(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステージと、
前記ステージを支持する構造体と、
前記ステージを支持する構造体を搭載する除振台と、
空気ばねアクチュエータと前記除振台の振動を計測する振動計測手段と前記除振台の位置を計測する位置計測手段と前記空気ばねアクチュエータの加圧力を計測する加圧力計測手段とを備え前記除振台を支持する複数台の能動的支持脚、および前記位置計測手段の出力に基づいて指定された平衡位置に前記除振台を位置決めする位置フィードバック系と前記振動計測手段の出力に基づいて前記除振台にダンピングを付与する加速度フィードバック系と前記加圧力計測手段の出力に基づいて前記空気ばねアクチュエータの加圧力を制御する加圧力フィードバック系とを有する制御装置を備えたアクティブ除振装置において、
前記ステージが移動することによって発生する前記除振台の傾きを矯正する補正信号を前記ステージの位置を検出する位置検出手段の計測値に基づいて作成し、これを前記加圧力フィードバック系にフィードフォワード入力することを特徴とするアクティブ除振装置。
【請求項２】
前記補正信号は、前記ステージの移動量に比例した駆動力を前記空気ばねアクチュエータに発生させるための信号であることを特徴とする請求項１に記載のアクティブ除振装置。
【請求項３】
前記位置検出手段はレーザ干渉計であることを特徴とする請求項１または２に記載のアクティブ除振装置。
【請求項４】
前記ステージはリニアモータによって駆動され、
前記位置検出手段は前記ステージを駆動するリニアモータのコイルの相切り替えのためのエンコーダであることを特徴とする請求項１または２に記載のアクティブ除振装置。
【請求項５】
前記加圧力フィードバック系の周波数帯域で決まる固有周期は、前記ステージのステップアンドリピートあるいはステップアンドスキャンの周期と比較して短く設定されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のアクティブ除振装置。
【請求項６】
マスクに形成された回路パターンを投影光学系を介して基板ステージ上の感光基板に転写する露光装置であって、
請求項１〜５のいずれか１項に記載のアクティブ除振装置を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項７】
請求項６に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レチクルの回路パターンを半導体ウエハに焼き付ける半導体露光装置または液晶基板製造装置あるいは電子顕微鏡などに用いられるアクティブ除振装置に関する。より詳しくは、除振台に伝播してくる外部振動を抑制するとともに、除振台に搭載される精密機器自身が発生する振動を積極的に打ち消すことが可能なアクティブ除振装置およびこの装置を備えた露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電子ビームを使う電子顕微鏡またはステッパなどに代表される半導体露光装置では、除振装置上にＸＹステージが搭載されている。この除振装置は、空気ばね、コイルばね、防振ゴムなどの振動吸収手段により振動を減衰させる機能を持つ。しかし、上述の如き振動吸収手段を備えた受動的除振装置においては、床から伝播する振動についてはある程度減衰できても、同装置上に搭載されているＸＹステージ自身が発生する振動は有効に減衰できない、という問題がある。つまり、ＸＹステージ自身の高速移動によって生じる反力は除振装置を揺らせることになり、この振動はＸＹステージの位置決め整定性を著しく阻害するものであった。さらに、受動的除振装置においては、床から伝播する振動の絶縁（除振）とＸＹステージ自身の高速移動で発生する振動の抑制（制振）性能の間にトレードオフの問題があった。これらの問題を解消するべく、近年は能動的除振装置（以下、アクティブ除振装置と呼ぶ）を使用する傾向にある。アクティブ除振装置は可調整機構の範囲内で除振と制振のトレードオフが解消できるし、なによりもフィードフォワード制御を積極的に適用することによって受動的除振装置では達成できない性能を取得することができる。
