に入力があった場合は、８０秒後に速度２の３０Ｈｚになり、それ以外の入力（無入力を含む）があれば、３秒後に速度１の６０Ｈｚになる。
【００３６】
図６は本発明を図２の半導体製造装置における１つのプロセスチャンバ１６を真空排気する真空ポンプを制御する制御装置に適用した第２の実施例を表わしたものである。図２の半導体製造装置における全てのプロセスチャンバ１６ａ〜１６ｃには図６に示されるのと同じポンプ及び制御装置が設けられている。
【００３７】
プロセスチャンバ１６を真空排気するためにプロセスチャンバ用ドライポンプ１２２につながる排気経路が設けられている。その排気経路には排気能力を調整するＡＰＣ（オートプロセスコントロール）用の絞り弁１２４が設けられており、絞り弁１２４の開度でプロセスチャンバ１６の真空度を制御できるようになっている。
【００３８】
プロセスチャンバ１６には４種類のプロセスガスが導入されるようになっている。プロセスチャンバ１６に接続されている４つの開閉バルブＶ５〜Ｖ８はそれらのプロセスガス導入経路の最終段の開閉バルブである。この実施例はそれらの開閉バルブＶ５〜Ｖ８の状態に基づいて、真空装置としてのプロセスチャンバ１６の稼動状態を判定し、ドライポンプ１２２の回転速度を制御する制御装置である。
【００３９】
開閉バルブＶ５〜Ｖ８の開閉動作は、ニューマチックボード１２６から配管を経て送られる空気圧により制御される。その配管にはそれぞれ圧力スイッチＰＳ５〜ＰＳ８が設けられており、それらの圧力スイッチＰＳ５〜ＰＳ８の検出信号は外部信号となって、バルブＶ５〜Ｖ８の開閉状態を検知するのに利用することができる。
【００４０】
また、ニューマチックボード１２６からは、配管を通して空気圧を送るための制御信号が電気信号として生成しており、その電気信号も外部信号となって、バルブＶ５〜Ｖ８の開閉状態を検知するのに利用することができる。
【００４１】
１３０はポンプ１２２の制御装置であるインバータユニットであり、図２の実施例におけるインバータユニット３０と同じ構成をしているので、インバータユニット１３０内部の機構又は機能にはインバータユニット３０におけるものの参照数字を１００番台に変えることによって同じ内容であることを示し、説明は省略する。
【００４２】
図１の各部との対応関係も図２の実施例と同様である。
この実施例におけるプロセスチャンバ１６の動作を説明する。プロセスチャンバ１６はパージとクリーニングの後、高真空に排気される。その後、プロセスチャンバ用ドライポンプ１２２に切り替えられる。プロセス工程においては、所定のバルブＶ５〜Ｖ８のいずれかが開かれて所定のプロセスガスがプロセスチャンバ１６に導入され、絞り弁１２４の開度が調節されてプロセスチャンバ１６内のプロセスガス圧力が調節されて所定のプロセスが開始される。
【００４３】
この実施例はバルブＶ５〜Ｖ８の開閉状態に基づいてドライポンプ１２２の回転速度を制御するものである。
ＣＰＵユニット１３８にはすべての開閉バルブＶ５〜Ｖ８が閉じられた状態のときはポンプ１２２の回転数を３０Ｈｚの低速回転で運転し、開閉バルブＶ５〜Ｖ８のいずれかが開いている場合には、ポンプ２２の回転数を６０Ｈｚ（又は５０Ｈｚ）の高速回転で運転するように設定されているものとする。
【００４４】
この実施例でも、図３に示したのと同様に、インバータユニット１３０に異常が発生した場合にもポンプ１２２が運転を継続するように直送運転モードを備えている。
【００４５】
ＣＰＵユニット１３８への条件設定及びタイマ設定は、図４（Ａ），（Ｂ）により説明したのと同様に行われており、この場合にはすべての開閉バルブＶ５〜Ｖ８が閉じられた状態のときはポンプ１２２の回転数を３０Ｈｚの低速回転で運転し、開閉バルブＶ５〜Ｖ８のいずれかが開いている場合には、ポンプ２２の回転数を６０Ｈｚ（又は５０Ｈｚ）の高速回転で運転するように設定されているものとする。
【００４６】
インバータモードの運転中に回転速度を移行する際の動作は図５に示されたものと同様である。プロセスチャンバ１６が高真空に排気された真空引きが終了し、ドライポンプ１２２に切り替えられて、すべての開閉バルブＶ５〜Ｖ８が閉じられた状態はアイドリング状態である。アイドリング時はインバータ１３６はポンプ１２２の回転数を３０Ｈｚの低速回転で運転される。開閉バルブＶ５〜Ｖ８の少なくとも１つが開いている場合には、インバータ３６はポンプ２２の回転数を３０Ｈｚから６０Ｈｚ（又は５０Ｈｚ）に上昇させて高速回転で運転される。
