(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の表面に反射防止用の微細凹凸が形成されて成る反射防止物品であって、
上記微細凹凸は、可視光の波長帯域の真空中に於ける最小波長をλMIN、該微細凹凸の最凸部に於ける周期をＰMAXとしたときに、
ＰMAX≦λMIN
なる関係を有し、
且つ該微細凹凸をその凹凸方向と直交する面で切断したと仮定したときの断面内に於ける基材の材料部分の断面積占有率が、該微細凹凸の最凸部から最凹部に行くに従って連続的に漸次増加して行く様な凹凸であり、
且つ、上記微細凹凸は、最凸部を有する山側の形状が、最凹部を有する谷側の形状に比べて、より尖った形状を成している、反射防止物品。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、液晶ディスプレイ等による各種表示部の窓材等の各種用途に用い得る、光の表面反射を防止した反射防止物品に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示ディスプレイ等を用いた各種表示部の前面に配置する窓材、或いは各種光学素子等、表面の光反射が問題になる事が多い。例えば、液晶表示ディスプレイ（ＬＣＤ）等を表示部に利用した携帯電話機では、水、塵、外力等からＬＣＤ等による表示パネル本体を保護する為に、表示パネルの前面に、透明プラスチック板等による窓材を配置し保護している（特開平７−６６８５９号公報等参照）。ところが、窓材を配置した事により、その表裏両面で外光が反射し、表示の視認性が低下する。また、表示パネルからの光も、その一部は、窓材で反射され表示パネル側に戻される為、表示パネルの光の利用効率が低下し、その分、視認性が低下する。また、それを補う為には無駄な電力消費が必要であり、低消費電力化が重要な携帯電話機では、無視できない問題である。
【０００３】
そこで従来、光反射が問題となる面には、例えば、蒸着、スパッタリング、或いは塗工等の手法によって、低屈折率層単層膜或いは低屈折率層と高屈折率層との多層膜からなる反射防止膜を設ける（特開２００１−１２７８５２号公報等参照）等の反射防止処理を施すのが一般的である（特開２００１−１２７８５２号公報等参照）。
或いはまた、別の反射防止処理として、表面を光波長以上のスケールで梨地化し、その凹凸面の鏡面反射によって光を拡散させて光（の正）反射を低減する防眩技術（特開平９−１９３３３２号公報等参照）もある。この技術は防眩性を向上でき、ディスプレス等を正視する時に画面に背面風景が映るのを防げる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、蒸着、スパッタリング等による反射防止膜は、１回又は多数回のバッチ処理により、屈折率と厚みを制御した薄膜を形成する必要があるので、製品の安定性、良品率等に問題がある上、バッチ式生産となるので、生産性が低く、この為、コストも高くなるという問題があった。
一方、上記防眩技術は、光反射率が低下した分を、光の透過率の増大に結びつける事は出来ない。従って、光の利用効率は向上できない。例えば、前記表示部の窓材に於ける、表示光の利用効率である。
【０００５】
そこで、本出願人は、これら従来の反射防止処理技術に於ける問題点を解決すべく、特開昭５０−７００４０号公報に開示された、繰返周期が光の波長以下の極めて微細な微細凹凸を表面に設けることによって表面反射率を減少させる技術を、応用することを試みた。同号公報に開示された技術をここで説明すれば、表面反射を減らすべきレンズ等の光学部品に対して、その表面にフォトレジスト等を塗布し、露光し、現像する等して、レジストパターンを作製し、該パターンによりガラス基材を腐蝕することで、光学部品の表面に一品毎に直接、微細凹凸を造形する方法である。
【０００６】
但し、この方法では、作業能率が悪く、工業製品に必要な生産性（量産性）は得られない。そこで、本出願人は、その様な微細凹凸を、一旦、原型（マザー版）とするガラス基材上に作製してから、このマザー版から、コンパクトディスクの製造ライン等で用いられているニッケル電鋳法を利用して、金属製の複製型を複製し、この複製型を賦形型（マスター版）として使用することで、工業製品としての量産性を実現する事に成功した。
【０００７】
ただ、今までの技術は、上記公報も含めていずれの技術も、表面に光波長以下の微細な凹凸を形成する事が主眼であり、その形状的研究は、高さや周期等のサイズ的要素を極める事であり、個々の微細凹凸の形状的要素までは、追求されてこなかった。そこで、本発明者らは微細凹凸の形状的要素について、光反射防止性能をより向上させ得る、より好ましい形状があるのではないかと鋭意研究し、本発明に至ったものである。
【０００８】
すなわち、本発明の課題は、光の無駄な反射を減らし、表示の視認性を向上させると共に表示光の光の利用効率も上げられる様な微細凹凸を表面に設けた反射防止物品の性能を、より向上させる事である。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
そこで、上記課題を解決すべく、本発明による反射防止物品は、基材の表面に反射防止用の微細凹凸が形成されて成る反射防止物品であって、上記微細凹凸は、可視光の波長帯域の真空中に於ける最小波長をλMIN、該微細凹凸の最凸部に於ける周期をＰMAXとしたときに、
ＰMAX≦λMIN
なる関係を有し、
且つ該微細凹凸をその凹凸方向と直交する面で切断したと仮定したときの断面内に於ける基材の材料部分の断面積占有率が、該微細凹凸の最凸部から最凹部に行くに従って連続的に漸次増加して行く様な凹凸であり、且つ、上記微細凹凸は、最凸部を有する山側の形状が、最凹部を有する谷側の形状に比べて、より尖った形状を成している構成とした。
【００１０】
この様な構成の反射防止物品とすることで、物品表面の光反射が微細凹凸形成面では該微細凹凸によって防止される。しかも、本発明では微細凹凸の形状を山側が谷側によりも尖った形状に特定してあるので、山側と谷側とが同じ尖り具合の中立的な場合、或いは逆に谷側が山側よりも尖った形状の場合に比べて、より優れた光反射防止効果が得られる。なお、微細凹凸によって光反射が防止されるのは、簡単に言えば、物質表面に、反射防止すべき光の波長以下のサイズの微細凹凸を設けると、該表面と空気間の屈折率変化を、実質的に穏やかで連続的なものにできるので、急激で不連続な屈折率変化の場合に生じる現象である光反射を防げるからである。
【００１１】
