【手続補正書】
【提出日】平成18年8月1日(2006.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  以下からなる群から選択される式を有する化合物およびそれらの薬学的に受容可能な塩であって；
【化１】
2002522422.tif 000001
ここで、
Ｒ1およびＲ3は、必要に応じて置換されたフェニル基またはフェニルアルキル基であって、該Ｒ１およびＲ３のうちの少なくとも１つが、ヒドロキシ、アリールオキシ、チオ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルキルオキシ、ハロ低級アルキルオキシ、カルボキシ、低級アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、（シクロ低級アルキル）オキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、ヘテロアリールオキシカルボニル、ヘテロアラルキルオキシカルボニル、（ヘテロシクロ低級アルキル）オキシカルボニル、低級アルキルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、低級アルキルチオ、アリールチオ、低級アルキルカルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、アラルキルカルボニルオキシ、ヘテロアリールカルボニルオキシ、ヘテロアラルキルカルボニルオキシ、（シクロ低級アルキル）カルボニルオキシ、アルキルスルホニルアミノ、（ヘテロシクロ低級アルキル）カルボニルオキシ、アミノカルボニル、低級アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アラルキルアミノカルボニル、ヘテロアリールアミノカルボニル、およびヘテロアラルキルアミノカルボニルから選択される置換基で置換され；
Ｒ2は、水素、ハロ、シアノ、ニトロ、チオ、アミノ、カルボキシル、ホルミル、ならびに必要に応じて置換されたアリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アリールオキシアルキル、アリールチオアルキル、アルケニル、低級アルキル、低級アルキルカルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、ヘテロアリールカルボニルオキシ、シクロアルキルカルボニルオキシ、シクロへテロアルキルカルボニルオキシ、アラルキルカルボニルオキシ、ヘテロアラルキルカルボニルオキシ、（シクロアルキル）アルキルカルボニルオキシ、（シクロヘテロアルキル）アルキルカルボニルオキシ、低級アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロヘテロアルキルカルボニル、アラルキルカルボニル、ヘテロアラルキルカルボニル、（シクロアルキル）アルキルカルボニル、（シクロヘテロアルキル）アルキルカルボニル、低級アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アラルキルアミノカルボニル、ヘテロアリールアミノカルボニル、ヘテロアラルキルアミノカルボニル、シクロアルキルアミノカルボニル、（シクロアルキル）アルキルアミノカルボニル、シクロヘテロアルキルアミノカルボニル、（シクロヘテロアルキル）アルキルアミノカルボニル、低級アルキルカルボニルアミノ、アリールカルボニルアミノ、ヘテロアリールカルボニルアミノ、シクロアルキルカルボニルアミノ、シクロヘテロアルキルカルボニルアミノ、アラルキルカルボニルアミノ、ヘテロアラルキルカルボニルアミノ、（シクロアルキル）アルキルカルボニルアミノ、（シクロヘテロアルキル）アルキルカルボニルアミノ、低級アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、ヘテロアリールアミノ、ヘテロアラルキルアミノ、低級アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロアリールスルホニル、シクロアルキルスルホニル、シクロヘテロアルキルスルホニル、アラルキルスルホニル、ヘテロアラルキルスルホニル、（シクロアルキル）アルキルスルホニル、（シクロヘテロアルキル）アルキルスルホニル