(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性のフィルム基板を略水平状態で水平移動可能に支持して内外間を進退するトレイを有するとともに、内部にプラズマを発生させるチャンバと、このチャンバの外部に進退した前記トレイに対して前記フィルム基板を搬入・搬出する搬入・搬出機構と、からなり、前記チャンバの内部に進退した前記トレイに支持された前記フィルム基板を前記プラズマにより洗浄するプラズマ洗浄装置において、
前記搬入・搬出機構は、前記フィルム基板を水平移動可能に支持する基板搬送機構と、前記フィルム基板の一端部を掴持するとともに前記基板搬送機構及びトレイ間を水平移動して前記フィルム基板を相互に移載する第１の移載機構と、を備えており、
前記基板搬送機構には、前記フィルム基板の両側部を案内しつつ支持する溝が形成された一対の突条と、この一対の突条の中間で平行に延在し前記フィルム基板を略水平状態に押し上げるように昇降するバックアッププレートと、が設けられたことを特徴とするプラズマ洗浄装置。
【請求項２】
前記バックアッププレートが前記一対の突条の中間から一方の突条に向けて水平移動することを特徴とする請求項１に記載のプラズマ洗浄装置。
【請求項３】
前記一対の突条に対し、前記溝及びバックアッププレートがそれぞれ上下方向に２段設けられたことを特徴とする請求項２に記載のプラズマ洗浄装置。
【請求項４】
前記一方の突条に固定された１つの昇降シリンダと、この昇降シリンダに連結された可動部材と、この可動部材に上下方向で固定された２つの水平シリンダと、を備え、前記各バックアッププレートがそれぞれ前記各水平シリンダに連結されたことを特徴とする請求項３に記載のプラズマ洗浄装置。
【請求項５】
更に前記搬入・搬出機構は、洗浄処理前の前記フィルム基板を棚板状に複数枚収納した供給側マガジンと、洗浄処理後の前記フィルム基板を棚板状に複数枚収納する排出側マガジンと、前記供給側マガジンに収納された洗浄処理前の前記フィルム基板を水平移動させて前記基板搬送機構に移載する第２の移載機構と、前記基板搬送機構に支持された洗浄処理後の前記フィルム基板を水平移動させて前記排出側マガジンに移載する第３の移載機構と、を備えたことを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のプラズマ洗浄装置。
【請求項６】
前記第２の移載機構は、前記フィルム基板の一端部を押圧して前記供給側マガジンから前記フィルム基板の他端部を突出させる押圧機構と、この第１の押圧機構により突出した前記他端部を掴持して前記フィルム基板を前記基板搬送機構に引き込む掴持引込機構と、からなることを特徴とする請求項５に記載のプラズマ洗浄装置。
【請求項７】
前記第３の移載機構は、前記フィルム基板の一端部の下面を吸着して前記フィルム基板を前記排出側マガジンに引き込む吸着引込機構からなることを特徴とする請求項５又は６に記載のプラズマ洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマにより基板を洗浄するプラズマ洗浄装置に関し、特に、可撓性のある薄いフィルム状の基板（以下、「フィルム基板」と記すことがある）に対してのプラズマ洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
プラズマ洗浄装置は、一般的に、基板を略水平状態で水平移動可能に支持して内外間を進退するトレイを有するとともに、内部にプラズマを発生させるチャンバと、このチャンバの外部に進退したトレイに対して基板を搬入・搬出する搬入・搬出機構と、からなっている。ここで、従来の搬入・搬出機構としては、例えば、基板を水平移動可能に支持する基板搬送機構と、基板の一端部を掴持するとともに前記基板搬送機構及びトレイ間を水平移動して前記フィルム基板を相互に移載する移載機構と、を備えており、特に、基板搬送機構には、基板の両側部を案内しつつ支持する溝が形成された一対の突条が設けられている。
【０００３】
このようなプラズマ洗浄装置によれば、洗浄処理前の基板は、基板搬送機構に供給されて突条の溝でその両側部が支持され、チャンバの外部に進退したトレイの側部近傍に基板搬送機構とともに搬送され、次いで、移載機構によりその一端部が掴持されて水平移動でトレイに移載され、その後、トレイとともにチャンバの内部に進退して収容され、プラズマによる洗浄処理が施される。そして、チャンバ内でプラズマ洗浄された洗浄処理後の基板は、トレイとともにチャンバの外部に進退し、次いで、移載機構によりその一端部が掴持され、水平移動で基板搬送機構に移載されて突条の溝でその両側部が支持され、その後、基板搬送機構とともに所定位置に搬送されて装置外へ排出される。
【０００４】
