(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
分光装置によるスペクトル測定対象である第１のレーザ光とは異なる波長を有し、かつ前記分光装置内において前記第１のレーザ光と同一光路を進行する第２のレーザ光を該分光装置に入射させて前記第２のレーザ光に対する該分光装置の第２の装置関数を測定する測定工程と、
前記第１のレーザ光を前記分光装置に入射して該第１のレーザ光のスペクトルデータを取得する取得工程と、
前記測定工程によって測定された第２の装置関数をもとに前記前記第１のレーザ光に対する前記分光装置の第１の装置関数を演算する第１の演算工程と、
前記取得工程によって取得されたスペクトルデータを前記第１の演算工程によって演算された第１の装置関数の値でデコンボリューション処理する演算を行う第２の演算工程と、
前記第２の演算工程によって演算された結果を表示出力する出力工程と
を含むことを特徴とするスペクトル測定方法。
【請求項２】
参照レーザ光としての第２のレーザ光を用いて被スペクトル測定対象である第１のレーザ光のスペクトル波形を出力するスペクトル測定装置において、
分光装置と、
前記第２のレーザ光を前記分光装置に入射させて前記第２のレーザ光に対する前記分光装置の第２の装置関数を演算し、当該第２の装置関数をもとに前記第１のレーザ光に対する前記分光装置の第１の装置関数を演算し、前記第１のレーザ光を前記分光装置に入射させて前記第１のレーザ光のスペクトルデータを取得し、当該スペクトルデータを前記第１の装置関数でデコンボリューション処理する演算／制御手段と、
前記演算／制御手段で行われたデコンボリューション処理の結果を表示出力する表示手段と、を備えた
ことを特徴とするスペクトル測定装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、参照レーザ光を用いて被スペクトル測定対象のレーザ光のスペクトル波形を出力するスペクトル測定方法およびその装置に関し、特に紫外領域の波長をもつレーザ光のスペクトル波形を測定するスペクトル測定方法およびその装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から半導体装置製造用の縮小投影露光装置の光源として紫外光のエキシマレーザ光（ＫｒＦの場合は２４８ｎｍ、ＡｒＦの場合は１９３ｎｍ）の利用が行われている。これは、同じ解像度であれば、従来の縮小投影露光装置の光源として用いられていた水銀ランプのｇ線やｉ線に比較して焦点深度が深く、レンズの開口数が小さくて済み、露光領域を大きくできることと、大きなパワーが得られる等の多くの優れた利点があるからである。
【０００３】
エキシマレーザの波長は紫外領域であり、透過率と加工性のよいレンズ材としては石英しかない。この石英で投影レンズを構成すると、色消しができないので、色収差補正のために、エキシマレーザ光のスペクトル幅を制限して狭帯域化を行う必要がある。
【０００４】
このため、投影レンズの設計上、狭帯域化されたエキシマレーザ光のスペクトルを精密に測定し、このエキシマレーザを評価する必要がある。
【０００５】
このエキシマレーザのスペクトル測定方法および測定器としては、例えば特開平４−６５６４０号公報に記載されている。このスペクトル測定方法および測定器では、分光装置の装置関数を再現する単一縦モードＣＷ  Ａｒ  ２倍高調波レーザ（アルゴン半波長レーザ）からのコヒーレント光を参照光として分光装置に入射して、この参照光のスペクトルを太くする分光装置特有の装置関数を求め、その後、被測定対象である狭帯域化されたエキシマレーザ光を分光装置に入射し、分光装置特有の装置関数をデコンボリューションによって差し引いたエキシマレーザ光本来のスペクトルを測定出力するようにしている。この場合、エキシマレーザの中心波長は、２４８．４ｎｍであり、アルゴン半波長レーザの中心波長は、２４８．２５ｎｍであり、エキシマレーザの中心波長とほぼ同一の中心波長をもつコヒーレント光源を用いている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、例えば、１９３ｎｍの中心波長をもつＡｒＦエキシマレーザのスペクトル測定を行う場合に、この１９３ｎｍの中心波長とほぼ同一のコヒーレント参照光源を見いだすことは困難であり、狭帯域化された短波長のエキシマレーザ光のスペクトル測定を行うことができないという問題点があった。