、低級アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、ヘテロアリールスルフィニル、シクロアルキルスルフィニル、シクロヘテロアルキルスルフィニル、アラルキルスルフィニル、ヘテロアラルキルスルフィニル、（シクロアルキル）アルキルスルフィニル、（シクロヘテロアルキル）アルキルスルフィニル、低級アルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロヘテロアルキルオキシ、アラルキルオキシ、ヘテロアラルキルオキシ、（シクロアルキル）アルキルオキシ、（シクロヘテロアルキル）アルキルオキシ、低級アルキルチオ、アリールチオ、ヘテロアリールチオ、シクロアルキルチオ、シクロヘテロアルキルチオ、アラルキルチオ、ヘテロアラルキルチオ、（シクロアルキル）アルキルチオ、（シクロヘテロアルキル）アルキルチオ、低級アルキルチオカルボニル、アリールチオカルボニル、ヘテロアリールチオカルボニル、シクロアルキルチオカルボニル、シクロヘテロアルキルチオカルボニル、アラルキルチオカルボニルオキシチオカルボニル、ヘテロアラルキルチオカルボニル、（��クロアルキル）アルキルチオカルボニル、（シクロヘテロアルキル）アルキルチオカルボニル、ヘテロアリールカルボニルチオ、シクロアルキルカルボニルチオ、シクロヘテロアルキルカルボニルチオ、アラルキルカルボニルチオオキシカルボニルチオ、ヘテロアラルキルカルボニルチオ、（シクロアルキル）アルキルカルボニルチオ、（シクロヘテロアルキル）アルキルカルボニルチオ、低級アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロアリールオキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロヘテロアルキルオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、ヘテロアラルキルオキシカルボニル、（シクロアルキル）アルキルオキシカルボニル、（シクロヘテロアルキル）アルキルオキシカルボニル、イミノ低級アルキル、イミノシクロアルキル、イミノシクロヘテロアルキル、イミノアラルキル、イミノヘテロアラルキル、（シクロアルキル）イミノアルキル、（シクロヘテロアルキル）イミノアルキル、（シクロイミノアルキル）アルキル、（シクロイミノヘテロアルキル）アルキル、オキシイミノ低級アルキル、オキシイミノシクロアルキル、オキシイミノシクロヘテロアルキル、オキシイミノアラルキル、オキシイミノヘテロアラルキル、（シクロアルキル）オキシイミノアルキル、（シクロオキシイミノアルキル）アルキル、（シクロオキシイミノヘテロアルキル）アルキル、および（シクロヘテロアルキル）オキシイミノアルキルからなる群から選択され；そして
Ｒ4は、必要に応じて置換されたシクロアルキル基である、
化合物およびそれらの薬学的に受容可能な塩。
【請求項２】  請求項１に記載の化合物であって、ここで、Ｒ1およびＲ3の少なくとも１つが、ハロゲン、ニトロ、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルキルオキシ、カルボキシ、低級アルキルチオ、アミノカルボニル、および低級アルキルスルフィニルからなる群から選択される基で必要に応じて置換されている、化合物。
【請求項３】  請求項１または２に記載の化合物であって、Ｒ１およびＲ３のうちの少なくとも１つが、少なくとも４位で置換されたフェニル基である、化合物。
【請求項４】  請求項１、２または３に記載の化合物であって、Ｒ１およびＲ３が、同じである、化合物。
【請求項５】  請求項１〜４のいずれか一項に記載の化合物であって、ここで、Ｒ2が、ハロ、ならびに必要に応じて置換された低級アルキル、ハロ低級アルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、アリールオキシアルキル、アリールチオアルキル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、低級アルキルカルボニル、アミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、低級アルキルアミノカルボニル、アラルキルアミノカルボニル、（ヘテロシクロ低級アルキル）アルキルアミノカルボニル、ヘテロアリールアミノカルボニル、ヘテロアラルキルアミノカルボニル、（シクロ低級アルキル）アミノカルボニル、ホルミル、およびアルケニルからなる群から選択される、化合物。
