(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽極及び陰極からなる一対の電極と、該一対の電極間に順に積層されてなる複数の有機化合物層とを有する有機発光素子において、前記複数の有機化合物層のうち最初に成膜される層が、分子内に３個以上の重合性二重結合基を有するホール輸送性有機化合物の重合膜であることを特徴とする有機発光素子。
【請求項２】
二番目に成膜される層が有機化合物を溶媒に溶解した溶液を用いて成膜された層であることを特徴とする請求項１に記載の有機発光素子。
【請求項３】
前記最初に成膜される層が、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ［３−（メタクリロイルオキシ）フェニル］−４，４’−ジアミノ−１，１’−ビフェニルの重合膜であることを特徴とする請求項１または２に記載の有機発光素子。
【請求項４】
前記最初に成膜される層が、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（３−ビニルフェニル）−４，４’−ジアミノ−１，１’−ビフェニルの重合膜であることを特徴とする請求項１または２に記載の有機発光素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機発光素子に関し、詳しくは有機化合物からなる薄膜に電界を印加することにより光を放出する有機発光素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】
有機発光素子は、陽極と陰極間に蛍光性有機化合物を含む有機薄膜を挟持させ、各電極から電子およびホール（正孔）を注入することにより、蛍光性化合物の励起子を生成させ、この励起子が基底状態に戻る際に放射される光を利用する素子である。
【０００３】
１９８７年コダック社の研究（Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．５１，９１３（１９８７））では、陽極にＩＴＯ、陰極にマグネシウム銀の合金をそれぞれ用い、電子輸送材料および発光材料としてアルミニウムキノリノール錯体を用い、ホール輸送材料にトリフェニルアミン誘導体を用いた機能分離型２層構成の素子で、１０Ｖ程度の印加電圧において１０００ｃｄ／ｍ2程度の発光が報告されている。関連の特許としては、米国特許第４，５３９，５０７号、米国特許４，７２０，４３２号、米国特許第４，８８５，２１１号等が挙げられる。
【０００４】
また、蛍光性有機化合物の種類を変えることにより、紫外から赤外までの発光が可能であり、最近では様々な化合物の研究が活発に行われている。例えば、米国特許第５，１５１，６２９号、米国特許第５，４０９，７８３号、米国特許第５，３８２，４７７号、特開平２−２４７２７８号公報、特開平３−２５５１９０号公報、特開平５−２０２３５６号公報、特開平９−２０２８７８号公報、特開平９−２２７５７６号公報等に記載されている。
【０００５】
さらに、上記のような低分子材料を用いた有機発光素子の他にも、共役系高分子を用いた有機発光素子が、ケンブリッジ大学のグループ（“Ｎａｔｕｒｅ”，３４７，５３９（１９９０））により報告されている。この報告ではポリフェニレンビニレン（ＰＰＶ）を塗工系で成膜することにより、単層で発光を確認している。共役系高分子を用いた有機発光素子の関連特許としては、米国特許第５，２４７，１９０号、米国特許第５，５１４，８７８号、米国特許第５，６７２，６７８号、特開平４−１４５１９２号公報、特開平５−２４７４６０号公報等が挙げられる。
【０００６】
このように有機発光素子における最近の進歩は著しく、その特徴は低印加電圧で高輝度、発光波長の多様性、高速応答性、薄型、軽量の発光デバイス化が可能であることから、広汎な用途への可能性を示唆している。
【０００７】
しかしながら、現状では更なる高輝度の光出力あるいは高変換効率が必要である。また、長時間の使用による経時変化や酸素を含む雰囲気気体や湿気などによる劣化等の耐久性の面で未だ多くの問題がある。さらにはフルカラーディスプレイ等への応用を考えた場合の色純度の良い、青、緑、赤の発光が必要となるが、この問題に関してもまだ十分に解決されていない。
