(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）で示されるニトロフェノール化合物を製造する方法であって、
【化１】
0004203192.tif 000016
一般式（２）
【化２】
0004203192.tif 000017
（式中、Ｘはハロゲン原子を示す）で表される化合物と、
一般式（３）
【化３】
0004203192.tif 000018
（式中、ｎは０〜１の整数を示す）で表されるホウ素化合物、または、
一般式（４）
【化４】
0004203192.tif 000019
で表されるホウ素化合物とを
水、トルエン、ジメチルホルムアミド、アセトン、ジメトキシエタン、メタノール、テトラヒドロフランおよびジオキサンからなる群から選ばれる１または２種類以上からなる溶媒中で、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウムおよびトリアルキルアミンから成る群から選ばれる１または２種類以上からなる塩基性化合物およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）である触媒の存在下で反応させて、一般式（５）
【化５】
0004203192.tif 000020
で表される化合物を得る工程と、
濃度６０％−８０％である希硫酸を触媒として、フェノール水酸基の保護基であるｔ−ブチル基の脱保護反応により、化合物（５）から化合物（１）を得る工程とを含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
一般式（１）で示されるニトロフェノール化合物を製造する方法であって、
【化１】
0004203192.tif 000021
一般式（２）
【化２】
0004203192.tif 000022
（式中、Ｘはハロゲン原子を示す）で表される化合物と、
トリアルキルホウ酸エステルに、tert−ブトキシフェニルマグネシウムハライドを反応させ、加水分解後に得られた反応液に含まれる、一般式（３）
【化３】
0004203192.tif 000023
で表される化合物（式中n=０〜２の整数を示す）とを、
水、トルエン、ジメチルホルムアミド、アセトン、ジメトキシエタン、メタノール、テトラヒドロフランおよびジオキサンからなる群から選ばれる１または２種類以上からなる溶媒中で、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウムおよびトリアルキルアミンから成る群から選ばれる１または２種類以上からなる塩基性化合物およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）である触媒の存在下で反応させて、一般式（５）
【化５】
0004203192.tif 000024
で表される化合物を得る工程と、
濃度６０％−８０％である希硫酸を触媒として、フェノール水酸基の保護基であるｔ−ブチル基の脱保護反応により、化合物（５）から化合物（１）を得る工程とを含むことを特徴とする方法。
【請求項３】
一般式（３）で表される化合物が、n=１のジ（tert−ブトキシフェニル）ボリン酸であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
一般式（４）で表される化合物が、トリス（p−tert−ブトキシフェニル）ボロキシンであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
一般式（６）
【化６】
0004203192.tif 000025
で示されるジ（tert−ブトキシフェニル）ボリン酸。
【請求項６】
化学式（７）
【化７】
0004203192.tif 000026
で示されるジ（p−tert−ブトキシフェニル）ボリン酸。
【請求項７】
一般式（４）
【化８】
0004203192.tif 000027
で示されるトリス（tert−ブトキシフェニル）ボロキシン。
【請求項８】
化学式（８）
【化９】
0004203192.tif 000028
で示されるトリス（p−tert−ブトキシフェニル）ボロキシン。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、医薬、農薬および各種の材料となる液晶の中間体等として有用なニトロフェェノール化合物の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、ニトロフェニルフェノール化合物の合成法としては、ジフェニルベンゾエートやジフェニルスルホネートをニトロ化し、エステルを加水分解してｏ−ニトロフェニルフェノールとｐ−ニトロフェニルフェノールの混合物を得た後に、再結晶やシリカゲルカラムで精製して、目的とするｏ−ニトロフェニルフェノールやｐ−ニトロフェニルフェノールを得る合成法が報告されている（J.Chem.Soc.,1952,1829、J.Org.Chem.,24,348（1959））。
