(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸体の外周に、シリコーンゴムを主成分とし、かつその外周面が活性化処理されているベースゴム層が形成され、このベースゴム層の外周面に塗膜層が形成されたＯＡ機器用ローラであって、上記塗膜層が、下記の（Ａ）および（Ｂ）を含有するゴム組成物によって形成されていることを特徴とするＯＡ機器用ローラ。
（Ａ）アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ），アクリルゴム（ＡＣＭ），ブタジエンゴム（ＢＲ），イソプレンゴム（ＩＲ），スチレン−ブタジエンゴム（ＳＢＲ），クロロプレンゴム（ＣＲ），ヒドリンゴム（ＥＣＯ，ＣＯ）およびウレタンゴムからなる群から選ばれた少なくとも一つ。
（Ｂ）下記の一般式（１）および（２）のいずれかの式で表されるシランカップリング剤。
【化１】
0004178759.tif 000005
〔式中、Ｙ1 は、ビニル基，グリシドキシ基，メルカプト基，アミノ基，エポキシ基，イソシアネート基，メタクリル基あるいはこれらの官能基を含むその他の置換基である。また、ｎは１または２である。〕
【化２】
0004178759.tif 000006
〔式中、Ｙ2 は、ビニル基である。〕
【請求項２】
上記（Ｂ）のシランカップリング剤が、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン，γ−（メタクリロキシプロピル）トリメトキシシラン，ビニルトリス（βメトキシエトキシ）シラン，γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン，Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン，γ−アミノプロピルトリエトキシシラン，Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン，ビスプロピルトリエトキシシランテトラスルフィド，イソシアン酸プロピルトリエトキシシランからなる群から選ばれた少なくとも一種である請求項１記載のＯＡ機器用ローラ。
【請求項３】
上記（Ａ）のゴム材料が、アクリロニトリル−ブタジエンゴムである請求項１または２記載のＯＡ機器用ローラ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、複写機，プリンター，ファクシミリ装置等のＯＡ機器に用いられる、現像ローラ，帯電ローラ，転写ローラ，給紙ローラ，除電ローラ，定着ローラ等のＯＡ機器用ローラに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
現像ローラ等のＯＡ機器用ローラとしては、例えば、軸体の外周にシリコーンゴムによってベースゴム層が形成され、さらにこのベースゴム層の外周面に、接着剤層を介して、水素添加アクリロニトリル−ブタジエンゴム（以下「Ｈ−ＮＢＲ」と略す）やアクリロニトリル−ブタジエンゴム（以下「ＮＢＲ」と略す）等のゴム材料（コーティング液）によって塗膜層が形成されたローラが実用化されている。そして、上記ローラには、ベースゴム層から塗膜層が容易に剥離しないよう、例えば、ベースゴム層の外周面にコロナ放電等の処理が施されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、接着剤が塗布されたベースゴム層の上に、上記コーティング液を塗布して塗膜層を形成する際に、上記コーティング液中に接着剤が混入することがあり、この混入が生じると、上記コーティング液からなる塗膜層の性能が低下するといった問題が生じる。また、上記接着剤は失活しやすいため、得られるローラの品質にばらつきが生じやすくなるといった難点がある。さらに、接着剤を塗布する工程が増えることにより、生産コストが高くなるという問題も生じる。
【０００４】
他方、Ｈ−ＮＢＲを用いて塗膜層を形成した場合、塗膜層の硬度が高くなるため、得られるローラの表面にはしわや傷が入りやすくなるといった難点がある。
【０００５】
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、接着剤を介さなくても塗膜層の剥離等を充分に防止することができるＯＡ機器用ローラの提供をその目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明のＯＡ機器用ローラは、軸体の外周に、シリコーンゴムを主成分とし、かつその外周面が活性化処理されているベースゴム層が形成され、このベースゴム層の外周面に塗膜層が形成されたＯＡ機器用ローラであって、上記塗膜層が、下記の（Ａ）および（Ｂ）を含有するゴム組成物によって形成されているという構成をとる。
（Ａ）アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ），アクリルゴム（ＡＣＭ），ブタジエンゴム（ＢＲ），イソプレンゴム（ＩＲ），スチレン−ブタジエンゴム（ＳＢＲ），クロロプレンゴム（ＣＲ），ヒドリンゴム（ＥＣＯ，ＣＯ）およびウレタンゴムからなる群から選ばれた少なくとも一つ。
