(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学機能を有する低分子有機化合物からなるターゲットに紫外光レーザーを照射して該低分子有機化合物を気化せしめ、この気化せしめられた低分子有機化合物を基板上に堆積して薄膜を形成する方法であって、紫外光レーザーの照射強度Ｅ（ｍＪ／ｃｍ2）が下記の条件を満たすものであることを特徴とする有機光学機能材料の非晶質薄膜形成方法。
Ｃ×１．５≦Ｅ≦Ｃ×４
（但し、Ｃ：基板上に、気化した低分子有機化合物が実質的に堆積し始める紫外光レーザーの照射強度（ｍＪ／ｃｍ2））
【請求項２】
紫外光レーザーがＫｒＦエキシマレーザーであることを特徴とする請求項１記載の有機光学機能材料の非晶質薄膜形成方法
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、分子性結晶を形成する固体低分子有機化合物から光機能材料として用いられる非晶質薄膜を形成する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、光学機能を有する高分子あるいは低分子の有機化合物を、非線形光学材料、光電材料、あるいは発光材料等の様々な光機能材料として利用しようとする取り組みが盛んになっている。これらのうち、光学機能を有する低分子の有機化合物（以下、有機光学機能材料と称する）としては、常温で固体のものが主として用いられており、これらは分子性結晶を形成しやすいという性質を有している。このような分子性結晶を形成した有機光学機能材料を素子として使用する際、有機光学機能材料が比較的大きな単結晶を形成している場合においては、この単結晶をそのまま用いたり、あるいは、所望の形状に切断加工して用いることができる。しかしながら、有機光学機能材料を基板上に薄膜として形成する必要がある場合においては不都合を生じる。すなわち、このような目的においてよく用いられる、スピンコート法や加熱蒸着法等の従来の成膜方法では、有機光学機能材料を一旦単体分子にまで分解した後、基板上に堆積させるため、得られる膜は有機光学機能材料からなる微結晶の集合体となりやすい傾向がある。このような微結晶の集合体から形成される薄膜層を光学素子として用いた場合、結晶界面での散乱現象により、デバイスに入射した光信号に狂いが生じるという問題がある。このような状況の中で、有機光学機能材料からなる薄膜を基板上に実質非晶質の状態で形成する方法が求められていた。
【０００３】
また、分子性結晶を形成する有機光学機能材料を非晶質の状態で薄膜に形成する方法として、該有機光学機能材料を真空中で加熱して、単体分子あるいは微少分子集団として遊離させ、次いで基板上で急激に冷却することにより基板上に有機光学機能材料からなる薄膜を形成する方法、所謂、広義での真空蒸着法が知られている。しかしながら、この方法を用いた場合、基板上に飛来する粒子の運動エネルギーがあまり大きくなく、非晶質の膜を得るには、液化窒素を用いるなどして基板を極低温に冷却・保持する必要があり、そのために装置が大型化、複雑化するといった問題点があった。
また、加速したイオンの衝突により跳ね飛ばされたターゲット分子を基板に堆積させる方法、所謂、スパッタリング法を用いた場合には、スパッタ時の激しいイオンの衝撃により有機光学機能材料が分子的レベルで著しく破壊され、本来の化学構造がほとんど維持されず、目的とする光学機能が発現しないという問題があった。
【０００４】
レーザーアブレーションとして当該技術分野において知られているレーザー蒸着の技術は、ポリマーから半導体そして絶縁体までにわたる広い種類の材料を原料とする薄膜の形成に適用されてきた。有機ポリマーの薄膜形成への適用例として、日本特許１４８７５６４号（特開昭６０−８６２６６）には、高エネルギーのレーザー光を該有機ポリマーに照射してこれを一旦遊離させ、基板上に再構築することによる薄膜の形成方法が開示されている。ここで照射されるレーザー光はポリマー鎖の化学結合エネルギー以上のエネルギーを有するため、レーザー光の照射により発生する遊離物は、実質的に、ポリマー鎖の化学結合の切断により生じた分解物であり、該分解物が基板上で相互に結合し合うことにより再びポリマー鎖を形成し膜を成すものである。一方、後述するように、本発明の薄膜形成方法は、膜材料としての有機低分子化合物に特定のエネルギー範囲の紫外光レーザーを照射することにより、該原料分子の化学結合には実質的に影響を与えることなしに非常に大きな運動エネルギーを有する単体分子あるいは微少分子集団として遊離、気化させ、それらを元の分子構造のまま基板上に薄膜として堆積させることを骨子としており、前述の技術とは本質的に異なる。
