(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースフィルムを送り出す供給ロールと、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを円周に沿って走行させる冷却キャンロールと、接地電位に保たれ、前記冷却キャンロールを走行した前記ベースフィルムを走行させる金属ガイドロールと、前記金属ガイドロールを走行した前記ベースフィルムを巻き取る巻取りロールと、前記冷却キャンロールの前記ベースフィルムの走行方向に沿い、かつ前記冷却キャンロールと所定の間隔を有して順次配置された第１入射角規制マスクと第２入射角規制マスクと、前記冷却キャンロールに沿って設けられた前記第１、第２入射角規制マスクの間に形成された開口部の開口面積を調節するシャッターと、ルツボ内に収納された磁性材料を溶融する電子銃とを備えた磁気記録媒体の製造装置を用い、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを前記冷却キャンロールの円周に沿って走行させ、前記電子銃から出射する電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させ、前記ベースフィルム上に磁性膜を形成した後、前記金属ガイドロールを介して前記巻取りロールで巻取る磁気記録媒体の製造方法において、
前記磁性膜は、
前記シャッターを調節して、前記開口部の一部を露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて厚さ１００Å〜８００Åの第１の磁性膜を形成した後、前記第１の磁性膜の製造開始時の前記第１の磁性膜の先端部位が前記金属ガイドロールに到達するまでの時間経過後に、前記シャッターを再び調整して、前記開口部の全部を露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、前記ベースフィルム上に第２の磁性膜を形成して得られることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
ベースフィルムを送り出す供給ロールと、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを円周に沿って走行させる冷却キャンロールと、接地電位に保たれ、前記冷却キャンロールを走行した前記ベースフィルムを走行させる金属ガイドロールと、前記金属ガイドロールを走行した前記ベースフィルムを巻き取る巻取りロールと、前記冷却キャンロールの前記ベースフィルムの走行方向に沿い、かつ前記冷却キャンロールとの間に所定の間隔を有して順次配置された窓部を備えた第１入射角規制マスクと第２入射角規制マスクと、前記冷却キャンロールに沿って設けられた前記第１、第２入射角規制マスクの間に形成された開口部の開口面積を調節するシャッターと、ルツボ内に収納された磁性材料を溶融する電子銃とを備えた磁気記録媒体の製造装置を用い、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを前記冷却キャンロールの円周に沿って走行させ、前記電子銃から出射する電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させ、前記ベースフィルム上に磁性膜を形成した後、前記金属ガイドロールを介して前記巻取りロールで巻取る磁気記録媒体の製造方法において、
前記磁性膜は、
前記シャッターを調節して、前記開口部を露出させない状態にし、前記窓部から露出した前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、厚さ１００Å〜８００Åの第１の磁性膜を形成し、前記第１の磁性膜の製造開始時の前記第１の磁性膜の先端部位が前記金属ガイドロールに到達する時間経過後に、前記シャッターを調節して、前記開口部を全部露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、前記第１の磁性膜上に第２の磁性膜を形成して得られることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、斜方蒸着法を適用した磁気記録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、磁気テープの記録密度は急速に高密度化が図られている。この過程で、磁気テープは高抗磁力、高磁束密度を有する酸化鉄テープ、メタルテープ、及び薄膜磁気テープへと高性能なものに移行している。この磁気テープの応用として、ＶＴＲ（ビデオ・テープ・レコーダ）分野では今後、ディジタル化、高精細度化を達成するために、特に薄膜磁気テープが注目されている。