【０００８】
また、重合膜を有機発光素子に利用した例として、第５９回応用物理学会学術講演会予稿集Ｎｏ．３、１０９０（１９９８）、第４６回応用物理学関係連合講演会予稿集Ｎｏ．３、１２５７（１９９９）等が挙げられるが、これらは蒸着重合系であり重合の制御、生産性などの面では問題が残る。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、このような従来技術の問題点を解決するためになされたものであり、極めて高効率で高輝度、高寿命の光出力を有する有機発光素子を提供することにある。また、発光波長に多様性があり、種々の発光色相を呈するとともに極めて耐久性のある有機発光素子を提供する事にある。さらには製造が容易でかつ比較的安価に作成可能な有機発光素子を提供する事にある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上述の課題を解決するために鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。
【００１１】
すなわち本発明の有機発光素子は、陽極及び陰極からなる一対の電極と、該一対の電極間に順に積層されてなる複数の有機化合物層とを有する有機発光素子において、前記複数の有機化合物層のうち最初に成膜される層が、分子内に３個以上の重合性二重結合基を有するホール輸送性有機化合物の重合膜であることを特徴とする。
【００１２】
本発明の有機発光素子において、二番目に成膜される層が有機化合物を溶媒に溶解した溶液を用いて成膜された層であることが好ましい。
【００１３】
また、前記最初に成膜される層が、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ［３−（メタクリロイルオキシ）フェニル］−４，４’−ジアミノ−１，１’−ビフェニルの重合膜であることが好ましい。
【００１４】
また、前記最初に成膜される層が、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（３−ビニルフェニル）−４，４’−ジアミノ−１，１’−ビフェニルの重合膜であることが好ましい。
【００１８】
【発明の実施の形態】
本発明の有機発光素子は、陽極及び陰極からなる一対の電極と、該一対の電極間に挟持された一または複数の有機化合物からなる層を少なくとも有し、前記有機化合物からなる層のうち少なくとも一層は、分子内に少なくとも２個以上の重合性二重結合基を有する有機化合物の重合膜から成ることを特徴とする有機発光素子である。
【００１９】
重合性二重結合としては、炭素−炭素の二重結合が好ましく、具体的には置換または未置換のビニル基、置換または未置換の（メタ）アクリル酸エステル基等が挙げられる。
【００２０】
分子内に少なくとも２個以上の重合性二重結合基を有する有機化合物がホール輸送性化合物である場合には、例えば、トリアリールアミン誘導体、テトラアリールビフェニルジアミン誘導体、スチルベン系アリールアミン誘導体、オリゴチオフェン誘導体等のホール輸送性化合物に２個以上の重合性二重結合基を導入したものが挙げられる。
【００２１】
分子内に少なくとも２個以上の重合性二重結合基を有する有機化合物が電子輸送性化合物である場合には、例えば、フェニレンビニレン誘導体、ベンズオキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、ポリフェニレン誘導体、ピリジン誘導体、ピラゾン誘導体、アゾメチン誘導体、フルオレノン誘導体、フルオニリデン誘導体、ペリレン誘導体等の電子輸送性化合物に２個以上の重合性二重結合基を導入したものが挙げられる。
【００２２】
分子内に少なくとも２個以上の重合性二重結合基を有する有機化合物が発光性化合物である場合には、例えば、フェニレンビニレン誘導体、縮合多環芳香族誘導体、キナクリドン誘導体、スチルベン誘導体、クマリン誘導体、ピラン誘導体、オキサゾリン誘導体、ポルフィリン誘導体、ピラジン誘導体、有機金属錯体類、ペリレン誘導体等の発光性化合物に２個以上の重合性二重結合基を導入したものが挙げられる。
【００２３】
以上に挙げた、分子内に少なくとも２個以上の重合性二重結合基を有するホール輸送材料、電子輸送材料、発光性材料はあくまで代表的なものであり、もちろんこれらに限定されるものではない。
