(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の式（I）、（II）または（III）
【化１】
0004194189.tif 000018
（式中、Ｒは炭素数１２から２０の、飽和または不飽和のアルキル基を、Ｒ1からＲ5はそれぞれ炭素数１〜４の低級アルキル基を、Ｌ1はメチレン基またはエチレン基を示し、ｎおよびｍはそれぞれ５から１０の数を示す）
【化２】
0004194189.tif 000019
（式中、Ｒ6およびＲ7はそれぞれ炭素数１〜４の低級アルキル基を示し、ｌは１０から１００の数を示す）
【化３】
0004194189.tif 000020
（式中、ＰＥＧは分子量１,０００から１０,０００のポリエチレングリコール基を示し、Ｌ2は炭素数１２から２０の、飽和または不飽和のアルキレン基を、ｐは１０から１００の数を示す）
で表される高分子化合物の一種または二種以上を有効成分として含有する、プラスチック上へのパラジウムースズコロイド触媒の吸着を促進させるためのコンディショニング剤。
【請求項２】
次の式（I）、（II）または（III）
【化４】
0004194189.tif 000021
（式中、Ｒは炭素数１２から２０の、飽和または不飽和のアルキル基を、Ｒ1からＲ5はそれぞれ炭素数１〜４の低級アルキル基を、Ｌ1はメチレン基またはエチレン基を示し、ｎおよびｍはそれぞれ５から１０の数を示す）
【化５】
0004194189.tif 000022
（式中、Ｒ6およびＲ7はそれぞれ炭素数１〜４の低級アルキル基を示し、ｌは１０から１００の数を示す）
【化６】
0004194189.tif 000023
（式中、ＰＥＧは分子量１,０００から１０,０００のポリエチレングリコール基を示し、Ｌ2は炭素数１から５の、飽和または不飽和のアルキレン基を、ｐは１０から１００の数を示す）
で表される高分子化合物の一種または二種以上と、アルカノールアミンとを有効成分として含有する、プラスチック上へのパラジウムースズコロイド触媒の吸着を促進させるための脱脂コンディショニング剤。
【請求項３】
更に、無機アルカリ物質および／またはノニオン系界面活性剤を含有する、請求項第２項記載のプラスチック上へのパラジウムースズコロイド触媒の吸着を促進させるための脱脂コンディショニング剤。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラスチック上へのパラジウム−スズコロイド触媒の吸着を促進させるためのコンディショニング剤に関し、更に詳細には、特にプリント基板に設けられるスルーホールやブラインドビアホールと呼ばれる微孔内部にまでパラジウム−スズコロイド触媒を吸着させることのできるコンディショニング剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】
最近のプリント配線板では、複数のプリント基板を組み合わせ、多層化することが通常であり、これらの基板間にスルーホールやブラインドビアホールを設け、これらのホール内に析出した金属を介して各基板を導電させている。
【０００３】
プリント配線板のスルホールもしくはブラインドビアホールに金属を析出せしめ、伝導性を付与する方法としては、無電解銅めっきと、無電解銅めっき浴を使用しないダイレクトプレイティング法（以下、「ＤＰＳ法」という）が知られている。
【０００４】
このうち、ＤＰＳ法については、現在何種類か行われているがその代表的なものは、Ｐｄ−Ｓｎコロイド触媒（以下、「Ｐｄ触媒」という）を用いてＰｄ−Ｓｎ被膜を析出させ、この被膜上に直接電気銅めっきにより金属銅皮膜を析出させる方法である。この方法の場合、レーザーで孔あけされたスルーホールやブラインドビアホール内へのＰｄ触媒を十分に吸着せしめることが必要であり、他の場合以上にコンディショニング剤の性能が重要になる。
【０００５】
ところで、従来提供されているコンディショニング剤には、通常４級アンモニウム塩に代表されるカチオン性化合物が配合されており、これがＰｄ触媒の吸着促進剤として作用する。しかしこれらは、エポキシ樹脂には強力に作用するがポリイミド樹脂には効果が弱く、特にレーザーで孔をあけることにより生じる熱変性面に対する作用が極めて弱いという問題があった。更に、濃度に応じて効力が変化する、強アルカリ浴中での安定性が悪い等の問題点もあった。
【０００６】
コンディショニング剤に上記のような問題点があることから、特に材質がポリイミドであるプリント基板においては、何の工夫もなくＤＰＳ法を導入することは難しいとされている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
