(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
仮止め用シール材と硬化用シール材とにより貼り合わされたガラス基板を、該硬化用シール材を硬化させるシ−ル材硬化定盤上に搬入し、シ−ル材硬化処理をした後シ−ル材硬化定盤上のガラス基板を搬出させる方法であって、前記ガラス基板の搬入の際に、ガラス基板とシ−ル材硬化定盤との間に気体を吹き入れて気体膜を形成してガラス基板をシ−ル材硬化定盤から浮き上がらせた状態で上側ガラス基板吸着によるロ−ラ送り込み搬送をさせ、前記シ−ル材硬化処理済ガラス基板の搬出の際に、ガラス基板の一端上面を吸着引き上げにより持ち上げ、ガラス基板とシ−ル材硬化定盤との間に隙間を設けた後該隙間に正負にイオン化したエヤ−を吹き入れて気体膜を形成してガラス基板全面を浮き上がらせることによってガラス基板及びシ−ル材硬化定盤表面に帯電した電荷を逆極性のイオンで中和し除電を行い、上側ガラス基板吸着によるロ−ラ引込み搬送をさせることを特徴とするガラス基板のシ−ル材硬化定盤への搬入出方法。
【請求項２】
ガラス基板を搬送させる複数のロ−ラ（６）と該ロ−ラ（６）を跨ぐ門形構造の移動フレ−ムＣを搬送させる複数のロ−ラ（６Ａ）とを配置すると共に両ロ−ラ（６）、（６Ａ）間にガイド（７）を設けた一軸多数ロ−ラ構成の正逆回転ロ−ラコンベヤ（Ａ）の搬送端外側に仮止めガラス基板（Ｐ）のシ−ル材硬化定盤（Ｂ）を前記正逆回転ロ−ラコンベヤ（Ａ）の搬送面よりも若干低くして配置し、前記移動フレ−ム（Ｃ）のシ−ル材硬化定盤（Ｂ）寄り前方に複数の吸着パッド（１３）を間隔をおくと共に昇降可能にして取付け、かつ除電用エヤ−ノズル（１５）を前記吸着パッド（１３）により吸着したガラス基板（Ｐ）の端面下部に向けて下降傾斜させて取付け、前記正逆回転ロ−ラコンベヤ（Ａ）の搬入出口寄り下方に前記移動フレ−ム（Ｃ）の押し上げ機（１７）を配設すると共に正逆回転ロ−ラコンベヤ（Ａ）のシ−ル材硬化定盤（Ｂ）寄り下方に、ガラス基板（Ｐ）停止用のストッパ（１８）を配設し、前記正逆回転ロ−ラコンベヤ（Ａ）とシ−ル材硬化定盤（Ｂ）との間位置にシ−ル材硬化定盤（Ｂ）上のガラス基板（Ｐ）の下面に向かって上昇傾斜させて気体吹き付けノズル（２３）を取付け、さらに前記シ−ル材硬化定盤（Ｂ）におけるガラス基板（Ｐ）の移動方向に交差する方向の両側位置の上方に、複数のノズル（２２）を間隔をおいて配置すると共に対向移動可能にして設けたことを特徴とするガラス基板のシ−ル材硬化定盤への搬入出装置。
【請求項３】
前記除電用エヤ−ノズル（１５）及び気体吹き付けノズル（２３）のノズル角度が水平状態のガラス基板（Ｐ）の搬送面に対し３０〜６０度にされていることを特徴とする請求項２記載のガラス基板のシ−ル材硬化定盤への搬入出装置。
【請求項４】
前記シ−ル材硬化定盤（Ｂ）上面の高さが前記正逆回転ロ−ラコンベヤ（Ａ）の搬送面高さより２〜３ｍｍ低くされていることを特徴とする請求項２又は３のいずれかに記載のガラス基板のシ−ル材硬化定盤への搬入出装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶ディスプレイ組立て工程において、貼合せ装置により仮止めされたガラス基板をシ−ル材硬化定盤上に搬入載置し、シ−ル材硬化処理を済ませた後、ガラス基板をシ−ル材硬化定盤上から搬出する方法及びその装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、液晶ディスプレイ組立て工程では、貼合せ装置により仮止めされたガラス基板はシ−ル材硬化工程に送られ、２枚のガラス基板間の隙間が所定のギャップ平行度を得られた時点でシ−ル材を硬化させる硬化処理が行われる。このシ−ル材の硬化方法としては、熱硬化方式と紫外線照射硬化方式の２方式があり、熱硬化方式においては内部にヒ−タを埋め込んだ加熱定盤が使用され、紫外線照射硬化方式では紫外線を透過する石英定盤が使用される。
