(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式Ｉ
【化１】
0004138905.tif 000012
［式中、Ａ１は窒素またはＣＲ１、Ａ２は窒素またはＣＲ２、Ａ３は窒素またはＣＲ３、Ａ４は窒素またはＣＲ４、Ａ５は窒素またはＣＲ５であり、ただし、環のメンバーＡ１ないしＡ５のうち少なくとも一つが窒素であって、二つの窒素原子が相互に直接結合することはない。Ｒ１ないしＲ５は、存在する場合、相互に独立に、水素、Ｃ1-4アルキル基またはアリール基であり、また置換基Ｒ１ないしＲ５のうちの一つが式−ＯＲの基（式中、Ｒは場合によっては置換された、芳香族または複素環式芳香族の基である。）を形成することもある。Ｒ６は水素またはＣ1-4アルキル基であり、Ｒ７は場合によっては置換された芳香族または複素環式芳香族の基である。］
のアミドの製造方法であって、一般式II
【化２】
0004138905.tif 000013
［式中、Ａ１ないしＡ５は上に定義したとおりであり、Ｘは塩素、臭素またはヨウ素である。］
のハロゲン化物を、一酸化炭素、一般式III
【化３】
0004138905.tif 000014
［式中、Ｒ６およびＲ７は上に定義したとおりである。］
のアミンおよび塩基と、一般式IV
【化４】
0004138905.tif 000015
［式中、Ｒ８は水素またはＣ1-4アルキル基であり、Ｒ９ないしＲ12は、相互に独立に、第二級または第三級Ｃ3-6アルキル基、Ｃ5-7シクロアルキル基、または場合によっては置換されたフェニル基である。ＹはＣＨ２であり、ｎは０または１である。Ｑは橋かけ有機基であって、ｎ＝０の場合は、隣接する２個の炭素原子とともに、ベンゼン、ピリジン、ピロールまたはフラン環を形成し、ｎ＝１の場合は、隣接する２個の炭素原子とともに、ピロリジン環を形成する。これらの炭素環または複素環は、さらに置換されていてもよく、芳香族環として遷移元素と錯体を形成することもできる。］
のジホスフィン、または一般式IVａ
【化５】
0004138905.tif 000016
［式中、Ｒ８ないしＲ１２は上に定義したとおり。］
のフェロセンであるジホスフィンと、パラジウム錯体との存在下に反応させることを特徴とする製造方法。
【請求項２】
Ａ２が窒素であり、ピリジン環の一部であることを特徴とする請求項１の製造方法。
【請求項３】
Ｒ１が式−ＯＲの基［式中、Ｒは請求項１において定義したとおり。］であることを特徴とする請求項２の製造方法。
【請求項４】
Ａ１が窒素であり、ピリジン環の一部であることを特徴とする請求項１の製造方法。
【請求項５】
Ａ１およびＡ５が窒素であり、ピリミジン環の一部であることを特徴とする請求項１の製造方法。
【請求項６】
Ａ１およびＡ４が窒素であり、ピラジン環の一部であることを特徴とする請求項１の製造方法。
【請求項７】
Ａ１，Ａ３およびＡ５が窒素であることを特徴とする請求項１の製造方法。
【請求項８】
Ｒ２が式−ＯＲの基［式中、Ｒは請求項１において定義したとおり。］であることを特徴とする、請求項４ないし７のいずれかの製造方法。
【請求項９】
Ｒが場合によっては置換されたフェニル基であることを特徴とする、請求項３または８の製造方法。
【請求項１０】
Ｒ６が水素であり、Ｒ７が場合によっては置換されたフェニル基であることを特徴とする、請求項１ないし９のいずれかの製造方法。
【請求項１１】
Ｘが塩素であることを特徴とする、請求項１ないし１０のいずれかの製造方法。
【請求項１２】
Ｒ８が水素またはメチル基であることを特徴とする請求項１ないし１１のいずれかの製造方法。
【請求項１３】
一般式Ｉ'
【化６】
0004138905.tif 000017
［式中、Ａ１は窒素またはＣＲ１、Ａ２は窒素またはＣＲ２、Ａ３は窒素またはＣＲ３、Ａ４は窒素またはＣＲ４、Ａ５は窒素またはＣＲ５であり、ただし、環のメンバーＡ１ないしＡ５のうち少なくとも一つが窒素であって、二つの窒素原子が相互に直接結合することはない。基Ｒ１ないしＲ５のうちの一つが、環の窒素原子に隣接する炭素原子上において式−ＯＲの基であって、基Ｒ、残りの基Ｒ１ないしＲ５、ならびに存在する場合Ｒ６およびＲ７は、請求項１において定義したとおりである。］
