(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向した第１及び第２基板と、前記第１基板の前記第２基板との対向面上に並置され且つ互いに吸収波長域が異なる第１乃至第３色領域を備えたカラーフィルタ層と、前記第１及び第２基板間に介在して前記第１及び第２基板間の距離を一定に保つ複数のスペーサと、前記第１基板の前記第２基板との対向面の周縁に設けられた周縁遮光層と、前記第１及び第２基板間に介在した液晶層とを具備し、
前記第３色領域は前記第１及び第２色領域よりも後に形成され、
前記複数のスペーサのそれぞれは、前記第１及び第２色領域の少なくとも一方を最下層として、前記最下層上に前記第３色領域と材料が同一な中間層と前記周縁遮光層と材料が同一な最上層とを順次積層した構造を有し、
前記中間層はいずれも前記第３色領域から離間していることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
互いに対向した第１及び第２基板と、前記第１基板の前記第２基板との対向面上に並置され且つ互いに吸収波長域が異なる第１乃至第３色領域を備えたカラーフィルタ層と、前記第１及び第２基板間に介在して前記第１及び第２基板間の距離を一定に保つ複数のスペーサと、前記第１基板の前記第２基板との対向面の周縁に設けられた周縁遮光層と、前記第１及び第２基板間に介在した液晶層とを具備し、
前記複数のスペーサのそれぞれは、前記第１及び第２色領域の少なくとも一方を最下層として、前記最下層上に前記第３色領域と材料が同一な中間層と前記周縁遮光層と材料が同一な最上層とを順次積層した構造を有し、
前記中間層と前記第３色領域との間の最短距離は、前記中間層と前記第１色領域との間の最短距離及び前記中間層と前記第２色領域との間の最短距離のいずれよりも長いことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
前記中間層と前記第３色領域との間の最短距離は１０μｍ以上であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記中間層は前記第１色領域と前記第２色領域との境界上にまたはそれに隣接して設けられたことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記第１基板の前記第２基板との対向面に、走査線、信号線、スイッチング素子、及び画素電極をさらに具備したことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置に係り、特にはカラーフィルタ層と周縁遮光層とを備えた液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在、一般的に用いられている液晶表示装置は、画素電極が設けられたガラス基板と共通電極が設けられたガラス基板とをそれらの電極が設けられた面が対向するように配置し、これらガラス基板間に液晶層を挟持させた構造を有している。このような液晶表示装置では、通常、カラー表示を可能とするために、それらガラス基板のいずれかの対向面にカラーフィルタ層が設けられている。このカラーフィルタ層は、ガラス基板上に、互いに吸収波長域の異なる複数の着色層を並置した構造を有するものである。
【０００３】
このような液晶表示装置に関しては、カラーフィルタ層を構成する複数の着色層を部分的に重ね合わせ、それらの重ね合わされた部分をスペーサとして利用することが提案されている。この方法によれば、簡略化された製造プロセスで所望の位置にスペーサを設けることができる。したがって、例えば、隣り合う画素電極間の領域のように表示には直接的に寄与していない非画素領域に規則的にスペーサを配列させることができる。
【０００４】
