(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動制御によってミラー面の角度を可変できるガルバノミラーを使用するとともに走査位置が固定された固定光ビームと走査位置が前記ガルバノミラーのミラー面の角度調整により可動される可動光ビームとの通過位置を検出するセンサを使用した光走査装置において、
前記センサの受光面上における固定光ビームの通過位置を検出し、この検出した固定光ビームの通過位置に対する前記センサの受光面上における可動光ビームの通過位置を決定し、前記ガルバノミラーのミラー面の角度を調整して可動光ビームをその決定した通過位置に追い込むための制御を行い、可動光ビームの通過位置への移動終了が検出されるまで、固定光ビームの通過位置検出、可動光ビームの通過位置決定、可動光ビームの決定した通過位置への追い込み制御を繰り返すことを特徴とする光走査装置のビーム位置調整方法。
【請求項２】
駆動制御によってミラー面の角度を可変できるガルバノミラーを使用するとともに走査位置が固定された固定光ビームと走査位置が前記ガルバノミラーのミラー面の角度調整により可動される可動光ビームとの通過位置を検出するセンサを使用した光走査装置において、
前記センサの受光面上における固定光ビームの通過位置を検出し、この検出した固定光ビームの通過位置に対する前記センサの受光面上における可動光ビームの通過位置を決定し、前記ガルバノミラーのミラー面の角度を調整して可動光ビームをその決定した通過位置に向けて追い込む制御を行い、可動光ビームの通過位置への移動が終了すると、再度、前記センサの受光面上における固定光ビームの通過位置を検出し、固定光ビームの通過位置に変化がなければ可動光ビームの通過位置への追い込みを終了し、固定光ビームの通過位置に変化があると、改めて固定光ビームの通過位置に対する前記センサの受光面上における可動光ビームの通過位置を決定してその可動光ビームの通過位置への追い込みを行わせることを特徴とする光走査装置のビーム位置調整方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光走査装置のビーム位置調整方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、高速デジタル複写装置や高速プリント装置などの画像形成装置において、光走査装置として、２以上の光ビームを同時に走査して感光体ドラムの帯電領域を露光するマルチビーム露光装置を使用したものが知られている。
【０００３】
マルチビーム露光装置は、例えば、レーザビームを放射する複数の半導体レーザ素子と、各半導体レーザ素子から放射されたレーザビームの断面ビーム径を、要求された解像度に対応するように整え、各レーザビームの副走査方向（感光体ドラムの軸線方向と直交する方向）の間隔を所定の間隔に設定する光学部材と、各レーザビームを主走査方向（感光体ドラムの軸線方向）に沿って一括して偏向走査する偏向装置と、この偏向装置により偏向された各レーザビームを感光体ドラムの帯電領域に導き、結像させる結像レンズ系等を有する。
【０００４】
このようなマルチビーム露光装置に使用される光学部材として、電磁コイルへの通電制御によりミラー面の角度を微小変化させることができるガルバノミラーを使用している。
例えば、固定レーザビームと可動レーザビームの２本のレーザビームを同時に走査させるマルチビーム露光装置では、ガルバノミラーのミラー面の角度を微調整することで可動レーザビームの副走査方向の間隔を調整する。
【０００５】
この間隔の調整は、フォトダイオードなどのセンサを使用して行っている。すなわち、レーザビームをセンサの受光面上を走査させてレーザビームが通過する受光面上の位置を検出し、これをレーザビーム個々について行うことでレーザビーム相互間の間隔を検出し、この検出結果に基づいて間隔を調整するようにしている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで固定レーザビームの副走査方向の位置は固定されているので本来であれば変化しないはずであるが、温度変化や電圧変化等の影響を受けて変化する場合があり、このような場合には固定レーザビームと可動レーザビームとの間隔が設定された間隔からずれてしまい精度の高いビーム走査ができなくなる問題があった。