また、本微細凹凸による反射防止は、同じ凹凸でも光波長以上のサイズの凹凸である梨地面等の様な鏡面乱反射によって光反射を低減する防眩性のものでは無く、物品表面と空気との界面の急激な屈折率変化を緩和する事によって実現している為に、光反射率が低減した分、光透過率が向上する。従って、光反射率を低減させた分、光透過率を向上できる。従って、例えば、反射防止物品をディスプレイ等の表示部の窓材等に使用時には、表示の視認性を向上させると共に、表示光の光の利用効率も上げられる反射防止物品となる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を説明する。
【００１３】
〔概要〕
図１は、本発明の反射防止物品を、その一形態で概念的に説明する説明図（断面図）である。図１（Ａ）で例示の反射防止物品１０では、その基材１の面（図面上方）に反射防止用の微細凹凸２が形成されている。しかも、該微細凹凸２の形状は、垂直断面での断面図でその形状を概念的に示す図１（Ｂ）の如く、最凸部２ｔを有する山側Ｍｔの形状２Mtが、最凹部２ｂを有する谷側Ｍｂの形状２Mbに比べて、より尖った形状としてある。微細凹凸２をこの様な形状とすることで、反射防止効果をより向上させることができるのである。
なお、尖った形状とは、平易に表現すると、（垂直断面形状的に単なる正弦波形状や三角波形状等の様な上半分と下半分とが同一形状となる中立的な形状に比べて上半分が）更に尖った形状という事であり、その対象となる形状は、最凸部２ｔ或いは最凹部２ｂが、三角形（立体空間では例えば円錐となる）の頂点〔図５（Ｄ）参照〕の如く尖点を有する鋭角的形状の他、図１（Ｂ）に示す丸みを帯びた曲率を有する湾曲形状でも良い。
なお、形状の尖り具合は、山側の形状２Mtに於いては基材１の材料部分が占める部分を考え、谷側の形状Mbに於いては基材１の外界（空間部分）が占める部分を考える。つまり、山と谷では形状の中身が違う。
【００１４】
しかも、上記の如き本発明による光反射防止用の微細凹凸２は、光波長以上の大きさの凹凸による梨地面等を利用して光を鏡面乱散乱させる防眩処理による従来公知の反射防止処理とは異なり、可視光線の波長以下の大きさの本発明特有の形状の凹凸である。従って、光反射率が低減した分、光透過率を向上できる様な反射防止効果が得られる。
【００１５】
また、図１（Ｂ）では、微細凹凸２の形状的特徴を、正弦波関数の様な波状の形状を例えて説明したが、微細凹凸の最凸部から最凹部に至る斜面（斜辺）で言えば、この様な曲線の他、直線、折れ線、或いはこれらの組合わせ等でも良い。また、微細凹凸の水平断面形状は、円形、その他形状、任意である。
【００１６】
また、図１は概念的であるので、反射防止物品１０の形状は平板状として描いて説明したが、反射防止物品の形状は平板状に限定されるものではない。また、微細凹凸は反射防止物品の２以上の複数の面に有していても良い。
【００１７】
〔微細凹凸〕
微細凹凸２が、反射防止効果を有するのは、次の様な理由による。
すなわち、該微細凹凸２によって、反射防止物品を構成する基材１と、外界（空気）との間の急激で不連続な屈折率変化を、連続的で漸次変化する屈折率変化に変えることが可能となるからである。それは、光の反射は、物質界面の不連続な急激な屈折率変化によって生じる現象であるから、物品表面に於ける屈折率変化を、空間的に連続的に変化する様にすることによって、該物品表面に於ける光反射が減るのである。
なお、基材１は、通常は透明で光は透過する物となるが、不透明の物であっても、その表面反射を低下する反射防止効果は得られる。
【００１８】
以下、基材表面に形成された微細凹凸２によって、反射防止効果が得られる理由について、基材１が透明である場合で詳述する。
【００１９】
図２〜図４は、基材１の表面に設けられた微細凹凸２によって得られる屈折率分布を、概念的に説明する概念図である。なお、図２では、図面単純化の為に、本発明特有の微細凹凸の尖り具合までは詳細に描いていない。
先ず、図２は、反射防止物品として、微細凹凸２が表面に付与された基材１について、該基材１が、Ｚ≦０の部分の空間を占め、該基材の表面、すなわちＺ＝０に於けるＸＹ平面上に、Ｚ軸方向を凹凸方向とする多数の微細凹凸２が配置された状態を示す。
【００２０】
そして、本発明では、微細凹凸２を、図２の如く、その最凸部２ｔに於ける周期をＰMAXとしたときに、このＰMAXが、可視光の波長帯域の真空中に於ける最小波長をλMIN以下としてある為、微細凹凸形成面への到達光に対しては、媒質（基材、及び空気）の屈折率に空間的な分布があっても、それは注目する波長以下の大きさの分布である為に、その分布がそのまま直接に光に作用せず、それが平均化されたものとして作用する。従って、平均化された後の屈折率（有効屈折率）が光が進行するに従って連続的に変化する様な分布にしておけば、光の反射を防げるのである。
【００２１】
なお、本発明に於いて、最凸部２ｔに於ける周期ＰMAXとは、隣接する微細凹凸２の最凸部２ｔ間の距離のうち最大の距離であって、個々の微細凹凸が規則的に配置され周期性を有する（隣接する微細凹凸同士間の距離が同一）構成でも良いが、周期性が無い（隣接する微細凹凸同士間の距離が不揃い）構成でも良い。
【００２２】
そして、図２では、直交座標系として、基材１の表面の包絡面に立てた法線方向にＺ軸を、また、それと直交する平面内にＸ軸、Ｙ軸をとる。そして、今、光が基材外部から基材内に入光して、該基材内部を進み、該基材の表面近傍をＺ軸の負方向に向かって進行しつつあり、丁度、Ｚ軸座標がｚのところに存在するとする。
【００２３】
すると、ここのＺ＝ｚに居る光にとっては、媒体の屈折率は基材１表面が特定の微細凹凸２をなす為、厳密には、Ｚ＝ｚに於いてＺ軸と直交するＸＹ平面（横断面：水平断面）内に於いて、分布ｆ（ｘ，ｙ，ｚ）を持つ様に見える。すなわち、ＸＹ平面内に於いて、基材１の断面部分は屈折率ｎb（１．５程度）、其の他の部分、具体的には空気ａの部分は屈折率ｎa（＝１．０程度）となる（図３参照）。
ところが実際には、光にとっては、その波長（反射防止の対象とする光の波長が分布を有する場合は、その波長帯域の最小波長λMINを考えれば良い。）よりも小さな空間的スケールの屈折率分布は、平均化されたものとして作用する結果、平均化された結果の有効屈折率は、前記ＸＹ平面内に於いて、屈折率分布ｆ（ｘ，ｙ，ｚ）をＸＹ平面内に於いて積分したもの、
【００２４】
【数１】
0004197100.tif 000002
【００２５】
となる。その結果、有効屈折率（ｎef）の分布はｚのみの関数ｎef（ｚ）となる（図４参照）。
【００２６】