しかしながら、この方法には以下に説明する問題が残されている。すなわち、カラーフィルタ層には高い膜厚均一性を有していることが要求されるため、着色層の材料は良好なレベリング性を実現し得るものでなければならない。換言すれば、着色層は低粘度の材料を用いて形成されている。そのため、複数の着色層を部分的に重ね合わせて積層構造を形成した場合、タレに起因してスペーサの高さにばらつきを生じ、その結果、基板間隔（セルギャップ）の均一性が損なわれることがあった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、カラーフィルタ層を構成する着色層を部分的に重ね合わせて、それらの重ね合わされた部分をスペーサとして利用しながらも、基板間隔の均一性に優れた液晶表示装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は、互いに対向した第１及び第２基板と、前記第１基板の前記第２基板との対向面上に並置され且つ互いに吸収波長域が異なる第１乃至第３色領域を備えたカラーフィルタ層と、前記第１及び第２基板間に介在して前記第１及び第２基板間の距離を一定に保つ複数のスペーサと、前記第１基板の前記第２基板との対向面の周縁に設けられた周縁遮光層と、前記第１及び第２基板間に介在した液晶層とを具備し、前記第３色領域は前記第１及び第２色領域よりも後に形成され、前記複数のスペーサのそれぞれは、前記第１及び第２色領域の少なくとも一方を最下層として、前記最下層上に前記第３色領域と材料が同一な中間層と前記周縁遮光層と材料が同一な最上層とを順次積層した構造を有し、前記中間層はいずれも前記第３色領域から離間していることを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【０００７】
また、本発明は、互いに対向した第１及び第２基板と、前記第１基板の前記第２基板との対向面上に並置され且つ互いに吸収波長域が異なる第１乃至第３色領域を備えたカラーフィルタ層と、前記第１及び第２基板間に介在して前記第１及び第２基板間の距離を一定に保つ複数のスペーサと、前記第１基板の前記第２基板との対向面の周縁に設けられた周縁遮光層と、前記第１及び第２基板間に介在した液晶層とを具備し、前記複数のスペーサのそれぞれは、前記第１及び第２色領域の少なくとも一方を最下層として、前記最下層上に前記第３色領域と材料が同一な中間層と前記周縁遮光層と材料が同一な最上層とを順次積層した構造を有し、前記中間層と前記第３色領域との間の最短距離は、前記中間層と前記第１色領域との間の最短距離及び前記中間層と前記第２色領域との間の最短距離のいずれよりも長いことを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【０００８】
本発明において、第１乃至第３色領域の形成順は、それらの断面構造を観察することにより観察することができる。例えば、第３色領域と１色領域との間の界面が第１基板と第３色領域との間に第１色領域が部分的に介在するように傾斜しており、第３色領域と２色領域との間の界面が第１基板と第３色領域との間に第２色領域が部分的に介在するように傾斜している場合、第３色領域は、第１及び第２色領域を形成した後に形成されたものと判断することができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の各実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において同様の構成部材には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
【００１０】
図１は、本発明の第１の実施形態に係る液晶表示装置を概略的に示す断面図である。図１に示す液晶表示装置１は、ＴＮ駆動方式のカラー型液晶表示装置であって、アクティブマトリクス基板２と対向基板３とを対向させ、それら基板２，３間に液晶層４を介在させた構造を有している。これら基板２，３間の周縁部には、液晶材料を注入するための注入口（図示せず）を除いて接着剤層２５が設けられており、その注入口は封止剤を用いて封止されている。また、この液晶表示装置１の両面には偏光板５がそれぞれ貼り付けられており、その背面側には図示しない光源が配置されている。
【００１１】
図１に示す液晶表示装置１において、アクティブマトリクス基板２は、ガラス基板のような透明基板６を有している。透明基板６上には配線及びスイッチング素子７が形成されており、その上には、絶縁膜８、画素電極１０、及び配向膜１１が順次積層されている。一方、対向基板３は、ガラス基板のような透明基板１３を有している。透明基板１３上には、カラーフィルタ層１８、周縁遮光層１６、及び柱状スペーサ１７が形成されており、カラーフィルタ層１８上には共通電極２０及び配向膜２１が順次積層されている。
【００１２】
