(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１層に中間屈折率材料を、第２，４層に高屈折率材料を、第３層に低屈折率材料または中間屈折率材料を、第５層に低屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（０．０８〜１．３１）×λ／４、第２層は（０．１７〜０．３６）×λ／４、第３層は（０．４５〜０．９１）×λ／４、第４層は（０．１５〜０．３３）×λ／４、第５層は（１．１３〜１．１７）×λ／４としたことを特徴とする反射防止膜。
【請求項２】
基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，６層に低屈折率材料を、第２層に中間屈折率材料を、第３，５層に高屈折率材料を、第４層に低屈折率材料または中間屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（０．２３〜２．００）×λ／４、第２層は（１．２０〜１．４４）×λ／４、第３層は（０．２５〜０．３２）×λ／４、第４層は（０．４８〜０．７６）×λ／４、第５層は（０．２１〜０．３１）×λ／４、第６層は（１．１３〜１．１７）×λ／４としたことを特徴とする反射防止膜。
【請求項３】
基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，３層に中間屈折率材料を、第２，５層に高屈折率材料を、第４，６層に低屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（１．２０〜１．２５）×λ／４、第２層は（０．１６〜０．２８）×λ／４、第３層は（０．６１〜０．７０）×λ／４、第４層は（０．０７〜０．１４）×λ／４、第５層は（０．２０〜０．２７）×λ／４、第６層は（１．１３〜１．１４）×λ／４としたことを特徴とする反射防止膜。
【請求項４】
基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１層に中間屈折率材料を、第２，４，６層に高屈折率材料を、第３，５層に低屈折率材料または中間屈折率材料を、第７層に低屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（１．０４〜１．１３）×λ／４、第２層は（０．３０〜０．４６）×λ／４、第３層は（０．１３〜０．４６）×λ／４、第４層は（０．５６〜１．２６）×λ／４、第５層は（０．２２〜０．５６）×λ／４、第6層は（０．３１〜０．４１）×λ／４、第７層は（１．０５〜１．１３）×λ／４としたことを特徴とする反射防止膜。
【請求項５】
基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，４，６層に高屈折率材料を、第２，７層に低屈折率材料を、第３，５層に中間屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（０．１６〜０．３３）×λ／４、第２層は（０．０６〜０．１０）×λ／４、第３層は（０．２６〜０．６７）×λ／４、第４層は（０．３１〜０．５２）×λ／４、第５層は（０．６１〜０．７５）×λ／４、第６層は（０．２３〜０．２８）×λ／４、第７層は（１．１３〜１．１４）×λ／４としたことを特徴とする反射防止膜。
【請求項６】
基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１層に高屈折率材料または低屈折率材料を、第２層に低屈折率材料または中間屈折率材料を、第３，６層に高屈折率材料を、第４，７層に低屈折率材料を、第５層に中間屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（０．１３〜２．９８）×λ／４、第２層は（０．２８〜１．４０）×λ／４、第３層は（０．２５〜０．６２）×λ／４、第４層は（０．０６〜０．２０）×λ／４、第５層は（０．３８〜０．７０）×λ／４、第６層は（０．１８〜０．２９）×λ／４、第７層は（１．１４〜１．１６）×λ／４としたことを特徴とする反射防止膜。
【請求項７】
基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１層に高屈折率材料または低屈折率材料を、第２，４層に低屈折率材料または中間屈折率材料を、第３，５層に高屈折率材料を、第６層に中間屈折率材料を、第７層に低屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（０．１３〜２．９８）×λ／４、第２層は（０．２８〜１．４３）×λ／４、第３層は（０．２１〜０．６４）×λ／４、第４層は（０．３９〜０．８４）×λ／４、第５層は．（０．１５〜０．３２）×λ／４、第６層は（０．１１〜０．２３）×λ／４、第７層は（１．０４〜１．０９）×λ／４としたことを特徴とする反射防止膜。
【請求項８】
基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，３，６層に中間屈折率材料を、第２，５層に高屈折率材料を、策４，７層に低屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（１．２０〜１．２５）×λ／４、第２層は（０．１６〜０．２９）×λ／４、第３層は（０．５６〜０．６５）×λ／４、第４層は（０．１０〜０．１６）×λ／４、第５層は（０．１８〜０．２４）×λ／４、第６層は（０．０８〜０．１４）×λ／４、第７層は（１．０５〜１．１０）×λ／４としたことを特徴とする反射防止膜。
【請求項９】
基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１層に高屈折率材料または低屈折率材料を、第２層に中間屈折率材料を、第３，５，７層に高屈折率材料を、第４，６層に低屈折率材料または中間屈折率材料を、第８層に低屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（０．０７〜１．８１）×λ／４、第２層は（０．３２〜１．３０）×λ／４、第３層は（０．２９〜０．６９）×λ／４、第４層は（０．０７〜０．３９）×λ／４、第５層は（０．６７〜２．２８）×λ／４、第６層は（０．２１〜０．４９）×λ／４、第７層は（０．２８〜０．４２）×λ／４、第８層は（０．９８〜１．１１）×λ／４としたことを特徴とする反射防止膜。
【請求項１０】
基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，３，５，７層に高屈折率材料を、第２，８層に低屈折率材料を、第４，６層に低屈折率材料または中間屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（０．１２〜０．３１）×λ／４、第２層は（０．２２〜０．６４）×λ／４、第３層は（０．３５〜０．７６）×λ／４、第４層は（０．０７〜０．５１）×λ／４、第５層は（０．６２〜１．８２）×λ／４、第６層は（０．２０〜０．５１）×λ／４、第７層は（０．２７〜０．４２）×λ／４、第８層は（０．９７〜１．１２）×λ／４としたことを特徴とする反射防止膜。
【請求項１１】
基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，５，８層に低屈折率材料を、第２，４，６層に中間屈折率材料を、第３，７層に高屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（０．２３〜１．０１）×λ／４、第２層は（１．２３〜１．４１）×λ／４、第３層は（０．２０〜０．２５）×λ／４、第４層は（０．３０〜０．３７）×λ／４、第５層は（０．０７〜０．１０）×λ／４、第６層は（０．３１〜０．３７）×λ／４、第７層は（０．１９〜０．２３）×λ／４、第８層は（１．１４〜１．１５）×λ／４としたことを特徴とする反射防止膜。
【請求項１２】
基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，３，６，８層に低屈折率材料を、第２，４層に中間屈折率材料を、第５，７層に高屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（０．１５〜０．５６）×λ／４、第２層は（０．０８〜０．５７）×λ／４、第３層は（１．２９〜１．６７）×λ／４、第４層は（１．０７〜１．２２）×λ／４、第５層は（０．３３〜０．３６）×λ／４、第６層は（０．４３〜０．４５）×λ／４、第７層は（０．３２〜０．３４）×λ／４、第８層は（１．１１〜１．１４）×λ／４としたことを特徴とする反射防止膜。
【請求項１３】
基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，６，８層に低屈折率材料を、第２，４，７層に高屈折率材料を、第３層に低屈折率材料または中間屈折率材料を、第５層に中間屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（１．１０〜２．１６）×λ／４、第２層は（０．０７〜０．２３）×λ／４、第３層は（０．５１〜０．９６）×λ／４、第４層は（０．２９〜０．４４）×λ／４、第５層は（０．４９〜０．５３）×λ／４、第６層は（０．０９〜０．１９）×λ／４、第７層は（０．２８〜０．３３）×λ／４、第８層は（１．１２〜１．１６）×λ／４としたことを特徴とする反射防止膜。
【請求項１４】
基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，４，６，８層に低屈折率材料を、第２，５層に中間屈折率材料を、第３，７層に高屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（１．０１〜２．００）×λ／４、第２層は（１．２１〜１．２２）×λ／４、第３層は（０．２８〜０．３４）×λ／４、第４層は（０．１１〜０．１６）×λ／４、第５層は（０．３３〜０．４７）×λ／４、第６層は（０．０８〜０．０９）×λ／４、第７層は（０．２４〜０．２９）×λ／４、第８層は（１．１３〜１．１４）×λ／４としたことを特徴とする反射防止膜。
【請求項１５】
基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，３，６層に高屈折率材料を、第２，４，８層に低屈折率材料を、第５，７層に中間屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（０．１６〜０．３５）×λ／４、第２層は（０．２８〜０．６１）×λ／４、第３層は（０．３４〜０．６０）×λ／４、第４層は（０．０９〜０．１５）×λ／４、第５層は（０．４７〜０．６６）×λ／４、第６層は（０．１６〜０．２５）×λ／４、第７層は（０．１０〜０．１６）×λ／４、第８層は（１．０７〜１．０９）×λ／４としたことを特徴とする反射防止膜。
【請求項１６】
基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，７層に中間屈折率材料を、第２，４，６層に高屈折率材料を、第３，５，８層に低屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（１．１２〜２．１４）×λ／４、第２層は（０．３６〜０．３７）×λ／４、第３層は（０．３０〜０．３１）×λ／４、第４層は（０．６９〜０．７４）×λ／４、第５層は（０．３４〜０．３６）×λ／４、第６層は（０．３４〜０．３７）×λ／４、第７層は（０．１３〜０．１７）×λ／４、第８層は（１．０３〜１．０５）×λ／４としたことを特徴とする反射防止膜。
【請求項１７】
基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，３，６層に高屈折率材料を、第２，４，７層に中間屈折率材料を、第５，８層に低屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（０．１３〜０．３０）×λ／４、第２層は（０．４１〜０．７９）×λ／４、第３層は（０．３４〜０．５３）×λ／４、第４層は（０．２０〜０．３１）×λ／４、第５層は（０．１８〜０．３４）×λ／４、第６層は（０．２９〜０．３１）×λ／４、第７層は（０．１０〜０．１１）×λ／４、第８層は（１．０７〜１．１０）×λ／４としたことを特徴とする反射防止膜。
【請求項１８】
前記低屈折率材料、中間屈折率材料および高屈折率材料は、３５０ｎｍから１１００ｎｍの波長範囲における屈折率が、それぞれ１．３以上１．５未満、１．５以上１．８５未満および１．８５以上２．７未満であることを特徴とする請求項１乃至１７のいずれかに記載の反射防止膜。
【請求項１９】
基材に設けられる反射防止膜であって、そのうちの少なくとも１層を、その層よりも屈折率の高い材料からなる層と屈折率の低い材料からなる層とから構成される等価膜で置換したことを特徴とする請求項１乃至１８のいずれかに記載の反射防止膜。
【請求項２０】
前記高屈折率材料がＨｆＯ２、ＺｒＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＬａＴｉＸＯＹ、Ｙ２Ｏ３、Ｐｒ６Ｏ１１、Ｎｂ２Ｏ５、Ｌａ２Ｏ３のいずれか又はこれらの混合物であることを特徴とする請求項１乃至１９のいずれかに記載の反射防止膜。
【請求項２１】
前記中間屈折率材料がＡｌ２Ｏ３、ＣｅＦ３、ＬａＦ３、ＭｇＯのいずれか又はこれらの混合物であることを特徴とする請求項１乃至１９のいずれかに記載の反射防止膜。
【請求項２２】
前記低屈折率材料がＳｉＯ２、ＭｇＦ２のいずれか又はこれらの混合物であることを特徴とする請求項１乃至１９のいずれかに記載の反射防止膜。
【請求項２３】
