(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹凸形状を有する仮支持体の凹凸形状面上に感光性樹脂組成物の層を積層してなる拡散反射下地層形成用感光性エレメントにおいて、該感光性樹脂組成物が、
（I）共重合成分としてメタクリル酸及び５〜２５重量％のアクリル酸アルキルエステルを必須成分として得られるアクリル系樹脂（a）と、分子内にエポキシ基及び不飽和結合を共に有する化合物（b）との反応により得られ、分子量１,０００当りの不飽和基数が０．５〜１．５個である不飽和基含有アクリル系ポリマ（ｃ）、
（II）少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物、
（III）光重合開始剤
を含有することを特徴とする拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物。
【請求項２】
凹凸形状を有する仮支持体の凹凸形状面上に請求項１に記載の拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物を積層する工程、活性光線を照射して光硬化させる工程、該仮支持体をはく離して所望の凹凸形状を有する拡散反射下地層を形成する工程、さらに拡散反射下地層上に反射膜を形成する工程を必須として含む反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射型液晶表示装置に使用する拡散反射下地層を形成するための感光性樹脂組成物及びこれを用いた反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶表示装置は、ノート型パソコン、電子手帳、携帯情報端末機、アミューズメント機器、携帯電話機等、あらゆる用途に利用されており、特にこれらのうち、携帯用機器については、バックライトが不要となるため消費電力が小さく、また薄型化や軽量化が可能な観点から、反射型液晶表示装置が多く用いられつつある。
一般に反射型液晶表示装置では、光源として外光の反射を利用しているが、外光をより効率良く利用して明るい表示を得るためには、さらにあらゆる角度からの入射光に対して、表示画面に垂直な方向に散乱する光の強度を増加させる必要がある。
これを実現するための有用な手法として、光を拡散反射し得る凹凸面となるようにした転写フィルムを使用し、転写フィルムの薄膜層の被転写基板への接着面を基板表面に貼り合わせ、仮支持体をはく離して基板に薄膜層を転写し、さらに薄膜層上に金属薄膜を賦与することにより拡散反射板を形成する方法（特開2000-47199号公報）が提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、この方法で拡散反射板を作製する際には、特に拡散反射下地層用材料の選定が難しく、従来歩留まり良く製造できないという問題点があった。
これは、特に以下の２つの理由により生じていた。
１つは、高温高湿環境下での基板密着性の問題である。液晶表示装置の使用においては、あらゆる環境下が予想されることから、信頼性として高温高湿時にも拡散反射下地層の基板密着性が良いことが必要とされるが、従来の拡散反射下地層材料では、特に耐湿性の問題から、高温高湿環境下で基板密着性が著しく悪化し、液晶表示装置としての信頼性を得られないという不具合があった。
もう１つは、薄膜層と仮支持体との接着力に起因する転写性の問題である。薄膜層と仮支持体との接着力は、被転写基板へ薄膜層を転写した直後、活性光線照射前に仮支持体が薄膜層から容易にはがれてしまうほど小さくなく、また活性光線照射後に仮支持体をはがす際、薄膜層が被転写基板からはがれてしまうほど大きくない範囲であることが重要であるが、従来の拡散反射下地層材料では、転写性が良好で、かつ上記した高温高湿環境下での基板密着性も良好となるものを見出すことができなかった。
本発明は、高温高湿環境下でも基板密着性が良好で液晶表示装置としての信頼性に優れ、かつ被転写基板への薄膜層の転写性が良く歩留まりが良好な、拡散反射下地層を形成するための感光性樹脂組成物及びこれを用いた反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造方法を提供する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、［１］凹凸形状を有する仮支持体の凹凸形状面上に感光性樹脂組成物の層を積層してなる拡散反射下地層形成用感光性エレメントにおいて、該感光性樹脂組成物が、
（I）共重合成分としてメタクリル酸及び５〜２５重量％のアクリル酸アルキルエステルを必須成分として得られるアクリル系樹脂（a）と、分子内にエポキシ基及び不飽和結合を共に有する化合物（b）との反応により得られ、分子量１,０００当りの不飽和基数が０.５〜１.５個である不飽和基含有アクリル系ポリマ、
（II）少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物、
（III）光重合開始剤
を含有する拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物である。
上記［１］に記載の発明は、特に耐湿性に優れることで高温高湿下で拡散反射下地層の基板密着性に優れ、かつ薄膜層と仮支持体との程良い接着力により被転写基板への薄膜層の転写性が良く、拡散反射板を歩留まり良く製造するための拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物を提供するものである。
