(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
サファイア基板上に第一の窒化物半導体層を形成した基板の表面または裏面からイオンを打ち込み、上記サファイア基板中に周囲より機械的強度の小さい中間層を形成し、上記中間層を形成した基板の上記第一の窒化物半導体層の上に第二の窒化物半導体層をエピタキシャル成長させることを特徴とする窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法。
【請求項２】
上記第一の窒化物半導体半導体層の厚さを５μｍ以下とする請求項１に記載の窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法。
【請求項３】
上記打ち込むイオンを水素イオン、窒素イオン、酸素イオンのいずれか若しくはそれらの混合とする請求項１または２に記載の窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法。
【請求項４】
上記イオンの打ち込みの加速電圧を１ｋｅＶ以上１ＭｅＶ以下とし、かつ、上記イオンのドーズ量を１×１０15ｃｍ-2以上１×１０19ｃｍ-2以下とする請求項１から３のいずれかに記載の窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法。
【請求項５】
上記イオンを打ち込んだ後で熱処理を行うことにより上記第一の窒化物半導体層の表面結晶層のイオン打ち込みによるダメージを回復させると共に、上記中間層に微細なボイド及びボイドの集合体を生じさせる請求項１から４のいずれかに記載の窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法。
【請求項６】
上記中間層を境にして上記サファイア基板を剥離、除去する請求項１から５のいずれかに記載の窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法。
【請求項７】
上記第二の窒化物半導体層の表面に他の基板を貼り付けた後で上記中間層を境にして上記サファイア基板を剥離、除去する請求項６に記載の窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法。
【請求項８】
上記他の基板としてＳｉ基板、ＡｌＮ基板、Ｃｕ基板、Ａｌ基板のいずれかを用いる請求項７に記載の窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法。
【請求項９】
上記除去、剥離した第二の窒化物半導体層の裏面に残ったサファイア基板の一部を研磨により部分的若しくは全て除去する請求項６から８のいずれかに記載の窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、発光ダイオード（ＬＥＤ）やレーザダイオード（ＬＤ）等の高出力化、高効率化等を図るため、バンドギャップが大きく（３．４ｅＶ）、直接遷移型であり、しかもバンドギャップを広範囲で制御できることから窒化物半導体が用いられるようになってきた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、ＧａＮあるいはその混晶であるＡｌＧａＮやＩｎＧａＮ等は実用的な同種の基板がないため、サファイアやＳｉＣ等の異種基板上で結晶成長が行われる。これら異種基板は格子定数が成長層と大きく異なるために成長層の結晶欠陥が多い。また、膨張係数も大きく異なるために厚膜成長時や成長後に反りやクラックが発生する。これらの反りやクラックは特に窒化物半導体厚膜を成長させるときに深刻な問題となる。
【０００４】
そこでこのような問題を根本的に解決するためにＧａＮ基板の開発が進められており、高温高圧下でＧａＮ単結晶を合成する高温高圧法（Ｓ．Ｐｏｒｏｗｓｋｉ  ｅｔ  ａｌ，Ｊ．Ｃｒｙｓｔ．Ｇｒｏｗｔｈ  １７８（１９９７）ｐ１７４）やサファイヤ基板上にＨＶＰＥ法で数百μｍ程度の厚膜を成長させた後、サファイア基板を取り除くことによってＧａＮの自立単結晶基板を得る方法（Ｍｉｃｈａｅｌ  Ｋ．Ｋｅｌｌｙ  ｅｔ  ａｌ，Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．３８（１９９９）Ｐｔ．２，Ｎｏ．３Ａ，ｐｐ．Ｌ２１７）等の方法が代表的である。
