(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に、所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に反射または散乱する偏光選択層が形成されている光学フイルムであって、偏光選択層が下記式（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とする光学フイルム：
（Ｉ）Ａｒ１−Ｃ≡Ｃ−Ａｒ３−Ｃ≡Ｃ−Ａｒ２
［式中、Ａｒ１およびＡｒ２は、それぞれ独立に、一価の芳香族基であり；そして、Ａｒ３は、二価の芳香族基である］。
【請求項２】
偏光選択層が、光学的等方性相と光学的異方性相とからなる請求項１に記載の光学フイルム。
【請求項３】
光学的異方性相が、式（Ｉ）で表される化合物を含む請求項２に記載の光学フイルム。
【請求項４】
フイルム面に垂直な偏光面において、最大の全光線透過率が７５％以上であり、最小の全光線透過率が６０％未満である請求項１に記載の光学フイルム。
【請求項５】
フイルム面内の方向において、光学的等方性相と光学的異方性相との最小の屈折率差が０．０５未満である請求項２に記載の光学フイルム。
【請求項６】
式（Ｉ）で表される化合物が重合性基を有する請求項１に記載の光学フイルム。
【請求項７】
光学的等方性相と光学的異方性相のいずれかが不連続相で、不連続相の平均粒径が０．０１乃至１．０μｍである請求項２に記載の光学フイルム。
【請求項８】
光学的等方性相が連続相で、光学的異方性相が不連続相である請求項２に記載の光学フイルム。
【請求項９】
偏光選択層が、１０．０倍以下の延伸により形成されている請求項１に記載の光学フイルム。
【請求項１０】
式（Ｉ）で表される化合物の配向状態が固定されている請求項１に記載の光学フイルム。
【請求項１１】
式（Ｉ）において、Ａｒ１およびＡｒ２が、それぞれ独立に、一価の芳香族炭化水素基である請求項１に記載の光学フイルム。
【請求項１２】
式（Ｉ）において、Ａｒ３が、二価の芳香族５員ヘテロ環基、二価の縮環型芳香族５員ヘテロ環基あるいはそれらが二個または三個連結した二価の芳香族基である請求項１に記載の光学フイルム。
【請求項１３】
所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に反射または散乱する偏光選択層を有する光散乱型偏光選択素子と、所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に吸収する偏光選択層を有する光吸収型偏光選択素子とが積層されている偏光板であって、光散乱型偏光選択素子の偏光選択層が光学的等方性相と光学的異方性相とからなり、光散乱型偏光選択素子のフイルム面に垂直な偏光面において、最大の全光線透過率が７５％以上であり、最小の全光線透過率が６０％未満であり、全光線透過率が最大となる偏光面を有する軸と光吸収型偏光選択素子の透過軸とが実質的に平行であり、そして、光学的異方性相が下記式（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とする偏光板：
（Ｉ）Ａｒ１−Ｃ≡Ｃ−Ａｒ３−Ｃ≡Ｃ−Ａｒ２
［式中、Ａｒ１およびＡｒ２は、それぞれ独立に、一価の芳香族基であり；そして、Ａｒ３は、二価の芳香族基である］。
【請求項１４】
透明電極、画素電極を有する一対の基板と、その基板間に液晶性化合物が封入された液晶セルとその外側に配置された一対の偏光板からなる液晶表示装置において、該液晶セルのバックライト側偏光板とバックライトとの間に請求項１に記載の光学フイルムを配置していることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１５】
バックライト、偏光板、液晶セル、そして偏光板がこの順に積層されている液晶表示装置であって、バックライトと液晶セルとの間の偏光板が、所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に反射または散乱する偏光選択層を有する光散乱型偏光選択素子と、所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に吸収する偏光選択層を有する光吸収型偏光選択素子とが積層されている偏光板であり、光散乱型偏光選択素子の偏光選択層が光学的等方性相と光学的異方性相とからなり、光散乱型偏光選択素子のフイルム面に垂直な偏光面において、最大の全光線透過率が７５％以上であり、最小の全光線透過率が６０％未満であり、全光線透過率が最大となる偏光面を有する軸と光吸収型偏光選択素子の透過軸とが実質的に平行であり、そして、光学的異方性相が下記式（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とする液晶表示装置：
（Ｉ）Ａｒ１−Ｃ≡Ｃ−Ａｒ３−Ｃ≡Ｃ−Ａｒ２
［式中、Ａｒ１およびＡｒ２は、それぞれ独立に、一価の芳香族基であり；そして、Ａｒ３は、二価の芳香族基である］。
【請求項１６】
下記式（Ｉａ）で表される液晶性化合物：
（Ｉａ）Ａｒ１−Ｃ≡Ｃ−Ａｒ３−Ｃ≡Ｃ−Ａｒ２
［式中、Ａｒ１およびＡｒ２は、それぞれ独立に、一価の芳香族炭化水素基であり；そして、Ａｒ３は、二価の芳香族５員ヘテロ環基、二価の縮環型芳香族５員ヘテロ環基あるいはそれらが二個または三個連結した二価の芳香族基である］。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、透明支持体上に、所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に反射または散乱する偏光選択層が形成されている光学フイルム、およびそれを用いた偏光板と液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
太陽光のような自然光やランプのような通常の人為的光源からの光は無偏光（ランダム偏光）であるが、偏光板を用いることで偏光（直線偏光、円偏光、楕円偏光）成分を取り出すことができる。取り出した偏光は、様々な光学機器に利用できる。現在広く普及している液晶表示装置は、偏光の性質を利用して画像を表示する装置であるとも言える。
広義の偏光板には、直線偏光板、円偏光板および楕円偏光板が含まれる。ただし、通常の（狭義の）偏光板は、直線偏光板を意味する。本明細書においても、特に規定しない「偏光板」は、直線偏光板を意味する。直線偏光板は、最も基本的な偏光板である。円偏光板は、一般に、直線偏光板とλ／４板との直線偏光板の積層体である。楕円偏光板は、一般に、直線偏光板とλ／４板以外の位相差板との積層体である。従って、様々な（広義の）偏光板において、直線偏光板の光学的な機能が重要である。
【０００３】
直線偏光板としては、一般にポリビニルアルコール系フイルムからなる光吸収型偏光板が用いられている。ポリビニルアルコール系偏光板は、ポリビニルアルコール系フイルムを延伸しヨウ素または二色性染料を吸着することにより製造する。偏光板の透過軸（偏光軸）は、フイルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。
光吸収型偏光板は、偏光軸に平行な偏光成分のみを透過して、それと直交方向の偏光成分を吸収する。従って、光の利用効率は、理論的に５０％以下（実際にはさらに低い値）である。
【０００４】
偏光板の光の利用効率を向上させるため、光吸収型偏光板に代えて、または光吸収型偏光板に加えて、光散乱型偏光板を使用することが提案されている。光散乱型偏光板も、光吸収型偏光板と同様に、偏光軸と平行な偏光成分のみを透過する。ただし、光散乱型偏光板では、偏光軸と直交方向の偏光成分を吸収せずに前方もしくは後方に散乱し、偏光板の光の利用効率を向上させる。
光散乱型偏光板による光の利用効率改善の機構は以下のように複数ある。
【０００５】
（Ａ）前方散乱光の偏光解消によるもの
光散乱型偏光板では、偏光軸と直交方向の偏光成分は前方もしくは後方に散乱される。このうち前方散乱された光が偏光解消され、前方散乱光の偏光方向が入射光の偏光方向から回転することにより、光散乱型偏光板の偏光軸方向の偏光成分が入射光よりも増加する。光散乱型偏光子において、厚み方向に多数の粒子が存在する場合には、多重散乱により偏光解消の程度が強くなる。このように、散乱型偏光板を使用する場合には、前方散乱光の偏光解消により光吸収型偏光板のみを使用する場合よりも光の利用効率が向上する。
【０００６】
（Ｂ）後方散乱光の再利用（偏光解消）によるもの
光散乱型偏光板の偏光軸と直交方向の偏光成分のうち後方散乱された光は、後方散乱される際に偏光解消される。後方散乱された光は、光源であるバックライトの背面に配置された金属反射板により反射され、再度光散乱型偏光板へ入射する。ここで、再入射する光は後方散乱する際に偏光解消を受け、散乱型偏光板の偏光軸と平行方向の偏光成分が生じており、この偏光成分は散乱型偏光子を透過する。このように、光散乱型偏光子による後方散乱と金属反射板での反射を繰り返すことにより光の利用効率を向上させることができる。
【０００７】
（Ｃ）後方散乱光の再利用（偏光方向の回転）によるもの
λ／４板と金属反射板とを配置した光学系に、λ／４板の遅相軸と４５°をなすように直線偏光を入射させると、偏光方向が入射光と９０°回転した反射光が戻ってくる。光散乱型偏光板と金属反射板（バックライトの背面に配置される）との間に、λ／４板を光散乱型偏光板の偏光軸とλ／４板の遅相軸が４５°をなすように配置することによって上記と同じ効果が得られる。
光散乱型偏光板において後方散乱された光の偏光方向の分布は、光散乱型偏光板の偏光軸と直交方向が大きい。この後方散乱された光がλ／４板を透過して金属反射板により反射され再度、光散乱型偏光板に入射する光の偏光方向の分布は、光散乱型偏光板の偏光軸に平行方向に大きくなっており、偏光軸に平行な偏光成分は光散乱型偏光板を透過する。このように、光散乱型偏光板と金属反射板との間にλ／４板を配置することにより、光の利用効率を向上させることができる。
【０００８】
光散乱型偏光板については、特開平８−７６１１４号、同９−２７４１０８号、同９−２９７２０４号、特表平１１−５０２０３６号、同１１−５０９０１４号の各公報および米国特許５７８３１２０号、同５８２５５４３号、同５８６７３１６号明細書に記載がある。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
従来の光散乱型偏光板のうち、特開平８−７６１１４号、同９−２７４１０８号、特表平１１−５０２０３６号、同１１−５０９０１４号の各公報および米国特許５７８３１２０号、同５８２５５４３号、同５８６７３１６号の各明細書に開示されている光散乱型偏光板は、光吸収型偏光板と同様にポリマーフイルムの延伸により製造している。
これらの方式ではバインダーと分散粒子の屈折率を高度に制御する必要がある。具体的には両者の屈折率を、偏光が透過する側では合わせる必要があり、酸算させる側では屈折率差を大きくする必要がある。前記各公報および明細書に記載の方法では、これらの性能が不充分であり、充分な光の利用効率向上が図れていない。
本発明の目的は、偏光板の光利用効率を向上させ、且つその散乱特性の制御が容易であり、かつ大面積にわたって均一かつ大きな散乱特性を示す偏光選択性光学フイルムを提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、下記（１）〜（１６）の光学フイルム、下記（１７）の偏光板、下記（１８）、（１９）の液晶表示装置および下記（２０）の液晶性化合物により達成された。
（１）透明支持体上に、所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に反射または散乱する偏光選択層が形成されている光学フイルムであって、偏光選択層が下記式（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とする光学フイルム：（Ｉ）Ａｒ1 −Ｃ≡Ｃ−Ａｒ3 −Ｃ≡Ｃ−Ａｒ2
［式中、 Ａｒ1 およびＡｒ2 は、それぞれ独立に、一価の芳香族基であり；そして、Ａｒ3 は、二価の芳香族基である］。
（２）式（Ｉ）において、Ａｒ1 およびＡｒ2 は、それぞれ独立に、一価の芳香族炭化水素基であり、そして、Ａｒ3 は、二価の芳香族炭化水素基である（１）に記載の光学フイルム。
【００１１】
（３）式（Ｉ）において、Ａｒ1 およびＡｒ2 は、それぞれ独立に、一価の芳香族炭化水素基であり、そして、Ａｒ3 は、二価の芳香族５員ヘテロ環基、二価の縮環型芳香族５員ヘテロ環基あるいはそれらが二個または三個連結した二価の芳香族基である（１）に記載の光学フイルム。
（４）式（Ｉ）において、Ａｒ1 およびＡｒ2 は、それぞれ独立に、一価の芳香族炭化水素基であり、そして、Ａｒ3 は、二価の芳香族６員ヘテロ環基、二価の縮環型芳香族６員ヘテロ環基あるいはそれらが二個または三個連結した二価の芳香族基である（１）に記載の光学フイルム。
【００１２】
（５）式（Ｉ）において、Ａｒ1 は、一価の芳香族炭化水素基、一価の芳香族５員ヘテロ環基または一価の縮環型芳香族５員ヘテロ環基であり、Ａｒ2 は、一価の芳香族５員ヘテロ環基または一価の芳香族炭化水素基であり、そして、Ａｒ3 は、二価の芳香族炭化水素基、二価の芳香族５員ヘテロ環基、二価の縮環型芳香族５員ヘテロ環基、二価の芳香族６員ヘテロ環基、二価の縮環型芳香族６員ヘテロ環基あるいはそれらが二個または三個連結した二価の芳香族基である（１）に記載の光学フイルム。
（６）式（Ｉ）において、Ａｒ1 およびＡｒ2 は、それぞれ独立に、一価のシアノ置換芳香族基であり、そして、Ａｒ3 は、二価の芳香族基である（１）に記載の光学フイルム。
【００１３】
（７）式（Ｉ）において、Ａｒ1 は、一価の芳香族基であり、Ａｒ2 は、一価の芳香族６員ヘテロ環基であり、そして、Ａｒ3 は、二価の芳香族炭化水素基、二価の芳香族５員ヘテロ環基、二価の縮環型芳香族５員ヘテロ環基、二価の芳香族６員ヘテロ環基、二価の縮環型芳香族６員ヘテロ環基あるいはそれらが二個または三個連結した二価の芳香族基である（１）に記載の光学フイルム。
（８）式（Ｉ）において、Ａｒ1 およびＡｒ2 は、それぞれ独立に、一価の芳香族基であり、Ａｒ3 は、二価の芳香族基であって、Ａｒ1 、Ａｒ2 およびＡｒ3 の少なくとも一つは、ヒドロキシルを含む置換基を有する（１）に記載の光学フイルム。
【００１４】
（９）偏光選択層が、光学的等方性相と光学的異方性相とからなる（１）に記載の光学フイルム。
（１０）光学的異方性相が、式（Ｉ）で表される化合物を含む（９）に記載の光学フイルム。
（１１）フイルム面に垂直な偏光面において、最大の全光線透過率が７５％以上であり、最小の全光線透過率が６０％未満である（１）に記載の光学フイルム。
【００１５】
（１２）フイルム面内の方向において、光学的等方性相と光学的異方性相との最小の屈折率差が０．０５未満である（９）に記載の光学フイルム。
（１３）式（Ｉ）で表される化合物が重合性基を有する（１）に記載の光学フイルム。
（１４）光学的等方性相と光学的異方性相のいずれかが不連続相で、不連続相の平均粒径が０．０１乃至１．０μｍである（９）に記載の光学フイルム。
【００１６】
（１５）光学的等方性相が連続相で、光学的異方性相が不連続相である（９）に記載の光学フイルム。
（１６）偏光選択層が、１０．０倍以下の延伸により形成されている（１）に記載の光学フイルム。
【００１７】
（１７）所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に反射または散乱する偏光選択層を有する光散乱型偏光選択素子と、所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に吸収する偏光選択層を有する光吸収型偏光選択素子とが積層されている偏光板であって、光散乱型偏光選択素子の偏光選択層が光学的等方性相と光学的異方性相とからなり、光散乱型偏光選択素子のフイルム面に垂直な偏光面において、最大の全光線透過率が７５％以上であり、最小の全光線透過率が６０％未満であり、全光線透過率が最大となる偏光面を有する軸と光吸収型偏光選択素子の透過軸とが実質的に平行であり、そして、光学的異方性相が前記式（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とする偏光板。
【００１８】
（１８）透明電極、画素電極を有する一対の基板と、その基板間に液晶性化合物が封入された液晶セルとその外側に配置された一対の偏光板からなる液晶表示装置において、該液晶セルのバックライト側偏光板とバックライトとの間に（１）に記載の光学フイルムを配置していることを特徴とする液晶表示装置。
【００１９】
（１９）バックライト、偏光板、液晶セル、そして偏光板がこの順に積層されている液晶表示装置であって、バックライトと液晶セルとの間の偏光板が、所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に反射または散乱する偏光選択層を有する光散乱型偏光選択素子と、所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に吸収する偏光選択層を有する光吸収型偏光選択素子とが積層されている偏光板であり、光散乱型偏光選択素子の偏光選択層が光学的等方性相と光学的異方性相とからなり、光散乱型偏光選択素子のフイルム面に垂直な偏光面において、最大の全光線透過率が７５％以上であり、最小の全光線透過率が６０％未満であり、全光線透過率が最大となる偏光面を有する軸と光吸収型偏光選択素子の透過軸とが実質的に平行であり、そして、光学的異方性相が前記式（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とする液晶表示装置。
【００２０】
（２０）下記式（Ｉａ）で表される液晶性化合物：
（Ｉａ）Ａｒ1 −Ｃ≡Ｃ−Ａｒ3 −Ｃ≡Ｃ−Ａｒ2
［式中、 Ａｒ1 およびＡｒ2 は、それぞれ独立に、一価の芳香族炭化水素基であり；そして、Ａｒ3 は、二価の芳香族５員ヘテロ環基、二価の縮環型芳香族５員ヘテロ環基あるいはそれらが二個または三個連結した二価の芳香族基である］。
（２１）式（Ｉａ）で表される化合物が重合性基を有する（２０）に記載の液晶性化合物。
（２２）式（Ｉａ）において、Ａｒ3 が二価の芳香族５員含硫黄ヘテロ環基、二価の縮環型芳香族５員含硫黄ヘテロ環基あるいはそれらが二個または三個連結した二価の芳香族基である（２０）に記載の液晶性化合物。
なお、本明細書において、「光学的等方性」とは複屈折が０．０５未満であることを意味し、「光学的異方性」とは複屈折が０．０５以上であることを意味する。
【００２１】
【発明の効果】
本発明者の研究の結果、前記式（Ｉ）で表される液晶性化合物を用いると、大きな光学異方性を有する光学フイルムが得られることが判明した。式（Ｉ）で表される液晶性化合物は、容易に大面積で配向させることができ、大きな複屈折が得られ、結果として光学フイルムの大面積にわたって均一かつ大きな散乱特性が得られる。
以上のように、本発明に従う光学フイルムでは、光散乱型偏光板として必要な光学的性質を容易に達成することができる。必要な光学特性を達成した光散乱型偏光板を用いることで、前方散乱偏光解消型、後方散乱偏光解消型あるいは後方散乱偏光回転型の方式に従い、偏光板の光の利用効率を著しく向上することができる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
本発明の光学フイルムでは、偏光選択層が下記式（Ｉ）で表される化合物を含有する。
（Ｉ）Ａｒ1 −Ｃ≡Ｃ−Ａｒ3 −Ｃ≡Ｃ−Ａｒ2
式（Ｉ）において、 Ａｒ1 およびＡｒ2 は、それぞれ独立に、一価の芳香族基である。芳香族基は、芳香族炭化水素基または芳香族ヘテロ環基である。
一価の芳香族炭化水素基の例には、フェニル、ナフチル、ビフェニル、アントリルおよびフェナントリルが含まれる。フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、４−ビフェニル、１−アントリル、２−アントリル、９−アントリル、１−フェナントリル、２−フェナントリルおよび９−フェナントリルが好ましく、フェニル、２−ナフチル、４−ビフェニル、２−アントリルおよび２−フェナントリルがさらに好ましく、フェニルが最も好ましい。
【００２３】
一価の芳香族ヘテロ環基は、芳香族５員ヘテロ環または芳香族６員ヘテロ環を有することが好ましい。