【００２４】
分子内に少なくとも２個以上の重合性二重結合基を有する化合物の重合膜は、乾式成膜法あるいは湿式成膜法により成膜された該化合物の膜を重合硬化させて形成することができる。
【００２５】
ホール輸送性、電荷輸送性あるいは発光性を有する有機化合物自体に複数個の重合性二重結合を持たせ、単分子あるいはオリゴマーの状態で成膜し、成膜後重合を促進させて硬化重合膜を形成することにより、有機化合物同士の凝集、結晶化等は起こらず、極めて安定で耐久性に優れた有機発光素子を得ることができ、好ましい。
【００２６】
乾式成膜法の具体的な例としては、真空蒸着法、イオンプレーティング法，ＭＢＥ法等の物理気相成長法あるいはプラズマ重合等のＣＶＤ法が挙げられる。湿式成膜法としては、キャスト法、スピンコート法等の塗布法、ディッピング法、ＬＢ法、印刷法、インクジェットプリンティング法等が用いられる。
【００２７】
これらのうちでも、塗布法、印刷法、インクジェットプリンティング法が好ましい。
【００２８】
また、重合硬化するためには、熱、光、電子線などを用いて重合速度を促進する事が出来る。さらに、熱あるいは光を利用する場合には適当な重合開始剤を併用する事も可能である。
【００２９】
有機化合物からなる層の厚みは１０μｍより薄く、好ましくは０．５μｍ以下、より好ましくは０．０１〜０．５μｍの厚みに薄膜化することが好ましい。
【００３０】
以下に、図面に沿って本発明を更に詳細に説明する。
【００３１】
図１は本発明の有機発光素子の一例を示す断面図である。図１は基板１上に陽極２、発光層３及び陰極４を順次設けた構成のものである。ここで使用する発光素子はそれ自体でホール輸送能、エレクトロン輸送能及び発光性の性能を単一で有している場合や、それぞれの特性を有する化合物を混合して使う場合に有用である。
【００３２】
図２は本発明の有機発光素子の他の例を示す断面図である。図２は基板１上に陽極２、ホール輸送層５、電子輸送層６及び陰極４を順次設けた構成のものである。この場合は発光物質はホール輸送性かあるいは電子輸送性のいづれかあるいは両方の機能を有している材料をそれぞれの層に用い、発光性の無い単なるホール輸送物質あるいは電子輸送物質と組み合わせて用いる場合に有用である。また、この場合発光層３はホール輸送層５あるいは電子輸送層６のいずれかから成る。
【００３３】
図３は本発明の有機発光素子の他の例を示す断面図である。図３は基板１上に陽極２、ホール輸送層５、発光層３、電子輸送層６及び陰極４を順次設けた構成のものである。これはキャリヤ輸送と発光の機能を分離したものであり、ホール輸送性、電子輸送性、発光性の各特性を有した化合物と適時組み合わせて用いら、極めて材料選択の自由度が増すとともに、発光波長を異にする種々の化合物が使用できるため、発光色相の多様化が可能になる。さらに、中央の発光層に各キャリヤあるいは励起子を有効に閉じこめて発光効率の向上を図ることも可能になる。
【００３４】
ただし、図１〜３はあくまでごく基本的な素子構成であり、本発明の化合物を用いた有機発光素子の構成はこれらに限定されるものではない。例えば、電極と有機層界面に絶縁性層を設ける、接着層あるいは干渉層を設ける、ホール輸送層がイオン化ポテンシャルの異なる２層から構成される、電子注入効率の良い電子注入層を陰極、電子輸送層界面に挿入する、など多様な層構成をとることができる。
【００３５】
本発明においては、分子内に少なくとも２個以上の重合性二重結合を有する有機化合物の重合膜からなる層は、ホール注入輸送層、電子輸送層、発光層のいずれにも適用することができるが、これまで知られているホール輸送性化合物（例えば、下記の化１〜２に示される化合物等）あるいは発光性化合物（例えば、下記の化３〜６に示される化合物等）また電子輸送性化合物（例えば、下記の化３〜５に示される化合物等）を必要に応じて一緒に使用することもできる。
【００３６】
【化１】
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【００３７】
【化２】
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【００３８】