またそれぞれの定盤上にガラス基板を載置し、シ−ル材硬化処理後定盤上からガラス基板を取り出す方法としては、一般にガラス基板を上面から多数の吸着パッドで吸着をして吊り上げて定盤上に載置あるいは定盤上から取り出す上面吸着搬送方式と、ガラス基板を下面から搬送ア−ムで持ち上げて、定盤を貫通して上昇したリフトピンに移し替え、リフトピンが下降して定盤上にガラス基板を載置あるいは定盤上から取り出すリフトピン方式の２方式がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし上記の上面吸着搬送方式では、搬送途中において２枚のガラス基板の仮止めがガラス基板自身の質量で剥がれてしまい、処理（搬送）できるガラス基板のサイズが限定される。この問題を解決するためにはシ−ル材の塗布量を増やしたり塗布個所を増加させたりして接着強度を上げればよいが、一旦硬化した仮止め用シ−ル材は加熱あるいは紫外線照射をしても軟化せずガラス基板間の突支え棒になり、この部分が他の部分よりもギャップが１０μｍ程度広くなってしまいギャップ平行度に悪影響を及ぼす。このためガラス基板上面吸着搬送を行うために仮止め用シ−ル材の数量を増やすのは望ましくない。
さらに上記のリフトピン方式は、定盤にリフトピン昇降用の穴を開けるが、ガラス基板を加圧する際にこの穴の部分だけが圧力が掛からずこの部分のギャップが広くなってギャップ平行度に悪影響を及ぼす。このため定盤にリフトピン昇降用の穴を開けるのは望ましくない。
【０００４】
本発明は上記の問題に鑑みて成されたものであって、ガラス基板の仮止め用シ−ル材の塗布量を最小限に抑え、且つシ−ル材硬化定盤に穴開け加工を行わずに仮止めされたガラス基板をシ−ル材硬化定盤上に搬入載置すると共に硬化処理の後シ−ル材硬化定盤上から搬出することができるガラス基板のシ−ル材硬化定盤への搬入出方法及びその装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために本発明におけるガラス基板のシ−ル材硬化定盤への搬入出方法は、仮止め用シール材と硬化用シール材とにより貼り合わされたガラス基板を、該硬化用シール材を硬化させるシ−ル材硬化定盤上に搬入し、シ−ル材硬化処理をした後シ−ル材硬化定盤上のガラス基板を搬出させる方法であって、前記ガラス基板の搬入の際に、ガラス基板とシ−ル材硬化定盤との間に気体を吹き入れて気体膜を形成してガラス基板をシ−ル材硬化定盤から浮き上がらせた状態で上側ガラス基板吸着によるロ−ラ送り込み搬送をさせ、前記シ−ル材硬化処理済ガラス基板の搬出の際に、ガラス基板の一端上面を吸着引き上げにより持ち上げ、ガラス基板とシ−ル材硬化定盤との間に隙間を設けた後該隙間に正負にイオン化したエヤ−を吹き入れて気体膜を形成してガラス基板全面を浮き上がらせることによってガラス基板及びシ−ル材硬化定盤表面に帯電した電荷を逆極性のイオンで中和し除電を行い、上側ガラス基板吸着によるロ−ラ引込み搬送をさせることを特徴とするものである。
【０００６】