ところで、プラズマ洗浄の対象となる基板としては、従来は、フェノール系やエポキシ系の樹脂製の硬質基板がほとんどであったが、近年では、例えば携帯電話機のような薄い小型の携帯情報機器等に搭載するために、厚さ５０〜１００μｍ程度と薄く可撓性のあるフィルム基板が主流となってきている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、そのフィルム基板は、硬質基板と異なり自由に屈曲するという特質を有するため、上記した従来のプラズマ洗浄装置に用いられた場合、基板搬送機構に設けられた突条の溝でその両側部が支持されると、自重や実装部品等の重量によりその中央部が下方に湾曲した状態となる。すると、移載機構に対するフィルム基板の姿勢が不安定となって掴み失敗が頻発したり、トレイへの移載の際湾曲したフィルム基板の端部がトレイの側部と激突したりして、操業トラブルが発生する。従って、一連の工程が円滑に進まず全体として洗浄効率が悪化し、また、トレイとの激突によりフィルム基板が破損して不良のフィルム基板が激増するという問題があった。
【０００６】
なお、従来多用されていた硬質基板の場合は、それがほとんど屈曲しないことから、上記のような問題は基本的に生じなかった。
【０００７】
そこで、本発明は、上記の問題に鑑みてなされたものであり、洗浄効率の悪化を防止するとともに、良好な洗浄されたフィルム基板を得るべく、基板搬送機構におけるフィルム基板の不用意な湾曲規制を図ったプラズマ洗浄装置を提供することを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明によるプラズマ洗浄装置は、可撓性のフィルム基板を略水平状態で水平移動可能に支持して内外間を進退するトレイを有するとともに、内部にプラズマを発生させるチャンバと、このチャンバの外部に進退した前記トレイに対して前記フィルム基板を搬入・搬出する搬入・搬出機構と、からなり、前記チャンバの内部に進退した前記トレイに支持された前記フィルム基板を前記プラズマにより洗浄するプラズマ洗浄装置において、前記搬入・搬出機構は、前記フィルム基板を水平移動可能に支持する基板搬送機構と、前記フィルム基板の一端部を掴持するとともに前記基板搬送機構及びトレイ間を水平移動して前記フィルム基板を相互に移載する第１の移載機構と、を備えており、前記基板搬送機構には、前記フィルム基板の両側部を案内しつつ支持する溝が形成された一対の突条と、この一対の突条の中間で平行に延在し前記フィルム基板を略水平状態に押し上げるように昇降するバックアッププレートと、が設けられている。
【０００９】
ここで、フィルム基板が基板搬送機構の突条の溝に供給される際に湾曲していても、バックアッププレートと干渉しないように、前記バックアッププレートが前記一対の突条の中間から一方の突条に向けて水平移動するようになっているとよい。
【００１０】
更に、基板搬送機構がトレイに対して洗浄処理後のフィルム基板を受け入れるとともに、洗浄処理前のフィルム基板を受け渡すことができれば能率が向上するので、これを達成するため、前記一対の突条に対し、前記溝及びバックアッププレートがそれぞれ上下方向に２段設けられることが好ましい。
【００１１】
更に、上下方向に２段設けられた各バックアッププレートが昇降及び水平移動する機構を簡単に得るために、前記一方の突条に固定された１つの昇降シリンダと、この昇降シリンダに連結された可動部材と、この可動部材に上下方向で固定された２つの水平シリンダと、を備え、前記各バックアッププレートがそれぞれ前記各水平シリンダに連結されることが好ましい。これにより、各バックアッププレートは、昇降シリンダの駆動により一体的に昇降し、各水平シリンダの駆動によりそれぞれ個別に水平移動できる。
【００１２】
また、基板搬送機構に洗浄処理前のフィルム基板を供給し、他方基板搬送機構から洗浄処理後のフィルム基板を排出するに際して、効率よく自動で行えるように、更に前記搬入・搬出機構は、洗浄処理前の前記フィルム基板を棚板状に複数枚収納した供給側マガジンと、洗浄処理後の前記フィルム基板を棚板状に複数枚収納する排出側マガジンと、前記供給側マガジンに収納された洗浄処理前の前記フィルム基板を水平移動させて前記基板搬送機構に移載する第２の移載機構と、前記基板搬送機構に支持された洗浄処理後の前記フィルム基板を水平移動させて前記排出側マガジンに移載する第３の移載機構と、を備えるとよい。
【００１３】
ここで、フィルム基板を基板搬送機構に移載供給する手法として、単にその端部を水平方向に押圧するのみでは、移載中にフィルム基板が不用意に変形して、移載トラブルやフィルム基板の損傷という問題を引き起こすおそれがある。この問題の発生を抑止する観点から、前記第２の移載機構は、前記フィルム基板の一端部を押圧して前記供給側マガジンから前記フィルム基板の他端部を突出させる押圧機構と、この第１の押圧機構により突出した前記他端部を掴持して前記フィルム基板を前記基板搬送機構に引き込む掴持引込機構と、からなることが好ましい。
【００１４】
