【事件の表示】
　特願２００４−１８２８７５「回折光学素子とこれを含む照明系及びこれを利用した半導体素子製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　２月１７日出願公開，特開２００５−　４３８６９〕について，次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は，成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は，平成１６年６月２１日（パリ条約による優先権主張２００３年７月２４日，韓国）に特許出願されたものであって，平成２２年３月５日付けの拒絶理由通知に応答して同年６月８日付けで手続補正がなされたが，同年８月２０日付けで拒絶査定がなされ，これに対し，同年１２月１７日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに，同日付けで手続補正がなされたものである。
　
　
第２　平成２２年１２月１７日付け手続補正の適否
１．補正の内容
　平成２２年１２月１７日付け手続補正（以下，「本件補正」という。）は，特許請求の範囲について，補正前の請求項３が，
「【請求項３】
　垂直方向の前記ポールでは中心に近いほど，前記照明形状で使われる半径方向範囲が大きくなり，水平方向の前記ポールでは中心から遠くなるほど，前記照明形状で使われる半径方向範囲が大きくなるように前記凹凸面を具備することを特徴とする請求項２に記載の回折光学素子。」
であったものを，
「【請求項３】
　垂直方向
（ｙ軸）
（ｘ軸）
と補正しようとするものである。
　
２．補正の適否
　本件補正は，拒絶理由通知において，特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていないと指摘され，拒絶査定の拒絶の理由の一つ（理由２）となった，補正前の「垂直方向」及び「水平方向」という明りょうでない記載を釈明することを目的とするものと認める。
　さらに，本件補正により補正された事項は，出願当初明細書の【００３４】等に記載されているから，本件補正は，出願当初明細書等に記載した事項の範囲内においてするものである。
　よって，本件補正は，平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第３項及び第４項に規定する要件を満たしており，適法になされたものであるから，本件補正を認める。
　
　
第３　本願発明について
１．本願発明
　上記のとおり，本件補正は認められるから，本願の請求項１〜２０に係る発明は，平成２２年１２月１７日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１〜２０に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ，その請求項１に係る発明（以下，「本願発明」という。）は，次のとおりのものである。
「【請求項１】
　半導体素子製造のための露光工程で多重極照明形状を提供する回折光学素子において，
　前記照明形状で使われる半径方向範囲によって相異なる形状の照明を作るように，照明形状の円周方向成分が半径と角度の関数である照明形状を提供するように形成された凹凸面を具備し，
　前記照明形状を極座標系で表現したＩ（ｒ，Θ）は，半径方向範囲成分であるＡ（ｒ）と円周方向成分であるＣ（ｒ，Θ）との積であり，ここでrは半径であり，Θは極座標系の角度であることを特徴とする回折光学素子。」
　
２．原査定の拒絶の理由（理由３）の概要
　原査定の拒絶の理由のうち，理由３は，本願優先日前に頒布された特開平７−２６３３１３号公報及び国際公開第０２／０９５８１１号をそれぞれ引用文献１及び引用文献２として引用し，本願の請求項１，２に係る発明は，引用文献１に記載された発明，または，引用文献２に記載された発明であるから，特許法第２９条第１項第３号に該当し，特許を受けることができない，というものである。
