【事件の表示】
　特許第６３８８１５３号発明「溶射材料」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第６３８８１５３号の請求項１ないし６に係る特許を維持する。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　特許第６３８８１５３号（以下、「本件特許」という。）の請求項１〜６に係る特許についての出願は、平成２６年　８月　８日を出願日とする出願であって、平成３０年　８月２４日にその特許権の設定登録がなされ、同年　９月１２日にその特許掲載公報が発行された。
　その後、本件特許について、平成３１年　３月　８日付けで、特許異議申立人濱田菜穂（以下、「申立人」という。）により、請求項１〜６に係る本件特許に対して特許異議の申立てがされ、令和　１年　６月２１日付けで当審から取消理由が通知され、同年　８月２２日付けで特許権者から意見書（以下、「意見書」という。）が提出されたものである。
第２　本件発明
　本件特許の請求項１〜６に係る発明（以下、それぞれ「本件発明１」〜「本件発明６」という。また、これらをまとめて「本件発明」という。）は、本件特許に係る願書に添付された特許請求の範囲の請求項１〜６に記載された、次の事項により特定されるとおりのものである。
「【請求項１】
　希土類元素のフッ化物と希土類元素のオキシフッ化物の少なくとも一方を含む顆粒を有する溶射材料であって、
　前記溶射材料は、レーザー回折・散乱式粒度分布測定法による小粒径側からの積算体積が５０％になる粒径（Ｄ５０）が２０μｍ〜１００μｍであり、
　レーザー回折・散乱式粒度分布測定法による小粒径側から粒径１０μｍ以上になる最初のチャンネルまでの積算体積（ＣＶ0-10）が０％である、溶射材料。
【請求項２】
　安息角が４０°以下である、請求項１に記載の溶射材料。
【請求項３】
　圧縮度が２５％以下である、請求項１又は２に記載の溶射材料。
【請求項４】
　平均アスペクト比が２．０以下である請求項１〜３のいずれか一項に記載の溶射材料。
【請求項５】
　希土類元素（Ｌｎ）が、イットリウム（Ｙ）、サマリウム（Ｓｍ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、エルビウム（Ｅｒ）及びイッテルビウム（Ｙｂ）から選択される少なくとも１種である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の溶射材料。
【請求項６】
　希土類元素（Ｌｎ）がイットリウム（Ｙ）である請求項５に記載の溶射材料。」  
第３　申立人及び特許権者の主張
１．申立人の主張の概要
　申立人は、証拠方法として、下記甲第１〜６号証を提出して、以下の申立理由１、２により、請求項１〜６に係る本件特許を取り消すべきものである旨主張している。
　申立理由１：本件発明１、２、４〜６は、甲第１号証、甲第３号証〜甲第６号証に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、同発明に係る特許は取り消されるべきものである。
　申立理由２：本件発明１、３〜６は、甲第２号証、甲第３号証〜甲第５号証に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、同発明に係る特許は取り消されるべきものである。
＜証拠方法＞
　甲第１号証：特開２０１４−１０９０６６号公報
　甲第２号証：国際公開第２０１４／１１２１７１号
　甲第３号証：特開２００６−２００００５号公報
　甲第４号証：特開２００６−１７６８１８号公報
　甲第５号証：特開２０１４−９３６１号公報
　甲第６号証：特開２００２−３６３７２４号公報
　なお、甲第１号証〜甲第６号証をそれぞれ、甲１〜甲６ということがある。
２．特許権者の主張の概要
　特許権者は、証拠方法として、下記乙第１〜９号証を提出して、下記第４の取消理由１、２によっては、本件発明１〜６を取り消すことができない旨主張している。
＜証拠方法＞
　乙第１号証：実験成績証明書
　乙第２号証：特開２００６−３７２３８号公報
　乙第３号証：特開２００６−１１８０１３号公報
　乙第４号証：特開２００７−１２６７１０号公報
　乙第５号証：特開２００８−１１５４０７号公報
　乙第６号証：ウィキペディア　酸化イットリウム（ＩＩＩ）
　乙第７号証：ウィキペディア　フッ化イットリウム（ＩＩＩ）
　乙第８号証：ウィキペディア　炭化タングステン
　乙第９号証：Ryuki Tahara et al., Fabrication of dense yttrium oxyfluoride ceramics by hot pressing and their mechanical, thermal, and electrical properties, Japanese Journal of Applied Physics, 2018, 57, 06JF04-1〜9
　乙第６号証〜乙第８号証については、ウエブページに掲載されたものであり、それらの掲載日は不明であるが、それらの記載内容が従来よく知られている物質の物性の数値に関するものであり、他の公知文献の存在が容易に推定されるので、それらを公知文献として認め、記載内容を周知技術として認める。
　なお、乙第１号証〜乙第９号証をそれぞれ、乙１〜乙９ということがある。
第４　取消理由の概要
　令和　１年　６月２１日付けで当審から通知した取消理由の内容は以下のとおりである。なお、下記取消理由１は申立理由１を採用したものであり、下記取消理由２は申立理由２を採用したものである。
　取消理由１（進歩性）　本件発明１〜６は、甲第１号証に記載の発明と、甲第２号証〜甲第４号証、甲第６号証に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　取消理由２（進歩性）　本件発明１〜６は、甲第２号証に記載の発明と、甲第１号証、甲第３号証、甲第４号証に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
第５　当審の判断
１．甲号証の記載
　甲第１〜６号証には以下の事項が記載されている（なお、「・・・」は記載の省略を表し、下線は当審が付与したものである。以下同様。）。
１−１．甲第１号証
（１）甲第１号証に記載された事項
　１ア　「【請求項１】
　
希土類元素のオキシフッ化物（ＬｎＯＦ）及び希土類元素のフッ化物（ＬｎＦ
3
）を含む顆粒からなる溶射材料であって
　前記溶射材料５０ｇを、４０±５℃の３ｍｏｌ／Ｌの塩酸５００ｍＬに入れて撹拌しながら４０±５℃を２時間維持した後、固液分離して得られる液中の希土類元素の濃度をＣ（単位 ｍｏｌ／Ｌ）とし、溶射材料のＢＥＴ法比表面積をＳ（単位 ｍ2／ｇ）としたとき、Ｃ／Ｓ（単位 ｍｏｌ・ｇ／（ｍ2・Ｌ））の値が０．０４以下である溶射材料。
【請求項２】
　
安息角が４０°以下
【請求項３】
　差角が１０°以下である請求項２に記載の溶射材料。
【請求項４】
　前記
希土類元素がイットリウム（Ｙ）、サマリウム（Ｓｍ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、エルビウム（Ｅｒ）及びイッテルビウム（Ｙｂ）から選択される少なくとも１種を含む
【請求項５】
　前記
希土類元素がイットリウム（Ｙ）を含む
　
　１イ　「【技術分野】
【０００１】
　
本発明は、希土類元素を含む溶射材料に関する
・・・
【発明の効果】
【００１０】
  本発明の溶射材料を原料として製造された溶射膜は、酸に対する耐食性に優れたものになる。」
　
　１ウ　「【発明を実施するための形態】
【００１１】
　以下本発明を、その好ましい実施形態に基づき説明する。
本発明の溶射材料は、希土類元素（Ｌｎ）のオキシフッ化物（ＬｎＯＦ）及び希土類元素（Ｌｎ）のフッ化物（ＬｎＦ
3
）を含む顆粒からなるものである
【００１２】
　
本発明にいう顆粒とは
平均粒径が好ましくは２０μｍ〜２００μｍである粒子のことである
この平均粒径は、２５μｍ〜１００μｍであることが更に好ましい
溶射時に溶射材料を効率的にフレーム中に供給することができる
溶射材料をフレーム中で完全に溶解させることができ、それによって溶射膜の平滑性を高めることができる
【００１３】
　
顆粒の平均粒径は、例えばレーザ回折・散乱式粒子径・粒度分布測定装置を用いて測定できる
小粒径側からの積算体積が５０％となる粒径Ｄ
50
を平均粒径とする
　
