(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体チップと、該半導体チップの信号電極に接続された信号用リードと、該信号用リードが接続された信号用外部電極と、前記信号用リードに沿って延在した接地用リードとを封止樹脂により封止した半導体装置であって、
前記信号用外部電極は前記封止樹脂の底面から突出した突起電極として形成され、且つ前記信号用リード及び前記接地用リードの片面が前記封止樹脂の底面から露出しており、
前記半導体チップの下に接地電極が設けられ、該接地電極は前記封止樹脂の底面において前記信号用外部電極と同じ高さで突出していることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１記載の半導体装置であって、
前記接地電極は前記半導体チップの外形より大きく形成され、前記半導体チップの接地電極はボンディングワイヤにより前記接地電極に接続されることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１記載の半導体装置であって、
前記信号用外部電極に隣接して接地用外部電極が設けられることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１記載の半導体装置であって、
複数の前記信号用外部電極が配列されている方向に沿って、複数の前記信号用外部電極と前記封止樹脂の周縁との間の底面に延在する外周接地部が設けられ、前記接地用リードは前記信号用リードに沿って前記接地電極から前記外周接地部まで延在することを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項４記載の半導体装置であって、
前記半導体チップの接地電極は、ボンディングワイヤにより前記接地リードに接続されることを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のうちいずれか一項記載の半導体装置であって、
前記接地用リードは、前記信号用リードのうち高周波信号を伝送する信号用リードに対してのみ設けられることを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のうちいずれか一項記載の半導体装置であって、
前記信号用リードの特性インピーダンスを、前記半導体チップの入出力インピーダンスと前記信号用外部電極を介して接続される外部回路のインピーダンスとが整合するように、前記信号用リードの特性インピーダンスを調整したことを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
請求項７記載の半導体装置であって、
前記半導体チップの信号電極及び接地電極に接続されたボンディングワイヤのワイヤ径及び間隔を調整して特性インピーダンスを調整したことを特徴とする半導体装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体装置に係り、特にマイクロ波を含む高周波信号を扱う半導体装置に関る。
【０００２】
従来、マイクロ波を扱う半導体装置のパッケージには、主にセラミックパッケージが用いられてきたが、近年、マイクロ波を扱う半導体装置であっても樹脂パッケージが用いられるようになっている。また、マイクロ波を扱う半導体装置自体も、多機能化、高速化が進み、それに対応できるパッケージが必要となっている。
【０００３】
【従来の技術】
特開平１−２０２８５３号公報は、リードの露出部と非露出部のインピーダンスを整合させた、高周波用モールド型パッケージ半導体装置を開示している。この半導体装置は、樹脂パッケージ部の側面からリードが延出したいわゆるスモールアウトラインパッケージ（ＳＯＰ）型の半導体装置である。
【０００４】
上述の半導体装置では、リードの露出部（樹脂パッケージから延出した部分）の特性インピーダンスと、非露出部（樹脂パッケージ内に埋設された部分）の特性インピーダンスを、リードの形状や配列を調整することにより整合させ、露出部と非露出部との境界部分におけるマイクロ波の反射を防止している。
【０００５】
また、マイクロ波用半導体装置では、高周波の干渉を防ぐために、高周波信号用のリードの両側に接地用リードを配設する必要がある。すなわち、高周波信号用の外部電極にのみ、その両側に接地用の外部電極を設けることにより、半導体装置の大型化を抑えながら高周波による干渉を防止する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上述の特開平１−２０２８５３号公報に開示された半導体装置では、露出部と非露出部の特性インピーダンスを整合させるために、複雑な形状のリードを形成しなくてはならない。
【０００７】
また、上述の半導体装置をプリント基板等に接続する場合、プリント基板の材質の比誘電率の違いにより、再度特性インピーダンスを調整する必要が生じる。例えば、半導体装置が接続されるプリント基板がセラミック基板であるとしてインピーダンス整合を行った場合、プリント基板をエポキシ基板に変更する際には、再度インピーダンスの整合をやり直す必要がある。
