(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも基材の一部にホログラム加工が施されてなる加飾成形品の製造方法において、
前記加飾成形品を成形するために用いられる金型の転写面の形成に用いる母体に、所定の凹凸からなる第１の表面状態を形成し、その第１の表面状態が形成された第１の表面状態面の少なくとも一部にホログラムフィルムを圧着してホログラムを転写して第２の表面状態からなる第２の表面状態面を形成した後、その第２の表面状態面が形成された前記母体を用いて金型を形成し、この金型により基材を成形することを特徴とする加飾成形品の製造方法。
【請求項２】
前記金型の形成に先立って、前記母体に前記第１の表面状態及び第２の表面状態とは異なる振幅を有する凹凸からなる第３の表面状態面を形成することを特徴とする請求項１に記載の加飾成形品の製造方法。
【請求項３】
前記母体から第１の反転型を形成し、この第１の反転型を変形させて、その変形させた第１の反転型を用いて前記金型を形成することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の加飾成形品の製造方法。
【請求項４】
前記母体から第１の反転型を形成した後に、第１の反転型から第２の反転型を形成し、この第２の反転型を用いて前記金型を形成することを特徴とする請求項１〜請求項３のうち何れか一項に記載の加飾成形品の製造方法。
【請求項５】
前記基材を形成する材料として透明な材料を用い、前記金型により前記基材を成形した後、同基材の少なくともホログラムが形成された面に被覆層を形成することを特徴とする請求項１〜請求項４のうち何れか一項に記載の加飾成形品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、少なくとも一部にホログラム加工が施されてなる加飾成形品の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、成形品には、その付加価値の向上を図るために、高い意匠性が求められることが多くなってきている。そして、こうした要求に応えるものとして、その意匠面にホログラム加工が施された加飾成形品が広く知られている。
【０００３】
こうした加飾成形品では、例えば、その意匠面に規則的に並ぶ微細な凹凸を形成したホログラムフィルムが貼着されている。そして、こうした意匠面では、上記形成された凹凸面によって光が反射され、それら反射された光が互いに干渉することで虹色の干渉色が生じる。すなわち、こうした虹色の干渉色が加飾成形品の意匠面に視認されるようになり、その加飾成形品は高い意匠性を発揮するようになる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、こうした加飾成形品では、ホログラムが形成された意匠面を所定の角度から見たときに、特定の部分において干渉色が視認され、その装飾効果が得られるようになっている。このため、この意匠面を見る角度によっては、その面のどこにも上記干渉色を視認できない、あるいはそのほとんどの部分で干渉色を視認できない等、期待した装飾効果を得られないといった不都合が生じることがある。そして、こうした不都合は、成形品の意匠性の向上に対する要求が日増しに高まってきている近年にあっては、もはや無視できないものとなってきている。
【０００５】
本発明は、このような従来の技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的としては、ホログラム加工が施された面における干渉色の視認性を向上させて、その意匠性を好適に向上させることのできる加飾成形品の製造に用いて好適な製造方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、本願請求項１に記載の発明は、少なくとも基材の一部にホログラム加工が施されてなる加飾成形品の製造方法において、前記加飾成形品を成形するために用いられる金型の転写面の形成に用いる母体に、所定の凹凸からなる第１の表面状態を形成し、その第１の表面状態が形成された第１の表面状態面の少なくとも一部にホログラムフィルムを圧着してホログラムを転写して第２の表面状態からなる第２の表面状態面を形成した後、その第２の表面状態面が形成された前記母体を用いて金型を形成し、この金型により基材を成形することをその要旨とするものである。
【０００７】
