(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
大気圧もしくはその近傍の圧力下、導入する不活性ガスの５０圧力％以上をアルゴンガスとする組成の混合ガス雰囲気下で、一対の電極間で連続的に移送しているプラスティック支持体をガス中放電プラズマにより処理するプラスティック支持体の表面処理装置において、該一対の電極の少なくとも一方の電極が該連続的に移送されるプラスチック支持体の幅手方向においてインピーダンスを異にしていることを特徴とするプラスティック支持体の表面処理装置。
【請求項２】
大気圧もしくはその近傍の圧力下、導入する不活性ガスの５０圧力％以上をアルゴンガスとする組成の混合ガス雰囲気下で、一対の電極間で連続的に移送しているプラスティック支持体をガス中放電プラズマにより処理するプラスティック支持体の表面処理装置において、該一対の電極の少なくとも一方の電極が該連続的に移送されるプラスチック支持体の幅手方向において誘電率を異にしていることを特徴とするプラスティック支持体の表面処理装置。
【請求項３】
請求項１または２項に記載の装置により処理することを特徴とするプラスティック支持体の表面処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ハロゲン化銀写真感光材料に使用するプラスティック支持体の表面処理装置及び処理方法、また平版印刷版に使用するアルミニウム支持体の表面処理方法に関する。詳しくは、大気圧もしくはその近傍の圧力下、導入する不活性ガスの５０圧力％以上をアルゴンガスとして、連続搬送しているプラスティック支持体の表面をガス中放電プラズマ処理するプラスティック支持体の表面処理装置及び表面処理方法、また、火炎処理により親水化処理する平版印刷版用アルミニウム支持体の表面処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ハロゲン化銀写真感光材料の構成層の支持体への接着性を助長させ得る技術として、コロナ放電処理、真空グロー放電処理等が提案されて来た。コロナ放電処理は空気中で処理できるという点は使い易いが、放電ムラが多く、しばしば支持体に集中放電を起こしてしまうことがあり、そのコントロールが難しい。また、処理強度が弱く、プラスティック支持体の表面改質が充分ではない。一方真空グロー放電処理は処理する設備自体を真空にすることにより容量に自ずと限界があり、生産性とコストの面から好ましい方法ではない。
【０００３】
これに対して、最近、大気圧あるいはその近傍の圧力下でヘリウムガスを使用して放電し処理する方法が特開平３−１４３９３０号、同４−７４５２５号、特公平２−４８６２６号、同６−７２３０８号、同７−４８４８０号公報等により提案された。
【０００４】
しかしながら、上記公報に記載されている表面処理方法においては、処理する電極間に供給するヘリウムガスが非常に高価なため、工業生産には適し難い。そこで、支持体を連続搬送しながら処理が出来て、ハロゲン化銀写真感光材料の構成層等の如き非接着物質の支持体への接着性を助長し得る、しかもコストが安く、生産性に優れた処理方法が求められていた。
【０００５】
これらの課題に対して、大気圧もしくはその近傍の圧力下、一対の電極間の間隙を１０ｍｍ以下としたところで、少なくとも不活性ガスの５０圧力％以上をアルゴンガスとして、連続搬送する支持体にガス中放電プラズマ処理を施す方法及び装置を、特願平１０−９４４６８号、同１０−９７４２６号、及び同１０−２４５１５１号として、本出願人は提案した。この方法により、上記の各方法の持つ課題について解決が出来た。
【０００６】
一方、平版印刷版用アルミニウム支持体の表面処理については、長年、アルミニウム板を脱脂、研磨、陽極酸化及び親水性化を行って、平版印刷版用支持体として用いて来た。この表面処理工程は非常に長く、巨大な設備が必要であった。これらの工程のうち一つでも、短縮することが出来れば、設備の省スペース、設備費用または製造コストを低減出来ると、その改善が求められていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上記プラスティック支持体の表面処理を実行して行く過程で、細かい部分で改良を必要とする課題があることがわかって来た。ガス中放電プラズマ処理中に、高圧側電極からアース側電極に向かっての放電が支持体がなくなる端部において、均一になされにくく、放電が支持体の端部を避けて直接アース側電極へ集中して起こり、端部が処理されなかったり、集中した所の電極を傷めて、頻繁に電極を交換しなければならなかった。また集中放電するようになると電流効率が低下しエネルギーロスに結びつくばかりでなく、処理効率の低下につながる。
【０００８】
大気圧近傍下放電処理装置における電極が、いろいろと提案されている。例えば、ステンレス鋼の極細繊維をウェブ状として圧縮成型した後、焼結した電極（特開平７−１１１１９５号公報）、導電性の円筒状のものにセラミックスのような絶縁体を被覆した電極（特開平５−００９３１４号及び同７−１１９０２１号公報）、ガラス管内に導電性液体を導入した電極（特開平７−２２０８９５号公報）等があるが、いずれの電極も作製が容易でなく高価なもので、処理装置としてはコストがかかり過ぎる。従って作製が容易でコストの安い電極が求められていた。
【０００９】
別の課題として、処理中に、プラスティック支持体が帯電し、ゴミが付着しやすく、処理後ハロゲン化銀乳剤層等を塗布する際、塗布ムラや塗布欠陥を生じることもあり、また巻き取られた後、処理された面が重なり合った場合ブロッキングを起こしクッツイてしまうというような、解決する必要のある課題が多くある。
【００１０】
本発明の第１の目的は、プラスティック支持体に対してガス中放電プラズマ処理を均一に行う表面処理装置及び処理方法を提供することにある。第２の目的は、安価で簡単に作製出来るガス中放電プラズマ処理用表面処理電極を提供することにある。第３の目的は、ガス中放電プラズマ処理後のプラスティック支持体に塗布欠陥を起こさせない表面処理方法を提供することにある。第４の目的は、プラスティック支持体の接着性が良好で、且つ耐ブロッキング性のあるガス中放電プラズマ処理による表面処理方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は下記の構成よりなる。
【００１２】
（１）大気圧もしくはその近傍の圧力下、導入する不活性ガスの５０圧力％以上をアルゴンガスとする組成の混合ガス雰囲気下で、一対の電極間で連続的に移送しているプラスティック支持体をガス中放電プラズマにより処理するプラスティック支持体の表面処理装置において、該一対の電極の少なくとも一方の電極が該連続的に移送されるプラスチック支持体の幅手方向においてインピーダンスを異にしていることを特徴とするプラスティック支持体の表面処理装置。