【０００３】
この薄膜磁気テープとしては磁性膜が斜方蒸着法により形成された、いわゆる蒸着磁気テープが実用化されている。これは、具体的には真空中でピアス型電子銃を用いて、ピアス型電子銃から出射した電子ビームをルツボ中のＣｏ，ＣｏＮｉなどの磁性材料に照射して、これらのＣｏ，ＣｏＮｉなどの磁性材料を溶融、蒸発させ、酸素を導入しながら、ＰＥＴ、ＰＥＮ、ＰＩ（ポリイミド）、ＰＡ（アラミド）などのベースフィルム上にＣｏＯ、ＣｏＮｉＯなどよりなる磁性膜を薄膜に形成することにより製造される。
【０００４】
図８は斜方蒸着法を適用した一般的な磁気記録媒体の製造装置を示した図、
図９は一般的な磁気記録媒体の製造装置において、シャッターの変形例を説明するための図である。
【０００５】
図８に示した一般的な磁気記録媒体の製造装置では、真空槽１内に、供給ロール２、巻取りロール３、供給側の金属ガイドローラ４、巻取り側の金属ガイドローラ５、及び冷却キャンロール６が配置されている。そして、供給ロール２から送り出したベ−スフィルム７は冷却キャンロール６に沿って図中矢印方向に連続走行しており、供給側のガイドローラ４を経て回転自在な冷却キャンロール６に沿いながら更に巻取り側の金属ガイドロール５を経て巻取りロール３に巻き取られている。この際、回転自在な冷却キャンロール６の内部には、図示しない冷却器が内蔵されており、上記ベ−スフィルム７への蒸着時に、このベ−スフィルム７の温度上昇による変形等を防止している。
【０００６】
また、冷却キャンロール６の下方には、Ｃｏなどの磁性材料１１を収容したルツボ１２が配置されており、真空槽１の供給側の側壁にはこの磁性材料１１を溶融させて、蒸発磁性材料を蒸発させるための加熱器として、例えばピアス型電子銃１３が斜め下方に向かって設置されている。
【０００７】
また、ルツボ１２からの蒸発磁性材料のベ−スフィルム７への最大入射角θｍａｘを規制する最大入射角規制マスク８と、ルツボ１２からの蒸発磁性材料のベ−スフィルム７への最小入射角θｍｉｎを規制する最小入射角規制マスク９とが冷却キャンロール６に沿って固定して取り付けられており、且つ、冷却キャンロール６に沿って上流側に設けた最大入射角規制マスク８と冷却キャンロール６に沿って下流側に設けた最小入射角規制マスク９とは所定距離離れて取り付けられていると共に、両マスク８，９間に形成された開口部を開閉するためにシャッター１０が両マスク８，９に沿いながら移動自在に設けられている。
【０００８】
そして、ベ−スフィルム７が冷却キャンロール６に沿って走行している時に、シャッター１０を矢印方向に移動して両マスク８，９間を開口すると、ピアス型電子銃１３からの電子ビーム１４によってルツボ１２内の磁性材料１１が溶融して蒸発し、両マスク８，９間に形成された開口部から蒸発磁性材料がベ−スフィルム７に付着することで、ベ−スフィルム７上に磁性膜が膜付けされる。この際、一般に最大入射角θｍａｘ＝９０゜、最小入射角θｍｉｎ＝４０゜でベ−スフィルム７上に磁性膜を形成している。
【０００９】
また、ピアス型電子銃１３からの電子ビーム１４の制御は、ピアス型電子銃１３に取り付けた偏向マグネット１５と、ルツボ１２に近接して設置されて電子ビーム１４の軌道で偏向磁界を印加する偏向マグネット１６とにより行われている。また、電子ビーム１４の照射位置はルツボ１２の中央部で、ベ−スフィルム７の幅方向に所定の周期で走査され、ルツボ１２内の磁性材料１１を溶解し、蒸発させている。
【００１０】
更に、シャッター１０は、ルツボ１２内の磁性材料１１の温度が所定の状態になるまで最小入射角θｍｉｎと最大入射角θｍａｘとの間に形成した口部の領域を遮蔽し、所定の温度状態に達し、蒸着が可能となるとシャッター１０は矢印の方向に移動し、ベ−スフィルム７上に磁性膜が所定の膜厚で膜付けされる。上記したシャッター１０は図８では冷却キャンロール６に沿って移動するタイプであるが、図９に示したようにルツボ１２の上方にシャッター１７を水平移動可能に設置し、このシャッター１７で蒸発磁気材料を遮断する方法でも良い。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記した一般的な磁気記録媒体の製造装置では、ルツボ１２内の磁性材料１１が所定の温度状態に達して、シャッター１０を開ける際に以下の問題が生じていた。
【００１２】
