(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に波長４５０ｎｍ以下のレーザ照射により情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層が１−アシル−２−ヒドロキシ芳香族化合物を記録材料として含有する光情報記録媒体。
【請求項２】
波長４５０ｎｍ以下のレーザ照射により前記記録層に情報の記録が可能であると共に、波長４５０ｎｍ以下のレーザ照射により前記記録層に記録された情報の再生が可能である請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
前記１−アシル−２−ヒドロキシ芳香族化合物が、下記一般式（Ｉ）で表される化合物である請求項１または２に記載の光情報記録媒体。
【化１】
0004098487.tif 000017
式中、Ａは置換基を有してもよいアリール環又は置換基を有してもよいヘテロアリール環を表し、Ｒはアルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表す。
【請求項４】
前記記録層上に、金属からなる光反射層を更に備えた請求項１〜３までのいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項５】
前記記録層上に、該記録層を保護する保護層を更に備えた請求項１〜４のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項６】
前記基板の記録層が設けられる側の表面に、トラックピッチ０．２〜０．８μｍのプレグルーブが形成されている請求項１〜５のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光情報記録媒体に関し、詳しくは、波長４５０ｎｍ以下のレーザ照射により情報の記録が可能な記録層を有するヒートモード型の光情報記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、レーザ光により一回限りの情報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）が知られている。この光ディスクは、追記型ＣＤ（所謂ＣＤ−Ｒ）とも称され、その代表的な構造は、透明な円盤状基板上に有機色素からなる記録層、金などの金属からなる光反射層、さらに樹脂製の保護層がこの順に積層したものである。そしてこのＣＤ−Ｒへの情報の記録は、近赤外域のレーザ光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレーザ光）をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録される。一方、情報の読み取り（再生）もまた記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ光を照射することにより行われ、記録層の光学的特性が変化した部位（記録部分）と変化しない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより情報が再生される。
【０００３】
近年、記録密度のより高い光情報記録媒体が求められている。このような要望に対して、追記型デジタル・ヴァサタイル・ディスク（ＤＶＤ−Ｒ）と称される光ディスクが提案され（例えば、「日経ニューメディア」別冊「ＤＶＤ」、１９９５年発行）、実用化されている。このＤＶＤ−Ｒは、記録時に照射されるレーザ光をトラッキングするための案内溝（プレグルーブ）がＣＤ−Ｒの半分以下（０．７４〜０．８μｍ）と狭い溝幅で形成された透明な円盤状基板上に、色素からなる記録層、そして通常は該記録層の上に光反射層、そして更に必要により保護層を設けてなるディスクを二枚、あるいは該ディスクと同じ形状の円盤状保護基板とを該記録層を内側にして接着剤で貼り合わせた構造を有している。ＤＶＤ−Ｒへの情報の記録再生は、可視レーザ光（通常は、６３０ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲の波長のレーザ光）を照射することにより行われ、ＣＤ−Ｒより高密度の記録が可能である。
【０００４】
最近では、インターネット等の情報ネットワークやハイビジョンＴＶが急速に普及しており、ＨＤＴＶ（Ｈｉｇｈ  Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ  Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）の放映も間近にひかえている。これらに伴い、高画質な画像情報を安価且つ簡便に記録するために、更に大容量の記録媒体が必要とされている。上記のＤＶＤ−Ｒは、大容量の記録媒体としての地位を築きつつあるが、将来の大容量化の要求に対応できる程の充分大きな記録容量を有しているとは言えない。このため、従来の記録波長（７８０ｎｍ又は６３０ｎｍ）より更に短波長のレーザ光で高密度の記録を行うことができる大容量記録媒体の開発が進められている。
【０００５】
