(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記（ａ）群から選ばれる少なくとも１種の光重合開始剤と下記（ｂ）群から選ばれる少なくとも１種の光重合開始剤を（ａ）：（ｂ）の重量比が１：１０〜１０：１となるように含有してなる光重合開始剤成分、
（ａ）ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ビイミダゾール類
（ｂ）アセトフェノン類、アシルフォスフィンオキサイド類
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、及び
（Ｃ）希釈剤
（Ｄ）重合禁止剤又は連鎖移動剤
を含有してなる感光性樹脂組成物であって、選択露光により形成される硬化皮膜の膜厚が０．５〜５００μｍであるときに、硬化皮膜端がオーバーハング又はバックテーパ様の形状をなし、該硬化皮膜端において、硬化皮膜上面と側面が交差する線と、硬化皮膜下端と基材が交差する線とを含む面が、現像により露出した基材面と形成する角度θが８５°〜４５°であることを特徴とするリフトオフ法用ネガ型感光性樹脂組成物。
【請求項２】
角度θが７５°〜４５°であることを特徴とする請求項１に記載のリフトオフ法用ネガ型感光性樹脂組成物。
【請求項３】
（Ｅ）露光光線を拡散、吸収又は反射する充填剤を含有する請求項１又は２に記載のリフトオフ法用ネガ型感光性樹脂組成物。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載のリフトオフ法用ネガ型感光性樹脂組成物を支持体上に成膜して成ることを特徴とするドライフィルム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はリフトオフ法用として好適な感光性組成物に関するものであり、更に詳しくは、特にリフトオフ法による導体パターン形成、或いは電極、圧電共振子、高周波デバイス等の電子部品の形成、カラーフィルタ或いはＰＤＰ製造等に好適なリフトオフ法用ネガ型感光性組成物及びこれを用いたドライフィルムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
回路基板における導体パターンの形成においては、配線密度の高度化、多層化、導体形状の微細化等に有利なことからリフトオフ法を採用することが提案されている。
【０００３】
一般的に、回路基板製造におけるリフトオフ法は感光性レジスト材料を用いてパターン化されたレジスト皮膜が形成されてなる基材上に、蒸着、スパッタリング等により金属等の導体を成膜する。その後、レジスト層の除去を行い、レジスト皮膜上の導体膜をレジスト皮膜と共に除去（リフトオフ）することで、基材上のレジスト皮膜が形成されていなかった部分のみに導体膜を残し、所望の導体パターンを形成する方法である。
【０００４】
リフトオフ法においては、レジスト皮膜が導体膜でカバーされるので、レジスト除去液が浸透しにくい。このため、レジスト皮膜や導体膜の除去残りが生じやすい。
【０００５】
そこで、レジスト形成工程において、レジスト皮膜の形状をバックテーパ（傾斜）形状としたり、レジスト皮膜の側面部分をオーバーハングを有する形状とすることで、側面部分への導体の成膜を抑制することが試みられている（例えば特開平０８−３１７３３号公報）。
【０００６】
しかしながら、従来のリフトオフ法用の感光性レジスト材料では、膜厚やオーバーハングの角度がごく限定されたものしかできず、レジスト皮膜の側面部分への導体の成膜を効果的に抑制することができなかった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
このような、リフトオフ法は上記のような蒸着による金属の成膜に代え、導電ペースト、ガラスペースト、着色顔料ペースト等をレジストパターン上に埋め込み、又は塗布等する方法を用いることで、電極、圧電共振子、高周波デバイス等の電子部品の形成、カラーフィルタ或いはＰＤＰ製造等にも好適に用いられるため、上記問題解消の要請があった。
【０００８】
また、かかる感光性レジスト材料としては、厚膜化が容易であること、レジスト皮膜の基材への密着性や皮膜強度に優れており、めっき、蒸着によるはがれの問題が少ないことから、ネガ型の感光性レジスト材料が有利である。
【０００９】
そこで、本発明の目的は、広範囲なレジスト膜厚条件下において、その硬化皮膜端がオーバーハング又はバックテーパ様の形状をなし、該硬化皮膜端において、皮膜上面と側面が交差する線と、下端と基材が交差する線とを含む面が、現像により露出した基材面と形成する角度θを所望の範囲に制御することが容易であり、導体パターン等の精細な再現が可能であるリフトオフ法用ネガ型感光性樹脂組成物及びドライフィルムを提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１に係るリフトオフ法用ネガ型感光性樹脂組成物は、
（Ａ）下記（ａ）群から選ばれる少なくとも１種の光重合開始剤と下記（ｂ）群から選ばれる少なくとも１種の光重合開始剤を（ａ）：（ｂ）の重量比が１：１０〜１０：１となるように含有してなる光重合開始剤成分、
