(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に対して所定の処理を施すとともに、その中で基板の反転が行われる装置本体と、
前記装置本体内で基板を搬送する基板搬送手段と、
前記装置本体内に存在する基板を検出する基板検出手段と、
前記装置本体の電源遮断時に前記装置本体内に存在する基板の位置およびこの基板の向きが表向きか逆向きかに関する情報を記憶し、次に前記装置本体に電源が投入された際にこの記憶された情報が取り出される記憶手段と、
前記装置本体に電源が投入された際に前記基板検出手段が検出した検出情報と前記記憶手段から取り出された情報とを照合して、これらの情報に相違がある場合に警報を発する警報手段と、
前記警報を解除する警報解除手段と、
前記装置本体内に存在する基板を前記装置本体外の所定位置に回収するように前記基板搬送手段を制御する制御手段と、
前記制御手段に基板回収を開始する指令を発する回収開始手段と、
を具備し、
前記警報解除手段によって警報が解除され、かつ、前記装置本体内の基板が表向きで回収されることが確認された後に、前記回収開始手段は基板回収の指令を前記制御手段に発し、
前記警報解除手段は、前記警報手段によって警報が発せられた基板に関する情報を修正して基板情報を確定し、基板情報の確定後に前記警報を解除する情報修正手段を具備し、
前記制御手段は、前記情報修正手段によって確定された基板情報に基づいて前記装置本体内に存在する基板を装置本体外の所定位置に回収するように前記基板搬送手段を制御することを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記情報修正手段は、前記基板検出手段が所定位置において基板を検出していないにもかかわらず前記記憶手段から前記所定位置に基板が存在していることを示すデータが取り出された場合に前記データを削除し、または前記基板検出手段が所定位置において基板を検出しているにもかかわらず前記記憶手段から前記所定位置に基板が存在していないことを示すデータが取り出された場合に前記所定位置に存在する基板の状態を示すデータを追加し、または前記記憶手段から取り出された所定位置に存在する基板の向きが表向きか逆向きかに関するデータが実際の基板の向きと異なっている場合に前記データを修正することができることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
基板に対して所定の処理を施すとともに、その中で基板の反転が行われる装置本体と、
前記装置本体内で基板を搬送する基板搬送手段と、
前記装置本体の電源遮断時に前記装置本体内に存在する基板の位置およびこの基板の向きが表向きか逆向きかに関する情報を記憶し、次に前記装置本体に電源が投入された際にこの記憶された情報が取り出される記憶手段と、
前記装置本体に電源が投入された際に前記記憶手段から取り出された情報を操作する情報操作手段と、
前記情報操作手段によって得られた基板情報に基づいて基板を装置本体外の所定位置に回収するように前記基板搬送手段を制御する制御手段と、
前記制御手段に基板回収を開始する指令を発する回収開始手段と、
を具備し、
前記装置本体内の基板が表向きで回収されることが確認された後に前記回収開始手段は基板回収の指令を前記制御手段に発し、
前記情報操作手段は、前記記憶手段から取り出された所定位置に基板が存在していることを示すデータを削除し、または前記記憶手段から所定位置に基板が存在していないことを示すデータが取り出された場合に前記所定位置に基板が存在するデータを追加し、または前記記憶手段から取り出された所定位置に存在する基板の向きが表向きか逆向きかに関するデータが実際の基板の向きと異なっている場合に前記データを修正することができることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
前記装置本体内の全ての基板は、表向きで回収されることが確認された後に各基板が連続して前記装置本体外の所定位置に回収されることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記装置本体は、複数の基板を所定間隔で収納可能な容器の搬入出を行う容器搬入出部と、基板の表面または裏面に対して所定の液処理を施す液処理ユニットおよび基板を反転させる反転ユニットを有する基板処理部と、前記容器搬入出部と前記基板処理部との間で基板を搬送する基板搬送部と、を有し、
前記基板搬送手段は、前記基板処理部において基板の搬送を行う第１の基板搬送装置と、前記基板搬送部において基板の搬送を行う第２の基板搬送装置と、を有し、
前記制御手段は、前記装置本体内に存在する基板を前記容器搬入出部に載置された容器に回収するように前記第１の基板搬送装置および前記第２の基板搬送装置を制御することを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記警報手段は、前記装置本体に電源が投入された際に、前記基板検出手段が前記液処理ユニット、前記反転ユニット、前記第１の基板搬送装置または前記第２の基板搬送装置において基板を検出した場合に警報を発することを特徴とする請求項５に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記制御手段は、前記基板検出手段が検出した検出情報と前記記憶手段から取り出された情報とを照合した結果に異常がない場合に、基板の回収手順と基板を回収する容器における基板収容スロットを自動的に定めて、前記回収開始手段からの指令によって前記第１の基板搬送装置および前記第２の基板搬送装置を制御して基板の回収を行う請求項５または請求項６に記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記警報解除手段は、前記警報手段によって警報が発せられた基板に関する情報を修正して基板情報を確定し、基板情報の確定後に前記警報を解除する情報修正手段を具備し、
前記制御手段は、前記情報修正手段によって確定された基板情報に基づいて前記装置本体内に存在する基板を前記容器搬入出部に載置された容器へ回収するように前記第１の基板搬送装置および前記第２の基板搬送装置を制御することを特徴とする請求項５から請求項７のいずれか１項に基板処理装置
【請求項９】
前記情報修正手段は、前記基板検出手段が所定位置で基板を検出していないにもかかわらず前記記憶手段から前記所定位置に基板が存在していることを示すデータが取り出された場合に前記データを削除し、または前記基板検出手段が所定位置で基板を検出しているにもかかわらず前記記憶手段から前記所定位置に基板が存在していないことを示すデータが取り出された場合に前記所定位置にある基板の状態を示すデータを追加し、または前記記憶手段から取り出された所定位置にある基板の向きが表向きか逆向きかに関するデータが実際の基板の向きと異なっている場合に前記データを修正し、または基板を回収する容器における基板収容スロットを変更し、または基板の回収順序を変更することができることを特徴とする請求項８に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
前記情報修正手段は、前記記憶手段から取り出された情報を表示可能なモニタを具備し、
前記モニタに表示された情報をモニタ画面上で編集して、前記モニタの画面から前記回収開始手段による基板回収の指令を前記制御手段に送ることができることを特徴とする請求項８または請求項９に記載の基板処理装置。
【請求項１１】
前記装置本体は、複数の基板を所定間隔で収納可能な容器の搬入出を行う容器搬入出部と、基板の表面または裏面に対して所定の液処理を施す液処理ユニットおよび基板を反転させる反転ユニットを有する基板処理部と、前記容器搬入出部と前記基板処理部との間で基板を搬送する基板搬送部と、を有し、
前記基板搬送手段は、前記基板処理部において基板の搬送を行う第１の基板搬送装置と、前記基板搬送部において基板の搬送を行う第２の基板搬送装置と、を有し、
前記制御手段は、前記情報操作手段によって得られた基板情報に基づいて前記装置本体内に存在する基板を前記容器搬入出部に載置された容器へ回収するように前記第１の基板搬送装置および前記第２の基板搬送装置を制御することを特徴とする請求項３に記載の基板処理装置。
【請求項１２】
前記情報操作手段は、前記記憶手段から取り出された所定位置に基板が存在していることを示すデータを削除し、または前記記憶手段から所定位置に基板が存在していないことを示すデータが取り出された場合に前記所定位置に基板が存在するデータを追加し、または前記記憶手段から取り出された所定位置に存在する基板の向きが表向きか逆向きかに関するデータが実際の基板の向きと異なっている場合に前記データを修正し、または基板を回収する容器における基板収容スロットを変更し、または基板の回収順序を変更することができることを特徴とする請求項１１に記載の基板処理装置。
【請求項１３】
前記情報操作手段は、前記記憶手段から取り出された情報を表示可能なモニタを具備し、
前記モニタに表示された情報をモニタ画面上で編集して、前記モニタの画面から前記回収開始手段による基板回収の指令を前記制御手段に送ることができることを特徴とする請求項１１または請求項１２に記載の基板処理装置。
【請求項１４】
前記記憶手段は、前記反転ユニットによる基板の反転処理の回数によって前記基板処理部に存在する基板の向きを判断してその状態を記憶することを特徴とする請求項５から請求項１３のいずれか１項に記載の基板処理装置。
【請求項１５】
前記装置本体内に存在する基板は、基板の表面を上面とした状態で前記容器搬入出部に載置された容器に回収されることを特徴とする請求項５から請求項１４のいずれか１項に記載の基板処理装置。
【請求項１６】
前記液処理ユニットは基板の表面または裏面に対して洗浄処理を施す枚葉式洗浄ユニットであって、前記枚葉式洗浄ユニットは多段に積み重ねられていることを特徴とする請求項５から請求項１５のいずれか１項に記載の基板処理装置。
【請求項１７】
基板の表面および裏面に対して所定の処理を行い、その中で基板を搬送する基板搬送手段を備えた基板処理装置における基板処理方法であって、
基板処理装置の電源遮断時に前記基板処理装置内に存在する基板の位置およびこの基板の向きが表向きか逆向きかに関する情報をメモリに記憶する工程と、
前記記憶工程後に最初に前記基板処理装置に電源が投入された際に、前記メモリに記憶された情報を取り出す工程と、
前記取り出し工程において取り出された情報を前記基板処理装置内の実際の基板状態と一致するように修正し、基板情報を確定する工程と、
前記確定工程において確定された基板情報に基づいて、前記基板処理装置内に存在する基板を前記基板搬送手段により表向きで前記基板処理装置外の所定位置に搬出する工程と、
を有することを特徴とする基板処理方法。
【請求項１８】
基板の表面および裏面に対して所定の処理を行い、その中で基板を搬送する基板搬送手段を備えた基板処理装置における基板処理方法であって、
基板処理装置の電源遮断時に前記基板処理装置内に存在する基板の位置およびこの基板の向きが表向きか逆向きかに関する情報をメモリに記憶する工程と、
前記記憶工程後に最初に基板処理装置に電源が投入された際に、前記メモリに記憶された情報を取り出し、また、前記基板処理装置内に存在する基板を検出する工程と、
前記検出工程において前記メモリから取り出された情報と前記基板処理装置内で検出された基板の位置情報とを照合して、これらの情報に相違がない場合には基板情報を確定し、これら情報に相違がある場合には前記メモリから取り出された情報を前記基板処理装置内の実際の基板状態と一致するように修正して基板情報を確定し、前記基板情報に基づいて前記基板処理装置内に存在する基板を前記基板搬送手段により表向きで前記基板処理装置外の所定位置に搬出する工程と、
を有することを特徴とする基板処理方法。
【請求項１９】
基板の表面および裏面に対して所定の処理を行い、その中で基板を搬送する基板搬送手段を備えた基板処理装置における基板処理方法であって、
基板処理装置の電源遮断時に前記基板処理装置内に存在する基板の位置およびこの基板の向きが表向きか逆向きかに関する情報をメモリに記憶する工程と、
前記記憶工程後に最初に基板処理装置に電源が投入された際に、前記メモリに記憶された情報を取り出し、また、前記基板処理装置内に存在する基板を検出する工程と、
前記メモリから取り出された情報と前記基板処理装置内で検出された基板の位置情報とを照合して、これらの情報に相違点または不明点がある場合に警報を発する工程と、
オペレータによって前記基板処理装置内の実際の基板状態を示す基板情報を確定し、前記警報を解除する工程と、
前記解除工程において確定された基板情報に基づいて、前記基板処理装置内に存在する基板を前記基板搬送手段により表向きで基板処理装置外の所定位置に搬出する工程と、
を有し、
前記検出工程では前記メモリから取り出された情報および前記基板処理装置内で検出された基板の位置をモニタに表示し、前記解除工程では前記モニタに表示された情報をモニタ画面上で編集し、前記搬出工程では前記モニタ画面から前記基板搬送手段の動作を制御する制御部へ基板回収の指令を送ることを特徴とする基板処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハやＬＣＤ基板等の基板に液処理や液処理後の熱的処理等の所定の処理を施す基板処理装置と基板処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、半導体デバイスの製造工程では、半導体ウエハにおいて半導体デバイスが形成されるウエハの表面の清浄度を高く維持する必要がある。このために、種々の製造プロセスの前後でウエハの表面の洗浄が行われている。特に、フォトリソグラフィ工程においては、ウエハの表面および裏面の洗浄は不可欠である。そこで、従来より、例えば、略水平に載置されて面内回転するウエハの上面に洗浄液を供給しながら回転するブラシをウエハの上面に当接させ、このブラシをウエハの中心部と周縁部との間で往復移動させることによって、ウエハの上面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去するスクラブ洗浄が行われている。
【０００３】
このようなスクラブ洗浄を行う洗浄処理装置に対するウエハの搬入出は、複数のウエハを略水平姿勢で鉛直方向に一定間隔で収容可能な容器を用いて行われる。容器に収容されるウエハは、ウエハの表面と裏面を区別するために、その表面が上面となるように（以下このような状態を「表向き」という）揃えて収容されている。
【０００４】
このような洗浄処理装置においては、先ず容器の所定スロットからウエハが取り出されて装置内に搬入される。その後にレシピに合わせてウエハを所定のタイミングで反転させて、ウエハの表裏面の洗浄処理と洗浄処理後の乾燥処理等を行う。このような種々の処理は、ウエハの表面または裏面のどちらが上面となっているかを認識しながら行われる。最後に、処理が終了したウエハは、ウエハが表向きとなっている状態で容器の元のスロットに戻されている。通常の運転では、容器に収容されていた全てのウエハが、処理の終了後に元の容器の元のスロットに戻され、これにより全工程が終了する。
