(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基質と還元性物質を含む系の電解酸化反応を行なって化合物を製造する方法であって、
ケーシング；
アノード；
カソード；及び
該ケーシングの外側に設けられて該アノードと該カソードに接続された、該アノードと該カソードの間に電圧を印加するための手段
を包含し、
該アノードと該カソードは該ケーシング中に間隔を置いて設けられて、該ケーシングの内部が、該アノードの内側と該カソードの内側の間に形成された中間室と、該アノードの外側にあるアノード室とに仕切られており、
該中間室は、電解質溶液と基質の入口を有し、
該アノード室は還元性物質の入口を有する、
有機電解反応装置を提供し；そして
以下の工程（１）〜（４）：
（１）該中間室に電解質溶液を導入し、
（２）該中間室に基質を導入し、
（３）該アノード室に気体、又は液体の還元性物質を導入し、そして
（４）該アノードと該カソードの間に電圧を印加するための該手段を作動させる、
をいずれかの順序に又はそれら工程の少なくとも２つの工程について同時に行ない、
該中間室において該基質と該還元性物質から化合物を製造することを特徴とする方法。
【請求項２】
該電解酸化反応が、該カソードにおいて水素ガスを副生しながらカルボニル化合物を製造する電解カルボニル化反応であり、該水素ガスを該カソードを通じて該中間室の外側に排出することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
該電解質溶液が、リン酸、過ハロゲン酸、過ハロゲン酸アンモニウム、アルカリ金属のハロゲン化物、アルカリ金属の過ハロゲン酸塩、４級テトラアルキルアンモニウムのハロゲン化物、及び４級テトラアルキルアンモニウムの過ハロゲン酸塩よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことを特徴とする請求項１又は２に記
載の方法。
【請求項４】
該還元性物質が一酸化炭素であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
該基質がアルコールであり、該カルボニル化合物が炭酸ジエステルであることを特徴とする請求項２〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
パラジウム及び銅よりなる群から選ばれる少なくとも１種の金属及び／又はその化合物、並びに導電性炭素材料を含むアノードと、鉄、コバルト、ニッケル、銅、ルテニウム、白金及びパラジウムよりなる群から選ばれる少なくとも１種の金属及び／又はその化合物、並びに導電性炭素材料を含むカソードを用いることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電解酸化により化合物を製造する方法に関する。より詳細には、本発明は、基質と還元性物質を含む系の電解酸化により化合物を製造する方法であって、ケーシング；アノード；カソード；及び該ケーシングの外側に設けられて該アノードと該カソードに接続された、該アノードと該カソードの間に電圧を印加するための手段を包含し、該アノードと該カソードは該ケーシング中に間隔を置いて設けられて、該ケーシングの内部が、該アノードの内側と該カソードの内側の間に形成された中間室と、該アノードの外側にあるアノード室とに仕切られており、該中間室は、電解質溶液と基質の入口を有し、該アノード室は還元性物質の入口を有する有機電解反応装置を提供し；そして以下の工程（１）〜（４）：（１）該中間室に電解質溶液を導入し、（２）該中間室に基質を導入し、（３）該アノード室に気体、又は液体の還元性物質を導入し、そして（４）該アノードと該カソードの間に電圧を印加するための該手段を作動させる、をいずれかの順序に又はそれら工程の少なくとも２つの工程について同時に行ない、該中間室において該基質と該還元性物質から化合物を製造することを特徴とする方法に関する。
【０００２】
本発明の有機電解反応装置を用いた化合物の製造方法によると、電解酸化反応、例えばカルボニル化反応によって、種々の有用な化合物、例えば炭酸ジエステルを穏和な条件で、効率よく、高選択率で、安定且つ安全に製造することができる。
本発明の有機電解反応装置により、触媒の劣化、目的物の収率および選択率が低いこと、製造工程の煩雑さ、エネルギーの大量消費等の、電気分解を利用せず、触媒を用いて行う酸化反応に伴う種々の問題を克服することができる。
【０００３】
例えば、本発明の製造方法により、一酸化炭素とアルコールから電解カルボニル化反応により炭酸ジエステルを製造すると、穏和な条件で、高選択率、高効率的かつ経済的に炭酸ジエステルを製造することができる上、従来の製造法における諸問題、例えば有毒なホスゲンの使用、含塩素化合物の副生による装置の腐食、触媒の活性劣化、出発物質と酸素から生じる爆発性混合物の発生に伴う危険性、炭酸ジエステルの収率および選択性が低いこと等の問題を解決することができる。
【０００４】
また、本発明の製造方法により、カルボニル化反応以外の電解酸化反応、例えばアルカンの酸化、アルコールの酸化、オレフィンのエポキシ化、ベンジル位及びアリル位の酸化、芳香族化合物の芳香環の酸化、硫黄化合物の酸化、窒素化合物の酸化などを行うこともでき、また通常電気分解を利用せずに行なわれている酸化的付加反応を、電気分解を利用して行なうこともできる。
また本発明は、上記の有機電解反応装置を用いて化合物を製造する方法に関する。
【０００５】
【従来の技術】
酸化反応には極めて多くの種類があるが、その一つに電解酸化反応がある。
酸化すべき物質を添加した電解質溶液にアノードとカソードを接触させ、アノードとカソードの間に電圧を印加して電気分解を行うと、アノードにおいて上記物質が酸化される。このような電気分解を利用した酸化を電解酸化と呼ぶ。電解酸化により、電気分解を利用しない通常の反応条件では進行させることが困難な酸化反応が進行する場合があるので、極めて有用である。
【０００６】
電解酸化は、アルカンの酸化、アルコールの酸化、オレフィンのエポキシ化、ベンジル位及びアリル位の酸化、芳香族化合物の芳香環の酸化、硫黄化合物の酸化、窒素化合物の酸化など極めて多くの酸化反応に適用できる。
また、酸化的付加反応と総称され、通常電気分解を利用せずに行なわれている酸化反応、例えば、ワッカー反応によるオレフィンからのアルデヒド及びケトンの合成、オレフィン及び芳香族化合物のアセトキシ化、オキシクロリネーション及びオキシシアネーション、オレフィン及び芳香族化合物のカップリング、アルコールからのエステルの合成など（「触媒講座第８巻（工業触媒反応編２）工業触媒反応Ｉ」、触媒学会編、１９６ページ、１９８５年、日本国等を参照）や、その変形である一酸化炭素挿入反応（カルボニル化反応）に対しても、電解酸化を適用することができる。
【０００７】
以降、電解酸化による化合物の製造に関する従来技術に関し、カルボニル化反応を例として説明する。
カルボニル化反応は通常、熱力学的な不利を克服するため、酸素の存在下、水を副生しながらカルボニル化反応を行なうことが多い。このような、電気分解を利用しない通常のカルボニル化反応は、次の一般式で表わされる。
Ｒ−Ｈ＋Ｒ’−Ｈ＋ＣＯ＋１／２Ｏ２→Ｒ−ＣＯ−Ｒ’＋Ｈ２Ｏ
