(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射特性および発射位置が既知である波源と、この波源から放射された電磁波の反射する面が既知の形状である反射面と、この反射面から反射された電磁波の到達位置である到達点とから、反射面における電磁波の反射点の位置を算出する反射点算出方法であって、
前記波源から放射された電磁波が前記反射面上で反射する際の、仮の反射点を設定すると共に、この仮の反射点で反射した電磁波の仮の到達点を設定し、
前記到達点および前記仮の到達点の間に、または前記仮の反射点から前記仮の到達点に引いた仮のベクトル上の点および前記到達点の間に、誤差ベクトルを設定し、
この誤差ベクトルを無くすように、前記反射面上に設定した仮の反射点の位置を更新して、実際の反射点を探索することを特徴とする反射点算出方法。
【請求項２】
放射特性および発射位置が既知である波源と、この波源から放射された電磁波の反射する面が既知の形状である反射面と、この反射面から反射された電磁波の到達位置である到達点とから、反射面における電磁波の反射点の位置を算出する反射点算出装置であって、
前記波源から放射された電磁波が前記反射面上で反射する際の、仮の反射点を設定すると共に、この仮の反射点で反射した電磁波の仮の到達点を設定する仮反射到達点設定手段と、
前記到達点および前記仮の到達点の間に、または前記仮の反射点から前記仮の到達点に引いた仮のベクトル上の点および前記到達点の間に、誤差ベクトルを設定する誤差ベクトル設定手段と、
この誤差ベクトル設定手段で設定された誤差ベクトルを無くすように、前記仮反射到達点設定手段で前記反射面上に設定された仮の反射点の位置を更新して、実際の反射点の位置を判定する仮反射点更新判定手段と、
を備えたことを特徴とする反射点算出装置。
【請求項３】
反射面における電磁波の反射点を算出する装置を、
放射特性および発射位置が既知である波源から放射された電磁波の反射する面が既知の形状である反射面上で反射する際の、仮の反射点を設定すると共に、この仮の反射点で反射した電磁波の仮の到達点を設定する仮反射到達点設定手段、
前記反射面から反射された電磁波の到達位置である実際の到達点および前記仮の到達点の間に、または前記仮の反射点から前記仮の到達点に引いた仮のベクトル上の点および前記到達点の間に、誤差ベクトルを設定する誤差ベクトル設定手段、
この誤差ベクトル設定手段で設定された誤差ベクトルを無くすように、前記仮反射到達点設定手段で前記反射面上に設定された仮の反射点の位置を更新して、実際の反射点の位置を判定する仮反射点更新判定手段、
として機能させることを特徴とする反射点算出プログラム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、放射された電磁波が反射面で反射した場合の、反射面上の反射点の位置を算出する反射点算出方法および反射面算出装置ならびに反射点算出プログラムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、電磁波の反射面における反射点を算出する方法として、「ＳａｍｕｅｌＳｉｌｖｅｒ：“Ｍｉｃｒｏｗａｖｅ  Ａｎｔｅｎｎａ  Ｔｈｅｏｒｙ  ａｎｄ  Ｄｅｓｉｇｎ”、ＩＥＥ  ＥＬＥＣＴＲＯＭＡＧＮＥＴＩＣ  ＷＡＶＥ  ＳＥＲＩＥＳ  １９」の４．８節にあるような、Ｆｅｒｍａｔの原理が用いられる。この原理は、均一媒体中における、電磁波の波源から反射点を経て到達点に至るまでの経路長が最小になる（最短経路を通る）というものである。例えば、この原理が反射鏡アンテナに利用され、電磁波の波源（出発点）の位置と、電磁波の到達点の位置とが既知の場合に、反射鏡アンテナの反射鏡における反射点の位置が算出されていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のＦｅｒｍａｔの原理を利用した方法では、図８に示すように、電磁波の波源１０１から反射面１０３を経て到達点１０５までの経路長（｜Ｓｉ｜＋｜Ｓｒ｜）を最小にする反射点１０７の位置を、仮の到達点１０５′と仮の反射点１０７′とを設定して、その仮の反射点１０７′の位置を変化させて算出（探索）している。