【０００５】
ところが、例えば、処理中に地震や強風等の天災や人為的ミスによって洗浄処理装置の電源が落ちて洗浄処理装置がシャットダウンしてしまった場合には、容器に収容されていた全てのウエハについて処理を終了することができない。この場合には、再び洗浄処理装置を起動させた際に、洗浄処理装置内に存在する全てのウエハを回収しなければならない。このようなウエハの回収は、ウエハの表面と裏面の区別をすることなく、容器の空きスロットに回収することによって行われていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ウエハを裏面が上面となっている状態（以下このような状態を「逆向き」という）で容器に収容すると、容器内に設けられたウエハを保持するための棚板とウエハの表面とが擦れる。この場合には、ウエハに傷が生じてウエハが利用不可能となる。また、ウエハの再処理の開始にあたっては、容器に回収された基板の状態をオペレータが目視により確認して、ウエハを表向きに揃える必要がある。この場合には、オペレータの負担が大きくなり、生産性も低下する。さらに、ウエハをオペレータが手作業で取り扱うために、取り落とし等によってウエハが破損するおそれもある。
【０００７】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、基板の表面が損傷することを回避しながら装置内に存在する基板を回収することができる基板処理装置と基板処理方法を提供することを目的とする。また、本発明は、オペレータの負担を軽減する基板処理装置と基板処理方法を提供することを目的とする。さらに、本発明は、装置内に存在する基板の回収や基板に対する所定の処理の再開を容易ならしめる基板処理装置と基板処理方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明の第１の観点によれば、基板に対して所定の処理を施すとともに、その中で基板の反転が行われる装置本体と、前記装置本体内で基板を搬送する基板搬送手段と、前記装置本体内に存在する基板を検出する基板検出手段と、前記装置本体の電源遮断時に前記装置本体内に存在する基板の位置およびこの基板の向きが表向きか逆向きかに関する情報を記憶し、次に前記装置本体に電源が投入された際にこの記憶された情報が取り出される記憶手段と、前記装置本体に電源が投入された際に前記基板検出手段が検出した検出情報と前記記憶手段から取り出された情報とを照合して、これらの情報に相違がある場合に警報を発する警報手段と、前記警報を解除する警報解除手段と、前記装置本体内に存在する基板を前記装置本体外の所定位置に回収するように前記基板搬送手段を制御する制御手段と、前記制御手段に基板回収を開始する指令を発する回収開始手段と、を具備し、前記警報解除手段によって警報が解除され、かつ、前記装置本体内の基板が表向きで回収されることが確認された後に、前記回収開始手段は基板回収の指令を前記制御手段に発し、前記警報解除手段は、前記警報手段によって警報が発せられた基板に関する情報を修正して基板情報を確定し、基板情報の確定後に前記警報を解除する情報修正手段を具備し、前記制御手段は、前記情報修正手段によって確定された基板情報に基づいて前記装置本体内に存在する基板を装置本体外の所定位置に回収するように前記基板搬送手段を制御することを特徴とする基板処理装置、が提供される。
【０００９】
本発明の第２の観点によれば、基板に対して所定の処理を施すとともに、その中で基板の反転が行われる装置本体と、前記装置本体内で基板を搬送する基板搬送手段と、前記装置本体の電源遮断時に前記装置本体内に存在する基板の位置およびこの基板の向きが表向きか逆向きかに関する情報を記憶し、次に前記装置本体に電源が投入された際にこの記憶された情報が取り出される記憶手段と、前記装置本体に電源が投入された際に前記記憶手段から取り出された情報を操作する情報操作手段と、前記情報操作手段によって得られた基板情報に基づいて基板を装置本体外の所定位置に回収するように前記基板搬送手段を制御する制御手段と、前記制御手段に基板回収を開始する指令を発する回収開始手段と、を具備し、前記装置本体内の基板が表向きで回収されることが確認された後に前記回収開始手段は基板回収の指令を前記制御手段に発し、前記情報操作手段は、前記記憶手段から取り出された所定位置に基板が存在していることを示すデータを削除し、または前記記憶手段から所定位置に基板が存在していないことを示すデータが取り出された場合に前記所定位置に基板が存在するデータを追加し、または前記記憶手段から取り出された所定位置に存在する基板の向きが表向きか逆向きかに関するデータが実際の基板の向きと異なっている場合に前記データを修正することができることを特徴とする基板処理装置、が提供される。
【００１２】
本発明の第３の観点によれば、基板の表面および裏面に対して所定の処理を行い、その中で基板を搬送する基板搬送手段を備えた基板処理装置における基板処理方法であって、基板処理装置の電源遮断時に前記基板処理装置内に存在する基板の位置およびこの基板の向きが表向きか逆向きかに関する情報をメモリに記憶する工程と、前記記憶工程後に最初に前記基板処理装置に電源が投入された際に、前記メモリに記憶された情報を取り出す工程と、前記取り出し工程において取り出された情報を前記基板処理装置内の実際の基板状態と一致するように修正し、基板情報を確定する工程と、前記確定工程において確定された基板情報に基づいて、前記基板処理装置内に存在する基板を前記基板搬送手段により表向きで前記基板処理装置外の所定位置に搬出する工程と、を有することを特徴とする基板処理方法、が提供される。
【００１３】
本発明の第４の観点によれば、基板の表面および裏面に対して所定の処理を行い、その中で基板を搬送する基板搬送手段を備えた基板処理装置における基板処理方法であって、基板処理装置の電源遮断時に前記基板処理装置内に存在する基板の位置およびこの基板の向きが表向きか逆向きかに関する情報をメモリに記憶する工程と、前記記憶工程後に最初に基板処理装置に電源が投入された際に、前記メモリに記憶された情報を取り出し、また、前記基板処理装置内に存在する基板を検出する工程と、前記検出工程において前記メモリから取り出された情報と前記基板処理装置内で検出された基板の位置情報とを照合して、これらの情報に相違がない場合には基板情報を確定し、これら情報に相違がある場合には前記メモリから取り出された情報を前記基板処理装置内の実際の基板状態と一致するように修正して基板情報を確定し、前記基板情報に基づいて前記基板処理装置内に存在する基板を前記基板搬送手段により表向きで前記基板処理装置外の所定位置に搬出する工程と、を有することを特徴とする基板処理方法、が提供される。
【００１４】
本発明の第５の観点によれば、基板の表面および裏面に対して所定の処理を行い、その中で基板を搬送する基板搬送手段を備えた基板処理装置における基板処理方法であって、基板処理装置の電源遮断時に前記基板処理装置内に存在する基板の位置およびこの基板の向きが表向きか逆向きかに関する情報をメモリに記憶する工程と、前記記憶工程後に最初に基板処理装置に電源が投入された際に、前記メモリに記憶された情報を取り出し、また、前記基板処理装置内に存在する基板を検出する工程と、前記メモリから取り出された情報と前記基板処理装置内で検出された基板の位置情報とを照合して、これらの情報に相違点または不明点がある場合に警報を発する工程と、オペレータによって前記基板処理装置内の実際の基板状態を示す基板情報を確定し、前記警報を解除する工程と、前記解除工程において確定された基板情報に基づいて、前記基板処理装置内に存在する基板を前記基板搬送手段により表向きで基板処理装置外の所定位置に搬出する工程と、を有し、前記検出工程では前記メモリから取り出された情報および前記基板処理装置内で検出された基板の位置をモニタに表示し、前記解除工程では前記モニタに表示された情報をモニタ画面上で編集し、前記搬出工程では前記モニタ画面から前記基板搬送手段の動作を制御する制御部へ基板回収の指令を送ることを特徴とする基板処理方法、が提供される。
【００１７】
このような本発明の基板処理装置と基板処理方法によれば、基板処理装置の電源が遮断されてその後に最初に再起動した際に、基板処理装置内に存在する基板の位置と向きを容易に把握することができる。これにより、オペレータは必要に応じて基板の表面と裏面の別を確認し、所定の処理手順にしたがった操作を行えば、容易に基板をその向きを揃えて回収することができる。また、自動回収も行うことができる。こうして基板の損傷が防止され、また、オペレータの負担が軽減される。また、オペレータが直接に基板を取り扱う際の基板の取り落とし等の発生を防止することができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して本発明の基板処理装置の実施態様について説明する。本実施態様では、本発明を半導体ウエハ（ウエハ）の搬送、洗浄、乾燥を一貫して行うように構成された洗浄処理システムに適用した場合について説明することとする。
【００１９】
図１は洗浄処理システム１の概略構造を示す平面図であり、図２はその側面図である。これら図１および図２に示されるように、洗浄処理システム１は、ウエハＷに洗浄処理および洗浄処理後の熱的処理を施す基板洗浄処理部３と、複数枚、例えば２５枚のウエハＷが鉛直方向に所定の間隔で略水平に収容可能な容器（ＦＯＵＰ  Ｆ；Front Opening Unified Pod）を載置するための載置台１１が設けられたイン・アウトポート４と、載置台１１に載置されたフープＦと基板洗浄処理部３との間でウエハの受け渡しを行うウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３が備えられたウエハ搬送部５から構成されている。洗浄処理システム１の本体装置は、基板洗浄処理部３とウエハ搬送部５からなる。
【００２０】
フープＦに対するウエハＷの搬入出はフープＦの１側面に設けられた搬入出口を通して行われる。フープＦにはこの搬入出口を開閉する蓋体が設けられている。また、フープＦの内壁にはウエハＷを鉛直方向に一定間隔で保持するための棚板が設けられ、ウエハＷを収容するスロット１〜スロット２５が形成されている。ウエハＷは、ウエハＷの表面（半導体デバイスを形成する面をいうものとする）が上面（ウエハＷを水平に保持した場合に上側となっている面をいうものとする）となっている状態（表向きの状態）で、各スロットに１枚ずつ収容される。
【００２１】
イン・アウトポート４の載置台１１上には、例えば、３個のフープＦを水平面のＹ方向に並べて載置することができるようになっている。フープＦは搬入出口が設けられている側面をイン・アウトポート４とウエハ搬送部５との境界壁９１側に向けて載置される。境界壁９１においてフープＦの載置場所に対応する位置には窓部９２が形成されている。窓部９２をシャッター等により開閉する窓部開閉機構１２が、各窓部９２に対してウエハ搬送部５側に設けられている。
【００２２】
この窓部開閉機構１２はフープＦの蓋体をも保持することができ、これにより窓部９２の開閉と同時にフープＦの搬入出口を開閉することができるようになっている。フープＦが載置台１１の所定位置に載置されていないときに窓部開閉機構１２が動作しないように、窓部開閉機構１２にインターロックを設けることが好ましい。窓部９２を開口してフープＦのウエハ搬入出口とウエハ搬送部５とを連通させると、ウエハ搬送部５に設けられたウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３のフープＦへのアクセスが可能となる。これによりウエハＷの搬送が可能な状態となる。
【００２３】
各窓部９２の上部には図示しないウエハ検査装置が設けられている。ウエハ検査装置は、フープＦ内に収容されたウエハＷの枚数と状態をスロット毎に検出する。このようなウエハ検査装置は、窓部開閉機構１２に装着してもよい。
【００２４】
ウエハ搬送部５に設けられたウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３は、Ｙ方向とＺ方向に移動可能であり、かつ、Ｘ−Ｙ平面内で回転（θ方向）自在に構成されている。ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３はウエハＷを把持する搬送ピック１３ａを有し、この搬送ピック１３ａはＸ方向にスライド自在となっている。これにより搬送ピック１３ａは、載置台１１に載置された全てのフープＦの任意の高さのスロットにアクセスし、また、基板洗浄処理部３に設けられた２台のウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂにアクセスすることができる。
【００２５】
ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３には、搬送ピック１３ａがウエハＷを保持しているかどうかを検出するウエハ検出センサ（図示せず）が取り付けられている。このウエハ検出センサは、フープＦの所定のスロットからウエハＷを搬出し、また、所定のスロットにウエハＷを搬入することを可能とする位置センサとしても機能する。つまり、ウエハ検出センサは、フープＦのスロットを認識することもできるようになっている。
【００２６】
基板洗浄処理部３は、ウエハＷを反転させる２台のウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄと、ウエハ搬送部５との間で基板の受け渡しを行うためにウエハＷを一時的に載置する２台のウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂとを有する受渡／反転部（ＴＲＳ／ＲＶＳ）１４を備えている。また、基板洗浄処理部３は、洗浄処理後のウエハＷを加熱処理する３台のホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと、加熱されたウエハＷを冷却する冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄとを有する加熱／冷却部（ＨＰ／ＣＯＬ）１６を備えている。
【００２７】
さらに基板洗浄処理部３は、ウエハＷにスクラブ洗浄を施す４台のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄと、基板洗浄処理部３に設けられたこれら各ユニットの全てにアクセス可能であり、これら各ユニットの間でウエハＷの搬送を行う主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５と、を有している。
【００２８】
ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂと、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄと、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄの各ユニットには、各ユニット内にウエハＷが存在するか否かを検出するウエハ検出センサ（図示せず）が設けられている。なお、ホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄにウエハ検出センサを設けることも当然に可能である。
【００２９】
基板洗浄処理部３には、洗浄処理システム１全体を稼働させるための電源である電装ユニット（ＥＢ）１８と、洗浄処理システム１内に設けられた各種ユニットおよび洗浄処理システム１全体の動作・制御を行う機械制御ユニット（ＭＣＢ）１９と、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄに送液する所定の洗浄液を貯蔵する薬液貯蔵ユニット（ＣＴＢ）１７と、が設けられている。電装ユニット（ＥＢ）１８は主電源（図示せず）と接続される。基板洗浄処理部３の天井部には、ウエハＷを取り扱う各ユニットおよび主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５に、清浄な空気をダウンフローするためのフィルターファンユニット（ＦＦＵ）２２が設けられている。
【００３０】
薬液貯蔵ユニット（ＣＴＢ）１７と電装ユニット（ＥＢ）１８と機械制御ユニット（ＭＣＢ）１９を基板洗浄処理部３の外側に設置することによって、または外部に引き出すことによって、この面（Ｙ方向側面）から受渡／反転部（ＴＲＳ／ＲＶＳ）１４と主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５と加熱／冷却部（ＨＰ／ＣＯＬ）１６のメンテナンスを行うことが可能である。
【００３１】
図３は受渡／反転部（ＴＲＳ／ＲＶＳ）１４におけるウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂと、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄの配置を、Ｘ方向に隣接する主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５および加熱／冷却部（ＨＰ／ＣＯＬ）１６とともに示した断面図である。受渡／反転部（ＴＲＳ／ＲＶＳ）１４においては、下側にウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂが２段に積み重ねられ、ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ｂ上にウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄがさらに２段積み重ねられている。
【００３２】
例えば、下段のウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａはイン・アウトポート４側から基板洗浄処理部３側へ搬送するウエハＷを載置するために用い、一方、上段のウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ｂは基板洗浄処理部３側からイン・アウトポート４側へ搬送するウエハＷを載置するために用いることができる。
【００３３】
また、下段のウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃはウエハＷを表向きの状態からその裏面（半導体デバイスを形成しない面をいう）が上面となっている状態（逆向きの状態）へウエハＷを反転させるために用い、一方、上段のウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｄはウエハＷを逆向きの状態から表向きの状態へウエハＷを反転させるために用いることができる。
【００３４】
フィルターファンユニット（ＦＦＵ）２２からのダウンフローの一部は、ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂの内部およびウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄの内部に導かれた後に、ウエハ搬送部５に向けて流出する構造となっている。これによりウエハ搬送部５から基板洗浄処理部３へのパーティクル等の侵入が防止されるため、基板洗浄処理部３の清浄度が保持される。
【００３５】
主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５は、垂直壁５１ａ・５１ｂおよびこれらの間の側面開口部５１ｃを有し、Ｚ方向に延在する筒状支持体５１と、その内側に筒状支持体５１に沿ってＺ方向に昇降自在に設けられたウエハ搬送体５２と、を有している。筒状支持体５１はモータ５３の回転駆動力によって回転可能となっており、それに伴ってウエハ搬送体５２も一体的に回転されるようになっている。
【００３６】
ウエハ搬送体５２は、搬送基台５４と、搬送基台５４に沿って前後に移動可能な３本の主ウエハ搬送アーム５５・５６・５７とを備えており、主ウエハ搬送アーム５５〜５７は、筒状支持体５１の側面開口部５１ｃを通過可能な大きさを有している。これら主ウエハ搬送アーム５５〜５７は、搬送基台５４内に内蔵されたモータおよびベルト機構によりそれぞれ独立して進退移動することが可能となっている。ウエハ搬送体５２は、モータ５８によってベルト５９を駆動させることにより昇降自在である。なお、符号６０は駆動プーリー、６１は従動プーリーである。また、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５にはウエハＷを保持しているかどうかを検出するウエハ検出センサ（図示せず）が取り付けられている。
【００３７】
加熱／冷却部（ＨＰ／ＣＯＬ）１６は、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５を挟んで受渡／反転部（ＴＲＳ／ＲＶＳ）１４の反対側に設けられている。加熱／冷却部（ＨＰ／ＣＯＬ）１６では、ウエハＷの強制冷却を行う１台の冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄの上に、強制加熱／自然冷却を行うホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃが３台積み重ねられている。
【００３８】
スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄは、上下２段の各段に２台ずつが配置されている。例えば、上段に配置された２台のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｃ・２１ｄはウエハＷの表面洗浄用に用いられ、下段に配置された２台のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂはウエハＷの裏面洗浄用に用いられる。この場合において、例えば、表面洗浄用のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｃ・２１ｄにおいては、ウエハＷを略平行に保持して回転させるスピンチャックとして、真空吸引力を用いてウエハＷを保持するものが好適に用いられる。また、裏面洗浄用のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂにおいては、ウエハＷの外周を機械的に把持してウエハＷを保持するスピンチャックが好適に用いられる。
【００３９】
次に、上述した洗浄処理システム１によるウエハＷの洗浄処理工程の一態様について以下に説明する。ここで、ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａはイン・アウトポート４側から基板洗浄処理部３側へ搬送するウエハＷを載置するために用い、ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ｂは基板洗浄処理部３側からイン・アウトポート４側へ搬送するウエハＷを載置するために用いるものとする。また、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃは表向きのウエハＷを逆向きになるように反転させるために用い、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｄは逆向きになっているウエハＷを表向きに反転させるために用いるものとする。さらに、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｃ・２１ｄをウエハＷの表面洗浄用に用い、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂをウエハＷの裏面洗浄用に用いるものとする。
【００４０】
図４は、以下に説明する洗浄処理工程を簡略的に示した工程説明図（フローチャート）である。最初に、２５枚のウエハＷが表向きの状態で収容されているフープＦを載置台１１に載置する（ステップ１）。次に、窓部開閉機構１２によって窓部９２およびフープＦの搬入出口を開口する。続いてフープＦの所定のスロットにあるウエハＷをウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３を用いてフープＦから搬出し（ステップ２）、ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａに搬送する（ステップ３）。
【００４１】
主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５は、ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａからウエハＷを搬出し、表面の洗浄処理用のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｃ・２１ｄのいずれかへ搬送する（ステップ４）。そこでウエハＷのスクラブ洗浄処理が行われる（ステップ５）。
【００４２】
ステップ５の処理が終了したウエハＷは、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によって、ホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃのいずれかへ搬送されてそこで加熱乾燥処理が施され（ステップ６）、続いて冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄに搬送されて冷却処理される（ステップ７）。
【００４３】
冷却処理されたウエハＷを、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５により、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃへ搬送する（ステップ８）。ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃでは、表向きのウエハＷが逆向きとなるようにウエハＷを１８０°反転させる（ステップ９）。ステップ９の処理によって逆向きとされたウエハＷは、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によってスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂのいずれかへ搬送され（ステップ１０）、そこでウエハＷの裏面のスクラブ洗浄処理が行われる（ステップ１１）。
【００４４】
ステップ１１の処理が終了したウエハＷは、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によって、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｄへ搬送され（ステップ１２）、そこでウエハＷが表向きとなるようにウエハＷの反転処理が行われる（ステップ１３）。ステップ１３によって表向きとなったウエハＷは、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によって、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｄからホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃのいずれかへ搬送され、そこでウエハＷに加熱乾燥処理が施される（ステップ１４）。続いて主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５は、ウエハＷを冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄに搬送し、そこでウエハＷは冷却処理される（ステップ１５）。
【００４５】
冷却処理されたウエハＷは、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によって冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄからウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ｂへ搬送される（ステップ１６）。ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ｂに載置された洗浄処理の終了したウエハＷは、ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３によってフープＦ内の所定のスロットに戻される（ステップ１７）。なお、上述したステップ６とステップ７の工程およびステップ１４とステップ１５の工程は省略することができる。
【００４６】
上述したステップ１〜ステップ１７の工程による洗浄処理を行うために、洗浄処理システム１に電源投入して洗浄処理システム１を起動させた際には、洗浄処理システム１を構成する各ユニットが正常な動作を行うことが可能な状態にあるかどうかを調べる動作確認と、各ユニットや搬送装置にウエハＷが存在していないかどうかの確認作業とを行う初期化処理（イニシャライズ処理）が行われる。
【００４７】
このときに洗浄処理システム１内にウエハＷが存在している場合（このようなウエハＷを以下「エクストラウエハ」という）には、エクストラウエハが洗浄処理の開始の妨げとなるために、エクストラウエハを載置台１１に載置されたフープＦに戻す回収処理を行う必要が生ずる。
【００４８】
エクストラウエハが存在する理由としては、洗浄処理システム１の稼働中に地震や台風等の自然災害による停電によって不可避的に洗浄処理システム１の電源が落ちてしまった場合や、基板洗浄処理部３においてトラブルが発生した際にオペレータが安全性確保のために洗浄処理システム１の電源を意図的に落とした場合等が挙げられる。