　１エ　「【００２６】
　
本発明の溶射材料の安息角は、４０°以下であることが好ましく
溶射装置に供給する際の顆粒の流動性が十分に高いものとなり、均一な溶射膜を得やすい
　
　１オ　「【００３１】
　本発明の溶射材料に含まれるＬｎ2Ｏ3の量を化学分析によって定量することは容易でないことから、本発明においては、溶射材料をＸ線回折測定したときの回折ピークの強度からＬｎ2Ｏ3の含有量を推定することとしている。詳細には、
線源としてＣｕ−Ｋα線を用いた溶射材料のＸ線回折測定を行い、２θ＝２０度〜４０度の範囲に観察されるＬｎＯＦの回折ピークのうち、最大強度のピークを１００としたとき、Ｌｎ
2
Ｏ
3
に由来する最大の回折ピークの相対強度を求める
【００３２】
　次に本発明の溶射材料の好適な製造方法について説明する。本製造方法は、以下の第１工程〜第５工程に大別される。以下、各工程について詳述する。
・第１工程：希土類元素のフッ化物（ＬｎＦ3）を７５０℃〜１０７５℃にて酸素含有雰囲気中で焼成して、希土類元素のオキシフッ化物（ＬｎＯＦ）及び希土類元素のフッ化物（ＬｎＦ3）を含む焼成物を得る。
・第２工程：第１工程で得られた焼成物を粉砕する。
・第３工程：第２工程で得られた粉砕された焼成物を、溶媒と混合して、スラリーを得る。
・第４工程：第３工程で得られたスラリーをスプレードライヤーで造粒して造粒物を得る。
・第５工程：第４工程で得られた造粒物を１５０℃以上３００℃未満の温度で焼成して、希土類元素のオキシフッ化物（ＬｎＯＦ）及び希土類元素のフッ化物（ＬｎＦ3）を含む顆粒を得る。」
　
　１カ　「【００５０】
　　〔実施例１〕
　
本実施例では、オキシフッ化イットリウム（ＹＯＦ）及びフッ化イットリウム（ＹＦ
3
）を含む顆粒からなる溶射材料
・・・
【００５５】
（エ）第５工程
　第４工程で得られた造粒物をアルミナ製の容器に入れ、大気雰囲気下、電気炉中で焼成して造粒顆粒を得た。焼成温度は６００℃、焼成時間は１２時間とした。
顆粒の平均粒径Ｄ
50
を上述の方法で測定したところ約５０μｍであった
以下に述べる実施例及び比較例でもほぼ同じ値であった
【００５６】
　　〔実施例２ないし１０及び比較例１ないし３〕
　実施例１の第１工程及び第５工程における焼成条件として、表１に示す条件を採用した以外は実施例１と同様にして溶射材料を得た。」
　
　１キ　「【００６７】
　　〔溶射時に顆粒を供給するときの流動性〕
　上述した「溶射膜の表面粗さ」の測定を行うために行った
プラズマ溶射において、溶射材料の供給装置に顆粒を供給したときの流動性を目視観察し、以下の基準で評価した
・
“非常に良”：顆粒の流動に全く脈動がなく均一に流れている
・“良”：顆粒の流動に脈動が若干あるが実用上問題がない。
・“不良”：顆粒の流動に脈動が大きく、場合によっては途中で掃除が必要である。
・・・
【００６９】
【表３】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（２）甲第１号証に記載の発明
　ア　上記１イと、１ウによれば、本発明は、希土類元素を含む溶射材料に関するものであり（【０００１】）、当該溶射材料は、希土類元素（Ｌｎ）のオキシフッ化物（ＬｎＯＦ）及び希土類元素（Ｌｎ）のフッ化物（ＬｎＦ3）を含む顆粒からなるものである（【００１１】）。
　イ　上記１ウによれば、本発明の顆粒は、平均粒径が２０μｍ〜２００μｍであることが好ましく、２５μｍ〜１００μｍであることが更に好ましいものであり、平均粒径をこの範囲とすることによって、溶射時に溶射材料を効率的にフレーム中に供給することができ、また、溶射材料をフレーム中で完全に溶解させることができるので溶射膜の平滑性を高めることができる（【００１２】）。ここで、上記平均粒径とは、レーザ回折・散乱式粒子径・粒度分布測定装置を用いて測定された、小粒径側からの積算体積が５０％となる粒径Ｄ50のことである（【００１３】）。
　ウ　上記１ア、１エによれば、溶射材料の安息角は４０°以下であることが好ましく、このような範囲の安息角とすることにより、溶射装置に供給する際の顆粒の流動性が十分に高いものとなり、均一な溶射膜が得やすい（請求項２、【００２６】）。
　エ　上記１キによれば、実施例及び比較例で得られた溶射材料について測定した評価が表３にまとめて記載されており、顆粒供給時の流動性が「非常に良」であるとされた、例えば、実施例５に注目すると、Ｘ線回折ピークの相対強度から、実施例５の顆粒は、ＬｎＦ３とＬｎＯＦを含むものであることが確認されるところ、Ｌｎの種類はＹであり、安息角は２７°であり（表３）、上記１カによれば、平均粒径Ｄ50は約５０μｍである（【００５５】）。
　ここで、実施例５の顆粒において、安息角が２７°であることは、上記ウによれば、溶射装置に供給する際の顆粒の流動性が十分に高いものとなり、均一な溶射膜が得やすいものであるといえる。また、平均粒径Ｄ50が約５０μｍであることは、上記イによれば、溶射時に溶射材料を効率的にフレーム中に供給することができ、また、溶射材料をフレーム中で完全に溶解させることによって溶射膜の平滑性を高めることができるものである。
　オ　以上の検討によれば、甲１には、実施例５に注目すると、次の発明が（以下「甲１発明」という。）記載されていると認められる。
「希土類元素のオキシフッ化物（ＬｎＯＦ）及び希土類元素のフッ化物（ＬｎＦ3）を含む顆粒からなる溶射材料であって、
　上記溶射材料は、レーザ回折・散乱式粒子径・粒度分布測定装置を用いて測定された、小粒径側からの積算体積が５０％となる粒径Ｄ50である平均粒径が約５０μｍであり、
　安息角が２７°であり、
　上記希土類元素がイットリウム（Ｙ）である、溶射材料。」
１−２．甲第２号証
（１）甲第２号証に記載された事項
　２ア　「背景技術
・・・
［０００４］　特許文献１に記載の溶射材料は、結合剤を使用して希土類元素のフッ化物をスプレードライヤーで造粒し、これを６００℃以下の温度で焼成することで製造される。同文献の〔００１４〕段落には、「６００℃を超えると明らかに重量減少があり、酸化による分解が起こっていることが判る。ゆえに、結合剤を燃焼除去するには６００℃以下の温度で燃焼する必要がある。」と記載されている。すなわち同文献には、酸化による分解が起こって希土類元素のオキシフッ化物が生成しないようにするために、６００℃以下の温度で焼成する必要があることが記載されている。特許文献１に記載されたような
希土類元素のフッ化物（ＬｎＦ
 3 
）からなる顆粒は、ＬｎＦ
 3
 に劈開性があるため、壊れやすく、溶射装置への安定供給性に問題があった。また、ＬｎＦ 
3 
からなる顆粒には、これを溶射して得られる膜が熱衝撃を受けると基材から剥離しやすいという問題点もあった
・・・
発明が解決しようとする課題
［０００７］　したがって
本発明の課題は、前述した従来技術が有する種々の欠点を解消し得る溶射材料を提供することにある
　
　２イ　「課題を解決するための手段
［０００８］　前記課題を解決すべく本発明者が鋭意研究したところ、
粒径、アスペクト比及び圧縮度をそれぞれ特定範囲とした、希土類元素（Ｌｎ）のオキシフッ化物（ＬｎＯＦ）を含む顆粒を用いることで、驚くべきことに、溶射顆粒の溶射装置への安定供給性が格段に向上することを知見した
［０００９］　また、本発明者は、この顆粒におけるＬｎＯＦの含有率を高めると、熱衝撃により溶射膜が基材から剥離する問題が一層生じにくくなることを知見した。」
　
　２ウ　「発明を実施するための形態
・・・
［００１２］　
本発明の溶射材料は、レーザー回折散乱式粒度分布測定法による積算体積５０容量％における積算体積粒径（以下、Ｄ５０ともいう）が特定範囲であることを特徴の一つとする
超音波の出力が３００Ｗ、１５分間の超音波分散処理後の前記の積算体積粒径（以下、Ｄ５０ｄともいう）が特定範囲の値となり
Ｄ５０ｄと、超音波分散処理前に測定した前記の積算体積粒径（以下、Ｄ５０ｎともいう）との比「Ｄ５０ｄ／Ｄ５０ｎ」が特定範囲である
［００１３］　
本発明の溶射材料のＤ５０ｎは、１μｍ〜１５０μｍである。本発明の溶射材料はＤ５０ｎが１μｍ以上であるので、顆粒の流動性がよく、溶射装置へ安定的に供給できる。また、Ｄ５０ｎが１５０μｍ以下であるので、溶射時に内部まで溶融しやすくなり、均一な溶射膜を形成しやすい
