(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）チタンを含む表面を有する基体を用意する第一の工程、（Ｂ）前記表面に、チタンとは異なる材料を離散的に配置する第二の工程、（Ｃ）チタンを酸化する雰囲気中で、前記第二の工程を施した前記チタンを含む表面を熱処理して酸化チタンを含む細線を形成する第三の工程を有することを特徴とする酸化チタンを含む細線の製造方法。
【請求項２】
（Ａ）チタンを含む表面を有する基体を用意する第一の工程、（Ｂ）前記表面に、チタンとは異なる材料を島状に配置する第二の工程、（Ｃ）チタンを酸化する雰囲気中で、前記第二の工程を施した前記チタンを含む表面を熱処理して酸化チタンを含む細線を形成する第三の工程を有することを特徴とする酸化チタンを含む細線の製造方法。
【請求項３】
前記チタンと異なる材料が、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｍｏのいずれかであることを特徴とする請求項１または２に記載の酸化チタンを含む細線の製造方法。
【請求項４】
前記第三の工程は、Ｏ2およびＨ2を含む雰囲気中で前記チタンを含む表面を熱処理する工程であることを特徴とする請求項１または２に記載の酸化チタンを含む細線の製造方法。
【請求項５】
前記第三の工程における熱処理の温度が６００℃以上９００℃以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の酸化チタンを含む細線の製造方法。
【請求項６】
（Ａ）チタンを含む表面を有する基体を用意する第一の工程、（Ｂ）前記表面に、チタンとは異なる金属元素を含む液体を接触させることにより、前記表面に前記金属元素を非一様に配置する第二の工程、（Ｃ）チタンを酸化する雰囲気中で熱処理して前記表面に酸化チタンを含む細線を形成する第三の工程を有することを特徴とする酸化チタンを含む細線の製造方法。
【請求項７】
（Ａ）チタンを含む表面を有する基体を用意する第一の工程、（Ｂ）前記表面に紫外線を照射するする第二の工程、（Ｃ）チタンを酸化する雰囲気中で熱処理し、前記表面に酸化チタンを含む細線を形成する第三の工程を有することを特徴とする酸化チタンを含む細線の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、酸化チタンを含む細線の製造方法、該製造方法により製造される細線および構造体に関する。特には酸化チタンウィスカー製造方法に関する。さらに詳しくは、電子デバイスやマイクロデバイスなどの機能材料や構造材料などとして、広い範囲で利用可能な酸化チタンウィスカーであり、特に機能材料の例としては光電変換素子、光触媒素子、電子放出材料などに関する。
【０００２】
【従来の技術】
酸化チタン材料は、その光半導体特性や光触媒作用の応用として、光太陽電池、有害物質の分解、抗菌などを中心に研究が盛んに行われている。
たとえば、特開平８−３０２４９８号公報には、酸化チタン微粒子の抗菌作用を建築材料に利用した例が開示されている。
【０００３】
また、グレッツェル（Ｍ．Ｇｒａｔｚｅｌ）らは、コロイド溶液の塗布、焼成により作成した数ｎｍサイズのＴｉＯ2微粒子を用いて湿式太陽電池を試作し、エネルギー変換効率は７．１〜７．９％を得ている。（Ｂ．Ｏ’Ｒｅｇａｎｅｔ．ａｌ“ＮＡＴＵＲＥ”３５３（１９９１）７３７）。この比較的大きな変換効率は、酸化チタンのサイズをナノメータサイズに小さくし、表面積を大きくすることで実現している。
【０００４】
他にも、最近では、酸化チタン表面に紫外線を照射すると、３０〜８０ｎｍの大きさで親水性と親油性領域が形成され、マクロには親水性と親油性を併せ持つ表面性を示すようになるという報告がなされている（“ＮＡＴＵＲＥ”３８８（１９９７）４３１）。
【０００５】
これらの例にも見てとれるように、酸化チタンは、その大きさをナノサイズまで小さくすることにより、新たな機能を有する材料なる可能性がある。これらは、ｎ型半導体である酸化チタンをある特徴的な長さより小さいサイズにすることにより、電子の閉じ込めや、表面作用において、特異な電気的、光学的、化学的性質が現れたものと考えられるが、その本質は明らかでない部分が多い。
【０００６】
これらを踏まえ、ナノサイズの酸化チタン材料は、電子デバイスやマイクロデバイスなどにおいて新たな機能材料や構造材料として、幅広い応用を期待できる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
このように、ナノサイズの大きさを有し、さらには結晶性の優れた酸化チタン材料を実現できれば、光電変換機能をはじめとする電気的、光学的、化学的性質のさらなる向上が期待できる。しかしながら、従来、ナノサイズの大きさを有し結晶性に優れた酸化チタン材料を、簡便な手法で作成することはことは難しかった。
【０００８】
一般にナノサイズの材料を作成する方法として、フォトリソグラフィーをはじめ、電子線露光、Ｘ線露光などの微細パターン描画技術をはじめとする半導体加工技術による作成方法があげられる。しかし、これらの方法は、歩留まりの悪さや装置のコストが高いなどの問題があり、簡易な方法で再現性よく作成できる方法が望まれている。
【０００９】
また、先のＭ．Ｇｒａｔｚｅｌらの微粒子の作成方法はコロイド溶液の塗布と焼成による比較的簡易な方法であるが、作成される酸化チタンの結晶性や微粒子形状などに対して、制御性や再現性に課題がある。
【００１０】
