(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
混合ガスおよび粒子流を分離しかつストリッピングする装置であって、
混合ガスから粒子を分離する容器(50)および分離容器(50)の下方に配置されて分離された粒子をストリッピングする容器を内部に有する反応外殻(envelope)(51)を備えており、
前記分離容器(50)は、長い形状を有する中央の上昇流型反応器(1)の一端の周囲に軸方向に配分されかつ混合ガスと粒子流とが内部を流通する前記反応器(1)の周囲に交互に配置される複数の分離室(2)および複数の流通室(3)を有し、
各分離室(2)は、ほぼ垂直な面において混合ガスから粒子を分離するために、その上部に、反応器(1)に通じているとともに、分離室の外側壁(21)により一部が画定される流れ方向変更帯域に通じている入口開口部(20)を有しており、
各分離室(2)は、流通室(3)の壁でもある２つのほぼ垂直な側壁(24)を有し、各分離室(2)の垂直な側壁(24)のうち少なくとも１つは、入口開口部(20)の下方に位置する第１の側方出口開口部(5)を有していて、混合ガスが隣接する流通室(3)に通じるのを可能にしており、
各分離室(2)は、混合ガスの第１の側方出口開口部(5)の下方に位置するほぼ軸方向の粒子出口開口部(6)を側壁(24)とともに画定する外壁(22)および内壁を有し、
粒子出口開口部(6)は、分離室(2)の下方において少なくとも１つのストリッピングガス導入手段(10)(11)を含んでいるストリッピング室(8)(30)に通じており、
外殻(51)は、流通室(3)から出るガス流出物と一部分の粒子との混合物を排出させる少なくとも１つの導管(14)と、前記排出導管(14)に接続されてガス流出物から粒子を分離し、ガス流出物出口(19)および粒子出口(17)を有する少なくとも１つの第２分離器(16)とを備え、
前記ストリッピング室(8)(30)は、少なくとも流通室(3)を介して前記混合物排出導管(14)に通じている、装置。
【請求項２】
各分離室が、その上部に、反応器(1)および遠心力の作用により混合ガスから粒子を分離する流れ方向変更帯域に通じる入口開口部(20)を有しており、流れ方向変更帯域は、混合ガスおよび粒子が垂直面内において最大３６０度の角度で回転するのに適合されている、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
各分離室(2)が、入口開口部(20)の下方に、反応器(1)に接続された、混合ガスの再流通を防止するために入口開口部(20)から第１の側方出口開口部(5)を隔離する手段(4)を備えている、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
混合ガスの再流通を防止するために入口開口部(20)から第１の側方出口開口部(5)を隔離する手段(4)の少なくとも上部が、その垂直面において、側壁(24)の第１の側方出口開口部(5)の形状に沿っている、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
混合ガスおよび粒子流を分離しかつストリッピングする装置であって、
混合ガスから粒子を分離する容器(50)および分離容器(50)の下方に配置されて分離された粒子をストリッピングする容器を内部に有する反応外殻(envelope)(51)を備えており、 前記分離容器(50)は、長い形状を有する中央の下降流型反応器(1)の一端の周囲に軸方向に配分されかつ混合ガスと粒子流とが内部を流通する前記反応器(1)の周囲に交互に配置される複数の分離室(2)および複数の流通室(3)を有し、
各分離室(2)は、ほぼ垂直な面において混合ガスから粒子を分離するために、その上部に、反応器(1)に通じているとともに、同反応器(1)の底部のデフレクタ(21)により一部が画定される流れ方向変更帯域に通じている入口開口部(20)を有しており、
各分離室(2)は、流通室(3)の壁でもある２つのほぼ垂直な側壁(24)を有し、各分離室(2)の垂直な側壁(24)のうち少なくとも１つは、入口開口部(20)の上方に位置する第１の側方出口開口部(5)を有していて、混合ガスが隣接する流通室(3)に通じるのを可能にしており、
各分離室(2)は、混合ガスの第１の側方出口開口部(5)の下方に位置するほぼ軸方向の粒子出口開口部(6a)を側壁(24)とともに画定する外壁(22)および内壁を有し、
粒子出口開口部(6a)は、分離室(2)の下方において少なくとも１つのストリッピングガス導入手段(10)(11)を含んでいるストリッピング室(8)(30)に通じており、
外殻(51)は、流通室(3)から出るガス流出物と一部分の粒子との混合物を排出させる少なくとも１つの導管(14)と、前記排出導管(14)に接続されてガス流出物から粒子を分離し、ガス流出物出口(19)および粒子出口(17)を有する少なくとも１つの第２分離器(16)とを備え、
前記ストリッピング室(8)(30)は、少なくとも流通室(3)を介して前記混合物排出導管(14)に通じている、装置。
【請求項６】
反応器(1)の少なくとも出口部が下降流型（ドロッパー）であり、反応器(1)がその下端部にガスおよび粒子のデフレクタ(21)を備えていて、このデフレクタ(21)により、反応器(1)から分離室(2)への流れを側方に偏向するとともに、遠心力の作用によりガスから粒子を分離するために垂直面内において流れの回転を起こさせるようになっており、各分離室(2)は、その上部に、反応器(1)に通じかつ前記デフレクタ(21)および反応器(1)によって画定される入口開口部(20)と、上部(121)がデフレクタ(21)とともにガスおよび粒子の流れ方向変更帯域を形成している外壁(22)と、デフレクタ(21)のほぼ延長線上に位置しかつガスから分離された粒子が分離室(2)の下部に通じるのを可能にしている第１の出口開口部(122)とを有し、各分離室(2)は、さらに、流通室(3)の壁でもある２つのほぼ垂直な側壁(24)を有し、各分離室(2)の垂直な側壁(24)のうち少なくとも１つは、大部分の粒子が除去されたガスが流通室に流じるのを可能にするために、デフレクタ(21)および第１の出口開口部(122)の上方に位置する第１の側方出口開口部(5)を有している、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
各分離室(2)が、入口開口部(20)の下方に、反応器(1)に接続された、混合ガスの再流通を防止するために入口開口部(20)から第１の側方出口開口部(5)を隔離する手段(4)を備えている、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
混合ガスの再流通を防止するために入口開口部(20)から第１の側方出口開口部(5)を隔離する手段(4)の少なくとも下部が、その垂直面内において、側壁(24)の第１の側方出口開口部(5)の形状に沿っている、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