この場合、経路長を最小にする反射点（求めたい反射点）１０７に仮の反射点１０７′が近づくにつれ、この経路を関数とみなし、微分したときの微分係数が０に近づくことになる。このため、計算が収束するのが遅く、特に反復計算する場合、計算時間が増大するという問題がある。なお、反射面１０３が、図８に示した平坦な場合の他、反射面１０３がパラボラ面（回転放物面）、または、任意形状の場合も同様な問題が生じる。
【０００４】
本発明の目的は前記した従来の技術が有する課題を解消し、反射面における反射点の位置を高速に算出することができる反射点算出法および反射点算出装置ならびに反射点算出プログラムを提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の反射点算出方法は、放射特性および発射位置が既知である波源と、この波源から放射された電磁波の反射する面が既知の形状である反射面と、この反射面から反射された電磁波の到達位置である到達点とから、反射面における電磁波の反射点の位置を算出する反射点算出方法であって、前記波源から放射された電磁波が前記反射面上で反射する際の、仮の反射点を設定すると共に、この仮の反射点で反射した電磁波の仮の到達点を設定し、前記到達点および前記仮の到達点の間に、または前記仮の反射点から前記仮の到達点に引いた仮のベクトル上の点および前記到達点の間に、誤差ベクトルを設定し、この誤差ベクトルを無くすように、前記反射面上に設定した仮の反射点の位置を更新して、実際の反射点を探索することを特徴とする。
【０００６】
この方法によれば、電磁波の反射面における仮の反射点と、仮の到達点とが設定され、さらに、電磁波の実際の到達点と仮の到達点とを結びつけた誤差ベクトルが設定され、反射面上に設定した仮の反射点の位置が更新されることで、誤差ベクトルが無くされ、実際の反射点が探索される。なお、誤差ベクトルを無くすようにとは、誤差ベクトルの大きさを０にすることである。
【０００７】
請求項２記載の反射点算出装置は、放射特性および発射位置が既知である波源と、この波源から放射された電磁波の反射する面が既知の形状である反射面と、この反射面から反射された電磁波の到達位置である到達点とから、反射面における電磁波の反射点の位置を算出する反射点算出装置であって、前記波源から放射された電磁波が前記反射面上で反射する際の、仮の反射点を設定すると共に、この仮の反射点で反射した電磁波の仮の到達点を設定する仮反射到達点設定手段と、前記到達点および前記仮の到達点の間に、または前記仮の反射点から前記仮の到達点に引いた仮のベクトル上の点および前記到達点の間に、誤差ベクトルを設定する誤差ベクトル設定手段と、この誤差ベクトル設定手段で設定された誤差ベクトルを無くすように、前記仮反射到達点設定手段で前記反射面上に設定された仮の反射点の位置を更新して、実際の反射点の位置を判定する仮反射点更新判定手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００８】
かかる構成によれば、仮反射到達点設定手段によって、仮の反射点と仮の到達点が設定され、誤差ベクトル設定手段によって、電磁波の実際の到達点と仮の到達点とを結びつけた誤差ベクトルが設定され、仮反射点更新判定手段によって、仮の反射点の位置が更新され、誤差ベクトルが無くされ、実際の反射点の位置が判定される。なお、誤差ベクトルを無くすようにとは、誤差ベクトルの大きさを０にすることである。
【０００９】
