(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィールドシーケンシャル方式で駆動される液晶表示パネルと、該液晶表示パネルの背面側に設けられたバックライトとを備えた液晶表示装置であって、
上記バックライトにおいては、ストライプ状に形成された複数のアノードと、上記複数のアノードに沿って上記複数のアノードの一部をそれぞれ開口するストライプ状の複数の第１開口部及び上記複数のアノードの他部をそれぞれ開口する複数の第２開口部を有する隔壁部の上記複数の第１開口部内にそれぞれ形成されたストライプ状の有機ＥＬ層と、上記有機ＥＬ層上に形成されたカソードとを有する、異なる色に発光する二種以上の複数の有機ＥＬ領域が、各種類毎に分散するように透明基板上に配置され、かつ、順次異なる色に発光可能となるように、各発光色毎の有機ＥＬ領域のアノードをそれぞれ上記第２開口部を介して互いに接続する導電性層が設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１記載の液晶表示装置において、
上記アノードは、各発光色の有機ＥＬ領域毎に長さが異なることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１または２記載の液晶表示装置において、
上記有機ＥＬ領域は、各発光色ごとに幅を変えて面積が異なることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機ＥＬ素子をバックライトに用いたフィールドシーケンシャル方式で駆動する液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、フィールドシーケンシャル方式を用いた液晶表示装置が注目されている。
液晶表示装置によるフルカラー表示の方式には、空間混合方式と時間差混合方式があり、後者はフィールドシーケンシャル方式と呼ばれている。
【０００３】
空間混合方式は赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の波長領域の光を重ねる加法混色を基本原理とし、ＬＣＤにおいて、Ｒ・Ｇ・Ｂにそれぞれ光る画素を近接して配置するとともに、各画素の輝度を変えることにより、これらの色を任意に混色して、任意の色光を得るものである。また、空間混合方式によるＬＣＤにおいては、一般的にカラーフィルターが用いられている。
【０００４】
対して、フィールドシーケンシャル方式とは、「時分割」による混色を利用したカラー表示方式である。すなわち、二色以上の光を継続的に切り替えて発光させ、かつ、その切り替えの速さを人間の目の時間的分解能を越えた速さとした場合に、人間が上述の二色以上の色を混色して認識することを応用した方式である。
【０００５】
フィールドシーケンシャル方式のフルカラーＬＣＤにおいては、動画表示における各フィールド毎に、それぞれ、バックライトをＲ・Ｇ・Ｂの三つの発光色のうちの一つの発光色で発光可能とするとともに、各フィールドごとに継続的にＲ・Ｇ・Ｂの発光色を切り替えて（時分割して）発光させ、その切り替えの速さを充分に速くすることにより任意の色光を得るようになっている。
すなわち、フィールドシーケンシャル方式のフルカラーＬＣＤにおいては、例えば、カラーの各フィールドを、それぞれ、あらかじめ、Ｒのフィールドと、Ｇのフィールドと、Ｂのフィールドとに分光した状態に分け、一つのカラーのフィールドを表示する際に、上述のＲＧＢの各フィールドを順番に時間差を付けてＬＣＤに表示するとともに、Ｒのフィールドを表示する際には、バックライトの発光を赤（Ｒ）とし、Ｂのフィールドを表示する際には、バックライトの発光を青（Ｂ）とし、Ｇのフィールドを表示する際には、バックライトの発光を緑（Ｇ）としている。そして、上記ＬＣＤにおいては、上述のように時分割された三色のフィールドからなるカラーの各フィールドを、三つの発光色を切り替えながら連続して表示することにより、カラーの動画を表示できるようにしている。
【０００６】
また、フィールドシーケンシャル方式以外のフルカラーＬＣＤにおいては、一般的にカラーフィルタが用いられる。しかし、カラーフィルターを導入すると、バックライトからの光がカラーフィルターで大幅に吸収されてしまう。カラーフィルターを要しないフィールドシーケンシャル方式では、カラーフィルターに吸収される分の光の損失にかける電力消費を抑えることができ、従来のＬＣＤと比較して低消費電力化が可能である。さらに、カラーフィルターは、カラー液晶表示パネルの部材費の中でも高価であり、カラーフィルタを無くすことで大幅なコストダウンが図れる。
【０００７】
なお、フィールドシーケンシャル方式では、各フィールドを、各々Ｒ・Ｇ・Ｂに充分に速く切り替えて発光させる必要があるために、ＬＣＤを構成するバックライトと液晶表示パネルともに、従来のＬＣＤのものと比較して、高速応答可能である必要がある。すなわち、色の切り替えによる画像のちらつき（フリッカ）が生じないようにするためには、フィールドを約１／６０秒以下で切り替える必要があると言われている。従って、１フィールドあたり１色の表示を行うのに、約１／１８０秒以下、すなわち６ミリ秒以下で切り替える必要がある。さらに、このフィールド内で、画像の書き込みと液晶の応答、バックライトの点灯を行う必要があり、液晶表示パネルには、さらに高速に駆動することが要求される。従って、液晶表示パネルとしては、高速応答可能な点から、強誘電液晶や反強誘電液晶が有利であると言われている。ネマチック液晶の中では、ＴＮ液晶に対して１０倍の応答速度を持つＯＣＢ液晶も提案されている。以上のように、液晶表示パネルにおいては、高速応答可能な液晶表示パネルの開発が進められている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、フィールドシーケンシャル方式のバックライトについては、従来のバックライトに使用されている冷陰極管やＬＥＤを用いることが考えられる。冷陰極管については、従来、ちらつきのない白色光を得るために、残光時間の長いものが要求されていたが、フィールドシーケンシャル方式に十分に対応可能な高速駆動のためにはむしろ、残光時間が短いものが要求されるという課題がある。また、ＬＥＤについては、近年では、青色発光ＬＥＤが量産されており、ＲＧＢ３色のバックライトが製造可能であると考えられているが、フィールドシーケンシャル用のバックライトとしては、未だ実用化には至っていない。
【０００９】
一方、ＬＣＤの主な用途の一つとしては、携帯可能な小型軽量の電子機器のディスプレイとして用いられることが上げられる。この場合に、電子機器の小型化を図るためのバックライトの薄型化と、携帯時に電池駆動された場合の駆動時間の長期化を図るためのバックライトの消費電力の低減とが望まれることになる。
【００１０】
従って、フィールドシーケンシャル方式のＬＣＤに用いられるバックライトとしては、フィールドシーケンシャル方式に十分に対応可能な高速応答性と、薄くできる構造と、低い消費電力で駆動可能なこととが要求されるが、これらの条件を満たすバックライトを備えたフィールドシーケンシャル方式の液晶表示装置は未だ得られていない。
【００１１】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、バックライトとして、ＲＧＢの各色の発光を高速で切り替えることが可能で、かつ、薄く、消費電力が小さい有機ＥＬ素子を用いたフィールドシーケンシャル方式の液晶表示装置を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１記載の液晶表示装置は、フィールドシーケンシャル方式で駆動される液晶表示パネルと、該液晶表示パネルの背面側に設けられたバックライトとを備えた液晶表示装置であって、上記バックライトにおいては、ストライプ状に形成された複数のアノードと、上記複数のアノードに沿って上記複数のアノードの一部をそれぞれ開口するストライプ状の複数の第１開口部及び上記複数のアノードの他部をそれぞれ開口する複数の第２開口部を有する隔壁部の上記複数の第１開口部内にそれぞれ形成されたストライプ状の有機ＥＬ層と、上記有機ＥＬ層上に形成されたカソードとを有する、異なる色に発光する二種以上の複数の有機ＥＬ領域が、各種類毎に分散するように透明基板上に配置され、かつ、順次異なる色に発光可能となるように、各発光色毎の有機ＥＬ領域のアノードをそれぞれ上記第２開口部を介して互いに接続する導電性層が設けられていることを特徴とする。
【００１３】
上記構成によれば、上記液晶表示パネルの背面部に設けられた上記バックライトにおいて、異なる色に発光する二種以上の有機ＥＬ領域を、発光色の異なる有機ＥＬ領域が互いに分散して配置され（例えば、交互に配置され）、かつ、発光色の異なる有機ＥＬ領域が互いに独立してオンオフ可能となっていれば、異なる発光色のほぼ面状の発光を切り替えて表示することができる。
【００１４】
例えば、単独でＲ・Ｇ・Ｂに各々発光する有機ＥＬ領域を設け、有機ＥＬ領域を発光させるために電流を供給するための電極を、最低限Ｒ・Ｇ・Ｂごとに分けて電力を供給できるような構成とするなどして、一色ずつ個別に発光できるようにすれば、バックライトにおいて、Ｒ・Ｇ・Ｂの三つの発光色を切り替えて、一様な面状発光を行なうことができる。
【００１５】
ここで、有機ＥＬ素子は、その静電容量が極めて小さく、高速でスイッチングすることが可能である。従って、高速にＲＧＢの各色の発光を切り替えることができるので、残光性を有する蛍光材を用いていた蛍光管に比較して、フィールドシーケンシャル方式で駆動される液晶表示装置に最適な極めて薄いバックライトとして機能する。
【００１６】
さらに、上記バックライトからの発光が、フィールドシーケンシャル方式で駆動される液晶表示パネルに導かれることにより、本発明のフルカラー液晶表示装置が機能する。またここで、液晶表示パネルとしては、周知の高速応答可能な液晶表示パネルを用いることが好ましい。例えば、強誘電液晶や反強誘電液晶により構成されるものなどを用いても良い。
【００１７】
本発明の請求項１記載の液晶表示装置では、各有機ＥＬ領域が、ストライプ状に形成された複数のアノードと、上記複数のアノードに沿って上記複数のアノードの一部をそれぞれ開口するストライプ状の複数の第１開口部及び上記複数のアノードの他部をそれぞれ開口する複数の第２開口部を有する隔壁部の上記複数の第１開口部内にそれぞれ形成されたストライプ状の有機ＥＬ層と、上記有機ＥＬ層上に形成されたカソードとを有している。
【００１８】
上記構成によれば、隔壁部の複数の第１開口部内にそれぞれ形成されたストライプ状の有機ＥＬ層がストライプ状に配置しているので、各有機ＥＬ領域は、ほぼ線状（帯状）となる。そして、各有機ＥＬ領域が発光した場合に、各有機ＥＬ領域がほぼ線状光源となり、各有機ＥＬ領域から離れるに従って光が帯状に広がり、近傍にストライプ状に配置された他の有機ＥＬ領域から広がる発光と重なることになる。また上記透明基板上の各有機ＥＬ領域の上記有機ＥＬ層同士の間に各有機ＥＬ層を分離する隔壁部の第１開口部が、ストライプ状の上記有機ＥＬ領域に沿って形成されているので、有機ＥＬ層、アノード及びカソードの形成時に、上記隔壁部の第１開口部を利用することができる。例えば、隔壁部の第１開口部内に有機ＥＬ層の液状の材料を注入するようにすれば、容易にストライプ状の発光層を形成することができる。また、隔壁部を形成した後に、隔壁部より薄いカソードを、隔壁部が形成された透明基板上に面状に形成した場合に、隔壁部の厚みによる段差で、カソードが隔壁部で断線した状態となり、カソードを面状に形成するものとしても、カソードを各有機ＥＬ領域毎に独立した電極としてもよい。ところで上記の通り、フィールドシーケンシャル方式で駆動される液晶表示装置のバックライトとして用いるためには、例えば、ＲＧＢのそれぞれの色に順次切り替えて発光可能とする必要がある。そのためには、各発光色の有機ＥＬ領域毎に独立して電圧を印加できる構成とする必要があるが、各有機ＥＬ領域をストライプ状に配置することにより、他の構成（各有機ＥＬ領域をモザイク状に配置したり、各有機ＥＬ領域を小さな面状として細かく分散して配置した場合など）に比較して、ＲＧＢ各色の有機ＥＬ領域毎に電力を供給するための引き出し線等を最小限にして極めて簡単に、ＲＧＢ各色の有機ＥＬ領域毎に独立して電圧を印加できる構成とすることができる。また同時に、各有機ＥＬ領域をストライプ状に配置することにより、その製造についても他の方法と比較して容易に行うことができる。
【００１９】
そして、有機ＥＬ層は、隔壁部の第１開口部のパターン形成の精度に基づいてパターニングされた状態となり、ストライプ状に形成された有機ＥＬ領域同士の間隔（ピッチ）を狭くすることが可能となる。そして、ストライプ状の光源から面状の発光を得る際に、視認距離に対して十分にストライプ状の光源同士の距離が近い必要がある。言い換えれば、液晶表示パネルとストライプ状の光源との間に配置される透明基板を薄くするには、ストライプ状の光源同士の距離が十分に近い必要がある。従って、バックライトを薄くするためには、ストライプ状に形成された有機ＥＬ領域同士のピッチを狭くする必要があり、逆に言えば、ストライプ状に形成された有機ＥＬ領域同士のピッチを狭くすることにより、さらにバックライトを薄くすることが可能となる。
【００２０】
なお、隔壁部は、例えば、周知の感光樹脂からなるものであり、フォトリソグラフィによりパターン形成可能なものであることが好ましい。また、隔壁部は、絶縁性であることが好ましい。また、隔壁部の厚さは、上述のように隔壁部の第１開口部内に有機ＥＬ層の液状の材料を注入したり、カソードを断線させたりする上において、５μｍ以上あることが好ましい。また、隔壁部は、基本的にストライプ状の有機ＥＬ領域同士の間に、ストライプ状の有機ＥＬ領域に沿って形成されるので、有機ＥＬ領域同士の間の隔壁部も基本的にストライプ状に形成されることになる。
【００２１】
また、隔壁部の第１開口部によって、各有機ＥＬ領域を確実に分離する上では、隔壁部が有機ＥＬ領域の周囲を囲むように形成され、例えば、面状の隔壁部内に、各有機ＥＬ領域となる第１開口部がストライプ状に形成されていることが好ましい。なお、このように面状の隔壁部内にストライプ状の第１開口部が形成される構成とした場合も、有機ＥＬ領域に対応する部分だけをみれば、隔壁部はストライプ状となり、各有機ＥＬ領域同士の間に、それぞれ、有機ＥＬ領域に沿って形成された状態になる。また、隔壁部は、場合によっては、面状の隔壁部内にストライプ状に多数の開口部を形成した状態ではなく、各開口部の一端が解放された状態、すなわち、櫛歯状の状態としても良い。
