(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
４，４’−ジヒドロキシ−ジフェニルエーテルをアルキル化し、次いでホルミル化、メチル化をその順に行い、最後に脱アルキル化することを特徴とする４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法において、ホルミル化反応に、ジクロロメチルメチルエーテルと四塩化チタンを用いることを特徴とする４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法。
【請求項３】
請求項１記載の４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法において、ホルミル化反応に、アルカリ金属の水酸化物の存在下でクロロホルムを用いることを特徴とする４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法。
【請求項４】
請求項１記載の４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法において、メチル化反応に、アルカリ金属の水酸化物の存在下でヒドラジンを用いることを特徴とする４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法。
【請求項５】
請求項１記載の４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法において、ジクロロメチルメチルエーテルと四塩化チタンを用いるか、またはアルカリ金属の水酸化物の存在下でクロロホルムを用いてホルミル化反応を行い、次いでアルカリ金属の水酸化物の存在下でヒドラジンを用いてメチル化反応を行うことを特徴とする４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法。
【請求項６】
請求項１記載の４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法において、アルキル化反応にヨウ化メチルを用いることを特徴とする４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法。
【請求項７】
請求項１記載の４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法において、脱メチル化反応に三ハロゲン化ホウ素を用いることを特徴とする４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法。
【請求項８】
請求項７記載の４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法において、三ハロゲン化ホウ素が三臭化ホウ素であることを特徴とする４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法に関し、より詳しくは耐摩耗性、耐熱性等に優れた高分子材料の原料モノマーとして有用な、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルを選択的かつ簡便に製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
高分子化合物の原料であるジオールとしては、ビスフェノ−ルＡ、ビスフェノールＳ、ヒドロキノン、レゾルシン、２，６−ヒドロキシナフタレン、２，５−ヒドロキシナフタレン等の芳香族ジオール類、またエチレングリコール、プロピレングリコール、シクロヘキサンジメタノール等の脂肪族乃至脂環族ジオール類が用いられている。これらはポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル等の樹脂の構成成分として使用されている。
【０００３】
特に芳香族ポリカーボネート樹脂としては、ビスフェノールＡにホスゲンやジフェニルカーボネートを反応させて得られるポリカーボネート樹脂がその代表的なものとして知られている。かかるポリカーボネート樹脂は、透明性、耐熱性、寸法精度および機械的強度などの面で優れた性質を有していることから、多くの分野で用いられている。
【０００４】
これらポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル等の樹脂の耐熱性、耐薬品性、機械的特性を向上する目的で、分子内にエーテル結合を持つ構成成分の導入が知られている。例えば芳香族ジオール類では４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテルや４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテル等である。
【０００５】
ジヒドロキシジフェニルエーテル化合物の合成法としては一般にヒドロキノンをフッ化水素と共に加熱して直接、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテルを合成する方法が知られている（米国特許２，７３９，１７１号明細書記載）。また特開昭４９−５５６３５号公報にはヒドロキノンを天然又は合成のケイ酸アルミニウムの存在下、不活性溶剤中で反応させることを特徴とする製造法が記載されており、２−メチルヒドロキノンからジメチルジヒドロキシジフェニルエーテルの３異性体混合物が得られることが報告されている。
【０００６】