芳香族５員ヘテロ環は、二つの二重結合と一個乃至四個のヘテロ原子を含む。ヘテロ原子は、酸素原子、硫黄原子または窒素原子が好ましい。芳香族５員ヘテロ環は、少なくとも一つの硫黄原子または窒素原子を含むことが特に好ましい。芳香族５員ヘテロ環に他の環（他のヘテロ環、脂肪族環または芳香族炭化水素環）が縮合していてもよい。芳香族５員ヘテロ環に縮合する環は、芳香族炭化水素環または芳香族ヘテロ環が好ましく、芳香族炭化水素環がさらに好ましく、ベンゼン環が最も好ましい。
以下に、一価の芳香族５員ヘテロ環基および一価の縮環型芳香族５員ヘテロ環基の例を示す。
【００２４】
【化１】
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【００２５】
【化２】
0004125900.tif 000003
【００２６】
【化３】
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【００２７】
【化４】
0004125900.tif 000005
【００２８】
【化５】
0004125900.tif 000006
【００２９】
【化６】
0004125900.tif 000007
【００３０】
【化７】
0004125900.tif 000008
【００３１】
【化８】
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【００３２】
【化９】
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【００３３】
【化１０】
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【００３４】
芳香族６員ヘテロ環は、二つの二重結合と一個乃至四個のヘテロ原子を含む。ヘテロ原子は、リン原子、ケイ素原子または窒素原子が好ましい。芳香族６員ヘテロ環は、少なくとも一つの窒素原子を含むことがさらに好ましく、一つまたは二つの窒素原子を含むことが最も好ましい。
芳香族６員ヘテロ環に他の環（他のヘテロ環、脂肪族環または芳香族炭化水素環）が縮合していてもよい。芳香族６員ヘテロ環に縮合する環は、芳香族炭化水素環または芳香族ヘテロ環が好ましく、芳香族炭化水素環がさらに好ましく、ベンゼン環が最も好ましい。
以下に、一価の芳香族６員ヘテロ環基および一価の縮環型芳香族６員ヘテロ環基の例を示す。
【００３５】
【化１１】
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【００３６】
【化１２】
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【００３７】
【化１３】
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【００３８】
【化１４】
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【００３９】
【化１５】
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【００４０】
【化１６】
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【００４１】
【化１７】
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【００４２】
後述するように一価の芳香族基（Ａｒ1 、Ａｒ2 ）は、一価の芳香族基そのものを置換基として有することができる。一価の芳香族基を置換基として有する一価の芳香族基の例を以下に示す。
【００４３】
【化１８】
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【００４４】
【化１９】
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【００４５】
【化２０】
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【００４６】
【化２１】
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【００４７】
【化２２】
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【００４８】
式（Ｉ）において、Ａｒ3 は、二価の芳香族基である。芳香族基は、芳香族炭化水素基または芳香族ヘテロ環基である。
二価の芳香族炭化水素基の例には、フェニレン、ナフチレン、アントリレン、フェナントリレン、ピレニレン、ビフェニレンおよびテルフェニレンが含まれる。１，４−フェニレン、２，６−ナフチレン、１，５−ナフチレン、１，４−ナフチレン、２，６−アントリレン、２，７−フェナントリレン、２，７−ピレニレン、４，４’−ビフェニレン、４，４’，４”−テルフェニレンが好ましく、１，４−フェニレン、２，６−ナフチレンおよび４，４’−ビフェニレンがさらに好ましい。
【００４９】
二価の芳香族ヘテロ環基は、芳香族５員ヘテロ環または芳香族６員ヘテロ環を有することが好ましい。
芳香族５員ヘテロ環は、二つの二重結合と一個乃至四個のヘテロ原子を含む。ヘテロ原子は、酸素原子、硫黄原子または窒素原子が好ましい。芳香族５員ヘテロ環は、少なくとも一つの硫黄原子または窒素原子を含むことが特に好ましい。芳香族５員ヘテロ環に他の環（他のヘテロ環、脂肪族環または芳香族炭化水素環）が縮合していてもよい。芳香族５員ヘテロ環に縮合する環は、芳香族炭化水素環または芳香族ヘテロ環が好ましく、芳香族炭化水素環がさらに好ましく、ベンゼン環が最も好ましい。
二価の芳香族５員ヘテロ環基または二価の縮環型芳香族５員ヘテロ環基は、他の二価の芳香族基（例えば、二価の芳香族炭化水素基、他の二価の芳香族５員ヘテロ環基、他の二価の縮環型芳香族５員ヘテロ環基、二価の芳香族６員ヘテロ環基、二価の縮環型芳香族６員ヘテロ環基）と連結して、全体として二価の芳香族基（式（Ｉ）のＡｒ3 ）を構成してもよい。連結する基の数は、二個または三個が好ましい。
以下に、二価の芳香族５員ヘテロ環基、二価の縮環型芳香族５員ヘテロ環基およびそれらを含めて連結した二価の芳香族基の例を示す。
【００５０】
【化２３】
0004125900.tif 000024
【００５１】
【化２４】
0004125900.tif 000025
【００５２】
【化２５】
0004125900.tif 000026
【００５３】
【化２６】
0004125900.tif 000027
【００５４】
【化２７】
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【００５５】
【化２８】
0004125900.tif 000029
【００５６】
【化２９】
0004125900.tif 000030
【００５７】
芳香族６員ヘテロ環は、二つの二重結合と一個乃至四個のヘテロ原子を含む。ヘテロ原子は、リン原子、ケイ素原子または窒素原子が好ましい。芳香族６員ヘテロ環は、少なくとも一つの窒素原子を含むことがさらに好ましく、一つまたは二つの窒素原子を含むことが最も好ましい。
芳香族６員ヘテロ環に他の環（他のヘテロ環、脂肪族環または芳香族炭化水素環）が縮合していてもよい。芳香族６員ヘテロ環に縮合する環は、芳香族炭化水素環または芳香族ヘテロ環が好ましく、芳香族炭化水素環がさらに好ましく、ベンゼン環が最も好ましい。
二価の芳香族６員ヘテロ環基または二価の縮環型芳香族６員ヘテロ環基は、他の二価の芳香族基（例えば、二価の芳香族炭化水素基、二価の芳香族５員ヘテロ環基、二価の縮環型芳香族５員ヘテロ環基、他の二価の芳香族６員ヘテロ環基、他の二価の縮環型芳香族６員ヘテロ環基）と連結して、全体として二価の芳香族基（式（Ｉ）のＡｒ3 ）を構成してもよい。連結する基の数は、二個または三個が好ましい。
以下に、二価の芳香族６員ヘテロ環基、二価の縮環型芳香族６員ヘテロ環基およびそれらを含めて連結した二価の芳香族基の例を示す。
【００５８】
【化３０】
0004125900.tif 000031
【００５９】
【化３１】
0004125900.tif 000032
【００６０】
【化３２】
0004125900.tif 000033
【００６１】
【化３３】
0004125900.tif 000034
【００６２】
【化３４】
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【００６３】
【化３５】
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【００６４】
【化３６】
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【００６５】
【化３７】
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【００６６】
各芳香族基（Ａｒ1 、Ａｒ2 、Ａｒ3 ）は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（例、フッ素原子、塩素原子）、シアノ、炭素原子数が１乃至２０（好ましくは１乃至１５）のアルキル基（例、メチル、エチル、ヘキシル、オクチル、ウンデシル、テトラデシル）、炭素原子数が２乃至２０（好ましくは２乃至１５）のアルケニル基（例、ビニル、プロペニル、ヘキセニル、デセニル、テトラデセニル）、炭素原子数が２乃至２０（好ましくは２乃至１５）のアルキニル基（例、エチニル、プロピニル、ヘキシニル、デシニル、テトラデシニル）、炭素原子数が１乃至２０（好ましくは１乃至１５）のアルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ、ヘキシルオキシ、オクチルオキシ、テトラデシルオキシ）、炭素原子数が１乃至２０（好ましくは１乃至１５）のアルキルチオ基（例、メチルチオ、ブチルチオ、ヘキシルチオ、デシルチオ、テトラデシルチオ）、炭素原子数が２乃至２０（好ましくは２乃至１５）のアルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル）、炭素原子数が２乃至２０（好ましくは２乃至１５）のアシルオキシ基（例、アセチルオキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、デカノイルオキシ）、炭素原子数が２乃至２０（好ましくは２乃至１５）のアミド基（例、アセトアミド）および炭素原子数が１乃至２０（好ましくは１乃至１５）のスルホンアミド基（例、オクタンスルホンアミド）が含まれる。また、後述する重合性基（Ｑ１〜Ｑ１７）も置換基の例に含まれる。さらに、一価の芳香族基そのものも置換基の例に含まれる。一つの芳香族基が有する置換基の数は、１乃至３個であることが好ましく、１個または２個であることがさらに好ましい。
【００６７】
上記アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基およびアシルオキシ基は、さらに置換基を有していてもよい。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基およびアシルオキシ基の置換基の例には、ヒドロキシル、ハロゲン原子（例、フッ素原子、塩素原子）、シアノ、エポキシ基、アジリニジル基および炭素原子数が２乃至２０（好ましくは２乃至１５）のアシルオキシ基（例、アセチルオキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、デカノイルオキシ）が含まれる。さらに、後述する重合性基（Ｑ１〜Ｑ１７）も、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基およびアシルオキシ基の置換基の例に含まれる。
【００６８】
高い光学異方性を得る目的では、シアノを含む置換基が好ましい。
シアノは芳香族基に直結することが好ましく、両端の芳香族基（Ａｒ1 およびＡｒ2 の双方）にシアノが直結することがさらに好ましい。
【００６９】
液晶性化合物と等方性バインダー（特に水溶性ポリマー）との相互作用を強めて、光学性能や保存性を改良する目的では、ヒドロキシルを含む置換基が好ましい。
ヒドロキシルは連結基を介して少なくとも一つの芳香族基（Ａｒ1 、Ａｒ2 およびＡｒ3 のいずれか）に結合することが好ましい。
ヒドロキシルを含む置換基の総数は、１乃至６個が好ましく、１乃至３個がさらに好ましく、１個または２個が最も好ましい。また、ヒドロキシルを含む置換基は、一個の芳香族基に対して、１乃至３個結合することが好ましく、１個または二個結合することがさらに好ましく、１個のみ結合することが最も好ましい。すなわち、ヒドロキシルを含む置換基の総数が３個の場合、Ａｒ1 、Ａｒ2 およびＡｒ3 のそれぞれが、ヒドロキシルを含む置換基を１個有することが好ましい。また、ヒドロキシルを含む置換基の総数が２個の場合、Ａｒ1 、Ａｒ2 およびＡｒ3 のいずれか２個が、ヒドロキシルを含む置換基を１個有することが好ましく、Ａｒ1 およびＡｒ2 のそれぞれが、ヒドロキシルを含む置換基を１個有することがさらに好ましい。ヒドロキシルを含む置換基の総数が１個の場合、Ａｒ1 、Ａｒ2 およびＡｒ3 のいずれかが、ヒドロキシルを含む置換基を１個有すればよい。
【００７０】
芳香族基、連結基およびヒドロキシルの結合は、Ａｒ−Ｌ（−ＯＨ）ｍ で表される。Ａｒは、いずれかの芳香族基（Ａｒ1 、Ａｒ2 、Ａｒ3 ）であり、Ｌは、（ｍ＋１）価の連結基であり、ｍは１以上の整数である。
連結基（Ｌ）は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−、多価の脂肪族基、多価の脂肪族ヘテロ環基およびそれらの組み合わせからなることが好ましい。ｍは、２乃至６の整数であることがさらに好ましい。
Ａｒ−Ｌ（−ＯＨ）ｍ は、さらにＡｒ−Ｌ1 −Ｌ2 （−ＯＨ）ｍ で表されることが好ましい。Ａｒは、いずれかの芳香族基（Ａｒ1 、Ａｒ2 、Ａｒ3 ）であり、Ｌ1 は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−、二価の脂肪族基およびそれらの組み合わせからなる二価の連結基であり、Ｌ2 は、（ｍ＋１）価の脂肪族基または（ｍ＋１）価の脂肪族ヘテロ環基であり、ｍは、１以上の整数である。
【００７１】
二価の脂肪族基は、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基である。アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基または置換アルケニレン基が好ましく、アルキレン基または置換アルキレン基がさらに好ましく、アルキレン基が最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数は１乃至２０であることが好ましく、１乃至１２であることがさらに好ましい。環状アルキレン基よりも鎖状アルキレン基が好ましく、分岐を有するアルキレン基よりも直鎖状アルキレン基の方が好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は２乃至２０であることが好ましく、２乃至１２であることがさらに好ましい。環状アルケニレン基よりも鎖状アルケニレン基が好ましく、分岐を有するアルケニレン基よりも直鎖状アルケニレン基の方が好ましい。アルキニレン基の炭素原子数は２乃至２０であることが好ましく、２乃至１２であることがさらに好ましい。環状アルキニレン基よりも鎖状アルキニレン基が好ましく、分岐を有するアルキニレン基よりも直鎖状アルキニレン基が方が好ましい。置換アルキレン基のアルキレン部分、置換アルケニレン基のアルケニレン部分、置換アルキニレン基のアルキニレン部分は、それぞれ上記アルキレン基、上記アルケニレン基、および上記アルキニレン基と同様である。置換アルキレン基、置換アルケニレン基および置換アルキニレン基の置換基の例には、ハロゲン原子（例、フッ素原子、塩素原子）、シアノ、および炭素原子数が２乃至１５（好ましくは２乃至１０）のアシルオキシ基（例、アセチルオキシ、ヘキサノイルオキシ、デカノイルオキシ）が含まれる。
【００７２】
多価（ｍ＋１価）の脂肪族基は、環状構造を有していてもよい。多価脂肪族基の炭素原子数は、２乃至１０であることが好ましい。多価脂肪族基は、飽和していることが好ましい。
多価（ｍ＋１価）の脂肪族ヘテロ環基は、飽和であることが好ましい。脂肪族ヘテロ環は、５員環または６員環であることが好ましく、６員環であることがさらに好ましい。ヘテロ原子は、酸素原子または硫黄原子であることが好ましい。
Ａｒ−Ｌ−（ＯＨ）ｍ の例を以下に示す。
【００７３】
Ｌ１：Ａｒ−ＣＯ−ＮＨ−二価の脂肪族基−ＯＨ
Ｌ２：Ａｒ−ＣＯ−ＮＨ−三価の脂肪族基（−ＯＨ）2
Ｌ３：Ａｒ−ＣＯ−ＮＨ−六価の脂肪族基（−ＯＨ）5
Ｌ４：Ａｒ−ＣＯ−ＮＨ−五価の脂肪族ヘテロ環基（−ＯＨ）4
Ｌ５：Ａｒ−ＣＯ−Ｏ−三価の脂肪族基（−ＯＨ）2
Ｌ６：Ａｒ−ＣＯ−Ｏ−二価の脂肪族基−Ｏ−三価の脂肪族基（−ＯＨ）2
Ｌ７：Ａｒ−ＣＯ−Ｏ−二価の脂肪族基−Ｏ−二価の脂肪族基−Ｏ−三価の脂肪族基（−ＯＨ）2
Ｌ８：Ａｒ−ＣＯ−Ｏ−二価の脂肪族基−Ｏ−二価の脂肪族基−Ｏ−二価の脂肪族基−Ｏ−三価の脂肪族基（−ＯＨ）2
Ｌ９：Ａｒ−二価の脂肪族基−Ｏ−三価の脂肪族基（−ＯＨ）2
Ｌ１０：Ａｒ−二価の脂肪族基−Ｏ−二価の脂肪族基−Ｏ−三価の脂肪族基（−ＯＨ）2
Ｌ１１：Ａｒ−二価の脂肪族基−Ｏ−二価の脂肪族基−Ｏ−二価の脂肪族基−Ｏ−三価の脂肪族基（−ＯＨ）2
Ｌ１２：Ａｒ−二価の脂肪族基−Ｏ−二価の脂肪族基−Ｏ−二価の脂肪族基−Ｏ−二価の脂肪族基−Ｏ−三価の脂肪族基（−ＯＨ）2
【００７４】
式（Ｉ）で表される化合物は、重合性基を有することが好ましい。式（Ｉ）で表される化合物が重合性基を有すると、重合により配向状態を固定することができる。配向状態を固定すれば、温度による光学的性質の変化を抑制できる。
重合性基は、芳香族基（Ａｒ1 、Ａｒ2 、Ａｒ3 ）に直接または連結基を介して結合させることができる。重合性基は、一価の芳香族基（Ａｒ1 、Ａｒ2 ）の置換基に含まれることが好ましい。一価の芳香族基の双方（Ａｒ1 およびＡｒ2 ）が、いずれも重合性基を有することが好ましい。すなわち、式（Ｉ）で表される化合物は、ほぼ対称となる分子構造を有することが好ましく、そのためには、分子構造の両端に重合性基を有することが好ましい。
重合性基の例を以下に示す。
【００７５】
【化３８】
0004125900.tif 000039
【００７６】
【化３９】
0004125900.tif 000040
【００７７】
【化４０】
0004125900.tif 000041
【００７８】
【化４１】
0004125900.tif 000042
【００７９】
【化４２】
0004125900.tif 000043
【００８０】
【化４３】
0004125900.tif 000044
【００８１】
重合性基は、不飽和重合性基（Ｑ１〜Ｑ７）、エポキシ基（Ｑ８、Ｑ９）またはアジリジニル基（Ｑ１０）が好ましく、不飽和重合性基がより好ましく、エチレン性不飽和重合性基（Ｑ１〜Ｑ６）がさらに好ましく、ビニル（Ｑ１）が最も好ましい。
【００８２】
重合性基は、連結基を介して芳香族基（の芳香族環）に結合させることが好ましい。
芳香族基、連結基および重合性基の結合は、Ａｒ−Ｌ−Ｑで表される。Ａｒは、いずれかの芳香族基（Ａｒ1 、Ａｒ2 、Ａｒ3 ）であり、Ｌは、二価の連結基であり、Ｑは、重合性基である。
連結基（Ｌ）は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−、二価の脂肪族基およびそれらの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好ましい。
【００８３】
二価の脂肪族基は、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基または置換アルキニレン基である。アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基または置換アルケニレン基が好ましく、アルキレン基または置換アルキレン基がさらに好ましく、アルキレン基が最も好ましい。
アルキレン基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、２乃至１２であることがさらに好ましい。環状アルキレン基よりも鎖状アルキレン基が好ましく、分岐を有する鎖状アルキレン基よりも、直鎖状アルキレン基の方が好ましい。
アルケニレン基の炭素原子数は、２乃至２０であることが好ましく、２乃至１２であることがさらに好ましい。環状アルケニレン基よりも鎖状アルケニレン基が好ましく、分岐を有する鎖状アルケニレン基よりも、直鎖状アルケニレン基の方が好ましい。
