(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに相対往復移動可能に組み付けられる２部材間の隙間をシールする磁性流体シール装置であって、
２部材のうち一方の部材に磁気的に保持され、他方の部材表面に接触して前記隙間を密封する磁性流体と、
前記他方の部材表面に設けられ、２部材が所定の停止位置にある時に他方の部材表面を前記磁性流体から離隔させる溝と、
２部材が前記所定の停止位置にある時に前記隙間を密封するシール部材と、を備えたことを特徴とする磁性流体シール装置。
【請求項２】
前記溝と、前記他方の部材表面の前記磁性流体が接触する領域と、をつなげる前記溝の縁を、面取りしたことを特徴とする請求の範囲第１項に記載の磁性流体シール装置。
【請求項３】
前記シール部材は、２部材の相対往復移動時に、前記隙間を開放することを特徴とする請求の範囲第１項又は第２項に記載の磁性流体シール装置。
【請求項４】
前記シール部材は、前記磁性流体が前記他方の部材表面に接触するまでの間、前記隙間を密封することを特徴とする請求の範囲第１項、第２項または第３項に記載の磁性流体シール装置。
【請求項５】
前記他方の部材表面は、前記溝を隔てて、２部材が前記所定の停止位置にある時に前記シール部材が接触する外部側領域と、２部材の相対往復動時に前記磁性流体が接触する内部側領域と、を有して、且つ、
前記内部側領域は、２部材の相対往復動時に前記シール部材が前記他方の部材表面から離隔するように前記外部側領域よりも前記一方の部材から離して設けられていることを特徴とする請求の範囲第３項または第４項に記載の磁性流体シール装置。
【請求項６】
前記他方の部材表面は、前記磁性流体とのぬれ性を低下させるぬれ防止処理が施されていることを特徴とする請求の範囲第１項乃至第５項のうちいずれか一つに記載の磁性流体シール装置。
【請求項７】
前記他方の部材表面は、部材表面に撥油性を有する表面処理剤が被覆されてなることを特徴とする請求の範囲第６項に記載の磁性流体シール装置。
【請求項８】
前記他方の部材表面は、部材表面に有機薄膜が調製された後、該有機薄膜表面に撥油性を有する表面処理剤が被覆されてなることを特徴とする請求の範囲第６項に記載の磁性流体シール装置。
【請求項９】
前記有機薄膜は、ポリビニルアルコール、エチレン酢酸ビニルコポリマー、ポリ酢酸ビニル、ポリアリルアミン、ポリビニルエーテル、もしくはエチレンビニルアルコール共重合体、または、これらの混合物もしくは共重合体を含むことを特徴とする請求の範囲第８項に記載の磁性流体シール装置。
【請求項１０】
前記表面処理剤は、フッ素を含むカップリング剤、フッ素鎖を含むモノマー、または撥油剤を含むことを特徴とする請求の範囲第７項、第８項または第９項に記載の磁性流体シール装置。
【請求項１１】
前記他方の部材表面は、表面粗さ増大処理が施されていることを特徴とする請求の範囲第７項乃至第１０項のうちいずれか一つに記載の磁性流体シール装置。
【請求項１２】
前記表面処理剤は、微粒子が混合されていることを特徴とする請求の範囲第７項乃至第１０項のうちいずれか一つに記載の磁性流体シール装置。
【請求項１３】
前記微粒子は、シリカまたはポリテトラフルオロエチレンの微粒子であることを特徴とする請求の範囲第１２項に記載の磁性流体シール装置。
【発明の詳細な説明】
技術分野
この発明は、互いに相対往復運動する２部材間の隙間を磁性流体を用いてシールする磁性流体シール装置に関するものであり、例えばカメラのズームレンズ部等の光を遮断する遮光装置や精密機械のダストシール装置に適用されるものである。
背景技術
この種の磁性流体シール装置は、密封性を必要とする２領域間にまたがり相対往復運動する２部材間に設けられる。そして、磁性流体シール装置は、２部材の内一方の部材側に保持された磁性流体を他方の部材（被摺接部材）の表面に接触させることにより、２部材間の隙間を密封する。
このような磁性流体シール装置では、磁性流体が接触する被摺接部材の表面に磁性流体とのぬれ性を低下させる「ぬれ防止処理」を施すことがある。例えば、特開２０００−１１０９４８号公報では、被摺接部材の表面を研磨した後に、撥油性を有するフッ素系表面改質剤で軸表面を被膜する表面処理を施している。このぬれ防止処理によって、相対往復移動時に磁性流体が被摺接部材表面に付着残留しないようにしていた。
しかしながら、上記のような従来技術の場合には、下記のような問題が生じていた。
一般的に、磁性流体シール装置は、２部材が相対往復移動する移動状態にあるよりも、２部材が所定の位置で停止している停止状態にあることの方が時間的に長い。
ここで、他の部材表面に形成されたフッ素系表面改質膜の撥油性は磁性流体との接触時間が増加するに従い低下する。
このため、磁性流体シール装置が停止状態である時に磁性流体が接触している部分のフッ素系表面改質膜が劣化し、磁性流体のぬれが生じてきてしまう。