アクティブマトリクス基板２に形成する配線は、透明基板６上で格子状に配列した走査線及び信号線などで構成されている。スイッチング素子７は、例えば、アモルファスシリコンやポリシリコンを半導体層とした薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴという）である。このスイッチング素子７は、走査線及び信号線などの配線並びに画素電極１０と接続されており、それにより、所望の画素電極１０に対して選択的に電圧を印加することが可能とされている。
【００１３】
絶縁膜８は、例えば、感光性樹脂などを用いて形成することができる。絶縁膜８にはコンタクトホールが設けられており、スイッチング素子７と画素電極１０との間の電気的接続は、このコンタクトホールを介して為される。
【００１４】
画素電極１０及び共通電極２０は、ＩＴＯのような透明導電材料で構成されている。電極１０，２０は、例えばスパッタリング法などにより形成することができる。
配向膜１１，２１は、ポリイミドなどの透明樹脂からなる薄膜にラビング処理等の配向処理を施すことにより形成され得る。
【００１５】
周縁遮光層１６は、一般には額縁層などと呼ばれ、画面の周縁部に形成される。周縁遮光層は、例えば、カーボン微粒子のような黒色顔料や黒色染料と感光性樹脂との混合物を用いて形成することができる。
【００１６】
カラーフィルタ層１８は、画素電極１０に対応して設けられた赤色の着色層１５ａと緑色の着色層１５ｂと青色の着色層１５ｃとで構成されている。着色層１５ａ〜１５ｃは、感光性樹脂とそれぞれの色に対応した着色顔料或いは着色染料とを含有する混合物を用いて形成することができる。
【００１７】
着色層１５ａ〜１５ｃ及び遮光層１６は部分的に重ね合わされており、それらの非積層部がカラーフィルタ層１８の赤色領域、緑色領域、及び青色領域（例えば、赤、緑、青のストライプパターン）と周縁遮光層１６を構成し、それらの積層部が柱状スペーサ１７を構成している。
【００１８】
さて、本実施形態では、着色層１５ｃのスペーサ１７の中間層を構成する部分を所定の位置に設けることにより、スペーサ１７の高さのばらつきを抑制している。これについては、図２を参照しながら説明する。
【００１９】
図２（ａ−１）〜（ａ−７），（ｂ−１）〜（ｂ−７），及び（ｃ−１）〜（ｃ−７）は、それぞれ、スペーサの形成方法を概略的に示す断面図である。
【００２０】
図２に示す方法では、スペーサ１７を形成するに当り、まず、図２（ａ−１），（ｂ−１），（ｃ−１）に示すように、基板６上に赤色の着色層１５ａを形成する。この着色層１５ａは、例えば、以下の方法により形成する。すなわち、まず、基板６上に感光性樹脂と赤色の顔料或いは染料とを含有した塗工液を塗布して赤色の連続膜を形成する。このとき、基板６の表面に大きな凹凸はないので、均一な厚さの連続膜が得られる。次に、この連続膜を、カラーフィルタ層１８のストライプ状赤色領域とスペーサ１７の最下層として利用される領域とが残されるようにフォトリソグラフィ技術を用いてパターニングする。これにより、図２（ａ−１），（ｂ−１），（ｃ−１）に示す赤色の着色層１５ａが得られる。
【００２１】
次に、図２（ａ−２），（ｂ−２），（ｃ−２）に示すように、基板６の着色層１５ａを形成した面に、感光性樹脂と緑色の顔料或いは染料とを含有した塗工液を塗布して緑色の連続膜１５ｂを形成する。続いて、この連続膜１５ｂを、カラーフィルタ層１８のストライプ状緑色領域が残されるようにフォトリソグラフィ技術を用いてパターニングする。これにより、図２（ａ−３），（ｂ−３），（ｃ−３）に示す緑色の着色層１５ｂが得られる。
【００２２】
次いで、図２（ａ−４），（ｂ−４），（ｃ−４）に示すように、基板６の着色層１５ａ，１５ｂを形成した面に、感光性樹脂と青色の顔料或いは染料とを含有した塗工液を塗布して青色の連続膜１５ｃを形成する。さらに、この連続膜１５ｃを、カラーフィルタ層１８のストライプ状青色領域とスペーサ１７の中間層として利用される領域とが残されるようにフォトリソグラフィ技術を用いてパターニングする。これにより、図２（ａ−５），（ｂ−５），（ｃ−５）に示す青色の着色層１５ｃが得られる。
【００２３】
