(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ランドおよびグルーブを有し、グルーブのみが光を用いた情報の記録に用いられる光情報記録用の基板であって、
ランドに相当する平坦部Ａの幅方向両端部に、平坦部Ａの長さ方向に沿って連続的に形成された突起部を含んでなり、
グルーブの底部に相当する平坦部Ｂと上記平坦部Ａとの中間高さにおける、グルーブ相当幅Ｗ１とランド相当幅Ｗ２との比（Ｗ１／Ｗ２）が２以上であり、
上記突起部の高さが、平坦部Ａを基準として５ｎｍ以上３０ｎｍ以下の範囲内であることを特徴とする光情報記録媒体用基板。
【請求項２】
上記グルーブ相当幅Ｗ１とランド相当幅Ｗ２との比（Ｗ１／Ｗ２）が３以下であることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体用基板。
【請求項３】
ランドおよびグルーブを有し、グルーブのみが光を用いた情報の記録に用いられる光情報記録媒体用の基板であって、
ランドに相当する平坦部Ａの幅方向両端部に、平坦部Ａの長さ方向に沿って連続的に形成された突起部を含んでなり、
さらに、上記平坦部Ａとグルーブに相当する平坦部Ｂとの境界側壁が、これら平坦部ＡおよびＢに対して４０°以上７５°未満の最大斜度を有し、
上記突起部の高さが、平坦部Ａを基準として５ｎｍ以上３０ｎｍ以下の範囲内であることを特徴とする光情報記録媒体用基板。
【請求項４】
グルーブの底部に相当する平坦部Ｂの深さが、上記平坦部Ａを基準として３５ｎｍ以上６５ｎｍ以下の範囲内である、あるいは２５ｎｍ以上４５ｎｍ以下の範囲内であることを特徴とする請求項１ないし３の何れか一項に記載の光情報記録媒体用基板。
【請求項５】
ランドおよびグルーブを有し、グルーブのみが光を用いた情報の記録に用いられる光情報記録媒体であって、
請求項１ないし４の何れか１項に記載の光情報記録媒体用基板と、
上記光情報記録媒体用基板の上に形成され、光による情報記録の対象となる記録層と、を含んでなることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項６】
さらに、上記記録層を含む光磁気記録媒体膜を備えており、該光磁気記録媒体膜がスパッタにより形成されたものであることを特徴とする請求項５に記載の光情報記録媒体。
【請求項７】
請求項１ないし４の何れか１項に記載の光情報記録媒体用基板を製造するためのスタンパであって、
ランドに相当する平坦部Ａ、およびグルーブの底部に相当する平坦部Ｂを形成するための凹凸パターンと、
上記凹凸パターンの凹部底部の幅方向両端部に、該凹部の長さ方向に沿って連続的に形成された溝状部と、を含んでなり、
上記平坦部Ａと平坦部Ｂとの境界側壁が、平坦部Ａおよび平坦部Ｂに対して７５°未満の最大斜度を有するように、上記凹凸パターンが形成され、
上記溝状部の深さが、平坦部Ａを基準として５ｎｍ以上３０ｎｍ以下の範囲内であることを特徴とするスタンパ。
【請求項８】
請求項７に記載のスタンパの製造方法であって、
スタンパ基材に上記凹凸パターンを形成する工程と、次いで、
スパッタ用電圧を、上記凹凸パターンが形成された面に対し垂直な方向から印加する異方性逆スパッタにより上記溝状部を形成する工程と、を含んでなることを特徴とするスタンパの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ランド・グルーブからなる情報トラック（以下、トラック）、及び情報の光学的な再生記録が可能な記録層が形成されてなる、光ディスク、光カード、光テープ等の光情報記録媒体に関する。より具体的には、上記トラックのうちグルーブのみを情報の再生記録に使用する、いわゆるグルーブ記録方式の光情報記録媒体、光情報記録媒体用基板、該基板製造用のスタンパ、及び該スタンパの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
光ビームを用いて情報の再生記録を行なう光ディスク、光テープなどの光情報記録媒体においては、サーボ機構によってトラックの追従を行なうため、ランドとグルーブとからなるレーザ光案内溝（案内溝）が形成されており、上記ランドまたはグルーブの何れか一方、若しくはランドとグルーブとの双方を対象とした情報の再生記録が行われる。
【０００３】
このうち、情報の再生記録にグルーブのみを用いるグルーブ記録方式では、情報の再生記録に用いないトラックすなわちランドが、情報再生記録用の隣接トラック間に介在するため、ランド・グルーブの双方を情報の再生記録に用いるランド・グルーブ記録方式に比べて、上記隣接トラックの情報読み出し（クロストーク）が何れも小さくなるという利点がある。
【０００４】
また、グルーブ記録方式として、光情報記録媒体の基板側から再生／記録用の光を入射させる方式を採用する場合には、ランドよりもグルーブが光入射側に近くなるために、ランドの影響を受けることなく情報の再生記録ができる。このため、ランドのみを情報の再生記録に用いるランド記録方式に比べて、信号品質が高くなるという利点がある。
【０００５】
ところで、上記グルーブ記録方式でも、光情報記録媒体のトラックピッチは、情報の再生記録に用いるレーザ光のスポットサイズから決定される。例えば、赤色レーザ（波長λ：６３５ｎｍ近傍、開口数ＮＡ：０．６近傍）を光源に用いたドライブに対しては１．０μｍ〜１．６μｍの範囲内に、青色レーザ（波長λ：４０５ｎｍ近傍、開口数ＮＡ：０．６近傍）を光源に用いたドライブに対しては０．６μｍ〜１．０μｍの範囲内に、トラックピッチを設定することが実用的とされている。
【０００６】
また、実用的なプッシュプル信号振幅が必要となる観点から、ランドおよびグルーブはそれぞれ平坦部を持った断面矩形形状を有し、かつ、情報の再生記録に使用しないトラックの幅、すなわちランド幅は、上記赤色レーザを用いたドライブに対しては０．３μｍ〜０．５μｍ程度に、また、青色レーザを用いたドライブでは０．２μｍ〜０．３５μｍ程度にすることが望ましいとされている。
【０００７】
さらに、光情報記録媒体の技術として周知のように、ランドに対するグルーブの深さ、いわゆるグルーブ深さは、十分なプッシュプル信号振幅を得る観点からλ／８ｎ近傍の値か、その値からλ／４ｎ分ずらした値とすることが望ましいとされる。なお、ここでλは入射される光ビームの波長を指し、ｎは光情報記録媒体用の基板の屈折率を指す。より具体的には、基板の基材として、屈折率ｎ＝１．５〜１．６であるポリカーボネート樹脂やＡＰＯ（Amorphous Poly-Olefin）樹脂を採用した場合には、上記赤色レーザ（λ：６３５ｎｍ近傍）を用いるドライブに対しては５０ｎｍや１５０ｎｍ程度に、また、上記青色レーザ（λ：４０５ｎｍ近傍）を用いたドライブに対しては３５ｎｍや１０５ｎｍ程度に、グルーブ深さが設定される。
【０００８】
しかしながら、一般にランドとグルーブとの境界側壁（以下、境界側壁）は斜面になっているため、グルーブ深さが深くなると、それに伴ってランド・グルーブ境界部の幅（基板面方向に沿った境界側壁の幅）も広くなる。このため、トラックピッチが一定の場合、情報記録を行なうグルーブの平坦部の幅が相対的に狭くなり、特に、高密度記録対応のためトラック密度を高めた際に、充分な再生信号振幅が得られなくなってしまう。また、上記境界側壁はその表面を平滑に形成することが非常に困難であるため、情報信号再生時に再生信号に影響を与え信号品質を低下させるノイズ源となる。これらの理由から、上記ランド・グルーブ境界部の幅は極力狭くする必要がある。
【０００９】
なお、グルーブ深さを深くしてもランド・グルーブの境界部の幅が広くならないようにするためには、上記境界側壁の傾斜をより急峻とする方法が考えられる。しかし、境界側壁の傾斜を極端に急峻とすると、基板を射出成形によって作成する際に転写ずれを引き起こす原因となり、案内溝の形状が正しく転写されないという問題を招来する。
【００１０】
従って、ランド・グルーブ境界部の幅を、良好な再生信号品質を得る目的で極力狭くするためには、トラッキングに必要なプッシュプル信号振幅を得られる範囲内で、グルーブ深さを極力浅くすることが必要となる。具体的には、例えば、光情報記録媒体用の基板としてポリカーボネート樹脂やＡＰＯ樹脂（屈折率ｎ：１．５〜１．６）を使用した場合、赤色レーザ（波長６３５ｎｍ近傍）を用いるドライブに対しては５０ｎｍ程度に、青色レーザ（波長４０５ｎｍ近傍）を用いるドライブに対しては３５ｎｍ程度に、グルーブ深さを設定することが望ましい。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
このようなグルーブ記録方式の光情報記録媒体において記録の高密度化を実現するためには、トラックピッチを狭くする必要がある。しかし、トラックピッチが狭くなるに伴い、隣接トラック間（グルーブ−グルーブ間）のクロスライト、クロスイレーズ、クロストークが増大し、再生信号品質が劣化する問題が発生する。特に、上記隣接トラックに記録された情報を部分的に書き換えてしまうクロスライトの増大は、トラック密度を高めて記録の高密度化を図る際には極めて大きな課題となる。
【００１２】