【化３】
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【００３９】
【化４】
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【００４０】
【化５】
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【００４１】
【化６】
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【００４２】
また、図２，図３のように有機化合物からなる層を少なくとも二層以上有する場合には、最初に成膜する層（図２，図３においてはホール輸送層）、好ましくは最初に成膜する層および第二番目に成膜する層（図２においてはホール輸送層及び電子輸送層，図３においてはホール輸送層及び発光層）が、分子内に少なくとも２個以上の重合性二重結合を有する有機化合物の重合膜からなる層であることが好ましい。この場合、最初に成膜する層が、分子内に少なくとも３個以上の重合性二重結合基を有する有機化合物の重合膜であることが好ましい。
【００４３】
また、図３のように有機化合物からなる層を少なくとも三層以上有する場合には、少なくとも三層が分子内に少なくとも２個以上の重合性二重結合を有する有機化合物の重合膜からなる層であることが好ましい。
【００４４】
本発明の有機発光素子において、分子内に少なくとも２個以上の重合性二重結合を有する有機化合物の重合膜からなる層以外の有機化合物からなる層は、一般には真空蒸着法あるいは適当な溶媒に溶解させて塗布法により薄膜を形成する。特に塗布法で成膜する場合は、適当な結着樹脂と組み合わせて膜を形成することもできる。
【００４５】
上記結着樹脂としては広範囲な結着性樹脂より選択でき、たとえばポリビニルカルバゾール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ブチラール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリスルホン樹脂、尿素樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらは単独または共重合体ポリマーとして１種または２種以上混合してもよい。
【００４６】
陽極材料としては仕事関数がなるべく大きなものがよく、例えば、金、白金、ニッケル、パラジウム、コバルト、セレン、バナジウム等の金属単体あるいはこれらの合金、酸化錫、酸化亜鉛、酸化錫インジウム（ＩＴＯ），酸化亜鉛インジウム等の金属酸化物が使用できる。また、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリフェニレンスルフィド等の導電性ポリマーも使用できる。これらの電極物質は単独で用いてもよく、複数併用することもできる。
【００４７】
一方、陰極材料としては仕事関数の小さなものがよく、リチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、アルミニウム、インジウム、銀、鉛、錫、クロム等の金属単体あるいは複数の合金として用いることができる。酸化錫インジウム（ＩＴＯ）等の金属酸化物の利用も可能である。また、陰極は一層構成でもよく、多層構成をとることもできる。
【００４８】
本発明で用いる基板としては、特に限定するものではないが、金属製基板、セラミックス製基板等の不透明性基板、ガラス、石英、プラスチックシート等の透明性基板が用いられる。また、基板にカラーフィルター膜、蛍光色変換フィルター膜、誘電体反射膜などを用いて発色光をコントロールする事も可能である。
【００４９】
なお、作成した素子に対して、酸素や水分等との接触を防止する目的で保護層あるいは封止層を設けることもできる。保護層としては、ダイヤモンド薄膜、金属酸化物、金属窒化物等の無機材料膜、フッソ樹脂、ポリパラキシレン、ポリエチレン、シリコーン樹脂、ポリスチレン樹脂等の高分子膜、さらには光硬化性樹脂等が挙げられる。また、ガラス、気体不透過性フィルム、金属などをカバーし、適当な封止樹脂により素子自体をパッケージングすることもできる。この場合吸水性の高い物質をパッケージング内に存在させる事も可能である。
