(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
凸部及び凹部は表面に固定された粒子により形成される、凸部及び凹部からなる少なくとも部分的に疎水性の人工的な表面構造を有する自浄性表面において、前記の粒子がナノメーター範囲で凸部及び／又は凹部を有する凹凸の多い構造を有し、前記凸部及び／又は凹部は平均で２０〜５００ｎｍの高さを有し、粒子上での凸部及び／又は凹部の間隔は５００ｎｍより小さく、かつ前記粒子は一次粒子から集合物又は凝集物に堆積し、そのサイズは２０ｎｍ〜１００μｍであることを特徴とする、自浄性表面。
【請求項２】
前記の粒子は煙霧シリカ又は沈殿シリカを有する、請求項１記載の自浄性表面。
【請求項３】
前記の粒子が疎水性特性を有する、請求項１又は２記載の自浄性表面。
【請求項４】
表面上で個々の粒子が粒子直径の２〜３倍の間隔を有する、請求項１から３までのいずれか１項記載の自浄性表面。
【請求項５】
凸部及び／又は凹部が平均で２０〜２００ｎｍの高さを有する、請求項４記載の自浄性表面。
【請求項６】
粒子上での凸部及び／又は凹部の間隔が２００ｎｍより小さい、請求項１から５までのいずれか１項記載の自浄性表面。
【請求項７】
少なくとも部分的に疎水性の適当な表面構造を、表面上に担体を用いて粒子を固定することにより作成する自浄性表面の製造方法において、ナノメーター範囲で凸部及び／又は凹部を有する凹凸の多い構造を有する粒子を使用し、その凸部及び／又は凹部は平均で２０〜５００ｎｍの高さを有し、粒子上での凸部及び／又は凹部の間隔は５００ｎｍより小さく、かつ前記粒子は一次粒子から集合物又は凝集物に堆積し、そのサイズは２０ｎｍ〜１００μｍであることを特徴とする、自浄性表面の製造方法。
【請求項８】
煙霧シリカ又は沈殿シリカから選択された少なくとも１種の材料を有する粒子を使用する、請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記の粒子を化学的又は物理的方法により表面に固定する、請求項７又は８記載の方法。
【請求項１０】
前記の粒子の固定を、定着剤の使用下で化学的に又は表面内へ粒子を押し込むことによるか又は粒子を相互にもしくは粒子を微細粒の担体材料に焼結させることにより物理的に行う、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
疎水性特性を有する粒子を使用する、請求項７から１０までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】
アルキルシラン、ペルフルオロアルキルシラン、アルキルジシラザン、フルオロアルキルシラン、ジシラザン、ワックス、パラフィン、脂肪酸エステル又は官能化された長鎖アルカン誘導体のグループからなる少なくとも１種の化合物を用いた処理により疎水性の特性を有する粒子を使用する、請求項７から１１までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１３】
前記の粒子を表面に固定した後に疎水性特性を付与する、請求項７から１２までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１４】
粒子を、アルキルシラン、ペルフルオロアルキルシラン、アルキルジシラザン、フルオロアルキルシラン、ワックス、パラフィン、脂肪酸エステル又は官能化された長鎖アルカン誘導体又はフルオロアルカン誘導体のグループからの少なくとも１種の化合物で処理することにより疎水性特性を付与する、請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
平面の又は平面でない対象物に自浄性表面を製造するための、請求項７から１４までのいずれか１項記載の方法の使用。
【請求項１６】
対象物の硬質でない表面に自浄性表面を製造するための、請求項７から１５までのいずれか１項記載の方法の使用。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、構造化された粒子、自浄性表面のためのその使用及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