上記３異性体の中で、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルのみを選択的に合成するには、ｐ−アルコキシフェノールとハロゲン化物とを、アルカリ金属の水酸化物または炭酸塩と銅または銅化合物との存在下で、ウルマン反応させてジアルコキシジフェニルエーテル化合物とし、次いでこれを脱アルキル化する方法が知られている。
【０００７】
このように４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルが合成されるが、２−メチルヒドロキノンから製造する方法では前記の通り、数種類の異性体混合物として得られるため、その精製を行う必要があり問題となる。また、ｐ−アルコキシフェノールとハロゲン化物とのウルマン反応を経る方法では、ウルマン反応が高温で行われるため、副反応が起こりやすく、その後の精製も容易ではなく問題となる。また合成経路も長く、効率的ではないという課題がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記従来技術の問題点に鑑みてなされたものであって、ポリカーボネート樹脂等、耐摩耗性、耐熱性等に優れた高分子材料の原料モノマーとして有用な４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルを従来技術のように異性体を生成せず、必ず一種類の目的化合物のみが選択的に合成でき、かつ簡便に製造する方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは鋭意検討した結果、直接４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテルから、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルを選択的かつ簡便に製造する方法を見出し、本発明に到った。即ち、本発明によれば、第一に、４，４’−ジヒドロキシ−ジフェニルエーテルをホルミル化し、次いでメチル化することを特徴とする４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法が提供される。
【００１０】
そして、請求項１では、４，４’−ジヒドロキシ−ジフェニルエーテルをアルキル化し、次いでホルミル化、メチル化をその順に行い、最後に脱アルキル化することを特徴とする４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法が提供される。
【００１１】
第二に、請求項２では、上記請求項１記載の４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法において、ホルミル化反応に、ジクロロメチルメチルエーテルと四塩化チタンを用いることを特徴とする４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法が提供される。
【００１２】
第三に、請求項３では、上記請求項１記載の４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法において、ホルミル化反応に、アルカリ金属の水酸化物の存在下でクロロホルムを用いることを特徴とする４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法が提供される。
【００１３】
第四に、請求項４では、上記請求項１記載の４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法において、メチル化反応に、アルカリ金属の水酸化物の存在下でヒドラジンを用いることを特徴とする４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法が提供される。
【００１４】
第五に、請求項５では、上記請求項１記載の４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法において、ジクロロメチルメチルエーテルと四塩化チタンを用いるか、またはアルカリ金属の水酸化物の存在下でクロロホルムを用いてホルミル化反応を行い、次いでアルカリ金属の水酸化物の存在下でヒドラジンを用いてメチル化反応を行うことを特徴とする４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法が提供される。
【００１５】
第六に、請求項６では、上記請求項１記載の４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法において、アルキル化反応にヨウ化メチルを用いることを特徴とする４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法が提供される。
【００１６】
第七に、請求項７では、上記請求項１記載の４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法において、脱メチル化反応に三ハロゲン化ホウ素を用いることを特徴とする４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法が提供される。
【００１７】
第八に、請求項８では、上記請求項７記載の４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法において、三ハロゲン化ホウ素が三臭化ホウ素であることを特徴とする４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法が提供される。
【００１８】