また、本発明は、［２］凹凸形状を有する仮支持体の凹凸形状面上に上記［１］に記載の拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物を積層する工程、活性光線を照射して光硬化させる工程、該仮支持体をはく離して所望の凹凸形状を有する拡散反射下地層を形成する工程、さらに拡散反射下地層上に反射膜を形成する工程を必須として含む反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造方法である。
上記［２］に記載の発明は、上記［１］の効果に加えて、さらに外光をより効率良く利用して明るい表示を得られる反射型液晶表示装置用拡散反射板及びこれを用いた反射型液晶表示装置を提供するものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明における感光性樹脂組成物は、（I）共重合成分としてメタクリル酸及び５〜２５重量％のアクリル酸アルキルエステルを必須成分として得られるアクリル系樹脂（a）と、分子内にエポキシ基及び不飽和結合を共に有する化合物（b）との反応により得られ、分子量１,０００当りの不飽和基数が０.５〜１.５個である不飽和基含有アクリル系ポリマ（c）を必須成分として含有する。
【０００６】
前記アクリル酸アルキルエステルとしては、アルキル部分に１〜１２個程度の炭素を有するもの、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｎ−ヘキシル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ラウリルなどが挙げられる。
前記アクリル系樹脂（a）の共重合成分として使用するアクリル酸アルキルエステルが５重量部未満では、感光層と仮支持体との接着力が著しく小さくなる傾向があり、活性光線照射前に仮支持体が感光層から容易にはがれてしまい不適である。また２５重量％を超えると耐湿性が著しく劣り、高温高湿環境下での基板密着性が悪化する恐れがあること、また、感光層と仮支持体との接着力が著しく大きくなる傾向があり、仮支持体をはがす際、感光層が被転写基板からはがれてしまう恐れがあり不適である。
【０００７】
前記アクリル系樹脂（a）の共重合成分としてメタクリル酸を必須成分とする理由は、耐湿性に優れるため及び光硬化性樹脂としての性質を十分得るべく、分子内にエポキシ基及び不飽和結合を共に有する化合物（b）を導入するためである。
前記アクリル系樹脂（a）は、メタクリル酸を必須成分とし、それ以外の共重合成分として、通常公知の、その他のエチレン性不飽和単量体を使用することができる。
その他のエチレン性不飽和単量体としては、例えば、２−カルボキシエチルメタクリレート、（無水）マレイン酸等のエチレン性不飽和カルボン酸、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸アルキルエステル、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、メタクリル酸アミノメチル、メタクリル酸Ｎ−メチルアミノメチル、メタクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル等のメタクリル酸アミノアルキル、アクリル酸Ｎ−メチルアミノメチル、アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル等のアクリル酸アミノアルキル、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等のスチレン系単量体、酢酸ビニル等が挙げられる。
また前述したとおり、アクリル系樹脂（a）に分子内にエポキシ基及び不飽和結合を共に有する化合物（b）を導入する必要があることから、アクリル系樹脂（a）の酸価は２０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）以上が好ましく、５０〜５００（ＫＯＨｍｇ／ｇ）が特に好ましい。
【０００８】
本発明に使用される、分子内にエポキシ基及び不飽和結合を共に有する化合物（b）としては、例えば、グリシジルメタクリレート、β−メチルグリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等の脂肪族エポキシ基含有不飽和化合物、１，２−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート等の脂環式エポキシ基含有不飽和化合物等が挙げられ、これらは単独で用いても、混合して用いてもよい。これらの中でも、光硬化性、入手容易性、廉価性の点から、グリシジルメタクリレートが特に好ましい。
【０００９】
上記化合物（b）の使用量は、得られる不飽和基含有アクリル系ポリマ（c）の不飽和基数が、分子量１,０００当り０．５〜１．５個の範囲になるように設定することが必須である。不飽和基数が０．５個未満では、十分な硬化性が得られないために、凹凸形状性、耐熱性等が劣り、逆に不飽和基数が１．５個を超えて多い場合には、硬化歪みが大きくなり、高温高湿環境下での基板密着性が悪化することや、長期間保存すると増粘、ゲル化する恐れがある。