このような課題を解決するための方法として、特開平１１−１２０６３６号公報には、境界側壁の斜度が急峻な逆Ｖ字形状または矩形状のランド部を形成することによって隣接グルーブ−グルーブ間の磁気的結合を切断する方法が開示されている。しかしながら、ランド部を逆Ｖ字形状とした場合にはランド頂上部に平坦部が存在しなくなる。このため、グルーブ記録方式において実用的な前記トラックピッチを採用すると、ランド部を矩形状に形成した場合に比べて、得られるプッシュプル信号振幅が減少してしまうという問題がある。
【００１３】
また、グルーブ記録方式にて良好な信号品質が得られる前記グルーブ深さを有し、かつ境界側壁の斜度が急峻な矩形状のランド部を形成した基板に対し、特開平１１−１２０６３６号公報に開示の条件に従い光磁気ディスク媒体膜をスパッタリングにより形成したところ、グルーブ深さが浅いために磁性膜は基板の全面にほぼ一様に付着した。この結果、当該公報に開示されたような磁気的な分断効果は得られず、グルーブ記録媒体のクロスライトを大きく低減する効果は得られないままであることが判明した。
【００１４】
さらに、特開平１１−１２０６３６号公報や、特開２００１−２２９５８７号公報に開示された基板のように、ランドおよびグルーブ平坦部と、境界側壁とのなす角度が９０°に近い、極めて急峻な側壁形状を有していれば、射出成形によってこの基板を形成する場合、基板取り出し時にスタンパと基板とが強く擦れ合ってスタンパが境界側壁を削ってしまう。これにより、ランドの半径方向のエッジ（境界側壁側のエッジ）に意図しない突起形状が形成されると同時に、境界側壁が削られてランド幅が狭くなってしまうという問題が生じる。このような、意図しない突起形状の形成、およびランド幅の狭幅化は、形成された基板全面に均一に起こる現象ではなく、樹脂が流れる方向（ディスク基板においては半径方向）に沿って大きく異なる。また、成形機プラテンおよび金型の平行度の微妙なずれや、型締め圧力の微妙なばらつきによって、ディスク基板の周方向にも大きく異なる。従って、特開平１１−１２０６３６号公報や特開２００１−２２９５８７号公報に開示された境界側壁の斜度を極端に急峻にする方法では、ランドおよびグルーブの幅や形状を基板全面にわたって均一化することが極めて困難であり、情報を読み出し時の信号特性を大きく損なってしまうという問題がある。
【００１５】
本発明は上記の課題を解決するためになされたものであって、グルーブのみを情報の再生記録に用いるグルーブ記録方式が適用され、かつ、トラックの高密度化（狭トラックピッチ化）を図った場合でもクロスライトの低減が実現可能な構成を備えた光情報記録媒体、光情報記録媒体用基板、該基板製造用のスタンパ、及び該スタンパの製造方法を提供することを目的としている。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明にかかる光情報記録媒体用基板は、上記の課題を解決するために、ランドおよびグルーブを有し、グルーブのみが光を用いた情報の記録に用いられる光情報記録媒体用の基板であって、ランドに相当する平坦部Ａの幅方向端部の少なくとも一方に、平坦部Ａの長さ方向に沿って連続的に形成された突起部を含んでなることを特徴としている。
【００１７】
上記構成の基板上に記録層を形成して光情報記録媒体を作製すれば、平坦部Ａ・Ｂ上と比較して突起部上に形成される記録層の膜厚が薄くなる。また、上記突起部が、隣接するグルーブ間の距離を実効的に長くする。そのため、光情報記録媒体では、トラック幅方向への熱抵抗が大きくなり隣接グルーブへの熱伝導が起こりにくくなるので、隣接グルーブ間でのクロスライトが大幅に低減される。つまり、隣接グルーブ間でのクロスライトが大幅に低減されてなる光情報記録媒体を容易に作製可能とする光情報記録媒体用基板を提供することができる。
【００１８】
本発明にかかる光情報記録媒体用基板は、上記の構成を前提として、さらに、上記突起部が、平坦部Ａの幅方向両端部に、平坦部Ａの長さ方向に沿って連続的に形成されてなる構成であることがより好ましい。
あるいは、上記何れかの構成を前提として、上記突起部の高さが、平坦部Ａを基準として５ｎｍ以上３０ｎｍ以下の範囲内であることがより好ましい。
【００１９】
上記何れかの構成によれば、隣接グルーブ間でのクロスライトがより大幅に低減されてなる光情報記録媒体を容易に作製可能とする光情報記録媒体用基板を提供することができる。
【００２０】
本発明にかかる光情報記録媒体用基板は、上記何れかの構成を前提として、さらに、グルーブの底部に相当する平坦部Ｂと上記平坦部Ａとの中間高さにおける、グルーブ相当幅Ｗ１とランド相当幅Ｗ２との比（Ｗ１／Ｗ２）が、２以上であることがより好ましい。
【００２１】
上記の構成によれば、媒体全体の容量を低下させることなく、必要なプッシュプル振幅が得られると同時に、良好な再生信号品質を得ることができる。
【００２２】
本発明にかかる光情報記録媒体用基板は、上記何れかの構成を前提として、グルーブの底部に相当する平坦部Ｂの深さが、上記平坦部Ａを基準として３５ｎｍ以上６５ｎｍ以下の範囲内である、あるいは２５ｎｍ以上４５ｎｍ以下の範囲内であることがより好ましい。
【００２３】
上記平坦部Ｂの深さが３５ｎｍ以上６５ｎｍ以下の範囲内である場合には、赤色レーザ（波長６３５ｎｍ近傍）を光源として用いると、好適なプッシュプル信号が得られる。一方、上記平坦部Ｂの深さが２５ｎｍ以上４５ｎｍ以下の範囲内である場合には、青色レーザ（波長４０５ｎｍ近傍）を光源として用いると、好適なプッシュプル信号が得られる。また、平坦部Ｂの深さが上記何れかの範囲内であれば、１）高トラック密度化も容易であり、加えて、２）平坦部Ａ・Ｂ間の境界側壁の非平滑性が信号品質を低下させる虞も確実に抑制可能となる。つまり、上記の構成によれば、好適なプッシュプル信号が得られ、高トラック密度化が可能で、かつ良好な信号品質が得られる光情報記録媒体を容易に作製可能とする光情報記録媒体用基板を提供することができる。
【００２４】
本発明にかかる光情報記録媒体は、上記の課題を解決するために、ランドおよびグルーブを有し、グルーブのみが光を用いた情報の記録に用いられる光情報記録媒体であって、上記何れかの光情報記録媒体用基板と、上記光情報記録媒体用基板上に形成され、光による情報記録の対象となる記録層と、を含んでなることを特徴としている。
【００２５】
上記の構成によれば、隣接グルーブ間でのクロスライトが大幅に低減されてなる光情報記録媒体を提供可能となる。
【００２６】
本発明にかかるスタンパは、上記の課題を解決するために、ランドに相当する平坦部Ａ、およびグルーブの底部に相当する平坦部Ｂを形成するための凹凸パターンと、上記凹凸パターンの凹部底部の幅方向端部に、該凹部の長さ方向に沿って連続的に形成された溝状部と、を含んでなることを特徴としている。
【００２７】
上記の構成によれば、上記何れかの光情報記録媒体用基板を容易に製造することが可能なスタンパを提供することができる。
【００２８】
本発明にかかるスタンパは、上記の構成を前提として、さらに、光情報記録媒体用基板において、ランドに相当する平坦部Ａとグルーブの底部に相当する平坦部Ｂとの境界側壁が、平坦部Ａおよび平坦部Ｂに対して７５°未満の最大斜度を有するように、上記凹凸パターンが形成されていることがより好ましい。
【００２９】
上記の構成によれば、上記凹凸パターンがより正確に光情報記録媒体用基板に転写されるとともに、当該基板とスタンパとの間で不所望な擦れなどが発生する虞が確実に回避される。
【００３０】
本発明にかかるスタンパの製造方法は、上記の課題を解決するために、スタンパ基材に上記凹凸パターンを形成する工程と、次いで、異方性逆スパッタにより上記溝状部を形成する工程と、を含んでなることを特徴としている。
【００３１】
上記の方法によれば、特にマスキングなどを行なうことなく上記溝状部を形成することができるので、上記スタンパをより容易に製造する方法を提供可能となる。
【００３２】
【発明の実施の形態】
〔実施の形態１〕
本発明の一実施の形態について図面に基づいて説明すれば、以下のとおりである。なお、本発明の権利範囲は、特にこの実施の形態の記載のみに限定されるものではない。
【００３３】
本実施の形態にかかる光磁気ディスク（光情報記録媒体）９の情報記録領域は、図１の断面図に示すように、ランド１に相当する平坦部１ａ（平坦部Ａ）およびグルーブ２の底部に相当する平坦部２ｂ（平坦部Ｂ）からなる案内溝が形成されたディスク状基板（光情報記録媒体用基板）３の表面上に、誘電体膜および金属膜からなる光磁気記録媒体膜４が形成されてなる。この光磁気ディスク９は、トラックを構成するランド１およびグルーブ２のうち、グルーブ２のみに、光ビームを用いた情報記録を行なうグルーブ記録媒体である。
【００３４】
さらに、情報記録に用いないランド１の平坦部、より具体的には、ディスク状基板３の平坦部１ａにおけるトラック幅方向両端部には、トラックの長さ方向（平坦部１ａの長さ方向）に連続的な突起部５・５が形成されている。
【００３５】