【０００３】
しかしながら、上記の技術を用いてニトロフェニルフェノール化合物を合成すると生成物はｏ体およびｐ体の混合物として得られる。このために高純度の標品を得るためには、この混合物を再結晶やシリカゲルカラムで分離精製を数回行う必要があった。しかし、これらの異性体の分離精製は困難であり、収率も低くいため工業的に採用するには難点があった。
又、ＷＯ９７／２０８１５号公報では、４−メトキシフェニルボロン酸と３−ブロモニトロベンゼンとをクロスカップリングさせ、メトキシ基を酢酸溶媒中で濃臭化水素酸を加え環流させて脱保護し、４−（ｍ−ニトロフェニル）フェノールを合成している。しかしながら、上記の技術では脱保護の際に、臭気のきつい酢酸や取扱いの難しい濃臭化水素酸を使用しなければならず、また反応を環流下で行う必要があるため、酢酸や臭化水素ガスによる装置の腐食や廃棄物となる酢酸の処理などの問題があり、工業的に採用するには問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、高収率で、高純度なニトロフェニルフェノール化合物を製造する方法、およびニトロフェニルフェノール化合物の製造に有用な新規中間体を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意検討した結果、出発原料としてハロゲン化ニトロベンゼン（２）に、一般式（３）または一般式（４）で示されるホウ素化合物を塩基および遷移金属触媒存在下で反応させ、得られた化合物に希硫酸などの酸触媒を室温条件下で加えるだけで脱保護が進行し、高収率で、高純度なニトロフェニルフェノール化合物が合成できることを見い出し、本発明を完成した。
【０００６】
即ち、本発明は、一般式（１）で示されるニトロフェニルフェノール化合物を製造する方法であって、
【０００７】
【化１０】
0004203192.tif 000002
一般式（２）
【０００８】
【化１１】
0004203192.tif 000003
（式中、Ｘはハロゲン原子を示す）で表される化合物と、一般式（３）
【０００９】
【化１２】
0004203192.tif 000004
（式中、ｎは０〜２の整数を示す）で表されるホウ素化合物、または、一般式（４）
【００１０】
【化１３】
0004203192.tif 000005
で表されるホウ素化合物とを塩基および触媒存在下で反応させて、一般式（５）
【００１１】
【化１４】
0004203192.tif 000006
で表される化合物を得る工程と、酸性条件下での脱保護反応により、化合物（５）から化合物（１）を得る工程とを含むことを特徴とする方法である。
【００１２】
また、本発明は、前記触媒がテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）である前記の方法である。
更に、本発明は、前記化合物（５）を得る反応が溶媒中で行われ、前記溶媒が水、トルエン、ジメチルホルムアミド、アセトン、ジメトキシエタン、メタノール、テトラヒドロフランおよびジオキサンから成る群から選ばれる１または２種類以上である前記の方法である。
【００１３】
また、本発明は、前記塩基が水酸化物、炭酸塩、リン酸塩およびアミンから成る群から選ばれる１または２種類以上であることを特徴とする前記の方法である。
また、本発明は、一般式（３）で表される化合物が、ｎ＝１のジ（ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ボリン酸であることを特徴とする前記の方法である。
【００１４】
また、本発明は使用される一般式（３）（式中、ｎは０〜２の整数を示す）で示される化合物が、トリアルキルホウ酸エステルにｔｅｒｔ−ブトキシフェニルマグネシウムハライドを反応させ、加水分解後に得られた反応液である前記の方法である。
更に、本発明は、一般式（４）で表される化合物が、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ボロキシンであることを特徴とする前記の方法である。
また、本発明は  一般式（５）で示される化合物に、酸触媒を加えて脱保護反応を行わせることにより、一般式（１）で示される化合物を製造する方法である。
【００１５】
【化１５】
0004203192.tif 000007
【００１６】
【化１６】
0004203192.tif 000008
この製造方法で使用する触媒としては、希硫酸を用いるのが好ましい。
【００１７】
また、本発明は、一般式（６）
【００１８】
【化１７】