なお、各発光色の有機ＥＬ層をストライプ状に配置するに際しては、液晶表示装置の液晶表示パネルには、バックライトからの一様なＲＧＢの光が導かれることが好ましいために、各ＲＧＢに発光する有機ＥＬ領域毎で、一種類毎の有機ＥＬ領域の分布がほぼ同じ状態となっていることが好ましい。すなわち、同じ種類の有機ＥＬ層は、ほぼ一定の間隔で配置されていることが好ましく、各種類の有機ＥＬ層を一つずつ含む一組の有機ＥＬ層が多数組ストライプ状に配置されていることが好ましい。
また、より一様なＲＧＢの発光を得るためには、同じ色に発光する各ストライプ（同じ色に発光する各有機ＥＬ領域）間の距離が、視認する距離（バックライトとして使用する場合に、照らす液晶表示パネルまでの距離）に対して充分に狭いことが望ましい。
また、各有機ＥＬ領域は、基本的にアノードとカソードと有機ＥＬ層とを含むものであるが、上記有機ＥＬ領域となる部分が各々線状に発光するようになっていれば、アノード、カソード、有機ＥＬ層の全てがストライプ状になっている必要はなく、アノード、カソードの少なくともいずれか一つが面状に形成されるとともに、複数の有機ＥＬ領域に跨って形成されていても良い。
【００２２】
本発明の請求項２記載の液晶表示装置は、上記アノードは、各発光色の有機ＥＬ領域毎に長さが異なることを特徴とする。
【００２３】
上記構成によれば、同色のアノード同士の端部の位置が異ならせることができ、各位置で互いに接続することができる。
【００２４】
本発明の請求項３記載の液晶表示装置は、上記有機ＥＬ領域は、各発光色ごとに幅を変えて面積が異なることを特徴とする。
【００２５】
上記構成によれば、各発光色の有機ＥＬ領域は、使用される発光材料により、同じ電力で駆動されてもその輝度が異なるので、各有機ＥＬ領域の発光材料に基づく、発光の輝度に対応して、各有機ＥＬ領域毎に幅を変えてその面積を異ならせている。
【００４２】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施の形態の第一例の液晶表示装置（ＬＣＤと略す場合がある）を図面を参照して説明する。図１は、液晶表示パネルとバックライトとからなるＬＣＤの要部の断面を示すものである。
図１に示すように、第一例のＬＣＤは、バックライト１００及び液晶表示パネル２００より構成される。
【００４３】
上記、液晶表示パネル２００は、周知のＴＦＴ方式により高速駆動されるフィールドシーケンシャル方式用の液晶表示パネルである。該液晶表示パネルにおいては、偏光板２０１を外面側に備えた二枚の透明基板２０２、２０２（例えば、ガラス基板もしくは透明フィルム基板）の間に液晶層２０６が挟まれている。
下側の透明基板２０２上には、画素電極２０４及び、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）２０３が形成されている。これはＴＦＴ方式における周知の構成と同様であり、透明基板２０２上には、マトリクス状にデータ線２１０及び走査線が配置されており、データ線２１０と走査線の交点に、ＴＦＴ２０３及び画素電極２０４が配置されている。これらの上方に、配向膜２０５が形成されており、その上方は高速応答可能な液晶材料よりなる液晶層２０６が封入されている。液晶層２０６は、上下の配向膜２０５間に封入されている。また、液晶層２０６内には、スペーサ２０８が配置されており、端部にはシール２０９が形成されている。スペーサ２０８、シール２０９、配向膜２０５により、液晶層２０６を封入する空間が構成されている。そして、この液晶表示パネル２００には、カラーフィルターが設けられていない構成とされている。
【００４４】
そして、上記液晶表示パネル２００においては、フィールドシーケンシャル方式によりフルカラーの画像を表示するので、高速応答可能なものが要求されるが、この例においては、周知の強誘電性液晶や反強誘電液晶を用いた高速応答可能な液晶表示パネル２００を用いるものとする。また、ＯＣＢ液晶を用いるものとしても良い。
【００４５】
次に、図１、図２及び図３を参照して、本発明の実施の形態の第一例のＬＣＤのバックライト１００の構成を説明する。なお、図２においては、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）、導電性ペーストを硬化した導電層１１０、１１０ｒ、１１０ｇ、１１０ｂを、例えば、斜め格子状の図柄として透けた状態に図示し、カソード１０４を透けた状態に図示し、図３においては、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）、隔壁レジスト１０８を、例えば、斜め格子状や横格子状の図柄として透けた状態に図示するとともに、カソード１０４及び導電性層１１０、１１０ｒ、１１０ｇ、１１０ｂの図示を省略している。そして、図２及び図３は、同じ第一例のバックライト１００を図示したものである。
【００４６】
図１、図２及び図３に示すように、第一例のＬＣＤのバックライト１００は、透明基板１０１（例えば、ガラス基板もしくは透明フィルム基板）上に、ストライプ状（帯状で互いにほぼ平行）にＩＴＯ（透明電極）からなるアノード１０２及びアノード１０２と電気的に離間してかつアノード１０２と同じ材料でなるカソード端子１１１が形成され、透明基板１０１上及びアノード１０２上に、アノード１０２の中央が開口されている開口部１０８ａを備えた絶縁材料からなる隔壁レジスト１０８が形成されている。このアノード１０２に沿った開口部１０８ａにより露出されたアノード１０２上にストライプ状の有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）が形成され、それらの上に、隔壁レジスト１０８上、並びに周縁の透明基板１０１上に渡って、周知の低仕事関数の材料からなる背面電極であるカソード１０４が、それぞれの段差に応じて堆積されている。そして、一つのアノード１０２と該アノード１０２に重なる一つの有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）と、カソード１０４のうちの一つの上記有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）と重なる部分とから一つの有機ＥＬ素子として機能する一つの有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）が形成されている。これにより、図２に示されるバックライト１００には、ストライプ状に有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）が形成されている。
なお、図２及び図３は、第一例のバックライト１００の概略を図示したものであり、実際には、発光色がそれぞれ赤、緑、青にされた三本の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）が互いに平行に帯状に形成されるとともに、これら三本を一組とする有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）が互いに平行に多数配置されている。
【００４７】
各アノード１０２は、各発光色の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎に長さが異なるようにされており、各アノード１０２のカソード端子１１１側の他方の端部はその位置が揃えられ、一方の端部は各発光色毎に異なる位置とされ（同じ発光色のものは揃えられ）ている。例えば、発光色が赤の有機ＥＬ領域１０９ｒのアノード１０２は、一方の端部が短く、発光色が青の有機ＥＬ領域１０９ｂのアノード１０２は、一方の端部が長く、発光色が緑の有機ＥＬ領域１０９ｇのアノード１０２は、上述の二つのアノード１０２の間の長さとされている。すなわち、発光色毎にアノード１０２の一方の端部の位置が変えられるとともに、同じ発光色のアノード１０２の一方の端子の位置は、アノード１０２の長さ方向にほぼ直交する直線上にほぼ配置されるようになっている。そして、全てのアノード１０２の側方の透明基板１０１上には、有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）の発光色の種類の数（ここでは３つ）に対応する数のアノード端子１０２ｒ、１０２ｇ、１０２ｂがＩＴＯから形成されている。
【００４８】
上記アノード端子１０２ｒ、１０２ｇ、１０２ｂは、アノード１０２及びカソード端子１１１を形成する際に同時に形成されるとともに、その位置が、各発光色毎のアノード１０２の一方の端部の位置に対応しており、同じ発光色に対応するアノード端子１０２ｒ、１０２ｇ、１０２ｂと、アノード１０２の一方の端部がアノード１０２の長さ方向にほぼ直交する線上に並んだ状態となっている。また、隔壁レジスト１０８には、後述するように、上記各アノード１０２の一方の端部に対応する位置に、該端部が露出するように開口部１１２ａが形成されている。
【００４９】
そして、図２に示すように、各導電性層１１０ｒ、１１０ｇ、１１０ｂが同じ発光色に対応するアノード端子１０２ｒ、１０２ｇ、１０２ｂと接続されるとともに、開口部１１２ａを介して同じ発光色に対応するアノード１０２の一方の端部に接続されるようになっている。すなわち、発光色が赤となる有機ＥＬ領域１０９ｒの全てのアノード１０２と、発光色が赤用のアノード端子１０２ｒとが導電性層１１０ｒにより短絡させられ、発光色が緑となる有機ＥＬ領域１０９ｇの全てのアノード１０２と、発光色が緑用のアノード端子１０２ｇとが導電性層１１０ｇにより短絡させられ、発光色が青となる有機ＥＬ領域１０９ｂの全てのアノード１０２と、発光色が青用のアノード端子１０２ｂとが導電性層１１０ｂにより短絡させられている。また、各導電性層１１０ｒ、１１０ｇ、１１０ｂは、互いに接触しないようにほぼ平行に配置されている。従って、各アノード端子１０２ｒ、１０２ｇ、１０２ｂ毎に、駆動制御することができるので、ＲＧＢ各発光色の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎にオンオフしたり、また各発光色の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎に輝度を変えることが可能となっている。
【００５０】
そして、上記隔壁レジスト１０８は、ここでは、ＩＴＯからなるアノード１０２及びカソード端子１１１が形成された透明基板１０１上に形成されるものであり、全ての有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）が配置される部分より広い範囲に渡って形成されている。そして、隔壁レジスト１０８には、各有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）が形成される部分に開口部１０８ａが複数、ストライプ状に形成されるとともに、各アノード１０２の一方の端部に対応する位置に開口部１１２ａが形成されている。
また、隔壁レジスト１０８は、例えば、周知の感光性樹脂からなり、フォトリソグラフィーによりパターニングされたものである。そして、図１に示す隔壁レジスト１０８は、その厚みＬ１が例えば、０．０１５ｍｍ（好ましくは、０．００５ｍｍ以上）とされている。
【００５１】
また、上記カソード１０４は、隔壁レジスト１０８とその開口部１０８ａ内に形成された各有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）上に面状に形成されるているが、各有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の厚さとカソード１０４の厚さとの和はいずれも隔壁レジスト１０８の厚さより薄いため、上記隔壁レジスト１０８の開口部１０８ａの段差により、各開口部１０８ａ毎に分離されて互いに絶縁された状態となっている。
しかし、第一例では、アノード１０２を各有機ＥＬ領域１０９毎の独立電極とし、カソード１０４を各有機ＥＬ領域１０９の全部に渡る共通電極としているので、隔壁レジスト１０８の開口部１０８ａの段差より厚い導電性層１１０により各開口部１０８ａ内のカソード１０４が互いに接続されて、実質的に同電位になっている。
そして、透明基板１０１上の有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の他方の端部側で、かつ、該有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）及びアノード１０２から離間した位置にカソード端子１１１が形成され、上記導電性層１１０と接続されている。カソード端子１１１は外部回路と接続され、所定の電圧が供給されている。なお、導電性層１１０は、周知の銀等の導電性ペーストをコーティングして形成されたものである。
【００５２】
また、第一例においては、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の導電性層１１０と重なる他方の端部の下にアノード１０２が形成されていない状態となっている。これは、導電性層１１０をコーティングする際に、その圧力により、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）を挟んで対向配置されるアノード１０２とカソード１０４とが短絡する可能性が僅かでもあるのを考慮したものであり、歩留まりの向上を図るために、導電性層１１０が形成される部分に、アノード１０２を設けないものとしたものである。
【００５３】
また、第一例のＬＣＤのバックライト１００においては、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）を形成するに当たって、蒸着によりパターニングした状態で有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）を形成するのではなく、湿式塗布により有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）を形成するものとしている。そして、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）中の発光層に使用される発光材料としては、低分子系と高分子系とがあり、湿式塗布により有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）を形成する上では、例えば、発光層の材料として高分子系材料が用いられることになる。
【００５４】
