(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）レンズから出射された光を回折格子で回折して得た異なる次数の回折光を干渉させてシェアリング干渉像を形成する工程と、
（ｂ）上記回折格子をその格子と直交する成分を含む方向へ移動させて上記回折光の位相を変化させる工程と、
（ｃ）上記位相の変化により時間的に変化した光強度とその座標を含むデータを複数取り込む工程と、
（ｄ）上記複数のデータに基づいて、各座標における光強度の時間的な変化の大きさである強度変化量を算出する工程と、
（ｅ）上記０次回折光の光軸と直交かつ上記格子と平行なＹ軸と、上記０次回折光の光軸と直交かつ上記Ｙ軸と直交するＸ軸とによって、少なくとも０次回折光を含む領域を４つの小領域に分割する工程と、
（ｆ）上記各小領域に設けられた上記Ｘ軸に直交する複数のライン上の強度変化量の和をそれぞれ求め、上記強度変化量の和が最大となるラインを求める工程と、
（ｇ）上記各小領域における強度変化量の和が最大となるライン上において強度変化が所定のしきい値以上となるエッジを求める工程と、
（ｈ）上記レンズの特性を検出するための特定領域を上記エッジに基づいて特定する工程と、
を有すること
を特徴とする領域特定方法。
【請求項２】
（ａ）レンズから出射された光を回折格子で回折して得た異なる次数の回折光を干渉させてシェアリング干渉像を形成する工程と、
（ｂ）上記回折格子をその格子と直交する成分を含む方向へ移動させて上記回折光の位相を変化させる工程と、
（ｃ）上記位相の変化により時間的に変化した光強度とその座標を含むデータを複数取り込む工程と、
（ｄ）上記複数のデータに基づいて、各座標における光強度の時間的な変化の大きさである強度変化量を算出する工程と、
（ｅ）上記０次回折光の光軸と直交かつ上記格子と平行なＹ軸と、上記０次回折光の光軸と直交かつ上記Ｙ軸と直交するＸ軸とによって、少なくとも０次回折光を含む領域を４つの小領域に分割する工程と、
（ｆ）上記各小領域に設けられた上記Ｘ軸に直交する複数のライン上の強度変化量の和をそれぞれ求め、上記強度変化量の和が最大となるラインを求める工程と、
（ｇ）上記各小領域における強度変化量の和が最大となるライン上において強度変化が所定のしきい値以上となるエッジを求める工程と、
（ｈ）上記４つの小領域にそれぞれ決定された４つのエッジ点を基準にして特定領域を特定する工程と、上記特定領域に設定された複数の線分上の複数の測点で、時間的な光強度変化の位相を求める工程と、
（ｉ）上記測点の位置をＸ、上記位相をφとしたとき、上記位相φを上記測点の位置Ｘの関数で近似し、上記関数の係数値で上記レンズの光学特性を評価する工程とを有すること
を特徴とする収差計測方法。
【請求項３】
（ａ）光学ユニットから出射した光を回折すると共に、異なる次数の回折光のシェアリング干渉光を出射する回折格子と、
（ｂ）上記回折格子を、その格子と直交する方向の成分を含む方向へ移動させる機構と、
（ｃ）上記シェアリング干渉光を受像する受像体と、
（ｄ）受像体で得られた複数のデータを記憶する記憶装置と、
（ｅ）上記複数のデータにおいて、各座標における光強度データの時間的な変化の大きさである強度変化量を算出し、
上記０次回折光の光軸と直交かつ上記格子と平行なＹ軸と、上記０次回折光と直交かつ上記Ｙ軸と直交するＸ軸とによって、少なくとも０次回折光を含む領域を４つの小領域に分割し、
上記各小領域に設けられた上記Ｘ軸に直交する複数のライン上の強度変化量の和を求め、上記強度変化量の和が最大となるラインを求め、
上記各小領域における強度変化量の和が最大となるライン上において強度変化が所定のしきい値以上となるエッジを求め、