例えば、特開平４−７４６９０号公報、同７−３０４２５６号公報、同７−３０４２５７号公報、同８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同２０００−１０８５１３号公報、同２０００−１１３５０４号公報、同２０００−１４９３２０号公報、同２０００−１５８８１８号公報、及び同２０００−２２８０２８号公報には、有機色素を含む記録層を有する光情報記録媒体において、基板側から記録層に波長５３０ｎｍ以下のレーザを照射することにより情報の記録及び再生を行う記録再生方法が開示されている。これらの方法では、ポルフィリン化合物、アゾ系色素、金属アゾ系色素、キノフタロン系色素、トリメチンシアニン色素、ジシアノビニルフェニル骨格色素、クマリン化合物、ナフタロシアニン化合物等を含有する記録層を備えた光ディスクに、青色（波長４３０ｎｍ、４８８ｎｍ）又は青緑色（波長５１５ｎｍ）のレーザ光を照射することにより情報の記録及び再生を行っている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、本発明者の検討によれば、上記公報に記載された光ディスクでは、波長４５０ｎｍ以下の短波長レーザ光を照射して情報を記録する場合には、実用上必要とされる感度を得ることができず、また、反射率や変調度などの他の記録特性も満足できるレベルではなく、更に改良を要することが判明した。特に、上記公報に記録された光ディスクでは、波長４０５ｎｍ付近のレーザ光を照射した場合に記録特性が低下した。
【０００７】
本発明は上記従来技術の問題点に鑑み成されたものであり、本発明の目的は、波長４５０ｎｍ以下、とりわけ汎用性の高い波長４０５ｎｍ付近のレーザ光を照射して情報の高密度記録及び再生が可能であり、且つ優れた記録特性を有する光情報記録媒体を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の光情報記録媒体は、基板上に波長４５０ｎｍ以下のレーザ照射により情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層が１−アシル−２−ヒドロキシ芳香族化合物を記録材料として含有することを特徴とする。１−アシル−２−ヒドロキシ芳香族化合物を記録層の記録材料として用いることで、波長が４５０ｎｍ以下の短波長レーザに対しても高い感度を示し、かつ高い反射率、そして高い変調度を与える良好な記録再生特性を備えた光情報記録媒体を得ることができる。
【０００９】
記録層に含有される１−アシル−２−ヒドロキシ芳香族化合物は、下記一般式（Ｉ）で表される化合物であることが好ましい。
【００１０】
【化１】
0004098487.tif 000002
【００１１】
式中、Ａは置換基を有してもよいアリール環又は置換基を有してもよいヘテロアリール環を表し、Ｒはアルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表す。
【００１２】
更に、記録層に含有される１−アシル−２−ヒドロキシ芳香族化合物が、下記一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物であることが好ましい。
【００１３】
【化２】
0004098487.tif 000003
【００１４】
式中、Ｒ11及びＲ12はそれぞれ独立に炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数７〜１５のアラルキル基、炭素原子数６〜１４のアリール基、炭素原子数１〜１０のヘテロ環基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数０〜３２のアミノ基、炭素原子数２〜２１のアシル基、ヒドロキシ基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数６〜１４のアリールオキシ基、炭素原子数１〜２０のアルキルチオ基、炭素原子数６〜１４のアリールチオ基、炭素原子数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素原子数６〜１４のアリールスルホニル基、炭素原子数０〜３２のカルバモイル基、炭素原子数２〜２５のアミド基、炭素原子数２〜２１のアシルオキシ基、炭素原子数１〜２０のアルコキシカルボニル基又は炭素原子数７〜１５のアリールオキシカルボニル基を表し、ｍは０乃至４の整数を表し、ｎは０乃至５の整数を表し、ｍ又はｎが２以上の整数のとき、複数個のＲ11同士又はＲ12同士は互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ11とＲ12が互いに連結して環を形成していてもよい。
【００１５】
本発明の光情報記録媒体は、記録層上に金属からなる光反射層を更に備えていることが好ましく、記録層上に記録層を保護する保護層を更に備えていることがより好ましい。また、基板の記録層が設けられている側の表面には、トラックピッチ０．２〜０．８μｍのプレグルーブが形成されていることが好ましい。
【００１６】
また、上記の光記録媒体は、波長４５０ｎｍ以下のレーザ光を照射して情報を記録及び再生することができるが、とりわけ汎用性の高い波長４０５ｎｍ付近のレーザ光を照射して情報の高密度記録及び再生を行うことが可能であり、且つ優れた記録特性を発揮することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
本発明の光情報記録媒体は、基板上に波長４５０ｎｍ以下のレーザ照射により情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層が１−アシル−２−ヒドロキシ芳香族化合物を含有することを特徴とする。
まず、記録層に含有される１−アシル−２−ヒドロキシ芳香族化合物について説明する。１−アシル−２−ヒドロキシ芳香族化合物は、１位にアシル基を備え、２位にヒドロキシ基を備える芳香族化合物であれば特に制限はないが、本発明の１−アシル−２−ヒドロキシ芳香族化合物は、下記一般式（Ｉ）で表される化合物であることが好ましい。
【００１８】
【化３】
0004098487.tif 000004
【００１９】
式中、Ａは、置換基を有してもよいアリール環又は置換基を有してもよいヘテロアリール環を表し、Ｒは、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表す。Ａ及びＲが互いに連結して環を形成していてもよい。
【００２０】
