(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）成形助剤を含有し、該成形助剤が（i）炭素、（ii）炭素数１２〜２２の脂肪酸又はそのマグネシウム塩、（iii）カルボキシルメチルセルロース又はそのマグネシウム塩及び（iv）ポリビニルアルコールの中から選ばれる少なくとも１種であり、かつ前記成形助剤の割合が０．５〜５重量%である酸化マグネシウムを混練し、破壊強度が０．３〜１．２kg/mmの成形物に成形する第１工程、（Ｂ）該第１工程で得られた酸化マグネシウム成形体を、１１５０℃〜１３５０℃の高温で焼成することにより担体酸化マグネシウムを得る第２工程、（Ｃ）該第２工程で得られた担体酸化マグネシウムに、水溶性のルテニウム化合物あるいは水溶性のルテニウム化合物及びロジウム化合物を含有する水溶液を用い、ルテニウムあるいはルテニウム及びロジウムを金属換算量で１０〜５０００wtppmの割合で担持させた後、空気中４００℃以下２００℃以上の温度で焼成する第３工程、以上の工程からなることを特徴とする炭化水素の酸化改質用触媒の調製方法。
【請求項２】
該第１工程で用いる成形助剤が炭素である請求項１に記載の調製方法。
【請求項３】
含炭素有機化合物を触媒の非存在下、反応圧力０．６〜７ＭＰａの加圧条件下で酸素と反応させ、未反応の含炭素有機化合物を含む少なくとも６００℃の温度を有する混合ガスを生成させる部分燃焼工程と、該未反応の含炭素有機化合物に加圧条件下および酸化改質用触媒の存在下で、炭酸ガス及び／又はスチームを反応させる酸化改質工程からなる方法において、該酸化改質用触媒として請求項１又は２のいずれかの調製方法により触媒を得る工程と、酸素と含炭素有機化合物の炭素モル比が０．２〜０．８で、スチームと含炭素有機化合物の炭素モル比が０．０〜２．０で、二酸化炭素と含炭素有機化合物の炭素モル比が０．０〜２．０で、反応温度が６００〜１３００℃の条件で反応させる工程とを有することを特徴とするオートサーマルリフォーミングによる合成ガスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、炭化水素の酸化改質用触媒の調製方法及びその触媒を用いた合成ガスの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
酸化改質法（ＡＴＲ法）により、メタンや天然ガスなどの低級炭化水素ガスから、水素を主成分とするガスや、アンモニア、メタノールおよびＦＴ合成の原料となる合成ガス、あるいはオキソガスを製造できることは、従来より広く知られている。ＡＴＲ法とは、１つの反応器の中で部分酸化（部分燃焼）反応と触媒によるスチーム及び／又は炭酸ガスリフォーミング（水蒸気及び／又は炭酸ガス改質）反応の両反応を逐次的に起させることにより、部分酸化反応（発熱反応）で発生する反応熱を吸熱反応であるスチーム及び／又は炭酸ガスリフォーミング反応に利用することを特徴とする炭化水素ガスの改質法である。
このＡＴＲ法では、部分酸化を経たガスは、通常、１，３００℃前後の温度で改質触媒層に入り、スチームリフォーミングやシフト反応により水素と一酸化炭素からなる合成ガスとなる。
しかしながら、このように高い温度やスチームの存在下では触媒強度が低下し、触媒の粉化が起こる。また、部分酸化生成物中に存在するコーク前駆体（アセチレンやエチレン等の不飽和炭化水素等）による触媒層でのコーク析出、閉塞が起こり、併せて触媒活性が低下するという問題がある。
「天然ガス化学の新しい動向−合成ガス製造を中心として−」ＰＥＴＲＯＴＥＣ、第１７巻第１０号、ｐ８３９（１９９４年）によれば、ＡＴＲ触媒は、担体にアルミナを用い、活性金属としてニッケルを担持した触媒を使用しており、炭素析出が起こりやすいという欠点があった。また、炭素析出を抑えようとするために、ＣａＯやＭｇＯを添加することがあるが、その含有量が多くなりすぎると触媒強度が低下するという問題を抱えていた。また、ＭｇＯ担体のみで打錠成形やプレス成形などで無理に強度を高めると活性が低下するため、高い活性を付与するのが非常に困難になるという問題を同時に抱えていた。
以上のことから理解されるように、この合成ガス製造用触媒に関しては、触媒強度が高く粉化が起りにくく、しかもリフォーミング活性が高く、さらに炭素析出抑制能が著しく高い触媒及びその調製方法の出現が強く望まれていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、触媒強度が極めて高く、高活性で、しかも使用に際しての炭素析出量の少ない炭化水素の酸化改質用触媒の調製方法及びその触媒を用いた合成ガスの製造方法を提供することをその課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成するに至った。即ち、本発明によれば、以下に示す炭化水素の酸化改質用触媒の調製方法およびその触媒を用いる合成ガスの製造方法が提供される。
