(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）  非酸性の水素化処理触媒を触媒蒸留構造物の形態で収容する反応蒸留ゾーンを有する蒸留塔反応器に、パラ−キシレン、メタ−キシレン、オルト−キシレン、およびオレフィン類を含有する芳香族化合物混合流れと水素とを供給する工程；
（ｂ）  （ｉ）  非酸性の水素化処理触媒の存在下で芳香族化合物混合流れと水素とを接触させて、芳香族化合物混合流れ中に含まれているオレフィン類の実質的に全てを選択的に水素化し、反応混合物が沸騰し、Ｃ8以下の物質の連続的内部環流が存在するような第１の反応蒸留ゾーン中の条件を維持すること、
（ii）  Ｃ8以下の沸騰物質をＣ9以上の重質物質から分離することを
前記第１の反応蒸留ゾーンにおいて同時的に行う工程；および
（ｃ）  Ｃ8以下の物質を前記蒸留塔反応器からオーバーヘッドとして除去し、
（ｄ）  Ｃ9以上の物質を前記蒸留塔反応器からボトムスとして除去し、
（ｅ）  Ｃ8以下の軽質物質を選択的吸着ユニットに供給し、パラ−キシレンをＣ8以下の軽質物質の残部から分離する工程；
を含む、パラ−キシレンを製造および回収するための方法。
【請求項２】
（ｆ）  選択的吸着ユニットからのパラ−キシレン含量の少ない物質を異性化ユニットに供給し、さらなるパラ−キシレンを生成させる工程；  および
（ｇ）  前記異性化ユニットからの流出物を前記選択的吸着ユニットに供給する工程；
を含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記異性化からの流出物の一部を、選択的吸着ユニットに供給する前に前記蒸留塔反応器に供給する、請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記の非酸性水素化処理触媒が、アルミナベースに担持された第VIII族金属を含む、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記選択的吸着ユニットが、Ｘ型およびＹ型構造のゼオライトの群から選ばれる吸着剤を収容する、請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記異性化ユニットに水素を加える、請求項２記載の方法。
【請求項７】
前記の非酸性水素化処理触媒が、アルミナベースに担持された第VIII族金属を含む、請求項２記載の方法。
【請求項８】
前記異性化触媒が第VIII族金属含有ゼオライトを含む、請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記選択的吸着ユニットが、Ｘ型およびＹ型構造のゼオライトの群から選ばれる吸着剤を収容する、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記芳香族流れが、約50.0％のｍ−キシレン、20.0％のｐ−キシレン、20.0％のｏ−キシレン、および10.0％のエチルベンゼンを含有する、請求項１記載の方法。
【請求項１１】
前記芳香族流れが1.0wppm未満のオレフィン類を含有する、請求項１記載の方法。
【請求項１２】
前記異性化ユニットがストレートパス固定床ユニットを含む、請求項２記載の方法。
【請求項１３】
（ａ）  （ｉ）  水素；および
（ii）  パラ−キシレン、メタ−キシレン、オルト−キシレン、およびオレフィン類を含んだＣ9以上の重質沸騰物質とＣ8以下の軽質沸騰物質とを含有する芳香族化合物混合流れ；
を、非酸性の水素化処理触媒を触媒蒸留構造物の形態で収容する反応蒸留ゾーンを有する蒸留塔反応器に供給する工程；
（ｂ）  （ｉ）  蒸留反応ゾーンにおいて非酸性の水素化処理触媒の存在下で、芳香族化合物混合流れを水素と共に反応ゾーン中に沸騰させて、芳香族化合物混合流れ中に含まれているオレフィン類の実質的に全てを選択的に水素化し、反応混合物が沸騰し、Ｃ8以下の物質の連続的内部環流が存在するような第１の反応蒸留ゾーン中の条件を維持すること；および
（ii）  Ｃ8以下の軽質沸騰物質をＣ9以上の重質物質から分離すること；
を前記蒸留塔反応器において同時的に行う工程；
（ｃ）  Ｃ8以下の物質を前記蒸留塔反応器からオーバーヘッドとして除去し、
（ｄ）  Ｃ9以上の物質を前記蒸留塔反応器からボトムスとして除去し、