0004203192.tif 000009
で示されるジ（ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ボリン酸である。
【００１９】
また、本発明は、一般式（７）
【００２０】
【化１８】
0004203192.tif 000010
で示されるジ（ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ボリン酸である。また、本発明は、一般式（４）
【００２１】
【化１９】
0004203192.tif 000011
で示されるトリス（ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ボロキシンである。また、本発明は、一般式（８）
【００２２】
【化２０】
0004203192.tif 000012
で示されるトリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ボロキシンである。また、本発明は、一般式（５）
【００２３】
【化２１】
0004203192.tif 000013
で示されるｔｅｒｔ−ブトキシ−ニトロビフェニルである。
【００２４】
また、本発明は、一般式（９）
【００２５】
【化２２】
0004203192.tif 000014
で示される４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−２’−ニトロビフェニルである。尚、本明細書において、「ｔ−ＢｕＯ」は「ｔｅｒｔ−ブトキシ基（ＣＨ3）3ＣＯ−」を意味するものとして使用する。
【００２６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明のニトロフェニルフェノール化合物の製造法を更に詳しく説明する。本発明は、一般式（２）で示す化合物（以下「ハロゲン化ニトロベンゼン化合物」ということがある）と、一般式（３）または（４）で示す化合物（以下「ホウ素化合物」ということがある）とを反応させて一般式（５）で示す化合物（以下「ｔ−ブトキシニトロビフェニル化合物」ということがある）を得る工程と、酸性条件下での脱保護反応により、化合物（５）から化合物（１）を得る工程とを含むことを特徴とする一般式（１）で示すニトロフェニルフェノール化合物の製造方法である。本発明のニトロフェニルフェノールの製造法の概略を下記に示す。
【００２７】
【化２３】
0004203192.tif 000015
以下各工程を説明する。
【００２８】
まず、最初に、ｔ−ブトキシニトロビフェニル化合物（５）を得る工程について以下説明する。
＜１＞ｔ−ブトキシニトロビフェニル化合物（５）を得る工程
式（５）で示すｔ−ブトキシニトロビフェニル化合物は、式（２）で示すハロゲン化ニトロベンゼン化合物と式（３）または（４）で示すホウ素化合物とを、塩基及び触媒存在下で反応させることにより製造することができる。
【００２９】
本発明の一つの原料は、式（２）で示すハロゲン化ニトロベンゼン化合物（ＮＯ2−Ｃ6Ｈ4−Ｘ）である。式（２）中、Ｘはハロゲン原子を表し、塩素、臭素またはヨウ素原子である。ハロゲン化ニトロベンゼン化合物の中では、ハロゲン原子が臭素またはヨウ素原子であるもの、即ちブロモニトロベンゼンまたはヨードニトロベンゼンが好ましい。これらの化合物の置換基の位置は、ｏ−、ｐ−、ｍ−位の何れでもよいが、ｏ−位のものが好ましい。
【００３０】
これらのハロゲン化ニトロベンゼン化合物は市販されており、一般に購入可能である。
また、もう一つの原料は、式（３）または（４）で表されるホウ素化合物である。この式（３）中、ｎは０〜２の何れかの整数である。
【００３１】
式（３）で表されるホウ素化合物の中では、反応性の点からは、ｎ＝１のジ（ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ボリン酸（６）が好ましく、ハロゲン化ニトロベンゼンのＸがＢｒでも速やかに反応は進行する。後述の実施例２で示すように、この化合物は、例えば、０〜４０℃の温度で反応を行うことで合成することができる。このジ（ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ボリン酸（６）は新規な化合物であり、合成に特殊な冷却装置等を必要とせず簡易に合成できるため、本発明のニトロフェニルフェノール化合物の製造において、特に有用な原料である。この化合物は、Ｐｄ（ＴＰＰ）4 触媒を使用して、本願発明の反応を行った場合、ハロゲン化ニトロベンゼンとの反応性が高く、収率も良い。
【００３２】