（ａ）ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ビイミダゾール類
（ｂ）アセトフェノン類、アシルフォスフィンオキサイド類
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、及び
（Ｃ）希釈剤
（Ｄ）重合禁止剤又は連鎖移動剤
を含有してなる感光性樹脂組成物２であって、選択露光により形成される硬化皮膜４の膜厚が０．５〜５００μｍであるときに、硬化皮膜端がオーバーハング又はバックテーパ様の形状をなし、該硬化皮膜端において、硬化皮膜上面と側面が交差する線と、硬化皮膜下端と基材１が交差する線とを含む面が、現像により露出した基材面と形成する角度θが８５°〜４５°であることを特徴とするものである。
【００１１】
また、本発明の請求項２に係るリフトオフ法用ネガ型感光性樹脂組成物は、請求項１に加えて、角度θが７５°〜４５°であることを特徴とするものである。
【００１３】
また、本発明の請求項３に係るリフトオフ法用ネガ型感光性樹脂組成物は、請求項１又は２に加えて、（Ｅ）露光光線を拡散、吸収又は反射する充填剤を含有することを特徴とするものである。
【００１４】
本発明の請求項４に係るドライフィルムは、請求項１乃至３のいずれかに記載のリフトオフ法用ネガ型感光性樹脂組成物を支持体上に成膜して成ることを特徴とするものである。
【００１５】
【発明の実施の形態】
（Ａ）下記（ａ）群から選ばれる少なくとも１種の化合物と（ｂ）群から選ばれる少なくとも１種の化合物を（ａ）：（ｂ）の重量比が１：１０〜１０：１となるように含有してなる光重合開始剤成分について
（ａ）ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ビイミダゾール類
ベンゾフェノン類としては、ベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド、４,４ ’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４,４ ’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、３，３−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン等が例示できる。
【００１６】
チオキサントン類としては、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン等が例示できる。
【００１７】
ビイミダゾール類としては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’ビイミダゾールが例示できる。
【００１８】
これらは各々単独であるいは適宜互いに組み合わせて使用することができる。また、上記の中でも、ベンゾフェノン類、チオキサントン類が好適であり、特に４,４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４−ジエチルチオキサントンが好適である。
【００１９】
（ｂ）アセトフェノン類、アシルフォスフィンオキサイド類
アセトフェノン類としては、アセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジクロロアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１等が例示できる。
【００２０】
アシルフォスフィンオキサイド類としては、（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ジフェニルホスフィンオキシド等が例示できる。
【００２１】
これらは各々単独であるいは適宜互いに組み合わせて使用することができる。また、上記の中でも、特に、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ジフェニルホスフィンオキシドが好適である。
【００２２】
（ａ）成分：（ｂ）成分の配合量は重量比では１：１０〜１０：１である。より好適には１：４〜４：１である。
【００２３】
このような組合せの場合に、オーバーハング又はバックテーパ（傾斜）様の硬化皮膜側面が凹凸の少ない一定の傾斜率を有するものとし得る。尚、バックテーパは逆テーパとも言う。
【００２４】
このような重量比で使用される（ａ）と（ｂ）の組合せとしては、（ａ）成分としてベンゾフェノン類、（ｂ）成分としてアセトフェノン類を用いるのが好適であり、特に（ａ）成分として４,４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、（ｂ）成分として２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノンを用いたときに最適な結果が得られる。
【００２５】
