(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
次式の化合物。
【化１】
0004116127.tif 000015
式中、Ａｒ１及びＡｒ２は独立に置換又は非置換の単環式又は多環式アリール基であり、Ｒは水素、アリール基或いは炭素原子数１０未満の線状又は枝分れアルキル基であり、Ａは（ａ）アルコール又はカルボン酸をジベンゾイルレゾルシノール化合物と反応させて得られる基、或いは（ｂ）ペンダントなヒドロキシル基を含まない置換又は非置換アリール基である。
【請求項２】
ベンゾイルレゾルシノール化合物の誘導体の製造方法であって、下記段階：（ａ）４，６−ジベンゾイルレゾルシノールとパラアルデヒドの混合物を第二アミン触媒及びカルボン酸溶媒と反応性条件下で反応させて、ジベンゾイルレゾルシノール残基とカルボキシレート原子団とがメチレン橋かけ基で連結したメチレンカルボキシレート中間体を形成する段階、及び（ｂ）上記段階（ａ）で形成したメチレンカルボキシレート化合物をアルコール又はカルボン酸と反応性媒質中で反応させて上記誘導体を形成する段階を含んでなる方法。
【請求項３】
下記成分：Ｉ）次式の紫外線吸収性化合物
【化２】
0004116127.tif 000016
（式中、Ａｒ１及びＡｒ２は独立に置換又は非置換の単環式又は多環式アリール基であり、Ｒは水素、アリール基或いは炭素原子数１０未満の線状又は枝分れアルキル基であり、Ａは（ａ）アルコール又はカルボン酸をジベンゾイルレゾルシノール化合物と反応させて得られる基、或いは（ｂ）ペンダントなヒドロキシル基を含まない置換又は非置換アリール基である）、及びＩＩ）実質的に透明なマトリックス組成物を含んでなるコーティング組成物。
【請求項４】
コーティング組成物の塗布された固体基材であって、上記コーティング組成物が下記成分：Ｉ）次式の紫外線吸収性化合物
【化３】
0004116127.tif 000017
（式中、Ａｒ１及びＡｒ２は独立に置換又は非置換の単環式又は多環式アリール基であり、Ｒは水素、アリール基或いは炭素原子数１０未満の線状又は枝分れアルキル基であり、Ａは（ａ）アルコール又はカルボン酸をジベンゾイルレゾルシノール化合物と反応させて得られる基、或いは（ｂ）ペンダントなヒドロキシル基を含まない置換又は非置換アリール基である）、及びＩＩ）実質的に透明なマトリックス組成物を含んでなる、固体基材。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は広義には化学工学に関するものであり、より具体的にはジベンゾイルレゾルシノール系の化合物及び組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
熱可塑性樹脂は高い耐熱性、耐衝撃性、寸法安定性、高い延性及び透明性など魅力的な取り合わせの機械的及び物理的性質を有していることが多々ある。ポリカーボネートはこれらの属性の多くを呈する材料のよい例である。これらの性質は様々な商業用途における熱可塑性プラスチックの利用を促すものであるが、他の余り好ましくない性質を矯正するか或いは何とか対処する必要が往々にしてある。一例として、熱可塑性プラスチックは摩耗及び化学溶剤に対する耐性が往々にして低い。さらに、熱可塑性プラスチック材料は普通紫外線（ＵＶ）による光崩壊を受けやすい。この種の崩壊はポリマー表面のエロージョンや黄変へとつながるのが通例である。変色は、ポリカーボネート系の製品のように特にその透明性を特徴とする製品に使用する上で大きな問題となる。
【０００３】
こうした問題を軽減するため従前様々な努力がなされてきた。例えば、紫外線吸収剤を含むコーティング組成物を熱可塑性プラスチック基材に塗布して硬化することが行われてきた。ポリカーボネートの場合、コーティング材はシリコーンハードコートマトリックスに基づくものが多く、これは硬化すると良好な耐摩耗バリヤーを与える。ハードコートマトリックス中に配合されるＵＶ吸収剤はベンゾフェノン又はベンゾトリアゾール系のものが多い。米国特許第５３９１７９５号（Ｊａｍｅｓ  Ｅ．Ｐｉｃｋｅｔｔ）に記載の通り、数々の特許にこの種の熱可塑性プラスチック保護策が開示されている。例えば、米国特許第４３７３０６１号にはＵＶ吸収剤としてベンゾフェノンを含んでなるシリコーンハードコート組成物の使用について記載されており、米国特許第４２７８８０４号には芳香族ＵＶ吸収剤のシラノール反応性アルコキシシリル−又はアルカノイルオキシシリルアルキルエーテル付加物に部分的に基づくマトリックス組成物が開示されている。米国特許第５３９１７９５号自体には、ハードコート組成物用ＵＶ吸収剤として４，６−ジベンゾイルレゾルシノールのシリル化誘導体の使用について記載されている。
【０００４】
紫外線に暴露するとＵＶ吸収剤自体がある程度分解することがある。こうした分解のためハードコート中に微小亀裂ができて、その下層のポリマー表面が紫外線の劣化作用、摩耗などに晒されることがある。そうすると、熱可塑性プラスチック基材を保護するというハードコートの目的がある程度損なわれれる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
熱可塑性プラスチックをＵＶから保護するのに有効な新規化合物に対するニーズが依然として存在しているのは明らかである。かかる化合物は基材を保護するのに有効であると同時にそれ自体が高度のＵＶ安定性（すなわち、光安定性）を呈すべきである。さらに、かかる新規化合物は様々な使用態様に順応できるべきであり、例えば保護すべき表面に塗布されるハードコート組成物中に配合できるものであるべきである。また、新規ＵＶ吸収性化合物は基材並びに用いるどんなタイプのハードコート組成物とも物理的及び化学的に適合性であるべきである。それらは熱可塑性プラスチック基材のもつ他の性質（透明性など）を妨げるべきではない。さらに、新規化合物は製造が比較的簡単で、その使用に伴って熱可塑性プラスチック製品のコストが過度に上昇するようなことがないのが望ましい。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は上述のニーズを実質的にすべて満足する。本発明の一つの形態は、次の一般式（Ｉ）のジベンゾイルレゾルシノール系化合物に関する。