【０００３】
さて、受動的除振装置に限らずアクティブ除振装置でも、除振台の上に搭載されたＸＹステージがステップアンドリピートあるいはステップアンドスキャンした場合には、同ステージの移動に原因した重心変化が生じるので除振台は傾く。十分な時間が経過すると、もちろんこの傾きは復帰するがステップアンドリピートあるいはステップアンドスキャンは何れも高速に行なわれ、除振台の位置復帰動作が間に合わずに結局のところ除振台は傾くことになる。このような傾きは当然の物理現象であるが、半導体露光装置にとっては不利益をもたらす。例えば、本体構造体に備える不図示の機能ユニットが本体構造体の傾きによって振動してしまい、所定の性能が得られない等の障害を引き起こす。対策として、除振台の固有振動数を高くしてすなわち除振台を固くすることによって外乱に対する応答を抑圧することが考えられる。しかし、この場合には、床などの振動を除振台の上へ伝え易くするため除振特性の劣化を招く。そこで、除振特性を損なうことなく本体構造体の傾きを矯正する技術が必要となっていた。
【０００４】
より詳細な理解を得るべく、除振台の上にＸＹステージを搭載するアクティブ除振装置の機械構成を参照しながら上述の内容を説明しよう。図７にアクティブ除振装置の機械構成の概略を示す。図中、２１は除振台２２に搭載されたＸＹステージを、２３−１，２３−２，２３−３は除振台２２を支える能動的支持脚を示す。１脚の能動的支持脚２３−ｎ（但し、ｎ＝１，２，３）の中には、鉛直方向と水平方向の２軸を制御するために必要な個数の加速度センサＡＣ、位置センサＰＯ、圧力センサＰＲ、サーボバルブＳＶ、空気ばねアクチュエータＡＳが内蔵されている。ここで、ＡＣ，ＰＯなどの次に付けた記号は図中の座標系に従う方位（Ｘ，Ｙ，Ｚ）と能動的支持脚２３の配置場所（ｎ＝１，２，３）を示す。例えば、Ｙ２とはＹ軸方向であって左側に配置した能動的支持脚２３−２の中にあるものを指す。
【０００５】
詳細な構造の説明は省くが、ＸＹステージ２１のＹステージが図中に示すＹ軸方向にある距離移動して停止した場合の現象を説明する。ＹステージのＹ軸方向への移動は能動的支持脚２３−ｎにとっては除振台全体の重心変化となり除振台２２の水平姿勢を維持するために必要な各能動的支持脚２３−ｎ内の鉛直方向アクチュエータＡＣ−Ｚｎ（ｎ＝１，２，３）が発生すべき推力は唯一に定まる。Ｙステージが移動して静止状態にあるとき、十分な時間経過の後には、位置制御がかけられているので重心変化に見合う推力を能動的支持脚２３−ｎが発生して除振台２２の傾きは復帰する。すなわち、除振台２２の水準は保たれる。しかしながら、Ｙステージが連続的に、ステップアンドリピートあるいはステップアンドスキャンを行なった場合には事情が異なる。連続的にＹステージが移動することによって重心位置も連続的に変化するために、能動的支持脚２３−ｎの予め設定した位置への復帰動作が間に合わず、徐々に除振台２２は傾くことになるのである。Ｘステージがステップアンドリピートあるいはステップアンドスキャンした場合も同様の理由により、Ｙ軸回りの回転（傾き）を発生させることになる。このような除振台２２の傾きは、不図示の計測装置の計測精度を劣化させたりステージ自身の位置決め整定性を劣化させる要因となり、半導体露光装置の生産性を損なう一因となっていた。そこで、ステージ移動による重心変化に原因した除振台の傾きを矯正する技術が必要となっていた。
【０００６】
上述の課題を解決するための従来技術に係る公知例として、特開平９−１３４８７６（除振装置および露光装置）が知られている。ステージ移動時の重心変化により生じる除振台の傾きをステージの位置検出手段（レーザ干渉計）の出力に基づいて予測し、この傾きを矯正するような指令値を除振装置の振動制御系にフィードフォワード入力している。アクチュエータはボイスコイルモータ（ＶＣＭ）であり、ステージ移動によって生じる除振台の傾きを矯正する定常的な電流を通電している。容易にわかるように、定常的な電流の通電によってもたらされる弊害は以下の通りである。
（１）ＶＣＭ駆動電源の大型化を招く。
（２）ＶＣＭおよびそれを駆動する電力アンプが発熱する。