更に、フィルム基板を基板搬送機構から移載排出する手法には、上記と同様に移載トラブルやフィルム基板の損傷という問題があり、この問題を抑止する観点から、前記第３の移載機構は、前記フィルム基板の一端部の下面を吸着して前記フィルム基板を前記排出側マガジンに引き込む吸着引込機構からなることが好ましい。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明のプラズマ洗浄装置の具体的な実施形態について、図面を参照しながら詳述する。図１は本発明のプラズマ洗浄装置の全体構成を示す概略斜視図、図２は図１における右側のチャンバ及びトレイの拡大図、図３は図１における基板搬送機構の拡大図、図４は図３のＡ−Ａ断面図、図５は図１におけるチャンバ側移載機構の拡大図、図６はチャンバ側移載機構における掴持機構の縦断面図、図７は図１における押圧機構の拡大図、図８は図１における掴持移載・押圧機構の拡大図、図９は掴持移載・押圧機構における掴持・押圧機構の縦断面図、図１０は図１における吸着移載機構の拡大図、図１１〜１４はフィルム基板の移載動作を説明する概略図、図１５は基板搬送機構におけるフィルム基板のバックアップ動作を説明する概略図である。なお、図中で同じ名称で同じ機能を有する部分には同一の符号を付している。
【００１６】
図１に示すように、このプラズマ洗浄装置１００は、大きくは、内部にプラズマを発生させ導入したフィルム基板Ａを洗浄する左右一対のチャンバ１０１と、この一対のチャンバ１０１に対して交互にフィルム基板Ａを搬入・搬出する搬入・搬出機構１０２とからなっている。
【００１７】
各チャンバ１０１は、相互に所定間隔を有して配置されていて、図２に示すように、真空容器である箱状のチャンバ本体１１１と、チャンバ本体１１１の前面に設けられたフランジ状の蓋体１１２とを有している。蓋体１１２は、両側に設けた蓋ガイド１１３によりチャンバ本体１１１に対して進退自在に構成され、且つチャンバ本体１１１の側面に設けたチャンバ開閉シリンダ（エアシリンダ）１１４のピストンロッド１１５と連結板１１６で連結され、また蓋体１１２の内側には導電性材料からなるトレイ１１７が取り付けられている。このような構成のもとで、チャンバ開閉シリンダ１１４が駆動されて蓋体１１２が前進すると、チャンバ本体１１１が開放されるとともにトレイ１１７が引き出され、蓋体１１２が後退すると、トレイ１１７が押し込まれるとともにチャンバ本体１１１が閉塞される（図１参照）。
【００１８】
また、本実施形態では、トレイ１１７上で２枚のフィルム基板Ａを前後に並べて収容支持できるように、トレイ１１７上には、相互に内向きの受け溝１１９が形成された一対の突条１１８が前後方向に２つ設けられ、更に各一対の突条１１８の中間で延在する中間突条１２０が１つずつ設けられている。この中間突条１２０は、トレイ１１７の上面に対するその高さが一対の突条１１８に形成された受け溝１１９の高さとほぼ同程度に設定され、その両端部が傾斜面に面取りされている。このような構成のもと、トレイ１１７が引き出された状態で、後述するチャンバ側移載機構４により、２枚のフィルム基板Ａが基板搬送機構３とトレイ１１７との間で左右水平方向に授受される。その際、各フィルム基板Ａは、その両側部が各一対の突条１１８に形成された受け溝１１９で案内されるとともに、その下面中央部が各中間突条１２０と摺動しながら湾曲が規制され、略水平状態で移動しつつ支持される。
【００１９】
なお、チャンバ開閉シリンダ１１４は、右側のチャンバ１０１（１０１ａ）では、そのチャンバ本体１１１の右側面に取り付けられているが（図２参照）、左側のチャンバ１０１（１０１ｂ）では、その左側面に取り付けられている。
【００２０】
次に、搬入・搬出機構１０２は、図１に示すように、洗浄処理前のフィルム基板Ａ（以下、「未処理フィルム基板Ａａ」と記すことがある）を棚板状に複数枚収納した供給側マガジン１１を備えた供給側マガジン部１と、洗浄処理後のフィルム基板Ａ（以下、「処理フィルム基板Ａｂ」と記すことがある）を棚板状に複数枚収納する排出側マガジン２１を備えた排出側マガジン部２と、両チャンバ１０１と供給側マガジン部１及び排出側マガジン部２との間でフィルム基板Ａを搬送する基板搬送機構３と、この基板搬送機構３と両チャンバ１０１との間でフィルム基板Ａの端部を掴持して移載するチャンバ側移載機構４と、供給側マガジン１１に収納された未処理フィルム基板Ａａの一端部を押圧し、供給側マガジン１１から基板搬送機構３に向けて未処理フィルム基板Ａａの他端部を突出させる押圧機構５と、この押圧機構５により突出した未処理フィルム基板Ａａの他端部を掴持して基板搬送機構３に移載するとともに、基板搬送機構３に収容支持された処理フィルム基板Ａｂの一端部を押圧し基板搬送機構３から排出側マガジン２１に向けて処理フィルム基板Ａｂの他端部を突出させる掴持移載・押圧機構６と、この掴持・押圧機構６により突出した処理フィルム基板Ａｂの他端部の下面を吸着して排出側マガジン２１に移載する吸着移載機構７と、を有している。
【００２１】
供給側マガジン部１は左側のチャンバ１０１ｂの前下方に、他方排出側マガジン部２は右側のチャンバ１０１ａの前下方に、相互に所定間隔を有して左右方向で対向配置されている。供給側マガジン部１は、複数個（図１では３個を図示）の供給側マガジン１１を前後方向に並べて載置可能な供給側マガジン載置台１２を有していて、この供給側マガジン載置台１２は、不図示の駆動部により前後方向及び上下方向に移動が可能になっている。ここで、供給側マガジン１１は、複数段に亘ってフィルム基板Ａを棚板状に収容できるように、両側壁にそれぞれ複数段の受け部（不図示）が形成されており、未処理フィルム基板Ａａを収納した状態で、前側開放面を基板搬送機構３側（右側）に向けて供給側マガジン載置台１２上に載置されている。
【００２２】