【０００７】
【化４】
0004116127.tif 000002
【０００８】
式中、Ａｒ1 及びＡｒ2 は独立に置換又は非置換の単環式又は多環式アリール基であり、Ｒは水素、アリール基或いは炭素原子数約１０未満の線状又は枝分れアルキル基である。「Ａ」で表す基は多種多様なアルコール又はカルボン酸から誘導される基とすることができる。その場合、上記化合物は普通二段階プロセスで製造することができ、まず最初に４，６−ジベンゾイルレゾルシノールのメチレンカルボキシレート中間体を調製し、次いでアルコール又はカルボン酸と反応させて所望生成物を得る。該生成物は他の物質とさらに反応させることができるような官能性部位を含んでいてもよい。
【０００９】
或いは、「Ａ」はペンダントなヒドロキシル基を含まない置換又は非置換アリール基であってもよい。フェニル基、アルキル置換フェニル基、ハロゲン置換フェニル基、アルコキシ置換フェニル基など、様々なタイプのアリール基が存在し得る。このタイプの所望化合物は、４，６−ジベンゾイルレゾルシノールとハロゲン化ベンジル、塩基水溶液及び相溶性相間移動触媒との反応を伴う主に一段階からなる反応で製造されるのが普通である。この場合も、生成物は別の反応に適した官能性部位を含んでいてもよい。
【００１０】
本発明の別の形態は、熱可塑性プラスチック基材を保護するための改良コーティング組成物に関する。大半の改善は上記で簡単に述べたジベンゾイルレゾルシノール化合物の向上した光安定性に起因する。コーティング組成物はこれらの化合物がマトリックス組成物中に配合されたものを含んでおり、マトリックス組成物はアクリル樹脂など各種の材料から形成し得る。
【００１１】
基材に与えられる保護は普通は耐紫外線性に関するものであるが、その他にも耐摩耗性などの向上も含まれることがある。したがって、本発明のもう一つの形態は、上記のジベンゾイルレゾルシノール系化合物をマトリックス組成物中に配合してなる保護組成物で被覆した基材（通常は熱可塑性プラスチック）を含んでなる改良製品に関する。
【００１２】
本発明のこれらの形態に関する詳細を以下に述べる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
上記で簡単に述べた通り、本発明の化合物は次式を有する。
【００１４】
【化５】
0004116127.tif 000003
【００１５】
式中、Ａｒ1 及びＡｒ2 は独立に置換又は非置換の単環式又は多環式アリール基であり、Ｒは水素、アリール基或いは炭素原子数約１０未満の線状又は枝分れアルキル基である。好ましい実施形態では、Ａｒ1 及びＡｒ2 はフェニル又は置換フェニル基である。Ｒは好ましくは水素又はフェニルである。
本発明の一つの主要実施形態では、Ａはアルコール又はカルボン酸から誘導される基、すなわち、アルコール又はカルボン酸をジベンゾイルレゾルシノール化合物と反応させて得られる基である。後の実施例において本発明で使用し得るアルコール及びカルボン酸の幾つかを例示する。しかし、大抵はどんなアルコールやカルボン酸も適していると思われる。
【００１６】
例えば、アルコールは線状又は枝分れ脂肪族基のものでよく、普通は炭素原子数１〜約２０のものである。非限定的な例を挙げると、アルコールの脂肪族部分はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、アミル、イソアミル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシルなどでよい。ここでの「アルコール」の定義に含まれるものとして、数々の誘導体、例えばハロゲンのような置換基を含むアルコール、或いは脂肪族主鎖又は枝分れ鎖（枝分れ鎖自体は主鎖に結合）に炭素環式又は複素環式環が結合したアルコールがある。
【００１７】
或いは、アルコール自体が炭素環式又は複素環式化合物であってもよく、炭素原子数１〜約２０の脂肪族枝分れ鎖又は芳香族環を１以上含み得る。炭素環式アルコールの例は、シクロヘキサノール、シクロペンタノール、シクロオクタノール、シクロデカノール、シクロドデカノール、エキソ−ノルボルネオール、並びにこれらいずれかの誘導体で少なくとも１つの脂肪族枝分れ鎖又は芳香族環を含むものである。こうしたタイプの化合物は市販品として入手することもできるし、或いは当業者が過度の負担なく普通に製造できる。
【００１８】
複素環式アルコール（１以上の環構造を含む）も容易に入手することができる。大抵の場合、これらのアルコールは環式鎖の少なくとも１つに１以上の窒素原子、イオウ原子又は酸素原子を含んでいる。複素環式アルコールの一例はピペリジノールである。置換ピペリジノール（例えばアルキル化誘導体など）も好適である。特に興味深いピペリジノール系化合物の一つは２，２，６，６−テトラメチルピペリジノールであり、これはプラスチック用のヒンダードアミン光安定剤（「ＨＡＬＳ」）として機能する。したがって、ジベンゾイルレゾルシノール化合物にＨＡＬＳ基を化学的に結合することも本発明の範囲に属する。
【００１９】
「Ａ」基の誘導されるアルコールはジオール、ジオールの誘導体、重合ジオール又は重合ジオールの誘導体であってもよい。こうしたタイプの物質はすべて当技術分野において周知である。一例として、ジオールはアルカン系のものであってもよく、例えばプロパンジオール、ブタンジオール、ヘキサンジオールのような炭素原子数２〜約２０のものがある。（本発明は、かかる化合物のすべての形態を包含する。例えば、「プロパンジオール」は、それぞれ１，２−プロピレングリコール及びトリメチレングリコールとしても知られる１，２−プロパンジオールと１，３−プロパンジオールを含めた意味で用いられる。）。その他、エチレングリコールやネオペンチルグリコールなど様々なグリコール類が使用できる。さらに、重合ジオールの例として、ポリエチレングリコール及びポリプロピレングリコールがある。
