(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に洗浄液を供給するノズルと、洗浄液に炭酸ガスを溶解する溶解手段とを、移送管を介して接続した基板処理用流体供給装置において、
前記溶解手段に温調手段を設け、クリーンルーム内の温度より高温の約２５℃の恒温水を前記温調手段に供給することにより、前記移送管内を流動する洗浄液の温度を前記溶解手段側よりも高くならないように維持することを特徴とする基板処理用流体供給装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハ、フォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディスク用の基板等の基板に、洗浄液に炭酸ガスを溶解した処理流体を供給する基板処理用流体供給装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の基板処理用流体供給装置として、洗浄液の比抵抗を下げることにより基板表面での静電気発生を防止して洗浄性を向上するために、純水などの洗浄液に炭酸ガスを溶解し、その洗浄液を、処理室内に装填されている基板の表面に供給するものがあった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の基板処理用流体供給装置の場合、処理液の温度が移送中に上がると、溶解していた炭酸ガスが洗浄液中で気泡化し、洗浄液の比抵抗値が所望の値から変わったり、流路中のフィルター中等において炭酸ガスの気泡が洗浄液圧送のための圧力を吸収し、洗浄液を供給しづらくなる欠点があった。
【０００４】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、処理流体の移送中において、炭酸ガスの気泡化を簡単な構成で防止できるようにすることを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る発明は、上述のような目的を達成するために、基板に洗浄液を供給するノズルと、洗浄液に炭酸ガスを溶解する溶解手段とを、移送管を介して接続した基板処理用流体供給装置において、
前記溶解手段に温調手段を設け、クリーンルーム内の温度よりも高温の約２５℃の恒温水を前記温調手段に供給することにより、前記移送管内を流動する洗浄液の温度を前記溶解手段側よりも高くならないように維持するように構成する。
【０００６】
【０００７】
【作用】
請求項１に係る発明の基板処理用流体供給装置の構成によれば、溶解手段に温調手段を設け、洗浄液に炭酸ガスを溶解した処理液体を、移送管での移送途中において溶解手段側よりも温度が高くならないように維持し、溶解手段側よりも温度が低い状態で移送管を経て基板表面に供給することができる。そのため、処理液体に溶解された炭酸ガスが移送管内で飽和状態となることはない。
【０００８】
【０００９】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施例を図面を用いて詳細に説明する。
図１は、本発明に係る第１実施例の基板処理用流体供給装置を用いた回転式基板洗浄装置を示す概略縦断面図、図２は、図１の要部の平面図であり、第１の電動モータ２２の回転軸２３の上端に基板Ｗを真空吸着保持する回転台２４を設けて基板保持手段２５が構成され、その基板保持手段２５によって鉛直方向の軸芯周りで回転可能に保持される基板Ｗの上方の所定箇所に、第２の電動モータ２６によって回転変位可能に支持ブラケット２７が設けられるとともに、その支持ブラケット２７に、炭酸ガスを溶解した洗浄液を高圧で供給するノズル２８が設けられ、このノズル２８に基板処理用流体供給装置２９が接続されている。
【００１０】
上記基板保持手段２５としては、基板Ｗを真空吸着保持するものに限らず、例えば、回転台２４上に基板Ｗの外周縁を支持する基板支持部材を複数設けるとともに、この基板支持部材の上端に基板Ｗの水平方向の位置を規制する位置決めピンを設け、基板Ｗを回転台２４の上面から離間した状態で回転可能に保持させるように構成するものでもよい。
【００１１】
基板保持手段２５およびそれによって保持された基板Ｗの周囲は、昇降駆動機構（図示せず）によって昇降可能なカップ３０で覆われ、基板Ｗの洗浄時に、基板Ｗの上に供給される洗浄液の飛散を防止できるように構成されている。図中３１は、基板Ｗの表面上まで変位可能な基板表面を洗浄する洗浄ブラシを示し、また、３２は、基板Ｗの上方から外れた非洗浄時の待機位置にあるときに、洗浄ブラシ３１に付着した塵埃を除去する待機ポットを示している。
【００１２】
基板処理用流体供給装置２９は、洗浄液としての純水を貯留するステンレス製または樹脂製の純水タンク３３に、炭酸ガスの導入管３４を接続するとともに、前記ノズル２８と純水タンク３３とを移送管３５を介して接続して構成されている。洗浄液としての純水に炭酸ガスを溶解するために純水タンク３３に炭酸ガスの導入管３４を接続する構成を溶解手段と称する。
【００１３】
