(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部電極と上部電極との間に発光材料層を挟持してなる発光素子が設けられた複数の画素を基板上に配列形成してなり、前記上部電極が前記複数の画素に共通に用いられたアクティブマトリックス型の表示装置において、
前記発光素子を構成する材料層のうちの少なくとも１つが蒸着パターンからなり、当該蒸着パターンが前記画素のうち一方向に隣接して配置された複数の画素を覆う状態で連続的に設けられ、
前記各蒸着パターンで覆われた画素間の前記一方向の間隔が、当該蒸着パターンのうちの当該一方向に隣接する蒸着パターンで覆われた画素間の当該一方向の間隔よりも狭く、
前記一方向に隣接する蒸着パターンで覆われた画素間に、前記上部電極に接続された補助電極が設けられている
ことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１記載の表示装置において、
前記蒸着パターンは、前記下部電極と上部電極との間に挟持された有機層パターンからなる
ことを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、複数の発光素子を行列状に配列形成してなる表示装置、およびその製造方法、ならびにその表示方法に用いる蒸着マスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】
有機材料のエレクトロルミネッセンス(electroluminescence：以下ＥＬと記す）を利用した有機ＥＬ素子（有機ＥＬ素子）は、陽極と陰極との間に有機層を挟持してなる。このような構成の有機ＥＬ素子は、陽極から注入された正孔と陰極から注入された電子とが有機層において再結合する際に生じた光が、陰極または陽極側から発光光として取り出され、１０Ｖ以下の低駆動電圧で数１００〜数１００００ｃｄ／ｍ2の高輝度発光が可能な発光素子として注目されている。また、有機ＥＬ素子においては、有機層の材料選択によって各色に発光する発光素子を得ることが可能であり、各色に発光する発光素子を所定状態で配列形成することによって、マルチカラー表示またはフルカラー表示が可能な表示装置を構成することが可能である。
【０００３】
このような構成の有機ＥＬ素子を備えた表示装置を製造する場合には、先ず、基板上に陰極（または陽極）となる下部電極をパターン形成した後、下部電極に重ねて有機層を形成する。有機層の形成は、通常、真空蒸着法によって行われる。また、有機層を形成した後には、下部電極との絶縁性を確保した状態で陽極（または陰極）となる上部電極を形成する。
【０００４】
ここで特に、カラー表示が可能な表示装置、例えばフルカラー表示を行う表示装置では、画素（サブピクセル）毎にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色に発光する表示素子が配置され、隣接するＲ，Ｇ，Ｂの３画素で１絵素（ピクセル）が構成される。このような表示装置の製造においては、画素毎に、各色に発光する発光素子を形成する必要がある。このため、例えば有機層パターンの形成工程においては、図５に示すように、基板１上に配列された各画素２のうち、特定の画素２毎に、各発光色の有機層パターン３ｒ，３ｇ，３ｂを分離形成している。
【０００５】
このような各有機層パターン３ｒ，３ｇ，３ｂの形成は、例えば図６に示すような蒸着マスクを用いた蒸着法によって行われる。この蒸着マスク５は、基板１において画素２が配置される面側に対向して配置され、複数の画素２のうちの特定の色に発光する発光素子が配置される画素（例えば赤）２ｒのみを露出させる開口部５ｒを備えている。
【０００６】
また、この蒸着マスク５を用いた真空蒸着は、蒸着マスク５の一面側において蒸着源から蒸着材料を蒸発させ状態で、蒸着マスク５の他面側に基板１を配置した状態で行われる。
【０００７】