【００２０】
ジオール及び重合ジオールの誘導体は当業者が熟知しているもので、本発明に適したものは本明細書の教示内容から自明であろう。例えば、ジオールのヒドロキシル部位の一方を脱水剤又は触媒によりエステル化して対応エステルを形成することができる。具体的な誘導体の選択は大半は製造すべき化合物に望まれる要件並びに該化合物の利用される最終使用状況（例えば、特定の熱可塑性プラスチック用のコーティング組成物）についての要件によって決定されるであろう。
【００２１】
アルコールはさらにポリオール（すなわち、３以上のヒドロキシル基を含む化合物）であってもよい。好適なポリオールの例は、グリセロール、ペンタエリトリトール又はジペンタエリトリトールである。さらに、実施形態によっては、ポリオールを部分的にエステル化することもでき、例えばヒドロキシル部位の少なくとも１つにおいてエステルを形成することができ、一方で、残りの遊離ヒドロキシル基がジベンゾイルレゾルシノール部分とエーテル結合を形成する。エステル又は他の遊離ヒドロキシル基は次にさらに追加の官能化のための反応を受けることができ、例えばビニル型官能基を加えるために塩化ビニル或いはアクリル又はメタクリル基と反応させることができる。
【００２２】
一般に、多官能性アルコールは基Ａを誘導することのできるさらにもう一つの種類を表す。ポリオールはこの種類に分類することができる。例示として、上記のジペンタエリトリトールのような物質は６つの第一ヒドロキシル基を含んでいるが、これら６つのヒドロキシル基が官能性部位であって、その各々が例えばエステル化可能である。その他の多官能性アルコールとしては、ヒドロキシル基に加えて少なくとも１つのカルボン酸基をもつものが挙げられる。有機合成の当業者であれば、個々の官能性部位を選択的に反応させて特定の有機生成物を得るための技術に精通しているはずである。
【００２３】
上述の通り、式Ｉの基Ａの形成に用いることのできるカルボン酸の種類には何の制限もない。普通、酸は、ポリカルボン酸、モノ又はポリカルボン酸の枝分れ誘導体、モノ又はポリカルボン酸の環状誘導体、並びにモノ又はポリカルボン酸の官能性誘導体のいずれかに属する。幾つかの関連化合物が係属中のＪａｍｅｓＥ．Ｐｉｃｋｅｔｔ他の関連米国出願番号第０８／７６２６４４号（特願平９−３３１５４９号に対応）に記載されている。
【００２４】
基Ａを誘導することのできる好適なポリカルボン酸の非限定的な例は、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、スベリン酸、パルミチン酸、アゼライン酸、マロン酸、シュウ酸、マレイン酸、フマル酸及びフタル酸である。これらの酸のエステル誘導体の多くも使用できる。換言すれば、１以上のカルボキシル基をエステル化することができ、一方で、残りの遊離カルボキシル基がジベンゾイルレゾルシノール部分とエステル結合を形成する。
【００２５】
さらに、カルボン酸はその他様々な化学基を含み得る。例えば、酸は炭素原子鎖内に少なくとも１つのポリエーテル結合を含み得る。さらに、ポリエーテル結合自体を各種のペンダント基、環式基又は複素環式基で容易に置換し得る。最終生成物−化合物に望まれる溶解度など様々な因子に応じて、１以上のペンダント鎖を酸官能化することができる。ヒドロキシル基はポリマー鎖に組み込むこともできる。
【００２６】
モノ及びポリカルボン酸の他の官能性誘導体は少なくとも１つのビニル基又はアリル基を含めることによって調製できる。上述の通り、この種の官能化技術は当技術分野において周知である。ある好ましい実施形態では、誘導体は後の実施例で示す通り少なくとも１つのアクリル基又はメタクリル基を導入することによって形成される。一般に、ビニル基又はアリル基を使用すると、得られる化合物と共重合性モノマーとの非常に有効な反応が可能になる。好適な共重合性モノマーの例は、アクリレート類、メタクリレート類、スチレン類並びにこれらいずれかの物質の置換誘導体である。この種の反応は非常に有用な共重合体の形成をもたらす。例えば、共重合性モノマーは、ＵＶ吸収性コーティング用のマトリックス組成物（以下で述べる）の一部を構成し得る。そうすると、マトリックスとジベンゾイルレゾルシノール化合物との間に共重合体結合が成立する。
【００２７】
本発明の別の態様は式Ｉの化合物の製造方法に関する。Ａがアルコール又はカルボン酸から誘導された残基である場合、該化合物は下記段階：
（ａ）４，６−ジベンゾイルレゾルシノールとパラアルデヒドの混合物を第二アミン触媒及びカルボン酸溶媒と反応性条件下で反応させて、ジベンゾイルレゾルシノール残基とカルボキシレート原子団とがメチレン橋かけ基で連結したメチレンカルボキシレート中間体を形成する段階、及び
（ｂ）上記段階（ａ）で形成したメチレンカルボキシレート化合物をアルコール又はカルボン酸と反応性媒質中で反応させて誘導体を形成する段階
を含んでなる方法によって形成される。
【００２８】
段階（ａ）（すなわち中間体の形成）を実施するのに好適なプロセスは、上記の係属中の関連米国出願番号第０８／７６２６４４号に記載されている。同様のプロセス（マンニッヒ反応の変法と考えられる）が特開昭５４−１９９５０号公報（ＣＡ  ９１：２０１１６ｚ）にも記載されている。したがって、この段階について本明細書中で説明を尽くす必要はない。簡潔に述べると、反応の第一段階に好適なパラアルデヒドの例はパラホルムアルデヒド及びパラアセトアルデヒド（パラアルデヒド）であり、通常はパラホルムアルデヒドが好ましい。どんな第二アミンも触媒として好適であると思われ、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジヘキシルアミン及びジオクチルアミンなどがある。様々なカルボン酸溶媒を使用し得るが、コスト面もある程度考慮すると、通常は酢酸が選択される。
【００２９】
