(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
筒状をなす真空容器内において荷電粒子のビーム軌道を挟んで設けられた対をなす電極子と、これらの電極子に取り付けられ電極子によって前記ビーム軌道から遮蔽された範囲内に設けられた絶縁体と、前記絶縁体が結合された支持円筒と、この支持円筒が結合され前記真空容器の一方の端部内に固定された固定板と、前記支持円筒に結合され前記真空容器の他方の端部内に摺動自在に支持された可動板と、を備えたことを特徴とする電極。
【請求項２】
前記電極子は、真空容器の軸に直交する断面内に電極子同士のなす角度が互いに等しい角度をなして配置され、かつ真空容器の軸に平行の方向において互いに平行であることを特徴とする請求項１記載の電極。
【請求項３】
筒状をなす真空容器内において荷電粒子のビーム軌道を挟んで設けられた対をなす電極子と、これらの電極子に取り付けられた補助板と、この補助板に取り付けられ前記電極子によって前記ビーム軌道から遮蔽された範囲内に設けられた絶縁体とを備え、前記絶縁体は、前記電極子に沿って設けられた支持板を介して前記真空容器内壁に結合されていることを特徴とする電極。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、静電場シンクロトロン等において荷電粒子ビームを偏向させたり収束させたりするために設けられる電極に関する。
【０００２】
【従来の技術】
静電場シンクロトロンは荷電粒子を電場により偏向させたり、収束させたりするシンクロトロンで、低エネルギーの荷電粒子を加速、蓄積する装置として最近注目されている。磁場を用いる従来のシンクロトロンと比較すると、装置のサイズがコンパクトであるばかりでなく、冷却水が不要である、遮蔽が不要であるなどの利点がある。また、これまではほとんど不可能であったタンパク質のような巨大分子の加速、蓄積ができるようになる。
【０００３】
しかし、静電場シンクロトロンは、その電極について以下のような問題点が挙げられる。第一に、リング中に設けられた絶縁体が荷電粒子に対して露出していると、荷電粒子が周回するたびに電荷が絶縁体に蓄積されつづけ、やがて放電を起こし、真空度を低下させるばかりか、機器に損傷を与える。これはチャージアップとしてよく知られているが、荷電粒子のエネルギーが低い場合には、絶縁体に電荷が蓄積されやすいので、大きな問題となる。
【０００４】
第二に荷電粒子のエネルギーが低いため、残留ガスやアウトガスを減らさないとビーム寿命が短くなり、物理実験の効率が低下したり、あるいは不可能になったりする。静電場シンクロトロンでは電極等の機器が真空容器の中に収められており、残留ガスを効率よく排気することが一般に困難である。またアウトガスを減らすためには、高温で長時間のベーキングが必要であるが、このベーキングによる伸縮で機器が破損する虞れがある。
【０００５】
第三に、やはりエネルギーが低いことから、電極端部での電場の効果を入れて軌道計算をしないと、荷電粒子は安定に周回しない。また電極子に接続されたリード線の電場により、本来の電場が乱され、これによっても荷電粒子が安定に周回しないことが起り得る。
【０００６】
第四にアラインメントが困難である。先に述べたように、静電場シンクロトロンでは電極は真空容器の中に納められており、仮に真空容器を正確にアラインメントしたとしても、中の電極が正確にアラインメントできている保証はなく、もし電極のアラインメントが大きくずれていれば、荷電粒子は安定に周回しない。
【０００７】
第五に入射される荷電粒子が電極の電場により力を受けることがある。すなわち、入射ポートが電極に近く設置されていれば、入射された荷電粒子は電極の電場の影響を受けやすくなる。この結果、軌道がずれ、荷電粒子は安定に周回しないこととなる。
【０００８】
このように静電場シンクロトロンでは、電極の損傷が頻繁に起こるばかりか、荷電粒子の入射効率が低下したり、軌道が計算から大きくはずれたり、荷電粒子が安定に周回しないことが起り得る。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
静電場シンクロトロンでは、電極に上述のような問題点があり、そのため、真空度が上がらなかったり、機器の損傷が起ったり、荷電粒子が安定に周回しないことが起り得る。
