(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転ディスクを回転自在に支持する支持部材と、前記回転ディスクの一方の面に接触する第１洗浄ローラと、前記第１洗浄ローラに対して相対接近離反移動自在となって平行に延びる第２洗浄ローラとを有する洗浄装置に、それぞれの前記洗浄ローラを離した状態のもとで、これらの間に前記支持部材により前記回転ディスクを位置決めする行程と、
それぞれの前記洗浄ローラを相互に接近移動させて、両方の洗浄ローラにより前記回転ディスクをその両面で挟む行程と、
それぞれの前記洗浄ローラの表面に洗浄液を供給する行程と、
それぞれの前記洗浄ローラを相互に逆方向に回転駆動し、それぞれの前記洗浄ローラに前記回転ディスクの中央部分から半径方向の一方側に接触するように設けられた駆動部により前記回転ディスクを回転駆動する行程と、
それぞれの前記駆動部により前記回転ディスクを回転しながら、それぞれの前記洗浄ローラに前記回転ディスクの中央部分から半径方向の他方側に接触するように設けられた洗浄部と前記回転ディスクとの滑りにより前記回転ディスクを洗浄する行程とを有することを特徴とする回転ディスクの洗浄方法。
【請求項２】
請求項１記載の回転ディスクの洗浄方法において、前記それぞれの洗浄ローラを回転駆動するとともに、軸方向に往復動するようにしたことを特徴とする回転ディスクの洗浄方法。
【請求項３】
回転ディスクを回転自在に支持する支持部材と、
前記回転ディスクの一方の面に接触する第１洗浄ローラと、
前記第１洗浄ローラに対して相対接近離反移動自在となって平行に延び、かつ前記回転ディスクの他方の面に接触して前記回転ディスクを前記第１洗浄ローラとの間で挟む第２洗浄ローラと、
前記それぞれの洗浄ローラの表面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記第１洗浄ローラと前記第２洗浄ローラとを相互に逆方向に回転駆動する駆動手段とを有し、
前記それぞれの洗浄ローラに前記回転ディスクの中央部分から半径方向の一方側に接触して前記回転ディスクを回転する駆動部と、前記回転ディスクの中央部分から半径方向の他方側に接触して前記回転ディスクとの滑りにより前記回転ディスクを洗浄する洗浄部とを形成したことを特徴とする回転ディスクの洗浄装置。
【請求項４】
請求項３記載の回転ディスクの洗浄装置において、前記それぞれの洗浄ローラを軸方向に往復動する直線往復動手段を有することを特徴とする回転ディスクの洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はコンピュータの記憶媒体として使用される磁気ディスクなどの回転ディスクを洗浄する回転ディスクの洗浄技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
たとえば、コンピュータの記憶媒体として使用される磁気ディスクは、アルミニウム合金製やガラス製の回転ディスクを素材として製造されており、その製造行程としては、ラッピングやポリッシングにより回転ディスクの表面を研磨する行程や、表面を洗浄する洗浄行程がある。
【０００３】
洗浄行程に使用する洗浄装置としては、たとえば、特公平7-14509 号公報に記載されるようなものがあり、回転ディスクを支持する支持ローラをモータにより回転駆動させることにより回転ディスクを駆動するようにしており、さらに、洗浄用ブラシなどのように回転ディスクの表面を滑るようにした部材を支持ローラを回転駆動するモータとは異なったモータにより回転するようにしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
このように、従来の洗浄装置にあっては、回転ディスクの駆動と、洗浄ブラシの駆動とを異なった駆動源により駆動するようにしているので、装置が複雑となるという問題点がある。
【０００５】
特に、近年にあっては、ディスクの洗浄度を高めるために、洗浄行程は、洗浄薬剤を含む洗浄液を回転ディスクに供給する洗浄行程と、洗浄薬剤を除去するために純水を洗浄液として回転ディスクに供給する洗浄行程とを有しており、効率的に洗浄作業を行うには、搬送装置によって回転ディスクを搬送して洗浄を行うことが望ましい。しかしながら、従来の洗浄装置では、限られたスペースの中で効率的に回転ディスクの洗浄を行うことは困難であった。
