(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウム合金製の複数の構成物を組み合わせてアンテナパネルを構成するアンテナ装置の製造方法であって、この構成されたアンテナパネルの鏡面精度を１０μｍＲＭＳ以下とする加工工程と、前記複数の構成物の鏡面をエッチングし、表面粗さが０．５μｍＲＭＳ〜５μｍＲＭＳの範囲内において梨地状の微細凸凹を形成し、前記複数の構成物の裏面をマスクしてエッチングされないようにするエッチング工程と、このエッチング工程後に、前記複数の構成物を組み合わせ、前記微細凸凹により前記アンテナパネルの鏡面に入射する太陽光を散乱させ、前記アンテナパネルの鏡面に入射する太陽光より波長の長いミリ波乃至サブミリ波の高周波領域の電波を正反射させる前記アンテナパネルを形成するアンテナパネル組み立て工程とを備えたことを特徴とするアンテナ装置の製造方法。
【請求項２】
アルミニウム合金製の複数の構成物を組み合わせてアンテナパネルを構成するアンテナ装置の製造方法であって、前記複数の構成物の表面及び裏面を加工する加工工程と、前記複数の構成物の裏面をマスクし、３０℃〜４０℃の範囲内のエッチング温度で、一水素二フッ化アンモニウム溶液により前記複数の構成物の表面をエッチングし、表面粗さが０．５μｍＲＭＳ〜５μｍＲＭＳの範囲内において梨地状の微細凸凹を形成するエッチング工程と、このエッチング工程後に、前記複数の構成物を組み合わせ、前記微細凸凹により前記アンテナパネルの鏡面に入射する太陽光を散乱させ、前記アンテナパネルの鏡面に入射する太陽光より波長の長いミリ波乃至サブミリ波の高周波領域の電波を正反射させる前記アンテナパネルを形成するアンテナパネル組み立て工程とを備えたことを特徴とするアンテナ装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、周波数が１００ＧＨｚを超えるミリ波・サブミリ波を使用し、アンテナの焦点付近に集光する太陽光の影響を低減するアンテナ装置及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
図７は従来のアンテナ装置の構造を示す図である。図において、１はアンテナパネル、２はアンテナパネル１の表面に白色又は半つやに塗装された塗膜、３はアンテナパネル１の焦点部に配置された副反射鏡である。入射したミリ波・サブミリ波の電波はアンテナパネル１により副反射鏡３に収束される。一方、同様にアンテナパネル１に入射した太陽光は、ミリ波・サブミリ波に比べて波長が１μｍ以下と短いので、白色又は半つやに塗装された塗膜２で乱反射して副反射鏡３に集光しない。
【０００３】
しかし、この種のアンテナ装置に使用する周波数が高くなると、塗膜２の内部を通過したミリ波・サブミリ波の電波が減衰し、アンテナ装置の感度が低下したり、観測した信号の雑音比が悪くなるという課題があった。
【０００４】
従来、このような課題を改善するために、例えば特開昭６２−１３１６１１号公報に記載されたものがある。図８は同公報に開示された従来のアンテナ装置の模式的な断面図であり、図において、１はアンテナパネル、４はアンテナパネル１の一方の表面に形成された微細凸凹である。この従来例は、直径５０ｃｍ程度の大きさで、塗装しなくても使用可能なアンテナパネル１を製作することを目的としている。
【０００５】
このアンテナパネル１の製作方法としては、あらかじめ、又は後でも良いが、平らな板の表面に微少な溝を形成し、これを曲げ変形させてアンテナパネル１を構成している。このように、塗膜２をなくすことによって高い周波数でも使用可能とし、アンテナパネル１の表面に微細凸凹を設けることによって、アンテナパネル１で反射した太陽光の焦点部への集光を抑制して焦点部に配置された副反射鏡の高温化を防いでいる。
【０００６】