また本発明におけるガラス基板のシ−ル材硬化定盤への搬入出装置は、ガラス基板を搬送させる複数のロ−ラと該ロ−ラを跨ぐ門形構造の移動フレ−ムを搬送させる複数のロ−ラとを配置すると共に両ロ−ラ間にガイドを設けた一軸多数ロ−ラ構成の正逆回転ロ−ラコンベヤの搬送端外側に仮止めガラス基板のシ−ル材硬化定盤を前記正逆回転ロ−ラコンベヤの搬送面よりも若干低くして配置し、前記移動フレ−ムのシ−ル材硬化定盤寄り前方に複数の吸着パッドを間隔をおくと共に昇降可能にして取付け、かつ除電用エヤ−ノズルを前記吸着パッドにより吸着したガラス基板の端面下部に向けて下降傾斜させて取付け、前記正逆回転ロ−ラコンベヤの搬入出口寄り下方に前記移動フレ−ムの押し上げ機を配設すると共に正逆回転ロ−ラコンベヤのシ−ル材硬化定盤寄り下方に、ガラス基板停止用のストッパを配設し、前記正逆回転ロ−ラコンベヤとシ−ル材硬化定盤との間位置にシ−ル材硬化定盤上のガラス基板の下面に向かって上昇傾斜させて気体吹き付けノズルを取付け、さらに前記シ−ル材硬化定盤におけるガラス基板の移動方向に交差する方向の両外側上方に、複数のノズルを間隔をおいて配置すると共に対向移動可能にして設けたことを特徴とするものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施の形態を図面に基づいて詳しく説明する。装置は正逆回転ロ−ラコンベヤＡ、硬化用シール材を硬化させるシ−ル材硬化定盤Ｂ及び移動フレ−ムＣが組み合わされたものとなっており、該正逆回転ロ−ラコンベヤＡは次のような構成にされている。コンベヤフレ−ム１、１間に多数の回転軸２、２が間隔をおいて回転可能に支持されていて、各回転軸２、２はプ−リ３、３及びタイミングベルト４を介して正逆回転モ−タ５に連結されている。
【０００８】
また回転軸２、２にはガラス基板Ｐを搬送すると共に撓みを防止するロ−ラ６、６が１００〜１５０ｍｍピッチでガラス基板サイズに応じて複数個取付けられており、このロ−ラ６、６の外側にはガラス基板Ｐの横ずれ防止のためのガイド７、７が取付けられ、さらにガイド７、７の外側には移動フレ−ムＣを搬送するためのロ−ラ６Ａ、６Ａが左右２個づつと、その外側には移動フレ−ムＣの横ずれ防止のためのガイド７Ａ、７Ａが取付けられている。
【０００９】
また移動フレ−ムＣは、全体が門形構造（図３参照）を成し、左右の脚８、８が移送板９、９上に固定されており、移送板９、９が前記ロ−ラ６Ａ、６Ａ上に載せられている。該移動フレ−ムＣの天井部にはシ−ル材硬化定盤Ｂの方向に突出すると共に左右に適当な間隔をおいて取り付けた複数の取付けフレ−ム１０、１０を介してシリンダ１１、１１が下向きにして取り付けられ、該シリンダ１１、１１の下端には取付け板１２、１２を介して吸着パッド１３、１３が下向きにして取り付けられている。なお吸着パッド１３、１３は、図５に示すようにシリンダ１１、１１に取付け板１２、１２を介して固定されたホルダ１３Ａ、１３Ａの内径に貫通し且つホルダ１３Ａに固定されていない配管シャフト１３Ｂと共に上下動する。また吸着パッド１３、１３は真空発生器１４に連通されている。
【００１０】
さらに中央の吸着パッド１３の背後位置（移動フレ−ムＣ本体側）には、通過するエヤ−をイオナイザ−によって正負にイオン化する除電機構を有する除電用エヤ−ノズル１５がノズル先端をガラス基板搬送面に対し３０〜６０度下方に傾斜させて取付けられている。なお除電用エヤ−ノズル１５は圧縮空気発生器１６に連通され、０．３〜０．８ＭＰａ（好ましくは０．５ＭＰａ）の圧縮エヤ−を吹き付けるようにされている。
【００１１】
さらに正逆回転ロ−ラコンベヤＡにおける移動フレ−ムＣに対応する下方には移動フレ−ムＣを正逆回転ロ−ラコンベヤＡから持ち上げる押し上げ機１７が、また正逆回転ロ−ラコンベヤＡのシ−ル材硬化定盤Ｂ寄り位置下方にはガラス基板Ｐの移動停止用のストッパ１８がそれぞれ昇降可能にして配設されている。