一般式（Ｉ）において、Ａで表されるアリール環として好ましいものは、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環又はフェナントレン環であり、更に好ましくはベンゼン環又はナフタレン環であり、特にベンゼン環が好ましい。
【００２１】
一般式（Ｉ）において、Ａで表されるヘテロアリール環として好ましいものは、炭素数３乃至１０の含窒素ヘテロアリール環であり、更に好ましくは炭素数４乃至８の含窒素ヘテロアリール環であり、特にピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、キノリン環又はイソキノリン環が好ましい。
【００２２】
一般式（Ｉ）において、Ｒで表されるアルキル基として好ましいものは、炭素原子数１〜２０のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数１〜１６の鎖状又は環状のアルキル基であり、特に炭素数１〜１２の鎖状又は環状のアルキル基が好ましい。
【００２３】
一般式（Ｉ）において、Ｒで表されるアリール基として好ましいものは、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基又はフェナントレニル基であり、更に好ましくはフェニル基又はナフチル基であり、特にフェニル基が好ましい。
【００２４】
一般式（Ｉ）において、Ｒで表されるヘテロ環基として好ましいものは、炭素原子数１〜１０のヘテロ環基であり、更に好ましくは炭素原子数２〜９のヘテロ環基であり、特に好ましくは炭素原子数２〜５のヘテロ環基であり、ヘテロ原子として好ましいものは、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子である。
【００２５】
一般式（Ｉ）において、 Ａ及びＲは更に置換基を有していてもよく、該置換基の例としては、以下に記載のものを挙げることができる。
炭素原子数１〜２０の鎖状または環状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、イソプロピル、シクロヘキシル）、炭素原子数６〜１８のアリール基（例えば、フェニル、クロロフェニル、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル、１−ナフチル）、炭素原子数７〜１８のアラルキル基（例えば、ベンジル、アニシル）、炭素原子数２〜２０のアルケニル基（例えば、ビニル、２−メチルビニル）、炭素原子数２〜２０のアルキニル基（例えば、エチニル、２−メチルエチニル、２−フェニルエチニル）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、シアノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、炭素原子数２〜２０のアシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル、サリチロイル、ピバロイル）、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基（例えば、メトキシ、ブトキシ、シクロヘキシルオキシ）、炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ、トルオイル）、炭素原子数１〜２０のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ、ブチルチオ、ベンジルチオ、３−メトキシプロピルチオ）、炭素原子数６〜２０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ、４−クロロフェニルチオ）、炭素原子数１〜２０のアルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、ブタンスルホニル）、炭素原子数６〜２０のアリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル、パラトルエンスルホニル）、炭素原子数１〜１７のカルバモイル基（例えば、無置換のカルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ｎ−ブチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル）、炭素原子数１〜１６のアミド基（例えば、アセトアミド、ベンズアミド）、炭素原子数２〜１０のアシルオキシ基（例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ）、炭素原子数２〜１０のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル）、５もしくは６員のヘテロ環基（例えば、ピリジル、チエニル、フリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリルなどの芳香族ヘテロ環、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環、ピラン環、チオピラン環、ジオキサン環、ジチオラン環などのヘテロ環）。
【００２６】