他方、排出側マガジン部２は、供給側マガジン部１と同様に、複数個の排出側マガジン２１を載置可能で、不図示の駆動部により前後方向及び上下方向に移動が可能な排出側マガジン載置台２２を有している。ここで、排出側マガジン２１は、供給側マガジン１１と同一のもので相互に共用でき、前面を基板搬送機構３側（左側）に向けて供給側マガジン載置台１２上に載置されている。
【００２３】
基板搬送機構３は、供給側マガジン部１及び排出側マガジン部２と、各チャンバ１０１から引き出された各トレイ１１７との間を移動する構成となっている。つまり、図３、４に示すように、駆動部（不図示）により前後方向及び上下方向に移動が可能なベースプレート３０を有していて、このベースプレート３０上には、各チャンバ１０１のトレイ１１７上に設けられた二対の突条１１８（図２参照）に対応させて、２枚のフィルム基板Ａを前後に並べて上下２段に収容支持できるように、相互に内向きの上段受け溝３２及び下段受け溝３３が形成された一対の突条３１が前後方向に２つ設けられている。ここで、上段受け溝３２には、詳細は後述するチャンバ側移載機構４により処理フィルム基板Ａｂがその両側部を案内されながら各チャンバ１０１のトレイ１１７から移載され、他方下段受け溝３３には、詳細は後述する押圧機構５及び掴持移載・押圧機構６により、未処理フィルム基板Ａａがその両側部を案内されながら供給側マガジン１１から移載されることになる。
【００２４】
更に、各一対の突条３１のうち各一方の突条３１（図３では最前列と最後列）には、上段受け溝３２と下段受け溝３３との間で貫通する矩形の上段開口３４が左右方向で所定間隔を有して各一対形成され、同様に下段受け溝３３とベースプレート３０との間で貫通する矩形の下段開口３５が左右方向で所定間隔を有して各一対形成されている。ここで、各一対の上段開口３４は、上段受け溝３２に支持された処理フィルム基板Ａｂの下面を押し上げてその湾曲を規制し、略水平状態に保持する役割を果たす上段バックアッププレート８１を配設するために形成されたもので、また同様に、各一対の下段開口３５は、下段受け溝３３に支持された未処理フィルム基板Ａａの下面を押し上げてその湾曲を規制し、略水平状態に保持する役割を果たす下段バックアッププレート８２を配設するために形成されたものである。
【００２５】
つまり、その各上段バックアッププレート８１は、各一対の上段開口３４に挿通する平板コの字状の上段バックアップフック８３の両端部に固定され、同様に各下段バックアッププレート８２は、各一対の下段開口３５に挿通する平板コの字状の下段バックアップフック８４の両端部に固定されている。また、各一対の上段開口３４及び下段開口３５が形成された各突条３１の外面には、上下方向に駆動する昇降シリンダ８５が固定されていて、この昇降シリンダ８５のリニア部８６（昇降シリンダ８５が駆動して上下移動する部分）の上下端部に、それぞれ上段バックアップベース８７及び下段バックアップベース８８が外側に向けて突設されている。更に、各上段バックアップベース８７及び各下段バックアップベース８８には、それぞれ前後方向に駆動する上段水平シリンダ８９及び下段水平シリンダ９０が固定されていて、この上段水平シリンダ８９のリニア部９１（上段水平シリンダ８９が駆動して前後移動する部分）、及び下段水平シリンダ９０のリニア部９２（下段水平シリンダ９０が駆動して前後移動する部分）に、上段バックアップフック８３及び下段バックアップフック８４それぞれの基部が固定されている。
【００２６】
このようにしてフィルム基板Ａのバックアップ機構が構成され、各上段バックアッププレート８１及び各下段バックアッププレート８２は、それぞれ各上段水平シリンダ８９及び各下段水平シリンダ９０の駆動により、各一対の突条３１の中間と一方の突条３１の内面近傍とを個別に前後移動する。また、各上段バックアッププレート８１及び下段バックアッププレート８２は、各一対の突条３１の中間に位置した状態で、それぞれ各昇降シリンダ８５の駆動により一体的に上下移動して、各上段受け溝３２に支持された処理フィルム基板Ａｂ、及び各下段受け溝３３に支持された未処理フィルム基板Ａａの下面を押し上げて略水平状態に保持する。
【００２７】
次に、チャンバ側移載機構４は、図５に示すように、フィルム基板Ａの端部を掴持する掴持機構４１と、この掴持機構４１を一体的に上下移動させる上下方向駆動部４２と、一対のチャンバ１０１間に亘って左右方向に延在し、掴持機構４１及び上下方向駆動部４２を一体的に左右移動させる左右方向駆動部４３（図１参照）と、から構成される。
【００２８】
掴持機構４１の下端部には、前後２枚のフィルム基板Ａの各端部を上下方向から掴持するために、左右方向に突出するとともに先端が二股に形成された左側爪部４４及び右側爪部４５が、それぞれ前後方向に２つずつ設けられている。ここで、各左側爪部４４は、固定の左側下爪４６、及び不図示の駆動部の駆動により上下動して左側下爪４６に対して開閉する左側上爪４７を備え、各右側爪部４５は同様に、固定の右側下爪４８、及び不図示の駆動部の駆動により上下動して右側下爪４８に対して開閉する右側上爪４９を備えている（図６参照）。
【００２９】
