(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に対して処理を施す複数個のリソースを備えた基板処理装置により、各リソースを使用しながら処理する際に各々のリソースを使用するタイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、
実際に基板に対する処理を開始する前に各リソースの使用タイミングを予め作成するとともに、
各リソースで使用する消費材について、最大消費量以内で使用可能なリソースとして容量リソースを定義し、
各リソースを使用して基板に対する処理を行なう場合には、複数のリソースの使用により前記容量リソースの最大消費量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、前記各リソースを使用することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記容量リソースは、リソースが使用されるごとに時間あたりの消費量の合計を求め、この消費量が最大消費量を超える場合には、その原因となったリソースの使用を回避させることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記消費材は、電力、純水、薬液、気体のうちいずれか一つを含むことを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項４】
基板に対して処理を施す複数個のリソースを備えた基板処理装置により、各リソースを使用しながら処理する際に各々のリソースを使用するタイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法のプログラムにおいて、
実際に基板に対する処理を開始する前に各リソースの使用タイミングを予め作成するとともに、
各リソースで使用する消費材について、最大消費量以内で使用可能なリソースとして容量リソースを定義し、
各リソースを使用して基板に対する処理を行なう場合には、複数のリソースの使用により前記容量リソースの最大消費量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、前記各リソースを使用するようにコンピュータを制御することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法のプログラム。
【請求項５】
基板に対して処理を施す複数個のリソースを備えた基板処理装置により、各リソースを使用しながら処理する際に各々のリソースを使用するタイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、
実際に基板に対する処理を開始する前に各リソースの使用タイミングを予め作成するとともに、
各リソースから排出される廃材について、最大排出量以内で使用可能なリソースとして容量リソースを定義し、
各リソースを使用して基板に対する処理を行なう場合には、複数のリソースの使用により前記容量リソースの最大排出量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、前記各リソースを使用することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項６】
請求項５に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記容量リソースは、リソースが使用されるごとに時間あたりの排出量の合計を求め、この排出量が最大排出量を超える場合には、その原因となったリソースの使用を回避させることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項７】
請求項５または６に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記廃材は、排液または排気であることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項８】
基板に対して処理を施す複数個のリソースを備えた基板処理装置により、各リソースを使用しながら処理する際に各々のリソースを使用するタイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法のプログラムにおいて、
実際に基板に対する処理を開始する前に各リソースの使用タイミングを予め作成するとともに、
各リソースから排出される廃材について、最大排出量以内で使用可能なリソースとして容量リソースを定義し、
各リソースを使用して基板に対する処理を行なう場合には、複数のリソースの使用により前記容量リソースの最大排出量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、前記各リソースを使用するようにコンピュータを制御することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法のプログラム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体ウエハや液晶表示装置用のガラス基板（以下、単に基板と称する）に所定の処理を施す基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種の基板処理装置では、特に積極的に省電力化を図っていない関係上、装置において電力を消費する構成が全て同時に動作する可能性を考慮して電気的な設計を行なっている。