即ちカルボニル化反応は、水素原子を有する基質Ｒ−Ｈ及びＲ’−Ｈ、並びに一酸化炭素を、酸素の存在下、水素を脱離させつつ縮合させて縮合物を生成し、同時に脱離した水素（水素イオン）を水に変換する反応である。
【０００８】
このカルボニル化反応は通常触媒を用いて行なわれる。触媒の例としては、周期律表第８族、第９族、第１０族及び第１１族の元素、例えばパラジウムやその化合物を挙げることができる。
基質Ｒ−Ｈ及び／又はＲ’−Ｈとして使用し得る化合物は広範囲に及び、その例としては、有機化合物ではオレフィン（ジエン等のポリエンを含む）、アルコール、芳香族化合物など、無機化合物では水などを挙げることができる。基質Ｒ−Ｈ及びＲ’−Ｈは同一であっても異なっていてもよい。
【０００９】
カルボニル化反応の例としては、オレフィン及び水からの不飽和カルボン酸の合成、オレフィン及びアルコールからの不飽和エステルの合成、アルコールからの炭酸ジアルキル及びシュウ酸ジアルキルの合成、フェノールからの炭酸ジアリールの合成、アミンからの尿素類縁体及びシュウ酸ジアミド（オキサミド）の合成等（「触媒講座第９巻（工業触媒反応編３）工業触媒反応ＩＩ」、触媒学会編、３１ページ、１９８５年、日本国等参照）などを挙げることができる。
【００１０】
上記カルボニル化反応は、有用な化合物を効率的に製造することができる、化学工業における利用価値の高い反応である。しかしカルボニル化反応においては、多くの場合、触媒活性の低下、触媒成分に由来する腐食性の副生物による反応装置の腐食、高温、高圧反応によるエネルギーの大量消費、出発物質や生成物と酸素からなる混合物の爆発の危険性、目的物の収率及び選択性が低いなどの問題を伴う。これらの問題に関し、上記カルボニル化反応の一例である、アルコール類からの炭酸ジエステルの合成を例として具体的に説明する。
【００１１】
炭酸ジエステルは、ガソリンの添加剤や各種のカーボネート類、カーバメート類、ウレタン類、医薬・農薬などの精密化学品などの原料として使用される有用な化合物である。従来の炭酸ジエステル製造方法の例としては、
（Ｉ）塩基の存在下、ホスゲンをアルコール類と反応させる方法（米国特許第２，７８７，６３１号、４，３３５，０５１号明細書等を参照）、
（ＩＩ）塩化第一銅を触媒として用い、酸素の存在下、アルコール類を一酸化炭素と液相で反応させる方法（米国特許第４，２１８，３９１号、米国特許第４，３１８，８６２号、米国特許第４，３１８，８６２号等を参照）、
（ＩＩＩ）パラジウム化合物などの白金族金属化合物、塩化銅などの銅化合物（又は、白金族金属化合物、アルカリ金属塩及び塩化第二銅）を触媒として用い、酸素の存在下、アルコール類を一酸化炭素と反応させる方法（日本国特公昭６１−８８１６号公報）、
（ＩＶ）塩化銅及びアルカリ金属化合物（又はアルカリ土類金属化合物）を活性炭に担持した固体触媒及び酸素の存在下、アルコールを一酸化炭素と気相で反応させる方法（米国特許第５，００４，８２７号明細書参照）
などが知られている。
【００１２】
従来、炭酸ジエステルは経済的な有利さから上記（Ｉ）の方法により工業的に製造されてきた。しかし、毒性の高いホスゲンを原料として使用する必要があることがこの方法の最大の欠点であり、安全性においては有利とは言えない。また、反応過程で腐食性の強い塩化水素が副生するという問題がある。
そこで、上記（ＩＩ）〜（ＩＶ）に示すような、ホスゲンを用いることなく、触媒及び酸素の存在下でアルコールを一酸化炭素と反応させ、炭酸ジエステルを製造する方法が提案されている。これらの方法ではホスゲンを使用しないため、公害対策や廃棄物処理のための工程が簡略化され、よりシンプルなプロセスとなり、経済性も従来のホスゲン法に対抗できるものとなってきているが、改善すべき課題は多く残されている。
【００１３】
例えば、上記（ＩＩ）の方法においては、副生する含塩素化合物等による反応装置の腐食の問題が完全には解決しておらず、そのため、反応装置の内面をガラスライニングやホーローライニングする必要があり、このことが反応装置の大型化への障害となっている。
また、この方法において十分な反応速度を得るためには高濃度の触媒と高い一酸化炭素分圧を要する。この方法では炭酸ガスが副生するため、炭酸ガスのパージに伴う一酸化炭素のパージロスが多くなり、反応速度を十分に高めることが困難である。
更に、この方法においては有機溶媒に溶解しにくい銅塩を触媒として用いるので、反応系は液相中に固形分が分散したスラリーとなり、生成した炭酸ジエステルは液相中に含まれる。このため、炭酸ジエステルを分離するために、膜分離や遠心分離などの工程が別途必要になるという問題点がある。
【００１４】
上記（ＩＩＩ）の方法においては、上記（ＩＩ）の方法に比べ用いる触媒の活性が高いので、触媒の濃度を比較的低くすることができ、また反応系における一酸化炭素分圧を低くできる。しかしこの触媒系では、助触媒である銅化合物が、酸化銅となって析出したり、炭酸ジエステルが生成する際に副生する水により塩基性塩化銅などに変化して析出するため、連続的且つ安定に炭酸ジエステルを製造することは困難である。
上記（ＩＶ）の方法においては、固体触媒を用いる気相反応により、液相反応に付随する腐食性副生物の問題を回避しているが、触媒活性が十分でなかったり、反応により生成する水により、塩基性塩化銅などの不溶性の金属化合物が固体触媒上に析出して触媒活性が不安定となり、長時間安定に、収率よく炭酸ジエステルを製造することができない。
またこの方法では、可燃性の原料であるアルコール、一酸化炭素及び酸素の混合物を用いており、この混合物には爆発の危険性があるという点において、安全上問題がある。
以上のような、触媒活性の低下、腐食性副生物、爆発性混合物などの問題を解決するための方法として、アルコールと一酸化炭素から炭酸ジエステルを電解反応により製造する
方法が提案されている。
【００１５】
上記したように、カルボニル化反応は熱力学的に不利な反応であるが、電気分解を利用すると比較的容易に進行させることができる。カルボニル化反応を電解酸化によって行なうときの反応式は、次の一般式で表わされる。
Ｒ−Ｈ＋Ｒ’−Ｈ＋ＣＯ→Ｒ−ＣＯ−Ｒ’＋Ｈ２
この場合のカルボニル化反応は、水素原子を有する基質Ｒ−Ｈ及びＲ’−Ｈ、並びに一酸化炭素を、水素を脱離させつつ縮合させる反応である。この方法では脱離した水素を水に変換しないため、分子状水素が副生する。
電解酸化による炭酸ジエステル生成反応は次の式で表わされる。
Ｒ−ＯＨ＋Ｒ’−ＯＨ＋ＣＯ→ＲＯ−ＣＯ−ＯＲ’＋Ｈ２
【００１６】
有機電解反応は、エネルギー効率が高く、多様な資源が活用できるクリーンな化学反応技術として近年注目を集めている。このため、近年の有機電解反応を利用した化合物の合成に関する技術の進展は目覚ましいものがあり、種々の新たな手法、例えば、無隔膜電解法、陽陰極反応、陽イオン又は陰イオン交換膜を併用する電解法、エマルジョン電解法、二液相電解法などが開発されている。一方、電解セルの改良によって数多くの選択性のよい反応が見いだされている。
電解反応によって炭酸ジエステルを製造する方法（電解カルボニル化法）の例としては、
（Ｖ）ハロゲン化合物を電解質として用いるアルコールの電解カルボニル化法（Ｊ．Ｅｌｅｃｔｒｏ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１２５（１２），１９５４−１９５９，１９７８、米国）、