一般式（Ｉ）において、 Ａ及びＲの置換基として好ましいものは、炭素原子数１〜１６の鎖状又は環状のアルキル基、炭素原子数６〜１４のアリール基、炭素原子数７〜１５のアラルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数６〜１４のアリールオキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数２〜１７のアルコキシカルボニル基、炭素原子数１〜１０のカルバモイル基、炭素数１〜１０のアミド基であり、中でも好ましいものは、炭素原子数１〜１０の鎖状又は環状のアルキル基、炭素原子数７〜１３のアラルキル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数６〜１０のアリールオキシ基、塩素原子、炭素原子数２〜１１のアルコキシカルボニル基、炭素原子数１〜７のカルバモイル基、炭素数１〜８のアミド基であり、特に好ましいものは、炭素原子数３〜１０の鎖状分岐又は環状のアルキル基、炭素原子数７〜１１のアラルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数３〜９のアルコキシカルボニル基、フェニル及び塩素原子である。
【００２７】
更に、記録層に含有される１−アシル−２−ヒドロキシ芳香族化合物が、下記一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物であることが好ましい。
【００２８】
【化４】
0004098487.tif 000005
【００２９】
式中、Ｒ11及びＲ12はそれぞれ独立に炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数７〜１５のアラルキル基、炭素原子数６〜１４のアリール基、炭素原子数１〜１０のヘテロ環基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数０〜３２のアミノ基、炭素原子数２〜２１のアシル基、ヒドロキシ基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数６〜１４のアリールオキシ基、炭素原子数１〜２０のアルキルチオ基、炭素原子数６〜１４のアリールチオ基、炭素原子数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素原子数６〜１４のアリールスルホニル基、炭素原子数０〜３２のカルバモイル基、炭素原子数２〜２５のアミド基、炭素原子数２〜２１のアシルオキシ基、炭素原子数１〜２０のアルコキシカルボニル基、又は炭素原子数７〜１５のアリールオキシカルボニル基を表し、ｍは０乃至４の整数を表し、ｎは０乃至５の整数を表し、ｍ又はｎが２以上の整数のとき、複数個のＲ11同士又はＲ12同士は互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ11とＲ12が互いに連結して環を形成していてもよい。
【００３０】
一般式（Ｉ−Ａ）において、 Ｒ11及びＲ12は更に置換基を有していてもよく、その置換基の例及びその好ましいものは、一般式（Ｉ）におけるＡ及びＲの場合と同様である。
【００３１】
一般式（Ｉ−Ａ）において、ｍは０乃至２が好ましく、特に１又は２が好ましい。また、一般式（Ｉ−Ａ）において、ｎは０又は３が好ましく、特に０乃至２が好ましい。
【００３２】
一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物は、特に下記一般式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物であることが好ましい。
【００３３】
【化５】
0004098487.tif 000006
【００３４】
式中、Ｒ21及びＲ22はそれぞれ独立に炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数７〜１５のアラルキル基、炭素原子数６〜１４のアリール基、炭素原子数１〜１０のヘテロ環基、炭素原子数２〜２１のアシル基、炭素原子数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素原子数６〜１４のアリールスルホニル基、炭素原子数０〜３２のカルバモイル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素原子数７〜１５のアリールオキシカルボニル基を表す。
【００３５】
一般式（Ｉ−Ｂ）において、 Ｒ21及びＲ22として好ましいものは、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数７〜１５のアラルキル基、炭素原子数６〜１４のアリール基であり、更に好ましくは、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数６〜１０のアリール基であり、特に炭素原子数１〜１０のアルキル基又はフェニルが好ましい。
【００３６】
一般式（Ｉ−Ｂ）において、Ｒ21及びＲ22は更に置換基を有していてもよく、置換基の例及びその好ましいものは、一般式（Ｉ）のＡ及びＲの置換基の場合と同様である。
【００３７】
上記の一般式（Ｉ）、（Ｉ−Ａ）及び（Ｉ−Ｂ）のいずれかで表される化合物は、任意の位置で結合して多量体を形成していてもよく、この場合の各単位は互いに同一でも異なっていてもよい。また、上記化合物は、ポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリビニルアルコール、セルロース等のポリマー鎖に結合していてもよい。
【００３８】
本発明の光情報記録媒体の記録層には、上記一般式（Ｉ）で表される１−アシル−２−ヒドロキシ芳香族化合物のうち特定の化合物を単独で使用してもよく、構造の異なる化合物を複数種混合して使用してもよい。安定した記録特性を得るためには、特定の化合物を単独で使用するのが好ましい。
【００３９】
以下に、本発明で用いられる１−アシル−２−ヒドロキシ芳香族化合物の好ましい具体例を挙げるが、１−アシル−２−ヒドロキシ芳香族化合物はこれらに限定されるものではない。
【００４０】
【化６】
0004098487.tif 000007
【００４１】
【化７】
0004098487.tif 000008
【００４２】
【化８】
