【事件の表示】
　特願２００６−５０７００５号「蒸気収集方法および装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年１１月４日国際公開、ＷＯ２００４／０９４９３０号、平成１８年１０月２６日国内公表、特表２００６−５２４３０９号〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件に係る出願（以下「本願」という。）は、２００４年３月８日（パリ条約による優先権主張外国庁受理２００３年４月２３日、米国）を国際出願日とする出願であって、平成２２年３月２９日付けで拒絶査定がなされ（発送日：同年４月６日）、これに対し、同年８月６日に拒絶査定不服の審判の請求がなされるとともに、その審判の請求と同時に手続補正がなされたものである。
　なお、拒絶査定の発送日と同日に平成２２年３月５日付け手続補正についての補正却下の決定がなされている。
　
第２　平成２２年８月６日付け手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成２２年８月６日付け手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１　本件補正発明
　本件補正は、特許請求の範囲の請求項１について、本件補正前の平成２１年１０月２１日付け手続補正書に「不特定長さの移動する基材を処理するための装置であって、（ａ）前記基材の表面に密に近接し、前記基材との間に制御間隙を画定する、制御表面と、（ｂ）前記制御表面の近くに位置するとともに気体導入デバイスを有する第１のチャンバと、（ｃ）前記制御表面の近くに位置するとともに気体取出しデバイスを有する第２のチャンバとを含み、前記制御表面および前記第１および第２のチャンバが協働して、隣接した気相がある量のマスを有する領域を画定し、前記領域内の前記マスの少なくとも一部が移送されたときにＭ１＋Ｍ１’＋Ｍ２＋Ｍ３＝Ｍ４を満足し、ここで、Ｍ１は、圧力勾配から生じる、前記領域内へのまたは前記領域からの単位幅あたりの総正味時間平均マスフローを意味し、Ｍ１’は、前記気体導入デバイスから前記第１のチャンバを通る前記領域内への、単位幅あたりの気体の総正味時間平均マスフローを意味し、Ｍ２は、前記基材の少なくとも１つの主面からまたは前記基材の少なくとも１つの主面内への、前記領域内の、単位幅あたりの時間平均マスフローを意味し、Ｍ３は、前記材料の動きから生じる、前記領域内への単位幅あたりの総正味時間平均マスフローを意味し、Ｍ４は、単位幅あたりの、前記気体取出しデバイスを通るマス移送の時間平均速度を意味し、所望の気相成分を、大幅に希釈することなく前記領域を通して移送し又は前記領域から収集する、装置。」とあったものを「不特定長さの移動する基材を処理するための装置であって、（ａ）前記基材の表面に密に近接し、前記基材との間に制御間隙を画定する、制御表面と、（ｂ）前記制御表面の近くに位置するとともに気体導入デバイスを有する第１のチャンバと、（ｃ）前記制御表面の近くに位置するとともに気体取出しデバイスを有する第２のチャンバとを含み、前記制御表面
並びに
　上記補正について検討する。
　本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に記載された発明は、「制御表面および前記第１および第２のチャンバが協働し」とあったものを「制御表面
並びに
　そこで、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に記載された発明（以下「本件補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）否かについて検討する。
　
２　刊行物に記載された発明
（１）原査定の拒絶理由において提示された、本願の優先権主張の日前に頒布された刊行物である.国際公開第０２／２５１９３号パンフレット（以下「刊行物１」という。）には、図面と共に次の事項が記載されている。
ア　「                 
Background of the Invention
 Conventional practices for the removal and recovery of components during drying of coated materials generally utilize drying units or ovens. Collection hoods or ports are utilized in both closed and open drying systems to collect the solvent vapors emitted from the substrate or material. Conventional open vapor collection systems generally utilize air handling systems that are incapable of selectively drawing only the desired gas phase components without drawing the ambient atmosphere. Closed vapor collection systems typically introduce an inert gas circulation system to assist in purging the enclosed volume. In either system, the introduction of ambient air or inert gas dilutes the concentration of the gas phase components. Thus the subsequent separation of vapors from the diluted vapor stream can be difficult and inefficient.
 Additionally, the thermodynamics associated with the conventional vapor collection systems often permit the undesirable condensation of the vapor at or near the substrate or material. The condensate can then fall onto the substrate or material and adversely affect either the appearance or functional aspects of the material. In industrial settings, the ambient conditions surrounding the process and processing equipment may include extraneous matter. In large volume drying units, the extraneous matter may be drawn into the collection system by the large volumetric flows of the conventional drying systems.
 It would be desirable to collect gas phase components without substantially diluting the gas phase components with ambient air or inert gases. Additionally, it would be an advantage to collect gas phase components at relatively low volumetric flows in an industrial setting in order to prevent the entrainment of extraneous matter.