また、ホウ素化合物（３）の中で、ｎ＝２で示されるモノ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニルボロン酸も、冷却装置を用いて反応を−５０〜−３０℃の温度で行う以外は、上記のジ（ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ボリン酸と同様の方法で合成することができる。−３０℃以上の温度でも合成はできるが収率は低下する。モノｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニルボロン酸は既知化合物であるが、ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ボリン酸（６）と同様にニトロフェニルフェノール化合物を製造する原料として用いることができる。
【００３３】
尚、ホウ素化合物（３）の中で、ｎ＝０で示されるトリ（ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ボランは、ホウ酸エステルに対して３倍モルの後述するグリニャール試薬を反応させることで合成できる。
また、ホウ素化合物（４）で示されるトリス（ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ボロキシンは、モノ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニルボロン酸、もしくはその反応液に、トルエン、ヘプタン、ヘキサンなどの溶剤またはその混合物を加え、共沸脱水を行い合成できる。反応終了後に冷却すると目的物が結晶で得られる。
ホウ酸化合物（４）の中では、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ボロキシン（８）を用いるのが好ましい。
【００３４】
本願発明のホウ素化合物に類似する従来から知られている化合物としては、トリ−ｎ−ブトキシフェニルボランがある。しかし、この化合物中のｎ−ブトキシ基は、脱保護するために濃臭化水素酸を加えて一昼夜、還流するなど非常に厳しい反応条件が必要であり、また反応の途中で副反応を伴うなど難点があった。
【００３５】
これに対し本発明は、出発物質として、（３）で示す化合物を使用しており、この化合物中のｔ−ブトキシ基は室温条件で希硫酸などで処理することにより容易に脱保護することができる。従って、本願発明は、ｔｅｒｔ−ブトキシ基をもつホウ素化合物[（３）または（４）]を原料として用いることにより、従来の方法に比べてニトロフェニルフェノール化合物を容易に製造することができる。
【００３６】
尚、上記のホウ素化合物（３）には、一般式（３）で示される化合物の他、これから誘導される許容される塩やエステル類かモノｔｅｒｔ−ブトキシフェニルボロン酸の脱水体であるトリス（ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ボロキシンなどのホウ酸無水物も含まれる。式（３）で示すホウ素化合物は以下に示す方法により合成できるが、他の方法により合成したものを使用してもよい。また、反応に使用するホウ素化合物の純度は特に限定されるものではなく、例えば以下に示す方法で合成した反応液を精製せずにそのまま用いることもできる。
【００３７】
本発明の原料の一つであるホウ素化合物（３）は、例えば、以下のようにして合成できる。
式（３）で示すホウ素化合物は、ｔ−ブトキシフェニルハロゲン化合物（ｔ−ＢｕＯ−Ｃ6Ｈ4−Ｘ、Ｘはハロゲン原子を表し、塩素、臭素、またはヨウ素である）から合成したｔ−ブトキシフェニルマグネシウムハロゲン化合物（ｔ−ＢｕＯ−Ｃ6Ｈ4−ＭｇＸ、以下「グリニャール試薬」ということがある。Ｘはハロゲン原子を表し、塩素、臭素、またはヨウ素である）と、（ＲＯ）3Ｂ（Ｂはホウ素原子を表し、Ｒは、Ｃ1〜Ｃ8の直鎖アルキル基を表す）で示されるトリアルキルホウ酸エステル（以下「ホウ酸エステル」ということがある）とを反応させてできた生成物を、加水分解することにより合成できる。
【００３８】
このグリニャール試薬とホウ酸エステルとの反応は、−５０〜４０℃の温度で行うのが好ましい。
また、このグリニャール試薬とホウ酸エステルとの比率は、グリニャール試薬１モルに対して、ホウ酸エステル０．０１〜５モルを使用するのが好ましく、０．１〜３モルを使用するのが更に好ましく、特に０．５〜１．０モルを使用するのが好ましい。
【００３９】
本発明のグリニャール試薬とホウ酸エステルとの反応は、溶媒中で行うのが好ましく、例えば、ペンタン、ヘキサン等の飽和炭化水素、トルエン等の芳香族炭化水素、エーテル類、アセトン等のケトンなどの存在中で行うことができる。
【００４０】
