(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持基板上に、少なくとも光記録層と、光透過保護層とを有し、かつ上記光透過保護層側の主面からのレーザー光照射により、上記光記録層の情報の再生あるいは記録の少なくともいずれか一方がなされ、上記光透過保護層の厚さが１０〜１７７〔μｍ〕である光学記録媒体であって、
上記光透過保護層の残留塩素イオン濃度が０．２〔ｐｐｍ〕以下であることを特徴とする光学記録媒体。
【請求項２】
上記光透過保護層が、ポリカーボネートまたはポリオレフィン系樹脂により形成されて成ることを特徴とする請求項１に記載の光学記録媒体。
【請求項３】
上記光記録層が、金属反射層、第１の誘電体層、相変化記録層、および第２の誘電体層により構成されて成ることを特徴とする請求項１に記載の光学記録媒体。
【請求項４】
非磁性支持基板上に、少なくとも光記録層と、光透過保護層とを有し、かつ上記光透過保護層側の主面からのレーザー光照射により、上記光記録層の情報の再生あるいは記録の少なくともいずれか一方がなされ、上記光透過保護層の厚さが１０〜１７７〔μｍ〕である光学記録媒体であって、
上記光透過保護層は、接着剤層を介して形成されてなり、
上記光透過保護層および上記接着層中の残留塩素イオン濃度が０．２〔ｐｐｍ〕以下であることを特徴とする光学記録媒体。
【請求項５】
上記接着剤層は、紫外線硬化性樹脂あるいは粘着性シートであることを特徴とする請求項４に記載の光学記録媒体。
【請求項６】
上記光記録層は、金属反射膜、第１の誘電体層、相変化記録層、および第２の誘電体層により形成されてなることを特徴とする請求項４に記載の光学記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学記録媒体に係わる。
【０００２】
【従来の技術】
相変化記録材料を用いた書換え可能な光学記録媒体として、いわゆるＤＶＤ−ＲＡＭが市販されており、この光学記録媒体においては、線速６〔ｍ／秒〕、ビット長０．４１〔μｍ〕、トラックピッチ０．７４〔μｍ〕、記録レーザー波長約６５０〔ｎｍ〕、データ転送レート１１〔Ｍｂｐｓ〕、記録容量２．６〔ＧＢ〕のものが実現されている。
【０００３】
このような光学記録媒体の記録容量を上回る大容量で、かつ高転送レートを実現するためには、記録レーザーのスポットサイズを小さくし、記録線速を向上させることが有効である。
ここで、記録レーザーのスポットサイズを小さくするためには、具体的に、レーザー光の波長λを短くする方法、および光学記録媒体にレーザー光を集光させるための対物レンズの開口数Ｎ．Ａ．を大きくする方法が挙げられる。
【０００４】
特に、レーザー光の波長λを短くする方法と対物レンズの開口数Ｎ．Ａ．を大きくする方法の双方を併用することにより、レーザー光のスポットサイズは、それぞれの方法を単独で適用した場合よりも、小さくすることができる。
例えば、光源として波長λ＝４００〔ｎｍ〕帯付近の青紫色レーザー光を用いて、かつ開口数Ｎ．Ａ．＝０．８５である対物レンズを用いることにより、さらなる高密度記録化を図ることが理論上可能となる。
このように、記録密度を上げるためには、（Ｎ．Ａ．／λ）の値を上げることが必要である。
【０００５】
上述したことから、例えば８〔ＧＢ〕の記録容量を有する光学記録媒体を実現するためには、少なくとも、対物レンズの開口数Ｎ．Ａ．を０．７以上とし、レーザー光の波長λを０．６８〔μｍ〕以下にすることが必要となることが知られている。
【０００６】
図１に光学記録媒体の一例の概略構成図を示す。
現状の赤色レーザー光から青色レーザー光まで対応する光学記録媒体について考慮すると、レーザー光を照射する主面に形成されている光透過層の厚さは、１０〜１７７〔μｍ〕が適切であることが、例えば、特開平３−２２５６５０号公報に記載されている。
【０００７】
