(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の表面の情報信号に対応する部分に磁性層が形成された磁気転写用マスター担体と転写を受けるスレーブ媒体である磁気記録媒体とを密着させて転写用磁界を印加する磁気転写方法において、
スレーブ面のトラック方向に磁界を印加し予めスレーブ媒体をトラック方向に初期直流磁化した後、マスター担体と上記初期直流磁化したスレーブ媒体を密着させ、スレーブ面の初期直流磁化方向と逆向きのトラック方向に転写用磁界を印加させ、磁気転写を行う際に、転写用磁界を印加する磁界生成手段の反対磁極間の中央での転写用磁界のスレーブ面に対する垂直方向の印加角度αと、転写用磁界のスレーブ面と平行面でのトラック方向に対する印加角度βとの絶対値の合計が、３０度以内（ただし、α＝０゜またはβ＝０゜を除く）であることを特徴とする磁気転写方法。
【請求項２】
基板の表面の情報信号に対応する部分に磁性層が形成された磁気転写用マスター担体と転写を受けるスレーブ媒体である磁気記録媒体とを密着させて転写用磁界を印加し磁気転写を行う磁気転写装置において、
マスター担体と密着し、予めスレーブ面のトラック方向に磁界を印加して初期直流磁化したスレーブ媒体に対して初期直流磁化方向と逆向きのトラック方向に転写用磁界を印加する磁界生成手段を備え、該磁界生成手段の反対磁極間の中央での転写用磁界のスレーブ面に対する垂直方向の印加角度αと、転写用磁界のスレーブ面と平行面でのトラック方向に対する印加角度βとの絶対値の合計が、３０度以内（ただし、α＝０゜またはβ＝０゜を除く）であることを特徴とする磁気転写装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、情報が担持されたマスター担体からスレーブ媒体へ磁気転写する磁気転写方法および磁気転写装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
磁気転写方法は、マスター担体とスレーブ媒体を密着させた状態で、転写用磁界を印加してマスター担体に担持した情報（例えばサーボ信号）に対応する磁化パターンの転写を行うものである。この磁気転写方法としては、例えば特開昭６３−１８３６２３号公報、特開平１０−４０５４４号公報、特開平１０−２６９５６６号公報等に開示されている。
【０００３】
また、転写用磁界は、スレーブ媒体の片面または両面にマスター担体を密着させた状態で、その片側または両側に電磁石装置、永久磁石装置による磁界生成手段を配設して印加する。その際、スレーブ媒体とマスター担体を密着したものまたは磁界を相対的に回転させて、円盤状のスレーブ媒体の円周上のトラックに磁化パターンを転写している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記磁気転写方法では、マスター担体の情報担持面に磁性層を凹凸パターンに形成した転写情報に正確に対応した磁化パターンを、スレーブ媒体の記録面に転写記録して転写精度を高めるためには、マスター担体の情報担持面とスレーブ媒体のスレーブ面との密着性を確保した状態でトラック方向に正確に転写用磁界を印加する必要がある。
【０００５】
しかし、実際の磁界生成手段により生成される磁界は、スレーブ媒体の内周部から外周部の全体で平面方向および垂直方向でトラック方向およびスレーブ面と平行とするのは困難であり、各種要素によってずれることになる。この転写用磁界の印加方向のずれが大きくなると、その部分の磁化パターンが乱れて精度の良い磁気転写が行えず、転写情報がサーボ信号の場合にはトラッキング機能が十分に得られず信頼性が低下するという問題がある。
【０００６】
