(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室外に設けられ、前記被加熱物を加熱する発熱体と、超微細多孔構造のフュームドシリカで構成され、前記発熱体の熱を反射する反射部と、前記反射部の周囲を固定する金属カバーと、前記反射部と前記金属カバーとの間の絶縁を確保する絶縁物と、前記発熱体と前記被加熱物側との間に位置し、前記加熱室壁面に設けられたパンチング孔部とを有する高周波加熱装置。
【請求項２】
パンチング孔部の径をφ３mm以上、φ１０mm以下とし、前記パンチング孔部から発熱体までの距離を１０mm、２０mm以下に構成した請求項１記載の高周波加熱装置。
【請求項３】
発熱体の電源供給用端子配列が平行の場合、前記端子間はλ／４とする構成にした請求項１または２記載の高周波加熱装置。
【請求項４】
発熱体の電源供給用端子配列が平行以外の場合、前記端子を直角に曲げ、その曲げ部を略一直線上になるように構成した請求項１または２記載の高周波加熱装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はオーブン電子レンジ等の加熱装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来のこの種の高周波加熱装置には図６に示すようなものがあった。図６において加熱室１の前面にはドア２が設けられ、加熱室１の上下壁面にヒータを配置されている。上ヒータ３は金属部４、反射部５、発熱体６、絶縁物７で平面状に構成されている。上ヒータ３の熱を加熱室１内の食品８に放射するようにオーブン上板９に取り付けられている。上ヒータ３が取り付く部分のオーブン上板９は解放状態になっている。電子レンジ調理時に出た電波は加熱室１に放出されてターンテーブル１０に載置された食品８を加熱する仕組みになっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら上記の従来の構成においては、電子レンジ調理時に出た電波は加熱室１に放出されてターンテーブル１０に載置された食品８を加熱する仕組みになっている。一方、上ヒータが取り付け部分のオーブン上板９は解放状態になっているため、上ヒータ３の取り付け部が解放のため一部の電波は、上ヒータの発熱体６に吸収される。吸収された電波は発熱体６を通過し、加熱室１の外へ電波が漏洩してしまいノイズの発生源となるという課題を有していた。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するために、被加熱物を収納する加熱室と前記加熱物を加熱する発熱体と、前記発熱体の熱を反射すると共に超微細多孔構造のフュームドシリカとし、前記発熱体の一部が前記反射部の表面から露出するように埋設して固定し、前記反射部と金属カバーの間に絶縁物を挿入した構成として前記加熱室の上面に配置したものである。前記発熱体が配置されている前記加熱室上面の部分はパンチング孔が開いており、前記パンチング孔部の孔がφ３mm以上でφ１０mm以下ならば、前記パンチング孔から前記発熱体までの距離を１０mm以上２０mm以下に確保されている。前記発熱体に電圧を供給する端子は平行の場合、前記端子間の距離はλ／４とする構成にした。また、ヒータの電源供給用端子が平行以外の場合、端子を直角に曲げ、その曲げ部を略一直線上になるように構成した。
【０００５】
上記発明によれば、電子レンジ調理時に出た電波は加熱室に放出されてターンテーブルに載置された食品を加熱する。一部の電波は上ヒータの取り付け部がパンチング孔でありかつパンチング孔と発熱体との距離を取りかつ端子間の距離や方向によって加熱室の外へ電波が漏洩防止することが出来る。それによってノイズの発生を最小限に抑えることが出来るようになる。
【０００６】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項１にかかる高周波加熱装置は、被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室外に設けると共に前記被加熱物を加熱する発熱体と、前記発熱体の熱を反射すると共に超微細多孔構造のフュームドシリカで構成する反射部と、前記反射部の周囲を固定している金属カバーと、前記反射部と前記金属カバーとの間に絶縁を確保するための絶縁物と、前記発熱体と前記被加熱物側との間に位置する前記加熱室壁面に設けたパンチング孔部とを有するものである。これにより断熱層がスリムとなる。また、高湿度環境下においても絶縁劣化しない。またパンチング孔部により、加熱室外に電波が漏洩しないためノイズの発生源を最小限に抑えることが出来る。