上記４つの小領域にそれぞれ決定された４つのエッジ点を基準にして特定領域を特定し、
上記特定領域に設定された複数の線分上の複数の測点で、光強度変化の位相を求め、
上記測点の位置をＸ、上記位相をφとしたとき、上記位相φを上記測点の位置Ｘの関数で近似し、上記関数の係数値で上記レンズの光学特性を評価する手段とを有すること
を特徴とする収差計測装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ディスク方式の情報記憶媒体、例えばＤVＤ（Ｄrｇitａl Vｅrsａtilｅ Ｄisk）に情報を読み書きする光ヘッド、またレーザ加工機、レーザ顕微鏡などにおいて、光を結像してスポツトを形成する当該光の特性、およびこのスポットを形成する光学レンズの特性を検出するために必要な領域を決定する方法及び当該光学レンズの収差計測装置並びに光学ユニットの調整装置に関する。
【０００２】
【発明の背景】
光ディスク方式の高密度情報記憶媒体から情報を読み取り、またこの高密度情報記憶媒体に情報を記憶するためには、光源から出射された光を目的の場所に正確に照射できる光学系が必要である。そのため、特に、光学系の対物レンズは、それ自体に厳格な光学的特性が要求されるだけでなく、日的の場所に精度よく固定されなければならない。
【０００３】
そこで、対物レンズの検査又は調整の方法として、図１（ａ）に示すような、干渉計測方法によりレンズ収差を検出し、その検出結果に基づいて対物レンズを検査し調整する方式（回折干渉方式）が提案されている（例えば、特願平第１１-１３８５８４号）。
【０００４】
この回折干渉方式では、光ヘッド１０から出射された光は、対物レンズ１２を介し、回折格子１４に入射される。回折格子１４を透過する光は、異なる次数を有する複数の光に分解される。通常、分解された複数の光のうち０次光と±１次光が検出レンズ３に入射され（図１（ｂ）参照）、この検出レンズ３上で０次光と−１次光、そして０次光と−１次光が重なり、それぞれの干渉縞が生じる。これら干渉縞は、結像レンズ１８により撮像素子２０上に結像され、撮像素子２０上で図２に示す干渉パターンが得られる。干渉パターンは画像データとして処理装置２２に取り込まれ、図２に示すように、０次光Ｌ０と＋１次光Ｌ＋１及び（又は）０次光Ｌ０と−１次光Ｌ−１が重なった凸レンズ型の干渉縞（干渉像）Ｉ０＋１、Ｉ０−１が解析されてレンズ収差等が検出される。
【０００５】
収差の種類と、それによって生じる干渉縞を図３に示す。図３の（Ａ）はデフォーカスによる縞パターン、（Ｂ）（Ｃ）はコマ収差による縞パターン、（Ｄ）は非点収差による縞パターン、（Ｅ）は球面収差による縞パターン、（Ｆ）収差ゼロのときの縞パターンである。収差ゼロの場合、干渉領域内の光強度は一様である。一般に収差は複合して発生し、（Ａ）から（Ｆ）が混合した縞パターンとなる。このパターンに基づいて各収差を抽出する。収差抽出には位相シフト法を使う。この位相シフト法では、例えば回折格子１４をその格子と直交する方向（図３の各図に符号Ｘで示す方向に平行な方向。）に移動させることで、干渉させる２つの波面の位相を互いにずらして縞パターンを変化させ、その変化の仕方の分布、つまり強度変化の位相の分布を解析して収差を求める。このとき、干渉領域全面のデータを使って収差解析するのではなく、「特定の領域」のデータを用いて解析する。そして、この収差検出結果に基づいて、光学系の調整を行う。
【０００６】
このように、上記位相シフト法によれば、干渉領域に「特定領域」を設定する必要がある。また、「特定領域」を決めるためには、干渉領域を決定しなければならない。そのために、この干渉領域を決定する具体的な方法としては、一般に次のような手順が考えられる。
【０００７】
手順１