外壁(22)が、反応外殻(51)とは別個のものであって、前記外殻(51)とともに環状空間を画定している、請求項１〜８のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１０】
第２分離器(16)が反応外殻(51)の外にある、請求項１〜９のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１１】
第２分離器(16)が反応外殻(51)の内部にある、請求項１〜９のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１２】
分離室(2)および流通室(3)の下部に、上方に開口した円錐台形の部分(18a,18b)を有している、請求項１〜１１のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１３】
分離室(2)および流通室(3)の外壁(22)が垂直であり、分離室(2)および流通室(3)の下部に流量を制限する手段を有している、請求項１〜１１のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１４】
流通室(3)が、ストリッピング室(8)の内部にある流動床の表面の上方１〜１０ｍの高さに下方開口部(6b)を有している、請求項１〜１３のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１５】
流通室(3)が、ストリッピング室(8)の内部にある流動床の表面の上方２〜５ｍの高さに下方開口部(6b)を有している、請求項１〜１３のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１６】
分離室(2)からの粒子出口開口部(6a)が、ストリッピング室(8)の内部にある流動床中に浸されている、請求項１〜１５のいずれか１つに記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、分離・ストリッピング装置、並びに同装置の上昇流および／または下降流反応器内での炭化水素接触分解方法への使用に関する。
【０００２】
接触分解ユニットは、通常、反応帯域で構成されている。この反応帯域において、触媒は、通常長い管の形状をしている反応器内で炭化水素仕込原料と接触させられ、次いで、１つ以上の分離段階において炭化水素から少なくとも一部が分離される。炭化水素は、できるだけ少量の触媒を伴っていて、反応帯域から排出されて炭化水素分別区域に合流させられる。種々の分離段階から出た触媒は、その細孔内にエントレインメントされた炭化水素の脱着を促進させるために、炭化水素とは異なる窒素または蒸気といったガスと接触させられる。この段階は、通常ストリッピングと呼ばれる。次いで、触媒は再生帯域へと排出され、この再生帯域において、管状反応器内での反応の間に形成されたコークスと、ストリッピング段階で脱着されなかった炭化水素とが、酸化性媒質中において燃焼させられる。
【０００３】
接触分解ユニットの反応帯域において、価値を高められる生成物の優れた選択性を得るには、次のことが必要になる。
・通常最も大きな付加価値を有している接触分解中間生成物が熱的損傷を受けるのを避けるために、第１段階後に、炭化水素と触媒との接触帯域で生じたガス状生成物を急速に排出させること。
・触媒への炭化水素のエントレインメントを制限して、効果的なストリッピングを得ること。
【０００４】
これらの分離および脱着操作を実行するための多数の方法があり、その文献は、接触分解のために開発されかつこれらの異なる操作を実行するのに多少なりとも効果的な技術装置に富むものである。急速な分離または効果的なストリッピングを実行することは比較的簡単であるが、急速な分離と効果的なストリッピングとを同時に実行することは困難である。
【０００５】
例えば、急速な分離は、米国特許第５０５５１７７号に記載されているように、通常当業者にライザー(riser)と呼ばれている上昇流型反応器に直接接続されたサイクロンを用いることによって達成し得る。これらのシステムにおいて、ライザーに接続されたサイクロンは、通常サイクロンの第２段階がさらに収められた大きなサイズの容器内に維持される。第１段階で分離されたガスは、より入念な塵埃除去を受けるためにサイクロンの第２段階に戻る。触媒は、ストリッピング流動床の濃密相に向けられており、ここで、炭化水素を脱着するために蒸気が触媒と向流に注入される。次いで、これらの炭化水素は、希薄相において反応器から排出され、サイクロンの第２段階の高さにある分離システムに導入される。第１段階のサイクロンが第１の分離を実行するライザーに接続され、第２段階のサイクロンが通常第１段階のサイクロンのガス出口に接続されている２段階のサイクロンを有していると、まず、第２段階のサイクロンを囲む容器を非常に大きな直径を有するものとする必要がある。この容器には、ストリッパー内での脱着により生じたガス、または第１段階の個体出口（戻し脚(jambes de retour)）において触媒がエントレインメントされたガスのみが流れる。第１のサイクロンが正確に運転されるならば、ストリッパーの方を向いた第１のサイクロンの戻し脚においてかなり少量の炭化水素しかエントレインメントされないため、ストリッピング区域からのガスは、体系的にストリッパー内で長期間熱的劣化に曝される。前記大容器の容積が大きく、また炭化水素およびストリッピング蒸気の量がかなり少ないので、第１サイクロンの外部にある反応器の希薄相内のガスの表面速度は、毎秒数センチメートルを超えないであろうし、また、ストリッピングされるか、あるいは触媒とともに戻し脚においてエントレインメントされる炭化水素の排出時間は、必然的に１分〜数分程度となるであろう。
【０００６】
この分離システムの別の欠点は、同システムが、触媒に同伴されまたは吸着された炭化水素をストリッピングの流動床に局所的に導入することである。流動床は、半径方向の混合には劣っているが軸方向の混合には非常に優れているので、ストリッピング帯域における効率の損失が生じるのは避けられない。ストリッピングガスを固体出口に直接導入することによって、ストリッピングを改善することが可能である。しかしながら、これは、触媒がガスを同伴しないようにサイクロンの出口においてゆっくりと流れる場合にのみ効果的であって、第１サイクロンの適切な運転を維持することが望まれる場合には実現不可能である。
【０００７】
また、フランス特許第ＦＲ−Ａ−２７５３４５３号に記載されているように、炭化水素と触媒との接触を下降流型反応器内で行うことも考えられる。非常に急速で均一なこのピストン型の接触は、通常ライザー型の装置内での接触よりも短い接触時間によって特徴付けられ、より高温でより大きな触媒流通を伴って作用することが可能になり、従って、ＬＰＧや、特にオレフィンおよびガソリンといった付加価値のある生成物の生成が促進される。これらの条件は、ライザーにおけるよりもさらに短時間でかつ触媒ストリッピング段階と適切に一体化して、触媒の大部分からの炭化水素の効果的な分離を必要とする。
【０００８】