【０００７】
本発明は、このような問題を解決するために為されたもので、固定光ビームと可動光ビームとの位置調整を高い精度で行うことができ、精度の高いビーム走査ができる走査装置のビーム位置調整方法を提供する。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、駆動制御によってミラー面の角度を可変できるガルバノミラーを使用するとともに走査位置が固定された固定レーザビーム等の固定光ビームと走査位置がガルバノミラーのミラー面の角度調整により可動される可動レーザビーム等の可動光ビームとの通過位置を検出するセンサを使用した光走査装置において、センサの受光面上における固定光ビームの通過位置を検出し、この検出した固定光ビームの通過位置に対するセンサの受光面上における可動光ビームの通過位置を決定し、ガルバノミラーのミラー面の角度を調整して可動光ビームをその決定した通過位置に追い込むための制御を行い、可動光ビームの通過位置への移動終了が検出されるまで、固定光ビームの通過位置検出、可動光ビームの通過位置決定、可動光ビームの決定した通過位置への追い込み制御を繰り返す光走査装置のビーム位置調整方法にある。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照して説明する。
図１は、光走査装置としてマルチビーム露光装置を使用した画像形成装置、すなわち、デジタル複写装置の構成を概略的に示す図である。デジタル複写装置１は、スキャナ部１０とプリンタ部２０を有する。
【００１０】
前記スキャナ部１０は、矢印方向に移動可能に形成された第１キャリッジ１１、この第１キャリッジ１１に従動して移動する第２キャリッジ１２、この第２キャリッジ１２からの光に所定の結像特性を与える光学レンズ１３、この光学レンズ１３により所定の結像特性が与えられた光を光電変換して電気信号を出力するＣＣＤセンサなどの光電変換素子１４、原稿１５を保持する原稿テーブル１６、この原稿テーブル１６に原稿１５を押し付ける原稿固定カバー１７等を有している。
【００１１】
前記第１キャリッジ１１には、原稿１５を照明する光源１８、この光源１８が放射する光で照明されて原稿１５から反射された反射光を前記第２キャリッジ１２に向けて反射するミラー１１ａが設けられている。
前記第２キャリッジ１２には、第１キャリッジ１１のミラー１１ａから伝達された光を９０°折り曲げるミラー１２ａ及びこのミラー１２ａで折り曲げられた光をさらに９０°折り曲げるミラー１２ｂが設けられている。
【００１２】
前記原稿テーブル１６に載置された原稿１５は、光源１８によって照明され、画像の有無に対応する光の明暗が分布する反射光を反射する。原稿１５からの反射光は画像情報としてミラー１１ａ、１２ａ及び１２ｂを経由して、光学レンズ１３に入射される。前記光学レンズ１３に入射された原稿１５からの反射光は、この光学レンズ１３によって光電変換素子１４の受光面に集光される。そして、第１キャリッジ１１と第２キャリッジ１２が相対速度２対１で原稿テーブル１６に沿って移動することで原稿１５の画像情報が光電変換素子１４によって読み取られ、画像の濃淡を示すデジタル信号に変換される。
【００１３】
前記プリンタ部２０は、マルチビーム露光装置２１と記録用紙Ｐに電子写真方式で画像形成する画像形成部２２を有する。前記画像形成部２２は、表面を感光層で形成したドラム状の感光体、すなわち、感光体ドラム２３と、この感光体ドラム２３の表面に帯電により所定極性の電位を与える帯電装置２４と、前記マルチビーム露光装置２１により感光体ドラム２３の表面に形成された静電潜像にトナーを供給して現像する現像装置２５と、この現像装置２５による現像により形成されたトナー像に所定の電界を与えてそのトナー像を記録用紙Ｐに転写する転写装置２６と、転写後の記録用紙Ｐを感光体ドラム２３から分離する分離装置２７と、転写後に感光体ドラム２３の表面に残った転写残りトナーを除去し、感光体ドラム２３の電位分布を帯電前の状態に戻すクリーニング装置２８等を備えている。
【００１４】
なお、帯電装置２４、現像装置２５、転写装置２６、分離装置２７及びクリーニング装置２８は、感光体ドラム２３が回転する矢印方向に沿って順に配列されている。また、前記マルチビーム露光装置２１からのレーザビームは帯電装置２４と現像装置２５との間の所定位置Ｘに照射されるようになっている。
