(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
重合性液晶及びフッ素化アルキル基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ａ）及びシリコーン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）を含有する重合性組成物からなるフッ素系共重合体であるレベリング剤を含有し、該エチレン性不飽和単量体のα，β−不飽和基がアクリロイル基又はメタクリロイル基であることを特徴とする重合性液晶組成物。
【請求項２】
レベリング剤がフッ素化アルキル基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ａ）、シリコーン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）及びポリオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ｃ）を含有する重合性組成物からなるフッ素系共重合体である請求項１記載の重合性液晶組成物。
【請求項３】
レベリング剤がフッ素化アルキル基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ａ）、シリコーン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）及び共重合モノマーとして側鎖に炭素原子数６以上のアルキル基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ｄ）を含有する重合性組成物からなるフッ素系共重合体である請求項１記載の重合性液晶組成物。
【請求項４】
レベリング剤がフッ素化アルキル基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ａ）、シリコーン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）、ポリオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ｃ）及び共重合モノマーとして側鎖に炭素原子数６以上のアルキル基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ｄ）を含有する重合性組成物からなるフッ素共重合体である請求項１記載の重合性液晶組成物。
【請求項５】
重合性液晶が重合性低分子棒状液晶から構成される請求項１〜４のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
【請求項６】
重合性低分子棒状液晶が、１分子中に少なくとも２つの６員環を有する液晶性骨格と、１分子中に１つのアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルを含有する請求項５記載の重合性液晶組成物。
【請求項７】
アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルが、一般式（Ｉ）
【化１】
0004078569.tif 000035
（式中、Ｘは水素原子又はメチル基を表わし、６員環Ａ、Ｂ及びＣはそれぞれ独立的に、
【化２】
0004078569.tif 000036
を表わし、ｎは０又は１の整数を表わし、ｍは１から４の整数を表わし、Ｙ1及びＹ2はそれぞれ独立的に、単結合、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ2）4−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ−を表わし、Ｙ3は単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−を表わし、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基又はアルケニルオキシ基を表わす。）で表わされる化合物である請求項６記載の重合性液晶組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の重合性液晶組成物からなる光学異方体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶ディスプレイの光学補償板、偏光プリズム、光学フィルター等として利用される新規な重合性液晶組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＴＮ（ツイステッド・ネマチック）型やＳＴＮ（スーパー・ツイステッド・ネマチック）型に代表されるディスプレイ素子等の液晶分子の可逆的運動を利用した表示媒体以外に、液晶は、その配向性と屈折率、誘電率、磁化率等の物理的性質の異方性を利用して、位相差板、偏光板、光偏光プリズム、各種光フィルター等の光学異方体への応用が検討されている。
【０００３】
液晶物質を構成材料とする光学異方体では、安定で均一な光学特性を得るために、液晶状態における液晶分子の均一な配向状態構造を半永久的に固定化する必要がある。
【０００４】
液晶状態における液晶分子の均一な配向状態構造を半永久的に固定化する手段としては、例えば、重合性官能基を有する液晶性化合物又はこのような化合物を含有する重合性液晶組成物を、液晶状態で均一に配向させた後、液晶状態を保持したまま紫外線等のエネルギー線を照射することによって光重合させて、均一な配向状態を半永久的に固定化する方法が既に知られている。
【０００５】
しかしながら、この固定化方法においては、用いる重合性液晶化合物あるいは重合性液晶組成物の液晶相の温度範囲が比較的高いので、エネルギー線による光重合だけではなく、意図しない熱重合も誘起されて、液晶分子の均一な配向状態が失われ、所望する配向状態とは異なる不均一な配向状態が固定化されてしまう、という問題点があった。
【０００６】
このような問題点を解決するために、特開平８−３１１１号公報には、室温において液晶性を有する重合性液晶組成物を光重合して得られる内部の配向構造が制御された高分子フィルム（光学異方体）が開示されている。該公報に記載の方法では、重合性液晶組成物を１枚の基板に担持させるか、又は２枚の基板に挟持させた後、光重合を行ない光学異方体を製造している。１枚の基板を用いる前者の製造方法の方が、２枚の基板を用いる後者の製造方法よりも製造コストを低くすることができるが、１枚の基板を用いる前者の製造方法は、２枚の基板を用いる後者の製造方法と比較して、光学異方体の膜厚制御が難しく、光学異方体の表面の平滑性が低下したり、膜厚むらが生じ易いという問題点があった。
