(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の投影露光装置を管理する装置管理方法であって、
前記複数の投影露光装置のそれぞれから送信された、各投影露光装置における複数の計測点での位置ずれ量に基づく投影像の歪みを記憶装置に記憶する記憶工程と；
前記複数の計測点のうち、対応する１つの計測点における互いの前記投影像の歪みについての指標値の差が所定範囲内である投影露光装置を、前記複数の投影露光装置の中から抽出し、抽出された投影露光装置の中に、他の装置との他の計測点における前記指標値の差が前記所定範囲外にある投影露光装置がある場合にのみその装置を除外して、前記抽出された投影露光装置のグループを作成する作成工程と；を含む装置管理方法。
【請求項２】
前記指標値の差は、前記複数の計測点の少なくとも一部における前記投影露光装置間の前記位置ずれ量の差のうちの最大値であることを特徴とする請求項１に記載の装置管理方法。
【請求項３】
前記作成工程では、
前記複数の投影露光装置の中から選択される一対の投影露光装置のすべての組み合わせについて前記指標値の差を算出することによって、互いの前記指標値の差が前記所定範囲内である投影露光装置の組合せを抽出することを特徴とする請求項１又は２に記載の装置管理方法。
【請求項４】
前記作成工程は、
前記複数の投影露光装置のそれぞれについて、その装置との前記指標値の差が前記所定範囲内となる投影露光装置の装置群を作成する第１工程と；
互いの前記指標値の差が前記所定範囲内である装置の組合せを、前記複数の投影露光装置のそれぞれについて作成された前記装置群の中から求め、その組合せを前記グループとする第２工程と；を含むことを特徴とする請求項３に記載の装置管理方法。
【請求項５】
前記作成工程では、
前記複数の投影露光装置のそれぞれについて、その装置との前記指標値の差が前記所定範囲の１／２の範囲内となる投影露光装置の装置群を作成し、前記各装置群を前記グループとすることを特徴とする請求項１又は２に記載の装置管理方法。
【請求項６】
前記作成工程では、
前記グループを作成する毎に、そのグループに含まれるすべての装置が、すでに作成されたいずれか１つのグループに含まれる場合には、そのグループを削除することを特徴とする請求項５に記載の装置管理方法。
【請求項７】
前記作成工程において、前記投影露光装置のグループを作成する方法として、請求項３に記載の装置管理方法を少なくとも含む複数の方法の中から１つの方法を選択可能であることを特徴とする請求項１又は２に記載の装置管理方法。
【請求項８】
前記複数の方法には、請求項４〜６のいずれか一項に記載の装置管理方法が含まれることを特徴とする請求項７に記載の装置管理方法。
【請求項９】
前記作成工程では、前記各投影露光装置を構成するステージ系の制御誤差に起因する線形の歪み成分が除去された前記投影像の歪みに基づいて、前記グループを作成することを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の装置管理方法。
【請求項１０】
前記作成工程では、前記各投影露光装置を構成するステージ系の制御誤差に起因する線形の歪み成分が除去され、かつ、投影光学系の結像特性が調整された後の前記投影像の歪みに基づいて、前記グループを作成することを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の装置管理方法。
【請求項１１】
複数の投影露光装置を利用して物体を多層的に露光する露光方法であって、
請求項１〜８のいずれか一項に記載の装置管理方法を用いて、前記投影露光装置のグループを作成する管理工程と；
前記グループの中から投影露光装置を選択して、前記物体を重ね合わせ露光する露光工程と；を含む露光方法。
【請求項１２】
複数の投影露光装置を利用して物体を多層的に露光する露光方法であって、
請求項９に記載の装置管理方法を用いて、前記投影露光装置のグループを作成する管理工程と；
前記グループの中から投影露光装置を選択し、選択された該投影露光装置を構成するステージ系の制御誤差に起因する線形の歪み成分を除去したうえで、前記物体を重ね合わせ露光する露光工程と；を含む露光方法。
【請求項１３】
複数の投影露光装置を利用して物体を多層的に露光する露光方法であって、
請求項１０に記載の装置管理方法を用いて、前記投影露光装置のグループを作成する管理工程と；
前記グループの中から投影露光装置を選択し、選択された投影露光装置を構成するステージ系の制御誤差に起因する線形の歪み成分を除去するとともに投影光学系の結像特性を調整したうえで、前記物体を重ね合わせ露光する露光工程と；を含む露光方法。
【請求項１４】
複数の投影露光装置と；
前記複数の投影露光装置のそれぞれから送信された、各投影露光装置における複数の計測点での位置ずれ量に基づく投影像の歪みが記憶される記憶装置と；
前記複数の計測点のうち、対応する１つの計測点における互いの前記投影像の歪みについての指標値の差が所定範囲内である投影露光装置を、前記複数の投影露光装置の中から抽出し、抽出された投影露光装置の中に、他の装置との他の計測点における前記指標値の差が前記所定範囲外にある投影露光装置がある場合にのみその装置を除外して、前記抽出された投影露光装置のグループを作成する管理装置と；
前記グループの中から、前記物体を重ね合わせ露光する投影露光装置を選択する選択装置と；を備えるリソグラフィシステム。
【請求項１５】
前記所定範囲を外部から設定可能な入力装置をさらに備えることを特徴とする請求項１４に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１６】
前記入力装置では、複数の所定範囲を設定可能であり、
前記管理装置は、前記複数の所定範囲のそれぞれについて、前記グループの作成処理を実行することを特徴とする請求項１５に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１７】
複数の投影露光装置のそれぞれから送信された、各投影露光装置における複数の計測点での位置ずれ量に基づく投影像の歪みを記憶装置に記憶する記憶手順と；
前記複数の計測点のうち、対応する１つの計測点における互いの前記投影像の歪みについての指標値の差が所定範囲内である投影露光装置を、前記複数の投影露光装置の中から抽出し、抽出された投影露光装置の中に、他の装置との他の計測点における前記指標値の差が前記所定範囲外にある投影露光装置がある場合にのみその装置を除外して、前記抽出された投影露光装置のグループを作成する作成手順と；をコンピュータに実行させるプログラム。
【請求項１８】
前記指標値の差は、前記複数の計測点の少なくとも一部における前記投影露光装置間の前記位置ずれ量の差のうちの最大値であることを特徴とする請求項１７に記載のプログラム。
【請求項１９】
前記作成手順として、
前記複数の投影露光装置の中から選択される一対の投影露光装置のすべての組み合わせについて前記指標値の差を算出することによって、互いの前記指標値の差が前記所定範囲内である投影露光装置の組合せを抽出する手順を前記コンピュータに実行させることを特徴とする請求項１７又は１８に記載のプログラム。
【請求項２０】
前記作成手順として、
前記複数の投影露光装置のそれぞれについて、その装置との前記指標値の差が前記所定範囲内となる投影露光装置の装置群を作成する第１手順と；
互いの前記指標値の差が前記所定範囲内である装置の組合せを、前記複数の投影露光装置のそれぞれについて作成された前記装置群の中から求め、その組合せを前記グループとする第２手順と；を前記コンピュータに実行させることを特徴とする請求項１９に記載のプログラム。
【請求項２１】
前記作成手順として、
前記複数の投影露光装置のそれぞれについて、その装置との前記指標値の差が前記所定範囲の１／２の範囲内となる投影露光装置の装置群を作成し、その装置と前記各装置群に含まれる装置との組合せを前記グループとする手順を前記コンピュータに実行させることを特徴とする請求項１７又は１８に記載のプログラム。
【請求項２２】
前記作成手順として、
前記グループを作成する毎に、そのグループに含まれるすべての装置が、すでに作成されたいずれか１つのグループに含まれる場合には、そのグループを削除する手順を前記コンピュータに実行させることを特徴とする請求項２１に記載のプログラム。
【請求項２３】
前記作成手順として、前記各投影露光装置を構成するステージ系の制御誤差に起因する線形の歪み成分が除去された前記投影像の歪みに基づいて、前記グループを作成する手順を前記コンピュータに実行させることを特徴とする請求項１７〜２２のいずれか一項に記載のプログラム。
【請求項２４】
前記作成手順として、前記各投影露光装置を構成するステージ系の制御誤差に起因する線形の歪み成分が除去され、かつ、投影光学系の結像特性が補正された後の前記投影像の歪みに基づいて、前記グループを作成する手順を前記コンピュータに実行させることを特徴とする請求項１７〜２２のいずれか一項に記載のプログラム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、装置管理方法、露光方法、リソグラフィシステム、及びプログラムに係り、さらに詳しくは、例えば半導体素子又は液晶表示素子等のマイクロデバイスを製造する際にリソグラフィ工程で用いられる複数の投影露光装置を管理する装置管理方法、その装置管理方法を用いて物体を重ね合わせ露光する露光方法、複数の投影露光装置を管理してリソグラフィ工程を実行するリソグラフィシステム、及び複数の投影露光装置を管理する手順をコンピュータに実行させるためのプログラムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、半導体素子、液晶表示素子等を製造するためのリソグラフィ工程では、マスク又はレチクル（以下、「レチクル」と総称する）に形成されたパターンを、投影光学系を介してレジスト等が塗布された物体、例えばウエハ又はガラスプレート等の基板（以下、適宜「ウエハ」という）上に転写する投影露光装置が用いられている。このような半導体素子等の製造にあたっては、異なる回路パターンをウエハ上に幾層にも積み重ねて形成するために重ね合わせ露光を行うのが一般的となっている。
【０００３】
また、近年では、量産性を高めるために、複数の投影露光装置を用意し、これらの投影露光装置をホスト計算機で集中的に管理するリソグラフィシステムが構築されている。このようなシステムでは、量産性を高めるために、１枚のウエハ上の各レイヤ（層）の回路パターンを異なる投影露光装置を用いて転写するようになるので、重ね合わせ露光をする際の各投影露光装置のスケジューリングが必要となる。例えば、ウエハ上の元工程レイヤ（以下、単に「元工程」と呼ぶ）での露光に用いられた投影露光装置が稼働中である場合には、現在稼動していない他の投影露光装置を現工程レイヤ（現行レイヤ：以下、「現工程」と呼ぶ）の露光に用いるようにスケジューリングすれば、全体の露光工程を短縮することができるようになる。
【０００４】
このようなスケジューリングを実行する際に問題となるのが、各投影露光装置間における転写像の歪み（ディストーション）である。レイヤ間の像の重ね合わせ精度を確保するためには、このようなディストーションを各投影露光装置間でマッチングさせることが重要となる。
【０００５】
そこで、従来から、このようなリソグラフィシステムでは、各投影露光装置の工場への搬入時等において、各投影露光装置による転写像の歪みをそれぞれ理想値（理想格子）に極力近づけるようにそれぞれの投影光学系を調整し、これにより、号機間の転写像の歪み誤差（ショットの形状誤差）を低減して重ね合わせ精度を確保するようにしている。また、ディストーションの経時変化に対応するため、ディストーションの計測および調整は定期的に行われている。
【０００６】
しかし、半導体素子の高集積化に伴う重ね合わせ精度の高精度化への要求の高まりを受け、像歪み補正能力の号機間差や経時変化に起因するレイヤ間のショットの形状誤差が無視できない状況になってきている。そこで、最近のリソグラフィシステムでは、各投影露光装置で転写像の歪みをそれぞれ理想値に極力近づけるとともに、先行する１つのレイヤ（基準レイヤ）の露光を行った投影露光装置における転写像の歪みと同様の歪みが生じるように、後のレイヤの露光を行う投影露光装置の投影光学系等を調整し、基準レイヤに対して転写像を合わせるようにしている。
【０００７】
かかる投影露光装置の転写像の歪みの調整方法及び装置が、従来から種々開示されている。例えば特開平４−１２７５１４号公報では、静止型の投影露光装置（一括型露光装置）の投影光学系の一部のレンズ素子を光軸方向に駆動、あるいは、光軸に直交する面に対して傾斜させることによって像歪みを発生させる方法及び装置が開示されている。また、例えば特開平７−５７９９１号公報等には、走査型の投影露光装置の走査露光中に投影光学系の倍率を連続的に変化させたり、レチクルとウエハとの走査方向に関する相対角度にオフセットをもたせたり、あるいは前記相対角度を連続的に変化させたりしながら、走査後に形成される像に歪みを与える方法及び装置が開示されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、投影露光装置によって投影像の歪みは異なり、中には、転写像の歪みが他の装置と著しく異なっており、その歪みを調整しても、その歪みを他の装置の歪みに近づけることが困難な装置もある。上述のリソグラフィシステムでは、そのような歪みの調整が困難な装置が混在して管理されているのが通常である。そのような調整が困難な装置を含めた重ね合わせ露光を行っても、レイヤ間の像の重ね合わせ精度を確保することができない。
【０００９】
本発明は、かかる事情の下になされたものであり、その第１の目的は、複数の投影露光装置を用いた高精度な重ね合わせ露光を効率よく実現することができる装置管理方法を提供することにある。
【００１０】
また、本発明の第２の目的は、高精度な重ね合わせ露光を効率よく実現することができる露光方法を提供することにある。
【００１１】
また、本発明の第３の目的は、高精度な重ね合わせ露光を効率よく実現することができるリソグラフィシステムを提供することにある。
【００１２】
また、本発明の第４の目的は、複数の投影露光装置を用いた高精度な重ね合わせ露光を効率よく実現することができるプログラムを提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明は、第１の観点からすると、複数の投影露光装置を管理する装置管理方法であって、前記複数の投影露光装置のそれぞれから送信された、各投影露光装置における複数の計測点での位置ずれ量に基づく投影像の歪みを記憶装置に記憶する記憶工程と；前記複数の計測点のうち、対応する１つの計測点における互いの前記投影像の歪みについての指標値の差が所定範囲内である投影露光装置を、前記複数の投影露光装置の中から抽出し、抽出された投影露光装置の中に、他の装置との他の計測点における前記指標値の差が前記所定範囲外にある投影露光装置がある場合にのみその装置を除外して、前記抽出された投影露光装置のグループを作成する作成工程と；を含む装置管理方法である。
【００１４】
これによれば、上述の作成工程において、複数の計測点のうち、対応する１つの計測点における互いの投影像の歪みについての指標値の差が所定範囲内である投影露光装置が、複数の投影露光装置の中から抽出され、抽出された投影露光装置の中に、他の装置との他の計測点における指標値の差が所定範囲外にある投影露光装置がある場合には、その装置が除外された、前記抽出された投影露光装置のグループが作成され、一方、抽出された投影露光装置の中に、他の装置との他の計測点における指標値の差が所定範囲外にある投影露光装置がない場合には、抽出された投影露光装置のグループが作成される。従って、重ね合わせ露光を行う際に、投影像の歪みの差が少ないグループ内の装置だけを用いた重ね合わせ露光を実現することができる。このため、複数の投影露光装置を用いても、高い重ね合わせ精度で効率よく重ね合わせ露光を行うことができる。
【００１５】
この場合において、前記指標値の差は、前記複数の計測点の少なくとも一部における前記投影露光装置間の前記位置ずれ量の差のうちの最大値であることとすることができる。
【００１６】
本発明の装置管理方法において、前記作成工程では、前記複数の投影露光装置の中から選択される一対の投影露光装置のすべての組み合わせについて前記指標値の差を算出することによって、互いの前記指標値の差が所定範囲内である投影露光装置の組合せを抽出することとすることができる。
【００１７】
かかる場合には、互いの歪みの指標値の差が所定範囲内である投影露光装置の組合せをすべて抽出してグループ化することができるため、グループの作成もれがなくなるとともに、多種多様なグループが作成される。作成されるグループのバリエーションが増えれば、それだけ複数の露光装置のスケジューリングを多様化することができるようになる。そのため、本方法を用いれば、重ね合わせ露光を行う際の投影露光装置のスケジューリング効率が改善され、結果的に露光工程の効率化を図ることができるようになる。
