(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被測定物の放射状況を当該被測定物に記述する放射源可視化装置であって、
前記被測定物の放射を感知する感知手段と、前記感知手段の出力を測定する測定手段と、前記被測定物に放射状況を記述する書き込み手段と、前記感知手段及び前記書き込み手段または前記被測定物を移動させる移動手段と、前記測定手段と前記書き込み手段と前記移動手段を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする放射源可視化装置。
【請求項２】
被測定物の放射状況に応じて当該被測定物にシールドを施す放射源シールド装置であって、
前記被測定物の放射を感知する感知手段と、前記感知手段の出力を測定する測定手段と、前記被測定物に塗膜する塗膜手段と、前記感知手段及び前記塗膜手段または前記被測定物を移動させる移動手段と、前記測定手段と前記塗膜手段と前記移動手段を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする放射源シールド装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被測定物の放射状況を当該被測定物上で可視化することができる放射源可視化装置、及び被測定物の放射状況に応じて当該被測定物にシールドを施すことができる放射源シールド装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、放射源を可視化することができる可視化装置としては、例えば、電磁輻射可視化装置がある（特開平５−１１９０８９号公報参照）。この電磁輻射可視化装置は、可変長ダイポールアンテナを３次元移動機構で光学的に暗い電波暗室の中を走査させて、測定各点の電界強度に比例したランプの明るさを露出解放のステレオカメラに記録する構成を有している。
【０００３】
すなわち、この電磁輻射可視化装置は、可変長ダイポールアンテナを３次元移動機構で光学的に暗い電波暗室の中で走査させて、測定各点の電界強度に比例したランプの明るさを露出解放のステレオカメラに記録する構成を利用して、被測定物からの電磁波の輻射位置、方向、強度をイメージで立体視している。
【０００４】
また従来、放射源をシールドすることができるシールド方法としては、例えば、プリント配線板の製造方法がある（特開平６−６９６１２号公報参照）。このプリント配線板の製造方法は、基板の片面または両面に回路導体を形成するとともに、回路導体の表側に被着した絶縁層を介して第１のシールド層を被着し、さらにシールド膜の表側に絶縁層を被着した後、第２のシールド膜を被着するものである。
【０００５】
すなわち、このプリント配線板の製造方法は、基板の片面または両面に回路導体を形成するとともに、回路導体の表側に被着した絶縁層を介して第１のシールド層を被着し、さらにシールド膜の表側に絶縁層を被着した後、第２のシールド膜を被着することを利用して、各回路導体間のクロストーク及びノイズのシールドに加えて、外部ノイズのシールド作用を的確に発揮し得るプリント配線板の的確な製造を可能にしている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来の電磁輻射可視化装置にあっては、被測定物からの電磁波の輻射位置、方向、強度をイメージで立体視することはできるものの、３次元空間でのランプの明るさの変化をステレオカメラに記録するために、被測定物の放射状況を当該被測定物上で可視化することができず、改良の余地があった。
【０００７】
また、従来のプリント配線板の製造方法にあっては、各回路導体間のクロストーク及びノイズのシールドに加えて、外部ノイズのシールド作用を的確に発揮し得るプリント配線板の的確な製造を可能にすることは出来るものの、被測定物の放射状況を考慮していないため、被測定物の放射状況に応じてシールドを施すことができず、改良の余地があった。
【０００８】
本発明は、被測定物の放射状況を当該被測定物上で可視化することができる放射源可視化装置を提供することを第１の目的とする。
【０００９】
また本発明は、被測定物の放射状況に応じて当該被測定物にシールドを施すことができる放射源シールド装置を提供することを第２の目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