【０００５】
しかし、高温高圧法は超高圧セル中で結晶成長が行われるため、得られるＧａＮ単結晶のサイズをあまり大きくすることができず、現在のところ直径１０ｍｍ程度のものしか得られていない。そのうえ製造コストが非常に高く、実用的ではない。ＨＶＰＥ（ハイドライド気相成長法：Ｈｙｄｒｉｄｅ  Ｖａｐｏｒ  Ｐｈａｓｅ  Ｅｐｉｔａｘｙ）でサファイア基板上に直接ＧａＮ厚膜を成長させる方法はより現実的ではあるが、この場合でも結晶欠陥はかなり多く、サファイア基板の実用的な除去方法が無い。しかも、除去後もＧａＮ厚膜には反りが残る等の問題がある。
【０００６】
窒化物半導体のエピタキシャル成長の時サファイア基板の反りは、窒化物半導体のエピタキシャル成長中に、例えばグラファイトのサセプタ等の加熱物体との接触の不均一を生じ、成長層のキャリア濃度や組成等の特性を不均一にする。特にＩｎＧａＮではこの濃度不均一は致命的である。また、成長後のサファイア基板の反りは、フォトリソグラフィにおける微細パターンの露光で大きな問題となる。
【０００７】
また、結晶欠陥は光素子の発光特性や信頼性を悪化させ、電子デバイスのリーク電流や非線形性、信頼性低下等の原因となる。
【０００８】
この対策として、選択成長によるラテラル方向成長を利用したＥＬＯ法（Ｏ．Ｈ．Ｎａｍ  ｅｔ  ａｌ，Ａｐｐｌ．ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．７１（１９９７）２４７２）やＦＩＥＬＯ法（Ａ．Ｓａｋａｉ  ｅｔ  ａｌ，Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．７１（１９９７）２２５９）等が開発されているが、いまだに結晶欠陥は１０6 〜１０7 ｃｍ-3ほど存在し、反りの問題はまったく改善されていないという問題があった。
【０００９】
一方、反りを軽減する方法に関しては例えば特開平９−２２３８１９号公報に開示されているように、Ｓｉ基板の表面より下に酸素若しくは窒素のイオン打ち込みによって緩和層兼剥離層を形成し、さらに表面を炭化してＳｉＣとしたＳｉ基板上に窒化物半導体を成長させ、その後のエッチングによってＳｉ基板を除去する方法がある。
【００１０】
しかし、この方法では窒化物半導体への応力を軽減するためにＳｉ基板とそのＳｉ基板上に形成するＳｉＣ層、ＡｌＧａＮバッファ層及び窒化物半導体層構造の厚さのバランスを精密に制御しなければならない。特に窒素打ち込みによって形成した窒化物半導体層を歪み緩和層とした場合、Ｓｉ基板をエッチングによって除去するためにはＳｉＣ層と歪み緩和層との間にＳｉの層を残さなければならないので、表面炭化の条件が厳しく、かつ歪み緩和層が窒化物半導体成長層から遠くなるので、歪み緩和効果が小さくなってしまう。また、基板表面を完全に覆うほどに表面炭化を行うのは量産を考えた場合困難である。
【００１１】
そこで、本発明の目的は、上記課題を解決し、結晶欠陥が少なく、反りやクラックの少ない窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明の窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法は、サファイア基板上に第一の窒化物半導体層を形成した基板の表面または裏面からイオンを打ち込み、上記サファイア基板中に周囲より機械的強度の小さい中間層を形成し、上記中間層を形成した基板の上記第一の窒化物半導体層の上に第二の窒化物半導体層をエピタキシャル成長させるものである。
【００１４】
上記構成に加え本発明の窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法は、第一の窒化物半導体半導体層の厚さを５μｍ以下とするのが好ましい。
【００１５】
上記構成に加え本発明の窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法は、打ち込むイオンを水素イオン、窒素イオン、酸素イオンのいずれか若しくはそれらの混合とするのが好ましい。
【００１６】