【０００６】
本発明の目的は、回転ディスクの両面の洗浄を効率的に行い得るようにすることにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の回転ディスクの洗浄方法は、回転ディスクを回転自在に支持する支持部材と、前記回転ディスクの一方の面に接触する第１洗浄ローラと、前記第１洗浄ローラに対して相対接近離反移動自在となって平行に延びる第２洗浄ローラとを有する洗浄装置に、それぞれの前記洗浄ローラを離した状態のもとで、これらの間に前記支持部材により前記回転ディスクを位置決めする行程と、それぞれの前記洗浄ローラを相互に接近移動させて、両方の洗浄ローラにより前記回転ディスクをその両面で挟む行程と、それぞれの前記洗浄ローラの表面に洗浄液を供給する行程と、それぞれの前記洗浄ローラを相互に逆方向に回転駆動し、それぞれの前記洗浄ローラに前記回転ディスクの中央部分から半径方向の一方側に接触するように設けられた駆動部により前記回転ディスクを回転駆動する行程と、それぞれの前記駆動部により前記回転ディスクを回転しながら、それぞれの前記洗浄ローラに前記回転ディスクの中央部分から半径方向の他方側に接触するように設けられた洗浄部と前記回転ディスクとの滑りにより前記回転ディスクを洗浄する行程とを有することを特徴とする。前記それぞれの洗浄ローラを回転駆動するとともに、軸方向に往復動するようにしても良い。
【０００８】
本発明の回転ディスクの洗浄装置は、回転ディスクを回転自在に支持する支持部材と、前記回転ディスクの一方の面に接触する第１洗浄ローラと、前記第１洗浄ローラに対して相対接近離反移動自在となって平行に延び、かつ前記回転ディスクの他方の面に接触して前記回転ディスクを前記第１洗浄ローラとの間で挟む第２洗浄ローラと、前記それぞれの洗浄ローラの表面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記第１洗浄ローラと前記第２洗浄ローラとを相互に逆方向に回転駆動する駆動手段とを有し、前記それぞれの洗浄ローラに前記回転ディスクの中央部分から半径方向の一方側に接触して前記回転ディスクを回転する駆動部と、前記回転ディスクの中央部分から半径方向の他方側に接触して前記回転ディスクとの滑りにより前記回転ディスクを洗浄する洗浄部とを形成したことを特徴とする。前記それぞれの洗浄ローラを軸方向に往復動する直線往復動手段を設けるようにしても良い。
【０００９】
本発明にあっては、回転自在に支持された状態の回転ディスクをその両面で２つの洗浄ローラにより挟み付けるようにし、それぞれの洗浄ローラに回転ディスクを回転駆動する駆動部と、回転ディスクの表面を洗浄する洗浄部とを設けたので、一対の洗浄ローラの回転によって回転ディスクを回転させながら、洗浄ローラの洗浄部によって回転ディスクの洗浄を行うことができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【００１１】
図１は本発明の一実施の形態である回転ディスクの洗浄装置の基本構造を示す斜視図であり、図２は図１の正面図であり、図３は図２におけるIII −III 線に沿う矢視図であり、図４は図３におけるIV−IV線に沿う断面図である。
【００１２】
表面が洗浄処理される回転ディスク１０は、磁気ディスクの基板となるアルミニウム製の円板であって、中心部には貫通孔１０ａが形成されている。この回転ディスク１０は支持部材１１によって回転自在に支持されるようになっており、この支持部材１１は開閉自在となった２つの支持アーム１２，１３を有し、それぞれの支持アーム１２，１３には回転ディスク１０の外周面に接触する支持ローラ１４が回転自在に取り付けられている。
【００１３】
支持部材１１により支持された回転ディスク１０を洗浄するために、洗浄装置は相互に平行となった２本の洗浄ロッド１５，１６を有し、それぞれの洗浄ロッド１５，１６には洗浄ローラ１７，１８が取り付けられている。それぞれの洗浄ローラ１７，１８はスポンジ製であり、回転ディスク１０の外径Ｄの寸法よりも大きな長さＬを有している。したがって、これらの洗浄ローラ１７，１８の間で回転ディスク１０を挟んだ状態のもとでは、回転ディスク１０の回転中心Ｏを通る半径方向線Ｒに沿って両方の洗浄ローラ１７，１８の外周面が接触することになる。
【００１４】
