【手続補正書】
【提出日】平成18年7月5日(2006.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）構造：
−Ｘｒ（ＣＨ２）ｑＣ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＨ
（式中、
ＲｆおよびＲｆ’は同じかまたは異なるＣ１〜Ｃ１０フルオロアルキル基であるか、あるいは合一した（ＣＦ２）ｎ（ここで、ｎは２〜１０の整数である）であり、
ＸはＳ、Ｏ、ＮまたはＰであり、
ｑ＝０およびｒ＝０、またはｑ＝１およびｒ＝０もしくは１である）
を有する官能基を含むエチレン性不飽和化合物から誘導された第１の反復単位と、
（ｂ）ＣＨ２＝ＣＲＣＯ２Ｒ’’およびＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ２ＯＨ）ＣＯ２Ｒ’’’
（式中、
ＲはＨ、ＦあるいはＣ１〜Ｃ５アルキル基またはフルオロアルキル基であり、
Ｒ’’は少なくとも１個のヒドロキシ基を含む多環式Ｃ５〜Ｃ５０アルキル基であり、
Ｒ’’’はＣ１〜Ｃ２５アルキル基である）
からなる群から選択されるアクリレートから誘導された第２の反復単位と
を含むことを特徴とする弗素含有コポリマー。
【請求項２】
（ｂ）がｔ−ブチルヒドロキシメチルアクリレートであることを特徴とする請求項１に記載の弗素含有コポリマー。
【請求項３】
（ｂ）がヒドロキシアダマンチルアクリレートであることを特徴とする請求項１に記載の弗素含有コポリマー。
【請求項４】
前記ポリマーが２−メチル−２−アダマンチルアクリレートから誘導された反復単位を更に含むことを特徴とする請求項３に記載の弗素含有コポリマー。
【請求項５】
エチレン性不飽和炭素原子に共有結合された少なくとも１個の弗素原子を含むエチレン性不飽和化合物の群から選択されるフルオロオレフィンから誘導された反復単位を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の弗素含有コポリマー。
【請求項６】
構造
−Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＲａ
（式中、ＲｆおよびＲｆ’は同じかまたは異なる１〜１０個の炭素原子のフルオロアルキル基であるか、あるいは合一した（ＣＦ２）ｎ（ここで、ｎは２〜１０の整数である）であり、Ｒａは酸不安定保護基または塩基不安定保護基である）
を有する官能基を含む少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物から誘導された反復単位を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の弗素含有コポリマー。
【請求項７】
少なくとも１個の反復単位が環式または多環式であることを特徴とする請求項５に記載の弗素含有コポリマー。
【請求項８】
構造（Ｈ）または（Ｉ）
【化１】
2005533907.tif 000001
（式中、
ｎは０、１または２であり、
ａおよびｂは、ｂが２である時にａが１でないこと、あるいは、ａが２である時にｂが１でないことを除き、独立して１、２または３であり、
Ｒ１〜Ｒ８およびＲ１１〜Ｒ１４は同じかまたは異なり、各々は水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、Ｃ３〜Ｃ１４第二級もしくは第三級アルキルカルボキシレート、炭化水素基または置換炭化水素基を表す）によって表される化合物の群から選択される環式不飽和化合物または多環式不飽和化合物から誘導された反復単位を更に含むことを特徴とする請求項５に記載の弗素含有コポリマー。
【請求項９】
（ａ）
（ｉ）構造：
−Ｘｒ（ＣＨ２）ｑＣ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＨ
（式中、
ＲｆおよびＲｆ’は同じかまたは異なるＣ１〜Ｃ１０フルオロアルキル基であるか、あるいは合一した（ＣＦ２）ｎ（ここで、ｎは２〜１０の整数である）であり、
ＸはＳ、Ｏ、ＮまたはＰであり、
ｑ＝０およびｒ＝０、またはｑ＝１およびｒ＝０もしくは１である）
を有する官能基を含むエチレン性不飽和化合物から誘導された第１の反復単位と、