【０００７】
この問題点を解決するため、特開平８−２３１９５８号公報には、界面活性剤を含有する重合性液晶組成物が開示されている。該公報に記載の方法では、重合性液晶組成物に界面活性剤を含有することにより、膜厚むらの発生を低減させている。しかしながら、界面活性剤は塗布性を向上させることができる反面、液晶の配向性に影響を与えるという問題点を有していた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明が解決しようとする課題は、重合性液晶組成物を光重合させて製造する光学異方体を製造する際に、光学異方体の表面の平滑性と光学特性の均一性を同時に改善することができる重合性液晶組成物を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するために、［Ｉ］ 重合性液晶及びフッ素化アルキル基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ａ）及びシリコーン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）を含有する重合性組成物からなるフッ素系共重合体であるレベリング剤を含有することを特徴とする重合性液晶組成物、
【００１１】
［III］ レベリング剤がフッ素化アルキル基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ａ）、シリコーン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）及びポリオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ｃ）を含有する重合性組成物から成るフッ素系共重合体である上記［Ｉ］記載の重合性液晶組成物、
【００１２】
［IV］  レベリング剤がフッ素化アルキル基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ａ）、シリコーン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）及び共重合モノマーとして側鎖に炭素原子数６以上のアルキル基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ｄ）を含有する重合性組成物からなるフッ素系共重合体である上記［Ｉ］記載の重合性液晶組成物、
【００１３】
［Ｖ］  レベリング剤がフッ素化アルキル基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ａ）、シリコーン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）、ポリオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ｃ）及び共重合モノマーとして側鎖に炭素原子数６以上のアルキル基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ｄ）を含有する重合性組成物からなるフッ素共重合体である上記［Ｉ］記載の重合性液晶組成物、
【００１４】
［VI］ 重合性液晶が重合性低分子棒状液晶から構成される上記［Ｉ］、［III］、［IV］、又は［Ｖ］に記載の重合性液晶組成物、
【００１５】
［VII］ 重合性低分子棒状液晶が、１分子中に少なくとも２つの６員環を有する液晶性骨格と、１分子中に１つのアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルを含有する上記［VI］記載の重合性液晶組成物、
【００１６】
［VIII］アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルが、一般式（Ｉ）
【００１７】
【化３】
0004078569.tif 000002
【００１８】
（式中、Ｘは水素原子又はメチル基を表わし、６員環Ａ、Ｂ及びＣはそれぞれ独立的に、
【００１９】
【化４】
0004078569.tif 000003
【００２０】
を表わし、ｎは０又は１の整数を表わし、ｍは１から４の整数を表わし、Ｙ1 及びＹ2 はそれぞれ独立的に、単結合、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ2）4−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、 −ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ−を表わし、 Ｙ3は単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−を表わし、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基又はアルケニルオキシ基を表わす。）で表わされる化合物である上記［VII］ 記載の重合性液晶組成物及び
【００２１】
［IX］ 上記［Ｉ］、［III］、［IV］、［Ｖ］、［VI］、［VII］、又は［VIII］に記載の重合性液晶組成物からなる光学異方体を提供する。
【００２２】
【発明の実施の形態】
本発明で使用する重合性液晶は、通常、この技術分野において、液晶骨格と認められる骨格と、重合性官能基を分子内に有する重合性の液晶化合物である。液晶は、その骨格の構造により、棒状液晶と面状液晶とに大別されるが、棒状液晶の場合、液晶骨格は、１分子中に少なくとも２以上の６員環を有するが、１分子中に２個又は３個の６員環を有するものが特に好ましい。面状液晶骨格としては、例えば、ディスコティック液晶骨格などが挙げられる。
【００２３】
重合性官能基としては、例えば、（メタ）アクリロイルオキシ基、エポキシ基、ビニルエーテル基、シンナモイル基、ビニル基等を挙げられるが、これらの中でも、光重合特性に優れていることから、アクリロイルオキシ基が特に好ましい。また、１分子中に複数の重合性官能基を有する多官能の重合性液晶化合物の場合には、重合性官能基の種類が異なっていても良い。例えば、１分子中に２つの重合性官能基を有する２官能性の重合性液晶化合物の場合、一方の重合性官能基がアクリロイルオキシ基であって、他方の重合性官能基がメタアクリロイルオキシ基であっても良い。
【００２４】