このように、磁性流体のぬれが生じてしまうと、磁性流体シール装置はシール効果を発揮できなくなり、寿命が終了する。
つまり、従来の磁性流体シール装置では、停止時に磁性流体が接触しているフッ素系表面改質膜の劣化が磁性流体シール装置の寿命を決定する要因となっていた。
また、磁性流体シール装置の応用範囲は多岐にわたり、その用途によっては、２部材の高速な相対往復移動に対する磁性流体の追随性（高速応答性）も要求される。たとえばシリンダ・ピストン装置などの場合では、１０ｍｍ／ｓ〜３０ｍｍ／ｓ程度の往復速度が要求される。しかし、従来技術のような単なるフッ素系表面改質剤による被膜のみでは、このような高速な往復速度に対する応答性を得られず、密封性を確保することができない。
本発明は上記の従来技術の課題を解決するためになされたもので、その目的とするところは、表面処理の劣化を防止して長寿命化を図る磁性流体シール装置を提供することにある。また、高速応答性に優れた磁性流体シール装置を提供することも目的とする。
発明の開示
本発明は、互いに相対往復移動可能に組み付けられる２部材間の隙間をシールする磁性流体シール装置であって、２部材のうち一方の部材に磁気的に保持され、他方の部材表面に接触して前記隙間を密封する磁性流体と、前記他方の部材表面に設けられ、２部材が所定の停止位置にある時に他方の部材表面を前記磁性流体から離隔させる溝と、２部材が前記所定の停止位置にある時に前記隙間を密封するシール部材と、を備えたことを特徴とする。
したがって、２部材の停止状態では、磁性流体が溝内に位置して他方の部材表面から離隔するので、２部材の停止時の磁性流体との対向位置で他方の部材表面の表面処理が劣化することが防止でき、他方の部材表面の表面処理の劣化が一部領域において早く進行することがなく、装置の長寿命化を図ることができる。
また、この２部材の停止状態では、シール部材が２部材間の隙間を密封するので、装置は良好なシール性を維持することができる。
前記溝と、前記他方の部材表面の前記磁性流体が接触する領域と、をつなげる前記溝の縁を、面取りしたことが好適である。
これにより、磁性流体が溝から磁性流体が接触する領域へ移動する時に、スムーズに移動でき、磁性流体が溝の縁で引っ掛けられて取り残されることによる磁性流体量の減少が防止でき、磁性流体を長期間保持して、装置の長寿命化を図ることができる。
前記シール部材は、２部材の相対往復移動時に、前記隙間を開放することが好適である。
これにより、２部材の相対往復移動時に、隙間を密封する場合のシール部材による摺動抵抗がなく、２部材の相対往復移動に必要とされる駆動力の低減を図ることができる。
前記シール部材は、前記磁性流体が前記他方の部材表面に接触するまでの間、前記隙間を密封することが好適である。
これにより、２部材が停止状態から相対往復移動状態に移る際にも、常に確実に隙間の密封が図られる。
前記他方の部材表面は、前記溝を隔てて、２部材が前記所定の停止位置にある時に前記シール部材が接触する外部側領域と、２部材の相対往復動時に前記磁性流体が接触する内部側領域と、を有して、且つ、前記内部側領域は、２部材の相対往復動時に前記シール部材が前記他方の部材表面から離隔するように前記外部側領域よりも前記一方の部材から離して設けられていることが好適である。
これにより、２部材の相対往復移動時に、２部材の相対往復移動にかかる駆動力だけでシール部材は隙間を容易に開放できる。
前記他方の部材表面は、前記磁性流体とのぬれ性を低下させるぬれ防止処理が施されていることが好適である。
これにより、２部材の停止時の磁性流体との対向位置で他方の部材表面のぬれ防止処理の劣化が防止でき、他方の部材表面のぬれ防止処理の劣化が一部領域において早く進行することがなく、磁性流体の他方の部材表面における早期のぬれを防止し、装置の長寿命化を図ることができる。
前記他方の部材表面は、部材表面に撥油性を有する表面処理剤が被覆されてなることが好適である。
このように部材表面に撥油性被膜を設けることで、容易に磁性流体とのぬれ性を低下させることができる。
前記他方の部材表面は、部材表面に有機薄膜が調製された後、該有機薄膜表面に撥油性を有する表面処理剤が被覆されてなることが好適である。
このように部材表面と撥油性被膜（表面処理剤の被膜）との中間に有機薄膜を設けることで、部材表面と撥油性被膜との付着強度を高めることができ、撥油性被膜の剥離や脱離を防ぎ、部材表面の撥油効果（ぬれ防止効果）を長期にわたって持続させることができる。
前記有機薄膜は、ポリビニルアルコール、エチレン酢酸ビニルコポリマー、ポリ酢酸ビニル、ポリアリルアミン、ポリビニルエーテル、もしくはエチレンビニルアルコール共重合体、または、これらの混合物もしくは共重合体を含むことが好適である。
これにより、部材表面と撥油性被膜との間に十分な付着強度を得ることができ、撥油性被膜の剥離や脱離を確実に防止することができる。
