(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
スライダを形成する基体上に形成した下部および上部磁気シールドと、下部と上部の磁気シールド間に挟まれた磁気抵抗効果型再生素子とからなる再生部と、上部磁気シールド上に形成された一つ以上の磁性体とこの磁性体に鎖交するコイルからなる記録部とを備え、エアベアリング面となる第1面と、ステップ軸受面となる第２面と、負圧発生面となる第3面とを有する磁気ヘッドスライダにおいて、  前記第1面上の第1レールに露出した前記下部および上部磁気シールドの幅は、前記第1面を形成するレールの幅より狭く、前記第２面より素子の奥行き方向の奥にある前記下部および上部磁気シールドの幅は、前記第1面を形成する第1レールに露出した前記下部および上部磁気シールドの幅より大きく、前記第２面に沿って、前記下部磁気シールドと上部磁気シールドの一部が形成され、前記再生部と記録部が形成された領域のスライダのロール方向において、前記レールの両側に前記第２面が形成され、前記第２面の両側に前記第3面が形成され、前記下部磁気シールドと上部磁気シールドの一方または両方の前記第1面側の近傍の形状は、前記第1面側に露出する部分が突出しており、前記第1面側に突出している部分は、突出量が３μｍ以下で、スライダのロール向の幅が１５μｍ以上である磁気ヘッドスライダ。
【請求項２】
前記第1面に露出する下部磁気シールドと上部磁気シールドの一方または両方の端部位置と前記第1レールの端部との距離が１０μｍ以下である請求項１に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項３】
前記第2面と前記第1面の間隔は50nmから300nmであり、前記第３面と前記第1面の間隔は0.8μmから2.5μmである請求項１乃至請求項２のいずれかに記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項４】
前記第1レールは流入端側より流出端側のスライダのロール方向の幅が狭く、前記第2面は前記第1レールの全周囲を囲む請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項５】
前記第1レールはスライダの長手方向中心軸に対し、非対称形状で構成されている請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項６】
前記第２面は、前記第3面の流入端側に形成され、かつスライダのロール方向の両側に延在する第2レールをさらに有し、前記記録部と再生部はスライダの長手方向の中心軸上に形成されている請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項７】
前記第1面の上に炭素からなる保護膜が形成されている請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の磁気ヘッドスライダ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は磁気ディスク装置に用いられる磁気ヘッドに関し、特に低浮上量化に適した浮上面形状を実現するために、信頼性や安定性の観点からヘッド素子形状の適正化を図った磁気ヘッドスライダとこれを用いた磁気ディスク装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
磁気ディスク装置は、データトラックを有する回転する磁気媒体ディスク、データトラック上にデータを読み取り・書き込む電磁変換素子、電磁変換素子を媒体上でトラックに近接して保持するスライダ、スライダおよび電磁変換素子をデータトラック上に保持するサスペンション、サスペンションに結合されている電磁変換素子を所望のデータトラックに移動して保持を行う位置決めアクチュエータからなる情報記憶装置である。
【０００３】
磁気記録では面記録密度を向上させるためには、スライダを媒体と接触させずに可能な限り媒体に近接させることが望ましい。しかしながらスライダと媒体の間隔、いわゆる浮上量が小さくなると機械的信頼性の問題が生じる。特にスライダがトラックに高速でアクセスするとき、スライダの傾き等が生じて浮上量の変化が生じやすく、スライダと高速回転している媒体との接触が生じて磨耗など致命的な問題が発生する可能性がある。
【０００４】
