(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハーを一列に並べた状態で保持するための複数のスロットを有する一体化されたＨバーウェハーキャリヤであって、
ａ）第１の熱可塑性材料で形成され、ウエハーを受容するための細長いスロットを複数の細長いウエハー係合歯で仕切られているベース部分と、
ｂ）第２の熱可塑性材料で形成された複数の細長いウェハー接触部分を有するウェハー係合部分と、
を有し、
前記ウェハー係合歯で形成の細長いウェハー接触部分の各々は複数のスロットであり、
前記ウェハー係合部分には前記ベース部分に接触しないようにオーバーモールドで結合される接合部分が形成され、
前記接合部分において、第１の熱可塑性材料の分子径は第２の熱可塑性材料の３分子径以内で、第１の熱可塑性材料と第２の熱可塑性材料は隙間なく熱物理的に結合されているウェハーキャリヤ。
【請求項２】
第１の熱可塑性材料はポリカードネートであり、第２の熱可塑性材料はポリエーテルエーテルケトン又はポリエーテルイミドである請求項１のウェハーキャリヤ。
【請求項３】
ベース部分が歪まないように、成形温度を第１の熱可塑性材料のガラス転移点以下に保持する請求項１又は請求項２のウェハーキャリヤ。
【請求項４】
開口前部及びドアを備えるボックスエンクロージャを有するウェハーキャリアであって、複数のウェハーサポート棚と、前記ボックスエンクロージャーの底部にあるベース部分と、を有し、
前記ベース部分はそれに取り付けられて装置と接触するための３つの別個の装置インターフェース部分を有しており、
前記３つの装置インターフェース部分は、前記ベース部分の周りに周方向に間隔をあけて各々が径方向内向きに配置されており、
前記ベース部分は第１の熱可塑性材料で形成されており、
前記装置インターフェース部分は、第１の熱可塑性材料と異なる第２の熱可塑性材料で形成されており、この第２の熱可塑性材料は、前記第１の熱可塑性材料よりも粒子発生が少ない特性を有し、
前記ベース部分は３つの装置インターフェース部分と熱物理的に結合され、
第１の熱可塑性材料の分子径は第２の熱可塑性材料の３分子径以内で、第１の熱可塑性材料と第２の熱可塑性材料は隙間なく結合され、３つの装置インターフェース部分は前記ベース部分の構成要素になっているウェハーキャリヤ。
【請求項５】
複数のウェハーを保持するためのウェハーキャリヤであって、
第１の部分と第２の部分を有するボックスエンクロージャーと、
前記第１の部分は底部、上部、１対の対向側部、後部及び前部によって定義されるボックスエンクロージャーであり、
前記ボックスエンクロージャーの第１及び第２の部分の少なくとも一方は、不透明本体を有しており、その不透明本体には熱物理的結合が存在するオーバーモールドによって透明窓が結合されており、
前記透明窓の一部をなす熱可塑性材料の分子径は、不透明本体の熱可塑性材料の３分子径以内であり、
透明窓の一部と不透明本体は隙間なく結合されて、透明窓の一部は不透明本体の構成要素になっていて、
ウェハーキャリヤはボックスエンクロージャーに配置されている複数のスロットとウェハーサポート構造とを有し、
前記スロットの各々は、ウェハーが平行で一列に並べた状態になるように前記複数のウェハーを個別に各々受容するウェハーキャリヤ。
【請求項６】
ウェハーキャリヤを製造する方法であって、
ａ）第１の成形型の中で第１の熱可塑性材料を用いて、ウェハーを受容するための細長いスロットを複数の細長いウェハー係合歯で仕切られているベース部分を射出成形する段階と、
ｂ）前記成形されたベース部分を第２の成形型の中へ設置する段階と、
ｃ）第２の熱可塑性材料を用いて前記ベース部分にウェハー接触部分をオーバーモールドする段階と、
を有し、
前記ウェハー係合歯で形成の細長いウェハー接触部分の各々は複数のスロットを形成し、かつ、オーバーモールドによって形成された接合部分を形成し、
前記接合部分において、第１の熱可塑性材料の分子径は第２の熱可塑性材料の３分子径以内で、第１の熱可塑性材料と第２の熱可塑性材料は隙間なく熱物理的結合されるウェハーキャリヤを製造する方法。
【請求項７】
ウェハーを保持するためのウェハーキャリヤを製造する方法であって、
