(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
多面反射鏡であって、
各々、反射面及び底面を備え、該底面に薄膜である磁性膜が形成された複数の反射鏡要素と；
磁石を含み、前記反射鏡要素の磁性膜と磁力によって結合する載置板と；を備え、
前記載置板上に前記反射鏡要素が隣接して配置されている多面反射鏡。
【請求項２】
さらに、前記載置板上に、少なくとも一つの反射鏡要素の載置板上での位置を決定する位置決め部材を備える請求項１に記載の多面反射鏡。
【請求項３】
前記載置板内に磁石が埋設されている請求項１に記載の多面反射鏡。
【請求項４】
前記載置板に所定間隔で複数の凹部が形成されており、各凹部内に、磁石が載置板表面に露出しないように収容されている請求項３に記載の多面反射鏡。
【請求項５】
前記反射鏡要素が、各々、導体から形成されている請求項１〜４のいずれか一項に記載の多面反射鏡。
【請求項６】
前記反射鏡要素の各々の反射面に金属メッキが施されている請求項１〜４に記載の多面反射鏡。
【請求項７】
請求項１に記載の多面反射鏡の製造方法であって、
導体板に反射面を形成し；
前記導体板から放電加工により複数の反射鏡要素を切り出し；
前記反射鏡要素と磁力により結合する載置板上に、前記反射鏡要素を、所定パターンで互いに隣接するように配列し；
さらに、切り出された反射鏡要素の底面に磁性膜を形成することを含む多面反射鏡の製造方法。
【請求項８】
さらに、前記載置板上に位置決め部材が設けられており、少なくとも一つの反射鏡要素を該位置決め部材に押し付けて載置板上に位置決めすることを含む請求項７に記載の多面反射鏡の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
技術分野
本発明は、複数の反射鏡要素から構成されて均一な照度分布の光で物体を照明するために用いられる多面反射鏡及びその製造方法に関する。
【０００２】
背景技術
現在、ＤＲＡＭやＭＣＰ等の半導体デバイスの製造においては、回路パターンの線幅をより狭くするための開発研究が盛んに行われており、デザインルールとして線幅０．１３μｍ（４Ｇ・ＤＲＡＭ）、０．１μｍ（１６Ｇ・ＤＲＡＭ）、更には０．０７μｍ（３２Ｇ・ＤＲＡＭ）の実現に向けて種々の技術が開発されている。
【０００３】
一般に、半導体露光装置を用いて露光パターンの線幅を狭くしようとすると、露光光による回折現象が生じる。この回折現象に起因して意図しない回折像の発生や集光点のデフォーカスなどが生じることが問題となる。この問題を解消するためには、露光光学系の開口数（Ｎ．Ａ．）を大きし、露光波長を短波長化すればよい。
【０００４】
ところが、光の波長を短くすると、特に２００ｎｍ以下にすると、吸光度が低く且つ加工性に優れた光学材料を入手するのが困難である。このため、従来の透過型投影光学系に代えて、反射型投影光学系が開発されている。例えば、複数の反射鏡の組み合わせによって、軟Ｘ線に対して円弧状の光学視野（露光領域として使用できる領域）を実現し、マスクとウエハを投影光学系の投影縮小率比の相対速度で、互いに同期して移動させることによって基板上の区画領域（チップ形成領域）を露光しようとする方法が知られている。Ｋｏｉｃｈｉｒｏ  Ｈｏｈ  ａｎｄ  Ｈｉｒｏｓｈｉ  Ｔａｎｉｎｏ；  “Ｆｅａｓｉｂｉｌｉｔｙ  Ｓｔｕｄｙ  ｏｎ  ｔｈｅ  Ｅｘｔｒｅｍｅ  ＵＶ／Ｓｏｆｔ  Ｘ−ｒａｙ  Ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ−ｔｙｐｅ  Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ“，  Ｂｕｌｌｅｔｉｎ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｔｅｃｈｎｉｃａｌ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ  Ｖｏｌ．  ４９，  Ｎｏ．１２，  ＰＰ．９８３−９９０，  １９８５。
【０００５】
