(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁波源と、該電磁波源を取り囲む円筒体と、該円筒体の外側に設けられた液体滞留槽と、該液体滞留槽の溢液が前記電磁波源の被照射面である前記円筒体の内壁面に沿って薄膜状に流下するように導入する導入部とを備え、前記導入部から前記円筒体内壁部に導入される液体が、旋回しつつ前記内壁面に沿って流下する、液体の旋回流形成部を設けたことを特徴とする電磁波照射装置。
【請求項２】
前記導入部が湾曲した面を用いて前記液体滞留槽の溢液部と前記円筒体の内壁面とを接続していることを特徴とする請求項１記載の電磁波照射装置。
【請求項３】
前記液体の旋回流形成部は、前記液体滞留槽に液体の旋回流を形成し、上端の溢液をそのまま前記導入部に導入するものであることを特徴とする請求項１記載の電磁波照射装置。
【請求項４】
前記円筒体の内壁面は、その直径が上側で大きく、下側にいくに従い小さくなるように傾斜していることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の電磁波照射装置。
【請求項５】
電磁波は紫外線であり、前記電磁波源は紫外線ランプであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の電磁波照射装置。
【請求項６】
円筒体内壁面にその上端部から液体を前記円筒体内壁面に沿って旋回させつつ薄膜状に流下させ、前記円筒体の略中央部に配置した電磁波源より前記液体に電磁波を照射することを特徴とする電磁波照射方法。
【請求項７】
前記円筒体内壁面にその上端部から液体を湾曲した面により滑らかに導くことを特徴とする請求項６記載の電磁波照射方法。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は液体への電磁波照射装置及び方法に係り、特に汚水処理場における被処理水、産業排水、用水、下水、浄水、飲料水、純水、超純水等の各種液体への紫外線等の電磁波照射装置及び方法に関する。
背景技術
液体に対する紫外線等の電磁波の照射処理は、有機物または酸化剤の分子結合の励起及び／又は解離等による微量汚染物質の処理、或いは殺菌などの目的に広く用いられている。係る処理によれば、例えば紫外線とオゾン等の酸化剤を併用して、ＯＨラジカルを発生させ、このＯＨラジカルにより水中の汚染物質を酸化分解することができる。係る処理方法によれば、二次廃棄物の発生がなく、水中のダイオキシン等の分解も可能である。
係る液体への紫外線照射方法は、従来から、処理対象の液体の槽に石英製の透明な保護管で水密に封止された紫外線ランプを浸漬させた状態で、処理対象の液体に対して紫外線を照射する方法が広く採用されている。しかしながら、このように紫外線ランプを封止した保護管を処理対象の液体中に浸漬すれば、保護管外周面に処理対象液体中の金属（鉄、マンガン等）などの無機物、または処理対象液体中の有機物が付着し、これにより透明な保護管外周面に被覆物が形成され、これにより紫外線照射強度が低下するという問題があった。
また、垂直な壁面の上部から下部にかけて液体を薄膜状に流下させ、その液体から離れた位置より紫外線等の電磁波を照射して液体の処理を行う処理方法が知られている。係る方法によれば、紫外線等の電磁波源を液体から離れた位置に配置するので、電磁波源の保護管等に汚染物質が付着して照射強度が低下するという問題が防止される筈である。しかしながら、この方法では電磁波源と処理対象の液体の離隔距離が問題となる。即ち、電磁波源と処理対象の液体の離隔距離を大きく取れば、電磁波の照射強度が低下する。電磁波源と処理対象の液体の離隔距離を小さくし、電磁波源と処理対象の液体を接近して配置すれば、電磁波の照射強度は確保できるが、垂直壁を流下する薄膜の高速で且つ安定した形成が難しい。即ち、処理対象の液量が少ない場合には、薄い薄膜状の液体の層を形成でき、これにより十分な電磁波による照射処理が可能となる。しかしながら、処理対象の液体流量が多い場合は流下する液体の膜厚が厚くなり、また、流速を高くすると薄膜が不安定になり飛沫が発生し、電磁波源に飛散してこれを汚染するという問題がある。
