【事件の表示】
　平成１年特許願第６４８２３号「塗布現像装置」拒絶査定に対する審判事件（平成２年９月２８日出願公開、特開平２−２４４６１２）について、次のとおり審決する。
【結論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理由】
１．本願は、平成１年３月１５日の出願であって、その請求項１に係る発明は、平成９年８月４日付け手続補正書によって補正された明細書及び図面の記載からみて、次のとおりのものである。
　請求項１
「複数の処理機構に所定の順序で被処理体を搬送して処理を施し、少くとも、前記被処理体にレジストを塗布する塗布処理と、前記被処理体を現像する現像処理とを実行可能とされた塗布現像装置において、収納容器から前記被処理体を取出して所定の前記処理機構に送込む機能と、前記被処理体を所定の前記処理機構から受取った後所定の前記処理機構に送込む機能と、前記被処理体を所定の前記処理機構から受取って収納容器に収納する機能とを有する複数の搬送機構と、予め設定されたプログラムに従って、前記複数の搬送機構がそれぞれ前記各機能の何れを発揮するかを一括して設定する設定手段とを具備し、前記設定手段は、一連の処理工程に応じ、前記複数の搬送機構がそれぞれ前記各機能の何れを発揮するかを一括して設定し、所望の処理を実行する複数種のモードと、前記複数の搬送機構毎に夫々何れの機能を発揮するかを設定するマニュアルモードとを設定可能に構成され、前記複数種のモードは、前記塗布処理と、露光装置との間における前記被処理体の授受と、前記現像処理とを順次行う第１のモードと、前記塗布処理、前記現像処理を夫々独立に行う第２のモードと、前記塗布処理、前記現像処理を夫々独立に行うとともに、露光装置との間における前記被処理体の授受を行う第３のモードの少くとも３つのモードを有することを特徴とする塗布現像装置。」
２．これに対し、原査定の拒絶の理由に引用した特開昭６０−１８２７２７号公報（以下、「引用例１」という。）及び特開昭６３−６６９３３号公報（以下、「引用例２」という。）には、以下の記載がある。
２．１　引用例１の記載内容
　引用例１の発明の詳細な説明の「発明の利用分野」の項に、「本発明は、自動ウエハ処理装置、特に超ＬＳＩなどの半導体素子を製造する自動ウエハ処理装置に関するものである。」と記載されている。
　また、引用例１の第２頁右上欄第１２行〜同頁左下欄第１４行に、「この従来の方式では、レジスト塗布・べーク装置１と露光装置９との間、及び露光装置９と現像・べーク装置１４との間に、人間によるカセット単位のウエハの搬送が必要であり、このため搬送途中における異物の付着やスループットの低下を余儀なくされており、超ＬＳ１の回路パタンが微細化するにつれて、この人間の介在が問題となっている。
　そこで、第１図と同一部分は同一符号で示した第３図に示すように、レジスト塗布・べーク装置５及び現像・べーク装置１４と露光装置９との間をインターフェース３０及び３１で接続し、ウエハ単位でレジスト塗布・露光・現像を行なう。いわゆるインライン方式の自動ウエハ処理装置が一般化されてきている。この図の３２ａ，３２ｂはそれぞれ処理前、処理後のウエハを示している。しかし、この方式の自動ウエハ処理装置は、露光装置９と、レジスト塗布・べーク処理５、現像・べーク装置１４との処理能力の差がシステム全体のスループットを低下させる原因となっている。又各装置間のシーケンスコントロールにも問題があり、完全な自動ウエハ処選装置とは言えなかった。」と記載されている。
　引用例１の第２頁右下欄第１６行〜第３頁左上欄第８行に、「すなわち、本発明は、ウエハのレジスト塗布・べーク、原画パターンの露光、露光されたウエハの現像・べーク手段を有するウエハ処理装置において、ロード部からアンロード部にウエハが移動する間に、レジスト塗布、露光、現像を一貫して行なうことを可能として、人間の介在による異物の付着をなくし、かつ、レジスト塗布、ベイク手段と露光手段との間、及び露光手段と現像・べーク手段との間にウエハの搬送経路を切替える手段を設けウエハの一時待機を可能として、各手段間の処理能力差を吸収させ、システム全体のスループットの向上を可能とし、所期の目的の達成を可能ならしめるものである。」と記載されている。
