(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロ波空洞と、
マイクロ波空洞の外側を冷却する手段と、
溶融される可融合性材料を前記空洞の内部に供給する手段と、
前記空洞内の全体にわたって供給された材料の溶融及び再固化により形成され、前記空洞の中心において可融合性材料を含有する坩堝であって、該坩堝は、溶融していない材料の層により、前記マイクロ波空洞を画定する壁から隔てられており、前記溶融していない材料の層は、坩堝と前記空洞を画定する壁との接触を防止する坩堝と、
マイクロ波空洞の中心部に位置する可融合性材料が溶融するとともに、坩堝において前記壁に接触する箇所を形成する材料が溶融しない出力のマイクロ波エネルギーをマイクロ波空洞に供給する手段と、
可融合性材料の溶融により形成された溶融核を坩堝から排出するために、坩堝の底部において該坩堝を形成する材料を溶融させる手段と、
坩堝の底部と連通し、坩堝から排出された溶融核を前記空洞から排出するための孔とを備える、可融合性材料を溶融するための装置。
【請求項２】
マイクロ波空洞をマイクロ波に同調させるための調整スタブを更に備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記可融合性材料を前記空洞の内部に供給する手段は、可融合性材料とともに、前記マイクロ波エネルギーの出力によって溶解しない材料をマイクロ波空洞の内部に供給し、坩堝を形成する材料は、前記溶解しない材料と同一であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記溶融していない材料により、坩堝が、該坩堝の表面積の少なくとも８０％にわたって前記壁から隔てられている請求項１乃至３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】
前記坩堝を形成する材料は粒子状の形状を有し、個々の粒子の間に間隙が形成されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項６】
前記装置が前記空洞に連通する導波管を更に備え、前記可融合性材料をマイクロ波空洞の内部に供給する手段及びマイクロ波エネルギーをマイクロ波空洞に供給する手段が前記通路に設けられていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項７】
空洞の自然冷却を補助するための熱交換部を更に備えることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の装置。
【請求項８】
前記熱交換部が、マイクロ波空洞の外表面に接触した1個以上の導管からなることを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項９】
熱交換部を通じた流体の流れが調整可能であることを特徴とする請求項７または８に記載の装置。
【請求項１０】
前記坩堝を形成する材料を溶融させる手段がプラズマ及びプラズマトーチの少なくともいずれか一方であることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
前記坩堝を形成する材料を溶融させる手段が、第2のマイクロ波発生源であることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
前記坩堝を形成する材料を溶融させる手段が無線周波数式の誘導加熱炉であることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
前記坩堝を形成する材料を溶融させる手段が、マイクロ波空洞内の前記溶融核と前記排出用の孔との間で選択的に熱伝導を行うための手段であることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の装置を提供する方法であって、
溶融される可融合性材料をマイクロ波空洞の内部に供給することと、
マイクロ波空洞の外側を冷却することと、
前記空洞内の全体にわたって供給された材料の溶融及び再固化により坩堝を形成し、該坩堝は、前記空洞の中心において可融合性材料を含有し、溶融していない材料の層により、前記マイクロ波空洞を画定する壁から隔てられており、前記溶融していない材料の層は、坩堝と前記空洞を画定する壁との接触を防止していることと、
マイクロ波空洞の中心部に位置する可融合性材料が溶融するとともに、坩堝において前記壁に接触する箇所を形成する材料が溶融しない出力のマイクロ波エネルギーをマイクロ波空洞に供給することと、
可融合性材料の溶融により形成された溶融核を坩堝から排出するために、坩堝の底部において該坩堝を形成する材料を溶融させることと、
坩堝の底部と連通し、坩堝から排出された溶融核を前記空洞から排出するための孔を形成することとを備える方法。
【請求項１５】