即ち、電子ビーム１４がＣｏなどの磁性材料に照射されると２次電子（後方散乱電子）が大量に発生し、両マスク８，９間の開口部よりベースフィルム７に到達する。この２次電子はベースフィルム７の表面に帯電し、静電気力によりベースフィルム７は冷却キャンロール６に密着する。この密着力は両マスク８，９間の開口部の面積が広い程、大きくなる。このため、シャッター１０を開口する際は密着力がフィルム走行方向で、急激に変化して、不均一になり、ベースフィルム７上でのシワの発生原因となる。またベースフィルム７は溶融した磁性材料１１からの輻射熱、蒸発磁性材料がベースフィルム７上で薄膜の磁性膜となる際の凝縮熱、到達２次電子による熱により加熱される。この際、冷却キャンロール６によりベースフィルム７は冷却されているが、ベースフィルム７の耐熱温度以下の範囲で、ベースフィルム７はシャッター１０の開口時に温度が上昇し、開口面積が広くなると温度上昇は大きくなる。このため、シャッター１０の開口時にはフィルム温度がフィルム走行方向で、急激に変化して、不均一になり、ベースフィルム７の熱収縮、熱膨張によりベースフィルム７上でのシワの発生原因となる。両マスク８，９間の開口部で発生したシワはシャッター１０が所定の状態まで移動終了後も、一度発生したシワが原因で引き続き発生する。また膜付け過程でシワの発生がなくなる場合もあるが、既に巻き取ったベースフィルム７の表面には凸状の累積したシワがあり、開口部でシワの発生がなくなった後は、凸状の累積シワの上に巻かれるため、これが転写され、巻き出された際に転写シワとして残るなどの問題が生じている。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題に鑑みてなされたたものであり、第１の発明は、ベースフィルムを送り出す供給ロールと、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを円周に沿って走行させる冷却キャンロールと、接地電位に保たれ、前記冷却キャンロールを走行した前記ベースフィルムを走行させる金属ガイドロールと、前記金属ガイドロールを走行した前記ベースフィルムを巻き取る巻取りロールと、前記冷却キャンロールの前記ベースフィルムの走行方向に沿い、かつ前記冷却キャンロールと所定の間隔を有して順次配置された第１入射角規制マスクと第２入射角規制マスクと、前記冷却キャンロールに沿って設けられた前記第１、第２入射角規制マスクの間に形成された開口部の開口面積を調節するシャッターと、ルツボ内に収納された磁性材料を溶融する電子銃とを備えた磁気記録媒体の製造装置を用い、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを前記冷却キャンロールの円周に沿って走行させ、前記電子銃から出射する電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させ、前記ベースフィルム上に磁性膜を形成した後、前記金属ガイドロールを介して前記巻取りロールで巻取る磁気記録媒体の製造方法において、
前記磁性膜は、前記シャッターを調節して、前記開口部の一部を露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて厚さ１００Å〜８００Åの第１の磁性膜を形成した後、前記第１の磁性膜の製造開始時の前記第１の磁性膜の先端部位が前記金属ガイドロールに到達するまでの時間経過後に、前記シャッターを再び調整して、前記開口部の全部を露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、前記ベースフィルム上に第２の磁性膜を形成して得られることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
【００１４】
また、第２の発明は、ベースフィルムを送り出す供給ロールと、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを円周に沿って走行させる冷却キャンロールと、接地電位に保たれ、前記冷却キャンロールを走行した前記ベースフィルムを走行させる金属ガイドロールと、前記金属ガイドロールを走行した前記ベースフィルムを巻き取る巻取りロールと、前記冷却キャンロールの前記ベースフィルムの走行方向に沿い、かつ前記冷却キャンロールとの間に所定の間隔を有して順次配置された窓部を備えた第１入射角規制マスクと第２入射角規制マスクと、前記冷却キャンロールに沿って設けられた前記第１、第２入射角規制マスクの間に形成された開口部の開口面積を調節するシャッターと、ルツボ内に収納された磁性材料を溶融する電子銃とを備えた磁気記録媒体の製造装置を用い、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを前記冷却キャンロールの円周に沿って走行させ、前記電子銃から出射する電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させ、前記ベースフィルム上に磁性膜を形成した後、前記金属ガイドロールを介して前記巻取りロールで巻取る磁気記録媒体の製造方法において、
