(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の透明基板と、
前記一対の透明基板に介在する表示媒体とを有し、
一方の透明基板の表示媒体側に、少なくとも反射層が形成され、
前記反射層は、予め定める表示領域と、前記表示領域周辺の非表示領域とを含む領域に形成され、
前記表示領域および非表示領域に形成された反射層にそれぞれ複数の開口部が設けられ、
前記非表示領域に形成された反射層における単位面積当たりの開口部面積は、前記表示領域に形成された反射層における単位面積あたりの開口部面積より小さいことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記非表示領域に形成された反射層に設けられる開口部は、互いに隣接する開口部の中心間の距離が一定となるように設けられることを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項３】
前記非表示領域に形成された反射層に設けられる開口部の開口率は、６％以上１５％以下であることを特徴とする請求項１または２記載の表示装置。
【請求項４】
前記反射層が形成される透明基板の表示媒体側には樹脂層が形成され、
前記反射層は、前記樹脂層上に形成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、周辺が明るい場合は、外光を反射して利用する反射型として動作し、周辺が暗い場合は、バックライトを利用する透過型として動作する半透過型の表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
携帯電話装置やＰＤＡ（Personal Digital Assistant）端末など携帯情報端末への液晶表示装置や有機ＥＬ（Electroluminescent）表示装置の応用が急速に進展している。
【０００３】
携帯情報端末は、バッテリによって動作する場合が多いので、低消費電力化が望まれている。したがって、携帯情報端末には、電灯光や太陽光が照射されている明るい環境下では光源を必要とせず、外光を利用して表示を行うことが可能な反射型の液晶表示装置が多く用いられている。しかし、反射型の場合、外光が利用できない暗い環境下では、表示することができない。これに対応するため、明るい環境下では外光を利用して表示を行い、暗い環境下ではバックライトの光を利用して表示を行う半透過型の液晶表示装置が開発されている。
【０００４】
図７は、後述する本発明の比較例５の液晶表示装置３の構成を示しており、構成が類似していることから、ここでは、図７を参照して特開平１１−５２３６６号公報記載の半透過型液晶表示装置について説明する。基板１０に反射層１１とカラーフィルタ１２とをこの順に積層形成し、オーバーコート層１３でコーティングする。オーバーコート層１３上に透明電極１４を形成し、透明電極１６を形成した基板１７と基板１０とを、透明電極１４および１６が対向するようにシール材１５を介在させて張り合わせ、液晶１９を狭持する。反射層１１には、カラーフィルタ１２の画素部分と対向する部位の一部に、バックライトからの光を透過させるための開口部２２が設けられている。これにより、基板１７側から入射する外光は反射層１１で反射し、基板１０側のバックライトの光は開口部２２を透過することで半透過型の液晶表示装置を実現している。なお、開口部２２の形成方法としては、エッチング法や印刷法などを用いることができる。
【０００５】
ここで、シール材１５近傍部の非表示領域では、バックライト使用時の光抜けを防ぐためにベタ状の反射膜で覆うような設計が行われている。
【０００６】
また、反射層１１の下には、反射光を適度に拡散させて液晶表示装置の視認性をよくするための凹凸形状を有する樹脂拡散層や様々な樹脂下地層が形成される場合や基板自体が樹脂である樹脂基板を用いる場合もある。
【０００７】
たとえば、特開２０００−２９８２７１号公報記載の液晶表示素子では、開口を有する反射膜が、基板上に配置された樹脂層上に形成され、この樹脂層は凹凸形状を有している。
【０００８】
また、特開平１１−２５８５９５号公報記載の液晶表示装置では、メタル反射板にバックライト光透過用の小穴を複数設けている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
