(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
シャドウマスク製造用のコピーマスクを作製する、感光材料基板枠と原版マスク枠が蝶番により連結された垂直型の密着プリンタであって、該感光材料基板枠が感光材料基板枠の外枠、及びその外枠によって支え台を介して鉛直に保持された組織が緻密な花崗岩等の鉱物を材料とした定盤を具備し、該原版マスク枠が原版マスク枠の外枠，弾性体を材料とした内枠、及び原版マスクの仮保持具を具備していることを特徴とする密着プリンタ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、原版マスクからコピーマスクを作製する際に用いる密着プリンタに関するもので、特に、シャドウマスク製造の際に用いる大サイズのコピーマスクを作製する垂直型の密着プリンタに関する。
【０００２】
【従来の技術】
フォトリソグラフィー法を用いて製造される製品を量産する際には、フォトマスクが使用中に破損、消耗することを考慮して、フォトマスクは密着プリンタにて原版マスクからコピーしたコピーマスクを用いることが多い。
図７は、このような密着プリンタの一例を説明する斜視図である。図７に示すように、密着プリンタ（１）はガラス板（２ｂ）を保持した金枠（２ａ）からなる定盤と金属性の原版マスク枠（３）が蝶番（６）により連結されているものである。
【０００３】
その使用に際しては、ガラス板（２ｂ）にはコピーマスク用の感光材料基板（４）を装着し、原版マスク枠（３）には原版マスク（５）を装着する。
そして、点線矢印のように原版マスク枠（３）を閉じて、感光材料基板（４）に原版マスク（５）を密着し、上方からの光照射（７）により露光するようになっている。
【０００４】
このような金属性の水平型密着プリンタを使用して、シャドウマスク製造用のフォトマスクのように微細なパターンが大きな面積に配列されたフォトマスクを、その原版マスクからコピーマスクを作製すると、感光材料基板（４）と原版マスク（５）の密着状態は、全面にわたっては必ずしも完全なものではなく、自重によるたわみ等を原因としてパターンのボケや形状不良及びパターンの位置ズレが発生することがある。
【０００５】
また、定盤である金属性の金枠（２ａ）や金属性の原版マスク枠（３）は経年によって歪みが生じ、上記パターンのボケや形状不良及びパターンの位置ズレは密着プリンタの経年によって助長されることがある。
また、水平型密着プリンタにおいては、密着プリンタの床面積が大きいため作業性は悪く、更には、作業場の浮遊・降下塵の悪影響をコピーマスクが受けやすいものである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明における課題は、微細なパターンが大きな面積に配列されたシャドウマスク製造用のコピーマスクを、その原版マスクから作製する際に用いる密着プリンタにおいて、感光材料基板と原版マスクの密着状態をその全面にわたって完全なものとし、得られたコピーマスクにパターンのボケや形状不良及びパターンの位置ズレを発生させず、また、密着プリンタの経年によりパターンのボケや形状不良及びパターンの位置ズレが助長されることのない密着プリンタを提供するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、シャドウマスク製造用のコピーマスクを作製する、感光材料基板枠と原版マスク枠が蝶番により連結された垂直型の密着プリンタであって、該感光材料基板枠が感光材料基板枠の外枠、及びその外枠によって支え台を介して鉛直に保持された組織が緻密な花崗岩等の鉱物を材料とした定盤を具備し、該原版マスク枠が原版マスク枠の外枠，弾性体を材料とした内枠、及び原版マスクの仮保持具を具備していることを特徴とする密着プリンタである。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明を一実施の形態に基づいて以下に説明する。
図１は、本発明による密着プリンタの一実施例の主要部分を説明する斜視図である。図１に示すように、密着プリンタは金属性の感光材料基板枠（２０）と金属性の原版マスク枠（３０）が蝶番（８０）により連結されているものである。感光材料基板枠（２０）は感光材料基板枠の外枠（２１）、及びその外枠によって支え台（２３）を介して鉛直に保持された花崗岩等の鉱物を材料とした定盤（２２）などで構成され、原版マスク枠（３０）は原版マスク枠の外枠（３１），弾性体を材料とした内枠（３２ａ、３２ｂ）、及び原版マスクの仮保持具（３３）などで構成されている。