上記アクリル系樹脂（a）と分子内にエポキシ基及び不飽和結合を共に有する化合物（b）から不飽和基含有アクリル系ポリマ（c）を得る方法としては、例えばアクリル系樹脂（a）の有機溶剤溶液（アルコール系、エステル系、エーテル系、ケトン系等、種々のものが好適）とエポキシ基及び不飽和結合を共に有する化合物（b）とを５０〜１５０℃、０．５〜５時間程度の反応条件で開環付加反応させることにより行うことができる。このとき、化合物（b）のエポキシ基への、アクリル系樹脂（a）のカルボキシル基の開環付加を促進するために、ジメチルベンジルアミン、トリエチルアミン等の３級アミンや、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド等の４級アンモニウム塩等を反応触媒として用いることができる。
【００１０】
上記により得られる不飽和基含有アクリル系ポリマ（c）の重量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定され、標準ポリスチレンを用いて作成した検量線により換算される）は、耐熱性、耐湿性、塗工性及び溶媒への溶解性等の点から、１０，０００〜１５０，０００であることが好ましく、２０，０００〜８０，０００であることが特に好ましい。
さらに、上記により得られる不飽和基含有アクリル系ポリマ（c）の酸価は、１０〜３００（ＫＯＨｍｇ／ｇ）、好ましくは２０〜２００（ＫＯＨｍｇ／ｇ）であることが好ましい。酸価が１０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）以下の場合、希アルカリ水溶液による現像性に劣り、逆に酸価が３００を超えると硬化後の塗膜の耐湿性、耐アルカリ性等が悪くなる傾向にある。
【００１１】
（I）成分の使用量は、（I）及び（II）成分の総量１００重量部に対して、２０〜７０重量部とすることが好ましい。この使用量が２０重量部未満では、塗工性が低下する傾向があり、７０重量部を超えると、耐熱性、光硬化性が低下する傾向がある。
【００１２】
本発明に用いる（II）少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物としては、例えば、多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパン、グリシジル基含有化合物にα、β−不飽和カルボン酸を反応させで得られる化合物、ウレタンモノマー、ノニルフェニルジオキシレン（メタ）アクリレート、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β′−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシエチル−β′−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシプロピル−β′−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、（メタ）アクリル酸アルキルエステル等が挙げられる。
【００１３】
上記多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物としては、例えば、エチレン基の数が２〜１４であるポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２〜１４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンテトラエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンペンタエトキシトリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２〜１４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
上記α，β−不飽和カルボン酸としては、例えば、（メタ）アクリル酸等が拳げられる。
上記２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシトリエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシデカエトキシ）フェニル）等が挙げられ、２，２−ビス（４−（メタクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパンは、ＢＰＥ−５００（新中村化学工業株式会社製製品名）として商業的に入手可能である。
【００１４】
上記グリシジル基含有化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシ−プロピルオキシ）フェニル等が拳げられる。
【００１５】
上記ウレタンモノマーとしては、例えば、β位にＯＨ基を有する（メタ）アクリルモノマーとイソホロンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシアネート、２，４−トルエンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等との付加反応物、トリス（（メタ）アクリロキシテトラエチレングリコールイソシアネート）ヘキサメチレンイソシアヌレート、ＥＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、ＥＯ，ＰＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。なお、ＥＯはエチレンオキサイドを示し、ＥＯ変性された化合物はエチレンオキサイド基のブロック構造を有する。また、ＰＯはプロピレンオキサイドを示し、ＰＯ変性された化合物はプロピレンオキサイド基のブロック構造を有する。