急速な分離はまた、米国特許第５５８４９８５号に記載されているように、単一の誘引旋回室において実行されてもよい。この技術は、通常、英語で旋回分離システム(vortex separation system)と呼ばれており、分離とストリッピングとを同時に組み合わせる利点を有する。
【０００９】
固体は、遠心力の作用の下で壁に付着しかつ容器の底部に流れ、この底部において、脱着された炭化水素とともに分離室の上方に排出されたストリッピングガスと接触させられる。あいにく、そのようなシステムを用いて十分な分離効果を得るためには、粒子に作用する遠心力が十分に大きいものとなるように室のサイズを制限しなければならない。このことは、分離後に下降する粒子の再エントレインメントを制限するためにストリッピングガスの上昇速度を低くすることと両立しない。このように同じ容器内において分離とストリッピングとを組み合わせることによってこれら２つの操作を適切に行うことは不可能である。ストリッピングを犠牲にして分離を優先するか、あるいは分離を犠牲にしてストリッピングを優先するかであり、このことは、炭化水素の十分な脱着とは両立しないものである。さらに、そしてこれはこのような技術の重要な問題であって、分離された触媒は、優先的に壁を流れ、その為、室の流れの全断面に分配されるストリッピングガスとは容易に接触されない。
【００１０】
上記の２つの例により、単一の容器内で分離とストリッピングとを実行することが困難であること、また、サイクロンのような公知の高性能の分離器による急速な分離は必然的にストリッパーの性能の低下を意味することが認められる。
【００１１】
本発明の目的の１つは、従来技術の欠点を改善することである。そこで我々は、脱着装置と組み合わされて、例えば７５％を越える十分な分離効果が得られ、アセンブリーが高度なコンパクト性を有していて、上昇流型または下降流型反応器から反応帯域に連結された分別塔へ流れる全てのガスが分離およびストリッピング帯域内において３秒未満の間滞留することを可能にし、分離室から生じた触媒とストリッピングガスとの間に十分な接触をもたらし、また、設備の最適化されたコンパクト性により脱着された炭化水素を急速に排出する技術の開発を探求してきた。
【００１２】
より正確には、本発明は、混合ガスと粒子流とを分離しかつストリッピングする装置に関するものであって、この装置は、前記混合物から粒子を分離する容器(50)と、分離容器(50)の下方に配置されて分離された粒子をストリッピングする容器とを収容した反応外殻(51)を備えている。前記分離容器は、長い形状の中央反応器(1)の一端の周囲に軸方向に配分され、かつガス混合物と粒子流とが内部を流通する前記反応器の周囲に交互に配置される複数の分離室(2)および複数の流通室(3)を備える。各分離室(2)は、その上部に、反応器と、上昇流型反応器（ライザー）の場合には分離室の外側壁により一部が画定され、下降流型反応器（ドロッパー）の場合には同反応器の底部の偏向板（デフレクタ）(21)により一部が画定される回転（rollover）帯域とに通じている入口開口部(20)を有しており、ほぼ垂直な面において混合ガスから粒子を分離するようになっている。各分離室(2)は、流通室(3)の壁でもある２つのほぼ垂直な側壁(24)を有し、各分離室(2)の垂直な側壁(24)のうちの少なくとも１つは、ライザーの場合には入口開口部の下方に位置し、ドロッパーの場合には開口部(20)の上方に位置する第１の側方出口開口部(5)を有していて、これにより混合ガスが隣接する流通室へと流通するのを可能にしている。各分離室は、混合ガスの第１出口開口部(5)の下方に位置するほぼ軸方向の粒子出口開口部(6)(6a)を側壁とともに画定する外壁(21)(121)および内壁を有し、粒子出口開口部(6)(6a)は、分離室の下方において少なくとも１つの主要ストリッピング手段(11)を含んでいるストリッピング室(8)(30)に通じている。さらに外殻(51)は、流出室から出るガス流出物と一部分の粒子とを含む混合物を排出させる少なくとも１つの導管(14)と、前記排出導管(14)に接続されてガス流出物から粒子を分離し、ガス流出物出口(19)および粒子出口(17)を有する少なくとも１つの第２分離器(16)とを備えている。前記ストリッピング室は、少なくとも流通室(3)を介して前記混合物排出導管(14)に通じている。
【００１３】
より詳細には、上昇流型反応器の場合には、各分離室は、その上部に、反応器と遠心力の作用により混合ガスから粒子を分離する回転帯域とに通じる入口開口部を有している。回転帯域は、混合ガスおよび粒子が垂直面内において最大３６０度の角度で回転するのに適合されている。各分離室は、流通室の壁でもある２つのほぼ垂直な側壁を有し、各室の垂直な側壁のうちの少なくとも１つは、入口開口部の下方に出口の第一側面開口部を有していて、混合ガスが隣接する流通室に通じるのを可能にしている。
【００１４】
各分離室は、回転帯域を画定する外壁と、外側壁と向かい合う内壁とを有する。これらの壁は、第１の混合ガス出口開口部の下方に位置するほぼ軸方向の第２の粒子出口開口部を側壁とともに画定しており、第２の粒子出口開口部は、分離室の下方においてストリッピング室に通じている。
【００１５】
変形例では、下降流型反応器の場合には、同反応器がその下端部にガスおよび粒子の偏向板(21)を有し、この偏向板により、反応器から分離室への流れを側方に偏向し、かつ遠心力の作用によりガスから粒子を分離するためにほぼ垂直な面内において流れの回転を起こさせるようになっている。
【００１６】
各分離室は、その上部に、反応器に通じかつ前記偏向板(21)と反応器とによって画定される入口開口部(21)と、上部が偏向板(21)とともにガスおよび粒子の回転帯域を形成している外壁(121)と、偏向板のほぼ延長線上に位置しかつガスから分離された粒子が分離室の下部に通じるのを可能にしている第１の出口開口部(122)とを有する。
【００１７】
各分離室(2)はまた、流通室(3)の壁でもある２つのほぼ垂直な側壁(24)を有し、各分離室(2)の側壁(24)のうち少なくとも１つは、大部分の粒子が除去されたガスが隣接する流通室に通じるのを可能にするために、偏向板(21)および第１の開口部(122)の上方に位置する第２の側方出口開口部(5)を有する。
【００１８】
本発明の１つの特徴として、分離室および流通室に共通する壁は、各々ほぼ同じ断面を有する開口部を備えている。
【００１９】
有利には、各分離室が、ライザーの場合には反応器から出たガスおよび粒子の混合物の入口開口部の下方に、ドロッパーの場合には同上方に、反応器および分離室の垂直な壁に連結される、例えばデフレクタのような、混合ガスの再流通を防止する手段を備えている。これにより、反応器とガス出口との間の圧力損失が軽減される。このデフレクタは、好ましくは、少なくとも３０°の角度で回転し、また、垂直面内において前記壁の側方開口部の形状の少なくとも一部に沿うものであってもよい。
【００２０】
ほとんどの場合、各側壁は、側方開口部を有しており、この側方開口部により、大部分の粒子から分離されたガスが流通室および排出導管を介して第２のガスおよび粒子の分離器に逃れるのが可能になる。
【００２１】
