【事件の表示】
　昭和６０年特許願第１６２５６６号「磁気デイスク用アルミニウム合金基板」拒絶査定に対する審判事件〔（平成７年６月７日出願公告、特公平７−５４５７３）、特許請求の範囲に記載された発明の数（１）〕について、次のとおり審決する。
【結論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許をすべきものとする。
【理由】
Ｉ　本願発明
　本件審判請求に係る特許願は昭和６０年７月２２日になされており、平成８年９月１７日付けで補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の欄に記載された発明（以下、「本願発明」という）は、
　「アルミニウム合金基板」において、「下地処理としてメッキ層が形成される場合に、該メッキ層との密着性を向上しうる」ようにすることを目的とし、
　「この発明に係るアルミニウム合金基板は、その表面が、最大高さ及び中心線平均粗さにおいて一定範囲に規定された表面粗さに粗面化されたものであることにより、メッキ処理性に優れたものとなしえ、アルミニウム基板とその表面に形成されるメッキ層との密着性を向上することができる。従って、メッキ層が基板から剥離する虞れがなくなり、品質の安定した、恒久性にも極めて優れた磁気ディスクを提供しうる。」効果を奏するものであり、本願発明の構成は、
　「下地処理層としてのメッキ層を被覆形成される基板表面が、最大高さ（Ｒｍａｘ）：０．２５〜１．２μｍ、中心線平均粗さ（Ｒａ）０．０２５μｍを超え０．３０μｍ以下、の表面粗さで規定される粗面状に形成されてなることを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基板」である。
ＩＩ原査定の理由：
（１）原査定の拒絶の理由である特許異議の決定に記載した理由の概要は、本願発明は、甲第１号証である「金属」（Ｍｅｔａｌｓ＆Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ：第５１巻５号　昭和５８年（１９８３年）９月１日発行　第２７〜２９頁）（以下「刊行物１」という）記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法２９条２項の規定により、特許を受けることができない、というにある。
（２）刊行物記載の発明
　原査定の拒絶の理由である特許異議の決定の理由において引用された、特許異議申立人株式会社エムエーディスク提出の甲第１号証である「金属」（Ｍｅｔａｌｓ＆Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ：第５１巻５号　昭和５８年（１９８３年）９月１日発行　第２７〜２９頁）（以下「刊行物１」という）には、
　「軽量、非磁性体であるアルミニウム合金は〜コンピュータの外部または補助記憶装置のキーパーツである磁気ディスクに採用されている。」（第２７頁左欄第１行〜第４行）、「磁気ディスクはＡｌ−Ｍｇ合金円板、すなわちディスク基板の表面加工と、その表面に形成される磁性膜表面の加工とがある。」（第２８頁左欄第５行〜第７行）、「表４に示す加工条件で、表面あらさ０．０２５μｍＲａ、０．４０μｍＲｍａｘ程度の面が得られ、」（第２８頁右欄第２行〜第６行）、「前者の場合の仕上げ面あらさは０．０２５μｍＲａ、０．４０μｍＲｍａｘ程度であるが、後者の場合若干荒くなる」（第２８頁右欄第２５行〜第２６行）、「前述の高精度に仕上げられたアルミ基板両面に、磁性層を形成する方法として、▲１▼γ‐Ｆｅ２０３塗布法、▲２▼σ‐Ｆｅ２０３スパッタリング法、▲３▼Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐメッキ法があるが、〜、メッキ法においては、Ｎｉ‐Ｐメッキ層表面の仕上げがそれぞれ必要である。」（第２９頁第１行〜第８）、とする発明が記載されている。
