(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体噴射システムであって、
少なくとも１つの振動板部分と、前記少なくとも１つの振動板部分によって少なくとも部分的に規定される振動板チャンバとを含む密封振動板構造と、
前記少なくとも１つの振動板部分近傍に配置されるノズル穴と、
前記ノズル穴と前記少なくとも１つの振動板部分との間に規定され、第１の噴射流体を収容する噴射チャンバと、
前記噴射チャンバに前記第１の噴射流体を供給し、前記第１の噴射流体のスロッシング及び泡の形成を抑える発泡パッキング材を含む流体リザーバと、
第２の誘電流体を含み、前記振動板チャンバとの間で流体が流れるように連通して、前記第２の誘電流体を前記振動板チャンバへ供給し、前記第２の誘電流体のスロッシング及び泡の形成を抑える発泡パッキング材を含む第２の誘電流体リザーバと、
前記振動板チャンバと連通し、第２の誘電流体リザーバから供給された前記第２の誘電流体の一部を、外気と通じる流し留めに流すバーピング通路と、を備え、
前記振動板チャンバ中の空気は、前記バーピング通路を通過して振動板チャンバから除去されることを特徴とする流体噴射システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、微細加工または微細電気機械システムに基づいた流体イジェクタ、および流体噴射方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
流体イジェクタは、インクジェット記録または印刷用に開発されてきた。インクジェット記録装置には、記録時の動作が極めて静かである、高速印刷、インク選択の自由度が高い、低価格の一般紙を使用できる等の多数の利点がある。記録に必要な時にのみインクが吐出されるいわゆる「ドロップオンデマンド（drop-on-demand）」駆動方法は、すでに従来型のアプローチとなっている。ドロップオンデマンド駆動方法は、記録に不要なインクの回収を行わなくてよい。
【０００３】
インクジェット印刷用の流体イジェクタは１つ以上のノズルを有し、このノズルがインク小滴を形成かつ制御して高解像度を可能にし、トナー解像度の高いより鮮明な文字の印刷ができる。特に、ドロップオンデマンド・インクジェットプリントヘッドは、概して高解像度のプリンタに使用されている。
【０００４】
一般に、ドロップオンデマンド技術は、ある種のパルス発生器を使用して、滴の形成および噴射を行う。例えばある種のプリントヘッドでは、インクノズルを有するチャンバに圧電壁が取り付けられ、電圧が印可されるとこの壁が変形する。変形によって、ノズルオリフィスから流体が滴状に吐出される。その後、滴は、連結した印刷表面に直接当たる。このような圧電装置をドライバとして使用する方法は、日本の特公平２−０５１７３４号に記載されている。
【０００５】
他種類のプリントヘッドは、熱パルスによって形成された泡（バブル）を用いて、流体をノズルから吐出させる。バブルが形成されると、インク供給部から滴が分離する。インクの加熱によって生じる圧力を用いてバブルを形成する方法は、特公昭６１−０５９９１１号に記載されている。
【０００６】
さらに他種類のドロップオンデマンド・プリントヘッドは、静電アクチュエータを組み入れる。このタイプのプリントヘッドは、静電力を用いてインクを噴射する。このような静電プリントヘッドの例は、米国特許第４，５２０，３７５号（発明者Ｋｒｏｌｌ）および特開平２−２８９３５１号に開示されている。上記の米国特許第４，５２０，３７５号に開示されているインクジェトヘッドは、インク噴射チャンバの一部を構成する振動板と、インク噴射チャンバの外側に振動板に対向して配置される基板とを含む静電アクチュエータを使用する。振動板と基板との間に時間によって変化する電圧を印可すると、インクジェットヘッドは、インク噴射チャンバと連通するノズルからインク滴を噴射する。こうして振動板と基板とはコンデンサとして機能し、振動板を機械的に移動させ、この振動板の移動に応じて流体を吐出する。一方、特開平２−２８９３５１号に記載されているインクジェトヘッドは、振動板に設置された静電アクチュエータに電圧を印可して、振動板を変形させる。これによりインクをインク噴射チャンバへ吸引する。電圧が解除されると、振動板は非変形状態に戻り、インク噴射チャンバからインクが噴射される。