本発明はこのような問題に鑑みなされたもので、マスター担体とスレーブ媒体を密着させて転写用磁界を印加して磁気転写を行う際の、転写用磁界の印加方向の許容範囲を規定して正確な磁化パターンの転写が行えるようにした磁気転写方法および磁気転写装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の磁気転写方法は、基板の表面の情報信号に対応する部分に磁性層が形成された磁気転写用マスター担体と転写を受けるスレーブ媒体である磁気記録媒体とを密着させて転写用磁界を印加する磁気転写方法において、スレーブ面のトラック方向に磁界を印加し予めスレーブ媒体をトラック方向に初期直流磁化した後、マスター担体と上記初期直流磁化したスレーブ媒体を密着させ、スレーブ面の初期直流磁化方向と逆向きのトラック方向に転写用磁界を印加させ、磁気転写を行う際に、転写用磁界を印加する磁界生成手段の反対磁極間の中央での転写用磁界のスレーブ面に対する垂直方向の印加角度αと、転写用磁界のスレーブ面と平行面でのトラック方向に対する印加角度βとの絶対値の合計が、３０度以内（ただし、α＝０゜またはβ＝０゜を除く）であることを特徴とするものである。
【００１０】
また本発明の磁気転写装置は、基板の表面の情報信号に対応する部分に磁性層が形成された磁気転写用マスター担体と転写を受けるスレーブ媒体である磁気記録媒体とを密着させて転写用磁界を印加し磁気転写を行う磁気転写装置において、マスター担体と密着し、予めスレーブ面のトラック方向に磁界を印加して初期直流磁化したスレーブ媒体に対して初期直流磁化方向と逆向きのトラック方向に転写用磁界を印加する磁界生成手段を備え、該磁界生成手段の反対磁極間の中央での転写用磁界のスレーブ面に対する垂直方向の印加角度αと、転写用磁界のスレーブ面と平行面でのトラック方向に対する印加角度βとの絶対値の合計が、３０度以内（ただし、α＝０゜またはβ＝０゜を除く）であることを特徴とするものである。
【００１１】
前記転写用磁界を印加する磁界生成手段としては、電磁石装置または永久磁石装置が使用されるが、磁界強度等の条件を設定調整する点からは電磁石装置を使用するのが好ましい。
【００１２】
前記スレーブ媒体の片面にマスター担体を密着させて片面逐次転写を行う場合と、スレーブ媒体の両面にそれぞれマスター担体を密着させて両面同時転写を行う場合とがある。その際、スレーブ媒体の片面または両面にマスター担体を密着させ、その片側または両側に磁界生成手段を配設して転写用磁界を印加する。磁界生成手段はスレーブ媒体の半径方向に延びる範囲にトラック方向と平行に磁界を発生させ、スレーブ媒体とマスター担体を密着させたものまたは磁界生成手段を相対的に回転させて、円盤状のスレーブ媒体の全面に磁化パターンを転写する。
【００１３】
スレーブ媒体はハードディスク、フレキシブルディスクなどの円盤状磁気記録媒体に対して行うのが好適である。マスター担体の磁性層は保磁力Ｈcmが４８ｋＡ／ｍ（≒６００Ｏｅ）以下である磁気転写が好ましい。
【００１４】
上記磁気転写方法は、基本的に、最初にスレーブ媒体をトラック方向に直流磁化する初期磁化を施し、このスレーブ媒体と転写する情報に対応する微細凹凸パターンに磁性層が形成されたマスター担体とを密着させてスレーブ面の初期直流磁化方向と逆向きの方向に転写用磁界を印加して磁気転写を行う。前記情報としてはサーボ信号が好適である。
【００１５】
スレーブ媒体の初期磁化は、スレーブ媒体の保磁力Ｈcs以上の磁界強度部分をトラック方向位置で少なくとも１カ所以上有する磁界強度分布の磁界をトラック方向の一部分で発生させ、スレーブ媒体あるいは磁界をトラック方向に回転させることにより行う。または、スレーブ媒体の保磁力Ｈcs以上の磁界強度部分をトラック方向位置で一方向のみで有しており、逆方向の磁界強度はいずれのトラック方向位置でのスレーブ媒体の保磁力未満である磁界強度分布の磁界をトラック方向の一部分で発生させて行うのが好ましい。
【００１６】
また、転写用磁界の印加は、最適転写磁界強度範囲の最大値を越える磁界強度がトラック方向のいずれにも存在せず、最適転写磁界強度範囲内の磁界強度となる部分が１つのトラック方向で少なくとも１カ所以上存在し、これと逆向きのトラック方向の磁界強度がいずれのトラック方向位置においても最適転写磁界強度範囲の最小値未満である磁界強度分布の磁界をトラック方向の一部分で発生させ、磁気転写用マスター担体と初期直流磁化したスレーブ媒体を密着させた状態でトラック方向に回転させるか、あるいは磁界をトラック方向に回転させることにより行うのが好ましい。最適転写磁界強度範囲はスレーブ媒体の保磁力Ｈcsの０．６〜１．３倍である。
【００１７】
【発明の効果】