（３）対比・判断
　本願発明と上記刊行物１記載発明を対比するに、上記刊行物１記載発明には、本願発明の「基板表面が、最大高さ（Ｒｍａｘ）：０．２５〜１．２μｍ、中心線平均粗さ（Ｒａ）：０．０２５μｍを超え０．３０μｍ以下、の表面粗さで規定される粗面状に形成されてなる」点が記載されてなく、示唆もされていない。そして、本願発明は、前記の点により、格別な上記目的・効果を奏するものと認められる。
（４）まとめ
　上記のとおりであるから、本願発明は上記刊行物１記載発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
ＩＩＩ　上記ＩＩ以外の、原審において拒絶の理由として言及されなかった異議の申し立ての理由について：
（１）特許法２９条１項および２項、特許法２９条の２について：
ａ．（原審の異議の申し立ての理由として引用された刊行物記載の発明）：
〈異議申立人住友軽金属工業株式会社が提出した甲第１〜６号証刊行物記載発明〉
　甲第１号証である特公昭６３−２７４２０号（以下「刊行物２」という）には、「実施例として、ダイヤモンド切削により表面仕上げし、該表面仕上げ後の面粗度（Ｒｍａｘ）を０．２９〜０．３７μｍ（第４頁表２）、０．２６〜０．３５μｍ（第５頁表４２）とし、ついで亜鉛（Ｚｎ）メッキを下地処理として行った後、Ｎｉ−Ｐメッキ処理し、メッキ層の密着性を良好なものとする磁気ディスク用アルミニウム合金基板」（第３〜６頁）、が記載されている。
　甲第２号証である「金属」（Ｍｅｔａｌｓ＆Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ：第５１巻５号　昭和５８年（１９８３年）９月１日発行　第２７〜２９頁）（以下「刊行物１」という）には、上記の事項が記載されている。
　甲第３号証である「表面アラサ」（コロナ社　昭和３４年１０月１０日発行、第２３〜２４頁、第３３〜３８頁）（以下「刊行物３」という）には、「Ｈｍａｘ（注：Ｒｍａｘ）、Ｈｒｍｓ（２乗平均アラサ）、ＨＣＬＡ（注：中心線平均粗さＲａ）の換算として、換算の関係式が得られること、この関係式は、加工法が定まればさらに近似度の高いものとなること」（同証第３４頁第１〜３行）、「表面アラサが大きい場合は、Ｒｍａｘ／Ｒａは１／４程度（ＲａがＨｒｍｓとほとんど同じものであることは、同証第２４頁第３〜９行に記載されている）であるが、表面アラサが小さくなると、Ｒｍａｘ／Ｒａの比が段々と大きくなること」（同証第３４頁第６〜８行、第３５頁下から４行〜下から２行、第３６頁１４表、第３８頁第３〜７行）、が記載されている。
　甲第４号証である特開昭５９−２２２３２号公報（以下「刊行物４」という）には、「ダイヤモンドバイトを用いた旋盤により表面仕上げされた磁気ディスク用アルミニウム合金のサブストレート（基板）の表面粗さが示され、Ｒｍａｘが０．０８μｍのときはＲａが０．００８μｍ、Ｒｍａｘが０．１０μｍのときはＲａは０．０１０μｍであること」（同証第４頁左上欄第４〜１５行、第４頁右下欄第１５行〜第５頁左上欄第１５行）、「ダイヤモンド切削による表面仕上げではなく、ポリッシングによる表面研磨の場合にも、Ｒｍａｘが０．１８μｍのときはＲａが０．０１８μｍ、Ｒｍａｘが０．２０μｍのときはＲａが０．０２０μｍと、旋盤仕上げの場合と同様に、Ｒｍａｘ／Ｒａが１／１０の粗面が得られること」（同証第５頁左下欄第７行〜右下欄第１０行）、が記載されている。
　甲第５号証である特開昭５１−４６９０７号公報（以下「刊行物５」という）には、「メッキ型磁気ディスク用アルミニウム合金基板において、Ｎｉ−Ｐメッキ層を形成する場合には、その下地処理として亜鉛メッキを行うことが、当該技術分野の常識的手段であること」（同証第１頁特許請求の範囲、第１頁右下欄下から４行〜第２頁左上欄第６行）が示されている。