【００１８】
この場合において、前記作成工程は、前記複数の投影露光装置のそれぞれについて、その装置との前記指標値の差が前記所定範囲内となる投影露光装置の装置群を作成する第１工程と；互いの前記指標値の差が前記所定範囲内である装置の組合せを、前記複数の投影露光装置のそれぞれについて作成された前記装置群の中から求め、その組合せを前記グループとする第２工程と；を含むこととすることができる。
【００１９】
本発明の装置管理方法において、前記作成工程では、前記複数の投影露光装置のそれぞれについて、その装置との前記指標値の差が前記所定範囲の１／２の範囲内となる投影露光装置の装置群を作成し、前記各装置群を前記グループとすることとすることができる。
【００２０】
かかる場合には、すべての投影露光装置の組合せにおける投影像の歪みの指標値の差を算出することなく、互いの歪みの指標値の差が所定範囲内である投影露光装置のグループを作成することができるようになるため、グループを作成するのに要する時間を短縮することができる。その結果、露光工程の時間短縮を図ることができる。
【００２１】
この場合において、前記作成工程では、前記グループを作成する毎に、そのグループに含まれるすべての装置が、すでに作成されたいずれか１つのグループに含まれる場合には、そのグループを削除することとすることができる。
【００２２】
かかる場合には、作成された複数のグループのうち、組合せが重複するグループをスケジューリングの対象から除外することができるようになるため、装置のスケジューリングの効率化を図ることができるようになる。
【００２４】
本発明の装置管理方法では、前記作成工程において、前記投影露光装置のグループを作成する方法として、請求項３に記載の装置管理方法を少なくとも含む複数の方法の中から１つの方法を選択可能であることとすることができる。
【００２５】
このようにすれば、時と場合とに応じて、あるいは管理する各投影露光装置の投影像の歪みなどの特性に応じた臨機応変なグループ作成を実行することができる。この場合、前記複数の方法には、請求項４〜６のいずれか一項に記載の装置管理方法が含まれることとすることができる。
【００２６】
本発明の装置管理方法において、前記作成工程では、前記各投影露光装置を構成するステージ系の制御誤差に起因する線形の歪み成分が除去された前記投影像の歪みに基づいて、前記グループを作成することとすることができる。
【００２７】
これによれば、重ね合わせ露光をする際に、各投影露光装置において、ステージ系の制御誤差に起因する線形の歪み成分を除去して露光することができるようになるため、高精度な重ね合わせ露光を実現することができるようになる。
【００２８】
また、本発明の装置管理方法において、前記作成工程では、前記各投影露光装置を構成するステージ系の制御誤差に起因する線形の歪み成分が除去され、かつ、投影光学系の結像特性が調整された後の投影像の歪みに基づいて、前記グループを作成することとすることができる。
【００２９】
これによれば、重ね合わせ露光をする際に、ステージ成分を除去し、投影光学系を調整したうえで露光することができるようになるため、高精度な重ね合わせ露光を実現することができるようになる。
【００３０】
本発明は、第２の観点からすると、複数の投影露光装置を利用して物体を多層的に露光する露光方法であって、請求項１〜８のいずれか一項に記載の装置管理方法を用いて、前記投影露光装置のグループを作成する管理工程と；前記グループの中からいずれか１つの投影露光装置を選択して、前記物体を重ね合わせ露光する露光工程と；を含む第１の露光方法である。
【００３１】
これによれば、上述の装置管理方法において、互いの投影像の歪みの指標値の差が所定範囲内である投影露光装置のグループが作成されるので、露光工程で重ね合わせ露光を行う際に、投影像の歪みの差が少ないグループ内の装置だけを用いた重ね合わせ露光を実行することができるため、複数の投影露光装置を用いて、高い重ね合わせ精度で効率よく重ね合わせ露光を行うことができる。
【００３２】
本発明は、第３の観点からすると、複数の投影露光装置を利用して物体を多層的に露光する露光方法であって、請求項９に記載の装置管理方法を用いて、前記投影露光装置のグループを作成する管理工程と；前記グループの中から投影露光装置を選択し、選択された投影露光装置を構成するステージ系の制御誤差に起因する線形の歪み成分を除去したうえで、前記物体を重ね合わせ露光する露光工程と；を含む第２の露光方法である。
【００３３】
これによれば、露光工程で重ね合わせ露光を行う際に、ステージ系の制御誤差に起因する線形の歪み成分が除去された投影像の歪みに基づいて作成されたグループから投影露光装置が選択されるようになるため、より高精度な重ね合わせ露光を実現することができるようになる。
【００３４】
本発明は、第４の観点からすると、複数の投影露光装置を利用して物体を多層的に露光する露光方法であって、請求項１０に記載の装置管理方法を用いて、前記投影露光装置のグループを作成する管理工程と；前記グループの中から投影露光装置を選択し、選択された投影露光装置を構成するステージ系の制御誤差に起因する線形の歪み成分を除去するとともに投影光学系の結像特性を調整したうえで、前記物体を重ね合わせ露光する露光工程と；を含む第３の露光方法である。
【００３５】
これによれば、露光工程で重ね合わせ露光を行う際に、ステージ系の制御誤差に起因する線形の歪み成分や投影光学系の結像特性調整後の投影像の歪みに基づいて作成されたグループから投影露光装置が選択されるようになるため、より高精度な重ね合わせ露光を実現することができるようになる。
【００３６】
本発明は、第５の観点からすると、前記複数の投影露光装置のそれぞれから送信された、各投影露光装置における複数の計測点での位置ずれ量に基づく投影像の歪みが記憶される記憶装置と；前記複数の計測点のうち、対応する１つの計測点における互いの前記投影像の歪みについての指標値の差が所定範囲内である投影露光装置を、前記複数の投影露光装置の中から抽出し、抽出された投影露光装置の中に、他の装置との他の計測点における前記指標値の差が前記所定範囲外にある投影露光装置がある場合にのみその装置を除外して、前記抽出された投影露光装置のグループを作成する管理装置と；前記グループの中から、前記物体を重ね合わせ露光する投影露光装置を選択する選択装置と；を備えるリソグラフィシステムである。
【００３７】
これによれば、上記管理装置において、複数の計測点のうち、対応する１つの計測点における互いの投影像の歪みについての指標値の差が所定範囲内である投影露光装置が、複数の投影露光装置の中から抽出され、抽出された投影露光装置の中に、他の装置との他の計測点における指標値の差が所定範囲外にある投影露光装置がある場合には、その装置が除外された、前記抽出された投影露光装置のグループが作成され、一方、抽出された投影露光装置の中に、他の装置との他の計測点における指標値の差が所定範囲外にある投影露光装置がない場合には、抽出された投影露光装置のグループが作成される。従って、重ね合わせ露光を行う際に、投影像の歪みの差が少ないグループ内の装置だけを用いた重ね合わせ露光を実行することができ、これにより、複数の投影露光装置を用いた高い重ね合わせ精度で効率のよい重ね合わせ露光を実現することができる。
【００３８】
この場合において、前記所定範囲を外部から設定可能な入力装置をさらに備えることとすることができる。この場合において、前記入力装置では、複数の所定範囲を設定可能であり、前記管理装置は、前記複数の所定範囲のそれぞれについて、前記グループの作成処理を実行することとすることができる。
【００３９】
かかる場合には、投影像の歪みの差がその所定範囲内である装置の組み合わせを、複数の所定範囲で一度に算出することができるようになる。そのため、管理する各投影露光装置の投影像の歪みのばらつき具合が未知である場合でも、そのばらつき具合に応じたグループを、グループ作成処理を何回も実行することなく作成することができる。その結果、露光工程に要する時間を短縮することができる。
【００４０】
本発明は、第６の観点からすると、複数の投影露光装置のそれぞれから送信された、各投影露光装置における複数の計測点での位置ずれ量に基づく投影像の歪みを記憶装置に記憶する記憶手順と；前記複数の計測点のうち、対応する１つの計測点における互いの前記投影像の歪みについての指標値の差が所定範囲内である投影露光装置を、前記複数の投影露光装置の中から抽出し、抽出された投影露光装置の中に、他の装置との他の計測点における前記指標値の差が前記所定範囲外にある投影露光装置がある場合にのみその装置を除外して、前記抽出された投影露光装置のグループを作成する作成手順と；をコンピュータに実行させるプログラムである。
【００４１】
これによれば、上述の作成手順をコンピュータに実行させることによって、複数の計測点のうち、対応する１つの計測点における互いの投影像の歪みについての指標値の差が所定範囲内である投影露光装置が、複数の投影露光装置の中から抽出され、抽出された投影露光装置の中に、他の装置との他の計測点における指標値の差が所定範囲外にある投影露光装置がある場合には、その装置が除外された、前記抽出された投影露光装置のグループが作成され、一方、抽出された投影露光装置の中に、他の装置との他の計測点における指標値の差が所定範囲外にある投影露光装置がない場合には、抽出された投影露光装置のグループが作成される。従って、重ね合わせ露光を行う際に、投影像の歪みの差が少ないグループ内の装置だけを用いた重ね合わせ露光を実行することができ、複数の投影露光装置を用いても、高い重ね合わせ精度で効率よく重ね合わせ露光を行うことができる。
【００４２】
この場合において、前記指標値の差は、前記複数の計測点の少なくとも一部における前記投影露光装置間の前記位置ずれ量の差のうちの最大値であることとすることができる。
【００４３】
本発明のプログラムでは、前記作成手順として、前記各投影露光装置の中から選択される一対の投影露光装置のすべての組み合わせについて前記指標値の差を算出することによって、互いの前記指標値の差が前記所定範囲内である投影露光装置の組合せを抽出する手順を前記コンピュータに実行させることとすることができる。
【００４４】
これによれば、コンピュータによって、互いの歪みの指標値の差が所定範囲内である投影露光装置の組合せをすべて抽出してグループ化することができるため、グループの作成もれがなくなり、多種多様なグループが作成され、複数の露光装置のスケジューリングを多様化することができるようになる。そのため、本プログラムを用いれば、重ね合わせ露光を行う際の投影露光装置のスケジューリング効率が改善され、結果的に露光工程の効率化を図ることができるようになる。
【００４５】
この場合において、前記作成手順として、前記複数の投影露光装置のそれぞれについて、その装置との前記指標値の差が前記所定範囲内となる投影露光装置の装置群を作成する第１手順と；互いの前記指標値の差が前記所定範囲内である装置の組合せを、前記複数の投影露光装置のそれぞれについて作成された前記装置群の中から求め、その組合せを前記グループとする第２手順と；をコンピュータに実行させることとすることができる。
【００４６】
本発明のプログラムでは、前記作成手順として、前記複数の投影露光装置のそれぞれについて、その装置との前記指標値の差が前記所定範囲の１／２の範囲内となる投影露光装置の装置群を作成し、その装置と前記各装置群に含まれる装置との組合せを前記グループとする手順を前記コンピュータに実行させることとすることができる。
【００４７】
かかる場合には、すべての投影露光装置の組合せにおける投影像の歪みの指標値の差を算出することなく、互いの歪みの指標値の差が所定範囲内である投影露光装置のグループを作成することができるようになる。このため、グループを作成するのに要する時間を短縮することができ、結果的に、投影露光装置のスケジューリングの効率化を図ることができるようになる。
【００４８】
この場合において、前記作成手順として、前記グループを作成する毎に、そのグループに含まれるすべての装置が、すでに作成されたいずれか１つのグループに含まれる場合には、そのグループを削除する手順を前記コンピュータに実行させることが好ましい。
【００４９】
かかる場合には、作成された複数のグループのうち、組合せが重複するグループをスケジューリングの対象から除外することができるようになるため、装置のスケジューリングの効率化を図ることができるようになる。
【００５１】
また、本発明のプログラムでは、前記作成手順として、前記各投影露光装置を構成するステージ系の制御誤差に起因する線形の歪み成分が除去された前記投影像の歪みに基づいて、前記グループを作成する手順を前記コンピュータに実行させることとすることができる。
【００５２】
また、本発明のプログラムでは、前記作成手順として、前記各投影露光装置を構成するステージ系の制御誤差に起因する線形の歪み成分が除去され、かつ、投影光学系の結像特性が補正された後の前記投影像の歪みに基づいて前記グループを作成する手順を前記コンピュータに実行させることとすることができる。
【００５３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態を図１〜図１６に基づいて説明する。
【００５４】
図１には、本発明の一実施形態に係るリソグラフィシステム１００の構成が概略的に示されている。このリソグラフィシステム１００は、Ｎ台の投影露光装置１１０1〜１１０N、管理装置１３０、記憶装置１４０、ターミナルサーバ１５０、及びホストコンピュータ１６０を備えている。
【００５５】
この内、投影露光装置１１０i（ｉ＝１、２、……、Ｎ）、管理装置１３０及びターミナルサーバ１５０は、ローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）１７０に接続されている。また、記憶装置１４０は、スカジー（ＳＣＳＩ）等の通信路１８０を介して管理装置１３０に接続されている。また、ホストコンピュータ１６０は、ターミナルサーバ１５０を介してＬＡＮ１７０に接続されている。すなわち、ハードウエア構成上では、投影露光装置１１０i、管理装置１３０（及び記憶装置１４０）、ターミナルサーバ１５０、及びホストコンピュータ１６０の相互間の通信経路が確保されている。なお、本システムにおける実際の構成要素相互間の通信については後述する。
【００５６】
前記投影露光装置１１０1〜１１０Nのそれぞれはステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置、いわゆるステッパ（以下、「静止型露光装置」と呼ぶ）であっても良いし、また、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、すなわちスキャニング・ステッパ（以下、「走査型露光装置」と呼ぶ）であっても良い。なお、以下の説明においては、説明の便宜上、Ｎは偶数であるものとし、Ｎ台の投影露光装置１１０1〜１１０Nの全てが、投影像の歪み調整能力を有するとともに、奇数番目の投影露光装置１１０1、１１０3、……、１１０N-1が走査型露光装置であり、かつ偶数番目の投影露光装置１１０2、１１０4、……、１１０Nが静止型露光装置であるものとする。
【００５７】
図２には、１台の走査型露光装置である投影露光装置１１０1の概略的な構成が示されている。投影露光装置１１０1は、図２に示されるように、照明系ＩＯＰ、マスクとしてのレチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴ、投影光学系ＰＬ、物体としてのウエハＷが搭載されるウエハステージＷＳＴ等を備えている。
【００５８】
前記照明系ＩＯＰは、光源、オプティカルインテグレータ（フライアイレンズ、内面反射型インテグレータ（ロット・インテグレータ）、又は回折光学素子など）等からなる照度均一化光学系、リレーレンズ、可変ＮＤフィルタ、レチクルブラインド（マスキングブレード）、及びダイクロイックミラー等（いずれも不図示）を含んで構成されている。かかる照明系の構成は、例えば、特開平６−３４９７０１号公報などに開示されている。この照明系ＩＯＰでは、回路パターン等が描かれたレチクルＲ上のレチクルブラインドで規定されたスリット状（Ｘ軸方向に伸びる細長い長方形状）の照明領域部分を照明光ＩＬによりほぼ均一な照度で照明する。照明光ＩＬとしては、例えば、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光や、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、Ｆ2レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光などが用いられる。なお、照明光ＩＬとして、超高圧水銀ランプからの紫外域の輝線（ｇ線、ｉ線等）などを用いても良い。
