(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光の照射によって光情報記録媒体に情報を記録する光情報記録方法であって、
ピットの長さが最短の第一ピットを形成する記録波形が、チャンネルクロック周期の幅より狭い先頭パルスにより形成され、
前記第一ピットの次に短い第二ピットを形成する記録波形が、前記先頭パルスと、チャンネルクロック周期の幅より狭い終端パルスと、により形成され、
前記第二ピットより長いピットを形成する記録波形が、前記先頭パルスおよび前記終端パルスと、それらの間に形成される少なくとも１以上のマルチパルスと、により形成され、
前記光情報記録媒体における記録層が、波長５００ｎｍ以下のレーザ光により情報の記録が可能で、記録物質としての色素を含有していることを特徴とする光情報記録方法。
【請求項２】
前記色素が、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、または、フタロシアニン色素であることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録方法。
【請求項３】
情報を記録する際の発振波長を５００ｎｍ以下とすることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光情報記録方法。
【請求項４】
情報を記録する際のピックアップに使用される対物レンズの開口率（ＮＡ）を０．７以上とすることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の光情報記録方法。
【請求項５】
記録速度を３．８ｍ／ｓ以上とすることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の光情報記録方法。
【請求項６】
前記光情報記録媒体における基板の厚さが、１．１±０．３ｍｍであることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の光情報記録方法。
【請求項７】
前記基板のグルーブのトラックピッチが、２００〜４００μｍであることを特徴とする請求項６に記載の光情報記録方法。
【請求項８】
前記基板のグルーブの深さが、２０〜１５０ｎｍであることを特徴とする請求項６または請求項７に記載の光情報記録方法。
【請求項９】
前記基板の溝幅が、５０〜２５０ｎｍであることを特徴とする請求項６〜請求項８のいずれか１項に記載の光情報記録方法。
【請求項１０】
ｎを２以上８以下の整数、Ｔをチャンネルクロック周期とし、ピット長ｎＴのピットを形成するとき、前記先頭パルス、前記終端パルス及び前記マルチパルスの合計個数をｎ−１とすることを特徴とする請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載の光情報記録方法。
【請求項１１】
各ピットを形成する際のそれぞれの前記先頭パルスのうち、パルス幅が最小の前記先頭パルスの幅が、パルス幅が最大の前記先頭パルスの幅の２０〜７０％の範囲にあることを特徴とする請求項１〜請求項１０のいずれか１項に記載の光情報記録方法。
【請求項１２】
形成されるピットとピットとの間隔をＬとしたときに、前記先頭パルスが形成される直前の前記間隔Ｌの幅が最小となるときの前記先頭パルスの幅が、前記先頭パルスが形成される直前の前記間隔Ｌの幅が最大となるときの前記先頭パルスの幅の１〜５０％の範囲にあることを特徴とする請求項１〜請求項１１のいずれか１項に記載の光情報記録方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光情報記録方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷのような情報の記録が可能な光情報記録媒体（記録可能光記録媒体）では、ピットを形成することで情報が記録される。
情報を記録するに当たっては、熱記録により生成されるサブミクロンオーダのピットを正確に記録するため、ライトストラテジー（記録ストラテジー）と呼ばれるレーザパルス制御が利用されている。この記録ストラテジーは、ピットの長さ分パワーを持続してピットを形成すると、レーザビームの余熱により、実際には長くピットが形成されてしまうのを補正したり、記録層の特性差や、信号の組み合わせによって生じるピット長のずれ等を補正して、再生時に正しい信号が再生できるようにするためのものである。
【０００３】
図５に示すように、この記録ストラテジーのピットを形成する部分Ｐは、例えば、８Ｔ信号では、前エッジがレコーディングデータ（ｒｅｃｏｒｄｉｎｇ  ｄａｔａ：記録信号）の立ち上がりから１Ｔ以上遅れ、パルス幅の大きな先頭パルスと、先頭パルスよりパルス幅が小さい５つのマルチパルスとから形成されている（ｗｒｉｔｅ  ｐｕｌｓｅ）。
【０００４】