（３）ＶＣＭおよび電力アンプの発熱回収用の冷却装置を備えねばならない。
（４）半導体露光装置全体に対する湿度調節装置の大型化を招来する。
【０００７】
したがって、半導体露光装置のような大型構造体に対する除振・制振用のＶＣＭには直流電流を通電しないことが望ましい。勿論、電磁力を利用して大型構造物を非接触支持する除振台は存在する。例えば、特許番号第２５２２７３６号（除振装置）に開示されている。しかし、ここで使用されているアクチュエータは磁気軸受としての電磁石である。元々定常的に力を発生する用途のアクチュエータであり、先に説明したＶＣＭの使用形態と同列に論じることはできない。ＶＣＭは機械構造物の振動を制振するダンピング用のアクチュエータとなすような電流の通電の仕方が本来の使用形態である。力が必要な仕事は、サーボバルブ開閉によって大重量を支持できる空気ばねアクチュエータに任せるべきである。すなわち、ステージ移動に伴う荷重偏在によって生じる除振台の傾きは、空気ばねアクチュエータによって矯正されることが望ましい。しかし、移動荷重補正を実現せんとしたときの技術上の課題は存在する。それは、サーボバルブを含めた空気ばねアクチュエータ特性が概ね積分特性であることに原因する。
【０００８】
より詳細な理解を得るべく図面を使って説明しよう。図２は無定位系へのフィードフォワード入力を示すブロック線図である。ここで、無定位系とは、サーボバルブを含めた空気ばねアクチュエータが示す積分特性１５のことを指す。図２において、フィードフォワード入力端子１４には図示のようにステージ位置に応じた補正信号が入力されており、この信号を適切なゲインｋp を掛けてフィードフォワード入力すれば、１６で指し示す除振台の機械系を、すなわち除振台の傾きを矯正することができそうに考えられる。しかし、サーボバルブを含めた空気ばねアクチュエータは概ね積分特性であり、ステージ位置に応じて線形に変化する補正信号をフィードフォワード入力して得られる実際の駆動力ｆは、補正信号の入力を積分したものとなることに注意せねばならない。すなわち、ステージ移動に比例した除振台の傾きを抑制する力は発生できないことが分かる。つまり図２に示すような移動荷重補正の構成では除振台の傾きは矯正できないと結論される。
【０００９】
そこで、ステージの移動位置に応じた力を発生させるべくサーボバルブを含めた空気ばねアクチュエータの特性を無定位系から定位系にする。定位系とは、図３に示すような例えば１次遅れ系の特性１７のことを指す。この特性にすることができれば、ステージ位置に応じて線形に変化する補正信号をフィードフォワード入力端子１４に印加したとき、ステージ位置に応じた駆動力ｆが得られる。ここで、１次遅れの特性は、概略積分特性のサーボバルブに対して圧力フィードバックを掛けることによって実現される。圧力フィードバックの構成については、既に本願出願人による特願平９−６８９９５に開示している。しかし、ここでは本体構造体の変形抑止が目的であった。すなわち空気ばねアクチュエータの圧力を制御の管理下におくことによって、露光装置本体１３を歪ませないようにすることを主目的としていた。また、ここでは、ステージの加減運転に原因した瞬発的な揺れを抑制するための、いわゆるステージ反力フィードフォワードを水平方向の空気ばねアクチュエータに入力する構成も開示している。本発明は、このような瞬発的に掛かる力を抑制する制御装置を開示するものではなく、ステージ移動に伴って生じる除振台の傾きという相対的には低周波の変動を抑制するためのフィードフォワード入力を主に鉛直方向の空気ばねアクチュエータに入力する装置構成を与える。すなわち、本発明は、特願平９−６８９９５の中で既知とした圧力フィードバックを有益に使い、かつステージの移動位置情報に基づいて除振台の傾きを補正する装置構成を与えるものである。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
