【手続補正書】
【提出日】平成18年6月13日(2006.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 波長を有する入射光ビームを調整するモジュレータであって、
ａ．複数の細長い素子（２００）であり、その各々は二つの端部の間に配置された概ね平坦な反射面を有すると共に、その二つの端部の間に概ね一定な断面積を有し、これらの素子は互いに平行に配置されて、且つ基板上（１００）にそれらの素子の端部により懸架されている細長い素子と、
ｂ．前記細長い素子の選択された一つを前記基板へ向かって変形させて変形状態にさせる手段とを備え、その変形状態においては、選択された細長い素子の各々の前記概ね平坦な反射面が、前記選択された細長い素子を前記基板へ接触させることなく、格子振幅により前記基板へ向かって移動することにより、前記複数の細長い素子が非変形状態であるときは、前記モジュレータは光を反射すると共に、前記細長い素子の前記選択された一つが変形状態であるときは、前記モジュレータは光を回折するモジュレータ。
【請求項２】 請求項１記載のモジュレータにおいて、前記光が波長域内にあるモジュレータ。
【請求項３】 請求項１記載のモジュレータにおいて、前記光が可視波長域内にあるモジュレータ。
【請求項４】 請求項１記載のモジュレータにおいて、前記光が紫外波長域内にあるモジュレータ。
【請求項５】 請求項１記載のモジュレータにおいて、前記光が赤外波長域内にあるモジュレータ。
【請求項６】 請求項１記載のモジュレータにおいて、前記選択された一つの細長い素子が、概ね前記光の四分の一波長移動するモジュレータ。
【請求項７】 請求項１記載のモジュレータにおいて、前記選択された一つの細長い素子が、調整された光の所望の輝度を与えるように選択された制御可能な距離を移動するモジュレータ。
【請求項８】 請求項１記載のモジュレータにおいて、前記格子振幅が、非変形状態の細長い素子と前記基板との間の距離の約四分の一乃至三分の一であるモジュレータ。
【請求項９】 請求項１記載のモジュレータにおいて、前記概ね平坦な反射面が、対応する細長い素子の約三分の一の長さを占めるモジュレータ。
【請求項１０】 請求項１記載のモジュレータにおいて、前記細長い素子が単独の線形配列に配置された複数の表示素子に従って分類されており、一つの表示素子に対応する前記細長い素子が非変形状態であるときは、入射光ビームはこの表示素子により反射されて、この表示素子に対応する前記細長い素子の一つおきの細長い素子が選択的に変形するときは、入射光ビームはその表示素子により回折されるモジュレータ。
【請求項１１】 請求項１０記載のモジュレータにおいて、前記単独の線形配列からの画像が、二次元画像を形成するように走査されるモジュレータ。
【請求項１２】 請求項１１記載のモジュレータにおいて、前記単独の線形配列からの画像が、ユーザーの眼にちらつきのない単独の画像へ統合されるように充分に速く走査されるモジュレータ。
【請求項１３】 請求項１２記載のモジュレータにおいて、複数のカラー光の各々が、画像が色分散を伴わない画像を形成するように走査されるにつれて、モジュレータへ連続的に入射するモジュレータ。
【請求項１４】 請求項１２記載のモジュレータにおいて、前記２次元画像が、ピクセル化されていないモジュレータ。
【請求項１５】 請求項１０記載のモジュレータにおいて、前記選択された一つの細長い素子の移動距離が、対応する表示素子についての強度を決定するモジュレータ。
【請求項１６】 請求項１０記載のモジュレータにおいて、回折期間に対する反射期間の比が、対応する表示素子についての強度を決定するモジュレータ。
【請求項１７】請求項１１記載のモジュレータにおいて、前記概ね平坦な中央部分のみを光ビームにより照明する手段を更に備えるモジュレータ。
【請求項１８】 請求項１１記載のモジュレータにおいて、前記概ね平坦な中央部分以外による回折光が前記光学系に表示されることを防止する防止手段を更に備えるモジュレータ。
【請求項１９】 請求項１８記載のモジュレータにおいて、前記防止手段が、前記概ね平坦な中央部分による回折光を通過させ、且つ前記概ね平坦な中央部分以外による回折光を遮蔽するスリットを有する遮光体を含むモジュレータ。
【請求項２０】 請求項１８記載のモジュレータにおいて、前記防止手段が、反射素子を含み、この反射素子は、各細長い素子の２つの端部上で、非変形状態の細長い素子の反射面に対して平行な面に入射光ビームの半波長の全数倍又は零倍に等しい距離で配置されているモジュレータ。
【請求項２１】 請求項１０記載のモジュレータにおいて、印刷用媒体上に画像を投射する光学的配置を更に備えるモジュレータ。
【請求項２２】 基板上に光モジュレータを形成する方法であって、その光モジュレータは可視波長域内の波長を有する入射光ビームを調整するものであり、前記方法は、
ａ．前記基板上に犠牲層を形成する段階であり、その犠牲層は前記光ビームの波長にほぼ等しい厚さを有し、この犠牲層は露呈されている段階と、
ｂ．前記犠牲層を通る少なくとも四つのポストホールをエッチングする段階と、
ｃ．前記ポストホール内にポストを形成する段階と、
ｄ．少なくとも二つの細長い素子を前記犠牲層上に形成する段階であり、各細長い素子は、その各々の端部に一つがある二つの前記ポストにより前記基板へ結合され、且つ反射面を有する段階と、
ｅ．前記犠牲層を除去する段階とを含む方法。
【請求項２３】請求項２２記載の方法において、２００乃至２０００ｎｍの範囲内である方法。
【請求項２４】請求項１記載のモジュレータにおいて、前記変形させる手段が、前記変形状態が印加電圧の可逆関数に従うように印加電圧を用いるもジュレータ。
【請求項２５】 可視波長域内の波長を有する入射光ビームを調整するモジュレータであって、
ａ．複数の細長い素子（２００）であり、各々が二つの端部の間に配置された概ね平坦な反射面を有し、互いに平行に配置されて、且つ基板上（１００）上にポスト（１１０）が一体的に形成されている各々の端部により懸架されており、そのポストは前記細長い素子及び前記基板と一体的に形成されている細長い素子と、
ｂ．前記細長い素子の選択された一つを前記基板へ向かって変形させて変形状態にさせる手段とを備え、その変形状態においては、選択された細長い素子の各々の前記概ね平坦な反射面が、前記選択された細長い素子を前記基板へ接触させることなく、格子振幅により前記基板へ向かって移動することにより、前記複数の細長い素子が非変形状態であるときは、前記モジュレータは光を反射すると共に、前記細長い素子の前記選択された一つが変形状態であるときは、前記モジュレータは光を回折するモジュレータ。
【請求項２６】 可視波長域内の波長を有する入射光ビームを調整するモジュレータであって、
ａ．複数の細長い素子（２００）であり、各々が二つの端部の間に配置された概ね平坦な反射面を有し、互いに平行に配置されて、且つ基板上（１００）上に各々の端部により懸架されており、フレーム状上部構造体は有さない細長い素子と、
ｂ．前記細長い素子の選択された一つを前記基板へ向かって変形させて変形状態にさせる手段とを備え、その変形状態においては、選択された細長い素子の各々の前記概ね平坦な反射面が、前記選択された細長い素子を前記基板へ接触させることなく、格子振幅により前記基板へ向かって移動することにより、前記複数の細長い素子が非変形状態であるときは、前記モジュレータは光を反射すると共に、前記細長い素子の前記選択された一つが変形状態であるときは、前記モジュレータは光を回折するモジュレータ。