前記表面処理剤は、フッ素を含むカップリング剤、フッ素鎖を含むモノマー、または撥油剤を含むことが好適である。
これにより、耐溶剤性、熱安定性に優れた撥油性被膜を形成することができる。
前記他方の部材表面は、表面粗さ増大処理が施されていることが好適である。
これにより部材表面に形成した撥油性被膜の表面粗さも増す。
そして、被膜表面の表面粗さを大きくすることにより、磁性流体の高速応答性が増すので、２部材の往復速度が高速な場合であっても安定した密封性を維持することができる。
前記表面処理剤は、微粒子が混合されていることが好適である。
表面処理剤中の微粒子は２次元的な配列構造を取るように分散する。この２次元配列構造は被膜形成後も保存されるので、容易に表面粗さの大きい被膜を作製することができる。被膜表面の表面粗さを大きくすることにより、磁性流体の高速応答性が増すので、２部材の往復速度が高速な場合であっても安定した密封性を維持することができる。また、予め部材表面に表面粗さ増大処理を行う必要がなくなるので、製造の容易化およびコストの削減を図ることができる。
前記微粒子は、シリカまたはポリテトラフルオロエチレンの微粒子であることが好適である。
これらの材料の微粒子は、微粒子間の相互作用が小さく、表面処理剤に混合したときに２次元的な配列構造を取り易い。
発明を実施するための最良の形態
以下に図面を参照して、この発明の好適な実施の形態を例示的に詳しく説明する。ただし、この実施の形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などは、特に特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。
本実施の形態は、磁性流体シール装置をコンパクトカメラのズームレンズ部における遮光装置として用いた例である。もちろん本発明は、遮光装置以外にも精密機械のダストシール装置等、密封性を必要とする２領域間にまたがり相対往復移動する２部材を有する種々の装置に好適に適用される。
（第１の実施の形態）
第１図を用いて第１の実施の形態に係る遮光装置をコンパクトカメラに用いた構成について説明する。なお、第１図は、コンパクトカメラのズームレンズ部を概略拡大して示している。
第１図に示すコンパクトカメラのズームレンズ部は、カメラ本体に設けられた外側の鏡筒２０と、外側の鏡筒２０の内側に設けられ、カメラ本体から突き出るように往復移動可能な鏡筒１０と、を備える。これら２連の鏡筒１０，２０が相対往復移動可能に組み付けられた２部材である。また、ズームレンズ部は、内側の鏡筒１０内部に配置されたレンズ６及びシャッターユニット７を備えている。
内側の鏡筒１０は、ズーム操作によって、収納状態（停止状態）から外部側Ｏへ移動したり（図示点線）、収納状態へ戻ったりする相対往復移動を行うものである。
即ち、鏡筒１０，２０は、コンパクトカメラを使用しない時には収納状態となっており、一般的にこの収納状態であることが時間的に長い。
このズームレンズ部には、非磁性体の鏡筒１０，２０間の隙間に遮光装置１が設けられている。遮光装置１は、ズーム等でズームレンズ部が出入りする際に、光及びダストが侵入することを防いでいる。なお、遮光装置１は、鏡筒１０とカメラ本体間の隙間等にも同様に用いられるものである。
遮光装置１は、径方向に互いに逆向きに着磁され、鏡筒２０内周面に配置された１対の環状磁石２，３（磁力発生手段）と、１対の環状磁石２，３の内周端部に保持された磁性流体４と、鏡筒２０内周面の１対の環状磁石２，３の外部側Ｏに配置されたシール部材５と、を備える。
なお、ここで、磁気回路形成手段は、１対の環状磁石２，３で構成されている。
１対の環状磁石２，３は、径方向に互いに逆向きに着磁された状態で向かい合う軸方向端面同士を接合されている。そして、環状磁石２，３間の磁場分布に従って１対の環状磁石２，３の内周端部に磁性流体４が磁気的に保持されている。
また、１対の環状磁石２，３としては、金属、又は磁石粉を充填した有機材料等からなる永久磁石を用いている。
一方、磁性流体４としては、Ｆｅ３Ｏ４等の微粒子を油，水，有機溶媒等の中にコロイド状に分散させたものを用いている。
磁性流体４は、その表面が１対の環状磁石２，３の発生する空間磁場の等磁場線にほぼ沿う形で内周端部に保持される。
ここで、第１図の実線に示すように、ズーム等が行われず内側の鏡筒１０を鏡筒２０内に収納した収納状態で、１対の環状磁石２，３の内周端部に保持された磁性流体４と対向する鏡筒１０の外周面の対向位置に、鏡筒１０の外周面を磁性流体４から離隔させる溝１１が設けられている。
なお、本実施の形態では、鏡筒１０の外周面において、溝１１の図示右側領域が磁性流体４が接触する領域１２であり、溝１１の図示左側領域がシール部材５が接触する領域１３である。領域１３は、領域１２よりも鏡筒２０内周面へ近づけて設けられている。そして、領域１３が外部側領域であり、領域１２が内部側領域である。