　そこで，本願発明が，特開平７−２６３３１３号公報（以下，「刊行物１」という。）に記載された発明，あるいは，国際公開第０２／０９５８１１号（以下，「刊行物２」という。）に記載された発明と同一であるのか否かについて，以下に検討する。
　検討を進める際の便宜上，本願発明を次のとおり分説し，Ａに関する発明特定事項〜Ｄに関する発明事項をそれぞれ「構成要件Ａ」〜「構成要件Ｄ」ということとする。
「Ａ　半導体素子製造のための露光工程で多重極照明形状を提供する回折光学素子において，
Ｂ　前記照明形状で使われる半径方向範囲によって相異なる形状の照明を作るように，照明形状の円周方向成分が半径と角度の関数である照明形状を提供するように形成された凹凸面を具備し，
Ｃ　前記照明形状を極座標系で表現したＩ（ｒ，Θ）は，半径方向範囲成分であるＡ（ｒ）と円周方向成分であるＣ（ｒ，Θ）との積であり，ここでrは半径であり，Θは極座標系の角度であることを特徴とする
Ｄ　回折光学素子。」
　
３．各刊行物の記載事項及び各刊行物に記載された発明
（１）刊行物１
　刊行物１には，次の事項が記載されている。
ア．「【０００１】
　　【産業上の利用分野】
　本発明は，投影露光装置に用いる照明光学系に関するものである。
【０００２】
　　【従来の技術】
　最近の半導体の集積度の向上に伴い，投影露光装置に要求される解像力も年々高まりつつある。解像力を向上させるため，光源の短波長化，位相シフト法の採用，変形照明法の採用等の種々の方法が研究開発されており，その中でも変形照明法は従来装置に対し大幅な変更を加える必要がないという利点を有している。
  変形照明法の代表的な例としては，照明光学系の開口絞りを光束が通過する際に光束の通過位置が光軸から離間した４箇所に制限される４極照明もしくは４点照明と称される方法・・・（中略）・・・がある。４極照明は，特に，縦横の線から成るパターンについて，解像力の向上および焦点深度増大の効果が顕著であることが知られている。・・・（中略）・・・
【０００３】
　４極照明の従来例としては，例えば図４２および図４３に示すものがある。・・・（中略）・・・
【０００５】
　　【発明が解決しようとする課題】
　上記図４２の従来例では，開口絞り１０９ａに設けた開口に到達することができた照明光束のみしか透過し得ないので，光源部からの光束の利用効率が大幅に低下するとともに著しい照度ムラが生じてしまう。また，上記図４３の従来例では，光源部からの光束の利用効率を高めることはできるが，多数の光ファイバを必要とするため，構成が複雑化し，製作が困難になり，機械的な信頼性が低下してしまう。また，上記図４４の従来例では，開口絞り１０９ｂに設けた開口に到達することができた照明光束のみしか透過し得ないので，光源部からの光束の利用効率が大幅に低下してしまう。また，上記図４５の従来例では，光源部からの光束の利用効率を高めることはできるが，製作が困難なアキシコンレンズを必要とするため，コストアップが避けられない。
【０００６】
　本発明は，上記問題に着目してなされたものであり，光源からの光の利用効率が高くなるとともに構成が簡略化されて容易に実現し得る投影露光装置用照明光学系を提供することを目的とする。」
イ．「【０００７】
　　【課題を解決するための手段】
　この目的のため，本発明の請求項１の構成は，光源からの光束を分離する光束分離光学系と，該光束分離光学系により分離された光束をレチクル上へ導くコンデンサ光学系とを有する投影露光装置用照明光学系において，前記光束分離光学系が，前記光源からの光束を４つに分離する直線格子パターンを有する回折光学手段を具えることを特徴とする。
【０００８】
  また，本発明の請求項２の構成は，上記において，前記回折光学手段の直線格子パターンは境界をほぼ十字型になすように配されるとともにほぼ等間隔の格子ピッチを有する４つの直線格子パターンであり，互いに隣合う直線格子パターンの格子方向がほぼ直交することを特徴とする。」