のアミドの製造方法であって、第一工程において、一般式Ｖ
【化７】
0004138905.tif 000018
［式中、Ａ１ないしＡ５は上に定義したとおりであり、Ｘは塩素、臭素またはヨウ素である。基Ｒ１ないしＲ５のうちの一つが、環の窒素原子に隣接する炭素原子上においてＺであって、Ｚは塩素、臭素またはヨウ素であり、残りの基Ｒ１ないしＲ５は、存在する場合、請求項１において定義したとおりである。］
のジハロゲン化物を、一般式ＶＩ
【化８】
0004138905.tif 000019
［式中、Ｒは請求項１において定義したとおり。］
の芳香族または複素環式芳香族のヒドロキシル化合物と反応させて、一般式II'
【化９】
0004138905.tif 000020
〔式中、Ａ１ないしＡ５およびＸは、上に定義したとおり。〕
の（ヘテロ）アリールオキシハロゲン化物を得、第二工程において、上記の生成物を、一酸化炭素、一般式III
【化１０】
0004138905.tif 000021
［式中、Ｒ６およびＲ７は上に定義したとおり。］
のアミンおよび塩基と、一般式IV
【化１１】
0004138905.tif 000022
［式中、Ｒ８ないしＲ12，Ｙ，ｎおよびＱは、請求項１において定義したとおり。］
のジホスフィン、または一般式IVａ
【化１２】
0004138905.tif 000023
［式中、Ｒ８ないしＲ12は上に定義したとおり。］
のフェロセンであるジホスフィンと、パラジウム錯体の存在下に反応させることを特徴とする製造方法。
【請求項１４】
３−クロロ−２−［３−（トリフルオロメチル）フェノキシ]ピリジン。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、複素環式芳香族アリールアミドの製造方法に関し、この方法は複素環式芳香族ハロゲン化物を、一酸化炭素および芳香族アミンと、触媒および塩基の存在下に反応させる。  本発明はさらに、本発明の製造方法による新規な中間体にも関する。
【０００２】
本発明に従って製造されるアミドは、一般式
【０００３】
【化１３】
0004138905.tif 000002
【０００４】
〔式中、Ａ1は窒素またはＣＲ1、Ａ2は窒素またはＣＲ2、Ａ3は窒素またはＣＲ3、Ａ4は窒素またはＣＲ4、Ａ5は窒素またはＣＲ5であり、ただし、環のメンバーＡ1ないしＡ5のうち少なくとも一つが窒素であって、二つの窒素原子が相互に直接結合することはない。  Ｒ1ないしＲ5は、存在する場合、相互に独立に、水素、Ｃ1-4 アルキル基またはアリール基であり、また置換基Ｒ1ないしＲ5のうちの一つが式−ＯＲの基〔式中、Ｒは場合によっては置換された、芳香族または複素環式芳香族の基である。〕を形成することもある。  Ｒ6は水素またはＣ1-4アルキル基であり、Ｒ7 は場合によっては置換された芳香族または複素環式芳香族の基である。〕
を有する。
【０００５】
前記のアミドは、とくにピリジン−、ピリミジン−、ピラジン−および１，３，５−トリアジン−カルボン酸のアリールアミドを含む。
【０００６】
この構造の多数の化合物、とくに置換基Ｒ1ないしＲ5のうちの一つが環の窒素原子に隣接するアリールオキシ基（−ＯＲ）であるものは、重要な除草剤である（ＷＯ−Ａ９４／２７９７４，ＥＰ−Ａ００５３０１１，ＥＰ−Ａ０４４７００４）。
【０００７】
これらの既知の化合物は、対応するカルボン酸またはカルボン酸誘導体（酸クロライド、エステル、ニトリル）から常法により合成されるが、これらはしばしば入手困難であり、従って高価である。
【０００８】
本発明の目的はそれゆえ、もっと容易に入手できるエダクトから出発する別の製造方法を開発することである。
【０００９】
この目的は、本発明に従って、請求項１の製造方法により達成することができる。
【００１０】
一般式
【００１１】
【化１４】
0004138905.tif 000003
【００１２】
〔式中、Ａ1ないしＡ5は上に定義したとおりであり、Ｘは塩素、臭素またはヨウ素である。〕
のハロゲン化物を、一酸化炭素および一般式
【００１３】
【化１５】