発明の開示
本発明は上述した事情に鑑みて為されたもので、電磁波源の汚染を伴うことなく、大量の液体を電磁波照射により安定して処理可能な電磁波照射装置及び方法を提供することを目的とする。
本発明は、電磁波源と、該電磁波源を取り囲む円筒体と、該円筒体の外側に設けられた液体滞留槽と、該液体滞留槽の溢液が前記電磁波源の被照射面である前記円筒体の内壁面に沿って薄膜状に流下するように導入する導入部とを備え、該導入部が湾曲した面を用いて前記液体滞留槽の溢液部と前記円筒体の内壁面とを接続していることを特徴とする電磁波照射装置である。
これにより、導入部が湾曲した面を用いて液体滞留槽の溢液部と前記円筒体の内壁面とを接続しているので、液体の流量が多い場合にも安定して円筒体の内壁に薄膜状の液層を形成することができる。従って、電磁波源の汚染を伴うことなく、電磁波照射装置による液体処理量を増大させることができる。
また、本発明によれば、前記導入部から前記円筒体の内壁面に導入される液体が、旋回しつつ前記内壁面に沿って流下する、液体の旋回流形成手段を設けることが好ましい。
また、別の視点による本発明は、電磁波源と、該電磁波源を取り囲む円筒体と、該円筒体の外側に設けられた液体滞留槽と、該液体滞留槽の溢液が前記電磁波源の被照射面である前記円筒体の内壁面に沿って薄膜状に流下するように導入する導入部とを備え、前記導入部から前記円筒体の内壁面に導入される液体が、旋回しつつ前記内壁面に沿って流下する、液体の旋回流形成手段を設けたことを特徴とする電磁波照射装置である。
これにより、液体が飛散した場合においても、液体の飛散方向は円筒体内壁面の接線方向であるため、円筒体中心に配置された保護管の汚染が防止される。また、円筒体内壁面を流下する液体に遠心力が働き、液層薄膜が均一に安定して形成される。
また、本発明によれば、前記円筒体の内壁面は、その直径が上側で大きく、下側にいくに従い小さくなるように傾斜していることが好ましい。これにより、液体が円筒体内壁面から剥離をおこさず、円滑に流下させることができる。
また、本発明によれば、電磁波は紫外線であり、前記電磁波源は紫外線ランプであることが好ましい。
また、本発明は、円筒体内壁面にその上端部から液体を湾曲した面により滑らかに導き、且つ前記液体を前記円筒体内壁面に沿って薄膜状に流下させ、該液体に円筒体の略中央部に配置した電磁波源より電磁波を照射することを特徴とする電磁波照射方法である。
また、本発明によれば、前記円筒体内壁面にその上端部から液体を前記円筒体内壁面に沿って旋回させつつ薄膜状に流下させつつ、前記液体に電磁波を照射することが好ましい。
また、別の視点による本発明は、円筒体内壁面にその上端部から液体を前記円筒体内壁面に沿って旋回させつつ薄膜状に流下させ、該液体に円筒体の略中央部に配置した電磁波源より電磁波を照射することを特徴とする電磁波照射方法である。
発明を実施するための最良の形態
以下、本発明の実施の形態例について添付図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の実施形態の電磁波照射装置の断面構造を示し、図２はその平面的な構造を示す。本発明の実施形態における電磁波照射装置の中央部には電磁波の一種である紫外線を照射する紫外線ランプ１１が配置され、その周囲を透明な石英ガラス等の保護管１２により取り囲まれ、紫外線ランプに直接飛沫がかからないように保護されている。紫外線ランプ１１と保護管１２とは電磁波源１３を構成し、この周囲に同軸状に円筒体１５が配置され、円筒体１５の内壁面に沿って流下する薄膜状の液層Ｗに対して紫外線を照射する。円筒体１５の外周側には液体滞留槽１６が配置され、その上端部から液体が溢液し、円筒体１５の内壁面に沿って流下する。なお、円筒体が複数の場合には、その外部の液体滞留槽を共有して構成してもよい。