0004098487.tif 000009
【００４３】
【化９】
0004098487.tif 000010
【００４４】
【化１０】
0004098487.tif 000011
【００４５】
【化１１】
0004098487.tif 000012
【００４６】
本発明に用いられる１−アシル−２−ヒドロキシ芳香族化合物は、例えば、‘Evolution of Modern Sunscreen Chemicals, in Sunscreens-Development, Evaluation, and Regulatory Aspects, 2nd Ed’(N.J.Lowe, N.A.Shaath,and M.A.Pathak,eds.),Marcel Dekker,New York(1997)、欧州特許ＥＰ５２１８２３Ａ、特開昭５３−７５１８６号公報等に記載の方法、これらに引用されている文献に記載の方法もしくはこれらに類似の方法により合成することができる。
【００４７】
次に、本発明の光情報記録媒体の構造について説明する。上記の通り、本発明の光情報記録媒体は、基板上に１−アシル−２−ヒドロキシ芳香族化合物を含有する記録層を有するものであれば、特に制限はないが、本発明の光情報記録媒体は、一定のトラックピッチのプレグルーブが形成された円盤状基板上に記録層、光反射層および保護層をこの順に有する構成、または該基板上に光反射層、記録層および保護層をこの順に有する構成であることが好ましい。なお、基板上に光反射層、記録層および保護層をこの順に形成した光情報記録媒体では、保護層側からレーザ光を照射して記録層への情報の記録及び再生を行う。また、一定のトラックピッチのプレグルーブが形成された透明な円盤状基板上に記録層及び光反射層が設けられてなる二枚の積層体が、それぞれの記録層が内側となるように接合された構成も好ましい。
【００４８】
基板上に形成されるプレグルーブは、トラッキング用溝又はアドレス信号等の情報を表す凹凸（プレグルーブ）であり、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形あるいは押出成形する際に直接基板上に前記の通り一定のトラックピッチで形成される。
【００４９】
また、プレグルーブの形成を、プレグルーブ層を設けることにより行ってもよい。プレグルーブ層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよびテトラエステルのうち少なくとも一種のモノマー（又はオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いることができる。プレグルーブ層の形成は、例えば、まず精密に作られた母型（スタンパー）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に基板を載せたのち、基板又は母型を介して紫外線を照射することにより塗布層を硬化させて基板と塗布層とを固着させる。次いで、基板を母型から剥離することにより得ることができる。プレグルーブ層の層厚は、一般に０．０５〜１００μｍの範囲にあり、好ましくは０．１〜５０μｍの範囲である。
【００５０】
本発明の光情報記録媒体は、波長４５０ｎｍ以下の短波長レーザ対応の光ディスクであり、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒよりも高い記録密度を達成するために、より狭いトラックピッチのプレグルーブが形成された基板を用いることが可能である。本発明の光情報記録媒体の場合、該トラックピッチは０．２〜０．８μｍの範囲にあることが好ましく、０．２〜０．５μｍの範囲にあることがより好ましく、０．２〜０．４μｍの範囲にあることが更に好ましい。プレグルーブの深さは、０．０３〜０．１８μｍの範囲にあることが好ましく、更に０．０５〜０．１５μｍの範囲にあることが好ましく、特に０．０６〜０．１μｍの範囲にあることが好ましい。
【００５１】
次に、本発明の光情報記録媒体を、円盤状基板上に記録層、光反射層、及び保護層をこの順に有する構成とした場合を例にとって、光情報記録媒体の構成をその製造工程に従い詳細に説明する。
【００５２】
本発明の光情報記録媒体の基板は、従来の光情報記録媒体の基板として用いられている各種の材料から任意に選択することができる。基板材料としては、例えばガラス、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリエステルなどを挙げることができ、所望によりそれらを併用してもよい。なお、これらの材料はフィルム状としてまたは剛性のある基板として使うことができる。上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および価格などの点からポリカーボネートが好ましい。
【００５３】
記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上および記録層の変質防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層の材料としては例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；およびシランカップリング剤などの表面改質剤を挙げることができる。下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００５４】
