(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブロック内に設けた孔に挿入された円筒形状のホルダを備え、該ホルダの入口端の外周部に環状溝による環状の隙間が設けられ、該環状の隙間を前記ホルダの内周側に連通させるための貫通孔が前記ホルダの入口端に設けられ、前記ホルダの内部には、抵抗物を挿入したバイパス流路が形成され、
また、前記環状の隙間に連通するように前記ブロックに設けられたガス導入孔と、前記ブロックに設けられたガス導出孔と、前記ガス導入孔、ガス導出孔にわたって設けられセンサー部を有するセンサー流路管とを備え、前記ホルダの入口側から流入したガスの一部は前記貫通孔、環状溝、ガス導入孔、センサー流路管、ガス導出孔を流通し、残部は前記ホルダ内部の前記バイパス流路を流通するように構成してあり、
さらに、前記貫通孔を、前記環状の隙間の幅方向中央において前記ガス導入孔に最も近い位置から環状の隙間の周方向に避けた位置に臨ませてあることを特徴とするマスフローメータの流量検出機構。
【請求項２】
ブロック内に設けた孔に挿入された円筒形状のホルダを備え、該ホルダの入口端の外周部に環状溝による環状の隙間が設けられ、該環状の隙間を前記ホルダの内周側に連通させるための貫通孔が前記ホルダの入口端に設けられ、前記ホルダの内部には、抵抗物を挿入したバイパス流路が形成され、
また、前記環状の隙間に連通するように前記ブロックに設けられたガス導入孔と、前記ホルダの下流側に連通するように前記ブロックに設けられたガス導出孔と、前記ガス導入孔、ガス導出孔にわたって設けられセンサー部を有するセンサー流路管とを備え、前記ホルダの入口側から流入したガスの一部は前記貫通孔、環状溝、ガス導入孔、センサー流路管、ガス導出孔を流通して前記ホルダの下流側に至り、残部は前記ホルダ内部の前記バイパス流路を流通して前記ホルダの下流側に至るように構成してあり、
さらに、前記貫通孔を、前記環状の隙間の幅方向中央において前記ガス導入孔に最も近い位置から環状の隙間の周方向に避けた位置に臨ませてあることを特徴とするマスフローメータの流量検出機構。
【請求項３】
前記貫通孔を、環状の隙間に対し環状の隙間の周方向に間隔をおいて臨むように複数設けてある請求項１または２に記載のマスフローメータの流量検出機構。
【請求項４】
少なくとも一つの前記貫通孔を、前記環状の隙間において前記ガス導入孔から最も遠い位置に臨ませてある請求項１〜３のいずれかに記載のマスフローメータの流量検出機構。
【請求項５】
前記ホルダの内周部にテーパ部分を形成すると共に、これに挿入される抵抗物の外周部にホルダのテーパ部分に対して平行なテーパ部分を形成し、抵抗物の位置を調節して前記バイパス流路の抵抗の大きさを調節可能とした請求項１〜４のいずれかに記載のマスフローメータの流量検出機構。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、マスフローメータの流量検出機構に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来よりマスフローメータの流量検出機構においては、ガス流路に層流を得るように構成されており、その構成としてはエッチングプレートを用いるかあるいは特公昭５９−４１１２６号公報記載のように、バイパス部に複数本の毛細管を用いるものがある。
【０００３】
また、図９に示すように、特公平６−７８９２６号公報記載の流量検出機構は、ガスの流量を検出するにあたって、先ず流路１Ｐよりガスを導入し、流量絞り弁２Ｐとハウジング３Ｐに形成された孔のテーパ状内周面４Ｐとの間にガスを流すことで、ガスの流れを層流としていた。そして、層流をなしているテーパ状内周面４Ｐの部分に設けた流入口ポート５Ｐからガスの一部を分流してセンサー管へ導入し、流出口ポート６Ｐより流出させて流入口ポート５Ｐより下流側の前記周面４Ｐ、流路７Ｐを介し流量制御部へと流通させていた。一方、ガスの残部については、周面４Ｐ、流路７Ｐを介して流量制御部へと流通させていた。
【０００４】