　甲第６号証である特開昭５９−４５６３４号公報（以下「刊行物６」という）には、「メッキ型磁気ディスク用アルミニウム合金基板において、Ｎｉメッキ層を形成する場合には、Ｎｉメッキを行うのに適した前処理として、亜鉛置換メッキを行うことが、当該技術分野における常識的手段であること」（同証第４頁右上欄第６〜８行）、が示されている。
〈異議申立人株式会社神戸製鋼所が提出した甲第１〜２８号証刊行物記載発明〉
　甲第１号証である「精密機械」（第５１巻第５号１９８５年５月　第９１６乃至９１９頁）（以下「刊行物７」という）には、「高純度均一性磁気ディスク用アルミニウム合金」、「表４の精密ポリシング加工条件で表面粗さとして、平均粗さＲａ：０．０２５μｍ、最大高さＲｍａｘ：０．４０μｍの面が得られること」（第９１９頁左欄第１０、１１行）、「磁気ディスクの製造工程において、アルミニウム地金を溶解し、鋳造した後、熱間圧延及び冷間圧延を経て打ち抜き、加圧焼き鈍し工程を受け、表面仕上げされて基板が得られ、この表面仕上げ後の基板は、めっき型の場合には、Ｎｉ−Ｐ合金の中間層をめっきし、研磨した後、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ合金からなる媒体をめっきし、その後、保護膜、潤滑膜を加工して磁気ディスクとなる。塗布型スパッタ型の場合は、夫々クロメート処理後媒体を塗布するか、アルマイトをスパッタした後、媒体をスパッタする。」（第９１７頁の図３）、ことが示されている。
　甲第２号証である「金属」（Ｍｅｔａｌｓ＆Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ：第５１巻５号　昭和５８年（１９８３年）９月１日発行　第２７〜２９頁）（以下「刊行物１」という）には、上記の事項が記載されている。
　甲第３号証である「金属表面技術協会第３６回学術講演大会講演要旨集」昭和４２年１１月２４日社団法人表面技術協会、「磁性薄膜の下地としての無電解ニッケルメッキ」）（以下「刊行物８」という）には、「我々は、磁気ディスクにおいて、この下地の検討をしたが、・・」（同号証第１０行目）、「直径３００ｍｍのアルミニウム合金板（Ａ２Ｐ１）をラッピングして０．５μｍＨｍａｘ（Ｒｍａｘのこと）に仕上げた」（同号証第２２行目）、と記載されている。
　甲第４号証である「昭和４１年度電気通信学会全国大会」講演論文集昭和４１年１１月１日第８９頁）（以下「刊行物９」という）には、「アルミニウム合金を基体とし、Ｎｉ−Ｃｏ磁性薄膜を有し、表面粗さ０．８μｍ（Ｈｍａｘ）・・の高性能なものを実用化できたので報告する。」（第８９頁第１２乃至１４行）、「要求特性として、表面粗さが１μｍ（Ｈｍａｘ）以下であること」（表１）、が示されている。
　甲第５号証である「昭和５３年精機学会秋季大会学術講演会前刷」（昭和５３年１０月３〜５日　社団法人精機学会）（以下「刊行物１０」という）には、「磁気ディスクの表面粗さがＲａ：０．００９〜０．０４６μｍであること」（第４４３頁の表１）、が示されている。
　甲第６号証である「精密機械」（１９８４年１月　５０巻１号　第１２１〜１２２頁）（以下「刊行物１１」という）には、「磁気ディスク基板の表面粗さＲａが出荷年次と共に変化する様子が記載されているが、平均粗さＲａが０．０２５〜０．０５μｍである場合は、出荷年次が１９７８年以前であることがわかる。即ち、磁気ディスクの表面粗さＲａは年々小さくなってきており、技術の進歩とともに、表面粗さＲａが小さくなっている。平気粗さＲａ：０．０２５〜０．３０μｍは１９８５年の技術水準の表面粗さＲａ：０．０１μｍに比して粗く、技術の進歩に逆行するものとなっている。平均粗さＲａ：０．０２５〜０．３０μｍ。」（第１２１頁の図３）、が示されている。