マイクロ波エネルギーの供給を停止すること、マイクロ波エネルギーの供給を減少させること、及びマイクロ波空洞の外側の冷却を強めることの少なくともいずれか１つの方法により、溶融した材料の再固化が起きることを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
マイクロ波空洞から材料が排出されることにより形成される空間においてプラズマが発生することにより、該空間に更に供給された材料が加熱されることを特徴とする請求項１４または１５に記載の方法。
【請求項１７】
プラズマトーチを使用するか、またはマイクロ波空洞内に存在する損失物質に対してマイクロ波エネルギーを作用させるか、またはその両方により材料が最初に加熱されることを特徴とする請求項１４乃至１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
前記坩堝を形成する材料の溶融が、プラズマトーチ、誘導加熱炉、及び溶融した材料から前記排出孔に向かう熱の選択的伝導の内の少なくともいずれか一つにより実施されることを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
本発明は主熱源がマイクロ波のエネルギーである粒子材料の溶解方法に関する。UKAEAによるイギリス特許出願公開第２１２２８５９Ａ号には、冷却された外面を有する容器内において例えばガラスのような材料を加熱するためのマイクロ波の使用が開示されている。このような容器の構成においては、「スカル」として知られる、溶融し、再固化した材料の層が容器の内壁に接触して形成される。スカルは容器壁を保護し、容器壁と溶融材料との反応を防止するが、容器壁に材料が固着するため、容器の清掃が容易には行えない。更に低温で溶解される材料がマイクロ波により充分に加熱されないことにより、始動に時間がかかる。
バートリミテッド（VERT  Lｔｄ）によるイギリス特許出願公開第２２２８４７６号にはコールドトップ（ｃｏｌｄ−ｔｏｐ）溶融炉が開示されており、この溶融炉においては溶融していない状態のガラスフリットのブランケットが溶融ガラスの上に維持され、ブランケットの厚みにより揮発性成分が保たれる。しかし、固化ガラスのスカルの形成を防止するうえで、特に超低周波音のエネルギーが使用され、これにより溶融ガラスが炉壁に接触し、反応が生じる可能性がある。
本発明の目的は上記の二つの方法の難点を防止することにある。
本発明に基づく可融合性材料を溶融するための装置は、
マイクロ波空洞と、
マイクロ波空洞の外側を冷却するための手段と、
溶融される可融合性材料をマイクロ波空洞内に供給するための手段と、
マイクロ波空洞内に形成され、溶融しない材料の層により空洞の壁から隔てられ、溶融の後に再固化された材料から形成された坩堝と、
坩堝内の可融合性材料が溶融するだけの出力のマイクロ波のエネルギーをマイクロ波空洞内に供給するための手段とからなる。
溶融される材料は、粒子または液体の少なくともいずれか一方の状態である。粒子は、０．５〜１０ｍｍの範囲の大きさで、好ましくは１〜５ｍｍの範囲の大きさを有するか、あるいは１ｍｍ3〜１００ｍｍ3の範囲の体積を有するか、あるいはその両方である。
溶融される材料としてガラス粒子のような、予め形成された材料を使用することも可能である。溶融される材料は、更なる別の材料を生成するために複数の溶融材料で構成される場合もある。例えば、ガラスを生成する材料としては砂、炭酸ナトリウム、石灰、炭酸カルシウムなどが含まれる。砂は、全体的にまたは部分的に、他の、例えばB2O3やP2O5のような酸性酸化物か、あるいはカリウム、リチウム、アルカリ土類、酸化鉛のような物質か、あるいはその両方により置換されうる。
溶融される材料は、マイクロ波空洞によって溶融されない他の材料と一緒にマイクロ波空洞内に供給される場合もある。したがって高温の材料を供給し、これを溶融した材料中に拡散させる場合もある。溶融される材料は、材料を生成する基質と、この基質内に拡散する特定の材料とからなる場合もある。こうした構成においてガラス材料を使用することが可能で、ガラス材料中に廃棄物質が拡散する。材料は空洞内に供給される前に、全体的に、あるいは部分的にか焼される。
マイクロ波空洞のマイクロ波を調整可能に構成することも可能である。空洞の物理的構成により、少なくとも部分的にマイクロ波を調整することが可能である。マイクロ波空洞は４つの側壁と、底と、天井とを有するように構成されうる。マイクロ波空洞はほぼ球状に構成されうる。マイクロ波空洞は２〜５００リットル、好ましくは１０〜３００リットルの内容量を有しうる。
