(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応処理液から回収された、保護基として有効なｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基又はｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基を導入するためのシリル化剤が分解してできたｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアルコールと、式（２）：Ｘ−ＯＨ（式中、Ｘは有機基を表す。）で表される化合物を、前記式（２）で表される化合物１モルに対して、０．００１モル〜０．５モルの酸触媒の存在下に脱水反応させることを特徴とする、（ｔｅｒｔ−Ｃ４Ｈ９)(ＣＨ３)２Ｓｉ−Ｏ−Ｘ（式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。）で表されるシリル化合物の製造方法。
【請求項２】
前記酸触媒として、硫酸、アルキルスルホン酸、アリールスルホン酸、ポリリン酸又はこれらの塩を用いる請求項１に記載のシリル化合物の製造方法。
【請求項３】
前記式（２）で表される化合物が、分子内に水酸基を有する、医薬品、農薬、その他の生理活性物質又はそれらの製造中間体である請求項１又は２に記載のシリル化合物の製造方法。
【請求項４】
前記式（２）で表される化合物が、分子内に水酸基を有するβ−ラクタム系抗生物質又はその製造中間体である請求項１〜３のいずれかに記載のシリル化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、医薬品、農薬、その他の生理活性物質又はそれらの製造中間体等の製造におけるシリル化反応又は脱シリル化反応の後処理工程で副生するシラノール化合物を再利用可能なシリル化合物とするシリル化合物の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
医薬品、農薬、その他の生理活性物質又はそれらの製造中間体等の製造においては、化合物の水酸基を保護する為、アルキルシリルハライドやアリールシリルハライド等のハロゲン化シランやハロゲンの代りとなる他の活性基に置換されたシリル化合物（以下、「シリル化剤」ともいう。）を用い、対応するシリル基を導入することが行なわれている（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｖｏｌ．９４，６１９０（１９７２）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．，９９（１９７９）、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，Ｖｏｌ．４３，３６４９（１９７８）、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，Ｖｏｌ．４４，４２７２（１９７９）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．，Ｖｏｌ．２１，８３５（１９８０）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．，Ｖｏｌ．２２，１２９９（１９８１）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．，Ｖｏｌ．２２，３４５５（１９８１）、Ｃａｎａｄ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．，Ｖｏｌ．５３，２９７４（１９７５）等参照。）
【０００３】
これらの場合、過剰分又は未反応分のシリル化剤は、例えば、水(又は水溶液)による洗浄、溶媒抽出、分液といった反応後処理操作の過程で分解し、対応するシリルアルコールとなる。
【０００４】
また、有機合成化学で一般的に用いられる水酸基の保護基であるシリル基は、その目的の性質上、最終的に化合物から除去（脱保護）される。そして、この脱保護反応後の後処理操作の過程で加水分解を受けてシラノール化合物となる。
【０００５】
従来、反応処理液に含まれるシラノール化合物は、他の反応処理廃棄物とともに廃棄又は焼却されていた。しかし、シリル化剤は一般に高価であり、製造コストの低減及びシリル資源の有効活用の観点から、このようなシラノール化合物を有効に活用することが望まれている。
【０００６】
このようなシラノール化合物を回収して有効活用するものとしては、例えば、シラノール化合物の水酸基を塩素に変換してシリルクロライドとして利用する方法が知られている（特開昭６２−１００９５号公報参照）。しかし、この方法では、塩素置換する為の反応工程と化学量論的な塩素化剤及び塩基が必要であった。
【０００７】