【０００７】
流体滴イジェクタは、印刷以外にも、半導体および平面ディスプレイ産業におけるホトレジストおよびその他の液体の堆積、薬剤および生物学的試料の投与、化学反応用の複数の化学物質の投与、ＤＮＡ配列の処理、相互作用の研究および定量用の薬剤および生物学的材料の投与、マイクロマシンの永久および／または着脱可能なガスケットとして利用可能な薄く狭いプラスチック層の堆積にも利用できる。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の流体噴射システムは、少なくとも１つの振動板部分と、前記少なくとも１つの振動板部分によって少なくとも部分的に規定される振動板チャンバとを含む密封振動板構造と、前記少なくとも１つの振動板部分近傍に配置されるノズル穴と、前記ノズル穴と前記少なくとも１つの振動板部分との間に規定され、第１の噴射流体を収容する噴射チャンバと、前記噴射チャンバに前記第１の噴射流体を供給し、前記第１の噴射流体のスロッシング及び泡の形成を抑える発泡パッキング材を含む流体リザーバと、第２の誘電流体を含み、前記振動板チャンバとの間で流体が流れるように連通して、前記第２の誘電流体を前記振動板チャンバへ供給し、前記第２の誘電流体のスロッシング及び泡の形成を抑える発泡パッキング材を含む第２の誘電流体リザーバと、前記振動板チャンバと連通し、第２の誘電流体リザーバから供給された前記第２の誘電流体の一部を、外気と通じる流し留めに流すバーピング通路と、を備え、前記振動板チャンバ中の空気は、前記バーピング通路を通過して振動板チャンバから除去されることを特徴とすることを特徴とする。
【０００９】
本発明のシステムおよび方法は、静電流体イジェクタにおいて、流体噴射用の静電力を増大させる。
【００１０】
本発明のシステムおよび方法はまた、流体噴射効率を向上させる。
【００１１】
本発明のシステムおよび方法はまた、静電流体イジェクタの流体噴射速度を向上させる。
【００１２】
本発明のシステムおよび方法はまた、第２の誘電流体の密封チャンバ内で補償動作を行う。
【００１３】
本発明のシステムおよび方法はまた、流体イジェクタから流体を噴射する動きのある電力による噴射サイクルを与える。
【００１４】
本発明のシステムおよび方法はまた、流体イジェクタのサイクルに関して、流体に付与する力を増大させる。
【００１５】
本発明のシステムおよび方法はまた、第１の流体または噴射流体から、静電界を絶縁する。
【００１６】
本発明のシステムおよび方法はまた、第１の流体の設計の寛容度を上げる。
【００１７】
本発明のシステムおよび方法はまた、高性能の第２の誘電流体を用いる。
【００１８】
本発明のシステムおよび方法の各種実施形態に従えば、密封された振動板を用いて、第２の誘電流体を含む流体イジェクタから流体を噴射する。他の各種実施形態に従えば、第２の誘電流体は液体である。他の各種実施形態に従えば、第２の誘電流体はほぼ非圧縮性である。他の各種実施形態に従えば、第２の誘電流体は、高性能の誘電流体または誘電率の高い流体である。
【００１９】
本発明のシステムおよび方法の各種実施形態に従えば、密封振動板チャンバは第２の誘電リザーバに接続される。本発明のシステムおよび方法の各種実施形態に従えば、第２の誘電体供給穴が振動板チャンバと連通するように基板に形成される。本発明のシステム方法の他の各種実施形態に従えば、密封振動板チャンバと連通するように通路が形成される。
【００２０】
本発明のシステムおよび方法の各種実施形態に従えば、流体噴射システムは、噴射流体と、電極と、第２の誘電流体が供給されたチャンバを少なくとも部分的に規定する密封された振動板とを含む構造をもつ。
【００２１】
本発明のシステムおよび方法の各種実施形態に従えば、流体噴射システムは、少なくとも１つの振動板部分と、この少なくとも１つの振動板部分によって少なくとも部分的に規定される振動板チャンバとを含む密封された振動板構造を含む。少なくとも１つの振動板部分上にはノズル穴を設ける。ノズル穴と少なくとも１つの振動板部分との間には、噴射する第１の流体を収容する噴射チャンバが規定される。第２の誘電流体を含む第２の誘電流体リザーバは、振動板チャンバとの間で流体が流れるようにつながっており、第２の誘電流体を振動板チャンバへ供給する。