重合性のディスコティック液晶の場合、重合性官能基の導入後に液晶性を示すものであれば、特に制限はなく、例えば、ベンゼン誘導体、トリフェニレン誘導体、トルキセン誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、アントラセン誘導体、アザクラウン誘導体、シクロヘキサン誘導体、β−ジケトン系金属錯体誘導体、ヘキサエチニルベンゼン誘導体、ジベンゾピレン誘導体、コロネン誘導体、及びフェニルアセチレンマクロサイクロ等が挙げられる。重合性官能基としては、例えば、（メタ）アクリロイルオキシ基、エポキシ基、ビニルエーテル基、シンナモイル基、ビニル基等が挙げられる。
【００２５】
本発明で使用する重合性液晶は、その液晶相を示す温度には特に制限はないが、製造工程を容易にするために、できるだけ低温、好ましくは５０℃以下、より好ましくは室温近くで液晶相を示す材料が有利である。
【００２６】
液晶相としては、ネマチック相、スメクチック相、コレステリック相、ディスコチック相を発現する重合性液晶が好ましい。また、モノドメイン配向を示す液晶相を有する重合性液晶が好ましい。
【００２７】
また、本発明で使用する重合性液晶は、重合性低分子棒状液晶から構成されることが好ましい。
【００２８】
重合性低分子棒状液晶の中でも、１分子中に少なくとも２つの６員環を有する液晶性骨格と、１分子中に１つのアクリロイルオキシ基又はメタクリロイル基とを有するアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルが好ましい。これらの重合性液晶化合物を含有する重合性液晶は、室温付近で液晶相を発現させることができるため、製造工程中において意図しない熱重合の誘起を避け、均一な配向状態の固定化が可能となる。
【００２９】
重合性低分子棒状液晶としては、例えば、前記一般式（Ｉ）で表わされる化合物が好ましい。
【００３０】
前記一般式（Ｉ）において、６員環Ａ、Ｂ及びＣがそれぞれ独立的に
【００３１】
【化５】
0004078569.tif 000004
【００３２】
で表わされる群から選ばれる環であり、ｍが１又は２であり、Ｙ1及びＹ2がそれぞれ独立的に、単結合又は−Ｃ≡Ｃ−であり、Ｒがハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜２０のアルキル基、アルコキシル基又はアルケニル基である化合物が特に好ましい。
【００３３】
以下に、本発明の製造方法で使用される重合性液晶に含まれる重合性液晶化合物の代表的なものの化学構造式と相転移温度を示すが、本発明で使用することができる重合性液晶化合物は、これらの化合物に限定されるものではない。
【００３４】
【化６】
0004078569.tif 000005
【００３５】
【化７】
0004078569.tif 000006
【００３６】
【化８】
0004078569.tif 000007
【００３７】
（式中、シクロヘキサン環はトランスシクロヘキサン環を表わし、また相転移温度におけるＣは結晶相、Ｎはネマチック相、Ｓはスメクチック相、Ｉは等方性液体相をそれぞれ表わし、数字は相転移温度を表わす。）
【００３８】
重合性液晶化合物は、単独で用いても、２種以上の化合物を混合して用いてもよい。重合性液晶化合物は混合することにより、室温付近で液晶相を示す重合性液晶組成物を調製することができることから、混合することが好ましい。
【００３９】
本発明で使用するレベリング剤は、フッ素系、シリコン系、アクリレート系等いずれの構造を有しても良いが、
（１）フッ素化アルキル基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ａ）及びシリコーン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）を含有する重合性組成物からなるフッ素系共重合体
が好ましく、
【００４０】
（２）フッ素化アルキル基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ａ）、シリコーン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）及びポリオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ｃ）を含有する重合性組成物からなるフッ素系共重合体及び
（３）フッ素化アルキル基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ａ）、シリコーン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）及び共重合モノマーとして側鎖に炭素原子数６以上のアルキル基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ｄ）を含有する重合性組成物からなるフッ素系共重合体
が特に好ましく、
【００４１】
（４）フッ素化アルキル基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ａ）、シリコーン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）、ポリオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ｃ）及び共重合モノマーとして側鎖に炭素原子数６以上のアルキル基を有する（メタ）アクリレート単量体（Ｄ）を含有する重合性組成物からなるフッ素共重合体
が更に好ましい。
【００４２】
なお、本明細書においては、特に、「（メタ）アクリレ−ト」とは、メタクリレ−ト、アクリレ−ト、フルオロアクリレ−ト、塩素化アクリレ−トを総称するものとする。
【００４３】
フッ素系重合体中のフッ素化アルキル基を有する（メタ）アクリレ−ト単量体（Ａ）は、重合性液晶組成物の塗布性及び光学特性向上のための必須の単量体成分である。
【００４４】
フッ素化アルキル基を有する（メタ）アクリレ−ト単量体（Ａ）は、公知慣用のものをいずれでも使用することが可能であるが、具体的には下記一般式（ａ１）
【００４５】
【化９】
0004078569.tif 000008
【００４６】
（式中、Ｒf は炭素原子数１〜２０のパ−フロロアルキル基又は部分フッ素化アルキル基を表わし、これらのアルキル基は直鎖状又は分岐状であっても良く、また、主鎖中に酸素原子が介入したもの（例えば、-(OCFCF2)2CF(CF3)2  等）であっても良く、Ｒ1 はＨ、ＣＨ3、Ｃｌ又はＦを表わし、Ｘは２価の連結基を表わし、ａは０又は１を表わす。）
で表わされる化合物、あるいは一般式（ａ２）
【００４７】
【化１０】
0004078569.tif 000009