（１）（Ａ）成形助剤を含有し、該成形助剤が（i）炭素、（ii）炭素数１２〜２２の脂肪酸又はそのマグネシウム塩、（iii）カルボキシルメチルセルロース又はそのマグネシウム塩及び（iv）ポリビニルアルコールの中から選ばれる少なくとも１種であり、かつ前記成形助剤の割合が０．５〜５重量%である酸化マグネシウムを混練し、破壊強度が０．３〜１．２kg/mmの成形物に成形する第１工程、（Ｂ）該第１工程で得られた酸化マグネシウム成形体を、１１５０℃〜１３５０℃の高温で焼成することにより担体酸化マグネシウムを得る第２工程、（Ｃ）該第２工程で得られた担体酸化マグネシウムに、水溶性のルテニウム化合物あるいは水溶性のルテニウム化合物及びロジウム化合物を含有する水溶液を用い、ルテニウムあるいはルテニウム及びロジウムを金属換算量で１０〜５０００wtppmの割合で担持させた後、空気中４００℃以下２００℃以上の温度で焼成する第３工程、以上の工程からなることを特徴とする炭化水素の酸化改質用触媒の調製方法。
（２）該第１工程で用いる成形助剤が炭素である前記（１）に記載の調製方法。
（３）含炭素有機化合物を触媒の非存在下、反応圧力０．６〜７ＭＰａの加圧条件下で酸素と反応させ、未反応の含炭素有機化合物を含む少なくとも６００℃の温度を有する混合ガスを生成させる部分燃焼工程と、該未反応の含炭素有機化合物に加圧条件下および酸化改質用触媒の存在下で、炭酸ガス及び／又はスチームを反応させる酸化改質工程からなる方法において、該酸化改質用触媒として請求項１又は２のいずれかの調製方法により触媒を得る工程と、酸素と含炭素有機化合物の炭素モル比が０．２〜０．８で、スチームと含炭素有機化合物の炭素モル比が０．０〜２．０で、二酸化炭素と含炭素有機化合物の炭素モル比が０．０〜２．０で、反応温度が６００〜１３００℃の条件で反応させる工程とを有することを特徴とするオートサーマルリフォーミングによる合成ガスの製造方法。
【０００５】
【発明の実施の形態】
本発明においては、触媒担体として酸化マグネシウム（以下、単にＭｇＯとも言う）を用いる。
本発明の触媒担体用酸化マグネシウム成形体を製造するには、まず第１工程で、粉末状の酸化マグネシウムに成形助剤を添加し、均一に混合した後、この混合物を所望の形状に成形する。成形助剤としては、（ｉ）炭素（カーボン）、（ｉｉ）炭素数１２〜２２の脂肪酸又はそのマグネシウム塩、（ｉｉｉ）カルボキシルメチルセルロース（ＣＭＣ）又はそのマグネシウム塩及び（ｉｖ）ポリビニルアルコールの中から選ばれる少なくとも１種の化合物を用いるのが好ましく、特に炭素がコストの点で好ましい。これらの成形助剤は、通常、粉末状で用いられる。
前記炭素としては、グラファイト、カーボンブラック、活性炭などが用いられる。前記脂肪酸としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸等が挙げられる。
これらの成形助剤は、酸化マグネシウム粉末を所望の形状に成形する際の結着剤としての役割の他、成形機に流し込む際の潤滑剤として作用する。
また、粉末状酸化マグネシウムの平均粒径は１〜１０００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍである。一方、成形助剤の平均粒径は１〜１０００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍである。酸化マグネシウムに添加する成形助剤の量は、酸化マグネシウムと成形助剤の合計量に対し、０．５〜５重量％、好ましくは１〜３．５重量％である。１重量％未満では成形後及び焼成後の強度が不足すると共に、成形機に流し込む際に詰まり等を引き起こし好ましくない。また、５重量％を超えると焼成後もなお成形助剤が残存し、強度が不足する場合があり、さらにコストの面からも好ましくない。
【０００６】
