(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に膜を形成する工程と、
前記膜の上にレジストを塗布する工程と、
前記レジストを露光する工程と、
前記レジストを現像液により現像する工程と、
前記現像液を前記膜上から除去する工程と、
現像によって前記膜上に残った前記レジストに酸素含有雰囲気中で紫外線を照射し、前記膜上に残った前記レジストを不完全に酸化し、低分子化する工程と、
前記膜上に残った前記レジストにアルカリ水溶液を供給して前記レジストのうち現像残渣を除去する工程と、
前記レジストから露出した膜をエッチングすることによって前記膜にパターンを形成する工程と
を有することを特徴とする膜のパターニング方法。
【請求項２】
前記基板は石英ガラスからなり、前記膜はクロム又は酸化クロムからなることを特徴とする請求項１記載の膜のパターニング方法。
【請求項３】
前記酸素含有雰囲気は、大気であることを特徴とする請求項１記載の膜のパターニング方法。
【請求項４】
前記レジストはラジカルトラップ剤を含むことを特徴とする請求項１記載の膜のパターニング方法。
【請求項５】
前記レジストはクロロメチル化スチレンとクロロスチレンの共重合体であることを特徴とする請求項１記載の膜のパターニング方法。
【請求項６】
前記レジストは電子ビームレジストであり、前記露光は前記レジストに電子ビーム照射することであることを特徴とする請求項１記載の膜のパターニング方法。
【請求項７】
前記アルカリ水溶液は、テトラメチルアンモニウムハイドライムを含む液、又は水酸化カリウムを含む液、又は水酸化ナトリウムを含む液であることを特徴とする請求項１記載の膜のパターニング方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、膜のパターニング方法に関し、より詳しくは、膜の上にレジストを塗布した後に、露光及び現像を経て形成されたレジストのパターンをマスクに使用して膜をパターニングする方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体装置の製造ではフォトリソグラフィー技術によって膜をパターニグする工程が含まれ、フォトリソグラフィー技術では膜の上に塗布したレジストを露光し、現像して得られたレジストのパターンをマスクとして使用している。レジストの露光は、レチクルに形成された遮光パターンをレジストに転写して潜像を形成するものである。
【０００３】
そのレチクルの遮光パターンは、一般に、クロム、酸化クロムからなり、フォトリソグラフィー技術を用いて以下のような工程で形成される。
まず、図１４(a) に示すように、クロム又は酸化クロムからなる遮光膜102 を石英基板101 上に形成した後に、遮光膜102 上に感光性材料として放射線重合型のレジスト103 を塗布し、これをプレベークする。
【０００４】
この後に、図１４(b) に示すように、例えば電子線により潜像をレジスト103 に描画する。さらに、図１４(c) に示すように、現像処理によりレジスト103 の潜像を顕像化してパターンを形成する。
次に、図１４(d) に示すように、遮光膜102 のうちレジスト103 のパターンから露出している部分をエッチングすることにより、レジスト103 のパターンを遮光膜102 に転写する。
【０００５】
そして最後に、レジスト103 を酸素プラズマに曝したり、或いは硫酸と過酸化水素水の混合液にレジスト103 を浸漬することにより、図１４(e) に示すように、レジスト103 を石英基板101 上から除去する。
これによりレチクルの形成が終了するが、レジスト103 として例えばポリスチレンのようにゲル化作用のある材料を用いると現像残りが生じ易くなる。現像残りは、レジストの現像が不完全となって必要のない箇所にレジストが残る現象である。
【０００６】
