(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
心臓組織に電気的に接続するための２極タイプのリード１０であって、シリコン管２４を通って延びる細長い導電コイル１４に接続され、上記導電コイル１４を回転させる間の摩擦力を小さくするために、該導電コイル１４が、操作用の遠位端１２に回転操作用のキャップ１８を取り付けて含み、近位端の螺旋電極４０を体組織に固定するために、上記シリコン管２４内で回転可能とされ、上記シリコン管２４は、その外周に戻り用のコイル導電体２６を有し、その外側にシリコン管２８を有し、該外側のシリコン管２８の途中部位に上記コイル導電体２６に接続させて上記近位端の螺旋電極４０側への帰還伝導経路とする血液接触電極４４を含むとともに、内表面をプラズマグロー放電により処理して架橋と内表面硬化を生じさせてなることを特徴とする心臓リード。
【請求項２】
上記処理が上記通路内表面のコーティングを含むことを特徴とする請求項１の心臓リード。
【請求項３】
上記処理を行なうためのパルス化された無線周波数電源を含むことを特徴とする請求項１の心臓リード。
【請求項４】
上記処理を重合可能な気化物質の放電によって行なうことを特徴とする請求項１の心臓リード。
【請求項５】
上記管の通路の径が、約１ミリメートルより小さいことを特徴とする請求項１の心臓リード。
【請求項６】
上記プラズマ放電により、上記内表面の滑り摩擦係数を少なくとも４０％低減させてなることを特徴とする請求項１の心臓リード。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、生体器官に電気的装置を接続するための電極を含むリードに関し、具体的には、心臓の組織に電気的に接続する心臓ペースメーカー装置やジェネレーター用に経静脈法を用いて植え込みできるペーシングとセンシング用のリードアセンブリに関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
ペースメーカー技術及びその関連技術では、血管を通す植え込み型のリードアセンブリがしばしば使用される。この種のリードアセンブリは、電気的エネルギー源（ジェネレーターやペースメーカー）に近位端を適切に接続できるようにしたカテーテル状の電気的導電体を含む。リードアセンブリは、体内組識に固定できるようにした電極手段を導電体の遠位端に有する。ペースメーカーにおいては静脈を介してリードアセンブリを取り付ける技術が利用されており、電極手段を血管を通して心臓に押し入れている。上記目的で使用する典型的なリードアセンブリは、電気的導電体とその端に取り付けた電極手段からなるリードアセンブリを永久的に体内に固定し、かつ体内組織の必要な位置から所望の時に取り外すことできるようにしてある。導電体とこれに取り付けた電極手段の部位は、体液と体組識に対して不活性な材料を用いて体液と体組織から密封している。体内の血管を損傷させずにリードと電極手段を体内のある位置に血管を通して案内、挿入し、電極手段を体組織にしっかりと永久的に固定するための手段を備える。リードアセンブリの電極は、リードアセンブリのシース内で電極材料の螺旋によって心臓の筋肉である組識にしっかりと固定する。電極の固定は、導電体を回転させて螺旋状の電極も回転させ、コルクの栓抜きのような方法で電極を回転させて組織にねじ込むものである。
【０００３】
この種のリードアセンブリは、Ｂｉｓｐｉｎｇ氏への米国特許第４，１０６，５１２号と同第４，８８６，０７４号で開示されており、端部が螺旋形の電極を有する柔軟な螺旋状の導電体を有する。この種のリードの市販品は、導電体の回転運動を起こすために近位端から及ぼされる回転力を利用する。このため、螺旋電極を保持する組識から引き出したり、その組織にねじ止めすることができるようになっている。力が近位端から及ぼされなければならないこのタイプのアセンブリにおいては、電気的導電体に沿った力とそれを伝達する絶縁されたシースか管によって生じる摩擦力が、近位端への過度の入力となり得る。またねじり力が吸収されることにより、導電体の全長での入力量の不足を引き起こすこともある。これらは全て特に望ましくない結果である。