【００４７】
また、プロセス中のポンプ１２２の回転数は６０Ｈｚ（又は５０Ｈｚ）で固定しなくても、それより低速の回転数に下げることは可能である。ただし、この実施例のように、絞り弁１２４によりＡＰＣによりプロセスチャンバ１６の真空度を制御している場合は、ＡＰＣで圧力を制御できる範囲でポンプ１２２の回転数を低下させることができる。
【００４８】
本発明が対象とする真空装置は、実施例に示した半導体製造プロセスの装置に限らず、真空ポンプを長時間にわたって連続して運転する装置においては本発明を適用すれば無駄な消費電力を抑えることができる。
【００４９】
また、本発明により無駄な消費電力を抑えた効果を、１ケ付当たりの金額として表示したり、二酸化炭素削減効果に換算して表示したりすることにより、消費電力削減効果を直感的に把握することができる。
【００５０】
【発明の効果】
本発明では、真空装置の稼動状態と真空装置を排気する真空ポンプの回転速度との関係を予め設定しておき、真空装置の稼動状態に対応した外部信号を入力し、その外部信号に対応した真空ポンプの回転速度を設定しておいた条件から読み出し、インバータにより真空ポンプの回転速度を制御するようにしたので、消費電力を抑えるように真空ポンプの回転速度を制御することができる。
【００５１】
真空装置の稼動状態を検知するために、真空装置に設けられた複数の排気経路の開閉バルブを制御する信号を外部信号として利用すれば、真空装置の稼動状態を容易に判定することができる。
【００５２】
また、それらの排気経路の開閉バルブが開閉状態を検知するセンサを備えている場合には、それらのセンサからの信号を外部信号として利用しても真空装置の稼動状態を容易に判定することができる。
【００５３】
インバータを介さずに真空ポンプを所定の一定速度で回転させる直送運転モードも取りうるものである場合には、インバータが故障したり、インバータを介して真空ポンプを制御するのに適さない条件下であっても真空ポンプが停止する事態を回避することができる。
本発明による制御装置が設けられている真空ポンプを備えた真空装置は、真空ポンプの不必要な高速回転による無駄な消費電力を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の真空装置及び真空ポンプ制御装置の概要を示すブロック図である。
【図２】  一実施例を示す概略構成図である。
【図３】  同実施例においてインバータを介した駆動とインバータを介さない直送運転モードの切替えを行う動作を示すフローチャート図である。
【図４】  （Ａ）は条件設定を行う設定パネルの一例を示す図、（Ｂ）は運転モードを切り替える際のタイマ設定を行なう設定パネルの一例を示す図である。
【図５】  インバータモードの運転中に回転速度を移行する際の動作を示すフローチャート図である。
【図６】  他の実施例を示す概略構成図である。
【符号の説明】
２      真空ポンプ
４      条件設定部
６      制御部
８，３６，１３６      インバータ
１０      真空装置
１２      ロボット
１４      搬送室
１６，１６ａ〜１６ｃ      プロセスチャンバ
１８ａ，１８ｂ      ロードロック室
２０      クーリングチャンバ
２２，１２２      ドライポンプ
２４ａ，２４ｂ      排気経路
２６，１２６      ニューマチックボード
３０，１３０      インバータユニット
３８，１３８      ＣＰＵユニット
４２      設定パネル
４４      表示パネル
４８，１４８    端子台
５０      ターミナルリレーボックス
１２４    絞り弁
ＰＳ１〜ＰＳ８      圧力スイッチ
Ｖ１〜Ｖ８      開閉バルブ
【図１】
0004111728.tif 000002
【図２】
0004111728.tif 000003
【図３】
0004111728.tif 000004
【図４】
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【図５】
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【図６】
0004111728.tif 000007