坩堝を形成する材料は、その坩堝の中で溶融される可融合性材料及び溶融されない材料の、少なくともいずれか一方と同一の材料でありうる。複数の異なる可融合性材料を使用することも可能である。坩堝は溶融されない材料と同一の材料で形成されることが好ましく、この材料が溶融し再固化して形成される。この溶融されない材料をマイクロ波空洞内に供給する際に充分に残しておくことが好ましい。坩堝は液体に対して不透性であることが好ましい。坩堝を形成する層は０．５ｃｍ〜１０ｃｍの間の厚さで、好ましくは１ｃｍ〜５ｃｍの厚さを有する。坩堝を形成する材料の厚さは場所により異なりうる。坩堝はほぼ卵型の形状を有することが好ましい。坩堝は、表面積の少なくとも８０％にわたって、マイクロ波空洞を区画する壁から溶融しない材料によって隔てられていることが好ましい。この比率は９０％〜９５％程度であればより好ましく、坩堝と空洞壁との間に全く接触が生じていなければ最も好ましい。好ましくは坩堝はガラスで形成される。
溶融されない材料は粒子状の形態を有することが好ましく、個々の粒子の間に隙間ができることが好ましい。溶融されない材料は坩堝と同じ材料であることが好ましい。溶融されない材料は１〜５ｍｍの間の大きさの粒子の形態で使用されうる。溶融されない材料は、溶融されない材料の他の部分に対して自由に動けることが好ましく、坩堝に対して自由に動けることが最も好ましい。溶融されない材料により坩堝と空洞壁の間に層が形成されることが好ましい。この層は、坩堝の表面の少なくとも９０％にわたって厚さ１ｃｍ、より好ましくは厚さ３ｃｍに形成されることが好ましい。
溶融される材料は例えばホッパのような手段を用いてマイクロ波空洞に供給される。可融合性材料の供給手段はマイクロ波空洞の上部に配設される。可融合性材料の空洞内への供給は重力の作用により行われることが可能で、材料はスカルの上に供給されることが好ましい。材料は空洞内を常に充たしていることが好ましく、空洞の天井と溶融されない材料との間に接触が生じていることが最も好ましい。材料供給手段内に材料の供給量を検知するための検知手段を配設する場合もある。供給手段において特定の通路によりマイクロ波空洞内に材料が供給される。マイクロ波もこの通路により空洞内に導入されることが可能である。供給手段内において供給材料は柱状に維持され、空洞とガス交換が可能になっていることが好ましい。柱状の供給材料は溶融物から発生する気体に対してフィルターとして機能する。
マイクロ波空洞の外側を冷却するための手段は、マイクロ波空洞の外面から、放射、対流、伝導の少なくともいずれか１つの原理によりエネルギーが除去されることよりなる。マイクロ波空洞の自然冷却を補助する更なる手段を設けることが可能である。このような手段として、空洞の外側に近接して１個以上の熱交換部が設置されうる。熱交換部は空洞の内部に配置されるか、あるいは空洞壁の内部に配置されるか、あるいは空洞の外側と熱的に接触するように配置されるか、あるいはこれらの位置の任意の組み合わせにおいて配置される。熱交換手段は空洞の外側に接触して配置されていることが構造の簡素化のうえで好ましい。熱交換部においては、強制的な空気流や、例えば水のような他の流体の強制的な流れが用いられる。好ましくは冷却手段は空洞の外側と接触した１個以上の導管からなる。熱交換部を通じた流体の流れは調整可能であることが好ましい。これにより冷却の程度を必要に応じて調整することが可能である。
マイクロ波エネルギー発生源は、液体に対し不透性で、マイクロ波に対して透過性を有する隔壁により空洞から隔てられていることが好ましい。隔壁の材料として使用されるものには酸化アルミニウム、石英、ポリエチレンなどがある。
マイクロ波発生源は１０〜５０ｋＷの出力を有しうる。マイクロ波発生源からの出力は制御可能であることが好ましい。
マイクロ波発生源及びマイクロ波空洞の少なくともいずれか一方はマイクロ波の調整手段を有する。好ましくはマイクロ波のおおまかな調整（概略調整）を行う手段が空洞に設けられる。マイクロ波の概略調整を行う手段は、空洞から延びる通路内に配置されうる。空洞と通路とは、液体に対しては不透性を有し、マイクロ波に対しては透過性を有する隔壁により隔てられることも可能である。マイクロ波の調整のためのスタブを使用することも可能である。
空洞のマイクロ波の概略調整手段は好ましくは可動式のシャッターとして構成される。シャッターは空洞に通じるマイクロ波導波管内に配置されることが好ましい。この導波管は可融合性材料の供給路として機能させることも可能である。
好ましくは、材料粒子にエネルギーを供給するための更なる手段がマイクロ波空洞、あるいは坩堝、あるいはその両方の内部に設けられる。
坩堝の形成過程、あるいは溶融核の取り出し、あるいはその両方において更なるエネルギー供給手段が使用されうる。好ましくは更なるエネルギー供給手段は空洞の下に配置され、形成される。更なるエネルギー供給手段は空洞内に延びることも可能である。
更なるエネルギー供給手段として、坩堝内の気体で充たされた空間がマイクロ波の照射を受けた場合に発生するプラズマを使用することも可能である。気体は、空洞の内容物を取り出す際に空洞内に入るか、あるいは特別に空洞内に導入されるか、あるいは空洞内において生成するか、あるいはこれらの組み合わせにより空洞内に存在する。溶融核が排出されたことにより形成される空間でプラズマが発生するため、坩堝の特定の部分が溶融し、坩堝の上部に供給孔が形成される。このようなプラズマにより、マイクロ波空洞内の粒子の初期加熱を行うことが可能である。空洞からの排出孔においてプラズマトーチが好ましく形成される。プラズマトーチはアルゴンのような気体の噴流を、排出部共振空間に供給することで形成される。プラズマトーチは坩堝の下部から溶融材料を排出させるために使用されうる。