上記構成に加え本発明の窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法は、イオンの打ち込みの加速電圧を１ｋｅＶ以上１ＭｅＶ以下とし、かつ、イオンのドーズ量を１×１０15ｃｍ-2以上１×１０19ｃｍ-2以下とするのが好ましい。
【００１７】
上記構成に加え本発明の窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法は、イオンを打ち込んだ後で熱処理を行うことにより第一の窒化物半導体層の表面結晶層のイオン打ち込みによるダメージを回復させると共に、中間層に微細なボイド及びボイドの集合体を生じさせるのが好ましい。
【００２０】
上記構成に加え本発明の窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法は、中間層を境にしてサファイア基板を剥離、除去してもよい。
【００２１】
上記構成に加え本発明の窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法は、第二の窒化物半導体層の表面に他の基板を貼り付けた後で中間層を境にしてサファイア基板を剥離、除去してもよい。
【００２２】
上記構成に加え本発明の窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法は、他の基板としてＳｉ基板、ＡｌＮ基板、Ｃｕ基板、Ａｌ基板のいずれかを用いるのが好ましい。
【００２３】
上記構成に加え本発明の窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法は、除去、剥離した第二の窒化物半導体層の裏面に残ったサファイア基板の一部を研磨により部分的若しくは全て除去するのが好ましい。
【００２６】
本発明は表面に第一の窒化物半導体層を形成したサファイア基板の表面または裏面から水素、窒素等のイオンを打ち込み、サファイア基板中に機械的強度の弱い中間層を形成したものを基板とし、その基板上に第二の窒化物半導体のエピタキシャル成長を行うものである。成長する層構造は１層以上のエピタキシャル構造であり、ｐｎ接合やヘテロ接合等の半導体構造が形成されたり、発光ダイオードやレーザダイオード、受光素子、電界効果トランジスタ、ＨＥＭＴ（高電子移動度トランジスタ）、ＨＢＴ（ヘテロ接合バイポーラトランジスタ）等の種々の半導体素子に適した層構造、あるいはその一部を構成するエピタキシャル層構造となる。
【００２７】
また、イオン打ち込み後の基板に熱処理を加えることで中間層に多数の微細なボイドを形成することにより中間層の機械的強度をさらに弱めることもできる。この中間層が窒化物半導体結晶とサファイア基板との熱膨張係数の相違を緩和するバッファ層として機能するため、従来問題となっていたクラックや反りが解消し、高品質な窒化物半導体エピタキシャルウェハが得られる。さらにこの中間層を境にしてサファイア基板を容易に剥離、除去することができる。剥離、除去後に窒化物半導体層の裏面にわずかに残ったサファイア基板を研磨等によって除去することにより、大口径でフラットな自立窒化物半導体エピタキシャルウェハを容易に得ることができる。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面に基づいて詳述する。
【００２９】
図１（ａ）〜（ｆ）は本発明の窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法の一実施の形態を示す工程図である。
【００３０】
サファイア基板１の表面に第一の窒化物半導体層２を形成した基板を準備する（図１（ａ））。
【００３１】
基板の表面または裏面からサファイア基板１中に水素、窒素あるいは酸素等のイオンを打ち込んでイオン打ち込み層３を形成する（図１（ｂ））。
【００３２】
イオン打ち込み層３が形成された基板に熱処理を施す（図１（ｃ））。
【００３３】
熱処理が終了した基板の第一の窒化物半導体層２の上に第二の窒化物半導体層４をエピタキシャル成長させる。
【００３４】