第１の目的を達成するために請求項１記載の発明は、被測定物の放射状況を当該被測定物に記述する放射源可視化装置であって、前記被測定物の放射を感知する感知手段と、前記感知手段の出力を測定する測定手段と、前記被測定物に放射状況を記述する書き込み手段と、前記感知手段及び前記書き込み手段または前記被測定物を移動させる移動手段と、前記測定手段と前記書き込み手段と前記移動手段を制御する制御手段とを備えたことを特徴とするものである。この場合、書き込み手段は感知手段一体型であってもよい。
【００１１】
また、第２の目的を達成するために請求項２記載の発明は、被測定物の放射状況に応じて当該被測定物にシールドを施す放射源シールド装置であって、前記被測定物の放射を感知する感知手段と、前記感知手段の出力を測定する測定手段と、前記被測定物に塗膜する塗膜手段と、前記感知手段及び前記塗膜手段または前記被測定物を移動させる移動手段と、前記測定手段と前記塗膜手段と前記移動手段を制御する制御手段とを備えたことを特徴とするものである。
【００１２】
請求項１記載の発明では、感知手段と測定手段により被測定物の放射を測定して、その結果を書き込み手段により被測定物に書き込むため、被測定物の放射状況を当該被測定物上で可視化することができる。
【００１３】
請求項２記載の発明では、感知手段と測定手段と移動手段により被測定物の放射源を探知して、その結果に応じて塗膜手段により当該被測定物にシールドを施すため、被測定物の放射状況に応じて当該被測定物にシールドを施すことができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施の形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。
なお、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な実施の形態であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるものではない。
【００１５】
まず、放射源可視化装置について説明する。
図１は本発明の放射源可視化装置の第１の実施の形態を示す構成図であり、請求項１に対応するものである。本実施の形態の放射源可視化装置は、回路基板の電磁波放射の状態を当該回路基板上で直接可視化するのに利用される。
【００１６】
図１において、放射源可視化装置は、微小ループアンテナ４が固定台２上の回路基板１の電磁波放射を感知できるように、また書き込みペン７が固定台２上の回路基板１に書き込みできるように、微小ループアンテナ４と書き込みペン７と直交２軸ステージ３が配設され、電波暗室等の外来ノイズの影響を無視できる電磁環境中に設置される。
【００１７】
次に、本実施の形態の作用、動作を説明する。回路基板１は固定台２に載置される。微小ループアンテナ４及び書き込みペン７は直交２軸ステージ３に載置される。パソコン６は、直交２軸ステージ３、オシロスコープ５、書き込みペン７に接続され、これらを統括制御する。
【００１８】
パソコン６は、直交２軸ステージ３により微小ループアンテナ４を順次所定の測定点に移動させる。微小ループアンテナ４は、各測定点において回路基板１からの電磁波放射を感知する。オシロスコープ５は、微小ループアンテナ４の出力信号を測定する。
【００１９】
パソコン６は、オシロスコープ５により測定された微小ループアンテナ４の出力信号の有無及びその強度を取得する。パソコン６は、直交２軸ステージ３により書き込みペン７を順次所定の点に移動させる。そして、書き込みペン７により回路基板１の放射状況に応じて回路基板１に所定の書き込みを行う。放射源可視化装置は、以上の手続きを施すことにより回路基板１の放射状況を当該回路基板１上で可視化する。
【００２０】
このように、本実施の形態の放射源可視化装置は、微小ループアンテナ４とオシロスコープ５により回路基板１の放射を測定して、その結果を書き込みペン７により回路基板１に書き込むため、回路基板１の放射状況を当該回路基板１上で可視化することができる。これにより、他の記録媒体を介することなく回路基板１から直接放射状況が分かり、対策をより適切かつ速やかに行うことができる。
【００２１】
また、放射源可視化装置は、感知手段に例えば、マイクロホンやＣＣＤ、赤外線センサ、圧力センサ、臭気センサを適用することにより、電磁波源に限らず、音源や光源、熱源、気流源、臭気源などの可視化も行うことができる。
【００２２】
図２は本発明の放射源可視化装置の第２の実施の形態を示すものであり、本実施の形態は、複数の書き込みペン８が複数の色を扱うものである。
