(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の膜材料によって、ソース領域およびドレイン領域と、該ソース領域および該ドレイン領域の間において該ソース領域および該ドレイン領域と接続されたチャネル領域とが形成された薄膜トランジスタの製造方法であって、
ａ）前記ソース領域、前記ドレイン領域および前記チャネル領域とされるアモルファス状態の第１の膜の層を、シリコン、ゲルマニウム、シリコンカーバイド、およびシリコン−ゲルマニウム化合物からなる群より選択して、水平な上面を有するように堆積する工程と、
ｂ）該第１の膜の層の上面であって、前記ソース領域および前記ドレイン領域とされる領域の間の前記チャネル領域とされる領域に近接した５〜５０μｍ２の範囲の面積を有する島状の選択領域上に遷移金属を堆積し、遷移金属核を形成する工程と、
ｃ）該第１の膜を前記遷移金属とともに、６００〜８００℃の範囲の温度で１秒〜１５分の持続期間の急速熱アニール（ＲＴＡ）プロセスで加熱することにより、前記選択領域から前記第１の膜を、０．１〜１μｍ／秒の範囲の水平方向成長速度で水平方向に放射状に遷移金属半導体化合物として成長させて、その成長領域の拡大前線を、前記選択領域の面積よりも少なくとも１００倍大きい円形状に拡大させる工程と、
ｄ）前記遷移金属半導体化合物の第１の膜を冷却することにより、該第１の膜のアニールを完了する工程と、
ｅ）工程ｄ）の冷却と同時に、前記遷移金属半導体化合物の第１の膜が、結晶化した第１の膜に変換される工程と、
ｆ）結晶化された第１の膜を選択的にエッチングすることにより、遷移金属核の選択領域上の遷移金属半導体化合物を選択的に除去する工程と、
ｇ）前記工程ｆ）において除去されなかった前記第１の膜を用いて前記ソース領域、前記ドレイン領域、および前記チャネル領域を形成する工程と、
を包含する、薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項２】
前記工程ｂ）は、Ａｌ、Ｎｉ、Ｔｉ、ＣｏおよびＰｄからなる群より選択される遷移金属を堆積することを包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記工程ｃ）の前に、５℃／秒を越える速度で工程ｃ）のアニール温度まで昇温する工程をさらに包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記工程ｂ）の前に、
ａ1）前記第１の膜の上に位置する第２の膜の層を堆積する工程と、
ａ2）工程ａ1）で堆積された該第２の膜を選択的にエッチングすることにより、該第２の膜を通って前記第１の膜の選択領域に達し且つ該第１の膜の選択領域を規定する開口部を形成する工程と、をさらに包含し、
工程ｂ）は、工程ａ2）においてエッチングされた前記開口部を介して前記遷移金属を堆積することにより、前記第１の膜の選択領域中に前記遷移金属核を形成することを包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記工程ｂ）において、前記遷移金属核が約１６μｍ２の面積を有する選択領域上に堆積された膜であり、
前記工程ｃ）において、７００〜７３０℃の範囲の温度で約１分の持続期間のＲＴＡプロセスが用いられる、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記工程ｃ）において、前記成長領域の拡大前線を、前記選択領域の周囲の境界から約３０μｍ延びる円形状に拡大させる、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記工程ａ）において、前記第１の膜が、ガラス基板または該ガラス基板の上に位置するバリア層上に位置するように形成される、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記工程ｇ）の後に、
ｈ）前記チャネル領域上にゲート酸化物層を形成する工程と、
ｉ）該ゲート酸化物層上にゲート電極を形成する工程と、
ｊ）前記ソース領域および前記ドレイン領域にドーピング種を注入する工程と、
ｋ）前記ソース領域および前記ドレイン領域のアニールを行うことにより該注入された種を活性化して、トップゲートＴＦＴを形成する工程と、をさらに包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記工程ａ）において、前記第１の膜の厚さが２００〜１００００Åの範囲にある、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記工程ｂ）において、前記第１の膜中において前記遷移金属核が１×１０１８原子／ｃｍ3の濃度を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記工程ａ）は、前記第１の膜を、アモルファス材料および、微結晶を埋め込まれたアモルファス材料からなる群より選択することを包含する、請求項１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は一般に、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）プロセスおよび製造に関し、特に、ＴＦＴ多結晶膜ならびに、ニッケルシリサイドなどの遷移金属半導体化合物を用いて、シリコンウェハ上の選択的な位置からの横方向成長によるアモルファス膜の結晶化を誘導することにより、大きな粒子（large grain）の多結晶シリコンシートを形成するための方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
