(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
膜厚の計測方法において、
前記膜に入射すべき第１波長の光の強度を測定する段階と、
膜厚を測定すべき膜に、前記第１波長の光を照射する段階と、
前記膜を透過した前記第１波長の光の強度を測定する段階と、
前記膜に入射すべき前記第１波長の光の強度と前記膜を透過した前記第１波長の光の強度の比である第１の比を求める段階と、
前記膜に入射すべき、第１の波長とは異なる第２波長の光の強度を測定する段階と、
前記第２波長の光を前記膜に照射する段階と、
前記膜を透過した前記第２波長の光の強度を測定する段階と、
前記膜に入射すべき前記第２波長の光の強度と前記膜を透過した前記第２波長の光の強度の比である第２の比を求める段階と、
サンプルの薄膜により検量線及びその薄膜の光吸収係数を求める段階を有し、この検量線及び前記第１の比に基づいて膜厚を計算し、前記第１の比と、前記第２の比に基づいて計測すべき膜の光吸収係数を求め、前記検量線により計算した膜厚を、サンプルの薄膜の光吸収係数と計測すべき膜の光吸収係数の比に基づいて補正して膜厚を求めることを特徴とする膜厚の計測方法。
【請求項２】
前記膜に入射すべき、前記第１波長及び前記第２波長とは異なる第ｉ波長の光の強度を測定する段階と、
前記第ｉ波長の光を、前記膜に照射する段階と、
前記膜を透過した前記第ｉ波長の光の強度を測定する段階と、
前記膜に入射すべき前記第ｉ波長の光の強度と前記膜を透過した前記第ｉ波長の光の強度の比である第ｉの比を求める段階と、を更に有し、
前記第１の比ないし前記第ｉの比に基づいて前記膜の光吸収係数を求め、この光吸収係数に基づいて補正して膜厚を求める段階と、
を有することを特徴とする請求項１記載の膜厚の計測方法。
【請求項３】
膜厚を測定すべき膜に、第１波長の光を照射するための第１光源と、
前記膜に入射すべき前記第１波長の光の強度を測定するための第１入射光受光器と、
前記膜を透過した前記第１波長の光の強度を測定するための第１透過光受光器と、
前記膜に入射すべき前記第１波長の光の強度と前記膜を透過した前記第１波長の光の強度の比である第１の比を求めるための第１比較器と、
前記膜に、第１の波長とは異なる第２波長の光を照射する第２光源と、
前記膜に入射すべき前記第２波長の光の強度を測定するための第２入射光受光器と、
前記膜を透過した前記第２波長の光の強度を測定するための第２透過光受光器と、
前記膜に入射すべき前記第２波長の光の強度と前記膜を透過した前記第２波長の光の強度の比である第２の比を求めるための第２比較器と、
膜厚計算器と、を有し、前記膜厚計算器は、サンプルの薄膜により求めた検量線及びその薄膜の光吸収係数を記憶しており、前記膜厚計算器は、前記検量線及び前記第１の比に基づいて膜厚を計算し、前記第１の比と、前記第２の比に基づいて計測すべき膜の光吸収係数を求め、前記検量線により計算した膜厚を、サンプルの薄膜の光吸収係数と計測すべき膜の光吸収係数の比に基づいて補正して膜厚を求めることを特徴とする膜厚計測装置。
【請求項４】
膜厚を測定すべき膜に、第ｉ波長の光を照射するための第ｉ光源と、
前記膜に入射すべき前記第ｉ波長の光の強度を測定するための第ｉ入射光受光器と、
前記膜を透過した前記第ｉ波長の光の強度を測定するための第ｉ透過光受光器と、
前記膜に入射すべき前記第ｉ波長の光の強度と前記膜を透過した前記第ｉ波長の光の強度の比である第ｉの比を求めるための第ｉ比較器と、を更に有し、
前記膜厚計算器が、前記第１の比ないし前記第ｉの比に基づいて前記膜の光吸収係数を求め、この光吸収係数に基づいて補正して膜厚を求めることを特徴とする請求項３記載の膜厚計測装置。