なお、本実施の形態は、上記第１の実施の形態と同様の放射源可視化装置に適用したものであり、本実施の形態の説明においては、上記第１の実施の形態の放射源可視化装置と同様の構成部分には同一符号を付して、その詳細な説明を省略する（以降の図においても同様）。
【００２３】
第２の実施の形態においては、第１の実施の形態の書き込みペン７に代えて、複数の書き込みペン８を設置したものである。そして、複数の書き込みペン８により、回路基板１の放射状況に応じて回路基板１に複数の色で所定の書き込みを行う。
【００２４】
このように、本実施の形態の放射源可視化装置では、複数の書き込みペン８を設け、複数の色を扱うようにしたため、放射分布表示やマーキングをより適切に行うことができる。
【００２５】
次に、本発明の放射源可視化装置の第３の実施の形態を、図１を利用して説明する。
第３の実施の形態においては、書き込みペン７は、耐熱性記録材料、例えば、顔料インク、無機トナー等で回路基板１に所定の書き込みを行うものである。
【００２６】
このように、本実施の形態の放射源可視化装置では、書き込みペン７は耐熱性記録材料で記述するため、熱を持った回路基板１上でも適切に放射状況を可視化することができる。
【００２７】
次に、本発明の放射源可視化装置の第４の実施の形態を、図１を利用して説明する。
第４の実施の形態においては、書き込みペン７は、消色性記録材料、例えば、フルギド化合物を用いた光変色性材料、ロイコ染料を主体とした発色剤とフェノール性水酸基含有化合物を顕色剤とした熱変色性材料等で回路基板１に所定の書き込みを行うものである。
【００２８】
このように、本実施の形態の放射源可視化装置では、書き込みペン７は、消色性記録材料で記述するため、記述の消去が行え、繰り返し放射状況を可視化することができる。
【００２９】
図３は本発明の放射源可視化装置の第５の実施の形態（参考例）を示す図であり、本実施の形態は、書き込みペンとして微小ループアンテナ一体型書き込みペン９を設けたものである。このようにすることで、書き込み手段は感知手段一体型であるため、測定と書き込みが同時に行え、速やかに放射状況を可視化することができる。
【００３０】
このように、本実施の形態の放射源可視化装置では、微小ループアンテナ４と一体化した微小ループアンテナ一体型書き込みペン９を設けたので、測定と書き込みが同時に行え、速やかに放射状況を可視化することができる。
【００３１】
次に本発明の放射源可視化装置の第６の実施の形態を、図１を利用して説明する。
第６の実施の形態においては、書き込みペン７は、ゴム状物質等を被測定物である回路基板１上に一様に書き込むことにより、予め分離可能な膜を被測定物上に形成するものである。
【００３２】
このように、本実施の形態の放射源可視化装置では、書き込みペン７は、予め分離可能な膜を書き込むため、膜を分離することにより記述の消去が行え、繰り返し放射状況を可視化することが出来るとともに、分離した膜上に放射状況を保存することができる。
【００３３】
次に本発明の放射源可視化装置の第７の実施の形態を、図１を利用して説明する。
第７の実施の形態においては、書き込みペン７が回路基板１に予め背景色を書き込むものである。
【００３４】
このように、本実施の形態の放射源可視化装置では、書き込みペン７は予め背景色を書き込むため、様々な色や部材からなる回路基板１上でも適切に放射状況を記述することができる。
【００３５】
次に本発明の放射源可視化装置の第８の実施の形態を、図１を利用して説明する。
第８の実施の形態においては、書き込みペン７が回路基板１に予め着色補助剤を書き込むものである。
【００３６】
このように、本実施の形態の放射源可視化装置では、書き込みペン７は予め着色補助剤を書き込むため、様々な色や部材からなる回路基板１上でも適切に放射状況を記述することができる。
【００３７】
図４は本発明の放射源可視化装置の第９の実施の形態を示す図であり、本実施の形態は、書き込みペン７の代わりに非接触方式のインク塗出装置１０を設けたものである。なお、他の非接触方式の書き込み手段としては、例えば、レーザ書き込み装置、トナー塗出装置等がある。
【００３８】
このように、本実施の形態の放射源可視化装置では、インク塗出装置１０は非接触方式であるため、書き込みが容易になり、様々な形状の回路基板１上でも適切に放射状況を記述することができる。
【００３９】
以上、本発明を好適な実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。
【００４０】
次に放射源シールド装置について説明する。図５は本発明の放射源シールド装置の第１の実施の形態を示す構成図であり、請求項２に対応するものである。本実施の形態の放射源シールド装置は、回路基板の電磁波の放射状況に応じて当該回路基板にシールドを施すのに利用される。