極端に湿潤性の低い表面を有する対象物は一連の経済的に重要な特徴を有する。この経済的に最も重要な特徴は、この場合、湿潤性の低い表面の自浄作用である、それというのも表面の清浄化は時間並びにコストがかかるためである。従って、自浄性表面は経済的に極めて重要である。付着メカニズムは一般に接触し合う２つの表面の間の界面エネルギーパラメータに依存する。この場合、一般にこの系はその界面自由エネルギーを低下させることが試みられる。２成分間のこの界面自由エネルギーが自発的にすでに十分低い場合には、一般にこの２成分間の付着は極端に弱い結果となる。この場合、界面自由エネルギーの相対的低下が重要である。高い界面エネルギーと低い界面エネルギーとのペアの場合にはしばしば相互作用の可能性が問題となる。例えば疎水性表面に水を塗布する場合、界面エネルギーの目立った低下を引き起こすことは不可能である。これは湿潤性が悪いことにより認識できる。塗布された水は極めて高い接触角を有する液滴を形成する。ペルフルオロ化された炭化水素、例えばポリテトラフルオロエチレンは、極めて低い界面エネルギーを有する。このような表面上ではどのような成分もほとんど付着しないか、このような表面上に付着した成分は極めて容易に再び除去することができる。
【０００３】
疎水性表面の製造のために疎水性材料、例えばペルフルオロ化されたポリマーの使用は公知である。この表面をさらに発展させることは、この表面をμｍ範囲〜ｎｍ範囲で構造化することにある。米国特許（ＵＳ−ＰＳ）第５５９９４８９号明細書は、表面に相応するサイズの粒子を衝突させ、引き続きペルフルオロ化することにより特別な付着防止性を付与することができる方法を開示している。他の方法は、H. Saito et alが "Service Coatings International" 4, 1997, p. 168ffに記載している。この文献にはフルオロポリマーからなる粒子を金属表面に塗布し、この場合、こうして製造された表面の水に対する極めて低い湿潤性が著しく低い着氷性と共に確認される。
【０００４】
米国特許（ＵＳ−ＰＳ）第３３５４０２２号明細書及びＷＯ９６／０４１２３には、対象物の湿潤性を表面のトポロジー変化により低下させる別の方法が記載されている。ここでは、約５〜１０００μｍの高さを有しかつ約５〜５００μｍの間隔を有する人工的な凸部もしくは凹部を、疎水性の材料上に又は構造化された後に疎水化した材料上に設ける。この種の表面は急速な液滴形成を生じさせ、この場合、転がり落ちる液滴が汚れ粒子を吸収し、それにより表面を清浄化する。
【０００５】
この原理は自然から学んでいる。僅かな接触面積はファンデルワールスの相互作用を低下させ、この相互作用が比較的低い表面エネルギーを有する平坦な表面での付着の原因である。例えば植物の蓮の葉はワックスからなる凸部を備えており、この凸部が水に対する接触面を減少させる。ＷＯ００／５８４１０はこの構造を記載しており、疎水性アルコール、例えばノナコサン−１０−オール、又はアルカンジオール、例えばノナコサン−５，１０−ジオールの吹き付けによる前記の構造の作成を請求の範囲に記載している。これについての欠点は、自浄性表面の安定性が欠けることである、それというのも界面活性剤が前記の構造を剥離させてしまうためである。
【０００６】
簡単に清浄化可能な表面を作成する他の方法は、ドイツ国特許出願公開（ＤＥ−Ａ１）第１９９１７３６７号明細書に記載されている。しかしながらフッ素含有の縮合物をベースとする被覆は自浄性ではない。水と表面との間の接触面は確かに減少されるが、その程度は十分ではない。
【０００７】
欧州特許出願公開（ＥＰ−Ａ２）第１０４０８７４号明細書は微細構造の作成及びこのような構造の分析化学（マイクロ流体学）のための使用を特許請求の範囲に記載している。この構造の欠点は機械的安定性が不十分であることである。
【０００８】
表面の自己反復（selbstwiederholend）する又は自己類似（selbstaehnlich）する構造は例えばMarie E. TurnerによりAdvanced Materials, 2001, 13, No. 3, p. 180 ffに記載されている。
【０００９】
特開平１１−１７１５９２公報には、撥水性物品及びその製造方法を記載しており、この場合、防汚性表面は、処理すべき表面に膜を塗布し、前記膜は金属酸化物及び金属アルコキシド又は金属キレートの加水分解物からなる微細な粒子を有する。この膜の固定のために、膜が塗布されている基材を４００℃を上回る温度で焼結させる。従って、この方法は４００℃を上回る温度でも安定性である基材にだけ使用可能であるにすぎない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、ナノメータ範囲での構造を有する特に良好な自浄性表面並びにこのような自浄性表面の簡単な製造方法を提供することであった。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