上記のような本発明によれば、磁気転写を行う際に、転写用磁界のスレーブ面に対する垂直方向の印加角度と転写用磁界のスレーブ面と平行面でのトラック方向に対する印加角度との絶対値の合計が３０度以内であることにより、スレーブ媒体の全面で均等な特性で正確な磁化パターンの転写が行え、サーボ信号の場合には良好なトラッキング機能が確保でき信頼性の向上が図れる。
【００１８】
また、磁気転写装置を構成する際に、磁気転写用磁界の印加角度を上記のような許容範囲内に規定することにより、良好な磁気転写が行えるので、装置全体の組立精度、磁界生成手段の磁界強度、分布などの設計が容易に行える。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を詳細に説明する。図１は本発明の一つの実施の形態にかかる磁気転写方法を実施する磁気転写装置の要部斜視図である。また、図２および図３は転写用磁界の印加角度の規定を示す図、図４は磁界生成手段の他の実施の形態を示す概略図、図５は磁気転写方法の基本工程を示す図である。なお、各図は模式図であり各部の寸法は実際とは異なる比率で示している。
【００２０】
図１の磁気転写装置１において、磁気転写時には、後述の初期直流磁化を行った後のスレーブ媒体２（磁気記録媒体）のスレーブ面（磁気記録面）を、マスター担体３の情報担持面に接触させ、所定の押圧力で密着させる。このスレーブ媒体２とマスター担体３との密着状態で、磁界生成手段５により転写用磁界を印加してサーボ信号等の磁化パターンを転写記録する。
【００２１】
スレーブ媒体２は、両面または片面に磁気記録層が形成されたハードディスク、フレキシブルディスク等の円盤状磁気記録媒体であり、マスター担体３に密着させる以前に、グライドヘッド、研磨体などにより表面の微小突起または付着塵埃を除去するクリーニング処理が必要に応じて施される。
【００２２】
また、スレーブ媒体２には予め初期磁化を行っておく。この初期磁化は、スレーブ媒体２の保磁力Ｈcs以上の磁界強度部分をトラック方向位置で少なくとも１カ所以上有する磁界強度分布の磁界を、好ましくは、スレーブ媒体２の保磁力Ｈcs以上の磁界強度部分をトラック方向位置で一方向のみで有しており、逆方向の磁界強度はいずれのトラック方向位置でのスレーブ媒体２の保磁力未満である磁界強度分布の磁界を、トラック方向の一部分で発生させ、スレーブ媒体２あるいは磁界をトラック方向に回転させることにより全トラックの初期磁化（直流消磁）を行う。
【００２３】
マスター担体３はディスク状に形成され、その片面に磁性層３２（図５参照）による微細凹凸パターンが形成された転写情報担持面を有し、これと反対側の面が不図示の密着手段に保持され、搬送されたスレーブ媒体２と密着される。図示のように、スレーブ媒体２の片面にマスター担体３を密着させて片面逐次転写を行う場合と、スレーブ媒体２の両面にそれぞれマスター担体３を密着させて両面同時転写を行う場合とがある。マスター担体３は、スレーブ媒体２と密着させる以前に、付着した塵埃を除去するクリーニング処理が必要に応じて施される。
【００２４】
転写用磁界を印加する磁界生成手段５は、密着手段に保持されたスレーブ媒体２およびマスター担体３の半径方向に延びるギャップ５１を有するコア５２にコイル５３が巻き付けられた電磁石装置５０，５０が上下両側に配設されてなり、上下で同じ方向にトラック方向と平行な磁力線Ｇ（図２，図３参照）を有する転写用磁界を印加する。
【００２５】
磁界印加時には、スレーブ媒体２およびマスター担体３を一体に回転させつつ磁界生成手段５によって転写用磁界を印加し、マスター担体３の転写情報をスレーブ媒体２のスレーブ面に磁気的に転写記録する。磁界生成手段５を回転移動させるように設けてもよい。
【００２６】
転写用磁界は、最適転写磁界強度範囲（スレーブ媒体２の保磁力Ｈcsの０．６〜１．３倍）の最大値を越える磁界強度がトラック方向のいずれにも存在せず、最適転写磁界強度範囲内の磁界強度となる部分が１つのトラック方向で少なくとも１カ所以上存在し、これと逆向きのトラック方向の磁界強度がいずれのトラック方向位置においても最適転写磁界強度範囲の最小値未満である磁界強度分布の磁界をトラック方向の一部分で発生させている。
【００２７】