このような問題を解決するため、特開平９−２６５７５０号公報では、電磁変化素子の近傍のエアベアリング面を部分的に除去して、スライダの傾きが生じてもスライダと媒体との機械的な間隔を保持できるようにした技術が開示されている。この技術によれば、電磁変換素子近傍のエアベアリング面が素子部分よりも一段低くなっているため、スライダが傾いた場合にも、エアベアリング面と媒体との間隔は大きいので、接触を回避でき、回避できた分さらに浮上量を下げることができる。これにより面記録密度の向上を図ることができる。
【０００５】
しかしながら、素子の近傍のエアベアリング面を除去するため、以下に記載するような問題があった。電磁変換素子として用いられる磁気ヘッドの構造は、再生に巨大磁気抵抗効果（以下ＧＭＲと記載）を用いたＧＭＲヘッド、記録には誘導型薄膜ヘッドが用いられている。ＧＭＲヘッドでは、隣接ビットからの不要な磁束の影響を避けるために、磁気的シールド層でＧＭＲ素子をはさんで用いる。この磁気シールド層は厚さが数μｍで、トラック幅方向に数十μｍから百数十μｍの長さをもつ。このため、素子近傍のエアベアリング面を除去する際に磁気シールドも同時に除去され、従来構造のままでは、シールド層が加工を受けることにより、磁性膜の腐食や磁気的な不安定性の問題を生じ、、安定な磁気ヘッドを提供することが困難であった。また、磁気シールドのトラック方向の幅を狭くして、エアベアリングの除去幅よりも狭くすると、磁気シールドは除去されないが、磁性膜の磁気特性が安定せず、磁気的なノイズを発生させる原因となった。このように、従来の素子構造では、エアベアリング面の素子近傍を除去することと、磁気ヘッドの特性および信頼性を同時に得ることは困難であった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、素子近傍のエアベアリング面を除去する上で、電磁変換素子の信頼性や電気特性を劣化させない素子構造をもつ磁気ヘッドスライダおよびこれを用いた磁気ディスク装置を提供することにある。特にエアベアリング面を除去しても、磁気シールド膜まで除去されないようなヘッドを提供することにある。また、シールド膜を除去しても、磁気的安定性および信頼性の観点で優れたヘッドを提供することにある。さらに、素子近傍のエアベアリング面を除去しても、ＧＭＲ素子の磁気特性安定化に必要な磁界中熱処理が実質的に有効にはたらくような磁気シールドをもつヘッドを提供する。さらに、レール面の幅を狭くしていっても、歩留まりよく製造できるヘッドを提供する。またこのヘッドを用いた磁気ディスク装置を提供する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明ではエアベアリング面側に露出する上部磁気シールドおよび下部磁気シールドの幅をレール幅よりも小さくし、エアベアリングでない側の上部および下部磁気シールドの幅をレール幅よりも大きくする。これにより直接除去されたエアベアリング面に磁性膜が露出しないので、ヘッド特性の劣化や、信頼性の低下を生じることがない。さらに、エアベアリング面側に露出する上部磁気シールドおよび下部磁気シールド部分を突出させ、この部分以外の磁気シールド層はエアベアリング面におおよそ平行な形状とすることにより、上下磁気シールドの磁区構造が安定するので、ノイズ特性が改善される。
【０００８】
さらに突出する部分の長さが３μｍ以下とすることにより、上下磁気シールドに不要な磁区が形成されず、磁区構造が安定する。また、突出量が３μｍ以下のため、トラック幅方向に磁界を印可したときには、突出部における反磁界による実質的な印加磁界の低下は見られない。このため、ＧＭＲ部に対して均一な磁界で磁界中熱処理をおこなうことができるので、安定性のよいＧＭＲヘッドが提供できる。さらに、レール幅を規定するためにエッチングされた側縁部位置と、エアベアリング面側に露出する下部磁気シールドと上部磁気シールドの一方または両方の端部位置との距離が１０μｍ以下とすることにより、レール幅とシールド幅の寸法差を小さくすることができ、狭いレール幅をもつヘッドを安定的に製造することができる。このような磁気ヘッドを磁気ディスク装置に適用することにより、信頼性や電気特性の劣化を生じることなく実質的な浮上量を下げることができるので、装置のビットエラーレートを向上できる。また、エアベアリング面に露出した磁気シールドを除去してレール幅を規定する場合においても、除去深さを１μｍ以下とし、除去後に保護膜を成膜することにより、信頼性および安定性上十分な特性を持つヘッドがえられる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