　甲第７号証である「昭和５１年度精機学会秋季大会学術講演会前刷」（昭和５１年１０月１２〜１４日社団法人精機学会）（以下「刊行物１２」という）には、「各種の表面粗さの表示法についてその相関関係」が示されており、その「第２図にはＲｚとＲｍａｘとの関係」が記載されており、「第３図にはＲｚとＲａとの関係」が記載されている。これによると、以下の関係式を導出できることが示されている。
「Ｒｍａｘ＝１．２９Ｒｚー０．１２
Ｒａ＝ｅｘｐ（１．０５・ｌｎＲｚー２．２９）
従って、表面粗さの平均粗さＲａと最大高さＲｍａｘとの関係は、上記２式から
下記式のように求められる。
ｌｎＲａ＝１．０５・ｌｎ（Ｒｍａｘ＋０．１２）／１．２９−２．２９」
　甲第８号証である「メッキ形記録媒体の薄膜化」（技術報告ＮＳー９６６７（日本通信技術株式会社）１９８５年１月発行）（以下「刊行物１３」という）には、「耐食性アルミニウム合金板（５０５２など）を素材とし、粗ラップ（０．８μｍＲｍａｘ）の後、無電解Ｎｉ−Ｐめっきを施したこと」（甲第８号証第１頁下から７乃至５行目）、が記載されている。
　甲第９号証である「Ｅｘｐｌｏｒｉｎｇ　Ｓｕｒｆａｃｅ　Ｔｅｘｔｕｒｅ」（１９８０年３月発行第６９頁）（以下「刊行物１４」という）には、「ＲａとＲｔ（Ｒｍａｘ）との比が１：７〜１：１４の範囲にあること」（甲第９号証第６９頁下から２及び１行目）、が示されている。
　甲第１０号証である「特開昭５９−３０６２３号公報」（以下「刊行物１５」という）には、「表面粗さＲａが０．０４０〜０．０８０μｍのケミカルポリシングを施した磁気ディスク基板」（第３頁の第２図）、が示されている。
　甲第１１号証である「特開昭６０−７１１６０号公報」（以下「刊行物１６」という）には、「工作物の下地面のあらさが０．２〜０．４μｍＲｍａｘであること」（第２頁左下欄第１３〜１４行目）、が示されている。
　甲第１２号証である「米国特許第４４３０３８７号明細書」（以下「刊行物１７」という）には、「基板表面を０．０１２〜０．０３μｍＲａに研磨した磁気ディスク用アルミニウム基板」（第３欄第１１乃至１４行目）、「表面をダイヤモンド切削工具により０．０３μｍＲａの表面粗さに粗面化したもの」（同号証第５欄第１０乃至１２行目）、が記載されている。
　甲第１３号証である「米国特許第４４１４２８７号明細書」（以下「刊行物１８」という）には、「磁気記録媒体の基板の表面が０．０３〜０．４μｍ、好ましくは０．１〜０．２μｍの深さの溝状の凹部を有すること。これは、最大高さＲｍａｘが０．４μｍ以下であること」（第３欄第６５乃至６７行目）、が示されている。
　甲第１４号証である「特開昭５２−９７３３６号公報」（以下「刊行物１９」という）には、「メッキ皮膜の密着性は、メッキ作業の前処理工程である下地処理の良否如何によって大きな影響を受けることになる。すなわち、密着性の良否は、被メッキ物表面の清浄状態と粗さの度合いによって決定される。このため、被メッキ物表面の清浄化と適切な粗面化をメッキに先立って実施しなければならない。」（第２頁左上欄第７乃至１３行目）と記載されている。
　甲第１５号証である「特開昭５８−５７６２４号公報」（以下「刊行物２０」という）には、「磁気記憶装置に用いられる磁気ディスク等の磁気記録体に関し」（同号証第１頁左下欄下から５、６行目）、この磁気ディスクは、「通常、下地基板としては圧延後旋削加工されたアルミ合金基板上にニッケル合金メッキを施し、更にこのニッケル合金メッキ層を研磨したものが用いられる。」（同号証同頁右欄第７乃至１０行目）と記載されている。
　甲第１６号証である「金属表面技術」（１９６８年第１９巻第２号　第２４〜２８頁）（以下「刊行物２１」という）には、「アルミニウム合金上メッキ膜の密着力に関し、その実験方法の欄には、ＪＩＳＡ２Ｂ１のアルミニウム棒の断面を化学研磨して０．４μｍＨｍａｘに仕上げたこと」（２５頁左欄第３乃至１２行）、が記載されている。