かかる記録ストラテジーは、ＤＶＤなどの光情報記録には好適に用いられているが、ＤＶＤよりトラックピッチが狭く記録密度の高い光情報記録媒体に対して当該ストラテジーを適用しようとすると、所望の記録ピットを形成することが困難でジッターが増加する等の記録特性の劣化が見られた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記問題点を解消するためになされたもので、従来のＤＶＤよりトラックピッチが狭く記録密度の高い光情報記録媒体に対し、形状の安定したピットを形成し、再生信号のジッターを低減させた光情報記録方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決すべく、従来のＤＶＤ用のストラテジーを適用できない原因を検討したところ、記録密度が高くなることでピット間が狭くなり、１のピットを形成した後、次のピットを形成する際に、先のピット形成時の余熱が次のピット形成に対し熱干渉するため、所望のピットを形成することが困難となることを見出した。そこで、本発明者はかかる知見から、下記本発明に想到した。
すなわち、本発明は、
＜１＞レーザ光の照射によって光情報記録媒体に情報を記録する光情報記録方法であって、
ピットの長さが最短の第一ピットを形成する記録波形が、チャンネルクロック周期の幅より狭い先頭パルスにより形成され、
前記第一ピットの次に短い第二ピットを形成する記録波形が、前記先頭パルスと、チャンネルクロック周期の幅より狭い終端パルスと、により形成され、
前記第二ピットより長いピットを形成する記録波形が、前記先頭パルスおよび前記終端パルスと、それらの間に形成される少なくとも１以上のマルチパルスと、により形成され、
前記光情報記録媒体における記録層が、波長５００ｎｍ以下のレーザ光により情報の記録が可能で、記録物質としての色素を含有していることを特徴とする光情報記録方法である。
【０００７】
＜２＞  ｎを２以上８以下の整数、Ｔをチャンネルクロック周期とし、ピット長ｎＴのピットを形成するとき、前記先頭パルス、前記終端パルス及び前記マルチパルスの合計個数をｎ−１とすることを特徴とする＜１＞に記載の光情報記録方法である。
【０００８】
＜３＞  各ピットを形成する際のそれぞれの先頭パルスのうち、パルス幅が最小の前記先頭パルスの幅が、パルス幅が最大の前記先頭パルスの幅の２０〜７０％の範囲にあることを特徴とする＜１＞または＜２＞に記載の光情報記録方法である。
【０００９】
＜４＞  形成されるピットとピットとの間隔をＬとしたときに、前記先頭パルスが形成される直前の前記間隔Ｌの幅が最小となるときの前記先頭パルスの幅が、前記先頭パルスが形成される直前の前記間隔Ｌの幅が最大となるときの前記先頭パルスの幅の１〜５０％の範囲にあることを特徴とする＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の光情報記録方法である。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。図１は、本実施の形態が適用可能な光ディスク記録再生装置の例を示すブロック図である。
【００１２】
図１に示すように、追記型（ライトワンス型）、書き換え可能型等の光情報記録媒体である光ディスク１０の光入射面側（カバー層側）には、記録用の半導体レーザと複数の光検出器とで構成された光ヘッド１２が配置されている。光ディスク記録再生装置には、ユーザの操作により、記録速度倍率（１×、２×、３×、４×、・・・）を設定するための入力装置１４が設けられている。
【００１３】
入力装置１４は、記録ストラテジーメモリ３２に記録信号のデータ長に応じて記憶された複数の記録ストラテジー（時間変調量、記録パワー等）を読み出し入力装置１４から入力された記録速度倍率に応じた複数の記録ストラテジーをシステムコントローラ１８に設定するためのストラテジー設定回路３４に接続されている。
【００１４】
システムコントローラ１８にはディスクサーボ回路１６が接続されており、ディスクサーボ回路１６は、システムコントローラ１８からの制御信号により、ディスクモータ２０を入力装置１４より設定された記録速度倍率で線速度一定で回転制御する。この線速度一定制御は、光ヘッド１２の光検出器の出力信号からウォブルを検出し、ウォブルが所定の周波数で検出されるようにディスクモータ２０をＰＬＬ制御することで実現できる。
【００１５】
光ヘッド１２の光検出器の出力信号は、フォーカスエラー信号生成回路及びトラッキングエラー信号生成回路を備えたＲＦアンプ部２２を介してシステムコントローラ１８に入力される。
【００１６】
システムコントローラ１８は、このフォーカスエラー信号及びトラッキングエラー信号に基づいた指令をフォーカス及びトラッキング回路２４に出力し、フォーカス及びトラッキング回路２４は、システムコントローラ１８からの指令により光ヘッド１２内の半導体レーザ等から出力される５００ｎｍ以下のレーザ光のフォーカス及びトラッキングを制御する。