（Ｂ）下記の一般式（１）および（２）のいずれかの式で表されるシランカップリング剤。
【化３】
Ｙ1 −Ｃ3 Ｈ6 Ｓｉ（ＯＣn Ｈ2n+1）3 …（１）
〔式中、Ｙ1 は、ビニル基，グリシドキシ基，メルカプト基，アミノ基，エポキシ基，イソシアネート基，メタクリル基あるいはこれらの官能基を含むその他の置換基である。また、ｎは１または２である。〕
【化４】
Ｙ2 −Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ4 ＯＣＨ3 ）3 …（２）
〔式中、Ｙ2 は、ビニル基である。〕
【０００７】
すなわち、本発明者らは、前記課題を解決すべく、塗膜層形成材料を中心に一連の研究を重ねた。その結果、塗膜層形成材料として水素添加アクリロニトリル−ブタジエン系ゴム以外のゴム材料（但し、フッ素ゴムを除く。）を用いた場合であっても、この塗膜層形成材料に上記特定のシランカップリング剤（Ｂ）を配合することにより、シリコーンゴムを主成分とするベースゴム層の活性化処理面に対して、上記シランカップリング剤（Ｂ）が化学的に作用し塗膜層を強固に固定するため、塗膜層を形成する際に、従来のような接着剤の塗布が不必要となることを突き止め、本発明に到達した。
【０００８】
ここで、本発明において、「活性化処理」とは、コロナ放電，プラズマ放電等によって、ベースゴム層の外周面に化学変化等を生起させる処理のことをいう。
【０００９】
特に、上記（Ｂ）のシランカップリング剤が、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン，γ−（メタクリロキシプロピル）トリメトキシシラン，ビニルトリス（βメトキシエトキシ）シラン，γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン，Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン，γ−アミノプロピルトリエトキシシラン，Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン，ビスプロピルトリエトキシシランテトラスルフィド，イソシアン酸プロピルトリエトキシシランからなる群から選ばれた少なくとも一種である場合、塗膜層がより強固にベースゴム層に結合するようになる。
【００１０】
また、上記（Ａ）のゴム材料としてアクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）を用いると、水素添加アクリロニトリル−ブタジエン系ゴムを用いたときよりも低硬度の塗膜層を得ることができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
つぎに、本発明の実施の形態を詳しく説明する。
【００１２】
本発明のＯＡ機器用ローラは、例えば、図１に示すように、軸体１と、この軸体１の外周面に形成されるベースゴム層２と、このベースゴム層２の外周面に形成される塗膜層３とを備えたものである。そして、上記ベースゴム層２の外周面に先に述べたような活性化処理がなされている。
【００１３】
上記軸体１としては、特に限定されるものではなく、例えば、金属製の芯金や、金属製の中空円筒体が用いられる。そして、その金属材料としては、アルミニウム、ステンレス等があげられる。
【００１４】
上記軸体１の外周面に形成されるベースゴム層２の主成分であるシリコーンゴムとしては、特に限定されるものではないが、ジメチルシリコーンポリマーに架橋サイトとしてビニル基を付加したものに、ジメチルシリコーンオイルを添加したものを用いることが好ましい。
【００１５】
なお、本発明において、シリコーンゴムを主成分とするとは、上記ベースゴム層２がシリコーンゴムのみからなる場合も含む趣旨である。
【００１６】
また、上記ベースゴム層２には、上記シリコーンゴムに加えてカーボンブラック等の導電剤を配合することも可能である。
【００１７】
上記ベースゴム層２の外周面に形成される塗膜層３は、ゴム材料（Ａ）および特定のシランカップリング剤（Ｂ）を含有するゴム組成物によって形成されている。
【００１８】
上記ゴム材料（Ａ）としては、水素添加アクリロニトリル−ブタジエン系ゴムおよびフッ素ゴム以外のものが用いられ、具体的には、アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ），アクリルゴム（ＡＣＭ），ブタジエンゴム（ＢＲ），イソプレンゴム（ＩＲ），スチレン−ブタジエンゴム（ＳＢＲ），クロロプレンゴム（ＣＲ），ヒドリンゴム（ＥＣＯ，ＣＯ），ウレタンゴムが用いられる。なかでも、低硬度の点等から、ＮＢＲが好適に用いられる。
【００１９】
上記特定のシランカップリング剤（Ｂ）としては、下記の一般式（１）および（２）のいずれかの式で表されるものがあげられる。
【００２０】
【化５】
Ｙ1 −Ｃ3 Ｈ6 Ｓｉ（ＯＣn Ｈ2n+1）3 …（１）
