(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された複数個の薄膜電界効果トランジスタからなる集積回路薄膜トランジスタデバイスの製造方法であって、
ソース電極、ドレイン電極、ゲート電極、及び有機半導体活性層を形成するステップからなり、前記有機半導体活性層が、フルオレンオリゴマーの薄膜を蒸着させることにより形成され、前記フルオレンオリゴマーが、２０００未満の分子量を有し、かつ、１個〜１０個のフルオレン環ユニットから構成されていることを特徴とする製造方法。
【請求項２】
基板上に形成された複数個の薄膜電界効果トランジスタからなる集積回路薄膜トランジスタデバイスの製造方法であって、
(a)前記基板上に有機半導体材料の層を形成するステップ、
(b)前記層上に、チャネル領域により分離されたソース電極及びドレイン電極を形成するステップ、
(c)前記ソース電極と前記ドレイン電極の両方を被覆する誘電体層を堆積させるステップ、及び
(d)前記チャネル領域に重なるようにゲート電極を形成するステップ
からなる製造方法において、
前記有機半導体材料が、フルオレンオリゴマーの薄膜を蒸着させることにより形成され、前記フルオレンオリゴマーが、２０００未満の分子量を有し、かつ、１個〜１０個のフルオレン環ユニットから構成されていることを特徴とする製造方法。
【請求項３】
基板上に形成された複数個の薄膜電界効果トランジスタからなる集積回路薄膜トランジスタデバイスの製造方法であって、
(a)ゲート電極を形成するステップ、
(b)前記ゲート電極を被覆するように誘電体層を堆積させるステップ、
(c)ソース電極及びドレイン電極を前記誘電体層上に形成するステップ、及び
(d)前記ソース電極及びドレイン電極の間にチャネル領域が延在するように、前記誘電体層上に有機半導体層を形成するステップ
からなる製造方法において、
前記有機半導体層が、フルオレンオリゴマーの薄膜を蒸着させることにより形成され、前記フルオレンオリゴマーが、２０００未満の分子量を有し、かつ、１個〜１０個のフルオレン環ユニットから構成されていることを特徴とする製造方法。
【請求項４】
基板上に形成された複数個の薄膜電界効果トランジスタからなり、前記複数個の薄膜電界効果トランジスタ各々が、ソース電極、ドレイン電極、ゲート電極及び有機半導体活性層からなり、前記有機半導体活性層が、２０００未満の分子量を有し、かつ、１個〜１０個のフルオレン環ユニットから構成されているフルオレンオリゴマーからなる集積回路薄膜トランジスタデバイス。
【請求項５】
基板上に形成された複数個の薄膜電界効果トランジスタからなる集積回路薄膜トランジスタデバイスであって、
(a)前記基板上の有機半導体材料の層、
(b)前記層上の、チャネル領域により分離されたソース電極及びドレイン電極、
(c)前記ソース電極と前記ドレイン電極の両方を被覆する誘電体層、及び
(d)前記チャネル領域に重なるゲート電極
からなり、
前記有機半導体材料が、２０００未満の分子量を有し、かつ、１個〜１０個のフルオレン環ユニットから構成されているフルオレンオリゴマーであることを特徴とする集積回路薄膜トランジスタデバイス。
【請求項６】
基板上に形成された複数個の薄膜電界効果トランジスタからなる集積回路薄膜トランジスタデバイスであって、
(a)ゲート電極、
(b)前記ゲート電極を被覆する誘電体層、
(c)前記誘電体層上のソース電極及びドレイン電極、及び
(d)前記ソース電極及びドレイン電極の間にチャネル領域が延在するように、前記誘電体層上に形成された有機半導体層
からなり、
前記有機半導体層が、２０００未満の分子量を有し、かつ、１個〜１０個のフルオレン環ユニットから構成されているフルオレンオリゴマーであることを特徴とする集積回路薄膜トランジスタデバイス。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は改良された有機半導体材料に関する。更に詳細には、本発明は有機半導体を有する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）及び薄膜レーザの改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】
過去１０年間以上にわたって、有機半導体薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を使用するＩＣ技術が提案されてきた。このような回路の主要な魅力は、予想される加工容易性と柔軟な基板との適合性から生じる。このような利点は、スマートカード、電子タグ及び表示装置などのような用途に適した低コストＩＣ技術に翻訳されるものと予測される。
【０００３】