【００１３】
（２）大気圧もしくはその近傍の圧力下、導入する不活性ガスの５０圧力％以上をアルゴンガスとする組成の混合ガス雰囲気下で、一対の電極間で連続的に移送しているプラスティック支持体をガス中放電プラズマにより処理するプラスティック支持体の表面処理装置において、該一対の電極の少なくとも一方の電極が該連続的に移送されるプラスチック支持体の幅手方向において誘電率を異にしていることを特徴とするプラスティック支持体の表面処理装置。
【００１６】
（３）（１）または（２）項に記載の装置により処理することを特徴とするプラスティック支持体の表面処理方法。
【００２６】
本発明を詳述する。
【００２７】
先ず、本発明のガス中放電プラズマ処理について説明する。
【００２８】
本発明は、ガス中放電プラズマ処理の基本的な事柄、処理装置、処理条件、処理方法等について特願平１０−９７４２６号、同１０−９４４６８号及び同１０−２４５１５１号等の記載事項、特に特願平１０−２４５１５１号の記載事項に準拠する。
【００２９】
ここで、簡単にガス中放電プラズマ処理について、図１を用いて説明する。
【００３０】
図１は、ガス中放電プラズマ処理装置の１例を示す模式図で、ここには電極が一対の平型として示されているが、電極の形状はこれに限るものではない。
【００３１】
ガス中放電プラズマ処理装置１について説明する。大気圧もしくはその近傍の圧力となっている処理室２に、不活性ガスの５０％以上をアルゴンガスとする不活性ガスと他の反応性ガスや不活性ガス等とを混合して形成した処理ガスを導入口から導入する。処理室２内に処理ガスを充満させ、一対の電極６と７の間も該処理ガスの雰囲気とする。一対の電極６、７のうち一方の電極６に高周波電源１０が接続され、他方の電極７はアース１０Ｅにより接地されている。そしてガス中放電プラズマ放電は、これら一対の電極６、７の間隙において起こり、連続移送（搬送）しているプラスティック支持体を処理する。処理室２の手前には、プラスティック支持体５が同伴して来る空気を遮断するために予備室３ａが設けられている。一対の電極６と７は、金属部分（６Ａ、７Ａ）とそれを被覆している誘電体部分（６Ｂ、７Ｂ）から構成されている。金属部分６Ａと７Ａは、例えば、ステンレス、アルミニウム、銅などの導電性の金属、また誘電体部分６Ｂと７Ｂは、例えば、ゴム、ガラス、セラミック、カプトン、テフロン、雲母などの誘電体からなっている。この誘電体被覆は金属部分を全部覆っていても一部覆っていてもよい。電極の形状については、図１では一対の電極６、７のように平型電極が用いられているが、その他、一方もしくは両方の電極を角型、円筒型（パイプ状、ロール状、ドラム状、それらの変形）等いろいろな形状の電極としてもよい。３ｂは出側の予備室である。８はガイドロールで、９は同伴空気を遮断する間仕切り手段である。
【００３２】
次に本発明で使用する処理ガスに関することについて説明する。
【００３３】
ここで本発明の「不活性ガスの５０圧力％をアルゴンとして」という表現は、不活性ガスと活性ガスを含む全処理ガスの中の不活性ガス分の５０圧力％という意味であり、活性ガス分の圧力％には関係しないものである。従って、例えば、アルゴンガス１００圧力％と活性ガス（例えば、窒素ガス）の量はアルゴンガスの量に影響されることなく、何％であってもよいということである。
【００３４】
本発明は、処理室２に導入する処理ガスのうち、不活性ガスの５０圧力％以上をアルゴン（Ａｒ）ガスとしてガス中放電プラズマ処理するものである。他の不活性ガスとしては、ネオン（Ｎｅ）ガス、ヘリウム（Ｈｅ）ガス、クリプトン（Ｋｒ）ガス、キセノン（Ｘｅ）ガスなどがあるが、これらの不活性ガスも不活性ガスの５０圧力％未満として用いることが出来る。本発明の処理ガスはアルゴン（Ａｒ）ガスを主成分として用い、アルゴンガスを６０圧力％以上とすることが、効率的な改質効果を得るために好ましい。
【００３５】
ガス中放電プラズマ処理におけるアルゴンガスの処理効果は、ヘリウムガスでは見られないものがある。それは、アルゴンは、ヘリウムより原子量が大きく、一原子気体としての大きさも大きいため、処理の際、プラスティック支持体の表面にアルゴンが叩きつけられた時に生じるエッチングが起こり易く、表面に凹凸を生成し易い。このように格段の改質効果を得ることが出来、しかも他の不活性ガスに比してアルゴンガスは安価であることから、アルゴンガスの優位性がある。他の不活性ガス、例えば、クリプトンガスやキセノンガスは、これらを使用してプラズマを発生させるためには、高出力、高周波数が必要になり表面処理が強すぎ、プラスティック支持体にダメージを与えてしまう。
【００３６】
本発明においては、上記不活性ガスと下記反応性ガスを混合して処理ガスとすることが好ましい。本発明のガス中放電プラズマ処理において、処理ガスに使用される活性ガスとしては、窒素（Ｎ2）ガス、水素（Ｈ2）ガス、アンモニア（ＮＨ3）ガス、水蒸気等を挙げることが出来る。ガス中放電プラズマ処理によって、分離（遊離）した反応性の分子が支持体表面に反応し、−ＮＨ2基、−ＯＨ基、−ＣＯＯＨ基等のような化学的活性基が発現し、プラスティック支持体表面を化学的に改質することが出来、上物に対する接着性の増強に寄与する。反応性ガスの不活性ガスの全圧力％（１００圧力％）に対する比率は０〜０．３０圧力％とするのがよく、好ましくは０．０１〜０．２圧力％である。
【００３７】
本発明のガス中放電プラズマ処理の放電状態は、真空下で起こるグロー放電に似た放電状態となっているが、支持体が同伴して来る空気を遮断することによって、本発明の表面処理をするにより適したガス中放電プラズマ処理の放電状態となる。
【００３８】
本発明のガス中放電プラズマ処理の放電強度は、アーク放電も起こらず安定した効果的な処理を行うには、５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2以上５００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2未満が優れた接着性を得ることが出来好ましい。
【００３９】
図２は、同様なガス中放電プラズマ処理装置の他の例を示す模式図で、電極として多数対の角型電極１６、１７が用いられているものである。角型電極は１６Ａと１７Ａの金属部と１６Ｂと１７Ｂの誘電体部とから構成されている。
【００４０】
図３はガス中放電プラズマ処理装置の一例を示す正面から見た断面模式図である。２６と２７の一対の電極の幅は支持体５の幅より長くなっている。２１はガス中放電プラズマ処理装置、２２は処理室、２６Ａと２７Ａは電極の金属部、２６Ｂと２７Ｂは誘電体部、２０は高周波電源、２０Ｅはアースである。
【００４１】