【請求項６】  請求項５に記載の化合物であって、ここで、Ｒ2がハロである、化合物。
【請求項７】  請求項５に記載の化合物であって、ここで、Ｒ2が、必要に応じて置換されたフェニル、フェニル低級アルキル、ヒドロキシフェニル、低級アルキルオキシフェニル、ハロ低級アルキルスルホニル低級アルキルオキシフェニル、ジ低級アルキルアミノ低級アルキルオキシフェニル、（シクロアミノ低級アルキル）低級アルキルオキシフェニル、および（ヘテロシクロアルキル）低級アルキルオキシフェニルからなる群から選択される、化合物。
【請求項８】  請求項５に記載の化合物であって、ここで、Ｒ2が、必要に応じて置換された低級アルキル、ハロ低級アルキル、ヒドロキシアルキル、フェニルオキシ低級アルキル、ヒドロキシフェニル低級アルキル、ハロ低級アルキルスルホニル低級アルキル、およびフェニルチオ低級アルキルからなる群から選択される、化合物。
【請求項９】  請求項８に記載の化合物であって、ここで、Ｒ2が、必要に応じて置換された低級アルキルである、化合物。
【請求項１０】  請求項５に記載の化合物であって、ここで、Ｒ2が、必要に応じて置換されたフェニルカルボニル、（ヘテロシクロアルキル）低級アルキルオキシフェニルカルボニル、ヒドロキシフェニルカルボニル、ハロフェニルカルボニル、フェニル低級アルキルアミノカルボニル、ジ低級アルキルアミノカルボニル、フェニル低級アルキルアミノカルボニル、ヒドロキシフェニル低級アルキルアミノカルボニル、シクロアルキルアミノカルボニル、低級アルキルフェニルカルボニル、ハロ低級アルキルスルホニル低級アルキルオキシフェニルカルボニル、およびニトロフェニルカルボニルからなる群から選択される、化合物。
【請求項１１】  請求項１〜１０のいずれか一項に記載の化合物であって、ここで、Ｒ４が、非置換のシクロアルキルである、化合物。
【請求項１２】  以下からなる群から選択される式を有する化合物およびそれらの薬学的に受容可能な塩であって：
【化２】
2002522422.tif 000002
ここで、Ｘ5は、−（Ｘ10）n−であり、ここで、ｎは、１と３との間の整数であり、そしてＸ10は、ｎの各値について、酸素、−ＳＯx−（ここで、ｘは、０と２との間の整数である）、窒素、必要に応じて置換された低級アルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、アリールカルボニル、アルキルカルボニル、アラルキルカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、ヘテロアラルキルカルボニルで置換された窒素、およびメチレンまたはメチンからなる群から独立して選択され、各々は、ハロ、シアノ、ニトロ、チオ、アミノ、カルボキシル、ホルミル、ならびに必要に応じて置換された低級アルキル、低級アルキルカルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、ヘテロアリールカルボニルオキシ、シクロアルキルカルボニルオキシ、シクロヘテロアルキルカルボニルオキシ、アラルキルカルボニルオキシ、ヘテロアラルキルカルボニルオキシ、（シクロアルキル）アルキルカルボニルオキシ、（シクロヘテロアルキル）アルキルカルボニルオキシ、低級アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロヘテロアルキルカルボニル、アラルキルカルボニル、ヘテロアラルキルカルボニル、（シクロアルキル）アルキルカルボニル、（シクロヘテロアルキル）アルキルカルボニル、低級アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アラルキルアミノカルボニル、ヘテロアリールアミノカルボニル、ヘテロアラルキルアミノカルボニル、低級アルキルカルボニルアミノ、アリールカルボニルアミノ、ヘテロアリールカルボニルアミノ、シクロアルキルカルボニルアミノ、シクロヘテロアルキルカルボニルアミノ、アラルキルカルボニルアミノ、ヘテロアラルキルカルボニルアミノ、（シクロアルキル）アルキルカルボニルアミノ、（シクロヘテロアルキル）アルキルカルボニルアミノ、低級アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、ヘテロアリールアミノ、ヘテロアラルキルアミノ、低級アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロアリールスルホニル、シクロアルキルスルホニル、シクロヘテロアルキルスルホニル、アラルキルスルホニル、ヘテロアラルキルスルホニル、（シクロアルキル）アルキルスルホニル、（シクロヘテロアルキル）アルキルスルホニル、低級アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、ヘテロアリールスルフィニル、シクロアルキルスルフィニル、シクロヘテロアルキルスルフィニル、アラルキルスルフィニル、ヘテロアラルキルスルフィニル、（シクロアルキル）アルキルスルフィニル、（シクロヘテロアルキル）アルキルスルフィニル、低級アルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロヘテロアルキルオキシ、アラルキルオキシ、ヘテロアラルキルオキシ、（シクロアルキル）アルキルオキシ、および（シクロヘテロアルキル）アルキルオキシ、低級アルキルチオ、アリールチオ、ヘテロアリールチオ、シクロアルキルチオ、シクロヘテロアルキルチオ、アラルキルチオ、ヘテロアラルキルチオ、（シクロアルキル）アルキルチオ、（シクロヘテロアルキル）アルキルチオ、低級アルキルチオカルボニル、アリールチオカルボニル、��テロアリールチオカルボニル、シクロアルキルチオカルボニル、シクロヘテロアルキルチオカルボニル、アラルキルチオカルボニルオキシルチオカルボニル、ヘテロアラルキルチオカルボニル、（シクロアルキル）アルキルチオカルボニル、（シクロヘテロアルキル）アルキルチオカルボニル、低級アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロアリールオキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロヘテロアルキルオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニルオキシルオキシカルボニル、ヘテロアラルキルオキシカルボニル、（シクロアルキル）アルキルオキシカルボニル、（シクロヘテロアルキル）アルキルオキシカルボニル、イミノ低級アルキル、イミノシクロアルキル、イミノシクロヘテロアルキル、イミノアラルキル、イミノヘテロアラルキル、（シクロアルキル）イミノアルキル、および（シクロヘテロアルキル）イミノアルキルからなる群から必要に応じて置換され；
Ｘ6〜Ｘ9は、酸素、硫黄、スルフィニル、窒素、および必要に応じて置換されたメチンからなる群から独立して選択され；
Ｒ5は、カルボキシル、ホルミル、および必要に応じて置換された低級アルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、シクロアルキル、シクロヘテロアルキル、低級アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロヘテロアルキルカルボニル、アラルキルカルボニル、ヘテロアラルキルカルボニル、（シクロアルキル）アルキルカルボニル、（シクロヘテロアルキル）アルキルカルボニル、低級アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アラルキルアミノカルボニル、ヘテロアリールアミノカルボニル、ヘテロアラルキルアミノカルボニル、シクロアルキルアミノカルボニル、（シクロアルキル）アルキルアミノカルボニル、シクロヘテロアルキルアミノカルボニル、（シクロヘテロアルキル）アルキルアミノカルボニル、低級アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロアリールスルホニル、シクロアルキルスルホニル、シクロヘテロアルキルスルホニル、アラルキルスルホニル、ヘテロアラルキルスルホニル、（シクロアルキル）アルキルスルホニル、（シクロヘテロアルキル）アルキルスルホニル、低級アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、ヘテロアリールスルフィニル、シクロアルキルスルフィニル、シクロヘテロアルキルスルフィニル、