(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持フィルム上に形成されかつガラス粉末、結着樹脂および感光性樹脂を含有する感光性誘電体形成材料層と、この感光性誘電体形成材料層上に形成されかつガラス粉末および結着樹脂を含有する誘電体形成材料層とを備え、かつ前記感光性誘電体形成材料層のガラス粉末軟化点が前記誘電体形成材料層のガラス粉末軟化点よりも低く、かつ前記感光性誘電体形成材料層に含有される結着樹脂の分解温度または燃焼温度または揮発温度が、前記誘電体形成材料層の結着樹脂の分解温度または燃焼温度または揮発温度以下であることを特徴とするシート状誘電体材料。
【請求項２】
支持フィルム上に形成されかつガラス粉末、結着樹脂および感光性樹脂を含有する感光性誘電体形成材料層と、この感光性誘電体形成材料層上に形成されかつガラス粉末および結着樹脂を含有する誘電体形成材料層とを備え、かつ前記感光性誘電体形成材料層のガラス粉末軟化点が前記誘電体形成材料層のガラス粉末軟化点よりも低く、かつ前記感光性誘電体形成材料層および前記誘電体形成材料層は溶剤を含有するものであって、前記感光性誘電体形成材料層に含有される溶剤の分解温度または燃焼温度または揮発温度が、前記誘電体形成材料層の溶剤の分解温度または燃焼温度または揮発温度以下であることを特徴とするシート状誘電体材料。
【請求項３】
ガラス粉末、結着樹脂および感光性樹脂を含有する感光性誘電体形成材料層とこの感光性誘電体形成材料層上に形成されかつガラス粉末および結着樹脂を含有する誘電体形成材料層とを備えるとともに前記感光性誘電体形成材料層のガラス粉末軟化点が前記誘電体形成材料層のガラス粉末軟化点よりも低いシート状誘電体材料を準備し、このシート状誘電体材料を基板上に前記誘電体形成材料層が基板側となるように重ね合わせて誘電体形成材料層および感光性誘電体形成材料層を基板に転写する転写工程と、転写した感光性誘電体形成材料層を所定のパターンを有するマスクを用いて露光し、現像するパターン形成工程と、その後感光性誘電体形成材料層および誘電体形成材料層を焼成して誘電体層を形成する焼成工程とを有し、前記感光性誘電体形成材料層に含有される結着樹脂の分解温度または燃焼温度または揮発温度が、前記誘電体形成材料層の結着樹脂の分解温度または燃焼温度または揮発温度以下であることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】
ガラス粉末、結着樹脂および感光性樹脂を含有する感光性誘電体形成材料層とこの感光性誘電体形成材料層上に形成されかつガラス粉末および結着樹脂を含有する誘電体形成材料層とを備えるとともに前記感光性誘電体形成材料層のガラス粉末軟化点が前記誘電体形成材料層のガラス粉末軟化点よりも低いシート状誘電体材料を準備し、このシート状誘電体材料を基板上に前記誘電体形成材料層が基板側となるように重ね合わせて誘電体形成材料層および感光性誘電体形成材料層を基板に転写する転写工程と、転写した感光性誘電体形成材料層を所定のパターンを有するマスクを用いて露光し、現像するパターン形成工程と、その後感光性誘電体形成材料層および誘電体形成材料層を焼成して誘電体層を形成する焼成工程とを有し、前記感光性誘電体形成材料層および前記誘電体形成材料層は溶剤を含有し、前記感光性誘電体形成材料層に含有される溶剤の分解温度または燃焼温度または揮発温度が、前記誘電体形成材料層の溶剤の分解温度または燃焼温度または揮発温度以下であることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、シート状誘電体材料およびそれを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、双方向情報端末として大画面、壁掛けテレビへの期待が高まっている。そのための表示デバイスとして、液晶表示パネル、フィールドエミッションディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ等の数多くのものがあり、そのうちの一部は市販され、一部は開発中である。これらの表示デバイス中でもプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという）は、自発光型で美しい画像表示ができ、大画面化が容易である等の理由から、ＰＤＰを用いたディスプレイは、視認性に優れた薄型表示デバイスとして注目されており、高精細化および大画面化が進められている。
【０００３】
このＰＤＰには、大別して、駆動的にはＡＣ型とＤＣ型があり、放電形式では面放電型と対向放電型の２種類があるが、高精細化、大画面化および製造の簡便性から、現状では、ＡＣ型で面放電型のＰＤＰが主流を占めるようになってきている。
【０００４】
図３にＰＤＰのパネル構造の一例を示しており、この図３に示すようにＰＤＰは、前面パネル１と背面パネル２とから構成されている。
【０００５】
前面パネル１は、フロート法による硼珪素ナトリウム系ガラス等からなるガラス基板などの透明な前面側の基板３上に、ストライプ状の表示電極４を複数対配列して形成し、そしてその表示電極４群を覆うように誘電体層５を形成し、その誘電体層５上にＭｇＯからなる保護膜６を形成することにより構成されている。なお、表示電極４は、透明電極４ａおよびこの透明電極４ａに電気的に接続されたＣｒ／Ｃｕ／ＣｒまたはＡｇ等からなるバス電極４ｂとから構成されている。また、図示していないが、前記表示電極４間には、遮光膜としてのブラックストライプが表示電極４と平行に複数列形成されている。
【０００６】