（ｉｉ）ＣＨ２＝ＣＲＣＯ２Ｒ’’およびＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ２ＯＨ）ＣＯ２Ｒ’’’
（式中、
ＲはＨ、ＦあるいはＣ１〜Ｃ５アルキル基またはフルオロアルキル基であり、
Ｒ’’は少なくとも１個のヒドロキシ基を含む多環式Ｃ５〜Ｃ５０アルキル基であり、
Ｒ’’’はＣ１〜Ｃ２５アルキル基である）
からなる群から選択されるアクリレートから誘導された第２の反復単位と
を含む弗素含有コポリマーおよび
（ｂ）少なくとも１種の光活性成分
を含むことを特徴とするフォトレジスト。
【請求項１０】
溶解抑制剤を更に含むことを特徴とする請求項９に記載のフォトレジスト。
【請求項１１】
溶媒を更に含むことを特徴とする請求項９に記載のフォトレジスト。
【請求項１２】
基材上にフォトレジスト画像を調製するための方法であって、
（１）
（ａ）
（ｉ）構造：
−Ｘｒ（ＣＨ２）ｑＣ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＨ
（式中、
ＲｆおよびＲｆ’は同じかまたは異なるＣ１〜Ｃ１０フルオロアルキル基であるか、あるいは合一した（ＣＦ２）ｎ（ここで、ｎは２〜１０の整数である）であり、
ＸはＳ、Ｏ、ＮまたはＰであり、
ｑ＝０およびｒ＝０、またはｑ＝１およびｒ＝０もしくは１である）
を有する官能基を含むエチレン性不飽和化合物から誘導された第１の反復単位と、
（ｉｉ）ＣＨ２＝ＣＲＣＯ２Ｒ’’およびＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ２ＯＨ）ＣＯ２Ｒ’’’
（式中、
ＲはＨ、ＦあるいはＣ１〜Ｃ５アルキル基またはフルオロアルキル基であり、
Ｒ’’は少なくとも１個のヒドロキシ基を含む多環式Ｃ５〜Ｃ５０アルキル基であり、
Ｒ’’’はＣ１〜Ｃ２５アルキル基である）
からなる群から選択されるアクリレートから誘導された第２の反復単位と
を含む弗素含有コポリマー、
（ｂ）光活性成分および
（ｃ）溶媒
を含むコーティング可能なフォトレジスト組成物を基材上に適用する工程と、
（２）前記コーティング可能なフォトレジスト組成物を乾燥させて実質的に前記溶媒を除去し、前記基材上にフォトレジスト層を形成させる工程と、
（３）前記フォトレジスト層を画像様露光させて、画像形成領域と非画像形成領域とを形成させる工程と、
（４）画像形成領域と非画像形成領域とを有する前記露光されたフォトレジスト層を現像して、前記基材上にレリーフ画像を形成させる工程と
を順に含むことを特徴とする方法。
【請求項１３】
前記現像工程が、水性アルカリ現像液で行われることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記現像工程が、臨界流体、ハロゲン化有機溶媒および非ハロゲン化有機溶媒からなる群から選択される現像液で行われることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
請求項９に記載のフォトレジスト組成物でコーティングされた基材を含む製品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
（実施例１２）
（ＴＦＥ／ＮＢ−Ｆ−ＯＨ／ＭＡｄＡ／ＨＡｄＡのポリマーの画像形成）
実施例６のＴＦＥ／ＮＢ−Ｆ−ＯＨ／ＭＡｄＡ／ＨＡｄＡのポリマーを用いたことを除き、実施例８のように溶液を調製し、磁気的に一晩攪拌した。実施例７のようにコーティングウェハを調製し、画像形成し、現像した。この試験は、約７．６ｍＪ／ｃｍ２のクリアリング線量でポジティブ画像を発生させた。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
１．  （ａ）構造：
−Ｘｒ（ＣＨ２）ｑＣ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＨ
（式中、
ＲｆおよびＲｆ’は同じかまたは異なるＣ１〜Ｃ１０フルオロアルキル基であるか、あるいは合一した（ＣＦ２）ｎ（ここで、ｎは２〜１０の整数である）であり、
ＸはＳ、Ｏ、ＮまたはＰであり、
ｑ＝０およびｒ＝０、またはｑ＝１およびｒ＝０もしくは１である）