あるいは、更なるエネルギー供給手段としてマイクロ波空洞に加えられた損失物質に対して作用するマイクロ波出力源を使用することも可能である。損失物質はマイクロ波のオーム効果または誘電効果により加熱する。空洞の内容物の初期加熱においてはこのような更なるエネルギーの供給手段が好ましく用いられる。損失材料としては、グラファイト、あるいはガラス化によって処理される核廃棄物の構成物質、あるいはその両方が使用されうる。グラファイトはロッド状か、ブロック状か、粉末状か、あるいはこの任意の組み合わせの形態において使用されうる。
更なるエネルギー供給手段として、例として無線周波数式の誘導加熱炉を使用することも可能である。誘導加熱炉は溶融核を取り出すうえで、排出孔の上部にあたる、坩堝の下部において材料を溶融するために使用されうる。誘導加熱炉は排出孔を通じて空洞内に延びた金属カラーを囲繞するコイルとして形成される。好ましくは金属カラーに付随して冷却手段が設けられる。金属カラーはセラミックのような絶縁材料により空洞壁から遮断されていることが好ましい。セラミックもその大部分の面積において空洞壁から離間するように構成することが可能であり、その間隙は絶縁部材上に配置された面積の限られたリブにより維持される。
更なるエネルギー供給手段はマイクロ波空洞内の第１の位置と第２の位置の間において選択的な熱伝導を可能にするための手段からなる。この手段は排出過程において特に好ましく用いられる。選択的熱伝導体は、金属またはグラファイトのような他の熱伝導要素として形成され、空洞のより高温の溶融核と排出孔の周囲の低温の材料の間に配置される。これにより溶融核から排出孔へ向かった選択的な熱伝導が可能になり、孔付近の材料が溶融し、溶融核が排出される。この機能においてはグラファイトロッドが特に好ましく用いられる。
本発明の第２の構成に基づき、
可融合性材料をマイクロ波空洞の内部に供給することと、
マイクロ波空洞の外部を冷却することと、
溶融しない材料により空洞壁から隔てられた溶融材料溜りが、マイクロ波空洞内の材料が溶融することにより形成されるだけのマイクロ波のエネルギーを供給することと、
溶融した材料の一部を溶融材料溜りの周囲において再固化することと、
溶融した後に再固化した材料から形成された坩堝がマイクロ波空洞内に形成され、坩堝は空洞壁から溶融しない材料の層により隔てられていることとからなる材料を溶融するための装置を提供するための方法が示されている。
好ましくは可融合性材料は粒子状である。可融合性粒子はガラス粒子かガラスを生成する材料であることが好ましい。
好ましくはマイクロ波空洞のマイクロ波は調整可能である。マイクロ波空洞は中心においてマイクロ波の吸収度が最大になるように調整される。
再固化はマイクロ波エネルギーが作用しなくなることにより引き起こされることが好ましい。別手段または追加手段として、再固化は作用するマイクロ波のエネルギー量が減少することによっても引き起こされる。別手段または追加手段として、再固化は空洞の外部の冷却を強めることにより引き起こされる。
坩堝は、溶融しない材料と同一の材料から形成されうる。
溶融材料溜りの中心は空洞から排出されうるが、溶融材料溜りの一部分のみが空洞から排出されることが好ましい。好ましくは、空洞内の材料の排出により更なる可融合性材料が空洞の上部に導入される。更なる供給材料は、材料が空洞から排出されたことにより生じた空間においてプラズマが発生することにより、加熱される。マイクロ波空洞の中心の粒子は、初めに、アルゴンのような不活ガスが空洞、あるいは排出口、あるいはその両方に供給される際に形成されるプラズマトーチにより加熱されることが好ましい。マイクロ波エネルギーはプラズマ及びプラズマトーチの少なくとも一方と同時に空洞に対して作用するか、あるいは空洞内の材料の一部が溶融した後に作用する。初期の加熱は、マイクロ波エネルギーをマイクロ波空洞内の損失物質に対して作用させることにより実施されうる。損失物質は可融合性材料と一緒にマイクロ波空洞内に供給されうる。
溶融材料溜りは、排出孔と溶融材料溜りの間の材料を溶融することにより排出させることが可能である。この材料の溶融はプラズマトーチを用いて実施することが可能である。別手段または追加手段として、この材料の溶融を誘導加熱炉を用いて実施することも可能である。別手段または追加手段として、この材料の溶融を、溶融材料溜りから排出孔に向けて選択的に熱を伝導させることにより実施することも可能である。