他には、益田らが、酸化チタンにより、陽極酸化アルミナのレプリカをとり、ポーラスＴｉＯ2を構成した例が挙げられる（“Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．”３１（１９９２）Ｌｌ７７５〜Ｌｌ７７７，“Ｊ．ｏｆ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  Ｓｃｉ．Ｌｅｔｔ．”１５（１９９６）１２２８〜１２３０）。しかし、この方法は、レプリカをとる過程において、多くの煩雑な工程を経なければならない事、電着によりＴｉＯ2を形成するためその結晶性が悪いことなどの課題が挙げられる。
【００１１】
一方、結晶性の優れる材料としてウィスカー結晶が知られる。ウィスカー結晶の作成方法としては、ハロゲン化物を原材料して用い、還元法、気相化学成長法により作成する方法が知られており、チタン化合物としてＴｉＣ、ＴｉＮなどが合成されている。
【００１２】
酸化チタンのウィスカーを作成した例としては、サブミクロンサイズのチタン酸カリウムウィスカーが開発され、織維強化プラスチックや繊維強化金属、繊維強化セラミックヘの応用が試みられている（“日本金属学会誌”５８（１９９４）６９〜７７）。ただし、これらは粉末状のものであり、基板上に配することはできていない。また、ウィスカーサイズが径０．２〜１．０μｍ、長さ５〜６０μｍであり、ナノサイズ特有の効果を引き出すためには、更なる微細化が必要である。
【００１３】
他には、シー  コーデット（Ｃ．Ｃｏｄｄｅｔ）らにより、Ｔｉの板を、Ｈ2Ｏ含有雰囲気中で熱処理することで酸化チタンウィスカーの成長が選られた報告がある（“Ｃ．Ｒ．Ａｃａｄ．Ｓｃ．Ｐａｒｉｓ，”ｔ．２８１（１９７５）５０７〜５１０）が、この場合も径の太さは１０μｍ程度と太い。
【００１４】
本発明は、上記を鑑みてなされたものであり、結晶性に優れた酸化チタン材料、特にナノサイズの酸化チタン細線および酸化チタンウィスカー、それらの製造方法を提供するものである。さらには、基体上に上記酸化チタン細線あるいは酸化チタンウィスカーを配置したナノ構造体を提供することを目的とするものである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものである。
即ち、本発明の第一の態様は、
（Ａ）チタンを含む表面を有する基体を用意する第一の工程、
（Ｂ）前記表面に、チタンとは異なる材料を離散的に配置する第二の工程、
（Ｃ）チタンを酸化する雰囲気中で、前記第二の工程を施した前記チタンを含む表面を熱処理して酸化チタンを含む細線を形成する第三の工程
を有することを特徴とする酸化チタンを含む細線の製造方法にある。
【００１６】
また、本発明の第二の態様は、
（Ａ）チタンを含む表面を有する基体を用意する第一の工程、
（Ｂ）前記表面に、チタンとは異なる材料を島状に配置する第二の工程、
（Ｃ）チタンを酸化する雰囲気中で、前記第二の工程を施した前記チタンを含む表面を熱処理して酸化チタンを含む細線を形成する第三の工程
を有することを特徴とする酸化チタンを含む細線の製造方法にある。
【００１７】
本発明の態様において、前記チタンと異なる材料が、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｍｏのいずれかであることが好ましい。
前記チタンと異なる材料は、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法のいずれかにより前記表面に形成されることが好ましい。
【００１８】
前記第三の工程は、Ｏ2およびＨ2を含む雰囲気中で前記チタンを含む表面を熱処理する工程であることが好ましい。
前記チタンを酸化する雰囲気は、Ｈ2Ｏを含む雰囲気であることが好ましい。前記チタンを酸化する雰囲気は、Ｈ2ＯおよびＨ2を含む雰囲気中であることが好ましい。
【００１９】
前記雰囲気中のＨ2Ｏの分圧が、１．３３×１０-2Ｐａ（１０-4ｔｏｒｒ）以上２．６６×１０3Ｐａ（２０ｔｏｒｒ）以下であることが好ましい。
前記雰囲気中のＯ2の分圧が、０．１３３Ｐａ（１０-3ｔｏｒｒ）以上２．６６×１０4Ｐａ（２００ｔｏｒｒ）以下であることが好ましい。
前記雰囲気中のＨ2の分圧が、１３．３Ｐａ（１００ｍｔｏｒｒ）以上であることが好ましい。
【００２０】
前記第三の工程における熱処理の温度が６００℃以上９００℃以下であることが好ましい。
【００２１】
さらには、本発明の第三の態様は、（Ａ）チタンを含む表面を有する基体を用意する第一の工程、（Ｂ）前記表面に、チタンとは異なる金属元素を含む液体を接触させることにより、前記表面に前記金属元素を非一様に配置する第二の工程、（Ｃ）チタンを酸化する雰囲気中で熱処理して前記表面に酸化チタンを含む細線を形成する第三の工程を有することを特徴とする酸化チタンを含む細線の製造方法にある。
【００２２】
前記チタンとは異なる金属元素を含む液体は、該金属元素の水溶液であることが好ましい。
前記水溶液は、酸溶液であることが好ましい。
前記第二の工程は、前記液体に、前記基体を浸漬する工程であることが好ましい。
前記第二の工程は、さらに前記液体に前記基体を浸漬した状態で前記チタンを含む表面を陽極酸化する工程であることが好ましい。
【００２３】
前記金属元素が、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｍｏのいずれかから選ばれた金属元素であることが好ましい。
【００２５】
さらには、本発明の第五の態様は、
（Ａ）チタンを含む表面を有する基体を用意する第一の工程、
（Ｂ）前記表面に紫外線を照射するする第二の工程、
（Ｃ）チタンを酸化する雰囲気中で熱処理し、前記表面に酸化チタンを含む細線を形成する第三の工程
