(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明性を有する基材上に高屈折率層、シラン化合物からなる低屈折率層、透明導電層がこの順で積層されてなる透明導電性積層体であって、前記低屈折率層が、シロキサン結合を含有しないシラン化合物とｔｅｒｔ−ブタノールを３０〜８０重量％含む有機溶剤とを含有し、フッ素を含む有機化合物、及びシロキサン結合を含む化合物のいずれも含有せず、かつ２０℃における粘度が２．５〜５．０ｍＰａ・ｓであり、２０℃における表面張力が１８．０〜２８．０ｍＮ／ｍである低屈折率層塗工液を前記高屈折率層上に塗布して形成されることを特徴とする透明導電性積層体。
【請求項２】
少なくとも一方の面に透明導電層を有する上電極基板と少なくとも一方の面に透明導電層を有する下電極基板とを、所定の間隔で透明導電層が対向するように配置した抵抗膜式タッチパネルであって、上電極基板又は下電極基板の少なくとも一方が請求項１に記載された透明導電性積層体からなる抵抗膜式タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置等のディスプレイ上に配置して、入力装置として使用される抵抗膜式タッチパネル及びこれに用いられる高透過率の透明導電性積層体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に抵抗膜式透明タッチパネル（以下、単にタッチパネルと呼ぶ）は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）等の薄膜透明電極を設けたガラス板を二枚、絶縁スペーサーを介して透明電極を内側に対向配置して作られた一つのフラットパネルデバイスであり、液晶ディスプレー、ＣＲＴディスプレー等と組み合わされて使用される。
【０００３】
しかしながら、このようなガラス基板を用いた電極では、運搬時での耐衝撃性の弱さや、表示パネルの大型化に伴う重量増の問題が生じており、改善が求められてきた。そこで、入力側のガラス基板の代替物として有機フィルム基板（ベースフィルム）が用いられ、この上にＩＴＯ薄膜透明電極が設けられたものが提案された。
【０００４】
一般に、フィルムはガラスほど透明度が高くないため、ベースフィルムを用いたタッチパネルはガラスを用いた物と比べ透過率が減少し、ディスプレー表示が非常に暗くなってしまうと言う欠点があった。
この欠点を解決するために、特開平６−３１６４４２号公報や特開２０００−２５８６１３号公報等でベースフィルム表面に高屈折率層、低屈折率層をこの順で設けて、ベースフィルムの透過率を向上させることが提案されている。しかしながら、これらの方法ではＤｒｙ方式（蒸着、スパッタリング等）で高屈折率層、低屈折率層の薄膜の形成を行っているため、高コストとなる。一方、特開平８−３０４６０３号公報ではＷｅｔ方式（バー塗工、ダイ塗工、ディップ塗工等）において均一な薄膜塗工を行うことも高屈折率層、低屈折率層の薄膜の形成を行うことも提案されているが、ムラの無い均一な薄膜を形成すること、また、ＩＴＯ膜の密着性に優れた薄膜を形成することは困難であった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明はＷｅｔ方式においてムラの無い均一な薄膜塗工を行い、ＩＴＯ等の透明導電層の密着性に優れた透過率の高い、特にタッチパネルに用いられる透明導電性積層体を安価で提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記の目的は、透明性を有する基材上に高屈折率層、シラン化合物からなる低屈折率層、透明導電層がこの順で積層されてなる透明導電性積層体であって、前記低屈折率層が、シロキサン結合を含有しないシラン化合物とｔｅｒｔ−ブタノールを３０〜８０重量％含む有機溶剤とを含有し、フッ素を含む有機化合物、及びシロキサン結合を含む化合物のいずれも含有せず、かつ２０℃における粘度が２．５〜５．０ｍＰａ・ｓであり、２０℃における表面張力が１８．０〜２８．０ｍＮ／ｍである低屈折率層塗工液を前記高屈折率層上に塗設してなることを特徴とする透明導電性積層体によって達成された。
【０００７】