この本願請求項１に記載の発明では、高価なホログラムフィルムを金型の形成に際して用いるのみでよく、金型により基材を成形する際には、ホログラムフィルムを用いる必要がない。このため、高価なホログラムフィルムの消費量が大幅に低減されるとともに、予め形成された基材の表面にホログラムフィルムを積層するといった煩雑な工程を省略することが可能になる。また、所定の凹凸を有する第１の表面状態の少なくとも一部に重畳されるように、微細な凹凸からなるホログラムが第２の表面状態として形成される。これにより、単に平滑な面にホログラムを形成した場合と比べて、上記微細な凹凸による入射光の偏向方向の設定についての自由度が格段に高められる。このため、ホログラムを、広い角度範囲にわたって上記干渉色が視認されるように形成することが可能になる。従って、ホログラム加工が施された面における干渉色の視認性が向上され、その意匠性が好適に向上される加飾成形品を製造するに際し、その生産性が格段に向上される。なお、ホログラムが転写成形された金型を用いて加飾成形品が成形されるために、例えば凹部の内底部等、ホログラムフィルムを用いたホログラムの転写成形が困難な部分であっても、その形成が容易なものとなる。
【０００８】
また、本願請求項２に記載の発明は、前記請求項１に記載の加飾成形品において、前記金型の形成に先立って、前記母体に前記第１の表面状態及び第２の表面状態とは異なる振幅を有する凹凸からなる第３の表面状態面を形成することをその要旨とするものである。
この本願請求項２に記載の発明では、前記請求項１に記載の発明の作用に加えて、型成形により安価に製造することが可能になる。
【０００９】
また、本願請求項３に記載の発明は、前記請求項１または請求項２に記載の加飾成形品において、前記母体から第１の反転型を形成し、この第１の反転型を変形させて、その変形させた第１の反転型を用いて前記金型を形成することをその要旨とするものである。
【００１０】
母体にホログラムフィルムを圧着する装置の都合上、母体自体が湾曲若しくは屈曲していると、その圧着が困難なものとなる。そして、これは、加飾成形品の形状を規制する一因となっている。これに対して、前記本願請求項３に記載の発明では、前記請求項１または請求項２に記載の発明の作用に加えて、母体の第１の反転型を形成するとともに、この第１の反転型を変形させるといった簡易な手法をもって、任意の形状の加飾成形品を容易に形成することが可能になる。
【００１１】
また、本願請求項４に記載の発明は、前記請求項１〜請求項３のうち何れか一項に記載の加飾成形品において、前記母体から第１の反転型を形成した後に、第１の反転型から第２の反転型を形成し、この第２の反転型を用いて前記金型を形成することをその要旨とするものである。
【００１２】
この本願請求項４に記載の発明では、前記請求項１〜請求項３のうち何れか一項に記載の発明の作用に加えて、第１の反転型を例えば金属等の耐久性の高い材料で形成することで、第１の反転型から多数の第２の反転型を精度よく形成することが可能になる。これにより、１つの母体から精度の高い多数の金型を形成することが可能になり、生産性の更なる向上が実現されるとともに、大量生産への対応が容易なものとなる。
【００１３】
また、本願請求項５に記載の発明は、前記請求項１〜請求項４のうち何れか一項に記載の加飾成形品において、前記基材を形成する材料として透明な材料を用い、前記金型により前記基材を成形した後、同基材の少なくともホログラムが形成された面に被覆層を形成することをその要旨とするものである。
【００１４】
この本願請求項５に記載の発明では、前記請求項１〜請求項４のうち何れか一項に記載の発明の作用に加えて、型成形によって基材を形成した後、その基材の表面に被覆層を形成するといった容易な手法をもって、ホログラムが形成された面が保護されるとともに、この面の反対側の面に高い意匠性が発揮される加飾成形品を形成することが可能になる。
【００３２】
【発明の実施の形態】
（第１の実施の形態）
以下、本発明の加飾成形品を自動車用のオーナメントに具体化した第１の実施の形態について説明する。
【００３３】
はじめに、本実施の形態のオーナメントの具体構成を、図１〜図３に基づいて説明する。
なお、図１には本実施の形態のオーナメントの平面構造を示し、図２には図１の２−２線に沿った端面構造を拡大して示し、図３には同オーナメントの意匠面の断面構造の一部を拡大して示している。
【００３４】
図１及び図２に示すように、本実施の形態のオーナメント１０は、大きくは、透明な樹脂（例えばアクリル樹脂）により形成される基材１１と、同基材１１の背面１２全体を被覆するように形成された被覆層１３とにより構成されている。