（ｅ）  Ｃ8以下の軽質沸騰物質を選択的吸着ユニットに供給し、そこでパラ−キシレンをＣ8以下の軽質沸騰物質の残部から分離する工程；および
（ｆ）  選択的吸着ユニットからのパラ−キシレン含量の少ない物質を、芳香族異性化触媒を収容する固定床異性化反応器に供給し、水素の存在下にて前記パラ−キシレン含量の少ない流れを芳香族異性化触媒と接触させてパラ−キシレンを製造する工程；
を含む、パラ−キシレンを製造および回収するための方法。
【請求項１４】
（ａ）  蒸留反応塔；
（ｂ）  水素を前記塔に供給するための配管；
（ｃ）  Ｃ8以下の軽質沸騰物質と、パラ−キシレン、メタ−キシレン、オルト−キシレン、およびオレフィン類を含むＣ9以上の重質沸騰物質とを含有する芳香族化合物混合流れを前記蒸留反応塔に供給するための配管；
（ｄ）  非酸性の水素化処理触媒を触媒蒸留構造物の形態で収容している、前記塔内の反応蒸留ゾーン；
（ｅ）  前記反応蒸留塔からのＣ8以下の軽質物質を選択的吸着ユニットに供給するための配管；
（ｆ）  パラ−キシレンをＣ8以下の軽質物質の残部から分離するための選択的吸着ユニット；
（ｇ）  前記選択的吸着ユニットからのｐ−キシレン含量の少ない流れを固定床異性化反応器に供給するための配管；および
（ｈ）  芳香族化合物異性化触媒を収容している固定床異性化反応器；
を含む、パラ−キシレンを製造および回収するための装置。
【発明の詳細な説明】
発明の背景
発明の分野
本発明は、芳香族化合物混合流れからのｐ−キシレンの回収に関する。さらに詳細には、本発明は、オレフィン類を除去するために選択的水素化を行い、次いでｐ−キシレンの選択的吸着を行うことによって芳香族化合物混合流れからｐ−キシレンを回収する、という方法に関する。
関連技術
パラ−キシレン（ｐ−キシレン）は、テレフタル酸の製造に利用されるので重要な化学物質であり、テレフタル酸はさらに、合成樹脂や合成繊維の製造において、またビタミン類や他の医薬品の合成において多くの用途を有する。パラ−キシレンは通常、石油ナフサ（主として、改質ガソリンまたは熱分解蒸留物）から溶媒抽出によって分離される芳香族化合物混合流れ中に含まれる。ｐ−キシレンがどのような方法で製造されるかに関係なく、流出生成物は、オルト−キシレン（ｏ−キシレン）、メタ−キシレン（ｍ−キシレン）、ｐ−キシレン、およびエチルベンゼンの混合物である。一般的には、これら割合はおよそ、ｍ−キシレンが50.0%、ｐ−キシレンが20.0%、ｏ−キシレンが20.0％、そしてエチルベンゼンが10.0%である。
エチルベンゼンは、分別蒸留によって分離できるけれどもコストがかかる。従来よりｐ−キシレンは分別結晶によって分離されているが、現在最も広く利用されている方法は、モレキュラーシーブ（a mole sieve）を使用する選択的吸着（詳細は後述）による方法である。このような方法とこれまでの技術的背景については、米国特許第3,895,080号に開示されている。さらに、ｐ−キシレンの吸着剤分離が米国特許第3,943,184号に開示されている。
米国特許第5,431,888号は、流動接触分解ユニットからのイソオレフィン含有軽質ナフサを水素化処理してジオレフィン類とメルカプタン類を除去するための水素化触媒を、エーテル化触媒の下に積み重ねる、という多目的蒸留塔反応器を開示している。
Arganbrightによる米国特許第5,087,780号は、触媒蒸留反応器において触媒且つ蒸留構造物として機能するような構造で配置されたアルミナ担持の酸化パラジウム触媒を使用して、ブテン類を水素異性化するための方法を開示している。ジエン類の水素化も観察されている。PCT出願WO95/15934号は、オレフィン高含量の脂肪族炭化水素流れ中のジオレフィン類とアセチレン系化合物を選択的水素化するための方法を開示している。該方法によれば、蒸留構造物の構成成分として作用する水素化触媒（たとえば、管状のワイヤメッシュ中に入った担持PdO）を収容した蒸留塔反応器中で０〜350psigにて、約0.1psi〜70psia未満の範囲の低い水素分圧下にて40〜300°Fで選択的水素化が行われる。