上記磁気転写を行う際に、磁界生成手段５による転写用磁界の印加角度が、スレーブ媒体２のスレーブ面に対して垂直方向で±３０度以内である。つまり、図２に示すように正面から見て、磁界生成手段５により磁界印加部分に発生させた転写用磁界の磁力線Ｇの印加方向と、マスター担体３に密着したスレーブ媒体２のスレーブ面Ｆとの角度αが、±３０度以内となるように規定される。なお、図で上向きの角度αをプラス方向としている。
【００２８】
また、転写用磁界の印加角度がスレーブ媒体２のスレーブ面と平行面でのトラック方向に対して±３０度以内である。つまり、図３に示すように平面から見て、磁界生成手段５により磁界印加部分に発生させた転写用磁界の磁力線Ｇの印加方向とスレーブ媒体２のスレーブ面の円周トラック２１の接線方向との角度βが、±３０度以内となるように規定される。なお、図で外向きの角度βをプラス方向としている。
【００２９】
さらに、転写用磁界の印加角度における垂直方向の上記角度αと、トラック方向の上記角度βとの絶対値の合計が、３０度以内となるように規定される。転写用磁界の印加角度を上記のような範囲に規定する理由は後述する。
【００３０】
前記磁界生成手段５は、片側にのみ配設するようにしてもよい。また、磁界生成手段５としては、他の実施の形態として、図４(ａ)〜(ｃ)に示すような転写用磁界を生成する電磁石装置または永久磁石装置を、両側または片側に配設してもよい。
【００３１】
図４(ａ)の磁界生成手段５は、スレーブ媒体２の半径方向に延びる１つの電磁石５５（または永久磁石）のスレーブ面と平行な両側部が反対磁極に構成され、トラック方向に磁界を生成する。図４(ｂ)の磁界生成手段５は、所定間隔でスレーブ媒体２の半径方向に延びる２つの平行電磁石５６，５７（または永久磁石）のスレーブ面に向かう端面が反対磁極に構成され、トラック方向に磁界を生成する。図４(ｃ)の磁界生成手段５は、断面Ｕ字状で半径方向に延びる永久磁石５８（または電磁石）のスレーブ面に向かう２つの平行端面が反対磁極に構成され、トラック方向に磁界を生成する。
【００３２】
上記のような各実施の形態における磁界生成手段５においても、前記と同様に転写用磁界の印加角度における垂直方向の角度αと、トラック方向の角度βは、それぞれ±３０度以内（ただし、α＝０゜またはβ＝０゜を除く）となるように、および絶対値の合計が３０度以内（ただし、α＝０゜またはβ＝０゜を除く）となるように規定される。なお、上記角度αは、図４(ａ)〜(ｃ)などの磁界生成手段５においては、それぞれ反対磁極間の中央で規定される。
【００３３】
次に、図５は磁気転写の基本態様を示す図である。(ａ)は磁場を一方向に印加してスレーブ媒体２を初期直流磁化する工程、(ｂ)はマスター担体３とスレーブ媒体２とを密着して反対方向に磁界を印加する工程、(ｃ)は磁気転写後の状態をそれぞれ示す図である。
【００３４】
まず図５(ａ)に示すように、スレーブ媒体２に初期磁界Ｈinをトラック方向の一方向に印加して予め初期磁化(直流消磁)を行う。その後、図５(ｂ)に示すように、このスレーブ媒体２のスレーブ面（磁気記録面）とマスター担体３の基板３１の微細凹凸パターンに磁性層３２が被覆されてなる情報担持面とを密着させ、スレーブ媒体２のトラック方向に前記初期磁界Ｈinとは逆方向に転写用磁界Ｈduを印加して磁気転写を行う。その結果、図５(ｃ)に示すように、スレーブ媒体２のスレーブ面（トラック）にはマスター担体３の情報担持面の磁性層３２の密着凸部と凹部空間との形成パターンに応じた磁化パターンが転写記録される。
【００３５】
なお、上記マスター担体３の基板３１の凹凸パターンが図５のポジパターンと逆の凹凸形状のネガパターンの場合であっても、初期磁界Ｈinの方向および転写用磁界Ｈduの方向を上記と逆方向にすることによって同様の磁化パターンが転写記録できる。
【００３６】
前記基板３１がＮｉなどによる強磁性体の場合はこの基板３１のみで磁気転写は可能で、前記磁性層３２は被覆しなくてもよいが、転写特性の良い磁性層３２を設けることでより良好な磁気転写が行える。基板３１が非磁性体の場合は磁性層３２を設けることが必要である。マスター担体３の磁性層３２は、保磁力Ｈcmが４８ｋＡ／ｍ（≒６００Ｏｅ）以下の軟磁性層が好ましい。
【００３７】