上記低屈折率層塗工液の有機溶剤として、２０℃における表面張力２２．０ｍＮ／ｍ以下でありかつ２０℃における蒸気圧が５７ｍｍＨｇ以下の有機溶剤であるｔｅｒｔ−ブタノールを３０〜８０重量％含むものを用いることで、より均一な低屈折率層を形成することができる。さらに、本発明の透明導電性積層体を抵抗膜式タッチパネルの少なくとも一方の電極基板に用いることで、安価でＩＴＯ等の透明導電層の密着性に優れた抵抗膜式タッチパネルを得ることができる。
【０００８】
【発明の実施の形態】
次に本発明を更に詳細に説明する。
本発明において使用される透明性を有する基材としては、特に限定されないが、耐熱性に優れた各種高分子フィルムが適している。具体的にはポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、セルロースアセテート、ポリサルフォン等、広範囲な高分子フィルムを挙げることが出来るが、特にこれらの中でもポリエステルフィルムが好ましい。これは、ポリエステルフィルムが透明性、寸法安定性、厚みの均一性、強度、耐熱性、耐薬品性、耐水性等の性質に優れた物であるからである。通常、前記ポリエステルフィルムは、機械的性質を向上させるために二軸方向に延伸された物が用いられる。前記絶縁性透明高分子フィルムは、透明電極としての機能を考慮し、通常５０〜２５０μｍの厚みを有する物を用いることができる。
【０００９】
本発明における透明性を有する基材は、必要に応じて以下の如き表面活性化処理を行うことができる。この様な処理としては、グロー放電、コロナ処理等の物理的処理や、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂等の薄膜コーティング処理が挙げられる。
【００１０】
また、透明性を有する基材は高屈折率層を積層する反対面に、耐摩耗性、高表面硬度、耐溶剤性、耐汚染性、防眩性等を付与したハードコート層を施した物、また、前記ハードコート層上に反射防止処理が施されている物も併せて用いることができる。
更に、透明性を有する基材は、高屈折率層を積層する面側に、タッチパネルとした時に問題となるニュートンリングを防止する目的で、ニュートンリングを防止するための層を施した物も併せて用いることができる。
透明性を有する基材は、可視光線領域における全光線透過率が７０％以上の透明性を有する物であることが好ましい。
【００１１】
本発明の透明性を有する基材上に形成する高屈折率層は、通常公知の方法を用いて形成できるが、高屈折率のバインダー樹脂中に高屈折率の微粒子を用いて形成する方法や、金属酸化物ゲルから形成する方法などから形成される。
前者の方法において用いられる高屈折率バインダー樹脂としては、芳香族環を含む樹脂、Ｆ以外のハロゲン化元素、例えばＢｒ、Ｉ、Ｃｌ等を含む樹脂、Ｓ、Ｎ、Ｐ等の原子を含む樹脂等が挙げられ、これらの少なくとも一つの条件を満足する樹脂が高屈折率となるために好ましい。更に具体的には、ポリスチレン等のスチロール樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリビニルカルバゾール、ビスフェノールＡのポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリテトラブロモビスフェノールＡグリシジルエーテル、ポリビスフェノールＳグリシジルエーテル、ポリビニルピリジン等が挙げられる。
【００１２】
上記バインダー樹脂中に分散させる高屈折率微粒子には、例えばＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、Ｓｂ2Ｏ5、ＳｎＯ2、ＩＴＯ、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3等が挙げられる。
使用するバインダー樹脂と該バインダー樹脂中に分散される上記微粒子の種類及び量を変化させることによって高屈折率層塗工液を調整することが出来る。高屈折率層塗工液は、形成される膜の屈折率が１．６５以上となるように組成を決定するのが好ましい。上記の液は、例えばディップコート、フローコート、ロールコート、スプレーコート、ロールバーコート、ファウンテンバーコート、スロットダイ、スライドダイ、カーテンダイ等の方式によって塗工を行えるが、これに限定されるものではない。
【００１３】
