(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
単独配置のセルのサイズがしきい値以下である場合に、隣接する複数の前記セルをまとめて新たなセルを定義するステップと、
新たに定義されたセルを隣接する複数の前記セルの代わりに配置するステップとを含むことを特徴とする半導体集積回路の設計パターンのデータ処理方法。
【請求項２】
単独配置のセルのサイズがしきい値以下のセルを抽出するステップと、
抽出されたしきい値以下のサイズの前記セルと、当該セルの左右もしくは上下に配置されたセルとをペアにするステップと、
前記ペアの出現回数をカウントし、出現回数が２回以上のペアを構成するセルをまとめて新たなセルを定義するステップと、
新たに定義したセルを、前記セルのペアの代わりに配置するステップとを含むことを特徴とする半導体集積回路の設計パターンのデータ処理方法。
【請求項３】
前記しきい値は、図形処理する際に参照しなければならない領域の幅の２倍であることを特徴とする請求項１又は２記載の半導体集積回路の設計パターンのデータ処理方法。
【請求項４】
単独配置のセルのサイズがしきい値以下である場合に、隣接する複数の前記セルをまとめて新たなセルを定義するステップと、
新たに定義されたセルを隣接する複数の前記セルの代わりに配置するステップとを含むことを特徴とする半導体集積回路の設計パターンのデータ処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体集積回路の設計パターン（ＬＳＩパターン）のデータ処理方法に関し、特にＬＳＩパターンのデザインルールチェック、マスク描画データ作成、光近接効果補正処理、電子ビーム近接効果補正処理に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＬＳＩの大規模化、微細化に伴って、設計パターンのデータ量は増加の一途を辿っている。データ量を抑えるためには、階層処理が不可欠である。
【０００３】
階層処理で近接効果補正を行う公知例（第１の公知例）として、特願平０３−８０５２５「近接効果補正方法」がある。
【０００４】
図９を用いて、本公知例における階層処理の方法を説明する。図９にはセルＡ９０１とセルＡの子セルであるセルＢ９０２が存在する。セルＢ９０２の境界の内側に２重のフレーム領域を設ける。
【０００５】
セルＢ９０２を処理する際には、フレームＡ９１１より内側の領域を近接効果補正対象領域とし、セルＢ９０２の境界とフレームＡ９１１の間の領域を補正の際の参照領域とする。
【０００６】
セルＡ９０１を処理する際には、セルＢ９０２の境界とフレームＡ９１１の間の領域を近接効果補正対象領域として含め、フレームＡ９１１とフレームＢ９１２の間の領域を参照領域とする。
【０００７】
補正対象領域の周囲にフレーム幅（フレーム間隔）の参照領域を設ける理由は、補正対象領域はその周囲の領域からの後方散乱電子の影響を受けるため、補正に際して周囲の影響を考慮する必要があるためである。すなわちフレーム幅は後方散乱電子の散乱長程度設ける必要がある。
【０００８】
階層処理でデザインルールチェックを行う公知例（第２の公知例）として、Ｉｎｔｅｌ  Ｃｏｒｐ．のＴｏｄｄ  Ｊ．Ｗａｇｎｅｒによる“Ｈｉｅｒａｒｃｈｉｃａｌ  Ｌａｙｏｕｔ  Ｖｅｒｉｆｉｃａｔｉｏｎ”（２１ｓｔＤｅｓｉｇｎＡｕｔｏｍａｔｉｏｎ  Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ、ｐｐ４８４−４８９、１９８４）がある。データ処理の内容はスペースや幅違反等を検証するデザインルールチェックであるが、階層処理の方法は図９を用いて説明したものと同一である。この場合、フレーム幅としては、検査するスペースや幅程度とする。
【０００９】
階層処理でマスク描画データ作成する公知例（第３の公知例）として、特願平０９−２６０２５３「荷電ビーム描画データ作成方法」がある。本公知例においては、予めしきい値以下のサイズのセルを上位の階層に展開した上で、マスク描画データ作成を行っている。アレイに関しても、領域サイズや繰り返し数が小さい場合に１レベル上位の階層に展開する。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