図２は、公知技術として開示されているスライダの斜視図で、素子近傍のエアベアリング面１２に除去した部分２を設けて浮上安定性の改善を図ったスライダである。図中素子部１のまわりのエアベアリング面が除去されている。図１は本発明の第一の実施の形態をあらす斜視図であり、素子１の詳細形状を拡大して示したものである。図中再生部は下部磁気シールド３、上部磁気シールド４、ＧＭＲ部５からなり、記録部は下部磁極６、上部磁極７、上部磁極先端部８、コイル９からなる。図中では記載を省略してあるがＧＭＲ部、コイル部からは電極がでて複数のパッド１０につながっている。これらの素子のまわりは絶縁層として用いたアルミナ膜で充填されている。エアベアリング面１２は機械加工により研磨されて形成され、下部磁気シールドの突出部３１、上部磁気シールドの突出部４１、下部磁極の突出部６１および上部磁極先端部８が、エアベアリング面１２に露出している。本実施例では突出量は３μｍで、各磁気シールドおよび下部磁極の突出部の幅は３０μｍとした。図中エアベアリング面の除去部２により、スライダのレール幅が規定されており本実施例では、除去深さは0.2μｍでレール幅は５０μｍとした。エアベアリング面と逆側の各磁気シールド層３、４および下部磁極層６の幅はおおよそ１００μｍとした。
【００１０】
本磁気ヘッドの製造方法は、通常おこなわれる磁気抵抗効果型ヘッドの場合と同様であり、スライダの基体となる基板ウエハ上に多数の磁気ヘッド素子を薄膜プロセス技術を用いて形成する。特徴的な点は、ＧＭＲ磁性膜の磁気特性を制御するために、磁界中熱処理を行うことである。ＧＭＲ膜の積層後に、はじめにＧＭＲ素子の固定層の磁化方向を規定するため、エアベアリング面に垂直方向に磁界をかけて熱処理を行う。その後製造プロセスの後半で、最終的な自由層磁性膜の異方性の方向ををトラック幅方向に付与するため、トラック幅方向に磁界をかけて熱処理を行う。この磁界中熱処理がＧＭＲ再生素子の安定性を左右し、適正な処理が必要である。
【００１１】
ウエハプロセス終了後、ウエハをブロック毎に切断して研磨し、エアベアリング面を形成して、記録部および再生部をエアベアリング面に露出させる。本実施例では、上記のエアベアリング面を形成したあと約５nmの炭素からなる保護膜を成膜し、その後エアベアリング面のレール加工を行い、さらに除去部２を形成する。この保護膜は、スライダ動作時には、耐摺動保護膜として、また耐環境保護膜として機能する。また、レール面の加工にはイオンミリングを用い、素子部以外のレール面は深さ２μｍであり、素子近傍の除去部分２の深さは０．２μｍである。
【００１２】
本実施例によれば、エアベアリングに突出する部分の幅は、素子近傍を部分的に除去して形成されるレール幅よりも狭くし、エアベアリング面でない側の磁気シールドや記録磁極の幅はレール幅よりも広くできる。これにより、浮上面からレール面を部分的に除去しても、磁気シールド層が直接エアベアリング面側に露出しないので、磁気シールドや磁極などの磁性膜の腐食等の問題を生じないという効果がある。さらに、突出部以外のシールド形状をコイルより広くすることができるので、熱放散が改善され、素子の温度上昇を軽減できる効果がある。
【００１３】
磁気シールド層の形状の適正化に関しては、種々の磁気シールド形状を持つヘッドを作製し、ヘッド特性を比較検討した。エアベアリング面から離れた部分の磁気シールド幅を、突出部分の幅と同じ寸法(約３０μｍ)にすると、ヘッドの再生特性が不安定でノイズが頻繁に見られる。一方、エアベアリング面から離れた部分でのシールド幅を、突出部の幅よりも大きくする（約１００μｍ）と 再生出力が安定し、ノイズの発生頻度が低下した。特に突出量が３μｍ以下にして、突出部以外の部分をエアベアリング面と平行にした場合に再生特性の安定性が改善され、突出部がない矩形状シールド形状を持つヘッドと同等な性能を示した。
【００１４】