また、米国特許第５，０９９，８８１号に記載のマスフローコントローラの流量検出機構は、図１０に示すように、流路１Ｐ’より導入されたガスを、プラグ２Ｐ’とホルダ３Ｐ’とで一部がテーパ状に形成された環状の通路４Ｐ’に流すことにより、ガスの流れを層流としている。そして、環状の通路４Ｐ’の途中に設けた貫通孔５Ｐ’からガスの一部を分流させ、これを注入口６Ｐ’からセンサー部７Ｐ’へ導入し、このガスの流量をセンサー部７Ｐ’により測定し、注出口８Ｐ’から前記通路４Ｐ’の下流側に注出して流路９Ｐ’を介し流量制御部へと流通させていた。尚、ガスの残部については、環状の通路４Ｐ’，流路９Ｐ’を介して流量制御部へと流通させていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記した従来の流量検出機構は何れも、流量絞り弁２Ｐやプラグ２Ｐ’によって、テーパ状内周面４Ｐや環状の通路４Ｐ’に安定した層流を形成し、この安定した層流が形成されている部分から流量測定用の流路を分流することが、測定値を安定させるために極めて重要な要素となっており、それだけ流量検出機構の製造に高精度を要求するものとなっていた。
【０００６】
例えば、図９に示した例においては、流量絞り弁２Ｐの中心軸と、流路１Ｐの中心軸とを正確に合わせて安定した層流を得るために、流量絞り弁２Ｐをネジ８Ｐに螺合していた。ところが、この構成は部品点数が多くなり、それだけ加工にコストがかかる欠点を有する等の不都合があった。
【０００７】
図１０に示した例においては、プラグ２Ｐ’の中心軸と流路１Ｐ’の中心軸とを合わせるために、まずプラグ２Ｐ’の基本形状を旋盤で切削した後に、極めて煩雑な製作工程によりプラグ２Ｐ’を流路１Ｐ’に固定する必要があった。すなわち、上述した各従来の技術には、流量検出機構の製造に手間と費用がかかるという問題があった。
【０００８】
さらに、上述の従来技術では、流路１Ｐ，１Ｐ’に流すガスの最大流量を、層流化したガス流に乱流が生じない程度に制限する必要があった。すなわち、図９に示した例においては、テーパ状内周面４Ｐを流れるガスに僅かな乱れでも生じると、それが直接的に測定結果に影響を与えるため、テーパ状内周面４Ｐを流れるガスに乱流が生じない程度の流量のガスしか流すことができなかった。
【０００９】
また、図１０の示した例においては、貫通孔５Ｐ’を設けた部分における上流側のガスの層流に幾らかの乱れが生じても、これをホルダ３Ｐ’の外周に設けた環状のチャンバー１２Ｐ’である程度は吸収できるが、注出口８Ｐ’を連通させたプラグ２Ｐ’の外周部分１３Ｐ’における乱流は、測定結果に大きな影響を与えていた。
【００１０】
すなわち、図１０のような流量検出機構では環状の通路４Ｐ’の下流側１３Ｐ’においてプラグ２Ｐ’の周りに乱流が生じない程度の流量のガスを流すことに制限されるだけでなく、プラグ２Ｐ’の外周部分１３Ｐ’において乱流が生じないようにするためには、流路９Ｐ’、ホルダ３Ｐ’、プラグ２Ｐ’の中心軸を厳密に合わせる必要が生じていた。さらに、前記図１０に示すようなチャンバー１２Ｐ’は、その容積で圧力変動を吸収するものであるから、流路中にガス溜まり部分１４Ｐ’を生じさせており、ガスを切り換えた時のガスの置換特性を悪くする原因となっていた。
【００１１】
そして、上記各例の何れにおいても、安定した層流を形成できるような流量絞り弁２Ｐ，プラグ２Ｐ’の形状は、流路１Ｐ，１Ｐ’に流すガスの最大流量を一定の限界内に抑えるものであり、実質的に約２５ｍｍの長さの流量絞り弁２Ｐ，プラグ２Ｐ’において２０Ｌ／ｓ程度の流量を精度良く流すことが限界であった。したがって、これより大流量のガスを精度良く流すためには、流量検出機構の構造を大きくする必要があり、それだけ製造コストを引き上げる原因となると共に、マスフローコントローラの全体的な外形を規格外の大きさにするものとなっていた。
【００１２】
