(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
環状の外周遮蔽部と、その中に外周遮蔽部から分離して存在する島状遮蔽部とを有し、外周遮蔽部に囲まれた部分から島状遮蔽部を除いた部分が通過部であるマスクブロック図形の通過部を２つに分割して分割マスクブロックを作成する方法において、
外周遮蔽部または島状遮蔽部と島状遮蔽部とを接続する仕切り線を、
外周遮蔽部と島状遮蔽部とを接続するものが２本あり、島状遮蔽部が複数存在する場合には、島状遮蔽部の間を接続するものが島状遮蔽部の個数−１本あること、
仕切り線同士が交差することがないこと、
仕切り線同士が端点を共有することがないこと、
すべての島状遮蔽部に２本の仕切り線が接続されること、
すべての島状遮蔽部およびすべての仕切り線が全体で１本の経路をなすこと、
の各条件のすべてに適合するように設定し、
すべての島状遮蔽部およびすべての仕切り線がなす経路により通過部を２つの領域に区画し、
区画された２つの領域を２つの分割マスクブロックのそれぞれの開口部とし、
また、外周遮蔽部または島状遮蔽部と島状遮蔽部との間に配置され、外周遮蔽部または島状遮蔽部と島状遮蔽部との接続径路を遮断する、囲み島状遮蔽部が存在する場合、
囲み島状遮蔽部を２以上の新たな島状遮蔽部に分割し、新たな島状遮蔽部を介して接続径路を確立することを特徴とする分割マスクブロックの作成方法。
【請求項２】
請求項１に記載する分割マスクブロックの作成方法において、
外周遮蔽部のうち互いに対向する辺に沿って配置される外周遮蔽部を、２本の仕切り線の各々が接続される選択外周遮蔽部とし、
一方の選択外周遮蔽部の基準点から対向辺の延設方向の所定位置までに存在する島状遮蔽部、および選択外周遮蔽部の間を、仕切り線の設定により接続して得られる経路により、前記基準点を含む通過領域を分離すると共に、
前記一方の選択外周遮蔽部への仕切り線の接続点を新たな基準点として、通過領域の分離を繰り返し、
順次分離される通過領域を交互に分配して、通過部を２つの領域に区画することを特徴とする分割マスクブロックの作成方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載する分割マスクブロックの作成方法において、
同一または相似な図形についてはセル図形として認識して、該セル図形について仕切り線の設定処理を行うことを特徴とする分割マスクブロックの作成方法。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれか１つに記載する分割マスクブロックの作成方法において、
仕切り線の設定の後に、すべての島状遮蔽部およびすべての仕切り線がなす経路により区画される両領域の面積の差を縮小する面積均等化処理を行うことを特徴とする分割マスクブロックの作成方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体集積回路の製造における粒子ビーム露光に用いられる分割マスクブロックの作成方法に関する。さらに詳細には、外縁部と接続されない島状パターンを持つマスクブロック図形を、個々のブロックについて良好な露光特性を有した複数のブロックに処理時間の効率よく分割して分割マスクブロックを作成する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
半導体集積回路の製造プロセスにおける露光工程では、露光精度の向上および露光時間の短縮を同時に実現する露光方法として、ブロック露光が使用されている。ブロック露光では、電子等の粒子のビームを遮蔽パターンで部分的に遮蔽し、遮蔽パターンの開口部を通過した粒子ビームでレジストを感光させる。こうした遮蔽パターンの抽出方法については、特許文献１等に開示されている。
【０００３】
ここで、遮蔽パターンを抽出する場合、形成しようとするパターンによっては、非感光領域が、感光領域に囲まれ、他の非感光領域から孤立して存在する場合がある。このような孤立した非感光領域を実現するための遮蔽パターンは、外縁部と接続されない島状パターンを持つこととなる。これはそのままマスクブロックとして実現することは物理的にできない。そこで、ブロックを２つまたはそれ以上に分割することで、島状パターンの困難を回避することが行われている。
【０００４】
従来行われているマスクブロックの分割の例を説明する。ここでは、図５１に示すパターンを分割するものとする。図５１のパターンでは、ハッチング部分が遮蔽部であり、白抜き部分が通過部である。遮蔽部にはさらに、外縁部２００と島状部２０１とがあり、各島状部２０１は外縁部２００につながっていない。このパターンを２つに分割するときにはまず、パターン中の通過部を認識する（図５２）。そして、認識したパターンの頂点に着目して、図中左右方向の線分で区画する（図５３）。そして、区画されたパターンを領域Ａと領域Ｂとの２種類に分類する（図５４）。このとき、同種の領域がなるべく隣り合わないようにする。そして、領域ＡをマスクブロックＡに割り当て、領域ＢをマスクブロックＢに割り当てるのである（図５５）。かくして得られたマスクブロックＡ、Ｂはともに、島状部を含んでいない。しかし、マスクブロックＡ、Ｂを併用することにより、孤立した非感光領域をレジストに実現できるのである。
【０００５】
【特許文献１】
特開平５−１８２８９９号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記した従来の分割方法には、以下に説明する問題点があった。第１に、分割の過程で微小領域が発生しやすいのである。図５４の例では、領域Ａに分類された領域に微小領域２０２が存在している。そしてこれは、マスクブロックＡでは微小開口部２０３となる。このような微小な開口部は、露光時に粒子ビームが通りにくいので、良好な露光結果が得られないのである。第２に、マスクブロックＡとＢとで開口部の合計面積はまちまちである。このため、マスクブロックごとの粒子ビームの照射量もまちまちである。このことにより、レジスト上のパターン精度もばらついてしまう。第３に、開口部の分断箇所が多い。このため、ブロック間の位置合わせ精度を非常に高くしなければならない。ブロック間にわずかでも位置ずれがあると、パターンずれによる段差が発生してしまうのである。
【０００７】
本発明は、前記した従来の技術が有する問題点を解決するためになされたものである。すなわちその課題とするところは、島状パターンを持つ遮蔽パターンを、微小図形や面積のアンバランス等を発生させることなく高々２つのマスクブロックに処理時間の効率よく分割して分割マスクブロックを作成する方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
この課題の解決を目的としてなされた本発明の分割マスクブロックの作成方法は、マスクブロック図形から、外周遮蔽部と島状遮蔽部とを除いたマスクブロック図形の通過部を、２つに分割して分割マスクブロックを作成する方法であって、島状遮蔽部を接続して通過部を仕切る仕切り線を、所定の条件のすべてに適合するように設定し、すべての島状遮蔽部およびすべて仕切り線がなす経路により通過部を２つの領域に区画する方法である。これにより、分割マスクブロックを作成する。
【０００９】
すなわち、仕切り線同士で交差したり、端点を共有したりしてはならない。また、島状遮蔽部と仕切り線との全体で１本の経路をなす必要がある。むろんその経路には、分岐が存在したり独立したループが存在したりしてはならない。このように仕切り線を設定することにより、通過部を、内部に島状遮蔽部を含まないように２つの領域に分割できるのである。そして、分割された２つの領域をそれぞれ、分割マスクブロックのそれぞれの開口部とすればよいのである。
【００１０】
また、外周遮蔽部または島状遮蔽部と、島状遮蔽部との、接続径路を遮断する囲み島状遮蔽部は、２以上の新たな島状遮蔽部に分割されることにより、接続径路が確立される。互いの接続径路が遮断される島状遮蔽部を３つ以上包含する場合、その島状遮蔽部は囲み島状遮蔽部である。（包含される島状遮蔽部の数−２）の凸多角形と残りの領域とに分割すれば、包含される島状遮蔽部間については接続が可能となる。また、２本の仕切り線が既接続である島状遮蔽部が接続経路にある場合、その島状遮蔽部は囲み島状遮蔽部である。接続対象である２つの島状遮蔽部を互いに包含する領域内で、囲み島状遮蔽部を分割することにより接続が可能となる。
【００１１】
また、対向辺の外周遮蔽部の間に仕切り線を設定してリンクを設定する際、マスクブロック図形の対向辺に沿った所定領域ごとに仕切り線の設定処理を行う。島状遮蔽部と仕切り線とにより構成される径路は、マスクブロック図形の対向辺を接続する径路となる。この処理を所定領域ごとに行い順次分離される通過領域を、交互に分配して分割マスクブロックを作成する。分割マスクブロックにおける遮蔽部は対向する２辺で支持される形状となり、遮蔽部自身の重量を確実に支えることができ、耐久性に優れた分割マスクブロックを作成することができる。ここで、処理対象となる所定領域は、対向辺に向かう方向に、少なくとも１列の島状遮蔽部が並ぶ領域である。これらの島状遮蔽部に対して仕切り線を設定することにより対向辺を結ぶ径路を形成することができる。
【００１２】
また、セル図形を含む図形に対しては、セル図形に対して予め仕切り線の設定処理を行っておき、図形中に同一または相似の図形が複数含まれる場合には、これらを識別して仕切り線の設定処理を１回のみ行う。図形中に同一または相似な図形が配置される際にこれらの処理結果を再利用することができる。これにより、分割マスクブロックの作成時間を短縮することができると共に、分割形状を一定に維持することができる。
【００１３】
また、仕切り線の設定の後に、経路により区画される両領域の通過部の面積の差を縮小する面積均等化処理を行うことが望ましい。分割マスクブロック間の露光量の均一化を図るためである。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を具体化した実施の形態について、添付図面を参照しつつ詳細に説明する。第１実施形態では、図１に示す遮蔽パターンを例（１）として挙げ、これを２分割してマスクブロックパターンを作成することとする。図１の遮蔽パターン（１）は、ハッチングの付されている部分１、２が遮蔽部で、白抜き部分が通過部３である。遮蔽部にはさらに、外縁部２と島状部１とがあり、各島状部１は外縁部２につながっていない。以下、図１の遮蔽パターン（１）のうち、外縁部２の内辺（以下、「外周」という）２Ａおよびその内側の部分にのみ着目して説明する。
【００１５】
第１実施形態のブロック分割は、端的に言えば、図１中の島状部１を繋いで通過部３を２つに分割することである。その基本的な指針は、以下の３点である。
(a)分割する仕切り線の全長をなるべく短くすること。
(b)仕切り線中に短辺をなるべく作らないこと。
(c)分割した両ブロックの開口面積をなるべく等しくすること。
指針(a)は、分割マスクブロック使用時の位置合わせ精度を過度に高く要求しないための指針である。仕切り線の全長が長いと、その分位置合わせ精度を高くする必要があるからである。指針(b)は、仕切り線中にあまり近接して屈折点を配置しない、という指針である。分割した図形中に微小パターンが発生するのを防ぐためである。指針(c)は、両ブロックの照射量をなるべく均一にするための指針である。また、以下で説明する各段階の処理は、図１の遮蔽パターン（１）をコンピュータに認識させた状態で、コンピュータ上で行われる。
【００１６】