芳香族化合物を含有する炭化水素プロセス流れ（たとえば、ナフサの改質や水蒸気分解により生じる流れ）中には通常、オレフィン系炭化水素の不純物が見いだされる。これとは別に、前記の異性化を含めた多くの石油化学プロセスにおいてオレフィン類が副生物として形成されることがある。流れをモレキュラーシーブによって分離しようとする場合には、これらのオレフィン類を除去することが重要である。なぜなら、オレフィン類はモレキュラーシーブの容積を占め、したがって分離性能に悪影響を及ぼすからである。オレフィン類を除去するための現在の１つの方法は、選択的吸着を利用するクレー処理プロセス（clay treating process）を使用する。該方法によれば、炭化水素流れを、活性ベントナイト、アタパルガスクレー（Attapulgus clay）、フーラー土、スーパーフィルトロール（Superfiltrol）、およびフロリジン（Floridin）等のクレーと接触させる。これらのクレーは、主としてシリカとアルミナの非晶質および結晶質混合物で構成されているが、結晶質アルミノケイ酸塩ゼオライトの構造と結晶化度から容易に区別することができる。
Ｃ8芳香族化合物は、例えばオクタファイニングプロセス（Octafining process）の場合のように、ゼオライトを使用してｐ−キシレンを生成するよう異性化されている。オクタファイニングプロセスとそれによる改良点が、米国特許第3,856,872号に詳細に開示されている。
米国特許第4,118,429号は、ｐ−キシレンを製造・回収するための組合せプロセス（a combined process）を開示している。芳香族化合物混合流れを水素化処理装置（hydrotreater）に供給するか（オレフィンが存在する場合）、あるいは蒸留塔に直接供給して、Ｃ7以下の軽質物質とＣ9以上の重質物質を除去する。次いで、Ｃ8成分をモレキュラーシーブ分離ユニットに供給する。分離ユニットからのｐ−キシレン含量の少ない流出物を異性化反応器に供給し、そこで平衡キシレン混合物を生成させる。次いで、異性化ユニットからの流出物を水素化処理装置に供給して（流出物がオレフィン類を含有している場合は供給物とともに）オレフィン類を除去する。次いで、水素化処理装置からの流出物を、モレキュラーシーブ分離ユニットへのフレッシュな供給物と合流させる。これらの文献に記載のプロセスはいずれも、統合された複雑なプロセスである。
発明の概要
本発明は、単一の蒸留塔反応器において分別と水素化処理とを組み合わせることを含み、このときＣ9以上の重質物質を塔底液として除去し、水素化処理されたＣ8芳香族化合物をモレキュラーシーブ分離ユニットへの供給物のためのオーバーヘッドとして除去し、そしてこのモレキュラーシーブ分離ユニットにおいてｐ−キシレンを選択的に吸着させるという、オレフィン系不純物を含有する芳香族化合物混合流れから高純度のｐ−キシレンを回収するための方法である。モレキュラーシーブ分離ユニットからの低ｐ−キシレン含量のラフィネートは、異性化反応器中に戻すことができる。
吸着分離の実施に際しては、当業界に公知のいかなる吸着用物質からも選択することができるが、一般には、ｐ−キシレンを選択的に吸着させるのにはＸ型ゼオライトおよび/またはＹ型ゼオライトのモレキュラーシーブを使用する。次いで、このモレキュラーシーブを脱着剤（たとえばトルエン）と接触させて、選択的に吸着されていたｐ−キシレンを脱着剤と置き換える。
【図面の簡単な説明】
図面は、触媒蒸留水素化と固定床ストレートパス異性化とを使用する、本発明の好ましい実施態様の概略流れ図である。
好ましい実施態様の説明
本発明において有用な芳香族化合物流れは種々の供給源から得られる。一般的には、割合はおよそ、ｍ−キシレンが50.0%、ｐ−キシレンが20.0%、ｏ−キシレンが20.0%、そしてエチルベンゼンが10.0%である。オレフィン系不純物は通常、10,000wppm未満（たとえば5,000〜7,000wppm）の量にて存在する。オレフィン系不純物は、ｐ−キシレンの回収のために処理される芳香族化合物フラクションの沸点範囲にて沸騰する物質である。これらは大部分が炭化水素であり、モノ不飽和炭化水素やポリ不飽和炭化水素を含むことがある（たとえばブタジエン、ヘキセン、ヘプテン、オクテン、およびノネンなど）。
Ｃ8芳香族化合物混合流れからのｐ−キシレンの分離は、当業界によく知られているＸ型またはＹ型の結晶質アルミノケイ酸塩ゼオライトを使用する選択的吸着によって達成することができる。これらのモレキュラーシーブゼオライトは交換可能なカチオン性部位を含み、こうした部位は、イオン交換によってリチウム、カリウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ニッケル、銅、銀、マンガン、およびカドミウムの群からの１種以上の金属カチオンを含むように調製される。一般には、第ＩＡ族と第IIＡ族の金属のカチオンが好ましく、カリウムとバリウムとを含有するＸ型またはＹ型ゼオライトが特に好ましい。