【００４９】
なお、正常に洗浄処理が終了した後に洗浄処理システム１の稼働を停止させるために電源を落とした場合においても、次に洗浄処理システム１を起動したときには、イニシャライズ処理を行う必要がある。その際にエクストラウエハの有無の確認を行うことは、洗浄処理システム１の運転の安全性を確保する点からも必要である。
【００５０】
エクストラウエハの回収処理の際に、例えば、エクストラウエハが逆向きでフープＦに戻された場合には、搬送ピック１３ａにエクストラウエハが保持された際にエクストラウエハの表面に傷が生じたり、フープＦ内に設けられた棚板とエクストラウエハの表面とが擦れ合ってエクストラウエハに傷が生ずるおそれがある。この場合にはエクストラウエハを製品として使用できなくなる可能性が大きくなる。そこで、このような問題を回避するために、エクストラウエハの回収処理は、エクストラウエハを表向きの状態でフープＦに戻すことが望ましい。
【００５１】
洗浄処理システム１に電源を投入して洗浄処理システム１を起動させた際に、洗浄処理システム１内にエクストラウエハが存在する場合のエクストラウエハの各ユニット別の回収順序は、原則として（１）ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３、（２）ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂ、（３）主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５、（４）ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄ、（５）スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄ、（６）ホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃ、（７）冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄの順である。
【００５２】
ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３はウエハＷを反転させる機能を有しておらず、フープＦとウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂとの間でウエハＷを略水平な状態で搬送するために、ウエハ搬送装置（ＣＡＲ）１３の搬送ピック１３ａは、必ずウエハＷを表向きの状態で搬送する。したがって、搬送ピック１３ａがエクストラウエハを保持している場合には、そのエクストラウエハはそのままフープＦの空スロットに搬入される。
【００５３】
ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂにエクストラウエハが存在している場合にも、エクストラウエハは表向きの状態である。したがって、これらのエクストラウエハは、ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３によってウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂから搬出され、フープＦの空のスロットに搬入される。
【００５４】
このようにして、最初にウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂにエクストラウエハが回収され、それらにエクストラウエハが存在しない状態とする。これにより、基板洗浄処理部３内に多くのエクストラウエハが存在する場合には、一時的にエクストラウエハをウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂに退避させることが可能となる。
【００５５】
主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５がエクストラウエハを保持していた場合には、（ａ−１）エクストラウエハが表向きの場合と、（ａ−２）エクストラウエハが逆向きの場合、の２通りの場合がある。この（ａ−１）の場合には、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５は保持しているエクストラウエハをウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂのいずれかに搬送し、ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３がウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂからエクストラウエハを取り出してフープＦの所定のスロットへ収容する。
【００５６】
また（ａ−２）の場合には、まず、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５が保持しているエクストラウエハをウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄのいずれかに搬送して、そこでエクストラウエハの表裏を反転させてエクストラウエハを表向きとする。次いで、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５は、エクストラウエハをウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄからウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂのいずれかに搬送する。その後にウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３がウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂからエクストラウエハを取り出してフープＦの所定のスロットへ収容する。
【００５７】
ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄにエクストラウエハが存在した場合には、ウエハＷを表向きから逆向きに反転させるユニットと、その逆の反転を行うユニットとを使い分けている場合であっても、ウエハＷは反転処理の前後で表向きまたは逆向きのどちらにもなり得る。また、反転処理の途中で洗浄処理システム１の稼働が停止した場合にはエクストラウエハが表向きであるか逆向きであるかは不明となる。
【００５８】
つまり、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄにおいては、（ｂ−１）エクストラウエハが表向きである場合と、（ｂ−２）エクストラウエハが逆向きである場合と、（ｂ−３）エクストラウエハの向き（表面または裏面のどちらが上面になっているか）が不明となる場合と、がある。
【００５９】
この（ｂ−１）の場合には、まず、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５がエクストラウエハをウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄからウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂのいずれかへ搬送する。その後にウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３がそこからエクストラウエハを取り出して、フープＦの所定のスロットへ収容する。
【００６０】
また、（ｂ−２）の場合には、まず、その場でエクストラウエハの反転処理を行ってエクストラウエハを表向きとする。その後に主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５がエクストラウエハをウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄからウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂのいずれかへ搬送する。次いで、ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３がそこからエクストラウエハを取り出してフープＦの所定のスロットへ収容する。
【００６１】
さらに（ｂ−３）の場合には、まず、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によってウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄにあるエクストラウエハを、一旦、裏面洗浄用のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂのいずれかに搬送する。次に、オペレータがエクストラウエハが載置された状態を目視観察して、エクストラウエハの向きを判断する。
【００６２】
この目視観察において、オペレータがエクストラウエハが表向きとなっていると判断した場合には、このエクストラウエハは主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によってウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂのいずれかに搬送される。一方、エクストラウエハが逆向きとなっていると判断した場合には、このエクストラウエハは主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によってウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄのいずれかに搬送され、そこで反転処理が行われ、その後に主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によってそこからウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂのいずれかに搬送される。ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂに搬入されたエクストラウエハは、ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３によってフープＦの所定のスロットに搬入される。
【００６３】
スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｃ・２１ｄは表面洗浄用として用いられているために、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｃ・２１ｄにエクストラウエハが存在した場合には、必ずそのエクストラウエハは表向きとなっている。したがって、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｃ・２１ｄに存在するエクストラウエハは、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によってウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂのいずれかに搬送され、その後にウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３によってウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂから取り出され、フープＦの所定のスロットに収容される。
【００６４】
スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂは裏面洗浄用として用いられているために、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂにエクストラウエハが存在した場合には、必ずそのエクストラウエハは逆向きとなっている。したがって、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂに存在するエクストラウエハは、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によってウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄのいずれかに搬送され、そこで反転処理が行われて表向きにされた後に、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によってウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂのいずれかに搬送され、さらにウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３によってフープＦの所定のスロットに収容される。
【００６５】
スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄを、表面洗浄用と裏面洗浄用とに区別することなく使用している場合には、エクストラウエハが表向きの場合には、前述したスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｃ・２１ｄにエクストラウエハが存在している場合に準じてエクストラウエハを回収する。一方、エクストラウエハが逆向きとなっている場合には、前述したスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂにエクストラウエハが存在している場合に準じてエクストラウエハを回収する。ここで、エクストラウエハの向きが不明である場合には、まず、オペレータがエクストラウエハの向きを目視観察して確認する。オペレータはその確認結果に基づいて適切な回収方法を決定し、エクストラウエハの回収を行う。
【００６６】
ホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄにエクストラウエハが存在する場合には、図４を参照しながら先に説明した洗浄処理工程によれば、エクストラウエハは表向きとなっている。したがって、ホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄにエクストラウエハが存在する場合には、上述した表面洗浄用のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｃ・２１ｄにエクストラウエハが存在していた場合に準じて回収することができる。
【００６７】