また、鏡筒１０の外周面では、溝１１と、磁性流体４が接触する領域１２と、をつなげる溝１１の縁１１ａは、曲率のあるＲとして面取りされている。
シール部材５は、鏡筒２０の内周面の１対の環状磁石２，３の外部側Ｏに接着されており、不織布，フェルト等の材料で形成されている。
そして、シール部材５は、収納状態では、鏡筒１０の外周面の領域１３に接触し、鏡筒１０，２０間の隙間を遮光及び密封する。
このシール部材５は、ズーム等の移動状態では、鏡筒１０が移動して対向位置が領域１２となると、領域１２が領域１３よりも鏡筒２０の内周面から離れて設けられていることから、内周先端が領域１２に届かないので、溝１１と同様に領域１２に接触せずに離隔され、鏡筒１０，２０間の隙間を開放する。
さらに、鏡筒１０の外周面には、磁性流体４とのぬれ性を低下させるぬれ防止処理としてフッ素系表面改質膜が形成されている。このため、ズーム等に伴って鏡筒１０の外周面に磁性流体４が付着残留してしまうことが防止でき、磁性流体４の保持性が向上する。フッ素系表面改質膜は、鏡筒１０の外周面の少なくとも磁性流体４が接触する領域１２に形成されていればよい。
なお、ぬれ防止処理としては、膜形成以外にコーティングや塗布等によるものがあり、またフッ素以外のぬれ防止剤を用いることもできる。
このような遮光装置１は、第１図の実線に示すような収納状態では、環状磁石２，３に保持された磁性流体４は溝１１内に位置し、鏡筒１０の外周面から離隔するので、収納状態で磁性流体４との対向位置で鏡筒１０の外周面のフッ素系表面改質膜の撥油性が低下するという劣化が防止できる。
よって、鏡筒１０の外周面のフッ素系表面改質膜の劣化が一部領域において早く進行することがなく、磁性流体４の早期の鏡筒１０の外周面へのぬれを防止し、遮光装置１の長寿命化を図ることができる。
また、この収納状態では、磁性流体４によるシールはなされていないが、シール部材５が鏡筒１０の外周面の表面の領域１３に接触し、鏡筒１０，２０間の隙間を密封するので、遮光装置１は良好な遮光性及びシール性を維持することができる。
そして、収納状態からズーム等で鏡筒１０の外部側Ｏへの移動が行われると、環状磁石２，３に保持された磁性流体４に溝１１から領域１２が対向し、磁性流体４が領域１２と接触し、鏡筒１０，２０間の隙間を塞ぎ、遮光及び密封する。
この移動の際、即ち、磁性流体４との対向位置が溝１１から領域１２へ移動する際、磁性流体４は溝１１の縁１１ａを通過するが、縁がＲとなっているので、磁性流体４が溝１１の縁１１ａで引っ掛けられて取り残されることによる磁性流体量の減少が防止できる。このため、磁性流体４を長期間保持することができ、遮光装置１の長寿命化を図ることができる。
また、ズーム等の鏡筒１０の移動状態では、磁性流体４が鏡筒１０の外周面（領域１２）に接触し、シール部材５は鏡筒１０の外周面から離れるので、シール部材５の接触による大きな摺動抵抗がなく、磁性流体４の接触による微小な摺動抵抗が存在するだけであるので、鏡筒１０の移動に必要とされる駆動力の低減を図ることができる。
このため、シール部材５が鏡筒１０の外周面から離れた後においては小さい駆動力の供給で足りるので、コンパクトカメラのズームレンズ部をズーム等させる駆動装置の消費電力量の低減を図ることができる。
さらに、ズーム等の鏡筒１０の移動状態でシール部材５を鏡筒１０の外周面から離隔させるための構成は、単純に、鏡筒１０の外周面の内部側Ｉの領域１２を外部側Ｏの領域１３よりも鏡筒２０の内周面から離して設け、シール部材５の内周端部を内部側Ｉの領域１２に接触できなくする構成で実現されているので、シール部材５を鏡筒１０の外周面から離すための特別な機構は必要なく、シール部材５は鏡筒１０，２０間の隙間を容易に開放できる。
なお、本実施の形態の磁気回路形成手段は、１対の環状磁石２，３を互いに逆向きに着磁されて接合した構成であるので、構成が容易で製造性、組立性に優れる。
（第２の実施の形態）
第２図は第２の実施の形態に係る遮光装置を示している。第２の実施の形態は、磁気回路形成手段の構成を変更したものである。その他の構成は第１の実施の形態と同じ構成である。
磁気回路形成手段は、軸方向に着磁された環状磁石（磁力発生手段）３１と、環状磁石の軸方向両端に固着された磁性体からなる１対のポールピース３２，３３と、で構成されている。
そして、１対のポールピース３２，３３の内周端部間に磁性流体４が保持される。
このように、磁気回路形成手段の構成は、用途や設置スペースに応じて変更することができる。
（第３の実施の形態）
第３図は第３の実施の形態に係る遮光装置を示している。ここでは、第３の実施の形態に係る遮光装置１の特徴部分について説明し、その他の第１の実施の形態と同じ構成は、同じ符号を付して説明を省略する。