回転ディスク１０を挟んだ状態のもとで、それぞれの洗浄ローラ１７，１８は、図１に示すように、相互に逆方向に回転駆動するようになっており、それぞれの洗浄ローラ１７，１８は、これらによって挟んだ状態における回転ディスク１０の回転中心Ｏに対応する部分を境界として、回転ディスク１０の半径方向の一方側に接触する駆動部２１と、半径方向の他方側に接触する洗浄部２２とを有している。
【００１５】
駆動部２１はその外周面が円筒形状となっており、両方の洗浄ローラ１７，１８の駆動部２１は回転ディスク１０の表面に対してその軸方向全体がほぼ線接触ないし僅かに潰れることによる僅かな面接触となる。これに対して、洗浄部２２は駆動部２１の外径よりも小径となった円筒形状の本体部２３の表面に多数の突起部２４が設けられており、突起部２４の表面までの外径は駆動部２１の外周面とほぼ同一の外径となっている。したがって、洗浄部２２は回転ディスク１０の表面に対して突起部２４のみが接触することになる。
【００１６】
このように、駆動部２１は、回転ディスク１０の表面に接触する領域の面積が洗浄部２２のそれよりも大きくなるので、駆動部２１と洗浄部２２が同一の方向に回転しても、駆動部２１によって回転ディスク１０に加えられる摩擦力Ｆａは、洗浄部２２によって回転ディスク１０に加えられる摩擦力Ｆｂよりも大きくなる。したがって、駆動部２１によって回転ディスク１０には矢印で示す方向の回転力が加えられ、洗浄部２２によってこれとは反対方向の回転力が回転ディスク１０に加えられるが、駆動部２１によって加えられる回転力の方が大きいので、結果的に回転ディスク１０は矢印で示される方向に回転し、洗浄部２２の突起部２４は回転ディスク１０の表面に対して滑り接触することになる。このようにして、両方の洗浄ローラ１７，１８を相互に逆の方向に回転駆動することによって、回転ディスク１０の駆動と、洗浄部２２の回転ディスク表面に対する滑り接触による洗浄とを同時に行うことができる。
【００１７】
図示する場合には、駆動部２１の外径と、洗浄部２２のうち突起部２４の外径はほぼ同一となっているが、駆動部２１によって回転ディスク１０に加えられる回転力の方が洗浄部２２によって加えられる回転力よりも大きくすることができれば、駆動部２１の外径を洗浄部２２よりもやや大きく設定したり、駆動部２１と洗浄部２２とを相違した弾性変形率のスポンジを用いるようにしても良い。なお、駆動部２１の外表面にも凹凸を設けるようにしても良い。
【００１８】
図示する場合には、駆動部２１と洗浄部２２が連なっているが、回転ディスク１０の中心部に設けられた貫通孔１０ａの内径ｄと同一あるいはそれよりもやや小さい距離だけ、駆動部２１と洗浄部２２とを離すようにして、それぞれを洗浄ロッド１５，１６に取り付けるようにしても良い。また、洗浄部２２の突起部２４は、図示する場合には本体部２３の表面に千鳥状に設けられているが、格子状に設けるようにしても良く、螺旋状に設けるようにしても良く、あるいはランダムに設けるようにしても良い。さらに、突起部２４のサイズとしては、図示する場合よりも相違させるようにしても良く、その形状も円形のみならず、多角形としても良い。
【００１９】
両方の洗浄ロッド１５，１６の中心部には、図４に示すように、液体通路２５が形成されており、この液体通路２５に連通させて吐出孔２６が形成されている。これにより、液体通路２５に外部から洗浄液を供給すると、それぞれの洗浄ローラ１７，１８の内部を通ってその表面にまで洗浄液が案内され、それぞれの洗浄ローラ１７，１８は回転ディスク１０に対して洗浄液が介在した状態で接触することになる。ただし、このような洗浄液供給方式に代えるか、あるいはこれに加えて、図４に示すように、吐出ノズル２７から直接洗浄液を供給するようにしても良い。また、図４に示すように、洗浄ローラ１７，１８に外周面にスクレーパ２８を接触させるようにして、洗浄ローラ１７，１８の外周面に付着した異物を除去するようにしても良い。
【００２０】
２つの洗浄ローラ１７，１８を用いて回転ディスク１０の両面を洗浄するには、図１において矢印Ａで示すように、洗浄ローラ１８を洗浄ローラ１７に対して平行状態を保持しつつ離反移動して、両方の洗浄ローラ１７，１８の間に隙間を設けた状態のもとで、支持部材１１により回転ディスク１０を両方の洗浄ローラ１７，１８の間に搬送して位置決めする。この状態のもとで、洗浄ローラ１８を回転ディスク１０に向けて接近させて、両方の洗浄ローラ１７，１８により挟み付ける。液体通路２５を介して洗浄液を洗浄ローラ１７，１８の表面と回転ディスク１０の間に供給することにより、洗浄作業を開始することができる。