【００４８】
（式中、ｌは１〜  １４の整数を表わす。）
で表わされる化合物の如き１分子中に複数個のパーフロロアルキル基を有する化合物が挙げられる。
【００４９】
一般式（ａ１）におけるＸは、具体的には、一般式
【００５０】
【化１１】
0004078569.tif 000010
【００５１】
（式中、ｎは１〜１０の整数を表わし、Ｒ2 はＨ又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表わす。）
で表わされる連結鎖あるいは式
【００５２】
【化１２】
0004078569.tif 000011
【００５３】
で表わされる連結鎖が挙げられる。
【００５４】
フッ素化アルキル基を有する（メタ）アクリレ−ト単量体（Ａ）中のパ−フロロアルキル基又は部分フッ素化アルキル基の炭素原子数は、３以上が好ましく、６以上が特に好ましい。
【００５５】
フッ素化アルキル基を有する（メタ）アクリレ−ト単量体（Ａ）の具体例としては、以下の式（ａ−１）〜（ａ−５６）で表わされる化合物が挙げられる。
【００５６】
【化１３】
0004078569.tif 000012
【００５７】
【化１４】
0004078569.tif 000013
【００５８】
【化１５】
0004078569.tif 000014
【００５９】
【化１６】
0004078569.tif 000015
【００６０】
【化１７】
0004078569.tif 000016
【００６１】
【化１８】
0004078569.tif 000017
【００６２】
フッ素化アルキル基を有する（メタ）アクリレ−ト単量体（Ａ）は、単独の化合物を使用しても良く、２種類以上の化合物を併用しても良い。
【００６３】
フッ素系重合体中のシリコ−ン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）は、重合性液晶組成物の塗布性及び光学特性向上のための必須の単量体成分である。
【００６４】
シリコ−ン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）は、ポリシロキサン鎖の片末端あるいは両末端に２価の連結基を介して、ビニル基、アクリロイル基、あるいはメタクリロイル基の如きα，β−不飽和基が連結したものである。
【００６５】
シリコ−ン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）のα，β−不飽和基は、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基のいずれも可能であるが、重合反応性の面から、アクリロイル基又はメタクリロイル基が特に好ましい。
【００６６】
シリコ−ン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）の具体例としては、例えば、一般式（ｂ−１）
【００６７】
【化１９】
0004078569.tif 000018
【００６８】
［式中、Ｒ3及びＲ4は、各々独立的に、炭素原子数１〜２０のアルキル基又はフェニル基を表わし、また、シロキシ単位毎に同一でも異なっていてもよい。ｐは３〜５２０の整数を表わし、ｑは０又は１を表わし、Ｘ2 は２価の連結基であって、具体的には、一般式  -CH2CH(OH)CH2OCO-、-(CH2)n1NHCH2CH(OH)CH2OCO-、-(CH2)n1OCO-、-(CH2)n1-O-(CH2)m1OCO-  又は  -OCH2CH(OH)CH2OCO-
（式中、ｎ1及びｍ1は、それぞれ独立的に、２〜６の整数を表わす。）
で表わされる連結鎖を表わす。Ｒ1 は前記一般式（ａ）において定義したものと同じものを表わし、Ｚ1はメチル基、フェニル基又は一般式  CH2=C(R1)-(X2)q-で表わされる基を表わす。］
で表わされる化合物、又は一般式（ｂ−２）
【００６９】
【化２０】
0004078569.tif 000019
【００７０】
（式中、Ｒ5、Ｒ5’、Ｒ5”、Ｒ6、Ｒ6’、Ｒ6”、Ｒ7、Ｒ7’及びＲ7”は、 各々独立的に、炭素原子数１〜２０のアルキル基又はフェニル基を表わす。ｒ、ｓ及びｔは、各々独立的に、０又は１〜２００の整数を表わす。Ｘ2、ｑ及びＲ1は、一般式（ｂ−１）において定義したものと同じものを表わす。）
で表わされる化合物が挙げられる。
【００７１】
シリコ−ン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）のシリコ−ン鎖部分の分子量は、５，０００以下が好ましく、また１，０００以下が特に好ましい。また、シリコ−ン鎖部分の構造は、上記一般式（ｂ−２）で表わされるような分岐型のものが好ましく、その中でも、上記一般式（ｂ−２）中で、ｒ、ｓ及びｔが０のものが特に好ましい。
【００７２】
シリコ−ン鎖を含有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）の具体例としては、以下の式（ｂ−１−１）〜（ｂ−３−７）で表わされる化合物が挙げられる。
【００７３】
【化２１】
0004078569.tif 000020
【００７４】
【化２２】
0004078569.tif 000021
【００７５】
【化２３】
0004078569.tif 000022
【００７６】
【化２４】
0004078569.tif 000023
【００７７】
【化２５】
0004078569.tif 000024
【００７８】
【化２６】
0004078569.tif 000025
【００７９】
【化２７】
0004078569.tif 000026
【００８０】
【化２８】
0004078569.tif 000027
【００８１】
【化２９】
0004078569.tif 000028
【００８２】
【化３０】
0004078569.tif 000029
【００８３】
【化３１】
0004078569.tif 000030
【００８４】
シリコ−ン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）は、単独の化合物を使用しても良く、２種類以上の化合物を併用しても良い。
【００８５】
本発明で使用するフッ素系共重合体は、その構成単量体として上記フッ素化アルキル基を有する（メタ）アクリレ−ト単量体（Ａ）及びシリコ−ン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）に加え、非フッ素且つ非シリコ−ン系エチレン性不飽和単量体を併用したものであっても良い。
【００８６】