【００１５】
前記スキャナ部１０で原稿１５から読み取られた画像信号は、画像処理部（図示せず）において例えば輪郭補正や中間調表示のための階調処理等が行われて印字信号に変換される。そして、この印字信号がマルチビーム露光装置２１の半導体レーザ素子から放射されるレーザビームの光強度を変化するレーザ変調信号に変換される。
【００１６】
マルチビーム露光装置２１からのレーザビームによって感光体ドラム２３の所定位置Ｘに画像信号に応じた静電潜像が形成される。感光体ドラム２３の回転により静電潜像は現像装置２５によりトナーが供給されて現像され、さらに、転写装置２６と対向する位置に搬送される。一方、用紙カセット２９から、給紙ローラ３０及び分離ローラ３１により１枚の記録用紙Ｐが取り出され、アライニングローラ３２でタイミングが整合されて転写装置２６と感光体ドラム２３との対向位置に搬送される。そして、転写装置２６からの電界によって感光体ドラム２３に形成されたトナー像は記録用紙Ｐ上に転写される。
【００１７】
トナー像が転写された記録用紙Ｐは、分離装置２７により感光体ドラム２３から分離され、搬送装置３３により定着装置３４に案内される。定着装置３４に案内された記録用紙Ｐは、加熱、加圧によってトナーが定着され、排紙ローラ３５によりトレイ３６に排出される。
【００１８】
一方、転写装置２６によりトナー像を転写した後の感光体ドラム２３は、引き続く回転によりクリーニング装置２８の位置に移動し、表面に残っている転写残りトナーが除去され、さらに、表面電位が帯電前の初期状態に戻され、次の画像形成に対処するようになる。
以上のプロセスが繰り返されることで、連続した画像形成が可能になる。
【００１９】
前記マルチビーム露光装置２１は、図２に示すように光ビーム発生源として半導体レーザ素子４１ａ，４１ｂを設けている。なお、図２は、マルチビーム露光装置２１を、ハウジング（本体フレーム）を取り除き、又、一部ミラーを省略して、レーザビームの光路を同一平面上に展開した状態を示している。
【００２０】
前記半導体レーザ素子４１ａ，４１ｂは、所定波長のレーザビームＬａ，Ｌｂを放射する。レーザビームＬａ，Ｌｂは、それぞれ偏向前光学系４２ａ，４２ｂを通過してポリゴンミラー４３ａを有する偏向装置４３に案内される。すなわち、レーザビームＬａは、偏向前光学系４２ａを通過し、さらにハーフミラー４２ｃ及び副走査方向に関して収束性を与えるシリンダレンズ４２ｄを通過してポリゴンミラー４３ａを有する偏向装置４３に案内され、レーザビームＬｂは、偏向前光学系４２ｂを通過し、さらに前記ハーフミラー４２ｃで反射した後、前記シリンダレンズ４２ｄを通過してポリゴンミラー４３ａを有する偏向装置４３に案内される。
【００２１】
前記偏向前光学系４２ａは、半導体レーザ素子４１ａからのレーザビームＬａの断面スポット形状を所定の形状に整えるもので、半導体レーザ素子４１ａからの発散性のレーザビームに所定の収束性を与える有限焦点レンズ４４ａ、この有限焦点レンズ４４ａを通過したレーザビームの断面ビーム形状を所定の形状に整える絞り４５ａ、及びこの絞り４５ａを通過したレーザビームを折り曲げて前記ハーフミラー４２ｃに案内する反射ミラー４６を備えている。
【００２２】
また、前記偏向前光学系４２ｂは、半導体レーザ素子４１ｂからのレーザビームＬｂの断面スポット形状を所定の形状に整えるもので、半導体レーザ素子４１ｂからの発散性のレーザビームに所定の収束性を与える有限焦点レンズ４４ｂ、この有限焦点レンズ４４ｂを通過したレーザビームの断面ビーム形状を所定の形状に整える絞り４５ｂ、及びこの絞り４５ｂを通過したレーザビームを折り曲げて前記ハーフミラー４２ｃに案内するとともに２つのレーザビームＬａ，Ｌｂの副走査方向の間隔が所定の間隔となるようにビーム位置を調整するガルバノミラー４７を備えている。
【００２３】
なお、有限焦点レンズ４４ａ，４４ｂとしては、例えば、非球面ガラスレンズ、または球面ガラスレンズに紫外線硬化プラスチック非球面レンズを貼り合わせた単レンズを使用している。また、ガルバノミラー４７は、レーザビームを反射する方向を任意の方向に微小量変更可能な光路変更装置付きのミラーである。
【００２４】