ＴＦＴ技術は、F. Garnier et al., Science, Vol.265, pp.1684-1686, H. Koezuka et al., Applied Physics Letters, Vol.62(15), pp.1794-1796, H. Fuchigami et al., Applied Physics Letters, Vol.63(10), pp.1372-1374, G. Horowitz et al., J. Applied Physics, Vol.70(1), pp.469-475及びG. Horowitz et al., Synthetic Metals, Vol.42-43, pp.1127-1130などに記載されている。これらの文献に記載されたデバイスは、従来開発されたアモルファスシリコン及びポリシリコンＴＦＴ構造と異なり、活性材料として、ポリマー又はオリゴマーに基づく。これらのデバイスは一般的に、電界効果トランジスタ（ＦＥＴ）である。有機活性デバイスは、加工容易性及び結果的に生じる低コスト性などの点で、従来の半導体ＴＦＴよりも顕著な効果を有する。また、これらのデバイスは、相互接続基板について広範に使用されているポリマー基板と適合性を有する。有機ＴＦＴは潜在的に柔軟であり、そのため、ポリマーＴＦＴＩＣは柔軟なプリント回路基板上に直接形成することができる。また、これらのデバイスは適合性のある熱膨張率を有する。そのため、はんだ接合、導電性エポキシ接合及びその他の相互接続は、半導体ＩＣ／ポリマー相互接続基板組合せによる場合よりも低い応力を受ける。金属絶縁半導体（ＭＩＳ）ＦＥＴデバイスは広範な商業的用途を最も発見しやすいが、ｐ−タイプ及びｎ−タイプ有機活性材料の両方を使用するＴＦＴデバイスも公知である。例えば、米国特許第５３１５１２９号明細書参照。また、S. Miyauchi et al., Synthetic Metala, 41-43 (1991), pp.1151-1158には、ｎ−タイプのシリコン上にｐ−タイプのポリチオフェン層からなるジャンクションＦＥＴが記載されている。
【０００４】
有機系ＴＦＴデバイスの最近の進歩は米国特許第５５９６２０８号明細書、同第５６２５１９９号明細書、同第５５７４２９１号明細書に記載されている。これらの特許明細書に記載されるように、両方のｎ−タイプ及びｐ−タイプの活性ポリマー物質の発展に伴い、特に米国特許第５６２５１９９号明細書に記載されるように、相補型ＩＣは容易に実現できる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
基本的な有機ＴＦＴ技術が現在十分に確立されたので、これら構造を作製するために使用される材料の改善は予想できる。特に、半導体材料の進歩は、これらデバイスの電気的性能の向上を常に希求し続けている。高度な移動度を有する半導体は特に有用である。
【０００６】
現在までのところ、大抵のｐ−チャネル有機半導体はチオフェン誘導体オリゴマー及びポリマーに基づく。更に、芳香族大環状化合物（例えば、金属フタロシアニン）及び融合芳香環構造（例えば、ペンタセン及びテトラセン）に基づく他の幾つかの系が存在する。極めて希な共役系のその他のタイプが探求されている。更に、報告されている大抵のｐ−チャネル半導体は比較的低いバンドギャップと高いＨＯＭＯレベルを有する。従って、これらの半導体は、作製されたデバイスの劣化を起こす光酸化を非常に受け易い。
【０００７】
フルオレン共役材料を用いた最近の研究は有用な半導体特性を示した。これは例えば、Sirringhaus et al., Applied Physics Letters, Vol. 77, No. 3, July 2000に報告されている。しかし、これら研究者により報告されたフルオレン材料は液晶（ＬＣ）技術により製造されるので、このＬＣ材料のために開発された特定のトランジスタ構造を用いてＬＣドメインを整合（アライメント）させなければならない。このようなやり方はトランジスタ製造を複雑にし、コストを増大させる。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前記課題は、優れたトランジスタ性能を示し、かつ、特別な製造方法又は特別なトランジスタ構造の何れも不要なフルオレン系有機半導体材料により解決される。一般的に説明すれば、これらの材料はフルオレン含有オリゴマーである。フルオレンとその他の共オリゴマーユニットとの間の高立体障害のために、生成されるオリゴマーは比較的高いバンドギャップと低いＨＯＭＯレベルを有する。これらの半導体は、優れた老化特性と共に高ｏｎ／ｏｆｆ比を示す。更に、これら材料のバンドギャップ及び発光波長は、共オリゴマーユニット構造を変化させることにより容易に同調させることができる。有機半導体の発光波長のカラー同調能は、高キャリア移動度を維持しながら、多色の電気的に注入される有機半導体レーザを生じさせる。
【０００９】
これらの材料は、結晶学的アライメントが不要な多結晶薄膜として生成し、優れた電気性能を与えることができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明は半導体デバイスのための改良された有機半導体材料に関する。以下、本発明の好ましい実施態様として、或るタイプの半導体デバイスについて詳細に説明する。
【００１１】