破壊強度（Ｃｒｕｓｈ  Ｓｔｒｅｎｇｔｈ）とは、圧縮強度とも呼ばれ、“触媒調製（白崎、藤堂編ｐ．２３〜２４  講談社（１９７４））”或いは“Ｃａｔａｌｙｓｔ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ，  Ｊ．  Ｓ．  Ｃａｍｐｂｅｌｌ  ｅｔ  ａｌ．，  Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ，  Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ（１９７０）”に記載されているように、触媒の耐圧強度を表す物性として広く用いられている。一般的には、触媒粒子１個を稜線で接触させ、上方から徐々に荷重を加えて触媒粒子が破壊に至る力を測定する。触媒粒子２５個の平均値を持って表し、測定機器としては例えばチャチィロン式硬度計が使用される。本明細書における破壊強度は、触媒粒子２５個の半径方向の平均破壊強度（ｋｇ）を長さ（高さ）（ｍｍ）で割ったものと定義する。
前記酸化マグネシウムと成形助剤との混合物を成形する場合、その成形条件としては、通常、常温で、成形後の破壊強度（Ｃｒｕｓｈ  Ｓｔｒｅｎｇｔｈ）が、０．３〜１．２ｋｇ／ｍｍ、好ましくは０．５〜０．９ｋｇ／ｍｍとなるようにする。０．３ｋｇ／ｍｍ以下では触媒強度が不足するため好ましくない。１．２ｋｇ／ｍｍを超えると成形機の磨耗が激しく、しかも逆に焼成後の強度が不足する場合がある。また、１．２ｋｇ／ｍｍより高い破壊強度の成形体に成形すると触媒が所望の活性を示さない。さらにコストの面からも好ましくない。
成形方法としては、一般に、打錠成形法やプレス成形法等が採用されるが、特に成形方法に制限はない。成形体の形状は、特に制約されず、通常の触媒に採用されている形状であればよい。このような形状には、円柱状、中空円筒状等が包含される。中空円筒状の場合、その成形体の寸法は、通常、高さ、３〜３０ｍｍ、好ましくは５〜２５ｍｍ、外径、３〜３０ｍｍ、好ましくは５〜２５ｍｍ、内径、２〜２５ｍｍ、好ましくは３〜１５ｍｍであるが、触媒床に応じて適宜の形状および寸法を採用すればよい。
【０００７】
本発明による前記酸化マグネシウム成形体は、第２工程で１１５０〜１３００℃、好ましくは１２００〜１２５０℃の高温で焼成し、破壊強度（Ｃｒｕｓｈ  Ｓｔｒｅｎｇｔｈ）が、２．５ｋｇ／ｍｍ以上の担体酸化マグネシウムを製造する。１１５０℃より高い温度で焼成を行うことで結晶化を促進させることができるので、酸化マグネシウムの破壊強度（Ｃｒｕｓｈ  Ｓｔｒｅｎｇｔｈ）を２．５ｋｇ／ｍｍ以上とすることができる。前記焼成に際しての雰囲気としては、酸素含有ガス雰囲気が使用されるが、通常、空気が用いられる。焼成時間は１時間以上、好ましくは３時間以上であり、その上限値は特に制約されないが、通常、７２時間程度である。この焼成により、成形体中の成形助剤は酸化除去される。
このように焼成した担体ＭｇＯは、機械的強度にすぐれ、通常、その破壊強度（Ｃｒｕｓｈ  Ｓｔｒｅｎｇｔｈ）は２．５ｋｇ／ｍｍ以上となる。その破壊強度の上限値は、通常、５．０ｋｇ／ｍｍ程度である。
【０００８】
前記のようにして得た担体酸化マグネシウムに対しては、第３工程（触媒金属担持工程）において、触媒金属を含む水溶液を用いて触媒金属を担持させる。本発明では、触媒金属としては、ロジウム及び／又はルテニウムが用いられる。
前記担持工程では、触媒金属は水溶液状で担体酸化マグネシウムに担持されるが、この場合の触媒金属は水溶性化合物の形態で用いられる。このようなものとしては、ハロゲン化物、硝酸塩、硫酸塩、有機酸塩（酢酸塩等）、錯塩（キレート）等が挙げられる。
担体ＭｇＯに対する触媒金属水溶液の担持には、慣用のスプレー含浸法や、浸漬法、イオン交換法等を用いることができる。
【０００９】
本発明においては、担体ＭｇＯに対する触媒金属の担持量は、触媒金属換算量で、担体ＭｇＯに対して１０〜５０００ｗｔｐｐｍ、好ましくは１００〜２０００ｗｔｐｐｍの割合に規定する。触媒金属担持量が前記範囲より多くなると、触媒コストが高くなるとともに、触媒の炭素析出活性が高くなり、触媒の使用に際し、炭素析出量が多くなる。一方、前記範囲より少ないと、十分な触媒活性が得られなくなる。
【００１０】
前記のようにして、担体ＭｇＯに触媒金属を水溶液状で担持させることによって得られた触媒金属担持ＭｇＯは、引き続き乾燥させる。乾燥温度は通常の５０〜１５０℃で、特に制約されない。このようにして得られた乾燥物は、そのまま酸化改質用触媒として用いることができ、さらに焼成して用いることもできる。焼成する場合、焼成雰囲気としては、通常、空気が用いられるが、他のガス（不活性ガス等）であってもよい。焼成温度は、特に制約されないが、通常、１，５００℃以下、好ましくは９００℃以下である。焼成時間は１時間以上、好ましくは２時間以上、より好ましくは３時間以上であり、その上限値は、特に制約されないが、通常２４時間程度である。この２次焼成により、触媒金属が反応にさらに活性な状態となる。前記焼成温度は、１５０℃以上、好ましくは２００℃以上である。ルテニウムを担持させたルテニウム／ＭｇＯは、空気中で焼成する場合、４００℃以下２００℃以上の温度で焼成するのがよい。