　引用例１の第３頁左上欄第１６行〜同頁右上欄第１３行に、「第４図及び第５図で３２はロードカセット、３３及び３４はそれぞれレジスト塗布・べーク装置１と露光装置９との聞及び露光装置９と現像・べーク装置１４との間に設けられているウエハ搬送径路切替部、３５及び３６はそれぞれウエハ搬送径路切替部３３及び３４側のバッファカセット、３７及び３８はそれぞれレジスト塗布・べーク装置１から露光装置９へ、及び露光装置９から現像・べーク装置１４ヘウエハを搬送するベルト搬送機構、３９，４０及び４１はバッファカセット３５又は３６へ、又はバッファカセット３５又は３６からウェハを搬送するベルト搬送機構、４２及び４３はそれぞれウエハ搬送径路切替部３３及び３４に設けられているセンサ、４４はアンロードカセットを示しており、この実施例ではウエハを搬送するベルト搬送機構３７及び３８と３９，４０及び４１は直交するように設けられている。」と記載されている。
　引用例１の第３頁左下欄第４行〜第４頁左上欄第１０行に、「次に、第２図と同一工程は同一番号で示した第６図によって、このウエハ処理装置を用いたウエハ処理工程について説明する。ロードカセット３２にウエハを装着４８したのち、このウエハは、レジスト塗布・べーク装置１によりレジスト塗布２１及びプリベータ２２後、ベルト搬送機構３７によりウエハ搬送径路切替部３３に自動搬送４９され、センサ４２により検出される。この時、露光装置９が前のウエハを露光５０中の場合には、搬送径路切替部３３に搬送されたウエハはベルト搬送機構３９によりバッファカセット３５に搬送５１され収納される。
　バッファカセット３５に収納されたウエハは、レジスト塗布・べーク装置１からのウエハの供給が遅れている場合には、ベルト搬送機構３９により搬送径路切替部３３に排出され、ベルト搬送機構３７により露光装置９に搬送５３供給される。露光装置９で露光２５を終了したウエハはベルト搬送機構３８によりウエハ搬送径路切替部３４に搬送５４され，センサ４３により検出される。この時、現像・べーク装置１４が前のウエハの現像５５中の場合は、バッファカセット３６にベルト搬送機構４０により搬送５６され収納される。バッファカセット３６のウエハは、露光装置９からのウエハの供給が遅れている場合は、ベルト搬送機構４０によって搬送径路切替部３４に排出され、現像・べーク手段装置１４にウエハを搬送５７供給する。
　また、第４図に示すようにウエハ搬送径路切替部３３及び３４を、ベルト搬送機構４１により接続してある場合には露光装置９を通らずに、レジスト塗布・べーク装置１から現像・べ一ク装置１４ヘウエハを供給することも可能である。
　なお、この実施例の自動ウェハ処理装置では、ウエハ搬送径路切替部３３によって露光装置９への搬送を止め、バッファカセット３５への搬送のみを可能にして、レジスト塗布・べークのみを実施することもでき、またバッファカセット３５にウエハを供給し、ウエハ搬送径路切替部３３を介してウエハを露光装置９に供給し、露光されたウエハを搬送径路切替部３４を介してバッファカセット３６に搬送するようにして、ウエハ露光のみを実施することもてき、さらにバッファカセット３６にウエハを供給し、ウエハ搬送径路切替部３３を介して現像・べーク装置１４へ搬送するようにして現像・べークのみを実施することもできる。」と記載されている。
　引用例１の第４頁左欄第１８行〜同頁右欄第３行に、「これらの実施例の自動ウエハ処理装置では、レジスト塗布・べーク装置、露光装置、現像・べーク装置の処理時間に差異があっても、全体としてのスループットを損なうことなく、一貫ラインとして自動的にウエハのレジスト塗布、露光、現像が可能となる。」と記載されている。
２．２　引用例２の記載内容
