【手続補正書】
【提出日】平成17年9月7日(2005.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）：
【化１】
2005508930.tif 000001
［式中、
基ＡまたはＢの一方は−（ＣＨ2）−基であり、他方の基は、−ＣＨ（Ｒ′）−ＣＨ2−基［式中、Ｒ′は、１〜１２の炭素原子を含む飽和もしくは不飽和脂肪族基であるか、または−（ＣＨ2）n−Ｏ−Ｒ1′基［式中、ｎは０および４の間の整数であり、Ｒ1′は水素原子または１〜８の炭素原子を含む飽和もしくは不飽和脂肪族基である］であるか、または−（ＣＨ2）n−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ1′基［式中、ｎおよびＲ1′は前記と同意義である］であるか、または−（ＣＨ2）n−Ｒ2′基［式中、Ｒ2′は非置換フェニル基であるか、またはアミノ、ニトロ、クロロ、ブロモ、ヨード、メトキシもしくはヒドロキシ基から選ばれる１またはそれ以上の基で置換されているフェニル基である］である］であるか、
または、−ＣＨ（Ｒ″）−基［式中、Ｒ″は、１〜１２の炭素原子を含む飽和もしくは不飽和脂肪族基であるか、または−（ＣＨ2）n−Ｏ−Ｒ1″基［式中、ｎは０および４の間の整数であり、Ｒ1″は水素原子または１〜８の炭素原子を含む飽和もしくは不飽和脂肪族基である］であるか、または−（ＣＨ2）n−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ1″基［式中、ｎおよびＲ1″は前記と同意義である］であるか、または−（ＣＨ2）n−Ｒ2″基［式中、Ｒ2″は非置換フェニル基であるか、またはアミノ、ニトロ、クロロ、ブロモ、ヨード、メトキシもしくはヒドロキシ基から選ばれる１またはそれ以上の基で置換されているフェニル基である］である］であり、
そして基Ｄは−（ＣＨ2）m−基［式中、ｍは０または１に等しい］である］で示される化合物の製造方法であって、
以下の連続反応工程：
工程（ａ）：式（ＩＩ）：
【化２】
2005508930.tif 000002
［式中、基Ｄは前記と同意義である］
で示される化合物を式（ＩＩＩ）：
【化３】
2005508930.tif 000003
［式中、ＲおよびＲ１は、同じであっても異なっていてもよく、個別に水素原子であるか、またはメチル、エチル、直線状もしくは分枝プロピルまたは直線状もしくは分枝ブチル基から選ばれる基である］
で示される化合物と反応させて式（ＩＶ）：
【化４】
2005508930.tif 000004
［式中、Ｄ、ＲおよびＲ１は前記と同意義である］
で示される化合物を形成させる工程；
工程（ｂ）：工程（ａ）で得られた式（ＩＶ）の化合物を式（Ｖ）：
【化５】
2005508930.tif 000005
［式中、ＡおよびＢは前記と同意義であり、Ｘはブロモ、ヨード、クロロまたはトシラート基から選ばれる基である］
で示される化合物と反応させて式（ＶＩ）：
【化６】
2005508930.tif 000006
［式中、Ａ、Ｂ、Ｄ、ＲおよびＲ１は前記と同意義である］
で示される化合物を形成させる工程；および、
工程（ｃ）：工程（ｂ）で得られた式（ＶＩ）の化合物を酸処理に付して前記式（Ｉ）の化合物を形成させる工程、を含む方法。
【請求項２】
Ｒ１およびＲ２が、互いに独立に、水素原子またはメチル基である請求項１の方法。
【請求項３】
式（ＶＩ）：
【化７】
2005508930.tif 000007
［式中、
基ＡまたはＢの一方は−（ＣＨ2）−基であり、他方の基は、−ＣＨ（Ｒ′）−ＣＨ2−基［式中、Ｒ′は、１〜１２の炭素原子を含む飽和もしくは不飽和脂肪族基であるか、または−（ＣＨ2）n−Ｏ−Ｒ1′基［式中、ｎは０および４の間の整数であり、Ｒ1′は水素原子または１〜８の炭素原子を含む飽和もしくは不飽和脂肪族基である］であるか、または−（ＣＨ2）n−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ1′基［式中、ｎおよびＲ1′は前記と同意義である］であるか、または−（ＣＨ2）n−Ｒ2′基［式中、Ｒ2′は非置換フェニル基であるか、またはアミノ、ニトロ、クロロ、ブロモ、ヨード、メトキシもしくはヒドロキシ基から選ばれる１またはそれ以上の基で置換されているフェニル基である］である］であるか、
または、−ＣＨ（Ｒ″）−基［式中、Ｒ″は、１〜１２の炭素原子を含む飽和もしくは不飽和脂肪族基であるか、または−（ＣＨ2）n−Ｏ−Ｒ1″基［式中、ｎは０および４の間の整数であり、Ｒ1″は水素原子または１〜８の炭素原子を含む飽和もしくは不飽和脂肪族基である］であるか、または−（ＣＨ2）n−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ1″基［式中、ｎおよびＲ1″は前記と同意義である］であるか、または−（ＣＨ2）n−Ｒ2″基［式中、Ｒ2″は非置換フェニル基であるか、またはアミノ、ニトロ、クロロ、ブロモ、ヨード、メトキシもしくはヒドロキシ基から選ばれる１またはそれ以上の基で置換されているフェニル基である］である］であり、