ａ）予め決められた位置において成形型のキャビティの中へ第１の熱可塑性材料を射出することによって第１の部分を形成する段階と、
ｂ）前記第１の熱可塑性材料と接触するように第２の熱可塑性材料を射出することによって、前記第１の熱可塑性部分に、熱物理的結合が存在するオーバーモールドによって結合された第２の部分を形成する段階とを有し、
前記オーバーモールドによって結合される第２の部分において、第１の熱可塑性材料の分子径は第２の熱可塑性材料の３分子径以内で、第１の熱可塑性材料と第２の熱可塑性材料は隙間なく熱結合されるウェハーキャリヤを製造する方法。
【請求項８】
ウェハー接触部分を備える容器部分と、ベース部分とを有して、ウェハーを保持して処理装置に取り付けられるウェハーキャリヤを製造する方法であって、
ａ）第２の熱可塑性材料でウェハー接触部分を成形する段階と、
ｂ）別個の装置インターフェース部分を成形する段階と、
ｃ）ウェハー接触部分及び装置インターフェース部分を第１の熱可塑性材料とでオーバーモールドすることによって、熱物理的結合を有するウェハーキャリヤを成形する段階と、
を有し、
前記オーバーモールドによって結合される部分において、第１の熱可塑性材料の分子径は第２の熱可塑性材料の３分子径以内で、第１の熱可塑性材料と第２の熱可塑性材料は隙間なく熱結合されるウェハーキャリヤを製造する方法。
【請求項９】
ベース部分が歪まないように、成形温度を第１の熱可塑性材料のガラス転移点以下に保持する請求項６から請求項８のいずれか１項のウェハーキャリヤを製造する方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明はメモリーディスク、シリコンウェハーなどを収容して運搬、保管、処理を行うための器具に関する。さらに詳しくは、この発明は複合式のウェハーキャリヤ又はディスクキャリヤに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ディスクやウェハーを処理する前、処理中、又は処理後に、シリコンウェハーや磁気ディスクのバッチを運搬したり保管したりするためにいくつかのキャリヤが利用されている。ウェハーは集積回路に加工され、ディスクはコンピュータ用の磁気記憶ディスクに加工される。なお、この明細書で使用されるウェハーという語はシリコンウェハーや磁気基板などを指すものとする。
ウェハーディスクの集積回路チップへの加工にはいくつかの工程が含まれ、これらの工程においてディスクは何回も処理され、保管され、運搬される。ディスクは非常にデリケートであり、また非常に高価なため、この一連の処理中においてディスクが適切に保護されることが重要である。ウェハーキャリヤの目的の一つはこの保護を行うことである。また、ウェハーディスクの処理は一般に自動化されているため、ロボットによってウェハーを取り出したり挿入したりするに際して、ディスクが処理装置に対して正確に配置されることが必要である。ウェハーキャリヤの別の目的は運搬のときにウェハーディスクをしっかりと保持することである。
【０００３】
キャリヤは一般にウェハー又はディスクをスロットの中で軸方向に並べて、ウェハー又はディスクをその周辺エッジ又はその近くで支えるような構造になっている。ウェハー又はディスクは通常はキャリヤから半径方向に上方又は側方へ取り出される。キャリヤはウェハーやディスクを取り囲むためのカバー、底部カバー又はエンクロージャを補助部材として有している。
ウェハーキャリヤに対しては有用で利点のある材料特性が数多く存在するが、それはキャリヤのタイプや対象となっているキャリヤの特定の部分に応じて異なる。
【０００４】
半導体ウェハーや磁気ディスクの処理を行うときに、粒子が存在していたり粒子が発生したりすると重大な汚染問題が生じる。汚染は半導体産業における歩どまりの低下の唯一の最も大きな原因であると認識されている。集積回路の寸法が小さくなるにつれて、集積回路を汚染する粒子の寸法も小さくなるため、汚染物質の低減は極めて重要である。粒子状の汚染物質はキャリヤがウェハー又はディスク、キャリヤーカバー又はエンクロージャ、保管ラック、他のキャリヤ、又は処理装置によって擦られたり引っ掻かれたりして摩耗することによって発生する。従って、キャリヤ材料の最も好ましい特性はプラスチック成形されたキャリヤが擦られたり引っ掻かれたりして摩耗作用を受けたときに粒子を発生しにくいことである。米国特許第5,780,127号には、ウェハーキャリヤ用としてのそうした材料の適性に関係するプラスチックの諸特性が記載されている。この特許はこの明細書において文献援用されている。