上記のグリニャール試薬（ｔ−ＢｕＯ−Ｃ6Ｈ4−ＭｇＸ）は、通常のグリニャール試薬の調製法により調製でき、例えば、テトラヒドロフラン（以下「ＴＨＦ」と略す）、ジエチルエーテル、ベンゼン、トルエン等を単独でまたは２種類以上組合わせた溶媒中で、上記ｔ−ブトキシフェニルハロゲン化合物とマグネシウムと反応させることで合成できる。ｔ−ブトキシフェニルハロゲン化合物のハロゲンとしては塩素または臭素が好ましい。このハロゲン化合物中の置換基の位置は、ｏ、ｐ、ｍ位の何れでもよい。
【００４１】
また、ホウ酸エステルは、式（ＲＯ）3Ｂ（Ｒは、Ｃ1〜Ｃ8の直鎖アルキル基を表す）で示されるトリアルキルホウ酸エステルを意味する。Ｒは炭素数が４〜６であるものが好ましい。
【００４２】
尚、これらのホウ酸エステルは、例えば、アルコールまたはナトリウムアルコシドと、ホウ酸、無水ホウ酸または塩化ホウ酸との反応により合成できる。
上記のようにしてグリニャール試薬とホウ酸エステルとの反応により合成した化合物は、酸性条件下で加水分解することにより、ホウ素化合物（３）に変換できる。
【００４３】
尚、この加水分解は各種の酸の存在下で行うのが好ましく、例えば塩酸、希硫酸等を使用して行うことができる。
次に、上記のようにして合成したホウ素化合物（３）または（４）とハロゲン化ニトロベンゼン（２）を反応させて、ｔ−ブトキシニトロビフェニル化合物（５）を製造する反応の条件について以下説明する。
【００４４】
ホウ素化合物（３）または（４）とハロゲン化ニトロベンゼン（２）とを用いる本発明の反応は溶媒中で行うのが好ましい。溶媒としては、例えば水、トルエン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、アセトン、ジメチルホルムアミド（ＤＭＳＯ）、メタノールまたはこれらの混合物が例示できる。これらの中では、水と水以外の溶媒を併用して使用するのが好ましく、ＴＨＦと水の混合溶媒を使用するのが更に好ましい。この反応は使用する溶媒の種類により異なるが、２０〜１４０℃で行うのが好ましく、５０〜１００℃で行うのが更に好ましい。具体的には、使用する溶媒の還流温度にて反応を行うのが操作性の点から好ましい。
【００４５】
また、本発明の反応は、塩基性条件下で行うのが好ましく、例えば、上記の溶媒に水を加えて塩基性の塩を溶解させて反応を行うのが好ましい。水溶性の塩基性化合物としては、例えば、水酸化バリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩、リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等リン酸塩、トリアルキルアミン等のアミンなどがあげられる。これらの塩基性化合物は単独で使用してもよいし、２種類以上を組合わせて使用してもよい。これらの塩基性化合物の量は、特に限定されるものではないが、ハロゲン化ニトロベンゼン化合物１モルに対して、０．１〜１０モルであるのが好ましく、０．５〜５モルであるのが更に好ましい。
【００４６】
また、反応に用いる触媒としては、Ｐｄ、Ｎｉなどの遷移金属触媒が好ましく、パラジウム触媒が更に好ましい。パラジウム触媒としては、例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）クロライド、ジフェニルホスフィノプロパンパラジウム（ＩＩ）クロライド、酢酸パラジウム（ＩＩ）及び塩化パラジウム（ＩＩ）などがあげられる。この中では、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）を使用するのが特に好ましい。これらの触媒は単独で使用してもよいし、２種類以上組合わせて使用してもよい。反応に使用する触媒の量は、特に限定されるものではないが、ハロゲン化ニトロベンゼン１００重量部に対して、０．０１〜１００重量部であるのが好ましく、０．１〜２０重量部であるのが更に好ましい。
また、これらの原料は滴下して反応系に加えても問題はない。
【００４７】
次に、上記のようにして合成したｔ−ブトキシニトロビフェニル化合物（５）のｔｅｒｔ−ブトキシ基の脱保護をしてニトロフェニルフェノール（１）を製造する工程について説明する。
＜２＞脱保護の工程
式（５）で示すｔ−ブトキシニトロビフェニル化合物をｔｅｒｔ−ブトキシ基の脱保護することにより、式（１）で示すニトロフェニルフェノール化合物が得られる。
【００４８】
尚、ｔ−ブトキシニトロビフェニル化合物（５）は、＜１＞で示す工程により合成した反応液を精製してから用いてもよいし、反応液を濃縮等してそのまま用いてもよい。
【００４９】
ｔ−ブトキシ基の脱保護は、従来法に従い、ｔ−ブトキシニトロビフェニル化合物（５）に、例えば、硫酸、塩酸、トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）、トリフロロメタンスルホン酸トリメチルシリル、ヨウ化トリメチルシリル等を加えて酸性条件とすることにより行うことができる。これらの触媒の中では、硫酸を使用するのが好ましい。