例えば回折格子を移動させることにより干渉させる波面の位相を時間的に変化させ、干渉パターンの強度を時間的に変化させる。このとき、撮像素子から得られた、各時刻における画像データ、すなわち強度分布データ（座標と強度）を処理装置の記憶部に取り込む。
【０００８】
手順２
図４に示すように、回折格子の移動方向とほぼ直交するようにＹ軸と、このＹ軸と直交するＸ軸を設ける。
【０００９】
手順３
記憶部に取り込まれた複数の強度分布データについて、各画素における強度データの変化の大きさ（以下、「強度変化」とする）を算出する。
【００１０】
手順４
Ｙ軸方向に適当な間隔をあけて、Ｘ軸に平行な複数のラインＨ１〜Ｈｎを設定する
【００１１】
手順５
ラインＨ１上で、Ｘ軸のマイナス側の端からプラス方向（図４の左から右）へ、強度変化があるしきい値以上になる点を探し、強度変化が初めてしきい値以上となる点をエッジＰＬ１とする。同じく、ラインＨ１上で、Ｘ軸のプラス側の端からマイナス方向（図４の右から左）へ強度変化があるしきい値以上になる点を探し、初めてしきい値以上になる点をＰＲ１とする。同様の処理をラインラインＨ２〜Ｈｎについて行ない、エッジＰＬ２〜ＰＬｎ、ＰＲ２〜ＰＲｎを求める。
【００１２】
手順６
エッジＰＲ１、・・ＰＲｎ、ＰＬ１、・・、ＰＬｎの座標を、ＰＲ１（ＸＰＲ１、ＹＰＲ１）、・・、ＰＲｎ（ＸＰＲｎ、ＹＰＲｎ）、ＰＬ１（ＸＰＬ１、ＹＰＬ２）、・・、ＰＬｎ（ＸＰＬｎ、ＹＰＬｎ）とおく。
【００１３】
手順７
図５に示すように、中心座標（Ｘｃ、Ｙｃ）を有する所定の半径を持つ仮想円Ｃｉを設ける。最初、Ｘｃ、Ｙｃは適当に設定する。次に、ＰＲ１、・・ＰＲｎ、ＰＬ１、・・、ＰＬｎと（Ｘｃ、Ｙｃ）を結ぶ線分と仮想円Ｃｉとの交点を、それぞれＱＲ１、・・、ＱＲｎ、ＱＬ１、・・ＱＬｎとする。
【００１４】
手順８
ＰＲ１とＱＲ１の距離を△Ｒ１、・・、ＰＲｎとＱＲｎの距離を△Ｒｎ、ＰＬ１とＱＬ１の距離を△Ｌ１、・・、ＰＬｎとＱＬｎの距離を△Ｌｎとし、これらの距離の自乗和、つまりΣ（△Ｒｎ２）＋Σ（△Ｌｎ２）が極小になる座標（Ｘｃ’、Ｙｃ’）を求める。
【００１５】
手順９
座標（Ｘｃ、Ｙｃ）を干渉パターンの基準とし、干渉領域を決定する。そして、決定された干渉領域の中に特定領域を設定し、この特定領域の光強度データを取得し、各種収差を求める。
【００１６】
しかし、この一般的な、円関数をフィッティングして干渉領域を特定する方法は、誤差が最小となる点を演算する検索アルゴリズムなので、特定領域の決定、すなわち演算の収束までに多くの時間を要する。
【００１７】
そこで、本発明は、上記の回折干渉方式において干渉パターンの中の処理すべき領域を高速に設定する領域設定方法及び該方法を用いた収差計測方法および装置を提供することを目的とする。
【００１８】
【発明の概要】
本発明の領域特定方法は、
（ａ）レンズから出射された光を回折格子で回折して得た異なる次数の回折光を干渉させてシェアリング干渉像を形成する工程と、
（ｂ）上記回折格子をその格子と直交する成分を含む方向へ移動させて上記回折光の位相を変化させる工程と、
（ｃ）上記位相の変化により時間的に変化した光強度とその座標を含むデータを複数取り込む工程と、
（ｄ）上記複数のデータに基づいて、各座標における光強度の時間的な変化の大きさである強度変化量を算出する工程と、
（ｅ）上記０次回折光の光軸と直交かつ上記格子と平行なＹ軸と、上記０次回折光の光軸と直交かつ上記Ｙ軸と直交するＸ軸とによって、少なくとも０次回折光を含む領域を４つの小領域に分割する工程と、
（ｆ）上記各小領域に設けられた上記Ｘ軸に直交する複数のライン上の強度変化量の和をそれぞれ求め、上記強度変化量の和が最大となるラインを求める工程と、