【０００４】
種々のシースまたは管材料としては、ポリウレタンかフッ化ポリマーのような材料が細長い導電体とするために使用されている。しかしながら、これらの材料はシリコンのような柔軟性を有していない。一方、あいにくシリコンは粘着性の表面を有しており、コイル回転抵抗を低くすることができない。
【０００５】
伸縮自在なスクリューインリードの設計には、小径の細長いトーションコイルを高分子物質製の絶縁管内の全長に渡って低抵抗（摩擦力による）で回転させ得ることが要求される。ポリウレタンを使用して作られた従来のスクリューインリードでは、ワイヤーコイルとの接触による摩擦係数は低いが、柔軟性を欠いていた。シリコンゴム管では粘着性の表面がシリコンゴム管を介したコイルトルクの伝達を阻害する過度の摩擦力を引き起こす。高硬度（より硬い）のシリコンの使用で、いくらかはこの問題を軽減できるが、そのようなリードの性能には限界がある。
【０００６】
またポリウレタン管を使用しているリードは、酸化及び酸化によって機械的特性と絶縁特性を失うことが知られている。金属コイルを貴金属でコーティングしてこの性能低下を防ぐことができるが、装置のコストを増やすことになる。
【０００７】
それ故に、ねじ込み式の心臓リードと他の類似するリードの製造で、そのスリップ特性、特に内表面のスリップ特性を改良するように特別に処理されたシリコン管を提供することが本発明の一つの目的である。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る細長い医療用装置は上記目的を達成するために、内部を通る細長い通路を画定する所定の長さのシリコン管と、回転によって上記通路の長さを伸縮させる回転自在な金属挿入部品からなる細長い医療装置において、上記通路内でプラズマ放電を用いた処理を行ない、上記シリコン管内表面のスリップ特性を改善してなることを特徴とする。
【０００９】
本発明に係る細長い医療用装置は、上記処理が上記通路内表面のコーティングを含む構成とすることができる。
【００１０】
本発明に係る細長い医療用装置は、上記処理を行なうためのパルス化された無線周波数電源を含む構成とすることができる。
【００１１】
本発明に係る細長い医療用装置は、上記処理を重合可能な気化物質の放電よって行なう構成とすることができる。
【００１２】
本発明に係る細長い医療用装置は、上記管の通路の径が、約１ミリメートルより小さい構成とすることができる。
【００１３】
本発明に係る細長い医療用装置は、上記プラズマ放電により、上記内表面の滑り摩擦係数を少なくとも４０％低減させてなる構成とすることができる。
【００１４】
本発明に係るリードは上記目的を達成するために、体内組織に対する電気的伝達装置のための体内に植え込み可能な柔軟性のあるリードであって、遠位端の電極を回転させて体組織に固定でき、絶縁体と共軸に画定される通路内で縦に伸びる細長い導電体と、上記電極に上記導電体の遠位端を接続する手段とを備え、近位端で上記導電体を回転させ、固定のための上記電極の回転を引き起こすリードにおいて、上記通路の内周表面のスリップ特性をグロー放電処理によって変更し、その中の導電体の回転を容易にしたことを特徴とする。
【００１５】
本発明に係るリードは、上記導電体がねじり巻かれた電気的コイル導電体である構成とすることができる。
【００１６】
本発明に係るリードは、上記処理を行なうためのパルス化された無線周波数電源を含む構成とすることができる。
【００１７】
本発明に係るリードは、上記絶縁体がシリコンゴムである構成とすることができる。
【００１８】
本発明に係るリードは、上記処理を重合可能な気化物質の放電によって行なう構成とすることができる。
【００１９】
本発明に係るリードは、上記管の通路の径が、約１ミリメートルより小さい構成とすることができる。
【００２０】