マスター担体３の基板３１としては、ニッケル、シリコン、石英板、ガラス、アルミニウム、合金、セラミックス、合成樹脂等を使用する。凹凸パターンの形成は、スタンパー法、フォトファブリケーション法等によって行われる。
【００３８】
スタンパー法は、表面が平滑なガラス板（または石英板）の上にスピンコート等でフォトレジストを形成し、このガラス板を回転させながらサーボ信号に対応して変調したレーザー光（または電子ビーム）を照射し、フォトレジスト全面に所定のパターン、例えば各トラックに回転中心から半径方向に線状に延びるサーボ信号に相当するパターンを円周上の各フレームに対応する部分に露光する。その後、フォトレジストを現像処理し、露光部分を除去しフォトレジストによる凹凸形状を有する原盤を得る。次に、原盤の表面の凹凸パターンをもとに、この表面にメッキ（電鋳）を施し、ポジ状凹凸パターンを有するＮｉ基板を作成し、原盤から剥離する。この基板をそのままマスター担体とするか、または凹凸パターン上に必要に応じて軟磁性層、保護膜を被覆してマスター担体とする。
【００３９】
また、前記原盤にメッキを施して第２の原盤を作成し、この第２の原盤を使用してメッキを行い、ネガ状凹凸パターンを有する基板を作成してもよい。さらに、第２の原盤にメッキを行うか樹脂液を押し付けて硬化を行って第３の原盤を作成し、第３の原盤にメッキを行い、ポジ状凹凸パターンを有する基板を作成してもよい。
【００４０】
一方、前記ガラス板にフォトレジストによるパターンを形成した後、エッチングしてガラス板に穴を形成し、フォトレジストを除去した原盤を得て、以下前記と同様に基板を形成するようにしてもよい。
【００４１】
金属による基板の材料としては、ＮｉもしくはＮｉ合金を使用することができ、この基板を作成する前記メッキは、無電解メッキ、電鋳、スパッタリング、イオンプレーティングを含む各種の金属成膜法が適用できる。基板の凹凸パターンの深さ（突起の高さ）は、８０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲が好ましく、より好ましくは１００ｎｍ〜６００ｎｍである。この凹凸パターンはサーボ信号の場合は、半径方向に長く形成される。例えば、半径方向の長さは０．０５〜２０μｍ、円周方向は０．０５〜５μｍが好ましく、この範囲で半径方向の方が長いパターンを選ぶことがサーボ信号の情報を担持するパターンとして好ましい。
【００４２】
前記磁性層３２（軟磁性層）の形成は、磁性材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜手段、メッキ法などにより成膜する。磁性層の磁性材料としては、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＺｒ、ＣｏＮｂＴａＺｒ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉ、ＦｅＮｉＭｏ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌ、ＦｅＴａＮ）、Ｎｉ、Ｎｉ合金（ＮｉＦｅ）が用いることができる。特に好ましくはＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉである。磁性層の厚みは、５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲が好ましく、さらに好ましくは１００ｎｍ〜４００ｎｍである。
【００４３】
なお、磁性層の上にＤＬＣ等の保護膜を設けることが好ましく、潤滑剤層を設けても良い。また保護膜として５〜３０ｎｍのダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜と潤滑剤層が存在することがさらに好ましい。また、磁性層と保護膜の間に、Ｓｉ等の密着強化層を設けてもよい。潤滑剤は、スレーブ媒体との接触過程で生じるずれを補正する際の、摩擦による傷の発生などの耐久性の劣化を改善する。
【００４４】