請求項３記載の反射点算出プログラムは、反射面における電磁波の反射点を算出する装置を、放射特性および発射位置が既知である波源から放射された電磁波の反射する面が既知の形状である反射面上で反射する際の、仮の反射点を設定すると共に、この仮の反射点で反射した電磁波の仮の到達点を設定する仮反射到達点設定手段、前記反射面から反射された電磁波の到達位置である実際の到達点および前記仮の到達点の間に、または前記仮の反射点から前記仮の到達点に引いた仮のベクトル上の点および前記到達点の間に、誤差ベクトルを設定する誤差ベクトル設定手段、この誤差ベクトル設定手段で設定された誤差ベクトルを無くすように、前記仮反射到達点設定手段で前記反射面上に設定された仮の反射点の位置を更新し、実際の反射点の位置を判定する仮反射点更新判定手段、として機能させることを特徴とする。
【００１０】
かかる構成によれば、仮反射到達点設定手段によって、仮の反射点と仮の到達点が設定され、誤差ベクトル設定手段によって、電磁波の実際の到達点と仮の到達点とを結びつけた誤差ベクトルが設定され、仮反射点更新判定手段によって、仮の反射点の位置が更新され、誤差ベクトルが無くされ、実際の反射点の位置が判定される。なお、誤差ベクトルを無くすようにとは、誤差ベクトルの大きさをが０にすることである。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
（反射点算出装置の構成）
図１は、反射点算出装置の概略を説明した説明図である。この図１に示すように、反射点算出装置１は、主制御部３と、記憶部５と、入力部７と、表示出力部９とを備えて構成されている。
【００１２】
反射点算出装置１は、電磁波の波源（波源の発射位置、放射特性が既知）と、反射面の形状と、到達点とが既知の場合に、反射面における電磁波の反射点を、反射の法則を利用して算出する装置である。
ここで、補足しておくと、反射の法則とは、入射波の入射点における境界の法線と入射波がなす角の正弦（ｓｉｎ）と、入射波の入射点における境界の法線と反射波がなす角の正弦（ｓｉｎ）が、一定であるという法則である。
【００１３】
主制御部３は、反射点算出装置１の制御を司るものであり、ＣＰＵとメモリ等によって構成されており、仮反射到達点設定手段３ａと、誤差ベクトル設定手段３ｂと、仮反射点更新判定手段３ｃとを備えて構成されている。なお、仮反射到達点設定手段３ａと、誤差ベクトル設定手段３ｂと、仮反射点更新判定手段３ｃとは、主制御部３で起動しているプログラムである。
【００１４】
仮反射到達点設定手段３ａは、波源から反射面に照射された電磁波の反射面における仮の反射点（仮反射点）と、電磁波が仮反射点から到達した仮の到達点（仮到達点）とを反射の法則を満たすように設定するものである。なお、仮反射点は、反射面状の適当な位置に設定される。そして、反射の法則に従い、仮反射点の位置と電磁波の発射位置とにより、反射方向が決定され、この反射方向上の特定の位置に仮到達点が設定される。
【００１５】
誤差ベクトル設定手段３ｂは、仮反射点を始点とし仮到達点を終点とした仮ベクトルに、電磁波の既知の到達点から、垂線を引いて交点を求め、既知の到達点を始点とし当該交点を終点とした誤差ベクトルを設定するものである。
仮反射点更新判定手段３ｃは、二分法や最急降下法等の既に確立されている手法を利用して、仮反射到達点設定手段３ａによって設定された仮反射点の位置を、誤差ベクトル設定手段３ｂによって設定された誤差ベクトルの大きさが無くなるように（０になるように）更新し、誤差ベクトルの大きさが０になったときの仮反射点の位置を、実際の反射点の位置とするものである。
【００１６】
ここで、補足しておくと、二分法は、必要な任意の精度まで関数の根を求める手続きの一つであって、仮反射点から反射面上の特定の区間（試験区間）を半分に分割してゆき、その分割したどちらの半分で関数（実際の反射点と既知の到達点とを満たす式）の値が符号を変えるかを求めてゆく方法である。また、最急降下法は、ある関数が、鞍点周りのテイラー（Ｔａｙｌｏｒ）級数展開から導かれる漸近式によって近似できることを利用して、関数（実際の反射点と既知の到達点とを満たす式）の極値（実際の反射点）を効果的にみつける方法である。
【００１７】