上記ガス中放電プラズマ処理装置を用いて検討して行く過程で、処理室２または２２内で、プラスティック支持体５の幅手方向の端部と中程の部分とで異なった放電の状況がしばしば観察され、端部がガス中放電プラズマ処理され難いことがわかった。更に、アース電極の、プラスティック支持体５の幅手方向の端部に相当する部分付近に集中放電が起こり易く、電極が傷み、電極の交換頻度も多くなることがわかった。
【００４２】
図４（ａ）はガス中放電プラズマの放電の状態を模式的に示した図で、図中○印３８のところが集中放電の起こり易い所を、また、３９は集中放電を受けている所を模式的に示している。図４（ｂ）は、図４（ａ）の端の部分を拡大した図で、ガス中放電プラズマの放電の状態を模式的に示した図である。３１はガス中放電プラズマ処理装置、３２は処理室、３３は可視的に描いた模式的放電状態で、放電の状態を線で示したもの、３３′は可視的にプラスティック支持体の端部を避けて放電している模式的状態を線で示したもの、３６と３７は電極、３６Ａと３７Ａは電極の金属部分、３６Ｂと３７Ｂは誘電体部分、３８は集中放電が起こり易い所を○印で示したもの、また３９は集中放電を受けている所である。プラスティック支持体５の端部では、３３′で模式的に示したように放電が端部を処理せずプラスティック支持体５の末端を迂回して下の電極３７へ逃げると考えられる。そして、３９の所に放電が集中して電極３７を破損させる。通常放電はプラスティック支持体５に向かって垂直に降りると考えられているが、端部では、それより中の部分と異なり有限の被処理物体の外側へ放電が流れて行ってしまう。
【００４３】
本発明者はこの現象に対して、鋭意検討を加えた結果、先ず、集中放電を起こさせないこと、また放電が迂回しないようにすることを見出すことが出来た。
【００４４】
本発明の構成（１）は、処理室内のプラスティック支持体端部付近の集中放電による電極の損傷を防ぐようにしたもので、集中放電を防止するため、プラスティック支持体が通過しない部分（幅手方向に）の電極端部の電極間に生じるインピーダンスを変化させるように電極自身あるいは電極付近を改良した装置である。
【００４５】
その一つは、一対の電極の少なくとも一方を反らすように変形させて、電極間の距離を徐々に大きくし、インピーダンスを変化させるようにするものである。
【００４６】
図５に構成（１）のガス中放電プラズマ処理装置の電極の端部付近の電極間距離が変化した部分を示す拡大模式図を示す。電極４６と４７の端部を反らせ電極間距離（ギャップ）を増大させることにより、反った部分の放電は弱くなり、放電集中が起こらなくなる。ギャップの増大の程度はプラスティック支持体が通過する中程の部分よりも２ｍｍ以上大きくするのが好ましく、より好ましくは５ｍｍ以上である。しかし、曲げ方によっては曲げた箇所に放電集中が起こる場合もあり、そのような形は避けて形作るのがよい。
【００４７】
図６は電極端部の電極誘電体の厚さが変化した部分を示す拡大模式図で、電極５６と５７の端部の誘電体部分５６Ｂと５７Ｂの厚さを図６のように変えることによって電極間のインピーダンスを変化させたものである。これは構成（１）及び（２）に対応するものである。この厚さを変化させた形は、電極の端に行くほど厚くしてもよいし、丸みを帯びた形をしていてもよく、図６に示した形に限定されない。この場合のインピーダンスの増大は誘電率を低下させるものであるが、プラスティック支持体の抵抗分だけ低下させるのがよい。なお、図中、５１はガス中放電プラズマ処理装置、５２は処理室である。
【００４８】
誘電率を変化させる他の一つの構成は、処理室の支持体が通らない部分から支持体端部より若干中に入ったところまでの両電極との間（ギャップ）に絶縁体を挿入して集中放電を誘発させないものである（図７）。図７は電極端部の電極間に絶縁体を挿入した部分を示す拡大模式図で、絶縁体６３をプラスティック支持体５の端部付近に挟むように、電極６６と６７の間でプラスティック支持体５の両側に設置した図である。絶縁体６３としては、絶縁出来て、しかも放電によって破壊されないようなものであれば、制限なく使用できる。図中、６１はガス中放電プラズマ処理装置、６２は処理室、６６Ａと６７Ａは金属部分（電極の）、６６Ｂと６７Ｂは誘電体部分である。
【００４９】
本発明の構成（３）は、一対の電極の少なくとも一方の電極が誘電体のパイプの内側に金属パイプを有するもので、金属パイプ電極を有するガス中放電プラズマ処理装置である。図８（ａ）はガス中放電プラズマ処理装置の更なる他の例で、パイプ状電極を配置した例を示す正面から見た断面模式図である。図８（ｂ）は、図８（ａ）のパイプ電極の断面部分図（片側）である。
【００５０】
図８（ｂ）は、誘導体パイプ内に金属パイプを有する電極の１例で、このパイプ状電極７３は、金属パイプ７４、誘電体パイプ７５、絶縁体パイプ継ぎ手７６、絶縁体パイプ７７及び金属ブロック（中空円柱形）７８を有している。金属パイプ７４は金属ブロック７８の中空部分に接して固定され、該ブロック７８の外側半分には絶縁体パイプ７７が接合されており、他の半分は誘電体パイプ７５を接合した絶縁体パイプ継ぎ手７６が接合されている。金属ブロック７８の外側で絶縁体パイプ７７と絶縁体パイプ継ぎ手７６との接合部分は若干空いたところがあり、そこに高周波電源あるいはアースに至るリード線７０が付いている。絶縁体パイプ７７と絶縁体パイプ継ぎ手７６の材質は、通常プラスティック配管に使用されているようなプラスティックパイプ例えば塩化ビニール等でよく、絶縁体のパイプであれば制限なく使用できる。
【００５１】
誘電体パイプ７５の中側に設けられている金属パイプ７４と絶縁体パイプ７７は金属ブロック７８を介してしっかりと接合されており、その中に入れる液体が漏れのないようになっている。液体は絶縁性冷却媒体７９で、その中を流して冷却し、条件を平準化し処理効果を均一化することが出来、プラスティック支持体５の安定した表面処理効果、特に接着性の効果を上げることが出来る（構成（４））。また電極が熱を持つこともなく誘電体パイプの破損も起こり難い。誘電体パイプの材質は前記誘電体のそれと同様であるが、パイプ状に加工されたものが用いられる。例えばガラスパイプなどは調達も簡単で性能も良く、しかもコストが低く好ましい。絶縁性冷却媒体は例えば通常液体の炭化水素化合物のようなもので、出来るだけ粘度が低く、熱伝導効率のよい液体がよい。使用目的によっては、無機塩や有機塩を含有する水溶液のような導電性冷却液体を使用してもよい。
【００５２】
これに対して、従来技術は、特開平６−９６７１８号公報に記載されている金属パイプの外壁をセラミックのような誘電体で被覆した電極、また、特開平７−２２０８９５号公報にはガラスパイプ内に銀メッキが施された電極が記載されているが、これらは、被覆の厚さやムラがないように被覆を行うのが難しく、かなり精密な技術を必要とするもので、コストが高く実用的ではない。本発明の構成（３）及び（４）はコストの低い、効率のよいパイプ電極を提供するものである。
【００５３】