前記原盤を用いて樹脂基板を作製し、その表面に磁性層を設けてマスター担体としてもよい。樹脂基板の樹脂材料としては、ポリカーボネート・ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル・塩化ビニル共重合体などの塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリエステルなどが使用可能である。耐湿性、寸法安定性および価格などの点からポリカーボネートが好ましい。成形品にバリがある場合は、バーニシュまたはポリッシュにより除去する。また、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂などを使用して、原盤にスピンコート、バーコート塗布で形成してもよい。樹脂基板のパターン突起の高さは、５０〜１０００ｎｍの範囲が好ましく、さらに好ましくは１００〜５００ｎｍの範囲である。
【００４５】
前記樹脂基板の表面の微細パターンの上に磁性層を被覆しマスター担体を得る。磁性層の形成は、磁性材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜手段、メッキ法などにより成膜する。
【００４６】
一方、フォトファブリケーション法は、例えば、平板状の基板の平滑な表面にフォトレジストを塗布し、サーボ信号のパターンに応じたフォトマスクを用いた露光、現像処理により、情報に応じたパターンを形成する。次いで、エッチング工程により、パターンに応じて基板のエッチングを行い、磁性層の厚さに相当する深さの穴を形成する。次いで、磁性材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜手段、メッキ法により、形成した穴に対応した厚さで基板の表面まで磁性材料を成膜する。次いで、フォトレジストをリフトオフ法で除去し、表面を研磨して、ばりがある場合は取り除くと共に、表面を平滑化する。
【００４７】
スレーブ媒体２としては、ハードディスク、高密度フレキシブルディスクなどの円盤状磁気記録媒体が使用され、その磁気記録層は塗布型磁気記録層あるいは金属薄膜型磁気記録層が形成されている。金属薄膜型磁気記録層の磁性材料としては、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒ、ＣｏＰｔＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒＮｂＴａ、ＣｏＣｒＢ、ＣｏＮｉ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＰｔ、ＦｅＣｏＮｉ）を用いることができる。これは磁束密度が大きいこと、磁界印加方向と同じ方向（面内記録なら面内方向）の磁気異方性を有していることが、明瞭な転写が行えるため好ましい。そして磁性材料の下（支持体側）に必要な磁気異方性をつけるために非磁性の下地層を設けることが好ましい。結晶構造と格子定数を磁性層に合わすことが必要である。そのためにはＣｒ、ＣｒＴｉ、ＣｏＣｒ、ＣｒＴａ、ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ、Ｒｕ等を用いる。
【００４８】
ここで、転写用磁界の印加角度を前述のような範囲とする実験結果を説明する。実験に使用したマスター担体、スレーブ媒体および磁気転写方法は次の通りである。
【００４９】
＜マスター担体の作製＞
Ｎｉスタンパー法により、円盤中心から半径方向２０〜４０ｍｍの位置まで、幅０．５μｍの等間隔放射状ラインで、ライン間隔が半径方向２０ｍｍの最内周位置で０．５μｍ間隔であるような、深さ０．２μｍの円盤状パターンを有するＮｉ基板を作成した。真空成膜装置において、室温にて１．３３×１０-5Ｐａ（１０-7Torr）まで減圧した後に、アルゴンを導入して０．４Ｐａ（３×１０-3Torr）とした条件下で、Ｎｉ基盤上に厚さ２００ｎｍのＦｅＣｏ膜（軟磁性層）を形成し、マスター担体とした。保磁力Ｈcmは８ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）、磁束密度Ｍｓは２８．９Ｔ（２３０００ Gauss）であった。
【００５０】
＜スレーブ媒体の作製＞
真空成膜装置において、室温にて１．３３×１０-5Ｐａ（１０-7Torr）まで減圧した後に、アルゴンを導入して０．４Ｐａ（３×１０-3Torr）とした条件下で、ガラス板を２００℃に加熱し、ＣｒＴｉ６０ｎｍ、ＣｏＣｒＰｔ２５ｎｍ、磁束密度Ｍｓ：５．７Ｔ（４５００ Gauss）、保磁力Ｈcs:１９９ｋＡ／ｍ（２５００Ｏｅ）の３．５インチ型の円盤状磁気記録媒体（ハードディスク）を作製した。