このように、再生特性の安定性が磁気シールド形状に依存する原因の一つは、従来から磁気シールドがもつ磁区構造の影響と考えられている。突出部と同じ幅の磁気シールドは、エアベアリング面に垂直な方向に形状異方性を持つことになり、この方向にシールド中央部に磁壁が発生しやすく、この磁壁の動きがノイズの原因となる。一方、本実施の形態のような突出量が３μｍで、突出以外の部分がエアベアリング面と平行な端面を持つ磁気シールドでは、シールドの形状異方性がトラック幅方向にあり、また突出量が小さいので、突出部の全体の磁化の方向はトラック幅方向を向く。このため顕著なノイズを生じる磁区構造は発生しにくいものと考える。以上のように、本実施例では磁気シールドの形状が適正化されているため再生特性の安定性を改善する効果がある。
【００１５】
さらに本実施例では、ＧＭＲ素子に最終的な異方性を付与する基板ウエハ工程途中での磁界中熱処理においても、磁気シールド形状の適正化による効果を有する。熱処理中にトラック幅方向に磁界を印可した場合、突出量の小さいほうが、反磁界の影響が低減でき、トラック幅方向に十分な磁界を印可しながら熱処理ができる。このため、ＧＭＲ膜の異方性の分散が低減でき、ＧＭＲ再生素子の安定性が向上する。突出量を３μｍに固定して突出部の幅を１０μｍから１００μｍまで変えたときの素子の再生波形を見ると、幅を１５μｍ以下にする波形に歪みや不連続点が観察される頻度が増加し始める。また、突出部の幅を３０μｍ以上とすることによって安定な再生特性が得られることがわかった。なお、ここで述べた磁気シールド寸法と再生特性の安定性の関係は、磁気シールドに用いた磁性膜の膜厚や磁気特性、また使用したＧＭＲ素子の構造に依存するので、上記の傾向は保持されるがヘッドの条件によっては寸法関係に差異が生じる場合がある。
【００１６】
本実施例では、先に記載したように、突出部の幅を３０μｍとし、レール幅を規定するために除去された側縁部の幅は５０μｍとした。これにより側縁部位置とと突出部端部位置の距離は片側１０μｍずつとなる。エアベアリング面側に露出する上部と下部の磁気シールドの端部位置との距離を１０μｍとした。浮上量変動に対する浮上安定性を向上するためには、レール部分の幅をできるだけ狭くするほうが好ましいが、上で述べたように電磁変換素子としての性能を維持するためには、一定値以上の突出部の幅が必要である。したがって両条件を満足させるためには、突出部幅とレール幅をできるだけ一致させることが好ましい。しかしながら、レール幅形成時の位置合わせ精度による合わせずれがあるため、安定して製造する観点から本実施例では、片側１０μｍの裕度を持たせた。これにより、製造工程でのバラツキを含めても良好な特性を持つヘッドを歩留まりよく作製することができた。
【００１７】
以上述べてきたように、本実施例では、浮上面のレール幅を素子近傍に設けても、電磁変換素子の信頼性や電気特性が劣化しないという効果があることがわかった。また、歩留まりよくヘッドを製造できるという効果があることがわかった。
【００１８】
なお上記実施例では、下部記録磁極と上部磁気シールドを別の磁性膜で形成している場合を示したが、兼用することも可能である。また再生素子の例として、固定層と自由層を持つＧＭＲ素子の場合を示したが、トンネル効果型磁気抵抗素子いわゆるＴＭＲ素子を用いることも可能であり、さらに、ＧＭＲ素子面に垂直に電流を流す再生方式でも同様な効果がある。
【００１９】
次に本ヘッドを磁気ディスク装置に適用した場合の実施例について記載する。適用したディスク装置の面記録密度は３０Gb/in2で、スライダーの浮上量は１２nmである。素子近傍のエアベアリン面を除去してあるため浮上量が約１nm下げることができた。また再生特性の安定性と耐環境性に関しても従来のエアベアリング面を持つ磁気ヘッドスライダと同等の特性が得られた。信頼性を損なうことなく実質浮上量を下げることができたため、ビットエラーレートが約１桁ほど向上し良好な特性を持つ磁気ディスク装置をえることができた。
【００２０】
図３に第２の実施の形態を示す。本実施例では、エアベアリング面１２において、素子近傍のレール幅の規定の際に突出部を形成したもので、上下磁気シールドの突出部の幅とレール幅の寸法は一致している。基板に上部磁気シールド３、下部磁気シールド４、下部磁極６を形成する際は突出部を設けず、エアベアリング面側と逆側で同一の幅をもつ磁気シールド、下部磁極を作製する。その後、研磨によりエアベアリング面を形成し、膜厚５nmの保護膜を全面に形成した。続いて外側のレール加工を行い、素子部近傍の除去部２に対してホトレジストをマスクにしてイオンミリングを行いレール幅を規定した。このときのイオンミリング深さは0.5μｍとし、その後、レジストマスクを残したまま、除去部分に0.3μｍの絶縁膜を成膜して、除去部分を選択的に保護した。これによって、イオンミリングによって露出した磁気シールド等の磁性膜は絶縁膜で保護されるので、腐食等の信頼性上の問題は生じなくなる。さらに、除去深さは0.5μｍであるので、磁区構造に与える影響もほとんどなく、再生特性の安定性は確保できた。但しイオンミリング深さを１．０μｍ以上にすると、形状に加え、イオンミリングによる歪みも加わり、再生ノイズが生じる場合があり、安定性が低下してくる。したがって、除去の深さを１μm以下にすることにより、安定な特性を保持できることがわかった。