成長する層構造は少なくとも１層のエピタキシャル構造であり、ｐｎ接合、ヘテロ接合、発光ダイオード、レーザ、受光素子、電界効果トランジスタ、ＨＥＭＴ、ＨＢＴ等の電子デバイス等、種々の半導体素子に適した層構造、あるいはその一部を構成するエピタキシャル層構造となる。イオン打ち込み層３はアモルファス的な構造となっているので、歪みを吸収し、緩和し、クラックや反り等がなくなる。また、水素イオンの打ち込み層３は窒化物半導体結晶の成長中に加熱されることにより、中間層としてのボイド層５となる。これはＵｎｉｂｏｎｄ法と言われるＳＯＩ（絶縁膜上に単結晶Ｓｉを成長させたウェハ）の作製法（Ａ．Ｊ．Ａｕｂｅｒｔｏｎ−Ｈｅｒｖｅ  ｅｔ  ａｌ  電子材料６月号（１９９７）２９）の一部と原理は同じである。このボイド層５は歪みの吸収、緩和効果が高く、クラックや反り等の問題を解決し、結晶欠陥を減少させる。
【００３５】
本方法で用いられる基板は、表面が窒化物半導体であり、ボイド層５の歪み吸収効果が大きいため、例えば特開平９−２２３８１９号公報に開示されているような面倒な表面炭化処理や複数の層の膜厚バランスを精密に制御する必要もなく、高品質な窒化物半導体エピタキシャルウェハを容易に得ることができる（図１（ｄ））。
【００３６】
さらに、このボイド層（あるいはアモルファス層）５は第一の窒化物半導体結晶２やサファイア基板１の単結晶部に比べ機械的に弱いため、熱処理や機械衝撃等の種々の方法で第二の窒化物半導体結晶層４をサファイア基板１から剥離することができる。
【００３７】
この剥離方法は、窒化物半導体結晶膜成長過程での加熱による自然剥離、あるいはその後の熱処理に剥離、側面からの窒素ジェットによる剥離、ウォータージェットによる剥離、レーザ照射による剥離等種々の方法が使用できる（図１（ｅ））。
【００３８】
剥離した第二の窒化物半導体層４の裏面にわずかに残ったサファイアを部分的に、または全て研磨等の方法によって除去すれば、大口径でフラットな自立窒化物半導体エピタキシャルウェハ４を容易に得ることができる（図１（ｆ））。
（最適条件に関する根拠）
第一の窒化物半導体層２の膜厚を５μｍ以下とする第一の理由は、基板の反りを防止するためであり、これ以上の厚さにすると第一の窒化物半導体２とサファイア基板１との熱膨張差によって基板が反ってしまうためである。
【００３９】
第二の理由は、第一の窒化物半導体層２の膜厚を５μｍ以上の厚さにすると、第一の窒化物半導体層２の表面の結晶性を良好に保ったままでサファイア基板１中にイオン打ち込みを行うことが困難になるからである。
【００４０】
イオン打ち込みの加速電圧を１ｋｅＶ以上１ＭｅＶ以下としたのは、中間層５の形成深さを適切にし、基板表面の結晶状態を良好に保つためである。１ｋｅＶ以下では中間層５の形成される位置が浅すぎて、基板表面の結晶性に悪影響を与える。これとは逆に１ＭｅＶ以上では打ち込んだイオンが基板表面に与えるダメージが無視できなくなる。また、中間層５の形成される位置が深くなり過ぎて中間層による歪み緩衝効果が小さくなったり、基板剥離後に窒化物半導体単結晶の裏面に残るサファイア等が厚くなるために除去するため、研磨に手間がかかってしまう。
【００４１】
ドーズ量を１×１０15ｃｍ-2以上１×１０19ｃｍ-2以下としたのは、基板表面の結晶のダメージを無視できる範囲に抑えつつ反りを緩和し、歪み緩衝及び基板の剥離に充分なほどのボイドを発生させるためである。ドーズ量が１×１０15ｃｍ-2以下ではボイドの発生密度が小さいため、歪み緩衝効果が小さく、基板を剥離するのにも不十分である。ドーズ量が１×１０19ｃｍ-2以上になると、打ち込んだイオンが基板表面の結晶に与えるダメージが無視できなくなってしまう。
【００４２】
次に本発明の窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法の実施例について添付図面に基づいて詳述する。尚、具体的な数値を挙げて説明するが限定されるものではない。
【００４３】
【実施例】
（実施例１）
(1) サファイア基板（直径５０ｍｍ、厚さ０．３３ｍｍ）にＭＯＶＰＥ法（有機金属気相成長法）を用いてＧａＮ単結晶層を２μｍの厚さにエピタキシャル成長させた。成長炉は横型常圧ＭＯＶＰＥ炉を用い、原料としてアンモニアガスとトリメチルガリウムとを用い、キャリアガスとして水素と窒素との混合ガスを用いた。まず、基板を水素雰囲気で１１００℃に加熱し、表面の酸化物等をクリーニングした。続いて基板温度を５５０℃に下げて、ＧａＮ層を２０ｎｍの厚さに成長させ、さらに基板温度を１０５０℃に上げてＧａＮ層を２μｍの厚さに成長させた。