アルキニレン基の炭素原子数は、２乃至２０であることが好ましく、２乃至１２であることがさらに好ましい。環状アルキニレン基よりも鎖状アルキニレン基が好ましく、分岐を有する鎖状アルキニレン基よりも、直鎖状アルキニレン基の方が好ましい。
置換アルキレン基のアルキレン部分、置換アルケニレン基のアルケニレン部分および置換アルキニレン基のアルキニレン部分は、それぞれ、上記アルキレン基、上記アルケニレン基および上記アルキニレン基と同様である。
置換アルキレン基、置換アルケニレン基および置換アルキニレン基の置換基の例には、ハロゲン原子（例、フッ素原子、塩素原子）、シアノおよび炭素原子数が２乃至１５（好ましくは２乃至１０）のアシルオキシ基（例、アセチルオキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、デカノイルオキシ）が含まれる。
Ａｒ−Ｌ−Ｑの例を以下に示す。
【００８４】
Ｌ２１：Ａｒ−ＣＯ−Ｏ−アルキレン基−Ｏ−ＣＯ−Ｑ
Ｌ２２：Ａｒ−ＮＨ−ＣＯ−アルキレン基−Ｏ−ＣＯ−Ｑ
Ｌ２３：Ａｒ−ＣＯ−Ｏ−アルキレン基−Ｏ−Ｑ
Ｌ２４：Ａｒ−ＣＯ−Ｏ−アルキレン基−Ｑ
Ｌ２５：Ａｒ−ＮＨ−ＣＯ−アルキレン基−ＮＨ−ＣＯ−Ｑ
Ｌ２６：Ａｒ−Ｏ−ＣＯ−アルキレン基−Ｏ−ＣＯ−Ｑ
Ｌ２７：Ａｒ−Ｏ−アルキレン基−Ｏ−ＣＯ−Ｑ
Ｌ２８：Ａｒ−Ｏ−アルキレン基−Ｑ
Ｌ２９：Ａｒ−Ｓ−アルキレン基−Ｏ−ＣＯ−Ｑ
Ｌ３０：Ａｒ−アルキレン基−Ｏ−ＣＯ−Ｑ
【００８５】
以下に、式（Ｉ）で表される化合物の例を示す。
（１）〜（３３）は、式（Ｉ）において、Ａｒ1 およびＡｒ2 が、それぞれ独立に、一価の芳香族炭化水素基であり、そして、Ａｒ3 が、二価の芳香族炭化水素基である化合物例である。
【００８６】
（１０１）〜（１３５）は、式（Ｉ）において、Ａｒ1 およびＡｒ2 が、それぞれ独立に、一価の芳香族炭化水素基であり、そして、Ａｒ3 が、二価の芳香族５員ヘテロ環基、二価の縮環型芳香族５員ヘテロ環基あるいはそれらが二個または三個連結した二価の芳香族基である化合物例である。
（２０１）〜（２２８）は、式（Ｉ）において、Ａｒ1 およびＡｒ2 が、それぞれ独立に、一価の芳香族炭化水素基であり、そして、Ａｒ3 が、二価の芳香族６員ヘテロ環基、二価の縮環型芳香族６員ヘテロ環基あるいはそれらが二個または三個連結した二価の芳香族基である化合物例である。
【００８７】
（３０１）〜（３４３）は、式（Ｉ）において、Ａｒ1 が、一価の芳香族炭化水素基、一価の芳香族５員ヘテロ環基または一価の縮環型芳香族５員ヘテロ環基であり、Ａｒ2 が、一価の芳香族５員ヘテロ環基または一価の芳香族炭化水素基であり、そして、Ａｒ3 が、二価の芳香族炭化水素基、二価の芳香族５員ヘテロ環基、二価の縮環型芳香族５員ヘテロ環基、二価の芳香族６員ヘテロ環基、二価の縮環型芳香族６員ヘテロ環基あるいはそれらが二個または三個連結した二価の芳香族基である化合物例である。
（４０１）〜（４４７）は、式（Ｉ）において、Ａｒ1 およびＡｒ2 が、それぞれ独立に、一価のシアノ置換芳香族基であり、そして、Ａｒ3 が、二価の芳香族基である化合物例である。
【００８８】
（５０１）〜（５２１）は、式（Ｉ）において、Ａｒ1 が、一価の芳香族基であり、Ａｒ2 は、一価の芳香族６員ヘテロ環基であり、そして、Ａｒ3 が、二価の芳香族炭化水素基、二価の芳香族５員ヘテロ環基、二価の縮環型芳香族５員ヘテロ環基、二価の芳香族６員ヘテロ環基、二価の縮環型芳香族６員ヘテロ環基あるいはそれらが二個または三個連結した二価の芳香族基である化合物例である。（６０１）〜（６２６）は、式（Ｉ）において、Ａｒ1 およびＡｒ2 が、それぞれ独立に、一価の芳香族基であり、Ａｒ3 が、二価の芳香族基であって、Ａｒ1 、Ａｒ2 およびＡｒ3 の少なくとも一つが、ヒドロキシルを含む置換基を有する化合物例である。
【００８９】
【化４４】
0004125900.tif 000045
【００９０】
【化４５】
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【００９１】
【化４６】
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【００９２】
【化４７】
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【００９３】
【化４８】
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【００９４】
【化４９】
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【００９５】
【化５０】
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【００９６】
【化５１】
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【００９７】
【化５２】
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【００９８】
【化５３】
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【００９９】
【化５４】
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【０１００】
【化５５】
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【０１０１】
【化５６】
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【０１０２】
【化５７】
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【０１０３】
【化５８】
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【０１０４】
【化５９】
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【０１０５】
【化６０】
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【０１０６】
【化６１】
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【０１０７】
【化６２】
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【０１０８】
【化６３】
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【０１０９】
【化６４】
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【０１１０】
【化６５】
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【０１１１】
【化６６】
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【０１１２】
【化６７】
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【０１１３】
【化６８】
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【０１１４】
【化６９】
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【０１１５】
【化７０】
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【０１１６】
【化７１】
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【０１１７】
【化７２】
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【０１１８】
【化７３】
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【０１１９】
【化７４】
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【０１２０】
【化７５】
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【０１２１】
【化７６】
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【０１２２】
【化７７】
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【０１２３】
【化７８】
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【０１２４】
【化７９】
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【０１２５】
【化８０】
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【０１２６】
【化８１】
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【０１２７】
【化８２】
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【０１２８】
【化８３】
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【０１２９】
【化８４】
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【化８５】
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【化８６】
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【０１３２】
【化８７】
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【０１３３】
【化８８】
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【０１３４】
【化８９】
0004125900.tif 000090
【０１３５】
【化９０】
0004125900.tif 000091
【０１３６】
【化９１】
0004125900.tif 000092
【０１３７】
【化９２】
0004125900.tif 000093
【０１３８】
【化９３】
0004125900.tif 000094
【０１３９】
【化９４】
0004125900.tif 000095
【０１４０】
【化９５】
0004125900.tif 000096
【０１４１】
【化９６】
0004125900.tif 000097
【０１４２】
【化９７】
0004125900.tif 000098
【０１４３】
【化９８】
0004125900.tif 000099
【０１４４】
【化９９】
0004125900.tif 000100
【０１４５】
【化１００】
0004125900.tif 000101
【０１４６】
【化１０１】
0004125900.tif 000102
【０１４７】
【化１０２】
0004125900.tif 000103
【０１４８】
【化１０３】
0004125900.tif 000104
【０１４９】
【化１０４】
0004125900.tif 000105
【０１５０】
【化１０５】
0004125900.tif 000106
【０１５１】
【化１０６】
0004125900.tif 000107
【０１５２】
【化１０７】
0004125900.tif 000108
【０１５３】
【化１０８】
0004125900.tif 000109
【０１５４】
【化１０９】
0004125900.tif 000110
【０１５５】
【化１１０】
0004125900.tif 000111
【０１５６】
【化１１１】
0004125900.tif 000112
【０１５７】
【化１１２】
0004125900.tif 000113
【０１５８】
【化１１３】
0004125900.tif 000114
【０１５９】
【化１１４】
0004125900.tif 000115
【０１６０】
【化１１５】
0004125900.tif 000116
【０１６１】
【化１１６】
0004125900.tif 000117
【０１６２】
【化１１７】
0004125900.tif 000118
【０１６３】
【化１１８】
0004125900.tif 000119
【０１６４】
【化１１９】
0004125900.tif 000120
【０１６５】
【化１２０】
0004125900.tif 000121
【０１６６】
【化１２１】
0004125900.tif 000122
【０１６７】
【化１２２】
0004125900.tif 000123
【０１６８】
【化１２３】
0004125900.tif 000124
【０１６９】
式（Ｉ）で表される化合物は、文献（例えば、Macromolecules、２６巻、５８４０頁（１９９３年）、J. Mater. Chem. 、４巻、１５４７頁（１９９４年）や特開２０００−１９８７５５号公報）に記載の方法を参照して合成することができる。
【０１７０】
［合成例１］
（化合物（１）の合成）
【０１７１】
【化１２４】
0004125900.tif 000125
【０１７２】
化合物（１−ａ）０．３４モル、化合物（１−ｂ）０．１６５モル、化合物（１−ｃ）０．０００４９モル、沃化第一銅０．０００５９モルおよびトリフェニルホスフィン０．００２５モルからなる混合物を、トリエチルアミン４８０ｍｌ中、窒素雰囲気下で、８時間還流した。室温に冷却後、反応液に酢酸エチル８００ｍｌを加え、析出した結晶を濾過で除き、さらに結晶を酢酸エチル２００ｍｌで洗浄した。この濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をテトラヒドロフラン５００ｍｌに溶かした。そこに水６０ｍｌと濃塩酸２０ｍｌとを加え、室温で３時間攪拌した。さらに酢酸エチル４００ｍｌを加え、有機相を水で洗浄した。有機相を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４〜１／２、体積比）にて精製することにより化合物（１−ｄ）を６４％の収率で得た。
【０１７３】
次に、化合物（１−ｄ）０．２０モルのジメチルアセトアミド溶液１５０ｍｌに、窒素雰囲気下、水素化ナトリウム０．６０ｍｏｌのオイル分散物を加えた。３０分室温で撹拌した後、化合物（１−ｅ）０．４４モルを加えた。その後７０℃で８時間反応させた。室温に冷却後、酢酸エチル４００ｍｌと２Ｍ塩酸１００ｍｌ、水４００ｍｌを加えた。水相を分離した後、有機相を更に１Ｍ塩酸３００ｍｌで２回、飽和食塩水２００ｍｌで１回洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４、体積比）にて精製することにより化合物（１）を８３％の収率で得た。この化合物の液晶性を調べたところ８５℃でネマチック相に、１１６℃で等方性相に転移した。
【０１７４】
［合成例２］
（化合物（２）の合成）
化合物（１）０．０２モルとｔ−ブトキシカリウム０．０６モルとをエタノール３００ｍｌ中で混合し、４時間還流した。エタノールを除去した後、酢酸エチル３００ｍｌ、水３００ｍｌおよび濃塩酸２０ｍｌを加え、水相を除去した。有機相を、さらに０．５Ｍ塩酸で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶離液：酢酸エチル）にて精製することにより化合物（２）を９２％の収率で得た。この化合物の液晶性を調べたところ１３８℃でネマチック相に、２０１℃で等方性相に転移した。
【０１７５】
［合成例３］
（化合物（３）の合成）
化合物（２）０．０１モルのジメチルアセトアミド溶液５０ｍｌに、アクリル酸クロライド０．０３モルを加え、５時間反応させた。そこに酢酸エチル１００ｍｌを加え、１Ｍ塩酸２００ｍｌで３回洗浄した。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４、体積比）にて精製することにより化合物（３）を７５％の収率で得た。この化合物の液晶性を調べたところ６２℃でネマチック相に、１０７℃で等方性相に転移した。
【０１７６】
［合成例４］
（化合物（１０１）の合成）
【０１７７】
【化１２５】
0004125900.tif 000126
【０１７８】
化合物（１０１−ａ）０．３４モル、化合物（１０１−ｂ）０．１６５モル、化合物（１０１−ｃ）０．０００４９モル、沃化第一銅０．０００５９モルおよびトリフェニルホスフィン０．００２５モルからなる混合物を、トリエチルアミン４８０ｍｌ中、窒素雰囲気下で、８時間還流した。室温に冷却後、反応液に酢酸エチル８００ｍｌを加え、析出した結晶を濾過で除き、さらに結晶を酢酸エチル２００ｍｌで洗浄した。この濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をテトラヒドロフラン５００ｍｌに溶かした。そこに水６０ｍｌと濃塩酸２０ｍｌとを加え、室温で３時間攪拌した。さらに酢酸エチル４００ｍｌを加え、有機相を水で洗浄した。有機相を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４〜１／２、体積比）にて精製することにより化合物（１０１−ｄ）を５８％の収率で得た。
【０１７９】
次に、化合物（１０１−ｄ）０．０１モルのジメチルアセトアミド溶液５０ｍｌに、化合物（１０１−ｅ）０．０２２モルを加え、室温で５時間反応させた。そこに、酢酸エチル１００ｍｌを加え、１Ｍ塩酸２００ｍｌで３回洗浄した。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４、体積比）にて精製することにより化合物（１０１）を３１％の収率で得た。この化合物の液晶性を調べたところ６４℃でネマチック相に、６７℃で等方性相に転移した。
【０１８０】
［合成例５］
（化合物（１２３）の合成）
【０１８１】
【化１２６】
0004125900.tif 000127
【０１８２】
化合物（１２３−ａ）４０ミリモル、化合物（１２３−ｂ）１９．５ミリモル、化合物（１２３−ｃ）０．１９ミリモル、沃化第一銅０．５９ミリモルおよびトリフェニルホスフィン２．５ミリモルからなる混合物を、トリエチルアミン３０ｍｌとテトラヒドロフラン３０ｍｌとの混合液中、窒素雰囲気下で、８時間還流した。室温に冷却後、反応液に酢酸エチル１００ｍｌを加え、析出した結晶を濾過で除き、さらに結晶を酢酸エチル５０ｍｌで洗浄した。この濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣を酢酸エチル１００ｍｌに溶かし、有機相を水で洗浄した。有機相を濃縮後、酢酸エチル／ヘキサン混合溶媒系で二回再結晶させて精製し、化合物（１２３）を５２％の収率で得た。この化合物の液晶性を調べたところ７６℃でネマチック相に、１０１℃で等方性相に転移した。
【０１８３】
［合成例６］
（化合物（１２１）の合成）
２，５−ジブロモ−３−メチルチオフェン（１２３−ｂ）に代えて、２，５−ジブロモチオフェンを用いた以外は、合成例５と同様の方法で化合物（１２１）を合成した。この化合物の液晶性を調べたところ７８℃でネマチック相に、１２５℃で等方性相に転移した。
【０１８４】
［合成例７］
（化合物（１２２）の合成）
２，５−ジブロモ−３−メチルチオフェン（１２３−ｂ）に代えて、５，５’−ジブロモ−２，２’−ビチオフェンを用いた以外は、合成例５と同様の方法で化合物（１２２）を合成した。この化合物の液晶性を調べたところ１５８℃でネマチック相に、２１４℃で等方性相に転移した。
【０１８５】
［合成例８］
（化合物（１３５）の合成）
２，５−ジブロモ−３−メチルチオフェン（１２３−ｂ）に代えて、２，５−ジブロモフランを用いた以外は、合成例２と同様の方法で化合物（１３５）を合成した。この化合物の液晶性を調べたところ、降温過程において１０１℃で等方性相からネマチック相に転移した。
【０１８６】
［合成例９］
（化合物（２０１）の合成）
【０１８７】
【化１２７】
0004125900.tif 000128
【０１８８】