上記突起部５は、１）隣接するグルーブ２・２間の距離を実効的に長くする。また、２）ディスク状基板３の表面に光磁気記録媒体膜４を形成するに際して遮蔽効果を示し、平坦部１ａ・２ｂ上と比較して、突起部５上に形成された光磁気記録媒体膜４の膜厚が薄くなる。これらの理由から、光磁気ディスク９では、トラック幅方向への熱抵抗が大きくなり隣接トラック（グルーブ２・２）への熱伝導が起こりにくくなるので、隣接トラック間でのクロスライトが大幅に低減されるという効果が得られる。
【００３６】
なお、上記突起部５は、平坦部１ａの幅方向端部の少なくとも一方に、平坦部１ａの長さ方向に沿って連続的に形成されていればよいが、図１に示すように、平坦部１ａの幅方向両端部に形成されていれば、上記効果が増強されるためより好ましい。また、突起部５は平坦部１ａの全長にわたって形成されていてもよく、あるいは一部分のみに形成されていてもよい。さらに、突起部５は、複数ある平坦部１ａ（一つのみ図示）の一部あるいは全部に形成されていればよい。
【００３７】
また、突起部５の高さは、隣接トラック間でのクロスライトが低減されるという効果が得られる限りにおいて特に限定されものではないが、平坦部１ａを基準面として５ｎｍ以上３０ｎｍ以下の範囲内であることが特に好ましい。突起部５の高さが５ｎｍ以上であれば、光磁気記録媒体膜４の厚さなどの条件に実質的に左右されることなくクロスライトなど低減の効果が確実に得られる。また、突起部５の高さが３０ｎｍ以下であれば、該突起部５が信号ノイズの原因となる虞が確実に防止される。
【００３８】
また、ディスク状基板３において、平坦部Ｂと上記平坦部Ａとの中間高さ（高さの半値位置）にて測定された、グルーブ相当幅Ｗ１とランド相当幅Ｗ２との比（Ｗ１／Ｗ２）は特に限定されるものではないが、２以上であることが特に好ましい。なお、Ｗ１／Ｗ２≧２の範囲が好ましい理由については後述する。
【００３９】
以下、本実施の形態にかかる光磁気ディスク９の具体的な設計例、および製造方法について説明するが、特にこの記載のみに限定されるものではない。なお、後述する斜度は何れも、Digital Instruments社製のＡＦＭ（Atomic Force Microscope）であるDimension 3000（商品名）に、NanoSensors社製のＮＣＨ−１０Ｔ型シリコン単結晶プローブを取り付けて測定した。当該プローブ先端の曲率半径は１０ｎｍである。また、測定対象物の傾斜が最も急峻な箇所をもって、測定対象物の斜度とした。
【００４０】
光磁気ディスク９のトラックピッチの一例は１．０μｍであり、そのうち、ランド相当幅Ｗ２が０．３３μｍ、グルーブ相当幅Ｗ１が０．６７μｍとなっている。また、平坦部１ａを基準面とした平坦部２ｂの深さ（以下、グルーブ深さと称する場合もある）を５０ｎｍに設計した。さらに、突起部５は、平坦部１ａを基準とした高さが１６ｎｍ、その最大幅が２８ｎｍの断面Ｖ字形状に形成されている。なお、この設計は、波長６３５ｎｍの赤色レーザを記録用／再生用光源として採用する場合に特に適切なものである。
【００４１】
また、上記光磁気ディスク９の具体的な製造方法の一例は、図２（ａ）にその断面形状を示すような原盤６を作成し、この原盤６から得たスタンパ７（図２（ｂ））を用いてディスク状基板３（図２（ｃ））を製造する工程と、このディスク状基板３上に、光磁気記録媒体膜４を形成する工程と、を含んでなる。
【００４２】
図２（ａ）に示すように原盤６は、例えば、ランド１およびグルーブ２に相当するパターンを形成するための溝部２’を、石英ガラスなどからなる円盤上に形成したものである。
【００４３】
ガラス製の原盤６のより具体的な製造方法を以下に説明する。
まず、原盤６の基体となる石英ガラス円盤をスピンコータに取り付け、その表面に感光性ポジ型レジスト（図示せず）を２００ｎｍの厚さで一様に塗布した。ここで、感光性ポジ型レジスト（以下、単にレジストと称する）とは、現像工程によって、光が照射された部分が除去され、光が照射されなかった部分が残るレジストを指す。
【００４４】
そして、上記レジストを乾燥させた後に石英ガラス円盤を露光装置に取り付け、波長３５１ｎｍのレーザ光を用いた露光により螺旋状の露光パターン（図示せず）をレジストに形成し（露光工程）、次いで、現像液を用いて露光パターンの現像を行なった（現像工程）。
【００４５】
ここで、上記露光パターンは、ディスク状基板３におけるトラックピッチが１．０μｍであり、そのうち、ランド相当幅Ｗ２が０．３３μｍ、グルーブ相当幅Ｗ１が０．６７μｍとなるように、露光用のレーザ光を位置調節して形成する（図１も参照）。つまり、図２（ａ）に示す幅Ｗ２’が０．３３μｍ、幅Ｗ１’が０．６７μｍとなるように上記レーザ光を位置調節する。
【００４６】
続いて、現像後の石英ガラス円盤をエッチング装置に取り付け、１×１０-4Ｐａまで真空引きを行なった後にＣＦ4ガスを導入し、ＣＦ4ガス雰囲気中で、ガラス面の異方性エッチングを行った。このときのＣＦ4のガス圧は０．３Ｐａ、エッチング電力は５００Ｗ、エッチング時間は４分間とした。また、エッチング用の電圧は、石英ガラス円盤の露光パターンが形成された面に対し垂直な方向から印加した。これにより、レジストに覆われていない石英ガラスの領域（上記露光パターンに相当する領域）がエッチングされて、溝部２’が形成された。
【００４７】
その後、残留レジストを除去して、図２（ａ）に示すような、ランド１およびグルーブ２を形成するための溝部２’を一面に有するガラス製の原盤６を得た。なお、ランドに相当する平坦部１ａ’を基準として、グルーブに相当する平坦部２ｂ’の深さは５０ｎｍであった。また、ランド・グルーブの境界側壁２ａ（図１参照）に相当する側壁２ａ’の、平坦部１ａ’・２ｂ’に対する斜度（傾斜角）は最も急峻な箇所で６５°であった。なお、側壁２ａ’の斜度は、露光用レーザ光の波長、使用するレジストの感度、レジスト現像後に行なうエッチング異方性を変化させること、などにより所望の値に調整することができる。
【００４８】
続いて、上記方法で作製した原盤６を基に、スタンパ７を作製した。ディスク状基板３を製造する鋳型であるスタンパ７は、ランド１を形成するための凹部２１と、グルーブ２を形成するための凸部２２とからなる凹凸パターンを表面に有する。さらに、上記凹部２１の平坦部（底部）の幅方向両端部に、凹部２１の長さ方向に連続した窪み部（溝状部）８・８が形成されている。
【００４９】
スタンパ７の作製方法の一例を以下に示す。
まず、図２（ａ）に示す、ランド１およびグルーブ２に相当するパターンを形成するための溝部２’を備えた原盤６を、スパッタ装置に取り付ける。次いで、スパッタ装置内を５×１０-5Ｐａまで真空引きした後にＡｒガスを導入し、Ａｒガス雰囲気中で、原盤６の溝部２’形成面上にＮｉ金属膜（図示せず）を１００ｎｍの厚さで形成した。
【００５０】
次に、上記Ｎｉ金属膜を一方の電極としてＮｉメッキ浴中で電鋳を行い、厚さ０．３ｍｍのＮｉ円盤（スタンパ基材：図示せず）を得た。
【００５１】
ここで、原盤６に形成された溝部２’の形状が上記Ｎｉ円盤に転写された。Ｎｉ円盤におけるトラックピッチ相当幅（図２（ｂ）に示すＷ１１＋Ｗ１２に相当）は１．０μｍ、ランド１を形成するための凹部２１の幅Ｗ１２は０．３３μｍ、グルーブ２を形成するための凸部の幅Ｗ１１は０．６７μｍであった。凸部２２の平坦部を基準とした凹部２１の平坦部の深さは５０ｎｍであり、また、凸部２２と凹部２１との境界側壁の斜度は、凸部２２および凹部２１の平坦部に対して最も急峻な箇所で６５°であった。つまり、Ｎｉ円盤に転写された形状は何れも、原盤６に作製した形状に対し完全なポジとなっていた。なお、上記の幅Ｗ１１・Ｗ１２については、凸部２２の平坦部と凹部２１の平坦部との中間高さ（高さの半値位置）で測定した。
【００５２】
上記Ｎｉ円盤は、原盤６から取り外して、以下の異方性ＲＦ逆スパッタ（異方性高周波逆スパッタリング）工程に供した。具体的には、Ｎｉ円盤をスパッタ装置に取り付け、５×１０-5Ｐａまで真空引きを行なった後にＡｒガスを導入し、Ａｒガス雰囲気中で、上記凹凸パターンが形成されたＮｉ円盤面の異方性ＲＦ逆スパッタを行った。なお、スパッタ用の電圧は、上記凹凸パターンが形成されたＮｉ円盤面に対し垂直な方向から印加した。この異方性逆スパッタリングにより、凹部２１底部の幅方向両端に窪み部（溝状部）８・８が形成された。
【００５３】
ここで、窪み部８が形成される理由について説明する。
電極間にスパッタ用の電圧を印加し、逆スパッタを行なう異方性逆スパッタでは、凹凸パターンを形成したＮｉ円盤面が、スパッタ用の電圧の印加方向に対して垂直に設置されている場合、すなわち、逆スパッタの対象である凹部２１の深さ方向が、スパッタ用の電圧の印加方向にほぼ一致している場合に、逆スパッタ分子が凹部２１の深さ方向に対して強い異方性を持つこととなる。
【００５４】
逆スパッタ分子の異方性は印加電圧が高い程、またＡｒガス圧が低いほど強くなる。異方性逆スパッタにより、深さ方向（Ｎｉ円盤面に対し垂直方向）に逆スパッタが進行していく際、凹部２１の幅方向両端近傍では、凹部２１の平坦部（凹部２１底部）に直接衝突する逆スパッタ分子に加えて、凹部２１と凸部２２との境界側壁に当たった逆スパッタ分子の一部が、当該境界側壁への衝突ではエネルギーを完全に消失せずに凹部２１の平坦部へと衝突する。このため、凹部２１底部の幅方向両端近傍では、底部の中央に比べて逆スパッタが深さ方向に速く進むこととなり、結果として凹部２１底部の幅方向両端に窪み部８・８が形成される。つまり、この方法を採用すれば、特にマスキングなどを行なうことなく、実質的に凹部２１底部の幅方向両端のみを選択的に逆スパッタ可能となり、極めて容易に窪み部８・８を形成可能となる。