                       
Summary of the Invention
 The present invention provides a method and apparatus for transporting and capturing gas phase components without substantial dilution. The method and apparatus utilize a chamber in close proximity to the surface of a substrate to enable collection of gas phase components near the surface of the substrate.（訳：発明の背景
　コーティング材料を乾燥させている間に成分の除去と回収を行なう従来の実施法は一般に乾燥ユニットまたはオーブンを利用する。密閉型および開放型の両方の乾燥システムにおいて回収フードまたはポートを用いて、基板または材料から発散された溶媒蒸気が回収される。従来型の開放型蒸気回収システムは一般に、周辺空気を吸入することなく所望の気相成分だけを選択的に吸入する機能を備えていない空気操作システムを利用する。密閉型蒸気回収システムは通常、封入された体積を排出するのを助ける不活性気体循環システムを導入する。いずれのシステムでも、周辺空気または不活性気体の吸入は気相成分の濃度を希釈する。従って希釈された蒸気流から引き続き蒸気を分離することは困難かつ非効率的である。
　さらに、従来の蒸気回収システムに付随する熱力学特性により、基板または材料の上または近傍で蒸気が不要に凝結してしまうことが多い。凝結液は次いで基板または材料上に落下して、材料の外観または機能特性のいずれかに悪影響を及ぼしかねない。生産現場では、処理や処理装置を取り巻く周辺環境が異物を含んでいる恐れがある。大容量乾燥ユニットにおいて、従来の乾燥システムは体積流量が大きいために異物が回収システムに吸入される恐れがある。
　気相成分を周辺空気や不活性気体で実質的に希釈することなく気相成分を回収することが望まれる。さらに、生産現場で異物の混入を防ぐために比較的小さい体積流量で気相成分を回収することは利点があろう。
　発明の要約
　本発明は、実質的に希釈なしに気相成分の移送および捕捉を行なう方法および装置を提供する。本方法および装置は基板表面にきわめて接近させたチャンバを利用することにより、基板の表面近くにおける気相成分の回収が可能になる。）」（第1ページ第15行〜第2ページ第11行。訳文は、国際公開パンフレットの日本国公表公報である特表２００４−５０９３１５号公報の段落【0002】〜【0005】。以下同様。）
イ　「The present method and apparatus is designed to substantially reduce the amount of dilution gas transported through the chamber. The use of a chamber in close proximity of the surface of the material and small negative pressure gradients enables the substantial reduction of dilution gas, namely Ml. The pressure gradient, Δp, is defined as the difference between the pressure at the chambers lower periphery, pc, and the pressure outside the chamber, po, wherein Δp=pc-po. The value of Ml is generally greater than zero but not greater than 0.25 kg/second/meter. Preferably, Ml is greater than zero but not greater than 0.1 kg/second/meter, and most preferably, greater than zero but not greater than 0.01 kg/second/meter.（訳：本方法および装置は、チャンバを通過して移送される希釈気体の量を大幅に減らすべく設計されている。材料表面に極めて近接するチャンバおよび微小な負の圧力勾配を利用することにより、希釈気体すなわちＭ１を大幅に減少させることが可能になる。圧力勾配Δｐは、チャンバ下部の周囲における圧力ｐｃと、チャンバ外部の圧力ｐｏとの相違と定義され、ここにΔｐ＝ｐｃ−ｐｏである。Ｍ１の値は一般にゼロより大きいが０．２５ｋｇ／秒／ｍを超えない。Ｍ１はゼロより大きいが０．１ｋｇ／秒／ｍを超えないことが好適であり、ゼロより大きいが０．０１ｋｇ／秒／ｍを超えないことが最適である。」（第2ページ第31行〜第3ページ第7行。訳文は同段落【0007】）
ウ　「The method and apparatus of the present invention are preferably suited for use in transporting and collecting solvents from a moving web. In operation, the chamber is placed above the continuously moving web to collect vapors at a high concentration. The low volumetric flows and high concentrations of the vapor improve the efficiency of the solvent recovery and substantially eliminate contamination problems associated with conventional component collection devices.
 The method and apparatus of the present invention are preferably used in combination with conventional gap drying systems. Gap drying systems generally convey a material through a narrow gap between hot plate and a condensing plate for the evaporation and subsequent condensation of evaporative components in the material. The configuration of the present apparatus, in various locations of a gap drying system, enables further capture of gas phase components which generally can be present in the adjacent gas phase on the surface of the material either prior to entering, or exiting a gap drying unit.（訳：本発明の方法および
装置は
移動しているウェブから溶媒を移送および回収するための利用に適している
　本発明の方法および装置は、従来の間隙乾燥システムと合わせて用いるのが好適である。間隙乾燥システムは一般に、加熱プレートと凝結プレートの間の狭い間隙を通って材料を運んで蒸発させ、引き続き材料内の蒸発性成分を凝結させる。本装置の構成は、間隙乾燥システムの配置はさまざまだが、一般に材料表面に隣接気相内に存在可能な気相を、間隙乾燥ユニットへの流入または流出に先立って、さらに補捉できるようにする。）」（第4ページ第17〜30行。訳文は同段落【0013】〜【0014】）
エ　「                 
Detailed Description
 The method and apparatus 10 of the present invention are generally described in FIG. 1. The method includes providing a material 12 having at least one major surface 14 with an adjacent gas phase (not shown). A chamber 16, having an exhaust port 18 is positioned in close proximity to define a gap between the lower periphery 19 of the chamber 16 and the surface 14 of the material 12. The gap has a height H, which is preferably 3 cm or less. The adjacent gas phase between the lower periphery 19 of the chamber 16 and the surfacel4 of the material 12 define a region possessing an amount of mass. The mass in the region is generally in a gas phase. However, those skilled in the art recognize that the region may also contain mass that is in either the liquid or solid phase, or combinations of all three phases.