【０００７】
本発明の請求項２にかかる高周波加熱装置は、パンチング孔部の径をφ３mm以上、φ１０mm以下とし、前記パンチング孔部から発熱体までの距離を１０mm以上、２０mm以下に確保するものである。これにより、電波漏洩を防止するものである。
【０００８】
本発明の請求項３にかかる高周波加熱装置は、発熱体の電源供給用端子配列が平行の場合、前記端子間はλ／４に確保するものである。これにより、電波漏洩を防止するものである。
【０００９】
本発明の請求項４にかかる高周波加熱装置は、発熱体の電源供給用端子配列が平行以外の場合、前記端子を直角に曲げ、その曲げ部を略一直線上になるように確保するものである。これにより、電波漏洩を防止するものである。
【００１０】
【実施例】
以下、本発明の実施例について図面に基づいて説明する。
【００１１】
図１は本発明の実施例の高周波加熱装置を示す概略側面断面図、図２は同高周波加熱装置における上ヒータの平面図、図３は同高周波加熱装置における上ヒータの平面図のａ―ａ′断面図、図４、５は同高周波加熱装置における上ヒータの端子部の平面図である。
【００１２】
図１から図５において、加熱室１３の前面にほぼ密閉するようにドア１４が設けられている。本実施例においては、発熱体（ヒータ）は加熱室の上下２壁面に配置した例を示したが、左右でも良いし、全面でも良い等、発熱体の設置場所を限定するものではないのは言うまでもないことである。加熱室１３の上下２壁面にヒータを配置したものであり、加熱室１３のオーブン上板１５に一部パンチング孔部２１が開いておりその上に上ヒータ１６が設置されている。上ヒータ１６は反射部１８、発熱体１９、絶縁物２０、金属カバー１７で構成され、反射部１８は、フュームドシリカの圧縮成形体である。
【００１３】
なお、フュームドシリカは、極限的に微細なセル構造からなるもので、また、赤外線の透過が最小限のレベルになるような、耐熱性金属酸化物等の不透過剤を含有する組成となっており赤外線を効果的に散乱させるため、赤外線の反射率が９０％以上と金属と同等レベルであって、高断熱性、高反射性に優れた性能を有するものである。しかし、フュームドシリカは、極限的に微細なセル構造からなるものであり、微粒子と微粒子が結合した間に無数の隙間が開いており、この隙間に水分が進入すれば、絶縁抵抗が劣化しかつ反射部に耐熱性金属酸化物等を混入させることで更に絶縁抵抗の劣化が促進させるため反射部１８と金属カバー１７との間に絶縁物２０を挿入し絶縁を確保する。絶縁物２０は、マイカ・超耐熱樹脂やムライト系の碍子等にて絶縁を確保するものである。但し、本発明の実施例において、絶縁物は上記３種類の例示をしたが、設置条件（耐熱や耐湿や量産組立性等）を満足する絶縁材料であれば何でも良いことは言うまでもないことである。
【００１４】
なお、発熱体１９は幅５．２５mmのリボン状のＦｅ‐Ｃｒ‐Ａｌ材としている。図３に示すように波形に成形したものであり、反射部１８と一体化して金属カバー１４に収納されている。
【００１５】
本実施例では、発熱体１８の厚みは５０μmとし、消費電力は１００ｖ７５０ｗである。又、図４に示すように、発熱体１９は反射部１８の表面に出ている露出部１９ａと、埋設部１９ｂで構成し、埋設部１９ｂによって反射部１８に固定されたものである。
【００１６】
オーブン上板１５のパンチング孔部２１の孔径がφ３mm未満であれば（表１）に示すように発熱体１９とパンチング孔部２１のスキマａに関係なく１mw/cm２以内に電波漏洩を抑えることが出来る。しかしながらパンチング孔部の径が小さいほど解放面積が小さいため熱の効率が低下する。よって調理時間が長くなり調理性能も低下する。
【００１７】
【表１】
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【００１８】
上ヒータ１６の効率を向上させるためにパンチング孔部２１の径をφ３mm以上φ１０mm以下にする必要がある。そこでパンチング孔部２１が最大限に効率よく開けられるのがφ７．５mmである。その時の電波漏洩は１０mw/cm2以上になる。そこで（表２）に示すように発熱体１９とパンチング孔部２１とのスキマａは１０mm以上２０mm以下に確保する。２０mm以上に設定すると食品２２より離れてしまい調理性能が低下する。また、上ヒータ１６の外形が高くなることより高周波加熱装置が大きくなってしまう。１０mmから２０mm以内に抑えることで電波漏洩が１mw/cm2以下に抑えることが出来る。