アラルキルスルフィニル、ヘテロアラルキルスルフィニル、（シクロアルキル）アルキルスルフィニル、（シクロヘテロアルキル）アルキルスルフィニル、アリールチオカルボニル、ヘテロアリールチオカルボニル、シクロアルキルチオカルボニル、シクロヘテロアルキルチオカルボニル、アラルキルチオカルボニルオキシチオカルボニル、ヘテロアラルキルチオカルボニル、（シクロアルキル）アルキルチオカルボニル、（シクロヘテロアルキル）アルキルチオカルボニル、低級アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロアリールオキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロヘテロアルキルオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニルオキシルオキシカルボニル、ヘテロアラルキルオキシカルボニル、（シクロアルキル）アルキルオキシカルボニル、（シクロヘテロアルキル）アルキルオキシカルボニル、カルボキシアミジノ、低級アルキルカルボキシアミジノ、アリールカルボキシアミジノ、アラルキルカルボキシアミジノ、ヘテロアリールカルボキシアミジノ、ヘテロアラルキルカルボキシアミジノ、シクロアルキルカルボキシアミジノ、シクロヘテロアルキルカルボキシアミジノからなる群から選択され；そして
Ｒ6が、必要に応じて置換された低級アルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、シクロヘテロアルキル、アラルキル、ヘテロアラルキル、（シクロアルキル）アルキル、および（シクロヘテロアルキル）アルキルからなる群から選択される、
化合物。
【請求項１３】  請求項１２に記載の化合物であって、ここで、Ｘ6〜Ｘ9が、窒素および必要に応じて置換されたメチンからなる群から独立して選択される、化合物。
【請求項１４】  請求項１２に記載の化合物であって、ここで、Ｘ6〜Ｘ9のうちの少なくとも１つが、低級アルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、低級アルキルチオ、アリールチオ、ヘテロアリールチオ、低級アルキルカルボニル、アリールカルボニル、およびヘテロアリールカルボニルからなる群から選択される部分で置換されたメチンである、化合物。
【請求項１５】  請求項１４に記載の化合物であって、ここで、Ｘ7が、ヒドロキシまたは低級アルキルオキシで置換されたメチンである、化合物。
【請求項１６】  請求項１２〜１５のいずれか一項に記載の化合物であって、ここで、ｎが１であり、そしてＸ10が、窒素、必要に応じて置換された窒素、および必要に応じて置換されたメチレンまたはメチンからなる群から選択される、化合物。
【請求項１７】  請求項１２〜１５のいずれか一項に記載の化合物であって、ここで、ｎが２であり、そして各Ｘ10が、窒素、必要に応じて置換された窒素、必要に応じて置換されたメチレン、および必要に応じて置換されたメチンからなる群から独立して選択される、化合物。
【請求項１８】  請求項１７に記載の化合物であって、ここで、Ｒ6が、必要に応じて置換されたアリール、へテロアリール、アラルキル、およびへテロアラルキルからなる群から選択される、化合物。
【請求項１９】  請求項１８に記載の化合物であって、ここで、Ｒ6が必要に応じて置換されたアリールまたはアラルキルである、化合物。
【請求項２０】  請求項１９に記載の化合物であって、ここで、Ｒ6が、少なくとも１つのヒドロキシル部分、チオ部分、あるいは必要に応じて置換された低級アルキルオキシ部分、アリールオキシ部分、へテロアリールオキシ部分、低級アルキルチオ部分、アリールチオ部分、へテロアリールチオ部分、低級アルキルカルボニル部分、アリールカルボニル部分、またはへテロアリールカルボニル部分を含む、化合物。
【請求項２１】  請求項２０に記載の化合物であって、ここで、Ｒ6が、フェニル、フェニルオキシ低級アルキル、およびフェニル低級アルキルからなる群から選択される、化合物。