記憶部５は、大容量のハードディスク等によって構成され、主制御部３で展開する基本ＯＳと、各プログラムである仮反射到達点設定手段３ａと、誤差ベクトル設定手段３ｂと、仮反射点更新判定手段３ｃとを記憶すると共に、電磁波の波源の位置および放射特性と、反射面の反射面形状と、電磁波の到達点の位置とを記憶するものである。
【００１８】
入力部７は、一般的なキーボード、マウス等によって構成され、電磁波の波源の位置および放射特性と、反射面の反射面形状と、電磁波の既知の到達点の位置と、仮反射点の位置と、仮到達点の位置とを表すデータ等を入力するためのものである。
【００１９】
表示出力部９は、ＣＲＴや液晶ディスプレイ等によって構成され、入力部７によって入力する各データを表示すると共に、各プログラムである仮反射到達点設定手段３ａと、誤差ベクトル設定手段３ｂと、仮反射点更新判定手段３ｃとの算出結果を出力するためのものである。
【００２０】
（反射点算出装置の動作）
次に、反射点算出装置１の動作について、図２に示すフローチャートを参照して説明する。以下の動作は、反射点算出装置１の内部にて、仮想的に行われている処理を記述したものである。
まず、反射点算出装置１のユーザの要求に基づき、反射点算出装置１の仮反射到達点設定手段３ａによって、仮の反射点（仮反射点）と仮の到達点（仮到達点）とが設定される（Ｓ１）。そして、誤差ベクトル設定手段３ｂによって、仮反射点を始点とし仮到達点を終点とした仮ベクトルが設定される（Ｓ２）。さらに、この誤差ベクトル設定手段３ｂによって、既知の到達点から仮のベクトルに垂線が引かれ、交点が求められ、既知の到達点を始点とし当該交点を終点とした誤差ベクトルが設定される（Ｓ３）。
【００２１】
そして、仮反射点更新判定手段３ｃによって、二分法または最急降下法等を利用して、仮の反射点（仮反射点）の位置が更新され（Ｓ４）、誤差ベクトルの大きさが０になったかどうかが判断される（Ｓ５）。誤差ベクトルの大きさが０になったと判断されない場合には、仮反射点の位置が繰り返し更新され、誤差ベクトルの大きさが０になったと判断された場合には、当該仮反射点の位置が、実際の反射点とされ、反射点の位置が決定される（Ｓ６）。
【００２２】
（反射点算出装置の動作例１）
次に、反射点算出装置１の動作例１を、図３を参照して説明する。
まず、図３において、波源ＷＳ１（ｗａｖｅ  ｓｏｕｒｃｅとする）から放射された電磁波は、反射面ＲＦ１（ｒｅｆｌｅｃｔ  ｆａｃｅとする）上に存在する反射点ＴＲＰ１（ｔｒｕｔｈ  ｒｅｔｕｒｎ  ｐｏｉｎｔとする）で反射し、反射の法則に従う方向に反射され、既知の到達点ＴＡＰ１（ｔｒｕｔｈ  ａｒｒｉｖａｌ  ｐｏｉｎｔとする）へ向かう。
【００２３】
この場合の反射点ＴＲＰ１を算出するのに、この実施の形態の反射点算出装置１では、図３に示すように、まず、仮反射到達点設定手段３ａによって、反射面ＲＦ１上の適当な位置に、反射の法則に従う仮の反射点ＡＲＰ１（ａｓｓｕｍｅｒｅｔｕｒｎ  ｐｏｉｎｔとする）が設定され、波源ＷＳ１から仮の反射点ＡＲＰ１への入射方向が決定される。そして、仮の反射点ＡＲＰ１に基づいて、反射の法則に従って仮の到達点ＡＡＰ１（ａｓｓｕｍｅ  ａｒｒｉｖａｌ  ｐｏｉｎｔとする）が設定される。
【００２４】
次に、誤差ベクトル設定手段３ｂによって、仮の反射点ＡＲＰ１と仮の到達点ＡＡＰ１とを結ぶ直線（仮ベクトル）へ、既知の到達点ＴＡＰ１から垂線が引かれ、その交点が求められる。そして、既知の到達点ＴＡＰ１と当該交点とを結ぶ直線が誤差ベクトルとされる。そして、仮反射点更新判定手段３ｃによって、二分法や最急降下法などが利用され、その誤差ベクトルの大きさが０となるように、仮の反射点ＡＲＰ１の位置が変更（更新）される。このときの仮の反射点ＡＲＰ１の位置が算出すべき実際の反射点ＴＲＰ１の位置とされる。
【００２５】
（反射点算出装置の動作例２）
次に、仮反射点算出装置１の動作例２を、図４を参照して説明する。
この動作例２では、電磁波の反射面ＲＦ２がパラボラ面（回転放物面）であると想定したものである。図４において、波源ＷＳ２から放射された電磁波は、反射面ＲＦ２上の反射点ＴＲＰ２で反射され、反射の法則に従う方向に反射される。