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂について
アルカリ可溶性樹脂は、現像処理工程においてアルカリ水溶液に可溶又は再分散可能な高分子化合物であればよく、特に限定されないが、例えば、分子中にカルボキシル基やスルホン基等を有する高分子化合物を挙げることができる。
【００２６】
また、特に限定されるものではないが、アルカリ可溶性樹脂は、現像性、形成されるレジストの密着性、皮膜強度等の性能のバランスから重量平均分子量４０００〜２５００００であることが好ましく、特に１００００〜１０００００の範囲のものがより好ましい。また、酸価は好ましくは５０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇ、特に８０〜２４０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲であることがより好ましい。この範囲において現像時の密着力、硬化部位における膜厚保持性に特に優れる。
【００２７】
アルカリ可溶性樹脂としては以下のようなものを例示できる。
【００２８】
１個以上のカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体成分、例えば（メタ）アクリル酸、ケイ皮酸、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸およびマレイン酸等と、これと共重合可能なエチレン性不飽和単量体成分との共重合体。前記共重合可能なエチレン性不飽和単量体成分としては、例えば、（メタ）アクリル酸エステル系不飽和単量体〔メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の直鎖、分岐或は脂環族の（メタ）アクリル酸エステル〕；ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート等のエチレングリコールエステル系（メタ）アクリレート及び同様なプロピレングリコール系（メタ）アクリレート、ブチレングリコール系モノ（メタ）アクリレート；グリセロールモノ（メタ）アクリレート等；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド等のメタ）アクリルアミド系不飽和単量体；Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等のＮ−置換マレイミド類；スチレン、α−メチルスチレン、ビニルエーテル、ビニルピロリドン、（メタ）アクリロニトリル等）。
【００２９】
また、光重合性不飽和基を有するアルカリ可溶性樹脂もアルカリ可溶性樹脂の一例である。
【００３０】
光重合性不飽和基を有するアルカリ可溶性樹脂の基本骨格を構成する基体樹脂としては、（メタ）アクリル系樹脂、スチレン−マレイン酸樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂、シリコン系樹脂、カルボキシル変性セルロース及びウレタン系樹脂が例示できる。導入される光重合性不飽和基としては（メタ）クリロイル基等が例示できる。
【００３１】
光重合性不飽和基を有するアルカリ可溶性樹脂の、代表例としては、次のようなものが挙げられる。
【００３２】
少なくとも２個のエポキシ基を有する多官能エポキシ化合物（例えばノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂等）にエチレン性不飽和モノカルボン酸（例えば（メタ）アクリル酸等）、及び不飽和又は飽和の多塩基酸無水物（例えばフタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸等）を付加して得られるアルカリ可溶性樹脂。
【００３３】
不飽和多塩基酸無水物（例えば無水マレイン酸等）と、ビニル基を有する芳香族炭化水素（例えばスチレン等）又はビニルアルキルエーテル等との共重合体に、分子中に光反応性のエチレン性不飽和基と１個のヒドロキシル基とを有する化合物（例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等）を反応させて得られるカルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂。
【００３４】
カルボキシル基を有さないエチレン性不飽和単量体（例えばアルキル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、スチレン等）とカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（例えば（メタ）アクリル酸、マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸）とからなる共重合体中のカルボキシル基の一部を、エポキシ基を１個のみ有するエチレン性不飽和化合物（例えばグリシジル（メタ）アクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレート等）と反応して得られるカルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂。