【００３５】
以下、上記基材１１の形状を詳細に説明する。
上記基材１１の背面１２には、窪み１４が形成されている。また、この窪み１４の内底面１４ａには、複数の凹部１５が形成されている。それら凹部１５により、上記窪み１４の内底面１４ａには、意匠文字、例えば「ＴＧ」が刻印されている。そして、上記内底面１４ａと複数の凹部１５とにより断面矩形波状の第３の表面状態が構成される。この第３の表面状態における振幅は、上記内底面１４ａの平均高さに対する上記凹部１５の深さにより設定される。
【００３６】
また、上記窪み１４の内底面１４ａにおいて、凹部１５が形成されていない部分には、その表面に所定の振幅を有する凹凸が形成されており、これにより高い意匠性を発揮する第１の表面状態をなす意匠面１６が構成されている。この意匠面１６には、上記所定の凹凸として、オーナメント１０の長手方向（図１の左右方向）に延びる複数のシボ溝１７が形成されている。なお、図３に示すように、これらシボ溝１７は、断面略Ｖ字形状であって、その側面の傾斜角度が等しい角度に形成されている。また、これらシボ溝１７は、その開口幅や深さが不均一になるよう形成されている。そして、この意匠面１６における振幅は、上記シボ溝１７における凸部の最大突出部と凹部の最深部との高さの差により設定される。
【００３７】
更に、これらシボ溝１７の表面全体、すなわち上記意匠面１６全体には、ホログラム加工が施されている。なお、本実施の形態では、ホログラム加工として、意匠面１６上にその意匠面１６の振幅に比べて極めて微細な振幅を有する凹凸からなり、第２の表面状態をなすホログラム２５が上記意匠面１６に重畳するように形成されている。また、上記基材１１の背面１２には、その全体を被覆する被覆層１３が形成されている。なお、この被覆層１３は、例えば金属材料の蒸着膜により形成されており、基材１１の表面１１ａから入射する入射光の反射効率を向上させる反射層を兼ねている。
【００３８】
以下、こうしたオーナメント１０による作用を説明する。
このオーナメント１０では、複数のシボ溝１７が形成された意匠面１６に、微細な凹凸からなるホログラム２５が形成される。これにより、単に平滑な面にホログラム２５を形成した場合と比べて、上記微細な凹凸による入射光の偏向方向の設定についての自由度が格段に高められる。このため、意匠面１６に広い角度範囲にわたって上記干渉色が視認されるように、ホログラム２５を形成することが可能になる。
【００３９】
ところで、通常、本実施の形態におけるオーナメント１０のように、ホログラムが形成される加飾成形品では、予め形成された基材の表面にホログラム加工が施されたフィルムを圧着することでホログラムが転写形成される。あるいは、予め形成された基材にホログラム加工が施されたフイルムを貼着することで、その表面にホログラムが形成される。
【００４０】
これら手法は、何れも加飾成形品の各製品毎に高価なホログラムフィルムを用いるために、製造コストが高騰するといった問題がある。また、予め形成された基材に、フィルムを密着させる必要があるために、凹凸を有する面への加工は、困難であり、手間がかかるといった実情がある。
【００４１】
そこで、本実施の形態では、予めホログラム２５が転写成形された金型を用いて上記基材１１を成形した後、この基材１１の背面１２全体を被覆する被覆層１３を形成するといった手順で、オーナメント１０を製造するようにしている。
【００４２】
以下、こうしたオーナメント１０の製造手順を、図４及び図５に基づいて説明する。
このオーナメント１０は、例えば、以下に記載する手順を経て製造される。
【００４３】
「母体形成」
先ず、金型のキャビティの形成に用いる母体１８を形成する（図４（ａ））。
「シボ溝形成」
次に、この母体１８にあって、オーナメント１０の背面１２となる面にその長手方向に延びる複数のシボ溝１７を形成する（図４（ｂ））。具体的には、ダイヤモンドカット加工を用いて母体１８の表面を切削することで、上記複数のシボ溝１７をそれぞれ形成する。なお、本実施の形態では、こうした切削加工に際して、先端が断面三角形状のダイス２３を用いる。そして、このダイス２３によって切削する深さをシボ溝１７毎に適宜変化させる。これにより、これらシボ溝１７が、その開口幅や深さが不均一になるようにそれぞれ形成される。
【００４４】
「ホログラム形成」
次に、この母体１８の複数のシボ溝１７が形成された面の全表面にわたって、予めホログラム加工が施されたホログラムフィルム２６を密着させるとともに圧着させることで、母体１８上にホログラム２５を転写成形する（図４（ｃ））。