【００１６】
上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル等が挙げられる。
これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００１７】
本発明で用いる（II）成分の使用量は、（I）及び（II）成分の総量１００重量部に対して、３０〜８０重量部とすることが好ましい。この使用量が３０重量部未満では、光感度が低い傾向があり、８０重量部を超えると、塗膜性が低下する傾向がある。
【００１８】
本発明で用いる（III）光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパノン−１等の芳香族ケトン、２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナンタラキノン、２−メチル１，４−ナフトキノン、２，３−ジメチルアントラキノン等のキノン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物、ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物、ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９′−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−フェニルグリシン誘導体、クマリン系化合物などが挙げられる。また、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体において、２つの２，４，５−トリアリールイミダゾールに置換した置換基は同一でも相違していてもよい。また、ジエチルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸の組み合わせのように、チオキサントン系化合物と３級アミン化合物とを組み合わせてもよい。また、密着性及び感度の見地からは、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体がより好ましい。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００１９】
本発明で用いる（III）成分の使用量は、（I）及び（II）成分の総量１００重量部に対して、０．１〜１０重量部とすることが好ましい。この使用量が０．１重量部未満では、光感度が低い傾向があり、１０重量部を超えると、耐熱性が低下する傾向がある。
【００２０】
また、本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じて、シランカップリング剤などの密着性付与剤、レベリング剤、はく離促進剤、可塑剤、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、酸化防止剤、香料、着色料、熱架橋剤などを（Ｉ）成分及び（II）成分の総量１００重量部に対して各々０．０１〜２０重量部程度含有することができる。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００２１】
さらに、本発明の感光性樹脂組成物は、必要に応じて、メタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテル等の溶剤又はこれらの混合溶剤に溶解して固形分３０〜６０重量％程度の溶液として塗布することができる。
【００２２】
本発明における凹凸形状を有する仮支持体としては、特に制限なく公知のものを使用することができるが、基板上に感光性エレメントを貼り合わせる点、及び感光性エレメントを貼り付け、光硬化させた後、はく離する点で特に好適であるという理由から、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル等を材質としたフィルムをベースフィルムとして用い、それをサンドブラスト処理等で直接凹凸形状を設けて仮支持体とすることや、前記したベースフィルム上に光硬化性樹脂及びまたは熱硬化樹脂性樹脂を積層して、像状露光や熱成形等により凹凸形状を設けてベースフィルムと合わせて仮支持体とすること等が特に好ましい。
また、このときの凹凸形状については、外光をより効率良く利用して明るい表示を得るために、垂直な方向に散乱する光の強度を増加させることができるような構造を有するものであれば、特に制限はない。
【００２３】
本発明の感光性樹脂組成物の層を積層する方法としては、公知の方法を用いることができ、例えば、ドクターブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法等が挙げられる。感光性樹脂組成物の層の厚さは、反射型液晶表示装置とした場合の電気的特性を考慮して、０．１〜２０μｍとすることが好ましく、０．３〜１５μｍとすることがより好ましく、０．５〜１０μｍとすることが特に好ましい。