【０００３】
しかし、比較的消費電力が大きなヒータを複数個備える場合には、複数個のヒータを同時に使用するのを禁止し、排他的に各々のヒータを順次に切り換えながら使用することで消費電力を抑制している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、電力的には余裕がある場合も存在するにも関わらず、排他的な制御を行なうことから、ヒータによる昇温に長時間を要することがある。そのため薬液処理部などのリソースの利用効率が低下するという問題がある。
【０００５】
また、このように電力だけでなく、装置では純水、薬液、気体などの単位時間当たりに供給可能な最大量が決まっている消費材を使用する。これらについても、複数箇所にそれらを供給する際には、やはり排他的に供給することで単位時間当たりの消費量を抑制している。したがって、純水、薬液、気体などについても上述した電力同様の問題が生じる。
【０００６】
さらに、上記の消費とは反対に、処理液や純水などの排液、窒素ガス等の排気などのように装置から排出される廃材については、単位時間当たりの処理能力が決まっている廃棄物処理装置に送られる。したがって、処理能力を超えることがないように廃材を排出するリソースについては排他的な制御を行なう必要があり、リソースの使用効率が低下する問題もある。
【０００７】
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、消費材の使用予定を見越して容量リソースを使用することにより、最大消費量を超えないように制御しつつも効率的にリソースを利用することができる基板処理装置のスケジュール作成方法及びプログラムを提供することを目的とする。
【０００８】
もう一つの目的は、廃材の排出予定を見越して容量リソースを使用することにより、最大排出量を超えないように制御しつつも効率的にリソースを利用することができる基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムを提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、基板に対して処理を施す複数個のリソースを備えた基板処理装置により、各リソースを使用しながら処理する際に各々のリソースを使用するタイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、実際に基板に対する処理を開始する前に各リソースの使用タイミングを予め作成するとともに、各リソースで使用する消費材について、最大消費量以内で使用可能なリソースとして容量リソースを定義し、各リソースを使用して基板に対する処理を行なう場合には、複数のリソースの使用により前記容量リソースの最大消費量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、前記各リソースを使用することを特徴とするものである。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記容量リソースは、リソースが使用されるごとに時間あたりの消費量の合計を求め、この消費量が最大消費量を超える場合には、その原因となったリソースの使用を回避させることを特徴とするものである。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記消費材は、電力、純水、薬液、気体のうちいずれか一つを含むことを特徴とするものである。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、基板に対して処理を施す複数個のリソースを備えた基板処理装置により、各リソースを使用しながら処理する際に各々のリソースを使用するタイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法のプログラムにおいて、実際に基板に対する処理を開始する前に各リソースの使用タイミングを予め作成するとともに、各リソースで使用する消費材について、最大消費量以内で使用可能なリソースとして容量リソースを定義し、各リソースを使用して基板に対する処理を行なう場合には、複数のリソースの使用により前記容量リソースの最大消費量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、前記各リソースを使用するようにコンピュータを制御することを特徴とするものである。
【００１３】
請求項５に記載の発明は、基板に対して処理を施す複数個のリソースを備えた基板処理装置により、各リソースを使用しながら処理する際に各々のリソースを使用するタイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、実際に基板に対する処理を開始する前に各リソースの使用タイミングを予め作成するとともに、各リソースから排出される廃材について、最大排出量以内で使用可能なリソースとして容量リソースを定義し、各リソースを使用して基板に対する処理を行なう場合には、複数のリソースの使用により前記容量リソースの最大排出量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、前記各リソースを使用することを特徴とするものである。