［００１４］　本発明の溶射材料を構成する顆粒は、前記の超音波分散処理によって、一定程度以下に解砕されることが好ましい。この解砕の程度は、Ｄ５０ｄ／Ｄ５０ｎによって表される。一般に、Ｄ５０ｄ／Ｄ５０ｎが小さいと、顆粒の粒形が略球状に安定しやすく、顆粒の流動性が高くなる傾向にある。この観点から、本発明の溶射材料のＤ５０ｄはＤ５０ｎの１／３以下であり、１／４以下が好ましく、１／５以下がより好ましく、１／１０以下が更に好ましい。また、
本発明の溶射材料のＤ５０ｄは１０μｍ以下である。溶射材料はＤ５０ｄが１０μｍ以下であるので、溶射時に顆粒内部まで溶融しやすく、均一な膜を形成しやすい
　
　２エ　「［００１５］　
溶射材料は、平均アスペクト比が２．０以下である
ここで、アスペクト比は顆粒の「長軸長さ／短軸長さ」であり、個々の顆粒のアスペクト比の算術平均値を平均アスペクト比という。溶射材料の平均アスペクト比が２．０以下であることで、顆粒の流動性がよく溶射装置へ安定的に供給できる
　
　２オ　「［００１７］　
本発明の溶射材料は圧縮度が３０％以下である。圧縮度は、タップ法見掛け嵩密度ＴＤ（ｇ／ｃｃ）と静置法見掛け嵩密度ＡＤ（ｇ／ｃｃ）を用いて下記式で定義される
　
圧縮度（％）＝（ＴＤ−ＡＤ）÷ＴＤ×１００
　
本発明の溶射材料は圧縮度が３０％以下であるので、顆粒の流動性がよく溶射装置へ安定的に供給できる。この観点から圧縮度は２５％以下であることが好ましく
　
　２カ　「［００２０］　
本発明の溶射材料は、例えば、希土類元素（Ｌｎ）のオキシフッ化物（ＬｎＯＦ）を含む顆粒からなることを一つの特徴とする
顆粒は、ＬｎＯＦのみから構成されていてもよく、あるいはＬｎＯＦに加えて他の物質を含んでいてもよい
　
　２キ　「［００２７］　次に本発明の溶射材料の好適な製造方法について説明する。本製造方法は、以下の第１工程〜第５工程に大別される。以下、各工程について詳述する。
・第１工程：希土類元素のフッ化物（ＬｎＦ 3 ）を所定の焼成温度にて酸素含有雰囲気中で焼成して焼成物を得る。
・第２工程：第１工程で得られた焼成物を粉砕する。
・第３工程：第２工程で得られた粉砕された焼成物を溶媒と混合してスラリーを得る。
・第４工程：第３工程で得られたスラリーをスプレードライヤーで造粒して造粒物を得る。
・第５工程：第４工程で得られた造粒物を、第１工程の焼成温度よりも高い温度で焼成して希土類元素のオキシフッ化物（ＬｎＯＦ）を含む顆粒を得る。」
　
　２ク　「実施例
［００４３］　以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。しかしながら本発明の範囲は、かかる実施例に制限されない。特に断らない限り、「％」は「質量％」を意味する。
［００４４］　〔実施例１〕 　本実施例では溶射材料を、以下の（ア）〜（エ）の工程にしたがい製造した。
［００４５］　（ア）第１工程 
(i)フッ化イットリウムの湿式合成
　９９．９％酸化イットリウム３００ｋｇを、撹拌した純水４００Ｌ中に投入してスラリーを得た。そこへ１５ｍｏｌ／Ｌの硝酸水溶液を５Ｌ／分の速度で５５０Ｌ添加した後、３０分間撹拌を続けた。その後、真空ろ過を行い、Ｙ 2 Ｏ 3 換算で２７０ｇ／Ｌの溶解液１１００Ｌを得た。
　この溶解液を撹拌しながら、５０％フッ化水素酸３００Ｌを５Ｌ／分の速度で添加してフッ化イットリウムの沈殿を生成させた。沈殿の沈降、上澄液抜出、純水添加及びリパルプの各操作を２回実施した後、再度、沈降、上澄液抜出を行った。このようにして得られた泥状物を、ポリ四フッ化エチレン製のバットに入れて１５０℃で４８時間乾燥させた。次いで、乾燥物を粉砕してフッ化イットリウムを得た。このフッ化イットリウムについてＸ線回折測定を行ったところ、ＹＦ 3 の回折ピークのみが観察され、オキシフッ化イットリウム（ＹＯＦ）の回折ピークは観察されなかった。
［００４６］　(ii)フッ化イットリウムの焼成 　(i)で得られたフッ化イットリウムをアルミナ製の容器に入れ、大気雰囲気下、電気炉中で焼成した。焼成温度及び焼成時間は表１に示すとおりとした。」
　
　２ケ　「［００５０］　〔実施例２ないし１２及び比較例１〕
　実施例１の第１工程における焼成温度及び／又は第５工程における焼成温度を、表１に示す条件で行う以外は実施例１と同様にして溶射材料を得た。
［００５１］
［表１］
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
　２コ　「［００６０］　〔評価〕
　実施例及び比較例で得られた溶射材料について以下に述べる方法でＸ線回折測定を行い、Ｘ線回折図を得た。得られたＸ線回折図に基づき、ＬｎＦ 3 、ＬｎＯＦ及びＬｎ 2 Ｏ 3 の各最大ピークについてそれぞれの相対強度Ｓ２、Ｓ１及びＳ０を算出した。得られた相対強度を用い、Ｓ１／Ｓ２及びＳ０／Ｓ１を算出した。実施例１８では、Ｓ１をＹＯＦの最大ピーク＋ＹｂＯＦの最大ピークの合計強度とし、Ｓ２はＹＦ 3 の最大ピーク＋ＹｂＦ 3 の最大ピークの合計強度、Ｓ０はＹ 2 Ｏ 3 の最大ピーク＋Ｙｂ 2 Ｏ 3 の最大ピークの合計強度とした。
　また、
実施例及び比較例で得られた溶射材料について
平均アスペクト比を求めた
Ｄ５０ｎ（μｍ）及びＤ５０ｄ（μｍ）を求めた
ＴＤ（ｇ／ｃｃ）及びＡＤ（ｇ／ｃｃ）を求めた
得られたＴＤ及びＡＤの値から上記式により圧縮度（％）を求めた
溶射時の顆粒を供給するときの流動性を評価した
それらの結果を以下の表４に示す
・・・
［００６５］〔溶射時に顆粒を供給するときの流動性〕
　基材として１００ｍｍ角のアルミニウム合金板を使用した。この基材の表面にプラズマ溶射を行った。溶射材料の供給装置として、プラズマテクニック製のＴＷＩＮ−ＳＹＳＴＥＭ　１０−Ｖを用いた。プラズマ溶射装置として、スルザーメテコ製のＦ４を用いた。撹拌回転数５０％、キャリアガス流量２．５Ｌ／ｍｉｎ、供給目盛１０％、プラズマガスＡｒ／Ｈ 2 、出力３５ｋＷ、装置−基材間距離１５０ｍｍの条件で、膜厚約１００μｍになるようにプラズマ溶射を行い、溶射膜を得た。
　このプラズマ溶射において、
溶射材料の供給装置に顆粒を供給したときの流動性を目視観察し、以下の基準で評価した
・
“非常に良”：顆粒の流動に全く脈動がなく均一に流れている
・“良”：顆粒の流動に脈動が若干あるが実用上問題がない。
・“不良”：顆粒の流動に脈動が大きく、場合によっては途中で掃除が必要である。」
　
　２サ　「［００６７］
［表４］
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　２シ　「【特許請求の範囲】
［請求項１］　希土類元素のオキシフッ化物を含む顆粒を有する溶射材料であって、
　前記溶射材料は、レーザー回折散乱式粒度分布測定法による積算体積５０容量％における積算体積粒径が、超音波分散処理前で１μｍ〜１５０μｍであり、３００Ｗ、１５分間の超音波分散処理後で１０μｍ以下であり、
　超音波分散処理後の前記積算体積粒径が、超音波分散処理前の前記積算体積粒径の１／３以下であり、
　平均アスペクト比が２．０以下であり、
　圧縮度が３０％以下である、溶射材料。
［請求項２］　顆粒が希土類元素のオキシフッ化物だけでなく、希土類元素のフッ化物も含有し、Ｃｕ−Ｋα線又はＣｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折測定において、２θ＝２０度〜４０度の範囲に観察される希土類元素のオキシフッ化物の最大ピークの強度（Ｓ１）と、同範囲に観察される希土類元素のフッ化物の最大ピークの強度（Ｓ２）の比（Ｓ１／Ｓ２）が０．１０以上である請求項１に記載の溶射材料。
［請求項３］　Ｃｕ−Ｋα線又はＣｕ−Ｋα１線を用いるＸ線回折測定において、２θ＝２０度〜４０度の範囲に観察される希土類元素の酸化物の最大ピークの強度（Ｓ０）と、同範囲に観察される希土類元素のオキシフッ化物の最大ピークの強度（Ｓ１）との比（Ｓ０／Ｓ１）が０．１０以下である請求項１又は２に記載の溶射材料。
［請求項４］　希土類元素（Ｌｎ）が、イットリウム（Ｙ）、サマリウム（Ｓｍ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、エルビウム（Ｅｒ）及びイッテルビウム（Ｙｂ）から選択される少なくとも１種である請求項１ないし３のいずれか一項に記載の溶射材料。
［請求項５］　希土類元素（Ｌｎ）がイットリウム（Ｙ）である請求項４に記載の溶射材料。」
（２）甲第２号証に記載の発明