なお、トラッキング制御は、光ディスクに形成されたプリグルーブを検出することにより行われる。また、レーザ光は、光情報記録媒体のカバー側から照射する。
【００１７】
５００ｎｍ以下の発振波長を有するレーザ光源としては、例えば、３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザ、中心発振波長約４３０ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザ等を挙げることができる。
また、記録密度を高めるために、ピックアップに使用される対物レンズの開口率（ＮＡ）は０．７以上が好ましく、０．８５以上がより好ましい。
【００１８】
システムコントローラ１８にはフィードサーボ回路２６が接続されており、フィードサーボ回路２６は、システムコントローラ１８からの指令により、フィードモータを制御して光ヘッド１２をディスク１０の径方向に移動させる。
【００１９】
光ディスク１０に情報を記録するための記録信号（レコーディングデータ）は、図示しない記録信号生成回路により入力データにエラーチェックコードやサブコード情報等が付与され、規格のフォーマット及び入力された記録速度倍率に応じた転送レートのシリアルデータ信号として生成され、記録信号補正回路２８に入力される。記録信号補正回路２８に入力された記録信号は、入力装置１４から入力された記録速度倍率に応じて設定された記録ストラテジーによってデータ長に応じて変調されてレーザ発生回路３０に入力される。レーザ発生回路３０は、補正された記録信号に応じて光ヘッド１２の半導体レーザを駆動してレーザビームを光ディスク１０の記録面に照射し、ピットを形成して記録を行う。このときのレーザパワーは、オートパワーコントロール回路で目標パワーになるように制御される。また、信号はパルス長変調で記録することが好ましい。
【００２０】
次に、記録ストラテジメモリ３２に記録されている記録ストラテジーについて図２を参照して説明する。
【００２１】
まず、最短ピット（第一ピット）に相当する例えば２Ｔ信号を記録する際の記録ストラテジー（記録波形）は、図２（ａ）に示すように、チャンネルクロック周期Ｔの幅（以下、単に「Ｔ」と表記した場合はチャンネルクロック周期Ｔの幅を示す場合がある）より狭い先頭パルスＴtopにより形成される。
また、前記最短ピットの次に短いピット（第二ピット）に相当する例えば３Ｔ信号を記録する際の記録ストラテジーは、図２（ｂ）に示すように、前記先頭パルスＴtopと、チャンネルクロック周期Ｔの幅より狭い終端パルスＴlpと、により形成される。
さらに、第二ピットに相当するピットより長いピットに相当する信号（例えば４Ｔ〜８Ｔ信号）を形成する記録ストラテジーは、前記先頭パルスＴtopおよび前記終端パルスＴlpと、それらの間に形成される少なくとも１以上のマルチパルスＴmpと、により形成される。例えば、８Ｔ信号を形成する記録ストテラジーは、図２（ｃ）に示すように、２Ｔ信号内にＴtopが形成され、その後、Ｔmpが５つ形成され、最後のＴlpが形成されている。
【００２２】
図２に示すように、先頭パルスＴtopの幅をチャンネルクロック周期Ｔの幅より狭くすることで、ピット間の熱干渉（符号間熱干渉）が低減されるため、従来のＤＶＤよりトラックピッチが狭く記録密度の高い光情報記録媒体に対し、形状の安定したピットが形成され、再生信号のジッターを低減させることが可能となる。
【００２３】
ここで、本発明に係る記録ストレラジーとしては、ｎを２以上８以下の整数、Ｔをチャンネルクロック周期とし、ピット長ｎＴのピットを形成するとき、前記先頭パルスＴtop、前記終端パルスＴlp及び前記マルチパルスＴmpの合計個数をｎ−１とすることが好ましい。
しかし、変調方式によっては、最短パルスが必ずしも２Ｔになるとは限らず、また最長パルスが８Ｔになるとは限らない。
【００２４】
Ｔtopの幅はＴ未満とすることを必須とし、０．９Ｔ以下とすることが好ましく、０．８５Ｔ以下とすることがより好ましい。
また、Ｔtopの幅の下限としては、０．１Ｔ以上とすることが好ましく、０．２Ｔ以上とすることがより好ましく、０．３Ｔ以上とすることがさらに好ましい。なお、Ｔtopは、図２にも示されるように最初の２Ｔ内に形成される。
【００２５】
図２（ａ）〜（ｃ）に示すように、各ピットを形成する際のそれぞれの先頭パルスＴtopのうち、パルス幅が最小の先頭パルスＴtopの幅が、パルス幅が最大の先頭パルスＴtopの幅の２０〜７０％の範囲にあることが好ましい。
かかる範囲とすることで、熱干渉の影響が抑えられジッターが低減するといった効果が得られる。
上記範囲の上限としては、７０％とすることが好ましいが、６０％以下とすることがより好ましく、５５％以下とすることがさらに好ましい。また、上記範囲の下限としては、２０％とすることが好ましが、３０％以上とすることがより好ましく、３５％以上とすることがさらに好ましい。