化合物（２０１−ａ）０．４１モル、化合物（２０１−ｂ）０．２０モル、化合物（２０１−ｃ）０．０００５９モル、沃化第一銅０．０００７２モルおよびトリフェニルホスフィン０．００３０モルからなる混合物を、トリエチルアミン６００ｍｌ中、窒素雰囲気下で、８時間還流した。室温に冷却後、反応液に酢酸エチル１０００ｍｌを加え、析出した結晶を濾過で除き、さらに結晶を酢酸エチル２００ｍｌで洗浄した。この濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をテトラヒドロフラン６００ｍｌに溶かした。そこに水８０ｍｌと濃塩酸２５ｍｌとを加え、室温で３時間攪拌した。さらにクロロホルム５００ｍｌを加え、有機相を水で洗浄した。有機相を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：クロロホルム／ヘキサン＝１／２〜３／１、体積比）にて精製することにより化合物（２０１−ｄ）を５３％の収率で得た。
【０１８９】
次に、化合物（２０１−ｄ）０．０１モルのジメチルアセトアミド溶液５０ｍｌに、化合物（２０１−ｅ）０．０２２モルを加え、室温で５時間反応させた。そこに、酢酸エチル２００ｍｌを加え、１Ｍクエン酸２００ｍｌで３回洗浄した。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４〜１／２、体積比）にて精製することにより化合物（２０１）を３４％の収率で得た。化合物（２０１）は、マススペクトルにより確認した。
【０１９０】
［合成例１０］
（化合物（３１６）の合成）
【０１９１】
【化１２８】
0004125900.tif 000129
【０１９２】
化合物（３１６−ａ）０．３モル、化合物（３１６−ｂ）０．３１５モル、化合物（３１６−ｃ）０．９ミリモル、沃化第一銅１．０８ミリモルおよびトリフェニルホスフィン４．５ミリモルからなる混合物を、トリエチルアミン６００ｍｌ中、窒素雰囲気下で、８時間還流した。室温に冷却後、反応液に酢酸エチル８００ｍｌを加え、析出した結晶を濾過で除き、さらに結晶を酢酸エチル２００ｍｌで洗浄した。この濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をテトラヒドロフラン５００ｍｌに溶かした。そこに水６０ｍｌと濃塩酸２０ｍｌとを加え、室温で３時間攪拌した。さらに酢酸エチル４００ｍｌを加え、有機相を水で洗浄した。有機相を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４〜１／２、体積比）にて精製することにより化合物（３１６−ｄ）を７２％の収率で得た。
【０１９３】
次に、化合物（３１６−ｄ）０．２モルを、トルエン４００ｍｌとピリジン１６０ｍｌの混合溶液中に溶かし、反応液を０℃に冷やした。そこにトリフルオロ硫酸無水物０．３ｍｏｌのトルエン１８０ｍｌ溶液を、反応液が１５℃以下を保つように滴下した。その後室温で３時間撹拌し、一晩放置した。反応液を氷水６００ｍｌと酢酸エチル４００ｍｌとの混合液中にあけ、１時間撹拌した。その後水相を分離し、有機相をさらに水３００ｍｌで２回洗浄、有機相を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／７〜１／４、体積比）にて精製することにより化合物（３１６−ｅ）を９２％の収率で得た。
【０１９４】
【化１２９】
0004125900.tif 000130
【０１９５】
化合物（３１６−ｅ）０．１６モル、化合物（３１６−ｆ）０．１７モル、化合物（３１６−ｃ）０．４８ミリモル、沃化第一銅０．５８ミリモルおよびトリフェニルホスフィン２．４ミリモルからなる混合物を、トリエチルアミン３００ｍｌ中、窒素雰囲気下８時間還流した。室温に冷却後、反応液に酢酸エチル４００ｍｌを加え、析出した結晶を濾過で除き、さらに結晶を酢酸エチル１００ｍｌで洗浄した。この濾液を減圧下濃縮した。得られた残渣にイソプロパノール３００ｍｌとｔ−ブトキシカリウム０．２４モルを加え、３時間還流し、その後イソプロパノール約２００ｍｌを常圧で留去した。室温に冷却後、酢酸エチル３００ｍｌ、１Ｍ塩酸１００ｍｌおよび水２００ｍｌを加え、水相を分離した。さらに有機相を水２００ｍｌで１回洗浄後、有機相を濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４〜１／２、体積比）にて精製することにより化合物（３１６−ｇ）を５８％の収率で得た。
【０１９６】
化合物（３１６−ｇ）０．０８モル、化合物（３１６−ｈ）０．０８５モル、化合物（３１６−ｃ）０．２４ミリモル、沃化第一銅０．２９ミリモルおよびトリフェニルホスフィン１．２ミリモルからなる混合物を、トリエチルアミン１５０ｍｌ中、窒素雰囲気下８時間還流した。室温に冷却後、反応液に酢酸エチル２００ｍｌを加え、析出した結晶を濾過で除き、さらに結晶を酢酸エチル５０ｍｌで洗浄した。この濾液を減圧下濃縮した。得られた残渣に酢酸エチル２００ｍｌ、１Ｍクエン酸５０ｍｌおよび水（２００ｍｌを加え、水相を分離した。さらに有機相を水１００ｍｌで３回洗浄後、有機相を濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４〜１／２、体積比）にて精製することにより化合物（３１６−ｉ）を７２％の収率で得た。
【０１９７】
【化１３０】
0004125900.tif 000131
【０１９８】
水素化アルミニウムリチウム０．１２モルにテトラヒドロフラン５０ｍｌを加え、そこに化合物（３１６−ｉ）０．０４モルのテトラヒドロフラン５０ｍｌ溶液をゆっくりと加えた。その後、反応液を４時間還流した。室温に冷却後、さらに反応液を氷水で冷やし、そこに、水４．５５ｍｌ、１５質量％水酸化ナトリウム水溶液４．５５ｍｌ、そして、水１３．７ｍｌを順番にゆっくりと加えた。その後、室温で反応液を２時間撹拌し、一晩放置した。反応液を濾過、テトラヒドロフラン５０ｍｌで洗浄し、反応液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：クロロホルム／メタノール＝１／０〜１０／１、体積比）にて精製することにより化合物（３１６−ｊ）を９２％の収率で得た。
【０１９９】
化合物（３１６−ｊ）０．０３モルのジメチルアセトアミド溶液５０ｍｌに、化合物（３１６−ｋ）０．１２モル、触媒量の４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジンおよび触媒量のニトロベンゼンを加え、室温で８時間反応させた。そこに酢酸エチル２００ｍｌを加え、１Ｍ塩酸２００ｍｌで３回洗浄した。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４、体積比）にて精製することにより化合物（３１６）を５３％の収率で得た。
【０２００】
［合成例１１］
（化合物（３１８）の合成）
【０２０１】
【化１３１】
0004125900.tif 000132
【０２０２】
化合物（３１８−ａ）１１ミリモル、化合物（３１８−ｂ）５ミリモル、化合物（３１８−ｃ）０．０３３ミリモル、沃化第一銅０．０４ミリモルおよびトリフェニルホスフィン０．１６５ミリモルからなる混合物を、トリエチルアミン４０ｍｌ中、窒素雰囲気下９０℃で８時間加熱した。室温に冷却後、反応液に酢酸エチル６０ｍｌを加え、析出した結晶を濾過で除き、さらに結晶を酢酸エチル５０ｍｌで洗浄した。この濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をクロロホルム１００ｍｌに溶かし、有機相を水で洗浄した。有機相を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：クロロホルム／ヘキサン＝１／１〜３／１、体積比）にて精製することにより化合物（３１８）を６３％の収率で得た。
【０２０３】
［合成例１２］
（化合物（３２６）の合成）
【０２０４】
【化１３２】
0004125900.tif 000133
【０２０５】
原料として化合物（３２６−ａ）と化合物（３２６−ｂ）を用いた以外は、合成例１０における化合物（３１６−ｅ）の合成と同様にして、化合物（３２６−ｅ）を合成した。
【０２０６】
【化１３３】
0004125900.tif 000134
【０２０７】
合成した化合物（３２６−ｅ）を用いた以外は、合成例１０と同様にして、化合物（３２６）を合成した。
【０２０８】
［合成例１３］
（化合物（４０１）の合成）
【０２０９】
【化１３４】
0004125900.tif 000135
【０２１０】
化合物（４０１−ａ）０．４モルと炭酸水素ナトリウム０．４モルとを、８００ｍｌのジメチルホルムアミドに加え、７０℃で１時間攪拌した。化合物（４０１−ｂ）０．４モルを混合物に添加し、７０℃で６時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、１５００ｍｌの水に空けた。生成物を酢酸エチルで抽出し、水で２回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒を留去し、酢酸エチル／ヘキサンより再結晶し、白色固体の化合物（４０１−ｃ）を９５％の収率で得た。
【０２１１】
【化１３５】
0004125900.tif 000136
【０２１２】
化合物（４０１−ｃ）０．１６５モル、化合物（４０１−ｄ）０．３４モル、化合物（４０１−ｅ）０．０００４９モル、沃化第一銅０．０００５９モルおよびトリフェニルホスフィン０．００２５モルからなる混合物を、トリエチルアミン４８０ｍｌ中、窒素雰囲気下８時間還流した。室温に冷却後、反応液に酢酸エチル８００ｍｌを加え、析出した結晶を濾過で除き、さらに結晶を酢酸エチル２００ｍｌで洗浄した。この濾液を減圧下濃縮し、酢酸エチル４００ｍｌを加え、有機相を水で洗浄した。有機相を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／１０〜１／５、体積比）にて精製することにより化合物（４０１−ｆ）を５４％の収率で得た。
なお、化合物（４０１−ｄ）は、高橋らの報告（SYNTHESIS p.６２７−６３０，１９８０年）に基づいて別途合成した。
【０２１３】
化合物（４０１−ｆ）０．０１モルをジクロロメタン５０ｍｌに溶解させ、さらに水酸化ナトリウム１４ｇを水３５ｍｌとエタノール２５０ｍｌとに溶かした溶液を加えて、２４時間還流した。有機相を減圧留去し、粗生成物を１リットルの水にあけ、濃塩酸でｐＨを１にした。淡黄色の沈殿からなる化合物（４０１−ｇ）をろ過し、水で更に洗った。五酸化リン下真空中で乾燥した。精製せず次の工程に用いた。化合物（４０１−ｇ）の収率は９１％であった。
【０２１４】
【化１３６】
0004125900.tif 000137
【０２１５】
化合物（４０１−ｇ）０．００８モルと４−ヒドロキシブチルアクリレート０．００８モルとを乾燥テトラヒドロフラン７０ｍｌに溶解し、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド０．０８モルと４−ジメチルアミノピリジン０．１８ｇとを加え、室温で２４時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、水和されたジシクロヘキシルカルボジイミドを濾去し、ジクロロメタンで洗浄した。溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：クロロホルム／ヘキサン＝１／３〜１／１、体積比）にて精製することにより化合物（４０１）を６３％の収率で得た。 1Ｈ−ＮＭＲ、ＭＳにて、化合物（４０１）の生成を確認した。
【０２１６】
［合成例１４］
（化合物（５２１）の合成）
【０２１７】
【化１３７】
0004125900.tif 000138
【０２１８】
化合物（５２１−ａ）１．０モルを塩化メチレン１．２リットルに溶かし、そこにピリジン２．０モルを加え、３℃に冷却した。反応液の温度を１０℃以下に保つようにアセチルクロライド１．１モルを加え、滴下後、室温で５時間撹拌した。反応液を水洗、濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：クロロホルム／ヘキサン＝１／４〜１／０、体積比）にて精製することにより化合物（５２１−ｂ）０．８３モルを得た。
【０２１９】
【化１３８】
0004125900.tif 000139
【０２２０】
化合物（５２１−ｂ）０．８３モル、化合物（５２１−ｃ）１．２５モル、化合物（５２１−ｄ）３．７ミリモル、沃化第一銅４．５ミリモル、化合物（５２１−ｅ）１８．７ミリモルからなる混合物をトリエチルアミン１．５リットル中、窒素雰囲気下８時間還流した。室温に冷却後、反応液に酢酸エチル８００ｍｌを加え、析出した結晶を濾過で除き、更に結晶を酢酸エチル２００ｍｌで洗浄した。この濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣を酢酸エチル１リットルに溶かし、水と食塩水で洗浄した。有機層を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４〜１／２、体積比）にて精製することにより化合物（５２１−ｆ）０．６２モルを得た。
【０２２１】
【化１３９】
0004125900.tif 000140
【０２２２】
化合物（５２１−ｆ）０．６２モルをメタノール８００ｍｌに懸濁させ、そこに炭酸カリウム０．７５モルを加えた。室温で５時間撹拌後、反応液を０．５Ｎ塩酸３リットルにあけた。析出した結晶を濾過、水洗、乾燥することにより化合物（５２１−ｇ）０．６０モルを得た。
【０２２３】
【化１４０】
0004125900.tif 000141
【０２２４】
化合物（５２１−ｇ）０．６０モル、化合物（５２１−ｈ）０．２９モル、化合物（５２１−ｄ）１．８ミリモル、沃化第一銅２．２ミリモルおよび化合物（２１−ｅ）９．０ミリモルからなる混合物をトリエチルアミン８００ｍｌ中、窒素雰囲気下で８時間還流した。室温に冷却後、反応液に酢酸エチル４００ｍｌを加え、析出した結晶を濾過で除き、さらに結晶を酢酸エチル１００ｍｌで洗浄した。この濾液を減圧下濃縮した。残渣をクロロホルム６００ｍｌに溶かし、水と食塩水で洗浄、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：クロロホルム／ヘキサン＝１／８〜１／２、体積比）にて精製することにより化合物（５２１−ｉ）０.１７モルを得た。
【０２２５】
【化１４１】
0004125900.tif 000142
【０２２６】
化合物（５２１−ｉ）０．１７モルをテトラヒドロフラン５００ｍｌとメタノール１００ｍｌに溶かし、そこに６Ｎ水酸化ナトリウム水溶液７０ｍｌを加え、５時間撹拌した。反応液を水８００ｍｌ中にあけ、析出した結晶を濾過、水洗、乾燥し、化合物（５２１−ｊ）０．１５５モルを得た。
【０２２７】
【化１４２】
0004125900.tif 000143
【０２２８】
化合物（５２１−ｊ）０．１モルを塩化メチレン３００ｍｌに溶かし、そこにピリジン０．４モルとニトロベンゼン０．１ｍｌを加え、３℃に冷却した。反応液の温度を１０℃以下に保つようにアクリルクロライド０．２５モルを加え、滴下後、室温で５時間撹拌した。反応液を水洗、濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：クロロホルム／ヘキサン＝１／８〜１／２、体積比）にて精製することにより化合物（５２１）０．０６３モルを得た。
【０２２９】
［合成例１５］
（化合物（６０１）の合成）
【０２３０】
【化１４３】
0004125900.tif 000144
【０２３１】
化合物（６０１−ａ）０．４モルと１，８−ジアザビシクロ〔５.４.０〕−７−ウンデセン０．４モルとを、ベンゼン１０００ｍｌ中５時間還流した。反応混合物を室温まで冷却し、酢酸エチル５００ｍｌを加え、２Ｎ塩酸、水、５％炭酸水素ナトリウムの順で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒を留去することにより、化合物（６０１−ｃ）を９５％の収率で得た。
【０２３２】
【化１４４】
0004125900.tif 000145
【０２３３】
化合物（６０１−ｃ）０．１６５モル、化合物（６０１−ｄ）０．３４モル、化合物（６０１−ｅ）０．０００４９モル、沃化第一銅０．０００５９モルおよびトリフェニルホスフィン０．００２５モルからなる混合物を、トリエチルアミン４８０ｍｌ中、窒素雰囲気下６時間還流した。室温に冷却後、反応液に酢酸エチル８００ｍｌを加え、析出した結晶を濾過で除き、さらに結晶を酢酸エチル２００ｍｌで洗浄した。この濾液を減圧濃縮し、酢酸エチル４００ｍｌを加え、有機相を水で洗浄した。有機相を濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／２０〜１／５、体積比）にて精製することにより化合物（６０１−ｆ）を５２％の収率で得た。
【０２３４】
化合物（６０１−ｆ）０．０１モルをテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶解させ、さらに水酸化ナトリウム４ｇを水２０ｇに溶かした水溶液を加えて、室温で２４時間反応させた。反応液を２Ｎ塩酸でpＨ１にした。析出した結晶（６０１−ｇ）をろ過し、水でさらに洗浄した。五酸化リンで真空中で乾燥した。化合物（６０１−ｇ）の収率は９３％であった。化合物（６０１−ｇ）は精製せず次の工程に用いた。
【０２３５】
【化１４５】
0004125900.tif 000146
【０２３６】
化合物（６０１−ｇ）０．００８モルと１，２−Ｏ−イソプロピリデングリセロールとを酢酸エチル７０ｍｌに溶解し、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド０．０８モルの酢酸エチル溶液６０ｍｌと４−ジメチルアミノピリジン０．１８ｇとを加え、室温で２４時間攪拌した。析出した結晶をろ過し酢酸エチルで洗浄した。溶媒を留去し、シリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム／ヘキサン＝１／８〜１／２、体積比）にて精製することにより化合物（６０１−ｈ）を７２％の収率で得た。
【０２３７】
【化１４６】
0004125900.tif 000147
【０２３８】
化合物（６０１−ｈ）０．００５モルをテトラヒドロフラン１５０ｍｌ、メタノール３０ｍｌ、水２０ｍｌに溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸１ｇを加え、室温で２４時間反応させた。酢酸エチル３００ｍｌを加え、有機相を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順で洗浄した。硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、有機相を濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝１０／０〜１０／１、体積比）にて精製することにより化合物（６０１）を６８％の収率で得た。1Ｈ−ＮＭＲにて化合物（６０１）の生成を確認した。
【０２３９】
図１は、光学フイルムの基本的な構成を示す断面模式図である。
図１に示す光学フイルムは、透明支持体（１１）上に偏光選択層（１２）が形成されている。偏光選択層（１２）は、不連続相（１３）と連続相（１４）とに相分離している。不連続相（１３）は複屈折を有する光学異方性化合物からなり、不連続相の二つの屈折率（ｎ１、ｎ２）は、用いる光学的異方性化合物の性質あるいは不連続相内における配向度により異なる。光学フイルムが光散乱型偏光選択素子として機能するためには、ｎ１とｎ２の一方が連続相の屈折率と実質的に等しい値、すなわち０．０５未満となることが必要である。屈折率が実質的に等しくなるｎ１またはｎ２の方向が、偏光選択層の透過軸に相当する。
【０２４０】
図２は、最も基本的な液晶表示装置の構成を示す模式図である。
一般的な液晶表示装置は、光源として最裏面にエッジライト方式のバックライト光源（２１）を配置し、裏面より順にバックライトの光を表面に出射させる反射板（２２）と導光板（２３）とからなる。導光板を用いない直下型バックライト使用タイプもある。その場合でも、本発明に従う光学フイルムは有効である。光源（２１）の上には両側を２枚の従来の光吸収型偏光素子（２４、２５）により挟持されてなる液晶セル（２６）があり、これにより画像を表示する。光源（２１）から出射された光は下側の光吸収型偏光素子（２４）によって、少なくとも５０％吸収される。従って、この構成では理論上５０％以上の光の利用効率は得られない。
【０２４１】