【０００７】
また、将来的には、さらに短波長のコヒーレント光源のスペクトル測定を行う必要が生じる可能性があり、柔軟なスペクトル測定が行えることが要請される。例えば、フッ素レーザは、発振波長が１５７ｎｍであり、エキシマレーザのレーザ光よりもさらに短波長化されている。
【０００８】
そこで、本発明は、かかる問題点を除去し、狭帯域化された各種のコヒーレント光源のスペクトル測定を柔軟かつ確実に行うことができるスペクトル測定方法およびその装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段および効果】
この発明にかかるスペクトル測定方法は、分光装置によるスペクトル測定対象である第１のレーザ光とは異なる波長を有し、かつ前記分光装置内において前記第１のレーザ光と同一光路を進行する第２のレーザ光を該分光装置に入射させて前記第２のレーザ光に対する該分光装置の第２の装置関数を測定する測定工程と、前記第１のレーザ光を前記分光装置に入射して該第１のレーザ光のスペクトルデータを取得する取得工程と、前記測定工程によって測定された第２の装置関数をもとに前記前記第１のレーザ光に対する前記分光装置の第１の装置関数を演算する第１の演算工程と、前記取得工程によって取得されたスペクトルデータを前記第１の演算工程によって演算された第１の装置関数の値でデコンボリューション処理する演算を行う第２の演算工程と、前記第２の演算工程によって演算された結果を表示出力する出力工程とを含むことを特徴とする。
【００１０】
また、上記の発明において、前記分光装置は、グレーティング素子を用いて前記第１のレーザ光および第２のレーザ光を分光し、前記第２のレーザ光の波長は、前記第１のレーザ光の整数倍の波長であることを特徴とする。
【００１１】
さらに、上記の発明において、前記分光装置は、グレーティング素子を用いて前記第１のレーザ光および第２のレーザ光を分光し、前記同一光路は、前記グレーティング素子の格子間隔に対応して同一入射光に対して同一方向に回折される光路であることを特徴とする。
【００１２】
この発明によれば、分光装置内において、第２のレーザ光が、第１のレーザ光と同一光路を進行するレーザ光を有するのであれば、被スペクトル測定対象の第１のレーザ光の波長と十分異なる波長をもつ参照レーザ光として、この第２のレーザ光を用いることができるので、第１のレーザ光の波長とほぼ同一の波長をもつ第２のレーザ光を用いなくても第１のレーザ光のスペクトル波形を表示出力することができ、柔軟なスペクトル測定が可能になるという効果を奏する。
【００１３】
特に、第１のレーザ光の波長が紫外領域の波長である場合には、この紫外領域の波長をもつレーザ光源が少ないことから、豊富な発振波長をもつ領域のレーザ光源を第２のレーザ光として用いることができるという効果を奏する。
【００１４】
例えば、第２のレーザ光の波長を第２のレーザ光の整数倍の波長とすることによって、第１のレーザ光が紫外領域である場合に第２のレーザ光をその発振波長が豊富な赤外領域とすることができるという効果を奏する。
【００１５】
つぎの発明にかかるスペクトル測定装置は、参照レーザ光としての第２のレーザ光を用いて被スペクトル測定対象である第１のレーザ光のスペクトル波形を出力するスペクトル測定装置において、分光装置と、前記第２のレーザ光を前記分光装置に入射させて前記第２のレーザ光に対する前記分光装置の第２の装置関数を演算し、当該第２の装置関数をもとに前記第１のレーザ光に対する前記分光装置の第１の装置関数を演算し、前記第１のレーザ光を前記分光装置に入射させて前記第１のレーザ光のスペクトルデータを取得し、当該スペクトルデータを前記第１の装置関数でデコンボリューション処理する演算／制御手段と、前記演算／制御手段で行われたデコンボリューション処理の結果を表示出力する表示手段と、を備えたことを特徴とする。
【００１６】
また、上記の発明において、前記分光装置は、グレーティング素子を用いて前記第１のレーザ光および第２のレーザ光を分光し、前記第２のレーザ光の波長は、前記第１のレーザ光の整数倍の波長であることを特徴とする。