（ＶＩ）塩化パラジウム又は塩化第二銅を含むアノードを用いるアルコールの気相電解カルボニル化法（Ｅｌｅｃｔｒｏ  ｃｈｉｍｉｃａ  Ａｃｔａ，Ｖｏｌ．３９，Ｎｏ．１４，２１０９，１９９４、スイス；Ｊ．Ｅｌｅｃｔｒｏ，Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１４２（１），１３０−１３５，１９９５、米国；日本国特開平６−７３５８２号公報等を参照）
などが知られている。
【００１７】
しかしながら、上記（Ｖ）の方法では、炭酸ジエステルを高収率、高電流効率で得るためには１００気圧という高い一酸化炭素の圧力を必要とし、高圧に耐える電解装置、高圧下でのガス循環等、工業的実施には困難な点が多い。
また、（ＶＩ）の方法は本発明者らが提案したもので、電解質溶液を含浸させた隔膜によってアノード室とカソード室に区画された電解槽、塩化パラジウム又は塩化第二銅を含むアノード及び白金黒を含むカソードを有する電解反応器を用い、アノード室にアルコール及び一酸化炭素、カソード室に酸素ガスを導入しながら、電解反応器のアノードとカソードの間に電圧を印加することによって炭酸ジエステルを製造する方法である。
この方法は、触媒活性の低下や腐食の問題がなく、また隔膜によって酸素がアルコールや一酸化炭素と分離されているため爆発性の混合物が生じることがなく、危険性が低減するなどの利点を有するが、得られる炭酸ジエステルの収率及び選択率が低いなどの難点があった。
以上から明らかなように、電解酸化反応、例えばカルボニル化反応によって、種々の化合物、例えば炭酸ジエステルを効率よく、安定且つ安全に製造する方法や、そのために用いる優れた性能を有する反応装置は、従来知られていなかった。
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】
このような状況下において、本発明者らは電解酸化反応、例えばカルボニル化反応によって、種々の化合物、例えば炭酸ジエステルを効率よく、安定且つ安全に製造するための製造方法を開発すべく鋭意研究を行った。その結果意外にも、基質と還元性物質を含む系の電解酸化を行うための有機電解反応装置を用いた化合物の製造方法であって、ケーシン
グ；アノード；カソード；及び該ケーシングの外側に設けられて該アノードと該カソードに接続された、該アノードと該カソードの間に電圧を印加するための手段を包含し、該アノードと該カソードは該ケーシング中に間隔を置いて設けられて、該ケーシングの内部が、該アノードの内側と該カソードの内側の間に形成された中間室と、該アノードの外側にあるアノード室とに仕切られており、該中間室は、電解質溶液と基質の入口を有し、該アノード室は還元性物質の入口を有する有機電解反応装置を提供し；そして以下の工程（１）〜（４）：（１）該中間室に電解質溶液を導入し、（２）該中間室に基質を導入し、（３）該アノード室に気体、又は液体の還元性物質を導入し、そして（４）該アノードと該カソードの間に電圧を印加するための該手段を作動させる、をいずれかの順序に又はそれら工程の少なくとも２つの工程について同時に行ない、該中間室において該基質と該還元性物質から化合物を製造する、ことを特徴とする化合物の製造方法によって、
電解酸化反応、例えばカルボニル化反応によって、種々の化合物、例えば炭酸ジエステルを効率よく、安定且つ安全に製造することを見出した。この知見に基づき、本発明を完成した。
【００１９】
従って、本発明の１つの目的は、電解酸化反応、例えばカルボニル化反応によって、種々の化合物、例えば炭酸ジエステルを効率よく、安定且つ安全に製造するための有機電解反応装置を用いた化合物の製造方法を提供することにある。
本発明の上記及びその他の諸目的、諸特徴ならびに諸利益は、添付の図面を参照しながら行う以下の詳細な説明及び請求の範囲の記載から明らかになる。
【００２０】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、
１．基質と還元性物質を含む系の電解酸化反応を行なって化合物を製造する方法であって、
ケーシング；
アノード；
カソード；及び
該ケーシングの外側に設けられて該アノードと該カソードに接続された、該アノードと該カソードの間に電圧を印加するための手段
を包含し、
該アノードと該カソードは該ケーシング中に間隔を置いて設けられて、該ケーシングの内部が、該アノードの内側と該カソードの内側の間に形成された中間室と、該アノードの外側にあるアノード室とに仕切られており、
該中間室は、電解質溶液と基質の入口を有し、
該アノード室は還元性物質の入口を有する、
有機電解反応装置を提供し；そして
以下の工程（１）〜（４）：
（１）該中間室に電解質溶液を導入し、
（２）該中間室に基質を導入し、
（３）該アノード室に気体、又は液体の還元性物質を導入し、そして
（４）該アノードと該カソードの間に電圧を印加するための該手段を作動させる、
をいずれかの順序に又はそれら工程の少なくとも２つの工程について同時に行ない、
該中間室において該基質と該還元性物質から化合物を製造することを特徴とする方法。
２．該電解酸化反応が、該カソードにおいて水素ガスを副生しながらカルボニル化合物を製造する電解カルボニル化反応であり、該水素ガスを該カソードを通じて該中間室の外側に排出することを特徴とする上記１に記載の方法。
３．該電解質溶液が、リン酸、過ハロゲン酸、過ハロゲン酸アンモニウム、アルカリ金属のハロゲン化物、アルカリ金属の過ハロゲン酸塩、４級テトラアルキルアンモニウムの
ハロゲン化物、及び４級テトラアルキルアンモニウムの過ハロゲン酸塩よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことを特徴とする上記１又は２に記載の方法。
４．該還元性物質が一酸化炭素であることを特徴とする上記１〜３のいずれか１項に記載の方法。
５．該基質がアルコールであり、該カルボニル化合物が炭酸ジエステルであることを特徴とする上記２〜４のいずれか１項に記載の方法。」
６．パラジウム及び銅よりなる群から選ばれる少なくとも１種の金属及び／又はその化合物、並びに導電性炭素材料を含むアノードと、鉄、コバルト、ニッケル、銅、ルテニウム、白金及びパラジウムよりなる群から選ばれる少なくとも１種の金属及び／又はその化合物、並びに導電性炭素材料を含むカソードを用いることを特徴とする上記１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明につき詳細に説明する。
本発明は、基質と還元性物質を含む系の電解酸化を行うための有機電解反応装置を用いた化合物の製造方法である。
本発明の製造方法によると、多岐にわたる種々の電解酸化反応を行なうことができる。例えば、アルカンの酸化（アルコール、ケトンの製造）、アルコールの酸化（アルデヒド、ケトン、エステルの製造）、オレフィンのエポキシ化、ベンジル位及びアリル位の酸化（アルコキシ基、カルボキシル基等の導入）、芳香族化合物の芳香環の酸化（ベンゼン、フェノール、ヒドロキノン等からのベンゾキノンの合成、芳香環相互の酸化的カップリングなど）、硫黄化合物（チオール、スルフィド、ジスルフィド等）の酸化、窒素化合物の酸化（アミンからのヒドラジン誘導体やジアゾ化合物の製造、ヒドロキシルアミンからのニトロソ化合物、アゾキシ化合物、オキシム等の製造）等を行なうのに適している。
【００２２】