第３の実施の形態では、シール部材８は、鏡筒２０の内周面の１対の環状磁石２，３の外部側に設けられており、ゴム等の弾性体材料でリング状に形成され、内周先端が外部側Ｏへ曲がった形状をしている。また、シール部材８の内周先端は鏡筒１０の外周面の表面（領域１５）に届かない。シール部材８のその他の作用は第１の実施の形態のシール部材５と同様である。
そして、シール部材８は、収納状態では、鏡筒１０の外周面に形成された内部側Ｉを向く垂直断面１４に、外部側Ｏへ曲がった内周先端を当接させ、鏡筒１０，２０間の隙間を遮光及び密封する。
また、シール部材８は、内周先端が鏡筒１０の外周面の表面（領域１５）から離隔しているので、ズーム等の移動開始直後及び終了寸前でも、鏡筒１０の外周面に接触しない。したがって、シール部材８の接触による大きな摺動抵抗がなく、鏡筒１０の移動に必要とされる駆動力の一層の低減を図ることができる。また、鏡筒１０を駆動する際には一定の駆動力で足りる。
さらに、鏡筒１０の外周面では、溝１１と、磁性流体４が接触する領域１２と、をつなげる溝１１の縁１１ａは、テーパ状に面取りされている。このように、溝１１の縁１１ａの面取りの形状も変更することができる。
また、シール部材８の内周先端を外部側Ｏに曲げた形状とし、鏡筒１０の垂直断面１４に弾性変形させつつ圧着させたことにより、鏡筒１０が移動を開始してから磁性流体４が密封状態になるまでの間も、シール部材８は弾性的に復元変形しながら垂直断面１４との当接状態を維持するので、常に密封性を確保することができる。
なお、本実施の形態では、シール部材８の内周先端を鏡筒１０の外周面から離間させて設けたが、シール部材８の内周先端を鏡筒１０の外周面の表面（領域１５）に接触させる構成とすることもできる。
（第４の実施の形態）
第４図は第４の実施の形態に係る遮光装置を示している。ここでは、第４の実施の形態に係る遮光装置１の特徴部分について説明し、その他の第１の実施の形態と同じ構成は、同じ符号を付して説明を省略する。
第４の実施の形態では、シール部材９は、鏡筒２０の内周面の１対の環状磁石２，３の外部側Ｏに設けられており、ゴム等の弾性体材料でリング状に形成されている。シール部材９のその他の作用は第１の実施の形態のシール部材５と同様である。
そして、収納状態並びにズーム等の移動開始直後及び終了寸前に、シール部材９と接触する鏡筒１０の外周面の表面を、外部側Ｏが鏡筒２０の内周面に近づくテーパ状の斜面１６に形成している。
このため、収納状態に近づくにつれ、シール部材９は図示のように斜面１６に密接していくので、収納状態において良好な遮蔽及び密封ができる。
（第５の実施の形態）
第５図は第５の実施の形態に係る遮光装置の要部を模式的に示している。ここでは、鏡筒１０の表面処理の一実施の形態を説明する。その他の構成は上記実施の形態と同じ構成なので、同じ符号を付して説明を省略する。
相対往復移動する２部材である鏡筒１０，２０のうち、磁性流体４が摺接する側の部材である鏡筒１０の外周面には、磁性流体４とのぬれ性を低下させるぬれ防止処理が施されている。
本実施の形態では、鏡筒１０の表面４０に有機薄膜４１を調製した後、その有機薄膜４１の表面を撥油性を有する表面処理剤で被覆して撥油性被膜４２を形成することにより、鏡筒１０の摺接面の撥油処理を行う。
有機薄膜４１の材料としては、一般にゴム、樹脂材料調製におけるバインダーとして使用されるＰＶＡ（ポリビニルアルコール）等の高分子を用いる。また、ポリビニルアルコール以外にも、エチレン酢酸ビニルコポリマー、ポリ酢酸ビニル、ポリアリルアミン、ポリビニルエーテル、エチレンビニルアルコール共重合体等の高分子、または、これらの混合物もしくは共重合体も使用できる。これにより、鏡筒１０の表面４０と撥油性被膜４２との間に十分な付着強度を得ることができる。
有機薄膜４１を調製する際には、まず上記の高分子材料が溶解可能な溶媒、たとえば、水、ヘキサン、トルエン、酢酸エチルなどに０．５重量％〜１０．０重量％の濃度で高分子材料を溶解させる。
この高分子溶液をディッピング法、スプレー法あるいは刷毛塗りなど既存の方法で鏡筒１０の表面４０に塗布する。たとえば、ディッピング法では、高分子溶液に鏡筒１０を浸漬した後、０．１ｍｍ／ｓ〜２．０ｍｍ／ｓの一定速度で引き上げることにより塗布する。
塗布後、乾燥によって溶媒を取り除くことにより有機薄膜４１を得る。有機薄膜４１の膜厚は、望ましくは０．２μｍ〜１．０μｍである。これは溶液濃度、引き上げ速度、スプレーの液滴の大きさやスプレー時間などにより調節することができる。
この有機薄膜４１表面上に表面処理剤を塗布し、撥油性の被膜を形成する。ここで表面処理剤としては、フッ素を含むカップリング剤や、高分子量化が容易なフッ素鎖を含むモノマーを使用するが、その他にも一般に市販される撥油剤も用いることができる。これにより、耐溶剤性、熱安定性のある撥油性被膜を容易に形成することができる。
表面処理剤の塗布の方法としては、先に述べた有機薄膜調製の際における高分子溶液の塗布方法と同様の方法が用いられる。また、膜厚については、続く加熱の操作の後０．１μｍ〜２．０μｍとなるように、溶液濃度、引き上げ速度スプレーの液滴の大きさやスプレー時間などにより調節する。