本発明の方法の分離セクションにおいては、液相吸着と気相吸着の両方を使用することができる。液相吸着では、ｐ−キシレンに対するゼオライトの選択性を高める幾分低めの温度レベルが必要である。典型的な吸着分離条件は、約100°F〜約400°Fの範囲の温度および大気圧〜約500psigの範囲の圧力を含む。適切な脱着剤は、Ｃ8芳香族成分から容易に分離できるもの、すなわち分別蒸留が実施可能であるような異なった沸点範囲を有するものである。
一般には、吸着によって95〜98重量%のｐ−キシレンが取り除かれ、したがって異性化反応器に戻される流れは主としてｏ−キシレンとｍ−キシレンを含んでいる。オレフィンは、吸着ユニットへの供給物からアルカンに実質的に完全に飽和されているけれども、異性化によって幾らかのオレフィンが生成されることがあり、これらのオレフィンは引き続き、水素化ゾーンにおいて補給供給物中のオレフィンとともに除去される。
ラフィネートの異性化は、現在入手可能な数種類の触媒を使用して達成することができる。一般には、使用される触媒もゼオライトであるが、第VIII族の貴金属成分を有する。ゼオライトの代わりに、担体が酸性アルミナであってもよい。異性化のための条件としては、650〜1000°Fの範囲の温度および約100psigの圧力が含まれる。触媒が活性を保持するためには水素が必要であり、通常は、水素対炭化水素が約6.0:1のモル比となるように加えられる。異性化は、標準的な下降流固定床ストレートパス反応器（downflow fixed bed straight pass reactor）中で行うことができる。
異性化は標準的な下降流反応器で行うことができるが、水素化は蒸留塔反応器で行う。好ましい触媒は、第VIII族の貴金属成分を含んだ“非酸性”の触媒複合物である。ここで言う“非酸性”とは、酸性機能を与えるのに意図的な工程（たとえば、シリカまたはハロゲン成分の包含）を組み込んではいない、ということを意味するのに使用されている。典型的な触媒は約0.1〜1.5%の金属を含有する。水素化ゾーン内の条件は、圧力が約35〜100psig、温度が約100°F〜400°Fであって、このとき液空間速度が2.5〜10であるのが好ましい。蒸留塔反応器は、供給物流れを選択的吸着分離ユニットに供給する前に、供給物流からＣ9以上の重質物質を分離するよう操作するのが有利である。水素は、水素対オレフィンのモル比が1〜10:1の範囲に保持されるように加える。これらの条件下では、水素分圧は75psia未満であり、さらに好ましくは50psia未満であり、そして一般には５〜0.1psiaの範囲である。
大まかに言えば、触媒物質は、触媒かつ蒸留充填物（すなわち、蒸留機能と触媒機能の両方を有する蒸留塔のための充填物）として機能する蒸留系の構成成分である。
本発明の反応系は不均質系として説明することができる。なぜなら、触媒が明確に識別された存在物のままであるからである。
本発明の水素化反応または異性化反応のための好ましい触媒構造物は、本発明の方法に関連して最近開発された幾つかの具体化物（embodiments）のうちの１つにおいて、粒状触媒物質を充填したフレキシブルで半硬質でオープンメッシュの管状物質（たとえば、ステンレス鋼製のワイヤメッシュ）を含む。
水素化において使用すべく開発された１つの新しい触媒構造物が米国特許第5,266,546号に開示されており、該特許の全開示内容を参照により本明細書に含める。簡単に言えば、この新しい触媒構造物は、粒状触媒物質を充填したフレキシブルで半硬質でオープンメッシュの管状物質（たとえば、ステンレス鋼製のワイヤメッシュ）を含み、前記管状物質が２つの端部と前記管状物質の直径の約1/2〜２倍の範囲の長さを有していて、第１の端部が、第１の継ぎ目を形成するよう第１の軸に沿って一緒にシールされており、そして第２の端部が、第２の継ぎ目を形成するよう第２の軸に沿って一緒にシールされており、このとき前記管状物質の軸に沿った第１の継ぎ目の平面と、前記管状物質の軸に沿った第２の継ぎ目の平面とが、約15〜90°の角度で互いに交差している。