このような蒸着方法の一例として、特開２００１−９３６６７号公報には、蒸着源に対して基板および蒸着マスクを移動させる製造装置および製造方法が開示されている。この方法は、図７の模式図に示すように、蒸着空間を仕切るための遮蔽板１１に設けられた開口１１ａの下方に蒸着源１２を配置し、この遮蔽板１１の上方において、蒸着マスク５とその上部に配置した基板１とを開口１１ａおよび蒸着源１２に対して相対的に移動させながら蒸着を行う方法である。この方法においては、開口１１ａと蒸着源１２とは、基板１および蒸着マスク３の移動方向（図中矢印に示す方向）と直交する方向において、蒸着領域の幅以上の幅を有する線状に設けられている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ここで、図８には、前出の図７を、基板１と蒸着マスク５との進行方向から見た図を示す。この図８に示すように、基板１および蒸着マスク５の移動方向と垂直な方向（以下蒸着幅方向と記す）に対しては、蒸着源１２は、基板１における蒸着領域と同程度以上の幅に設定されており、またここでの図示を省略した遮蔽板（１１）の開口（１１ａ）は、蒸着源１２に対応する形状を有している。このため、蒸着源１２から蒸着幅方向（蒸着源１２の延設方向）に飛散した蒸着成分ａは、遮蔽板によってカットされることなく蒸着マスク３を介して基板１に達するのである。
【０００９】
したがって、上述したような蒸着方法では、蒸着源１２から蒸着幅方向に飛散した蒸着成分ａのうち、基板１に対して斜め方向から供給される蒸着成分（斜め蒸着成分）ａ１も、蒸着マスク５の開口に対して斜め方向から基板１に供給されるため、蒸着マスク３を介して基板１上に蒸着される有機層パターン５ｒ（５ｇｏｒ５ｂ）の膜厚を、蒸着幅方向において均一にすることはできない。図９には、蒸着幅方向における有機層パターン５ｒの相対膜厚比を示す。この図に示すように、基板の中央部に形成される有機層パターンの相対膜厚比は、その中央部においては一定の膜厚が保たれるものの、蒸着幅方向端部においては斜め蒸着成分ａ１のみの供給による成膜であるため膜厚が薄くなるのである。また同様の理由により、例えば基板の左端部に形成される有機層パターンの相対膜厚比は、その左端部においては右側からの斜め蒸着成分の侵入のみによる成膜であるため、膜厚が薄くなるのである。
【００１０】
ところで、有機層パターンを電極間に挟持してなる発光素子においては、有機層パターンの膜厚が素子の発光特性に大きな影響を与える。このため、各発光素子における発光特性を確保するには、有機層パターンの膜厚が均一な部分のみを発光素子として用いる必要がある。このため、上述したような有機層パターンの端部における相対膜厚比の低下（ばらつき）は、各画素の開口率を低下させる要因となり、表示装置の輝度の向上と、これによる高集積化および高解像度化を妨げる要因となっている。
【００１１】
そこで本発明は、電極材料層間に発光材料層を挟持してなる発光素子が設けられた複数の画素を基板上に配列形成してなる表示装置に関し、画素開口率の向上による輝度の向上が可能な表示装置を提供すること、およびこの表示装置の製造に関し、均一な膜厚で材料層の蒸着パターンを形成することが可能な表示装置の製造方法、ならびにこの製造方法に用いる蒸着マスクを提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
以上のような目的を達成するための本発明の表示装置は、下部電極と上部電極との間に発光材料層を挟持してなる発光素子が設けられた複数の画素を、基板上に配列形成してなり、前記上部電極が前記複数の画素に共通に用いられたアクティブマトリックス型の表示装置において、発光素子を構成する材料層のうちの少なくとも１つが蒸着パターンからなり、これらの蒸着パターンが、各画素のうち一方向に隣接して配置された複数の画素を覆う状態で連続的に設けられている。さらに、各蒸着パターンで覆われた画素間の前記一方向の間隔が、当該蒸着パターンのうちの当該一方向に隣接する蒸着パターンで覆われた画素間の当該一方向の間隔よりも狭い。そして、当該一方向に隣接する蒸着パターンで覆われた画素間に、前記上部電極に接続された補助電極が設けられていることを特徴としている。
【００１３】