塗布後、加熱などによって表面処理剤の高分子量化を図り、撥油性被膜４２を形成する。加熱条件としては、１２０℃〜２００℃、０．５時間〜２時間程度で行うとよい。より好ましくは、鏡筒１０の材質および有機薄膜４１の耐熱温度以下であり、かつ有機薄膜４１への撥油性被膜４２の付着強度が最大となるように最適加熱条件を決定する。
なお、撥油性被膜を形成する部材の材質としては、一般には強磁性体などの金属が用いられるが、強磁性体でない金属、樹脂なども使用できる。これは、表面処理剤がフッ素鎖を含むために、低い表面張力をもつため、任意の材質の表面に対しぬれを示し、その表面で被膜を調製できるからである。よって、金属に限らず種々の材質の部材に対して、その外周面に容易に被膜調製を行うことができる。
このように磁性流体４が摺接する鏡筒１０の外周表面４０に撥油処理（ぬれ防止処理）を施すことにより、鏡筒１０が往復移動した場合であっても、鏡筒１０の摺接面の撥油性により、磁性流体４が摺接面に付着し残留することを防止できるので、磁性流体量の減少、ひいてはシール性の低下を効果的に防ぐことが可能となる。
また、鏡筒１０の表面４０と撥油性被膜４２との中間に有機薄膜４１を設けたので、鏡筒１０の表面４０と撥油性被膜４２との付着強度を高めることができ、撥油性被膜４２の剥離や部分的な脱離を防ぎ、鏡筒１０の摺接面の撥油効果（ぬれ防止効果）を一層長期にわたって持続させることができる。
（第６の実施の形態）
第６図は第６の実施の形態に係る遮光装置の要部を模式的に示している。ここでは、鏡筒１０の表面処理の一実施の形態を説明する。その他の構成は上記実施の形態の同じ構成なので、同じ符号を付して説明を省略する。
上述したように、磁性流体シール装置の用途によっては、２部材の高速な相対往復移動に対する磁性流体の高速応答性が要求される。上記各実施の形態のコンパクトカメラのズームレンズ部もまたしかりである。しかしながら、単なるフッ素系表面改質剤による被膜のみでは、高速応答性の向上は難しく、磁性流体による密封性を確保することができないという課題があった。
そこで、発明者らが鋭意検討を行った結果、次の事実を見い出した。すなわち、被膜表面をきわめて比表面積の大きな状態、すなわち表面粗さの大きな状態とすることで、磁性流体の高速応答性が大幅に向上するのである。
本実施の形態では、鏡筒１０の表面４０に撥油性被膜４３を形成するのに先立ち、鏡筒１０の表面４０に表面粗さ増大処理を施している。具体的には、鏡筒１０の表面４０を電解エッチングまたはショットブラストにより加工する。
電解エッチングとは、いわば電気めっきと逆の現象を利用した方法である。すなわち、電気めっきが電解液から部材表面への金属析出であるのに対して、電解エッチングは部材表面から電解液への金属溶出である。よって、電解エッチング時の電流、電解液の種類および濃度により、表面粗さの程度を制御することができる。
一方、ショットブラストとは、部材表面に対して粒径の小さな粒子を吹き付けて、表面粗さを増大させる手法である。
上記いずれかの方法で表面粗さを増大させた表面４０上に表面処理剤を塗布し、撥油性の被膜を形成する。表面処理剤の材料や形成方法などは上記第５の実施の形態と同様のものを用いればよい。
このとき、撥油性被膜４３は略均一な膜厚で形成されるので、撥油性被膜４３の表面状態は鏡筒１０の表面４０の凹凸が反映されることとなり、結果、撥油性被膜４３の表面粗さも大きい状態となる。
したがって、磁性流体４の高速応答性が増すので、鏡筒１０の往復移動速度が高速な場合であっても安定した密封性を維持することができる。
（第７の実施の形態）
第７図は第７の実施の形態に係る遮光装置の要部を模式的に示している。ここでは、鏡筒１０の表面処理の一実施の形態を説明する。その他の構成は上記実施の形態の同じ構成なので、同じ符号を付して説明を省略する。
上記第６の実施の形態では、鏡筒１０の表面４０に予め表面粗さ増大処理を施す方法を示した。しかしながら、電解エッチングやショットブラストによる加工法は、任意の材質の表面処理に適用できるわけではない。
まず、電解エッチングにより表面処理を行うことができる材質は、通電する性質、すなわち金属のような電気伝導性を有する材質に限定される。樹脂材などの電気伝導性をもたない材質に対しては、電解エッチングの前に予め無電解めっきなどによって電気伝導性を有する物質の層を形成しておくことも考えられるが、作製工程が煩雑になり、コスト高となるため好ましくない。
一方、ショットブラストによる表面処理は、金属やセラミックなどの硬度の大きな材質に対しては有効であるが、樹脂材などの硬度の小さい材質や、塗装表面に対しては適用できないという欠点がある。
本実施の形態にて提案する方法は、部材表面（鏡筒１０の表面４０）に対する表面粗さ増大処理を不要にするものであって、任意の材質の部材に適用可能なものである。以下、具体的に述べる。