【０００５】
また、レーザー研究、第２３巻（８号）６２５頁には、レーザーアブレーション法を用いて、有機光学機能材料である４-ジメチルアミノ-４'-ニトロ-スチルベン（ＤＭＡＮＳ）及び銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）を基板上に薄膜形成する技術が開示されている。しかしながら、同文献においては、基板上への膜の堆積が始まる最小エネルギー強度すなわち閾値に極く近い照射エネルギー強度での成膜では結晶性の膜が得られることが開示されている。また、１５００ｍＪ／ｃｍ２という非常に高い照射エネルギー強度での成膜では非晶質の膜は得られるものの、有機光学機能材料の化学構造が完全に変化してしまっていることが述べられている。しかしながら、非晶質でしかも有機光学機能材料の化学構造が維持された膜を形成するための手法についてはなんら開示がない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明はこのような状況に鑑みなされたもので、大がかりな装置を用いることなく、有機光学機能材料の化学構造を実質的に維持した非晶質の薄膜を基板上に形成する方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意研究を続けた。この結果レーザーアブレーション法を用いた薄膜成形法において、照射エネルギー強度を特定の範囲に設定することにより上記課題が解決できることを見いだし本発明に至ったのである。すなわち、本発明によれば、
光学機能を有する低分子有機化合物からなるターゲットに紫外光レーザーを照射して該低分子有機化合物を気化せしめ、この気化せしめられた低分子有機化合物を基板上に堆積して薄膜を形成する方法であって、紫外光レーザーの照射強度Ｅ（ｍＪ／ｃｍ2）が下記の条件を満たすものであることを特徴とする有機光学機能材料の非晶質薄膜形成方法が提供される。
Ｃ×１．５≦Ｅ≦Ｃ×４
（但し、Ｃ：基板上に、気化した低分子有機化合物が実質的に堆積し始める紫外光レーザーの照射強度（ｍＪ／ｃｍ2））
また、さらに、上記紫外光レーザーがＫｒＦエキシマレーザーであることを特徴とする有機光学機能材料の非晶質薄膜形成方法が提供される。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明の特徴は有機光学機能材料からなる非晶質薄膜を基板上に形成する方法において、紫外光レーザーを利用したレーザーアブレーション法を用いるとともに、その際の紫外光レーザーの照射強度を有機光学機能材料の特性に応じて特定範囲内に設定することにある。このようにすることにより、本来分子性結晶を形成しやすい有機光学機能材料を膜材料とする場合であっても、大がかりな基板冷却装置を使用することなく、有機光学機能材料の化学構造がほとんど維持された非晶質の薄膜を形成することができるのである。以下本発明を詳細に説明する。
【０００９】
本発明において用いられる有機光学機能材料は、常温で分子性の結晶固体であり、光学素子としての機能を発現する非晶質の薄膜を形成することのできる有機化合物であれば特に限定されない。これら有機光学機能材料として、例えば、Ｎ，Ｎ’-ビス（４-ニトロフェニル）-ウレア、Ｎ，Ｎ’-ビス（４-ニトロフェニル）-メタンジアミン、３，４-ジメトキシ-４’-ニトロスチルベン等で代表される非線形光学材料、銅フタロシアニンあるいはＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン等で代表される発光材料等が挙げられる。これら有機光学機能材料は常温で分子性結晶固体であって、真空中で特定波長の紫外光レーザーの照射により結晶エネルギーあるいは分子間エネルギーに見合うエネルギーを受け、単独分子あるいは小分子集団として蒸発・気化するものである。なお、本発明において有機光学機能材料は、基板上に形成される膜の機能に影響を与えない範囲で微量の添加剤を含んでいてもよい。