ウ．「【００２２】
　　【実施例】
　以下，本発明の実施例を図面に基づき詳細に説明する。図１は本発明の投影露光装置用照明光学系の第１実施例の構成を示す図である。図中１は光源部であり，楕円鏡２，水銀ランプ３およびレンズ４から成る。また，図中５１は光束分離部であり，透過型の回折光学素子６１および７１から成る。
【００２３】
　回折光学素子６１は例えば石英から成り，図２（ａ）の平面図，（ｂ）の側面図，（ｃ）のＡ部詳細図に示すように，その一方の面に境界をほぼ十字型にして配された４つの領域には，等間隔の直線回折格子６１ａが形成され，各領域の格子パターンの方向は隣接する領域間で互いに直交するようになっている。直線回折格子６１ａの断面形状は１次回折光に対しブレーズ化されている。」
エ．「【００２５】
　次に，上記第１実施例の照明光束の流れを図４〜５を用いて説明する。
　光源部１により形成されたほぼ平行な光束は回折光学素子６１に入射される・・・（中略）・・・。照明光束１４は，回折光学素子６１，７１の近傍の斜視図である図４に示すように，回折光学素子６１により４つの照明光束１５に分離（波面分割）される。このように波面分割されるのは，回折光学素子６１に直線回折格子６１ａが格子方向またはブレーズ化方向が夫々異なるように形成されており，光束が入射された領域毎に所望の角度に回折されるようになっているからである。
【００２６】
　照明光束１５は，回折光学素子７１により夫々光軸にほぼ平行な方向に変換された後，フライアイレンズ８に入射される。このとき，直線回折格子６１ａ，７１ａの断面形状がブレーズ化されているためほぼ１００％の回折効率が得られるので，光源光の利用効率が高まることになる。
　フライアイレンズ８の射出側端面は２次光源の作用を有するので，その位置に４箇所の円形開口を有する開口絞り９が配置してある。４箇所の開口の形状は，分離された光束の形状に合わせて方形とすることができるが，円形としてもよい。円形とした場合，光束の一部がしゃ断されることになるが，本発明の技術を用いずに，単にこのような開口絞りを設けた場合に比べると，光源光の利用効率は遥かに高くなる。開口絞り９の４箇所の開口を通過した照明光束は夫々，コンデンサレンズ１０を介してレチクル１１を４極照明することになり，レチクル１１の像は，結像光学系１２によりウエハ１３に結像される。」
オ．図１，図２，図４は次のとおりである。
　
　上記記載事項ア〜オを含む刊行物１の全記載からは，刊行物１には，次の発明（以下，「引用発明１」という。）が記載されているものと認められる。
「　４極照明によりウエハ１３にレチクル１１の像を結像する投影露光装置用照明光学系に用いられる回折光学素子６１であって，
　その一方の面に境界をほぼ十字型にして配された４つの領域に，ほぼ等間隔の格子ピッチを有するとともに，各領域の格子パターンの方向が隣接する領域間で互いに直交するよう構成され，かつ，断面形状が１次回折光に対しブレーズ化された直線回折格子６１ａがそれぞれ形成されており，
　光源部１により形成された照明光束１４を，形状が方形である４つの照明光束１５に分離（波面分割）する回折光学素子６１。」
　
（２）刊行物２
　刊行物２には，次の事項が記載されている。
カ．「技術分野
　本発明は，主に半導体素子，液晶表示素子，撮像素子，薄膜磁気ヘッド，その他のマイクロデバイスをフォトリソグラフィ技術により製造する際に用いられるパターンを照明する照明光学装置，当該照明装置を備える露光装置，及び当該露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法に関する。
背景技術
　半導体素子，液晶表示素子，撮像素子，薄膜磁気ヘッド，その他のマイクロデバイスの製造工程の一つであるフォトリソグラフィ工程においては，マスクやレチクル（以下，これらを総称する場合は，マスクと総称する）に形成されたパターンを，フォトレジスト等の感光剤が塗布されたウェハやガラスプレート等（以下，これらを総称する場合は，基板と称する）に転写する露光装置が用いられる。」（明細書１頁３〜１３行）