前記磁性膜は、前記シャッターを調節して、前記開口部を露出させない状態にし、前記窓部から露出した前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、厚さ１００Å〜８００Åの第１の磁性膜を形成し、前記第１の磁性膜の製造開始時の前記第１の磁性膜の先端部位が前記金属ガイドロールに到達する時間経過後に、前記シャッターを調節して、前記開口部を全部露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、前記第１の磁性膜上に第２の磁性膜を形成して得られることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下に本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の製造装置の一実施形態を図１乃至図７を参照して＜第１実施形態＞，＜第２実施形態＞の順に詳細に説明する。
【００１８】
＜第１実施形態＞
図１は本発明に係る第１実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第１実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクと最小入射角規制マスクとの間の開口部をシャッターで一部覆った状態を示した図、
図２は本発明に係る第１実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第１実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクと最小入射角規制マスクとの間の開口部を完全に開いた状態を示した図、
図３は本発明に係る第１実施形態の磁気記録媒体の製造装置を適用して、第１実施形態の実施例１によりベースフィルム上に磁性膜を膜付けする状態を説明するための図、
図４は実施例１，実施例２，比較例１の結果を示した図である。
尚、説明の便宜上、先に示した構成部材と同一構成部材に対しては同一の符号を付して説明する。
【００１９】
本発明に係る第１実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第１実施形態の磁気記録媒体の製造装置では、先に説明した一般的な磁気記録媒体の製造装置を一部改良して、冷却キャンロール６に沿って取り付けた最大入射角規制マスク８と最小入射角規制マスク９との間に形成された開口部の開口面積をシャッター１０により調整可能に構成し、且つ、巻取り側の金属ガイドローラ５を接地（アース）している。
【００２０】
図１に示した如く、第１実施形態の磁気記録媒体の製造装置では斜方蒸着法を適用しており、真空槽１内で供給ロール２から送り出したベ−スフィルム７が供給側のガイドローラ４，回転転自在な冷却キャンロール６，接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール５を順次経て巻取りロール３に巻き取られている。上記した巻取り側の金属ガイドロール５は、後述するようにベ−スフィルム７上に膜付けした磁性膜の表面に帯電した電子を電気的にグランドに落とす接地手段である。
【００２１】
一方、真空槽１内に酸素を導入した状態で、真空槽１の供給側の側壁に取り付けたピアス型電子銃１３からの電子ビーム１４は、冷却キャンロール６の下方に設置したルツボ１２内のＣｏなどの磁性材料１１を溶解し、蒸発磁性材料を冷却キャンロール６に向かって蒸発させている。
【００２２】
また、冷却キャンロール６に沿って上流側に取り付けた最大入射角規制マスク８と、冷却キャンロール６に沿って下流側に取り付けた最小入射角規制マスク９との間に形成された開口部には、シャッター１０がこの開口部の開口面積を調節可能に設けられている。
【００２３】
次に、上記のように構成した第１実施形態の磁気記録媒体の製造装置を用いてベ−スフィルム７上に磁性膜を膜付けする第１実施形態の磁気記録媒体の製造方法について説明する。
【００２４】
まず、膜付け開始時に、冷却キャンロール６に沿って取り付けた最大入射角規制マスク８と最小入射角規制マスク９との間に形成された開口部の開口面積が小さな開口面積Ｓとなるようにシャッター１０を操作する。そして、ベ−スフィルム７を冷却キャンロール６に沿って矢印方向に連続走行させて、膜付け開始直後の僅かな期間中には、ルツボ１２内から蒸発した蒸発磁性材料が上記小さな開口面積Ｓの部位だけを通過できるので、ベ−スフィルム７上に膜付け目標量となる所定の膜厚よりも薄い磁性膜が膜付けされる。
【００２５】