本発明に係るリードは、上記プラズマ放電により、上記内表面の滑り摩擦係数を少なくとも４０％低減させてなる構成とすることができる。
【００２１】
【実施例】
現在、伸縮自在なペーシングリードは一般に、細長いコイルを管の内側で回転しやすくするために表面摩擦の小さいポリウレタン管から造られている。伸縮自在なスクリューインリードは、医師が遠隔的に心臓組識にねじ止めするために、螺旋状のリード先端電極を用いている。リードが適切に所望の心臓の室内に位置決めされると、医師は、心臓組識に螺旋を伸ばしてねじ止めするためリードのコネクターを端部の操作で回転させ、それによって内側のコイル導電体を回転させる。ユーザの要求を満たすためには、２０回程度の回転が必要とされるかもしれないので、コイルを担持している管の内側のコイルを回転させる間の摩擦力が小さいことが必要となる。
【００２２】
まず図１に言及すると、図中１０はリードアセンブリで、遠位端１２とコイル導電体１４を有し、コイル導電体１４をリード１０の軸方向中心に位置決めし、リード１０のほぼ全長にわたって伸ばし設けてある。コイル導電体１４の遠位端１４ａはピン１６にレーザー溶接１５によって接合してあり、ピン１６を介して終端キャップ１８に接続している。ピン１６は硬質のポリウレタン等からなる筒体２０中で自由に回転できる。筒体２０は、ピン１６と遠位端１２に設けたキャップ１８の回転を容易にする軸受け面２２を有し、キャップ１８でコイル導電体１４全体を回転させ得る。ピン１６と終端キャップ１８は、医師がリード中でコイルを回転させる手段となることに加え、コイル導電体１４とジェネレーター（図示せず）の間の電気的接続を確立する。コイル導電体１４は、リード１０の全長を超える長さを有し、コイル導電体１４と共軸に伸びる内側のシリコン管２４を有する。シリコン管２４の内周表面は、後述するプラズマ加工によってそのスリップ特性を改良するために特別の処理を施してある。
【００２３】
もしリードが多極タイプのものであれば、戻り用のコイル導電体２６も図示のように含まれる。しかしながら本発明にとってリードは単極でも多極でもよい。すべての上述した要素は、外側のシリコン管２８内に担持し、シリコン管２８の遠位端は成形シリコンスリーブ３０で受け入れる。シール３０はシール部３０ａを両端に備え、シール部３０ａ、３０ａの間がリード１０の遠位側のハウジング部分３２を形成している。
【００２４】
図２にリード１０の遠位端３４を示す。図２で示した図１と共通の要素は、図１と同一の符号を付してある。内側のシリコン管２４の近位端は、シリコン接着剤等の適当な接着３７により、例えばポリウレタンのような硬質の筒体３６の１つの終端に連結してある。内側のコイル導電体１４の遠位端は、コイル導電体１４の回転のための軸受け面として作用する筒体３６の近位端を通して伸びる。硬質のポリウレタンからなる筒体３６は、図示のように終端部分３６ａ内に螺旋電極４０が取り付けてあり、螺旋電極４０は図２、３に示すように回転により終端部分３６ａに対して出没するようになっている。筒体３６と終端部３６ａは適当な接着剤３７によって固定する。螺旋電極４０は、回転可能なコイル導電体１４のまわりにかしめによって取り付けてある。かしめ部分４０ａ内には、回転をさらに容易にするために、フローティングスリーブ４２に保持させてある。
【００２５】
リード１０が２極タイプの場合には、血液接触電極４４をも含む。この電極４４は、近位端側への帰還伝導経路となり、レーザー溶接２７によりコイル２６に接続する。また電極４４は、シリコン接着剤等の適当な接着剤２７ａによってリードにしっかり固定する。
【００２６】
図３では、既に述べたように、螺旋電極４０を充分に引っ込めた位置で示してある。リードの同一要素は、図１、図２と同一符号を付してある。シリコン管の加工には、架橋と内周表面の硬化のために、小径のシリコン管の内腔中でグロー放電を生じさせるプラズマ反応装置と方法を用いる。これは、同日付けで出願された米国特許出願第０８／２３９，００７号（発明の名称：ＰＬＡＳＭＡ  ＰＲＯＣＥＳＳ  ＦＯＲ  ＲＥＤＵＣＩＮＧ  ＦＲＩＣＴＩＯＮ  ＷＩＴＨＩＮ  ＴＨＥ  ＬＵＭＥＮ  ＯＦ  ＰＯＬＹＭＥＲＩＣ  ＴＵＢＩＮＧ（ポリメリック管の内腔内の摩擦を低減するためのプラズマ処理））に述べられている。