【００５５】
窪み部８の深さおよび幅は、逆スパッタ時のＡｒガス圧、逆スパッタ電力、逆スパッタ時間などの諸条件を変更することで、任意の値に変更可能である。特に好適な大きさにある突起部５の完全なポジとなるように、窪み部８の深さは、例えば、５ｎｍ以上３０ｎｍ以下の範囲内にあることが特に好ましいが、このためには一般に、Ａｒガス圧は０．０１Ｐａ〜０．１Ｐａの範囲内とすることが特に好ましい。逆スパッタ電力は、電極面積との関係にも左右されるが、２００Ｗ〜１ｋＷの範囲内とすることが特に好ましい。逆スパッタ時間は１min 〜２０min の範囲内とすることが特に好ましい。
【００５６】
なお、本実施の形態では、逆スパッタの異方性を高めて急峻な窪み部８を得るために、逆スパッタ時のＡｒガス圧を０．０２Ｐａと極めて低い圧力とし、逆スパッタ電力は６００Ｗと高くした。また、逆スパッタ時間は９分間とした。さらに、逆スパッタに使用したスパッタ装置の電極面積は２８００ｃｍ2とした。逆スパッタ時の異方性は電極面積にも依存する。従って、電極面積がより小さなスパッタ装置を使用する場合には逆スパッタ電力を弱め、電極面積がより大きなスパッタ装置を使用する場合には逆スパッタ電力を強めることで、同一の逆スパッタレートにより同一の窪み部８形状を得ることが可能となる。
【００５７】
上記条件に従った逆スパッタにより形成された窪み部８は、凹部２１底部に対する深さが１６ｎｍ、最大幅が２８ｎｍのＶ字断面形状の溝であり、全凹部２１において一様な形状で形成された。
【００５８】
次いで、凹部２１底部の幅方向両端に窪み部８が形成されたＮｉ円盤について、樹脂基板（ディスク状基板３）作製用の射出成形機の形状に合わせて内外径の打ち抜き加工を行い、図２（ｂ）に示すＮｉ製のスタンパ７を得た。
【００５９】
続いて、スタンパ７を基にディスク状基板３を作製した。
図２（ｃ）に示すように、本実施の形態の光磁気ディスク９を作製するためのディスク状基板３は、ランド１に相当する平坦部１ａ、グルーブ２に相当する平坦部２ｂ、および平坦部１ａ・２ｂの境界側壁２ａからなる案内溝が一面に形成され、かつ、平坦部１ａ上の幅方向両端部に、トラック長さ方向に連続した突起部５・５を形成したものである。
【００６０】
このディスク状基板３の作製に当たっては、まず、上記窪み部８が形成されたスタンパ７（図２（ｂ））を射出成形機に取り付ける。次いで、ポリカーボネート樹脂を溶融して成形金型内に流し込むことにより、厚さ０．５ｍｍ、直径５０ｍｍのディスク状基板３を射出成形した。
【００６１】
ディスク状基板３には、射出成形時にスタンパ７の溝形状が転写された。転写された案内溝のトラックピッチは１．０μｍ、ランド相当幅Ｗ２およびグルーブ相当幅Ｗ１は、それぞれ０．３３μｍおよび０．６７μｍであった（図１参照）。また、ランド１に相当する平坦部１ａを基準とした平坦部２ｂの深さは５０ｎｍ、ランド１とグルーブ２との境界側壁２ａの斜度は最大６５°であり、何れもスタンパ７の溝形状が完全に転写されていた。さらに、ランド１に相当する平坦部１ａ上の幅方向両端部には、スタンパ７に形成された窪み部８・８の形状が転写された。この結果、平坦部１ａを基準とした高さが１６ｎｍ、その最大幅が２８ｎｍのＶ字断面形状の突起部５・５がトラックの伸長方向に連続して形成された。
【００６２】
続いて、誘電体膜、金属磁性膜からなる光磁気記録媒体膜４を、スパッタ装置を用いてディスク状基板３上に形成した。なお、本実施の形態では光磁気記録媒体膜４として、ＣＡＤ（Center Aperture Detection）方式の磁気的超解像再生多層膜を用いた。ＣＡＤ方式の磁気的超解像再生とは、磁気的なマスク領域を用いて、ビームスポットよりも小さい磁気的なアパーチャーを記録層に生じさせることにより、再生時の符号間干渉を減少させ、光の回折限界以下の周期の信号を再生可能とする再生方式である。
【００６３】
光磁気記録媒体膜４は、図３に膜断面構成を示すように、ＡｌＮからなる透明誘電体保護層１０、ＧｄＦｅＣｏからなる再生層１１、ＧｄＦｅからなる面内磁化層１２、ＡｌＮｉからなる非磁性中間層１３、ＡｌＮからなる非磁性中間層１４、ＴｂＦｅＣｏからなる記録層１５、ＧｄＦｅＣｏからなる磁界感度調整層１６、ＡｌＮからなる保護層１７、およびＡｌＮｉからなる放熱層１８、により構成される。なお、各層の材質は特に上記のものに限定されない。
【００６４】
これらの膜は、ディスク状基板３をスパッタ装置内に取り付けて、５×１０-5Ｐａまで真空引きした後、順次、スパッタ形成される。より具体的には、透明誘電体保護層１０を膜厚６５ｎｍで、再生層１１を膜厚３０ｎｍで、面内磁化層１２を膜厚１５ｎｍで、非磁性中間層１３を膜厚５ｎｍで、非磁性中間層１４を膜厚３ｎｍで、記録層１５を膜厚４０ｎｍで、磁界感度調整層１６を膜厚１５ｎｍで、保護層１７を膜厚２０ｎｍで、放熱層１８を膜厚３５ｎｍで順次、積層形成した。
【００６５】
スパッタによって光磁気記録媒体膜４を形成する場合には、ディスク状基板３の案内溝形成面に対して斜め方向から入射する誘電体の分子および金属磁性体の分子が、Ｖ字断面形状をした突起部５の片側の斜面で遮蔽される。このため、その反対側の斜面には、誘電体の分子および金属磁性体の分子が付着しにくくなる。この結果、突起部５上に形成された光磁気記録媒体膜４の膜厚は、平坦部１ａ・２ｂ上に形成される光磁気記録媒体膜４の膜厚よりも相対的に薄くなった。ただし、光磁気記録媒体膜４は突起部５上を含めてディスク状基板３の情報記録面（案内溝形成面と同義）側全面に形成されており、部分的に膜厚は薄くなるもののトラック幅方向の磁気的な連続性が完全に切断されている箇所は無かった。
【００６６】
続いて、光磁気記録媒体膜４を保護するためのバックコート樹脂（図示せず）を塗布し、図１に示す光磁気ディスク９を作製した。
【００６７】
次いで、上記方法によって作製した光磁気ディスク９（サンプル＃１とする）の特性を評価した。具体的には、波長６３５ｎｍの半導体レーザを記録用の光源とし、開口数ＮＡが０．６５の集光系（対物レンズ手段）を備えた光磁気ピックアップを使用して、線速３ｍ／ｓの条件で、上記光磁気ディスク９のクロスライトマージンを測定した結果について示す。
【００６８】
まず、図４（ａ）・（ｂ）を用いて、上記クロスライトマージンの測定方法を説明する。測定にあたっては、光磁気ディスク９の測定トラック１９（グルーブ２の一つ）、およびその両側の隣接トラック２０・２０’（何れもグルーブ２の一つ）に記録用のレーザを４．０ｍＷのピークパワーで連続照射しながら−２０ｋＡ／ｍの消去磁界を印加し、記録層１５の磁化を一方向に揃える。次に、レーザパルス磁界変調方式を用いて、測定トラック１９にランダムパターンを記録する。より具体的には、記録外部磁界を±２０ｋＡ／ｍに変調し、記録層１５に記録磁界の向きに対応したランダムパターンを、記録パルスデューティー３３％で記録する（図４（ａ））。このとき、ランダムパターンの最短マーク長、すなわち、実際に記録された最も短い記録磁区の長さは０．２１μｍとした。また、記録時のレーザ照射のピークパワー（Ｐｗ−ｐｅａｋ）は５．５ｍＷから１０ｍＷまで変化させた。そして、測定トラック１９上に記録再生用レーザを連続照射し、１トラック記録時でのビットエラーレート（ＢＥＲ）を測定した。なお、再生時のレーザ照射のピークパワーは、測定トラック１９を再生した際に最もＣＮＲが大きくなるように設定し、１．７ｍＷとした。
【００６９】
次に、測定トラック１９およびその隣接トラック２０・２０’に記録用レーザを４．０ｍＷのピークパワーで再び連続照射しながら−２０ｋＡ／ｍの消去磁界を印加し、記録層１５の磁化を一方向に揃える。続いて、レーザパルス磁界変調方式を用いて測定トラック１９にランダムパターンを記録する。より具体的には、記録外部磁界を±２０ｋＡ／ｍに変調し、記録層１５に記録磁界の向きに対応した最短マーク長０．２１μｍのランダムパターンを、記録パルスデューティー３３％で記録する（図４（ａ））。さらに、隣接トラック２０・２０’にもレーザパルス磁界変調方式を用い、測定トラックに対する場合と同一のピークパワーでランダムパターンを記録する。より具体的には、記録外部磁界を±２０ｋＡ／ｍに変調し、記録磁界の向きに対応した最短マーク長０．２１μｍのランダムパターンを、記録パルスデューティー３３％で記録層１５に記録する（図４（ｂ））。また、トラック１９・２０・２０’に対する記録時のレーザ照射のピークパワー（Ｐｗ−ｐｅａｋ）は８．５ｍＷから１０ｍＷまで変化させた。次いで、測定トラック１９上に記録再生用のレーザをピークパワー１．７ｍＷで連続照射し、３トラック記録時でのＢＥＲを測定する。
【００７０】
そして、上記１トラック記録時および３トラック記録時でのＢＥＲ測定結果に基づき、３トラック記録時のＢＥＲが５×１０-4以下となる記録時のピークパワー（Ｐｗ−ｐｅａｋ）の範囲をクロスライトマージンとした。
【００７１】
