【手続補正書】
【提出日】平成17年12月7日(2005.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源、集光系、および光源からの光を空間的に変調させるように配置されたマイクロミラーのアレイを具備する投射システムであって、アレイが基板上に形成され、各マイクロミラーが駆動されていない時に第１の位置にあるように設計され、各マイクロミラーが、アレイの集光系に光を導入するオン位置に変位することができ、集光系から離れた場所に光を導入するオフ位置に逆方向に変位することができ、該オン位置とオフ位置がいずれも該第１の位置と異なり、オン位置の第１の位置に対する角度が、オフ位置と異なる投射システム。
【請求項２】
オン位置が、第１の位置に対して０ないし＋３０度であり、オフ位置が、第１の位置に対して０ないし−３０度である請求項１に記載の投射システム。
【請求項３】
オン位置が＋１０ないし＋３０度であり、オフ位置が−１ないし−１０度である請求項２に記載の投射システム。
【請求項４】
オン位置が第１の位置に対して＋１２ないし＋２０度であり、オフ位置が第１の位置に対して−１ないし−１２度である請求項１に記載の投射システム。
【請求項５】
投射ディスプレイにおけるマイクロミラーアレイの一部である請求項１に記載の投射システム。
【請求項６】
マイクロミラーが半導体または透光性基板上に配置された請求項１に記載の投射システム。
【請求項７】
前記基板が、マイクロミラーを駆動するための回路および電極を有するシリコン基板である請求項６に記載の投射システム。
【請求項８】
１つの電極が、マイクロミラーを静電的にオン位置に変位させるために設けたものであり、他の電極が、マイクロミラーを静電的に非撓み位置に対するオフ位置に変位させるために設けたものである請求項７に記載の投射システム。
【請求項９】
マイクロミラーのオンとオフ位置の差が１度より大きい請求項１に記載の投射システム。
【請求項１０】
マイクロミラーが、オン位置まで＋１２度以上回転することができ、逆方向に−４ないし−１０度回転することができる請求項９に記載の投射システム。
【請求項１１】
オン位置が、第１の位置から＋１０ないし＋１５度であり、オフ位置が第１の位置に対して−２ないし−７度であり、オン位置とオフ位置が、第１の位置に対して逆方向に傾いたものである請求項１０に記載の投射システム。
【請求項１２】
前面または背面投射型のテレビまたはコンピュータモニタである請求項１に記載の投射システム。
【請求項１３】
マイクロミラーが、前記オンまたはオフ位置に到達するために、前記第１の位置から軸の廻りを回転するような構造を有する請求項１に記載の投射システム。
【請求項１４】
マイクロミラーが、単一の軸の廻りを回転するような構造を有する請求項１３に記載の投射システム。
【請求項１５】
集光系が、すべてのマイクロミラーのための単一のレンズまたはレンズ群である請求項１に記載の投射システム。
【請求項１６】
マイクロミラーが、ディジタル方式でアドレッシングされる請求項１に記載の投射システム。
【請求項１７】
マイクロミラーが、パルス幅変調によってグレイスケールを達成する請求項１６に記載の投射システム。
【請求項１８】
集光系からの光が入射するターゲットをさらに有する請求項１に記載の投射システム。
【請求項１９】
光源が、アーク灯である請求項１に記載の投射システム。
【請求項２０】
オンとオフ位置が、マイクロミラーが接触する構造によって決定される請求項１に記載の投射システム。
【請求項２１】
オンとオフマイクロミラーのパターンが入射するスクリーンをさらに有する請求項１に記載の投射システム。
【請求項２２】
連続する複数の色をマイクロミラーアレイに供給するためのカラーフィルタをさらに有する請求項１に記載の投射システム。
【請求項２３】
アレイ上の光分布の均一性を改善するための装置をさらに有する請求項６に記載の投射システム。