【００２２】
【発明の実施の形態】
本発明の上記およびその他の特徴および利点は、本発明に従うシステムおよび方法の各種実施形態の以下の詳細な説明に記載するか、または該説明から明らかとなる。
【００２３】
以下に、添付の図面を参照して、本発明のシステムおよび方法の各種実施形態を詳細に説明する。
【００２４】
本発明に従う流体噴射システムは、静電引力または磁力に基づいて動作する。各種実施形態では、流体噴射システムは、少なくとも１つの振動板部分、およびこの少なくとも１つの振動板部分によって少なくとも部分的に規定される振動板チャンバとを有する密封振動板構造と、少なくとも１つの振動板部分上に配置されるノズル穴と、ノズル穴と少なくとも１つの振動板部分との間に規定される噴射チャンバと、第２の誘電流体を含む第２の誘電流体リザーバとを含む。噴射チャンバは、噴射する第１の流体を収容し、この第１の流体は誘電性であってもなくてもよい。第２の誘電流体リザーバは、振動板チャンバとの間で流体が流れるように連通しており、第２の誘電流体を振動板チャンバへ供給する。各種実施形態では、第２の誘電流体は、液体、ほぼ非圧縮性の流体、および／または高性能の誘電流体および／または誘電率が１を上回る誘電性の高い流体である。第２の誘電流体を含む第２の誘電流体リザーバを使用することで、特に第２の誘電流体が誘電率が１を上回る高性能の誘電流体である場合は、流体噴射システムの性能が改善される。
【００２５】
各種実施形態では、流体噴射システムは電極構造を含み、電極構造の少なくとも１つの電極に駆動信号が印可されると、この少なくとも１つの電極と振動板部分との間に静電界が発生して振動板部分を変形させる。振動板部分は、発生した静電界の静電力によって、この少なくとも１つの電極に向かって引き寄せられる。
【００２６】
振動板部分の変形にともない、振動板チャンバに供給される第２の誘電流体が、第２の誘電流体リザーバとの間で流入または流出する。このように、静電力によって振動板チャンバ中の第２の誘電流体の体積を圧縮または膨張させて振動板部分を変形させる必要はない。従って、第２の誘電流体には、ほぼ非圧縮性の流体、および／または誘電率が１より大きい高性能の誘電流体を用いることが有利である。
【００２７】
静電界は噴射流体にはかからないので、噴射流体には、双極性、非双極性、導電性、または非導電性等のより多様な設計を用いることができる。
【００２８】
ノズル穴と振動板部分との間に規定される噴射チャンバ中へと振動板部分が変形するように電極を配置すれば、振動板部分の変形時に流体滴がノズル穴から噴射される。流体滴の噴射後、振動板部分は、振動板の変形部分の通常の弾性力による復元運動によって、または付与される力によって逆方向に移動する。振動板部分の逆移動を用いて、噴射チャンバには噴射流体を再充填できる。
【００２９】
振動板部分が噴射チャンバから離れる方向に変形するように電極を配置すれば、振動板部分の変形時には、噴射チャンバ中に流体があふれるまで充填される。電極にかけられる駆動信号が除去されると、振動板部分は、変形した振動板部分の通常の弾性力による復元運動によって、または付与される力によって逆方向に移動し、流体滴を噴出する。
【００３０】
本発明の流体噴射システムは、シリコンベースの表面微細加工を行う一般的な製造技術に基づくモノリシックバッチ製造方法によって容易に製造でき、非常に安価な製造コスト、高信頼性、および「オンデマンド」の滴サイズ調整が可能と考えられる。以下に、特にシリコンベースの表面微細加工技術について本発明のシステムおよび方法を議論するが、実際には、本発明の流体噴射システムは、他の材料および製造技術でも可能である。また本発明のシステムおよび方法は、どのような機械的構造（「ルーフシュータ（roof shooter：上部から噴射するタイプ）」または「エッジシュータ（edge shooter：端部から噴射するタイプ）」等）をもつイジェクタ、およびどのようなサイズのイジェクタアレイにも適用できる。
【００３１】
図１〜図３は、「ルーフシュータ」構造をもつ１つのイジェクタの概略図である。図１に示すように、イジェクタ１００は、基板１１０と、電極１２０と、振動板１３０と、ノズル穴１４２を有する表面板１４０とを含む。振動板チャンバ１３２は、振動板１３０によって噴出流体から密封されている。本例では、振動板チャンバ１３２には空気が含まれている。