【００２１】
その状態のもとで、両方の洗浄ローラ１７，１８を相互に逆方向に回転駆動することによって、駆動部２１により洗浄ローラ１７，１８の回転運動を回転ディスク１０の回転運動に伝達して回転ディスク１０を矢印Ｂの方向に駆動する。洗浄部２２の突起部２４は回転ディスク１０の表面に滑り接触することになるので、洗浄部２２により回転ディスク１０は回転駆動されながら洗浄される。
【００２２】
その際に、洗浄ローラ１７，１８を矢印Ｃで示すように相互に逆方向に直線往復動させる。つまり、一方の洗浄ローラが前進移動するときには他方を後退移動させるように軸方向に往復動させて、両方の洗浄ローラ１７，１８のオシレート運動を行う。これにより、洗浄部２２が回転ディスク１０の外周面と貫通孔１０ａの内周面に入り込んで、これらの部分も確実に洗浄される。
【００２３】
図５は前述した洗浄装置を有する洗浄乾燥装置３０を示す正面図であり、ハウジング３１内には洗浄ステーション３２と乾燥ステーション３３が組み込まれている。洗浄ステーション３２には、ワーク着脱ステージ３４と第１と第２の洗浄ステージ３５，３６が設けられ、これらの回転ディスク１０は、割り出しテーブル３７の割り出し回転によって、２枚ずつ前述したステージ３４〜３６に搬送される。第１の洗浄ステージ３５では、洗浄薬剤を有する洗浄液が使用されて回転ディスク１０の洗浄が行われ、第２の洗浄ステージ３６では洗浄液として純水が使用される。各ステージの構成は、使用される洗浄液の種類が相違するが、同一となっている。
【００２４】
図６は図５に示された割り出しテーブル３７を拡大して示す正面図であり、図７は図６におけるVII −VII 線に沿う断面図である。
【００２５】
割り出しテーブル３７には、ワーク着脱ステージ３４と、２つの洗浄ステージ３５，３６に対応させて、２枚の回転ディスク１０を同時に洗浄するために２組ずつ支持部材１１が取り付けられている。２枚の回転ディスク１０は、図示しない搬送装置によって搬送された後に、ワーク着脱ステージ３４のそれぞれの支持部材１１に装着され、割り出しテーブル３７を１２０度ずつ割り出し回転することによって、第１の洗浄ステージ３５と、第２の洗浄ステージ３６とに搬送されて洗浄され、ワーク着脱ステージ３４に戻される。洗浄後のそれぞれの回転ディスク１０は、このステージ３４から図示しない搬送装置によって乾燥ステーション３３にまで搬送され、ここで高速回転されてスピン乾燥される。
【００２６】
割り出しテーブル３７は、図９に示すように、ハウジング３１内に設けられた垂直の支持壁３８に取り付けられたモータ３９によって回転駆動される。それぞれの支持アーム１２，１３は、割り出しテーブル３７に取り付けられた支持軸１１ａを中心に回動自在となっており、両方の支持アーム１２，１３の間に装着された引張コイルばね１９によって両方の支持アーム１２，１３には閉じる方向のばね力が加えられている。
【００２７】
支持壁３８には、ワーク着脱ステージ３４に対応させて、空気圧シリンダなどからなるアクチュエータ４１が取り付けられており、このアクチュエータ４１の先端に取り付けられた作動駒４２が、それぞれの支持アーム１２，１３の支持軸１１ａの後端部に取り付けられたドグ４３を回動させることにより、支持アーム１２，１３は開くことになる。開いた状態で、それぞれの支持部材１１に対して回転ディスク１０のローディングとアンローディングつまり着脱が行われる。
【００２８】
２つの洗浄ステージ３５，３６にはそれぞれ前述した洗浄ローラを駆動するための駆動ユニット３５ａ，３６ａが図５に示すように取り付けられている。それぞれの駆動ユニットには、各洗浄ステージ３５，３６において２枚の回転ディスク１０を同時に洗浄するので、一対をなす２本の洗浄ローラ１７，１８が二対ずつ設けられている。
【００２９】
図８は一方の駆動ユニット３５ａを示す正面側の断面図であり、図９は図８におけるIX−IX線に沿う断面図であり、図１０は図９におけるＸ−Ｘ線に沿う断面図である。他方の駆動ユニット３６ａも駆動ユニット３５ａと同一の構造となっている。
【００３０】