次に、押圧機構５は、供給側マガジン部１の左側方に配置され（図１参照）、図７に示すように、左右方向に延在するロッド５１と、図外の機台に固定されたベースプレート５２と、このベースプレート５２上の左端部に固定されるとともにロッド５１の左端部に連結されロッド５１を左右方向に移動させる左右方向駆動部５３と、から構成され、ロッド５１の右端には略直方体のブロック部材５４が取り付けられている。このような構成のもと、左右方向駆動部５３の駆動によりロッド５１が右方向に移動すると、ブロック部材５４が供給側マガジン１１に収納された未処理フィルム基板Ａａの左端に当接してそのまま押圧し、未処理フィルム基板Ａａの右端部を供給側マガジン１１から突出させることができる。
【００３０】
次に、掴持移載・押圧機構６は、供給側マガジン部１と排出側マガジン部２との間から前方にかけて配置され（図１参照）、図８に示すように、押圧機構５により突出した未処理フィルム基板Ａａの右端部を掴持するとともに、基板搬送機構３に収容支持された処理フィルム基板Ａｂの左端を押圧する掴持・押圧機構６１と、この掴持・押圧機構６１を一体的に前後移動させる前後方向駆動部６２と、掴持・押圧機構６１及び前後方向駆動部６２を一体的に上下移動させる上下方向駆動部６３と、この上下方向駆動部６３が固定されたベースプレート６４と、図外の機台に固定されるとともにベースプレート６４に連結されベースプレート６４を左右に移動させる左右方向駆動部６５（不図示）と、から構成される。
【００３１】
掴持・押圧機構６１の下端部には、未処理フィルム基板Ａａの右端部を上下方向から掴持するために、左方向に突出する爪部６６が設けられ、また処理フィルム基板Ａｂの左端を押圧するために右方向に突出する突出部６７が設けられている。ここで、爪部６６は、固定の下爪６８、及び不図示の駆動部の駆動により上下動して下爪６８に対して開閉する上爪６９を備えている（図９参照）。
【００３２】
次に、吸着移載機構７は、排出側マガジン部２の右側方に配置されていて（図１参照）、図１０に示すように、左右方向に延在する前後一対の中空管７１と、図外の機台に固定されたベースプレート７２と、このベースプレート７２上に固定されるとともに各中空管７１の右端部に連結され各中空管７１を一体的に左右方向に移動させる左右方向駆動部７３と、上下方向に移動させる上下方向駆動部７５と、から構成されている。ここで、各中空管７１の右端は不図示の真空ポンプに連結され、他方各左端には上方に向けて突出する樹脂性の吸盤７４が設けられている。このような構成のもと、左右方向駆動部７３の駆動により各中空管７１が左方向に移動して排出側マガジン２１を挿通し、各吸盤７４が基板搬送機構３から突出した処理フィルム基板Ａｂの右端部下面に位置し、上下方向駆動部７５により吸盤７４が上昇し、吸盤７４が処理フィルム基板Ａｂの下面に密着した状態で真空ポンプを駆動すると、処理フィルム基板Ａｂの他端部の下面は各吸盤７４により吸着される。そして、左右方向駆動部７３の反転駆動によりそのまま各中空管７１が左方向に移動し、処理フィルム基板Ａｂを排出側マガジン２１に移載することができる。
【００３３】
なお、チャンバ１０１及び搬入・搬出機構１０２における各部の駆動制御は、不図示の制御装置により総括的に行われる。ここで、図１１〜１５を参照しながら、プラズマ洗浄装置１００の一連の動作を順に説明する。
【００３４】
今、左側のチャンバ１０１ｂはフィルム基板Ａの洗浄工程にあって未処理フィルム基板Ａａが収容されており、他方右側のチャンバ１０１ａはフィルム基板Ａの搬入・搬出工程にあって処理フィルム基板Ａｂが収容されているものとし、また基板搬送機構３にはフィルム基板Ａが収容されていないものとする。
【００３５】
先ず、基板搬送機構３への未処理フィルム基板Ａａの移載について説明する。供給側マガジン１１を載置した供給側マガジン載置台１２、及び基板搬送機構３のベースプレート３０をそれぞれ前後及び上下方向に移動させる。これにより、供給側マガジン１１に収納されている最上段の未処理フィルム基板Ａａと、押圧機構５のロッド５１と、ベースプレート３０上に設けた前後二対の下段受け溝３３のうちの前側の各下段受け溝３３との相互の高さを一致させるとともに、未処理フィルム基板Ａａの中心とロッド５１、及び未処理フィルム基板Ａａの両側部と各下段受け溝３３を相互に一致させる。これに続いて、掴持移載・押圧機構６の掴持・押圧機構６１を前後、左右及び上下方向に移動させ、その爪部６６を未処理フィルム基板Ａａの右端部の側方近傍において開放状態で待機させる。
【００３６】
次いで、図１１に示すように、押圧機構５のロッド５１を右方向に移動させると、そのブロック部材５４が未処理フィルム基板Ａａの左端に当接してそのまま押圧し、未処理フィルム基板Ａａの右端部が供給側マガジン１１から突出する。ここで、突出した未処理フィルム基板Ａａの右端部は、掴持・押圧機構６１の爪部６６を構成する下爪６８と上爪６９との間に進入した状態となる。この状態でその上爪６９を下動させて未処理フィルム基板Ａａの右端部が掴持される。これとともに、ロッド５１を左方向に移動させて供給側マガジン１１から退避させ、次の供給に備える。
【００３７】