【００５９】
前記レチクルステージＲＳＴ上にはレチクルＲが、例えば真空吸着により固定されている。レチクルステージＲＳＴは、ここでは、リニアモータなどから成る不図示のレチクルステージ駆動部によって、レチクルＲの位置決めのため、照明光学系の光軸（後述する投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに一致）に垂直なＸＹ平面内で微少駆動可能であるとともに、所定の走査方向（ここではＹ軸方向とする）に指定された走査速度で駆動可能となっている。レチクルステージＲＳＴのステージ移動面内の位置はレチクルレーザ干渉計（以下、「レチクル干渉計」という）１６によって、移動鏡１５を介して、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出される。レチクル干渉計１６からのレチクルステージＲＳＴの位置情報は主制御装置５０に送られ、該主制御装置５０では、レチクルステージＲＳＴの位置情報に基づいてレチクルステージ駆動部（図示省略）を介してレチクルステージＲＳＴを制御する。
【００６０】
前記投影光学系ＰＬは、レチクルステージＲＳＴの図２における下方に配置され、その光軸ＡＸの方向がＺ軸方向とされている。この投影光学系ＰＬとしては、ここでは、光学素子としてレンズエレメントのみが用いられる、即ち光軸ＡＸ方向に沿って所定間隔で配置された複数枚のレンズエレメント２７、２９、３０、３１、……及びこれらのレンズエレメント２７、２９、３０、３１、……を保持するレンズ鏡筒３２を含んで構成された、例えば両側テレセントリックな屈折系が用いられている。この投影光学系ＰＬの投影倍率は、例えば１／５（あるいは１／４）とされている。このため、照明系ＩＯＰからの照明光ＩＬによってレチクルＲの照明領域が照明されると、このレチクルＲを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬを介して照明領域部分のレチクルＲの回路パターンの縮小像（部分倒立像）が表面にレジスト（感光剤）が塗布されたウエハＷ上に形成される。この投影露光装置１１０1では、この投影光学系ＰＬによる投影像の歪み（倍率を含む）を補正する結像特性補正装置が設けられている。
【００６１】
次に、この投影光学系ＰＬの結像特性を補正するための結像特性補正装置について説明する。この結像特性補正装置は、大気圧変化、照明光吸収等による投影光学系ＰＬ自体の結像特性の変化を補正すると共に、ウエハＷ上の先行する特定レイヤ（例えば前レイヤ）のショット領域（区画領域）に転写されたパターンの歪みに合わせてレチクルＲのパターンの投影像を歪ませる働きをもつ。投影光学系ＰＬの結像特性としては焦点位置、像面湾曲、ディストーション、非点収差等があり、それらを補正する機構はそれぞれ考えられるが、以下の説明において、結像特性補正装置は、主として投影像の歪み（倍率を含む）に関する補正のみを行なうものとする。
【００６２】
図２において、投影光学系ＰＬを構成する、レチクルＲに最も近いレンズエレメント２７は支持部材２８に固定され、レンズエレメント２７に続くレンズエレメント２９，３０，３１，…は投影光学系ＰＬのレンズ鏡筒３２に固定されている。支持部材２８は、伸縮自在の複数（ここでは３つ）の駆動素子、例えばピエゾ素子１１ａ、１１ｂ、１１ｃ（但し、図２では紙面奥側の駆動素子１１ｃは図示せず）を介して投影光学系ＰＬのレンズ鏡筒３２と連結されている。駆動素子１１ａ、１１ｂ、１１ｃに印加される駆動電圧が結像特性制御部１２によって独立して制御され、これによって、レンズエレメント２７が光軸ＡＸに直交する面に対して任意に傾斜及び光軸方向に移動可能な構成となっている。各駆動素子によるレンズエレメント２７の駆動量は不図示の位置センサにより厳密に測定され、その位置はサーボ制御により目標値に保たれるようになっている。
【００６３】
この投影露光装置１１０1では、レンズエレメント２７の支持部材２８、駆動素子１１ａ、１１ｂ、１１ｃ及びこれに対する駆動電圧を制御する結像特性制御部１２によって結像特性補正装置（倍率調整手段を兼ねる）が構成されている。なお、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸとはレンズエレメント２９以下のレンズエレメントの共通の光軸を指すものとする。
【００６４】
なお、上記では、説明の便宜上から、レンズエレメント２７のみが、移動可能な場合について説明したが、これに限らず、複数のレンズエレメントあるいはレンズ群を上記レンズエレメント２７と同様にして移動可能に構成しても良い。このようにすることにより、投影像の像歪みなどをより微細に調整することが可能となる。
【００６５】
また、本実施形態では、投影光学系ＰＬのレンズエレメント２７を移動して、その結像特性を調整するだけでなく、例えば走査露光におけるレチクルＲとウエハＷとの走査方向をずらすなどして、ウエハＷ上に形成されるレチクルＲのパターンの転写像を歪ませることが可能となっている。
【００６６】
前記ウエハステージＷＳＴは、投影光学系ＰＬの図２における下方に配置され、このウエハステージＷＳＴ上には、ウエハホルダ９が保持されている。このウエハホルダ９上にはウエハＷが真空吸着されている。ウエハホルダ９は不図示の駆動部により、投影光学系ＰＬの最良結像面に対し、任意方向に傾斜可能で、かつ投影光学系ＰＬの光軸ＡＸ方向（Ｚ軸方向）に微動が可能に構成されている。また、このウエハホルダ９は光軸ＡＸに平行なＺ軸回りの回転動作も可能になっている。
【００６７】
ウエハステージＷＳＴは、モータ等のウエハステージ駆動部（不図示）により駆動され、走査方向（Ｙ軸方向）の移動のみならず、ウエハＷ上の複数のショット領域を前記照明領域と共役な露光領域に位置させることができるように、走査方向に垂直な方向（Ｘ軸方向）にも移動可能となっている。
【００６８】
ウエハステージＷＳＴのＸＹ平面内での位置はウエハレーザ干渉計１８によって、移動鏡１７を介して、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出されている。ウエハステージＷＳＴの位置情報（又は速度情報）は主制御装置５０に送られ、主制御装置５０では、その位置情報（又は速度情報）に基づいてウエハステージＷＳＴを、ウエハステージ駆動部（図示省略）を介して制御する。
【００６９】
また、ウエハステージＷＳＴの上面には、その表面がウエハＷ表面とほぼ同一高さに設定された基準マーク板ＦＭが固定されている。この基準マーク板ＦＭの表面には、ベースライン計測用の基準マーク及びレチクルアライメント用の基準マークなどが所定の位置関係で形成されている。
【００７０】
投影光学系ＰＬの側面には、ウエハＷ上の各ショット領域に付設されたアライメントマーク（ウエハマーク）の位置を検出するためのオフ・アクシス方式のアライメント検出系、例えば画像処理方式の結像式アライメントセンサ８が設けられている。アライメントセンサ８は、ウエハＷ上のレジストを感光させないブロードバンドな検出光束を対象マークに照射し、その対象マークからの反射光により受光面に結像された対象マークの像と不図示の指標の像とを撮像素子（ＣＣＤ）等を用いて撮像し、それらの撮像信号を出力する画像処理方式のＦＩＡ（Field  Image  Alignment）系のセンサである。なお、ＦＩＡ系に限らず、コヒーレントな検出光を対象マークに照射し、その対象マークから発生する散乱光または回折光を検出する、あるいはその対象マークから発生する２つの回折光（例えば同次数）を干渉させて検出するアライメントセンサを単独であるいは適宜組み合わせて用いることはもちろん可能である。このようなアライメントセンサ８の検出結果が不図示のアライメント信号処理系を介して主制御装置５０に出力されている。
【００７１】
また、投影露光装置１１０1は、投影光学系ＰＬの最良結像面に向けて複数のスリット像を形成するための結像光束を光軸ＡＸ方向に対して斜め方向より供給する照射光学系１３と、その結像光束のウエハＷの表面での各反射光束を、それぞれスリットを介して受光する受光光学系１４とから成る斜入射方式の多点焦点位置検出系が設けられている。この多点焦点位置検出系（１３、１４）としては、例えば特開平６−２８３４０３号公報に開示されるものと同様の構成のものが用いられる。この多点焦点位置検出系（１３、１４）で検出されるウエハ位置情報は、主制御装置５０に供給されるようになっている。主制御装置５０では、このウエハ位置情報に基づいて不図示の駆動系を介してウエハホルダ９をＺ軸方向及び傾斜方向に駆動して、ウエハＷのフォーカス・レベリング制御を行う。
【００７２】
前記主制御装置５０は、例えばマイクロコンピュータから成り、上述した投影露光装置１１０1の構成各部を統括して制御する。また、本実施形態では、この主制御装置５０は、投影露光装置１１０1に併設された不図示のコータ・デベロッパ（以下、「Ｃ／Ｄ」と呼ぶ）をも制御する。また、主制御装置５０は、ＬＡＮ１７０に接続されている。
【００７３】
次に、前述した投影露光装置１１０1における露光処理工程の動作について、図２を参照しつつ、簡単に説明する。
【００７４】
主制御装置５０では、干渉計１６、１８からの位置情報をモニタしつつ、ウエハステージＷＳＴを第１ショット領域の露光のための走査開始位置（加速開始位置）に位置決めするとともに、レチクルステージＲＳＴを走査開始位置（加速開始位置）に位置決めして、その第１ショット領域の走査露光を行う。
【００７５】
すなわち、主制御装置５０では、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとのＹ軸方向逆向きの相対走査を開始し、両ステージＲＳＴ、ＷＳＴがそれぞれの目標走査速度に達すると、露光光ＩＬによってレチクルＲのパターン領域が照明され始め、走査露光が開始される。
【００７６】
主制御装置５０では、特に上記の走査露光時にレチクルステージＲＳＴのＹ軸方向の移動速度ＶｒとウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の移動速度Ｖｗとが投影光学系ＰＬの投影倍率に応じた速度比に維持されるようにレチクルステージＲＳＴ及びウエハステージＷＳＴを同期制御する。
【００７７】
そして、レチクルＲのパターン領域の異なる領域が露光光ＩＬで逐次照明され、パターン領域全面に対する照明が完了することにより、ウエハＷ上の第１ショット領域の走査露光が終了する。これにより、レチクルＲの回路パターンが投影光学系ＰＬを介して第１ショット領域に縮小転写される。
【００７８】
こうして第１ショット領域の走査露光が終了すると、ウエハステージＷＳＴを第２ショット領域の露光のための走査開始位置へ移動させるショット間のステッピング動作を行う。そして、その第２ショット領域に対する走査露光を上述と同様にして行う。以後、第３ショット領域以降も同様の動作を行う。
【００７９】
このようにして、ショット間のステッピング動作とショットの走査露光動作とが繰り返され、ステップ・アンド・スキャン方式でウエハＷ上の全てのショット領域にレチクルＲのパターンが転写される。
【００８０】
他の走査型露光装置である投影露光装置１１０3、１１０5、……、１１０N-1も、上記投影露光装置１１０1と同様に構成されている。
【００８１】
また、静止型露光装置から成る投影露光装置１１０2、１１０4、……、１１０Nは、基本的には、図２の投影露光装置１１０1と同様に構成される。但し、これらの投影露光装置では、それぞれのレチクルステージがＸＹ面内でＸ、Ｙ及びθｚ（Ｚ軸周りの回転）方向に微少駆動のみ可能に構成されている点、及び投影光学系ＰＬの円形視野内での照明光ＩＬの照射領域（前述の照明領域や露光領域に対応）が図２の走査型露光装置に比べて大きく、例えば走査型露光装置の走査露光範囲と同程度の大きさを持つ点が異なる。これは、これらの投影露光装置では、ウエハステージ及びレチクルステージを共に静止させた状態で露光が行われるためである。
【００８２】
図１に戻り、各投影露光装置１１０1〜１１０Nをそれぞれ構成する前述の主制御装置５０は、ＬＡＮ１７０を介して、管理装置１３０との間で通信を行い、対応する投影露光装置の動作パラメータの問い合わせを行い、また、管理装置１３０から対応する投影露光装置の動作パラメータを受信する。また、各投影露光装置をそれぞれ構成する主制御装置５０は、ＬＡＮ１７０及びターミナルサーバ１５０を介して、ホストコンピュータ１６０との間で通信を行う。
【００８３】
前記管理装置１３０は、演算能力に優れた中規模のコンピュータシステム（例えば、ミニコン・システムやエンジニアリング・ワークステーション・システム）によって構成されている。この管理装置１３０は、ＬＡＮ１７０を介した上記の投影露光装置１１０1〜１１０Nとの通信の他に、ＬＡＮ１７０及びターミナルサーバ１５０を介して、ホストコンピュータ１６０との間で通信を行う。
【００８４】
また、管理装置１３０は、投影露光装置１１０1〜１１０N等との通信に際し、必要に応じて記憶装置１４０に対するデータの読み書きを行う。なお、管理装置１３０には、対オペレータのマンマシンインタフェースである表示ディスプレイとキーボードやマウス等のポインティングデバイスなどの入出力装置１３１とが備えられている。
【００８５】
この管理装置１３０は、各投影露光装置１１０1〜１１０Nから定期的に送られてくる後述する投影像の歪みデータ（ディストーション・データ）を記憶装置１４０内のデータベースに登録する。また、管理装置１３０は、各投影露光装置１１０1〜１１０Nから毎日定時刻に送られてくる露光履歴データをも、記憶装置１４０内のデータベースに登録する。
【００８６】
前記ターミナルサーバ１５０は、ＬＡＮ１７０における通信プロトコルとホストコンピュータ１６０の通信プロトコルとの相違を吸収するためのゲートウエイプロセッサとして構成される。このターミナルサーバ１５０の機能によって、ホストコンピュータ１６０と、ＬＡＮ１７０に接続された投影露光装置１１０1〜１１０N、及び管理装置１３０との間の通信が可能となる。
【００８７】
前記ホストコンピュータ１６０は大型のコンピュータで構成され、例えば、リソグラフィ工程を含め、工場内における半導体素子等の製造にあたっての統括制御を行っている。
【００８８】
前記ＬＡＮ１７０には、バス型ＬＡＮ及びリング型ＬＡＮのいずれも採用可能であるが、本実施形態では、ＩＥＥＥ８０２規格のキャリア敏感型媒体アクセス／競合検出（ＣＳＭＡ／ＣＤ）方式のバス型ＬＡＮを使用している。
【００８９】
ここで、各投影露光装置から管理装置１３０へ送られる像歪みデータを得るために、投影露光装置１１０1〜１１０Nで定期的に行われるパターンの投影像の歪み（ディストーション）の計測及びその計測結果に基づく像歪みデータ（ディストーション・データ）の算出について説明する。ここで、投影像の歪みの計測等を定期的に行うのは、投影光学系の結像特性は、経時的に変化することを考慮したものである。
【００９０】
投影像の歪みの計測は、テストレチクルを用いた露光、及び露光が終了したウエハ上のレジスト像（転写像）の計測の２段階で行われる。
【００９１】
先ず、テストレチクルを用いた露光について、投影露光装置１１０1の場合を例にとって説明する。ここでは、一例として図３に示されるようなテストレチクルＲ１を用いるものとする。この図３のテストレチクルＲ１は、その中央部に、幅Ｄ１（Ｄ１は、例えば１２５ｍｍ）、長さＬ１（Ｌ１は、例えば１６５ｍｍ）のパターン領域ＰＡ１を有し、そのパターン領域ＰＡ１内に、レチクル中心を中心として、ＸＹ２次元方向に所定間隔Δｄ（Δｄは例えば１０ｍｍ）でｎ（ｎは例えば、１１×１５＝１６５）個の計測用マークＭ1〜Ｍnが形成されている。
【００９２】
オペレータ又はホストコンピュータ１６０により、テスト露光の指示（ディストーション計測指示）がなされると、不図示のレチクル搬送系によりレチクルＲ１が搬送され、ローディングポジションにあるレチクルステージＲＳＴに吸着保持される。その後、前述した、ウエハＷ上の第１レイヤに対して露光を行う場合の動作と同様の手順で、ウエハＷ上の第１のショット領域に対して、レチクルＲ１のパターン領域ＰＡ１のパターンが転写される。これにより、テストレチクルＲ１を用いた第１の露光条件下での露光が終了する。
【００９３】
次いで、主制御装置５０により、予め定められた手順に従って、露光条件、例えば照明条件等が変更され、その変更後の第２の露光条件下で、上記と同様にしてウエハＷ上の第２のショット領域に対して、レチクルＲ１のパターン領域ＰＡ１のパターンが転写される。なお、本実施形態の投影露光装置では、例えば、照明光学系内で光源とオプティカルインテグレータとの間に交換可能に配置される複数の回折光学素子、照明光学系の光軸に沿って可動なプリズム、ズーム光学系を含む光学ユニットを有している。本実施形態の投影露光装置では、この光学ユニットによって照明光学系の瞳面上での照明光ＩＬの光量分布（２次光源の大きさや形状）、即ちレチクルＲの照明条件を変更できるようになっている。