液体滞留槽１６の上端部は、その溢液が電磁波源１３の被照射面である円筒体１５の内壁面に沿って薄膜状に流下するように導入する導入部１７が備えられ、この導入部１７は円筒体の内周面に滑らかに接続するように湾曲したベルマウス状の面により形成されている。また、この電磁波照射装置においては、円筒体の内周面を液体が旋回しつつ流下するように液体の旋回流形成手段を備えている。即ち、液体滞留槽１６の流入管１８は、図２に示すように液体滞留槽１６の底部にその外周面の接線方向から液体が流入するように接続固定されている。従って、液体は液体滞留槽１６の外周内壁に沿って旋回しつつ上側に送られ、上端の溢液部から導入部１７の湾曲した面に沿って流れ、そのまま旋回しつつ円筒体１５の内壁面に沿って流下する。これにより、電磁波源１３の被照射面である円筒体１５の内壁面において、液体Ｗが薄膜状に旋回しつつ流下しながら紫外線の照射を受けることになる。なお、図２に示す例では流入管の流入角度を円筒体外周面の接線方向としたが、必ずしも接線方向である必要はなく、旋回流が形成できる角度であれば十分である。
図３Ａ乃至図３Ｃは各種導入部の形状例を示す。ベルマウス状の面とは、ベルの開口面（湾曲した内周面）という意味であり、滑らかな湾曲した面により、液体滞留槽１６の溢液部から略垂直の円筒体１５の内壁面に滑らかに接続する。図３Ａは、半径ｄの真円の１／４の円弧を用いたものであり、図３Ｂは、長円の１／４の弧を用いたものである。図３Ｃは、半径Ｒ１の円弧と半径Ｒ２の円弧を組合わせて、滑らかな輪郭を構成したものである。いずれの場合も、円筒体１５の内壁面の直径Ｄに対するベルマウス状の円弧の半径ｄの比（ｄ／Ｄ）は、０．１以上であることが望ましい。また、円弧は３／１６〜８／１６の円弧であることが望ましい。
この電磁波照射装置の動作は次の通りである。電磁波の一種である紫外線は、保護管１２の内部に配置された紫外線ランプ１１により、円筒体１５の内壁面に薄膜状に流下する液体Ｗに対して照射される。この液体の流下する液層は円筒体１５の内壁面の上端の溢液部を乗り越えて薄膜状に流下する過程において、湾曲した面からなる導入部１７により円筒体１５の内壁面に導入されるので、液体滞留槽１６の溢液が滑らかに薄膜状をなして内壁面に導入され、滑らかに円筒体１５の内壁面に沿って流下する。これにより飛沫が生じることなく、また膜厚のむらを生じることなく均一な厚さの流下層を形成することができる。また液体滞留槽において液体を旋回せしめて導入部から円筒体内壁面に沿った流下層を形成するので、液体に遠心力が作用してその表面状態が安定及び／又は均質化し、溢液がすべての箇所から一定液量で紫外線の被照射面である円筒体の内壁面に供給される。また、旋回流速が与えられているため、液体に懸濁物質が含まれている場合にも、これが液体滞留槽に沈降及び／又は堆積することが防止される。また、液体の飛散した場合にも、液体の飛散方向は保護管１２が配置されている中心方向ではなく、円筒体内周面の接線方向であるため、保護管１２に液体の飛沫がかかるのが防止され、保護管１２の汚染が防止される。更に、液体に旋回流により遠心力が働くため液層の膜厚が均一化される。水に働く遠心力により、円筒体１５の内壁面における薄膜状液体の滞留時間が、旋回流がない場合に比べて増加する。
更に、図４に示すように、紫外線の被照射部分において円筒体１５Ａの内壁面はその断面において上部から下部にかけて直径が順次小さくなるように形成されていても良い。この場合には導入部１７から流入する液体により形成される液層を紫外線の被照射部分である円筒体内壁面から液体が剥離することを抑制することができる。従って、大量の液量においても薄膜状の液層を安定して形成することができる。
次に、この電磁波照射装置の各部の好ましい構成例について説明する。まず、電磁波として紫外線を供給する場合の光源としては、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、エキシマレーザー、ブラックライト等、１７０〜３８０ｎｍの範囲の紫外線を照射可能なものが好ましい。紫外線以外の場合では、あらゆる可視光、赤外線、Ｘ線、ガンマ線、電波などの照射源を使うことができる。紫外線ランプの破損及び汚損防止のために保護管を使用する場合、天然石英ガラス、又は合成石英ガラスが好ましい。保護管の構造は、直径が異なる２つの石英管で２重管を構成し、その間にＵＶランプ冷却用の液体または気体を流すものであってもよい。