〔式中、Ｙ1 は、ビニル基，グリシドキシ基，メルカプト基，アミノ基，エポキシ基，イソシアネート基，メタクリル基あるいはこれらの官能基を含むその他の置換基である。また、ｎは１または２である。〕
【００２１】
【化６】
Ｙ2 −Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ4 ＯＣＨ3 ）3 …（２）
〔式中、Ｙ2 は、ビニル基である。〕
【００２２】
上記一般式（１）で表されるシランカップリング剤としては、好ましくは、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン，γ−（メタクリロキシプロピル）トリメトキシシラン，γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン，Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン，γ−アミノプロピルトリエトキシシラン，Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン，ビスプロピルトリエトキシシランテトラスルフィド，イソシアン酸プロピルトリエトキシシランがあげられる。また、上記一般式（２）で表されるシランカップリング剤としては、好ましくは、ビニルトリス（βメトキシエトキシ）シランがあげられる。なお、これらのシランカップリング剤は、単独であるいは二種以上併せて用いられる。そして、これらのなかでも、導電性に影響を与えないという点で、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランが、より好適に用いられる。
【００２３】
上記特定のシランカップリング剤（Ｂ）の配合割合は、特に限定されるものではないが、ゴム材料（Ａ）１００重量部（以下、「部」と略す）に対して０．０１〜１５部の範囲に設定することが好ましい。より好ましくは０．１〜５部の範囲である。すなわち、上記特定のシランカップリング剤（Ｂ）の含有量が０．０１部未満では、特定のシランカップリング剤（Ｂ）の効果が充分に発揮されず層間剥離を生じやすくなる傾向がみられ、逆に１５部を超えると、形成される塗膜層３の硬度が高くなりすぎる傾向がみられるからである。
【００２４】
なお、上記塗膜層３形成材料であるゴム組成物には、上記（Ａ）および（Ｂ）に加えて、導電剤，発泡剤，架橋剤，架橋促進剤，オイル等を適宜配合しても差し支えない。
【００２５】
また、上記塗膜層３形成材料は、有機溶剤に溶解等することにより、コーティング液として使用に供される。上記有機溶剤としては、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メタノール、トルエン、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド等があげられる。これらは単独でもしくは２種以上併せて用いられる。特に、上記塗膜層３形成材料に対する溶解性の点で、上記有機溶剤としてメチルエチルケトンを用いることが好ましい。そして、このようにして得られるコーティング液は、粘度を０．００５〜６Ｐａ・ｓにすることが、塗工性等の点で好ましい。
【００２６】
本発明のＯＡ機器用ローラは、例えば、つぎのようにして製造することができる。
【００２７】
すなわち、まず、前記ベースゴム層２形成材料用の各成分をニーダー等の混練機で混練してベースゴム層２形成材料を調製し、これを、図２に示すように、下蓋１５をセットした金属製の軸体（芯金）１と円筒型１６との間の空隙部に注型する。ついで、上蓋１７を円筒型１６に外嵌し、このローラ型全体を加熱して上記ベースゴム層２形成材料を加硫した後（１５０〜２２０℃×２０分）、ローラ型から取り出して、ベースゴム層２を形成する。このようにして形成されたベースゴム層２の外周面を、コロナ放電処理を施すことによって活性化させる。
【００２８】
一方、ゴム材料（Ａ）、シランカップリング剤（Ｂ）および必要に応じて導電剤等の成分を配合したものを有機溶剤とともにニーダー等の混練機で混練して、塗膜層３形成材料（コーティング液）を調製する。
【００２９】
つぎに、上記コーティング液を、上記コロナ放電処理がなされたベースゴム層２の外周面に塗布する。この塗工法は、特に制限するものではなく、ディッピング法、スプレー法、ローラコート法等の従来の方法が適用できる。そして、塗工後、乾燥および加熱処理を行うことによりベースゴム層２の外周面に塗膜層３を形成する。このようにして、図１に示すような２層構造のＯＡ機器用ローラを得ることができる。このようにして得られたＯＡ機器用ローラにおいて、ベースゴム層２の厚みは、通常、０．５〜１０ｍｍの範囲に設定することが好ましく、特に好ましくは１〜５ｍｍである。また、上記塗膜層３の厚みは１〜１００μｍの範囲に設定することが好ましく、特に好ましくが好ましくは３〜３０μｍである。
【００３０】
なお、上記活性化処理は、コロナ放電処理に限定されるものではなく、例えばプラズマ放電処理等によって行うことも可能である。
【００３１】