【００５０】
尚、脱保護の最適な条件は、適宜条件に変更を加えて反応を行い、生成物の収率を測定することにより決定することができる。
例えば、ｔ−ブトキシニトロビフェニル化合物（５）に等量のテトラヒドロフラン等の溶媒と同量の６０％〜８０％の硫酸水を加え、２０〜４０℃で１〜４時間攪拌することにより、ｔ−ブトキシ基を脱保護することができる。
【００５１】
上記のようにして酸性条件下で脱保護させた反応液は、例えば、ナトリウム塩として取り出したり、水洗後、溶媒を留去し、シリカゲルクロマトグラフィーや再結晶等により精製して、高純度の目的物（ニトロフェニルフェノール）を得ることができる。
【００５２】
【実施例】
次に実施例で本発明の製造法を具体的に説明する。
【実施例１】
４−（ｐ−ニトロフェニル）フェノールの製造法
還流冷却器、温度計、滴下ロートおよび攪拌機を備えた４頚フラスコを窒素置換し、これにテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）５０ｍｌに希釈したｐ−ニトロヨードベンゼン１２．４５ｇ（０．０５モル）とモノｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニルボロン酸  １１．６４ｇ（０．０６  モル）を加え、酢酸パラジウム（ＩＩ）０．３４ｇ（０．００１５モル）を添加した。この溶液に水酸化バリウム８水和物  ２３．５７ｇと水  １０ｇを加えた。これらの混合物を還流温度で５時間攪拌した。
【００５３】
反応終了後に反応液を室温に冷却し、トルエン２５ｍｌおよび水  ３０ｍｌを加えて分液した。さらに、得られた有機層を水  ３０ｍｌで２回洗浄し減圧条件で溶媒を留去した。得られた４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−４’−ニトロビフェニルを含有する組成物にテトラヒドロフラン１５ｍｌと７５％硫酸水  ９．８ｇを加え、２０〜３０℃で２時間攪拌した。反応後、水  ２０ｍｌおよびトルエン  １５ｍｌを加えて分液し、得られた有機層を水  ３０ｍｌで３回洗浄し減圧条件で溶媒を留去した。これにトルエン／ヘキサン（３：１）を加え再結晶したところ淡黄色の結晶  ８．２ｇ（収率  ７６％）を得た。目的物の融点は２０１〜２０２℃で、標品である４−（ｐ−ニトロフェニル）フェノールと完全に一致した。
【００５４】
元素分析
理論値：Ｃ  ６６．９７，Ｈ  ４．２２
実測値：Ｃ  ６６．８５，Ｈ  ４．２９
【００５５】
【実施例２】
ジ（ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ボリン酸の製造法
還流冷却器、温度計、滴下ロートおよび攪拌機を備えた４頚フラスコを窒素置換し、これにマグネシウム２．４３ｇ（０．１モル）と少々の臭化エチルを入れて撹拌し、マグネシウムを活性化した。次いでｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシクロロベンゼン９．２３ｇ（０．０５モル）をテトラヒドロフラン２４ｍｌに溶解して７０℃で５時間かけて滴下ロートより滴下した。滴下後７０℃で２時間撹拌し、ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニルマグネシウムクロライドを得た。このグリニャール試薬をトルエン１０ｍｌに希釈したホウ酸トリ-ｎ-ヘキシルエステル７．８６ｇ（０．０２５モル）中に２０〜３０℃で２時間かけて滴下した。さらに、同温度で１時間攪拌を続けた。
【００５６】
反応終了後、２０℃以下で１０％硫酸水溶液２７．０ｇを加えて加水分解し分液した。得られた有機層を水１５ｍｌで２回洗浄した。減圧条件で溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／トルエン＝１：５）にて精製し、減圧条件下で溶媒を留去した後、得られた残渣にヘキサンを加え洗浄したところ白色結晶  ５．８ｇの生成物を得た。融点は８１〜８５℃（収率：７１％）であった。
【００５７】
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：１．３４（ｓ，１８Ｈ）、７．００〜７．６６（ｍ，８Ｈ）、９．７０（ｓ，１Ｈ）
元素分析
理論値：Ｃ  ７３．６３，Ｈ  ８．３４
実測値：Ｃ  ７３．８１，Ｈ  ８．４１
【００５８】
【実施例３】
４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−２’−ニトロビフェニルの製造法