【請求項２２】  請求項２１に記載の化合物であって、ここで、Ｒ6が、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルキルオキシ、ハロ低級アルキルオキシ、カルボキシ、低級アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、（シクロ低級アルキル）オキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、へテロアリールオキシカルボニル、へテロアラルキルオキシカルボニル、（へテロシクロ低級アルキル）オキシカルボニル、低級アルキルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、低級アルキルチオ、アリールチオ、低級アルキルカルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、アラルキルカルボニルオキシ、へテロアリールカルボニルオキシ、へテロアラルキルカルボニルオキシ、（シクロ低級アルキル）カルボニルオキシ、（へテロシクロ低級アルキル）カルボニルオキシ、アミノカルボニル、低級アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アラルキルアミノカルボニル、へテロアリールアミノカルボニル、およびへテロアラルキルアミノカルボニルからなる群から選択される部分で必要に応じてさらに置換された、化合物。
【請求項２３】  請求項２１に記載の化合物であって、ここで、Ｒ5が、必要に応じて置換された低級アルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、シクロアルキル、シクロヘテロアルキル、低級アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロヘテロアルキルカルボニル、アラルキルカルボニル、ヘテロアラルキルカルボニル、（シクロアルキル）アルキルカルボニル、（シクロヘテロアルキル）アルキルカルボニル、低級アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アラルキルアミノカルボニル、ヘテロアリールアミノカルボニル、ヘテロアラルキルアミノカルボニル、シクロアルキルアミノカルボニル、（シクロアルキル）アルキルアミノカルボニル、シクロヘテロアルキルアミノカルボニル、（シクロヘテロアルキル）アルキルアミノカルボニル、低級アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロアリールスルホニル、シクロアルキルスルホニル、シクロヘテロアルキルスルホニル、アラルキルスルホニル、ヘテロアラルキルスルホニル、（シクロアルキル）アルキルスルホニル、および（シクロヘテロアルキル）アルキルスルホニルからなる群から選択される、化合物。
【請求項２４】  請求項１２〜２３のいずれか一項に記載の化合物であって、ここで、Ｒ５が、必要に応じて置換されたシクロアルキル、シクロアルキルカルボニル、および（シクロアルキル）アルキルカルボニルから選択される、化合物。
【請求項２５】  請求項１２〜２３のいずれか一項に記載の化合物であって、ここで、Ｒ５が、非置換シクロアルキルである、化合物。
【請求項２６】  請求項１２〜２３のいずれか一項に記載の化合物であって、ここで、Ｒ６が、少なくとも４位で置換されたフェニル基である、化合物。
【請求項２７】  哺乳動物におけるエストロゲンレセプター媒介障害の処置に使用するための組成物であって、該組成物は、薬学的に有効なキャリア中に治療的有効量の請求項１に記載の化合物を含む、組成物。
【請求項２８】  哺乳動物におけるエストロゲンレセプター媒介障害の処置に使用するための組成物であって、該組成物は、薬学的に有効なキャリア中に治療的有効量の請求項１２に記載の化合物を含む、組成物。
【請求項２９】  請求項２７に記載の組成物であって、ここで、前記障害が骨粗しょう症、エストロゲン依存性癌、アルツハイマー疾患、およびエストロゲン依存性の疾患からなる群から選択される、組成物。
【請求項３０】  請求項２８に記載の組成物であって、ここで、前記障害が骨粗しょう症、エストロゲン依存性癌、およびエストロゲン依存性の疾患からなる群から選択される、組成物。
【請求項３１】  哺乳動物におけるエストロゲンレセプター媒介障害を予防するための組成物であって、薬学的に有効なキャリア中に予防的有効量の請求項１に記載の化合物を含む、組成物。
【請求項３２】  請求項３１に記載の組成物であって、ここで、前記疾患が骨粗しょう症、エストロゲン依存性癌、アルツハイマー病、およびエストロゲン依存性の疾患からなる群から選択される、組成物。