また、通常電気分解を利用せずに行なわれている酸化的付加反応を、電気分解を利用して行なうのにも適している。このような反応の例としては、ワッカー反応によるオレフィン（ジエン等のポリエンを含む。以下同様。）からのアルデヒド及びケトンの合成、オレフィン及び芳香族炭化水素のアセトキシ化、オレフィン及び芳香族炭化水素のシアノ化、オレフィン及び芳香族炭化水素の塩素化、オレフィン及び芳香族炭化水素のカップリング、アルコールからのエステルの合成等を挙げることができる。
更に、本発明の有機電解反応装置は、電解カルボニル化反応、即ち電気分解を利用して行う一酸化炭素挿入反応（カルボニル化反応）を行なうのにも適している。
電解カルボニル化反応は、次の一般式で表わされる反応である。
Ｒ−Ｈ＋Ｒ’−Ｈ＋ＣＯ→Ｒ−ＣＯ−Ｒ’＋Ｈ２
上記したように、カルボニル化反応は熱力学的に不利なため進行しにくい反応であるが、電気分解を利用すると比較的容易に進行させることができる。
電解カルボニル化反応において、化合物Ｒ−Ｈ及び／又はＲ’−Ｈとして使用し得る化合物は広範囲に及び、その例としては、有機化合物ではオレフィン、アルコール、芳香族化合物など、無機化合物では水などを挙げることができる。
【００２３】
本発明の製造方法を用いて実施することが可能な電解カルボニル化反応の例としては、以下のものを挙げることができる。
オレフィン及び水からの不飽和カルボン酸の合成
オレフィン及びアルコールからの不飽和エステルの合成
アルコールからの炭酸ジアルキルの合成
フェノールからの炭酸ジアリールの合成
アルコールからのシュウ酸ジエステルの合成
アミンからの尿素類縁体の合成
アミンからのシュウ酸ジアミドの合成
本発明の有機電解反応装置は、
ケーシング；
アノード；
カソード；及び
該ケーシングの外側に設けられて該アノードと該カソードに接続された、該アノードと該カソードの間に電圧を印加するための手段
を包含する。
【００２４】
該アノードと該カソードは該ケーシング中に間隔を置いて設けられて、該ケーシングの内部が、該アノードの内側と該カソードの内側の間に形成された中間室と、該アノードの外側にあるアノード室とに仕切られている。また、該中間室は、電解質溶液と基質の入口を有し、該アノード室は還元性物質の入口を有する。
上記ケーシングの形状、材質、大きさ等については特に制限はなく、実施する電解酸化反応の種類や規模、使用する試薬の種類などを考慮して適宜選択することができる。通常、上記中間室の容積が約１ｃｍ３〜約１０ｍ３であるようなケーシングを用いる。アノード室の容積は、これに合わせて適宜調節することができる。
【００２５】
本発明の有機電解反応装置を用いて電解酸化反応を行なうと、反応の種類によっては気体が副生する。例えば上記したように、電解カルボニル化反応では水素が副生する。このような副生ガスの回収等を目的として、本発明の有機電解反応装置は、上記カソードの外側にカソード室を更に有していてもよい。カソード室の容積は、上記中間室の容積に合わせて適宜調節することができる。
本発明において用いられるアノードは、アノード活物質からなる。また本発明において用いられるカソードは、カソード活物質からなる。
【００２６】
本発明において、アノード及びカソードは種々のものを用いることができるが、第１〜１４族の金属及びその化合物、並びに導電性炭素材料よりなる群から選ばれる少なくとも１種を用いることが好ましい。
第１〜１４族の金属の化合物の例としては、酸化物；水酸化物；ハロゲン化物；硝酸塩、硫酸塩、酢酸塩、リン酸塩などの塩；カルボニル錯体、アセチルアセトナト錯体などの錯体等を挙げることができる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。なお本発明において、元素の族番号は国際純正及び応用化学連合の無機化学命名法（１９８９年）で定められた周期表において用いられているものを用いる。
一方、導電性炭素材料としては、電気伝導性を有する種々の炭素材料が使用でき、その例としては、活性炭、カーボンブラック、アセチレンブラック、グラファイト、カーボンファイバー、カーボンウィスカー等を挙げることができる。これらの導電性炭素材料は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２７】
金属及び／又はその化合物を、導電性炭素材料と組み合わせて用いる場合には、粒子状の金属及び／又はその化合物を、粒子状の導電性炭素材料と均一に混合するか、粒子状の導電性炭素材料に、金属及び／又はその化合物を担持させてなる粒子を用いると、組成が均一で、電子伝導性の良好なアノード及びカソードが得られるので好ましい。
また金属及び／又はその化合物を、導電性炭素材料と組み合わせて用いる場合には、両者の重量の合計に対する前者の重量（金属換算）の比が０．０１〜５０重量％であることが好ましく、０．１〜３０重量％であることがより好ましい。
アノード及びカソードは、本発明の有機電解反応装置を用いて行う電解酸化反応の種類に応じて適宜選択することができる。
【００２８】
酸化反応は、電気分解を利用する方法と利用しない方法のいずれにおいても行うことができる場合が多いので、アノード及びカソードの選択に際しては、目的とする酸化反応ま
たはそれと同等の酸化反応を、電気分解を利用せずに行う際に触媒として用いられる物質を参考にすることができる。
本発明において、上記した種々の酸化反応、例えばアルカンの酸化、アルコールの酸化、オレフィンのエポキシ化、ベンジル位及びアリル位の酸化、芳香族化合物の芳香環の酸化、硫黄化合物の酸化、窒素化合物の酸化などを行う場合や、電解酸化を上記酸化的付加反応に適用する場合や、電解カルボニル化反応を行う場合には、アノードとして、周期律表第８族、第９族、第１０族、第１１族及び第１４族の金属及びその化合物、並びに導電性炭素材料よりなる群から選ばれる少なくとも１種を用いることが好ましい。
【００２９】
一方カソードとしては、鉄、コバルト、ニッケル、金、銀、銅、ルテニウム、白金、オスミウム、ロジウム、イリジウム及びパラジウム及びそれらの化合物、並びに導電性炭素材料よりなる群から選ばれる少なくとも１種を用いることが好ましい。
本発明において、電解酸化を上記酸化的付加反応に適用する場合や、電解カルボニル化反応を行う場合には、パラジウム及び銅よりなる群から選ばれる少なくとも１種の金属及び／又はその化合物、並びに上記導電性炭素材料を含むアノードと、鉄、コバルト、ニッケル、銅、ルテニウム、白金及びパラジウムよりなる群から選ばれる少なくとも１種の金属及び／又はその化合物、並びに上記導電性炭素材料を含むカソードを用いることがより好ましい。中でも、パラジウム及び／又はその化合物、並びに上記導電性炭素材料を含むアノードと、白金及び／又はその化合物、並びに上記導電性炭素材料を含むカソードを用いることが好ましい。
【００３０】
本発明において、炭酸ジエステルを製造する場合には、塩化パラジウム及びカーボンファイバーを含むアノードと、白金黒、グラファイト及びカーボンファイバーを含むカソードを用いることが特に好ましい。この場合のアノードにおいては、塩化パラジウムの量は、カーボンファイバー５０ｍｇに対して０．５〜１２μｍｏｌとすることが好ましく、２〜６μｍｏｌとすることがより好ましい。
またアノードとカソードは、撥水剤を含むことが好ましい。後述するように、撥水剤は、特に還元性物質がガス状である場合、反応効率を向上させる効果を持つ。撥水剤の例としては、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレンオリゴマー（ＴＦＥＯ）、フッ化黒鉛（（ＣＦ）ｎ）、フッ化ピッチ（ＦＰ）などをあげることができる。