本発明はかかる従来の技術の事情に対処してなされたものであり、電極子を支持する絶縁体に電荷が蓄積せず、アラインメントにすぐれた電極を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項１の発明は、筒状をなす真空容器内において荷電粒子のビーム軌道を挟んで設けられた対をなす電極子と、これらの電極子に取り付けられ電極子によって前記ビーム軌道から遮蔽された範囲内に設けられた絶縁体と、前記絶縁体が結合された支持円筒と、この支持円筒が結合され前記真空容器の一方の端部内に固定された固定板と、前記支持円筒に結合され前記真空容器の他方の端部内に摺動自在に支持された可動板と、を備えた構成とする。
本発明の電極においては、ビーム軌道上を周回する荷電粒子に対して絶縁体が露出していないため、絶縁体に電荷が蓄積されることがない。また、可動板によってベーキングによる伸縮を吸収することができ、固定板と可動板がフィールドクランプとなり、電極子端部の電場が外側へ広がることを抑制することができる。
【００１１】
請求項２の発明は、請求項１の電極において、前記電極子は、真空容器の軸に直交する断面内に電極子同士のなす角度が互いに等しい角度をなして配置され、かつ真空容器の軸に平行の方向において互いに平行である構成とする。
本発明の電極によれば、真空容器の軸を中心とする多極電場を形成することができる。
【００１３】
請求項３の発明は、筒状をなす真空容器内において荷電粒子のビーム軌道を挟んで設けられた対をなす電極子と、これらの電極子に取り付けられた補助板と、この補助板に取り付けられ前記電極子によって前記ビーム軌道から遮蔽された範囲内に設けられた絶縁体とを備え、前記絶縁体は、前記電極子に沿って設けられた支持板を介して前記真空容器内壁に結合されている構成とする。
本発明の電極においては、円周軌道上を周回する荷電粒子に対してどの絶縁体も露出していないため、絶縁体に電荷が蓄積されることがない。また、支持板上であらかじめ電極子の位置合わせを行うことができ、その支持板を真空容器に固定することで、全体としてアラインメント精度が向上する。また、電極子端部での電場が支持板により乱されることが少なくなり、荷電粒子を安定に周回させることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の第１の実施の形態の電極を図１と図２を参照して説明する。なお、ここでは電極子の数が４個の四極電極について説明する。図１は静電場シンクロトロンに用いられる四極電極のビーム軌道に平行な面による縦断面図である。ただし、対称性から、一つの電極子に関する部分のみ示してある。図２は図１の左側面図である。
【００１５】
すなわち、本実施の形態の電極は、電極子１の背後に絶縁体２が取り付けられ、電極子１は絶縁体２を介して支持円筒３に固定されている。支持円筒３の両端には固定板４と可動板５が取り付けられており、固定板４は真空容器６の端部に固定され、可動板５は真空容器６のもう一方の端部内に摺動自在に支持されている。ここで可動板５の直径は真空容器６の端部内径よりわずかに小さくしてあり、可動板５の端は丸く整形されており、さらに可動板５が支持されている真空容器６端部の内壁はなめらかになっている。
【００１６】
真空容器６を貫通してコネクタ７が設けられ、電極子１とコネクタ７との間は支持円筒３に設けられたリード孔９を通してリード線８で結ばれている。リード線８は電極子１に直接接続せずに、電極子１と電気的につながっている金属部品(図示せず)に接続してもよい。また、リード孔９を設けることなく、連通孔12を利用してもよい。固定板４と可動板５の中心には荷電粒子が通過する開口部10があけられているが、そのほかに連通孔11があけられている。
【００１７】
支持円筒３および固定板４と可動板５は真空容器６を通して接地されている。また図示しない電源からのケーブルはコネクタ７に接続できるようになっている。13はビーム軌道であり、これはまた４個の電極子１の中心であり、支持円筒３や真空容器６の軸でもある。
【００１８】
なお、コネクタ７は４個の電極子１それぞれについて設ける必要はなく、どこか一つの電極子１の近くにコネクタ７を一つ設けるだけでよい。そして通常対向する電極子１の電位は等しいので、対向する二つの電極子１からのリード線８を支持円筒３の外側で配線し、二本づつ結び合わせ計二本にしてコネクタ７に接続される。
【００１９】
このように構成された本実施の形態においては、絶縁体２は、ビーム軌道13上を周回する荷電粒子に対し露出していない構造になっており、絶縁体２に電荷が蓄積されることはなく、したがって近くの接地部などとの間で放電が起ることはない。