その後、図２（ａ−６），（ｂ−６），（ｃ−６）に示すように、基板６の着色層１５ａ〜１５ｃを形成した面に、感光性樹脂と黒色の顔料或いは染料とを含有した塗工液を塗布して黒色の連続膜１６を形成する。さらに、この連続膜１６ｃを、周縁遮光層とスペーサ１７の最上層として利用される領域とが残されるようにフォトリソグラフィ技術を用いてパターニングする。これにより、図２（ａ−７），（ｂ−７），（ｃ−７）に示す遮光層１６ｃが得られる。以上のようにして、三層構造のスペーサ１７を得ることができる。
【００２４】
上述した方法では、連続膜１５ｃを形成する際、基板６の表面には着色層１５ａ，１５ｂによる凹凸が存在している。そのため、図２（ａ−４），（ｂ−４），（ｃ−４）に示すように、連続膜１５ｃの着色層１５ａ，１５ｂ上に位置している部分は、基板６上に位置する部分からの張力と重力との作用により、より低い位置へと部分的に移動して薄くなる。
【００２５】
このような作用は、着色層１５ａ，１５ｂが形成する凹部からの距離が近い位置でより大きい。また、連続膜１５ｃの一部が移動することに伴って生じる膜厚のばらつきは、その移動量が大きいほど顕著となる。そのため、連続膜１５ｃの着色層１５ａ，１５ｂ上に位置している部分の膜厚のばらつきは、着色層１５ａ，１５ｂが形成する凹部からの距離が近いほど大きくなる。
【００２６】
したがって、図２（ｂ−５），（ｃ−５）に示すように、着色層１５ａ，１５ｂが形成する凹部に着色層１５ｃのスペーサ１７の中間層として用いられる部分が隣接している場合、その部分の膜厚のばらつきは大きくなる。すなわち、スペーサ１７の高さのばらつきが大きくなる。
【００２７】
これに対し、図２（ａ−５）に示すように、着色層１５ａ，１５ｂが形成する凹部から着色層１５ｃのスペーサ１７の中間層として用いられる部分を離間させた場合、その部分で膜厚が大きくばらつくことはない。すなわち、スペーサ１７の高さのばらつきを十分に小さくすることができ、それゆえ、基板間隔の均一性を向上させることができる。
【００２８】
本実施形態において、着色層１５ｃのスペーサ１７の中間層を構成している部分とカラーフィルタ層１８の色領域を構成している部分との間の最短距離は、５μｍ以上であることが好ましく、１０μｍ以上であることがより好ましい。同様に、本実施形態において、スペーサ１７の中間層と着色層１５ｃのカラーフィルタ層１８の色領域を構成している部分との間の最短距離は、スペーサ１７の中間層と着色層１５ａとの間の最短距離及びスペーサ１７の中間層と着色層１５ｂとの間の最短距離のいずれよりも長いことが好ましい。着色層１５ｃのスペーサ１７の中間層を構成している部分とカラーフィルタ層１８の色領域を構成している部分との間の最短距離が長いほど、より効果的にスペーサ１７の高さのばらつきを抑制することができる。
【００２９】
本実施形態において、スペーサ１７の中間層は、着色層１５ａ，１５ｂの境界上にまたはそれに隣接して設けることが好ましい。この場合、さらに効果的にスペーサ１７の高さのばらつきを抑制することができるのに加え、コントラスト比の観点からも有利である。
【００３０】
次に、本発明の第２の実施形態について説明する。
図３は、本発明の第２の実施形態に係る液晶表示装置を概略的に示す断面図である。図３に示す液晶表示装置１は、カラーフィルタ層１８、周縁遮光層１６、及びスペーサ１７が、対向基板３ではなくアクティブマトリクス基板２に設けられていること以外は、図１に示した液晶表示装置１とほぼ同様の構造を有している。このような構造を採用した場合、図１に示す構造ほど、アクティブマトリクス基板２と対向基板２との間の位置合わせに高い精度を要求されることはない。すなわち、本実施形態によると、第１の実施形態で説明した効果が得られるのに加え、製造プロセスの簡略化や開口率及び歩留まりの向上などが可能となる。
【００３１】
以上説明した第１及び第２の実施形態では、スペーサ１７として柱状スペーサを形成したが、スペーサ１７は他の形状を有していてもよい。例えば、スペーサ１７は壁状であってもよい。
【００３２】
また、第１及び第２の実施形態では、スイッチング素子７を用いた液晶表示装置１について説明したが、単純マトリクス駆動方式を採用してカラー型ドットマトリクス表示を行うこともできる。さらに、上記実施形態では、ＴＮ型の液晶表示装置１について説明したが、表示方式は、ＳＴＮ型、ＧＨ型、ＥＣＢ型、或いは強誘電性液晶を利用したタイプ等であってもよい。
【００３３】
【実施例】
以下、本発明の実施例について説明する。
【００３４】
（実施例１）
図１に示す液晶表示装置１を以下に示す方法により製造した。なお、本実施例では、スペーサ１７は、図２（ａ−１）〜（ａ−７）を参照して説明した方法により形成した。