【００９４】
このようにして、露光条件を変更しつつ、設定された全ての露光条件下でのレチクルＲ１のパターン領域ＰＡ１のパターンのウエハＷ上の異なるショット領域に対する転写が終了すると、その旨が管理装置１３０に備えられた入出力装置１３１のディスプレイ上に表示される。
【００９５】
次いで、オペレータ又はホストコンピュータ１６０により計測指示がなされると、主制御装置５０により不図示のウエハ搬送系を用いてウエハホルダ上のウエハＷが不図示のＣ／Ｄに搬送される。そして、Ｃ／ＤによりそのウエハＷの現像が行われ、その現像後に、ウエハＷ上にテストレチクルＲ１に対応するレジスト像が形成される。
【００９６】
次いで、主制御装置５０では、その現像が終了したウエハＷを、ウエハ搬送系を用いて再びウエハホルダ上にロードした後、ウエハＷ上の第１ショット領域に形成されたパターン領域ＰＡ１における計測用マークＭ1〜Ｍnのレジスト像を、アライメントセンサ８を用いて順次検出する。そして、それぞれの計測値と対応するウエハ干渉計１８の計測値とに基づいて、計測用マークＭ1〜Ｍnのレジスト像の位置を順次演算し、それらの演算結果、すなわち計測用マークＭ1〜Ｍnのレジスト像のステージ座標系上における位置座標を、内部メモリ内に各計測用マークと対応付けて記憶する。
【００９７】
以後同様にして、ウエハＷ上の第２ショット領域、第３ショット領域、……に形成されたパターン領域ＰＡ１における計測用マークＭ1〜Ｍnのレジスト像のステージ座標系上における位置座標を求め、ステージ座標系上における位置座標を内部メモリ内に各計測用マークと対応付けて記憶する。
【００９８】
このようにして、設定された全ての異なる露光条件の下で形成された計測用マークＭ1〜Ｍnのレジスト像の位置座標が内部メモリ内に記憶される。
【００９９】
次に、主制御装置５０では、内部メモリに記憶された計測用マークＭ1〜Ｍnのレジスト像のステージ座標系上における位置座標を、各ショット領域の基準点、例えばショット領域の中心点を原点とする理想的な座標系（ショット座標系）における座標データにそれぞれ変換する。そして、各計測用マークＭ1〜Ｍnのレジスト像の座標データと対応するレジスト像の設計上の位置座標との差に基づいて、各計測用マークのＭ1〜Ｍnのレジスト像の位置ずれ量を、ショット領域毎（すなわち、露光条件毎）に求める。
【０１００】
そして、主制御装置５０では、ショット領域毎に、概ね次のような処理を行う。すなわち、上記の位置ずれ量のデータ（生データ）から、所定の許容値を超える異常値データを除去し、異常値データを除去後の位置ずれ量の平均値を、センタ・シフト量と考えて、全位置ずれ量から除去する（センタ・シフト補正）。次いで、このようにしてセンタ・シフト補正が終了した位置ずれ量からレチクル製造誤差（パターン描画誤差などを含む）を除去する（レチクル製造誤差補正）。そして、レチクル製造誤差を補正した位置ずれ量からアライメントマーク製造誤差を除去する（アライメントマーク製造誤差補正）。次いで、アライメントマーク製造誤差を補正した位置ずれ量からレチクルローテーション量を算出して除去する（レチクルローテーション補正）。
【０１０１】
このようにして、得られた位置ずれ量のデータを、以下の説明においては、像歪みデータと呼ぶ。主制御装置５０は、この像歪みデータを露光条件毎に求め、それぞれの計測時刻データとともに管理装置１３０に送信する。管理装置１３０は、これらのデータを、記憶装置１４０内のデータベースに登録する。
【０１０２】
上述と同様の像歪みデータの計測が、その他の投影露光装置１１０2、１１０3、……、１１０Nにおいても、定期的に行われ、その計測結果が、管理装置１３０に送られ、管理装置１３０により、記憶装置１４０内のデータベースに登録される。すなわち、上記の像歪みデータが、投影露光装置毎、計測時刻毎、露光条件毎に、記憶装置１４０のデータベースに登録される。
【０１０３】
なお、静止型露光装置１１０2、１１０4、……、１１０Nでは、例えば図４に示されるようなテストレチクルＲ２が用いられる。この図４のテストレチクルＲ２は、その中央部に、幅Ｄ２（Ｄ２は、例えば１１０ｍｍ）、長さＬ２（Ｌ２は、例えば１１０ｍｍ）のパターン領域ＰＡ２を有し、そのパターン領域ＰＡ２内に、レチクル中心を中心として、ＸＹ２次元方向に所定間隔Δｄ（Δｄは例えば１０ｍｍ）でｍ（ｍは例えば、９×９＝８１）個の計測用マークＭ1〜Ｍmが形成されている。
【０１０４】
また、上で説明した、各投影露光装置における、設定された全ての異なる露光条件の下で形成された計測用マークＭ1〜Ｍmのレジスト像の位置座標の算出より後の処理は、必ずしも主制御装置５０により行う必要はなく、管理装置１３０により行うようにしても構わない。また、上記の像歪みデータは、基準ウエハ法を用いて求められたものであってもよい。
【０１０５】
また、リソグラフィシステム１００では、所定時間間隔、例えば毎日定時刻に各投影露光装置１１０iからの露光履歴データ（具体的には、露光コマンドを処理したときのロット名、プロセスプログラム名、像歪み補正値）が、管理装置１３０を介して記憶装置１４０内のデータベースに登録されるようになっている。
【０１０６】
次に、本実施形態のリソグラフィシステム１００において、投影露光装置のグループを作成する流れを説明する。
【０１０７】
なお、前提として、前述した投影露光装置１１０1、１１０2、……、１１０Nにおいて、全ての異なる露光条件の下で形成された計測用マークＭ1〜Ｍn（あるいはＭm）の位置ずれ量が求められていて、それらのデータが記憶装置１４０内のデータベースに登録されているとする。また、各投影露光装置１１０1、１１０2、……、１１０Nは、それぞれの性能、仕様（例えば照明系ＩＤなど）などに応じて所定の装置グループに予め分類されており、それらの装置グループも記憶装置１４０内のデータベースに登録されているものとする。なお、以下では、各投影露光装置１１０1、１１０2、……、１１０Nのうち、各投影露光装置１１０1〜１１０4が装置グループ１として記憶装置１４０内のデータベースに登録されているものとし、この装置グループ内の各投影露光装置１１０1〜１１０4をグループ化の対象とするものとして説明する。また、以下の説明では、オペレータは、管理装置１３０に備えられた入出力装置１３１のキーボード等のキー入力やポインティングデバイスによるマウスによる画面上のポインティング位置の移動、クリック動作によって管理装置１３０を操作するものとする。
【０１０８】
入出力装置１３１のディスプレイには、管理装置１３０に備えられた様々な機能の実行を選択するためのメインメニュー画面が表示されている。まず、オペレータは、そのメインメニュー画面を見ながら、実行可能な各機能の中から、例えばマウスを用いて投影露光装置のグルーピング機能を選択する。すると、画面には、図５に示されるような装置グループ選択画面が表示される。
【０１０９】
図５に示されるように、装置グループ選択画面には、各投影露光装置１１０1、１１０2、……、１１０Nによって構成される各装置グループ（装置グループ１、２、３、…）の一覧表が画面中央部に表示される。オペレータは、一覧表に表示された装置グループの中からグループ化を行う装置グループを選択する。選択された装置グループは、画面上部の枠に表示される。なお、図５では、装置グループ１が選択された状態となっている。
【０１１０】
オペレータが、画面右下の「確定」ボタンを押下すると、管理装置１３０は、装置グループ選択画面で選択された装置グループ、ここでは装置グループ１に定義されている装置名（各投影露光装置１１０1〜１１０4）を記憶装置１４０内のデータベースから読み出し、続いて、各投影露光装置１１０1〜１１０4の最新の像歪みデータの登録日時や、照明系ＩＤを読み出し、それらの情報を入出力装置１３１のディスプレイ上に、図６に示すような形式で表示する。この画面を参照すれば、各投影露光装置１１０1〜１１０4がその装置グループのメンバとして適切（照明系ＩＤ等が所望の値であること）であり、それらの最新の像歪みデータが経時変化の許容範囲の目安である標準日数内の最近のデータであることなどをオペレータが確認することができる。
【０１１１】
なお、本実施形態では、最新の像歪みデータを用いて投影露光装置のグループ化を行うが、本発明はこれに限定されるものではなく、グループ化に用いる像歪みデータは最新のデータでなくても良い。例えば、６０日前に露光されたウエハ（ロット）がいくつかあった場合には、その６０日前の装置の像歪みデータと現在の状態の装置のディストーション・データを組み合わせてグループ化を行うことも可能である。
【０１１２】
オペレータが画面右下の「次へ」ボタンを選択すると、画面上には、図７に示されるグルーピング条件設定画面が表示される。この画面が表示されると、各投影露光装置１１０1〜１１０4のグルーピング条件、すなわち投影露光装置のグループ化を行う際の条件をオペレータが設定することが可能となる。
【０１１３】
本実施形態では、各装置が同じグループであるとみなすことができるか否かを、各装置の像歪みデータの違いで判断する。すなわち、像歪みデータの違いが許容範囲であれば、それらの装置が同じグループであるとみなされる。したがって、本実施形態では、この許容範囲が、最も重要なグルーピング条件の１つとなり、図７のグルーピング条件設定画面表示時にその許容範囲が設定される。
【０１１４】
なお、このグルーピング条件設定画面では、その許容範囲を同時に４つまで設定することができるようになっている。また、この画面では、作成される結果グループ名も指定することができるようになっている。図７の画面下には、その結果グループ名として「ＧＲＰ」が指定されている。
【０１１５】
さらに、他のグルーピング条件として、グループ化の際に行う各装置の比較の基準となる基準装置の照明系ＩＤと、ＯＦ（オリエンテーションフラット（あるいはノッチ）方向や、その比較の際に参照される参照装置の照明系ＩＤと、ＯＦ方向などがある。図７では、これらの設定内容が画面上部に表示されている。なお、照明系ＩＤとは、その装置の投影光学系のＮ．Ａ．照明Ｎ．Ａ．又は照明σ、及び２次光源の形状などを含む照明条件などの設定情報を取得するための識別番号である。各装置のグループ化の際には、後述する像歪みデータの補正のためにこれらの照明系ＩＤとウエハの方向を考慮する必要がある。
【０１１６】
なお、前述の計測工程において計測された各装置の像歪みデータには、投影像の歪みの成分以外の成分も含まれている。例えば、計測時に用いられたウエハ自体の歪みの成分がこれにあたる。そのため、本実施形態では、像歪みデータから、投影像の歪みの成分以外の成分を除去する補正を行ったうえで各装置のグループ化を行うこともできるようにする。ただし、走査型露光装置と静止型露光装置とでは、このような補正のしかたが若干異なったものとなる。例えば、装置が静止型露光装置である場合には、その補正量の各成分のうち、走査型露光装置における走査方向となるＹ軸方向のスケーリング量やＸ軸とＹ軸との直交度の設定を無効とし、倍率をＸ軸とＹ軸とで共通とし、その直交度については補正できないようにしなければならない。そのため、このグルーピング条件設定画面では、図７の画面中央部に示すように、Ｘ軸、Ｙ軸のオフセット成分、Ｘ軸、Ｙ軸のスケーリング成分、回転成分、直交度成分に対し補正を行う（除去する）のか、補正を行わないのかを設定することができるようになっている。
【０１１７】
また、同一方式の投影露光装置、例えば同じ走査型露光装置でも機種が違うと、補正可能な成分が異なることがあるので、同一方式の投影露光装置でも機種毎に補正可能な成分を確認して補正の要否を設定することが好ましい。例えば、図２に示す投影露光装置１１０1は、レンズエレメント２７を光軸ＡＸに直交する面に対して任意に傾斜及び光軸方向に移動させることによって補正を行う機構を備えているが、同じ走査露光装置であっても、そのような機構を備えておらず、例えば投影光学系のレンズの内圧およびステージだけを制御して補正を行う装置もある。このような装置と投影露光装置１１０1とでは、補正可能な成分が異なるため、上述の補正の要否の設定も当然異なったものとなる。
【０１１８】
なお、機種によって補正の要否が異なる成分としては、各計測点の位置座標の２次以上の項の成分、例えば、各計測点のＸ軸方向の位置ずれ量がそれぞれの計測点のＸ軸方向の座標の２乗に比例する成分、各計測点のＸ軸方向の位置ずれ量がそれぞれの計測点のＹ軸方向の座標の２乗に比例する成分、各計測点のＸ軸方向の位置ずれ量がそれぞれの計測点のＸ軸方向の座標の３乗に比例する成分などがある。このような複雑な成分に対しては、投影光学系のレンズの内圧およびステージを調整するよりも、上述のレンズエレメント２７による補正機構で調整する方が望ましい。
【０１１９】
オペレータが、上述の各グルーピング条件をすべて設定し、「確定」ボタンを押下すると、入出力装置１３１のディスプレイには、図８に示されるような画面が表示される。グループ化の際に用いる像歪みデータのエリアを定義する像歪みデータエリア定義画面である。図３および図４に示されるように、静止型露光装置と走査型露光装置とでは、像歪みデータを計測した計測点の数や、その計測点の領域が異なっている。そのため、この画面が表示された状態で、種類の異なる装置の像歪みデータを比較するために、グループ化に用いる像歪みデータの計測点の領域を、露光装置の種類毎に設定することができるようになっている。図８の画面に示された各数値は、オペレータによって設定されたそれらの領域を規定する各ショット上の座標値である。以上述べたように、グループ化の際には、全ての計測点が必ず参照されるのではなく、一部の計測点の位置ずれ量が参照されればよい場合もある。
【０１２０】
オペレータが画面右下の「実行」ボタンを押すと、管理装置１３０は、グループ作成処理の実行を開始する。
【０１２１】
次に、管理装置１３０における投影露光装置のグループ作成処理について、管理装置１３０の制御アルゴリズムを示す図９のフローチャートを参照しつつ説明する。なお、前提として、装置グループとしての投影露光装置１１０1〜１１０4から構成される装置グループ１が、グループ化する装置グループとして選択されているものとする。また、グループ化にあたり、各投影露光装置１１０1〜１１０4には、１から４までの固有の番号が対応づけられており、その固有の番号に基づいて、記憶装置１４０のデータベースに格納された各投影露光装置の像歪みデータ等が参照されるものとする。
【０１２２】
図９に示されるように、まず、ステップ１０２において、カウンタｍの値（以下、「カウンタ値ｍ」と記述する）を「１」に初期化する。なお、カウンタｍは、図７のグルーピング条件設定画面で設定された許容範囲のうち、グループ化の際に用いられた許容範囲の数をカウントするためのカウンタである。図７では、５ｎｍ、１０ｎｍ、１５ｎｍ、２０ｎｍの４つの許容範囲が設定されているため、この場合、カウンタ値ｍが４を越えるまで、図９のフローチャートの処理が実行されることになる。次いで、ステップ１０４において、許容範囲の設定を行う。ここでは、まず１番目の許容範囲として５ｎｍが設定される。
【０１２３】
次に、ステップ１０６において、各投影露光装置のマッチングテーブル作成処理を実行する。図１０は、そのステップ１０６におけるマッチングテーブル作成処理のサブルーチンの流れを示すフローチャートである。
【０１２４】
図１０に示されるように、まず、ステップ２０２〜ステップ２０６において、カウンタ値ｉ、ｊ、ｋ（カウンタｉ、ｊ、ｋの値）をそれぞれ「１」に初期化する。次に、ステップ２０８において、ｉ番目の装置である投影露光装置のｋ番目の計測点の像歪みデータと、ｊ番目の装置である投影露光装置の同じくｋ番目の計測点の像歪みデータとの絶対値が許容範囲以内であるか否かを判断する。ここでは、ｉ＝１、ｊ＝１、ｋ＝１であるので、ｉ番目の装置とｊ番目の装置とは、同じ１番目の投影露光装置１１０1となる。したがって、その判断は肯定され、処理はステップ２１０に進む。なお、ここで、１番目の計測点の像歪みデータとしては、図８の像歪みデータエリア定義画面で設定された領域の中の計測点のうち、いずれか１つの計測点が選択される。なお、ステップ２０８では、ｉ番目の装置を参照装置とし、ｊ番目の装置を基準装置としている。
【０１２５】
なお、ステップ２０８において参照される装置が走査型露光装置である場合には、その装置の各計測点における像歪みデータには、レチクルステージＲＳＴと、ウエハステージＷＳＴとの速度比のずれや、走査方向の成す角度のずれなどによるステージ系の位置制御の線形の歪み成分、いわゆるステージ成分が含まれている場合がある。後述の重ね合わせ露光を行うときに、このようなステージ成分を除去して重ね合わせ露光を行う場合には、ステップ２０８においても、計測された像歪みデータからステージ成分を除去した上で、互いの像歪みデータの比較を行うのが望ましい。
