(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基盤１上に設けた弾性体から成る半円筒状の隆起部１０の上面に、弾力性を有する毛６を前記基盤１に垂直に多数植設して、その先端の成す面を半円筒状とし、前記隆起部１０上面のほぼ中央の壁を上下いずれかに膨出させて膨出部５としたことを特徴とする足洗いマット。
【請求項２】
基盤１の上面に、並列する対の平坦面２，２、及び前記対の平坦面２，２に挟まれた内側に弾性体から成る半円筒状の隆起部１０を形成し、前記平坦面２と前記隆起部１０の上面に、弾力性を有する毛６を前記基盤１に垂直に多数植設するとともに、前記隆起部１０上面のほぼ中央の壁を上下いずれかに膨出させて膨出部５とし、前記毛６はその先端の高さを、平坦面内側２ｂで低く、平坦面外側２ａ及び隆起部１０で高くして、その毛６の先端の成す面を波状の円弧面としたことを特徴とする足洗いマット。
【請求項３】
上記毛６の太さをその先端部は細く、その根元部は太くなるようその毛６の長さ方向中程で変化させたことを特徴とする請求項１又は２に記載の足洗いマット。
【請求項４】
基盤１上に、弾力性を有する毛６を前記基盤１にほぼ垂直に多数植設するとともに、その毛６の先端の高さを、基盤１の中央で低く外側で高くして、その毛６の先端の成す面をＵ字状円弧面とし、
上記毛６の太さをその先端部は細く、その根元部は太くなるようその毛６の長さ方向中程に設けた段部で変化させ、その段部の位置を、前記Ｕ字状円弧面の中央から外側に向かうほど高くしたことを特徴とする足洗いマット。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術的分野】
この発明は、主として入浴時に足の垢や汚れを擦り落とす足洗いマットに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、足の裏や側面、かかと等に付着した垢や汚れを擦り落とすには、軽石や垢擦り布を使用している。
【０００３】
また、特開平９−１４０６１６号公報には、床に載置される足洗いマットが開示されており、この足洗いマットは、合成樹脂一体成形で構成され、図８及び９に示すように、基体の上面に並列する対の平坦面２，２と、対の平坦面２，２のそれぞれ内側の一辺から立設した立上面３と、それぞれ外側の一辺から立設した立上面４を形成し、前記平坦面２及び立上面３，４には、それぞれの面にほぼ垂直に弾力性を有する毛６を多数植設したものである。
【０００４】
この足洗いマットを入浴時等に使用する時には、泡状の洗剤を付けた平坦面２に図９のＡに示すように足を載せて、足の内外側面を立上面３または立上面４に適宜接触させながら足を前後に動かして、足の裏や側面の垢や汚れを擦り落とす。また、土踏まずを刺激しながら足の裏を擦り付けたい時には、同図のＢに示すように前記対の平坦面２，２に直交する向きに足を載せて、前記立上面３に土踏まずを宛がいながら足を前後に動かす。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
従来の足洗いマットは、図９のＡに示すように、平坦面２に足を載せると、立上面３，４に植設した毛６の先端と足の側面に間隔があるので、足の内外側面全体に毛６が密着しない。このため、足の内外側面は、平坦面２上で足を左右に幾分ずらさなければ、前記立上面３または立上面４のいずれかに擦り付けることができない。また、内外側面を同時に擦り付けることができない。
【０００６】
このとき、立上面３，４を接近させて、さらに植設した毛６を長くすると、足を左右にずらすことなく足の内外側面にも毛６が密着し易いが、毛６の長さが長くなれば、平坦面２及び立上面３，４に植設した毛６の方向がそれぞれ異なるので、この足洗いマット製造時の金型成形による一体成形が困難である。
【０００７】
一方、図９のＢに示すように対の平坦面２，２に直交する向きに足を載せて、土踏まずを強く押しつけながらその足を前後に動かすと、立上面４に踵やつま先が当たるので、踵やつま先を幾分持ち上げなければならない。また、この方向に足を置いたときには、足の側面を擦り付けることができないので、土踏まずと足の側面を同時に擦り付けることができない。
【０００８】
さらに、毛６が短く、指の間には毛６の先端が密着しないので、この足洗いマットでは指の間を刺激したり擦り付けることができない。
