(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスを除塵するための装置であって、粗ガス室（２９，７０）を取り囲む少なくとも１つの容器（３，５３）を有しており、粗ガス室（２９，７０）に隣接する壁部部分（１７，６１，２８１，２９１）が、粗ガス室（２９，７０）内に突入する少なくとも１つのフィルタ（１９，６３，２８２，２９２）と、液体を少なくとも１つのフィルタ（１９，６３，２８２，２９２）の外側面に向けて噴霧するための少なくとも１つの噴霧機構（１８５，２２５）を保持している形式のものにおいて、
前記壁部部分（１７，６１，２８１，２９１）が、この壁部部分によって保持された１つの又はそれぞれの噴霧機構（１８５，２２５）のための、粗ガス室（２９，７０）内に開口する開口部を備えた孔（１１１ｃ，１１１ｄ）を有しており、噴霧機構（１８５，２２５）が、前記孔（１１１ｃ，１１１ｄ）の開口部の、粗ガス室（２９，７０）とは反対側に位置する非作業位置から、粗ガス室（２９，７０）内に移動可能であって、１つ若しくはそれぞれの噴霧機構（１８５，２２５）のためにケーシング（１７３，２０３）が壁部部分（１７，６１，２８１，２９１）に固定されており、ケーシング（１７３，２０３）が、粗ガス室（２９，７０）とは反対側で、壁部部分（１７，６１，２８１，２９１）から突き出していて、孔（１１１ｃ，１１１ｄ）を、壁部部分（１７，６１，２８１，２９１）の、粗ガス室（２９，７０）とは反対側に隣接する室（３０，７１）に対して閉鎖しており、
ピストン（１８４，２２４）がケーシング（１７３，２０３）内で摺動可能にガイドされていて、噴霧機構（１８５，２２５）に結合されており、液体入口（１７７ａ，２１５）がケーシング（１７３，２０３）内で、ピストン（１８４，２２４）の、粗ガス室（２９，７０）とは反対側に設けられた中空室（１９３，２３７）内に開口しており、ピストン（１８４，２２４）が、中空室（１９３，２３７）を、噴霧機構（１８５，２２５）の少なくとも１つの液体出口孔（１８９，１９０，２３２，２３３，２３４）に接続する貫通孔（１９４，２３８）を有しており、粗ガス室（２９，７０）とは反対方向に向けられた力をピストン（１８４，２２４）に加えるばね（１９１，２３５）が設けられていることを特徴とする、ガスを除塵するための装置。
【請求項２】
ガスを除塵するための装置であって、粗ガス室（２９，７０）を取り囲む少なくとも１つの容器（３，５３）を有しており、粗ガス室（２９，７０）に隣接する壁部部分（１７，６１，２８１，２９１）が、粗ガス室（２９，７０）内に突入する少なくとも１つのフィルタ（１９，６３，２８２，２９２）と、液体を少なくとも１つのフィルタ（１９，６３，２８２，２９２）の外側面に向けて噴霧するための少なくとも１つの噴霧機構（１８５，２２５）を保持している形式のものにおいて、
前記壁部部分（１７，６１，２８１，２９１）が、この壁部部分によって保持された１つの又はそれぞれの噴霧機構（１８５，２２５）のための、粗ガス室（２９，７０）内に開口する開口部を備えた孔（１１１ｃ，１１１ｄ）を有しており、噴霧機構（１８５，２２５）が、前記孔（１１１ｃ，１１１ｄ）の開口部の、粗ガス室（２９，７０）とは反対側に位置する非作業位置から、粗ガス室（２９，７０）内に移動可能であって、
１つ若しくはそれぞれの噴霧機構（１８５，２２５）が、軸線（１７１，２０１）を中心にして回転可能な、液体出口孔（１８９，１９０，２３２，２３３，２３４）を備えた噴霧ヘッド（１８７，２２９）を有しており、前記液体出口孔が、軸線（１７１，２０１）に対して種々異なる角度を形成しており、少なくとも１つの液体出口孔（１９０，２３４）が配置されていて、噴霧ヘッド（１８７，２２９）が、液体を噴霧する際に、この液体によって生ぜしめられたスラスト力によって回転せしめられるようになっていることを特徴とする、ガスを除塵するための装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ガスを除塵するための装置、特に例えば薬品を製造するために使用される粒子状の原料を流通してガイドされるガスを除塵するための装置であって、粗ガス室を取り囲む少なくとも１つの容器を有しており、粗ガス室に隣接する壁部部分が、粗ガス室内に突入する少なくとも１つのフィルタと、液体を少なくとも１つのフィルタの外側面に向けて噴霧するための少なくとも１つの噴霧機構を保持している形式のものに関する。
【０００２】
まず以下に、本明細書で使用された「粗ガス室“Rohgas-Raum”」及び「純ガス室“Reingas-Raum”」について説明する。粗ガス室とは、濾過及び除塵しようとするガスを含有し、この粗ガス室からガスがフィルタ内に流入するようになっている、少なくとも１つのフィルタに隣接する室のことである。純ガス室とは、ガスが１つ若しくは多数のフィルタを貫流した後で流入する、１つ若しくは少なくとも１つのフィルタに隣接する室のことである。
【０００３】
【従来の技術】
このような装置は、粗ガス室を取り囲む少なくとも１つの容器と、粗ガス室内に突入する少なくとも１つのフィルタとを有している。この装置は、例えば１つの原料容器を有していて、ガスを粗ガス室を通して及びこの粗ガス室内に存在する粒子状の原料を通してガイドし、原料を移動させて処理するために構成されている。この場合、原料は、例えばガスによって流動せしめられるか及び／又は、粗ガス室の下側を制限する、円板を有するロータによって移動せしめられる。このような装置は、例えば粒子状の原料（少なくとも薬学的なつまり生物学的な作用を有する作用物質を備えた薬品を製造するために設けられている）を移動及び処理するために使用される。この場合、複数の若しくは少なくとも１つの作用物質は、乾燥又は湿った固形の状態で原料容器内にもたらされる粒子状の原料内に含有されている。しかしながらまた、原料容器内で粒子状の原料に、可能な限り溶融された又は拡散された液体を噴霧することも可能である。この装置は、原料容器に対して付加的に又は原料容器の代わりに、後置除塵装置及び／又はその他の、容器を備えた濾過装置を有している。この容器は、使用時にはそれ自体が粒子状の原料を収容してはいないが、この容器に、粒子状の原料を収容した別の原料容器から、除塵しようとするガスが供給されるようになっている。この装置はさらに、噴霧式乾燥装置として構成することができる。
【０００４】
ヨーロッパ特許公開第０５７２３５６号明細書により公知の流動層装置は、粒子状の原料を流動させるために使用される粗ガス室を収容する容器と、この容器内に突入する、鉛直方向に延びる少なくとも１つの、例えば繊維の製織品より成るフィルタ部材とを有している。容器は、カバーを有しており、このカバーは、各フィルタのための１つの孔を有している。これらの各孔は、カバーの上側に固定された円筒形のキャップによってカバーされており、このキャップは、ガス導出導管に接続された粗ガス室によって制限されている。各キャップは、カバーの近くに配置されたリング状の噴霧機構を備えた湿浄化装置若しくは洗浄装置を有しており、リング状の噴霧機構は、内方に向けられた液体出口孔を有している。
【０００５】
公知の流動装置の通常運転時においては、フィルタは濾過位置にあって、この濾過位置では、フィルタの上端部が、このフィルタに配属されたカバーの孔を覆うようになっている。次いで、粒子状の原料を流動させるために使用されるプロセスガスが、フィルタを通って純ガス室内に流入する。フィルタが液体によって浄化、つまり洗浄される場合には、フィルタは、装置の通常運転終了後に、調節装置によって、容器のカバーに設けられた孔を通って上方に向かってキャップ内に摺動せしめられて、この摺動中にリング状の噴霧機構によってフィルタに浄化液体が噴霧される。
【０００６】
ヨーロッパ特許公開第０５７２３５６号明細書により公知の装置においては、通常運転時に、容器の粗ガス室に隣接する、フィルタの外側面が、湿式浄化時に、キャップによって制限された純ガス室に達する。しかも通常の運転時においては、フィルタの上端部によって閉鎖された、容器カバーの孔が、湿式浄化時に粗ガスと純ガス室との間でキャップ内に接続部を形成する。従って、キャップの純ガス室とフィルタ内室とが、粗ガス室から生ぜしられる材料によって汚染される危険性がある。この材料は、後で行われるプロセスガスによる装置の運転時において、キャップから搬出され、装置の周囲を汚染する可能性がある。これは、毒性のある原料及び／又は薬品のための作用物質を処理する場合に非常に不都合である。さらにまた、湿式浄化時においては逆に、例えば前もって行われた湿式浄化時にキャップの純ガス室内に達する原料が、純ガス室内で浄化液体によって噴霧され、汚染される危険性がある。このような汚染過程は、処理しようとする原料の純度及び品質に不都合な影響がある。従ってこれは例えば、薬品を製造するための種々異なる原料を相次いで処理しようとする場合に、しばしば純度に対する非常に高い要求がかされるので、非常に不都合である。カートリッジ式フィルタは、しばしば非常に大きく重いので、フィルタを摺動可能にガイドし摺動さあせるためには、大きく高価なガイド部材及び調節装置が必要となる。しかも、容器のカバー上に存在するキャップ及び調節装置は大きいスペースを必要とする。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