そのような現像残りが生じると、第１に、遮光膜102 のパターンのエッジの直線性が悪くなり、第２に、遮光膜102 のパターンの側部がテーパ状になってパターン精度を低下させ、第３に、本来除去されるべき領域にレジスト103 が島状に薄く残ってしまいその下の膜のエッチングが不完全になるといった問題がある。そのような不必要な島状のレジストを、以下にレジスト現像残渣という。
【０００７】
それらの問題は、ディスカム（descum）工程と呼ばれる処理によって解決されようとしている。
ディスカム工程は、レジストの露光、現像を終えた後に酸素プラズマによってレジストを僅かにエッチングすることによってレジスト現像残渣を除去する工程や、或いは、レジストの露光、現像を終えた後に、酸素含有雰囲気中でレジストに紫外線（ＵＶ）を照射してレジスト現像残渣を除去する工程である。
【０００８】
そのような酸素雰囲気中でレジストの現像残りに紫外線を照射することは、特開昭５８−２１８１２６号公報に記載されており、その紫外線照射は真空蒸着装置内で行われている。
また、紫外線の代わりに遠紫外線を用いることが、特開昭６１−７７８５２号公報、特開平４−３０２４２７号公報、特開平３−１５４３３０号公報、特開昭６１−１０８１３５号公報、特開昭５７−６６６３３号公報に記載されている。
【０００９】
酸素含有ガスとしては、特開昭６１−７７８５２号公報では空気を使用し、特開平４−３０２４２７号公報ではオゾンを使用し、特開昭５７−６６６３３号公報、特開昭６１−１０８１３５号公報及び特開平３−１５４３３０号公報では酸素を使用している。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、ディスカム工程として酸素プラズマを用いることは、プラズマ発生のために、大がかりで高価な設備が必要となる。
また、ディスカム工程として、紫外線照射と酸素雰囲気を用いることは、特に大がかりな設備は必要としないが、不要なレジストを短時間で除去することはできず、スループットの向上が図れない。
【００１１】
さらに、不要なレジストが完全に除去されるまでディスカム処理を行うと、マスクとなるレジストパターンの形状を損なってしまう。
本発明の目的は、レジストパターンの形状を損なうことなく、不必要なレジストの残渣を基板上から短時間で除去することが図れる工程を含む膜のパターニング方法を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
（手段）
上記した課題は、図１、図２に例示するように、基板１上に膜２を形成する工程と、前記膜２の上にレジスト３を塗布する工程と、前記レジスト３を露光する工程と、前記レジスト３を現像液４により現像する工程と、前記現像液４を前記膜２上から除去する工程と、現像によって前記膜２上に残った前記レジスト３に酸素含有雰囲気中で紫外線を照射し、前記膜２上に残った前記レジスト３を不完全に酸化し、低分子化する工程と、前記膜２上に残った前記レジスト３にアルカリ水溶液５を供給して前記レジスト３のうち現像残渣を除去する工程と、前記レジスト３から露出した膜２をエッチングすることによって前記膜２にパターンを形成する工程とを有することを特徴とする膜のパターニング方法によって解決する。
【００１３】
上記した膜のパターニング方法において、前記基板１は石英ガラスからなり、前記膜２はクロム又は酸化クロムからなることを特徴とする。
また、上記した膜のパターニング方法において、前記酸素含有雰囲気は大気であることを特徴とする。
また、上記した膜のパターニング方法において、前記レジスト３はラジカルトラップ剤を含むことを特徴とする。
【００１４】
また、上記した膜のパターニング方法において、前記レジスト３はクロロメチル化スチレンとクロロスチレンの共重合体であることを特徴とする。
また、上記した膜のパターニング方法において、前記レジスト３は電子ビームレジストであり、前記露光は、前記レジストに電子ビーム照射することであることを特徴とする。
【００１５】