一方、従来のシリル化合物、特にシロキサン等のオリゴマーやポリマーの水酸基に対してアルコールを脱水縮合させる反応が、シランカップリング剤の反応として塗料、樹脂等の素材の物理特性を生かす用途に広く利用されている。（Ｂ．Ａｒｋｌｅｓ，“Ｔａｉｌｏｒｉｎｇ  Ｓｕｒｆａｃｅｓ  ｗｉｔｈ  Ｓｉｌａｎｅｓ”  Ｃｈｅｍｔｅｃｈ  ７，７７６，（１９７７）、Ｅ．Ｐ．Ｐｌｕｅｄｄｅｍａｎｎ，“Ｓｉｌａｎｅ  Ｃｏｕｐｌｉｎｇ  Ａｇｅｎｔｓ”  Ｐｌｅｎｕｍ  Ｎ．Ｙ．１９８２等参照。）
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、かかる実情の下でなされたものであって、シリル化反応における過剰分又は未反応分のシリル化剤が分解したシラノール化合物や、脱シリル化反応の副生物であるシラノール化合物を再利用するシリル化合物の製造方法を提供することを課題とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、シラノール化合物をシランカップリング剤の反応を応用して、触媒存在下に、水酸基を有する有用化合物の該水酸基と反応させることにより、簡便かつ効率よく再利用可能なシリル化合物へ導くことができることを見出し、本発明を完成させるに到った。
【００１０】
かくして本発明によれば、式（１）：Ｒ１Ｒ２Ｒ３ＳｉＯＨ（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜２０のアルケニル基、炭素数１〜２０のアルキニル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を表す。）で表されるシラノール化合物と、式（２）：Ｘ−ＯＨ（式中、Ｘは有機基を表す。）で表される化合物とを、触媒の存在下に脱水反応させることを特徴とする、式（３）：Ｒ１Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ−Ｘ（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸは前記と同じ意味を表す。）で表されるシリル化合物の製造方法が提供される。
【００１１】
本発明の製造方法においては、反応処理液から回収された前記式（１）で表されるシラノール化合物を用いるのが好ましく、保護基として有効なシリル基又はシリル基を導入するためのシリル化剤が分解してできるシラノール化合物を用いるのがより好ましい。
【００１２】
前記式（１）で表される化合物として、トリメチルシラノール、トリエチルシラノール、イソプロピルジメチルシラノール、トリイソプロピルシラノール、ターシャリーブチルジメチルシラノール、フェニルジメチルシラノール、ターシャリーブチルジフェニルシラノール又はトリフェニルシラノールを用いるのがより好ましい。
【００１３】
また、前記触媒として、硫酸、アルキルスルホン酸、アリールスルホン酸、ポリリン酸又はこれらの塩を用いるのが好ましい。
さらに、本発明の製造方法においては、前記式（２）で表されるシリル化合物が医薬品、農薬、その他の生理活性物質又はそれらの製造中間体であるのが好ましく、β−ラクタム系抗生物質又はその製造中間体であるのがより好ましい。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明のシリル化合物の製造方法を詳細に説明する。
（ｉ）式（１）で表されるシラノール化合物
本発明のシリル化合物の製造方法は、式（１）：Ｒ１Ｒ２Ｒ３ＳｉＯＨで表されるシラノール化合物を原料として用いる。
前記式（１）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜２０のアルケニル基、炭素数１〜２０のアルキニル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を表す。
【００１５】
炭素数１〜２０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。
炭素数３〜８のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等が挙げられる。
炭素数１〜２０のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、ブタジエニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１，３−ペンタジエニル基、２，４−ペンタジエニル基等が挙げられる。
炭素数１〜２０のアルキニル基としては、例えば、エチニル基、プロパルギル基、２−ブチニル基等が挙げられる。
また、前記アリール基としては，例えば、フェニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、５−ピリジル基、２−フリル基、３−フリル基、２−チエニル基、３−チエニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等が挙げられる。
