【事件の表示】
　平成２年特許願第２８０８００号「レジスト処理装置およびレジスト処理方法」拒絶査定に対する審判事件〔（平成６年８月２４日出願公告、特公平６−６６３７７）、特許請求の範囲に記載された請求項の数（７）〕について、次のとおり審決する。
【結論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許をすべきものとする。
【理由】
１．［手続の経緯・本願発明］
　本願は、平成２年３月３０日に出願された特願平２−８３２３７号の特許出願を先の出願として、平成５年法律第２６号による改正前の特許法第４２条の２第１項に規定する優先権を主張して平成２年１０月１９日付で出願されたもので、その請求項に係る発明は、出願公告後の平成１０年２月９日付、平成１１年１０月５日付の各手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲請求項１〜７に記載された事項によって特定される次のとおりのものと認める。
　【請求項１】「複数の被処理体を収容するカセットを少なくとも１つ載置する載置面を有するカセット載置台を備えたカセット載置部と、
　このカセット載置部に設けられ前記カセットから前記被処理体を搬入搬出する第１の搬送手段と、
　前記被処理体をレジスト処理するレジスト塗布処理ユニットおよびレジスト現像処理ユニットおよびべーキング処理ユニットおよび冷却処理ユニット、またはこれらのうち少なくとも２つを具備する処理部と、
　この処理部に設けられ前記レジスト塗布処理ユニットおよびレジスト現像処理ユニットおよびべーキング処理ユニットおよび冷却処理ユニット、またはこれらのうち少なくとも２つのいずれかのユニットに対して前記被処理体を搬入搬出する第２の搬送手段と、
　前記カセット載置部を前記処理部に対して高さ調整可能とするとともに、前記第２の搬送手段により前記複数の処理ユニットに搬入搬出される前記被処理体の本処理装置における高さ位置を、前記カセット載置台のカセット載置面の本処理装置における高さ位置より高い位置に設定する手段とを具備してなることを特徴とするレジスト処理装置。」（この請求項１に係る発明を、以下「本願発明」という）
　【請求項２】「複数の被処理体を収容するカセットを少なくとも１つ載置する載置面を有するカセット載置台を備えたカセット載置部と、
　このカセット載置部に設けられ前記カセットから前記被処理体を搬入搬出する第１の搬送手段と、
　前記被処理体をレジスト処理するレジスト塗布処理ユニットおよびレジスト現像処理ユニットおよびべーキング処理ユニットおよび冷却処理ユニット、またはこれらのうち少なくとも２つを具備する処理部と、
　この処理部に設けられ前記レジスト塗布処理ユニットおよびレジスト現像処理ユニットおよびべーキング処理ユニットおよび冷却処理ユニット、またはこれらのうち少なくとも２つのいずれかのユニットに対して前記被処理体の裏面（下面）周縁部を支持して搬入搬出する第２の搬送手段と、
　前記カセット載置部を前記処理部に対して高さ調整可能とするとともに、前記第２の搬送手段により前記複数の処理ユニットに搬入搬出される前記被処理体の本処理装置における高さ位置を、前記カセット載置台のカセット載置面の本処理装置における高さ位置より高い位置に設定する手段とを具備してなることを特徴とするレジスト処理装置。」
　【請求項３】「複数の被処理体を収容するカセットを少なくとも１つ載置するカセット載置台を備えたカセット載置部と、
　このカセット載置部が設けられる第１の筐体と、
　この第１の筐体に設けられ前記カセットから前記被処理体を搬入搬出する第１の搬送手段と、
　前記被処理体をレジスト処理するレジスト塗布処理ユニットおよびレジスト現像処理ユニットおよびべーキング処理ユニットおよび冷却処理ユニット、またはこれらのうち少なくとも２つを具備する処理部と、
　この処理部が設けられる第２の筐体と、