【００１７】
さらに、上記の発明において、前記分光装置は、グレーティング素子を用いて前記第１のレーザ光および第２のレーザ光を分光し、前記同一光路は、前記グレーティング素子の格子間隔に対応して同一入射光に対して同一方向に回折される光路であることを特徴とする。
【００１８】
この発明によれば、分光装置内において、第２のレーザ光が、第１のレーザ光と同一光路を進行するレーザ光を有するのであれば、被スペクトル測定対象の第１のレーザ光の波長と十分異なる波長をもつ参照レーザ光として、この第２のレーザ光を用いることができるので、第１のレーザ光の波長とほぼ同一の波長をもつ第２のレーザ光を用いなくても第１のレーザ光のスペクトル波形を表示出力することができ、柔軟なスペクトル測定が可能になるという効果を奏する。
【００１９】
特に、第１のレーザ光の波長が紫外領域の波長である場合には、この紫外領域の波長をもつレーザ光源が少ないことから、豊富な発振波長をもつ領域のレーザ光源を第２のレーザ光として用いることができるという効果を奏する。
【００２０】
例えば、第２のレーザ光の波長を第２のレーザ光の整数倍の波長とすることによって、第１のレーザ光が紫外領域である場合に第２のレーザ光をその発振波長が豊富な赤外領域とすることができるという効果を奏する。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
図１は、本発明の第１の実施の形態であるスペクトル測定装置の全体構成図である。図１において、このスペクトル測定装置１１は、エキシマレーザ１０から出力される狭帯域化された１９３ｎｍのレーザ光のスペクトル波形を表示出力するものである。
【００２２】
分光装置１は、スリット２、２つの凹面ミラーＭ１，Ｍ２、グレーティング３およびラインセンサ４を有し、スリット２を介して入射されるレーザ光を凹面ミラーＭ１でグレーティング３に反射し、グレーティング３で反射された所望の波長をもつレーザ光のみを凹面ミラーＭ２を介してラインセンサ４に反射出力する。
【００２３】
半導体レーザ９から出射されるレーザ光は、波長選択された波長λ１（７７２ｎｍ）のシングルモードのコヒーレント参照光であり、この波長λ１のレーザ光は、シャッタ７が開のときにハーフミラーＭ３を介して分光装置１に入射される。
【００２４】
一方、エキシマレーザ１０から出射される波長λ２（１９３ｎｍ）のレーザ光は、被測定対象の狭帯域化されたレーザ光であり、この波長λ２のレーザ光は、シャッタ８が開のときにハーフミラーＭ３を介して分光装置１に入射される。
【００２５】
演算／制御部５は、ラインセンサ４によって取得されるスペクトルデータをもとにスペクトル測定に必要な後述する演算を行うとともに、ラインセンサ４、表示部６、およびシャッタ７，８の開閉制御を行う。
【００２６】
表示部６は、演算／制御部５から入力されるエキシマレーザ１０のスペクトル波形を表示出力する。
【００２７】
次に、このスペクトル測定装置１１を用いたエキシマレーザのスペクトル波形取得の原理について説明する。
【００２８】
エキシマレーザ１０のレーザ光は、狭帯域化されているため、このレーザ光を分光して測定する必要があるが、その分解能に限界があるため、上述した半導体レーザ９から出射されるシングルモードの参照光λ１を用いて、まず分光装置１の装置特有の鈍りである装置関数を求める必要がある。そして、実際にエキシマレーザ１０からのレーザ光のスペクトルデータを同一の分光装置を用いて測定し、このスペクトルデータから、参照光を用いて求まった装置関数を差し引く演算を行って表示出力する。
【００２９】
ここで、第１の実施の形態では、参照光λ１（７７２ｎｍ）は、被測定対象のエキシマレーザ１０の波長λ２（１９３ｎｍ）の４倍の波長である。この整数
倍の波長を参照光として用いるのは、グレーティング３の設置角度を変えずに、ほぼ同一の設置角度に保った状態で、すなわち、分光装置１の光学的位置関係を変えずに、被測定対象であるエキシマレーザ１０のレーザ光のスペクトル波形を取得することができるからである。
【００３０】
このグレーティング３の設置角度を変えなくてもよい理由について、図２を参照して説明する。
【００３１】