更に、上記請求項１乃至８のいずれか１項に記載の４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルの製造方法によって製造される４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルを原料モノマーとして用い、重合して得られる高分子化合物が提供される。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を詳細に説明する。
本発明は４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテルから、３位にメチル基を導入し、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルを製造する方法である。メチル基導入の方法としては、初めにホルミル化を行い、続いて還元メチル化する方法である。
【００２０】
ホルミル化反応としては、公知のホルミル化反応を利用することができるが、原料である４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテルの反応性に留意する必要がある。例えば、ビルスマイヤー試薬を用いてのホルミル化は反応性が低く、この場合ほとんどホルミル化されない。
【００２１】
そこでホルミル化反応の好ましい例として、ジクロロメチルメチルエーテルを四塩化チタンの存在下反応させることが挙げられる。通常ジクロロメチルメチルエーテルは４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテルに対して、２．０〜３．０倍当量用いられ、四塩化チタンは２．０〜５．０倍当量用いられる。一箇所のホルミル化に対して最低等モル試薬が必要である。反応溶媒としてはジクロロメタン、ジエチルエーテルが用いられ、好ましくはジクロロメタンである。反応温度は、−５０℃〜２０℃で行われる。−４０℃〜０℃と低温で行うことがより好ましく、これは反応が激しいためである。反応時間は０．５〜５時間で行うことが好ましい。
【００２２】
またホルミル化の別の方法としては、アルカリ金属の水酸化物存在下、クロロホルムを反応させても合成できる（Ｒｅｉｍｅｒ−Ｔｉｅｍａｎｎ反応）。アルカリ金属の水酸化物としては、ナトリウム、カリウム、リチウム等の各アルカリ金属の水酸化物を用いることができるが、反応性の高さから水酸化ナトリウムが特に好ましく用いられる。反応温度は、２０℃〜９０℃で行われ、反応時間は０．５〜１０時間で行うことが好ましい。
【００２３】
メチル化反応としてはアルデヒドを還元メチル化する反応であれば良い。中でも、アルカリ金属の水酸化物存在下、ヒドラジンを反応させる方法が簡便に用いられる。アルカリ金属の水酸化物としては、ナトリウム、カリウム、リチウム等の各アルカリ金属の水酸化物を用いることができるが、反応性の高さから水酸化カリウムが特に好ましく用いられる。反応溶媒としてはエチレングリコール、ジエチレングリコールなどの高沸点のものが用いられる。反応温度は、１１０℃〜１９０℃で行われる。より好ましくは１３０℃〜１７０℃である。反応時間は０．５〜１０時間で行うことが好ましい。
【００２４】
以上の２段階の反応にて選択的にかつ簡便に４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテルから４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルが合成できる。この製造方法では各反応の収率も良いため、高収量で目的の化合物が得られる。さらに４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテルをアルキル化し、ヒドロキシ基を保護した後にホルミル化、メチル化を経て、最後に脱アルキル化することで製造することもできる。合成経路は増えるが、副反応がより押さえられ、高純度の化合物を得ることができる。
【００２５】
前記アルキル化の反応としては、例えば４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテルをアセトン中、水酸化ナトリウムの存在下で、ヨウ化メチルと反応させる方法がある。これ以外にも公知の反応を用い、アルキル化、好ましくはメチル化することができ、ヒドロキシ基が保護される。
【００２６】
脱アルキル化の反応は従来公知の反応を全て利用できるが、具体的には酸性試薬による方法と塩基性試薬による方法が挙げられる。酸性試薬としては、臭化水素、ヨウ化水素、トリフルオロ酢酸、ピリジンの塩酸塩、濃塩酸、ヨウ化マグネシウムエチラート、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、三ハロゲン化ホウ素、好ましくは三臭化ホウ素が挙げられる。また塩基性試薬としては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、ナトリウム、リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化リチウム、リチウムジフェニルホスフィド、ナトリウムチオエチラート等を挙げることができる。溶媒としては無水酢酸、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ピリジン、ブタノール等を挙げることができ、反応温度は用いる試薬の反応性によるが、一般的には、−１０℃から２００℃の間で行われる。
【００２７】
これまでは４−ブロモ−２−メチルアニソールと４−メトキシ−３−メチルフェノールとのウルマン反応、脱メチル化を経て合成された。しかしながら原料となる４−ブロモ−２−メチルアニソールと４−メトキシ−３−メチルフェノールもさらに前段階から合成する必要があり、合成経路も長く、出発原料の試薬も高価であった。その上ウルマン反応は高温で行われ副反応も多く、精製も容易ではなかった。本発明では安価な４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテルから、簡便に４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルが合成できる。これは従来の問題点をまとめて解決でき、従来の方法に比べ飛躍的に優れている。