駆動ユニット３５ａは支持壁３８に取り付けられるユニットケース４６を有し、このユニットケース４６内には、図９に示すように、支持壁３８に対して垂直方向に延びるギヤボックス４７が固定され、このギヤボックス４７の上下両側には支持壁３８に対して垂直方向に延びるガイドレール４８ａ，４８ｂが設けられている。上側のガイドレール４８ａには２つの軸受けボックス５１ａ，５２ａが設けられ、同様に下側のガイドレール４８ｂにも２つの軸受けボックス５１ｂ，５２ｂが設けられている。
【００３１】
それぞれの軸受けボッスクは、支持壁３８に対して平行に延びており、２つの軸受けボックス５１ａ，５１ｂはガイドレール４８ａ，４８ｂに沿って支持壁３８に対して垂直の方向に調整移動自在となり、他の２つの軸受けボックス５２ａ，５２ｂはガイドレール４８ａ，４８ｂに沿って同様の方向に往復動自在となっている。
【００３２】
軸受けボックス５１ａに回転自在に設けられた駆動軸５３ａの先端には、洗浄ローラ１７が取り付けられる洗浄ロッド１５が着脱自在に装着されるようになっており、軸受けボックス５２ａに回転自在に設けられた駆動軸５４ａの先端には、洗浄ローラ１８が取り付けられる洗浄ロッド１６が着脱自在に装着されるようなっており、両方の洗浄ローラ１７，１８によって対をなして１枚の回転ディスク１０を挟んで回転駆動するようになっている。同様に、下側の軸受けボックス５１ｂ，５２ｂ内に回転自在に設けられた駆動軸５３ｂ，５４ｂの先端には他の対をなす洗浄ローラ１７，１８用の洗浄ロッド１５，１６が着脱自在に装着されるようになっている。それぞれの駆動軸には、洗浄ロッドに形成された液体通路２５に連通する液体通路５５が形成されており、それぞれの駆動軸の後端部から洗浄液が供給されるようになっている。
【００３３】
軸受けボックス５１ａ，５１ｂに固定されたブラケット５６ａ，５６ｂは、固定ピン５７ａ，５７ｂによってユニットケース４６に固定されており、この固定ピン５７ａ，５７ｂの先端に設けられたねじ部にねじ結合するナット５８ａ，５８ｂを調整することによって、軸受けボックス５１ａ，５１ｂの位置をガイドレール４８ａ，４８ｂに沿って調整することができる。
【００３４】
それぞれのブラケット５６ａ，５６ｂには、空気圧シリンダ６１ａ，６１ｂが固定され、それぞれの空気圧シリンダ６１ａ，６１ｂにより往復動するピストンロッド６２ａ，６２ｂは、軸受けボックス５２ａ，５２ｂに固定されたブラケット６３ａ，６３ｂに固定されている。これにより、空気圧シリンダ６１ａ，６１ｂを作動させることによって、洗浄ローラ１７に対して洗浄ローラ１８を接近離反移動させることができる。
【００３５】
４本の駆動軸を同期させて駆動するために、図９に示すように、ギヤボックス４７にはそれぞれの駆動軸と平行となって２本の連動軸７１ａ，７１ｂが回転自在に取り付けられ、ギヤボックス４７に固定された台座７２にはモータ７３が取り付けられ、図９に示すように、一方の連動軸７１ａに取り付けられたプーリ７４と、モータ７３のシャフトに固定されたプーリ７５との間には、ベルト７６が掛け渡されている。
【００３６】
一方の連動軸７１ａには、図８に示すように、２つのプーリ７７ａ，７７ｂが固定され、駆動軸５３ａに固定されたプーリ７８ａと一方のプーリ７７ａとの間にはベルト７９ａが掛け渡され、駆動軸５３ｂに固定されたプーリ７８ｂと他方のプーリ７７ｂとの間にはベルト７９ｂが掛け渡されている。
【００３７】
一方の連動軸７１ａの回転を他方の連動軸７１ｂに伝達するために、連動軸７１ａに固定された歯車８０に噛み合う図示しない歯車が他方の連動軸７１ｂに固定されており、この連動軸７１ｂにも軸方向の位置をずらして２つの図示しないプーリが固定され、それぞれのプーリと駆動軸５４ａ，５４ｂに固定されたプーリとの間には、図９に示すように、それぞれベルト８１ａ，８１ｂが掛け渡されている。
【００３８】
それぞれの駆動軸を軸方向に往復動するために、図１０に示すように、ギヤボックス４７に固定された支持フレーム８２には揺動軸８３が揺動自在に装着され、その揺動軸８３に固定された揺動レバー８４にはそれぞれの駆動軸５３ａ，５４ａが連結されている。この揺動レバー８４を駆動するために、ユニットケース４６内に固定された空気圧シリンダ８５により作動するピストンロッド８６の先端には、揺動レバー８４がピン結合されている。これにより、空気圧シリンダ８５を作動させることによって、２本の駆動軸５３ａ，５４ａは軸方向に往復動することになり、対をなす２つの洗浄ローラ１７，１８は図１において矢印Ｃで示すように軸方向に往復動される。