高屈折率層を金属酸化物ゲルから形成する場合、低級金属アルコキシドを使用する方法が挙げられる。この方法では、低級金属アルコキシドＲmＴｉ（ＯＲ'）n（Ｒ、Ｒ'は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｍ及びｎは整数で、ｍ＋ｎは４である）またはＲmＴａ（ＯＲ'）n（Ｒ、Ｒ'は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｍ及びｎは整数で、ｍ＋ｎは５である）で表される金属アルコキシドである。更に具体的には、チタンアルコキシドである。更に具体的には、チタンテトラエトキシド、チタンテトラ−ｉ−プロポキシド、チタンテトラ−ｎ−プロポキシド、チタンテトラ−ｎ−ブトキシド、チタンテトラ−ｓｅｃ−ブトキシド、チタンテトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシド、タンタルペンタエトキシド、タンタルペンタ−ｉ−プロポキシド、タンタルペンタ−ｎ−プロポキシド、タンタルペンタ−ｎ−ブトキシド、タンタルペンタ−ｓｅｃ−ブトキシド、タンタルペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシド等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００１４】
上記金属アルコキシドの加水分解物は、上記金属アルコキシドを適当な溶媒中に溶解して行う。使用する溶媒としては例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等のアルコール、ケトン、エステル類、ハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、或いはこれらの混合物が挙げられるが、これに限定されるものではない。上記アルコキシドは上記溶媒中に、該金属アルコキシドが１００％加水分解及び縮合したとして生じる金属酸化物換算で０．１〜１０重量％になるように溶解する。金属酸化物ゾルの濃度が０．１重量％未満または１０重量％を超える濃度においては透明均質膜の形成が困難となる。この液の塗工手段としては、例えばディップコート、フローコート、ロールコート、スプレーコート、ロールバーコート、ファウンテンバーコート、スロットダイ、スライドダイ、カーテンダイ等の方式によって塗工を行えるが、これに限定されるものではない。乾燥手段は通常公知の方法を用いることができる。
本発明においては、高屈折率層がチタンアルコキシドを加水分解することによって形成されたゲル膜等、表面の濡れ性が悪い層である場合、特に有効である。
【００１５】
本発明において、高屈折率層上にシラン化合物とｔｅｒｔ−ブタノールを３０〜８０重量％含む有機溶剤とからなり、フッ素を含む有機化合物及びシロキサン結合を含む化合物のいずれも含有せず、かつ２０℃における粘度が２．５〜５．０ｍＰａ・ｓであり、２０℃における表面張力が１８．０〜２８．０ｍＮ／ｍである低屈折率層塗工液を前記高屈折率層上に塗設（塗布乾燥等）して低屈折率膜を設ける。
【００１６】
本発明のシラン化合物はシロキサン結合を含まない。例えば、クロロシラン、アルコキシシラン等のシラン；シラザン；またはビニルシラン、アミノシラン、エポキシシラン、メタクリロキシシラン、メルカプトシラン等のシランカップリング剤等が挙げられる。更に具体的にはメチルトリクロロシラン、メチルジクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、またはビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリメチルシラン等が挙げられるがこれに限定されるものではない。
透明導電層や高屈折率層との密着性が優れる点から、特にシランカップリング剤が好ましく用いられる。
【００１７】
本発明の低屈折率層塗工液に用いる有機溶剤としては、２０℃において表面張力が２２．０ｍＮ／ｍ以下及び２０℃における蒸気圧が５７ｍｍＨｇ以下の有機溶剤であるｔｅｒｔ−ブタノールを含むことが必須である。その含有量としては低屈折率層塗工液中に３０〜８０重量％含有することが必須である。本発明においては、ｔｅｒｔ−ブタノールと他の有機溶剤を併用することが可能である。併用する有機溶剤は、例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等のアルコール、ケトン、エステル類、ハロゲン化炭化水素、トルエン等の芳香族炭化水素、或いはこれらの混合物が挙げられるがこれに限定されるものではない。
