【事件の表示】
　特許第６２７７２７７号発明「真空処理装置用の基板スプレッディングデバイス、基板スプレッディングデバイスを有する真空処理装置、及びそれを動作させる方法」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第６２７７２７７号の請求項１〜８、１０〜１６に係る特許を取り消す。
　同請求項９に係る特許を維持する。
【理　由】
第１　手続の経緯
　特許第６２７７２７７号の請求項１〜１６に係る特許についての出願は、２０１４年（平成２６年）１２月９日（パリ条約による優先権主張外国庁受理　２０１３年１２月１０日（ＥＰ）欧州特許庁）を国際出願日とする出願であって、平成３０年１月１９日にその特許権の設定登録がされ、平成３０年２月７日に特許掲載公報の発行がされたものであり、その後、平成３０年８月７日付けで、特許異議申立人小柳恵子（以下、「特許異議申立人」という。）により、請求項１〜１６に係る特許に対する特許異議の申立てがなされ、平成３０年１０月１７日付けで、請求項１〜８、１０〜１６に係る特許に対する取消理由を通知し、期間を指定して意見書を提出する機会を与えたが、特許権者からは応答がなかったものである。
第２　特許異議申立について
１　本件特許発明
　特許第６２７７２７７号の請求項１〜１６に係る発明は、それぞれ、その特許請求の範囲の請求項１〜１６に記載された次の事項により特定されるとおりのものであると認める。
　　【請求項１】
　フレキシブル基板（１１０；６４０）を処理するための処理装置（１００；６００）であって、
　真空チャンバ（１２０）と、
　前記真空チャンバ（１２０）内の処理ドラム（１１０）であって、第一の方向に延びる軸（１１２）の周りに回転するように構成される処理ドラムと、
　一つ以上のローラを含む基板移送アレンジメントであって、前記基板移送アレンジメントは、前記フレキシブル基板を巻戻しローラから巻取りローラへ案内し、前記一つ以上のローラは、前記第一の方向に前記フレキシブル基板を広げるように構成された第一のローラを含む、基板移送アレンジメントと、
　前記処理ドラムに隣接する加熱デバイス（１３０）であって、前記第一の方向への前記フレキシブル基板の広がりを維持するように構成され、基板移送方向と平行な方向の寸法が、少なくとも２０ｍｍである加熱デバイスと、を備え、
　前記加熱デバイスが、前記処理ドラムと前記第一のローラとの間に配置され、前記第一のローラは、前記処理ドラムの上流に配置されている、処理装置。
　　【請求項２】
　フレキシブル基板（１１０；６４０）を処理するための処理装置（１００；６００）であって、
　真空チャンバ（１２０）と、
　前記真空チャンバ（１２０）内の処理ドラム（１１０）であって、第一の方向に延びる軸（１１２）の周りに回転するように構成される処理ドラムと、
　一つ以上のローラを含む基板移送アレンジメントであって、前記基板移送アレンジメントは、前記フレキシブル基板を巻戻しローラから巻取りローラへ案内し、前記一つ以上のローラは、前記第一の方向に前記フレキシブル基板を広げるように構成された第一のローラを含む、基板移送アレンジメントと、
　前記処理ドラムに隣接する加熱デバイス（１３０）であって、前記第一の方向への前記フレキシブル基板の広がりを維持するように構成され、基板移送方向と平行な方向の寸法が、少なくとも２０ｍｍである加熱デバイスと、を備え、
　前記第一のローラが、前記処理ドラムと前記加熱デバイスとの間に配置され、前記第一のローラは、前記処理ドラムの下流に配置されている、処理装置。
　　【請求項３】
　前記第一のローラが、スプレッダローラである、請求項１または２に記載の処理装置。
　　【請求項４】
　前記加熱デバイスの第一の側面に向かい合って配置される熱調整ユニットであって、前記熱調整ユニット及び前記加熱デバイスが、前記フレキシブル基板の経路を提供する間隙又はトンネルを形成する、熱調整ユニットを更に備える、請求項１から３のいずれか１項に記載の処理装置。
　　【請求項５】
　前記熱調整ユニットが、別の加熱デバイス、熱リフレクタプレート、又はその組合せである、請求項４に記載の処理装置。
　　【請求項６】
　前記加熱デバイスが、赤外線加熱デバイスと誘導性加熱デバイスのうちの少なくとも一つである、請求項１から５のいずれか１項に記載の処理装置。