請求項１乃至２２のいずれかに記載の反射防止膜を基材に設けたことを特徴とする光学レンズ。
【請求項２４】
請求項２３記載の光学レンズを光路内に少なくとも１枚有することを特徴とする光学レンズユニット。
【請求項２５】
３５０ｎｍから９００ｎｍの波長範囲において平均透過率が９０％以上であることを特徴とする請求項２４記載の光学レンズユニット。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、紫外、可視、赤外領域で使用される光学レンズに施される反射防止膜、この反射防止膜を表面に形成した光学レンズおよびこの光学レンズから構成される光学レンズユニットに関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、レンズやプリズムなどの光学部品の表面には反射防止膜が施される。その主な目的は、多数の光学部品により構成される光学機器全体の透過率を向上すること、特に可視域の反射を抑えることにより、像の明るさや見えやすさを向上させることである。これまでの多くの光学機器は、可視域やそれよりも狭い波長範囲で使用されるため、反射防止膜もこのような狭い波長域の反射率を低くすることができれば十分であった。
【０００３】
しかし近年、より広い波長域に於いて使用する光学機器の出現により、これに用いる光学部品にも対応した波長域における反射防止膜が必要とされるようになってきている。広い波長域での従来の反射防止膜は例えば、特許第２７１１６９７号公報において開示されている。この公報の発明によれば、蒸着材料としてＴｉＯ２、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２の３種類の材料を用いた８層構成とすることにより、可視域から赤外域にわたる広帯域で０．８％以下の低反射率を実現している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで近年の光学機器では、可視域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）、赤外域（７００ｎｍ〜９００ｎｍ）に加え、近紫外域（３５０ｎｍ〜４００ｎｍ）においても高い反射防止性能、透過率を有した反射防止膜や光学部品が求められている。例えば、顕微鏡においては、目視のために可視域での見えをよくすること以外に、紫外域や赤外域の光をプローブとして用いる観察手法を並列で使用するため、より具体的には紫外域の光を物体に照射して励起した時に発せられる可視域の光や赤外域の光を観測するために、光学部品やこれに用いられる反射防止膜に対しても、紫外域から赤外域にわたる広帯域で高い透過率や反射防止性能が求められるようになってきている。
【０００５】
しかし、上述した従来技術による反射防止膜は、４００ｎｍ以下の波長において強い光吸収のあるＴｉＯ２を使用しており、これを施した光学部品は紫外域では透過率が低いという問題がある。従って、このような光学部品は紫外域、可視域、赤外域を含む幅広い波長領域（３５０ｎｍ〜９００ｎｍ）で観察や評価を行う光学機器には使用できない。
【０００６】
本発明は、上記課題を考慮してなされたものであり、紫外域から可視域、さらには赤外域にわたる広帯域で高い反射防止性能を有した反射防止膜およびこのような反射防止膜を設けた高い透過率を有する光学レンズ、さらにこのような光学レンズから構成されることにより広帯域で使用される光学機器に適用可能な光学レンズユニットを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、請求項１の発明の反射防止膜は、基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１層に中間屈折率材料を、第２，４層に高屈折率材料を、第３層に低屈折率材料または中間屈折率材料を、第５層に低屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（０．０８〜１．３１）×λ／４、第２層は（０．１７〜０．３６）×λ／４、第３層は（０．４５〜０．９１）×λ／４、第４層は（０．１５〜０．３３）×λ／４、第５層は（１．１３〜１．１７）×λ／４としたことを特徴とする。
【０００８】
請求項２の発明の反射防止膜は、基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，６層に低屈折率材料を、第２層に中間屈折率材料を、第３，５層に高屈折率材料を、第４層に低屈折率材料または中間屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（０．２３〜２．００）×λ／４、第２層は（１．２０〜１．４４）×λ／４、第３層は（０．２５〜０．３２）×λ／４、第４層は（０．４８〜０．７６）×λ／４、第５層は（０．２１〜０．３１）×λ／４、第６層は（１．１３〜１．１７）×λ／４としたことを特徴とする。
【０００９】
請求項３の発明の反射防止膜は、基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，３層に中間屈折率材料を、第２，５層に高屈折率材料を、第４，６層に低屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（１．２０〜１．２５）×λ／４、第２層は（０．１６〜０．２８）×λ／４、第３層は（０．６１〜０．７０）×λ／４、第４層は（０．０７〜０．１４）×λ／４、第５層は（０．２０〜０．２７）×λ／４、第６層は（１．１３〜１．１４）×λ／４としたことを特徴とする。
【００１０】
請求項４の発明の反射防止膜は、基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１層に中間屈折率材料を、第２，４，６層に高屈折率材料を、第３，５層に低屈折率材料または中間屈折率材料を、第７層に低屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（１．０４〜１．１３）×λ／４、第２層は（０．３０〜０．４６）×λ／４、第３層は（０．１３〜０．４６）×λ／４、第４層は（０．５６〜１．２６）×λ／４、第５層は（０．２２〜０．５６）×λ／４、第６層は（０．３１〜０．４１）×λ／４、第７層は（１．０５〜１．１３）×λ／４としたことを特徴とする。
【００１１】
請求項５の発明の反射防止膜は、基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，４，６層に高屈折率材料を、第２，７層に低屈折率材料を、第３，５層に中間屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（０．１６〜０．３３）×λ／４、第２層は（０．０６〜０．１０）×λ／４、第３層は（０．２６〜０．６７）×λ／４、第４層は（０．３１〜０．５２）×λ／４、第５層は（０．６１〜０．７５）×λ／４、第６層は（０．２３〜０．２８）×λ／４、第７層は（１．１３〜１．１４）×λ／４としたことを特徴とする。
【００１２】
請求項６の発明の反射防止膜は、基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１層に高屈折率材料または低屈折率材料を、第２層に低屈折率材料または中間屈折率材料を、第３，６層に高屈折率材料を、第４，７層に低屈折率材料を、第５層に中間屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（０．１３〜２．９８）×λ／４、第２層は（０．２８〜１．４０）×λ／４、第３層は（０．２５〜０．６２）×λ／４、第４層は（０．０６〜０．２０）×λ／４、第５層は（０．３８〜０．７０）×λ／４、第６層は（０．１８〜０．２９）×λ／４、第７層は（１．１４〜１．１６）×λ／４としたことを特徴とする。
【００１３】
請求項７の発明の反射防止膜は、基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１層に高屈折率材料または低屈折率材料を、第２，４層に低屈折率材料または中間屈折率材料を、第３，５層に高屈折率材料を、第６層に中間屈折率材料を、第７層に低屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（０．１３〜２．９８）×λ／４、第２層は（０．２８〜１．４３）×λ／４、第３層は（０．２１〜０．６４）×λ／４、第４層は（０．３９〜０．８４）×λ／４、第５層は（０．１５〜０．３２）×λ／４、第６層は（０．１１〜０．２３）×λ／４、第７層は（１．０４〜１．０９）×λ／４としたことを特徴とする。
【００１４】
請求項８の発明の反射防止膜は、基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，３，６層に中間屈折率材料を、第２，５層に高屈折率材料を、第４，７層に低屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（１．２０〜１．２５）×λ／４、第２層は（０．１６〜０．２９）×λ／４、第３層は（０．５６〜０．６５）×λ／４、第４層は（０．１０〜０．１６）×λ／４、第５層は（０．１８〜０．２４）×λ／４、第６層は（０．０８〜０．１４）×λ／４、第７層は（１．０５〜１．１０）×λ／４としたことを特徴とする。
【００１５】
請求項９の発明の反射防止膜は、基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１層に高屈折率材料または低屈折率材料を、第２層に中間屈折率材料を、第３，５，７層に高屈折率材料を、第４，６層に低屈折率材料または中間屈折率材料を、第８層に低屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（０．０７〜１．８１）×λ／４、第２層は（０．３２〜１．３０）×λ／４、第３層は（０．２９〜０．６９．）×λ／４、第４層は（０．０７〜０．３９）×λ／４、第５層は（０．６７〜２．２８）×λ／４、第６層は（０．２１〜０．４９）×λ／４、第７層は（０．２８〜０．４２）×λ／４、第８層は（０．９８〜１．１１）×λ／４としたことを特徴とする。
【００１６】
請求項１０の発明の反射防止膜は、基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，３，５，７層に高屈折率材料を、第２，８層に低屈折率材料を、第４，６層に低屈折率材料または中間屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（０．１２〜０．３１）×λ／４、第２層は（０．２２〜０．６４）×λ／４、第３層は（０．３５〜０．７６）×λ／４、第４層は（０．０７〜０．５１）×λ／４、第５層は（０．６２〜１．８２）×λ／４、第６層は（０．２０〜０．５１）×λ／４、第７層は（０．２７〜０．４２）×λ／４、第８層は（０．９７〜１．１２）×λ／４としたことを特徴とする。
【００１７】
請求項１１の発明の反射防止膜は、基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，５，８層に低屈折率材料を、第２，４，６層に中間屈折率材料を、第３，７層に高屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（０．２３〜１．０１）×λ／４、第２層は（１．２３〜１．４１）×λ／４、第３層は（０．２０〜０．２５）×λ／４、第４層は（０．３０〜０．３７）×λ／４、第５層は（０．０７〜０．１０）×λ／４、第６層は（０．３１〜０．３７）×λ／４、第７層は（０．１９〜０．２３）×λ／４、第８層は（１．１４〜１．１５）×λ／４としたことを特徴とする。
【００１８】
請求項１２の発明の反射防止膜は、基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，３，６，８層に低屈折率材料を、第２，４層に中間屈折率材料を、第５，７層に高屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（０．１５〜０．５６）×λ／４、第２層は（０．０８〜０．５７）×λ／４、第３層は（１．２９〜１．６７）×λ／４、第４層は（１．０７〜１．２２）×λ／４、第５層は（０．３３〜０．３６）×λ／４、第６層は（０．４３〜０．４５）×λ／４、第７層は（０．３２〜０．３４）×λ／４、第８層は（１．１１〜１．１４）×λ／４としたことを特徴とする。
【００１９】
請求項１３の発明の反射防止膜は、基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，６，８層に低屈折率材料を、第２，４，７層に高屈折率材料を、第３層に低屈折率材料または中間屈折率材料を、第５層に中間屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（１．１０〜２．１６）×λ／４、第２層は（０．０７〜０．２３）×λ／４、第３層は（０．５１〜０．９６）×λ／４、第４層は（０．２９〜０．４４）×λ／４、第５層は（０．４９〜０．５３）×λ／４、第６層は（０．０９〜０．１９）×λ／４、第７層は（０．２８〜０．３３）×λ／４、第８層は（１．１２〜１．１６）×λ／４としたことを特徴とする。
【００２０】
請求項１４の発明の反射防止膜は、基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，４，６，８層に低屈折率材料を、第２，５層に中間屈折率材料を、第３，７層に高屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（１．０１〜２．００）×λ／４、第２層は（１．２１〜１．２２）×λ／４、第３層は（０．２８〜０．３４）×λ／４、第４層は（０．１１〜０．１６）×λ／４、第５層は（０．３３〜０．４７）×λ／４、第６層は（０．０８〜０．０９）×λ／４、第７層は（０．２４〜０．２９）×λ／４、第８層は（１．１３〜１．１４）×λ／４としたことを特徴とする。