を有することを特徴とする酸化チタンを含む細線の製造方法にある。
【００２８】
上記の本発明の製造方法によれば、結晶性に優れ、ナノサイズの径を有する酸化チタンを含む細線、特には、酸化チタンウィスカーを大量に制御性高く得ることができる。
【００２９】
【発明の実施の形態】
本発明の酸化チタンを含む細線の製造方法について図２を用いて説明する。
本発明の製造方法は、表面にチタンを有する基体を、酸化雰囲気中で熱処理することにより、基体の表面から酸化チタンを含む細線を成長させることを特徴とする。
【００３０】
特に、表面にチタンを有する基体は、その表面形態に非一様性を有するものを用いる。このように表面形態を非一様性にする事で、作成される酸化チタンウィスカーの径を細くし、さらにウィスカーの生成量を増やす事ができる。
【００３１】
ここでチタンを有する表面形態の非一様性とは、表面に数ミクロンから原子スケールの大きさの表面形態の異なる領域が広い面積にわたり多数形成されることを意味する。本発明においては、それぞれの領域の大きさは小さい方が、酸化チタンウィスカーの径を細くするためには好ましい。
【００３２】
チタンを有する表面形態の非一様性としては、例えば幾何学的形状としての凸凹を始め、材料、組成、結晶方位、結晶性などの物理的構成、ダングリングボンド、表面終端元素、表面酸化膜及びその膜厚などの表面化学状態、さらにはそれらに起因する仕事関数、親水性、抵抗率、融点、誘電率などの物理化学的性質などが挙げられる。
【００３３】
以下、図２（ａ）〜（ｃ）を用い、本発明の酸化チタンを含む細線の具体的な製造方法の一例を順に追って説明する。図２において、１０は基体、１１はＴｉを主成分とする膜、１２は基板、１５は酸化チタンを含む細線である。
【００３４】
工程A （図２（ａ）参照）
まず、表面にチタン（Ｔｉ）を含む表面を有する基体１０を用意する。
基体１０としては、表面にチタンを有していればよく、例えばチタンの板や、チタン合金の板、図２（ａ）に示すように石英ガラスやＳｉ等の各種基板１２上にＴｉを主成分とする膜１１を形成した基体などを好ましく用いることができる。
ここで、Ｔｉを主成分とする膜１１は、例えば、Ｔｉを抵抗加熱蒸着、ＥＢ蒸着、スパッタ、ＣＶＤ、メッキをはじめとする任意の製膜方法により成膜することができる。
【００３５】
工程Ｂ（図２（ｂ）参照）
続いて、Ｔｉを含む表面を非一様な表面形態に処理する。
具体的には、第一の手法として、Ｔｉを含む表面上に、Ｔｉとは異なる材料を被覆することにより行うことができる。また、第二の手法としては、Ｔｉを含む表面に、Ｔｉとは異なる金属元素を含む液体を接触することによっても行うことができる。さらには、第三の手法として、Ｔｉを含む表面を粗面化することによっても行うことができる。あるいは、また、第四の手法として、Ｔｉを含む表面に紫外線を照射することによっても行うことができる。
【００３６】
上記第一の手法としては、基体表面を覆いつくさない程度に、チタン以外の元素として、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｍｏ等を微量、配する。つまり、上記材料を、Ｔｉを含む表面上に、島状あるいは離散的に形成する。この様にすることで、Ｔｉを含む表面が露出している箇所と、上記チタン以外の元素で覆われている箇所とが多数形成され、前述の非一様な表面形態を形成することができる。
【００３７】
上記チタン以外の元素を島状、あるいは離散的に付与する方法としては、抵抗加熱蒸着、ＥＢ蒸着、スパッタ、ＣＶＤ、ゾルゲルなどの成膜方法を用いることができる。
【００３８】
また、上記第二の手法としては、チタン以外の元素がイオンとして溶解した溶液を、前記Ｔｉを含む表面に接触させることで、基体表面の形態を非一様とする手法が挙げられる。この手法によれば、溶液中のイオンが上記Ｔｉを含む表面に作用し、例えば上記表面の終端処理を行った状態となり、基体表面の形態を非一様とすることができる。
【００３９】
上記チタン以外の元素としては、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｍｏ等の金属を好ましく用いることができる。
【００４０】
また、さらには、上記溶液を酸溶液として、上記金属イオンを含む酸溶液中で、前記Ｔｉを含む表面に上記元素を付与するとともに、該表面を酸化させることによっても本工程を行うことができる。さらには、また、上記金属イオンを含む酸溶液を所謂電解液として用い、前記Ｔｉを含む表面を陽極とし、陽極酸化法によって前記Ｔｉを含む表面を酸化させることによっても本工程を行うことができる。
【００４１】
上記陽極酸化工程に用いることのできる陽極酸化装置の概略を図５に示す。
図５中、５０は恒温槽であり、５１は反応容器、１０は陽極に相当する前述の基体、５３はＰｔカソード、５４は電解液、５６は陽極酸化電圧を印加する電源、５５は陽極酸化電流を測定する電流計である。図では省略してあるが、このほか電圧、電流を自動制御、測定するコンピュータ、などが組み込まれている。基体１０およびカソード５３は、恒温水槽により温度を一定に保たれた電解液中に配置され、電源により基体（陽極）、カソード間に電圧を印加することで陽極酸化が行われる。
【００４２】
上記電解液の酸溶液としては、たとえば、シュウ酸、りん酸、硫酸、クロム酸溶液などが挙げられる。陽極酸化電圧、温度などの諸条件は、適宜設定することができる。
【００４３】
また、ここでは、陽極酸化工程に用いる電解液（酸溶液）中に、上記イオンを含有せしめた例を示した。しかし、上記イオンを含有しない電解液中で、上記Ｔｉを含む表面を陽極酸化し、さらに、上記金属イオンを含有する溶液を上記陽極酸化後のＴｉを含む表面に接触させる処理も適用できる。