【００１１】
触媒コストの低減化を図るには、担体に担持させる触媒金属の担持量をできるだけ低減化させると同時に、十分な反応活性を発現するように特別な工夫をすることが必要となる。本発明者らの研究によれば、触媒強度を高めるべく、担体ＭｇＯの結晶化を促進することで、ＭｇＯの表面に活性金属が効率よく担持される。そのため、担体ＭｇＯに対する触媒金属の担持量を１０〜５０００ｗｔｐｐｍと極く少量担持しても、炭化水素の酸化改質用触媒として十分な活性を有する安価な触媒が得られることが見出された。
【００１２】
前記のようにして得られる本発明触媒において、その触媒金属担持量は、担体ＭｇＯに対して、１０〜５０００wtppm、好ましくは１００〜２０００wtppmであり、その破壊強度（Crush Strength）は２．３kg/mm以上、好ましくは２．５〜３．５kg/mmである。
【００１３】
本発明による合成ガスの製造方法は、含炭素有機化合物を触媒の非存在下、反応圧力０．６〜７ＭＰａの加圧条件下で酸素と反応させ、未反応の含炭素有機化合物を含む少なくとも６００℃の温度を有する混合ガスを生成させる部分燃焼工程と、該未反応の含炭素有機化合物に酸化改質触媒の存在下、加圧条件で、炭酸ガス及び／又はスチームを反応させる酸化改質工程（合成ガス製造工程）とからなる。
【００１４】
前記部分燃焼工程において、その反応圧力は、好ましくは０．６〜３ＭＰａである。含炭素有機化合物に対する酸素の割合は、炭素１モルに対する酸素のモル比［Ｏ２］／［Ｃ］で、０．２〜０．８、好ましくは０．４〜０．６である。
この部分燃焼工程では、未反応の含炭素有機化合物を含む反応混合ガスが生成されるが、この反応混合ガスにおいて、その温度は少なくとも６００℃、好ましくは６００〜１，５００℃、より好ましくは６００〜１，３００℃である。また、その反応混合ガス中に含まれる未反応の含炭素有機化合物の割合は、０〜６０モル％、好ましくは０〜２０モル％である。酸素の割合は、０〜１０モル％、好ましくは０〜５モル％である。一酸化炭素の割合は１〜４０モル％、好ましくは２０〜３０モル％である。二酸化炭素（ＣＯ２）の割合は、１〜２０モル％、好ましくは１〜１０モル％である。
【００１５】
前記酸化改質工程において、その反応温度は６００〜１３００℃、好ましくは６００〜１０００℃であり、その反応圧力は加圧であり、０．６〜７ＭＰａ、好ましくは０．６〜３ＭＰａである。また、この反応を固定床方式で行う場合、そのガス空間速度（ＧＨＳＶ）は１，０００〜１０，０００ｈｒ−１、好ましくは２，０００〜８，０００ｈｒ−１である。酸素と含炭素有機化合物の炭素モル比（Ｏ２／Ｃａｒｂｏｎモル比）は、０．２〜０．８、好ましくは０．４〜０．６で、スチームと含炭素有機化合物の炭素モル比（Ｈ２Ｏ／Ｃａｒｂｏｎモル比）は０．０〜２．０、好ましくは０．８〜１．５で、二酸化炭素と含炭素有機化合物の炭素モル比（ＣＯ２／Ｃａｒｂｏｎモル比）は０．０〜２．０、好ましくは０．６〜１．５である。
また、本触媒は以下に説明するスチームフォーミングやＣＯ２リフォーミングの触媒としても用いることができる。
【００１６】
本発明の触媒を用いて合成ガス（水素と一酸化炭素との混合ガス）を製造するには、触媒の存在下において、炭化水素とスチーム及び／又は二酸化炭素（ＣＯ２）とを反応させる。炭化水素としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ナフサ等の低級炭化水素が用いられるが、好ましくはメタンが用いられる。本発明においては、炭酸ガスを含む天然ガス（メタンガス）を反応原料として有利に用いることができる。
メタンと二酸化炭素（ＣＯ２）とを反応させる方法（ＣＯ２リフォーミング）の場合、その反応は次式で示される。
【００１７】
ＣＨ４＋ＣＯ２  ⇔  ２Ｈ２＋２ＣＯ              （１）
メタンとスチームとを反応させる方法（スチームリフォーミング）の場合、その反応は次式で示される。
ＣＨ４＋Ｈ２Ｏ  ⇔  ３Ｈ２＋ＣＯ                （２）
メタンの燃焼反応の場合、その反応は次式で示される。
ＣＨ４＋２Ｏ２  ⇔  ２Ｈ２Ｏ＋ＣＯ２              （３）
【００１８】