上記公報では、このアンテナパネル１の表面の微細凸凹４は、直線状若しくは曲線状に傷をつけることにより、又はブラスティング加工やエッチングにより形成されることが記載されている。ここで、直線状や曲線状の傷は、研磨紙、研磨布、グラインダー等で機械的につけたものである。
【０００７】
図９は表面を機械的に研磨したアルミニウム（Ａｌ）の平板の加工サンプルの研磨面における太陽光の反射特性を示す図であり、図１０はその反射特性の測定方法を示す図である。図１０に示すように、平板の加工サンプルを太陽に正対させ、正面からの太陽光のみを感知するように、遮光筒をつけた照度計により平板に対する角度を変えながら測定している。測定に使用した＃４０研磨品の表面粗さは４．４μｍＲＭＳ（Ｒｏｏｔ  Ｍｅａｎ  Ｓｑｕａｒｅ）であるが、図９に示すように、角度が０度付近の照度は非常に高く太陽光はあまり散乱されていない。なお、「＃４０」は砥粒の粒度（大きさ）を表し数字が大きいほど砥粒径が小さくなる。
【０００８】
理論的にどの程度の反射散乱特性が必要かは次のようにして決められる。図１１は１０ｍ級の大型ミリ波用パラボラアンテナにおいて、その焦点部にある副反射鏡（４５０ｍｍ）に集まる散乱光の集光割合と散乱角（ピーク値の半分の値をもつ半値幅）との関係を示す特性図である。この場合、パラボラアンテナが太陽に正対したときにパラボラアンテナに対して入射するエネルギーは１×１０5 Ｗであり、これに対して太陽光の集光割合と副反射鏡の吸収率を掛けると、集光割合が０．０１５の場合の温度上昇は１００℃程度となる。十分とは言えないが、太陽に対して正対する時間があまり長くないとすると、この程度の温度上昇が使用限界だと考えられる。図１１に示すように、集光割合が０．０１５ときの散乱角（半値幅）は５５度であり、散乱角はこれより大きくする必要がある。
【０００９】
機械的な研磨をした上記図９に示す加工サンプルでは、散乱角、すなわちピーク値の半分の値をもつ半値幅が１０度であり、そのときの集光割合が０．３であるので、同様の計算を行うと温度上昇は２０００℃となる。これではアルミニウムの融点を超えるので、１０ｍ級のパラボラアンテナの表面処理方法として、研磨という手段は不適切である。
【００１０】
一方、表面をブラスト加工したアルミニウムの平板の加工サンプルにおける太陽光の反射特性では、ブラスト面の表面粗さが０．４μｍＲＭＳ程度で、散乱角は５５度より大きいものが得られている。また、表面をエッチングしたアルミニウムの平板サンプルにおける太陽光の反射特性では、表面粗さが１．２μｍＲＭＳ程度で、散乱角が大きく良好な散乱特性が得られている。しかし、電解研磨や化学研磨加工面では、表面凸凹がなめらかになり適さない。
【００１１】
以上のことから、上記公報に記載されている方法の中で、１０ｍ級のパラボラアンテナに適用する場合に、太陽光が副反射鏡に集光しないような表面処理は、ブラスト加工とエッチングだけである。
【００１２】
さて、ミリ波及びサブミリ波用パラボラアンテナのアンテナパネル１では、直径１０ｍ程度の大きさの場合に、鏡面精度が１０μｍＲＭＳ以下という非常に高精度の鏡面精度が要求される。通常のもう少し長い波長を使用するパラボラアンテナでは、アンテナパネル１の鏡面精度は２００μｍＲＭＳよりも大きい場合が多い。その製造方法としては、薄い板を変形させておき、やはり変形させたリブ（補強材）にその薄い板を溶接、接着、リベット等の手段で取り付ける。しかし、この製造方法ではこれ以上の鏡面精度を達成するのは困難である。従って、鏡面側は精度が出る機械加工による成形になる。
【００１３】
また、大きなブロックのままでは重量が大きすぎるので、裏面は鏡面形状にそって、パネルの厚さが薄くなるように加工する必要がある。また、薄く加工しただけでは剛性がなく、自重変形や風による変形が大きいので、裏面には補強用の桟をつけたような構造になる。このような製造方法で１ｍ角程度のパネルを多数作り、そのパネルを組み合わせて直径１０ｍのアンテナパネル１を作る。
【００１４】
しかし、反射散乱特性を満足するブラスト加工又はエッチングという表面処理を、上記のようなパネルに適用する場合に次のような課題がある。