続いて、掴持・押圧機構６１を右方向に移動させると、掴持された未処理フィルム基板Ａａは、その両側部が基板搬送機構３の前側の下段受け溝３３に案内されながら水平移動して引き込まれ、収容支持される。ここで、図１５（ａ）に示すように、未処理フィルム基板Ａａはその中央部が下方に湾曲した状態にあるが、上段バックアッププレート８１及び下段バックアッププレート８２が突条３１の内面近傍で下降して退避しているため、これがその未処理フィルム基板Ａａの水平移動に際し障害とはならない。その後、上爪６９を上動させて掴持を解除するとともに、掴持・押圧機構６１を退避させ次の供給に備える。
【００３８】
そして、バックアップ機構における前側の下段水平シリンダ９０を駆動させて下段バックアッププレート８２を一対の突条３１の中間に移動させ、更に、前側の昇降シリンダ８５を駆動させて下段バックアッププレート８２を上昇させる。これにより、下段受け溝３３に収容支持された未処理フィルム基板Ａａは、その下面が押し上げられて略水平状態に保持される（図１５（ｂ）参照）。
【００３９】
続いて上記と同様の動作を行い、後側の下段受け溝３３へ未処理フィルム基板Ａａが供給される。その際、別の供給側マガジン１１に収納されている最上段の未処理フィルム基板Ａａが供給されてもよいし、連続して同じ供給側マガジン１１に収納されている次段の未処理フィルム基板Ａａが供給されてもよい。このようにして、基板搬送機構３のベースプレート３０上には、前後２枚の未処理フィルム基板Ａａが略水平状態で収容支持された状態となり、基板搬送機構３への未処理フィルム基板Ａａの移載が完了する。
【００４０】
次ぎに、引き続き基板搬送機構３と両チャンバ１０１との間で行われるフィルム基板Ａの移載について説明する。洗浄処理が終了した右側のチャンバ１０１ａからトレイ１１７が引き出される。ここで、トレイ１１７上には、前後２枚の処理フィルム基板Ａｂが、前後二対の受け溝１１９及び中間突条１２０により略水平状態で支持されている。
【００４１】
次いで、基板搬送機構３のベースプレート３０を上昇させるとともに前後方向に移動させて、ベースプレート３０上に設けた前後二対の上段受け溝３２と、トレイ１１７上の各処理フィルム基板Ａｂの両側部とを相互に一致させる。これに続いて、チャンバ側移載機構４の掴持機構４１を左右及び上下方向に移動させ、その各右側爪部４５を各処理フィルム基板Ａｂの左端部の側方近傍において開放状態で一旦待機させた後、掴持機構４１を右方向に移動させると、各処理フィルム基板Ａｂの左端部が、各右側爪部４５を構成する右側下爪４８と右側上爪４９との間に進入した状態となる。この状態でその各右側上爪４９を下動させて処理フィルム基板Ａｂの左端部が掴持される。
【００４２】
続いて、図１３に示すように、掴持機構４１を左方向に移動させると、掴持された各処理フィルム基板Ａｂは、その両側部が基板搬送機構３の各上段受け溝３２に案内されながら水平移動して引き込まれ、収容支持される。ここで、各処理フィルム基板Ａｂはその中央部が下方に湾曲する様相にあるが、引き続きバックアップ機構における前後の各上段水平シリンダ８９を駆動させて、各上段バックアッププレート８１を各一対の突条３１の中間に移動させることにより、各処理フィルム基板Ａｂは、湾曲が規制されて略水平状態に保持される（図１５（ｂ）参照）。その後、各右側上爪４９を上動させて掴持を解除する。
【００４３】
次ぎに、基板搬送機構３のベースプレート３０を若干上昇させて、前後二対の下段受け溝３３に収容支持された未処理フィルム基板Ａａの両側部と、トレイ１１７上に設けた前後二対の受け溝１１９とを相互に一致させる。これに続いて、チャンバ側移載機構４の掴持機構４１を左右及び上下方向に移動させ、その各左側爪部４４を各未処理フィルム基板Ａａの右端部の側方近傍において開放状態で一旦待機させた後、掴持機構４１を左方向に移動させると、各未処理フィルム基板Ａａの右端部が、各左側爪部４４を構成する左側下爪４６と左側上爪４７との間に進入した状態となる。この状態でその各左側上爪４７を下動させて未処理フィルム基板Ａａの左端部が掴持される。
【００４４】
続いて、図１２に示すように、掴持機構４１を右方向に移動させると、掴持された各未処理フィルム基板Ａａは、その両側部がトレイ１１７の各受け溝１１９及び中間突条１２０に案内されつつ、湾曲が規制されながら水平移動して引き込まれ、収容支持される。その後、各左側上爪４７を上動させて掴持を解除するとともに、掴持機構４１を退避させ、基板搬送機構３と両チャンバ１０１との間で行われるフィルム基板Ａの移載が完了する。
【００４５】
そして、前後２枚の未処理フィルム基板Ａａを支持したトレイ１１７が右側のチャンバ１０１ａ内に導入され、その右側のチャンバ１０１ｂが洗浄工程に移行する。一方、これと同時に行われる基板搬送機構３からの処理フィルム基板Ａｂの移載について、次ぎに説明する。
【００４６】