従って、ポリイミド樹脂の、特にスルーホールやブラインドビアホール内面に対してもＰｄ触媒を十分に吸着せしめることができるコンディショニング剤の開発が望まれており、本発明はそのようなコンディショニング剤の提供をその課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、カチオン系化合物に代わりうるコンディショニング効果を有する化合物について種々検索していたところ、特定の式で示される高分子化合物が樹脂上へのＰｄ触媒の吸着を高めることが可能であることおよびこの作用はポリイミドの熱変性面についてもあまり低下しないことを見出し、本発明を完成した。
【０００９】
すなわち本発明は、次の式（I）、（II）または（III）
【化７】
0004194189.tif 000002
（式中、Ｒは炭素数１２から２０の、飽和または不飽和のアルキル基を、Ｒ1からＲ5はそれぞれ低級アルキル基を、Ｌ1は低級アルキレン基をそれぞれ示し、ｎおよびｍはそれぞれ５から１０の数を示す）
【００１０】
【化８】
0004194189.tif 000003
（式中、Ｒ6およびＲ7はそれぞれ低級アルキル基を示し、ｌは１０から１００の数を示す）
【００１１】
【化９】
0004194189.tif 000004
（式中、ＰＥＧは分子量１,０００から１０,０００のポリエチレングリコール基を示し、Ｌ2は炭素数１２から２０の、飽和または不飽和のアルキレン基を、ｐは１０から１００の数を示す）
で表される高分子化合物の一種または二種以上と、アルカノールアミンとを有効成分として含有する脱脂コンディショニング剤を提供するものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明のコンディショニング剤において有効成分として用いられる高分子化合物のうち、式（I）のものは、次の式（IV）で表されるアクリル酸エステルモノマーと、式（V）で表されるアクリル酸エステル４級化物モノマーを共重合させた構造を有するものである。
【００１３】
【化１０】
0004194189.tif 000005
【化１１】
0004194189.tif 000006
（式中、Ｒ、Ｒ1〜Ｒ5およびＬ1は前記した意味を有する）
【００１４】
式（I）の高分子化合物において、エステル基Ｒとしては、炭素数１２から２０のアルキル基またはアルケニル基が挙げられ、その具体例としては、ステアリル基、パルミチル基、オレイル基等が挙げられる。また、基Ｒ1〜Ｒ5の低級アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基等、炭素数１から４のアルキル基が挙げられる。更に、Ｌ1の低級アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基等が挙げられる。
【００１５】
また、式（II）で表される高分子化合物は、例えば次の式（VI）で表されるモノマーを縮重合させた構造を有するものである。
【００１６】
【化１２】
0004194189.tif 000007
（式中、Ｘはハロゲン等の脱離基を示し、Ｒ6およびＲ7は前記した意味を有する）
【００１７】
式（II）の高分子化合物において、式Ｒ6およびＲ7で示される低級アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等、炭素数１から４のアルキル基が挙げられる。
【００１８】
更に、式（III）で表される高分子化合物は、例えば式（VII）で表されるジアミンとポリオキシエチレンを縮合させた構造を有するものであるが、式（III）中の基Ｌ2としては、ステアリル基、パルミチル基、オレイル基等が挙げられる。
【化１３】
0004194189.tif 000008
【００１９】
本発明のコンディショニング剤は、上記高分子化合物（I）から（III）の何れか１種または２種以上を、必要により適当な担体あるいは他種成分と組み合わせることにより調製される。上記の高分子化合物は、使用時の浴中濃度が０.１〜２０ｇ／Ｌ程度、好ましくは１〜５ｇ／Ｌ程度で使用することができる。
【００２０】
また、本発明のコンディショニング剤は、上記高分子化合物を単独の有効成分として専用コンディショナーとすることもできるが、他のアルカリ性成分と混合し、脱脂コンディショナーとして使用することもできる。
【００２１】
脱脂コンディショナーとする場合に配合することのできるアルカリ成分としては、モノエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミンや、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム等の無機アルカリ成分が挙げられる。更に、脱脂力を向上させるためにノニオン系界面活性剤等の界面活性剤を加えることもできる。
【００２２】
次に、脱脂コンディショナーを調製する場合の成分及びそれらの量範囲を例示する。
0004194189.tif 000009
【００２３】