【００１５】
まずブラスト加工の場合について説明する。ブラスト加工法自身には問題ないが、加工面を塑性変形させているので、どうしても加工面側が伸びた状態になり凸に変形する。鏡面側（表側）と裏面側を同じようにブラスト加工すれば変形はなくなるが、鏡面側と裏面側の形状が著しく異なる場合に、両側のブラスト加工条件を同一にするのは難しい。例えば裏面側に補強用の桟がある場合に、この桟が邪魔になってうまく砥粒が当たらない。この変形量は波長が長い場合にはほとんど問題にならないが、サブミリ波まで波長が小さくなると、変形量が要求精度を越えてしまう。
【００１６】
次にエッチングの場合について説明する。エッチングは表面を数μｍ取り去るので、機械加工における加工変質層の残留応力が除去される。そのため、エッチングによって取り去られる残留応力が表裏で異なれば、応力のバランスが崩れて変形を引き起こす。
【００１７】
図１２は加工サンプルの表裏の残留加工応力が異なる場合のエッチングによる変形状況を示す図であり、厚さ１０ｍｍで２５０ｍｍ角の大きさの板の裏面側を井形に削って板厚２ｍｍまで薄くしたサンプルを、苛性ソーダ（ＮＡＯＨ、水酸化ナトリウム）でエッチングしたときの変形量を示している。鏡面側の加工では、切り込みや送り等の加工条件がゆるく残留応力は小さいが、裏面側の加工では、生産性を上げるためにかなりきつい加工条件を使用しているので残留応力は大きく、エッチングによって大きな変形が起きている。エッチングでも、この変形は大きな問題である。また、エッチング条件によっては表面粗さが大きくなり、観測すべき電波まで散乱させる恐れがある。
【００１８】
なお、ブラスト加工及びエッチングで問題となっている変形については、パネルの剛性を上げることによってある程度避けることができる。例えば、鏡面を作っている板の部分を倍の厚さにすれば、強度は８倍になり変形量は大幅に減らすことができる。しかしながら、剛性を高めようとすると、その重量も大きくなるので対策としては制限を受ける。
【００１９】
図１３はアンテナパネルの表面粗さと使用周波数の関係を示す特性図である。図１３に示すように、表面粗さを示す微細凸凹の大きさは、２ＴＨｚ程度の高周波でも使えるように、５μｍＲＭＳ以下にする必要がある。この使用周波数は次式により求められる。
使用周波数＝光の速度／（表面粗さ×３０）
【００２０】
【発明が解決しようとする課題】
従来のアンテナ装置は以上のように構成されているので、アンテナパネル１を構成するパネルに微細凸凹を形成するために、ブラスト加工やエッチングする場合、パネル表面の変形量が大きくなり、要求される鏡面精度を越えてしまうという課題があった。
【００２１】
この発明は上記のような課題を解決するためになされたもので、ミリ波からサブミリ波に至る高い周波波領域の電波まで使用可能で、太陽光の集光を抑制する良好な反射性能と高い鏡面精度を有するアンテナパネルを備えたアンテナ装置及びその製造方法を得ることを目的とする。
【００２２】
【課題を解決するための手段】
この発明に係るアンテナ装置の製造方法は、アルミニウム合金製の複数の構成物を組み合わせてアンテナパネルを構成するアンテナ装置の製造方法であって、この構成されたアンテナパネルの鏡面精度を１０μｍＲＭＳ以下とする加工工程と、前記複数の構成物の鏡面をエッチングし、表面粗さが０．５μｍＲＭＳ〜５μｍＲＭＳの範囲内において梨地状の微細凸凹を形成し、前記複数の構成物の裏面をマスクしてエッチングされないようにするエッチング工程と、このエッチング工程後に、前記複数の構成物を組み合わせ、前記微細凸凹により前記アンテナパネルの鏡面に入射する太陽光を散乱させ、前記アンテナパネルの鏡面に入射する太陽光より波長の長いミリ波乃至サブミリ波の高周波領域の電波を正反射させる前記アンテナパネルを形成するアンテナパネル組み立て工程とを備えたものである。
【００２３】