　この第２の筐体に設けられ前記レジスト塗布処理ユニットおよびレジスト現像処理ユニットおよびべーキング処理ユニットおよび冷却処理ユニット、またはこれらのうち少なくとも２つのいずれかのユニットに対して前記被処理体を搬入搬出する第２の搬送手段と、
　前記第１の筐体を前記第２の筐体に対して高さ調整可能とするとともに、前記第２の搬送手段により前記複数の処理ユニットに搬入搬出される前記被処理体の本処理装置における高さ位置を、前記第１の筐体に設けられる前記カセット載置台のカセット載置面の本処理装置における高さ位置より高い位置に設定する手段とを具備してなることを特徴とするレジスト処理装置。」
　【請求項４】「複数の被処理体を収容するカセットを少なくとも１つ載置するカセット載置台を備えたカセット載置部と、
　このカセット載置部が設けられる第１の筐体と、
　この第１の筐体に設けられ前記カセットから前記被処理体を搬入搬出する第１の搬送手段と、
　前記被処理体をレジスト処理するレジスト塗布処理コニットおよびレジスト現像処理ユニットおよびべーキング処理ユニットおよび冷却処理ユニット、またはこれらのうち少なくとも２つを具備する処理部と、
　この処理部が設けられる第２の筐体と、
　この第２の筐体に設けられ前記レジスト塗布処理ユニットおよびレジスト現像処理ユニットおよびべーキング処理ユニットおよび冷却処理コニツト、またはこれらのうち少なくとも２つのいずれかのユニットに対して前記被処理体を搬入搬出する第２の搬送手段と、
　前記第１の筐体に設けられ前記第１の搬送手段と前記第２の搬送手段との間で、前記被処理体を受け渡す受渡し手段と、
　前記第１の筐体を前記第２の筐体に対して高さ調整可能とするとともに、前記第２の搬送手段により前記複数の処理ユニットに搬入搬出される前記被処理体の本処理装置における高さ位置を、前記第１の筐体に設けられる前記カセット載置台のカセット載置面の本処理装置における高さ位置より高い位置に設定する手段とを具備してなることを特徴とするレジスト処理装置。」
　【請求項５】「請求項１〜請求項４記載いずれか１項記載のレジスト処理装置において、
　前記処理部の略中心に沿って前記第２の搬送手段が設けられ、前記被処理体を搬入搬出する搬入搬出口が前記第２の搬送手段側に向くように当該第２の搬送手段の両側に前記複数の処理ユニットが配列されていることを特徴とするレジスト処理装置。」
　【請求項６】「請求項５記載のレジスト処理装置において、
　前記第２の搬送手段を挟んで一方側に前記レジスト塗布処理ユニットおよびレジスト現像処理ユニツトが配列され、他方側に前記べーキング処理ユニットおよび冷却処理ユニットが配列されていることを特徴とするレジスト処理装置。」
　【請求項７】「複数の被処理体を収容するカセットを少なくとも１つ載置する載置面を有するカセット載置台を備えたカセット載置部と、
　このカセット載置部に設けられ前記カセットから前記被処理体を搬入搬出する第１の搬送手段と、前記被処理体をレジスト処理するレジスト塗布処理ユニットおよびレジスト現像処理ユニットおよびべーキング処理ユニットおよび冷却処理ユニット、またはこれらのうち少なくとも２つを具備する処理部と、
　この処理部に設けられ前記レジスト塗布処理ユニットおよびレジスト現像処理ユニットおよびべーキング処理ユニットおよび冷却処理ユニット、またはこれらのうち少なくとも２つのいずれかのユニットに対して前記被処理体を搬入搬出する第２の搬送手段と、
　前記カセット載置部を前記処理部に対して高さ調整可能とするとともに、前記２の搬送手段により前記複数の処理ユニットに搬入搬出される前記被処理体の本処理装置における高さ位置を、前記カセット載置台のカセット載置面の本処理装置における高さ位置より高い位置に設定する手段とを具備してなる処理装置において、
　前記複数の処理ユニットに搬入搬出される前記被処理体の本処理装置における高さ位置を、前記カセット載置台のカセット載置面の本処理装置における高さ位置より高い位置で、前記第２の搬送手段により前記被処理体を搬送することを特徴とするレジスト処理方法。」
２．［原査定の理由］