米国特許第4,242,530号と第4,443,559号（これらの特許を参照により本明細書に含める）は、クロスベルト又はワイヤメッシュの管状構造物中の複数のポケット中の支持された触媒を開示しており、このとき前記管状構造物は、オープンメッシュの編組ステンレス鋼ワイヤにより２本をねじってらせん状にすることによって蒸留塔反応器中に支持されている。米国特許第5,348,710号（該特許を参照により本明細書に含める）は、従来技術における他の幾つかの適切な構造物について説明しており、また本発明の方法に対して適切な新しい構造物を開示している。本発明の目的に対して有用な他の触媒蒸留構造物が、米国特許第4,731,229号と第5,073,236号（これらの特許を参照により本明細書に含める）に開示されている。
粒状の触媒物質は、粉末、小さくて不規則なチャンク（chunk）もしくはフラグメント、小さなビーズ、およびこれらの類似物のいずれであってもよい。妥当な反応速度が可能となるだけの充分な表面積がもたらされる限り、構造物中における触媒物質の形態がどのようなものであるかは重要なことではない。触媒粒子のサイジングは、それぞれの触媒物質に関して決定するのが最もよい（なぜなら、多孔度または有効内部表面積は物質の種類によって異なり、また当然のことながら、触媒物質の活性に影響を及ぼすからである）。
本発明の水素化に関して、充填剤用の好ましい触媒構造物は、透過性のプレート又はスクリーンワイヤというよりオープンな構造物を使用したものである。
水素化と、水素と炭素−炭素多重結合とを反応させて化合物を“飽和させる”ことである。この反応はかなり前から知られており、通常は、金属触媒上に大過剰の水素を使用して、過圧および中程度の温度にて行われる。水素化反応を触媒することが知られている金属としては、白金、レニウム、コバルト、モリブデン、ニッケル、タングステン、およびパラジウムなどがある。工業用形態の触媒は一般に、これらの金属の担持された酸化物を使用している。この酸化物を、使用前に還元剤で、あるいは使用中に供給物中の水素によって活性形態に還元する。これらの金属はさらに、他の反応（最も顕著なのは高温での脱水素反応）に対しても触媒作用を有する。これらの金属はさらに、滞留時間が増大するにつれて、オレフィン系化合物自体の、またはオレフィン化合物と他のオレフィンとの反応を促進してダイマーまたはオリゴマーを生成することがある。
炭化水素化合物の選択的水素化については従来より知られている。Petersonらによる“The Selective Hydrogeneration of Pyrolysis Gasoline”（1962年9月にアメリカ化学会の石油部門に報告）は、Ｃ4以上のジオレフィンの選択的水素化について説明している。Boitiauxらによる「“Newest Hydrogenation Catalyst”, Hydrocarbon Processing, March 1985」は、プロピレン含量の多い流れおよび他の留分の選択的水素化を含めて、水素化触媒の種々の用途について概説している。現在実施されている従来からの液相水素化は、高い水素分圧（通常は200psiを越える圧力、より多くは400psi以上の圧力）を必要とする。液相水素化においては、水素分圧は本質的に系の圧力である。
好ましい水素化触媒は、約0.5重量%のパラジウム含量を有するアルミナ担持パラジウム触媒である。水素化触媒は一般に、直径が1/32〜1/4インチの小さな球体または押出物という形態で供給される。本発明の水素化反応のための好ましい触媒構造物は、本発明の方法に関連して最近開発された幾つかの具体化物のうちの１つにおいて、粒状触媒物質を充填したフレキシブルで半硬質でオープンメッシュの管状物質（たとえば、ステンレス鋼製のワイヤメッシュ）を含む。水素化触媒構造物に対しては、米国特許第5,431,890号（該特許を参照により本明細書に含める）に記載の構造物が特に好ましい。該特許には、ベイル（bale）形状の触媒蒸留構造物が開示されており、この触媒蒸留構造物は、マルチプルリンク形状または連続管形状の構造物をワイヤメッシュスクリーン（たとえばデミスターワイヤ）の頂部に配置することによって形成され、ワイヤメッシュスクリーンが巻き上げられたときに、巻かれた構造物が新たな改良された触媒蒸留構造物を供給するよう、ベイルの軸線に対してある角度で配列されている。前記の管は、粒状触媒物質を充填したフレキシブルで半硬質でオープンメッシュの管状エレメントを含み、このとき管形状構造物は、マルチプルリンクを形成するよう、長さ１〜12インチごとにファスナーを有している。