　ア　上記２ア、２イによれば、本発明が解決しようとする課題は、溶射装置への安定供給性等に問題があり、熱衝撃を受けてると基材から剥離しやすいという従来の問題を解消することができる溶射材料を提供することであり（［０００４］、［０００７］）、上記課題は、溶射材料として、粒径、アスペクト比及び圧縮度をそれぞれ特定範囲とした、希土類元素（Ｌｎ）のオキシフッ化物（ＬｎＯＦ）を含む顆粒を用いることで解決される（［０００８］）。
　イ　上記２ウ、２シの請求項１によれば、本発明の顆粒は、レーザー回折散乱式粒度分布測定法による積算体積５０容量％における積算体積粒径について、超音波分散処理前に測定したＤ５０ｎを１μｍ〜１５０μｍとし、３００Ｗ、１５分間の超音波分散処理後に測定したＤ５０ｄを１０μｍ以下とすることにより、顆粒の流動性がよく、溶射装置へ安定的に供給でき、また、溶射時に顆粒内部まで溶融しやすくなるので均一な溶射膜を形成しやすい（［００１３］、［００１４］）。
　ウ　上記２エによれば、本発明の溶射材料は、平均アスペクト比を２．０以下とすることにより、顆粒の流動性がよく溶射装置へ安定的に供給できる（［００１５］）。
　エ　上記２オによれば、本発明の溶射材料は、圧縮度を３０％以下とすることにより、顆粒の流動性よく溶射装置へ安定的に供給できる。この観点から圧縮度は２５％以下であることが好ましい。ここで、圧縮度は、タップ法見掛け嵩密度ＴＤ（ｇ／ｃｃ）と静置法見掛け嵩密度ＡＤ（ｇ／ｃｃ）を用いて下記式で定義されるものである（［００１７］）。
　圧縮度（％）＝（ＴＤ−ＡＤ）÷ＴＤ×１００
　オ　上記２コ、２サによれば、実施例及び比較例で得られた溶射材料について測定した評価が表４にまとめて記載されており、顆粒供給時の流動性が「非常に良」であるとされた、例えば、実施例５に注目すると、Ｘ線回折相対強度から、実施例５の顆粒は、ＬｎＦ３とＬｎＯＦを含むものであることが確認されるところ、Ｌｎの種類はＹであり、レーザー回折散乱式粒度分布測定法で測定した積算体積粒径は、超音波分散処理前に測定したＤ５０ｎが５０μｍであり、３００Ｗ、１５分間の超音波分散処理後に測定したＤ５０ｄが１．４μｍであり、平均アスペクト比は１．１０であり、圧縮度が１３％である（表４）。
　ここで、実施例５の顆粒において、積算体積粒径Ｄ５０ｎが５０μｍであること、平均アスペクト比が１．１０であること、圧縮度が１３％であることは、いずれも、上記イ、ウ、エによれば、顆粒の流動性がよく、溶射装置へ安定的に供給できるものであることを示している。
　カ　以上の検討によれば、甲２には、実施例５に注目すると、次の発明（以下「甲２発明」という。）が記載されていると認められる。
「希土類元素のオキシフッ化物（ＬｎＯＦ）及び希土類元素のフッ化物（ＬｎＦ3）を含む顆粒からなる溶射材料であって、
　上記溶射材料は、
　レーザー回折散乱式粒度分布測定法で測定した積算体積粒径について、超音波分散処理前のＤ５０ｎが５０μｍであり、３００Ｗ、１５分間の超音波分散処理後のＤ５０ｄが１．４μｍであり、
　平均アスペクト比は１．１０であり、
　圧縮度が１３％であり、
　上記希土類元素がイットリウム（Ｙ）である、溶射材料。」
１−３．甲第３号証に記載された事項
　３ア　「【特許請求の範囲】
【請求項１】
　イットリウム酸化物原料粉末を造粒及び焼結して得られるイットリウム酸化物造粒−焼結粒子を含有する溶射用粉末であって、
造粒及び焼結された後の前記原料粉末の平均一次粒子径は２〜１０μｍであり、前記造粒−焼結粒子の圧壊強度は１０〜４０ＭＰａである
　３イ　「【技術分野】
【０００１】
　本発明は、イットリウム酸化物（イットリア）造粒−焼結粒子を含有する溶射用粉末に関する。」
　
　３ウ　「【背景技術】
・・・
【０００５】
　ところで、耐プラズマエロージョン性を要求される用途向けの溶射皮膜には気孔率が低く緻密であることが要求されている。しかしながら、イットリア造粒−焼結粒子からなる特許文献１及び２に記載の溶射用粉末から溶射皮膜を形成した場合には、溶射フレームによって溶融された飛行粒子中に気孔が残りやすいために、皮膜の気孔率が高くなる傾向がある。緻密な溶射皮膜を形成するためには、例えば
平均粒子径が２０μｍ以下の微細な溶射用粉末を使用する方法もあるが、この場合には溶射用粉末の流動性が悪く安定供給が困難になったり、スピッティングの発生が起こりやすくなる
スピッティングは、過溶融した溶射用粉末が溶射装置のノズル内壁に付着堆積してできる堆積物が溶射皮膜に混入する現象をいい、溶射用粉末が細かな粒子を多く含むほどスピッティングは起こりやすい
スピッティングが発生すると、溶射皮膜の組織構造が不均一となるため、溶射皮膜の品質が著しく低下する
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
　
本発明の目的は、緻密なイットリア溶射皮膜を良好に形成可能な溶射用粉末を提供すること
　
　３エ　「【００２３】
　
溶射用粉末中の全イットリア造粒−焼結粒子の積算体積に対する粒子径１０μｍ以下のイットリア造粒−焼結粒子の積算体積の比率が
１０％よりも大きい場合には、溶射用粉末の流動性が低下する虞がある
この場合の流動性の低下は、粒子径が１０μｍ以下の細かな粒子が溶射用粉末に多く含まれることに起因する。従って、流動性の低下を抑制するためには、粒子径１０μｍ以下のイットリア造粒−焼結粒子の積算体積の比率は、好ましくは２０％以下、より好ましくは１５％以下、最も好ましくは１０％以下である
　次に、本実施形態に係る溶射用粉末の製造方法について説明する。本実施形態に係る溶射用粉末は、造粒−焼結法によりイットリア原料粉末から製造される。まず、イットリア原料粉末を分散媒に混合することによりスラリーが調製される。次に、噴霧型造粒機を用いてスラリーから造粒粉末を作製する。こうして得られた造粒粉末を焼結し、さらに解砕及び分級することにより、イットリア造粒−焼結粒子から実質的になる溶射用粉末は製造される。造粒粉末を焼結するときの温度及び時間によって、得られる溶射用粉末中のイットリア造粒−焼結粒子の圧壊強度は調整可能である。
【００２５】
　本実施形態は、以下の利点を有する。
　・  
造粒及び焼結された後のイットリア原料粉末の平均一次粒子径が２μｍ以上に設定され
圧壊強度が１０ＭＰａ以上に設定されているため
スピッティングの発生が良好に抑制される
造粒及び焼結された後のイットリア原料粉末の平均一次粒子径が１０μｍ以下に設定され
圧壊強度が４０ＭＰａ以下に設定されているため
緻密な溶射皮膜が得られる
　３オ　「【００２８】
　・  溶射用粉末を溶射する方法はプラズマ溶射以外の方法であってもよい。
　次に、実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。
　実施例１〜１０及び比較例１〜５においては、イットリア原料粉末を造粒及び焼結して得られるイットリア造粒−焼結粒子を溶射用粉末として用意した。比較例６においては、イットリア原料粉末を造粒して得られるイットリア造粒粒子を溶射用粉末として用意した。比較例７においては、イットリア原料粉末を溶融及び粉砕して得られるイットリア溶融−粉砕粒子を溶射用粉末として用意した。実施例１〜１０及び比較例１〜７に係る各溶射用粉末の詳細は表１に示すとおりである。
【００２９】
　
表１の“平均一次粒子径”欄には
造粒及び焼結された後のイットリア原料粉末の定方向径（Ｆｅｒｅｔ径）の平均を示す
定方向径の測定は、各溶射用粉末中から任意に選択される１０個のイットリア造粒−焼結粒子
のそれぞれに含まれる５０個のイットリア原料粉末粒子について行った
１−４．甲第４号証に記載された事項
　４ア　「【特許請求の範囲】
【請求項１】
　溶射用粉末の９０％粒子径Ｄ90が１５μｍ以下であり、かつ、溶射用粉末中の全粒子の積算体積に対する粒子径が１μｍ以下の粒子の積算体積の比率が２％以下であることを特徴とする溶射用粉末。」
　
　４イ　「【技術分野】
【０００１】
　本発明は溶射用粉末に関する。」
　
　４ウ　「【背景技術】
・・・
【０００５】
　例えば特許文献１には、９０％粒子径Ｄ90が２０μｍ以下である溶射用粉末から溶射皮膜を形成する技術が開示されている。しかしながら、特許文献１に記載の溶射用粉末は、溶射用粉末中の粒子径１μｍ以下の微粒子の割合が何ら規定されていないため、粒子径１μｍ以下の微粒子を多く含む虞がある。
溶射用粉末に粒子径１μｍ以下の微粒子が多く含まれると、溶射用粉末の流動性が低下するのに加えて、溶射用粉末の凝集が起こりやすくなる。凝集を起こした溶射用粉末が溶射皮膜に混入すると、溶射皮膜の均一性や緻密性が低下したり、溶射皮膜に貫通気孔が生じたり、溶射皮膜の表面粗さが増大したりすることがある