よって、もしも、微細凹凸２に於ける基材の凸部の断面積が、凹部に向かって連続的に増大する様な形状であれば（ＸＹ平面内に於ける）基材部分と空気部分との面積比がＺ軸方向に向かって連続的に変化する為、有効屈折率ｎef（ｚ）はｚに付いての連続関数になる。
【００２７】
一方、一般に屈折率ｎ0の媒質から、屈折率ｎ1の媒質に光が入射する場合を考える。今、簡単の為に、入射角θ＝０°（垂直入射）を考える。但し、入射角は入射面の法線に対する角度とする。
この場合、媒質界面での反射率Ｒは、偏光、及び入射角には依存せず、下記の〔式２〕となる。
【００２８】
【数２】
0004197100.tif 000003
【００２９】
従って、（有効）屈折率のＺ方向への変化が連続関数であるということは、Ｚ方向（光の進行方向）に微小距離Δｚ隔てた２点、Ｚ＝ｚに於ける屈折率ｎef（ｚ）をｎ0、Ｚ＝ｚ＋Δｚに於ける屈折率ｎef（ｚ＋Δｚ）をｎ1、としたときに、
【００３０】
Δｚ→０  ならば、  ｎ1→ｎ0
【００３１】
となり（連続関数の定義より）、よって、〔式２〕より、
【００３２】
Ｒ→０
【００３３】
となる。
【００３４】
なお、ここで、より厳密に言うと、物体中での光の波長は、真空中の波長をλ、物体の屈折率をｎとしたときに、λ／ｎとなり、λよりは一般に或る程度小となる。但し、物体が空気の場合の屈折率はｎ≒１の為、λ／ｎ≒λと考えて良い。但し、基材に使われる材料は、樹脂材料等の場合で言えば通常１．５前後の屈折率である為、屈折率ｎbの基材中の波長（λ／ｎb）は、０．７λ程度となる。この点を考慮すると、微細凹凸２の部分に於いて、空気の側の部分（微細凹凸２の凹部）について見れば、
【００３５】
ＰMAX≦λMIN
【００３６】
の条件を満たすとき、屈折率平均化による反射率低減効果が期待出来る。但し、
【００３７】
λMIN／ｎb≦ＰMAX≦λMIN
【００３８】
である場合は、基材の部分（微細凹凸２の凸部）の寄与について見れば、屈折率平均化による反射率低減効果は、少なくとも完全には期待出来ないことになる。
しかし、それでも、空気部分に於ける寄与の為、全体としては反射防止効果を有する。
そして、
【００３９】
ＰMAX≦λMIN／ｎb
【００４０】
の条件までも満たす場合は、空気部分、基材部分とも、周期ＰMAXが、最短波長よりも小さいと言う条件が完全に満たされる為、屈折率平均化による反射防止効果は、より完全となる。
具体的には、λMINを可視光波長帯域の下限３８０ｎｍ、ｎbを仮に１．５とすれば、λMIN／ｎbは２５０ｎｍ、つまりＰMAXは２５０ｎｍ以下とすれば良い。
【００４１】
次に、微細凹凸２の形状は、先ず基本条件としての第一の条件として、微細凹凸をその凹凸方向と直交する面（ＸＹ平面）で切断したと仮定したときの断面（水平断面）内に於ける基材の材料部分の断面積占有率が、該微細凹凸の最凸部（頂上）から最凹部（谷底）に行くに従って連続的に漸次増加して行く形状とする。この為には、微細凹凸は少なくともその一部の側面が斜めの斜面を有するものとすれば良いが、下記する図５（Ｇ）の様に斜面と共に垂直側面がある形状の微細凹凸２Ｇでも良い。特に、好ましくは、最凸部に於いて完全に０に収束し、且つ最凹部に於いて完全に１に収束する形状とする。具体的には例えば、図５（Ａ）、図５（Ｃ）、図５（Ｆ）、図５（Ｇ）の如き形状が挙げられる。但し、図示は省略するが、最凸部に於いては、ほぼ０に漸近した形状（最凸部が平坦）、或いは、最凹部に於いてほぼ１に漸近する様な形状（最凹部が平坦）であれば、或る程度の効果は得られる。本発明の微細凹凸の形状は、この様な条件及び下記する第二の条件を共に満たせば、どんな形状でも良い。
従って、微細凹凸２の斜面は垂直断面形状で言えば、直線や曲線の他、折れ線、或いは、これらの組合わせ等でも良い。
【００４２】
また、有効屈折率ｎef（ｚ）を空気中から基材中に向かうＺ方向の関数として、ｎaからｎbに連続的に変化する様にする為には、微細凹凸の最凸部に於いて、基材の断面積占有率が０に収束する図５（Ａ）や図５（Ｃ）等の如き形状〔すなわち、最凸部が点（立体空間で捉えれば点又は線）となる形状〕で且つ最凹部に於いて該断面積占有率が連続的に１に収束する形状が最も好ましい。
【００４３】
そして、微細凹凸２の形状の第二の条件として、本発明では、その山と谷の尖り具合を規定する。すなわち、図１（Ｂ）の垂直断面図でそれを概念的に示す如く、微細凹凸２についてその最凸部２ｔを有する山側Ｍｔの形状２Mtが、最凹部２ｂを有する谷側Ｍｂの形状２Mbに比べて、より尖った形状を成した形状とする。
なお、微細凹凸２を山側Ｍｔと谷側Ｍｂとに二分する境界は、図１（Ｂ）の（垂直）断面図で概念的に示す如く、微細凹凸２の高さＨ（最凸部２ｔと最凹部２ｂとの高低差）に対して、丁度半分の高さＨ／２として、高さＨ／２以上の部分を山側Ｍｔ、高さＨ／２以下の部分を谷側Ｍｂと捉える。
【００４４】
そして、山側Ｍｔが谷側Ｍｂよりも「尖った形状」とは、垂直断面で単なる正弦波形状や三角形状等の山側と谷側とが同一形状となる様な中立的な形状に比べて、更に尖った形状という事である。
ここで、微細凹凸２をその凹凸方向と平行な面で切断したと仮定したときの垂直断面で形状を概念的に示した図１（Ｂ）及び（Ｃ）を参照して更に説明すれば、図１（Ｂ）の如く、高さＨ／２以上の部分である微細凹凸２の最凸部２ｔを有する山側Ｍｔの形状２Mtと、高さＨ／２以下の部分である最凹部２ｂを有する谷側Ｍｂの形状２Mbとを、図１（Ｃ）の如く谷側の形状２Mbを上下逆さにして、山側の形状２Mtと重ねてそれら形状を比較した場合に、それらが全く同一で重ならず、山側の形状２Mtの高さＨ／２に於ける幅Ｗｔが、谷側の形状２Mbの高さＨ／２に於ける幅Ｗｂ、よりも小さく（狭く）、Ｗｔ＜Ｗｂとなる形状が該当する。
なお、形状の尖り具合は、山側Ｍｔの形状２Mtに於いては基材１の材料部分が占める部分を考え、谷側Ｍｂの形状Mbに於いては基材１の外界（空間部分）が占める部分を考える。つまり、山と谷では形状の中身が違う。
【００４５】
なお、尖った形状に於いて、その最凸部２ｔ或いは最凹部２ｂが成す形状は、三角形（立体空間では例えば円錐や四角錐等となる）の頂点〔図５（Ｃ）参照〕の如く尖点を有する鋭角的形状の他、図１（Ｂ）、図５（Ａ）に示す丸みを帯びた曲率を有する湾曲形状も包含する。従って微細凹凸の最凸部と最凹部の形状の組合わせは、最凸部及び最凹部が共に尖点の場合、或いは共に曲率を有する場合、或いはどちらか片方が尖点で他方が曲率を有する場合等、いずれでも良い。
【００４６】
上述の如く本発明では、微細凹凸のサイズ的要素である周期及び高さが同一であったとしても、微細凹凸の形状を上述の様に、最凸部を有する山側の形状を最凹部を有する谷側の形状に比べて、より尖った形状とすることで、光の反射率をより小さくできるのである。