【００２７】
この処理は、管を１，０００フィート以上の管をスプールから供給して連続的に行なう。好ましい実施例では、受け入れ用の室内を通り抜けた後に、反応装置の外周のグロー放電区域を通ってから内周グロー放電区域内を移動するのにつれて処理する。この内周グロー放電または内周面処理区域は、無線周波数電極か空胴共振器のセットを含む。電極の内側は反応装置となるガラス管の部位であり、管は、例えば、ガラス製の反応装置内で処理されるシリコン管の外径より約２〜７％（約５−７％が最も好ましい）大きい内径を有する。これはシリコン管の内側でグロー放電が優先的に生成されるために必要である。シリコンとガラス製の反応装置の間に約０．００６インチもしくは約７％より大きなスペースが存在するとき、優先的にシリコン管の内側だけというよりは、むしろ管の外側あたりとガラス製の反応装置内の空間で望ましくない放電が生じるかもしれない。内周面処理区域、即ち外周グロー放電区域か外周面処理区域より前に位置する装置の分離された区域で、ガラス製の反応装置の内周表面との間の摩擦を減少させるためにシリコン管の外周表面をグロー放電加工する。この処理は、シリコン管が内周面処理区域でのガラス反応装置の小径部位を通過する際に行なう。この外周面処理区域は、０．５インチ以上のガラス管からなり、その周囲には無線周波数電極、コイルあるいは空胴共振器のセットが設けられ、プラスチック管の外側でグロー放電を励起するのに使われる。非常に小径の管の場合には、内周面処理区域で近くに装着される反応装置への管の固着を防ぐために最初に行われる外部の処理が非常に重要である。
【００２８】
上述の高分子物質の管の内側と外側の両方のグロー放電処理には、ヘリウム、ネオン、アルゴン、窒素等の不活性ガスを使用する。しかしながら、管内の残留空気も主に窒素からなるので放電を生じさせる。必須ではないが、反応装置の上部中のガス圧力は、好ましくは外周面処理区域に比較してより高い圧力で保持する。外周表面のプラズマ処理に望ましいより低い圧力に外周区域を保持する一方で、プラスチック管を安定した圧力のガスで満たす。圧力差は重大ではないが、差があることが望ましい。これらの差圧は、フロコン、オリフィス及び自動圧力コントローラー（詳細には図示していない）等を使用することによって保持できる。
【００２９】
上記処理の一つの変形例として、重合可能なシロキサン蒸気（即ちヘキサメチルジシロキサン）を装置の上室に導入する。この蒸気は外周面処理区域で管の外側で重合し、非常に滑らかな低摩擦表面を作る。より重要なことは、シロキサン蒸気が管壁に浸み込み、内周面処理区域に浸透して管の内周表面のコーティングとして重合することである。このことは、非実用的なほど長く、小径の管の終端を通して蒸気を供給することなく、シリコン管内にプラズマポリマーを析出させることが可能であるということを意味する。米国特許第４，７１８，９０７号と米国特許第４，６９２，３４７号は、長さと直径比率が１００以上のシリコン管において、蒸気を管の終端に供給した時にプラズマポリマーで内側がコーティングされた例を報告している。一方、本発明で処理する管の長さと直径の比は、例えば３７，５００である。換言すれば、本発明では外径が約１ｍｍ以下の非常に小径のシリコン管の内周表面のスリップ特性を変更する表面処理を行なう。これは管内でのプラズマ放電によってなされる。本発明は、これを遂行するための改良された装置も提供する。
【００３０】
これを図４により図式的に示す。プラズマ放電装置１１０は、ケース１１２で囲んであり、このケース１１２内には、放電のために適当な圧力（例えば０．６トル）の窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン等の不活性なプラズマ放電ガスを含む。プラズマ放電の条件下では、このようなガスがポリマーと絶縁体の面で架橋して硬化することが知られている。スリップ特性の改善における予備的な数字としては、シリコン管の内部と金属間の滑り摩擦の係数が本発明の処理によって４０〜７０％減少させ得るということを示す。ここで、これらの不活性ガスを非化成ガスというが、この実施例に関しては窒素が望ましい。
