(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
セラミック材で構成された生体インプラントの基体と、
この基体の表面に低熱衝撃性のコーティング法により形成され、金属およびセラミックスの少なくとも一方を主成分とする第１のコーティング層と、
この第１のコーティング層の表面に溶射法によって形成された金属層と、
この金属層の表面に形成された生体親和性を有する第２のコーティング層と、
を備えたことを特徴とする生体インプラント材。
【請求項２】
上記第１のコーティング層が二種以上の金属を含む請求項１に記載の生体インプラント材。
【請求項３】
上記第１のコーティング層が二種以上のセラミックスを含む請求項１に記載の生体インプラント材。
【請求項４】
上記第１のコーティング層が金属とセラミックスを含む請求項１に記載の生体インプラント材。
【請求項５】
上記二種以上の金属は、上記基体に対して親和性の高い材料と上記金属層に対して親和性の高い材料の組み合わせである請求項２に記載の生体インプラント材。
【請求項６】
上記二種以上のセラミックスは、上記基体に対して親和性の高い材料と上記金属層に対して親和性の高い材料の組み合わせである請求項３に記載の生体インプラント材。
【請求項７】
上記第１のコーティング層は、その厚み方向に、前記金属と前記セラミックスの組成比が傾斜的に変化している請求項４に記載の生体インプラント材。
【請求項８】
上記第１のコーティング層が複数の層からなる請求項２〜６のいずれかに記載の生体インプラント材。
【請求項９】
上記セラミック材が、アルミナ、ジルコニア、チタニア、窒化珪素、炭化珪素、窒化チタン、窒化アルミのいずれか１種から、もしくはこれらの２種以上の混合セラミックからなる請求項１記載の生体インプラント材。
【請求項１０】
上記低熱衝撃性のコーティング法がＰＶＤ法、ＣＶＤ法もしくはメッキ法である請求項１記載の生体インプラント材。
【請求項１１】
上記第１のコーティング層の厚みが０．００１ｍｍ〜１．０ｍｍの範囲にあり、上記金属層の厚みが０．０１ｍｍ〜３．０ｍｍの範囲にあり、上記第２のコーティング層の厚みが０．００１ｍｍ〜２．０ｍｍの範囲にある請求項１に記載の生体インプラント材。
【請求項１２】
セラミック材からなる基体に、チタン層をＰＶＤ法にてコーティングし、このチタン層の上にチタンを溶射した後、このチタン溶射層の上にリン酸カルシウム系材料を溶射することを特徴とする生体インプラント材の製法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、疾病、災害などにより骨機能や手足の関節機能が失われた場合などに、これらを修復するために治療に用いられる整形外科用人工骨及び人工関節、あるいは老齢、疾病などによって失われた歯牙を復元するために用いられる人工歯根等を構成する生体インプラント材とその製法に関し、特にセラミック製の生体インプラント材とその製法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、インプラントロジーの発展は目覚ましいものがあり、人工心臓、人工血管、人工肺など様々な人工臓器が医療の世界で活躍している。特に整形外科の分野では、失われた関節機能を復元するための人工関節が広く用いられ、また、歯科医療の分野では人工歯根が脚光を浴びている。
【０００３】
この様な人工関節、人工骨、人工歯根などの骨内挿入型の生体インプラントは高強度を必要とすることから、ステンレス鋼やコバルト・クロム合金、チタン合金などが主流であるが、生体内での耐食性や摺動特性に優れたアルミナ、ジルコニアなどのセラミック材料も広く用いられようになってきた。
【０００４】
これらの生体インプラントを骨内に固定する方法は、骨セメントと呼ばれるアクリル樹脂で骨と接着する方法と、セメントレスと呼ばれる患者の骨の修復作用を利用して固定する方法がある。前者は簡便で、固定性も良好であり、早期の離床が可能となる反面、アクリルモノマーの毒性や重合時の発熱による骨組織の壊死などの問題があった。一方後者は毒性などの問題がなく、生体作用を利用する点でも生体に対して好ましい固定法である反面、手術が難しく、安定な固定が得られにくいなどの問題点があった。