【００２１】
請求項１５の発明の反射防止膜は、基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，３，６層に高屈折率材料を、第２，４，８層に低屈折率材料を、第５，７層に中間屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（０．１６〜０．３５）×λ／４、第２層は（０．２８〜０．６１）×λ／４、第３層は（０．３４〜０．６０）×λ／４、第４層は（０．０９〜０．１５）×λ／４、第５層は（０．４７〜０．６６）×λ／４、第６層は（０．１６〜０．２５）×λ／４、第７層は（０．１０〜０．１６）×λ／４、第８層は（１．０７〜１．０９）×λ／４としたことを特徴とする。
【００２２】
請求項１６の発明の反射防止膜は、基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，７層に中間屈折率材料を、第２，４，６層に高屈折率材料を、第３，５，８層に低屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（１．１２〜２．１４）×λ／４、第２層は（０．３６〜０．３７）×λ／４、第３層は（０．３０〜０．３１）×λ／４、第４層は（０．６９〜０．７４）×λ／４、第５層は（０．３４〜０．３６）×λ／４、第６層は（０．３４〜０．３７）×λ／４、第７層は（０．１３〜０．１７）×λ／４、第８層は（１．０３〜１．０５）×λ／４としたことを特徴とする。
【００２３】
請求項１７の発明の反射防止膜は、基材に設けられる反射防止膜であって、基材側から数えて第１，３，６層に高屈折率材料を、第２，４，７層に中間屈折率材料を、第５，８層に低屈折率材料をそれぞれ成膜したものであり、前記各層の光学的膜厚ｎｄが設計波長λに対して、第１層は（０．１３〜０．３０）×λ／４、第２層は（０．４１〜０．７９）×λ／４、第３層は（０．３４〜０．５３）×λ／４、第４層は（０．２０〜０．３１）×λ／４、第５層は（０．１８〜０．３４）×λ／４、第６層は（０．２９〜０．３１）×λ／４、第７層は（０．１０〜０．１１）×λ／４、第８層は（１．０７〜１．１０）×λ／４としたことを特徴とする。
【００２４】
以上の請求項１乃至１７の反射防止膜によれば、各層を構成する成膜材料の屈折率および膜厚を指定することにより、紫外域から赤外域にわたる広い波長域で高い反射防止効果を得ることができる。具体的には、３５０ｎｍから８００ｎｍの波長域で、０．６％以下の平均反射率を実現することができる。また、設計波長λを変えることにより、反射防止波長帯域をシフトさせたり広げたりすることも可能である。基材の材質はガラスの他に、結晶材料、プラスチック等でもかまわない。
【００２５】
また、基材の形状も平板形状、レンズ形状、プリズム形状等のあらゆる形状に適用可能である。反射防止膜の成膜方法も真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等、特に限定するものではない。
【００２６】
請求項１８の発明の反射防止膜は、請求項１乃至１７のいずれかに記載の反射防止膜であって、前記低屈折率材料、中間屈折率材料および高屈折率材料は、３５０ｎｍから１１００ｎｍの波長範囲における屈折率が、それぞれ１．３以上１．５未満、１．５以上１．８５未満および１．８５以上２．７未満であることを特徴とする。
【００２７】
請求項１８の反射防止膜によれば、反射防止膜を構成する低屈折率材料、中間屈折率材料および高屈折率材料のそれぞれの屈折率が上記範囲内にあることにより、紫外域から赤外域にわたる広い波長域で高い反射防止効果を得ることができる。また、上記範囲内の屈折率を有する種々の材料が使用できるため、広い範囲から材料を選択することができる。
【００２８】
請求項１９の発明の反射防止膜は、請求項１乃至１８のいずれかに記載の反射防止膜において、基材に設けられる反射防止膜であって、そのうちの少なくとも１層を、その層よりも屈折率の高い材料からなる層と屈折率の低い材料からなる層とから構成される等価膜で置換したことを特徴とする。
【００２９】
請求項１９の反射防止膜によれば、等価膜を利用することにより少ない層数の反射防止膜の構成に基づいて、より層数が多く、かつ分光反射率特性の類似した反射防止膜を容易に導き出すことができる。
【００３０】
請求項２０の発明の反射防止膜は、請求項１乃至１９のいずれかに記載の反射防止膜において、前記高屈折率材料がＨｆＯ２、ＺｒＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＬａＴｉＸＯＹ、Ｙ２Ｏ３、Ｐｒ６Ｏ１１、Ｎｂ２Ｏ５、Ｌａ２Ｏ３のいずれか又はこれらの混合物であることを特徴とする。
【００３１】
請求項２１の発明の反射防止膜は、請求項１乃至１９のいずれかに記載の反射防止膜において、前記中間屈折率材料がＡｌ２Ｏ３、ＣｅＦ３、ＬａＦ３、ＭｇＯのいずれか又はこれらの混合物であることを特徴とする。
【００３２】
請求項２２の発明の反射防止膜は、請求項１乃至１９のいずれかに記載の反射防止膜において、前記低屈折率材料がＳｉＯ２、ＭｇＦ２のいずれか又はこれらの混合物であることを特徴とする。
【００３３】
請求項２０乃至２２の発明の反射防止膜によれば、紫外域から赤外域にわたる広い波長域で高い反射防止効果を得ることができるとともに、適当な材料を選択することにより、特定の波長域の反射率を低下させたものや、一定の反射率を示す波長帯域を拡大したもの、あるいは製造コストの低減が可能なもの等、その材料の特性を生かした反射防止膜を形成することができる。
【００３４】
請求項２３の発明の光学レンズは、請求項１乃至２２のいずれかに記載の反射防止膜を基材に設けたことを特徴とする。
【００３５】
請求項２３の発明の光学レンズによれば、請求項１乃至２２の反射防止膜を設けることによって、紫外域から赤外域にわたる広帯域で高い透過率を有する光学レンズとすることができる。
【００３６】
請求項２４の発明の光学レンズユニットは請求項２３記載の光学レンズを光路内に少なくとも１枚有することを特徴とする。
【００３７】
請求項２４の発明の光学レンズユニットによれば、請求項２３の光学レンズから構成することによって、紫外域から赤外域にわたる広帯域で高い透過率を有する光学レンズユニットとすることができる。
【００３８】
請求項２５の発明の光学レンズユニットは、請求項２４記載の光学レンズユニットにおいて、３５０ｎｍから９００ｎｍの波長範囲において平均透過率が９０％以上であることを特徴とする。
【００３９】
請求項２５の発明の光学レンズユニットによれば、紫外域から赤外域にわたる広帯域で高い透過率を有する光学レンズユニットとすることができ、特に３５０ｎｍから９００ｎｍの波長帯域で使用する光学機器に用いた場合に著しい効果を奏する。仮に、３５０ｎｍから９００ｎｍの波長範囲において平均透過率が９０％未満であれば、その光学レンズユニットは、３５０ｎｍから９００ｎｍの波長帯域で使用する光学機器に用いた場合、実用に供し得ない。
【００４０】
【発明の実施の形態】
［実施の形態１］
実施の形態１では、屈折率１．４４〜１．７９の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表１のように基材側の第１層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を第２、４層に高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５を、第３層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第５層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【００４１】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を持つ材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【００４２】
図１にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。紫外域である３５０ｎｍから赤外域である８００ｎｍの波長範囲における平均反射率が０．７％以下であり、良好な反射防止性能を有している。また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【００４３】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料として、屈折率が高く、安定した膜形成や成膜材料の繰り返し使用が可能なＴａ２Ｏ５を用いたので、良好な光学特性が得られるとともに低コストで反射防止膜が形成できる。
【００４４】
［実施の形態２］
実施の形態２では、屈折率１．４４〜１．５７の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表２のように基材側の第１、３層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第２、４層に高屈屈折率材料としてＨｆＯ２を、第５層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【００４５】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にてイオンアシスト蒸着法により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料としてＨｆＯ２、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を持つ材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【００４６】
図２にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長４２０ｎｍ〜６９０ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【００４７】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【００４８】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。
【００４９】
［実施の形態３］
実施の形態３では、屈折率１．５７〜１．７９の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表３のように基材側の第１、３、５層に高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５を、第２、４層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第６層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【００５０】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有した材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【００５１】
図３にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長４２０ｎｍ〜６９０ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【００５２】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【００５３】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料として、屈折率が高く、安定した膜形成や成膜材料の繰り返し使用が可能なＴａ２Ｏ５を用いたので、良好な光学特性が得られるとともに低コストで反射防止膜が形成できる。
【００５４】
［実施の形態４］
実施の形態４では、屈折率１．４４〜１．７９の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表４のように基材側の第１、３、５層に高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５を、第２層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第４層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第６層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【００５５】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有した材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【００５６】