本発明の構成（５）は上記構成（１）及び（４）に記載の装置を用いて、プラスティック支持体をガス中放電プラズマ処理を行う方法である。前述の如く、ガス中放電プラズマ処理により活性化されたプラスティック支持体表面には、ハロゲン化銀写真感光材料の種々の構成層、例えば、下引層、ハレーション防止層、クロスオーバー光カット層、ハロゲン化銀乳剤層、帯電防止層等を強固に接着させることが出来る。
【００５４】
本発明の構成（６）は、構成（５）の場合と同じようなガス中放電プラズマ処理装置処理室内を連続的に移送しているプラスティック支持体を大気圧もしくはその近傍の圧力下、導入する不活性ガスの５０圧力％以上をアルゴンガスとして処理する際、該支持体の幅手方向の中程より端部の有効ガスを少なくするようにして処理する方法である。プラスティック支持体の端部のガス雰囲気を局部的に、処理ガスの組成中の有効ガスを少なくしたり、ガス濃度を薄めたりして、有効ガス濃度を変化させてガス中放電プラズマ処理するもので、これにより端部の処理能力を落として集中放電を抑えるものである。雰囲気を局部的に変える手段としては、絶縁体で仕切りを設けたり、ガス導入口をプラスティック支持体の中程とは別に、該支持体の近くまで導入口の開口部分を延ばしたりすることによって実施出来る。組成中の有効ガス濃度はアルゴンガスを１０〜２０圧力％まで低下させることが好ましい。また、全体のガス濃度を酸素または空気以外のガス、例えば窒素ガスで希釈すればよく、全体のガスの３０〜４０％を占めてもよい。
【００５５】
本発明の構成（７）〜（９）はガス中放電プラズマ処理に際し、付着し易いゴミを除去する装置に関する。
【００５６】
図９は、除電装置及びクリーナー付きガス中放電プラズマ処理装置及び塗布乾燥工程を示す模式図である。プラスティック支持体ロール１００から繰り出されたプラスティック支持体１０５が、先ずガス中放電プラズマ処理装置１０１で処理され、ガイドロール１０２を経て除電装置１０３、続いて除塵装置１０４でそれぞれ処理され、１０７のバックロール上で、塗布装置１０６により塗布液が塗布され、乾燥装置１０８で乾燥され、最終的に塗布済みロール１０９として巻き取られる。
【００５７】
先ず、構成（８）について説明する。プラスティック支持体をロール搬送する際、ロール（例えば１０２のガイドロール）に接触したり、離れたりして接触帯電や剥離帯電をし、空気中に浮遊している僅かなゴミを吸引し付着させることが多々ある。このような帯電によりゴミが付着したプラスティック支持体に、後で下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、クロスオーバー光カット層、ハロゲン化銀乳剤層等の構成層の塗布液を塗布する際、ゴミの所でハジキや尾引き等の塗布欠陥を生じさせ、部分的に接着性を劣化させたりする。その結果、塗布物の商品としての品質が損なわれてしまう。このようなプラスティック支持体の帯電はプラス、マイナスの極性の入り交じったもので、２０ｋＶ以上にもなることがある。特に、ガス中放電プラズマ処理されたプラスティック支持体は、放電処理により帯電し易く、ゴミ等の汚染もされ易い。
【００５８】
ガス中放電プラズマ処理前後の帯電や汚染に対する対策は、処理前後にプラスティック支持体を下記の如き除電処理及び除塵処理することにより可能である。上記のような帯電に対しては、通常のブロアー式や接触式だけでも効果は見い出せるが、本発明者らは、複数の正負イオン生成用除電電極と該支持体を挟む様にイオン吸引電極を対向させた除電装置、その後正負の直流式除電装置、及び更にその後ろに交流式除電装置を有する高密度除電システム（例えば特開平７−２６３１７３号公報記載）をガス中放電プラズマ処理の前及び後から選ばれる一方に設けることにより除電効果が顕著であることを見出した。これらの除電処理はガス中放電プラズマ処理前でも、後でも行ってよいが、ガス中放電プラズマ処理の、後またはその前後の両方で、行うのが好ましい。設備コストからすれば、後の方がより好ましい。
【００５９】
上記高密度除電システムとしては、特開平７−２６１７３号公報に記載の装置及び方法が好ましい。このシステムは、正負イオン生成用除電電極が正負イオンを、交互にまたは同時に、発生している時に、イオン吸引電極には正負の高電圧が交互に印加されるので、正負イオン生成用除電電極によって生成された正負のイオンが、イオン吸引電極によって吸引されるものである。つまり、帯電して移送されているプラスティックフィルム（帯電フィルム）に、イオン吸引電極との間の結合容量Ｃにより、または結合容量が無い時は直接に、正負の電位が交互に誘起されるので、正負イオン生成用除電電極からの正負イオンは帯電フィルム面に向かって強制的に吸引される。その結果、無数の小さい正負の帯電部分がランダムに混在して複雑な帯電模様を形成し、帯電フィルム面で微視的に中和状態となっていても、帯電フィルムに上記のような電位が誘起されるのに加えて、その正の帯電部分には負のイオンが、負の帯電部分には正のイオンが確実に反応して、正負それぞれの帯電部分を別々に強力に除電する。この場合、イオン吸引電極は、帯電フィルムの走行方向及び直交する方向に拡がる面を有しているため、イオン吸引力に場所的ムラが生じることがなく、正負のイオンを同等に吸引出来るので、除電ムラは少ない。正負イオン生成用電極及びイオン吸引電極に印加される電圧は極性が変化し、またこれら電極に対して帯電フィルムは移動するので、その帯電面を走行方向に見ると、正イオンによる除電が強いところと、負イオンによる除電が強いところが交互になる。そこで、複数の正負イオン生成用除電電極を帯電フィルムの走行方向に並列させて、これらによる正負イオンを、場所を変えて帯電フィルムに強制的に照射すると、除電効率を上げることが出来るばかりでなく、正負の除電作用を帯電フィルムの走行方向に平均化して、このような除電ムラを少なくすることが出来る。また、このような巨視的に現れる除電ムラの解消は、複数の正負イオン生成用除電電極による除電作用を帯電フィルムの進行方向に徐々に弱めることにより、また次の補助工程として、直流除電器による弱い直流除電、更に交流除電器による弱い交流除電を併用することにより、一層向上させることが出来る。
【００６０】
次に、構成（９）の除塵装置１０４について説明する。プラスティック支持体に付着したゴミ等を取り去るには、特開平７−６０２１１号公報に記載の装置のような非接触式のジェット風減圧型除塵装置を設け用いるのが効果的である。この非接触式のジェット風減圧型除塵装置は、エアー噴出ノズル内に超音波発生装置を備え、噴出する超音波エアー（超音波プレッシャーともいう）を移送しているプラスティック支持体面に２方向から吹き付け合流させ、乱流を発生させて、ゴミに対して浮力を与えてゴミを剥離し、吸引ノズルにより吸い取るようになっている。
【００６１】