0004138905.tif 000004
【００１４】
〔式中、Ｒ6およびＲ7は上に定義したとおり。〕
の第一級または第二級アミンと、塩基の存在下に直接反応させるとき、触媒として、一般式
【００１５】
【化１６】
0004138905.tif 000005
【００１６】
のジホスフィンとパラジウムの錯体が存在する場合には、所望の生成物（Ｉ）がほぼ定量的な収率で得られる、ということが見出された。
【００１７】
前記の式IV中では、Ｒ８は水素またはＣ1-4アルキル基であり、Ｒ９ないしＲ12は、相互に独立に、第二級または第三級Ｃ3-6アルキル基、Ｃ5-7シクロアルキル基、または場合によっては置換されたフェニル基である。ＹはＣＨ２であり、ｎは０または１である。Ｑは橋かけ有機基であって、ｎ＝０の場合は、隣接する２個の炭素原子とともに、ベンゼン、ピリジン、ピロールまたはフラン環を形成し、ｎ＝１の場合は、隣接する２個の炭素原子とともに、ピロリジン環を形成する。これらの炭素環または複素環は、さらに置換されていてもよく、芳香族環として遷移元素と錯体を形成することもできる。
【００１８】
以下、Ｃ1-4 アルキル基は、４箇までの炭素原子を有する直鎖または分岐鎖の第一級、第二級または第三級アルキル基とする。
【００１９】
以下、芳香族または複素環式芳香族の基は、とくに単環のものまたは多環のものであって、たとえばフェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントラセニル基、フリル基、ピロリル基、ピラゾリル基、チオフェニル基、ピリジル基、インドリル基またはキノリニル基を意味すると理解すべきである。  これらは、１箇以上の同一または異なる置換基、たとえば塩素、臭素またはフッ素のようなハロゲン、メチル基のような低級アルキル基、トリフルオロメチル基のようなハロゲン化アルキル基、メトキシ基のような低級アルコキシ基、またはメチルチオ基またはエタンスルフォニル基のような低級アルキルチオ(アルカンスルファニル)基またはアルカンスルフォニル基を有していてもよい。
【００２０】
遷移元素と錯体を形成した芳香族環は、とくに、メタロセンまたはその関連化合物、たとえばフェロセンまたはベンゼンクロミウムトリカルボニルのような、サンドイッチ−またはハーフサンドイッチ錯体中の、η5 −シクロペンタジエニル環およびη6−ベンゼン環を意味するものと理解すべきである。
【００２１】
出発物質として使用するハロゲン化物(II)は、既知の化合物であるか、または既知の化合物と同様にして調製することができる。  この種の多数の化合物が、たとえばＵＳ−Ａ４２５４１２５およびＥＰ−Ａ０００１１８７中に公表されている。
【００２２】
本発明に従う製造方法は、アミド（Ｉ）においてＡ2 が窒素であって、残りの環メンバーとピリジン環を形成しているものの製造に、優先的に適している。  アミド（Ｉ）においてＲ1 が式−ＯＲ基〔式中、Ｒは上に定義したとおり。〕であるものが、とくに好ましい。
【００２３】
その他の好ましいアミド（Ｉ）は、Ａ1 が窒素であって、残りの環メンバーとピリジン環を形成するもの、Ａ1およびＡ5が窒素であって、残りの環メンバーとピリミジン環を形成するもの、Ａ1およびＡ4が窒素であって、残りの環メンバーとピラジン環を形成するもの、ならびに、Ａ1，Ａ3およびＡ5 が窒素であって、残りの環メンバーと１，３，５−トリアジン環を形成するもの、である。
【００２４】
後者の４種類の中でも、Ｒ2が式-ＯＲ基〔式中、Ｒは上に定義したとおり。〕であるアミドが、とりわけ好ましい。
【００２５】
アミド（Ｉ）において置換基Ｒ1ないしＲ5のうちの一つが式−ＯＲ基であるもののうち、式−ＯＲ基中のＲが、場合によっては置換されたフェニル基であるものが好ましい。  このことは、とくにピリジン、ピリミジン、ピラジンまたは１，３，５−トリアジンを含む、上記のアミドであって置換基Ｒ1またはＲ2が式−ＯＲの基であるものにおいていえる。
【００２６】
その他の好ましいアミドは、Ｒ6が水素であり、Ｒ7が場合によっては置換されたフェニル基であるものである。
【００２７】
好ましいハロゲン化物（II）は、塩素化合物（Ｘ＝Ｃｌ）である。