例えば、本発明に該当する図５（Ａ）の如き微細凹凸２Ａでは、本発明に該当しない形状である図５（Ｂ）の如き山側と谷側が同じ尖り具合の中立的な形状の微細凹凸２Ｂよりも、反射防止効果が大きくなる。
【００４７】
なお、図５（Ａ）及び図５（Ｂ）では、微細凹凸の垂直断面形状が正弦波等の曲線のみによる波形の場合の比較であったが、断面形状が三角形状（より尖った形状とする為には斜面を直線のみで構成する場合、斜面は少なくとも２直線で構成されるので厳密には三角形では無いが、全体として三角形類似形状であるので「三角形状」とする。他も同様。）の微細凹凸の場合でも同じである。すなわち、図５（Ｃ）の如く山側が谷側よりも尖った形状の微細凹凸２Ｃ、図５（Ｄ）の如く山側と谷側とが同じ尖り具合の形状の微細凹凸２Ｄ、図５（Ｅ）の如く逆に谷側の方が山側よりも尖った形状の微細凹凸２Ｅを比較した場合、それら微細凹凸の反射率の大小関係は、微細凹凸２Ｃが最も反射率が小さく、微細凹凸２Ｃ＜微細凹凸２Ｄ＜微細凹凸２Ｅ、の関係となる。このうち、微細凹凸２Ｃが本発明に該当する凹凸形状であり、微細凹凸２Ｄ及び２Ｅは本発明には該当しない凹凸形状である。
【００４８】
また、本発明による微細凹凸は、その垂直断面形状が、水平面の全ての方向での垂直断面にて、図５（Ａ）や図５（Ｃ）の如く山側が谷側よりも尖った形状が最も効果的で好ましい。しかし、それらが主体を成し一部の方向のみならば、図５（Ｄ）或いは図５（Ｅ）の如く、山側と谷側の尖り具合が同じ形状、或いは谷側が尖った形状を有していても、相応の効果は得られる。
【００４９】
ところで、微細凹凸の山側の形状を谷側の形状よりも尖った形状とすることで、光の反射率がより向上する理由は定かではないが、媒質界面での光反射率をコンピュータシュミレーションによって、二次元平面の場合で（垂直断面）形状について計算してみたところ、計算機実験的でも裏付けられた。計算した微細凹凸の形状は、断面形状が二等辺三角形で、図５（Ｃ）、図５（Ｄ）、図５（Ｅ）の如き形状である。
細かい形状にもよるが、図５（Ｄ）の如き形状の微細凹凸２Ｄに対して、図５（Ｃ）の如き形状の微細凹凸２Ｃでは、光の反射率を例えば１．１％から０．８％に低減（相対的に捉えれば反射率を２８％減少させたことに相当）させることができる。
【００５０】
ここで、図６に、図５（Ｃ）〜図５（Ｅ）の微細凹凸の拡大断面図を示しておく。図６中、微細凹凸２Ｃは図５（Ｃ）に、微細凹凸２Ｄは図５（Ｄ）に、微細凹凸２Ｅは図５（Ｅ）に対応する。各微細凹凸の最凸部２ｔと最凹部２ｂとを直線で結ぶ形状が、中立的な形状である微細凹凸２Ｄである。そして、微細凹凸の高さに対して高さＨ／２に於いて、本発明に該当する山側が谷側より尖った微細凹凸２Ｃは、その山側の幅Ｗｔが前記中立的な微細凹凸２Ｄの山側の幅よりも小さく内側（基材側）となる。逆に谷側が山側よりも尖った微細凹凸２Ｅは、その山側の幅Ｗｔが前記中立的な微細凹凸２Ｄの山側の幅よりも大きく外側（空間側）となる。
【００５１】
なお、個々の微細凹凸の水平断面形状は、円形（例えば図２）、楕円形、三角形、四角形、長方形、六角形、其の他多角形等任意である。また、水平断面形状は、微細凹凸の最凸部から最凹部の全てにわたって同じ（相似形）である必要は無い。従って、微細凹凸の立体形状は、例えば、水平断面形状が円形で垂直断面形状が二等辺三角形状の場合の微細凹凸の立体形状は円錐状に、水平断面形状が円形で垂直断面形状が三角形状の場合の微細凹凸の立体形状は斜円錐状に、水平断面形状が三角形状で垂直断面形状が正三角形の場合の微細凹凸の立体形状は三角錐状に、水平断面形状が四角形で垂直断面形状が三角形状の場合の微細凹凸の立体形状は四角錐状になる。
なお、前述した如く、上記にて例えば、二等辺三角形「状」とは、例えば、図５（Ｃ）や図５（Ｆ）等の様に二等辺三角形よりも最凸部がより尖った様な二等辺三角形に類似した形状を意味する。
【００５２】
また、微細凹凸の、水平面内に於ける配置は、図２で例示した如く二次元的配置の他に、図７（Ａ）の斜視図で例示の直線溝状の微細凹凸２の如く、一次元的配置でも良く、どちらも効果は得られる。但し、一次元的配置の場合は、光の波の振幅方向との関係で、反射防止効果が得られる方向と得られない方向とが出る、異方性が発生する。従って、図２の斜視図や図７（Ｂ）及び図（Ｃ）の平面図で例示の様な二次元的配置の方が、方向性が全く無い点で好ましい。
【００５３】
また、図８の平面図で例示する様に、微細凹凸２を水平面内に二次元的に配置する場合、或る水平面を基準として、基材部分が外界（空気）側に向かって凸を成す山側Ｍｔと、外界が占める空間部分が基材側に向かって凸を成す（つまり基材部分が基材側に向かって凹を成し、谷は山を裏返した様な形状）谷側Ｍｂとが、交互に絡み合った二重の格子状に配列された微細凹凸２でも良い。図８では、山側Ｍｔと谷側Ｍｂの水平断面形状は、それぞれ等高線Ｌｔと等高線Ｌｂで描いてある。同心円状の複数の線の等高線Ｌｔは山側Ｍｔを、同心円状の複数の点線の等高線Ｌｂが谷側Ｍｂを表す。この様な山と、山を裏返した様な谷とが共に交互に配置された様な微細凹凸の場合には、山の頂上部分が微細凹凸の最凸部２ｔであり、谷の谷底部分が微細凹凸の最凹部２ｂとなる。従って、この図の場合、本発明では、山の形状は厳密には谷の形状を裏返した形状では無く、その先端（山頂）がより尖った形状となる。なお、図中、符号Ｍｃで示した部分は、峠或いは馬の鞍の様な形状をしている鞍部である。また、図中、等高線はあくまでも、山と谷の配置を示す為のものであり、実際の或る等高線が厳密に図示の通りなっている事を示すものでは無い。また、この様な微細凹凸は、前述した図７（Ｂ）の水平面への二次元的配置を、円錐状形状の微細凹凸で行った場合の一種でもある（錐と錐との間に谷が形成される）。
【００５４】
なお、上述した如き本発明による微細凹凸は、その個々の微細凹凸（或いは山や谷）の立体形状が全て同一でも良いが、全て同一で無くても良い。また、個々の微細凹凸２を二次元配置する場合に、周期は、個々の微細凹凸に於いて全て同一でも良いが、全て同一で無くても良い。
【００５５】
ところで、微細凹凸の高さＨは、希望する反射率の低減効果と基材表面に入射する可視光帯域の最大波長に応じて決定する。通常、高さＨは、その最小高さＨMINで、１００〜１０００ｎｍ程度である。但し、本発明の特有の微細凹凸によれば、特開昭５０−７００４０号公報等に記載の従来の考え方からすれば、光の波長以下で反射防止効果が得難いとされる様な高さＨであっても、反射防止効果が得られる。例えば、最小高さＨMINが２５０ｎｍでも良好な反射防止性能が得られる。