図４にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長４２０ｎｍ〜６９０ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【００５７】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【００５８】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料として、屈折率が高く、安定した膜形成や成膜材料の繰り返し使用が可能なＴａ２Ｏ５を用いたので、良好な光学特性が得られるとともに低コストで反射防止膜が形成できる。
【００５９】
［実施の形態５］
実施の形態５では、屈折率１．４４〜１．７９の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表５のように基材側の第１、３、５層に高屈折率材料としてＨｆＯ２を、第２、４層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第６層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【００６０】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では高屈折率材料としてＨｆＯ２、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有する材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【００６１】
図５にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長４２０ｎｍ〜６９０ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【００６２】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【００６３】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。
【００６４】
［実施の形態６］
実施の形態６では、屈折率１．４４〜１．５７の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表６のように基材側の第１層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第２、４層に中間屈折率材料としてＭｇＯを、第３、５層に高屈折率材料としてＺｒＯ２を、第６層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【００６５】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では、高屈折率材料としてＺｒＯ２、中間屈折率材料としてＭｇＯ、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有する材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【００６６】
図６にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長４２０ｎｍ〜６９０ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【００６７】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【００６８】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料として、安価なＺｒＯ２を用いたので、低コストで反射防止膜が形成できる。
【００６９】
［実施の形態７］
実施の形態７では、屈折率１．４４〜１．５７の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表７のように基材側の第１、４層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第２層に中間屈折率材料としてＭｇＯを、第３、５層に高屈折率材料としてＺｒＯ２を、第６層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【００７０】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では、高屈折率材料としてＺｒＯ２、中間屈折率材料としてＭｇＯ、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有する材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【００７１】
図７にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長４２０ｎｍ〜６９０ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【００７２】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【００７３】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料として、安価なＺｒＯ２を用いたので、低コストで反射防止膜が形成できる。
【００７４】
［実施の形態８］
実施の形態８では、屈折率１．４４〜１．５７の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表８のように基材側の第１、３層に中間屈折率材料としてＭｇＯを、第２、５層に高屈折率材料としてＺｒＯ２を、第４層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第６層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【００７５】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では高屈折率材料としてＺｒＯ２、中間屈折率材料としてＭｇＯ、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有する材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【００７６】
図８にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長４２０ｎｍ〜６９０ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【００７７】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【００７８】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料として、安価なＺｒＯ２を用いたので、低コストで反射防止膜が形成できる。
【００７９】
［実施の形態９］
実施の形態９では、屈折率１．４４〜１．５７の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表９のように基材側の第１、３、５層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第２、４、６層に高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５を、第７層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【００８０】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有する材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【００８１】
図９にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【００８２】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【００８３】
このようにこの実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料として、屈折率が高く、安定した膜形成や成膜材料の繰り返し使用が可能なＴａ２Ｏ５を用いたので、良好な光学特性が得られるとともに低コストで反射防止膜が形成できる。
【００８４】
［実施の形態１０］
実施の形態１０では、屈折率１．４４〜１．５７の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表１０のように基材側の第１、３層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第２、４、６層に高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５を、第５層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第７層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【００８５】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有する材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【００８６】
図１０にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【００８７】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【００８８】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料として、屈折率が高く、安定した膜形成や成膜材料の繰り返し使用が可能なＴａ２Ｏ５を用いたので、良好な光学特性が得られるとともに低コストで反射防止膜が形成できる。
【００８９】
［実施の形態１１］
実施の形態１１では、屈折率１．４４〜１．５７の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表１１のように基材側の第１層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第２、４、６層に高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５を、第３、５層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第７層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【００９０】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では、高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有する材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【００９１】
図１１にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【００９２】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【００９３】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料として、屈折率が高く、安定した膜形成や成膜材料の繰り返し使用が可能なＴａ２Ｏ５を用いたので、良好な光学特性が得られるとともに低コストで反射防止膜が形成できる。
【００９４】
［実施の形態１２］
実施の形態１２では、屈折率１．５７〜１．７９の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表１２のように基材側の第１、４、６層に高屈折率材料としてＮｂ２Ｏ５を、第２層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第３、５層に中間屈折率材料としてＣｅＦを、第７層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【００９５】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では、高屈折率材料としてＮｂ２Ｏ５、中間屈折率材料としてＣｅＦ、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有した材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【００９６】
図１２にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【００９７】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【００９８】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。
【００９９】
［実施の形態１３］