図１に示す光学記録媒体１０は、例えばガラス、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂等より成る非磁性支持基板１上に、例えばＡｌ、Ａｇ等の金属反射層８、例えばＳｉ3 Ｎ4 等からなる第１の誘電体層３、例えばＴｂＦｅＣｏ，ＧｄＦｅＣｏ等の磁性体よりなる記録材料層４、例えばＳｉ3 Ｎ4 等からなる第２の誘電体層５、および例えば紫外線硬化性樹脂よりなる光透過保護層６が順次形成された構成を有する。
【０００８】
この光学記録媒体１０に対して情報の再生、あるいは記録のいずれかを行う場合には、非磁性支持基板１側とは反対側の主面側、すなわち図１中、光透過保護層６側から、所定のレーザー光Ｌを、対物レンズ７により集光し照射することによって行う。
【０００９】
図１に示す光学記録媒体１０の非磁性支持基板１は、単板でディスク構造とする場合には、取扱いに不便とならないような剛性を有することが要求されるため、通常厚さは０．６〔ｍｍ〕以上とすることが必要であり、コンパクトディスク（ＣＤ）においては、厚さは、一般的に１．２〔ｍｍ〕とされている。
また、最近実用化されている非磁性支持基板を２枚貼り合わせた構造の、いわゆる多層構造の光学記録媒体においては、非磁性支持基板の厚さを、０．３〔ｍｍ〕以上とすることが望ましい。
【００１０】
また、光透過保護層６は、非磁性支持基板１上に光記録層２を積層形成した後に光記録層２上に形成されるが、これは、液状紫外線硬化性樹脂を、スピンコートすることにより形成することができる。また、光記録層２上に、接着剤層（図示せず）を形成し、この接着剤層を介して、シート状の光透過性の材料膜を貼り合わせることによって、光透過保護層６を形成することもできる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、例えば図１に示した構造の光学記録媒体１０においては、光記録層の耐蝕性の問題についての改善が必要とされている。
すなわち、光学記録媒体１０を、高温高湿条件下で所定時間保存すると、光記録層２の部分に腐食が発生することが知られている。この光記録層２の部分の腐食は、例えば光学記録媒体１０から記録情報の再生を行う場合に、再生不良等をもたらし、光学記録媒体１０の製品の信頼性に悪影響を与えるおそれがある。
【００１２】
そこで、本発明者等は鋭意研究を重ねた結果、光透過保護層側から記録光あるいは再生光を照射する構造の光学記録媒体を構成する光記録層における腐食の発生を抑制し、信頼性の高い光学記録媒体を提供することとした。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明の光学記録媒体は、非磁性支持基板上に、少なくとも光記録層と、光透過保護層とを有する構造のもので、光透過保護層側の主面からのレーザー光照射により、光記録層の情報の再生あるいは記録の少なくともいずれか一方がなされるもので、光透過保護層の厚さを１０〜１７７〔μｍ〕とし、光透過保護層の残留塩素イオン濃度を０．２〔ｐｐｍ〕以下とするものである。
【００１４】
また、本発明の光学記録媒体は、非磁性支持基板上に、少なくとも光記録層と、光透過保護層とを有し、かつ光透過保護層側の主面からのレーザー光照射により、光記録層の情報の再生あるいは記録の少なくともいずれか一方がなされるもので、光透過保護層は、接着剤層を介して形成されてなり、光透過保護層の厚さが１０〜１７７〔μｍ〕であって、光透過保護層および接着剤層中の残留塩素イオン濃度が０．２〔ｐｐｍ〕以下とするものである。
【００１５】
本発明の光学記録媒体によれば、厚さ１０〜１７７〔μｍ〕の光透過保護層中の、残留塩素イオン濃度と、光透過保護層を接着する接着剤層中の残留塩素イオン濃度とを低減化させて、これを０．２〔ｐｐｍ〕以下にしたことによって、光記録層の腐食の発生が抑制される。
【００１６】
【発明の実施の形態】
本発明の光学記録媒体は、非磁性支持基板上に、少なくとも光記録層と、光透過保護層とを有する構造のもので、光透過保護層側の主面からのレーザー光照射により、光記録層の情報の再生あるいは記録の少なくともいずれか一方がなされるものとしたとき、光透過保護層の厚さを１０〜１７７〔μｍ〕とし、光透過保護層の残留塩素イオン濃度を０．２〔ｐｐｍ〕以下とするものである。