本発明において、メタンとスチーム及び二酸化炭素と反応させる反応は、式１と式２の組み合わせ、メタンのオートサーマルリフォーミングは式３と式１及び／又は式２の組み合わせとなる。
【００１９】
含炭素有機化合物を触媒の存在下でスチーム及び／又は二酸化炭素と反応させて合成ガスを製造する方法において、その反応温度は６００〜１３００℃、好ましくは６００〜１０００℃であり、その反応圧力は加圧であり、０．６〜４ＭＰａ、好ましくは０．６〜３ＭＰａである。また、この反応を固定床方式で行う場合、そのガス空間速度（ＧＨＳＶ）は１，０００〜１０，０００ｈｒ−１、好ましくは２，０００〜８，０００ｈｒ−１である。該含炭素有機化合物の炭素１モル当たりのスチームは２モル以下、スチーム／二酸化炭素モル比は０．１〜１０、好ましくは１〜５である。
【００２０】
本発明によりスチームリフォーミングを行う場合、前記のように、原料炭化水素の炭素１モル当りのスチーム（Ｈ２Ｏ）を２モル以下に保持しても、炭素析出を抑制して、工業的に有利に合成ガスを製造することができる。従来の場合には、原料炭化水素の炭素１モル当り２〜５モルのスチームを必要としていたことを考えると、２モル以下のスチームの使用によってリフォーミング反応を円滑に進行させ得ることは、本発明触媒の工業上の大きな利点である。
【００２１】
本発明の触媒を用いる前記各種の反応は、固定床方式、流動床方式、懸濁床方式、移動床方式等の各種の触媒方式で実施されるが、好ましくは固定床方式で実施される。
また、本発明の触媒は、前記のようにオートサーマルフォーミング法による合成ガスの製造用触媒として有利に適用されるが、これに限らず、通常のスチームリフォーミング法やＣＯ２リフォーミング法による合成ガス製造用触媒として用いることができる。
【００２２】
【実施例】
次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。
【００２３】
触媒調製例１
マグネシア粉末と滑達剤カーボン３．０ｗｔ％（対マグネシア粉末）を粉砕混合し、破壊強度（Ｃｒｕｓｈ  Ｓｔｒｅｎｇｔｈ）が０．３２ｋｇ／ｍｍとなるように打錠成形した。触媒形状は、１６×１６ｍｍ（ＯＤ１６ｍｍ、ＩＤ８ｍｍ）の円柱形タブレットとした。この成形タブレットを空気中に於いて１２００℃にて３時間焼成した後（１次焼成後の破壊強度３．２ｋｇ／ｍｍ）、噴霧法（ｓｐｒａｙ法）でＲｕを担持した。噴霧法での金属担持は、ドラム型回転器に詰めた焼成ＭｇＯを攪拌しながら、霧状の塩化ルテニウム水溶液を吹きつけることにより行った。Ｒｕ担持後のＭｇＯは、空気中に於いて１２０℃にて２．５ｈ乾燥、同雰囲気中３９０℃にて３ｈ焼成し、Ｒｕ担持ＭｇＯ触媒（Ｒｕ担持量は３００ｗｔｐｐｍ、２次焼成後の破壊強度は２．３ｋｇ／ｍｍ）（触媒Ｎｏ．１）とした。
【００２４】
触媒調製例２〜３
触媒調製例１と同様な方法で、打錠成形後の強度及び触媒金属担持量を変えて触媒を調製した（触媒Ｎｏ．２〜３）。
【００２５】
触媒調製比較例４〜６
触媒調製例１と同様な方法で、打錠成形後の強度及び触媒金属担持量を変えて触媒を調製した（触媒Ｎｏ．４〜６）。
【００２６】
触媒調製例７
触媒調製例１と同様な方法で、１次焼成温度及び触媒金属担持量を変えて触媒を調製した（触媒Ｎｏ．７）。
【００２７】
触媒調製比較例８〜１０
触媒調製例７と同様な方法で、１次焼成温度及び触媒金属担持量を変えて触媒を調製した（触媒Ｎｏ．８〜１０）。
【００２８】
触媒調製参考例１１
マグネシア粉末と滑達剤カーボン３．０wt%を粉砕混合し、破壊強度（Crush Strength）が０．３２kg/mmとなるように打錠成形した。触媒形状は、１６×１６mm（ＯＤ 16mm、ＩＤ 8mm）の円柱形タブレットとした。この成形タブレットを空気中に於いて１２００℃にて３時間焼成した後（１次焼成後の破壊強度３．２kg/mm）、触媒調製例１と同じ噴霧法（spray法）でＲｕを担持した。Ｒｕ担持後のＭｇＯは、空気中に於いて１２０℃にて２．５ｈ乾燥、Ｒｕ担持ＭｇＯ触媒（Rh担持量は３００wtppm、乾燥後の破壊強度は２．１kg/mm）（触媒No.11）とした。
【００２９】
触媒調製参考例１２及び触媒調製例１３
触媒調製例２と同様な方法で、２次焼成温度及び触媒金属担持量を変えて触媒を調製した（触媒Ｎｏ．１２〜１３）。
【００３０】
触媒調製例１４