実施の形態１３では、屈折率１．４４〜１．５７の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表１３のように基材側の第１、４層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第２、５層に中間屈折率材料としてＣｅＦを、第３、６層に高屈折率材料としてＮｂ２Ｏ５を、第７層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０１００】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では高屈折率材料としてＮｂ２Ｏ５、中間屈折率材料としてＣｅＦ、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を持つ材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０１０１】
図１３にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【０１０２】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０１０３】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。
【０１０４】
［実施の形態１４］
実施の形態１４では、屈折率１．４４〜１．７９の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表１４のように基材側の第１、３、６層に高屈折率材料としてＮｂ２Ｏ５を、第２、４層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第５層に中間屈折率材料としてＣｅＦを、第７層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０１０５】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では高屈折率材料としてＮｂ２Ｏ５、中間屈折率材料としてＣｅＦ、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有する材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０１０６】
図１４にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【０１０７】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０１０８】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。
【０１０９】
［実施の形態１５］
実施の形態１５では、屈折率１．４４〜１．５７の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表１５のように基材側の第１、４層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第２、６層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第３、５層に高屈折率材料としてＹ２Ｏ３を、第７層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０１１０】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では高屈折率材料としてＹ２Ｏ３、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を持つ材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０１１１】
図１５にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【０１１２】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０１１３】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。
【０１１４】
［実施の形態１６］
実施の形態１６では、屈折率１．４４〜１．５７の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表１６のように基材側の第１層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第２、４、６層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第３、５層に高屈折率材料としてＹ２Ｏ３を、第７層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０１１５】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では、高屈折率材料としてＹ２Ｏ３、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有する材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０１１６】
図１６にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【０１１７】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０１１８】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。
【０１１９】
［実施の形態１７］
実施の形態１７では、屈折率１．４４〜１．７９の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表１７のように基材側の第１、３、５層に高屈折率材料としてＹ２Ｏ３を、第２、４層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第６層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第７層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０１２０】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では高屈折率材料としてＹ２Ｏ３、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有する材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０１２１】
図１７にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【０１２２】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０１２３】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。
【０１２４】
［実施の形態１８］
実施の形態１８では、屈折率１．４４〜１．５７の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表１８のように基材側の第１、３、６層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第２、５層に高屈折率材料としてＬａ２Ｏ３を、第４層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第７層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０１２５】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では高屈折率材料としてＬａ２Ｏ３、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有する材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０１２６】
図１８にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【０１２７】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学ガラスは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０１２８】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。
【０１２９】
［実施の形態１９］
実施の形態１９では、屈折率１．５７〜１．７９の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表１９のように基材側の第１、３、５、７層に高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５を、第２、４、６層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第８層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０１３０】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では、高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有した材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０１３１】
図１９にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が０．８％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．５％以下である。
【０１３２】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０１３３】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料として、屈折率が高く、安定した膜形成や成膜材料の繰り返し使用が可能なＴａ２Ｏ５を用いたので、良好な光学特性が得られるとともに低コストで反射防止膜が形成できる。
【０１３４】
［実施の形態２０］
実施の形態２０では、屈折率１．５７〜１．７９の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表２０のように基材側の第１、３、５、７層に高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５を、第２、６層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第４層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第８層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０１３５】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では、高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有した材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０１３６】
図２０にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が０．８％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．５％以下である。
【０１３７】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０１３８】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料として、屈折率が高く、安定した膜形成や成膜材料の繰り返し使用が可能なＴａ２Ｏ５を用いたので、良好な光学特性が得られるとともに低コストで反射防止膜が形成できる。
【０１３９】
［実施の形態２１］
実施の形態２１では、屈折率１．５７〜１．７９の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表２１のように基材側の第１、３、５、７層に高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５を、第２層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第４、６層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第８層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０１４０】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有した材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０１４１】
図２１にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が０．８％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．５％以下である。