そこで本発明の課題は、公知の装置における欠点を避けることができ、しかも特に、粗ガス室を、フィルタをブリッジする接続部によってこのフィルタに隣接する純ガス室に接続することなしに、１つ若しくはそれぞれのフィルタを液体によって良好に浄化若しくは洗浄することができるような、ガスによって除塵するための装置を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
この課題を解決した本発明の構成によれば、前記壁部部分が、この壁部部分によって保持された１つの又はそれぞれの噴霧機構のための、粗ガス室内に開口する開口部を備えた孔を有しており、噴霧機構が、前記孔の開口部の、粗ガス室とは反対側に位置する非作業位置から、粗ガス室内に移動可能であって、１つ若しくはそれぞれの噴霧機構のためにケーシングが壁部部分に固定されており、ケーシングが、粗ガス室とは反対側で、壁部部分から突き出していて、孔を、壁部部分の、粗ガス室とは反対側に隣接する室に対して閉鎖しており、ピストンがケーシング内で摺動可能にガイドされていて、噴霧機構に結合されており、液体入口がケーシング内で、ピストンの、粗ガス室とは反対側に設けられた中空室内に開口しており、ピストンが、中空室を、噴霧機構の少なくとも１つの液体出口孔に接続する貫通孔を有しており、粗ガス室とは反対方向に向けられた力をピストンに加えるばねが設けられている。
前記課題を解決した本発明の別の構成によれば、前記壁部部分が、この壁部部分によって保持された１つの又はそれぞれの噴霧機構のための、粗ガス室内に開口する開口部を備えた孔を有しており、噴霧機構が、前記孔の開口部の、粗ガス室とは反対側に位置する非作業位置から、粗ガス室内に移動可能であって、１つ若しくはそれぞれの噴霧機構が、軸線を中心にして回転可能な、液体出口孔を備えた噴霧ヘッドを有しており、前記液体出口孔が、軸線に対して種々異なる角度を形成しており、少なくとも１つの液体出口孔が配置されていて、噴霧ヘッドが、液体を噴霧する際に、この液体によって生ぜしめられたスラスト力によって回転せしめられるようになっている。
前記課題を解決した本発明の別の構成によれば、前記壁部部分が、この壁部部分によって保持された１つの又はそれぞれの噴霧機構のための、粗ガス室内に開口する開口部を備えた孔を有しており、噴霧機構が、前記孔の開口部の、粗ガス室とは反対側に位置する非作業位置から、粗ガス室内に移動可能であって、壁部部分が、粗ガス室に隣接する面を有していて、粗ガス室を、容器内で壁部部分の上側に位置する純ガス室に対して仕切っており、多数のフィルタ及び噴霧機構が、前記壁部部分で保持されていて、これらのフィルタ及び噴霧機構は、少なくとも１つの噴霧機構が液体を噴霧する際に多数のフィルタに噴霧できるように分配されており、粗ガス室から種々異なるフィルタを貫通して粗ガス室に達するガスを、純ガス室から導出ガイドするために、前記容器に、純ガス室に接続されたガス出口が設けられている。
前記課題を解決した本発明のさらに別の構成によれば、前記壁部部分が、この壁部部分によって保持された１つの又はそれぞれの噴霧機構のための、粗ガス室内に開口する開口部を備えた孔を有しており、噴霧機構が、前記孔の開口部の、粗ガス室とは反対側で粗ガス室の外側に位置する非作業位置から、粗ガス室内に移動可能である。
【０００９】
本発明の有利な実施例は、請求項２以下に記載されている。
【００１０】
【発明の効果】
本発明の構成によれば、１つ若しくそれぞれのフィルタは、後述する形式で湿式浄化されるか若しくは洗浄され、フィルタの噴霧時及び洗浄時において、このフィルタをブリッジするか若しくは迂回する、粗ガス室と、フィルタに接続された純ガス室との接続が形成される。これによって、塵及びその他の固形物質が、粗ガス室から純ガス室内に達し、この純ガス室から装置の周囲に達するか及び／又は後で粗ガス室に再び戻ることは避けられる。このことは特に、毒性の物質及び／又は作用物質を処理する場合に大きな利点である。
【００１１】
１つ若しくは各噴霧機構は、有利には１つの端面を有しており、この端面は、非作業位置で、粗ガス室に隣接する、噴霧機構を有する壁部部分の面に対して、少なくともほぼ、例えば正確に同一面を成している。さらにまた、１つ若しくはそれぞれの噴霧機構は、この噴霧機構のために設けられた孔を塵が侵入しないように閉鎖する。前記壁部部分及び、この壁部部分を保持する１つ若しくは各噴霧機構は、相応に、装置の通常運転時に、塵粒子又はその他の原料が固着する窪み及び／又は溝又はその他のデッドスペースを形成することはない。
【００１２】
１つ若しくはそれぞれの噴霧機構は有利には、フィルタよりも著しく小さく及び軽く構成されていて、有利にはその浄化位置で、１つ若しくは複数のフィルタよりも有利には著しくわずかに粗ガス室内に突入している。１つ若しくは各フィルタ及び、噴霧機構をガイド及び摺動させるために使用されるガイド並びに調節及び／又は摺動部材は、フィルタをガイド及び摺動させるために公知の装置において必要とされたガイド及び摺動部材よりも著しく小さく及び軽く構成することができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
次に本発明の実施の形態を図示の実施例を用いて詳しく説明する。
【００１４】
図１に示した流動層装置１は、原料及び流動層容器３を有しており、該原料及び流動層容器３は、鉛直方向の容器軸線４に対して回転対称的に配置された一般的なものである。容器３は、壁部５を有している。この壁部５は、図示していないフレームで保持されていて、解除可能に互いに密に結合された多数の壁部分、例えば下方から上方に向かって延びる底部−壁部部分６と、下側の円錐形の壁部部分７と、上側の円錐形の壁部部分８と、円筒形の壁部部分９と、カバー壁部部分１０とを有している。濾過容器底部１３は、底部−壁部部分６の上端部で容器内に配置されており、水平な旋回軸線を中心にして旋回可能であって、種々異なる旋回位置で固定可能である。原料−容器３はさらに、円筒形の壁部部分９の上半部内に配置され、この状半部に堅固に及び密に結合された内側の容器部分若しくは内側の壁部部分１７を有しており、この内側の壁部部分１７は仕切壁として使用される。
【００１５】
内側の壁部部分１７は、少なくとも１つのフィルタ１９を有しており、図２の実施例では例えば４つのフィルタ１７が、原料及び流動層容器３内で容器軸線４を中心にして分配して、互いに間隔を保って設けられている。各フィルタ１９は、内側の壁部部分１７に解除可能に固定されていて、この壁部部分１７から下方に突き出ている。壁部部分１７には各フィルタ１９のために、図１では概略的にのみ示された１つのガス浄化装置２０が固定されている。この浄化装置２０は閉鎖装置２１と純ガス入口２２とを有している。さらにまた内側の壁部部分１７は、フィルタ１９を湿式洗浄するための湿式浄化手段を有している。湿式浄化手段は、少なくとも１つの湿式浄化装置若しくは洗浄装置、つまり４つの第１の湿式浄化装置２３と、第２の大きい湿式浄化装置２５を有している。４つの第１の湿式浄化装置２３の軸線は、容器軸線４に対してフィルタ軸線よりも大きい間隔を有しており、４つの第１の浄化装置２３は一緒に１つのサークル状を形成していて、図２に示されているように、容器軸線に対して及びフィルタ軸線に対して平行な投影図で見て、それぞれの第１の湿式浄化装置が互いに隣接する２つのフィルタ１９間に位置するように容器軸線４を中心にして分配して配置されている。第２の湿式浄化装置２５は、内側の壁部部分１７の中心に位置している。
【００１６】
壁部部分６，７，８，９，１０は一緒に、壁部５の外壁を形成していて、容器内室２７を、周囲に対して気密に閉鎖している。濾過器底部１３と、仕切壁として使用される内側の壁部部分１７と、この壁部部分１７に固定されたフィルタ１９と、装置２１，２３，２６とは、内室２７を３つの部分に分割している。つまり下方から上方に向かって、ガス分配室２８と流動粗ガス室２９と浄化室３０とに分割している。
【００１７】