第１実施形態でのブロック分割は、概略、図２に示される手順で実行される。すなわち、まず、リンクの設定を行い（＃１）、次に面積の均等化を行う（＃２）。リンクの設定とは、図１中の島状部１を繋いで通過部３を２つに分割するための仕切り線を決定することである。面積の均等化とは、＃１で設定された仕切り線を、両ブロックの開口面積がほぼ等しくなるように調整することである。調整が不調な場合には、＃１のリンク設定をやり直すこともある（＃３：Ｎｏ）。以下、順次詳細に説明する。
【００１７】
まず、リンク設定（＃１）について説明する。リンク設定は、図３に示される手順で実行される。すなわちまず、候補線分を発生させる（＃１１）。候補線分とは、島状部１を繋ぐリンクとなりうる候補のことである。ここでは、図４に示すように、各島状部１の各頂点から、Ｘ軸に平行な線分およびＹ軸に平行な線分を引き、候補線分４とする。候補線分４は、島状部１の内部に向けては引かない。また、他の島状部１または外周２Ａに達したらそこまでとする。この処理は、コンピュータにより自動的に行われる。
【００１８】
前述のように候補線分４は、島状部１の頂点を一方の起点とし、Ｘ軸もしくはＹ軸に平行なものである。その理由は、前述の指針(b)にある。すなわち、図４からも明らかなように、各島状部１の輪郭線の大半は、Ｘ軸に平行な線分とＹ軸に平行な線分とで構成されている。したがって、島状部１の辺の途中から候補線分を発生させると、仕切り線中の屈折点が多くなってしまうのである。そして、その候補線分が仕切り線に採用された場合に、その起点は必ず屈折点となるからである。Ｘ軸にもＹ軸にも平行でない斜めの候補線分を発生させた場合も同様である。
【００１９】
続いて、候補線分４の絞り込みを行う（＃１２）。すなわち、図５に示すように、平行な候補線分４同士が一定の距離以内で近接している場合に、その一方を削除するのである。同様に、島状部１の辺とそれに平行な候補線分４とが一定の距離以内で近接している場合には、その候補線分４を削除する。絞り込みを行う理由は、前述の指針(b)にある。すなわち、互いに近接した候補線分４がともに仕切り線として採用されると、それらの間に短辺が発生してしまうからである。島状部１の辺に近接した候補線分４が仕切り線として採用された場合も同様である。また、＃１１ではすべての頂点から候補線分４を発生させたため、互いに平行な候補線分４がごく近い間隔で存在している場合があるからである。
【００２０】
ここで、互いに近接している候補線分のどちらを削除しどちらを残すかについては、基本的には、前述の指針(b)を考慮すべきである。すなわち、最終的に決定される仕切り線において短辺が発生しにくいように定めるべきである。ただし、横方向ならば下のものを削除し、縦方向ならば左のものを削除する、という具合にあらかじめ定めておいてもさほど支障ない。短辺の発生防止は後のステップでも考慮するからである。そのため、この処理は、コンピュータにより自動的に行われるようにすることもできるし、削除する線分を画面上でオペレータに指定させるようにすることもできる。また、削除する線分の案をコンピュータにより自動的に決定し、オペレータに修正させるようにすることもできる。なお、「一定の距離」についてはあらかじめ設定しておけばよい。
【００２１】
次に、リンク作業を行う（＃１３）。リンク作業とは、候補線分４を用いて各島状部１を繋ぐことにより、仕切り線を決定する作業である。仕切り線の決定に際し基本的に要求される基本条件は、以下の通りである。
(a)仕切り線の全体の出発点および到着点は、１つずつとする。
(b)個々の仕切り線が端点を共有しない。
(c)仕切り線の全体の出発点および到着点は、外周２Ａ上に置く。
(d)仕切り線は、すべての島状部１を結ぶ。
(e)仕切り線は、１つの島状部１に２回以上立ち寄らない。
(f)仕切り線同士で交差しない。
(g)仕切り線は、外周２Ａの外には出ない。
【００２２】
基本条件(a)は、ブロックの分割数を「２」とするための条件である。基本条件(b)は、分割マスクブロックの一方において、一点でのみ外縁部につながったパターンが発生するのを防ぐための条件である。基本条件(b)および(c)は、図１のパターン（１）の通過部３を確実に２分するための条件である。基本条件(d)は、分割マスクブロックにおいて、中空内に島状部１が取り残されるのを防ぐための条件である。基本条件(e)は、分割マスクブロックの一方において、２以上の独立した開口部が発生するのを防ぐための条件である。基本条件(g)は、本処理が外周２Ａの内側のみを対象とすることから要請される条件である。
【００２３】
また、上記の基本条件に加え、より望ましい露光特性のため、以下の推奨条件を可能な限り満たすことが望ましい。
(a)仕切り線の総延長は短い方がよい。
(b)仕切り線内の屈折点（出発点および到着点も含む）同士がなるべく近接しないようにする。
(c)仕切り線の全体の出発点と到着点とはなるべく離す。できれば、外周２Ａのうちの１辺上には置かない。
(d)仕切り線同士がなるべく接近しないようにする。
(e)島状部１と仕切り線とは、接続箇所以外ではなるべく接近しないようにする。
【００２４】
推奨条件(a)は、前述の指針(a)により要請される条件である。推奨条件(b)は、前述の指針(b)により要請される条件である。推奨条件(c)は、分割マスクブロックの一方において、中空部に向けて極端に突き出た形状の部分が発生するのを防ぐための条件である。そのような部分があると、マスクがその材質（薄金属箔）の剛性不足のために撓んでしまい、レジスト上のパターン精度が確保できないからである。推奨条件(d)、(e)はともに、分割マスクブロックに狭小な開口部が発生するのを防ぐための条件である。尚、推奨条件(c)を満たすための実施形態として、後述の図３５乃至図４０に第３実施形態を示す。
【００２５】
リンク作業（＃１３）では具体的には、仕切り線を定義するためのリンクデータテーブルを作成する。リンクデータテーブルには、図６中に示すように、「線分情報」と「島情報」とのそれぞれのテーブルがある。
【００２６】
「線分情報」は、＃１１、＃１２で発生させた各候補線分４を個々に定義する情報である。個々の「線分情報」には、番号、座標情報、接続情報１、接続情報２、そして使用情報が含まれている。座標情報は、当該番号の候補線分４の両端の位置の座標を示す情報である。接続情報１および接続情報２は、当該番号の候補線分４が両端で何に接続しているかを示す情報である。接続相手たりうるのは、他の候補線分４、島状部１、外周２Ａのいずれかである。他の候補線分４または島状部１である場合には、その番号も特定される。「線分情報」のうちのここまでのデータは、＃１１および＃１２の処理ですでに作成済みである。ただし座標情報については、後に修正される場合がある。使用情報は、当該番号の候補線分４が仕切り線として採用されているか否かを示すデータである。これは、＃１３で決定されるデータであり、この時点では未決定である。なお、番号の付け方は任意である。
【００２７】
「島情報」は、遮蔽パターン中の各島状部１を個々に定義する情報である。個々の「島情報」には、番号と座標情報とが含まれている。座標情報は、当該番号の島状部１のすべての頂点の位置の座標を示す情報である。この情報は、遮蔽パターンの仕様に基づく。そして、各々の「島情報」には、「線分への接続情報」が付加されている。これは、当該番号の島状部１につながっている候補線分４の番号を、仕切り線として採用されるか否かにかかわらずすべて記述するものである。
【００２８】
リンク作業（＃１３）では実際には、図６中の「線分情報」の「使用情報」を決定する。この処理は、前述の諸条件を考慮しつつ、図７のフローチャートに示す手順により行われる。このフローではまず、出発島を選択する（＃２１）。出発島とは、島状部１のうち、仕切り線を設定するための起点となるもののことである。出発島の選定条件は、他の島状部１を介さず直接に外周２Ａに接続可能であることである。さらに、前述の推奨条件(a)より、外周２Ａの図形の隅になるべく近い島状部１を選択することが好ましい。かかる選定条件および推奨条件に適合する島状部１の１つを出発島に選定した状態を図８に示す。＃２１の出発島の選択は、コンピュータで自動的に行うようにしてもよい。その場合、選定条件に適合する島状部１のうち、外周２Ａの隅から最も近いものを選択させればよい。また、そのような島状部１を案として表示し、オペレータに確認または修正させるようにしてもよい。あるいは、選定条件に適合するすべての島状部１を選択肢として表示し、オペレータに選択させるようにしてもよい。
【００２９】
次に、未接続の島状部１がまだ残っているか否かを判断する（＃２２）。図８の状態では、出発島以外のすべての島状部１が未接続であるため、Ｙｅｓと判断される。＃２２の判断がＹｅｓである場合には、現在着目している島状部１（図８では出発島）といずれかの未接続の島状部１とを接続する候補線分４が存在するか否かを判断する（＃２３）。図８の状態でこの判断をすると、Ｙｅｓとなる。図９に太線で示すように、出発島から他の島状部１への経路となりうる候補線分４が存在するからである。
【００３０】
そこで、仕切り線を設定する（＃２４）。ここで設定する仕切り線は、現在着目している島状部１（図８、図９では出発島）といずれかの未接続の島状部１とを結ぶ経路である。該当する候補線分４から次の優先順位で選定される。
(１)途中に微小辺を含まない。
(２)経路長が短い。
(３)経路上に屈折点が少ない。
(１)と(３)は、前述の推奨条件(b)に基づく。(２)は、前述の推奨条件(a)に基づく。図９で太線で示されている候補線分４から上記の優先順位により１つの経路を仕切り線として設定した状態を、図１０に示す。このとき、仕切り線に設定した候補線分４については、図６中の「線分情報」の「使用情報」に、使用済みである旨を記録する。そして、着目対象を、リンク元の島状部１からリンク先の島状部１へ移す（＃２５）。これにより、リンク元の島状部１は処理済みとなる。＃２４の仕切り線の設定は、コンピュータで自動的に行うようにしてもよい。また、条件に適合する候補線分４を案として表示し、オペレータに確認または修正させるようにしてもよい。
【００３１】
そして処理を＃２２へ戻す。このため、＃２２→＃２３→＃２４→＃２５の処理が反復される。その際に、＃２２では、すでに処理済みとなっている島状部１は、当然ながら未接続の島状部１とはみなさない。また、＃２３では、すでに使用済みとなっている候補線分４や、すでに使用済みとなっている候補線分４と交差する経路、すでに使用済みとなっている候補線分４と端点を共有する候補線分４は対象外とする。これは、前述の基本条件(b)、(f)のためである。このようにして、島状部１と島状部１とを結ぶ仕切り線が順次設定されていく。
【００３２】
ここで、未接続の島状部１がまだ残っているのに、現在着目している島状部１とその島状部１とを接続する候補線分４が存在しない、という事態になる場合がある。これはリンク作業に失敗した場合であり、図１１がその例である。このような場合には、＃２３においてＮｏと判断されることとなる。その場合、現在着目している島状部１が出発島であるか否かを判断する（＃２６）。図１１の場合にはこの判断はＮｏである。したがって、着目対象を１ステップ前の島状部１へ戻す（＃２７）。これにより、最後に設定した仕切り線が解除される。このとき、図６中の「線分情報」の「使用情報」における、使用済みである旨の記録も削除する。ただし、使用履歴としては残す。そしてその上で＃２２へ戻る。すなわち、１ステップ前の状態（図１０）に戻ってやり直すのである。その場合に＃２３では、前述したすでに使用済みとなっている候補線分４等の他、使用履歴のある候補線分４も対象外とする。一度失敗した経路を再度トライしないためである。
【００３３】