　原査定の理由である、特許異議の決定の理由の概要は、上記優先権に係る優先日より前に頒布された刊行物である特開平２−１１１３号公報（以下、「第１引用例」という）、特開平２−５５２０号公報（以下、「第２引用例」という）、特開平１−１１７０２２号公報（以下、「第３引用例」という）及び特開平１−３１８２７４号公報（以下、「第４引用例」という）を引用し、本願の各発明は、上記第１〜第３引用例、あるいは第１〜第４引用例に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願の各発明については、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない、というものである。
３．［当審の判断（その１）］
　＜本願発明（請求項１の発明）について＞
（１）引用例の記載事項
▲１▼第１引用例（特開平２−１１１３号公報）には、レジスト処理装置に関する記載があり、その第４図に示す塗布装置１００は半導体ウェハの搬送から一連の塗布に関する処理を全て行うことができる装置であり、基台１０１と、それぞれ基台１０１に設けられた、予備加熱機構１０３、冷却機構１０４、第１の加熱機構１０５、第２の加熱機構１０６、第１の塗布機構１０７、及び第２の塗布機構１０８とを備えており、基台１０１の中央部には矢印Ｙ方向（横方向）に延長する通路１０２が設けられていること、通路１０２には、その中を移動するウエハ搬送装置１１０が設けられており、この搬送装置は、本体１１１及び２つのウエハ吸着保持用ピンセット１１２、１１３を有し、本体１１１は通路１０２をＹ方向に移動可能であり、ピンセット１１２、１１３はＹ方向、Ｘ方向（縦方向）、Ｚ方向（垂直方向）及びθ方向（回転方向）にそれぞれ独立して移動することが可能となっていること、これらピンセット１１２、１１３により各処理機構（１０３〜１０８）のうち任意の機構に対するウエハの搬出、搬入及びウエハ搬出搬入機構からのウエハの授受を行うこと、基台１０１の側方には、ウエハ搬出搬入機構１２０が設けられており、この搬出搬入機構１２０には、処理前のウェハを収容したウエハカセット１２２及び処理後のウエハを収容するウエハカセット１２３が設けられ、また、搬出搬入機構１２０はウエハを吸着保持し、Ｘ、Ｙ方向に移動が可能なピンセット１２１を備えており、このピンセット１２１により処理前のウェハをカセット１２２から取り出し、また処理済みのウエハを搬送装置１１０のピンセットから受け取ること、通路１０２と搬出搬入機構１２０とのインターフェイスにおいて、搬送通路１１０のピンセット１１２、１１３とピンセット１２１との間でウエハの受け渡しができるようになっていること、更に、塗布装置１００において、第２の塗布機構１０８を現像機構にし通路１０２の右端において露光装置との間でウェハの授受をできるようにすることにより、レジスト塗布から現像までの一連の動作が可能な塗布装置を得ることができること、が記載されている。（第５頁右下欄下から５行〜第６頁右上欄最下行、第７頁左上欄第２〜９行参照）
▲２▼第２引用例（特開平２−５５２０号公報）には、半導体熱処理装置に関して、反応管１１１−１乃至１１１−４に搬入搬出される被処理体であるウェーハの高さ位置をウェーハカセットの載置面の高さより高い位置に設定することが示されている。（第１０図及びその関連記載参照）
▲３▼第３引用例（特開平１−１１７０２２号公報）には、熱処理炉１１に搬入搬出される被処理体であるウェーハの高さ位置をウェーハカセットの載置面の高さより高い位置に設定することが記載されている。（第２、３図及びその関連記載参照）
▲４▼第４引用例（特開平１−３１８２４７号公報）には、異なる搬送高さの間の被処理物（半導体基板等）の移送のために搬送機構間に被処理物を受け渡す機構（エレベータ）を設けることが記載されている。（第３頁右下欄第２〜８行、第１図参照）
（２）発明の対比
　本願発明と、第１引用例に記載された発明とを対比すると、第１引用例に記載された「搬出搬入機構１２０」は、本願発明の「カセット載置部」に、同様に、「基台１０１」は「処理部」にそれぞれ相当するし、同じく第１引用例記載の「ピンセット１２１」と「ピンセット１１２、１１３」は、それぞれ本願発明の「第１の搬送手段」と「第２の搬送手段」に相当するから、本願発明と第１引用例記載の発明とは、