本発明の電極を有するＴＦＴＣＭＯＳデバイスを製造するための加工シーケンスを図１〜図９を参照しながら下記に説明する。説明用に使用されるデバイスは、図１の単純なインバータ回路用のＣＭＯＳ対である。この場合、ｎ−チャネルＴＦＴは符号１１で示され、ｐ−チャネルＴＦＴは符号１２で示される。ｐ−チャネルトランジスタはｎ−チャネルロード用のドライバとして使用することもできる。
【００１２】
製造工程を説明するために使用されるＴＦＴデバイス構造は、米国特許出願第０９／１３７９２０号明細書（出願日１９９８年８月２０日）に記載され、特許請求されている転倒型の形状である。このＴＦＴ構造は幾つかの利点をもたらす。この構造は簡単な加工により製造することができる。半導体層の堆積は製造工程の後の段階で行われる。従って、エッチング剤、クリーニング剤、高温などのような都合の悪い製造条件を避けることができる。重要なことは、本書で説明されるように、転倒型構造がＣＭＯＳ対内のデバイス間だけでなくＣＭＯＳ対間でも固有の電気的絶縁を有することである。更に、この構造により、トランジスタを生成する前に、相互接続層を生成させることができる。この特徴は幾つかの技術において重要な利点を有する。しかし、この実施態様は単なる説明目的のためにだけ開示されており、本発明は、ゲート及び相互接続を頂部に有するか又はその他の適当な半導体デバイス構造を有する通常のＴＦＴデバイスにも容易に応用できることは当業者に自明である。
【００１３】
図２を参照する。ＩＣ基板の一部が符号２１で示されている。説明の便宜上、単一のＴＦＴＣＭＯＳ対だけが図示されている。しかし、デバイスの単一対は、デバイスの大きな集積アレイの代表例であり、その他のものも使用できる。また、この図に示された特徴部は寸法通りに図示されていない。基板２１は、セラミック、ガラス又はポリマーなどのような絶縁材料である。基板は硬質であることもできるし又は柔軟性であることもできる。また、基板はガラス補強エポキシ又はポリイミドの標準的なプリント回路基板からなることもできる。別法として、基板は、上面にＳｉＯ２の絶縁層が成長されているか又は堆積されているシリコンであることもできる。第１のレベルの金属は符号２２で示される。このインバータ型構造において、このレベルは第１のレベルと呼ばれる。なぜなら、このレベルは最初に生成されるかである。しかし、当業者に自明なように、このレベルは従来の構造における第２又は第３のレベルに相当する。この金属は様々な導電性材料のうちの任意の材料であることができる。標準的なＩＣ技術における一般的な選択はアルミニウムである。しかし、本書に記載される構造の特性により、導電性材料の選択は、通常考えられているものよりも大きな領域から行うことができる。このような導電性材料は例えば、アルミニウム、ＴｉＰｄＡｕ、ＴｉＰｔＡｕ、ＴａＮｘ、ＴｉＮｘ、Ａｕ、Ｎｉなどのような標準的な材料の他、非普遍的選択としての銅及び導電性ポリマー（例えば、ポリアニリン及び金属含有ポリマーインク）などである。ポリマー導体の使用は或る程度の柔軟性が望ましような用途において好都合である。堆積技術の選択は広範である。なぜなら、この段階における通常のＩＣ加工における場合と対照的に、加工のこの段階における構造は感熱性構成要素を有しないからである。従って、２つのレベル又は多数レベルの金属被覆相互接続のために使用される、この堆積工程及び引き続く堆積工程とエッチング工程は、好都合でありかつ原価効率に優れていれば、相当な基板加熱を含むこともできる。従って、金属層は蒸着又はスパッタリングすることができる。金属層の膜厚は広範に変化させることができるが、一般的に、０．０５μｍ〜２μｍの範囲内である。
【００１４】
図３により示される次の工程は、リソグラフマスク２３を使用する第１レベルの金属被覆をパターン付けすることである。マスクは一般的に、光リソグラフ法により作製される。しかし、その他のリソグラフ法を用いても作製することができる。下記に説明すようなその他のマスキング工程もこれら別法としてのリソグラフ法を利用することができる。次いで、第１の金属層を、例えば、プラズマ又はＲＩＥエッチングなどの標準的なエッチング法を用いてパターン付けし、図４に示されるような金属ランナー２４のパターンを生成する。
【００１５】
利用可能な導電性材料の広範な選択により、相互接続密度が大きくない用途では、スクリーン印刷、ステンシル、インクジェット印刷又は同様な技術を用いて、回路を直接印刷することも有用である。
【００１６】
図５を参照する。第１の中間レベル誘電体２５が、図示されているように、第１レベルの金属パターン上に生成される。本発明によるこの構造における中間レベル誘電体は、スピン・オン・グラス（ＳＯＧ）又は例えば、ＣＶＤにより蒸着されるＳｉ３Ｎ４又はＳｉＯ２などのような様々な絶縁材料から選択できる。本書に記載されるＴＦＴ構造では、加工の平易性及びコストの両方の観点から、及び応力を許容する、すなわち若干柔軟性であるＩＣ構造を生成するために、ポリマー材料が有効であり得るところでポリマー材料を使用することが望ましいことが予想される。従って、このような用途では、ポリイミド又は同様な有機ポリマー絶縁材料の使用が推奨される。好適な材料は、日産化学（株）からＲＮ−８１２の商品名で市販されているポリイミドである。この材料は０．１〜１μｍの膜厚を有する層として容易に堆積させることができ、この層は望ましい絶縁特性を有する。有機絶縁材の塗布方法は一般的に、スピンコート又は溶液流延などである。幾つかの無機絶縁材（特に、スピン・オン・グラス）も、好都合な塗布特性を共有する。幾つかの用途（例えば、微細なパターン寸法が不要な用途）では、誘電体層は、中間レベルウインドウを既に含有するパターン化層として塗布することもできる。