【００５１】
＜磁気転写試験方法＞
ピーク磁界強度がスレーブ媒体の表面において、スレーブ媒体保磁力Ｈcsの２倍の３9８ｋＡ／ｍ（５０００Ｏｅ）となるように、図１に示したようなリング型ヘッド電磁石を配置して、スレーブ媒体の初期直流磁化を行った。次に初期直流磁化したスレーブ媒体とマスター担体とを密着させて、ピーク磁界強度がスレーブ媒体の表面において２０７ｋＡ／ｍ（２６００Ｏｅ）となるように、リング型ヘッド電磁石の電流を調整して配置した。
【００５２】
このとき、上下の電磁石の磁界印加角度（ピーク磁界）を、図２に示す垂直方向の角度αを０゜〜±４５゜に、図３に示す平面のトラック方向の角度βを０゜〜±４５゜に変化させ、初期直流磁化とは逆向きに転写磁界を印加して磁気転写を行った。なお、マスター担体とスレーブ媒体の密着は、ゴム板を挟んでアルミニウム板上から加圧した。
【００５３】
＜電磁変換特性評価方法＞
電磁変換特性測定装置（協同電子社製ＳＳ−６０）によりスレーブ媒体の転写信号の評価を行った。ヘッドには、再生ヘッドギャップ：０．２４μｍ、再生トラック幅：１．９μｍ、記録ヘッドギャップ：０．４μｍ、記録トラック幅：２．４μｍであるＭＲヘッドを使用した。読み込み信号をスペクトロアナライザーで周波数分解し、１次信号のピーク強度Ｃと外挿した媒体ノイズＮの差（Ｃ／Ｎ）を測定した。角度αおよび角度βが共に０゜（α＝β＝０゜）のときの値を０ｄＢとし、相対値（ΔＣ／Ｎ）で評価を行った。この相対値（ΔＣ／Ｎ）が−６ｄＢより小さく（マイナス方向に大きく）なると、信号強度が小さく転写不良の状態となるので、この値を許容値として評価した。その結果を表１および表２に示す。
【００５４】
なお、表１では角度αおよび角度βを、いずれもプラス方向に変化させたときの値を示し、表２では角度αをマイナス方向、角度βをプラス方向に変化させたときの値を示している。角度αのプラス方向はスレーブ媒体とマスター担体との密着面に対して磁力線がスレーブ媒体側に進入するように上向きに傾く方向であり、下向きに傾く方向がマイナス方向である。角度βのプラス方向はスレーブ媒体とマスター担体との密着面におけるトラックの接線方向に対して磁力線が外周側に傾く方向であり、内周側に傾く方向がマイナス方向である。なお、平面トラック方向の角度βを変化させたデータは、プラス方向とマイナス方向でほぼ同一であるので、マイナス方向のデータは省略している。
【００５５】
【表１】
0004046480.tif 000002
【表２】
0004046480.tif 000003
【００５６】
表１および表２から分かるように、角度βが０゜の場合には、角度αが＋３０゜〜−３０゜の範囲で良好な磁気転写が行えた。同様に、角度αが０゜の場合には、角度βが＋３０゜〜−３０゜（マイナス値は示していないがプラス値と同様）の範囲で良好な磁気転写が行えた。また、角度αおよび角度βの一方がプラス方向またはマイナス方向に大きくなると、相対値ΔＣ／Ｎの良好な範囲は他方の角度が絶対値で３０゜より小さい範囲となり、太い罫線で囲まれた両角度α，βの絶対値の合計が３０゜以内である範囲で良好な磁気転写が行えた。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一つの実施の形態に係る磁気転写方法を実施する磁気転写装置の要部斜視図
【図２】転写用磁界の印加角度の第１の規定を示す正面図
【図３】転写用磁界の印加角度の第２の規定を示す平面図
【図４】磁界生成手段の他の実施の形態を示す概略図
【図５】磁気転写方法の基本工程を示す図
【符号の説明】
１    磁気転写装置
２    スレーブ媒体
３    マスター担体
５    磁界生成手段
21    円周トラック
32    磁性層
50    電磁石装置
α，β    角度
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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