上述の半透過型液晶表示装置において、基板に反射層を形成した後、カラーフィルタの形成および透明電極の形成などを行うと、高温および真空環境下では反射膜の下にある基板（特に樹脂基板）や基板上に形成された樹脂拡散層およびその他の樹脂下地層などから発生するガスによって、非表示領域の反射層の浮きという不具合が発生する。この反射層の浮きは、やがて反射層の剥がれを引き起こす。この剥がれた反射層は異物となって生産に支障をきたし、歩留まりの低下などの原因となる。
【００１０】
本発明の目的は、製造時の不具合を解消し、歩留まりの向上が可能な表示装置を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、一対の透明基板と、
前記一対の透明基板に介在する表示媒体とを有し、
一方の透明基板の表示媒体側に、少なくとも反射層が形成され、
前記反射層は、予め定める表示領域と、前記表示領域周辺の非表示領域とを含む領域に形成され、
前記表示領域および非表示領域に形成された反射層にそれぞれ複数の開口部が設けられ、
前記非表示領域に形成された反射層における単位面積当たりの開口部面積は、前記表示領域に形成された反射層における単位面積あたりの開口部面積より小さいことを特徴とする表示装置である。
【００１２】
本発明に従えば、一対の透明基板と、一対の透明基板に介在する表示媒体とを有し、一方の透明基板の表示媒体側に、少なくとも反射層が形成される。反射層は、予め定める表示領域と、表示領域周辺の非表示領域とを含む領域に形成され、表示領域および非表示領域に形成された反射層にそれぞれ複数の開口部が設けられる。
【００１３】
これにより、透明基板が樹脂基板であるなど、製造時にガスが発生する場合であっても、表示領域および非表示領域に形成された反射層に設けられた複数の開口部からガスが抜けて反射層の浮きによる不具合を解消することができる。この不具合の解消により、製造時の歩留まり向上が可能となる。
また、非表示領域に形成された反射層における単位面積当たりの開口部面積が、表示領域に形成された反射層における単位面積あたりの開口部面積より小さくなるように設けられ、非表示領域の遮光性を保持することができる。
【００１４】
また本発明は、前記非表示領域に形成された反射層に設けられる開口部は、互いに隣接する開口部の中心間の距離が一定となるように設けられることを特徴とする。
【００１５】
本発明に従えば、非表示領域に形成された反射層に設けられる開口部が、互いに隣接する開口部の中心間の距離が一定となるように設けられる。
【００１６】
これにより、モアレ縞の発生を防止することができ、表示品位の向上が実現できる。
【００１８】
また本発明は、前記非表示領域に形成された反射層に設けられる開口部の開口率は、６％以上１５％以下であることを特徴とする。
【００１９】
本発明に従えば、非表示領域に形成された反射層に設けられる開口部の開口率は、６％以上１５％以下とすることが好ましく、これにより、反射層の浮きが発生しないように十分なガス抜きを行うことができる。
【００２１】
また本発明は、前記反射層が形成される透明基板の表示媒体側には樹脂層が形成され、前記反射層は、前記樹脂層上に形成されることを特徴とする。
【００２２】
本発明に従えば、反射層が形成される透明基板の表示媒体側には樹脂層が形成され、樹脂層上に反射層が形成される。
【００２３】
視認性の観点から、反射光は適度に散乱光を含むことが好ましく、表示装置に入射した外光を散乱させるために、透明基板上に凹凸形状を有する樹脂層を形成し、樹脂層上に反射層を形成する方法が用いられる。製造時には、この樹脂層からガスが発生するが、反射層に形成された開口部からガスが抜け、反射層の浮きを防止することができる。このように、樹脂層を有する表示装置に対しても効果が得られる。
【００２４】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の実施の一形態である液晶表示装置１の構成を示す断面図である。液晶表示装置１は、たとえばＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶表示装置などであって、カラーフィルタ（ＣＦ）側透明基板１０、反射層１１、カラーフィルタ（ＣＦ）１２、オーバーコート層１３、ＣＦ側透明電極１４、シール材１５、ＣＦ側配向膜、液晶１９、ＴＦＴ側配向膜、ＴＦＴ側透明電極１６、ＴＦＴ素子、ＴＦＴ側透明基板１７および位相差板付き偏光子１８を有する。なお、ＣＦ側配向膜、ＴＦＴ側配向膜およびＴＦＴ素子については図示せず省略する。
【００２５】
