(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板（２）を掴んで保持する装置（１）であって、
真空チャンバ（４，４’，４”）内に配置された一以上の複数の基板ホルダー（５）と、各基板ホルダー（５）に変位可能に配置された一以上の掴み体（３）とを有し、
前記掴み体（３）は、ダイアフラム（７）と連動するように構成されており、
前記掴み体（３）は、前記ダイアフラム（７）に作用する圧力またはスプリング（６）の作用により第１の位置に変位するとともに、前記ダイアフラム（７）に作用する空気圧力Ｐａおよび／または前記ダイアフラム（７）と協働する操作要素（８）により第２の位置に変位し、
前記基板（２）は、前記掴み体（３）の前記第１の位置においては保持されるとともに前記掴み体（３）の前記第２の位置においては移送のために解放され、
前記真空チャンバ（４，４’，４”）は第１の部分（４’）と第２の部分（４）とを有しており、
前記基板ホルダー（５）が基板受け渡し位置にある場合に、前記第１の部分（４’）は、前記第２の部分（４）から前記ダイアフラム（７）を介して分離されて、その内圧が前記第２の部分（４）の内圧と別個に調節可能なロックチャンバ（３０）として機能できるようになっており、これにより、前記ダイヤフラム（７）と連動する掴み体（３）が、前記第１の部分（４’）と前記第２の部分（４）との圧力差に依存して前記第１の位置または前記第２の位置に変位するようにしたことを特徴とする装置。
【請求項２】
前記ダイアフラム（７）は、前記第２の部分（４）側の面（１０）がほぼ一定の真空圧力Ｐｖにさらされ、かつ基板（２）を受けるために前記ロックチャンバ（３０）が空気で満たされる時に発生する圧力差Ｐｄ＝Ｐａ−Ｐｖによって制御可能とされることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記ダイアフラム（７）は、前記ロックチャンバ（３０）内の大気圧Ｐａ若しくは真空圧力から前記真空チャンバーの前記第２の部分（４）内の真空圧力Ｐｖを減じた圧力差Ｐｄに基づいて制御されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記ダイアフラム（７）が、柔軟な部分（１１）と柔軟でない部分（１１’）とから形成されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記ダイアフラム（７）の前記柔軟でない部分（１１’）が、前記柔軟な部分（１１）に固定的に接続されることを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記柔軟でない部分（１１’）が、前記柔軟な部分（１１）に設けられた開口（１２）を覆う円形のプレートからなることを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項７】
前記ダイアフラム（７）の柔軟な部分（１１）は、その外周縁部（１３）が前記基板ホルダー（５）に取り付けられたフランジ（１４’）に、その内周縁部（１５）が前記円形のプレート（１１’）に設けられた前記開口（１２）に対応する縁部分（５１）に、それぞれ固定的に接続されることを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記柔軟な部分（１１）および前記円形のプレート（１１’）が、一定の真空圧力Ｐｖにさらされる前記真空チャンバの前記第２の部分（４）を、大気圧Ｐａにさらされ得る前記ロックチャンバ（３０）から密封隔離することを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項９】
前記柔軟な部分（１１）の前記外周縁部（１３）が、前記フランジ（１４’）と前記基板ホルダー（５）の外側部分との間に設けられた少くとも１つの溝（１７、１７’）内に挟持されて固定されることを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項１０】
前記円形のプレート（１１’）が、前記フランジ（１４’）に対して同軸的に接続されたピン（２０）によって案内される円筒部分（１８）に、前記円形のプレート（１１’）と同軸なピン（１９）によって接続されるか若しくは螺着されることを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項１１】