キ．「ところで，近年の露光装置に要求される解像力等の性能は，理論的に算出される限界に極めて近付いている。一般に良く知られているように，マスクに形成されたパターンにより，最適な光学系の定数（投光学系の開口数，照明系の開口数等）の設定値は異なるが，装置能力の理論的限界付近で露光が行われている関係上，当然の事ながら装置側には，マスクのパターンに合わせて最適な光学系の定数が選択できることが求められる。
　このことを照明系について見ると，少なくとも照明系の開口数が可変であることが必要となる。・・・（中略）・・・開口数を可変にする為には，開口絞り１１８の系をカメラの絞りの如く可変絞りにする，又は絞りを切り替え可能として対応するのが一般的である。ただし，単に開口絞り１１８の絞り系を切り替えただけでは，絞り系を小さなものに変更した場合，光束を遮光する面積が大きくなり，照度が低下してしまう。」（明細書４頁１２〜２３行）
ク．「また，近年では，開口絞り１１７として円形以外の形状の開口を有する開口絞りを用いる場合がある。・・・（中略）・・・マスクに形成されたパターンが微細になり，装置の解像限界付近にて露光がおこなわれるようになると，照明系の開口絞りから発した光束のうち，解像に寄与するのは，開口絞りの周辺部から発した光のみになり，開口の中央部から発した光は像のコントラストを下げるだけの働きしか持たなくなる。・・・（中略）・・・従って，開口絞りの中央部からは光を発しないほうが望ましいといえる。この様な発想から，図３２Ａに示した輪帯状の開口が形成された開口絞り１１８ａが案出された。図３２Ｂに示した開口絞り１１８ｂは，更に解像するパターンを縦方向のライン及び横方向のラインのみに限定した場合の絞りである。この場合は，更に，開口絞りの上下，左右から発する光もノイズにしかならないので，開口絞りの上下，左右も更に遮光するようにしている。」（明細書５頁１１〜末行）
ケ．「発明の開示
　本発明は，・・・（中略）・・・レンズ等の光学部材の数を低減して光量低下を防止するとともに，輪帯照明等の変形照明を行う場合であっても光の利用効率を上昇させることができ，更にランニングコストの低減を図ることができる照明光学装置，当該照明光学装置を備える露光装置，及び当該露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法を提供することを目的とする。
　上記課題を解決するために，本発明の第１の観点による照明光学装置は被照射面（Ｒ，Ｗ）を照明する照明光学装置において，光束を供給する光源部（１）と，前記光源部（１）からの光束を所定の断面形状の光束に変換する光束変換手段・・・（中略）・・・と，前記光束変換手段・・・（中略）・・・にて変換された光束の光強度分布を変更するために，変倍比が２．３倍以下で焦点距離可変の変倍光学系（６，３０）と，を含み，前記光束変換手段・・・（中略）・・・は，変換される光束の断面形状の種類毎に変換特性が異なる複数の変換光学素子・・・（中略）・・・と，前記変換光学素子・・・（中略）・・・の一つを光路内に設定する設定部・・・（中略）・・・とを含むことを特徴としている。」（明細書７頁２１行〜８頁１２行）
コ．「この発明によれば，光源から供給される光束を変換光学素子によって，照明瞳面において基準光軸に対して偏心した複数の光束に変換しているため，光路上における光学部材の数を極めて少なくすることができ，その結果として照明光学系における光量低下を防止することができる。」（明細書１１頁２４〜２７行）
サ．「〔第１実施形態〕