　　【請求項７】
　前記基板移送アレンジメントが、前記真空チャンバ内で前記フレキシブル基板の裏側にのみ接触するように適合される、請求項１から６のいずれか１項に記載の処理装置。
　　【請求項８】
　前記基板移送アレンジメントが、ガイドローラ、スプレッダデバイス、偏向デバイス、調整ローラからなるグループから選択される少なくとも一つのローラを含む、請求項７に記載の処理装置。
　　【請求項９】
　前記加熱デバイスと前記第一のローラの間に設けられた冷却ユニットであって、前記加熱デバイスによって生成された熱放射から前記第一のローラを保護するように構成される冷却ユニットを更に備える、請求項１から８のいずれか１項に記載の処理装置。
　　【請求項１０】
　前記加熱デバイスから前記処理ドラムまでの最小距離が、２０ｃｍ以下である、請求項１から９のいずれか１項に記載の処理装置。
　　【請求項１１】
　前記フレキシブル基板の移送経路に沿った前記第一のローラから前記処理ドラムまでの距離が、１００ｃｍ以下である、請求項１から１０のいずれか１項に記載の処理装置。
　　【請求項１２】
　真空チャンバ内の処理ドラムであって、第一の方向に延びる軸の周りに回転するように構成される処理ドラムを有する、フレキシブル基板を処理するための真空処理装置を動作させる方法であって、
　前記処理ドラムの上流に配置されている第一のローラを含む基板移送アレンジメントによって、前記フレキシブル基板を巻戻しローラから巻取りローラへ案内することであって、前記第一のローラは、前記第一の方向に前記フレキシブル基板を広げる、案内することと、
　前記処理ドラムに隣接して配置された加熱デバイスで、前記第一の方向への前記フレキシブル基板の広がりを維持することと、
を含み、
　前記加熱デバイスは、前記処理ドラムと前記第一のローラの間に配置されている、方法。
　　【請求項１３】
　真空チャンバ内の処理ドラムであって、第一の方向に延びる軸の周りに回転するように構成される処理ドラムを有する、フレキシブル基板を処理するための真空処理装置を動作させる方法であって、
　前記処理ドラムの下流に配置されている第一のローラを含む基板移送アレンジメントによって、前記フレキシブル基板を巻戻しローラから巻取りローラへ案内することであって、前記第一のローラは、前記第一の方向に前記フレキシブル基板を広げる、案内することと、
　前記処理ドラムに隣接して配置された加熱デバイスで、前記第一の方向への前記フレキシブル基板の広がりを維持することと、を含み、
　前記第一のローラは、前記処理ドラムと前記加熱デバイスの間に配置されている、方法。
　　【請求項１４】
前記加熱デバイスは、基板移送方向と平行な方向の寸法が、少なくとも２０ｍｍである、請求項１２または１３に記載の方法。
　　【請求項１５】
　前記第一のローラは、スプレッダローラである、請求項１２から１４のいずれか１項に記載の方法。
　　【請求項１６】
　前記フレキシブル基板の裏側のみを、一つ以上のローラを含む基板移送アレンジメントと接触させることを更に含む、請求項１２から１５のいずれか１項に記載の方法。
２　取消理由について
（１）取消理由の概要
　本件請求項１〜８、１０〜１６に係る特許に対して、平成３０年１０月１７日付けで特許権者に通知した取消理由の要旨は次のとおりである。
　本件請求項１〜８、１０〜１６に係る発明は、引用文献１に記載された発明、及び、引用文献１〜引用文献５に記載された技術的事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、その特許は取り消すべきものである。
（引用文献一覧）
　引用文献１：特開平２−１６６２８０号公報（甲第１号証）
　引用文献２：特開２０１３−１２１６８９号公報
　引用文献３：特開２０１２−２４６５１１号公報
　引用文献４：国際公開第２０１３／１１５１２５号（甲第２号証）
　引用文献５：特開２０１３−１７９０１９号公報
（２）当審の判断
　手続の経緯に示したとおり、上記（１）の取消理由を通知し、期間を指定して意見書を提出する機会を与えたが、特許権者からは応答がなかった。
　そして、上記取消理由は妥当なものと認められるので、本件請求項１〜８、１０〜１６に係る特許は、この取消理由によって取り消されるべきものである。