本発明は、上述した点を考慮に入れてなされたものであって、バイパス流路の上流側の圧力が変化してもセンサー流路管において安定した層流が得られるマスフローメータの流量検出機構を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明のマスフローメータの流量検出機構は、ブロック内に設けた孔に挿入された円筒形状のホルダを備え、該ホルダの入口端の外周部に環状溝による環状の隙間が設けられ、該環状の隙間を前記ホルダの内周側に連通させるための貫通孔が前記ホルダの入口端に設けられ、前記ホルダの内部には、抵抗物を挿入したバイパス流路が形成され、また、前記環状の隙間に連通するように前記ブロックに設けられたガス導入孔と、前記ブロックに設けられたガス導出孔と、前記ガス導入孔、ガス導出孔にわたって設けられセンサー部を有するセンサー流路管とを備え、前記ホルダの入口側から流入したガスの一部は前記貫通孔、環状溝、ガス導入孔、センサー流路管、ガス導出孔を流通し、残部は前記ホルダ内部の前記バイパス流路を流通するように構成してあり、
さらに、前記貫通孔を、前記環状の隙間の幅方向中央において前記ガス導入孔に最も近い位置から環状の隙間の周方向に避けた位置に臨ませてあることを特徴としている（請求項１）。
【００１４】
したがって、本発明によれば、貫通孔を経てガス導入孔に向かうガスは、層流の状態となるので、バイパス流路の上流側の圧力が変化してもセンサー流路管において安定した層流が得られ、その結果、抵抗物の上流側と下流側の差圧に基づいてガスの流量を精度良く測定できる。
【００１５】
また、抵抗物によって制限されるバイパス流路のガスの流れは、流量検出機構の入口と出口のガスの圧力差とバイパス流路を流れるガスの流量との比例関係を保持する程度であれば、層流になる必要がなく、少々の乱れが生じても測定結果に悪影響を及ぼすことがなくなるので、抵抗物とホルダとの中心軸を厳密に合わせる必要がなくなり、流量検出機構の形成に多大のコストがかかることはない。つまり、常に安定した測定を行うことができるマスフローメータの流量検出機構を安価にて提供できる。
【００１６】
また、前記ホルダの内周部にテーパ部分を形成すると共に、これに挿入される抵抗物の外周部にホルダのテーパ部分に対して平行なテーパ部分を形成し、抵抗物の位置を調節して前記バイパス流路の抵抗の大きさを調節可能とした場合には、一組のホルダおよび抵抗物によって多種類の流量を設定可能となり、それだけ部品点数を削減できるので、生産コストをさらに引き下げることができる。
【００１７】
一方、前記抵抗物が、表面に複数のリブを突設した帯状体と平坦な帯状体とを前記リブを介して筒状に巻き込み、この筒状の軸方向に互いに平行な複数の孔を前記バイパス流路として形成した場合には、多流量のガスであっても安定した測定を行うことができる。
【００１８】
そして、前記ホルダの内部にガスが前記ホルダの入口側から出口側に流通するように長手方向に一部が切削された抵抗物を挿入して前記バイパス流路を形成してある場合には、抵抗物による抵抗を厳密に設定することができるので、小流量のガスを高精度に測定することができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１はマスフローメータの流量検出機構１の断面図であり、図２は前記流量検出機構１の分解斜視図である。また、図３は、図１における流量検出機構１のIII 断面図である。
【００２０】
図１〜３に示すように、本発明に係るマスフローメータは、その流量検出機構１において、ブロックＢ内に設けた孔Ｈの内部に略円筒形状のホルダ２を挿入しており流量検出機構１の入口３から流入したガスを、まずホルダ２内に導入するように構成している。ホルダ２の入口端の外周部には環状溝による隙間４（以下、環状溝の内部を隙間４として表現する）を設けている。また、前記隙間４にはガスを流通させるための複数の貫通孔７が設けられている。なお、本例においては前記貫通孔７を例えば３個設けているが、その数は問わない。
【００２１】
前記貫通孔７は隙間４の幅方向中央に形成しているが、隙間４はガスの流れを層流にする助走区間Ｒを形成することにより圧力変動を緩和するものであり、その容積により圧力変動を緩和するものではないので、ガスは隙間４の幅方向全体を流れる。つまり、図９に示した従来例のように、溜まり部分１４Ｐ’を形成することがない。なお、この貫通孔７を隙間４の上流端部に形成することにより、隙間４内に溜まりとなる部分をより確実になくすようにしてもよい。