【０００８】
すなわち、リードの露出部と接触するプリント基板の材質の比誘電率が変化すると、露出部のインピーダンスが変化してしまい、非露出部のインピーダンスとの整合がとれなくなってしまう。このため、リードの露出部をプリント基板の比誘電率を考慮したインピーダンスにするために、リードフレーム自体を設計し直す必要が生じるという問題がある。
【０００９】
また、非露出部は封止樹脂により包囲されているため、リードの非露出部分は、封止樹脂の特性により影響され、特にマイクロ波を伝送するリードに関して、封止樹脂の種類によっては、その伝送特性が悪化するという問題もある。
【００１０】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、リードのインピーダンスが実装される基板の材質の影響を受けることなく、封止樹脂による伝送特性への影響を低減することのできる半導体装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために本発明では、次に述べる各手段を講じたことを特徴とするものである。
【００１２】
請求項１記載の発明は、半導体チップと、該半導体チップの信号電極に接続された信号用リードと、該信号用リードが接続された信号用外部電極と、前記信号用リードに沿って延在した接地用リードとを封止樹脂により封止した半導体装置であって、前記信号用外部電極は前記封止樹脂の底面から突出した突起電極として形成され、且つ前記信号用リード及び前記接地用リードの片面が前記封止樹脂の底面から露出しており、前記半導体チップの下に接地電極が設けられ、該接地電極は前記封止樹脂の底面において前記信号用外部電極と同じ高さで突出していることを特徴とするものである。
【００１３】
請求項１記載の発明によれば、信号用リードの片面が封止樹脂の底面から露出しており、且つ信号用外部電極は突起電極として形成されるため、半導体装置が実装基板に実装された際に、信号用外部電極と実装基板との間に空隙が形成される。これにより、信号用リードが露出していても実装と接触することはなく、信号用リードのインピーダンスが実装基板の材質に影響されて変化することがない。したがって、実装基板の材質が変わっても同じ半導体装置を用いることができる。また、信号用リードの片面のみが封止樹脂に接触するため、両面が封止樹脂に接触する場合に比べて、封止樹脂による信号伝送ロスを低減することができる。また、半導体装置の外周部に配置された信号用外部電極に加えて半導体チップの下に位置する接地電極によっても半導体装置を実装基板に接続することができる。
【００１６】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の半導体装置であって、前記接地電極は前記半導体チップの外形より大きく形成され、前記半導体チップの接地電極はボンディングワイヤにより前記接地電極に接続されることを特徴とするものである。
【００１７】
請求項２記載の発明によれば、半導体チップの接地電極は、近接した位置にある接地電極に対して接地することができ、良好な接地効果を得ることができる。
【００１８】
請求項３記載の発明は、請求項１記載の半導体装置であって、前記信号用外部電極に隣接して接地用外部電極が設けられることを特徴とするものである。
【００１９】
請求項３記載の発明によれば、信号用外部電極に近接した部分を接地することができ、良好な接地効果を得ることができる。
【００２０】
請求項４記載の発明は、請求項１記載の半導体装置であって、複数の前記信号用外部電極が配列されている方向に沿って、複数の前記信号用外部電極と前記封止樹脂の周縁との間の底面に延在する外周接地部が設けられ、前記接地用リードは前記信号用リードに沿って前記接地電極から前記外周接地部まで延在することを特徴とするものである。
【００２１】
請求項４記載の発明によれば、信号用リードと信号用外部電極の周囲を接地用リードと外周接地部とにより完全に包囲するため、良好なシールド効果を得ることができる。
【００２２】
請求項５記載の発明は、請求項４記載の半導体装置であって、前記半導体チップの接地電極は、ボンディングワイヤにより前記接地リードに接続されることを特徴とするものである。
【００２３】
請求項５記載の発明によれば、ボンディングワイヤの接続位置を接地用リードに沿って変えることができ、接地電極に接続したボンディングワイヤの長さを調整することができる。
【００２４】
請求項６記載の発明は、請求項１乃至５のうちいずれか一項記載の半導体装置であって、前記接地用リードは、前記信号用リードのうち高周波信号を伝送する信号用リードに対してのみ設けられることを特徴とするものである。
【００２５】
請求項６記載の発明によれば、高周波信号を伝送しない信号用リードに対しては接地用リードが配置されないため、不要な接地リードを形成することがなく、その分半導体装置の大きさを縮小することができる。
【００２６】