より高解像度なディスプレイを備えたより小型の民生用電子製品の需要のため、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の領域における研究開発が続けられている。ＬＣＤのサイズは、現在はＬＣＤの周辺に設けられている大規模集積（ＬＳＩ）および超大規模集積（ＶＬＳＩ）ドライバ回路を、ＬＣＤ自体の中に導入することによって減少することができる。外部に設けられた駆動回路およびトランジスタを排除することにより、製品サイズを縮小し、プロセスの複雑さおよびプロセス工程数を減少させ、最終的にはＬＣＤが実装された製品の価格が低減する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）はＬＣＤの主要部材であり、ＬＣＤのさらなる改善のために改良されなければならない部材である。ＴＦＴは典型的には、石英、ガラス、またはプラスチックなどの透明基板上に製造される。ＴＦＴは、ＬＣＤの様々な画素がドライバ回路に応答してチャージされることを可能にするためのスイッチとして用いられる。ＴＦＴ素子中の電子移動度を増大することにより、ＴＦＴ性能は改善され、ドライバ回路機能をＴＦＴ中に導入することが可能になる。トランジスタの電子移動度を増大させると、トランジスタのスイッチング速度がより高速になる。増大した電子移動度を有する改良型ＴＦＴにより、より小さいＬＣＤスクリーン、低消費電力、および高速なトランジスタ応答時間が得られる。ＬＣＤ解像度をさらに改善するためには、透明基板上に設けられたＴＦＴが、現在スクリーンの端部に沿って実装されているＩＣドライバ回路に匹敵する電子移動度特性を有することが必要である。すなわち、ディスプレイおよびディスプレイ全体にわたって位置するドライバＴＦＴが、実質的に同じレベルの性能で動作しなければならない。
【０００４】
アモルファス膜から活性領域が形成されている典型的な薄膜トランジスタのキャリア移動度は低く、０．１〜０．２ｃｍ2／Ｖｓ程度である。キャリア移動度は、結晶化シリコンを用いることで改善される。ＴＦＴドライバ回路に通常用いられる単結晶シリコントランジスタは、５００〜７００ｃｍ2／Ｖｓ程度の電子移動度を有する。多結晶シリコントランジスタの性能は両者の間であり、１０〜４００ｃｍ2／Ｖｓ程度の移動度を有する。１００ｃｍ2／Ｖｓを越える移動度を有する薄膜トランジスタであればおそらく、ＬＣＤの周辺に実装されるドライバ回路に取って代わる有用な素子となり得る。しかし、４０〜５０ｃｍ2／Ｖｓの電子移動度を有する多結晶ＴＦＴを製造することさえも困難である。
【０００５】
ＬＣＤに用いられる単結晶シリコン膜は、比較的脆い透明基板に接着される場合、作製が困難である。石英基板は高プロセス温度に耐え得るが、高価である。ガラスは安価であるが、６００℃を越える温度にかなり長い時間曝されると容易に変形する。多結晶シリコントランジスタの作製でさえも、ガラスを用いた際の低温結晶化プロセスを用いる必要性のために、非常に困難であった。約３０〜５０ｃｍ2／Ｖｓの移動度を有するＴＦＴを製造するためには、現在の多結晶化プロセスは典型的には６００℃において約２４時間のアニール時間を必要とする。これらのプロセスは、処理時間が長いためあまりコスト効率が高くなく、また製造されるＴＦＴはＬＣＤドライバ回路に適さない。
【０００６】
アモルファスシリコンを加熱して結晶化シリコンが形成されるプロセスは完全には理解されておらず、この点について研究が続けられている。温度、膜厚、アモルファス物質の溶解する程度、膜中の不純物、およびその他の多くのファクタの変化が、アモルファスシリコンのアニールに影響を与える。一般に、大きな粒子の結晶化、あるいは、大きいキャリア移動度をサポートし得るような結晶化は、融点の近傍の特定の温度にある多結晶膜内で発生する。この好適な温度未満の温度では、アモルファスシリコンが大きな粒子の領域を形成するほど、あるいは均一に結晶化した膜を形成するほど溶けない。この好適な温度を越える温度においては、すぐバルク核形成が起こる。アモルファス物質のバルク核形成により、アモルファス膜が比較的小さい粒子サイズに自発的に結晶化し、電子移動度が比較的小さくなる。
【０００７】
アモルファスシリコンを多結晶シリコンに変換するための様々なアニール方法が存在する。アモルファスシリコン膜を直接堆積することが、おそらくＴＦＴを作製するための最も安価な方法である。典型的には、透明基板を加熱されたサセプタ(susceptor)上に載置する。透明基板を、シリコンおよび水素元素を含有するガスに曝す。ガスが分解して、基板上に固相シリコンを残す。プラズマ増速化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）系においては、高周波（ＲＦ）エネルギーの使用によってソースガスの分解が助けられる。低圧化学気相成長（ＬＰＣＶＤ）または超高真空化学気相成長（ＵＨＶ−ＣＶＤ）系では、ソースガスを低圧にて熱分解的に分解する。光ＣＶＤ系では、光子エネルギーによりソースガスの分解を助ける。高密度プラズマＣＶＤ系においては、誘導結合型プラズマまたはヘリコン(helicon)ソースなどの、高密度プラズマソースが用いられる。熱線ＣＶＤ系においては、活性化された水素原子の生成が、ソースガスの分解につながる。しかし、直接堆積法により作製されるＴＦＴは性能特性が悪く、１〜１０ｃｍ2／Ｖｓ程度の移動度である。
【０００８】
固相結晶化（ＳＰＣ）は、シリコンを結晶化するための一般的な方法である。このプロセスにおいて、アモルファスシリコンを、少なくとも数時間、６００℃に近い温度に曝す。典型的には、ＬＣＤ基板の大きな束を、抵抗性加熱源を有する炉内で処理する。この結晶化プロセスから作製されるＴＦＴは、直接堆積法により作製されるものよりも高価であるが、５０ｃｍ2／Ｖｓ程度の移動度を有する。急速熱アニール（ＲＴＡ）は高温を用いるが、非常に短い期間のみである。典型的には、ＲＴＡの間、基板を７００℃あるいは８００℃に近い温度に曝すが、アニール処理は分または秒オーダーで比較的急速に起こる。曝露時間が短いため、ガラス基板は損傷を受けない。このプロセスは急速であるため、基板をシリアルに処理していくためには経済的である。また単一の基板は、基板の大きな束よりも高速にアニール温度に加熱することができる。タングステン−ハロゲンまたはＸｅアーク、熱ランプが、ＲＴＡ熱源としてしばしば用いられる。
【０００９】
エキシマレーザ結晶化（ＥＬＣ）プロセスもまた、アモルファスシリコンのアニールにおいてある程度良好に用いられてきた。レーザは、アモルファス膜のある領域を非常に短い期間だけ非常に高い温度に曝すことを可能にする。理論的にはこれにより、アモルファスシリコンが設けられる透明基板を劣化させることなく、アモルファスシリコンをその最適温度においてアニールする可能性が提供される。しかし、この方法の用途は、一部のプロセス工程の制御性が十分でないため、制限されてきた。典型的には、レーザのビームサイズは比較的小さい。ビームサイズ、レーザ出力、および膜厚のため、シリコンを最終的にアニールするために複数のレーザ通過あるいは複数のレーザショットを必要とし得る。レーザを正確に制御することが困難なため、複数のショットによりアニール処理に不均一性が発生してしまう。さらに、炉内で同一多数枚処理するのではなく、ウェハを連続的にアニールしなければならない。１００ｃｍ2／Ｖｓを越える移動度が得られるが、この方法によるＴＦＴは、直接堆積法またはＳＰＣ法により作製されたものよりもかなり高価である。