意想外にも、自浄性表面は、ナノスケール構造を有する粒子を使用する場合に特に簡単に得ることができることが見出された。
【００１２】
従って、本発明の対象は、凸部及び凹部からなり、前記の凸部及び凹部は表面に固定された粒子により形成される、少なくとも部分的に疎水性の人工的な表面構造を有する自浄性表面において、前記の粒子がナノメーター範囲で凸部及び／又は凹部を有する凹凸の多い構造を有することを特徴とする、自浄性表面である。
【００１３】
同様に、本発明の対象は、少なくとも部分的に疎水性の適当な表面構造を、表面上に粒子を固定することにより作成する自浄性表面の製造方法において、ナノメーター範囲で凸部及び／又は凹部を有する凹凸の多い構造を有する粒子を使用することを特徴とする、自浄性表面の製造方法である。
【００１４】
本発明の方法により、凹凸の多い構造を有する粒子を有する自浄性表面を得ることができる。凹凸の多い構造を有する粒子の使用により、簡単な方法でナノメータ範囲にまで構造化されている表面が得られる。清浄化作用を達成するためにできる限り小さな粒子を使用する従来の方法とは反対に、本発明による方法では、それ自体ナノメータ範囲の構造を有する粒子を使用し、従って粒度自体はあまり重要ではない、それというのも凸部の間隔は単に粒度によってだけではなく、ナノスケール構造によっても決定されるためである。
【００１５】
凸部及び凹部からなり、前記の凸部及び凹部は表面に固定された粒子により形成される、少なくとも部分的に疎水性の人工的な表面構造を有する本発明による自浄性表面は、前記の粒子がナノメータ範囲で凸部及び／又は凹部を有する凹凸の多い構造を有することにより優れている。有利にこの凸部及び／又は凹部は平均で２０〜５００ｎｍ、特に有利に２０〜２００ｎｍの高さを有する。粒子上の凸部もしくは凹部の間隔は有利に５００ｎｍより小さく、特に有利に２００ｎｍより少ない。
【００１６】
ナノメーター範囲で凸部及び／又は凹部を有する凹凸の多い構造は、例えば中空、孔、溝、先端及び／又は歯によって形成されていることができる。この粒子自体は、５０μｍより小さい、有利に３０μｍより小さい、特に有利に２０μｍより小さい平均粒径を有する。表面上の粒子は、有利に粒子直径の０〜１０倍の間隔、特に粒子直径の２〜３倍の間隔を有する。
【００１７】
この粒子は、ＤＩＮ５３０２６の意味での粒子であることができる。この規格の粒子又はパーティクルは、固有粒子でも集合物又は凝集物であってもよく、この場合、ＤＩＮ５３２０６によると凝集物とは平面状又はエッジ状に相互に堆積した一次粒子（粒子）の集合物及び点状に相互に堆積した一次粒子（粒子）の凝集物であると解釈される。粒子として一次粒子から集合物又は凝集物に堆積したようなものを使用することもできる。このような粒子の構造は球形であるか、正確な球形であるか、適度に凝集したか、ほぼ球形であるか、極端に著しく凝集したか又は多孔性に凝集していることができる。この凝集物もしくは集合物の有利なサイズは、２０ｎｍ〜１００μｍ、特に有利に０．２〜３０μｍである。
【００１８】
この粒子は２０〜１０００平方メートル／グラムのＢＥＴ表面積を有する。この粒子が５０〜２００ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積を有するのが特に有利である。
【００１９】
構造を形成する粒子として、化学の多くの分野からの多様な化合物を使用することができる。この粒子は、ケイ酸塩、ドープされたケイ酸塩、鉱物、金属酸化物、シリカ、ポリマー及びシリカで被覆された金属粉末から選択される少なくとも１種の材料を有する。この粒子は煙霧シリカ又は沈殿シリカ、特にアエロジル（Aerosile）、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、アエロジルＲ９７４で被覆された亜鉛粉末（有利に０．２〜３０μｍの粒度を有する）又は粉末状のポリマー、例えば凍結粉砕又は噴霧乾燥したポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）又はペルフルオロ化したコポリマーもしくはテトラフルオロエチレンとのコポリマーを有するのが特に有利である。
【００２０】
自浄性表面の製造のための粒子は凹凸の多い構造の他に疎水性特性を有するのが有利である。この粒子はそれ自体疎水性、例えばＰＴＦＥを有する粒子であってもよいか、又は使用する粒子が疎水化されていてもよい。粒子の疎水化は当業者に公知の方法で行うことができる。典型的な疎水化された粒子は、アエロジル−Ｒ８２００（Degussa AG）のような微粉末であり、これは市販されている。