ところで、露光装置を用いた半導体の製造においては、線幅を狭くすると同様にスループットを向上させることが望まれている。このスループットの要因としては、光源の発光強度、照明系の効率、反射鏡の反射率、ウエハ上の感光材料（フォトレジスト）の感度等がある。現在、光源としては、ＡｒＦレーザー、Ｆ２レーザー、更に短波長光の光源としてシンクロトロン放射光やレーザープラズマ光が使用されており、これらの光を反射する反射鏡として、高反射率を維持するために多層膜反射鏡の開発が行われている。多層膜反射鏡の詳細は前述のＫｏｉｃｈｉｒｏ  Ｈｏｈらの文献、Ａｎｄｒｅｗ  Ｍ．  Ｈａｗｒｙｌｕｋ  ｅｔ  ａｌ．；  ”Ｓｏｆｔ  ｘ−ｒａｙ  ｂｅａｍ  ｓｐｌｉｔｔｅｒｓ  ａｎｄ  ｈｉｇｈｌｙ  ｄｉｓｐｅｒｓｉｖｅ  ｍｕｌｔｉ−ｌａｙｅｒ  ｍｉｒｒｏｒｓ  ｆｏｒ  ｕｓｅ  ａｓ  ｓｏｆｔ  ｘ−ｒａｙ  ｌａｓｅｒ  ｃａｖｉｔｙ  ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ”，  ＳＰＩＥ  Ｖｏｌ．  ６８８，  Ｍｕｌｔｉ−ｌａｙｅｒ  Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ  ａｎｄ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ  Ｘ−ｒａｙ  Ｌａｓｅｒ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ  （１９８６）  ＰＰ．８１−９０、及び特開昭６３−３１２６４０号公報を参照することができる。
【０００６】
露光装置に用いられる照明光学系の開発も盛んに行われており、ムラ無く均一に原版（マスク）を照明するために、光源の光量分布によらずに均一に原版に照明することができる照明光学系が開発されている。この照明光学系に要求されるものは、一様照明性や開口性である。例えば特開昭６０−２３２５５２号公報には、矩形の照明領域を生じさせる技術が開示されている。露光装置には原版のパターンをウエハ上に投影するための投影光学系を備えているが、投影光学系の視野は通常円弧状である。すなわち、投影光学系の視野形状と照明光学系の視野形状が異なるので、光の利用効率が低い。このことは、露光時間とスループットに悪影響を与えていた。
【０００７】
最近、前記問題を解決する方法として、投影光学系の視野形状に合わせて照明視野を設定し、これによって光の利用効率を上げることができる方法が特開平１１−３１２６３８号公報に開示されている。この方法を用いることにより、従来の照明装置よりも格段に照明効率が高く、より高いスループットを達成することができ、しかもケーラー照明等の均一照明が可能な照明装置及びそれを備えた露光装置が実現され得る。
【０００８】
特開平１１−３１２６３８号公報に開示された技術を、図１８を用いて説明する。図１８に示した投影露光装置において、光源２０１より射出された光は多面反射鏡２０２、コンデンサー光学素子２０３及び反射鏡２０４を経てマスクステージ２０５ｓ上に保持されたマスク２０５を照明する。マスク２０５には、ウエハステージ２０７ｓ上に保持されたウエハ２０７上に露光されるパターンが反射体図形として形成されている。照明光されたマスク２０５からの反射光（反射パターン）は、反射鏡２０６ａ、２０６ｂ、２０６ｃ、２０６ｄからなる反射型投影光学装置２０６を通じてウエハ２０７上に投影される。この時、投影光学装置２０６の光学視野はウエハ上のデバイスチップに対応する区画領域の全域をカバーできるほど広くないので、マスク２０５とウエハ２０７を同期させて相対的に移動（スキャン）させながら連続露光を行うことによってチップ全体のパターンをウエハ上に形成する。このために、露光装置には、マスクステージ及びウエハステージの位置を管理する図示しないレーザー干渉計、それらのステージの駆動を制御するマスクステージコントローラ２０８及びウエハステージコントローラ２０９が設けられ、これらによりマスク及びウエハの相対移動が制御される。このようなスキャン型投影露光方式に関しては前述のＫｏｉｃｈｉｒｏ  Ｈｏｈらの文献を参照することができる。ここで、多面反射鏡２０２は、一種または複数種の微小な反射鏡要素（反射面）を一定の繰り返しパターンで配列させることにより構成されている。反射鏡要素の外形は投影光学装置の光学視野形状と相似形にする必要がある。これによって位置Ｐ２に多数の点光源像Ｉがほぼ円形状に形成され、これがコンデンサー光学素子２０３によって必要な照明視野を形成する。上記のような技術を用いると、マスク上の照明すべき領域を無駄無く一様に照明でき、露光時間の短縮が可能になり、高いスループットを有する半導体露光装置が実現される。
【０００９】
本発明者は、上記のような多面反射鏡の製造方法を特開２０００−１６２４１５号に開示している。この文献では、３種類の異なる反射鏡要素Ａ、Ｂ、Ｃを形成するために、それぞれ、図４（ａ）〜（ｃ）に示したように、曲率半径Ｒの凹の球面から、ＹＺ面に平行な円弧状帯（平均半径がＺｈの円の円弧状帯）を所定位置（図中、Ａ，Ｂ，Ｃのパターン位置）にて放電ワイヤーで切り出している。これらの切り出された反射鏡要素Ａ、Ｂ、Ｃを、図６に示すように所定のパターンで配列することにより多面反射鏡を製造している。しかしながら、この文献には反射鏡要素をどのように台座上に固着するかは記載されていない。マスクを照明する光の均一性を高くするには、これらの反射鏡要素を高い位置精度で台座に装着する必要がある。