また、第一例において、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）は、高分子導電物からなる正孔輸送層と、電子輸送層とを有するものとなっている。電圧の印加に応じ正孔を輸送する正孔輸送領域である正孔輸送層は、いずれも、例えば、poly(3,4)etylenedioxythiophene（以下、ＰＥＤＴ）及びpolystyrenesulphonate（以下、ＰＳＳ）からなる。また、電子輸送層は、再結合に伴い発光する領域であり、発光色に応じて置換基が異なるpolyfluoreneまたはpolyfluoreneの誘導体を有する。
【００５５】
また、上述の液晶材料以外に、例えば、上記高分子系材料としては、ポリビニルカルバゾール、ポリパラフェニレン、ポリアリーレンビニレン、ポリチオフェン、ポリフルオレン、ポリシラン、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリピリジン、ポリピリジンビニレン、ポリピロールなどが挙げられる。また、高分子材料としては、上記高分子材料（ポリマー）を形成しているモノマーまたはオリゴマーの重合体や共重合体、或いはモノマーまたはオリゴマーの誘導物の重合体及び共重合体と、オキサゾール（オキサンジアゾール、トリアゾール、ジアゾール）又はトリフェニルアミン骨格を有するモノマーを重合した重合体及び共重合体を挙げることができる。また、これらポリマーのモノマーとしては、熱、圧、ＵＶ、電子線などを与える事で上述の化合物を形成し得るモノマー及びプレカーサポリマーを含むものである。また、これらモノマー間を結合する非共役系ユニットを導入しても構わない。
【００５６】
高分子材料の具体的な商品としては、ポリビニルカルバゾール：東京化成、ポリトデシルチオフェン：Rieke社、ポリエチレンジオキシチオフェン、ＰＳＳ（ポリスチレンスルフォン酸）分散体変性物  cpp１０５：長瀬産業、ポリ９，９−ジアルキルフルオレン、ポリ（チエニレン−９，９−ジアルキルフルオレン）、ポリ（２，５−ジアルキルパラフェニレン−チエニレン）、（ジアルキル：R=C1〜C20）：ＤＯＷケミカル社、ＰＰＶ；ポリパラフェニレンビニレン、ＭＥＨ−ＰＰＶ；ポリ（２−メトキシ−５−（２’−エチル−ヘキシロキシ）−パラフェニレンビニレン）、ＭＭＰ−ＰＰＶ；ポリ（２−メトキシ−５−（２’−エチル−ペンチロキシ）−パラフェニレンビニレン）、ＰＤＭＰＶ  ポリ（２，５−ジメチル−パラフェニレンビニレン）、ＰＴＶ；ポリ（２，５−チエニレンビニレン）、ＰＤＭＯＰＶ；ポリ（２，５−ジメトキシパラフェニレンビニレン）、ＣＮ−ＰＰＶ；ポリ（１，４−パラフェニレンシアノビニレン）：ＣＤＴ社などが挙げられる。
【００５７】
また、湿式塗布可能な発光層の材料は、高分子系材料に限られるものではなく、低分子材料をポリマー分散して用いるものとしても良い。また、低分子材料の性質によっては、低分子材料を溶媒に溶かした状態で湿式塗布して使用するものとしても良い。そして、低分子材料をポリマー分散する際のポリマーとしては、周知の汎用ポリマーを含む各種ポリマーを状況に応じて使用することができる。
そして、低分子の発光材料（発光物質またはドーパント）としては、アントラセン、ナフタレン、フェナントレン、ピレン、テトラセン、コロネン、クリセン、フルオレセイン、ペリレン、フタロペリレン、ナフタロペリレン、ペリノン、フタロペリノン、ナフタロペリノン、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、クマリン、オキサジアゾール、アルダジン、ビスベンゾキゾリン、ビススチリル、ピラジン、オキシン、アミノキノリン、イミン、ジフェニルエチレン、ビニルアントラセン、ジアミノカルバゾール、ピラン、チオピラン、ポリメチン、メロシアニン、イミダゾールキレート化オキシノイド化合物等、４−ジシアノメチレン−４Ｈ−ピラン及び４−ジシアノメチレン−４Ｈ−チオピラン、ジケトン、クロリン系化合物やこれらの誘導体が挙げられる。
【００５８】
そして、低分子の発光材料となる具体的商品としては、Ａｌｑ３、キナクリドン：同仁化学研究所、Ａｌｍｑ３（Ａｌキノリノール錯体の誘導体）：ケミプロ化成クマリン６、ＤＣＭ：アクロス社、ルモゲンＦ：山本通商などが挙げられる。なお、発光材料は、上述のものに限定されるものではなく、塗布により有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）を形成することが可能な材料ならば良い。
【００５９】
そして、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の形成においては、透明基板１０１上に上述のように開口部１０８ａを有する隔壁レジスト１０８を形成することにより、上記開口部１０８ａの部分が透明基板１０１上面（実際にはアノード１０２上面）を底部とする溝状となる。この部分に、例えば、汎用の高精度ディスペンサにより液状の有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の材料を注入するようになっている。すなわち、ディスペンサのニードル（針）の先端を各開口部１０８ａの位置に配置して開口部１０８ａ内に液状の材料を注入する。注入時の有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の材料の状態は、それ自体が溶融していても、溶剤に溶解した状態でも、溶媒内で均一に分散された状態であってもよい。そして、このときに既に重合されていても、重合が開始されていても、重合がまだ開始されていない状態でもよい。注入された有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の材料は、後に硬化して有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）となるが、その際にその厚さが硬化前に比べ薄くなる傾向がある。隔壁レジスト１０８は、十分に有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）が発光できる程度の厚さになるように開口部１０８ａ内に液状の有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の材料が注入されても開口部１０８ａの上からこぼれない程度の厚さに設定して成膜されている。また、各有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）が複数の電荷輸送層で構成されている場合、例えば、全開口部１０８ａに最初に正孔輸送層となる同じポリマー系材料を注入する。ディスペンサのニードルから注入されたポリマー系材料は、毛細管現象により隔壁レジスト１０８の開口部１０８ａに沿って進み均一な厚さに堆積される。通常インクジェット法で有機ＥＬ材料を吐出してマトリクス状に複数の発光画素を形成した場合、有機ＥＬ材料がそれほど拡がらないため、有機ＥＬの発光最小ピッチは、吐出した有機ＥＬ材料の量が小さいほど短くなり、最小吐出量が多いと発光最小ピッチが長くなり、高精細なピッチの発光領域が形成できないが、このように、ニードルから注入されるポリマー系材料を開口部１０８ａに囲まれた細長いスリット内に吐出すると、開口部１０８ａに沿って延びるので吐出量に対し最小発光ピッチをより短くし、均一な厚さにできるとともに、そのピッチを容易に一定にすることができる。次いで、正孔輸送層が硬化した後に、同様に赤に発光する有機ＥＬ層１０３ｒが形成される開口部１０８ａと、緑に発光する有機ＥＬ層１０３ｇが形成される開口部１０８ａと、青に発光する有機ＥＬ層１０３ｂが形成される開口部１０８ａとに、それぞれ、発光色に対応する異なる発光層のポリマー系材料（湿式塗布可能ならば低分子材料でも可）を注入し、各開口部１０８ａ内にそれぞれ均一な厚さに堆積される。そして、再び、発光層が硬化した後に、全開口部１０８ａに電子輸送層となるポリマー系材料を注入して硬化させ、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）を形成するようになっている。なお、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）が二層からなる場合には、例えば、正孔輸送層を形成した後に、発光層を形成せずに、発光色毎に異なる電子輸送層を形成する。
【００６０】
上述のようにすることで、蒸着や、印刷方式等を用いてストライプ状の有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）をパターニング形成した場合に比較して、より細かいパターニングが可能となり（隔壁レジスト１０８のフォトリソグラフィーにおけるパターニングの精度に基づく）、各帯状の有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）同士の間隔（ピッチ）を短いものとすることができる。なお、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）のピッチを短いものとすることにより、視認距離が近くとも、例えば、赤の各有機ＥＬ領域１０９ｒのみを発光させた場合、赤に発光する各有機ＥＬ領域１０９ｒからの光が一様に重なり合い、一様な赤の面状発光が得られる。従って、バックライト１００の厚みを極めて薄いものとすることが可能となる。なお、隔壁レジスト１０８の各開口部１０８ａ毎にディスペンサーにより有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の材料を注入する際には、ディスペンサによる最小吐出精度が数μｌのオーダーとなり、十分に汎用の高精度ディスペンサーによる塗布量制御が可能である。
【００６１】
また、上述のように隔壁レジスト１０８を使用するものとした場合に、隔壁レジスト１０８上に蓋となる板体を例えば取り付けた状態もしくは押し付けた状態とするとともに、該板体等に注入口及び排出口を形成してもよい。そして、隔壁レジスト１０８の開口部１０８ａが透明基板１０１と板体とにより上下の開口を閉塞された状態となることにより、開口部１０８ａを管の内部状とし、注入口から開口部１０８ａに有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の材料を注入するものとしても良い。このようにすれば、毛細管現象により容易に開口部１０８ａ内に有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の材料を注入することができる。
【００６２】
そして、図１に示されるバックライト１００の製造方法は、上述のように、透明基板１０１上にＩＴＯによりアノード１０２及びカソード端子１１１をフォトリソグラフィーにより短いピッチでパターン形成し、次いで、隔壁レジスト１０８を形成後、透明基板１０１上に有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）を隔壁レジスト１０８の開口部１０８ａ内に形成し、次いで、カソード１０４を例えば、蒸着成膜するものである。そして、隔壁レジスト１０８の、開口部１０８ａに、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の材料を毛管注入する（開口部１０８ａは、溝状であるが、溝を形成する左右の壁の間には、毛細管現象が作用する）。また、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の注入に際しては、その層別に行なう。例えば、正孔輸送層、発光層、電子輸送層の順で、材料の注入、乾燥（硬化）を繰り返し行なう。また、隔壁レジスト１０８を設けた場合には、後述するようにカソード１０４が開口部１０８ａ毎に独立した（絶縁された）状態となるので、導電性層１１０により各開口部１０８ａ内のカソード１０４同士とカソード端子１１１とをそれぞれ短絡する。また、上述の有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の形成方法は、後述する第二例以下の液晶表示装置におけるバックライトにも適用することができる。
【００６３】
第一例のＬＣＤにおいては、そのバックライト１００によれば、有機ＥＬ素子により、低消費電力で高い輝度を実現することができる。また、ＲＧＢに発光する各有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）（有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ））をストライプ状に形成しているので、各有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）をモザイク状に配置したり、各領域を分散して配置した場合に比較して、各領域を同じ発光色毎に独立して駆動する構成としても、容易かつ安価に製造することができる。
そして、バックライト１００は、透明基板１０１や封止部分等を除く素子本体の部分が極めて薄く、元々薄型化が可能なものであるとともに、上述のように隔壁レジスト１０８を用いて有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）を形成するものとして、ストライプ状に配置された有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）のピッチを狭くすれば、透明基板１０１を薄くしても均一なＲ・Ｇ・Ｂの面状発光を得られるので、バックライト１００をさらに薄くすることができる。
また、バックライト１００は、基本的に発光体の電気容量が極めて小さく、高速にスイッチングする事が可能なので（例えば、有機ＥＬ素子は１００ｎｓｅｃ以下の高速応答が可能なので）、高速に発光色を変更する必要があるフィールドシーケンシャル方式で駆動する液晶表示装置のバックライトとして好適に用いることができる。
【００６４】
すなわち、第一例のフィールドシーケンシャル方式のＬＣＤにおいては、そのバックライトがＲＧＢの発光色を高速に切り替えることができる。従って、液晶表示パネル２００としてどんなに高速駆動が可能なものを用いても、バックライトが十分に液晶表示パネル２００に追随して発光色を高速に切り替えることができる。
また、バックライトが、低消費電力でかつ極めて薄くすることが可能なので、フィールドシーケンシャル方式のＬＣＤを小型軽量でかつ電池による長時間駆動が可能なものとすることができる。
【００６５】