【００２１】
有利に使用されるシリカは、有利に、ＤＩＮ５３６０１によるジブチルフタレート吸収１００〜３５０ｍｌ／１００ｇを有し、この有利な値は２５０〜３５０ｍｌ／１００ｇである。
【００２２】
この粒子は表面に固定される。この固定は当業者に公知の方法で化学的又は物理的（機械的）に行うことができる。密に充填された層の形で粒子を表面に設けることにより自浄性表面が製造される。
【００２３】
本発明による自浄性表面は、２０゜より小さい、特に有利に１０゜より小さい転がり角（Abrollwinkel）を有し、この場合、この転がり角は、傾斜した平面に静止している平坦な表面上に１ｃｍの高さから適用した水滴が転がり落ちる角度であると定義される。前進接触角及び後退接触角は１４０゜を上回り、有利に１５０゜を上回り、１５゜より低い、有利に１０゜より低いヒステリシスを有する。本発明による表面は少なくとも１４０゜を上回る、有利に１５０゜を上回る有利に前進接触角及び後退接触角を有することにより、特に良好な自浄性表面が得られる。
【００２４】
使用した表面に応じて及び使用した粒子のサイズ及び材料に応じて、自浄性表面が半透明であることを達成することができる。本発明による表面は特に接触透明性（kontakttranspharent）であることができ、つまり文字の書かれた対象物上に本発明による表面を製造した後にこの文字は、文字のサイズに応じて、未だに可読性である。
【００２５】
本発明による自浄性表面は、有利に本発明による請求項９から１６までのいずれか１項記載の表面の方法により製造される。表面上に粒子を固定することにより少なくとも部分的に疎水性の適当な表面構造を作成した自浄性表面を製造するための本発明によるこの製造方法は、ナノメーター範囲での凸部及び／又は凹部を有する凹凸の多い構造を有する上記のような粒子を使用することを特徴とする。
【００２６】
ケイ酸塩、ドープされたケイ酸塩、鉱物、金属酸化物、煙霧シリカ又は沈殿シリカ又はポリマーから選択される少なくとも１種の材料を使用するような粒子が有利である。粒子が、ケイ酸塩、煙霧シリカ又は沈殿シリカ、特にエアロジル、鉱物、例えばマガジイット（Magadiit）、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、エアロジルＲ９７４で被覆されたＺｎ−粉末又は粉末状のポリマー、例えば冷凍粉砕した又は噴霧乾燥したポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）を有するのが特に有利である。
【００２７】
５０〜６００ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積を有する粒子を使用するのが特に有利である。５０〜２００ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積を有する粒子を使用するのがさらに特に有利である。
【００２８】
自浄性表面を製造するための粒子が凹凸の多い構造の他に疎水性特性を有するのが有利である。この粒子はそれ自体疎水性である、例えばＰＴＦＥを有する粒子であることができるか又は使用された粒子は疎水化されていることができる。この粒子の疎水化は当業者に公知の方法で行うことができる。典型的な疎水化された粒子は、例えば微細粒、例えばアエロジルＲ９７４又はアエロジルＲ８２００（Degussa AG）であり、これらは市販されている。
【００２９】
表面上での粒子の固定は、当業者に公知の方法で化学的又は物理的に行うことができる。固定の化学的方法として例えば定着剤を使用することができる。定着剤として多様な接着剤、定着促進剤又は塗料が挙げられる。当業者にとっては他の定着剤又は固定方法も可能である。
【００３０】
物理的方法として、例えば表面へ粒子を押し付けるかもしくは押し込むことが用いられる。当業者は、粒子を表面に固定する他の適当な物理的方法、例えば粒子相互の焼結もしくは微細粒の担体材料と粒子との焼結が容易に想到できる。
【００３１】
本発明による方法の実施の際に、疎水性特性を有し及び／又はアルキルシラン、アルキルジシラザン、パラフィン、ワックス、フルオロアルキルシラン、脂肪酸エステル、官能化された長鎖アルカン誘導体又はペルフルオロアルキルシランのグループからなる少なくとも１種の化合物で処理することにより疎水性を有する粒子を使用することが有利である。この粒子の疎水化は、一般に公知であり、かつ例えばDegussa AG社の一連の文書の顔料、番号１８（Schriftenreihe Pigmente, Nummer 18）を調べることができる。