【００２８】
使用するジホスフィン（ＩＶ）は、ｎ＝０であり、Ｑが、二つの隣接する炭素原子と５員環を形成し、フェロセンのシステムの一部になるものが好ましい。  これらの化合物は、一般式
【００２９】
【化１７】
0004138905.tif 000006
【００３０】
〔式中、Ｒ8ないしＲ12は上に定義したとおり。〕
によりあらわされ、Ｒ8 が水素またはメチル基であるジホスフィンがとくに好ましい。  これらの化合物はキラルであり、（とくにＲ8≠Ｈ であるとき）たとえば不斉水素化のための純粋な立体異性体として使用されてきた（たとえば、ＥＰ−Ａ０５６４４０６，ＥＰ−Ａ０６１２７５８を参照のこと）。  本発明に従う製造方法において、キラルの新しい要素は形成されないため、これらのジホスフィンを、ラセミ体またはその他の立体異性体混合物として使用することもまた可能である。  きわめてとくに好ましいジホスフィン（ＩＶａ）は、Ｒ9 ＝Ｒ10、Ｒ11＝Ｒ12であるものであり、これらの置換基はイソプロピル基、tert−ブチル基、シクロヘキシル基および場合によっては置換されたフェニル基から成るグループから選択する。
【００３１】
その他の好ましいジホスフィン（ＩＶ）は、ｎ＝０であり、Ｑが、二つの隣接する炭素原子と、ベンゼン、ピリジン、ピロールまたはフラン環を形成するものである。
【００３２】
トリカルボニル−η6−｛１−（ジフェニルホスフィノ）−２−[（１−（ジフェニルホスフィノ）エチル］−ベンゼン｝クロミウム（０）について、ここで例としてとりあげる（Ｊ. Ｏrganometall. Ｃhem. 1995, 503, 143-148）。
【００３３】
同様に、好ましいジホスフィンは、ｎ＝１であり、Ｙがメチレン基であって、Ｑおよび二つの隣接する炭素原子とピロリジン環を形成し、場合によってはさらなる置換基を有するものである。  これらのジホスフィンは、たとえば（２Ｓ，４Ｓ）−１−tert−ブトキシカルボニル−４−ジフェニルホスフィノ−２−（ジフェニルホスフィノメチル）ピロリジン（ＢＰＰＭ）である（Ｊ. Ｏrg. Ｃhem.1980, 45, 4680）。
【００３４】
触媒活性パラジウムジホスフィン錯体は、微細な元素形態をしたパラジウム  （たとえば、活性炭上のパラジウム）、Ｐｄ(II)塩（たとえば、塩化物または酢酸塩）または適切なＰｄ(II)錯体（たとえば、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム(II)）をジホスフィンと反応させるという製造方法により、その場で好都合に形成される。  パラジウムは、それぞれハロゲン化物（II）基準で、Ｐｄ（II）０．０２〜０．２ mol％またはＰｄ（０）０．５〜２mol％ の量を使用することが好ましい。  ジホスフィンは（Ｐｄ基準で）過剰量を使用することが好都合で、ハロゲン化物（II）基準でＰｄ(II）０．２〜５mol％の量を使用することが好ましい。
【００３５】
使用する溶媒は、比較的極性のないもの、たとえばトルエン、キシレンまたはメチルシクロヘキサン、または極性のあるもの、たとえばアセトニトリル、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミドまたはブチルアセテートである。
【００３６】
使用する塩基は、比較的弱い塩基が好ましい。  これは、使用する溶媒に溶ける必要はない。  適切な塩基の例は、炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムのような炭酸塩、酢酸ナトリウムのような酢酸塩、またはリン酸水素カリウムまたはリン酸カリウムのような第二級または第三級リン酸塩である。  炭酸ナトリウムまたは酢酸ナトリウムを使用すると、とくによい結果が得られる。
【００３７】
反応温度は、８０〜２５０℃が好ましい。
【００３８】
一酸化炭素の圧力は、１〜５０barが好ましい。
【００３９】
以下の実施例により、本発明の製造方法をどのように実施するかを示す。
【００４０】
【実施例】
〔実施例１〕
２−クロロ−６−［３−（トリフルオロメチル）フェノキシ］ピリジン