【０００９】
そこで、この発明は、足の裏を擦り付けるのと同時に、足の内外側面を両側から包み込むような擦り付けができるようにする。
【００１０】
【課題を解決しようとする手段】
上記の課題を解決するために、この発明は、足洗いマットを構成する基盤上に弾力性を有する毛を、その基盤にほぼ垂直に多数植設し、前記基盤の中央に植設した毛はその先端が低くなるよう短い毛とし、外側に植設した毛はその先端が高くなるよう長い毛とし、上記の毛の先端の成す面を足の横断面に近いＵ字状円弧面とする。
【００１１】
この足洗いマットで足を擦り付ける時には、この基盤上に足を置いて、主に基盤中央に植設した低い毛を足の裏に、基盤外側に植設した高い毛を足の内外側面に宛がい、その足を前後に動かす。このとき、足洗いマットの横断面がＵ字状を成しているので、これらの毛が、足の裏、内外側面、それぞれの部位に密着し易い。また、密着した毛が弾力をもって変形するので、密着した毛の先端が足の皮膚を適度な強さで刺激しながらその皮膚に付着した垢や汚れを擦り落とす。
【００１２】
また、別の手段としては、基盤上に設けた弾性材から成る半円筒状の隆起部の上面に、弾力性を有する毛を前記基盤にほぼ垂直に多数植設するとともに、前記隆起部上面のほぼ中央の壁を上下いずれかに膨出させ膨出部を形成し、その膨出部を上面から押さえると前記半円筒上の隆起部の中央部が凹み、両端の妻面が持ち上げられ、全体として半円筒の隆起部が軸方向に凹状に屈曲するようにする。
【００１３】
この状態で、この隆起部の軸方向にに直交する向きに足を置けば、土踏まずには前記隆起部が宛がわれ、同時に足の内外側面には、凹状に屈曲した隆起部に植設された毛が包み込むように密着するので、土踏まずを刺激しながら足の側面の皮膚を擦り付けることができる。
【００１４】
また、上記を組み合わせた手段として、基盤上に並列する対の平坦面を形成し、その対の平坦面に挟まれた内側に上記の手段で用いた弾性材からなる半円筒状の隆起部を形成した構成が考えられる。
【００１５】
この構成では、前記対の平坦面及び隆起部の上面に、弾力性を有する毛を前記基盤にほぼ垂直に多数植設し、前記平坦面の外側に植設した毛は平坦面内側と比較してその先端が高くなるよう長い毛とし、隆起部の毛の長さは平坦面内側と比較してその先端が高くなるような長さとし、これらの毛の先端の成す面が、波状の円弧面となるようにする。
【００１６】
この足洗いマットで足を擦り付ける時には、一般的には、並列する対の平坦面上に左右の足を置いて、主に平坦面内側に植設した毛を足の裏に、平坦面外側に植設した長い毛を足の外側面に、前記隆起部に植設した毛を足の内側面にそれぞれ宛がい、その足を前後に動かす。横断面が波状の円弧面であるので毛が足に密着しやすく、左右の足を同時に、その足の裏、内外側面の皮膚を適度な強さで刺激しながら、その皮膚に付着した垢や汚れを擦り落とす。
【００１７】
また、この構成による別な擦り付け方としては、並列する対の平坦面に平行な向きに足を置いて、隆起部上部に足の裏を宛がい、足の裏を隆起部上部から平坦面内側に向かって移動させながら、土踏まずを擦り付ける方法がある。この方法により、擦りつけにくい土踏まずから足の内側面にかけての皮膚を強く擦り付けることができる。
【００１８】
一方、対の平坦面に直交する向きに足を置いてその足を前後に動かすと、土踏まずに上記隆起部が宛がわれて、その土踏まずを刺激しながら足の裏を擦り付けることができる。このとき、上記隆起部を軸方向に凹状に屈曲させれば、凹状に屈曲した隆起部上面の妻面に近い両端部に植設された毛が足の側面に包み込むように密着するので、土踏まずを刺激しながら足の側面の皮膚を擦り付けることができる。また、従来のように平坦面外側には立上面がないので、踵やつま先に障害物に当たらず、足を前後に動かす範囲を大きくすることができる。このように足を大きく動かしたときに、この平坦面外側の長い毛の部分に足の指を宛がえば、この指の間に毛が侵入して指の間を刺激しながら足の指を擦り付けることができる。
【００１９】
上記の手段において、植設した上記毛の太さをその先端部（上部）は細く、その根元部（下部）は太くなるよう変化させて、毛が根元部から倒れにくいようにできる。この根元の太い部分の長さを、毛の植設する位置が前記平坦面内側から平坦面外側に向かうほど、あるいは平坦面内側から隆起部側に向かうほど長くすると、マットに足を置いて体重をかけても、植設された毛がその根元から倒れず毛の太い部分は自立し円弧面の横断面が維持される。これにより、足の皮膚に毛が密着する効果が失われない。