を有する官能基を含むエチレン性不飽和化合物から誘導された第１の反復単位と、
（ｂ）ＣＨ２＝ＣＲＣＯ２Ｒ’’およびＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ２ＯＨ）ＣＯ２Ｒ’’’
（式中、
ＲはＨ、ＦあるいはＣ１〜Ｃ５アルキル基またはフルオロアルキル基であり、
Ｒ’’は少なくとも１個のヒドロキシ基を含む多環式Ｃ５〜Ｃ５０アルキル基であり、
Ｒ’’’はＣ１〜Ｃ２５アルキル基である）
からなる群から選択されるアクリレートから誘導された第２の反復単位と
を含むことを特徴とする弗素含有コポリマー。
２．  （ｂ）がｔ−ブチルヒドロキシメチルアクリレートであることを特徴とする１．に記載の弗素含有コポリマー。
３．  （ｂ）がヒドロキシアダマンチルアクリレートであることを特徴とする１．に記載の弗素含有コポリマー。
４．  前記ポリマーが２−メチル−２−アダマンチルアクリレートから誘導された反復単位を更に含むことを特徴とする３．に記載の弗素含有コポリマー。
５．  半回分式合成によって製造される４．に記載の弗素含有コポリマー。
６．  エチレン性不飽和炭素原子に共有結合された少なくとも１個の弗素原子を含むエチレン性不飽和化合物の群から選択されるフルオロオレフィンから誘導された反復単位を更に含むことを特徴とする１．に記載の弗素含有コポリマー。
７．  前記フルオロオレフィンが、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、トリフルオロエチレンおよびＲｆＯＣＦ＝ＣＦ２（式中、Ｒｆは炭素原子数１〜１０の飽和フルオロアルキル基である）からなる群から選択されることを特徴とする６．に記載の弗素含有コポリマー。
８．  ｒ＝０およびｑ＝０であることを特徴とする１．に記載の弗素含有コポリマー。
９．  ｑ＝１およびｒ＝０であることを特徴とする１．に記載の弗素含有コポリマー。
１０．  ｑ＝１およびｒ＝１ならびにＸがＳ、Ｏ、ＮまたはＰであることを特徴とする１．に記載の弗素含有コポリマー。
１１．  構造
−Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＲａ
（式中、ＲｆおよびＲｆ’は同じかまたは異なる１〜１０個の炭素原子のフルオロアルキル基であるか、あるいは合一した（ＣＦ２）ｎ（ここで、ｎは２〜１０の整数である）であり、Ｒａは酸不安定保護基または塩基不安定保護基である）
を有する官能基を含む少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物から誘導された反復単位を更に含むことを特徴とする１．に記載の弗素含有コポリマー。
１２．  ＲａがＣＨ２ＯＣＨ２Ｒ１５であり、Ｒ１５が水素、直鎖Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基または分枝鎖Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基であることを特徴とする１１．に記載の弗素含有コポリマー。
１３．  反復単位（ａ）の官能基が−Ｃ（ＣＦ３）２ＯＨであることを特徴とする１．に記載の弗素含有コポリマー。
１４．  少なくとも１個の反復単位が環式または多環式であることを特徴とする６．に記載の弗素含有コポリマー。
１５．  構造（Ｈ）または（Ｉ）
【化２】
2005533907.tif 000002
（式中、
ｎは０、１または２であり、
ａおよびｂは、ｂが２である時にａが１でないこと、あるいは、ａが２である時にｂが１でないことを除き、独立して１、２または３であり、
Ｒ１〜Ｒ８およびＲ１１〜Ｒ１４は同じかまたは異なり、各々は水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、Ｃ３〜Ｃ１４第二級もしくは第三級アルキルカルボキシレート、炭化水素基または置換炭化水素基を表す）によって表される化合物の群から選択される環式不飽和化合物または多環式不飽和化合物から誘導された反復単位を更に含むことを特徴とする６．に記載の弗素含有コポリマー。
１６．  前記環式不飽和化合物または多環式不飽和化合物が
【化３】
2005533907.tif 000003