　
　４エ　「【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
　
本発明の目的は、緻密で表面粗さの低い溶射皮膜を良好に形成可能な溶射用粉末を提供することにある
【課題を解決するための手段】
【０００７】
　上記の目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、溶射用粉末の９０％粒子径Ｄ90が１５μｍ以下であり、かつ、
溶射用粉末中の全粒子の積算体積に対する粒子径が１μｍ以下の粒子の積算体積の比率が２％以下であることを特徴とする溶射用粉末を提供
　
　４オ　「【００１３】
  
溶射用粉末の９０％粒子径Ｄ
90
が１５μｍよりも大きい場合
粒子径が１５μｍよりも大きい粒子が溶射用粉末に多く含まれるため、緻密で表面粗さの小さい溶射皮膜を溶射用粉末から形成することは困難である
従って、溶射用粉末の９０％粒子径Ｄ
90
が１５μｍ以下であること（すなわち粒子径が１５μｍ以下の粒子の積算体積の比率が９０％以上であること）は必須である
・・・
【００１５】
　
溶射用粉末中の全粒子の積算体積に対する粒子径が１μｍ以下の粒子の積算体積の比率が２％よりも大きい場合
には、粒子径が１μｍ以下の粒子が溶射用粉末に多く含まれるために溶射用粉末の流動性が大きく低下し、その結果、溶射時の溶射用粉末供給装置から溶射機への溶射用粉末の供給が不安定になる
また、溶射用粉末の凝集が起こり、その結果、溶射皮膜の均一性や緻密性が低下したり、溶射皮膜に貫通気孔が生じたり、溶射皮膜の表面粗さが増大したりする
従って、粒子径が１μｍ以下の粒子の積算体積の比率が２％以下であること
は必須である
　
　４カ　「【００３１】
　
実施例１〜７及び比較例１〜４においては、炭化タングステンを主成分として、コバルトが１２重量％含まれる造粒−焼結サーメット粉末を溶射用粉末として用意した
実施例１〜９及び比較例１〜５に係る各溶射用粉末の詳細は表１に示すとおりである
【００３２】
　
表１の“粒子径が１μｍ以下の粒子の比率”欄には、各溶射用粉末中の全粒子の積算体積に対する粒子径が１μｍ以下の粒子の積算体積の比率を示す
　
　４キ　「【００４０】
【表１】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
１−５．甲第５号証に記載された事項
　５ア「【技術分野】
【０００１】
  本発明は、イットリウムを含む溶射材料及びその製造方法に関する。」
　５イ　「【０００４】
  特許文献１に記載の溶射材料は、結合剤を使用して希土類元素のフッ化物をスプレードライヤーで造粒し、これを６００℃以下の温度で焼成することで製造される。同文献の〔００１４〕段落には、「６００℃を超えると明らかに重量減少があり、酸化による分解が起こっていることが判る。ゆえに、結合剤を燃焼除去するには６００℃以下の温度で燃焼する必要がある。」と記載されている。すなわち同文献には、酸化による分解が起こって希土類元素のオキシフッ化物が生成しないようにするために、６００℃以下の温度で焼成する必要があることが記載されている。
同文献に記載の溶射材料は、造粒していない溶射材料に比べて粒子の流れ性は改善されているが、その流れ性は未だ十分に満足すべきものとは言えなかった
・・・
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
  したがって本発明の課題は、前述した従来技術が有する種々の欠点を解消し得る溶射材料を提供することにある。」
　
　５ウ　「【００６４】
【表３】
【００６５】
  表３における実施例１ないし１１の対比から明らかなとおり、第１工程におけるフッ化イットリウムの焼成温度が高くなるほどオキシフッ化イットリウムの生成量が増加することが判る。また、実施例１０と実施例１１との対比から明らかなとおり、第１工程における焼成温度を１１２５℃に設定した場合、１２時間の焼成ではフッ化イットリウムは消失していないが、２４時間の焼成を行うとフッ化イットリウムが消失することが判る。
  また、表３に示す結果から明らかなとおり、各実施例の溶射材料は比較例の溶射材料よりも破壊強度が高いことが判る。また、
各実施例の溶射材料は比較例の溶射材料よりも流動性が高く、各実施例の溶射材料を用いて溶射を行うと、表面の凹凸の程度が低い溶射膜が得られることが判る
１−６．甲第６号証に記載された事項
　６ア　「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、セラミックス、金属等の溶射に有用な希土類元素含有化合物からなる溶射用球状粒子および溶射部材に関する。」
　
　６イ　「【０００２】
【従来の技術】従来から、緻密な溶射膜をセラミックスや金属等の表面に形成する手法として、プラズマ溶射や爆発溶射などが広く用いられている。これらの溶射法において、溶射用粒子として金属や金属酸化物等が使用されている。
【０００３】このような溶射被膜を形成するための溶射用粒子として、（１）原料を電気炉で溶融し、冷却凝固後、粉砕機で微粉化し、その後分級することにより粒度調整を行って得られる溶融粉砕粉、（２）原料を焼結後、粉砕機で微粉化し、その後分級することにより粒度調整を行って得られる焼結粉砕粉、（３）原料粉末を有機バインダーに加えてスラリー化し、噴霧乾燥型造粒機を用いて造粒後、乾燥し、場合によっては分級することにより粒度調整を行って得られる造粒粉、等が挙げられる。ここで、上記（１）〜（３）の粉体製造の原料は、コストや、目的とする溶射被膜の性状により適宜選択され、開発されている。
・・・
【０００６】ところで、上記
溶射用粒子は搬送チューブ等の細い流路を介して溶射ガンまで供給されることから、安定的かつ定量的に供給を行えるか否かは、溶射用粒子の粉体物性中、流動性にかなり影響されることとなる
【０００７】しかしながら、
上記（１）、（２）の方法で得られる溶融粉砕粉や、焼結粉砕粉は、形状が不定形であるため、溶射した膜の凹凸が大きくなるという欠点があった
【０００８】これら各粉砕粉の問題点を解決するものとして、
上記（３）の方法で得られる造粒粉、すなわち、球形または球に近い形状であるため流動性が良いという特徴を有する造粒粉、が開発されてきている
　
　６ウ　「【００４０】
本発明の希土類元素含有化合物の溶射用粒子は、球形を有するものであり、具体的には、アスペクト比が２以下の粒子である
アスペクト比とは、粒子の長径と短径との比、すなわち、長径／短径で表され、形状が球に近いか否かを表す指標となる
アスペクト比が２を超えると、形状が不定形、針状、鱗片状等の球形からかけ離れたものとなり、流動性が悪化することとなる
【００４１】本発明の第２の希土類元素含有化合物の溶射用球状粒子は、以上の各物性値を有するのに加え、粒度分布における９０ｖｏｌ％の粒径Ｄ９０が１００μｍ以下であり、かつ、粒度分布における５０ｖｏｌ％の粒径Ｄ５０とフィッシャー径との比が５以下であることが好ましい。ここで、９０ｖｏｌ％の粒径Ｄ９０が１００μｍを超えると、プラズマ炎中で完全に溶融せず、未溶融着粉を生じ、表面に凹凸が発生する虞がある。」
２．乙号証の記載
２−１．乙第１号証に記載された事項
　７ア「
　
　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
２−２．乙第２号証に記載された事項
　８ア　「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
２−３．乙第３号証に記載された事項
　９ア　「【００２３】
　本実施形態に係る溶射用粉末、すなわち
イットリウム酸化物の造粒−焼結粉末を製造する際
得られた造粒粉末を焼結し
【００２４】
　造粒粉末の焼結は、大気中、真空中及び不活性ガス雰囲気中のいずれで行ってもよいが、大気中で行うことが好ましい。また造粒粉末の焼結は、電気炉又はガス炉を用いて行ってもよい。
焼結温度は、好ましくは１２００〜１７００℃、より好ましくは１３００〜１７００℃である。焼結時における最高温度保持時間は、好ましくは３０分〜５時間、より好ましくは２〜４時間である
２−４．乙第４号証に記載された事項
　１０ア　「【００１１】
　造粒−焼結法では、
原料粉末から造粒粉末をまず作製し、その造粒粉末を焼結してさらに解砕及び分級することにより造粒−焼結粒子を作製する。原料粉末は、イットリア粉末であってもよいし、イットリアとイットリウムの混合粉末やイットリウム粉末のような造粒及び焼結の過程で最終的にイットリアに変換しうる物質の粉末であってもよい