【００３１】
他方、もし表面のスリップ特性をより著しく変更することが望まれるのであれば、プラズマ放電の条件下で重合するフィルム化成ガスが使用できる。そのようなガスは、種々の炭化水素のような揮発性物質モノマーを含む。現在のところ、シリコンゴムと協働させる場合にはシロキサンが特に好ましい。ノンフィルム化成ガスを伴うこれらのガスの混合物も、コーティングを可能にする。
【００３２】
図４の放電装置１１０は、貫通孔１１６を有するホールダー１１４とガラス製の反応装置を含む。ガラス製の毛細管が小径のポリマー管の場合には適する。上述のように、貫通孔１１６は内外径とも小さいシリコン管１１８の長さ方向に沿う。貫通孔１１６は、処理されるシリコン管１１８の外径より２％から７％大きい（およそ０．００６インチを上回らないで）内径を有し、シリコン管１１８より約１／３０００〜１／５０００インチ大きいサイズに作る。既に示したように、シリコン管の外周でのグロー放電の発生を防ぐために、密接な嵌合と小さなクリアランスが必要とされる。もしこの外側での放電が生じれば、処理されるべき管の内側の放電を消すことになる。上記ディメンションは、適当な圧力、ガスの種類及び反応室の大きさ等の条件のもとで、選択的内部放電を終りまで成し遂げるのに効果的なディメンションの典型例である。しかしながらどのような場合でも、経験的な調整によって管の内側での選択的放電を達成するために必要な関係を決定できる。この独特のやり方によって経験のない人でも、シリコン管１１８の外側で放電を発生させずに内側でプラズマ放電を優先的に持続させることが可能になる。これにより小サイズの管でも一定の表面改良を得られる。特に、０．０５４インチの外径のシリコン管の処理のために、０．０５９インチの内径のガラス毛細管（外径０．３１５インチ）を反応装置に設ける。この０．０５４インチ管のような、約１．５ｍｍより細い管のためには、もし連続的な処理を基準とする図４のような装置で処理が実行されるならば、ガラス製の反応装置に管が固着することを避けるために、管の外径を事前処理することが不可欠である。
【００３３】
図４を更に説明すると、２つの円状あるいはドーナツ形のアース電極１２０と無線周波数で電力が供給される電極１２２が、図示のようにガラス製の反応装置１１４を取り囲む。ＲＦ電源は、好ましくはパルスモードで作動する。例えば、１〜４ミリ秒と１〜１０ミリ秒に対する約３００ワットと約８０ワットの間のパルス化はそれぞれ、比較的小径の管内で効果的な放電を過熱することなく作り出し得ることが見い出された。既に述べたように、内径１ｍｍ以下の非常に細い管にとって、パルス化は不可欠である。
【００３４】
図４に示すような例で、もし管１１８の長さが電極１２０、１２２間の放電区域の長さより大きい場合は、管の全長にわたって全て放電する設備とすることが望ましい。これは様々な方法において実現できる。例えば、電極を追加して装置の全長にわたって分布させればよい。また、装置の長さ分だけ電極のセットが移動するようにしてもよい（図示せず）。最も好ましくは、電極間の放電区域を管が通過するように管１１８が内孔１１６中を動くようにする。
【００３５】
この好ましい装置の一実施例を図５で図式的に示す。反応装置内で高分子物質の管が固着することを避けるために、連続的に張力をかけることが好ましい。図５の装置は、処理される管の内側に放電用ガスを簡便に導入するために、シリコンゴムの浸透性の利点が出るように設計されている。この装置においては、管１１８の供給が装置の最上部のリール１３０で行われ、装置の底部に位置する管移送トラック駆動手段１３２によって管１１８がリール１３０から引き出される。管移送トラック駆動手段１３２は、制御された速度で回転する一対の電動ベルト１３４、１３６を含む。
【００３６】