ライザーを用いる装置の別の特徴として、分離室の上部における粒子の回転帯域と、流れの再流通を防止するデフレクタとは、ほぼ同軸となる。
【００２２】
分離室の内壁は、反応器の外壁の少なくとも一部であってよい。
【００２３】
ドロッパーを用いる装置の別の特徴として、流れを側方に偏向するデフレクタと、この第１のデフレクタの上方に位置し、流れの再流通を防止するデフレクタとは、ほぼ同軸となる。
【００２４】
分離室の粒子の出口開口部は、反応器の軸とほぼ直交する。
【００２５】
温度の相違に起因する反応器と装置の外壁との間での熱応力の相違による影響を防止するために、第１の変形例として、分離室のアセンブリーを含む分離容器が、分離室の外壁とは別個の外殻で囲まれるのが有利である。この外殻と分離室の外側壁との間の環状空間は、装置内でのストリッピングガスの滞留時間を制限するために、最小であることが好ましい。それから、外側の外殻は、流通室の外壁である。
【００２６】
別の変形例では、外殻は、分離室および流通室の外壁を構成している。この場合、例えば混合物を第２サイクロンに排出する導管に、伸縮手段が設けられる。
【００２７】
補足的なストリッピング手段が、分離室の粒子の出口開口部の下方に配置されてよい。得られたストリッピング流出物は、その後直ちに流通室を経て上方に排出され、第２分離器内で処理される。
【００２８】
一旦分離されると、粒子は、ストリッピング室に落下する。このストリッピング室は、外殻の下部に取り付けられてもよいし、あるいは変形例として、第２分離器のアセンブリー、分離容器とその外殻、ストリッピング室および反応器の上端部を収容するのに十分な大きさであって断熱性を有する主要室の下部に含まれていてもよい。この場合、主要室が、例えば第２分離器の上流にある混合ガスおよび粒子を排出する導管に、第２分離器の上流に配置される少なくとも１つのオリフィスを経て第２分離器に通じているのが有利である。
【００２９】
別の変形例では、ストリッピング室が外殻の下部に接続されて、アセンブリーを形成しており、ここでは第２サイクロン分離器が外殻の外部にあってよい。
【００３０】
さらに別の変形例では、第２分離器は外殻の内部にある。
【００３１】
ガスによる少なくとも１つの主要ストリッピング手段が、通常ストリッピング室内に配置される。
【００３２】
有利には、分離室から来る粒子の流れを一様にする手段が、ストリッピング室の上部、例えば補足的ストリッピング手段の下方に配置される。
【００３３】
流通室の下部は、流動床内の触媒から来たストリッピングガスの上昇を可能にするために開口している。流動床の上方にある流通室の前記開口部は、有利には、該下方開口部の上方に位置する希薄相において下方開口部の下方の側方出口開口部から来るガスの流通の可能性を制限する効果をもたらす円錐形断面を有する部分の底部に配置される。下方開口部を経て入り、流通室の頂部の後に向かった後に第２サイクロンに向かう流動床触媒のエントレインメントを制限するために、これらの開口部を流動床表面の上方約１〜１０ｍ、好ましくは２〜５ｍに配置するのが有利である。さらに、設備設置の組立を簡単にするために、流通室の円錐形断面は、好ましくは分離室の円錐形断面と同じ傾斜を有している。
【００３４】
分離室の開口部を経るか、あるいは流通室の開口部を経て出る分離固体は、次に、装置の主要ストリッピング帯域に導入される。この帯域は流動床からなり、この流動床のレベルは、好ましくは、流通室の開口部と分離室の開口部との間にあり、通常、分離室の開口部の１〜２ｍ上方であって、流通室の開口部の少なくとも２ｍ下方である。このストリッピング帯域は、通常、流動床接触帯域からなり、この帯域において、固体が、下降運動に応じて向流でストリッピングガス、例えば、水蒸気、窒素またはアンモニアと接触させられる。この帯域における触媒の平均質量流量は、通常約１０〜３００ｋｇ／秒／ｍ２、好ましくは３０〜１５０ｋｇ／秒／ｍ２である。ストリッピングガスの平均上昇速度は、通常０．１〜１ｍ／秒である。
【００３５】
流通室の開口部を通って外側のサイクロンに向かう上昇ガスの速度は、通常０．２〜１０ｍ／秒、好ましくは０．５〜５ｍ／秒である。その結果、分離室から側方オリフィスを経て来る分離ガスは、流通室の容積内に制限される。
【００３６】
本発明はまた、炭化水素の接触分解方法における上記装置の使用にも関する。
【００３７】
本発明は、装置を図式的に例証する次の図面を検討して、よりよく理解される。
・図１は、上昇流型反応器の出口における分離およびストリッピング容器の斜視図を示す。
・図２は、ガス状分解流出物から粒子を分離する室のレベルでの縦断面、並びに粒子と分解およびストリッピング流出物全体とを分解する外側の第２分離器の存在を示す。
・図３は、図１のＣＣ’レベルで、分解およびストリッピング流出物全体を分離する室と流通室との交互の配置の横断面を示す。
・図４は、外殻内の分離容器と、内側の第２分離器と、ストリッピング室とを含む主要室を備えた装置全体の縦断面を示す。
・図５は、下降流型反応器の出口における粒子の分離室のレベルでの縦断面を表す。
・図６は、前記分離室に隣接するガス流通室のレベルでの縦断面を示す。該分離室は、分離およびストリッピング容器の内側にあるサイクロンに接続される。
図面において、同じ参照記号は、同じ手段を示す。
【００３８】
本発明は、液体が含浸されていてもよい微粉砕された細孔質固体相を、主としてガス状流体相を固体相と接触させる反応器からの出口であって、ほぼ垂直な管状の出口において、ガス相から分離しかつストリッピングするシステムに関する。本発明は、特に接触分解反応器の出口における流出物の分離を目的とする。該接触分解反応器において、ガス相と液相とは、炭化水素および水の混合物を含み、また固体は、一般に、ゼオライトを少なくとも１５％含む、例えばシリカ・アルミナをベースとする触媒である。本発明により、ガス・固体混合物（場合によって固体は、細孔内に液体フラクションを含む混合物）から、一方では固体を２５％以下と、入口に導入されるガス相の大部分とを含むガス・固体相を得ることが可能になり、他方では入口に導入される固体の少なくとも７５％を得ることが可能になる。次いで後者（固体の７５％）は、固体の細孔内に含まれる液体・蒸気混合物を少なくとも一部脱着するために適切に選ばれたガス（例えば水蒸気）との少なくとも１つの接触段階を受ける。
【００３９】
これらの性能は、図１および図４に示されるように、例えば上昇流型反応器の周囲に軸方向に配分される、互いに通じている分離室(2)と流通室(3)とを交互に区分する配置により得られる。提案される設備設置は、流出物のＮ個の分離室およびＮ個の流通室で構成される。Ｎは２〜１０、好ましくは２〜６である。外殻(51)は、分離容器(50)を包囲する。この分離容器には、これらの分離室(2)および流通室(3)の一式が含まれる。
【００４０】