このような表示装置によれば、一方向に隣接する蒸着パターンで覆われた画素間の間隔よりも、同一の蒸着パターン内に一方向に配置された画素間の間隔を狭くすることで、各蒸着パターンの中央部に、その蒸着パターンで覆われた画素が配置されることになる。このため、複数の画素の全てを均等な間隔で配置した場合と比較して、膜厚が安定な蒸着パターンの中央部を有効に利用して複数の画素を配置することができる。したがって、画素の開口率の向上が図られる。また、画素間においてより幅広の間隔部分に補助電極を設けることで、この補助電極が画素の配列に影響を及ぼすことを防止できる。
【００１４】
また、本発明の表示装置の製造方法は、電極材料層間に発光材料層を挟持してなる発光素子が設けられた複数の画素を、基板上に配列形成してなる表示装置の製造方法である。本発明においては、蒸着マスクの一面側に蒸着源を配置し、前記蒸着マスクの他面側に前記基板を配置し、蒸着マスクの各開口部から、前記基板における第１方向に配列された複数の画素を一括して露出させた状態で、当該第１方向と直交する第２方向に、前記蒸着マスクと前記基板とを前記蒸着源に対して相対的に移動させることで、前記基板上の各画素に前記発光材料層の蒸着パターンを形成することを特徴としている。
【００１５】
このような製造方法によれば、基板および蒸着マスクの移動方向（第２方向）と直交する第１方向に配列された複数の画素を一括して露出させた状態で蒸着が行われるため、この蒸着によって形成される蒸着パターンは、基板における一方向に配列された複数の画素に亘って連続する状態で設けられる。したがって、各画素に対応させて個々の蒸着パターンを形成する場合と比較して、第１方向における蒸着マスクの開口幅が広くなり、基板の第１方向における蒸着パターンの相対膜厚比のばらつきが小さくなる。
【００１６】
このような製造方法において、蒸着源の第１方向における幅を、基板の蒸着領域の幅以上とすることで、第１方向に対してより均一に蒸着成分を飛散させ、基板に対してより均一に蒸着成分を入射させることができる。
【００１７】
また、このような製造方法において、蒸着マスクと蒸着源との間に、蒸着源に対向する位置に開口を有する遮蔽板を設けることで、第２方向に飛散した蒸着成分のうち、蒸着マスク側に通過する蒸着成分を垂直蒸着成分のみとすることができる。したがって、基板の第２方向における蒸着パターンの相対膜厚比のばらつきが小さくなる。
【００１８】
また、本発明の蒸着マスクは、上述した製造方法に用いる蒸着マスクであり、前記基板における一方向に配列された複数の画素を一括して露出させる開口部を備えたことを特徴としている。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、図面に基づいて順次詳細に説明する。
【００２０】
＜表示装置＞
図１は、本発明の表示装置の実施形態を示す図であり、図２は図１におけるＡ−Ａ’断面図である。これらの図に示す表示装置１０１は、基板１０２上に複数の画素１０３を行列状に配列形成してなる、いわゆるストライプ配列の表示装置である。このような表示装置１０１においては、全ての走査線と信号線が直行するため配線のレイアウトがシンプルであり、また表示画像の鮮明さから、パーソナルコンピュータ用の表示装置としての需要が高い。
【００２１】
ここで、各画素１０３には、基板１０１側から順に下部電極層（図示省略）、有機層パターン１０４ｒ，１０４ｇ，１０４ｂ、および上部電極層（図示省略）が積層され、これらの層の各積層部分からなる発光素子が設けられている。
【００２２】
ここで、有機層パターン１０４ｒ，１０４ｇ，１０４ｂは、蒸着マスクを用いて形成された蒸着パターンからなり、各発光素子の発光色に対応した材料で形成されている。ここでは、例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各発光色に対応する各有機層パターン１０４ｒ，１０４ｇ，１０４ｂが、行方向（図面上の横方向）ｐに配列された２つの画素１０３，１０３を覆う状態で設けられる。また、列方向（図面上の縦方向）には、有機層パターン１０４ｒ、有機層パターン１０４ｇ、有機層パターン１０４ｂが繰り返し配列されている。そして、列方向に配列された３つの画素１０３によって、１絵素が構成される。
【００２３】