また、上記した膜のパターニング方法において、前記アルカリ水溶液５は、テトラメチルアンモニウムハイドライムを含む液、又は水酸化カリウムを含む液、又は水酸化ナトリウムを含む液であることを特徴とする。
また、上記した膜のパターニング方法において、前記アルカリ水溶液のｐＨは１０以上であることを特徴とする。
【００１６】
また、上記した膜のパターニング方法において、前記レジスト３への前記紫外線照射量は、１．０〜１９μＣ／cm2 の範囲内であることを特徴とする。
また、上記した膜のパターニング方法において、前記レジスト３への前記紫外線照射量は、レジスト現像残渣が完全に除去されない程度の量であることを特徴とする。
【００１７】
次に、本発明の作用について説明する。
本発明によれば、膜上に塗布されたレジストを露光、現像した後に、レジスト現像残渣に紫外線を照射し、ついで、レジスト現像残渣をアルカリ水溶液によって除去するようにしている。
微少量のレジスト現像残渣は、紫外線照射によってゲル化しているにもかかわらず、紫外線照射によってレジストの官能基が破壊されてレジスト現像残渣とその下の膜との密着性が大幅に低減する。しかも、大気などの酸素含有雰囲気中の酸素が紫外線照射によってオゾンとなってレジスト現像残渣を酸化する。この紫外線照射は、レジスト現像残渣を完全に除去する条件に設定せずに、低分子化する程度とする。これにより、本来必要なレジストパターンへの紫外線照射による損傷は実質的に生じない。
【００１８】
低分子化されたレジスト現像残渣は、アルカリ水溶液の構成分子と結合し、膜上から除去されて洗い流されることになる。
レジスト現像残渣の除去とともに、レジストパターンの側部に存在するテーパ状のレジストも酸化され、アルカリ水溶液によって縮小化されることになる。
そのようなレジスト現像残渣の除去処理は、特に大がかりな装置を必要とせず、膜の上の不必要な微量のレジストを選択的に除去でき、しかも、レジストパターンのパターン精度を劣化させることはない。
【００１９】
【発明の実施の形態】
そこで、以下に本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図１、図２は、本発明の実施の形態に係る膜のパターニング工程を示す断面図である。
まず、図１(a) に示す状態になるまでの工程を説明する。
【００２０】
図１(a) において、石英ガラス基板（透明基板）１上にはスパッタによってクロム（Cr）又は酸化クロム（CrO ）よりなる膜厚６０nm〜１００nmの遮光膜２が形成されている。また、遮光膜２上には、スピンコート法によってネガ型のレジスト３が例えば３００nmの厚さに塗布されている。
ネガ型のレジスト３として、例えば、クロロメチル化ポリエチレンを主成分としてこれにラジカルトラップ剤であるＴＮＰ（トリス・ノニルフェニル・ホスファイト）とＢＨＴ（2.6-ジターシャルブチル-4- メチルフェノール）を添加した材料、或いはクロロメチル化スチレンとクロロスチレンの共重合体からなる材料がある。そのような材料を含むレジスト３の具体例として、日本ゼオン株式会社製の商品名「ＺＥＮ４１００」がある。
【００２１】
その後、石英ガラス基板１をホットプレート（不図示）上に置いて、温度１２０℃、時間１５分の条件でレジスト３をベークする。そのようなプリベーク処理を経た基板１、遮光膜２及びレジスト３はフォトプレート基板と呼ばれる。
次に、図１(b) に示すように露光によってレジスト３に潜像を形成する。露光は、例えばベクタースキャン型電子ビーム露光装置を使用して電子ビーム（ＥＢ）をレジスト３に照射することによる直接描画法によって行われる。電子ビームの照射条件として、例えば加速電圧を２０ｋｅＶ、電子照射量を１．０〜１９μＣ／cm2 に設定する。
【００２２】
続いて、石英ガラス基板１を現像装置の回転台（不図示）上に置き、ついで回転台を約２５０ｒｐｍ程度の低速で回転させながら現像液４をレジスト３に供給し、ついでその回転を停止してレジスト３の上に現像液４が盛られている状態にし、この状態でレジスト３を現像する。そのような現像方法は一般にパドル現像と呼ばれる。