【請求項５】
前記各入射光受光器が、前記各透過光受光器を兼ねることを特徴とする請求項３又は４に記載の膜厚計測装置。
【請求項６】
前記各光源の光が、光ファイバを介して前記膜に照射されることを特徴とする請求項３乃至請求項５の何れか１項に記載の膜厚計測装置。
【請求項７】
前記各入射光受光器、及び／又は、前記各透過光受光器が受光すべき光が、光ファイバを介して各受光器に導かれることを特徴とする請求項３乃至請求項６の何れか１項に記載の膜厚計測装置。
【請求項８】
膜厚を測定すべき膜に光を照射するための光源と、
前記膜に入射すべき前記光の強度を測定するための入射光分光器と、
前記膜を透過した前記光の強度を測定するための透過光分光器と、
前記入射光分光器によって分光された前記膜に入射すべき前記光の第１波長成分の強度と前記透過光分光器によって分光された前記膜を透過した前記光の第１波長成分の強度との比である第１の比を求めるための第１比較器と、
前記入射光分光器によって分光された前記膜に入射すべき前記光の第２波長成分の強度と前記透過光分光器によって分光された前記膜を透過した前記光の第２波長成分の強度との比である第２の比を求めるための第２比較器と、
膜厚計算器と、を有し、前記膜厚計算器は、サンプルの薄膜により求めた検量線及びその薄膜の光吸収係数を記憶しており、前記膜厚計算器は、前記検量線及び前記第１の比に基づいて膜厚を計算し、前記第１の比と、前記第２の比に基づいて計測すべき膜の光吸収係数を求め、前記検量線により計算した膜厚を、サンプルの薄膜の光吸収係数と計測すべき膜の光吸収係数の比に基づいて補正して膜厚を求めることを特徴とする膜厚計測装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、膜厚の測定方法、及び、測定装置に関し、特に、膜の光吸収係数を利用した、太陽電池、液晶等の薄膜半導体等の膜厚の測定方法及び測定装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、薄膜の厚さを測定するためにダブルモノクロと呼ばれる計測器が使用されている。この計測器は、薄膜にレーザ光を照射し、膜の両側の表面間で反射を繰り返す光を干渉させることによって干渉縞を形成し、この干渉縞を基に膜厚を計測するようになっている。
【０００３】
一方、膜の光吸収係数を利用した膜厚の計測方法も知られている。この方法では、検量線と呼ばれる直線のグラフを予め実験的に求めておき、このグラフに基づいて膜厚を計測している。即ち、厚さを測定する膜に入射すべき光の強度をＩ0、膜を透過した光の強度をＩとすると、入射光の強度と透過光の強度の比の自然対数であるｌｏｇ（Ｉ0／Ｉ）と、膜厚との間には、一般に、比例関係が成り立つ。すなわち、
ｄ＝（１／α）ｌｏｇ（Ｉ0／Ｉ）          （数式１）
の関係が成り立つ。ここで、ｄは膜厚であり、αは光吸収係数と呼ばれる係数である。この関係、即ち、検量線を予め実験により求めておき、厚さを測定すべき膜についてＩ0、Ｉを測定することによって膜厚ｄを求めることができる。なお、（数式１）において、入射光の強度Ｉ0及び透過光の強度Ｉが白色光の強度である場合、光吸収係数αは各波長に対する光吸収係数の重み付き平均値となる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、光の干渉縞を利用したダブルモノクロによる計測では、太陽電池のシリコン膜等のように膜の表面に微少な凹凸がある場合、膜の中に入射したレーザ光が反射する際に乱反射を起こすので、干渉縞が形成されず、膜厚を計測することができないという問題がある。また、ダブルモノクロによる計測では、計測に要する時間が長いため、膜の製造ラインにおいてオンラインで計測を行うことができないという問題がある。