各分離室(2)は、反応器の壁の上部に形成された開口部(20)により該反応器(1)に接続される。各室(2)の開口部(20)は、全て同じ流れ断面（section de passage)を有する。分離室の上部は、遠心分離および慣性の作用によるガス相および固体相の分離を引き起こすことを意図するものである。この遠心分離および慣性の作用は、分離室の上部を通過する際の流れ方向の変更によって固体に作用する。本発明は、このように、反応器の出口における流れの成形のために流れ断面の変更を伴うかまたは伴わないで、反応器の軸を含む面内における流れ方向の変更を引き起こすために使用されるあらゆる手段に関する。使用される手段の一例が、図１に示されている。開口部(20)は、反応器の軸の周囲に軸方向に配分される室に開口しており、その上部は、接合点において反応器に対してほぼ水平であって、次いでほぼ垂直な壁(22)になるように下方に曲げられる壁(21)で構成されてよい。また、曲げられた部分を明らかな角のある繋ぎ部に置き換えて、例えばライザーの軸に対して接線状をなす入口を得るために、反応器に接続される壁(21)を鉛直線に対して１０°から９０°の角度で上方に傾斜させ、かつ壁(22)を鉛直線に対して約７０°傾斜させることも可能である。この壁(22)は、外殻(51)とは別個のものとなされて、最小の環状空間を画定する。
【００４１】
各分離室は、好ましくは反応器(1)の軸を含み流通室(3)から分離室(2)を画定する面内に配置される、２つのほぼ垂直な側壁(24)を備えている。各側壁(24)には、ガス相および開口部(20)を経て各分離室に入った個体の２５％以下の排出を可能にする開口部(5)が配置される。この開口部は、好ましくは円弧形であるが、他の形状（長方形および台形）も考えられる。開口部(5)の最も高い箇所は、一般に開口部(20)の最も低い箇所の下方に位置する。開口部(5)の最も低い箇所は、固体の大部分の排出に役立つ開口部(6)の上方に位置しかつ分離室(2)の下部に位置する。
【００４２】
分離室における混合ガスの再流通を防止するために、およびそのようにして十分な分離効果を得るために、入口帯域(20)から出口(5)を隔離するのが好ましい。従って、フランス特許出願ＦＲ９７／００３２７に記載されているように、有利にはデフレクタ(4)を使用してよく、このデフレクタは、好ましくは反応器の軸の周囲に軸線方向に対称であってかつ好ましくは垂直面内において開口部(5)の形状に沿う。開口部の幅は、分離室の幅に完全に一致するものである。このデフレクタは、有利には開口部(5)において出るガス・固体混合物に対して、該開口部(5)により提供される流れ断面の少なくとも１０％、好ましくは５０％に等しい流れ断面を与えるものである。該デフレクタは、回転帯域とほぼ同軸状に少なくとも３０°の角度で曲がる。
【００４３】
固体相の大部分は、その粒子間の少量のガスと、その細孔内に吸着されたガスおよび液体とをエントレインメントしうるものであり、かつほぼ壁(22)に沿って流れ、ついで反応器の軸に対してほぼ垂直でかつ開口部(5)に対してほぼ垂直な面内において開口部(5)よりも下方に位置する開口部(6)を経て各分離室から排出される。開口部(6)において固体と共にエントレインメントされるガスの量を制限するために、この開口部の流れ断面を限定することが適切である。これを行うためには、壁(22)を、ライザーに向けて再入する、鉛直線に対して５°から４５°、好ましくは１０°から３０°の角度に直接傾斜させればよい。あるいは、この壁(22)が、ライザーに向けて再入する、鉛直線に対して５°から４５°、好ましくは１０°から３０°の角度に傾斜した壁に対してほぼ垂直である場合、該壁(22)を延長させて、図２に示すように、円錐形の繋ぎ帯域(18)と、ライザーにより画定される帯域(7)と、分離室の上部における流れ断面に対して制限された流れ断面を有するほぼ垂直な壁(27)とを形成してもよい。また、壁(22)を分離室(2)の底部まで垂直に延長し、かつ、帯域(2)に対して帯域(7)での流れの制限を生じさせるために、壁(22)および(27)を完全に一直線上に維持しながら、出口帯域内の反応器の周囲に例えば耐火物のような物質からなる固形ブロックを挿入することも可能である。
【００４４】
流通室(3)は、外殻の一部である外壁と、好ましくは反応器(1)の軸を含む面内に位置し、流通室から分離室を画定する２つのほぼ垂直な側壁(24)とを備えている。各壁(24)には、分離室と流通室とを通じさせる開口部(5)が配置される。容積に関する問題を制限するために、流通室(3)の上部が、反応器の軸に対して分離室(2)とほぼ同じ半径を有することが好ましい。しかしながら、この条件は、装置の十分な運転において必須ではない。流通帯域(8)の下部は、流通室(3)の直径よりも大きな直径を有してよい。この場合、流通帯域の下部は分離室(2)の下部全体を含み、その外壁(9)は反応器(1)の軸の周囲３６０°の範囲に及ぶであろう。
【００４５】
流通室は、分離室(2)の頂部の上方において互いに通じており、この帯域におけるそれらの形状は、大部分のガス相および２５％以下の固体の装置からの出口を形成する頭部(13)を形成するために縮小される。
【００４６】
流通室(3)はまた、それらの下部が、装置の形状に応じて異なるレベルで互いに通じる。
・流通室の直径が拡大する場合（図１に表されるように）、これらは帯域(8)のレベルで互いに通じる。
・流通室の直径が一定である場合、これらは、流れ断面の制限帯域が分離器の出口(7)において適用されるならば帯域(8)のレベルで、また、分離帯域の出口(7)が流れ断面の制限を有しないならば開口部(6)の下方において互いに通じる。
【００４７】
分離帯域の出口(7)から来た触媒を結合された流通室の流れ断面全体に配分するために、手段(12)を流れ断面全体に配分して、流れを一様にするとともに再流通帯域を限定してもよい。これらの手段は、例えば蒸留塔内で使用されるような充填物を積み重ねたもの、互いに交差した管を上下に配列したもの、または固体の半径方向の移動を促進させるために所定の混乱(enchevetrement)を形成する傾斜板である。触媒粒子の細孔内に含まれる液体またはガス炭化水素を脱着しかつそれらを直ちに流通室を介して排出するのを促進するために、窒素、蒸気またはアンモニアのようなガスを導入する手段(10)を、これら充填物の下方および分離帯域からの出口(6)の下方に配置してよい。
【００４８】
ストリッピングを受けた固体は、次に、ユニットの主要ストリッピング帯域(30)に導入される。このストリッピング帯域は、一般に流動床接触帯域であり、ここで、固体は、リング(11)を通じて導入される蒸気、窒素、アンモニアといったストリッピングガスと、少なくとも１回、下降運動に従って向流で接触させられる。
【００４９】
接触分解ユニットの反応帯域における本発明の装置の具体的な挿入およびその運転は、図２および図４に示され、ユニットの寸法を決定するための異なる技術を使用した２つの特に適当な例において記載されている。
【００５０】