　図１は，本発明の第１実施形態による照明光学装置及び本発明の第１実施形態による照明光学装置を備える露光装置の概略構成を示す図である。・・・（中略）・・・整形光学系としてのビームエキスパンダ２を介した光束は，折り曲げミラー３でＹ方向に偏向された後，レボルバ４に設けられている回折光学素子（ＤＯＥ：Diffractive Optical Element）又はレボルバ５に設けられている回折光学素子に順に入射する。これらの回折光学素子は，入射する光束を所定の断面形状，例えば，円形の断面形状を持つ光束，輪帯状の断面形状を持つ光束，及び基準光軸としての光軸ＡＸに対して偏心した複数の光束の内の少なくとも２種の光束に変換するものであり，本発明にいう光束変換手段の一部をなす変換光学素子に相当するものである。」（明細書１５頁１６行〜１６頁１１行）
シ．「そこで，本実施形態では，変換する光束の断面形状の種類毎に変換特性が異なる複数の回折光学素子をリボルバ４，５に設け，この回折光学素子の何れかによって断面形状が変換された光束の光強度分布を，構成が簡素なズーム光学系６で微調整している。」（明細書１７頁１８〜２１行）
ス．「図２はレボルバ４，５の一例を示す斜視図であり，図３はその正面図である。図２に示したように，レボルバ４，５は，その回転軸が光軸ＡＸに対して平行となり且つ光軸ＡＸから偏心した状態に配置され，レボルバ４に設けられた複数の回折光学素子及び開口の何れか一つ，並びに，レボルバ５に設けられた複数の回折光学素子及び開口の何れか一つが光軸上に配置されるように構成される。
　図３Ａは，レボルバ５の一例を示す正面図であり，図３Ｂは，レボルバ４の一例を示す正面図である。図３Ａに示したように，レボルバ５には，その円周方向に沿って回折光学素子５ａ〜５ｌ及び開口５ｍが円周方向に配列されている。回折光学素子５ａ〜５ｌは，入射した光束を回折して光軸ＡＸに対して偏心した複数の光束に変換するものであり，各々の回折特性（例えば，回折角）が異なるように設定される。」（明細書２０頁１６〜２６行）
セ．「回折光学素子４ａ〜４ｌ及び回折光学素子５ａ〜５ｌは位相型回折光学素子であり，複数の微小な位相パターンや透過率パターンを配設して構成されている。図４Ａは，回折光学素子４ａ〜４ｌ及び回折光学素子５ａ〜５ｌをＸ方向から見た断面形状を示す図・・・（中略）・・・である。」（明細書２１頁８〜１４行）
ソ．「次に，光軸ＡＸに対して偏心した複数の光束に変換する場合について説明する。この場合には，主制御系１５が回転駆動装置１１を制御してレボルバ４を回転させることにより開口４ｍ（図３Ｂ参照）を光軸上に配置するとともに，回転駆動装置１２を制御してレボルバ５を回転させることにより回折光学素子５ａ〜５ｌの何れか一つを光軸ＡＸ上に配置する。・・・（中略）・・・回折光学素子５ａ〜５ｌは，回折後の光束の断面形状を４方向に分離した形状に変換する。そして，ズーム光学系６を介した後，フライアイレンズ７の入射面上で図７に示すように四極状の光強度分布である照明領域ＩＡを形成する。・・・（中略）・・・図８Ａから図８Ｅは，回折光学素子５ａ〜５ｌを用いて光軸ＡＸに対して偏心した複数の光束に変換する場合における光束の断面形状の他の例を示す図である。図８Ａは，フライアイレンズ７の入射面上に形成される４つの照明領域ＩＡの形状を楕円形状とした例を示している。・・・（中略）・・・また，図８Ｃに示すように，４つの照明領域ＩＡの形状を円形状としてもよい。・・・（中略）・・・回折光学素子５ａ〜５ｌ及びズーム光学系６が形成する複数の照明領域ＩＡの形状としては，図８Ｄに示すような六角形状であっても良い。・・・（中略）・・・図８Ｅに示すように，照明領域ＩＡの形状は矩形状であってもよい。」（２２頁２１行〜２４頁２４行）
タ．図１〜図４Ａ，図８Ａ〜図８Ｅは次のとおりである。
　
　上記記載事項カ〜タを含む刊行物２の全記載からは，刊行物２には，次の発明（以下，「引用発明２」という。）が記載されているものと認められる。
「　半導体素子をフォトリソグラフィ技術により製造する際に用いられる露光装置において，パターンを４極照明する照明光学装置に用いられる回折光学素子５ａ〜５ｌであって，
　表面に複数の微小な位相パターンを配設して構成された位相型回折光学素子であり，