【００２４】
拡散反射下地層形成用感光性エレメントは、感光性樹脂組成物層の上に、さらにカバーフィルムが積層されていてもよい。
【００２５】
カバーフィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート等からなる厚さ５〜１００μｍ程度のフィルムが挙げられる。
【００２６】
このようにして得られる拡散反射下地層形成用感光性エレメントは、ロール状に巻いて保管し、あるいは使用できる。
【００２７】
以下に本発明の反射型液晶表示装置用拡散反射板製造方法の一例を説明する。
（I）基板上に、凹凸形状面を有する仮支持体の凹凸形状面上に感光性樹脂組成物の層を積層してなる拡散反射下地層形成用感光性エレメントを積層する工程
本発明で使用される基板は、特に制限はなく、例えば、セラミック板、プラスチック板、ガラス板等が挙げられる。この基板上には、絶縁層、電極、TFT等が設けられていてもよい。
【００２８】
本発明において、基板上に、前記拡散反射下地層形成用感光性エレメントを積層する方法としては、感光性樹脂組成物層にカバーフィルムが接して存在しているときは、そのカバーフィルムを除去後、基板上に感光性樹脂組成物層が接するように、圧着ロールで圧着させること等により行うことができる。
【００２９】
圧着ロールは、加熱圧着できるように加熱手段を備えたものであってもよく、加熱圧着する場合の加熱温度は、１０〜１８０℃とすることが好ましく、２０〜１６０℃とすることがより好ましく、３０〜１５０℃とすることが特に好ましい。この加熱温度が、１０℃未満では、感光性樹脂組成物層と基板との密着性が低下する傾向があり、１８０℃を超えると、感光性樹脂組成物層の構成成分が熱硬化あるいは熱分解する傾向がある。
【００３０】
また、加熱圧着時の圧着圧力は、線圧で５０〜１ｘ１０5Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５ｘ１０2〜５ｘ１０4Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５ｘ１０2〜４ｘ１０4Ｎ／ｍとすることが特に好ましい。この圧着圧力が、５０Ｎ／ｍ未満では、感光性樹脂組成物層と基板との密着性が低下する傾向があり、１ｘ１０5Ｎ／ｍを超えると、基板が破壊される傾向がある。
【００３１】
拡散反射下地層形成用感光性エレメントを前記のように加熱すれば、基板を予熱処理することは必要ではないが、感光性樹脂組成物層と基板との密着性をさらに向上させる点から、基板を予熱処理することが好ましい。この時の予熱温度は、３０〜１８０℃とすることが好ましい。
このようにして、本発明の拡散反射下地層形成用感光性エレメントの感光性樹脂組成物層を基板上に積層することができる。
【００３２】
また、本発明において、拡散反射下地層としての感光性樹脂組成物層を基板上に積層するための他の方法としては、（１'）基板上に、前記感光性樹脂組成物の層を形成した後、凹凸形状面を有する仮支持体を凹凸形状面が感光性樹脂組成物の層に接するように積層する工程等が挙げられる。
基板上に前記感光性樹脂組成物の層を形成する方法としては、前記拡散反射下地層形成用感光性エレメントにおいて、凹凸形状面を有する前記仮支持体の凹凸形状面上に、公知の塗布方法を用いて前記感光性樹脂組成物の層を形成する場合と同様の方法や、公知の塗布方法を用いて前記ベースフィルム上に感光性樹脂組成物の層を形成した後、基板上に感光性樹脂組成物層が接するように、前記圧着ロールを用いて圧着する方法等が挙げられる。
さらに、凹凸形状面を有する仮支持体を凹凸形状面が感光性樹脂組成物の層に接するように積層する方法としては、基板上に、前記拡散反射下地層形成用感光性エレメントを積層する方法と同様に前記圧着ロールを用いて圧着する方法等が挙げられる。
【００３３】
（II）感光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照射する工程
感光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照射する方法としては、基板上に積層された前記感光性樹脂組成物層にフォトマスクを介して、公知の活性光線を照射する方法等が挙げられる。この時、感光性樹脂組成物層の上に前記した凹凸形状面を有する仮支持体が存在する場合には、この仮支持体も介して活性光線が照射されることとなる。
活性光線としては、公知の活性光源が使用でき、例えば、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等が挙げられ、紫外線を有効に放射するものであれば特に制限されない。
【００３４】
（III）凹凸形状面を有する仮支持体をはく離して除去する工程
本発明において、感光性樹脂組成物層に接している凹凸形状面を有する仮支持体をはく離して除去する方法としては、前記仮支持体に粘着テープを接着したり、鉤型の治具等を用いて、物理的に前記仮支持体を剥離する方法等が挙げられる。また、作業性向上を目的に、静電気、吸引力などの力を利用して、前記仮支持体を物理的に剥離する方法等も挙げられる。
【００３５】
（IV）現像により感光性樹脂組成物層を選択的に除去してパターンを形成する工程