電磁波源１３の設置方法としては、電磁波照射部分である円筒体１５の内壁面の中心に垂直に設置することが好ましいが、内壁面は上述したように若干の傾斜を設けてもよい。これにより、均等な紫外線照射量を全周に供給することができる。
紫外線照射対象の原液としては、最終処分場の浸出水、産業排水、用水、下水等の汚水の他、上水、浄水、飲料水、純水、超純水、等の液体、有機物、または細菌などの生物を含む液体、またはこれら液体中にオゾン、過酸化水素、または次亜鉛素酸ナトリウムなどの酸化剤、二酸化チタンなどの不均一触媒、または鉄イオンなどの均一触媒が有機物と共に存在するものが挙げられる。液体中の処理対象物質としては、フミン酸等の生物難分解性有機物、ダイオキシン、ビスフェノールＡ、ノニルフェノール、フタル酸ジエチルヘキシルジオキサン等の環境ホルモン類、または発ガン性物質、トリクロロエチレン、クロロフェノール、農薬、ＴＯＸ（全有機ハロゲン化合物：Ｔｏｔａｌ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｈａｌｏｇｅｎ）などの有機塩素化合物等が挙げられる。また、大腸菌、一般細菌、クリプトスポルジウムなどの原虫も挙げられる。
電磁波の被照射部分である円筒体１５の内壁の材質としては、塩化ビニル等の樹脂、ステンレス鋼等の金属、ガラス、セラミックスなどを挙げることができる。液体の主成分が水である場合は内壁表面に親水化を促進させる材料、例えば二酸化チタンを存在させることで、薄膜をより安定的に形成させることも可能である。また、この二酸化チタンに対して紫外線が照射される構成とした場合、溶存酸素から活性酸素が生成し、有機物の分解効果を高めることも可能となる。電磁波の被照射部分である円筒体１５の内壁面の形状としては、通常の円筒体でも薄膜状の液層は得られるが、大液量においても安定に薄膜状の液層を形成させるには、上述したように上部がベルマウス状に下部から上部にかけて曲線的に直径が大きくなるものが好ましい。
本発明の電磁波照射装置における処理条件は、液量、紫外線ランプ等の電磁波源の直径及び長さ、保護管の直径、内壁の直径、紫外線照射量等によって種々選定することができる。一例として、紫外線を用い、紫外線ランプの長さが１２００ｍｍ以内、保護管の直径が３０〜４０ｍｍの場合を以下に記載する。
紫外線の被照射部分である円筒体の直径は、通常、５０〜３００ｍｍ、好ましくは１００〜２６０ｍｍの範囲から選定される。紫外線の被照射部分の長さは紫外線ランプの長さより長く、通常紫外線ランプの発光長の１〜４倍、好ましくは１．５〜３倍の範囲から選定される。液体滞留槽の外周内側の直径と内周外側の直径の差は通常５〜１３０ｍｍ、好ましくは３０〜８０ｍｍの範囲から選定される。紫外線照射量は低圧水銀ランプ、又は中圧水銀ランプを用いる場合は、通常０．００５〜５．０ｗ・ｈｒ／ｌ、好ましくは０．０１〜３．０ｗ・ｈｒ／ｌの範囲から選定される。多量の紫外線照射量が必要な場合には、液体を繰り返し通液するのがよい。円筒体内壁面を流下する薄膜状の液層の厚みは通常１〜５ｍｍ、好ましくは２〜４ｍｍの範囲である。液体滞留槽１６から紫外線の被照射部分である内壁面へ液体が流入する際の越流負荷は通常１００〜６００ｍ３／ｍ・ｄａｙ、好ましくは２００〜５００ｍ３／ｍ・ｄａｙである。液体滞留槽における旋回流速は通常２０〜１００ｃｍ／秒、好ましくは３０〜８０ｃｍ／秒である。
以下に、本発明の具体的実施例を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
［実施例１］
図１及び図２に示す装置を用いて、ＣＯＤ（化学的酸素要求量：Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｏｘｙｇｅｎ  Ｄｅｍａｎｄ）５０ｍｇ／ｌ、ＴＯＸ１ｍｇ／ｌ、鉄濃度５ｍｇ／ｌ、マンガン濃度５ｍｇ／ｌ、溶存Ｏ３濃度１０ｍｇ／ｌの液体を以下の条件で紫外線処理した。
紫外線ランプ：中圧水銀ランプ（２ｋＷ、発光長３５０ｍｍ）