（ｇ）上記各小領域における強度変化量の和が最大となるライン上において強度変化が所定のしきい値以上となるエッジを求める工程と、
（ｈ）上記レンズの特性を検出するための特定領域を上記エッジに基づいて特定する工程と、
を有することを特徴とする。
【００１９】
本発明の収差計測方法は、
（ａ）レンズから出射された光を回折格子で回折して得た異なる次数の回折光を干渉させてシェアリング干渉像を形成する工程と、
（ｂ）上記回折格子をその格子と直交する成分を含む方向へ移動させて上記回折光の位相を変化させる工程と、
（ｃ）上記位相の変化により時間的に変化した光強度とその座標を含むデータを複数取り込む工程と、
（ｄ）上記複数のデータに基づいて、各座標における光強度の時間的な変化の大きさである強度変化量を算出する工程と、
（ｅ）上記０次回折光の光軸と直交かつ上記格子と平行なＹ軸と、上記０次回折光の光軸と直交かつ上記Ｙ軸と直交するＸ軸とによって、少なくとも０次回折光を含む領域を４つの小領域に分割する工程と、
（ｆ）上記各小領域に設けられた上記Ｘ軸に直交する複数のライン上の強度変化量の和をそれぞれ求め、上記強度変化量の和が最大となるラインを求める工程と、
（ｇ）上記各小領域における強度変化量の和が最大となるライン上において強度変化が所定のしきい値以上となるエッジを求める工程と、
（ｈ）上記４つの小領域にそれぞれ決定された４つのエッジ点を基準にして特定領域を特定する工程と、上記特定領域に設定された複数の線分上の複数の測点で、時間的な光強度変化の位相を求める工程と、
（ｉ）上記測点の位置をＸ、上記位相をφとしたとき、上記位相φを上記測点の位置Ｘの関数で近似し、上記関数の係数値で上記レンズの光学特性を評価する工程とを有すること
を特徴とする収差計測方法。
【００２０】
本発明の収差計測装置は、
（ａ）光学ユニットから出射した光を回折すると共に、異なる次数の回折光のシェアリング干渉光を出射する回折格子と、
（ｂ）上記回折格子を、その格子と直交する方向の成分を含む方向へ移動させる機構と、
（ｃ）上記シェアリング干渉光を受像する受像体と、
（ｄ）受像体で得られた複数のデータを記憶する記憶装置と、
（ｅ）上記複数のデータにおいて、各座標における光強度データの時間的な変化の大きさである強度変化量を算出し、
上記０次回折光の光軸と直交かつ上記格子と平行なＹ軸と、上記０次回折光と直交かつ上記Ｙ軸と直交するＸ軸とによって、少なくとも０次回折光を含む領域を４つの小領域に分割し、
上記各小領域に設けられた上記Ｘ軸に直交する複数のライン上の強度変化量の和を求め、上記強度変化量の和が最大となるラインを求め、
上記各小領域における強度変化量の和が最大となるライン上において強度変化が所定のしきい値以上となるエッジを求め、
上記４つの小領域にそれぞれ決定された４つのエッジ点を基準にして特定領域を特定し、
上記特定領域に設定された複数の線分上の複数の測点で、光強度変化の位相を求め、
上記測点の位置をＸ、上記位相をφとしたとき、上記位相φを上記測点の位置Ｘの関数で近似し、上記関数の係数値で上記レンズの光学特性を評価する手段とを有すること
を特徴とする。
【００２２】
【発明の実施の形態】
図面を参照して本発明の実施形態を説明する。
（１）干渉領域特定方法
図６は、図１に示す撮像素子２０に撮影された凸レンズ型の干渉像Ｉ０＋１、Ｉ０−１の一例を示す。干渉像Ｉ０＋１、Ｉ０−１は、略円形の０次回折光Ｌ０と＋１次回折光Ｌ＋１、０次回折光Ｌ０と−１次回折光Ｌ−１が重なり合って形成されたものである。以下、このような異なる次数の回折光の干渉を「シェアリング」または「シェアリング干渉」、干渉によりできる像を「シェアリング干渉像」という。そして、このシェアリング干渉像の中に特定領域（特定座標を含む。）を決定する方法は、以下の手順に従って行なわれる。