粒子材料を溶融するための装置は、似通った、あるいは異なる可融合性の粒子または液体に対して使用することも可能である。例えば、この装置は光学ガラスのような高純度のガラスや、融点の高いガラスを処理するうえで使用することが可能である。あるいは、この装置を、ガラスフリットとか焼された核廃棄物粒子との混合物として与えられる核廃棄物をガラス固化するために使用することが可能である。ここで処理される材料は核廃棄物とガラスを生成する材料との混合物でもよい。
本装置を提供するための他の特徴は、本発明の第１と第３の構成及び本発明の応用において他の場所で説明される特徴より導かれる。
本発明の第３の構成に基づけば、溶融した後に再固化した材料にて形成され、溶融しない材料の層により空洞壁から隔てられた坩堝に可融合性材料が導入され、空洞と坩堝に供給された可融合性材料が溶融され、坩堝にエネルギーがマイクロ波エネルギーの形態で供給され、溶融した可融合性材料が後に坩堝から取り出される、マイクロ波空洞の内部に材料の粒子を供給することよりなる可融合性材料を溶融する方法が提供されている。
可融合性材料は、ガラス粒子のような予め形成された形態で供給されることが可能であり、また、ガラスを生成する例えば砂、炭酸ナトリウム、石灰及び炭酸カルシウムのような、生成する材料の成分として供給されることも可能である。したがって可融合性材料は、本発明に基づく材料を溶融する方法により生成し、溶融されずに溶融材料中に拡散される他の材料が添加される。
好ましくはマイクロ波空洞に作用するマイクロ波エネルギーは調整されうる。マイクロ波エネルギーは坩堝に選択的に吸収されるように調整されることが好ましく、より好ましくは、坩堝の中心において吸収されるように調整される。
可融合性材料は、坩堝を形成する再固化された材料と同一の材料でも異なる材料でもよい。
可融合性材料は、重力の作用によりマイクロ波空洞に供給されうる。好ましくは、坩堝の上に供給される材料の量は、供給材料の上部が１００℃以下になるように維持される。こうした構成により、溶融物から滲出する揮発物質は、供給材料の上部に到達する前に供給材料中で凝縮する。
好ましくは、可融合性材料はマイクロ波空洞の上部より導入される。好ましくは、マイクロ波はマイクロ波空洞の上部より導入される。供給材料及びマイクロ波は同一の通路を通じて導入されることが最も好ましい。
マイクロ波空洞の外部の冷却は熱交換部により実施されることが好ましい。空洞壁を囲繞する複数の導管により、外部を冷却するための特に好ましい方法が構成される。好ましくはこれらの導管を通じて水が流れ、より好ましくはこの水は強制的に流される。空洞の外部の冷却率は制御可能であることが好ましい。
この方法は、可融合性材料への更なるエネルギーの供給を含む。更なるエネルギーの供給は、プラズマ、あるいはプラズマトーチ、あるいは誘導加熱炉、あるいは空洞内に導入された損失物質、あるいはこれらの任意の組み合わせにより実施することが可能である。損失物質の導入及び坩堝の下におけるプラズマトーチの形成は、可融合性材料の初期加熱において特に好ましい。
更なるエネルギーの供給は、坩堝から溶融材料を排出させる際にも有効である。坩堝から溶融材料を排出させるうえで、坩堝の下部における、プラズマトーチ、あるいは誘導加熱炉、あるいはその両方の使用が特に好ましい。別手段または追加手段として、溶融核から排出孔に向けた選択的な熱伝導により、坩堝の下部の材料を溶融し、溶融核を排出することも可能である。
坩堝の上部を溶融するうえでプラズマの使用も可能である。プラズマは、溶融材料溜りが少なくとも部分的に排出されることにより形成される空間中に発生する。溶融材料溜りが少なくとも部分的に排出される過程により、新たなガラスフリットが坩堝に供給される。
可融合性材料を溶融する方法の他の特徴と工程は、本発明の第１と第２の構成にて示され、また別の箇所においても説明されている。
本発明を以下に実施態様と付属の図面に基づき説明する。
図１は、使用準備段階の本発明の第１の実施態様に基づく装置を示す概略図。
図２は、排出時の第１の実施態様に基づく装置を示す概略図。
図３は、本発明の第２の実施態様に基づく装置を示す概略図。
図４は、図２の一部分の詳細図。
図１には、外部を囲繞する多数の水冷コイル１２を有し、上部に供給ホッパ１４が配設された調整可能なマイクロ波空洞１０が示されている。第１の導波管１６が一端において水晶窓１５によりマイクロ波空洞１０の一方の側面に連結されており、導波管１６の他端は第１のマイクロ波発生源１８に連結されている。
マイクロ波空洞１０の別の側面には調整空間１７が第２の水晶窓１９を介して連結されており、調整空間１７は精密調整スタブ２１に連結されている。空洞１０の底部には排出部共振空間２２に包囲された排出孔２０が設けられており、排出部共振空間２２は第２の導波管２４を介して第２のマイクロ波発生源２６に連結されている。排出部共振空管２２の下方の面には吐出孔２８が設けられている。吐出孔２８の下方には吐出ホッパ４４が配置されている。
排出部空間２２の一方の側面には導管４０が連結され、これを通じて矢印Ａにて示されるようにアルゴンガスが供給される。
