(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下式（Ｉ）
【化１】
0004078476.tif 000023
（式中、Ａ及びＢは、同一又は相異なり、スルホ及びカルボキシルから選ばれる１若しくは２個の水溶性基を有するフェニル又は１〜３個のスルホを有するナフチルを表し、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6 は、同一又は相異なり、水素、低級アルキル又は低級アルコキシを表し、Ｘは、−Ｎ＝Ｎ−又は−ＮＨＣＯ−を表す。）
で示されるアゾ化合物又はその塩。
【請求項２】
Ａ及びＢが、同一又は相異なり、モノスルホフェニル又はジスルホナフチルである請求項１に記載のアゾ化合物又はその塩。
【請求項３】
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6 が、同一又は相異なり、水素、メチル又はメトキシである請求項１又は２に記載のアゾ化合物又はその塩。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載のアゾ化合物又はその塩を偏光膜基材に含有してなる染料系偏光膜。
【請求項５】
偏光膜基材が、ポリビニルアルコール系の樹脂からなるフィルムである請求項４に記載の染料系偏光膜。
【請求項６】
更に、極大吸収波長が５００〜６５０nmの範囲である染料を偏光膜基材に含有してなる請求項４又は５に記載の染料系偏光膜。
【請求項７】
極大吸収波長が５００〜６５０nmの範囲である染料が、下式（Ｖ）
【化２】
0004078476.tif 000024
（式中、Ｄは、スルホ及びカルボキシルから選ばれる１若しくは２個の水溶性基を有し、更に、低級アルキル及び低級アルコキシから選ばれる１若しくは２個の基を有していてもよいフェニル、又は１〜３個のスルホを有するナフチルを表し、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は、同一又は相異なり、水素、低級アルキル又は低級アルコシキを表し、Ｅは−ＮＨ−、−Ｎ＝Ｎ−又は−ＮＨＣＯ−を表し、Ｆは、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキル、低級アルコキシ及びスルホから選ばれる１若しくは２個の基を有していてもよいフェニルを表し、ｎは０又は１を表す。）で示されるアゾ化合物又はその塩である請求項６に記載の染料系偏光膜。
【請求項８】
Ｄが、モノスルホフェニル又はジスルホナフチルである請求項７に記載の染料系偏光膜。
【請求項９】
Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10が、同一又は相異なり、水素、メチル又はメトキシである請求項７又は８に記載の染料系偏光膜。
【請求項１０】
Ｆが、ヒドロキシ又はアミノを有していてもよいフェニルである請求項７〜９のいずれかに記載の染料系偏光膜。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、染料、特に偏光膜用の黄色染料として有用なアゾ化合物又はその塩及びそれらを含有してなる染料系偏光膜に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
偏光膜は、延伸配向したポリビニルアルコール系のフィルム又は、ポリ塩化ビニルフィルムの脱塩酸若しくはポリビニルアルコール系フィルムの脱水によりポリエンを生成して配向せしめたポリエン系のフィルムなどの偏光膜基材に、偏光素子としてヨウ素や二色性染料を含有させて製造される。これらのうち、ヨウ素系偏光膜は、初期偏光性能には優れるものの、熱に対する耐久性や水に対する耐久性が劣るため、高温・高湿の状態ではその性能が低下するという問題がある。このような耐久性を向上させるために、ホルムアルデヒド又はホウ酸を含む水溶液で処理する方法や、透湿度の低い高分子フィルムを保護膜として用いる方法などが考えられているが、未だ十分とはいえない。
【０００３】