マグネシア粉末と滑達剤カーボン３．０ｗｔ％を粉砕混合し、破壊強度（Ｃｒｕｓｈ  Ｓｔｒｅｎｇｔｈ）が０．９６ｋｇ／ｍｍとなるように打錠成形した。触媒形状は、１６×１６ｍｍ（ＯＤ  １６ｍｍ、ＩＤ  ８ｍｍ）の円柱形タブレットとした。この成形タブレットを空気中に於いて１２００℃にて３時間焼成した後（１次焼成後の破壊強度３．０ｋｇ／ｍｍ）、触媒調製例１と同じ噴霧法（ｓｐｒａｙ法）で塩化ルテニウム水溶液及び酢酸ロジウム水溶液を噴霧してＲｕ及びＲｈを担持した。Ｒｕ及びＲｈ担持後のＭｇＯは、空気中に於いて１２０℃にて２．５ｈ乾燥、同雰囲気中３５０℃にて３ｈ焼成し、Ｒｕ／Ｒｈ担持ＭｇＯ触媒（Ｒｕ担持量は５２０ｗｔｐｐｍ、Ｒｈ担持量は５４０ｗｔｐｐｍ、２次焼成後の破壊強度は２．９ｋｇ／ｍｍ）（触媒Ｎｏ．１４）とした。
【００３１】
触媒調製比較例１５〜１６
触媒調製例２と同様な方法で、２次焼成温度及び触媒金属担持量を変えて触媒を調製した（触媒Ｎｏ．１５〜１６）。
【００３２】
触媒調製参考例１７
マグネシア粉末と滑達剤カーボン３．０wt%を粉砕混合し、破壊強度（Crush Strength）が０．３２kg/mmとなるように打錠成形した。触媒形状は、１６×１６mm（ＯＤ 16mm、ＩＤ 8mm）の円柱形タブレットとした。この成形タブレットを空気中に於いて１２００℃にて３時間焼成した後（１次焼成後の破壊強度３．０kg/mm）、噴霧法（spray法）でＲｈを担持した。噴霧法での金属担持は、ドラム型回転器に詰めた焼成ＭｇＯを攪拌しながら、霧状の酢酸ロジウム水溶液を吹きつけることにより行った。Ｒｈ担持後のＭｇＯは、空気中に於いて１２０℃にて２．５ｈ乾燥、同雰囲気中７００℃にて３ｈ焼成し、Ｒｈ担持ＭｇＯ触媒（Ｒｈ担持量は３７０wtppm、２次焼成後の破壊強度は２．３kg/mm）（触媒No.１７）とした。
【００３３】
触媒調製参考例１８〜１９
触媒調製参考例１７と同様な方法で、打錠成形後の強度及び触媒金属量を変えて触媒を調製した（触媒No.18〜19）。
【００３４】
触媒調製比較例２０〜２２
触媒調製参考例１７と同様な方法で、打錠成形後の強度及び触媒金属量を変えて触媒を調製した（触媒No.20〜22）。
【００３５】
触媒調製参考例２３
触媒調製参考例１７と同様な方法で、１次焼成温度及び触媒金属量を変えて触媒を調製した（触媒No.23）。
【００３６】
触媒調製比較例２４〜２６
触媒調製参考例１７と同様な方法で、１次焼成温度及び触媒金属量を変えて触媒を調製した（触媒No.24〜26）。
【００３７】
触媒調製参考例２７〜２９
触媒調製参考例１８と同様な方法で、２次焼成温度を変えて触媒を調製した（触媒No.27〜29）。
【００３８】
触媒調製比較例３０
触媒調製参考例２７と同様な方法で、２次焼成温度を変えて触媒を調製した（触媒No.30）。
【００３９】
前記触媒Ｎｏ．１〜１６の性状を表１に示し、触媒Ｎｏ．１７〜３０性状を表２に示す。
【００４０】
【表１】
0004203248.tif 000002
【００４１】
【表２】
0004203248.tif 000003
【００４２】
反応例１
２つの連結した反応器を用いてオートサーマルリフォーミング試験を行った。第１反応器では、ＣＨ４：ＣＯ２：Ｏ２モル比＝１：０．５：０．２５の原料ガスを第２反応器の触媒基準のＧＨＳＶ＝５０００ｈｒ−１で供給し、圧力２．５５ＭＰａで部分燃焼反応を行った。第２反応器では触媒調製例１で調製した触媒３０ｃｃの存在下、第１反応器出口ガスのリフォーミング反応を行った。反応条件は、圧力２．５５ＭＰａ、触媒層出口温度８５０℃とした。反応開始から１０ｈ経過後のＣＨ４転化率は、７１．８％（実験条件下でのＣＨ４の平衡転化率＝７１．８％）であり、また反応開始から８０００ｈ経過後のＣＨ４の転化率は、７１．８％を維持した。実験終了後、反応器を開放して触媒を抜き出し、その状態を調べたが、充填時と変わらず、触媒の損傷や炭素の析出は認められなかった。
ここで、ＣＨ4の転化率は、次式で定義される。
ＣＨ4の転化率（％）＝（Ａ−Ｂ）／Ａ×１００
Ａ：原料中のＣＨ4のモル数
Ｂ：生成物中のＣＨ4のモル数
なお、Ｒｕ単独またはＲｕ／Ｒｈ担持触媒の反応例および比較反応例の結果を表３に示す。
【００４３】
反応例２〜３
第２反応器の触媒を触媒を触媒調製例２〜３で調製した触媒３０ｃｃに変えた以外は反応例１と同じ条件でオートサーマルリフォーミング試験を行った。反応開始から１０ｈ経過後のＣＨ4転化率は、いずれも７１．８％（実験条件下でのＣＨ4の平衡転化率＝７１．８％）であり、また反応開始から８０００ｈ経過後もＣＨ4の転化率は７１．８％を維持した。実験終了後、反応器を開放して触媒を抜き出し、その状態を調べたが、充填時と変わらず、触媒の損傷や炭素の析出は認められなかった。
【００４４】
比較反応例４〜６