また正逆回転ロ−ラコンベヤＡの終端外側にはシ−ル材硬化定盤Ｂがその上面を正逆回転ロ−ラコンベヤＡの搬送面よりも２〜３ｍｍ低くして配置されている。
【００１２】
またシ−ル材硬化定盤Ｂの左右両外側上部には図４に示すように横向シリンダ１９、１９がフレ−ム２０、２０を介して対向して設けられており、各横向シリンダ１９、１９のピストンロッド先端部には、マニホ−ルド２１、２１が取り付けられている。各マニホ−ルド２１、２１の下部には、Ｌ字状を成した複数のノズル２２、２２が所定の間隔をおいて連通されていると共にその水平部がシ−ル材硬化定盤Ｂ上面から０．５ｍｍ程度の隙間を持つようにされている。
なお各ノズル２２、２２は、各横向シリンダ１９、１９の伸長作動によりガラス基板Ｐの端面から内側へ１０ｍｍ程度差し込みされ、縮引作動によりガラス基板Ｐの端面から外れるようにされている。また各マニホ−ルド２１、２１は前記圧縮空気発生器１６に連通され、０．３〜０．８ＭＰａ（好ましくは０．５ＭＰａ）の圧縮エヤ−をノズル２２、２２から吹き出すようにされている。
【００１３】
さらに前記正逆回転ロ−ラコンベヤＡの終端中央部には、シ−ル材硬化定盤Ｂ上面端部に向けて３０〜６０度上昇傾斜させた気体吹き付けノズル２３が設けられていて、該気体吹き付けノズル２３は前記圧縮空気発生器１６に連通され、０．３〜０．８ＭＰａ（好ましくは０．５ＭＰａ）の圧縮エヤ−を吹き付けるようにされている。なお前記除電用エヤ−ノズル１５及び気体吹き付けノズル２３は、内径１ｍｍ程度の吹き出し口を１．５ｍｍピッチ程度で５０〜１００ｍｍ程度直列にガラス基板Ｐと平行に配置するか、幅１ｍｍ程度で長さ５０〜１００ｍｍ程度の吹き出し口をガラス基板Ｐと平行に配置するのが望ましい。
【００１４】
このように構成されたものの作動を説明する。正逆回転ロ−ラコンベヤＡに仮止め用シール材により仮止めされるとともに硬化用シール材が塗布されて貼り合わされたガラス基板Ｐが載せられていない状態で、移動フレ−ムＣを正逆回転ロ−ラコンベヤＡの所定位置（左端位置）に位置決めして押し上げ機１７が上昇作動して移動フレ−ムＣを持ち上げた後、ストッパ１８が上昇される。次に仮止めした２枚のガラス基板Ｐを図示されない貼合せ装置から正逆回転ロ−ラコンベヤＡの左端中央部に搬入し、ガラス基板Ｐがストッパ１８に当たって位置決めされた後、押し上げ機１７を下降作動させ、移動フレ−ムＣを正逆回転ロ−ラコンベヤＡ上に載せ替え、ストッパ１８を下降させる。
【００１５】
次に移動フレ−ムＣに取り付けられた吸着パッド１３、１３を、ガラス基板Ｐのシ−ル材硬化定盤Ｂへの搬入方向とは反対（図１、２で左側）の辺の端から１０〜２０ｍｍ程度の位置にシリンダ１１、１１を下降作動させて吸着パッド１３、１３をガラス基板Ｐに密着させ、真空発生器１４を作動させて真空吸引を行い、吸着パッド１３、１３によってガラス基板Ｐを吸着する。この際シリンダ１１、１１の下方への押し付け力が吸着パッド１３、１３を介してガラス基板Ｐに掛からないように吸着パッド１３、１３はガラス基板Ｐに接触した時点で、シリンダ１１、１１に取付け板１２、１２を介して固定されたホルダ−１３Ａ、１３Ａの内径に貫通し且つホルダ−１３Ａ、１３Ａに固定されていない配管シャフト１３Ｂ、１３Ｂと共に余分なストロ−ク分スライドする（図５参照）。このためガラス基板Ｐには吸着パッド１３、１３の自重（数十グラム）が作用するだけでよけいな外力が作用しないためガラス基板Ｐの相互のずれが防止される。
【００１６】