【００２２】
８は前記隙間４に連通して設けられたガス導入孔であり、隙間４の下流側端部に連通するように形成されており、９はホルダ２より下流側の孔Ｈ内に連通するように斜めに設けられたガス導出孔である。そして、これらガス導入孔８、ガス導出孔９に挿入するように、センサー流路管１０を接続しており、このセンサー流路管１０を流れるガスがセンサー部１１を通ることによりその流量が測定される。つまり、センサー部１１に流通する全てのガス流路にガスの溜まりとなる部分を形成しないように構成している。
【００２３】
また、ホルダ２の下流側の内周面には上流側から下流側に向かって流路を絞るようにしたテーパ部分１２を形成しており、このホルダ２に挿入される抵抗物１３の下流側の外周部には前記テーパ部分１２に対して平行なテーパ部分１４を形成している。抵抗物１３は、ほゞ円柱形状の大径部分１３ａよりも上流側に前記貫通孔７が位置するように固定することが肝要であり、貫通孔７を流れるガス流が大径部分１３ａの周囲を流れるガス流の圧力分布の影響を受けないようにしている。
【００２４】
前記抵抗物１３は例えば旋盤でその基本形状（円柱状の大径部分１３ａとテーパ部分１４）を切削したのちに、その大径部分１３ａの外周に接するように長手方向に溝１５を切削してなる。また、抵抗物１３をホルダ２に固定するときは、前記溝１５に対してそれぞれ断面Ｃ字状のスプリング留め具１６を挿入して、留め具１６の弾性変形によりその位置を保持する。なお、本発明はホルダ２に対する抵抗物１３の固定方法を限定するものではない。たとえば、本例では溝１５および留め具１６を３つ設ける例を示しているが、大径の抵抗物１３の場合には留め具１６を４個以上用い固定するなど任意の変形が可能である。
【００２５】
上記構成により、流量検出機構１の入口３から流入したガスは、抵抗物１３に衝突することにより乱流化し、そのガスの一部が、貫通孔７を通過して測定流路Ｐ1 側に流れる（すなわち、水平方向に流れていたガスが垂直方向に流通する）。ガスが貫通孔７を通過すると、隙間４内でホルダ２の外周に沿って流れる助走区間Ｒを経ることによりガスの層流化がなされると同時にガスの圧力変動も緩和される。次に、このガスがガス導入孔８を流通するときに、ガスの圧力変動がさらに緩和されて、センサー流路管１０へは安定したガス流が供給されることとなる。
【００２６】
そして、センサー流路管１０（測定流路Ｐ1 ）を通過したガスはガス導出孔９を介して流量検出機構１の出口５へと流出する。このとき、たとえホルダ２と抵抗物１３との間においてガス流にある程度の乱流が生じていたとしても、この圧力変動による影響はガス導出孔９によって吸収され、センサー流路管１０を通過するガスの流れに悪影響を与えることがない。
【００２７】
なお、前記ガス導入孔８およびガス導出孔９はいずれもセンサー流路管１０よりその断面積が広く、その容積を広くすることによりガス流に残存する圧力変動を吸収するものであるが、ガス導入孔８，ガス導出孔９にはガス流路に溜まりを形成する部分がないので、ガス置換特性を高く保つことができる。また、隙間４によって十分の効果を得ることができる場合には、ガス導入孔８およびガス導出孔９を細くすることによりガス置換特性を向上させることも可能である。さらに、本発明におけるガス導入孔８およびガス導出孔９を省略することも容易に考えられる。
【００２８】
本発明のマスフローメータの流量検出機構は、隙間４内を流れるガスとガス導入孔８を流れるガスの圧力が一定となるように設計されているため、安定した層流が得られる。たとえ入口３から流入するガス流量に変動が生じても、ガスの流量の変動に関係なく、流量検出機構１の入口３と出口５の間に生じたガスの圧力差に比例する流量のガスを安定して流すことができるので、常に安定した流量測定を行うことができる。
【００２９】
一方、抵抗物１３に衝突して乱流化されたガスの残部は、ホルダ２内部の抵抗物１３とホルダ２との間のバイパス流路Ｐ2 を流通し、出口５を介して図示しない流量制御部に流通する。そして、このホルダ２の下流端よりもさらに下流側において前記ガス導出孔９を通ったガスとスムーズに合流し、出口側５から流出して図示しない流量制御部に流通する。このとき、流量検出機構１の入口３と出口５のガスの圧力にはバイパス流路を通るガスの流量と、抵抗物１３による抵抗の大きさに関係する圧力差が生じることになる。