もっとも図１１の例では、１ステップ戻っただけではやはり失敗することとなる。よって、さらに１ステップ戻らなければならない。よって、図８、図９の状態まで戻ることとなる。このとき、図９→図１０で設定した仕切り線を解除するときには、その仕切り線より後で設定されその後解除された仕切り線分（図１１中の「新たな仕切り線」）について、使用履歴を消去する。そしてその上で、図１２に示すように出発島から仕切り線を設定し直すこととなる。もし、出発島から仕切り線をいかように設定し直しても失敗する場合には、＃２６でＹｅｓとの判断がなされることとなる。この場合には、出発島自体を別の島状部１に変更する（＃２８）。このとき、すべての候補線分４の使用履歴を一旦消去する。そしてその上で、新たに選定された出発島から仕切り線を設定し直すこととなる。
【００３４】
このようにして、すべての島状部１を接続すると（図１３参照）、＃２２でＮｏと判断される。すると次に、出発島および終着島と外周２Ａとを結ぶ仕切り線がともに設定可能であるか否かを判断する（＃２９）。もし、出発島と終着島とのいずれか一方でも、外周２Ａにリンクできない場合には（＃２９：Ｎｏ）、＃２６へ進む。この場合の現在着目している島状部１は終着島であり出発島でないので、＃２７で１ステップ戻ってやり直すこととなる。
【００３５】
もし、どんなにやり直しても＃２９：Ｙｅｓに至らない場合には、そもそも候補線分４が足りないことを意味している。その場合には、図３の＃１２で削除した候補線分４の一部または全部を復活させたり、あるいは手動で新たに候補線分４を追加する等の処置をしなければならない。そしてその上で新たに＃２１からリンク作業をやり直すこととなる。その際の＃２４（リンク設定）では、前述の(１)〜(３)の優先順位に加え、以下の事項をも考慮しなければならない。
(４)すでに設定されている仕切り線にあまり近接していないものが好ましい。
(５)島状部１の辺にあまり近接していないものが好ましい。
これらは、前述の推奨条件(d)、(e)から要請されることである。
【００３６】
図１３の場合には、出発島、終着島とも、外周２Ａにリンク可能なので、＃２９においてＹｅｓと判断される。そして図１４に示すように、両端の島状部１と外周２Ａとを結ぶ仕切り線が設定される（＃３０）。＃３０の仕切り線の設定は、コンピュータで自動的に行うようにしてもよい。また、条件に適合する候補線分４を案として表示し、オペレータに確認または修正させるようにしてもよい。
【００３７】
これにより、図１の遮蔽パターン（１）中の通過部３が、２つの開口領域に分割されたことになる。ここで、図６中の「線分情報」および「島情報」に、番号を記録する。「線分情報」については、出発島と外周２Ａとを結ぶ仕切り線を１番とする。以下、順に加番し、終着島と外周２Ａとを結ぶ仕切り線を最終番とする。「島情報」については、出発島を１番とする。以下、順に加番し、終着島を最終番とする。このとき、島状部１と外周２Ａとを結ぶ仕切り線が２本存在する。１番のものと最終番のものである。それら以外の仕切り線は、２つの島状部１を結ぶものである。その本数は、島状部の個数から１を引いた数である。また、すべての島状部１およびすべて仕切り線が全体で１本の経路をなしており、分岐や交差はない。また、独立ループが存在することもない。以上で、リンク作業が済んだことになる。
【００３８】
ここまでの処理で、図２のフロー中の＃１が済んだことになる。したがって次に、＃２の面積の均等化を行わなければならない。面積の均等化は、仕切り線の変更と、仕切り線の調整との２とおりの手法を併用して行う。仕切り線の変更とは、仕切り線を、同じ島状部１同士を結ぶ他の候補線分４で置き換えることである。仕切り線の調整とは、仕切り線を平行移動させてその位置を微調整することである。
【００３９】
この処理は、図１５に示される手順で実行される。まず、分割された２つの開口領域（図１４）のそれぞれの面積を計算する（＃４１）。そして、広い方を領域Ａとし、狭い方を領域Ｂとする（図１６）。同一面積であった場合はどちらを領域Ａとしてもよい。そして、最初の仕切り線に着目する（＃４２）。最初の仕切り線とは、番号が１番である仕切り線、すなわち、外周２Ａと出発島とを結ぶ仕切り線のことである。
【００４０】
次に、領域Ａと領域Ｂとで面積差がほぼ均等の範囲内にあるか、または大小関係が逆転したかを判断する（＃４３）。「ほぼ均等」の範囲内とは、領域Ａと領域Ｂとで面積差が、仕切り線の調整により解消できる程度まで小さくなったと判断できる範囲内である。具体的には、１０％程度の適当な値を判断のしきい値としてあらかじめ設定しておく必要がある。大小関係が逆転したと判断されるのは、領域Ｂの面積が領域Ａの面積より大きくなった場合である。図１６の状態では、面積差はさほど小さくなく、また大小関係が逆転してもいないから、＃４３の判断はＮｏである。
【００４１】
そのため、現在着目している仕切り線（図１６の状態では最初の仕切り線）について、変更が可能か否かを判断する（＃４４）。変更は、次の３つの条件をすべて満たすものでなければならない。第１に、両端のリンク先（図１６の状態では外周２Ａと出発島）を変更してはならない。２領域に分割された状態を維持するためである。第２に、変更により微小辺が発生したり仕切り線同士等の接近が発生したりしてはならない。むろん、他の仕切り線と端点を共有することとなってもいけない。前述の基本条件(b)および推奨条件(b)、(d)、(e)のためである。第３に、領域Ａと領域Ｂとの面積の大小関係を緩和させまたは逆転させる方向の変更でなければならない。そうでなければ面積の均等化にならないからである。
【００４２】
図１６の状態では、現在の着目対象である最初の仕切り線に対して、上記の３つの条件をすべて満たす候補線分４が１つだけ存在する。よって、図１７に示すように、最初の仕切り線を変更する（＃４５）。また、変更にともない、領域Ａ、Ｂの面積を計算し直す。そしてその上で、両領域の面積差がほぼ均等の範囲内にあるか、または大小関係が逆転したかを判断する（＃４６）。この判断は＃４３の判断と同じである。図１６→図１７の変更では、変更後もなお、Ｙｅｓと判断するには至らないものとする。
【００４３】
その場合には（＃４６：Ｎｏ）、現在の着目対象が最終の仕切り線であるか否かを判断する（＃５０）。最終の仕切り線とは、番号が最終番である仕切り線、すなわち、終着島と外周２Ａとを結ぶ仕切り線のことである。図１７の状態では、着目対象は最初の仕切り線であって最終のものではないから、Ｎｏと判断される。その場合には、着目対象を次の番号の仕切り線に移す（＃５１）。そして＃４３へ戻る。すなわち、新たに着目対象となった仕切り線について、上記の処理が行われる。ここで、新たな仕切り線については、＃４４でＮｏと判断される。図１８に示すように、無理に変更すると微小辺が発生してしまうからである。そのため、この仕切り線については変更されずに、＃５０でさらに次の番号の仕切り線に着目対象が移る。
【００４４】
そして、次の仕切り線については、図１９に示すように、変更がなされたものとする。さらに、これにより領域Ａと領域Ｂとの面積の大小関係が逆転したものとする。すると、＃４６でＹｅｓと判断される。逆転には至らずとも前述のほぼ均等の範囲内となった場合も同様である。その場合には（＃４６：Ｙｅｓ）、両領域の面積が均等であるか否かを判断する（＃４７）。ここでいう「均等」とは、面積均等化処理を終了してよい程度に均等であるという意味である。したがって、前述の「ほぼ均等」よりもその範囲は狭い。具体的には、５％程度の適当な値を判断のしきい値としてあらかじめ設定しておく必要がある。ここでは、両領域の面積が均等であると判断されるには至っていないものとする。
【００４５】
その場合には（＃４７：Ｎｏ）、現在着目している仕切り線（ここでは、図１９で変更した仕切り線）の調整による均等化をトライする。そのため、当該仕切り線を平行移動させて領域Ａと領域Ｂとの面積を増減させた場合に、前述の「均等」の範囲内に収められるか否かを判断する（＃４８）。むろん、仕切り線の移動量は、微小辺が発生したり仕切り線同士等の接近が発生したりしていない範囲内でなければならない。前述の推奨条件(b)、(d)、(e)のためである。ただし、移動後の仕切り線は、図３の＃１１、＃１２で発生させた候補線分４のいずれかと一致する必要はない。「均等」の範囲内に収めることができる場合には（＃４８：Ｙｅｓ）、図２０に示すように、その仕切り線の調整を行う（＃４９）。そして、面積均等化処理を終了する。
【００４６】
当該仕切り線を最大限に移動させても「均等」の範囲内に収めることができない場合には（＃４８：Ｎｏ）、その仕切り線の調整はしないで＃５０へ移行する。すなわち、着目対象を次の番号の仕切り線に移して、新たに着目対象となった仕切り線について処理を行う。このように各仕切り線について順次、変更および調整をトライしていくことにより、最終的に両領域の面積を均等化するのである。ここにおいて、＃４７の時点で両領域の面積が均等であると判断される場合もある。むろんそのような場合には（＃４７：Ｙｅｓ）、仕切り線の調整はしないで直ちに処理を終了する。
【００４７】
また、両領域の面積を均等の範囲内に収めることができないまま、最終の仕切り線についての処理を終えてしまうことがありうる。その場合には、＃５０でＹｅｓと判断されることとなる。その場合には（＃５０：Ｙｅｓ）、面積均等化処理を開始して以来今までの間に、仕切り線の変更または調整を１回でも行ったか否かを判断する（＃５２）。１回でも変更等を行った場合には（＃５２：Ｙｅｓ）、着目対象を再び最初の仕切り線に戻して処理を続行する。幾分かは均等に近づいているので、処理を続けることにより、均等に達する可能性があるからである。これに対し１回も変更等を行っていない場合には（＃５２：Ｎｏ）、処理を中止し、図３のリンク設定自体をやり直すこととする。調整が不調で、そのまま処理を続行しても均等に達しないからである。これは、図２のフロー中の＃３：Ｎｏに該当する。なお、＃５２に２回以上到達した場合には、前回の＃５２から今までの間に、仕切り線の変更または調整を行ったか否かにより判断する。また、図３のリンク設定のやり直しの際には、候補線分４を増やす等の処置をしてもよい。
【００４８】
＃４９の処理をして面積均等化処理を終了した場合、もしくは＃４７：Ｙｅｓにより面積均等化処理を終了した場合には、面積均等化処理が完了したことになる。すなわち、図２のフロー中の＃３でＹｅｓと判断されたことになる。その際、図６中の「線分情報」において、仕切り線として使用しなかった候補線分４に対応するものを削除する。「島情報」の「線分への接続情報」についても同様に、使用しなかった候補線分４に対応するものを削除する。また、＃４９の調整の対象となった「線分情報」については、座標情報を修正する。
【００４９】
このようにして面積均等化処理が完了すると、すべての島状部１を結びかつ通過部３を２分する仕切り線が確定したことになる。これで、分割マスクブロックパターンが作成されたことになる。そこで、図２１に示すようにして、分割された領域Ａ、Ｂをそれぞれ、分割マスクブロックに当てはめ、開口部とする。なお、従来技術の説明で使用した図５１のパターンについて第１実施形態の手法で仕切り線を決定し分割した例を図２２に示す。かくして得られた分割マスクは、島状部を持たないことはもちろん、次のような特徴を有している。第１に、開口部の形状として、微小辺を含んでいない。また、開口部の辺同士が過度に近接する箇所を含んでいない。このため、この分割マスクで露光を行う際に良好な露光結果が得られる。第２に、両分割パターンの開口面積がほぼ等しい。このため、両分割ブロックのパターン精度にばらつきが生じない。第３に、もとの開口部の図形からの分断箇所（仕切り線の部分）が過度に長くない。このため、両分割マスク間の位置合わせ精度を過度に高くしなくてもよい。これらのため、仕様通りのパターン加工ができる。
【００５０】
続いて、第１実施形態の種々の変形例について説明する。第１に、図４に示した候補線分４の発生（図３の＃１１）についての変形例を説明する。図２３に示すのは、各島状部１の各辺の中点から候補線分４を発生させた例である。図２４に示すのは、各島状部１の各頂点および各辺の中点から候補線分４を発生させた例である。これらの状態からでも、仕切り線を決定することができる。以後の手順は前述と同じである。