一方、偏光素子として二色性染料を用いた染料系偏光膜は、ヨウ素系偏光膜に比べて熱及び水に対する耐久性に優れるものの、一般に初期偏光性能が劣る傾向があり、特に初期偏光性能に優れた偏光膜用黄色染料が要望されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者は、偏光膜製造時の染色性が良好であり、偏光性能や、高温、高湿条件における耐久性及び耐光性に優れ、且つ、高分子フィルムに２種類以上の二色性染料を吸着配向させてなる液晶プロジェクター用途等の偏光膜において、４００〜５００nmの範囲の比較的短波長の領域をカバーする黄色染料を探索した結果、特定のアゾ化合物又はその塩が上記目的を達成することを見出して、本発明を完成するに至った。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明は、
（イ）下式（Ｉ）
【０００６】
【化３】
0004078476.tif 000002
【０００７】
（式中、Ａ及びＢは、同一又は相異なり、スルホ及びカルボキシルから選ばれる１若しくは２個の水溶性基を有するフェニル又は１〜３個のスルホを有するナフチルを表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、同一又は相異なり、水素、低級アルキル又は低級アルコキシを表し、Ｘは、−Ｎ＝Ｎ−又は−ＮＨＣＯ−を表す。）
で示されるアゾ化合物又はその塩、
並びに、
（ロ）上記（イ）のアゾ化合物又はその塩を偏光膜基材に含有してなる染料系偏光膜を提供するものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】
上式（Ｉ）におけるＡ及びＢは、同一又は相異なり、スルホ及びカルボキシルから選ばれる１もしくは２個の水溶性基を有しているフェニル又は１〜３個のスルホを有するナフチルである。上記フェニルとしては、例えば、２−、３−又は４−スルホフェニル、２−、３−又は４−カルボキシフェニル、２，４−又は２，５−ジスルホフェニル、３，５−ジカルボキシフェニル、及び、２−カルボキシ−４−又は−５−スルホフェニルなどが挙げられる。又、上記ナフチルとしては、例えば、５−、６−、７−又は８−スルホ−２−ナフチル、４−、５−、６−又は７−スルホ−１−ナフチル、６，８−、４，８−、５，７−又は３，６−ジスルホ−２−ナフチル、３，６−又は４，６−ジスルホ−１−ナフチル、及び、３，６，８−又は４，６，８−トリスルホ−２−ナフチル等が挙げられる。
前記したフェニルとしては、モノスルホフェニルが好ましい。又、前記したナフチルとしては、ジスルホナフチルが好ましく、ジスルホ−２−ナフチルが特に好ましい。
【０００９】
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6 は、同一又は相異なり、水素、低級アルキル又は低級アルコキシであり、該低級アルキル及び低級アルコキシとしては、炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐状のものが好ましい。低級アルキルの具体例としては、メチル、エチル及びプロピルなどが挙げられる。また、低級アルコキシの具体例としては、メトキシ、エトキシ及びプロポキシ等が挙げられる。
上記のＲ1〜Ｒ6としては、二色性の観点から、水素、メチル又はメトキシが特に好ましい。
又、上式（Ｉ）におけるＸは、−Ｎ＝Ｎ−又は−ＮＨＣＯ−を表す。
【００１０】
本発明の偏光膜（ロ）は、上記（イ）のアゾ化合物又はその塩を偏光膜基材に含有してなるものである。
【００１１】
偏光膜用染料としては、式（Ｉ）で示されるアゾ化合物又はその塩に加えて、更に、極大吸収波長が500〜650ｎｍの範囲である染料を含有する組成物が好ましく、極大吸収波長が500〜570ｎｍの範囲である染料を含有する組成物が特に好ましい。
極大吸収波長が500〜650ｎｍの範囲である染料としては、下式（Ｖ）で示されるアゾ化合物又はその塩が好ましい。
【００１２】
【化４】
0004078476.tif 000003
【００１３】