【００３５】
エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体を重合単位として含む重合体又は共重合体にエチレン性不飽和モノカルボン酸、及び飽和又は不飽和の多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂。
【００３６】
（Ｃ）希釈剤
本発明に使用される希釈剤はエチレン性不飽和化合物（Ｃ−１）又は有機溶剤（Ｃ−２）であり、少なくともこれらのうちのいずれかを含んでいればよいが、両方含むのが好ましい。但し、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）が光重合性２重結合を有さないもののみで構成される場合にはエチレン性不飽和化合物（Ｃ−１）は必ず配合しなければならない。
【００３７】
本発明に使用されるエチレン性不飽和化合物（Ｃ−１）としては、特に限定されるものではなく光重合可能なものであればよい。例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ε−カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシブチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロ〔５．２．１．０〕デカニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ε−カプロラクトン変性ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物（ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート（エチレン基の数が２〜１４のもの）、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロポキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレングリコール付加物トリアクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（プロピレン基の数が２〜１４のもの）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等）、多価カルボン酸（無水フタル酸等）と水酸基及びエチレン性不飽和基を有する化合物（β−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等）とのエステル化物（γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β−メタクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート等）、（メタ）アクリル酸のアルキルエステル（（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル等）、ウレタン（メタ）アクリレート（トリレンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリル酸エステルとの反応物、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートとシクロヘキサンジメタノールと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリル酸エステルとの反応物等）などが挙げられる。これらは各々単独であるいは適宜互いに組み合わせて使用することができる。
【００３８】
（Ｃ−２）有機溶剤
また、上記有機溶剤としては、例えばエタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、２−ブチルアルコール、ヘキサノール、エチレングリコール等の直鎖、分岐、２級あるいは多価のアルコール類、及びメチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、及びトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、スワゾールシリーズ（丸善石油化学社製）、ソルベッソシリーズ（エクソン・ケミカル社製）等の石油系芳香族系混合溶剤及びセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類、及びカルビトール、ブチルカルビトール等のカルビトール類、及びプロピレングリコールメチルエーテル等のプロピレングリコールアルキルエーテル類、及びジプロピレングリコールメチルエーテル等のポリプロピレングリコールアルキルエーテル類、及び酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類、Ｎ−メチルピロリドン及びジアルキルグリコールエーテル類等が挙げられ、これらは各々単独であるいは適宜互いに組み合わせて使用することができる。