最初の準備段階で装置と坩堝３２を調整するうえでは、マイクロ波空間１０にホッパ１４を介して清浄なガラスフリットが供給され、ガラスフリットはホッパ１４が充たされるまで連続的に供給される。冷却水が水冷コイル１２に供給され、第１のマイクロ波発生源が作動される。始動時において、導管４０を通じてアルゴンガスが供給され、第２のマイクロ波発生源も作動される。この結果、図２において領域３１にて示された領域と同じ領域においてアルゴンプラズマが発生し、アルゴンガスが上方に向けて浸透していくのにしたがって空洞１０の中心軸上のガラスフリットが加熱される。熱が空洞１０内に伝播していくのにしたがい、ガラスフリットの抵抗が低下する。特定の時間の後、空洞１０の中心軸上のガラスの抵抗が、マイクロ波による加熱が効果的に行われる程度にまで低下した時点で、第２のマイクロ波発生源２６がの作動が停止されアルゴンガス４０の供給が停止される。この後、第１のマイクロ波発生源により加熱と溶融が引き続き進行する。この過程は抵抗加熱（ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ ｈｅａｔｉｎｇ）である。
マイクロ波とマイクロ波空洞１０が互いに同調した時点で、空洞の中心において加熱が最大となり、溶融ガラスの材料溜り３４が形成されて成長する。この結果、溶融状態の材料から外側に向け、溶融度の低い軟化した状態の材料へと遷移する遷移領域が形成される。遷移状態の領域は溶融していないフリットに至って途絶し、溶融していないフリットにより遷移領域と溶融材料溜り３４とが空洞壁から隔てられる。マイクロ波空洞１０に材料を供給するホッパ１４は常に材料で充たされ、溶融材料がフリットよりも高密度であることによる空間の形成が防止される。
一定時間の経過の後、第１のマイクロ波発生源１８の出力を一定にするために、空洞１０の外側からの冷却による損失熱によりエネルギーの供給量の平衡が保たれる。
この後、マイクロ波発生源１８を停止し（あるいは出力を低下させるか、あるいは冷却力を増大させるか、あるいはこれらを組み合わせて行い）、溶融材料が若干冷却されることにより卵型形状を有する坩堝３２が形成される。坩堝３２は、これより前の段階では広い範囲にわたって溶融していた材料が再固化し、溶融領域が内側に縮小することで形成される。この初期の段階においては、漏斗状咽喉部すなわち流出口３８内にはプラズマトーチが消された後に形成される固化材料が存在する。咽喉部３６は、溶融していないフリットから部分的に溶融したフリットを経て、柔らかいスカルの部分を効果的に形成する材料に到る遷移領域から構成される。
図２には排出の過程が示されている。坩堝からの溶融材料の排出が必要である場合、プラズマトーチが再び排出部共振空間２２内で点火され、領域３１に拡がり漏斗状咽喉部３８内の固化した材料を溶融する。この結果、溶融材料溜り３４の大部分が吐出しホッパ４４内に排出される。溶融ガラスが排出されると、溶融材料の上部において空間が形成され、スカルの頂部に向けてプラズマ領域３３が形成される。この結果、坩堝の上部及びホッパ内部の少なくともいずれか一方の部分のフリットが溶融して坩堝内に流れ込み坩堝は再充填される。マイクロ波の出力はプラズマ３３が自然に着火する程度に充分に大きい。
坩堝３２が形成された後、ホッパ１４に処理される材料が供給される場合もある。処理される材料は高純度ガラスまたは高融点ガラスを用いることが可能である。あるいは処理される材料は、か焼された核廃棄物とガラスフリットの混合物であってもよく、あるいは核廃棄物及びガラス材料の少なくともいずれか一方の混合物であってもよい。
プラズマトーチ３１は坩堝３２が形成される際、あるいは溶融核を排出させる際の初期加熱の開始に使用され、第１のマイクロ波発生源１８の使用により溶融は継続する。坩堝の形成（必要な装置の準備）から材料の処理段階への移行は連続的に行われる。この場合、第１のマイクロ波発生源１８の使用により溶融状態は溶融核の全体にわたって維持され、材料の供給は切り替わる。
溶融材料中の揮発性廃棄物は、溶融材料の上部においてホッパ内の溶融していないガラスフリットの表面に凝縮するため漏出することはない。
内容物は４〜８時間の間、混合を進行させるため静置される場合もある。
ガラス固化、あるいは材料の混合、あるいはその両方が必要とされる段階にまで進行するとプラズマトーチが領域３１において再点火され、咽喉部３８に排出孔が開口する。ガラス固化された核廃棄物の一部は吐出ホッパ４４に排出され、保管施設に移転される。これと同時に、坩堝の頂部より更なる材料が処理を行うために供給される。ここで排出を停止し、新たに供給された材料は坩堝の内部において既存の材料と混合する。更に一定時間の経過の後、ガラス固化した材料が吐出ホッパに排出され、処理される材料が坩堝の頂部より供給される。材料はこのようにして連続的に処理される。
本発明をここで図３に基づき説明する。