【００２０】
また、あらかじめ４個の電極子１の位置を調整して正確に支持円筒３に固定した後、支持円筒３を真空容器６に組み込むことで、電極子１のアラインメントが容易になる。しかもこの場合、電極子１間の電場は正しく生じるため、仮にアラインメント誤差があってもそれによるビーム軌道13への影響は前もって評価することができる。
【００２１】
また、固定板４と可動板５がフィールドクランプとなり、電極子１端部の電場が外側へ広がることを抑制する。フィールドクランプで抑制された電場の荷電粒子の軌道への影響は良く知られており、あらかじめ、その影響を考慮して電極を設計することができる。
【００２２】
また、リード線８が支持円筒３の外側に配線されており、支持円筒３は接地されておりシールドとなるので、リード線８の電場が電極子１で囲まれたスペースの電場を乱すことがない。さらにリード線を２本づつ結線することで、コネクタ７は２本の信号に対して用意するだけでよく、コンパクトになる。
【００２３】
またベーキングにより真空容器６や支持円筒３等が伸縮しても、可動板５がそれらの軸方向に可動であるため、ベーキングによる伸縮を吸収することができ、機器の破損を防ぐことができる。
【００２４】
また、開口部10は荷電粒子が通過する部分であり、開口部10の大きさを電極子１の側面を隠すようにすることで、荷電粒子の軌道がずれたり、荷電粒子が広がっても、荷電粒子が直接に電極子１に当たることはなく、電極子１を保護する効果がある。
【００２５】
さらに、固定板４と可動板５には開口部10の他にも連通孔11を設け、また支持円筒３に連通孔12を設けてあるので、固定板４と可動板５で挟まれた空間の大気を電極近傍に設けた真空ポンプで排気することができるため、真空容器６に真空ポンプを設ける必要がなくなるばかりでなく、電極の真空度を上げることができる。
【００２６】
次に、本発明の第２の実施の形態の電極を図３と図４を用いて説明する。ここでも四極電極について説明する。前記第１の実施の形態と同じ構成については説明を省略する。図３は可動板５側からみた側面図であるが、本実施の形態では、このように可動板５が電極子１の形状にあわせて切り欠かれた形状となっている。図４は開口部10と同じ形状の板14とそれに固定された棒15からなる測定ジグ16である。
【００２７】
このように構成された本実施の形態においては、電極組み立て後に測定ジグ16を軸に沿って通すことで、アラインメントが正確になされているかどうかを確かめることができる。なお、電極子１の縁が多少外側から見える程度に電極子１の形状にあわせて切り欠いて開口部10を広くとっておくと測定ジグ16を滑らかに通すことができる。
【００２８】
この実施の形態においても、連通孔11を設けておくことは言うまでもない。なお、ボア半径17と同じ半径の丸棒を中心軸に沿って動かすことによっても、アラインメントを簡便にチェックすることができる。
【００２９】
また、図示しないが、固定板４についても、同様に電極子形状にあわせて切り欠いた開口部10を設けると、両側からチェックでき、便利である。あるいは、固定板４と可動板５のうち、荷電粒子の進行方向に対し、対向しない板のみ、その中心部を電極子形状にあわせて切り欠き、対向する面については、電極子１の側面が荷電粒子で損傷しないよう、第１の実施の形態のように単純な円形としてもよい。
【００３０】
次に、本発明の第３の実施の形態の電極を図５を用いて説明する。ここでも四極電極について説明する。第１の実施の形態と同じ構成については説明を省略する。図５は静電場シンクロトロンに用いられる二つの四極電極の断面図である。ただし対称性からそれぞれ一つの電極子に関する部分のみ示してある。
【００３１】
この実施の形態では、第一の電極子１ａと第二の電極子１ｂがそれぞれ絶縁体２を介して同一の支持円筒３に固定されており、第一の電極子１ａと第二の電極子１ｂの間には、フィールドクランプ板18が支持円筒３に固定されている。第一の電極子１ａおよび第二の電極子１ｂにそれぞれ接続されたリード線８ａとリード線８ｂはそれぞれリード孔９を通して同一のコネクタ７に接続されている。
【００３２】
なお、コネクタ７はどこか一つの電極子の近くに一つ設けるだけでよいこと、および対向する電極子のリード線を支持円筒３の外側で配線し、結びあわせ一本とすることは第１の実施の形態と同様である。
【００３３】
このように構成された本実施の形態においては、２個の四極電極を同一の真空容器６に収納することができ、またコネクタ７も一つでよく、２個の四極電極を別々に作製する場合に比べて、コンパクトになり、また電源コネクタの数が少なくなる。