半導体露光装置では、過大な加減速を行なうＸＹステージがアクティブな除振台の上に搭載されているという構成をとっている。したがって、同ステージの移動に伴って本体構造体の重心も移動することになる。この本体構造体がアクティブ除振装置によって支持されているとき、位置制御によって除振台を所定の位置へと復帰させるよう動作する。しかし、ＸＹステージの移動量が大きく、移動時間が短く、かつ頻繁な移動が繰り返される場合には、除振台の所定位置への復帰が間に合わなくなり、除振台はＸＹステージの高速移動によって傾く。除振台の傾きは、ＸＹステージの位置決め特性を移動場所ごとにばらつかせる要因となるなど生産性を劣化させる問題を引き起こす。
【００１１】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものである。その目的は、ＸＹステージの高速移動に伴う重心変化の影響を排除したアクティブ除振装置を提供すること、およびこのアクティブ除振装置を組み込んだ露光装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明のアクティブ除振装置は、ステージと、前記ステージを支持する構造体と、前記ステージを支持する構造体を搭載する除振台と、空気ばねアクチュエータと前記除振台の振動を計測する振動計測手段と前記除振台の位置を計測する位置計測手段と前記空気ばねアクチュエータの加圧力を計測する加圧力計測手段とを備え前記除振台を支持する複数台の能動的支持脚、および前記位置計測手段の出力に基づいて指定された平衡位置に前記除振台を位置決めする位置フィードバック系と前記振動計測手段の出力に基づいて前記除振台にダンピングを付与する加速度フィードバック系と前記加圧力計測手段の出力に基づいて前記空気ばねアクチュエータの加圧力を制御する加圧力フィードバック系とを有する制御装置を備えたアクティブ除振装置において、前記ステージが移動することによって発生する前記除振台の傾きを矯正する補正信号を前記ステージの位置を検出する位置検出手段の計測値に基づいて作成し、これを前記加圧力フィードバック系にフィードフォワード入力することを特徴とする。
【００１３】
本発明において、加圧力計測手段としては、空気ばねアクチュエータの内圧を測定する圧力センサが好適に使用できる。あるいは、空気ばねアクチュエータが発生する荷重を検出するロードセンサも好適に使用できる。
また、上述の加圧力フィードバックループの周波数帯域で決まる固有周期は、ステージのステップアンドリピートあるいはステップアンドスキャンの周期に比較して短く設定するのが好ましい。
さらに、ステージに対する位置検出手段とはこの位置決めに用いられるレーザ干渉計、ステージを駆動するリニアモータのコイルの相切り替えのためのエンコーダ、もしくは特別に設けた位置センサを好適に使用できる。
【００１４】
上述したアクティブ除振装置は、例えばレチクルに形成された回路パターンを投影光学系を介してＸＹステージ上の半導体ウエハに転写する露光製置に備えられる。
【００１５】
【実施例】
以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。図１に本発明の一実施例に係るアクティブ除振装置を示す。同図において、ＰＯ−Ζ１，ＰＯ−Ｚ２，ＰＯ−Ζ３，ＰＯ−Ｘ１，ＰＯ−Ｙ２，ＰＯ−Ｙ３は位置計測手段であり、その出力は位置目標値出力部１の出力（ｚ10，ｚ20，ｚ30，ｘ10，ｙ20，ｙ30）と比較されて、各軸の位置偏差信号（ｅz1，ｅz2，ｅz3，ｅx1，ｅy2，ｅy3）となる。これらの偏差信号は、除振台２２の並進運動と各軸回りの回転運動の合計６自由度の運動モード位置偏差信号（ｅx ，ｅy ，ｅz ，ｅθx ，ｅθy ，ｅθz ）を演算出力する位置信号に関する運動モード抽出演算手段２に導かれる。これらの出力信号は、運動モードごとにほぼ非干渉で位置の特性を調整する位置に関するゲイン補償器３に導かれる。このループを位置フィードバックループと称する。
【００１６】
振動計測手段の代表である加速度センサＡＣ−Ｚ１，ＡＣ−Ｚ２，ＡＣ−Ｚ３，ＡＣ−Ｘ１，ＡＣ−Ｙ２，ＡＣ−Ｙ３の出力は高周波ノイズを除去する等の適切なフィルタリング処理が施されて、即座に加速度に関する運動モード抽出演算手段４への入力となる。その出力は運動モード加速度信号（ａx ，ａy ，ａz ，ａθx ，ａθy ，ａθz ）である。運動モードごとに最適なダンピングを設定するべく、運動モード加速度信号（ａx ，ａy ，ａz ，ａθx ，ａθy ，ａθz ）は次段の加速度信号に関するゲイン補償器５に導かれている。このゲインを調整することによって運動モードごとに最適なダンピング特性が得られる。このループを加速度フィードバックループと称する。