本発明における現像方法としては、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶剤等の公知の現像液を用いて、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知の方法により現像を行い、不要部を除去する方法等が挙げられ、中でも、環境、安全性の観点からアルカリ水溶液が好ましいものとして挙げられる。
【００３６】
アルカリ水溶液の塩基としては、水酸化アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの炭酸塩若しくは重炭酸塩等）、アルカリ金属リン酸塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等）、アルカリ金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等）、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミンなどが挙げられ、中でも、水酸化テトラメチルアンモニウム等が好ましいものとして挙げられる。
現像温度及び時間は、本発明における感光性樹脂組成物層の現像性に合わせて調整することができる。
また、アルカリ水溶液中には、界面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させることができる。
また、現像後、光硬化後の感光性樹脂組成物層に残存したアルカリ水溶液の塩基を、有機酸、無機酸又はこれらの酸水溶液を用いて、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知方法により酸処理（中和処理）することができる。
さらに、酸処理（中和処理）の後、水洗する工程を行うこともできる。
【００３７】
（V）感光性樹脂組成物層に活性光線を照射する工程
本発明において、パターンを形成した感光性樹脂組成物層表面に形成された凹凸形状を高温下で維持すること、高温高湿下で基板密着性を向上させること、及び耐薬品性を向上させること等を目的に、パターンを形成した感光性樹脂組成物層に活性光線を照射する工程を行うことができる。
本発明において、パターンを形成した感光性樹脂組成物層に活性光線を照射する方法としては、基板上にパターンが形成された感光性樹脂組成物層に公知の活性光線が有効に照射される方法であれば特に制限されない。
また、本発明における活性光線としては、前記（II）の工程で使用できる公知の活性光源が挙げられ、紫外線等を有効に放射するものであれば特に制限されない。
この時の、活性光線の照射量は、通常、１ｘ１０2〜１ｘ１０5J／m2であり、照射の際に、加熱を伴うこともできる。この活性光線照射量が、１ｘ１０2J／m2未満では、効果が不十分となる傾向があり、１ｘ１０5J／m2を超えると、感光性樹脂組成物層が変色する傾向がある。
【００３８】
（VI）パターンを形成した感光性樹脂組成物層を加熱する工程
本発明において、パターンを形成した感光性樹脂組成物層を加熱する方法としては、熱風放射、赤外線照射加熱等の公知の方法が挙げられ、基板上にパターンが形成された感光性樹脂組成物層が有効に加熱される方法であれば特に制限されない。
加熱時の温度は、１４０〜３００℃とすることが好ましく、１５０〜２９０℃とすることがより好ましく、１６０〜２８０℃とすることが特に好ましい。この加熱温度が、１４０℃未満では、効果が不十分となる傾向があり、３００℃を超えると、感光性樹脂組成物層の構成成分が熱分解する傾向がある。
【００３９】
以上に挙げた方法により、所望の凹凸形状面を有する拡散反射下地層を形成することができる。
なお、本発明では、上記(I)工程の後、像的形成を行う(II)〜(IV)の工程を省略して感光性樹脂組成物層に活性光線を照射する工程を行っても良い。この場合、(V)工程の後に仮支持体を剥離する。
また、本発明における反射型液晶表示装置用拡散反射板は、前記拡散反射下地層に反射膜を形成する工程により得られる。前記拡散反射下地層に反射膜を形成する方法としては、公知の方法が使用でき、例えば、スパッタリング法、蒸着法等により、Ag、Al等の金属膜を形成する方法等が挙げられる。
【００４０】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれに制限されるものではない。
【実施例】
（実施例１）
凹凸形状を有する仮支持体としてサンドブラスト処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、表１の配合で調整した感光性樹脂組成物を、このフィルム上にコンマコーターで５μmの厚さに塗布し、１１０℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥した後、保護フィルムとしてポリエチレンフィルムを被覆することで、拡散反射下地層形成用感光性エレメントを作製した。
【００４１】
（拡散反射下地層の転写性評価）
（１）感光性樹脂層と仮支持体との接着性
得られた拡散反射下地層形成用感光性エレメントのポリエチレンフィルムをはがしながら、厚さ１ｍｍのソーダガラス基板の上に感光性樹脂組成物の層を、ロール温度１２０℃、ロール圧０．４ＭＰａ、速度０．５ｍ／分の条件でラミネートして、ガラス基板上に感光性樹脂組成物の層、仮支持体が積層した基板を作製した。このとき、仮支持体は、軽い衝撃を基板へ与えても感光層からはがれることはなく、接着性は良好であった。
（２）被転写基板と感光性樹脂層との接着性（活性光線照射後）