保護管：外径３３ｍｍ、普通石英ガラス製
円筒体の内壁の直径：２００ｍｍ
ベルマウス部分：半径ｄ＝３０ｍｍの真円の１／４円弧をもちいる
液体流量：２００１／分
旋回流速：８０ｃｍ／秒
運転時間：２４時間
この結果、２４時間経過後の紫外線照射強度は、初期の９８％であり、運転時間２４時間を通じて紫外線強度はほぼ一定であった。このことは、保護管外周面が液体の飛沫等により汚損されていないことを示している。また、処理水のＣＯＤ、ＴＯＸは２４時間経過の平均でそれぞれ４５ｍｇ／ｌ、０．１ｍｇ／ｌであり、除去量はそれぞれ５ｍｇ／ｌ、０．９ｍｇ／ｌであった。このことは、紫外線照射により良好な効果が得られたことを示している。
比較例として、同様の液体を図５に示す装置で以下の条件で紫外線照射処理した。この装置は、紫外線ランプ１１を石英ガラス製の保護管１２に水密に封止した電磁波源（紫外線源）１３を、円筒状容器２０内の処理対象液体中に浸漬したものである。
紫外線ランプ：中圧水銀ランプ（２ｋＷ、発光長３５０ｍｍ）
保護管：外径３３ｍｍ、普通石英ガラス製
紫外線照射部分の直径：２００ｍｍ
液体流量：２００１／分
運転時間：２４時間
この結果、２４時間経過後の紫外線照射強度は、初期の１０％であり、紫外線強度は時間の経過と共に大幅に低下する傾向であった。これは、処理対象液体中の金属成分、又は有機物が保護管１２の表面に付着してこれを汚損し、これにより紫外線照射強度が低下して、その結果、ＣＯＤ、ＴＯＸ等の低減量が低下するものと考えられる。また、処理水のＣＯＤ、ＴＯＸは２４時間の平均でそれぞれ４９ｍｇ／ｌ、０．８ｍｇ／ｌであり、除去量はそれぞれ１ｍｇ／ｌ、０．２ｍｇ／ｌと上記実施例１の場合より大幅に少なかった。以上より、本発明においては、保護管の汚染をほぼ完全に防止しつつ、ＣＯＤ、ＴＯＸ成分を分解可能であることが認められた。
［実施例２］
図１及び図２に示す紫外線照射装置を用いて、実施例１と同様の条件で、ヘキサクロロベンゼン濃度が１０μｇ／ｌ、鉄濃度５ｍｇ／ｌ、マンガン濃度５ｍｇ／ｌの液体を紫外線照射処理した。
この結果、２４時間経過後の紫外線照射強度は、実施例１と同様に殆ど変化はなく、２４時間を通じて略一定であった。また、処理水のヘキサクロロベンゼン濃度は平均で８μｇ／ｌであり、２μｇ／ｌの除去量が得られた。分解生成物は殆ど塩素数が５以下のクロロベンゼンであった。従って、本発明においては、脱塩素化反応も可能であることが示された。
［実施例３］
図１及び図２に示す紫外線照射装置を用いて、ＣＯＤ５０ｍｇ／ｌ、ＴＯＸ１ｍｇ／ｌ、鉄濃度５ｍｇ／ｌ、マンガン濃度５ｍｇ／ｌ、溶存Ｏ３濃度１０ｍｇ／ｌの液体を以下の条件で紫外線照射処理した。
紫外線ランプ：中圧水銀ランプ（２ｋＷ、発光長３５０ｍｍ）
保護管：外径３３ｍｍ、普通石英ガラス製
紫外線照射部分の内壁の直径：２００ｍｍ
ベルマウス部分：半径ｄ＝３０ｍｍの真円の１／４円弧をもちいる
液体量：５０〜２５０ｌ／分
運転時間：２４時間
液体滞留槽における旋回流速：２０〜１００ｃｍ／秒
この結果、円筒体内壁面の薄膜状の液層は流量が２５０ｌ／分までの条件でいずれも安定して形成され、液体飛沫も殆ど認められなかった。薄膜状の液層Ｗの厚みも図６に示すように場所によらず均一に形成された。２４時間後の保護管の紫外線透過率はいずれの場合においても初期の９８％以上であり、紫外線強度の低下も殆ど認められなかった。
比較例１として図７に示すように、流入管１８を液体滞留槽１６の外周面に垂直に取り付けた場合を示す。また、図８は、流入管１８を液体滞留槽１６の底面に垂直に取り付けた場合を示す。これらの紫外線照射装置においては、液体滞留槽における旋回流速はなく、従って、円筒体１５の内壁面における旋回流速は発生しない。この結果、いずれの装置を用いた場合においても、円筒体内壁面における薄膜状の液層Ｗは、流量が１００ｌ／分以上の状態から、図９に示すような厚みの不均一性が生じた。液体のしぶきも旋回流速を与えた場合よりはるかに多く、２４時間後の保護管の紫外線透過率は流量が１５０ｌ／分以上の場合において初期の５０％以下に低下した。