【００１０】
本発明の第１の目的は、台座上に高い位置精度で複数の反射鏡要素が装着された多面反射鏡を提供することにある。本発明の第２の目的は、軟Ｘ線のような極めて短波長の光が照射されるのに好適な多面反射鏡を提供することにある。
【００１１】
発明の開示
本発明に従えば、多面反射鏡であって、各々、反射面及び底面を備え、該底面に薄膜である磁性膜が形成された複数の反射鏡要素と、磁石を含み、前記反射鏡要素の磁性膜と磁力によって結合する載置板と、を備え、前記載置板上に前記反射鏡要素が隣接して配置されている多面反射鏡が提供される。
【００１２】
本発明の多面反射鏡では、各反射鏡要素が載置板（台座）上に磁気的結合によって取り付けられている。反射鏡要素と載置板との間の磁気的結合により、反射鏡要素と載置板との間に接着剤などを介在する必要がないので、載置板に平行な方向のみならず、垂直な方向においても各反射鏡要素の反射面を極めて高精度に位置付けることができる。さらに、磁気的結合により反射鏡要素が載置板から着脱可能であるために、載置板の平面内における各反射鏡要素の反射面の位置調整が極めて容易であり、使用後における個々の反射鏡要素の交換や洗浄などのメンテナンス作業も容易である。
【００１３】
特に、本発明の多面反射鏡は波長が２００ｎｍ以下の真空紫外、軟Ｘ線領域の短波長の電磁波が照射される露光装置内で有効に用いられる。このような短波長の電磁波が照射される露光装置雰囲気は、気体分子による電磁波の吸収を防止するために通常真空または不活性雰囲気下に維持されることが要求される。接着剤を用いて反射鏡要素を載置板に取り付ける場合には、接着剤成分が気化して、電磁波を吸収する物質を雰囲気中に発生する問題がある。本発明の多面反射鏡は磁気的結合により各反射鏡要素が基板上に取り付けられているのでそのような問題は生じない。
【００１４】
反射鏡要素を載置板上で位置決めするためには、載置板上に、少なくとも一つの反射鏡要素の載置板上での位置を決定する位置決め部材（ガイド部材あるいはストッパー）を備えるのが有利である。反射鏡要素を載置板上に配列するときに、この位置決め部材に最初の反射鏡要素を押し付けて位置づけ、位置決め部材に密着した反射鏡要素に次の反射鏡要素を押し付け、こうして順次反射鏡要素を位置付けることができる。位置決め部材は、載置板の外周部、中央部などいずれの位置に設けても良い。
【００１５】
各反射鏡要素を載置板上に磁気的結合によって取り付けるには、前記載置板に磁石を含ませ得る。載置板自体を磁石から構成してよく、載置板内に磁石を埋設してもよい。例えば、載置板に所定間隔で複数の凹部が形成されており、各凹部内に、磁石が載置板表面に露出しないように収容されていてもよい。このように載置板表面に磁石が現れないような構造を採用すると、載置板として平面度の高い部材を用いてその上に配置される反射鏡要素の反射面の高さ位置を一層均一化することが可能となる。また、この構造は、高エネルギーの短波長の光が多面反射鏡に照射されるときに、熱伝導または光照射による磁気的結合の低下（磁石の保磁力の低下）を防止することができる。
【００１６】
また、前記反射鏡要素が、それぞれ、ネオジウムやサマリウムコバルトやフェライトなどの永久磁石を含んでも良い。この場合、隣接する反射鏡要素同士の反発による位置ずれを防止するために、隣接する反射鏡要素を互いにその極性が逆になるように前記載置板上に配列し得る。
【００１７】
前記反射鏡要素は、各々、インバーやシリコンのような導体から形成されていると、放電加工により円弧や矩形のように所望の形状に容易に切り出せるため加工上有利である。反射鏡要素の反射面を形成するために、表面に金属メッキが施され得る。反射鏡要素をシリコンから構成する場合には、反射面を形成するために表面研磨だけで足りる。前記複数の反射鏡要素は、反射鏡の立体形状（曲面形状）が全て同じであっても良く、複数の異なる立体形状を含んでいても良い。複数の異なる立体形状を含む場合には、それらが所定の繰り返し周期で載置板上に配列され得る。反射鏡の輪郭形状は、任意にし得、例えば、円弧、矩形などにし得る。
【００１８】
別の態様に従えば、照明光学系であって、第１載置板上に、反射面を有する複数の反射鏡要素を隣接して備える第１多面反射鏡と、第２載置板上に、反射面を有する複数の反射鏡要素を隣接して備える第２多面反射鏡と、を備え、第１多面反射鏡の各反射鏡要素が第１載置板上に磁力によって固定されている照明光学系が提供される。
【００１９】