【００２６】
この場合の反射点ＴＲＰ２を算出するのに、この実施の形態の反射点算出装置１では、図４に示すように、まず、仮反射到達点設定手段３ａによって、反射面ＲＦ２上の適当な位置に、反射の法則に従う仮の反射点ＡＲＰ２が設定され、波源ＷＳ２から仮の反射点ＡＲＰ２への入射方向が決定される。そして仮の反射点ＡＲＰ２に基づいて、反射の法則に従って仮の到達点ＡＡＰ２が設定される。
【００２７】
次に、誤差ベクトル設定手段３ｂによって、仮の反射点ＡＲＰ２と仮の到達点ＡＡＰ２とを結ぶ直線（仮ベクトル）へ、既知の到達点ＴＡＰ２から垂線が引かれ、その交点が求められる。そして、仮反射点更新判定手段３ｃによって、二分法や最急降下法などが利用され、その誤差ベクトルの大きさが０となるように、仮の反射点ＡＲＰ２の位置が変更（更新）される。このときの反射点ＡＲＰ２の位置が算出すべき実際の反射点ＴＲＰ２の位置とされる。
【００２８】
（反射点算出装置の動作例３）
次に、反射点算出装置１の動作例３を、図５を参照して説明する。
この動作例３では、電磁波の反射面ＲＦ３がパラボラ面（回転放物面）であり、その前面に平面の等価開口面を想定したものである。図５において、波源ＷＳ３から放射された電磁波は、反射面ＲＦ３上の反射点ＴＲＰ３で反射され、反射の法則に従う方向に反射される。
【００２９】
この場合の反射点ＴＲＰ３を算出するのに、この実施の形態の反射点算出装置１では、図５に示すように、まず、仮反射到達点設定手段３ａによって、反射面ＲＦ３上の適当な位置に、反射の法則に従う仮の反射点ＡＲＰ３が設定され、波源ＷＳ３から仮の反射点ＡＲＰ３への入射方向が決定される。そして仮の反射点ＡＲＰ３に基づいて、反射の法則に従って仮の到達点ＡＡＰ３が設定される。
【００３０】
そして、誤差ベクトル設定手段３ｂによって、仮のＡＲＰ３において、入射方向と反射方向とが反射の法則を満たすように、反射方向が算出される。また、求められた反射方向（反射ベクトル）と反射面ＲＦ３の前面にある平面の等価開口面とが交わる点が、仮の到達点ＡＡＰ３とされ、仮反射点更新判定手段３ｃによって、既知の到達点ＴＡＰ３から当該仮の到達点ＡＡＰ３への誤差ベクトルの大きさが０になるように、仮の反射点ＡＲＰ３が更新されて、実際の反射点ＴＲＰ３が算出される。
【００３１】
（反射点算出装置の動作例４）
次に、仮反射点算出装置１の動作例４を、図６を参照して説明する。この動作例４では、電磁波の反射面ＲＦ５が任意の凹面または凸面の形状であると想定したものである。図６において、波源ＷＳ５から放射された電磁波は、反射面ＲＦ５上の反射点ＴＲＰ５で反射され、反射の法則に従う方向に反射される。
【００３２】
そこでまず、この実施の形態の反射点算出装置１では、仮反射到達点設定手段３ａによって、任意の凹面または凸面形状の反射面ＲＦ５上の適当な点が（反射の法則をみたす）仮の反射点ＡＲＰ５とされ、波源ＷＳ５から仮の反射点ＡＲＰ５への単位ベクトルが入射ベクトルＳｉとされ、仮の反射点ＡＲＰ５から既知の到達点ＴＡＰ５への単位ベクトルが反射ベクトルＳｒとされる。反射点における法線ベクトルが法線ベクトルｎとされる。
【００３３】
そして、誤差ベクトル設定手段３ｂによって、仮の反射点ＡＲＰ５において、入射方向と反射方向とが反射の法則を満たすように、反射方向が算出される。また、求められた反射方向（反射ベクトル）と任意の凹面または凸面形状の反射面ＲＦ５の前面にある任意の凹面または凸面形状の等価開口面とが交わる点が、仮の到達点ＡＡＰ５とされ、仮反射点更新判定手段３ｃによって、既知の到達点ＴＡＰ５から当該仮の到達点ＡＡＰ５への誤差ベクトルの大きさが０になるように、仮の反射点ＡＲＰ５が更新されて、実際の反射点ＴＲＰ５が算出される。
【００３４】
この実施の形態では以下の効果を奏す。