【００２６】
３Ｔ以上の信号に形成されるマルチパルスＴmpのそれぞれの幅は、熱干渉の影響を抑え、レーザーの積分照射パワーを上げるという観点から、０．４Ｔ〜０．８４Ｔであることが好ましく、０．５Ｔ〜０．８Ｔであることがより好ましく、０．６Ｔ〜０．７８Ｔであることがさらに好ましい。なお、Ｔmpは、１Ｔ内に１つ形成されるものとし、それぞれの幅は同一でも異なっていてもよい。
【００２７】
２Ｔ以上の信号に形成される終端パルスＴlpの幅は、熱干渉の影響を抑え、レーザーの積分照射パワーを上げるという観点から、１Ｔより狭くすることを必須とし、０．１Ｔ〜０．８Ｔとすることが好ましく、０．３Ｔ〜０．７Ｔとすることがより好ましい。
【００２８】
図３に示すように、形成されるピットとピットとの間隔Ｌ（図３の場合は２Ｔに相当する間隔）としたときに、前記先頭パルスが形成される直前の前記間隔Ｌの幅が最小となるときの前記先頭パルスの幅が、前記先頭パルスが形成される直前の前記間隔Ｌの幅が最大となるときの前記先頭パルスの幅の１〜５０％の範囲にあることが好ましい。
かかる範囲とすることで、熱干渉の影響を下げ、ジッターが低減するといった効果が得られる。
上記範囲のより好ましい範囲としては２〜４０％であり、さらに好ましい範囲としては３〜３５％である。
【００２９】
また、１のピットを形成し、次のピットを形成するときの間隔Ｌが最小である場合の当該１のピットを形成する際の記録ストラテジーの終端パルスＴlpの幅は、１のピットを形成し、次のピットを形成するときの間隔Ｌが最大である場合の当該１のピットを形成する際の記録ストラテジーの終端パルスＴlpの幅の１〜５０％とすることが好ましい。
かかる範囲とすることで、熱干渉の影響を下げ、ジッターが低減するといった効果が得られる。
上記範囲としては２〜３０％とすることがより好ましく、３〜２０％とすることがさらに好ましい。
なお、Ｔlpも、１Ｔ内に１つ形成されるものとする。
【００３０】
以上のような記録ストラテジーにおいては、パルスの先端や後端（末端）の位置をそれぞれ変化させることで、ジッターを低減させることが好ましい。
【００３１】
本実施の形態によれば、入力装置１４から記録速度倍率が入力されると、ストラテジー設定回路３４は、記録ストラテジーメモリから例えば２Ｔ〜８Ｔの記録ストラテジーを読み込み、記録速度倍率に対応するＴの値を代入して記録速度倍率に対応する記録ストラテジーをシステムコントローラ１８に設定する。システムコントローラ１８は、設定された記録ストラテジーに応じて記録信号補正回路２８を制御して記録信号のピット形成部分の長さに変調を加える。また、設定された記録ストラテジーに応じてレーザ発生回路３０を制御して、レーザパワーを強度変調する。これにより、光ディスクのピット形成部及びランド形成部に記録ストラテジーと相似形のパワーを有するレーザ光が照射される。また、ディスクサーボ回路１６を制御して、指令された記録速度倍率に相当する速度にディスクモータ１２を回転制御する。これによって、光ディスクへの記録が行われる。
【００３２】
なお、変調方式は最短ピット長がクロック周期Ｔの２．５倍以下とすることが好ましく、２．３倍以下とすることがより好ましく、２．１倍以下とすることがさらに好ましい。また、下限としては、０．５倍以上とすることが好ましく、０．８倍以上とすることがより好ましく、１．２倍以上とすることがさらに好ましい。
記録速度は３．８ｍ／ｓ以上が好ましく、４．２ｍ／ｓ以上がより好ましく、４．５ｍ／ｓ以上がさらに好ましい。また、上限としては、４０ｍ／ｓ以下が好ましく、２２ｍ／ｓ以下がより好ましく、１２ｍ／ｓ以下がさらに好ましい。
【００３３】
本発明の光情報記録方法に適用できる光情報記録媒体としては、５００ｎｍ以下（好ましくは、３５０〜５００ｎｍ）のレーザ光で情報を記録することが可能な光情報記録媒体であれば特に限定されず、相変化、光磁気、色素型等、また、書き換え可能型、追記型（ライトワンス型）のいずれでもよいが、追記型で色素型の光情報記録媒体が最も好ましい。
【００３４】
以下、上記光情報記録媒体の具体例として、追記型で色素型の光情報記録媒体の構成について説明する。
当該光情報記録媒体は、基板上に、少なくとも光反射層、記録層、カバー層が順次形成された構成を有することが好ましい。前記カバー層は、接着層を介して記録層上に形成されていることが好ましい。
なお、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３５】
（基板）
基板としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィンが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、基板の厚さは、１．１±０．３ｍｍとすることが好ましい。
【００３６】