前記円筒部分（１８）が前記操作要素（８）に固定的に接続されていることを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記操作要素（８）が、その一方の端部領域において、前記一つ以上の掴み体（３）に接していることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれかに記載の装置。
【請求項１３】
前記円筒部分（１８）は、その一方の端部が固定フランジ（２２）側に配置されるとともに、その他方の端部が前記掴み体（３）若しくは前記掴み体（３）のレバーアーム（５７）側に配置されることを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【請求項１４】
圧力差Ｐｄが生じて前記ダイアフラム（７）が前記真空チャンバの前記第２の部分（４）側にさらに変位すると、前記掴み体（３）が基板（２）の開口の縁部から離間させられて基板（２）を解放することを特徴とする請求項２または３に記載の装置。
【請求項１５】
前記固定フランジ（２２）が、間接的にあるいは直接的に前記ダイヤフラム（７）を固定するためのフランジ（１４’）と固定的に接続されることを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【請求項１６】
前記固定フランジ（２２）が、前記スプリング（６）を収納する円筒状の延長部分（２５）を有することを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【請求項１７】
前記掴み体（３）を揺動可能に支持する支持部分（２４）が、前記ダイヤフラム（７）を固定するための前記フランジ（１４’）と前記固定フランジ（２２）との間に設けられていることを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【請求項１８】
前記固定フランジ（２２）と前記支持部分（２４）とが、同一の連結要素（２５）によって前記フランジ（１４’）に対して着脱自在に接続されることを特徴とする請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記ダイアフラム（７）の上方に位置する前記ロックチャンバ（３０）は、真空ポンプ（４８）によってその内部の空気が排出されるとともにさらに他の装置（３２）によって空気が満たされるように構成されており、前記ダイアフラム（７）の下方に位置する前記真空チャンバの前記第２の部分（４）は、第２の真空ポンプ（２７）によってその内部の空気が排出され、前記２つの真空ポンプ（４８、２７）およびそれに付随するバルブは、前記圧力差Ｐｄをほぼゼロとすることができるように制御可能であることを特徴とする請求項２または３に記載の装置。
【請求項２０】
前記ロックチャンバ（３０）は、前記他の装置としての制御弁（３２）によって空気が満たされると、前記掴み体（３）を強制的にかつ迅速に変位させることを特徴とする請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
前記掴み体（３）が、作動圧力が大気圧Ｐａと一致したときに動く引張り要素（１８）によって変位させられることを特徴とする請求項１乃至２０のいずれかに記載の装置。
【請求項２２】
前記掴み体（３）が、前記ロックチャンバ（３０）側に配置されることを特徴とする請求項１乃至２１のいずれかに記載の装置。
【請求項２３】
前記ダイアフラム（７）の前記ロックチャンバ（３０）側の面（９）が大気圧にさらされるとともに前記真空チャンバの前記第２の部分（４）側の面（１０）が真空圧力にさらされるときに前記ダイヤフラム（７）がその第１の位置に変位して前記掴み体（３）が当該掴み体（３）の前記第２の位置に変位し、前記ダイアフラム（７）の両側の面（９，１０）が真空圧力にさらされるときに前記ダイヤフラム（７）がその第２の位置に変位して前記掴み体（３）が当該掴み体（３）の前記第１の位置に変位するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項２４】
前記柔軟でない部分（１１’）が金属からなることを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項２５】