装置１１０は４つの側壁と天井と底を備えた容器を有する。容器の大きさは使用されるマイクロ波の周波数にできるだけ同調するように調整されている。マイクロ波は、空洞の上部に配置された導波管１１６内の耐熱性不透性窓１１５を通じて空洞内に導入される。供給ホッパ１１４には制御バルブ１５０が取り付けられ、供給ホッパ１１４はやはり導波管１１６に連通する。導波管１１６にはマイクロ波のおおまかな調整（概略調整）を行うチューナー１６０が取り付けられ、摺動シャッター１６１として形成されている。フリットはシャッター１６１の隙間から装置に入る。
導波管はまたフリットの量を監視するための光学センサ１６３を有する。スカルの上部の装置に供給される溶融しないフリット粒の層は、冷たい上部フィルターとして機能し、ここで溶融材料中で発生した揮発性物質の蒸気は凝縮される。
空洞は、その周囲を囲繞する多数の外部水冷コイル１１２を有する。
主空洞１３４には精密調整空間１１７が耐熱性かつ不透性の酸化アルミニウム製窓１１９を介して取り付けられており、調整空間１１７には調整スタブ１２１が取り付けられている。マイクロ波空間の床部分は着脱可能な底板１４８からなり、これにより装置の清掃が可能になっている。底板１４８には、やはり外側表面に水冷コイル１１２を備えた排出室１２２が取り付けられている。排出室１２２内には金属製排出パイプ１４５が配置され、誘導加熱コイル１４６により囲繞されている。排出パイプ１４５はセラミック絶縁部材１４７により底板１４８から隔てられている。絶縁部材１４７の持ち上がった部分により、金属製排出パイプ１４５と空洞の底板１４８との間の接触は最小限に留められている（図４参照）。
スカルあるいは坩堝の最初の形成は図１のスカルあるいは坩堝と同様に実現される。したがって空洞は溶融していないガラスフリットで充填され、その後、ガラスフリットの一部分から坩堝が形成される。
プラズマトーチにより、マイクロ波による加熱が効率的に行われる程度にまでフリットを加熱して抵抗を下げる方法の代りに、低い温度でマイクロ波のエネルギーを拡散させる損失物質を使用することも可能である。したがってフリットを空洞内に供給する際にグラファイトロッドやグラファイトブロックのような損失物質は空洞の中心に向けて配置される。次にマイクロ波発生源を作動し概略調整チューナーを閉鎖する。精密調整スタブを使用することにより、材料により充填された空洞と使用されるマイクロ波の周波数とが同調している場合、マイクロ波は吸収され、グラファイトが非常に効果的に加熱する。空洞の中心に向けて発生した熱は周囲のガラスフリットに伝播、放射し、ガラスフリットは溶融する。溶融したガラスフリットの量が増大するのにしたがい、これに吸収されるマイクロ波の量も増大し、マイクロ波によるフリットの直接加熱が速やかに実現される。こうした条件の下ではグラファイトが吸収するマイクロ波の比率は減少し、グラファイトは溶融して後に空洞から排出される材料中に取り込まれる。
空洞の中心部において加熱は最大となり、溶融ガラス溜り１３４が形成され、成長する。
この後マイクロ波発生源１１８の出力を低下させ、溶融材料が冷却し卵型形状を有するスカル１３２が形成される。
試験において、形成されたスカルは、全く溶融していないガラスフリットにより完全に包囲されていることが判明した。したがって溶融の後に再固化した坩堝は誘導加熱炉の金属カラーにまで到って形成されるが、溶融していないガラスフリットにより全ての部分において空洞の外壁から隔てられている。このような坩堝の構成は図３に明らかである。
溶融材料をスカル１３２から除去する際には誘導加熱コイル１４６が起動される。誘導加熱コイルにより排出パイプは加熱され、排出パイプの上部の咽喉部１３８内の固化した材料が溶融する。スカル１３２はやがて破れ、溶融材料溜り１３４が吐出フラスコ１４４内に必要に応じて排出される。
この後、誘導加熱コイル１４６の機能を停止することにより溶融ガラスの下部が再固化し排出が停止する。
最初のスカルの形成の後、ホッパ１１４に処理される材料が供給される。処理される材料は高純度ガラスまたは高融点ガラスを用いることが可能である。あるいは処理される材料は、か焼された核廃棄物とガラスフリットの混合物であってもよく、あるいは核廃棄物とガラス材料の混合物であってもよい。
材料は、プラズマ１３３を用いて、スカルの頂部が軟化し圧潰してホッパ内の材料がスカル内に供給されるに到るまでスカルを加熱することで処理またはガラス固化される。マイクロ波の作用と溶融核との接触により、新たに供給された材料はスカルの内部において溶融する。溶融核内に対流が生じていることにより材料は完全にかつ効率的に攪拌される。
溶融材料中の揮発性廃棄物は冷たい上部フィルター１７１の溶融していないガラスフリットの表面に凝縮することにより、外に逃げることはない。