【００４１】
図５において、放射源シールド装置は、微小ループアンテナ４が固定台２上の回路基板１の電磁波放射を感知できるように、また塗膜ペン１１が固定台２上の回路基板１にシールド材料を塗膜できるように、微小ループアンテナ４と塗膜ペン１１と直交２軸ステージ３が配設され、電波暗室等の外来ノイズの影響を無視できる電磁環境中に設置される。
【００４２】
次に、本実施の形態の作用、動作を説明する。回路基板１は固定台２に載置される。微小ループアンテナ４及び塗膜ペン１１は直交２軸ステージ３に載置される。パソコン６は、直交２軸ステージ３、オシロスコープ５、塗膜ペン１１に接続され、これらを統括制御する。
【００４３】
パソコン６は、直交２軸ステージ３により微小ループアンテナ４を順次所定の測定点に移動させる。微小ループアンテナ４は、各測定点において回路基板１からの電磁波放射を感知する。オシロスコープ５は、微小ループアンテナ４の出力信号を測定する。
【００４４】
パソコン６は、オシロスコープ５により測定された微小ループアンテナ４の出力信号の有無及びその強度を取得する。パソコン６は、直交２軸ステージ３により塗膜ペン１１を順次所定の点に移動させる。そして、塗膜ペン１１により回路基板１の放射状況に応じて回路基板１に所定量シールド材料の塗膜を行う。放射源シールド装置は、以上の手続きを施すことにより回路基板１の放射状況に応じて当該回路基板１にシールドを施す。
【００４５】
このように、本実施の形態の放射源シールド装置は、微小ループアンテナ４とオシロスコープ５により回路基板１の放射を探知して、その結果に応じて塗膜ペン１１により当該回路基板１にシールドを施すため、回路基板１の放射状況に応じて当該回路基板１にシールドを施すことができる。これにより、回路基板１の放射対策をより適切かつ速やかに行うことができる。
【００４６】
また、放射抑制のための設計変更の省略、簡易的な応急措置、設計変更後のシールドなどへの柔軟な対応を行うことができる。
【００４７】
さらに、回路基板１の全面にシールドを施すのではなく、回路基板１の放射に応じてシールドを施すため、強い放射源には、より極力なシールドを施すなどの対応が取れ、また、シールド材料を節約することができ、さらに、シールドによる熱問題が発生し難くなる。
【００４８】
また、放射源シールド装置は、感知手段に例えば、マイクロホンやＣＣＤ、赤外線センサ、圧力センサ、臭気センサを適用することにより、電磁波源に限らず、音源や光源、熱源、気流源、臭気源などのシールドも施すことができる。
【００４９】
次に本発明の放射源シールド装置の第２の実施の形態を、図５を利用して説明する。
第２の実施の形態においては、塗膜ペン１１が回路基板１に予め絶縁皮膜を塗膜するものである。
【００５０】
このように、本実施の形態の放射源シールド装置では、塗膜ペン１１は予め絶縁皮膜を塗膜するため、電気的短絡を防止することができる。さらに、回路基板１の全面に絶縁皮膜を施すのではなく、回路基板１の放射に応じて絶縁皮膜を施せば、絶縁皮膜材料を節約することができる。
【００５１】
次に、本発明の放射源シールド装置の第３の実施の形態を、図５を利用して説明する。
第３の実施形態においては、塗膜ペン１１が耐熱性シールド材料で回路基板１に塗膜するものである。
【００５２】
このように、本実施の形態の放射源シールド装置では、塗膜ペン１１は耐熱性シールド材料で塗膜するため、熱を持った回路基板１でも焦げつきや燃焼、接着不良を防止し、適切にシールドを施すことができる。
【００５３】
次に、本発明の放射源シールド装置の第４の実施の形態を、図５を利用して説明する。
第４の実施形態においては、塗膜ペン１１が有色シールド材料で回路基板１に塗膜するものである。
【００５４】
このように、本実施の形態の放射源シールド装置では、塗膜ペン１１は有色シールド材料で塗膜するため、シールド状況を把握することができる。さらに放射状況を可視化することができる。これにより、可視化情報を用いて放射問題に対するノウハウを得ることができる。
【００５５】
図６は本発明の放射源シールド装置の第５の実施の形態を示す図であり、本実施の形態は、塗膜１１が微小ループアンテナ４近傍に配設されるものである。従って、回路基板１の任意の位置において測定と塗膜が同時に行え、適切かつ速やかにシールドを施すことができる。
【００５６】
次に、本発明の放射源シールド装置の第６の実施の形態を、図５を利用して説明する。