照明光学系は、本発明に従う多面反射鏡を備えるので、前述の利点を備える。それゆえ、特に、均一照明が要求され且つ２００ｎｍ以下の短波長の光が照射される真空あるいは不活性ガス雰囲気で使用するのに極めて好適である。照明光学系において、第２多面反射鏡の各反射鏡要素が第２載置板上に磁力によって固定されていてもよい。なお、第１多面反射鏡の反射鏡要素の反射面からの反射光は、それぞれ、第１多面反射鏡の反射鏡要素に対応する第２多面反射鏡の反射鏡要素の反射面に向かう。照明光学系は、第１または第２多面反射鏡の各反射鏡要素から反射された光を収束するための収束レンズまたは反射鏡を備え得る。
【００２０】
別の態様に従えば、前記照明光学系を備える露光装置が提供される。この照明光学系は本発明の多面反射鏡を用いているので、均一な光でマスクを照明することができ、均一な露光強度で基板（ウエハ）を露光することができる。また、多面反射鏡には接着剤が使用されていないので、軟Ｘ線などの２００ｎｍ以下の短波長の光源が用いられる反射型露光装置に特に好適である。このような短波長の光源が使用されるためには露光装置は内部が真空に維持されるチャンバ内に収容されることが望ましい。また、露光装置は、照明光学系で照射されたマスクのパターンの像を基板上に投影する反射型投影光学系を備え得る。第１多面反射鏡の反射鏡要素の反射面は、光の利用効率を高くするために前記反射型投影光学系の光学視野と相似形状、例えば円弧状にし得る。
【００２１】
本発明に従えば、本発明の多面反射鏡の製造方法であって、導体板に反射面を形成し、前記導体板から放電加工により複数の反射鏡要素を切り出し、前記反射鏡要素と磁力により結合する載置板上に、前記反射鏡要素を、所定パターンで互いに隣接するように配列し、さらに、切り出された反射鏡要素の底面に磁性膜を形成することを含む多面反射鏡の製造方法が提供される。本発明の製造方法は、反射鏡要素を磁力により載置板上に結合させているので、反射鏡要素の載置板上での位置調整が極めて容易である。また、接着剤を使用しないので、環境的にも優れる。この製造方法は、反射鏡要素の位置決めを一層容易にするために、少なくとも一つの反射鏡要素を載置板上に設けられた位置決め部材に押し付けて載置板上に位置決めすることを含み得る。
【００２２】
発明を実施するための最良の形態
本発明における反射鏡要素の製造方法及び該反射鏡要素を用いた照明装置について、図を用いて以下に具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００２３】
実施例１
まず、図１（ａ）に示すように、直径１５０ｍｍ、厚さ１５ｍｍのアルミ合金からなる円盤状金属板（導体板）１を形成した。金属板１の一方の面を、平面度約数〜十数μｍとなるように平面に研磨した。該平面に無気メッキ法により、厚さ約数十μｍ〜数ｍｍでニッケル膜３を形成した（図１（ｂ））。次いで、研削加工機または切削加工機（不図示）を用いてメッキ面３を研削または切削することにより、メッキ厚さを均一とした。次いで、ニッケル膜３を形成した面とは反対の面を、金属板１の中心軸ＡＸにおける厚みが最も薄くなるように、旋盤（不図示）を用いて曲率半径１８００ｍｍの凹面に加工した（図１（ｃ））。このとき、円形金属板１の中心軸ＡＸにおける厚みは９．９５ｍｍとなる。
【００２４】
さらに、無電解メッキ法により、上記凹面に厚さ１００μｍのニッケル膜５を形成した（図２（ａ））。さらに、このニッケル膜５を、ダイヤモンドバイトを備えたＮＣ切削加工機７によって、５０μｍ切削した（図２（ｂ））。これにより、反射鏡要素の中心軸ＡＸにおける厚さは１０ｍｍとなる。切削後のニッケル膜５の面粗さは１μｍ以下であった。
【００２５】
次いで、図２（ｃ）に示すように、円盤状金属板１上の凹状ニッケル膜５を、オスカー研磨機９を用いて研磨した。曲率半径１８００ｍｍを維持したまま、表面粗さＲｒｍｓ＜０．３ｎｍとなるように研磨した。こうして得られた円盤状金属板１’の所定の位置における一部分を、図３に示すように、ワイヤー放電加工機の放電ワイヤー１１を用いて、軸ＡＸに垂直な平面形状が円弧状になるように切り出すことにより、長さ１５．０ｍｍ、幅１．０ｍｍ、凸面及び凹面の曲率半径がそれぞれ２０ｍｍとなる、反射鏡要素１０を得た。本実施例では、金属板１’から円弧状の反射鏡要素を切り出す際に、図４（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）にそれぞれ示すように、Ａ、Ｂ及びＣの３つの異なるパターンとして切り出した。すなわち、図４（ａ）では円弧状の平面パターンＡ中心が金属板１’の中心ＡＸからＺ方向に＋Ｚｈだけずれて位置する。図４（ｂ）では、円弧状平面パターンＢの中心が、金属板１’の中心ＡＸからＺ方向に＋Ｚｈ、Ｙ方向に−Ｙｈだけずれて位置する。図４（ｃ）では、円弧状平面パターンＣの中心が、金属板１’の中心ＡＸからＺ方向に＋Ｚｈ、Ｙ方向に＋Ｙｈだけずれて位置する。ここで、Ｚｈ＝５．０ｍｍ、Ｙｈ＝７．５ｍｍとした。Ａ、Ｂ及びＣのそれぞれのパターン（位置）で切り出された反射鏡要素は上面の曲面形状がそれぞれ異なる。