【００４４】
上記第一の手法または第二の手法により、Ｔｉを含む表面にＴｉとは異なる異種元素が付与されることで、前述の非一様な表面形態を形成することができる。
【００４５】
上記第一、第二の手法によれば、Ｔｉを含む表面に異種元素を配することに起因して、後述の熱処理工程時にこれらが起点となり、一種の触媒作用により酸化チタンを含む細線の成長促進に寄与すると考えられる。
【００４６】
また、上記第三の手法としては、Ｔｉを含む表面を粗面化する手法が挙げられる。粗面化の程度としては、ＲA≦１μｍが好ましい。粗面化する手法としては、エッチング液で、前記Ｔｉを含む表面に化学的に凹凸を形成する方法や、ブラスターや研磨やプラズマ処理などで前記Ｔｉを含む表面に物理的に凹凸を形成する方法などが適用できる。この様にＴｉを含む表面に凹凸を形成することで、前述の非一様な表面形態を形成することができる。
【００４７】
また、上記第四の手法としては、Ｔｉを含む表面に、紫外線を照射する手法が挙げられる。この紫外線照射により、Ｔｉを含む表面に化学状態（例えばチタンの酸化数）の異なる領域が形成できると考えられる。これは、例えば、上記紫外線照射を酸化雰囲気（酸溶液中あるいはオゾン雰囲気中）で行うことによっても、顕著な効果を達成することができる。
【００４８】
また、ここでは、工程Ａと工程Ｂとを分けたプロセスを示したが、上記工程Ａと同時に、前述の非一様な表面形態を形成することも可能である。
【００４９】
具体的には、前記工程Ａにおいて示した様に、基板１２上にＴｉを主成分とする膜１１を形成する場合は、成膜条件を適宜設定すると、薄膜内にグレインや異常成長などを生じさせることができ、その結果、前述の非一様性な表面形態を有する基体１０とすることができる。また、この様にして、非一様な表面形態をもつＴｉを主成分とする膜１１を作成した場合には、本工程Ｂを省き、酸化雰囲気中で熱処理を行う次工程Ｃを行うことができる。しかし、工程Ｂは別工程として制御性良く施すことが好ましい。
【００５０】
以上説明した、本工程Ｂを施すことにより、非一様な表面形態を得ることができ、その結果、作成される酸化チタンを含む細線の径を細くすることができる。これは、上記した工程Ｂによる表面処理により、不均一領域がＴｉを含む表面上に形成され、これにより酸化チタン細線の径を細くすることにつながるものと考えられる。
【００５１】
すなわち、本発明においては、酸化チタンを含む細線を形成するための熱処理工程前に、Ｔｉを含有する基体表面に、微細な凹凸を形成したり、微細な表面状態の異なる領域を形成したり、他元素を付与することで、それぞれの領域、領域の界面において細線の成長を促進することができる。この機構については明らかでないが、異種材料との界面や結晶粒界に多く存在する表面欠陥やチタン酸化数の少さな表面サイトが細線形成の開始点となり易いと考えられる。さらには、酸溶液中の処理や紫外線照射は、粒界の増強、上記表面サイト数の増加などに寄与するものと考えられる。
【００５２】
工程Ｃ（図２（ｃ）参照）
引き続き、チタンを酸化する雰囲気下で熱処理する。
本工程により、基体表面のチタンと酸化雰囲気を反応せしめ、酸化チタンを含む細線１５が形成される。
【００５３】
ここで上記熱処理を行う反応装置の一例について、図４を用いて説明する。図４中４１は反応容器であり、１０は前述の基体、４３は赤外線吸収板であり試料ホルダーの役割もになっている。４４は酸化雰囲気のガスを導入するガス導入管であり、基体付近での原料ガス濃度が均一になるよう配置されていることが好ましい。４６はガスの排気ラインであり、ターボ分子ポンプやロータリーポンプヘと接続されている。４７は基板加熱用の赤外線ランプであり、４８は赤外線を効率良く赤外線吸収板へ集めるための集光ミラーである。図では省略してあるが、このほか容器内の圧力をモニターする真空ゲージや基体の温度を測定する熱電対などが組み込まれている。勿論ここで説明した装置ばかりでなく、外部から全体を加熱する電気炉型の装置であってもかまわない。
【００５４】
熱処理を施す酸化雰囲気及び温度は、適宜設定される。熱処理の温度は６００℃〜９００℃の範囲が好ましい。
【００５５】
また、上記Ｔｉを酸化する酸化雰囲気としては、Ｈ2ＯガスやＯ2ガス等を用いることができる。また、適度な全圧に制御するために、上記酸化雰囲気に不活性雰囲気を混合して用いることもができる。特には、Ｔｉを酸化する酸化雰囲気としては、Ｈ2Ｏガスが好ましい。
さらには、上記酸化雰囲気中に、水素（Ｈ2ガス）を混合することが、酸化チタン細線の径を細くし、生成量を増やすことができることから、好ましい。
【００５６】
以上説明したように、本発明の酸化チタン細線の製造方法は、表面にチタン元素を有する基体を、上記のように、非一様化した上で、水蒸気およびあるいは酸素等の酸化雰囲気中で熱処理することにより、気相（酸化雰囲気）−固相（チタン）反応を用いて酸化チタンを細線状に成長せしめるものである。
【００５７】
本発明の製造方法によれば、細線の径として数ｎｍから数μｍ径にわたり、長さは数１０ｎｍ〜数１０μｍにわたり、形状を制御して酸化チタンウィスカーを作成することが可能である。
以上の工程ＡからＣにより、酸化チタンを含む細線を形成することができる。
【００５８】
次に、本発明の製造方法により形成される酸化チタンを含む細線１５について説明する。
【００５９】