図１の変形例である図２において、外殻(51)は、分離室(2)の外壁と、当然ながら流通室の外壁とを構成する。熱応力を防止するために、伸縮手段(25)が流出物の排出導管(14)に配置されてよい。ガス・固体（細孔内にガスおよび液体のフラクションを含む固体）流出物は、図１に示す開口部(20)から、図面では一部のみが表されている本発明の装置に入る。固体およびガスは、主として分離室(2)の上部において分離され、固体の２５％以下を同伴するガスは、開口部(5)を通じて流通室(3)に入る。それから、この流れは、流通室(13)の上部に排出され、次いで、全ての分解・ストリッピング流出物を集める導管(14)に排出される。導管(14)は、該導管(14)の壁から側方に開口し、流出物を外側にある例えばサイクロン(16)のようなガス・固体の第２分離器の入口に運ぶ導管(15)に接続される。第２分離器の数は、分離室およびストリッピング室の下流においてガスとともにエントレインメントされる固体の分離を完了するために、一般に分離室の数に近似する。一般に固体粒子の０．０２重量％以下を含むガスが、サイクロンの出口(19)を経て排出され、かつ、接触分解方法の場合には、一般に種々の炭化水素の留分に分別する塔に慣用手段によって直接搬送される。上記実施例では、Ｎ個の流通室が、Ｍ個のサイクロン(16)に、Ｍ個の導管(15)によってサイクロンに接続された単一の導管(14)を介して連結されている。ＭとＮとが同数である場合には、各流通室を、固有の導管を介して分離器に直接連結するのが有利である。分離室(2)においてガスにエントレインメントされなかった固体は、開口部(6)を経て分離室を出て、次いで、場合によっては手段(10)を経て出口開口部(6)の下方に導入されるストリッピングガスとの第１の接触を受け、流れを一様化する手段(12)によってストリッピング室により提供される流れ断面の全体に配分され、次いで、図１および図２に示す手段(11)によって手段(12)の下方に導入されるストリッピングガスとの第２の接触を受けてよい。固体は、これらが装置の寸法決定において使用される場合には、好ましくは半径方向の均一化手段(12)の上方に配置された戻し脚(17)を経てサイクロン(16)から再循環される固体と混合される。次いで固体は、周知の従来技術であるストリッピングガスの他の導入手段を含む帯域(30)の底部を流れてよく、次いで、出口(32)を経て接触分解方法の再生帯域に排出されてよい。出口(32)の位置は、例えば水平線に対し底部に向かって少なくとも３０°傾斜した、帯域(30)の側方であってよい。帯域(30)において使用される種々の手段および場合によって使用される手段(10)により導入されるストリッピングガスと、触媒の細孔から脱着されるガスおよび液体とは、これらが、分離室で直接分離されかつ開口部(5)を通じて排出されたガスと再び合流する流通室(3)を通って、サイクロン(16)に排出される。
【００５１】
図３では、図１のＣＣ’レベルでの横断面が、流出物の４つの分離室(2)および４つの流通室(3)の存在を示しており、これらの室の内壁および外壁は、装置の反応器(1)および外殻(51)と部分的に同軸である。これらの室の共通の側壁(24)は、半径方向であって、分解流出物を流通室(3)が通じるのを可能にする開口部(5)を備えている。
【００５２】
図４において、ガス・固体（細孔内にガスおよび液体のフラクションを含む固体）流出物は、図１に示す開口部(20)から、図面上に一部のみが表された本発明の装置に入る。固体およびガスは、主として分離室(2)の上部において分離され、固体の２５％以下を同伴するガスは、開口部(5)から流通室に入る（図１および図２）。この流れは、次いで、流通室(13)の上部に排出され、全ての流出物が集まる導管(14)に排出される。
【００５３】
導管(14)は、該導管(14)の壁に側方に開口し、流出物を主要外殻(40)に収容された内側のサイクロン(16)のような従来のガス・固体の第２分離器の入口に運ぶ導管(15)に接続されている。第２分離室の数は、分離室およびストリッピング室の下流においてガスにエントレインメントされた固体の分離を完了するために、一般に分離室およびストリッピング室の数に近似する。一般に０．０２重量％以下の固体粒子を含むガスは、次いで、サイクロンの出口(19)を経て排出され、かつ、接触分解方法の場合には、一般に慣用手段により種々の炭化水素の留分に分別する塔に搬送される。上記実施例では、Ｎ個のストリッピング室が、Ｍ個の分離器（サイクロン）に、Ｍ個の導管(15)によってサイクロンに接続された単一の導管(14)を介して連結される。ＭとＮとが同数である場合には、各流通室を、固有の導管を介して分離器に直接連結するのが有利である。分離室(2)においてガスにエントレインメントされなかった固体は、開口部(6)を経て分離室を離れ、次いで、場合によっては図１および図２に示す手段(10)を経て開口部(6)の下方に導入されるストリッピングガスとの第１の接触を受け、手段(12)によって連結されたストリッピング室または流通室により提供される流れ断面の全体に配分され、次いで、図１および図２に示す手段(11)によって手段(12)の下方に導入されるストリッピングガスとの第２の接触を受けてよい。戻し脚(17)を経てサイクロン(16)から再循環された固体は、外殻(51)によって隔離された流通室の外部において、好ましくはサイクロンと、本発明の対象である分離・流通容器と、ストリッピング室(30)とを同時に含む主要容器(40)内に通じる外殻の開口部の上方において、固体と混合される。次いで固体は、周知の従来技術である他のストリッピングガス導入手段(31)を含む室(30)内を底部に向けて流れてよく、かつ出口(32)を経て接触分解方法の再生帯域に排出されてよい。出口(32)の位置は、例えば水平線に対して底部方向に少なくとも３０°傾斜した、室(30)の側方であってよい。帯域(30)において使用される種々の手段により導入されるストリッピングガスは、主として分離室(2)および流通室(3)の外側にある容器(40)内のサイクロンに排出され、かつ、導管(14)または導管(15)の開口部(35)によって、分離・ストリッピング装置により分離されたガスと混合される。使用された手段(10)(11)(31)を経て導入されるストリッピングガス、並びに触媒の細孔から脱着されたガスおよび液体は、これらが、分離室で直接分離されかつ開口部(5)を通じて排出されたガスと再び合流する流通室(3)を通って、サイクロン(16)に排出される。
【００５４】
帯域(30)から来るストリッピングガスの全体と、手段(10)(11)(31)により導入されるストリッピングガスとを、流通室(3)を通じてサイクロン(16)に排出させるのが有利である。
【００５５】
この場合、サイクロン(16)と流通室とを連結する導管(14)および導管(15)の全ての開口部(35)が取り除かれ、停滞する炭化水素の存在に関連するコークスの形成を避けるために、不活性ガス（例えば蒸気）による容器(40)のガス掃気が行われる。
【００５６】
図５および図６には、少なくとも出口部がガスおよび粒子の下降流を伴う接触分解反応器である反応器に連結される分離・ストリッピング装置が示されている。
【００５７】