　甲第１７号証である「特開昭５４−７７１０６号公報」（以下「刊行物２２」という）には、「非磁性の下地層上に銅‐スズ合金めっき層を電気めっきにより形成して中間層とし、この中間層上に磁性層を形成した磁気ディスク」（特許請求の範囲）、「磁性層と下地層研磨面との間に下地層表面の影響、作用を断ち切るものとして中間層を設ける方法があり、Ｎｉ−Ｐ合金めっき層が中間層として多用されていること」（同号証第１頁左下欄第２０行目乃至右下欄第７行目）、が記載されている。
　甲第１８号証である「特開昭５４−７３６０７号公報」（以下「刊行物２３」という）には、「中間層をめっきにより設けた磁気ディスク」（特許請求の範囲）、が示されている。
　甲第１９号証である「特開昭４７−２２８４６号公報」（以下「刊行物２４」という）には、「電子計算機の記億素子としてのディスクとして、アルミニウム合金基板に下地メッキとしてあらかじめニッケルを化学メッキしておくもの」（第１頁左下欄第１４乃至１９行目）、が示されている。
　甲第２０号証である「特開昭４７−２２７０６号公報」（以下「刊行物２５」という）には、「アルミニウム合金に磁性膜を容易に電気メッキ可能な金属を下地としてメッキする必要があること」（同号証第１頁右下欄第１乃至３行目）、が記載されている。
　甲第２１号証である「特開昭４９−１２６３０６号公報」（以下「刊行物２６」という）には、「アルミニウム合金材料により所定形状に成形加工した後、メッキを施した磁気ディスク」（同号証第１頁左下欄第１５乃至１７行目）、が示されている。
　甲第２２号証である「特開昭５４−５９９０８号公報」（以下「刊行物２７」という）には、「磁気ディスク基体の上に銅‐すず合金めっき膜を中間膜として形成し、この上に磁性膜をめっきにより形成する磁気ディスクの製造方法」（同号証の特許請求の範囲）、「この磁気ディスク基体は耐食性アルミニウム合金素材である」（同号証第２頁右下欄第１５及び１６行目）、と記載されている。
　甲第２３号証である「特開昭５４−５６４０３号公報」（以下「刊行物２８」という）には、「中間メッキ層として、ニッケルーリン合金メッキ層が多用されていること」（第１頁右下欄第１２、１３行目）、が記載されている。
　甲第２４号証である「特開昭５８−１８９８２３号公報」（以下「刊行物２９」という）には、「基板上に非晶質性を有する非磁性Ｎｉ−Ｐ膜を設け、このＮｉ−Ｐ膜の表面を平滑化した磁気記録媒体」（同号証の特許請求の範囲）、が示されている。
　甲第２５号証（特開昭５８−５７６２５号公報）（以下「刊行物３０」という）には、「下地基板としては圧延後、旋削加工されたアルミ合金素板上にニッケル合金めっきを施すこと」（同号証第１頁右下欄第７、８行目）、が示されている。
　甲第２６号証「特開昭５８−５７６２６号公報」（以下「刊行物３１」という）には、「下地基板として圧延後、旋削加工されたアルミ合金素板上にニッケル合金めっきを施すこと」（同号証第１頁右下欄第７、８行目）、が示されている。
　甲第２７号証である「特開昭５８−５７６２７号公報」（以下「刊行物３２」という）には、「下地基板として圧延後、旋削加工されたアルミ合金素板上にニッケル合金めっきを施すこと」（同号証第１頁右下欄第７、８行目）、が示されている。
　甲第２８号証「特開昭６１−１９２４８０号公報」（以下「刊行物３３」という）には、「平坦な表面を有する金属板、例えば、磁気ディスク基盤の素材たるアルミニウム合金製原盤等の軟質金属の表面の研削…」（同号証第１頁右下欄第１６乃至２０行目）処理に関し、「表面粗さが平均粗さＲａで０．０５乃至０．１１μｍ、最大高さＲｍａｘで０．３８乃至１．８６μｍのアルミニウム合金基板」（第７頁の第１表）、が開示されている。