【００５１】
第２に、微小辺の発生や仕切り線同士の接近の防止についての変形例を説明する。前述の説明では、候補線分４の発生（図３の＃１１）の直後にその絞り込み（＃１２）を行うことにより防止することとした。しかし、候補線分４の間隔が十分あれば、＃１２の絞り込み工程は必須ではなく、＃１２を省略してもよい。
【００５２】
第３に、個々の仕切り線の形状についての変形例を説明する。前述の図１４の例では、個々の仕切り線はすべて直線状であった。しかし、図２５の例に矢印で示すように、途中に屈折点を含む仕切り線が存在してもよい。むろんこのような仕切り線は、前述の推奨条件(b)に照らせばマイナス要因ではある。しかし、他の条件とのバランス上、このような仕切り線を排除しきれないこともありうる。また、図２６に示すように、面積均等化の過程でこのような仕切り線が生じることもありうる。
【００５３】
第４に、リンク作業から面積均等化への移行についての変形例を説明する。前述の例では、リンク作業により１通りの仕切り線を決定したら面積均等化を行うように説明した。しかし、複数通りの仕切り線を決定し、その中で最も均等に近いものについて面積均等化を行うようにしてもよい。このようにすると、面積均等化での負担が小さい。また、調整不調となる確率が低い。
【００５４】
第５に、面積均等化において着目対象とする仕切り線の順序についての変形例を説明する。前述の例では、最初の仕切り線から順に着目対象とし、最終の仕切り線については最後に着目対象とすることとした。しかし、最初の仕切り線の次に最終の仕切り線を着目対象とし、以後、島状部同士を結ぶ仕切り線を順次着目対象とすることとしてもよい。この方が面積の均等化の効率がよい。一般的な傾向として、外周２Ａとつながっている仕切り線は変更や移動が容易で、かつ、比較的大きい面積を調整できるからである。
【００５５】
第６に、面積均等化の＃４５における変更の仕方についての変形例を説明する。前述の例では、変更可能な候補線分４のうち、現在の仕切り線から最も近いものに変更することとした。しかし、変更可能な候補線分４のうち、最も均等に近くなるものに変更することとしてもよい。この方が面積の均等化の効率がよい。
【００５６】
第７に、面積均等化における変更と調整との関係についての変形例を説明する。前述の例では、ある仕切り線を変更したら直ちにその仕切り線の調整をトライすることとした。しかし、まず仕切り線の変更のみで可能な限り均等に近づけ、その後に仕切り線の調整による均等化を行うこととしてもよい。
【００５７】
第８に、面積均等化において、＃４２以下の処理を行う前にまず、両領域の面積が均等であるかを判断してもよい。もしその時点で均等であれば直ちに処理完了とすることができるからである。
【００５８】
以上詳細に説明したように第１実施形態では、外縁部２につながっていない島状部１を有する遮蔽パターン（１）について、まず、各島状部１を１回ずつ渡り両端が外周２Ａに接続する仕切り線を設定することとしている。これにより、通過部３を２つに分割し、島状パターンを含まず物理的に実現可能な分割マスクブロックパターンを得ている。ここにおいて、仕切り線を設定する際に、仕切り線が他の仕切り線等と過度に接近して配置されることがないようにしている。また、短辺が発生することがないようにしている。これにより、微小開口部を有しない分割マスクが得られるようにしている。
【００５９】
さらに、仕切り線となりうる候補線分４の発生の段階でも、このことを考慮している。すなわち、候補線分４を、各島状部１の頂点あるいは辺の中点から発生させるようにしている。これにより、仕切り線と島状部１の頂点との間に生じる屈折点や微小辺を極力少なくしている。また、発生させた候補線分４であっても、島状部１の辺等に近いものを削除する絞り込みを行っている。これも、微小開口部の発生の防止に貢献している。
【００６０】
また、出発島を外周２Ａの図形の隅になるべく近い島状部１とすること等により、仕切り線の全長をなるべく短くすることとしている。これにより、極端に高い位置合わせ精度を必要としない分割マスクが得られるようにしている。また、仕切り線の全体の両端を外周２Ａのなるべく離れた点に配置するようにしている。これにより、分割マスクブロックの一方において、中空部に向けて極端に突き出た形状の部分が発生するのを防いでいる。
【００６１】
そして、仕切り線が一応決定してから、両開口部の面積が均等になるように、均等化処理を行うこととしている。これにより、分割マスクブロックパターンの使用時に、両分割マスクによる照射量のばらつきを押さえ、均一なパターン精度が得られるようにしている。特に、均等化処理を、まずは仕切り線を他の候補線分４で置き換えることによって行っている。これにより、均等化処理の段階でも微小領域の発生を防いでいる。さらに、変更した仕切り線を平行移動により微調整している。これにより、両領域の面積のさらなる均等化を図っている。
【００６２】
次に、第２実施形態では、遮蔽パターン（１）（図１）に代えて、図２７に示す遮蔽パターン（２）を例として挙げる。第１実施形態での処理の前段階として、島状部１ａ間の接続径路を遮断する囲み島状部１ｂを分割して仕切り線の設定を可能とする処理を示す。
【００６３】
囲み島状部１ｂが存在する遮蔽パターン（２）（図２７）では、リンク作業（図３、＃１３）を行う際の基本条件(e)により、このままではリンク作業を行うことはできない。島状部１ａの間の接続に対して囲み島状部１ｂを３回経由しなければならず、囲み島状部１ｂが基本条件(e)を満たさないためである。
【００６４】
上記の制約を回避するために、囲み島状部１ｂの分割を行った上でブロック分割を行う手順を、概略、図２８に示す。すなわち、図２に示す第１実施形態におけるブロック分割方法の手順（＃１乃至＃３）に加えて、図２の手順に先立ち島状部の分割処理（＃６１）を行う。島状部の分割処理（＃６１）の手順を図２９に示す。また、図２９の手順に従い分割される島状部１ｂの様子を図３０に示す。以下、図２９の手順に従い島状部の分割処理（＃６１）を説明する。
【００６５】
先ず、各島状部の配置領域の座標から、Ｘ座標、Ｙ座標の各々について最小値、最大値を求め（＃７１）、このうち最大領域を有する島状部を抽出する（＃７２）。図３０の（Ａ）に示すように、島状部１ａ、１ｂのうち、最小座標ｍｉｎ（Ｘ、Ｙ）と最大座標ｍａｘ（Ｘ、Ｙ）とで囲まれる最大領域を有する島状部１ｂが抽出される。
【００６６】
次に、最大領域に含まれる他の島状部を抽出する（＃７３）。図３の（Ｂ）に示すように、４つの他の島状部１ａが抽出される。ここで、最大領域に含まれる島状部が存在しない場合には、囲み島状部はないものとして島状部の分割処理（＃６１）を終了する。抽出された他の島状部は、その個数が計数されると共に、他の島状部の間に最大領域を有する島状部が存在するか否かが判断される（＃７４）。３つ以上の他の島状部が存在し、且つ２箇所以上で最大領域を有する島状部が他の島状部の領域を越えて存在している場合（＃７４：ＹＥＳ）、最大領域を有する島状部を囲み島状部とする（＃７５）。他の島状部間の接続径路を遮断しているということができるからである。図３の（Ｂ）の島状部１ａでは、４個の島状部１ａが存在し、且つ４箇所において島状部１ａの領域を越えて島状部１ｂが存在する。従って、島状部１ｂが囲み島状部として検出される。
【００６７】
抽出された囲み島状部は凸多角形形状に分割される（＃７６）。ここで、凸多角形とは、１つの内角が１８０°を越えない多角形をいい、三角形、方形等に代表される多角形である。囲み島状部が凸多角形に分割されれば、他の島状部を２辺以上で囲む島状部はなくなり、他の島状部から分割された島状部を介して接続径路を構成することができる。囲み島状部を解消することができる。図３０の（Ｃ）に示すように、囲み島状部１ｂについては、３個の矩形１ｂＬ、１ｂＣ、１ｂＲに分割される。分割された島状部１ｂＬ、１ｂＣ、１ｂＲは、新たな島状部として囲み島状部１ｂに代えて定義され、番号と座標情報を付して「島情報」テーブル（図６）に記録される（＃７７）。図３０の（Ｄ）に示すように、囲み島状部１ｂが島状部１ｂＬ、１ｂＣ、１ｂＲに置き換えられた上で、リンク設定処理（＃１）以下の手順が行われる（図２８）。
【００６８】
すべての島状部１ａ、１ｂＬ、１ｂＣ、１ｂＲを１回ずつ結び、通過部３を２分する仕切り線が確定したことに応じて、通過部３が領域Ａ、Ｂに２分される。それぞれを分割マスクブロックとすることにより、領域Ａおよび領域Ｂを開口部とする分割マスクが形成される（図３１）。
【００６９】
第２実施形態の変形例を図３２にを示す。図２に示す第１実施形態におけるリンク設定処理（＃１）に代えて、リンク設定に際し必要に応じて島状部の分割も行う処理（＃８１）を有するブロック分割方法である。島状部の分割を含んだリンク設定の処理（＃８１）のうちリンク作業及び島状部の分割の手順を図３３に示す。また、図３３の手順に従い分割される囲み島状部１ｂの様子を図３４に示す。図３３の手順のうち、破線で囲まれた処理（＃８１ａ）が島状部の分割処理を行う部分である。破線部分の処理（＃８１ａ）以外は、図７に示すリンク作業の手順と同様である。尚、図３３には明示されていないが、リンク設定処理（＃８１）には、図３に示すように候補線分の発生（＃１１）、絞り込み（＃１２）の手順が必要なことは言うまでもない。
【００７０】
以下、図３３の手順を説明する。図３３中、＃２１乃至＃３０の処理は、図７に示すリンク作業の手順と同様である。図３３の手順では、着目している島状部から未接続の島状部への接続径路の有無の判断（＃２３）において径路なしと判断された場合に、島状部の分割処理（＃８１ａ）に移行して、近傍の島状部が既接続であるか否かの判断を行う（＃９１）。既接続であれば（＃９１：ＹＥＳ）この島状部は囲み島状部となる。接続径路が遮断されていることとなるので、次処理（＃９２）に移る。未接続の島状部があれば（＃９１：ＮＯ）他の接続径路が存在することとなるので、処理（＃２６）に移り第１実施形態において説明した処理に戻る。別の接続径路を検索する。
【００７１】
図３４の（Ａ）では、外周部から、島状部１ａＡを出発島として、島状部１ｂを介して島状部１ａＢに至る径路に仕切り線が設定された状態である。島状部１ａＢが着目の島状部である。島状部１ａＡ、１ｂが既接続の島状部である。この場合、着目の島状部１ａＢから未接続の島状部１ａＣまたは１ａＤへの接続径路は、近傍の島状部１ｂが既接続であることにより遮断されていることとなる。処理（＃９１）においてＹＥＳの判断が行われる。
【００７２】
処理（＃９２）では、接続径路を遮断する近傍の島状部（囲み島状部）に最初に接続される島状部（Ａ）に戻る。処理（＃９３）に進み、島状部（Ａ）から囲み島状部を介して接続されるべき島状部（Ｂ）を検出する。図３４の（Ａ）に示す、島状部１ａＡが処理（＃９２）により着目される島状部（Ａ）であり、島状部１ａＢが処理（＃９３）において検出される島状部（Ｂ）である。島状部１ｂが囲み島状部となる。次に、着目の島状部１ａＡから接続先の島状部１ａＢを望む領域を定義する。この領域は、島状部１ａＡおよび１ａＢの頂点間を結ぶ直線で挟まれた領域であって、両島状部１ａＡ、１ａＢを包含する領域である。図３４の（Ｂ）に示す領域Ｘがこの領域である。囲み島状部１ｂのうち領域Ｘとの交差部分を接続領域として定義する。これにより、処理（＃９４）における島状部（Ａ）と島状部（Ｂ）との接続領域が求められたこととなる。
【００７３】