空の状態の排出側マガジン２１を載置した排出側マガジン載置台２２、及び基板搬送機構３のベースプレート３０をそれぞれ前後及び上下方向に移動させる。これにより、排出側マガジン２１の両側壁に複数段設けられている受け部のうちの最上段の受け部と、吸着移載機構７の各中空管７１と、ベースプレート３０の各上段受け溝３２に収容支持されている処理フィルム基板Ａｂのうちの前側の処理フィルム基板Ａｂとの相互の高さをほぼ一致させるとともに、処理フィルム基板Ａｂの中心と各中空管７１の中心、及び前側の処理フィルム基板Ａｂの両側部と排出側マガジン２１の最上段の各受け部を相互に一致させる。これに続いて、掴持移載・押圧機構６の掴持・押圧機構６１を前後、左右及び上下方向に移動させ、その突出部６７を処理フィルム基板Ａｂの左端部の側方近傍に待機させる。また吸着移載機構７の各中空管７１を排出側マガジン２１に挿通させ、その各吸盤７４を処理フィルム基板Ａｂの左端下部の側方近傍に待機させる。
【００４７】
次いで、図１４に示すように、掴持・押圧機構６１を右方向に移動させると、その突出部６７が処理フィルム基板Ａｂの左端に当接してそのまま押圧し、処理フィルム基板Ａｂの右端部が上段受け溝３２から突出する。ここで、突出した処理フィルム基板Ａｂの右端部は、その下面が各吸盤７４の直上に位置した状態となる。この状態で吸盤７４を上昇させ、吸盤７４が処理フィルム基板Ａｂの下面に密着した状態で、吸着移載機構７の真空ポンプを駆動させると、処理フィルム基板Ａｂは各吸盤７４により吸着される。これとともに、掴持・押圧機構６１を左方向に移動退避させ、次の動作に備える。
【００４８】
続いて、各中空管７１を右方向に移動させると、吸着された処理フィルム基板Ａｂは、その両側部が排出側マガジン２１の最上段の各受け部に案内されながら水平移動して引き込まれ、収容される。その後、吸着移載機構７の真空ポンプを停止させて吸着を解除するとともに、各中空管７１を排出側マガジン２１から退出させ次の動作に備える。
【００４９】
次いで、上記と同様の動作を行い、ベースプレート３０の前側の上段受け溝３２に収容支持されている処理フィルム基板Ａｂが排出される。その際、別の排出側マガジン２１の最上段の受け部に排出されてもよいし、連続して同じ排出側マガジン２１の次段に排出されてもよい。そして、基板搬送機構３のバックアップ機構における全ての上段水平シリンダ８９、下段水平シリンダ９０、及び昇降シリンダ８５を駆動させて、全ての上段バックアッププレート８１及び下段バックアッププレート８２を突条３１の内面近傍で下降した状態に退避させる。このようにして、基板搬送機構３から排出側マガジン２１への処理フィルム基板Ａｂの移載が完了する。
【００５０】
ここで、右側のチャンバ１０１ａはフィルム基板Ａの洗浄工程にあって、他方左側のチャンバ１０１ｂは洗浄処理が終了しフィルム基板Ａの搬入・搬出工程に移行していて、上記の動作は、全ての供給側マガジン１１の未処理フィルム基板Ａａが供給されて洗浄処理され、それが排出側マガジン２１に排出されるまで繰り返される。
【００５１】
このように本実施形態では、左右のチャンバ１０１ａ、１０１ｂで交互に搬入・搬出工程と洗浄工程とが繰り返されることから、効率よく洗浄処理が行え、また、基板搬送機構３のベースプレート３０上に未処理フィルム基板Ａａと処理フィルム基板Ａｂとを同時に収容できることから、各チャンバ１０１との授受の際に待ち時間がなく高能率で行える。また、特に基板搬送機構３のベースプレート３０上に支持されたフィルム基板Ａは、バックアップ機構により湾曲が規制されて略水平状態に保持されるため、移載の際に確実にフィルム基板Ａを掴持でき、操業トラブルの要因を解消できる。
【００５２】
なお、本発明は上記の実施形態に限定されず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、種々の変更が可能である。例えば、各チャンバ１０１のトレイ１１７上に収容支持するフィルム基板Ａは、１枚であっても３枚以上であってもよく、この場合は、その枚数に合わせて基板搬送機構３や掴持機構４１を調整すれば足りる。また、掴持移載・押圧機構６を構成する掴持・押圧機構６１に設けられた爪部６６と突出部６７とは、相互に異なる作用（前者は未処理フィルム基板Ａａを掴持するためのもの、後者は処理フィルム基板Ａｂの押圧するためのもの）を付与することから、個別の機構に設けられても構わない。
【００５３】
【発明の効果】
以上説明した通り本発明によれば、可撓性のフィルム基板を略水平状態で水平移動可能に支持して内外間を進退するトレイを有するとともに、内部にプラズマを発生させるチャンバと、このチャンバの外部に進退した前記トレイに対して前記フィルム基板を搬入・搬出する搬入・搬出機構と、からなり、前記チャンバの内部に進退した前記トレイに支持された前記フィルム基板を前記プラズマにより洗浄するプラズマ洗浄装置において、前記搬入・搬出機構は、前記フィルム基板を水平移動可能に支持する基板搬送機構と、前記フィルム基板の一端部を掴持するとともに前記基板搬送機構及びトレイ間を水平移動して前記フィルム基板を相互に移載する第１の移載機構と、を備えており、前記基板搬送機構には、前記フィルム基板の両側部を案内しつつ支持する溝が形成された一対の突条と、この一対の突条の中間で平行に延在し前記フィルム基板を略水平状態に押し上げるように昇降するバックアッププレートと、が設けられている。従って、基板搬送機構に設けられた突条の溝で両側部が支持されたフィルム基板は、バックアッププレートによる押し上げによって湾曲が規制されるため、移載機構に対するフィルム基板の姿勢が安定して確実にフィルム基板を掴持でき、しかもトレイへの移載の際フィルム基板の端部がトレイの側部と激突することはない。よって、操業トラブルの要因が解消されて、全体として洗浄効率の悪化を防止でき、また、良好な洗浄されたフィルム基板を得ることが可能となる。