この除塵装置を上記除電装置と組み合わせて設置し用いることにより好ましい効果が得られる。構成（７）は、上記除電装置とこの除塵装置をガス中放電プラズマ処理装置の前後の何れかまたは両方に設けることによって効果的にゴミ付着のない処理プラスティック支持体を得ることが出来る。更なる効果を望めば、ガス中放電プラズマ処理装置の後ろに設置するのが好ましい。なお、本発明においては除電装置及び除塵装置は上記に限定されるものではない。
【００６２】
本発明の構成（１０）は構成（７）〜（９）の装置を用いて除電処理と除塵処理する方法で、汚染のないガス中放電プラズマ処理したプラスティック支持体の処理方法である。これにより、ガス中放電プラズマ処理されたプラスティック支持体の被着物の塗布性が向上し、塗布品質的に欠陥のない商品を作ることが出来る。
【００６３】
本発明の構成（１１）は、プラスティック支持体表面を物理的に粗面化してガス中放電プラズマ処理を施すことによって、該支持体の更なる接着性を向上させる方法である。単に粗面化しただけでは非接着物を接着することは出来ないが、これにガス中放電プラズマ処理すると、粗面化しないプラスティック支持体の接着性よりも格段に向上することを本発明者らは見出したのである。特に表面粗度を中心線平均粗さでＲａを０．１μｍ以上とすることで、この効果が著しい。これらの粗面化する手法としては、サンドブラストやプラスティック中のフィラー添加等があるが、特に限定されるものではない。また、ガス中放電プラズマ処理したプラスティック支持体はロール状に巻いた時処理面がブロッキングし易いので、あらかじめ表面を粗面化しておくことによりブロッキングを抑制出来ることも本発明者らは見出した。
【００６４】
本発明の構成（１２）及び（１３）は、製品として使用する面を粗面化出来ないプラスチック支持体に対して、支持体の両端だけを粗面化してガス中放電プラズマ処理をすることによって、ロール状に巻いてもブロッキングし難いプラスチック支持体の処理方法である。粗面化部分は両端の縁からそれぞれ５〜３０ｍｍが好ましい。また、ハロゲン化銀写真感光材料の構成層をプラスティック支持体に塗設する際、構成層塗布液はかなり端の方まで塗布されるから、本構成（１２）及び（１３）の場合においても粗面化した両端部分にも塗布されるが、その部分の塗布物は乾燥後ロール状に巻かれてもブロッキングすることもない。更にその部分の接着性も良好で、乾燥中に剥がれ落ちるようなこともない。
【００６５】
本発明の構成（１４）は平版印刷版用アルミニウム支持体の表面処理方法に関する。
【００６６】
従来平版印刷版用アルミニウム支持体の処理は、全てが湿式の方法で行われている。先ず、アルミニウム板を脱脂処理し、その後、水洗、研磨処理（砂目立てともいう）、水洗、陽極酸化処理、水洗、封孔処理、親水化処理、水洗、乾燥等のような複雑な処理が長々と行われる。しかしながら、陽極酸化までの工程は平版印刷版アルミニウム支持体の特異性を持たせるには必要な処理（その後の親水化もそうであるが）で、現在のところ省くことが出来ない。それでも、陽極酸化以降の封孔処理あるいは親水化処理だけでも簡素化が出来るならば、平版印刷版用アルミニウム支持体の作製時間、コストの削減、処理工程の省スペース化等に大いに寄与する。
【００６７】
本発明に用いるアルミニウム板は砂目立てしてあるものであれば使用することが出来る。砂目立ての方法は、アルミニウム板の表面を脱脂した後、ブラシ研磨法、ボール研磨法、化学研磨法、電解エッチング法等による砂目立てが施され、好ましくは、深くて均質な砂目の得られる電解エッチング法で砂目立てされる。陽極酸化処理は例えばリン酸、クロム酸、ホウ酸、硫酸等の無機塩もしくはシュウ酸等の有機酸の単独、あるいはこれらの酸２種以上を混合した水溶液中で、好ましくは硫酸水溶液中で、アルミニウム板を陽極として電流を通じることによって行われる。陽極酸化被膜量は５〜６０ｍｇ／ｄｍ2が好ましく、更に好ましくは５〜３０ｍｇ／ｄｍ2である。その後、封孔処理、親水化処理を行う。封孔処理及び親水化処理は、濃度０．１〜３％のケイ酸ナトリウム水溶液に、温度８０℃〜９５℃で１０秒〜２分間浸漬してこの処理を行う。その後に４０〜９５℃の水に１０秒〜２分間浸漬して処理するのが一般的である。
【００６８】
また、例えば、アルミニウム板の表面を砂目立てした後、ケイ酸塩で処理する方法（米国特許第２，７１４，０６６号）、有機酸塩で処理する方法（米国特許第２，７１４，０６６号）、ホスホン酸及びそれらの誘導体で処理する方法（米国特許第３，２２０，８３２号）、ヘキサフルオロジルコン酸カリウムで処理する方法（米国特許第２，９４６，６８３号）、陽極酸化する方法及び陽極酸化後、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液で処理する方法（米国特許第３，１８１，４６１号）等がある。
【００６９】
本発明の構成（１４）は上記親水化処理（封孔処理を含め）を火炎処理で行うものであり、通常の封孔処理、親水化処理より設備的に安価であり、低コストのアルミニウム平版印刷版支持体を得ることが出来るばかりでなく、耐刷性を非常に向上させることも出来るものである。
【００７０】
一般的に、バーナーから出る火炎には外炎と内炎とがあり、外炎部は内炎部の未反応（燃焼しきれない）ガスが加熱された、通常薄い青色をした部分でいわゆるブルーのガス炎と言われており、温度が高い部分であり、ブルーでない火炎部が内炎で酸素供給が少ない温度の比較的低い部分である。本発明においては内炎部の先端部分を用いるのが好ましい。燃焼ガスの中に燃焼温度を高めるために空気や酸素のような活性ガスを、火炎を形成する前に混合ガスとして混合することもよく行われている。また移送する支持体に同伴してくる空気を巻き込むと炎が揺らぎ不安定になるため、同伴空気を遮断することが好ましい。この同伴空気の遮断は、特願平１０−４５３６１号に記載されているような方法で行うことが出来る。
【００７１】
本発明に使用する燃焼ガスとしては、パラフィン系ガス、例えば、都市ガス、天然ガス、メタンガス、エタンガス、プロパンガス、ブタンガス、オレフィン系ガスとしては、エチレンガス、プロピレンガス、またアセチレンガスが有用であり、一種類だけ、あるいは２種類以上混合してもよい。
【００７２】
本発明の火炎による処理は、不活性ガス及び反応性ガス（活性ガスともいうことがある）のそれぞれ少なくとも１種のガスを、火炎部の火炎を包むように、外部から導入することによって、処理の揺らぎをなくし、支持体の表面を効率的に活性化する方法である。本発明の表面処理を阻害しない程度に燃焼ガスと酸化性ガスとを混合して使用してもよい。混合比率は、燃焼ガスの種類によって異なるが例えばプロパンガスと空気の場合には、プロパンガス対空気の好ましい混合比は、容量比で１対１５〜１対２２、好ましくは１対１６〜１対１９の範囲とすることがよく、天然ガスと空気の場合には、１対６〜１対１０、より好ましくは１対７〜１対９とするのが好ましい。内炎と外炎との大きさの比率は燃焼ガスの種類、酸化性ガスの種類、これらの混合比、ガスの供給速度等によって異なる。