【００３９】
（Ｄ）重合禁止剤又は連鎖移動剤
本発明の感光性樹脂組成物には重合禁止剤又は連鎖移動剤（ラジカル移動剤）を配合する。
【００４０】
重合禁止剤としては、ｐ−メトキシフェノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ナフチルアミン、フェノチアジン、ピリジン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、ｐ−トルキノン、クロラニル、アリールフォスファイト、ｔ−ブチルカテコール、塩化第１銅、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，２′−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、モノ第三ブチルハイドロキノン、ベンゾキノン、２，５−ジフエニル−ｐ−ベンゾキノン、ピクリン酸、ジ−ｐ−フルオロフエニルアミン、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が例示されるが、これらの中でもフェノール類、ヒドロキノン類、カテコール類、レゾルシン類などのフェノール類が好ましい。
【００４１】
連鎖移動剤としては、オクチルメルカプタン、ノニルメルカプタン、デシルメルカプタン、ドデシルメルカプタン及びセチルメルカプタン等のメルカプタン；モノチオエチレングリコール及びα−モノチオグリセリン等の水酸基置換メルカプタン類；メルカプトプロピオン酸、２−メルカプトプロピオン酸、チオ乳酸及びチオリンゴ酸等のメルカプトカルボン酸等のものチオール類；トリメチロールプロパントリス−（β−チオプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス−（チオグリコレート）、ペンタエリスリトールテトラキス−（チオグリコレート）等の１分子中に少なくとも２個以上のメルカプト基を有するチオール化合物：２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプト−５−メチルベンズイミダゾール、２−メルカプト−５−ヒドロキシメチルベンズイミダゾール、２−メルカプト−５−クロロベンズイミダゾール、２−メルカプト−５−クロロメチルベンズイミダゾール、２−メルカプトナフトイミダゾール、２−メルカプト−５−メチルナフトイミダゾール等のイミダゾール類等が例示されるが、これらの中でもモノチオール類が好ましい。
【００４２】
これらの重合禁止剤、連鎖移動剤は各々単独であるいは適宜互いに組み合わせて使用することができる。
【００４３】
（Ｅ）露光光線を拡散、吸収又は反射する充填剤
本発明に感光性樹脂組成物には任意成分として露光光線を拡散、吸収又は反射する充填剤を配合することができる。特に、紫外線を拡散、吸収又は反射する充填剤が好ましい。
【００４４】
上記充填剤としては、炭酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸アルミニウム、水酸化アルミニウム、焼成ハイドロタルサイト、シリカ、タルク、水酸化マグネシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アルミナ、炭酸マグネシウム、マイカ粉、粉砕ポリエチレン、粉砕ポリビニリデンフルオリド等が例示できる。これらの充填剤は各々単独であるいは適宜互いに組み合わせて使用することができる。
【００４５】
本発明において、光重合開始剤（Ａ）の配合量は、本発明の感光性樹脂組成物から有機溶剤（Ｃ−２）を除いた全量中で、好ましくは１〜２０、特に好ましくは２〜１５重量％である。
【００４６】
アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）の配合量は、本発明の感光性樹脂組成物から有機溶剤（Ｃ−２）を除いた全量中で好ましくは１０〜９５重量％、特に好ましくは３０〜７０重量％である。
【００４７】
エチレン性不飽和化合物（Ｃ−１）は、配合する場合には本発明の感光性樹脂組成物から有機溶剤（Ｃ−２）を除いた全量中で好ましくは２〜５０重量％、特に好ましくは１０〜４０重量％である。
【００４８】
重合禁止剤又は連鎖移動剤（Ｄ）の配合量は、本発明の感光性樹脂組成物から有機溶剤（Ｃ−２）を除いた全量中で、好ましくは０．０１〜２重量％、特に好ましくは０．０５〜１重量％である。
【００４９】
露光光線を拡散、吸収又は反射する充填材（Ｅ）は、配合する場合には本発明の感光性樹脂組成物から有機溶剤（Ｃ−２）を除いた全量中で、好ましくは１〜７０重量％、特に好ましくは１０〜６０重量％である。
【００５０】
有機溶剤（Ｃ−２）の配合量は、本発明の感光性樹脂組成物の塗布方法によって大きく異なるので特には限定されない。
【００５１】