焼結温度は、好ましくは１２００〜１７００℃、より好ましくは１３００〜１７００℃である
２−５．乙第５号証に記載された事項
　１１ア　「【００１１】
　以下、本発明の一実施形態を説明する。
　
本実施形態の溶射用粉末は、原子番号３９，５９〜７０のいずれかの希土類元素の酸化物からなる粒子から実質的になる。原子番号３９，５９〜７０の希土類元素とは、具体的には、イットリウム（Ｙ、原子番号３９）
　１１イ　「【００２０】
　原料粉末からの造粒粉末の作製は、適当な分散媒に原料粉末を混合し、必要に応じてバインダを添加してなるスラリーを噴霧造粒することにより行なってもよいし、原料粉末から直接に造粒粉末を作製する転動造粒又は圧縮造粒により行なってもよい。
造粒粉末の焼結は、大気中、真空中及び不活性ガス雰囲気中のいずれで行なってもよい
焼結温度は、高い圧壊強度を有する焼結粒子を得るためには、好ましくは１２００〜１７００℃、より好ましくは１３００〜１７００℃であり、さらに好ましくは１４００〜１７００℃であり、最も好ましくは１５００〜１７００℃である。焼結時における最高温度保持時間は、高い圧壊強度を有する焼結粒子を得るためには、好ましくは３０分〜１０時間、より好ましくは１〜５時間である
２−６．乙第７号証に記載された事項
　１２ア　「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
２−７．乙第８号証に記載された事項
　１３ア　「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
２−８．乙第９号証に記載された事項
　１４ア　「
　　　　　　　　　　　　　　　」（０６ＪＦ０４−４の左欄３〜４行。）
３．取消理由１についての判断 
（１）本件発明１と甲１発明の対比
　ア　甲１発明の「希土類元素のオキシフッ化物（ＬｎＯＦ）及び希土類元素のフッ化物（ＬｎＦ3）を含む顆粒からなる溶射材料」は、本件発明１の「希土類元素のフッ化物と希土類元素のオキシフッ化物の少なくとも一方を含む顆粒を有する溶射材料」に相当する。
　イ　甲１発明の「溶射材料は、レーザ回折・散乱式粒子径・粒度分布測定装置を用いて測定された、小粒径側からの積算体積が５０％となる粒径Ｄ50である平均粒径が約５０μｍであ」ることと、本件発明１の「溶射材料は、レーザー回折・散乱式粒度分布測定法による小粒径側からの積算体積が５０％になる粒径（Ｄ５０）が２０μｍ〜１００μｍであ」ることは、「粒径Ｄ50」と「粒径（Ｄ５０）」が同じ技術事項を意味することを勘案すれば、「「溶射材料は、レーザー回折・散乱式粒度分布測定法による小粒径側からの積算体積が５０％になる粒径（Ｄ５０）が５０μｍであ」ることで重複する。
　ウ　そうすると、本件発明１と甲１発明との一致点と相違点は次のとおりとなる。 
 ＜一致点＞ 
 「希土類元素のフッ化物と希土類元素のオキシフッ化物の少なくとも一方を含む顆粒を有する溶射材料であって、
　前記溶射材料は、レーザー回折・散乱式粒度分布測定法による小粒径側からの積算体積が５０％になる粒径（Ｄ５０）が５０μｍである、溶射材料。」
 
 ＜相違点１＞　「レーザー回折・散乱式粒度分布測定法による小粒径側から粒径１０μｍ以上になる最初のチャンネルまでの積算体積（ＣＶ0-10）」が、本件発明１の「溶射材料」では「０％」であるのに対して、甲１発明の「溶射材料」では、どのような値であるか不明である点。 
（２）相違点１についての判断
（２−１）甲３の記載に基づく判断
　ア　相違点１について検討するにあたり、まず、甲３の記載事項を確認する。甲３には、イットリウム酸化物（イットリア）造粒−焼結粒子を含有する溶射用粉末の発明について記載されており、その解決しようとする課題は、溶射用粉末の流動性が悪く安定供給が困難になり、スピッティングの発生によって溶射皮膜の品質が低下するという問題に対して、緻密なイットリア溶射皮膜を良好に形成可能な溶射用粉末を提供することである（【０００５】、【０００６】）。
　イ　そして、上記課題に対して、スピッティングの発生を良好に抑制するための手段は、イットリウム酸化物造粒−焼結粒子を含有する溶射用粉末において、造粒及び焼結された後の前記原料粉末の平均一次粒子径を２μｍ以上とし、圧壊強度を１０ＭＰａ以上とすることであり、また、緻密な溶射皮膜を得ることができる手段は、造粒及び焼結された後の前記原料粉末の平均一次粒子径を１０μｍ以下とし、圧壊強度を４０ＭＰａ以下とすることである（【００２５】）。
　ウ　さらに、上記課題に関連して、溶射用粉末の流動性の低下が、粒子径が１０μｍ以下の細かな粒子が溶射用粉末に多く含まれることに起因していることに基づいて、上記流動性の低下を抑制するために、溶射用粉末中の全イットリア造粒−焼結粒子の積算体積に対する粒子径１０μｍ以下のイットリア造粒−焼結粒子の積算体積の比率を、好ましくは２０％以下、より好ましくは１５％以下、最も好ましくは１０％以下とすることが記載されている（【００２３】）。
　エ　上記ア〜ウの検討を総合すれば、甲３には、溶射用粉末の流動性及び溶射皮膜の品質を良好なものとするとの課題を解決することのできる溶射用粉末として、「イットリウム酸化物原料粉末を造粒及び焼結して得られるイットリウム酸化物造粒−焼結粒子を含有する溶射用粉末であって、
造粒及び焼結された後の前記原料粉末の平均一次粒子径
粒子径１０μｍ
　オ　なお、上記エにおいて、下線部の「造粒及び焼結された後の前記原料粉末の平均一次粒子径」とは、一次粒子であるイットリア原料粉末を造粒・焼結して得られた、二次粒子である溶射用粉末において、当該二次粒子を構成する一次粒子の平均粒子径のことであり、他方、下線部の「粒子径１０μｍ以下」における粒子径とは、「イットリア造粒−焼結粒子」が焼結後の粒子であることから、上記二次粒子の粒子径のことであると解される。なお、前者については、上記３オの段落【００２９】に「平均一次粒子径」の測定について「定方向径の測定は、各溶射用粉末中から任意に選択される１０個のイットリア造粒−焼結粒子（比較例６の場合はイットリア造粒粒子）のそれぞれに含まれる５０個のイットリア原料粉末粒子について行った」と説明されていることから明らかである。
　カ　そこで、甲３に記載された上記エの事項に基づいて、甲１発明において、相違点１に係る本件発明１の特定事項とすることが容易になし得ることができるかについて検討する。
　キ　甲３には、上記エで確認したように、流動性の低下を抑制するために、「溶射用粉末中の全イットリア造粒−焼結粒子の積算体積に対する粒子径１０μｍ以下のイットリア造粒−焼結粒子の積算体積の比率を１０％以下とすること」が記載されており、その技術的背景として、上記ウには、溶射用粉末の流動性の低下は、粒子径が１０μｍ以下の細かな粒子が溶射用粉末に多く含まれることに起因しており、当該粒子径１０μｍ以下の細かな粒子が、２０％以下、１５％以下、１０％以下と少ないほど好ましいことが記載されている。
　そして、粒子径が１０μｍ以下の細かな粒子が多く含まれていることが流動性低下の原因とされており、粒子径が１０μｍ以下の細かな粒子が少なければ少ないほど流動性低下の原因が無くなるので好ましいと考えられることから、「粒子径１０μｍ以下のイットリア造粒−焼結粒子の積算体積の比率」（以下、単に「１０μｍ以下の比率」という。）について最も好ましいとされる「１０％以下」の範囲には「０％」も含まれ得ると考えられる。
　ク　しかしながら、甲３には、「１０μｍ以下の比率」を「０％」することについての明示的な記載はなく、「１０μｍ以下の比率」を「０％」とした溶射用粉末の実施例や、「１０μｍ以下の比率」を「０％」とするための溶射用粉末の製造方法についても記載されていないので、甲３記載の発明において「１０μｍ以下の比率」を「０％」とすることが可能であるか不明である上に、下記ケ〜サで検討する乙１の実験結果も参照すると、甲３には、「１０μｍ以下の比率」を「０％」することについての開示はされていないといえる。以下、乙１について検討する。
　ケ　特許権者は、意見書とともに乙１の「実験成績証明書」を提出し、この証明書において、試験１〜４の各溶射材料について、「レーザー回折・散乱式粒度分布測定法による小粒径側から粒径１０μｍ以上になる最初のチャンネルまでの積算体積（ＣＶ0-10）」（以下「ＣＶ0-10」という。上記「１０μｍ以下の比率」に相当する。）と、「平均粒径Ｄ５０」等を測定し、流動性についても調べている。