【００１０】
以上述べた有機光学機能材料からターゲットが形作られる。その方法としては、粉末状の有機光学機能材料を加圧成形により板状に成形するのが好適であるが、有機光学機能材料から形成された単結晶板をそのまま用いたり、粉末状の有機光学機能材料をそのまま用いるようにしてもよい。
【００１１】
本発明においてターゲットとなる有機光学機能材料に照射する紫外線レーザーの強度は基板上に膜の堆積が始まる照射レーザー強度、所謂、閾値を基準として設定される。閾値は、有機光学機能材料の化学構造及び紫外光レーザーの波長によって変化する。そして照射レーザー強度Ｅ（ｍＪ／ｃｍ2）は、下記条件に当てはまるように設定される。
Ｃ×１．５≦Ｅ≦Ｃ×４
（但し、Ｃ：基板上に、気化した有機光学機能材料が実質的に堆積し始める紫外光レーザーの照射強度（ｍＪ／ｃｍ2）、所謂、閾値）
有機光学機能材料に、紫外光レーザーをこの範囲内の強度で照射することにより、有機光学機能材料の化学構造を実質的に維持したままで、しかも大きな運動エネルギーを有する単独分子あるいは小分子集団として気化させることができる。この結果、基板上に形成される薄膜は有機光学機能材料の本来の化学構造をほとんど維持できるとともに、非晶質の状態を保つことができるのである。
照射レーザー強度Ｅ（ｍＪ／ｃｍ2）がこの範囲より小さいと膜形成速度が遅くなるだけでなく、膜に微結晶が混在するようになり好ましくない。一方、照射レーザー強度Ｅ（ｍＪ／ｃｍ2）がこの範囲より大きいと、照射レーザーのエネルギーにより有機光学機能材料が分子レベルで破壊され、基板上に堆積される薄膜の化学構造が目的とするものと異なるようになり好ましくない。
【００１２】
次にこの閾値を求める方法について説明する。真空中での有機光学機能材料の紫外光レーザーによるレーザーアブレーションにおいて、照射レーザー強度と膜の堆積速度の関係は何れの化合物の場合も共通のパターンを示す。すなわち、照射レーザー強度がある値以下では基板上にほとんど膜堆積が起こらない。そして照射レーザー強度がある値を超えると、膜堆積が開始される。引き続いて照射レーザー強度を漸増させると膜堆積の速度は急激に増大し、ピークを経た後緩やかに低下する。この膜堆積が実質的に開始される照射レーザー強度が閾値である。現実的には照射エネルギー強度の大きさと、その強度で得られた膜の堆積速度との関係をプロットする方法などにより容易に決定できる。
【００１３】
本発明で用いられる紫外光レーザーの光源のタイプは、膜材料となる有機光学機能材料の吸収波長、紫外光の吸収度合い等により適宜選択でき特に限定しないが、希ガス-ハロゲンエキシマーレーザーが一般的であり、Ｆ２レーザー（波長１５７ｎｍ）、ＡｒＦレーザー（波長１９３ｎｍ）、ＫｒＣｌレーザー（波長２２２ｎｍ）、ＫｒＦレーザー（波長２４９ｎｍ）、ＸｅＣｌレーザー（波長３０８ｎｍ）を用いることができる。また、Ｎｄ：ＹＡＧレーザーの高調波（波長２６６ｎｍ）等も使用することができる。これらの光源うち、波長の短いほうが膜材料への吸収係数が高く膜の堆積速度が大きくなり有利である。しかしながら、波長が短くなりすぎると空気への吸収によるエネルギーの減衰も大きくなり、光路を不活性ガスによりパージする必要が生じる。これらの点から、ＫｒＦレーザー（波長２４９ｎｍ）を用いるのが最も好ましい。なお、発振方式は連続発振式でもパルス発振式でも良い。
【００１４】
さらに、成膜時の真空度は、平均自由行程がターゲットから基板までの距離よりも大きくなるような真空度であれば特に限定されないが、ターゲットから飛翔した有機化合物分子の他分子との衝突による運動エネルギーの減少をできるだけ避けるという観点から、１×１０−３Ｔｏｒｒ以下、さらには１×１０−５Ｔｏｒｒ以下が望ましい。
【００１５】
また、レーザー光の照射の際に発生する熱によるターゲットの化学的な変化を避けるため、ターゲットに対しレーザー光を走査するか、あるいはターゲットを回転もしくは移動させることが望ましい。
【００１６】