【００３２】
図３は、振動板１３０が変形していない初期動作状態を示す。図１に示すように、電極１２０と振動板１３０との間のエアギャップに静電界が発生すると、振動板１３０は変形状態になる。振動板１３０が変形すると、イジェクタ１００周辺の任意の位置に配置しうるリザーバから、変形した振動板１３０によって形成されるスペースへと流体が引き寄せられる。
【００３３】
振動板１３０に均一な静電力が付与されると仮定すると、次の関係式を概算できる。
【数１】
Ｆ＝（κε0Ａ）（Ｅ2）／２・・・（１）
ここで、κは誘電率とも呼ばれる流体の比誘電率（＝ε／ε0）、ε0は自由空間（すなわち真空）の誘電率、Ａは電極の断面積、およびＥは静電界強度とする。これを付与される圧力として書き直すと、
【数２】
Ｐ＝（κε0Ａ）（Ｅ2）／２  ・・・（２）
となる。直径「ｄ」（半径［ｒ」）の円形振動板では、振動板中心で発生する最大変形を概算すると、
【数３】
δ＝（Ｐｒ4）／（６４Ｄ）・・・（３）
となる。ここで、Ｄ＝（Ｅｔ3）／（１２（１−ｕ2））、Ｅはヤング率、ｔは振動板の厚さ、ｕはポアソン比である。
【００３４】
実際には、振動板１３０が変形すると、振動板１３０の中心に静電界がかかり、これにより力が付与され、この力は振動板１３０の周辺部にかかる力とは異なる。上記の関係式は、基本的方法の例示である。
【００３５】
流体噴射時には、静電界が除去されて、振動板１３０の弾性復元力によって、振動板１３０は図３に示すように非変形状態へと戻る。図２は、図１および図３にそれぞれ示す変形前と変形後との間の非静止状態を示す。弾性復元力は流体へ伝達されて流体の一部をリザーバへ押し戻し、図３に示すように流体の他の一部をノズル穴１４２から噴射する。この動作はバネを「持ち上げる」（cocked spring）と似たところがある。振動板１３０によって移動させられる流体量のうち、滴として排出される流体の割合は、イジェクタ１００の特定の設計パラメータによって制御できる。かかるパラメータには、振動板１３０のサイズ、付与される力、振動板１３０と表面板１４０間の距離、および流量調整を支援する他の独自の寸法および特徴、例えばイジェクタ１００に弁を組み入れる等、がある。この体積効率は、振動板の「持ち上げ」構造を最適化することによって改善できる。
【００３６】
振動板１３０の変形を決定する等式からわかるように、噴射時に流体に付与可能な力を制限する重要なパラメータは、振動板チャンバ１３２中の圧縮可能な流体の誘電率である。本例では、空気の誘電率は約１である。有効誘電体として空気を使用すると製造工程を簡易化できるが、イジェクタ１００全体の性能を限定する場合もある。例えば、振動板を変形させるのにより高圧な電圧が必要であり、イジェクタ１００内部の電力損失を増大させる場合がある。
【００３７】
本発明のシステムおよび方法の各種実施形態は、上記の欠点を克服する。図４〜図７に示す本発明に従う流体噴射システムの第１の実施形態では、流体イジェクタ２００は、振動板部分２３０と、振動板チャンバ２３２とを含む密封振動板構造を有する。本実施例では、振動板チャンバ２３２は、非圧縮性の第２の誘電流体２３４を含む。
【００３８】
図４〜図７に示す実施形態では、密封振動板構造は、基板２１０上に形成される。基板２１０には、振動板部分２３０と対向するように電極２２０を配置する。振動板部分２３０の基板２１０と反対側には、ノズル穴２４２のついた表面板２４０を配置する。
【００３９】
表面板２４０と振動板部分２３０との間には、噴射チャンバ２５０が規定される。噴射する流体２５２（第１の噴射流体）は、流体イジェクタ２００と別個に設置可能な流体リザーバから、流体イジェクタ２００の噴射チャンバ２５０に供給される。図４〜図６に示すように、基板２１０の振動板部分２３０と反対側に、流体リザーバ２６０を配置してもよい。図７に示すように、基板２１０には流体リザーバ２６０へ続く入口穴２５４を設けることができる。
【００４０】
第２の誘電流体２３４は、やはり流体イジェクタ２００とは別個に設置可能な第２の誘電流体リザーバ２７０から供給できる。図４〜図６に示すように、第２の誘電流体リザーバ２７０は、基板２１０の振動板部分２３０と反対側に配置してもよい。図７に示すように、基板２１０には、第２の誘電流体リザーバ２７０へ続く通路２３６を設けることができる。