以上のように、エアベアリング面から、磁気シールドを除去してレール加工を行っても、除去部分に保護膜を設けることにより、信頼性および特性安定性が得られるのがわかった。なお、上記実施例ではレール面の加工前に保護膜を成膜していたが、レール加工後にエアベアアリング面の保護膜と露出した磁性膜の保護膜として兼用して成膜することもできる。
次に、図４は本発明による磁気ヘッドスライダの第３実施形態を示す平面図である。磁気ヘッドスライダ２０は空気流入端２１、空気流出端２２、浮上面２３を備えて構成される。浮上面２３は実質的に平行な３つの面から構成されている。不図示の磁気ディスクと対向した際に磁気ディスクともっと近接して位置するエアベアリング面１２ａ、１２ｂ、１２ｃと、エアベアリング面より磁気ディスクから離れステップ軸受となる第２面２４ａ、２４ｂ、負圧発生面となる第３面２５からなる。本実施例の特徴はレール面１２ａが横長部２６と流出端に向けて幅が減少するテーパー部２７と細幅部２８の組み合わせとして構成している。細幅部２８に素子１があり、エアベアリング面１２ａでの磁気シールドの幅は細幅部２８の幅より狭く構成している。第２面はエアベアリング面１２ａの全周囲を囲んで構成している。また、第２面の幅方向両サイドは磁気ヘッドスライダ２０の空気流出端近傍まで伸びている。エアベアリング面から第２面までの深さは５０ｎｍから３００ｎｍの範囲がステップ軸受として望ましく、エアベアリング面から第３面までの深さは０．８μｍから２．５μｍが負圧発生の特性から望ましい。本実施形態（３．５インチ型１００００ｒｐｍ）ではエアベアリング面から第２面までの深さは２００ｎｍとし、エアベアリング面から第３面までの深さは１．７μｍとした。本構成とすることで、流入側に設けたエアベアリング部１２ｂ、１２ｃは第２面２４ｂとエアベアリング部１２ａの横長部２６とテーパ部２７は第２面２４ａとでステップ軸受けを構成し浮上力を発生して磁気ディスクから浮上する。一方、第２面２４ｂで囲まれた第３面２５で大きな負圧力が発生する。大きな負圧力とそれにバランスする浮上力の発生により、低浮上で安定に浮上することができる。高地での気圧低下による浮上量の低下を防止することができる。また、エアベアリング面１２ａ，１２ｂ、１２ｃ、第２面２４ａ，２４ｂの形状は長手方向中心軸に対し、非対称形状で構成している。これにより磁気ディスクの内外周で浮上量を一定にできる。浮上姿勢は空気流入側の浮上量が大きく、空気流出側の浮上量が小さい姿勢となる。一方、細幅部２８は、その幅は狭く発生する浮上力は小さいので、素子１を搭載した細幅部２８の流出端近傍が最小浮上位置となり、素子１を磁気ディスクに最近接させることができる。
【００２１】
しかも、面積が狭いので接触時の接触力を小さくでき、振動振幅を小さくすることができる。その結果円板へのダメージを軽減し、円板損傷を回避できる。また、図示しないスライダを支持するサスペンションの姿勢角のばらつき、加工、組み立ての位置決め誤差によりスライダ幅方向（ロール方向）の傾きが発生した時にも、横長部２６とテーパー部２７と細幅部２８の構成により最小浮上位置が常に細幅部２８の後端にでき、素子１を実質最下点とすることができる。テーパー部２７は、軸受作用による浮上力の発生と空気膜剛性の確保と、ロール方向にスライダが傾いても最小位置を細幅部２８の後端より下がらないようにする両方の機能を兼ねた部分である。また、エアベアリング面１２ａの周囲、特に素子１側を深さの浅い第２面で形成することにより、素子１の特性に影響を与えることなくエアベアリング面１２ａの形状を任意に設定でき、素子１の後端と細幅部２８の後端の距離を小さくし、実質素子部を最小浮上位置にできる効果がある。
【００２２】
以上により、磁気ヘッドと磁気ディスク間の摺動の問題を解決した、低浮上量で、高面記録密度の磁気ディスク装置を実現することができる。
【００２３】