【００５０】
【実施例】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明していくが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５１】
［参考例１］
ガラス基板上に酸化錫インジウム（ＩＴＯ）をスパッタ法にて１２０ｎｍの膜厚で成膜したものを透明導電性支持基板として用いた。これをアセトン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）で順次超音波洗浄し、ＩＰＡで煮沸洗浄、乾燥をした。さらに、ＵＶ／オゾン洗浄したものを透明導電性支持基板として使用した。
【００５２】
Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’ジ（４−ビニルフェニル）−４，４’−ジアミノ −１，１’−ビフェニル（ＤＰＤＶＤＡＢ）をトルエンに溶解し１．０ｗｔ％の塗布液を調整した。この塗布液を用いて、透明支持基板上にスピンコート法（２０００ｒｐｍ）により成膜し、窒素雰囲気下、８０℃にて１０分間、１２０℃にて１０時間熱処理を行い５０ｎｍの膜厚の重合膜を作成した。
【００５３】
さらに、アルミニウムトリスキノリノール（Ａ１ｑ3）を真空蒸着法にて膜厚５０ｎｍの電子輸送兼発光層を形成した。蒸着時の真空度は１．０×１０-4Ｐａ、成膜速度は０．３ｎｍ／ｓｅｃの条件で成膜した。
【００５４】
次に、アルミニウムとリチウム（リチウム濃度１原子％）からなる蒸着材料を用いて、先ほどの有機層の上に、真空蒸着法により厚さ１５０ｎｍの金属層膜を形成し、図２に示す構造の素子を作成した。蒸着時の真空度は１．０×１０-4Ｐａ、成膜速度は１．０〜１．２ｎｍ／ｓｅｃの条件で成膜した。
【００５５】
［参考例２］
ガラス基板上に酸化錫インジウム（ＩＴＯ）をスパッタ法にて１２０ｎｍの膜厚で成膜したものを透明導電性支持基板として用いた。これをアセトン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）で順次超音波洗浄し、ＩＰＡで煮沸洗浄、乾燥をした。さらに、ＵＶ／オゾン洗浄したものを透明導電性支持基板として使用した。
【００５６】
透明導電性支持基板上に、参考例１で用いたＤＰＤＶＤＡＢを真空蒸着法により成膜し、紫外線を５分照射した後１２０℃にて２時間熱処理を行い、膜厚５０ｎｍの重合膜を作成した。
【００５７】
さらに、アルミニウムトリスキノリノール（Ａ１ｑ3）を真空蒸着法にて膜厚５０ｎｍの電子輸送兼発光層を形成した。蒸着時の真空度は１．０×１０-4Ｐａ、成膜速度は０．３ｎｍ／ｓｅｃの条件で成膜した。
【００５８】
次に、アルミニウムとリチウム（リチウム濃度１原子％）からなる蒸着材料を用いて、先ほどの有機層の上に、真空蒸着法により厚さ１５０ｎｍの金属層膜を形成し、図２に示す構造の素子を作成した。蒸着時の真空度は１．０×１０-4Ｐａ、成膜速度は１．０〜１．２ｎｍ／ｓｅｃの条件で成膜した。
【００５９】
［比較例１］
参考例１，２のホール輸送層をＮ，Ｎ‘−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ（３−メチルフェニル）−４，４‘−ジアミノ−１，１’−ビフェニルに変えた他は参考例１の素子と全く同様にして比較例１の素子を作成した。
【００６０】
この様にして得られた素子に、ＩＴＯ電極を正極、Ａ１−Ｌｉ電極を負極にして、真空中で直流電圧を印加して１００時間連続発光させた結果を表に示す。
【００６１】
【表１】
0004040235.tif 000008
【００６２】
［参考例３］
ガラス基板上に酸化錫インジウム（ＩＴＯ）をスパッタ法にて１２０ｎｍの膜厚で成膜したものを透明導電性支持基板として用いた。これをアセトン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）で順次超音波洗浄し、ＩＰＡで煮沸洗浄、乾燥をした。さらに、ＵＶ／オゾン洗浄したものを透明導電性支持基板として使用した。
【００６３】
Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’ジ（４−ビニルフェニル）−４，４’−ジアミノ −１，１’−ビフェニル（ＤＰＤＶＤＡＢ）１重量部およびＭＥＨ−ＰＰＶ１重量部をパラキシレン１４８重量部に溶解し１．３３ｗｔ％の塗布液を調整した。この塗布液を用いて、透明支持基板上にスピンコート法（２０００ｒｐｍ）により成膜し、窒素雰囲気下、８０℃にて１０分間、１２０℃にて１０時間熱処理を行い７０ｎｍの膜厚の重合膜を作成した。
【００６４】
次に、アルミニウムとリチウム（リチウム濃度１原子％）からなる蒸着材料を用いて、先ほどの有機層の上に、真空蒸着法により厚さ１５０ｎｍの金属層膜を形成し、図１に示す構造の素子を作成した。蒸着時の真空度は１．０×１０-4Ｐａ、成膜速度は１．０〜１．２ｎｍ／ｓｅｃの条件で成膜した。
【００６５】
この様にして作製した素子に、ＩＴＯ電極を陽極にアルミニウム、リチウム電極を陰極に直流の電圧を印加したところ、１０（Ｖ）の印加電圧で１６０ｍＡ／ｃｍ2の電流が流れ、２７００ｃｄ／ｍ2の燈色発光が観測された。
【００６６】
［実施例１］
ガラス基板上に酸化錫インジウム（ＩＴＯ）をスパッタ法にて１２０ｎｍの膜厚で成膜したものを透明導電性支持基板として用いた。これをアセトン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）で順次超音波洗浄し、ＩＰＡで煮沸洗浄、乾燥をした。さらに、ＵＶ／オゾン洗浄したものを透明導電性支持基板として使用した。
【００６７】
Ｎ，Ｎ，Ｎ‘，Ｎ’−テトラ［３−（メタクリロイルオキシ）フェニル］−４，４‘−ジアミノ−１，１’−ビフェニル（ＴＭＤＡＢ）およびＴＭＤＡＢに対して２ｗｔ％のベンゾイルパーオキサイドをトルエンに溶解し１．０ｗｔ％の塗布液を調整した。この塗布液を用いて、透明支持基板上にスピンコート法（２０００ｒｐｍ）により成膜し、窒素雰囲気下、８０℃にて１０分間、１２０℃にて８時間熱処理を行い６５ｎｍの重合膜を作成した。
【００６８】
次に、２，５−ビス（４−スチリルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールをトルエンに溶解し１．０ｗｔ％の塗布液を調整した。この塗布液を用いて、先に作製したホール輸送層上にスピンコート法（２０００ｒｐｍ）により成膜し、窒素雰囲気下、８０℃にて３時間、１２０℃にて８時間熱処理を行い５０ｎｍの重合膜を作成した。
【００６９】
さらに、マグネシウム及び銀を用いて、先ほどの有機層の上に、マグネシウム：銀の重量比率が９：１になるよう共蒸着を行い２００ｎｍの金属層膜を形成し、図２に示す構造の素子を作成した。蒸着時の真空度は１．０×１０-4Ｐａ、成膜速度は１．０〜１．２ｎｍ／ｓｅｃの条件で成膜した。
【００７０】
この様にして作製した素子に、ＩＴＯ電極を陽極にマグネシウム銀電極を陰極に直流の電圧を印加したところ、１０（Ｖ）の印加電圧で２３０ｍＡ／ｃｍ2の電流が流れ、３５９０ｃｄ／ｍ2の青色発光が観測された。
【００７１】
［実施例２］
ガラス基板上に酸化錫インジウム（ＩＴＯ）をスパッタ法にて１２０ｎｍの膜厚で成膜したものを透明導電性支持基板として用いた。これをアセトン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）で順次超音波洗浄し、ＩＰＡで煮沸洗浄、乾燥をした。さらに、ＵＶ／オゾン洗浄したものを透明導電性支持基板として使用した。
【００７２】
Ｎ，Ｎ，Ｎ‘，Ｎ’−テトラ［３−（メタクリロイルオキシ）フェニル］−４，４‘−ジアミノ−１，１’−ビフェニル（ＴＭＤＡＢ）およびＴＭＤＡＢに対して２ｗｔ％のベンゾイルパーオキサイドをトルエンに溶解し１．０ｗｔ％の塗布液を調整した。この塗布液を用いて、透明支持基板上にスピンコート法（２０００ｒｐｍ）により成膜し、窒素雰囲気下、８０℃にて１０分間、１２０℃にて８時間熱処理を行い６５ｎｍの重合膜を作成した。
【００７３】
次に、２，５−ビス（４−スチリルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＢＳＯＸＤ）およびクマリン６（ＢＳＯＸＤに対し１ｗｔ％量）をトルエンに溶解し１．０ｗｔ％の塗布液を調整した。この塗布液を用いて、先に作製したホール輸送層上にスピンコート法（２０００ｒｐｍ）により成膜し、窒素雰囲気下、８０℃にて３時間、１２０℃にて８時間熱処理を行い５０ｎｍの重合膜を作成した。