【０００５】
そこでセメントレス固定のインプラントの骨内固定性を向上させるため、金属製インプラントでは、最近、骨との接合面にポーラスコーティングやハイドロキシアパタイトコーティングが行われるようになり、優れた臨床成績を修めるるようになってきた。
【０００６】
これに対して、セラミック製生体インプラントにおいても、骨内での固定性の問題を解決するべくリン酸カルシウム系材料をコーティングする技術として、プラズマスプレー法によってセラミック基体にリン酸カルシウム材料をコーティングする技術（特公昭59-46911）、および、セラミック基体とリン酸カルシウム溶射層の間に中間層としてチタン溶射層を設ける技術（特開平6-233782）が開発されてきたが、未だ、実用的に十分満足のいくものでなかった。
【０００７】
即ち、前者には、溶射されたリン酸カルシウム層の下地セラミック材への密着強度が弱く、またセラミック基体の強度低下の問題があり、後者の技術では、リン酸カルシウム溶射層の密着強度に関しては大きな改善効果が得られるものの、セラミック基体の強度低下については必ずしも満足のいく強度は得られない場合もあった。
【０００８】
この理由について説明する。
【０００９】
前者の場合、プラズマスプレーなどの溶射加工は、前処理としてサンドブラストなどの粗面化を必要とするが、セラミック基体は硬すぎてこの粗面化を十分行うことができない。その結果、リン酸カルシウムの溶射皮膜はインプラントとしての実用上必要な密着強度を得ることができない。一方、セラミック材料は脆性材料であり、表面の小さなキズによってその基体強度は大きく低下する。前記サンドブラスト加工は延性材料である金属素材に対しては有効な粗面化法であるが、セラミック材に対しては危険な前処理方法である。
【００１０】
一方、後者では、セラミックとチタンとの熱膨張差や溶射時の熱衝撃、チタン溶射層の瞬間的な凝固収縮のためにセラミック基体にマイクロクラックが入るようなケースがあったためである。また、この技術ではセラミック基体とチタン溶射層の密着強度を得る手段として、セラミック基体へ溝を形成したり、溝の方向によっては必ずしも十分な固定力が得られているとは言えないものであった。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
上記のような従来技術の問題点に鑑み、本発明は、セラミック製の生体インプラント材において、セラミック基体の強度低下を来すことなく、大きな接合強度でもってコーティング層を形成した生体インプラント材とその製法を提供することを課題とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明の生体インプラント材は、セラミック材で構成された生体インプラントの基体と、この基体の表面に低熱衝撃性のコーティング法により形成され、金属およびセラミックスの少なくとも一方を主成分とする第１のコーティング層と、この第１のコーティング層の表面に溶射法によって形成された金属層と、この金属層の表面に形成された生体親和性を有する第２のコーティング層と、を備えたことを特徴とする。
【００１３】
【作用】
本生体インプラントの第１コーティング層は低熱衝撃性のコーティング法により形成したので、基体にクラックを発生させることなく設けることが可能なものである。また、この第１のコーティング層は、金属層を溶射形成する際に熱を遮蔽し、基体に大きな熱衝撃が加わることを防止する作用を有するとともに、金属層とセラミック基体間のボンディング層として両者の密着性の確保する作用を有する。これは、溶射法によって基体に金属層を形成した場合に前述のように両者の密着力が低い傾向があるのに対して、低熱衝撃性のコーティング法では、大きな密着力が得られ、この層（第１のコーティング層）を介して溶射法による金属層を形成した場合、基体と溶射金属層（金属層）との密着力が飛躍的に向上するためである。
【００１４】