【００１７】
以下に本発明の光学記録媒体の実施の形態について、例を挙げて説明するが、本発明の光学記録媒体は、以下に示す例に限定されるものではない。
なお、本発明の光学記録媒体の構成を説明するにあたって、上述した図１の光学記録媒体１０と共通する箇所においては、同一符号を付すものとする。
【００１８】
図２に、光学記録媒体の概略断面図を示す。
図２の光学記録媒体２０は、例えばガラス、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂等より成り、所定のピットやグルーブ等の微細凹凸１１が形成されている非磁性支持基板１上に、所定の材料からなる光記録層２が形成され、この光記録層２上に、光透過保護層６が形成されてなる構成を有するものである。
【００１９】
この図２に示す光学記録媒体２０に対して情報の再生、あるいは記録のいずれかを行う場合には、非磁性支持基板１側とは反対側の主面側、すなわち図２中、光透過保護層６側から、所定のレーザー光Ｌを、対物レンズ７により集光し照射することによって行う。
【００２０】
光記録層２は、光学記録媒体の目的によって、種々の材料により構成されるものである。
すなわち、例えば図１に示す光学記録媒体１０については、この光記録層２を、金属反射層８、第１の誘電体層３、記録材料層４および第２の誘電体層５により構成されるものとし、図３に示す光学記録媒体３０については、この光記録層２を、例えばＡｌ合金よりなる金属反射層２により構成するものとする。
【００２１】
非磁性支持基板１を構成する材料としては、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂等、およびガラスを適用することができる。
非磁性支持基板１は、射出成形法（インジェクション法）やフォトポリマリゼ−ション法（２Ｐ法）によって作製することができる。
この非磁性支持基板１は、コンパクトディスク（ＣＤ）作製に適用する場合には、厚さ１．１〔ｍｍ〕、直径１２０〔ｍｍ〕のディスク形状とすることができ、その他の光学記録媒体に適用する場合には、それぞれに好適な所望の形状に形成する。
【００２２】
本発明の光学記録媒体を構成する非磁性支持基板１の厚さは、特に限定されるものではないが、０．３〜１．３〔ｍｍ〕程度であることが望ましい。これは、厚さが０．３〔ｍｍ〕よりも薄いと、強度的に不充分であったり、反りが発生したりするからである。
一方、１．３〔ｍｍ〕以上とすると、ＣＤやＤＶＤのディスクの暑さが１．２〔ｍｍ〕であることから、このディスクに対応する駆動装置を商品化するときに、同じディスクトレイを共用できなくなるおそれがあるからである。
【００２３】
なお、本発明の光学記録媒体は、光透過保護層６側の主面からレーザー光Ｌの照射がなされるので、非磁性支持基板１は、レーザー光Ｌに対して透明である材料の他、金属等の不透明の材料を適用することもできる。
【００２４】
また、非磁性支持基板１の光記録層２が形成される側の面上に、ピットやグルーブを構成する微細凹凸が形成されている場合、グルーブを形成したときには、これを案内溝としてレーザー光をディスク上の任意の位置へ移動させることができ、ピットを形成したときには、これが情報信号となって、レーザー光の照射により記録情報の読み取りがなされる。
これらの微細凹凸は、非磁性支持基板１上において、所要の形態に例えばスパイラル状や同心円状に形成される。
【００２５】
本発明の光学記録媒体を構成する光透過保護層６は、記録あるいは再生を行うレーザー光の、所定の波長に対して吸収能を有さない材料により形成することが望ましく、具体的に、レーザー光に対して９０％以上の透過率を有する材料であることが望ましい。