そして接続領域の所定位置において囲み島状部を分割する（＃９５）。図３４の（Ｂ）では、囲み島状部１ｂは、接続領域Ｘの左端で切断される場合と、右端で切断される場合とが例示されている。囲み島状部１ｂは、前者の分割には島状部１ｂ１と１ｂ２とに分割され、後者の場合には島状部１ｂ３と１ｂ４とに分割される。尚、囲み島状部の切断箇所は、図３４の（Ｂ）の場合に限定されるものではなく、接続領域中であれば何れの箇所においても切断することは可能である。好ましい切断位置としては、例えば、候補線分の囲み島状部への接続点で切断することが考えられる。囲み島状部の切断により新たに生成される島状部の頂点からの候補線分は既設となり、候補線分の追加処理を不要とすることができるからである。
【００７４】
分割された島状部は、新たな島状部として分割前の囲み島状部に代えて定義され、番号と座標情報を付して「島情報」テーブル（図６）に記録される（＃９６）。更に、着目の島状部（Ａ）以降に接続されていた仕切り線の接続情報をクリアして（＃９７）、処理（＃２２）に戻り、着目の島状部（Ａ）から再度処理を実行する。この時、図６中の「線分情報」の「使用情報」における、使用済みである旨の記録も削除する。また、必要に応じて候補線分を追加し「線分情報」を更新する。ただし、処理（＃２７）の場合とは異なり使用履歴を残す必要はない。接続を遮断した囲み島状部は分割され、「島情報」テーブル（図６）が更新されており、新たな島状部の情報に従って再度、リンク作業を行えばよいからである。図３４の（Ａ）において、出発島１ａＡから、囲み島状部１ｂを介して島状部１ａＢまで設定されていた仕切り線がクリアされ、再度、島状部１ａＡを出発島としてリンク作業が開始される。
【００７５】
図３４の（Ｃ）に示すように、上記の手順を囲み島状部が解消するまで繰り返し行うことにより、リンク作業を行うことができる。囲み島状部１ｂは、島状部の分割処理（＃８１ａ）を２回通ることにより、３つの島状部１ｂ３、１ｂ５、１ｂ６に分割される。
【００７６】
以上詳細に説明したように第２実施形態では、接続径路を遮断する囲み島状部を２以上の新たな島状部に分割することにより接続径路を確立することができる。これにより、囲み島状部はなくなり各島状部を仕切り線で結ぶことが可能となり、通過部３を２つに分割することができる。
【００７７】
囲み島状部は、互いの接続径路が２箇所以上で遮断される島状部を、３つ以上包含する島状部を囲み島状部として検出できる。この場合、囲み島状部を、（包含される島状部の数−２）の凸多角形と残りの領域とに分割すれば、包含される島状部間については接続が可能となる。また、２本の仕切り線が既接続である島状部が接続経路を遮っている場合、その島状部は囲み島状部として検出される。この場合、接続対象である２つの島状部を互いに包含する領域内で、囲み島状部を分割することにより接続が可能となる。
【００７８】
次に、第３実施形態では、図３５に示す遮蔽パターン（３）を例にとり説明する。第１実施形態でのリンク設定の処理（＃１）の前段階として、リンク設定処理の対象領域を限定する処理を行う場合を示す。推奨条件(c)を確実に満たすために、仕切り線の出発点と到着点とを対向する外縁部に設定する実施形態である。
【００７９】
第３実施形態に係るブロック分割方法を行う手順を、概略、図３６に示す。すなわち、リンク設定の処理（＃１）に先立ち、リンク設定処理を行う対象領域の設定（＃１０１）を行う。対象領域の設定処理（＃１０１）については、その手順を図３７に示す。また、図３６の手順に従い遮蔽パターン（３）が分割される様子を図３８、３９に示す。
【００８０】
図３７では、仕切り線の出発点と到着点とを、上下に対向する外縁部に設定する場合を例示する。尚、図３８に示すように、対象領域の設定は、遮蔽パターン（３）のうち未処理部分の左下点Ｏ１を基準点として行われるものとする。以下の説明では、基準点Ｏ１から、一方の対向辺２Ａ１に沿った方向をＸ座標と、基準点Ｏ１から、他方の対向辺２Ａ２に向かう方向をＹ座標とする。図３７において、処理（＃１１１）で対象領域の設定を行う際の基準となる島状部として、基準点Ｏ１に最も近い左下の島状部が検出される。図３８の（Ａ）に示す島状部１Ａである。次にＹ座標方向に配置され処理対象となる島状部を検出する（＃１１２）。図３８の（Ａ）において示すように、島状部１Ｂ、１Ｃが検出される。島状部１Ｂ、１Ｃの検出は、島状部の配置領域を一方の対向辺２Ａ１上に射影して得られる領域、すなわちＸ座標の範囲が、基準となる島状部１ＡのＸ座標範囲と交差領域を持つことで検出される。従って、Ｘ座標範囲において交差領域を持たない島状部１Ｄ、１Ｅ（図３５）は対象とはされない。対象領域は、基準の島状部１Ａと、検出された全ての島状部１Ｂ、１Ｃとを含んで構成される。基準点Ｏ１から最遠点のＸ座標までの領域が対象領域として設定されることとなる。
【００８１】
処理（＃１１２）において設定された対象領域に対して、リンク設定処理（＃１）が行われる。処理手順は第１実施形態の場合（図３乃至図１４）と同様であるので、詳細な説明は省略する。ここでは、処理（＃１０１）で設定された対象領域に対してリンク設定の処理が行われる。更に、このときの出発島は島状部１Ａとなる。一方の対向辺２Ａ１近くに位置する島状部１Ａから、順次、島状部１Ｂ、１Ｃを経由することにより、他方の対向辺２Ａ２に至る仕切り線を設定することができる（図３８の（Ｂ）、参照）。図３８では、島状部１Ａ乃至１ＣがＹ座標方向に順番に配置されている場合について説明したが、Ｘ座標方向に複数の島状部が並んでいる領域を有する場合にも、各島状部を順次経由しながら、一方の対向辺２Ａ１から他方の対向辺２Ａ２に至る仕切り線を設定することは可能である。
【００８２】
仕切り線の設定により２分割された領域のうち、基準点Ｏ１を含む領域は、一方の対向辺２Ａ１から他方の対向辺２Ａ２に至る通過領域で構成される。この領域を領域１として分離して分割マスクブロックの一方のデータとする。
【００８３】
遮蔽パターン（３）から領域１を分離した残りの領域には、未だ島状部１Ｄ、１Ｅが含まれるので、この領域についても図３６に従いブロック分割の処理を行う。この様子を図３９に示す。図３８と同様に、処理（＃１０１）により基準となる島状部１Ｄが検出され、島状部１ＤのＸ座標範囲との交差領域を有する島状部１Ｅが検出される。対象領域は、処理（＃１１２）により基準点Ｏ２から島状部１Ｅが包含されるＸ座標位置までとなる。リンク設定処理（＃１）により、一方の対向辺２Ａ１から、島状部１Ｄ、１Ｅを順次経由して、他方の対向辺２Ａ２に至る仕切り線を設定することができる（図３９の（Ｂ）、参照）。
【００８４】
仕切り線の設定により２分割された領域のうち、基準点Ｏ２を含む領域については、一方の対向辺２Ａ１から他方の対向辺２Ａ２に至る通過領域で構成される。この領域を領域２として分離し、領域１が含まれる分割マスクブロックとは異なる分割マスクブロックのデータとする。
【００８５】
上記の処理は、残された未処理領域に島状部が含まれなくなるまで繰り返される。個々の処理により分離された基準点を含む通過領域のデータは、２つの分割マスクブロックの各々のデータとして交互に分配される。基準点を含む領域を分離した残りの領域が島状部を含まなければ、分離された領域とは異なる分割マスクブロックのデータとして分配する。図３８、図３９においては、領域１および領域３と、領域２とに分割されて各々の分割マスクブロックが構成される。
【００８６】
島状部１Ａ乃至１Ｅのうちから対象領域を順次設定して、対向辺２Ａ１、２Ａ２間でリンク設定をし、通過部３を通過領域１乃至３に３分する。個々の通過領域１乃至３を２つの分割マスクブロックに交互に分配して、領域１および３と領域２とを各々の開口部とする分割マスクが形成される（図４０）。
【００８７】
尚、上記の説明では、基準点に最も近い左下の島状部を基準となる島状部として検出する場合について説明した。対向する上下辺のうち下辺に近い島状部を基準の島状部とする設定である。左下に代えて右下の島状部を基準とすることもできる。更に、本発明はこれに限定されるものではなく、対向する上下辺のうち上辺に近い島状部を基準の島状部としてもよい。左上または右上の島状部を基準の島状部として検出する場合である。
【００８８】
更に、対向辺は、上下辺に限定されるものではなく、左右辺を対向辺としてＸ座標の方向に分割する構成とすることも可能である。
【００８９】
以上詳細に説明したように第３実施形態では、対向辺の外縁部の間に仕切り線を設定してリンクを設定する際、マスクブロック図形の対向辺に沿った所定領域ごとに仕切り線の設定処理を行う。島状部と仕切り線とにより構成される径路は、マスクブロック図形の対向辺を接続する径路となる。所定領域ごとに行われ順次分離される通過領域を、交互に分配して分割マスクブロックを作成する。分割マスクブロックにおける遮蔽部は対向する２辺で支持される形状となり、遮蔽部自身の重量を確実に支えることができ、耐久性に優れた分割マスクブロックを作成することができる。ここで、処理対象となる所定領域は、対向辺に向かう方向に、少なくとも１列の島状遮蔽部が並ぶ領域である。これらの島状遮蔽部に対して仕切り線を設定することにより対向辺を結ぶ径路を形成することができる。
【００９０】
分割マスクブロックにおいて、１辺の外縁部にのみ支持される、リーフ形状の遮蔽部が形成されることはなく、耐久性に優れた分割マスクブロックを作製することができる。
【００９１】
尚、面積均等化の処理については、特に言及していないが、第１実施形態の場合と同様に行うことが可能である。すなわち、対象領域ごとに行われるリンク設定（図３６の（＃１））ごとに面積均等化の処理を行うことができる。あるいは、総ての領域についてリンク設定を行った後に（図３６の処理（＃３）の後）、各対象領域において設定された仕切り線を、適宜に置き換え、移動させることにより行うこともできる。
【００９２】
更に、第４実施形態では、図４１に示す遮蔽パターン（４）を例として説明する。遮蔽パターン（４）中に含まれる同一または相似な図形については、リンク設定の処理を１回のみ行い、処理結果を再利用する場合を示す。
【００９３】
半導体集積回路の製造に用いられるマスクブロック図形である遮蔽パターン（４）には、メモリセルアレイのように同一形状の図形が繰り返し複数配置される場合がある。繰り返し図形部分については、同一の基本図形を基本セルとして設計しておき、回路構成に応じてアレイ状に配置することが一般的に行なわれる。また、単一の配置であっても、回路のセルライブラリとして予め登録されており半導体集積回路の回路構成に応じて再利用される場合もある。この場合、半導体集積回路の製造に使用されるプロセステクノロジーに応じて図形データを適宜に拡大、縮小して配置することも行われる。図４１では、セルＣ１が基本セルである。更に、セルとして登録されていない図形であっても、同一または相似な図形が複数配置されている場合、または、同一または相似な図形を再利用して使用することも考えられる。
【００９４】
遮蔽パターン（４）に配置されているセルＣ１の情報テーブルを図４２に示す。遮蔽パターン（４）には、基本セルとしてセルＣ１が２箇所に配置されており、各々のセルＣ１についての配置情報が、「セル配置情報」のテーブルに格納されている。「セル配置情報」には、セル識別番号、セル種別情報、そしてセル座標情報が含まれている。セル種別情報とは、配置されているセルの種類を識別するための情報である。後述の「セル情報」のテーブルに格納されているセル種別ごとの情報に対応付けられる。セル座標情報は、セルが配置されている座標である。セル種別情報に対応付けられる「セル情報」には、基本セルに対応する情報として、セル種別情報の他、セル範囲情報、図形座標情報が含まれる。セル範囲情報とは、セルと認識される領域を示す情報である。「セル配置情報」のセル座標情報を基準としてセル範囲情報により遮蔽パターン（４）上のセルの領域が確定される。図形座標情報とは、セル内の具体的な図形の座標情報である。
【００９５】