【００２０】
上記の手段による毛は、基盤に垂直に植設されているので、このマット上に置かれた足の向きにかかわらず変形しやすく、また、置かれた足を前後左右いかなる方向に動かしても、毛が常に足の裏と直交しているので、その動きに追随しやすい。また、植設する毛の向きがすべて基盤に垂直で同方向であるので、毛の長さが長くなっても、合成樹脂一体成形で製造する際の、その金型成形の型抜きが容易である。
【００２１】
このようにして、足の裏を擦り付けるのと同時に、足の内外側面を両側から包み込むような擦り付けができ、また、土踏まずを刺激しながらでも足の内外側面を両側から包み込むような擦り付けができる。また、指の間を擦り付けることもできる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
一実施形態を図１乃至図７に示し、この実施形態の足洗いマットは、軟質の合成樹脂一体成形から成るもので、図１に示すように、基盤１上に並列する対の平坦面２，２を形成し、その対の平坦面２，２に挟まれた内側に弾力性を有する半円筒状の隆起部１０を設け、前記対の平坦面２，２及び隆起部１０の上面に、弾力性を有する毛６を前記基盤１にほぼ垂直に多数植設したものである。前記平坦面外側２ａに植設した毛６は平坦面内側２ｂと比較してその先端が高くなるよう長い毛６とし、隆起部の毛６の長さは前記平坦面２の内側２ｂとほぼ同じ長さとし、毛６先端のなす面を一方の平坦面から他方の平坦面に向かって波状にして、対の平坦面２，２上はそれぞれ円弧面の凹部が位置する。
【００２３】
また、前記隆起部１０上面のほぼ中央の壁を上方へ膨出させ膨出部５を形成し、基盤の裏面には多数の吸盤８を形成し、基盤１の外周に基盤１よりも高い環状の縁７を設けている。
【００２４】
足洗いマット上面全体に植設された毛６は、概ね円筒形状をなしており、その先端はその円筒の切断面となっている。足洗いマットに足を載せると、この毛６の先端や側面が、足の皮膚に触れて弾力性をもって変形するので、足の皮膚に適度な刺激が与えられ、またそれらが足の皮膚に擦り付けられることにより、足の垢や汚れが擦り落とされる。なお、より柔らかな刺激を与えたい場合には、その毛６の先端形状を円錐状にするなど先端を細いものにすればよい。また、その毛６の植設を密に行えば、足の皮膚に、より固くて強い刺激を与えることもできる。
【００２５】
この実施形態では、図２の横断面に示すように、その毛６の先端の成す面が、両側平坦面２上に波状の円弧面の凹部を設けているので、この足洗いマットに足を擦り付ける時には、一般的には、並列する対の平坦面２，２上の波状の円弧面の凹部に左右の足をそれぞれ載せて、図５に示すように、主に平坦面内側２ｂの毛６を足の裏に、平坦面外側２ａの長い毛６を足の外側面に、前記隆起部１０の毛６を足の内側面にそれぞれ宛がい、その足を前後（図１の矢印１１の方向）に動かす。これにより、左右の足を同時に、その足の裏、内外側面の皮膚を適度な強さで刺激しながら、その皮膚に付着した垢や汚れを擦り落とす。
【００２６】
また別な擦り付け方としては、同じく対の平坦面２，２に平行な向きに足を置いて隆起部１０上部に足の裏を宛がい、図５の矢印の方向に示すように、足の裏を隆起部１０上部から平坦面内側２ｂに向かって、土踏まずを擦り付けるように足を移動させる方法がある。この方法により、擦りつけにくい土踏まずから足の内側面にかけての皮膚を強く擦り付けることができる。
【００２７】
一方、他の擦り付け方として、対の平坦面に直交する向きに足を置いてその足を前後（図１の矢印１２の方向）に動かすと、土踏まずに上記隆起部が宛がわれて、その土踏まずを刺激しながら足の裏を擦り付けることができる。このとき、前記隆起部１０上面のほぼ中央の壁を上方に膨出させた膨出部５を、その上面から押さえると、図６に示すように前記半円筒上の隆起部１０の中央部が凹み、両端の妻部が持ち上げられ、全体として隆起部が半円筒の軸方向に凹状に屈曲する。
【００２８】