なお、ホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄの回収順序を入れ替えてもよい。つまり、冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄのエクストラウエハを回収した後に、空いた冷却ユニット（ＣＯＬ）ｌ６ｄにホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃのエクストラウエハを搬入し、そこでエクストラウエハを冷却した後に、フープＦに回収してもよい。この場合には、回収するフープＦ内で他のウエハに対する熱影響を低減することができる。
【００６８】
図５は、上述した一連の洗浄処理およびイニシャライズ処理とエクストラウエハの回収処理を行う際に、洗浄処理システム１内に設けられた各処理ユニットおよび搬送装置の制御を行う機械制御ユニット（ＭＣＢ）１９の構成の一例を示した説明図である。洗浄処理システム１においては、予め設定されたレシピに基づいて装置制御部（ＣＰＵ）７１により制御が行われる。
【００６９】
装置制御部（ＣＰＵ）７１にはメモリ（記憶装置）７４が接続されている。このメモリ７４には、所望の洗浄処理に対応する洗浄レシピと、イニシャライズ処理に対応するイニシャライズレシピ、およびエクストラウエハの回収処理に対応する回収レシピ、が記録されている。また、操作部７３において所望の洗浄レシピおよびその他の条件を選択し、その信号を装置制御部（ＣＰＵ）７１に送ることによって、レシピコントローラ７２が所望の洗浄レシピを選択するとともに、装置制御部（ＣＰＵ）７１が、その処理レシピおよび設定情報に基づいて各ユニットおよび搬送装置を制御する。
【００７０】
洗浄処理システム１内におけるウエハＷの位置とウエハＷの向きは、装置制御部（ＣＰＵ）７１が各ユニットおよび搬送装置へ送った制御信号の履歴と、ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３と主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５に備えられたウエハ検出センサからの信号とによって知ることができる。メモリ７４はこの制御信号の履歴をウエハ情報として記憶する。メモリ７４によるウエハ情報の記憶には、必要に応じてウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄとスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄに設けられたウエハ検出センサからの信号を用いることができる。
【００７１】
装置制御部（ＣＰＵ）７１にはモニタ７５が接続されており、例えば、モニタ７５の画面から操作部７３の操作を行うことによって所望の洗浄レシピおよび他の条件を選択することができるようになっている。また、モニタ７５には、装置制御部（ＣＰＵ）７１が各ユニットおよび搬送装置へ送った制御信号の履歴に基づいて、洗浄処理システム１内での処理の進行の様子をリアルタイムに表示させることが可能である。
【００７２】
装置制御部（ＣＰＵ）７１に所定の信号を送るウエハ情報操作部７６および回収開始部７７は、イニシャライズ処理時に洗浄処理システム１内に存在するエクストラウエハを、フープＦに回収する処理を行うときに用いられる。ウエハ情報操作部７６は、エクストラウエハの回収レシピの変更やエクストラウエハに関する情報の修正等を行い、この修正された情報が装置制御部（ＣＰＵ）７１へ送られる。回収開始部７７はエクストラウエハの回収開始指示を装置制御部（ＣＰＵ）７１に発信する。
【００７３】
以下、図５に示した洗浄処理システム１の制御系を用いたエクストラウエハの回収処理の一態様について、ウエハ情報操作部７６および回収開始部７７の使用態様を含めてより詳細に説明する。
【００７４】
図６はエクストラウエハの回収手順の一態様を示した説明図である。ここでは、メモリ７４が、洗浄処理システム１内において処理が行われている際のウエハＷの位置と向きを記憶するが、どのフープＦのどのスロットから搬出したウエハＷがどの処理ユニットにおいてどの向きにあるという情報までは記憶しておらず、また、ホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄについてのウエハ情報を記憶していないものとする。なお、メモリ７４に記憶されるエクストラウエハの向きは、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄによるウエハＷの反転処理の回数によって判断される。
【００７５】
エクストラウエハの第１の回収態様について以下に説明する。まず、洗浄処理システム１に電源投入して洗浄処理システム１を起動する（ステップ１０１）。これにより自動的にイニシャライズ処理のレシピがメモリ７４から取り出されて、洗浄処理システム１のイニシャライズ処理が行われる。このイニシャライズ処理時には、前回の洗浄処理システム１の電源遮断時にメモリ７４に保存されていた洗浄処理システム１内のウエハ情報が取り出され、その結果がモニタ７５に表示される（ステップ１０２）。また、メモリ７４からエクストラウエハの回収レシピが取り出されて、メモリ７４から取り出されたウエハ情報に適用される。オペレータはモニタ７５に表示されたウエハ情報を必要に応じて適切なウエハ情報に修正し（ステップ１０３）、その後にエクストラウエハの回収を開始する（ステップ１０４）。
【００７６】
図７は、メモリ７４から取り出されたウエハ情報にエクストラウエハの回収レシピを適用した結果としてモニタ７５に表示される画面を模式的に示した説明図である。エクストラウエハが存在するウエハ情報がメモリ７４から取り出された場合には、エクストラウエハが存在するユニットを示す欄に、ウエハ情報が表示される。
【００７７】
回収レシピには、エクストラウエハが存在する可能性があるウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３や主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄ等のユニットからのエクストラウエハの回収順序を予め設定しておく。その回収順序にしたがって、実際に存在するエクストラウエハに自動的にＷ１、Ｗ２、Ｗ３と通し番号を付与する。
【００７８】
このとき、エクストラウエハが表向きとなっているときには、例えば、「Ｗ１」と表示され、エクストラウエハが逆向きとなっているときには、例えば「Ｗ１Ｒ」と表示され、エクストラウエハの向きが不明なときには、例えば、「Ｗ１？」と表示される。
【００７９】
さらに、エクストラウエハがどのフープＦから搬出されたかは不明である。このために、各エクストラウエハには、回収先のフープＦのスロット位置が自動的に付与される。図７においては回収先のフープＦはフープＦ１のみであり、例えば、スロット番号はウエハの通し番号の後ろに「Ｓ１」と表される。なお、エクストラウエハのモニタ７５上での画面表示は、このような例に限定されるものではなく、例えば、表示色を変えたり、反転文字を使用する等の方法を用いることができる。
【００８０】
図７は、載置台１１に１個のフープＦ１のみが載置されており、フープＦ１に１５箇所の空きスロットがあること（（Ｓ：１５）の表示））を示している。このフープＦ１の検出は、例えば、窓部開閉機構１２のインターロックによる窓部開閉機構１２の動作の実行可否によって行われる。また、空きスロットの検出は、例えば、窓部９２に対して設けられたウエハ検査装置によって行われる。このフープＦ１は、エクストラウエハの搬出元となっているものであってもよく、エクストラウエハを回収するために専用に準備されたものであってもよい。ここではフープＦ１を後者の場合として説明する。
【００８１】
図７においては「ＣＲＡ  １３」と表示された欄に何らウエハ番号が表示されていないことから、ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３の搬送ピック１３ａはエクストラウエハを保持しておらず、ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂにもエクストラウエハは存在していないことがわかる。
【００８２】
スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｃ・２１ｄにはそれぞれエクストラウエハＷ１・Ｗ２が存在しているが、前述したように洗浄処理システム１においては、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｃ・２１ｄはウエハＷの表面洗浄用として用いているため、エクストラウエハＷ１・Ｗ２は表向きとなっていることを示す表示がされている。また、エクストラウエハＷ１・Ｗ２は、それぞれフープＦ１のスロット１１・１２へ回収されるように設定されている。
【００８３】
スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａにはエクストラウエハは存在していないが、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｂには、フープＦ１のスロット１３に回収される予定のエクストラウエハＷ３が存在している。スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｂはウエハＷの裏面洗浄用として用いられているために、エクストラウエハＷ３は「Ｗ３Ｒ」と表示されて、逆向きとなっていることが示されている。
【００８４】
ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄには、それぞれフープＦ１のスロット１４・１５に回収が予定されているエクストラウエハＷ４・Ｗ５が存在している。このうちエクストラウエハＷ５については、その向きが不明であることを示す「Ｗ５？」の表示がなされている。これは、洗浄処理システム１の電源遮断が、反転処理の前後のどちらで行われたが不明であるために、エクストラウエハＷ５の向きが不明となっていることによる。
【００８５】
また、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５はフープＦ１のスロット１６に回収が予定されているエクストラウエハＷ６を保持している。このエクストラウエハＷ６については、どのユニットからウエハＷを搬出したのかが不明であるために、その向きが不明であることを示す「Ｗ６？」の表示がなされている。
【００８６】
これらのエクストラウエハＷ１〜Ｗ６を、前述した処理ユニットごとの回収手順にしたがってフープＦ１の所定のスロットに順次回収するが、この回収処理に先立って、向きが不明であるエクストラウエハについて、ウエハ情報を確定する必要がある。また、例えば、洗浄処理システム１が停止している間に、オペレータが手動でエクストラウエハを洗浄処理システム１内から搬出等した場合には、モニタ７５に表示されたウエハ情報はメモリ７４に記憶されていたウエハ情報に基づいているために、モニタ７５に表示されたウエハ情報と実際に洗浄処理システム１内に存在するエクストラウエハの状態とが相違するものとなってしまう。このような場合には、ウエハ情報を修正する必要が生ずる。さらにエクストラウエハの回収先のスロットを変更等したい場合も生じ得る。
【００８７】
このようなウエハ情報の編集は、ウエハ情報操作部７６を操作することによって行うことができる。例えば、洗浄処理システム１においては、オペレータがモニタ７５の画面上からウエハ情報操作部７６を操作することによって、「エクストラウエハの削除」と、「エクストラウエハの追加」と、「エクストラウエハの表裏反転」と、「エクストラウエハの回収先スロットの変更」などのウエハ情報の編集を行うことができる（図６のステップ１０３）。
【００８８】
エクストラウエハの削除機能は、メモリ７４から取り出されたウエハ情報によれば、エクストラウエハがある位置に存在している状態が示されているが、実際にはその位置にはエクストラウエハが存在しない場合に、そのエクストラウエハについてのデータを削除する機能である。
【００８９】
エクストラウエハの追加機能は、メモリ７４から取り出されたウエハ情報によれば、エクストラウエハがある位置には存在していない状態が示されているが、実際にその位置にエクストラウエハが存在している場合に、その位置にエクストラウエハが存在するデータを追加する機能である。
【００９０】
エクストラウエハの表裏反転機能は、実際には表向きとなっているエクストラウエハに対して、メモリ７４からエクストラウエハが逆向きとなっているというウエハ情報が取り出されてモニタ７５に表示されている場合に、このウエハ情報をエクストラウエハの正しい状態を表示するように修正する機能である。同様に、エクストラウエハの表裏反転機能によって、逆向きのエクストラウエハについて、メモリ７４からエクストラウエハが表向きとなっているウエハ情報が取り出されてモニタ７５に表示されている場合にも、ウエハ情報が修正される。スロット変更機能は、自動的に付与された回収先のスロット位置の変更を行う機能である。
【００９１】
図８は、エクストラウエハの削除機能を使用する場合を例として、このデータ編集時のモニタ７５の表示の変化を示した説明図である。図８（ａ）は初期画面であり、ウエハ情報は図７に示されているものと同じである。この図８（ａ）の状態においては、モニタ７５の下欄に「データ編集」「ウエハ回収」の表示がある。ウエハ情報操作部７６におけるウエハ情報の変更は、この「データ編集」の表示を選択することで開始することができる。また、回収開始部７７によるウエハ回収の開始指令は、この「ウエハ回収」の表示を選択することによって開始される。
【００９２】
例えば、オペレータが洗浄処理システム１内を目視した結果、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５がエクストラウエハＷ６を保持していないことが確認された場合には、まず、このエクストラウエハＷ６のデータを削除する。図８（ａ）に示されるモニタ７５の下欄にある「データ編集」の表示を選択すると、図８（ｂ）に示されるように、モニタ７５の下欄に、「ウエハ削除」、「ウエハ追加」、「表裏反転」、「スロット変更」の各表示が現れる。
【００９３】
新たに表示される「ウエハ削除」の表示を選択した後、削除すべきエクストラウエハの番号「Ｗ６」をキーボード（図示せず）から入力したり、またはモニタ７５の画面上でエクストラウエハＷ６の番号部分に触れると、図８（ｃ）に示すように削除を確認するメッセージが表示される。ここで図８（ｃ）に示される「ＹＥＳ」の表示に触れる等することにより、エクストラウエハＷ６が削除される。これによってモニタ７５の画面は図８（ｄ）に示す状態となる。
【００９４】
「ウエハ追加」、「表裏反転」、「スロット変更」についても、同様な対話式操作によってウエハ情報を修正することができる。図７に示した場合では、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｄのエクストラウエハＷ５に関する情報を確定させる必要がある。このウエハ情報が確定し、ウエハ情報の編集を行う必要がなくなった後に、図８（ａ）に示される「ウエハ回収」の部分に触れる等することで、エクストラウエハの回収が開始される。