ＣＦ側透明基板１０上には、外光を反射するための反射層１１が形成される。本実施形態では、後述のように、形成された反射層１１の全面（表示領域および非表示領域を含む領域）にわたって開口部２２を設ける。開口部２２を設けた反射層１１上にカラー表示を行うためのカラーフィルタ１２が形成される。反射層１１およびカラーフィルタ１２の保護およびＣＦ側透明電極１４下地の平坦化のためのオーバーコート層１３が形成され、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などからなるＣＦ側透明電極１４が形成される。ＣＦ側透明電極１４上に、液晶１９の配向を制御するためのＣＦ側配向膜が形成され、ラビング処理などが施される。
【００２６】
ＴＦＴ側透明基板１７上には、ＩＴＯなどからなるＴＦＴ側透明電極１６および、ＴＦＴ側透明電極１６に印加する駆動電圧を制御するためのＴＦＴ素子が形成される。ＴＦＴ素子およびＴＦＴ側透明電極１６上に、液晶１９の配向を制御するためのＴＦＴ側配向膜が形成され、ラビング処理などが施される。
【００２７】
ＣＦ側透明基板１０またはＴＦＴ側透明基板１７の電極形成側に、スクリーン印刷法などによって熱硬化型樹脂などからなるシール材１５を、基板の周辺に液晶の注入口となる隙間をあけて略環状に形成し、ＣＦ側透明基板１０とＴＦＴ側透明基板１７とを電極が対向するように張り合わせる。張り合わせた基板を加熱するなどしてシール材１５を硬化させ、基板間に表示媒体である液晶１９を注入する。注入口を封止し、ＴＦＴ側透明基板１７の外側に、位相差板付き偏光子１８を貼り付ける。
【００２８】
こうして作成された液晶表示装置１の予め外部に引き出していた各電極の端子部分に、ドライバＩＣおよびコントローラＩＣを実装し、ＣＦ側透明基板１０の外側にバックライトを装着することで、表示可能な液晶ディスプレイモジュールが得られる。
【００２９】
液晶表示装置１などの表示装置には、表示画面の大きさなどに基づいて表示領域が予め定められている。たとえば、ＴＦＴ側透明電極とＣＦ側透明電極とが対向する画素は、表示領域内に形成される。
【００３０】
図２は、反射層１１の平面図である。反射層１１は、予め定める表示領域と表示領域周辺の非表示領域とを含む領域に形成されており、表示領域に形成された反射層２０（以下では表示領域２０と略称する。）および非表示領域に形成された反射層２１（以下では非表示領域２１と略称する。）にそれぞれ複数の開口部を設ける。図３は、図２の領域Ａの部分を拡大した反射層１１の平面図である。図に示すように表示領域２０と非表示領域２１とに“○”で示される開口部２２が複数設けられている。
【００３１】
反射層１１の表示領域２０に設けられる開口部２２ａは、バックライト点灯時にバックライトからの光を透過するとともに、製造時に発生し、反射層１１の浮きの原因となるガスを抜くための開口部である。非表示領域２１に設けられる開口部２２ｂは、製造時に発生し、反射層１１の浮きの原因となるガスを抜くための開口部である。
【００３２】
反射層１１形成後のカラーフィルタ１２形成工程、オーバーコート層１３形成工程およびＣＦ側透明電極１４形成工程などでは、ＣＦ側透明基板１０は、高温および真空環境下で処理される。ＣＦ側透明基板１０が樹脂基板である場合、高温および真空環境下では基板からガスが発生するが、非表示領域２１に開口部２２ｂを設けているため、開口部２２ｂからガスが抜け、非表示領域２１における“反射層の浮き”の不具合が解消される。
【００３３】
また、液晶表示装置１の反射層１１が外光を反射する場合に、反射光が鏡面反射光を多く含んでいると、観測者は眩しいために視認性が低下してしまう。したがって、反射光は適度に散乱光を含んでいる必要がある。反射光を適度に散乱させるためには、ＣＦ側透明基板１１上に凹凸形状を有する樹脂層を形成し、凹凸形状の樹脂層の上に反射層１１を形成する方法が多く用いられる。このような場合、ＣＦ側透明基板１１が樹脂ではなくガラスなどであっても、前述の各工程において樹脂層からガスが発生するが、非表示領域２１に開口部２２ｂを設けているため、開口部２２ｂからガスが抜け、非表示領域２１における“反射層の浮き”の不具合が解消される。
【００３４】
反射層１１の形成方法としては、ＣＦ側透明基板１０に蒸着法で直接形成する場合およびＣＦ側透明基板１０に一旦凹凸形状の樹脂層を形成し、樹脂層の上に蒸着法で形成する場合などがある。開口部２２の形成方法としては、反射層１１をエッチングすることにより形成する方法などがある。なお、樹脂基板としてのＣＦ側透明基板１０は、エポキシ樹脂などからなり、樹脂層は、アクリル系樹脂などからなる。また、反射層１１は、銀、あるいは銀合金などからなる。