（式中、Ｄは、スルホ及びカルボキシルから選ばれる１若しくは２個の水溶性基を有し、更に、低級アルキル及び低級アルコキシから選ばれる１若しくは２個の基を有していてもよいフェニル、又は１〜３個のスルホを有するナフチルを表し、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は、互いに同一又は相異なり、水素、低級アルキル又は低級アルコキシを表し、Ｅは、−ＮＨ−、−Ｎ＝Ｎ−又は−ＮＨＣＯ−を表し、Ｆは、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキル、低級アルコキシ及びスルホから選ばれる１若しくは２個の基を有していてもよいフェニルを表し、ｎは０又は１を表す。）
【００１４】
式（Ｖ）におけるＤは、スルホ及びカルボキシルから選ばれる基を１もしくは２個有しており、更に、低級アルキル及び低級アルコキシから選ばれる１若しくは２個の基を有していてもよいフェニル、又は、スルホを１〜３個有しているナフチルである。
上記Ｄで示されるフェニルとしては、例えば２−、３−又は４−スルホフェニル、２−、３−又は４−カルボキシフェニル、２，４−又は２，５−ジスルホフェニル、３，５−ジカルボキシフェニル、２−カルボキシ−４−又は−５−スルホフェニル、２−又は３−メチル−４−スルホフェニル、２−又は３−メチル−４−カルボキシフェニル、２，５−ジメチル−４−スルホフェニル、２，５−ジメチル−４−カルボキシフェニル、２−又は３−メトキシ４−スルホフェニル、２−又は３−メトキシ４−カルボキシフェニル、２，５−ジメトキシ４−スルホフェニル、及び、２，５−ジメトキシ４−カルボキシフェニル等が挙げられる。又、上記Ｄで示されるナフチルとしては、例えば、５−、６−、７−又は８−スルホ−２−ナフチル、４−、５−、６−又は７−スルホ−１−ナフチル、６，８−、４，８−、５，７−又は３，６−ジスルホ−２−ナフチル、３，６−又は４，６−ジスルホ−１−ナフチル、及び、３，６，８−又は４，６，８−トリスルホ−２−ナフチル等が挙げられる。
【００１５】
上記のＤで示されるフェニルとしては、モノスルホフェニルが好ましい。又、上記のＤで示されるナフチルとしては、ジスルホナフチルが好ましく、ジスルホ−２−ナフチルが特に好ましい。
【００１６】
Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10で表される低級アルキル及び低級アルコキシは、それぞれ、炭素数１〜４の直鎖又は分岐状のものが好ましい。上記の低級アルキルの具体例としては、メチル、エチル、プロピル等が挙げられる。又、低級アルコキシの具体例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ等が挙げられる。
Ｒ7〜Ｒ10としては、二色性の観点から、水素、メチル又はメトキシが特に好ましい。
【００１７】
式（Ｖ）において、Ｆで示されるフェニルの置換基としての低級アルキル及び低級アルコキシは、各々、炭素数１〜４の直鎖又は分岐状のものが好ましい。上記低級アルキルの具体例としては、メチル、エチル、プロピル等が挙げられる。又、上記低級アルコキシの具体例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ等が挙げられる。Ｆとしては、フェニル、４−アミノフェニル及びヒドロキシフェニルが特に好ましい。
【００１８】
式（Ｖ）で示されるアゾ化合物又はその塩としては、ｎが０であるものが好ましく、具体的には、以下のものが例示される。
【００１９】
【化５】
0004078476.tif 000004
【００２０】
【化６】
0004078476.tif 000005
【００２１】
【化７】
0004078476.tif 000006
【００２２】
【化８】
0004078476.tif 000007
【００２３】
アゾ化合物（Ｉ）又はその塩は、例えば、以下に述べる方法によって製造することができる。
即ち、先ず、下式（II）
ＮＨ2−Ｂ          （II）
（式中、Ｂは前記の意味を表す。）
で示される芳香族アミン化合物を、水性溶媒中、常法によりクロロ炭酸フェニルと反応させて、下式 (III)
【００２４】
【化９】
0004078476.tif 000008
【００２５】