還流冷却器、温度計、滴下ロートおよび攪拌機を備えた４頚フラスコを窒素置換し、そこにテトラヒドロフラン  ２５ｍｌに希釈したｏ−ニトロブロモベンゼン  ５．０５  ｇ（０．０２５  モル）とジ（ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ボリン酸  ４．８９ｇ（０．０１５  モル）を加え、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム  ０．２９ｇ（０．０００２５  モル）を添加した。この溶液に２５％の水酸化ナトリウム水溶液を  ８．０ｇ加えた。これらの混合物を還流温度で５時間攪拌した。反応終了後に反応液を室温に冷却し、水  １０ｍｌおよびトルエン１０ｍｌを加えて分液した。さらに、得られた有機層を水  １０ｍｌで２回洗浄し、減圧条件で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：トルエン／ヘキサン＝３：１）にて単離精製したところ、淡黄色の油状物  ５．４ｇ（収率  ８０％）を得た。
【００５９】
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．３２（ｓ，９Ｈ）、６．９３〜７．１８（ｍ，４Ｈ）、７．３３〜７．７４（ｍ，４Ｈ）
ＥＩ質量分析：２７１
元素分析
理論値：Ｃ  ７０．８３，Ｈ  ６．３２
実測値：Ｃ  ７０．７２，Ｈ  ６．３９
【００６０】
【実施例４】
４−（ｏ−ニトロフェニル）フェノールの製造法
還流冷却器、温度計、滴下ロートおよび攪拌機を備えた４頚フラスコにテトラヒドロフラン  ４ｍｌに希釈した４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−２’−ニトロビフェニル  ４．０７ｇ（０．０１５モル）と７５％硫酸水２．９４ｇを加え、２０〜３０℃で２時間攪拌した。反応後、水  ８ｍｌ、トルエン  ５ｍｌを加え分液し、得られた有機層を水  ８ｍｌで３回洗浄し減圧条件で溶媒を留去した。これにトルエン／ヘキサン（３：１）を加えて再結晶したところ淡黄色の結晶  ３．０ｇ（収率  ９３％）を得た。目的物の融点は１１５〜１１６℃で、標品である４−（ｏ−ニトロフェニル）フェノールと完全に一致した。
【００６１】
元素分析
理論値：Ｃ  ６６．９７，Ｈ  ４．２２
実測値：Ｃ  ６７．０４，Ｈ  ４．３３
【００６２】
【実施例５】
４−（ｏ−ニトロフェニル）フェノールの製造法
還流冷却器、温度計、滴下ロートおよび攪拌機を備えた４頚フラスコを窒素置換し、これにマグネシウム２．４３ｇ（０．１モル）と少々の臭化エチルを入れて撹拌し、マグネシウムを活性化した。次いでｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシクロロベンゼン９．２３ｇ（０．０５モル）をテトラヒドロフラン２４ｍｌに溶解して７０℃で５時間かけて滴下ロートより滴下した。滴下後７０℃で２時間撹拌し、ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニルマグネシウムクロライドを得た。このグリニャール試薬をトルエン１０ｍｌに希釈したホウ酸トリ-ｎ-ヘキシルエステル１０．３８ｇ（０．０３３モル）中に２０〜３０℃で２時間かけて滴下した。さらに、同温度で１時間攪拌を続けた。反応終了後、２０℃以下で１０％硫酸水溶液２７．０ｇを加えて加水分解し分液した。得られた有機層を水１５ｍｌで２回洗浄した。
【００６３】
この有機層にｏ−ニトロブロモベンゼン  ８．４８ｇ（０．０４２  モル）を加え、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム  ０．４９ｇ（０．０００４２モル）を添加した。この溶液に２５％の水酸化ナトリウム水溶液を  １３．４ｇ加えた。これらの混合物を還流温度で５時間攪拌した。反応後に反応液を室温に冷却し、水  １５ｍｌを加えて分液した。さらに、得られた有機層を水  １５ｍｌで２回洗浄し、減圧条件で溶媒を留去した。得られた４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−２’−ニトロビフェニルを含有する組成物にテトラヒドロフラン  １３ｍｌと７５％硫酸水  ８．２  ｇを加え、２０〜３０℃で２時間攪拌した。反応終了後、水  １５ｍｌおよびトルエン  １５ｍｌを加えて分液し、得られた有機層を水  ２０ｍｌで３回洗浄し減圧条件下で溶媒を留去した。これにトルエン／ヘキサン（３：１）を加えて再結晶したところ淡黄色の結晶  ７．０ｇ（収率  ７７％）を得た。目的物の融点は１１５〜１１６℃で、標品である４−（ｏ−ニトロフェニル）フェノールと完全に一致した。
【００６４】
元素分析
理論値：Ｃ  ６６．９７，Ｈ  ４．２２
実測値：Ｃ  ６６．９９，Ｈ  ４．２６