【００５６】
ここで、微細凹凸の具体的形状及び大きさを例示すれば、形状は垂直断面が正弦波状で水平断面が円形の円錐状の形状のものを多数、二次元的に規則的配置した集合体であり、周期ＰMAXが５０〜４５０ｎｍ、最小高さＨMINを前記周期ＰMAXの１．５倍としたもの等がある。
【００５７】
〔基材〕
基材１としては、用途により各種材料が使用でき、通常機械的強度を有する材料が使用されるが、特に制限は無い。前述従来技術で述べた窓材等では、透明性を有する材料が使用される。しかし用途によっては、基材は不透明であっても良い。基材が不透明の場合、それは不透明物体の表面の光反射防止となる。
【００５８】
基材の材料を例示すれば、透明性を持たせ得る材料としては、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体等のアクリル樹脂〔但し、（メタ）アクリルとはアクリル、或いはメタクリルを意味する。〕、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、環状オレフィン系高分子（代表的にはノルボルネン系樹脂等があるが、例えば、日本ゼオン株式会社製の製品名「ゼオノア」、ＪＳＲ株式会社製の「アートン」等がある）等のポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等の熱可塑性ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、セルロース系樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエーテルエーテルケトン、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂、或いは、ガラス（セラミックスを含む）等が挙げられる。
【００５９】
基材の形状は、反射防止物品の用途により様々な形状があり得る。例えば、概念図ではあるが図１（Ａ）で例示した如き平板状である。また、平板状の場合、可撓性を有するシート状もあり得る。つまり、前述機械的強度とは、剛直に限定されるものではない。基材は、三次元立体物等でも良い。つまり、反射防止物品の形状は、三次元立体物でも良い。前述表示部の窓材等で例示すれば、反射防止面部分については、上記平板状ではあるが、その周囲にリブ等の窓材取付け用の形状を有する物等である。また、基材が平板状の場合の厚さの具体例としては、表示部の窓材等の用途では通常０．５〜２ｍｍ程度である。
【００６０】
ところで、微細凹凸２は基材１の一部を構成するものであるが、該微細凹凸２を含む基材は、図１（Ａ）に例示の反射防止物品１０の如く、微細凹凸部分も含めて同一材質からなる連続の物体として構成する以外に、図９に例示の反射防止物品１０の如く、その基材１を、微細凹凸２を含む部分（微細凹凸層１ｂ）と、微細凹凸を含まない部分（基材本体１ａ）とからなる例えば２層が密着した構成等としても良い。前者の場合は、例えば、樹脂製の基材として射出成形によって、微細凹凸も含めて基材を微細凹凸と共に一度に形作る方法によって形成できる。また、後者の場合は、例えば、既に形状を有するガラス製や樹脂製の基材として用意された物に対して、該基材の所望の表面に、電離放射線硬化性樹脂等を硬化物層として２Ｐ法（Ｐｈｏｔｏ−ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ法）等によって微細凹凸を含む層を賦形と同時に積層する方法によって形成できる。また、射出成形法でもインサート成形法、或いは全部樹脂製の場合では２色成形法によって形成できる。なお、これらの例示の方法はいずれも、微細凹凸賦形用の凹凸形状が予め形成された（賦形）型を使用する。
【００６１】
〔微細凹凸を賦形する型の作製方法〕
ここで、基材に微細凹凸を賦形（形成）する為に使用し得る型について説明する。
微細凹凸は、既に有形の基材とする物（基材本体）、一つ一つに、直接形成する事も可能である（前述した特開昭５０−７００４０号公報参照）。この方法は、反射防止物品が単品である場合、或いは少量生産でも良い場合ならば問題ない。しかし、工業製品として大量生産が必要となる反射防止物品の場合には、作製に時間を要しコスト高となってしまう。そこで、工業的生産性、コストを考慮すると、賦形型を作製しておき、この賦形型によって微細凹凸を賦形により形成する方法が好ましい。
【００６２】
更に、賦形型としては、微細凹凸形状を最初に造形した原型は用いずに、該原型から１回、或いは２回以上の型取・反転による複製工程を経て作製した複製型を用いるのが好ましい。つまり、最初に一旦、原型（これを原版、或いはマザー版とも呼ぶ）を作製した後、この原型から複製型を作製する複製操作を１回又は２回以上の多数回行い、その結果、得られた複製型（これを本版、或いはマスター版とも呼ぶ）を、賦形型として使用するのである。この様な賦形型を用いることで、工業的生産性、コスト等に優れた方法となる。例えば、本版が傷付いたとしても、本版は容易に再作製できるからである。
【００６３】
賦形型の元となる原型としては、必要な微細凹凸が形成されているのものであれば、その作製方法には基本的には特に限定は無く、生産性、コスト等を考慮して適宜なものを使用すれば良い。原型の作製は、微細凹凸２を賦形する為の凹凸形状を最初に造形する工程であり、半導体分野等に於ける微細加工技術、すなわち、光（含む電子ビーム）をパターン形成に利用する所謂露光法を利用できる。但し、半導体の場合は、凹凸形状はその側面が通常垂直面で良く、本発明の如く斜面にする必要は特に無いため、本発明では、山側が谷側よりも尖った形状となる様な斜面が形成できる様にして微細加工する。
【００６４】
露光法に該当する微細加工技術としては、例えば、電子線描画法を利用できる。この方法による作製方法の一例を示せば、石英ガラス上にクロム膜（１１００Å厚）を成膜後、更にスピンコートにてレジストを４０００Å厚に塗布した後、電子線描画装置にて周期３００ｎｍのメッシュ状の描画データを用いて描画し、現像液を用い現像処理を施す。描画条件は５〜８μＣ／ｃｍ2である。これにより、描画データの斜線領域に対応する領域が現像により開口する。次いで、レジストの開口から露出している金属クロム膜を、塩素系のガスを用いてドライエッチングして、これを開口する。尚、金属クロム膜のドライエッチングにはＵｎａｘｉｓ社製ドライエッチング装置「ＶＥＲＳＡＬＯＣＫ７０００」が使用できる。次いで、レジストと金属クロム膜を耐エッチング層として、フッ素系のガスを用いて石英ガラスのドライエッチングを行えば、所望の微細凹凸形状が得られる。なお、加工用素材（石英ガラス）のドライエッチングには、日本真空株式会社製「ＭＥＰＳ−６０２５Ｄ」が使用できる。