「複数の被処理体を収容するカセットを少なくとも１つ載置する載置面を有するカセット載置台を備えたカセット載置部と、
　このカセット載置部に設けられ前記カセットから前記被処理体を搬入搬出する第１の搬送手段と、
　前記被処理体をレジスト処理するレジスト塗布処理ユニットおよびレジスト現像処理ユニットおよびべーキング処理ユニットおよび冷却処理ユニット、またはこれらのうち少なくとも２つを具備する処理部と、
　この処理部に設けられ前記レジスト塗布処理ユニットおよびレジスト現像処理ユニットおよびべーキング処理ユニットおよび冷却処理ユニット、またはこれらのうち少なくとも２つのいずれかのユニットに対して前記被処理体を搬入搬出する第２の搬送手段とを具備してなる、
　レジスト処理装置。」である点で一致している。
　一方、本願発明では、「前記カセット載置部を前記処理部に対して高さ調整可能とするとともに、前記第２の搬送手段により前記複数の処理ユニットに搬入搬出される前記被処理体の本処理装置における高さ位置を、前記カセット載置台のカセット載置面の本処理装置における高さ位置より高い位置に設定する手段」を具備するというものであるのに対し、第１引用例では、「カセット載置部を処理部に対して高さ調整可能とする」点をはじめ、カセット載置部と処理部の位置の上下関係については全く言及されておらず、この点において、本願発明と第１引用例記載の発明とは相違している。
（３）相違点についての判断
　そこで、上記相違点について検討すると、上記（１）でみたとおり、ウエハ（被処理体）に処理を施すにあたり、複数の処理ユニット（第２引用例では反応管１１１−１乃至１１１−４、第３引用例では熱処理炉１１）に搬入搬出されるウエハの高さ位置を、ウエハカセットの載置面の高さより高い位置に設定することは、通常採用されている設計事項であって、格別のものとはいえないが、「カセット載置部を処理部に対して高さ調整可能とする」点（以下、「相違点の構成」という）は、上記いずれの引用例にも記載されていないし、この相違点の構成を示唆するものもない。
　そして、本願発明は、当該相違点の構成を備えることにより、明細書記載のとおり、「ロボット搬送により、ウエハカセット等を各種半導体処理装置に搬送する」際に、「カセット搬入口の高さが装置毎に異なると搬送が困難になる」のを避けるため、「搬入口高さが一致するように調節」する必要性がある場合に、「装置全体の高さ等を調節したり、大幅な設計変更等をする必要もなく、搬送高さの異なるロボットに柔軟に対応することができる」（公告公報第３頁第６欄第２〜１８行、第６頁第１２欄第７〜１９行参照）という、上記いずれの引用例の記載からも予測できない格別の作用効果を奏するものである。
　したがって、本願発明が、上記各引用例に記載されたところに基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
　なお、原審における特許異議の決定に際して採用されなかった証拠をはじめ、他の特許異議申立に関して提出された証拠にも、上記相違点の構成についての記載や示唆等、上記判断を左右するものは示されていない。
４．［当審の判断（その２）］
　＜請求項２〜７の発明について＞
　本願の請求項２〜７の発明も、本願発明と、基本的な構成において軌を一にするものであって、しかも、上記相違点の構成、あるいはそれと同等の技術的意義を有する、「前記第１の筐体を前記第２の筐体に対して高さ調整可能とする」構成を共通して備えるものであるから、本願発明と同様に、上記各引用例に記載されたところに基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
５．［むすび］
　以上のとおりであるから、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。