【０００５】
一方、光吸収係数を利用した膜厚の計測方法では、検量線を基に膜厚を求めているが、実際には、検量線は個々の膜によって変化するので、測定精度が悪くなるという問題がある。例えば、太陽電池のシリコン膜では、同様の製造工程を経て製造されたシリコン膜であっても、各製造ロットにより膜質が異なり、検量線の傾きの逆数である光吸収係数αが変化する。従って、光吸収係数を利用して精度良く膜厚を測定するためには、膜質が変わる毎に検量線を求める必要がある。
【０００６】
検量線を実験的に求めるには、膜厚を測定すべき膜に光を照射し、その入射光Ｉ0と透過光Ｉを測定し、ｌｏｇ（Ｉ0／Ｉ）を求める。次いで、その部分の膜厚を電子顕微鏡、ダブルモノクロ等で測定することによって膜厚ｄを求め、ｌｏｇ（Ｉ0／Ｉ）と膜厚ｄとの関係をグラフにプロットする。このような関係を多数求め、プロット点を直線で結ぶことによって検量線が得られる。しかしながら、検量線を求める実験は多くの時間、費用を要し、オンラインで計測を行うことができないので、これを前記のように製造ロット毎に行うことは不可能である。
【０００７】
本発明の目的は、膜の表面に凹凸がある場合にも、オンラインで膜厚を測定することができる膜厚の計測方法及び装置を得ることにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上述した目的を達成するために、本発明は、膜厚の計測方法において、膜に入射すべき第１波長の光の強度を測定する段階と、膜厚を測定すべき膜に、第１波長の光を照射する段階と、膜を透過した第１波長の光の強度を測定する段階と、膜に入射すべき第１波長の光の強度と膜を透過した第１波長の光の強度の比である第１の比を求める段階と、膜に入射すべき、第１の波長とは異なる第２波長の光の強度を測定する段階と、第２波長の光を膜に照射する段階と、膜を透過した第２波長の光の強度を測定する段階と、膜に入射すべき第２波長の光の強度と膜を透過した第２波長の光の強度の比である第２の比を求める段階と、サンプルの薄膜により検量線及びその薄膜の光吸収係数を求める段階を有し、この検量線及び第１の比に基づいて膜厚を計算し、第１の比と、第２の比に基づいて計測すべき膜の光吸収係数を求め、検量線により計算した膜厚を、サンプルの薄膜の光吸収係数と計測すべき膜の光吸収係数の比に基づいて補正して膜厚を求めることを特徴としている。
【０００９】
この計測方法では、膜厚を測定すべき膜に、第１波長の光が照射され、膜を透過した第１波長の光の強度が測定される。同様に、第１波長とは異なる第２波長の光が膜に照射され、膜を透過した第２波長の光の強度が測定される。次いで、第１波長の光、第２波長の光について、入射光と透過光の強度の比が、夫々計算される。これら２つの光の強度の比を使用して、上述の測定原理により膜厚を計算し、入射すべき光と透過した光の強度の比に基づいて検量線による膜厚の計算値を補正して膜厚を求める。
【００１０】
この計測方法によれば、膜の表面に凹凸がある場合にも、実験的に得られた検量線に基づいて膜厚を計算し、入射すべき光と透過した光の強度の比に基づいて検量線による膜厚の計算値を補正して膜厚を求めているので、理論式には加味されていない種々の測定条件による影響を排除することができる。
【００１１】