【００２３】
現像液としては、例えば酢酸イソアミルとエチルセルソルブを含む混合液を使用する。そのような現像を約１８０秒間行って、図１(c) に示すように、レジスト３に形成された潜像を顕像化する。これにより、レジスト３のうち電子ビームが照射されない部分が、ほぼ除去されてレジストパターン３ｐが形成される。
続いて、リンス液としてエチルセルソルブをレジスト３及び遮光膜２に１５秒間供給してそれらの表面を洗浄する。リンス液の供給を停止した後に、回転台（不図示）の回転数を２０００ｒｐｍに設定して遮光膜２及びレジスト３の表面を乾燥させる。
【００２４】
レジスト現像直後には、図１(c) に示すように、電子ビームが照射されない領域に島状の薄いレジスト現像残渣３ａが残るとともに、レジストパターン３ｐの側部にレジスト３の現像残りであるテーパ部３ｔが形成される。
そこで、そのようなレジスト３のレジスト現像残渣３ａを除去するために次のようなディスカム処理を行う。
【００２５】
まず、図１(d) に示すように、酸素を含む雰囲気、例えば大気、空気、酸素ガス、オゾンガス中に石英ガラス基板１を置いた状態において、遮光膜２上に残っているレジスト３に紫外線を照射する。紫外線照射は、例えばエネルギー密度２ｍＶ／cm2 の低圧水銀ランプを用いて行い、紫外線照射後のレジスト現像残渣３ａが残る程度の照射時間とする。
【００２６】
この後に、石英ガラス基板１を回転台（不図示）上に載せ、図２(a) に示すように、アルカリ水溶液５、例えば日本ゼオン株式会社製の商品名「ＺＴＭＡ−１００」をスプレー法によってレジスト３及び遮光膜２に向けて例えば６０秒間吹き付ける。この結果、図２(b) に示すように、レジスト現像残渣３ａはアルカリ水溶液５によって除去され、しかもレジストパターン３ｐの側部のテーパ部３ｔが縮小した。
【００２７】
このように、レジストパターン３ｐの形状が損なわれずに、レジスト現像残渣３ａが消滅し、しかも、レジストパターン３ａ側部のテーパ部３ｔが縮小したのは次のような理由によると考えられる。
即ち、現像後に感光がされないか或いは感光が不十分のレジストでは、紫外線照射により気中に発生したラジカルをラジカルトラップ剤が吸収してゲル化が進むことになる。そして、ゲル化した薄いレジスト樹脂は、紫外線に曝されて発生した大気又は空気中のオゾンによって酸化反応を起こす。この場合、レジストパターン３ｐの側部に存在するテーパ部３ｔの薄い部分は、基板との界面の深さまで酸化が進む。また、レジスト現像残渣３ａの酸化は不完全であるが、紫外線照射によってレジスト現像残渣３ａの底部の官能基が破壊されることによってレジスト現像残渣３ａと遮光膜２との密着性が低下する。
【００２８】
そのようなレジスト現像残渣３ａは、官能基の破壊と酸化によって剥離が容易な状態になり、さらにレジスト現像残渣３ａはアルカリ水溶液５の構成元素と結合して遮光膜２から除去されることになる。
大気中の紫外線照射によれば、レジストパターン３ｐの表面も僅かに酸化されるが、レジストパターン３ｐの表面から深い部分は酸化されないし、しかもレジストパターン３ｐの底の官能基が破壊されるまでの紫外線の照射量、照射時間の条件とはなっていない。
【００２９】
また、アルカリ水溶液５によってレジストパターン３ｐの側部のテーパ部３ｔが完全には除去されてないとしても、その残量は許容される範囲となっている。以上のようにレジスト３のパターニングと紫外線照射とアルカリ水溶液吹きつけを終えた後に、回転台（不図示）上でレジストパターン３ｐ及び遮光膜２を６０秒間水洗し、ついで回転台を２０００ｒｐｍの速度で回転させて石英ガラス基板１の上の水を振り切って乾燥させる。なお、紫外線照射の前又は後にポストベークを行う。
【００３０】
次に、図２(c) に示すように、レジストパターン３ｐをマスクに使用して、レジストパターン３ｐから露出している部分の遮光膜２をエッチング、除去することにより、遮光膜２をパターニングする。クロム又は酸化クロムよりなる遮光膜２のエッチングとしては、ウェットエッチング法でもドライエッチング法でもよい。