また、背面パネル２は、前記前面側の基板３に対向配置される背面側の基板７上に、表示電極４と直交する方向にＣｒ／Ｃｕ／ＣｒまたはＡｇ等からなるアドレス電極８を形成するとともに、そのアドレス電極８を覆うように誘電体層９を形成し、そしてアドレス電極８間の誘電体層９上にアドレス電極８と平行にストライプ状の複数の隔壁１０を形成するとともに、この隔壁１０間の側面および誘電体層９の表面に蛍光体層１１を形成することにより構成されている。なお、カラー表示のために前記蛍光体層１１は、通常、赤、緑、青の３色が順に配置されている。
【０００７】
そして、これらの前面パネル１と背面パネル２とは、表示電極４とアドレス電極８とが直交するように、微小な放電空間を挟んで基板３、７を対向配置するとともに、周囲を封着部材により封止し、そして前記放電空間にネオンおよびキセノンなどを混合してなる放電ガスを６６５００Ｐａ（５００Ｔｏｒｒ）程度の圧力で封入することによりパネルが構成されている。
【０００８】
このパネルの放電空間は、隔壁１０によって複数の区画に仕切られており、そしてこの隔壁１０間に発光画素領域となる複数の放電セルが形成されるように表示電極４が設けられるとともに、表示電極４とアドレス電極８とが直交して配置されている。そして、このＰＤＰでは、表示電極４、アドレス電極８に印加される周期的な電圧によって放電を発生させ、この放電による紫外線を蛍光体層に照射して可視光に変換させることにより、画像表示が行われる。
【０００９】
このようなＰＤＰにおいては、アドレス電極８、および表示電極４のバス電極４ｂには、ＡｇやＣｒ−Ｃｕ−Ｃｒ等が用いられ、このうちＡｇによる電極の製造方法としては、スクリーン印刷法のようにＡｇ、樹脂、溶剤などを含有するＡｇペーストを用いる方法や、ラミネート法のように、Ａｇ、樹脂などを含有するフィルムを用いる方法などがある。いずれの場合においても、樹脂を除去する目的、あるいはＡｇ同士を融着して導電率を上昇させる目的で、５００℃以上での加熱、焼成処理を行う必要がある。
【００１０】
さらに、これらの電極を被覆する誘電体層は、プラズマを発生させるために必須の材料であり、放電効率をより高く、かつ背面板の蛍光体からの発光光をよく通すといった機能が必要とされる重要な構成要素である。
【００１１】
また、誘電体層は、従来低融点鉛ガラスなどの粉末と結着樹脂（膜形成材料層を構成する有機物質）などを含むガラスペースト組成物をスクリーン印刷、ダイコート塗布等の方法によって塗工し、５００℃以上で加熱、焼成することで形成されていた。
【００１２】
ガラス基板上に形成する膜形成材料層の厚さは、焼成工程における有機物質の除去に伴う膜厚の目減量を考慮して、形成すべき誘電体層の膜厚の１．３〜２倍程度とすることが必要であり、例えば誘電体層の膜厚を５〜４０μｍとするためには、７〜８０μｍ程度の厚さの膜形成材料層を形成する必要がある。
【００１３】
しかしながら、上記ガラスペースト組成物をスクリーン印刷法によって塗布する場合において、１回の塗布処理によって形成される塗膜の厚さは５〜２５μｍ程度である。スクリーン印刷法で形成する場合には、複数回に亘り、多重印刷が必要となり、工程の煩雑さによる作業効率の低下、膜厚分布の低下、平滑性の低下、欠陥の発生確率の増大等がさけられない。また、ダイコート塗布法の場合においても、コートの開始・終了部分の膜厚分布が悪く、誘電特性のばらつきの原因となり、駆動電圧のマージンを低下させる原因となっている。
【００１４】
これらの課題に対して、例えば特開平１０−２９１８３４号公報に開示されているように、ガラスペースト組成物を支持フィルム上に形成したシート状誘電体材料を用いて、ラミネート法などの方法によって貼り付けた後、５００℃以上で加熱、焼成することで誘電体層を形成する方法が提案されている。
【００１５】
図４を用いてこのシート状誘電体材料の説明をすると、図４（ａ）はロール状に巻回されたシート状誘電体材料１２を示す概略構成図であり、図４（ｂ）は図４（ａ）のＸ部のシート状誘電体材料１２の層構成を示す断面図である。この図４に示すシート状誘電体材料１２は、支持フィルム１３と、この支持フィルム１３の表面に剥離可能に形成された膜形成材料層１４と、この膜形成材料層１４の表面に剥離容易に形成されたカバーフィルム１５とにより構成されている。
【００１６】
この予め膜形成材料が作製されたシート状誘電体材料１２を用いることにより、膜厚の大きな誘電体層、例えば５〜４０μｍの誘電体層であっても効率的に形成することができ、誘電体層の形成工程における工程改善が図れ、ＰＤＰの製造効率を向上させることが可能となる。しかも、膜厚の均一性および表面の平滑性に優れ、ピンホールやクラックなどの欠陥のない誘電体層を形成することができる。
【００１７】
一方、ＰＤＰの高精細化、高輝度化の要求に伴って、例えば特開平８−２５００２９号公報に開示されているように、放電を制御し遮蔽される部分での放電を極力抑制するために、前記誘電体層を立体的に構成するという新しい構造を持つ誘電体層が提案されている。
【００１８】
立体構造の誘電体層を作製するためには、シート状誘電体材料をパターニングする必要があるが、その技術としては、例えば特開平１１−２３１５２５号公報に開示されている。その内容を図５（ａ）〜（ｉ）に示している。
【００１９】