図３は、光学フイルムを用いた液晶表示装置の構成例を示す模式図である。
図３に示す液晶表示装置は、光学フイルムの効果が得られる最も単純な構成例である。
光学フイルム（３１）は光散乱型偏光素子として機能する。光散乱型偏光素子は、光吸収型偏光素子（２４）の透過軸と同じ方向の偏光を選択的に透過し、偏光板透過軸と直交する偏光の一部を前方散乱による偏光解消によって偏光面が透過軸方向に揃える。一部の光は、後方散乱によって光源（２１）側へ戻り、導光板（２３）で偏光解消されて反射板（２２）で反射し、再び光学フイルム（３１）に戻って再利用される。以上の結果として、光の利用効率が向上する。
【０２４２】
図４は、光学フイルムを用いた液晶表示装置の別の構成例を示す模式図である。
図４に示す液晶表示装置は、光学フイルムを偏光板の保護膜として用いた光散乱型偏光板（３２）を、さらに他の機能を有するフイルムと組み合わせた構成例である。
光源（２１）から出射された光は散乱シート（３３）により面内で輝度が均一化され、光を所定方向に集光する機能を有するフイルム（３４）により、ユーザが見ることの無い極端に斜め方向の光を、正面付近に集光させて利用効率を向上させる。このフイルムでは逆にユーザが見る可能性のある正面よりやや斜め方向の光を減少させるが、偏光板によって適度に拡散され、図３と同様の原理で輝度を向上させると共に自然な輝度の視野角分布が得られることになる。
また、図３の構成では光学フイルム（３１）の偏光選択層と反対側の面および光吸収型偏光板表面で反射があるため光の利用効率が約１０％減少するが、偏光板の保護膜として用いることによりこの反射面が無くなるため、これだけでも光の利用効率は約１０％増加する。
【０２４３】
図５は、光学フイルムを用いた液晶表示装置のさらに別の構成例を示す模式図である。
図５に示す液晶表示装置は、光学フイルムあるいは偏光板の輝度向上機能を更に改善した構成例である。
偏光選択層の表面に直接または他の層を介して反射防止層（３５）を設けることにより、表面での反射を減少させ、偏光選択層内に入射する光量を増加させることができる。さらに、前記後方散乱偏光回転型のように、偏光板（３２）の下側にλ／４板（３６）を用いることによって、後方散乱された光散乱型偏光板の透過軸と直交する偏光が２度λ／４板を通過する。これにより、光散乱型偏光板の透過軸に偏光面を有するように回転され、光の利用効率を向上させることができる。
【０２４４】
透明支持体の光線透過率は、８０％以上であることが好ましい。また、正面から見たときに光学的等方性を有する透明支持体が好ましい。従って、透明支持体は、固有複屈折が小さい材料（例えば、セルローストリアセテート）から形成することが好ましい。市販のポリマーフイルム（ゼオネックス、ゼオノア、日本ゼオン（株）製；ＡＲＴＯＮ、ＪＳＲ（株）製；およびフジタック、富士写真フイルム（株）製：トリアセチルセルロース）を使用してもよい。なお、固有複屈折が大きい材料（例、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン）であっても、フイルム形成（溶液流延、溶融押し出し）における処理条件や、縦、横方向の延伸条件を適宜設定することによって、光学的に等方性の透明支持体を得ることもできる。
偏光板の偏光層を保護する保護フイルムを透明支持体として用いる場合には、セルローストリアセテートフイルムが特に好ましい。
透明支持体の厚みは１０乃至５００μｍが好ましく、４０乃至２００μｍが特に好ましい。
【０２４５】
透明支持体上には、隣接する層との密着性を付与するために下塗り層を設けてもよい。このような下塗り層を形成する素材は特に限定されないが、例えばトリアセチルセルロース上においてはゼラチンやポリ（メタ）アクリレート樹脂及びその置換体、スチレン−ブタジエン樹脂等が用いられる。透明支持体に、表面処理（例、化学処理、機械処理、コロナ処理、グロー放電処理）を行ってもよい。
【０２４６】
不連続相には、前述した式（Ｉ）で表される液晶性化合物が含まれる。不連続相は偏光選択層のうち５乃至９５質量％、好ましくは１０乃至８０質量％、より好ましくは２０乃至５０質量％含まれる。
不連続相において、式（Ｉ）で表される液晶性化合物を二種類以上併用してもよい。式（Ｉ）で表される液晶性化合物と他の光学的異方性化合物とを併用してもよい。他の光学的異方性化合物としては、棒状液晶が好ましい。棒状液晶化合物には、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が含まれる。棒状液晶化合物については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４年）日本化学会編の第４章、第７章および第１１章、および液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。
不連続相の大きさは、各領域をほぼ同面積の円で近似した近似円形の平均径で０．０１乃至１μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５乃至０．７μｍの範囲にあることがさらに好ましい。
【０２４７】
連続相に含まれる光学的等方性化合物としては、偏光選択層中において光学的に等方性であれば限定されない。ここで光学的等方性とは複屈折が０．０５未満を指す。つまり光学的異方性化合物も偏光選択層中において等方性であれば光学的等方性化合物として用いることができる。中でも高分子化合物または熱または電離放射線照射により重合するモノマーは、層を形成するバインダとしても用いることができるため好ましい。また、不連続相に用いる液晶性化合物の多くは有機溶剤に可溶であるため、塗布のみによって相分離構造を得るためには液晶が水溶性高分子化合物を含む水相に分散された塗布液を用ればよい。しかも溶媒として水を用いることは環境への影響も小さいため、水溶性高分子化合物が特に好ましい。また、分散安定性および延伸時の液晶配向性の観点から、ポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。
連続相は温度や湿度のような外部環境による影響を受けないことが好ましいため、架橋していることが好ましい。
連続相は偏光選択層のうち５乃至９５質量％、好ましくは２０乃至９０質量％、より好ましくは５０乃至８０質量％含まれる。
【０２４８】
高分子化合物としては水溶性でも有機溶剤可溶性でも構わない。水溶性高分子化合物の例としては、ゼラチン、アガロース、セルロース、ポリビニルアルコールとそれらの誘導体、あるいはポリアクリル酸、ポリガラクツロン酸、ポリアルギン酸とそれらの塩が挙げられる。有機溶剤可溶性高分子化合物の例としては、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトンが挙げられる。
【０２４９】
熱または電離放射線照射により重合するモノマーの例としては、エチレン性不飽和重合性基、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基の他、ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシド等を含む化合物が挙げられる。
中でも光により容易に重合させられることからエチレン性不飽和重合性基を含む化合物が好ましく、重合後、熱による影響を小さくする点で２以上のエチレン性不飽和重合性基を含む化合物が特に好ましい。
２以上のエチレン性不飽和重合性基を含む化合物の例としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，３，５−シクロヘキサントリオールトリアクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。
【０２５０】
連続相に水溶性高分子化合物を用いる場合、分散粒径を小さくし、分散安定性を付与するために界面活性剤を添加しても良い。界面活性剤としては特に限定されず、ノニオン性、イオン性（アニオン、カチオン、ベタイン）いずれも使用できる。
ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン、ポリグリシジルやソルビタンをノニオン性親水性基とする界面活性剤であり、具体的には、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニールエーテル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレングリコール、多価アルコール脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸ジエタノールアミド、トリエタノールアミン脂肪酸部分エステルを挙げることができる。
アニオン系界面活性剤としてはカルボン酸塩、硫酸塩、スルフォン酸塩、リン酸エステル塩であり、代表的なものとしては脂肪酸塩、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、α―オレフィンスルフォン酸塩、ジアルキルスルフォコハク酸塩、α―スルフォン化脂肪酸塩、Ｎ−メチルーＮオレイルタウリン、石油スルフォン酸塩、アルキル硫酸塩、硫酸化油脂、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニールエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンスチレン化フェニールエーテル硫酸塩、アルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ナフタレンスルフォン酸塩ホルムアルデヒド縮合物などが挙げられる。
カチオン系界面活性剤としてはアミン塩、４級アンモニウム塩、ピリジュム塩などを挙げることができ、第一〜第３脂肪アミン塩、第４級アンモニウム塩（テトラアルキルアンモニウム塩、トリアルキルベンジルアンモニウム塩、アルキルピリジウム塩、アルキルイミダゾリウム塩など）を挙げることが出来る。
両性系界面活性剤としてはカルボキシベタイン、スルフォベタインなどであり、Ｎ−トリアルキル−Ｎ−カルボキシメチルアンモニウムベタイン、Ｎ−トリアルキル−Ｎ−スルフォアルキレンアンモニウムベタインなどが挙げられる。
【０２５１】
これらの界面活性剤は、界面活性剤の応用（幸書房、刈米孝夫著、昭和55年9月1日発行）に記載されている。本発明においては、好ましい界面活性剤はその使用量において特に限定されず、目的とする界面活性特性が得られる量であればよい。なお、これらな界面活性剤の使用量は、不連続相の液晶１ｇあたり、０．００１乃至１ｇが好ましく。０．０１乃至０．１ｇが特に好ましい。
【０２５２】
偏光選択層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）等により、塗布により形成することができる。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。
偏光選択層の厚さは、１乃至２００μｍが好ましく、１０乃至１２０μｍがさらに好ましい。
【０２５３】
偏光選択層は上記方法によって、バンドまたはドラムのような無端支持体、あるいは透明支持体に塗布した後、剥ぎ取ってから延伸し、透明支持体にラミネートしてもよいし、透明支持体に塗布した後、そのまま延伸して用いるかまたは別の透明支持体とラミネートまたは別の透明支持体に転写して形成してもよい。
延伸倍率は、生産性の観点から１０．０倍以下が好ましく、５．０倍以下がより好ましく、３．０倍以下がさらに好ましく、２．０倍以下がさらにまた好ましく、１．５倍以下が最も好ましい。また、延伸効果の観点で、延伸倍率は、１．０１倍以上であることが好ましい。
【０２５４】
延伸工程を容易にするため、連続相の化合物のガラス転移温度を低下させる化合物を添加しても良い。連続相の化合物のガラス転移温度を低下させる化合物としては特に限定されないが、例えばジブチルフタレートやトリフェニルフォスフェート、あるいはグリセリン等が挙げられる。連続相に水溶性高分子化合物を用いる場合、グリセリンが特に好ましい。
【０２５５】
不連続相の偏光選択層の全光線透過率が最大となる偏光の偏光面を含む軸方向の屈折率（ｎ１）と全光線透過率が最小となる偏光の偏光面を含む軸方向の屈折率（ｎ２）との差の絶対値である複屈折（｜ｎ１−ｎ２｜）は、０．０５乃至１．０であることが好ましく、０．１０乃至１．０であることがさらに好ましく、０．１５乃至１．０であることが最も好ましい。
連続相は複屈折が０．０５未満であればよく、屈折率としては光学的異方性化合物のｎ１またはｎ２のいずれかとの差が０．０５未満、好ましくは０．０１未満、より好ましくは０．００１未満であればよい。
連続相と不連続相の屈折率の関係が上記の関係を満足することにより、光学フイルムが偏光選択性光学フイルムとして機能する。連続相と不連続相の屈折率が実質的に等しい値、すなわち０．０５未満となる方向が、偏光選択層の透過軸に相当する。
【０２５６】
光学フイルムを用いた光散乱型偏光板は、一般に光吸収型偏光板と積層して用いられる。光散乱型偏光板の透過軸と光吸収型偏光板の透過軸とが実質的に平行になるように貼合し、この積層体を液晶セルの２枚の偏光板のうちバックライト側偏光板として、且つ偏光板の偏光選択性層をバックライト側へ向けて配置する。また、バックライトの背面には金属反射板が配置される。
【０２５７】
光散乱型偏光板の偏光選択層側表面に反射防止層を付与することができる。反射防止層により表面反射が減少し、結果としてディスプレイの輝度を上昇させることができる。この反射防止層は例えば日本写真学会誌，２９，Ｐ．１３７（１９６６）に知られているような低屈折率層と高屈折率層の積層体でも、低屈折率層を１層のみ設けたものでも良い。
【０２５８】
光散乱型偏光板および光吸収型偏光板の積層体とバックライトとの間に、さらにλ／４板を配置することが好ましい。ここで、光散乱型偏光板および光吸収型偏光板の透過軸とλ／４板の遅相軸とが実質的に４５°になるように配置することにより、後方散乱偏光回転型で光の利用効率を上げることができる。
【０２５９】
偏光選択性光学フイルムあるいは光散乱型偏光板を液晶表示装置に用いることにより、光の利用効率が大きくなり、結果としてディスプレイの輝度が上昇する。輝度を上昇させるためには、全光線透過率が最大となる偏光面での透過率Ｔｍａｘが７５％以上、最小となる偏光面での透過率Ｔｍｉｎが６０％以下であることが好ましく、Ｔｍａｘが８０％以上、Ｔｍｉｎが５０％以下であることがより好ましく、Ｔｍａｘが８５％以上、Ｔｍｉｎが４０％以下であることが特に好ましい。
【０２６０】
偏光選択性光学フイルムは、透明電極、画素電極を有する一対の基板と、その基板間に液晶性化合物が封入された液晶セルとその外側に配置された一対の偏光板からなる液晶表示装置において、該液晶セルのバックライト側偏光板の表面に粘着剤等を用いて貼り合わせて用いることができる。
光散乱型偏光板は、透明電極、画素電極を有する一対の基板と、その基板間に液晶性化合物が封入された液晶セルとその外側に配置された一対の偏光板からなる液晶表示装置において、該液晶セルのバックライト側偏光板として用い、且つ偏光選択性層をバックライト側へ向けて配置して用いることができる。
また、本発明の光学フイルムあるいは偏光板は、特開平２−１６０２０４号公報や特許２５８７３９８号に記載されているような視野角補償フイルムと併用することもできる。
【０２６１】
【実施例】
［実施例１］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（３）４８ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．０ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．０ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
一方、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製）２０質量％水溶液２０００ｇに、界面活性剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム４．０ｇを添加、溶解後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、連続相用水溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０２６２】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。得られたフイルムを支持体ごとドライで９０℃にて１．２５倍延伸の後、９０℃で２分間熟成してから、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎｍ、最大波長３６５ｎｍ）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して不連続相を硬化させ、光学フイルムを作製した。
【０２６３】
［実施例２］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（３）２４ｇ、化合物（４）２４ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．０ｇおよび光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．０ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例１で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０２６４】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。得られたフイルムを支持体ごとドライで５０℃にて１．２５倍延伸の後、５０℃で２分間熟成してから、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎｍ、最大波長３６５ｎｍ）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して不連続相を硬化させ、光学フイルムを作製した。
【０２６５】
［実施例３］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（２１）４８ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．０ｇおよび光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．０ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例１で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０２６６】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。得られたフイルムを支持体ごとドライで１１５℃にて１．２５倍延伸の後、９０℃で２分間熟成してから、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎｍ、最大波長３６５ｎｍ）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して不連続相を硬化させ、光学フイルムを作製した。
【０２６７】
［実施例４］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（２８）４８ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．０ｇおよび光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．０ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例１で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０２６８】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。得られたフイルムを支持体ごとドライで９０℃にて１．２５倍延伸の後、９０℃で２分間熟成してから、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎｍ、最大波長３６５ｎｍ）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して不連続相を硬化させ、光学フイルムを作製した。