なお、上記３トラック記録時では、光磁気ディスク９のクロスライトマージンが小さいほど、先に記録した測定トラック１９のランダムパターン情報が、後続する隣接トラック２０・２０’の記録時に部分的に消されてしまう虞が高くなる。このため、測定トラック１９から読み出される信号のＢＥＲが悪くなってしまう。
【００７２】
図５には、サンプル＃１に関し、上記の方法で測定した１トラック記録時および３トラック記録時のＢＥＲと、記録時のピークパワー（Ｐｗ−ｐｅａｋ）との関係を示している。また比較のため、平坦部１ａの両端に突起部５・５を有しない光磁気ディスク（比較サンプル＃１）を作製し、比較サンプル＃１についても上記の方法でクロスライトマージンの評価を行った。比較サンプル＃１の作製に当たっては、ランドに対するグルーブの深さ、およびトラックピッチをサンプル＃１と等しくなるようにした。すなわちトラックピッチを１．０μｍ、そのうちランド相当幅を０．３３μｍ、グルーブ相当幅を０．６７μｍとし、ランドに対するグルーブの深さを５０ｎｍとした。なお、比較サンプル＃１用のディスク状基板を作製するためのスタンパは、スタンパ７（図２（ｂ）参照）作製時の異方性ＲＦ逆スパッタ工程を省略することで容易に作製される。
【００７３】
サンプル＃１と比較サンプル＃１とを比較すると、比較サンプル＃１では９．０ｍＷ以上の記録ピークパワーで記録を行った場合に、３トラック記録時のＢＥＲが大きく悪化している。これに対し、サンプル＃１では記録ピークパワーが９．５ｍＷの近傍まで、３トラック記録時のＢＥＲが５×１０-4（図５中、太線にて示す）以下の値を維持している。また、１トラック記録時および３トラック記録時での測定結果から得られる、３トラック記録時のＢＥＲが５×１０-4以下となる範囲でのクロスライトマージンは、比較サンプル＃１が±１８．１％（７．２ｍＷ±１８．１％）であったのに対し、サンプル＃１では±２１．８％（７．８ｍＷ±２１．８％）と大きく広がった（図５参照）。
【００７４】
上記クロスライトマージンが広がった理由は、サンプル＃１では、ランドの頂部に相当する平坦部１ａのトラック幅方向両端に連続的な突起部５・５が形成されているため、１）隣接するグルーブ２・グルーブ２間の距離が実効的に長くなったこと、および、２）光磁気記録媒体膜４の形成に際して遮蔽効果があり、突起部５上に形成された膜厚が平坦部１ａ・２ｂ上よりも薄くなったこと、により、トラック幅方向への熱抵抗が大きくなって、隣接トラック（グルーブ２・グルーブ２）ヘの熱伝導が起こりにくくなったため、クロスライトが低減されたことによると考えられる。
【００７５】
このように、本発明の実施の形態に係るサンプル＃１は、比較サンプル＃１と比較して、良好なクロスライト品質を備えた光情報記録媒体であることがわかる。
【００７６】
さらに、サンプル＃１において、グルーブ相当幅Ｗ１を０．６７μｍに固定し、ランド相当幅Ｗ２を適宜変化させたサンプルを作製して評価した。この結果、ランド相当幅Ｗ２が０．３０μｍ以上であれば、実用上十分なプッシュプル信号がより確実に得られることが確認された。従って、実用上十分なプッシュプル信号が得られる限りにおいてランド相当幅Ｗ２は特に限定されるものではないが、０．３０μｍ以上であることがより好ましい。
【００７７】
加えて、サンプル＃１において、ランド相当幅Ｗ２を０．３３μｍに固定し、グルーブ相当幅Ｗ１を適宜変化させたサンプルを作製して評価した。図６には、サンプル＃１に関し、上記の方法で測定した１トラック記録時のＢＥＲと、記録時のグルーブ相当幅Ｗ１との関係を示している。図６から明らかなように、グルーブ相当幅Ｗ１が０．６７μｍ以下であれば、再生時のＢＥＲが悪化する。また、光磁気ディスク９を製造する時には、ランド１およびグルーブ２には製造誤差が生じる（通常は、±０．０１５μｍ程度の幅のずれが生じる）。それゆえ、この製造誤差を考慮すれば、再生信号品質が良好で、再現性の高い媒体を作製するためには、グルーブ相当幅Ｗ１を０．６７μｍ以上とする必要がある。
【００７８】
一方、実用上、十分な振幅を有するプッシュプル信号を得る観点から、ランド相当幅Ｗ２は、上述したように最低０．３０μｍであることが要求され、好ましくは０．３３μｍ以上である。
【００７９】
したがって、上記グルーブ相当幅Ｗ１の下限およびランド相当幅Ｗ２の下限から明らかなように、Ｗ１／Ｗ２は、少なくとも２前後（Ｗ１／Ｗ２≒２）であることが好ましくなる。
【００８０】
０．６７／０．３=   ここで、グルーブ２の幅を広げるように、すなわち上記グルーブ相当幅Ｗ１が大きくなるように、光磁気ディスク９を設計したとすれば、Ｗ１／Ｗ２は２を超える（Ｗ１／Ｗ２＞２）ことになり、ＢＥＲが向上する。その結果、再生信号品質を向上させることができる。
【００８１】
一方、ランド１の幅を広げるように、すなわち上記ランド相当幅Ｗ２が大きくなるように光磁気ディスク９を設計したとすれば、Ｗ１／Ｗ２は２未満（Ｗ１／Ｗ２＜２）となり、プッシュプル信号の振幅が大きくなる。その結果、フォーカス・トラックサーボの安定性を向上することが可能となる。
【００８２】
しかしながら、一般的に、プッシュプル信号が十分な振幅を有している場合には、ランド相当幅Ｗ２を大きくするように光磁気ディスク９を設計すると、Ｗ２を大きくする前よりも光磁気ディスク９全体の容量が低下してしまう。したがって、ランド相当幅Ｗ２を大きくする（ランド１の幅を広げる）設計は、光磁気ディスク９の実用性を低下させることになり、それゆえ、光磁気ディスク９の設計時には、グルーブ相当Ｗ１を大きくすることが好ましくなる。
【００８３】
以上の理由から、グルーブ相当幅Ｗ１とランド相当幅Ｗ２との比：Ｗ１／Ｗ２は、２以上であることが好ましくなる。
【００８４】
また、Ｗ１／Ｗ２の下限は２であることが好ましいが、Ｗ１／Ｗ２の上限の特に好ましい数値としては限定されるものではない。一般に、Ｗ１／Ｗ２を過剰に高めると、記録密度低下と記録再生パワーの絶対レベルの上昇を招く虞がある。したがって、実用性の面から鑑みれば、Ｗ１／Ｗ２の上限値としては３程度であればよい。
【００８５】
なお、上記グルーブ相当幅Ｗ１およびランド相当幅Ｗ２は、何れも主に記録再生を行なう波長、開口数（ＮＡ）で決定される光ビームのスポットサイズに依存するものである。つまり、用いられる光学系の違いは、上記グルーブ相当幅Ｗ１とランド相当幅Ｗ２との比には影響しない。それゆえ、本実施の形態で用いられる赤色レーザや実施の形態５で述べる青色レーザ以外の他の光学系を用いた場合でも、Ｗ１／Ｗ２としては同様の範囲を適用することができる。
【００８６】
また、上述したように、光磁気ディスク９を製造する際には製造誤差（±０．０１５μｍ程度の幅のずれ）が生じる可能性がある。そのため、実際の設計時には、用いる光学系に関係なく、Ｗ１／Ｗ２の値が多少変動し得ることを考慮することが好ましい。
【００８７】
さらに、ランド相当幅Ｗ２とグルーブ相当幅Ｗ１とを逆転（ランド相当幅Ｗ２：０．６７μｍ、グルーブ相当幅Ｗ１：０．３３μｍ）させるとともに、本実施の形態と同様の製造方法を用いて平坦部１ａのトラック幅方向の両端部に高さ１６ｎｍ、最大幅２８ｎｍの突起部５・５を形成したサンプルを、情報の再生記録にランド１を用いるランド記録媒体（比較用サンプルＡ）として信号特性の評価を行った。しかしながら、この場合はノイズが大きく、実用上十分なＣＮＲを得ることが出来なかった。これは、突起部５・５がノイズ源となり、信号特性を劣化させたためと考えられる。従って、突起部５・５を形成したトラック（ランド１）については、信号の記録再生に使用するメリットは低い。なお、上記比較用サンプルＡの信号特性評価に使用した光学系は、サンプル＃１の評価に採用したものと同一構成である。
【００８８】
なお、本実施の形態では、ＣＡＤ方式の磁気的超解像再生多層膜（光磁気記録媒体膜４）を備えた光磁気ディスク９を例示したが、少なくとも光を用いた情報の記録・再生が可能な記録層を有する光情報記録媒体であれば、その種類は特に限定されない。より具体的には例えば、磁性層として記録層単層を用いる光磁気記録媒体や、他方式の磁気的超解像媒体、および、磁区拡大再生方式の媒体などを、他の光磁気ディスクとして例示可能である。さらには、光磁気記録方式以外の方式が適用される相変化媒体や、表面読み出し方式の情報記録媒体などにおいても、突起部５・５に相当する構造を設けることで隣接トラックヘの熱伝導が小さくなり、クロスライト、クロストーク抑制などの効果が得られる。
【００８９】
つまり、本実施の形態に示した光情報記録媒体は、光磁気記録媒体に限定されるものではなく、また、磁気的超解像再生方式の媒体に限定されるものでもない。さらに、本実施の形態ではディスク状の光情報記録媒体について示したが、光カードなどのカード状媒体や、光テープなどのテープ状媒体においても同様の効果が得られる。
【００９０】
〔実施の形態２〕
本発明の他の実施の形態について図面に基づいて説明すれば、以下のとおりである。なお、本発明の権利範囲は、特にこの実施の形態の記載のみに限定されるものではない。また、説明の便宜上、実施の形態１に示した部材と同一の機能・構造を有する部材には同一の符号を示し、その説明を省略する。
【００９１】