【００２３】
手順１
例えば回折格子を移動させることにより干渉させる波面の位相を時間的に変化させ、干渉パターンの強度を時間的に変化させる。このとき、撮像素子から得られた、各時刻における画像データ、すなわち強度分布データ（座標と強度）を処理装置の記憶部に取り込む。
【００２４】
手順２
回折格子の移動方向（シェアリング軸）とほぼ直交するＹ軸と、このＹ軸と直交するＸ軸を設ける（図４参照）。ただし、図面を簡略化するため、これらＸ軸、Ｙ軸は省略してある。
【００２５】
手順３
記憶部に取り込まれた複数の強度分布データについて、各画素における強度データの変化の大きさ（以下、「強度変化」とする）を算出する。以上のように、手順１〜３は、従来の方法と同一である。
【００２６】
手順４
図６に示すように、撮影画像の略中央Ｏｃを通り、Ｘ軸と平行なＷ軸と、Ｙ軸と平行なＵ軸を設置し、これらＷ軸とＵ軸によって画像の領域を４分割する。分割された領域を小領域[１]、[２]、[３]、[４]とする。
【００２７】
手順５
小領域[１]において、Ｗ軸に関して領域の端（本実施形態では、小領域［１］の右端）に、ラインＷ１１を設定する。なお、添字１１の最初の「１」は小領域の番号、後の「１」はライン番号を示す。
【００２８】
手順６
ラインＷ１１上の各画素における強度変化を積算して強度変化量の和Σを求める。なお、強度変化量の和Σは、ライン上のすべての画素の強度変化を積算するのではなく、複数の画素について一つの割合で（例えば、２つの画素ごとに）強度変化を積算したものであってもよい。この場合、手順１で読み取る画像データ、及び手順３で求める強度変化は、本手順６で演算に用いる画素に関するものだけに限ることができる。
【００２９】
手順７
手順５と同様にラインＷ１１に隣接するラインＷ１２を設定し、手順６と同様に該ラインＷ１２上について強度変化量の和Σを求める。ラインＷ１２は、ラインＷ１１をＷ軸に関して１画素移動したラインであってもよいし、複数画素移動したラインであってもよい。以下、同様にして小領域[１]に順次ラインを設定し、それぞれのラインについて強度変化量の和Σを求める。図６（１）は、以上のようにして求めた強度変化量の和Σを縦軸、Ｗ軸の座標を横軸にとり、強度変化量の和Σの変化を表したグラフである。
【００３０】
手順８
小領域[１]で計算された各ラインの光強度変化量の和Σを比較し、最も大きな強度変化量の和Σｍａｘを有するラインＷ１ｍａｘを特定する。
【００３１】
手順９
最も大きな強度変化量の和Σｍａｘを有するラインＷ１ｍａｘ上において、端の画素（図面の上端画素又は下端画素）から各画素における光強度変化が所定のしきい値以上となる点（画素）を探し、該当する点を小領域[１]の「干渉領域特定点（エッジ）」Ｐ１とする。
【００３２】
手順１０
手順５〜９を他の小領域[２]〜[４]において実行し、Ｗ２ｍａｘ〜Ｗ４ｍａｘ及びエッジＰ２〜Ｐ４を求める（図６（ｂ）〜（ｄ）参照）。
【００３３】
手順１１
以上のようにして求めた凸レンズ型干渉領域の頂点座標（エッジＰ１〜Ｐ４の座標）より、０次回折光及び±１次回折光の輪郭、並びに干渉領域（干渉像Ｉ０＋１、Ｉ０−１）の座標を求める。
【００３４】
以上のようにして求められた干渉領域に、特定領域、例えば干渉像Ｉ０＋１、Ｉ０−１の中心、この中心を通る一つ又は複数の線分が設定される。そして、その線分上における複数の測定位置を定めると共に、該測定位置における位相を測定位置の座標関数で近似し、該関数の係数値でレンズの光学特性が評価される。
【００３５】
なお、Ｗ軸、Ｕを設定する際の、画像データの略中心Ｏｃは、エッジＰ１〜Ｐ４の４点を結んだ４角形の中であればよく、しかもこの四角形領域は比較的大きい。そのため、中心Ｏｃの点は、画像データ上で固定してもよい。