図５（ａ）〜（ｃ）に示すように、ガラス基板１６上に、支持フィルム１３に無機粉体分散ペーストによる膜形成材料層１４が形成されたシート状誘電体材料１２を転写し、その上に図５（ｄ）に示すようにレジスト層１７を形成し、その後図５（ｅ）、（ｆ）に示すように、露光用マスク１８を合わせてレジスト層１７を所定のパターンに露光、現像することにより所定のパターンのレジスト層１７を形成し、その所定のパターンのレジスト層１７をマスクとして、図５（ｇ）、（ｈ）に示すように無機粉体分散ペーストの膜形成材料層１４を所定のパターン形状にエッチングした後、レジスト層１７を除去し、その後図５（ｉ）に示すように所定の温度で焼成することで無機パターン１９を作製する方法である。
【００２０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のシート状誘電体材料とパターニングプロセスを用いて、ＰＤＰの誘電体層の立体構造を作製する方法においては、以下に示す問題点がある。
【００２１】
すなわち、ＰＤＰの誘電体層の立体構造では、例えば図６（ａ）、（ｂ）に示すように、前面パネル１の誘電体層５に発光画素領域単位で凹部２０を設ける場合、誘電体層５に所定のパターンで厚みの厚い部分５ａと薄い部分５ｂをばらつきなく作製することが要求される。なお、図６（ｂ）は図６（ａ）のＡ−Ａ線で切断した際の断面を示す図である。
【００２２】
上記従来のパターニング方法では、例えば図５（ｇ）の途中でエッチングを止めて誘電体層５に薄い部分５ｂを残す必要があるが、このように途中でエッチングを止めると、ＰＤＰのように大面積のパネルの場合、パネル全体のエッチングばらつきがそのまま形状および深さの寸法ばらつきとなってしまい、全体に亘って精度よく誘電体層の立体構造を得ることができない。
【００２３】
そこで、薄い部分での厚みに相当するシート状誘電体材料により先に第一の誘電体層を焼成し形成した後に、厚い部分での厚みに合わせるシート状誘電体材料を用いて上述した従来のパターニング方法により第二の誘電体層を形成することで、立体構造を得ることが考えられるが、この場合はシート状誘電体材料を２回精度良く基板に転写する必要があり、工程が煩雑となる。また、ＰＤＰにおける放電開始電圧の観点からすると、下層の第一の誘電体層においても膜厚に分布を持たせ、最も膜厚の低下させた部分を種火放電として利用すれば、さらに放電電圧を下げることができるが、上述のような下層を焼成により形成した後、その上部に誘電体を塗布し、パターニングする方法では、下層の形状を変形させることができなかった。
【００２４】
本発明はこのような課題に鑑みなされたもので、立体構造を持つ誘電体層を安定に精度良く、しかも作業効率よく形成することができるようにすることを目的とするものである。
【００２５】
【課題を解決するための手段】
この目的を達成するために本発明は、ガラス粉末、結着樹脂および感光性樹脂を含有する感光性誘電体形成材料層とこの感光性誘電体形成材料層上に形成されかつガラス粉末および結着樹脂を含有する誘電体形成材料層とを備えるとともに前記感光性誘電体形成材料層のガラス粉末軟化点が前記誘電体形成材料層のガラス粉末軟化点よりも低いシート状誘電体材料を用い、基板上に誘電体形成材料層が基板側となるように重ね合わせて誘電体形成材料層および感光性誘電体形成材料層を基板に転写した後、感光性誘電体形成材料層を所定のパターンを有するマスクを用いて露光し、現像することにより、所定のパターン形状の誘電体層を形成するものである。
【００２６】
このような構成により、誘電体層の立体構造を作製する際に、１種類のシート状誘電体材料を用いて、厚みの厚い部分と薄い部分を有する誘電体層をばらつきなく作業効率よく作製することが可能となり、大面積のパネル内で形状および深さの寸法ばらつきを抑えることができる。
【００２７】
【発明の実施の形態】
すなわち、本発明の請求項１に記載の発明は、支持フィルム上に形成されかつガラス粉末、結着樹脂および感光性樹脂を含有する感光性誘電体形成材料層と、この感光性誘電体形成材料層上に形成されかつガラス粉末および結着樹脂を含有する誘電体形成材料層とを備え、かつ前記感光性誘電体形成材料層のガラス粉末軟化点が前記誘電体形成材料層のガラス粉末軟化点よりも低く、かつ前記感光性誘電体形成材料層に含有される結着樹脂の分解温度または燃焼温度または揮発温度が、前記誘電体形成材料層の結着樹脂の分解温度または燃焼温度または揮発温度以下であることを特徴とするシート状誘電体材料である。
【００２８】
また、請求項２に記載の発明では、支持フィルム上に形成されかつガラス粉末、結着樹脂および感光性樹脂を含有する感光性誘電体形成材料層と、この感光性誘電体形成材料層上に形成されかつガラス粉末および結着樹脂を含有する誘電体形成材料層とを備え、かつ前記感光性誘電体形成材料層のガラス粉末軟化点が前記誘電体形成材料層のガラス粉末軟化点よりも低く、かつ前記感光性誘電体形成材料層および前記誘電体形成材料層は溶剤を含有するものであって、前記感光性誘電体形成材料層に含有される溶剤の分解温度または燃焼温度または揮発温度が、前記誘電体形成材料層の溶剤の分解温度または燃焼温度または揮発温度以下であることを特徴とする。
【００２９】
さらに、本発明の請求項３に記載の発明では、ガラス粉末、結着樹脂および感光性樹脂を含有する感光性誘電体形成材料層とこの感光性誘電体形成材料層上に形成されかつガラス粉末および結着樹脂を含有する誘電体形成材料層とを備えるとともに前記感光性誘電体形成材料層のガラス粉末軟化点が前記誘電体形成材料層のガラス粉末軟化点よりも低いシート状誘電体材料を準備し、このシート状誘電体材料を基板上に前記誘電体形成材料層が基板側となるように重ね合わせて誘電体形成材料層および感光性誘電体形成材料層を基板に転写する転写工程と、転写した感光性誘電体形成材料層を所定のパターンを有するマスクを用いて露光し、現像するパターン形成工程と、その後感光性誘電体形成材料層および誘電体形成材料層を焼成して誘電体層を形成する焼成工程とを有し、前記感光性誘電体形成材料層に含有される結着樹脂の分解温度または燃焼温度または揮発温度が、前記誘電体形成材料層の結着樹脂の分解温度または燃焼温度または揮発温度以下であることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【００３０】