底部壁部部分６は、ガス入口３３とガス出口３４とを備えている。ガス出口３４は、貫通路と、この貫通路を選択的に開閉するための調節可能な閉鎖部材とを有している。少なくとも１つの湿式浄化装置若しくは洗浄装置３５は、濾過器底部１３の下部で、底部壁部部分６の外側に固定された、ケーシング３６を備えた保持部と、少なくとも１つの噴霧ノズル若しくは出口開口を備えた少なくとも１つの噴霧機構３７とを有している。濾過器底部の上側に配置された少なくとも１つの湿式浄化装置若しくは洗浄装置３９は、円錐形の壁部部分８の外部に固定された、ケーシング４０を備えた保持部と、少なくとも１つの噴霧ノズル若しくは吐出開口を備えた少なくとも１つの噴霧機構４１とを有している。
【００１８】
また、流動−粗ガス室２９内に配置された少なくとも１つの噴霧機構４４を備えた噴霧装置４３を設けてもよい。この噴霧機構４４は、結合材又は被覆材又はこれと類似のものを含有する噴霧原料を噴霧するための少なくとも１つの噴霧ノズルを有している。噴霧機構４４は、例えば、濾過器底部１３と湿式浄化装置３９との間で保持部によって円錐形の壁部部分８に固定されていて、この壁部部分８を貫通して延びる液体導管に接続されている。壁部５は、少なくとも１つのウインドを備えており、例えば各壁部部分７，８，９には少なくとも１つのウインド４５若しくは４６若しくは４７が配置されている。円筒形の壁部部分９は、内側の壁部部分１７の上側の面の外周部箇所で、選択的に開放可能又は遮断可能な液体出口４８と、内側の壁部部分１７の上側でガス出口４９とを備えている。
【００１９】
装置１は、容器５３を備えた後置除塵装置５１を有している。後置除塵装置５１の壁部５５は、一般的に、鉛直方向に延びる容器軸線５４に対して回転対称的であって、互いに解除可能に結合された多数の壁部部分、つまりほぼ円錐形で下方に向かって先細りする底部−壁部部分５６と、円筒形の壁部部分５７と、蓋−壁部部分５８とを有している。後置除塵装置−容器５３内には、仕切壁を形成する内側の容器部分若しくは内側の壁部部分６１が固定されている。内側の壁部部分６１にはフィルタ６３が解除可能に固定されており、このフィルタ６３には、閉鎖装置６５及び純ガス入口６６を備えたそれぞれ１つのガス浄化装置６４が配属されている。また、第１の湿式浄化装置若しくは洗浄装置６７と、第２の湿式浄化装置若しくは洗浄装置６８とは、内側の壁部部分６１に解除可能に固定されている。フィルタ６３と湿式浄化装置６７，６８とは、例えば壁部１７に配置されたフィルタ１９及び湿式浄化装置２３，２５と同じか又は類似した状態で、内側の壁部部分６１に分配されている。
【００２０】
壁部分５６，５７，５８は一緒に、壁部５５の外側壁を形成していて、内室６９を外部に対して気密に閉鎖している。仕切壁として使用される内側の壁部部分６１と、この壁部部分６１に固定されたフィルタ６３と、装置６４，６７，６８とは、内室６９を粗ガス室７０と純ガス室７１とに分割しており、この場合、粗ガス室７０は内側の壁部部分６１の下に位置していて、純ガス室７１は内側の壁部部分６１の上に位置している。容器５３は、粗ガス室７０内に開口するガス入口７３と、底部部分５６の下端部に配置され選択的に開閉可能な出口７４と、純ガス室７１から導出ガイドされたガス出口７５と、少なくとも１つのウインド７７と、内側の壁部部分６１の上側面の外周部箇所に配置され選択的に開閉可能な液体出口７８とを有している。
【００２１】
２つの容器３若しくは５３の壁部５及び５５は、ほぼ、つまり種々異なる壁部部分間に設けられたシール及びウインド及びこれと類似のものは度外視して、ステンレス鋼より成っている。各ウインドは少なくとも１枚の窓ガラスを有している。
【００２２】
流動層装置１はさらに、プロセスガスつまり空気を容器３，５３を貫通して下から上にガイドするためのガスガイド手段８１を有している。ガスガイド手段８１は、容器３，５３の周囲に対して開放して空気入口８３を有している。この空気入口８３は、ガス導管８４、遮断及び／又は調整装置８５、塵ガイド８６、ガス処理装置８７を介して原料容器３のガス入口３３に接続されている。ガス処理装置８７は、例えば加熱及び／又は冷却装置及び／又は除湿装置を有している。流動層容器３のガス出口４９は、ガス導管８９を介して後置除塵容器５３のガス入口７３に接続されている。後置除塵容器５３のガス出口７５は、ガス導管９１及び吸い込み装置９２を介して、周囲に開口している空気出口９３に接続されている。
【００２３】
流動層装置１は、概略的に示した純ガス供給手段９５を有しており、この純ガス供給手段９５は、例えばフィルタ、コンプレッサ及び圧縮空気容器を有している。純ガス供給手段９５はさらに、１つ又はそれぞれの圧縮ガス源に接続された遮断装置を備えている。この遮断装置は例えば、容器３の近くに配置された、電気的又は空圧式に操作可能な弁であって、この弁の出口は、破線の矢印で示したガス導管を介して、純ガス入口２２及び６４に接続されている。
【００２４】
この装置はさらに、概略的に示された浄化液体−供給手段９６を有している。この浄化液体−供給手段９６は、例えば少なくとも１つのポンプ、少なくとも１つの液体リザーバ及び遮断装置、例えば電気的又は空圧式に操作可能な弁を有している。これらは、破線の矢印で示された液体導管を介して、２つの容器３及び５３内に配置された湿式浄化装置２３，２５，３５，３９，６７及び６８に接続されている。
【００２５】
各フィルタ１９，６３は、フィルタ軸線に対してほぼ回転対称的に、摺動不能に内部の壁部部分１７若しくは６１に固定されている。各フィルタ１９，６３は、ほぼ堅固な形状を有するカートリッジ式フィルタとして構成されていて、同様にほぼ堅固な形状を有する、フィルタ軸線に対して同軸的でほぼ円筒形の金属製の、ガスを通す周壁を有している。この周壁は、空のフィルタ内室の大部分を取り囲んでいて、少なくとも２つ例えば３つの焼結された、種々異なる網目幅を有するワイヤ織原料を有している。周壁の最も外側つまり外周面を形成するワイヤ織原料は、最小の網目幅を有していて、周壁の外側面において、濾過しようとするガスから埃を除去するための濾過部材として使用される。周壁は、折り畳まれていないので、その外周面はほぼ滑らかである。
【００２６】
内側の壁部部分１７は、図３，図４，図８，図９に示されたプレート１１１を有している。これらのプレート１１１は、下部で粗ガス室２９に隣接する面１１１ａを有していて、それぞれ第１の湿式浄化装置２３のために、図３，図４に示された孔１１１ｃを備えていて、第２の湿式浄化装置２５のために、図８，図９に示された孔１１１ｄを備えている。孔１１１ｃ，１１１ｄは、貫通する孔より成っていて、面１１１ａから粗ガス室２９内に開口する開口部を有している。
【００２７】
第１の湿式浄化装置若しくは洗浄装置２３のうちの１つは、図３，図４に別個に示されている。各第１の浄化装置２３は、軸線１７１に対してほぼ回転対称的に配置されている。軸線１７１は、当該の浄化装置２３に配属された孔１１１ｃの軸線も形成している。各浄化装置２３はケーシング１７３を有している。このケーシング１７３は、壁部部分１７に固定されていて、粗ガス室２９とは反対側で、この粗ガス室２９から離れる方向に突き出していて、粗ガス室３０の自由な領域に対して孔１１１ｃをシールしている。ケーシング１７３は、金属製でリング状の下側のケーシング部分１７４を有しており、このケーシング部分１７４は、壁部部分１７のプレート１１１の孔１１１ｃのうちの１つ内に差し込まれていて、下側でプレート１１１の面１１１ａと同一面を成しており、上側でプレート１１１から突き出ていてプレート１１１に気密に例えば溶接によって固定されている。ケーシング部分１７４は、大部分が中空円筒形であって、その上端部で外方に突き出る不乱図１７４ａを有している。ケーシング１７３は、さらに上側のケーシング部分１７５を有している。このケーシング部分１７５は、円筒形の周壁と、この周壁の下端部で外方に突き出るフランジ１７６ａとを有するスリーブ１７６を有している。金属製のスリーブ１７６は、上端部で、このスリーブ１７６に例えば溶接によって気密に結合された金属製の端部部材１７７によって閉鎖されている。この端部部材１７７は、貫通するねじ山付き孔を有しており、このねじ山付き孔は、液体入口１７７ａとして使用され、図３及び図４に示されていない、浄化液体−供給手段９６の導管に解除可能に接続されている。
【００２８】