この発明に係るアンテナ装置は、アンテナパネルが、鏡面側を酸溶液でエッチングすることで鏡面側に形成された微細凸凹を有するものである。
【００２４】
この発明に係るアンテナ装置は、微細凸凹の表面粗さを０．５μｍＲＭＳから５μｍＲＭＳとするものである。
【００２５】
この発明に係るアンテナ装置は、アンテナパネルの表面に化学表面皮膜を形成した微細凸凹を有するものである。
【００２７】
この発明に係るアンテナ装置の製造方法は、アルミニウム合金製の複数の構成物を組み合わせてアンテナパネルを構成するアンテナ装置の製造方法であって、前記複数の構成物の表面及び裏面を加工する加工工程と、前記複数の構成物の裏面をマスクし、３０℃〜４０℃の範囲内のエッチング温度で、一水素二フッ化アンモニウム溶液により前記複数の構成物の表面をエッチングし、表面粗さが０．５μｍＲＭＳ〜５μｍＲＭＳの範囲内において梨地状の微細凸凹を形成するエッチング工程と、このエッチング工程後に、前記複数の構成物を組み合わせ、前記微細凸凹により前記アンテナパネルの鏡面に入射する太陽光を散乱させ、前記アンテナパネルの鏡面に入射する太陽光より波長の長いミリ波乃至サブミリ波の高周波領域の電波を正反射させる前記アンテナパネルを形成するアンテナパネル組み立て工程とを備えたものである。
【００３２】
この発明に係るアンテナ装置の製造方法は、表面処理工程において、アロジン処理により化学表面皮膜を形成させるものである。
【００３３】
この発明に係るアンテナ装置の製造方法は、エッチング前の加工工程において、構成物の表面側に機械加工時のカッターマークによる微細凸凹を形成させるものである。
【００３４】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の一形態を説明する。
実施の形態１．
図１はこの発明の実施の形態１によるアンテナ装置におけるアンテナパネルの構造を拡大した図である。図において、１は表面に微細凸凹４が形成されたアンテナパネルである。このように、アンテナパネル１の表面に微細凸凹４を形成することによって、太陽光に比べると波長の長い電波は正反射するが、波長の短い太陽光は表面で散乱する。
【００３５】
次にアンテナパネル１の製造方法について説明する。アンテナパネル１は複数のパネル（構成物）を組み合わせて構成するが、各パネルは１ｍ角で４０ｍｍ厚程度のアルミ合金（例えばＡ５０５２）製である。マシニングセンタでこのアルミ合金のパネルの裏面側を適当な補強部分を残して加工する。そして、このアルミ合金のパネルは、１０ｍアンテナパネル１の一部を形成するため、そのアンテナパネル１の位置に対応して所定の曲率半径を持つように表面が加工される。パネル鏡面を構成する板厚は２〜３ｍｍになる。このときのパネルの鏡面精度は少なくとも１０μｍＲＭＳ以下で、表面粗さは１μｍＲＭＳ以下である。この時点のアルミ合金のパネルは鏡のように太陽光を反射する。
【００３６】
このパネルを脱脂洗浄後、裏面側がエッチングされないように、裏面側にマスクとして剥離型一時防錆剤を吹き付ける。このとき、この防錆剤がエッチングされる鏡面側につかないように注意する必要がある。この剥離型一時防錆剤はスチレンブタジエンが主原料で、固まるとゴムの性質を示し、金属表面から比較的簡単に剥離することができる。
【００３７】
このパネルを約１０％の一水素二フッ化アンモニウムの酸溶液中に、液温３０℃で３分間浸してエッチングを行う。このとき、むらができないようにエッチング槽内の酸溶液を循環する。３分後にエッチング槽からパネルを取り出し即座に水洗を行う。このようなエッチングを行うことにより、パネルの表面に微細凸凹４の梨地が形成される。
【００３８】
その後、剥離型一時防錆剤を取り去って、アルミニウムの不純物であるスマットを除去するデスマット処理を行い、耐候性（耐磨耗性、耐腐食性）を向上するための化学表面皮膜を形成するアロジン処理（表面処理）を行う。この剥離型一時防錆剤を取り去るタイミングはデスマット処理後でも良い。