また、光透過保護層６の厚さは、大容量化を図るために０．３〔ｍｍ〕以下であることが望ましく、特に、本発明の光学記録媒体１０においては、１０〜１７７〔μｍ〕とする。そして、高い開口数Ｎ．Ａ．（例えばＮ．Ａ．＝０．８５）を有する対物レンズと組み合わせることにより、高密度記録の光学記録媒体を実現することができる。
【００２６】
光透過保護層６を構成する材料としては、ポリカーボネート樹脂やポリオレフィン樹脂を用いることができる。
ポリカーボネート樹脂は、例えばビスフェノールＡ等の二価フェノール系材料を、例えば水酸化ナトリウム等の酸結合剤の存在下、ホスゲンを反応させることによって、いわゆるホスゲン法により作製することができる。
なお、通常のポリカーボネート樹脂の他、分岐化剤としてフェノール系水酸基を有する分岐化ポリカーボネート、末端停止剤として長鎖アルキル酸クロライドもしくは長鎖アルキルエステル置換フェノール等の末端長鎖アルキルカーボネート樹脂、上述の分岐剤、および末端停止剤の双方を用いた末端長鎖アルキル分岐ポリカーボネート樹脂、さらにこれらの混合物等、いずれも用いることができる。
【００２７】
そして、上述したポリカーボネート系樹脂を、例えば従来用いられている押し出し機に投入し、ヒーターにより溶融し、これをシート状に押し出して、複数個の冷却ロールを使用して樹脂シートに形成する。
本発明の光透過保護層６に適用するポリカーボネート樹脂は、上述のようにシート状となった状態での塩素イオン濃度を０．２〔ｐｐｍ〕以下に調整されてものであるということを特徴とするものである。
【００２８】
従来用いられている工程により作製したポリカーボネート樹脂には、通常、数十から数百〔ｐｐｍ〕程度の塩素イオンが存在することが確認されており、このポリカーボネート樹脂中の塩素イオン濃度を０．２〔ｐｐｍ〕以下に低減化するためには、ポリカーボネート樹脂の精製を行う。
【００２９】
精製の方法としては、例えば、ホスゲン法により作製した重合体の溶液から、不純物である塩類、アルカリ等の電界質を除去するための水洗工程を繰り返して行い、溶剤である塩化メチレンを除去することにより、ポリカーボネート樹脂に含有されている塩素イオンの量を、シート状に形成したときに０．２〔ｐｐｍ〕以下に低減化させることができる。
【００３０】
なお、ポリカーボネート樹脂中の塩素イオン濃度の測定は、電位差滴定法によって測定することができる。すなわち、試料として５〔ｇ〕採取し、これを精秤してメチレンクロライド１５０〔ｍｌ〕に溶解し、これにアセトンを加えて直ちに０．００５〔ｍｏｌ／ｌ〕の硝酸銀／アセトン溶液で自動滴定装置を用いて電位差滴定により塩素イオン濃度を求める。
【００３１】
光透過保護層６の形成方法については、先ず第１の方法として例えば、案内溝等の微細凹凸を形成した非磁性支持基板１上に、各種光学記録媒体に応じた材料からなる光記録層２を成膜形成し、次に、表面が光学的に充分平滑なポリカーボネート樹脂のシートを例えば紫外線硬化性樹脂の接着剤をスピンコートしてこれを介して貼り合わせたり、あるいは粘着性を有するシートを介して貼り合わせたりして、紫外線照射によりこれを硬化させて光透過保護層６を形成する方法が挙げられる。
第２の方法としては、光記録層２上に液状の紫外線硬化性樹脂を、スピンコートにより１００〔μｍ〕以下程度の所定の厚さになるように塗布し、紫外線照射によりこれを硬化させて光透過保護層６を形成する方法が挙げられる。
第３の方法としては、最終的に光透過保護層６を構成することとなるポリカーボネートのシートに予めピットやグルーブ等の微細凹凸を形成しておき、これを光記録層２と貼り合わせる方法が挙げられる。
なお、シートに予めピットやグルーブを形成するには、従来公知の方法、すなわち、射出成形法、フォトポリマリゼイション法（２Ｐ法）を適用することができる。
【００３２】
また、本発明の光学記録媒体を、相変化型の光学記録媒体として作製する場合には、光記録層２を構成する材料層中に相変化材料を用いる。
相変化材料とは、レーザー光の照射により、可逆的な状態変化を生じる材料である、特にアモルファス状態と結晶状態との可逆的相変化を生じる材料が好適であり、カルコゲン化合物あるいは単体のカルコゲン等、従来公知の材料をいずれも適用することができる。