【００７４】
さらに、マグネシウム及び銀を用いて、先ほどの有機層の上に、マグネシウム：銀の重量比率が９：１になるよう共蒸着を行い２００ｎｍの金属層膜を形成し、図２に示す構造の素子を作成した。蒸着時の真空度は１．０×１０-4Ｐａ、成膜速度は１．０〜１．２ｎｍ／ｓｅｃの条件で成膜した。
【００７５】
この様にして作製した素子に、ＩＴＯ電極を陽極にマグネシウム銀電極を陰極に直流の電圧を印加したところ、１０（Ｖ）の印加電圧で２８０ｍＡ／ｃｍ2の電流が流れ、３９０００ｃｄ／ｍ2の緑色発光が観測された。
【００７６】
［実施例３］
ガラス基板上に酸化錫インジウム（ＩＴＯ）をスパッタ法にて１２０ｎｍの膜厚で成膜したものを透明導電性支持基板として用いた。これをアセトン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）で順次超音波洗浄し、ＩＰＡで煮沸洗浄、乾燥をした。さらに、ＵＶ／オゾン洗浄したものを透明導電性支持基板として使用した。
【００７７】
Ｎ，Ｎ，Ｎ‘，Ｎ’−テトラ［３−（メタクリロイルオキシ）フェニル］−４，４‘−ジアミノ−１，１’−ビフェニル（ＴＭＤＡＢ）およびＴＭＤＡＢに対して２ｗｔ％のベンゾイルパーオキサイドをトルエンに溶解し１．０ｗｔ％の塗布液を調整した。この塗布液を用いて、透明支持基板上にスピンコート法（２０００ｒｐｍ）により成膜し、窒素雰囲気下、８０℃にて１０分間、１２０℃にて８時間熱処理を行い６５ｎｍの重合膜を作成した。
【００７８】
次に、２，５−ビス（４−スチリルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＢＳＯＸＤ）および５，１１−ジフェニル−６，１２−ジ（４−ビニルフェニル）ナフタセン（ＢＳＯＸＤに対し１ｗｔ％量）をトルエンに溶解し１．０ｗｔ％の塗布液を調整した。この塗布液を用いて、先に作製したホール輸送層上にスピンコート法（２０００ｒｐｍ）により成膜し、窒素雰囲気下、８０℃にて３時間、１２０℃にて８時間熱処理を行い５０ｎｍの重合膜を作成した。
【００７９】
さらに、マグネシウム及び銀を用いて、先ほどの有機層の上に、マグネシウム：銀の重量比率が９：１になるよう共蒸着を行い２００ｎｍの金属層膜を形成し、図２に示す構造の素子を作成した。蒸着時の真空度は１．０×１０-4Ｐａ、成膜速度は１．０〜１．２ｎｍ／ｓｅｃの条件で成膜した。
【００８０】
この様にして作製した素子に、ＩＴＯ電極を陽極にマグネシウム銀電極を陰極に直流の電圧を印加したところ、１０（Ｖ）の印加電圧で３１０ｍＡ／ｃｍ2の電流が流れ、４２５００ｃｄ／ｍ2の黄色発光が観測された。
【００８１】
［実施例４］
ガラス基板上に酸化錫インジウム（ＩＴＯ）をスパッタ法にて１２０ｎｍの膜厚で成膜したものを透明導電性支持基板として用いた。これをアセトン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）で順次超音波洗浄し、ＩＰＡで煮沸洗浄、乾燥をした。さらに、ＵＶ／オゾン洗浄したものを透明導電性支持基板として使用した。
【００８２】
Ｎ，Ｎ，Ｎ‘，Ｎ’−テトラ［３−ビニルフェニル］−４，４‘−ジアミノ−１，１’−ビフェニル（ＴＶＤＡＢ）およびＴＶＤＡＢに対して２ｗｔ％のベンゾイルパーオキサイドをトルエンに溶解し１．０ｗｔ％の塗布液を調整した。この塗布液を用いて、透明支持基板上にスピンコート法（２０００ｒｐｍ）により成膜し、窒素雰囲気下、紫外線を１０分間照射して、１２０℃にて１時間熱処理を行い５５ｎｍの重合膜を作成した。
【００８３】
次に、４，４‘−ビス［２−フェニル−２−（４−メタクリロイルオキシフェニル）］ビニル−１，１’ビフェニル（ＤＰＤＭＶＢ）および５，１１−ジフェニル−６，１２−ジ（４−ビニルフェニル）ナフタセン（ＤＰＤＭＶＢに対し１ｗｔ％量）をトルエンに溶解し０．２ｗｔ％の塗布液を調整した。この塗布液を用いて、先に作製したホール輸送層上にスピンコート法（２０００ｒｐｍ）により成膜し、窒素雰囲気下、８０℃にて３時間、１２０℃にて８時間熱処理を行い１５ｎｍの重合膜を作成した。
【００８４】