【０１４２】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０１４３】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料として、屈折率が高く、安定した膜形成や成膜材料の繰り返し使用が可能なＴａ２Ｏ５を用いたので、良好な光学特性が得られるとともに低コストで反射防止膜が形成できる。
【０１４４】
［実施の形態２２］
実施の形態２２では、屈折率１．４４〜１．５７の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表２２のように基材側の第１層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第３、５、７層に高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５を、第２、４、６層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第８層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０１４５】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では、高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有する材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０１４６】
図２２にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が０．８％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．５％以下である。
【０１４７】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０１４８】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料として、屈折率が高く、安定した膜形成や成膜材料の繰り返し使用が可能なＴａ２Ｏ５を用いたので、良好な光学特性が得られるとともに低コストで反射防止膜が形成できる。
【０１４９】
［実施の形態２３］
実施の形態２３では、屈折率１．４４〜１．５７の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表２３のように基材側の第１、４層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第３、５、７層に高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５を、第２、６層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第８層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０１５０】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では、高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有した材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０１５１】
図２３にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が０．８％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．５％以下である。
【０１５２】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０１５３】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料として、屈折率が高く、安定した膜形成や成膜材料の繰り返し使用が可能なＴａ２Ｏ５を用いたので、良好な光学特性が得られるとともに低コストで反射防止膜が形成できる。
【０１５４】
［実施の形態２４］
実施の形態２４では、屈折率１．４４〜１．５７の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表２４のように基材側の第１、４、６層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第３、５、７層に高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５を、第２層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第８層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０１５５】
この実施の形態の反射防止膿は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有した材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０１５６】
図２４にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が０．８％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．５％以下である。
【０１５７】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０１５８】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料として、屈折率が高く、安定した膜形成や成膜材料の繰り返し使用が可能なＴａ２Ｏ５を用いたので、良好な光学特性が得られるとともに低コストで反射防止膜が形成できる。
【０１５９】
［実施の形態２５］
実施の形態２５では、屈折率１．４４〜１．７９の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表２５のように基材側の第１、３、５、７層に高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５を、第２層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第４、６層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第８層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０１６０】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では、高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有した材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０１６１】
図２５にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が０．８％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．５％以下である。
【０１６２】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０１６３】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料として、屈折率が高く、安定した膜形成や成膜材料の繰り返し使用が可能なＴａ２Ｏ５を用いたので、良好な光学特性が得られるとともに低コストで反射防止膜が形成できる。
【０１６４】
［実施の形態２６］
実施の形態２６では、屈折率１．４４〜１．７９の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表２６のように基材側の第１、３、５、７層に高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５を、第２、４、６層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第８層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０１６５】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有した材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０１６６】
図２６にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が０．８％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．５％以下である。
【０１６７】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０１６８】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料として、屈折率が高く、安定した膜形成や成膜材料の繰り返し使用が可能なＴａ２Ｏ５を用いたので、良好な光学特性が得られるとともに低コストで反射防止膜が形成できる。
【０１６９】
［実施の形態２７］
実施の形態２７では、屈折率１．４４〜１．５７の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表２７のように基材側の第１、５層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第２、４、６層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第３、７層に高屈折率材料としてＰｒ６Ｏ１１を、第８層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０１７０】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では、高屈折率材料としてＰｒ６Ｏ１１、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有した材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０１７１】
図２７にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【０１７２】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０１７３】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。
【０１７４】
［実施の形態２８］
実施の形態２８では、屈折率１．５７〜１．７９の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表２８のように基材側の第１、３、６層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第２、４層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第５、７層に高屈折率材料としてＰｒ６Ｏ１１を、第８層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０１７５】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では高屈折率材料としてＰｒ６Ｏ１１、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有した材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０１７６】
図２８にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【０１７７】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０１７８】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。
【０１７９】
［実施の形態２９］
実施の形態２９では、屈折率１．４４〜１．５７の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表２９のように基材側の第１、６層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第２、４、７層に高屈折率材料としてＨｆＯ２を、第３、５層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第８層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０１８０】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では、高屈折率材料としてＨｆＯ２、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有した材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０１８１】
