【事件の表示】
　平成２年特許願第３３６９９７号「選択的に組織化された磁気記録媒体およびその製造方法」拒絶査定に対する審判事件（平成３年１２月３日出願公開、特開平３−２７２０１８）について、次のとおり審決する。
【結論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成２年１１月３０日（パリ条約による優先権主張１９９０年３月１２日、アメリカ合衆国）の出願であって、その請求項１に係る発明は、特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものと認める。（以下、「本願発明」という。）
「磁気データを記録し、読出すための磁気変換ヘッドと関連して作動される磁気媒体の製造方法において、非磁化性の基層本体上に鏡面仕上げの実質的に平らの基層面を形成し、磁化可能の記録層を、実質的に厚さが均一な層として前記基層面上に沈着させて基層面に実質的に平行な記録面を形成し、前記基層面又は記録面のいずれか上の処理面積部分にわたる多数の位置にパルス状のエネルギーを選択的に集中させ、各位置に丸い凹部を有する痕跡を形成し、痕跡は、前記処理面積部分全体にわたって、表面粗さを、パルス状のエネルギーを集中させる前の値の少なくとも２倍の値で増加させる、諸工程を含んでいる磁気媒体の製造方法。」
２．引用例
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先権主張の日前である平成１年１２月２１日に頒布された特開平１−３１７２２６号公報（以下、「引用例１」という。）には、次の事項が記載されている。
（１）「特に磁気ディスクの表面粗さの向上は著しく、従来の磁気ディスクのＲｍａｘは２０００Å以上あったのが、現在ではＲｍａｘが１００Å前後と１桁以上良くなっている。
　ところが、表面精度の向上にともなって、別の問題が新たに生じてきた。それは磁気ディスク装置が停止しているときに、磁気ヘッドスライダと磁気ディスクが吸着するという問題である。」（第２頁左上欄〜同頁右上欄参照）
（２）「吸着を軽減する方法として最も効果があるのは、磁気ディスクの表面に凹凸をつけ、ある程度表面粗さを大きくする方法である。凹凸形成の方法に関しては、いくつかの解決法が試みられてきたが、何れも不都合な点があった。例えば、一般に用いられている方法は基板にテクスチャーを付ける方法である。磁気ディスクの断面図を第７図に示す。図において、（１）はＡｌ−Ｍｇ合金等からなる基材、（２）は硬質膜、（３）は磁気記録媒体膜、（４）は保護膜である。基材（１）または基材（１）上に硬質膜（２）を成膜したものは一般に「基板」と呼ばれ、市販されている。・・・（中略）・・・この発明は上記のような問題点を解消するためになされたもので、十分な吸着防止効果を有する磁気ディスク用基板を得ることを目的とする。」（第２頁右上欄〜同頁左下欄参照）
（３）「第１図Ａ、Ｂはこの発明の一実施例による磁気ディスク用基板の製造方法を説明する断面図であり、図において、（１）は例えばＡｌ−Ｍｇ合金基材、（２）は例えばＮｉ−Ｐメッキ膜である。この基板を例えば濃度４０ボーメ度の塩化第二鉄溶液を用い、４０℃で１０秒間浸漬してエッチングすると、硬質膜（２）が２元合金のため、構成元素のエッチングレートの差から第１図Ｂに示すようなクレーター状の凹み（１１）が形成される。参考写真は上記実施例による磁気ディスク用基板の表面を示し、第２図はこの写真を拡大して模式的に示す。基板表面にはモザイク状模様のクレーター状の凹み（１１）が形成されている。なお、（１２）は突出部すなわち稜線を示す。」（第２頁右下欄〜第３頁左上欄参照）
（４）「この発明によれば、基材または硬質膜の表面にクレーター状の凹みを有するので、磁気ヘッドスライダとの接触面積が非常に小さく、磁気ディスクと磁気ヘッドスライダ間の吸着を効果的に防止できる磁気ディスク用基板が得られる。」（第３頁右上欄参照）
　これらの記載事項及び図面の記載を勘案すると、結局、上記引用例１には、次の発明が記載されていると認められる。
　「情報を書き込んだり、読み出したりするための、磁気ヘッドスライダと関連して作動される磁気ディスクの製造方法において、Ａｌ−Ｍｇ合金基材（１）上にＮｉ−Ｐメッキの硬質膜（２）を形成し、磁化可能の記録媒体膜（３）を、前記硬質膜（２）上に形成して記録面を形成し、前記硬質膜（２）をエッチング処理して基板表面にクレーター状の凹み（１１）を形成し、基板表面の粗さをエッチングする前よりも大きくする、諸工程を含んでいる磁気ディスクの製造方法。」
３．対比
　本願発明と上記引用例１に記載された発明とを対比する。