【００１９】
【表２】
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【００２０】
なお、オーブン底板２９の下側には、下ヒータ２８が設けられている。下ヒータ１６も上ヒータ２６と同様の反射部２７、発熱体２７、絶縁物２５及び金属カバー２４からなりオーブン底板２９に取り付けられている。下ヒータ２８で発生した熱によりオーブン底板２９を加熱し放射と対流により加熱室内１３のターンテーブル２３上の食品２２に伝わる。
【００２１】
下ヒータ２８も発熱体２７が反射部２６にその一部が表面に露出し、他が埋設した構成であり、幅２．２５mm、厚み５０μm、リボン状で波形形状、同組成の材料を使用している。消費電力は１００ｖ４８０ｗとしている。
【００２２】
また、図３に示すように上ヒータ１６に電源供給用の上ヒータ１６の構成された端子３０が平行な場合は端子間ピッチｂが電子レンジの発振周波数２４５０MHzのλ／４波長に当たる１５mmが基準になり端子３０の端子間ピッチは１５mmピッチが電波漏洩を最小限に抑える最適値である。また、図３以外の端子形状場合は図４のような形状になり端子が直角曲げされて一直線上に構成することで相互干渉を受けなくなるものである。
【００２３】
次に動作、作用について説明すると、加熱室１３内の食品２２は上ヒータ１６・下ヒータ２８からの熱によって加熱調理される。この際、発熱体１９・２７をリボン状の薄板とし、反射部１８、２６から一部露出させているため熱の放射が良好で通電後２〜３秒で赤熱状態となってヒータの所定温度に到達する。
【００２４】
反射部１８、２６は熱伝導率が静止空気のそれよりも小さく、また、赤外線の反射率が０．９０以上と大きく、高放射熱遮断性に優れたフュームドシリカにより構成されているためヒータ部からの熱を外部に逃げ難くし、庫内温度の立ち上がりを速め、与えたエネルギーを効率的に調理に使用することができる。
【００２５】
なお、ヒータ線の厚みや幅等、実施例の数値に限定するものではなく、任意に選定することは当然可能である。ヒータ材質も耐熱的で、成形性や耐久性に問題のないものの中から選択することができ、形状も波形に限定するものではない。
【００２６】
電子レンジ調理時の電波は加熱室に放出されてターンテーブル２３に載置された食品２２を加熱する。一部の電波は上ヒータ１６の取り付け部のパンチング孔２１やパンチング孔２１と発熱体１９との距離ａや端子間の距離ｂや端子３１の方向によって加熱室１３の外へ電波が漏洩防止することが出来る。それによってノイズの発生を最小限に抑えることが出来るようになる。
【００２７】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の高周波加熱装置は熱の反射性、そして断熱性能に優れた超微細他孔構造を有するフュームドシリカの成形体を反射部とし、リボン状の薄板の発熱体を波形形状にして、反射部にその一部を露出させて埋設し、固定した一体構成としているので断熱層がスリムとなる。また、反射部と金属カバー間に絶縁物を挿入し高湿度環境下においても絶縁劣化しないような構成にしている。上ヒータ取り付け部は電波漏洩防止用のパンチング孔部が設けられ、これによって加熱室外に電波が漏洩しないためノイズの発生源を最小限に抑えることが出来る効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例における高周波加熱装置の概略横断面図
【図２】同高周波加熱装置における上ヒータの平面図
【図３】同高周波加熱装置における上ヒータの平面図のａ−ａ′断面図
【図４】同高周波加熱装置における上ヒータの端子部の平面図
【図５】同高周波加熱装置における上ヒータの端子部の平面図
【図６】従来の高周波加熱装置の構成を示す概略縦断面図
【符号の説明】
１３  加熱室
１４  ドア
１５  オーブン上板
１６  上ヒータ
１７  金属カバー
１８  反射部
１９  発熱体
２０  絶縁物
２１  パンチング孔部
２２  食品
２３  ターンテーブル
２４  金属カバー
２５  絶縁物
２６  反射部
２７  発熱体
２８  下ヒータ
２９  オーブン下板
３０  端子
３１  端子
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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