【００３５】
まず、ガラス基板６上に、通常の方法により、ＴＦＴ７及び配線を形成した。次いで、基板６のＴＦＴ７などを形成した面に紫外線硬化型樹脂を塗布し、得られた塗膜をフォトリソグラフィ技術を用いてパターニングすることにより、コンタクトホールが設けられた絶縁膜８を形成した。その後、絶縁膜８上に、スパッタリング法を用いて厚さ１５００ÅのＩＴＯ膜を形成した。これをフォトリソグラフィ技術とエッチング技術とを用いてパターニングすることにより画素電極１０を得た。なお、これら画素電極１０は、それぞれコンタクトホールを介してＴＦＴ７のソース電極と接続されるように形成した。さらに、基板６の画素電極１０を形成した面に、配向膜材料であるＡＬ−３０４６（ＪＳＲ社製）を５００Åの厚さで塗布し、得られた塗膜にラビング処理を施して配向膜１１を形成した。以上のようにして、アクティブマトリクス基板２を完成した。
【００３６】
上述した方法でアクティブマトリクス基板２を作製する一方で、以下の方法により対向基板３を作製した。すなわち、まず、ガラス基板１３上に、赤色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストＣＲ−２０００（富士フィルムオーリン社製）をスピナー等を用いて塗布した。このようにして形成した塗膜の上方にフォトマスクを配置し、このフォトマスクを介して上記塗膜に露光量が１００ｍＪ／ｃｍ2となるように波長３６５ｎｍの紫外線を照射した。なお、ここで使用したフォトマスクは、赤色の着色層１５ａを形成する部分のみに紫外線が照射されるように形成されたものである。上述した条件で露光を終えた後、１％のＫＯＨ水溶液を用いて上記塗膜を２０秒間現像し、さらに、仮焼成を行うことにより赤色の着色層１５ａを形成した。
【００３７】
次に、緑色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストＣＧ−２０００（富士フィルムオーリン社製）及び青色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストＣＢ−２０００（富士フィルムオーリン社製）を用いて、赤色の着色層１５ａに関して説明したのと同様の方法により、緑色の着色層１５ｂ及び青色の着色層１５ｃを順次形成し、その後、本焼成を行った。以上のようにしてＲＧＢカラーフィルタ層１８を形成した。なお、ここでは、ＲＧＢカラーフィルタ層１８を構成しているそれぞれの色領域はストライプ状とし、それぞれの幅は６０μｍとした。また、着色層１５ｃの着色層１５ａ上に形成した部分（スペーサ１７の中間層を構成する部分）と着色層１５ｃのカラーフィルタ層１８の色領域を構成している部分との間の最短距離は３０μｍとし、その縦横のサイズは３０μｍ×３０μｍとし、厚さは３μｍとした。
【００３８】
次に、基板１３の着色層１５ａ〜１５ｃを形成した面にスパッタリング法を用いて厚さ１５００ÅのＩＴＯ膜を形成して共通電極２０を得た。その後、基板１３の共通電極２０を形成した面の全面に、感光性アクリル系黒色樹脂ＮＮ７００（ＪＳＲ社製）をスピナーを用いて塗布した。これにより得られた塗膜を９０℃で１０分間乾燥させた後、塗膜の上方にフォトマスクを配置し、このフォトマスクを介して上記塗膜に露光量が３００ｍＪ／ｃｍ2となるように波長３６５ｎｍの紫外線を照射した。上述した条件で露光を終えた後、ｐＨ１１．５のアルカリ水溶液を用いて現像し、さらに、２００℃で６０分間の焼成を行うことにより、スペーサ１７の最上層と周縁遮光層１６とを同時に形成した。なお、遮光層１６のスペーサ１７の最上層を構成する部分の厚さは２μｍとした。また、上述した方法で得られたスペーサ１７のカラーフィルタ層１８からの高さは４．９２±０．２０μｍであった。
【００３９】
以上のようにしてスペーサ１７などを形成した後、基板１３の共通電極２０を形成した面に、配向膜材料であるＡＬ−３０４６（ＪＳＲ社製）を５００Åの厚さで塗布し、得られた塗膜にラビング処理を施して配向膜２１を形成した。以上のようにして、対向基板３を完成した。
【００４０】
次いで、対向基板３の配向膜２１を形成した面の周縁部に接着剤２５を注入口が残されるように印刷した。さらに、アクティブマトリクス基板２から共通電極２０に電圧を印加するための電極転移材（図示せず）を接着剤２５の周辺部の電極転移電極（図示せず）上に形成した。