【実施例】
以下、本発明を実施例に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるものでなく、適宜変更して実施することが可能なものである。
【００１７】
薄膜の形成は、図１に概略を示す装置を用いて行った。すなわち、まず、真空槽１２内の真空モーター１５のシャフト先端に装着されたターゲットホルダー１４に、ターゲット１３として、有機光学機能材料の微粉末を加圧成形により円盤状（直径２０ｍｍ、厚さ０.５ｍｍ）に成形したものを取り付けた。また、薄膜作製用基板１１として、弗化カルシウム製の円盤（直径３０ｍｍ、厚さ１.５ｍｍ）をターゲットから垂直方向に２７ｍｍ離して基板ホルダー１０に取り付けた。そして、真空槽１２内を真空排気ポンプ１７によりバルブ１６を介して真空度が約５×１０-6Ｔｏｒｒになるまで排気したのち、ＫｒＦエキシマレーザー発振器１（ＬＡＭＢＤＡ ＰＨＹＳＩＫ社 ＬＰＸ−３０５ｉＳ）からのレーザー光３（波長２４９ｎｍ、パルス幅２５ｎｓ、繰り返し速度１０Ｈｚ）を、減衰器２で所望のエネルギーまで減衰し、ミラー４及び孔直径３ｍｍの絞り板５を通過させたのち、レンズ８で集光し、真空封じ用の窓９を経て、ターゲット１３表面で５.２ｍｍ２の照射面積になるようにして一定時間照射した。レーザー照射中は、１ヶ所にレーザーパルス光が集中するのを防ぐため、真空モーターを作動させ、ターゲットを３０ｒｐｍの速度で回転させた。ターゲット表面での照射強度Ｅ（ｍＪ／ｃｍ2）は、成膜に先立ちパワーメーターで測定したレンズ通過直後のレーザー光エネルギーから真空封じ用の窓９による減衰分を差し引いたエネルギーの値をターゲット表面での照射面積５.２ｍｍ２で除することにより決定した。
【００１８】
得られた膜の堆積量は、表面形状測定機（株式会社東京精密製サーフコム５７０Ａ）及び繰り返し反射干渉計（アネルバ株式会社製）を用いて膜中心の厚みとして測定した。一方、ターゲットとして用いた有機光学機能材料の化学構造と、基板上に形成された薄膜の化学構造の差異の確認は、ＫＢｒ錠剤法で測定した有機光学機能材料の赤外吸収スペクトルと、得られた薄膜の透過測定法による赤外吸収スペクトルとの比較によって行った。また、薄膜の結晶状態の確認は、薄膜のＸ線回折パターンに結晶ピークが現れるか否かにより判断するとともに、さらに光学的な透明性によっても判断した。
【００１９】
以上の実験方法及び条件のもと、Ｎ，Ｎ’-ビス（４-ニトロフェニル）-ウレア（以下ＮＰＵと略す）、Ｎ，Ｎ’-ビス（４-ニトロフェニル）-メタンジアミン（以下ＮＰＭＤＡと略す）、及び３，４-ジメトキシ-４’-ニトロスチルベン（以下ＭＯＭＯＮＳと略す）の成膜実験を、照射強度Ｅを種々変化させて行った。図２、図３、及び図４に、それぞれの化合物についての照射強度Ｅと膜の堆積速度の関係をプロットしたグラフを示した。何れの化合物の場合にも全く同じパターンを示すことが明らかである。すなわち、膜堆積の明確な閾値が存在し、膜堆積の速度は当初照射レーザー強度の増加に伴い急激に増加しピークを経た後緩やかに低下する。この結果より膜堆積の閾値を、それぞれ、ＮＰＵ：１３ｍＪ／ｃｍ２、ＮＰＭＤＡ：１２ｍＪ／ｃｍ２、そしてＭＯＭＯＮＳ：１１ｍＪ／ｃｍ２と決定した。なお、閾値の決定は、照射強度Ｅと膜の堆積速度の関係を示すプロット点を外挿し、照射強度Ｅ軸との交点を求めることにより行った。
【００２０】
[実施例１]
ＮＰＵをターゲットとして、レーザーの照射強度Ｅが２５ｍＪ／ｃｍ２（閾値よりも１．９倍高い強度）になるようにして６０分間レーザー照射を行い、基板中心付近の厚みが約０.９６μｍの黄色い極めて透明な膜を得た。得られた膜の赤外吸収スペクトルとＫＢｒ錠剤法で測定したＮＰＵの赤外吸収スペクトルはほぼ一致していた。このことから、本実施例で得られた膜の化学構造は、ＮＰＵの化学構造を実質的に維持していることが確認された。また、本実施例で得られた膜のＸ線回折パターンには結晶の存在を示すピークが全く見られなかった。また、光学的に透明であった。これらの結果より、本実施例で得られた膜が非晶質であることが明らかである。
【００２１】
[比較例１]