水素化ナトリウム（９５％）１７．４５ｇ（６９０mmol）をＮ，Ｎ−ジメチルアセタミド４２０ml中に懸濁させた。  ３−（トリフルオロメチル）フェノール１０６．７ｇ（６５８mmol）を、２時間にわたり、１５℃において滴下して加えた。  得られたフェノール塩溶液を、２．５時間にわたり、窒素雰囲気下に、９０℃に加熱したＮ，Ｎ−ジメチルアセタミド３３０ml中の２，６−ジクロロピリジン１６２．４ｇ(１．０９７mol）の溶液に、滴下して加えた。  さらに３時間反応させた後、混合物を室温まで冷却し、塩化ナトリウムの沈殿物を濾過除去して、濾液を濃縮した。  残渣にトルエンおよび０．１Ｎ塩酸を吸収させ、有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄して濃縮した。  油状の残渣（約２００ｇ）を真空下に蒸留した。
【００４１】
収率：無色の油状物１５１．５ｇ（８４％），含有率（ＧＣ）９９．８％
ｎD20＝１．５２６７
ＭＳ；ｍ／ｚ：２７３／２７５；２３８；３９
0004138905.tif 000007
【００４２】
〔実施例２〕
３−クロロ−２−［３−（トリフルオロメチル）フェノキシ］ピリジン
水素化ナトリウム分散液（鉱油中約５０％）７．６８ｇを、窒素雰囲気下にペンタンで洗浄し、それからＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００mlを加えた。  ３−（トリフルオロメチル）フェノール２１．９２ｇ(１３５mmol)を、３０分間にわたり、室温において滴下して加えた。  得られたフェノール塩溶液を、２時間にわたり、窒素雰囲気下に、１２０℃に加熱したＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド８０ml中の２，３−ジクロロピリジン２０．１ｇ(１３６mmol)の溶液に、滴下して加えた。  さらに３時間反応させた後、混合物を室温まで冷却し、塩化ナトリウムの沈殿物を濾過除去して濾液を濃縮した。  残渣をトルエンおよび０．１Ｎ塩酸で抽出し、有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄して濃縮した。  油状の残渣を真空下に蒸留した。
【００４３】
収率：無色の油状物２４．７５ｇ（６７％），含有率（ＧＣ）９９．７％
Ｂ.ｐ.18mbar＝１４５−１４８℃
ｎD20＝１．５２８２
ＭＳ；ｍ／ｚ：２７３／２７５
0004138905.tif 000008
【００４４】
〔実施例３〕
Ｎ−(４−フルオロフェニル)−６−［３−(トリフルオロメチル)フェノキシ］ピリジン−２−カルボキサミド
キシレン２５ml中の２−クロロ−６−［３−（トリフルオロメチル）フェノキシ］ピリジン（含有率９９．５％，実施例１で製造したもの）６．８４ｇ（２５mmol）、４−フルオロアニリン４．１７ｇ(３７．５mmol)、炭酸ナトリウム２．９２ｇ(２７.５mmol）、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)１７．５mg（２５μmol）および（±）−１−[２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルジフェニルホスフィン（ＩＶａ，Ｒ8＝メチル基、Ｒ9＝Ｒ10＝Ｒ11＝Ｒ12＝フェニル基であり、Ａ. Ｔogni et al., Ｉnorg. Ｃhim. Ａcta 1994, 222, 213-224に従って製造したもの）０.３１ｇ（０.７５mmol）を、室温においてオートクレーブに装入した。  オートクレーブを不活性気体で満たし、それから一酸化炭素を５bar の圧力で導入し、温度を２００℃に上昇させた。  ＣＯ圧力を１６bar に上げ、混合物を２１時間、２００℃において撹拌した。  室温まで冷却し減圧した後、反応混合物をキシレン５０mlおよび水５０mlで処理し濾過した。  水相をキシレン２５mlで抽出し、合わせた有機相を水３０mlで洗浄した。  溶解した生成物の組成を、ＧＣにより決定した。  表題化合物（アミド）９７．８％および副生物（アニリンによるＣｌの直接置換により形成される第二級アミン）２．２％が定量された。  溶媒の蒸留の後、粗生成物を黄色固体の形で得た。