相対往復移動する２部材である鏡筒１０，２０のうち、磁性流体４が摺接する側の部材である鏡筒１０の外周面には、磁性流体４とのぬれ性を低下させるぬれ防止処理が施されている。
本実施の形態では、シリカ（ＳｉＯ２）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）などの微粒子を混合し分散させた表面処理剤を用いて、鏡筒１０の表面４０を被覆し、撥油性被膜４４を形成する。このとき、微粒子は、ある所定の粒径、濃度および分散条件の下で、鏡筒１０の表面４０上で２次元的に配列する性質をもつ。このため、撥油性被膜４４は、２次元的に配列した微粒子上に形成されることになり、大きな比表面積（大きな表面粗さ）を有する。その結果、目的の高速応答性が得られる。
表面処理剤としては、フッ素を含むカップリング剤や、高分子量化が容易なフッ素鎖を含むモノマーを使用するが、その他にも一般に市販される撥油剤も用いることができる。これにより、耐溶剤性、熱安定性のある撥油性被膜を容易に形成することができる。
また、表面処理剤に混合する微粒子としては、平均の粒径が０．１μｍ〜１００μｍ、好ましくは０．５μｍ〜５０μｍのものを用いる。
また、微粒子の材質としては、表面処理剤に分散可能なものであれば任意のものを用いることができる。
ここで、「分散」という言葉は、微粒子を表面処理剤に混合したときに、微粒子同士が強固に凝集した構造をとらないこと、すなわち、微粒子間の相互作用が小さいことの意味で使用している。
強固に凝集した構造が存在する場合には、微粒子の２次元的な配列を得ることができない。したがって、微粒子の材質として、好ましくは、微粒子間の相互作用が小さく、２次元的な配列構造をとり易いシリカ（ＳｉＯ２）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）などがよい。
また、微粒子を混合する際の微粒子濃度は、表面処理剤に対し、０．５％〜５．０％の重量とする。ただし、その最適な微粒子濃度は、微粒子の粒径および粒径分布、微粒子の表面４０への付着性に影響されるため、厳密に算出することは難しい。したがって、予め実験的に好適な微粒子濃度を調べておくとよい。
さて、このようにして得られた微粒子を含む表面処理剤を上記実施の形態と同様の方法にて鏡筒１０の表面４０に塗布する。
塗布後、加熱などによって表面処理剤の高分子量化を図り、撥油性被膜４４を形成する。加熱条件としては、１２０℃〜２００℃、０．５時間〜２時間程度で行うとよい。より好ましくは、鏡筒１０の材質の耐熱温度以下であり、かつ鏡筒１０の表面４０への撥油性被膜４４の付着強度が最大となるように最適加熱条件を決定する。
表面処理剤中の微粒子は、塗布時において前述のように鏡筒１０の表面４０上で２次元的な配列構造をとる。そして、加熱して撥油性被膜４４を形成する際も、この２次元的な微粒子の配列構造が保存されるため、比表面積の大きな被膜を得ることができる。
なお、撥油性被膜を形成する部材の材質としては、一般には強磁性体などの金属が用いられるが、強磁性体でない金属、樹脂なども使用できる。これは、表面処理剤がフッ素鎖を含むために、低い表面張力をもつため、任意の材質の表面に対しぬれを示し、その表面で被膜を調製できるからである。よって、金属に限らず種々の材質の部材に対して、その外周面に容易に被膜調製を行うことができる。
このように本実施の形態によれば、表面処理剤に微粒子を混合しておくことのみで、任意の材質の表面に対して表面粗さの大きな撥油性被膜を容易に形成することができる。そして、被膜表面の表面粗さを大きくしたことにより、磁性流体４の高速応答性が増すので、鏡筒１０の往復移動速度が高速な場合であっても安定した密封性を維持することができる。
（比較例）
第８図は従来技術の磁性流体シール装置を上記の実施の形態と同様の遮光装置１０１に適用した例について説明する。
この比較例の遮光装置１０１は、鏡筒２０の内周面に配置された１対の環状磁石２，３と、１対の環状磁石２，３の内周端部に保持された磁性流体４と、を備える。そして、磁性流体４が常に鏡筒１０の外周面に接触している。
このため、時間的に長く収納状態となっていると、収納状態で磁性流体４に接触している鏡筒１０の外周面のフッ素系表面改質膜の撥油性が低下し、この部分のフッ素系表面改質膜の劣化が遮光装置２０１の寿命を決定してしまっていた。
この点、上述した各実施の形態の構成よれば、収納状態においては磁性流体４と鏡筒１０の外周面とが非接触な状態に保たれるので、フッ素系表面改質膜の劣化が生じることはなく、遮光装置１の長寿命化を図ることができる。
産業上の利用可能性