また、本発明の計測方法は、膜に入射すべき、第１波長及び第２波長とは異なる第ｉ波長の光の強度を測定する段階と、第ｉ波長の光を、膜に照射する段階と、膜を透過した第ｉ波長の光の強度を測定する段階と、膜に入射すべき第ｉ波長の光の強度と膜を透過した第ｉ波長の光の強度の比である第ｉの比を求める段階と、を更に有し、第１の比ないし第ｉの比に基づいて膜の膜厚を求めることもできる。
【００１２】
この方法によれば、３種類以上の波長の光が膜に照射され、３つ以上の入射光と透過光の強度の比が測定される。これら３つ以上の強度の比に基づいて膜厚を計算することにより、膜厚の計算精度を更に向上させることができる。
【００１５】
また、本発明による膜厚計測装置は、膜厚を測定すべき膜に、第１波長の光を照射するための第１光源と、膜に入射すべき第１波長の光の強度を測定するための第１入射光受光器と、膜を透過した第１波長の光の強度を測定するための第１透過光受光器と、膜に入射すべき第１波長の光の強度と膜を透過した第１波長の光の強度の比である第１の比を求めるための第１比較器と、膜に、第１の波長とは異なる第２波長の光を照射する第２光源と、膜に入射すべき第２波長の光の強度を測定するための第２入射光受光器と、膜を透過した第２波長の光の強度を測定するための第２透過光受光器と、膜に入射すべき第２波長の光の強度と膜を透過した第２波長の光の強度の比である第２の比を求めるための第２比較器と、膜厚計算器と、を有し、膜厚計算器は、サンプルの薄膜により求めた検量線及びその薄膜の光吸収係数を記憶しており、膜厚計算器は、検量線及び第１の比に基づいて膜厚を計算し、第１の比と、第２比に基づいて計測すべき膜の光吸収係数を求め、検量線により計算した膜厚を、サンプルの薄膜の光吸収係数と計測すべき膜の光吸収係数の比に基づいて補正して膜厚を求めることを特徴としている。
【００１６】
本発明の膜厚計測装置によれば、上記本発明の膜厚計測方法を利用して、膜厚を測定することができる。
また、各入射光受光器は、各透過光受光器を兼ねても良い。
各受光器は、光源と受光器との間に膜を配置せずに光源の光を受光することにより、入射光受光器として機能し、光源と受光器との間に膜を配置して受光することにより、透過光受光器として機能する。この構成により、受光器の数を減ずることができる。
【００１７】
また、本発明の膜厚計測装置において、各光源の光が、光ファイバを介して膜に照射されるように構成しても良い。
この構成によれば、光の照射位置を膜に隣接して密に配置することができる。さらに、各入射光受光器、及び／又は、各透過光受光器が受光すべき光が、光ファイバを介して各受光器に導かれるように構成しても良い。
この構成によれば、一つの受光器によって複数点の透過光を受光することが可能になる。
【００１８】
また、本発明の膜厚計測装置は、膜厚を測定すべき膜に光を照射するための光源と、膜に入射すべき光の強度を測定するための入射光分光器と、膜を透過した光の強度を測定するための透過光分光器と、入射光分光器によって分光された膜に入射すべき光の第１波長成分の強度と透過光分光器によって分光された膜を透過した光の第１波長成分の強度との比である第１の比を求めるための第１比較器と、入射光分光器によって分光された膜に入射すべき光の第２波長成分の強度と透過光分光器によって分光された膜を透過した光の第２波長成分の強度との比である第２の比を求めるための第２比較器と、膜厚計算器と、を有し、膜厚計算器は、サンプルの薄膜により求めた検量線及びその薄膜の光吸収係数を記憶しており、膜厚計算器は、検量線及び第１の比に基づいて膜厚を計算し、第１の比と、第２比に基づいて計測すべき膜の光吸収係数を求め、検量線により計算した膜厚を、サンプルの薄膜の光吸収係数と計測すべき膜の光吸収係数の比に基づいて補正して膜厚を求めることを特徴としている。
【００１９】