　引用例１に記載された発明における「情報を書き込んだり、読み出したりするための磁気ヘッドスライダ」「磁気ディスク」は、本願発明における「磁気データを記録し、読出すための磁気変換ヘッド」「磁気媒体」に相当する。引用例１に記載された発明における「Ａｌ−Ｍｇ合金基材」は非磁性基材であるから、本願発明における「非磁化性の基層本体」に相当する。引用例１に記載された発明における「硬質膜」はエッチング処理する前においては平面をなすものであるから、本願発明における「実質的に平らの基層面」に相当する。引用例１に記載された発明における「記録媒体膜」は、通常は厚さが均一な層として硬質膜上に硬質膜と平行に記録面を形成されるものであるから、本願発明における「実質的に厚さが均一な層として前記基層面上に沈着させて基層面に実質的に平行な記録面を形成した記録層」に相当する。また、引用例１に記載された発明における「クレーター状の凹み」は、痕跡となっていることは明らかであるから、本願発明における「凹部を有する痕跡」に相当する。
　したがって、両者は、
　磁気データを記録し、読出すための磁気変換ヘッドと関連して作動される磁気媒体の製造方法において、非磁化性の基層本体上に実質的に平らの基層面を形成し、磁化可能の記録層を、実質的に厚さが均一な層として前記基層面上に沈着させて基層面に実質的に平行な記録面を形成し、前記基層面上を処理して凹部を有する痕跡を形成し、痕跡は基層面全体にわたって、表面粗さを処理前より増加させる、諸工程を含んでいる磁気媒体の製造方法
の点で一致し、次の各点で相違する。
（ａ）「基層面」に関し、本願発明においては、基層面に鏡面仕上げがなされた後その表面の粗さが増加されるものであるのに対し、引用例１に記載された発明においては、基層面である硬質膜の表面粗さは増加されるものであるが、特に鏡面仕上げはなされていない点
（ｂ）「痕跡の形成」に関し、本願発明においては、処理面積部分にわたる多数の位置にパルス状のエネルギーを選択的に集中させ、各位置に丸い凹部を有する痕跡として形成するのに対し、引用例１に記載された発明においては、基層面上をエッチング処理して凹部として形成するものである点
（ｃ）「痕跡の表面粗さ」に関し、本願発明においては、処理面積部分全体にわたって、パルス状のエネルギーを集中させる前の値の少なくとも２倍の値で増加させるものであるのに対し、引用例１に記載された発明においては、硬質膜のエッチング処理された後の表面粗さはエッチング処理される前の粗さより大きくなっていることは明らかであるが、具体的にどの程度粗くなっているかについては明示されていない点
４．当審の判断
　上記相違点について検討する。
相違点（ａ）について
　非磁化性のＡｌ合金製の基層本体上にＮｉ−Ｐ合金メッキ層の基層面を形成し、この基層面を鏡面仕上げした磁気ディスク基板の表面を磁気ヘッドとの吸着を防止するために適度な粗面に形成することは周知の技術である（必要があれば、特開昭５９−８２６２６号公報、特開昭６１−２４６３８０号公報を参照されたい）から、引用例１に記載された発明においても、非磁化性のＡｌ合金製の基層本体上に形成されるＮｉ−Ｐ合金メッキ層の基層面を上記周知技術のように鏡面仕上げした後粗面に形成することは、当業者が適宜なし得た事項である。
相違点（ｂ）について
　原査定の拒絶の理由に引用された特開昭５４−２３５０８号公報（以下「引用例２」という。）には、コンタクト・スタート・ストップ（ＣＳＳ）形の浮動磁気ヘッドと記録媒体の吸着現象を改善するために、ＣＳＳゾーンにレーザ装置からのレーザビームを照射して該ゾーンを加熱し、ＣＳＳ時に浮動磁気ヘッドが吸着しない程度に荒仕上げすることが記載されてあり、レーザビームの照射はパルス状のエネルギーを選択的に集中することであるから、引用例１に記載された発明において、磁気ディスクの基層面をエッチング処理する代わりに引用例２に記載された発明のように所定の粗さが必要な部分にレーザビームを照射、すなわちパルス状のエネルギーを選択的に集中させて荒仕上げすることは、当業者が容易に想到できたものである。また、このとき、レーザビームのスポットは円形状をなすのが通常であることを考慮すると、該ビームが照射された部分に形成される痕跡は丸い凹部となることは明らかである。
相違点（Ｃ）について
　引用例１に記載された発明においても、磁気ディスクの基層面となる硬質膜のエッチング処理した後の粗さは少なくとも凹みを形成した分だけエッチング処理する前に比較して粗く形成されていることは明らかである。また、鏡面仕上げされた磁気ディスクの基層面を、磁気ヘッドが磁気ディスクに吸着するのを防止するために粗面処理する場合、処理後の表面粗さを処理前の２倍近辺に増加させることは周知の技術である（必要があれば、前掲の特開昭５９−８２６２６号公報、特開昭６１−２４６３８０号公報（特に、実施例２）を参照されたい）から、引用例１に記載された発明において、引用例２に記載された発明のようにレーザビームを用いて基層面である硬質膜表面を粗面化する場合にも、表面粗さを処理前の少なくとも２倍に増加させることは磁気ヘッドの磁気ディスクに対する吸着力をどの程度に抑えるかに応じて当業者が適宜なし得た事項である。
５．むすび
　したがって、本願の請求項１に係る発明は、上記引用例１、引用例２及び上記周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。