【００５４】
ここで、前記バックアッププレートが前記一対の突条の中間から一方の突条に向けて水平移動するようになっていると、フィルム基板が基板搬送機構の突条の溝に供給される際に湾曲していても、その際バックアッププレートを退避させて相互の干渉を防止できる。
【００５５】
更に、前記一対の突条に対し、前記溝及びバックアッププレートがそれぞれ上下方向に２段設けられると、その一方の溝等により洗浄処理前のフィルム基板を支持した状態で、他方の溝等にトレイから洗浄処理後のフィルム基板を受け入れて、その直後、一方の溝等に支持された洗浄処理前のフィルム基板をトレイに受け渡すことができるので、能率が向上する。
【００５６】
更に、前記一方の突条に固定された１つの昇降シリンダと、この昇降シリンダに連結された可動部材と、この可動部材に上下方向で固定された２つの水平シリンダと、を備え、前記各バックアッププレートがそれぞれ前記各水平シリンダに連結されると、各バックアッププレートは、昇降シリンダの駆動により一体的に昇降し、各水平シリンダの駆動によりそれぞれ個別に水平移動できて、その機構は簡単である。
【００５７】
また、更に前記搬入・搬出機構は、洗浄処理前の前記フィルム基板を棚板状に複数枚収納した供給側マガジンと、洗浄処理後の前記フィルム基板を棚板状に複数枚収納する排出側マガジンと、前記供給側マガジンに収納された洗浄処理前の前記フィルム基板を水平移動させて前記基板搬送機構に移載する第２の移載機構と、前記基板搬送機構に支持された洗浄処理後の前記フィルム基板を水平移動させて前記排出側マガジンに移載する第３の移載機構と、を備えると、効率よく自動で、基板搬送機構に洗浄処理前のフィルム基板を供給し、他方基板搬送機構から洗浄処理後のフィルム基板を排出することが可能となる。
【００５８】
ここで、前記第２の移載機構は、前記フィルム基板の一端部を押圧して前記供給側マガジンから前記フィルム基板の他端部を突出させる押圧機構と、この第１の押圧機構により突出した前記他端部を掴持して前記フィルム基板を前記基板搬送機構に引き込む掴持引込機構と、からなると、基板搬送機構への移載供給中にフィルム基板が不用意に変形することはほとんどなくなり、移載トラブルやフィルム基板の損傷という問題の発生を防止できる。
【００５９】
更に、前記第３の移載機構は、前記フィルム基板の一端部の下面を吸着して前記フィルム基板を前記排出側マガジンに引き込む吸着引込機構からなると、上記と同様に、基板搬送機構からの移載排出中に移載トラブルやフィルム基板の損傷という問題を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】    本発明のプラズマ洗浄装置の全体構造を示す概略斜視図である。
【図２】    図１における右側のチャンバ及びトレイの拡大図である。
【図３】    図１における基板搬送機構の拡大図である。
【図４】    図３のＡ−Ａ断面図である。
【図５】    図１におけるチャンバ側移載機構の拡大図である。
【図６】    チャンバ側移載機構における掴持機構の縦断面図である。
【図７】    図１における押圧機構の拡大図である。
【図８】    図１における掴持移載・押圧機構の拡大図である。
【図９】    掴持移載・押圧機構における掴持・押圧機構の縦断面図である。
【図１０】    図１における吸着移載機構の拡大図である。
【図１１】    供給側マガジン部から基板搬送機構への未処理フィルム基板の移載動作を説明する概略図である。
【図１２】    基板搬送機構からチャンバへの未処理フィルム基板の移載動作を説明する概略図である。
【図１３】    チャンバから基板搬送機構への処理フィルム基板の移載動作を説明する概略図である。
【図１４】    基板搬送機構から排出側マガジン部への処理フィルム基板の移載動作を説明する概略図である。
【図１５】    基板搬送機構におけるフィルム基板のバックアップ動作を説明する概略図である。
【符号の説明】
１００    プラズマ洗浄装置
１０１    チャンバ
１０２    搬入・搬出機構
１    供給側マガジン部
２    排出側マガジン部
３    基板搬送機構
４    チャンバ側移載機構（第１の移載機構）
５    押圧機構（第２の移載機構）
６    掴持移載・押圧機構（第２の移載機構）
７    吸着移載機構（第３の移載機構）
３１    突条
３２    上段受け溝
３３    下段受け溝
８１    上段バックアッププレート
８２    下段バックアッププレート
４１    掴持機構
４４    左側爪部
４５    右側爪部
８５    昇降シリンダ
８９    上段水平シリンダ
９０    下段水平シリンダ
１１７    トレイ
Ａ    フィルム基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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