この構成では、複数の波長を有する光、又は、白色光が、計測すべき膜に照射される。光源から射出され、入射光分光器によって受光された光は、分光され、受光した光に含まれる第１波長成分の光の強度と、第１波長成分とは異なる波長の第２波長成分の光の強度が測定される。同様に、光源から射出され、膜を透過して透過光分光器によって受光された光は、分光され、第１波長成分の光の強度と、第２波長成分の光の強度が測定される。第１比較器は、膜に入射すべき第１波長の光の強度と膜を透過した第１波長の光の強度との第１の比を求める。同様に、第２比較器は、膜に入射すべき第２波長の光の強度と膜を透過した第２波長の光の強度との第２の比を求める。膜厚計算器は、第１の比と第２の比に基づいて膜厚を計算し、入射すべき光と透過した光の強度の比に基づいて検量線による膜厚の計算値を補正して膜厚を求める。
【００２０】
この構成によれば、単一の光源で測定を行うことができ、膜厚測定に使用する光の波長を自由に選択することができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
まず、本発明の実施形態における膜厚の測定原理について説明する。一般に、光吸収係数αは、光の波長λの関数として次の理論式によって求めることができる。
α（λ）＝Ｂ（Ｅ−Ｅg）2／Ｅ          （数式２）
ここで、ＢはＢ定数と呼ばれる定数であり、Ｅ［ｅＶ］（エレクトロンボルト）は光子エネルギーであり、Ｅg［ｅＶ］はバンドギャップである。また、光子エネルギーＥは、Ｅ＝１．２４／λで与えられ、波長λの関数である。バンドギャップＥgは、膜質を支配する定数であり、膜毎に値が変化する。
【００２２】
ここで、測定すべき膜に入射した波長λ1の光の強度をＩ01とし、透過した波長λ1の光の強度をＩ11とすると、（数式１）（数式２）を使用して、次の関係式が得られる。
-log(Ｉ11/Ｉ01)＝α(λ1)ｄ＝ｄ・Ｂ(Ｅ1−Ｅg)2/Ｅ1    （数式３）
同様に、膜に入射した波長λ2の光の強度をＩ02、透過した波長λ2の光の強度をＩ12とすると、
-log(Ｉ12/Ｉ02)＝α(λ2)ｄ＝ｄ・Ｂ(Ｅ2−Ｅg)2／Ｅ2    （数式４）
の関係式が得られる。なお、Ｅ1＝１.２４／λ1、Ｅ2＝１.２４／λ2である。更に、（数式３）（数式４）を連立方程式として、Ｅgについて解くと、
Ｅg＝｛Ｅ2（ａ1Ｅ1）1/2−Ｅ1（ａ2Ｅ2）1/2｝／｛（ａ1Ｅ1）1/2−（ａ2Ｅ2）1/2｝
ただし、ａ1＝-log(Ｉ11/Ｉ01)、ａ2＝-log(Ｉ12/Ｉ02)    （数式５）
の関係式が得られる。（数式５）によって計算されたＥgの値を、（数式２）に代入することによって、α（λ）の値を得ることができる。このようにして得られたα（λ）に基づいて膜厚を求めることにより、膜質によってＥgが変化した場合にも精度良く膜厚を求めることができる。
【００２３】
次に、添付図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。
まず、図１乃至図３を参照して本発明の第１実施形態を説明する。図１は、本発明の第１実施形態による膜厚計測装置１の概略図である。第１実施形態による膜厚計測装置１は、ガラス基板Ｓ上に形成された薄膜Ｍの膜厚を測定するように構成されている。膜厚計測装置１は、第１光源である第１ＬＥＤ２と、第１ＬＥＤ２とは異なる波長の光を照射する第２光源である第２ＬＥＤ４と、第１ＬＥＤ２及び第２ＬＥＤ４を点灯させるための電源６と、を有する。さらに、膜厚計測装置１は、第１入射光受光器及び第１透過光受光器として機能する、第１ＬＥＤ２が照射した光を受光するための第１フォトセンサ８と、第２入射光受光器及び第２透過光受光器として機能する、第２ＬＥＤ４が照射した光を受光するための第２フォトセンサ１０と、第１フォトセンサ８及び第２フォトセンサ１０が受光した光に基づいて膜厚を求めるための演算装置１２と、を有する。