上記特開昭５４−１９９５０号公報では、約４０モル％もの比較的高濃度のアミン触媒の使用が必要とされている。しかし、最近になって触媒量を減らすと不要なジエチルアミン置換誘導体の量が低減することが判明した。したがって、本発明では、段階（ａ）で用いる第二アミン触媒の量は通常は４，６−ジベンゾイルレゾルシノールのモル重量を基準にして約２０モル％未満とすべきである。好ましい実施形態では、第二アミン触媒の量は約１０モル％未満である。
【００３０】
段階（ａ）を実施し好適な「反応条件」を確認するための具体的なプロセスの詳細の幾つかは当業者が精通している事項であろう。典型的な実施形態では、反応は約８０℃以上の温度で実施される。反応後の混合物は濾過することができ、その濾液を追加量のカルボン酸溶媒で稀釈し得る。次いで濾液を冷却すれば、メチレンアセテート中間体を固形物として慣用分離技術で回収できる。
【００３１】
プロセスの段階（ｂ）では、上記で詳細に説明したようなアルコール又はカルボン酸を上記メチレンアセテート中間体と反応させる。この段階に関して数々の具体的詳細が後の実施例に記載されている。一般に、反応性媒質は酸性であるか、或いは少なくとも中性である。反応のこの段階は普通約２０℃〜約１２０℃の範囲内の温度で実施される。生成物の回収は慣用手段によって行い得る。
【００３２】
本明細書の説明から、この段階（ｂ）で、ジベンゾイルレゾルシノール分子のメチレンカルボキシレート中間体と「Ａ」基との間でエーテル又はエステル結合（それぞれアルコール又はカルボン酸のいずれを用いるかによる）が形成されることは明らかであろう。アルコールを用いる場合、この結果は有機合成の当業者には幾分意外であろう。主反応はカルボキシレート中間体のカルボニル部位での置換を伴うものでトランスエステル化によって余り望ましくない生成物が生じるのではないかとも予想できたからである。
【００３３】
したがって、一つの態様では、構造Ｉの化合物を形成する反応は、Ａがアルコールから誘導された基であるときは、適当な反応媒質中におけるアルコールと次の構造ＩＩの化合物の組み合わせの関与するエーテル化反応であるということができる。
【００３４】
【化６】
0004116127.tif 000004
【００３５】
式中、Ｒ、Ａｒ1 及びＡｒ2 は上記で説明した通りであり、Ｒ2 は炭素原子数約１０未満の線状又は枝分れアルキル鎖である。Ｒ2 部分は通常反応媒質の一部として導入される。例えば、酢酸を用いればＲ2 はメチル基となり、プロピオン酸を用いればＲ2 はエチル基となるはずである。反応媒質についてのその他の詳細は本明細書中に記載されているし、当業者には自明であろう。
【００３６】
既に開示した通り、式Ｉの「Ａ」基を誘導することのできるもう一つの種類の化合物は、ペンダントなヒドロキシル基を含んでいない置換又は非置換アリール基である。この種類の好適な例は、フェニル、アルキル置換フェニル基、ハロゲン置換フェニル基及びアルコキシ置換フェニル基である。こうした一般的タイプの群はそれ自体公知であり、それらの置換体、例えばペンダントなアルキル鎖、ペンダントな芳香族環、ペンダントな炭素環式環及び／又はペンダントな複素環式環を有するものも同様である。
【００３７】
本発明の幾つかの実施形態で特に興味深いのは、ビニル基の結合したアリール化合物（例えばスチレン誘導体など）である。ビニル基は普通アリール環の、式Ｉの基Ａの結合部位に対して、３位又は４位に結合している。かかる基が３位と４位にある異性体混合物も本発明の範囲に属する。ビニル官能基が存在すると、共重合性ＵＶ吸収剤など様々な有効な共重合生成物の調製が可能になる。
【００３８】
簡潔に述べると、「Ａ」基が置換又は非置換アリール基から誘導された化合物は、実質的な収量の化合物を得るのに適した条件下で４，６−ジベンゾイルレゾルシノールをハロゲン化ベンジル化合物、塩基水溶液及び相溶性相間移動触媒と反応させることを含んでなるプロセス（通常は一段階）で製造することができる。この反応は普通約４０℃〜約１２０℃の範囲内の温度で実施される。所望生成物の構造に応じて、多種多様なハロゲン化ベンジル化合物が使用できる。非限定的な例は、臭化ベンジル、塩化ベンジル、塩化３−ビニルベンジル、臭化３−ビニルベンジル、塩化４−ビニルベンジル及び臭化４−ビニルベンジルである。
【００３９】
用いる塩基の種類には何の制限もないと思われる。具体例は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化リチウム及び炭酸リチウムである。さらに、様々な相間移動形を使用することができ、例えば臭化テトラブチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、臭化ベンジルトリメチルアンモニウム、臭化テトラエチルアンモニウム及び塩化テトラエチルアンモニウムなどがある。実質的な収量の所望化合物−生成物を得るための最適な出発物質及びそれらの量を選択することは、本明細書の説明及び有機合成の一般知識に基づいて、当業者がなし得る事項である。生成物は慣用手段で回収できる。
【００４０】
本発明のもう一つの態様は、上記ジベンゾイルレゾルシノール化合物を成分とする新規コーティング組成物に関するものである。これらのコーティング組成物は概して比較的高い光安定性を呈するとともに紫外線吸収能をもつ。該組成物はポリマーマトリックス（通常は透明）を含んでおり、該マトリックスはジベンゾイルレゾルシノール化合物と相溶性で、例えばこれらの成分を互いに混合しても極めて僅かな相分離しか生じない。ウレタン系、メラミン系、アクリル系及びメタクリル系のポリマー材料、並びにポリカーボネート、ポリスチレンなど、多種多様なマトリックスを使用することができる。これらの材料の各種混合物、並びに共重合体も使用できる。ある実施形態ではポリ（メチルメタクリレート）が好ましいマトリックス材料である。コーティング組成物は普通、コーティングの総重量を基準にして、上記のジベンゾイルレゾルシノール系化合物を約１重量％以上含む。多くの好ましい実施形態では、コーティング組成物は約１０重量％以上のジベンゾイルレゾルシノール系化合物を含むが、幾つかの特に好ましい実施形態ではその量は約３５重量％以上である。その最適量が、用いる化合物、処理すべき基材、具体的な最終用途に必要とされるＵＶ防護の程度など、種々の因子によって異なることはいうまでもない。