また、本発明における感光性樹脂組成物には、必要に応じて、マラカイトグリーン等の染料、ロイコクリスタルバイオレット等の光発色剤、ｐ−トルエンスルホン酸アミド等の可塑剤、着色剤、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、安定剤、ベンゾトリアゾール等の密着性付与剤、レベリング剤、酸化防止剤、香料などを適宜含有することができる。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００５２】
本発明の感光性樹脂組成物は、例えば浸漬法、スプレー、スピンコーター、ロールコーター、カーテンコーター又はスクリーン印刷等により塗布した後、必要に応じ６０〜１２０℃で予備乾燥を行ない、予備乾燥皮膜を形成することができる。
【００５３】
また、例えばケミカルランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ又はメタルハライドランプ等を用いて紫外線を照射した後、現像によりパターンを形成することができる。
【００５４】
本発明の感光性樹脂組成物はネガ型であり、上記現像工程で使用されるアルカリ溶液としては、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、炭酸アンモニウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素カリウム水溶液、炭酸水素アンモニウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、水酸化アンモニウム水溶液、水酸化リチウム水溶液、珪酸ソーダなどを例示することができる。また、上記アルカリ以外でもモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の有機アミンを使用することができ、これらは、単独でも組み合わせても用いることができる。このアルカリ溶液の溶媒としては、水単独のみならず、例えば水と低級アルコール類等の親水性のある有機溶媒の混合物を用いることも可能である。
【００５５】
本発明の感光性樹脂組成物はリフトオフ法に用いられるものである。すなわち、まず、図２（ａ）に示すように、基板１上に本発明の感光性樹脂組成物２を膜状に塗布し、塗布した感光性樹脂組成物２にフォトマスク３を用いて露光・現像を行うことによって、図２（ｂ）に示すように、パターン化されたレジスト１０（硬化皮膜４）を形成する。次に、パターン化されたレジスト１０が形成された基材１上に、蒸着等により金属等の導体５を成膜する。その後、レジスト１０の皮膜の除去を行い、レジスト１０上の導体５をレジスト１０と共に除去（リフトオフ）することによって、図２（ｃ）に示すように、基材１上のレジスト１０が形成されていなかった部分のみに導体５を残し、所望の導体パターンを形成することができるものである。
【００５６】
そして、上記のようにして所望のパターン形状を有する硬化皮膜が形成されるが、硬化皮膜の膜厚が０．５〜５００μｍであるときに、図１に示すように、その硬化皮膜端がオーバーハング又はバックテーパ（傾斜）様の形状をなし、該硬化皮膜端において、硬化皮膜４上面と側面が交差する線と、硬化皮膜４下端と基材１が交差する線とを含む面が、現像により露出した基材１面と形成する角度θが８５°〜４５°であることを特徴とするものである。特に好ましくは７５°〜４５°である。また、硬化皮膜の膜厚が０．５〜１００μｍの時に特に好適な結果が得られる。尚、本明細書において、上記の角度θはオーバーハング角度θという。
【００５７】
また、オーバーハング又はバックテーパ（傾斜）様の硬化皮膜側面が凹凸の少ない一定の傾斜率を有するものとし得る。
【００５８】
このような角度を安定して得ることができるので、レジスト皮膜（硬化皮膜）の側面部分への導体の成膜を効果的に抑制することができ、最終的な導体パターンの再現性に優れたものとなる。
【００５９】
本発明のリフトオフ法用ネガ型感光性樹脂組成物は上記（ａ）成分を配合することにより硬化皮膜の表面硬化性が高くなるものであり、また、上記（ｂ）成分を配合することにより硬化皮膜の内部硬化性が高くなるものであり、（ａ）成分と（ｂ）成分の配合比を制御することで、オーバーハング又はバックテーパ（傾斜）様の硬化皮膜側面が凹凸の少ない一定の傾斜率を有するものとし得るものである。また、本発明のリフトオフ法用ネガ型感光性樹脂組成物は（Ｅ）露光光線を拡散、吸収又は反射する充填剤を配合することで硬化皮膜の深部の光硬化性を制御でき、上記のような効果を強化できるものである。
【００６０】
上記のように硬化皮膜４の側面は凹凸の少ない方が好ましいが、図５に示すように、硬化皮膜４の側面に凸部２０や凹部２１が形成される場合がある。この場合、凸部２０の最大の突出長さＬ１や凹部２０の最大の深さＬ２はそれぞれ、硬化皮膜４の側面の上端（硬化皮膜４上面と側面の交点）と硬化皮膜４の側面の下端（硬化皮膜４下端と基材１の接点）とを結ぶ直線の長さの１／４以下であることが好ましい。尚、上記のＬ１は、硬化皮膜４上面と側面が交差する線と、硬化皮膜４下端と基材１が交差する線とを含む面と凸部２０の先端との距離であり、また、上記のＬ２は硬化皮膜４上面と側面が交差する線と、硬化皮膜４下端と基材１が交差する線とを含む面と凹部２１の最深部との距離である。また、Ｌ１及びＬ２は小さい方が好ましいので、Ｌ１とＬ２の最小値は０である。