【００１８】
本発明においては、ムラの無い均一な低屈折率層を得るため低屈折率層塗工液の粘度が２０℃において２．５〜５．０ｍＰａ・ｓであり、かつ２０℃における塗工液表面張力が１８．０〜２８．０ｍＮ／ｍであることが重要である。特に２０℃における粘度が３．０〜５．０ｍＰａ・ｓであるとより好ましい。
【００１９】
本発明においては低屈折率層上に積層する透明導電層の密着を損なわないため低屈折率塗工層塗工液中に、フッ素を含む有機化合物、シロキサン結合を含む化合物のいずれも含まない。また、本発明においては低屈折率層を塗設後、低屈折率層内に残留する添加剤（レベリング剤、表面調整剤、増粘剤等）を低屈折率層塗工液中に含まない方が好ましく、低屈折率層はシロキサン結合を含まないほぼシラン化合物のみからなることが好ましい。
【００２０】
本発明の低屈折率層塗工液において、上記シロキサン結合を含まないシラン化合物は有機溶剤中に、シラン化合物が１００％加水分解及び縮合したとして生じる二酸化珪素（ＳｉＯ2）換算で０．１〜１０重量％になるように溶解することが好ましい。二酸化珪素（ＳｉＯ2）ゾル濃度が０．１重量％未満または１０重量％を超える濃度においては透明均質膜の形成が困難となる傾向にある。低屈折率層塗工液の塗工手段としては、例えばディップコート、フローコート、ロールコート、スプレーコート、ロールバーコート、ファウンテンバーコート、スロットダイコート、スライドダイコート、カーテンダイコート等の方式が挙げられるが、これに限定されるものではない。乾燥手段は通常公知の方法を用いることができる。
【００２１】
本発明の低屈折率層上に積層される透明導電層としては、導電性を有し、かつ薄膜形成時に透明性を有する物が良く、例えば金、銀、白金、パラジウム、ロジウム等の金属、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化チタン、酸化ジルコニウム、或いは酸化インジウム−酸化錫系、酸化錫−酸化アンチモン系等の金属酸化物、特に好ましくは酸化インジウム−酸化錫、金を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等によって形成できる。これらの透明導電層は単層でも良いが２層以上の積層にすることもできる。
前記透明導電層の厚みは、タッチパネルとして重要な透明性を損なわないことから厚さ約１０〜４０ｎｍであることが好ましい。また表面電気抵抗としては１〜１０００Ω／□、好ましくは５０〜６００Ω／□である。
【００２２】
本発明の抵抗膜式タッチパネルはどちらか一方の面に透明導電層を有する上電極基板、どちらか一方の面に透明導電層を有する下電極基板、及びこれらの間隔を一定に保持する手段から成り、上電極基板及び下電極基板の少なくとも一方に上述の透明導電性積層体を用い、これら上電極基板と下電極基板とを所定の間隔で透明電極層が対向するように配置したものである。この上電極基板は指やポインティング治具で押圧する側の基板をいう。
【００２３】
タッチパネルにおいては、スペーサー、その他絶縁層や接着層を用いて上電極基板と下電極基板との間隔を一定に保つよう構成する。タッチパネルの構造にもよるが、通常この間隔は３０μｍ以下である。間隔が大きい場合、筆記応答性が低下するため、好ましくは１５μｍ以下である。
また、タッチパネルの構成部品はすべて透明である必要があるが、完全に透明である必要は無く、タッチパネルを通して必要な程度に文字や図形が認識できればよい。
【００２４】
スペーサーは、電気絶縁性であればよく、公知の方法で設けることができ、特に制限される物ではない。例えば導電層上にＵＶ硬化樹脂層を形成し、露光パターニングするフォトリソグラフィー法で設けてもよいし、ウレタン樹脂、シリコン樹脂系等透明なインクを用い、スクリーン印刷、グラビア印刷等の方式で導電層上に印刷する印刷法で設けても良い。また、粒径のそろった球状粒子を対向する電極間に散布し、スペーサーとして用いてもよい。
【００２５】
【実施例】