また、上述のように各有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）（有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ））がストライプ状とされているので、アノード１０２やカソード１０４をストライプ状に形成することで、有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）をモザイク状に配置した場合や、有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）を細かく分散して配置した場合に比較して、容易にアノード１０２やカソード１０４を有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎に独立したものとすることができる。
【００６６】
また、ガラス基板上で同じ発光色の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）のアノード１０２が互いに接続されるとともに、同じ発光色用のアノード端子１０２ｒ、１０２ｇ、１０２ｂに接続されることになるので、透明基板１０１の外側で、各発光色毎にアノード端子１０２ｒ、１０２ｇ、１０２ｂを接続する配線を必要とせず、バックライト１００の構成を簡略化できる。
【００６７】
なお、第一例においては、各発光色の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）（有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ））の幅をほぼ同じものとして、ＲＧＢ各発光色の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）の面積をほぼ同じものとしたが、ＲＧＢ各発光色の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）は、使用される発光材料により、同じ電力で駆動されてもその輝度が異なるので、各有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）の発光材料に基づく、Ｒ・Ｇ・Ｂ各々の輝度に対応して、各有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎に幅を変えてその面積を異なるものとしても良い。
【００６８】
また、隔壁レジスト１０８の形状について、第一例においては、開口部１０８ａもストライプ状に形成されているが、該開口部１０８ａには、それぞれ、液晶材料を注入する部分に拡幅部を形成しても良い。ここで該拡幅部とは、開口部１０８ａの他の箇所に比較して横方向の幅を広くされた部分である。
上記拡幅部を形成した場合には、ディスペンサーにより有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の材料を注入する際に、ディスペンサーのニードルを配置する位置とすることができる。そして、上記拡幅部を設けることにより、ディスペンサーのニードル先端の位置精度を補償することが可能となる。すなわち、隔壁レジスト１０８の開口部１０８ａの上記ニードル先端を配置する位置の幅が広くなっていることにより、ニードル先端をより容易かつ確実に開口部１０８ａに合わせることができる。
【００６９】
また、開口部１０８ａのニードルが配置される位置の幅を広くすることで、ニードルからの材料吐出時に材料が開口部１０８ａの外にこぼれるのを防止することができる。従って、開口部１０８ａに上記拡幅部を設けた場合には、拡幅部を設けない場合と同様の作用効果を奏することができるとともに、バックライト１００の製造において歩留まりの向上を図ることができる。
【００７０】
また、上記例のバックライト１００の透明基板１０１の表面に拡散板を配置しても良い。拡散板は、基本的に透明で、かつ、表面に細かい多数の凹凸を有する周知のものである。また、拡散板は、例えば、断面三角形状の山と谷とが多数連続して配置され、多数のプリズムが形成された状態となっている。そして、このような拡散板においては、様々な角度で透過する光を屈折させて、前方に向かう光の成分を増加させることが知られている。
そして、例えば、透明基板１０１の表面に拡散板を貼り付けるとともに、拡散板と透明基板１０１との間に周知の光学オイルが充填された状態となるようにしても良い。なお、光学オイルの屈折率は、透明基板１０１とほぼ等しいか、透明基板１０１より大きいことが好ましい。
【００７１】
透明基板１０１の表面に拡散板を配置するとともに、透明基板１０１と拡散板との間に光学オイルを充填した場合には、バックライト１００からより多くの光を取り出すことが可能となる。
【００７２】
なお、透明基板１０１の表面に拡散板を貼り付けるとともに、拡散板と透明基板１０１との間に光学オイルを充填するものとする他に、例えば、透明基板１０１の表面を加工して透明基板１０１の表面自体を拡散面としても良い。
また、透明基板１０１側に拡散面を設けるものとするほかに、例えば、リフレクタとして作用する背面電極の表面を拡散面としても良い。この場合にも、バックライト１００からの光の取り出し効率を向上することができる。
【００７３】
次に、図４及び図５を参照して、本発明の実施の形態の第二例の液晶表示装置を説明する。なお、第二例の液晶表示装置は、第一例のバックライト１００の一部の構成を変更したものであり、液晶表示パネル２００については、第一例と同様のものを用いているため説明を省略し、ここではバックライト１００Ａの説明を行う。また、第一例のバックライト１００と同様の構成要素には、同一の符号を付してその説明を省略する。
また、図４においては有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）、導電性層１１０ｒ、１１０ｇ、１１０ｂを、例えば、斜め格子状の図柄として透けた状態に図示し、またカソード１０４を透けた状態にし、図５においては有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）、隔壁レジスト１１４を、例えば、斜め格子状や横格子状の図柄として透けた状態に図示するとともに、カソード１０４及び導電性層１１０ｒ、１１０ｇ、１１０ｂの図示を省略している。そして、図４及び図５は、同じバックライト１００Ａを図示したものである。
【００７４】
図４及び図５に示される第二例のバックライト１００Ａは、第一例と同様に、透明基板１０１上に、アノード１１３、カソード端子１１１、隔壁レジスト１１４、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）、カソード１０４が形成されることにより、ストライプ状に複数の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）が形成されたものである。そして、図４及び図５は、第二例のバックライトの概略を図示したものであり、実際には、発光色がそれぞれ赤、緑、青にされた三本の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）が互いに平行に帯状に形成されるとともに、図２に示される第一例のバックライト１００と同様に、これら三本を一組とする有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）が互いに平行に多数配置されている。
【００７５】
そして、第一例と、第二例とで異なる点は、第一例のバックライト１００においては、各有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）のカソード１０４を一つにまとめて共通電極とし、かつ、アノード１０２を各発光色の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎にまとめて、各発光色の有機ＥＬ領域毎に駆動できるようにしていたのに対して、第二例の有機ＥＬ領域においては、アノード１１３を一つにまとめて共通電極とし、かつ、カソード１０４を各発光色の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎にまとめて、各発光色の有機ＥＬ領域毎に駆動できるようにしていることである。
【００７６】
そして、第二例のバックライトは、上記透明基板１０１と、該透明基板１０１上にアノード１１３（アノード端子１１３ａを含む）、カソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂ及びカソード端子１１６ｒ、１１６ｇ、１１６ｂがそれぞれＩＴＯから形成されている。アノード１１３は、第一例のように各有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎に形成されるのではなく、一つのアノード１１３で全ての有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）に対応するように広い面状に形成されて、そのまま共通電極となっている。また、カソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂは、アノード１１３上にストライプ状に形成される各有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）毎に一つずつ形成されるようになっている。そして、各カソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂは、アノード１１３から離れた位置において、対応する各有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）と一列になるようにそれぞれ配置されている。
【００７７】
また、各カソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂは、そのアノード１１３側（有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）側）の端部の位置が、それぞれ、ストライプ状の有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）とほぼ直交する方向に沿った一直線上にほぼ配置されるように揃えられ、他方の端部の位置が、各色の有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）に対応するカソード毎に変えられて異なるものとされている。また、同じ色の有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）に対応するカソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂ同士は、一方の端部の位置がストライプ状の有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）とほぼ直交する方向に沿った一直線上にほぼ配置されるように揃えられている。
【００７８】
各カソード端子１１６ｒ、１１６ｇ、１１６ｂは、透明基板１０１上のカソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂの側方に形成されるとともに、各発光色に対応するカソード端子１１６ｒ、１１６ｇ、１１６ｂと各発光色の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）に対応するカソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂの一方の端部とがそれぞれ一列に並んだ状態に配置されている。すなわち、カソード端子１１６ｒ、１１６ｇ、１１６ｂには、それぞれ赤、緑、青の各発光色に対応するものが一つずつあり、赤用のカソード端子１１６ｒと全ての赤用のカソード配線１１５ｒの一方の端部とが一列に並んで配置され、緑用のカソード端子１１６ｇと全ての緑用のカソード配線１１５ｇの一方の端部とが一列に並んで配置され、青用のカソード端子１１６ｂと全ての青用のカソード配線１１５ｂの一方の端部とが一列に並んで配置されている。
【００７９】
また、透明基板１０１上のアノード１１３とカソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂとの間には、これらを区切るように、発光材料用の塗れ制御層１１７が形成されている。該塗れ制御層１１７は、第一例のように隔壁レジスト１１４の開口部１１４ａに有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の液状の材料を注入した際に、塗れ制御層１１７上に液状の材料が塗れないようにするものであり、一種の撥水材として機能するものである。
【００８０】
そして、塗れ制御層１１７の材料は、基本的に表面エネルギーを低くする物質から構成される。そして、表面エネルギーを低くする物質としては、例えば、長鎖アルキル基、フッ素基、珪素基を有する物質を挙げることができる。具体的に塗れ制御層１１７の材料としては、テトラフルオロエチレンと少なくとも一種のコモノマーとを含むモノマー混合物を共重合させて得られる共重合体と、共重合主鎖に環状構造物を有する含フッ素共重合体と、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンと、ジクロロジフルオロエチレンとの共重合体と、アクリロニトリル、ステアリン酸ビニル、ステアリルビニルエーテル、（メタ）アクリル酸ステアリル、その他フッ素原子が含まれるコモノマーと、これらと共重合可能なコモノマー、例えば（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステルや、ビニル基を有する化合物として、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルとを共重合させて得られる共重合体とが挙げられる。また、塗れ制御層１１７の材料となる具体的な商品としては、フッ素系として、フルオネートＫ−７０３：大日本インキ化学工業、フロリナート：住友スリーエム、サイトップＣＴＸ−１０５Ａ：旭硝子、フロロバリアー：泰成商会、テフロンＡＦ：デュポン社、ＰＴＦＥグリース：ニチアス、などが挙げられる。
また、シリコーン樹脂（ＳＨ２００：東レシリコーンなど）を汎用ポリマー（アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂）などにブレンドして塗布しても良い。また、塗れ制御層１１７の材料としては、上述のものに限定されるものではなく、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の液状の材料をはじいて塗布できないようにできるものならば良い。