【０２６９】
［実施例５］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（２７）４８ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例１で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０２７０】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。このフイルムを支持体ごとドライで１１５℃にて１．２５倍延伸して光学フイルムを作製した。
【０２７１】
［比較例１］
（偏光選択層用塗布液の調製）
４'−ペンチル−４−ビフェニルカルボニトリル４８ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用液晶溶液を調製した。
不連続相用液晶溶液２００ｇと実施例１で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０２７２】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。このフイルムを支持体ごとドライで２５℃にて１．２５倍延伸して光学フイルムを作製した。
【０２７３】
（光学フイルムの評価）
実施例１〜５および比較例１で作製した光学フイルムについて、以下のように評価した。
【０２７４】
１．複屈折
連続相の複屈折は不連続相を含まないフイルムに関して同じ延伸倍率で延伸したフイルムについてＭＤおよびＴＤ方向の屈折率をアッベ屈折率計により測定した。
【０２７５】
２．光線透過率、光散乱性（ヘイズ）
得られたフイルムの光線透過率および光散乱性（ヘイズ）をヘイズメーターＭＯＤＥＬ  １００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定した。測定は光源とフイルムの間に偏光子を挿入して行い、偏光子の透過軸と偏光選択層の透過軸を同じにしたものを平行、直交させたものを直交として、光線透過率は全光線透過率を、光散乱性はヘイズを指標として評価した。偏光選択性がある場合、平行の方が直交に比べて高透過率、低ヘイズとなる。
【０２７６】
３．不連続相粒径
得られたフイルムの偏光選択層の不連続相粒径は、ミクロトームにて断面を切削し、走査型電子顕微鏡にて５０００倍で観察した写真から、任意に１００個の不連続相を抽出し、円相当半径に換算して測定した。
【０２７７】
評価結果を第１表に示す。実施例１〜５の光学フイルムでは、透過率がいずれも平行では６０％以下、直交で７５％以上となり、比較例１の光学フイルムに対して高い偏光選択性を示した。
また、実施例１〜５の光学フイルムを４０℃、８０％ＲＨの高湿下にて３日間保存したところ、実施例１〜３の光学フイルムでは、偏光選択性が全く変わらなかった。これは重合性液晶を用いて充分に配向が固定されているためである。実施例４ではわずかに偏光選択性が悪化したが、これは液晶分子中に１つの重合性基しかなく、固定化が不充分であることを示している。
【０２７８】
【表１】
第１表
0004125900.tif 000148
【０２７９】
［実施例６］
市販のヨウ素系偏光板から片側の保護フイルムを剥離した。次に、保護フイルムの代わりに、実施例１で作製した光学フイルムを貼り合わせて、光散乱偏光板を作製した。光学フイルムの偏光選択層のないケン化されたセルローストリアセテート面を、偏光板のヨウ素を含有する偏光層と貼り合わせた。
【０２８０】
［実施例７］
実施例５で調製した偏光選択層用塗布液をダイを用いてバンド流延、乾燥し、厚み４０μｍとなるようにした。このフイルムをバンドから剥ぎ取り、ドライで２５℃にて１．２倍延伸した。次いで既に６倍に延伸されたヨウ素吸着したポリビニルアルコールフイルムと圧着のみによってラミネートし、そのフイルムをホウ酸１００ｇ／ｌの水溶液中に７０℃にて５分間浸漬し、さらに水洗層で２０℃、１０秒間水洗して、さらに８０℃で５分間乾燥し、そのままケン化したトリアセチルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製）にポリビニルアルコール（ＰＶＡ１１７、クラレ（株））５質量％水溶液を糊として両面をラミネートした。このフイルムを１２０℃で乾燥し、光散乱偏光板を作製した。
【０２８１】
実施例６および７で作製した光散乱偏光板と通常の偏光板をアルミニウムでできた反射板の上に偏光選択層を反射板側にして置いて観察したところ、光散乱偏光板の方が反射板が明るく見えた。これは外光が反射板で反射し、反射光が偏光選択層において透過軸の偏光のみ透過し、後方散乱した光が再度反射板で反射して偏光選択層に到達することによって光の利用効率が上がったことを示している。また、これら光散乱偏光板を４０℃、８０％ＲＨの高湿下にて３日間保存したところ、いずれも輝度上昇効果に変化がなかった。この結果は、液晶に重合性基が無くてもホウ酸架橋により配向固定ができることを示している。
【０２８２】
［実施例８］
実施例２で作製した光学フイルムを用いて図３に示す液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の画像を斜めから見たところ、高い輝度が得られたことが確認された。
【０２８３】
［実施例９］
実施例２で作製した光学フイルムを用いて図４に示す液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の画像を斜めから見たところ、高い輝度が得られたことが確認された。
【０２８４】
［比較例２］
光学干渉による偏光選択層を有する市販の輝度上昇フイルム（ＤＢＥＦ、３Ｍ製）を偏光選択性光学フイルムとして用いて図３に示す液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の画像を斜めから見たところ、実施例８および９の液晶表示装置よりも輝度が劣っていた。
【０２８５】
［実施例１０］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（１０１）４８ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．０ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．０ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
一方、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製）２０質量％水溶液２０００ｇに、界面活性剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム４．０ｇを添加、溶解後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、連続相用水溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０２８６】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。得られたフイルムを支持体ごとドライで９０℃にて１．２５倍延伸の後、９０℃で２分間熟成してから、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎｍ、最大波長３６５ｎｍ）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して不連続相を硬化させ、光学フイルムを作製した。
【０２８７】
［実施例１１］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（１０７）４８ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．０ｇおよび光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．０ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例１０で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０２８８】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。得られたフイルムを支持体ごとドライで１３０℃にて１．２５倍延伸の後、５０℃で２分間熟成してから、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎｍ、最大波長３６５ｎｍ）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して不連続相を硬化させ、光学フイルムを作製した。
【０２８９】
［実施例１２］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（１２１）４８ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例１０で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０２９０】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。このフイルムを支持体ごとドライで９０℃にて１．２５倍延伸して光学フイルムを作製した。
【０２９１】
［実施例１３］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（１２２）４８ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例１０で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０２９２】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。このフイルムを支持体ごとドライで１６０℃にて１．１５倍延伸して光学フイルムを作製した。
【０２９３】
［実施例１４］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（１２３）４８ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例１０で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０２９４】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。このフイルムを支持体ごとドライで９０℃にて１．２５倍延伸して光学フイルムを作製した。
【０２９５】
（光学フイルムの評価）
実施例１０〜１４で作製した光学フイルムについて、実施例１〜５と同様に評価した。
評価結果を第２表に示す。実施例１〜５の光学フイルムでは、透過率がいずれも平行では６０％以下、直交で７５％以上となり、高い偏光選択性を示した。
また、実施例１０〜１４の光学フイルムを４０℃、８０％ＲＨの高湿下にて３日間保存したところ、実施例１０および１１の光学フイルムでは、偏光選択性が全く変わらなかった。これは重合性液晶を用いて充分に配向が固定されているためである。実施例１２〜１４では若干、偏光選択性が悪化したが、これは液晶分子中に重合性基がなく、配向が固定化されていないことを示している。
【０２９６】
【表２】
0004125900.tif 000149
【０２９７】
［実施例１５］
市販のヨウ素系偏光板の片側の保護フイルムを、偏光選択層のないケン化されたセルローストリアセテート面をヨウ素を含有する偏光層と貼り合わせるように実施例１０で作製した光学フイルムに置き換え、光散乱偏光板を作製した。
【０２９８】
［実施例１６］
実施例１４で調製した偏光選択層用塗布液をダイを用いてバンド流延、乾燥し、厚み４０μｍとなるようにした。このフイルムをバンドから剥ぎ取り、ドライで２５℃にて１．２倍延伸した。次いで既に６倍に延伸されたヨウ素吸着したポリビニルアルコールフイルムと圧着のみによってラミネートし、そのフイルムをホウ酸１００ｇ／ｌの水溶液中に７０℃にて５分間浸漬し、さらに水洗層で２０℃、１０秒間水洗して、さらに８０℃で５分間乾燥し、そのままケン化したトリアセチルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製）にポリビニルアルコール（ＰＶＡ１１７、クラレ（株））５質量％水溶液を糊として両面をラミネートした。このフイルムを１２０℃で乾燥し、光散乱偏光板を作製した。
【０２９９】
実施例１５および１６で作製した光散乱偏光板と通常の偏光板をアルミニウムでできた反射板の上に偏光選択層を反射板側にして置いて観察したところ、光散乱偏光板の方が反射板が明るく見えた。これは外光が反射板で反射し、反射光が偏光選択層において透過軸の偏光のみ透過し、後方散乱した光が再度反射板で反射して偏光選択層に到達することによって光の利用効率が上がったことを示している。また、これら光散乱偏光板を４０℃、８０％ＲＨの高湿下にて３日間保存したところ、いずれも輝度上昇効果に変化がなかった。このことは液晶に重合性基が無くてもホウ酸架橋により配向固定ができることを示している。
【０３００】
［実施例１７］
実施例１１で作製した光学フイルムを用いて図３に示す液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の画像を斜めから見たところ、高い輝度が得られたことが確認された。
【０３０１】
［実施例１８］
実施例１１で作製した光学フイルムを用いて図４に示す液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の画像を斜めから見たところ、高い輝度が得られたことが確認された。
【０３０２】
［実施例１９］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（２０１）４８ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．０ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．０ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
一方、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製）２０質量％水溶液２０００ｇに、界面活性剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム４．０ｇを添加、溶解後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、連続相用水溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３０３】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。得られたフイルムを支持体ごとドライで９０℃にて２．２５倍延伸の後、１２０℃で２分間熟成してから、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎｍ、最大波長３６５ｎｍ）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して不連続相を硬化させ、光学フイルムを作製した。
【０３０４】
［実施例２０］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（２０２）４８ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．０ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．０ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例１９で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３０５】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。得られたフイルムを支持体ごとドライで１３０℃にて２．２５倍延伸の後、１２０℃で２分間熟成してから、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎｍ、最大波長３６５ｎｍ）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して不連続相を硬化させ、光学フイルムを作製した。
【０３０６】
［実施例２１］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（２０３）４８ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例１９で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３０７】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。得られたフイルムを支持体ごとドライで１３０℃にて２．２５倍延伸の後、１２０℃で２分間熟成してから、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎｍ、最大波長３６５ｎｍ）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して不連続相を硬化させ、光学フイルムを作製した。
【０３０８】
［実施例２２］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（２０７）４８ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例１９で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３０９】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。得られたフイルムを支持体ごとドライで１３０℃にて２．２５倍延伸の後、１２０℃で２分間熟成してから、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎｍ、最大波長３６５ｎｍ）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して不連続相を硬化させ、光学フイルムを作製した。
【０３１０】
［実施例２３］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（２１５）４８ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例１９で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３１１】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。得られたフイルムを支持体ごとドライで１３０℃にて２．２５倍延伸の後、１００℃で２分間熟成してから、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎｍ、最大波長３６５ｎｍ）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して不連続相を硬化させ、光学フイルムを作製した。
【０３１２】
（光学フイルムの評価）
実施例１９〜２３で作製した光学フイルムについて、実施例１〜５と同様に評価した。
評価結果を第３表に示す。実施例１９〜２３の光学フイルムでは、透過率がいずれも平行では６０％以下、直交で７５％以上となり、高い偏光選択性を示した。
また、実施例１９〜２３の光学フイルムを４０℃、８０％ＲＨの高湿下にて３日間保存したところ、実施例１９〜２１、２３の光学フイルムでは、偏光選択性が全く変わらなかった。これは重合性液晶を用いて充分に配向が固定されているためである。実施例２２では若干、偏光選択性が悪化したが、これは液晶分子中に重合性基が一つしかなく、配向が固定化されていないことを示している。
【０３１３】
【表３】
0004125900.tif 000150
【０３１４】