【００３５】
以下では、開口部２２についてさらに詳細に説明する。
半透過型液晶表示装置において、反射層１１の非表示領域２１は、バックライトからの光に対する遮光性を有していなければならない。したがって、図３に示すように、非表示領域２１における単位面積当たりの開口部２２ｂの面積は、表示領域２０における単位面積あたりの開口部２２ａの面積より小さくすることで、ガス抜きが可能で、かつ遮光性を保持した反射層１１を実現できる。
【００３６】
図４は、図３の反射層１１の基準領域を示す模式図である。図中の二点鎖線による矩形は、基準領域を示している。基準領域は、開口率などを算出する際の基準となる領域である。表示領域２０における基準領域は、画素に基づいて設定される。画素は、ＣＦ側透明電極１４とＴＦＴ側透明電極１６とが対向する領域に基づいており、画像を表示する際の最小単位である。またハッチングされた画素上には、カラーフィルタ１２の着色層が形成される。
【００３７】
ＣＦ側透明電極１４およびＴＦＴ側透明電極１６ともに電極間にはギャップ（線間ギャップ）が設けられており、各画素にも線間ギャップと同程度のギャップ（画素ギャップ）が存在する。非表示領域２１の基準領域は、画素に対して画素ギャップを縦横片側ずつ加えた領域として設定される。たとえば、画素の大きさが１００×１００μｍで、線間ギャップ（＝画素ギャップ）が縦１０μｍ、横５μｍのとき、非表示領域２１の基準領域の大きさは、（１００＋１０）×（１００＋５）μｍとなる。
【００３８】
基準領域に基づいて算出した非表示領域２１における単位面積当たりの開口部２２ｂの面積を、表示領域２０における単位面積あたりの開口部２２ａの面積より小さくすることが好ましい。
【００３９】
さらに、非表示領域２１において、画素領域面積と画素領域に含まれる開口部面積との比を開口率（画素領域に含まれる開口部面積／画素領域面積×１００[％]）とすると、非表示領域２１に設けられる開口部２２ｂの開口率は、６％以上１５％以下であることが好ましい。６％より小さいと十分にガスが抜けず、１５％より大きいとガスは抜けるが透過する光の量が増加し、遮光性が低下して視認性が悪くなる。さらに好ましくは、９％以上１１％以下の範囲である。この開口率は、非表示領域２１にカラーフィルタ１２の着色膜を配置し、遮光性を向上させることにより最適値が変化するため適宜決定すればよい。また、この非表示領域２１にブラックマスク（遮光膜）を形成することで、遮光性が向上し、非表示領域２１の開口率を大きくすることが可能になる。これにより、開口率を大きくすることで反射層１１の浮きの原因であるガス抜きを効率よく行うことが可能になる。
【００４０】
なお、表示領域２０の開口率（基準領域に含まれる開口部面積／基準領域の面積×１００[％]）は、３０〜６０％とすることが好ましく、透過表示／反射表示でバランスのよい明るさ（明度）が得られる。特にこの範囲は、カラーフィルタによるカラー液晶表示装置に最適な値であり、３０％より小さい場合は透過光の量が少なく透過表示時に画面が暗くなり、６０％より大きい場合は、反射表示時に画面が暗く視認性が悪くなる。
【００４１】
また、開口部によるモアレ現象を防止するために、非表示領域２１に設けられる開口部２２ｂは、互いに隣接する開口部２２ｂの中心間の距離（開口部ピッチ）が一定となるように設ければよい。
【００４２】
以上のように、表示領域２０に加え、非表示領域２１にも開口部２２ｂを形成することで、反射層の浮きを防止して製造時の歩留まりを向上することができる。また、開口率および開口部ピッチを調整することで、遮光性を保持し、モアレ現象を防止することができる。また、非表示領域２１の開口部２２ｂは、表示領域２０の開口部と同様の方法、たとえばエッチング法などで容易に形成することができる。
【００４３】
以下では本発明の実施例について説明する。
本願実施例では、１．９型の液晶表示装置を作成した。液晶表示装置の構成は、図１に示した構成と同じとした。
【００４４】
まず、実施例１〜３および比較例１,２について説明する。
実施例１〜３および比較例１,２は、非表示領域の開口部の直径、すなわち開口部の面積が異なるだけで、他の条件については全て同じとした。
【００４５】
１）画素
画素の大きさ：２１０×６５μｍ
各画素の線間ギャップ：縦方向３０μｍ  横方向１５μｍ
画素ピッチ：縦  ２４０μｍ（＝２１０＋３０）
：横    ８０μｍ（＝  ６５＋１５）
２）表示領域の開口部
直径６０μｍの円形の開口部を、１基準領域あたり２個形成