ここで、各画素１０３は、各有機層パターン１０４ｒ，１０４ｇ，１０４ｂの行方向ｐにおける中央部に集約され、有機層パターン１０４ｒ，１０４ｇ，１０４ｂにおける行方向ｐの端部の、膜厚が不安定な領域ｄよりも内側に配置されている。そして、１枚の各有機層パターン１０４ｒ，１０４ｇ，１０４ｂで覆われた画素１０３間の間隔ｗ１が、行方向ｐに隣接する有機層パターン１０４ｒ（１０４ｇまたは１０４ｂ）で覆われた画素１０３間の間隔ｗ２よりも狭くなっている。
【００２４】
また、この表示装置１０１が、薄膜トランジスタによって各発光素子を駆動させるアクティブマトリックス方式であって、ここでの図示を省略した上部電極が、画素１０３が配置された領域を全て覆う状態で形成されて各発光素子にわたって共通に用いられている場合には、画素１０３の間隔が広く設けられている部分（ｗ２部分）に、上部電極の電圧降下を防止するための補助電極を設けるようにする。
【００２５】
このような構成の表示装置１０１においては、行方向ｐにおいて隣接する有機層パターン１０４ｒ（１０４ｇまたは１０４ｂ）で覆われた各画素１０３，１０３間の間隔ｗ２よりも、同一の有機層パターン１０４ｒ（１０４ｇ，１０４ｂ）内に配置された画素１０３，１０３間の間隔ｗ１を狭くすることで、各画素１０３を、その行方向ｐにおいて各有機層パターン１０４ｒ（１０４ｇ，１０４ｂ）の中央部に集約して配置している。このため、行方向ｐに配列された画素１０３の全てを均等な間隔で配置した場合と比較して、有機層パターン１０４ｒ（１０４ｇ，１０４ｂ）において膜厚が安定している中央部を有効に利用して、行方向ｐに複数の画素１０３を配置することができる。また、上述したように、表示装置１０１がアクティブマトリックス方式であって補助電極を備えている場合、画素１０３，１０３間の間隔ｗ２に補助電極を設けることで、この補助電極が画素１０３の配列に影響を及ぼすことを防止できる。
【００２６】
したがって、行方向ｐにおける画素１０３の開口率の向上を図ることが可能になる。この結果、輝度の高い表示を行うことが可能になり、さらに輝度を確保して画素数を増加させることができるため、表示装置の高集積化および高解像化を達成することが可能になる。
【００２７】
尚、上述した実施形態の表示装置においては、行方向ｐに配列された２つの画素１０３，１０３を一つの有機膜パターン１０４ｒ（１０４ｇ，１０４ｂ）で覆う構成とした。しかし本発明は、行方向ｐに配列された３つまたはそれ以上の画素１０３を、一つの有機膜パターン１０４ｒ（１０４ｇ，１０４ｂ）で覆い、各有機層パターン１０４ｒ（１０４ｇ，１０４ｂ）の行方向ｐにおける中央部にこれらの画素１０３を集約して配置する構成としても良い。また、各色の有機膜パターン１０４ｒ，１０４ｇ，１０４ｂの配列が行方向ｐに繰り返し配列されている場合、行方向ｐと直行する列方向に配列した複数の画素を一つの有機膜パターン１０４ｒ（１０４ｇ，１０４ｂ）で覆い、各有機層パターン１０４ｒ（１０４ｇ，１０４ｂ）の列方向における中央部にこれらの画素１０３を集約して配置する構成としても良い。
【００２８】
＜表示装置の製造方法＞
次に、本発明の表示装置の製造方法、およびこの製造方法に用いる蒸着マスクの実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。ここで説明する表示装置の製造方法は、図１を用いて説明した表示装置の製造に適する方法であり、先ず、この製造方法に用いる蒸着マスクの構成を図３に基づき、また図１を参照しつつ説明する。
【００２９】
図３に示す実施形態の蒸着マスク２０１は、いわゆるメタルマスクであり、基板１０２上に有機層パターン１０４ｒ，１０４ｇ，１０４ｂを蒸着形成する際に、基板１０２における画素１０３配置面側に、基板１０２に対して所定間隔を保って配置される状態で用いられる。この蒸着マスク２０１は、各有機層パターン１０４ｒ，１０４ｇ，１０４ｂ毎に用意される。
【００３０】