【００４１】
流体イジェクタ２００は、図４〜図６に示すように静電引力に基づいて動作する。図４は初期状態、図５および図６は流体滴の噴射中の様子を示す。電極２２０に駆動信号が印可されると、電極２２０と振動板部分２３０との間に静電界が発生する。図５に示すように、静電界の引力によって、振動板部分２３０が電極２２０へ向かって変形状態になる。変形にともない、流体２５２が噴射チャンバ２５０へ引き寄せられ、噴射チャンバ２５０をあふれるまで充たす。変形した振動板部分２３０から第２の誘電流体２３４へ圧力が伝達されて、第２の誘電流体２３４を通路２３６から第２の誘電流体リザーバ２７０へ流す。このように、静電力によって第２の誘電流体２３４の非圧縮性を克服して振動板部分２３０を変形させる必要がない。
【００４２】
その後、電極２２０から駆動信号が除去され、変形した振動板部分２３０の弾性復元動作および／または付与される力によって振動板部分２３０が逆移動し、流体２５２の滴をノズル穴２４２から排出する。例えば、図示しないが第２の電極を表面板２４０に関連づけて、振動板部分２３０を逆方向に引き寄せるように第２の静電力をかけてもよい。
【００４３】
図１〜図３に示すイジェクタ１００のところで上述したように、振動板２３０によって移動させられる流体量のうち滴として排出される流体２５２の割合は、イジェクタ２００の特定の設計パラメータによって制御できる。かかるパラメータには、振動板部分２３０のサイズ、付与される力、振動板部分２３０と表面板２４０間の距離、および流量の調整を支援する他の独自の特徴、例えばイジェクタ２００に弁を組み入れる等、がある。
【００４４】
本発明に従う流体噴射システムの各種実施形態では、流体に大幅に強い力を付与できるようにするため、第２の誘電流体に高性能の誘電流体を使用する。例えば、蒸留水の誘電率κは約７８である。これは、空気を用いる方法と比較すると、振動板構造が、噴射流体に約７８倍の「バネ」力を付与できる設計であることを指す。蒸留水はまた、導電率が約１０-6Ｓ／ｍと極めて低いため、エネルギー消費が少ない。またＳ流体、Ｔ流体、油、有機溶液等の他の誘電流体も使用できる。Ｓ流体およびＴ流体は、着色料を含まない染料ベースの水性インク、マイクロエマルションインク、液晶インク、ホットメルトインク、リポソームインク、および顔料インク等の各種インクと同じ組成をもつ試験用流体である。
【００４５】
図８は、本発明に従う流体イジェクタ３００の第２の実施形態を示す。この第２実施形態では、流体イジェクタ３００は、振動板部分３３０と振動板チャンバ３３２とを含む密封振動板構造を有する。振動板チャンバ３３２は、高性能の誘電流体３３４を含む。
【００４６】
図８に示す実施形態では、基板３１０上に密封振動板構造が形成される。基板３１０上には振動板部分３３０と対向するように電極３２０を配置する。振動板部分３３０の基板３１０と反対側には、ノズル穴３４２を有する表面板３４０を配置する。
【００４７】
表面板３４０と振動板部分３３０との間に、噴射チャンバ３５０が規定される。噴射流体３５２は、基板３１０の振動板部分３３０と反対側に形成した流体リザーバ３６０から、流体イジェクタ３００の噴射チャンバ３５０に供給される。図８に示すように、基板３１０には流体リザーバ３６０へ続く入口穴３５４を形成する。
【００４８】
第２の誘電流体３３４は、やはり基板３１０の振動板部分３３０と反対側に形成した第２の誘電流体リザーバ３７０から供給される。図８に示すように、基板３１０には第２の誘電流体リザーバ３７０へ続く通路３３６を形成する。
【００４９】
流体リザーバ３６０および第２の誘電流体リザーバ３７０は、各流体中の「はね（sloshing）」と泡の形成を抑える発泡パッキン材（packing foam）３８０を含んでもよい。流体リザーバ３６０および第２の誘電流体リザーバ３７０は、密封されたタンクでもよいし、基板３１０に永久設置してもよい。
【００５０】