第１および第２の公知例では、セルがフレーム幅の２倍より小さい場合に、そのセル内のパターンは全て上位の階層で処理される。従って、階層の無いデータを処理するのと全く同じで、階層処理のメリットは全く無い。
【００１１】
第３の公知例でも、小さなセルは上位の階層に展開されるため階層処理のメリットは無く、特にアレイが上位の階層に展開された場合にはデータ量が大幅に増加する危険がある。
【００１２】
本発明は、このような問題を解決し、小さいたねセルのアレイが展開されてしまうことを回避し、小さな単独配置のセルも階層処理を可能とする半導体集積回路の設計パターンのデータ処理方法、および半導体集積回路の設計パターンのデータ処理プログラムを記録した記録媒体を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、その第１の特徴は、半導体集積回路の設計パターンのデータ処理方法であって、アレイを構成するたねセルのサイズがしきい値以下である場合に、前記たねセルを複数まとめてしきい値以上のサイズを有する新たなたねセルを定義するステップと、新たに定義されたたねセルの繰り返しとして前記アレイを定義し直すステップとを含むことにある。
【００１４】
本発明の第１の特徴によれば、アレイを構成するたねセルが小さい場合に、それをまとめてより大きなたねセルを作成し、そのたねセルでアレイを再定義するため、アレイが全て展開されてしまうのを防ぐことが出来、階層処理のメリットを生かすことが出来る。
【００１５】
本発明の第２の特徴は、半導体集積回路の設計パターンのデータ処理方法であって、単独配置のセルのサイズがしきい値以下である場合に、隣接する複数の前記セルをまとめて新たなセルを定義するステップと、新たに定義されたセルを隣接する複数の前記セルの代わりに配置するステップとを含むことにある。
【００１６】
本発明の第２の特徴によれば、単独配置のセルが小さい場合でも、隣のセルとペアにしてより大きなセルとして定義することにより、単独配置のセルが展開されてしまうのを防ぐことが出来る。特にこのペアが繰り返し配置されている場合に、階層処理のメリットが大きい。
【００１７】
なお、ペアの出現回数をカウントし、出現回数の多いペアを構成するセルをまとめて新たなセルを定義することが好ましい。
【００１８】
また、前記しきい値は、図形処理する際に参照しなければならない領域の幅の２倍であることが好ましい。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。
【００２０】
（１）第１の実施形態
（構成）
図１は、一般的なＬＳＩデータ処理システムにおける概略のデータフローチャートである。同図に示すように、ＬＳＩパターンデータＡ１１１が、階層最適化処理部１１２で階層最適化処理され、さらに図形演算処理部１１３で図形演算処理されて、ＬＳＩパターンデータＢ１１４が得られる。
【００２１】
階層最適化処理部１１２では、ＬＳＩデータ処理システムによって多少の違いはあるが、主に（ａ）セルやパターンの重複をチェックして上位の階層に展開する処理、（ｂ）アレイを周囲のセルと内側のセルに分類して再構築する処理、（ｃ）子セルのフレーム領域を親セルに展開する処理等が行われる。
【００２２】
図形演算処理部１１３では、ＬＳＩデータ処理システムの種類に応じて、距離検査や電子ビーム近接効果補正、光近接効果補正等が行われる。
【００２３】
図２は、第１実施形態における階層最適化処理部１１２の処理の流れを示すフローチャートである。このフローチャートは、図１の階層最適化処理部１１２の中でセルごとに実施される。図２のデータフローは、通常の最適化処理の前に挿入するのが好ましい。すなわち、本発明によるアレイのたねセルをまとめる処理を行った後に、（ａ）セルやパターンの重複をチェックして上位の階層に展開する処理、（ｂ）アレイを周囲のセルと内側のセルに分類して再構築する処理、（ｃ）子セルのフレーム領域を親セルに展開する処理を行う。
【００２４】