非フッ素且つ非シリコ−ン系エチレン性不飽和単量体としては、例えば、スチレン、核置換スチレン、アクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ビニルピリジン、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニルスルホン酸、酢酸ビニルの如き脂肪酸ビニル；アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマール酸、イタコン酸等の一価ないし二価のカルボン酸の如きα，β−エチレン性不飽和カルボン酸；（メタ）アクリル酸（以後、この表現はアクリル酸とメタクリル酸の両方を総称するものとする。）のメチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、２−エチルヘキシル、デシル、ドデシル、ステアリルエステルの如きアルキル基の炭素原子数が１〜１８の（メタ）アクリル酸アルキルエステル；２−ヒドロキシエチルエステル、ヒドロキシプロピルエステル、ヒドロキシブチルエステルの如き（メタ）アクリル酸の炭素原子数１〜１８のヒドロキシアルキルエステル；ジメチルアミノエチルエステル、ジエチルアミノエチルエステル、ジエチルアミノプロピルエステルの如き（メタ）アクリル酸の炭素原子数１〜１８のアミノアルキルエステル；メトキシエチルエステル、エトキシエチルエステル、メトキシプロピルエステル、メチルカルビルエステル、エチルカルビルエステル、ブチルカルビルエステルの如き（メタ）アクリル酸の炭素原子数３〜１８のエーテル酸素含有アルキルエステル；
【００８７】
ジシクロペンタニルオキシルエチル（メタ）アクリレート、イソボルニルオキシルエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、ジメチルアダマンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、重合度１〜１００のポリエチレングリコ−ル、ポリプロピレングリコ−ル、エチレンオキシドとプロピレンオキシドとの共重合体等のポリアルキレレングリコ−ルのモノ（メタ）アクリル酸エステル又はジ（メタ）アクリル酸エステル、若しくは末端が炭素原子数１〜６のアルキル基によってキャップされた重合度１〜１００のポリエチレングリコ−ル、ポリプロピレングリコ−ル、そしてエチレンオキシドとプロピレンオキシドとの共重合体等のポリアルキレングリコ−ルのモノ（メタ）アクリル酸エステル、
【００８８】
メチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテルの如きアルキル炭素原子数が１〜１８のアルキルビニルエーテル；グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレートの如き（メタ）アクリル酸のグリシジルエステル；サートマー社製のスチレンマクロモノマー４５００、新中村化学工業（株）製のＮＫエステルＭ−２３０Ｇの如きマクロモノマー；２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、部分スルホン化スチレン、モノ（アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェ−ト、モノ（メタクリロキシエチル）アシッドホスフェ−ト等が挙げられる。
【００８９】
これらの非フッ素且つ非シリコ−ン系エチレン性不飽和単量体の中でも、側鎖にポリエチレングリコ−ル、ポリプロピレングリコ−ル、そしてエチレンオキシドとプロピレンオキシドとの共重合体等のポリアルキレングリコ−ルのモノ（メタ）アクリル酸エステル又はジ（メタ）アクリル酸エステル、若しくは末端が炭素原子数１〜６のアルキル基によってキャップされた重合度１〜１００の、ポリエチレングリコ−ル、ポリプロピレングリコ−ル、そしてエチレンオキシドとプロピレンオキシドとの共重合体等のポリアルキレレングリコ−ルのモノ（メタ）アクリル酸エステルの如きポリオキシアルキレン基を側鎖に有する（メタ）アクリレート単量体（Ｃ）；炭素原子数６以上のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの如き炭素原子数６以上のアルキル基を側鎖に有する（メタ）アクリレート単量体（Ｄ）が好ましい。
【００９０】
フッ素化アルキル基（メタ）アクリレ−ト単量体（Ａ）及びシリコ−ン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）と、更に必要に応じて、非フッ素且つ非シリコ−ン系エチレン性不飽和単量体とを共重合させるフッ素系重合体の製造方法には何ら制限はなく、公知の方法、即ち、ラジカル重合法、カチオン重合法、アニオン重合法等の重合機構に基づき、溶液重合法、塊状重合法、更にエマルジョン重合法等によって製造できるが、特にラジカル重合法が簡便であり、工業的に好ましい。
【００９１】
この場合、重合開始剤は、公知のものを使用することができ、例えば、過酸化ベンゾイル、過酸化ジアシル等の過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル、フェニルアゾトリフェニルメタン等のアゾ化合物、トリアセチルアセトナト  マンガン等の金属キレート化合物等が挙げられる。また、重合反応には、必要に応じて、ラウリルメルカプタン、２−メルカプトエタノ−ル、エチルチオグリコ−ル酸、オクチルチオグリコ−ル酸、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の如きカップリング基を有するチオ−ル化合物等の連鎖移動剤を重合開始剤と併用することができる。
【００９２】
また光増感剤や光開始剤の存在下での光重合あるいは放射線や熱をエネルギー源とする重合によっても本発明に係るフッ素系のランダムもしくはブロック共重合体を得ることができる。
【００９３】
重合は、溶剤の存在下又は非存在下のいずれでも実施できるが、作業性の点から溶剤存在下に実施する方が好ましい。溶剤としては、例えば、エタノ−ル、イソプロピルアルコ−ル、ｎ−ブタノ−ル、ｉｓｏ−ブタノ−ル、ｔｅｒｔ−ブタノ−ルの如きアルコ−ル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンの如きケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルの如きエステル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドの如き極性溶剤；１，１，１−トリクロルエタン、クロロホルムの如きハロゲン系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサンの如きエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレンの如き芳香族類；パ−フロロオクタン、パ−フロロトリ−ｎ−ブチルアミンの如きフッ素化イナ−トリキッド類等が挙げられる。