基板には、トラッキング用の案内溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（グルーブ）が形成されている。より高い記録密度を達成するためにＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べて、より狭いトラックピッチのグルーブが形成された基板を用いることが好ましい。グルーブのトラックピッチは、２００〜４００μｍの範囲にとすることを必須とし、好ましくは、２５０〜３５０ｎｍの範囲とする。また、グルーブの深さ（溝深さ）は、２０〜１５０ｎｍの範囲とすることを必須とし、好ましくは、５０〜１００ｎｍの範囲とする。
【００３７】
また、溝幅は、５０〜２５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、１００〜２００ｎｍの範囲とすることがより好ましい。グルーブの溝傾斜角度は、２０〜８０°の範囲とすることが好ましく、３０〜７０°の範囲とすることがより好ましい。
【００３８】
ここで、グルーブの形状を表す概略断面図を図４に示す。この図において定義されるように、グルーブの溝深さＤは、溝形成前の基板表面から溝の最も深い箇所までの距離であり、グルーブの溝幅Ｗは、Ｄ／２の深さでの溝の幅であり、グルーブの溝傾斜角度θは、溝形成前の基板表面からＤ／１０の深さの傾斜部と溝の最も深い箇所からＤ／１０の高さの傾斜部とを結ぶ直線と基板面とが成す角度である。これらの値はＡＦＭ（原子間力顕微鏡）により測定することができる。
【００３９】
なお、後述する光反射層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。
該下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。
下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００４０】
（光反射層）
光反射層には、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射率は、７０％以上であることが好ましい。
反射率の高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属および半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこれらの合金である。
【００４１】
光反射層は、例えば、上記光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより基板上に形成することができる。光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
【００４２】
（記録層）
記録層は、上記光反射層上に形成され、波長５００ｎｍ以下のレーザ光により情報の記録が可能で、色素を含有している。当該記録層に含有される記録物質としての色素は、有機化合物である。
前記有機化合物の具体例としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられる。
【００４３】
また、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同２０００−１０８５１３号公報、および同２０００−１５８８１８号公報等に記載されている色素が好適に用いられる。
【００４４】
記録層は、色素等の記録物質を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に形成された光反射層上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。
【００４５】
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００４６】
結合剤を使用する場合に、結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【００４７】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。記録層は単層でも重層でもよい。また、記録層の層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜１００ｎｍの範囲にある。
【００４８】
記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、および同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
【００４９】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、さらに好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００５０】