そして、請求項４に記載の発明では、ガラス粉末、結着樹脂および感光性樹脂を含有する感光性誘電体形成材料層とこの感光性誘電体形成材料層上に形成されかつガラス粉末および結着樹脂を含有する誘電体形成材料層とを備えるとともに前記感光性誘電体形成材料層のガラス粉末軟化点が前記誘電体形成材料層のガラス粉末軟化点よりも低いシート状誘電体材料を準備し、このシート状誘電体材料を基板上に前記誘電体形成材料層が基板側となるように重ね合わせて誘電体形成材料層および感光性誘電体形成材料層を基板に転写する転写工程と、転写した感光性誘電体形成材料層を所定のパターンを有するマスクを用いて露光し、現像するパターン形成工程と、その後感光性誘電体形成材料層および誘電体形成材料層を焼成して誘電体層を形成する焼成工程とを有し、前記感光性誘電体形成材料層および前記誘電体形成材料層は溶剤を含有し、前記感光性誘電体形成材料層に含有される溶剤の分解温度または燃焼温度または揮発温度が、前記誘電体形成材料層の溶剤の分解温度または燃焼温度または揮発温度以下であることを特徴とする。
【００３２】
以下、本発明の一実施の形態について、図１、図２の図面を参照しながら説明する。
【００３３】
まず、図１を用いて本発明の一実施の形態によるシート状誘電体材料の説明をすると、図１（ａ）はロール状に巻回されたシート状誘電体材料２１を示す概略構成図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）のＸ部のシート状誘電体材料２１の層構成を示す断面図である。図１に示すように、シート状誘電体材料２１は、支持フィルム２２と、この支持フィルム２２上に形成した感光性誘電体形成材料層２３と、この感光性誘電体形成材料層２３上に形成した誘電体形成材料層２４と、この誘電体形成材料層２４上に配置したカバーフィルム２５とが積層された構成である。
【００３４】
ここで、誘電体形成材料層２４および感光性誘電体形成材料層２３は、ガラス粉末および結着樹脂が必須成分として含有され、かつ感光性誘電体形成材料層２３は感光性樹脂が含有されている。
【００３５】
シート状誘電体材料を構成する支持フィルム２２は、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルム２２が可撓性を有することにより、ロールコータなどによって膜厚の均一な膜形成材料層を形成することができるとともに、当該膜形成材料層をロール状に巻回した状態で保存することができる。支持フィルム２２を形成する樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどを挙げることができる。
【００３６】
シート状誘電体材料を構成する感光性誘電体形成材料層２３および誘電体形成材料層２４は、焼成されることによってガラス焼結体（誘電体層）となるものであり、誘電体形成材料層２４に含有されるガラス粉末としては、例えばＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系の混合物、ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系の混合物、ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系の混合物、ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系の混合物などを挙げることができる。
【００３７】
また、本発明においては、感光性誘電体形成材料層２３に含有されるガラス粉末の軟化点が誘電体形成材料層２４に含有されるガラス粉末の軟化点よりも低く調整されていることにある。ガラス粉末の軟化点を変化させるには、ガラス粉末中に含有される酸化鉛の組成比を変化させる方法が挙げられる。すなわち、ガラス粉末中に含有される酸化鉛の組成比を多くすることで、軟化点を低くすることが可能であり、また、酸化鉛の組成比を少なくすることで、軟化点を高くすることが可能である。なお、ガラス粉末の軟化点を変化させる方法としては、含有酸化鉛の組成比を変化させる方法に限らず、その他同様の効果を有する方法を用いることが可能である。
【００３８】
感光性誘電体形成材料層２３に含有される感光性樹脂としては、少なくともアルカリ現像型結着樹脂、反応性モノマーおよび光重合開始剤が含まれ、また添加剤として、増感剤、重合停止剤、連鎖移動剤、レベリング剤、分散剤、可塑剤、安定剤、消泡剤等を必要に応じて含有することができる。
【００３９】
本発明の結着樹脂としてはアクリル系とセルロース系を代表的に挙げることができる。この場合に感光性誘電体形成材料層と誘電体形成材料層に用いる樹脂としては、例えばブチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレートおよび２−エトキシエチル（メタ）アクリレートを挙げることができるが、これに限るものではない。
【００４０】
また、上記誘電体形成材料層２４に含有される結着樹脂としては、感光性誘電体形成材料層２３の結着樹脂が誘電体形成材料層２４の結着樹脂の分解または燃焼または揮発温度よりも低く、しかも誘電体形成材料層２４の溶剤および結着樹脂の分解または燃焼または揮発温度が、感光性誘電体形成材料層２３のガラス粉末軟化点温度よりも低いことを特徴としている。最も好ましくは、アクリル系樹脂を感光性誘電体形成材料に使用し、セルロース系樹脂を誘電体形成材料層に用いることが望ましい。