上述の製造方法によれば、酸化チタンを主成分とした酸化チタン細線が得られる。また、特には、結晶性の高い酸化チタンウイスカーを得ることができる。また、この酸化チタンウイスカーは、上記製造作成条件により、ルチル型、アナターゼ型の結晶構造をとることができる。一般に、ウィスカー（ひげ結晶）とは針状に成長した結晶を指すことが多いが、本発明においては結晶性の有無に関わらず、屈曲したもの、枝別れのあるもの、螺旋状のものも含め、十分なアスペクト比を有する線状の形状を有するものとする。
【００６０】
図１は、本発明の製造方法により製造される酸化チタンを含む細線、例えば酸化チタンウィスカーの形状の例を示す概略図である。図１に示す様に、本発明の製造方法により製造される酸化チタンウィスカーの形状は、図１（ａ）のように紐状のもの、図１（ｂ）のように柱状のもの、図１（ｃ）のように柱状で太さが段階的に変わるもの、図１（ｄ）に示すように複数の柱状体が合体した形状のものが得ることができる。
【００６１】
図１（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）に示した本発明で得られる酸化チタンを含む細線は、面方位を示すエッジ形状を有し、所請ウィスカー結晶である。作成条件に依存するが、ウィスカーの太さは数ｎｍ〜数μｍであり、長さは数１０ｎｍ〜数百μｍの範囲のものを得ることができるである。
【００６２】
また、本発明の製造方法を用いると、図３のように、基体１０と、基体に対して方向性を有して配されたする酸化チタンを含む細線１５を有すから構造体とすることができる。
勿論、ナノ構造体の基体から、酸化チタンを含む細線１５を分離して、利用することも可能である。
【００６３】
本発明の製造方法により製造された酸化チタンを含む細線は、結晶性にすぐれ、かつその径がナノサイズであるため、、光電変換素子、光触媒、電子放出素子をはじめ、各種電子デバイスやマイクロデバイスなどの機能材料や、構造材料などとして、広い範囲で応用可能である。また、本発明の酸化チタンを含む細線は、プラスチックなどの強化材として用いることもできる。
【００６４】
【実施例】
以下に実施例をあげて、本発明を具体的に説明する。
【００６５】
実施例１
以下、図２（ａ）〜（ｃ）を用い、本発明の酸化チタン細線の製造方法を順に追って説明する。
【００６６】
工程（ａ）
本実施例の基板１２には、石英基板を用い、有機溶剤および純水により十分に洗浄後、スパッタ法により厚さ１μｍのＴｉの膜１１を製膜し、基体１０を構成した（図２ａ）参照）。本工程後に、ＦＥ−ＳＥＭ観察を行ったところ、Ｔi の膜１１の表面にサブミクロンサイズのグレイン（非一様な表面）が観察された。
【００６７】
工程（ｃ）
引き続き、試料を、水蒸気、ヘリウムの混合雰囲気下で、熱処理を施すことで酸化チタンウィスカーを成長させた。
【００６８】
本実施例においては、試料を図４に示した反応装置に設置して、まずヘリウムガスにより、５℃に保持した純水（蒸気圧８６４．５Ｐａ（６．５ｔｏｒｒ））をバブリングし、ガス導入管４４から流量５０ｍｌ／ｍｉｎで導入して反応容器内の圧力を１０．１０８×１０4Ｐａ（７６０ｔｏｒｒ）に維持した。そして赤外線ランプを点灯して試料温度を７００℃でｌｈｒの熱処理を施した。そして赤外線ランプを消して、基板温度を室温にしてからガス供給を遮断し試料を大気中に取り出した。
【００６９】
評価（構造観察）
取り出したサンプルの表面、断面をＦＥ−ＳＥＭ（Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ−Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ：電界放出走査型電子顕微鏡）にて観察した。
その結果、基体から、酸化チタンのウィスカーの成長が確認された。また、Ｘ線回折によりルチル型酸化チタンの存在が示された。
【００７０】
また、酸化チタンウィスカーの形状は、ウィスカーの径は１００ｎｍ〜３００ｎｍ程度、長さは数１００ｎｍ〜数１０μｍであり、図１（ｂ）に示すような直線性に優れた柱状のウィスカーが少数見られた。
また、ウィスカーの中には、面方位を示すエッジ形状を有すものがあり、明らかにウィスカー結晶成長したものであった。
【００７１】
実施例２
本実施例においては、酸化チタンを含む細線を形成した。
以下、図２（ａ）〜（ｃ）を用い、本発明の酸化チタン細線の製造方法を順に追って説明する。
【００７２】
工程（ａ）
本実施例の基板１２には、石英基板を用い、有機溶剤および純水により十分に洗浄後、スパッタ法により厚さ１μｍのＴｉ膜１１を製膜し、基体１０を構成した（図２ａ）参照）。
【００７３】
工程（ｂ）
陽極酸化工程を施した。
陽極酸化は、図５に示す陽極酸化装置を用い、酸電解液は０．３Ｍシュウ酸水溶液とし、恒温水槽により溶液を１７℃に保持した。陽極酸化電圧はＤＣ４０Ｖとし、陽極酸化処理時間は１ｍｉｎとした。本工程後に、陽極酸化後の表面をＡＦＭ（原子間力顕微鏡）及びＳＥＭで観察したところ、表面には数１０ｎｍの凹凸が確認された。
【００７４】
工程（ｃ）
引き続き、試料を、水蒸気、ヘリウムの混合雰囲気下で、熱処理を施すことで酸化チタンを含む細線１５を成長させた。
【００７５】
本実施例においては、試料を図４に示した反応装置に設置して、まずヘリウムガスにより、５℃に保持した純水（蒸気圧８６４．５Ｐａ（６．５ｔｏｒｒ））をバブリングし、ガス導入管４４から流量５０ｍｌ／ｍｉｎで導入して反応容器内の圧力を１０．１０８×１０4Ｐａ（７６０ｔｏｒｒ）に維持した。そして赤外線ランプを点灯して試料温度を７００℃でｌｈｒの熱処理を施した。そして赤外線ランプを消して、基板温度を室温にしてからガス供給を遮断し試料を大気中に取り出した。
【００７６】
評価（構造観察）