【００１６】
前記アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基及びフェニル基は、任意の位置に１種又は２種以上の置換基を有していてもよい。
かかる置換基としては、例えば、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等のアルコキ基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基；メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基等のアルキルチオ基；メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基等のアルキルスルホニル基；アミノ基；メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ベンジルアミノ基、フェニルアミノ基等のモノ置換アミノ基；ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基、メチルエチルアミノ基、フェニルメチルアミノ基等のジ置換アミノ基；アミド基；メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ベンジルアミノカルボニル基等のモノアルキルアミノカルボニル基；ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジベンジルアミノカルボニル基等のジアルキルアミノカルボニル基；アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基、４−クロロベンゾイル基等のアシル基；フェニル基、２−クロロフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メチルフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基等の置換基を有していてもよいフェニル基；等が挙げられる。
【００１７】
本発明においては、前記式（１）で表されるシラノール化合物の中でも、汎用性の観点から、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３がそれぞれ独立して炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよいフェニル基である化合物が好ましく、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３が、それぞれ独立して炭素数１〜１０のアルキル基又は置換基を有していてもよいフェニル基である化合物がより好ましく、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３が、それぞれ独立して炭素数１〜１０のアルキル基又はフェニル基である化合物がさらに好ましい。
【００１８】
前記式（１）で表される化合物の好ましい具体例としては、トリメチルシラノール、トリエチルシラノール、イソプロピルジメチルシラノール、トリイソプロピルシラノール、ターシャリーブチルジメチルシラノール、フェニルジメチルシラノール、ターシャリーブチルジフェニルシラノール又はトリフェニルシラノールが挙げられる。
【００１９】
前記式（１）で表されるシラノール化合物は、市販品又はシリル化反応に用いられる過剰分又は未反応のシリル化剤の分解生成物、若しくはシリル基の脱シリル化反応の反応液から得ることができる。
【００２０】
シリル基は有機合成化学で一般的に用いられる水酸基の保護基であり、目的とする化合物を製造する過程において水酸基をシリル化する場合がある。またシリル基は、その目的の性質上、最終的に化合物から除去（脱保護）される場合がある。
【００２１】
シリル化反応に用いられるシリル化剤としては、式：Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ−Ｌ（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は前記と同じ意味を表し、Ｌは、ハロゲン原子、アルコキシ基等の脱離基を表す。）で表される化合物が挙げられる。シリル化する方法としては、例えば、分子内に水酸基を有する化合物とシリル化剤とを塩基の存在下に反応させる方法が一般的である。ここで、塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、イミダゾール等が用いられる。
【００２２】