【００９４】
フッ素化アルキル基を有する（メタ）アクリレ−ト単量体（Ａ）とシリコ−ン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）との共重合比率は、重量比で、１００：１〜１：１００の範囲が好ましく、４０：１〜１：４０の範囲が特に好ましい。また、フッ素化アルキル基を有する（メタ）アクリレ−ト単量体（Ａ）とシリコ−ン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）に、非フッ素且つ非シリコ−ン系エチレン性不飽和単量体を導入する場合、フッ素化アルキル基を有する（メタ）アクリレ−ト単量体（Ａ）とシリコ−ン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（Ｂ）との合計重量に対し、１，０００倍以下が好ましく、１００倍以下が特に好ましい。
【００９５】
本発明で使用するフッ素系重合体の分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）で、１，０００〜２０００，０００の範囲が好ましく、１，０００〜５００，０００の範囲が特に好ましい。
【００９６】
本発明の重合性液晶組成物中のレベリング剤の割合は、基板に塗布する際の必要膜厚、塗布条件、或いは使用する基板等により、適宜調整が可能であるが、通常、０．０００１〜５重量％の範囲が好ましく、０．００１〜１重量％の範囲が特に好ましい。
【００９７】
また、本発明で使用する重合性液晶組成物には、重合性官能基を有していない液晶化合物を、重合性液晶組成物中の総量が１０重量％を超えない範囲で添加することもできる。
【００９８】
そのような重合性官能基を有していない液晶化合物としては、ネマチック液晶化合物、スメクチック液晶化合物、コレステリック液晶化合物等の通常この技術分野で液晶と認識されるものであれば、特に制限なく用いることができる。重合性官能基を有していない液晶化合物の添加量が増加するに従って、重合性液晶組成物を光重合して得られる光学異方体の機械的強度が低下する傾向にあるので、添加量を適宜調整する必要がある。
【００９９】
また、本発明で使用する重合性液晶組成物には、液晶性を示さない重合性の化合物を添加することもできる。このような化合物としては、通常、この技術分野において、高分子形成性モノマーあるいは高分子形成性オリゴマーとして認識されるものであれば特に制限はないが、これらの中でもアクリレート化合物が特に好ましい。
【０１００】
また、本発明で使用する重合性液晶組成物には、その重合反応性を向上させることを目的として、光重合開始剤や光重合開始助剤を添加することもできる。
【０１０１】
光重合開始剤としては、例えば、公知のベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類等を挙げられる。光重合開始剤を併用する場合の添加量は、重合性液晶の総量の１０重量％以下の範囲が好ましく、５重量％以下の範囲が特に好ましい。
【０１０２】
光重合開始助剤としては、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、ｎ−ブチルアミン、ｎ−メチルジエタノールアミン等の脂肪族アミンや、ミヒラーケトン、４，４’−ジエチルアミンフェノン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル等の芳香族アミン等が挙げられる。
【０１０３】
さらに、本発明で使用する重合性液晶組成物には、その保存安定性を向上させるために、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノアルキルエーテル類等のハイドロキノン誘導体、第三ブチルカテコール、ピロガロール、チオフェノール化合物、ニトロ化合物、β−ナフチルアミン化合物、β−ナフトール化合物等の既知の熱安定剤及び酸化防止剤を添加することもできる。熱安定剤あるいは酸化防止剤を併用する場合の添加量は、重合性液晶組成物の総量の１重量％以下の範囲が好ましい。
【０１０４】
さらにまた、本発明の重合性液晶組成物には、光学異方体に２色性を付与するために、２色性色素を添加することもできる。
【０１０５】
二色性色素には、アゾ系、アゾキシ系、アントラキノン系、ペリレン系等があり、これらの色素を単独又は混合して用いることができる。そのような二色性色素としては、例えば、「ＬＳＹ−１１６」、「ＬＳＲ−４０１」、「ＬＳＲ−４０６」、「ＬＳＲ−４２６」、「ＬＳＢ−２７８」、「ＬＳＢ−３５０」（以上、三菱化学株式会社製）、「ＳＩ−２０９」、「Ｍ−７１０」、「Ｍ−３６１」、「Ｍ−８６」、「Ｍ−６１８」、「ＳＩ−２５２」、「Ｍ−７７７」、「Ｍ−３７０」、「Ｍ−１３７」、「Ｍ−１４１」、「Ｍ−４３８」、「Ｍ−４１２」、「Ｍ−３４」、「Ｍ−４３０」、「Ｍ−４０６」、「Ｓ−３０１」、「Ｓ−３０４」、「Ｍ−６７６」（以上、三井東圧株式会社製）を挙げられる。
【０１０６】
これらの２色性色素の併用する場合の添加量は、製造する光学異方体の用途により異なるが、重合性液晶組成物の総量の０．１〜１０重量％の範囲が好ましく、０．２〜２重量％の範囲が特に好ましい。
【０１０７】
更に、本発明の重合性液晶組成物には、螺旋構造を有する光学異方体を得る目的で、光学活性化合物を添加することもできる。そのような目的で使用する光学活性化合物は、それ自体が液晶性を示しても示さなくても良い。また、重合性官能基を有していても、有していなくてもよい。また、螺旋構造を有する光学異方体のねじれの向きは、使用する目的によって適宜選択することができる。
【０１０８】
そのような光学活性化合物としては、例えば、光学活性基としてコレステリル基を有するペラルゴン酸コレステロール、ステアリン酸コレステロール、光学活性基として２−メチルブチル基を有するビー・ディー・エイチ社（ＢＤＨ社；イギリス国）製の「ＣＢ−１５」、「Ｃ−１５」、メルク社（ドイツ国）製の「Ｓ１０８２」、チッソ社製の「ＣＭ−１９」、「ＣＭ−２０」、「ＣＭ」；光学活性基として１−メチルヘプチル基を有するメルク社製の「Ｓ−８１１」、「ＣＭ−２１」、「ＣＭ−２２」等を挙げることができる。この光学活性化合物を併用する場合の添加量は、製造される光学異方体の用途により適宜調整するのが好ましい。