【００３０】
また、測定流路Ｐ1 を通ったガスと、バイパス流路Ｐ2 を通ったガスとがホルダ２および抵抗物１３の下流端よりもさらに下流側において合流することにより、抵抗物１３によって生じるかもしれないガス流の乱れの影響が測定流路Ｐ1 を流れるガスに現れることがないようにしている。つまり、前記圧力差とバイパス流路Ｐ2 を流れるガスの流量との比例関係を保持する程度であれば、抵抗物１３によって少々の乱流が生じても測定値に悪影響を及ぼすことは全く無くなる。
【００３１】
それゆえに、本発明によれば抵抗物１３とホルダ２との間の流路に乱れのない層流を形成する必要がなく、抵抗物１３とホルダ２との中心軸を合わせる必要もないので、抵抗物１３をより少ない簡単な製作工程により形成することができる。また、抵抗物１３の形状が簡素であればある程抵抗物１３によるガス溜まりや金属分の発生を避けることができるとともに、洗浄などのメンテナンス作業をより容易に行うことができるようになる。
【００３２】
さらに、本例のようにホルダ２の内周面と抵抗物１３にテーパ１２，１４を形成することにより、抵抗物１３とホルダ２との位置関係で、抵抗物１３による抵抗の大きさを調節することができる。つまり、流量測定範囲が異なる他種類の流量検出機構１を一組のホルダ２と抵抗物１３によって形成することができ、生産コストの大幅な削減を達成することができる。
【００３３】
図１には測定流量を最小にした状態の抵抗物１３の位置を開示しており、一点鎖線にして測定流量を最大にした状態の抵抗物１３の位置を示している。また、一点鎖線に示す測定流量を最大にした状態において、抵抗物１３の上流端部が孔７よりも下流側に位置することが抵抗物１３の形状に影響されない安定した測定を行なう点で肝要である。さらに、測定流量を最小にした状態の抵抗物１３の下流端部がガス導出孔９の連通位置よりも上流側に位置し、ガス導出孔９を通ったガスが抵抗物１３の下流側の開放された部分に流れることが、孔Ｈに対する抵抗物１３の位置による乱流の影響を受けないようにする点で肝要である。
【００３４】
図４は本発明の別の例を示しており、この図において、図１〜３と同じ符号を付した部材は同一または同等の部材であるので、その詳細な説明を省略する。本例に示す流量検出機構１は、抵抗物１３およびホルダ２の長さを短くしている。すなわち、本発明の流量検出機構１を用いることにより、抵抗物１３による乱流の影響を受けることがないので、抵抗物１３をよりコンパクトに形成することが可能となる。したがって、装置全体の大きさを小さくすることができる。
【００３５】
なお、図４に示す図は、測定流量を最小にした場合の抵抗物１３の位置を示すものであり、一点鎖線にして測定流量を最大にした場合の抵抗物１３の位置を示している。すなわち、測定流量を最小にした場合においても抵抗物１３の下流端部はガス導出孔９の連通位置よりも上流側に位置することにより、抵抗物１３による乱流の影響が測定値に現れることがないようにしている。
【００３６】
また、測定流量を最大にした場合（一点鎖線に示す場合）においても、抵抗物１３の上流端部が孔７よりも下流側に位置することにより、抵抗物１３の形状に関係のない安定した測定を行うことができるようにしている。なお、本例の場合には測定流量を変更するための抵抗物１３の操作量ｄは、例えば２．５ｍｍ程度に抑えている。
【００３７】
図５は本発明の別の例を示す断面図であり、大流量のガスを測定する例を示している。図５において図１〜４に示した例と異なる点はホルダ２および抵抗物の形状である。したがって、以下の説明では重複説明を避けるために、図１〜４に示した例と同じ符号を付した部材は同一または同等の部材であるので、その詳細な説明を省略する。
【００３８】
図５において、１７は長手方向に平行な複数の孔をバイパス流路Ｐ2 として形成した層流素子からなる抵抗物を示している。この抵抗物１７は、例えば図６に示すように、表面に複数のリブ１８を突設した第１帯状体１９と、平坦な第２帯状体２０とをリブ１８を介して芯材２１に筒状に巻き込んでなるものである。