また、本発明のＯＡ機器用ローラは、２層構造に限定されるものではなく、例えば、上記塗膜層３の外周面に、さらに表層を形成しても差し支えない。
【００３２】
本発明のＯＡ機器用ローラは、例えば、現像ローラ，帯電ローラ，転写ローラ，給紙ローラ，除電ローラ，定着ローラ等に適用することができる
【００３３】
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。
【００３４】
【実施例１】
〔ベースゴム層形成材料の調製〕
Ｘ−３４−４２４  Ａ／Ｂ（シリコーンゴム、信越化学工業社製）１００部と、Ｘ−３４−３８７  Ａ／Ｂ（シリコーンゴム、信越化学工業社製）１００部とを混合分散して、ベースゴム層形成材料を調製した。
【００３５】
〔塗膜層形成材料の調製〕
ＮＢＲ（ニポールＤＮ４０１、日本ゼオン社製）１００部と、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン（Ａ−１８９、日本ユニカー社製）１部と、ステアリン酸（ルナックＳ３０、花王社製）０．５部と、亜鉛華（ＺｎＯ）５部と、アセチレンブラック３０部と、サンセラーＣＺ−Ｇ（三新化学社製）１．０７部と、ノクセラーＢＺ−Ｐ（大内新興化学社製）０．４９部と、粉末硫黄１部とを混合分散させて、塗膜層形成材料であるゴム組成物を調製した。
【００３６】
〔ロ−ルの作製〕
つぎに、軸体１としてＳＵＳ３０３製芯金（直径１０ｍｍ）を準備し、この外周面に接着剤を塗布したものを、ローラ型内部にセットし、上記軸体とローラ型内周面の間の空隙部に上記ベースゴム層２形成材料であるコンパウンドを注型し（図２参照）、加熱加硫（１８０℃×１時間）させた後、脱型して、さらに２次加硫処理（２００℃×４時間）することにより軸体１の外周にベースゴム層２（厚み５ｍｍ）を形成した。このようにして得られたベースゴム層２付き軸体１を上記金型から脱型し、上記ベースゴム層２外周面に、高周波電源装置を用い、コロナ放電を発生させ、電極との距離３ｍｍ、角度９０度にて１０秒間コロナ処理を行った。そして、上記処理がなされたベースゴム層２の外周面に、上記塗膜層形成材料からなるコーティング液を塗布後、乾燥および加熱処理を行うことによりベースゴム層２の外周面に塗膜層３（厚み５μｍ）を形成し、２層構造のローラを得た（図１参照）。
【００３７】
【実施例２】
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランに代えて、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン（Ａ−１８７、日本ユニカー社製）を５部配合する以外は実施例１と同様にして、塗膜層形成材料を調製した。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを作製した。
【００３８】
【実施例３】
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランの配合割合を１５部に変更する以外は実施例１と同様にして、塗膜層形成材料を調製した。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを作製した。
【００３９】
【実施例４】
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランの配合割合を０．０１部に変更する以外は実施例１と同様にして、塗膜層形成材料を調製した。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを作製した。
【００４０】
【実施例５】
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランの配合割合を２０部に変更する以外は実施例１と同様にして、塗膜層形成材料を調製した。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを作製した。
【００４１】
【実施例６】
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランの配合割合を０．００５部に変更する以外は実施例１と同様にして、塗膜層形成材料を調製した。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを作製した。
【００４２】
【実施例７】
ＡＣＭ（デンカＥＲ３４００、電気化学社製）１００部と、γ−（メタクリロキシプロピル）トリメトキシシラン（Ａ−１７４、日本ユニカー社製）５部と、ステアリン酸０．５部と、亜鉛華（ＺｎＯ）５部と、アセチレンブラック３０部と、Ｄｉａｋ♯１  １部と、ソクシノールＤＴ（住友化学社製）２部とを混合分散させて、塗膜層形成材料であるゴム組成物を調製した。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを作製した。
【００４３】
【実施例８】