前記柔軟でない部分（１１’）がプレートからなることを特徴とする請求項４に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は基板を掴んで保持する装置に関する。この装置は、真空チャンバー内に配置された一つ若しくは複数の基板ホルダーと、一つ若しくは複数の変位可能に配置された掴み体とを有する。前記掴み体は、作動圧力の動作によって若しくはスプリングの動作に対抗して第１の位置に変位されるとともに、空気圧力Ｐａにさらされるダイアフラムの動作および／またはそれと協動する操作要素によって第２の位置に変位される。前記基板は、第１の位置においては保持されるが、第２の位置においてはさらなる移送のために解放される。
【０００２】
【従来の技術】
ディスク状の基板を掴んで保持する装置はすでに知られている（ドイツ実用新案DE-GM93 07 263.5）。この装置は、開口を有する耐圧ハウジング内に配置された、円周方向に並ぶ多数の掴み体と弾性を有するダイアフラムとを備えている。ダイアフラムの両側面間に圧力差が作用すると、ダイアフラムは中立位置から変位するが、両側面に作用する圧力が釣り合うとダイアフラムはスプリングを圧縮させつつ中立位置に復帰する。
【０００３】
ダイアフラムに作用する圧力差は、ダイアフラムの一方の側に配置された、中央ボアを有するベル形ハウジング内に発生する。圧力チャンバは、ベル形ハウジングのボアの端部とダイアフラムの表面との間に形成される。ベル形ハウジング内に設けられたボアは空気配管を有する。そして、圧力チャンバ内に供給する負圧によってダイアフラムに圧力差を作用させることを唯一の作業とする外部ポンプに、前記空気配管は接続される。ダイアフラムに圧力差を負荷してダイアフラムに接合されている部分を作動させることにより、基板を保持した状態から基板を解放する状態に掴み体アームを調整することができる。このような装置は、圧力差を生じさせるために別個のポンプを必要とするばかりでなく、所要の圧力がダイアフラムの後面側に生じるようにダイアフラムを真空チャンバ内の圧力から密封しなければならず、複雑かつ高価である。さらに、そのような構成は誤動作を招きやすい。負圧を真空チャンバ内に生じさせるために必要なポンプが他のポンプとは別に作動するからである。これにより、ダイアフラムを調整するとともに基板を移送するための動作プロセスへの完全な適合は不可能である。総体的に、そのような装置は比較的ゆっくりと動作する。必要なシステム圧力が独立したポンプによってダイアフラムの下流に形成されるまで、基板を解放することができないからである。圧縮空気の供給系統は、保持機構に対して相対的にフレキシブルに配置されなければならない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、基板を掴む掴み体を変位させるために、大気圧と真空圧力との間に生じる差圧を使用することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
真空チャンバとロックチャンバとの間に設けられたダイアフラムによってこれらの問題が解決される。本発明によるダイアフラムの有利な設計と配置によって、ダイアフラムを変位させるための追加のポンプを省略することが可能となる。すなわち、本発明の装置によれば、真空チャンバ内の圧力と空気が満たされたチャンバ内の圧力との間の圧力差を、ダイアフラム、すなわち掴み体を変位させるために使用することができる。これにより、基板より上方に位置するチャンバ内に空気を満たし始めると、ダイアフラムはそれに応じて変位経路に沿って移動し、掴み体を自動的に解放することが保証される。すなわち、チャンバを空気で満たすことによって掴み体を解放することができる。これにより、本発明の装置は干渉とは無関係に、かつ非常に精密に、従来の装置に対してかなり速く作動する。大気圧と真空チャンバ内の圧力との圧力差を、ダイアフラムを変位させるために用いるので、上述したように追加のポンプ、制御弁、ダイアフラムを真空チャンバーに対して密封する要素を省略することができる。したがって、全体として、基板を保持し解放する装置のコスト効率を高めることができる。ポンプを追加することなしに済ませることができるため、本発明の装置は、極めて信頼性が高くなるばかりでなく、その使用可能年限を従来の装置に対して大幅に延長することができる。本発明の装置においては、ダイアフラムに作用する圧力差を有利に使用するので、個々の掴み体を制御する外部の装置を省略することができる。チャンバを空気で満たすことによってのみ掴み体を強制的に変位させることができるので、装置が壊れる可能性をより一層減少させることができる。本発明の装置は、圧力差にのみ依存し、外側にあるシステムには依存しないので、掴み体の解放をミリ秒以内の時間で行うことができる。