【０００９】
その使用に際しては、感光材料基板枠（２０）の定盤（２２）にはコピーマスク用の感光材料基板（図示せず）を装着し、原版マスク枠（３０）の内枠（３２ａ）には原版マスク（図示せず）を装着する。
そして、点線矢印のように原版マスク枠（３０）を閉じて、感光材料基板に原版マスクを密着させ、光照射により露光するようになっている。
【００１０】
図２は、図１に示す斜視図における感光材料基板枠（２０）の平面図である。また、図３は、図２における感光材料基板枠（２０）のＡ−Ａ’断面を示す断面図である。
図２、及び図３に示すように、感光材料基板枠（２０）は感光材料基板枠の外枠（２１）、及びその外枠によって支え台（２３）を介して鉛直に保持された組織が緻密な花崗岩等の鉱物を材料とした定盤（２２）などで構成され、感光材料基板枠の外枠（２１）の右方には蝶番右側（８１）が設けられている。また、感光材料基板枠の外枠（２１）の左右各部には支え具（２４）が設けられており、点線で示す感光材料基板（２７）に原版マスクを密着した際の加圧を支えるようになっている。
また、この支え具（２４）は万一の際の定盤（２２）の転倒防止を兼ねているものである。
【００１１】
定盤（２２）の表面には、装着された感光材料基板（２７）を保持するための真空吸引ミゾ（２５）、及びエアー吸引孔（２６）が設けられており、感光材料基板（２７）を吸引保持する際には、真空吸引ミゾ（２５）、エアー吸引孔（２６）、エアー吸引通路（図示せず）を経てエアー吸気装置（図示せず）が吸気するようになっている。
【００１２】
図４は、図１に示す斜視図における原版マスク枠（３０）の平面図である。また、図５は、図４における原版マスク枠（３０）のＡ−Ａ’断面を示す断面図である。
図４、及び図５に示すように、原版マスク枠（３０）は原版マスク枠の外枠（３１），弾性体を材料とした内枠（３２ａ、３２ｂ）、及び原版マスクの仮保持具（３３）などで構成され、外枠（３１）の左方には蝶番左部（８２）が設けられている。そして、上記感光材料基板枠の外枠（２１）の右方の蝶番右部（８１）と原版マスク枠の外枠（３１）の左方の蝶番左部（８２）とで、密着プリンタとして感光材料基板枠（２０）と原版マスク枠（３０）を一体化し連結する蝶番（８０）を形成するものである。
【００１３】
原版マスクの仮保持具（３３）は、原版マスク枠の外枠（３１）に連結されており、点線で示す原版マスク（３４）を仮保持するものであるが、原版マスク（３４）を感光材料基板（２７）に密着させる直前には、取り外されるようになっている。
【００１４】
図６は、感光材料基板枠（２０）に対し、原版マスク枠（３０）が図１に示す点線矢印に閉じられて、感光材料基板（２７）に原版マスク（３４）が密着した状態を説明する断面図である。
図６に示すように、原版マスクの仮保持具（３３）は取り外され、感光材料基板（２７）と原版マスク（３４）は、エアー吸引孔（３７）を通じてエアー吸気装置（図示せず）が、内枠（３２ａ、３２ｂ）によって密閉された内部のエアーを吸気することで密着し、光照射（７０）により露光されるようになっている。
【００１５】
本発明においては、感光材料基板枠（２０）を構成する、外枠によって支え台（２３）を介して鉛直に保持された定盤（２２）の材料を組織が緻密な花崗岩等の鉱物としたことを特徴とするものであるが、組織が緻密な花崗岩等の鉱物は磨耗、反撥、押し込みなどの各硬度、及び圧縮強度が高く、また、剛性が大きなものであり、且つ、経年変化の小さな物質であるため、密着プリンタの定盤として好適なものである。
【００１６】
この定盤（２２）の大きさは、具体的には、例えば、シャドウマスク製造用の原版マスクの大きさが約８０×１００ｃｍの際に、約１１０×１１０ｃｍ程度のものであり、厚さは約８ｃｍ程度のものである。
また、定盤（２２）の平面度は約１０μｍ程度のものである。
【００１７】
また、本発明においては、上記原版マスク枠（３０）を構成する、内枠（３２ａ、３２ｂ）の材料を弾性体としたことを特徴とするものであるが、弾性体としては、例えば、柔軟性のあるシリコン等を素材としたものが利用できる。