【００２６】
切り出した反射鏡要素１０を、図５に示すように、台座１３上に所定の順序で配置する。台座１３は、直径１００ｍｍ、高さ１０ｍｍ、平面度（表面粗さ）５μｍのネオジウム磁石からなる。ネオジウム磁石は錆びることがあるので、その表面に錆び止めとして厚さ２〜３μｍのニッケルメッキを施してもよい。台座１３の外周部には、図５及び６から分かるように、反射鏡要素を係止する位置決めガイド１５が５ヵ所に設けられている。反射鏡要素１０は、台座１３上に、ニッケル膜１７（ニッケル膜３から切り出された部分）が台座１３と磁気的結合するように配置した。この際、図５に示すように、最初に反射鏡要素１０ａをガイド１５に対して押し付けるように台座１３上に配置することで、反射鏡要素１０ａが台座１３の表面上で位置付けられる。次いで、反射鏡要素１０ｂを反射鏡要素１０ａに対して押し付けるように台座１３上に配置させる。こうして、順次反射鏡要素を隣接し合うように配置させることで、隙間なく反射鏡要素が高精度で台座１３上に位置付けられる。反射鏡要素は、前述のように互いに異なる３種類の曲面形状（パターンＡ、Ｂ、Ｃに相当）を有しており、これらの反射鏡要素を、例えば、図６に示すような配列順序で且つ凹面状のニッケル膜１９（ニッケル膜５から切り出された部分であり、以下、反射面という）が同一の方向を向くように配列した。台座１３の平面度が高いので、この上に配置される反射鏡要素１０も高精度に位置合わせされて配列させることが可能となる。これにより、図６に示すような、多面反射鏡２を得た。この例において、ネオジウム磁石から発生する磁界強度の低下を防止するために、台座１３を冷却する手段を設けてもよい。
【００２７】
変形例１
上記の実施例１における変形例を、図７（ａ）及び（ｂ）を用いて説明する。台座２０を非磁性の金属で形成し、台座２０に断面が矩形の凹部１８を設け、凹部１８に反射鏡要素１０を固定するための磁石２１を陥入させた以外は実施例１と同様に構成した。図７（ａ）及び（ｂ）に示すように、台座２０を黄銅からなる非磁性の金属材料で、実施例１と同様な寸法で作製した。この台座２０の一方の面に、ＮＣ切削加工機（不図示）を用いて、長さ１００ｍｍ、幅３．０ｍｍ、深さ１０ｍｍの断面が矩形となるような凹部１８を所定の方向に平行に複数形成する。各凹部１８に厚さ３．０ｍｍのネオジウム磁石２１を陥入した。ネオジウム磁石は錆びることがあるので、その表面に錆び止めとして厚さ２〜３μｍのニッケルメッキを施してもよい。台座表面から磁石２１までの深さは０．５ｍｍであった。次いで、２つの凹部１８を跨ぐようにして、反射鏡要素１０を台座２０上に配置した。台座２０の表面は非磁性の金属であるので、焼結体である磁性体で形成した場合に比較して平面度が高く、表面粗さが小さいので、各反射鏡要素１０を台座２０上に、特に高さ方向位置に関して、精度良く設置させることができる。すなわち、多面反射鏡における反射面の高さ方向位置の均一性を上げることが可能となる。また、磁石２１は、台座２０の表面に露出しておらず、磁石２１と反射鏡要素１０は接触していないので、光が反射鏡要素１０に照射されて加熱されても、反射鏡要素１０から磁石に直接伝熱されることが防止される。それゆえ、磁石２１は、反射鏡要素１０を台座２０上に支持するための磁化（磁界）を維持することができる。その上、磁石に施されたニッケルメッキによって平面度が低下しても、磁石２１と反射鏡要素１０は接触していないので、反射鏡要素１０の配列精度に影響はない。本変形例で使用する磁石の大きさは、実施例１で使用する磁石の大きさよりも小さいので、作製が容易となる。
【００２８】
変形例２
実施例１の別の変形例を、図８を用いて説明する。金属板１の材料として、アルミ合金の代わりにシリコンを用い、無電解メッキによるニッケル膜５を形成しなかった以外は、実施例１と同様に反射鏡要素１０’を構成した。シリコンは、抵抗値の低いもの（抵抗値０．０２Ωｍ）を用いた。この例では、シリコンの表面をオスカー研磨機を用いて研磨することで、反射鏡要素１０’の表面を鏡面とすることができる。それゆえ、反射鏡要素の反射面を構成するための無電解メッキ工程が不要となり、反射鏡要素の製造工程の簡略化が可能となる。
【００２９】
参考例１