　コ　乙１の実験成績証明書によれば、次の試験１〜試験４の溶射粉末を製造し、これら溶射粉末の各種特性を測定したことが報告されている。
　試験１：　本件明細書の実施例５をトレースした、試験１のＹＯＦ（オキシフッ化イットリウム）溶射用粉末は、平均一次粒径Ｄ５０＝１．３μｍのＹＦ（フッ化イットリウム）原料粉末を用いて造粒し、６００℃、１２時間の条件で焼成することによって製造されており、「ＣＶ0-10」が０％で、「平均粒径Ｄ５０」が４３μｍであった。（第１頁の試験１と図１参照。）
　試験２：　甲３に記載された製造方法（上記３エの段落【００２４】）と、「造粒及び焼結された後の前記原料粉末の平均一次粒子径は２〜１０μｍであ」るとの記載（上記３アの請求項１）に基づいて製造された、試験２のＹ２Ｏ３（酸化イットリウム）溶射用粉末は、平均一次粒径Ｄ５０＝３．６μｍのＹ２Ｏ３原料粉末を用いて造粒し、１４００℃、２時間の条件で焼成することで製造されており、「ＣＶ0-10」が２６％で、「平均粒径Ｄ５０」が２８μｍであった。また、「造粒及び焼結された後の原料粉末の平均一次粒子径」は３μｍであった。（第１〜２頁の試験２及び３と図２参照。）
　試験３：　上記試験２の製法と、１６００℃、２時間の焼成条件の点のみで相違する製法で製造された、試験３のＹ２Ｏ３（酸化イットリウム）溶射用粉末は、「ＣＶ0-10」が１９％で、「平均粒径Ｄ５０」が２４μｍであった。また、「造粒及び焼結された後の原料粉末の平均一次粒子径」は３μｍであった。（第１〜２頁の試験２及び３と図３参照。）
　試験４：　上記試験３の製法と、Ｙ２Ｏ３原料粉末の平均一次粒径Ｄ５０が１．２μｍである点のみで相違する製法で製造された、試験４のＹ２Ｏ３（酸化イットリウム）溶射用粉末は、「ＣＶ0-10」が０％で、「平均粒径Ｄ５０」が３３μｍであった。また、「造粒及び焼結された後の原料粉末の平均一次粒子径」は０．４μｍであった。（第２頁の試験４と図４参照。）
　なお、試験２、試験３において、採用された焼成温度である１４００℃、１６００℃なる条件は、乙２（上記８ア）、乙３（上記９ア）、乙４（上記１０ア）、乙５（上記１１イ）に記載されているように、酸化イットリウムの焼成において通常採用されている焼成温度の範囲内のものと認められる。
　これら試験１〜４の実験結果について、当審でまとめた表を以下に示す。
　
　サ　上記コによれば、試験２と試験３の溶射用粉末は、いずれも甲３に記載された製法に基づき、通常の焼成条件を採用して製造されたものであるところ、「ＣＶ0-10」はそれぞれ２６％、１９％であり、試験３によって「２０％以下」を達成し得ることが確認されたが、「０％」を達成し得ることは示されていない。
　また、試験４の溶射用粉末では、試験３の製法とは、原料粉末の平均一次粒径Ｄ５０を１．２μｍと小さくする点でのみ異なる製法とすることによって、「ＣＶ0-10」を「０％」とすることを達成し得ることが示されているが、「造粒及び焼結された後の原料粉末の平均一次粒子径」は０．４μｍとなっており、上記イで検討した、スピッティングの発生を良好に抑制するための「２μｍ以上」とするとの条件を満たしておらず、スピッティングが発生して溶射皮膜の品質が低下するものであるといえるから、試験４の溶射用粉末は甲３に開示された技術事項であるとは認められない。
　シ　したがって、甲３には、溶射用粉末の流動性の低下を抑制するために、「溶射用粉末中の全イットリア造粒−焼結粒子の積算体積に対する粒子径１０μｍ以下のイットリア造粒−焼結粒子の積算体積の比率を１０％以下とすること」が記載されているけれども、上記比率を「０％」にすることが開示されているということはできない。
　ス　そして、甲３に記載された、「溶射用粉末中の全」「造粒−焼結粒子の積算体積に対する粒子径１０μｍ以下の」「造粒−焼結粒子の積算体積の比率」は、本件発明１の「レーザー回折・散乱式粒度分布測定法による小粒径側から粒径１０μｍ以上になる最初のチャンネルまでの積算体積（ＣＶ0-10）」に相当することを勘案すると、甲３には、「溶射材料」において、「レーザー回折・散乱式粒度分布測定法による小粒径側から粒径１０μｍ以上になる最初のチャンネルまでの積算体積（ＣＶ0-10）」を「０％」とすることが記載されているとはいえないから、甲１発明において、甲３の記載に基づいて、相違点１に係る本件発明１の特定事項とすることが、当業者にとって容易になし得ることであるとはいえない。
　セ　なお、上記サの検討において、仮に、スピッティング発生の有無を考慮する必要がないのであれば、乙１の試験４で実証されたとおり、「ＣＶ0-10」を「０％」とすることを達成し得ることが示されたので、甲１発明において、「ＣＶ0-10」を「０％」とする動機付けはあるといえる。
　ソ　しかしながら、乙１の第５頁の表１を参照すると、構成成分がＹＯＦである試験１の相対供給量の比率（運転開始「１〜２分の供給量」に対する「１９〜２０分の供給量」の割合（％））が９６％であるのに対して、構成成分がＹ２Ｏ３である試験４の相対供給量の比率が６５％であるから、甲３の開示内容に基づいて、甲１発明において「ＣＶ0-10」を「０％」にできたとしても、Ｙ２Ｏ３の相対供給量の比率６５％はＹＯＦの相対供給量の比率９６％に対して３１％も小さいことから、「希土類元素のオキシフッ化物（ＬｎＯＦ）及び希土類元素のフッ化物（ＬｎＦ3）を含む顆粒からなる溶射材料」の発明である甲１発明において、甲３の記載に基づいて「ＣＶ0-10」を「０％」とすることによって構成された本件発明１の溶射材料が、試験１で示されるような優れた供給性能が得られるとの効果については、当業者であっても予測できない顕著なものであるということができる。
　タ　したがって、上記ス及びソの検討によれば、甲１発明において、甲３の記載に基づいて、相違点１に係る本件発明１の特定事項とすることが、当業者にとって容易になし得ることであるとはいえない。
（２−２）甲４の記載に基づく判断
　ア　甲４は、溶射用粉末について記載されており（【０００１】）、その解決しようとする課題は、溶射用粉末に粒子径１μｍ以下の微粒子が多く含まれると、溶射用粉末の流動性が低下し、その結果、溶射時の溶射用粉末供給装置から溶射機への溶射用粉末の供給が不安定になるのに加えて、溶射用粉末の凝集が起こりやすくなり、その結果、溶射皮膜の均一性や緻密性が低下し、溶射皮膜の表面粗さが増大するという問題があることに対して（【０００５】）、緻密で表面粗さの低い溶射皮膜を良好に形成可能な溶射用粉末を提供することである（【０００６】）。
　イ　そして、上記課題に対して、溶射用粉末の９０％粒子径Ｄ90（以下、「９０％粒子径Ｄ90」という。）が１５μｍよりも大きい場合には、粒子径が１５μｍよりも大きい粒子が溶射用粉末に多く含まれるため、緻密で表面粗さの小さい溶射皮膜を溶射用粉末から形成することは困難となるので、「９０％粒子径Ｄ90」が１５μｍ以下であることが必須であることが記載されている（【００１３】）。
　ウ　さらに、上記課題に対して、溶射用粉末中の全粒子の積算体積に対する粒子径が１μｍ以下の粒子の積算体積の比率（以下、「粒子径が１μｍ以下の粒子の比率」という。）が２％よりも大きい場合には、溶射用粉末の流動性が大きく低下し、溶射用粉末の提供が不安定になり、また、溶射用粉末の凝集が起こるので、溶射皮膜の均一性や緻密性が低下したり、溶射皮膜の表面粗さが増大したりするから、上記「粒子径が１μｍ以下の粒子の比率」が２％以下であることが必須であることが記載されている（【００１５】）。
　エ　上記４カ、４キによれば、表１には、「顆粒を有する溶射材料」すなわち造粒して焼結された溶射材料として、「炭化タングステンを主成分としコバルトが１２重量％含まれる造粒−焼結サーメット粉末（ＷＣ／１２Ｃｏ）」からなる溶射用粉末と、「炭化タングステンを主成分としコバルトが１０重量％とクロムが４重量％含まれる造粒−焼結サーメット粉末（ＷＣ／１０Ｃｏ／４Ｃｒ）」からなる溶射用粉末が記載されているところ、「粒子径が１μｍ以下の粒子の比率」が２％以下であり、「９０％粒子径Ｄ90」が１５μｍ以下である実施例は、実施例１〜７、９であり、これらはいずれも、研磨前後の溶射皮膜の表面粗さ、緻密さともに、◎（優）もしくは○（良）であることが確認されている。