また、本発明の生体インプラント材は、金属層を介して生体親和性を有するリン酸カルシウム系材料をコーティング（第２コーティング層）したものであり、その表面を溶射法（例えばプラズマ溶射法やフレーム溶射法等）により素面として形成したので、機械的アンカリング作用により、第２コーティング層の第１コーティング層に対する付着力が大きい。
【００１５】
以下、かかる作用を有する生体インプラント材の実施形態を詳しく説明する。
【００１６】
【発明の実施の形態】
本発明の生体インプラント材は、セラミック材で構成された生体インプラントの基体と、基体表面に低熱衝撃性のコーティング法により形成された第１のコーティング層、第１のコーティング層上に溶射法により形成された金属層を介して第２のコーティング層を形成した構成である。
【００１７】
セラミック基体としては酸化物系セラミック（アルミナ、ジルコニア、チタニア）、窒化物系セラミック（窒化珪素、窒化チタン、窒化アルミ）もしくは炭化物系セラミック（炭化珪素）や、アルミナ分散ジルコニアやチタニア分散アルミナなど、素材強度を改善した混合セラミックを使用することができる。
【００１８】
また、これらセラミック基体に対して、イオン注入を行っても良い。すなわち、セラミック基体へ第１コーティング層を構成する材種のイオンを予め注入しておくことにより、基体と第１のコーティング層との密着性を向上させることが可能である。例えば、アルミナ基体に予めチタンを注入しておくと、第１のコーティング層としてチタンをコーティングした場合、密着強度を２０％ほどアップさせることができる。
【００１９】
次に、基体表面に形成するコーティング層について説明する。
【００２０】
本発明のコーティング層は機能的には３つの層から構成されている。即ち、第１のコーティング層、金属溶射層、第２のコーティング層である。
【００２１】
まず、第１のコーティング層について説明する。
【００２２】
この第１のコーティング層は、
・金属
・セラミック
・金属＋セラミック
で構成できる。
【００２３】
先ず、この第１のコーティング層が金属からなる場合を説明する。
【００２４】
前記第１のコーティング層が金属単層である場合には、チタン、タンタル、タングステン、ジルコニウム、モリブデン、ニオブ、アルミニウム、珪素、金、銀、パラジウム及びこれらを主成分とする合金もしくはコバルト・クロム合金、ステンレス鋼のうちの一種または二種以上の混合物から構成される。また金属複層である場合には、これらのうちの２種以上の組み合わせ、または二種以上の混合物と組み合わせとなる。
【００２５】
第１のコーティング層に金属層を用いた場合は、特に基本的な作用として、セラミック基体の金属に対するぬれ性を改善し、金属層との密着性を大きく改善することが最大のメリットとなる。また複層を用いるメリットはそれぞれの材料にて、より親和性の高い材料を組み合わせることにより、さらに密着性を向上させることである。例えば、ジルコニア基体に対して、金属層がチタンである場合、第１のコーティング層としては、ジルコニウムとチタンの複層を使用した場合の方がジルコニウムもしくはチタンの単層を利用した場合よりも高い密着性を得ることができる傾向がある。もちろん、ジルコニア基体側がジルコニウム、金属層（チタン）側がチタンである。複層の一部もしくは全体に混合物層が用いられる場合も同様に個々の材料と同系の材料を有する隣接層との親和性の向上に伴って層間の密着性が向上する。
【００２６】
一方、第１のコーティング層はセラミックで形成することもできる。この場合は、アルミナ、ジルコニア、チタニア、シリカ、炭化珪素、窒化珪素、窒化チタン、窒化アルミ、ＴｉＣＮのいずれか一種または二種以上の混合物からからなる単層、もしくはこれらのうちの二種以上からからなる複層または二種以上の混合物からからなる複層を使用することができる。第１のコーティング層をセラミック層で構成した場合の最大のメリットは、熱衝撃や溶射粒子の衝突衝撃の遮蔽効果である。セラミック層は耐熱性や硬度に優れているため、第１のコーティング層を金属で構成した場合よりも、金属層の溶射時の熱衝撃や溶射粒子による衝突衝撃によく耐えることができる。
【００２７】