ここで、膜付け開始直後の僅かな期間中は、後述する実施例１ではベ−スフィルム７上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール（接地手段）５に到達する期間であり、一方、後述する実施例２ではベ−スフィルム７上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール（接地手段）５の手前に到達する期間である。  そして、後述する実施例１では、膜付け開始直後の僅かな期間中に、ベ−スフィルム７上に１００Å〜８００Åの膜厚で薄い磁性膜が膜付けされ、このベ−スフィルム７上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール（接地手段）５に到達した後、巻取り側の金属ガイドロール５によって薄い磁性膜の表面に帯電した電子が電気的にグランドに落とされ、この後は常にベ−スフィルム７が巻取りロール３に巻き取られる途中で磁性膜の表面がグランドに落とされている。
【００２６】
一方、後述する実施例２では、膜付け開始直後の僅かな期間中に、ベ−スフィルム７上に１００Å〜４００Åの膜厚で薄い磁性膜が膜付けされ、この膜付け開始直後の僅かな期間中ではこのベ−スフィルム７上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール（接地手段）５に到達していない。
【００２７】
次に、後述する実施例１，２において、膜付け開始直後の僅かな期間を経過した後、ここで図２に示したように、シャッター１０を全開させて、最大入射角規制マスク８と最小入射角規制マスク９との間に形成された開口部を全て露出させているので、全開した開口部を通過した蒸発磁性材料によりベ−スフィルム７上に所定の膜厚の磁性膜が通常通りに膜付けされる。
【００２８】
この後、後述する実施例１，２では、ベ−スフィルム７上に所定の膜厚で膜付けされた磁性膜の表面を巻取り側の金属ガイドロール５でグランドに落としている。
【００２９】
（実施例１）
図１，図２に示した磁気記録媒体の製造装置で、直径１０００ｍｍの冷却キャンロール６を用いて、酸素を導入しながら長さ１００００ｍ、幅３００ｍｍ、厚み６μｍのＰＥＴフィルム（ベースフィルム）６を５０ｍ／ｍｉｎで冷却キャンロール６に沿って連続走行させて、酸素を導入しながらＣｏＯ膜（磁性膜）を所定の膜厚として略０．２μｍ膜付けした。この際に、従来のようなシャッター１０の開口時から略０．２μｍを直ちに膜付けせず、フィルム走行速度５０ｍ／ｍｉｎでＣｏＯ膜の膜厚が所定の膜厚より薄い膜厚ＸÅになるように図１に示すようにシャッター１０を全開せず途中で停止し、開口部の開口面積Ｓにより磁性膜の膜厚を調整した。即ち、この実施例１では、ベ−スフィルム７上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール５に到達する期間を、膜付け開始直後の僅かな期間として設定している。
【００３０】
この際にＣｏＯ膜の蒸発速度は、シャッター１０を全開、フィルム走行速度５０ｍ／ｍｉｎの条件下で、ＣｏＯ膜が略０．２μｍ成膜される速度である。成膜長さは成膜した薄い膜厚ＸÅのＣｏＯ膜が冷却キャンロール６より離れ、ＰＥＴフィルム７上の薄いＣｏＯ膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドローラ５に達成し、ＣｏＯ膜の表面が電気的にグランドに落ちるまで行った。この後、シャッター１０を図２に示すように全開し、略０．２μｍのＣｏＯ膜を９０００ｍ成膜した。また、略０．２μｍのＣｏＯ膜の成膜時の蒸発磁気材料の入射角は、初期最大入射角は９０゜、最小入射角は４０゜である。
【００３１】
ここで、膜付け開始直後の僅かな期間ではベ−スフィルム７上に所定の膜厚よりも薄いＣｏＯ膜を膜付けした時の薄い膜厚ＸÅとして１００Å，２００Å，４００Å，６００Å，８００Å，１０００Åで膜付けを行った。
【００３２】
上記実施例１の膜付け状態を図３に示すと、膜付け開始直後の僅かな期間に、ベ−スフィルム７上に所定の膜厚よりも薄い磁性膜が膜付けされ、この後、通常の膜付け期間となりベ−スフィルム７上に所定の膜厚で磁性膜が膜付けされている。
【００３３】
（実施例２）
実施例１で、薄い膜厚で膜付けした初期のＣｏＯ膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドローラ５により電気的にグランドに落ちる前に、シャッター１０を全開し、略０．２μｍのＣｏＯ膜を９０００ｍ成膜した以外は同一条件で行った。即ち、この実施例２では、ベ−スフィルム７上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール５の手前に到達する期間を、膜付け開始直後の僅かな期間して設定としている。