【００３９】
したがって、抵抗物１７をホルダ２に挿入してバイパス流路Ｐ2 を形成することにより、バイパス流路Ｐ2 に生じる抵抗が極めて小さくなる。つまり、本例のように構成することにより、例えば２５ｃｍ程度の長さの抵抗物で５０Ｌ／ｓ程度の多流量のガスを流したときにおいても、測定流量Ｐ1 に流れるガスの流量をセンサー部１１（図１参照）により測定可能な範囲に設定することができる。つまり、多流量のガスを正確に測定することができる。なお、本例の場合においても、図１〜４に示した例と同様に、抵抗物１７の上流端よりさらに上流側に貫通孔７を設けることが正確な流量測定を行う上で肝要である。
【００４０】
図７は本発明のさらに別の例を示す断面図であり、少流量のガスの流量測定に適している。図７において、２２はその外周がホルダ２の内に嵌合するように形成されたほゞ円柱形状であり、かつその長手方向に平行に一部を切削した切削部分２３を有する抵抗物である。本例に示す抵抗物２２によれば、前記切削部分２３によってバイパス流路Ｐ2 の断面積を正確に設定することができ、抵抗物２２による抵抗を厳密に設定することができる。したがって、少流量のガスを流したときにおける測定精度を向上させることができる。
【００４１】
図８は抵抗物の変形例を示すものであり、本例の抵抗物２４は断面形状を多角形（例えば５角形）としている。すなわち、各切削部分２５によって正確な断面積を有するバイパス流路Ｐ2 を形成でき、厳密な流量設定を行うとともに、図７に示す例に比べて流量を増加させることができる。
【００４２】
さらに、本発明の抵抗物はエッチングプレートを重ね合わせて形成したり、あるいはキャピラリを設けてバイパス流路Ｐ2 を形成してもよい。
【００４３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のマスフローメータの流量検出機構によれば、貫通孔を経てガス導入孔に向かうガスは、層流の状態となるので、バイパス流路の上流側の圧力が変化してもセンサー流路管において安定した層流が得られ、その結果、抵抗物の上流側と下流側の差圧に基づいてガスの流量を精度良く測定できる。つまり、抵抗物によって制限されるバイパス流路のガスの流れは、流量検出機構の入口と出口のガスの圧力差とバイパス流路を流れるガスの流量との比例関係を保持する程度であれば、層流になる必要がなく、バイパス流路のガスの流れに少々の乱れが生じても測定結果に悪影響を及ぼすことがなくなるので、抵抗物とホルダとの中心軸を厳密に合わせる必要がなくなる。つまり、流量検出機構の形成にかかるコストを最小限に抑えると共に、常に安定した測定を行うことができる。
【００４４】
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明のマスフローメータの流量検出機構の一例を示す断面図である。
【図２】  前記マスフローメータの流量検出機構の分解斜視図である。
【図３】  前記マスフローメータの流量検出機構の断面図である。
【図４】  前記マスフローメータの流量検出機構の変形例を示す断面図である。
【図５】  前記マスフローメータの流量検出機構の一部である抵抗物の別の例を示す断面図である。
【図６】  前記抵抗物の製造工程を示す説明図である。
【図７】  前記抵抗物の変形例を示す断面図である。
【図８】  前記抵抗物の別の変形例を示す断面図である。
【図９】  従来の流量検出機構の断面図である。
【図１０】  従来のマスフローコントローラの流量検出機構の断面図である。
【符号の説明】
１…マスフローメータの流量検出機構、２…ホルダ、４…隙間、８…ガス導入孔、９…ガス導出孔、１０…センサー流路管、１２…テーパ部分、１３，１７，２２，２４…抵抗物、１４…テーパ部分、１８…リブ、１９，２０…帯状体、２３，２５…切削部分。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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