前記反射ミラー４６及びガルバノミラー４７で反射したレーザビームＬａ，Ｌｂはハーフミラー４２ｃ上において副走査方向に所定の間隔を開けた２本のレーザビームＬ（Ｌａ＋Ｌｂ）となり、シリンダレンズ４２ｄを通過して偏向装置４３に案内される。偏向装置４３は、例えば外周に８面の平面反射鏡を備えた正多角形のポリゴンミラー４３ａをモータ４３ｂによって所定の速度で回転するようになっている。
【００２５】
偏向装置４３と像面（感光体ドラム２３の所定位置Ｘに対向する位置であって設計上の焦平面）との間には、偏向装置４３からのレーザビームＬに所定の光学特性を与える第１、第２の結像レンズ４８ａ，４８ｂからなる偏向後光学系４８が配置されている。また、第２の結像レンズ４８ｂを通過したレーザビームＬが感光体ドラム２３の所定位置Ｘにおける画像形成領域を走査する手前でそのレーザビームＬの通過タイミング及びその通過位置を検出するビーム位置検出センサ４９、第２の結像レンズ４８ｂを通過したレーザビームＬを反射して前記ビーム位置検出センサ４９に案内する反射ミラー５０が配置されている。なお、前記ビーム位置検出センサ４９は、受光面が感光体ドラム２３の表面の位置と光学的に同等の距離となるように配置されている。
【００２６】
図３は前記マルチビーム露光装置２１の制御部の構成を示す一部ブロックを含む図で、制御部本体を構成するＣＰＵ（中央処理装置）５１を設け、このＣＰＵ５１によって不揮発性メモリ５２及び画像メモリ５３に対するデータの書き込みや読み出しの制御を行うようになっている。また、前記ＣＰＵ５１によって前記偏向装置４３のモータ４３ｂを駆動制御するモータ駆動回路５４の制御、前記ビーム位置検出センサ４９から検出信号を取り込んでビーム位置を検出するビーム位置検出回路５５の制御及び操作パネル５６の制御を行うようになっている。さらに、前記ＣＰＵ５１によって前記半導体レーザ素子４１ａ，４１ｂを駆動するレーザ駆動回路５７ａ，５７ｂの制御及び前記ガルバノミラー４７を駆動するＤ／Ａコンバータを備えたガルバノミラー駆動回路５８の制御を行うようになっている。
【００２７】
前記半導体レーザ素子４１ａ，４１ｂは、それぞれレーザ駆動回路５７ａ，５７ｂにより所定のタイミングで前記画像メモリ５３に記憶されている画像データによりレーザビームＬａ，Ｌｂを放射する。この場合、半導体レーザ素子４１ａ，４１ｂは偏向装置４３のポリゴンミラー４３ａが所定の回転数に達するまではレーザビームを放射することはなく、ポリゴンミラー４３ａが所定の回転数に達してＣＰＵ５１から所定の制御コマンドが出力され、レーザ駆動電流が所定の大きさに達すると、レーザビームＬａ，Ｌｂを放射する。
【００２８】
前記ガルバノミラー４７は、図４に示すように、ミラー１００の角度を変位可能に保持する板ばね１０１及びこの板ばね１０１を支持するフレーム１０２を有する。なお、板ばね１０１には、ベリリウム銅やばね用ステンレス鋼ＳＵ３０４等が用いられる。前記板ばね１０１には、この板ばね１０１を変位させるための力を発生する推力発生部１０３を構成するボビン１０３ａ及びこのボビン１０３ａの内側に収納されるコイル１０３ｂを設けている。
【００２９】
前記板ばね１０１は、前記ミラー１００を接着支持する支持面１０１ａと、前記フレーム１０２に対する取り付けに使用される２つの保持面１０１ｂと、この各保持面１０１ｂと前記支持面１０１ａを連結する捩れ変形部である２つのトーションバー部１０１ｃとで形成され、トーションバー１０１ｃが上下方向に捩じれることにより前記ミラー１００を上下方向に回動するようになっている。
また、前記板ばね１０１は、フレーム１０２に設けられているネジ穴１０２ａに、例えば樹脂により形成されたばね押え１０４とともにネジによって固定されるようになっている。
【００３０】
前記コイル１０３ｂの内側には、このコイル１０３ｂに電流が流れた場合に前記板ばね１０１を所定量上下方向に回動させる力を生じさせるための磁界発生を提供するマグネット１０３ｃが収納されるようになっている。このマグネット１０３ｃは露光装置本体の所定の位置に固定するために使用される固定板１０５の中央部に固定されるようになっている。そして、ミラー１００を支持した板ばね１０１をフレーム１０２に取り付け、このフレーム１０２を前記固定板１０５に一体的に取り付けている。
【００３１】