例えば、Ｔｅ，Ｓｅ，Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ，Ｇｅ−Ｔｅ，Ｓｂ−Ｔｅ，Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ，Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ，Ａｕ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ，Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ−Ｐｄ，Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ−Ｓｅ，Ｉｎ−Ｓｎ−Ｓｅ，Ｂｉ−Ｔｅ，Ｂｉ−Ｓｅ，Ｓｂ−Ｓｅ，Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ−Ｂｉ，Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ−Ｃｏ，Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ−Ａｕを含む系、あるいはこれらの系に窒素、酸素等のガス添加物を導入した系等を挙げることができる。これらのうち、特に好適なものとしては、Ｓｂ−Ｔｅ系を主成分とするものである。これに任意の元素例えばＳｅやＰｄ、あるいはＧｅやＩｎを添加したものを適用することができる。
【００３３】
また、本発明の光学記録媒体は、相変化型光学記録媒体の他、光磁気記録媒体にも適用することができる。
この場合には、図２の光記録層２を構成する層中に、光磁気材料による層を形成する。例えば、Ｔｂ−Ｆｅ系、Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ系、Ｇｄ−Ｆｅ系、Ｇｄ−Ｆｅ−Ｃｏ系の光磁気記録材料等、従来公知の材料をいずれも適用することができる。
【００３４】
また、本発明の光学記録媒体を図３に示すようなＲＯＭ型の光ディスクとする場合には、図２の光記録層２を構成する材料層として、Ａｌ合金、Ａｇ合金等従来公知の金属材料を適用することができる。
【００３５】
また、記録材料層４は単層あるいは多層構造のいずれの場合にも適用することができるが、図４に示すような複数の層からなる構成の光学記録媒体５０としてもよい。
【００３６】
図１および図４に示す構造の光学記録媒体の場合には、金属反射層８には、反射としての機能を考慮する場合には、記録再生用のレーザー光の波長に対して反射能を有し、熱伝導率が０．０００４〔Ｊ／（ｃｍ・Ｋ・ｓ）〕〜４．５〔Ｊ／（ｃｍ・Ｋ・ｓ）〕の範囲の値を有する金属元素、半金属元素およびこれらの化合物、混合物を適用することが望ましい。
具体的には、Ａｌ，Ａｇ，Ａｕ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｔｉ，Ｐｄ，Ｃｏ，Ｓｉ，Ｔａ，Ｗ，Ｍｏ，Ｇｅ等の単体、あるいはこれらを主成分とする合金を挙げることができる。
例えば、Ａｌ−Ｔｉ，Ａｌ−Ｃｒ，Ａｌ−Ｃｏ，Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ，Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ，Ａｇ−Ｐｄ−Ｔｉ，Ｓｉ−Ｂ等が挙げられる。
実際に記録材料膜として成膜する場合にはこれらの材料の光学特性を考慮して記録材料層に適用することが必要である。すなわち、一般には材料の膜厚を光が透過しない程度、例えば５０ｎｍ程度以上に厚く形成すると、反射率が高くなったり、熱が逃げやすくなったりする。特にＡｌ系やＡｇ系の材料は、短波長領域においても高反射率を有する（例えばλ＝４００ｎｍのとき、８０％以上）ので、金属反射層の材料として好適である。