【００１７】
位置に関するゲイン補償器３の出力と、加速度に関するゲイン補償器５の出力である負帰還信号は加算されて運動モード別のＰＩ補償器６に導かれる。ここで、Ｐは比例動作を、Ｉは積分動作を意味する。この部位にＰＩ捕償器を設けた理由については、特願平９−６８９９５に詳しく述べている。数式を用いた詳細な説明は割愛して簡単に述べると以下の通りである。
【００１８】
まず、圧力フィードバック無しの場合であって、加速度を検出してそれに適切なゲインを掛けたものをサーボバルブを駆動する電圧電流変換器の前段にフィードバックすると、その操作量はダンピングとして作用する。サーボバルブを含めた空気ばねアクチュエータの特性が概ね積分特性であるため、加速度信号が積分されて速度としての効果を持つためである。ところが、圧力フィードバックを施したときには、積分特性は消滅して１次遅れ系となる。したがって、このような１次遅れ系に対して加速度フィードバックを施してもダンピングとして効果は持たない。そこで、加速度のゲインフィードバックをダンピングとして作用させるために積分特性を復活させる。この役割を持つ補償器がＰＩ補償器６となっている。ＰＩ補償器６は補償器として作りだされた完全な積分特性を持つので、先に説明した位置フィードバックループに積分器を含まなくても定常位置偏差零で位置決めできる。故に、このループにおける補償器はゲイン補償器３になっている。
【００１９】
さて、ＰＩ補償器６の出力である運動モード駆動信号（ｄx ，ｄy ，ｄz ，ｄθx ，ｄθy ，ｄθz ）は運動モード分配演算手段７への入力となり、その出力は各軸の空気ばねアクチュエータが発生すべき駆動信号（ｄz1，ｄz2，ｄz3，ｄx1，ｄy2，ｄy3）となる。ここで、駆動信号（ｄz1，ｄz2，ｄz3，ｄx1，ｄy2，ｄy3）によって駆動される系は、特願平９−６８９９５で開示した各軸ごと独立な圧力フィードバックループが構成されている。すなわち、空気ばねアクチュエータの内圧を計測するための圧力センサに代表される圧力計測手段ＰＲ−Ｚ１，ＰＲ−Ｚ２，ＰＲ−Ｚ３，ＰＲ−Ｘ１，ＰＲ−Ｙ２，ＰＲ−Ｙ３の出力は圧力検出手段８によって電気信号となして負帰還されており、圧力目標値出力部９の信号と先に記述した各軸の駆動信号（ｄz1，ｄz2，ｄz3，ｄx1，ｄy2，ｄy3）とを加算して圧力に関するＰＩ補償器１０に導かれている。このＰＩ補償器１０の出力は、各軸のサーボバルブＳＶ−Ｚ１，ＳＶ−Ζ２，ＳＶ−Ｚ３，ＳＶ−Ｘ１，ＳＶ−Ｙ２，ＳＶ−Ｙ３に電流を通して弁の開閉を行なわせるための電圧電流変換器（図面中、ＶＩ変換と略記）１１を駆動している。ここで、圧力目標値出力部９は、各軸の空気ばねアクチュエータが発生すべき平衡状態の圧力値を指定するものである。このようなループを圧力フィードバックループと称する。なお、圧力フィードバックループでは、空気ばねアクチュエータの内圧を圧力センサに代表される圧力計測手段ＰＲによって検出してこれをフィードバックしているが、空気ばねアクチュエータが発生する荷重をロードセンサに代表される荷重計測手段によって検出してこの出力を負帰還してなる荷重フィードバックを構成したときにも上述の圧力フィードバックループと同様の機能が実現できる。そこで、圧力計測手段と荷重計測手段とを併せて加圧力計測手段と呼び、圧力フィードバックループと荷重フィードバックループとを併せて加圧力フィードバックループと呼ぶことにする。本明細書では、加圧力フィードバックループの中の圧力フィードバックループを使って技術内容を説明している。
【００２０】