以上説明したように、本発明は、２部材が所定の停止位置にある時に他方の部材表面を前記磁性流体から離隔させる溝と、２部材が前記所定の停止位置にある時に前記隙間を密封するシール部材と、を備えたことで、２部材の停止状態では、磁性流体が溝内に位置して他方の部材表面から離隔するので、２部材の停止時の磁性流体との対向位置で他方の部材表面の表面処理が劣化することが防止でき、他方の部材表面の表面処理の劣化が一部領域において早く進行することがなく、装置の長寿命化を図ることができる。
また、この２部材の停止状態では、シール部材が２部材間の隙間を密封するので、装置は良好なシール性を維持することができる。
溝と、他方の部材表面の磁性流体が接触する領域と、をつなげる溝の縁を、面取りしたことで、磁性流体が溝から磁性流体が接触する領域へ移動する時に、スムーズに移動でき、磁性流体が溝の縁で引っ掛けられて取り残されることによる磁性流体量の減少が防止でき、磁性流体を長期間保持して、装置の長寿命化を図ることができる。
シール部材は、２部材の相対往復移動時に、隙間を開放することで、２部材の相対往復移動時に、隙間を密封する場合のシール部材による摺動抵抗がなく、２部材の相対往復移動に必要とされる駆動力の低減を図ることができる。
磁性流体が他方の部材表面に接触するまでの間、シール部材が隙間を密封するので、２部材が停止状態から相対往復移動状態に移る際にも、常に確実に隙間の密封が図られる。
他方の部材表面は、溝を隔てて、２部材が所定の停止位置にある時にシール部材が接触する外部側領域と、２部材の相対往復動時に磁性流体が接触する内部側領域と、を有して、且つ、内部側領域は、２部材の相対往復動時にシール部材が他方の部材表面から離隔するように外部側領域よりも一方の部材から離して設けられているので、２部材の相対往復移動時に、２部材の相対往復移動にかかる駆動力だけでシール部材は隙間を容易に開放できる。
他方の部材表面は、磁性流体とのぬれ性を低下させるぬれ防止処理が施されたことで、２部材の停止時の磁性流体との対向位置で他方の部材表面のぬれ防止処理の劣化が防止でき、他方の部材表面のぬれ防止処理の劣化が一部領域において早く進行することがなく、磁性流体の他方の部材表面における早期のぬれを防止し、装置の長寿命化を図ることができる。
他方の部材表面を撥油性を有する表面処理剤で被覆したことで、容易に磁性流体とのぬれ性を低下させることができる。
部材表面と撥油性被膜（表面処理剤の被膜）との中間に有機薄膜を設けることで、部材表面と撥油性被膜との付着強度を高めることができ、撥油性被膜の剥離や脱離を防ぎ、部材表面の撥油効果（ぬれ防止効果）を長期にわたって持続させることができる。
有機薄膜として、ポリビニルアルコール、エチレン酢酸ビニルコポリマー、ポリ酢酸ビニル、ポリアリルアミン、ポリビニルエーテル、もしくはエチレンビニルアルコール共重合体、または、これらの混合物もしくは共重合体を含むものを用いることで、部材表面と撥油性被膜との間に十分な付着強度を得ることができ、撥油性被膜の剥離や脱離を確実に防止することができる。
表面処理剤として、フッ素を含むカップリング剤、フッ素鎖を含むモノマー、または撥油剤を含むものを用いることで、耐溶剤性、熱安定性に優れた撥油性被膜を形成することができる。
他方の部材表面に表面粗さ増大処理を施したことで、部材表面に形成した撥油性被膜の表面粗さも増す。そして、被膜表面の表面粗さを大きくすることにより、磁性流体の高速応答性が増すので、２部材の往復速度が高速な場合であっても安定した密封性を維持することができる。
表面処理剤に微粒子を混合すると、表面処理剤中の微粒子は２次元的な配列構造を取るように分散する。この２次元配列構造は被膜形成後も保存されるので、容易に表面粗さの大きい被膜を作製することができる。被膜表面の表面粗さを大きくすることにより、磁性流体の高速応答性が増すので、２部材の往復速度が高速な場合であっても安定した密封性を維持することができる。また、予め部材表面に表面粗さ増大処理を行う必要がなくなるので、製造の容易化およびコストの削減を図ることができる。
微粒子としてシリカまたはポリテトラフルオロエチレンの微粒子を用いると、微粒子間の相互作用が小さいので、表面処理剤に混合したときに２次元的な配列構造を取り易い。
【図面の簡単な説明】
第１図は、第１の実施の形態に係る遮光装置を示す半断面図であり、
第２図は、第２の実施の形態に係る遮光装置を示す半断面図であり、
第３図は、第３の実施の形態に係る遮光装置を示す半断面図であり、
第４図は、第４の実施の形態に係る遮光装置を示す半断面図であり、
第５図は、第５の実施の形態に係る遮光装置を示す要部断面図であり、
第６図は、第６の実施の形態に係る遮光装置を示す要部断面図であり、
第７図は、第７の実施の形態に係る遮光装置を示す要部断面図であり、
第８図は、従来技術の磁性流体シール装置を比較例として示す半断面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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