開口率＝１基準領域中の開口部面積／１基準領域の面積（％）
＝（３０×３０×π×２）／（２１０×６５）×１００
＝４１．１％
開口部ピッチ：縦  １２０μｍ（縦方向に隣接する開口部の中心間距離）
：横    ８０μｍ（横方向に隣接する開口部の中心間距離）
【００４６】
上記１）,２）の条件下において、実施例１では次のように非表示領域の開口部を形成した。
【００４７】
実施例１（図４参照）
・非表示領域の開口部
直径２７μｍの円形の開口部を、１基準領域あたり２個形成
開口率＝１基準領域中の開口部面積／１基準領域の面積（％）
＝（１３．５×１３．５×π×２）／（２４０×８０）×１００
＝６．０％
開口部ピッチ：縦  １２０μｍ（縦方向に隣接する開口の中心間距離）
：横    ８０μｍ（横方向に隣接する開口の中心間距離）
【００４８】
以上のような寸法で作成した液晶表示装置について、遮光性および反射層の浮きの評価を行った。遮光性は、液晶表示装置完成後にＣＦ側透明基板１０側でバックライトを点灯し、開口部を目視で評価した。反射層の浮きは、ＣＦ側透明電極１４形成後に目視で評価した。評価結果を、後述の実施例２〜７および比較例１〜３の結果とともに表１に示す。
【００４９】
【表１】
0004053335.tif 000002
【００５０】
実施例１では、遮光性良好、かつ反射層の浮きも発生しなかった。
実施例２,３は、実施例１と非表示領域の開口部の直径だけが異なっており、それぞれ３５μｍ,４１μｍとした。開口率は、実施例２が１０．０％、実施例３が１３．７％となる。
【００５１】
実施例２では、開口部は目視されず、かつ反射層の浮きも発生しなかった。実施例３では、開口部は辛うじて目視されず、かつ反射層の浮きも発生しなかった。
【００５２】
比較例１,２は、実施例１と非表示領域の開口部の直径だけが異なっており、それぞれ２５μｍ,４３μｍとした。開口率は、比較例１が５．１％、比較例２が１５．１％となる。
【００５３】
比較例１では、遮光性は良好であったが、反射層の浮きが発生した。これは、開口部が小さすぎたため十分なガス抜きができなかったと考えられる。比較例２では、開口部が目視で確認されたが、反射層の浮きは発生しなかった。これは、ガス抜きは十分行われたが、開口部が大きすぎたため透過する光の量が増加したと考えられる。
【００５４】
以上の結果より、非表示領域の開口率は、６％以上１５％以下が好ましいことがわかった。遮光性の観点からは、９％以上１１％以下とすることがさらに好ましい。
【００５５】
次に、実施例４〜７および比較例３について説明する。画素寸法および表示領域の開口部寸法については、実施例１における条件１）,２）と同様である。まず、実施例４の非表示領域の開口部については次のような寸法で作成した。
【００５６】
実施例４（図５参照）
・非表示領域の開口部
直径２４μｍの円形の開口部を、１基準領域あたり３個形成
開口率＝１基準領域中の開口部面積／１基準領域の面積（％）
＝（１２×１２×π×３）／（２４０×８０）×１００
＝７．１％
開口部ピッチ：縦  ８０μｍ（縦方向に隣接する開口部の中心間距離）
：横  ８０μｍ（横方向に隣接する開口部の中心間距離）
【００５７】
以上のような寸法で作成した液晶表示装置について、遮光性および反射層の浮きの評価を行った。
【００５８】
表１に示すように、実施例４では、遮光性良好、かつ反射層の浮きも発生しなかった。
【００５９】
実施例５〜７は、実施例４と非表示領域の開口部の直径だけが異なっており、それぞれ２８μｍ,３２μｍ,３４μｍとした。開口率は、実施例５が９．６％、実施例６が１２．６％、実施例７が１４．２％となる。
【００６０】
実施例５では、遮光性良好、かつ反射層の浮きも発生しなかった。実施例６,７では、開口部は目視されず、かつ反射層の浮きも発生しなかった。
【００６１】
比較例３は、実施例４と非表示領域の開口部の直径だけが異なっており、２２μｍとした。開口率は５．９％となる。
【００６２】
比較例３では、遮光性は良好であったが、反射層の浮きが発生した。これは、開口部が小さすぎたため十分なガス抜きができなかったと考えられる。
【００６３】
なお、実施例１〜７および比較例１〜３について、モアレ縞の有無を基板貼合せ完了時に目視で観察したが、開口部のピッチを揃えていたためモアレ現象は見られなかった。
【００６４】