【００３７】
また、図１に示す光学記録媒体１０において、金属反射層８を２層以上の多層構造とすることもできる。
このようにすることによって、光学設計が容易になり、かつ熱特性とのバランスを取ることも容易になる。
【００３８】
また、図１および図４に示した第１の誘電体層３および第２の誘電体層５には、記録再生用のレーザー光の適用波長に対して吸収能のないものが望ましく、具体的には消衰係数ｋの値が０．３以下である材料が望ましい。
かかる材料としては、例えばＺｎＳ−ＳｉＯ2 混合体（モル比約４：１）を挙げることができる。ＺｎＳ−ＳｉＯ2 混合体以外にも、従来より光学記録媒体作製用に用いられている誘電体の材料をいずれも用いることができる。
例えば、Ａｌ，Ｓｉ，Ｔａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｇ，Ｂ，Ｚｎ，Ｐｄ，Ｃａ，Ｌａ，Ｇｅ等の金属および半金属等の元素の窒化物、酸化物、炭化物、フッ化物、窒酸化物、窒炭化物、酸炭化物等からなる層、およびこれらを主成分とする材料を適用することができる。
具体的には、ＡｌＮx （０．５≦ｘ≦１）、特にＡｌＮ、Ａｌ2 Ｏ3-x （０≦ｘ≦１）特にＡｌ2 Ｏ3 、Ｓｉ3 Ｎ4-x （０≦ｘ≦１）特にＳｉ3 Ｎ4 、ＳｉＯx （１≦ｘ≦２）、特にＳｉＯ2 ，ＳｉＯ，ＭｇＯ，Ｙ2 Ｏ3 ，ＭｇＡｌ2 Ｏ4 ，ＴｉＯx （１≦ｘ≦２）、特にＴｉＯ2 ，ＢａＴｉＯ3 ，ＳｔＴｉＯ3 ，Ｔａ2 Ｏ5-x （０≦ｘ≦１）、特にＴａ2 Ｏ5 、ＧｅＯx （１≦ｘ≦２）、ＳｉＣ，ＺｎＳ，ＰｄＳ，Ｇｅ−Ｎ，Ｇｅ−Ｎ−Ｏ，Ｓｉ−Ｎ−Ｏ，Ｃａ−Ｆ2 ，Ｌａ−Ｆ，ＭｇＦ2 ，ＮａＦ，ＴｈＦ4 等のいずれも適用することができる。
これらからなる層およびこれらを主成分とする層が適用可能であり、あるいはこれらの混合物、例えばＡｌＮ−ＳｉＯ2 からなる層を誘電体層として適用することもできる。
【００３９】
次に、光学記録媒体を構成する光透過保護層６を構成するポリカーボネート樹脂の塩素イオン除去工程において除去の程度を調整し、残留塩素イオン濃度を異にする樹脂シート（厚さ１００μｍ程度）を作製し、これを用いてそれぞれサンプルの光学記録媒体を作製し、これら各サンプルについて、所定条件下保存後の単位面積当たりの腐食面積割合〔％〕の測定を行った。
なお、残留塩素イオン濃度の定量は、電位差滴定法を用いて行った。すなわち、各樹脂シートから５〔ｇ〕試料として切り取り、これを精秤してメチレンクロライド１５０〔ｍｌ〕に溶解し、これにアセトンを加えて直ちに０．００５〔Ｍ〕硝酸銀／アセトン溶液で自動滴定装置を用いて電位差滴定により、塩素イオン濃度を測定するものとする。
【００４０】
〔実施例１〕
以下の残留塩素イオン濃度を有するシートを作製した。
残留塩素イオン濃度が０．１〔ｐｐｍ〕のシートをシートＡとする。
残留塩素イオン濃度が０．２〔ｐｐｍ〕のシートをシートＢとする。
残留塩素イオン濃度が０．４〔ｐｐｍ〕のシートをシートＣとする。
残留塩素イオン濃度が０．５〔ｐｐｍ〕のシートをシートＤとする。
これらの各シートを用いて、図１に示したような構造の光学記録媒体をそれぞれ作製する。
この場合、非磁性支持基板１としてポリカーボネート基板、金属反射層８としてＡｇ合金の反射膜、第１の誘電体層３としてＺｎＳ−ＳｉＯ2 誘電体層、記録材料層４としてＳｂＴｅ系相変化記録膜、第２の誘電体層５としてＺｎＳ−ＳｉＯ2 誘電体層をそれぞれ成膜し、その後光透過保護層６として、上記シートＡ〜Ｄを成膜した。
なお、貼り合わせに用いる紫外線硬化性樹脂の接着剤中の遊離塩素イオン濃度は、０．２〔ｐｐｍ〕であるものとした。
ここで、シートＡを用いて作製した光学記録媒体を光学記録媒体ａとする。
シートＢを用いて作製した光学記録媒体を光学記録媒体ｂとする。
シートＣを用いて作製した光学記録媒体を光学記録媒体ｃとする。
シートＤを用いて作製した光学記録媒体を光学記録媒体ｄとする。
【００４１】