【００１７】
図６に示されるように、第２レベルの金属２９を第１中間レベルの誘電体２５上に堆積される。第２レベルの金属は第１レベルの金属と同一であることもできるし、あるいは異なることもできる。第２レベルの金属はマスク３１を用いて、第１レベルと同様な方法でパターン付けされ、図７及び図８に示されるようなランナー３２を生成する。
【００１８】
図９に示されるように、次の工程で、第２中間レベルの誘電体層３３を生成する。この層は層２５と同様な方法で生成させることができる。中間レベル誘電体層３３には、第１のレベル２４と、次の工程で生成されるゲートレベルとの間の中間レベル相互接続のためのスルーホール又はウインドウが設けられる。図１０に示されるように、中間レベル誘電体層はパターン付きマスク３４によりマスクされる。そして、レジスト内の開口部３５により露出された誘電体層３３の所定部分をエッチングし、第１のレベルとゲートレベルとを相互接続するウインドウを生成する。マスク開口部は第１レベルの相互接続パターン内の金属ランナーと整合される。説明の便宜上、単一の中間レベル相互接続しか図示されていないが、典型的なＩＣはこのような中間レベル相互接続を多数有する。これらの中間レベル相互接続は標準的なものであり、中間レベルウインドウの製造方法は周知である。例えば、誘電体層がＳｉＯ２である場合、ウインドウはプラズマエッチング又はＲＩＥにより生成することができる。得られた構造を図１１に示す。この構造は、誘電体層２５及び３３内に生成された中間レベルウインドウ３６を有する。別法として、中間レベルウインドウ又はバイアスは、ポリイミドなどのような光画定可能なポリマー誘電体を用いて直接形成することもできる。又は、中間レベル誘電体としてポリマー材料が使用されている場合、バイアスはレーザ加工法を用いて形成することができる。
【００１９】
通常は、常用の構造における第１レベルの金属であり、また、ポリシリコンであるゲートレベル金属層は、本発明の一連の工程のうち後の方の工程で生成され、かつ、様々な種類の金属から構成される。常用のインプランテーション駆動工程に耐えるためにゲートレベル金属が比較的耐熱性でなければならないという通常の要件が、本発明の製造方法では除去され、その結果、ゲート材料はアルミニウム又は銅のような材料も含めて、多数の材料から選択することができる。しかし、成長ＳｉＯ２で絶縁されたシリコンゲートが好ましい。ＴａＮ又はＴｉＮで被覆されたタンタルゲートも好都合である。導電性ポリマーもゲート金属として好適であり、本書に記載された構造におけるその他の要素と特に互換性を有する。金及びインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）もゲート電極材料として有用である。
【００２０】
図１２はゲート金属層３７を示す。ゲート金属層３７は第２中間レベル誘電体層３３上及び特定のゲートを第１レベルの金属に相互接続するウインドウ内に堆積される。その後、図１３に示されるように、リソグラフ法によりゲート金属層をパターン付けし、ゲート構造３８及び３９を形成する。ゲート３８はゲートレベル上に相互接続され、そして、ゲート３９は、この図示された実施態様では、第１レベルのランナー２４に相互接続されている。説明の便宜上、金属は、ゲート金属堆積工程の一部として、ウインドウ内に堆積された状態で図示されている。当業者に公知なように、中間レベル相互接続を形成するために、中間レベルプラグ技術も使用できる。
【００２１】
その後、図１４に示されるように、ゲート誘電体層４１が前記構造上に形成される。ゲート誘電体は常用の酸化物又は窒化物あるいはこれらの組合せなどであることができる。例えば、高周波マグネトロンスパッタリングにより蒸着された、２００ｎｍのＳｉ３Ｎ４、１００ｎｍのＳｉＯ２などであるか又はＡｌ２Ｏ３であることもできる。ゲート誘電体はＳＯＧ又は有機絶縁体（例えば、スピン・オン技術により都合良く生成させることができるポリイミド）であることもできる。この用途で申し分なく使用されるこのような材料は例えば、日産化学（株）からＳＥ−１１８０の商品名で市販されている予備イミド化ポリイミドである。この材料は、４０００ＲＰＭでスピンコートし、１２０℃で２時間かけて硬化させ、７０ｎｍの膜厚を有する被覆を形成することができる。所望により、ゲート材料はポリシリコンであり、ポリシリコン上の表面層としてゲート誘電体層が成長される場合、ゲート誘電体層４１は、図１４に示されるように、全体的な第２中間レベル誘電体を被覆しない。
【００２２】