【００３２】
粒子を担体上に固定することにより疎水性特性を付与することも同様に有利である。例えば、処理された表面の粒子をアルキルシラン（これは例えばSivento GmbHにより市販されている）、アルキルジシラザン、パラフィン、ワックス、フルオロアルキルシラン、脂肪酸エステル、官能化された長鎖アルカン誘導体又はペルフルオロアルキルシランのグループからなる少なくとも１種の化合物を用いて処理することにより疎水性特性を付与することを行うことができる。この処理は有利に、疎水化されるべき粒子を有する表面を、疎水化試薬、例えばアルキルシランを有する溶液中に浸漬させ、過剰な疎水化試薬を液切りし、この表面をできる限り高い温度で熱処理することにより行われる。しかしながら、この処理は疎水化試薬を有する媒体を自浄性表面に吹き付け、引き続き熱処理することによっても行うことができる。このような処理は、例えば鋼製の担体又は他の重いか又は嵩張る対象物の処理のために有利である。適用可能な最高温度は、担体又は支持体の軟化温度により制限される。
【００３３】
疎水化並びに表面への粒子の固定の際に、粒子のナノメータ範囲の凹凸の多い構造が維持されることに配慮しなければならず、それにより表面の自浄性効果が達成される。
【００３４】
請求項９から１６までのいずれか１項記載の本発明による方法は、平坦な又は平坦でない対象物上に、特に平坦でない対象物上に自浄性表面を作成するのために有利に使用することができる。これは従来の方法を用いて限定的に可能であったにすぎない。特に予め製造されたフィルムを表面に設ける方法を用いて又は構造を押し込みにより製造するような方法の場合に、平坦でない対象物、例えば彫刻品は得られないか又は限定的に得られるだけである。もちろん、本発明による方法は、平坦な表面を有する対象物、例えば温室又は公共の交通機関に自浄性表面を作成するためにも使用できる。自浄性表面を製造するための本発明の方法を温室に使用することが有利である、それというのもこの方法を用いて自浄性表面は、例えば透明な材料、例えばガラス又はプレキシガラス（Plexiglas（Ｒ））上に製造できかつこの自浄性表面は少なくとも透明に構成することができ、温室内の植物の生長のために十分な太陽光が自浄性表面を備えた透明な表面を通して進入できるためである。定期的に特に葉、塵、石灰及び生物種、例えば藻類を掃除しなければならない従来の温室とは反対に、請求項１から８までのいずれか１項記載の本発明による表面を有する温室はより長い掃除間隔で運転できる。
【００３５】
さらに、本発明による方法は対象物の強固でない表面、例えば雨傘又は他の柔軟な表面上に自浄性表面の製造のために使用することができる。請求項９から１６までのいずれか１項記載の本発明による方法は、衛生分野において柔軟な又は柔軟でない壁部に自浄性表面を製造するために使用するのが特に有利である。このような壁部は、例えば公共のトイレの隔壁、シャワー室、プール又はサウナの壁、又はシャワー関連物（柔軟な壁部）である。
【００３６】
本発明による対象は、さらに、ナノメータ範囲で凸部及び／又は凹部を有する凹凸の多い構造を有し、かつ請求項１から８までのいずれか１項記載の表面の製造のために適している粒子である。この粒子は、平均で２０〜５００ｎｍ、有利に２０〜２００ｎｍの高さを有するのが有利である。粒子状での凹部及び／又は凸部の間隔は５００ｎｍ未満、有利に２００ｎｍ未満であるのが有利である。本発明による粒子は、例えば、ケイ酸塩、ドープされたケイ酸塩、鉱物、金属酸化物、煙霧シリカ又は沈殿シリカ、ポリマー及び金属粉末から選択された少なくとも１種の材料であることができる。
【００３７】
この粒子はＤＩＮ５３２０６の意味での粒子であることができる。この規格の粒子又はパーティクルは、固有粒子でも集合物又は凝集物であってもよく、この場合、ＤＩＮ５３２０６によると凝集物とは平面状又はエッジ状に相互に堆積した一次粒子（粒子）の集合物及び点状に相互に堆積した一次粒子（粒子）の凝集物であると解釈される。粒子として一次粒子から集合物又は凝集物に堆積したようなものを使用することもできる。このような粒子の構造は球形であるか、正確な球形であるか、適度に凝集したか、ほぼ球形であるか、極端に著しく凝集したか又は多孔性に凝集していることができる。この凝集物もしくは集合物の有利なサイズは、２０ｎｍ〜１００μｍ、とｋに有利に０．２〜３０μｍである。
【００３８】