【００１０】
また、アルミニウム、インジウム−錫酸化物などの金属、およびニッケル、コバルトおよびパラジウムなどの遷移金属の使用によるシリコンの結晶化の促進も研究されている。ニッケルダイシリサイドとシリコンとの間の格子不整合が１％未満と小さいため、ニッケルは特に有望と考えられる。一般に、ＬＣＤ基板の収縮が減るように、従来の固相結晶化（ＳＰＣ）において典型的に必要とされるアニール温度を約６００℃から約５００℃〜５５０℃の範囲の温度に減少させるために、ニッケルが用いられてきた。ニッケルの使用はまた、アニール処理時間を大きく減少させる。このプロセスにより作製されるＴＦＴはコスト面においてＳＰＣ法で作製されたＴＦＴに並び、金属誘導型ＴＦＴの移動度は約１００ｃｍ2／Ｖｓに迫り得る。
【００１１】
しかし、金属誘導型結晶化は、アモルファスシリコン膜上に遷移金属を堆積し、遷移金属をアモルファスシリコンとともにアニールすることを必要とする。アニールの結果は、遷移金属化合物がどれくらいアモルファス膜中に拡散したかに依存する。アニールの結果の可能性として、未反応のアモルファスシリコン（またはバルクの核形成シリコン）、未反応の遷移金属、モノシリサイド、およびダイシリサイドが発生し得る。これらの化合物はすべて、トランジスタ中において高いリーク電流を誘発し得る。
【００１２】
Liuらの米国特許第5,147,826号は、不連続な金属膜をアモルファスシリコン上に堆積することにより、アニール温度が約５５０℃〜６５０℃に減少し得ることを開示している。Fornashらの米国特許第5,275,851号は、金属膜の広範な領域をシリコンに堆積する方法および、シリコンを結晶化するための低いアニール温度を開示している。しかし、いずれの方法も、非常に大きい電子移動度を有する多結晶シリコンＴＦＴを作製するために必要な、シリサイドにより増速された横方向の結晶成長を助けるものではない。いずれの方法も、トランジスタの重要領域において未反応の金属およびシリサイドを排除するための、シリサイドの横方向成長を制御する方法を開示していない。
【００１３】
ニッケルシリサイドをアモルファスシリコンとともに急速に熱アニールするための方法が、1997年６月20日付けで出願された、Masashi Maekawaを発明者とし「Thin-Film Transistor Polycrystalline Film Through Nickel Induced, Rapid Thermal Annealing and Method for Same」の名称を有する同時係属中の米国特許シリアルNo.08/879,386（Attorney Docket No. SMT 258）に呈示されている。同出願は、本願と同一の譲受人に譲渡されている。この特許出願は、ＲＴＡプロセスの使用により、多結晶の質を上げ、アニール時間を減少させることを開示している。しかし、この発明は、ニッケルのトランジスタの微妙な領域への侵入を防ぐ方法を開示していない。
【００１４】
ニッケルシリサイドを選択的に堆積してトランジスタのソース／ドレイン領域を２段階のアニール処理で結晶化するための方法が、1997年7月15日付けで出願された、Masashi Maekawaを発明者とし「Selective Silicide Thin-Film Transistor and Method for Same」の名称を有する同時係属中の米国特許シリアルNo.08/893,285（Attorney Docket No. SMT 239）に呈示されている。同出願は、本願と同一の譲受人に譲渡されている。しかし、金属誘導型のアニール処理は、用途によってはトランジスタ製造の後半の段階において面倒になり得る。
【００１５】
従って、金属誘導型アニール処理を用いて、トランジスタの重要な領域において高品質の多結晶膜を広い面積で作製できれば、有利である。
【００１６】
トランジスタ製造の早い段階において遷移金属を用いてトランジスタ活性領域を形成することができれば、有利である。
【００１７】
未反応の遷移金属およびシリサイド生成物がアニール後に容易に除去可能であれば、有利である。
【００１８】
シリサイド金属をトランジスタの便宜のよい非重要領域に導入することにより、設計レイアウトまたは構成要素の配置に影響することなくシリコンの結晶化を開始させ得れば、有利である。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
本発明の薄膜トランジスタの製造方法は、第１の膜材料によって、ソース領域およびドレイン領域と、該ソース領域および該ドレイン領域の間において該ソース領域および該ドレイン領域と接続されたチャネル領域とが形成された薄膜トランジスタの製造方法であって、ａ）前記ソース領域、前記ドレイン領域および前記チャネル領域とされるアモルファス状態の第１の膜の層を、シリコン、ゲルマニウム、シリコンカーバイド、およびシリコン−ゲルマニウム化合物からなる群より選択して、水平な上面を有するように堆積する工程と、ｂ）該第１の膜の層の上面であって、前記ソース領域および前記ドレイン領域とされる領域の間の前記チャネル領域とされる領域に近接した５〜５０μｍ２の範囲の面積を有する島状の選択領域上に遷移金属を堆積し、遷移金属核を形成する工程と、ｃ）該第１の膜を前記遷移金属とともに、６００〜８００℃の範囲の温度で１秒〜１５分の持続期間の急速熱アニール（ＲＴＡ）プロセスで加熱することにより、前記選択領域から前記第１の膜を、０．１〜１μｍ／秒の範囲の水平方向成長速度で水平方向に放射状に遷移金属半導体化合物として成長させて、その成長領域の拡大前線を、前記選択領域の面積よりも少なくとも１００倍大きい円形状に拡大させる工程と、ｄ）前記遷移金属半導体化合物の第１の膜を冷却することにより、該第１の膜のアニールを完了する工程と、ｅ）工程ｄ）の冷却と同時に、前記遷移金属半導体化合物の第１の膜が、結晶化した第１の膜に変換される工程と、ｆ）結晶化された第１の膜を選択的にエッチングすることにより、遷移金属核の選択領域上の遷移金属半導体化合物を選択的に除去する工程と、ｇ）前記工程ｆ）において除去されなかった前記第１の膜を用いて前記ソース領域、前記ドレイン領域、および前記チャネル領域を形成する工程と、を包含し、そのことにより上記目的が達成される。