本発明のコンディショニング剤は、従来のコンディショニング剤と同様、ＤＰＳや無電解銅めっき前の、種々の基板、例えばガラスエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等に対するコンディショニング工程において使用することができ、その条件も公知のものとほぼ同一でよい。
【００２４】
しかし、本発明のコンディショニング剤は、特にレーザー穴明けされたポリイミド樹脂に対して、強力に作用する。そのため、ブラインドビアホールを有するＴＡＢ基板について、ＤＰＳの前のコンディショニング工程において脱脂コンディショナーとして使用した場合、非常に優れた効果が得られる。
【００２５】
また、本発明のコンディショニング剤は、有効成分である高分子化合物の添加濃度にかかわらず効力が一定し、安定性が良いなど使いやすいものである。
【００２６】
【発明の効果】
従来のコンディショニング剤には、通常、４級アンモニウム塩に代表されるカチオンが配合されており、これがパラジウム吸着促進剤として作用している。しかし、このカチオンは、エポキシ樹脂には強力に作用するがポリイミド樹脂（特にレーザー穴明け面）には効果が弱いという問題や、濃度に応じて効力が変化したり、強アルカリ浴中での安定性が悪い、などの問題があった。
【００２７】
これに対し、本発明のコンディショニング剤は、樹脂に水溶性の基を付加させた、単純なカチオンとは根本的に異なる化合物を有効成分とするものであるから、上記のカチオンの使用に伴う問題を解消したものである。
【００２８】
よって、本発明のコンディショニング剤は、プリント基板に設けられるスルーホールやブラインドビアホールと呼ばれる微孔内部にまでパラジウム−スズコロイド触媒を吸着させることのできるコンディショニング剤として有用なものであり、特にポリイミド基板のコンディショニング剤として有利に利用できるものである。
【００２９】
【実施例】
次に実施例を挙げ、本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例等に何ら制約されるものではない。
【００３０】
実 施 例  １
レーザーで孔あけしたブラインドビアホール（孔径８０μｍ、深さ８０μｍ）を有するＴＡＢ基板を試料として用い、下記の処理工程にてＤＰＳ〜硫酸銅めっきを行い、ＤＰＳの脱脂コンディショナーに本発明品１を使用した時と比較品１を用いた時の銅めっきの析出性を比較した。析出性は、硫酸銅めっき時間に対するビアホール内の銅の被覆率で調べた。この結果を表１に示す。
【００３１】
0004194189.tif 000010
【００３２】
0004194189.tif 000011
【００３３】
（  結  果  ）
【表１】
0004194189.tif 000012
【００３４】
以上の結果が示すように、レーザー穴明けされたブラインドビアホールを有するＴＡＢ基板のＤＰＳ〜硫酸銅めっき工程にて、ＤＰＳの脱脂コンディショナーに本発明品を使用すると、従来の一般的なカチオンを用いた場合より、短時間の銅めっきで穴内全面が被覆される。
【００３５】
実 施 例  ２
ドリルで穴明けしたスルホール（孔径０.３ｍｍ、深さ１.６ｍｍ）を有する通常のガラスエポキシ基板を用い、下記工程に従って無電解銅めっきを行い、本発明品２を脱脂コンディショナーに使用した時と、一般的なカチオンを用いた脱脂コンディショナー（比較品２）を用いた場合の無電解銅めっきの析出性を比較した。析出性は、無電解銅めっき時間とスルホール内の銅の被覆率との関係から判断した。この結果を表２に示す。
【００３６】
0004194189.tif 000013
【００３７】
0004194189.tif 000014
【００３８】
（  結  果  ）
【表２】
0004194189.tif 000015
【００３９】
以上の結果が示すように、本発明の脱脂コンディショナーを使用することにより、無電解銅めっきにより、短時間で穴内全面を銅で被覆できることが明らかとなった。
【００４０】
実 施 例  ３
以下に示す脱脂コンディショナーを使用した場合の、試料基板上のパラジウム吸着量を比較した。処理工程は、実施例１と同様とし、パラジウム吸着量は、アクチベーター後に基板表面に吸着した触媒を王水で溶解し、原子吸光にてパラジウム濃度を測定することにより算出した。なお、試料基板としては、ガラスエポキシ基板（松下、ＦＲ４）の銅箔を硝酸で溶解除去しエポキシ樹脂表面を露出させた試料、およびポリイミドフィルム（東レ、カプトン）を用いた。この結果を表３に示す。
【００４１】
0004194189.tif 000016
【００４２】
（  試験結果  ）
【表３】
0004194189.tif 000017
【００４３】
脱脂コンディショナー４は、一般的に使用されている組成のものであり、比較標準として用いたが、本発明の脱脂コンディショナー１〜３は、このコンディショナー４と比較してパラジウム吸着量が優れていることが分かる。
特に脱脂コンディショナー１と２は、脱脂コンディショナー４が苦手とするポリイミドに対しても、非常に優れた作用を示すことが明らかとなった。
以    上