【００２４】
第１ＬＥＤ２は薄膜Ｍに隣接して配置され、単色光を薄膜Ｍに照射するように構成されている。第２ＬＥＤ４は薄膜Ｍに隣接して配置され、第１ＬＥＤ２とは異なる波長（色）の単色光を、薄膜Ｍに照射するように構成されている。また、第１ＬＥＤ２と第２ＬＥＤ４は、互いに近接した位置に光を照射できるように、隣接して配置されている。電源６は、第１ＬＥＤ２及び第２ＬＥＤ４に直流電圧を供給し、各ＬＥＤを点灯させるように構成されている。
【００２５】
第１フォトセンサ８は、第１ＬＥＤ２の反対側で、薄膜Ｍに隣接して第１ＬＥＤ２対向して配置され、薄膜Ｍ及びガラス基板Ｓを透過した第１ＬＥＤ２の光を受光するように構成されている。同様に、第２フォトセンサ１０は第２ＬＥＤ４に対応する位置に配置され、薄膜Ｍ及びガラス基板Ｓを透過した第１ＬＥＤ２の光を受光するように構成されている。第１フォトセンサ８及び第２フォトセンサ１０は、受光した光の強度に対応したアナログ電圧を出力するように構成され、各出力信号は、演算装置１２に導かれる。
【００２６】
演算装置１２は、各フォトセンサが出力したアナログ信号をデジタル信号に変換するためのＡ／Ｄ変換器１４と、Ａ／Ｄ変換器１４によって変換されたデジタル信号に基づいて膜厚を計算するためのコンピュータ１６と、を有する。即ち、演算装置１２は、第１比較器、第２比較器、及び、膜厚計算器として機能する。
【００２７】
次に、図２及び図３を参照して、本発明の第１実施形態による膜厚計測装置１の作用を説明する。図２は、本実施形態による測定手順のフローチャートである。まず、ステップＳ１において、各ＬＥＤとフォトセンサとの間に薄膜Ｍ及びガラス基板Ｓを配置しない状態で各ＬＥＤを点灯させる。この状態で、第１ＬＥＤ２の射出光を第１フォトセンサ８で、第２ＬＥＤ４の射出光を第２フォトセンサ１０で夫々受光する。各ＬＥＤと各フォトセンサとの間隔は狭いので、各フォトセンサが受光した光は、ＬＥＤとフォトセンサとの間に薄膜Ｍが配置された場合に、薄膜Ｍに入射する光と同一の強度であると見なすことができる。即ち、各フォトセンサの出力により、膜に入射する光の強度Ｉ01、Ｉ02を求めることができる。
【００２８】
次に、ステップＳ２において、膜厚測定の準備として、測定すべき膜の検量線を求める。まず、検量線を求めるべき薄膜Ｍ0及びガラス基板Ｓを、第１ＬＥＤ２と第１フォトセンサ８との間に配置し、薄膜Ｍ0及びガラス基板Ｓを透過した第１ＬＥＤ２の射出光を第１フォトセンサ８で受光する。これにより透過光の強度Ｉ11が得られる。なお、本実施形態においては、ガラス基板Ｓは透明度が高いので、ガラス基板Ｓの存在は透過光の強度Ｉ11に殆ど影響を与えない。このＩ11と先に求めたＩ01により、ｌｏｇ（Ｉ01／Ｉ11）の値を計算する。次いで、透過光を計測した位置の膜厚ｄを電子顕微鏡等で測定する。このようにして、ｌｏｇ（Ｉ01／Ｉ11）の値と、膜厚ｄとの関係を薄膜Ｍ0上の多数の点で求め、グラフにプロットすることにより、検量線が得られる。また、適用によっては、複数の薄膜のサンプルを利用して検量線を求めても良い。
【００２９】
ステップＳ３において、コンピュータ１６は、最小２乗法等を使用して、検量線の傾きＡ、及び、ｙ切片Ｂを計算し、その値をコンピュータ１６のメモリに記憶する。得られた検量線の一例を図３に示す。さらに、コンピュータ１６は、検量線を求めた薄膜Ｍ0の任意の位置で、入射光の強度Ｉ01、Ｉ02及び透過光の強度Ｉ11、Ｉ12に基づいて、薄膜Ｍ0の光吸収係数α0（λ1）を後述する手順によって計算し、その値をメモリに記憶する。