【００４１】
これにより、異なる機能をもつ２層を同時に形成することができ、工程数を大幅に削減することができる。また、２層を２種類の別々のシートを用いて作製する場合にはそれぞれに２枚の支持フィルムを必要とするが、本発明によれば廃棄物として非常に膨大になる支持フィルムを半減することができ、環境に対する負荷を低下させることができる。
【００４２】
また、ＰＤＰを作製する上で、前記シート状誘電体材料をガラス基板上に転写し、誘電体形成材料層２４の乾燥または焼成時にガラス基板に対して上層に形成される層から段階的に結着樹脂を揮発または燃焼または分解させることができ、下層の結着樹脂は上層の結着樹脂が全て除去された後、ガス化するため、上層を容易に通過することができる。このため、２層を同時に焼成することができ、工程数を削減することができる。また、焼成回数の低下により、消費エネルギーを低減でき、環境に対する負荷を低下させることができる。これらについては、後述するＰＤＰの製造方法で詳細を述べる。
【００４３】
さらに、誘電体形成材料層２４および感光性誘電体形成材料層２３は、ガラス粉末および結着樹脂が必須成分として含有され、かつ感光性誘電体形成材料層２３は感光性樹脂が含有され、かつ溶剤が前記２層共に含有されていても良い。
【００４４】
この場合に感光性誘電体形成材料層２３と誘電体形成材料層２４に用いる溶剤としては、当該誘電体形成材料層２４および感光性誘電体形成材料層２３に適度な粘性（例えば５００〜１０，０００ｃｐ）を付与することができ、乾燥されることによって容易に蒸発除去できるものであることが好ましく、例えばメチルイソブチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、テレビン油、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ、テルピネオール、ブチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトール、ベンジルアルコール、乳酸メチル、乳酸エチル、ブチルセロソルブアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネート、ブチルセロソルブなどを挙げることができる。
【００４５】
また、上記溶剤としては、誘電体形成材料層２４と感光性誘電体形成材料層２３の分解または燃焼または揮発温度が異なることを特徴とする。好ましくは、支持フィルム２２上に形成される感光性誘電体形成材料層２３の溶剤が誘電体形成材料層２４の溶剤よりも分解または燃焼または揮発温度が低く、しかも誘電体形成材料層２４の溶剤および結着樹脂の分解または燃焼または揮発温度が、感光性誘電体形成材料層２３のガラス粉末軟化点温度よりも低いことを特徴とする。
【００４６】
ここで、例えば上記溶剤の組み合わせとして、感光性誘電体形成材料層２３に少なくとも誘電体形成材料層２４よりも分解または燃焼または揮発温度が低いものを選出する。好ましくは、前記感光性誘電体形成材料層２３にテレビン油（沸点１５５〜１６５℃）、前記誘電体形成材料層２４にテルピネオール（沸点約１８０℃）を選出する。これにより、前記結着樹脂で述べた効果と同様の効果を発現することができる。
【００４７】
ここで用いられるシート状誘電体材料２１の製造方法としては、支持フィルム２２上に前記感光性誘電体形成材料層２３を形成し、さらにその上に誘電体形成材料層２４を形成し、その上にカバーフィルム２５を圧着により設けることにより製造することができる。誘電体形成材料層２４の形成方法としては、少なくともガラス粉末、結着樹脂を含有し、好ましくは溶剤を含有するガラスペースト組成物からなる誘電体形成材料層２４を塗布した後、その塗膜を乾燥して前記溶剤の一部または全部を除去する方法を挙げることができる。ガラスペースト組成物からなる誘電体形成材料層２４を塗布する方法としては、ローラーコーターによる塗布方法、ドクターブレードなどのブレードコーターによる塗布方法、カーテンコーターによる塗布方法などを挙げることができる。
【００４８】
次に、本発明によるＰＤＰの製造方法において、前面パネルの製造工程を図２を用いて説明する。
【００４９】
図２（ａ）に示す第１の工程は、前面パネルの前面側基板としてのガラス基板３１上に、ＩＴＯやＳｎＯ2等からなる透明電極材料膜３２をスパッタ法により一様に成膜する工程である。このとき透明電極材料膜３２の膜厚は約１００ｎｍである。
【００５０】
図２（ｂ）に示す第２の工程は、フォトリソグラフィー法を用いて透明電極材料膜３２を所望の形状にパターニングし透明電極３３を形成する工程である。ノボラック樹脂を主成分とするポジ型レジストを１．５〜２μｍの膜厚で塗布し、所望のパターンの露光乾板を介して紫外線を露光し、レジストを硬化させる。このときの紫外線の光源は超高圧水銀ランプであり、光量は３００ｍＪ／ｃｍ2である。次にアルカリ水溶液で現像を行い、レジストパターンを形成する。その後、塩酸を主成分とする溶液に基板を浸漬させてエッチングを行い、不要部分の除去を行い、最後にレジストを剥離して透明電極３３を形成する。
【００５１】