図１５に示されるように、ゲート誘電体層はパターン付きマスク４３でマスクされ、ゲート誘電体層４１及びレジスト内の開口部４４，４５，４６，４７により露出される誘電体層３３の下部部分の一部分がエッチングされ、ソースドレイン接点と第２金属層とを相互接続するためのウインドウが形成される。マスク開口部は第２レベルの相互接続パターン内の金属ランナーと整合される。
【００２３】
その後、図１６に示されるように、中間レベルプラグ及びソース／ドレイン接点層５１が前記構造上に堆積され、金属プラグ接点が第２レベルのランナー３２に対して形成される。その後、常用のリソグラフマスク（図示されていない）を用いて層５１をパターン付けし、図１７に示されるように、ソース電極５３，５４及びドレイン電極５５，５６を画成する。周知なように、ソース及びドレイン電極の部分は垂直面内のゲート電極に隣接していなければならないか、又はゲート電極の端部と若干重複しなければならない。本発明によるソース及びドレイン接点の形成について、下記に更に詳細に説明する。
【００２４】
本発明の製造方法における最終工程のうちの一つは、従来のＦＥＴ法における第１工程であり、この工程を図１８に示す。図１８に示された工程は、電界効果を実現し、かつ、ソース５３，５４及びドレイン５５，５６の間にＦＥＴチャネルが延在する能動型半導体６１，６２を形成する。活性材料は本発明の有機半導体であり、下記に詳細に説明する。
【００２５】
必要ならば、このデバイスを図１９に示されるような保護層７１を用いて封止することができる。
【００２６】
前記に説明した一連の製造工程により製造されるＴＦＴ構造は、本発明を適用することができるＴＦＴの一例にしかすぎない。代替物は、有機半導体が基板であり、ソース及びドレイン電極が有機半導体基板に配設され、ゲート誘電体が有機半導体基板上に形成され、次いで、ゲート電極が形成される、常用のＭＯＳトランジスタ構造である。
【００２７】
ＴＦＴデバイスの更に別のトランジスタ構造はｎ−タイプ及びｐ−タイプ層が一緒になってｐ−ｎ接合を形成するＪ−ＦＥＴの改変型である。ゲートはソースとドレインとの間のチャネルのピンチ・オフを制御する。
【００２８】
前記に説明したように、図示された特徴部は正規の寸法通りである必要はない。能動型デバイス（即ち、ＴＦＴ）の寸法は、微細刻線技術を用いて極微細にすることができる。特に、ソースとドレインとの間の間隔は５ｎｍ以下であることができる。これら微細寸法において、単一のポリマー鎖又は幾つかの有機分子はソース−ドレイン間隔を跨ぐ。このようなＩＣ技術によれば、極めて高い集積密度を達成できる。有機／ポリマー半導体の分子特性により、このようなトランジスタのサイズを前記のような微細寸法に減少させることができ、また、個々のトランジスタ間の有効な分離も可能にする。幾つかの相互接続（例えば、電源と接地の相互接続）の寸法は、図示されているこれらのものよりもかなり大きいものであることもできる。
【００２９】
ＣＭＯＳインバータ回路を製造するために前記に示した一連の製造工程は、３個の金属レベルを有する。これは、一層複雑な回路を製造する方法の可能性を部分的に示す。ｎ型デバイス及びｐ型デバイスが、同じレベル上の負及び正供給バスに対して適性に配列されていれば、図１の簡単なインバータは２個の相互接続レベルにより形成することができる。
【００３０】
現在、様々な有機半導体がＴＦＴデバイスについて開発されている。前記のように、大抵のｐ−チャネル有機半導体はチオフェン誘導体オリゴマー及びポリマーに基づく。本発明によるｐ−チャネル材料はフルオレンのオリゴマーである。好適な材料は例えば、図２０Ａ〜図２０Ｆに示される材料である。これらの材料について、下記の一覧表に示される略号により説明する。
図２０Ａ          ２Ｆ
図２０Ｂ          ３Ｆ
図２０Ｃ          ＤＨ−３Ｆ
図２０Ｄ          ＦＴＦ
図２０Ｅ          ＤＨ−ＦＴＦ
図２０Ｆ          ＦＴＴＦ
【００３１】
これらの材料は、中間置換体無しに共役フルオレン環構造のカップリングを生成する合成技術により製造される。２種類のカップリング方法が好適であることが発見された。これらのカップリング方法は、▲１▼パラジウム（Ｏ）触媒スチル(Stille)反応及び▲２▼スズキ(Suzuki)反応である。高キャリア移動度を維持しながら、オリゴマーの色同調の実例として、図２０Ｄ（ＦＴＦ）及び図２０Ｅ（ＤＨ−ＦＴＦ）に示されるように、チオフェン環を結合させることができる。
【００３２】