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、実施例中の特性値は次の方法により測定したものである。
（１）粘度
東機産業社製、Ｒ１１５型粘度計（ＪＩＳ  Ｚ８８０３記載の円すい定速方式の円すい−平板型回転粘度計）を用い、液温２０℃にいてズリ速度４５９．６s-1における粘度の測定を行った。
（２）表面張力
島津製作所社製、デュヌイ氏表面及び界面張力試験器を用い、液温２０℃において測定を行った。
【００２６】
（３）透過率
島津製作所社製、自記分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣを用い、高屈折率層及び低屈折率層を積層した面から入光するようにセットし、積分球を用い波長５５０ｎｍにおける透過率の測定を行った。
（４）反射率
高屈折率層及び低屈折率層を積層した面と反対の面を黒スプレーにて塗装した後、島津製作所社製、自記分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣにて、積分球を用い高屈折率層及び低屈折率層を積層した面の入射光７°における波長５５０ｎｍの反射率の測定を行った。
（５）全光線透過率
村上色彩社製、ヘイズ・透過・反射率計ＨＲ−１００を用いて測定を行った。
【００２７】
（６）外観（ムラ）
外観（ムラ）の評価は塗工層の虹ムラ（色ムラ）を目視により評価し、以下に示す基準で×〜◎の４段階のランク付けを行った。
◎：ムラが無く均一、もしくは殆ど確認できない程度の色ムラしか発生しない
○：若干２色の色ムラは確認できるがなだらかな色の変化で、問題ない
△：２色のはっきりした色ムラが発生する
×：３色以上のはっきりした色ムラが発生する
【００２８】
（７）ＩＴＯ密着性
ＩＴＯ密着性は、ＩＴＯ密着性は、タッチパネル研究所製摺動試験機を用い、同じ場所に２０ｍｍ角内のひらがな５０音文字を荷重２５０ｇで繰り返し筆記し、その筆記回数により評価を行った。評価は１０万文字以上筆記した後でも問題の無いものを○、１０万文字未満で導電不良等が起きたものを×とした。
【００２９】
（実施例１）
高屈折率層塗工液：チタンアルコキシド溶液（日本曹達社製、Ｂ−１、固形分濃度２３．６重量％）  ４．３重量部、ｉｓｏ-プロピルアルコール  ９５．７重量部
低屈折率層塗工液（１）：シランカップリング剤（ＧＥ東芝シリコーン社製、ＴＳＬ８３５５）  １重量部、エタノール  ５５重量部、ｔｅｒｔ-ブタノール  ４５重量部
低屈折率層塗工液（１）の粘度は２．５ｍＰａ・ｓであり、表面張力は２７．６ｍＮ／ｍであった。
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡社製、Ａ４３００、厚さ１８８μｍ、全光線透過率９１．１％）基材に、高屈折率層塗工液を乾燥膜厚が８０ｎｍとなるようにマイヤーバーを用い塗工し、８０℃にて１分間乾燥した後、１１０℃恒温槽中にて２時間エージングを行い高屈折率層を有するフィルムを得た。
【００３０】
この高屈折率層を有するフィルムの高屈折率層上に、低屈折率層塗工液（１）を乾燥膜厚が約１００ｎｍとなるようにマイヤーバーを用い塗工し、８０℃にて１分間乾燥を行い高屈折率層と低屈折率層を有するフィルムを得、５５０ｎｍにおける透過率、反射率及び塗工面のムラについて評価を行った。
また、上記フィルムの低屈折率層上にＩＴＯをスッパッタリング法により付着させ、透明導電性積層体を得た。スパッタリングは真空度１０-4ＴｏｒｒにてＡｒ／Ｏ2混合ガス導入のもとに行った。付着膜厚は１５ｎｍであった。このようにして得た透明導電性積層体は表面電気抵抗４５０Ω／□であった。
【００３１】
（実施例２）
低屈折率層塗工液（２）：シリコンプライマー（日本ユニカー社製、ＡＰＺ−６６３３）  ２０重量部、ｔｅｒｔ-ブタノール  ８０重量部
低屈折率層塗工液（２）の粘度は４．４ｍＰａ・ｓであり、表面張力は２７．４ｍＮ／ｍであった。
低屈折率層塗工液（２）を用いた以外は実施例１と同様にして高屈折率層と低屈折率層を有するフィルム及び透明導電性積層体を作製した。
【００３２】
実施例３
低屈折率層塗工液（３）：シランカップリング剤（信越化学工業社製、ＫＢＭ−３０３）  １重量部、ｔｅｒｔ-ブタノール  ５０重量部、ｉｓｏ-プロピルアルコール  ４９重量部