堅固な形状のプラスチックより成る一体的なガイド体１７９は、ケーシング１７３内に配置されていて、下側のケーシング部分１７４の下端部から上側のケーシング部分１７５の下側の終端区分まで延びている。ガイド体１７９は、下側のケーシング部分１７４及びスリーブ１７６の円筒形の内周面内にピッタリと合致する、円筒形の外周面と、外方に向かって２つのフランジ１７４ａと１７６ａとの間に突入するつば１７９ａとを有している。ガイド体１７９は、軸線１７１に対して同軸的な貫通する孔１７９ｂを備えている。この孔１７９ｂは、円筒形の孔区分１７９ｃと、この孔区分１７９ｃの下側で、円筒形の孔区分を備えた拡張部１７９ｄと、この拡張部１７９ｄからさらに下方に延びる、拡張された円錐形の孔区分１７９ｅとを有している。ガイド体１７９は、その下端部で、リング状で半径方向の平らな端面を有しており、この端面は、下側のケーシング部分１７４の下端部に設けられた、プレート１１１の面１１１ａの端面と、少なくともほぼ有利には正確に同一面を成している（つまり少なくともほぼ同一面、有利には正確に同一面を成している）。多数の部分の室又はブリッジより成る接続部材１８１は、２つのフランジ１７４ａ，１７６ａと取り囲んでいて、２つのケーシング部分１７５を、つば１７９ａが２つのフランジ間で緊締され、２つのケーシング部分１７４，１７５を互いにシールするように、互いに解除可能に接続する。シール１８２は、ガイド体１７９の外側面の溝内に配置されていて、このガイド体１７９をその下端部付近で下側のケーシング部分１７４に対してシールしている。
【００２９】
プラスチックより成る円筒形のピストン１８４は、スリーブ１７６内で摺動可能にガイドされている。ピストン１８４は、軸線１７１に対して同軸的な貫通する孔１８４ａを有している。この孔１８４ａは、雌ねじ山１８４ｂを備えた区分を有している。
【００３０】
一部が図５に示されている、多数の部分より成る噴霧機構１８５は、軸線１７１に対して同軸的な金属製のロッド１８６を有している。このロッド１８６は、上端部で、雌ねじ山１８５ｂにねじ込まれた雄ねじ山１８６ａを有している。このロッド１８６はさらに、円筒形の区分１８６ｂを有しており、この区分１８６ｂは、ガイド体１７９の孔区分１７９ｃ内で小さい遊びを保って摺動可能にガイドされている。ピストン１８５とは反対側に向けられた、ガイド体１７９の円筒形の孔区分１７９ｃから突き出る、ロッド１８６の短い円筒形の終端区分１８６ｃ（特に図５に示されている）は、区分１８６ｂの直径よりも小さい直径を有している。これら２つの円筒形の区分１８６ｂと１８６ｃとの間には、半径方向のショルダ面１８６ｄが設けられている。ロッド１８６は、中空であって、軸線１７１に対して同軸的な貫通する孔１８６ｅを有しており、該孔１８６ｅは、そのピストン１８５とは反対側の端部で雌ねじ山１８６ｆを備えている。またロッド１８６の終端区分１８６ｃは、軸方向の孔１８６ｅ内に半径方向で開口する少なくとも１つの孔１８６ｇを有している。
【００３１】
噴霧機構１８５はさらに、外側面１８７ａを備えたプラスチックより成る噴霧ヘッド１８７を有している（図６及び図７参照）。この外側面１８７ａは、下方に向かって拡張する円錐形の外周面を有している。この円錐形の外周面は、軸線１７１に対して、ガイド体１７９の孔１７９ｃの円錐形の区分１７９ｅと同じ角度を有していて、その下端部で、円錐形の孔区分１７９ｅと少なくともほぼ同じ直径を有している。噴霧ヘッドは、その下端部及び上端部でそれぞれ、平らな半径方向の端面によって制限されている。噴霧ヘッド１８７は、軸線１７１に対して同軸的な貫通する孔１８７ｂを有している。この孔１８７ｂは、拡張部１８７ｄによって２つの部分に仕切られている円筒形の区分１８７ｃを有していて、下端部で拡張部１８７ｅを有している。
【００３２】
噴霧ヘッド１８７は、軸線１７１を中心にして回転可能に、ロッド１８６の終端区分１８６ｃに小さい遊びを保って取り付けられていて、固定部材１８８によってロッド１８６に解除可能に接続されている。固定部材１８８は、ねじより成っていて、噴霧ヘッド１８６の雌ねじ山１８６ｆ内にねじ込まれたねじ山付き部分１８８ａと、噴霧ヘッド１８７の孔１８７ｂの拡張部１８７ｅとを有している。ねじ山付き部分１８８ａは、そのヘッド１８８ｂとは反対側の端部でスリット１８８ｃを有しているので、固定部材１８８は、ロッド１８６の上端部から孔１８６ｅ内に導入されるねじ回しによってロッド１８６内でねじ締め固定することができる。ヘッド１８８ｂは、そのねじ山付き部分１８８ａに向いた側で、半径方向の扁平な環状面が、ロッド１８６の端面に当接し、ショルダ面１８６ｄと協働して、噴霧ヘッド１８７を、最小の軸方向遊びを保ってロッド周囲で保持している。ヘッド１８８ｂは、そのねじ山付き部分１８８ａとは反対側で、完全に扁平な端面を有していて、噴霧ヘッド１８７の下側の端面と同一面を成している。ロッド１８６を取り囲む、拡張部１８７ｄの自由な領域は、噴霧ヘッド１８７のリング状の中空室１８７ｆを形成している。噴霧ヘッド１８７は、中空室１８７ｆから外側面１８７ａに延びる少なくも１つ、有利には多数の液体出口孔１８９，１９０を有している。この液体出口孔は、真っ直ぐであって、拡張部１８７ｄの自由な領域から種々異なる方向で外側面１８７ａに向かって延びている。出口孔１８９は軸線１７１と交差し、この軸線１７１に対して種々異なる角度を成している。出口孔１８９はさらに、軸線１７１を取り囲んで互いにずらしてグループ状に配置されている。例えば上端面に開口する２つの出口孔１８９と、円錐形の外周面に開口する４つの出口孔と、下端部面に開口する２つの出口孔１８９とが設けられている。出口孔はさらに、軸線１７１に対してはすかけ(windschief）に延びる少なくとも１つの出口孔１９０を有しており、この場合例えばこのような出口孔１９０が２つ設けられていて、円錐形の外周面に位置し、軸線１７１を中心にして１８０゜互いにずらして配置された出口開口を有している。各出口孔１９０は、軸線１７１と交差しない軸線を有していて、軸線１７１に対して、（軸線１７１に対して及びその固有の軸線に対して平行な面における投影図で見て）有利には少なくとも７０゜から有利には大きくとも１１０゜の角度を成している。一方の出口孔１９０は、例えば軸線１７１に対して直角な面に対して、拡張部１８７ｄから５゜〜１０゜だけ上方に傾けられていて、これに対して他方の出口孔１９０は、拡張部１８７ｄから５゜〜１０゜下方に傾けられている。
【００３３】
ばね１９１は、ガイド体１７９とピストン１８４との間に配置されていて、ロッド１８６を取り囲んでいて、その端部が、ガイド体１７９若しくはピストン１８４の孔１７９ｂ及び１８４ａの互いに向き合う拡張部内に侵入している。ばね１９１は、粗ガス室２９から離れて上方に向けられた力をピストン１８４に、及びこのピストンに結合された噴霧機構１８５に加えて、噴霧機構１８５を図９に示した非作業位置に押しやる。噴霧機構１８５の噴霧ヘッド１８７は、この噴霧機構の非作業位置において、噴霧ヘッド１８７の円錐形の外周面が、ガイド体１７９の円錐形の孔区分１７９ｅに当接する。次いで噴霧ヘッド１８７は、その下端部が少なくともほぼ、有利には正確にガイド体１７９若しくはケーシング１７１の下端部及びケーシング１７１及び下側の面１１１ａと同一列を成している。
【００３４】
ピストン１８４は、少なくともほぼ液密にスリーブ１７６の内周面に当接し、ロッド１８６に少なくともほぼ液密に結合されている。さらにまた、ガイド体１７９の孔区分１７９ｃは、ロッド１８６のための少なくともほぼ、例えば完全に液密な貫通ガイド部を形成している。固定部材１８８は、ロッド１８６の、軸１７１に対して同軸的な孔１８６ｅの下端部を少なくともある程度気密に閉鎖している。また、噴霧ヘッド１８７の円錐形の外周面は、この噴霧ヘッド１８７の非作業位置で、ガイド体１７９の孔１７９ｂの円錐形の区分１７９ｅに当接している。
【００３５】
液体入口１７７ａは、ケーシング１７３内で端部部材１７７とピストン１８４との間に設けられた中空室１９３内に開口している。軸線１７１に対して同軸的な孔１８６ｅ並びにロッド１８６の半径方向の孔１８６ｅは共に、貫通孔１９４を形成している。この貫通孔１９４は、ピストン１８４を貫通して、リング状の中空室１８７ｆと接続されていて、この中空室１８７ｆを介して液体出口孔１８９，１９０に接続されている。
【００３６】
第２の湿式浄化装置若しくは洗浄装置２５は、別個に図８に示されており、また部分的に図９に示されている。第２の湿式浄化装置２５は、軸線２０１に対してほぼ回転対称的である。この軸線２０１は、当該の装置に配属された、壁部部分１７のプレート１１１の孔１１１ｄを形成している。壁部部分１７は、プレート１１１の各孔１１１ｄにおいて、プレート１１１の上側に気密に固定された、つまり溶接された補強リング２０２を有している。この補強リング２０２は、孔１１１ｄに整列された、円筒形の孔２０２ａと、この円筒形の孔２０２ａの周囲に沿って分配された複数のねじ山付き孔２０２ｂとを有している。
【００３７】