【０１０９】
次に、本発明の重合性液晶組成物からなる光学異方体の製造方法について説明する。
【０１１０】
本発明の重合性液晶組成物を基板に塗布し、一定方向に配向させた後、電子線又は紫外線等のエネルギー線の照射によって光重合を行い、高分子化することで配向を固定化して光学異方体を製造することができる。
【０１１１】
基板への塗布は、本発明の重合性液晶組成物をそのまま塗布しても又は溶媒に溶解した塗布液を用いて塗布しても良い。
【０１１２】
そのような目的で使用する溶媒は、公知慣用のものを使用することができるが、人体への安全性の観点から、より安全性の高い溶媒を用いることが好ましい。溶媒は単独で使用しても或いは２種類以上を組み合わせて使用しても良い。溶媒の配合割合は重合性組成物を基板に塗布する際の必要膜厚、塗布条件、重合後の膜厚等必要に応じて適宜調整が可能である。
【０１１３】
溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、シクロヘプタノン、２−ヘプタノン、メチルイソブチルケトン、ブチロラクトン等のケトン類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロピルアルコ−ル、ｉｓｏ−プロピルアルコ−ンル、ｎ−ブチルアルコ−ル、ｉｓｏ−ブチルアルコ−ル、ｔｅｒｔ−ブチルアルコ−ル、ペンタノ−ル、ヘプタノ−ル、オクタノ−ル、ノナノ−ル、デカノ−ル等のアルコ−ル類；エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、エチレングリコ−ルジエチルエ−テル、ジオキサン等のエ−テル類；エチレングリコ−ルモノメチルエ−テル、エチレングリコ−ルモノエチルエ−テル、エチレングリコ−ルモノプロピルエ−テル、プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テル、プロピレングリコ−ルモノエチルエ−テル、プロピレングリコ−ルモノプロピルエ−テル等のアルコ−ルエ−テル類；蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸ブチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸プロピル等のエステル類；２−オキシプロピオン酸メチル、 ２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−オキシプロピオン酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、 ２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル等のモノカルボン酸エステル類；セロソルブアセテ−ト、メチルセロソルブアセテ−ト、エチルセロソルブアセテ−ト、プロピルセロソルブアセテ−ト、ブチルセロソルブアセテ−ト等のセロソルブエステル類；
【０１１４】
プロピレングリコ−ル、プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テル、プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テルアセテ−ト、プロピレングリコ−ルモノエチルエ−テルアセテ−ト、プロピレングリコ−ルモノブチルエ−テルアセテ−ト等のプロピレングリコ−ル類；ジエチレルグリコ−ルモノメチルエ−テル、ジエチレルグリコ−ルモノエチルエ−テル、ジエチレルグリコ−ルジメチルエ−テル、ジエチレルグリコ−ルジエチルエ−テル、ジエチレルグリコ−ルメチルエチルエ−テル等のジエチレングリコ−ル類；トリクロロエチレン、フロン溶剤、ハイドロ・クロロ・フルオロ・カーボン（Hydro Chloro Fluoro Carbon；ＨＣＦＣ）、ハイドロ・フルオロ・カーボン（Hydro Fluoro Carbon ；ＨＦＣ）等のハロゲン化炭化水素類；パ−フロロオクタン等の完全フッ素化溶剤類；トルエン、キシレン等の芳香族類、ジメチルアセチアミド、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の極性溶剤等が挙げられる。
【０１１５】
上述した溶媒は、単独で使用しても、２種類以上を組み合わせて使用しても良い。
【０１１６】
重合性液晶組成物を基板に塗布する方法には、公知慣用の塗布方法を用いることができるが、例えば、ワイヤーバーコーティング、スピンコ−ティング、ロ−ルコ−ティング、ディップコ−ティング、スプレ−コ−ティング、プレ−ドコ−ティング、カ−テンコ−ティング、ダイコーティング、印刷コーティング、浸漬引き上げ法等が挙げられる。
【０１１７】
重合性液晶組成物の一定方向への配向は、重合性液晶組成物を塗布する基板として、例えば、基板表面を布等でラビング処理したものや、あるいは基板表面へのＳｉＯ2 を斜方蒸着したものを用いれば達成することができる。また、このような配向処理を施していない基板を用いる場合には、電場又は磁場を利用する方法を挙げることができる。これらの配向手段は単独で用いても、また組み合わせて用いてもよい。その中でも、基板表面を布等でラビング処理した基板を用いる方法は、その簡便性から特に好ましい。
【０１１８】
基板は、有機材料、無機材料を問わずに用いることができる。基板に用いることができる有機材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリアリレート、ポリスルホン、セルロース、ポリエーテルエーテルケトンなどが挙げられる。また、基板に用いることができる無機材料としては、例えば、シリコン、ガラス等を挙げられる。
【０１１９】
また、偏光フィルムを基板として用いると、偏光フィルムに直接光学異方体を作り込むことが可能であり、このようにして得られる光学異方体は、楕円偏光フィルムとして、液晶ディスプレイの構成部品として好適に用いることができる。
【０１２０】
これらの基板を布等でラビングすることによって適当な配向性を得られないときは、公知の方法に従ってポリイミド薄膜又はポリビニルアルコール薄膜等の有機薄膜を基板表面に形成し、これを布等でラビングしてもよい。また通常のＴＮ又はＳＴＮセルで使用されているようなプレチルト角を与えるポリイミド薄膜を積極的に用いることは、光学異方体の内部構造を更に精密に制御できることから特に好ましい。また、ラビングの代わりに光配向法を用いることもできる。電場によって配向状態を制御する場合には、電極層を有する基板を使用することができ、この場合は電極上に前述のポリイミド薄膜等の有機薄膜を形成することが好ましい。