【００２０】
前記工程ｂ）は、Ａｌ、Ｎｉ、Ｔｉ、ＣｏおよびＰｄからなる群より選択される遷移金属を堆積することを包含してもよい。
【００２１】
前記工程ｃ）の前に、５℃／秒を越える速度で工程ｃ）のアニール温度まで昇温する工程をさらに包含してもよい。
【００２２】
前記工程ｂ）の前に、ａ1）前記第１の膜の上に位置する第２の膜の層を堆積する工程と、ａ2）工程ａ1）で堆積された該第２の膜を選択的にエッチングすることにより、該第２の膜を通って前記第１の膜の選択領域に達し且つ該第１の膜の選択領域を規定する開口部を形成する工程と、をさらに包含し、工程ｂ）は、工程ａ2）においてエッチングされた前記開口部を介して前記遷移金属を堆積することにより、前記第１の膜の選択領域中に前記遷移金属核を形成することを包含してもよい。
【００２３】
前記工程ｂ）において、前記遷移金属核が約１６μｍ２の面積を有する選択領域上に堆積された膜であり、前記工程ｃ）において、７００〜７３０℃の範囲の温度で約１分の持続期間のＲＴＡプロセスが用いられてもよい。
【００２４】
前記工程ｃ）において、前記成長領域の拡大前線を、前記選択領域の周囲の境界から約３０μｍ延びる円形状に拡大させてもよい。
【００２５】
前記工程ａ）において、前記第１の膜が、ガラス基板または該ガラス基板の上に位置するバリア層上に位置するように形成されてもよい。
【００２６】
前記工程ｇ）の後に、ｈ）前記チャネル領域上にゲート酸化物層を形成する工程と、ｉ）該ゲート酸化物層上にゲート電極を形成する工程と、ｊ）前記ソース領域および前記ドレイン領域にドーピング種を注入する工程と、ｋ）前記ソース領域および前記ドレイン領域のアニールを行うことにより該注入された種を活性化して、トップゲートＴＦＴを形成する工程と、をさらに包含してもよい。
【００２７】
前記工程ａ）において、前記第１の膜の厚さが２００〜１００００Åの範囲にあってもよい。
【００２８】
前記工程ｂ）において、前記第１の膜中において前記遷移金属核が１×１０１８原子／ｃｍ3の濃度を有していてもよい。
【００２９】
前記工程ａ）は、前記第１の膜を、アモルファス材料および、微結晶を埋め込まれたアモルファス材料からなる群より選択することを包含してもよい。
【００５６】
本発明によれば、遷移金属を第１の膜層上面の小さな選択領域上に堆積し、後のアニール工程における遷移金属の横方向成長源として作用する非常に小さな遷移金属核を形成する工程であって、前記核は結晶化領域のサイズの１／１０未満であり典型的には１／１００以下の大きさである工程と、アモルファス状態の第１の膜を遷移金属とともにアニールし、遷移金属化合物を横方向に成長することによって選択領域から前線に流出させ、アモルファス状態の第１の膜中を通る拡大する前線において遷移金属半導体化合物を一時的に形成し、冷却の際に、遷移金属半導体化合物を多結晶に変換させる工程と、アニールされた第１の膜を選択的にエッチングすることにより残存する遷移金属半導体化合物を除去する工程とを包含する、アモルファス薄膜を結晶化するための方法が提供される。このようにして、各領域間の電子移動度が改善された、大きな粒子サイズの多結晶材料からなる比較的大きなシートが形成される。
【００５７】
遷移金属は、遷移金属として作用する傾向のあるＡｌならびに、Ｎｉ、Ｔｉ、ＣｏおよびＰｄから選択される。第１の膜材料は、シリコン、ゲルマニウム、シリコンカーバイド、またはシリコン−ゲルマニウム化合物のいずれかである。
【００５８】
第１の膜の上に位置する第２の膜層が、選択的にエッチングされることにより、第２の膜を通り第１の膜の選択領域に達し且つ第１の膜の選択領域を規定する開口部が形成される。次に、開口部を通じて遷移金属が堆積されることにより、第１の膜の選択領域中に遷移金属核が形成される。
【００５９】
以下に作用を説明する。ＲＴＡアニール処理におけるように６００℃を越える高いアニール温度を用いる場合、横方向成長前線は高速に移動する。この結果、高いアニール温度を用いる場合には、より小さな遷移金属核が必要となる。アニール温度が６００℃を越える場合、遷移金属核の選択領域は、５〜５０平方ミクロン（μｍ2）の範囲のサイズを有する。遷移金属は、選択領域の内部の、薄く不連続な膜である。より小さな遷移金属核により、トランジスタの設計者に、より大きな配置の自由度が提供される。すなわち、遷移金属核は、ＩＣ上の素子パターン間に位置され得るほど小さい。
【００６０】
遷移金属の横方向成長の速度は、アニール温度に依存することが公知である。従って、成長拡大前線におけるシリサイド生成物の位置を知ることができる。シリサイド核の選択領域の端部から約３０μｍ離れた場所で全ての生成物をエッチング除去することにより、結晶化した第１の膜のみが残る。
【００６１】
また、本発明のアモルファス薄膜を結晶化するための方法によれば、各領域間の電子移動度が改善された、大きな粒子サイズの多結晶材料からなる比較的大きなシートが形成される。
【００６２】
さらに、本発明の上述のプロセスにより形成される、低いリーク電流および大きい電子移動度を有する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）製品が提供される。本ＴＦＴは、第１の膜の選択された領域上に遷移金属を堆積し、第１の膜をアニールすることによって形成された、結晶化した第１の膜材料からなるソース／ドレインおよびチャネル領域を有する。
【００６３】
拡大する前線に沿った横方向成長により、遷移金属半導体化合物が、アモルファス状態の第１の膜に接する拡大前線よりも後方に形成され、膜の冷却後、結晶化した第１の膜材料が前線よりも後方に残される。アニール後、アニールされた第１の膜にパターンエッチングを行うことにより、横方向成長前線上の遷移金属半導体化合物を除去する。結晶化膜のパターンは遷移金属核の少なくとも１０倍の大きさを有し、典型的には１００倍以上大きい。その後、ソースおよびドレイン領域を結晶化膜中に規定し、ソース／ドレインの周囲領域をエッチングおよび酸化することにより、トランジスタの活性領域を絶縁し得る。
【００６４】
本ＴＦＴはまた、チャネル領域の上に位置するゲート酸化物層および、ゲート酸化物層の上に位置するゲート電極を有する。あるいは、上述の手順を用いてボトムゲート(bottom gate)ＴＦＴを作製することが可能である。遷移金属半導体化合物を除去していることにより、リーク電流が改善される。大きな粒子結晶であるトランジスタ活性領域は、大きい電子移動度を有する。