【００３１】
ウェットエッチングに使用するエッチング液としては、例えば硝酸第２セリウムアンモニウムと加塩素酸水との混合液がある。また、ドライエッチングとして反応性イオンエッチング、プラズマエッチングなどの技術を適用する場合には、エッチングガスとして例えばトリクロロメタン、四塩化炭素、塩素、塩化メチレンの何れかを含む反応ガスを用いる。
【００３２】
そのような遮光膜２をパターニングした後に、酸素プラズマを用いるドライアッシングによってレジストパターン３ｐを除去すると、図２(d) に示すような遮光パターン２ｐが石英ガラス基板１上に現れることになる。
以上のような工程によってレチクルの製造工程が終了する。
次に、アルカリ水溶液の種類について説明する。
【００３３】
上記した例ではアルカリ水溶液として日本ゼオン株式会社製の商品名「ＺＴＭＡ─１００」を適用している。「ＺＴＭＡ−１００」は、純水を用いて２．３８ｗｔ％の濃度に希釈したテトラメチルアンモニウムハイドライム（ＴＭＡＨ）を含んだ溶液である。ＴＭＡＨを含むアルカリ水溶液としてはその他に東京応化工業の商品名「ＮＭＤ−３」がある。アルカリ水溶液としては、それらの溶液の代わりに、弱アルカリ水溶液である１ｗｔ％のＫＯＨ（水酸化カリウム）を用いてもよいし、１ｗｔ％のＮａＯＨ（水酸化ナトリウム）を用いてもよい。
【００３４】
アルカリ水溶液５の最適な濃度は、処理時間に関連してくる。なお、アルカリ水溶液５にレジスト３（３ｐ、３ｔ）を曝す時間が６０秒以上の場合は、スプレーからアルカリ水溶液が出始めて流量が一定になるまでの時間や、薬液の供給を停止してからスプレー配管内に溜まっている薬液の排出が完全に終わるまでの時間を無視できるようになる。
【００３５】
アルカリ水溶液５のアルカリ濃度が高いほど処理時間が短縮されるので、そのｐＨは１０以上であることが好ましい。
次に、レジストの材料について説明する。
上記した例ではレジスト材料として商品名「ＺＥＮ４１００」を適用しているがこれに限られるものではない。例えばノボラック系樹脂を主成分としたシプレー社製のネガ型レジスト、商品名「ＳＡＬ−６０１」がある。このレジスト材料も「ＺＥＮ４１００」と同じように、塗布、露光、現像を経た後に、紫外線が照射され、さらに上記したアルカリ水溶液が供給されることになる。
【００３６】
レジストとして、その他に、ＰＶＰ（ポリビニルフェノール）系の樹脂を主成分にしたネガ型の材料がある。
次に、上記した実施形態に沿ったレジスト３のパターニングについての実験結果について説明する。
まず、上記した現像後に紫外線照射、アルカリ水溶液供給を行うという一連の工程において、紫外線照射時間によってレジスト現像残渣の除去がどのように変化するかを調べたところ、図３〜６に示す斜視断面図のようになった。それらの図は、ＳＥＭ写真に基づいて描いたものであり、幅２．０μｍのライン＆スペースのレジストパターン３ｐを約１５０００倍で拡大したものである。
【００３７】
図３は、現像直後の基板とその上の状態を示しており、レジストパターンの相互間の領域にはレジスト現像残渣が多く存在していることがわかる。
図４は、紫外線照射時間を１２０秒としてアルカリ水溶液を供給した後の基板とその上の状態を示している。図５は、紫外線照射時間を１８０秒としてアルカリ水溶液を供給した後の基板とその上の状態を示している。図６は、紫外線照射時間を２４０秒としてアルカリ水溶液を供給した後の基板とその上の状態を示している。
【００３８】
図３〜図６によれば、ストライプ状のレジストパターン同士の間の領域に存在するレジスト現像残渣は紫外線照射時間の増加に従って除去量が増加し、紫外線照射時間が１８０秒の場合にはアルカリ水溶液処理後にレジストパターン間の領域でのレジスト現像残渣が実質的に存在しないことがわかる。
次に、ライン＆スペースのレジストパターンをさらに４００００倍に拡大した図を示すと図７〜図１０のようになる。図７、図８、図９、図１０はそれぞれ図３、図４、図５、図６に対応し、ＳＥＭ写真に基づいて描いたものである。