【００７３】
本発明において使用する反応性ガス及び不活性ガスのそれぞれ少なくとも１種というのは、例えば、窒素ガスあるいはアルゴンガスだけでもよいし、例えば、窒素ガスとアルゴンガスとを混合して用いてもよいということで、反応性ガス及び不活性ガスを問わず何種類も混合してもよい。
【００７４】
本発明の親水化処理（火炎処理）に使用する反応性ガスとしては、窒素ガス、酸素ガス、炭酸ガス、水素ガス、水蒸気ガス、アンモニアガスを好ましく挙げることが出来、いずれも有用に使用出来るが、特に窒素ガス、酸素ガス、炭酸ガス及び水蒸気ガスが好ましい。
【００７５】
本発明に使用する不活性ガスとしては、ヘリウムガス、ネオンガス、アルゴンガス、クリプトンガス、キセノンガスを挙げることが出来、不活性ガスは写真用支持体への処理の揺らぎを低減するために使用するもので、ヘリウムガス、ネオンガス、アルゴンガスが好ましく、コストを考えるとアルゴンガスが特に好ましい。
【００７６】
本発明は、内炎の先端から３０ｍｍ以内の距離のところの制限した火炎で支持体を処理するのが好ましい。この内炎の先端から３０ｍｍ以内の火炎にはプラズマが多く発生しており、支持体処理が最も有効に行える。
【００７７】
本発明において、アルミニウム板に火炎を当てる時間、つまり有効な火炎部をアルミニウム板が通過する時間は０．００１秒以上２秒以内が好ましく、０．０１秒以上１秒以内がより好ましい。２秒以上ではアルミニウム板の表面が侵され接着能力を逸する。また０．００１秒未満では酸化反応が起こりにくく、接着に寄与し難い。本発明におけるアルミニウム板の処理速度は１〜５０ｍ／ｍｉｎで、好ましくは３〜３０ｍ／ｍｉｎである。処理エネルギーは１００Ｗ／ｍｉｎ／ｍ2以上あれば親水化効果は十分で耐刷性力が、従来の親水化処理のものより向上するが、好ましくは１５０〜７００Ｗ／ｍｉｎ／ｍ2である。
【００７８】
本発明に使用される表面処理用のバーナーは、アルミニウム板表面に対して均一に炎を当てることができるものであれば制限はないが、丸型のバーナーを複数配置し、幅手方向に均一性を保つものでもよく、特にアルミニウム板の幅と同等あるいはそれ以上の幅の横長スリット箱型バーナーが好ましい。またこの横長スリット箱型バーナーをアルミニウム板の進行方向に複数個配置してもよい。
【００７９】
遮蔽板は平らでも、湾曲しているものでもよい。湾曲した遮蔽板はバックロールに沿って湾曲していても、反対側に湾曲していてもよい。また板状の遮蔽板は単なる１枚の板であっても、フィンのついた形でも、中に冷却水を通せるような中空の形のものであってもよく形に制限はない。冷却が可能な形のものがウエブを不要な熱から守る意味とコントロールをしやすくするために好ましい。横長スリット型ボックスバーナーの場合にはいずれも有効処理孔は長細いスリットとして開いている。有効処理孔にメッシュがかかっていても良い。
【００８０】
本発明の火炎処理はバックロールをバックに行ってもよいし、二本のロール間でロールなしで行ってもよい。
【００８１】
バックロールの直径は、一般にはバーナー出力が大きいと直径を大きくするのがよいが、バーナーの出力にはあまり左右されず、適宜に選べばよい。
【００８２】
火炎を当てる方向は、バックロールの上側からでも、横からでも、下側からでもよい。
【００８３】
本発明の火炎処理に使用されるバックロールの材質は、耐熱性材料であれば特に制限はないが、鉄、鉄のクロムメッキ物、ＳＵＳ３０４、３１６、４２０等のロールを使用することができる。またアルミナ、ジルコニア、シリカ等のセラミックロールも好ましく用いられる。更に、バックロールの表面安定性を得るためには、一定の温度を保つことの出来る冷却バックロールを用いることが特に好ましく、このようにすることによってゴム製のバックロールも使用することが出来る。本発明においてはゴム製ロールが弾力があり、ニップロールとの相性から特に好ましい。冷却ロールは０℃〜９５℃の間にコントロールするのがよい。特に２５℃〜８０℃が好ましい。耐熱性ということからは金属あるいはセラミックが好ましい。
【００８４】
本発明において同伴空気を遮断するためのニップロールをバックロールに押しつける位置は、搬送して来るアルミニウム板が前記バックロールに接する位置と火炎処理の位置との間にあり、火炎処理する位置より手前に１０〜３０ｃｍのところがよい。
【００８５】
本発明のニップロールの材質としては、ゴム、樹脂、金属、セラミックのいずれも用いることが出来る。これらの材質はバックロールとほぼ同じものが使用出来る。弾力の点からゴムが、また耐熱性からはセラミックが好ましいが、バックロールの材質と同じものを用いない方が好ましい。ゴムの場合、その硬度は５〜９０（ＪＩＳ）であれば使用出来、好ましくは２０程度である。
【００８６】
本発明のニップロールがバックロールに向かってアルミニウム板を押しつける力は１〜５００ｋｇ／ｃｍでよく、特に３０〜１００ｋｇ／ｃｍの範囲が好ましい。前者の範囲でほとんど同伴空気を遮断出来るが、後者の範囲では完全に同伴空気を遮断することが出来る。
【００８７】
本発明の搬送しているアルミニウム板が同伴する空気を遮断する場合、同所において減圧ボックスを設け遮断した空気を吸引してもよい。
【００８８】
以下に本発明を実施例で説明するが、これらに限定されない。
【００８９】
【実施例】
（接着性試験１の評価）
ゼラチン塗布液（３重量％ゼラチン水溶液に少量の界面活性剤を含有する塗布液）をワイヤーバーで乾燥膜厚が０．１μｍになるように処理済みプラスティック支持体に塗布乾燥し、調湿済みの３枚の試料のゼラチン面にプラスティック支持体面にまで届くように、カミソリの刃を平行に約２ｃｍの間隔でフィルム面に対して４５°の角度で切り込みを２本入れる。市販の２．５４ｃｍ幅のセロハンテープをゼラチン面に、先が丸く硬いものできつく擦って貼り付ける。テープの端を指で持ち、切り込みの４５°の角度と逆の方向に思い切り引っ張ってテープをゼラチン面から剥がす。膜付きは下記の評価基準で評価する（貼り付けたセロハンテープの面積に対しての剥がれた面積の％）。
【００９０】
Ａ：全然剥がれたところがない（０％）
Ｂ：刃のところが極わずか剥がれている（２％以下）
Ｃ：３〜１０％
Ｄ：１１〜５０％
Ｅ：５１〜１００％
Ｆ：１０１％以上。
【００９１】
（接着性試験２の評価）
ガス中放電プラズマ処理したプラスティック支持体に上記ゼラチン塗布液を乾燥膜厚０．１μｍになるようにワイヤーバーで塗布し、乾燥後試料を１０ｍｍ幅、２００ｍｍの長さに断裁した。次に試料を２枚ゼラチン面同士を、片端５０ｍｍが互いに貼り付かないようにしてあとの部分を全て重ね合わせ、３５℃８０％ＲＨの雰囲気に２日間重量のある錘を乗せて放置して接着させた。これら試料を２０℃、４０％ＲＨの雰囲気で１日放置した後、テンシロン（東洋精機者製）引張試験機に、試料の接着してない端の部分を上下のクリップに固定してＴ字型に１０ｃｍ／ｍｉｎで引っ張った。引張り時の最大の引張強さ（ｇｆｍ）を剥離強さとした。