撥水剤の量は、上記アノード又はカソードの重量に対し１〜２５０重量％とすることが好ましく、２５〜１００重量％とすることがより好ましい。
【００３１】
上記した炭酸ジエステルの製造においては、アノードに、塩化パラジウムとカーボンファイバーの合計重量に対し１０〜２００重量％、好ましくは２０〜１００重量％のＰＴＦＥを、撥水剤として添加することが好ましい。
更に、アノードとカソードは、所望によりシリカ、シリカ−アルミナ、ゼオライト、ヘテロポリ酸などの固体触媒材料を含んでいてもよい。これらの固体触媒材料は、上記の金属元素を含んでいてもよい。
アノード及びカソードの製造方法には特に制限はなく、公知の方法により製造することができる。上記撥水剤は結着剤としても機能するので、撥水剤を含むアノード（又はカソード）を製造する場合には、アノード（又はカソード）、撥水剤及び所望により固体触媒材料よりなる混合物を、ホットプレス成形によりシート状に成形することにより、アノード（又はカソード）を得ることができる。
上記アノードとカソードの間に電圧を印加するための手段には特に制限はなく、公知のものを適宜使用することができる。
【００３２】
以上のような有機電解反応装置を用いて電解酸化反応を行なうと、種々の化合物、例えば炭酸ジエステルを安全且つ効率よく製造することができる。以降、本発明の有機電解反
応装置を用い、電解酸化反応により化合物を製造する方法につき説明する。
本発明においては、
上記の反応装置を提供し；そして
以下の工程（１）〜（４）：
（１）上記の反応装置の中間室に電解質溶液を導入し、
（２）該中間室に基質を導入し、
（３）上記の反応装置のアノード室に還元性物質を導入し、そして
（４）該アノードと該カソードの間に電圧を印加するための手段を作動させる、
をいずれかの順序に又はそれら工程の少なくとも２つの工程について同時に行なう
ことにより、該中間室において該基質と該還元性物質から化合物を製造することができる。
本発明においては、このようにして基質と還元性物質を含む系の電解酸化反応を行なって化合物を製造する。
【００３３】
電解質溶液は、行なう電解酸化反応の種類により適宜選択される。
本発明で用いられる電解質溶液としては、種々の電解質溶液が使用できるが、好ましくは、酸性、中性又はアルカリ性の、弱電解質又は強電解質の溶液が用いられる。
これら電解質溶液の例としては、塩酸、硫酸、リン酸、過ハロゲン酸等の酸及びそれらの塩；アルカリ金属のハロゲン化物及び水酸化物；４級テトラアルキルアンモニウムのハロゲン化物又は過ハロゲン酸塩；アンモニア等の電解質を、適当な溶媒に溶解して得られる溶液を挙げることができる。上記の電解質は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また溶媒としては、水の他、アルコール、酢酸、アセトン、アセトニトリル等の非水溶媒を用いることができる。これらの溶媒は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３４】
またこの溶媒の少なくとも一部を、後述する基質として用いてもよい。例えば、基質としてアルコールを用い、電解カルボニル化反応によって炭酸ジエステルを製造する場合には、電解質溶液の溶媒としてアルコールを用い、その一部を基質として用いることができる。
以上のような溶液の他、水ガラス、水道水、工業用水等も、電解質溶液として用いることができる。これらの電解質溶液は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
所望により、電解質溶液中に目的とする反応に有効な触媒成分を分散させてもよい。触媒成分としては、種々の元素を含む金属又は金属化合物を用いることができ、例えば、周期律表の１〜１６族から選ばれる金属あるいはこれら金属の化合物が好ましく用いられる。また、シリカ、シリカ−アルミナ、ゼオライト、ヘテロポリ酸などの触媒成分を電解質溶液中に分散させてもよく、目的とする反応に応じて適宜選定することができる。
【００３５】
本発明の有機電解反応装置を用いてカルボニル化反応を行う場合には、リン酸、過ハロゲン酸、過ハロゲン酸アンモニウム、アルカリ金属のハロゲン化物、アルカリ金属の過ハロゲン酸塩、４級テトラアルキルアンモニウムのハロゲン化物、及び４級テトラアルキルアンモニウムの過ハロゲン酸塩よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含む電解質溶液を用いることが好ましい。
過ハロゲン酸の例としては、過塩素酸及び過ヨウ素酸を挙げることができる。
過ハロゲン酸アンモニウムの例としては、過塩素酸アンモニウムを挙げることができる。
アルカリ金属のハロゲン化物の例としては、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム及びヨウ化ナトリウムを挙げることができる。
【００３６】
アルカリ金属の過ハロゲン酸塩の例としては、過塩素酸ナトリウム及び過ヨウ素酸ナトリウムを挙げることができる。
４級テトラアルキルアンモニウムのハロゲン化物の例としては、塩化テトラメチルアンモニウム、臭化テトラメチルアンモニウム、ヨウ化テトラメチルアンモニウム、塩化テトラエチルアンモニウム、塩化テトラプロピルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム及び塩化テトラヘキシルアンモニウムを挙げることができる。
４級テトラアルキルアンモニウムの過ハロゲン酸塩の例としては、過塩素酸テトラメチルアンモニウム、過塩素酸テトラエチルアンモニウム、過塩素酸テトラプロピルアンモニウム及び過塩素酸テトラブチルアンモニウムを挙げることができる。
【００３７】
基質は、行なう電解酸化反応の種類により適宜選択される。
例えば、上記電解カルボニル化反応を行う場合には、基質としてオレフィン類、アルコール類、フェノール類、アミン類等を用いることができる。これらの基質は単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
オレフィン類の例としては、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、ヘプテン、オクテン、デセン、３−メチル−１−ブテン、２，３−ジメチル−１−ブテン、塩化アリルなどの直鎖状及び分岐状オレフィン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロデセンなどの環状オレフィン、スチレン、α−メチルスチレンなどのアリール置換オレフィンなどが挙げられる。
これらのオレフィンを水の存在下で電解カルボニル化反応に付すと、不飽和カルボン酸が得られる。
【００３８】