この反応では、シリル化反応を完全に行なわせるために、通常、前記分子内に水酸基を有する化合物の水酸基に対して過剰分のシリル化剤及び塩基を使用する。従って、反応液を後処理する工程、分液操作や抽出操作中に加水分解を受けてシラノール化合物が生成する。
【００２３】
また、シリル基を脱保護する方法としては、例えば、含フッ素試剤を用いて脱シリル化する方法や、酸を使用する脱シリル化方法が知られている。前者の方法によれば、シリルフロライドが副生するが、上述したように反応後処理操作の過程で加水分解を受けてシラノール化合物となる。また、後者の方法では、直接シラノール化合物が得られる。
【００２４】
反応処理液からシラノール化合物を得る方法としては、（ａ）シリル化反応又は脱シリル化反応の反応処理液を蒸留する方法、（ｂ）該反応処理液に水と非混和性の有機溶媒及び水を加えて分液し、有機層を蒸留する方法、（ｃ）前記反応処理液をカラムクロマトグラフィー法により生成する方法、（ｄ）前記反応処理液をカラムクロマトグラフィー法により精製した後、更に蒸留する方法等が挙げられる。
【００２５】
また、上述の反応処理液を精製することなく、そのまま次の式（２）：Ｘ−ＯＨで表される化合物と反応させて、式（３）：Ｒ１Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ−Ｘで表されるシリル化合物を得た後、このものを蒸留法及び／又はカラムクロマトグラフィー法により単離することもできる。
【００２６】
（ii）式（３）で表されるシリル化合物の製造
本発明の製造方法は、触媒の存在下に、前記式（１）で表されるシラノール化合物と式（２）：Ｘ−ＯＨで表される化合物とを反応させて式（３）で表される化合物を得る工程を有する。
触媒としては、一般的な脱水触媒を用いることができる。その具体例としては、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、硫酸等のスルホン酸類；ピリジニウム  ｐ−トルエンスルホネート等のスルホン酸塩類；ポリリン酸；等が挙げられる。触媒の使用量は、式（２）で表される化合物１モルに対し、通常０．０００１モル〜１モル、好ましくは０．００１モル〜０．５モルの範囲である。
【００２７】
前記式（２）において、Ｘは有機基を表す。ここで有機基とは、分子内に水酸基を有する有機化合物の該水酸基以外の部分を表す意である。
前記式（２）で表される化合物としては、分子内に水酸基を有する有機化合物であれば特に制限されないが、多段階反応を必要とし、コスト高となっても製造する程の価値があり、多段階で合成する過程で分子内の水酸基がアルキル又はアリール置換のシリル基の保護（シリル化）及び脱保護（脱シリル化）が必要な化合物であるのが好ましい。具体的には、製造工程において、分子内の水酸基をシリル基で保護及び脱保護する必要がある化合物、例えば、分子内に水酸基を有する医薬、農薬等の生理活性物質又はこれらの製造中間体が挙げられる。
【００２８】
これらの中でも、前記式（２）で表される化合物としては、分子内に水酸基を有するβ−ラクタム系抗生物質又はこの製造中間体であるのが特に好ましい。前記式（２）で表される抗生物質中間体の具体例としては、（２Ｓ，３Ｒ）−２−アミノメチル−３−ヒドロキシ酪酸、（１’Ｒ，３Ｓ）−３−（１−ヒドロキシエチル）アゼチジン−２−オン、（２Ｓ，３Ｒ）−２−アルコキシカルボニル−３−ヒドロキシブチルアミン塩酸塩、（Ｒ）−３−ヒドロキシブチリックアシッドエステル類等が挙げられる。
【００２９】
前記式（１）で表されるシラノール化合物と式（２）で表される化合物との反応は、通常溶媒の存在下に行なわれる。用いられる溶媒としては、溶媒自身が脱水縮合されるものでなければ特に限定されない。かかる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒；酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ｎ−ヘプタン等の飽和炭化水素系溶媒；アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄化合物；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、ヘキサメチルホスホロアミド等のアミド系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒；等が挙げられる。
溶媒の使用量は特に限定されないが、通常、前記式（２）で表される化合物１重量部に対して、通常０．００１重量部〜１００重量部である。
【００３０】
前記式（１）で表されるシラノール化合物と式（２）で表される化合物との反応温度は、通常０℃〜２００℃まで温度範囲である。副生する水を留出させながら反応させることを考慮すると、使用溶媒の沸点付近の温度が好適である。また、反応時間は１０分〜数日間である。
【００３１】