【００４１】
材料の多く（例えばアクリル系ポリマーなど）は有機溶剤と共に用いられる。さらに、幾つかの材料の水性エマルジョン（例えばジベンゾイルレゾルシノール系化合物が分散したアクリル系エマルジョンなど）を利用することもできる。この種のコーティング組成物の調製方法は当技術分野において周知であり、米国特許第５３９１７９５号、同第４３７３０６１号、同第４３２２４５５号及び同第４２７８８０４号など多数の文献に記載されている。上記米国特許は文献の援用によって本明細書に取り込まれる。上記組成物はその他に、触媒、光開始剤、界面活性剤、分散剤、安定剤、沈降防止剤、耐摩耗剤（シリカなど）、及び追加のＵＶ吸収剤など、様々な成分及び添加剤を有効量で含み得る。
【００４２】
本発明のもう一つの態様は、上述したようなコーティング組成物を塗布した固体基材に関するものである。一般に、被覆し得る基材の種類に関しては何ら制限はない。例を挙げると、ポリ（メチルメタクリレート）のようなアクリル系ポリマー類、ポリ（エチレンテレフタレート）やポリ（ブチレンテレフタレート）のようなポリエステル類、ポリアミド類、ポリイミド類、アクリロニトリル−スチレン共重合体、スチレン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリスチレンとポリフェニレンエーテルのブレンド、ブチレート、ポリエチレンなどのポリマー基材、さらには上記で列挙した材料の各種共重合体がある。さらに、コーティング組成物はその他の種類の基材、例えば金属基材、塗面、ガラス、セラミック及びテキスタイルなどにも塗布し得る。
【００４３】
熱可塑性プラスチック基材には保護コーティングが施されることが多い。その中でも、ポリカーボネート類及びポリエステルポリカーボネートのような共重合体が本発明のコーティング組成物の恩恵を最も多く受ける基材であることが多い。このタイプのポリマーは当技術分野において周知であり、数多くの特許その他の文献、例えばＫ．Ｊ．Ｓａｕｎｄｅｒｓ著、Ｏｒｇａｎｉｃ  ＰｏｌｙｍｅｒＣｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９７３（Ｃｈａｐｍａｎ  ａｎｄ  Ｈａｌｌ  Ｌｔｄ．発行）に記載されている。ポリカーボネートは、界面重合法や溶融重合法など、周知の技術を用いてビスフェノールＡのような芳香族ジヒドロキシ化合物から合成されるのが普通である。
【００４４】
基材に保護コーティングを塗布するための方法は当技術分野において周知であり、上記に示す文献の多くに記載されている。普通、基材上にマトリックス材料の比較的薄い層を、吹付、浸漬、流し塗り、ロール塗布などの各種技術で塗布する。基材にコーティングを塗布した後、実質的にすべての揮発成分（例えば水や有機溶剤など）を（普通は風乾又は加熱により）蒸発させる。ジベンゾイルレゾルシノール系化合物を含んだ比較的均一なポリマー層が残る。残留溶剤をすべて除去するために追加の加熱段階を用いてもよい。揮発成分除去後のコーティング層の厚さは普通約０．０１μｍ〜約５０μｍの範囲内にあり、好ましくは約０．１μｍ〜約１０μｍである。
【００４５】
熱硬化性ポリマー又はエマルジョンに基づくコーティングは硬化させるために昇温下でのベーキングを必要とするのが普通である。その他のタイプのコーティング系、例えば１９９６年８月１５日出願の米国特許出願番号第０８／６９９２５４号（特願平９−２１７４７５号に対応）に記載された放射線硬化性コーティングなど、を硬化させるための手段は当業者には周知である。
【００４６】
【実施例】
以下の実施例はすべて本発明を例示するためのものであり、特許請求の範囲によって定まる発明の範囲を限定する類のものとして解釈すべきではない。
実施例１〜６は、本発明に基づく以下の例示的反応スキーム１を参照することによって最もよく理解される。後で説明する通り、Ｅｔ2ＮＨ はジエチルアミンであり、(ＣＨ2Ｏ)nはパラホルムアルデヒドであり、ＨＯＡｃは酢酸を表し、ＲＯＨはアルコールを表す。
【００４７】
【化７】
0004116127.tif 000005
【００４８】
実施例１
この例では、２−（アセトキシメチル）−４，６−ジベンゾイルレゾルシノール（ＩＩＩ）の調製を行った。４，６−ジベンゾイルレゾルシノール（６３．６ｇ，２００ｍｍｏｌ）、パラホルムアルデヒド（９ｇ，３００ｍｍｏｌ）及びジエチルアミン（１．０ｍｌ，１０ｍｍｏｌ）を約６５ｍｌの氷酢酸中で混ぜ合わせた。この混合物を撹拌し１００℃で１６時間加熱した。この混合物を熱いうちに濾過した。４０ｍｌの酢酸を加えて濾液を稀釈し、冷却し、濾過して式ＩＩＩのアセテート５２．０ｇを得た（収率６８％）。ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）：２．１５ｐｐｍ（ｓ，３Ｈ）；５．４０ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）；７．４〜７．６ｐｐｍ（ｍ，１０Ｈ）；８．０８ｐｐｍ（ｓ，１Ｈ）；１３．４５ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）。
【００４９】
実施例２
この例では、２−（エトキシメチル）−４，６−ジベンゾイルレゾルシノール（ＩＶ，Ｒ＝エチル）の調製を行った。アセテートＩＩＩ（１１．７ｇ，３０ｍｍｏｌ）及び０．５ｍｌの濃塩酸を約３０ｍｌのエタノールに加えた。この混合物を撹拌し、還流条件下で一晩加熱し、次いで冷却した。固体生成物を濾過し、エタノールで洗浄し、乾燥して９．１５ｇの生成物を得た（収率８１％）。ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）：１．２８ｐｐｍ（ｔ，３Ｈ）；３．７０ｐｐｍ（ｑ，２Ｈ）；４．７５ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）；７．４〜７．６ｐｐｍ（ｍ，１０Ｈ）；８．００ｐｐｍ（ｓ，１Ｈ）；１３．３５ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）。