そして、例えば、電子線描画時の露光強度を強めにして、且つ現像時間を長めにすると、山側がより尖った形状になる傾向がある。
【００６５】
また、レジスト膜へのパターン形成に際しては、電子線描画法の他の露光法として、レーザ描画法も利用できる。レーザ描画法では、ホログラム、回折格子等の作製等に利用されているレーザ干渉法が利用できる。回折格子の場合は、一次元的配置であるが、角度を変えて多重露光すれば、二次元配置も可能となる。
この方法による作製方法の一例を示せば、ガラス表面にレジスト（シプレイ社のフォトレジスト「Ｓ１８０５」等）をスピンコートした後、２方向露光を角度を変えて２回行う。１回の露光量は８０〜２００ｍＪである。これを２０〜５０％に希釈した現像液（例えば、シプレイ社製の「Ｄｅｖｅｌｏｐｅｒ  ＣＯＮＣ」等）で現像すれば、所望の微細凹凸形状が得られる。
そして、露光時間を強めにして、且つ現像液の濃度を上げる、現像時間を長くする、現像時の温度を上げるなどの現像条件を強めることにより、山側がより尖った形状になる傾向がある。
【００６６】
なお、上記レーザ干渉法では、得られる微細凹凸は、通常規則的配置となるが、これに対して、前記電子線描画法では、予め所定の描画パターン情報を記憶装置にデジタルデータとして記憶しておき、該描画パターン情報により、走査する電子線のＯＮ、ＯＦＦ、乃至は強弱を変調する。その為、規則配置の他にも、不規則配置も可能である。また、レーザー描画法及び電子線描画法には各々長所、短所が有る為、設計諸元、目的、生産性等を考慮の上、適宜な手法及び条件を選択する。
【００６７】
次に、上記原型から賦形型として使用する複製型を作製する方法としては、公知の方法、例えば、原型にニッケル等の金属めっきを行って、めっき層を剥がせば金属製の複製型を作製できる（電鋳法）。或いは、この複製型にもう一度めっきして、再度複製した型を賦形型とするなど、２以上の多数回の複製操作を経て賦形型を作製しても良い。なお、賦形型の形態としては、板状、シート状、ブロック状等があり得、反射防止物品の形状、用途等に応じて適宜選択すれば良い。なお、賦形型は、上記ニッケルの如き金属製でも良いが、シリコーン樹脂等の樹脂製のものを使用しても良い。例えば、樹脂からなるシート状で連続帯状も可能な賦形型である。
【００６８】
なお、１回の複製操作で、微細凹凸の山と谷が逆転するので、複製操作の回数によっては、最初の原型では目的とする微細凹凸とは逆凹凸形状として造形しておく場合もある。
【００６９】
以上の如き、賦形型を用いて、基材に対して微細凹凸を形成（複製）する具体的な方法としては、例えば、熱プレス法（エンボス法）、射出成形法、２Ｐ法（Ｐｈｏｔｏ−ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ法）、ゾルゲル法等の公知の複製法、或いは、微細凹凸賦形シートのラミネート法、微細凹凸層の転写法等の各種方法を、反射防止物品の用途、及び基材の材料等に応じて適宜選択すれば良い。
【００７０】
これらのうち、既に有形の基材に対する、微細凹凸の形成方法は、熱プレス法（エンボス法）、２Ｐ法、ゾルゲル法、微細凹凸賦形シートのラミネート法、微細凹凸層の転写法等が挙げられ。このうち、熱プレス法（エンボス法）は、基材が一般に熱可塑性樹脂等の塑性変形可能な状態を呈することができる樹脂等の材料からなる場合に適用される。一方、２Ｐ法、微細凹凸賦形シート（或いは板）のラミネート法、微細凹凸層の転写法は、基材がガラス等の無機材料からなる場合でも適用できる方法である。また、ゾルゲル法は、基材がガラス等の耐熱性を有する無機材料からなる場合に適用できる方法である。
【００７１】
なお、ゾルゲル法（特開平６−６４９０７号公報等参照）は、金属アルコキシド等と増粘剤としてポリエチレングリコール等を含む組成物を、塗工し、ゾルが軟らかいうちに型押しして凹凸を賦形して、その後に最終的な乾燥、熱処理を行って、無機質の塗膜として微細凹凸を形成する方法である。
また、微細凹凸賦形シート（或いは板）とは、樹脂のシート或いは板に、前述賦形型を使用する等して微細凹凸を既に賦形しておいた物である。該樹脂には、基材の材料として列記した樹脂等が使用できる。該凹凸賦形シート（或いは板）は、接着剤や熱融着で基材に貼着する。
【００７２】
また、微細凹凸層の転写法は、支持体シート上に転写層が積層されて成る転写シートとして、その表面（つまり転写後の表面となる支持体シート側の転写層面）に微細凹凸を予め設けた微細凹凸層を持つ転写シートを用い、その微細凹凸層を転写により基材に移行させて、基材上に微細凹凸層を積層する方法である。この為、転写シートの支持体シートは、その転写層側面に、目的とする微細凹凸とは逆凹凸形状の微細凹凸を設けたシートを使用する。なお、該支持体シートには、上記微細凹凸賦形シート等を使用する。また、支持体シート上への微細凹凸層は、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂、ウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂、紫外線や電子線で硬化するアクリレート系等の電離放射線硬化性樹脂等の透明樹脂からなる塗液を塗工する等して形成する。
【００７３】
次に、基材自体の造形時に同時に形成する、微細凹凸の形成方法は、射出成形法の他、２Ｐ法等が挙げられる。
射出成形法は、型面に微細凹凸形状を設けてなる射出成形型を用い、微細凹凸を射出成形法によって形成する。この方法によれば、樹脂を用いて、基材自体と微細凹凸とを同時に成形にて形成する事が出来るので、極めて量産性に優れた方法となる。射出成形型に、微細凹凸形成用の微細凹凸形状を設けるには、前述の如くして得た賦形型を、型面に装着する等すれば良い。
また、ここでの２Ｐ法では、基材自体も微細凹凸の同時に造形してしまう方法となる。
【００７４】
また、基材自体の造形時に同時に形成する微細凹凸の形成方法としては、基材がガラスの場合でも、ガラスは加熱より塑性変形可能な状態を呈することができるので、熱プレス法を適用して、基材の造形と同時に微細凹凸を形成しても良い。
【００７５】
なお、以上述べた各種形成方法のうち、図１（Ａ）の如く基材１と微細凹凸２とが一体となった構造のものは、熱プレス法（エンボス法）、射出成形法、２Ｐ法等の場合に得られ、また、図９の如く基材１ａ本体に、微細凹凸２を表面に有する透明な微細凹凸層１ｂが積層された構造のものは、射出成形法（本体と凹凸部との２色成形法）、２Ｐ法、ゾルゲル法、微細凹凸賦形シート（或いは板）のラミネート法、微細凹凸層の転写法等の場合に得られる。