反応終了後は、有機合成化学における通常の後処理操作及び必要に応じて精製を行なうことにより、目的とする前記式（３）で表される化合物を得ることができる。このものは、医薬品や農薬等の生理活性物質又はそれらの製造中間体として有用である。
以上説明したように、シリル化反応の未反応物の分解生成物又は脱シリル化反応の副生成物であるシラノール化合物を、簡便かつ効率よく有用なシリル化合物にすることにより、シリル資源の有効活用を図ることができる。
【００３２】
【実施例】
実施例１：（Ｒ）−１−フェニルチオブタン−３−オールのシリル化
撹拌機、ディーンスタック及び還流管を取り付けた５０ｍｌの四つ口フラスコに、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアルコール（１．３３ｇ）、（Ｒ）−１−フェニルチオブタン−３−オール（１．６１ｇ）、トルエン（４５ｍｌ）及びｐ−トルエンスルホン酸１水和物（０．１７ｇ）を入れた。この混合物を、留出液をジーンスタックにて水層と有機層とを分離して有機層を系内に戻しながら、２時間還流させた。反応液を２６℃まで冷却し、水（５．４ｍｌ）を加え、有機層を分取した。有機層を減圧下で濃縮し、得られた濃縮物（７．９０ｇ）をＨＰＬＣにて定量分析すると、（Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−１−フェニルチオブタンが２６．５ｗｔ％濃度で含まれていた。シリル化反応率は７９．９％であった。
【００３３】
実施例２：（Ｒ）−１−フェニルチオブタン−３−オールのシリル化
撹拌機、ディーンスタック及び還流管を取り付けた５０ｍｌの四つ口フラスコに、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアルコール（１．３３ｇ）、（Ｒ）−１−フェニルチオブタン−３−オール（１．６１ｇ）、トルエン（４５ｍｌ）及びピリジニウム  ｐ−トルエンスルホネート（０．２２ｇ）を入れた。この混合物を、留出液をジーンスタックにて水層と有機層と分離して有機層を系内に戻しながら、４時間還流させた。反応液を２０℃まで冷却し、水（５．８ｍｌ）を加え、有機層を分取した。有機層を減圧下で濃縮して得られた濃縮物（５．３２ｇ）をＨＰＬＣにて定量分析すると、（Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−１−フェニルチオブタンが４４．０ｗｔ％濃度で含まれていた。シリル化反応率は８９．７％であった。
【００３４】
実施例３：２−フェノキシエタノールのシリル化
撹拌機、ディーンスタック及び還流管を取り付けた５０ｍｌの四つ口フラスコに、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアルコール（１．５１ｇ）、２−フェノキシエタノール（１．３８ｇ）、トルエン（４０ｍｌ）及びｐ−トルエンスルホン酸１水和物（０．１９ｇ）を入れた。この混合物を、留出液をジーンスタックにて水層と有機層とを分離して有機層を系内に戻しながら、４時間還流させた。反応液を２４℃まで冷却し、水（３０ｍｌ）を加え、有機層を分取した。有機層を減圧下で濃縮し、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９：１ｖｏｌ／ｖｏｌ）にて精製し、１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−フェノキシエタン（０．７ｇ）を油状物質として得た。収率は２７．７％であった。
【００３５】
このものの１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：０．０５（６Ｈ，ｓ），０．８７（９Ｈ，ｓ），３．９５（４Ｈ，ｍ），６．８４−６．９１（３Ｈ，ｍ），７．１８−７．２５（２Ｈ，ｄｄ）
【００３６】
実施例４：２−フェノキシエタノールのシリル化
撹拌機、ディーンスタック及び還流管を取り付けた５０ｍｌの四つ口フラスコに、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアルコール（１．５１ｇ）、２−フェノキシエタノール（１．３８ｇ）、トルエン（４０ｍｌ）及びピリジニウム  ｐ−トルエンスルホネート（０．２６ｇ）を入れた。この混合物を、留出液をジーンスタックにて水層と有機層とに分離して有機層を系内に戻しながら、４．５時間還流させた。反応液を２５℃まで冷却し、水（３０ｍｌ）を加え、勇気層を分取した。有機層を減圧下で濃縮し、濃縮物（２．４３ｇ）をＨＰＬＣにて定量分析すると、１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−フェノキシエタンが９４．７ｗｔ％濃度で含まれていた。シリル化反応率は９１．１％であった。
【００３７】
実施例５：２−フェネチルアルコールのシリル化