【００３９】
図５〜図１０に示す洗浄乾燥装置を用いて回転ディスク１０の表面を洗浄するには、２枚の回転ディスク１０を図５に示すワーク着脱ステージ３４の２対の支持部材１１にまで搬送して、それぞれの支持部材１１に回転ディスク１０を装填する。この状態で図６に示す割り出し回転テーブル３７を時計方向に１２０度割り出し回転すると、ワーク着脱ステージ３４の２枚の回転ディスク１０は第１の洗浄ステージ３５まで搬送され、第１の搬送ステージ３５において洗浄が終了した回転ディスク１０は第２の搬送ステージ３６にまで搬送される。さらに、第２の搬送ステージ３６において洗浄が終了した回転ディスク１０はワーク着脱ステージ３４にまで搬送される。
【００４０】
それぞれの洗浄ステージ３５，３６では、駆動ユニット３５ａ，３６ａに設けられた２組の洗浄ローラによりそれぞれ洗浄処理が行われる。第１の洗浄ステージ３５においては洗浄薬液を有する洗浄液が使用され、第２の洗浄ステージ３６においては純水が洗浄液として使用される。
【００４１】
本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【００４２】
たとえば、図５〜図１０に示す洗浄装置にあっては、同時に２枚の回転ディスクを洗浄するようにしているが、１枚ずつ洗浄するようにしても良く、割り出しテーブルを用いずに、支持部材１１を直線方向に搬送して両方の洗浄ローラ１７，１８の間に回転ディスク１０を位置決め搬送するようにしても良い。
【００４３】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、２つの洗浄ローラの間に回転ディスクを挟み付けた状態で洗浄ローラを相互に逆方向に回転駆動すると、それぞれの洗浄ローラの駆動部によって回転ディスクが回転駆動されるとともに、洗浄部が回転ディスクの表面を滑って洗浄処理が行われる。これにより、回転ディスクの洗浄のために、これを駆動する装置を設けることなく、回転ディスクを回転させて洗浄を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態である回転ディスクの洗浄装置の基本構造を示す斜視図である。
【図２】図１の正面図である。
【図３】図２におけるIII −III 線に沿う矢視図である。
【図４】図３におけるIV−IV線に沿う断面図である。
【図５】図１〜図４に示した洗浄装置を有する洗浄乾燥装置を示す正面図である。
【図６】図５に示された割り出しテーブルを拡大して示す正面図である。
【図７】図６におけるVII −VII 線に沿う断面図である。
【図８】一方の駆動ユニットを示す正面側の断面図である。
【図９】図８におけるIX−IX線に沿う断面図である。
【図１０】図１０は図９におけるＸ−Ｘ線に沿う断面図である。
【符号の説明】
１０      回転ディスク
１０ａ    貫通孔
１１      支持部材
１２，１３  支持アーム
１４      支持ローラ
１５，１６  洗浄ロッド
１７，１８  洗浄ローラ
２１      駆動部
２２      洗浄部
２４      突起部
２５      液体通路
２６      吐出孔
３０      洗浄乾燥装置
３１      ハウジング
３２      洗浄ステーション
３３      乾燥ステーション
３４      ワーク着脱ステージ
３５，３６  洗浄ステージ
３７      割り出しテーブル
３８      支持壁
４６      ユニットケース
５３ａ，５３ｂ  駆動軸
５４ａ，５４ｂ  駆動軸
６１ａ，６１ｂ  ピストンロッド
７１ａ，７１ｂ  連動軸
７３      モータ
【図１】
0004053140.tif 000002
【図２】
0004053140.tif 000003
【図３】
0004053140.tif 000004
【図４】
0004053140.tif 000005
【図５】
0004053140.tif 000006
【図６】
0004053140.tif 000007
【図７】
0004053140.tif 000008
【図８】
0004053140.tif 000009
【図９】
0004053140.tif 000010
【図１０】
0004053140.tif 000011