【００６５】
典型的には、ＴＦＴはさらに、ガラス基板および、ガラス基板の上に位置するバリア層を有する。エッチングされた多結晶領域を、バリア層上に位置するように形成する。このようなトランジスタ素子は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の製造に有用である。
【００６６】
【発明の実施の形態】
図１および図２は、トランジスタのソース／ドレイン領域を結晶化するための従来のサリサイドプロセスを示している（従来技術）。図１は、シリコンソース１２ａ、シリコンドレイン１２ｂ、およびシリコンチャネル領域１２ｃを有する、製造中のトランジスタ１０の平面図を示す。シリコン領域１２ａ、１２ｂおよび１２ｃは、酸化シリコン１４または同様の絶縁材料に囲まれている。ソース領域１２ａおよびドレイン領域１２ｂは、遷移金属層１６で覆われている。遷移金属層１６の堆積において、周囲領域１４を覆ってしまうことが典型的であるが、自己整合シリサイド（サリサイド）プロセスにおいては、遷移金属１６はシリコンとのみ反応する。従って、金属１６は領域１４の上に位置するようには図示していない。また、チャネル領域１２ｃは通常ゲート酸化物層によって覆われるため（あるいはプロセスのこの段階において既にゲート電極が作製されている場合はゲート電極によって覆われる）、遷移金属１６もチャネル領域１２ｃ上に位置するようには図示していない。明瞭さのため、ゲート酸化物層およびゲート電極のいずれも省略している。
【００６７】
図２は、アニール処理後の図１のトランジスタ１０を示している。シリコン領域１２ａおよび１２ｂから、横方向成長前線に沿って遷移金属１６が移動している。このアニール処理の終わりにおいて、２つの成長前線がチャネル領域の中央（１２ｄ）において交わる。遷移金属１６の成長前線よりも後方のシリコン領域は、遷移金属１６とともに、結晶化シリコン１８に変換されている。すなわち、シリコン領域１２ａ、１２ｂ、および１２ｃの一部が結晶化されている。シリコン領域１２ａ、１２ｂのバルクが結晶化シリコンであってもよいが、シリサイドなどの遷移金属半導体化合物の不在下においては、領域１２ｃおよび前線の交差部におけるアモルファスシリコン源に限界があるため、チャネル領域１２ｄ内にシリサイドの領域が形成され得る。
【００６８】
典型的には、ソース領域１２ａおよびドレイン領域１２ｂは、活性ソース／ドレイン領域の形成において、多量のドーピング物質(doping implants)に応答してアモルファス化する。ドーピング物質の活性化のために再びソース／ドレイン領域１２ａおよび１２ｂがアニールされる際、チャネル領域１２ｄ中の遷移金属粒子１６が、アモルファス状態のソース／ドレイン領域１２ａおよび１２ｂに舞い戻ってしまう危険が存在する。ソース／ドレイン領域１２ａおよび１２ｂ中の遷移金属粒子の存在により、リーク電流が増加し得る。なぜなら、遷移金属１６は逆バイアス結合にまたがってショートさせる傾向を有するためである。
【００６９】
図３および図４は、アモルファスシリコン層１１２上に形成されたトランジスタ１１０を示している（従来技術）。シリサイド金属１１６がトランジスタ活性領域外側に導入されている。図３は、結晶化後にアモルファスシリコン層１１２から形成される、ソース１１２ａ、ドレイン１１２ｂ、およびチャネル１１２ｃを示している。アニール中において、遷移金属１６の前線（矢印１１７で示す）が、シリコン層１２を横切って成長する。
【００７０】
図４は、アニール後のトランジスタ１１０を示す。活性領域１１２ａ、１１２ｂおよび１１２ｃを通じて横方向成長が続いている。すなわち、遷移金属半導体化合物１１７の形態である未反応の遷移金属１１６の前線が、シリコン膜１１２中を通って移動している。遷移金属１１６の横方向成長前線よりも後方に、多結晶シリコン１１８が位置している。実際には、成長前線よりも後方にある図３のシリコン１１２のシート全体が、活性領域１１２ａ、１１２ｂおよび１１２ｃを含み、多結晶シリコン１１８に変換されている。多結晶膜１１８を横切って延びる点線は、同一格子整合の領域間の境界を表す。アニール後、領域１１６および１１７中の遷移金属化合物をエッチングにより除去する。トランジスタ活性領域１１２ａ、１１２ｂ、および１１２ｃには、シリサイド１１７が存在しない。しかし、矢印１２０で示すように、横方向結晶化長あるいは成長前線が長いため、より長いアニール時間が必要であった。さらに、シリサイド領域１１６および１１７を素子製造において用いることができず、素子レイアウトの制約となっていた。
【００７１】
図５〜図９および図１２は、本発明による、低いリーク電流および大きい電子移動度を有する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）の形成工程を示す。図５は、アモルファス状態の第１の膜２１２から形成されている、トランジスタ２１０の平面図を示す。点線で示した領域２１２ａ、２１２ｂ、および２１２ｃは、本製造プロセスにおいて後に形成されるソース領域、ドレイン領域、およびチャネル領域の位置をそれぞれ示す。アモルファス状態の第１の膜２１２の選択領域２１５が、遷移金属２１６の堆積によって遷移金属核を形成する。遷移金属２１６は、イオン注入を含む当該分野において公知の任意の手段によって堆積される。
【００７２】
図６は、第１の膜２１２をアニールした後における図５のトランジスタ２１０を示している。アニール中、遷移金属半導体化合物２１７は、選択領域２１５を中心とする拡大前線に沿って、横方向に成長する。遷移金属核２１５と拡大前線２１９との間の成長領域（遷移金属核の選択領域２１５より少なくとも１０倍大きい）内に、結晶化した第１の膜材料２１８が形成される。本発明のいくつかの局面において、成長領域２１８は選択領域２１５の少なくとも１００倍の大きさを有する。横方向成長の拡大する前線および成長の方向を矢印２２０で表している。横方向成長前線２１９は、選択領域２１５のどの端部からも（例えば端部２２１からも）約３０μｍの距離延びている。直径６０μｍの領域が、典型的なトランジスタを形成するための実用的なサイズである。遷移金属半導体化合物２１７は、前線上に形成され、アモルファス状態の第１の膜２１２の外部領域に囲まれている。前線２１９の外側のアモルファス状態の第１の膜２１２は、時に、アニール温度に応答してバルク核形成を起こす。あるいは、選択領域２１５は図３に示すような狭辺状部分であり、この場合、横方向成長前線は、参照符号１１７に示されるように１次元である。あるいは、横方向成長は、参照符号１１７および２２０に示されるように２次元である。成長が１次元であるか２次元であるかに関わらず、結晶化領域は遷移金属選択領域の少なくとも１０倍である。