【０１２６】
また、重ね合わせ露光をする装置が、投影露光装置１１０1のように、結像特性補正装置によって投影像の歪みを調整することができる装置であって、そのような装置を用い、投影像の歪みを調整したうえで重ね合わせ露光を行う場合には、ステップ２０８においても、調整された像歪みデータで比較を行うのが望ましい。
【０１２７】
そこで、本実施形態では、ステップ２０８において、ステージ成分が除去され、結像特性補正装置による投影像の歪み調整時の投影光学系の補正量が加味された像歪みデータを用いてｉ番目の装置とｊ番目の装置との像歪みデータが比較される。
【０１２８】
次に、ステップ２１０において、カウンタ値ｋがインクリメントされ（ｋ←ｋ＋１）、ステップ２１２において、カウンタ値ｋが計測点数を越えたか否かが判断される。すなわち、ステップ２１２では、全ての計測点でステップ２０８における像歪みデータの比較が行われたどうかをチェックしている。ここでは、ｋ＝２なので、判断は否定され、処理はステップ２０８に戻る。このように、カウンタ値ｋが順次インクリメントされ、ステップ２０８→ステップ２１０→ステップ２１２の処理が繰り返し実行され、投影露光装置１１０1同士の同じ計測点の像歪みデータが比較される。ここでは、比較される各像歪みデータはすべて同じなので、ステップ２０８において判断が否定されることはなく、ステップ２１２において、カウンタ値ｋが計測点数を越えると、その判断は肯定され、処理はステップ２１４に進む。
【０１２９】
ステップ２１４では、マッチングテーブルにｊ行ｉ列のデータとして「１」がセットされる。ここでは、ｉ＝ｊ＝１のため、マッチングテーブル１行１列のデータとして「１」がセットされる。すなわち、参照装置が投影露光装置１１０1で、基準装置が投影露光装置１１０1である場合の像歪みデータの差の最大値は許容範囲内であることがマッチングテーブルにセットされる。
【０１３０】
次いで、ステップ２１６では、カウンタ値ｊがインクリメントされ（ｊ←ｊ＋１）、ステップ２１８では、カウンタ値ｊが装置数を越えたか否かが判断される。すなわち、ステップ２１８では、参照装置（ｉ番目の装置）と、すべての装置との像歪みデータの比較が完了したか否かがチェックされる。ここでは、ｊ＝２なのでその判断は否定され、処理はステップ２０６に戻る。
【０１３１】
ステップ２０６では、前述のとおり、カウンタ値ｋが「１」に初期化される。次に、ステップ２０８において、参照装置（ｉ番目の装置）である投影露光装置１１０iのｋ番目の計測点の像歪みデータと基準装置（ｊ番目の装置）である投影露光装置１１０jのｋ番目の計測点の像歪みデータとの絶対値が許容範囲以内であるか否かを判断する。ここでは、ｉ＝１、ｊ＝２、ｋ＝１であるので、投影露光装置１１０1の１番目の計測点とおよび投影露光装置１１０2の１番目の計測点との差の絶対値が許容範囲内であるか否かが判断される。その判断が肯定されると処理はステップ２１０に進み、否定されると処理はステップ２２４に進む。したがって、ここで、その絶対値が許容範囲内であったとすると、処理はステップ２１０に進む。次いで、ステップ２１０において、カウンタ値ｋがインクリメントされ（ｋ←ｋ＋１）、ステップ２１２→ステップ２０８→ステップ２１０の処理が、カウンタ値ｋを順次インクリメントしながら繰り返し実行される。この際、ステップ２０８において、投影露光装置１１０1と投影露光装置１１０2とのｋ番目の計測点同士の像歪みデータの差の絶対値が許容範囲内であるか否かが判断される。なお、ここでは、投影露光装置１１０1と投影露光装置１１０2との各計測点の像歪みデータの差の絶対値は、すべて許容範囲内であるとする。
【０１３２】
ステップ２１２において、カウンタ値ｋが計測点数を越えると、処理はステップ２１４に進む。ステップ２１４では、マッチングテーブルの２行１列のデータとして「１」をセットする。次いで、ステップ２１６では、カウンタ値ｊがインクリメントされ（ｊ←ｊ＋１）、ステップ２１８では、カウンタ値ｊが装置数を越えたか否かが判断される。ここでは、ｊ＝３であるので、判断は否定され、処理は、ステップ２０６に戻る。
【０１３３】
ステップ２０６では、前述のとおり、カウンタ値ｋが「１」に初期化される。次に、ステップ２０８において、ｉ番目の装置である投影露光装置１１０iのｋ番目（ここでは、１番目）の計測点の像歪みデータとｊ番目の装置である投影露光装置１１０jのｋ番目の計測点の像歪みデータとの絶対値が許容範囲以内であるか否かを判断する。ここでは、ｉ＝１、ｊ＝３、ｋ＝１であるので、投影露光装置１１０1の１番目の計測点と投影露光装置１１０3の対応する計測点との像歪みデータの差の絶対値が許容範囲内であるか否かが判断される。その判断が肯定されると処理はステップ２１０に進み、否定されると処理はステップ２２４に進む。ここでは、その絶対値が許容範囲内であったとして話を進める。次いで、ステップ２１０において、カウンタ値ｋがインクリメントされ、ステップ２１２→ステップ２０８→ステップ２１０の処理が、カウンタ値ｋの値を順次インクリメントして繰り返し実行される。この際、ステップ２０８において、投影露光装置１１０1と投影露光装置１１０3との各計測点における像歪みデータが比較される。
【０１３４】
ここで、投影露光装置１１０1と投影露光装置１１０3との各計測点の中で、その像歪みデータの差の絶対値が許容範囲よりも大きい計測点があったとする。すると、ステップ２０８で判断が否定され、処理はステップ２２４に進む。ステップ２２４では、マッチングテーブルのｊ行ｉ列のデータとして「０」がセットされる。ここでは、マッチングテーブル３行１列のデータとして「０」がセットされる。これは、基準装置を投影露光装置１１０3とし、参照装置を投影露光装置１１０1としたときに、互いの像歪みデータの差の最大値が、許容範囲５ｎｍを越えていることを意味する。
【０１３５】
次いで、処理は、ステップ２１６に進み、ステップ２１６では、カウンタ値ｊがインクリメントされ（ｊ←ｊ＋１）、ステップ２１８では、カウンタ値ｊが装置数を越えたか否かが判断される。ここでは、ｊ＝４であるので、その判断は否定され、処理は、ステップ２０６に戻る。
【０１３６】
ステップ２０６では、前述のとおり、カウンタ値ｋが「１」に初期化される。次に、ステップ２０８において、ｉ番目の装置である投影露光装置１１０iのｋ番目の計測点の像歪みデータとｊ番目の装置である投影露光装置１１０jのｋ番目の計測点の像歪みデータとの絶対値が許容範囲以内であるか否かを判断する。ここでは、ｉ＝１、ｊ＝４、ｋ＝１であるので、投影露光装置１１０1の計測点と投影露光装置１１０4の１番目の計測点との絶対値が許容範囲内であるか否かが判断される。その判断が肯定されると処理はステップ２１０に進み、否定されると処理はステップ２２４に進む。ここでは、その絶対値が許容範囲内であったとして話を進める。
【０１３７】
次いで、ステップ２１０において、カウンタ値ｋがインクリメントされ、以後、ｋの値を順次インクリメントして、ステップ２１２→ステップ２０８→ステップ２１０の処理が繰り返し実行される。その際、ステップ２０８において、投影露光装置１１０1と投影露光装置１１０4とのｋ番目の計測点の像歪みデータが比較される。なお、ここで、投影露光装置１１０1と投影露光装置１１０4とのｋ番目の計測点の像歪みデータの差の絶対値は、すべて許容範囲内であったとする。すると、ステップ２１２において、カウンタ値ｋが計測点数を越えると、その判断が肯定され、処理はステップ２１４に進む。ステップ２１４では、マッチングテーブルの４行１列のデータとして「１」がセットされる。次いで、ステップ２１６では、カウンタ値ｊがインクリメントされ（ｊ←ｊ＋１）、ステップ２１８では、カウンタ値ｊが装置数を越えたか否かが判断される。ここで、ｊ＝５で、装置数は４であるので、その判断は肯定され、処理は、ステップ２２０に進む。
【０１３８】
以上述べたように、これまで述べた処理では、投影露光装置１１０i（ｉ＝１）と投影露光装置１１０j（ｊ＝１〜４）との組合せにおいて、同じｋ番目の計測点同士の像歪みデータの差の絶対値が許容範囲にあるか否かがそれぞれ判断される。その判断で、像歪みデータの差の絶対値が全ての計測点で許容範囲内にある組合せについては、マッチングテーブルのその組合せに対応する要素（ｊ行（ｊ＝１〜４）１列のいずれか）に「１」がセットされ、像歪みデータの差の絶対値が許容範囲を越える計測点が１つでもある組み合わせについては、マッチングテーブルのその組合せに対応する要素（ｊ行１列のいずれか）に「０」がセットされる。すなわち、この時点で、マッチングテーブルには、１列目のデータがセットされたことになる。
【０１３９】
次いで、ステップ２２０においてｉがインクリメントされ（ｉ←ｉ＋１）、ステップ２２２において、カウンタ値ｉが装置数を越えたか否かが判断される。ここでは、ｉ＝２なので、処理は、ステップ２０４に戻る。
【０１４０】
次いで、ステップ２０４において、カウンタ値ｊが「１」に初期化され、ステップ２０６において、カウンタ値ｋが「１」に初期化される。
【０１４１】
以降、ステップ２１８において、カウンタ値ｊが装置数（４）を越えるまで、ステップ２０６〜ステップ２１８、ステップ２２４の処理が繰り返し実行され、マッチングテーブルｊ行（ｊ＝１〜４）ｉ列（ｉ＝２）に０又は１がセットされる。すなわち、投影露光装置１１０i（ｉ＝２）と投影露光装置１１０j（ｊ＝１〜４）との組合せにおいて、ｋ番目の計測点同士の像歪みデータの差の絶対値が許容範囲にあるか否かがそれぞれ判断される。その判断で、像歪みデータの差の絶対値が全ての計測点で許容範囲内にある組合せについては、マッチングテーブルのその組合せに対応する要素（ｊ行（ｊ＝１〜４）ｉ列（ｉ＝２）のいずれか）に「１」がセットされ、像歪みデータの差の絶対値が許容範囲を越える計測点が１つでもある組み合わせについては、マッチングテーブルのその組合せに対応する要素（ｊ行（ｊ＝１〜４）ｉ列（ｉ＝２）のいずれか）に「０」がセットされる。すなわち、この時点で、マッチングテーブルには、２列目のデータがセットされたことになる。
【０１４２】
ステップ２１８において、カウンタ値ｊが装置数（４）を越えると、処理はステップ２２０に進む。ステップ２２０においてｉがインクリメントされ（ｉ←ｉ＋１）、ステップ２２２において、カウンタ値ｉが装置数を越えたか否かが判断される。ここでは、ｉ＝３なので、その判断は否定され、処理はステップ２０４に戻る。
【０１４３】
次いで、ステップ２０４において、カウンタ値ｊが「１」に初期化され、ステップ２０６において、カウンタ値ｋが「１」に初期化される。以降、ステップ２２２において、カウンタ値ｉが装置数（４）を越えるまで、ステップ２０４〜ステップ２２２、ステップ２２４の処理が繰り返し実行され、マッチングテーブルｊ行（ｊ＝１〜４）ｉ列（ｉ＝３、４）に０又は１がセットされる。すなわち、投影露光装置１１０i（ｉ＝３、４）と投影露光装置１１０j（ｊ＝１〜４）との組合せにおいて、同じｋ番目の計測点同士の像歪みデータの差の絶対値が許容範囲にあるか否かがそれぞれ判断される。その判断で、像歪みデータの差の絶対値が全ての計測点で許容範囲内にある組合せについては、マッチングテーブルのその組合せに対応する要素（ｊ行（ｊ＝１〜４）ｉ列（ｉ＝３、４）のいずれか）に「１」がセットされ、像歪みデータの差の絶対値が許容範囲を越える計測点が１つでもある組み合わせについては、マッチングテーブルのその組合せに対応する要素（ｊ行（ｊ＝１〜４）ｉ列（ｉ＝３、４）のいずれか）に「０」がセットされる。すなわち、この時点で、マッチングテーブルには、３、４列目のデータがセットされたことになる。
【０１４４】
ステップ２２２において、カウンタ値ｉが装置数（４）を越えた場合には、ステップ２２２において判断が肯定され、マッチングテーブル作成処理が終了する。
【０１４５】
以上述べたように、図１０のステップ１０６のマッチングテーブル作成処理では、各投影露光装置１１０1〜１１０4の中から選択される一対の投影露光装置のすべての組み合わせについて、各組合せにおける像歪みデータの差の最大値が許容範囲であるか否かを示すマッチングテーブルが作成された。なお、作成されたマッチングテーブルは、管理装置１３０の内部ファイルに記憶される。図１１には、作成されたマッチングテーブルの一例が示されている。このマッチングテーブルにおいては、各行は基準装置を示し、各列は参照装置を示す。このマッチングテーブルを参照すれば、ｊ行ｉ列のデータが１である場合、そのｊ番目の基準装置とｉ番目の参照装置との各計測点における像歪みデータの差はすべて許容範囲内であることがわかり、ｊ行ｉ列のデータが０である場合には、そのｊ番目の基準装置とｉ番目の参照装置との像歪みデータの差の最大値は許容範囲外であることがわかる。
【０１４６】
言い換えれば、このマッチングテーブルは、各投影露光装置１１０1〜１１０4の中から選択される一対の投影露光装置のすべての組み合わせについて、その組み合わせにおける像歪みデータの差を算出することによって、互いの像歪みデータの差がすべて許容範囲内である投影露光装置の組合せを示すものであるといえる。なお、このマッチングテーブルの各行でデータが１となっている列の装置は、その行の投影露光装置との像歪みデータの差の最大値が許容範囲内となる投影露光装置の装置群のメンバであるとみなすことができる。すなわち、１行目では、投影露光装置１１０1との像歪みデータの差が許容範囲内となる装置として、投影露光装置１１０1、投影露光装置１１０2、投影露光装置１１０4が装置群を形成する。
【０１４７】
なお、上述のステップ２０８で算出されたｉ番目の装置とｊ番目の装置との各計測点における像歪みデータの差のうち、最大値についても、管理装置１３０の内部ファイルに記憶される。これらの値は、後述する投影像の歪みの差の最大値の比較表にまとめられて、入出力装置１３１のディスプレイに出力される。
【０１４８】
図９に戻り、ステップ１０６のマッチングテーブル作成処理のサブルーチン終了後、管理装置１３０は、ステップ１０８のグループ化処理を実行する。この処理では、ステップ１０６で作成されたマッチングテーブルを参照しながら、投影露光装置のグループを作成する。なお、ここでは、前述のマッチングテーブル作成処理において、図１１に示すマッチングテーブルが作成されたものとして説明する。また、この処理では、ｎ個の要素を格納可能な１次元配列であるグループメンバ表Ｇ［ｎ］（ｎは自然数で、ｎ≧装置数とする）が用いられる。このＧ［ｎ］を参照するときは、２つのポインタｉ、ｊ（ｉ、ｊは、１≦ｉ≦ｎ、１≦ｊ≦ｎの自然数）が用いられる。すなわち、このグループメンバ表では、Ｇ［ｉ］、Ｇ［ｊ］が参照可能となっている。
【０１４９】
この処理では、ポインタｉの値（以下、「ポインタ値ｉ」と呼ぶ）で示される、メンバ表Ｇ［ｉ］の要素に各装置の固有番号（前述のマッチングテーブル作成処理で用いた各装置の固有の番号と同じ）をセットしていく。
【０１５０】
そして、ポインタｊの値（以下、「ポインタ値ｊ」と呼ぶ）をすでに他の装置の固有番号がセットされているメンバ表の各要素に合わせながら、マッチングテーブルのＧ［ｉ］行、Ｇ［ｊ］列の各要素の値（以下、ＴG[i],G[j]と呼ぶ）を参照し、その要素が「１」であるか「０」であるかを判断する。そして、Ｇ［ｉ］行とすべてのＧ［ｊ］列の要素について、その要素が「１」であった場合には、その要素のＧ［ｉ］とＧ［ｊ］に対応する各装置は、１つのグループであるとみなし、Ｇ［ｉ］にセットされている固有番号をグループメンバ表Ｇ［ｎ］に残していき、その要素が「０」であった場合には、Ｇ［ｉ］に登録された装置の固有番号をグループメンバ表Ｇ［ｎ］から消去していく。そして、最終的に、グループメンバ表Ｇ［ｎ］（ｎは自然数で、ｎ≧装置数とする）にセットされている固有番号の装置の組合せを１つのグループとしてグループリストに登録していく。
【０１５１】
図１２は、ステップ１０８のグループ化処理のサブルーチンを示すフローチャートである。図１２に示されるように、まず、ステップ３００において、管理装置１３０は、ポインタ値ｉを「１」に初期化する。次いで、ステップ３０２において、Ｇ［ｉ］に１をセットする。
【０１５２】
次に、ステップ３０４において、ｉ＞１であるか否かが判断される。ここでは、ｉ＝１なので、判断は否定され、処理はステップ３２１に進む。ステップ３２１では、Ｇ［ｉ］が装置数以上であるか否かが判断される。ここでは、ｉ＝１で、Ｇ［１］には１がセットされているので、判断は否定され、処理はステップ３２２に進む。
【０１５３】
ステップ３２２では、ポインタ値ｉがインクリメントされる（ｉ←ｉ＋１）。ステップ３２４では、Ｇ［ｉ］にＧ［ｉ―１］に１が加算された内容がセットされる。ここでは、ｉ＝２で、Ｇ［１］には１がセットされているので、Ｇ［２］には２がセットされる。ステップ３２４実行後、処理はステップ３０４に戻る。
【０１５４】