　オ　以上の検討によれば、甲４には、炭化タングステンを主成分としコバルトが１２重量％含まれる造粒−焼結サーメット粉末（ＷＣ／１２Ｃｏ）や炭化タングステンを主成分としコバルトが１０重量％とクロムが４重量％含まれる造粒−焼結サーメット粉末（ＷＣ／１０Ｃｏ／４Ｃｒ）のような溶射用粉末において、９０％粒子径Ｄ90が１５μｍ以下であり、かつ、溶射用粉末中の全粒子の積算体積に対する粒子径が１μｍ以下の粒子の積算体積の比率が２％以下であれば、緻密で表面粗さの低い溶射皮膜を良好に形成可能であることが示されている。
　カ　ここで、甲４に記載のように、溶射用粉末が、９０％粒子径Ｄ90が１５μｍ以下のものであるなら、５０％粒子径Ｄ50も当然１５μｍ以下となるが、これに対して、甲１発明においては、「小粒径側からの積算体積が５０％となる粒径Ｄ50である平均粒径が約５０μｍ」であって、５０％粒子径Ｄ50が１５μｍ以下となっているものではないから、甲１発明と甲４は、そもそも、５０％粒子径Ｄ50について異なる前提に立つものであるので、甲１発明において、甲４に記載された「溶射用粉末中の全粒子の積算体積に対する粒子径が１μｍ以下の粒子の積算体積の比率が２％以下」とすることを適用することが可能であるとはいえない。
　キ　そこで、仮に、甲１発明において、甲４に記載された「溶射用粉末中の全粒子の積算体積に対する粒子径が１μｍ以下の粒子の積算体積の比率が２％以下」とすることを適用することが可能であるとしても、「溶射用粉末中の全粒子の積算体積に対する粒子径が
１０μｍ以下
０％
　ク　また、仮に、甲１発明において、甲４に記載された「溶射用粉末中の全粒子の積算体積に対する粒子径が１μｍ以下の粒子の積算体積の比率が２％以下」とすることを適用することが可能であるとしても、甲４において、緻密で表面粗さの低い溶射皮膜を良好に形成可能であることが確認された、造粒して焼結された溶射材料は、「炭化タングステンを主成分としコバルトが１２重量％含まれる造粒−焼結サーメット粉末（ＷＣ／１２Ｃｏ）」と「炭化タングステンを主成分としコバルトが１０重量％とクロムが４重量％含まれる造粒−焼結サーメット粉末（ＷＣ／１０Ｃｏ／４Ｃｒ）」だけであり、いずれも炭化タングステンを主成分とするものである。そして、炭化タングステンの密度は１５．６３ｇ／ｃｍ３（乙８の１３アの密度の欄）であるのに対して、本件発明１の「希土類元素のフッ化物と希土類元素のオキシフッ化物」の密度は、ＹＦ３が４．０１ｇ／ｃｍ３（乙７の１２アの密度の欄）、ＹＯＦが５．１０ｇ／ｃｍ３（乙９の１４ア）であるから、炭化タングステンを主成分とする上記「造粒−焼結サーメット粉末」は本件発明１の溶射材料に比べて格段に重く、全く異なる流動特性を示すものと推定される。
　したがって、甲４に、タングステンを主成分とする「造粒−焼結サーメット粉末」を用いると、緻密で表面粗さの低い溶射皮膜を良好に形成可能であることが示されているとしても、甲１発明において、甲４に記載された「溶射用粉末中の全粒子の積算体積に対する粒子径が１μｍ以下の粒子の積算体積の比率が２％以下」とすることを適用した場合に、タングステンを主成分とする「造粒−焼結サーメット粉末」同様の良好な流動性を示すかは不明であるから、本件発明１が優れた流動特性を示すという効果については、当業者であっても予測できない顕著なものであるということができる。
　ケ　したがって、甲１発明において、甲４の記載に基づいて、相違点１に係る本件発明１の特定事項とすることが、当業者にとって容易になし得ることであるとはいえない。
（２−３）相違点１についての判断のまとめ
　甲３、甲４のいずれにも、また、甲２、甲６においても、相違点１に係る本件発明１の特定事項である、「溶射材料」において「レーザー回折・散乱式粒度分布測定法による小粒径側から粒径１０μｍ以上になる最初のチャンネルまでの積算体積（ＣＶ0-10）が０％」とすることが記載されているとはいえないから、たとえ甲２、甲３、甲４、甲６を参照したとしても、甲１発明において、相違点１に係る本件発明１の特定事項を備えたものとすることが、当業者が容易になし得ることであるとはいえない。
（３）本件発明２〜６について
　本件発明２〜６は、本件発明１を引用することによって、本件発明１の特定事項を全て備える溶射材料の発明であるところ、上記（２）で検討した理由と同様の理由によって、甲１発明及び甲２、甲３、甲４、甲６の記載に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。
（４）小括
　本件発明１〜６は、甲第１号証に記載の発明と、甲第２号証〜甲第４号証、甲第６号証に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえず、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものではない。
　よって、取消理由１には理由がなく、申立理由１には理由がない
４．取消理由２についての判断
（１）本件発明１と甲２発明の対比
　ア　甲２発明の「希土類元素のオキシフッ化物（ＬｎＯＦ）及び希土類元素のフッ化物（ＬｎＦ3）を含む顆粒からなる溶射材料」は、本件発明１の「希土類元素のフッ化物と希土類元素のオキシフッ化物の少なくとも一方を含む顆粒を有する溶射材料」に相当する。
　イ　本件発明１の「溶射材料は、レーザー回折・散乱式粒度分布測定法による小粒径側からの積算体積が５０％になる粒径（Ｄ５０）」の測定方法に関して、本件明細書の段落【００１６】には「なお、ここでいう積算粒径（ＣＶ0-10）及び後述するＤ５０は、溶射材料を前処理として超音波処理に付していない溶射材料について測定したものである。」との記載があることから、甲２発明の「溶射材料は、超音波分散処理前にレーザー回折散乱式粒度分布測定法で測定した積算体積粒径Ｄ５０ｎが５０μｍであ」ることと、本件発明１の「溶射材料は、レーザー回折・散乱式粒度分布測定法による小粒径側からの積算体積が５０％になる粒径（Ｄ５０）が２０μｍ〜１００μｍであ」ることは、「溶射材料は、超音波分散処理前にレーザー回折散乱式粒度分布測定法で測定した積算体積粒径Ｄ５０ｎが５０μｍであ」ることで重複する。
　ウ　そうすると、本件発明１と甲２発明との一致点と相違点は次のとおりとなる。 
 ＜一致点＞ 
 「希土類元素のフッ化物と希土類元素のオキシフッ化物の少なくとも一方を含む顆粒を有する溶射材料であって、
　前記溶射材料は、レーザー回折・散乱式粒度分布測定法による小粒径側からの積算体積が５０％になる粒径（Ｄ５０）が５０μｍである、溶射材料。」
 ＜相違点２＞　「レーザー回折・散乱式粒度分布測定法による小粒径側から粒径１０μｍ以上になる最初のチャンネルまでの積算体積（ＣＶ0-10）」が、本件発明１の「溶射材料」では「０％」であるのに対して、甲２発明の「溶射材料」では、どのような値であるか不明である点。 
（２）相違点２についての判断
　ア　相違点２は相違点１と同じであるから、上記３．（１）（２）で検討した理由と同様の理由によって、甲１、甲３、甲４のいずれにも、相違点２に係る本件発明１の特定事項である、「溶射材料」において「レーザー回折・散乱式粒度分布測定法による小粒径側から粒径１０μｍ以上になる最初のチャンネルまでの積算体積（ＣＶ0-10）が０％」とすることが記載されているとはいえないから、たとえ甲１、甲３、甲４を参照したとしても、甲１発明において、相違点２に係る本件発明１の特定事項を備えたものとすることが、当業者が容易になし得ることであるとはいえない。
（３）本件発明２〜６について
　本件発明２〜６は、本件発明１を引用することによって、本件発明１の特定事項を全て備える溶射材料の発明であるところ、上記（２）で検討した理由と同様の理由によって、甲２発明及び甲１、甲３、甲４の記載に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。
（４）小括
　本件発明１〜６は、甲第２号証に記載の発明と、甲第１号証、甲第３号証、甲第４号証に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえず、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものではない。
　よって、取消理由２には理由がなく、申立理由２にも理由がない
第６　まとめ
　以上のとおり、請求項１〜６に係る本件特許は、取消理由通知に記載した取消理由及び特許異議申立書に記載した申立理由のいずれによっても、取り消すことはできない。 
　また、他に請求項１〜６に係る本件特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
令和１年９月２４日（２０１９．９．２４）