【００５０】
実施例３
この例では、２−（イソプロポキシメチル）−４，６−ジベンゾイルレゾルシノール（ＩＶ，Ｒ＝イソプロピル）の調製について述べる。アセテートＩＩＩ（３．９０ｇ，１０ｍｍｏｌ）及び濃塩酸２滴を約１５ｍｌのイソプロピルアルコールに加えた。この混合物を撹拌し、還流条件下で一晩加熱し、次いで冷却した。固体生成物を濾過し、イソプロピルアルコールで洗浄し、乾燥して３．３４ｇの生成物を得た（収率８６％）。ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）：１．３０ｐｐｍ（ｄ，６Ｈ）；３．８５ｐｐｍ（ｈｅｐｔｅｔ，１Ｈ）；４．７５ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）；７．４〜７．６ｐｐｍ（ｍ，１０Ｈ）；８．００ｐｐｍ（ｓ，１Ｈ）；１３．３０ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）。
【００５１】
実施例４
この例では、２−（ｔ−ブトキシメチル）−４，６−ジベンゾイルレゾルシノール（ＩＶ，Ｒ＝ｔｅｒｔ−ブチル）を調製した。アセテートＩＩＩ（３．９０ｇ，１０ｍｍｏｌ）及び濃塩酸５滴を約１５ｍｌのｔｅｒｔ−ブチルアルコールに加えた。この混合物を撹拌し、還流条件下で一晩加熱し、次いで冷却した。固体生成物を濾過し、イソプロピルアルコールで洗浄し、乾燥して３．６２ｇの生成物を得た（収率９０％）。ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）：１．３７ｐｐｍ（ｓ，９Ｈ）；４．６７ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）；７．４〜７．６ｐｐｍ（ｍ，１０Ｈ）；７．９４ｐｐｍ（ｓ，１Ｈ）；１３．２３ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）。
【００５２】
実施例５
２−（２−メタクリルオキシエトキシメチル）−４，６−ジベンゾイルレゾルシノール（ＩＶ，Ｒ＝ ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ(ＣＨ3)=ＣＨ2）を調製した。アセテートＩＩＩ（９．７５ｇ，２５ｍｍｏｌ）及び２−ヒドロキシエチルメタクリレート（６．５ｇ，５０ｍｍｏｌ）を１００ｍｇのｐ−トルエンスルホン酸一水塩及び１０ｍｌのトルエンと混ぜ合わせた。この混合物を還流条件へと導いて約１．２５時間加熱し、しかる後に冷却して１００ｍｌのエタノールで稀釈した。体積が約半分に減り、少量のガム状物質を除去した。室温で一晩撹拌した後、得られた固体を濾過し、温かい塩化メチレン／イソプロピルアルコール中に入れた。混合物が冷えると、ガム状の固体が生じた。この溶液をデカントして固体から分離し、室温に冷却した。得られた固体を濾過し、イソプロピルアルコールで洗浄して２．３５ｇの生成物を得た（収率２０％）。ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）：１．９８ｐｐｍ（ｓ，３Ｈ）；３．９０ｐｐｍ（ｔ，２Ｈ）；４．４０ｐｐｍ（ｔ，２Ｈ）；４．８２ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）；５．５９ｐｐｍ（ｂｓ，１Ｈ）；６．１９ｐｐｍ（ｂｓ，１Ｈ）；７．４〜７．６ｐｐｍ（ｍ，１０Ｈ）；８．０２ｐｐｍ（ｓ，１Ｈ）；１３．４０ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）。
【００５３】
実施例６
この例では、４，６−ジベンゾイル−２−（８−ヒドロキシ−２−オキサ−オクチル）レゾルシノール（ＩＶ，Ｒ＝ (ＣＨ2)6ＯＨ ）を調製した。アセテートＩＩＩ（１．０ｇ，２．５ｍｍｏｌ）及び５ｇの１，６−ヘキサンジオール（４２ｍｍｏｌ）を１３５℃で一晩加熱した。次いで反応混合物を冷却し、２−プロパノール中に入れ、濾過した。濾液に水を加えて生成物を沈殿させ、沈殿物を濾過して乾燥して０．７５ｇ（６７％）の白色固体を得た。ＮＭＲスペクトルは帰属した構造のものと一致した。
【００５４】
実施例７〜９は以下に示す例示的反応スキーム２に関するもので、Ｒ′ＣＯＯＨは実施例中で示す通りカルボン酸を表す。
【００５５】
【化８】
0004116127.tif 000006
【００５６】
実施例７
この例では、４，６−ジベンゾイル−２−（アクリルオキシメチル）レゾルシノール（ＶＩ，構造ＶにおいてＲ′＝ ＣＨ=ＣＨ2 のもの）の調製を行った。４，６−ジベンゾイル−２−（２−アクリルオキシプロポキシメチル）レゾルシノール（ＶＩＩ，構造ＶにおいてＲ′＝ ＣＨ2ＣＨ2ＯＣ(Ｏ)ＣＨ=ＣＨ2 のもの）の調製も併せて行った。アセテートＩＩＩ（３．９ｇ，１０ｍｍｏｌ）を２０ｇのアクリル酸に加え、混合物を１０５〜１１０℃で３時間加熱した。次いで反応混合物を冷却し、２−プロパノール及び水を加えて生成物を沈殿させた。沈殿を濾過し、乾燥して、ＮＭＲ分析で約２／３の構造ＶＩと１／３の構造ＶＩＩからなることが判明した生成物４．０７ｇを得た。
【００５７】
実施例８
この例では、４，６−ジベンゾイル−２−（メタクリルオキシメチル）レゾルシノール（構造ＶにおいてＲ′＝ Ｃ(ＣＨ3)=ＣＨ2のもの）の調製について述べる。アセテートＩＩＩ（３．９ｇ，１０ｍｍｏｌ）を２２ｇのメタクリル酸に加え、混合物を１３５℃で１８時間加熱した。次いで反応混合物を冷却し、２−プロパノール及び水を加えて生成物を沈殿させた。沈殿を濾過し、乾燥して、ＮＭＲスペクトルが帰属した構造と一致する生成物３．８５ｇを得た。
【００５８】
実施例９
この例では、本発明の範囲に属するＵＶ硬化性コーティング配合物を調製し、試験した。表１に示す成分を慣用調製技術で調合した。
【００５９】
【表１】
0004116127.tif 000007
【００６０】