（式中、Ｂは前記の意味を表す）
で示されるカルバメート化合物を得る。次いで、このカルバメート化合物と、下式（IV）
【００２６】
0004078476.tif 000009
【００２７】
（式中、Ａ、Ｘ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、前記の意味を表す。）
で示されるアゾ中間化合物とを、水性溶媒中、２０〜６０℃で反応させることにより、アゾ化合物（Ｉ）を得ることができる。
【００２８】
極大吸収波長が500〜650ｎｍの範囲のアゾ化合物（Ｖ）又はその塩は、例えば、以下に述べる方法によって製造することができる。即ち、先ず、下式（ＶＩ）
【００２９】
【化１０】
0004078476.tif 000010
【００３０】
（式中、Ｄ、ｎ、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は前記の意味を表す。）
で示される化合物を、酸性の水性媒体中で亜硝酸ナトリウムと反応させて、ジアゾ化する。得られたジアゾ化物を、下式(ＶＩＩ)
【００３１】
【化１１】
0004078476.tif 000011
【００３２】
（式中、Ｅ及びＦは前記の意味を表す。）
で示される化合物と、水性媒体中、５〜４０℃、ｐＨ６〜９の条件下で反応させることにより、式（Ｖ）で示されるアゾ化合物又はその塩を得ることができる。
【００３３】
上記アゾ化合物（Ｉ）が塩の形で存在する場合、その塩としては、リチウム塩やナトリウム塩、カリウム塩のようなアルカリ金属塩、アンモニウム塩、及び、エタノールアミン塩やアルキルアミン塩のような有機アミン塩等が挙げられる。アゾ化合物（Ｉ）を偏光膜基材に含有させる場合は、ナトリウム塩の形で用いるのが好ましい。
【００３４】
アゾ化合物（Ｉ）又はその塩を偏光膜基材に含有させて偏光膜とする場合は、他の有機染料と併用することにより、色相を補正し、偏光性能を向上させることができる。この場合に用いられる有機染料としては、二色性の高いものであればいかなる染料でもよいが、特に耐光性に優れる染料を選択することにより、液晶プロジェクター用途に適した偏光膜とすることができる。
【００３５】
本発明の染料系偏光膜（ロ）は、アゾ化合物（Ｉ）又はその塩からなる、あるいは、さらに他の有機染料を含んでなる二色性染料を、偏光膜基材である高分子フィルムに公知の方法で含有させることによって、製造することができる。この高分子フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコール系の樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、エチレン／酢酸ビニル（ＥＶＡ）樹脂、ナイロン樹脂、ポリエステル樹脂などからなるものが利用される。ここでいうポリビニルアルコール系の樹脂には、ポリ酢酸ビニルの部分又は完全ケン化物であるポリビニルアルコール自体のほか、ケン化ＥＶＡ樹脂のような、酢酸ビニルと他の共重合可能な単量体、例えば、エチレンやプロピレンのようなオレフィン類、クロトン酸やアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸のような不飽和カルボン酸類、不飽和スルホン酸類、ビニルエーテル類などとの共重合体のケン化物、さらにはポリビニルアルコールをアルデヒドで変性したポリビニルホルマールやポリビニルアセタールなども包含される。偏光膜基材としては、ポリビニルアルコール系のフィルム、特にポリビニルアルコールフィルムが、染料の吸着性及び配向性の点から、好適に用いられる。
【００３６】
このような高分子フィルムに二色性染料を含有させるにあたっては、通常、高分子フィルムを染色する方法が採用される。染色は、例えば次のようにして行うことができる。まず、二色性染料を水に溶解して染浴を調製する。染浴中の染料濃度は特に制限されないが、通常は０.０００１〜１０重量％の範囲から選択される。また、必要により染色助剤を用いてもよく、例えば、芒硝を染浴中で１〜１０重量％用いるのが好適である。このようにして調製した染浴に高分子フィルムを浸漬し、染色を行う。染色温度は、好ましくは４０〜８０℃である。二色性染料の配向は、高分子フィルムを延伸することによって行われる。延伸する方法としては、例えば湿式法や乾式法など、公知のいずれの方法を採用してもよい。高分子フィルムの延伸は、染色の前に行っても、染色の後に行ってもよい。