【００３４】
特に、静電場シンクロトロンでは収束作用の四極電極と発散作用の四極電極を隣接させて用いることが多く、本実施の形態により、全体として電場シンクロトロンのサイズを小さくすることができる。加えて、あらかじめ支持円筒３において四極電極の電極子を正確にアラインメントしておき、その後、真空容器６に支持円筒３を収納することにより、アラインメントが簡便になるばかりか、四極電極相互のアラインメントも簡便に正確にとることができ、これにより、支持円筒３が真空容器６に対し、アラインメントが少し悪い状態で固定されても、荷電粒子が安定に周回すると予想されることは前述の通りである。
【００３５】
また、フィールドクランプとして作用する固定板４と可動板５、および新たに設けたフィールドクランプ板18が四極電極端部の電場が広がることを抑制する。フィールドクランプの効果は前述の通りである。
【００３６】
また、フィールドクランプ板18にも、固定板４および可動板５と同様に連通孔11を開けておくと、排気効率が向上し真空度が向上する。さらに、フィールドクランプ板18と固定板４と可動板５の中央部を第２の実施の形態と同じく、電極形状に合わせて切り欠くと、支持円筒３を真空容器６内に設置した後もアラインメントをチェックすることができることは言うまでもない。なお、３個以上の四極電極を一つの支持円筒で固定することについても、同様の効果がある。
【００３７】
次に、本発明の第４の実施の形態の電極を図６から図８を用いて説明する。ここでも四極電極について説明する。既述の実施の形態と同じ構成については説明を省略する。
【００３８】
図６は第４の実施の形態に係る四極電極の断面図である。ただし対称性から一つの電極子に関する部分のみ示してある。図６において、電極子１の背面が中央部を除いて削られており、そこに絶縁体２が固定され、絶縁体２は真空容器６に固定される。リード線は省略してある。電極子１と絶縁体２の部分の概観を図７に示す。
【００３９】
このように構成された本実施の形態においては、絶縁体２が電極子１の背後にあり、ビーム軌道13上を周回する荷電粒子に対し直接は露出していないため、絶縁体２に電荷が蓄積されることはなく、したがって、チャージアップによる放電は起らない。しかも構造が簡単で、真空容器６のサイズ、特に径を小さくすることができる。
【００４０】
また図８に第４の実施形態に係る別の四極電極の正面図を示す。ただし、一つの電極子に関する部分のみ示してある。この実施の形態では、真空容器６を絶縁体２の形状に合わせて削ってある。絶縁体２としてはセラミックスなどが用いられるが、セラミックスは一般に加工が困難である。この実施の形態においては絶縁体２を真空容器６に合わせ加工する必要がなくなる。
【００４１】
次に、本発明に係る電極の第５の実施の形態を図９と図10を用いて説明する。ここでも四極電極について説明する。既述の実施の形態と同じ構成については説明を省略する。図９はの断面図であり、図10は正面図である。ただし、一つの電極子の部分のみを示してある。
【００４２】
この実施の形態では、支持円筒３は真空容器６に固定板４により固定される。固定板４は電極側にも延びており、電極側の形状は電極子１と同じで、電極子より若干小さくしてある。
【００４３】
このように構成された本実施の形態においては、固定板４がフィールドクランプとなり、電極子端部の効果をあらかじめ取り入れて設計することで、荷電粒子が安定に周回する。また真空容器６の両端には広い開口部があり、近傍に設置された真空ポンプでこの四極電極の排気をすることができる。
【００４４】
さらに、固定板４が電極子１の縁より出ていないため、図４に示した測定ジグ16や前述の丸棒を用いることで、支持円筒３設置後であってもアラインメントのチェックができる。あるいは固定板４が電極子１側面を隠すようにして、電極子１を保護するようにしてもよい。以上、電極として四極電極について説明したが、これらの実施の形態は四極以上の多極電極にも適用できることは言うまでもない。
【００４５】
次に、本発明の第６の実施の形態の電極を図11と図12を用いて説明する。ここでは、電極として対向する２個の電極子からなる偏向電極について説明する。図11は静電場シンクロトロンに用いられる偏向電極の水平断面図であり、図12は図11のXII−XII線に沿う縦断面図である。
【００４６】