【００９５】
なお、エクストラウエハの回収処理（図６のステップ１０４）の方法としては、“モニタ７５の画面上で最初に「ウエハ回収」を選択した後に１枚のエクストラウエハを選択することにより、この選択されたエクストラウエハが定められたスロットに回収される”という操作を全てのエクストラウエハに対して行う方法がある。
【００９６】
また、エクストラウエハの別の回収方法としては、モニタ７５の画面上で「ウエハ回収」を選択すると、装置制御部（ＣＰＵ）７１が回収レシピにしたがってエクストラウエハを連続的に所定のスロットに収納するように、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５等を制御する方法等がある。
【００９７】
図７に示したウエハ情報を修正して得られたウエハ情報に基づいて、連続的にエクストラウエハを回収する場合には、例えば、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５が保持していたエクストラウエハＷ６は削除されているので、最初に、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄに存在していたエクストラウエハＷ４・Ｗ５がそれぞれ指定された空きスロット１４・１５に収納される。続いて、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｃ・２１ｄに存在するエクストラウエハＷ１・Ｗ２が指定された空きスロット１１・１２に収納される。最後に、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｂに存在していたエクストラウエハＷ３が指定された空きスロット１３に収納されて、エクストラウエハの回収処理が終了する。
【００９８】
モニタ７５に表示されたエクストラウエハの回収処理が終了した後には、ホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄの個々に対して主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によるエクストラウエハの搬出動作を行う。このときにエクストラウエハが主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５に保持されたかどうかを、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５に取り付けられたウエハ検出センサにより確認する。ホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄには、ウエハＷは表向きの状態で搬入されているために、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５がエクストラウエハを検出した場合には、そのエクストラウエハはウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂに搬送され、さらにウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３によってフープＦの所定の空きスロットに戻される。
【００９９】
なお、モニタ７５に表示されたエクストラウエハの回収処理を開始する前に、エクストラウエハを保持していない主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５をホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄにアクセスさせて、これらの各ユニットからエクストラウエハを搬出する動作を行い、その結果、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５がエクストラウエハを保持した場合には、空いているウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂ等にエクストラウエハを搬送してウエハ情報を追加し、他のエクストラウエハＷ１等とともに、フープＦ１へ回収することもできる。
【０１００】
また、複数のフープＦが載置台１１に載置されている場合には、エクストラウエハの回収先のフープＦを選択する機能をウエハ情報操作部７６に付与することもできる。さらに、エクストラウエハを複数のグループに分割して、グループごとに異なるフープＦに収納するようにすることも可能である。例えば、図８に示したモニタ７５の画面において「スロット変更」を選択すると、回収先のフープの番号とそのスロット番号を選択することができるようにしておき、選択した回収先に既にウエハＷが収納されている場合には、そのスロットにエクストラウエハが収納されないように、エラーメッセージを表示させる等することができる。
【０１０１】
上述したエクストラウエハの回収方法を用いた場合には、オペレータは必要に応じてウエハＷの向きを確認し、所定の処理手順にしたがったウエハ情報操作部７６の操作を行うことによって、容易にウエハＷをその向きを揃えて回収することができる。これによりウエハＷの損傷が防止されるとともに、オペレータは手作業でフープＦ内のウエハＷを入れ替える等する必要がないために、オペレータの負担が低減される。また、人為的なウエハＷの取り扱いミスを無くすことができる。
【０１０２】
次に、機械制御ユニット（ＭＣＢ）１９の別の実施形態である機械制御ユニット（ＭＣＢ）１９´の構成を示す説明図を図９に示す。機械制御ユニット（ＭＣＢ）１９´は、機械制御ユニット（ＭＣＢ）１９が有していたウエハ情報操作部７６を有していないが、警報装置７８ａと警報装置７８ｂおよび警報解除部７９とを有している。機械制御ユニット（ＭＣＢ）１９´において、装置制御部（ＣＰＵ）７１、レシピコントローラ７２、操作部７３、メモリ７４、モニタ７５は、機械制御ユニット（ＭＣＢ）１９の場合と同様の機能を有する。
【０１０３】
警報装置７８ａは、イニシャライズ処理時にメモリ７４から取り出されたウエハ情報と、実際にウエハ検出センサが検出したエクストラウエハの位置情報とに相違がある場合に、相違が生じている処理ユニットまたは搬送装置ごとに警報を発する。この警報によってオペレータは容易にエクストラウエハの位置を知ることができ、ウエハ情報を確定することができる。この警報の発令方法としては、例えば、モニタ７５の画面表示による方法や音声による方法が挙げられる。また、警報装置７８ａは、回収するエクストラウエハの枚数に応じた空きスロットがフープＦに存在しない場合にも警報を発する。
【０１０４】
また、警報装置７８ｂは、ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３と主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５および特定の処理ユニット、例えば、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄとスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄにエクストラウエハが存在する場合に警報を発する。この警報により、例えば、ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３または主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５がエクストラウエハを保持した状態において、別のエクストラウエハが存在する処理ユニットへアクセスすることが禁止される。これによりエクストラウエハの破損や、ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３や主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５の損傷を防止することができる。
【０１０５】
ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄにエクストラウエハが存在していることを示す警報によって、オペレータは、別のエクストラウエハが逆向きで別の処理ユニットに存在していても、その別のエクストラウエハをウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄに搬送して反転処理を行うことができないということを、容易に認識することができる。これによりエクストラウエハの損傷等を防止することができる。
【０１０６】
スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄにエクストラウエハが存在する場合には、洗浄液をウエハＷに供給している途中で洗浄処理システム１がシャットダウンした場合が考えられる。この場合には、エクストラウエハは洗浄液によって濡れた状態にあるおそれがある。このような状態でエクストラウエハを主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５に移し替えた場合には、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５が濡れてしまい、動作不良を起こすおそれがある。そこで、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄにエクストラウエハが存在する場合に警報を発することによって、オペレータは、例えば、エクストラウエハに洗浄処理を施してスピン乾燥を行った後に、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄから搬出する、等の対処を容易に取ることができる。
【０１０７】
なお、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄにエクストラウエハが存在する場合には、自動的に、自動的にリンス液（純水）がエクストラウエハに吐出されて簡易的な洗浄処理が行われ、その後にスピン乾燥が行われるようにすることも好ましい。
【０１０８】
先に述べたように、エクストラウエハの向きが不明な場合には、裏面洗浄用のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂにそのエクストラウエハを搬入してエクストラウエハの向きを確定する必要がある。しかし、裏面洗浄用のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂに最初からエクストラウエハが存在している場合には、別の処理ユニット等に存在しているエクストラウエハをさらに裏面洗浄用のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂに搬入することはできない。オペレータはこのような状況を、警報装置７８による警報によって容易に認識することができる。
【０１０９】
警報解除部７９は、警報装置７８ａ・７８ｂによって発せられた警報を解除する。回収開始部７７によるエクストラウエハの回収指令は、警報解除部７９によって全ての警報が解除された状態において装置制御部（ＣＰＵ）７１に発信することができるようになっている。つまり、警報解除部７９による警報解除操作は、エクストラウエハの回収処理に用いられるウエハ情報を確定する操作でもある。例えば、警報装置７８ａ・７８ｂによる警報はモニタ７５の画面に表示され、警報解除部７９の操作はモニタ７５の画面上から行うか、または、キーボードや各処理ユニットのマニュアル操作ボタン等から行うことができるようになっている。
【０１１０】
図１０は機械制御ユニット（ＭＣＢ）１９´を用いた場合のエクストラウエハの回収手順の一態様を示した説明図である。ここで、メモリ７４は洗浄処理システム１内において処理が行われている際のウエハＷの位置と向きを記憶するが、どのフープＦのどのスロットから搬出したウエハＷがどのユニットにおいてどの向きにあるという情報までは記憶されておらず、また、ホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄについてのウエハ情報を記憶していないものとする。
【０１１１】
洗浄処理システム１に電源投入して洗浄処理システム１を起動する（ステップ２０１）とイニシャライズ処理が開始され、このイニシャライズ処理時には、前回の洗浄処理システム１の電源遮断時にメモリ７４に保存されていた洗浄処理システム１内のウエハ情報が取り出されて、その結果がモニタ７５に表示される（ステップ２０２）。また、ウエハ検出センサによって検出されたエクストラウエハが検出される（ステップ２０３）。
【０１１２】
前述したように、洗浄処理システム１においては、ウエハ検出センサが設けられているウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂ、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄ、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄ、ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５では、エクストラウエハの有無を検出することができる。しかし、ウエハ検出センサが設けられていないホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄについては、エクストラウエハの有無は不明である。
【０１１３】
メモリ７４から取り出されたウエハ情報とウエハ検出センサによって検出された検出結果は照合される（ステップ２０４）。その結果、これらの情報に相違がある場合には、ウエハ検出センサによる検出結果が優先して表示され、警報装置７８ａによって警報が発せられる（ステップ２０５）。これは、ウエハ検出センサの検出結果が実際の洗浄処理システム１内の状態を反映しているからである。例えば、メモリ７４から取り出されたウエハ情報にはある位置にエクストラウエハが存在する内容が記憶されているが、ウエハ検出センサがその位置においてエクストラウエハを検出しなかった場合には、エクストラウエハはその位置にないと判断され、その結果がモニタ７５の画面に表示される。
【０１１４】
図１１は、メモリ７４から取り出されたウエハ情報とウエハ検出センサが検出したウエハ情報にエクストラウエハの回収レシピを適用した結果、モニタ７５に表示される画面を模式的に示した説明図である。ここで、回収レシピとしては、エクストラウエハに対して自動的に番号付けを行い、この番号順に所定のフープＦにおける空きスロットの上から順番にエクストラウエハを収納する内容のものが用いられたとする。