【００４１】
その後、アクティブマトリクス基板２と対向基板３とを、配向膜１１，２１同士が対向するように及びそれらのラビング方向が直交するように貼り合わせ、さらに加熱して接着剤２５を硬化させることによりセルを形成した。このセル中に液晶材料としてＺＬＩ−４７９２（ＭＥＲＣＫ社製）を通常の方法により注入して液晶層４を形成した。なお、この注入には約２時間を要した。さらに、注入口を紫外線硬化樹脂で封止し、ガラス基板６，１３のそれぞれに偏光板５を貼り付けた。
【００４２】
以上のようにして得られた液晶表示装置１のセルギャップは４．８５±０．２０μｍと非常に良好な値であった。また、上記方法で得られた液晶表示装置１では、セルギャップのばらつきに起因した輝度ムラなども視認されず、高い表示品位を実現することができた。
【００４３】
（実施例２）
図３に示す液晶表示装置１を以下に示す方法により製造した。なお、本実施例でも、スペーサ１７は、図２（ａ−１）〜（ａ−７）を参照して説明した方法により形成した。
【００４４】
まず、ガラス基板６上に、通常の方法により、ＴＦＴ７及び配線を形成した。次いで、基板６のＴＦＴ７などを形成した面に、実施例１で説明したのと同様の方法により、着色層１５ａ〜１５ｃを順次形成した。
【００４５】
次に、基板６の着色層１５ａ〜１５ｃを形成した面に、スパッタリング法を用いて厚さ１５００ÅのＩＴＯ膜を形成した。これをフォトリソグラフィ技術とエッチング技術とを用いてパターニングすることにより画素電極１０を得た。なお、これら画素電極１０は、それぞれコンタクトホールを介してＴＦＴ７のソース電極と接続されるように形成した。その後、実施例１で説明したのと同様の方法により周縁遮光層１６を形成し、さらに、基板６の画素電極１０を形成した面に、配向膜材料であるＡＬ−３０４６（ＪＳＲ社製）を５００Åの厚さで塗布し、得られた塗膜にラビング処理を施して配向膜１１を形成した。以上のようにして、アクティブマトリクス基板２を完成した。なお、各種寸法は、実施例１と同様とした。
【００４６】
上述した方法でアクティブマトリクス基板２を作製する一方で、以下の方法により対向基板を作製した。すなわち、まず、ガラス基板１３上に、スパッタリング法を用いて厚さ１５００ÅのＩＴＯ膜を形成することにより共通電極２０を得た。さらに、基板１３の共通電極２０を形成した面に、配向膜材料であるＡＬ−３０４６（ＪＳＲ社製）を５００Åの厚さで塗布し、得られた塗膜にラビング処理を施して配向膜２１を形成した。以上のようにして、対向基板３を完成した。
【００４７】
次いで、対向基板３の配向膜２１を形成した面の周縁部に接着剤２５を注入口が残されるように印刷した。さらに、アクティブマトリクス基板２から共通電極２０に電圧を印加するための電極転移材（図示せず）を接着剤２５の周辺部の電極転移電極（図示せず）上に形成した。
【００４８】
その後、アクティブマトリクス基板２と対向基板３とを、配向膜１１，２１同士が対向するように及びそれらのラビング方向が直交するように貼り合わせ、さらに加熱して接着剤２５を硬化させることによりセルを形成した。このセル中に液晶材料としてＺＬＩ−４７９２（ＭＥＲＣＫ社製）を通常の方法により注入して液晶層４を形成した。さらに、注入口を紫外線硬化樹脂で封止し、ガラス基板６，１３のそれぞれに偏光板５を貼り付けた。
【００４９】
以上のようにして得られた図３に示す液晶表示装置１のセルギャップは４．８２±０．２５μｍと非常に良好な値であった。また、上記方法で得られた液晶表示装置１では、セルギャップのばらつきに起因した輝度ムラなども視認されず、高い表示品位を実現することができた。
【００５０】
（比較例）
本比較例では、図２（ｂ−１）〜（ｂ−７），（ｃ−１）〜（ｃ−７）を参照して説明した方法によりスペーサ１７を形成したこと以外は実施例１で説明したのと同様の方法により液晶表示装置を作製した。
【００５１】
本比較例でも、アクティブマトリクス基板２と対向基板３とを貼り合せる前にスペーサ１７の高さを測定したところ、スペーサ１７のカラーフィルタ層１８からの高さは４．７８±０．９０μｍであった。また、上記方法で得られた液晶表示装置１のセルギャップは４．６８±０．７０であった。すなわち、上記の実施例１及び２に比べて、スペーサ１７の高さやセルギャップのばらつきが３．５〜４．５倍にまで増大した。さらに、本比較例に係る液晶表示装置１では、セルギャップのばらつきに起因した輝度ムラが視認された。