【００６１】
このような、リフトオフ法は上記のような蒸着による金属の成膜に代え、導電ペースト、ガラスペースト、着色顔料ペースト等をレジストパターン上に埋め込み、又は塗布等する方法を用いることで、電極、圧電共振子、高周波デバイス等の電子部品の形成、カラーフィルタ或いはＰＤＰ製造等にも好適に用いられる。
【００６２】
また、本発明のリフトオフ法用ネガ型感光性樹脂組成物を支持体の表面に成膜していわゆるドライフィルムレジストとし、支持体とドライフィルムレジストとからなるドライフィルムを形成することができる。この場合、ドライフィルムレジストの膜厚は１０〜１００μｍとするのが好ましく、支持体としては好ましくはポリエチレンテレフタレート等の厚さ５〜１００μｍのフィルムを用いることができる。リフトオフ法用ネガ型感光性樹脂組成物の皮膜（ドライフィルムレジスト）は好ましくは支持体であるフィルム上にリフトオフ法用ネガ型感光性樹脂組成物を塗布乾燥等することにより形成することができる。
【００６３】
【実施例】
下記に、本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００６４】
尚、下記に示される「部」及び「％」は、特に示さない限り全て重量基準である。
【００６５】
〔合成例１〕感光性樹脂溶液（Ｂ−１）の合成
還流冷却器、温度計、窒素置換用ガラス管及び撹拌機を取り付けた四ツ口フラスコに、メタクリル酸２０部、メチルメタクリレート８０部、プロピレングリコールモノメチルエーテル１００部、アゾビスイソブチロニトリル４部を加え、窒素気流下に加熱し、８０℃において５時間重合を行ない、アルカリ可溶性樹脂の５０％溶液（Ｂ−１）を得た。得られたアルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量は２００００、酸価は１３０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【００６６】
〔参考例１乃至８、実施例９乃至１３及び比較例１乃至４〕
上記合成例で生成されたアルカリ可溶性樹脂溶液を用いて、表１に示す各配合組成の配合成分を攪拌機で混合分散し、参考例１乃至８、実施例９乃至１３及び比較例１乃至４の感光性樹脂組成物を得た。
【００６７】
【表１】
0004047588.tif 000002
【００６８】
各感光性樹脂組成物及びそれを用いてリフトオフ法により形成された基板の各性能を下記の試験方法で評価した。
【００６９】
Ｃｒ／ＡｕメッキしたＳｉウエハ基板上にスピンナーを用いて、表１の参考例１乃至８、実施例９乃至１３及び比較例１乃至４の感光性樹脂組成物を塗布した後、８０℃で５分間ホットプレート上にて乾燥させ乾燥被膜を得た。次に、ネガマスクを介して、高圧水銀灯を用いて３００ｍＪ／ｃｍ２露光した。これを３％のトリエタノールアミン水溶液中で２分間振盪現像した。この後、流水洗浄し、窒素ブローして膜厚２０μｍの残存パターンを得た。これを実体顕微鏡で解像性を観察した。またレジストパターンの断面を走査型電子顕微鏡を用いて観察し、オーバーハング角度θを求めた。
【００７０】
つづいて、上記のレジストパターンを形成した基板を用いて、金属膜蒸着、続いてリフトオフを行い、走査型電子顕微鏡観察によりレジストパターン開口部に形成された導体の形状を評価した。
Ｐｂ蒸着の条件は下記の通りである。
（Ｐｂ蒸着の条件例）
使用機器：東日本アルバック製ＶＰＣ−４１０
真空度：１０-5torr（１３３．３×１０-5Ｐａ）
電流値：１０Ａ
電流印加時間：２０min.
また、レジストの剥離（除去）条件は以下の通りである。
【００７１】
２０％のジエタノールアミン水溶液に５０℃５分浸漬。
【００７２】
−現像性−
窒素ブロー後の残存パターンを実体顕微鏡で観察し、次の基準に従い判定した。
【００７３】
◎：未露光部において現像残りが全くなかった。また、露光部においては膨潤等の問題もなかった。
【００７４】
○：未露光部において現像残りが全くなかったが、露光部分においてわずかに膨潤した部分があった。
【００７５】
△：未露光部分がわずかに除去されずに残った。
【００７６】
×：露光部分と未露光部が共に除去不能であった。
【００７７】
−解像性−
窒素ブロー後の残存パターンを実体顕微鏡で観察し、次の基準に従い判定した。
【００７８】
◎：シャープなパターンを得ることができた。
【００７９】
○：パターンは形成されるが、直線パターン部分においてわずかに直線性に劣っていた。
【００８０】
△：パターンは形成されるが、その一部がわずかに欠損していた。
【００８１】
×：パターンが形成されなかった。
【００８２】
−密着性−
窒素ブロー後の残存パターンについて、ＪＩＳ  Ｄ−０２０２の試験方法に従って、碁盤目状にクロスカットを入れ、次いでセロハン粘着テープによるピーリング試験後の剥がれの状態を目視により次の基準に従い判定した。