第６の実施の形態においては、塗膜ペン１１により塗膜状況毎の回路基板１の放射状況に応じて、回路基板１に所定量シールド材料の塗膜を行うものである。
【００５７】
このように、本実施の形態の放射源シールド装置では、塗膜ペン１１は塗膜状況毎の測定値に応じて塗膜するため、塗膜することによってシールドされていく回路基板１の動的に変化する放射状況に応じて、当該回路基板１にシールドを施すことができる。これにより、放射がある一定レベル以下になるまで塗膜を行うなどの対応がとれ、回路基板１の放射対策をより適切かつ速やかに行うことができる。
【００５８】
図７は本発明の放射源シールド装置の第７の実施の形態を示す図であり、本実施の形態は、塗膜手段として非接触方式の塗膜スプレー１２を設けたものである。
【００５９】
このように、本実施の形態の放射源シールド装置では、塗膜スプレー１２は非接触方式であるため、接触方式に比べ特に表面形状が平坦でない回路基板１等に対して塗膜スプレー１２の移動と塗膜が大幅に容易になり、様々な形状の回路基板１でも適切かつ速やかにシールドを施すことができる。
【００６０】
図８は本発明の放射源シールド装置の第８の実施の形態を示す図であり、本実施の形態は、塗膜手段が防気流部材を有するものである。即ち、防気流囲い１３を有した塗膜ペン１１が設けられている。
【００６１】
このように、本実施の形態の放射源シールド装置では、防気流囲い１３を有するため、外乱気流による塗膜の乱れを防止することができる。さらに、塗膜ペン１１が非接触方式である場合、塗膜の位置精度を向上させることができる。
【００６２】
次に、本発明の放射源シールド装置の第９の実施の形態を、図５を利用して説明する。
第９の実施の形態においては、塗膜ペン１１が回路基板１に対して略下方向に塗膜するようになっている。
【００６３】
このように、本実施の形態の放射源シールド装置では、塗膜ペン１１は略下方向に塗膜するため、重力による塗膜の乱れを防止することができ、また、シールド材料塗出安定性が得られる。さらに、塗膜ペン１１が非接触方式である場合、回路基板１の表面形状が平坦でない等でシールド材料の飛翔距離が変化するような場合でも、塗膜の位置精度を向上させることができ、様々な形状の回路基板１でも適切にシールドを施すことができる。
【００６４】
以上、本発明を好適な実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記のものに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。
【００６５】
【発明の効果】
請求項１記載の発明によれば、感知手段と測定手段により被測定物の放射を測定して、その結果を書き込み手段により被測定物に書き込むため、被測定物の放射状況を当該被測定物上で可視化することができる。これにより、他の記録媒体を介することなく被測定物から直接放射状況が分かり、対策をより適切かつ速やかに行うことができる。
【００６７】
請求項２記載の発明によれば、感知手段と測定手段と移動手段により被測定物の放射源を探知して、その結果に応じて塗膜手段により当該被測定物にシールドを施すため、被測定物の放射状況に応じて当該被測定物にシールドを施すことができる。これにより、被測定物の放射対策を適切かつ速やかに行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の放射源可視化装置の第１の実施の形態を示す構成図である。
【図２】本発明の放射源可視化装置の第２の実施の形態を示す構成図である。
【図３】本発明の放射源可視化装置の第５の実施の形態を示す構成図である。
【図４】本発明の放射源可視化装置の第９の実施の形態を示す構成図である。
【図５】本発明の放射源シールド装置の第１の実施の形態を示す構成図である。
【図６】本発明の放射源シールド装置の第５の実施の形態を示す構成図である。
【図７】本発明の放射源シールド装置の第７の実施の形態を示す構成図である。
【図８】本発明の放射源シールド装置の第８の実施の形態を示す構成図である。
【符号の説明】
１  回路基板
２  固定台
３  直交２軸ステージ
４  微小ループアンテナ
５  オシロスコープ
６  パソコン
７  書き込みペン
８  複数の書き込みペン
９  微小ループアンテナ一体型書き込みペン
１０  インク塗出装置
１１  塗膜ペン
１２  塗膜スプレー
１３  防気流囲い
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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