アルコール類の例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、ｎ−ヘキサノール、ｎ−ヘプタノール、アリルアルコール、クロチルアルコールなどの飽和及び不飽和脂肪族アルコール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、シクロヘプタノール、メチルシクロヘキサノール、シクロヘキセン−３−オール、シクロヘキセン−４−オールなどの飽和及び不飽和環状アルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，２−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジオールなどの多価アルコール、ベンジルアルコール、サリチルアルコール、ベンズヒドロールなどのアリール置換アルコールなどが挙げられる。
これらのアルコール類を電解カルボニル化反応に付すと、炭酸ジアルキルエステルやシュウ酸ジアルキルエステルが得られる。
【００３９】
本発明の有機電解反応装置を用いて電解カルボニル化反応を行ない、炭酸ジアルキルエステルを製造する場合には、メタノール、エタノールなどの１価アルコールが好ましい。
また、これらのアルコール類と上記のオレフィン類の混合物を電解カルボニル化反応に付すと、不飽和カルボン酸のアルキルエステルが得られる。
フェノール類の例としては、フェノール、クレゾール、キシレノール、ナフトール、アントロール（ヒドロキシアントラセン）及びそれらの誘導体（芳香環の水素原子がアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、スルホン酸基などで置換されたもの）が挙げられる。これらのフェノール類を電解カルボニル化反応に付すと、炭酸ジアリールエステルやシュウ酸ジアリールエステルが得られる。
【００４０】
アミン類の例としては、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、シクロヘプチルアミン、シクロオクチルアミンなどの脂肪族アミン、アニリン、トルイジンなどの芳香族アミンなどが挙げられる。
これらのアミンを電解カルボニル化反応に付すと、尿素類縁体やシュウ酸ジアミド（オキサミド）が得られる。
これらの基質は必ずしも精製する必要はなく、他の化合物との混合物であってもよい。
【００４１】
以上の電解質溶液及び基質を中間室に導入するが、それらの導入方法に特に限定はなく、中間室に電解質溶液を導入した後、基質を導入してもよいし、基質及び電解質溶液を同時に（即ちそれらの混合物を）導入してもよい。
また中間室内における基質の濃度は、基質と還元性物質の合計重量に対し０．１〜１００重量％とすることが好ましく、１〜３０重量％とすることがより好ましい。
還元性物質は、行なう電解酸化反応の種類により適宜選択される。
本発明で用いる還元性物質は、電子供与能力を有するものであればよく、水素、一酸化炭素、アルコール類、アルデヒド類、ハイドロキノン類、飽和炭化水素類、不飽和炭化水素類、芳香族化合物、アミン類、水等を用いることができる。
【００４２】
例えば、上記電解カルボニル化反応を行う場合には、還元性物質として一酸化炭素を用いる。
これらの還元性物質は必ずしも純粋である必要はなく、他の化合物との混合物であってもよい。例えば、還元性物質として一酸化炭素を用いる場合、窒素、ヘリウム、アルゴン等の他のガスとの混合物であってもよい。
還元性物質の導入量は反応装置の規模に基づき適宜選択できるが、０．１〜１００００ｍｌ／ｍｉｎ．とすることが好ましく、１〜１０００ｍｌ／ｍｉｎ．とすることがより好ましい。
【００４３】
アノードとカソードの間に電圧が印加された状態にあるときに、上記の電解質溶液及び基質がアノード及びカソードに接触し、上記の還元性物質がアノードに接触すると、電解酸化反応が進行する。このときの印加電圧は、通常０．１〜１０Ｖ程度、好ましくは０．５〜７Ｖである。
本発明において、電解酸化反応は通常−２０〜２００℃、好ましくは−５〜１５０℃の反応温度で行う。
また本発明において、電解酸化反応は常圧下、加圧下及び減圧下のいずれの圧力条件下でも行うことができる。電解酸化反応を加圧下で行う場合には、１ａｔｍを超えて１００ａｔｍ以下の圧力下で行うことが好ましい。また電解酸化反応を減圧下で行う場合には、１０−２ｔｏｒｒ以上の減圧度において行うことが好ましい。
反応時間には特に制限はなく、目的とする反応生成物の選択率や収率が所望の範囲となるよう適宜選択すればよく、通常、数秒ないし数時間である。
【００４４】
また反応形式には特に制限はなく、回分的又は連続的に行うことが可能である。電解酸化反応を連続的に行う場合には、適当な装置を併用し、中間室内に形成される反応混合物を連続的に抜き出しながら、電解質溶液及び基質を中間室に連続的に導入すればよい。
以上の方法により電解酸化反応を行なうと、中間室中に反応生成物を含む反応混合物が生じる。反応生成物は、反応混合物から慣用の手段、例えば、蒸留又は抽出によって分離し、所望により、適当な分離手段により、所望の純度となるまで更に精製することができる。
上記したような、カソードの外側にカソード室を更に有する有機電解反応装置を用いて、気体の副生を伴う電解酸化反応（例えば、水素ガスの副生を伴う電解カルボニル化反応）を行う場合、副生ガスをカソード室に採補し回収してもよい。所望により、カソード室に不活性ガス、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴン等の導入部を設け、副生ガスを希釈して回収してもよい。
【００４５】
次に、本発明の有機電解反応装置による電解酸化反応の機構につき、電解カルボニル化反応によるメタノールからの炭酸ジメチルの製造を例として、図１を参照しながら説明する。
本発明の有機電解反応装置を用いて、本発明の方法によりメタノールと一酸化炭素から炭酸ジメチルを製造するための反応の原理を示す概略図を図１に示す。
なお、図１においては、便宜上、「電解質（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｔｅ）」が入口７から導入されることが示されているが、この「電解質（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｔｅ）」は、「電解質溶液（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｔｅ  ｓｏｌｕｔｉｏｎ）」を意味する。
【００４６】
アノード４とカソード５はケーシング中に間隔を置いて設けられて、ケーシングの内部が、アノード４の内側とカソード５の内側の間に形成された中間室２と、アノード４の外側にあるアノード室１とに仕切られている。
電解カルボニル化反応では水素が副生する。図１の装置では、この副生水素ガスの回収等を目的として、カソード５の外側にカソード室３が設けられている。
中間室２は、電解質溶液と基質の入口、即ちメタノール及び電解質溶液供給部７を有する。
アノード室１は還元性物質の入口、即ち一酸化炭素供給部６を有する。
カソード室３は副生水素ガスの出口、即ち水素排気口１１を有する。
アノード４とカソード５の外側表面にはそれぞれ金属メッシュが取り付けられ、リード線８により定電圧発生装置１０の出力端子に接続されている。
【００４７】
図１の装置を用いて電解カルボニル化反応によりメタノールから炭酸ジメチルを製造するときは、メタノール及び電解質溶液供給部７からメタノール及び電解質溶液を中間室２に導入し、一酸化炭素供給部６から一酸化炭素をアノード室１に導入する。
すると、アノード４及びカソード５の内部に気相、液相及び固相が共存する領域、いわゆる三相界面（ｔｈｒｅｅ  ｐｈａｓｅ  ｚｏｎｅ）がそれぞれ形成される。炭酸ジメチルの生成はアノード４内部の三相界面、水素ガスの副生はカソード５内部の三相界面で起こる。