上述のようにして作製した各光学記録媒体ａ〜ｄについて、腐食の増加の程度を評価する。
この評価方法としては、８０℃、相対湿度８５％の条件下で、各光学記録媒体を、所定の時間ｔ（ｈｒ）静置して、その後の単位面積当たりの腐食面積の割合〔％〕を測定するものとした。
この評価結果を図５に示す。
【００４２】
図５においては、曲線ａ〜曲線ｄは、光学記録媒体ａ〜ｄにそれぞれ対応する測定結果とする。
この図５に示すように、残留塩素イオン濃度が０．２〔ｐｐｍ〕の樹脂シートＢ（光学記録媒体ｂ）および残留塩素イオン濃度が０．１〔ｐｐｍ〕の樹脂シートＡ（光学記録媒体ａ）については、腐食が認められず、良好な耐蝕性を示すことがわかる。
一方、残留塩素イオン濃度が０．４〔ｐｐｍ〕の樹脂シートＣ（光学記録媒体ｃ）および残留塩素イオン濃度が０．５〔ｐｐｍ〕の樹脂シートＤ（光学記録媒体ｄ）においては、時間の経過に従って、単位面積当たりの腐食面積割合が増加してしまい、耐蝕性の点で劣ることがわかる。
【００４３】
また、残留塩素イオン濃度が０．２〔ｐｐｍ〕の場合と、０．１〔ｐｐｍ〕の場合の結果とを比較してみると、同等に腐食が認められないことから、残留塩素イオン濃度が０．２〔ｐｐｍ〕以下であれば、光学記録媒体の耐蝕性の向上を図る上において、有効であることが明らかになった。
【００４４】
〔実施例２〕
次に、上述した〔実施例１〕の、シートＡを用いて光学記録媒体を作製するが、貼り合わせに用いる紫外線硬化性樹脂の接着剤中の残留塩素イオン濃度が、０．５〔ｐｐｍ〕であるものを用意し、これを用いて、上記〔実施例１〕と同様の構成の光学記録媒体を作製する。このようにして作製した光学記録媒体を、光学記録媒体ｅとする。
光学記録媒体ｅについて、腐食の増加の程度を上記〔実施例１〕と同様の方法により評価する。
【００４５】
図５に示す曲線ｅは、光学記録媒体ｅに対応する測定結果とする。
図５に示すように、残留塩素イオン濃度が０．１〔ｐｐｍ〕の樹脂シートＡを用いても、貼り合わせに用いた紫外線硬化性樹脂の接着剤中の残留塩素イオン濃度が、０．５〔ｐｐｍ〕であると、時間の経過に従って、単位面積当たりの腐食面積割合が増加してしまい、耐蝕性に関して問題があることが分かった。
【００４６】
〔実施例３〕
次に、上述した〔実施例１〕の、シートＡを用いて光学記録媒体を作製するが、貼り合わせに、残留塩素イオン濃度が、０．１５〔ｐｐｍ〕であるアクリル系材料からなる接着剤を用いて、上記〔実施例１〕と同様の構成の光学記録媒体を作製する。
このようにして作製した光学記録媒体を、光学記録媒体ｆとする。
光学記録媒体ｆについて、腐食の増加の程度を上記〔実施例１〕と同様の方法により評価する。
【００４７】
図５に示す曲線ｆは、光学記録媒体ｆに対応する測定結果とする。
図５に示すように、残留塩素イオン濃度が０．１〔ｐｐｍ〕の樹脂シートＡを用い、かつ貼り合わせに用いた接着剤中の残留塩素イオン濃度が、０．１５〔ｐｐｍ〕であるものを用いた場合には、腐食が認められず、良好な耐蝕性を示すことがわかる。
【００４８】
〔実施例４〕
次に、光学記録媒体を構成する光透過保護層６として、ポリオレフィン樹脂を用意し、樹脂中の塩素イオン除去工程において残留塩素イオン濃度を０．２〔ｐｐｍ〕以下程度として樹脂シートＧ（厚さ１００μｍ程度）を作製した。
この樹脂シートＧを用いて、上記〔実施例１〕と同様の構造の光学記録媒体ｇを作製し、上記〔実施例１〕と同様の方法により、単位面積当たりの腐食面積割合〔％〕の測定を行った。
なお、樹脂シートＧの貼り合わせに用いる接着剤としては、紫外線硬化性樹脂を用い、この樹脂中の遊離塩素イオン濃度は、０．２〔ｐｐｍ〕以下であるものとした。
図５に示す曲線ｇは、光学記録媒体ｇに対応する測定結果とする。
図５に示すように、残留塩素イオン濃度が０．２〔ｐｐｍ〕以下の樹脂シートＧを用い、かつ貼り合わせに用いた接着剤中の残留塩素イオン濃度が、０．２〔ｐｐｍ〕以下であるものを用いた場合には、腐食が認められず、良好な耐蝕性を示すことがわかる。
【００４９】