リール１３０と管の供給部は、上部プレート１４０を密封するベルジャー１３８のような手段によって密封された環境内に保持する。同様に、装置の底部で集められる処理された管は、底部のプレート１４４に対して密封するベルジャー装置１４２によって準備された密封環境内に入る。
【００３７】
図５の装置で、基本的な構成要素は、ガラス製の毛細管からなる反応装置１１４（図４のホルダー１１４に対応するので、同一符号を付して示す。）であり、シリコン管１１８がその中を通過する。内周表面の改良は、管がプラズマ放電区域を通過する時に（通過速度は約１〜１５フィート／分が好ましい。）、電極１２０、１２２の近くで生じるシリコン管の内側のプラズマ放電によってなされる。電極は、ＰＴＦＥ等からなる絶縁空間ホールダー１４６によって相対的位置に保持する。もちろん、反応装置１１４の内孔へのプラスチック管の密接な嵌合は、上述のように管１１８内で優先的に放電を作り出すようになされる。
【００３８】
この装置においては、当業者にとって既知であるが、適切に選択された圧縮装着フランジ１５０によって上部プレート１４０の底部と底部プレート１４４の頂部に対して反応装置１１４を密封状態で保持する。サイドプレート１４５は、圧縮フランジ１５０に共に頂部プレート１４０と底部プレート１４４を相互にしっかりと接続する。ガス雰囲気は、出口装置１５２に接続された真空ポンプによって、ベルジャー１３８、１４２を排気することによって作り出す。反応装置１１４は、ベルジャー１３８、１４２の両者と密封接続されているので、全体がこの方法で排気される。この他の反応室の設計も採用できる。この例で選択した窒素（Ｎ２）等の放電用ガスは、圧力０．６トルで入口装置１５４を通してシステムに導入される。シリコンゴムの浸透性によって、ベルジャー１３８、１４２中で管１１８がガスを吸収する。ガスは通常１時間程度で管を満たし平衡する。そのため、管１１８が反応装置１１４を通過する時、電極間の放電区域に放電ガスを運び込む。シリコン以外の管を使用していると容易にガスが浸透しないので、２〜３時間に渡って管を動かさずに反応室の雰囲気で浸透させるか管の終端を通してガスを入れて平衡させることが必要となる。図４を参照して述べたようなパルス化した無線周波数出力を確立することで、リール１３０からベルジャー１４２へ管１１８が通過するにつれて、放電ガスが管１１８内で発生する。この方法では、使用するガスに依存しかつ望ましい態様で、管１１８の内側面のスリップ特性の変化、例えば単なる硬化あるいはコーティングかなされる。
【００３９】
図５に示されたような装置ではシリコンゴムの粘着性によって、引き込まれるた管１１８が反応装置１１４に固着するという問題が生じるかもしれない。従って、特に小径の管の場合に、管の外周表面でのスリップ特性を上げて管の通過を容易にするためと管の内周表面の放電処理のため、管の内周表面処理前に管の外周表面を放電処理することが望ましい。そのための好ましい装置を図６〜９に示す。本装置は、図６からわかるように、外周面処理区域１６０と移行区域１８２と内周面処理区域１６６の３つの区域を含む。
【００４０】
図６について説明すると、管１１８がリール１３０から離れた後に最初に通過する外周面処理区域１６０が最初のプラズマ放電区域である。装置のこの部分の頂部は、図５にあるように、頂部プレート１４０の下側に対して密封されている。この部位の底部が、移行区域１６２を密封する。外周面処理区域１６０において、管１１８はその外周表面にプラズマ処理を受ける。この処理は、装置の下方部分の内周面処理区域で扱えるように、シリコン管１１８の外周表面の粘着性を低減させる。これは、内周面処理区域１６６において、小径のガラス製毛細管からなる反応装置１１４に固着することがなく、反応装置１１４を管が通過することを容易にする。
【００４１】