(2) (1) のＧａＮ単結晶層側からサファイア基板中に水素をイオン打ち込みする。その条件はドーズ量を１×１０17ｃｍ-2とし、加速電圧を１２０ｋｅＶとし、ＧａＮ単結晶層との界面から約０．５μｍの深さに厚さ０．１μｍ程度の中間層を形成した。
(3) 水素を打ち込んだＧａＮエピタキシャル成長基板表面には単結晶層が形成されており、サファイア基板中に水素の打ち込み層が形成されている。
(4) (3) で水素を打ち込んだＧａＮエピタキシャル成長基板をアンモニア雰囲気中、８００℃で３０分間熱処理した。熱処理の終了した試料の断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、中間層は微細なボイドの多数発生したボイド層になっていた。
(5) (4) で熱処理の終了したＧａＮエピタキシャル成長基板上に、ＨＶＰＥ法を用いてＧａＮ単結晶層を３００μｍの厚さにエピタキシャル成長させた。成長に用いた装置は横型常圧ＨＶＰＥ炉であった。原料としてアンモニアガス及び金属ＧａとＨＣｌガスとを８５０℃で反応させて得られたＧａＣｌを用い、ｎ型の導電型を得るため、ＳｉＨ2 Ｃｌ2 とを同時に流した。キャリアガスには水素ガスを用いた。成長温度は１０５０℃、成長速度は８０μｍ／ｈである。
(6) (5) のエピタキシャル成長終了後、成長温度から室温までの冷却過程において中間層（ボイド層）を境にサファイア基板が自然に剥離した。ＧａＮ単結晶層の裏面にわずかに残ったサファイアを研磨して除去することにより、ｎ型ＧａＮ自立単結晶基板が得られた。
(7) (6) で得られたｎ型ＧａＮ自立単結晶基板は直径５０ｍｍ、厚さ約３００μｍの無色透明のものであり、クラックや反りの全く無いものであった。
（実施例２）
(1) サファイア基板（直径５０ｍｍ、厚さ０．１５ｍｍ）にＭＯＶＰＥ法を用いてＧａＮ単結晶層を２μｍの厚さにエピタキシャル成長させた。成長炉には横型常圧ＭＯＶＰＥ炉を用い、原料としてアンモニアガスとトリメチルガリウムとを用い、キャリアガスとして水素と窒素との混合ガスを用いた。まず、基板を水素雰囲気で１１００℃に加熱し、表面の酸化物等をクリーニングした。続いて基板温度を５５０℃に下げてＧａＮ層を２０ｎｍの厚さに成長させ、さらに基板温度を１０５０℃に上げてＧａＮ層を２μｍの厚さに成長させた。
(2) (1) のサファイア基板側からサファイア基板中に水素をイオン打ち込みする。その条件はドーズ量を１×１０17ｃｍ-2とし、加速電圧を２００ｋｅＶとし、ＧａＮ単結晶層との界面から約０．５μｍの深さに厚さ０．１μｍ程度の中間層を形成した。
(3) 水素を打ち込んだＧａＮエピタキシャル成長基板表面には単結晶層が形成され、サファイア基板中に水素の打ち込み層が形成されている。
(4) (3) 水素を打ち込んだＧａＮエピタキシャル成長基板をアンモニア雰囲気中、８００℃で３０分熱処理した。熱処理の終了した試料の断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、中間層は微細なボイドの多数発生したボイド層になっていた。
(5) (4) で熱処理の終了したＧａＮエピタキシャル成長基板上に、ＨＶＰＥ法を用いてＧａＮ単結晶層を３００μｍの厚さにエピタキシャル成長させた。成長に用いた装置は横型常圧ＨＶＰＥ炉である。原料としてアンモニアガス及び金属ＧａとＨＣｌガスとを８５０℃で反応させて得られたＧａＣｌを用い、ｎ型の導電型を得るためにＳｉＨ2 Ｃｌ2 を同時に流した。キャリアガスには水素ガスを用いた。成長温度は１０５０℃、成長速度は８０μｍ／ｈである。
(6) (5) のエピタキシャル成長終了後、成長温度から室温までの冷却過程において中間層を境にサファイア基板が自然に剥離した。ＧａＮ単結晶層の裏面にわずかに残ったサファイアを研磨して除去することにより、ｎ型ＧａＮ自立単結晶基板が得られた。
(7) (6) で得られたｎ型ＧａＮ自立単結晶基板は直径５０ｍｍ、厚さ約３００μｍの無色透明のものであり、クラックや反りの全く無いものであった。
（実施例３）