Ｓｉ／ＳｉＯ２基板上に真空蒸着された薄膜について、Ｘ線回折分析を行った。アニーリング又は特別な整合手段は何も使用しなかった。鋭い解析ピークが観察され、更に、或る場合には、４番目の次数にまで観察されたという事実により証明されるように、全ての膜は蒸着された順序で高度に整列されていた。図２０Ｂの３Ｆを除いて、非置換オリゴマーの場合、２θから計算された層間の分離はＳｐａｒｔａｎ−Ｇａｕｓｓｉａｎプログラムを用いて計算されたオリゴマーの長さと殆ど同一である。この事実は、これらのオリゴマーが他の共役オリゴマーと同様にエッジ・オン(edge-on)配向に適合することを示す。このタイプの配向は、高移動度を達成するのに特に有用であることが発見された。なぜなら、π−πスタッキング方向が電流流れの平面内だからである。図２０Ｂの３Ｆ材料の場合、大きな２θ角度における幾つかの回折ピークも観察された。これは、３〜４Åの間隔に相当する。これらのピークは、基板面と並行に整列された分子平面を有する分子からのπ−πスタッキング間隔によるものであろう。更に、主ピークの次の小さな肩部により示されるように、２つの相が観察された。蒸着中に基板温度を上昇させると、一層の等質性を示すピークのうちの一つが低下する。ジヘキシル基で置換されたオリゴマーも、交互嵌合されたヘキシル側鎖を有するエッジ・オン(edge-on)配向に適合するものと思われる。
【００３３】
図２〜図１９（底部ゲート）に関連して説明したデバイス構造を用いて、これらオリゴマーのトランジスタ挙動を調べた。使用された実際の構造は図１９に示された構造の単純化された形態であり、図２１に模式的に図示されている。トランジスタ構造がＮ−ドープトシリコン基板８１上に構築されている場合、これはゲートして機能する。ゲート誘電体８２はシリコン基板を被覆し、ソース及びドレイン接点８３，８４がこのゲート誘電体上に形成されている。符号８５は本発明のオリゴマー材料を示す。本発明はＭＯＳトランジスタ構造にも適用される。このＭＯＳトランジスタ構造では、有機オリゴマー半導体が基板であり、ソース及びドレイン電極が有機オリゴマー半導体上に配設され、ゲート誘電体が有機オリゴマー半導体上に形成され、かつ、ゲート電極が頂部（頂部ゲート）に形成される。オリゴマーを含有するフルオレンは全てｐ−タイプトランジスタとして機能するので、蓄積デバイスである。
【００３４】
図２２は、異なるゲート電圧において１２μｍのチャネル長さで室温における蒸着（ＴＤ）に関する、代表的なドレイン−ソース電流（ＩＤＳ）対基板温度で蒸着された半導体層として３Ｆを有するＦＥＴの電圧特性を示す。ドレイン−ソース電流はゲート電圧（ＶＧ）の上昇に応じて増大する。このデバイスは、電界増強電流及びＶＧの両方が負の符号を有するという事実からｐ−型として蓄積領域内で動作するものと決定された。
【００３５】
異なるＴＤで得られた全てのオリゴマーの電界効果移動度を下記の表１に要約する。頂部ゲート構造は（Ｔ）で示され、底部ゲート構造は（Ｂ）で示される。
【００３６】
0004166485.tif 000002
0004166485.tif 000003
【００３７】
移動度は蒸着条件及びデバイス形状の両方に強く左右される。大抵の有機半導体の移動度は蒸着中の基板温度ＴＤに強く左右されることが既に発見されている。同様な傾向はこれらのフルオレン含有オリゴマーについても発見された。一般的に、電界効果移動度は、良好な配列薄膜及び一層大きな粒子サイズに起因するＴＤの増大につれて増大する。実際、Ｘ線回折パターンは、一層高いＴＤで蒸着された同じ膜厚の薄膜について一層高い回折強度を示した。同様に、透過型電子顕微鏡は、一層高いＴＤで蒸着された膜厚の場合、一層鋭い粒子境界と一層大きな粒子サイズを示した。
【００３８】
頂部ゲート構造を用いて作製されたオリゴマーデバイスの移動度は、底部ゲート構造を使用した場合の移動度よりも低くなり易い。最良の移動度は３Ｆ及びＤＨ−ＦＴＦの場合に得られた。殆ど全てのオリゴマーが極めて類似した分子配向と粒子サイズを有していたとしても、移動度が大きく変動することは意外である。２Ｆの場合、その低移動度は低ＨＯＭＯレベルに関連するものであり、低ＨＯＭＯレベルは２Ｆのホール注入を困難にする。更に、その比較的短い共役長さは、２Ｆをπ−π重複し難くする。同様な傾向はα−テトラチオフェン及びα−セキサチオフェンについても見出される。
【００３９】
α−セキサチオフェンの場合、ジヘキシル側鎖による置換は移動度を増大させる。本発明では、コア共役ユニットの特性に左右されるものと思われる。ＤＨ−３Ｆの場合、その移動度は３Ｆの移動度に比べて著しく低いが、ＤＨ−ＦＴＦの移動度はＦＴＦの移動度よりも１桁超高い。電子回折パターンは、３Ｆ、ＤＨ−３Ｆ、ＦＴＦ及びＤＨ−ＦＴＦにおける分子の横方向パッキングは非常に類似しているが、同一ではない（多分、ジヘキシル末端基が共役コアに対して或る角度で現れるためである）ことを示す。これらのオリゴマーは全て、驚くべきことに、小さなクスタライト（室温で１００ｎｍ及び１００℃で２００〜３００ｎｍ）を生成する。しかし、３Ｆ及びＤＨ−ＦＴＦの高移動度は非常に上質な結晶性を示すものと思われる。同様なゲレンサイズにも拘わらず、ＤＨ−３Ｆ膜は非常に拡散された粒子境界を示した。この事実は、ＤＨ−３Ｆ膜の低結晶性を暗示する。更に、高拡散粒子境界は、電化輸送のための非常に高いバリヤを生じる。ＤＨ−ＦＴＦの場合、１００℃における結晶成長は、規則的な結晶学的ファセットと多層テトラセス(tetraces)を示す。これは、非常に高い結晶性の徴候である。前記結果は、分子半導体の電界効果移動度が、分子エネルギーレベル、配向性、結晶性、粒子サイズなどに対して非常に感受性であるばかりでなく、粒子境界における細部にたいしても感受性である。更に、半導体／誘電体界面における詳細な分子配向性およびトラッピング部位も重要な役割を果たす。