【０００６】
さらに有利には、その一方の側面がほぼ一定の真空圧力Ｐｖにさらされるダイアフラムを、基板を受ける際にチャンバが空気で満たされると発生する圧力差Ｐｄ＝Ｐａ−Ｐｖによって制御することができる。
【０００７】
さらに本発明の他の実施例においては、大気圧および／または真空圧力あるいはロックチャンバ内の大気圧Ｐａから真空室内の真空圧力Ｐｖを減じた圧力差Ｐｄによって、ダイアフラムを制御することができる。真空チャンバ内に突出するダイアフラムの有利な配置によって、ダイアフラムを変位させるためにチャンバ内に生じる真空圧力を使用することが、初めてかつ単純な方法で可能となる。
【０００８】
本発明の他の実施例においては、真空チャンバ内に突出するダイアフラムを、柔軟な部分と、柔軟でない部分若しくは金属要素あるいはプレートとから構成することが有利である。柔軟な部分と柔軟でない部分とから構成されるダイアフラムを使用することによって、掴み体を変位させ若しくは揺動させる操作要素を正確に案内することができる。
【０００９】
本発明の目的を達成する好ましい実施例においては、柔軟でない部分はダイアフラムの柔軟な部分に対して固定的に接続されるとともに、柔軟でない部分はダイアフラムの開口を覆う円板とされる。
【００１０】
さらに有利には、ダイアフラムの柔軟な要素は、その外側の縁部において装置のフランジに、またその内側の縁部においてプレートに設けられた開口の縁部に、それぞれ固定的に接続される。そして、ダイアフラムおよびプレートは、連続的な真空圧力Ｐｖにさらされるチャンバを、大気圧Ｐａにさらされるチャンバあるいはロックチャンバに対して密封する。
【００１１】
さらに有利には、ダイアフラムの外側の縁部は、基板ホルダーの外側部分とフランジとの間に設けられた少くともひとつの溝内に挟持されて固定される。そして、プレートは、同じく同軸に配置されたフランジに接続されているピンによって案内される円筒部分に、同軸のピンを介して接続され若しくは螺着される。ダイアフラムの外側の縁部を収納するために溝を用いることにより、ダイアフラムの非常に簡単な固定を成し遂げることができるばかりでなく、空気が満たされたチャンバと真空チャンバーとを確実に密封することができる。プレートが、円筒部分に同軸のピンを介して接続され若しくは螺着されるので、ダイアフラムが損傷した場合には、ダイアフラムを容易に取り外すことができる。ダイアフラムを取り外すには、単にねじを緩めてダイアフラムを挟持している部分を解放するだけで良い。その後、ダイアフラムを容易に交換することができる。
【００１２】
さらに有利には、円筒部分は操作要素に対して固定的に接続される。そして、操作要素は、その一方の端部領域において一つまたは複数の掴み体に接する。
【００１３】
円筒部分は、その一方の端部若しくはそのフランジ部分が固定フランジ側に配置されるとともに、その他方の端部若しくは操作要素が掴み体若しくは掴み体のレバーアーム側に配置される。そして、圧力差Ｐｄが生じると、ダイアフラムはさらに真空チャンバー内に変位して掴み体を変位させ、掴み体を基板の開口の縁部から離間させて基板を解放する。
【００１４】
さらに有利には、固定フランジは、間接的にあるいは直接的に装置のフランジに対して固定的に接続されるとともに、スプリングを収納する円筒状の延長部分を有する。固定フランジ上で円筒形の延長部分を用いることにより、スプリングの満足できる案内が保証されるとともに、２つのチャンバ間における圧力の釣り合いが生じると掴み体が即座に変位することが保証される。
【００１５】
さらに有利には、掴み体を揺動可能に支持する支持部分を装置のフランジと固定フランジとの間に設けるとともに、固定フランジと支持要素とを同一の連結要素により装置のフランジに着脱可能に接続する。掴み体を支持する支持部分を２つのフランジ間に配置することにより、ホルダを非常に良好かつ単純に固定することができる。
【００１６】