上記した、ガラス基板上に感光性樹脂組成物の層、仮支持体が積層した基板に、仮支持体側から、３ＫＷ超高圧水銀灯（ＨＭＷ−５９０、株式会社オーク製作所製）で２００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射してから、仮支持体を引きはがしたところ、感光性樹脂層は仮支持体と一緒に引きはがれることなく、ガラス基板にしっかりと固定しており、仮支持体の凹凸面をきちんと転写していた。
（拡散反射下地層の基板密着性評価）
上記した、活性光線照射後の基板を、２３０℃の熱風対流式乾燥機で３０分間熱硬化したところ、感光性樹脂層の表面はサンドブラスト加工された凹凸が転写されており、拡散反射特性に優れた凹凸形状であった。
上記工程で得られた拡散反射下地層付き基板を、温度６０℃、湿度９０％に保った恒温槽へ２４０時間投入した後、クロスカット試験（JIS-K５４００、１ｍｍ角碁盤目法）を行ったところ、拡散反射下地層のはがれが一切なく、良好な基板密着性であった。
（反射型液晶表示装置用拡散反射板）
上記の２３０℃の熱風対流式乾燥機で３０分間加熱硬化した前記の拡散反射下地層形成基板に、Al膜（反射膜として）をスパッタリング法により０．２μｍ積層して、反射型液晶表示装置用拡散反射板を作製した。
得られた反射型液晶表示装置用拡散反射板は、拡散反射特性に優れた凹凸形状面を維持しており、設計どおりの拡散反射特性が得られた。また、拡散反射下地層とガラス基板、拡散反射下地層とAl膜との界面を観察したところ、拡散反射下地層表面からのはく離は全く発生しておらず、良好な拡散反射板としての形態を保持していた。
【００４２】
【表１】
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（＊）メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル／スチレン共重合体（重量比で２０／４０／１５／２５）１００重量部とグリシジルメタクリレート１５重量部を開環付加反応させて不飽和基を導入したポリマ（プロピレングリコールモノメチルエーテル溶媒で固形分４５重量％）；重量平均分子量は３０,０００、酸価（固形分）は６２、不飽和基数は、分子量１,０００当り０．９２個。
【００４３】
（比較例１）
（I）成分として、メタクリル酸／メタクリル酸メチル／スチレン共重合体（重量比で２０／４０／４０）１００重量部とグリシジルメタクリレート１５重量部を開環付加反応させて不飽和基を導入したポリマ（プロピレングリコールモノメチルエーテル溶媒で固形分４４重量％、重量平均分子量は４０,０００、酸価（固形分）は６２、不飽和基数は、分子量１,０００当り０．９２個）を用いた以外はすべて実施例１と同様にして感光性樹脂組成物を調整し、これを用いて実施例１と同様の方法により基板を作製し、拡散反射下地層の転写性を評価した。
（拡散反射下地層の転写性評価）
感光性樹脂層と仮支持体との接着性が悪く、仮支持体はわずかな衝撃を基板へ与えるだけで感光層からはがれてしまった。
【００４４】
（比較例２）
（I）成分として、メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル／スチレン共重合体（重量比で４０／２０／２０／２０）１００重量部とグリシジルメタクリレート４５重量部を開環付加反応させて不飽和基を導入したポリマ（プロピレングリコールモノメチルエーテル溶媒で固形分４２重量％、重量平均分子量は３５,０００、酸価（固形分）は５７、不飽和基数は、分子量１,０００当り２．１９個。）を用いた以外はすべて実施例１と同様にして感光性樹脂組成物を調整し、これを用いて実施例１と同様の方法により基板を作製し、拡散反射下地層の転写性及び拡散反射下地層の基板密着性を評価した。
（拡散反射下地層の転写性評価）
仮支持体は軽い衝撃を基板へ与えても感光層からはがれることはなく、接着性は良好であった。また、活性光線照射後に仮支持体を引きはがしても感光性樹脂層は仮支持体と一緒に引きはがれることなく、ガラス基板にきちんと転写した。
（拡散反射下地層の基板密着性評価）
基板密着性評価用の拡散反射下地層を作製し、実施例１と同様にして基板密着性を評価したところ、１ｍｍ角の拡散反射下地層はがれが１００個中９０個発生した。
【００４５】
（比較例３）
（I）成分として、メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル／スチレン共重合体（重量比で２０／２０／４０／２０）１００重量部とグリシジルメタクリレート１５重量部を開環付加反応させて不飽和基を導入したポリマ（プロピレングリコールモノメチルエーテル溶媒で固形分４４重量％、重量平均分子量は３０,０００、酸価（固形分）は６２、不飽和基数は、分子量１,０００当り０．９２個。）を用いた以外はすべて実施例１と同様にして感光性樹脂組成物を調整し、これを用いて実施例１と同様の方法により基板を作製し、拡散反射下地層の転写性を評価した。
（拡散反射下地層の転写性評価）
仮支持体は軽い衝撃を基板へ与えても感光性樹脂層からはがれることはなく、接着性は良好であった。しかし、活性光線照射後に仮支持体を引きはがすと感光性樹脂層は仮支持体と一緒に引きはがれてしまい、ガラス基板にきちんと転写できなかった。
【００４６】