ＮＰＵをターゲットとして、レーザーの照射強度Ｅが１５ｍＪ／ｃｍ２（閾値よりも１．２倍高い強度）になるようにして１２０分間レーザー照射を行い、基板中心付近の厚みが約０.１２μｍの黄色く若干不透明な膜を得た。得られた膜の赤外吸収スペクトルとＫＢｒ錠剤法で測定したＮＰＵの赤外吸収スペクトルはほぼ一致していた。このことから、本比較例で得られた膜の化学構造は、ＮＰＵの化学構造を実質的に維持していることが確認された。しかしながら、本比較例で得られた膜のＸ線回折パターンには２θ＝２８°付近に極小さいながらもピークが認められた。さらに、膜が若干不透明なことから、本比較例で得られた膜中には極少量の微結晶が存在することが明らかである。
【００２２】
[比較例２]
ＮＰＵをターゲットとして、レーザーの照射強度Ｅが６０ｍＪ／ｃｍ２（閾値よりも４．６倍高い強度）になるようにして６０分間レーザー照射を行い、基板中心付近の厚みが約０．４６μｍの黒みがかった透明な膜を得た。得られた膜のＸ線回折パターンには結晶の存在を示すピークは全くなく、光学的に透明であることから、本比較例で得られた膜が非晶質であることが明らかである。一方、得られた膜の赤外吸収スペクトルでは、ＫＢｒ錠剤法で測定したＮＰＵの赤外吸収スペクトルにみられた１７３６ｃｍ−１、１５５２ｃｍ−１、８４９ｃｍ−１等の吸収ピークはほとんど消滅し、他のピークも全体に小さくブロードになっていた。また、膜の色が黒く変色していることからも本比較例によって得られた膜の化学構造は大きく変化していることが明らかである。
【００２３】
[実施例２]
ＮＰＭＤＡをターゲットとして、レーザーの照射強度Ｅが２５ｍＪ／ｃｍ２（閾値よりも２．１倍高い強度）になるようにして６０分間レーザー照射を行い、基板中心付近の厚みが約１．８３μｍの黄色い極めて透明な膜を得た。得られた膜の赤外吸収スペクトルとＫＢｒ錠剤法で測定したＮＰＭＤＡの赤外吸収スペクトルはほぼ一致していた。このことから、本実施例で得られた膜の化学構造は、ＮＰＭＤＡの化学構造を実質的に維持していることが確認された。また、本実施例で得られた膜のＸ線回折パターンには結晶の存在を示すピークが全く見られなかった。また、光学的に透明であった。これらの結果より、本実施例で得られた膜が非晶質であることが明らかである。
【００２４】
[比較例３]
ＮＰＭＤＡをターゲットとして、レーザーの照射強度Ｅが１５ｍＪ／ｃｍ２（閾値よりも１．３倍高い強度）になるようにして６０分間レーザー照射を行い、基板中心付近の厚みが約０.５４μｍの若干不透明な黄色い膜を得た。得られた膜の赤外吸収スペクトルとＫＢｒ錠剤法で測定したＮＰＭＤＡの赤外吸収スペクトルはほぼ一致していた。このことから、本比較例で得られた膜の化学構造は、ＮＰＭＤＡの化学構造を実質的に維持していることが確認された。しかしながら、本比較例で得られた膜のＸ線回折パターンには２θ＝２６°付近に極小さいながらもピークが認められた。さらに膜が多少不透明なことから、膜中には極少量の微結晶が存在することが明らかである。
【００２５】
[比較例４]
ＮＰＭＤＡをターゲットとして、レーザーの照射強度Ｅが６０ｍＪ／ｃｍ２（閾値よりも５．０倍高い強度）になるようにして６０分間レーザー照射を行い、基板中心付近の厚みが約０．９０μｍの黒みがかった黄色の透明な膜を得た。得られた膜のＸ線回折パターンには結晶の存在を示すピークは全くなく、光学的に透明であることから、本比較例で得られた膜が非晶質であることが明らかである。一方、得られた膜の赤外吸収スペクトルでは、ＫＢｒ錠剤法で測定したＮＰＭＤＡの赤外吸収スペクトルにみられた１５３１ｃｍ−１、１４６９ｃｍ−１、１０４２ｃｍ−１、８３４ｃｍ−１等の吸収ピークはほとんど消滅し、他のピークも全体に小さくブロードになっていた。また、膜が黒く変色していることからも本比較例によって得られた膜の化学構造は大きく変化していることが明らかである。
【００２６】
[実施例３]
ＭＯＭＯＮＳをターゲットとして、レーザーの照射強度Ｅが２５ｍＪ／ｃｍ２（閾値よりも２．３倍高い強度）になるようにして４０分間レーザー照射を行い、基板中心付近の厚みが約１．６７μｍの黄色い極めて透明な膜を得た。得られた膜の赤外吸収スペクトルとＫＢｒ錠剤法で測定したＭＯＭＯＮＳの赤外吸収スペクトルはほぼ一致していた。このことから、本実施例で得られた膜の化学構造は、ＭＯＭＯＮＳの化学構造を実質的に維持していることが確認された。また、本実施例で得られた膜のＸ線回折パターンには結晶の存在を示すピークが全く見られなかった。また、光学的に透明であった。これらの結果より、本実施例で得られた膜が非晶質であることが明らかである。