【００８１】
そして、アノード１１３、カソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂ、カソード端子１１６ｒ、１１６ｇ、１１６ｂ、塗れ制御層１１７が形成された透明基板１０１上に、隔壁レジスト１１４が形成される。隔壁レジスト１１４は、第一例の隔壁レジスト１０８と同様に開口部１１４ａと、開口部１１８ａとが形成されている。そして、各開口部１１４ａは、一つのアノード１１３上から各カソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂの他方の端部に渡って形成されている。すなわち、開口部１１４ａとカソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂとが一対一で対応し、各開口部１１４ａの一方の端部とカソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂの他方の端部とが重なった状態とされ、各開口部１１４ａからは共通電極とされたアノード１１３と一つのカソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂの他方の端部とが露出するようになっている。
【００８２】
また、開口部１１４ａのアノード１１３が露出する部分と、カソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂの端部が露出する部分との間に、上記塗れ制御層１１７が露出するようになっている。そして、上記有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）は、各開口部１１４ａに上述の発光材料を注入することにより形成されるが、この際に、液状の発光材料は、開口部１１４ａのアノード１１３が露出する部分に注入される。そして、開口部１１４ａに注入された発光材料は、開口部１１４ａ内を開口部１１４ａに沿って流れて開口部１１４ａ内に充填される際に、塗れ制御層１１７ではじかれることにより、塗れ制御層１１７を越えてカソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂの他方の端部が露出する部分に流れこまないようにされている。
【００８３】
従って、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）は、隔壁レジスト１１４の開口部１１４ａのアノード１１３が露出する他方の端部から塗れ制御層１１７の手前側までの間に形成され、開口部１１４ａから露出するカソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂの他方の端部上には形成されないようになっている。一方、隔壁レジスト１１４の開口部１１８ａは、第一例の場合のアノード１０２の一方の端部に変えて各カソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂの一方の端部が露出するようになっている。そして、各カソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂの一方の端部の配置位置に対応して開口部１１８ａの位置が決められている。
【００８４】
上記カソード１０４は、隔壁レジスト１１４の外周より内側に隔壁レジスト１１４の開口部１１４ａの大部分を覆うように形成されている（なお、塗れ制御層１１７より隔壁レジスト１１４の開口部１１８ａが形成されている側には、カソード１０４を形成しないようになっている）。そして、各開口部１１４ａ内のカソード１０４の厚さと有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の厚さとの和は、隔壁レジスト１１４の厚さより薄いため、上述のように隔壁レジスト１１４の各開口部１１４ａの部分とそれ以外の隔壁の部分との段差により、開口部１１４ａで各開口部１１４ａ内のカソード１０４は電気的に断線した状態に形成され、各開口部１１４ａ内のカソード１０４は、他のカソード１０４の部分と短絡しておらず、各開口部１１４ａ部分毎に独立した電極となっている。そして、各開口部１１４ａ内においては、アノード１１３が露出する部分で、アノード１１３とカソード１０４とが間に有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）を介在させた状態で対向させられ、カソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂの他方の端部が露出する部分で、カソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂとカソード１０４が直接接触して短絡した状態となっている。従って、各開口部１１４ａ毎、すなわち、各有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎に独立したカソード１０４が、それぞれ別のカソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂに接続されている。
【００８５】
そして、同じ発光色の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）に対応するカソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂが露出した複数の開口部１１８ａ上から、カソード端子１１６ｒ、１１６ｇ、１１６ｂ上にわたって、隔壁レジスト１１４より厚い帯状の導電性層１１０ｒ、１１０ｇ、１１０ｂがそれぞれ連続して形成されるようになっている。ここで、導電性層１１０ｒ、１１０ｇ、１１０ｂは、隔壁レジスト１１４より厚く形成されているので、導電性層１１０ｒが、発光色が赤の有機ＥＬ領域１０９ｒに接続される全てのカソード配線１１５ｒと開口部１１８ａで接続されるとともにカソード端子１１６ｒに接続され、導電性層１１０ｇが、発光色が緑の有機ＥＬ領域１０９ｇに接続される全てのカソード配線１１５ｇと開口部１１８ａで接続されるとともにカソード端子１１６ｇに接続され、導電性層１１０ｂが、発光色が青の有機ＥＬ領域１０９ｂに接続される全てのカソード配線１１５ｂと開口部１１８ａで接続されるとともにカソード端子１１６ｂに接続されている。
【００８６】
従って、各有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）は、共通電極とされたアノード１１３と、隔壁レジスト１１４の開口部１１４ａの部分の段差により各有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎に独立した電極とされたカソード１０４とに挟まれた状態とされているので、各有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）は、個別に駆動されるようになっている。また、独立したカソード１０４は、開口部１１４ａの一方の端部内において、各有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎に設けられたカソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂに短絡させられている。
【００８７】
一方、開口部１１４ａ内には、ぬれ制御層１１７上にも連続して形成されるのでカソード１０４が一体に導通した状態で形成されており、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）を挟んでアノード１１３と対向したカソード１０４と、カソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂとが導通した状態となっている。すなわち、開口部１１４ａ内のカソード１０４とカソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂとを導電性ペースト層を用いずに導通することができる。
【００８８】
そして、各カソード配線１１５ｒ、１１５ｇ、１１５ｂは、隔壁レジスト１１４の開口部１１８ａにおいて、同じ発光色の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）に導電性層１１０ｒ、１１０ｇ、１１０ｂにより短絡させられるとともに、各発光色毎に一つずつ形成されたカソード端子１１６ｒ、１１６ｇ、１１６ｂに、それぞれ、発光色に対応する導電性層１１０ｒ、１１０ｇ、１１０ｂが一対一で短絡させられた状態となっている。従って、各カソード端子１１６ｒ、１１６ｇ、１１６ｂ毎に駆動電圧（電流）を変えることにより、Ｒ・Ｇ・Ｂ各発光色の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）をオンオフすることで、順次Ｒ・Ｇ・Ｂの面状発光を得ることが可能となっている。
【００８９】
以上のような構成の第二例のバックライト１００Ａによれば、第一例の場合と同様の作用効果を得られる。また、カソード１０４は、特に各有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎に独立して形成されるように微細にパターニングしなくとも、開口部１１４ａを有する隔壁レジスト１１４により、各有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）に独立した形状とすることができるので、カソード１０４を極めて容易に各有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）に独立した形状とすることができる。また、アノード１１３も共通電極とされることで微細なパターニングを必要としない。従って、透明基板上への電極の形成を容易なものとすることができる。
また、隔壁レジスト１１４の開口部１１４ａ内に表面エネルギーの低い塗れ制御層１１７を設けることにより、有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）内のカソード１０４を容易に外部と接続することができる。なお、第二例においても、開口部１１４ａに拡幅部を形成するものとしても良い。
また、透明基板１０１上に、各発光色毎のカソード端子１１６ｒ、１１６ｇ、１１６ｂを設けずに、各有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎に、カソード端子を設けるものとしても良い。
また、第二例において、上記塗れ制御層１１７を設ける代わりに、隔壁レジスト１０８の開口部１０８ａの塗れ制御層１１７が配置される部分にボトルネック状に開口部１０８ａの幅を狭くした挟幅部を設けるものとしても良い。このようにすれば、開口部１０８ａ内のアノード１１３が露出する部分に有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の材料を注入した際に、ボトルネックとなる挟幅部から先に材料が流入しづらい状態となり、上記塗れ制御層１１７を設けなくとも、塗れ制御層１１７を設けたのと同様の作用効果を得ることができる。
【００９０】
次に、図６及び図７を参照して、本発明の実施の形態の第三例の液晶表示装置を説明する。なお、第三例の液晶表示装置は、第二例の液晶表示装置と同様に、第一例のバックライト１００の一部の構成を変更したものであり、液晶表示パネルについては、第一例と同様のものを用いているため説明を省略し、ここではバックライト１００Ｂの説明のみ行う。また、第二例のバックライト１００Ａと同様の構成要素には、同一の符号を付してその説明を省略する。
また、図６においては有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）、導電性層１１０ｒ、１１０ｇ、１１０ｂを、例えば、斜め格子状の図柄として透けた状態に図示し、カソード１０４を透けた状態にし、図７においては有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）、隔壁レジスト１２０を、例えば、斜め格子状や横格子状の図柄として透けた状態に図示するとともに、カソード１０４及び導電性層１１０ｒ、１１０ｇ、１１０ｂの図示を省略している。そして、図６及び図７は、同じバックライト１００Ｂを図示したものである。
【００９１】
図６及び図７に示される第三例のバックライト１００Ｂは、第一例と同様に、透明基板１０１上に、アノード１１３、カソード端子１２２ｒ、１２２ｇ、１２２ｂ、カソード配線１２１ｒ、１２１ｇ、１２１ｂ、隔壁レジスト１２０、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）、カソード１０４、塗れ制御層１１７、及び後述する低抵抗配線１１９が形成されることにより、ストライプ状に複数の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）が形成されたものである。
また、第二例の液晶表示装置と同様に、透明基板１０１上には、塗れ制御層１１７が形成されている。
そして、図６及び図７は、第三例のバックライト１００Ｂの概略を図示したものであり、実際には、発光色がそれぞれ赤、緑、青にされた三本の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）が互いに平行に帯状に形成されるとともに、図２に示される第一例のバックライト１００と同様に、これら三本を一組とする有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）が互いに平行に多数配置されている。
【００９２】
また、第三例のＬＣＤのバックライト１００Ｂは、第二例のＬＣＤのバックライト１００Ａと同様に、アノード１１３側を一つにまとめて共通電極とし、かつ、カソード１０４を各発光色の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎にまとめて、各発光色の有機ＥＬ領域毎に駆動できるようにしている。カソード側の配線のとりまとめは、基本的には第二例のものと同様であり、配線の具体的な説明は省略するが、カソード配線１２１ｒ、１２１ｇ、１２１ｂ及びカソード端子１２２ｒ、１２２ｇ、１２２ｂに使用する材料が第二例と異なっている（後述する）。