(1) 実施例２で得られたｎ型ＧａＮ自立単結晶基板上にＭＯＶＰＥ法によって図２に示すようなＬＤ構造を形成した。図２は図１（ａ）〜（ｆ）に示した製造方法を適用したＧａＮ自立単結晶基板上に形成されたＬＤの断面構造模式図である。
(2) ＬＤ構造は、ＧａＮ自立単結晶基板１０側から順にＳｉドープＧａＮバッファ層（厚さ２μｍ、ｎ＝５×１０17ｃｍ-3）１１、ＳｉドープＡｌ0.07Ｇａ0.93Ｎクラッド層（厚さ１．０μｍ、ｎ＝５×１０17ｃｍ-3）１２、ＳｉドープＧａＮ  ＳＣＨ層（厚さ０．１μｍ、ｎ＝１×１０17ｃｍ-3）１３、アンドープＩｎ0.2 Ｇａ0.8 Ｎ／Ｉｎ0.05Ｇａ0.95Ｎ多重量子井戸層（厚さ３ｎｍ／厚さ５ｎｍ×３）１４、ＭｇドープＡｌ0.2 Ｇａ0.8 Ｎオーバーフロー防止層（厚さ２０ｎｍ、ｐ＝２×１０19ｃｍ-3）１５、ＭｇドープＧａＮ光閉込層（厚さ０．１μｍ、ｐ＝２×１０19ｃｍ-3）１６、ＭｇドープＡｌ0.07Ｇａ0.93Ｎクラッド層（厚さ０．５μｍ、ｐ＝２×１０19ｃｍ-3）１７及びＭｇドープＧａＮコンタクト層（厚さ５０ｎｍ、ｐ＝２×１０19ｃｍ-3）１８からなる。
(3) ｐ側にドライエッチングにより幅４μｍ、深さ０．４μｍのリッジ構造を作製し、電流狭窄を行った。さらにリッジ上部にＮｉ／Ａｕ電極を形成し、ｐ型オーミック電極１９とした。裏面のＧａＮ自立単結晶基板１０側にはＴｉ／Ａｌ電極を全面に形成し、ｎ型オーミック電極２０とした。さらに両端面にＴｉＯ2 ／ＳｉＯ2 からなる高反射コーティング膜を形成することにより半導体デバイスとしてのＬＤ素子が得られた。素子長は５００μｍとした。
(4) このＬＤ素子に通電すると閾値電流密度４．５ｋＡ／ｃｍ2 であり、閾値電圧５．５Ｖで室温連続発振した。また、結晶欠陥が低減されているため、ＬＤ素子の寿命は室温２５℃で、３０ｍＷ駆動時において５０００時間と良好な特性を有していた。
(5) さらに本発明による自立基板は反りが無い上にサファイア基板上にＬＤ構造を形成した場合に比べて劈開が容易なため、プロセス時の歩留りが大幅に改善され、９０％以上の素子で良好な特性が得られた。
（実施例４）
(1) 実施例２の(1) 〜(4) で得られたＧａＮエピタキシャル成長基板上にＬＥＤ構造を成長させた。
(2) ＬＥＤ構造は、基板側から順にＳｉドープＧａＮクラッド層（厚さ３μｍ、ｎ＝５×１０17ｃｍ-3）３５、アンドープＩｎ0.2 Ｇａ0.8 Ｎ量子井戸層（３ｎｍ）３４、ＭｇドープＡｌ0.2 Ｇａ0.8 Ｎクラッド層（厚さ０．５μｍ、ｐ＝２×１０19ｃｍ-3）３３及びＭｇドープＧａＮコンタクト層（厚さ５０ｎｍ、ｐ＝２×１０19ｃｍ-3）３２からなる。
(3) 成長したＬＥＤエピタキシャルウェハ表面にＮｉ／Ａｕ層を真空蒸着し、そのＮｉ／Ａｕ層の上に直径５０ｍｍ、厚さ０．２ｍｍのＡｌ基板を電気炉中、窒素雰囲気下６６０℃で融着した。融着終了後、ウェハ側面からの窒素ジェットによって中間層からサファイア基板までの部分を剥離、除去した。サファイア基板を除去したＬＥＤエピタキシャルウェハの、Ａｌ基板と反対側にＴｉ／Ａｌ電極を形成した。このＬＥＤエピタキシャルウェハを図３に示す。図３は図１（ａ）〜（ｆ）に示した製造方法を適用したＧａＮ自立単結晶基板上に形成されたＬＥＤの断面構造模式図である。
【００４４】
すなわち、ＬＥＤエピタキシャルウェハは、Ａｌ基板３０上にＮｉ／Ａｕ層３１、ＭｇドープＧａＮ層３２、ＭｇドープＡｌ0.2 Ｇａ0.8 Ｎクラッド層３３、アンドープＩｎ0.2 Ｇａ0.8 Ｎ量子井戸層３４、ＳｉドープＧａＮクラッド層３５及びｎ型電極３６が順次形成されたものである。
【００４５】
このようなＬＥＤエピタキシャルウェハを３００μｍ角にカットし、得られたチップの上下両面にＡｕワイヤをボンディングすることにより半導体デバイスとしてのＬＥＤ素子が得られた。
(4) このＬＥＤ素子に通電したところ、発光波長は４５０ｎｍで、発光出力は２０ｍＡ通電時で約７ｍＷであった。サファイア上に直接成長したＬＥＤとは異なり、結晶欠陥が少なく、放熱特性も良いため素子の信頼性が高く、樹脂モールドした状態で室温４０℃、湿度１００％、電流２０ｍＡで１０００時間の連続通電試験を行ったところ、１０００時間通電後においても発光出力は初期状態とほぼ変わらなかった。
（変形例）