【００３０】
次いで、検量線を求めた薄膜Ｍ0とは別の薄膜Ｍの膜厚測定を開始する。ステップＳ４において、検量線を求めた場合と同様に、各ＬＥＤと各フォトセンサとの間に、ガラス基板Ｓ上に形成された薄膜Ｍを配置する。次に、薄膜Ｍ及びガラス基板Ｓを透過した第１ＬＥＤ２の射出光を第１フォトセンサ８で受光する。第１フォトセンサ８は、受光した光の強度に対応した電圧をＡ／Ｄ変換器１４に出力する。Ａ／Ｄ変換器１４は、入力された電圧に対応したデジタル値をコンピュータ１６に出力する。これにより、透過光の強度Ｉ11が測定される。同様に、第２フォトセンサ１０によって透過光の強度Ｉ12が測定される。
【００３１】
ステップＳ５において、コンピュータ１６は、先に求めた入射光の強度Ｉ01、Ｉ02及び透過光の強度Ｉ11、Ｉ12からｌｏｇ（Ｉ01／Ｉ11）、ｌｏｇ（Ｉ02／Ｉ12）の値を計算する。更に、これらの値を（数式５）に代入してバンドギャップＥgを計算し、得られたＥgの値を（数式２）に代入して、薄膜Ｍの光吸収係数α（λ1）を求める。なお、前述の薄膜Ｍ0の光吸収係数α0（λ1）も同様の手順によって計算されている。さらに、ステップＳ６において、コンピュータ１６は、ｌｏｇ（Ｉ01／Ｉ11）の値を使用して、検量線から膜厚ｄを計算する。即ち、
ｄ＝Ａ・ｌｏｇ（Ｉ01／Ｉ11）＋Ｂ            （数式６）
によって膜厚ｄを計算する。ここで、Ａは検量線の傾きであり、Ｂは切片である。しかしながら、測定した薄膜Ｍは、検量線を求めた薄膜Ｍ0とは別のものであり、求められた膜厚ｄには誤差が含まれる。そこで、ステップＳ７において、膜厚ｄの値を（数式７）によってｄCに補正する。
ｄC＝ｄ・α0（λ1）／α（λ1）              （数式７）
以上の手順により膜質変化等の影響を受けずに膜厚が測定される。
【００３２】
本発明の第１実施形態によれば、検量線によって計算された膜厚ｄを、光吸収係数によって補正しているので、膜質変化の影響を受け難い正確な膜厚ｄCを求めることができる。また、一旦、検量線を作成しておけば、別の測定すべき薄膜については検量線を作成する必要がないので、オンラインで正確な膜厚を測定することができる。更に、実験的に求められた検量線を利用しているので、理論式を基に計算された光吸収係数α（λ1）には加味されていない、ガラス基板等の影響も排除することができる。
【００３３】
変形例として、本発明の第１実施形態では、光源であるＬＥＤを測定すべき薄膜Ｍに近接して配置しているが、ＬＥＤを薄膜Ｍから離れた位置に配置し、ＬＥＤの光を光ファイバ等によって薄膜Ｍに導くように構成しても良い。この構成によれば、多数点での膜厚計測を容易に行うことができる。或いは、フォトセンサを薄膜Ｍから離れた位置に配置し、薄膜Ｍを透過した光を光ファイバ等によってフォトセンサまで導くように構成しても良い。この構成では、受光部分を軽量化することができ、多点計測にも有利である。また、複数の光ファイバが１つのフォトセンサに対して光を導くように構成し、フォトセンサを複数の受光点について兼用にすることもできる。
【００３４】
さらに、本実施形態では、２種類の波長λ1、λ2の単色光を使用してバンドギャップＥgを計算しているが、３種類以上の波長の単色光を使用しても良い。その場合には、（数式３）（数式４）の他に同様の関係式を加え、それらの関係式を連立させて最小２乗法等によってＥgの値を計算する。これにより、Ｅgの計算精度を向上させることができる。また、本実施形態においては、検量線を利用して膜厚ｄを計算し、その値を光吸収係数の比によって補正しているが、適用によっては、検量線を利用せずに、計算された光吸収係数α（λ1）を直接（数式１）に代入することによって膜厚を求めても良い。