【００４５】
粗生成物の収率（ＨＰＬＣ分析、標準とも）：８９．９％
粗生成物をメチルシクロヘキサンからの再結晶により精製した。
【００４６】
収率：無色の結晶状物６．３ｇ（６７％）
Ｍ.ｐ.＝１０４−１０５℃
ＭＳ；ｍ／ｚ：３７６（Ｍ+），２３８
0004138905.tif 000009
【００４７】
〔実施例４〕
Ｎ−(４−フルオロフェニル)−６−［３−(トリフルオロメチル)フェノキシ］ピリジン−２−カルボキサミド
手順は、（±）−１−［２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルジフェニルホスフィンを等モル量の（±）−１−[２−(ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルジ−tert−ブチルホスフィン（ＩＶａ，Ｒ8 ＝メチル基、Ｒ9 ＝Ｒ10＝tert−ブチル基、Ｒ11＝Ｒ12＝フェニル基）に替えたこと以外は、実施例３に記述したとおりとした。  ＣＯ圧力を１９bar とした。  キシレン相に溶解した生成物の組成を、ＧＣにより決定した。  表題化合物(アミド)９７．２％および副生物（第二級アミン）２．８％が定量された。
【００４８】
〔実施例５〕
Ｎ−(４−フルオロフェニル)−６−［３−(トリフルオロメチル)フェノキシ］ピリジン−２−カルボキサミド
手順は、（±）−１−［２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルジフェニルホスフィンを等モル量の（±）−１−[２−(ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルジイソプロピルホスフィン（ＩＶａ，Ｒ8＝メチル基、Ｒ9＝Ｒ10＝イソプロピル基、Ｒ11＝Ｒ12＝フェニル基）に替えたこと以外は、実施例３に記述したとおりとした。  ＣＯ圧力を１９bar とした。  キシレン相に溶解した生成物の組成を、ＧＣにより決定した。  表題化合物（アミド）９６．７％および副生物（第二級アミン）３．３％が定量された。
【００４９】
〔実施例６〕
Ｎ−(４−フルオロフェニル)−６−［３−(トリフルオロメチル)フェノキシ］ピリジン−２−カルボキサミド
手順は、（±）−１−［２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルジフェニルホスフィンを等モル量の（±）−１−［２−（ジイソプロピルホスフィノ）フェロセニル］エチルジ−tert−ブチルホスフィン（ＩＶａ，Ｒ8 ＝メチル基、Ｒ9 ＝Ｒ10＝tert−ブチル基、Ｒ11＝Ｒ12＝イソプロピル基）に替えたこと以外は、実施例３に記述したとおりとした。  ＣＯ圧力を１９bar とした。  キシレン相に溶解した生成物の組成を、ＧＣにより決定した。  表題化合物（アミド）９８．９％および副生物（第二級アミン）１．１％が定量された。
【００５０】
〔実施例７〕
Ｎ−(４−フルオロフェニル)−６−［３−(トリフルオロメチル)フェノキシ］ピリジン−２−カルボキサミド
手順は、塩基として使用する炭酸ナトリウムを等モル量の酢酸ナトリウムに替えたこと以外は、実施例４に記述したとおりとした。  ＣＯ圧力を１９bar とした。  キシレン相に溶解した生成物の組成を、ＧＣにより決定した。  表題化合物(アミド)９９．７％、エダクト０．２％および副生物(第二級アミン)＜０．１％が定量された。
【００５１】
〔実施例８〕
Ｎ−(４−フルオロフェニル)−６−［３−(トリフルオロメチル)フェノキシ］ピリジン−２−カルボキサミド
手順は、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）を等モル量の塩化パラジウム（II）に替えたこと以外は、実施例４に記述したとおりとした。  ＣＯ圧力を１９bar とした。  キシレン相に溶解した生成物の組成を、ＧＣにより決定した。  表題化合物（アミド）９６．７％および副生物（第二級アミン）３．３％が定量された。
【００５２】
〔実施例９〕