本実施の形態では、実施の形態１に示した光磁気ディスク９の作製工程のうち、異方性ＲＦ逆スパッタの時間を変化させてスタンパ７に形成される窪み部８の深さを様々に変化させることで、突起部５の高さが異なる光磁気ディスクを作製した。そして、突起部５の高さとクロスライトマージンとの関係を調べて表１にまとめた。なお、クロスライトマージンは、実施の形態１と同一の方法・条件で測定された。
【００９２】
【表１】
0004073675.tif 000002
【００９３】
表１の結果から、５ｎｍ以上の高さの突起部５を有するディスクＮｏ．１−１〜Ｎｏ．１−５（本発明の光情報記録媒体）では、突起部５が形成されない比較ディスクＮｏ．１−０よりもクロスライトマージンが明らかに大きくなり、クロスライト低減に顕著な効果が有ることが判明した。
【００９４】
さらに、突起部５の高さが３０ｎｍを超える光磁気ディスクのクロスライトマージンは、比較用ディスクＮｏ．１−０より大きいものの、ディスクＮｏ．１−５と比較して急激に低下することが判明した（データ省略）。この理由は、突起部５の高さが高くなるに従い、突起部５がノイズ源となって信号特性に影響を与え、ＢＥＲの底値を悪化させることによると推測される。
【００９５】
なお、突起部５の高さが５ｎｍ未満となる光磁気ディスクのクロスライトマージンも、比較用ディスクＮｏ．１−０より大きくなる（データ省略）。そのため、突起部５の高さが５ｎｍ未満でも、クロスライト低減の効果が有る。しかしながら、突起部５の高さが５ｎｍよりも低い場合には、その高さに比例して徐々にＢＥＲの底値が変化していくことから、高さが５ｎｍ未満の突起部５により得られる効果は通常軽微となる。
【００９６】
それゆえ、本発明の光情報記録媒体においては、クロスライト低減の効果を得るためには、突起部５が形成されていればよいものの、実用上、この突起部５は、高さが５ｎｍ以上３０ｎｍ以下の範囲内であることがより好ましい。
【００９７】
〔実施の形態３〕
本発明のさらに他の実施の形態について図面に基づいて説明すれば、以下のとおりである。なお、本発明の権利範囲は、特にこの実施の形態の記載のみに限定されるものではない。また、説明の便宜上、実施の形態１〜２に示した部材と同一の機能・構造を有する部材には同一の符号を示し、その説明を省略する。
【００９８】
本実施の形態では、実施の形態１に示した光磁気ディスク９の作製工程のうち、原盤６の作製工程において溝部２’の形状を様々に変更し（図２（ａ）参照）、ランド１とグルーブ２との境界側壁２ａの斜度が、４０°、４５°、５０°、５５°、６０°、６５°、７０°、７５°となる８種類の光磁気ディスクを作製した。なお、境界側壁２ａの斜度の定義およびその測定方法は、実施の形態１と同一である（図１参照）。
【００９９】
具体的には例えば、原盤６の製造工程において、１）使用するレジストの種類を変更する、２）塗布するレジストの膜厚を変更する、３）レジスト露光時にレーザのフオーカス状態を変更する、４）現像後のレジスト付きガラス円盤（将来的な原盤６）を１５０℃近傍の高温でベーキングする、５）エッチング時の投入パワーおよびガス圧を変更する、などの方法によって、境界側壁２ａの斜度が所望の値となる８種類の原盤６を作製した。
【０１００】
次いで、窪み部８を有するスタンパ７を、原盤６を用いて作製し、さらに、当該スタンパ７を用いた射出成形によりディスク状基板３を形成した（図２（ａ）〜（ｃ）参照）。ここで、スタンパ７において窪み部８を形成する条件は、実施の形態１に示したように、ガス圧０．０２ＰａのＡｒガス雰囲気中で、６００Ｗの逆スパッタ電力を投入し、９分間の異方性ＲＦ逆スパッタを行なう条件とした。
【０１０１】
境界側壁２ａの斜度を７５°と急峻にした場合には、射出成形によって形成したディスク状基板３を金型から取り出す際にスタンパ７との間で転写ずれが生じた。このため、ディスク状基板３における平坦部１ａの幅方向端部に、意図しない局所的に高い突起形状が形成される箇所が部分的に見られた。さらに、スタンパ７とディスク状基板３との擦れにより境界側壁２ａが削られて、ランド相当幅Ｗ２が部分的に小さくなる箇所が見られた（図１参照）。
【０１０２】
つまり、境界側壁２ａの斜度が７５°以上のディスク状基板３を形成するためのスタンパ７では、条件によっては、その凹凸パターン形状をディスク状基板３に正確に転写することができない虞がある。その一方、境界側壁２ａの斜度が４０°〜７０°のディスク状基板３を形成するためのスタンパ７では、他の条件によらず、その凹凸パターン形状をディスク状基板３に正確に転写することができた。
【０１０３】
したがって、スタンパ７上の凹凸パターンは特に限定されないものの、平坦部１ａおよび平坦部２ｂに対して境界側壁２ａが７５°未満の最大斜度を有するディスク状基板３を製造可能に形成されることがより好ましく、７０°以下の最大斜度を有するディスク状基板３を製造可能に形成されることが特に好ましい。
【０１０４】
〔実施の形態４〕
本発明のさらに他の実施の形態について図面に基づいて説明すれば、以下のとおりである。なお、本発明の権利範囲は、特にこの実施の形態の記載のみに限定されるものではない。また、説明の便宜上、実施の形態１〜３に示した部材と同一の機能・構造を有する部材には同一の符号を示し、その説明を省略する。
【０１０５】
本実施の形態では、実施の形態１に示した光磁気ディスク９の作製工程のうち、原盤６の作製工程におけるエッチング時間を変化させて溝部２’の深さを様々に変更し、平坦部１ａを基準とした平坦部２ｂの深さ（以下グルーブ深さ）が異なる光磁気ディスクを作製した（図２（ａ）〜（ｃ）参照）。その結果、グルーブ深さが３５ｎｍ未満となる、あるいは６５ｎｍを超えると、他の条件によっては、赤色レーザ（波長６３５ｎｍ近傍）を用いたプッシュプル信号の取得が困難となる虞があることが判明した。
【０１０６】
既に公知なように、赤色レーザを用いてプッシュプル信号振幅を得る観点からは、グルーブ深さを１５０ｎｍ近傍とすることも有効である。しかしながら、境界側壁２ａは一般に斜面であるため、グルーブ深さが深くなるに従って、トラック幅方向に沿った境界側壁２ａの幅も広くなる。このため、トラックピッチがー定の場合には情報記録を行なう平坦部２ｂの幅が相対的に狭くなり、トラック密度を高めた際に実用上十分な再生信号振幅が得られなくなってしまう。また、境界側壁２ａはその表面を平滑に形成することが非常に困難であり、その非平滑性が情報信号再生時に再生信号に影響を与え、信号品質を低下させてしまうノイズ源となる。
【０１０７】
よって、上記グルーブ深さは特に限定されるものではないが、プッシュプル信号を得られる範囲で極力浅くすることがより好ましく、より具体的には３５ｎｍ以上６５ｎｍ以下の範囲内とすることがさらに好ましい。グルーブ深さが３５ｎｍ以上６５ｎｍ以下の範囲内であれば、トラック幅方向に沿った境界側壁２ａの幅が比較的小さくなるので、１）高トラック密度化がより容易となり、加えて、２）境界側壁２ａの非平滑性が信号品質を低下させる虞もより確実に抑制可能となる。
【０１０８】
〔実施の形態５〕
本発明のさらに他の実施の形態について図面に基づいて説明すれば、以下のとおりである。なお、本発明の権利範囲は、特にこの実施の形態の記載のみに限定されるものではない。
【０１０９】
本実施の形態の光磁気ディスクは、トラックピッチ、およびグルーブ深さが実施の形態１に示したサンプル＃１と異なる点を除けば、図１に示す光磁気ディスク９と実質的に同一構成である。よって、以下、図１および図２に示す符号をそのまま参照して説明する。なお、後述する斜度は、実施の形態１に記載の方法と同一の方法により測定した。
【０１１０】
本実施の形態における光磁気ディスク９のトラックピッチの一例は０．６μｍであり、そのうち、ランド相当幅Ｗ２が０．２μｍ、グルーブ相当幅Ｗ１が０．４μｍとなっている。また、平坦部１ａを基準面とした平坦部２ｂの深さ（グルーブ深さ）を３５ｎｍに設計した。さらに、突起部５は、平坦部１ａを基準とした高さが１６ｎｍ、その最大幅が２８ｎｍの断面Ｖ字形状に形成されている。なお、この設計は、波長４０５ｎｍ近傍の青色レーザを記録用／再生用光源として採用する場合に特に適切なものである。
【０１１１】
本実施の形態に示す光磁気ディスク９の作製方法と、前記実施の形態１に示す方法との相違点は、以下の通りである。
まず、原盤６の作製工程では、ディスク状基板３におけるトラックピッチが０．６μｍであり、そのうちランド相当幅Ｗ２が０．２μｍ、グルーブ相当幅Ｗ１が０．４μｍとなるように、露光用のレーザ光を位置調節して、レジストに露光パターンを形成した（図１も参照）。つまり、図２（ａ）に示す幅Ｗ２’が０．２μｍ、幅Ｗ１’が０．４μｍとなるように、上記露光用のレーザ光を位置調節した。
また、露光パターン現像後のエッチング工程では、ＣＦ4のガス圧やエッチング電力は実施の形態１と同条件とし、エッチング時間を２分５０秒間と短くした。これにより、残留レジスト除去後の原盤６において、平坦部１ａ’を基準とした平坦部２ｂ’の深さが３５ｎｍである溝部２’が形成された。また、ランド・グルーブの境界側壁２ａ（図１参照）に相当する側壁２ａ’の、平坦部１ａ’・２ｂ’に対する斜度（傾斜角）は最も急峻な箇所で６５°であった。
【０１１２】