 At least a portion of the mass from the region is transported through the chamber 16 by induced flow. Flow may be induced by conventional mechanisms generally recognized by those skilled in the art. The flow of mass per unit width into and through the chamber are represented by Equation I:
 
Ml + M2 + M3 = M4 (Equation I)
 
 FIG. 1 depicts the various flow streams encountered in practicing the method of the present invention. Ml is the total net time-average mass flow per unit width through the gap into the region and through the chamber resulting from pressure gradients. For purposes of the present invention, Ml essentially represents a dilution stream. M2 is the time-average mass flow per unit width from the at least one major surface of the material into said region and through the chamber. M3 is the total net time-average mass flow per unit width through the gap into the region and through the chamber resulting from motion of the material. M3 is generally recognized as mechanical drag and covers both the mass pulled in by the motion of the material under the chamber and the mass exiting from underneath the chamber as the material passes. In cases where the material is static under the chamber, M3 would be zero. In case where the gap H is uniform (i.e., the gap at the entrance and exit of the chamber are equal) M3 is zero. M3 is non zero when the entrance and exit gaps are non uniform (i.e., not equal). M4 is the time-average rate of mass transported per unit width through the chamber. It is understood that mass can be transported through the gap and into the region without being transported through the chamber. Such flows are not included in the total net flows included in Equation 1. For purposes of the invention the dimension defining the width is the length of the gap in the direction perpendicular to the motion of the material and in the plane of the material. 
 The present method and apparatus is designed to substantially reduce the amount dilution gas transported through the chamber. The use of a chamber in close proximity of the surface of the material and extremely small negative pressure gradients enables the substantial reduction of dilution gas, namely Ml. The pressure gradient, Δp, is defined as the difference between the pressure at the chambers lower periphery, pc, and the pressure outside the chamber, po, wherein △p=pc-po. The value of Ml is generally greater than zero but not greater than 0.25 kg/second/meter. Preferably, Ml is greater than zero but not greater than 0.1 kg/second/meter, and most preferably, greater than zero but not greater than 0.01 kg/second/meter.
 In an alternative expression, the average velocity resulting from Ml may be utilized to express the flow of dilution gas phase components through the chamber. The use of a chamber in close proximity of the surface of the material, and small negative pressure gradients, enables the substantial reduction of the total net average gas phase velocity, v, through the gap. The average gas phase velocity resulting from Ml is defined as; v=Ml/ρA. Wherein Ml is defined above, ρis the gas stream density in kg/cubic meter and A is the cross sectional area available for flow into the region in square meters. Wherein, A=H(2w+21) where H is defined above, w is the length of the gap in the direction perpendicular to the motion of the material, and 1 is the length of the gap in the direction of material motion. For the present invention, the value of v is generally greater than zero but not greater than 0.5 meters/second.
 The close proximity of the chamber to the surface, and the relatively small pressure gradient, enable the transport of the mass in the adjacent gas phase through the chamber with minimal dilution. Thus lower flow rates at higher concentrations may be transported and collected. The present method is also suitable for transporting and collecting relatively small amounts of mass located in the adjacent gas phase. The gap height is generally 3 cm or less, preferably 1.5 cm or less , and most preferably 0.75 cm or less.Additionally, in a preferred embodiment, the gap is substantially uniform around the periphery of the chamber. However, the gap may be varied, or non-uniform for specific applications. In a preferred embodiment, the chamber may have a periphery wider than the material, or web conveyed under the chamber. In such cases, the chamber can be designed to seal the sides to further reduce time-average mass flow per unit width from pressure gradients (Ml). The chamber can also be designed to conform to different geometry material surfaces. For example, the chamber can have a radiused lower periphery to conform to the surface of a cylinder.
 The material utilized may include any material that is capable of being positioned in close proximity of the chamber. The preferred material is a web. The web may include one or more layers of material or coatings applied onto a substrate.