【００４８】
アノード室１に導入された一酸化炭素（気相）は、アノード４中を移動し、アノード内部でアノード４（固相）、電解質溶液（液相）及びメタノール（液相）と接触し、三相界面が形成される。この三相界面において下記式（１）で表わされる反応が起こり、炭酸ジメチル、プロトン及び電子が生成する。
２ＭｅＯＨ＋ＣＯ→（ＭｅＯ）２ＣＯ＋２Ｈ＋＋２ｅ−  （１）
目的物である炭酸ジメチルは中間室２中に蓄積される。
プロトンは中間室２内の電解質溶液及びメタノール中をカソード側に移動する。
電子はリード線８及び定電圧発生装置１０を経由してカソードに移動する。
【００４９】
カソード５内部では、カソード５（固相）と電解質溶液（液相）及びメタノール（液相）とが接触しているが、この領域で、下記式（２）で表わされるように、上記のプロトンが電子と反応して水素（気相）が生成する。
２Ｈ＋＋２ｅ−  →  Ｈ２  （２）
この反応の結果、カソード５の内部にも三相界面が形成される。生成した水素は、カソード５中を移動してカソード室３中に採補され、水素排気口１１より排出又は回収される。
このように、上記の装置を用いると、アノード４及びカソード５の両者の内部において、反応性を有する化学種（活性種）の三相界面への移動が起こる。このため、本発明においてはアノード及びカソードの両者がイオン伝導性あるいは活性種伝導性であることを必要とする。
【００５０】
以上の機構は、この炭酸ジエステルの製造に限らず、本発明の反応装置を用いて行うことのできるいずれの電解酸化反応においても本質的に同様である。
アノード及びカソードに含まれていてもよい撥水剤は、特に還元性物質がガス状である場合、上記のような三相界面における電気化学的反応効率を向上させる効果を持つ。従って、ガス状の還元性物質を用いる場合には、撥水剤を含むアノードを用いることが好ましく、カソードにおける気体の副生を伴う電解酸化反応を行う場合には、撥水剤を含むカソードを用いることが好ましい。
【００５１】
本発明の新規な構造を有する有機電解反応装置を用いると、上記の炭酸ジエステルの製造をはじめとする電解カルボニル化反応など種々の電解酸化反応を効率的かつ経済的に行うことができ、また目的物の選択率も向上させることができる。複雑な製造工程も不要であり、触媒の劣化や腐食性の副生物に伴う問題も生じない。
また、反応は穏和な条件で進行するので、高温・高圧条件下で反応を行う必要がなく、従ってエネルギーを大量に消費することもない。
しかも、酸素などの酸化性物質の導入を伴わない上、上記の三相界面内を除いて還元性物質が基質と接触することがないので、爆発性の混合物が生成することもない。
【００５２】
上記のように効率及び選択率が向上するのは、次の理由によるものと考えられる。
本発明の有機電解反応装置においては、還元性物質（例えば一酸化炭素）及び基質（例えばメタノール）が装置の別々の位置、即ちアノード室及び中間室にそれぞれ導入される。アノード室と中間室はアノードによって仕切られているので、上記の三相界面内を除いて還元性物質が基質と接触することがない。この結果、還元性物質及び基質の活量が高まる。
上記のように効率及び選択率が向上するのは、還元性物質及び基質の活量の向上に起因するものと考えられる。
【００５３】
【実施例】
以下、実施例及び比較例により本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。
実施例１
以下に示す方法により、メタノールと一酸化炭素から炭酸ジメチルを製造した。
塩化パラジウム（日本国和光純薬工業社製）０．３ｍｇ、カーボンファイバー粉末（日本国昭和電工社製）５０ｍｇ及びポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）粉末（日本国ダイキン工業社製）１７ｍｇを混合し、得られた混合物を１２０℃でホットプレス成形することにより、円形シート状（厚さ：約１ｍｍ、直径：約２５ｍｍ）のアノードを得た。
【００５４】
一方、白金黒（日本国和光純薬工業社製）２０ｍｇ、グラファイト粉末（日本国和光純薬工業社製）１００ｍｇ、カーボンファイバー粉末（上記と同じもの）１０ｍｇ及びＰＴＦＥ粉末（上記と同じもの）５ｍｇを混合し、得られた混合物を１２０℃でホットプレス成型することにより、円形シート状（厚さ：約１ｍｍ、直径：約２５ｍｍ）のカソードを得た。
得られたアノード及びカソードを反応器に取り付けた後、それぞれ金リード線を用いて定電圧発生装置（日本国菊水工業製  ＫＩＫＵＳＵＩ  ＰＡＢ３２−１．２Ａ）の出力端子に接続した。
【００５５】
アノード及びカソードを取り付けた反応器を図２及び３に示す（以降、この状態の反応器を単に「反応器」と称する）。この反応器は、電解カルボニル化反応によりメタノールから炭酸ジメチルを製造するように構成されている。
アノード４とカソード５はケーシング中に間隔を置いて設けられて、ケーシングの内部が、アノード４の内側とカソード５の内側の間に形成された中間室２と、アノード４の外側にあるアノード室１とに仕切られている。
電解カルボニル化反応では水素が副生する。図２及び３の反応器では、この副生水素ガスの回収等を目的として、カソード４の外側にカソード室３が設けられている。
中間室２はメタノール及び電解質溶液供給部７を有する。
【００５６】
アノード室１は即ち一酸化炭素供給部６を有する。
カソード室３は即ち水素排気口１１を有する。
アノード４とカソード５の外側表面にはそれぞれ金属メッシュ２１が取り付けられ、リード線８により定電圧発生装置１０の出力端子に接続されている。
中間室２の容積は約４ｍｌである。
中間室２に１．１Ｍのリン酸を含むメタノール４ｍｌを入れ、アノード室１に一酸化炭素ガスを常圧下１５ｍｌ／ｍｉｎ．の流速で供給し、且つカソード室３にヘリウムガスを常圧下１０ｍｌ／ｍｉｎ．の流速で供給しながら、反応温度２５℃で、アノード４とカソード５の間に３．５Ｖの電圧を１時間印加することにより電解反応を行った。
この間、アノード４とカソード５の間の電位差、電流及び両極間を流れた電気量を、各々電位差計（日本国北斗電工社製  ＥＬＥＣＴＲＯＮ  ＭＥＴＥＲ  ＨＥ−１０４）、無抵抗電流計（日本国北斗電工社製  ＺＥＲＯ  ＳＨＵＮＴ  ＡＭＭＥＴＥＲ  ＨＭ−１０４）及びクーロンメータ（日本国北斗電工社製  ＣＯＵＬＯＭＢ  ＭＥＴＥＲ  ＨＦ−２１０）を用いて測定した。
【００５７】
得られた反応混合物（中間室２の内液）をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、炭酸ジメチルの生成が認められた。ガスクロマトグラフィーの条件は以下の通りである。
装置：日本国島津製作所製ＧＣ−１４ＡＦＰ型ガスクロマトグラフ（炎イオン化検出器（ＦＩＤ）を含む）
カラム：日本国信和化工製キャピラリーカラムＵＬＢＯＮＨＲ−２０Ｍ（０．２５ｍｍ×２５ｍ）
キャリアガス：ヘリウム
流速：２０ｍｌ／ｍｉｎ
分析法：４０℃で５分保持→１０℃／分で２３０℃まで昇温→２３０℃で５分保持
なお反応混合物は、２μｍｏｌのナフタレンを内部標準として添加した後、ガスクロマトグラフィーに付した。
反応混合物中の炭酸ジメチル及び副生物の量（μｍｏｌ）、炭酸ジメチルの生成効率（電流効率）（％）及びアノード４からカソード５に流れた電気量（Ｃ）を表１に示す。
