【手続補正書】
【提出日】平成18年4月4日(2006.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】エンボス加工パターンが、反復パターンからなり、１個の反復パターンが、複数の独立で特有のランドと、複数の独立の構成要素を有する背景マトリクスとからなり、ここで前記反復パターンが、セルロース系繊維ウェブのエンボス加工によって提供され、
前記背景マトリクスが、前記独立の構成要素を４０個毎６．４５平方センチメートルから９０個毎６．４５平方センチメートルまでの密度で有し、かつ、
前記独立で特有のランドが、前記背景マトリクスの前記独立の構成要素で取り囲まれることにより画成され、１個の前記独立で特有のランドが、４個から９０個までの前記独立の構成要素を前記背景マトリクスから取り除いた大きさに対応し、かつ、１個の前記反復パターンの中の前記独立で特有のランドの総面積が、１個の前記反復パターンの面積の３％から３５％を占める、
前記エンボス加工パターンを有するセルロース系繊維ウェブ。
【請求項２】前記独立で特有のランドが、前記背景マトリクスの前記独立の構成要素によって取り囲まれることにより画成された輪郭を有し、前記独立で特有のランドの前記輪郭が、装飾的形状を有する、請求項１に記載のセルロース系繊維ウェブ。
【請求項３】前記独立で特有のランドを取り囲む少なくとも１個の前記独立の構成要素が、前記独立で特有のランドを形成するために部分的に取り除かれる、請求項２に記載のセルロース系繊維ウェブ。
【請求項４】前記独立で特有のランドが、前記ランドの中に残された少なくとも１個の独立の構成要素を有する、請求項３に記載のセルロース系繊維ウェブ。
【請求項５】残された該独立の構成要素の複数の集合体が、装飾的形状を形成する、請求項４に記載のセルロース系繊維ウェブ。
【請求項６】少なくとも１個の残された前記独立の構成要素が、前記独立で特有のランドを形成するために、部分的に取り除かれる、請求項５に記載のセルロース系繊維ウェブ。
【請求項７】前記独立の構成要素と前記独立で特有のランドが、異なる高さレベルにある、請求項１に記載のセルロース系繊維ウェブ。
【請求項８】前記独立の構成要素が、エンボス加工され、前記独立で特有のランドが、エンボス加工されない、請求項７に記載のセルロース系繊維ウェブ。
【請求項９】前記独立の構成要素が、エンボス加工されず、前記独立で特有のランドが、エンボス加工される、請求項７に記載のセルロース系繊維ウェブ。
【請求項１０】前記独立の構成要素が、０．０３８７平方センチメートルから０．１５４８平方センチメートルまでの面積を有する、請求項１に記載のセルロース系繊維ウェブ。
【請求項１１】前記独立の構成要素が、０．０５８１平方センチメートルから０．１２９０平方センチメートルまでの面積を有する、請求項１に記載のセルロース系繊維ウェブ。
【請求項１２】前記独立の構成要素が、０．０６４５平方センチメートルから０．１０９６平方センチメートルまでの面積を有する、請求項１に記載のセルロース系繊維ウェブ。
【請求項１３】前記独立で特有のランドが、０．１６１３平方センチメートルから２１．２９０平方センチメートルまでの面積を有する、請求項１に記載のセルロース系繊維ウェブ。
【請求項１４】前記独立で特有のランドが、０．４９０３平方センチメートルから１６．７７４平方センチメートルまでの面積を有する、請求項１に記載のセルロース系繊維ウェブ。
【請求項１５】前記独立で特有のランドが、０．８０６５平方センチメートルから１４．１９４平方センチメートルまでの面積を有する、請求項１に記載のセルロース系繊維ウェブ。
【請求項１６】前記背景マトリクスが、４５個毎６．４５平方センチメートルから８０個毎６．４５平方センチメートルまでの前記独立の構成要素の密度を有する、請求項１に記載のセルロース系繊維ウェブ。
【請求項１７】前記背景マトリクスが、５０個毎６．４５平方センチメートルから７０個毎６．４５平方センチメートルまでの密度の前記独立の構成要素を有する、請求項１に記載のセルロース系繊維ウェブ。
【請求項１８】１個の前記独立で特有のランドが、前記背景マトリクスから８個から７０個までの前記独立の構成要素を取り除いた大きさに対応する、請求項１に記載のセルロース系繊維ウェブ。
【請求項１９】１個の前記独立で特有のランドが、前記背景マトリクスから１０個から６０個までの前記独立の構成要素を取り除いた大きさに対応する、請求項１に記載のセルロース系繊維ウェブ。
【請求項２０】前記１個の反復パターンの中の前記独立で特有のランドの総面積が、前記１個の反復パターンの面積の６％から２８％までを占める、請求項１に記載のセルロース系繊維ウェブ。
【請求項２１】前記１個の反復パターンの中の前記独立で特有のランドの総面積が、前記１個の反復パターンの面積の１０％から２４％までを占める、請求項１に記載のセルロース系繊維ウェブ。