【００７３】
図７は、エッチング後における図６のトランジスタ２１０を示す。アニールされた第１の膜あるいは結晶化膜２１８にパターンエッチングを行い、横方向成長前線２１９上の遷移金属半導体化合物２１７を除去する。トランジスタ２１０をさらにエッチングすることにより、大きな粒子の結晶化した第１の膜材料２１８からなる、ソース２１２ａ／ドレイン２１２ｂおよびチャネル領域２１２ｃを形成する。あるいは、ソース２１２ａ／ドレイン２１２ｂおよびチャネル２１２ｃが、図１のソース２１２ａ／ドレイン２１２ｂと同じ形状およびパターンを有し、選択領域２１５がチャネル領域１２ｃからわずかにずれているように、エッチングを行う。図１の形状においては、アニール処理をわずかに長い期間行うか、より高い温度で行うことにより、遷移金属半導体化合物２１７のより大きな横方向成長に対応させる。
【００７４】
図８は、図５のトランジスタ２１０の部分断面図である。第１の膜２１２は、２００から１０，０００Åの範囲の厚さ２２２を有する。典型的には、第１の膜２１２は、シリコン、ゲルマニウム、シリコンカーバイド、およびシリコン−ゲルマニウム化合物からなる群より選択される材料である。第１の膜２１２は、アモルファス材料および、微結晶(microcrystallite)を埋め込まれたアモルファス材料からなる群より選択される。典型的には微結晶は、周囲のアモルファス物質と同じ材料である。現在ＴＦＴトランジスタの多くは、第１の膜厚を約５００Åとして作製される。ガラス基板２２４およびガラス基板２２４の上に位置するバリア層２２６が、ＬＣＤ用のＴＦＴ２１０の製造において典型的に用いられる。アモルファス状態の第１の膜２１２がバリア層２２６の上に位置している。第２の膜層２２８が、第１の膜２１２上に位置している。第２の膜２２８が選択的にエッチングされることにより、第２の膜２２８を通り第１の膜の選択領域２１５に達し、且つ第１の膜の選択領域２１５を規定する開口部が形成される。
【００７５】
図９において、第２の膜２２８にエッチングされた開口部を通して遷移金属２１６が堆積されることにより、第１の膜の選択領域２１５上に遷移金属核を形成する。遷移金属２１６は、開口部を通して堆積されるかイオン注入される。第１の膜２１２中における遷移金属の濃度は、１×１０18原子／ｃｍ3より大きい。遷移金属２１６の薄い厚さ２２９は典型的には、結晶粒子の横方向成長のための多くの別々の核を形成する、不連続な遷移金属の「島状部」からなる。遷移金属２１６は、遷移金属と同様な特性を有するＡｌならびに、Ｎｉ、Ｔｉ、ＣｏおよびＰｄなどの遷移金属からなる群より選択される。
【００７６】
アニール後、第２の膜２２８および、第２の膜２２６上に位置する遷移金属２１６が除去される。本発明のいくつかの局面において、第２の膜２２８は一時的なものであり、金属２１６の堆積後に除去される。あるいは、第２の膜２２８はゲート酸化物層であり、除去されない。
【００７７】
本発明のいくつかの局面において、意図したアニール温度に達成する前に実質的に結晶化が起こらないことを確実にするために、第１の膜２１２は約６００℃未満の温度に予め加熱される。すなわち、何らかの予備加熱工程中に形成される、１分子中に遷移金属１原子含有の（mono-transitional metal）半導体化合物は、結晶化プロセスには無関係である。１分子中に遷移金属２原子含有の(di-transitional metal)半導体化合物２１７は、温度が約５５０℃を越えるまで形成されない。第１の膜２１２に結晶化を開始させるのは、遷移金属２原子含有の半導体化合物２１７である。
【００７８】
５℃／秒を越える速度で予備加熱温度からアニール温度まで昇温することにより、第１の膜２１２を大きな結晶粒子を得るための意図した温度でアニールする。典型的には、予備加熱温度は６００℃未満の温度である。本発明の一局面において、アニールは、６００〜８００℃の範囲の温度において１秒から１５分間の範囲の持続期間のＲＴＡプロセスとして行われる。より高いアニール温度はより短いアニール時間につながり、より低いアニール温度はより長いアニール時間につながる。
【００７９】
図１０は、アニール温度と横方向成長速度との関係を示すグラフである。黒丸は、本発明におけるアモルファスシリコンのニッケル補助結晶化(Nickel-Aided crystallization:ＮＡＣ)を表す。他のマークは、様々な遷移金属堆積面積における、従来のＳＰＣプロセスを表す。本発明を用いれば、より高いアニール温度はより速い成長速度につながり、従ってより短いアニール時間につながる。本発明のいくつかの局面において、十分な温度を用いたＲＴＡプロセスにより、０．０１〜１０μｍ／秒の範囲の速度での横方向成長が誘導される。図１０のグラフは、６５０〜７５０℃の温度でのＲＴＡプロセスにより、０．１〜１μｍ／秒の横方向成長速度が得られる。上限温度は、ガラス基板に対する考慮および、アモルファス状態の第１の膜の自発的核形成により、制限される。
【００８０】
図９および図５にいったん戻り、選択領域２１５（すなわち遷移金属２１６が堆積されるウィンドウのサイズ）と、横方向成長速度との間にも関係が存在する。図１１は、ウィンドウのサイズと横方向成長速度との関係を示すグラフである。より大きいウィンドウおよびより高い温度により、最も速い速度が得られる。しかし、より小さなウィンドウをレイアウトし、設けることがより便利である。一般にウィンドウ、すなわち遷移金属核の選択領域は、１〜１０００平方ミクロン（μｍ2）の実効面積(practical area)を有する。図１０および図１１の研究から、遷移金属核が５〜５０μｍ2の範囲の選択された面積上に堆積された薄い不連続的な膜である場合、横方向成長速度は０．１〜１μｍ／秒の範囲であることがわかる。より詳細には、遷移金属核が約１６μｍ2の選択された面積２１５上に堆積された薄い不連続的な膜であり、アニールが７００〜７３０℃の範囲の温度で約１分間の持続期間のＲＴＡプロセスとして行われる場合、０．１〜１μｍ／秒の横方向成長速度が得られる。
【００８１】