【０００５】
また、キャリヤ材料は揮発成分の放出すなわちアウトガスも最小限に抑えられる必要がある。というのは、揮発成分はフィルムを形成し、これがウェハーやディスクに損傷を与える汚染物質となるからである。
キャリヤ材料は、また、キャリヤを積んだときの寸法安定性すなわち剛性を有している必要がある。寸法安定性はウェハーやディスクへの損傷を防止したり、キャリヤの中でのウェハー又はディスクの動きを最小限に抑えるために必要である。ウェハーやディスクを保持するスロットの公差は一般にきわめて小さいため、キャリヤが変形すると、非常に脆くて壊れやすいウェハーを直接傷付けたり、ウェハーやディスクをキャリヤに出し入れするときの摩耗による粒子の発生を増加させる。出荷に際してキャリヤが積み重ねられるときや、キャリヤが処理装置に合体されるときなどにおいて、キャリヤがある方向に積まれる場合には、寸法安定性は非常に重要である。また、キャリヤ材料は保管中や洗浄中などに起きる高温状態において寸法安定性を維持する必要がある。
【０００６】
半導体産業において使用されている従来のキャリヤは静電気を発生して帯電している。帯電したプラスチック部分が電子デバイスや処理装置と接触すると、その部分において放電が発生し、静電気放電（ＥＳＤ）として知られている破壊現象が起こる。また、静電気帯電したキャリヤは粒子、特に浮遊粒子、を引き付けて付着させる。また、キャリヤ上に静電気蓄積(static buildup)が発生すると、半導体処理装置は自動的に停止してしまう。ＥＳＤをなくして粒子を引き付けないようにするには、キャリヤに静電気消散特性を持たせることが最も望ましい。微量金属は多くのウェハーキャリヤ材料における一般的な成分又は残留物である。金属汚染物はキャリヤの材料選択やキャリヤの組み付け方法において考慮しなければならない。キャリヤ材料におけるアニオン汚染は汚染と腐食の問題を発生する。
【０００７】
キャリヤに使用される材料は、また、それらが晒される薬品に対して化学的適合性を有している必要がある。運搬や保管のためだけのウェハーキャリヤでは薬品の使用は想定していないけれども、これらのキャリヤは洗浄液やイソプロピルアルコールなどの一般的に使用されている溶剤に対しては耐性を有している必要がある。処理用キャリヤは非常に純度の高い酸やその他の強い薬品に晒される。閉じた容器の中のウェハーが目で見えることは非常に好ましいし、エンドユーザにとって必要なことでもある。そのような容器に適したポリカーボネートなどの透明プラスチックはコストが安いという点で好ましい。しかし、そうしたプラスチックは望ましい静電気消散特性を有しておらず、また、必要な耐摩耗性も有していない。
【０００８】
キャリヤ材料のその他の重要な特性としては、コストや材料の成形の容易さがある。キャリヤは、一般に、ポリカーボネート（ＰＣ）、アクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ペルフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ（登録商標））などの射出成形プラスチックから形成される。静電気消散特性を付与するために射出成形プラスチックへ添加されるフィラーとしては、カーボンパウダ、カーボンファイバ、金属繊維、金属コーティングされたグラファイト及び有機（アミンベースの）添加物がある。
【０００９】
運搬や保管のために使用される一つの一般的なウェハーキャリヤはＨバーキャリヤと呼ばれるものであり、Ｈバー(H-bar)インターフェース部分を有する前端部と、パネルを有する後端部と、スロット及びウェハーの曲線に合った下側曲線部分すなわち収束部分を有する側壁とから成り、開口した上部及び開口した底部を備えた単一の成形部材として形成されている。Ｈバーキャリヤは、通常の場合、何度か再利用された後に廃棄される。キャリヤは、使用中においては、一般に湯や他の薬品で洗浄され、その後温風で乾燥される。ウェハーを洗浄、乾燥、運搬、処理するに際して高温に晒されたときに、キャリヤがその形状を保持できることは非常に大切な特性である。