【００３７】
二色性染料を含有させ、配向させた高分子フィルムは、必要に応じて、公知の方法によりホウ酸処理などの後処理が施される。このような後処理は、偏光膜の光線透過率、偏光度及び耐久性を向上させる目的で行われる。ホウ酸処理の条件は、用いる高分子フィルムの種類や用いる染料の種類によって異なるが、一般的には、ホウ酸水溶液のホウ酸濃度を１〜１５重量％、好ましくは５〜１０重量％の範囲とし、処理は３０〜８０℃、好ましくは５０〜８０℃の温度範囲で行われる。さらには必要に応じて、カチオン系高分子化合物を含む水溶液でフィックス処理を併せて行ってもよい。
【００３８】
このようにして得られる染料系偏光膜は、その片面又は両面に、光学的透明性及び機械的強度に優れる保護膜を貼合して、偏光板とすることができる。保護膜を形成する材料は、従来から使用されているものでよく、例えば、セルロースアセテート系フィルムやアクリル系フィルムのほか、四フッ化エチレン／六フッ化プロピレン共重合体のようなフッ素樹脂系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリオレフィン系フィルム、ポリアミド系フィルムなどが用いられる。
【００３９】
【実施例】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例により、何ら限定されるものではない。例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、重量％及び重量部である。
【００４０】
実施例１
スルファニル酸ナトリウム８部を水１００部に溶解した後、２０〜２５℃の温度で、１５％炭酸ナトリウム水溶液によりｐＨ７〜８に調整しながら、クロロ炭酸フェニル８部を３０分かけて滴下した。滴下終了後、同温度及び同ｐＨで１時間攪拌後、析出した結晶を濾過して、下式（１）で示される中間体を得た。
【００４１】
【化１２】
0004078476.tif 000012
【００４２】
上記で得た中間体（１）の全量と、下式（２）
【００４３】
【化１３】
0004078476.tif 000013
【００４４】
で示されるトリスアゾ中間化合物７部を、水１００部及びＮ−メチルピロリドン１００部の混合液に加え、４０〜４５℃の温度で、１５％炭酸ナトリウム水溶液によりｐＨ８〜９に調整しながら３時間攪拌した。不溶解物を濾過により除いた後、濾液にエタノール３００部を加えて結晶を析出させた。この析出した結晶を濾過した後、得られたケーキを水２２０部とＮ−メチルピロリドン８０部の混合液に再度、溶解した。この液に塩化ナトリウム３０部を加え、析出した結晶を濾過することにより、下式（Ia）で示されるトリスアゾ化合物の塩を得、この塩は、水性媒体中でλmax ４１９nmを示した。
【００４５】
【化１４】
0004078476.tif 000014
【００４６】
実施例２
実施例１と同様にして中間体（１）を得、その全量と、下式（３）
【００４７】
【化１５】
0004078476.tif 000015
【００４８】
で示されるジスアゾ中間化合物７部を、水１００部及びＮ−メチルピロリドン１００部の混合液に加え、４０〜４５℃の温度で、１５％炭酸ナトリウム水溶液によりｐＨ８〜９に調整しながら５時間攪拌した。不溶解物を濾過により除いた後、濾液にエタノール３００部を加えて結晶を析出させた。この析出した結晶を濾過した後、得られたケーキを水１００部とＮ−メチルピロリドン１００部の混合液に再度溶解した。この液にエタノール２００部を加え、析出した結晶を濾過することにより、下式（Ib）で示されるジスアゾ化合物の塩を得た。この塩は、水性媒体中でλmax ４０４nmを示した。
【００４９】
【化１６】
0004078476.tif 000016
【００５０】
実施例３