図７で非常に良く分かるように、管は、外周面処理区域１６０の入り口で、管の基準外径より０．００１インチ大きい直径を有するＰＴＦＥオリフィス１６８を通過する。この直径は、管の種類と処理またはコーティングの種類によって変える。０．０５４インチの直径の管に対するオリフィスは孔径が約０．０５５インチである。この大きさは正確な差圧を達成するように、後で調整する。オリフィスは以下の働きをする。ａ）グロー放電が上部の管のリール室に広がることを防ぐ。ｂ）上部の室１３８及び外周面処理区域１６０の中に異なる圧力又はガスの種類を保持できるようにする。ｃ）管１１８を外周面処理区域１６０の中央に下げる案内をする。ｄ）上部室１３８から外周面処理区域の管１６９に少量のガスの流れを許容し、管１６９より下に真空排気ライン１７１がこの流れを運びだすように配置する。
【００４２】
外周面処理区域１６０は、清潔なガラス管で直径１．５インチのような一般に利用できるガラス管１６９から構成する。ガラス管１６９の長さは、一般的に全長で６インチから１８インチの間である。このガラス管１６９は、管の各端でＯリング１７０を押し付けるようにして真空密封を形成する（図７参照）。オリフィス１６８の下側でガラス管１６９の終端より上でガスの進入を許容している。
【００４３】
外周面処理区域のガラス管は約１．５インチが好ましいという理由は、０．５インチというような細い管の場合、より低いガス圧力で均一なグロー放電を保持するためにシリコン管を中央に置かれなければならないという理由からである。より大きい管では一直線にならなくても管１１８の周りで放電が一様に発生する。
【００４４】
環状のディスクかドーナツ型の電極１７６、１７８は、ガラス管１６９の直径と長さに適するように、寸法を決める。図７で示すように、ＰＴＦＥの絶縁体の支持棒１４６が含まれ、２つのアース電極１７６、１７６が共通アース帯１８０によって接続してある。
【００４５】
図８で示すように、移行区域１８２は、外周面処理区域１６０と内周面処理区域１６６の間を接続する。ここでは、ａ）外周面処理区域のガラス管１６９の下方端で真空密封の構造とすることができ、ｂ）図８に示すように、これ以下の内周面処理区域１６６の圧縮フランジ１５０と接続し、ｃ）絞り弁の自動圧力調整器（外周面処理区域１６０の頂部にあるオリフィス１６８中又は降下するガス流を外周面処理区域の下方へ引き抜くことを許容する）と接続する真空ポート１８４を備え、ｄ）内周面処理区域１６６の圧縮フランジ１５０の頂部と底部の間のいかなる相対的動作を最小とするか防ぐために、内周面処理区域１６６の下方端へ強固な接続を与える、必要がある。
【００４６】
特に図６で分かるように、管１１８が内周面処理区域１６６を通過する時に、図５で示されたと同様に、内周面処理区域１６６は管１１８の内周表面にグロー放電処理を施す。基本構成要素は、シリコン管がその中を通過するガラス製の毛細管からなる反応装置１１４である。管の外面のスリップ処理は、シリコン管が毛細管に詰ることを防ぐために、グロー放電による外周面処理区域１６０で、反応装置に入る前に行うことが推奨される。管１１８は、取り扱いを楽にするために、曲がらずにガラス製の毛細管を通過させなければならない。
【００４７】
反応装置１１４又はそれ相当のものも、重要な構成要素である。ガラス中の小さい内孔は、処理されるシリコン管より２〜７％大きいサイズとする。小さいクリアランスが、既に述べたようにシリコン管の外周でのグロー放電の発生を妨ぐために必要である。
【００４８】
反応装置１１４の長さは、図示の装置でドーナツ型の電極１２０、１２２、（３つの容量性の環）に十分な空間を許容する曝露ガラス管と圧縮部品との間隔が実用的に最小となる約３インチになるまで、できるだけ短くすべきである。もし、複数（３より多いの）容量性の電極環を使用するならば、４〜６インチの長さが必要とされる。また、螺旋状のプラズマ励起共鳴器（１３．５６Ｍｈｚ）源を用いるならば、１０インチ近い長さの管が必要となる。電極の形は条件によって変わるが、装置の機械的構成要素の設計にはほとんど影響しない。もし、３つ、５つ又は７つの容量性の環状電極が使用されるならば、それらの間の唯一の設計変更は、反応装置１１４の長さの調整であろう。本特許の目的のためには、３組の銀メッキされた真鍮の電極がうまく使用されていることである。もし、螺旋共振源（図示せず）を容量性の電極の代わりに使用するならば、毛細管の周囲に十分な空間を確保しなければならない。この螺旋共振源は毛細管のまわりで同軸方向に位置決めされ、無線周波数帯の共鳴コイルと内腔が合体した直径約５インチ、長さ６〜１０インチの円筒形状を有する。