（接着層）
接着層は、上記記録層と、後述するカバー層との密着性を向上させるために形成される任意の層である。
接着層を構成する材料としては、光硬化性樹脂が好ましく、なかでもディスクの反りを防止するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このような光硬化性樹脂としては、例えば、大日本インク社製の「ＳＤ−６４０」、「ＳＤ−３４７」等のＵＶ硬化性樹脂（ＵＶ硬化性接着剤）を挙げることができる。また、接着層の厚さは、弾力性を持たせるため、１〜１０００μｍの範囲が好ましく、５〜５００μｍの範囲がより好ましく、１０〜１００μｍの範囲が特に好ましい。
なお、カバー層となるカバーシートの貼り合わせ面に粘着剤が付与されている場合は上記接着剤は必要ない。
【００５１】
（カバー層）
カバー層は、光情報記録媒体内部を衝撃などから防ぐために形成され、透明な材質であれば特に限定されないが、好ましくはポリカーボネート、三酢酸セルロース等であり、より好ましくは、２３℃５０％ＲＨでの吸湿率が５％以下の材料である。
なお、「透明」とは、記録光および再生光の光に対して、該光を透過する（透過率：９０％以上）ほどに透明であることを意味する。
【００５２】
カバー層は、接着層を構成する光硬化性樹脂を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を所定温度で記録層上に塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜上に、例えばプラスチックの押出加工で得られた三酢酸セルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）をラミネートし、ラミネートしたＴＡＣフィルムの上から光を照射して塗布膜を硬化させて形成される。前記ＴＡＣフィルムとしては、紫外線吸収剤を含むものが好ましい。カバー層の厚さは、０．０１〜０．２ｍｍの範囲であり、好ましくは０．０３〜０．１ｍｍの範囲、より好ましくは０．０５〜０．０９５ｍｍの範囲である。
また、カバーシートとして、ポリカーボネートシート等を使用することもできる。
【００５３】
粘度制御のため、塗布温度は２３〜５０℃の範囲が好ましく、２４〜４０℃の範囲がより好ましく、２５〜３７℃の範囲がさらに好ましい。
ディスクの反りを防止するため、塗布膜への紫外線の照射はパルス型の光照射器（好ましくは、ＵＶ照射器）を用いて行うのが好ましい。パルス間隔はｍｓｅｃ以下が好ましく、μｓｅｃ以下がより好ましい。１パルスの照射光量は特に制限されないが、３ｋＷ／ｃｍ2以下が好ましく、２ｋＷ／ｃｍ2以下がより好ましい。
また、照射回数は特に制限されないが、２０回以下が好ましく、１０回以下がより好ましい。
【００５４】
また、本発明に適用される光情報記録媒体においては、光反射層と記録層との間に、記録層の特性に応じて誘電体層または光透過層を形成することができる。誘電体層としては、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔｅ、Ｓｍ、Ｍｏ、Ｇｅ等のいずれか１以上からなる酸化物、窒化物、炭化物、硫化物等の材料で、それらがＺｎＳ−ＳｉＯ２のようにハイブリット化していてもよい。
光透過層としては、レーザ波長で９０％以上の透過率を有する材料であれば特に限定されることなく使用することが可能で、例えば、前記誘電体層と同様の材料を使用することができる。
上記誘電体層または光透過層は、従来公知の方法により形成することができる。誘電体層の厚さは、１〜１００ｎｍとすることが好ましく、光透過層の厚さは、１〜１００ｎｍとすることが好ましい。
【００５５】
上記光情報記録媒体に既述の本発明の光情報記録方法を適用して情報を記録した光情報記録媒体は、情報の記録ストラテジーが従来のものと異なり、符号間干渉が低減されているため、特にジッター特性が良好となっている。
【００５６】
【実施例】
本発明を以下の実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５７】
〔光情報記録媒体の作製〕
射出成形により作製したポリカーボネート樹脂製の基板のグルーブを有する面上に、Ａｒ雰囲気中、ＤＣスパッタリング（Ｕｎａｘｉｓ社製Ｃｕｂｅ）によりＡｇからなる反射層（厚さ１００ｎｍ）を形成した。
なお、上記基板は、厚さ１．１ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍでスパイラル状のグルーブ（溝深さ３０ｎｍ、幅１５０ｎｍ、トラックピッチ３４０ｎｍ）を有する。また、ＡＦＭで測定した溝の傾斜角度は５７°であった。
【００５８】