参考例１に従う多面反射鏡の製造プロセスを、図９、１０及び１１を用いて説明する。参考例１における反射鏡要素は、金属板１の材料としてインバーを用いた以外は、基本的には実施例１と同様に構成した。しかしながら、反射鏡要素を磁石からなる台座上に複数配列した場合、反射鏡要素の台座との接触面（底面）側が台座とは反対の磁極に着磁するので隣接する反射鏡要素同士が同一極性に着磁することとなる。それゆえ、隣接する反射鏡要素同士が互いに反発してしまう。実施例１では、磁性材料としてのニッケル膜１７は薄膜であるために、隣接する反射鏡要素間の反発力は小さいが、この例では、反射鏡要素自体を磁性材料であるインバーから構成しているので、その反発力は比較的大きい。よって、この反発力により複数の反射鏡要素を互いに密着して台座上に所定のパターンで配置することができない。そこで、以下に説明するように、台座と反射鏡要素との間にそれぞれ磁石を設置することとした。図９（ａ）及び（ｂ）に示すように、反射鏡要素の切り出し形状と同じ円弧状の断面を有するネオジウム磁石２３を作製した。次いで、図９（ｃ）及び（ｄ）に示すように、予め磁極が互い違いとなるように磁石２３同士を付着させた。図１０（ａ）及び（ｂ）に示すように、付着した一群の磁石２３をニッケルからなる定盤２５上に設置した。次いで、図１１に示すように、配列された複数の磁石２３上に各磁石上に１つの反射鏡要素１０”が位置するように、反射鏡要素１０”を順次配列した。この際、実施例１と同様に、ガイド１５”が定盤上に設けられているので、それを基準に反射鏡要素１０”を次々に配置させることができる。インバー製の各反射鏡要素１０”は、それが着座する磁石１０”と磁気的に結合するが、隣接する磁石１０”は、互いに逆極性であるために、隣接する反射鏡要素１０”同士もまた逆極性となるように磁化される。それゆえ、隣接する反射鏡要素１０”は反発し合うことがなく、逆極性により互いに密着して、それらの位置が確実に固定される。
【００３０】
参考例２
参考例２を、図１２及び１３を用いて説明する。この参考例２において、反射鏡要素を磁石で形成し、金属製台座を用いた以外は、実施例１と同様にして多面反射鏡を構成した。反射鏡要素を切り出す金属板１として、フェライトを使用した。実施例１と同様にして、フェライト製の円盤状金属板１から、反射鏡要素３０をワイヤー放電加工機により切り出した。各反射鏡要素３０を、電磁石を用いて着磁させた。この際、隣接する反射鏡要素３０が、図１２（ｂ）に示したように、反射面側及び着座面側でそれぞれ異なる極性になるように着磁した。着磁した反射鏡要素３０を、図１２（ａ）及び（ｂ）に示すように、互いに磁力で接着した。次いで、図１３に示すように、ニッケルからなる台座１３’上に、互いに磁力で接着し合った一群の反射鏡要素３０を付着させた。この際、実施例１と同様に、台座１３’に設けたガイド１６を用いて、反射鏡要素３０の位置合わせを行った。これにより、高精度に位置合わせされた多面反射鏡を得ることができる。
【００３１】
参考例２では、各反射鏡要素を金属板１から切り出した後に着磁したが、予め２種類のフェライト製金属板１を準備し、互いに反射面側が異なる磁極になるように着磁しておき、それぞれから切り出した反射鏡要素を組み合わせて台座上に配置してもよい。また、上記の多面反射鏡には、光の照射によって反射鏡要素に発生する熱による、磁石の保磁力低下を防止するために、反射鏡要素を冷却する冷却ユニットを設置してもよい。特に、軟Ｘ線等の短波長の光を照明光として用いる場合、多面反射鏡は真空中に設置されることとなるので、該多面反射鏡の裏面、すなわち、台座側にぺルチェ素子等の接触式の冷却ユニットを設けてもよい。台座の中に流路を設け、その流路に冷却水を流して、反射鏡要素を冷却してもよい。
【００３２】
また、実施例１では、反射鏡要素の材料としてアルミ合金を用いたが、鋼材、無酸素銅あるいはスーパーインバーを用いてもよい。反射鏡要素の材料は、導電性のある材料を用いると放電加工が可能となるので、金属板から所望の形状の、反射鏡要素の切り出しが容易となる。また、上記の参考例１において、インバーに無電解ニッケルメッキを施したが、切削・研磨後に鏡面性が良好であれば無電解ニッケルメッキに代えて、例えば、ニッケル合金等の反射性の高い薄膜を成膜してもよい。また、反射鏡要素の他の材料として、ガラスを用いることもできる。この場合、無電解ニッケルメッキを付与しなくても、シリコンと同様に、所望の表面粗さを得ることができる。ガラスとしては、石英ガラスや、低膨張ガラスなどを用いることができる。また、ガラスを加工する場合、基板からの切り出しは、ワイヤー放電加工に代えて研削加工を行うことができる。
【００３３】
上記実施例において、反射鏡要素の切り出しにワイヤー放電加工機を用いたが、フライス加工によって切り出してもよい。また、台座を構成する磁石として永久磁石を用いたが、電磁石を台座に埋設したり、取り付けてもよい。また、円盤状金属板から切り出す反射鏡要素のパターンをＡ、Ｂ、Ｃの３種類のパターンとしたが、特に３種類に限定されるものではなく、３種類より多くても少なくてもよい。また、それぞれの反射鏡要素の全て同じ反射面形状であっても、異なったものであっても構わない。反射鏡要素は非球面の一部分を切り取ったものであってもよい。異なった形状の反射鏡要素の配置は、所定の繰り返し配列であっても、そうでなくても構わない。多面反射鏡の大きさ及び反射鏡要素の大きさも、本実施例に限られるものではない。また、基本反射鏡の総数も、本実施例に限られるものではない。これらは、多面反射鏡の光学設計に基づいて、任意に変更可能である。