撹拌機、ディーンスタック及び還流管を取り付けた５０ｍｌの四つ口フラスコに、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアルコール（１．５１ｇ）、２−フェネチルアルコール（１．２２ｇ）、トルエン（４０ｍｌ）及びピリジニウム  ｐ−トルエンスルホネート（０．２５ｇ）を入れた。この混合物を留出液をジーンスタックにて水層と有機層と分離して有機層を系内に戻しながら、４時間還流させた。反応液を２５℃まで冷却し、水（３０ｍｌ）を加え、有機層を分取した。有機層を減圧下で濃縮し、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９：１ｖｏｌ／ｖｏｌ）にて精製し、１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−フェニルエタン（２．０２ｇ）を油状物質として得た。収率は８５．４％であった。
【００３８】
このものの１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：−０．０２（６Ｈ，ｓ），０．８７（９Ｈ，ｓ），２．８２（２Ｈ，ｔ），３．８０（２Ｈ，ｔ）７．１７−７．３１（５Ｈ，ｍ）
【００３９】
実施例６：１−フェニルプロパン−２−オールのシリル化
撹拌機、ディーンスタック及び還流管を取り付けた５０ｍｌの四つ口フラスコに、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアルコール（１．５１ｇ）、１−フェニルプロパン−２−オール（１．３６ｇ）、トルエン（４０ｍｌ）及びピリジニウムｐ−トルエンスルホネート（０．２５ｇ）を入れた。この混合物を、留出液をジーンスタックにて水層と有機層とに分離して有機層を系内に戻しながら、３．５時間還流させた。反応液を２５℃まで冷却し、水（３０ｍｌ）を加え、有機層を分取した。有機層を減圧下で濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９：１ｖｏｌ／ｖｏｌ）にて精製し、２−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−１−フェニルプロパン（１．８６ｇ）を油状物質として得た。収率は７４．３％であった。
【００４０】
このものの１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：−０．１９（３Ｈ，ｓ），−０．０８（３Ｈ，ｓ），０．８４（９Ｈ，ｓ），１．１６（３Ｈ，ｄ），２．７０（２Ｈ，ｍ），３．９６（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．２９（５Ｈ，ｍ）
【００４１】
実施例７：４−フェノキシフェノールのシリル化
撹拌機、ディーンスタック及び還流管を取り付けた５０ｍｌの四つ口フラスコに、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアルコール（１．５１ｇ）、４−フェノキシフェノール（１．８６ｇ）、トルエン（４０ｍｌ）及びピリジニウムｐ−トルエンスルホネート（０．２５ｇ）を入れた。この混合物を、留出液をジーンスタックにて水層と有機層とを分離して有機層を系内に戻しながら、２．５時間還流させた。反応液を２５℃まで冷却し、水（３０ｍｌ）を加え、有機層を分取した。有機層を減圧下で濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９：１ｖｏｌ／ｖｏｌ）にて精製し、１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−４−フェノキシベンゼン（１．４２ｇ）を油状物質として得た。収率は４７．３％であった。
【００４２】
このものの１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：０．２１（６Ｈ，ｓ），１．０１（９Ｈ，ｓ），６．８０−７．３２（９Ｈ，ｍ）
【００４３】
実施例８：エチル  ３−ヒドロキシブチレートのシリル化
撹拌機、ディーンスタック及び還流管を取り付けた５０ｍｌの四つ口フラスコに、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアルコール（１．５１ｇ）、エチル  ３−ヒドロキシブチレート（１．３２ｇ）、トルエン（４０ｍｌ）及びピリジニウムｐ−トルエンスルホネート（０．２５ｇ）を入れた。この混合液を、留出液をジーンスタックにて水層と有機層とを分離して有機層を系内に戻しながら、６．５時間還流させた。反応液を２０℃まで冷却し、水（３０ｍｌ）を加え、有機層を分取した。有機層を減圧下で濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝９：１ｖｏｌ／ｖｏｌ）にて精製し、エチル  ３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシブチレート（０．３０ｇ）を油状物質として得た。収率は１２．２％であった。