【００３４】
（比較例１）
膜付け開始からシャッター１０を全開し、略０．２μｍのＣｏＯ膜を９０００ｍ成膜した以外は実施例１と同一条件で行った。
【００３５】
上記した実施例１，２及び比較例１の結果を図４に示す。図４から明らかのように、比較例１ではシワが発生するが、実施例１では初期のＣｏＯ膜の膜厚が１００Å〜８００Åでは、シャッター１０を部分開口した時及びシャッター１０を全開した時にシワが発生していない。即ち、実施例１よりＰＥＴフィルム７上の薄い磁性膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドロール５を通過する際に、薄い磁性膜の表面をグランドに落とすことにより前記開口部での帯電量を減少させることができ、成膜時にシャッター１０を全開する際のフィルム走行方向でのＰＥＴフィルム７の冷却キャンロール６への密着力及びＰＥＴフィルム７の温度の急激な変化に対してシワが発生しにくくなることが分かる。上記のことから、実施例１では初期のＣｏＯ膜の膜厚が１００Å〜８００Åになるような開口部の開口面積Ｓにシャッター１０を調節すれば良いものである。
【００３６】
また、実施例２では初期のＣｏＯ膜の膜厚が１００Å〜４００Åでは、シャッター１０を部分開口した時及びシャッター１０を全開した時にシワが発生していない。この実施例２では、膜付け開始直後の僅かな期間中にＰＥＴフィルム７上に膜付けした薄い磁性膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドロール５に到達しないものの、金属磁性膜が膜付けされているため、ヤング率が高くなっており、シャッター１０を全開した時にＰＥＴフィルム７の急激な温度上昇を押さえることができると共に、温度の不均一が緩和されるためにＰＥＴフィルム７のシワの発生を防止できる。
【００３７】
初期の膜厚が８００Åまでの膜付けではＰＥＴフィルム７の温度上昇や帯電による密着力の走行方向の不均一によりシワが発生していないが、１０００Åではシワが発生している点から、８００Åでは、この膜付け直後にシャッター１０を全開して０．２μｍを膜付けする際にはシワの発生に関して厳しい状況にある。
【００３８】
実施例１ではシャッター１０を全開し、０．２μｍを膜付けする際にはグランドに落ちているため、帯電量を減少させることができ、初期の膜厚が８００Åではシワの発生に関して厳しい状況でも、０．２μｍ膜付け時にはシワは発生していない。
【００３９】
実施例２ではシャッター１０を全開し、０．２μｍを膜付けする際にはグランドに落ちていないため、帯電量の不均一量が増加し、初期の膜厚が８００Åではシワの発生に関して厳しい状況のため、０．２μｍ膜付け時にシワが発生している。初期の膜厚６００Åでも同様にシワが発生し、初期の膜厚が４００Åでは、初期の膜付け直後のシャッター全開時にはシワ発生に関して余裕があるため、０．２μｍ膜付け時にシワが発生していない。
【００４０】
＜第２実施形態＞
図５は本発明に係る第２実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第２実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクの一部に窓部を形成し、且つ、シャッターを閉じた状態を示した図、
図６は本発明に係る第２実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第２実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクの一部に窓部を形成し、且つ、シャッターを開いた状態を示した図、
図７は本発明に係る第２実施形態の磁気記録媒体の製造装置を適用して、第２実施形態の実施例１によりベースフィルム上に磁性膜を膜付けする状態を説明するための図である。
尚、説明の便宜上、先に示した構成部材と同一構成部材に対しては同一の符号を付して説明する。
【００４１】
本発明に係る第２実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第２実施形態の磁気記録媒体の製造装置では、先に説明した一般的な磁気記録媒体の製造装置を一部改良して、冷却キャンロール６に沿って上流側に取り付けた最大入射角規制マスク８の下方の一部を僅かに開口して窓部８ａを形成し、且つ、巻取り側の金属ガイドローラ５を接地（アース）している。
【００４２】
図５に示した如く、第２実施形態の磁気記録媒体の製造装置でも斜方蒸着法を適用しており、真空槽１内で供給ロール２から送り出したベ−スフィルム７が供給側のガイドローラ４，回転転自在な冷却キャンロール６，接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール５を順次経て巻取りロール３に巻き取られている。