図１及び図２には、構造形成剤として使用された粒子の走査電子顕微鏡（ＲＥＭ）写真が示されている。
【００３９】
【実施例】
次の例は本発明による表面もしくは表面の製造方法を詳説するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。
【００４０】
例１：
メチルメタクリレート２０質量％、ペンタエリトリットテトラアクリレート２０質量％及びヘキサンジオールジメタクリレート６０質量％を相互に混合した。この混合物に対してPlex 4092 F（Roehm GmbHのアクリル系コポリマー）１４質量％及びＵＶ硬化剤（Darokur 1173）２質量％を添加し、少なくとも６０分間撹拌した。この混合物を２ｍｍの厚さのＰＭＭＡプレート上に担体として５０μｍの厚さで塗布した。この層を５分間乾燥させた。引き続き、粒子として疎水化された煙霧シリカ（Aerosil VPR 411 (Degussa AG)）を静電スプレーガンで吹き付けた。３分後にこの担体を３０８ｎｍの波長で窒素下で硬化させた。担体の硬化後に、過剰のAerosil VPR 411をブラシで落とした。表面の特性決定を最初に視覚的に行い、＋＋＋が記録された。＋＋＋とは水滴がほぼ完全に形成されることを意味する。転がり角は２．４゜であった。それぞれ１５０゜より大き前進接触角及び後退接触角が測定された。所属するヒステリシスは１０゜を下回る。
【００４１】
例２：
例１からの試験を繰り返すが、その際、Aluminiumoxid C (Degussa AG)（１００ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積を有する酸化アルミニウム）からなる粒子を静電気的に吹き付けた。例１による担体の効果を行い、過剰の粒子をブラシで落とした後に、ブラシで落とした硬化されたプレートは疎水化のためにエタノール中のトリデカフルオロオクチルトリエトキシシランの調製物（Dynasilan 8262, Sivento GmbH）に浸漬した。過剰のDynasilan 8262を液切りした後、プレートを８０゜で熱処理した。この表面は＋＋の等級であり、つまり水滴の形成は理想的ではなく、転がり角は２０゜を下回る。
【００４２】
例３：
担体で処理された例１からのプレート上に、シリカ（Degussa AGのSipernat 350）を振りかけた。５分の侵入時間の後に、処理されたプレートは窒素下で３０８ｎｍでＵＶ線中で硬化させた。過剰の粒子を同様にブラシで落とし、引き続きこのプレートをDynasilan 8262中に浸漬させ、引き続き８０℃で熱処理した。この表面は＋＋＋に等級付けられた。
【００４３】
例４：
例１からの試験を繰り返すが、Aerosil VPR 411の代わりに、２００±２５ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積を有するAerosil R 8200 (Degussa AG)を使用した。この表面の評価は＋＋＋であった。転がり角は１．３゜が測定された。さらにそれぞれ１５０゜より大きい前進接触角及び後退接触角が測定された。所属するヒステリシスは１０゜を下回る。
【００４４】
例５：
例１からの、ＵＶ硬化剤をすでに混合した塗料に、さらに２−（Ｎ−エチルペルフルオロオクタンスルホンアミド）−エチルアクリレート（塗料混合物の総質量に対して）１０質量％を使用した。この混合物も同様に少なくとも６０分撹拌した。この混合物を、担体として２ｍｍの厚さのＰＭＭＡプレート上に５０μｍの厚さで塗布した。この層を５分間乾燥させた。引き続き、粒子として疎水化された煙霧シリカ（Aerosil VPR 411 (Degussa AG)）を静電スプレーガンを用いて吹き付けた。３分後にこの担体を３０８ｎｍの波長で窒素下で硬化させた。担体の硬化後に過剰のAerosil VPR 411をブラシで落とした。この表面の特性決定をまず視覚的に行い、＋＋＋が記録された。＋＋＋とは水滴がほぼ完全に形成されることを意味する。転がり角は０．５゜であった。それぞれ１５０゜より大き前進接触角及び後退接触角が測定された。所属するヒステリシスは１０゜を下回る。
【図面の簡単な説明】
【図１】酸化アルミニウム（Aluminiumoxide C (Degussa AG)）のＲＥＭ写真を示す図。
【図２】担体上のケイ酸塩（Sipernat FK 350 (Degussa AG)）の粒子の表面のＲＥＭ写真を示す図。
【図１】
0004102583.tif 000002
【図２】
0004102583.tif 000003