図２９にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【０１８２】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０１８３】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。
【０１８４】
［実施の形態３０］
実施の形態３０では、屈折率１．４４〜１．５７の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表３０のように基材側の第１、３、６層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第２、４、７層に高屈折率材料としてＨｆＯ２を、第５層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第８層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０１８５】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では、高屈折率材料としてＨｆＯ２、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有した材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０１８６】
図３０にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【０１８７】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０１８８】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。
【０１８９】
［実施の形態３１］
実施の形態３１では、屈折率１．４４〜１．５７の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表３１のように基材側の第１、４、６層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第３、７層に高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５を、第２、５層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第８層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０１９０】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンフレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では、高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有した材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０１９１】
図３１にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【０１９２】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０１９３】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料として、屈折率が高く、安定した膜形成や成膜材料の繰り返し使用が可能なＴａ２Ｏ５を用いたので、良好な光学特性が得られるとともに低コストで反射防止膜が形成できる。
【０１９４】
［実施の形態３２］
実施の形態３２では、屈折率１．４４〜１．７９の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表３２のように基材側の第１、３、６層に高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５を、第２、４層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第５、７層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第８層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０１９５】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では、高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有した材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０１９６】
図３２にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【０１９７】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０１９８】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料として、屈折率が高く、安定した膜形成や成膜材料の繰り返し使用が可能なＴａ２Ｏ５を用いたので、良好な光学特性が得られるとともに低コストで反射防止膜が形成できる。
【０１９９】
［実施の形態３３］
実施の形態３３では、屈折率１．５７〜１．７９の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表３３のように基材側の第１、７層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第２、４、６層に高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５を、第３、５層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第８層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０２００】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では、高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有した材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０２０１】
図３３にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【０２０２】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０２０３】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料として、屈折率が高く、安定した膜形成や成膜材料の繰り返し使用が可能なＴａ２Ｏ５を用いたので、良好な光学特性が得られるとともに低コストで反射防止膜が形成できる。
【０２０４】
［実施の形態３４］
実施の形態３４では、屈折率１．５７〜１．７９の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表３４のように基材側の第１、３、６層に高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５を、第２、４、７層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第５層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第８層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０２０５】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では、高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有した材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０２０６】
図３４にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。
【０２０７】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０２０８】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料として、屈折率が高く、安定した膜形成や成膜材料の繰り返し使用が可能なＴａ２Ｏ５を用いたので、良好な光学特性が得られるとともに低コストで反射防止膜が形成できる。
【０２０９】
［実施の形態３５］
実施の形態３５では、屈折率１．５７の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表３５のように基材側の第１、３、５、７、９層に高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５を、第２、４、６、８層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第１０層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０２１０】
この実施の形態は、実施の形態２１の第２層の中間屈折率材料であるＡｌ２Ｏ３層（光学的膜厚０．６７×λ／４）を、等価膜理論を用いて表３５のＡ欄に示すように、低屈折率材料のＳｉＯ２層（光学的膜厚０．３４×λ／４）、高屈折率材料のＴａ２Ｏ５層（光学的膜厚０．１１×λ／４）、低屈折率材料のＳｉＯ２層（光学的膜厚０．０７×λ／４）からなる３層の積層体に置換えたものであり、その結果、実施の形態２１の８層構成から１０層構成へと層数が増加している。
【０２１１】
等価膜とは、ある屈折率を有する層を、これより屈折率の高い層と屈折率の低い層からなる積層体に置換えたもので、元の層と同等の作用を有している。
【０２１２】
実施の形態３５では、第２層の中間屈折率材料層を高屈折率材料であるＴａ２Ｏ５と低屈折率材料であるＳｉＯ２とからなる等価膜に置換えたが、これに限定されるものではなく、他の高屈折率材料と低屈折率材料とからなる等価膜に置換えてもよい。また、中間屈折率材料層が複数存在する場合には、その任意の層を等価膜に置換えることができる。さらに、中間屈折率材料層でなく高屈折率材料層や低屈折率材料層であっても、それ自身よりも屈折率の高い層と屈折率の低い層からなる等価膜で置換えることができる。
【０２１３】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態では、高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有した材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０２１４】
なお、表３５のＢ欄は、この実施の形態である表３５のＡ欄の構成を元に、分光反射率特性がより平滑になるように各層の膜厚を調整したものである。
【０２１５】
図３５にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜８５０ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．５％以下である。図から明らかなように、この実施の形態の分光反射率特性は、元になった実施の形態２１の分光反射率特性に酷似している。
【０２１６】
また、この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０２１７】
さらに、図３５に示すように各層の膜厚を最適化した表３５のＢ欄の分光反射率特性は、表３５のＡ欄の分光反射率特性に比べ、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲で明らかに平滑になっている。
【０２１８】
この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料として、屈折率が高く、安定した膜形成や成膜材料の繰り返し使用が可能なＴａ２Ｏ５を用いたので、良好な光学特性が得られるとともに低コストで反射防止膜が形成できる。
【０２１９】
また、等価膜理論を用いることにより、層数の少ない反射防止膜の構成を元にして、層数が多くても同様な分光反射率特性を示す反射防止膜を得ることができる。さらに、層構成はそのままに各層の膜厚を最適化することにより、分光反射率特性が平坦で、より広帯域の反射防止膜を得ることができる。
【０２２０】
［実施の形態３６］
実施の形態３６では、屈折率１．４４の基材の上に、設計波長λを５００ｎｍとして、表３６のように基材側の第１、３層に低屈折率材料としてＳｉＯ２を、第２、４、６、８層に高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５を、第５、７層に中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３を、第９層に低屈折率材料としてＭｇＦ２を使用した膜構成の反射防止膜を成膜した。
【０２２１】