【００４４】
このものの１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：０．０４（３Ｈ，ｓ），０．０６（３Ｈ，ｓ），０．８６（９Ｈ，ｓ），１．１９（３Ｈ，ｄ），１．２６（３Ｈ，ｔ），２．３２〜２．５１（２Ｈ，ｍ），４．０８−４．１６（２Ｈ，ｍ），４．２４−４．３２（１Ｈ，ｍ）
【００４５】
実施例９：６−クロロヘキサノールのシリル化
撹拌機、ディーンスタック及び還流管を取り付けた５０ｍｌの四つ口フラスコに、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアルコール（１．５１ｇ）、エチル  ３−ヒドロキブチレート（１．３６ｇ）、トルエン（４０ｍｌ）及びピリジニウム  ｐ−トルエンスルホネート（０．２５ｇ）を入れた。この混合液を、留出液をジーンスタックにて水層と有機層とを分離して有機層を系内に戻しながら、２時間還流させた。反応液を２５℃まで冷却し、水（３０ｍｌ）を加え、有機層を分取した。有機層を減圧下で濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１０：１ｖｏｌ／ｖｏｌ）にて精製し、１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−６−クロロヘキサン（２．３２ｇ）を油状物質として得た。収率は８７．６％であった。
【００４６】
このものの１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：０．０５（６Ｈ，ｓ），０．８９（９Ｈ，ｓ），１．３２−１．５８（６Ｈ，ｍ），１．７３−１．８３（２Ｈ，ｍ），３．５３（２Ｈ，ｔ），３．６１（２Ｈ，ｔ）
【００４７】
実施例１０：４−フェニルブタン−２−オールのシリル化
撹拌機、ディーンスタック及び還流管を取付けた５０ｍｌの四つ口フラスコに、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアルコール（１．５１ｇ）、４−フェニル−ブタン−２−オール（１．５０ｇ）、トルエン（４０ｍｌ）及びピリジニウム  ｐ−トルエンスルホネート（０．２５ｇ）を入れた。この混合液を、留出液をディーンスタックにて水層と有機層を分離して有機層を系内に戻しながら、７時間還流させた。反応液を２５℃まで冷却し、水３０ｍｌを加え、有機層を分取した。有機層を減圧下で濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝９：１（ｖｏｌ／ｖｏｌ）にて精製して、２−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−４−フェニルブタン（０．８６ｇ）を油状物質として得た。収率は８２．５％であった。
【００４８】
このものの１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ；０．０６（６Ｈ、ｓ）、０．９１（９Ｈ，ｓ）、１．１７（３Ｈ，ｄ）、１．６８−１．７９（２Ｈ，ｍ）、２．５２−２．７７（２Ｈ，ｍ）、３．８１−３．８８（１Ｈ，ｍ）、７．１３−７．３０（５Ｈ，ｍ）
【００４９】
実施例１１：フェネチルアルコールのシリル化
撹拌機、ディーンスタック及び還流管を取付けた５０ｍｌの四つ口フラスコに、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアルコール（１．５１ｇ）、４−フェニルブタン−２−オール（１．５０ｇ）、トルエン（４０ｍｌ）及びポリリン酸（０．１２ｇ）を入れた。この混合液を、留出液をディーンスタックにて水層と有機層に分離して有機層を系内に戻しながら、６時間還流させた。反応液をＨＰＬＣにて分析したところ、１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−フェニルエタンが収率１６．３％で得られたことが分かった。
【００５０】
【発明の効果】
本発明によれば以下の効果を得ることができる。
（１）シリル基のリサイクル効果により、高価なシリル化剤の低減を図ることができる。すなわち、従来、副生成物として廃棄等されていた式（１）で表されるシラノール化合物を、有用化合物の水酸基の保護基資源として有効活用することができる。
（２）反応後処理された廃溶媒中のシラノール化合物が減少する為、廃棄物燃焼処理後の珪酸灰を低減でき、燃焼炉の負担を軽減できる。
（３）触媒の存在下に、簡便かつ効率よくシラノール化合物を有用なシリル化合物を得ることができる。すなわち、シラノールにハロゲン化剤を反応させる従来の従来法において必要であった化学量論的なハロゲン化剤及びシリル化剤と塩基は必要としなくなった。