【００１４】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記容量リソースは、リソースが使用されるごとに時間あたりの排出量の合計を求め、この排出量が最大排出量を超える場合には、その原因となったリソースの使用を回避させることを特徴とするものである。
【００１５】
請求項７に記載の発明は、請求項５または６に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記廃材は、排液または排気であることを特徴とするものである。
【００１６】
請求項８に記載の発明は、基板に対して処理を施す複数個のリソースを備えた基板処理装置により、各リソースを使用しながら処理する際に各々のリソースを使用するタイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法のプログラムにおいて、実際に基板に対する処理を開始する前に各リソースの使用タイミングを予め作成するとともに、各リソースから排出される廃材について、最大排出量以内で使用可能なリソースとして容量リソースを定義し、各リソースを使用して基板に対する処理を行なう場合には、複数のリソースの使用により前記容量リソースの最大排出量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、前記各リソースを使用するようにコンピュータを制御することを特徴とするものである。
【００１７】
【作用】
請求項１に記載の発明の作用は次のとおりである。
すなわち、処理前に予め各リソースの使用タイミングを作成するが、その際には複数のリソースの使用により容量リソースの最大消費量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、容量リソースの最大消費量を消費材の合計が超えないようにする。
【００１８】
なお、本発明におけるリソースとは、例えば、移動時に電力を使用する基板搬送機構、純水や窒素ガスなどとともに電力を使用する純水洗浄処理部、昇温のために電力を使用する温水ユニット、硫酸や過酸化水素水などの薬液と電力を使用する薬液薬液処理部、加熱に電力を使用する加熱処理部などを含む。
【００１９】
請求項２に記載の発明によれば、同時に使用される全てのリソースの時間当たりの消費量を求め、これが容量リソースの最大消費量を超える場合には、超える原因となったリソースの使用を回避することで最大消費量以内に収める。
【００２０】
請求項３に記載の発明によれば、電力、純水、薬液（例えば、硫酸や過酸化水素水）、気体（例えば、窒素）のいずれか一つの消費材について容量リソースを定義する。
【００２１】
請求項４に記載の発明によれば、プログラムとして上記請求項１と同様の作用を生じる。
【００２２】
請求項５に記載の発明によれば、処理前に予め各リソースの使用タイミングを作成するが、その際には複数のリソースの使用により容量リソースの最大排出量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、容量リソースの最大排出量を廃材の合計が超えないようにする。
【００２３】
なお、本発明におけるリソースとは、例えば、使用済みの純水や窒素ガスなどを排出する純水洗浄処理部、使用済みの処理液を排出する薬液薬液処理部、使用済みの窒素ガスを排出する乾燥処理部などを含む。
【００２４】
請求項６に記載の発明によれば、同時に使用される全てのリソースの時間当たりの排出量を求め、これが容量リソースの最大排出量を超える場合には、超える原因となったリソースの使用を回避して最大排出量以内に収める。
【００２５】
請求項７に記載の発明によれば、排液、排気の廃材について容量リソースを定義する。
【００２６】
請求項８に記載の発明によれば、プログラムとして上記の請求項５と同様の作用を生じる。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照してこの発明の一実施例を説明する。
図１及び図２はこの発明の一実施例に係り、図１は実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した平面図であり、図２はそのブロック図である。
【００２８】
この基板処理装置は、例えば、基板Ｗに対して薬液処理及び純水洗浄処理及び乾燥処理を施すための装置である。基板Ｗは複数枚（例えば２５枚）がカセット１に対して起立姿勢で収納されている。未処理の基板Ｗを収納したカセット１は、投入部３に載置される。投入部３は、カセット１を載置される載置台５を二つ備えている。基板処理装置の中央部を挟んだ投入部３の反対側には、払出部７が配備されている。この払出部７は、処理済みの基板Ｗをカセット１に収納してカセット１ごと払い出す。このように機能する払出部７は、投入部３と同様に、カセット１を載置するための二つの載置台９を備えている。
【００２９】
投入部３と払出部７に沿う位置には、これらの間を移動可能に構成された第１搬送機構１１が配置されている。第１搬送機構１１は、投入部３に載置されたカセット１ごと複数枚の基板Ｗを第２搬送機構１３に対して搬送する。