【００２８】
以上のように４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルが合成されるが、この化合物はヒドロキシル基から誘導される種々の材料の製造、例えばポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の製造中間体としても有用である。
【００２９】
４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルから有機高分子化合物を合成する場合、従来公知の縮合系高分子の合成法により製造することができ、主として重縮合や重付加によって製造することができる。これらの方法については「新高分子実験学３  高分子の合成・反応（２）縮合系高分子の合成  高分子学会編  共立出版（株）」等に記載されている。
【００３０】
本発明によって製造される４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルやそれに由来する高分子化合物は、応用範囲も広く様々な用途に用いられる。その一例としては、モノマーでは酸化防止剤や感熱記録紙用顕色剤、またポリマーではその基本骨格にエーテル骨格と３位のメチル基が存在するため、耐摩耗性、耐熱性に優れる特性を有している。この特性を利用し、光ディスク基板用、電子写真法において使用される有機感光体用のバインダー樹脂、または高分子型電荷輸送材料用の共重合種などへの応用が可能である。
【００３１】
【実施例】
次に、実施例によって本発明をさらに詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施例によって限定されるものではない。なお、実施例中、部はすべて重量部を表わす。
【００３２】
実施例１（アルキル化）
４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル２０部、水酸化ナトリウム８．８部、アセトン２００部を撹拌反応容器に入れ、７５分間撹拌、還流させた。そこにヨウ化メチル５３部を加え、さらに３時間還流させた。反応後冷却し、水６００部にあけた。結晶が析出し、これをろ過し、水で３回洗浄した。ほぼ定量的に４，４’−ジメトキシジフェニルエーテルが得られた。融点は、１００．５〜１０１．５℃であり、文献値と一致した。
【００３３】
実施例２（ホルミル化）
４，４’−ジメトキシジフェニルエーテル２０部、脱水ジクロロメタン２５０部を撹拌反応容器に入れ、窒素気流下、−４０℃にした。冷却したまま四塩化チタン６５部を滴下し、ついでジクロロメチルメチルエーテル２３部を滴下した。滴下後、−４０℃で２．５時間反応させた。反応後氷水にあけ、３０分間室温で撹拌した。有機層を水、５％の炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順で洗浄し、最後に無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。ろ液を濃縮し、トルエン／酢酸エチルにより再結晶精製し、ジホルミル体１９部を得た。
【００３４】
実施例３（メチル化）
ジホルミル体１９部、ヒドラジン一水和物１３部、水酸化カリウム１７部、ジエチレングリコール２５０部を撹拌反応容器に入れ、１５０℃で５時間反応させた。反応後冷却し、氷水にあけた。トルエンで抽出し、有機層を水で３回洗浄し、最後に無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。ろ液を濃縮し、シリカゲルによるカラムクロマト処理をトルエン／ノルマルヘキサン（１／１）混合溶媒を用いて行い、４，４’−ジメトキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテル１１部を得た。
【００３５】
実施例４（脱アルキル化）
得られた４，４’−ジメトキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテル１１部をジクロロメタン７０部に溶解させ撹拌反応容器に入れ、窒素気流下−５℃で三臭化ホウ素２０部をジクロロメタン１０部に溶解させた液を１５分かけてゆっくり滴下した。滴下後徐々に室温に戻し、２時間反応させた。反応後、氷水５００部に反応液を注ぎ、３０撹拌した。有機層を水、５％の炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順で洗浄し、最後に無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。ろ液を濃縮し、シリカゲルによるカラムクロマト処理をトルエン／酢酸エチル（４／１）混合溶媒を用いて行い、更にトルエンにより再結晶精製し、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテル７部を得た。この化合物の融点は１４１．０〜１４２．０℃で、元素分析の結果は以下のようであり構造式から計算される値と一致した。
Ｃ％        Ｈ％
実測値      ７２．９８    ６．２２
計算値      ７３．０３    ６．１３
【００３６】
比較例（ウルマン反応を経る製造方法）
ｏ−アニソール９２部、ＮＢＳ（Ｎ−ブロモスクシンイミド）１４７部、脱水アセトニトリル２７０部を撹拌反応容器に入れ、室温で２時間反応させた。反応後、四塩化炭素を加え、スクシンイミドをろ過した。ろ液を濃縮し、シリカゲルによるカラムクロマト処理にシクロヘキサン溶媒を用いて行い、４−ブロモ−２−メチルアニソール１２５部を得た。