存在する揮発性物質は供給材料によって異なるが、核廃棄物のガラス固化処理においてはセシウムやストロンチウムなどのガス生成物が見られる。スカルからスカルの上に堆積した供給フリット１７１を上方に向かう方向でスカルから遠ざかる方向に沿って温度勾配が存在し、溶融核１３４において最も高温であり、軟らかいスカル材料１７０においてこれよりも低温であり、更に低温の領域に連続している。溶融材料から揮発しスカルの軟らかい頂部より滲出する揮発物質は、温度勾配に沿って上方に向かい比較的低温のフリット１７１に接触すると凝縮する。処理が進行するのにしたがいこのフリットは次第に下降し、凝縮した揮発物質を再び溶融核１３４に戻す。排出される溶融材料中の揮発性物質の量と供給される材料中の揮発性物質の量が一致することと、揮発性物質が溶融材料から揮発し、供給フリットに凝縮して再び溶融材料に戻る循環により平衡が実現される。フリットによるこうした浄化作用は、高温で有毒な、放射線学的に活性である可能性を有するオフガス生成物を取り扱う必要をなくすうえで非常に有利である。
核廃棄物のガラス化が完了すると誘導加熱コイル１４６が起動され、咽喉部１３８のガラス栓が溶融される。ガラス化された廃棄物の一部は吐出フラスコ１４４内に排出される。
これと同時にスカルが再び軟化し、更なる処理材料がスカルの軟化し圧潰した部分から導入される。この材料はスカルの既に溶融している内容物と混合される。一定時間の後、前述の工程によりガラス化された廃棄物が更に除去され、処理される材料がスカルの圧潰部を通じて更に供給される。
ガラス化された材料は吐出フラスコ内に集められ、廃棄物保管施設に移転される。
マイクロ波空洞１０は通常２５６ｍｍの直径を有し、１５０ｍｍの高さを有する。第１のマイクロ波発生源１８は８９６MHzで作動し、出力は３５ｋＷである。第２のマイクロ波発生源は２．４６GHzで作動する。マイクロ波空洞１０は、溶融した材料の比率に応じて１０〜２０ｋｇの材料を装填することが可能で、１０ｋＷの出力で４５分以内に１０ｋｇの溶融材料溜りを形成することが可能である。最高温度は１，２００℃が可能である。溶融材料内の温度差により最大で毎秒３ｍｍの対流を生じさせることが可能であり、材料が効果的に攪拌される。
坩堝の形成過程またはそれに続く後処理の間、マイクロ波空洞の再調整を行うことが可能である。しかし空洞は一旦加熱されると広い帯域にわたってマイクロ波を吸収するようになるため、精密な調整を行う必要はなく、通常は再調整を行う必要がない。しかしマイクロ波による加熱の初期段階では、マイクロ波の吸収性が非常に低く、磁電管により発生するマイクロ波の狭い帯域幅と空洞内で吸収されるマイクロ波の狭い帯域幅がより正確に一致させられなければならないため精密な調整が必要である。
本発明に基づく方法及び装置は、特に核廃棄物を処理するうえで幾つかの利点を有する。
坩堝３２はマイクロ波空洞の壁に取り付けられてもいなければ接触してもいない。この構成により、空洞壁は溶融材料により化学的に攻撃されず溶融材料によって放射能汚染もされない。
更に空洞壁が比較的低温であり、壁の周辺のフリットが比較的低温であることにより空洞壁への攻撃反応の反応速度は非常に遅い。空洞壁を攻撃するため従来の炉においては大きな問題点であった揮発性物質は、比較的に冷たいフリットにより濾過され、凝縮される。
空洞は底を取り外し、坩堝３２と坩堝の周囲の粒子材料を取り出して清掃することが可能で、坩堝は破砕した後、ホッパ１４から供給して再利用する。溶融しておらずしたがって自由に流動するという溶融していない粒子の性質により、材料は壁に付着することなく落下するため、清掃が非常に容易になる。
粒状であり、したがって隙間を多く含むという特徴により、材料は顕著な絶縁効果をもたらし、処理におけるエネルギー消費が減少する。
放射性廃棄物がガラス化される際に、例えば空洞壁からの金属細片のような２次的廃棄物が生成しないことは大きな利点である。
プラズマトーチまたは損失物質の使用により低温からの始動が容易になっている。プラズマトーチ、誘導加熱炉及び選択的熱伝導の少なくともいずれか１つの方法により、坩堝の下部の咽喉部３８を塞いだ固化ガラスを溶融して穿孔し、排出孔が速やかに形成される。
坩堝と空洞壁が溶融しない材料によって隔てられていることはまた、坩堝の容積を制御し、調整することが可能であることを示している。マイクロ波発生源の出力を下げるか、あるいは冷却力を上げるか、あるいはその両方によりより小型の坩堝を得ることが可能である。周辺の材料をより大きな範囲にわたって溶融することにより大型の坩堝を形成することが可能である。したがって望ましい容積及び形状の少なくともいずれか一方を備えた坩堝を全体の装置の寸法を変えることなく得ることが可能である。
溶融材料溜り及びスカルの上部の低温の供給材料は、例えば揮発したガスのような溶融材料の上部に存在する物質を凝縮させることにより、この物質の濾過及び除去の少なくともいずれか一方を行う。供給材料は処理の進行に伴って溶融材料中に供給され、オフガスによる問題を解決する。
【図１】
0004190581.tif 000002
【図２】
0004190581.tif 000003
【図４】
0004190581.tif 000004
【図３】
0004190581.tif 000005