【００１０】
別の一般的なキャリヤは、Ｈバーキャリヤを保持するような構造を有するボックスである。このボックスは一般にワーク・イン・プロセス（ＷＩＰ）ボックスとして知られている。
別の一般的なキャリヤは、標準化機械式インターフェース（ＳＭＩＦ）ポッドである。ＳＭＩＦポッドは処理装置と機械的にインターフェースするＨバーキャリヤをシール状態で閉じ込めるボックスを有している。一般に、ＳＭＩＦポッドは底部で開くドアを有しており、ウェハーを有するＨバーキャリヤへアクセスできるようになっている。Ｈバーキャリヤへアクセスするために、前で開くようなドアを有するボックスも知られている。別の従来のキャリヤは、別体のＨバーキャリヤではなくてウェハーを支持する内部棚を有するボックスエンクロージャから成り、前で開くドアを有する運搬モジュールである。
【００１１】
キャリヤの一つの部材にとって理想的な材料は同じキャリヤの別の部分の材料としては必ずしも理想的な材料とは限らないことを認識する必要がある。例えば、ＰＥＥＫはウェハー接触部分にとっては理想的な耐摩耗性を有する材料であるが、成形が困難であり、他のプラスチックに比べて非常に高価である。従って、構造部分の材料としては、ＰＥＥＫは好ましいとは言えず、ポリカーボネートなど他のプラスチックの方が適している。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
異なる材料がディスクキャリヤの異なる部分に対して使用される唯一の場合は、その異なる部分すなわちコンポーネントが別々に成形され、その後それらがキャリヤとして組み立てられる場合である。こうした組み立てによるキャリヤの形成においては、異なるコンポーネントの表面と表面が接触して粒子を発生したり、洗浄するのが困難な汚染物質の付着部分を形成したりするという欠点がある。また、組み立ての工程においても粒子が発生する。さらに、異なるコンポーネント部分を成形し、それを組み立ててキャリヤにするには労力が必要であり、従ってコストがかかる。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
この発明のウェハーキャリヤは少なくとも二つの異なる溶融処理可能なプラスチック材料から形成されている。二つのプラスチック材料は最適な性能を発揮するように配置されており、オーバーモールドプロセスによって熱物理的な結合が行われる。
一実施の形態においては、二つの異質なプラスチックから成形されたウェハー保持用の棚又は側壁インサートなどのコンポーネントを利用している。これらのコンポーネントは運搬モジュールなどのディスクエンクロージャの中に組み付けられる。
また、この発明のウェハーキャリヤを製造する方法は、第１のモールドキャビティの中でポリカーボネート製の第１の構造部分を成形し、次にポリカーボネートから成形された部分を第２のモールドキャビティの中へ設置し、ポリエーテルエーテルケトンを射出成形して第１の構造部分の上にウェハー接触部分を形成する。処理温度と成形温度を制御して、異質な材料の間で最適な結合が行われるようにする。こうして、複合材料から成る一体化されたウェハーキャリヤが形成される。
【００１４】
この発明の利点及び特徴は、最小限の材料と労働コストで、最適な性能特性を実現できるようなキャリヤが形成されることである。
この発明の特定の実施の形態における他の特徴及び利点は、二つの材料を組み合わせることの利点が維持されているにも関わらず、コンポーネント部材を組み立てる必要がないことである。
この発明の特定の実施の形態における別の特徴及び利点はいっしょに成形される二つのプラスチック部分によってほぼ一体化されたキャリヤ又はコンポーネントが形成されることである。
この発明の別の利点及び特徴は、二つの異質な材料の結合部分が閉止されていて、汚染物質や他の薬品が溜る可能性がないことである。
この発明の別の利点及び特徴は、従来の場合には必要であったアニーリングなどの成形後の後処理が不要な点である。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面に基づいてこの発明の実施の形態を説明する。