【００４０】
フルオレン含有オリゴマーのｏｎ／ｏｆｆ比は、何ら特別な最適化努力が無くても、比較的高い（１０００超）。半導体材料の入念な精製、誘電体表面の表面処理及び半導体のパターニングも優れたｏｎ／ｏｆｆ比をもたらす。新規な全オリゴマーのうち、３Ｆは例外的に高いｏｎ／ｏｆｆ比を示した。これは、その高いバンドギャップと比較的低いＨＯＭＯレベルに関連される。高いバンドギャップと比較的低いＨＯＭＯレベルは、３Ｆを酸素によりドープし難くする。酸素ドープは高ｏｆｆ電流を生じる。更に、３Ｆデバイスは、環境光に曝露させながら空気中で長期間保存しても非常に優れた安定性を示した。３ヶ月超にわたって、ｏｎ／ｏｆｆ比の増大は認められなかった。その他の多くの高移動度有機半導体（例えば、α−６Ｔ及びペンタセン）は、環境光に曝露させながら空気と接触した後、数時間で、ｏｎ／ｏｆｆ比が低下し始めた。３Ｆの高安定性は、高安定性の有機電子デバイスを実現するために非常に価値がある。
【００４１】
本発明のオリゴマーは高電界効果移動度を有するばかりか、有用な発光特性も有する。
【００４２】
本発明の材料中のオリゴマーユニットは１〜１０個のフルオレンユニットを含有する。本発明の材料が１個のフルオレンユニットを有する場合、少なくとも１個の追加環状構造ユニットが推奨される。この場合、両方のユニットも完全に共役されているべきである。本発明の材料が互いに末端部で直接結合（すなわち、単結合）されたか又は中間環ユニット（フルオレンではない）を介して結合された２個のフルオレンユニットを有する場合、２個のフルオレン環又は中間ユニットは完全に共役されているべきである。対称構造が好ましい。この定義は基本的ユニット構造を指図する。１個以上の環上の置換基を所望により追加できる。
【００４３】
更に、本発明のオリゴマー材料の分子量は２０００未満である。これはこれらの材料を区別する。これらの材料は、薄膜層内のドメインを整合させるために特別な処理を必要とするポリマー材料から、簡単な真空蒸着により下記で説明するように生成することができる。
【００４４】
【実施例】
以下、本発明の材料の薄膜の製造例を実施例により説明する。
【００４５】
得られたオリゴマーを、８ｘ１０−４Torr以下の圧力で３回真空昇華することにより２回精製した。トランジスタデバイス構造は、図２１に示すような構造であった。Ｎ−ドープトＳｉ基板８１はゲートとして機能し、１０ｎＦ／ｃｍ２の単位面積当たりのキャパシタンスを有する３０００Åの酸化物層８２はゲート誘電体である。ゲート誘電体上に形成されたソース及びドレイン接点は金製である。オリゴマー薄膜は、２．０ｘ１０−６Torrの圧力で、４〜５Å／ｓの速度で、５００〜６００Åの最終厚さにまで真空蒸着することにより成膜した。温調器により制御され、熱電対により測定される加熱又は冷却銅ブロック上に基板を配設することにより、蒸着中に異なる基板温度を使用した。これらデバイスの電子特性は空気中で測定した。測定結果は前記の表１に示した。
【００４６】
電界効果移動度は下記の数式から計算した。
ＩＤＳ＝（ＷＣｉ／２Ｌ）μ（ＶＧ−ＶＯ）２
（前記数式中、ＩＤＳは飽和領域におけるドレイン−ソース電流であり、μは電界効果移動度であり、Ｗはチャネル幅であり、Ｌはチャネル長さであり、Ｃｉは絶縁層の単位面積当たりのキャパシタンスであり（ＳｉＯ２，３０００Å，Ｃｉ＝１０ｎＦ／ｃｍ２）[Sze,1981#32]、ＶＯは外挿閾値電圧であり、ＶＧ軸に対して直線領域を外挿した後のＩＤＳ１／２対ＶＧプロットから得ることができる。）
【００４７】
本発明の材料と共にＣＭＯＳデバイス内で使用されるＮ−チャネルデバイス材料は常用の材料である。これらのうち、特に、
i.    ペリレンテトラカルボン酸二無水物（ＰＴＣＤＡ）
ii.   ＰＴＣＤＡのイミド誘導体
iii.  ナフタレンテトラカルボン酸二無水物（ＮＴＣＤＡ）
iv.   ＮＴＣＤＡのフッ素化誘導体
v.    フッ素化銅フタロシアニンである。
【００４８】
本発明のオリゴマーは、高電界効果移動度を有するばかりか、有用な発光特性も有する。従って、レーザなどのような光通信デバイスで使用できる。本発明によるレーザの模式図を図２３に示す。図２３において、本発明のオリゴマー半導体は符号９１で示され、ソース電極は符号９２で示され、ドレイン電極は符号９３で示され、また、ゲート電極は符号９４で示される。オリゴマー半導体レーザからの発光は円形９６により示される。
【００４９】
大きなスペクトル範囲の全域で発光させるための、本発明の材料の使用方法を例証するために、本発明の材料のうちの３種類の材料の発光特性を測定し、それを図２４にプロットした。曲線７１は２Ｆの発光スペクトルのプロットであり、曲線７２はＦＴＦのプロットであり、曲線７３はＦＴＴＦのプロットである。図２４から明らかなように、本発明の材料を使用することにより、２００ｎｍ超のスペクトル全体について有用な発光が得られる。