【００６５】
【実施例６】
４−（ｏ−ニトロフェニル）フェノールの製造法
還流冷却器、温度計、滴下ロートおよび攪拌機を備えた４頚フラスコを窒素置換し、これにテトラヒドロフラン５０ｍｌに希釈したｏ−ニトロブロモベンゼン１０．１０ｇ（０．０５モル）とトリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ボロキシン１０．５６ｇ（０．０２モル）を加え、酢酸パラジウム（ＩＩ）０．３４ｇ（０．００１５モル）を添加した。この溶液に水酸化バリウム８水和物２３．５７ｇと水１０ｇを加えた。これらの混合物を還流温度で１５時間攪拌した。
【００６６】
反応終了後に反応液を室温に冷却し、トルエン２５ｍｌおよび水３０ｍｌを加えて分液した。さらに、得られた有機層を水３０ｍｌで２回洗浄し、減圧条件で溶媒を留去した。得られた４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−２’−ニトロビフェニルを含有する組成物にテトラヒドロフラン１５ｍｌと７５％硫酸水９．８ｇを加え、２０〜３０℃で２時間攪拌した。反応後、水２０ｍｌ、トルエン１５ｍｌを加え分液し、得られた有機層を水３０ｍｌで３回洗浄し、減圧条件で溶媒を留去した。これにトルエン／ヘキサン（３：１）を加えて再結晶したところ淡黄色の結晶８．４ｇ（収率  ７８％）を得た。目的物の融点は１１５〜１１６℃で、標品である４−（ｏ−ニトロフェニル）フェノールと完全に一致した。
【００６７】
元素分析
理論値：Ｃ  ６６．９７，Ｈ  ４．２２
実測値：Ｃ  ６６．９６，Ｈ  ４．３０
【００６８】
【実施例７】
トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ボロキシンの製造法
還流冷却器、温度計、滴下ロートおよび攪拌機を備えた４頚フラスコを窒素置換し、そこにモノ−ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニルボロン酸  ３．８８ｇ（０．０２モル）とトルエン  ８０ｍｌを加え、還流温度で共沸脱水しながら２時間撹拌した。反応修了後に反応液を濃縮してヘキサン１０ｍｌを加え、氷冷して生じた結晶を濾過した。得られた結晶を乾燥したところ白色結晶  ３．２ｇを得た。この白色結晶の融点は２０２〜２０６℃で、収率は９１％であった。
【００６９】
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．４３（ｓ，２７Ｈ）、７．０９〜７．１２（ｄ，６Ｈ）、８．１２〜８．１５（ｄ，６Ｈ）
元素分析
理論値：Ｃ  ６８．２３，Ｈ  ７．４４
実測値：Ｃ  ６８．２９，Ｈ  ７．４０
【００７０】
【実施例８】
４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−２’−ニトロビフェニルの製造法
還流冷却器、温度計、滴下ロートおよび攪拌機を備えた４頚フラスコを窒素置換し、そこにテトラヒドロフラン  ２５ｍｌに希釈したｏ−ニトロブロモベンゼン  ５．０５ｇ（０．０２５モル）とジ（ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ボリン酸  ４．８９ｇ（０．０１５モル）を加え、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム  ０．２９ｇ（０．０００２５モル）を添加した。この溶液に水酸化バリウム８水和物  １１．７９ｇと水５ｇを加えた。これらの混合物を還流温度で５時間攪拌した。
【００７１】
反応終了後に反応液を室温に冷却し、水  １０ｍｌおよびトルエン  １０ｍｌを加えて分液した。さらに、得られた有機層を水  １０ｍｌで２回洗浄し減圧条件で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶剤：トルエン／ヘキサン＝３：１）にて単離精製したところ淡黄色の油状物  ５．９ｇ（収率  ８７％）を得た。
【００７２】
元素分析
理論値：Ｃ  ７０．８３，Ｈ  ６．３２
実測値：Ｃ  ７０．７５，Ｈ  ６．３５
【００７３】
【発明の効果】
本発明の方法によれば、医薬、農薬および液晶等の各種の材料となる合成中間体として有用である高純度なニトロフェニルフェノール化合物を高収率で得られる。また、本発明のジ（ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ボリン酸、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ボロキシン、ｔｅｒｔ−ブトキシ−ニトロビフェニル等は、ニトロフェニルフェノール化合物を製造する際の有用な中間体として用いることができる。