［実施例２４］
市販のヨウ素系偏光板の片側の保護フイルムを、偏光選択層のないケン化されたセルローストリアセテート面をヨウ素を含有する偏光層と貼り合わせるように実施例１９で作製した光学フイルムに置き換え、光散乱偏光板を作製した。
【０３１５】
［実施例２５］
実施例２３で調製した偏光選択層用塗布液をダイを用いてバンド流延、乾燥し、厚み４０μｍとなるようにした。このフイルムをバンドから剥ぎ取り、ドライで２５℃にて２．５倍延伸した。次いで既に６倍に延伸されたヨウ素吸着したポリビニルアルコールフイルムと圧着のみによってラミネートし、そのフイルムをホウ酸１００ｇ／ｌの水溶液中に７０℃にて５分間浸漬し、さらに水洗槽で２０℃、１０秒間水洗して、さらに８０℃で５分間乾燥し、そのままケン化したトリアセチルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製）にポリビニルアルコール（ＰＶＡ１１７、クラレ（株））５質量％水溶液を糊として両面をラミネートした。このフイルムを１２０℃で乾燥し、光散乱偏光板を作製した。
【０３１６】
実施例２４および２５で作製した光散乱偏光板と通常の偏光板をアルミニウムでできた反射板の上に偏光選択層を反射板側にして置いて観察したところ、光散乱偏光板の方が反射板が明るく見えた。これは外光が反射板で反射し、反射光が偏光選択層において透過軸の偏光のみ透過し、後方散乱した光が再度反射板で反射して偏光選択層に到達することによって光の利用効率が上がったことを示している。また、これら光散乱偏光板を４０℃、８０％ＲＨの高湿下にて３日間保存したところ、いずれも輝度上昇効果に変化がなかった。すなわち、液晶に重合性基が一つであってもホウ酸架橋により配向が固定ができる。
【０３１７】
［実施例２６］
実施例１９で作製した光学フイルムを用いて図３に示す液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の画像を斜めから見たところ、高い輝度が得られたことが確認された。
【０３１８】
［実施例２７］
実施例２５で作製した光散乱偏光板を用いて図４に示す液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の画像を斜めから見たところ、高い輝度が得られたことが確認された。
【０３１９】
［実施例２８］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（３０１）４８ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．０ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．０ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
一方、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製）２０質量％水溶液２０００ｇに、界面活性剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム４．０ｇを添加、溶解後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、連続相用水溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３２０】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。得られたフイルムを支持体ごとドライで９０℃にて２．５倍延伸の後、１２０℃で２分間熟成してから、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎｍ、最大波長３６５ｎｍ）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して不連続相を硬化させ、光学フイルムを作製した。
【０３２１】
［実施例２９］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（３０７）４８ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．０ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．０ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例２８で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３２２】
（光学フイルムの作製）
調製した偏光選択層用塗布液を用いた以外は、実施例２８と同様にして、光学フイルムを作製した。
【０３２３】
［実施例３０］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（３１６）４８ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．０ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．０ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例２８で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３２４】
（光学フイルムの作製）
調製した偏光選択層用塗布液を用いた以外は、実施例２８と同様にして、光学フイルムを作製した。
【０３２５】
［実施例３１］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（３２４）４８ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．０ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．０ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例２８で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３２６】
（光学フイルムの作製）
調製した偏光選択層用塗布液を用いた以外は、実施例２８と同様にして、光学フイルムを作製した。
【０３２７】
［実施例３２］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（３３０）４８ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．０ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．０ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例２８で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３２８】
（光学フイルムの作製）
調製した偏光選択層用塗布液を用いた以外は、実施例２８と同様にして、光学フイルムを作製した。
【０３２９】
［実施例３３］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（３１８）４８ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例２８で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３３０】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。このフイルムを支持体ごとドライで９０℃にて２．５倍延伸の後、１２０℃で２分間熟成して光学フイルムを作製した。
【０３３１】
［実施例３４］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（３２６）４８ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例２８で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３３２】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。このフイルムを支持体ごとドライで９０℃にて２．５倍延伸の後、１２０℃で２分間熟成して光学フイルムを作製した。
【０３３３】
（光学フイルムの評価）
実施例２８〜３４で作製した光学フイルムについて、実施例１〜５と同様に評価した。
評価結果を第４表に示す。実施例２８〜３４の光学フイルムでは、透過率がいずれも平行では６０％以下、直交で７５％以上となり、高い偏光選択性を示した。
実施例２８〜３４の光学フイルムを４０℃、８０％ＲＨの高湿下にて３日間保存したところ、実施例３０〜３２の光学フイルムでは偏光選択性が全く変わらなかった。これは重合性液晶を用いて、充分に配向が固定されているためである。実施例２８および２９光学フイルムでは、若干偏光度が低下したものの、大きくは悪化しなかった。一方、実施例３３および実施例３４では、偏光選択性が著しく悪化した。これは、液晶分子中に重合性基がなく、固定化ができていないためである。
【０３３４】
【表４】
0004125900.tif 000151
【０３３５】
［実施例３５］
市販のヨウ素系偏光板の片側の保護フイルムを、偏光選択層のないケン化されたセルローストリアセテート面をヨウ素を含有する偏光層と貼り合わせるように実施例２８で作製した光学フイルムに置き換え、光散乱偏光板を作製した。
【０３３６】
［実施例３６］
実施例３２で調製した偏光選択層用塗布液をダイを用いてバンド流延、乾燥し、厚み４０μｍとなるようにした。このフイルムをバンドから剥ぎ取り、ドライで２５℃にて２．５倍延伸した。次いで既に６倍に延伸されたヨウ素吸着したポリビニルアルコールフイルムと圧着のみによってラミネートし、そのフイルムをホウ酸１００ｇ／ｌの水溶液中に７０℃にて５分間浸漬し、さらに水洗槽で２０℃、１０秒間水洗して、さらに８０℃で５分間乾燥し、そのままケン化したトリアセチルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製）にポリビニルアルコール（ＰＶＡ１１７、クラレ（株））５質量％水溶液を糊として両面をラミネートした。このフイルムを１２０℃で乾燥し、光散乱偏光板を作製した。
【０３３７】
実施例３５および３６で作製した光散乱偏光板と通常の偏光板をアルミニウムでできた反射板の上に偏光選択層を反射板側にして置いて観察したところ、光散乱偏光板の方が反射板が明るく見えた。これは外光が反射板で反射し、反射光が偏光選択層において透過軸の偏光のみ透過し、後方散乱した光が再度反射板で反射して偏光選択層に到達することによって光の利用効率が上がったことを示している。また、これら光散乱偏光板を４０℃、８０％ＲＨの高湿下にて３日間保存したところ、いずれも輝度上昇効果に変化がなかった。すなわち、液晶に重合性基が一つであってもホウ酸架橋により配向が固定ができる。
【０３３８】
［実施例３７］
実施例３０で作製した光学フイルムを用いて図３に示す液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の画像を斜めから見たところ、高い輝度が得られたことが確認された。
【０３３９】
［実施例３８］
実施例３６で作製した光散乱偏光板を用いて図４に示す液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の画像を斜めから見たところ、高い輝度が得られたことが確認された。
【０３４０】
［実施例３９］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（４０１）３４ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．０ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．０ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
一方、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製）２０質量％水溶液２０００ｇに、界面活性剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム４．０ｇを添加、溶解後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、連続相用水溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３４１】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。得られたフイルムを支持体ごとドライで１２０℃にて２倍延伸の後、６０℃で２分間熟成してから、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎｍ、最大波長３６５ｎｍ）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して不連続相を硬化させ、光学フイルムを作製した。
【０３４２】
［実施例４０］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（４０２）３４ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．０ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．０ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例３９で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３４３】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。得られたフイルムを支持体ごとドライで１２０℃にて２倍延伸の後、６０℃で２分間熟成してから、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎｍ、最大波長３６５ｎｍ）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して不連続相を硬化させ、光学フイルムを作製した。
【０３４４】
［実施例４１］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（４０４）３４ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例３９で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３４５】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。得られたフイルムを支持体ごとドライで１２０℃にて２倍延伸して光学フイルムを作製した。
【０３４６】
［実施例４２］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（４１３）３４ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例３９で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３４７】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。得られたフイルムを支持体ごとドライで１３０℃にて２倍延伸して光学フイルムを作製した。
【０３４８】
［実施例４３］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（４２７）３４ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例３９で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３４９】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗布、乾燥し、偏光選択層を形成した。塗布量は、偏光選択層の厚みが３０μｍとなるように調整した。得られたフイルムを支持体ごとドライで１３０℃にて２倍延伸して光学フイルムを作製した。
【０３５０】
（光学フイルムの評価）
実施例３９〜４３で作製した光学フイルムについて、実施例１〜５と同様に評価した。
評価結果を第５表に示す。実施例３９〜４３の光学フイルムでは、透過率がいずれも平行では６０％以下、直交で７５％以上となり、高い偏光選択性を示した。
【０３５１】
【表５】
0004125900.tif 000152
【０３５２】
［実施例４４］
市販のヨウ素系偏光板の片側の保護フイルムを、偏光選択層のないケン化されたセルローストリアセテート面をヨウ素を含有する偏光層と貼り合わせるように実施例３９で作製した光学フイルムに置き換え、光散乱偏光板を作製した。
【０３５３】
［実施例４５］
実施例４３で調製した偏光選択層用塗布液をダイを用いてバンド流延、乾燥し、厚み４０μｍとなるようにした。このフイルムをバンドから剥ぎ取り、ドライで２５℃にて１．５倍延伸した。次いで既に６倍に延伸されたヨウ素吸着したポリビニルアルコールフイルムと圧着のみによってラミネートし、そのフイルムをホウ酸１００ｇ／ｌの水溶液中に７０℃にて５分間浸漬し、さらに水洗槽で２０℃、１０秒間水洗して、さらに８０℃で５分間乾燥し、そのままケン化したトリアセチルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製）にポリビニルアルコール（ＰＶＡ１１７、クラレ（株））５質量％水溶液を糊として両面をラミネートした。このフイルムを１２０℃で乾燥し、光散乱偏光板を作製した。
【０３５４】
実施例４４および４５で作製した光散乱偏光板と通常の偏光板をアルミニウムでできた反射板の上に偏光選択層を反射板側にして置いて観察したところ、光散乱偏光板の方が反射板が明るく見えた。これは外光が反射板で反射し、反射光が偏光選択層において透過軸の偏光のみ透過し、後方散乱した光が再度反射板で反射して偏光選択層に到達することによって光の利用効率が上がったことを示している。また、これら光散乱偏光板を４０℃、８０％ＲＨの高湿下にて３日間保存したところ、いずれも輝度上昇効果に変化がなかった。すなわち、液晶に重合性基が一つであってもホウ酸架橋により配向が固定ができる。
【０３５５】
［実施例４６］
実施例３９で作製した光学フイルムを用いて図３に示す液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の画像を斜めから見たところ、高い輝度が得られたことが確認された。
【０３５６】
［実施例４７］
実施例４３で作製した光学フイルムを用いて図４に示す液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の画像を斜めから見たところ、高い輝度が得られたことが確認された。
【０３５７】
［実施例４８］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（５２１）４８ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．０ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．０ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
一方、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製）２０質量％水溶液２０００ｇに、界面活性剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム４．０ｇを添加、溶解後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、連続相用水溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３５８】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム（ＰＥＴ）上に塗布、乾燥し、偏光層の厚みが３５μｍとなるようにした。偏光層をＰＥＴから剥離し、６０℃／４０％ＲＨで２．５倍延伸の後、１２０℃で２分間熟成してから、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎｍ、最大波長３６５ｎｍ）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ２、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して不連続相を硬化させ、光学フイルムを作製した。