出口は、管状でかつほぼ垂直である。本発明は、特に接触分解反応器からの出口における流出物の分離を目的としており、該出口において、ガス相および液相は、炭化水素および水の混合物からなり、また固体は、一般にゼオライトを少なくとも１５％を含むシリカ・アルミナをベースとする触媒である。本発明により、ガス・固体（固体は、場合によってはその細孔内に液体フラクションを含む）混合物から、一方では入口に導入される固体の２５％以下およびガス相の大部分を含むガス・固体相を、他方では入口に導入される固体の少なくとも７５％を得ることが可能となり、後者は、さらに固体の細孔内に含まれる液体・蒸気混合物の少なくとも一部を脱着するために、適切に選ばれたガス（例えば蒸気）との接触段階を受ける。
【００５８】
これらの遂行は、図５および図６に示すように、反応帯域の周囲に軸方向に配分されかつ互いに通じる分離室およびガス流通室の仕切られた配置によって得られる。提案される装置は、Ｎ個の分離室およびＮ個の流通室で構成され、Ｎは１〜１０、好ましくは２〜６である。これらの断面は、少なくとも一部が円弧形または円形の壁を伴う三角形である。外殻(51)は、分離室(2)と流通室(3)とを備える。この外殻は、好ましくは反応器(1)の軸と同じ軸の周囲でほぼ軸対称となっている。
【００５９】
各分離室(2)は、反応器(1)に、該反応器の壁に形成された開口部(20)によって接続される。各室(2)の開口部(20)は、全て同じ流れ断面を提供する。曲線形の壁を有し反応器の底部に配置されたデフレクタ(21)により、分離室の開口部(20)に向かう流れの側方への偏向が可能になり、かつ分離室の上部においてガスおよび粒子の流れの回転が開始され、こうして入口(20)から直ちに相の分離が促進される。分離室は、少なくとも２つの出口で構成され、一方(122)は、固体粒子を排出するために、反応器(1)の軸にほぼ直交する面におけるデフレクタ(21)の延長線上に配置され、他方は、流通室の側壁でもある分離室の側壁に配置された開口部(5)を介して隣接する流通室にほとんど粒子を含まないガス相を排出させるために、入口(20)の上方に配置されている。流れを一定方向に向けかつガスの回転を促進させるためのデフレクタ(4)が、有利には各室の入口(20)の延長線上に組み入れられてよい。このデフレクタは、反応器の軸に対して数度〜１８０°、好ましくは４５°〜９０°の角度を形成して、ガス出口により形成される曲線に沿って延長される。
【００６０】
分離室の上部は、分離室の上部を通過する際に流れの方向を変更することによって固体に及ぼされる遠心分離および慣性の作用により、ガス相および固体相の分離を行うことを目的とする。このように本発明は、反応器の軸を含む面内において、反応器の出口における流れの成形のために流れ断面の変更を伴うかまたは伴わずに、流れ方向の変更を引き起こすために使用されるあらゆる手段に関する。使用される手段の一例が、図５に示されている。開口部(20)は、反応器の軸の周囲に軸方向に配分される室に開口し、その上部は、反応器(1)の下端部に接続されたデフレクタで構成されていて、流れの回転を可能にするとともに、反応器の軸から分離室までの９０°の曲線状の偏向を形成している。また、デフレクタ(21)の一部を、例えば反応器(1)の軸に対してほぼ軸対称である反応器の底部の平坦な底を使用して、尖った繋ぎ部に置き換えることも可能である。
【００６１】
各分離室は、好ましくは反応器(1)の軸を含む面内に配置され、流通室(3)から分離室(2)を画定する２つのほぼ垂直な側壁(24)を備えている。各壁(24)には、開口部(20)を経て各分離室に入ったガス相および固体の２５％以下を排出させる開口部(5)が配置されている。この開口部は、好ましくは円形であるが、他の形状（長方形、台形等）であってもよい。開口部(5)の最上点は、開口部(20)の最下点の上方に位置する。開口部(5)の最下点は、固体の大部分をストリッピング室(8)(30)の上方にある分離室の底に排出するための開口部(122)の上方またはこれと同じレベルに位置する。
【００６２】
優れた分離効果を得るために、出口(5)を入口帯域(20)から隔離するのが好ましい。有利には、好ましくは反応器の軸の周囲に軸対称であってかつほぼ垂直な面内において開口部(5)の形状に沿うデフレクタ(4)が使用される。このデフレクタ(4)は、数度〜１８０°、好ましくは４５°〜９０°の角度を形成して、ガス出口の突出部の周囲に巻かれる。このデフレクタは、オリフィス(5)を経て排出されるガス・固体混合物に対して、開口部(5)により提供される流れ断面の少なくとも１０％、好ましくは５０％に等しい流れ断面を残すものである。
【００６３】
固体相の大部分は、その粒子間の少量のガスとその細孔内に吸着されたガスおよび液体とをエントレインメントしうるものであって、開口部(122)の下方に位置する壁(22)にほぼ沿って流れ、次いで、反応器の軸に対してほぼ垂直でかつ開口部(5)に対して垂直である面内において開口部(5)よりも下方に位置する開口部(6a)を経て各分離室から排出される。開口部(6a)において固体とともにエントレインメントされたガスの量を制限するために、この開口部の流れ断面を限定するのが適切である。これを行うために、外側壁(22)を、鉛直線に対して数度〜４５°、好ましくは１０°〜３０°の角度であって反応器の軸に向かう再入角で直接傾斜させてよいし、あるいは壁(22)が、垂直線に対して数度〜４５°、好ましくは１０°〜３０°の角度であって反応器に向かう再入角で傾斜させた壁に対してほぼ垂直である場合、該壁を延長させて、図５に示すように、壁(18a)によって画定される円錐形の繋ぎ帯域と、分離室の上部における流れ断面に対して制限された流れ断面を有するほぼ垂直な壁(27)、および開口部(122)の下方において全てが反応器(1)の軸にほぼ一致する部分に収束する側壁(24)によって画定される帯域(7)とを形成してもよい。また、壁(22)を分離室(2)の底部まで垂直に延長し、かつ、帯域(2)に対して帯域(7)での流れの制限を生じさせるために、壁(22)および(27)を完全に一直線上に維持しながら、壁(22)に沿ってまたは出口帯域内の分離室の側壁間に、例えば耐火物のような物質からなる固形ブロックを挿入することも可能である。
【００６４】
この流れの制限手段は、全ての外壁が垂直である場合、流通室の下部において使用されてもよい。
【００６５】
流通室は、好ましくは反応器(1)の軸を含む面内に配置され、流通室から分離室を画定する２つのほぼ垂直な側壁(24)を備えている。分離室を流通室と通じさせるために、各壁(24)に開口部(5)が配置される。容量の問題を制限するために、流通室(3)の上部は、好ましくは反応器の軸に対して分離室(2)と同じ半径を有する。しかしながら、この条件は、装置の適切な運転において必須ではない。ストリッピング帯域(8)の上部の直径は、部分(3)の直径よりも大きい。この場合、ストリッピング帯域の上部は、全ての分離室(7)の下部を含み、その外壁(30)は、反応器(1)の軸の周囲に３６０°の範囲に及ぶ。
【００６６】
流通室は、分離室(2)の頂部の上方において互いに通じており、この帯域におけるそれらの形状寸法は、ガス相の大部分および固体の２５％以下の装置からの出口を形成する絞り部(13)を形成するために縮小される。
【００６７】