 The chamber is sized and operated appropriately to provide the sufficient collection of gas phase components without substantial dilution or without excessive loss of gas phase components for failure to draw them into the chamber. Those skilled in the art are capable of designing and operating a chamber to address both the evaporation rate of given materials and the needed fluid flow rate for proper recovery of the gas phase components. With flammable gas phase components, it is preferred to capture the vapors at concentrations above the upper flammability limit for safety reasons. Additionally, the gap may be maintained over a substantial portion of the web. Several chambers may also be placed in operation at various points along the web processing path. Each individual chamber may be operated at different pressures, temperatures and gaps to address process and material variants.
 Transport of the mass from the region through the chamber is accomplished by inducing a pressure gradient. A pressure gradient is generally created by mechanical devices, for example, pumps, blowers, and fans. The mechanical device that induces the pressure gradient is in communication with the chamber. Therefore, the pressure gradient will initiate mass flow through the chamber and through an exhaust port in the chamber.Those skilled in the art also recognize that pressure gradients may also be derived from density gradients of gas phase components.
 The chamber may also include one or more mechanisms to control the phase of the mass transported through the chamber thereby controlling phase change of the components in the mass. For example, conventional temperature control devices may be incorporated into the chamber to prevent condensation from forming on the internal portions of the chamber. Non-limiting examples of conventional temperature control devices include heating coils, electrical heaters, and external heat sources. A heating coil provides sufficient heat in the chamber to prevent the condensation of the vapor component. Conventional heating coils and heat transfer fluids are suitable for use with the present invention.（訳：詳細な記述
　本発明の方法および装置１０は一般的に図１で示される。本方法は、隣接気相（図示せず）を有する少なくとも１つの主面１４を備えた材料１２の提供を含む。
排気ポート１８を有するチャンバ１６がきわめて接近して配置されていて
チャンバ１６下部の周囲１９と材料１２の表面１４の間の間隙を規定する
チャンバ１６下部の周囲１９と材料１２の表面１４の間の隣接気相はある量の質量を有する領域を規定する
　
誘発された流動により
領域からの質量の少なくとも一部がチャンバ１６を通って移送される
チャンバ内