また、セラミック基体に対するセラミック層の密着性を高めるために、セラミック複層や混合物層を利用することができる。例えば、ジルコニア基体とチタン合金の金属層を有する生体インプラント材の場合、第１のコーティング層をチタニアとジルコニアの混合層とすることにより、同種元素の親和性により、密着性が高まる。
【００２８】
さらにこの第１のコーティング層は前記金属材とセラミック材の複層またはそれらの混合物の複層とし、金属層、セラミック層それぞれが持つメリットがミックスされたものとすることができる。すなわち、第１のコーティング層は金属層の有する密着性改善効果とセラミック層の持つクラック遮蔽効果の双方を発揮することが可能となる。密着力試験では、これらの複層や混合物を使用する場合、平均して２０％ほどの密着性の向上が得られた。またクラック遮蔽効果についても、金属顕微鏡観察による定性的な評価ではあるが、改善が認められている。
【００２９】
また、前記第１のコーティング層は、セラミック材と金属材との組成比を層の厚み方向に粗って傾斜的に変化させたものであっても良い。
【００３０】
例えば、窒化チタン基体へチタンを金属層としてコーティングするとき、第１のコーティング層として窒化チタンとチタンの傾斜層を利用することができる。これはイオンプレーティング法にて、最初は窒素ガスを多く流して、窒化チタン基体基体上に窒化チタン層を形成させ、序々に窒素ガスの量を減らして窒化チタンとチタンの混合層の組成を変化させ、最終的には窒素ガスを止めてチタン層表面となるように仕上げる。これによって、その上にコーティングする金属層のチタン溶射層の密着強度を３０％以上アップさせることができる。
【００３１】
本発明における特徴は、このような第１のコーティング層として、低熱衝撃性のコーティング方法が用いることにある。ここで低熱衝撃性というのは、コーティング層を形成する際にベースとなるもの、具体的にはセラミック基体に対して熱的な衝撃を加えることがない、或いは、セラミック基体に対して、コーティング時のコーティング層の冷却収縮による応力衝撃を与えない場合をいう。コーティング方法としては、真空蒸着、イオンビーム蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、ダイナミックミキシング法などのＰＶＤ法や、ＴｉＣＮやＴｉＣなどをＣＶＤ法でコーティング、或いは、また、電気メッキや無電解メッキなどの湿式コーティング法を例示することができる。勿論、これらの方法を組み合わせて使用することもできる。例えば、窒化珪素基体の上にシリカを真空蒸着し、その上に電気メッキにてチタンをコーティングして、第１のコーティング層を形成することができる。中でも、スパッタリングやイオンプレーティングがコーティング層の密着強度や均質性、並びに生産コストの見地から特に有効である。
【００３２】
そして前記第１のコーティング層は、次に説明する金属層を溶射形成する際に熱を遮蔽し、基体に大きな熱衝撃が加わることを防止する作用を有するとともに、金属層とセラミック基体間のボンディング層として両者の密着性の確保する作用を有する。そして、この第１のコーティング層自体、低熱衝撃性のコーティング法により形成したもので、基体にクラックを発生させることなく設けることが可能である。
【００３３】
次に、金属層について説明する。
【００３４】
この金属層は、チタン、タンタル、タングステン、ジルコニウム、モリブデン、ニオブといった生体に対して毒性を持たない金属の単層、もしくはこれらを主成分とする合金、例えばチタン合金（Ｔｉ−６Ａｌ−４Ｖ、９０％のチタンと６％のアルミニウム、４％のバナジウムの合金）、あるいはコバルト・クロム合金やステンレス鋼のような医療用合金を溶射することによって形成される。
【００３５】
この金属層は、第２コーティング層がいずれ溶出し、骨と置換されていくので、長期的には直接骨組織と接触することになる。したがって、これを構成する材質としては、生体内での安全性が確認されている材料であることが必須条件である。
【００３６】
また溶射を行うに当たっては、これらの金属材料を単独で溶射する他に、二種類以上を同時に溶射して混合層とした場合、下地の第１のコーティング層との密着性がより高くなる場合もある。例えば、第１のコーティング層がチタニアである場合には、ジルコニウム単独で金属層を製作するよりも、ジルコニウムとチタニアの混合層でこの金属層を作った方が密着性が良い傾向がある。これは、チタニアとチタンの親和性によるものである。