この実施の形態は、実施の形態２２の第２層の中間屈折率材料であるＡｌ２Ｏ３層（光学的膜厚１．０８×λ／４）を、等価膜理論を用いて表３６に示すように、高屈折率材料のＴａ２Ｏ５層（光学的膜厚０．２２×λ／４）、低屈折率材料のＳｉＯ２層（光学的膜厚０．４４×λ／４）、高屈折率材料のＴａ２Ｏ５層（光学的膜厚０．２２×λ／４）からなる３層の積層体に置換えたものであり、その結果、実施の形態２２の８層構成から９層構成へと層数が増加している。なお、この実施の形態では、置換したＴａ２Ｏ５層の一方が元のＴａ２Ｏ５層に隣接するため層数の増加は１層となる。表３６における、第４層−２は実施の形態２２の第３層と同一であり、第４層−１（実施の形態２２の第２層から置換されたもの）と合わせて、この実施の形態の第４層を形成している。
【０２２２】
この実施の形態では、第２層の中間屈折率材料層を高屈折率材料であるＴａ２Ｏ５と低屈折率材料であるＳｉＯ２とからなる等価膜に置換えたが、これに限定されるものではなく、他の高屈折率材料と低屈折率材料とからなる等価膜に置換えてもよい。また、第２層の中間屈折率材料層でなく、第４層、第６層の中間屈折率材料層を等価膜に置換えることができ、複数の中間屈折率材料層を同時に等価膜に置換えることも可能である。また、中間屈折率材料層でなく高屈折率材料層や低屈折率材料層であっても、それ自身よりも屈折率の高い層と屈折率の低い層からなる等価膜で置換えることができる。
【０２２３】
この実施の形態の反射防止膜は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒの真空域にて真空蒸着により形成したが、これに限定されるものでなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法によっても同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。また、この実施の形態３６では高屈折率材料としてＴａ２Ｏ５、中間屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３、低屈折率材料としてＳｉＯ２、ＭｇＦ２を用いたが、これに限定されるものではなく、各材料と同様な屈折率を有した材料であれば同等の特性を有する反射防止膜を得ることができる。
【０２２４】
図３６にこの実施の形態の分光反射率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜８５０ｎｍの範囲で反射率が１．０％以下になっており、波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲では平均反射率が０．６％以下である。この実施の形態３６の分光反射率特性は、元になった実施の形態２２の分光反射率特性に比べ幾分、波打ってはいるが類似している。
【０２２５】
この実施の形態の反射防止膜を両面または片面に施した光学レンズは、紫外域から赤外域にかけての広帯域で良好な透過率を示した。
【０２２６】
このように、この実施の形態では、紫外域から赤外域にわたる広い波長帯域において、高い反射防止効果を持つ反射防止膜を得ることができる。また、高屈折率材料として、屈折率が高く、安定した膜形成や成膜材料の繰り返し使用が可能なＴａ２Ｏ５を用いたので、良好な光学特性が得られるとともに低コストで反射防止膜が形成できる。さらに、等価膜理論を用いることにより、層数の少ない反射防止膜の構成を元にして、層数が１層だけ多く、かつ同様な分光反射率特性を示す反射防止膜を得ることができる。
【０２２７】
［実施の形態３７］
この実施の形態では、光学レンズユニットに対する実施の形態を示す。図３７は、この実施の形態における光学レンズを６枚有する光学レンズユニットを示す。
【０２２８】
図３８は、図３７の各光学レンズ（硝材はＳ−ＢＳＬ７）の全ての両面に実施の形態２２の反射防止膜を施した場合の光学レンズユニットの分光透過率特性を示す。波長３５０ｎｍ〜９００ｎｍの範囲で、平均透過率が９０％以上となっており、可視域である波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の平均透過率は９５％以上である。
【０２２９】
この実施の形態の光学レンズユニットは、可視域での平均透過率が９５％以上であるため、目視による観察時の明るさを十分確保できるとともに、紫外域の波長３５０ｎｍ〜４００ｎｍでも平均透過率が９０％以上であるため、励起光として紫外線を用いた観察時にも、紫外線を損失することなく照射することが可能となる。
【０２３０】
また、この実施の形態の光学レンズユニットは、赤外域の７００ｎｍ〜９００ｎｍでも９０％以上の透過率となっているため、赤外域の光を照射しても光量損失がなく、また観察時の明るさも確保することができる。
【０２３１】
【表１】
0004190773.tif 000002
【０２３２】
【表２】
0004190773.tif 000003
【０２３３】
【表３】
0004190773.tif 000004
【０２３４】
【表４】
0004190773.tif 000005
【０２３５】
【表５】
0004190773.tif 000006
【０２３６】
【表６】
0004190773.tif 000007
【０２３７】
【表７】
0004190773.tif 000008
【０２３８】
【表８】
0004190773.tif 000009
【０２３９】
【表９】
0004190773.tif 000010
【０２４０】
【表１０】
0004190773.tif 000011
【０２４１】
【表１１】
0004190773.tif 000012
【０２４２】
【表１２】
0004190773.tif 000013
【０２４３】
【表１３】
0004190773.tif 000014
【０２４４】
【表１４】
0004190773.tif 000015
【０２４５】
【表１５】
0004190773.tif 000016
【０２４６】
【表１６】
0004190773.tif 000017
【０２４７】
【表１７】
0004190773.tif 000018
【０２４８】
【表１８】
0004190773.tif 000019
【０２４９】
【表１９】
0004190773.tif 000020
【０２５０】
【表２０】
0004190773.tif 000021
【０２５１】
【表２１】
0004190773.tif 000022
【０２５２】
【表２２】
0004190773.tif 000023
【０２５３】
【表２３】
0004190773.tif 000024
【０２５４】
【表２４】
0004190773.tif 000025
【０２５５】
【表２５】
0004190773.tif 000026
【０２５６】
【表２６】
0004190773.tif 000027
【０２５７】
【表２７】
0004190773.tif 000028
【０２５８】
【表２８】
0004190773.tif 000029
【０２５９】
【表２９】
0004190773.tif 000030
【０２６０】
【表３０】
0004190773.tif 000031
【０２６１】
【表３１】
0004190773.tif 000032
【０２６２】
【表３２】
0004190773.tif 000033
【０２６３】
【表３３】
0004190773.tif 000034
【０２６４】
【表３４】
0004190773.tif 000035
【０２６５】
【表３５】
0004190773.tif 000036
【０２６６】
【表３６】
0004190773.tif 000037
【０２６７】
【発明の効果】
請求項１乃至１７の発明によれば、各層を構成する成膜材料の屈折率および膜厚を指定することにより、紫外域から赤外域にわたる広い波長域で高い反射防止効果を得られる反射防止膜とすることができる。
【０２６８】
請求項１８の発明によれば、反射防止膜を構成する低屈折率材料、中間屈折率材料および高屈折率材料のそれぞれの屈折率を一定範囲内とすることにより、紫外域から赤外域にわたる広い波長域で高い反射防止効果を得られる反射防止膜とすることができる。また、上記範囲内の屈折率を有する種々の材料が使用できるため、広い範囲から材料を選択することができる。
【０２６９】
請求項１９の発明によれば、等価膜を利用することにより、少ない層数の反射防止膜の構成に基づいて、より層数が多く、かつ分光反射率特性の類似した反射防止膜を容易に導き出すことができる。
【０２７０】
請求項２０乃至２２の発明によれば、紫外域から赤外域にわたる広い波長域で高い反射防止効果を得ることができるとともに、適当な材料を選択することにより、その材料の特性を生かした反射防止膜とすることができる。
【０２７１】
請求項２３の発明によれば、紫外域から赤外域にわたる広帯域で高い透過率を有する光学レンズを提供できる。
【０２７２】
請求項２４の発明によれば、紫外域から赤外域にわたる広帯域で高い透過率を有する光学レンズユニットを提供できる。
【０２７３】
請求項２５の発明によれば、特に３５０ｎｍから９００ｎｍの波長帯域で使用する光学機器に用いた場合に著しい効果を奏する光学レンズユニットを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  実施の形態１の分光反射率特性図である。
【図２】  実施の形態２の分光反射率特性図である。
【図３】  実施の形態３の分光反射率特性図である。
【図４】  実施の形態４の分光反射率特性図である。
【図５】  実施の形態５の分光反射率特性図である。
【図６】  実施の形態６の分光反射率特性図である。
【図７】  実施の形態７の分光反射率特性図である。
【図８】  実施の形態８の分光反射率特性図である。
【図９】  実施の形態９の分光反射率特性図である。
【図１０】  実施の形態１０の分光反射率特性図である。
【図１１】  実施の形態１１の分光反射率特性図である。
【図１２】  実施の形態１２の分光反射率特性図である。
【図１３】  実施の形態１３の分光反射率特性図である。
【図１４】  実施の形態１４の分光反射率特性図である。
【図１５】  実施の形態１５の分光反射率特性図である。
【図１６】  実施の形態１６の分光反射率特性図である。
【図１７】  実施の形態１７の分光反射率特性図である。
【図１８】  実施の形態１８の分光反射率特性図である。
【図１９】  実施の形態１９の分光反射率特性図である。
【図２０】  実施の形態２０の分光反射率特性図である。
【図２１】  実施の形態２１の分光反射率特性図である。
【図２２】  実施の形態２２の分光反射率特性図である。
【図２３】  実施の形態２３の分光反射率特性図である。
【図２４】  実施の形態２４の分光反射率特性図である。
【図２５】  実施の形態２５の分光反射率特性図である。
【図２６】  実施の形態２６の分光反射率特性図である。
【図２７】  実施の形態２７の分光反射率特性図である。
【図２８】  実施の形態２８の分光反射率特性図である。
【図２９】  実施の形態２９の分光反射率特性図である。
【図３０】  実施の形態３０の分光反射率特性図である。
【図３１】  実施の形態３１の分光反射率特性図である。
【図３２】  実施の形態３２の分光反射率特性図である。
【図３３】  実施の形態３３の分光反射率特性図である。
【図３４】  実施の形態３４の分光反射率特性図である。
【図３５】  実施の形態３５の分光反射率特性図である。
【図３６】  実施の形態３６の分光反射率特性図である。
【図３７】  実施の形態３７の光学レンズユニットの正面図である。
【図３８】  実施の形態３７の光学レンズユニットの分光透過率特性図である。
【図１】
0004190773.tif 000038
【図２】
0004190773.tif 000039
【図３】
0004190773.tif 000040
【図４】
0004190773.tif 000041
【図５】
0004190773.tif 000042
【図６】
0004190773.tif 000043
【図７】
0004190773.tif 000044
【図８】
0004190773.tif 000045
【図９】
0004190773.tif 000046
【図１０】
0004190773.tif 000047
【図１１】
0004190773.tif 000048
【図１２】
0004190773.tif 000049
【図１３】
0004190773.tif 000050
【図１４】
0004190773.tif 000051
【図１５】
0004190773.tif 000052
【図１６】
0004190773.tif 000053
【図１７】
0004190773.tif 000054
【図１８】
0004190773.tif 000055
【図１９】
0004190773.tif 000056
【図２０】
0004190773.tif 000057
【図２１】
0004190773.tif 000058
【図２２】
0004190773.tif 000059
【図２３】
0004190773.tif 000060
【図２４】
0004190773.tif 000061
【図２５】
0004190773.tif 000062
【図２６】
0004190773.tif 000063
【図２７】
0004190773.tif 000064
【図２８】
0004190773.tif 000065
【図２９】
0004190773.tif 000066
【図３０】
0004190773.tif 000067
【図３１】
0004190773.tif 000068
【図３２】
0004190773.tif 000069
【図３３】
0004190773.tif 000070
【図３４】
0004190773.tif 000071
【図３５】
0004190773.tif 000072
【図３６】
0004190773.tif 000073
【図３７】
0004190773.tif 000074
【図３８】
0004190773.tif 000075