また、後述するセルの固有化により、基本セルの図形からの変更がなされたセルについては、「固有化セル情報」のテーブルに変更後の情報として、セル種別情報、セル範囲情報、そして図形座標情報が格納される。遮蔽パターン（４）内で、固有化されたセルのセル識別番号に応じて対応付けられる。
【００９６】
セルＣ１を有する遮蔽パターン（４）に対してブロック分割を行う手順を図４３に示す。また、図４３の手順中、セルの固有化と再分割の処理（＃１２３）については、図４４に手順を示す。更に、図４３、４４の手順に従いブロック分割される遮蔽パターン（４）の様子を図４５に示す。以下、図４３、４４の手順に従いブロック分割の手順を説明する。
【００９７】
図４３において、リンク設定（＃１２２）に先立ちセル領域が除外される。セル領域の除外とは、セルが配置されている領域を通過部として扱うことを意味する。セル領域が除外された残りの領域（以後、この領域をマザー領域と称する。）に対してリンク設定が行われる（＃１２２）。セル領域は、図４２における、「セル配置情報」のセル座標情報および「セル情報」のセル範囲情報に基づき確定される。図４５の（Ａ）に示すように、セルＣ１のセル領域が除外された後、（Ｂ）に示すように、マザー領域に対して仕切り線の設定が行われる。これによりマザー領域については島状部が解消され通過部が２分割される。
【００９８】
処理（＃１２３）では、セルの固有化と固有化されたセルについての再分割とが行われる。図４４において、除外されたセル領域の図形形状が、基本セルの図形形状と一致するか否かを判断する（＃１３１）。一致すれば（＃１３１：ＹＥＳ）、図形形状は基本セルの図形形状と同一または相似であるので、除外されたセル領域内の図形形状は、新たなセルとして固有化する必要はない。セルの固有化と再分割は行わず処理（＃１２３）を終了する。不一致の場合（＃１３１：ＮＯ）は、セル領域内に、基本セルの図形以外の図形が進入している場合である。除外されたセル領域内の図形形状を新たなセルとして固有化する必要があり処理（＃１３２）に進む。
【００９９】
処理（＃１３２）では、セル領域内の基本図形と基本セルに含まれない進入図形とのＡＮＤ演算を行う。演算結果が固有化されたセルの図形となる。演算結果は、「固有化セル情報」のテーブルに登録されると共に、「セル配置情報」のテーブルにおける該当のセル種別情報を更新する。固有化されたセルに対してはリンク設定の処理（＃１３３）が行われ仕切り線が再設定される。図４５の（Ｃ）に示すように、セルＣ１のセル領域内に通過部３の図形が進入している場合、セルＣ１内の基本図形と進入図形との加算処理をした図形をセルＣ１Ａとして固有化し、仕切り線の再設定を行う。尚、ここでは、基本セルであるセルＣ１については、予めリンク設定の処理が行われているものとする。従って、セルＣ１については、改めてリンク設定の処理を行うことなくリンク処理の結果を再利用することができる。
【０１００】
処理（＃１２３）により全てのセル領域に対してセル以外の図形の進入を判断して、セルの固有化と再分割を行った後、マザー領域とセルとを合成する（＃１２４）。マザー領域、および個々のセルについては既にリンク設定の処理が行われているので、合成した段階で図形全体に対するブロック分割の処理が完了する。図４５の（Ｄ）に示すように、遮蔽パターン（４）については、１つのセルＣ１、および１つの固有化されたセルＣ１Ａが合成されて分割処理が完了する。
【０１０１】
遮蔽パターン（４）は、マザー領域及びセル領域の各々について、通過部３を２分する仕切り線が確定したことに応じて通過部３が領域Ａ、Ｂに２分される。それぞれを分割マスクブロックとすることにより、領域Ａおよび領域Ｂを開口部とする分割マスクが形成される（図４６）。
【０１０２】
ここで、セルには、セルＣ１(図４５の（Ｃ）、参照)のように、島状部１を含むものがあることの他、図４７に示すセルＣ２のように島状部を含まないものもある。島状部を含まないセルＣ２に対しては、リンク設定の必要がないことは言うまでもない。但し、セルＣ２に図形が進入することにより島状部が形成される場合がある。この場合には、セルの固有化を行い再分割が行われる(図４４の＃１３２、＃１３３)。
【０１０３】
次に、処理（＃１２３）におけるセルの固有化に関する変形例として図４８の手順を示す。図４４の処理（＃１３１）に代えて、処理（＃１４１乃至＃１４３）を有する手順である。処理（＃１４１）では、セル領域に、本来配置されているセルに代えて遮蔽部で構成される仮セルを仮配置する。そして処理（＃１４２）において、図形中のセル領域を認識する。処理（＃１４３）では、認識された仮セルの領域内に通過部が進入しているか否かを判断する。仮セルは通過部を含まない遮蔽部のみで構成されているので、ここで判別される通過部は、セル以外の図形である。通過部の進入がなければ（＃１４３：ＹＥＳ）、セルを固有化する必要はなく処理を終了する。通過部の進入があれば（＃１４３：ＮＯ）、セル領域に本来配置されているセルの図形とセル領域に侵入している進入図形とを加算してセルを固有化し（＃１３２）、固有化されたセルに対してリンク設定を行い再分割する（＃１３３）。遮蔽パターン（４）に対して適用する場合の様子を図４９に示す。
【０１０４】
第４実施形態の変形例を図５０に示す。図４３に示す第４実施形態のブロック分割処理では、同一または相似な図形が基本セルとして予め登録されているとし、セルに対して仕切り線の設定処理を１回のみ行って得られた処理結果を再利用する場合を示した。これに対して、図５０の変形例では、同一または相似な図形を公知の手法により識別してセル化する。セル化以降の処理は図４３における処理と同等である。
【０１０５】
概略のフローを図５０に示す。図４３に示すブロック分割方法の手順（＃１２１乃至＃１２４）に先立ち、同一または相似な図形を識別してセル化する処理を有している（＃１５１）。
【０１０６】
処理（＃１５１）の処理は公知である。例えば、特開平５−１３３１３号公報に開示されている方法によれば、繰り返し使用されるパターンを抽出し、その中から基準パターンを選択して、基準パターンと同形状のパターンをマトリクス認識する処理が記載されている。また、特開平９−１２８４２１号公報にもセル認識を行う処理が記載されている。
【０１０７】
以上詳細に説明したように第４実施形態では、図形中にセル図形が配置されている場合には、セル図形に対して予め仕切り線の設定処理を行っておき、図形中に同一または相似の図形が複数含まれる場合には、これらを識別して仕切り線の設定処理を１回のみ行う。図形中に同一または相似な図形が配置される際にこれらの処理結果を再利用することができる。これにより、分割マスクブロックの作成時間を短縮することができると共に、分割形状を一定に維持することができる。
【０１０８】
以上のようにして、島状パターンを持つ遮蔽パターンを、微小図形や面積のアンバランス等を発生させることなく高々２つのマスクブロックに処理時間の効率よく分割して分割マスクブロックを作成する方法が実現される。
【０１０９】
なお、本実施の形態は単なる例示にすぎず、本発明を何ら限定するものではない。したがって本発明は当然に、その要旨を逸脱しない範囲内で種々の改良、変形が可能である。
【０１１０】
（付記１）  環状の外周部と、その中に外周部から分離して存在する島状部と、を有する図形の外周部に囲まれた部分から島状部を除いた下地部を２つに分割する図形分割方法において、
外周部または島状部と島状部とを接続する仕切り線を、
外周部と島状部とを接続するものが２本あり、２つの島状部を接続するものが島状部の個数−１本あること、
仕切り線同士が交差することがないこと、
仕切り線同士が端点を共有することがないこと、
すべての島状部に２本の仕切り線が接続されること、
すべての島状部およびすべての仕切り線が全体で１本の経路をなすこと、の各条件のすべてに適合するように設定し、
すべての島状部およびすべて仕切り線がなす経路により下地部を２つの領域に区画することを特徴とする図形分割方法。
（付記２）  付記１に記載する図形分割方法において、
外周部または島状部と島状部との間に配置され、前記外周部または前記島状部と前記島状部との接続径路を遮断する、囲み島状部が存在する場合、
前記囲み島状部を２以上の新たな島状部に分割し、前記新たな島状部を介して接続径路を確立することを特徴とする図形分割方法。
（付記３）  付記１または付記２に記載する図形分割方法において、
外周部のうち互いに対向する辺に沿って配置される外周部を、２本の仕切り線の各々が接続される選択外周部とし、
一方の選択外周部の基準点から対向辺の延設方向の所定位置までに存在する島状部、および選択外周部の間を、仕切り線の設定により接続して得られる経路により、前記基準点を含む下地領域を分離すると共に、
前記一方の選択外周部への仕切り線の接続点を新たな基準点として、下地領域の分離を繰り返し、
順次分離される下地領域を交互に分配して、下地部を２つの領域に区画することを特徴とする図形分割方法。
（付記４）  付記１から付記３までのいずれか１つに記載する図形分割方法において、
同一または相似な図形については、仕切り線の設定処理は１回のみ行い、処理結果を再利用することを特徴とする図形分割方法。
（付記５）  付記１に記載する図形分割方法において、
仕切り線の設定の際、さらに、
仕切り線同士の間に所定値以上の間隔を確保すること、
仕切り線と島状部の辺との間に所定値以上の間隔を確保すること、
仕切り線と島状部の辺とがなす経路中の屈折点同士の間に所定値以上の間隔を確保すること、
の各条件をも満たすことを特徴とする図形分割方法。
（付記６）  付記１から付記５までのいずれか１つに記載する図形分割方法において、
仕切り線の設定の際に、外周部に直接に接続される島状部の少なくとも一方として、外周部の隅からの距離が最も小さいものを選択することを特徴とする図形分割方法。
（付記７）  付記１から付記６までのいずれか１つに記載する図形分割方法において、
仕切り線の設定の後に、すべての島状部およびすべて仕切り線がなす経路により区画される両領域の面積の差を縮小する面積均等化処理を行うことを特徴とする図形分割方法。
（付記８）  付記１から付記７までのいずれか１つに記載する図形分割方法において、
島状部の辺上の点から発生し他の島状部の辺または外周部に至る候補線分を設定し、
仕切り線の設定を、候補線分の中から仕切り線の条件に適合するものを選択することにより行うことを特徴とする図形分割方法。
（付記９）  付記２に記載する図形分割方法において、
囲み島状部は、
検出対象の島状部に外接する方形領域内に３つ以上の島状部が包含され、包含される島状部のうち少なくとも３つの島状部については、前記方形領域内において前記検出対象の島状部を介してのみ島状部間が接続されることにより、検出されることを特徴とする図形分割方法。
（付記１０）  付記９に記載する図形分割方法において、
囲み島状部は、（前記囲み島状部を介してのみ接続される島状部の数−２）の凸多角形領域とそれ以外の領域とに分割されることを特徴とする図形分割方法。
（付記１１）  付記２に記載する図形分割方法において、
仕切り線の設定の際、
接続対象の外周部または島状部への接続径路中に配置され、２本の仕切り線が既接続である島状部を、囲み島状部として認識することを特徴とする図形分割方法。
（付記１２）  付記１０または付記１１に記載する図形分割方法において、
前記囲み島状部の分割は、前記囲み島状部を介して接続される２つの島状部を互いに包含する領域内で行われることを特徴とする図形分割方法。
（付記１３）  付記１０または付記１１に記載する図形分割方法において、
前記囲み島状部の分割は、
仕切り線の候補として設定される、島状部の辺上の点から発生し他の島状部の辺または外周部に至る候補線分の接続点において行われることを特徴とする図形分割方法。
（付記１４）  付記３に記載する図形分割方法において、