ＢＲ（ニポールＢＲ１２２０ＮＭ、日本ゼオン社製）１００部と、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン５部と、ステアリン酸０．５部と、亜鉛華（ＺｎＯ）５部と、アセチレンブラック３０部と、サンセラーＣＺ−Ｇ（三新化学社製）１．０７部と、ノクセラーＢＺ−Ｐ（大内新興化学社製）０．４９部と、粉末硫黄１部とを混合分散させて、塗膜層形成材料であるゴム組成物を調製した。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを作製した。
【００４４】
【実施例９】
ＩＲ（クラプレンＩＲ−１０、クラレ社製）１００部と、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン５部と、ステアリン酸０．５部と、亜鉛華（ＺｎＯ）５部と、アセチレンブラック３０部と、サンセラーＣＺ−Ｇ  １．０７部と、ノクセラーＢＺ−Ｐ  ０．４９部と、粉末硫黄１部とを混合分散させて、塗膜層形成材料であるゴム組成物を調製した。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを作製した。
【００４５】
【実施例１０】
ヒドリンゴム（エピクロマーＣＧ１０２、ダイソー社製）１００部と、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン５部と、ステアリン酸０．５部と、亜鉛華（ＺｎＯ）５部と、アセチレンブラック３０部と、ハイドロタルサイトＤＨＴ−４Ａ（協和化学工業社製）５部と、サンセラーＣＺ−Ｇ  １．０７部と、ノクセラーＢＺ−Ｐ  ０．４９部と、粉末硫黄１部とを混合分散させて、塗膜層形成材料であるゴム組成物を調製した。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを作製した。
【００４６】
【実施例１１】
ＳＢＲ（タフデン２０００Ｒ、旭化成社製）１００部と、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン５部と、ステアリン酸０．５部と、亜鉛華（ＺｎＯ）５部と、アセチレンブラック３０部と、ノクセラーＤＭ−Ｐ（大内新興化学社製）１．５部と、ノクセラーＴＲＡ（大内新興化学社製）０．６部と、粉末硫黄０．４３部とを混合分散させて、塗膜層形成材料であるゴム組成物を調製した。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを作製した。
【００４７】
【実施例１２】
ＣＲ（ネオプレンＷＲＴ、昭和電気・デュポン社製）１００部と、ビスプロピルトリエトキシシランテトラスルフィド（Ａ−１２８９、日本ユニカー社製）５部と、ステアリン酸０．５部と、亜鉛華（ＺｎＯ）５部と、酸化マグネシウム（キョーワマグ♯１５０、協和化学社製）４部と、アセチレンブラック３０部と、サンセラー２２Ｃ（三新化学社製）１部とを混合分散させて、塗膜層形成材料であるゴム組成物を調製した。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを作製した。
【００４８】
【実施例１３】
ウレタンゴム（ＵＮ２７８、坂井化学工業社製）１００部と、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン５部と、アセチレンブラック３０部と、ステアリン酸亜鉛１部と、ノクセラーＤＭ−Ｐ  ４部と、粉末硫黄１部と、キュラセン１部と、ソクシノールＭ−Ｐ（住友化学社製）２部とを混合分散させて、塗膜層形成材料であるゴム組成物を調製した。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを作製した。
【００４９】
【比較例１】
シランカップリング剤を配合しないこと以外は実施例１と同様にして、塗膜層形成材料を調製した。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを作製した。
【００５０】
【比較例２】
シランカップリング剤を配合しないこと以外は実施例７と同様にして、塗膜層形成材料を調製した。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを作製した。
【００５１】
【比較例３】
シランカップリング剤を配合しないこと以外は実施例８と同様にして、塗膜層形成材料を調製した。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを作製した。
【００５２】
【比較例４】
シランカップリング剤を配合しないこと以外は実施例９と同様にして、塗膜層形成材料を調製した。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを作製した。
【００５３】
【比較例５】
シランカップリング剤を配合しないこと以外は実施例１０と同様にして、塗膜層形成材料を調製した。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを作製した。
【００５４】
【比較例６】