【００３７】
前記金属層を形成する溶射法としては、溶射時の酸化や窒化などの化学反応を防ぐ目的からその溶射法はシールドアーク溶射、減圧アーク溶射、減圧プラズマ溶射、減圧レーザー溶射など、大気や反応ガスとの接触を避けながら行う溶射法で行うことが好ましい。もちろん、酸化などの化学反応を１００％遮断できる工業的な溶射方法は現状では存在しないので、若干の反応はやむを得ないが、３０％以上の酸素や窒素などの気体元素の混入は、金属皮膜の延性を低下させ、脆性化の方向に進ませるので好ましくない。これは、手術時のコーティング層の部分的な脱落や長期的なコーティング層の破壊につながる危険性があるためである。
【００３８】
この金属層は、その上にコーティングされる第２コーティング層のボンディング層として作用するものである。例えば、金属層がチタン溶射層である場合、このチタン溶射層表面をサンドブラストし、第２コーティング層としてハイドロキシアパタイト（以下ＨＡと略称する）を溶射すれば、ＨＡ層の十分な密着強度が得られる。また、このサンドブラストはセラミック基材には影響しないため、基材強度を低下させることはない。もし、金属層にセラミックを使用すれば、基材セラミックにＨＡを溶射するのと同じ状態になり、ＨＡ層の密着強度を確保することができなくなる。これが、金属層にセラミックが使用できない理由である。
【００３９】
またこの金属層を溶射法で設けたのは、金属層が、セメントレスインプラントとしてリン酸カルシウム層の生体内での溶出後でも、骨組織の増勢進入により十分な骨内固定力を維持すべく、非常に高い表面粗さを有する為である。この表面粗さとしては、骨内での固定性を発揮するために最大面粗さ（Ｒｍａｘ）で１０μｍ以上の粗さが必要であるが、Ｒｍａｘで２０００μｍを越えるものは溶射層自体、特に突起部の強度が低下するため好ましくない。そしてこの様な高い表面粗さを付与し、且つ、大きな接合強度を得ることができるコーティング方法は現在のところ溶射法のみである。このように、金属層は、セメントレスインプラントにおける骨組織の増勢侵入を受けることのできる高い面粗さを有する層であり、セメントレスインプラントの骨内での固定性に大きく寄与するものであることが、この金属層の重要な作用の一つである。
【００４０】
次に第２のコーティング層について説明する。
【００４１】
この層は前記金属層の上に溶射法や析出法、塗布法などの方法でコーティングされる。材質としては、ハイドロキシアパタイト（ＨＡ）やリン酸三カルシウム（ＴＣＰ）、リン酸八カルシウム（ＯＣＰ）の様なリン酸カルシウム結晶層、またはアパタイト・ウォラストナイト・ガラスセラミック（ＡＷＧＣ）などのリン酸カルシウム系ガラスセラミック、もしくはアパタイト・コンポジット・セラミック（ＡＣＣ）などのリン酸カルシウム系複合セラミック、あるいは非晶質リン酸カルシウムなど、いわゆるリン酸カルシウム系材料を使用することができる。この他、第２のコーティング層の材質として、骨との親和性に優れるキチン、キトサンなどの有機物を使用することができる。これらの材料は、選ばれた一種の単層、または二種以上の複層、もしくは二種以上の混合層として使用される。例えば、第２コーティング層としてＨＡをプラズマ溶射法にてコーティングすることができる。このＨＡ層の上にさらに同じプラズマ溶射法にてＴＣＰをコーティングすることもできる。あるいは、ＴＣＰとＨＡの混合材料を同じプラズマ溶射法にてコーティングすることもできる。
【００４２】
この第２コーティング層の形成には、フレーム溶射、プラズマ溶射、高速フレーム溶射、爆発溶射、レーザー溶射などの溶射法の他、アルカリ熱処理、バイオミメティック法などの析出法、あるいはディッピング法のような塗布法を使用することができる。さらに、これらの方法を組み合わせて使用することもできる。例えば、高速フレーム溶射法にてＨＡを溶射した後、ディッピング法にてＴＣＰをコーティングすることができる。
【００４３】