上記配合物を暗所で３日間撹拌し、予め清浄化しておいたＬｅｘａｎ（登録商標）ポリカーボネートパネルに流し塗りした。得られたコーティングを１分間風乾し、約７０℃で４分間乾燥し、次いで約２５フィート／分の速度で移動するコンベアを用いて２基の３００ワット／インチ中圧水銀ランプの下に５回通過させることでＵＶ光に曝露した。
【００６１】
この被覆パネルを、次いで、ホウケイ酸塩内及び外フィルターを備えたＡｔｌａｓ  Ｃｉ３５ａキセノンアークウェザオメーター（登録商標）内に曝露した。該ウェザオメーターは、光照射１６０分、暗所５分及び暗所での水噴霧１５分のサイクルで３４０ｎｍにおいて放射照度０．７７Ｗ/ｍ2で操作した。このサイクルで、１時間の作業毎に３４０ｎｍで２．４６ｋＪ/ｍ2のエネルギーが加わる。表２は、５８５時間の耐候性試験後の黄色度指数（ＡＳＴＭ  Ｄ−１９２５）の変化を示す。表２から、すべてのケースについてＵＶ吸収剤が未被覆対照試料に比べ黄変性能を改善したことが分かる。
【００６２】
【表２】
0004116127.tif 000008
【００６３】
実施例１０及び１１では、例示的反応スキーム１及び２による追加化合物の調製について説明する。
実施例１０
エステルＶＩＩＩ（構造Ｖ，Ｒ′＝ ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2-ＣＨ2ＯＣＨ3）の調製を行った。アセテートＩＩＩ（３．９ｇ，１０ｍｍｏｌ）及び２−［２−（２−メトキシエトキシ）エトキシ］酢酸（１．７８ｇ，１０ｍｍｏｌ）を約１５ｍｌのトルエン中で混ぜ合わせ、還流条件下で５時間加熱した。次いで反応混合物からトルエンを蒸留し、新鮮なトルエンで置き換え、蒸留し、再度新鮮なトルエンで置き換え、もう一度蒸留した。次いで反応混合物を冷却し、エーテル中に入れ、濾過して４．１３ｇ（８１％）の化合物ＶＩＩＩを得た。
【００６４】
実施例１１
この例では、エステルＩＸ及びＸ（構造Ｖ，Ｒ′＝ (ＣＨ2)6ＣＯＯＨ 及びジエステル）の調製について述べる。アセテートＩＩＩ（３．９ｇ，１０ｍｍｏｌ）及びスベリン酸（１７．４ｇ，１００ｍｍｏｌ）を１５ｍｌのトルエン中で混ぜ合わせ、還流条件下で一晩加熱した。トルエンを蒸留し、新鮮なトルエンで置き換えた。この工程をさらに２回繰り返した。反応混合物を２５ｍｌのトルエンで稀釈し冷却した。その際、過剰のスベリン酸が結晶化し、濾過して回収した（１１．８ｇ，９ｍｍｏｌ）。濾液を蒸発させ、エーテル中に入れ、濾過して３．９４ｇの生成物を得た。ＮＭＲ分析から、生成物が３部の化合物ＩＸと２部の化合物Ｘ、すなわち次式のスベリン酸のジエステル誘導体からなっていることが判明した。
【００６５】
【化９】
0004116127.tif 000009
【００６６】
実施例１２
この例では、２−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジノール）−４，６−ジベンゾイルレゾルシノール、すなわちアクリレートやメタクリレートポリマーなどの様々な基材のＵＶ吸収剤として有用な「ＤＢＲ−ＨＡＬＳ」（ジベンゾイルレゾルシノール−ヒンダードアミン光安定剤;dibenzoylresorcinol-hindered amine light stabilizer）の調製について述べる。調製した化合物は次式の構造を有していた。
【００６７】
【化１０】
0004116127.tif 000010
【００６８】
この化合物の調製では、２．６ｍｍｏｌ（１ｇ）の２−（メチルアセトキシル）−４，６−ジベンゾイルレゾルシノール及び２．６ｍｍｏｌ（０．４ｇ）の２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールをキシレン主体の溶剤中に溶解し、１４０℃の還流条件に導いた。反応は約１６時間進行させた。次いで反応混合物を沈殿させ、濾過し、イソプロパノールで洗浄した。生成物を次いで５０℃の真空オーブンで一晩乾燥した。上記の構造からの計算通りに、分析（ＦＤ−ＭＳ）で親イオンがｍ／ｚ  ４８８にみられた。
次に、キセノンアーク促進試験用のフィルムを調製した。ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）ポリマーのＥｌｖａｃｉｔｅ（登録商標）２０４１の５．３３ｇを、機械式撹拌機及び加熱マントルを備えた三首フラスコ中の５０℃の２−メトキシプロパノール８０．５ｇ及びジアセトンアルコール１４．２ｇに完全に溶解させた。ポリマー溶液２５ｇと０．０７ｇのＵＶ吸収剤とを混ぜ合わせてポリマー溶液中ＵＶ吸収剤の５重量％固形分溶液を作った。こうして調製した溶液をロール練り機で一晩回転して、ＵＶ吸収剤を溶解させた。
【００６９】
この溶液を次に、安定化していない厚さ１５ミルのＬｅｘａｎ（登録商標）ポリマーフィルム上に流し塗りした。流し塗りは２２℃及び相対湿度５０％で行った。１５分間溶剤の蒸発分離を行ってから、フィルムを１０５℃のオーブン中に入れて３０分間曝露した。
タイプＳホウケイ酸塩内及び外フィルターを用いてＡｔｌａｓ  Ｃｉ３５ａキセノンアークウェザオメーター（登録商標）でキセノンアーク促進試験を行った。放射照度は３４０ｎｍにおいて０．７７Ｗ/ｍ2であった。ブラックパネル温度は７０〜７３℃であり、乾球温度は４５℃で湿球温度降下は１０℃（相対湿度５０％）であった。サイクルは光照射１６０分、暗所５分及び暗所での水噴霧１５分であった。このサイクルで、１時間の作業毎に３４０ｎｍで２．４６ｋＪ/ｍ2のエネルギーが加わる。
【００７０】
ガードナーＸＬ−８３５測色計を用いて、色、曇り価及び透過率の測定値を得た。これらの測定値はＣＩＥＬＡＢ  Ｌ* 、ａ* 、ｂ* 及びＹＩ  Ｄとして報告し、スペクトル成分は除外した。曝露時間は４９５．７作業時間であった。
【００７１】
【表３】
0004116127.tif 000011
【００７２】
以下の実施例は本発明の別の態様に基づく物質を製造するための４，６−ジベンゾイルレゾルシノールとハロゲン化ベンジルの反応に関する。この反応は一般に以下に示す例示的反応スキーム３によるもので、各成分については実施例中で述べる。