本質的に有利な実施例においては、ダイアフラムより上方に位置するチャンバ若しくはロックチャンバは、第１の真空ポンプによってその内部の空気が排出されるとともに、さらに他の装置によって空気が満たされる。また、ダイアフラムより下方に位置するチャンバは、第２の真空ポンプによってその内部の空気が排出される。そして、２つの真空ポンプおよびそれに付随するバルブは、圧力差Ｐａをほとんどゼロに減少させることができるように制御される。そして、装置若しくは制御弁によって空気が満たされる上方のチャンバは、掴み体の即座のかつ強制的な変位を開始させる。そして、ダイアフラムは、第１の位置においては一方の側面に大気圧Ｐａが作用するとともに他方の側面には真空圧力Ｐｖが作用し、かつ第２の位置においては両側面に真空圧力Ｐｖが作用するように、真空チャンバーに一体に組み込まれる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
図２はスパッタリング・システム４０の上部を示す斜視図で、１８０度回動可能に支持された掴み体アーム４４は、参照数字２が付された基板若しくはコンパクトディスク（ＣＤ）を掴んで装置１（ディスク受取体）に供給する。この装置１によって、前記基板は図２に開いた状態で示されているカソード４１を有する処理ステーション４３に到達する。図１には、スパッタリング装置４０の機能図が前記装置の本質的な部材とともに示されている。
【００１８】
基板２は、図１に示されていない掴み体を有する掴み体アーム４４およびそれに結合されたプレート３３によって基板を掴む装置に引き渡される。図１において、前記プレート３３は他のプレートすなわち基板受取部１４上に位置している。図１に示した状態においては、２つのプレート３３および１４は互いに同軸的な位置関係となっており、基板２はプレート３３によって基板受取部１４に引き渡されるようになっている。
【００１９】
図１に示した位置において、プレート１４は上方に移動した状態にあり、環状空間すなわちロックチャンバ（Einschleuskammer）３０を密封している。前記ロックチャンバ３０は、上側のプレート３３と下側のプレートすなわち基板受取部１４との間に位置している。前記プレート３３に設けられ図１には示されていない掴み体要素は、基板受取部１４の上方においてコンパクトディスクを保持する。
【００２０】
前記ロックチャンバ３０は、フィルター２８、管路４５、バルブ３２、管路４６を介して供給される空気によって満たされる。バルブ３２を開くことによって、ロックチャンバ３０内に空気が満たされる。ロックチャンバ３０が空気によって満たされると、上側のプレート３３が持ち上げられ、これにより基板２を交換することができる。コーティングが完了したコンパクトディスクは、掴み体アーム４４によって、図示されない次の搬送装置に供給される。同時に、処理される新しいコンパクトディスク２がロックチャンバ３０の中に挿入される。キャップ３３を下げると、図示されないＯリングがロックチャンバ３０のハウジング３７の表面に押し付けられ、これによりロックチャンバ３０は真空密封される。ロックチャンバ３０内に行き渡っている大気圧は、管路４６を介してロックチャンバ３０とそれぞれ連通するバルブ３２の閉鎖およびバルブ２６の開放によって外部に排出される。真空ポンプ４８は、ロックチャンバ３０内の空気を排出して必要な負圧を生じさせる。
【００２１】
このように装置が作動している間に、図３に詳しく示されかつ以下に詳述されるように、掴み体３が開く。そして掴み体３は、基板２すなわちコンパクトディスクを把持する。この作用は、ロックチャンバ３０の中の圧力が真空チャンバ４（図３参照）内の圧力にほぼ等しくなると、すなわち圧力が釣り合うと直ちに生じるようになっている。ロックチャンバ３０内の空気が十分に排出され、測定セル３４によって確かめられる必要な測定圧が確立されると、装置１は下方へ下げられ、ターンテーブル４９（図１参照）上に置かれた基板２はターンテーブル４９によって処理ステーション４３に供給される。その目的のために、ターンテーブル４９は毎回１２０゜ずつ回転する。次いで、基板受取部１４は持ち上げられ、図示されないＯリングはカソード４１のキャップの下側に押し付けられる。
【００２２】
この動作ステップの後、ロックチャンバ３０内にはバルブ３２を介して再び空気が満たされる。このプロセスによって、ロックチャンバ３０内の大気圧Ｐａと真空チャンバ４（図３参照）内の負圧Ｐｖとの間に、圧力差Ｐｄが生じる。（Ｐｄ＝Ｐａ−Ｐｖ）
この圧力差によって掴み体３は再び回動させられ、基板２は解放される。この動作によって、基板受取部およびプレート３３の掴み体は同時に起動させられ、基板はプレート３３によって取られる。このプロセスは、引き続いて繰り返される。真空チャンバ４内の空気は、管路３８、３９および予備ポンプ２９を介して排出される。