【００１８】
この原版マスク枠（３０）を構成する内枠（３２ａ）の外側は、原版マスク枠の外枠（３１）の内側に固定されるものであるが、内枠（３２ａ）の内側は、原版マスク（３４）を保持するものではあるが、原版マスク（３４）を固定するものではなく、内枠（３２ａ）の弾性によって原版マスク（３４）が鉛直に近い状態にて、左右の移動、或いは揺動することが出来るようになっており、感光材料基板（２７）に原版マスク（３４）が密着される直前までは原版マスクの仮保持具（３３）によって仮保持されているものである。
【００１９】
この原版マスクの仮保持具（３３）は、例えば、吸引盤のように原版マスク（３４）を吸引して保持する機能を有するものであり、原版マスク枠の外枠（３１）に連結されており原版マスク（３４）を仮保持しているが、上記のように原版マスク（３４）を感光材料基板（２７）に密着させる直前には、取り外されるようになっている。
【００２０】
従って、感光材料基板枠（２０）に対し、原版マスク枠（３０）が図１に示す点線矢印に閉じられて、感光材料基板（２７）に原版マスク（３４）が密着する際には、圧縮強度が高く、剛性が大きな、鉛直に保持された定盤（２２）に装着された感光材料基板（２７）に対し、内枠（３２ａ）及び仮保持具（３３）によって鉛直に近い状態に仮保持され、内枠（３２ａ）の弾性によって微動することが出来るようになっている原版マスク（３４）は、他からの応力などの影響を受けることなく、例えば、蝶番（８０）側から密着を開始し、順次に全面にわたって完全に密着することになる。
【００２１】
このようにして得られたシャドウマスク製造用のコピーマスクは、パターンのボケや形状不良及びパターンの位置ズレを発生させず、また、密着プリンタの経年によりパターンのボケや形状不良及びパターンの位置ズレが助長されることのないものとなる。
また、このような垂直型の密着プリンタは、密着プリンタの床面積が小さいため作業性は良く、更には、作業場の浮遊・降下塵の悪影響をコピーマスクが受けにくいものである。
【００２２】
【発明の効果】
本発明は、シャドウマスク製造用のコピーマスクを作製する、感光材料基板枠と原版マスク枠が蝶番により連結された垂直型の密着プリンタにおいて、感光材料基板枠が感光材料基板枠の外枠、及びその外枠によって支え台を介して鉛直に保持された組織が緻密な花崗岩等の鉱物を材料とした定盤を具備し、原版マスク枠が原版マスク枠の外枠，弾性体を材料とした内枠、及び原版マスクの仮保持具を具備し、定盤に装着された感光材料基板に対し、弾性体によって微動可能に保持された原版マスクは、他からの応力などの影響を受けることなく、順次に全面にわたって定盤に完全に密着するので、信頼性が恒久的な定盤の精度に支障なく沿うことができ、コピーマスクにパターンのボケや形状不良及びパターンの位置ズレを発生させず、また、密着プリンタの経年によりパターンのボケや形状不良及びパターンの位置ズレが助長されることのない密着プリンタとなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による密着プリンタの一実施例の主要部分を説明する斜視図である。
【図２】図１に示す斜視図における感光材料基板枠の平面図である。
【図３】図２における感光材料基板枠のＡ−Ａ’断面を示す断面図である。
【図４】図１に示す斜視図における原版マスク枠の平面図である。
【図５】図４における原版マスク枠のＡ−Ａ’断面を示す断面図である。
【図６】感光材料基板に原版マスクが密着した状態を説明する断面図である。
【図７】密着プリンタの一例を説明する斜視図である。
【符号の説明】
１…密着プリンタ
２ａ…金枠
２ｂ…ガラス板
３、３０…原版マスク枠
４、２７…感光材料基板
５、３４…原版マスク
６、８０…蝶番
７、７０…光照射
２０…感光材料基板枠
２１…感光材料基板枠の外枠
２２…定盤
２３…支え台
２４…支え具
２５…真空吸引ミゾ
２６、３７…エアー吸引孔
３１…原版マスク枠の外枠
３２ａ、３２ｂ…弾性体を材料とした内枠
３３…原版マスクの仮保持具
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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