図３を用いて、図２のフローチャートを説明する。図３（ａ）には現在注目しているセルＡ３０１の例を示す。セルＡ３０１内には、セルＢ３０２がｙ軸方向に６個、ｘ軸方向に１０個並んだアレイ３０５、セルＣ３０３、さらにパターン３０４が３つ含まれる。例えば、セルＢ３０２はメモリセルであり、セルＣ３０３はコントロールロジックであり、パターン３０４は引き出し配線である。
【００２５】
まず、セル内にアレイがあるかチェックする（図２、ステップＳ２０１）。セルＡ３０１内には、セルＢ３０２から構成されるアレイ３０５が存在するので、ステップＳ２０２以降の処理を行う。
【００２６】
次に、アレイのたねセルサイズがしきい値以下かチェックする（図２、ステップＳ２０２）。アレイ３０５のたねセルＢ３０２は、しきい値より小さいので、ステップＳ２０３以降の処理を行う。しきい値については、後述する。
【００２７】
アレイのたねセルのｘ軸方向の長さ又はｙ軸方向の長さのいずれかが、しきい値以下である時に、ステップＳ２０３以降の処理を行えば良い。
【００２８】
たねセルＢ３０２を、ｘ軸方向に３個、ｙ軸方向に２個まとめれば、ｘ軸方向及びｙ軸方向ともにしきい値より大きくなるので、まとめて新たなセルＤ３１１を定義する（図２、ステップＳ２０３）。
【００２９】
図３（ｂ）にセルＤ３１１を示す。セルＤ３１１は、（ａ）セルＢ３０２がｙ軸方向に２個、ｘ軸方向に３個並んでいるアレイとして定義しても、（ｂ）セルＢ３０２が６個配置されているとして定義しても、（ｃ）セルＢ３０２を展開して定義しても良い。
【００３０】
（ａ）「セルＢ３０２がｙ軸方向に２個、ｘ軸方向に３個並んでいるアレイとして定義する」とは、以下の形式でデータを保持することを意味する。
・たねセルが、セルＢ３０２であるという情報、
・セルＢ３０２が、ｙ軸方向に２個、ｘ軸方向に３個、繰り返して配置されているという情報、
・配置のピッチの情報として、ｙ軸方向にはセルＢ３０２のｙ軸方向の大きさ、ｘ軸方向にはセルＢ３０２のｘ軸方向の大きさ、
・繰り返しの始点の座標の情報
（ｂ）「セルＢ３０２が６個配置されているとして定義する」とは、
・参照セルが、セルＢ３０２であるという情報、
・セルＢ３０２の配置座標
というデータ形式で６個のセルがそれぞれ配置されていることを意味する。
（ｃ）「セルＢ３０２を展開して定義する」とは、セルＢ３０２が３×２に並んだ状態で、それぞれのセルについて、参照セル内に定義されたデータと置き換えるということを意味する。例えば、図３（ｂ）の例では、セルＢ３０２の参照セル内には鍵括弧状のパターンが１つ入っているので、それぞれのセルをこの鍵括弧のパターンと置き換える。
【００３１】
そして、セルＢ３０２がｙ軸方向に６個、ｘ軸方向に１０個並んだアレイとして定義されていたアレイ３０５を、セルＤ３１１がｙ軸方向に３個、ｘ軸方向に３個並んだアレイとして定義しなおす（図２、ステップＳ２０４）。この場合、ｘ軸方向に端数のセルが出てしまうので、この部分は（ａ）セルＢ３０２の１次元配列として定義しても、（ｂ）セルＢ３０２をｙ軸方向に並べたものとして定義しても、（ｃ）セルＢ３０２を展開して定義しても良い。
【００３２】
（ａ）「セルＢ３０２の１次元配列として定義する」とは、以下のデータ形式でデータを保持することを意味する。
・種セルが、セルＢ３０２であるという情報、
・セルＢ３０２が、ｙ軸方向に６個、ｘ軸方向に１個、繰り返して配置されているという情報、
・配置のピッチの情報として、ｙ軸方向にはセルＢ３０２のｙ軸方向の大きさ、ｘ軸方向にはセルＢ３０２のｘ軸方向の大きさ、
・繰り返しの始点の座標の情報
（ｂ）「セルＢ３０２をｙ軸方向に並べたものとして定義する」とは、
・参照セルが、セルＢ３０２であるという情報、
・セルＢ３０２の配置座標、
というデータ形式で６個のセルがそれぞれ配置されていることを意味する。
（ｃ）「セルＢ３０２を展開して定義する」とは、セルＢ３０２が６×１に並んだ状態で、それぞれのセルについて、参照セル内に定義されたデータと置き換えることを意味する。例えば、図３（ｂ）の例では、セルＢ３０２の参照セル内には鍵括弧状のパターンが１つ入っているので、それぞれのセルをこの鍵括弧のパターンと置き換える。