３　取消理由において採用しなかった特許異議申立理由について
（１）申立理由
　特許異議申立人は、本件請求項９に係る発明は、甲第１号証（特開平２−１６６２８０号公報、取消理由の引用文献１）及び甲第４号証（特開平１−１６５０３２号公報）に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、その特許は取り消すべきものであることを主張している（特許異議申立書第１８頁末行〜第１９頁第９行）。
（２）申立理由の検討
　ア　甲第１号証に記載された発明
　甲第１号証には、その第１頁右下欄第９行〜第２頁左上欄第９行、第３頁左上欄第７行〜右上欄第６行、第３頁右上欄第１８行〜左下欄第１０行、及び、第１図〜第３図の記載によれば、
「熱膨張性のフィルムに薄膜を形成する真空蒸着装置であって、
　真空チャンバと、
　真空チャンバに収納される、供給ロールと、電子線衝撃加熱装置と、エキスパンドローラと、回転する円筒状キャンと、フリーローラと、巻取りロールと、を備え、
　フィルムが、供給ロールより巻出され、電子線衝撃加熱装置により加熱されて熱膨張しながら、エキスパンドローラにより幅方向に拡張され、円筒状キャンの外周面に接触して走行し、円筒状キャンに巻き付けられたフィルムに薄膜を形成し、成膜されたフィルムが、フリーローラを経て巻取りロールに巻き取られるように構成され、
　電子線衝撃加熱装置は、エキスパンドローラの上流側から下流側にわたってフィルムを加熱するように設置されていると共に、円筒状キャンの近傍に設置されている、真空蒸着装置。」
の発明（以下、「甲１発明」という。）が記載されているといえる。
　イ　当審の判断
　本件請求項９に係る発明と甲１発明を対比する。
　甲１発明の「エキスパンドローラ」と「電子線衝撃加熱装置」は、それぞれ、本件請求項９に係る発明の「第一のローラ」と「加熱デバイス」に相当するところ、本件請求項９に係る発明では、「前記加熱デバイスと前記第一のローラの間に」、「前記加熱デバイスによって生成された熱放射から前記第一のローラを保護するように構成される冷却ユニット」を備えているのに対して、甲１発明では、「エキスパンドローラ」と「電子線衝撃加熱装置」の間に冷却ユニットを備えていない点（相違点）で、少なくとも相違している。
　そこで、上記相違点について検討する。
　甲第４号証には、「磁性層形成装置」の「エキスパンドゴムローラー１２」と「回転ドラム２」との間に「回転ドラム２からの放射熱を防ぐ防熱板１３」を設けるとの技術的事項が記載されている（第３頁左上欄第１３行〜右上欄第４行及び第１図）。
　しかしながら、甲１発明では、「電子線衝撃加熱装置は、エキスパンドローラの上流側から下流側にわたってフィルムを加熱するように設置」され、「電子線衝撃加熱装置」と「エキスパンドローラ」は、「フィルム」が「電子線衝撃加熱装置により加熱されて熱膨張しながら、エキスパンドローラにより幅方向に拡張され」るように構成されており、「エキスパンドローラ」は、「電子線衝撃加熱装置」により加熱されることを前提とするものであるから、その間に熱を遮るような、甲第４号証に記載された「防熱板」を設けることには阻害要因がある。
　そうしてみると、甲１発明において、「エキスパンドローラ」と「電子線衝撃加熱装置」の間に、上記相違点に係る冷却ユニットを設けることは、当業者が容易に想到し得るものといえない。
　したがって、本件請求項９に係る発明は、甲第１号証及び甲第４号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものでないから、本件請求項９に係る特許に対する申立理由は理由がない。
第３　むすび
　以上のとおり、本件請求項１〜８、１０〜１６に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるから、特許法第１１３条第２号に該当し、取り消されるものである。
　また、本件請求項９に係る特許は、特許異議申立書に記載した特許異議申立理由によって、特許を取り消すことはできない。そして、他に本件請求項９に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成３１年３月１日（２０１９．３．１）