図２（ｃ）に示す第３の工程は、黒色電極材料膜３４を塗工する工程である。黒色電極材料膜３４は、ＲｕＯ2等からなる黒色顔料、ガラスフリット（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系やＢｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系等）、重合開始剤、光硬化性モノマー、有機溶剤を成分として含有するネガ型感光性ペーストをスクリーン印刷法を用いてガラス基板３１に一様に塗布することで形成される。その後赤外線乾燥炉を用いた９０℃、１０分間の乾燥工程によりペーストに含まれる溶剤は塗膜から除去される。
【００５２】
図２（ｄ）に示す第４の工程は、金属電極材料膜３５を黒色電極材料膜３４上に形成する工程である。この工程は用いられる材料がＡｇ等の導電性材料、ガラスフリット（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系やＢｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系等）、重合開始剤、光硬化性モノマー、有機溶剤を成分として含有するネガ型感光性ペーストであることを除いて、第３の工程と同様である。
【００５３】
図２（ｅ）に示す第５の工程は、バス電極３６を形成する工程である。金属電極材料膜３５と黒色電極材料膜３４とからなる電極材料膜に、所望のパターンの露光乾板を介して紫外線を照射し露光部を硬化させる。このときの紫外線の光源は超高圧水銀ランプであり、光量は３００ｍＪ／ｃｍ2である。その後、アルカリ性現像液（０．３ｗｔ％の炭酸ナトリウム水溶液）を用いて現像してパターンを形成し、その後空気中でガラス材料の軟化点以上の温度で焼成を行い、電極を基板に固着させる。
【００５４】
このように透明電極３３上にバス電極３６を形成することにより、前面パネルの表示電極を形成することができる。
【００５５】
図２（ｆ）に示す第６の工程は、上述したシート状誘電体材料２１を用いて誘電体形成材料層３７と感光性誘電体形成材料層３８との２層からなる誘電体材料層を形成する工程である。ここで、感光性誘電体形成材料層３８に含有されるガラス粉末の軟化点は、誘電体形成材料層３７に含有されるガラス粉末の軟化点よりも低く調整されている。
【００５６】
誘電体材料層はシート状誘電体材料２１のカバーフィルム２５を剥離した後、誘電体材料層の表面がガラス基板３１に接するようにシート状誘電体材料２１を重ね合わせながら、支持フィルム２２側から加熱ローラーで圧着してガラス基板３１に固着する。その後、ガラス基板３１上に固着された誘電体材料層から支持フィルム２２を剥離除去する。このとき、圧着に使用する手段としては、加熱ローラー以外に加熱しない単なるローラーでもよい。
【００５７】
図２（ｇ）に示す第７の工程は、感光性誘電体形成材料層３８を露光する工程である。所望のパターンの開口部を有する露光マスク３９を介して誘電体材料層の感光性誘電体形成材料層３８に紫外線を照射して露光部を硬化する。このときの紫外線の光源は超高圧水銀ランプであり、光量は６００ｍＪ／ｃｍ2である。
【００５８】
図２（ｈ）に示す第８の工程は、発光画素領域に凹部を形成することにより厚みの厚い部分と薄い部分を有する立体構造の誘電体層を形成する工程である。アルカリ性現像液（０．３ｗｔ％の炭酸ナトリウム水溶液）を用いて誘電体材料層の感光性誘電体形成材料層３８を現像し、感光性誘電体形成材料層３８の非露光部を除去する。
【００５９】
このとき、誘電体形成材料層３７を構成する結着樹脂は現像液に対して溶解性を有さないため除去されないか、あるいはエッチング速度が感光性誘電体形成材料層３８のエッチング速度よりも小さいため、第一層の誘電体形成材料層３７との界面近傍のわずかな領域のみが除去される。そのため、所望の立体構造を有する誘電体材料層が形成される。なお、このときの非露光部と露光部の誘電体材料層の膜厚はそれぞれ３０μｍと２０μｍであることが望ましい。
【００６０】
その後、空気中で誘電体形成材料層３７に含有されるガラス粉末の軟化点以上の温度で焼成を行ってガラス成分を固着させることにより、立体構造を有する誘電体層が形成される。
【００６１】
ここで、本発明においては、上述したように感光性誘電体形成材料層３８の溶剤が誘電体形成材料層３７の溶剤よりも分解または燃焼または揮発温度が低く、しかも誘電体形成材料層３７の溶剤および結着樹脂の分解または燃焼または揮発温度が、感光性誘電体形成材料層３８のガラス粉末軟化点温度よりも低いことを特徴としている。そのため、焼成時にはガラス基板３１をベースとして上層側の前記感光性誘電体形成材料層３８の溶剤が先に分解または燃焼または揮発し、その後下層の誘電体形成材料層３７の溶剤が遅れて分解または燃焼または揮発するため、容易に上層をすり抜けることができ、２層の同時焼成が可能となる。
【００６２】
同様に、感光性誘電体形成材料層３８の結着樹脂が誘電体形成材料層３７の結着樹脂よりも分解または燃焼または揮発温度が低く、しかも誘電体形成材料層３７の溶剤および結着樹脂の分解または燃焼または揮発温度が、感光性誘電体形成材料層３８のガラス粉末軟化点温度よりも低いことを特徴としているため、焼成時には上層側の前記感光性誘電体形成材料層３８の結着樹脂が先に分解または燃焼または揮発し、その後下層の誘電体形成材料層３７の結着樹脂が遅れて分解または燃焼または揮発するため、容易に上層をすり抜けることができ、２層の同時焼成が可能となる。
【００６３】
また、前記感光性誘電体形成材料層３８のガラス粉末軟化点が、誘電体形成材料層３７のガラス粉末軟化点よりも低いため、下地層から発生したガスは、軟化点が相対的に高く、高粘度の下層側の誘電体形成材料層３７により閉じ込められ、相対的に軟化点の低い上層側の感光性誘電体形成材料層３８への拡散が抑制される。一方、相対的に軟化点が低く、低粘度の上層側の感光性誘電体形成材料層３８では層内部のガスが容易にすり抜けることができるため、気泡の残存がない高透過率、高輝度、高耐圧の誘電体層を得ることができる。