【請求項２４】
集光系が、マイクロミラーアレイからの光のパターンをターゲット上に投射するように配置された複数のレンズである請求項１に記載の投射システム。
【請求項２５】
光のコーンをマイクロミラーアレイ上に送り、焦点を合せるための１つ以上のマイクロミラーまたはレンズをさらに有する請求項８に記載の投射システム。
【請求項２６】
前面または背面投射型のディスプレイである請求項１に記載の投射システム。
【請求項２７】
感光材料のマスクレスパターニング用のマスク投射器である請求項１に記載の投射システム。
【請求項２８】
写真平版システムにおける投射器である請求項１１に記載の投射システム。
【請求項２９】
オフ位置において、各マイクロミラーがオフ位置における基板に対して−２ないし−２５度、オン位置における基板に対して＋１０ないし＋３５度の角度を成す請求項１に記載の投射システム。
【請求項３０】
オンとオフ位置が、マイクロミラーが１つおよび／または第２の基板またはその上の構造に接触することで決定する請求項１３に記載の投射システム。
【請求項３１】
マイクロミラーが、基板に対して１つの方向に回転することでオン位置に入り、基板に対して逆方向に回転することでオフ位置に入ることができる請求項１に記載の投射システム。
【請求項３２】
マイクロミラーが、回路および電極に隣接して基板上に形成され、各マイクロミラーに対して少なくとも２つの電極が隣接して配置され、１つの電極が、隣接するマイクロミラーをオフ位置まで静電的に引張り、他の電極が、隣接するマイクロミラーをオン位置まで静電的に引張る請求項１５に記載の投射システム。
【請求項３３】
回路および電極が、マイクロミラーと同じ基板上に形成される請求項１６に記載の投射システム。
【請求項３４】
回路および電極が、前記基板に接着された第２の基板上に形成される請求項１６に記載の投射システム。
【請求項３５】
隣接するマイクロミラーがオンまたはオフ位置に到達する時、マイクロミラーの動きを停止させるさらなる電極を有する請求項１６に記載の投射システム。
【請求項３６】
さらなる電極が、隣接するマイクロミラーと同電位である請求項１９に記載の投射システム。
【請求項３７】
光源、マイクロミラーアレイおよび集光系が、ターゲット上に映像を投射するように配置される請求項１に記載の投射システム。
【請求項３８】
ターゲットが、観視者の網膜、感光材料またはスクリーンである請求項２１に記載の投射システム。
【請求項３９】
アレイ中のオン状態のマイクロミラーが、同時に光を集光系に導入するように配置される請求項２１に記載の投射システム。
【請求項４０】
マイクロミラーアレイが、光源からの光をマイクロミラーアレイに入射させるためにパッケージ内に透光性窓を有するパッケージングされたマイクロミラーアレイであり、透光性窓が、マイクロミラーアレイの基板に対して平行ではない請求項１に記載の投射システム。
【請求項４１】
透光性窓が、マイクロミラーアレイの基板に対して−２ないし−１５度の角度を有する請求項４０に記載の投射システム。
【請求項４２】
透光性窓が、マイクロミラーアレイの基板に対して−３ないし−１０度の角度を有する請求項４１に記載の投射システム。
【請求項４３】
マイクロミラーのアレイが矩形形状に配置され、マイクロミラーが、オフ状態とオン状態との間で切換軸の廻りを回転することができ、マイクロミラーが観視される映像のピクセルに対応し、
光源が、各マイクロミラーの少なくとも２つの側面に対して非垂直に、そして各マイクロミラーの少なくとも他の２つの側面に対して、各マイクロミラーの上面から見た場合に、平行に、光を送るように配置される請求項１に記載の投射システム。
【請求項４４】
光源が、マイクロミラーの切換軸に対して実質的に垂直な角度で光を送る請求項４３に記載の投射システム。
【請求項４５】
光源とマイクロミラーアレイとの間に、色分解部材をさらに有する請求項４３に記載のシステム。