これにより、旋回流速の有無で比較した場合、薄膜状の液層Ｗの安定性、厚みの均一性、液量負荷のいずれにおいても旋回流速を与えた場合の方が優れていることが認められた。
比較例２として、図１０に示すように、導入部１７が直角状をなし、旋回流が無い場合を示す。その他の条件は上記実施例３と同一である。
この結果、１００ｌ／分の状態においても、薄膜は不均一であり、微細な液体のしぶきを発生し、これが、保護管１２に頻繁に付着した。２４時間後の保護管１２の紫外線透過率は流量が１００ｌ／分の場合においても初期の４０％以下に低下した。
また、この場合、液量が１００ｌ／分を越えた状態にすると、図中の点線Ｗ’で示すように薄膜が円筒体内壁面から剥離して破断し、中央に設置された保護管１２の表面に張り付いた。
なお、上記の各実施形態例においては、水中の微量物質を紫外線照射により処理する例について述べたが、電磁波源として例えば他の波長のランプを用いて、他の用途に利用することも可能である。このように電磁波源として各種波長の電磁波を利用することができる。
なお、上記円筒体はなめらかな液体の流下により薄膜状の液層を形成し得るものを指して言うので、同効果を有する多角筒又は偏円筒その他の類似形状は本発明の円筒体の概念に含まれることは勿論である。
以上説明したように本発明によれば、大量の液体を処理する場合においても電磁波照射を安定的に行うことができる。即ち、電磁波は、保護管の内部に設置された電磁波源により、電磁波照射部分の内壁に薄膜状に流下する液体に対して照射される。この際、（１）液体滞留槽から円筒体内壁面に溢液して導入する導入部を湾曲した面を用いて構成することにより、液体の表面状態が安定及び／又は均質化し、溢液がすべての箇所から一定速度で滑らかに供給される。また、（２）旋回流速を与えることにより、液体に懸濁物質が含まれている場合においても、これが液体滞留槽に沈降及び／又は堆積することがない。また、溢液が紫外線照射部分の上端から薄膜状に流下する過程においても、万一液体が飛散した場合においても、液体の飛散方向は、保護管が設置されている中心方向から電磁波照射部分である円筒体の接線方向に向かって外れるため、保護管の汚染がより抑えられる。また、電磁波照射部分の内壁面の液体の薄膜においても液体が旋回しているため液体に遠心力が働き薄膜が均一に安定して形成され、膜厚も均一化される。更に、（３）電磁波照射部分の円筒体断面において、下部から上部にかけて直径が順次大きくなる傾斜部分を有することにより、溢液が薄膜状に流下する過程において、電磁波照射部分の内壁面からの液体の剥離を抑制できるため、流下する液体量が多い場合においても、薄膜が安定して形成される。
産業上の利用の可能性
本発明は、汚水処理場における被処理水、産業排水、用水、下水、浄水、飲料水、純水、超純水等の各種液体への紫外線等の電磁波照射装置及び方法に関する。従って、これらの分野における各種液体へ紫外線等の電磁波を照射することによって、微量汚染物質の分解等を行う各種分野の水処理に好適に利用可能である。
【図面の簡単な説明】
図１は本発明の実施形態による液体の紫外線照射装置の縦断面図である。
図２は図１の紫外線照射装置の上面図である。
図３Ａ乃至図３Ｃは円筒体内壁面上部の導入部の各種形状を示す図である。
図４は図１の変形例を示す図であり、円筒体内壁面に傾斜をもたせた場合を示す。
図５は比較例として、液体中に紫外線源を浸漬した照射装置の縦断面図である。
図６は円筒体内壁面に形成される均一な液体の薄膜を示す上面図である。
図７は比較例として、液体滞留槽の側面に垂直に流入管を取り付けた場合を示す上面図である。
図８は比較例として、液体滞留槽の底面に、垂直に流入管を取り付けた場合を示す縦断面図である。
図９は円筒体内壁に形成されたムラのある液体の薄膜を示す上面図である。
図１０は比較例として、導入部を直角形状とした場合の紫外線照射装置の縦断面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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