【００３０】
第２搬送機構１３は、収納されている全ての基板Ｗをカセット１から取り出した後、第３搬送機構１５に対して全ての基板Ｗを搬送する。また、第３搬送機構１５から処理済みの基板Ｗを受け取った後に、基板Ｗをカセット１に収容して第１搬送機構１１に搬送する。
【００３１】
第３搬送機構１５は、基板処理装置の長手方向に向けて移動可能に構成されており、上述した第２搬送機構１３との間で基板Ｗの受け渡しを行なう。上記第３搬送機構１５の移動方向における最も手前側には、乾燥処理部１７が配備されている。この乾燥処理装置１７は、例えば、低圧のチャンバ内に基板Ｗを収納して乾燥させる。
【００３２】
第３搬送機構１５の移動方向であって上記乾燥処理部１７に隣接する位置には、第１処理部１９が配備されている。この第１処理部１９は、複数枚の基板Ｗに対して純水洗浄処理を施すための純水洗浄処理部２１を備えているとともに、複数枚の基板Ｗに対して薬液処理を施すための薬液処理部２３を備えている。
【００３３】
第１副搬送機構２５は、第１処理部１９内での基板搬送の他に、第３搬送機構１５との間で基板Ｗを受け渡しする。純水洗浄処理部２１の上方に位置する非処理位置では、第３搬送機構１５との間で基板Ｗを受け渡す動作が行なわれる一方、薬液処理部２３の上方に位置する非処理位置では、基板Ｗの受け渡しは行なわれない。また、基板Ｗを処理する際には、純水洗浄処理部２１や薬液処理部２３の槽内に位置する処理位置にまで下降する。第２副搬送機構５３は、上記の第１副搬送機構２５と同様の機能を有し、純水洗浄処理部４９と薬液処理部５１を備えた第２処理部４７内での基板搬送等を行なう。
【００３４】
第１搬送機構１１と第２搬送機構１３に隣接する位置には、バッファ装置７１が配備されている。このバッファ装置７１は、第２搬送機構１３と基板Ｗを受け渡しする機能を備え、スケジュールの対象外となった複数枚の基板Ｗ（以下、ロットと称する）を一時的に収容する。そして、そのロットがスケジュールの対象となった時点で第２搬送機構１３によって受け取られて搬送される。
【００３５】
上記のように構成されている基板処理装置は、図２のブロック図に示すように制御部７３によって統括的に制御される。
【００３６】
制御部７３は、ＣＰＵなどから構成されており、以下に説明するスケジュール作成プログラムに相当する手順に基づき、レシピに応じて上述した薬液処理部２３，５１などの各リソースの使用タイミングをロットに対する処理を実際に開始する前に予め決定する。その後、実際にロットを処理するにあたり、作成されたスケジュールに基づき各リソースを使用してレシピに応じた処理をロットに対して施す。
【００３７】
記憶部７５には、この基板処理装置のユーザによって予め作成され、ロットをどのようにして処理するかを規定した複数種類のレシピと、スケジュール作成プログラムと、作成されたスケジュールと、スケジュールを実行する処理プログラム等が予め格納されている。
【００３８】
本発明では、容量リソースというものを新たに定義していることが特徴的である。これは、各リソースで使用する消費材について、最大消費量以内で使用可能になっている。この例では、消費材として「電力」を例に採って説明する。制御部７３は、各リソースを使用してスケジューリングを進めてゆくが、各リソースで使用される電力の合計が容量リソースの最大消費量を超えないようにする。そして、各リソースを使用するとともに容量リソースを使用する。
【００３９】
より詳細には、リソースが使用されるごとに、時間あたりの消費量の合計を求める。この合計が最大消費量を超える場合には、超える原因となったリソースの使用を中止して、容量リソースの最大消費量を超えるのを避ける。
【００４０】
図３ないし図７に示すタイムチャートを参照しながらスケジュール作成プログラムに相当する手順について説明するが、理解を容易にするためにレシピの一部を例に採って説明する。
【００４１】
まず、図３を参照し、リソースと容量リソースの関係について説明する。
パターンＡは、第３搬送機構１５が第２搬送機構１３の位置から純水洗浄処理部４９へ移動する場合を例示している。この場合、第３搬送機構１５のリソースが使用されるとともに、容量リソースが同じ時間だけ使用される。容量リソースは、最大消費電力が３０３に設定されており、第３搬送機構１５の動作に応じて「１，３，１」の電力を消費する。この場合の消費電力は、例えば、単位時間当たりの電力であり、単位は［Ｗ］であるが、以下の説明においては単位を省略する。また、容量リソースは、他のリソースとともに重複して使用可能であり、その場合には消費電力の合計が容量リソースに設定されている最大消費量を超えないようにする。この場合の容量リソースの最大消費量は、基板処理装置の電気設計に基づいて規定してある。
【００４２】
パターンＢは、第１副搬送機構２５が純水洗浄処理部２１から薬液処理部２３に移動する場合を例示している。この場合には、第１副搬送機構２５のリソースが使用されるとともに、容量リソースが同じ時間使用される。容量リソースは、第１副搬送機構２５の動作に応じて「３」の電力を消費する。
【００４３】