Ｎ−(４−フルオロフェニル)−６−［３−(トリフルオロメチル)フェノキシ］ピリジン−２−カルボキサミド
手順は、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）を等モル量の酢酸パラジウム（II）に替えたこと以外は、実施例７に記述したとおりとした。  ＣＯ圧力を１９bar とした。  キシレン相に溶解した生成物の組成を、ＧＣにより決定した。  表題化合物（アミド）９９．０％および副生物（塩化物の水素化分解により形成された２−［３−（トリフルオロメチル）フェノキシ］ピリジン）０．８％が定量された。
【００５３】
〔実施例１０〕
Ｎ−(４−フルオロフェニル)−６−［３−(トリフルオロメチル)フェノキシ］ピリジン−２−カルボキサミド
手順は、フェロセニルホスフィンを（２Ｓ，４Ｓ）−１−tert−ブトキシカルボニル−４−（ジフェニルホスフィノ）−２−（ジフェニルホスフィノメチル）ピロリジン（Ｆluka社）０．２１ｇ（０．７５mmol）に替えたこと以外は、実施例３に記述したとおりとした。  反応温度を２０時間、ＣＯ圧力を１７bar とした。  キシレン相に溶解した生成物の組成を、ＧＣにより決定した。  表題化合物（アミド）９８．７％および副生物（第二級アミン）１．１％が定量された。
【００５４】
〔実施例１１〕
Ｎ−(４−フルオロフェニル)−６−［３−(トリフルオロメチル)フェノキシ］ピリジン−２−カルボキサミド
手順は、（±）−１−［２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルジ−tert−ブチルホスフィン７５μmol のみを使用したこと以外は、実施例４に記述したとおりとした。  ＣＯ圧力を１９bar とした。  キシレン相に溶解した生成物の組成を、ＧＣにより決定した。  表題化合物（アミド）８８．８％、転化されないエダクト７．４％および副生物（第二級アミン）３．３％が定量された。
【００５５】
〔実施例１２〕
Ｎ−(４−フルオロフェニル)−６−［３−(トリフルオロメチル)フェノキシ］ピリジン−２−カルボキサミド
手順は、４−フルオロアニリン２７．５mmolのみを使用したこと以外は、実施例４に記述したとおりとした。  ＣＯ圧力を１９bar とした。  キシレン相に溶解した生成物の組成を、ＧＣにより決定した。  表題化合物（アミド）９７．３％および副生物（第二級アミン）２．７％が定量された。
【００５６】
〔実施例１３〕
Ｎ−(４−フルオロフェニル)−６−［３−(トリフルオロメチル)フェノキシ］ピリジン−２−カルボキサミド
アセトニトリル２５ml中の２−クロロ−６−［３−（トリフルオロメチル）フェノキシ］ピリジン（含有率９９．５％、実施例１で製造したもの）６．８４ｇ（２５mmol）、４−フルオロアニリン３．３３ｇ（３０mmol）、炭酸ナトリウム２．９２ｇ(２７．５mmol）、酢酸パラジウム（II）２．８mg（１２．５μmol）および（±）−１−［２−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル］エチル−ジ−tert−ブチルホスフィン（IVa，Ｒ8 ＝メチル基、Ｒ9＝Ｒ10＝tert−ブチル基、Ｒ11＝Ｒ12＝フェニル基）６８mg(１２５μmol）を、室温においてオートクレーブに装入した。  オートクレーブを不活性気体で満たし、それから一酸化炭素を５barの圧力において導入し、圧力を７．６barに高めながら温度を１５０℃に上昇させた。  混合物を４時間、１５０℃において撹拌した。  室温まで冷却し減圧した後、溶媒を蒸留除去し、８０℃において、残渣をメチルシクロヘキサン９０mlに吸収させた。  得られた懸濁液を濾過し、フィルターケークを温メチルシクロヘキサン１０mlで洗浄した。  濾液を５℃まで冷却すると、生成物が結晶化した。
【００５７】
収率：淡いベージュ色の固体状物８．１１ｇ（８６．２％）
Ｍ.ｐ.＝１０４．５−１０５．２℃。
【００５８】
〔実施例１４〕
Ｎ−（２，４−ジフルオロフェニル）−２−［３−（トリフルオロメチル）フェノキシ］ピリジン−３−カルボキサミド（ジフルフェニカム）