【００３３】
図３（ｂ）の例では、セルＢ３０２をｙ軸方向に並べている。
【００３４】
たねセルをいくつかまとめて新たなたねセルを定義する（図２、ステップＳ２０３）際に注意する事項は、新たなたねセルのｙ軸方向及びｘ軸方向のサイズが、共にしきい値以上になることである。
【００３５】
また、セルをまとめる数は、セルが余らないようにするために、たねセルの繰り返し数を割り切れる数であることが望ましい。例えば、図３（ｂ）の例では、セルＢ３０２のｘ軸方向の繰り返し数は「１０」であるから、セルＢ３０２をｘ軸方向にまとめる数は、５個又は２個が好ましい。しかしながら、新たなたねセルのサイズは、しきい値以上でなければならないため、新たなたねセルのｘ軸方向のサイズをセルＢ３０２「２個」とすることはできない。
【００３６】
次に、しきい値について説明する。しきい値は、子セルのフレーム領域を親セルに展開する際に使用するフレーム幅の２倍以上が好ましい。フレーム幅とは、言い換えれば、（ａ）デザインルールチェックの際は最大検査距離、（ｂ）電子ビーム近接効果補正の際は後方散乱電子の散乱長、（ｃ）光近接効果補正の際は光近接効果が及ぶ距離である。しきい値より小さいセルをまとめて大きなセルとしておくことで、アレイのたねセルが上位の階層に展開されるのを防ぐことが出来る。
【００３７】
（作用）
本実施形態によれば、アレイを構成するたねセルが小さい場合に、それをまとめてより大きなたねセルを作成し、そのたねセルでアレイを再定義するため、アレイが全て展開されてしまうのを防ぐことが出来、階層処理のメリットを生かすことが出来る。
【００３８】
（効果）
本実施形態によれば、たねセルのサイズがしきい値以下のセルを複数まとめて新しいセルを定義し、新しく定義されたセルの繰り返しとしてアレイを定義しなおすことで、小さいたねセルのアレイが展開されてしまうのを防ぐことが出来る。電子ビーム近接効果補正や光近接効果補正では、特に補正の際の参照距離が大きいので、階層処理をしてもこの距離の２倍以下のセルは展開されてしまうが、小さなセルをまとめて大きなセルとして定義しなおすことにより、展開を防ぎ、データ量が爆発するのを防ぐことが出来る。
【００３９】
（２）第２実施形態
図４は、第２実施形態における階層最適化処理部１１２の処理の流れを示すフローチャートである。つまり、このフローチャートも階層最適化処理部１１２の中でセルごとに実施される。図４のデータフローは、通常の最適化処理の前に挿入するのが好ましい。すなわち、本発明によるアレイのたねセルをまとめる処理を行った後に、（ａ）セルやパターンの重複をチェックして上位の階層に展開する処理、（ｂ）アレイを周囲のセルと内側のセルに分類して再構築する処理、（ｃ）子セルのフレーム領域を親セルに展開する処理を行う。
【００４０】
図５のレイアウトの例を用いて、図４のフローチャートを説明する。図５はスタンダードセルのレイアウトを模式的に表したものである。スタンダードセル設計では一般にセルのｙ軸方向の長さを揃えて設計し、それをｘ軸方向に並べる。このときセルの大きさは、ｙ軸方向は固定（数十μｍ）であるが、ｘ軸方向には大小がある。なお、ｙ軸方向は可変とし、ｘ軸方向は固定としても良い。
【００４１】
図５（ａ）に含まれるスタンダードセル１〜１３は、ｙ軸方向は全てしきい値より大きいが、ｘ軸方向はしきい値より小さいものと大きいものがある。
【００４２】
まず、セル１〜１３内にｘ軸方向のサイズがしきい値以下のセルがあるか探す（図４、ステップＳ４０１）。図５（ａ）では、セル１、６、７、８、１０、１１が、ｘ軸方向のサイズがしきい値以下のセルとして探し出される。
【００４３】
続いて、しきい値以下のセルと、しきい値以下のセルに隣接するセルとでペアを作成する（図４、ステップＳ４０２）。そして、ペアの出現回数を調べ、出現回数が多い順にソートする（図４、ステップＳ４０３）。
【００４４】
図７（ａ）に、ペアをソートした結果を示す。なお、出現回数が１回のものは省略した。
【００４５】
本実施形態では出現回数が２回以上のペアに対して、新たなセルと置換する処理を行うことにする。すなわち図４のステップＳ４０４でＮ＝２とする。出現回数が２回未満のペアは新たなセルと置き換えても階層処理の効果がないのでＮは２以上に設定する。