【００３９】
図２は酸溶液でエッチングした場合のパネル表面の太陽光の反射特性を示す図であり、処理後のパネルの表面粗さは１．２μｍＲＭＳで、太陽光の散乱角（半値幅）は約５５度である。鏡面側の機械加工仕上げ面は非常にきれいに仕上げられているため、解放される残留応力がほとんどなく、エッチングによる歪みは発生しない。
【００４０】
同様にして製造した多数のパネルを所定の位置に配置することにより、パネル鏡面精度が１０μｍＲＭＳ程度以下の直径１０ｍのアンテナパネル１が組み立てられる。
【００４１】
なお、エッチングで使用するエッチング液は、上記の一水素二フッ化アンモニウムである必要はなく、他のエッチング液でも良い。また、エッチング条件も上記の条件に特に限るわけではなく、濃度、温度、時間を適当に組み合わせることにより、異なる条件でも同様な梨地になる場合がある。
【００４２】
さらに、エッチング液やエッチング条件によって表面の梨地状態は変化する。図３は苛性ソーダ（ＮａＯＨ）によりエッチングした場合のパネル表面の太陽光の反射特性を示す図である。図３に示すように、図２に示す酸溶液でエッチングした場合の反射特性と比較して散乱角は小さくなっている。
【００４３】
図４はエッチングにおけるエッチング時間に対するエッチング量を示す特性図である。図４に示すように、エッチングにおいて、エッチング量はエッチング時間に比例している。また、図５はエッチングにおけるエッチング量に対する表面粗さを示す特性図である。図５に示すように、表面粗さはエッチング量にほぼ比例しているので、時間管理が非常に重要である。この管理する時間は、実際にエッチング槽中に漬けている時間だけではなく、水洗するまでの時間である。
【００４４】
図６はエッチングにおけるエッチング温度に対するエッチング量を示す特性図である。図６に示すように、このエッチング液は温度が３０℃以下ではエッチング量が大きく落ちるので、温度管理にも気を配る必要がある。３０℃よりも温度が高いと、エッチング速度は少しずつではあるが速くなるので、表面形状のコントロールがしにくくなる。また、４０℃よりも高温でのエッチングでは、パネルを入れたときの熱応力で変形する恐れもある。従って、エッチング温度は３０℃〜４０℃程度が適当である。もちろん、その他の条件によって推奨温度は変化し、特にこの範囲に限定するわけではない。
【００４５】
このように、エッチング条件により微細凸凹４の梨地の状態が変化するので、求められる表面状態によって、適当なエッチング条件を選択する必要がある。使用周波数は２ＴＨｚまでを想定しており、図１３に示すように、表面粗さを５μｍＲＭＳ以下にする必要がある。また、太陽光を散乱させるためには、表面粗さを０．５μｍＲＭＳ以上にする必要がある。すなわち、表面粗さが０．５μｍＲＭＳから５μｍＲＭＳになるように、エッチング条件を選択する。
【００４６】
また、エッチングによる表面処理の場合は、耐候性を上げるためのアロジン処理工程が通常は脱脂，酸化膜エッチング、デスマット、アロジン処理のようになっているので、この中の酸化膜エッチングのエッチング液を今回のエッチング液に置き換えるだけなので、特に製造ラインや製造工程の大きな変更を行わなくても処理が可能である。
【００４７】
また、マスクとして使用している剥離型一時防錆剤は、特にこれに限ったものではなく、パネルの裏面側がエッチングされなければどんなものでも良く、例えば、養生用のフィルムや、ビニール袋等、エッチング液が浸透しなければどんな手段でもかまわない。また、シャワーによるエッチングも考えられるが、この際には、パネルの裏面側に溶液が比較的回りにくいので、マスクがなくてもかまわない。
【００４８】
次に動作について説明する。
アルミニウム製のアンテナパネル１の鏡面側に入射した電波は、図１３に示した周波数範囲であれば、散乱することなく入射角を保持しながら正反射する。一方、アンテナパネル１の鏡面側に入射した電波より波長の短い太陽光は、アンテナパネル１の鏡面側の微細凸凹４で乱反射して焦点部に集光せず、反射した太陽光で副反射鏡や副反射鏡を支持するステーが影響を受けることがない。