第三例と第二例の異なるところは、第一に、アノード１１３側からの電力の供給に関して低抵抗配線１１９が設けられている点であり、第二に、第二例の液晶表示装置においては、カソード配線１２１ｒ、１２１ｇ、１２１ｂ及びカソード端子１２２ｒ、１２２ｇ、１２２ｂは、ＩＴＯから形成されていたのに対して、第三例の液晶表示装置においては、後述する低抵抗な導電材からなる金属膜により形成されている点である。
【００９３】
図６、図７に示すように、第三例のバックライトは、透明基板１０１上に、四角面状にＩＴＯ（透明電極）からなるアノード１１３が形成されている。なお、アノード１１３は、図６、７において、後述する低抵抗配線１１９と接続されており、低抵抗配線１１９と重なる部分と、低抵抗配線１１９と重ならずに後述する有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）が上に堆積される部分と、からなる。また、アノード１１３は、後述する有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）が配置される部分全体を含む範囲で形成される。
【００９４】
そして、アノード１１３が形成された透明基板１０１上には、図６に示すように、低抵抗配線１１９と、各有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎のカソード１０４部分を各発光色の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎に外部に接続させるための三つのカソード端子１２２ｒ、１２２ｇ、１２２ｂと、各有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎のカソード１０４部分にそれぞれ接続され、導電性層１１０ｒ、１１０ｇ、１１０ｂにより、各発光色の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎にまとめられてカソード端子１２２ｒ、１２２ｇ、１２２ｂに接続されるカソード配線１２１ｒ、１２１ｇ、１２１ｂとが形成されている。低抵抗配線１１９、カソード端子１２２ｒ、１２２ｇ、１２２ｂ、カソード配線１２１ｒ、１２１ｇ、１２１ｂは、例えば、アルミニウム、ネオジムまたはクロム等の金属単体或いはこれらのうち少なくとも１つを含む合金からなる低抵抗な導電材からなる金属膜を一括してパターニングすることにより得られている。
【００９５】
上記低抵抗配線１１９は、アノード１１３を外部に接続するアノード端子１１９ａと、アノード１１３上に該アノード１１３と直接重なって短絡した状態に形成された複数の低抵抗配線部１１９ｂとからなるものである。そして、低抵抗配線部１１９ｂは、アノード１１３上において、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）と互いにほぼ排他的に形成されており、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）がストライプ状に形成されていることから、ストライプ状の有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の間にストライプ状に低抵抗配線部１１９ｂが形成されている。また、低抵抗配線部１１９ｂは、アノード端子１１９ａ側（カソード配線１２１ｒ、１２１ｇ、１２１ｂの反対側）でストライプ状の部分が一体にまとめられた状態となっており、実際には、櫛歯状に形成され、各櫛歯間に、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）が形成されるようになっている。
【００９６】
なお、低抵抗配線部１１９ｂと有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）との境界部分においては、低抵抗配線部１１９ｂがカソード１０４と接続してなければ、低抵抗配線部１１９ｂと有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）との間に間隙があるものとしても良いし、低抵抗配線部１１９ｂと有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）とが接触しているものとしても良いし、低抵抗配線部１１９ｂと有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）とが僅かに重なっているものとしても良い。そして、アノード端子１１９ａと低抵抗配線部１１９ｂとは、低抵抗配線１１９として一体に導通した状態で形成されている。
【００９７】
上記低抵抗配線１１９、カソード端子１２２ｒ、１２２ｇ、１２２ｂ及びカソード配線１２１ｒ、１２１ｇ、１２１ｂは、同じ材料からなり、同一工程で一緒に形成されることになる。なお、低抵抗配線１１９、カソード端子１２２ｒ、１２２ｇ、１２２ｂ及びカソード配線１２１ｒ、１２１ｇ、１２１ｂは、例えば、金属を蒸着により成膜することで形成されるが、その他の方法で形成されるものとしても良く、ＩＴＯより低抵抗で、かつ厚さ方向に酸化されにくい導電材料から形成されていれば良い。
【００９８】
また、上記透明基板１０１上には、塗れ制御層１１７が形成されている。上記塗れ制御層１１７は、カソード配線１２１ｒ、１２１ｇ、１２１ｂと、アノード１１３並びにアノード１１３上の低抵抗配線１１９との間に露出する透明基板１０１上に帯状に形成されて、カソード配線１２１ｒ、１２１ｇ、１２１ｂと、アノード１１３並びに低抵抗配線１１９とを区切るようになっている。なお、塗れ制御層１１７は、後述するように上述の配置位置において、隔壁レジスト１２０の開口部１２０ａから露出する部分だけ形成されていれば良く、必ずしも連続する帯状に形成されていなくとも良い。
【００９９】
そして、上述のように、アノード１１３、低抵抗配線１１９、カソード端子１２２ｒ、１２２ｇ、１２２ｂ、カソード配線１２１ｒ、１２１ｇ、１２１ｂ及び塗れ制御層１１７が形成された透明基板１０１上に、隔壁レジスト１２０が形成される。隔壁レジスト１２０は、例えば、感光性樹脂からなるものであり、フォトリソグラフィーによりパターン形成されるものであるが、絶縁性で、かつ、後述する以上の厚みを有するものならば良い。
【０１００】
そして、隔壁レジスト１２０は、上述のアノード１１３、低抵抗配線１１９のうちの低抵抗配線部１１９ｂ、カソード配線１２１ｒ、１２１ｇ、１２１ｂの全てを覆うように面状に形成されている。なお、低抵抗配線１１９のうちのアノード端子１１９ａ及びカソード端子１２２ｒ、１２２ｇ、１２２ｂは、隔壁レジスト１２０から露出している。また、隔壁レジスト１２０には、第二例と同様に、開口部１２０ａが形成されているのと同時に、各カソード配線１２１ｒ、１２１ｇ、１２１ｂの他方の端部の位置に、開口部１２３ａが形成されている。
【０１０１】
そして、図６、図７に示されるバックライトの製造方法は、透明基板１０１上にＩＴＯからなるアノード１１３を形成し、次いで、例えば、蒸着等により金属膜からなる低抵抗配線１１９、カソード端子１２２ｒ、１２２ｇ、１２２ｂ及びカソード配線１２１ｒ、１２１ｇ、１２１ｂをパターン形成する。また、透明基板１０１上に塗れ制御層１１７を形成する。次に、アノード１１３が露出するような開口部１２０ａ及びカソード端子１２２ｒ、１２２ｇ、１２２ｂに接続するためにカソード配線１２１ｒ、１２１ｇ、１２１ｂの一方の端部が露出されるような開口部１２３ａを有する隔壁レジスト１２０をフォトリソグラフィーによりパターン形成する。次いで、隔壁レジスト１２０の開口部１２０ａに、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）のうち、正孔輸送層（赤に発光する領域）、正孔輸送層（緑に発光する領域）、正孔輸送層（青に発光する領域）となる材料を注入して固化後、それらの上にそれぞれ電子輸送層（赤に発光する領域）、電子輸送層（緑に発光する領域）、電子輸送層（青に発光する領域）を注入し同様に固化させて有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）を形成する。次いで、カソード１０４を例えば、蒸着成膜する。なお、第三例においては、隔壁レジスト１２０が、アノード１１３及び低抵抗配線部１１９ｂとカソード１０４との間の有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）が介在していない部分において、アノード１１３及び低抵抗配線部１１９ｂとカソード１０４との間を絶縁する膜として機能している。
【０１０２】
以上のような構成の第三例のバックライトによれば、第一例と第二例の場合と同様の作用効果を得られると同時に、アノード１１３側に低抵抗配線１１９が形成されていることにより、以下の作用効果を得ることができる。
すなわち、アノード１１３として光透過率が高く、かつ、抵抗値が高いＩＴＯを用いているので、発光面を広いものとした場合に、電源との接続部からの距離が長くなるほど高い抵抗値を示すので、電源との接続部から近い部分と、遠い部分とでは、有機ＥＬ層を流れる電流量が異なり、場所によって輝度のばらつきがでる可能性がある。しかし、各有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）に沿って配置されるとともに、ほとんどの部分でアノード１１３と短絡する低抵抗配線部１１９ｂを設け、該低抵抗配線部１１９ｂに外部の電源と接続されるアノード端子１１９ａを接続しているので、発光面内の各有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の各位置においては、その位置の近傍のアノード１１３部分まで低抵抗配線１１９側を流れた電流がアノード１１３を介して有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）に流れることになり、発光面の位置によって、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）に流れる電流が大きく異なることがなく、発光面の各位置における輝度を均質化することができる。従って、バックライトの発光面の各位置における輝度をより均質化できるとともに、バックライトの発光面を大型化しても、発光面内で輝度にばらつきが生じるのを防止することができる。
なお、この第三例においては、第二例の場合と同様に、各有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）の発光材料に基づく輝度に対応して、各有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎に幅を変えてその面積を異なるものとしても良い。
また、隔壁レジスト１２０の開口部１２０ａには、第二例の場合と同様に、該開口部の幅を狭くした狭幅部を形成しても良い。また、上記多層配線を構成するカソード端子１２２ｒ、１２２ｇ、１２２ｂ及びカソード配線１２１ｒ、１２１ｇ、１２１ｂは、低抵抗配線１１９を形成する際と同時に形成することができる。
【０１０３】
次に、図８、図９及び図１０を参照して、本発明の実施の形態の第四例の液晶表示装置を説明する。なお、第四例の液晶表示装置は、第二例の液晶表示装置と同様に、第一例のバックライト１００の一部の構成を変更したものであり、液晶表示パネルについては、第一例と同様のものを用いているため説明を省略し、ここではバックライト１００Ｃの説明のみ行う。また、第二例または第三例のバックライト１００Ａ、１００Ｂと同様の構成要素には、同一の符号を付してその説明を省略する。
また、図８においては有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）、導電性層１１０ｒ、１１０ｇ、１１０ｂを、例えば、斜め格子状の図柄として透けた状態に図示し、カソード１０４を透けた状態に図示し、図９においては有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）、隔壁レジスト１２５を、例えば、斜め格子状や横格子状の図柄として透けた状態に図示するとともに、カソード１０４及び導電性層１１０ｒ、１１０ｇ、１１０ｂの図示を省略している。そして、図８、図９及び図１０は、同じ第四例のバックライト１００Ｃを図示したものである。
【０１０４】
図８、図９及び図１０に示される第四例のバックライト１００Ｃは、第一例と同様に、透明基板１０１上に、アノード１２４、カソード端子１２９ｒ、１２９ｇ、１２９ｂ、カソード配線１２８ｒ、１２８ｇ、１２８ｂ、隔壁レジスト１２５、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）、カソード１０４、塗れ制御層１１７が形成されることにより、ストライプ上に複数の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）が形成されたものである。
そして、図８及び図９は、第四例のバックライト１００Ｃの概略を図示したものであり、実際には、発光色がそれぞれ赤、緑、青にされた三本の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）が互いに平行に帯状に形成されるとともに、図２に示される第一例のバックライト１００と同様に、これら三本を一組とする有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）が互いに平行に多数配置されている。
【０１０５】
また、第四例の液晶表示装置は、第三例の液晶表示装置と同様に、後述する低抵抗な導電材からなる金属膜により形成されるカソード１０４を、各発光色の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎にまとめて、各発光色の有機ＥＬ領域毎に駆動できるようにしている。カソード側の構成は、第三例のものと同様であり説明は省略する。なお、上記のカソードに用いる低抵抗な導電材からなる金属膜は、第三例の低抵抗配線において使用したものである。
そして、第四例と第三例の異なるところは、第三例では、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）に接続されているアノード側の電極としてＩＴＯを用い、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）全体に均一に電力を供給するために、補助的に低抵抗配線１１９（低抵抗な導電材からなる金属膜）を用いていたのに対して、第四例では、アノード側の電極は、上記低抵抗な導電材からなる金属膜のみから形成している点である。