【０１１５】
図１１は、載置台１１に３個のフープＦ１〜Ｆ３が載置されているが、空きスロットがあるのはフープＦ１のみであり、フープＦ１には５箇所の空きスロットがあることを示している。後述するように、洗浄処理システム１内には６枚のエクストラウエハが存在していることから、回収スロットの数が不足している。このために警報装置７８ａによる警報が発せられている。
【０１１６】
ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３とウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂにはエクストラウエハは存在していない。したがってウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３については警報も発令されていない。
【０１１７】
主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５はエクストラウエハＷ１を保持しているが、その向きが不明であることを示す「Ｗ１？」の表示がされている。「Ｗ１？」の表示の後ろの「−０」という連番表示は、メモリ７４から取り出されたウエハ情報に主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５がエクストラウエハを保持しているという情報がなかったことを示している。つまり、実際には主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５にエクストラウエハＷ１が存在し、かつ、エクストラウエハＷ１はその向きが不明であり、その結果として「Ｗ１？−０」の表示がなされている。また、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５については、警報装置７８ａ・７８ｂによる二重の警報、例えば、「Ｗ１？−０」の表示点滅と、音声等による警報が発せられている。
【０１１８】
このエクストラウエハＷ１については、例えば、エクストラウエハが存在していないスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａにエクストラウエハＷ１を搬入してオペレータがその向きを判断し、エクストラウエハＷ１に関するウエハ情報を確定する（ステップ２０６）とともに、警報解除部７９を操作することによって警報装置７８ａに基づく警報を解除し、さらにエクストラウエハＷ１を主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５に戻す操作を行う。
【０１１９】
ウエハ反転ユニット１４ｃには表向きのエクストラウエハＷ２が存在し、また、ウエハ反転ユニット１４ｄには逆向きのエクストラウエハＷ３が存在しており、ともに、例えば、「Ｗ２」と「Ｗ３Ｒ」の表示が点滅する等の警報装置７８ｂによる警報が発せられている。また、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｃ・２１ｄには、それぞれエクストラウエハＷ４・Ｗ５が存在しており、例えば、「Ｗ４」と「Ｗ５」の表示が点滅する等の警報装置７８ｂによる警報が発せられている。同様に、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｂには逆向きのエクストラウエハＷ６が存在しており、同様に「Ｗ６Ｒ」の表示が点滅する等の警告が発せられている。
【０１２０】
オペレータは、警報装置７８ｂによって警報が発せられている処理ユニット等を確認して警報を解除する（ステップ２０７）。次に、フープＦ１には空きスロットが５箇所しかないために、全てのエクストラウエハＷ１〜Ｗ６をフープＦ１に回収することはできないことを示す警報が警報装置７８ａによって発せられている。このために、例えば、フープＦ１を載置台１１から搬出して、必要数の空のスロットがあるフープＦに置き換える等の処置を行って回収先スロット数に関する警報を解除する。こうして、回収開始部７７からエクストラウエハＷ１〜Ｗ６の回収開始の指令を装置制御部（ＣＰＵ）７１に送って、回収作業が開始される（ステップ２０８）。エクストラウエハＷ１〜Ｗ６の回収は、与えられた番号の小さい順から自動的に行われる。
【０１２１】
その後には、ホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄの個々に対して主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によるエクストラウエハの搬出動作を行う。ホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄには、ウエハＷは表向きで搬入されているために、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５がエクストラウエハを検出した場合には、そのエクストラウエハはウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂに搬送され、さらにウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３によってフープＦの所定の空きスロットに戻される。
【０１２２】
機械制御ユニット（ＭＣＢ）１９´によるエクストラウエハの回収手順は、図１２のフローチャートに示すように変形することが可能である。この回収手順では、エクストラウエハの情報を全て確定させずに、エクストラウエハの有無は確定させるが、エクストラウエハの向きが確定されていない状態で、エクストラウエハの回収を開始する。
【０１２３】
まず、洗浄処理システム１を起動する（ステップ３０１）。これにより、メモリ７４に記憶されたウエハ情報によるエクストラウエハの位置および向きがモニタ７５に表示される（ステップ３０２）。また、ウエハ検出センサによってエクストラウエハが検出される（ステップ３０３）。さらに、メモリ７４から取り出されたウエハ情報とウエハ検出センサによる検出結果との照合が行われる（ステップ３０４）。
【０１２４】
次に、エクストラウエハの有無を確認する（ステップ３０５）。メモリ７４から取り出したウエハ情報とウエハ検出センサによるエクストラウエハの検出結果が異なる場合には、ウエハ検出センサによる検出結果を採用する。こうして、エクストラウエハの有無が確定するが、その向きはまだ全てのエクストラウエハについては確定していない。
【０１２５】
メモリ７４から取り出したウエハ情報とウエハ検出センサによるエクストラウエハの検出結果が異なる場合には、警報が発令されるため、オペレータはエクストラウエハの向きを確認することなく、この警報を解除し、さらに、エクストラウエハの回収開始を指示する（ステップ３０６）。
【０１２６】
エクストラウエハの回収は、先に述べたように、原則として、（１）ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３、（２）ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂ、（３）主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５、（４）ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄ、（５）スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄ、（６）ホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃ、（７）冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄの順で行われる。
【０１２７】
例えば、ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３とウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂのエクストラウエハは表向きであることが確定しているため、容易に回収を行うことができる（ステップ３０７）。しかし、次の主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５がエクストラウエハを保持していた場合には、そのエクストラウエハの向きは不明である場合がある。そこで、警報を発令して（ステップ３０８）、オペレータによるエクストラウエハの向きの確認を行い（ステップ３０９）、続いて警報の解除を行う（ステップ３１０）。オペレータはモニタ７５に表示されたウエハ情報を確認作業結果に基づいて修正し、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５がエクストラウエハを回収する（ステップ３１１）。
【０１２８】
以降、エクストラウエハの向きが明らかに表向きの場合には、そのままの状態でそのエクストラウエハを回収する。またエクストラウエハの向きが明らかに逆向きの場合には、反転処理を行った後にそのエクストラウエハを表向きで回収する。さらに、エクストラウエハの向きが不明な場合には、ステップ３０８〜３１１の手順にしたがってそのエクストラウエハを表向きで回収する（ステップ３１２）。これにより全てのエクストラウエハの回収作業が終了する（ステップ３１３）。
【０１２９】
以上、本発明の実施の態様について説明してきたが、本発明はこのような態様に限定されるものではない。例えば、上記説明においては、メモリ７４から取り出されたウエハ情報またはウエハ検出センサによる検出結果にエクストラウエハの回収を開始するにあたって何らかの障害が生じている場合について説明した。しかし、このような障害が発生していない場合には、自動的にイニシャライズ処理が終了した後に、エクストラウエハを回収させることが可能である。
【０１３０】
また、洗浄処理システム１において、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄを表面洗浄用と裏面洗浄用とに分けて用いた場合には、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄに関するウエハ情報をメモリ７４に記憶させる必要はなく、ウエハ検出センサによるウエハ検出結果にのみ基づいてエクストラウエハの有無とその向きを確定することができる。
【０１３１】
また、搬送ピック１３ａが保持しているエクストラウエハとウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂに存在するエクストラウエハは、必ず表向きとなる。このため搬送ピック１３ａおよびウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂに関するウエハ情報をメモリ７４に記憶させる必要はなく、ウエハ検出センサによるウエハ検出結果にのみ基づいてエクストラウエハの有無とその向きを確定することができる。
【０１３２】
換言すれば、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄと、ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３と、ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂについては、メモリ７４にウエハ情報が記憶されていても、そのウエハ情報を用いることなく、ウエハ検出センサからのエクストラウエハの検出情報のみを用いることによって、エクストラウエハを回収することができる。
【０１３３】
さらにまた、洗浄処理システム１において、例えば、機械制御ユニット（ＭＣＢ）１９に、機械制御ユニット（ＭＣＢ）１９´に設けられている警報装置７８ａ・７８ｂおよび警報解除部７９を設けてもよい。この場合には、警報解除部７９にはウエハ情報を確定させる機能を持たせないで単純に警報解除の機能だけを持たせ、また、ウエハ情報の修正と確定はウエハ情報操作部７６によって行うことが好ましい。このような構成とすることによって、オペレータはウエハ検出センサによる検出結果からエクストラウエハが存在する位置を容易に把握することが可能となる。また、メモリ７４から取り出されたウエハ情報によって、ウエハＷの向きを容易に確認することができる。オペレータは、ウエハ情報操作部７６を操作することによって、警報が発せられている処理ユニットや搬送装置におけるウエハ情報を適切に修正し、回収先のスロット位置の変更等を行い、さらに警報解除部７９から警報解除を行って、エクストラウエハの回収開始することが可能となる。これによりオペレータの負担はさらに軽減される。
【０１３４】
上記説明においては、モニタ７５の画面にホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄに関するエクストラウエハの情報を表示しなかった。しかし、ホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄにウエハ検出センサを設けるか、または、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５の動作からホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄに対するウエハＷの搬入出履歴をメモリ７４に記憶させることも可能である。これによってホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄに存在するエクストラウエハについても、その他の処理ユニット等にエクストラウエハが存在する場合と同様の手順にしたがって所定のフープＦの所定のスロットに回収することが可能である。
【０１３５】
また、上記説明においては、洗浄処理システム１の電源遮断時に洗浄処理システム１内に存在するウエハＷに関して、メモリ７４に記憶されるのはウエハＷの位置と向きに関する情報のみであった。そこで、これらに加えて、あるウエハＷについての、ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３がどのフープＦのどのスロットから取り出したものであるかという情報と、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄにおける処理の回数から判断されるウエハＷの向きに関する情報と、ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３と主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５の動きを記憶することによるそのウエハＷの洗浄処理システム１内で移動履歴情報とをメモリ７４に記憶して、イニシャライズ処理時にこれらの情報を取り出すことができるようにすれば、エクストラウエハを搬出元のフープＦのスロットに戻すことも可能となる。