隆起部１０が凹状に屈曲した上記の状態で、その隆起部１０に直交させて足を置き、その足を前後（図１の矢印１２の方向）に動かせば、土踏まずには前記隆起部が宛がわれ、同時に足の側面にはその両側から、凹状に屈曲した隆起部１０上面の妻面に近い両端部に植設された毛６が包み込むように密着するので、土踏まずを刺激しながら足の側面の皮膚を擦り付けることができる。
【００２９】
さらに、このように対の平坦面に直交する向きに足を置いたとき、この平坦面外側２ａの長い毛６の部分に指を宛がえば、この指の間に毛が侵入して指の間を刺激しながら擦り付けることができる。
【００３０】
これらの植設した上記毛６は、太くなれば柔軟さがなくなり肌ざわりが悪くなり、また細くなれば肌ざわりはよいが、毛６が上からの荷重で根元部から倒れて自立できなくなる。
【００３１】
そこで、この実施形態では、図５に示すように、特に前記平坦面外側２ａ、及び内側２ｂから隆起部１０下部までの毛６の一部を、その先端部（上部）は細く、その根元部（下部）は太くなるよう、毛６の長さ方向中程で太さを不連続に変化させている。
【００３２】
このようにすれば、毛６の柔軟な変形、柔らかな肌触りを維持しながら、植設された毛がその根元から倒れてしまうことがない。この実施形態のように太さを不連続に変化させてもよいし、毛６の長さ方向中程でテーパー状に漸減させてもよい。
【００３３】
この毛６の太さを変化させる位置の高さは、載せる足との位置関係や求める毛の固さに応じて多少上下させてもよい。この実施形態では、図５に示すように根元の太い部分の長さが、前記平坦面内側２ｂから平坦面外側２ａに向かうほど、及び平坦面内側２ｂから隆起部１０に向かうほど長くなっており、このようにすれば、毛の太い部分は倒れないで自立しＵ字型の横断面が維持されるので、足の皮膚に毛が密着する効果が失われない。
【００３４】
また、図２に示すように、この足洗いマットの基盤１の外周に基盤より若干高い、環状の縁７が設けられているので、この基盤上に適度に水が溜まる。基盤１上の毛６の根元付近に水が溜まるので、石鹸を使用して擦り付ける際には、その泡立ちがよい。
【００３５】
さらに、図３に示すように、この足洗いマットは、基盤１の裏面に吸盤８を多数設けているので、例えば図７のように浴槽内で浴槽の壁に固定して、浴槽の中で足を擦り付けて使用したり、あるいは使用後には、水分がかからない壁に固定して乾燥させることもできる。このように裏面に吸盤８を設けることは、この足洗いマットを製造する際の金型成形において、製品を鋳込んだ後の型抜きの際にこの吸盤８を利用して製品を固定することができるので、作業が容易になる。基盤の裏面に多数の吸盤８を形成し、その吸盤が床面等に吸着するようにする。この吸着によりマットは固定されるので、そのマットを軽量にしても足を擦り付ける動作により、マットが移動しにくいが、これらの効果を求めない場合には、前記縁７や吸盤８は省略してもよい。
【００３６】
また、上記の構成において、隆起部１０を省略して平坦面２のみの足洗いマットとした形態や、単に隆起部１０のみを基盤上に形成した足洗いマットなどとすることもでき、足を洗う用途に応じて、よりコンパクトなものとすることもできる。
【００３７】
【発明の効果】
この発明は、以上のように、足の裏を擦り付けるのと同時に、足の内外側面を両側から包み込むような擦り付けができ、また、土踏まずを刺激しながらでも足の内外側面を両側から包み込むような擦り付けができる。また、指の間を擦り付けることもできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】一実施形態の斜視図
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿った断面図
【図３】同実施形態の裏面を示す斜視図
【図４】同一部拡大断面図
【図５】同実施形態の使用状態を示す概略図
【図６】      同実施形態の使用状態を示す概略図
【図７】同実施形態の使用状態を示す概略図
【図８】従来例の斜視図
【図９】従来例の使用状態を示す断面図
【符号の説明】
１  基盤
２  平坦面
２ａ  平坦面外側
２ｂ  平坦面内側
３，４  立上面
５  膨出部
６  毛
７  縁
８  吸盤
１０  隆起部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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