また、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）は、図１０に示すように、有機ＥＬ層１０３ｒは高分子導電物からなる正孔輸送層１０３ｒｈと電子輸送層１０３ｒｅとからなり、有機ＥＬ層１０３ｇは高分子導電物からなる正孔輸送層１０３ｇｈと電子輸送層１０３ｇｅとからなり、有機ＥＬ層１０３ｂは高分子導電物からなる正孔輸送層１０３ｂｈと電子輸送層８ｂｅとからなる。電圧の印加に応じ正孔を輸送する正孔輸送領域である正孔輸送層１０３ｒｈ、１０３ｇｈ、１０３ｂｈはいずれも、上述のＰＥＤＴ及びＰＳＳからなり、シート抵抗が１０8Ω／□以下、望ましくは１０7Ω／□以下であり正孔注入領域を兼ねている。電子輸送層１０３ｒｅ、１０３ｇｅ、１０３ｂｅは、再結合に伴い発光する領域であり、発光色に応じて置換基が異なるpolyfluoreneまたはpolyfluoreneの誘導体を有する。なお、液晶材料として第一例と同様に他の材料を用いるものとしても良い。
【０１０６】
図８、図９及び図１０に示すように、第四例のバックライト１００Ｃは、透明基板１０１（例えば、ガラス基板もしくは透明フィルム基板）上に、金属膜等の低抵抗な導電材からなるアノード１２４と、各有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎のカソード１０４部分を各発光色の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎に外部に接続させるための三つのカソード端子１２９ｒ、１２９ｇ、１２９ｂと、各有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎のカソード１０４部分にそれぞれ接続され、後述する導電性層１１０ｒ、１１０ｇ、１１０ｂにより、各発光色の有機ＥＬ領域（１０９ｒ、１０９ｇ、１０９ｂ）毎にまとめられてカソード端子１２９ｒ、１２９ｇ、１２９ｂに接続されるカソード配線１２８ｒ、１２８ｇ、１２８ｂとが形成されている。
【０１０７】
上記アノード１２４は、アノード端子１２４ａと、この一例において同じ金属膜から一体に形成された櫛歯状の正孔注入配線部１２４ｂとを有する。また、カソード端子１２９ｒ、１２９ｇ、１２９ｂ及びカソード配線１２８ｒ、１２８ｇ、１２８ｂも、アノード１２４と同じ金属膜から形成されている。そして、アノード１２４、カソード端子１２９ｒ、１２９ｇ、１２９ｂ及びカソード配線１２８ｒ、１２８ｇ、１２８ｂは、上記金属膜を一括してパターニングすることにより得られている。
【０１０８】
そして、アノード１２４の正孔注入配線部１２４ｂは、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）と互いにほぼ排他的に形成されており、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）がストライプ状に形成されていることから、ストライプ状の有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の間にストライプ状に形成されている。また、アノード１２４は、アノード端子１２４ａ側（カソード配線１２８ｒ、１２８ｇ、１２８ｂの反対側）でストライプ状の部分が一体にまとめられた状態となっている。
【０１０９】
そして、アノード１２４と有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）との境界部分においては、アノード１２４と有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）とが僅かに重なっている。すなわち、ストライプ状、すなわち、線状に近い帯状の各有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の左右の有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の長さ方向に沿った側縁部が、正孔注入配線部１２４ｂと重なった状態となっている。そして、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の左右両側縁部を除く中央部分は、アノード１２４と重ならずに透明基板１０１上に直接形成された状態となっている。
【０１１０】
上記アノード１２４、カソード端子１２９ｒ、１２９ｇ、１２９ｂ及びカソード配線１２８ｒ、１２８ｇ、１２８ｂは、上述のように同じ材料から形成され、これらは、一つの金属膜をパターン形成することにより、ほぼ同時に形成されているので、アノード１２４、アノード端子１２４ａ、カソード端子１２９ｒ、１２９ｇ、１２９ｂ及びカソード配線１２８ｒ、１２８ｇ、１２８ｂは、同一工程で一緒に形成されることになる。なお、アノード１２４、カソード端子１２９ｒ、１２９ｇ、１２９ｂ及びカソード配線１２８ｒ、１２８ｇ、１２８ｂは、例えば、金属を蒸着により成膜することで形成されるが、その他の方法で形成されるものとしても良い。
【０１１１】
そして、隔壁レジスト１２５は、上述のアノード１２４及びカソード配線１２８ｒ、１２８ｇ、１２８ｂを覆うように面状に形成されている。なお、アノード端子１２４ａ及びカソード端子１２９ｒ、１２９ｇ、１２９ｂは、隔壁レジスト１２５に覆われないようになっている（一部が外部と接続するために露出している必要がある）。隔壁レジスト１２５は、その厚みＬ１が例えば、０．０１５ｍｍ（好ましくは、０．００５ｍｍ以上）とされ、各有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）のピッチＬ２が０．１ｍｍ程度とされ、各有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の幅Ｌ３が０．０６ｍｍ程度とされ、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）同士の間隔Ｌ４（隔壁レジストの隔壁の幅）が０．０４ｍｍ程度とされる。また、隔壁レジスト１２５の開口部１２５ａ…のピッチも０．１ｍｍ程度であり、アノード１２４のピッチも０．１ｍｍ程度と設定されている。
【０１１２】
上記正孔注入配線部１２４ｂは、正孔輸送層のシート抵抗が１０8Ω／□以下と低く、かつ正孔輸送性に優れているため、開口部１２５ａに埋設された電子輸送層に電子を注入するカソード１０４と、正孔輸送層を介して完全に重なるような構成でなくてもよい。すなわち正孔注入配線部１２４ｂは、正孔輸送層と部分的に接続されていれば発光面に対し重ならなくていいため、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）から発せられた光は、その多くが正孔注入配線部１２４ｂを介することなく直接透明基板１０１に出射することができるため、従来のようにアノード電極での光吸収による光の減衰を抑制することができるとともに、アノード１２４に適用される上記金属膜が、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）から発せられた光に対して高い透過率を示す必要もない。また正孔輸送層の低シート抵抗性は、それ自体アノード電極として機能することを意味しており、アノード１２４に適用される上記金属膜が正孔注入性の観点から仕事関数が高くなければならないといった問題も解消するため、上記金属膜は、材料の抵抗率が２．０×１０-4Ωｃｍ以下でシート抵抗が１０Ω／□以下であればよく、金属膜の材料の選択性にも優れている。
アノード１２４に適用される金属膜としては、例えば、アルミニウム、チタン、タングステン、ネオジムまたはクロム等の金属単体或いはこれらのうちの少なくとも１つを含む合金やＩＴＯのような透明金属からなるものが用いられる。ただしＩＴＯは、抵抗率が１．６×１０-4Ωｃｍ程度と比較的高いため、シート抵抗を低くするためには、厚く成膜しなければならず、スループットが低くなる。また、有機ＥＬ素子を広い面状発光体を形成しようとすると、透明電極であるＩＴＯの面積が増えると、ＩＴＯの電源との接続部分と、該接続部分と最も離れた部分との距離が大きくなり、これらの部分では、有機ＥＬ層に流れる電流量に差が生じる。従って、有機ＥＬ素子からなる面状発光体をあまり大きなものとすると、面状発光体の位置によって輝度に明らかな差が生じる可能性があった。さらに、透明基板としては、可撓性、柔軟性を有する透明フィルム基板が用いられる場合があり、このような透明フィルム基板に有機ＥＬ素子を形成するものとすれば、その可撓性、柔軟性に基づいて、有機ＥＬ素子の応用範囲を広げることができる可能性がある。しかし、ＩＴＯは、脆性が高く、透明フィルム基板を鋭い角度で曲げたり、何度も曲げたりすると、ＩＴＯが破損する可能性があり、透明基板を透明フィルム基板としても、その特性を十分に生かすことができなかった。また、製造時においては、柔らかい透明フィルム基板上に、硬くて脆弱なＩＴＯを形成するのが難しく、歩留まりの低下を招く恐れがある。また、バックライトの製造時に表面にＩＴＯが形成された透明フィルム基板をロール状に丸めたりした場合にも、歩留まりの低下を招く恐れがある。
【０１１３】
このため、アノード１２４に適用される金属膜は、むしろ１．０×１０-5Ωｃｍ以下の金属単体または合金がより望ましく、延性、展性に優れていればさらに望ましい。そして、光の利用効率の観点から有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）から発せられた光に対し反射率の高いものの方が望ましい。
このような構造のバックライトでは、幅Ｌ３が０．０６ｍｍ程度と短く、正孔注入領域である正孔輸送層のシート抵抗が１０8Ω／□以下なので、正孔注入配線部１２４ｂと部分的に重なっているだけでも、正孔を正孔輸送層のほぼ全面から電子輸送層に輸送することができるため、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）のほぼ全面で発光することができる。したがって、正孔注入配線部１２４ｂは、電圧の印加に応じ電荷を輸送する電荷輸送領域である正孔輸送層全面に接触しなくても十分発光するので、従来のようなアノードによる光の吸収損失を抑えることができる。
【０１１４】
そして、図８、図９及び図１０に示されるバックライト１００Ｃの製造方法は、透明基板１０１上に、例えば、蒸着等によりアルミニウム、チタン、タングステン、ネオジムまたはクロム等の金属単体或いはこれらのうちの少なくとも１つを含む合金やＩＴＯのような透明金属等の低抵抗の金属膜からなるアノード１２４、アノード端子１２４ａ、カソード端子１２９ｒ、１２９ｇ、１２９ｂ及びカソード配線１２８ｒ、１２８ｇ、１２８ｂをフォトリソグラフィーによりパターン形成する。この後、０．６〜０．８Torr、２５０Ｗ、１３．５６ＭＨｚで酸素プラズマ洗浄を行う。アルミニウム等は表面に極薄い酸化膜が成膜されることがあるが、初期電圧を印加すると酸化膜が絶縁破壊し、電流を流すことができるので十分駆動することができる。また、透明基板１０１上に塗れ制御層１１７を形成する。次に、隔壁レジスト１２５をフォトリソグラフィーによりパターン形成する。次いで、隔壁レジスト１２５の開口部１２５ａに、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）のうち、正孔輸送層となるＰＥＤＴ及びＰＳＳの混合物溶液をインクジェットやニードルにより注入して１１０℃で１０分程度加熱して固化後、それらの上にそれぞれ発光色に応じて置換基が異なるpolyfluoreneの誘導体を有する電子輸送層を注入し４０〜６０℃で１．０〜１．５時間加熱して固化させて有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）を形成する。成膜された正孔輸送層はいずれもシート抵抗が１０8Ω／□以下、望ましくは１０7Ω／□以下になっている。次いで、３００Å程度のカルシウム層及び６０００Å〜１００００Å程度のアルミニウム層を順次真空蒸着してカソード１０４を形成する。なお、第一例においては、隔壁レジスト１２５が、アノード１２４とカソード１０４との間の有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）が介在していない部分において、アノード１２４とカソード１０４との絶縁膜として機能している。また、隔壁レジスト１２５を用いた場合には、注入された有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の材料は毛細管現象により開口部１２５ａ全域に拡散する（開口部１２５ａは、溝状であるが、溝を形成する左右の壁の間には、毛細管現象が作用する）。このため、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）を極めて薄い膜厚にすることができる。
【０１１５】
この第四例のバックライト１００Ｃにおいては、アノード１２４としてＩＴＯより抵抗率の低い金属膜を適用することが望ましい。そして、アノード１２４は、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の両側縁部の部分でほぼ線状に重なるようになっている。そして、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の両側縁部を除く中央部分は、直接透明基板１０１と接触するようになっている。すなわち、透明基板１０１側からみれば、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の発光面となる部分の左右両側縁部がアノード１２４に覆われた状態となっているが、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の左右両側縁部を除く大部分は、アノード１２４から露出した状態となっている。
【０１１６】
以上のような構成の第四例のバックライト１００Ｃによれば、第一例から第三例の場合と同様の作用効果を得られると同時に、以下の作用効果を得ることができる。
そして、アノード１２４とカソード１０４との間に電圧を印加した場合には、アノード１２４とカソード１０４との間の有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）に電流が流れることになるが、この際に、元々有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）が細い帯状であり、正孔輸送層のシート抵抗が１０8Ω／□以下となっているので、その両側縁部がアノード１２４に接触した状態でアノード１２４とカソード１０４との間に電圧を印加した場合に、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）のほぼ全体に電流が流れた状態となり、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）のほぼ全体が発光することになる。