を通過する単位幅当たり質量は式Ｉにより表わされる
Ｍ１＋Ｍ２＋Ｍ３＝Ｍ４
（式Ｉ）
。Ｍ１は、圧力勾配の結果生じた間隙を通って領域内へ入りチャンバを通過する単位幅当たりの正味時間平均質量流量の合計である
Ｍ２は材料の少なくとも１つの主面から前記領域内へ入りチャンバを通過する単位幅当たりの時間平均質量流量である
Ｍ３は材料の動作の結果生じた、間隙を通って領域内へ入りチャンバを通過する単位幅当たりの正味時間平均質量流量の合計である
Ｍ４はチャンバを通過して移送される質量の単位幅当たり時間平均速度である
　本方法および装置は、チャンバを通過して移送される希釈気体の量を大幅に減らすべく設計されている。
材料表面に極めて近接するチャンバおよび極めて微小な負の圧力勾配を利用することにより、希釈気体すなわちＭ１を大幅に減少させることが可能になる
　別の表現をすれば、Ｍ１から得られる平均速度を用いてチャンバに流入する希釈気相成分の流動を表現することができる。材料表面に極めて近接するチャンバおよび微小な負の圧力勾配を利用することにより、間隙を通る正味平均気相速度の合計＜ｖ＞を大幅に減少させることが可能になる。Ｍ１から得られる平均気相速度は、＜ｖ＞＝Ｍ１／ρＡと定義される。ここに、Ｍ１は上で定義済み、ρはｋｇ／ｍ３単位の気流密度、Ａは領域内への流動が利用できる断面積をｍ２単位で表わしたものである。ここに、Ａ＝Ｈ（２ｗ＋２ｌ）であり、Ｈは上で定義済み、ｗは材料の動きに直交する方向での間隙の長さ、ｌは材料の移動方向での間隙の長さである。本発明の場合、＜ｖ＞の値は一般にゼロより大きいが０．５ｍ／以下である。
　表面にチャンバが極めて近接していること、および圧力勾配が比較的小さいことにより、隣接気相内の質量を最小限の希釈でチャンバを通過して移送することが可能になる。従って、高濃度かつ低速な流動の移送および回収ができる。本方法はまた、隣接気相に存在する比較的小さい質量を移送および回収するのに適している。間隙の高さは一般に３ｃｍ以下、好適には１．５ｃｍ以下であり、０．７５ｃｍ以下が最適である。さらに、好適な実施形態において、チャンバの周囲の間隙はほぼ均一である。しかし、特定用途では間隙が変化しても、均一でなくてもよい。好適な実施形態において、チャンバの周囲は、チャンバ下側を搬送される材料すなわちウェブより広くてもよい。このような場合、チャンバは側面を密閉すべく設計することにより、圧力勾配（Ｍ１）から単位幅当たりの時間平均質量流量をさらに減らすことができる。チャンバはまた、材料表面を異なる形状に合わせるよう設計することができる。例えば、チャンバ下部の周囲を、シリンダの表面に合わせるように半径を設定することができる。
　使用される材料は、チャンバにきわめて接近して配置することが可能な任意の材料を含んでいてよい。
好適な材料はウェブである
　チャンバは、適切にサイズを定めて操作することにより、気相成分を実質的に希釈することなく、またチャンバへの吸入の失敗により気相成分を過度に失なうことなく、それらを十分に回収することができる。当業者であれば、気相成分の適切な回収を目指して所定の材料の蒸発速度および必要な流体流速の両方に対処すべくチャンバを設計、操作することができる。可燃性気相成分の場合、安全のため引火上限を超えた濃度で蒸気を捕捉することが好適である。さらに、
間隙はウェブのほぼ全体にわたって維持されてよい
　領域からチャンバを通過する質量の移送は、圧力勾配を誘発することにより実現される。圧力勾配は一般に、例えばポンプ、送風機、および扇風機等の機械装置により生成される。圧力勾配を誘発する機械装置はチャンバと連通している。従って圧力勾配は、チャンバを通過してチャンバ内の排気ポートを通過する質量流量を生じさせる。当業者はまた、圧力勾配も気相成分の密度勾配から生じることを認識しよう。
　チャンバはまた、チャンバを通過して移送される質量の相を制御することにより質量における成分の相変化を制御する１つ以上の機構を含んでいてよい。例えば、従来の温度制御装置は、チャンバ内に組み込まれていてチャンバ内部で凝結が生じるのを防ぐことができる。従来の温度制御装置の非限定的な実施例には加熱コイル、電気ヒーター、および外部熱源が含まれる。加熱コイルはチャンバに十分な熱を供給することにより蒸気成分の凝結を防ぐ。従来の加熱コイルと熱転写流体は本発明と合わせて利用するのに適している。）」（第6ページ第1行〜第9ページ第4行。訳文は同段落【0019】〜【0028】）
オ　上記エの記載事項によると、「間隙」は、チャンバ１６下部の周囲１９と材料１２の表面１４の間により規定されるものである。そして、上記エの別の箇所には、「間隙はウェブのほぼ全体にわたって維持されてよい」ことが記載されている。この後者の記載から、「間隙」は、
チャンバ１６とウェブとの間でウェブのほぼ全体にわたって維持される
カ　上記エの記載事項及びＦｉｇ１〜２の図示内容によると、チャンバ１６を通過する質量移送は、
チャンバ１６上表面の排気ポート１８
　
　上記ア〜エの記載事項、上記オ〜カの認定事項、及び、図面の図示内容を総合勘案すると、刊行物１には、次の発明が記載されていると認められる。
「移動している材料としてのウェブから溶媒を移送および回収するための利用に適している装置であって、
　ウェブとの間でウェブのほぼ全体にわたって維持される間隙を規定するようにウェブにきわめて接近して配置され、排気ポート１８を有するチャンバ１６を備え、チャンバ１６とウェブとの間の隣接気相はある量の質量を有する領域を規定し、誘発された流動により、領域からの質量の少なくとも一部がチャンバ１６を通って移送されるとき、チャンバ１６内を通過する単位幅当たりの質量流量は、式Ｉにより表わされ、