　引用例２の発明の詳細な説明の産業上の利用分野の項に、「この発明は半導体装置の製造に使用される半導体ウエハー処理装置の制御を行なうウエハー処理制御装置に係り、特にウエハーを枚葉処理するウエハー処理工程において複数の処理工程を連結し、連続してウエハーの処理を行なう、例えば写真蝕刻処理装置などで使用されるものである。」と記載されている。
　また、引用例２の第２頁左上欄第８行〜同頁同欄末行に、発明が解決しようとする問題点として、「このように従来では、一つの処理工程を単一の制御システムとして処理する場合には開発期間の長期化、製造価格の上昇などが問題となり、二三の処理工程を単一の制御システムとして処理する場合には処理工程の流れが変化した場合に対応できなくなるという問題がある。
　この発明は上記のような事情を考慮してなされたものであり、その目的は、半導体ウエハーの処理工程の組合わせをフレキシブル化し、組合された処理工程の制御を制御システムの変更なしに行なえ、かつ組合わされた処理工程の中の任意の処理工程を制御することができるウエハー処理制御装置を提供することにある。」と記載されている。
　引用例２の第２頁左下欄第８行〜第３頁左上欄第１０行に、「以下、図面を参照してこの発明の実施例を説明する。図はこの発明に係るウエハー処理制御装置の構成を示すブロック図である。図において、１０はそれぞれ半導体ウエハー処理工程において単一の処理機能を有する処理ユニットであり、これらには例えば、写真蝕刻工程を実現するために使用されるフォトレジスト塗布用のスピンナー、プリベーク装置、露光装置、現像装置、洗浄装置などがある。上記各処理ユニット１０はそれそれに対応して設けられたユニット制御部２０によりその動作が制御される。また、上記複数のユニット制御部２０のうち例えば３個ずつが組にされ、各組のユニット制御部２０はそれぞれの組に対応して設けられているサブシステム制御部３０によりそれぞれの動作が制御される。さらに、上記全てのサブシステム制御部３０の動作はメインシステム制御部４０により制御される。
　上記メインシステム制御部４０は、物理的に配置されている複数の処理ユニット１０の中から実際の処理に必要なもののみを選択する処理ユニット選択機能並びにこの機能により選択された処理ユニットの配列を決定する処理ユニット配列エントリー機能を持っている。なお、この選択機能で選択できる処理ユニットの数には制限はなく、装置上の物理的スペース及び必要構成により決定され、この実施例の場合では９個の処理ユニット１０の全てが選択可能である。またこの選択機能で選択される処理ユニット１０の組合わせパターンは、実行ユニットパターンとして予め１０種類がエントリー可能にされており、各パターンに対応した番号を指定することにより、必要な処理ユニット１０の選択が行なえるようになっている。さらに、各処理ユニット１０において、ウエハー処理の際に用いる各種パラメータは標準データとしてメインシステム制御部４０にエントリーされている例えば２０種類の中から任意の一つを選択することができるようになっている。
　このような構成において、メインシステム制御部４０により所定の処理ユニット１０の選択及び配列を選択した後に処理の実行をスタートさせると、処理実行ユニットとして選択された各処理ユニット１０が動作を開始し、所定の処理条件でウエハーの枚葉処理を順次行なうものである」と記載されている。
２．３　引用例１の発明の認定
　引用例１記載の「ウエハ」、「レジスト塗布・べーク」及び「現像・べーク」は、それぞれ、本願請求項１に係る発明の「被処理体」、「塗布処理」及び「現像処理」に相当する。
　また、上記引用例１の第３頁左下欄第６行〜同頁同欄第１１行に、「ロードカセット３２にウエハを装着４８したのち、このウエハは、レジスト塗布・べーク装置１によりレジスト塗布２１及びプリベーク２２後、ベルト搬送機構３７によりウエハ搬送径路切替部３３に自動搬送４９され」るという構成が記載されており、当該構成は、本願請求項１に係る発明の「収納容器から前記被処理体を取出して所定の前記処理機構に送込む機能」に相当する。