【請求項４６】
光源が、光が１００ないし１５０度の角度で各マイクロミラーの先頭側に当るように配置される請求項４３に記載のシステム。
【請求項４７】
マイクロミラーが、金属および誘電性材料を含む請求項４３に記載のシステム。
【請求項４８】
誘電性材料が、シリコンの窒化物、炭化物または酸化物である請求項４７に記載のシステム。
【請求項４９】
約１ｃｍ2ないし約１ｉｎ2の面積内に６４，０００ないし約６，０００，０００個のマイクロミラーが設けてある請求項１に記載のシステム。
【請求項５０】
マイクロミラーアレイ上またはその上方に配置された矩形のマスクをさらに有する請求項４９に記載のシステム。
【請求項５１】
マイクロミラーアレイが、４つの辺を有する矩形を画定する四隅の能動マイクロミラーを有する請求項１に記載のシステム。
【請求項５２】
マイクロミラーが、少なくとも４つの長いマイクロミラー側面を有し、マイクロミラーの各側面のうち１つ以上が、四隅の能動マイクロミラーによって画定された矩形の何れの辺に対しても平行でも垂直でもない請求項５１に記載のシステム。
【請求項５３】
マイクロミラーの側面が、いずれも、マイクロミラーの矩形アレイのいずれの辺に対しても平行でも垂直でもない請求項５２に記載のシステム。
【請求項５４】
マイクロミラーの少なくとも２つの側面が、マイクロミラーアレイの矩形のいずれの辺に対しても平行でも垂直でもなく、マイクロミラーの少なくとも２つの側面がマイクロミラーアレイの矩形の辺に対して平行である請求項５２に記載のシステム。
【請求項５５】
各マイクロミラーが、マイクロミラーの回転軸に対して０から９０度の角度を有する方向に延びる１つ以上のヒンジを有する請求項１に記載のシステム。
【請求項５６】
前記１つ以上のヒンジが、回転軸に対して４５度の角度を有する方向に延びる請求項５５に記載のシステム。
【請求項５７】
各マイクロミラーの形状が、平行四辺形または平行四辺形の組合せによるものである請求項１に記載のシステム。
【請求項５８】
各マイクロミラーの形状が、２つないし７つの平行四辺形の組合せによるものである請求項５７に記載のシステム。
【請求項５９】
各マイクロミラーの形状が、２つないし４つの平行四辺形の組合せによるものである請求項５８に記載のシステム。
【請求項６０】
マイクロミラーのアレイにおいて、各マイクロミラーが、観視された映像内のピクセルに対応し、凹多角形または１つ以上の非矩形の平行四辺形からなる形状を有する請求項１に記載の投射システム。
【請求項６１】
各マイクロミラーの形状が、非矩形の平行四辺形または並列された非矩形の平行四辺形の組合せによるものである請求項６０に記載の投射システム。
【請求項６２】
光を空間的に変調するための方法であって、光源からの光を空間的に変調するように配置され、基板上に形成され、変調されていない時に第１の位置にあるマイクロミラーのアレイを介して集光系に光源からの光を導入し、各マイクロミラーが、アレイの集光系に光を送るオン位置に変位し、集光系から離れた場所に光を送るオフ位置に変位するようにアレイ内のマイクロミラーを変調し、該オンおよびオフ位置がいずれも該第１の位置と異なり、オン位置の第１の位置に対する角度がオフ位置の角度と異なる方法。
【請求項６３】
基板上に形成された光マイクロメカニカル素子であって、基板に対して第１の角度のオン位置を有し、基板に対して第２の角度のオフ位置を有し，第１と第２の角度が異なり、基板に対して実質的に平行な第３の位置を有し、オンとオフ位置がいずれも光マイクロメカニカル素子が基板または該基板上に形成された構造に接触することによって決定する光マイクロメカニカル素子。
【請求項６４】
マイクロミラーが、オンおよびオフ位置で停止する基板上に、ランディング電極が設けてある請求項６３に記載のマイクロメカニカル素子。
【請求項６５】