【００４６】
出現回数が最も多いセル１−セル２のペア（ペア種類：１−２、出現回数：７）を新たなセル１０１とし、セル１−セル２の個所をセル１０１で置き換える（図４、Ｓ４０５）。
【００４７】
図５（ｂ）に、セル１−セル２のペアを、セル１０１に置換した状態を示す。
【００４８】
再び、図４のステップＳ４０１に戻り、ｘ軸方向のサイズがしきい値以下のセルを探す。今回も、セル１、６、７、８、１０、１１が、ｘ軸方向のサイズがしきい値以下のセルとして探し出される。
【００４９】
しきい値以下のセルと、しきい値以下のセルに隣接するセルとでペアを作成し（図４、ステップＳ４０２）、ペアの出現回数を調べ、出現回数が多い順にソートする（図４、ステップＳ４０３）。
【００５０】
図７（ｂ）に、ペアをソートした結果を示す。出現回数が最も多いペアは、セル６−セル１のペア（ペア種類：６−１、出現回数：４）とセル１−セル７のペア（ペア種類：１−７、出現回数：４）である。
【００５１】
このように出現回数が最大のペアが複数存在している場合は、ペアを構成する２つのセルのデータ量を足し合わせ、足し合わせたデータ量を比較して、データ量が大きいペアを置換対象として選択する。もしくは、ペアを構成する２つのセル内のオブジェクト数を合計し、オブジェクトの総数が多いペアを置換対象として選択する。あるいは、ペアを構成する２つのセルのｘ軸方向のサイズの合計が大きいペアを置換対象として選択する。
【００５２】
本実施形態では、セル６−セル１のペアを新たなセル１０２とし、セル６−セル１の個所をセル１０２で置き換える（図４、ステップＳ４０５）。
【００５３】
図６（ａ）に、セル６−セル２のペアを、セル１０２に置換した状態を示す。
【００５４】
再び、図４のステップＳ４０１に戻り、ｘ軸方向のサイズがしきい値以下のセルを探す。今回は、セル７、８、１０、１１、１０２が、ｘ軸方向のサイズがしきい値以下のセルとして探し出される。
【００５５】
しきい値以下のセルと、しきい値以下のセルに隣接するセルとでペアを作成し（図４、ステップＳ４０２）、ペアの出現回数を調べ、出現回数が多い順にソートする（図４、ステップＳ４０３）。
【００５６】
ペアをソートした結果、出現回数が４以上であるペアはセル１０２−セル７だけである（図７（ｃ））。セル１０２−セル７のペアを新たなセル１０３とし、セル１０２−セル７の個所をセル１０３で置き換える（図４、Ｓ４０５）。
【００５７】
図６（ｂ）に、セル１０２−セル７のペアを、セル１０３に置換した状態を示す。
【００５８】
再び、図４のステップＳ４０１に戻り、ペアの出現回数を調べると２回以上出現するペアは存在しなくなっているため、ステップＳ４０４で本フローを終了する。本フローはセル単位では無く、データ全体で行った方が効率が良い。
【００５９】
次に、しきい値について説明する。しきい値は、子セルのフレーム領域を親セルに展開する際に使用するフレーム幅の２倍以上が好ましい。フレーム幅とは、図形を処理する際に参照しなければならない距離である。（ａ）デザインルールチェックの際は最大の検査距離、（ｂ）電子ビーム近接効果補正の際は後方散乱電子の散乱長、（ｃ）光近接効果補正の際は光近接効果の及ぶ距離である。しきい値より小さいセルをまとめて大きなセルとしておくことで、小さいセルが上位の階層に展開されてしまうのを防ぐことが出来る。
【００６０】
（作用）
本実施形態によれば、単独配置のセルが小さい場合でも、隣のセルとペアにしてより大きなセルとして定義することにより、単独配置のセルが展開されてしまうのを防ぐことが出来る。特にこのペアが繰り返し配置されている場合に、階層処理のメリットが大きい。
【００６１】
（効果）
スタンダードセル設計において、単独配置のセルがしきい値以下の場合にも、隣接セルとまとめて新しい大きなセルを定義するので、小さな単独配置のセルも階層処理できるようになり、効率が良い。
【００６２】