【００３９】
図７〜図１０を比較すると、紫外線照射時間が長くなると、アルカリ水溶液処理後のレジストパターンの側部のテーパ部分の傾斜角度が増加し、且つテーパ部分の底が狭くなっていくことがわかる。即ち、アルカリ水溶液処理後にはテーパ量が減少してレジストパターンの精度を向上させることがわかる。
ところで、図４〜図６に示す前の状態、即ち紫外線照射後、アルカリ水溶液供給前におけるレジスト残渣は、図３の現像直後における遮光膜２上のレジスト現像残渣よりもはわずかに減少したものの、遮光膜２上に存在することは発明者等が確認している。
【００４０】
なお、図３〜図１０において、レジストパターンの側部に見られるジグザグの形状は電子ビーム照射のショットズレによって生じたものであり、レジスト現像残渣ではない。
レジストパターン３ｐとして幅２μｍの平面四角形の開口部を形成すると、レジストパターン３ｐの形成直後には図１１に示すように開口部７の四隅に曲率半径０．５μｍ程度の円弧が形成される。その状態から紫外線照射、アルカリ水溶液処理を行うと、図１２に示すように開口部７の四隅の曲率半径が０．２μｍ以下に尖ってくる。なお、図１１、図１２に示すレジストパターン３の構成材料として商品名「ＳＡＬ−６０１」を用いた。この場合、商品名「ＳＡＬ−６０１」に供給するアルカリ水溶液として商品名「ＺＴＭＡ−１００」をスプレー法によって３００秒間吹きつけた後に、６０秒間水洗し、回転台を２０００ｒｐｍの速度で回転させて液を振り切って乾燥させた。
【００４１】
次に、レチクルパターン寸法設計値に対するレジストパターンの寸法ズレ量と紫外線照射量との関係を実測し、さらに、寸法分布を示す公差と紫外線照射量との関係を実測した。
その寸法ズレ量は、レジストパターンの寸法の実測の平均値と目標寸法値との差である。また、寸法公差は、レジストパターンの寸法の実測値の最大値の平均と最小値の平均との差である。
【００４２】
実測の結果、図１３(a) の実線で示す紫外線照射時間と寸法ズレ量の関係と、図１3 (b) の実線で示す紫外線照射時間と寸法公差の関係が得られた。
図１３(a), (b)には、併せて、本実施形態に用いるアルカリ水溶液の代わりに有機現像液を使用した場合の紫外線照射時間と寸法ズレ量の関係と、紫外線照射時間と寸法公差の関係をそれぞれ記載した。
【００４３】
図１３(a) の実線によれば、アルカリ水溶液処理後のレジストパターンについて、紫外線照射時間を６０から１８０秒まで増加されるにつれて寸法ズレ量が低下したが、紫外線照射時間を２４０秒にしたところ寸法ズレ量は増加した。このことから、紫外線照射時間は多ければ良いというものではなく、適正な時間が存在することがわかる。アルカリ水溶液の代わりに有機現像剤を用いた場合には、図１３(a) の二点鎖線に示すように、寸法ズレ量と紫外線照射時間の関係は、アルカリ水溶液を使用した場合と同じような傾向にある。しかし、寸法ズレ量はアルカリ水溶液を用いた方が小さくなり、同じ寸法ズレ量を得るためには有機現像剤の処理時間を長くする必要があることがわかった。
【００４４】
また、図１３(b) の実線で示すように、アルカリ水溶液処理後のレジストパターンについて、寸法公差は紫外線照射時間が長いほど小さくなる傾向にあることがわかった。また、図１３(b) の二点鎖線で示すように、アルカリ水溶液の代わりに有機現像剤を用いた場合には、アルカリ水溶液を用いた場合よりも寸法公差が大きくなり、処理時間を長くしてもアルカリ水溶液よりは不利であることがわかった。
【００４５】
寸法公差が小さくなるということは、レジストパターンの側線が直線に近づくことを意味するので、寸法ズレ量を考え合わせると、アルカリ水溶液による処理は、有機現像液を使用する場合に比べて寸法形状を良くし、寸法精度を高くする。
したがって、紫外線が照射された後のレジスト現像残渣を除去するための液としては、パターン寸法精度の向上を考慮して、有機現像剤よりもアルカリ水溶液を適用した方が良好な結果が得られる、という結論に至った。