【００２７】
[比較例５]
ＭＯＭＯＮＳをターゲットとして、レーザーの照射強度Ｅが１５ｍＪ／ｃｍ２（閾値よりも１．４倍高い強度）になるようにして８０分間レーザー照射を行い、基板中心付近の厚みが約１．７８μｍの若干不透明な黄色い膜を得た。得られた膜の赤外吸収スペクトルとＫＢｒ錠剤法で測定したＭＯＭＯＮＳの赤外吸収スペクトルはほぼ一致していた。このことから、本比較例で得られた膜の化学構造は、ＭＯＭＯＮＳの化学構造を実質的に維持していることが確認された。しかしながら、本比較例で得られた膜のＸ線回折パターンには２θ＝１７°、２５°、及び２７．５°付近に極小さいながらもピークが認められた。さらに、膜が若干不透明なことから、本比較例で得られた膜中には極少量の微結晶が存在することが明らかである。
【００２８】
[比較例６]
ＭＯＭＯＮＳをターゲットとして、レーザーの照射強度Ｅが５０ｍＪ／ｃｍ２（閾値よりも４．５倍高い強度）になるようにして６０分間レーザー照射を行い、基板中心付近の厚みが１．１４μｍの黒みがかった黄色の透明な膜を得た。得られた膜のＸ線回折パターンには結晶の存在を示すピークは全くなく、光学的に透明であることから、本比較例で得られた膜が非晶質であることが明らかである。一方、得られた膜の赤外吸収スペクトルでは、ＫＢｒ錠剤法で測定したＭＯＭＯＮＳの赤外吸収スペクトルにみられた１６２９ｃｍ−１、１４２０ｃｍ−１、１２６０ｃｍ−１、１１４０ｃｍ−１等の吸収ピークはほとんど消滅し、他のピークも全体に小さくブロードになっていた。また、膜が黒く変色していることからも本比較例によって得られた膜の化学構造は大きく変化していることが明らかである。
【００２９】
本実施例により、本発明によれば、ＮＰＵ、ＭＯＭＯＮＳ、あるいはＮＰＭＤＡに代表される非常に高い結晶性を示す有機光学機能材料をターゲットとして用いた場合にあっても、有機光学機能材料を、その化学構造を実質的に保持したまま、しかも非晶質で光学的に透明な薄膜として基板上に形成できることが明らかである。
【００３０】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、大がかりな装置を用いることなく、有機光学機能材料の化学構造を実質的に維持した非晶質の薄膜を基板上に形成する方法が提供される。本発明によって得られる光学デバイスは、薄膜が非晶質であることに由縁して良好な光学的機能を有するとともに、大がかりな装置を用いる必要なく製造できることから経済的に有利であるという特長を有している。
このように本発明の有機光学機能材料の非晶質薄膜形成方法は高品質の光学デバイスを安価に提供するにおいて有用であり、産業に利するところ大であるといえる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の有機光学機能材料の非晶質薄膜形成方法において用いられる薄膜形成装置の一形態を示す概略構成図である。
【図２】本発明の実施例及び比較例で成膜したＮＰＵ膜の堆積速度とレーザーの照射強度Ｅとの関係を示したグラフである。
【図３】本発明の実施例及び比較例で成膜したＮＰＭＤＡ膜の堆積速度とレーザーの照射強度Ｅとの関係を示したグラフである。
【図４】本発明の実施例及び比較例で成膜したＭＯＭＯＮＳ膜の堆積速度とレーザーの照射強度Ｅとの関係を示したグラフである。
【符号の説明】
１： レーザー発振器
２：減衰器
３：レーザー光
４：ミラー
５：絞り板
６：パワーメーター
７：指示計
８：レンズ
９：窓
１０：基板ホルダー
１１：基板
１２：真空槽
１３：ターゲット
１４：ターゲットホルダー
１５：真空モーター
１６：バルブ
１７：真空排気ポンプ
【図１】
0004150786.tif 000002
【図２】
0004150786.tif 000003
【図３】
0004150786.tif 000004
【図４】
0004150786.tif 000005