次いで、上記条件変更を行って作製された原盤６を元にスタンパ７を作製し、このスタンパ７を用いた射出成形によりディスク状基板３を製造した。なお、スタンパ７およびディスク状基板３の作製工程は、実施の形態１と同一の条件で行った。この結果、原盤６上のパターンがスタンパ７に完全に転写され、さらに、スタンパ７上のパターンがディスク状基板３に完全に転写された。
【０１１３】
続いて、実施の形態１と同様にして、誘電体膜、金属磁性膜からなるＣＡＤ方式の磁気的超解像再生多層膜（光磁気記録媒体膜４）を、ディスク状基板３上にスパッタ形成した。光磁気記録媒体膜４を構成する各層の膜厚は、ＡｌＮからなる透明誘電体保護層１０が膜厚３５ｎｍ、ＧｄＦｅＣｏからなる再生層１１が膜厚３３ｎｍ、ＧｄＦｅからなる面内磁化層１２が膜厚１２ｎｍ、ＡｌＮｉからなる非磁性中間層１３が膜厚５ｎｍ、ＴｂＦｅＣｏからなる記録層１５が膜厚５０ｎｍ、ＧｄＦｅＣｏからなる磁界感度調整層１６が膜厚１２ｎｍ、ＡｌＮからなる保護層１７が膜厚２０ｎｍ、ＡｌＮｉからなる放熱層１８が膜厚５５ｎｍである（図３参照）。なお、非磁性中間層１４については本実施の形態では作製していない。
【０１１４】
既に実施の形態１で説明したように、スパッタにより光磁気記録媒体膜４を形成する場合には、誘電体の分子および金属磁性体の分子の進行・付着が、突起部５により遮蔽される。このため、光磁気記録媒体膜４の膜厚は、平坦部１ａ・２ｂ上よりも突起部５上の方が相対的に薄くなった。ただし、膜厚は薄くなるものの、光磁気記録媒体膜４は、突起部５上を含めてディスク状基板３の情報記録面側全面に形成されており、トラック幅方向の磁気的な連続性が完全に切断されている箇所は無かった。
【０１１５】
続いて、光磁気記録媒体膜４を保護するためのバックコート樹脂（図示せず）を塗布し、本実施の形態にかかる光磁気ディスク９を作製した。
【０１１６】
次いで、上記方法により作製した光磁気ディスク９（サンプル＃２とする）の特性を評価した。具体的には、波長４０５ｎｍの半導体レーザを記録用の光源とし、開口数ＮＡが０．６の集光系（対物レンズ手段）を備えた光磁気ピックアップを使用して、線速３ｍ／ｓの条件で、上記光磁気ディスク９のクロスライトマージンを測定した結果について示す。
【０１１７】
上記クロスライトマージンの測定にあたっては、実施の形態１に示した測定方法を基本的に用いた（図４参照）。ただし、測定トラック１９および隣接トラック２０・２０’に記録したランダムパターンの最短マーク長は０．１８μｍとした。また、記録時のレーザ照射のピークパワー（Ｐｗ−ｐｅａｋ）は９．０ｍＷから１０．５ｍＷまで変化させた。さらに、再生時のレーザ照射のピークパワーは、測定トラック１９を再生した際に最もＣＮＲが大きくなるように設定し、１．５ｍＷとした。
【０１１８】
図７には、サンブル＃２に関し、上記の方法で測定した１トラック記録時および３トラック記録時のＢＥＲと、記録時のピークパワー（Ｐｗ−ｐｅａｋ）との関係を示している。また比較のため、平坦部１ａの両端に突起部５・５を有しない光磁気ディスク（比較サンプル＃２）を作製し、比較サンプル＃２についても上記の方法でクロスライトマージンの評価を行なった。比較サンプル＃２の作製に当たっては、ランドに対するグルーブの深さ、およびトラックピッチをサンプル＃２と等しくなるようにした。すなわちトラックピッチを０．６μｍ、そのうちランド相当幅を０．２μｍ、グルーブ相当幅を０．４μｍとし、ランドに対するグルーブの深さを３５ｎｍとした。なお、比較サンプル＃２用のディスク状基板を作製するためのスタンパは、スタンパ７（図２（ｂ）参照）作製時の異方性ＲＦ逆スパッタ工程を省略することで容易に作製される。
【０１１９】
サンプル＃２と比較サンプル＃２とを比較すると、比較サンプル＃２では９．５ｍＷ以上の記録ピークパワーで記録を行った場合に、３トラック記録時のＢＥＲが大きく悪化している。これに対し、サンプル＃２では記録ピークパワーが１０．０ｍＷまで、３トラック記録時のＢＥＲが５×１０-4（図７中、太線で示す）以下の値を維持している。また、１トラック記録時および３トラック記録時での測定結果から得られる、３トラック記録時のＢＥＲが５×１０-4以下となる範囲でのクロスライトマージンは、比較サンプル＃２が±１５．１％（７．９ｍＷ±１５．１％）であったのに対し、サンプル＃１では±１９．２％（８．６ｍＷ±１９．２％）と大きく広がった（図７参照）。
【０１２０】
上記クロスライトマージンが広がった理由は、サンプル＃２では、ランドの頂部に相当する平坦部１ａのトラック幅方向両端に連続的な突起部５・５が形成されているため、１）隣接するグルーブ２・グルーブ２間の距離が実効的に長くなったこと、および、２）光磁気記録媒体膜４の形成に際して遮蔽効果があり、突起部５上に形成された膜厚が平坦部１ａ・２ｂ上よりも薄くなったこと、により、トラック幅方向への熱抵抗が大きくなって、隣接トラック（グルーブ２・グルーブ２）ヘの熱伝導が起こりにくくなり、クロスライトが低減されたためと考えられる。
【０１２１】
このように、本発明の実施の形態に係るサンプル＃２は、比較サンプル＃２と比較して、良好なクロスライト品質を備えた光情報記録媒体であることがわかる。
【０１２２】
さらに、サンプル＃２において、グルーブ相当幅Ｗ１を０．４μｍに固定し、ランド相当幅Ｗ２を適宜変化させたサンプルを作製して評価した。この結果、ランド相当幅Ｗ２が０．１５μｍ以上であれば、実用上十分なプッシュプル信号がより確実に得られることが確認された。従って、実用上十分なプッシュプル信号が得られる限りにおいてランド相当幅Ｗ２は特に限定されるものではないが、０．１５μｍ以上であることがより好ましい。
【０１２３】
加えて、サンプル＃２において、ランド相当幅Ｗ２を０．２０μｍに固定し、グルーブ相当幅Ｗ１を適宜変化させたサンプルを作製して評価した。図８には、サンプル＃２に関し、上記の方法で測定した１トラック記録時のＢＥＲと、記録時のグルーブ相当幅Ｗ１との関係を示している。図８から明らかなように、グルーブ相当幅Ｗ１が０．４０μｍ以下であれば、再生時のＢＥＲが悪化する。また、光磁気ディスク９を製造する時には、ランド１およびグルーブ２には製造誤差が生じる（通常は、±０．０１５μｍ程度の幅のずれが生じる）。それゆえ、この製造誤差を考慮すれば、再生信号品質が良好で、再現性の高い媒体を作製するためには、グルーブ相当幅Ｗ１を０．４０μｍ以上とする必要がある。
【０１２４】
一方、実用上、十分な振幅を有するプッシュプル信号を得る観点から、ランド相当幅Ｗ２は、上述したように最低０．１５μｍであることが要求され、好ましくは０．２０μｍ以上である。
【０１２５】
０．６７／０．３= したがって、前記実施の形態１と同様の理由から、グルーブ相当幅Ｗ１とランド相当幅Ｗ２との比：Ｗ１／Ｗ２は、２以上であることが好ましくなる。また、Ｗ１／Ｗ２の下限は２であることが好ましいが、前記実施の形態１と同様、Ｗ１／Ｗ２の上限の特に好ましい数値としては限定されるものではない。通常、実用性の面から鑑みれば、Ｗ１／Ｗ２の上限値としては３程度であればよい。
【０１２６】
なお、上記グルーブ相当幅Ｗ１およびランド相当幅Ｗ２は、何れも主に記録再生を行なう波長、開口数（ＮＡ）で決定される光ビームのスポットサイズに依存するものである。つまり、用いられる光学系の違いは、上記グルーブ相当幅Ｗ１とランド相当幅Ｗ２との比には影響しない。それゆえ、本実施の形態で用いられる青色レーザや前記実施の形態１で述べた赤色レーザ以外の他の光学系を用いた場合でも、Ｗ１／Ｗ２としては同様の範囲を適用することができる。
【０１２７】
また、上述したように、光磁気ディスク９を製造する際には製造誤差（±０．０１５μｍ程度の幅のずれ）が生じる可能性がある。そのため、実際の設計時には、用いる光学系に関係なく、Ｗ１／Ｗ２の値が多少変動し得ることを考慮することが好ましい。
【０１２８】
さらに、ランド相当幅Ｗ２とグルーブ相当幅Ｗ１とを逆転（ランド相当幅Ｗ２：０．４μｍ、グルーブ相当幅Ｗ１：０．２μｍ）させるとともに、本実施の形態と同様の製造方法を用いて平坦部１ａのトラック幅方向の両端部に高さ１６ｎｍ、最大幅２８ｎｍの突起部５・５を形成したサンプルを、情報の再生記録にランド１を用いるランド記録媒体（比較用サンプルＢ）として信号特性の評価を行った。しかしながら、この場合はノイズが大きく、実用上十分なＣＮＲを得ることが出来なかった。これは、突起部５・５がノイズ源となり、信号特性を劣化させたためと考えられる。従って、突起部５・５を形成したトラック（ランド１）については、信号の記録再生に使用するメリットは低い。なお、上記比較用サンプルＡの信号特性評価に使用した光学系は、サンプル＃２の評価に採用したものと同一構成である。
【０１２９】
なお、本実施の形態では、ＣＡＤ方式の磁気的超解像再生多層膜（光磁気記録媒体膜４）を備えた光磁気ディスク９を例示したが、少なくとも光を用いた情報の記録・再生が可能な記録層を有する光情報記録媒体であれば、その種類は特に限定されない（実施の形態１での例示参照）。さらに、本実施の形態ではディスク状の光情報記録媒体について示したが、光カードなどのカード状媒体や、光テープなどのテープ状媒体であってもよい。
【０１３０】
〔実施の形態６〕