取り出したサンプルの表面、断面をＦＥ−ＳＥＭ（Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ−Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ：電界放出走査型電子顕微鏡）にて観察した。
その結果、基体から、酸化チタンのウィスカーの成長が確認された。また、Ｘ線回折によりルチル型酸化チタンの存在が示された。
【００７７】
また、酸化チタンウィスカーの形状は、径が実施例１に比べて細く、１０ｎｍ〜１００ｎｍ程度、長さは数１００ｎｍ〜数１０μｍであり、図１（ｂ）に示すように直線性に優れ、柱状のウィスカーが見られた。また、ウィスカーの量は、実施例１に比べて若干多かった。
また、ウィスカーの中には、面方位を示すエッジ形状を有するものがあり、明らかにウィスカー結晶成長したものであった。
【００７８】
実施例３
本実施例においては、工程（ａ）において、Ｔｉ膜を製膜後、Ｔi 膜上にさらにＡｌ膜を０．５ｎｍ相当量、島状に蒸着形成した。他の工程は実施例２に準じた。
【００７９】
本実施例において、酸化チタンウィスカーの形状は、径は３０ｎｍ〜２００ｎｍ程度、長さは数１００ｎｍ〜数１０μｍであり、図１（ｂ）に示すように直線性に優れ、柱状のウィスカーが見られた。また、ウィスカーの量は、実施例２に比べて、若干多かった。
【００８０】
また、同様な効果が、Ａｌの代わりに、Ｂａ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｍｏを用いた場合にも確認された。
これより、Ｔｉ膜表面にＡｌをはじめとするＴｉ以外の元素を島状あるいは離散的に配することで、酸化チタンウィスカーの生成量が増えることがわかった。
【００８１】
実施例４および実施例５
本実施例においては、工程（ｂ）において、陽極酸化用電解液として、０．３Ｍ硫酸（実施例４）、０．３Ｍ硫酸にＡ１2 （ＳＯ4 ）3 を０．０１Ｍ加えた電解液（実施例５）を用いた。他の工程は実施例２に準じた。
【００８２】
本実施例４、５において、酸化チタンウィスカーの径は、１０ｎｍ〜１００ｎｍ程度、長さは数１００ｎｍ〜数１０μｍであり、図１（ｂ）に示すように直線性に優れた、柱状のウィスカーが見られた。また、ウィスカーの量は実施例４に比べて実施例５の方が多かった。
【００８３】
実施例５では、金属イオンを含有する酸溶液中で陽極酸化を行ったが、同様な効果が、Ａｌイオンの代わりに、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｃｕ、Ｚｎなどのイオンを用いた場合にも確認された。
これより、陽極酸化用電解液にＡｌをはじめとする他元素イオンを加えることで、Ｔｉ膜表面にＴｉ以外の元素を配し、酸化チタンウィスカーの生成量を増やすことができることがわかった。
【００８４】
実施例６
本実施例においては、工程（ｃ）において、水蒸気、ヘリウム、水素の混合雰囲気下で熱処理を施すことで、酸化チタンウィスカーを形成した。本実施例においては、まず５０倍ヘリウム希釈の水素ガスにより、５℃に保持した純水をバブリングし、ガス導入管４４から流量５０ｍｌ／ｍｉｎで導入して反応容器内の圧力を１０．１０８×１０4Ｐａ（７６０ｔｏｒｒ）に維持し、７００℃でｌｈｒの熱処理を施した。他の工程は実施例４に準じた。
【００８５】
本実施例において、酸化チタンウィスカーの形状は、および径は実施例４に比べてさらに細く５ｎｍ〜５０ｎｍ程度、長さは数１００ｎｍ〜数μｍであり、量も多かった。形状は、図１（ａ）のように紐状のもの、図１（ｂ）のように柱状のもの、図１（ｃ）のように柱状で太さが段階的に変わるもの、図１（ｄ）に示すように複数の柱状体が合体した形状のものなどが見られた。また、図１（ｂ）や（ｃ）、（ｄ）の中には、面方位を示すエッジ形状を有すものがあり、明らかにウィスカー結晶の成長したものであった。
【００８６】
これより、水素を含有する雰囲気中で熱処理することにより、酸化チタンウィスカーの径が細くなり、生成量が増える傾向があることがわかった。
【００８７】
実施例７
本実施例においては、工程（ｃ）において、水蒸気、ヘリウム、水素の混合雰囲気下で、熱処理を施すことで、酸化チタンウィスカーを形成した。本実施例においては、５０倍ヘリウム希釈の水素ガスにより、純水をバブリングし、ガス導入管４４から流量５０ｍｌ／ｍｉｎで導入して反応容器内の圧力を１０．１０８×１０4Ｐａ（７６０ｔｏｒｒ）に維持し、７００℃でｌｈｒの熱処理を施した。純水の温度をそれぞれ、１℃、５℃、１０℃に設定することで蒸気圧を変え、雰囲気中のＨ2Ｏ濃度を制御した。他の工程は実施例２に準じた。
【００８８】
酸化チタンウィスカーの形状は、Ｈ2Ｏ分圧が大きいときほど、ウィスカー径が太い傾向があった。また、ウィスカーの生成量も多い傾向にあった。
【００８９】
実施例８
本実施例においては、工程（ｃ）において、酸素、窒素、水素の混合雰囲気下で熱処理を施すことで、酸化チタンウィスカーを形成した。本実施例においては、酸素２０％、水素２％、窒素７８％の混合ガスをガス導入管４４から流量５０ｍｌ／ｍｉｎで導入して反応容器内の圧力を１０．１０８×１０4Ｐａ（７６０ｔｏｒｒ）に維持し、７００℃でｌｈｒの熱処理を施した。他の工程は実施例２に準じた。
【００９０】
酸化チタンウィスカーの形状は、酸化雰囲気としてＨ2Ｏを用いた場合に比べウィスカー径が太く、長さが短い傾向があったが、直線性は良好であった。また、ウィスカーの生成量も多い傾向にあった。
【００９１】
実施例９
本実施例においては、工程（ｃ）において、熱処理の温度を６００℃、７００℃、８００℃、９００℃、１０００℃に変化させた。他の工程は実施例４に準じた。
【００９２】