【０１３６】
図４に示した処理レシピに準じて洗浄処理が行われることが明らかであって、ウエハＷの洗浄処理システム１内での移動履歴情報がメモリ７４に記憶されている場合には、エクストラウエハの回収処理を行うことなく、洗浄処理を再開させることも可能である。例えば、表面洗浄用のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｃ・２１ｄに存在するエクストラウエハについては、表面洗浄処理を最初から行い、次に、処理レシピにしたがって裏面洗浄や乾燥処理を行った後に、所定のフープＦに収納することができる。
【０１３７】
また、裏面洗浄用のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂにおいて検出されたエクストラウエハについては、表面が汚染されている可能性があるために、スピン乾燥を施した後に、再び表面洗浄用のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｃ・２１ｄに戻して表面洗浄の再処理を行うことが好ましい。この場合には、その後に裏面洗浄をやり直して乾燥処理を行い、所定のフープＦの所定のスロットに回収するといった操作を行えばよい。
【０１３８】
ホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃや冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄにエクストラウエハが存在する場合には、少なくともエクストラウエハの表面の洗浄処理は終了していることとなるが、再度、表面の洗浄処理から始まる一連の処理を行ってもよいし、または裏面の洗浄処理から始まる一連の処理を行ってもよい。
【０１３９】
さて、先に説明した（ａ−２）の場合、つまり、洗浄処理システム１に電源を投入して洗浄処理システム１を起動させた際に、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５がエクストラウエハを保持しており、そのエクストラウエハが逆向きである場合において、さらにウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄのいずれにも既にエクストラウエハが存在する場合には、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５からウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄへのウエハＷの受け渡しは、以下の方法によって行うことができる。
【０１４０】
つまり、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５は、主ウエハ搬送アーム５５・５６・５７を有しているので、構造上は３枚のウエハを持つことができる。しかし、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５が再起動時にエクストラウエハを持っている数として考えられるのは０枚または１枚または２枚であり、３枚という状態はあり得ない。何故なら、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５はウエハＷの入れ替え動作しか行わないので、０枚または１枚という場合が多く、２枚存在するのは、ある処理ユニットへのウエハＷの入れ替え作業の途中で洗浄処理システム１の電源が落ちたとき、つまり、処理ユニット内のウエハＷを主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５が取り出し、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５が別の処理ユニットへウエハＷを搬入する前に電源が落ちたときであり、まれな現象だからである。
【０１４１】
したがって、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄのいずれかのエクストラウエハを主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５の空いているアームで受け取り、その後に空いたウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄのいずれかにエクストラウエハを搬送して（ａ−２）の作業を行うことができる。
【０１４２】
なお、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５が最大２枚のウエハしか持つことができない場合（例えば、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５は通常動作では最大２枚のウエハＷを待てればよいので、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５の運転ソフト上、最大で２枚しか持てない場合）には、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５が２枚のエクストラウエハを持っていて、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄのいずれにもエクストラウエハが存在したならば、回収を中止するか、またはエクストラウエハの向きを考慮することなく回収してもよい。回収中止の場合には、オペレータが回収作業を行う。主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５が一度に３枚のウエハを持つことが運転ソフト上できる場合には、どのような場合においても（ａ−２）の動作が可能である。
【０１４３】
先に説明した（ｂ−２）の場合、つまり、洗浄処理システム１に電源を投入して洗浄処理システム１を起動させた際に、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄにエクストラウエハが存在し、そのエクストラウエハの向きが不明である場合において、さらに裏面洗浄用のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂのいずれにも既にエクストラウエハが存在する場合は、次のようにしてエクストラウエハの回収を行うことができる。
【０１４４】
つまり、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５の空いているアームが裏面洗浄用のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂのいずれかのエクストラウエハを取り出し、空いた裏面洗浄用のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂのいずれかにウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄにあるエクストラウエハを搬送し、オペレータが表裏を目視観察する。その後の回収方法は先に説明した通りである。
【０１４５】
主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５がウエハＷを３枚保持することができれば、洗浄処理システム１の再起動時にエクストラウエハが主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５に２枚、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂに各１枚、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄに各１枚存在していても、問題なくエクストラウエハを全て表向きで回収することができる。
【０１４６】
しかし、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５が、運転ソフトの都合でウエハを同時に２枚しか持つことができない場合には、エクストラウエハが主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５に２枚、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂに各１枚、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｃに各１枚存在すると、エクストラウエハを全て表向きで回収することができない。
【０１４７】
この場合には、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂのいずれかのエクストラウエハをオペレータ自身で回収し、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂのいずれかを空の状態にすることにより、他のエクストラウエハを全て表向きに回収することができる。なお、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂは、洗浄処理システム１の外側でかつ下段に配置されているために、オペレータはスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂのいずれかからエクストラウエハを取り出しやすい。これに対して、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄは、洗浄処理システム１の中央に位置しているために、オペレータはウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄからエクストラウエハを取り出し難い。
【０１４８】
例えば、洗浄処理システム１のイニシャライズ処理を行っても不具合が発生している処理ユニットが存在する場合、例えば、ユニット駆動用のエア用力の停止や処理液の供給停止、ユニットへの電力供給の停止などによる不具合が生じている場合には、その処理ユニットのイニシャライズ処理を行うことができない。このために、その処理ユニットにエクストラウエハが存在してもそれを回収できない事態が生ずる。
【０１４９】
このような場合には、まずイニシャライズ処理が終了していない処理ユニットを除く処理ユニットに存在する回収が可能なエクストラウエハについて１回目の回収動作を行う。次に、装置電源を落とすことなく処理ユニットで発生している不具合をオペレータが手動修復し、その後に装置電源を落とすことなく再度イニシャライズ処理を行う。これにより、洗浄処理システム１内に存在するエクストラウエハの２回目の回収動作を行うことが可能となる。このような手順を踏むことにより、洗浄処理システム１の電源を入れて起動した後に、再び装置電源を落とすことなく、全てのエクストラウエハを回収することができる。
【０１５０】
メモリ７４はウエハＷの位置と向きを記憶するが、さらにどのフープＦのどのスロットから搬出したウエハＷかという情報を記憶させてもよい。エクストラウエハを回収する際には、この情報を用いてフープＦへのエクストラウエハの搬入スロットを決定してもよい。例えば、搬出スロットと同じスロットに回収してもよく、またはオペレータが指定するスロットまたは回収レシピにしたがって装置制御部（ＣＰＵ）７１が割り当てた所定のスロットに回収してもよい。
【０１５１】
上記説明においては、基板として半導体ウエハを取り上げたが、基板はＬＣＤ基板等であってもよい。また本発明の基板処理装置と基板処理方法は、レジスト塗布処理装置や現像処理装置等、基板の両面を処理する装置および方法にも適用することが可能である。
【０１５２】
【発明の効果】
上述の通り、本発明の基板処理装置と基板処理方法によれば、基板処理装置の電源が遮断されてその後に最初に再起動した際に、基板処理装置内に存在する基板の位置と向きを容易に把握することができる。これにより、オペレータは必要に応じて基板の表面と裏面の別を確認し、所定の処理手順にしたがった操作を行えば、容易に基板をその向きを揃えて回収することができる。また、自動回収も行うことができる。こうして基板の損傷が防止され、また、オペレータの負担が軽減されるという効果が得られる。また、オペレータが直接に基板を取り扱う際の基板の取り落とし等の発生を防止することができるという効果も得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】洗浄処理システムの概略構造を示す平面図。
【図２】図１記載の洗浄処理システムの側面図。
【図３】受渡／反転部、主ウエハ搬送装置および加熱／冷却ユニットの配置を示す断面図。
【図４】洗浄処理工程を簡略に示したフローチャート。
【図５】図１記載の洗浄処理システムにおける機械制御ユニット（ＭＣＢ）の構成の一態様を示す説明図。
【図６】洗浄処理システムの起動時におけるエクストラウエハの回収の一態様を示す説明図。
【図７】洗浄処理システムの起動時においてモニタに表示される内容の具体例を模式的に示す説明図。
【図８】データ編集時のモニタの表示の変化を示す説明図。
【図９】洗浄処理システムにおける機械制御ユニット（ＭＣＢ）の構成の別の態様を示す説明図。
【図１０】洗浄処理システムの起動時におけるエクストラウエハの回収の別の態様を示すフローチャート。
【図１１】洗浄処理システムの起動時においてモニタに表示される内容の具体例を模式的に示す別の説明図。
【図１２】洗浄処理システムの起動時におけるエクストラウエハの回収のさらに別の態様を示すフローチャート。
【符号の説明】
１；洗浄処理システム
３；基板洗浄処理部
４；イン・アウトポート
５；ウエハ搬送部
１３；ウエハ搬送装置
１４；受渡／反転部（ＴＲＳ／ＲＶＳ）
１４ａ・１４ｂ；ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）
１４ｃ・１４ｄ；ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）
１５；主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）
１６；加熱／冷却部（ＨＰ／ＣＯＬ）
１６ａ〜１６ｃ；ホットプレートユニット（ＨＰ）
１６ｄ；冷却ユニット（ＣＯＬ）
１９・１９´；機械制御ユニット（ＭＣＢ）
２１ａ〜２１ｄ；スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）
７１；装置制御部（ＣＰＵ）
７２；レシピコントローラ
７３；操作部
７４；メモリ
７５；モニタ
７６；ウエハ情報操作部
７７；回収開始部
７８ａ・７８ｂ；警報装置
７９；警報解除部
Ｗ；半導体ウエハ（基板）
Ｆ；フープ（基板収容容器）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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