所定位置とは、対向辺に射影される島状部の座標領域に関して、基準点に最近接の島状部との交差領域を有する島状部のうち、基準点から最遠点の座標位置であることを特徴とする図形分割方法。
（付記１５）  付記４に記載する図形分割方法において、
既に仕切り線の設定が既処理である図形と同一または相似な図形が含まれる場合には、
同一または相似な図形を除外した図形について、仕切り線の設定を行った後、
同一または相似な図形を合成して、下地部を２つの領域に区画することを特徴とする図形分割方法。
（付記１６）  付記１５に記載する図形分割方法において、
同一または相似な図形とは、予め仕切り線の設定処理が行われ、登録されたセルの図形であり、
同一または相似な図形の除外とは、配置されているセルの除外であることを特徴とする図形分割方法。
（付記１７）  付記１６に記載する図形分割方法において、
配置されているセルの配置領域内に、セルの図形とは異なる個別図形が存在する場合、
除外されたセルの図形と個別図形との合成図形に対して仕切り線の設定処理が行われることを特徴とする図形分割方法。
（付記１８）  付記４に記載する図形分割方法において、
同一または相似の図形が複数含まれる場合には、
同一または相似の図形を識別して仕切り線の設定を行うと共に、
全ての同一または相似の図形を除外した図形について、仕切り線の設定を行った後、
同一または相似の図形を合成して、下地部を２つの領域に区画することを特徴とする図形分割方法。
（付記１９）  付記７に記載する図形分割方法において、
島状部の辺上の点から発生し他の島状部の辺または外周部に至る候補線分を設定し、
仕切り線の設定を、候補線分の中から仕切り線の条件に適合するものを選択することにより行い、
面積均等化処理を、ある仕切り線と両端の接続先が同じである候補線分であって両領域の面積の差を縮小できるものが存在する場合に、その仕切り線をその候補線分で置き換えることにより行うことを特徴とする図形分割方法。
（付記２０）  付記７に記載する図形分割方法において、
面積均等化処理を、仕切り線を平行移動させることにより行うことを特徴とする図形分割方法。
（付記２１）  付記１９に記載する図形分割方法において、
面積均等化処理にて、仕切り線の置き換えを行った後に、仕切り線を平行移動させることによりさらに両領域の面積の差を縮小することを特徴とする図形分割方法。
（付記２２）  付記８に記載する図形分割方法において、
候補線分を、島状部の頂点から、外周部の辺に平行な方向に発生させることを特徴とする図形分割方法。
（付記２３）  付記８に記載する図形分割方法において、
候補線分を、島状部の辺の中点から、外周部の辺に平行な方向に発生させることを特徴とする図形分割方法。
（付記２４）  付記２２または付記２３に記載する図形分割方法において、
発生させた候補線分のうち、島状部の辺または外周部の辺との間隔が所定値以下のものを削除することを特徴とする図形分割方法。
（付記２５）  付記２２または付記２３に記載する図形分割方法において、
発生させた候補線分のうち、互いに平行で間隔が所定値以下のものがある場合にその一方を削除することを特徴とする図形分割方法。
（付記２６）  付記１から付記２５までのいずれか１つに記載する図形分割方法において、
対象とする図形が、外周部および島状部が遮蔽部であり下地部が通過部であるマスクブロック図形であることを特徴とするマスクブロック図形分割方法。
（付記２７）  環状の外周遮蔽部と、その中に外周遮蔽部から分離して存在する島状遮蔽部とを有し、外周遮蔽部に囲まれた部分から島状遮蔽部を除いた部分が通過部であるマスクブロック図形の通過部を２つに分割して分割マスクブロックを作成する方法において、
外周遮蔽部または島状遮蔽部と島状遮蔽部とを接続する仕切り線を、
外周遮蔽部と島状遮蔽部とを接続するものが２本あり、２つの島状遮蔽部を接続するものが島状遮蔽部の個数−１本あること、
仕切り線同士が交差することがないこと、
仕切り線同士が端点を共有することがないこと、
すべての島状遮蔽部に２本の仕切り線が接続されること、
すべての島状遮蔽部およびすべての仕切り線が全体で１本の経路をなすこと、
の各条件のすべてに適合するように設定し、
すべての島状遮蔽部およびすべての仕切り線がなす経路により通過部を２つの領域に区画し、
区画された２つの領域を２つの分割マスクブロックのそれぞれの開口部とすることを特徴とする分割マスクブロックの作成方法。
（付記２８）  付記２７に記載する分割マスクブロックの作成方法において、
外周遮蔽部または島状遮蔽部と島状遮蔽部との間に配置され、前記外周遮蔽部または前記島状遮蔽部と前記島状遮蔽部との接続径路を遮断する、囲み島状遮蔽部が存在する場合、
前記囲み島状遮蔽部を２以上の新たな島状遮蔽部に分割し、前記新たな島状遮蔽部を介して接続径路を確立することを特徴とする分割マスクブロックの作成方法。
（付記２９）  付記２７または付記２８に記載する分割マスクブロックの作成方法において、
外周遮蔽部のうち互いに対向する辺に沿って配置される外周遮蔽部を、２本の仕切り線の各々が接続される選択外周遮蔽部とし、
一方の選択外周遮蔽部の基準点から対向辺の延設方向の所定位置までに存在する島状遮蔽部、および選択外周遮蔽部の間を、仕切り線の設定により接続して得られる経路により、前記基準点を含む通過領域を分離すると共に、
前記一方の選択外周遮蔽部への仕切り線の接続点を新たな基準点として、通過領域の分離を繰り返し、
順次分離される通過領域を交互に分配して、通過部を２つの領域に区画することを特徴とする分割マスクブロックの作成方法。
（付記３０）  付記２７から付記２９までのいずれか１つに記載する分割マスクブロックの作成方法において、
同一または相似な図形については、仕切り線の設定処理は１回のみ行い、処理結果を再利用することを特徴とする分割マスクブロックの作成方法。
（付記３１）  付記２７から付記３０までのいずれか１つに記載する分割マスクブロックの作成方法において、
仕切り線の設定の後に、すべての島状遮蔽部およびすべての仕切り線がなす経路により区画される両領域の面積の差を縮小する面積均等化処理を行うことを特徴とする分割マスクブロックの作成方法。
（付記３２）  環状の外周遮蔽部と、その中に外周遮蔽部から分離して存在する島状遮蔽部とを有し、外周遮蔽部に囲まれた部分から島状遮蔽部を除いた部分が通過部であるマスクブロック図形から、その通過部を２つに分割した分割マスクブロックデータを作成する方法において、
外周遮蔽部または島状遮蔽部と島状遮蔽部とを接続する仕切り線のデータを、
外周遮蔽部と島状遮蔽部とを接続する仕切り線が２本あり、２つの島状遮蔽部を接続する仕切り線が島状遮蔽部の個数−１本あること、
仕切り線同士が交差することがないこと、
仕切り線同士が端点を共有することがないこと、
すべての島状遮蔽部に２本の仕切り線が接続されること、
すべての島状遮蔽部およびすべての仕切り線が全体で１本の経路をなすこと、
の各条件のすべてに適合するように作成し、
通過部のデータを、すべての島状遮蔽部およびすべて仕切り線がなす経路により２つに区分してそれぞれを開口部データとすることを特徴とする分割マスクブロックデータの作成方法。
（付記３３）  付記３２に記載する分割マスクブロックデータの作成方法において、
島状遮蔽部の辺上の点から発生し他の島状遮蔽部の辺または外周部に至る候補線分を設定し、
仕切り線のデータの作成を、
ある島状遮蔽部に着目し、
その島状遮蔽部と未接続の島状遮蔽部とを接続する候補線分による経路であって、仕切り線の条件に適合し、未だ仕切り線に設定されていないものを抽出し、
抽出された経路の１つを選択し、
着目対象を接続先の島状遮蔽部に移すことを、未接続の島状遮蔽部がなくなるまで反復し、
両端の島状遮蔽部と外周部とを接続する候補線分による経路を１つずつ選択することにより行うことを特徴とする分割マスクブロックデータの作成方法。
（付記３４）  付記３３に記載する分割マスクブロックデータの作成方法において、
仕切り線のデータの作成後、すべての島状遮蔽部およびすべて仕切り線がなす経路により通過部を２つに区分したそれぞれの領域の面積差を縮小する処理を、
ある仕切り線に着目し、
その仕切り線と両端の接続先が同じである候補線分であって両領域の面積の差を縮小できるものが存在する場合に、その仕切り線をその候補線分で置き換えることにより行うことを特徴とする分割マスクブロックデータの作成方法。
（付記３５）  付記３３に記載する分割マスクブロックデータの作成方法において、
仕切り線のデータの作成後、すべての島状遮蔽部およびすべて仕切り線がなす経路により通過部を２つに区分したそれぞれの領域の面積差を縮小する処理を、
ある仕切り線に着目し、その仕切り線を広い面積の領域側へ平行移動させることにより行うことを特徴とする分割マスクブロックデータの作成方法。
（付記３６）  環状の外周遮蔽部と、その中に外周遮蔽部から分離して存在する島状遮蔽部とを有し、外周遮蔽部に囲まれた部分から島状遮蔽部を除いた部分が通過部であるマスクブロック図形から、その通過部を２つに分割した分割マスクブロックデータを作成する方法をコンピュータにより実施するプログラムにおいて、コンピュータに、
外周遮蔽部または島状遮蔽部と島状遮蔽部とを接続する仕切り線のデータを、
外周遮蔽部と島状遮蔽部とを接続する仕切り線が２本あり、２つの島状遮蔽部を接続する仕切り線が島状遮蔽部の個数−１本あること、
仕切り線同士が交差することがないこと、
仕切り線同士が端点を共有することがないこと、
すべての島状遮蔽部に２本の仕切り線が接続されること、
すべての島状遮蔽部およびすべての仕切り線が全体で１本の経路をなすこと、
の各条件のすべてに適合するように作成するリンク手順と、
通過部のデータを、すべての島状遮蔽部およびすべて仕切り線がなす経路により２つに区分してそれぞれを開口部データとする区分手順とを実行させ、
前記リンク手順では、コンピュータに、
島状遮蔽部の辺上の点から発生し他の島状遮蔽部の辺または外周部に至る候補線分を設定させ、
ある島状遮蔽部に着目し、その島状遮蔽部と未接続の島状遮蔽部とを接続する候補線分による経路であって、仕切り線の条件に適合するとともに、未だ仕切り線に設定されていないものを抽出し、抽出された経路の１つを選択し、着目対象を接続先の島状遮蔽部に移す島間リンク手順を、未接続の島状遮蔽部がなくなるまで反復させ、
両端の島状遮蔽部と外周部とを接続する候補線分による経路を１つずつ選択する両端リンク手順を実行させることを特徴とする分割マスクブロックデータの作成プログラム。
（付記３７）  付記３６に記載する分割マスクブロックデータの作成プログラムにおいて、コンピュータに、前記リンク手順の後に、
すべての島状遮蔽部およびすべて仕切り線がなす経路により通過部を２つに区分したそれぞれの領域の面積差を縮小する均等化手順を実行させ、
前記均等化手順では、コンピュータに、
ある仕切り線に着目し、その仕切り線と両端の接続先が同じである候補線分であって両領域の面積の差を縮小できるものが存在するか否かを確認する確認手順と、
存在する場合にその仕切り線をその候補線分で置き換える置き換え手順とを実行させることを特徴とする分割マスクブロックデータの作成プログラム。
（付記３８）  付記３６に記載する分割マスクブロックデータの作成プログラムにおいて、コンピュータに、前記リンク手順の後に、
すべての島状遮蔽部およびすべて仕切り線がなす経路により通過部を２つに区分したそれぞれの領域の面積差を縮小する均等化手順を実行させ、
前記均等化手順では、コンピュータに、
ある仕切り線に着目し、その仕切り線を広い面積の領域側へ平行移動させることを行わせることを特徴とする分割マスクブロックデータの作成プログラム。
（付記３９）  環状の外周遮蔽部と、その中に外周遮蔽部から分離して存在する島状遮蔽部とを有し、外周遮蔽部に囲まれた部分から島状遮蔽部を除いた部分が通過部であるマスクブロック図形の通過部を２つの分割通過部に分割してそれぞれ割り付けた分割マスクブロックにおいて、前記２つの分割通過部は、