この蒸着マスク２０１は、例えば有機層パターン１０４ｒの形成に用いるものを例に取ると、有機層パターン１０４ｒの形成位置に対応する複数の開口部２０３を有している。各開口部２０３は、基板１０２の行方向ｐに配置される２画素１０３，１０３分を露出させる形状を有している。そして、基板１０２における画素１０３の配列の列方向において、２つ置き（２行置き）に設けられている。各開口部２０３の行方向の間隔ｗ３は、蒸着マスク２０１の撓みを防止できる程度に設定される一方、列方向の間隔ｗ４は、開口部２０３の列方向の幅ｗ５の２倍程度に設定される。
【００３１】
次に、この蒸着マスク２０１を用いた表示装置の製造方法を、図４の模式図に基づいて説明する。
【００３２】
この図に示す表示装置の製造方法は、図１を用いて説明した表示装置の製造方法において、基板１０２上に有機膜パターン１０４を形成する場合に適用される方法であり、次のように行われる。
【００３３】
すなわち、蒸着装置のチャンバ（図示省略）内を、遮蔽板３０１によって分離し、この遮蔽板３０１に形成された開口３０２ａの下方に蒸着源３０２を配置する。この遮蔽板３０１には、第１方向ｘに広い幅を有する長方形の開口３０２ａが設けられている。この開口３０２ａの第１方向ｘの幅は、基板２０１の行方向ｐにおける蒸着領域の幅と同程度以上であることとする。また、蒸着源３０２は、加熱ホルダとこの内部に充填された蒸着材料（有機層パターンを構成する材料）とで構成されており、遮蔽板３０１の開口３０２ａと対応する大きさの長方形に形成されている。つまり、この蒸着源３０２の第１方向ｘの幅も、開口３０２ａと同程度、すなわち基板２０１の行方向ｐにおける蒸着領域の幅と同程度以上であることとする。このような蒸着源３０２は、開口３０２ａの真下に、開口３０２ａと一致させて配置されている。
【００３４】
そして、遮蔽板３０１の上部には、蒸着マスク２０１を介して基板１０２が保持される。これらの蒸着マスク２０１と基板１０２とは、ここでの図示を省略した部材によって、所定の間隔に保持された状態を保って、第１方向ｘと直交する第２方向ｙに移動する。この際、基板１０２は、基板１０２における画素形成面を遮蔽板３０１側に対向させ、基板１０２の行方向ｐを、蒸着源３０２の長手方向である第１方向ｘに一致させる。また、蒸着マスク２０１も、基板１０２の配置方向に一致させて配置することとし、蒸着マスク２０１の各開口部２０３から、基板１０２の行方向ｐに配列する複数（例えば２つの画素）を、遮蔽板３０１側に露出させる。
【００３５】
以上のような配置状態において、遮蔽板３０１および蒸着マスク２０３を介して基板１０２の下方に配置された蒸着源３０２から蒸着材料ａを蒸発させる。そして、蒸着マスク２０１とこの上部に所定状態で配置された基板１０２とを、これらの配置関係を維持しながら第２方向ｙへ移動させる。
【００３６】
これにより、蒸着マスク２０１の各開口部２０３から、基板１０２の行方向ｐに配列された複数（２つ）の画素を一括して露出させた状態で、行方向ｐと直交する第２方向ｙに、蒸着マスク２０１と基板１０２とを相対的に移動させながら、遮蔽板３０１の開口３０１ａを通過した蒸着材料ａを、蒸着マスク２０１の開口部２０３を通過させて基板１０２に蒸着する。この際、遮蔽板３０１の開口３０１ａおよびこの直下に配置された蒸着源３０２は、第２方向ｙと直行する第１方向ｘ、すなわち基板１０２の行方向ｐに延設されているため、基板１０２の行方向における蒸着領域全体に蒸着材料ａが供給されることになる。
【００３７】
このような製造方法によれば、上述したように基板１０２および蒸着マスク２０１の移動方向（第２方向ｙ）と直交する第１方向ｘ（すなわちここでは行方向ｐ）に配列された複数の画素を一括して露出させた状態で蒸着が行われるため、この蒸着によって形成される蒸着パターン（すなわちここでは有機層パターン）は、基板１０２におけ行方向ｐに配列された複数の画素に亘って連続する形状に形成される。
【００３８】
したがって、各画素に対応させて個々の有機層パターンを形成する場合と比較して、行方向ｐにおける蒸着マスク２０１の開口部２０３の開口幅が広くなり、基板１０２の行方向ｐにおける有機層パターンの相対膜厚比のばらつきが小さくなる。つまり、蒸着による有機層パターンの形成においては、発明が解決しようとする課題の項で述べたように、パターンの周縁部が薄膜化する傾向にあるため、有機膜パターンの面積を行方向ｐに広げることで全体に占める薄膜化部分の面積比が縮小され、これにより相対膜厚比のばらつきを小さくできるのである。