図７に、この実施の形態における誤差ベクトルと、Ｆｅｒｍａｔの原理を利用して求めた路長との比較を示す。電磁波の波源と、電磁波の到達点と、電磁波の反射面の形状とが既知である場合であって、図７に示すように、従来のＦｅｒｍａｔの原理を利用し、路長距離を最小にした場合よりも、誤差ベクトルは、収束性がよい（実際の反射点の算出精度が高い）。つまり高速に、反射面上の電磁波の反射点を算出することができる。
【００３５】
より具体的には、仮反射到達点設定手段３ａによって、仮の反射点と仮の到達点が設定され、誤差ベクトル設定手段３ｂによって、電磁波の実際の到達点と仮の到達点とを結びつけた誤差ベクトルが設定され、仮反射点更新判定手段３ｃによって、仮の反射点の位置が更新され、誤差ベクトルが無くされる。このため、Ｆｅｒｍａｔの原理を利用した従来の方法（装置）に比べ、実際の反射点近傍の微分係数の変化が大きいので、反射面における反射点の位置を高速に算出することができる。
【００３６】
以上、一実施形態に基づいて本発明を説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。
例えば、反射点算出装置１で実現した各機能を、電磁波の反射面における反射点を算出する方法としてみなすこと（反射点算出方法）や、反射点算出装置１の主制御部３で起動している各手段を、記憶媒体にプログラムとして記述して反射点を算出する単体のプログラムとしてみなすこと（反射点算出プログラム）は可能である。これらの場合、反射点算出装置１と同様の効果が得られる。
【００３７】
【発明の効果】
請求項１記載の発明によれば、反射点算出方法において、電磁波の反射面における仮の反射点と、仮の到達点とが設定され、さらに、電磁波の実際の到達点と仮の到達点とを結びつけた誤差ベクトルが設定され、仮の反射点の位置が更新されることで、誤差ベクトルが無くされる。そして、従来の方法に比べ、誤差ベクトルの収束性がよいため、反射面における反射点の位置を高速で高精度に算出することができる。
【００３８】
請求項２記載の発明によれば、反射点算出装置において、仮反射到達点設定手段によって、仮の反射点と仮の到達点が設定され、誤差ベクトル設定手段によって、電磁波の実際の到達点と仮の到達点とを結びつけた誤差ベクトルが設定され、仮反射点更新判定手段によって、仮の反射点の位置が更新され、誤差ベクトルが無くされる。そして、従来の方法に比べ、誤差ベクトルの収束性がよいため、反射面における反射点の位置を高速で高精度に算出することができる。
【００３９】
請求項３記載の発明によれば、反射点算出プログラムにおいて、仮反射到達点設定手段によって、仮の反射点と仮の到達点が設定され、誤差ベクトル設定手段によって、電磁波の実際の到達点と仮の到達点とを結びつけた誤差ベクトルが設定され、仮反射点更新判定手段によって、仮の反射点の位置が更新され、誤差ベクトルが無くされる。そして、従来の方法に比べ、誤差ベクトルの収束性がよいため、反射面における反射点の位置を高速で高精度に算出することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による一実施の形態である反射点算出装置の概略を説明した説明図である。
【図２】反射点算出装置の動作を説明したフローチャートである。
【図３】反射点算出装置の動作例（反射面が平坦）を説明した説明図である。
【図４】反射点算出装置の動作例（反射面がパラボラ面）を説明した図である。
【図５】反射点算出装置の動作例（反射面がパラボラ面で等価開口を想定）を説明した説明図である。
【図６】反射点算出装置の動作例（反射面が任意形状）を説明した説明図である。
【図７】従来の算出方法との効果の違いを説明した説明である。
【図８】従来の反射点の算出方法を説明した説明図である。
【符号の説明】
１  反射点算出装置
３  主制御部
３ａ  仮反射到達点設定手段
３ｂ  誤差ベクトル設定手段
３ｃ  仮反射点更新判定手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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