次に、上述した〔実施例１〕のシートＡを用いて光学記録媒体を作製するが、この場合の光学記録媒体は、図３に示したＲＯＭ型の構成を有するものとする。なお、非磁性支持基板１は、ポリカーボネート樹脂を用い、金属反射層２は、Ａｌ反射膜を成膜した。
また、シートＡの貼り合わせに、残留塩素イオン濃度が、０．２〔ｐｐｍ〕以下の紫外線硬化性樹脂からなる接着剤を用いた。
このようにして作製した光学記録媒体を、光学記録媒体ｈとする。
光学記録媒体ｈについて、腐食の増加の程度を上記〔実施例１〕と同様の方法により評価する。
【００５０】
図５に示す曲線ｈは、光学記録媒体ｈに対応する測定結果とする。
図５に示すように、残留塩素イオン濃度が０．１〔ｐｐｍ〕の樹脂シートＡを用い、かつ貼り合わせに用いた接着剤中の残留塩素イオン濃度が、０．２〔ｐｐｍ〕以下であるものを用いた場合には、腐食が認められず、良好な耐蝕性を示すことがわかる。
【００５１】
上述したように、厚さ１０〜１７７〔μｍ〕の光透過保護層６中の、残留塩素イオン濃度を０．２〔ｐｐｍ〕以下に低減化したことによって、光記録層の腐食の発生が抑制され、光学的特性の優れた光学記録媒体を得ることができる。
【００５２】
また、光透過保護層６の作製にあたって用いる接着剤としては、液状の紫外線硬化性樹脂およびアクリル系樹脂の他、従来公知の材料をいずれも適用することができる。なおいずれの場合にも、樹脂中の塩素イオン濃度を０．２〔ｐｐｍ〕以下に低減化してこれを用いて作製した光学記録媒体においては、光記録層の腐食の発生が抑制され、耐蝕性に優れ光学的特性に優れた光学記録媒体を得ることができることが確かめられた。
【００５３】
なお、本発明の光学記録媒体は、上記の例に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、光透過保護層６上に、有機系や無機系の材料からなる保護膜を形成することにより、表面にゴミが付着したり傷が付いたりすることを防止することができる。
なお、この場合の保護膜は、照射するレーザー光に対して高い透過性を有する材料により形成することが望ましい。
【００５４】
また、上記実施例においては、光学記録媒体の光透過保護層６を樹脂シートを用いて作製する場合について示したが、本発明の光学記録媒体は、上記実施例に示した構造に限定されるものではなく、光記録層２上に、液状の紫外線硬化性樹脂をスピンコートしてこれを紫外線硬化して、光透過保護膜６を形成したものについても同様に適用することができる。
【００５５】
【発明の効果】
本発明によれば、厚さ１０〜１７７〔μｍ〕の光透過保護層６中の、残留塩素イオン濃度を０．２〔ｐｐｍ〕以下にしたことによって、光記録層の腐食の発生が抑制され、長期間使用に対する耐久性に優れ、光学的特性に優れた光学記録媒体を得ることができた。
【００５６】
また、光透過保護層６の作製にあたって用いる接着剤中の塩素イオン濃度を０．２〔ｐｐｍ〕以下に低減化してこれを用いて作製した光学記録媒体においては、光記録層の腐食の発生が抑制され、耐蝕性に優れ光学的特性に優れたものとすることができた。
【００５７】
【図面の簡単な説明】
【図１】光学記録媒体の一例の概略構成図を示す。
【図２】本発明の光学記録媒体の光記録層を簡略化して記載した構成図を示す。
【図３】本発明の光学記録媒体の他の一例の概略構成図を示す。
【図４】本発明の光学記録媒体の他の一例の概略構成図を示す。
【図５】光学記録媒体の各サンプルの所定時間静置後の単位面積当たりの腐食面積の割合〔％〕を示す。
【符号の説明】
１  非磁性支持基板  ２  光記録層、３  第１の誘電体層、４  記録材料層、５  第２の誘電体層、６  光透過保護層、７  対物レンズ、８  金属反射層、１０，２０，３０，５０，  光学記録媒体、１１  微細凹凸
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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