　かつ，入射した光束を，楕円形状，円形状，六角形状，あるいは，矩形状の断面形状で，光軸ＡＸに対して偏心した４つの光束に分離する回折光学素子５ａ〜５ｌ。」
　
４．本願発明と引用発明１の同一性についての判断
（１）構成要件Ａ及びＤについて
　引用発明１は，「４極照明によりウエハ１３にレチクル１１の像を結像する投影露光装置用照明光学系に用いられる」ものであって，「光源部１により形成された照明光束１４を，形状が方形である４つの照明光束１５に分離（波面分割）する」という機能を有する回折光学素子であるのだから，構成要件Ａにおける「露光工程で多重極照明形状を提供する回折光学素子」及び構成要件Ｄにおける「回折光学素子」に相当する。
　また，引用発明１が用いられる「投影露光装置用照明光学系」は，記載事項ア中の「最近の半導体の集積度の向上に伴い，投影露光装置に要求される解像力も年々高まりつつある。」（【０００２】）という記載からみて，「半導体素子製造のための露光工程」において照明を提供するための装置であると認められるから，引用発明１が多重極照明形状を提供する「露光工程」とは，「半導体素子製造のための露光工程」にほかならない。
　よって，引用発明１は，構成要件Ａ及びＤに相当する構成を具備している。
　
（２）構成要件Ｂについて
　本願明細書の【００２３】の「ＤＯＥ １１０は，レーザー光源１０５からの光をいくつかのビームに分離し，角度を決めて第１多重極照明形状１１５に変える。ＤＯＥ １１０からの第１多重極照明形状１１５は可変倍率ズームレンズ１２０を通過しながら拡大される。ズームレンズ１２０から拡大された第１多重極照明形状１１５は，均一化レンズ１２５によってその強さが均一された後，環型絞り１３０を通過しながら使用される半径範囲が決まり，第２多重極照明形状１１６を形成する。・・・（中略）・・・ＤＯＥ １１０は，照明形状の円周方向成分が半径と角度の関数である第１多重極照明形状１１５を生成する凹凸面を具備し，ズームレンズ１２０及び絞り１３０と組合わせて用いられることで，使用する半径方向範囲によって相異なる形状の照明とされた第２多重極照明形状１１６を作るように構成されている。」という記載，及び，図７Ａ，図７Ｂの記載等を踏まえれば，構成要件Ｂの「前記照明形状で使われる半径方向範囲によって相異なる形状の照明を作る」とは，ＤＯＥ１１０が生成した第１多重極照明形状１１５について，ズームレンズ１２０及び環型絞り１３０を用いて第１多重極照明形状１１５のうちの使用する半径方向範囲（図７Ａ，図７Ｂに示されるようなドーナツ状の領域）を変化させることによって，相異なる形状の第２多重極照明形状１１６を形成することを表現したものと解されるところ，本願発明は，「回折光学素子」の発明であって，上記ズームレンズ１２０及び環型絞り１３０は，本願発明の構成ではないのだから，構成要件Ｂの「前記照明形状で使われる半径方向範囲によって相異なる形状の照明を作るように，照明形状の円周方向成分が半径と角度の関数である照明形状を提供するように形成された凹凸面」とは，光源からの光を，照明形状の円周方向成分が半径と角度の関数である照明形状（第１多重極照明形状）に変える凹凸面であって，当該照明形状が，異なる半径方向範囲で相異なる形状となるような形状であることを意味していると解するのが相当である。
　しかるに，引用発明１の一方の面に形成された４つの直線回折格子６１ａは，「断面形状が１次回折光に対しブレーズ化され」ているのだから，引用発明１は「凹凸面を具備」するものである。
　そして，引用発明１は，４つの直線回折格子６１ａによって，「光源部１により形成された照明光束１４を，形状が方形である４つの照明光束１５に分離（波面分割）する」ものであって，当該４つの照明光束１５により構成された照明形状（断面形状）は，どのような位置を極座標系の原点と定めたとしても，その円周方向成分が半径と角度の関数で表されるものとなり，異なる半径方向範囲では相異なる形状となることは，明らかである。