ステップ３０４において、ｉ＞１であるか否かが判断され、ここでは、ｉ＝２なので、判断は肯定され、ステップ３０６に移行する。ステップ３０６ではポインタ値ｊが「１」に初期化される。次いで、ステップ３０８では、マッチングテーブルＧ［ｉ］行Ｇ［ｊ］列のデータＴG[i],G[j]が０であるか否かが判断される。ここでは、ｉ＝２、ｊ＝１で、Ｇ［２］＝２、Ｇ［１］＝１であるので、２行１列のデータＴ2,1が「０」であるかが判断される。図１１のマッチングテーブルを参照すると、２行１列のデータＴ2,1は「１」であるので、判断は否定され、処理はステップ３１０に進む。ステップ３１０では、ポインタ値ｊがインクリメントされる（ｊ←ｊ＋１）。ステップ３１２では、ｊ＞ｉ―１であるか否かが判断される。ｉ＝２、ｊ＝２なので判断は肯定され、処理はステップ３１４に進む。
【０１５５】
ステップ３１４では、Ｇ［ｉ］が装置数以上であるか否かが判断される。ｉ＝２であり、Ｇ［２］＝２なので判断は否定され、処理はステップ３２２に進む。ステップ３２２では、ポインタ値ｉがインクリメントされ（ｉ←ｉ＋１）、ステップ３２４では、Ｇ［ｉ］にＧ［ｉ−１］に１を加算した値がセットされる。ここでは、ｉ＝３であり、Ｇ［ｉ―１］＝Ｇ［２］＝２がセットされているので、Ｇ［３］には、３がセットされる。ステップ３２４終了後、処理はステップ３０４に戻る。
【０１５６】
ステップ３０４において、ｉ＞１であるか否かが判断されるが、ここで、ｉ＝３なので、判断は肯定され、ステップ３０６に進む。ステップ３０６では、ポインタ値ｊは「１」に初期化される。
【０１５７】
ステップ３０８において、マッチングテーブルＧ［ｉ］行Ｇ［ｊ］列のデータＴG[i],G[j]が「０」であるか否かが判断される。ここでは、ｉ＝３、ｊ＝１で、Ｇ［３］＝３、Ｇ［１］＝１であるので、３行１列のデータＴ3,1が「０」であるか否かが判断される。図１１のマッチングテーブルを参照すると、３行１列のデータＴ3,1が「０」であるので、判断は肯定され、処理はステップ３２６に進む。
【０１５８】
ステップ３２６においては、Ｇ［ｉ］がインクリメントされる。ここでは、ｉ＝３、Ｇ［３］＝３なので、Ｇ［３］には４がセットされる。すなわち、３行１列のデータＴ3,1が「０」であったため、Ｇ［３］にセットされていた固有番号３の装置はグループから除外され、続く固有番号４の装置がＧ［３］にセットされる。次いで、ステップ３２８では、Ｇ［ｉ］が装置数を越えたか否かが判断される。Ｇ［３］＝４なので、判断は否定され、処理は、ステップ３０４に戻る。
【０１５９】
ステップ３０４では、ｉ＞１であるか否かが判断される。ｉ＝３なので判断は否定され、処理はステップ３０６に移行する。ステップ３０６では、ポインタ値ｊが「１」に初期化される。ステップ３０８において、マッチングテーブルＧ［ｉ］行Ｇ［ｊ］列のデータＴG[i],G[j]＝０であるか否かが判断される。ここでは、ｉ＝３、ｊ＝１で、Ｇ［３］＝４、Ｇ［１］＝１であるので、４行１列のデータＴ4,1が「０」であるかが判断される。図１１のマッチングテーブルを参照すると、４行１列のデータＴ4,1は「１」であるので、判断は否定され、処理はステップ３１０に進む。
【０１６０】
ステップ３１０では、ポインタ値ｊがインクリメントされる（ｊ←ｊ＋１）。ステップ３１２では、ｊ＞ｉ―１であるか否かが判断され、ｉ＝３、ｊ＝２なので判断は否定され、処理はステップ３０８に戻る。
【０１６１】
ステップ３０８において、マッチングテーブルＧ［ｉ］行Ｇ［ｊ］列のデータＴG[i],G[j]＝０であるか否かが判断される。ここでは、ｉ＝３、ｊ＝２で、Ｇ［３］＝４、Ｇ［２］＝２であるので、４行２列のデータＴ4,2が「０」であるかが判断される。図１１のマッチングテーブルを参照すると、４行２列のデータＴ4,2は「０」であるので、判断は肯定され、処理はステップ３２６に進む。ステップ３２６では、ポインタ値ｊがインクリメントされる（ｊ←ｊ＋１）。
【０１６２】
ステップ３２６においては、Ｇ［ｉ］の値がインクリメントされる。ここでは、ｉ＝３、Ｇ［３］＝４なので、Ｇ［３］には５がセットされる。次いで、ステップ３２８では、Ｇ［ｉ］が装置数を越えたか否かが判断される。Ｇ［３］＝５なので、判断は肯定され、処理はステップ３３０に進む。ステップ３３０では、Ｇ［ｉ−１］までの要素を１グループしてグループリストに登録する。ここでは、Ｇ［１］＝１、Ｇ［２］＝２が１グループとして登録される。
【０１６３】
続いて、ステップ３３２では、ｉがデクリメントされ（ｉ←ｉ―１）、ステップ３３４において、Ｇ［ｉ］がインクリメントされる。ここでは、Ｇ［２］に３がセットされる。ステップ３３４実行後、処理は、ステップ３０４に戻る。ステップ３０４では、ｉ＞１であるか否かが判断される。ｉ＝２であるので、判断は肯定され、ステップ３０６に移行する。ステップ３０６ではポインタ値ｊが「１」に初期化される。ステップ３０８において、マッチングテーブルＧ［ｉ］行Ｇ［ｊ］列のデータＴG[i],G[j]＝０であるか否かが判断される。ここでは、ｉ＝２、ｊ＝１で、Ｇ［２］＝３、Ｇ［１］＝１であるので、３行１列のデータＴ3,1＝０であるかが判断される。図１１のマッチングテーブルを参照すると、３行１列のデータＴ3,1は「０」であるので、その判断は肯定され、処理はステップ３２６に進む。ステップ３２６ではＧ［ｉ］がインクリメントされ、ステップ３２８では、Ｇ［ｉ］＞装置数であるか否かが判断される。ｉ＝２、Ｇ［２］＝４なので、判断は否定され、処理はステップ３０４に戻る。
【０１６４】
ステップ３０４において、ｉ＞１であるか否かが判断され、ここでは、ｉ＝２なので、判断は肯定され、ステップ３０６に移行する。ステップ３０６ではポインタ値ｊが「１」に初期化される。次いで、ステップ３０８では、マッチングテーブルＧ［ｉ］行Ｇ［ｊ］列のデータＴG[i],G[j]が０であるか否かが判断される。ここでは、ｉ＝２、ｊ＝１で、Ｇ［２］＝４、Ｇ［１］＝１であるので、２行１列のデータＴ4,1が「０」であるかが判断される。図１１のマッチングテーブルを参照すると、４行１列のデータＴ4,1は「１」であるので、判断は否定され、処理はステップ３１０に進む。
【０１６５】
ステップ３１０では、ポインタ値ｊがインクリメントされる（ｊ←ｊ＋１）。ステップ３１２では、ｊ＞ｉ―１であるか否かが判断される。ｉ＝２、ｊ＝２なので判断は肯定され、処理はステップ３１４に進む。
【０１６６】
ステップ３１４では、Ｇ［ｉ］が装置数以上であるか否かが判断される。ｉ＝２であり、Ｇ［２］＝４なので判断は肯定され、処理はステップ３１６に進む。
【０１６７】
ステップ３１６では、Ｇ［ｉ］までの要素をグループリストに登録する。ここでは、ｉ＝２なので、Ｇ［１］＝１、Ｇ［２］＝４を１グループとしてグループリストに登録する。ステップ３１８では、ポインタ値ｉがデクリメントされる（ｉ←ｉ―１）。ステップ３２０では、Ｇ［ｉ］がインクリメントされる。ここでは、Ｇ［１］＝２となる。ステップ３２０実行後、処理はステップ３０４に戻る。
【０１６８】
以降、ステップ３０４→ステップ３２１→ステップ３２２が実行され、ステップ３２４では、Ｇ［２］に３がセットされる。その後、ステップ３０４→ステップ３０６が実行され、ステップ３０８において、マッチングテーブルＧ［ｉ］行Ｇ［ｊ］列のデータＴG[i],G[j]が「０」であるか否かが判断される。ここでは、ｉ＝２、ｊ＝１で、Ｇ［２］＝３、Ｇ［１］＝２なので、３行２列のデータＴ3,2が「０」であるか否かが判断される。図１１のマッチングテーブルを参照すると、３行２列のデータＴ3,2は「１」なので、その判断は否定され、処理はステップ３１０→ステップ３１２→ステップ３１４→ステップ３２２と進み、ステップ３２４において、Ｇ［３］に「４」がセットされる。
【０１６９】
そして、ステップ３０４→ステップ３０６を経て、ステップ３０８で、マッチングテーブルＧ［ｉ］行Ｇ［ｊ］列のデータＴG[i],G[j]が０であるか否かが判断される。ここでは、ｉ＝３、ｊ＝１で、Ｇ［３］＝４、Ｇ［１］＝２であるので、４行２列のデータＴ4,2が「０」であるかが判断される。図１１のマッチングテーブルを参照すると、４行２列のデータＴ4,2は「０」であるので、判断は肯定され、処理はステップ３２６→ステップ３２８と進み、ステップ３３０において、Ｇ［１］＝２、Ｇ［２］＝３が１グループとしてグループリストに登録される。
【０１７０】
そして、ステップ３３２→ステップ３３４が実行され、Ｇ［２］に「４」が登録される。
【０１７１】
そして、ステップ３０４→ステップ３０６を経て、ステップ３０８において、マッチングテーブルＧ［ｉ］行Ｇ［ｊ］列のデータＴG[i],G[j]が「０」であるか否かが判断される。ここでは、ｉ＝２、ｊ＝１で、Ｇ［２］＝４、Ｇ［１］＝２なので、４行２列のデータＴ4,2が「０」であるか否かが判断される。図１１のマッチングテーブルを参照すると、４行２列のデータＴ4,2は「０」なので、その判断は肯定され、処理はステップ３２６→ステップ３２８→ステップ３３０に進む。なお、ステップ３３０では、ｉ―１＝１となっており、グループが作成されていないため、グループリストには何も登録しない。
【０１７２】
その後、ステップ３３２→ステップ３３４において、Ｇ［１］＝３が登録され、その後、ステップ３０４→ステップ３２１→ステップ３２２を経て、ステップ３２４において、Ｇ［２］＝４がセットされる。そして、ステップ３０４→ステップ３０６を経て、ステップ３０８において、マッチングテーブルＧ［ｉ］行Ｇ［ｊ］列のデータＴG[i],G[j]が「０」であるか否かが判断される。ここでは、ｉ＝２、ｊ＝１で、Ｇ［２］＝４、Ｇ［１］＝３なので、４行３列のデータＴ4,3が「０」であるか否かが判断される。図１１のマッチングテーブルを参照すると、４行２列のデータＴ4,3は「１」なので、その判断は否定され、ステップ３１０→ステップ３１２→ステップ３１４を経て、ステップ３１６において、Ｇ［１］＝３、Ｇ［２］＝４が１グループとしてグループリストに登録される。
【０１７３】
そして、ステップ３１８→ステップ３２０と進み、ステップ３０４に戻る。ステップ３０４では、ｉ＞１であるか否かが判断される。ここで、ｉ＝１なので、判断は否定され、処理はステップ３２１に移行する。ステップ３２１では、Ｇ［ｉ］が装置数以上であるか否かが判断される。ここでＧ［１］＝４となっているため、判断は肯定され、サブルーチンが終了する。
【０１７４】
以上述べたグループ化処理によって、管理装置１３０の内部ファイルには、互いの投影像の歪みの差の最大値が所定範囲内である投影露光装置のグループが作成され、それらのグループがグループリストに登録される。作成された全てのグループは、管理装置１３０の内部ファイルに保存される。なお、上述したように、図１１のマッチングテーブルの場合には、最終的に、（装置１１０1、装置１１０2）、（装置１１０1、装置１１０4）、（装置１１０2、装置１１０3）、（装置１１０3、装置１１０4）の４つのグループが記憶装置に保存されることになる。
【０１７５】
図９に戻り、ステップ１０９において、カウンタ値ｍがインクリメントされ（ｍ←ｍ＋１）、ステップ１１２において、ｍ＞許容範囲設定数（４）であるか否かが判断される。ここでは、ｍ＝２なので、判断は否定され、処理はステップ１０４に戻る。
【０１７６】
ステップ１０４では、許容範囲の設定が実行される。ここでは、図７のグルーピング条件設定画面において２番目に設定されていた１０ｎｍが許容範囲として設定される。以降、ステップ１０６、ステップ１０８が実行され、許容範囲を１０ｎｍとしたときの各投影露光装置１１０1〜１１０4の中から互いの投影像の歪みの差の最大値が１０ｎｍ以内であるグループが作成される。
【０１７７】
続いて、ステップ１０９において、カウンタ値ｍがインクリメントされ（ｍ←ｍ＋１）、ステップ１１２において、ｍ＞許容範囲設定数（４）であるか否かが判断される。ここでは、ｍ＝３なので、判断は否定され、処理はステップ１０４に戻る。ステップ１０４では、許容範囲の設定が実行される。ここでは、図７のグルーピング条件設定画面において３番目に設定されていた１５ｎｍが許容範囲として設定される。以降、ステップ１０６、ステップ１０８が実行され、各投影露光装置１１０1〜１１０4の中から互いの投影像の歪みの差の最大値が１５ｎｍ以内であるグループが作成される。
【０１７８】
続いて、ステップ１０９において、カウンタ値ｍがインクリメントされ（ｍ←ｍ＋１）、ステップ１１２において、ｍ＞許容範囲設定数（４）であるか否かが判断される。ここでは、ｍ＝４なので、判断は否定され、処理はステップ１０４に戻る。ステップ１０４では、許容範囲の設定が実行される。ここでは、図７のグルーピング条件設定画面において最後に設定されていた２０ｎｍが許容範囲として設定される。以降、ステップ１０６、ステップ１０８が実行され、各投影露光装置１１０1〜１１０4の中から互いの投影像の歪みの差の最大値が２０ｎｍ以内であるグループが作成される。
【０１７９】
続いて、ステップ１０９において、カウンタ値ｍがインクリメントされ（ｍ←＝ｍ＋１）、ステップ１１２において、ｍ＞許容範囲設定数（４）であるか否かが判断される。ｍ＝５なので、判断は肯定され、処理はステップ１１４に移行する。ステップ１１４では、ステップ１０６、ステップ１０８の処理結果が、記憶装置１４０のデータベース内に記憶され、管理装置１３０の入出力装置１３１のディスプレイには、グループ化処理の処理結果が出力表示される。
【０１８０】
図１３、図１４には、処理結果として出力表示される２つの表がそれぞれ示されている。
【０１８１】
図１３には、各装置１１０1〜１１０4の投影像の歪みの差の最大値を示す表が示されている。この表には、グループ化の対象となった装置グループ１の各装置１１０1〜１１０4のいずれか１つを基準装置とし、各装置１１０1〜１１０4のいずれか１つを参照装置としたときの投影像の歪みの差の最大値が示されている。各行の装置は基準装置を示しており、各列の装置は参照装置を示している。この処理結果は、図９のステップ１０６で導きだされたものである。例えば、装置１１０1を基準装置とし、装置１１０2を参照装置としたときの投影像の歪みの差の最大値は―３．０ｎｍとなっている。
【０１８２】
図１４には、許容範囲が５ｎｍのときのグルーピング結果表が示されている。この図１４では、図１３に示した投影像の歪みの差の最大値に基づいて、その差が、許容範囲（５ｎｍ）内に含まれる装置がグルーピングされた結果（グループリスト）が示されている。図１４に示されるように、投影像の歪みの差の最大値が許容範囲５ｎｍに含まれている装置グループ（ＧＲＰ）は、グループ１（装置１１０1、装置１１０2）、グループ２（装置１１０1、装置１１０4）、グループ３（装置１１０2、装置１１０3）、グループ４（装置１１０3、装置１１０4）の４つとなっている。
【０１８３】
以上をもって、管理装置１３０による装置のグループ化に関するすべての処理が終了する。上述したように、本実施形態では、投影露光装置毎に、その装置と像歪みデータの差が許容範囲内となる装置群の集合体であるマッチングテーブルを作成し、互いの像歪みデータの差が許容範囲内にある装置の組合せをマッチングテーブルの中から求め、その組合せをグループとして登録する。
【０１８４】
次に、以上のように構成された本実施形態のリソグラフィシステム１００によるウエハＷの露光方法を、図１５に基づいて説明する。
【０１８５】
なお、図１５に示された露光処理のアルゴリズムの実行の前提として、露光対象となるウエハＷは、既に１層以上の露光が装置１１０1によって実行されたものである。また、ウエハＷの露光履歴データ、各投影露光装置１１０1〜１１０Nに関する投影像の歪みデータ、及び転写対象となるレチクルＲに形成されたパターンの描画誤差は記憶装置１４０に記憶されているものとする。また、上述のグループ化処理において、各露光装置１１０1〜１１０Nの中から、ステージ成分が除去され、歪み調整パラメータ値で補正された歪みの差に基づいて作成されたグループＡ（装置１１０1、１１０3、１１０4）とグループＢ（装置１１０2、１１０3、１１０4）が記憶装置１４０に記憶されているものとする。
【０１８６】
まず、図１５のステップ６０１において、ホストコンピュータ１６０が、重ね合わせ露光の対象となるウエハＷのロットの識別子（例えば、ロット番号）と、重ね合わせ露光にあたって重ね合わせ精度を確保すべき１層以上の露光済み層（以後、「基準層」という）と、使用するレチクルの識別子（例えば、レチクル番号）とを指定して、該ロット番号のウエハＷの露光を行うのに適切な投影露光装置を、ターミナルサーバ１５０及びＬＡＮ１７０を介して管理装置１３０に問い合わせる。
【０１８７】
次に、ステップ６０３において、管理装置１３０は、受信したロット識別子及び基準層に応じて、記憶装置１４０に登録されているウエハＷのロットの露光履歴情報の中から、元工程の投影露光装置を含むグループを選択する。ここでは、元工程の投影露光装置が投影露光装置１１０1であったとする。
【０１８８】