【００４５】
「凹部形成」
次に、上記複数のシボ溝１７やホログラム２５が形成された面に、切削加工を施すなどして複数の凹部１５を形成することで、上記意匠文字を刻設する（図４（ｄ））。
【００４６】
「１次マスター形成」
次に、周知の電気鋳造の手法を用いて、上記各種加工が施された母体１８の反転型であって第１の反転型である１次マスター１９を形成する（図５（ａ））。なお、この１次マスター１９は、ニッケル等の金属により形成される。このため、耐久性に優れており、この１次マスター１９をもとに多数の反転型を精度よく形成することが可能である。
【００４７】
「２次マスター形成」
次に、上記１次マスター１９から、樹脂材料等を用いて、その１次マスター１９の反転型である第２の反転型としての２次マスター２０を形成する（図５（ｂ））。
【００４８】
「金型形成」
次に、この２次マスター２０を用いて、この２次マスター２０に対応する形状のキャビティ２１を有する金型２２を形成する（図５（ｃ））。
【００４９】
「基材成形」
その後、この金型２２を用いて、上記基材１１を成形する（図５（ｄ））。これにより、母体１８に形成された複数の凹部１５、複数のシボ溝１７、ホログラム２５が転写成形された基材１１が形成される。
【００５０】
「被覆層形成」
そして、この基材１１の背面１２全体に、例えば真空蒸着法等といった手法を用いて、例えば金属被膜等からなる上記被覆層１３を形成する。これにより、上記オーナメント１０が完成される。
【００５１】
以下、こうした手順によってオーナメント１０を製造することによる作用を説明する。
すなわち、上記金型２２の形成においても、ホログラム２５を形成するためのフィルム２６は必要になる。しかしながら、一旦フィルム２６を用いて金型２２を形成した後においては、個々の基材１１にそれぞれフィルム２６を用いてホログラム２５を転写形成したり、ホログラムフィルム２６を貼着したりする手間が省略される。また、凹凸を有する面（本実施の形態では、意匠面１６）のように、フィルム２６の面全体への密着が困難な面にホログラム２５を転写形成する場合であっても、上記母体１８にホログラム２５を転写形成することで、個々の基材１１の意匠面１６にホログラム２５が形成される。
【００５２】
従って、本実施の形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（１）このオーナメント１０では、複数のシボ溝１７が形成された意匠面１６に、微細な凹凸からなるホログラム２５が形成される。これにより、単に平滑な面にホログラム２５を形成した場合と比べて、上記微細な凹凸による入射光の偏向方向の設定についての自由度が格段に高められる。このため、ホログラム２５が形成された面のより広い角度範囲にわたって上記干渉色が視認されるように、ホログラム２５が形成される。従って、ホログラム加工が施された面における干渉色の視認性を向上させて、その意匠性を好適に向上させることができる。
【００５３】
（２）このオーナメント１０では、その意匠面１６に形成される複数のシボ溝１７が、その開口幅や深さが不均一に形成される。これにより、ホログラム２５を構成する微細な凹凸による入射光の偏向方向の設定についての自由度を好適に高めることができる。
【００５４】
（３）このオーナメント１０では、基材１１の背面１２に窪み１４が形成されるとともに、この窪み１４の内底面１４ａに複数の凹部１５が形成される。そして、それら凹部１５により、上記窪み１４の内底面１４ａには、文字が刻設される。これにより、意匠性をより好適に向上させることができる。
【００５５】
（４）このオーナメント１０では、ホログラム２５が形成された意匠面１６を含む基材１１の背面１２に、その全体を被覆するように、金属被膜からなる被覆層１３が形成される。このため、被覆層１３により意匠面１６が保護されるとともに、被覆層１３自体に装飾効果を発揮させることができる。また、この被覆層１３により、基材１１の表面１１ａから入射する入射光が効率よく反射され、ホログラム２５の視認性が向上される。そして、これらのため、その意匠性を更に向上させることができる。
【００５６】
（５）このオーナメント１０では、基材１１が透明な材料によって形成される。このため、被覆層１３が形成された面と反対側の面に高い意匠性を発揮させることができる。
【００５７】