　よって，引用発明１は，構成要件Ｂに相当する構成を具備している。
　
（３）構成要件Ｃについて
　（２）で述べたとおり，引用発明１によって生成される，４つの照明光束１５により構成された照明形状（断面形状）は，どのような位置を極座標系の原点と定めたとしても，その円周方向成分が半径と角度の関数で表されるものとなるのだから，当該関数をＣ（ｒ，Θ）と表現することができ，半径方向範囲成分をＡ（ｒ）で表現すれば，照明形状Ｉ（ｒ，Θ）をＡ（ｒ）とＣ（ｒ，Θ）との積で表現することができることは明らかである。
　よって，引用発明１は，構成要件Ｃに相当する構成を具備している。
　
（４）まとめ
　以上のとおり，引用発明１は，全構成要件に相当する構成を具備するものであるから，本願発明は引用発明１と同一である。
　
５．本願発明と引用発明２の同一性についての判断
（１）構成要件Ａ及びＤについて
　引用発明２は，「半導体素子をフォトリソグラフィ技術により製造する際に用いられる露光装置において，パターンを４極照明する照明光学装置に用いられる」ものであって，「入射した光束を，断面形状が楕円形状，円形状，六角形状，あるいは，矩形状で，光軸ＡＸに対して偏心した４つの光束に分離する」という機能を有する回折光学素子であるのだから，構成要件Ａにおける「半導体素子製造のための露光工程で多重極照明形状を提供する回折光学素子」及び構成要件Ｄにおける「回折光学素子」に相当する。
　よって，引用発明２は，構成要件Ａ及びＤに相当する構成を具備している。
　
（２）構成要件Ｂについて
　４．（１）で述べたとおり，構成要件Ｂの「前記照明形状で使われる半径方向範囲によって相異なる形状の照明を作るように，照明形状の円周方向成分が半径と角度の関数である照明形状を提供するように形成された凹凸面」とは，光源からの光を，照明形状の円周方向成分が半径と角度の関数である照明形状（第１多重極照明形状）に変える凹凸面であって，当該照明形状が，異なる半径方向範囲で相異なる形状となるような形状であることを意味していると解するのが相当であるところ，引用発明２の回折光学素子５ａ〜５ｌは，「表面に複数の微小な位相パターンを配設して構成された位相型回折光学素子」であるのだから，引用発明２は「凹凸面を具備」するものである。
　そして，引用発明２は，当該複数の微小な位相パターンによって，「入射した光束を，楕円形状，円形状，六角形状，あるいは，矩形状の断面形状で，光軸ＡＸに対して偏心した４つの光束に分離する」ものであって，楕円形状，円形状，六角形状，あるいは，矩形状の断面形状を有する４つの光束により構成された照明形状（断面形状）は，どのような位置を極座標系の原点と定めたとしても，その円周方向成分が半径と角度の関数で表されるものとなり，異なる半径方向範囲では相異なる形状となることは，明らかである。
　よって，引用発明２は，構成要件Ｂに相当する構成を具備している。
　
（３）構成要件Ｃについて
　（２）で述べたとおり，引用発明２によって生成される，楕円形状，円形状，六角形状，あるいは，矩形状の断面形状を有する４つの光束により構成された照明形状（断面形状）は，どのような位置を極座標系の原点と定めたとしても，その円周方向成分が半径と角度の関数で表されるものとなるのだから，当該関数をＣ（ｒ，Θ）と表現することができ，半径方向範囲成分をＡ（ｒ）で表現すれば，照明形状Ｉ（ｒ，Θ）をＡ（ｒ）とＣ（ｒ，Θ）との積で表現することができることは明らかである。
　よって，引用発明２は，構成要件Ｃに相当する構成を具備している。
　
（４）まとめ
　以上のとおり，引用発明２は，全構成要件に相当する構成を具備するものであるから，本願発明は引用発明２と同一である。
　
　
第４　まとめ
　以上のとおり，本願発明は，引用発明１及び引用発明２のいずれとも同一であるから，特許法第２９条第１項第３号に該当し，特許を受けることができない。
　したがって，本願は，その余の請求項について論究するまでもなく，拒絶すべきものである。
　よって，結論のとおり審決する。