パターンＣは、薬液処理部５１の液交換を行なう場合を例示している。この場合、薬液処理部５１のリソースが使用されるとともに、容量リソースが同じ時間だけ使用される。容量リソースは、薬液処理部５１の液交換動作に応じて「１，３００」の電力を消費する。液交換は、新液に交換した後、処理に応じた温度にまで液温を高めるのにヒータを動作させるので、一般的に消費電力が他のリソースに比較して著しく大きくなる。
【００４４】
次に、図４ないし図７を参照して、上述したパターンＡないしＣを含む処理工程のスケジュール作成について具体的に説明する。
【００４５】
まず、薬液処理部５１のリソースがステップＳ１の液交換予定で使用され、第１ロットの処理のために純水洗浄処理部２１のリソースがステップＳ２で使用される。これに伴い容量リソースが使用され、消費電力の合計値が「１，３００」となる（上述したパターンＣ）。
【００４６】
次に、図５に示すように、第２ロットの処理のために第２搬送機構１３と、第３搬送機構１５と、純水洗浄処理部４９の各リソースがステップＳ３ないし５で使用される。これに伴い、第３搬送機構１５の使用に合わせて容量リソースが使用される。このときの消費電力は、上述したパターンＡのように「１，３，１」である。したがって、消費電力の合計値は、「１，２，３０１，３０３，３０１，３００」となる。つまり、このスケジュールであれば、容量リソースの最大消費電力である「３０３」以内に収めることができる。
【００４７】
さらに、図６に示すように、水洗処理を終えた第１ロットに対して薬液処理を施すために、第１副搬送機構２５と、薬液処理部２３の各リソースがステップＳ６，Ｓ７で使用される。特に、ステップＳ６は、ステップＳ２の直後に配置され、ステップＳ２から時間を置かずに配置される。これに伴って、第１副搬送機構２５の使用に合わせて容量リソースが使用される。このときの消費電力（パターンＢ）は「３」であるので、消費電力の合計値は、「１，２，３０１，３０６，３０４，３００」となる。
【００４８】
容量リソースの最大消費電力は「３０３」と規定している。しかしながら、上記のスケジュールをたてた時点にて、消費電力の合計値が最大消費電力を超えている（３０６と３０４）。したがって、これらの原因をつくったリソースの使用は回避して、時間をずらして再びスケジュールを行なう。
【００４９】
ここでは図７に示すように、ステップＳ２の直後に待機時間ｗｔをおき、第１ロットのためのステップＳ６及びステップＳ７を後ろにずらしている。これにより消費電力の合計値は、「１，２，３０１，３０３，３０１，３０３」となる。つまり、容量リソースの最大消費電力内に消費電力の合計値を収めることができる。このようにして予め作成されたスケジュールが記憶部７５に格納され、制御部７３によって実行される。
【００５０】
このように実際に処理を行なう前に各リソースの使用タイミングを作成するが、各リソースの消費電力の合計値が容量リソースの最大消費電力を超えないようにしている。これによって最大消費電力を超えないように制御しながらも効率的に各リソースを使用することができる。例えば、液交換では、複数個のヒータを排他使用するのではなく、消費電力を超えない範囲で最大限に利用して素早く昇温させることが可能となる。その結果、基板処理装置のスループットを向上できる。
【００５１】
なお、上述した説明においては、理解を容易にするために、細かな電力消費については考慮していない。つまり、上述したパターンＡでは、第３搬送機構１５だけが容量リソースを使用しているが、実際には第２搬送機構１３及び純水洗浄処理部４９の使用時にも電力が消費されている。したがって、現実的には、消費電力の合計値が図７における「１，２，３０１，３０３，３０１，３０３」よりも高くなる。実際のスケジュール作成では、全ての電力を考慮することが好ましいことは言うまでもない。
【００５２】
また、上記の実施例では消費材として電力を例に採って説明した。本発明では、この電力以外にも、純水、硫酸や過酸化水素水、ＩＰＡなどの薬液、窒素などの気体についても適用できる。
【００５３】
例えば、純水を例に採ると、基板処理装置に供給される純水は、純水供給設備、基板処理装置内の配管やポンプなどに基づいて単位時間当たりに供給可能な供給量が規定されているものである。したがって、純水洗浄処理部２１，４９と薬液処理部２３，５１が同時に使用されて純水の消費量の合計値が容量リソースを超えることがないように使用タイミングを調整するのである。
【００５４】
上述した説明は全て基板処理装置内で消費される「消費材」を対象にしたものであるが、基板処理装置から排出される「廃材」についても上述した技術が有効である。つまり、基板処理装置から排出される純水、処理液、薬液などの排液や、窒素やオゾンなどの排気は、そのまま一般排水や大気中に排気することができず、廃棄処理設備で浄化する必要がある。ところが廃棄処理設備では時間当たりの処理量に上限がある。
【００５５】
そこで排液や排気などの廃材についても上述したような容量リソースを定義する。そして、その最大排出量の上限を規定しておき、廃材を排出する各リソースの使用タイミングを決定する際には、最大排出量内に収まるようにする。このようにスケジュールを作成することによって、最大排出量を超えないように制御しながらも効率的に各リソースを使用することができ、上述した実施例と同様の効果を得ることができる。
【００５６】