図11、図12に示すように、本実施の形態においては、対向する電極子１の背面に取り付けられた補助板19を絶縁体２によって支持し、絶縁体２は支持板20に固定し、支持板20は円周方向に可動である可動板５に取り付けられ、可動板５は真空容器６の内側に支持される。
【００４７】
可動板５にはビームが通過するための図示しない開口部があけられている。支持板20には円周方向に切り欠き21が設けられ、また真空容器６の円周方向中央部において固定部品22によって容器６に固定される。そして、真空容器６の中央部において、電極子１は支持板20に絶縁体２を介して固定されている。さらに電極子１の付近に、電極子１とは離してシールド板23が設置されている。
【００４８】
また、図12に示すように、コネクタ７が真空容器６に設けられており、これはリード線８で電極子１に接続され、図示しない電源をコネクタ７に接続することにより、対向する２個の電極子１間に電圧が発生する。なお、説明のため、コネクタ７の位置は、図11のXII−XII上に設置されているが、この場所に限定するものではない。
【００４９】
このように構成された本実施の形態においては、絶縁体２は、ビーム軌道13上を周回する荷電粒子に対し露出していない構造になっており、絶縁体２に電荷が蓄積されることはなく、したがって近くの接地部などとの間で放電が起ることはない。
【００５０】
また、あらかじめ２個の電極子１の位置を調整して正確に支持板20に固定した後、支持板20を真空容器６に組み込むことで、電極子１のアラインメントが容易になる。しかもこの場合、偏向電場は正しく生じるため、仮にアラインメント誤差があってもそれによる閉軌道への影響は前もって評価することができる。
【００５１】
また、シールド板23がフィールドクランプとなり、電極子１端部の電場が外側へ広がることを抑制する。フィールドクランプで抑制された電場の荷電粒子の軌道への影響は良く知られており、あらかじめ、その影響を考慮して偏向電極を設計することができる。なお、シールド板23はビームが直接電極子１に衝突することを防ぐ機能も持っている。さらに、支持板20に切り欠き21を設けることで、偏向電場が支持板20により乱されることを抑制する。
【００５２】
また、ベーキングにより真空容器６や支持板20等が伸縮しても、可動板５が両方とも円周方向にに可動であること、および支持板20は真空容器６の中央で固定部品22により固定されており、電極子１も支持板20を介して真空容器６の中央に固定されていることから、ベーキングによる伸縮が真空容器６の両端に振り分けられるため、一箇所の伸縮量が小さく、よって、機器の破損等を防ぐことができる。なお、真空容器６を中央で分割できる構造にしておくと、支持板20や電極子１の中央部での固定等、組み立てが簡便になる。
【００５３】
次に、本発明の第７の実施の形態の電極を図13と図14を用いて説明する。ここでは、電極として対向する２個の電極子からなる偏向電極について説明する。前述の第６の実施の形態と同じ構成についての説明は省略する。図13は静電場シンクロトロンに用いられる偏向電極の水平断面図であり、図14は図13のXIV−XIV線に沿う立面図である。ただし、電極端部のみを示している。また、コネクタは省略してある。
【００５４】
図13、図14に示すように、本実施の形態は、絶縁体２が端部および中央部の支持部品24ａ，24ｂ上に設けられた受け台25に固定され、支持部品24ａ，24ｂは真空容器６内壁にあわせて作られている。支持部品24ａ上にはシールド板23が設けられ、シールド板23の一部分は電極子１と同じ形状に加工してある。電極子１は真空容器６の両端の支持部品24ａと中央の支持部品24ｂで真空容器６に支持されている。そして支持部品24ｂは真空容器６に固定されているが、支持部品24ａはビーム軌道13の方向に可動である。
【００５５】
このように構成された本実施の形態においては、絶縁体２は電極子１の背後に設置されており、絶縁体２に荷電粒子が蓄積されることはない。また、シールド板23がフィールドクランプとして機能する。そして、電極子１は中央の支持部品24ｂにより、一箇所で真空容器６に固定されており、ベーキングで機器が伸縮しても、両端の支持部品24ａがその伸縮に合わせて動くため、機器が破損することはない。さらに全体として構造が簡単であり、電極のサイズを小さくすることができる。
【００５６】
なお、あらかじめ、真空容器６を支持部品24ｂの付近で分割できるようにしておくと、支持部品24ｂを固定しやすい。また、偏向角が小さい場合には、中央の支持部品24ｂを設けず、端部の支持部品24ａのうちどちらか一方を真空容器６に固定してもよい。