外周遮蔽部または島状遮蔽部と島状遮蔽部とを接続する仕切り線を、
外周遮蔽部と島状遮蔽部とを接続するものが２本あり、２つの島状遮蔽部を接続するものが島状遮蔽部の個数−１本あること、
仕切り線同士が交差することがないこと、
仕切り線同士が端点を共有することがないこと、
すべての島状遮蔽部に２本の仕切り線が接続されること、
すべての島状遮蔽部およびすべての仕切り線が全体で１本の経路をなすこと、
の各条件のすべてに適合するように設定し、
すべての島状遮蔽部およびすべて仕切り線がなす経路により通過部を２つの領域に区画したものであることを特徴とする分割マスクブロック。
（付記４０）  付記３９に記載する分割マスクブロックにおいて、
仕切り線の設定後、すべての島状遮蔽部およびすべて仕切り線がなす経路により通過部を２つに区分したそれぞれの領域の面積差を縮小する処理を行ったものであることを特徴とする分割マスクブロック。
【０１１１】
本発明の図形分割方法によれば、外周部と、島状部とを有する図形の下地部を２つに分割する方法であって、島状部を接続して下地部を仕切る仕切り線を、所定の条件のすべてに適合するように設定し、すべての島状部およびすべての仕切り線がなす経路により下地部を２つの領域に区画する方法である。特には、外周部および島状部が遮蔽部であり下地部が通過部であるマスクブロック図形を対象とする。
【０１１２】
すなわち、仕切り線同士で交差したり、端点を共有したりしてはならない。また、島状部と仕切り線との全体で１本の経路をなす必要がある。むろんその経路には、分岐が存在したり独立したループが存在したりしてはならない。このように仕切り線を設定することにより、下地部を、内部に島状部を含まないように２つの領域に分割できるのである。そして、分割された２つの領域をそれぞれ、分割マスクブロックのそれぞれの開口部とすればよいのである。
【０１１３】
さらに、仕切り線同士の間隔や、仕切り線と島状部の辺との間隔、経路中の屈折点同士の間隔を所定値以上確保するべきである。分割後の各領域に微小部分が存在しないようにするためである。また、外周部に直接に接続される島状部の少なくとも一方として、外周部の隅からの距離が最も小さいものを選択することが望ましい。その方が、経路の全長を短くできるからである。
【０１１４】
仕切り線の設定は、まず候補線分を設定し、その中から条件に適合するものを選択することにより行うことが望ましい。こうすれば、仕切り線同士の間隔等の条件は、候補線分の設定の段階でおおむねクリアできるからである。候補線分は、島状部の辺上の点から発生し他の島状部の辺または外周部に至るように設定すればよい。こうすれば、個々の候補線分はみな、島状部同士、もしくは、島状部と外周部とを接続するものとなる。よって、候補線分を適宜選択して島状部を繋いでいくことにより、仕切り線を設定できるのである。
【０１１５】
候補線分は具体的には、島状部の頂点から、外周部の辺に平行な方向に発生させることが好ましい。こうすると、微小辺が比較的発生しにくい。また、結果的に縦線と横線とで候補線分が構成されるので、実際の分割マスクを製造しやすい。また、候補線分は島状部の辺の中点から発生させてもよいし、頂点と中点との双方から発生させてもよい。
【０１１６】
また、候補線分の選択を行う前に、上記のようにして発生させた候補線分をある程度絞り込んでもよい。島状部の辺または外周部の辺とあまりに近いものはどのみち選択されないからである。平行な候補線分があまりに近くに存在している場合も同様である。
【０１１７】
また、仕切り線の設定の後に、経路により区画される両領域の面積の差を縮小する面積均等化処理を行うことが望ましい。両ブロックの露光量の均一化を図るためである。面積均等化処理は具体的には、ある仕切り線と両端の接続先が同じである候補線分であって両領域の面積の差を縮小できるものが存在する場合に、その仕切り線をその候補線分で置き換えることにより行うことができる。また、仕切り線を平行移動させることによっても可能である。
【０１１８】
付記に記載の発明は、上記の方法をデータ上で行う分割マスクブロックデータの作成方法や、それをコンピュータに実行させるプログラム、さらには、上記の方法により分割した領域を採用した分割マスクブロックにも及ぶ。
【０１１９】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように本発明によれば、島状パターンを持つ遮蔽パターンを、微小図形や面積のアンバランス等を発生させることなく高々２つのマスクブロックに処理時間の効率よく分割して分割マスクブロックを作成する方法が提供されている。
【図面の簡単な説明】
【図１】  分割の対象となる遮蔽パターン（１）を示す図である。
【図２】  第１実施形態に係るブロック分割方法の全体の概略手順を示すフローチャートである。
【図３】  図２中のリンク設定の手順を示すフローチャートである。
【図４】  島状部の頂点から候補線分を発生させた状態を示す図である。
【図５】  候補線分の絞り込みを説明する図である。
【図６】  仕切り線情報のデータ構造を示す図である。
【図７】  リンク作業の手順を示すフローチャートである。
【図８】  出発島の選定をした状態を示す図である。
【図９】  次の島状部への接続経路となりうる候補線分を示す図である。
【図１０】  次の島状部へのリンク線分を設定し、着目対象を次の島状部へ移した状態を示す図である。
【図１１】  未接続の島状部へのリンク線分を設定できない状態を示す図である。
【図１２】  リンク線分の設定をやり直している状況を示す図である。
【図１３】  すべての島をリンクした状態を示す図である。
【図１４】  両端の島から外周へのリンクを設定した状態を示す図である。
【図１５】  面積均等化処理の手順を示すフローチャートである。
【図１６】  最初のリンク線分に着目した状態を示す図である。
【図１７】  最初のリンク線分を変更した状態を示す図である。
【図１８】  リンク線分の変更ができない場合を示す図である。
【図１９】  リンク線分を変更した状態を示す図である。
【図２０】  リンク線分の調整を示す図である。
【図２１】  分割マスクブロックパターンの作成例（１）を示す図である。
【図２２】  分割マスクブロックパターンの作成例を示す図である。
【図２３】  島状部の辺の中点から候補線分を発生させた状態を示す図である。
【図２４】  島状部の頂点および辺の中点から候補線分を発生させた状態を示す図である。
【図２５】  リンク線分の途中に屈折点を含む例を示す図である。
【図２６】  リンク線分の途中に屈折点を含む例を示す図である。
【図２７】  分割の対象となる遮蔽パターン（２）を示す図である。
【図２８】  第２実施形態に係るブロック分割方法の全体の概略手順を示すフローチャートである。
【図２９】  図２８中の島状部分割の手順を示すフローチャートである。
【図３０】  図２９のフローチャートにより島状部を分割する手順を示す図である。
【図３１】  分割マスクブロックパターンの作成例（２）を示す図である。
【図３２】  第２実施形態の変形例に係るブロック分割方法の全体の概略手順を示すフローチャートである。
【図３３】  図３２中の処理（＃８１）のうちリンク作業および島状部分割の手順を示すフローチャートである。
【図３４】  分割の対象となる遮蔽パターン（３）を示す図である。
【図３５】  分割マスクブロックパターンの作成例（３）を示す図である。
【図３６】  第３実施形態に係るブロック分割方法の全体の概略手順を示すフローチャートである。
【図３７】  図３６中の対象領域設定の手順を示すフローチャートである。
【図３８】  図３６のフローチャートにより第１の対象領域においてリンク設定を行う手順を示す図である。
【図３９】  図３６のフローチャートにより第２の対象領域においてリンク設定を行う手順を示す図である。
【図４０】  分割マスクブロックパターンの作成例（３）を示す図である。
【図４１】  分割の対象となる遮蔽パターン（４）を示す図である。
【図４２】  セルに関する情報のデータ構造を示す図である。
【図４３】  第４実施形態に係るブロック分割方法の全体の概略手順を示すフローチャートである。
【図４４】  図４３中のセルの固有化および再分割の手順を示すフローチャートである。
【図４５】  図４３、４４のフローチャートにより島状部を分割する手順を示す図である。
【図４６】  分割マスクブロックパターンの作成例（４）を示す図である。
【図４７】  図４４のフローチャートによりセルの固有化および再分割を行う他の具体例を示す図である。
【図４８】  図４３中のセルの固有化および再分割の手順に関する変形例を示すフローチャートである。
【図４９】  図４８のフローチャートによりセルの固有化および再分割を行う手順を示す図である。
【図５０】  第４実施形態の変形例に係るブロック分割方法の全体の概略手順を示すフローチャートである。
【図５１】  分割の対象となる遮蔽パターンの例を示す図である。
【図５２】  図５１の遮蔽パターン中の通過部を示す図である。
【図５３】  図５２のパターンを横方向の線分で区画した状態を示す図である。
【図５４】  区画されたパターンを２種類の領域に分類した状態を示す図である。
【図５５】  分割されたマスクブロックを示す図である。
【符号の説明】
１、１ａ、１ｂ、１Ａ、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ、１Ｅ
島状部
２  外周部
３  通過部
４  候補線分
【図１】
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【図２】
0004201612.tif 000003
【図３】
0004201612.tif 000004
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【図４３】
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【図４４】
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【図４５】
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【図４６】
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【図４７】
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【図４８】
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【図４９】
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【図５０】
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【図５１】
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【図５２】
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【図５３】
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【図５４】
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【図５５】
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