【００７６】
また、２Ｐ法、転写法等の微細凹凸層が樹脂層として形成される場合、該樹脂としては、傷付き難くする為には、硬質の樹脂、例えば、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂、アクリレート系等の電離放射線硬化性樹脂等が好ましい。
【００７７】
また、微細凹凸を、基材本体上の微細凹凸層として形成する場合には、基材本体と微細凹凸層間には、必要に応じ適宜、接着層等を介在させても良い。接着層は、公知の接着剤、或いはシランカップリング剤等が用いられる。
【００７８】
〔反射防止物品の用途〕
本発明の反射防止物品は、形状は、三次元形状、板、シート等任意であり、用途も特に限定れるものでは無い。但し、その反射防止表面の微細凹凸は、極めて微細であるが故に、汚れや傷に対して注意するに越したことは無いので、微細凹凸は好ましくは外面には露出させず、内面に設けられる用途、或いは、装置内部に設けられる用途等が好適である。なお、本発明が適用し得る用途は、これから例示される用途に限定されるものではない。
【００７９】
例えば、携帯電話等の各種機器に於ける情報表示部の窓材である。これら表示部では、ＬＣＤ等の表示パネルの前面に、板や成形品等となった樹脂製の窓材が配置される。窓材としての反射防止物品は、外側は露出する為に傷や汚れへの耐性の点で本発明特有の微細凹凸は設けず、内側の裏面の側に該微細凹凸を設けたものとするのが好ましい。なお、情報表示部は、ＬＣＤ等の表示パネル以外に、時計に代表される機械式アナログメータ等の様な機械的手段で表示するものでもよく、これらの窓材でも良い。
なお、窓材は、平板状もあるが、組み付けやデザイン上の観点から周囲に突起等有する物もある。
【００８０】
なお、上記の様な窓付き情報表示部を有する機器としては、携帯電話、時計の外にも、パーソナルコンピュータ、電子手帳等のＰＤＡ乃至は携帯情報端末、電卓、或いは、ＣＤプレーヤー、ＤＶＤプレーヤ、ＭＤプレーヤ、半導体メモリ方式音楽プレーヤ等の各種携帯型音楽プレーヤ、或いは、ビデオテープレコーダ、ＩＣレコーダ、ビデオカメラ、デシタルカメラ、ラベルプリンタ等の電子機器、或いは、電気炊飯器、電気ポット、洗濯機等の電気製品等がある。
【００８１】
また、板状やシート状の反射防止物品に於いては、透明タッチパネル等に使用する透明板等の透明な基材が挙げられる。透明タッチパネルは、表示部に入力機能を付加するものであるが、該製品組立上、ＬＣＤ、ＣＲＴ等の表示パネルと別部品として組み付けるので、表示パネルと透明タッチパネル間に空隙が残り、光反射が生じる。そこで、透明タッチパネルの裏面側を成す透明な基材を、その裏面を本発明特有の微細凹凸を設けた反射防止物品とすれば、光反射が防げる。
【００８２】
なお、透明タッチパネルは、例えば、電子手帳等のＰＤＡ乃至は携帯情報端末（機器）、或いは、カーナビゲーションシステム、ＰＯＳ（販売時点情報管理）端末、携帯型オーダー入力端末、ＡＴＭ（現金自動預金支払兼用機）、ファクシミリ、固定電話端末、携帯電話機、デシタルカメラ、ビデオカメラ、パソコン、パソコン用ディスプレイ、テレビジョン受像機、テレビ用モニターディスプレイ、券売機、計測機器、電卓、電子楽器等の電子機器、複写機、ＥＣＲ（金銭登録機）等の事務器、或いは、洗濯機、電子レンジ等の電気製品に使用される。
また、本発明の反射防止物品の用途としては各種光学素子等も挙げられる。例えば、写真機のレンズ、写真機のファインダの窓材、眼鏡のレンズ、オーバーヘッドプロジェクタのフレネルレンズ、光センサの光入力窓、望遠鏡のレンズ、或いは、ＣＤ、ＤＶＤ等の光ディスクのピックアップレンズ、レーザ装置の出力窓、等が挙げられる。
【００８３】
【実施例】
以下、実施例により本発明を更に詳述する。
【００８４】
〔実施例１〕
１５２．４ｍｍ（６インチ）角で６．３５ｍｍ厚の合成石英の一面に金属クロム膜を形成したフォトマスク用の基板を用意し、その金属クロム膜上にポジ型のＥＢレジスト〔商品名「ＺＥＰ７０００」（日本ゼオン株式会社製）〕を回転塗布してレジスト層を形成した後、電子線描画装置にて縦横の周期３００ｎｍのメッシュ状の描画データを用いて、描画し、所定の現像液を用い現像処理を施した。その結果、描画データのメッシュ開口領域に対応する領域が現像により開口したレジストパターン層が形成された。次いで、該レジストパターン層の開口部から露出している金属クロム膜を塩素系のガスを用いてドライエッチングして、該金属クロム膜を開口した。尚、金属クロム膜のドライエッチングにはＵｎａｘｉｓ社製ドライエッチング装置「ＶＥＲＳＡＬＯＣＫ７０００」を用いた。
次いで、レジストパターン層と金属クロム膜を耐エッチング層として、フッ素系のガスを用いて基板のドライエッチングを行い、凸部の山側が凹部の谷側よりも尖った所望の微細凹凸形状が形成された原型（マザー版）を得た。なお、基板のドライエッチングには、日本真空株式会社製「ＭＥＰＳ−６０２５Ｄ」を用いた。
【００８５】
次に、この原型から、電気めっき法によって、厚さ８０μｍのニッケルめっきプレートからなるシート状の複製型（マスター版）を賦形型として作製した。
【００８６】
そして、平板状で透明な反射防止物品を製造する為に、基材本体１ａとして厚さ１ｍｍの透明アクリル樹脂板の片面に、２Ｐ法によって、表面に所望の微細凹凸２を有する微細凹凸層１ｂを形成した。具体的には、該基材本体の片面に紫外線硬化型の電離放射線硬化性樹脂をポッティングした（塗工量換算２ｇ／ｍ2）後、その樹脂塊の上から前記賦形型を押し付けて樹脂を板面に行き渡らせて圧着させたままの状態で、基材本体側から高圧水銀灯で紫外線を照射して樹脂を光重合により硬化させた後、賦形型を剥がし、図９の断面図の如き構成の反射防止物品１０を得た。
【００８７】
得られた反射防止物品の微細凹凸２は、原子間力顕微鏡での観察により、高さＨMINが２５０ｎｍ、周期ＰMAXが３００ｎｍの、図２の如き形状が多数縦横に正方格子状に規則的に配列された微細凹凸であった。しかも、個々の微細凹凸の形状は、図１（Ｂ）の如く、山側が谷側よりも尖った形状であった（高さＨ／２に於ける山側の幅Ｗｔ１００ｎｍ、谷側の幅Ｗｂ２００ｎｍ）。
【００８８】
〔比較例１〕
賦形型の複製による作製を、原型から１回の複製操作で直接作製するのでは無く、２回の複製操作で作製した。具体的には、実施例１で用いた賦形型を複製型として、この複製型から、実施例１同様に、電気めっき法によって、厚さ８０μｍのニッケルめっきプレートからなるシート状の複製型（マスター版）を作製し、これを賦形型とした。そして、この賦形型を用いて、実施例１同様に反射防止物品を作製した。