また、反射層の浮きに対する非表示領域の大きさの影響を調べるために、比較例４,５の液晶表示装置を作成した。図６,７はそれぞれ比較例４,５の液晶表示装置２,３の構成を示している。液晶表示装置２の構成において、非表示領域に開口部を形成していないこと以外は、図１に示した液晶表示装置１の構成と同じである。液晶表示装置３の構成において、非表示領域の幅が表示領域の開口部ピッチよりも小さく、非表示領域に開口部を形成していないこと以外は、図１に示した液晶表示装置１の構成と同じである。
【００６５】
比較例４では、開口部が形成されていないため、非表示領域の反射層の浮きが発生した。比較例５では、開口部が形成されていないにもかかわらず、非表示領域の反射層の浮きは発生しなかった。比較例５のように、非表示領域の幅が表示領域の開口部ピッチよりも小さい場合は、発生したガスの影響が小さいため反射層の浮きが発生しなかったと考えられる。したがって、本発明は、非表示領域の幅が、表示領域の開口部ピッチよりも大きい場合に、特に効果が現れやすい。
【００６６】
以上のような本発明の特徴をまとめると次のようになる。
▲１▼遮光性を向上させるためには、非表示領域２１の開口部２２ｂの面積は小さい程良い。
開口部２２ｂの直径は、４０μｍ以下から透過光の低減が見られ、３０μｍ以下とすることがさらに好ましい。
▲２▼非表示領域２１の開口部２２ｂの面積が小さくなると十分なガス抜きが行われないので、小さな開口部を数多く設けることが好ましい。
▲３▼モアレ現象防止のためには、非表示領域２１における開口部２２ｂの開口部ピッチを、縦方向、横方向それぞれで一定とすることが好ましい。
▲４▼モアレ現象防止のためには、開口部ピッチを非表示領域２１と表示領域２０とで同じにすることが好ましい。
▲４▼モアレ現象防止のためには、開口部の位置および開口部ピッチの両方を非表示領域２１と表示領域２０とで同じにすることがより好ましい。
▲５▼開口部ピッチは同じでなくとも、整数倍に設定しても良い。
▲６▼モアレ現象の観点から、電極引き回し部などの電極が、画素の並び方向に対して斜め方向に形成されている領域では、開口部も同様の角度にて配置するのが好ましい。
【００６７】
なお、上記の実施形態および実施例では、開口部２２の平面形状を円として示しているが、楕円および方形などその他の形状であってもよい。
【００６８】
また、表示媒体が液晶である液晶表示装置について説明したが、本発明は、表示媒体にトナーを用いたトナー表示装置など非発光型であって、半透過型の表示装置であれば適応可能である。
【００６９】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、透明基板が樹脂基板であるなど、製造時にガスが発生する場合であっても、表示領域および非表示領域に形成された反射層に設けられた複数の開口部からガスが抜けて反射層の浮きによる不具合を解消することができる。この不具合の解消により、製造時の歩留まり向上が可能となり、非表示領域の遮光性を保持することができる。
【００７０】
また本発明によれば、モアレ縞の発生を防止することができ、表示品位の向上が実現できる。
【００７１】
また本発明によれば、反射層の浮きが発生しないように十分なガス抜きを行うことができる。
【００７２】
また本発明によれば、樹脂層から発生するガスによる反射層の浮きを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の一形態である液晶表示装置１の構成を示す断面図である。
【図２】反射層１１の平面図である。
【図３】図２の領域Ａの部分を拡大した反射層１１の平面図である。
【図４】図３の反射層１１の基準領域を示す模式図である。
【図５】図３の反射層１１の基準領域を示す模式図である。
【図６】液晶表示装置２の構成を示す断面図である。
【図７】液晶表示装置３の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
１，２，３  液晶表示装置
１０  カラーフィルタ（ＣＦ）側透明基板
１１  反射層
１２  カラーフィルタ（ＣＦ）
１３  オーバーコート層
１４  ＣＦ側透明電極
１５  シール材
１６  ＴＦＴ側透明電極
１７  ＴＦＴ側透明基板
１８  位相差板付き偏光子
１９  液晶
２０  表示領域
２１  非表示領域
２２  開口部
【図１】
0004053335.tif 000003
【図２】
0004053335.tif 000004
【図３】
0004053335.tif 000005
【図４】
0004053335.tif 000006
【図５】
0004053335.tif 000007
【図６】
0004053335.tif 000008
【図７】
0004053335.tif 000009