下記化学式で表わされる２ｇの色素（式中のＲｎはα−ＳＯ2Ｃ4Ｈ9を示し、ＭはＣｕを示す）を２，２，３，３−テトラフロロプロパノール１００ｍｌ中に添加して溶解し、色素塗布液を調製した。調製した色素塗布液を、スピンコート法により回転数３００〜４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃５０％ＲＨの条件で反射層上に塗布した。その後、２３℃５０％ＲＨで１時間保存して、記録層（溝内（イングルーブ部）での厚さ：１００ｎｍ、ランド部（オングルーブ部）での厚さ：７０ｎｍ）を形成した。
【００５９】
【化１】
0004142338.tif 000002
【００６０】
記録層を形成した後、クリーンオーブンにてアニール処理を施した。アニール処理は、基板を垂直のスタックポールにスペーサーで支持しながら、４０℃で１時間保持して行った。
【００６１】
その後、記録層上に、ＲＦスパッタリングによりＺｎＳ／ＳｉＯ2（ＺｎＳ：ＳｉＯ2＝８：２（質量比））からなるバリア層（厚さ５ｎｍ）を形成して、積層体を作製した（積層体作製工程）。バリア層の形成条件は下記の通りとした。
パワー・・・４ｋＷ、
圧力・・・２×１０-2ｈＰａ、
時間・・・２秒間
【００６２】
貼り合わせ面に粘着剤が付与されたポリカーボネート製のカバーシートを、作製した積層体のバリア層上に貼り合わせて光情報記録媒体を作製した。
作製した光情報記録媒体カバー層（カバーシート）と粘着剤からなる層との厚さの合計は概略１００μｍであった。
【００６３】
〔実施例１〕
作製した光情報記録媒体について、情報を記録しその再生を行った。
記録する際の記録ストラテジーとしては、図２のような波形を用い、信号はパルステックＭＳＧ２を用いて発信した。クロック周波数は６６ＭＨｚ、線速は４．９ｍ／ｓ、記録パワーは５．８ｍＷ、再生パワーは０．５ｍＷとした。Ｔmpは０．７Ｔとし、ＴtopおよびＴlpの幅は下記表１−１および１−２に示す。
なお、当該表の見方として、表１−１の場合、例えば２Ｔの間隔を経た後の２Ｔ信号のＴtopが０．８４Ｔであることを示す。また、表１−２の場合、例えば２Ｔの間隔を経る前の３Ｔ信号のＴlpが０．６０Ｔであることを示す値とした。
記録を行った光情報記録媒体を再生してそのジッタを測定したところ、１０％であった。
【００６４】
【表１】
0004142338.tif 000003
【００６５】
〔実施例２〕
マルチパルスのそれぞれの幅を０．７５Ｔ、記録パワーを５．５ｍＷとし、当該記録パワーをジッタが最小となるように０．１ｍＷきざみで調整した以外は実施例１と同様にして記録を行った。
記録後の光情報記録媒体を再生し、ジッタを測定したところ、その値は１０％であった。
【００６６】
〔実施例３〕
マルチパルスのそれぞれの幅を０．６５Ｔ、記録パワーを６ｍＷとした以外は実施例１と同様にし、記録を行った。
記録後の光情報記録媒体を再生し、ジッタを測定したところ、その値は１０％であった。
【００６７】
〔実施例４〕
ＴtopおよびＴlpの幅を下記表２−１および２−２とし、記録パワーを５．８ｍＷとした以外は実施例１と同様にし、記録を行った。
記録後の光情報記録媒体を再生し、ジッタを測定したところ、その値は１１％であった。
【００６８】
【表２】
0004142338.tif 000004
【００６９】
〔実施例５〕
ＴtopおよびＴlpの幅を下記表３−１および３−２とし、記録パワーを５．５ｍＷとした以外は実施例１と同様にし、記録を行った。
記録後の光情報記録媒体を再生し、ジッタを測定したところ、その値は１３％であった。
【００７０】
【表３】
0004142338.tif 000005
【００７１】
〔比較例１〕
ＴtopおよびＴlpの幅を下記表４−１および４−２とした以外は実施例１と同様にし、記録を行った。
記録後の光情報記録媒体を再生し、ジッタを測定したところ、測定不能であった。
【００７２】
【表４】
0004142338.tif 000006
【００７３】
【発明の効果】
以上、本発明によれば、従来のＤＶＤよりトラックピッチが狭く記録密度の高い光情報記録媒体に対し、形状の安定したピットを形成し、再生信号のジッターを低減させた光情報記録方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本実施の形態のブロック図である。
【図２】  本実施の形態の記録用レーザ光の波形図（記録ステラトジー）の一例であり、（ａ）は２Ｔ信号、（ｂ）は３Ｔ信号、（ｃ）は８Ｔ信号を示す。
【図３】  本実施の形態の記録用レーザ光の波形図の他の一例である。
【図４】  基板の溝形状を説明する部分断面図である。
【図５】  従来の形態の記録用レーザ光の波形図である。
【符号の説明】
１０…光ディスク
１２…光ヘッド
２０…ディスクモータ
２４…トラッキング回路
２６フィードサーボ回路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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