実施例３と同じように、キシレン２５ml中の３−クロロ−２−（３−トリフルオロメチル）フェノキシピリジン（実施例２で製造したもの）６．８４ｇ（２５mmol）、２，４−ジフルオロアニリン４．８４ｇ（３７．５mmol）、炭酸ナトリウム２．９２ｇ（２７．５mmol）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）１７．５mg（２５μmol）および（±）−１−[２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルジ−tert−ブチルホスフィン０．３１ｇ（０．７５mmol）を、１５bar のＣＯ圧力下に、１５０℃において、１９時間反応させた。  転化率は約７０％であった。  混合物を実施例３のように処理し、黄色結晶性固体の形で、粗生成物６ｇを得た。  それを、メチルシクロヘキサン５０mlからの再結晶化により精製した。
【００５９】
収率：白色固体状物３．２５ｇ（３３％）
Ｍ.ｐ.＝１５７−１５９℃
ＭＳ；ｍ／ｚ：３９４（Ｍ+），２６６（１００％）
0004138905.tif 000010
【００６０】
〔実施例１５〕
Ｎ−(４−フルオロフェニル)−６−［３−(トリフルオロメチル)フェノキシ］ピラジン−２−カルボキサミド
実施例３と同じように、キシレン２５ml中の２−クロロ−６−［３−（トリフルオロメチル）フェノキシ］ピラジン（ＵＳ−Ａ４２５４１２５の実施例２１に従って製造したもの）２５mmol、４−フルオロアニリン２７．５mmol、炭酸ナトリウム２.９２ｇ(２７.５mmol）、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）１７．５mg（２５μmol）および（±）−１−[２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルジ−tert−ブチルホスフィン０．３１ｇ（０．７５mmol）を、１７bar のＣＯ圧力下に、１２０℃において、２１時間反応させた。  キシレン相に溶解した生成物の組成を、ＧＣにより決定した。  表題化合物(アミド)６５．３％および副生物（第二級アミン）３４．７％が測定された。アミドを、カラムクロマトグラフィーにより単離精製した。
【００６１】
Ｍ.ｐ.＝１０９−１１０℃，無色の固体状物
0004138905.tif 000011
【００６２】
〔比較例１〕
手順は、（±）−１−［２−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル］エチルジフェニルホスフィンを等モル量のトリフェニルホスフィンに替えたこと以外は、実施例３に記述したとおりとした。  １５bar のＣＯ圧力において１５．５時間反応させた後、キシレン相に溶解した生成物の組成をＧＣにより決定した。  所望の生成物がわずか４３．２％しか定量されず、未転化のエダクト５６．８％が検出された。
【００６３】
〔比較例２〕
手順は、（±）−１−［２−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル］エチルジフェニルホスフィンを等モル量のトリ−ｎ−ブチルホスフィンに替えたこと以外は、実施例３に記述したとおりとした。  １４bar のＣＯ圧力において１５時間反応させた後、キシレン相に溶解した生成物の組成をＧＣにより決定した。  所望の生成物がほんの微量(０．４％)しか検出されず、未転化のエダクト９６．８％が残っていた。
【００６４】
〔比較例３〕
手順は、（±）−１−［２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルジフェニルホスフィンを等モル量の１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタンに替えたこと以外は、実施例３に記述したとおりとした。  １４．７bar のＣＯ圧力において２０．２時間反応させた後、キシレン相に溶解した生成物の組成をＧＣにより決定した。  所望の生成物がほんの微量（２．２％）検出されただけで、未転化のエダクトが９７．７％も残っていた。