【００５２】
（実施例３）
着色層１５ｃの着色層１５ａ上に形成した部分（スペーサ１７の中間層を構成する部分）と着色層１５ｃのカラーフィルタ層１８の色領域を構成している部分との間の最短距離を０〜３０μｍの範囲内で変化させて、実施例１で説明したのと同様の方法により図１に示す液晶表示装置１を複数作製した。次に、このようにして得られた液晶表示装置１のそれぞれについて、スペーサ１７のカラーフィルタ層１８からの高さとセルギャップとを測定した。それら結果を以下の表並びに図４及び図５に纏める。なお、下記表において、「スペーサ高さ」は、スペーサ１７のカラーフィルタ層１８からの高さを示している。
【００５３】
【表１】
0004057816.tif 000002
【００５４】
図４は、スペーサの中間層とカラーフィルタ層１８の色領域との相対位置が、スペーサ１７の高さ及びそのばらつきに与える影響を示すグラフである。図中、横軸は、着色層１５ｃのスペーサ１７の中間層を構成している部分と着色層１５ｃのカラーフィルタ層１８の色領域を構成している部分との間の最短距離を示し、縦軸はスペーサ１７のカラーフィルタ層１８からの高さ（実効的な高さ）及びそのばらつき（３σ）を示している。また、図中、曲線４１，４２はスペーサ１７の実効的な高さ及びそのばらつきに関するデータをそれぞれ示している。
【００５５】
図５は、スペーサの中間層とカラーフィルタ層１８の色領域との相対位置が、液晶表示装置１のセルギャップ及びそのばらつきに与える影響を示すグラフである。図中、横軸は、着色層１５ｃのスペーサ１７の中間層を構成している部分と着色層１５ｃのカラーフィルタ層１８の色領域を構成している部分との間の最短距離を示し、縦軸は液晶表示装置１のセルギャップ及びそのばらつき（３σ）を示している。また、図中、曲線５１，５２はセルギャップ及びそのばらつきに関するデータをそれぞれ示している。
【００５６】
上記表並びに図４及び図５から明らかなように、上記の最短距離を５μｍ以上とすることにより、スペーサの高さやセルギャップのばらつきを低減することができた。また、上記の最短距離を１０μｍ以上とすることにより、スペーサの高さやセルギャップのばらつきを著しく低減することができ、輝度ムラも防止することができた。
【００５７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明では、カラーフィルタ層を構成する第１乃至第３色領域のうち第１及び第２色領域よりも後に形成する第３色領域と同一の材料でスペーサの中間層を構成するとともに、スペーサの中間層と第３色領域とを離間させる。このような構造によると、スペーサの中間層の厚さのばらつきを低減することができ、したがって、基板間隔のばらつきを抑制することができる。
すなわち、本発明によると、カラーフィルタ層を構成する着色層を部分的に重ね合わせて、それらの重ね合わされた部分をスペーサとして利用しながらも、基板間隔の均一性に優れた液晶表示装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る液晶表示装置を概略的に示す断面図。
【図２】（ａ−１）〜（ａ−７），（ｂ−１）〜（ｂ−７），及び（ｃ−１）〜（ｃ−７）は、それぞれ、スペーサの形成方法を概略的に示す断面図。
【図３】本発明の第２の実施形態に係る液晶表示装置を概略的に示す断面図。
【図４】スペーサの中間層とカラーフィルタ層の色領域との相対位置が、スペーサの高さ及びそのばらつきに与える影響を示すグラフ。
【図５】スペーサの中間層とカラーフィルタ層の色領域との相対位置が、液晶表示装置のセルギャップ及びそのばらつきに与える影響を示すグラフ。
【符号の説明】
１…液晶表示装置
２…アクティブマトリクス基板
３…対向基板
４…液晶層
５…偏光板
６…透明基板
７…スイッチング素子
８…絶縁膜
１０…画素電極
１１…配向膜
１３…透明基板
１５ａ〜１５ｃ…着色層
１６…周縁遮光層
１７…スペーサ
１８…カラーフィルタ層
２０…共通電極
２１…配向膜
２５…接着剤層
４１，４２，５１，５２…曲線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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