流通室(3)は、その下部において、流動床において触媒をストリッピングする手段(10)から放射されて容器(51)から来たストリッピングガスの上昇を可能にするために、好ましくは開口している。流動床の上方にある流通室からの開口部(6b)を、円錐形断面部分(18b)の底部に配置するのが有利である。この円錐形状断面形態部分は、開口部(6b)の上方に位置する希薄相内で該開口部の下方にある開口部(5)から来るガスの流通の可能性を制限する効果を有する。開口部(6b)から入って流通室の頂部、さらに第２のサイクロン(16)へと向かう流動床触媒のエントレインメントを制限するために、これらの開口部を流動床表面の上方約１〜１０ｍ、好ましくは２〜５ｍに配置するのが有利である。さらに、装置の組立を単純化するために、円錐形断面(18b)は、好ましくは分離室の円錐形断面(18a)と同じ傾斜を有する。
【００６８】
好ましくは分離室からの開口部(6a)が浸漬した流動床の流れ断面全体に分離帯域の出口(7)から来た触媒を配分するために、手段(12)を流量断面全体に配分して、流れを一様化しかつ再流通帯域を制限するようにしてもよい。これらの手段は、例えば、蒸留塔内で使用されるような装填物を積み重ねたもの、管を上下に交差状に配列したもの、または固体の半径方向の移動を促進させるために所定の混乱(enchevetrement)を形成する傾斜板からなる。場合によっては、触媒粒子の細孔内に含まれる液体またはガス炭化水素の脱着を促進するために、窒素、蒸気またはアンモニアのようなガスを導入する手段(10,11)を、これら充填物の下方および分離帯域からの出口(6)の下方に配置してもよい。
【００６９】
分離室の開口部(6a)または流通室の開口部(6a)を経て出る分離された固体は、次いで、流動床で構成された、ユニットの主要ストリッピング帯域に導入される。この流動床のレベルは、好ましくは開口部(6b)と開口部(6a)の間にあり、一般に(6a)の１〜２ｍ上方で(6b)の少なくとも２ｍ下方にある。主要ストリッピング帯域は、一般には流動床接触帯域であり、ここで、下降する固体が、蒸気、窒素またはアンモニアといったストリッピングガスと向流で接触させられる。この帯域における触媒の平均質量流量は、一般に約１０〜３００ｋｇ／秒／ｍ２、好ましくは３０〜１５０ｋｇ／秒／ｍ２である。ストリッピングガスの平均上昇速度は、一般に０．１〜１ｍ／秒である。
【００７０】
開口部(6b)を通り、外側のサイクロン(16)に向かって上昇するガスの速度は、通常０．２〜１０ｍ／秒、好ましくは０．５〜５ｍ／秒である。従って、オリフィス(5)から来る分離ガスは、流通室の容積内に制限される。
【００７１】
接触分解ユニットの反応帯域への本発明の特徴的な挿入およびその運転は、図５および図６に示された、ユニットの寸法を決定するための異なる技術を使用した２つの特に適当な例において記載されている。
【００７２】
図５および図６において、ガス・固体（その細孔内にガス・液体フラクションを含む固体）流出物は、開口部(20)を経て図面上に一部のみが表された本発明の装置に入る。固体およびガスは、その大部分が分離室(2)の上部において分離され、固体の２５％以下を同伴するガスは、開口部(5)を経て流通室に入る。この流れは、次いで、流通室(13)の上部、さらには全ての流出物が集まる導管(14)へと排出される。
【００７３】
導管(14)は、該導管(14)の壁の側方に開口し、かつ流出物をサイクロン(16)のような従来のガス・固体分離器の入口に運ぶ導管(15)に接続されている。分離器の数は、分離室およびストリッピング室の下流においてガスとともにエントレインメントされた固体の分離を完了するために、一般に分離室およびストリッピング室の数に近似する。一般に０．０２重量％以下の固体粒子を含むガスが、サイクロンの出口(19および19b)から排出され、かつ、接触分解方法の場合には、一般に手段により種々の炭化水素の留分に分別する塔に直接送られる。上記実施例では、Ｎ個の流通室が、Ｍ個の分離機（サイクロン）に、Ｍ個の導管(15)によってサイクロンに連結された単一の導管(14)により連結されている。ＭおよびＮが等しい場合、各流通室を、固有の導管によりサイクロンに直接連結するのが有利である。分離室(2)においてガスによりエントレインメントされなかった固体は、そこから開口部(6a)を経て排出され、次いで、場合によっては図５および図６に示す手段(10)により開口部(6a)の下方に導入されるストリッピングガスとの第１の接触を受けてもよく、手段(12)によって、結合されたストリッピング帯域により提供される流れ断面全体に配分され、次いで、適当な手段(11)を経て手段(12)の下方に導入されるストリッピングガスとの第２の接触を受けてもよい。固体は、均一化手段(12)が装置の寸法決定において使用される場合、好ましくは半径方向の均一化手段(12)の上方に、ストリッピング容器(8)内の戻し脚(17)を経てサイクロン(16)から再循環された固体と混合される。固体は、次いで、従来技術において周知であるストリッピングガスの他の導入手段を含む帯域(30)内を下向きに流れ、出口(32)を経て接触分解方法の再生帯域に排出される。この出口(32)の位置は、例えば水平線に対して下方に少なくとも３０°傾斜した、帯域(30)の側方であってよい。帯域(30)で使用される種々の手段および場合によって使用される手段(10)および(11)により導入されるストリッピングガス、並びに触媒の細孔から脱着されたガスおよび液体は、これらが、分離室で直接分離されかつ開口部(5)を経て排出されたガスと再び合流する流通室(3)を通って、サイクロンに排出される。
【００７４】
ここで考えられる配置においては、本発明の装置を含む容器の壁(51)と、外殻(22)(18a)および(18b)とは区別されている。第２分離装置は、これら２つの容器の間の空間内に配置されている。
【００７５】
図示されない変形例において、装置は、外殻(22)および外殻(51)が一体となっている点において主として先行例とは異なるものである。第２分離装置(16)は、これら２つの容器の外側にある外部空間内に配置される。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１は、上昇流型反応器の出口における分離およびストリッピング容器の斜視図を示す。
【図２】  図２は、ガス状分解流出物から粒子を分離する室のレベルでの縦断面、並びに粒子と分解およびストリッピング流出物全体とを分解する外側の第２分離器の存在を示す。
【図３】  図３は、図１のＣＣ’レベルで、分解およびストリッピング流出物全体を分離する室と流通室との交互の配置の横断面を示す。
【図４】  図４は、外殻内の分離容器と、内側の第２分離器と、ストリッピング室とを含む主要室を備えた装置全体の縦断面を示す。
【図５】  図５は、下降流型反応器の出口における粒子の分離室のレベルでの縦断面を表す。
【図６】  図６は、前記分離室に隣接するガス流通室のレベルでの縦断面を示す。該分離室は、分離およびストリッピング容器の内側にあるサイクロンに接続される。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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