【００２３】
図３には、基板２を掴んで保持する装置１が詳細に示されている。
【００２４】
装置１は、ねじボルト５０によって基板ホルダー５に着脱自在に取り付けられたフランジ１４’を有している。フランジ１４’と基板ホルダー５との間に設けられた半円形状のみぞ１７には、ダイアフラム７のビード状の端部１３が締め付けられている。ダイアフラム７は、真空チャンバ４内に位置するとともに、一つの柔軟部分１１と、それに接続された一つの柔軟でない部分（プレート）１１’とを有している。柔軟でない部分１１’は円盤状に形成されるとともに柔軟な部分１１に連結され、ダイアフラム７の開口１２を閉塞している。この目的のために、プレート１１’は円筒状の肩部（取付部）５１を有するとともに、周縁部分５２には、ダイアフラム７の柔軟な部分１１が固着され若しくは加硫接着されている。ダイアフラム７は真空チャンバ４’（図３参照）若しくは４’’（図１参照）の上部を、常に負圧Ｐｖにさらされている真空チャンバ４から密封する。ダイアフラム７の柔軟な部分１１は、その外側端部１３がフランジ１４’に連結されているとともに、その内側端部１５が円筒状肩部５１に接続されている。外側端部１３は、フランジ１４’および基板ホルダー５のみぞ１７、１７’内に締め付けられている。
【００２５】
真空チャンバ４、４’は、前述したように、バルブ３２が開けられてロックチャンバ３０が空気で満たされているときにはいつでも大気圧Ｐａにさらされる。ダイアフラム７のプレート１１’は、装置１の中心軸線５３と同軸な突起１９を有する。前記突起１９は、強固に若しくは一体的にプレート１１’に接合されている。また、突起１９は雄ねじ部５４を有し、円筒部分１８に対して着脱可能に螺着されている。
【００２６】
そのために、前記円筒部分１８は、フランジ１４’に対して同軸となっており、その上部領域に円筒状のボア５５を有している。このボア５５内には突出部２０が延びている。前記突出部２０は、円筒状の肩部（取付部）５６に接合されており、この肩部５６は連結要素２５によりフランジ１４’に接合されているいる。コンパクトディスクすなわち基板２は、（その中心の開口部が）前記円筒状肩部５６に滑り込み、少なくとも３つの掴み体３によって保持される。前記円筒部分１８は、圧力差Ｐｄが生じると軸線５３に沿って上下方向に変位可能となっている。
【００２７】
操作要素すなわちベル形のフランジ８が前記円筒部分１８の上端部に設けられている。操作要素８は、円筒部分１８の上端部２１に堅固に連結されている。
【００２８】
図３に示すように、フランジ８は、その外側端部が各掴み体３のレバーアーム５７上に寄り掛かっている。前記掴み体３は水平に延びるボルト３１によって支持され、図３において実線で示された「保持状態」と、破線で示された「解放状態」との間で揺動可能となっている。
【００２９】
円筒部分１８の下端部はプレート１１’と共に固定フランジ２２の下側に変位するが、その上端部の操作要素８は、掴み体３のレバーアーム５７に寄り掛かったままとなる。この作動状態においては、掴み体３は図３に示された保持状態とされ、基板２は掴み体３によって保持されている。フランジ２２は、支持部２４およびフランジ１４’に対して、連結要素（ねじ）２５により堅固に接合されている。フランジ２２上に位置する円筒状の延長部分２３内には、ばね、すなわちカップスプリング６が収容されている。前記ばね６は、その下端部がフランジ２２に、またその上端部が掴み体３のレバーアーム５７にそれぞれ支持され、圧力ＰａとＰｖとが釣り合っている場合には図３中に示した保持状態を取る。その目的のために、円筒状のばね６は円筒部分１８をとり囲んでいる。フランジ２２に接合された支持部２４は、掴み体３を揺動自在に支持する役目を果たしている。フランジ２２のボア４７には、円筒部分１８が挿入されている。
【００３０】
固定フランジ２２および支持部２４は、同じ連結要素２５によって装置１のフランジ１４’に着脱自在に連結されている。ダイアフラム７上に設けられた真空チャンバ４’、４’’若しくはロックチャンバ３０内の空気は、図１を用いて説明したように、バルブ３２により満たされるとともにポンプ４８によって排出される。ダイアフラム７の下に設けられた真空チャンバ４は、作動が開始されたときには空気で満たされないようになっており、真空ポンプ２７すなわちプリポンプによって排気されるか所定の圧力に維持されるようになっている。
【００３１】