【００４３】
一方、真空槽１の供給側の側壁に取り付けたピアス型電子銃１３からの電子ビーム１４は、冷却キャンロール６の下方に設置したルツボ１２内のＣｏなどの磁性材料１１を溶解し、蒸発磁性材料を冷却キャンロール６に向かって蒸発させている。
【００４４】
また、冷却キャンロール６に沿って上流側に取り付けた最大入射角規制マスク８の下方の一部を僅かに開口して窓部８ａを形成し、ルツボ１２内で蒸発した蒸発磁性材料のうちの一部が回り込んで窓部８ａ内に進入して、回り込んだ蒸発磁性材料によりベ−スフィルム７上に磁性膜を所定の膜厚より薄い膜厚で膜付けできるようになっている。
【００４５】
次に、上記のように構成した第２実施形態の磁気記録媒体の製造装置を用いてベ−スフィルム７上に磁性膜を膜付けする第２実施形態の磁気記録媒体の製造方法について説明する。
【００４６】
まず、図５に示した如く、膜付け開始時に冷却キャンロール６に沿って取り付けた最大入射角規制マスク８と最小入射角規制マスク９との間に形成された開口部をシャッター１０で閉じて、ベ−スフィルム７を冷却キャンロール６に沿って矢印方向に連続走行させさせながら、冷却キャンロール６の上流側に設置した最大入射角規制マスク８の窓部８ａから回り込んだ蒸発磁性材料を進入させて、膜付け開始直後の僅かな期間にこの回り込んだ蒸発磁性材料によりベ−スフィルム７上に磁性膜が所定の膜厚より薄い膜厚でまず膜付けされる。
【００４７】
ここで、第２実施形態の実施例１，２に対して先に説明した第１実施形態の実施例１，２にそれぞれ対応させて説明すると、第１実施形態と同様に、膜付け開始直後の僅かな期間中は、第２実施形態の実施例１ではベ−スフィルム７上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール（接地手段）５に到達する期間であり、一方、第２実施形態の実施例２ではベ−スフィルム７上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール（接地手段）５の手前に到達する期間である。
【００４８】
そして、実施例１では、膜付け開始直後の僅かな期間中に、ベ−スフィルム７上に１００Å〜８００Åの膜厚で薄い磁性膜が膜付けされ、このベ−スフィルム７上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール（接地手段）５に到達した後、巻取り側の金属ガイドロール５によって薄い磁性膜の表面に帯電した電子が電気的にグランドに落とされ、この後は常にベ−スフィルム７が巻取りロール３に巻き取られる途中で磁性膜の表面がグランドに落とされている。
【００４９】
一方、実施例２では、膜付け開始直後の僅かな期間中に、ベ−スフィルム７上に１００Å〜４００Åの膜厚で薄い磁性膜が膜付けされ、この膜付け開始直後の僅かな期間中ではこのベ−スフィルム７上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール（接地手段）５に到達していない。
【００５０】
次に、上記した実施例１，２において、膜付け開始直後の僅かな期間を経過した後、ここで図６に示したように、シャッター１０を全開させて、最大入射角規制マスク８と最小入射角規制マスク９との間に形成された開口部を全て露出させると共に、最大入射角規制マスク８の窓部８ａが開いているため、窓部８ａより下流に形成した開口部を通過した蒸発磁性材料によりベ−スフィルム７上の薄い磁性膜の上に更に磁性膜が所定の膜厚で通常通りに膜付けされる。この後、ベ−スフィルム７上に所定の膜厚で膜付けされた磁性膜の表面を巻取り側の金属ガイドロール５でグランドに落としている。
【００５１】
上記実施例１の膜付け状態を図７に示すと、膜付け開始直後の僅かな期間にベ−スフィルム７上に所定の膜厚よりも薄い磁性膜が膜付けされ、この状態でベ−スフィルム７上の薄い磁性膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドロール５を通過する際に、薄い磁性膜の表面を電気的にグランドに落とすことにより前記開口部での帯電量を減少させることができ、成膜時にシャッター１０を全開する際のフィルム走行方向でのベ−スフィルム７の冷却キャンロール６への密着力及びベ−スフィルム７の温度の急激な変化に対してシワが発生しにくくなる。
【００５２】
一方、実施例２では、膜付け開始直後の僅かな期間中にベ−スフィルム７上に膜付けした薄い磁性膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドロール５に到達しないものの、金属磁性膜が膜付けされているため、ヤング率が高くなっており、シャッター１０を全開した時にベ−スフィルム７の急激な温度上昇を押さえることができると共に、温度の不均一が緩和されるためにベ−スフィルム７のシワの発生を防止できる。