【００６４】
このように、従来は２層を別々に焼成していたものが２層を同時に焼成することができ、工程数の削減による低コスト化を実現することができる。また、焼成回数の低減により、ガラス基板の歪や反りを低減することができ、アライメント精度の向上や、残留応力の低減によるガラス基板の強度低下を防ぐことができるという効果を得ることができ、さらには使用電力を削減できるため、環境に対してもやさしい工程となる。
【００６５】
さらに、本発明の重要な機能として、前記２層を同時に焼成することによって、自発的にパターニングで取り除かれた凹部の底面となる下層が上層誘電体の収縮時の応力により引かれることで、下層の底面の膜厚をなだらかに変化させることができ、誘電体膜厚が小さくなるように湾曲させることができ、下層を効果的に加工することができる。
【００６６】
図２（ｉ）に示す第９の工程は、保護膜４０の成膜工程である。保護膜４０はＭｇＯからなり電子ビーム蒸着法により誘電体層に成膜される。このときの保護膜４０の膜厚は約６００ｎｍである。
【００６７】
前記シート状誘電体材料２１を用いて誘電体層を形成したことにより、誘電体層に形成される凹部は、連続的になだらかに誘電体膜厚が小さくなるように湾曲した形状となり、ＭｇＯからなる保護膜も連続的に一様に成膜が可能となる。このため、放電開始電圧が低下し、消費電力が低減できるとともに、プラズマ放電時のスパッタから誘電体層を保護し、ＰＤＰパネルの寿命を改善することが可能である。
【００６８】
以上の工程で、所望の立体構造の誘電体を有するＰＤＰの前面パネルが得られる。
【００６９】
次に、本発明によるＰＤＰの製造方法において、背面パネルの製造方法について説明すると、まずフロート法により製造された背面パネルの背面側基板としてのガラス基板に対し、前面パネルと同様にしてアドレス電極を形成する。その上に前面パネルと同様にして誘電体層を形成し、その上に隔壁を形成する。
【００７０】
この誘電体層および隔壁の形成に利用する材料としては、ガラス粉末、結着樹脂および溶剤を含有するペースト状のガラス粉末含有組成物（ガラスペースト組成物）を調製し、このガラスペースト組成物を支持フィルム上に塗布した後、塗膜を乾燥して膜形成材料層を形成したもので、支持フィルム上に形成された膜形成材料層を、アドレス電極が形成されたガラス基板の表面に上記前面パネルと同様の手法で転写により固着し、この転写で固着された膜形成材料層を焼成することにより、前記ガラス基板の表面に誘電体層を形成することができる。
【００７１】
その後、隔壁を形成する方法としては、フォトリソグラフィー法やサンドブラスト法を用いて形成することができる。
【００７２】
次に、Ｒ、Ｇ、Ｂに対応する蛍光体を塗布し焼成を行って隔壁間に蛍光体層を形成することにより、背面パネルを得ることができる。
【００７３】
そして、このようにして作製した前面パネルと背面パネルとを、それぞれの表示電極とアドレス電極がほぼ直角に交差するように位置合わせをして対向配置し、その周辺部をシール材によって封着して貼り合わせ、その後隔壁で仕切られた空間のガスの排気を行い、次にＮｅ、Ｘｅ等の放電ガスを封入してガス空間を封止することにより、図３に示すような構成のＰＤＰを完成させることができる。
【００７４】
ところで、以上のようにして作製される本発明によるＰＤＰにおいては、誘電体層は、ガラス基板などの前面側の基板上に形成される下層誘電体と、発光画素領域毎に少なくとも一つの凹部が形成されるように所定の形状にパターニングされた上層誘電体とからなる２層構造であることを特徴とする。すなわち、前面側基板に形成される各行の表示電極は、マトリクス表示の各ラインにおいて、放電ギャップを挟んで隣接するように配列されており、隔壁と一対の表示電極で囲まれた領域が発光画素領域となり、この各発光画素領域の誘電体層に少なくとも一つの凹部が形成された形状となる。
【００７５】
ＰＤＰの高効率化を達成するためには、各発光画素領域において放電を制御することが不可欠である。特に、図３において、表示電極４に垂直な放電の広がりにおいては、バス電極４ｂが蛍光体からの発光光を遮るため、遮蔽される部分まで放電が広がることを抑制する必要がある。また、この方向には隔壁１０が存在しないため、そこから漏れる紫外線や蛍光体からの発光は全てブラックストライプに遮蔽されることとなる。さらに、表示電極４と平行な方向の放電の広がりは、隔壁１０付近での電子温度の低下により効率の低下を招く。
【００７６】
本発明の製造方法によれば、図６（ａ）に示されるように前面側基板３の誘電体層５にバス電極４ｂおよび隔壁１０よりも内側になるように、例えば深さ２０μｍの凹部２０を形成することで、膜厚の薄くなった凹部２０の底面は誘電体膜厚の低下により容量が大きくなるため、その部分に形成される壁電荷は他の部分よりも多くなり、さらに膜厚の低下により放電開始電圧が低下するため、放電は凹部２０の底面を主として発生することとなる。
【００７７】
このような構成により、表示電極４に水平および垂直に広がる放電を抑えることができ、効率の向上が図れる。なお、凹部２０の形態は多角形、円柱、円錐、直方体、台形なども考えられるが、これに限るものではない。
【００７８】
また、図６（ｂ）に示されるように、凹部２０の側面はなだらかに膜厚が変化してもよく、この場合は底面の放電で発生したＶＵＶの広がりを有効に利用できる。さらに、凹部２０の底面を誘電体膜厚が小さくなるように湾曲させることで、最も膜厚が低下した個所の放電電圧が低下するため、種火としての効果を得ることができる。