上述した実施例では基板として表面に窒化物半導体層を形成したサファイア基板を用い、打ち込むイオンとして水素イオンを用いた場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、サファイア以外の基板や水素イオン以外のイオンを用いてもよい。
【００４６】
また、窒化物半導体のエピタキシャル成長法としては、ＭＯＶＰＥ法、ＨＶＰＥ法、ＭＢＥ法等のすでに公知の方法があり、利用することができる。また、窒化ガリウムや窒化アルミニウム等の低温バッファ層を用いる二段階成長法、直接高温で成長させる方法、成長の途中で微細加工と再成長を用いてラテラル成長による転位低減を図るＥＬＯ法、ＦＩＥＬＯ法等公知の種々の方法を用いることができる。
【００４７】
中間層をボイド層とするのは第二の窒化物半導体層の成長前の昇温中、成長中、冷却中、成長後のいずれかあるいは全ての工程、あるいは幾つかの工程で行うことができる。またイオン打ち込み後、第二の窒化物半導体層の成長開始前に他の熱処理によって行ってもよい。
【００４８】
中間層を境にサファイア基板を剥離する方法は、成長後の熱処理による剥離、側面からの窒素ジェットによる剥離、ウォータジェットによる剥離、レーザ照射による剥離等の種々の方法でも実施できる。
【００４９】
実施例４ではＡｌ基板を貼り付けた上で剥離を行ったが、その他に例えば、Ｓｉ基板、ガラス基板、Ｃｕ等の金属基板、ＡｌＮ等の熱伝導性のよい薄膜を積層した金属基板等、その後の素子作製プロセスに適した基板を用いることができる。
【００５０】
ここで、従来、窒化物半導体のエピタキシャル成長は熱膨張係数の大きく異なるサファイア等の基板上で行われていたため、結晶欠陥が多かったり、厚膜を成長させると反りやクラックが発生するという問題があった。この問題を根本的に解決するために窒化物半導体基板の開発も行われてきたが、窒化物半導体基板の作製は超高圧下で行われていたためにコストが非常に高い上に直径１０ｍｍ程度の小さなものしか得られなかった。また、ＨＶＰＥ法で数百μｍ程度のＧａＮ厚膜をサファイア基板上に成長させた後、サファイア基板を除去することによってＧａＮの自立基板を得る方法はより現実的ではあるが、サファイア基板と窒化物半導体との熱膨張率の差に起因するクラックが発生する上に結晶欠陥がかなり多い。さらに、サファイア基板の実用的な除去方法が無い、除去後も反りが残る等の問題があった。
【００５１】
しかし、本発明を用いれば、水素打ち込みと熱処理とによって基板中に形成された中間層が熱膨張率の差を緩和するバッファ層として機能し、従来問題となっていた結晶欠陥が著しく減少し、反りやクラックが解消された高品質な窒化物半導体エピタキシャルウェハを容易に得ることができる。また、窒化物半導体層をこの中間層を境に基板から剥離して窒化物半導体の大面積でフラットな自立エピタキシャルウェハを容易に得ることができる。
【００５２】
【発明の効果】
以上要するに本発明によれば、次のような優れた効果を発揮する。
【００５３】
結晶欠陥が少なく、反りやクラックの少ない窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法の提供を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）〜（ｆ）は本発明の窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法の一実施の形態を示す工程図である。
【図２】図１（ａ）〜（ｆ）に示した製造方法を適用したＧａＮ自立単結晶基板上に形成されたＬＤの断面構造模式図である。
【図３】図１（ａ）〜（ｆ）に示した製造方法を適用したＧａＮ自立単結晶基板上に形成されたＬＥＤの断面構造模式図である。
【符号の説明】
１  サファイア基板
２  第一の窒化物半導体層
３  イオン打ち込み層
４  第二の窒化物半導体層
５  ボイド層（中間層）
【図１】
0004192430.tif 000002
【図２】
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【図３】
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