【００４６】
なお、以上の説明では、紫外線照射のために水銀ランプを使用しているが、それよりも短い波長、例えば１７２nmより短い波長の光を照射する光源を用いてもよい。
また、上記したレジスト塗布からアルカリ水溶液処理までの一連の工程の適用は、レチクル形成に限定されるものではなく、例えば、露光マスクにも適用してもよいことは勿論のこと、さらに、半導体装置の製造工程において適用してもよい。
【００４７】
【発明の効果】
以上述べたように本発明によれば、膜上に塗布されたレジストを露光し、現像した後に、酸素含有雰囲気中でレジストに紫外線を照射し、さらにレジストにアルカリ水溶液を供給するようにしたので、現像後のレジストの残渣は酸化された後に、アルカリ水溶液によって容易に除去される。しかも、酸化のみでレジスト現像残渣を除去せずに、その後のアルカリ水溶液によって除去するようにしたので、酸化のみで除去する場合に比べてレジスト現像残渣除去時間が短くなり、しかもレジストパターンへの形状への悪影響を防止することができる。
【００４８】
また、レジストパターンの側部に存在するテーパ部の薄い部分がレジスト現像残渣とともに除去されるので、レジストパターン精度を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１(a) 〜(d) は、本発明の実施形態に係る膜のパターニング工程を示す断面図（その１）である。
【図２】図２(a) 〜(d) は、本発明の実施形態に係る膜のパターニング工程を示す断面図（その２）である。
【図３】図３は、本発明の実施形態に係る膜のパターニングに使用するレジストの現像直後の状態を拡大した斜視断面図である。
【図４】図４は、本発明の実施形態に係る膜のパターニングに使用するレジストの現像後に、紫外線を６０秒照射し、さらにアルカリ水溶液を供給した後のレジストの状態を拡大した斜視断面図である。
【図５】図５は、本発明の実施形態に係る膜のパターニングに使用するレジストの現像後に、紫外線を１８０秒照射し、さらにアルカリ水溶液を供給した後のレジストの状態を拡大した斜視断面図である。
【図６】図６は、本発明の実施形態に係る膜のパターニングに使用するレジストの現像後に、紫外線を２４０秒照射し、さらにアルカリ水溶液を供給した後のレジストの状態を拡大した斜視断面図である。
【図７】図７は、図３の斜視断面の一部をさらに拡大した斜視断面図である。
【図８】図８は、図４の斜視断面の一部をさらに拡大した斜視断面図である。
【図９】図９は、図５の斜視断面の一部をさらに拡大した斜視断面図である。
【図１０】図１０は、図６の斜視断面の一部をさらに拡大した斜視断面図である。
【図１１】図１１は、本発明の実施形態に係る膜のパターニング方法において、レジストを露光、現像して開口部を形成した直後の状態を示す斜視拡大図である。
【図１２】図１２は、本発明の実施形態に係る膜のパターニング方法において、図１１に示した状態からレジストに紫外線を照射し、さらにアルカリ水溶液をレジストに供給した後の状態を示す斜視拡大図である。
【図１３】図１３(a) は、紫外線照射後にアルカリ水溶液又は有機現像液をレジストに供給する場合の紫外線照射時間と寸法ズレ量との関係を示し、図１３(b) は、紫外線照射後にアルカリ水溶液又は有機現像液をレジストに供給する場合の紫外線照射時間と寸法公差との関係を示す図である。
【図１４】図１４(a) 〜(e) は、従来の膜のパターニング工程を示す断面図である。
【符号の説明】
１…石英ガラス基板、２…遮光膜、３…レジスト、３ａ…レジスト現像残渣、３ｔ…レジストのテーパ部分、３ｐ…レジストパターン、４…現像液、５…アルカリ水溶液。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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