さらに、１，３，５−トリス（４−ビニルフェニル−１，３，４−オキサジアゾイル）ベンゼンをトルエンに溶解して０．３ｗｔ％の塗布液を調整し、これを用いて、スピンコート法（１５００ｒｐｍ）により成膜を行った。窒素雰囲気下、８０℃にて３時間、１２０℃にて８時間熱処理を行い、３５ｎｍの重合膜を作製した。
【００８５】
弗化リチウムを０．３ｎｍ成膜し、その上にアルミニウムを蒸着して２００ｎｍの金属層膜を形成し、図３に示す構造の素子を作成した。蒸着時の真空度は１．０×１０-4Ｐａ、成膜速度は１．０〜１．２ｎｍ／ｓｅｃの条件で成膜した。
【００８６】
この様にして作製した素子に、ＩＴＯ電極を陽極にアルミニウム電極を陰極に直流の電圧を印加したところ、１３（Ｖ）の印加電圧で５３０ｍＡ／ｃｍ2の電流が流れ、２６０００ｃｄ／ｍ2の赤色発光が観測された。また、この素子を定電流（５０ｍＡ／ｃｍ2）で連続駆動したところ初期輝度２５００ｃｄ／ｍ2から５００時間後の輝度２４５０ｃｄ／ｍ2に変化したのみで輝度減少は極めて少なかった。
【００８７】
［実施例５］
ガラス基板上に酸化錫インジウム（ＩＴＯ）をスパッタ法にて１２０ｎｍの膜厚で成膜したものを透明導電性支持基板として用いた。これをアセトン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）で順次超音波洗浄し、ＩＰＡで煮沸洗浄、乾燥をした。さらに、ＵＶ／オゾン洗浄したものを透明導電性支持基板として使用した。
【００８８】
Ｎ，Ｎ，Ｎ‘，Ｎ’−テトラ［３−ビニルフェニル］−４，４‘−ジアミノ−１，１’−ビフェニル（ＴＶＤＡＢ）およびＴＶＤＡＢに対して２ｗｔ％のベンゾイルパーオキサイドをトルエンに溶解し１．０ｗｔ％の塗布液を調整した。この塗布液を用いて、透明支持基板上にスピンコート法（２０００ｒｐｍ）により成膜し、窒素雰囲気下、紫外線を１０分間照射して、１２０℃にて１時間熱処理を行い５５ｎｍの重合膜を作成した。
【００８９】
次に、４，４‘−ビス［２−フェニル−２−（４−メタクリロイルオキシフェニル）］ビニル−１，１’ビフェニル（ＤＰＤＭＶＢ）およびナイルレッド（ＤＰＤＭＶＢに対し１ｗｔ％量）をトルエンに溶解し０．２ｗｔ％の塗布液を調整した。この塗布液を用いて、先に作製したホール輸送層上にスピンコート法（２０００ｒｐｍ）により成膜し、窒素雰囲気下、８０℃にて３時間、１２０℃にて８時間熱処理を行い１５ｎｍの重合膜を作成した。
【００９０】
さらに、アルミニウムキノリノール（Ａ１ｑ3）を真空蒸着法にて膜厚４０ｎｍの電子輸送層を形成した。蒸着時の真空度は１．０×１０-4Ｐａ、成膜速度は０．３ｎｍ／ｓｅｃの条件で成膜した。
【００９１】
弗化リチウムを０．３ｎｍ成膜し、その上にアルミニウムを蒸着して２００ｎｍの金属層膜を形成し、図３に示す構造の素子を作成した。蒸着時の真空度は１．０×１０-4Ｐａ、成膜速度は１．０〜１．２ｎｍ／ｓｅｃの条件で成膜した。
【００９２】
この様にして作製した素子に、ＩＴＯ電極を陽極にアルミニウム電極を陰極に直流の電圧を印加したところ、１３（Ｖ）の印加電圧で９３０ｍＡ／ｃｍ2の電流が流れ、１３９０００ｃｄ／ｍ2の黄色発光が観測された。また、この素子を定電流（５０ｍＡ／ｃｍ2）で連続駆動したところ初期輝度３１００ｃｄ／ｍ2から５００時間後の輝度２９５０ｃｄ／ｍ2に変化したのみで輝度減少は極めて少なかった。
【００９３】
【発明の効果】
本発明の分子内に少なくとも２個以上の重合性二重結合基を有する有機化合物の重合膜を用いた有機発光素子は、実施例および比較例から示される通り、低い印加電圧で高輝度な発光が得られ、耐久性にも優れている。さらに、素子の作成も湿式成膜法を用いて作成可能であり、比較的安価で大面積の素子を容易に作成できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明における有機発光素子の一例を示す断面図である。
【図２】本発明における有機発光素子の他の例を示す断面図である。
【図３】本発明における有機発光素子の他の例を示す断面図である。
【符号の説明】
１    基板
２    陽極
３    発光層
【図１】
0004040235.tif 000009
【図２】
0004040235.tif 000010
【図３】
0004040235.tif 000011