基板（または下塗層）のプレグルーブが設けられる側の表面には、上記の１−アシル−２−ヒドロキシ芳香族化合物を含有する記録層が設けられる。記録層の形成は、１−アシル−２−ヒドロキシ芳香族化合物、更に所望によりクエンチャー、結合剤などを溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することにより行うことができる。塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；メチルシクロヘキサンなどの炭化水素；ジブチルエーテル、エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テトラフロロプロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることができる。上記溶剤は使用する１−アシル−２−ヒドロキシ芳香族化合物の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００５５】
結合剤を使用する場合に、結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に１−アシル−２−ヒドロキシ芳香族化合物に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液中の１−アシル−２−ヒドロキシ芳香族化合物の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【００５６】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる。記録層は単層でも重層でもよい。記録層の層厚は一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜１００ｎｍの範囲にある。
【００５７】
記録層には、記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号、同５９−８１１９４号、同６０−１８３８７号、同６０−１９５８６号、同６０−１９５８７号、同６０−３５０５４号、同６０−３６１９０号、同６０−３６１９１号、同６０−４４５５４号、同６０−４４５５５号、同６０−４４３８９号、同６０−４４３９０号、同６０−５４８９２号、同６０−４７０６９号、同６３−２０９９９５号、特開平４−２５４９２号、特公平１−３８６８０号、及び同６−２６０２８号等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁などに記載のものを挙げることができる。好ましい一重項酸素クエンチャーの例としては、下記の一般式（II）で表される化合物を挙げることができる。
【００５８】
【化１２】
0004098487.tif 000013
【００５９】
（但し、Ｒ31は置換基を有していてもよいアルキル基を表し、そしてＱ-はアニオンを表す。）
一般式（II）において、Ｒ31は置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基が一般的であり、無置換の炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。アルキル基の置換基としては、ハロゲン原子（例、Ｆ，Ｃｌ）、アルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ）、アルキルチオ基（例、メチルチオ、エチルチオ）、アシル基（例、アセチル、プロピオニル）、アシルオキシ基（例、アセトキシ、プロピオニルオキシ）、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル）、アルケニル基（例、ビニル）、アリール基（例、フェニル、ナフチル）を挙げることができる。これらの中で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基が好ましい。Ｑ-のアニオンの好ましい例としては、ＣｌＯ4-、ＡｓＦ6-、ＢＦ4-、及びＳｂＦ6-を挙げることができる。一般式（II）で表される化合物例を下記表１に記載する。
【００６０】
【表１】
0004098487.tif 000014
【００６１】
前記一重項酸素クエンチャーなどの褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００６２】
記録層上には、情報の再生時における反射率の向上の目的で光反射層が設けられる。光反射層の材料である光反射性物質はレーザに対する反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ金属、Ａｇ金属、Ａｌ金属あるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｇ金属、Ａｌ金属あるいはそれらの合金である。光反射層は、例えば、上記光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより基板もしくは記録層の上に形成することができる。光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲にあり、５０〜２００ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【００６３】
光反射層上には、記録層などを物理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられる。なお、ＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録媒体の製造の場合と同様の形態、すなわち二枚の基板を記録層を内側にして張り合わせる構成をとる場合は、必ずしも保護層の付設は必要ではない。保護層に用いられる材料の例としては、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2、Ｓｉ3Ｎ4等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。保護層は、例えばプラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着剤を介して反射層上にラミネートすることにより形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層の層厚は一般には０．１μｍ〜１ｍｍの範囲にある。