第２の実施形態では、流体イジェクタ３００は、振動板３３２が第２の誘電流体３３４で完全に充填されるように「バーピング（ゲップをするように出す：burping）」通路３９０を含む。通路３９０は、流体が外気と通じるようにしてもよいし、または外気と通じる流し溜め（オーバフローベイスン）３９２に流体が流れるようにしてもよい。図８の矢印９部分の部分平面図である図９に示すように、第２の実施形態では、バーピング通路３９０は入口穴３５４からずれており、流体３５２は干渉されずに噴射チャンバ３５０に到達可能となっている。
【００５１】
振動板チャンバ３３２に第２の誘電流体３３４が供給されると、振動板チャンバ３３２中の空気は、通路３９０を抜けて振動板チャンバ３３４から除去、すなわち「ゲップのように排出される」。空気が完全に抜かれるように、第２の誘電流体３３４の一部も、通路３９０を通って振動板チャンバ３３２から排出される。流し溜め３９２は、第２の誘電流体３３４の余剰分を収容する好誼な場所となる。
【００５２】
流体イジェクタのアレイでは、各流体イジェクタ３００に流体リザーバ３６０および第２の誘電流体リザーバ３７０が共通に設けられる。同様に、「バーピング」通路３９０および流し溜め３９２も各流体イジェクタ３００に共通である。さらに、振動板チャンバ３３２がいったん完全に充填されると、通路３９０は開放または密封状態のまま維持してもよい。
【００５３】
流体イジェクタ３００は、第１の実施形態のところで説明したのと同様に動作する。
【００５４】
入口穴３５４および通路３３６は、ボッシュ技術を修正した技術を用いて基板３１０に形成できる。
【００５５】
必要に応じて、変調した駆動信号を用いて、誘電流体の降伏寛容度を上げてもよい。この方法の重要な点は、振動板の「持ち上げ」動作時を通じて、ほぼ一定の静電界を用いることである。降伏力が臨界降伏寸法の変更に従って変化する流体について、可能なほぼ最大の電界強度を得られるように入力駆動信号を適切に調整することができる。詳しくいうと、誘電流体内で発生する電気的降伏または他の電気化学的反応を最小限に抑えるため、駆動信号がある特定の特性をもつように調整してもよい。例えば、システムを適当に高い周波数で駆動してもよい。または、もしくはこれに加えて、希望周波数の双極パルス列を用いてもよい。
【００５６】
以上、本発明を上記の実施形態に基づいて説明したが、多くの変形、修正、および変更が当業者には明らかと考える。従って、上述した本発明の実施形態は例示であり、本発明を限定するものではない。本発明の精神および範囲から逸脱することなく、各種変更を行うことができる。例えば、振動板は双方向振動板でもよい。
【図面の簡単な説明】
【図１】  密封振動板を用いる単一流体イジェクタの実施形態において、振動板が変形した状態を示す断面図である。
【図２】  図１の単一流体イジェクタにおいて、振動板が流体滴を噴射している状態を示す断面図である。
【図３】  図１の単一流体イジェクタにおいて、振動板の休止状態を示す断面図である。
【図４】  密封振動板とともに第２の誘電流体を用いる本発明に従う流体イジェクタの第１の実施形態において、振動板が変形した状態を示す断面図である。
【図５】  図４の流体イジェクタにおいて、振動板が流体滴を噴射している状態を示す断面図である。
【図６】  図４の流体イジェクタにおいて、振動板の休止状態を示す断面図である。
【図７】  第１の実施形態の供給穴の断面図である。
【図８】  本発明に従う流体イジェクタの第２の実施形態の断面図である。
【図９】  図８に示す第２の実施形態において、流体入口と「バーピング」通路とのずれを示す部分平面図である。
【符号の説明】
２００  流体イジェクタ、２１０  基板、２２０  電極、２３０  振動板部分、２３２  振動板チャンバ、２３４  第２の誘電流体、２４０  表面板、２４２ノズル穴、２５０  噴射チャンバ、２６０  噴射流体リザーバ、２７０  第２の誘電流体リザーバ。
【図１】
0004185290.tif 000002
【図２】
0004185290.tif 000003
【図３】
0004185290.tif 000004
【図４】
0004185290.tif 000005
【図５】
0004185290.tif 000006
【図６】
0004185290.tif 000007
【図７】
0004185290.tif 000008
【図８】
0004185290.tif 000009
【図９】
0004185290.tif 000010