【００３６】
（２）光学ユニット調整装置
図７は、上述した干渉領域特定方法を利用した光学ユニット評価装置の一例を示す。この図に示す評価装置において、光源であるレーザ発生源３０はレーザ光を発射する。この光は可干渉性を有し、例えばヘリウムネオンレーザ光が好適に利用できる。発射されたレーザ光は、ビームエキスパンダ３２によりビーム径を拡大した略平行光とされた後、ハーフミラー３２で反射され、被測定レンズ３４から反射型回折格子３６に照射される。回折格子３６からの反射回折光は、再び被測定レンズ３４に入射する。回折格子３６は、０次回折光と＋１次回折光または−１次回折光がレンズ３４の瞳面でシェアリング干渉を生じるように設計されている。このシェアリング干渉光は、レンズ３４で略平行光に戻り、ハーフミラー３２を透過し、結像レンズ３８を通って撮像素子４０（例えばＣＣＤセンサ等の受像体）に入射する。このとき、結像レンズ３８は、被測定レンズ３４の瞳面を撮像素子４０に結像する。この撮像素子４０に結像された干渉像には、レンズ３４に各種の収差が含まれている場合、それらの収差が重なり合った干渉縞が形成される。撮像素子４０は、表示装置を備えた信号処理装置（記憶装置を含む。）４２に接続されており、撮像素子４０で撮像された干渉像の画像データが信号処理装置４２に送信されて記憶され、その後収差演算に利用される。また、その収差演算に基づいてレンズ調整装置４６が動作し、レンズ３４の位置や傾きを調整する。
【００３７】
信号処理装置４２は、上述の位相シフト法を用い、収差を演算する。そのため、回折格子３６は、ピエゾ素子等の適当な移動装置４４によって、該回折格子３６の格子と直交する方向又は直交する成分を含む方向に移動される。これにより、干渉させる２つの波面の位相が互いにずれ、縞パターンが変化し、その変化のしかたの分布、つまり強度変化の位相の分布を信号処理装置４２が解析して収差を求める。具体的には、干渉領域に例えば干渉像Ｉ０＋１、Ｉ０−１の中心、この中心を通る一つ又は複数の線分が設定される。そして、その線分上における複数の測定位置を定めると共に、該測定位置における位相を測定位置の座標を用いて一次又は二次若しくはそれ以上の次数の関数で近似し、該関数の係数値でレンズの光学特性が評価される。このとき、信号処理装置４２は、干渉領域全面のデータを使って収差解析するのではなく、上述した干渉領域特定方法に基づいて特定された領域のデータを解析することで収差を演算する。信号処理装置４２で演算された収差に基づき、レンズ調整装置４６によってレンズ３４の位置や傾きを調整し、その収差を除去する。
【００３８】
【発明の効果】
以上の説明のように、本発明によれば、位相シフト法を用いて光学系に含まれる収差を演算する処理において、その演算対象となる領域の設定を高速に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  （ａ）回折干渉法式の概略図、（ｂ）図１（ａ）の部分拡大図。
【図２】  干渉縞の一例を示す図。
【図３】  各収差により生じる干渉縞を示す図。
【図４】  一般的な円関数フィッティングを説明するための図。
【図５】  一般的な円関数フィッティングを説明するための図。
【図６】  本発明の領域特定方法を説明する図。
【図７】  本発明の収差計測装置及び光学ユニット調整装置の概略図。
【符号の説明】
３４：被測定レンズ
３６：回折格子
４０：撮像素子
４２：信号処理装置（収差計測装置）
４６：レンズ調整装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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