（６）このオーナメント１０では、意匠面１６にシボ溝１７やホログラム２５といった比較的細かな凹凸が形成されている。この細かな凹凸は、基材１１を構成する樹脂の硬化に際して生じるものであってその基材１１の見栄えの低下を招くヒケを目立たなくさせる役割をも担う。
【００５８】
（７）上記実施の形態では、母体１８における複数のシボ溝１７が形成された面にホログラムフィルム２６を圧着することで、ホログラム２５を母体１８に転写成形させる。その後、この母体１８を用いて金型２２が形成され、この金型２２により基材１１が成形される。このため、ホログラム２５を形成するためのフィルム２６は、金型２２の形成に使用するのみでよく、金型２２を形成した後においては、個々の基材１１の成形時にフィルム２６を用いる必要がない。また、意匠面１６のように、フィルム２６の密着が困難な面にホログラム２５を形成する場合であっても、母体１８に予めホログラム２５を転写形成しておくことで、個々の基材１１の意匠面１６にホログラム２５を形成することができる。従って、極めて高価なホログラムフィルム２６の消費量や、ホログラム２５を形成する手間を大幅に低減することができ、オーナメント１０の生産性を格段に向上させることができる。
【００５９】
（８）上記実施の形態では、母体１８の複数のシボ溝１７やホログラム２５が形成された面に刻設された複数の凹部１５により意匠文字が形成されている。これにより、意匠文字をホログラム２５の中に浮き立たせることができ、意匠文字を有する意匠性の高いオーナメント１０を、型成形により安価に製造することができる。
【００６０】
（９）上記実施の形態では、各種加工が施された母体１８の反転型である耐久性に優れた１次マスター１９が形成された後、この１次マスター１９の反転型である２次マスター２０が形成され、更にはこの２次マスター２０を用いて金型２２が形成される。このため、１次マスター１９から多数の２次マスター２０を精度よく形成することができ、ひいては１つの母体１８から精度の高い多数の金型２２を形成することが可能になる。これにより、オーナメント１０の生産性を更に向上させることができ、大量生産に容易に対応することができる。
【００６１】
（第２の実施の形態）
以下に、本発明を具体化した第２の実施の形態について、前記第１の実施の形態との相違点を中心に、図６及び図７を参照して説明する。
【００６２】
なお、図６及び図７において、先の図１及び図２に示した第１の実施の形態の構成と同等の構成については、同一の符号を付して示し、以下での重複した説明を省略する。
【００６３】
図６及び図７に示すように、本実施の形態のオーナメント３０と前記第１の実施の形態のオーナメント１０とでは、オーナメント３０が長手方向に湾曲形成されている点が異なっている。
【００６４】
そして、このオーナメント３０についても、前記第１の実施の形態のオーナメント１０と同様に、予めホログラム２５が転写成形された金型２２を用いて基材３１を成形した後、その背面１２全体を被覆する被覆層１３を形成するといった手順で形成される。
【００６５】
こうした湾曲形状のオーナメント３０の製造は、前記第１の実施の形態で説明したオーナメント１０の製造手順に若干の変更を加えることで容易に実現される。
【００６６】
詳しくは、前記第１の実施の形態と同様に、前記「母体形成」、「シボ溝形成」、「ホログラム形成」、「凹部形成」、及び「１次マスター形成」といった手順を経た後、「２次マスター形成」が以下のように行われる。
【００６７】
「２次マスター形成」
すなわち先ず、１次マスター１９をその長手方向に湾曲するように塑性変形させる。そして、この塑性変形させた１次マスター１９からその反転型である２次マスター２０を形成する。これにより、２次マスター２０が湾曲形状に形成される。なお、上記１次マスター１９は、電気鋳造によって薄板状の金属で形成されているために、ホログラム２５を保持しつつ、その変形を容易に行うことができる。
【００６８】
その後、これも前記第１の実施の形態と同様に、前記「金型形成」、「基材成形」、及び「被覆層形成」といった手順を経て、上記オーナメント３０が完成される。
【００６９】
以下、こうした手順によってオーナメント３０を製造することによる作用を説明する。
本実施の形態では、湾曲された１次マスター１９を用いて金型２２が形成され、この金型２２を用いて基材１１が成形される。このため、予め湾曲形成された母体１８を用いることなく、湾曲形状の基材１１の成形に用いる金型２２が形成される。すなわち、湾曲形状のオーナメント３０を形成する場合であっても、金型２２の形成に用いる母体１８として、それ自体が湾曲されていないものを用いることができる。このため、母体１８へのホログラムフィルム２６の圧着作業が煩雑化することがない。従って、金型２２の形成に先立って形成される１次マスター１９を変形させるといった簡易な手法をもって、湾曲形状のオーナメント３０を容易に形成することができる。