第２の湿式浄化装置２５はケーシング２０３を有しており、該ケーシング２０３は、壁部部分１７に気密に固定されていて、粗ガス室２９とは反対側でこの粗ガス室２９から離れた方に突き出ている。ケーシング２０３は、下側のケーシング部分２０４を有している。このケーシング部分２０４は、その下端部でリングフランジ２０５を有しており、このリングフランジ２０５は、補強リング２０２の孔２０２ａを貫通して、プレート１１１の孔１１１ｄ内に突入していて、下部で扁平な端面を有している。この扁平な端面は、プレート１１１の面１１１ａに少なくともほぼ、有利には正確に同一列をなしている。リングフランジ２０５は、軸線２０１に対して同軸的な孔２０５ａを有しており、この孔２０５ａは、円筒形の区分と円錐形の区分２０５ｂとを有している。円錐形の区分２０５ｂは、円筒形の区分から離れる方向に拡張して、下端面に開口している。リングフランジ２０５はさらに、その外周面に沿って分配された孔２０５ｃを有していて、ねじ２０６によって補強リング２０２に固定されていて、シール２０７によって補強リング２０２に対してシールされている。下側のケーシング２０４は、さらに、一般的に円筒形の２つのスリーブ２０８，２０９を有しており、これらの２つのスリーブのうちの下側のスリーブ２０８は、リングフランジ２０５及び上側のスリーブ２０９に堅固にかつ気密に、例えば溶接によって結合されている。
【００３８】
ケーシング２０３は、互いに整列された２つのスリーブ２１２，２１３を備えた上側のケーシング部分２１１を有しており、２つのスリーブのうちの上側のスリーブ２１３は、上端部で端部部材２１４によって閉鎖されている。上側のスリーブ２１３は、その上端部付近で液体入口２１５を備えており、該液体入口２１５は、上側のスリーブから半径方向に突き出た、雌ねじ山を備えた管片によって形成されていて、図８に図示されていない、浄化液体供給手段９６に接続されている。２つのスリーブ２１２，２１３、端部部材２１４及び入口２１５は、互いに堅固にかつ気密に接続つまり溶接されている。
【００３９】
ガイド体２１９はプラスチックより成っていて、一般的に円筒形の外周面を有している。このガイド体２１９は、上側のケーシング部分２１１の下側のスリーブ２１２の、軸線２０１に対して同軸的な孔内に挿入されていて、下端部でつば２１９ａを有しており、該つば２１９ａは、スリーブ２１２の前記孔の拡張部内に突入している。ガイド体２１９はさらに、軸線２０１に対して同軸的で、貫通する円筒形の孔２１９ｂを有している。スリーブ２０９と２１２とは、その互いに向き合った端部で、外側に突き出ていて互いに当接し合うフランジを有している。これらのフランジを取り囲む接続部材２２１は、スリーブ２０９並びに２１２を接続し、ひいては２つのケーシング部分２０４，２１１を解除可能に互いに接続し、これによってガイド体のつば２１９ａも、２つのスリーブ２０９と２１２との間に緊締される。シール２２１は、２つのスリーブ２０９，２１２を互いに閉鎖する。プラスチックより成る円筒形のピストン２２４は、上部のケーシング部分２１１内で摺動可能にガイドされていて、軸線２０１に対して同軸的な、貫通する孔２２４ａを有しており、該孔２２４ａは、雌ねじ山を有する区分と、この区分の下で拡張部とを有している。
【００４０】
第２の湿式浄化装置２５は、噴霧機構２２５を有しており、この噴霧機構２２５は、軸線２０１に対して同軸的でほぼ円筒形の中空のロッド２２６を有している。このロッド２２６は、上端部で雄ねじ山を備えており、該雄ねじ山が、ピストン２２４の孔２２４ａの雌ねじ山にねじ込まれ、これによってロッド２２６はピストンに液密に結合されている。ロッド２２６は、ガイド体２１９の孔２１９ｂを貫通していて、この孔２１９ｂ内で摺動可能にガイドされ、貫通する軸方向の孔２２６ａを有している。ロッド２１９の下端部には、接続及び支承部材２２７が固定されている。この接続及び支承部材２２７内でロッド２２８は軸線２０１を中心にして回転可能に支承されており、このロッド２２８の下部は、接続及び支承部材２２７から突き出していて、貫通する軸方向の孔２２８ａを有している。噴霧機構２２５の噴霧ヘッド２２９は、ロッド２２８の下端部に気密に堅固に結合された中空体２３０を有している。この中空体２３０の外周面２３０ａは、大部分がほぼ球状であるが、ピストン２２４とは反対の側で、軸線２０１に対して直角で水平な面区分２３０ｂを有している。中空体２３０は中空室２３０ｃを形成している。噴霧ヘッド２２９はさらに、軸線２０１に対して同軸的でほぼ回転対称的な平らなプレート２３１を有しており、このプレート２３１は、中空体２３０の平らな面区分２２９ｃに当接する平らな面を有している。プレート２３１は、中空体とは反対側で、噴霧機構２２５全体の端面を形成する扁平な面２３１ａと円錐形の円錐形の縁部面２３１ｂとを有している。この縁部面２３１ｂは、軸線２０１に対して、円錐形の孔区分２０５ｂと同じ角度を形成している。噴霧ヘッド２２９は、いくつかの真っ直ぐに延びる液体出口孔２３２、２３３、２３４を有している。出口孔２３２及び２３３の軸線は、軸線２０１と交差しており、この軸線２０１に対して種々異なる角度を形成している。出口孔２３２は、中空室２３０ｃから外側面２３０ａの球状の区分まで延びている。２つの出口孔２３２は、中空室２３０ｃから平らな面区分２３０ｂまで延びていて、さらにプレート２３１を貫通して面２３１ａまで延びている。１つの又は各出口孔２３４は、軸線２０１に対してはすかけ(windschief)に延びていて、この場合軸線２０１を中心にして互いにずらして、はすかけに延びる、有利には２つの出口孔２３４が設けられている。
【００４１】
ガイド体２１９とピストン２２４との間に配置されたばね２３５は、粗ガス室２９から上方に向けられた力をピストン２２４に、及びこのピストン２２４に結合された噴霧機構２２５に加え、この噴霧機構２２５を、図８に示した非作業位置で保持するように働く。液体入口２１５は、ケーシング２０３内で端部部材２１４とピストン２２４との間に設けられた中空室２３５内に開口している。この中空室２３５は、ピストン２２４とロッド２２６，２２８と接続及び支承部材２２７とを貫通して延びる貫通孔２３６によって中空室２３０ｃに接続されていて、この中空室２３０ｃを介して噴霧ヘッド２２９の出口孔２３２，２３３，２３４に接続されている。
【００４２】
プレート１１１の孔１１１ｄ内に突入するケーシング２０３は、この孔１１１ｄを、純ガス室３０の自由な領域に対して気密に覆っている。噴霧機構２２５が、図８に示した非作業位置にあると、噴霧機構２２９のプレート２３１は、リングフランジ２０５の孔２０５ａの円錐形の孔区分２０５ｂを閉鎖し、これによってケーシング２０３の内室を粗ガス室２９に対して所定の程度だけ気密にシールする。この場合、噴霧ヘッド２２９の中空室２３０ｃは、まだ液体出口孔２３３によって粗ガス室２９に接続維持されている。噴霧ヘッド２２９と噴霧機構２２５全体の端面とを形成する、プレート２３１の面２３１ａは、噴霧機構２２５の非作業位置で、ケーシング２０２のリングフランジ２０５の下側の端面に対して、並びに粗ガス室２９に隣接する、プレート１１１の面１１１ａに対して、少なくともほぼ、有利には正確に同一面を成している。
【００４３】
第２の湿式浄化装置２５は、第１の湿式浄化装置２３よりも大きい外側寸法を有している。第２の湿式浄化装置２５の中空体２３０の直径は、第１の湿式浄化装置の噴霧ヘッド１８７の直径よりも、例えば少なくとも又はほぼ５０％大きい。洗浄液体−供給手段９６が、湿式浄化装置２３，２５に、さらに後述する浄化を行う際に、同じ圧力を有する浄化液体を供給する場合、第２の湿式浄化装置２５の噴霧率は、第１の湿式浄化装置２３の噴霧率よりも、例えば２倍〜５倍大きい。
【００４４】
湿式浄化装置２５若しくは３９のケーシング３６，４０は、壁部５のほぼ外側に配置されていて、外部に対して気密に閉鎖されたケーシング内室を有している。噴霧機構３７及び４１は、ケーシング３６若しくは４０内にほぼ水平方向に摺動可能にガイドされていて、選択的に非作業位置に又は浄化位置にもたらされる。非作業位置において、噴霧機構は容器内室２７のほぼ外側でケーシング３６若しくは４０内に位置している。ケーシング３６若しくは４０の内室は、例えば噴霧機構３７，４１及び／又は付加的な閉鎖部材によって、壁部５の内周面とほぼ同一面を成して容器−内室２７に対して閉鎖されている。各噴霧機構３７，４１は非作業位置では、少なくとも部分的にガス分配室２８内若しくは流動−粗ガス室２９内に位置している。
【００４５】
ケーシング３６，４０は、浄化液体のための液体入口を有している。各湿式浄化装置３５，３９は、例えば湿式浄化装置２３，２５と同様にばねを有していて、次のように構成されている。つまり、噴霧機構３７若しくは４１がもっぱらその非作業位置から、圧力下にある浄化液体を供給する際に、ばねによって生ぜしめられた戻し力に抗して浄化位置に摺動せしめられるように構成されている。次いで、噴霧機構３５若しくは４７は、浄化液体の供給が終了して、噴霧機構がばねによって非作業位置に押し戻されるまで、浄化位置に留まっている。