【００３４】
上記実施例の多面反射鏡において、特に、Ｆ２レーザ等の短波長レーザを光源に使用する場合、反射率向上のために、反射鏡要素の反射面に蒸着によりアルミニウム薄膜を約１００ｎｍの厚さで成膜し、その上に酸化防止と反射率の維持のために、ＭｇＦ２を蒸着により数十ｎｍの厚さに成膜してもよい。また、軟Ｘ線領域の光（電磁波）を光源に使用する場合、厚さ７ｎｍのＳｉ（４．６ｎｍ）とＭｏ（２．４ｎｍ）の二層膜を４０〜５０層積層した交互多層膜を反射面上に設けてもよい。
【００３５】
また、上記実施例において、位置決めガイドを台座の外周部または縁部に設けたが、これに加えて、あるいは、これに代えて、図１４に示すように、一定間隔で位置決めガイド１６’を反射鏡要素１０の配列内に設けてもよい。これにより、反射鏡要素の位置合わせをより高精度に行うことができる。
【００３６】
実施例２
上記実施例で作製した円弧状の反射鏡要素を備えた多面反射鏡を用いた照明系について、図１５及び１６を用いて説明する。
【００３７】
本実施例においては、反射鏡要素１０を、曲率半径６００ｍｍの凹面を有する円盤状金属板から、長さ１５ｍｍ、幅１．０ｍｍ、Ｚｈ＝５０ｍｍ、Ｙｈ＝７．５ｍｍの条件で切り出した以外は、実施例１と同様に第１多面反射鏡を構成した。また、反射鏡要素１２を、曲率半径６００ｍｍの凹面を有する円盤状金属板からワイヤー放電加工により、長さ４．０ｍｍ、幅３．０ｍｍ、Ｚｈ＝５０ｍｍ、Ｙｈ＝５．０ｍｍの条件で矩形状（図４におけるパターンＡ、Ｂ、Ｃの形状）に切り出した以外は、実施例１と同様に第２多面反射鏡を構成した。これにより、図６に示すような第１多面反射鏡２及び図１５に示すような第２多面反射鏡２’を得た。図１６に示すように、これらの多面反射鏡を組み合わせ所定位置に配置することにより、第１多面反射鏡２の各反射鏡要素１０で反射された光が、第２多面反射鏡２’の対応する各反射鏡要素１２に入射する。各第２多面反射鏡２’からの反射光をコンデンサレンズ等を用いて同一エリアに集束させることにより、当該エリア内で均一な照度分布の照明エリアを生じさせることが可能となる。なお、このような多面反射鏡の組み合わせによる光学系は、レンズによる光吸収が起こる短波長領域の照明光が用いられ、且つ、照明エリア内で均一の照度分布が要求される種々の用途に有用であり、特に、軟Ｘ線領域の光を利用した、半導体や液晶基板を製造するための露光装置の照明装置に好適である。
【００３８】
実施例３
次に、第１多面反射鏡及び第２多面反射鏡を組み合わせた照明系を利用した露光装置の一例について、図１７を用いて説明する。図１７に、本発明の多面反射鏡を用いた投影露光装置１２０の概略図を示す。ガスノズル１０２からは、ＸｅガスまたはＸｅの液体が噴出される。これに集光レンズ１０１を介して、レーザ光源１００から出射したＹＡＧレーザを照射し、プラズマを生成する。生成されたプラズマから発生する波長１３ｎｍの軟Ｘ線は、凹面反射鏡１０４及びコレクタミラー１０５を介して、第１多面反射鏡１０６’に入射する。レーザの集光点１０３の位置にＳｎ（スズ）を含む物質を配置または噴出させて、ここにＹＡＧレーザを照射させ、軟Ｘ線を発生させてもよい。第１多面反射鏡１０６’の各反射鏡要素に入射した光はそれぞれ反射鏡要素の反射面にて反射し、第２多面反射鏡１０６”の対応する反射鏡要素に入射する。第２多面反射鏡１０６”で反射された光は、コンデンサ光学素子１０７’及び反射鏡１０７”を経て、マスクステージ（不図示）上に保持されたマスク１０８の所定の領域のみを照射する。マスク１０８は、フォトリソグラフィー技術により、予めウエハ上に転写する回路パターンが反射体図形として形成されている。マスク１０８の回路パターンに従って反射した光が反射型投影光学装置１０９を介してウエハ１１０表面に照射される。この際、マスク１０８とウエハ１１０を、それぞれ図示しないマスクステージ及びウエハステージにより、同期を取りながら相対的に移動させる。この動作によりマスク１０８の回路パターン全体が照明光でスキャンされるために、回路パターン全体をウエハ１１０上に転写することができる。なお、マスク１０８及びウエハ１１０の移動速度は、それぞれレーザ干渉距離計で位置測定されたマスクステージ及びウエハステージを、不図示のマスクステージコントローラ及びウエハステージコントローラで制御することにより行われる。