　Ｍ１＋Ｍ２＋Ｍ３＝Ｍ４　（式Ｉ）
　ここで、Ｍ１は、圧力勾配の結果生じた間隙を通って領域内へ入りチャンバ１６を通過する単位幅当たりの正味時間平均質量流量の合計であり、
　Ｍ２は、材料の少なくとも１つの主面から前記領域内へ入りチャンバ１６を通過する単位幅当たりの時間平均質量流量であり、
　Ｍ３は、材料の動作の結果生じた、間隙を通って領域内へ入りチャンバ１６を通過する単位幅当たりの正味時間平均質量流量の合計であり、
　Ｍ４は、チャンバ１６上表面の排気ポート１８を通過して移送される質量の単位幅当たりの時間平均速度であり、
　材料表面に極めて近接するチャンバ１６および極めて微小な負の圧力勾配を利用することにより、希釈気体すなわちＭ１を大幅に減少させることが可能になる装置。」
　
（２）同じく、原査定の拒絶理由において提示された、本願の優先権主張の日前に頒布された刊行物である特開昭６３−１５８１６６号公報（以下「刊行物２」という。）には、図面と共に次の事項が記載されている。
ア　「産業上の利用分野］
　本発明は、例えば長尺のプラスチック製支持体に塗液を塗布して乾燥することにより写真感光材料を製造する際の乾燥工程を改良するものである。」（第1ページ左下欄第14〜17行）
イ　「本発明の
目的は
設備をコンパクトにし
た乾燥方法を提供すること
［問題点を解決するための手段］
　本発明者はこのような目的を達成するべく鋭意検討を行なった結果、不活性ガスのなかで該帯状物の上下に配置された加熱板からの放射熱によって乾燥を行なうとともに、
乾燥排ガスから溶剤を回収することにより、オーブンへの送風量を極めて少なくできる
ウ　「［作用］
　本発明の方法においては、加熱板からの放射伝熱によって帯状物を乾燥させ、充満されている不活性ガスは蒸発した
溶剤蒸気
風量が少なく、オーブン内外の圧力差が小さい
［実施例］
　第１図は本発明の方法に利用される
乾燥装置
　図示のように、帯状物１は原反ロール２から繰出され、公知の塗布装置３で塗液４が塗布される。そして、オーブン５内で乾燥され、巻取ロール６に巻取られる。
オーブン５は偏平な長函状の密閉形のものであり
長手方向の両端面には、帯状物１が通るスリット状開ロ７、８が設けられている
　なお、乾燥条件等によりフィン２５、保温材２６は省略することができる。
また、
オーブン５の両端上面には、不活性ガスの送風口１１及び排風口１２が設けられている
　このような装置において、
帯状物１は
走行する
　
　上記ア〜ウの記載事項及び図面の図示内容を総合勘案すると、刊行物２には、次の発明が記載されていると認められる。
「装置をコンパクトにすることを目的として、
　走行する帯状物１を乾燥する乾燥装置であって、
　長手方向の両端面には、帯状物１が通るスリット状開ロ７、８が設けられ、両端上面には、不活性ガスの送風口１１及び排風口１２が設けられている、偏平な長函状の密閉形のオーブン５を具備し、
　溶媒蒸気を含む乾燥排ガスから溶剤を回収することにより、オーブンへの送風量を極めて少なくできる乾燥装置。」
　
３　対比
　本件補正発明と刊行物１に記載された発明とを対比する。
　刊行物１に記載された発明の「移動している材料としてのウェブ」は、巻かれたもので、不特定の長さを有するものであるから、本件補正発明の「不特定長さの移動する基材」に相当し、以下同様に、
　「溶媒を移送および回収するための利用に適している装置」は、溶媒の移送および回収処理をするものであるから、「処理するための装置」に、
　「誘発された流動により、領域からの質量の少なくとも一部がチャンバ１６を通って移送されるとき」は、「領域内のマスの少なくとも一部が移送されたとき」に、
　「Ｍ１は、圧力勾配の結果生じた間隙を通って領域内へ入りチャンバ１６を通過する単位幅当たりの正味時間平均質量流量の合計」であることは、「Ｍ１は、圧力勾配から生じる、領域内への」「単位幅あたりの総正味時間平均マスフローを意味」することに、
　「Ｍ２は、材料の少なくとも１つの主面から前記領域内へ入りチャンバ１６を通過する単位幅当たりの時間平均質量流量」であることは、「Ｍ２は、基材の少なくとも１つの主面から」「の、領域内の、単位幅あたりの時間平均マスフローを意味」することに、
　「Ｍ３は、材料の動作の結果生じた、間隙を通って領域内へ入りチャンバ１６を通過する単位幅当たりの正味時間平均質量流量の合計」であることは、「Ｍ３は、材料の動きから生じる、領域内への単位幅あたりの総正味時間平均マスフローを意味」することに、
　「Ｍ４は、チャンバ１６上表面の排気ポート１８を通過して移送される質量の単位幅当たりの時間平均速度」であることは、「Ｍ４は、単位幅あたりの、気体取出しデバイスを通るマス移送の時間平均速度を意味」することに、
　「希釈気体すなわちＭ１を大幅に減少させる」ことは、気相成分の溶媒を大幅に減少させた量の希釈気体を用いて希釈するのであるから、「所望の気相成分を、大幅に希釈することなく領域を通して移送」することに、
　それぞれ相当する。
　
　そして、刊行物１に記載された発明の「ウェブとの間でウェブのほぼ全体にわたって維持される間隙を規定するようにウェブにきわめて接近して配置され」「るチャンバ１６」と、本件補正発明の「基材の表面に密に近接し、基材との間に制御間隙を画定する、制御表面」とは、前者において、チャンバ１６は、ウェブとの間でウェブのほぼ全体にわたって維持される間隙を規定するためのチャンバ１６を構成する上表面を具備するものであり、後者において、制御表面並びに第１及び第２のチャンバは、全体として一つのチャンバを構成するものであるから、両者は、「基材の表面に密に近接し、基材との間に制御間隙を画定する、チャンバを構成する制御表面」である点で共通し、同様に、