【００４６】
噴霧機構３７及び４１の噴霧ノズル若しくは出口開口は、この噴霧機構３７及び４１の浄化位置において例えばほぼ容器軸線４が延びる位置に配置されている。噴霧機構３７，４１は、この噴霧機構に供給された液体を例えば、かなり大きい立体角度に亙って延びる室内に噴霧する。下側の噴霧機構３７の複数若しくは単数の噴霧ノズル若しくは出口開口は、上方に向けられている。噴霧機構４１の、複数若しくは少なくとも１つの噴霧ノズル若しくは下方に向けられている。
【００４７】
後置除塵装置５１の湿式浄化装置６７，６８は、例えば原料容器３内に配置された湿式浄化装置２３，２５と同様に形成されている。
【００４８】
内側の壁部部分１７及び６１は、図１では、簡略化のために扁平及び水平に示されているが、実際には、有利には中央に向かって少なくとも部分的に上方にやや湾曲されていて、さらに一般にやや傾斜されているので、内側の壁部部分の縁部によって規定された面が、水平に対して例えば約２゜又は場合によっては５゜までの角度を形成しており、内側の壁部部分１７，６１の最も深い位置は、液体出口４８若しくは７８に位置している。内側の壁部部分１７の主要部分を形成するプレート１１１と、内側の壁部部分６１の対応するプレートとは、それに応じて少なくとも所々やや湾曲されていて、やや傾斜されている。それにも拘わらず、フィルタ１９，６３のフィルタ軸線は、すべて鉛直方向で容器軸線４若しくは５４に対して平行に延びている。湿式浄化装置２３若しくは２５の軸線１７１及び２０１は、プレート１１１のそれぞれ湿式浄化装置を支持する区分に対して垂直である。少なくとも所々で湾曲されたプレート１１１の曲率半径は、孔１１１ｃ，１１１ｄの、それぞれ面１１１ａに存在する縁部が、まだ少なくともほぼ１つの面内に位置していて、少なくともこの面をほぼ規定する程度の大きさである。噴霧機構１８５，２２５の非作業位置において粗ガス室２９に向けられ、この粗ガス室に隣接する、噴霧機構の平らな面は、孔１１１ｃ，１１１ｄの縁部によって規定された面内に位置している。粗ガス室３０，７１に隣接する、ガス及び湿式浄化装置の部分の上側に位置する面は、例えば少なくとも部分的に、外方に下方に向かってわずかに例えば約２゜円錐形に傾斜されている。湿式浄化装置においては、フィルタの周壁を貫通して、前記ガス及び湿式浄化装置の部分の上側に位置する面及び、内側の壁部部分１７，６１の上側の面に達する浄化液体は、液体出口４８，７８を通って迅速に導出される。
【００４９】
以下に、流動層装置１の駆動について説明する。
【００５０】
運転開始時においては、まず、例えば薬品を製造する際に使用される、粒子状の原料９９を例えば、図示していない、閉鎖可能な原料入口を通して流動−及び粗ガス室２９内に装入する。
【００５１】
以上述べた、粒子状の原料９９を処理するための装置の“通常”運転において、濾過器底部１３が、図１に示した通常の水平な運転位置に位置している。さらにまた、湿式浄化装置２３，２５，３５，３９の噴霧機構３７，４１，１８５，２２５は、粗ガス室２９の外側の非作業位置に存在している。後置除塵装置５１の湿式浄化装置６７，６８は、同様の状態にある。流動層装置容器３の原料出口と、後置除塵装置−容器５３の出口７４とは閉鎖されている。
【００５２】
粒子状の原料９９が容器３内に供給されると、ガスガイド手段８１によってプロセスガスが、原料及び流動層容器３並びに後置除塵容器５３を通じてガイドされる。この際に、プロセスガスとして使用される空気が吸い込み装置９２によって、外部からガス導管の空気入口８３内に吸い込まれ、塵フィルタ８６によって濾過され、ガス処理装置８７によって処理される。次いで空気はガス入口８７を通って容器３のガス分配室２８内に流入し、このガス分配室２８内で、濾過器底部１３及び流動層−粗ガス室２９を通って上方に流れ、この際に、粒子状の原料９９を流動させる。次いでこの原料９９は流動層を形成し、処理される。この際に、例えばまず流動時間中の一部において噴霧装置４４によって、液体が原料の粒子に噴霧され、これらの粒子を大きい粒子の塊にするか及び／又は粒子に被覆が施される。次いで、原料９９が、噴霧なしでさらに流動され乾燥される。また原料を前もって噴霧する必要なしに乾燥させることもできる。
【００５３】
プロセスガスを形成する、流動層によって上方のフィルタ１９に供給される空気は、一般的に塵、例えば粒子状の原料の摩耗原料及び場合によっては固形物の粒子を含有しており、これらの塵は噴霧された液体によって取り除かれるか又は分散させることができる。次いで空気はフィルタ１９の周壁を通ってフィルタ内室内に流入する。
【００５４】
フィルタの通常運転時において、閉鎖装置２１は、吸い込み装置９３によって容器３を通って吸い込まれた空気によって、次のような状態にもたらされる。つまり、空気が種々異なるフィルタ１９のフィルタ内室から閉鎖装置２１の通路を通って、すべてのフィルタ１９のために共通の純ガス室３０内に達し、この純ガス室３０からガス導管８９を通って後置除塵装置５１の粗ガス室７０内に流入することができるような状態にもたらされる。次いで、空気はフィルタ６３の周壁を通って、このフィルタ内に設けられたフィルタ内室内に流入し、このフィルタ内室から、後置除塵装置の純ガス室７１内に達し、この純ガス室７１から吸い込み装置９２を介して周囲に達する。空気は、フィルタ１９の周壁を貫流する際に濾過され、この際に空気内に含有された塵が、周壁の外側に存在する濾過部材で分離される。
【００５５】
フィルタ１９及び６３によって空気から分離され、周壁１２１の外側面に付着した塵は、フィルタの貫通流過速度を低下させる。従ってフィルタ１９，６３は、原料９９の流動中に交互に個別に又はグループ毎に純ガスによって浄化される。このような形式の浄化作業のために、純ガス供給手段９５が、１つ又は複数の浄化しようとするフィルタの純ガス入口２２，６２に純ガスを供給する。純ガス供給手段９５は、例えば純ガスパルスの連続を生ぜしめ、種々異なるフィルタに周期的に純ガスパルス供給する。純ガスは例えば空気より成っていて、この空気は、周囲から吸い込まれ、濾過されて純ガス供給手段９５のコンプレッサによって圧縮され、従って圧力は、周囲の空気圧よりも高く、また粗ガス室２９若しくは７０内で周囲の空気圧よりも一般的にやや低い圧力よりも高い。純ガス供給手段９５が、ガス浄化装置２１若しくは６４の純ガス入口２２及び／又は６６に、純ガスとして使用される圧縮空気を供給すると、この圧縮空気は、当該のガス浄化装置の閉鎖装置２１若しくは６５を次のように状態にもたらす。つまり、閉鎖装置が、所属のフィルタのフィルタ内室を純ガス室３０若しくは７１に対して閉鎖するような状態にもたらす。従って純ガスをフィルタに供給する間は、粗ガス室から当該のフィルタ内にプロセスガスがまったく流入しないか又は少なくとも事実上殆ど流入しない。純ガスとして供給された圧縮空気は、次いで、閉鎖装置の通路を通ってフィルタ内室内に流入し、また当該のフィルタの、ガスを通過させる周壁を通って粗ガス室２９若しくは７０内に流入する。この際に、純ガスとして使用される圧縮ガスは、フィルタの周壁に付着する塵を事実上完全にフィルタから取り除いて粗ガス室内に吹き落とす。純ガスとして使用される圧縮空気がまったく供給されないフィルタ１９は、フィルタの浄化中にプロセスガスを濾過する。
【００５６】
湿式浄化装置２３及び２５の噴霧機構１８５及び２２５は、装置１の通常運転中に、前述のように、図３及び図８に示した非作業位置にある。この非作業位置において、粗ガス室２９に隣接する、純ガス装置２３及び２５の部分は、少なくともほぼ、プレート１１１の面１１１ａと同一面を成している。次いで、ケーシング１７３及び２０３、ガイド体１７９、湿式浄化装置２３若しくは２５の摺動可能な噴霧機構１８５，２２５は、一緒に、プレート１１１の孔１１１ｃ及び１１１ｄを次のような形式で閉鎖する。つまり、壁部部分１７が湿式浄化装置２３，２５と一緒に、粗ガス室２９に隣接する、やや凹状及び／又は扁平でほぼ滑らかな、浄化液体出口孔２３３以外には孔が設けられていない面を形成するような形式で、孔１１１ｃ及び１１１ｄを閉鎖する。従って湿式浄化装置２３及び２５は、粗ガス室２９内に存在するか又は粗ガス室２９に隣接する角縁部、凹部、溝及びその他の、塵及びその他の不純物が堆積する可能性のあるデッドスペースを形成することはない。これと同様のことは、湿式浄化装置３５及び３９についてもあてはまる。ウインド４５，４６，４７，７７は、これらに結合された、壁部５若しくは５５の区分が同様に、塵又はその他の不純物が堆積する可能性のある、角縁部、凹部又は溝及び特にギャップ又は割れ目等を形成することはない。