なお、露光装置１２０の主要部は、図示のようにチャンバ１３０内に収容されており、チャンバ１３０は図示しない減圧器により１０−４〜１０−７Ｔｏｒｒ程度の減圧（真空）状態に減圧されている。この減圧雰囲気は、気体分子の光吸収に基づく照明光のマスク位置及びウエハ位置における照度低下を防止している。ガスノズル１０２、レーザの集光点１０３、反射鏡１０４を含む領域をチャンバで囲い、光束が通過する部分のみに穴を開ける。ガスノズル１０２から噴出するガスを吸引するダクトを設ける構成によって、チャンバ内の真空度を高く維持することができる。この例では、第１多面反射鏡として、実施例１に従って作製したものを用いたが、他の実施例またはその変形例に従うものを用いてもよいことは言うまでもない。特に、実施例１に従って作製した多面反射鏡は、台座が磁石で構成されているので、多面反射鏡を露光装置のチャンバや照明光学系の支持台に磁力で設置することができるという利点がある。このため、照明光学系の光路調整や多面反射鏡のメンテナンスに極めて有利となる。この種の露光装置の詳細は、例えば、米国特許第５，５８１，６０５号に開示されている。本国際出願で指定または選択された指定国または選択国の法令または規則が許す範囲において、上記米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【００３９】
上記実施例においては、磁石、磁性体としていくつかの材料を例示したが、それらに限らず、種々の材料を用いることができる。特に、光照射または熱伝導により加熱されたときに、適当な保磁力を維持するためにキュリー温度が高いものが望ましく、例えば１５０℃以上、さらには２００℃以上のものが望ましい。
【００４０】
産業上の利用可能性
上述のように、反射鏡要素を磁力で台座に配置することにより、該反射鏡要素を備えた多面反射鏡を容易に且つ高い位置精度で作製することが可能である。反射鏡要素配置後に、反射鏡要素の部分的な不具合が発生した場合、反射鏡要素単位で交換することが容易であり、メンテナンスも容易である。本発明の多面反射鏡を組み込んだ照明装置を用いることにより、均一な照明及び露光が可能となる。このため、前記照明装置を用いた露光装置は、光学特性の向上や露光時間短縮による高スループット化が可能となる。特に、軟Ｘ線等の短波長光を光源とする露光装置においては、露光装置のチャンバ内を真空雰囲気にする必要があるため、接着剤を使用せずに構成された本発明の多面反射鏡を備えた露光装置は、狭い線幅の回路パターン露光に極めて有用となる。
【００４１】
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１（ａ）〜（ｃ）は、本発明の実施例１における反射鏡要素を作製する工程を示した図である。
【図２】  図２（ａ）〜（ｃ）は、実施例１における反射鏡要素を作製する工程を示した図である。
【図３】  図３は、実施例１における反射鏡要素が円盤状金属板から切り出される様子を概略的に示した図である。
【図４】  図４（ａ）〜（ｃ）は、実施例１における円盤状金属板から反射鏡要素を切り出す位置を概略的に示した図である。
【図５】  図５は、実施例１で作製した多面反射鏡の概略平面図である。
【図６】  図６は、実施例１で作製した多面反射鏡の概略上面図である。
【図７】  図７（ａ）は、本発明の変形例１における多面反射鏡の概略平面図であり、図７（ｂ）は、図７（ａ）の概略側面図である。
【図８】  図８は、本発明の変形例２における多面反射鏡の概略平面図である。
【図９】  図９（ａ）及び（ｂ）は、参考例１における磁石を概略的に示した図であり、図９（ｃ）及び（ｄ）は、隣接する磁石の極性が交互になるように配置した図である。
【図１０】  図１０（ａ）及び（ｂ）は、図９における磁石を定盤上に配置した図である。
【図１１】  図１１は、参考例１で作製した多面反射鏡の概略平面図である。
【図１２】  図１２（ａ）及び（ｂ）は、参考例２で作成した反射鏡要素を概略的に示した図である。
【図１３】  図１３は、参考例２で作製した多面反射鏡の概略平面図である。
【図１４】  図１４は、本発明における多面反射鏡の位置決めガイドの設置例を示した図である。
【図１５】  図１５は、実施例２で作製した第２多面反射鏡を示した図である。
【図１６】  図１６は、実施例２で作成した照明系において第１多面反射鏡から第２多面反射鏡へ光が伝達する様子を概略的に示す図である。
【図１７】  図１７は、実施例３における露光装置を概略的に示した図である。
【図１８】  図１８は、反射型投影露光装置に用いられる照明系の配置を概略的に示した図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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