請求項７記載の発明は、請求項１乃至６のうちいずれか一項記載の半導体装置であって、前記信号用リードの特性インピーダンスを、前記半導体チップの入出力インピーダンスと前記信号用外部電極を介して接続される外部回路のインピーダンスとが整合するように、前記信号用リードの特性インピーダンスを調整したことを特徴とするものである。
【００２７】
請求項７記載の発明によれば、外部回路から高周波信号を効率的に半導体チップに供給することができる。
【００２８】
請求項８記載の発明は、請求項７記載の半導体装置であって、前記半導体チップの信号電極及び接地電極に接続されたボンディングワイヤのワイヤ径及び間隔を調整して特性インピーダンスを調整したことを特徴とするものである。
【００２９】
請求項８記載の発明によれば、外部回路から高周波信号を効率的に半導体チップに供給することができる。
【００３０】
図１は本発明の第１実施例による半導体装置の透視平面図である。図１では図面の簡略化のため、半導体装置の四分の一のみが示されている。図２は図１におけるII−II線に沿った断面図である。
【００３１】
本発明の第１実施例による半導体装置は、信号端子等の外部接続端子が突起電極として形成される、いわゆるリードレスパッケージ型の半導体装置であり、リードレスパッケージとしての基本的な構成は、特開平１０−７９４４８号公報に開示された半導体装置と同様である。
【００３２】
図１に示す半導体装置は、半導体チップ１と、内部電極２と、信号用リード３と、信号用外部電極４と、接地電極５と、接地用リード６と、接地用外部電極７と、ボンディングワイヤ８とよりなり、これら部品が封止樹脂９により樹脂封止されたパッケージ構造を有する。
【００３３】
図２に示すように、半導体チップ１は接地電極５の上に搭載される。接地電極５は半導体チップ１の周囲まで延在し、接地電極５の周囲からは接地用リード６が延在し、接地用外部電極７に接続されている。接地用外部電極７は、信号用外部電極４のうち、マイクロ波信号が供給される信号用外部電極４の両側に配置される。また、マイクロ波信号が供給される信号用リード３の両脇にそれぞれ接地用リードが配設される。
【００３４】
信号用リード３が接続した内部電極２と、半導体チップ１の信号電極１ａとはボンディングワイヤ８により接続される。また、半導体チップ１の接地電極１ｂは、ボンディングワイヤ８により接地電極５に接続される。
【００３５】
ここで、図２に示すように、信号用外部電極４は、封止樹脂９の底面に突起電極として形成される。そして、信号用外部電極４から延在する信号用リード３及び、信号用リード３に接続する内部電極２は、封止樹脂９の底面上に露出している。すなわち、信号用リード３及び内部電極２は、片面だけが封止樹脂９により覆われ、もう一方の面は封止樹脂９から露出している。
【００３６】
また、接地電極５も封止樹脂９の底面から突出した状態で露出している。接地電極５の突出高さは、突起電極として形成された信号用外部電極の突出高さと等しい。図示はしていないが、接地用外部電極４も信号用外部電極と同様に突起電極として形成されており、接地用リード６も封止樹脂９の底面に露出している。
【００３７】
以上のような構成の半導体装置は、実装基板に実装する際、封止樹脂９の底面から突出して形成された信号用外部電極４、接地用外部電極７及び接地電極５が、実装基板上に形成された電極パッドに対して接合される。このように、信号用リード３及び内部電極２が実装基板の表面から離間した状態、すなわち信号用リード３及び内部電極２と実装基板との間に空隙が形成された状態で、半導体装置は実装基板に実装される。
【００３８】
したがって、マイクロ波が供給される信号用リード３及び内部電極２等により形成される信号伝達路の特性インピーダンスが、実装基板の材質により影響を受けることがない。これにより、実装基板が異なる材質に変更されても、信号用リード３の形状や配列を変更してインピーダンスを変更する必要は無く、半導体装置を設計し直す必要は無い。
【００３９】
また、信号用リード３及び内部電極２は、その片面のみが封止樹脂９に覆われており、片面は露出しているので、両面が封止樹脂により覆われた従来の半導体装置と比較した場合、封止樹脂９が信号用リード３及び内部電極２に接触していることによるマイクロ波の伝送ロスが低減される。
【００４０】
封止材の影響による伝送ロスは、封止材の誘電正接の値に左右され、誘電正接の値が小さいほうが影響は少ないことが知られている。誘電正接の値は、例えば樹脂封止材で０．０１のオーダーであり、高周波特性のよいセラミック材では０．００１のオーダーである。また、空気は実質的に０と見なしてよい。したがって、高価なセラミック封止材を樹脂材に変えた場合、伝送ロスが増大するが、本発明のように信号用リード３及び内部電極２の片面を露出した状態とすることにより、マイクロ波に対する伝送ロスの増大を低減することができる。
【００４１】
上述の半導体装置において、内部電極２と信号用リード３と信号用外部電極４とよりなる部分の形状や配列を調節して特性インピーダンスを調整することにより、半導体チップ１の入出力インピーダンスと外部回路のインピーダンスとの整合をとることができる。