【００５７】
粒子状の原料９９を装入する処理が終了すると、吸い込み装置９２はスイッチオフされ、プロセスガスの供給は終了し、原料９９は流動層容器３から取り出される。通常運転が終了し、原料容器３の排出作業が終了すると、ガス分配室２８特に流動−及び粗ガス室２９に隣接する、壁部５の内周面、フィルタ１９、濾過器底部１３、原料容器３のウインド４５，４６，４７の内周面は、湿式浄化にさらされるか若しくは洗浄される。さらにまた、粗ガス室７０に隣接する、壁部５５の内周面並びにウインド７７及び後置除塵装置５１のフィルタ６３は、湿式浄化にさらされる。浄化液体供給媒体９６は、選択的に種々異なる湿式浄化装置２３，２５，３５，３９，６７，６８に浄化液体を供給することができる。この浄化液体は、圧力が例えば２００ｋＰａから６００ｋＰａまで、温度が０℃以上例えば２０℃から１００℃まで場合によっては１５０℃までである。１つの湿式浄化においては、フィルタ及び壁部が例えばまず冷たい水で前洗浄され、次いで、洗剤又はその他の洗浄手段を含有する熱い水で洗浄され、最後に純水化された水によって後洗浄される。フィルタ１９及びその他の、容器３内に存在する部分を湿式浄化するために、例えば各浄化段階中に、それぞれまず浄化装置２３によって、次いで別の浄化装置２５によって、最後にさらに別の浄化装置３９，３５によって浄化液体が噴霧される。
【００５８】
第１の湿式浄化装置２３の噴霧機構１８５が、図３に示した非作業位置に存在し、浄化液体供給手段９６が浄化装置２３の液体入口１７７ａに浄化液体を供給すると仮定すると、浄化液体はケーシング１７３の中空室１９３内に流入し、ピストン１８４を、ばね１９１によって生ぜしめられた力に抗して下方に、粗ガス室２９に向かって、図４に示した位置に押しやる。この位置で、ピストンはガイド体１７９に当接する。ピストン１８４は噴霧機構１８５をその、図４に示した浄化若しくは噴霧位置に押しやる。ロッド１８６及び噴霧ヘッド１８７の一部は、この摺動運動によってケーシング１７４から及びプレート１１１の孔１１１ｃから突き出されて粗ガス室２９内に達する。噴霧装置１８５及び、噴霧機構１８５の摺動経路は、フィルタの軸方向寸法よりも著しく小さい。噴霧ヘッド１８７は、フィルタ１９の上終端区分の高さ領域で浄化位置に位置している。図１０に矢印で示されているように、湿式浄化装置２３に供給された浄化液体は、中空ヘッド１８７の中空室１８７ｆ内に流入し、次いで液体出口孔１８９，１９０を通って種々異なる方向で、噴霧ヘッド１８５から、粗ガス室の自由領域内に噴霧される。出口孔１９０を通じて噴霧された浄化液体は押しずらし力を生ぜしめる。この押しずらし力は、軸線１７１の関連して作用する噴霧ヘッド１８７に作用するトルクを生ぜしめるので、噴霧ヘッド１８７は、軸線１７１及びロッド１８６を中心にして回転せしめられ、各出口孔１８９，１９０は、円形軌道に沿って軸線１７１を中心にして移動せしめられる。
【００５９】
第２の湿式浄化装置２５の噴霧機構２２５が、図８に示した非作業位置に位置して、この第２の湿式浄化装置２５の液体入口２１５に、圧力下にある浄化液体が供給されると、この浄化液体は中空室２３７内に流入して、ピストン２２４を、ばね２３５のばね力に抗して生ぜしめられた力に抗して、ピストンガイド体２１９に当接する位置に押しずらす。この時にピストン２２４は噴霧機構２２５を、図９に示した浄化位置若しくは噴霧位置に押しやり、この際に、噴霧機構２２５の一部特に噴霧ヘッド２２９は、ケーシング２０３から及びプレート１１１の孔１１１ｄから出て粗ガス室２９内に押しやられる。次いで噴霧ヘッド２２９は、フィルタ１９の高さ領域内で、このフィルタの上端部付近に位置する。
【００６０】
第２の湿式浄化装置２５に供給された浄化液体は、中空室２３７から貫通孔２３８を通って噴霧ヘッド２２９の中空室２３０ｃ内に流入し、次いで液体出口孔２３２，２３３，２３４を通って粗ガス室２９内に噴霧される。この時に出口孔２３４から流れ出た液体は、噴霧ヘッド２２９を回転させる押しずらし力を生ぜしめる。
【００６１】
少なくとも１つの湿式浄化装置２３又は２５が浄化液体を噴霧すると、この噴霧液体の一部は、当該の浄化装置２３又は２５の近くに存在するフィルタ１９の周面にぶつかる。フィルタを噴霧洗浄する際に、浄化液体は、中空のフィルタ内室内にも達する。フィルタに外部から、浄化液体が噴霧されると、フィルタには、ガス浄化装置を介して周期的に交互に純ガスパルスが供給されるので、フィルタは湿式浄化中にパルス形式でガスによって吹き付けされる。噴霧の際にフィルタ内室内に達する浄化液体は、次いで、純ガスを通ってフィルタから吹き出されるか及び／又は重力に基づいて周壁の端部を貫流して再びフィルタから流れ出る。フィルタに浄化液体を噴霧するために瞬間的に使用された湿式浄化装置２３，２５は、浄化液体を上方に向かって壁部部分１７にも噴霧し、（当該の浄化装置の長さに関連して）壁部部分８，９にも並びに円錐形の壁部部分７及び濾過器底部１３に向かっても噴霧する。
【００６２】
湿式浄化装置２３又は２５への浄化液体の供給が終了すると、ばね１９１若しくは２３５は、噴霧機構１８５若しくは２２５を再び非作業位置に押し戻す。またフィルタへの噴霧が終了すると、フィルタは、尚所定の時間中だけ、断続的に又は連続的に純ガスによって吹き付けられる。
【００６３】
浄化液体供給手段９６が湿式浄化装置３５及び３９に浄化液体を供給すると、噴霧機構３７及び４１は、容器内室２７内に摺動し、浄化液体を濾過器底部１３に向かって、及び濾過器底部の付近に存在する、壁部５の内周面区分例えば壁部部分６，７，８に向かって噴霧する。装置２３，２５，３５，３９によって浄化液体を噴霧する際に、浄化液体はウインド４５，４６，４７の内側面及び噴霧機構４４にも噴霧される。しかも、噴霧時にフィルタ又は壁部部分にぶつかる浄化液体は、容器内で下方に流れるので、浄化装置２３，２５，３５，３９は、粗ガス室２９に隣接する、フィルタの全面と、流動−及び粗ガス室２９並びにガス分配室２８に隣接する、壁部５の全面とを浄化することができる。フィルタ１９及び濾過器底部１３を浄化する際に噴霧される液体は、例えば原料出口３４を通って、又は付加的な出口を通って容器３から導出され得る。フィルタ１９に噴霧液体を噴霧する際に、場合によっては少量の浄化液体も、フィルタの周壁を通過して純ガス室３０内に達する。これらの液体は、液体出口４８を前もって開放しておくことによって、純ガス室から導出することができる。湿式浄化後に、フィルタを乾燥させるために、及びその他の前もって浄化液体によって噴霧された部分に、ガスガイド手段８１によって、熱い乾燥した空気又はその他のガスが、通常運転時と同様に、プロセスガスが容器及びフィルタを通過してガイドされる。
【００６４】
後置除塵装置５１のフィルタ６３及び、この後置除塵装置５１に隣接する、後置除塵装置容器５３のウインド７７及び壁部５５の内側面は、後置除塵装置の湿式浄化装置によって、流動層容器内のフィルタ及び流動層容器の壁部内周面と同様に浄化される。
【００６５】
フィルタ１９及び６３の周壁１２１は、波状部又は折り畳み部を備えていない、円形横断面を有する円筒形の外側面を有していて、流動層装置の通常運転時にフィルタの周壁の外側面に埃が堆積するように構成されているので、浄化時にフィルタは、浄化液体によって全体的に良好に浄化される。従ってフィルタは、湿式浄化時に、一般的に塵及びその他のすべての、フィルタに付着する不純物を完全に取り除くことができる。さらにまた、プロセスガスを除塵及び濾過するためのフィルタを使用する際に、及びフィルタを浄化する際に、フィルタ１９，６３をブリッジする接続が、粗ガス室２９若しくは７０と純ガス室３０若しくは７１との間に生じることはない。従って湿式浄化時には、粗ガス室と純ガス室との相互の混合は事実上不可能である。それに応じて、流動−及び粗ガス室２９から生じる、プロセスガスの固形物が周囲に運び出されることもない。
【００６６】
湿式浄化装置２３，２５，６７は流動層装置の通常運転時に、粗ガス室２９若しくは７０に隣接する、容器部分若しくは壁部部分１７若しくは６１の面と同一面を成しているので、フィルタの近辺周囲も良好にクリーンに維持される。通常運転時には必要であれば、プレート２３１を貫通する２つの液体出口孔２３３を介して、容器３及び５３内に存在する、第２の湿式浄化装置２５若しくは６８に達する不純物は、浄化液体を噴霧する際に、前記孔２３３を通って再び噴霧によって取り出される。
【００６７】