２−アミノナフタレン−６，８−ジスルホン酸１２部を水１５０部に加え、さらに２０％苛性ソーダ水溶液を加えてｐＨ７にして溶解した後、２０〜２５℃の温度で、１５％炭酸ナトリウム水溶液によりｐＨ７〜８に調整しながら、クロロ炭酸フェニル７部を３０分かけて滴下した。滴下終了後、同温度及び同ｐＨで１時間攪拌した後、不溶解物を濾過して、下式（４）で示される中間体の水溶液を得た。
【００５１】
【化１７】
0004078476.tif 000017
【００５２】
得られた中間体（４）の水溶液全量に、下式（５）
【００５３】
【化１８】
0004078476.tif 000018
【００５４】
で示されるトリスアゾ中間化合物５部とＮ−メチルピロリドン１５０部を加え、４０〜４５℃の温度で、１５％炭酸ナトリウム水溶液によりｐＨ８〜９に調整しながら４時間攪拌した後、反応液にエタノール３００部を加えて結晶を析出させた。この析出した結晶を濾過した後、得られたケーキを水３０部とＮ−メチルピロリドン７０部の混合液に再度溶解した。この液にエタノール１００部を加え、析出した結晶を濾過することにより、下式（Ic）で示されるトリスアゾ化合物の塩を得た。この塩は、水性媒体中でλmax ４１３nmを示した。
【００５５】
【化１９】
0004078476.tif 000019
【００５６】
実施例４
原料化合物を変更する以外は、実施例１〜３に準拠することにより、それぞれ、下式（Id）、（Ie）、（If）及び（Ig）で示されるアゾ化合物の塩を得た。
【００５７】
【化２０】
0004078476.tif 000020
【００５８】
これらの塩は、水性媒体中で、各々、４２０nm、４０４nm、４１９nm及び４１０nmのλmax を示した。
【００５９】
実施例５
厚さ７５μm のポリビニルアルコールフィルム［クラレビニロン＃７５００、（株）クラレ製品］を縦一軸に５倍延伸して、偏光膜基材とした。このポリビニルアルコールフィルムを緊張状態に保ったまま、実施例１で得られた式（Ia）で示されるトリスアゾ化合物の塩を０.０２５％、染色助剤である芒硝を２.０％の濃度とした７０℃の水溶液に浸漬した。次に７８℃の７.５％ホウ酸水溶液に５分間浸漬したのち取り出して、２０℃の水で２０秒間洗浄し、５０℃で乾燥することにより、偏光膜を得た。得られた偏光膜のλmax （膜の延伸方向の透過率が最小となる波長）は４５０nmであり、この偏光膜は高い偏光度を有し、高温・高湿の状態でも長時間にわたる耐久性を示した。また、長時間暴露に対する耐光性にも優れていた。
【００６０】
実施例６
実施例２で得られた式（Ib）で示されるジスアゾ化合物の塩を用い、染色浴の温度を６５℃に、またホウ酸処理の温度を７３℃に変更して、実施例５と同様の処理を施すことにより偏光膜を得た。得られた偏光膜のλmax は４５０nmであった。この偏光膜は高い偏光度を有し、高温・高湿の状態でも長時間にわたる耐久性を示した。また、長時間暴露に対する耐光性にも優れていた。
【００６１】
実施例７
用いるアゾ化合物の塩を、実施例３で得られた式（Ic）で示される化合物の塩、又は実施例４で得られた式（Id）、（Ie）、（If）若しくは（Ig）で示されるそれぞれの化合物の塩に変更して、実施例５と同様の方法により偏光膜を得た。得られた偏光膜は、高い偏光度を有し、高温・高湿の条件下での耐久性と長時間暴露に対する耐光性に優れていた。また、これらの偏光膜のλmax は、それぞれ次のとおりであった。
【００６２】
0004078476.tif 000021
【００６３】
実施例８
用いるアゾ化合物の塩とその濃度を、表１の第二欄に記載の方法に変更した他は、実施例５と同様の方法により偏光膜を得た。得られた偏光膜は、高い偏光度を有し、高温・高湿の条件下での耐久性と長時間暴露に対する耐光性に優れていた。又、これらの偏光膜のλmax はそれぞれ表１の第三欄に記載のとおりであった。
【００６４】
【表１】
0004078476.tif 000022
【００６５】
【発明の効果】
本発明のアゾ化合物（Ｉ）又はその塩は、染料、特に偏光膜用染料として有用である。そして、この化合物を含有する染料系偏光膜は、ヨウ素を用いた偏光膜に匹敵する高い偏光性能を示し、又、耐久性と長時間暴露に対する耐光性に優れるので、各種液晶表示体、なかでも高い偏光性能と耐光性を必要とする液晶プロジェクター用途に好適である。