熱処理温度６００℃の試料においては、酸化チタン細線はわずかしか存在せず、その長さも短かった。熱処理温度を上げるに連れ、酸化チタンウィスカーの長さが長くなる傾向を有し、７００℃では長さ数ミクロンの酸化チタンウィスカーが数多く見られるようになった。８００℃においては、酸化チタンウィスカーの太さが太くなる傾向が見られた。また、１０００℃においてはウィスカーが短くなる傾向を呈した。
【００９３】
実施例１０
本実施例においては、工程（ｂ）において、陽極酸化電圧を０Ｖ、１０Ｖ、２０Ｖ、３０Ｖ、４０Ｖとした。他の工程は実施例４に準じた。陽極酸化電圧が高いときに、ウィスカーの太さが細い傾向があり、特に２０Ｖ以上の陽極酸化電圧を用いた試料においては、３００ｎｍ以下の径を有するウィスカーが多数を占めた。
【００９４】
実施例１１
本実施例は酸化チタンウィスカーを具備するナノ構造体を作成した例である。
本実施例においては、工程（ｃ）を除き、実施例４に準じた。
本実施例の工程（ｃ）においては、反応容器内に酸素ガスを流量１０ｍｌ／ｍｉｎ導入して反応容器内の圧力を１３３Ｐａ（１ｔｏｒｒ）とし、基体温度を６００℃、ｌｈｒの熱処理を施した。
【００９５】
ＦＥ−ＳＥＭにより図３に示すようなウィスカー及びナノ構造体を確認した。さらにＸ線回折によりアナターゼ型酸化チタンの存在を確認した。
【００９６】
本実施例１１のナノ構造体及び実施例４、８で作成したナノ構造体に、Ｐｔを５ｎｍ蒸着し、メタノール水溶液（メタノール：水＝１：６）中に入れ、高圧水銀ランプで光照射を行ったところ、水素が確認され、それぞれが光触媒活性を有することを確認した。発生する水素量は、本実施例１１、実施例４、実施例８の順に多かった。
【００９７】
実施例１２
以下、図２（ａ）〜（ｃ）を用い、本発明の酸化チタン細線の製造方法を順に追って説明する。
【００９８】
工程（ａ）
純度９９．９９％のＴｉ板を基体１０として用意した。
【００９９】
工程（ｂ）
上記Ｔｉ板１０を硫酸とグリセリンの混合浴中で電解研磨した後、粒径０．２５μｍのダイアモンド研磨剤で表面処理を施すことにより、表面にサブミクロンサイズの凸凹を形成した。この基体１０の表面をＡＦＭ（原子間力顕微鏡）及びＳＥＭで観察したところ、数１００ｎｍの凹凸が確認された。
【０１００】
上記試料を、実施例２と同様の条件で工程（ｃ）を行ったところ、実施例２と同様に、径が５０〜１００ｎｍ程度の酸化チタンウィスカーを多量に得ることができた。また、ウィスカーの中には、面方位を示すエッジ形状を有するものがあり、明らかにウィスカー結晶成長したものであった。
【０１０１】
実施例１３
以下、図２（ａ）〜（ｃ）を用い、本実施例の酸化チタン細線の製造方法を順に追って説明する。
【０１０２】
工程（ａ）
本実施例の基板１２には、石英基板を用い、有機溶剤および純水により十分に洗浄後、スパッタ法により厚さ１μｍのＴｉの膜１１を成膜し、基体１０を構成した（図２ａ）参照）。
【０１０３】
工程（ｂ）
本実施例では、上記Ｔｉ膜１１上に、０．５ｎｍ相当量のＢａを真空蒸着することにより、Ｔｉ膜１１表面に不連続Ｂａ膜を形成した。
【０１０４】
工程（ｃ）
引き続き、試料を、水蒸気、ヘリウムの混合雰囲気下で、熱処理を施すことで酸化チタンウィスカーを成長させた。
【０１０５】
本実施例においては、試料を図４に示した反応装置に設置して、まずヘリウムガスにより、５℃に保持した純水（蒸気圧８６４．５Ｐａ（６．５ｔｏｒｒ））をバブリングし、ガス導入管４４から流量５０ｍｌ／ｍｉｎで導入して反応容器内の圧力を１０．１０８×１０4Ｐａ（７６０ｔｏｒｒ）に維持した。そして赤外線ランプを点灯して試料温度を７００℃でｌｈｒの熱処理を施した。そして赤外線ランプを消して、基板温度を室温にしてからガス供給を遮断し試料を大気中に取り出した。
【０１０６】
評価（構造観察）
取り出したサンプルの表面、断面をＦＥ−ＳＥＭ（Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ−Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ：電界放出走査型電子顕微鏡）にて観察した。
その結果、基体から、酸化チタンのウィスカー結晶の成長が確認された。また、Ｘ線回折によりルチル型酸化チタンの存在が示された。
【０１０７】
また、酸化チタンウィスカーの形状は、ウィスカーの径の均一性が良く、またウィスカーの長さが比較的、長かった。
これより、表面の不連続Ｂａ膜が触媒作用をし、ウィスカーの成長を促進したと考えることができる。
【０１０８】
また、Ｂａの代わりにＡｌ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｍｏの不連続膜を形成した場合においても、同様な効果がみられた。
【０１０９】
実施例１４
本実施例においては、実施例１３の工程（ｂ）に代えて、０．１Ｍ  ＺｎＮＯ3 水溶液中に浸漬させることで、表面にＺｎを付与した。
上記試料を、実施例１３と同様な条件で熱処理を施したところ、比較的直線性に優れたウィスカーが高密度に成長し、また細いウィスカーが多かった。
【０１１０】
これより、表面にＺｎを付与された場所においてウィスカーの成長が促進したと考えられる。
また、ＺｎＮＯ3 のかわりに、ＬｉＮＯ3 ，Ｎａ2 ＰＯ4 ，ＫＣｌ，Ｍｇ（ＮＯ3 ）2 ，Ｃａ（ＮＯ3 ）2 ，ＢａＣｌ2 ，Ｙ（ＮＯ3 ）3 ，Ｌａ（ＮＯ3 ）3 ，ＣｕＳＯ4 ，Ｚｒ（ＳＯ4 ）2 などの水溶液に浸漬した場合も同様な効果が得られた。
【０１１１】
実施例１５
本実施例においては、実施例１３の工程（ｂ）に代えて、濃度１０ｇ／ｌのＣｕＳＯ4 水溶液中で、上記Ｔｉ膜１１に負電位を印可する事で、Ｃｕを１ｎｍ膜厚の相当量を電着した。