第２反応器の触媒を触媒調製比較例４〜６で調製した触媒３０ｃｃに変えた以外は反応例１と同じ条件でオートサーマルリフォーミング試験を行った。平衡転化率７１．８％に対し、いずれの場合も反応開始後５０時間以内に５０数％にまでＣＨ4転化率が低下した。
【００４５】
反応例７
反応例１と同じ反応器を用いてオートサーマルリフォーミング試験を行った。第１反応器では、ＣＨ4：ＣＯ2：Ｈ2Ｏ：Ｏ2モル比＝１：０．４３：１：０．５の原料ガスを第２反応器の触媒基準のＧＨＳＶ＝５０００ｈ-1で供給し、圧力２．５５ＭＰａで部分燃焼反応を行った。第２反応器では触媒調製例７で調製した触媒３０ｃｃの存在下、第１反応器出口ガスのリフォーミング反応を行った。反応条件は、圧力２．５５ＭＰａ、触媒層出口温度８５０℃とした。反応開始から１０ｈ経過後のＣＨ4転化率は、８７．２％（実験条件下でのＣＨ4の平衡転化率＝８７．２％）であり、また反応開始から８０００ｈ経過後もＣＨ4の転化率は、８７．２％を維持した。実験終了後、反応器を開放して触媒を抜き出し、その状態を調べたが、充填時と変わらず、触媒の損傷や炭素の析出は認められなかった。
【００４６】
比較反応例８〜１０
第２反応器の触媒を触媒調製比較例８〜１０で調製した触媒３０ｃｃに変えた以外は反応例７と同じ条件でオートサーマルリフォーミング試験を行った。平衡転化率８７．２％に対し、いずれの場合も反応開始後２０時間で約７０％にまでＣＨ4転化率が低下した。
【００４７】
参考反応例１１〜１２及び反応例１３〜１４
第１反応器での原料ガスを、ＣＨ4：ＣＯ2：Ｈ2Ｏ：Ｏ2モル比＝１：１．７３：１：０．５に変え、第２反応器の触媒を触媒調製参考例１１〜１２及び触媒調製例１３〜１４で調製した触媒３０ccに変えた以外は反応例７と同じ条件でオートサーマルリフォーミング試験を行った。反応開始から１０ｈ経過後のＣＨ4転化率は、いずれも９３．７%（実験条件下でのＣＨ4の平衡転化率＝９３．７%）であり、また反応開始から８０００ｈ経過後もＣＨ4の転化率は、９３．７%を維持した。実験終了後、反応器を開放して触媒を抜き出し、その状態を調べたが、充填時と変わらず、触媒の損傷や炭素の析出は認められなかった。
【００４８】
比較反応例１５〜１６
第２反応器の触媒を触媒調製比較例１５〜１６で調製した触媒３０ｃｃに変えた以外は反応例１１と同じ条件でオートサーマルリフォーミング試験を行った。平衡転化率９３．７％に対し、いずれの場合も反応開始後１０〜２０時間で約７４％にまでＣＨ4転化率が低下した。
【００４９】
参考反応例１７〜１９
第２反応器の触媒を触媒調製参考例１７〜１９で調製した触媒３０ccに変えた以外は反応例１と同じ条件でオートサーマルリフォーミング試験を行った。反応開始から１０ｈ経過後のＣＨ4転化率は、いずれも７１．８%（実験条件下でのＣＨ4の平衡転化率＝７１．８%）であり、また反応開始から８０００ｈ経過後もＣＨ4の転化率は、７１．８%を維持した。実験終了後、反応器を開放して触媒を抜き出し、その状態を調べたが、充填時と変わらず、触媒の損傷や炭素の析出は認められなかった。
【００５０】
比較反応例２０〜２２
第２反応器の触媒を触媒調製比較例２０〜２２で調製した触媒３０ｃｃに変えた以外は反応例１７と同じ条件でオートサーマルリフォーミング試験を行った。平衡転化率７１．８％に対し、いずれの場合も反応開始後５０時間以内で５３〜５５％にまでＣＨ4転化率が低下した。
【００５１】
参考反応例２３
第１反応器での原料ガスを、ＣＨ4：ＣＯ2：Ｈ2Ｏ：Ｏ2モル比＝１：０．４３：１：０．５に変え、第２反応器の触媒を触媒調製参考例２３で調製したＲｈ担持触媒３０ccに変えた以外は反応例７と同じ条件でオートサーマルリフォーミング試験を行った。反応開始から１０ｈ経過後のＣＨ4転化率は、いずれも８７．２%（実験条件下でのＣＨ4の平衡転化率＝８７．２%）であり、また反応開始から８０００ｈ経過後もＣＨ4の転化率は、８７．２%を維持した。実験終了後、反応器を開放して触媒を抜き出し、その状態を調べたが、充填時と変わらず、触媒の損傷や炭素の析出は認められなかった。
【００５２】
比較反応例２４〜２６
第２反応器の触媒を触媒調製比較例２４〜２６で調製した触媒３０ｃｃに変えた以外は反応例２３と同じ条件でオートサーマルリフォーミング試験を行った。平衡転化率８７．２％に対し、いずれの場合も反応開始後５０時間以内で約７０％にまでＣＨ4転化率が低下した。
【００５３】
参考反応例２７〜２９