図１２は、アニール後におけるトランジスタ２１０を示す。ソース２１２ａとドレイン２１２ｂとの間のチャネル領域２１２ｃ上に位置するゲート酸化物層２３０を示している。ゲート酸化物層２３０の上にゲート電極２３２が位置しており、トップゲート(top gate)ＴＦＴが作製される。あるいは、本発明はボトムゲートＴＦＴの作製にも用いられる。当該分野において周知であるため図示しないゲート電極が、ガラス基板上に堆積され、ゲート電極の上にゲート酸化物層が堆積される。ソース２１２ａ、ドレイン２１２ｂ、およびチャネル２１２ｃ領域の形成は、ボトムゲートＴＦＴが形成されるかトップゲートＴＦＴが形成されるかに関わらず、実質的に同じである。
【００８２】
典型的には、リンまたはホウ素がソース／ドレイン２１２ａ／２１２ｂに注入される。次に、トランジスタ２１０をアニールすることにより注入された種を活性化する。従来のプロセスと同様に、トランジスタ２１０を金属層間(intermetal)絶縁体（図示せず）で覆い、ゲート２３２、ソース２１２ａおよびドレイン２１２ｂに達するコンタクトホールを規定する。上述のＴＦＴ形成プロセスにより、大きい電子移動度および低いリーク電流を有するトランジスタ活性領域が得られる。
【００８３】
図１３は、本発明によるアモルファス膜を結晶化するための方法を示すフローチャートである。工程３００において、第１の膜を提供する。工程３０２において、水平な上面を有する第１の膜の層を堆積する。工程３０２は、シリコン、ゲルマニウム、シリコンカーバイド、およびシリコン−ゲルマニウム化合物からなる群より第１の膜を選択することを、包含する。工程３０２は、アモルファス材料および、結晶化プロセスをさらに進行させるための微結晶を埋め込まれたアモルファス材料からなる群より第１の膜を選択することを、包含する。本発明のいくつかの局面において工程３０２は、第１の膜の厚さが２００〜１０，０００Åの範囲にあることを包含する。
【００８４】
工程３０４において、第１の膜の層の上面の選択領域上に遷移金属を堆積し、遷移金属核を形成する。工程３０４は、Ａｌ、Ｎｉ、Ｔｉ、ＣｏおよびＰｄからなる群より選択される遷移金属を堆積することを包含する。本発明の一局面において、工程３０４は、遷移金属核が、１〜１０００μｍ2の範囲の面積を有する選択領域上に堆積された薄い不連続な膜であることを包含する。工程３０４はまた、第１の膜中において１×１０18原子／ｃｍ3の濃度を有する遷移金属核を包含する。
【００８５】
工程３０６において、アモルファス状態の第１の膜を遷移金属とともに加熱することにより、横方向の拡大前線（expanding horizontal front）と遷移金属核との間の成長領域中において、遷移金属半導体化合物の第１の膜を横方向に成長させる（選択領域から水平方向の前線が拡大していく）。成長領域は遷移金属核の選択領域に比べて大きい。本発明の一局面において、工程３０６は、６００〜８００℃の範囲の温度で１秒〜１５分の持続期間のＲＴＡプロセスを用いることを包含する。別の局面において、工程３０６は、０．０１〜１０μｍ／秒の範囲の速度の横方向成長を誘導するのに十分な温度におけるＲＴＡプロセスを用いる。
【００８６】
本発明の一局面において、工程３０４は、５〜５０μｍ2の範囲の面積を有する遷移金属核の選択領域を包含し、工程３０６は、０．１〜１μｍ／秒の範囲の横方向成長速度を包含する。この結果、遷移金属核が素子パターン間に堆積されることが可能なほど小さくなることから、レイアウトが助けられる。
【００８７】
本発明の別な局面において、工程３０４は、遷移金属核が、約１６μｍ2の選択領域上に堆積された薄い不連続な膜であることを包含し、工程３０６は、７００〜７３０℃の範囲の温度で約１分の持続期間のＲＴＡプロセスを用いることを包含する。この場合、工程３０６は０．１〜１μｍ／秒の範囲の横方向成長速度を包含する。典型的には、工程３０６は、工程３０４において堆積された遷移金属核の選択領域の周囲の境界から約３０μｍ延びる、横方向成長前線を包含する。
【００８８】
工程３０８において、第１の膜を冷却することにより、第１の膜がアニールされる。すなわち、アニール処理が完了する。工程３１０において、工程３０８の冷却と同時に、工程３０４において形成された遷移金属核の選択領域と、工程３０６において得られた拡大前線との間の成長領域を、結晶化した第１の膜に変換する。工程３１２は、アニール後に結晶化した第１の膜の連続的な領域が形成された、完成品である。
【００８９】
本発明のいくつかの局面において、工程３１０の成長領域と工程３０４の選択領域との比は、１０対１よりも大きい。典型的にはこの比は１００対１より大きい。
【００９０】
本発明のいくつかの局面において、工程３１０の後かつ工程３１２の前にさらなる工程が行われる。すなわち、工程３１０ａにおいて、工程３０６〜３０８でアニールされた第１の膜を選択的にエッチングすることにより、工程３０６において得られた拡大前線および工程３０４において形成された遷移金属核の選択領域上の遷移金属半導体化合物を除去する。このようにして結晶化した第１の膜が残存して、後の処理によりトランジスタの活性領域となる。
【００９１】
本発明のいくつかの局面において、工程３０６の前にさらなる工程を行う。すなわち、工程３０４ａ（図示せず）において、５℃／秒を越える速度で予備加熱温度から工程３０６のアニール温度まで昇温する。このようにして、第１の膜に対し、工程３０６において、大きな結晶粒子を得るための意図した温度でアニールを行う。
【００９２】
本発明の一局面は、工程３０４の前にさらなる工程を包含する。すなわち、工程３０２ａにおいて、第１の膜の上に位置する第２の膜を堆積する。工程３０２ｂにおいて工程３０２ａで堆積された第２の膜を選択的にエッチングすることにより、第２の膜を通って第１の膜の選択領域に達し且つ第１の膜の選択領域を規定する開口部を形成する。この場合、工程３０４は、工程３０２ｂにおいてエッチングされた開口部を介して遷移金属を堆積することにより、第１の膜の選択領域中に遷移金属核を形成することを包含する。工程３０４において遷移金属を堆積する別の方法として、イオン注入がある。
【００９３】
本発明のいくつかの局面において、工程３００は、ガラス基板およびガラス基板上に位置するバリア層を提供する。この場合、工程３０２は、バリア層およびガラス基板の上に位置する第１の膜を形成することを包含する。
【００９４】