【００３７】
３−メチル−ｐ−アニスアルデヒド６．４部、ｍ−クロロ過安息香酸１３部、ジクロロメタン２００部を撹拌反応容器に入れ窒素気流下、１１時間還流させた。反応後冷却し、酢酸エチルを加え有機層を５％の炭酸水素ナトリウム水溶液で５回、飽和食塩水１回の順で洗浄した。最後に無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ液を濃縮した。ろ物にメタノール２５部と１０％の水酸化カリウム水溶液２０部を加え、窒素気流下２時間室温で反応させた。反応後、酢酸エチル５０部を加え抽出した。有機層を濃縮し、シリカゲルによるカラムクロマト処理にトルエン溶媒を用いて行い、４−メトキシ−３−メチルフェノール４部を得た。
【００３８】
４−ブロモ−２−メチルアニソール２８部、４−メトキシ−３−メチルフェノール２９部、水酸化カリウム１３部、活性化銅９部を撹拌反応容器に入れ、窒素気流下２２０℃で３時間反応させた。反応後冷却し、トルエンを加えセライトろ過した。ろ液を濃縮し、シリカゲルによるカラムクロマト処理をトルエン／ノルマルヘキサン（１／１）混合溶媒を用いて２回行い、４，４’−ジメトキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテル２１部を得た。得られた４，４’−ジメトキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルは上記実施例４と同様に操作し、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルを得た。融点は１４１．５〜１４２．５℃で、元素分析の結果は以下のようであり構造式から計算される値と一致した。
Ｃ％        Ｈ％
実測値      ７２．８５    ６．３０
計算値      ７３．０３    ６．１３
【００３９】
以上のように実施例によって製造される４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルはそれぞれの反応が扱いやすく、収率も良く、簡便に合成することができる。一方比較例の製造方法でも製造することはできるが、反応時間が長い反応もあり、またウルマン反応では副反応がおこり精製が容易ではなかった。よって総合的に判断すると実施例の合成経路が優れている。
【００４０】
【発明の効果】
以上のように、本発明の製造方法によれば、４，４’−ジヒドロキシ−ジフェニルエーテルをホルミル化し、次いでメチル化することから、簡便に４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテルから４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルを合成できる。さらに各反応の収率も良いため、高収量で目的の化合物を得ることができる。
【００４１】
請求項１の製造方法によれば、４，４’−ジヒドロキシ−ジフェニルエーテルをアルキル化し、次いでホルミル化、メチル化を経て、最後に脱アルキル化することから、アルキル化によりヒドロキシ基を保護した後にホルミル化、メチル化を行い、最後に脱アルキル化するため、合成経路は増えるが、副反応がより押さえられ、高純度の化合物を得ることができる。
【００４２】
請求項２の製造方法によれば、上記請求項１の製造方法において、ホルミル化反応に、ジクロロメチルメチルエーテルと四塩化チタンを用いることから、反応性に優れ、ホルミル化を容易に低温かつ短持間で行うことができる。
【００４３】
請求項３の製造方法によれば、上記請求項１の製造方法において、ホルミル化反応に、アルカリ金属の水酸化物の存在下でクロロホルムを用いることから、この場合もホルミル化反応を容易に低温かつ短持間で行うことができる。
【００４４】
請求項４の製造方法によれば、上記請求項１の製造方法において、メチル化反応に、アルカリ金属の水酸化物の存在下でヒドラジンを用いることから、簡便にメチル化反応を行うことができる。
【００４５】
請求項５の製造方法によれば、上記請求項１の製造方法において、ジクロロメチルメチルエーテルと四塩化チタンを用いるか、またはアルカリ金属の水酸化物の存在下でクロロホルムを用いてホルミル化反応を行い、次いでアルカリ金属の水酸化物の存在下でヒドラジンを用いてメチル化反応を行うことから、ホルミル化反応を容易に低温かつ短時間に行うことができると共にメチル化反応を簡便に行うことができる。
【００４６】
請求項６の製造方法によれば、上記請求項１の製造方法において、アルキル化反応にヨウ化メチルを用いることから、容易にメチル化することができ、ヒドロキシ基を保護することができる。
【００４７】
請求項７の製造方法によれば、上記請求項１の製造方法において、脱メチル化反応に三ハロゲン化ホウ素を用いることから、酸性試薬による脱メチル化を簡便に行うことができる。
【００４８】
請求項８の製造方法によれば、上記請求項７の製造方法において、三ハロゲン化ホウ素が三臭化ホウ素であることから、酸性試薬による脱メチル化を簡便で好ましく行える。
【００４９】
上記請求項１〜８のいずれか１項記載の製造方法によって製造された４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルを原料モノマーとして用いると、耐磨耗、耐熱性に優れた高分子材料を経済的かつ容易に得ることができる。これらの材料は、有用なポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂等として、光ディスク基板や有機感光体等に広く用いられる。