【００６４】
以上の工程により、基板上に、記録層、光反射層そして保護層が設けられた積層体を製造することができる。なお、上記では、基板上に記録層、光反射層及び保護層を積層した構成の光情報記録媒体を例にとって説明したが、記録層上に光反射層及び保護層を設けるか否かは任意である。
【００６５】
次に、本発明の光情報記録媒体を用いた情報記録方法について説明する。まず、本発明の光情報記録媒体を定線速度（ＣＤフォーマットの場合は１．２〜１．４ｍ／秒）または定角速度にて回転させながら、基板側あるいは保護層側から半導体レーザ等の光源を用いて記録用のレーザ光を照射する。このレーザ光照射により記録層がそのレーザ光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変え、これによって情報が記録されると考えられる。
【００６６】
本発明においては、レーザ光源として３９０〜４５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザが用いられる。好ましい光源としては３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザ、中心発振波長５１５ｎｍの青緑色半導体レーザ、中心発振波長８５０ｎｍの赤外半導体レーザを光導波路型の第２高調波発生素子（ＳＨＧ素子）を使って半分の波長にした中心発振波長４２５ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザを挙げることができる。中でも記録密度の点で青紫色半導体またはＳＨＧレーザを用いることが特に好ましい。上記のように記録された情報の再生は、本発明の光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら再生用のレーザ光を基板側あるいは保護層側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【００６７】
【実施例】
次に、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００６８】
［実施例１］
例示化合物（１）をジブチルエーテルに溶解し、記録層形成用塗布液（濃度：１質量％）を得た。この塗布液を表面にスパイラル状のプレグルーブ（トラックピッチ：０．４μｍ、グルーブ幅：０．２μｍ、グルーブの深さ：０．０８μｍ）が射出成形により形成されたポリカーボネート基板（直径：１２０ｍｍ、厚さ：０．６ｍｍ）のそのプレグルーブ側の表面にスピンコート法により塗布し、記録層（厚さ（プレグルーブ内）：約８０ｎｍ）を形成した。
次に、記録層上に銀をスパッタして厚さ約１００ｎｍの光反射層を形成した。更に、光反射層上にＵＶ硬化性樹脂（ＳＤ３１８、大日本インキ化学工業（株）製）を塗布し、紫外線を照射して硬化させ、層厚７μｍの保護層を形成した。
以上の工程により本発明に従う光ディスクを得た。
【００６９】
[実施例２]〜[実施例８]
例示化合物（１）を表２に示す例示化合物に代えた（使用量は変更なし）こと以外は実施例１と同様にして、本発明に従う光ディスクを作製した。
【００７０】
[比較例１]〜[比較例４]
例示化合物（１）を下記に示す比較用色素化合物（Ａ）〜（Ｄ）（使用量は変更なし）に変更したこと以外は実施例１と同様にして、比較用の光ディスクを作製した。
【００７１】
【化１３】
0004098487.tif 000015
【００７２】
［光ディスクとしての評価］
作製した光ディスクに線速度３．５ｍ／秒で１４Ｔ−ＥＦＭ信号を発振波長４０５ｎｍの青紫色半導体レーザを用いて記録したのち、記録した信号を再生した。最適パワーでの変調度、グルーブ反射率、及び感度を測定した。記録可能性の確認および記録特性評価は、パルステック社製「ＤＤＵ１０００」を用いて行った。評価結果を下記表２に示す。
【００７３】
【表２】
0004098487.tif 000016
【００７４】
表２の結果から、本発明の特徴とする１−アシル−２−ヒドロキシ芳香族化合物を含有する記録層を有する光ディスク（実施例１〜８）は、上記青紫色半導体レーザからのレーザ光に対して６０％以上と高い反射率を示し、かつ５５％以上の高い変調度を与え、しかも記録感度が７．８ｍＷ以下と高感度であることがわかる。従って、本発明に従い１−アシル−２−ヒドロキシ芳香族化合物を記録物質として記録層に含有することで、短波長レーザ光に対して良好な記録特性を具えた光ディスクが得られることがわかる。一方、比較例の光ディスク（比較例１〜４）はいずれも記録感度が８．０ｍＷ以上と低感度であり、比較化合物（Ａ）を含む記録層を有する光ディスク（比較例１）はレーザ光に対する反射率が３６％と低反射率であることが分かる。即ち、本発明に従う光ディスクは波長４０５ｎｍの青紫色レーザ光に対して高感度、高反射率、及び高変調度を示したのに対し、比較例の光ディスクでは３つの特性のいずれかが劣っており、記録特性が低下していることが分かる。
【００７５】
【発明の効果】
本発明の光情報記録媒体は、波長４５０ｎｍ以下、とりわけ汎用性の高い波長４０５ｎｍ付近のレーザ光を照射して情報の高密度記録及び再生が可能であり、且つ波長４５０ｎｍ以下のレーザ光に対しても高感度、高反射率、高変調度を示し、優れた記録特性を有する、という効果を奏する。これによりＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒよりも更に高密度記録が可能となり、更に大容量の光情報記録媒体を提供することができる。