次に、ＸＹステージの移動に原因した除振台２２の傾きを抑制する装置構成について説明する。まず、ＬＡ−ＸとＬＡ−ＹはＸＹステージ２１を位置決めする位置検出手段としてのレーザ干渉計であり、図７に示したアクティブ除振装置を一構成ユニットとして備える露光装置本体１３に取付けられている。ＸＹステージがＸ軸方向に移動したとき、除振台にはＹ軸回りの回転（傾き）が、Ｙ軸方向に移動したときにはＸ軸回りの回転（傾き）がそれぞれ発生する。Ｘ，Ｙ軸方向への移動量と傾き量は比例関係にあり、したがってＸＹステージの移動によって生じる除振台の傾きは、ＸＹステージの移動量に比例した駆動力を発生させることによって抑制できる。つまり、ＸＹステージの移動量に比例した駆動力を鉛直方向支持の空気ばねアクチュエータに線形的に発生させることができれば、除振台の傾きは抑制できる。この事情を踏まえて、Ｙ軸のレーザ干渉計ＬＡ−Ｙの出力信号は補正信号発生部１２に入力されておりＹ軸への移動距離に比例した補正信号を発生する。その出力はＸ軸回りの回転駆動信号を生成するｄθx の箇所に加算している。同様に、Ｘ軸のレーザ干渉計ＬＡ−Ｘの出力は補正信号発生部１２に導かれて、ここでＸ軸への移動量に比例した補正電圧が発生する。その出力電圧はＹ軸回りの回転駆動信号を生成するｄθy の箇所に加算している。この加算信号に線形的に応動した力を空気ばねアクチュエータに発生させるためには、既に述べたように電圧電流変換器１１ヘの入力をｖi ［Ｖ］として発生する駆動力ｆ［Ｎ］までの特性が問題になってくる。ここで、圧力フィードバックが無い場合の特性は、図２の無定位系１５と同じであり、（１）式とおける。ここで、ｓはラプラス演算子でありＢ［Ｎ／Ｖｓｅｃ］は圧力時定数ゲインである。
【００２１】
【数１】
0004109747.tif 000002
一方、圧力フィードバックが有る場合、図１を参照して圧力計測手段ＰＲの信号を圧力検出手段８によって電気信号に変換し、電圧電流変換器１１に前置するＰＩ補償器１０の前段にその電気信号をフィードバックした系への新しい入力ｗi ［Ｖ］から駆動力ｆまでの特性は、適切にＰＩ補償器１０のパラメータを設定したとき（２）式および図３の定位系１７の如く１次遅れ系と表現することができる。ここで、Ｂv ［Ｎ／Ｖ］は圧力ゲインを、Ｔ［ｓｅｃ］は時定数を意味する。
【００２２】
【数２】
0004109747.tif 000003
ｗi ＝ｗi0／ｓとしてステップ状の信号を印加したときの最終値ｆ∞は次式のようになる。
【００２３】
【数３】
0004109747.tif 000004
ー方、圧力フィードバックを持たない無定位系の（１）式の場合、ステップ状の信号入力に対して駆動力ｆは発散してしまうことは容易に確認できる（実際には、完全な積分器ではなく、極く低周波で折点を有するローパスフィルタ特性であるため駆動力ｆは十分な時間経過を経て定常値に落ち着く）。つまり圧力フィードバックが無い無定位系では、ＸＹステージの移動場所に応じた補正信号をサーボバルブを駆動する電圧電流変換器１１の前段に印加しても、捕正すべき力ｆを発生させることはできないのである。
【００２４】
さて、以上の説明では、ある時間の間ＸＹステージが移動した場所に留まっているときであって、補正信号を空気ばねアクチュエータに印加した場面を想定した定式化であった。しかし、半導体露光装置（ステッパ）に搭載のＸＹステージはステップアンドリピートと言われる間欠運転を行なう。走査型露光装置の場合には、ステップアンドスキャンと言われる動作を行なう。図４に、ステップアンドリピートあるいはステップアンドスキャンの一例を示そう。図中、１８は半導体ウエハを、１９は露光されるショット領域を、２０は移動方向を示す。このような移動を行なったとき、図中記載の座標系を使って説明すると、ｘ軸回りの回転θx を除振台に発生させて傾斜させてしまうが、ｙ軸方向の移動距離であり且つθx を矯正する補正信号でもある波形は図５のようになる。つまり補正信号は時間変化に対して勾配を持つおおむねランプ状の波形になる。
【００２５】