また、上述のデータ処理方法において必要とされる各ステップをコンピュータに実行させるプログラムを記録媒体に記録し、これをコンピュータ読み取らせ、実行させることにより、上述したデータ処理方法を実現することができる。ここで、記録媒体としては、例えばメモリ装置、磁気ディスク装置、光ディスク装置、磁気テープ装置などのプログラムを記録できるような装置が含まれる。
【００６３】
図８は、これら記録媒体に格納されたプログラムを読み取り、そこに記述されたステップに従ってデータの処理を実現するコンピュータシステムの一例を示す概観図である。このコンピュータシステム８０の本体前面には、フロッピーディスクドライブ８１及びＣＤ−ＲＯＭドライブ８２が設けられており、磁気ディスク装置としてのフロッピーディスク８３又は光ディスク装置としてのＣＤ−ＲＯＭ８４を各ドライブ入口から挿入し、所定の読み出し操作を行うことにより、これらの記録媒体に格納されたプログラムをシステム内にインストールすることができる。また、所定のドライブ装置を接続することにより、例えばゲームパックなどに使用されているメモリ装置としてのＲＯＭ８５や磁気テープ装置としてのカセットテープ８６を用いることもできる。
【００６４】
このような、データ処理プログラムを記録した記録媒体によれば、上述した作用効果を奏する有用なプログラムの保存、運搬、実行等を容易なものとし、これによりデータ処理をより簡便且つ迅速なものとすることができる。
【００６５】
【発明の効果】
本発明によれば、たねセルのサイズがしきい値以下のセルを複数まとめて新しいセルを定義し、新しいセルの繰り返しとしてアレイを定義しなおすことで、小さいたねセルのアレイが展開されてしまうのを防ぐことが出来る。電子ビーム近接効果補正や光近接効果補正では、特に補正の際の参照距離が大きいので、階層処理をしてもこの距離の２倍以下のセルは展開されてしまうが、セルをまとめておくことにより、展開を防ぎ、データ量が爆発するのを防ぐことが出来る。
【００６６】
また、本発明によれば、スタンダードセル設計において、単独配置のセルがしきい値以下の場合にも、隣接セルとまとめて新しい大きなセルを定義するので、小さな単独配置のセルも階層処理できるようになり、効率が良い。
【図面の簡単な説明】
【図１】一般的なＬＳＩデータ処理システムにおける概略のデータフローチャートである。
【図２】第１実施形態における階層最適化処理部１１２の処理の一部分の流れを示すフローチャートである。
【図３】第１実施形態を説明するためのレイアウトの模式図であり、図３（ａ）はアレイ３０５をセルＢ３０２をｙ方向に６個、ｘ方向に１０個並べたレイアウトを示し、図３（ｂ）はアレイ３０５の一部をセルＤ３１１で置き換えたレイアウトを示す。
【図４】第２実施形態における階層最適化処理部１１２の処理の流れを示すフローチャートである。
【図５】第２実施形態を説明するためのレイアウトの模式図であり、図５（ａ）は単独配置のセルを含むレイアウトを示し、図５（ｂ）は隣接したセル１とセル２をまとめてセル１０１と定義し、セル１０１で置き換えたレイアウトを示す。
【図６】第２実施形態を説明するためのレイアウトの模式図であり、図６（ａ）は隣接したセル６とセル１をまとめてセル１０２と定義し、セル１０２で置き換えたレイアウトを示し、図６（ｂ）は隣接したセル１０２とセル７をまとめてセル１０３と定義し、セル１０３で置き換えたレイアウトを示す。
【図７】ペアの種類と各ペアの出現回数を示す図であり、図７（ａ）は図５（ａ）に示したレイアウトの場合、図７（ｂ）は図５（ｂ）に示したレイアウトの場合、図７（ｃ）は図６（ａ）に示したレイアウトの場合である。
【図８】記録媒体に格納されたプログラムを読み取り、そこに記述されたステップに従って回路パターンのデータ処理を実現するコンピュータシステムの一例を示す概観図である。
【図９】従来の階層処理の方法を説明するための図である。
【符号の説明】
３０１  セルＡ
３０２  セルＢ
３０３  セルＣ
３０４  パターン
３０５  アレイ
３１１  セルＤ
【図１】
0004083965.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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