【００５７】
次に、本発明の第８の実施の形態の電極を図15を用いて説明する。ここでは、電極として対向する２個の電極子からなる偏向電極について説明する。前述の第７の実施の形態と同じ構成については説明を省略する。
【００５８】
図15は静電場シンクロトロンに用いられる偏向電極の端部立面図である。すなわち、電極子１の背後に絶縁体２が配置され、絶縁体２は支持部品24に固定され、支持部品24は真空容器６内壁にあわせて作られ、ビーム軌道13の方向に可動となっている。この実施の形態においても、前述の第７の実施の形態と同様、電極端部の支持部品24にはシールド板23が設けられており、また、真空容器中央部で電極子１は、図示しない別の支持部品を介して真空容器６に固定されている。
【００５９】
このように構成された本実施の形態における、作用、効果は前述の第７の実施の形態と同じであるが、さらに本実施の形態では電極、特に真空容器６の径を小さくすることができる。
【００６０】
次に、本発明に係る電極の第９の実施の形態を図16を用いて説明する。ここでは、電極として対向する２個の電極子からなる偏向電極について説明する。
図16は入射ポートの概略図で、静電場シンクロトロンにおいては、通常は、偏向電極の近くに設けられる。すなわち、入射ポート26を真空容器６の一部に設け、入射ポート26と電極子１の間にシールド板23をビーム入射軌道27から離して設置する。
【００６１】
このように構成された本実施の形態においては、シールド板23により電極子１の電場が入射ポート26に及ぶことを防ぐことができるため、ビームを効率よく入射することができる。
【００６２】
次に、本発明に係る電極の第10の実施の形態を図17を用いて説明する。すなわち、入射ポート26と電極子１の間にビーム入射軌道27に平行に、シールド板23をビーム入射軌道27から離して設置する。シールド板23としては、ビーム入射軌道27を軸とする円筒としてもよい。
【００６３】
このように構成された本実施の形態においては、シールド板23により電極子１の電場が入射ポート26に及ぶことを防ぐことができるため、ビームを効率よく入射することができる。しかも構造が簡単である。
【００６４】
【発明の効果】
本発明の電極においては、電極子を支持する絶縁体に電荷が蓄積されることがないので、放電が起らず、機器の破損や真空度の悪化を防止できる。また、電極子相互のアラインメントを精度よくまた簡便にとることができ、多極電場を正しく生じさせることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態の電極のビーム軌道に平行な面による縦断面図。
【図２】図１の左側面図。
【図３】本発明の第２の実施の形態を示す側面図。
【図４】本発明の第２の実施の形態の電極の開口部の測定冶具の斜視図。
【図５】本発明の第３の実施の形態の電極の縦断面図。
【図６】本発明の第４の実施の形態の電極の要部を示す縦断面図。
【図７】本発明の第４の実施の形態の電極の要部を示す斜視図。
【図８】本発明の第４の実施の形態の電極の正面図。
【図９】本発明の第５の実施の形態の電極の縦断面図。
【図１０】図９のＸ−Ｘ線に沿う断面図。
【図１１】本発明の第６の実施の形態の電極の水平断面図。
【図１２】図11のXII−XII線に沿う断面図。
【図１３】本発明の第７の実施の形態の電極の水平断面図。
【図１４】図13のXIV−XIV線に沿う正面図。
【図１５】本発明の第８の実施の形態の電極の端部正面略図。
【図１６】本発明の第９の実施の形態の電極を示す水平断面図。
【図１７】本発明の第10の実施の形態の電極を示す水平断面図。
【符号の説明】
１，１ａ，１ｂ…電極子、２…絶縁体、３…支持円筒、４…固定板、５…可動板、６…真空容器、７…コネクタ、８，８ａ，８ｂ…リード線、９…リード孔、10…開口部、11…連通孔、12…連通孔、13…ビーム軌道、14…開口部と同じ形状の板、15…棒、16…測定ジグ、17…ボア半径、18…フィールドクランプ板、19…補助板、20…支持板、21…切り欠き、22…固定部品、23…シールド板、24，24ａ，24ｂ…支持部品、25…受け台、26…入射ポート、27…ビーム入射軌道。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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