【００８３】
◎：１００個のクロスカット部分のうちの全てに全く変化が見られない。
【００８４】
○：１００個のクロスカット部分のうち１箇所にわずかに浮きを生じた。
【００８５】
△：１００個のクロスカット部分のうち２〜１０箇所に剥がれを生じた。
【００８６】
×：１００個のクロスカット部分のうち１１〜１００箇所に剥がれを生じた。
【００８７】
−耐熱性−
金属膜蒸着後のレジスト膜と基板の密着状態を実体顕微鏡で観察し、次の基準に従い判定した。
【００８８】
◎：レジスト膜の密着は良好であり全く変化が見られない。
【００８９】
○：レジスト膜の一部が密着不良となりわずかに浮きを生じた。
【００９０】
△：レジスト膜が全体として密着不良となり浮きを生じていた。
【００９１】
×：レジスト膜の一部が欠け、その他の部分は密着不良となり浮きを生じていた。
【００９２】
−オーバーハング角度θ−
レジストパターンの断面を走査型電子顕微鏡を用いて画像を得、補助線を引いてオーバーハング角度θを求めた。
【００９３】
−傾斜の形状−
レジストパターンの断面を走査型電子顕微鏡を用いて観察し、次の基準に従い判定した。
【００９４】
◎：図３（ａ）に示すように、レジスト１０（硬化皮膜４）側面がバックテーパ状であり、かつオーバーハング角度θが７５°以下であった。そして、蒸着工程後においてもレジスト側面が充分露出しており、剥離液が容易に進入することができ、容易にリフトオフができた。
【００９５】
○：図３（ｂ）に示すように、レジスト１０側面が庇部１１と裾部１２を有し、かつオーバーハング角度θが７５°以下であった。そして、蒸着工程後においてもレジスト１０側面が充分露出しており、剥離液が容易に進入することができ、容易にリフトオフができた。
【００９６】
△〜○：図３（ｃ）に示すように、レジスト１０側面がバックテーパ状であり、かつオーバーハング角度θが７５°以上であった。そして、蒸着工程後においてもレジスト１０側面には一部金属膜１３が付着していたので、剥離液の進入むらが生じ、リフトオフ後にわずかながらレジスト残りが生じた。
【００９７】
△：図４（ａ）に示すように、レジスト１０側面が庇部１１と裾部１２を有し、かつオーバーハング角度θが７５°以上であった。そして、蒸着工程後においてもレジスト１０側面が大部分露出しており、剥離液が容易に進入することができるので、リフトオフは可能であった。しかしながら、裾部１２においてはレジスト１０上に金属膜１３が形成されている部分が多いので、図４（ｂ）に示すように金属膜１３端の形状が悪く、また、レジスト残りもあった。
【００９８】
×：図４（ｃ）に示すように、レジスト１０側面が順テーパ状であった。そして、蒸着工程において、レジスト１０側面全体が金属膜１３で覆われており、剥離液がレジスト層に進入できないので、リフトオフすることができなかった。
【００９９】
−導体の形状の再現性−
リフトオフ後に形成された導体の形状を実体顕微鏡で観察し、次の基準に従い判定した。
【０１００】
◎：リフトオフによりシャープな所望の導体の形状を再現することができた。
【０１０１】
○：導体は形成されるが、得られた導体の形状は、直線部分においても曲線部分においてもわずかに凹凸があって、わずかながら正確さに欠けるものであった。
【０１０２】
△：導体は形成されるが、得られた導体の形状は、直線部分においても曲線部分においてもわずかに凹凸があり、またその一部がわずかに欠損（微細な欠け）していた。
【０１０３】
×：レジスト側面に厚い蒸着膜が形成されリフトオフができないため、導体の形状を確認できなかった。
【０１０４】
【表２】
0004047588.tif 000003
【０１０５】
【発明の効果】
本発明の請求項１の発明は上記のように構成されるから、広範囲なレジスト膜厚条件下において、その硬化皮膜端がオーバーハング又はバックテーパ様の形状をなし、該硬化皮膜端において、皮膜上面と側面が交差する線と、下端と基材が交差する線とを含む面が、現像により露出した基材面と形成する角度θを所望の範囲に制御することが容易であり、導体パターン等の精細な再現が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を用いた硬化皮膜を示す断面図である。
【図２】本発明を用いたリフトオフ法を示し、（ａ）〜（ｄ）は断面図である。
【図３】レジストの傾斜の形状の一例を示し、（ａ）〜（ｃ）は断面図である。
【図４】レジストの傾斜の形状の他例を示し、（ａ）（ｃ）は断面図、（ｂ）は図４（ａ）のＡ部を拡大した断面図である。
【図５】本発明の硬化皮膜の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
１  基材
２  リフトオフ法用ネガ型感光性樹脂組成物
４  硬化皮膜
θ  オーバーハング角度
【図１】
0004047588.tif 000004
【図２】
0004047588.tif 000005
【図３】
0004047588.tif 000006
【図４】
0004047588.tif 000007
【図５】
0004047588.tif 000008