【００４９】
また、アンテナパネル１の鏡面側には、アロジン処理によるアロジン皮膜を形成しているため、耐候性に富んだアンテナパネル１を構成することができる。
【００５０】
以上のように、この実施の形態１によれば、アンテナパネル１を構成するパネルの鏡面側のみをエッチングして鏡面側に微細凸凹４を形成することにより、ミリ波からサブミリ波に至る高い周波数領域の電波まで使用可能で、太陽光の集光を抑制する良好な反射特性と高い鏡面精度を有するアンテナパネル１を構成することができるという効果が得られる。
【００５１】
また、この実施の形態１によれば、アンテナパネル１の鏡面側にアロジン処理によるアロジン皮膜を形成しているため、耐候性に富んだアンテナパネル１を構成することができるという効果が得られる。
【００５２】
実施の形態２．
上記実施の形態１では、エッチングを一水素二フッ化アンモニウムで行っているが、このエッチング液は、濃度、温度等のエッチング条件によっては、結晶粒が目立ち、ロール目が出てしまう場合がある。これらの模様は、使用している材料にも依存しており、材質によってはすだれのように見えるものがある。パネルの鏡面特性上はほとんど影響しないが、もし、外観上好ましくない場合には、この酸溶液によるエッチングの前に、アルカリ溶液である苛性ソーダで１０秒程度エッチングすると、ロール目等の梨地状態が改善される。
【００５３】
これは、苛性ソーダがそれほど粒界を集中的にエッチングしているわけではないので、この苛性ソーダであらかじめ少し荒らすことによって外観上良好なパネルの表面が得られる。なお、もしエッチングされる表面がアロジン等の膜が形成されている場合には、一水素二フッ化アンモニウムでそのまま処理するとムラになるので、アロジン被膜をとる手段としての前処理の苛性ソーダによるエッチングは効果が高い。
【００５４】
一水素二フッ化アンモニウムを使用した酸溶液によるエッチングの時間と、その前処理である苛性ソーダを使用したアルカリ溶液によるエッチングの時間は、表面粗さと反射特性の要求仕様から決定される。
【００５５】
ここで使用している一水素二フッ化アンモニウムのエッチング液中に、アルカリ溶液が混入するとエッチング性能が落ちるので、アルカリ溶液によるエッチング後の水洗を十分に行い、酸溶液によるエッチングの際に、前処理のアルカリ溶液の混入がないように注意することが必要である。
【００５６】
なお、前処理のエッチング液は特に苛性ソーダに限るものではなく、他のアルカリ溶液でも良い。
【００５７】
以上のように、この実施の形態２によれば、一水素二フッ化アンモニウムを使用した酸溶液によるパネルのエッチングの前に、苛性ソーダを使用したアルカリ溶液によるエッチングを行うことにより、アンテナパネル１の表面を外観上良好にすることができるという効果が得られる。
【００５８】
実施の形態３．
上記実施の形態１では、エッチング前の鏡面側は非常に高精度に仕上げている（０．８Ｓ）が、機械加工時のカッターマークにより、太陽光をある程度散乱をさせるようにしておくことにより、太陽光の反射特性を改善させることが可能である。
【００５９】
なお、鏡面加工の際のカッターマークは、カッター先端形状を工夫することによって、例えば先端が２μｍＲＭＳ程度の凸凹を有するカッターを使用することにより、適当な表面粗さにすることができる。しかし、カッターマークに平行な方向の散乱角はほとんど改善されないので、全方向にわたって光を散乱させるためには機械加工の工夫だけでは難しく、エッチング等の別の手段と組み合わせる必要がある。
【００６０】
また、機械加工時のカッターマークが利用できるのであれば、単独ではやはり反射特性の良くなかったサンドペーパー等の研磨も利用できるのではないかとも考えられるが、サンドペーパーで磨くと、その研磨傷方向と垂直方向に大きく変形するので、その変形量を見込んだ鏡面形状を作成できなければ適用は難しい。