【０１２１】
重合の方法としては、迅速な重合の進行が望ましいので、紫外線又は電子線等のエネルギー線を前述の基板に照射することによって、光重合させる方法が好ましい。この時の温度は、本発明で使用する重合性液晶組成物の液晶状態が保持される温度でなければならないが、熱重合を避ける意味からもできるだけ室温に近い温度で重合させることが好ましい。
【０１２２】
また、このような方法によって作製される光学異方体は、基板から剥離して用いても、また剥離せずに基板に担持させたまま用いることもできる。
【０１２３】
【実施例】
以下、実施例を用いて、本発明を更に詳細に説明する。しかしながら、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【０１２４】
（実施例１）
撹拌装置、コンデンサ−及び温度計を備えたガラスフラスコに、式（ａ−１）
【０１２５】
【化３２】
0004078569.tif 000031
【０１２６】
で表わされるフッ素化アルキル基を有する（メタ）アクリレ−ト単量体１８重量部、式（ｂ−２−１）
【０１２７】
【化３３】
0004078569.tif 000032
【０１２８】
で表わされるシリコ−ン鎖を有するエチレン性不飽和単量体（一般式（ｂ−１）において、ｒ＝ｓ＝ｔ＝０の化合物）１２重量部、分子量４００のエチレンオキシドとプロピレンオキシドとの共重合体を側鎖に有するモノメタクリレ−ト化合物５３重量部、テトラエチレングリコ−ルの両末端がメタクリレ−ト化された化合物４重量部、メチルメタクリレ−ト８重量部及びイソプロピルアルコ−ル３５０重量部を仕込み、窒素ガス気流中、還流下で、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル１重量部と、連載移動剤としてラウリルメルカプタン５重量部を添加した後、７時間加熱還流させて重合させた。
【０１２９】
このようにして得た共重合体のゲルパ−ミエ−ショングラフによるポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）は５，０００であった。この共重合体をフッ素系重合体（１）とする。
【０１３０】
式（１）
【０１３１】
【化３４】
0004078569.tif 000033
【０１３２】
で表わされる化合物５０重量部及び式（４）
【０１３３】
【化３５】
0004078569.tif 000034
【０１３４】
で表わされる化合物５０重量部を混合、溶解して重合性液晶組成物（Ａ）を調製した。この重合性液晶組成物は室温でネマチック相を示し、ネマチック相から等方性液体相への相転移温度は４６℃であった。また、２５℃におけるｎe （異常光屈折率）は１．６６であり、ｎo （常光屈折率）は１．５１であった。
【０１３５】
この重合性液晶組成物（Ａ）に、フッ素系共重合体（１）を５００ｐｐｍ添加した重合性液晶組成物８０重量部、光重合開始剤「イルガキュア（Irugacure）−６５１」（チバガイギー社製）１重量部及び酢酸エチル２０重量部から成る塗布溶液（Ａ）を得た。
【０１３６】
厚さ１ｍｍ、大きさ１００ｍｍ×１００ｍｍの透明ガラス基板に、ポリイミド配向剤「ＡＬ−１２５４］（日本合成ゴム社製）を毎分２０００回転の回転速度でスピンコートした後、１５０℃で１時間乾燥させることにより、ガラス基板上にポリイミド薄膜を形成した。このポリイミド薄膜をラビングマシーン「ＲＭ−５０」（イーエッチシー社製）を用いてラビングすることによりポリイミド配向膜とした。
【０１３７】
このようにして作製したポリイミド配向膜付きガラス基板に、塗布溶液（Ａ）をスピンコーター用いて室温にて塗布した。スピンコーターの回転速度は１００ｒｐｍ５秒、２５０ｒｐｍ５秒、さらに５００ｒｐｍ３０秒と徐々に回転数を上昇させた。この重合性液晶組成物を塗布したガラス基板を、室温において３０秒乾燥させた後、２枚の偏光フィルムの間において観察したところ、重合性液晶組成物は均一なホモジニアス配向しており、モノドメイン配向が得られ、且つ膜厚むらも認められなかった。
【０１３８】
引き続き、この塗布したガラス基板を窒素気流下において、室温で紫外線ランプ（ＵＶＰ社製、ＵＶＧＬ−２５）を用いて１６０ｍＪ／ｃｍ2 の光量の紫外線を照射し、重合性液晶組成物を光重合させて光学異方体を作製した。
【０１３９】
このようにして得た光学異方体には、モノドメインで配向方向が均一なホモジニアス配向が固定化されていた。Ｈｅ−Ｎｅレーザーを用いてこの光学異方性基板のリタデーションを測定したところ、レーザー光の入射角度が法線方向の場合、リタデーションは９２０ｎｍであった。デクタク（Dectak）３０３０表面形状測定器で膜厚を測定したところ、膜厚は１２μｍであり、さらに、デクタク（Dectak）３０３０表面形状測定器により塗膜表面のあらさを測定した結果、Ｒa は９８ｎｍであった。また、干渉色のむらは観察されなかった。
【０１４０】
さらに、この光学異方性基板をホットプレートを用いて１００℃に加熱し、２枚の偏光フィルムの間において観察したところ、重合性液晶組成物は均一なホモジニアス配向しており、また、モノドメイン配向が得られ、耐熱性に優れていることが確認された。
【０１４１】
（実施例２）
実施例１において、フッ素系共重合体（１）の添加量を５００ｐｐｍから１，０００ｐｐｍに増量した以外は、実施例１と同様にして、光学異方体を作製した。
【０１４２】
このようにして得た光学異方体について、実施例１と同様にして評価した結果、モノドメインで配向方向が均一なホモジニアス配向が固定化されていた。リタデーションは９２０ｎｍであり、膜厚は、１２μｍであり、Ｒa は、９６ｎｍであった。また、干渉色のむらは観察されなかった。さらに、実施例１と同じ評価方法で耐熱性を評価した結果、耐熱性にも優れていた。
【０１４３】
（比較例１）
実施例１において、フッ素系共重合体を添加しなかったこと以外は、実施例１と同様にして光学異方体を作製した。
【０１４４】
このようにして得た光学異方体について、実施例１と同様にして評価した結果、モノドメインで配向方向が均一なホモジニアス配向が固定化されていたが、Ｒa は、５０６ｎｍであり、干渉色のむらが認められた。
【０１４５】
【発明の効果】
本発明の重合性液晶組成物は、基板上に塗布する際のレベリング性が良く、結果として、塗布後の光重合によって得られる光学異方体の表面平滑性を向上させ、干渉色のむらを低減させることができる。
【０１４６】
従って、本発明の重合性液晶組成物は、液晶表示素子の光学補償板や、偏光プリズム等の光学素子として用いられる光学異方体の材料として非常に有用である。