動作プロセスおよび基板２の搬送のために、ロックチャンバ３０若しくは真空チャンバ４が図１に示したバルブ３２を介して空気で満たされると、圧力上昇Ｐａが直ちにダイアフラム７上に生じる。すると圧力差（Ｐｄ＝Ｐａ−Ｐｖ）により、ダイアフラム７は真空チャンバ４側に、言い換えれば図３において下方に移動する。これにより、掴み体３は操作要素８によって、実線で示された状態から破線で示された状態（基板を解放した状態）に、矢印６０により示されるように時計回りに回動させられる。このプロセスの中で、掴み体３の上部６１が基板２の開口６３の内縁６２を外れるように変位するので、基板すなわちコンパクトディスクは移送のために解放される。
【００３２】
それゆえに、本発明のシステムによれば、ロックチャンバ３０が空気で満たされるときには常に、図３に示したような解放位置へ掴み体３は強制的に移動される。
【００３３】
基板を移送した後にロックチャンバ３０若しくは真空チャンバ４’内の空気がポンプ４８によって排出されると、ロックチャンバ３０と真空チャンバ４との間に圧力の釣り合いが生じる。この結果、ダイアフラム７の一方の側面９と他方の側面１０とに等しい圧力が作用するので、ばね６はレバーアーム５７すなわち操作要素８を上方へ動かす。この結果、掴み体システムは、全く誤動作することなく、最短可能時間、すなわちミリ秒以内に応答することができる。
【００３４】
掴み体３の非常にすばやい応答とロックチャンバ３０を空気で満たすことによる掴み体３の強制的な移動により、安定性若しくは作動過程は、故障から解放されるばかりでなく、そのサイクルタイムがさらに短縮される。さらに、この構成によって、基板を掴むための装置１を実質的により簡単に具体化することができる。したがって、総体的に少ない部材で間に合わせることができるので、より経済的に生産することができる。掴み体３を調整するためにダイアフラムを前もって外部から起動させるという従来の手法は、故障し易いという弱点があり、機能的に信頼できなった。なぜならば、例えばダイアフラム７に作用させる圧力を外部から供給するポンプが故障する等の個々の部品の失陥が発生するからである。ダイアフラムの上面側は、ボア４７を介して真空チャンバ４’と連通している。
【図面の簡単な説明】
【図１】スパッタリングシステムの全装置の機能シーケンスを模式的に示した図。
【図２】コンパクトディスクにコーティングを施す装置の斜視図。
【図３】平らで、好ましくはディスク状の基板を掴んで保持する装置を示した図。
【符号の説明】
１  基板を掴むための装置（基板受け）
２  基板、ＣＤ
３  掴み体
４  真空チャンバ
４’  気圧にさらされる真空チャンバ
４’’  真空チャンバ
５  基板ホルダー
６  スプリング、（カップスプリング）
７  ダイアフラム
８  操作要素、フランジ
９  第１の側面
１０  第２の側面
１１  弾性部分
１１’  非弾性部分若しくは金属部分、プレート
１２  開口
１３  端部
１４  基板受取部（プレート）
１４’  フランジ
１５  端部
１７  みぞ
１７’  みぞ
１８  円筒部分
１９  突起
２０  突出部
２１  端部、調整部分
２２  固定されたフランジ
２３  延長部分
２４  支持部
２５  連結要素
２６  装置、制御弁（満たされたときに開く）
２７  真空ポンプ（ターボ分子ポンプ）
２８  フィルター
２９  プレポンプ
３０  ロックチャンバ＝真空チャンバ
３１  ボルト
３２  バルブ
３３  ＣＤを受けるためのプレート
３３  プレート、キャップ
３４    測定セル
３７  真空チャンバを有したハウジング
３８  管路
３９  管路
４０  スパッタリングシステム
４１  カソード、容器キャップ
４３  処理ステーション
４４  掴み体アーム
４５  管路
４６  管路
４７  ボア
４７’  管路
４８  真空ポンプ
４９  ターンテーブル
５０  ねじボルト
５１  円筒状アタッチメント
５２  周囲部分
５３  軸線
５４  雄ねじ
５５  ボア
５６  円筒状アタッチメント
５７  レバーアーム
６０  矢印
６１  把持体の上部
６２  端部
６３  ボア、開口
【図１】
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【図２】
0004040133.tif 000003
【図３】
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