この状態で正逆回転モ−タ５が正回転作動して各回転軸２、２を正回転させ、ガラス基板Ｐと移動フレ−ムＣを移送させる。ガラス基板Ｐと移動フレ−ムＣは同一径のロ−ラ６、６Ａによって送られるため両者の移動スピ−ドは同一であり、吸着パッド１３、１３が上側のガラス基板を水平方向に引きずる力が作用するのを防止し、ガラス基板Ｐの相互のずれが防止される。
このようにしてガラス基板Ｐは搬送されるにつれ正逆回転ロ−ラコンベヤＡを外れ、シ−ル材硬化定盤Ｂ上に移行してゆく。
【００１７】
この際ガラス基板Ｐ下面（ロ−ラ６の搬送面）とシ−ル材硬化定盤Ｂ上面間に設けられた２〜３ｍｍの隙間に気体吹き付けノズル２３を介して０．３〜０．８ＭＰａの圧縮エヤ−が吹き付けられてガラス基板Ｐとシ−ル材硬化定盤Ｂの間に気体膜が形成され、ガラス基板Ｐはシ−ル材硬化定盤Ｂ上から３ｍｍ程度浮き上がる。
さらに、この３ｍｍ程度の隙間には、横向シリンダ１９、１９の作動によりノズル２２、２２を前進させてガラス基板Ｐ端面から１０ｍｍ程度差し込み、０．３〜０．８ＭＰａの圧縮エヤ−を吹き付ける。
【００１８】
ガラス基板Ｐが正逆回転ロ−ラコンベヤＡから完全に外れシ−ル材硬化定盤Ｂ上方に移行すると気体吹き付けノズル２３からの吹き付けエヤ−は作用しなくなるがノズル２２、２２からの吹き付けエヤ−により浮き上がった状態を維持される。一方、ガイド７、７によって規制されていたガラス基板Ｐの進行方向左右へのずれはガラス基板Ｐ上面に吸着された吸着パッド１３、１３を介して移動フレ−ムＣによって規制される。
【００１９】
さらにガラス基板Ｐがシ−ル材硬化定盤Ｂ上に載置される所定位置に到達すると正逆回転モ−タ５の作動が停止され、移動フレ−ムＣの進行を停止させる。次にノズル２２、２２への圧縮エヤ−の供給を停止すると同時に横向シリンダ１９、１９が逆作動してガラス基板Ｐの下部からノズル２２、２２を引出し、次に真空発生器１４による吸引を停止し、シリンダ１１、１１を上昇作動させ、吸着パッド１３、１３をガラス基板Ｐから引き離した後正逆回転モ−タ５が逆回転作動して移動フレ−ムＣを移動させ、吸着パッド１３、１３をシ−ル材硬化定盤Ｂ上から退避させる。これによりガラス基板Ｐはシ−ル材硬化定盤Ｂの所定位置に載置される。
【００２０】
次にシ−ル材硬化定盤Ｂ上のガラス基板Ｐがシ−ル材硬化処理を終えると、正逆回転モ−タ５が正回転されて移動フレ−ムＣを、上記ガラス基板Ｐをシ−ル材硬化定盤Ｂ上に載置した際の停止位置まで移動させ、吸着パッド１３、１３によりガラス基板Ｐの吸着を行う。次にシリンダ１１、１１を上昇作動させることにより吸着パッド１３、１３を介してガラス基板Ｐを数ｍｍ（好ましくは２ｍｍ）上昇させガラス基板Ｐの一端を持ち上げると同時にできた隙間に除電用エヤ−ノズル１５から０．３〜０．８ＭＰａの圧縮エヤ−を吹き付け、気体膜を形成させてガラス基板Ｐ全面を浮き上がらせる。
【００２１】
この時、圧縮空気発生器１６から除電用エヤ−ノズル１５を通る圧縮エヤ−はイオナイザ−により正負にイオン化され、ガラス基板Ｐの下面及びシ−ル材硬化定盤Ｂの上面に帯電した電荷を逆極性のイオンで中和し除電する。
次にガラス基板Ｐが浮き上がってシ−ル材硬化定盤Ｂとの間にできた隙間にノズル２２、２２を横向シリンダ１９、１９の伸長作動により前進差し込みさせ、０．３〜０．８ＭＰａの圧縮エヤ−を吹き付ける。
この状態で正逆回転モ−タ５を逆回転作動させて移動フレ−ムＣをシ−ル材硬化定盤Ｂから離れる方向に移動させる。これにより浮き上がっているガラス基板Ｐは吸着パッド１３、１３を介して移動フレ−ムＣに誘導されて正逆回転ロ−ラコンベヤＡに向かって移動する。
【００２２】