一般に、グレーティング３は、図２に示すように、溝の断面が鋸歯状のエシェレット格子が用いらる。このグレーティング３に対する光の波長をλ、入射角をθ、回折角をφ、格子（溝）間隔をｄ１とすると、次の式（１）の関係を有する。すなわち、
ｍλ＝ｄ１・（sinθ±sinφ）                                …（１）
である。なお、「ｍ」は、自然数、すなわち次数であり、また、「±」は、入射光２１と回折光２２とがグレーティング３の面の法線２３に対して同じ側にあれば正の符号をとり、異なる側にあれば負の符号をとる。
【００３２】
上述した式（１）の関係から、波長λの１次回折光と、波長（λ／ｍ）のｍ次回折光とは、それぞれ同一角度の方向に回折する。
【００３３】
従って、波長（λ／ｍ）のレーザ光を被測定対象とし、波長λのレーザ光を参照光とする場合、光の入射角θを同一とすると、グレーティング３からの回折角φは、グレーティング３の設置角度を変えずに同一となる。
【００３４】
このため、上述いた被測定対象であるエキシマレーザ１０のレーザ光は、その波長λ２が波長（λ１／４）であることから、グレーティング３の設置角度を変えずに、波長λ１の参照光と同一方向に回折し、ラインセンサ４によってモニタされることになる。なお、分光装置１における光学的な収差は十分補正されているものとする。
【００３５】
次に、具体的なスペクトル波形の取得処理について図３のフローチャートを参照して説明する。
【００３６】
図３において、まず演算／制御部５は、シャッタ７を開にして、半導体レーザ９から波長λ１（７７２ｎｍ）の参照光をシャッタ７およびハーフミラーＭ３を介して分光装置１に入射し（ステップＳ１）、ラインセンサ４によって波長λ１に対する装置関数ｈ１（ｘ）を計測する（ステップＳ２）。
【００３７】
一般に、装置関数ｈ（ｘ）は、次の式（２）に示すように、分光装置１の光学系の回折限界によって決定される関数ｇ（ｘ）と、スリット幅ｄによって決定されるスリット関数ｗ（ｘ）とのコンボリューション積分によって表せる。すなわち、
ｈ（ｘ）＝ｇ（ｘ）＊ｗ（ｘ）                                …（２）
である。ここで、「＊」は、コンボリューション積分を示す。また、スリット関数ｗ（ｘ）は、図４に示すようにスリット幅ｄの矩形関数として定義される。また、関数ｇ（ｘ）は、次の式（３）に示すsinc関数（sinｘ／ｘ）の２乗に比例した関数として表せる。すなわち、
ｇ（ｘ）＝Ｋ（sinc（ａｘ））＾２                            …（３）
である。ここで、「Ｋ」は定数、「＾」はべき乗を示し、「ａ」は波長λに対して反比例する関数であり、次の式（４）によって示される。すなわち、
ａ＝Ｃ／λ                                                  …（４）
である。ここで、「Ｃ」は定数である。
【００３８】
なお、後述する装置関数ｈ１（ｘ），ｈ２（ｘ）、関数ｇ１（ｘ），ｇ２（ｘ）、およびスリット関数ｗ１（ｘ），ｗ２（ｘ）の添え数字は、それぞれ波長λ１と波長λ２に対する装置関数ｈ（ｘ）、関数ｇ（ｘ）、スリット関数ｗ（ｘ）に対応する。
【００３９】
さて、ステップＳ２に計測された波長λ１の装置関数ｈ１（ｘ）は、式（２）と同様にして、次の式（５）に示す関係をもつ。すなわち、
ｈ１（ｘ）＝ｇ１（ｘ）＊ｗ１（ｘ）                          …（５）
である。式（５）において、装置関数ｈ１（ｘ）は、ステップＳ２によって計測されたため、既知であり、スリット関数ｗ１（ｘ）は、スリット幅ｄが分かっているため、既知であるので、波長λ１に対する関数ｇ１（ｘ）を求めることができる。
【００４０】
そこで、式（５）の両辺をフーリエ変換して式（５）を次の式（６）、すなわち、
Ｈ１＝Ｇ１・Ｗ１                                            …（６）
に変換する。そして、この式（６）から、
Ｇ１＝Ｈ１／Ｗ１                                            …（７）
が得られ、この式（７）を逆フーリエ変換することによって、波長λ１に対する関数ｇ１（ｘ）が求められ、演算／制御部５がこの演算を行う（ステップＳ３）。
【００４１】