先ず、第１の実施の形態を説明する。図１にはＨバーキャリヤとして具体化されたウェハーキャリヤが描かれている。このウェハーキャリヤは参照番号２０で表されている。このキャリヤは従来のＨバーキャリヤにおけると同様に、前部２２と、後部２３と、側壁２４，２６と、ウェハーを受容するための複数のウェハー接触部分すなわちスロット２８と、開口した上部３０と、装置インターフェース（処理装置に対して接触する部分）としてのＨバー３２とを有している。スロット２８の各々は一対のウェハー係合歯３４によって画定されている。
【００１６】
Ｈバーキャリヤは、Ｈバー３２すなわち装置インターフェースの他に、底部装置インターフェース３８を有している。底部装置インターフェース３８はコーナ４０に接触部分を有する四つの脚を有している。なお、ロボット用のピックアップハンドル４２及びフランジも装置インターフェースとして機能する。
このような複合型のＨバーキャリヤは第１の部分すなわちベース部分４４と、ウェハー係合部分４６として形成された第２の部分すなわちオーバーモールド部分５０とを主体として構成されている。この実施の形態においては、ウェハーキャリヤ２０は一体化された単一のコンポーネントである。
【００１７】
図２にはオーバーモールド部分５０が示されている。この図ではベース部分４４は省略されている。オーバーモールド部分５０はウェハー着座部分（ウェハー係合部分）として機能するものであり、ウェハー係合部分４６と付属部分５２とを有している。付属部分５２は成形プロセスのときに溶融状態のオーバーモールド材料が流れる流路に対応する部分である。この部分は、図からわかるように、オーバーモールドのためのモールドキャビティの構造を反映している。
【００１８】
この実施の形態においては、サポートすなわちベース部分４４は第１の熱可塑性材料すなわちポリカーボネート、カーボンファイバフィラーが充填されたポリカーボネートなどで成形されている。これらのプラスチックは寸法安定性が良く、成形が容易で安価なプラスチックである。次に、オーバーモールド部分５０が第２の熱可塑性材料すなわちＰＥＥＫ、カーボンファイバフィラーが充填されたＰＥＥＫなどの別の溶融処理可能な結晶性プラスチックで成形される。これらの材料はそのモフォロジ構造(morphological structure)や処理温度が異なる。なお、上記の材料は一例であり、これらと同様な機能を発揮し得るものであれば、モフォロジ的に異なる他の材料の組み合わせを使用することも可能である。アモルファス材料であるポリカーボネートと結晶性材料であるＰＥＥＫとの組み合わせにおいては、アモルファス材料が溶融状態の結晶性材料と接触したときに、熱物理的な結合を形成する。この結合は境界面におけるポリマーガラスの表面エネルギが増大することによって形成されると考えられている。従って、高温のアモルファス溶融物がポリマーガラスであるポリカーボネートと接触すると、それによってポリマーガラスの表面エネルギが増大する。そして、高温の溶融物が冷却するにつれて境界面において結晶化する。理論的にはこの結晶化プロセスが二つの材料の結合に寄与している。ポリマーガラスは非常に比熱が小さいため、熱は非常にゆっくりとした速度でポリマーガラスの中へ消散する。従って、ＰＥＥＫの高温の溶融物の冷却は遅くなり、境界面における結晶化を増大させる。このプロセスを射出成形において実行すると、成形品はポリマ結晶と成形金型との境界面におけるよりもポリマーガラスと結晶との境界面において結晶化レベルが高くなる。なぜなら、金属とポリマーガラスとの間には比熱に差があるからである。
【００１９】
この実施の形態においては、ポリカーボネートすなわちポリマーガラスがまず成形され、次に、その成型品が射出成形型へ配置されて、その上にＰＥＥＫが成形される。このプロセスにおいては、ポリカーボネートのベース部分が歪まないようにするために、成形温度はポリカーボネートのガラス転移点（およそ１４９℃）以下に保持されるのが理想的である。ウェハー着座部分すなわちオーバーモールド部分５０はウェハーがポリカーボネート（ベース部分４４）とけっして接触しないような構造を有し、また、その点を考慮して配置されている。上記以外のアモルファス材料としては、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）がある。この場合の結合には化学的結合要素も関係している。種々のタイプの結合要素がオーバーモールド部分とベース部分との結合に関係する。溶融したオーバーモールド材料が溶融していないベース部分と接触したときには、熱物理的結合が生じると考えられている。熱物理的結合は二つの部分間の距離がその分子半径の３倍以下になったときに起こる。