　また、上記引用例１の第３頁左上欄第１７行〜１同頁右上欄第８行に、「３３及び３４はそれぞれレジスト塗布・べーク装置１と露光装置９との間及び露光装置９と現像・べーク装置１４との間に設けられているウエハ搬送径路切替部、３５及び３６はそれぞれウエハ搬送径路切替部、」及び「３７及び３８はそれぞれレジスト塗布・べーク装置１から露光装置９へ、及び露光装置９から現像・べーク装置１４ヘウエハを搬送するベルト搬送機構」という構成が記載されており、当該構成は、本願請求項１に係る発明の「被処理体を所定の前記処理機構から受取った後所定の前記処理機構に送込む機能」に相当する。
　また、上記引用例１の第３頁右上欄第５行〜同欄第８行に、「３９，４０及び４１はバッフアカセット３５又は３６へ、又はバッフアカセット３５又は３６からウェハを搬送するベルト搬送機構」という構成が記載されており、当該構成は、本願請求項１に係る発明の「前記被処理体を所定の前記処理機構から受取って収納容器に収納する機能」とを有する複数の搬送機構」に相当する。
　また、上記引用例１の第３頁左下欄第４行〜同頁右下欄第１１行を参照すると、上記引用例１には、本願請求項１に係る発明の「塗布処理と、露光装置との間における前記被処理体の授受と、前記現像処理とを順次行う」ことに相当する工程が記載されていると認める。
　また、上記引用例１の第３頁右下欄第１７行〜第４頁左上欄第１行及び第４頁左上欄第６行〜同頁同欄第１０行の「なお、この実施例の自動ウェハ処理装置では、ウエハ搬送径路切替部３３によつて露光装置９への搬送を止め、バッファカセット３５への搬送のみを可能にして、レジスト塗布・べークのみを実施することもでき」及び「さらにバッファカセット３６にウエハを供給し、ウエハ搬送径路切替部３３を介して現像・べーク装置１４へ搬送するようにして現像・べークのみを実施することもできる。」との記載を参照すると、上記引用例１には、本願請求項１に係る発明の「塗布処理、前記現像処理を夫々独立に行う」ことに相当する工程が記載されていると認める。
　また、上記引用例１の第４頁左上欄第１行〜同頁同欄第６行の「また、バッファカセット３５にウエハを供給し、ウエハ搬送径路切替部３３を介してウエハを露光装置９に供給し、露光されたウエハを搬送径路切替部３４を介してバッファカセット３６に搬送するようにして、ウエハ露光のみを実施することもでき」との記載を参照すると、上記引用例１には、本願請求項１に係る発明の「露光装置との間における前記被処理体の授受を行う」ことに相当する工程が記載されていると認める。
　また、引用例１に記載された実施例の装置は、明らかに複数の搬送機構を有している。
　さらに、引用例１の第４頁左欄第１８行〜同頁右欄第３行に、「これらの実施例の自動ウエハ処理装置では、レジスト塗布・べーク装置、露光装置、現像・べーク装置の処理時間に差異があっても、全体としてのスループットを損なうことなく、一貫ラインとして自動的にウエハのレジスト塗布、露光、現像が可能となる。」と記載されていることを考慮すると、引用例の各工程は自動的に行われるものであると認める。
　そうすると、上記引用例１には、「複数の処理機構に所定の順序で被処理体を搬送して処理を施し、少くとも、前記被処理体にレジストを塗布する塗布処理と、前記被処理体を現像する現像処理とを実行可能とされた塗布現像装置において、収納容器から前記被処理体を取出して所定の前記処理機構に送込む機能と、前記被処理体を所定の前記処理機構から受取った後所定の前記処理機構に送込む機能と、前記被処理体を所定の前記処理機構から受取って収納容器に収納する機能とを有する複数の搬送機構と、所望の処理を実行する複数種のモードと、前記複数種のモードは、前記塗布処理と、露光装置との間における前記被処理体の授受と、前記現像処理とを順次行う第１のモードと、前記塗布処理、前記現像処理を夫々独立に行う第２のモードとを有する塗布現像装置。」であると認める。