【００７０】
従って、本実施の形態によれば、前記（１）〜（９）に記載した効果に加えて、以下のような効果を得ることができる。
（１０）本実施の形態によれば、１次マスター１９を変形させて金型２２を形成するといった簡易な手法をもって、湾曲形状のオーナメント３０を容易に形成することができる。
【００７１】
（変形例）
なお、上記各実施の形態は、以下のように変更して実施してもよい。
・上記第１の実施の形態では、１次マスター１９を金属材料を用いて形成するようにしたが、これに限定されるものではない。この１次マスター１９から少なくとも１つの２次マスター２０を形成できるものであれば、どのような材料を用いて形成してもよい。こうした材料としては、複数の２次マスター２０を形成可能な耐久性を有する材料が好ましい。
【００７２】
・上記第２の実施の形態では、１次マスター１９を金属材料を用いて形成するようにしたが、これに限定されるものではない。この１次マスター１９から少なくとも１つの２次マスター２０を形成できる材料であって、ホログラム２５を保持しつつ、１次マスター１９を所望の形状に変形可能な材料であれば、どのような材料を用いて形成してもよい。
【００７３】
・上記第２の実施の形態では、２次マスター２０の形成に際して、１次マスター１９をその長手方向に湾曲させるようにしたが、この１次マスター１９を、例えばその短手方向に湾曲させたり、長手方向及び短手方向ともに湾曲させたりしてもよい。また、湾曲形状に限定されず、例えば屈曲形状、波形状、鋸歯形状等といった任意の形状に１次マスター１９を変形させてもよい。要は、１次マスター１９が許容する変形に対応する形状であって、１次マスター１９を用いて形成した金型２２によって基材３１を成形した際に、同基材３１のホログラム２５等の意匠性が損なわれない程度の変形であれば、同１次マスター１９を任意の形状に変形させることができる。
【００７４】
・上記各実施の形態では、シボ溝１７が形成された意匠面１６のみにホログラム２５を形成するようにしたが、可能であれば、凹部１５にもシボ溝１７やホログラム２５を形成してもよい。また、凹部１５のみにシボ溝１７及びホログラム２５を形成してもよい。
【００７５】
・上記各実施の形態では、基材１１，３１を透明な材料により形成するようにしたが、同基材１１，３１を半透明な材料で形成してもよい。また、基材１１，３１を非透明な材料で形成してもよい。この場合には、透明若しくは半透明の材料を用いて被覆層１３を形成すればよい。これにより、基材１１，３１の背面１２に意匠性を発揮させることができる。
【００７６】
・上記各実施の形態では、被覆層１３を金属材料により形成するようにしたが、これに限定されるものではない。ホログラム２５の好適な保護や、オーナメント１０，３０の意匠性の好適な向上が可能であれば、例えば樹脂材料からなる塗料を塗布する等、金属材料以外の材料で被覆層１３を形成することができる。
【００７７】
・上記各実施の形態において、ホログラム２５の好適な保護が可能であれば、被覆層１３を省略してもよい。
・上記各実施の形態では、複数の凹部１５により、文字を刻設するようにしたが、これに限定されるものではない。文字に代えて、例えば製造者の社章や、自動車の名称、車格、エンブレム等といった任意の模様を形成することができる。
【００７８】
・上記各実施の形態では、母体１８から１次マスター１９を形成するようにした。これに代えて、母体１８から反転型を形成した上で、この反転型から１次マスター１９を形成するようにしてもよい。こうした手法によれば、例えば、図８に示すように、文字が形成された文字部４１よりもホログラム２５を有する意匠面４２が窪んだ背面形状を有するオーナメント４０を形成することが可能になる。そして、上記各実施の形態のオーナメント１０，３０とは異なる意匠性を発揮するオーナメント４０を形成することができる。
【００７９】
・上記各実施の形態では、「１次マスター形成」→「２次マスター形成」→「金型成形」といった手順を経て、金型２２を形成するようにしたが、これら手順のうち「２次マスター形成」を省略するようにしてもよい。この場合、１次マスター１９を金型２２のコアとして用いるようにすればよい。なお、第２の実施の形態では、任意の形状に変形させた１次マスター１９を、金型２２のコアとして用いればよい。