【００２０】
次に、第２の実施の形態を説明する。図３、図４、図５にはワーク・イン・プロセスボックス（ＷＩＰボックス）が示されている。このＷＩＰボックスは参照番号６０によって表されている。このボックス６０は一般にＨバーウェハーキャリヤ６２を保持しており、主な構成要素として、上部カバー６４と、ベース部分６６と、ベース部分６６の中に係合してその上に着座されているＨバーウェハーキャリヤ６２とを有している。この場合には、「キャリヤ」とはエンクロージャボックス又はＨバーキャリヤを有するエンクロージャボックスを指す。オーバーモールドプロセスにおいて数種類のコンポーネントが形成され、このプロセスと発明に特有の特徴及び利点が発揮されている。例えば、図５に示されるように、上部カバー６４はポリカーボネートから成形されている。そして、ヒンジ６８はＰＥＥＫでオーバーモールドされ、上部カバー６４へ取り付けられている。さらに、図４を参照するとわかるように、ポリカーボネート製の窓片７０が予め所望の構造及び寸法で成形され、カバー部分６４の成形に際して、モールドの中へ挿入される。これによって、上部カバー６４の成形に際して、ポリカーボネートが窓片７０に対してオーバーモールドされ、窓付きの上部カバー６４が成形される。オーバーモールドによって、接着剤や機械的なファスナを用いることなく、非常に品質の高い接合が実現可能になっている。
【００２１】
次に、第３の実施の形態を説明する。図６及び図７を参照するとわかるように、この実施の形態のキャリヤは磁気ディスク用のシッパキャリヤ（運搬用キャリヤ）であり、ベース部分７６と上部カバー７８とから成っている。また、ベース部分７６はサポート部分８２を有する。このサポート部分８２としてのベース本体７９が成形された後、その上にディスク係合部分８４が射出成形される。この実施の形態においても、サポート部分８２はポリカーボネート又はそれと同等の材料から形成され、ディスク係合部分はＰＥＥＫ又はそれと同等の材料から形成されている。
【００２２】
次に、第４の実施の形態を説明する。図８及び図９には、例えば３００ｍｍ程度の大きい半導体ウェハー用として使用するための運搬モジュールが示されている。この構造においては、ウェハーサポート部分９０は装置インターフェース９２を備えたベース９１と、ウェハーサポート棚９６を備えた垂直コラム９４と、上部９８とを有している。ウェハーサポート棚９６はオーバーモールド部分９９を有している。このオーバーモールド部分９９は運搬モジュールに収容されるウェハーと接触する部分である。また、装置インターフェース９２も装置と接触するオーバーモールド部分を有している。
【００２３】
次に、第５の実施の形態を説明する。図１０及び図１１には組み立てられた状態のコンポーネント１２２から形成された複合型のウェハーキャリヤが示されている。コンポーネント１２２は側壁部分１２４とキャリヤフレームワーク１２６とから成っている。側壁部分１２４はフレームワーク１２６の中にぴったりと係合され、組み立て固定されたウェハーキャリヤを形成している。また、キャリヤの後端１３４にはロボット用のフランジすなわち装置インターフェース１３２が設けられている。この実施の形態では、側壁部分１２４の各々にはオーバーモールドされたウェハーキャリヤ部分１３９が設けられており、ウェハーが引っ掻かれることに起因する粒子発生が極小化されている。オーバーモールドはベース部分の成形よりも厳しい寸法制御のもとで実施され、ウェハーを小さい公差で位置決めできる。
【００２４】
次に、第６の実施の形態を説明する。図１２にはウェハーの処理性を向上させたキャリヤとして形成されたウェハーキャリヤが示されている。このキャリヤは参照番号１１０で表されている。このキャリヤ１１０はベースサポート部分１１２，１１４と、その間を延びるアーム１１６とを有している。各アームはスロット１２０を形成する複数の歯１１８を有している。スロット１２０はウェハー処理工程のときにウェハーを保持するためのものである。この実施の形態においては、アーム１１６と歯の外側部分はベースサポートのフレームワーク１２２へオーバーモールドされており、この発明の特性が付与されている。