ガラス基板が移動し始めたら除電用エヤ−ノズル１５からのエヤ−供給を気体吹き付けノズル２３からのエヤ−供給に切り替える。ガラス基板Ｐは移動フレ−ムＣの移動に伴ってシ−ル材硬化定盤Ｂから正逆回転ロ−ラコンベヤＡ上に移行する。この際ガラス基板Ｐは気体吹き付けノズル２３及びノズル２２、２２から吹き付けられるエヤ−によって常に浮き上がりシ−ル材硬化定盤Ｂとは非接触のまま正逆回転ロ−ラコンベヤＡのロ−ラ６、６上に乗り移る。
【００２３】
移動フレ−ムＣとガラス基板Ｐは正逆回転ロ−ラコンベヤＡ上を移動し、移動フレ−ムＣが押し上げ機１７の上方に位置した時点で正逆回転モ−タ５の作動が停止される。その後、吸着パッド１３、１３の吸着作用を解除し、シリンダ１１、１１を上昇作動させ、吸着パッド１３、１３をガラス基板Ｐから引き離した後、押し上げ機１７が上昇作動して移動フレ−ムＣを正逆回転ロ−ラコンベヤＡから浮き上がらせた状態にする。
次に正逆回転モ−タ５が再び逆回転作動してガラス基板Ｐのみを正逆回転ロ−ラコンベヤＡにより移動させて次の工程に搬出する。
【００２４】
なお本発明の実施の形態では、ノズル２２、２２及び気体吹き付けノズル２３から吹き出される気体としてはエヤ−を示したが、窒素ガスなどの気体であってもよく、窒素ガスなどの気体を使用する場合は、圧縮空気発生器１６とは別に気体供給源を設けることにより対応できる。
【００２５】
【発明の効果】
本発明は上記の説明から明らかなように、ガラス基板の搬入の際に、ガラス基板とシ−ル材硬化定盤との間に気体を吹き入れて気体膜を形成してガラス基板をシ−ル材硬化定盤から浮き上がらせた状態で上側ガラス基板吸着によるロ−ラ送り込み搬送をさせ、前記シ−ル材硬化処理済ガラス基板の搬出の際に、ガラス基板の一端上面を吸着引き上げにより持ち上げ、ガラス基板とシ−ル材硬化定盤との間に隙間を設けた後該隙間に正負にイオン化したエヤ−を吹き入れて気体膜を形成してガラス基板全面を浮き上がらせることによってガラス基板及びシ−ル材硬化定盤表面に帯電した電荷を逆極性のイオンで中和し除電を行い、上側ガラス基板吸着によるロ−ラ引込み搬送をさせるようにしたから、２枚のガラス基板の相互のずれがなくなると共にガラス基板に余計な外力が作用しなくなり、仮止めシ−ル材の塗布量を最小限に抑えることが可能で大きなサイズのガラス基板でも移載が可能になる。
またシ−ル材硬化定盤には一切加工穴を設ける必要がなくなり、ギャップ平行度になんら影響を与えない。さらにシ−ル材硬化定盤からの搬出の際に、吹き付けエヤ−をイオン化することによりガラス基板の剥離帯電を除去できる等種々の効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を実施する装置全体を示す平面図である。
【図２】図１におけるＸ−Ｘ矢視図である。
【図３】図１におけるＹ−Ｙ矢視図である。
【図４】図１におけるＺ−Ｚ矢視図である。
【図５】吸着パッドスライド機構の作動説明図であって、
（イ）は吸着パッドがガラス基板を吸着していない状態を示す。
（ロ）は吸着パッドがガラス基板を吸着している状態を示す。
【符号の説明】
Ａ  正逆回転ロ−ラコンベヤ
Ｂ  シ−ル材硬化定盤
Ｃ  移動フレ−ム
Ｐ  ガラス基板
６  ６Ａ  ロ−ラ
７  ７Ａ  ガイド
１３  吸着パッド
１５  除電用エヤ−ノズル
１７  押し上げ機
１８  ストッパ
２２  ノズル
２３  気体吹き付けノズル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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