本発明のさらに他の実施の形態について図面に基づいて説明すれば、以下のとおりである。なお、本発明の権利範囲は、特にこの実施の形態の記載のみに限定されるものではない。また、説明の便宜上、実施の形態１〜５に示した部材と同一の機能・構造を有する部材には同一の符号を示し、その説明を省略する。
【０１３１】
本実施の形態では、実施の形態５に示した光磁気ディスク９の作製工程のうち、原盤６の作製工程におけるエッチング時間を変化させて溝部２’の深さを様々に変更し、平坦部１ａを基準とした平坦部２ｂの深さ（以下グルーブ深さ）が異なる光磁気ディスクを作製した（図２（ａ）〜（ｃ）参照）。その結果、グルーブ深さが２５ｎｍ未満となる、あるいは４５ｎｍを超えると、他の条件によっては、青色レーザ（波長４０５ｎｍ近傍）によるプッシュプル信号の取得が困難となる虞があることが判明した。
【０１３２】
既に公知なように、青色レーザを用いてプッシュプル信号振幅を得る観点からは、グルーブ深さを１０５ｎｍ近傍とすることも有効である。しかしながら、境界側壁２ａは一般に斜面であるため、グルーブ深さが深くなるに従って、トラック幅方向に沿った境界側壁２ａの幅（ランド・グルーブ境界部の幅）も広くなる。このため、トラックピッチがー定の場合には情報記録を行なう平坦部２ｂの幅が相対的に狭くなり、トラック密度を高めた際に実用上十分な再生信号振幅が得られなくなってしまう。また、境界側壁２ａはその表面を平滑に形成することが非常に困難であり、その非平滑性が情報信号再生時に再生信号に影響を与え、信号品質を低下させてしまうノイズ源となる。
【０１３３】
よって、上記グルーブ深さは特に限定されるものではないが、プッシュプル信号を得られる範囲で極力浅くすることがより好ましく、より具体的には２５ｎｍ以上４５ｎｍ以下の範囲内とすることがさらに好ましい。グルーブ深さが２５ｎｍ以上４５ｎｍ以下の範囲内であれば、トラック幅方向に沿った境界側壁２ａの幅が比較的小さくなるので、１）高トラック密度化がより容易となり、加えて、２）境界側壁２ａの非平滑性が信号品質を低下させる虞もより確実に抑制可能となる。
【０１３４】
以上、実施の形態１〜６において説明したように、本発明にかかる光情報記録媒体は、ランドおよびグルーブからなる矩形状の案内溝が形成された基板上に、少なくとも情報を記録するための記録層が形成されてなり、上記案内溝のうちのグルーブのみを情報の記録に用い、光ビームを用いて該情報の記録再生を行なう光情報記録媒体であって、情報の記録に用いない上記ランドの平坦部が、ランド・グルーブ境界斜面（境界側壁）と接する両側の境界部分に、上記ランド平坦部よりも高い突起部がランドの長さ方向に連続的に形成されている構成であってもよい。
【０１３５】
また、本発明にかかる光情報記録媒体用基板は、上記の光情報記録媒体に用いる基板であって、ランドおよびグルーブからなる矩形状の案内溝が形成され、グルーブ相当幅がランド相当幅に対して２：１の比率以上に広く、且つ、上記ランド上のランド・グルーブ境界斜面（境界側壁）と接する両側の境界部分に、ランド平坦部よりも高い突起部が形成されている構成であってもよい。
【０１３６】
さらに、本発明にかかる光情報記録媒体用スタンパは、上記の光情報記録媒体用基板を作製するためのスタンパであって、ランドおよびグルーブからなる矩形状の案内溝が形成され、グルーブ相当幅がランド相当幅に対して２：１の比率以上に広く、且つ、上記ランド上のランド・グルーブ境界斜面（境界側壁）と接する両側の境界部分に、ランド平坦部よりも深い窪み部がランドの長さ方向に連続的に形成されている構成であってもよい。
【０１３７】
【発明の効果】
本発明にかかる光情報記録媒体用基板は、以上のように、グルーブのみが情報記録に用いられる光情報記録媒体用の基板であって、ランドに相当する平坦部Ａの幅方向端部の少なくとも一方に、平坦部Ａの長さ方向に沿って連続的に形成された突起部を含んでなる構成である。
【０１３８】
上記の構成によれば、隣接グルーブ間でのクロスライトが大幅に低減されてなる光情報記録媒体を容易に作製可能とする光情報記録媒体用基板を提供することができるという効果を奏する。
【０１３９】
本発明にかかる光情報記録媒体用基板は、上記構成を前提として、突起部が、平坦部Ａの幅方向両端部に形成されてなる構成であることがより好ましい。あるいは、上記構成を前提として、突起部の高さが、平坦部Ａを基準として５ｎｍ以上３０ｎｍ以下の範囲内であることがより好ましい。
【０１４０】
上記何れかの構成によれば、隣接グルーブ間でのクロスライトがより大幅に低減されてなる光情報記録媒体を容易に作製可能とする光情報記録媒体用基板を提供することができるという効果を加えて奏する。
【０１４１】
本発明にかかる光情報記録媒体用基板は、上記何れかの構成を前提として、グルーブ相当幅Ｗ１とランド相当幅Ｗ２との比（Ｗ１／Ｗ２）が、２以上であることがより好ましい。
【０１４２】
上記の構成によれば、媒体全体の容量を低下させることなく、必要なプッシュプル振幅が得られると同時に、良好な再生信号品質を得ることができるという効果を加えて奏する。
【０１４３】
本発明にかかる光情報記録媒体用基板は、上記何れかの構成を前提として、平坦部Ｂの深さが、平坦部Ａを基準として３５ｎｍ以上６５ｎｍ以下の範囲内である、あるいは２５ｎｍ以上４５ｎｍ以下の範囲内であることがより好ましい。
【０１４４】
上記の構成によれば、好適なプッシュプル信号が得られ、高トラック密度化が可能で、かつ良好な信号品質が得られる光情報記録媒体を容易に作製可能とする光情報記録媒体用基板を提供することができる。
【０１４５】
本発明にかかる光情報記録媒体は、以上のように、上記何れかの光情報記録媒体用基板と記録層とを含んでなる構成である。
【０１４６】
上記の構成によれば、隣接グルーブ間でのクロスライトが大幅に低減されてなる光情報記録媒体を提供可能となるという効果を奏する。
【０１４７】
本発明にかかるスタンパは、以上のように、ランドに相当する平坦部Ａ、およびグルーブの底部に相当する平坦部Ｂを形成するための凹凸パターンと、凹凸パターンの凹部底部の幅方向端部に、凹部の長さ方向に沿って連続的に形成された溝状部と、を含んでなる構成である。
【０１４８】
上記の構成によれば、上記何れかの光情報記録媒体用基板を容易に製造することが可能なスタンパを提供することができるという効果を奏する。
【０１４９】
本発明にかかるスタンパは、上記の構成を前提として、さらに、光情報記録媒体用基板において、平坦部Ａと平坦部Ｂとの境界側壁が、平坦部Ａおよび平坦部Ｂに対して７５°未満の最大斜度を有するように、上記凹凸パターンが形成されていることがより好ましい。
【０１５０】
上記の構成によれば、上記凹凸パターンがより正確に光情報記録媒体用基板に転写されるとともに、当該基板とスタンパとの間で不所望な擦れなどが発生する虞が確実に回避されるという効果を加えて奏する。
【０１５１】
本発明にかかるスタンパの製造方法は、以上のように、スタンパ基材に凹凸パターンを形成する工程と、次いで、異方性逆スパッタにより溝状部を形成する工程と、を含んでなる方法である。
【０１５２】
上記の方法によれば、特にマスキングなどを行なうことなく溝状部を形成することができるので、上記スタンパをより容易に製造する方法を提供可能となるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の一形態にかかる光情報記録媒体の情報記録領域を、模式的に示す断面図である。
【図２】図１に示す光情報記録媒体用の基板を作製する工程を示し、（ａ）は原盤の断面図であり、（ｂ）は原盤から作製されたスタンパを示す断面図であり、（ｃ）はスタンパから作成された基板を示す断面図である。
【図３】図１に示す光情報記録媒体が備える光磁気記録媒体膜の概略構成を示す断面図である。
【図４】（ａ）・（ｂ）は、図１に示す光情報記録媒体のビットエラーレート（ＢＥＲ）を測定する方法を説明する図面である。
【図５】本発明の実施の一形態にかかる光情報記録媒体のＢＥＲと、記録時のピークパワーとの関係を示すグラフである。
【図６】本発明の実施の一形態にかかる光情報記録媒体のＢＥＲと、記録時のグルーブ相当幅との関係を示すグラフである。
【図７】本発明の他の実施の形態にかかる光情報記録媒体のＢＥＲと、記録時のピークパワーとの関係を示すグラフである。
【図８】本発明の他の実施の形態にかかる光情報記録媒体のＢＥＲと、記録時のグルーブ相当幅とのの関係を示すグラフである。
【符号の説明】
１      ランド
１ａ    平坦部（平坦部Ａ）
２      グルーブ
２ａ    境界側壁
２ｂ    平坦部（平坦部Ｂ）
３      ディスク状基板（光情報記録媒体用基板）
５      突起部
７      スタンパ
８      窪み部（溝状部）
９      光磁気ディスク（光情報記録媒体）
１５    記録層
２１    凹部（凹凸パターンの一部）
２２    凸部（凹凸パターンの一部）
Ｗ１    グルーブ相当幅
Ｗ２    ランド相当幅
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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