【００６１】
以上のように、この実施の形態３によれば、パネルの表面側に機械加工時のカッターマークとエッチングを組み合せて微細凸凹４を形成することにより、太陽光の反射特性を改善させることができるという効果が得られる。
【００６２】
【発明の効果】
以上のように、この発明に係るアンテナ装置の製造方法によれば、ミリ波からサブミリ波に至る高い周波波領域の電波まで使用可能で、太陽光の集光を抑制する良好な反射性能と高い鏡面精度を有するアンテナパネルを構成することができる。
【００６３】
この発明によれば、アンテナパネルは、表面に化学表面皮膜を形成した微細凸凹を有することにより、耐候性に富んだアンテナパネルを構成することができるという効果がある。
【００６４】
この発明に係るアンテナ装置の製造方法によれば、３０℃〜４０℃の範囲内のエッチング温度で、一水素二フッ化アンモニウム溶液により前記複数の構成物の表面側をエッチングするので、アンテナパネルの熱応力による変形を低減することができる。
【００６５】
この発明によれば、エッチング工程において、加工された構成物の表面側を、アルカリ溶液でエッチングした後、酸溶液で微細凸凹の表面粗さが０．５μｍＲＭＳから５μｍＲＭＳとなるようにエッチングし、エッチングされた構成物の表面側に化学表面皮膜を形成させる表面処理工程を備えたことにより、アンテナパネルの表面を外観上良好にすることができると共に、耐候性に富んだアンテナパネルを構成することができるという効果がある。
【００６６】
この発明によれば、エッチングされた構成物の表面側に化学表面皮膜を形成させる表面処理工程を備えたことにより、耐候性に富んだアンテナパネルを構成することができるという効果がある。
【００６７】
この発明によれば、エッチング前の加工工程において、構成物の表面側に機械加工時のカッターマークによる微細凸凹を形成させることにより、太陽光の反射特性を改善させることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】  この発明の実施の形態１によるアンテナ装置におけるアンテナパネルの構造を拡大した図である。
【図２】  この発明の実施の形態１によるアンテナ装置におけるアンテナパネルを酸溶液でエッチングした場合のパネル表面の太陽光の反射特性を示す図である。
【図３】  苛性ソーダによりエッチングした場合のパネル表面の太陽光の反射特性を示す図である。
【図４】  この発明の実施の形態１によるアンテナ装置を製造する際のエッチングにおけるエッチング時間に対するエッチング量を示す特性図である。
【図５】  この発明の実施の形態１によるアンテナ装置を製造する際のエッチングにおけるエッチング量に対する表面粗さを示す特性図である。
【図６】  この発明の実施の形態１によるアンテナ装置を製造する際のエッチングにおけるエッチング温度に対するエッチング量を示す特性図である。
【図７】  従来のアンテナ装置の構造を示す図である。
【図８】  従来のアンテナ装置の模式的な断面図である。
【図９】  表面を機械的に研磨した平板の加工サンプルの研磨面における太陽光の反射特性を示す図である。
【図１０】  太陽光の反射特性を測定する測定方法を示す図である。
【図１１】  １０ｍ級の大型ミリ波用パラボラアンテナにおいて、副反射鏡に集まる散乱光の集光割合と散乱角との関係を示す特性図である。
【図１２】  加工サンプルの表裏の残留加工応力が異なる場合のエッチングによる変形状況を示す図である。
【図１３】  アンテナパネルの表面粗さと使用周波数の関係を示す特性図である。
【符号の説明】
１  アンテナパネル、２  塗膜、３  副反射鏡、４  微細凸凹。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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