実施例１は、（I）共重合成分としてメタクリル酸及び１５重量％のアクリル酸アルキルエステルを必須成分として得られるアクリル系樹脂（a）と、分子内にエポキシ基及び不飽和結合を共に有する化合物（b）との反応により得られ、分子量１,０００当りの不飽和基数が０．９２個である不飽和基含有アクリル系ポリマを使用しており、感光性樹脂層は、基板と仮支持体との密着性が良好であり、また、活性光線照射後、仮支持体を剥がす際に感光性樹脂層は、仮支持体とはがれることなく、また、基板との密着性が良好であった。
これに対し、比較例１の（I）共重合成分にアクリル酸アルキルエステルを含まない感光性樹脂組成物では、感光性樹脂層と仮支持体の接着性が悪く、わずかな衝撃ではがれてしまう。
比較例２の（I）共重合成分として分子量１,０００当りの不飽和基数が２．１９個である感光性樹脂組成物では、基板との密着性に劣る。
比較例３の（I）共重合成分にアクリル酸アルキルエステルを４０重量％含有する感光性樹脂組成物では、活性光線照射後に仮支持体を引きはがすと感光性樹脂層は仮支持体と一緒に引きはがされてしまい、ガラス基板にきちんと転写することができなかった。
このように、本発明の（I）共重合成分としてメタクリル酸及び５〜２５重量％のアクリル酸アルキルエステルを必須成分として得られるアクリル系樹脂（a）と、分子内にエポキシ基及び不飽和結合を共に有する化合物（b）との反応により得られ、分子量１,０００当りの不飽和基数が０．５〜１．５個である不飽和基含有アクリル系ポリマを感光性樹脂組成物に用いることにより、耐湿性及び基板への良好な転写性に優れる特性を付与することができる。
【００４７】
表１の配合で調整した感光性樹脂組成物を凹凸形状面を有する仮支持体としてサンドブラスト処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、感光性樹脂組成物溶液を仮支持体の凹凸形状を有する面上にコンマコーターを用いて均一に塗布し、１１０℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、感光性樹脂組成物層を形成した。得られた感光性樹脂組成物層の厚さは５μｍであった。
次いで、得られた感光性樹脂組成物層の上に、さらに、２５μｍの厚さのポリエチレンフィルムを、保護フィルムとして張り合わせて、拡散反射下地層形成用感光性エレメントを作製した。
【００４８】
得られた拡散反射下地層形成用感光性エレメントのポリエチレンフィルムをはがしながら、厚さ１ｍｍのガラス基板上に、感光性樹脂組成物層が接するようにラミネータ（日立化成工業株式会社製、商品名ＨＬＭ−１５００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度０．５ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）０．４ＭＰａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍｘ横１０ｃｍの基板使用、この時の線圧は９．８ｘ１０3Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基板上に、感光性樹脂組成物層及び仮支持体が積層された基板を作製した。
次いで、直径５μｍの活性光線不透過部分を有するフォトマスクを用い、縮小投影露光機（キヤノン株式会社製、ＦＰＡ-３０００i）を使用して、露光量６ｘ１０２Ｊ／ｍ２で、活性光線を像的に照射した。
【００４９】
次いで、仮支持体を引き剥がして除去した後、０．５重量％の界面活性剤を含有した０．５重量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を用いて、２５℃で５０秒間スプレー現像して、感光性樹脂組成物層を選択的に除去してホールパターンを形成した。
得られたホールパターンを観察したところ、光硬化した感光性樹脂組成物層が基板から剥がれることなく、直径５μｍのホールパターンが良好に形成されていた。
【００５０】
現像後、８０℃で１０分間乾燥し、東芝電材株式会社製東芝紫外線照射装置を使用して、３ｘ１０４Ｊ／ｍ２の紫外線照射を行った。
次いで２３０℃の熱風対流式乾燥機で３０分間加熱し、拡散反射下地層が形成された基板を得た。
得られた拡散反射下地層の表面を観察したところ、サンドブラスト加工された凹凸を転写した形状とほぼ同様の凹凸形状が維持されていた。
【００５１】
２３０℃の熱風対流式乾燥機で３０分間加熱した前記の拡散反射下地層形成基板に、Al膜（反射膜として）をスパッタリング法により０．２μｍ積層して、反射型液晶表示装置用拡散反射板を作製した。
得られた反射型液晶表示装置用拡散反射板は、拡散反射特性に優れた凹凸形状面を維持しており、設計どおりの拡散反射特性が得られた。また、拡散反射下地層とAl膜との界面を観察したところ、拡散反射下地層表面からのAl膜のはく離は全く発生しておらず、良好な拡散反射板としての形態を保持していた。
【００５２】
【発明の効果】
本発明により、拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物に耐湿性及び基板への良好な転写性に優れる特性を付与することで、高温高湿下で拡散反射下地層の基板密着性に優れた拡散反射板を歩留り良く製造することができる。また、高温高湿環境下でも反射膜との密着性に優れることから、これによりさらに外光をより効率良く利用して明るい表示を得られる信頼性に優れた拡散反射板及び反射型液晶表示装置用を拡散反射板を歩留り良く製造することができる。