【００７３】
【化１１】
0004116127.tif 000012
【００７４】
実施例１３
この例では、２−ベンジル−４，６−ジベンゾイルレゾルシノール（ＸＩ）を調製した。４，６−ジベンゾイルレゾルシノール（３．１８ｇ，１０ｍｍｏｌ）、塩化ベンジル（１．２５ｍｌ，１１ｍｍｏｌ）及び臭化テトラブチルアンモニウム（約２０ｍｇ）を、水１０ｍｌ中の水酸化ナトリウム（０．８０ｇ，２０ｍｍｏｌ）の溶液に加えた。この反応混合物を撹拌し約４０℃におよそ２〜３時間温め、次いで室温で一晩撹拌した。この混合物に５％ＨＣｌ水溶液約１５ｍｌを加えた。反応混合物を塩化メチレン中に抽出し、蒸発乾固し、クロロホルム／エタノール混液から再結晶して２度にわたって２−ベンジル−４，６−ジベンゾイルレゾルシノール（２．６７ｇ，収率６５％）を得た。 1Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）：４．１６ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）；７．２〜７．６ｐｐｍ（ｍ，１５Ｈ）；７．９１ｐｐｍ（ｓ，１Ｈ）；１３．２９ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）。反応混合物のＮＭＲ分析で少量のＯ−ベンジル誘導体も生成したことが判明した。
【００７５】
実施例１４
この例では、２−（３−及び４−ビニルベンジル）−４，６−ジベンゾイルレゾルシノール（ＸＩＩ）の調製について述べる。４，６−ジベンゾイルレゾルシノール（３１．８ｇ，１００ｍｍｏｌ）、混合３−及び４−クロロメチルスチレン（１５．４ｇ，１００ｍｍｏｌ）及び臭化テトラブチルアンモニウム（０．３２ｇ）を、水１００ｍｌ中の水酸化ナトリウム（４．４ｇ，１１０ｍｍｏｌ）の溶液に加えた。この反応混合物を撹拌し６０℃に加熱した。１時間後に沈殿が生じ、３０ｍｌのトルエンを加えて二相溶液とした。この混合物を４８時間加熱撹拌し、しかる後に冷却した。凝固した有機相から水性相をデカントして除いた。約１００ｍｌのエタノールを加え、得られたスラリーを濾過してエタノールで洗浄した。エタノール／クロロホルムからの再結晶で生成物が白色粉末として（２７．０ｇ，収率６２％）得られた。ＮＭＲ分析は、生成物が約２０％のＯ−アルキル化誘導体と８０％のＣ−アルキル化誘導体（ＸＩＩ）であることと一致した。
【００７６】
実施例１５
この例は実施例１３及び１４と同様であるが、上記の例示的反応スキーム３にしたがって、ＡｒＣＨ2Ｘ をＡｒＣＨＲＸ（Ｘはハロゲン）で置き換えた。４，６−ジベンゾイル−２−（１−フェニルエチル）レゾルシノール（ＸＩＩＩ，構造ＩにおいてＲ＝メチル、並びにＡｒ1 、Ａｒ2 及びＡ＝フェニル）を次の通り調製した。４，６−ジベンゾイルレゾルシノール（３．１８ｇ，１０ｍｍｏｌ）、１−ブロモエチルベンゼン（２．０４ｇ，１１ｍｍｏｌ）及び約３０ｍｇの臭化テトラブチルアンモニウムを、水１０ｍｌ中水酸化ナトリウム０．８ｇ（２０ｍｍｏｌ）の溶液に加えた。温度を約８０℃に上げて２時間激しく撹拌し、その時点で１−ブロモエチルベンゼンをさらに１ｇ加えた。加熱及び撹拌をさらに２時間続けた。次いで反応混合物を冷却し、濃塩酸で酸性化し、クロロホルムで抽出した。有機層を分離し、乾燥し、蒸発して固体とし、これをエタノール／クロロホルムから２度再結晶して１．９１ｇ（４５．５％）の固体生成物を得た。ＮＭＲスペクトルは帰属した構造と一致した。
【００７７】
実施例１６
この例は実施例１５と同様であり、４，６−ジベンゾイル−２−（ジフェニルメチル）レゾルシノール（ＸＩＶ，構造ＩにおいてＡｒ1 、Ａｒ2 、Ａ及びＲ＝フェニル）を調製した。４，６−ジベンゾイルレゾルシノール（３．１８ｇ，１０ｍｍｏｌ）、クロロジフェニルメタン（２．２２ｇ，１１ｍｍｏｌ）及び約３０ｍｇの臭化テトラブチルアンモニウムを、水１０ｍｌ中水酸化ナトリウム０．８ｇ（２０ｍｍｏｌ）の溶液に加えた。温度を約８０℃に上げて２時間激しく撹拌し、その時点でクロロジフェニルメタンをさらに１ｇ加えた。加熱及び撹拌をさらに２時間続けた。次いで反応混合物を冷却し、濃塩酸で酸性化し、クロロホルムで抽出した。有機層を分離し、乾燥し、蒸発して固体とし、これをエタノール／クロロホルムから２度再結晶して０．６２ｇ（１３％）の固体生成物を得た。ＮＭＲスペクトルは帰属した構造と一致した。
【００７８】
実施例１７
ＵＶ硬化性コーティング配合物を慣用調製技術で調製した。
【００７９】
【表４】
0004116127.tif 000013
【００８０】
上記配合物を暗所で３日間撹拌し、予め清浄化しておいたＬｅｘａｎ（登録商標）ポリカーボネートパネルに流し塗りした。得られたコーティングを１分間風乾し、約７０℃で４分間乾燥し、次いで約２５フィート／分の速度で移動するコンベアを用いて２基の３００ワット／インチ中圧水銀ランプの下に５回通過させることでＵＶ光に曝露した。
【００８１】
この被覆パネルを、次いで、ホウケイ酸塩内及び外フィルターを備えたＡｔｌａｓ  Ｃｉ３５ａキセノンアークウェザオメーター（登録商標）内に曝露した。該ウェザオメーターは、光照射１６０分、暗所５分及び暗所での水噴霧１５分のサイクルで３４０ｎｍにおいて放射照度０．７７Ｗ/ｍ2で操作した。このサイクルで、１時間の作業毎に３４０ｎｍで２．４６ｋＪ/ｍ2のエネルギーが加わる。表５は、５８５時間の耐候性試験後の黄色度指数（ＡＳＴＭ  Ｄ−１９２５）の変化を示す。表５から、すべてのケースについてＵＶ吸収剤が未被覆対照試料に比べ黄変性能を改善したことが分かる。
【００８２】
【表５】
0004116127.tif 000014
【００８３】
例示のために好ましい実施形態を開示してきたが、以上の説明は本発明の範囲を限定するものではない。したがって、当業者であれば本発明の思想及び範囲を逸脱することなく様々な修正、応用及び改変を思いつくであろう。
本明細書内で引用した特許、特許出願、論文及び書籍はすべて文献の援用によって本明細書に取り込まれる。