　刊行物１に記載された発明の「排気ポート１８を有するチャンバ１６」と、本件補正発明の「制御表面の近くに位置するとともに気体取出しデバイスを有する第２のチャンバ」とは、上記したように、後者において、制御表面並びに第１及び第２のチャンバは、全体として一つのチャンバを構成するものであるから、両者は、「気体取出しデバイスを有するチャンバ」であることで共通する。
　また、刊行物１に記載された発明の「チャンバ１６とウェブとの間の隣接気相はある量の質量を有する領域を規定」することと、本件補正発明の「制御表面並びに第１および第２のチャンバが協働して、隣接した気相がある量のマスを有する領域を画定」することとは、後者において、制御表面並びに第１及び第２のチャンバは、全体としてチャンバを構成するものであるから、両者は、「チャンバが、隣接した気相がある量のマスを有する領域を画定」することで共通し、同様に、
　刊行物１に記載された発明の「Ｍ１＋Ｍ２＋Ｍ３＝Ｍ４」と本件補正発明の「Ｍ１＋Ｍ１’＋Ｍ２＋Ｍ３＝Ｍ４」とは、「Ｍ１、Ｍ２、及び、Ｍ３とＭ４とは所定の関係を満たす」ことで、
　それぞれ共通する。
　
　したがって、両者の一致点および相違点は、次のとおりである。
［一致点］
「不特定長さの移動する基材を処理するための装置であって、
　前記基材の表面に密に近接し、前記基材との間に制御間隙を画定する、チャンバを構成する制御表面と、気体取出しデバイスを有するチャンバを含み、
　チャンバが、隣接した気相がある量のマスを有する領域を画定し、前記領域内の前記マスの少なくとも一部が移送されたときにＭ１、Ｍ２、及び、Ｍ３とＭ４とは所定の関係を満たし、
　ここで、Ｍ１は、圧力勾配から生じる、前記領域内への単位幅あたりの総正味時間平均マスフローを意味し、Ｍ２は、前記基材の少なくとも１つの主面からの、前記領域内の、単位幅あたりの時間平均マスフローを意味し、Ｍ３は、前記材料の動きから生じる、前記領域内への単位幅あたりの総正味時間平均マスフローを意味し、Ｍ４は、単位幅あたりの、前記気体取出しデバイスを通るマス移送の時間平均速度を意味し、所望の気相成分を、大幅に希釈することなく前記領域を通して移送する装置。」
　
［相違点１］
　本件補正発明では、（ａ）基材の表面に密に近接し、基材との間に制御間隙を画定する、制御表面と、（ｂ）制御表面の近くに位置するとともに気体導入デバイスを有する第１のチャンバと、（ｃ）制御表面の近くに位置するとともに気体取出しデバイスを有する第２のチャンバとを含み、制御表面並びに第１および第２のチャンバが協働して、隣接した気相がある量のマスを有する領域を画定するのに対して、刊行物１に記載された発明では、ウェブとの間でウェブのほぼ全体にわたって維持される間隙を規定するようにウェブにきわめて接近して配置され、排気ポート１８を有するチャンバ１６を備え、チャンバ１６とウェブとの間の隣接気相はある量の質量を有する領域を規定する点。
　
［相違点２］
　Ｍ１、Ｍ２、及び、Ｍ３とＭ４とが満足する所定の関係が、本件補正発明では、Ｍ１＋Ｍ１’＋Ｍ２＋Ｍ３＝Ｍ４であり、ここで、Ｍ１’は、気体導入デバイスから第１のチャンバを通る領域内への、単位幅あたりの気体の総正味時間平均マスフローを意味するのに対して、刊行物１に記載された発明では、Ｍ１＋Ｍ２＋Ｍ３＝Ｍ４であるが、気体導入デバイスから第１のチャンバを通る領域内への、単位幅あたりの気体の総正味時間平均マスフローとしてのＭ１’を考慮していない点。
　
４．当審の判断
　上記相違点１及び２について検討する。
　本件補正発明と刊行物２に記載された発明とを対比する。
　刊行物２に記載された発明の「走行する帯状物１」は、その構成及び機能からみて、本件補正発明の「不特定長さの移動する基材」に相当し、以下同様に、
　「乾燥する乾燥装置」は、「処理するための装置」に、
　「オーブンへの送風量を極めて少なくできる」ことは、溶剤蒸気を含んだ乾燥排ガスを不活性ガスを用いてわずかにしか希釈しないことであるから、「所望の気相成分を、大幅に希釈する」ことがないことに、
それぞれ相当する。
　そして、刊行物２に記載された発明の「両端上面には、不活性ガスの送風口１１及び排風口１２が設けられている、偏平な長函状の密閉形のオーブン５」と本件補正発明の「（ａ）基材の表面に密に近接し、基材との間に制御間隙を画定する、制御表面と、（ｂ）制御表面の近くに位置するとともに気体導入デバイスを有する第１のチャンバと、（ｃ）制御表面の近くに位置するとともに気体取出しデバイスを有する第２のチャンバ」とは、「上面に気体導入ポートと気体取出しポートとを有するチャンバ」である点で共通する。
　してみると、刊行物２に記載された発明は「装置をコンパクトにすることを目的として、不特定長さの移動する基材を処理するための装置であって、上面に気体導入デバイスと気体取出しデバイスとを有するチャンバを具備し、所望の気相成分を、大幅に希釈することがない基材を処理するための装置。」と言い換えることができる。
　そして、刊行物１に記載された発明と刊行物２に記載された発明とは、不特定長さの移動する基材を処理するための装置という共通の技術分野に属する発明であり、また、所望の気相成分を希釈する希釈気体を大幅に減少させるという共通の機能を奏するものである。