【００８９】
得られた反射防止物品の微細凹凸２を、実施例１同様に観察したところ、高さＨMIN及び周期ＰMAXは実施例１の微細凹凸と同様であるが、個々の微細凹凸の形状は、図１（Ｂ）とは全く逆で谷側が山側よりも尖った形状であった。
【００９０】
〔実施例２〕
１２７ｍｍ（５インチ）角で３ｍｍ厚のソーダガラスの一面にフォトレジスト（シプレイ社製、商品名「Ｓ１８０５」）を回転塗布した後、アルゴンイオンレーザ（４５７．９ｎｍ）をガラス垂直面に対して６０度の２方向から１２０ｍＪ露光し、さらに９０度ガラスを回転させて同じ条件で露光した。これを、３２％に希釈した現像液（シプレイ社製、商品名「Ｄｅｖｅｌｏｐｅｒ  ＣＯＮＣ」）で２５秒間現像した。以上の結果、凸部の山側が凹部の谷側よりも尖った所望の微細凹凸形状が形成された原型（マザー版）を得た。なお、レーザー露光装置には、Ｃｏｈｅｒｅｎｔ社の「Ｓａｂｅｒ」を用いた。
以下、この原型から、実施例１同様に、電気めっき法によって、厚さ８０μｍのニッケルめっきプレートからなるシート状の複製型（マスター版）を作製し、これを賦形型とした。そして、この賦形型を用いて、実施例１同様に反射防止物品を作製した。
【００９１】
得られた反射防止物品の微細凹凸は、原子間力顕微鏡の観察により高さＨMINが２５０ｎｍ、周期ＰMAXが３００ｎｍの図８の如き形状が多数縦横に正方格子状に規則的に配列された微細凹凸であった。しかも、個々の微細凹凸の形状は、図１（Ｂ）の如く、山側が谷側よりも尖った形状であった（高さＨ／２に於ける山側の幅Ｗｔ１２０ｎｍ、谷側の幅Ｗｂ１８０ｎｍ）。
また、得られた微細凹凸２は、その高さＨの１／２の高さＨ／２での水平断面でみた場合に、或る１の突起（山）と、それを取り囲む突起（山）について、当該１の突起（山）の当該水平断面における中心点と、当該１の突起（山）を取り囲む突起（山）の水平断面における中心点とを結んだ直線（８本）のうち４本と半分以上の直線に於いて、その直線の空間部分を横切る部分の割合が、基材材料部分を横切る部分の割合よりも長い様な形状で、山側が谷側よりも尖った形状の微細凹凸であった。
【００９２】
〔比較例２〕
実施例２において、賦形型の複製による作製を、原型から１回の複製操作で直接作製するのでは無く、２回の複製操作で作製した。具体的には、実施例２で用いた賦形型を複製型として、この複製型から、実施例２同様に、電気めっき法によって、厚さ８０μｍのニッケルめっきプレートからなるシート状の複製型（マスター版）を作製し、これを賦形型とした。そして、この賦形型を用いて、実施例２同様に反射防止物品を作製した。
【００９３】
得られた反射防止物品の微細凹凸を、実施例２同様に観察したところ、高さＨMIN及び周期ＰMAXは実施例２の微細凹凸と同様であるが、個々の微細凹凸の形状は、図８とは全く逆で谷側が山側よりも尖った形状であった。
【００９４】
〔性能評価〕
作製した反射防止物品について、可視光帯域での光の透過率と反射率を測定した。その結果、実施例１は、透過率９４．９％、反射率０．２％であったが、比較例１では、透過率９４．２％、反射率０．８％と反射防止未加工品よりは良好だが、実施例１に比べて劣った。なお、微細凹凸を設けず反射防止未加工の単なる透明アクリル樹脂板では、透過率９１．８％、反射率４．０％であった。また、実施例１の反射防止物品では、微細凹凸形成による反射防止加工により、反射防止された光は拡散せず、その分、透過率が向上している事も認められた。
【００９５】
一方、実施例２は、透過率９４．８％、反射率０．２％であったが、比較例２では、透過率９４．０％、反射率０．８５％と反射防止未加工品よりは良好だが、実施例２に比べて劣った。
【００９６】
【発明の効果】
本発明の反射防止物品によれば、物品表面の光反射が微細凹凸によって防止される。しかも、微細凹凸の山側と谷側の尖り具合が同じ様な場合に比べて、光反射をより減らせる。しかも、光反射が低減した分、光透過率が向上する。従って、ディスプレイ等の表示部の窓材等に使用時には、表示の視認性を向上させると共に、表示光の光の利用効率も上げられる物品となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射防止物品をその一形態で概念的に説明する説明図（垂直断面図）。
【図２】微細凹凸で得られる有効屈折率の分布を概念的に説明する為の図（その１）。
【図３】微細凹凸で得られる有効屈折率の分布を概念的に説明する為の図（その２）。
【図４】微細凹凸で得られる有効屈折率の分布を概念的に説明する為の図（その３）。
【図５】微細凹凸の形状の良し悪しを垂直断面形状で概念的に比較説明する断面図。
【図６】微細凹凸の形状の良し悪しを垂直断面形状で概念的に比較説明する拡大断面図。
【図７】微細凹凸の水平面内での配置の幾つかを例示する斜視図と平面図。
【図８】微細凹凸の水平面内での別の配置例を示す平面図。
【図９】本発明の反射防止物品の一形態を例示する断面図。
【符号の説明】
１      基材
１ａ    基材本体
１ｂ    微細凹凸層
２      微細凹凸
２Ａ〜２Ｇ  微細凹凸
２Mb    谷側の形状
２Mt    山側の形状
２ｂ    （微細凹凸の）最凹部
２ｔ    （微細凹凸の）最凸部
１０    反射防止物品
ｎ    屈折率
ｎa  屈折率（空気）
ｎb  屈折率（基材）
ｎ0  屈折率
ｎ1  屈折率
ｎef（Ｚ）  有効屈折率
Ｈ      （微細凹凸の）高さ
Ｈ／２  （微細凹凸の）高さの半分（１／２）
ＨMIN  （微細凹凸の）最小高さ
Ｌｂ    （谷側の）等高線
Ｌｔ    （山側の）等高線
Ｍｂ    微細凹凸の谷側
Ｍｃ    微細凹凸の鞍部
Ｍｔ    微細凹凸の山側
ＰMAX  周期
Ｒ      反射率
Ｗｂ１  山の片側での谷（空間）部分の幅
Ｗｂ２  山の他方側での谷（空間）部分の幅
Ｗｔ    山部分の幅
λMIN  最小波長
λMAX  最大波長
【図１】
0004197100.tif 000004
【図２】
0004197100.tif 000005
【図３】
0004197100.tif 000006
【図４】
0004197100.tif 000007
【図５】
0004197100.tif 000008
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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