図６は、ランプ状の波形が折り返す三角波の補正信号Ａを（２）式に示す時定数Ｔが異なる圧力フィードバック系に入力したときに発生する駆動力ｆを示す。Ｂで指し示す駆動力ｆを得たときの圧力フィードバック系の時定数ＴはＣの場合におけるそれに比較して小さい。すなわち、補正信号Ａの周期に比較して短い時定数Ｔを持つ圧力フィードバック系を構築しておくことによって、補正信号Ａにある程度追従する駆動力ｆが得られる。上記説明より、圧力フィードバック系の周波数帯域で決まる固有周期は、ステージのステップアンドリピートあるいはステップアンドスキャンの周期に比較して短いことが除振台の傾きを確実に矯正するための条件となる。しかし、ＡとＢを比較して明らかなように時定数Ｔが小さい場合でも偏差ｅは残る。この理由は、圧力フィードバック系が１形のためである。周知のように、１形の系へのランプ状入力に対しては偏差が残る。つまり、原理的にｅのような追従誤差は残るのである。しかし、ランプ状の補正信号をなぞる駆動力ｆを発生させれば、結果として補正信号を印加しない場合に比較して除振台の傾きは大幅に矯正できる。すなわち、ランプ入力に対して１形の圧力フィードバック系に追従誤差が残ることは制御理論的にみた場合には当然の結果であり追従性能を指標にした場合には問題視せねばならない。しかし、除振台の傾きを矯正する目的でみた場合、補正信号の波形のなぞる駆動力ｆが発生すればそれで十分である。つまり補正信号を印加しない場合と比較すれば、除振台の傾きは大幅に矯正できるのである。
【００２６】
なお、補正信号に対する完全な追従を得るには、図６を参照して残存する追従誤差ｅを無くすためにＶＣＭを働かせることができる。このとき、図７には不図示であるが空気ばねアクチュエータと共にＶＣＭをも適切に配置してなるハイブリッドのアクティブ除振装置であることが必要となる。この構成のとき、ほとんどの移動荷重を空気ばねアクチュエータの力でまかない、１形の圧力フィードバック系に原因して発生する補正しきれない移動荷重分についてはＶＣＭが補助するのである。全ての移動荷重をＶＣＭで補正する場合と比較すれば、追従誤差ｅを無くす仕事をＶＣＭに任せても発熱問題は軽微である。
【００２７】
あるいは、概ねランプ状の補正信号への完全な追従を図るためには、ステップアンドリピートあるいはステップアンドスキャンの駆動パターンが予め既知であることを利用することもできる。すなわち、図６を参照して追従誤差ｅを無くすように、先行的に補正信号を印加すればよい。このとき、予め既知の駆動プロファイルに基づき先行的に除振台の傾きが補正できる。
【００２８】
上記説明では、図１の補正信号発生部１２に導かれる信号はＸＹステージの位置決め用の位置検出手段であり、具体的にはレーザ干渉計であった。しかしながら、ＸＹステージを駆動するアクチュエータが多相型の直流リニアモータなどの場合、一般にはコイルの相切り替えのためのエンコーダを搭載している。つまり、このエンコーダの出力信号を補正信号発生部１２に導いて、ＸＹステージの高速移動あるいは高速スキャンに原因した除振台の傾きを矯正する補正信号を生成することも可能である。このようなＸＹステージの位置決めのための位置検出手段に限らず、ＸＹステージの移動位置を計測する手段であるならば、レーザ干渉計やコイル相切り替えのためのエンコーダに限定されるものではない。例えば、除振台の傾きを矯正するための信号としてＸＹステージの位置を検出するための特別の位置センサを備えても構わない。
【００２９】
さらに、図１においては、制御ループ中に、位置に関する運動モード抽出演算手段２、加速度に関する運動モード抽出手段４、および運動モード分配演算手段７を備えた、所謂運動モード別の非干渉化制御系になっている。このような制御構造を採るが故に除振台の傾きを補正するための補正信号をその運動モードを表す駆動信号の箇所に重畳することで、複数台の能動的支持脚が除振台の傾きを矯正するように協調をとって駆動力が発生する。つまり、運動モード別の制御ループ構成であることが、ＸＹステージの移動に原因した除振台の傾きを矯正することにおいて多大の貢献をしている。
【００３０】
最後に、位置センサ、加速度センサおよび空気ばねアクチュエータの冗長性について言及しておく。剛な物体の運動自由度は並進と回転運動が各３であり合計６となる。したがって、センサとアクチュエータの必要最低限の数はそれぞれ６である。図１に示すアクティブ除振装置の場合、位置センサと加速度センサは剛体の運動モードを検出することに対して必要最低限の数を揃える。もちろん、本発明の主旨を逸脱しない範囲内において、各種センサとの数に制約を設けるものではない。例えば、柔軟な運動モードをも検出してそのモードも剛体運動モードと同様に積極的に制御しようとするならば、センサおよびアクチュエータの数を増やさねばならない。その場合でも図１に示すアクティブ除振装置が備えている運動モード別のループ構造に変更を来たすものでないことは言うまでもない。