濾過器底部１３及びフィルタ１９若しくは６３は、これらを有する容器内で次のような形式で良好に浄化される。つまり、処理しようとする粒子状の原料の交換時においても及び、製造された製品の交換時においても、濾過器底部及びフィルタを取り外し、容器の外側を浄化する必要はない。これは、濾過器底部、フィルタ、及び粗ガス室に隣接する、容器壁部の面を完全に自動的につまり作業員の協力なしで浄化することを可能にする。これによって、人間的な影響（例えば浄化作業を行う際に作業員の注意深さが不十分である場合におけるような）が、製造された製品の品質に不都合な影響を与えることが避けられる。しかも浄化作業の自動化によってコストが節約される。
【００６８】
フィルタの数及び、フィルタを浄化するために使用される湿式浄化装置の数は、図２に示した配置におけるよりも少なくても多くてもよい。しかしながら原料容器は、有利には少なくとも２つのフィルタを有している。これに対して後置除塵装置容器は、可能な限り１つのフィルタだけを有している。フィルタを浄化しようとする湿式浄化装置の数及び配置は、フィルタの数及び配置に基づいて変えることができる。この場合、有利には各フィルタに少なくとも２つ、有利には３つの、フィルタを取り囲んで配置された湿式浄化装置が設けられている。図１０に示した、内側の容器部分若しくは壁部部分２８１は、例えば７つのフィルタ２８２を有しており、これらのフィルタ２８２のうちの１つは、容器軸線と合致する軸線を有していて、残りのフィルタは容器軸線の周囲に分配して配置されている。さらに外側と内側とにそれぞれ６つの同様の湿式浄化装置２８３がサークル状に配置されている。
【００６９】
図１１には、内側の容器部分若しくは壁部部分２９１が図示されていて、１４個のフィルタ２９２と、１９個の同様の湿式浄化装置２９３とが固定されている。
【００７０】
容器部分若しくは壁部部分２８１及び２９１は、例えば、原料容器又は後置除塵装置容器の仕切壁を形成している。湿式浄化装置２８３及び湿式浄化装置２９３は、例えば第１の湿式浄化装置２３又は第２の湿式浄化装置２５と同様に構成されている。
【００７１】
本発明による装置及びその駆動は、別の点を考慮して変えることができる。例えば内側の容器部分若しくは壁部部分１７及び２５１においては、プレート１１１が充分に厚く構成されていれば、補強リング２０２場合によっては省くことができる。さらにまた、場合によってはフィルタを１つだけ容器内に配置してもよい。
【００７２】
また、１つ又は複数のフィルタ、各フィルタに配属されたガス浄化装置、湿式浄化装置を、容器内に存在する壁部部分の代わりに、容器の外壁に所属する壁部分例えば容器の蓋−壁部部分に固定してもよい。
【００７３】
また、プロセスガス及び又は純ガスとして、空気の代わりに別のガス例えば窒素を使用してもよい。
【００７４】
本発明による装置の詳細、特にフィルタ及びガス浄化装置の構成、濾過器底部の構成並びにシール、ウインドの構成に関しては、スイス国特許出願第３７０７／９５号明細書、同第３７０８／９５号明細書並びに同第３７０９／９５号明細書の優先権を主張して提出された特許出願明細書を参照されたい。
【図面の簡単な説明】
【図１】粒子状の原料を処理するための流動層装置の、原料容器及び後置除塵容器の概略的な鉛直断面図である。
【図２】図１のII−II線に沿った断面図である。
【図３】原料容器内に配置された、非作業位置にある噴霧機構を備えた第１の湿式浄化装置の拡大した軸方向断面図である。
【図４】浄化位置にスライドされている状態の噴霧機構を有する第１の湿式浄化装置の軸方向断面図である。
【図５】浄化機構の一部の、図３及び図４に対して拡大した軸方向断面図である。
【図６】図３〜図５において上側に位置する、噴霧機構の噴霧ヘッドの端部の平面図である。
【図７】図６のVII−VII線に沿った、噴霧機構の軸方向断面図である。
【図８】原料容器内に配置された第２の湿式浄化装置の、図１及び図２に対して拡大した軸方向断面図であって、この場合噴霧機構は非作業位置にある。
【図９】浄化位置に突き出されている噴霧機構を備えた第２の湿式浄化装置の下部の軸方向断面図である。
【図１０】７つのフィルタを備えた、容器の内側の壁部部分を下側から見た図である。
【図１１】１４個のフィルタを備えた壁部部分を下側から見た図である。
【符号の説明】
１  流動層装置、  ３  製品及び流動層容器、  ４  容器軸線、  ５  壁部、６  底部−壁部部分、  ７  下側の円錐形の壁部部分、  ８  上側の円錐形の壁部部分、  ９  円筒形の壁部部分、  １０  カバー壁部部分、  １３  濾過器底部、  １７  内側の壁部部分、  １９  フィルタ、  ２０  ガス浄化装置、  ２１  閉鎖装置、  ２２  浄化ガス入口、  ２３  湿式浄化装置、  ２５  湿式浄化装置、  ２７  内径、  ２８  ガス分配室、  ２９  粗ガス室、  ３０  浄化室、  ３３  ガス入口、  ３４  原料出口、  ３５，３９  湿式浄化装置若しくは洗浄装置、  ３６  ケーシング、  ３７  噴霧機構、  ４０  ケーシング、４１  噴霧機構、  ４３  噴霧装置、  ４５，４６，４７  ウインド、  ４８液体出口、  ４９  ガス出口、  ５１  後置除塵装置、  ５３  後置除塵装置−容器、  ５５  壁部、  ５６  底部−壁部部分、  ５７  円筒形の壁部部分、５８  蓋−壁部部分、  ６１  内側の容器部分若しくは壁部部分、  ６３  フィルタ、  ６４  ガス浄化装置、６５  接続装置、  浄化ガス入口、  ６７  第１の湿式浄化装置若しくは洗浄装置、  ６８  第２の湿式浄化装置若しくは洗浄装置、  ６９  内室、  ７０  粗ガス室、  ７１  浄化ガス室、  ７３  ガス入口、  ７４  出口、  ７５  ガス出口、  ７７  ウインド、  ７８  液体出口、８１  ガスガイド手段、  ８３  空気入口、  ８４  ガス導管、  ８５  しゃ断及び／又は調整装置、  ８６  塵ガイド、  ８７  ガス処理装置、  ８９，９１  ガス導管、  ９２  吸込み装置、  ９３  空気出口、  ９５  純ガス−供給手段、  ９６  浄化液体−供給手段、  ９９  原料、  １１１  プレート、  １１１ａ  面、  １１１ｃ，１１１ｄ  孔、  １２１  周壁、  １７１  軸線、  １７３，１７４  ケーシング部分、  １７４ａ  フランジ、  １７５  上側のケーシング部分、  １７６  スリーブ、  １７６ａ  フランジ、  １７７  端部部材、  １７７ａ  液体入口、  １７９  ガイド体、  １７９ａ  つば、  １７９ｂ  孔、  １７９ｃ  孔区分、  １７９ｄ  拡張部、  １７９ｅ  円錐形の孔区分、  １８１  接続部材、  １８２  シール、  １８４  孔、  １８４ｂ  雌ねじ山、  １８５  噴霧機構、  １８５ｂ  雌ねじ山、  １８６  ロッド、  １８６ａ  雄ねじ山、  １８６ｃ  終端区分、  １８６ｄ  ショルダ面、  １８６ｅ軸方向孔、  １８６ｆ  雌ねじ山、  １８６ｇ  孔、  １８７  噴霧ヘッド、１８７ａ  外側面、  １８７ｂ  同軸孔、  １８７ｃ  円筒形の区分、  １８７ｄ  拡張部、  １８７ｅ  軸方向孔、  １８７ｆ  中空室、  １８８  固定部材、  １８８ａ  ねじ山付き部分、  １８８ｂ  ヘッド、  １８８ｃ  スリット、  １８９，１９０  液体出口孔、  １９１  ばね、  １９３  中空室、  １９４  貫通孔、  ２０１  軸線、  ２０２  補強リング、  ２０２ａ  孔、  ２０２ｂ  ねじ山付き孔、  ２０３  ケーシング、  ２０４  ケーシング部分、  ２０５  リングフランジ、  ２０５ｂ  円錐形孔区分、  ２０５ｃ  補強リング、２０６  ねじ、  ２０７  シール、  ２０８  下側のスリーブ、  ２０９  上側のスリーブ、  ２１１  上側のケーシング部分、  ２１２，２１３  スリーブ、  ２１４  終端区分、  ２１５  液体入口、  ２１９  ガイドヘッド、  ２１９ａ  つば、  ２１９ｂ  孔、  ２２１  シール、  ２２４  ピストン、  ２２４ａ  孔、  ２２５  噴霧機構、  ２２６  ロッド、  ２２７  接続及び支承部材、  ２２８  ロッド、  ２２９  噴霧ヘッド、  ２３０  中空体、  ２３０ａ外側面、  ２３０ｂ  面区分、  ２３１  プレート、  ２３２，２３３，２３４  出口孔、  ２３５  ばね、  ２３６  貫通孔、  ２８３  湿式浄化装置、  ２９１  内側の容器若しくは壁部部分、  ２９３  湿式浄化装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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