【００３９】
したがって、有機層パターンにおける膜厚の安定した部分を有効に利用して画素を配置することで、画素面積を行方向ｐに広げることが可能になり、輝度の高い表示装置を製造することが可能になる。
【００４０】
また、このような製造方法において、遮蔽板３０１の開口３０１ａと蒸着源３０２とにおける第１方向ｘの幅を、基板１０２の蒸着領域の幅と同程度以上としたので、第１方向ｘに対してより均一に蒸着成分ａを飛散させ、基板１０２に対してより均一に蒸着成分ａを入射させることが可能になる。そして、基板１０２および蒸着マスク２０１を第１方向ｘと直交する第２方向ｙに移動させるため、１回の移動で基板１０２の全面に対して蒸着を行うことが可能になり、生産性を確保することも可能である。
【００４１】
さらに、遮蔽板３０１の開口３０１ａと蒸着源３０２とを対応する大きさの長方形に形成したことで、蒸着源３０２から第２方向ｙに飛散した蒸着成分ａのうち、蒸着マスク２０１側に通過する蒸着成分ａを、ほぼ垂直蒸着成分のみとすることができる。したがって、基板１０２の第２方向ｙにおける有機層パターンの相対膜厚比のばらつきを小さくすることができる。
【００４２】
尚、以上説明した各実施形態においては、有機層パターンを蒸着パターンとして形成する場合を例示したが、本発明はこれに限定されることはない。例えば、有機層パターンを挟持する下部電極層または上部電極層が、画素毎に形成される蒸着パターンであって、これらを連続して形成可能である場合、この電極層を上述した構成で形成しても良い。
【００４３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の表示装置によれば、蒸着パターンの中央部にその蒸着パターンで覆われた画素を集約させて配置することで、複数の画素の全てを均等な間隔で配置した場合と比較して、膜厚が安定な蒸着パターンの中央部を有効に利用して複数の画素を配置することができる。したがって、表示装置における画素の開口率の向上を図り、さらに輝度の向上とこれによる高集積化および高解像度化を図ることが可能になる。
【００４４】
また、本発明の表示装置の製造方法によれば、基板および蒸着マスクの移動方向と直交する第１方向に配列された複数の画素を一括して露出させた状態で蒸着が行われるため、この蒸着によって形成される蒸着パターンは、基板における一方向に配列された複数の画素に亘って連続する状態で設けられる。したがって、各画素に対応させて個々の蒸着パターンを形成する場合と比較して、第１方向における蒸着マスクの開口幅が広くなり、基板の第１方向における蒸着パターンの相対膜厚比のばらつきを小さくすることが可能になる。この結果、膜厚均一部を利用し、開口率がより大きく輝度の高い表示装置を得ることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の表示装置の一例を示す平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ’断面図である。
【図３】本発明の製造方法に用いる蒸着マスクの一例を示す構成図である。
【図４】本発明の製造方法を説明する模式図である。
【図５】従来の表示装置の構成図である。
【図６】従来の製造方法に用いる蒸着マスクの構成図である。
【図７】従来の製造方法を説明する模式図である。
【図８】従来技術の課題を説明するための図である。
【図９】従来技術の課題を説明するための相対膜厚比のグラフである。
【符号の説明】
１０１…表示装置、１０２…基板、１０３…画素、１０４ｒ，１０４ｇ，１０４ｂ…有機層パターン（蒸着パターン）、２０１…蒸着マスク、２０３…開口部、３０１…遮蔽板、３０１ａ…開口、３０２…蒸着源、ｗ１…有機層パターンで覆われた画素間の間隔、ｗ２…隣接する有機層パターンで覆われた画素間の間隔、ａ…蒸着材料、ｘ…第１方向、ｙ…第２方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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