【００４２】
例えば、信号用外部電極４に接続される実装基板の外部回路の特性インピーダンスが５０Ωであり、半導体チップ１の入出力インピーダンスが１００Ωであると仮定する。この場合、内部電極２付近の信号用リード３の特性インピーダンスが１００Ωとなるようにリードのパターンを調整し、また、信号用外部電極４近の信号用リード３の特性インピーダンスが５０Ωとなるようにリードのパターンを調整し、信号用リード３の特性インピーダンスが漸減するように調整することにより、半導体チップ１の入出力インピーダンスの整合をとることができる。
【００４３】
また、ボンディングワイヤ８についても、リードと同様に特性インピーダンスの調整を行って、さらに高周波特性を改善することもできる。すなわち、ボンディングワイヤ８のワイヤ径や、隣接するボンディングワイヤ８の間隔を調整することにより任意の特性インピーダンスとすることができる。
【００４４】
次に、本発明の第２実施例による半導体装置について、図３及び図４を参照しながら説明する。図３は本発明の第２実施例による半導体装置の透視平面図である。図３では図面の簡略化のため、半導体装置の四分の一のみが示されている。図４は図３におけるIV−IV線に沿った断面図である。
【００４５】
本発明の第２実施例による半導体装置は、上述の第１実施例による半導体装置と同じ構成の信号用リード３と信号用外部電極４とを有するが、接地用リードの構成が異なる。図３に示すように、本実施例では、信号用外部電極４の外側に外周接地部１０が設けられ、接地用リード６Ａは接地電極５と外周接地部１０との間に延在している。
【００４６】
本実施例では、信号用外部電極に隣接した接地用外部電極は設けられておらず、接地電極５のみで接地を行う。したがって、半導体装置内に形成する電極数を少なくすることができるので、半導体装置全体の寸法を縮小することができる。また、信号用リード３及び信号用外部電極４の外周を接地用リード６Ａ及び外周接地部１０により完全に包囲することができ、信号用リード３及び信号用外部電極４をシールドすることができる。
【発明の効果】
上述の如く本発明によれば、次に述べる種々の効果を実現することができる。  請求項１記載の発明によれば、信号用リードの片面が封止樹脂の底面から露出しており、且つ信号用外部電極は突起電極として形成されるため、半導体装置が実装基板に実装された際に、信号用外部電極と実装基板との間に空隙が形成される。これにより、信号用リードが露出していても実装基板と接触することはなく、信号用リードのインピーダンスが実装基板の材質に影響されて変化することがない。したがって、実装基板の材質が変わっても同じ半導体装置を用いることができる。また、信号用リードの片面のみが封止樹脂に接触するため、両面が封止樹脂に接触する場合に比べて、封止樹脂による信号伝送ロスを低減することができる。また、半導体装置の外周部に配置された信号用外部電極に加えて半導体チップの下に位置する接地電極によっても半導体装置を実装基板に接続することができる。
【００４８】
請求項２記載の発明によれば、半導体チップの接地電極は、近接した位置にある接地電極に対して接地することができ、良好な接地効果を得ることができる。また、
請求項３記載の発明によれば、信号用外部電極に近接した部分を接地することができ、良好な接地効果を得ることができる。
【００４９】
請求項４記載の発明によれば、信号用リードと信号用外部電極の周囲を接地用リードと外周接地部とにより完全に包囲するため、良好なシールド効果を得ることができる。
【００５０】
請求項５記載の発明によれば、ボンディングワイヤの接続位置を接地用リードに沿って変えることができ、接地電極に接続したボンディングワイヤの長さを調整することができる。
【００５１】
請求項６記載の発明によれば、高周波信号を伝送しない信号用リードに対しては接地用リードが配置されないため、不要な接地リードを形成することがなく、その分半導体装置の大きさを縮小することができる。
【００５２】
請求項７及び８記載の発明によれば、外部回路から高周波信号を効率的に半導体チップに供給することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施例による半導体装置の透視平面図である。
【図２】図１におけるII−II線に沿った断面図である。
【図３】本発明の第２実施例による半導体装置の透視平面図である。
【図４】図３におけるIV−IV線に沿った断面図である。
【符号の説明】
１  半導体チップ
１ａ  信号電極
１ｂ  接地電極
２  内部電極
３  信号用リード
４  信号用外部電極
５  接地電極
６，６Ａ  接地用リード
７  接地用外部電極
８  ボンディングワイヤ
９  封止樹脂
１０  外周接地部
【図１】
0004054188.tif 000002
【図２】
0004054188.tif 000003
【図３】
0004054188.tif 000004
【図４】
0004054188.tif 000005