低屈折率層塗工液（３）の粘度は３．５ｍＰａ・ｓであり、表面張力は２７．４ｍＮ／ｍであった。
低屈折率層塗工液（３）を用いた以外は実施例１と同様にして高屈折率層と低屈折率層を有するフィルム及び透明導電性積層体を作製した。
【００３３】
比較例１
低屈折率層塗工液（４）：シランカップリング剤（ＧＥ東芝シリコーン社製、ＴＳＬ８３５５）  １重量部、エタノール  ９９重量部
低屈折率層塗工液（４）の粘度は１．７ｍＰａ・ｓであり、表面張力は３１．７ｍＮ／ｍであった。
低屈折率層塗工液（４）を用いた以外はを用いた以外は実施例１と同様にして高屈折率層と低屈折率層を有するフィルム及び透明導電性積層体を作製した。
【００３４】
比較例２
低屈折率層塗工液（５）：シランカップリング剤（東レ・ダウコーニング・シリコーン社製、ＳＨ６０４０）  １重量部、ｉｓｏ-プロピルアルコール  ９９重量部
低屈折率層（５）の粘度は２．４ｍＰａ・ｓであり、表面張力は２７．８ｍＮ／ｍであった。
低屈折率層塗工液（５）を用いた以外は実施例１と同様にして高屈折率層と低屈折率層を有するフィルム及び透明導電性積層体を作製した。
【００３５】
比較例３
低屈折率層塗工液（６）：シランカップリング剤（東レ・ダウコーニング・シリコーン社製、ＳＨ６０４０）  １重量部、ｉｓｏ‐プロピルアルコール  ５９重量部、ｉｓｏ-オクタン  ４０重量部
低屈折率層塗工液（６）の粘度は１．２ｍＰａ・ｓであり、表面張力は２５．６ｍＮ／ｍであった。
低屈折率層塗工液（６）を用いた以外は実施例１と同様にして高屈折率層と低屈折率層を有するフィルム及び透明導電性積層体を作製した。
【００３６】
比較例４
低屈折率層塗工液（７）：シランカップリング剤（信越化学工業社製、ＫＢＭ−３０３）  １重量部、ｔｅｒｔ-ブタノール  １５重量部、ｉｓｏ-プロピルアルコール  ８４重量部
低屈折率層塗工液（７）の粘度は２．７ｍＰａ・ｓであり、表面張力は２８．２ｍＮ／ｍであった。
低屈折率層塗工液（７）を用いた以外は実施例１と同様にして高屈折率層と低屈折率層を有するフィルム及び透明導電性積層体を作製した。
【００３７】
比較例５
低屈折率層塗工液（８）：シリコンプライマー（日本ユニカー社製、ＡＰＺ−６６３３）  ２０重量部、ｔｅｒｔ-ブタノール  ８０重量部、フッ素系添加剤（ビックケミー・ジャパン社製、ＢＹＫ−３３０）  ０．０５重量部
低屈折率層塗工液（８）の粘度は４．４ｍＰａ・ｓであり、表面張力は２７．３ｍＮ／ｍであった。
低屈折率層塗工液（８）を用いた以外は実施例１と同様にして高屈折率層と低屈折率層を有するフィルム及び透明導電性積層体を作製した。
【００３８】
（タッチパネルの作製及び評価）
ガラス板に実施例１と同様のＩＴＯ処理を行い透明導電層を設け、この透明導電層の上に、光硬化性のアクリル樹脂層を設け、紫外線露光後パターニングしてスペーサーを形成させた。このスペーサーは、高さ１０μｍ、直径５０μｍの円柱で、スペーサー間隔は２ｍｍとした。
上記ガラス板を下電極基板、上記実施例１〜３及び比較例１〜５で得られた透明導電性積層体をそれぞれ上電極基板とし、透明導電層が対向するように配置して、タッチパネルを構成した。上電極基板と下電極基板との間の間隔はスペーサーの高さに相当することになる。
【００３９】
このようにして作製したタッチパネルについて、ＩＴＯ密着性を評価した。
実施例１〜３及び比較例１〜５で得られた高屈折率層と低屈折率層を有するフィルム及び透明導電性積層体を用いたタッチパネルを評価した結果を表１にまとめる。
【００４０】
【表１】
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【００４１】
表１から明らかなように、本発明の透明導電性積層体はムラがなく、ＩＴＯ膜の密着性が優れている。これに対し、塗工液の粘度が２．５ｍＰａ・ｓ以下である比較例１〜４は、塗工層に虹ムラが発生した。また、低屈折率層塗工液中にフッ素系添加剤を含んでいる比較例５においては、ＩＴＯの密着性が劣っていた。
【００４２】
【発明の効果】
本発明によればムラの無い均一な低屈折率層をＷｅｔ方式において安価に製造することが可能である。また、透明導電層の密着性が優れるため、特にタッチパネル用途に好適に用いることができる。