また、本発明において予め処理の前にスケジュールする際には、次の方法を併用することが好ましい。なお、以下の方法における処理工程とは、上述した純水洗浄処理部２１における洗浄処理や薬液処理部５１における薬液処理であり、またそれらを一連の処理として扱うブロックとした場合も含む。
【００５７】
すなわち、基板に処理を施すための処理部を複数個備えた基板処理装置によって複数のロットを処理するにあたり、複数の処理工程を含むレシピに基づいて各々のロットを各処理部で順次に処理するために各ロットの処理順序を決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、いずれかのロットについて最初の処理工程を配置した後、各ロットの次なる処理工程のうち、各々の前の処理工程における終了予定時刻が最も早いロットに対する処理工程を次の処理工程として配置するのである。
【００５８】
この方法によれば、予めスケジュールすることで前の処理工程の後作業と、その後の処理工程の前作業とを重複させて配置することができるとともに、配置可能な処理工程のうち前の処理工程が早く終わるロットの処理工程を次の処理工程として選択して配置することで、次の処理工程が終了するまでの時間を短縮することができる。したがって、基板処理装置の処理部を有効利用することができるので、待機時間を抑制して稼働率を向上することができる。
【００５９】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、請求項１に記載の発明によれば、処理前に予め各リソースの使用タイミングを作成するが、その際には複数のリソースの使用により容量リソースの最大消費量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、容量リソースの最大消費量を消費材の合計が超えないようにする。これによって最大消費量を超えないように制御しながらも効率的にリソースを使用することができる。その結果、基板処理装置のスループットを向上させることができる。
【００６０】
請求項２に記載の発明によれば、同時に使用される全てのリソースについて時間当たりの消費量の合計を求め、これが容量リソースの最大消費量を超える場合には、超える原因となったリソースの使用を回避することで最大消費量以内に収める。これにより、同時に使用する全てのリソースの消費材の合計を容量リソースの最大消費量内に収めることができる。
【００６１】
請求項３に記載の発明によれば、電力、純水、薬液、気体のいずれか一つの消費材について容量リソースを定義することで、その消費材に係るリソースについて効率的に使用できる。
【００６２】
請求項４に記載の発明によれば、プログラムとして上記請求項１と同様の効果を奏する。
【００６３】
請求項５に記載の発明によれば、処理前に予め各リソースの使用タイミングを作成するが、その際には複数のリソースの使用により容量リソースの最大排出量を超えたとき、超える前に配置されたリソースを残した状態で、待機時間を置いて原因をつくったリソースを後にずらして、容量リソースの最大排出量を廃材の合計が超えないようにする。これによって最大排出量を超えないように制御しながらも効率的にリソースを使用することができる。その結果、基板処理装置のスループットを向上させることができる。
【００６４】
請求項６に記載の発明によれば、同時に使用される全てのリソースについて時間当たりの排出量の合計を求め、これが容量リソースの最大排出量を超える場合には、超える原因となったリソースの使用を回避して最大排出量以内に収める。これにより、同時に使用する全てのリソースの廃材の合計を容量リソースの最大排出量内に収めることができる。
【００６５】
請求項７に記載の発明によれば、排液、排気の廃材について容量リソースを定義することで、その廃材に係るリソースについて効率的に使用できる。
【００６６】
請求項８に記載の発明によれば、プログラムとして上記の請求項５と同様の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した平面図である。
【図２】実施例に係る基板処理装置の概略構成を示したブロック図である。
【図３】リソースと容量リソースの関係を示すタイムチャートである。
【図４】スケジュール例の一部を示すタイムチャートである。
【図５】スケジュール例の一部を示すタイムチャートである。
【図６】スケジュール例の一部を示すタイムチャートである。
【図７】スケジュール例の一部を示すタイムチャートである。
【符号の説明】
Ｗ  …  基板
１  …  カセット
３  …  投入部
１１  …  第１搬送機構
１３  …  第２搬送機構
１５  …  第３搬送機構
１７  …  乾燥処理部
１９  …  第１処理部
２１  …  純水洗浄処理部
２３  …  薬液処理部
２５  …  第１副搬送機構
４７  …  第２処理部
４９  …  純水洗浄処理部
５１  …  薬液処理部
５３  …  第２副搬送機構
７３  …  制御部
７５  …  記憶部
【図１】
0004073186.tif 000002
【図２】
0004073186.tif 000003
【図３】
0004073186.tif 000004
【図４】
0004073186.tif 000005
【図５】
0004073186.tif 000006
【図６】
0004073186.tif 000007
【図７】
0004073186.tif 000008