片方のランディング電極が、他方のランディング電極より高い位置にある請求項６４に記載のマイクロメカニカル素子。
【請求項６６】
パッケージ内に設けてあり、該パッケージが基板に対して傾いている窓を有する請求項６３に記載のマイクロメカニカル素子。
【請求項６７】
パッケージが、密封または一部密封のパッケージである請求項６６に記載のマイクロメカニカル素子。
【請求項６８】
パッケージ内に分子スカベンジャをさらに有する請求項６６に記載のマイクロメカニカル素子。
【請求項６９】
パッケージ内に減スティクション剤をさらに有する請求項６６に記載のマイクロメカニカル素子。
【請求項７０】
マイクロミラー素子の平板部と基板との間の隙間に配置された可撓ヒンジをさらに有する請求項６３に記載のマイクロメカニカル素子。
【請求項７１】
素子をオンまたはオフ位置に撓ませるための撓み電極をさらに有する請求項６３に記載のマイクロメカニカル素子。
【請求項７２】
素子をオン位置に変位させるために少なくとも１つの撓み電極が配置されており、素子をオフ位置に変位させるために少なくとも１つの撓み電極が配置されている請求項７１に記載のマイクロメカニカル素子。
【請求項７３】
マイクロミラーである請求項６３に記載のマイクロメカニカル素子。
【請求項７４】
光を変調するための方法であって、
平面状の基板に設けた可撓性のマイクロミラーのアレイによって光を反射させる過程を有し、
該マイクロミラーが第１の位置または第２の位置に傾いており、該第１の位置と基板との間の角度と、該第２の位置と基板との間の角度が、実質的に異なる方法。
【請求項７５】
光を変調するための方法であって、
光源、可撓性の素子を有する平面状の光変調器アレイおよび集光系を有し、
該素子が少なくとも２つの状態に選択的に配置され、
第１の状態の素子が、光源からの光を第１の角度を介して集光系に送り、
第２の状態の素子が、光源からの光を第２の角度に送り、
アレイが鏡面であるかのように光を反射する第３の角度を有し、
第１と第３角度間と、第２と第３角度間の差が実質的に異なる方法。
【請求項７６】
光を供給するための光源、
光の経路上に設けられた複数のマイクロミラーを有するマイクロミラーアレイ、および
光がマイクロミラーアレイに入射し、アレイのマイクロミラーのオンとオフのパターンとして該複数のマイクロミラーから反射した後の光の経路上に設けられた集光系を具備し、
マイクロミラーアレイが、基板を有し、各マイクロミラーが、非撓み位置からオン位置およびオフ位置に変位することができるように、マイクロミラーのアレイが基板上に支持されており、オン位置が、非撓み位置に対してオフ位置と異なる角度にある投射システム。
【請求項７７】
映像をターゲット上に投射するための方法であって、
光源からの光をマイクロミラーアレイ上に送り、
各マイクロミラーをオンまたはオフ位置に変調し、オン位置において、マイクロミラーがオン位置のマイクロミラーから光を受けるように配置された集光系に光を送り、オンとオフのマイクロミラーのパターンが映像を形成し、
オン位置におけるマイクロミラーの位置が、オフ位置のマイクロミラーの角度に対して異なる角度である方法。
【請求項７８】
光を空間的に変調する方法であって、マイクロミラーのアレイ上に光を送り、マイクロミラーが第１または第２の位置に変位することができ、第１の位置においてマイクロミラーがそれに入射する光の一部を集光系に送り、各々が第２の位置にある隣接するマイクロミラー間の最小距離が、各々が第１の位置にある隣接するマイクロミラー間の最小距離より小さい方法。
【請求項７９】
前記最小距離が、マイクロミラーの回転軸に対して非平行な方向に沿って求められる請求項７８に記載の方法。
【請求項８０】
前記距離が、マイクロミラーの回転により第１または第２の位置に変位した隣接する平行マイクロミラー縁部間の距離であり、該距離の最小が、隣接するマイクロミラーの平行縁部間の最も接近する個所にある請求項７８に記載の方法。