溶射法は現在ＨＡ溶射に広く用いられているコーティング技術であり、最も実用性が高い。一方、チタンなどの金属層をアルカリ溶液に漬けた後、大気中で加熱処理することにより、体内埋入後に金属層表面にＨＡを析出させるアルカリ熱処理法は、簡便でコストメリットも大きい。またリン酸イオンやカルシウムイオンを含む生体擬似体液中に金属層などを漬けることにより、金属層表面に直接ＨＡを析出させるバイオミメティック法も同様である。
【００４４】
一方、ＴＣＰなどリン酸カルシウムを水、及びバインダーで混錬したスラリーにインプラントをディッピングし、その後必要に応じて、乾燥、焼成などを行ってリン酸カルシウムをコーティングするディッピング法などの塗布法は、溶射法に比べて結晶性の高いリン酸カルシウム層を簡便、かつ安価にコーティングできるメリットを持つ。
【００４５】
この第２コーティング層は、生体インプラントにおいて骨との接触面の最表層にコーティングされており、セメントレスインプラントにおいて、骨組織のポーラス層への増勢侵入を促進する作用をもつ。これは、リン酸カルシウム系材料の優れた骨伝導能によるものである。リン酸カルシウム系材料として最もよく用いられるのはＨＡであるが、より早く骨内での固定性を確保するため、溶出速度の速いＴＣＰや非晶質リン酸カルシウムをコーティングする場合もある。ただしＴＣＰなどは溶出が早い分、消失も早いため、骨の状態が悪く増勢侵入が起きにくい患者の場合には、安全をみて前述の様なＨＡとＴＣＰの複層や混合層が用いた方がよい。
【００４６】
以上のように構成された前記生体インプラント材について、各コーティング層の厚みおよび各コーティング層の表面粗さについて説明する。
【００４７】
各コーティング層の厚みについては、使用する材料やコーティング方法によっても異なるが、第１のコーティング層は０．００１ｍｍから１．０ｍｍであることが好ましい。これは、０．００１ｍｍ未満の厚みでは十分なクラック防止効果があまり期待できないからであり、また逆に１．０ｍｍを越える厚みでは、特にセラミック層で層内破壊を起こす可能性がでてくるからである。また、金属層の厚みについては、０．０１ｍｍから３．０ｍｍであることが好ましい。これは、０．０１ｍｍ未満の皮膜では、骨内での固定性を得るのに必要な最大面粗さ（Ｒｍａｘ）１０μｍ以上の表面粗さを得ることが難しく、他方、３．０ｍｍを越える皮膜厚みでは残留応力のために皮膜の密着性が低下する可能性があるためである。
【００４８】
そして第２コーティング層の厚みは、０．００１から２ｍｍであることが好ましい。これは、０．００１ｍｍ未満の皮膜では生体内での消失が早すぎて実用性がないためであり、他方、２ｍｍを越える厚みでは、リン酸カルシウム系材料層内の破壊が起こる危険性が大となる傾向があるためである。
【００４９】
次に、各コーティング層の表面粗さについて、前述のように第１のコーティング層の場合、Ｒｍａｘで２００μｍ以下であることが好ましい。これは、Ｒｍａｘが２００μｍを越える場合、サンドブラストを行った場合と同様の効果が発生し、セラミック基体の強度が低下する傾向があるためである。また、金属層では、Ｒｍａｘが１０μｍ以上２０００μｍ以下であることが好ましい。これは、Ｒｍａｘで１０μｍが骨内での固定性を発揮するための下限値的な面粗さであり、他方、Ｒｍａｘで２０００μｍを越えるものは溶射層自体、特に突起部の強度が低下するため好ましくないためである。
【００５０】
【実施例】
以下、本発明を実施例により具体的に説明する。
【００５１】
実施例１
直径１７ｍｍ、厚み５ｍｍのジルコニアセラミック円板を脱脂洗浄後、その直径１７ｍｍの片面に、イオンプレーティング法にて厚さ２０μｍのチタンをコーティングした後、シールドアーク溶射法にて厚さ５００μｍのチタンを溶射し、さらにその上に厚さ２０μｍのＨＡをフレーム溶射して実験用の試験片を製作した。評価項目は断面分析と密着強度試験である。断面分析は、試験片を樹脂包埋後、切断及び研磨して、試験片断面を金属顕微鏡（倍率４００倍）で観察した。一方密着強度試験は、ＪＩＳ  Ｈ８６６６（セラミック溶射試験方法）に準拠して行った。各試験片の両面をエポキシ系接着剤で試験用治具に接着し、インストロンタイプ引張試験機を使用して引張速度１ｍｍ／分で、試験片が破断するまで荷重を加え、破断強度を測定した。各試験片の破断部位の確認は目視及び光学顕微鏡観察にて行った。また本試験実施に際して、コントロールとしてイオンプレーティング層のない試験片も製作して比較評価した。