引き続き、管理装置１３０は、読み出されたレチクルＲの描画誤差を加味しつつ、投影像の歪みが、基準層の露光時において発生していた投影像の歪みとの差が最小となる歪み調整パラメータ値をグループ内の投影露光装置毎に算出する。そして、グループ内の全ての投影露光装置のそれぞれについて、投影像の歪み調整能力の範囲内における最良の歪み調整パラメータ値と残留誤差とを求める。なお、ここでは、図９のステップ１０６のマッチングテーブル作成処理において、すでにグループ内の各装置の歪み調整パラメータ値はすでに求められているので、その値を用いて、残留誤差を求めてもよい。
【０１８９】
そして、ステップ６０５において、管理装置１３０は、抽出されたグループをホストコンピュータ１６０へＬＡＮ１７０及びターミナルサーバ１５０を介して送信する。
【０１９０】
次に、ステップ６０７において、ホストコンピュータ１６０は、受信したグループ内の投影露光装置について現在の稼動状況及び将来の稼動予定を参照し、リソグラフィシステムとして最も効率良くリソグラフィ工程を進行させる観点から、重ね合わせ露光を行う投影露光装置をグループ内から選択する。例えば、ホストコンピュータ１６０は、グループ内の投影露光装置の内で、現在稼動していない投影露光装置があれば、その投影露光装置を現行レイヤの装置として選択する。また、グループ内の投影露光装置が全て稼動中の場合には、ホストコンピュータ１６０は、例えば、最も早く現在の露光動作が完了する予定の投影露光装置をそのグループから選択する。
【０１９１】
上記のステップ６０５において、管理装置１３０は、抽出されたグループに加えて、グループ内の各投影露光装置の残留誤差をホストコンピュータ１６０に送信するようにすることもできる。この場合には、ステップ６０７において、ホストコンピュータ１６０は、リソグラフィシステムにおける処理効率と露光精度とを総合的に勘案して、受信したグループの投影露光装置の中から重ね合わせ露光を行う投影露光装置を選択する。例えば、グループ内の投影露光装置の複数が現在稼動していないときには、その中で残留誤差が最小のものを選択することにより、処理効率を確保しつつ露光精度を高めることができる。
【０１９２】
なお、以下では、投影露光装置１１０3が選択された場合を例にして説明を行う。
【０１９３】
そして、ステップ６０９において、ホストコンピュータ１６０は、選択した投影露光装置１１０3が稼動中でなければ直ちに、また、選択した投影露光装置１１０3が稼動中の場合には露光動作の終了を待って、重ね合わせ露光の対象となるウエハＷのロットの識別子を指定して選択した投影露光装置１１０3の主制御装置にＬＡＮ１７０を介して露光実行の指示を行う。
【０１９４】
次に、ステップ６１１において、露光実行の指示を受信した投影露光装置１１０3の主制御装置５０は、重ね合わせ露光の対象となるウエハＷのロットの識別子及び投影露光装置１１０3の識別子を指定して、当該ロットのウエハＷを露光するにあたっての投影像の歪みの調整パラメータ値を管理装置１３０に問い合わせる。
【０１９５】
次いで、ステップ６１３において、管理装置１３０は、受信したウエハＷのロットの識別子に応じて、そのウエハＷのロットについてステップ６０３で算出された、選択された投影露光装置１１０1に関する歪み調整パラメータを主制御装置へＬＡＮ１７０を介して送信する。なお、この歪み調整パラメータは、管理装置１３０において、以下のようにして算出される。
【０１９６】
まず、元工程露光時の像歪みデータから像の歪みを推定することによって作成された元工程のショット形状データと現工程の像歪みデータによって作成された現工程のショット形状データとの差であるショット形状誤差を算出する。そして、線形最小二乗法により、ショット形状誤差、すなわち各計測マーク像の位置ずれ量を全体的に最小にする、結像特性補正装置のレンズエレメント２７の光軸方向駆動量及び傾斜量、すなわち各駆動素子に対する印加電圧と、ステージの制御量とを歪み調整パラメータとして算出する。そして、駆動素子に対する印加電圧と、ステージの制御量とに基づいて、所定の演算を行い歪み調整パラメータが算出される。ここで、ステージの制御量とは、走査露光時のレチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとの速度比の調整量や、走査方向の相対角度の調整量などを意味する。すなわち、走査型露光装置の場合、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとの速度比を投影光学系ＰＬの倍率に応じた値から僅かに異ならせることにより、像の走査方向の倍率調整が可能であり、また、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとの走査方向を僅かに異ならせることにより、像を平行四辺形に変形させることができること等を考慮したものである。
【０１９７】
また、上述の送信と相前後して、重ね合わせ露光前に、管理装置１３０は、当該ロットの当該重ね合わせ露光における投影像の歪みを特定し、この投影像の歪みデータを、記憶装置１４０のデータベース内に格納し、当該ロットの露光履歴情報を仮に更新する。そして、後に主制御装置から露光の正常終了が通知されると、当該ロットの露光履歴情報の仮更新を本更新に変更する。
【０１９８】
次に、ステップ６１５において、投影露光装置１１０3は、受信した歪み調整パラメータに基づいて、自身の結像特性補正装置を制御して、投影像の歪みを調整する。具体的には、管理装置１３０から受け取った歪み調整パラメータに対応する各駆動素子に対する印加電圧を算出し、その印加電圧を、結像特性補正装置を介して駆動素子にそれぞれ印加してレンズエレメント２７を駆動し、投影光学系のディストーションなどを調整する。
【０１９９】
この後、ステップ６１７において、元工程の投影露光装置１１０1と投影像の歪みの差の最大値が許容範囲内であり、かつ投影像の歪みが調整された投影露光装置１１０3によって、レチクルＲに形成されたパターンが、重ね合わせ露光により、ウエハＷに転写される。この場合において、上記の像歪み補正値に基づいて、零でないステージ制御量が算出される場合には、主制御装置５０では、各ショット領域の露光に際して、その制御量に応じてレチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴの速度比及び走査方向の成す角の少なくとも一方を調整する。なお、このような重ね合わせ露光が行われる前に、ウエハＷ上に、元工程の露光時に所定のショット領域（微細パターン領域）及び各ショット領域に付随するＸ方向位置計測用の格子マーク及びＹ方向位置計測用の格子マークが既に形成されており、現ウエハＷのグローバルアライメントは完了しているものとし、ベースライン計測やＥＧＡ（エンハンスト・グローバル・アライメント）等によってショット領域への位置決めが行われる必要があることはいうまでもない。
【０２００】
また、本実施形態では、元工程のショット形状データと現工程の像歪みデータによって作成された現工程のショット形状データとの差であるショット形状誤差に基づいて、現工程の装置で投影像の歪みを調整したり、ステージ成分の制御を行ったりして重ね合わせ露光を行ったが、本発明はこれに限定されるものではなく、ステップ６１１〜６１５の処理は実行されなくてもよい。この場合には、ステップ６０３における管理装置１３０によって選択されるグループは、ステージ成分除去前の像歪みに基づいて作成されたグループの中から選択される必要がある。したがって、この場合、図１０のステップ２０８では、ステージ成分が除去されず、投影光学系の補正量が加味されていない像歪みデータを用い、それらの差の絶対値が許容範囲内であるか否かで、処理を実行し、ステージ成分や投影光学系の補正量が加味されていない状態でのグループを図１０のステップ２０８で作成しておく必要がある。
【０２０１】
また、ステップ６１５において、上述のショット形状誤差についてステージ成分だけ調整する場合には、ステップ６０３における管理装置１３０によって選択されるグループは、ステージ成分除去後の像歪みに基づいて作成されたグループの中から選択される必要がある。したがって、この場合、図１０のステップ２０８では、ステージ成分が除去され、投影光学系の補正量が加味されていない像歪みデータを用い、それらの差の絶対値が許容範囲内であるか否かで、処理を実行し、ステージ成分が除去され投影光学系の補正量が加味されていない状態でのグループを図１０のステップ２０８で作成しておく必要がある。
【０２０２】
以上説明したように、本実施形態の装置管理方法によると、上述のグループ作成工程において、互いの投影像の歪みの差の最大値が許容範囲内である投影露光装置のグループが作成されるので、重ね合わせ露光を行う際に、投影像の歪みの差が少ないグループ内の装置だけを用いた重ね合わせ露光を実行することができる。このため、複数の投影露光装置を用いて、高い重ね合わせ精度で効率よく重ね合わせ露光を行うことができる。
【０２０３】
また、本実施形態の露光方法、リソグラフィシステムによると、各ウエハＷのロットに関する重ね合わせ露光の都度、レイヤ毎のショット領域の形状が異なるにもかかわらず、元工程のパターン像の歪みに対して、現工程のパターン像の歪みを精度良く合わせることができる。従って、高い重ね合わせ精度を確保することが可能となる。
【０２０４】
なお、本実施形態では、投影露光装置毎に、その装置との投影像の歪みの差の最大値が許容範囲内となる投影露光装置の装置リストを作成し、各投影露光装置の装置リストを図１１のマッチングテーブルとしてまとめ、互いの像歪みの差の最大値が許容範囲内である装置の組合せを、装置リストの集合体であるマッチングテーブルから求め、その組合せをグループとしたが、互いの前記歪みの差の最大値が許容範囲内である投影露光装置のグループを作成する方法は他にも考えられる。
【０２０５】
例えば、投影露光装置毎に、その装置との投影像の歪みの差の最大値が許容範囲の１／２の範囲内である投影露光装置の装置リストを作成し、その装置リストに含まれる装置の組合せをグループとして簡易的に作成してもよい。この場合、その装置リストに含まれる各装置は、基準となる装置から投影像の歪みの差の最大値が許容範囲の１／２しか離れていない。したがって、その装置リストに含まれる各装置は、お互いに差の最大値が許容範囲以上とはならないため、１つのグループとみなすことができる。このようにすれば、上記実施形態のように、すべての投影露光装置の組合せにおける投影像の歪みの差の最大値を算出することなく、互いの歪みの差の最大値が所定範囲内である投影露光装置のグループを作成することができる。そのため、グループを作成するのに要する時間を短縮することができるようになり、結果的に、露光工程の時間短縮を図ることができるようになる。
【０２０６】
しかしながら、この方法では、投影像の歪みの差の最大値が、許容範囲の１／２以上離れている場合には、それらの装置が同じグループに含まれることはない。したがって、この方法は、上記実施形態のように、互いの差の最大値が所定範囲内である投影露光装置のすべての組合せをグループ化することはできない。
【０２０７】
なお、この方法を用いた場合には、グループ化作成処理では、グループを作成する毎に、そのグループに含まれるすべての装置が、すでに作成されたいずれか１つのグループに含まれる場合には、そのグループを削除するようにすることもできる。このようにすれば、作成された複数のグループのうち、組合せが重複するグループをスケジューリングの対象から除外することができるようになるため、装置のスケジューリングの効率化を図ることができるようになる。
【０２０８】
なお、この場合、投影露光装置のグループを作成する方法として、上記実施形態で述べたグループ作成処理を実行する方法を用いるか、上記簡易的な方法を用いるかを図１の管理装置１３０で選択できるようにしておいてもよい。例えば、図７に示すグルーピング条件設定画面において、グループを作成する方法が上記実施形態のグループ作成処理を実行する方法を用いるのか、簡易的な方法を用いるのかが選択可能としておき、管理装置１３０が、その画面を介して選択された方法によって投影露光装置のグループを作成するようにすることもできる。なお、ここで選択されるグループを作成する方法は、上記実施形態で述べたグループ作成処理を実行する方法や、上記簡易的な方法には限られず、例えば後述する方法などの他の方法であってもよいことはいうまでもない。
【０２０９】
また、上記実施形態では、複数の計測点における投影露光装置間の位置ずれ量の差の最大値を用いてグループ化を行ったが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、複数の計測点の中から、いずれか１つの計測点を選択し、計測点における互いの歪みの差が許容範囲内である投影露光装置のグループを作成し、いずれか１つの計測点以外の他の計測点毎に、他の計測点においてそのグループ内の他の装置との投影像の歪みの差が許容範囲外にあるときには、その装置をそのグループから除外することによって、互いに投影像の歪みの差が許容範囲内にある装置のグループを作成するようにしてもよい。
【０２１０】
この方法について、管理装置１３０の制御アルゴリズムを示す図１６のフローチャートを参照しつつ説明する。なお、前提として、装置グループとしての投影露光装置１１０1〜１１０6から構成される装置グループが、グループ化する装置グループとして選択されているものとする。また、グループ化にあたり、各投影露光装置１１０1〜１１０6には、１から６までの固有の番号が対応づけられており、その固有の番号に基づいて、記憶装置１４０のデータベースに格納された各投影露光装置の像歪みデータ等が参照されるものとする。また、本処理では、ビットマップがセット可能な１次元配列であるグループビットマップＧ［Ｍ］あるいはＧ’［Ｍ’］（Ｍ、Ｍ’は自然数）が用いられる。Ｇ［Ｍ］、Ｇ’［Ｍ’］には、投影露光装置１１０1〜１１０6がそのグループに含まれているか否かが順番に１ビットずつ示されている。その装置がそのグループに含まれる場合には１が設定され、含まれない場合には０が設定される。例えばＧ［１］＝｛０１１０１１｝であるとすると、このグループには、投影露光装置１１０2、１１０3、１１０5、１１０6が含まれることになる。
【０２１１】
まず、ステップ７０２において、選択されていない計測点があるか否かが判断される。ここでは、まだ計測点が１つも選択されていないので、処理はステップ７０４に進む。ステップ７０４では、選択されていない計測点の中から、１つの計測点を選択する。ここで、計測点Ｍ1を選択したとする。
【０２１２】
次いで、ステップ７０６において、選択された計測点Ｍ1における各投影露光装置１１０1〜１１０6の像歪みデータを配列ＤＡＴＡ［Ｎ］にそれぞれ代入する。ここで、投影露光装置１１０1〜１１０6の像歪みデータは、ＤＡＴＡ［１］〜ＤＡＴＡ［６］にそれぞれ代入される。
【０２１３】
次に、ステップ７０８では、ＤＡＴＡ［Ｎ］を昇順に並べ替える。それぞれの像歪みデータが、投影露光装置１１０5、１１０3、１１０2、１１０1、１１０6、１１０4の順に小さかったとすると、配列ＤＡＴＡは、ＤＡＴＡ［５］、ＤＡＴＡ［３］、ＤＡＴＡ［２］、ＤＡＴＡ［１］、ＤＡＴＡ［６］、ＤＡＴＡ［４］の順に並べ替えられる。
【０２１４】
次いで、ステップ７１０では、選択された計測点Ｍ1におけるグループビットマップＧ［Ｍ］を作成する。例えば、まず、像歪みデータが最小である投影露光装置１１０5の像歪みデータの値ＤＡＴＡ［５］を基準（最小値）として、許容範囲内に含まれる他のＤＡＴＡ［Ｎ］を求める。この許容範囲にＤＡＴＡ［３］、ＤＡＴＡ［２］が含まれているとすると、グループマップＧ［１］に｛０１１０１０｝をセットする。そして、今度は、投影露光装置１１０3の像歪みデータの値ＤＡＴＡ［３］を基準として、許容範囲内に含まれる他のＤＡＴＡ［Ｎ］を求める。このように、各ＤＡＴＡを値の小さい順に基準として、その基準から許容範囲内にある他のＤＡＴＡをグループ化してグループマップＧ［Ｍ］に登録していく。すべてのＤＡＴＡがグループマップＧ［Ｍ］に登録された時点で、ステップ７１０の処理は終了する。
【０２１５】
次に、ステップ７１２において、今回選択された計測点が最初の計測点であるか否かが判断される。ここで、今回選択された計測点は最初の計測点であるので、判断は肯定され、処理はステップ７１８に進む。ステップ７１８では、グループビットマップＧ［Ｍ］をＧ’［Ｍ’］として保存する。なお、ここで、グループビットマップＧ’［Ｍ’］として、Ｇ’［１］＝｛０１１０１０｝、Ｇ’［２］＝｛１１１０００｝、Ｇ’［３］＝｛１１０００１｝、Ｇ’［４］＝｛１００１０１｝が保存されるものとする。ステップ７１８が実行された後、処理は、ステップ７０２に戻る。
【０２１６】
ステップ７０２では、選択されていない計測点があるか否かが判断され、まだ選択されていない計測点が残っているので、判断は肯定され、処理はステップ７０４に進む。選択されていない計測点の中から１つの計測点を選択する。ここで、計測点Ｍ2が選択されたとする。