電流効率は次の計算式により求めることができる。
【００５８】
【数１】
0004201703.tif 000002
【００５９】
表１において、化合物名を以下の略号によって示す。
リン酸  ：Ｈ３ＰＯ４
臭化テトラメチルアンモニウム  ：Ｍｅ４ＮＢｒ
臭化テトラエチルアンモニウム  ：Ｅｔ４ＮＢｒ
臭化テトラプロピルアンモニウム  ：Ｐｒ４ＮＢｒ
臭化テトラブチルアンモニウム  ：Ｂｕ４ＮＢｒ
臭化テトラヘキシルアンモニウム  ：Ｈｘ４ＮＢｒ
過塩素酸テトラエチルアンモニウム  ：Ｅｔ４ＮＣｌＯ４
過塩素酸テトラプロピルアンモニウム  ：Ｐｒ４ＮＣｌＯ４
過塩素酸テトラブチルアンモニウム  ：Ｂｕ４ＮＣｌＯ４
過塩素酸アンモニウム  ：ＮＨ４ＣｌＯ４
過塩素酸ナトリウム  ：ＮａＣｌＯ４
炭酸ジメチル  ：ＤＭＣ
シュウ酸ジメチル  ：ＯｘＤＭ
ジメトキシメタン  ：ＤＭＭ
ギ酸メチル  ：ＭＦ
【００６０】
一方、カソード室３内の気体を直接ガスシリンジで採取し、ガスクロマトグラフィーにより分析したところ、水素の生成が認められた。ガスクロマトグラフィーの条件は以下の通りである。
装置：日本国島津製作所製ＧＣ−８ＡＴＰ型ガスクロマトグラフ（熱伝導度検出器（ＴＣＤ）を含む）
カラム：内径３ｍｍ、長さ２ｍのガラスカラム（固定相として活性炭Ａｃｔｉｖｅ  ｃａｒｂｏｎ  ６０／８０（日本国ＧＬサイエンス製）を充填したもの）
キャリアガス：アルゴン
流速：４０ｍｌ／ｍｉｎ
分析法：７０℃で定温分析
【００６１】
実施例２及び３
印加電圧を１．７Ｖ（実施例２）又は５．０Ｖ（実施例３）とした以外は、実施例１と同様の操作を行なった。結果を表１に示す。
実施例４〜１５
リン酸に代えて、表１に示す濃度の臭化テトラメチルアンモニウム、臭化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラプロピルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラヘキシルアンモニウム、過塩素酸テトラエチルアンモニウム、過塩素酸テトラプロピルアンモニウム、過塩素酸テトラブチルアンモニウム、過塩素酸アンモニウム又は過塩素酸ナトリウムを用いた以外は、実施例１と同様の操作を行なった。結果を表１に示す。実施例１６
塩化パラジウムの量を０．６ｍｇとした以外は、実施例１３と同様の操作を行なった。結果を表１に示す。
【００６２】
【表１】
0004201703.tif 000003
【００６３】
比較例１
電圧を印加しなかった以外は、実施例１と同様の操作を行なったが、反応は進行せず、炭酸ジメチルの生成は認められなかった。
このことから明らかなように、本発明の反応系を用いた炭酸ジメチルの製造は、自発的に進行する電池反応ではなく、電圧の印加を必要とする電解反応によって行われる。
比較例２
実施例１と同様の方法により得られたアノード及びカソード（いずれも幾何学表面積４．９ｃｍ２の長方形となるよう鋏で切断したもの）を、それぞれ金リード線を用いて、定電圧発生装置（日本国菊水工業製ＫＩＫＵＳＵＩ  ＰＡＢ３２−１．２Ａ）の出力端子に接続した。
１００ｍｌのセパラブルフラスコに、１．１Ｍのリン酸を含むメタノール４０ｍｌを入れ、その中に上記アノード及びカソード、並びに一酸化炭素導入管の末端を浸して蓋を閉じ、一酸化炭素ガスを常圧下１０ｍｌ／ｍｉｎの流速で供給してバブリングさせながら、マグネチックスターラーによる攪拌下、反応温度２５℃で、アノードとカソードの間に３．５Ｖの電圧を１時間印加することにより電解反応を行った。
この間、アノードとカソードの間の電位差、電流及び両極間を流れた電気量を実施例１と同様にして測定した。
得られた反応混合物（セパラブルフラスコの内液）を実施例１と同様にしてガスクロマトグラフィーにより分析したところ、炭酸ジメチルの生成が認められた。
炭酸ジメチルの生成量は３μｍｏｌであり、ギ酸メチル１０μｍｏｌ及びジメトキシメタン５μｍｏｌが副生した。また電流効率は１０％であった。
また、反応中カソードから気体が発生しているのが確認され、セパラブルフラスコ内の気相をガスシリンジで採取し、実施例１と同様にしてガスクロマトグラフィーにより分析したところ、発生した気体は水素であることがわかった。
以上の結果より、従来の反応装置に比べ、本発明の反応装置が目的物の収率及び選択率において優れていることがわかる。
【００６４】
【発明の効果】
本発明の有機電解反応装置を用いると、電解酸化反応、例えばカルボニル化反応によって、種々の有用な化合物、例えば炭酸ジエステルを穏和な条件で、効率よく、高選択率で、安定且つ安全に製造することができる。
本発明の有機電解反応装置により、触媒の劣化、目的物の収率および選択率が低いこと、製造工程の煩雑さ、エネルギーの大量消費等の、電気分解を利用せず、触媒を用いて行う酸化反応に伴う種々の問題を克服することができる。
例えば、本発明の有機電解反応装置を用いて一酸化炭素とアルコールから電解カルボニル化反応により炭酸ジエステルを製造すると、穏和な条件で、高選択率、高効率的かつ経済的に炭酸ジエステルを製造することができる上、従来の製造法における諸問題、例えば有毒なホスゲンの使用、含塩素化合物の副生による装置の腐食、触媒の活性劣化、出発物質と酸素から生じる爆発性混合物の発生に伴う危険性、炭酸ジエステルの収率および選択性が低いこと等の問題を解決することができる。
本発明の有機電解反応装置においては、還元性物質及び基質が装置の別々の位置、即ちアノード室及び中間室にそれぞれ導入されるため還元性物質が基質と接触することがない。この結果、還元性物質及び基質の活量が高まる。上記のように効率及び選択率が向上するのは、還元性物質及び基質の活量の向上に起因するものと考えられる。
また、本発明の有機電解反応装置を用いると、カルボニル化反応以外の電解酸化反応、例えばアルカンの酸化、アルコールの酸化、オレフィンのエポキシ化、ベンジル位及びアリル位の酸化、芳香族化合物の芳香環の酸化、硫黄化合物の酸化、窒素化合物の酸化などを行うこともでき、また通常電気分解を利用せずに行なわれている酸化的付加反応を、電気分解を利用して行なうこともできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明の有機電解反応装置を用いて、本発明の方法によりメタノールと一酸化炭素から炭酸ジメチルを製造するための反応の原理を示す概略図である。
【図２】図２は実施例で用いた有機電解反応装置の分解図である。
【図３】図３は、図２の有機電解反応装置の内部を示す概略図である。
図１〜図３においては、類似の部材や部分は類似の番号で示されている。
【符号の説明】
１  アノード室
２  中間室
３  カソード室
４  アノード
５  カソード
６  一酸化炭素供給部
７  メタノール及び電解質溶液供給部
８  リード線
９  電流計
１０  定電圧発生装置
１１  水素排気口
１２  一酸化炭素排気口
１３  ヘリウム供給部
２１  金属メッシュ
２２  テフロン製押え板Ａ
２３  テフロン製押え板Ｂ
２４  テフロン製スペーサー
２５  シリコン製スペーサー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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