その後、演算／制御部５は、求められた関数ｇ１（ｘ）から波長λ２に対する関数ｇ２（ｘ）を演算する（ステップＳ４）。
【００４２】
すなわち、演算／制御部５は、関数ｇ１（ｘ）の関数フィッティング処理を行い、式（３）の定数Ｋおよび関数ａにそれぞれ対応した関数ｇ１（ｘ）の定数Ｋ１と関数ａ１とを求める。この関数フィッティング処理とは、例えば最小２乗法を用いた処理を採用することができるが、その他の適切な処理を用いてもよい。
【００４３】
この求めた関数ａ１は、式（４）に対応すると、次の式（８）に示すように定数Ｃを求めることができる。すなわち、
Ｃ＝ａ１・λ１                                              …（８）
である。この定数Ｃを用い、式（４）に対応させると、次の式（９）に示すように、波長λ２に対する関数ａ２を求めることができる。すなわち、
ａ２＝Ｃ／λ２                                              …（９）
である。従って、上述した定数Ｋ１、関数ａ２を用いると、波長λ２に対する関数ｇ２（ｘ）＝Ｋ１（sinc（ａ２ｘ））＾２が求まる。
【００４４】
その後、演算／制御部５は、ステップＳ４で演算された波長λ２に対する関すｇ２（ｘ）と、既知の波長λ２に対するスリット関数ｗ２（ｘ）と用いて、次の式（１０）に示すように、コンボリューション積分を行って波長λ２に対する装置関数ｈ２（ｘ）を求める（ステップＳ５）。すなわち、
ｈ２（ｘ）＝ｇ２（ｘ）＊ｗ２（ｘ）                        …（１０）
である。
【００４５】
その後、演算／制御部５は、シャッタ８を開にして、エキシマレーザ１０から狭帯域化された波長λ２（１９３ｎｍ）のレーザ光をシャッタ８およびハーフミラーＭ３を介して分光装置１に入射し（ステップＳ６）、波長λ２のレーザ光のスペクトルデータをラインセンサ４によって取得する（ステップＳ７）。
【００４６】
さらに、演算／制御部５は、取得したスペクトルデータから装置関数ｈ２（ｘ）を差し引くデコンボリューション処理を行って、その結果を表示部６に表示出力する（ステップＳ８）。
【００４７】
これにより、分光装置１に特有の装置関数が示す鈍りを削除したエキシマレーザ１０のレーザ光のスペクトル波形を表示出力することができる。
【００４８】
この第１の実施の形態では、波長λ２の整数倍、例えば４倍の波長λ１のレーザ光源を用いてこの波長λ１に対する装置関数ｈ１（ｘ）を測定し、この装置関数ｈ１（ｘ）から波長λ２に対する装置関数ｈ２（ｘ）を求め、波長λ２のスペクトルデータからこの装置関数ｈ２（ｘ）を差し引く演算を行って波長λ２のスペクトル波形を表示出力するようにしているため、スペクトル波形を表示出力する被測定対象のエキシマレーザ１０の波長λ２とほぼ同一の波長をもつ参照光を出射するレーザ光源を用いる必要がなく、発振波長が豊富に存在する遠赤外のレーザ光源を用いることができる。
【００４９】
なお、この実施の形態では、被測定対象のレーザ波長に対してグレーティングの設置角度を変えない、整数倍の関係をもつ波長のレーザ光を発振するレーザ光源を用いればよく、例えば、発振波長が１５７ｎｍのフッ素レーザに対して、この波長の５倍波長であって発振波長が豊富な７８５ｎｍの波長をもつレーザ光源を用いることによって、このフッ素レーザのスペクトル波形を表示出力することができる。
【００５０】
次に、第２の実施の形態について説明する。第１の実施の形態では、分光装置１内の光学系は、波長が異なっても光学的な収差が補正された光学系であるという前提のもとに行われる実施の形態であったが、第２の実施の形態では、分光装置１内の光学系の光学的な収差をシュミレーションによって補正しようとするものである。
【００５１】
第２の実施の形態における構成は、図１に示す第１の実施の形態と同様の構成であるが、演算／制御部５の演算処理のみが異なる。この演算／制御部５の演算処理内容としては、図３に示すフローチャートにおけるステップＳ３，Ｓ４の処理内容が第１の実施の形態と異なる。
【００５２】