【００７９】
その他の高効率化として、蛍光体からの発光の取り出し効率を上げる、すなわち開口率を上げる方法がある。この場合は、バス電極４ｂを可能な限り発光画素領域から離す必要があるが、平行に走る隣のセルの表示電極４との距離が狭くなるため、電荷の移動が容易となり、発光を望まないセルが発光する、いわゆるクロストークが発生し、表示品質が著しく低下する問題がある。
【００８０】
本発明の製造方法において、凹部２０の形状を調整することで壁電荷の発生する位置を制御することができ、クロストークの発生も防止することができる。
【００８１】
さらに、ＰＤＰの効率向上のその他の方法として、Ｘｅ分圧を増加させる報告が多数なされているが、この場合はＸｅ分圧の上昇に伴い放電開始電圧も上昇するため、トレードオフの関係にある。そのため、Ｘｅ分圧で上昇する放電開始電圧をその他の方法で低下させる必要がある。この方法の一つとして誘電体層の薄膜化が考えられるが、誘電体層を薄くすると、異物などによる誘電体層の欠陥に起因する絶縁破壊の生じる確率が上昇し歩留りが低下する問題が生じる。特に、抵抗を下げる目的で形成されるバス電極は膜厚が４から７μｍと厚いため、誘電体層を薄くするとバス電極上の実効膜厚が低下し、絶縁破壊がバス電極近傍に集中する問題がある。
【００８２】
本発明の製造方法によれば、絶縁破壊が最も発生しやすいバス電極上の誘電体層の膜厚を容易に厚く形成することが可能なため、バス電極付近の絶縁破壊を防止でき、また誘電体層の膜厚の薄い部分は約０．１μｍの透明電極のみが存在するため、実効膜厚はほとんど変化しなく、これによって誘電体層の凹部を形成した構造とＸｅ分圧の上昇を合わせて用いることで、ＰＤＰの高歩留りと高効率を両立することができる。
【００８３】
また、従来の方法のように、２層からなる誘電体層を個別に焼成することにより凹部を形成した場合、その誘電体層の断面は、厚みが薄い部分が平坦で、その部分から厚みが厚い部分に急峻に立上った矩形状となり、厚みが薄い平坦部と厚い部分との界面が不連続となるため、その部分に保護膜が形成されず、放電開始電圧の増大により消費電力が増加するとともに、プラズマ放電時のスパッタにより誘電体層厚みが減少し、ＰＤＰの寿命が低下する恐れがある。しかも、２層の誘電体層を各々個別に焼成するため、ガラス基板に２度の温度履歴を与えることとなり、ガラス基板の歪や反りの増加によるアライメント精度の劣化、および残留応力の増加によるガラス基板の強度低下を招く恐れがある。
【００８４】
本発明の製造方法においては、２層のシート状誘電体材料を用い、所定の形状に成形した後、１度の焼成工程により焼成して誘電体層を形成しているため、本発明により得られる誘電体層は、上層誘電体の収縮時の応力により、下層が上層に引かれることで、下層の底面の膜厚をなだらかに変化させることができ、凹部を形成した場合に底面がなだらかに変化する形状のものを容易に作製することができ、保護膜が不均一になることによる寿命の低下や、ガラス基板の歪や反りの増加によるアライメント精度の劣化、および残留応力の増加によるガラス基板の強度低下を防ぐことができる。
【００８５】
また、本発明においては、感光性誘電体形成材料層のガラス粉末軟化点が誘電体形成材料層のガラス粉末軟化点よりも低いため、下地層から発生したガスは、軟化点が相対的に高く、高粘度の下層側の誘電体形成材料層により閉じ込められ、相対的に軟化点の低い上層側の感光性誘電体形成材料層への拡散が抑制され、一方相対的に軟化点が低く、低粘度の上層側の感光性誘電体形成材料層では層内部のガスが容易にすり抜けることができるため、気泡の残存がない高透過率、高輝度、高耐圧の誘電体層を得ることができる。
【００８６】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、ＰＤＰにおいて、放電開始電圧の低下に効果のある立体構造を持つ誘電体層を安定に精度良く、しかも作業効率の高い状態で容易に形成することができるという効果が得られる。しかも、連続的になだらかな保護膜を形成することができるため、ＰＤＰの長寿命化を図ることができ、さらには誘電体層の透過率の向上や基板の強度低下の防止の効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）、（ｂ）は本発明の一実施の形態によるシート状誘電体材料を示す概略構成図および断面図
【図２】（ａ）〜（ｉ）は本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの製造方法を示す工程断面図
【図３】プラズマディスプレイパネルを示す斜視図
【図４】（ａ）、（ｂ）は従来のシート状誘電体材料を示す概略構成図および断面図
【図５】（ａ）〜（ｉ）は従来のプラズマディスプレイパネルの製造方法を示す工程断面図
【図６】（ａ）、（ｂ）はプラズマディスプレイパネルの要部構造を示す斜視図および断面図
【符号の説明】
１  前面パネル
２  背面パネル
３、７  基板
４  表示電極
５、９  誘電体層
８  アドレス電極
２１  シート状誘電体材料
２２  支持フィルム
２３、３８  感光性誘電体形成材料層
２４、３７  誘電体形成材料層
２５  カバーフィルム
３１  ガラス基板
３３  透明電極
３６  バス電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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