【０１１２】
上記試料を、実施例１３と同様な条件で熱処理を施したところ、ウィスカーの太さの均一性が良く、またウィスカーの長さが比較的、長かった。
これより、表面の不連続（島状）Ｃｕ膜が触媒作用をし、ウィスカーの成長を促進したと考えることができる。
【０１１３】
実施例１６
本実施例においては、実施例１３の工程（ｂ）に代えて、０．１Ｍ硫酸溶液中に基体１０を浸漬させた。
上記試料を、実施例１３と同様な条件で熱処理を施したところ、比較的ウィスカーの直線性に優れ、また細いウィスカーが多かった。
【０１１４】
これより、硫酸中に浸漬することで、Ｔｉ表面の結晶面や化学状態に依存した酸化速度の差異によって、酸化膜の生成と微細な凸凹が生じ、これによってウィスカーの成長が促進したと考えられる。
【０１１５】
実施例１７
本実施例においては、実施例２の工程（ｂ）と同じように陽極酸化を行った後、さらに１Ｍ  Ｈ2ＳＯ4 中に基体１０を浸漬し高圧水銀ランプ（出力５ｋＷ）を５ｍｉｎ間照射した。
【０１１６】
上記基体１０を、実施例２と同様な条件で熱処理を施したところ、細いウィスカーが多く、ウィスカーの量も比較的多かった。
これより、紫外線照射により表面状態の違いに起因したエッチング速度の差による、結晶粒界の増強、凹凸が増強され、ウィスカー成長を促進したと思われる。
【０１１７】
実施例１８
以下、図２（ａ）〜（ｃ）を用い、本実施例の酸化チタン細線の製造方法を順に追って説明する。
【０１１８】
工程（ａ）
本実施例の基板１２には、石英基板を用い、有機溶剤および純水により十分に洗浄後、日本アエロジル製の酸化チタン微粒子Ｐ２５をゲル化させ、石英ガラス基板上に塗布した後、大気中で５００℃で３０ｍｉｎの焼成を行うことで厚さ１０μｍ程度の酸化チタン膜１１を成膜し、基体１０を構成した（図２ａ）参照）。
【０１１９】
工程（ｂ）
続いて、上記酸化チタン膜１１に、高圧水銀ランプ（出力５ｋＷ）により紫外線を５ｍｉｎ間照射した。
【０１２０】
工程（ｃ）
引き続き、試料を、水蒸気、ヘリウムの混合雰囲気下で、熱処理を施すことで酸化チタンウィスカーを成長させた。
【０１２１】
本実施例においては、試料を図４に示した反応装置に設置して、まずヘリウムガスにより、５℃に保持した純水（蒸気圧８６４．５Ｐａ（６．５ｔｏｒｒ））をバブリングし、ガス導入管４４から流量５０ｍｌ／ｍｉｎで導入して反応容器内の圧力を１０．１０８×１０4Ｐａ（７６０ｔｏｒｒ）に維持した。そして赤外線ランプを点灯して試料温度を７００℃でｌｈｒの熱処理を施した。そして赤外線ランプを消して、基板温度を室温にしてからガス供給を遮断し試料を大気中に取り出した。
【０１２２】
評価（構造観察）
取り出したサンプルの表面、断面をＦＥ−ＳＥＭ（Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ−Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ：電界放出走査型電子顕微鏡）にて観察した。
【０１２３】
その結果、基体から、酸化チタンのウィスカー結晶の成長が確認された。また、Ｘ線回折によりルチル型酸化チタンの存在が示された。また、数１０ｎｍ太さのウィスカーが多量に成長していることが確認され、紫外線照射を施すことでウィスカーが高密度に成長することが確認された。
【０１２４】
紫外線照射により酸化チタン表面において、ナノメートルサイズで化学状態（たとえばチタンの酸化数）の異なる領域が形成され、それぞれの領域におけるＨ2Ｏ雰囲気との反応速度の差が生じたことに起因し、ウィスカーが高密度に成長したと考えられる。
【０１２５】
【発明の効果】
以上説明した様に、本発明の製造方法により、基体から、結晶性に優れ、ナノサイズの径を有する酸化チタンを含む細線、特には酸化チタンウィスカーを得るることができる。
また、特に基体上に、方向性を有した酸化チタンを含む細線、特には酸化チタンウィスカーを配したナノ構造体を実現できる。
【０１２６】
本発明のチタンを主材料とするナノ構造体は、光電変換素子、光触媒、電子放出素子をはじめ、各種電子デバイスやマイクロデバイスなどの機能材料や、構造材料などとして、広い範囲で応用可能である。また、本発明の酸化チタンウィスカーは、プラスチックなどの強化材として用いることもできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の酸化チタンを含む細線の形状の例を示す概略図である。
【図２】本発明の酸化チタンを含む細線およびナノ構造体の製造方法の一実施態様を示す工程図である。
【図３】本発明の酸化チタンを含む細線を具備するナノ構造体を示す概念図である。
【図４】酸化チタンウィスカー成長時の熱処理反応装置を示す概念図である。
【図５】陽極酸化装置を示す概念図である。
【符号の説明】
１０  基体
１１  Ｔｉを主成分とする膜
１２  基板
１３  非一様な表面形態を有する表面
１５  酸化チタンを含む細線ウィスカー
４１  反応容器
４３  赤外線吸収板
４４  ガス導入管
４６  排気ライン
４７  赤外線ランプ
４８  集光ミラー
４９  赤外線透過窓
５０  恒温槽
５１  反応容器
５３  カソード
５４  電解液
５５  電流計
５６  電源
【図１】
0004109809.tif 000002
【図２】
0004109809.tif 000003
【図３】
0004109809.tif 000004
【図４】
0004109809.tif 000005
【図５】
0004109809.tif 000006