【００５０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、優れたトランジスタ性能を示し、かつ、特別な製造方法又は特別なトランジスタ構造の何れも不要なフルオレン系有機半導体材料が得られる。これらの材料はフルオレン含有オリゴマーであり、フルオレンとその他の共オリゴマーユニットとの間の高立体障害のために、生成されるオリゴマーは比較的高いバンドギャップと低いＨＯＭＯレベルを有する。これらの半導体は、優れた老化特性と共に高ｏｎ／ｏｆｆ比を示す。更に、これら材料のバンドギャップ及び発光波長は、共オリゴマーユニット構造を変化させることにより容易に同調させることができる。有機半導体の発光波長のカラー同調能は、高キャリア移動度を維持しながら、多色の電気的に注入される有機半導体レーザを生じさせる。更に、これらの材料は、結晶学的整合が不要な多結晶薄膜として生成し、優れた電気性能を与えることができる。
【００５１】
特許請求の範囲の発明の要件の後に括弧で記載した番号がある場合は、本発明の一実施例の対応関係を示すものであって、本発明の範囲を限定するものと解釈すべきではない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明により加工されたＴＦＴデバイスのＣＭＯＳ対を使用する単純なインバータの模式的回路ブロック図である。
【図２】図１の有機半導体ＴＦＴＣＭＯＳインバータ回路を形成するのに有用な加工工程の模式的断面図である。
【図３】図１の有機半導体ＴＦＴＣＭＯＳインバータ回路を形成するのに有用な加工工程の模式的断面図である。
【図４】図１の有機半導体ＴＦＴＣＭＯＳインバータ回路を形成するのに有用な加工工程の模式的断面図である。
【図５】図１の有機半導体ＴＦＴＣＭＯＳインバータ回路を形成するのに有用な加工工程の模式的断面図である。
【図６】図１の有機半導体ＴＦＴＣＭＯＳインバータ回路を形成するのに有用な加工工程の模式的断面図である。
【図７】図１の有機半導体ＴＦＴＣＭＯＳインバータ回路を形成するのに有用な加工工程の模式的断面図である。
【図８】図１の有機半導体ＴＦＴＣＭＯＳインバータ回路を形成するのに有用な加工工程の模式的断面図である。
【図９】図１の有機半導体ＴＦＴＣＭＯＳインバータ回路を形成するのに有用な加工工程の模式的断面図である。
【図１０】図１の有機半導体ＴＦＴＣＭＯＳインバータ回路を形成するのに有用な加工工程の模式的断面図である。
【図１１】図１の有機半導体ＴＦＴＣＭＯＳインバータ回路を形成するのに有用な加工工程の模式的断面図である。
【図１２】図１の有機半導体ＴＦＴＣＭＯＳインバータ回路を形成するのに有用な加工工程の模式的断面図である。
【図１３】図１の有機半導体ＴＦＴＣＭＯＳインバータ回路を形成するのに有用な加工工程の模式的断面図である。
【図１４】図１の有機半導体ＴＦＴＣＭＯＳインバータ回路を形成するのに有用な加工工程の模式的断面図である。
【図１５】図１の有機半導体ＴＦＴＣＭＯＳインバータ回路を形成するのに有用な加工工程の模式的断面図である。
【図１６】図１の有機半導体ＴＦＴＣＭＯＳインバータ回路を形成するのに有用な加工工程の模式的断面図である。
【図１７】図１の有機半導体ＴＦＴＣＭＯＳインバータ回路を形成するのに有用な加工工程の模式的断面図である。
【図１８】図１の有機半導体ＴＦＴＣＭＯＳインバータ回路を形成するのに有用な加工工程の模式的断面図である。
【図１９】図１の有機半導体ＴＦＴＣＭＯＳインバータ回路を形成するのに有用な加工工程の模式的断面図である。
【図２０】Ａ〜Ｆは本発明の材料の有機構造特徴を示す構造式である。
【図２１】本発明の材料を使用するＭＯＳトランジスタデバイスの部分概要断面図である。
【図２２】ＭＯＳトランジスタ特性のＩ−Ｖプロットを示す特性図である。
【図２３】本発明の材料を使用するレーザデバイスの模式的概要断面図である。
【図２４】本発明の代表的な３種類の材料の発光特性を示す特性図である。
【符号の説明】
１１  ｎ−チャネルＴＦＴ
１２  ｐ−チャネルＴＦＴ
２１  ＩＣ基板
２２  第１レベルの金属
２３  リソグラフマスク
２４  金属ランナー
２５  第１中間レベルの誘電体
２９  第２レベルの金属
３１  マスク
３２  金属ランナー
３３  第２中間レベルの誘電体
３４  パターン付マスク
３５  開口部
３６  中間レベルウインドウ
３７  ゲート金属層
３８，３９  ゲート構造
４１  ゲート誘電体層
４３  パターン付マスク
４４〜４７  開口部
５１  ソース／ドレイン接点層
５３，５４  ソース電極
５５，５６  ドレイン電極
６１，６２  能動型半導体本体
７１  保護層
８１  Ｎ−ドープトシリコン基板
８２  ゲート誘電体
８３  ソース接点
８４  ドレイン接点
８５  本発明のオリゴマー材料
９１  本発明のオリゴマー半導体
９２  ソース電極
９３  ドレイン電極
９４  ゲート電極
９６  発光
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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