【００５２】
結果を表１にまとめた。
【００５３】
【表１】
0004091728.tif 000002
【００５４】
本発明試験片は、基体のジルコニアセラミック上に、第１のコーティング層としてチタンのイオンプレーティング層をコートし、その上に金属層としてチタン溶射層を付与した。そしてさらにその上に第２コーティイング層としてＨＡを溶射して製作された。試験の結果、コントロール群では、断面分析にて多数のクラックやラミネーションが検出されたのに対して、本発明試験片群では、クラックは全く検出されなかった。図１にコントロール群、図２に本発明試験片群の断面分析模式図を示す。さらに密着強度試験では、コントロール群が平均４１ＭＰａの密着強度であったのに対して、本発明試験片群では、６７ＭＰａという高い密着強度が得られた。
【００５５】
実施例２
直径６ｍｍ、長さ２０ｍｍのアルミナセラミック製円柱型試験片の円柱面にスパッタリング法にて厚み１０μｍの窒化チタンをコーティングし、その上に窒化チタンとチタンを傾斜法にて減圧プラズマ溶射した。溶射層の厚みは６００μｍであり、もちろん第１のコーティング層が窒化チタン、金属層がチタンである。この試験片を生体擬似体液中に２４時間浸漬し、チタン表面に厚さ２μｍのアパタイト結晶層を析出させた。この試験片を雑種成犬の大腿骨骨幹部にドリリングしてインプラントし、術後８週にて屠殺してプッシュアウト試験に供した。また、コントロールとして、アルミナセラミック単体（Ｃ−１群）とスパッタリングによる窒化チタンのコーティング層なしに製作した試験片（Ｃ−２群）を製作し、同時に実験を行った。試験片は各群５個である。
【００５６】
その結果を表２に示す。
【００５７】
【表２】
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【００５８】
本試験片は、基体のアルミナセッラミックの上に、第１のコーティング層としてスパッタリング法によって窒化チタンをコーティングし、金属層として、減圧プラズマ溶射法にて窒化チタンとチタンの複層をコーティングした後、析出法にてアパタイト結晶層をコーティングしたものである。動物実験の結果、コントロールＣ−１群のアルミナ単体ではほとんど骨との接合は得られていないが、コントロールＣ−２群ではＣ−１群の３６倍の骨内固定力を示した。しかしながら、Ｃ−２群はアルミナと溶射層界面、即ちインプラント内部で破断しており、インプラントとして実用的な密着強度を有するコーティング層であるとは言えない。一方、本発明試験片群では、破断強度が２５．５ＭＰａという高い値を示したのみならず、破断が骨内で起こっていることから、セメントレスインプラントとして必要な骨内固定力とコーティング層の密着強度を具備する高性能の生体インプラント材であった。
【００５９】
【発明の効果】
以上述べた如く、本発明によれば、セラミック基体とチタンなどの溶射層（金属層）の間に低熱衝撃性のコーティング方法による中間層（第１のコーティング層）を設ける事により、セラミック基体へのクラック発生を防止すると共に、チタンなど溶射層のセラミック基体への密着強度を確保せしめ、実用的な生体インプラントを提供することができる。
【００６０】
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１におけるコントロールの断面分析模式図。
【図２】実施例１における本発明試験片の断面分析模式図
【符号の説明】
Ａ：ＨＡ溶射層  （第２コーティング層）
Ｂ：チタン溶射層（金属層）
Ｃ：チタン・イオンプレーティング層（第１のコーティング層）
Ｄ：ジルコニア基体
Ｅ：クラック及びラミネーション
【図１】
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【図２】
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