３．そこで本件請求項１に係る発明と、引用例１記載の発明を対比すると、本件請求項１に係る発明と引用例記載の発明は、「複数の処理機構に所定の順序で被処理体を搬送して処理を施し、少くとも、前記被処理体にレジストを塗布する塗布処理と、前記被処理体を現像する現像処理とを実行可能とされた塗布現像装置において、収納容器から前記被処理体を取出して所定の前記処理機構に送込む機能と、前記被処理体を所定の前記処理機構から受取った後所定の前記処理機構に送込む機能と、前記被処理体を所定の前記処理機構から受取って収納容器に収納する機能とを有する複数の搬送機構と、所望の処理を実行する複数種のモードとを設定可能に構成され、前記複数種のモードは、前記塗布処理と、露光装置との間における前記被処理体の授受と、前記現像処理とを順次行う第１のモードと、前記塗布処理、前記現像処理を夫々独立に行う第２のモードとを有する塗布現像装置。」である点において一致し、本件請求項１に係る発明が、「予め設定されたプログラムに従って、前記複数の搬送機構がそれぞれ前記各機能の何れを発揮するかを一括して設定する設定手段とを具備」する構成（以下、「構成１」という。）、「前記設定手段は、一連の処理工程に応じ、前記複数の搬送機構がそれぞれ前記各機能の何れを発揮するかを一括して設定」する構成（以下、「構成２」という。）、「前記複数の搬送機構毎に夫々何れの機能を発揮するかを設定するマニュアルモード」を有する構成（以下、「構成３」という。）及び「前記塗布処理、前記現像処理を夫々独立に行うとともに、露光装置との間における前記被処理体の授受を行う第３のモード」を有する構成（以下、「構成４」という。）を備えたものであるのに対し、引用例１記載の発明には上記構成について明示されていない点（以下、構成１〜４が明示されていない点をそれぞれ、「相違点１〜４」という。）において両者は相違する。
　上記相違点１〜４について検討する。
　塗布現像装置の技術分野において、引用例２にみられるごとく、ウエハーを枚葉処理するウエハー処理工程において複数の処理工程を連結し、連続してウエハーの処理を行なう際に、半導体ウエハーの処理工程の組合わせをフレキシブル化し、組合された処理工程の制御を制御システムの変更なしに行なえ、かつ組合わされた処理工程の中の任意の処理工程を制御することができるウエハー処理制御装置を提供するため、メインシステム制御部により所定の処理ユニット（当該処理ユニットは露光装置及び現像装置を含む。）の選択及び配列を選択した後に処理の実行をスタートさせると、処理実行ユニットとして選択された各処理ユニットが動作を開始し、所定の処理条件でウエハーの枚葉処理を順次行なうようにすることは当業者が熟知している事項であり、さらに、引用例２には、搬送機構の明示はないが、処理ユニットに搬送ユニットが付随していることは明らかであることを考慮すると、上記引用例１に記載された発明に対して、前記構成１「予め設定されたプログラムに従って、複数の搬送機構がそれぞれ各機能の何れを発揮するかを一括して設定する設定手段を具備」すること及び前記構成２「設定手段は、一連の処理工程に応じ、複数の搬送機構がそれぞれ前記各機能の何れを発揮するかを一括して設定」することは、当業者が容易に想到できたものである。
　また、前記構成３「複数の搬送機構毎に夫々何れの機能を発揮するかを設定するマニュアルモード」については、一般的に、機械を自動制御する際に、マニュアルモードを付加することは慣用手段であるので、この相違点は設計事項の範囲内のものにすぎない。
　さらに、前記構成４「塗布処理、現像処理を夫々独立に行うとともに、露光装置との間における被処理体の授受を行う第３のモード」については、引用例１の発明においても、塗布処理、現像処理を夫々独立に行うモードを有しており、また、引用例１の発明においても、処理装置と露光装置との間における被処理体の授受を行うものであるから、上記構成４の「第３のモード」を設けることは、当業者が容易に想到し得たものである。
　さらに、前記構成１〜４による効果は、引用例１，２から予測される範囲内のものである。
４．以上のとおり、本件請求項１に係る発明は、当業者が、引用例１に記載された発明及び当業者が熟知する事項に基いて容易に発明できたものであるので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって結論のとおり審決する。