第１反応器での原料ガスを、ＣＨ4：ＣＯ2：Ｈ2Ｏ：Ｏ2モル比＝１：１．７３：１：０．５に変え、第２反応器の触媒を触媒調製参考例２７〜２９で調製したＲｈ担持触媒３０ccに変えた以外は反応例１１と同じ条件でオートサーマルリフォーミング試験を行った。反応開始から１０ｈ経過後のＣＨ4転化率は、いずれも９３．７%（実験条件下でのＣＨ4の平衡転化率＝９３．７%）であり、また反応開始から８０００ｈ経過後もＣＨ4の転化率は、９３．７%を維持した。実験終了後、反応器を開放して触媒を抜き出し、その状態を調べたが、充填時と変わらず、触媒の損傷や炭素の析出は認められなかった。
【００５４】
比較反応例３０
第２反応器の触媒を触媒調製比較例３０で調製した触媒３０ｃｃに変えた以外は反応例２７と同じ条件でオートサーマルリフォーミング試験を行った。平衡転化率９３．７％に対し、反応開始後５０時間以内で約７４％にまでＣＨ4転化率が低下した。
【００５５】
前記反応例Ｎｏ．１〜１６の結果を表３に対し、前記反応例Ｎｏ．１７〜３０の結果を表４に示す。
【００５６】
【表３】
0004203248.tif 000004
【００５７】
【表４】
0004203248.tif 000005
【００５８】
触媒調製比較例３１
改質触媒として通常用いられるニッケル担持アルミナ（Ｎｉ／Ａｌ２Ｏ3）触媒を次のように調製した。水酸化アルミニウム（日本ケッチェン製）を空気中６５０℃で１．５時間焼成し、これを１／８インチのペレットに造粒してアルミナ担体とした。次いで、このアルミナ担体を硝酸ニッケル水溶液（Ｎｉ含有量８．５重量％）に２０時間浸漬してＮｉを担体に平衡吸着させた後、このＮｉ吸着アルミナ担体を濾過した。これを空気中３５℃で２４時間乾燥し、さらに空気中６５０℃で３時間焼成してＮｉ担持アルミナ触媒を得た。この触媒は、ＮｉをＮｉ金属として担体Ａｌ２Ｏ3に対して１５重量％含有し、その表面積は１００ｍ2／ｇであった。
【００５９】
比較反応例３１
第２反応器の触媒を触媒調製比較例３１で調製したニッケル担持アルミナ触媒３０ｃｃに変えた以外は反応例１と同じ条件でオートサーマルリフォーミング試験を行った。平衡転化率７１．８％に対し、反応開始から１０ｈ経過後のＣＨ4転化率は５６％と急速に低下した。実験終了後に反応器を開放し、触媒を抜き出して調べたところ、触媒表面は黒変しており、炭素析出が認められた。
【００６０】
参考反応例１〜４
触媒調製例２、７、１３及び触媒調製参考例１２で調製したＲｕ担持触媒３０ｃｃを外部加熱式の反応器に充填し、メタンのＨ２Ｏ／ＣＯ２リフォーミング試験を各触媒に対し実施した。触媒は、予めＨ2気流中７００℃で１ｈ還元処理を行った後、ＣＨ4：ＣＯ2：Ｈ2Ｏモル比＝１：０．５：１の原料ガスを、圧力２．０４ＭＰａ、反応器出口ガス温度８５０℃、ＧＨＳＶ＝５０００ｈｒ-1の条件で処理した。いずれの場合も反応開始から１０ｈ経過後のＣＨ4転化率は、６１．５％（実験条件下でのＣＨ4の平衡転化率＝６１．５％）であり、また反応開始から８０００ｈ経過後もＣＨ4の転化率は、６１．５％を維持した。実験終了後、反応器を開放して触媒を抜き出し、その状態を調べたが、充填時と変わらず、触媒の損傷や炭素の析出は認められなかった。
【００６１】
参考反応例５
反応器に充填する触媒を触媒調製例１４で調製したＲｕ／Ｒｈ担持触媒３０ｃｃに変えた以外は参考反応例１と同じ条件で、メタンのＨ2Ｏ／ＣＯ2リフォーミング試験を実施した。
反応開始から１０ｈ経過後のＣＨ４転化率は、６１．５％（実験条件下でのＣＨ４の平衡転化率＝６１．５％）であり、また反応開始から８０００ｈ経過後もＣＨ４の転化率は、６１．５％を維持した。実験終了後、反応器を開放して触媒を抜き出し、その状態を調べたが、充填時と変わらず、触媒の損傷や炭素の析出は認められなかった。
【００６２】
参考反応例６〜１０
触媒調製参考例１８、２３、２７、２８、２９で調製したＲｈ担持触媒３０ccを外部加熱式の反応器に充填し、メタンのＨ2Ｏ／ＣＯ2リフォーミング試験を各触媒に対し実施した。触媒は、予めＨ2気流中７００℃で１ｈ還元処理を行った後、ＣＨ4：ＣＯ2：Ｈ2Ｏモル比＝１：０．５：１の原料ガスを、圧力２．０４MPa、反応器出口ガス温度８５０℃、ＧＨＳＶ＝５０００hr-1の条件で処理した。いずれの場合も反応開始から１０ｈ経過後のＣＨ4転化率は、６１．５%（実験条件下でのＣＨ4の平衡転化率＝６１．５%）であり、また反応開始から８０００ｈ経過後もＣＨ4の転化率は、６１．５%を維持した。実験終了後、反応器を開放して触媒を抜き出し、その状態を調べたが、充填時と変わらず、触媒の損傷や炭素の析出は認められなかった。
【００６３】
【発明の効果】
本発明によれば、触媒金属の担持量が極く少量でありながら、炭素析出活性が著しく抑制された安価な炭化水素改質用触媒を得ることができる。