また、マグネット１０３ｃ及びコイル１０３ｂを収納したボビン１０３ａをフレーム１０２の中空内に収納し、このフレーム１０２とボビン１０３ａとの間の間隙に、外乱振動等によりミラー１００が振動しないように、例えば、シリコーンゲルのようなダンピング材を充填している。なお、フレーム１０２は、マグネット１０３ｃからの磁力線に対する磁気回路を構成するヨークとして機能するようになっている。
【００３２】
前記ガルバノミラー４７においては、ＣＰＵ５１からガルバノミラー駆動回路５８に対して、例えば、８ビットの指示値が供給され、これによりガルバノミラー駆動回路５８がガルバノミラー４７のコイル１０３ｂに対して所定極性の電流を通電し、これによりコイル１０３ｂとマグネット１０３ｃとの間に電磁力が生じ、これにより板ばね１０１の支持面１０１ａが捩じれ変形しミラー１００が指示値に応じた分だけ上下方向に回動する。そして、ミラー１００の回動によってこのミラー面に反射するレーザビームの上下方向、すなわち、副走査方向の位置が調整される。そして、コイル１０３ｂに対する通電電流を保持することでミラー１００の角度が保持される。ミラー１００の回動する角度はＣＰＵ５１からの指示値によって決まる。８ビットの指示値であれば、ミラー１００の角度を２５６段階に制御することができる。
【００３３】
前記ビーム位置検出センサ４９は、図５に示すように、直角三角形状のセンサ４９ａを有し、このセンサ４９ａの受光面上に固定レーザビームＳと可動レーザビームＭを走査させてその副走査方向の位置を検出するようになっている。解像度が例えば６００ｄｐｉのときには固定レーザビームＳと可動レーザビームＭとの副走査方向の間隔は４２．３μｍに設定される。
【００３４】
前記ビーム位置検出センサ４９からの出力をビーム位置検出回路５５は、電流／電圧変換回路、増幅回路、積分回路を介して取り込み、最終的に２値化して前記ＣＰＵ５１に供給している。前記センサ４９ａからの出力値は、走査するビーム位置によってレーザビームの受光時間が異なるため異なる。従って、前記センサ４９ａからの出力値によってレーザビームがセンサ４９ａの受光面のどの位置を通過したかを検出することができる。
【００３５】
前記半導体レーザ素子４１ａからの固定レーザビームＳと前記半導体レーザ素子４１ｂからの可動レーザビームＭとの間隔の調整は図６に示す流れ図に基づいて行われる。すなわち、偏向装置４３のポリゴンミラー４３ａを回転駆動している状態で、先ず、Ｓ１にて、半導体レーザ素子４１ａのみをオンし、固定レーザビームＳがセンサ４９ａの受光面のどの位置を通過したかを検出して固定レーザビームＳの位置を検出する。
【００３６】
続いて、Ｓ２にて、固定レーザビームＳに対する可動レーザビームＭの追い込み位置を決定する。これは、例えば、解像度が６００ｄｐｉであれば固定レーザビームＳから４２．３μｍ離れた位置が追い込み位置となる。そして、Ｓ３にて、半導体レーザ素子４１ｂのみをオンし、ガルバノミラー４７を調整し可動レーザビームＭを追い込み位置に所定のステップで近づける制御を行う。
【００３７】
続いて、Ｓ４にて、可動レーザビームＭが追い込み位置に移動したかをチェックし、移動していなければ、Ｓ１にルーチンを戻し、再度Ｓ１から処理を繰り返す。そして、Ｓ４にて、可動レーザビームＭが追い込み位置に移動したことを判断すると処理を終了する。
【００３８】
このように、固定レーザビームＳと可動レーザビームＭとの副走査方向の間隔を調整する場合に、ビーム位置検出センサ４９のセンサ４９ａを使用して先ず固定レーザビームＳの位置を検出し、この固定レーザビームＳの位置に対する可動レーザビームＭの追い込み位置を決定し、可動レーザビームＭを追い込み位置に所定のステップで近づける。
【００３９】
そして、所定のステップで近づける毎に可動レーザビームＭが追い込み位置に移動したかをチェックし、移動が終了していなければ、再び固定レーザビームＳの位置を検出し、固定レーザビームＳに対する可動レーザビームＭの追い込み位置を決定し、可動レーザビームＭを追い込み位置に所定のステップで近づけるという処理を繰り返す。
【００４０】