本発明の一局面は、工程３１０ａの後にさらなる工程（図示せず）を包含する。すなわち、工程３１０ｂにおいて、工程３１０ａにおいて除去されなかったアニールされた膜を用いてトランジスタのソース、ドレイン、およびチャネル領域を形成することにより、結晶化した第１の膜から、遷移金属半導体化合物が存在することなくソース、ドレイン、およびチャネル領域が形成される。工程３１０ｃにおいて、工程３１０ｂで形成されたソース、ドレイン、およびチャネル領域の上に位置するゲート酸化物層を形成する。工程３１０ｄにおいて、ゲート酸化物の上に位置するゲート電極を形成し、工程３１０ｅにおいてドーピング種を注入し、工程３１０ｆにおいてアニールを行うことにより注入された種を活性化する。本発明の方法は、ボトムゲートＴＦＴの形成にも適用可能である。この場合、工程３００ａ（図示せず）においてゲート電極を形成し、工程３００ｂにおいてゲート酸化物を堆積する。
【００９５】
図１４は、アモルファス状態の膜を結晶化するための方法の別の局面を示す、フローチャートである。工程４００において第１の膜を提供する。工程４０２において、第１の膜の選択領域上に遷移金属核を堆積する。工程４０４において第１の膜および遷移金属をアニールすることにより、遷移金属核の選択領域と遷移金属半導体化合物の拡大前線との間に位置する成長領域（遷移金属核の選択領域より少なくとも１００倍大きい）中に、大きな粒子で結晶化した第１の膜の領域を形成する。工程４０６において、拡大成長前線中の遷移金属半導体化合物をエッチングにより除去する。このとき、核の選択領域中およびその周辺に残存する遷移金属半導体化合物を除去する。工程４０８は完成品であり、大きい電子移動度を有する、結晶化した第１の膜の連続的な膜が形成されている。
【００９６】
トランジスタ製造の早い段階において、ソースおよびドレイン領域が規定される前に、アモルファスシリコンを結晶化させて得られたシートを形成するための方法およびその生成物を開示した。本方法は、高いアニール温度および遷移金属を利用することにより、シリサイドの横方向成長の速度を増大させる。温度が高くなれば、より等方性のダイシリサイド成長前線が促進され、シリコン中にアモルファス残存領域が残る可能性が少なくなる。また小さい遷移金属核形成サイトは、トランジスタの中心近傍に、より容易に位置され得る。アニール後、シリサイド核形成サイトに近い領域が、ソース／ドレインおよびチャネル領域の形成に望ましい大きな粒子の多結晶シリコンを形成する。ソースおよびドレインの領域が規定される際に、シリサイド生成物はエッチングにより除去される。本発明のその他の変形例および実施形態が、当業者には明らかであろう。
【００９７】
【発明の効果】
上述のように、本発明のアモルファス膜の結晶化方法によれば、リーク電流が小さく電子移動度の大きい、高品質な多結晶膜を広い面積で作製できる。高温で短時間のアニール処理により、遷移金属の選択領域、すなわち遷移金属の導入部を小さくでき、その結果デバイスレイアウトの自由度を大きくできる。また、本発明によれば、上記のプロセスによって形成される薄膜トランジスタ製品が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】トランジスタのソース／ドレイン領域を結晶化するための、従来のサリサイドプロセスを説明する図である（従来技術）。
【図２】トランジスタのソース／ドレイン領域を結晶化するための、従来のサリサイドプロセスを説明する図である（従来技術）。
【図３】シリサイド化金属がトランジスタ活性領域の外側に導入される場合における、アモルファスシリコンの層の上に形成されたトランジスタを示す図である（従来技術）。
【図４】シリサイド化金属がトランジスタ活性領域の外側に導入される場合における、アモルファスシリコンの層の上に形成されたトランジスタを示す図である（従来技術）。
【図５】本発明による、低いリーク電流および大きい電子移動度を有する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）の形成工程を示す図である。
【図６】本発明による、低いリーク電流および大きい電子移動度を有する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）の形成工程を示す図である。
【図７】本発明による、低いリーク電流および大きい電子移動度を有する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）の形成工程を示す図である。
【図８】本発明による、低いリーク電流および大きい電子移動度を有する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）の形成工程を示す図である。
【図９】本発明による、低いリーク電流および大きい電子移動度を有する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）の形成工程を示す図である。
【図１０】アニール温度と横方向成長速度との関係を示すグラフである。
【図１１】ウィンドウのサイズと横方向成長速度との関係を示すグラフである。
【図１２】本発明による、低いリーク電流および大きい電子移動度を有する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）の形成工程を示す図である。
【図１３】本発明によるアモルファス膜を結晶化するための方法を示すフローチャートである。
【図１４】アモルファス状態の膜を結晶化するための本発明の方法の別の局面を示す、フローチャートである。
【符号の説明】
１２ａ  シリコンソース
１２ｂ  シリコンドレイン
１２ｃ  シリコンチャネル領域
１０、１１０  トランジスタ
１４  酸化シリコン
１６  遷移金属層
１８  結晶化シリコン
１１２  アモルファスシリコン層
１１６  遷移金属
１１７  遷移金属半導体化合物
１１８  多結晶シリコン
２１０  トランジスタ
２１２  アモルファス状態の第１の膜
２１２ａ  ソース
２１２ｂ  ドレイン
２１２ｃ  チャネル
２１５  選択領域
２１６  遷移金属
２１７  遷移金属半導体化合物
２１８  結晶化した第１の膜
２１９  横方向成長拡大前線
２２６  バリア層
２２８  第２の膜
２３０  ゲート酸化物層
２３２  ゲート電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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