第２の実施の形態では、波長λ１（７７１ｎｍ）の波長における点像強度分布関数ｇ（ｘ）を光線追跡シュミレーションによって求めるもので、ステップＳ２で計測された装置関数ｈ１（ｘ）の値が、関数ｇ１（ｘ）である点像強度分布関数ｇ１（ｘ）とスリット関数ｗ１（ｘ）とのコンボリューション積分の値と一致するように、各種シュミレーションパラメータの値の調整を行う。なお、上述したようにスリット関数ｗ１（ｘ）は既知である。そして、この各種シュミレーションパラメータを用いて、波長λ２に対する点像強度分布関数ｇ２（ｘ）を、光線追跡シュミレーションによって求め、ステップＳ５と同様にして、この求めた点像強度分布関数ｇ２（ｘ）と既知のスリット関数ｗ２（ｘ）とのコンボリューション積分によって波長λ２に対する装置関数ｈ２（ｘ）を求めるようにしている。
【００５３】
この第２の実施の形態によれば、光線追跡シュミレーションを用いて点像強度分布関数ｇ１（ｘ），ｇ２（ｘ）を求めるようにしているので、分光装置１の光学系の光学的な収差が補正されていないものであっても、第１の実施の形態と同様な作用効果を奏する。
【００５４】
次に、第３の実施の形態について説明する。第１および第２の実施の形態では、いずれも、参照光を発する半導体レーザ９の波長λ１が、被測定対象のエキシマレーザ１０の波長λ２の整数倍であったが、この第３の実施の形態では、波長λ１が波長λ２の整数倍でなくてもよい。
【００５５】
そもそも、グレーティング３の分解能は、単位長当たりの格子数に依存するが、この分解能に対応して高次の回折光が回折する。このグレーティング３の分解能に対応して、入射される異なる波長λ１，λ２と、回折光の次数との関係から、回折角が全く同じ方向になる場合が発生し、このような関係を用いることによっても、グレーティング３の設置角度を変えることなく、第１または第２の実施の形態と同様な処理を施すことによって、同一の作用効果を得ることができる。
【００５６】
例えば、グレーティング３の分解能を４０本／ｍｍとし、入射光と出射光との合計角度を６８．９度とすると、波長２４８ｎｍのレーザ光の第１９３次光と、波長１９３ｎｍの第２４８次光とは、全く同一の方向に回折される。従って、被測定対象のレーザ光の波長をＡｒＦエキシマレーザの波長１９３ｎｍとし、参照光の波長をｋｒＦエキシマレーザの波長２４８ｎｍとすることによって、上述した装置関数ｈ２（ｘ）を演算することができ、ＡｒＦエキシマレーザのスペクトル波形を表示出力することができる。
【００５７】
同様のグレーティング環境において、例えばフッ素レーザの波長１５７ｎｍの第２４８次光は、ｋｒＦエキシマレーザの波長２４８ｎｍの第１５７次光と全く同一の方向に回折されるため、被測定対象のレーザ光の波長をフッ素レーザの波長１５７ｎｍとし、参照光の波長をＫｒＦエキシマレーザの波長２４８ｎｍとすることによって、上述した装置関数ｈ２（ｘ）を演算することができ、フッ素レーザのスペクトル波形を表示出力することができる。
【００５８】
同様にして、同一のグレーティング環境における光学的位置関係が同一である波長と高次の回折光との条件を満足させさえすれば、第１または第２の実施の形態以上の豊富な参照光のレーザ光源を適用することができ、第１または第２の実施の形態と同様な作用効果を奏する。
【００５９】
なお、上述した第１から第３の実施の形態をそれぞれ適宜組み合わせた構成としてもよいのは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の第１の実施の形態であるスペクトル測定装置の構成を示すブロック図である。
【図２】この発明の第１の実施の形態であるスペクトル測定装置に用いられるグレーティングにおける入射光と回折光との関係を説明する説明図である。
【図３】この発明の第１の実施の形態であるスペクトル測定装置のスペクトル測定処理手順を示すフローチャートである。
【図４】スリット関数の一例を示す図である。
【符号の説明】
１…分光装置  ２…スリット  ３…グレーティング  ４…ラインセンサ
５…演算／制御部  ６…表示部  ７，８…シャッタ  ９…半導体レーザ
１０…エキシマレーザ  １１…スペクトル測定装置
Ｍ１，Ｍ２…凹面ミラー  Ｍ３…ハーフミラー
【図１】
0004074405.tif 000002
【図２】
0004074405.tif 000003
【図３】
0004074405.tif 000004
【図４】
0004074405.tif 000005