【００２５】
図１３にはこの発明を実施するための方法を説明する図が示されている。まず、成形型を使用してベース部分すなわちサポート部分が形成される。サポート部分とは、キャリヤフレームワークや図面に示されているような側壁のベース部分１３０などの他のキャリヤ部分である。成形されたベース部分は、次に、別の成形型の中へ挿入される。なお、場合によっては、型挿入部材を外して同じ成形型の中へ挿入される。その状態で、成形型が閉止され、ＰＥＥＫなどの別のオーバーモールド材料が成形キャビティの中へ射出する。その後、ベース部分とオーバーモールド部分とから成る完成した成型品が取り外される。ベース部分がコンポーネント部材の場合には、このベース部材はキャリヤ１３６の中へ組み付けられる。
【００２６】
一般に、第１の射出成形部分であるベース部分を第２の部分すなわちオーバーモールド部分に比べて体積を小さくするのが適している。また、第１の材料を、例えばウェハー接触部分など、成形型内の所定の部分に堆積させて、その材料を固化させて、モールドを交換することなく第２のサポート部分を第１の材料の上にオーバーモールドすることも可能である。
さらに、第２の材料を固化させる必要はなく、二つの材料を溶融状態で接合させてもよい。この共射出成形は第１の部分と第２の部分との間の境界の位置確定精度は小さいが、第２の成形型を必要とせず、第１の部分を固化させる工程、成形型からのその第１の部分を除去する工程、及び第２の成形型の中への第１の部分を設置する工程も不要である。
【００２７】
この発明はその精神もしくは本質から逸脱しない限り、他の形で実現が可能である。従って、上述した実施の形態は単に説明のためのものであり、発明を制限することはない。この発明の範囲に関しては、添付の特許請求の範囲を参照すべきである。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の実施の形態におけるＨバーウェハーキャリヤの斜視図である。
【図２】図１のキャリヤのオーバーモールド部分の斜視図である。
【図３】第２の実施の形態におけるワーク・イン・プロセスボックスの斜視図である。
【図４】上部カバーを開けた状態におけるワーク・イン・プロセスボックスの斜視図である。
【図５】ワーク・イン・プロセスボックスの側面図である。
【図６】第３の実施の形態におけるディスク用のシッパキャリヤの斜視図である。
【図７】シッパキャリヤのベース部分の斜視図である。
【図８】第４の実施の形態における運搬モジュールの斜視図である。
【図９】運搬モジュールの分解斜視図である。
【図１０】第５の実施の形態における複合型のウェハーキャリヤの斜視図である。
【図１１】複合型のウェハーキャリヤの分解斜視図である。
【図１２】第６の実施の形態におけるウェハーキャリヤの斜視図である。
【図１３】各実施の形態における物品を製造する工程を示す説明図である。
【符号の説明】
２８，１２０  スロット
３４  ウェハー係合歯
４４，６６，７６  ベース部分
４６，１３９  ウェハー係合部分
５０，９９  オーバーモールド部分
６４，７８  上部カバー
８２  サポート部分
９０  ウェハーサポート部分
１１２，１１４  ベースサポート部分
【図１】
0004150465.tif 000002
【図２】
0004150465.tif 000003
【図３】
0004150465.tif 000004
【図４】
0004150465.tif 000005
【図５】
0004150465.tif 000006
【図６】
0004150465.tif 000007
【図７】
0004150465.tif 000008
【図８】
0004150465.tif 000009
【図９】
0004150465.tif 000010
【図１０】
0004150465.tif 000011
【図１１】
0004150465.tif 000012
【図１２】
0004150465.tif 000013
【図１３】
0004150465.tif 000014