からなる群から選択されることを特徴とする１５．に記載の弗素含有コポリマー。
１７．  前記環式不飽和化合物または多環式不飽和化合物が
【化４】
2005533907.tif 000004
からなる群から選択されることを特徴とする１５．に記載の弗素含有コポリマー。
１８．  前記フルオロオレフィンがテトラフルオロエチレンであることを特徴とする７．に記載の弗素含有コポリマー。
１９．  （ａ）
（ｉ）構造：
−Ｘｒ（ＣＨ２）ｑＣ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＨ
（式中、
ＲｆおよびＲｆ’は同じかまたは異なるＣ１〜Ｃ１０フルオロアルキル基であるか、あるいは合一した（ＣＦ２）ｎ（ここで、ｎは２〜１０の整数である）であり、
ＸはＳ、Ｏ、ＮまたはＰであり、
ｑ＝０およびｒ＝０、またはｑ＝１およびｒ＝０もしくは１である）
を有する官能基を含むエチレン性不飽和化合物から誘導された第１の反復単位と、
（ｉｉ）ＣＨ２＝ＣＲＣＯ２Ｒ’’およびＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ２ＯＨ）ＣＯ２Ｒ’’’
（式中、
ＲはＨ、ＦあるいはＣ１〜Ｃ５アルキル基またはフルオロアルキル基であり、
Ｒ’’は少なくとも１個のヒドロキシ基を含む多環式Ｃ５〜Ｃ５０アルキル基であり、
Ｒ’’’はＣ１〜Ｃ２５アルキル基である）
からなる群から選択されるアクリレートから誘導された第２の反復単位と
を含む弗素含有コポリマーおよび
（ｂ）少なくとも１種の光活性成分
を含むことを特徴とするフォトレジスト。
２０．  溶解抑制剤を更に含むことを特徴とする１９．に記載のフォトレジスト。
２１．  溶媒を更に含むことを特徴とする１９．に記載のフォトレジスト。
２２．  基材上にフォトレジスト画像を調製するための方法であって、
（１）
（ａ）
（ｉ）構造：
−Ｘｒ（ＣＨ２）ｑＣ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＨ
（式中、
ＲｆおよびＲｆ’は同じかまたは異なるＣ１〜Ｃ１０フルオロアルキル基であるか、あるいは合一した（ＣＦ２）ｎ（ここで、ｎは２〜１０の整数である）であり、
ＸはＳ、Ｏ、ＮまたはＰであり、
ｑ＝０およびｒ＝０、またはｑ＝１およびｒ＝０もしくは１である）
を有する官能基を含むエチレン性不飽和化合物から誘導された第１の反復単位と、
（ｉｉ）ＣＨ２＝ＣＲＣＯ２Ｒ’’およびＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ２ＯＨ）ＣＯ２Ｒ’’’
（式中、
ＲはＨ、ＦあるいはＣ１〜Ｃ５アルキル基またはフルオロアルキル基であり、
Ｒ’’は少なくとも１個のヒドロキシ基を含む多環式Ｃ５〜Ｃ５０アルキル基であり、
Ｒ’’’はＣ１〜Ｃ２５アルキル基である）
からなる群から選択されるアクリレートから誘導された第２の反復単位と
を含む弗素含有コポリマー、
（ｂ）光活性成分および
（ｃ）溶媒
を含むコーティング可能なフォトレジスト組成物を基材上に適用する工程と、
（２）前記コーティング可能なフォトレジスト組成物を乾燥させて実質的に前記溶媒を除去し、前記基材上にフォトレジスト層を形成させる工程と、
（３）前記フォトレジスト層を画像様露光させて、画像形成領域と非画像形成領域とを形成させる工程と、
（４）画像形成領域と非画像形成領域とを有する前記露光されたフォトレジスト層を現像して、前記基材上にレリーフ画像を形成させる工程と
を順に含むことを特徴とする方法。
２３．  前記弗素含有コポリマーのＲｆおよびＲｆ’が、ＣＦ３であることを特徴とする２２．に記載の方法。
２４．  前記現像工程が、水性アルカリ現像液で行われることを特徴とする２２．に記載の方法。
２５．  前記現像工程が、臨界流体、ハロゲン化有機溶媒および非ハロゲン化有機溶媒からなる群から選択される現像液で行われることを特徴とする２２．に記載の方法。
２６．  前記臨界流体が二酸化炭素であることを特徴とする２５．に記載の方法。
２７．  前記ハロゲン化溶媒が、フルオロカーボン化合物であることを特徴とする２５．に記載の方法。
２８．  １９．に記載のフォトレジスト組成物でコーティングされた基材を含む製品。