そして基Ｄは−（ＣＨ2）m−基［式中、ｍは０または１に等しい］であり、そして、
ＲおよびＲ１は、同じであっても異なっていてもよく、個別に水素原子であるかまたはメチル、エチル、直線状もしくは分枝プロピルまたは直線状もしくは分枝ブチル基から選ばれる基である］
で示される化合物。
【請求項４】
式（ＶＩＩ）：
【化８】
2005508930.tif 000008
［式中、
基ＡまたはＢの一方は−（ＣＨ2）−基であり、他方の基は、−ＣＨ（Ｒ′）−ＣＨ2−基［式中、Ｒ′は、１〜１２の炭素原子を含む飽和もしくは不飽和脂肪族基であるか、または−（ＣＨ2）n−Ｏ−Ｒ1′基［式中、ｎは０および４の間の整数であり、Ｒ1′は水素原子または１〜８の炭素原子を含む飽和もしくは不飽和脂肪族基である］であるか、または−（ＣＨ2）n−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ1′基［式中、ｎおよびＲ1′は前記と同意義である］であるか、または−（ＣＨ2）n−Ｒ2′基［式中、Ｒ2′は非置換フェニル基であるか、またはアミノ、ニトロ、クロロ、ブロモ、ヨード、メトキシもしくはヒドロキシ基から選ばれる１またはそれ以上の基で置換されているフェニル基である］である］であるか、
または、−ＣＨ（Ｒ″）−基［式中、Ｒ″は、１〜１２の炭素原子を含む飽和もしくは不飽和脂肪族基であるか、または−（ＣＨ2）n−Ｏ−Ｒ1″基［式中、ｎは０および４の間の整数であり、Ｒ1″は水素原子または１〜８の炭素原子を含む飽和もしくは不飽和脂肪族基である］であるか、または−（ＣＨ2）n−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ1″基［式中、ｎおよびＲ1″は前記と同意義である］であるか、または−（ＣＨ2）n−Ｒ2″基［式中、Ｒ2″は非置換フェニル基であるか、またはアミノ、ニトロ、クロロ、ブロモ、ヨード、メトキシもしくはヒドロキシ基から選ばれる１またはそれ以上の基で置換されているフェニル基である］である］であり、
そして基Ｄは−（ＣＨ2）m−基［式中、ｍは０または１に等しい］であり、そして、
ＲおよびＲ１は、同じであっても異なっていてもよく、個別に水素原子であるかまたはメチル、エチル、直線状もしくは分枝プロピルまたは直線状もしくは分枝ブチル基から選ばれる基である］
で示される化合物。
【請求項５】
請求項１に定義の式（Ｉ）に対応する式（Ｉａ）：
【化９】
2005508930.tif 000009
［式中、Ａは−ＣＨ2−基であり、Ｂは−ＣＨ（Ｒ″）−基であり、且つこれに関してＤの定義中、ｍは０に等しく、式（Ｉａ）においてＲ″がヒドロキシメチル基でないことは明らかである］
で示される化合物。
【請求項６】
以下の式（Ｉ′）：
【化１０】
2005508930.tif 000010
［式中、
●基Ａ、ＢおよびＤは式（Ｉ）の化合物に関して上に述べた意義を有し；そして、
●基Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3およびＺ4（これらは同じであっても異なっていてもよい）の各々は個別に、
−水素原子；または、
−１〜１５の炭素原子を含む直線状もしくは分枝アルキル基または７〜１２の炭素原子を含む［ヘテロ（アリール）］アルキル基；または、
−−（ＣＨ2）w−Ｙ基［式中、ｗは０より大きく６以下であり；そして、
□  Ｙは、
−［−Ｃ（＝Ｏ）］y−Ｖ基［式中、
●ｙは０または１に等しく；そして、
●ＶはＯＨ基もしくはＯＲ3基［式中、Ｒ3は、無置換であるか、または、１またはそれ以上のＣＯＯＨ、ＳＯ3Ｈ、ＰＯ3Ｈ2またはＣＯ（ＮＨ2）基で置換されていてもよい、１〜６の炭素原子を含むアルキル基である］、または
ＮＨ2、ＮＨＲ4もしくはＮ（Ｒ4）（Ｒ5）基［式中、Ｒ4およびＲ5は１〜４の炭素原子を含むアルキルラジカルである］である］；または、
−−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ6）（ＯＲ7）基［式中、Ｒ6およびＲ7は各々個別      に水素原子または１〜４の炭素原子を含むアルキルラジカルである］；または、
−−ＳＯ3Ｈ基である］を表す］
に対応する化合物の製造方法であって、請求項１に定義の式（Ｉ）の化合物のテトラアザシクロアルカン環上の１またはそれ以上の窒素原子の官能基化より成る工程（ｄ）を含む方法。
【請求項７】
式（Ｉａ′）：
【化１１】
2005508930.tif 000011
［式中、Ｒ″は請求項１に定義の通りであり、Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3およびＺ4は請求項６に定義の通りである］
で示される化合物。