【００８０】
・上記各実施の形態において、複数の凹部１５を省略してもよい。
・上記各実施の形態では、ダイヤモンドカット加工により、母体１８に複数のシボ溝１７を形成するようにしたが、その加工方法は任意に変更可能である。
【００８１】
・上記各実施の形態では、シボ溝１７を断面Ｖ字形状に形成するようにしたが、例えば断面略Ｕ字形状等、その形状は任意に変更することができる。
・上記各実施の形態では、シボ溝１７をオーナメント１０，３０，４０の長手方向に延びるように形成したが、その延設方向は、例えば短手方向、斜方向、同心円状等、任意に変更可能である。
【００８２】
・上記各実施の形態において、個々のシボ溝１７の延設方向において、連続的に、あるいは断続的に、その凹部の開口幅や開口深さ、あるいはその凸部の突出幅や突出高さを任意に変更することも可能である。また、複数のシボ溝１７の延設方向をそれぞれ異なる方向に形成するようにしてもよい。更には、このシボ溝１７に代えて、例えば梨地のように、部分的に突出させたり、窪ませたりしてもよい。要は、干渉色についての好適な視認性が得られるのであれば、ホログラム２５が形成される面に形成する凹凸の形状は、任意の形状に変更可能である。
【００８３】
・上記各実施の形態では、ホログラム加工として、意匠面１６に微細な凹凸からなるホログラム２５を直接形成するようにした。これに代えて、意匠面１６への好適な貼着が可能であれば、ホログラム加工を、意匠面１６にホログラムフィルム２６を貼着することで施してもよい。こうした構成によっても、前記（１）〜（３）に記載の効果を得ることはできる。
【００８４】
・上記各実施の形態では、本発明を自動車のオーナメント１０，３０，４０及びその製造方法に適用するようにしたが、これに限定されるものではない。少なくともその一部にホログラムが形成される加飾成形品であれば、例えばバックパネル、インストルメントパネル等にも、本発明を適用することができる。
【００８６】
【発明の効果】
以上詳述したように、本願請求項１に記載の発明によれば、ホログラム加工が施された面における干渉色の視認性を向上させることができ、その意匠性を好適に向上させることができる加飾成形品を製造するに際し、その生産性を大幅に向上させることができる。
【００８７】
また、本願請求項２に記載の発明によれば、前記請求項１に記載の発明の効果に加えて、型成形により安価に製造することができる。
【００８８】
また、本願請求項３に記載の発明によれば、前記請求項１または請求項２に記載の発明の効果に加えて、簡易な手法をもって、任意の形状の加飾成形品を容易に形成することができる。
【００８９】
また、本願請求項４に記載の発明によれば、前記請求項１〜請求項３のうち何れか一項に記載の発明の効果に加えて、生産性を更に向上させることができ、大量生産に容易に対応することもできる。
また、本願請求項５に記載の発明によれば、前記請求項１〜請求項４のうち何れか一項に記載の発明の効果に加えて、容易な手法をもって、ホログラムが形成された面が保護されるとともに、この面の反対側の面に高い意匠性が発揮される加飾成形品を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態のオーナメントの平面図。
【図２】図１の２−２線に沿った端面構造を拡大して示す拡大端面図。
【図３】第１の実施の形態のオーナメントの意匠面を拡大して示す部分断面図。
【図４】同オーナメントの製造手順を示す工程図。
【図５】同オーナメントの製造手順を示す工程図。
【図６】本発明の第２の実施の形態のオーナメントの斜視図。
【図７】図６の７−７線に沿った端面構造を拡大して示す拡大端面図。
【図８】変形例のオーナメントの端面図。
【符号の説明】
１０，３０，４０…加飾成形品としてのオーナメント、１１，３１…基材、１３…被覆層、１５…第３の表面状態を構成する凹部、１６，４２…第１の表面状態及び第３の表面状態を構成する意匠面、１７…シボ溝、１８…母体、１９…第１の反転型としての１次マスター、２０…第２の反転型としての２次マスター、２１…キャビティ、２２…金型、２５…第２の表面状態を構成するホログラム、２６…ホログラムフィルム、４１…第３の表面状態を構成する文字部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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