【請求項３３】  哺乳動物におけるエストロゲンレセプター媒介障害を予防するための組成物であって、薬学的に有効なキャリア中に予防的有効量の請求項１２に記載の化合物を含む、組成物。
【請求項３４】  請求項３３に記載の方法であって、ここで、前記障害が骨粗しょう症、エストロゲン依存性癌、およびエストロゲン依存性の疾患からなる群から選択される、組成物。
【請求項３５】  エストロゲンレセプターの生物学的活性を調節するためのインビトロの方法であって、該方法は、該エストロゲンレセプターを請求項１に記載の化合物に曝し、これによって該エストロゲンレセプターの関連するエストロゲンレセプター要素への結合を調節する工程を包含する、方法。
【請求項３６】  請求項３５に記載の方法であって、ここで、前記エストロゲンレセプターがαアイソフォームである、方法。
【請求項３７】  請求項３５に記載の方法であって、ここで、前記エストロゲンレセプターがβアイソフォームである、方法。
【請求項３８】  エストロゲンレセプターの生物学的活性を調節するためのインビトロの方法であって、該方法は、該エストロゲンレセプターを請求項１２に記載の化合物に曝し、これによって該エストロゲンレセプターの関連するエストロゲンレセプター要素への結合を調節する工程を包含する、方法。
【請求項３９】  請求項３８に記載の方法であって、ここで、前記エストロゲンレセプターがαアイソフォームである、方法。
【請求項４０】  請求項３８に記載の方法であって、ここで、前記エストロゲンレセプターがβアイソフォームである、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
【化１０】
2002522422.tif 000003
１，３−ジケトン３ａからのピラゾール４ａの形成は、スキーム１およびスキーム３に記載の手順を使用して完了され得る。ピラゾール４ａのブロモ化（工程Ｂ）は、４ａのクロロホルム溶液に臭素を添加することによって、室温〜５５℃の反応温度で０．５〜２時間で行われ得る。公知の方法によって、様々なＲ2置換基（工程Ｃ）が、４−ブロモピラゾール４ｂに導入され得る。例えば、金属−ハロゲン交換に続き、得られるアニオンの求電子試薬によるトラップを使用して、Ｒ２を結合し得る。これは、例えば、−７８℃でＴＨＦ溶液中のブロモピラゾール４ｂをｎ−ＢｕＬｉと反応させることによって行われ得る。この混合物を−７８℃で１時間攪拌する。次いでＲ2に対応する所望の求電子試薬を添加し、そして反応物を０℃〜室温まで２〜１６時間の期間をかけて昇温する。適切な求電子試薬には、以下が挙げられるが、これらに限定されない：アルキルハライド、ジスルフィド、ヨウ素、Ｎ−クロロスクシンイミド、トシルニトリル、エチルクロロホルメート、酸塩化物、二酸化炭素、ジメチルホルムアミド、アルデヒド、Ｗｅｉｎｒｅｂアミドおよびスルホニルクロリド。あるいは、二酸化炭素を求電子試薬として使用する場合、４−カルボキシピラゾール（すなわち、Ｒ3＝−ＣＯ2-）が得られ得る。カルボン酸は、さらに種々のエステル、アミド、およびケトンに変換され得る。Ｒ2でアミドを形成するために、典型的なアミド結合の形成条件が適用され得る。例えば、対応するカルボン酸は、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド（「ＥＤＣ」）ＨＣｌ塩、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（「ＨＯＢｔ」）およびＨｕｎｉｎｇ塩基で活性化され、そしてＴＨＦまたはＤＭＦ中で第１級または第２級アミンと混合され得る。この反応は室温で６〜１６時間で完了する。Ｓｕｚｕｋｉカップリングはまた、Ｒ3にアリールおよびアルケニル部分を導入するために使用され得る（Ｍｉｙａｕｒａ，Ａｕｔｈｏｒら、１９７９；Ｍｉｙａｕｒａ，Ｓｕｚｕｋｉ、１９７９）。Ｕｌｌｍａｎｎ反応は、Ｒ3にアリールオキシ基を導入するために使用され得る（Ｋｎｉｇｈｔ；Ｓｅｍｍｅｌｈａｃｋ、Ａｕｔｈｏｒら）。ピラゾール４ｂの４−位にＣ−ＮおよびＣ−Ｏ結合を有する部分は、パラジウム触媒カップリング反応を適用することによって達成され得る（Ｐａｌｕｃｋｉ，Ｗｏｌｆｅら、１９９６；ＷｏｌｆおよびＢｕｃｈｗａｌｄ  １９９６；Ｗｏｌｆｅ、Ｗａｇａｗら、１９９６）。