〈異議申立人東洋鋼鉄株式会社が提出した甲第１〜３号証刊行物および参考資料記載発明〉
　甲第１号証である「精機学会誌」（１９８５年５月５日　第５１巻５号社団法人精機学会発行「高純度，均一性ＡＩ合金」）（以下「刊行物３４」という）には、「磁気ディスクの超精密表面加工を、表面粗さ０．０２５μｍＲａ、０．４０μｍＲｍａｘとする」（第３２〜３５頁）、と記載されている。
　甲第２号証である「金属」（Ｍｅｔａｌｓ＆Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ：第５１巻５号　昭和５８年（１９８３年）９月１日発行　第２７〜２９頁）（以下「刊行物１」という）には、上記の事項が記載されている。
　甲第３号証である「特開昭６１−１９２４８０号公報」（以下「刊行物３３」という）には、上記事項が記載されている。
　参考資料１である「精機学会誌」（１９８４年１月５日　第５０巻１号　社団法人精機学会発行「計算機関連」、第１２１〜１２２頁）（以下「刊行物３５」とい）には、「磁気ディスクの基板加工として、表面粗さ０．０２μｍＲａとする」（同資料第１２１頁右欄７行〜８行）、と記載されている。
〈異議申立人株式会社エムエーディスクが提出した上記甲第１号証「金属」以外の甲第２〜６号証刊行物記載発明〉
　甲第２号証である「金属表面技術協会第３６回学術講演大会講演要旨集：「磁性薄膜の下地としての無電解ニツケルメッキ」（昭和４２年（１９６７年）」（以下「刊行物８」という）には上記事項が記載されている。
　甲第３号証である「電気通信学会全国大会講演論文集「アルミニウム磁気円板」昭和４１年（１９６６）１１月１日発行」（以下「刊行物９」という）には、上記事項が記載されている。
　甲第４号証である「金属表面技術「アルミニウム合金上メッキ膜の密着力」」（昭和４３年（１９６８）発行）（以下「刊行物２１」という）には、上記事項が記載されている。
　甲第５号証である「和５１年度精機学会秋季大会学術講演会前刷「表面粗さ表示法の相関について（第１報）」」（昭和５１年１０月１２日〜１４日発行）（以下「刊行物１２」という）には、上記事項が記載されている。
　甲第６号証である「昭和５２年度精機学会秋季大会学術講演会前刷「表面粗さ表示法の相関について（第２報）」」（昭和５２年４月３日〜５日発行）（以下「刊行物３６」という）には、「ＲｍａｘとＲａの関係が比例関係であること」、が記載されている。
ｂ．（対比・判断）
　本願発明と上記刊行物１〜３６記載発明を対比するに、上記刊行物１〜３６記載発明には、本願発明のメッキ層との密着性を向上し得るようにする目的で「基板表面が、最大高さ（Ｒｍａｘ）：０．２５〜１．２μｍ、中心線平均粗さ（Ｒａ）：０．０２５μｍを超え０．３０μｍ以下、の表面粗さで規定される粗面状に形成されてなる」点が記載されてなく、示唆されてもいない。そして、本願発明は、この点により、格別な上記目的・効果を奏するものと認められる。
ｃ．（まとめ）
　以上のとおりであるから、本願発明は、刊行物１〜３６記載発明であるとも、また、刊行物１〜３６記載発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものともいえない。
（２）（特許法３６条について）：
　異議申立人住友軽金属工業株式会社の不明瞭と主張する点は、明細書の記載に基づけば、妥当でなく、採用できない。
ＩＶ　むすび
　以上のとおりであるから、本願発明は、刊行物１〜３６記載発明であるとも、また、刊行物１〜３６記載発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものとも、いえない。さらに、本願発明は、記載不備とする理由がない。
　また、他に本願発明を拒絶すべき理由がない。
　よって、結論のとおり審決する。