【００３５】
次に、図４を参照して、本発明の第２実施形態を説明する。本発明の第２実施形態による膜厚計測装置１００は、単一の光源が薄膜Ｍに白色光を照射し、分光器が薄膜Ｍを透過した光を受光する点以外は第１実施形態と同様である。従って、第１実施形態と同様の構成要素には同一の参照番号を付し、同一の構成、作用、効果、変形例については説明を省略する。図４は、本発明の第２実施形態の概略図である。
【００３６】
図４に示すように、第２実施形態による膜厚計測装置１００は、光源であるランプ１０２と、ランプ１０２を点灯させるための電源６と、を有する。さらに、膜厚計測装置１００は、入射光分光器及び透過光分光器として機能する、ランプ１０２が照射した光を分光するための分光器１１２と、分光器１１２の出力に基づいて膜厚を求めるための演算装置１２と、を有する。
【００３７】
分光器１１２は、入射した光の波長ごとの強度、即ち、スペクトラムを計測することができる。分光器１１２は、プリズムや回折格子等を含む機器によって構成することができる。
【００３８】
ランプ１０２によって照射された白色光は、薄膜Ｍ及びガラス基板Ｓを透過し、分光器１１２に入射する。分光器１１２は、入射した白色光のスペクトラムを計測する。分光器１１２で計測された白色光のスペクトラムは、演算装置１２のコンピュータ１６に出力される。コンピュータ１６では、スペクトラムの中から任意の波長λ1、λ2が選択され、薄膜Ｍを透過した波長λ1、λ2の光の強度に基づいて膜厚が計算される。
検量線の作成手順、及び、任意の２波長の透過強度を用いた後の演算装置１２による信号処理は、第１実施形態と同様であるので説明を省略する。
【００３９】
本発明の第２実施形態によれば、任意の波長を、分光器によって選択できるので、測定に使用する光の波長を自由に設定することができる。この構成は、使用する光の波長を３種類以上に増加させる場合に特に有利である。
【００４０】
以上、本発明の好ましい実施形態を説明したが、本発明の範囲又は精神から逸脱することなく、特許請求の範囲に記載されて技術的事項の範囲内において、開示した実施形態に種々の変更をすることができる。特に、測定対象物は、太陽電池のシリコン膜等に限定されることはなく、任意の薄膜の測定に本発明を使用することができる。
【００４１】
【発明の効果】
本発明によれば、膜の表面に凹凸がある場合にも、オンラインで膜厚を測定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態による膜厚計測装置の概略図である。
【図２】第１実施形態の膜厚計測装置による測定手順を示すフローチャートである。
【図３】検量線の一例を示すグラフである。
【図４】本発明の第２実施形態による膜厚計測装置の概略図である。
【符号の説明】
Ｍ      薄膜
Ｓ      ガラス基板
１      第１実施形態による膜厚計測装置
２      第１ＬＥＤ
４      第２ＬＥＤ
６      電源
８      第１フォトセンサ
１０    第２フォトセンサ
１２    演算装置
１４    Ａ／Ｄ変換器
１６    コンピュータ
１００  第２実施形態による膜厚計測装置
１０２  ランプ
１１２  分光器
【図１】
0004146111.tif 000002
【図２】
0004146111.tif 000003
【図３】
0004146111.tif 000004
【図４】
0004146111.tif 000005