【００３１】
【デバイス生産方法の実施例】
次に上記説明したアクティブ除振装置を備えた露光装置を利用したデバイスの生産方法の実施例を説明する。
図８は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造のフローを示す。ステップ１（回路設計）ではデバイスのパターン設計を行なう。ステップ２（マスク製作）では設計したパターンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコンやガラス等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷（ステップ７）される。
【００３２】
図９は上記ウエハプロセスの詳細なフローを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステップ１６（露光）では上記説明したアクティブ除振装置を備えた露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステップ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
【００３３】
本実施例の生産方法を用いれば、従来は製造が難しかった高集積度のデバイスを低コストに製造することができる。
【００３４】
【発明の効果】
本発明の効果は以下の通りである。
（１）ステージの高速移動による重心変化に原因した除振台の傾きを抑制または軽減することができる。
（２）従来、電磁モータを使った除振台の傾き補正では、電流を連続的に通電する必要があった。したがって、電磁モータ自身の発熱対策はもとより空調関連の対策を十分施さねばならなった。しかるに、本発明では電磁モータに比較すると発熱は極めて軽微なサーボバルブを駆動することによって除振台の傾きを補正しているので、発熱の問題は生じない。
（３）ステージの高速且つ連続的な移動にも拘わらず、除振台の傾きが補正されてその量をほぼゼロにできる。したがって、除振台が傾くことに起因した外乱をステージに与えることはなくなる。つまり、ステージの移動場所によらず常に安定した位置決めあるいはスキャン性能を取得することができる。
（４）もって、生産性が向上するという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の一実施例に係るアクティブ除振装置の構成図である。
【図２】  無定位系へのフィードフォワード入力を示す説明図である。
【図３】  定位系へのフィードフォワード入力を示す説明図である。
【図４】  ステップアンドリピートあるいはステップアンドスキャンの一例を示す説明図である。
【図５】  図４に示すステップアンドリピートあるいはステップアンドスキャン中の補正信号の一例を示す図である。
【図６】  補正信号と駆動力の関係を示す図である。
【図７】  アクティブ除振装置の機械構成の一例を示す図である。
【図８】  微小デバイスの製造の流れを示す図である。
【図９】  図８におけるウエハプロセスの詳細な流れを示す図である。
【符号の説明】
１：位置目標値出力部、２：位置信号に関する運動モード抽出演算手段、３：位置に関するゲイン補償器、４：加速度に関する運動モード抽出演算手段、５：ゲイン補償器、６：ＰＩ補償器、７：運動モード分配演算手段、８：圧力検出手段、９：圧力目標値出力部、１０：圧力に関するＰＩ捕償器、１１：電圧電流変換器、１２：補正電圧発生部、１３：露光装置本体、１４：フィードフォワード入力端子、１５：無定位系、１６：除振台の機械系、１７：定位系、１８：半導体ウエハ、１９：ショット領域、２０：移動方向、２１：ＸＹステージ、２２：除振台、２３−ｎ，２３−１，２３−２，２３−３：能動的支持脚。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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