【０２１７】
その後、前回の計測点Ｍ1と同様に、ステップ７０６〜ステップ７１０の処理を実行して計測点Ｍ2におけるグループマップＧ［Ｍ］を作成する。ここで、Ｇ［Ｍ］として、Ｇ［１］＝｛０１１１１１｝、Ｇ［２］＝｛１１１１１０｝が作成されたとする。
【０２１８】
ステップ７１２では、計測点Ｍ2が最初に選択された計測点ではないため、判断が否定され、処理はステップ７１４に進む。ステップ７１２では、前回のステップ７１８において保存されたグループビットマップＧ’［Ｍ’］と、計測点Ｍ2のグループマップＧ［Ｍ］との全ての組合せにおける論理積演算を行う。
【０２１９】
すなわち、前述の計測点Ｍ1のグループビットマップＧ’［１］＝｛０１１０１０｝、Ｇ’［２］＝｛１１１０００｝、Ｇ’［３］＝｛１１０００１｝、Ｇ’［４］＝｛１００１０１｝と、Ｇ［１］＝｛０１１１１１｝、Ｇ［２］＝｛１１１１１０｝とがそれぞれ論理積演算が実行される。具体的には、Ｇ’［１］＆Ｇ［１］、Ｇ’［１］＆Ｇ［２］、Ｇ’［２］＆Ｇ［１］、Ｇ’［２］＆Ｇ［２］、Ｇ’［３］＆Ｇ［１］、Ｇ’［３］＆Ｇ［２］、Ｇ’［４］＆Ｇ［１］、Ｇ’［４］＆Ｇ［２］が実行され、それぞれの演算結果が、Ｇ［１］〜Ｇ［８］にセットされる。なお、ここで、Ｇ［１］＝｛０１１０１０｝、Ｇ［２］＝｛０１１０００｝、Ｇ［３］＝｛０１０００１｝、Ｇ［４］＝｛０００１０１｝、Ｇ［５］＝｛０１１０１０｝、Ｇ［６］＝｛１１１０００｝、Ｇ［７］＝｛１１００００｝、Ｇ［８］＝｛１００１００｝となる。
【０２２０】
次いで、ステップ７１６では、Ｇ［Ｍ］の中から、重複するものを除外する。例えば、Ｇ［１］とＧ［２］とでは、互いに２番目のビットと３番目のビットが１となっており、それらのグループがともに投影露光装置１１０2、１１０3を含んでいる。すなわち、Ｇ［２］のメンバは、すべてＧ［１］に含まれているため。Ｇ［２］を作成されたグループから除外する。同様に、Ｇ［５］のメンバは、Ｇ［１］のメンバと同じであり、Ｇ［７］のメンバは、Ｇ［６］に含まれているため、Ｇ［５］、Ｇ［７］も作成されたグループから除外する。すなわち、残ったグループビットマップＧ［Ｍ］は、Ｇ［１］、Ｇ［３］、Ｇ［４］、Ｇ［６］、Ｇ［８］の５つとなる。
【０２２１】
ステップ７１８において、このＧ［１］、Ｇ［３］、Ｇ［４］、Ｇ［６］、Ｇ［８］をグループビットマップＧ’［１］、Ｇ’［２］、Ｇ’［３］、Ｇ’［４］、Ｇ’［５］として保存する。
【０２２２】
このように、ステップ７０４〜ステップ７１０の処理を繰り返すことによって、各計測点におけるグループビットマップＧ［Ｍ］を作成し、ステップ７１４において、今まで選択されたすべての計測点におけるグループビットマップＧ’［Ｍ’］と論理積演算を行い、その演算結果をその時点で選択されたすべての計測点におけるグループビットマップＧ’［Ｍ］として保存する。すなわち、ステップ７０２〜ステップ７１８の処理では、選択される計測点毎に、前回までに保存されたグループ内の中で互いの投影像の歪みの差が許容範囲外にある装置があった場合には、その装置がそのグループから除外されていく。
【０２２３】
ステップ７０２において、すべての計測点がすでに選択されていた場合には、判断は否定され、処理は終了する。この時点で保存されていたグループビットマップＧ’［Ｍ’］が、互いに投影像の歪みの差が許容範囲内にある装置のグループとなる。
【０２２４】
なお、上記実施形態では、管理装置３０を計算機システムとして構成しており、主制御装置３０を構成する上述の機能は、主に管理装置１３０に内蔵されたプログラム（ソフトウエア）が実行されることによって実現される。
【０２２５】
このようなプログラムは、記憶装置１４０から管理装置１３０にインストールされてもよいし、インターネット等を利用し、通信ネットワーク、例えばＬＡＮ１７０を介して管理装置１３０にインストールされるようにしてもよい。
【０２２６】
以上のように、上述の機能を実現するためのプログラムをインストール可能とすることによって、後におけるプログラム内容の修正や、性能向上のためのバージョンアップ等を容易に実行することができるようになる。
【０２２７】
なお、記憶装置１４０としては、磁気的に記憶するもの（磁気ディスク、磁気テープ等）、電気的に記憶するもの（バッテリ・バックアップ付ＲＡＭなどの半導体メモリ等）、光磁気的に記憶するもの（光磁気ディスク等）、電気磁気的に記憶するもの（デジタルオーディオテープ（ＤＡＴ）など）等、種々の記憶形態で記憶するものを採用することができることはいうまでもない。
【０２２８】
なお、上記実施形態では、通常のショット領域の重ね合わせ露光をする場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、２ｉｎ１の重ね合わせ露光にも適用することができる。
【０２２９】
なお、上記実施形態では、リソグラフィシステム１００を構成する複数の投影露光装置１１０1〜１１０Nに、走査型露光装置と静止型露光装置とが混在する場合について説明したが、全ての投影露光装置が走査型露光装置又は静止型露光装置であっても構わない。
【０２３０】
また、上記実施形態の如く、走査型露光装置と静止型露光装置とが混在する場合、元工程を走査型露光装置と静止型露光装置の内の一方のタイプの投影露光装置で露光し、現工程を他方のタイプの投影露光装置で露光する場合に、両者間でパターン像の歪みの測定にあたっての測定点が異なる場合がある。この場合には、前述した実施形態のように、単純な比較を行うのみでは、像歪みの誤差、ひいては像歪み補正値を求めることができない。このような場合、一方の投影露光装置の像歪みデータをそのままとし、他方の像歪みデータを求める際に、一方の投影露光装置の各測定点に近い点のデータに基づき何らかの補完計算を行って各測定点のデータを求めるようにしても良い。
【０２３１】
なお、走査型露光装置の場合には、前述のようにステージ成分が含まれている場合がある。この場合には、計測される像歪みデータからステージ成分を除去しておくのが望ましい。
【０２３２】
また、レチクルステージやウエハステージに設けられる干渉計用の反射面（上記実施形態では移動鏡の反射面）の凹凸、傾き、及び湾曲などを含めた曲がりがあると、この成分が像歪みデータに含まれるので、同様に曲がり成分を除去しておくことが好ましい。
【０２３３】
また、上記実施形態では、投影露光装置のグループ化を行う指標値として、計測用マークＭ1〜ＭNで計測された投影像の位置ずれ量を用いたが、本発明はこれに限定されるものではなく、各装置の投影像の歪みを示す指標値であれば何でもよい。例えば、計測用マークＭ1〜ＭNで計測された投影像の位置ずれ量の平均値などを用いても良い。
【０２３４】
また、上記実施形態では、複数の投影露光装置の全てが投影像の歪みの調整能力を有するものとしたが、本発明はこれに限定されるものではない。前述のように、投影像の歪みが近い装置がグループ化され、そのグループ内の装置での重ね合わせ露光を実現することができるため、投影像の歪みの調整能力がない投影露光装置であっても、高精度な重ね合わせ露光を実現することができる。
【０２３５】
また、上記実施形態では、投影光学系の結像特性の調整で、投影光学系のレンズ要素を駆動したが、投影光学系内の露光光の光路上の一部の密閉室内のガス圧を制御してその部分の屈折や照明光の波長シフト量を調整することにより、投影光学系の結像特性を調整してもよい。
【０２３６】
また、上記実施形態では、各投影露光装置におけるパターン像の歪みの測定を、定期的に行うことにしたが、ウエハの各ロットの各層の露光ごとに、歪み補正値の算出の直前に行っても良い。
【０２３７】
また、上記実施形態では、各投影露光装置におけるパターン像の歪みの測定を、測定用レチクルに形成された測定用パターンを測定用のウエハに実際に転写し、ウエハ上に転写されたパターンを計測することにより行ったが、これに代えて、空間像計測器を使用した空間像検出によって投影光学系の結像特性を計測することとしても良い。
【０２３８】
また、上記実施形態では走査型露光装置の像歪みデータを取得するために、走査露光方式にて測定用パターンをウエハ上に転写することで、走査露光範囲全域での像歪みデータ（ダイナミックなディストーション・データ）を得るものとしたが、静止露光方式にて測定用パターンをウエハ上に転写し、その転写像の検出結果から投影光学系の長方形状の露光領域（即ち、ウエハ上での照明光の照射領域）内での像歪みデータ（スタティックなディストーション・データ）を得るだけでもよく、特に上記実施形態における複数の投影露光装置が走査型露光装置のみから構成される場合には、その像歪みデータを用いて前述のグルーピングを行ってもよい。さらにこのとき、静止露光にて求めた像歪みデータから計算にて走査露光範囲全域での像歪みデータを算出してもよい。
【０２３９】
なお、上記実施形態では、ウエハ上に形成された転写像を基に元工程のディストーションを計算することとしたが、これに限らず、レイヤ上にディストーションを知ることができるような複数のマークを予め配置しておき、それらのマークを計測することによって、元工程のディストーションを求めることとしても良い。
【０２４０】
また、投影露光装置の露光対象は、上記の実施形態のように半導体製造用のウエハに限定されることなく、例えば、液晶表示素子、プラズマディスプレイや有機ＥＬなどのディスプレイ装置の製造用の角型のガラスプレートや、薄膜磁気へッドを製造するための基板にも広く適用できる。
【０２４１】
また、上記実施形態の投影露光装置における投影光学系の倍率は縮小系のみならず等倍および拡大系のいずれでも良いし、投影光学系ＰＬは屈折系のみならず、反射系及び反射屈折系のいずれでも良い。
【０２４２】
また、投影光学系としては、ＫｒＦ、ＡｒＦエキシマレーザ光などの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英やホタル石などの遠紫外線を透過する材料を用い、Ｆ2レーザ光などを用いる場合はホタル石その他のフッ化物結晶を用いる必要がある。
【０２４３】
また、上記実施形態で、管理されている投影露光装置の露光用照明光としては波長１００ｎｍ以上の光に限らず、波長１００ｎｍ未満の光を用いても良いことはいうまでもない。例えば、近年、７０ｎｍ以下のパターンを露光するために、ＳＯＲやプラズマレーザを光源として、軟Ｘ線領域（例えば５〜１５ｎｍの波長域）のＥＵＶ（Extreme  Ultraviolet）光を発生させるとともに。その露光波長（例えば１３．５ｎｍ）の基で設計されたオール反射縮小光学系、及び反射型マスクを用いたＥＵＶ露光装置の開発が行われている。この装置においては、円弧照明を用いてマスクとウエハを同期走査してスキャン露光する構成が考えられるので、かかる装置も本発明の管理対象に含まれるものである。
【０２４４】
また、電子線又はイオンビームなどの荷電粒子線を用いる露光装置も本発明の管理対象に含めることができる。電子線露光装置では電子銃として、例えば熱電子放射型のランタンヘキサボライト（ＬａＢ6）、タンタル（Ｔａ）を用いることができる。なお、電子線露光装置は、ペンシルビーム方式、可変成形ビーム方式、セルプロジェクション方式、ブランキング・アパーチャ・アレイ方式、及びマスク投影方式のいずれであってもよい。マスク投影方式は、マスク上で互いに分離した２５０ｎｍ角程度の多数のサブフィールドに回路パターンを分離して形成し、マスク上で電子線を第１方向に順次シフトさせるとともに、第１方向と直交する第２方向にマスクを移動するのに同期して、分解パターンを縮小投影する電子光学系に対してウエハを相対移動し、ウエハ上で分解パターンの縮小像を繋ぎ合せて合成パターンを形成するものである。
【０２４５】
また、ウエハステージやレチクルステージにリニアモータ（米国特許番号第５，６２３，８５３号公報または米国特許番号第５，５２８，１１８号公報参照）を用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力又はリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもよい。また、ウエハステージやレチクルステージは、ガイドに沿って移動するタイブでもいいし、ガイドを設けないガイドレスタイプでもいい。
【０２４６】
また、ウエハステージの移動により発生する反力は、（米国特許番号第５，５２８，１１８号公報に記載されているように、）フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもいい。また、レチクルステージの移動により発生する反力は、特開平８−１６６４７５号公報（米国特許出願シリアル番号第０８／４１６，５５８号）に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしても良い。
【０２４７】
なお、複数のレンズから構成される照明系、投影光学系を投影露光装置本体に組み込み光学調整をするとともに、多数の機械部品からなるレチクルステージやウエハステージを投影露光装置本体に取り付けて配線や配管を接続し、更に総合調整（電気調整、動作確認等）をすることにより、上記実施形態の投影露光装置、ひいては上記実施形態のリソグラフィシステムを製造することができる。なお、投影露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【０２４８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る装置管理方法によれば、複数の投影露光装置を用いて、高い重ね合わせ精度で効率よく重ね合わせ露光を行うことができるという効果がある。
【０２４９】
また、本発明に係る露光方法によれば、高精度な重ね合わせ露光を効率よく実現することができるという効果がある。
【０２５０】
また、本発明に係るリソグラフィシステムによれば、高精度な露光を効率よく実現することができるという効果がある。
【０２５１】
また、本発明に係るプログラムによれば、複数の投影露光装置を用いて、高い重ね合わせ精度で効率よく重ね合わせ露光を行うことができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係るリソグラフィシステムの構成を概略的に示す図である。
【図２】走査型露光装置である投影露光装置１１０1の概略的な構成を示す図である。
【図３】走査型露光装置で像歪みの計測のための露光の際に用いられるテスト用レチクルの一例を示す平面図である。
【図４】静止型露光装置像歪みの計測のための露光の際に用いられるテスト用レチクルの一例を示す平面図である。
【図５】装置グループ選択画面を示す図である。
【図６】最新の像歪みデータの表示画面を示す図である。
【図７】グルーピング設定画面を示す図である。
【図８】像歪みデータエリア定義画面を示す図である。
【図９】投影露光装置のグループ作成の際の管理装置１３０の制御アルゴリズムを示すフローチャートである。
【図１０】図９のステップ１０６におけるマッチングテーブル作成処理のサブルーチンの流れを示すフローチャートである。
【図１１】マッチングテーブルの一例を示す図である。
【図１２】ステップ１０８のグループ化処理のサブルーチンを示すフローチャートである。
【図１３】投影像の歪みの差の最大値の比較表が表示された画面を示す図である。
【図１４】グルーピング結果表が表示された画面を示す図である。
【図１５】本発明の一実施形態のリソグラフィシステム１００によるウエハＷの露光方法を示すフローチャートである。
【図１６】投影露光装置のグループ作成の際の管理装置１３０の制御アルゴリズムを示すフローチャートである。
【符号の説明】
Ｗ…ウエハ（基板）、Ｒ…レチクル（マスク）、１００…リソグラフィシステム、１１０…投影露光装置、１３０…管理装置、１３１…入出力装置、１４０…記憶装置、１５０…ターミナルサーバ、１６０…ホストコンピュータ（選択装置）、１７０…ＬＡＮ、１８０…通信路。
【図１】
0004137521.tif 000002
【図２】
0004137521.tif 000003
【図３】
0004137521.tif 000004
【図４】
0004137521.tif 000005
【図５】
0004137521.tif 000006
【図６】
0004137521.tif 000007
【図７】
0004137521.tif 000008
【図８】
0004137521.tif 000009
【図９】
0004137521.tif 000010
【図１０】
0004137521.tif 000011
【図１１】
0004137521.tif 000012
【図１２】
0004137521.tif 000013
【図１３】
0004137521.tif 000014
【図１４】
0004137521.tif 000015
【図１５】
0004137521.tif 000016
【図１６】
0004137521.tif 000017