　また、刊行物１に記載された発明は、チャンバ１６がウェブにきわめて接近して配置されるものであり、その結果、チャンバ１６がコンパクト化されたものとなることは、当業者にとって自明である。そうすると、刊行物１に記載された発明と刊行物２に記載された発明とは、装置のコンパクト化を図るという共通の目的を解決するものである。
　さらに、不特定長さの移動するウェブを処理するための装置の技術分野において、気体導入デバイスを有するチャンバから気体を導入することは、本願の優先権主張の日前に広く行われている技術事項である（例えば、特開昭５６−２１６４１号公報の不活性ガス流がコンジット１４及びスペース１５を経てオリフィス１７へ供給され、開口１６を経て通路１１へ流れることや、特開平１−３２１９９４号公報の筐体１１に供給された空気が開口１２ａ、１３ａを経てウェブＷに吹き出されることを参照。）。
　してみると、刊行物１に記載された発明に、刊行物２に記載された発明を適用して、チャンバ１６の上表面に排気ポート１８を有することに加えて気体導入ポートも有するようにし、これに伴って、単位幅あたりの、排気ポートを通るマス移送の時間平均速度Ｍ４を算出する際に、Ｍ１〜Ｍ３を考慮することに加えて、気体導入ポートから領域内への単位幅あたりの気体の総正味時間平均マスフローをも考慮することは当業者が容易になし得たものである。そして、その際に、排気ポート１８及び気体導入ポートを、上記周知の技術事項に倣って、気体導入デバイスを有するチャンバ及び気体取出しデバイスを有するチャンバとし、気体導入デバイスを有するチャンバと気体取出しデバイスを有するチャンバとをチャンバ１６の上表面近くに位置させ、上記相違点１及び２において本件補正発明が具備する発明特定事項に到達することは当業者が適宜なし得たものである。
　そして、本件補正発明により奏される効果は、刊行物１〜２に記載された発明及び周知の技術事項から当業者が予測できた効果の範囲内のものである。
　したがって、本件補正発明は、刊行物１〜２に記載された発明及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に想到し得たものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
５．まとめ
　以上のとおりであるから、本件補正は、改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　本件補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２１年１０月２１日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「不特定長さの移動する基材を処理するための装置であって、（ａ）前記基材の表面に密に近接し、前記基材との間に制御間隙を画定する、制御表面と、（ｂ）前記制御表面の近くに位置するとともに気体導入デバイスを有する第１のチャンバと、（ｃ）前記制御表面の近くに位置するとともに気体取出しデバイスを有する第２のチャンバとを含み、前記制御表面および前記第１および第２のチャンバが協働して、隣接した気相がある量のマスを有する領域を画定し、前記領域内の前記マスの少なくとも一部が移送されたときにＭ１＋Ｍ１’＋Ｍ２＋Ｍ３＝Ｍ４を満足し、ここで、Ｍ１は、圧力勾配から生じる、前記領域内へのまたは前記領域からの単位幅あたりの総正味時間平均マスフローを意味し、Ｍ１’は、前記気体導入デバイスから前記第１のチャンバを通る前記領域内への、単位幅あたりの気体の総正味時間平均マスフローを意味し、Ｍ２は、前記基材の少なくとも１つの主面からまたは前記基材の少なくとも１つの主面内への、前記領域内の、単位幅あたりの時間平均マスフローを意味し、Ｍ３は、前記材料の動きから生じる、前記領域内への単位幅あたりの総正味時間平均マスフローを意味し、Ｍ４は、単位幅あたりの、前記気体取出しデバイスを通るマス移送の時間平均速度を意味し、所望の気相成分を、大幅に希釈することなく前記領域を通して移送し又は前記領域から収集する、装置。」
　
２　刊行物に記載された発明
　原査定の拒絶の理由に引用した刊行物１〜２、刊行物１〜２の記載事項及び刊行物１〜２に記載された発明は、前記「第２　［理由］２　刊行物に記載された発明」に記載したとおりである。
　
３　対比および判断
　本願発明は、前記「第２　［理由］１」において検討した本件補正発明において、「制御表面
並びに
　ここで、「制御表面および前記第１および第２のチャンバが協働し」は、前記したように「制御表面
並びに
　そうすると、結局、本願発明は本件補正発明に実質的に相当し、本件補正発明が、前記「第２　［理由］３　対比及び４　当審の判断」に記載したとおり、刊行物１〜２に記載された発明及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も同様に、刊行物１〜２に記載された発明及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび
　以上のとおりであるから、本願発明は、刊行物１〜２に記載された発明及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。  
　したがって、本願のその他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。