図５は本発明による磁気ヘッドスライダの第４実施形態を示す平面図である。エアベアリング面１２ａを長手方向軸に対し概略対称形状としている。また、細幅部を空気流出端に向かってさらに幅を減少させている。本構成により、前記第３の実施形態と同様の効果がある。さらに、実質素子最下点を保ったまま、テ−パー部の空気軸受作用を向上し、さらに安定な低浮上を実現できる。また、接触した場合の面積はさらに低減できるので、接触時の振動を押さえ、接触時の円板へのダメージをさらに低減できる。また、素子とエアベアリング面の位置の幅方向位置合わせ許容量を大きくとれるので安定生産が可能となる。磁気ディスク装置では、ロータリーアクチュエータを使った位置決め機構を採用しているため、磁気ディスク面の各位置でスライダの長手方向と磁気ディスクの接線方向のなす角（ヨー角）が付く。エアベアリング面１２ａを長手方向軸に対し概略対称形状にすることにより、従来の非対称形状で問題となる磁気ディスク内外周で発生するヨー角に対する浮上量の低下を軽減し、かつ高地での気圧低下による浮上量の低下を防止することができる。シーク速度による浮上量の低下も改善できる。
【００２４】
図6は本発明による磁気ヘッドスライダの第５実施形態を示す平面図である。素子をスライダの幅方向の外周側に搭載した場合の実施形態を示す。本構成でも前記実施形態と同様の効果がある。流入側に設けたエアベアリング面の形状、数は本発明の範囲で変更してもかまわない。
【００２５】
【発明の効果】
エアベアリング面側に露出する上部磁気シールドおよび下部磁気シールドの幅をレール幅よりも小さくし、露出しない側の上部および下部磁気シールドの幅をレール幅よりも大きくする。これにより直接除去されたエアベアリング面に磁性膜が露出しないので、ヘッド特性の劣化や、信頼性の低下を生じることがないという効果を持つ。さらに、エアベアリング面側に露出する上部磁気シールドおよび下部磁気シールド部分を突出させ、この部分以外の磁気シールド層はエアベアリング面におおよそ平行な形状とすることにより、上下磁気シールドの磁区構造が安定するので、ノイズ特性が改善されるという効果がある。また、反磁界による実質的な印加磁界の低下は見られないため、ＧＭＲ部に対して良好な磁界中熱処理をおこなうことができ、安定性のよい再生特性が得られるという効果をもつ。さらに、レール幅とシールド幅の寸法差を小さくすることができ、狭いレール幅をもつヘッドを安定的に製造することができる。このような磁気ヘッドを磁気ディスク装置に適用することにより、信頼性や電気特性の劣化を生じることなく実質的な浮上量を下げることができるので、装置のビットエラーレートを向上できる効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第1実施形態を示す素子部分の斜視図である。
【図２】従来の磁気ヘッドスライダの斜視図である。
【図３】本発明の第２の実施形態を示す素子部分の斜視図である
【図４】本発明の第３の実施形態を示すヘッドスライダの平面図である。
【図５】本発明の第４の実施形態を示すヘッドスライダの平面図である。
【図６】本発明の第５の実施形態を示すヘッドスライダの平面図である。
【符号の説明】
１  ：素子部                      ２  ：除去部
３  ：下部磁気シールド            ４  ：上部磁気シールド
５  ：ＧＭＲ部                    ６  ：下部磁極
７  ：上部磁極                    ８  ：上部磁極先端部
９  ：コイル                    １０  ：パッド
１１：アルミナ膜                １２  ：エアベアリング面
３１：下部磁気シールドの突出部  ４１  ：上部磁気シールドの突出部
６１：下部磁極の突出部
１２ａ，１２ｂ，１２ｃ、１２ｄ：エアベアリング面
２０：磁気ヘッドスライダ            ２１：空気流入端
２２：空気流出端                    ２３：浮上面
２４ａ，２４ｂ、２４ｃ：第２面      ２５：第３面
２６：横長部                        ２７：テーパー部
２８：細幅部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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