【０３５９】
［実施例４９］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（５１３）４８ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．０ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．０ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例４８で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３６０】
（光学フイルムの作製）
調製した偏光選択層用塗布液を用いた以外は、実施例４８と同様にして、光学フイルムを作製した。
【０３６１】
［実施例５０］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（５１５）４８ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．０ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．０ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例４８で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３６２】
（光学フイルムの作製）
調製した偏光選択層用塗布液を用いた以外は、実施例４８と同様にして、光学フイルムを作製した。
【０３６３】
［実施例５１］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（５１６）４８ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．０ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．０ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例４８で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３６４】
（光学フイルムの作製）
調製した偏光選択層用塗布液を用いた以外は、実施例４８と同様にして、光学フイルムを作製した。
【０３６５】
［実施例５２］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（５１９）４８ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．０ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．０ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例４８で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３６６】
（光学フイルムの作製）
調製した偏光選択層用塗布液を用いた以外は、実施例４８と同様にして、光学フイルムを作製した。
【０３６７】
［実施例５３］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（５０５）４８ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用液晶溶液を調製した。
不連続相用溶液２００ｇと実施例４８で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散機により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３６８】
（光学フイルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム（ＰＥＴ）上に塗布、乾燥し、偏光層の厚みが３５μｍとなるようにした。偏光層をＰＥＴから剥離し、６０℃／４０％ＲＨで２．５倍延伸して光学フイルムを作製した。
【０３６９】
（光学フイルムの評価）
実施例４８〜５３で作製した光学フイルムについて、実施例１〜５と同様に評価した。
評価結果を第６表に示す。実施例４８〜５３の光学フイルムの透過率は、いずれも平行では４６％以下、直交で９１％以上となり、高い偏光選択性を示した。また実施例４８〜５２の光学フイルムを４０℃、８０％ＲＨの高湿下にて３日間保存したところ、いずれも偏光選択性が全く変わらなかった。これは重合性液晶を用いた配向固定が十分に起こっているためである。一方、実施例５３および比較例１の光学フイルムは偏光選択性が著しく悪化した。これは、液晶分子中に重合性基がなく、固定化ができていないためである。
【０３７０】
【表６】
0004125900.tif 000153
【０３７１】
［実施例５４］
市販のヨウ素系偏光板の片側の保護フイルムを、偏光選択層のないケン化されたトリアセチルセルロース面をヨウ素を含有する偏光層と貼り合わせるように、実施例４８で作製した光学フイルムに置き換え、光散乱偏光板を作製した。
【０３７２】
［実施例５５］
実施例５３で調製した偏光層用塗布液をダイを用いてバンド流延、乾燥し、厚み４０μｍとなるようにした。このフイルムをバンドから剥ぎ取り、ドライで２５℃にて２．５倍延伸した。次いで既に６倍に延伸されたヨウ素吸着したポリビニルアルコールフイルムと圧着のみによってラミネートし、そのフイルムをホウ酸１００ｇ／ｌの水溶液中に７０℃にて５分間浸漬し、さらに水洗層で２０℃、１０秒間水洗して、さらに８０℃で５分間乾燥し、そのままケン化したトリアセチルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製）にポリビニルアルコール（ＰＶＡ１１７、クラレ（株））５質量％水溶液を糊として両面をラミネートした。このフイルムを１２０℃で乾燥し、光散乱偏光板を作製した。
【０３７３】
実施例５４および５５で作製した光散乱偏光板と通常の偏光板をアルミニウムでできた反射板の上に偏光選択層を反射板側にして置いて観察したところ、光散乱偏光板の方が反射板が明るく見えた。これは外光が反射板で反射し、反射光が偏光選択層において透過軸の偏光のみ透過し、後方散乱した光が再度反射板で反射して偏光選択層に到達することによって光の利用効率が上がったことを示している。また、これら光散乱偏光板を４０℃、８０％ＲＨの高湿下にて３日間保存したところ、いずれも輝度上昇効果に変化がなかった。この結果は、液晶に重合性基が無くてもホウ酸架橋により配向固定ができることを示している。
【０３７４】
［実施例５６］
実施例４８で作製した光学フイルムを用いて、図３に示す液晶表示装置を作製した。その結果、斜めから見た場合にも、高い輝度が認められた。
【０３７５】
［実施例５７］
実施例５５で作製した光散乱偏光板を用いて、図４に示す液晶表示装置を作製した。その結果、斜めから見た場合にも、高い輝度が認められた。
【０３７６】
［実施例５８］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（６０１）４ｇ、化合物（３）２ｇ、下記化合物（ａ）２ｇ、化合物（３３）２ｇ、下記化合物（ｂ）２ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．０ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．０ｇを酢酸エチル２８ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用液晶溶液を調製した。
一方、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製）２０質量％水溶液２０００ｇに、界面活性剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム４．０ｇを添加、溶解後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、連続相用水溶液を調製した。
不連続相用液晶溶液４０ｇと連続相用水溶液２００ｇを混合した液を、超音波分散によりこの液を分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３７７】
【化１４７】
0004125900.tif 000154
【０３７８】
（光学フィルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いてバンド流延、乾燥し、厚み１００μｍとなるようにした。このフイルムをバンドから剥ぎ取り、４０℃、６０％ＲＨにて２倍延伸し、次いでホウ酸１００ｇ／ｌの水溶液中に７０℃にて５分間浸漬し、さらに水洗層で２０℃、１０秒間水洗して、さらに８０℃で５分間乾燥させてから、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（グラフィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎｍ、最大波長３６５ｎｍ ）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ２、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して不連続相を硬化させ、光学フイルムを作製した。
【０３７９】
［実施例５９］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（６０９）５ｇ、化合物（３）２．３ｇ、化合物（ａ）１．５ｇ、化合物（３３）２ｇ、化合物（ｂ）１．５ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．０ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．０ｇを酢酸エチル２７．３ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用液晶溶液を調製した。
不連続相用液晶溶液４０ｇと実施例５８で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３８０】
（光学フィルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いてバンド流延、乾燥し、厚み１００μｍとなるようにした。このフイルムをバンドから剥ぎ取り、４０℃、６０％ＲＨにて２倍延伸し、次いでホウ酸１００ｇ／ｌの水溶液中に７０℃にて５分間浸漬し、さらに水洗層で２０℃、１０秒間水洗して、さらに８０℃で５分間乾燥させてから、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（グラフィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎｍ、最大波長３６５ｎｍ ）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ２、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して不連続相を硬化させ、光学フイルムを作製した。
【０３８１】
［実施例６０］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（６２０）４ｇ、化合物（３）２ｇ、化合物（ａ）２ｇ、化合物（３３）２ｇ、化合物（ｂ）２ｇの混合物を酢酸エチル２８ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用液晶溶液を調製した。
不連続相用液晶溶液４０ｇと実施例５８で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３８２】
（光学フィルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いてバンド流延、乾燥し、厚み１００μｍとなるようにした。このフイルムをバンドから剥ぎ取り、４０℃、６０％ＲＨにて２倍延伸し、次いでホウ酸１００ｇ／ｌの水溶液中に７０℃にて５分間浸漬し、さらに水洗層で２０℃、１０秒間水洗して、さらに８０℃で５分間乾燥させてから、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（グラフィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎｍ、最大波長３６５ｎｍ ）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ２、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して不連続相を硬化させ、光学フイルムを作製した。
【０３８３】
［実施例６１］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（６２１）１０ｇ、化合物（３）０．５ｇ、化合物（ａ）０．５ｇ、化合物（３３）０．５ｇ、化合物（ｂ）０．５ｇの混合物を酢酸エチル２８ｇに溶解し、孔径１５０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用液晶溶液を調製した。
不連続相用液晶溶液４０ｇと実施例５８で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３８４】
（光学フィルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いてバンド流延、乾燥し、厚み１００μｍとなるようにした。このフイルムをバンドから剥ぎ取り、４０℃、６０％ＲＨにて２倍延伸し、次いでホウ酸１００ｇ／ｌの水溶液中に７０℃にて５分間浸漬し、さらに水洗層で２０℃、１０秒間水洗して、さらに８０℃で５分間乾燥させてから、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（グラフィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎｍ、最大波長３６５ｎｍ ）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ２、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して不連続相を硬化させ、光学フイルムを作製した。
【０３８５】
［実施例６２］
（偏光選択層用塗布液の調製）
化合物（６２３）４ｇ、化合物（３）２．２ｇ、化合物（ａ）２ｇ、化合物（３３）２．５ｇ、化合物（ｂ）１．３ｇの混合物を酢酸エチル２８ｇに溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連続相用液晶溶液を調製した。
不連続相用液晶溶液４０ｇと実施例５８で調製した連続相用水溶液２００ｇとを混合し、混合液を、超音波分散により分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０３８６】
（光学フィルムの作製）
偏光選択層用塗布液をダイを用いてバンド流延、乾燥し、厚み１００μｍとなるようにした。このフイルムをバンドから剥ぎ取り、４０℃、６０％ＲＨにて２倍延伸し、次いでホウ酸１００ｇ／ｌの水溶液中に７０℃にて５分間浸漬し、さらに水洗層で２０℃、１０秒間水洗して、さらに８０℃で５分間乾燥させてから、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（グラフィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎｍ、最大波長３６５ｎｍ ）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ２、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して不連続相を硬化させ、光学フイルムを作製した。
【０３８７】
（光学フイルムの評価）
実施例５８〜６２で作製した光学フイルムについて、製造直後と、４０℃、８０％ＲＨの高湿下にて７日間保存した後において、実施例１〜５と同様に評価した。
評価結果を第７表に示す。実施例５８〜６２の光学フイルムでは、透過率がいずれも平行では６０％以下、直交で７５％以上となり、高い偏光選択性を示した。また、保存性能も良好であった。
【０３８８】
【表７】
0004125900.tif 000155
【０３８９】
【表８】
0004125900.tif 000156
【０３９０】
［実施例６３］
市販のヨウ素系偏光板の片側の保護フイルムを、偏光選択層のないケン化されたトリアセチルセルロース面をヨウ素を含有する偏光層と貼り合わせるように実施例５８で作製した光学フイルムに置き換え、光散乱偏光板を作成した。
【０３９１】
［実施例６４］
実施例６２で作製した偏光選択層用塗布液をダイを用いてバンド流延、乾燥し、厚み４０μｍとなるようにした。このフイルムをバンドから剥ぎ取り、40℃、60%ＲＨにて2.5倍延伸した。次いで既に６倍に延伸されたヨウ素吸着したポリビニルアルコールフイルムと圧着のみによってラミネートし、そのフイルムをホウ酸１００ｇ／ｌの水溶液中に７０℃にて５分間浸漬し、さらに水洗層で２０℃、１０秒間水洗して、さらに８０℃で５分間乾燥し、そのままケン化したトリアセチルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製）にポリビニルアルコール（ＰＶＡ１１７、クラレ（株））５質量％水溶液を糊として両面をラミネートした。このフイルムを１２０℃で乾燥し、光散乱偏光板を作成した。
【０３９２】
実施例６３および６４で作製した光散乱偏光板と通常の偏光板をアルミニウムでできた反射板の上に偏光選択層を反射板側にして置いて観察したところ、光散乱偏光板の方が反射板が明るく見えた。これは外光が反射板で反射し、反射光が偏光選択層において透過軸の偏光のみ透過し、後方散乱した光が再度反射板で反射して偏光選択層に到達することによって光の利用効率が上がったことを示している。
【０３９３】
［実施例６５］
実施例５８で作製した光学フイルムを用いて図３に示す液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の画像を斜めから見たところ、高い輝度が得られたことが確認された。
【０３９４】
［実施例６６］
実施例６２で作製した光学フイルムを用いて図４に示す液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の画像を斜めから見たところ、高い輝度が得られたことが確認された。
【図面の簡単な説明】
【図１】光学フイルムの基本的な構成を示す断面模式図である。
【図２】最も基本的な液晶表示装置の構成を示す模式図である。
【図３】光学フイルムを用いた液晶表示装置の構成例を示す模式図である。
【図４】光学フイルムを用いた液晶表示装置の別の構成例を示す模式図である。
【図５】光学フイルムを用いた液晶表示装置のさらに別の構成例を示す模式図である。
【符号の説明】
１１  透明支持体
１２  偏光選択層
１３  連続相
１４  不連続相
２１  バックライト光源
２２  反射板
２３  導光板
２４  下側光吸収型偏光素子
２５  上側光吸収型偏光素子
２６  液晶セル
３１  光学フイルム（光散乱型偏光素子）
３２  光散乱型偏光板
３３  散乱シート
３４  集光性フイルム
３５  反射防止層
３６  λ／４板
【図１】
0004125900.tif 000157
【図２】
0004125900.tif 000158
【図３】
0004125900.tif 000159
【図４】
0004125900.tif 000160
【図５】
0004125900.tif 000161