【００４９】
種々の電極の形を使用し得る。それらは全てパルス化した無線周波数電力を使用する時に最も良い性能を発揮するものでなければならない。図１０〜１２示すように、３つ、５つ、７つ又はそれ以上の円筒形のセグメントで構成される分離電極を、電磁束管内で電界を集中させるために使用できる。
【００５０】
反応装置は、磁気強化電極を使うことによって、非常に小径の多腔管中で、低圧での放電を容易に達成できる。電磁石２００と永久磁石２０２を利用した磁気強化電極アセンブリの実施例を図１３と図１４に示す。図１４（Ｂ）は、図１４（Ａ）で埋め込まれた磁石２０２がある電極リング１２０、１２２の平面図を示す。これらの観点は、電磁束を有するプラズマの磁気を規制すること同じである。
【００５１】
【発明の効果】
本発明は、粘着性のシリコン管表面のスリップ特性を改良してコイル回転抵抗を低減させ、寿命に至るまで内部のコイルが管に固着する可能性を減少させ、シリコンのコールドフローが経時的にあまり生じないようにするという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る電極リードアセンブリの近位端の部分的な側面断面図である。
【図２】組識への挿入のため螺旋電極が伸びた状態を示す電極の遠位端の図１相当の断面図である。
【図３】巻取られた位置での螺旋電極を示す図２相当の断面図である。
【図４】プラズマ放電の間、高分子物質の管の一片を最小のクリアランスで適切なガラス製の反応装置に保持している状態を示す図である。
【図５】コイルされる管の内周表面を連続的かつ優先的にプラズマ放電処理するための装置を示す図である。
【図６】内周表面加工に先立って管の外周表面処理をプラズマ放電で行うように変更した図５に類似した装置を示す図である。
【図７】図６の装置の外周表面を処理する部位を詳細に示した図である。
【図８】図６の装置の内周表面処理と外周表面処理の間の移行域を詳細に示した図である。
【図９】図６の装置の内周面処理区域を詳細に示した図である。
【図１０】電極環と共にマルチセグメント電極に組み込んだ反応装置の図である。
【図１１】同じく電極環と共にマルチセグメント電極に組み込んだ反応装置の図である。
【図１２】同じく電極環と共にマルチセグメント電極に組み込んだ反応装置の図である。
【図１３】電磁石を組み込んだ反応装置の電極システムの図である。
【図１４】組み込んだ磁石を有する電極環の平面図と、電極に永久磁石を組み込んだ反応装置の電極システムの図である。
【符号の説明】
１０  リードアセンブリ
１４  コイル導電体
１６  ピン
１８  終端キャップ
２４  シリコン管
２６  戻り用のコイル
２８  シリコン管
３０  シリコンスリーブ
４０  スクリューイン螺旋電極
４２  フローティングスリーブ
４４  血液接触電極
１１０  プラズマ放電装置
１１２  ケース
１１６  貫通孔
１１４  ホールダー（反応装置）
１１８  シリコン管
１２０  アース電極
１２２  電極
１３０  リール
１３２  管移送トラック駆動手段
１３４、１３６  電動ベルト
１３８、１４２  ベルジャー
１４０  上部プレート
１４４  プレート
１４５  サイドプレート
１５０  圧縮フランジ
１６０  外周面処理区域
１８２  移行区域
１６６  内周面処理区域
１６２  移行区域
１６９  ガラス管
１７６、１７８  電極
１８０  アース帯
１８２  移行区域
２００  電磁石
２０２  永久磁石
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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