【００５３】
言い換えると、実施例１，２では、膜付け開始直後の僅かな期間に冷却キャンロール６の上流側でベースフィルム７上に磁性膜を所定の膜厚より薄い膜厚で膜付けし、且つ、膜付け開始直後の僅かな期間を経過した後に、冷却キャンロール６の上流側より下方の下流側でベースフィルム７上に薄い膜厚で膜付けした磁性膜の上に更に磁性膜を所定の膜厚で膜付けしている。
【００５４】
尚、第２実施形態の実施例１，２の結果は、先に説明した図４を用いて説明した第１実施形態の実施例１，２と対応して同様の結果となるので、図示を省略する。
【００５５】
この際、実施例１では初期の磁性膜の膜厚が１００Å〜８００Åに、実施例２では初期の磁性膜の膜厚が１００Å〜４００Åになるように最大入射角規制マスク８の窓部８ａを形成すれば良いものである。
【００５６】
【発明の効果】
本発明によれば、以上詳述した本発明に係る磁気記録媒体の製造方法において、請求項１によると、磁性膜を厚さ１００Å〜８００Åの第１の磁性膜の製造開始時の第１の磁性膜の先端部位が接地された金属ガイドロールに到達する時間経過後に、第２の磁性膜を形成して得るので、磁性膜の帯電量を減少させることができるため、ベースフィルムの冷却キャンロールへの密着力及びベースフィルムの温度の急激な変化に対してシワが発生しにくくなり、磁気記録媒体の歩留まりを向上することができる。
【００５７】
更に、請求項２によると、磁性膜を、厚さ１００Å〜８００Åの第１の磁性膜を形成しながら、第１の磁性膜の製造開始時の第１の磁性膜の先端部位が前記金属ガイドロールに到達するまでの時間経過後に、第１の磁性膜上に第２の磁性膜を形成して得るので、請求項１と同様の効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る第１実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第１実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクと最小入射角規制マスクとの間の開口部をシャッターで一部覆った状態を示した図である。
【図２】本発明に係る第１実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第１実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクと最小入射角規制マスクとの間の開口部を完全に開いた状態を示した図である。
【図３】本発明に係る第１実施形態の磁気記録媒体の製造装置を適用して、第１実施形態の実施例１によりベースフィルム上に磁性膜を膜付けする状態を説明するための図である。
【図４】実施例１，実施例２，比較例１の結果を示した図である。
【図５】本発明に係る第２実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第２実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクの一部に窓部を形成し、且つ、シャッターを閉じた状態を示した図である。
【図６】本発明に係る第２実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第２実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクの一部に窓部を形成し、且つ、シャッターを開いた状態を示した図である。
【図７】本発明に係る第２実施形態の磁気記録媒体の製造装置を適用して、第２実施形態の実施例１によりベースフィルム上に磁性膜を膜付けする状態を説明するための図である。
【図８】斜方蒸着法を適用した一般的な磁気記録媒体の製造装置を示した図である。
【図９】一般的な磁気記録媒体の製造装置において、シャッターの変形例を説明するための図である。
【符号の説明】
１…真空槽、２…供給ロール、３…巻取りロール、
４…供給側のガイドローラ、５…巻取り側のガイドローラ（接地手段）、
６…冷却キャンロール、７…ベ−スフィルム（ＰＥＴフィルム）、
８…最大入射角規制マスク、８ａ…窓部、９…最小入射角規制マスク、
１０…シャッター、１１…磁性材料、１２…ルツボ、
１３…ピアス型電子銃。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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