少なくとも約0.1psia〜70psia未満（好ましくは50psia未満）の目的達成水素分圧（an effectuating hydrogen partial pressure）を有する水素流れを、他の反応物と共に反応蒸留塔に供給するのが適切である。上記の水素分圧内にて、高度に不飽和の化合物を水素化するのに必要なだけの水素が使用される。なぜなら、過剰の水素は通常排出されるからである。約0.1〜10psiaの範囲の水素分圧が好ましく、７psia以下の水素分圧がさらに好ましい。0.5〜５psigの範囲の水素分圧にて最良の結果が得られた。蒸留塔反応器への水素供給速度は５〜40SCFHに保持するのが好ましい。
図面では、再沸器、凝縮器、および弁などの従来の物品が省略されている。しかしながら、当業界に公知で且つ当技術者によく知られている物品は、それらの配置を容易に認識することができる。
図面を参照すると、プロセススキームがより明確になる。水素化処理ゾーン12は、非酸性の水素化処理触媒を触媒蒸留構造物の形態にて収容している。フローライン１を介して芳香族化合物混合供給物を導入し、その一部が水素化処理ゾーン12に入る。フローライン２を介して水素を水素化処理ゾーン12の下に供給する。Ｃ9以上の重質物質をフローライン３から塔底液として取り出す。供給物を水素化処理ゾーン中にて沸騰させ、ここで供給物中に含有されているオレフィン、あるいは異性化反応器11において生成されるオレフィンの実質的に全てが飽和される。水素化ゾーン中の触媒は、蒸留構造物として調製されている。
Ｃ8以下の軽質生成物の全てをオーバーヘッド６として取り出し、反応器に再循環される水素を使用して、そのオーバーヘッドから水素とＣ7以下の軽質物質の一部を分離することができる（図示せず）。次いで、水素化処理した芳香族化合物混合流れを、フローライン８または８'を介して選択的吸着ユニット20または20'に供給し、そこでモレキュラーシーブ13または13'と接触させ、ｐ−キシレン含量の少ないラフィネートをフローライン５または５'を介して取り出し、これを回収してもよいし、あるいはさらなるｐ−キシレンを生成させるために異性化反応器に再循環してもよい。
吸着セクションは吸着ユニット20と20'を含み、これらのユニットは、一方のユニットが脱着モードであるときに、他方のユニットが吸着モードとなるよう並列にて使用される。脱着用溶媒（例えばトルエン）をライン７または７'を介してオフラインの反応器に通してｐ−キシレンを脱着させ、これをライン４または４'を介して回収する。
異性化反応器を、別個の従来の固定床ストレートパスユニット30として操作する。触媒は、良好な流れ構造をもたらすような、そして取り扱いが簡単で、しかも連続的な床反応器中に装入するのが容易であるような連続的な床もしくは管の形態であっても、または蒸留充填物の形態であってもよい。吸着セクションからのラフィネートが、ライン９を介してユニット30に送られる。触媒を活性化させるための水素は、ライン２'を介して反応器への供給物中に加えるのが適切である。ユニット30からのイソメレート（isomerate）は、ライン14を介して塔に戻すこともできるし、あるいはライン15を介して吸着セクションに戻すこともできる。
実施例
オレフィンで汚染されたキシレン濃縮物供給物（xylene concentrate feed）を、450gのアルミナ担持Pd水素化触媒（デミスターワイヤを使用してベイル中に包まれたガラス繊維上のポケット中に収容されていて、20フィート１インチの塔に沿って配置されている）を収容する触媒蒸留塔において処理した。キシレン濃縮物は、２ポンド/時間の割合にて塔の中央箇所に供給した。水素は、実験全体にわって0.5〜１SCFHの割合にて塔の底部に供給した。207時間の実験にわたって、圧力は50psigから100psigまで変化し、底部の温度は510°Fから530°Fまで変化し、触媒ゾーンの温度は440°Fから470°Fまで変化し、そしてオーバーヘッドは440°Fであった。蒸留スプリットは、オーバーヘッドが50％および塔底液が50％であり、還流は５〜10から１まで変化した。
下記の表において、塔の作動状況を、図面中の流れ番号を参照することによって示す。オーバーヘッド中のオレフィン類が実質的に減少している。
0004074669.tif 000002
0004074669.tif 000003