【００９２】
（塗布性の評価）
ガス中放電プラズマ処理したプラスティック支持体に上記の如く、ゼラチン塗布液を塗布、乾燥して、１０ｍ2当たりの塗布異常（例えばハジキ、クレーター、尾引き等）箇所の個数で評価した。
【００９３】
（ブロッキング評価）
プラスティック支持体ロールまたはゼラチン塗布液塗布済みロールを巻き取ってから３０℃５５％ＲＨの雰囲気で４８時間放置し、ほぐしてくっつき具合を見る。
【００９４】
Ａ：全くクッツイいていない（サラサラとほぐれる）
Ｂ：クッツイていないが、Ａほどサラサラとほぐれない
Ｃ：段状あるいは筋状に弱いクッツキが観察される
Ｄ：ほぐすとバリバリという音を立てる
Ｅ：クッツイて支持体が破れる。
【００９５】
実施例１
図２のような構成のガス中放電プラズマ処理装置の電極の両端を、図３のように真っ直ぐにしたもの（ａ）、図５のように反らせたもの（ｂ）、図６のように誘電体を厚くしたもの（ｃ）、図７のように絶縁体を挿入したもの（ｄ）を準備した。電極は上下何れも金属をアルミニウムと誘電体をセラミックスの上張りからなっている。（ａ）を比較例とする。
【００９６】
実施条件
下記条件で、ガス導入を開始後１０分間処理室にパージし、プラスティック支持体を搬送させて処理を開始し、安定してから２分後の処理品をサンプリングした。
【００９７】
プラスティック支持体：４００ｍｍ幅、１００μｍのポリエチレン−２，６−ナフタレートフィルム
処理ガス：導入する不活性ガス１００圧力％アルゴンガスとし、不活性ガスと反応性ガスの比を、Ａｒ：Ｎ2＝５０：１
周波数：１０ｋＨｚ
電極間ギャップ（両端が変化している電極の場合は中央部分の）：５ｍｍ
電極長さ：６００ｍｍ
電極両端変化した位置：プラスティック支持体幅の両端から中へ５ｍｍ入ったところから電極両端にかけて
搬送速度：１５０ｍ／ｍｉｎ
搬送時間：６０分
処理時間：０．５ｓｅｃ
出力：２２ｋＷ／ｍ2
上記条件で処理後、電極の集中放電跡の確認結果と処理済みプラスティック支持体に上記ゼラチン塗布液を塗布し接着性結果を表１に示した。
【００９８】
【表１】
0004096454.tif 000002
【００９９】
（結果）
比較例の真っ直ぐな電極は実験中集中放電が２回あることがわかった。これに対して本発明のインピーダンスを変化させたり、誘電率を変化させた電極では、集中放電は起こらなかった。また比較例の集中放電が起こりやすい端部分の接着性はガス中放電プラズマ処理が充分でなく、あまりよくなかった。これに対して、本発明の電極では、かなり接着性がよかった。
【０１００】
参考例２
電極は真っ直ぐなのものを使用し、ポリエチレン−２，６−ナフタレートフィルムの両端部分付近の雰囲気を下記にした以外は実施例１と同様に行った。
【０１０１】
処理ガス：導入する不活性ガス１００圧力％アルゴンガスとし、不活性ガスと反応性ガスの比を、Ａｒ：Ｎ2＝５０：１
両端付近の処理ガス：８５圧力％のアルゴンガス、１５圧力％のヘリウムガス、不活性ガスと反応性ガスの比を、（Ａｒ＋Ｈｅ）：Ｎ2＝７０：１
両端部分の処理ガスの雰囲気を変化させなかったものを比較例とし、上記条件で処理後、電極の集中放電跡の確認結果と処理済みプラスティック支持体にゼラチン塗布液を塗布した接着性結果を表２に示した。
【０１０２】
【表２】
0004096454.tif 000003
【０１０３】
（結果）
均一のガス組成で処理した比較例は集中放電が起こり、端の部分の接着性も劣っていたが、端部分のガス組成を変化させて処理した本発明は良好な接着性を示した。
【０１０４】
参考例３
電極として図８（ａ）及び８（ｂ）に示したパイプ電極を使用した以外は実施例１と同様に処理を行った。通常の真っ直ぐな電極を使用したものを比較例とした。
【０１０５】
電極：ガラスパイプ電極、絶縁性冷却媒体としてオクタンを主成分とする炭化水素（３℃、流量１０ｌ／ｍｉｎ）、誘電体としてセラミックスパイプを使用した電極
上記条件で処理後、処理済みプラスティック支持体に上記ゼラチン塗布液を塗布し接着性の結果を表３に示した。また、特開平６−９６７１８号公報記載のパイプ電極と同様なものを作製し、その作製コストを１．０とした時の本発明のパイプ状電極のコストとを比較し、表３に示した。
【０１０６】
【表３】
0004096454.tif 000004
【０１０７】
（結果）
パイプ状の電極を使用した場合の端の部分の接着性が良好で通常の電極より有利であることがわかった。またパイプ電極の作製コストは、特開平６−９６７１８号公報に記載のパイプ状の電極と同様なものを作製したコストを１．０とした時の本発明のパイプ電極の作製コストは３割で作製することが出来る。
【０１０８】
参考例４
試験室内に図９に示した一連の装置を用いて処理し、上記ゼラチン塗布液を塗布乾燥し巻き取った。
【０１０９】
ガス中放電プラズマ処理装置：図１と同様
除電装置：春日電機製高密度除電処理システム使用
除塵装置：ジェット風減圧型除塵装置使用
塗布装置：エクストルーダ型塗布機、乾燥機
試験室のクリーン度：クラス１００、クラス１０００、クラス１００００
ゼラチン層塗設済みの試料の塗布性を評価し、結果を表４に示す。
【０１１０】
【表４】
0004096454.tif 000005
【０１１１】
（結果）
塗布性の点から見ると、除電装置及び除塵装置の何れも有しない処理装置は塗布性が悪く、クリーン度が下がる程悪かった。除電装置または除塵装置の何れかを有する処理装置では、これらを有することによって、塗布性を非常に向上させることがわかった。また、除電装置及び除塵装置を両方備えた処理設備では、塗布性は全く問題がなかった。
【０１１２】
参考例５
カーボランダムで表面を粗面化し、水洗、乾燥したポリエチレン−２，６−ナフタレートフィルムを図１と同様な装置でガス中放電プラズマ処理を行い、上記ゼラチン塗布液を塗布して、接着性評価に供した。粗面度と結果を表５に示す。粗面化度Ｒａが０．１未満のものを比較例とした。
【０１１３】
【表５】
0004096454.tif 000006
【０１１４】
（結果）
プラスティック支持体表面を粗面化した場合においては、接着性が向上し、ブロッキングも起こり難かった。これに対し、比較例の粗面度の非常に小さい（Ｒａ＜０．１）プラスティック支持体はブロッキングが起こりやすかった。
【０１１５】
参考例６
両端３０ｍｍのみを上記と同様に粗面化したポリエチレン−２，６−ナフタレートフィルムを使用した以外は参考例５と同様に行った。粗面化しなかったものを比較例とした。結果を表６に示す。
【０１１６】
【表６】
0004096454.tif 000007
【０１１７】
（結果）