シランカップリング剤を配合しないこと以外は実施例１１と同様にして、塗膜層形成材料を調製した。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを作製した。
【００５５】
【比較例７】
シランカップリング剤を配合しないこと以外は実施例１２と同様にして、塗膜層形成材料を調製した。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを作製した。
【００５６】
【比較例８】
シランカップリング剤を配合しないこと以外は実施例１３と同様にして、塗膜層形成材料を調製した。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを作製した。
【００５７】
このようにして得られた各ローラについて、ベースゴム層と塗膜層との層間接着力および塗膜層の表面硬度を下記の方法に従って測定し、評価した。その結果を後記の表１〜表３に示した。
【００５８】
〔層間接着力〕
図３（ａ）に示すように、ローラの塗膜層３に対し、その外周に沿って、破線Ｘで示される幅２．５ｃｍの切り込みを入れ、さらに、上記塗膜層３に対して芯金方向に切り込み（破線Ｙ）を入れて、そこから塗膜層３を少し剥がし、図３（ｂ）に示すように、剥がされた塗膜層３の端部をＡＧＳオートグラフ（シマヅ社製）で垂直に引き上げて（矢印Ｚ方向）、その引張り強度を測定した。そして、引張り強度が３Ｎ以上のものを○、１Ｎ以上３Ｎ未満のものを△、１Ｎ未満のものを×として表示した。
【００５９】
〔表面硬度〕
上記ローラに形成された塗膜層３の表面硬度を、マイクロゴム硬度計ＭＤ−１型（高分子計器社製）を用いて測定し、評価した。すなわち、ＭＤ−１が４５°未満のものを◎、４５°以上４７°未満のものを○、４７°以上４９°未満のものを△、４９°以上のものを×として表示した。
【００６０】
【表１】
0004178759.tif 000002
【００６１】
【表２】
0004178759.tif 000003
【００６２】
【表３】
0004178759.tif 000004
【００６３】
上記表１〜表３の結果から、実施例品はいずれも、ベースゴム層２と塗膜層３との層間接着力に優れており、かつ塗膜層３の表面硬度も良好であることがわかる。これに対して、比較例品は、層間接着力あるいは表面硬度のいずれかの評価に劣るものであることがわかる。
【００６４】
【発明の効果】
以上のように、本発明のＯＡ機器用ローラは、シリコーンゴムを主成分とするベースゴム層の活性化処理面に、特定のゴム材料（Ａ）および特定のシランカップリング剤（Ｂ）を含有するゴム組成物からなる塗膜層が形成され構成されている。すなわち、本発明では、上記特定のシランカップリング剤（Ｂ）の化学的作用によって、ベースゴム層の活性化処理面と塗膜層とが強固に合一体化するため、上記ベースゴム層の活性化処理面に対して接着剤を塗布しなくても、塗膜層の剥がれや破れ等の発生を防止できる。また、上記接着剤の塗布工程が不要となるため、工程の省略化を実現することができる。
【００６５】
特に、上記（Ｂ）のシランカップリング剤が、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン，γ−（メタクリロキシプロピル）トリメトキシシラン，ビニルトリス（βメトキシエトキシ）シラン，γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン，Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン，γ−アミノプロピルトリエトキシシラン，Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン，ビスプロピルトリエトキシシランテトラスルフィド，イソシアン酸プロピルトリエトキシシランからなる群から選ばれた少なくとも一種である場合、塗膜層がより強固にベースゴム層に結合するようになるため、ＯＡ機器用ローラとして特に好適なものとなる。
【００６６】
また、上記（Ａ）のゴム材料としてＮＢＲを用いた場合、水素添加アクリロニトリル−ブタジエン系ゴムを用いたときよりも低硬度の塗膜層を得ることができるため、ＯＡ機器用ローラとして特に好適なものとなる。
【００６７】
本発明のＯＡ機器用ローラは、例えば現像ローラとして電子写真複写機に組み込み使用すると、画質の低下が防止され、高画質の複写画像が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のＯＡ機器用ローラの一例を示す断面図である。
【図２】本発明のＯＡ機器用ローラの製法を示す説明図である。
【図３】（ａ）はローラの側面図であり、（ｂ）はローラの塗膜層の層間接着力の測定方法を説明するための模式図である。
【符号の説明】
１    軸体
２    ベースゴム層
３    塗膜層
【図１】
0004178759.tif 000007
【図２】
0004178759.tif 000008
【図３】
0004178759.tif 000009