導入管３４には、一定圧力で炭酸ガスを供給するレギュレータ３４ａが付設されている。また、移送管３５には、洗浄液の供給量を制御する流量制御バルブ３６とフィルター３７とが付設されている。
【００１４】
純水タンク３３に純水を供給する純水供給管３８が接続されるとともに、純水供給管３８に開閉弁３９が設けられている。純水タンク３３の底側と上方側とにわたって連通管４０が接続され、この連通管４０の上方と下方それぞれに、一対づつの液面計１９ａ，１９ａ、１９ｂ，１９ｂが設けられ、これらの液面計１９ａ，１９ａ、１９ｂ，１９ｂがコントローラ２０に接続されるとともにコントローラ２０と開閉弁３９とが接続され、純水タンク３３内の処理液量が上方の液面計１９ａ，１９ａ間に維持されるように開閉弁３９を自動的に開閉制御し、一方、処理液の供給源での故障などに起因して開閉弁３９を開いているにもかかわらず、処理液量が異常に減少した場合には、そのことを下方側の液面計１９ｂ，１９ｂによって感知し、ブザーやランプなどの警報装置（図示せず）を作動できるように構成されている。
【００１５】
純水タンク３３内の下方に、温調手段としての熱交換コイル４１が設けられるとともに、その熱交換コイル４１に、クリーンルーム内の温度約23℃より高温の約25℃の恒温水が供給されるように構成されている。
【００１６】
以上の構成により、移送管３５内を流動する洗浄液の温度を純水タンク３３側よりも高くならないように維持する。これにより、洗浄液に溶解された炭酸ガスが移送管３５内で飽和状態となることはない。よって、移送管３５内で、洗浄液中に溶解した炭酸ガスが気泡化して分離することを防止し、純水タンク３３内で炭酸ガスを溶解して比抵抗を下げた洗浄液をノズル２８から基板Ｗの表面に供給し、静電気を発生させずに良好に基板Ｗの表面を洗浄処理することができる。
【００１７】
図３は、本発明に係る第２実施例の基板処理用流体供給装置を用いた回転式基板洗浄装置を示す概略縦断面図であり、第１実施例と異なるところは次の通りである。
すなわち、炭酸ガス透過性の膜４２によって上室４３と下室４４とに仕切られて溶解手段としての溶解装置４５が構成されている。上室４３に、開閉弁４６を備えた炭酸ガスを供給する導入管４７と排気管４８とが接続されている。一方、下室４４に純水供給管４９が接続されるとともに、下室４４とノズル５０とが移送管５１を介して接続されている。
【００１８】
下室４４内に温調手段としての熱交換コイル５２が設けられ、その熱交換コイル５２に、クリーンルーム内の温度約23℃より高温の約25℃の恒温水が供給されるように構成されている。他の構成は、第１実施例と同じであり、同一図番を付してその説明は省略する。
【００１９】
この第２実施例によれば、炭酸ガスを膜４２を通じて純水中に供給するため、炭酸ガス中のゴミや不純物をより効果的に除去できる利点を有している
【００２０】
上記実施例では、温調手段として、恒温水を流す熱交換コイル４１，５２を設けているが、ヒータあるいは冷却装置などを設けるものでも良い。
また、上記実施例では、温調手段として、純水タンク３３、溶解装置４５に熱交換コイル４１，５２を設けているが、これに限らず、例えば、純水タンク３３、溶解装置４５を恒温水ジャケットで覆う構成としても良い。これらの実施例では、温調手段を、純水タンク３３や溶解装置４５の側にのみ設け、その構成を簡単にできるようにしているが、本発明としては、例えば、移送管３５，５１を、恒温水を通す熱交換用のパイプ内に挿通するとか、移送管３５，５１の外周に伝熱可能に恒温水を通す熱交換用のパイプを接触させるなど、両方の側に温調手段を設けても良い。
【００２１】
本発明としては、上述実施例のような円形基板に限らず、角型基板に対する回転式基板洗浄装置にも適用できる。
【００２２】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１に係る発明の基板処理用流体供給装置によれば、洗浄液に炭酸ガスを溶解した処理液体の温度を、移送管を経て基板表面に供給するまで溶解手段側よりも低くするから、処理流体の移送中において、炭酸ガスの溶解濃度が飽和点を越えることを回避でき、炭酸ガスの気泡化を防止でき、洗浄液の圧送不良を招くこと無く静電気除去作用を良好に発揮させることができるようになった。
しかも、炭酸ガスの気泡化を防止するのに、溶解手段に温調手段を設けるから、移送管全体に温調手段を設ける場合に比べ、構成を簡単にできて経済的である。
【００２３】
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明に係る第１実施例の基板処理用流体供給装置を用いた回転式基板洗浄装置を示す概略縦断面図である。
【図２】  図１の要部の平面図である。
【図３】  本発明に係る第２実施例の基板処理用流体供給装置を用いた回転式基板洗浄装置を示す概略縦断面図である。
【符号の説明】
３３…溶解手段を構成する純水タンク
３４…溶解手段を構成する導入管
３５，５１…移送管
４１，５２…温調手段としての熱交換コイル
４５…溶解装置
Ｗ…基板
【図１】
0004056365.tif 000002
【図２】
0004056365.tif 000003
【図３】
0004056365.tif 000004