また、本発明は、基本的に線状（帯状）の多数の光源からの光を混ぜて、高輝度のＲ・Ｇ・Ｂ各々の面状発光を得ることを目的としており、各有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の長さ方向に直交する方向においては、明暗が繰り返される構成となっているとともに、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の幅は、もともと極めて狭いものとされている。従って、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の左右側縁部が不透明なアノード１２４に重なっていても特に問題がない。
【０１１７】
そして、アノード１２４から露出する有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の大部分からの発光は、そのまま透明基板１０１側に放射されることになる。この際に、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）からの発光は、従来のように透明基板１０１に比較して、光透過率の高くないＩＴＯを透過することがないので、出射した光はＩＴＯによる減衰分だけ光束が増大する。
【０１１８】
有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）の長さ方向の輝度のばらつきについては、アノード１２４として、抵抗率が高いＩＴＯを用いた場合よりも、より抵抗率の低い金属膜を用いた方が少なくすることができる。すなわち、抵抗率が高いＩＴＯを広い面状もしくは長い帯状の電極として用いた場合には、位置によって流れる電流値が大きく異なって輝度にばらつきがでる可能性があるが、抵抗率が１×１０-5Ωｃｍ以下の金属膜ならば、同じ膜厚でも位置によって流れる電流量が大きく異なるようなことがなく、より輝度を均一にすることができる。
【０１１９】
また、アノード１２４としてＩＴＯを用いずに金属膜を用いられるようになれば、金属膜は、一般にＩＴＯに比較して強度が高く、かつ、柔軟性を有するので、脆性が高いＩＴＯを用いた場合よりも、歩留まりの向上を図ることができる。また、透明基板１０１を柔軟性が高い透明フィルム基板とした場合に、硬くて、脆性が高いＩＴＯとの相性が悪く、柔軟性が高い透明フィルム基板の特性を生かした製造方法や使用方法を用いることが困難なものとなるが、アノード１２４としてＩＴＯを用いずに、金属膜を用いられれば、金属膜は、ある程度の柔軟性を有し、強度が高いので、透明フィルム基板の特性を生かした製造方法及び使用方法を用いることができる。また、透明基板１０１を透明フィルム基板とした際の歩留まりの向上を図ることができる。
【０１２０】
また、第二例と同様に、上記例のバックライトの透明基板１０１の表面に拡散板を配置しても良い。この際には、第二例と同様な作用効果が得られるのと同時に、第四例においては、特に正孔注入配線部１２４ｂをＩＴＯ以外の光反射性の金属膜で形成すれば、正孔輸送層全面に亘ってＩＴＯが形成されていないので、有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）から放射された光は、反射を繰り返す間にＩＴＯで吸収されてしまうことがなく、この変形例のように拡散板を用いた場合には、従来のバックライトに拡散板を設けた場合よりも、輝度をより高めることができる。
なお、例えば、透明基板１０１の表面を加工して透明基板１０１の表面自体を拡散面としても良い。またさらに、リフレクタとして作用する背面電極の表面を拡散面としても良い。また、この際に、金属膜からなるアノード１２４がリフレクタとして機能する場合には、アノード１２４の表面を拡散面としても良い。すなわち、本発明のバックライトにおいて、リフレクタとして機能する部分を拡散面とすればよい。
この場合には、上述のようにアノード１２４としての透過率の低いＩＴＯが存在しないことにより、繰り返し反射した際の光の減衰率を低下させることができるので、繰り返し反射させて光を取り出す際の光の減衰が減少されてより多くの光を取り出すことができる。
【０１２１】
次に、図１１及び図１２を参照して、本発明の実施の形態の第五例のＬＣＤを説明する。なお、第五例のＬＣＤは、第四例のＬＣＤのバックライト１００Ｃにおいて、アノード１２４と隔壁レジスト１２５の開口部１３０ａ…に埋設されたカソード１０４が部分的に重なるように形成されていたのを、図１１、図１２に示すように、アノード１２４と、カソード１０４を重ならないように形成したものである。第五例においても、第一例と同様の液晶表示パネル２００が用いられるものとなっており、液晶表示パネル２００の説明を省略する。
そして、図１１は、第五例のＬＣＤのバックライト１００Ｄを上から俯瞰した平面図であり、図１２は、図１１のＡ−Ａ’線に沿った断面図である。図１１、１２において、第四例と同じ材料で同じ機能からなる部材には同一の符号が付されている。
【０１２２】
図中、バックライト１００Ｄの透明基板１０１の下半分上には、ＰＥＤＴ及びＰＳＳからなり、シート抵抗が１０8Ω／□以下、望ましくは１０7Ω／□以下の正孔輸送層１０３ｈが形成されている。正孔輸送層１０３ｈ上から透明基板１０１の上半分側の一部にかけて、発光色に応じて置換基が異なるpolyfluoreneまたはpolyfluoreneの誘導体を有する、ストライプ状の電子輸送層１０３ｒｅ、１０３ｇｅ、１０３ｂｅの組がこの順に複数、それぞれ平行に配置されている。そして、透明基板１０１上から正孔輸送層１０３ｈ上に跨ってアノード１２４が形成されている。アノード１２４の正孔注入配線部１２４ｂは正孔輸送層１０３ｈ上の電子輸送層１０３ｒｅ、１０３ｇｅ、１０３ｂｅ間に、電子輸送層１０３ｒｅ、１０３ｇｅ、１０３ｂｅと離間して配置され、アノード端子１２４ａは透明基板１０１上に配置されている。電子輸送層１０３ｒｅ、１０３ｇｅ、１０３ｂｅ上から透明基板１０１の上半分側にかけて、電子輸送層１０３ｒｅ、１０３ｇｅ、１０３ｂｅと同じ幅或いはより幅狭のストライプ状のカソード１０４が形成されている。そして図中、左上側に三つのカソード端子１２９ｒ、１２９ｇ、１２９ｂが配置されている。アノード１２４、カソード端子１２９ｒ、１２９ｇ、１２９ｂ、並びにカソード１０４は、同一金属膜を一括パターニングして形成されている。アノード１２４は、正孔注入性の良好な正孔輸送層１０３ｈのシート抵抗が低いため、高仕事関数である必要がないが、カソード１０４は、仕事関数が低い方が望ましいため、カソード１０４及びアノード１２４となる金属膜は、少なくともその一部に仕事関数の低い材料を有する方が望ましい。また電子輸送層１０３ｒｅ、１０３ｇｅ、１０３ｂｅとの密着性（接触抵抗）の観点から３００Å程度のカルシウム層及びシート抵抗を低くするためその上に設けられた６０００Å〜１００００Å程度のアルミニウム層の２層構造が望ましいが、これに限らず他の低仕事関数の材料でもよい。カソード１０４のうち透明基板１０１の上半分側は、絶縁材からなる隔壁レジスト１２５により覆われ、その端部は隔壁レジスト１２５の開口部１３０ｂ…から露出され、隔壁レジスト１２５上からカソード端子１２９ｒ、１２９ｇ、１２９ｂに跨って形成される導電性層１１０ｒ、１１０ｇ、１１０ｂに接続されている。なお、正孔輸送層１０３ｈは、シート抵抗が低いので短絡防止のため正孔輸送層１０３ｈにカソード１０４を形成しない方が望ましい。
【０１２３】
第五例のＬＣＤのバックライト１００Ｄでは、厚くなくてもシート抵抗の低い正孔輸送層１０３ｈを適用したため、アノードとカソードを重ねて形成しなくてよいので、アノード１２４、カソード端子１２９ｒ、１２９ｇ、１２９ｂ、並びにカソード１０４を同一金属膜のパターニングにより形成することができるため、バックライト１００Ｄの生産性が高い。
バックライト１００Ｄでは、正孔輸送層１０３ｒｈ、１０３ｇｈ、１０３ｂｈの上方にアノード１２４及びカソード１０４を形成したが、透明基板１０１上に櫛歯状にパターニングされたアノード１２４及びアノード１２４の櫛歯間にストライプ状のカソード１０４を互いに離間させて形成し、カソード１０４上にのみ端子部を除くカソード１０４を覆うようにカソード１０４より幅広の電子輸送層１０３ｒｅ、１０３ｇｅ、１０３ｂｅを形成し、アノード１２４上から電子輸送層１０３ｒｅ、１０３ｇｅ、１０３ｂｅ上にかけて連続した正孔輸送層１０３ｈを形成してもよい。
【０１２４】
また、図１３に示すように、上記バックライト１００Ｄの変形例としてのバックライト１００Ｅにおいて、透明基板１０１上に櫛歯状のアノード１２４を形成し、正孔注入配線部２ｂ上にシート抵抗が１０8Ω／□以下、望ましくは１０7Ω／□以下の正孔輸送層１０３ｈが形成し、正孔注入配線部１２４ｂ間の正孔輸送層１０３ｈ上に、polyfluoreneまたはpolyfluoreneの誘導体を有する、ストライプ状の電子輸送層１０３ｒｅ、１０３ｇｅ、１０３ｂｅの組をこの順に複数それぞれ平行に形成し、この上に電子輸送層１０３ｒｅ、１０３ｇｅ、１０３ｂｅと同じ幅或いはより幅狭のストライプ状のカソード１０４を形成した構造でもよい。なお、アノード１２４とカソード１０４を別々の材料で形成することができる。
上記各実施形態では、図１に示すように、液晶表示パネル２００の各画素電極２０４が有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）のいずれか１つに対応しているが、各有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）のピッチＬ２によっては、各有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）のストライプ状に延在する方向に対し直交する方向に隣接する２以上の各画素電極２０４が有機ＥＬ層（１０３ｒ、１０３ｇ、１０３ｂ）のいずれか１つに対応するように形成してもよい。
【０１２５】
【発明の効果】
本発明の液晶表示装置によれば、該バックライトにおいては、異なる色に発光する二種以上の有機ＥＬ領域が、各種類毎に分散するように透明基板上に配置され、かつ、順次異なる色に発光可能となっている。
例えば、有機ＥＬ領域の種類を三種類とし、これらの発光色を光の三原色である赤、緑、青にすれば、有機ＥＬ素子は高速応答が可能であるために、赤、緑、青の有機ＥＬ領域をオンオフを高速で切り替えることができる。従って、このバックライトは、赤、緑、青の表示を高速で切り替えることにより、カラーフィルター無しで、フルカラーの表示が可能なフィールド・シーケンシャル・フルカラーＬＣＤのバックライトとして好適に用いることができる。
【０１２６】
また、液晶表示装置のバックライトは有機ＥＬ素子から構成されており、本発明の液晶表示装置の動作には、各々Ｒ・Ｇ・Ｂに発光する有機ＥＬ素子を分散するように配置すれば十分である。従って、Ｒ・Ｇ・Ｂ各々単色に面状発光する有機ＥＬを用いればよく、複数の異なる色に発光する発光材料を混在させたり積層させたりすることにより非発光遷移を増大せて輝度を低下させることなく、複数のストライプ状の有機ＥＬ領域からのＲＧＢ各々の発光を高輝度に行なうことができる。
従って、このバックライトを用いた場合には、例えば、従来の蛍光管と導光板とを組み合わせたバックライトより極めて薄く、かつ、高効率のものとすることができ、ＬＣＤのさらなる薄型を図ることができる。
【０１２７】
また、有機ＥＬ領域をストライプ状に配置することにより、モザイク状やその他の状態に有機ＥＬ領域を分散させた場合に比較して、カソードやアノードや有機ＥＬ層を極めて容易に形成することができ、バックライトの製造を容易にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態の第一例の液晶表示装置の構造を説明するための図面である。
【図２】第一例の液晶表示装置のバックライトの構造を説明するための図面である。
【図３】第一例の液晶表示装置のバックライトの構造を説明するための図面である。
【図４】本発明の実施の形態の第二例の液晶表示装置のバックライトの構造を説明するための図面である。
【図５】第二例の液晶表示装置のバックライトの構造を説明するための図面である。
【図６】本発明の実施の形態の第三例の液晶表示装置のバックライトの構造を説明するための図面である。
【図７】第三例の液晶表示装置のバックライトの構造を説明するための図面である。
【図８】本発明の実施の形態の第四例の液晶表示装置のバックライトの構造を説明するための図面である。
【図９】第四例の液晶表示装置のバックライトの構造を説明するための図面である。
【図１０】第四例の液晶表示装置のバックライトの構造を説明するための図面である。
【図１１】本発明の実施の形態の第五例の液晶表示装置のバックライトの構造を説明するための図面である。
【図１２】第五例の液晶表示装置のバックライトの構造を説明するための図面である。
【図１３】第五例の変形例の液晶表示装置のバックライトの構造を説明するための図面である。
【符号の説明】
１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｅ    バックライト
１０１        透明基板
１０２        アノード
１０３ｒ      有機ＥＬ層（赤）
１０３ｇ      有機ＥＬ層（緑）
１０３ｂ      有機ＥＬ層（青）
１０３ｒｅ    有機ＥＬ層（赤）の電子輸送層
１０３ｇｅ    有機ＥＬ層（緑）の電子輸送層
１０３ｂｅ    有機ＥＬ層（青）の電子輸送層
１０３ｈ      有機ＥＬ層の電子輸送層
１０３ｒｈ      有機ＥＬ層（赤）の電子輸送層
１０３ｇｈ      有機ＥＬ層（緑）の電子輸送層
１０３ｂｈ      有機ＥＬ層（青）の電子輸送層
１０４        カソード
１０８        隔壁レジスト
１０８ａ      開口部
１０９ｒ      有機ＥＬ領域（赤）
１０９ｇ      有機ＥＬ領域（緑）
１０９ｂ      有機ＥＬ領域（青）
１１３        アノード
１１９        低抵抗配線
１２４        カソード
２００        液晶表示パネル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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