このように、可動レーザビームＭを移動させる度に固定レーザビームＳの位置を検出し可動レーザビームＭの追い込み位置を更新するようにしているので、温度変化や電圧変動等によって固定レーザビームＳの位置が変化してもその変化した位置を基準に可動レーザビームＭの追い込み位置が改めて決定され追い込みが行われるので、固定レーザビームＳと可動レーザビームＭとの位置調整を高い精度で行うことができる。これにより、精度の高いレーザビーム走査ができる。
【００４１】
なお、この実施の形態は、可動レーザビームＭを移動させる度に固定レーザビームＳの位置を検出し可動レーザビームＭの追い込み位置を更新するようにしたが必ずしもこれに限定するものではない。例えば、図７に示す流れ図に従って固定レーザビームＳと可動レーザビームＭの間隔調整を行ってもよい。
【００４２】
この調整処理は、偏向装置４３のポリゴンミラー４３ａを回転駆動している状態で、先ず、Ｓ１１にて、半導体レーザ素子４１ａのみをオンし、固定レーザビームＳがセンサ４９ａの受光面のどの位置を通過したかを検出して固定レーザビームＳの位置を検出する。
【００４３】
続いて、Ｓ１２にて、固定レーザビームＳに対する可動レーザビームＭの追い込み位置を決定する。そして、Ｓ１３にて、半導体レーザ素子４１ｂのみをオンし、ガルバノミラー４７を調整し可動レーザビームＭを追い込み位置に所定のステップで近づける制御を行う。
【００４４】
続いて、Ｓ１４にて、可動レーザビームＭが追い込み位置に移動したかをチェックし、移動していなければ、Ｓ１３にルーチンを戻し、可動レーザビームＭを追い込み位置に所定のステップで近づける制御を繰り返す。Ｓ１４にて、可動レーザビームＭが追い込み位置に移動したことを判断すると、Ｓ１５にて、半導体レーザ素子４１ａのみをオンし、固定レーザビームＳがセンサ４９ａの受光面のどの位置を通過したかを再度検出して固定レーザビームＳの位置を検出する。
【００４５】
そして、Ｓ１６にて、固定レーザビームＳの位置に変化があることを判断すると、ルーチンをＳ１２に戻して、再度、Ｓ１２、Ｓ１３、Ｓ１４、Ｓ１５の処理を繰り返す。また、Ｓ１６にて、固定レーザビームＳの位置に変化がないことを判断すると処理を終了する。
【００４６】
このように、可動レーザビームＭを移動させ、追い込み位置への移動が終了する毎に固定レーザビームＳの位置を再度確認し、このとき、もし、位置が変化していれば、再度可動レーザビームの追い込み位置の決定、追い込み制御を行い、固定レーザビームＳの位置の再確認において位置の変化がなければ固定レーザビームＳと可動レーザビームＭの位置として決定するようにしている。従って、この場合も、固定レーザビームＳと可動レーザビームＭとの位置調整を高い精度で行うことができ、精度の高いレーザビーム走査ができる。
【００４７】
なお、この実施の形態においては、光ビームとしてレーザビームを使用した場合を例として述べたがこれに限定されないのは勿論である。
また、この実施の形態においては、光走査装置として、マルチビーム露光装置を使用したものについて述べたがこれに限定されないのは勿論である。
【００４８】
【発明の効果】
以上詳述したように本発明によれば、固定光ビームと可動光ビームとの間隔を常に高い精度で保持でき、精度の高いビーム走査ができる光走査装置のビーム位置調整方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係るマルチビーム露光装置を有するデジタル複写装置の構成を概略的に示す図。
【図２】同実施の形態に係るマルチビーム露光装置におけるレーザビームの光路を同一平面上に展開した状態を示す平面図。
【図３】同実施の形態に係るマルチビーム露光装置における制御部の構成を示す一部ブロックを含む図。
【図４】同実施の形態におけるガルバノミラーの構成を示す分解斜視図。
【図５】同実施の形態におけるビーム位置検出センサの要部構成を示す図。
【図６】同実施の形態におけるビーム位置調整処理を示す流れ図。
【図７】本発明の他の実施の形態に係るビーム位置調整処理を示す流れ図。
【符号の説明】
２１…マルチビーム露光装置
４１ａ，４１ｂ…半導体レーザ素子
４３…偏向装置
４７…ガルバノミラー
４９…ビーム位置検出センサ
【図１】
0004077235.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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