両端部分を粗面化しなかった比較例はブロッキングが強く、また接着性も若干悪かったのに対し、端部分を粗面化したものは接着性が良く、しかもブロッキングも起こらなかった。
【０１１８】
参考例７
〔火炎処理平版印刷用アルミニウム支持体１の作製〕
厚さ０．３ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を、８５℃に保たれた１０重量％水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、１分間脱脂処理を行った後、水洗した。この脱脂したアルミニウム板を２５℃に保たれた１０重量％の硫酸水溶液中に１分間浸漬し、デスマット処理を行った後、水洗した。次いで、このアルミニウム板を、２．０重量％の塩酸水溶液中において、温度３０℃、電流密度８０Ａ／ｄｍ2の条件で３０秒間粗面化した。その後、７０℃に保たれた１重量％の水酸化ナトリウム水溶液中に１０秒間浸漬した後、水洗した。次いで、２５℃に保たれた１０％硫酸水溶液中で１０秒間浸漬した後、水洗した。次いで、３０％硫酸水溶液中で、温度４５℃、電流密度３Ａ／ｄｍ2の条件で２分間陽極酸化処理を行った後水洗した。その後下記条件で火炎処理を行い、平版印刷用アルミニウム支持体を得た。
【０１１９】
〔親水化処理平版印刷用アルミニウム支持体２の作製〕比較例
上記火炎処理した平版印刷用アルミニウム支持体の陽極酸化まで同じ処理を行い、その後８０℃に保たれた３．０％酢酸アンモニウム水溶液中に１分間浸漬して封孔、親水化処理を行い、水洗し、８０℃で５分乾燥して、平版印刷用アルミニウム支持体を得た。
【０１２０】
火炎処理条件
アルミニウム板幅：６５ｍｍ
バーナー：スリット箱型バーナー１基
燃焼ガス：プロパンガス：空気＝１：１８（容量比）の割合で混合して燃焼させ、更にアルミニウム板が内炎の先に接するように処理
燃焼エネルギー、処理速度、処理時間：表７に記載
ギャップ：３０ｍｍ
感光層：
ノボラック樹脂（フェノール／ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾールのモル比が１０／５４／３６で、重量平均分子量が４０００）        ６．７０ｇ
ピロガロールアセトン樹脂（重量平均分子量３０００）とｏ−ナフトキノンジアジド−５−スルホニルクロライドとの縮合物エステル化率３０％）１．５０ｇ
ポリエチレングリコール＃２０００                        ０．２０ｇ
ビクトリアピュアブルーＢＯＨ（保土ヶ谷化学（株）製）    ０．０８ｇ
２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（ｐ−メトキシスチリル）−ｓ−トリアジン                                            ０．１５ｇ
フッ素系界面活性剤ＦＣ−４３０（住友３Ｍ（株）製）      ０．０３ｇ
ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸              ０．０２ｇ
エチレングリコールモノメチルエーテル                    １００ｍｌ
上記感光層塗布液を上記アルミニウム支持体にワイヤーバーで乾燥膜厚が２．０ｇ／ｍ2となるように塗布し、８０℃で２分間乾燥し、平版印刷版を得、４ｋＷのメタルハライドランプで１ｍの距離から３０秒露光した。露光後の版をコニカ（株）製ＳＤＲ−１現像液の６倍希釈液中に２５℃で３０秒間浸漬し、水洗して現像を行った。露光済みの平版印刷版をハイデルＧＴＯ印刷機を用いて印刷を行い、耐刷力を調べた。また、火炎処理することによるコストの削減率の概算も行った。与えた処理エネルギー、耐刷性、コスト削減率の結果を表７に示した。
【０１２１】
【表７】
0004096454.tif 000008
【０１２２】
（結果）
火炎処理により親水性化した平版印刷版は耐刷性に優れ、特に処理エネルギーを多く与えた試料３２は耐刷性が非常に大きくなった。これに対して比較例は耐刷性が小さかった。またコスト削減率の概算では、火炎処理にすることにより８〜１０％コストを削減出来ることがわかった。
【０１２３】
【発明の効果】
ガス中放電プラズマ処理による優れたプラスティック支持体表面処理装置及び処理方法を、またコストの安い電極を有するプラスティック支持体表面処理装置及び処理方法を提供出来る。
【０１２４】
別に、火炎処理によるコストの低減が可能で、且つ耐刷性に優れた平版印刷版用アルミニウム支持体を提供出来る。
【図面の簡単な説明】
【図１】ガス中放電プラズマ処理装置の１例を示す模式図である。
【図２】ガス中放電プラズマ処理装置の他の例を示す模式図である。
【図３】ガス中放電プラズマ処理装置の１例を示す正面から見た断面模式図である。
【図４】ガス中放電プラズマの放電の状態を模式的に示した図である。
【図５】電極端部の電極間距離が変化した部分を示す拡大模式図である。
【図６】電極端部の電極誘電体の厚み変化部分を示す拡大模式図である。
【図７】電極端部の電極間に絶縁体を挿入した部分を示す拡大模式図である。
【図８】ガス中放電プラズマ処理装置の更に他の例で、パイプ状電極を配置した例を示す正面から見た断面模式図である。
【図９】除電装置及びクリーナー付きガス中放電プラズマ処理装置及び塗布乾燥工程を示す模式図である。
【符号の説明】
１，２１，３１  ガス中放電プラズマ処理装置
２，２２，３２  処理室
３ａ，３ｂ  予備室
５  プラスティック支持体
６，７，１６，１７，２６，２７，３６，３７  電極
６Ａ，７Ａ，１６Ａ，１７Ａ，２６Ａ，２７Ａ，３６Ａ，３７Ａ  金属部分
６Ｂ，７Ｂ，１６Ｂ，１７Ｂ，２６Ｂ，２７Ｂ，３６Ｂ，３７Ｂ  誘電体部分
８  ガイドロール
１０，２０，３０，７０  高周波電源
７０  リード線
７３  パイプ状電極
７４  金属パイプ
７５  誘電体パイプ
７６  絶縁体パイプ継ぎ手
７７  絶縁体パイプ
７８  金属ブロック
７９  絶縁性冷却媒体
１００  プラスティック支持体ロール
１０１  ガス中放電プラズマ処理装置
１０２  ガイドロール
１０３  除電装置
１０４  除塵装置
１０５  プラスティック支持体
１０６  塗布装置
１０７  バックロール
１０８  乾燥装置
１０９  塗布済みロール
【図１】
0004096454.tif 000009
【図２】
0004096454.tif 000010
【図３】
0004096454.tif 000011
【図４】
0004096454.tif 000012
【図５】
0004096454.tif 000013
【図６】
0004096454.tif 000014
【図７】
0004096454.tif 000015
【図８】
0004096454.tif 000016
【図９】
0004096454.tif 000017