【請求項２２】前記セルロース系繊維ウェブが、ロール状に巻かれている、請求項１に記載のセルロース系繊維ウェブ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明はセルロース繊維ウェブ（以下、ウエブともいう。）に関し、特にエンボス加工されたパターンを有するセルロース繊維ウエブに関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
セルロース系繊維のウエブの美観と嵩を向上させるために多くの解決法が行われてきた。例えば、パターンをエンボス加工することは、セルロース系繊維のウエブに美観と嵩を付与するために広く行われている。非常に多くの努力が、セルロース系繊維のウエブをエンボス加工することに向けられてきた。例えば、１９９６年１０月８日発行のカンプス（Kamps）他の米国特許第５，５６２，８０５号明細書は柔軟で嵩高のティシュ・ペーパーの製造法を開示した。このティシュは、嵩を増し強度の低下を最少にするために、細かい大きさのエンボス加工パターンでエンボス加工された。この細かい大きさのエンボス加工パターンは、少なくとも約１５個毎平方センチメートル（１００個毎平方インチ）の独立の網目状のエンボス加工構成要素を有する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
１９９４年４月５日発行のアンダーヒル（Underhill）他の米国特許第５，３００，３４７号明細書はエンボス加工された顔用ティシュを開示した。この均一にエンボス加工された顔用ティシュは、連続の、又は離間距離の小さい不連続の、エンボス加工パターンを有する。エンボス加工パターンの線により、嵩が比較的大きいエンボス加工線で囲まれるエンボス加工しない枕状部分が残る。このティシュは、ティシュの６．４５毎平方センチメートル（１毎平方インチ）に約１から約４０個の明瞭に独立のエンボス加工しない領域を有する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
エンボス加工パターン１０は、２個又はそれ以上の個数の縦方向MDに繰り返す反復パターン１４を有する。１個の反復パターン１４は複数の独立で識別できるランド１６と背景マトリクス１８からなる。縦方向ＭＤにおける１個の反復パターンは、縦方向ＭＤに同じ長さを有する隣接パターンとの比較により決められる。縦方向ＭＤの長さが同じ隣接パターンがその製品の縦方向ＭＤに沿って同じときは、そのパターンは反復パターンである。横方向ＣＤにおける１個の反復パターンは、製品の幅として決めてもよい。それ故、反復パターンの面積は、製品の１個の反復パターンの縦方向ＭＤの長さと、その製品の１個の反復パターンの横方向ＣＤの長さとの積によって決定することが出来る（即ち、（面積）＝（製品の１個の反復パターンの縦方向ＭＤの長さ）×（製品ＣＤの幅））。背景マトリクス１８は複数の独立のエンボス加工された構成要素２０によって形成される。この独立のエンボス加工された構成要素２０は図１に黒色の構成要素として示されている。独立の特有のランド１６は、複数の独立のエンボス加工された構成要素２０で実質的に取り囲まれることにより決定される。ここに、“独立の”は、隣接する構成要素が相互に連続していないことを意味する。図１に示す実施例では、隣接する独立のエンボス加工された構成要素２０は相互に連続していない。ここに、“特有の”は、そのランドが背景マトリクスから識別可能で際立っていることを意味する。ここに、“実質的に取り囲まれる”はランドが複数の独立の構成要素によって取り囲まれ，この構成要素が閉塞線を形成しない（このランドが閉塞線で取り囲まれない）ことを意味する。図１に示す実施例では、この独立で特有のランド１６が、その中に独立のエンボス加工された構成要素２０を有しないことによって、背景マトリクス１８から際立たせられる。好ましくは、独立のエンボス加工された構成要素２０と独立で特有のランド１６は、エンボス加工の結果として、高さ水準が相対的に異なる。同様に図２を参照すれば、独立のエンボス加工された構成要素２０が好ましくはエンボスされ，独立で特有のランド１６が好ましくはエンボスされない。代替的に、独立で特有のランド１６は、独立の構成要素２０から更に異なる高さ水準になるようにエンボス加工されても良い。代替的に、独立の構成要素２０と独立で特有のランド１６は、独立で特有のランド１６が背景マトリクス１８から見分けられる限り、同じ程度の高さ水準である。さらに他の実施例では、独立のエンボス加工された構成要素２０がエンボス加工されず、独立で特有のランド１６がエンボス加工されても良い。この場合、独立の構成要素２０を見分け易くするために、独立のエンボス加工された構成要素２０以外の背景マトリクス１８の残部がエンボス加工されても良い（図１に示す実施例では背景マトリクス１８の残余を白色網状構成要素として示す）。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
ウエブはセルロース系繊維のウエブの全範囲上にわたり格子状模様（以下、格子状構造ともいう。）が提供されても良い。ここに、“格子状模様”は小さい交差する対角線、又はジグザグのセグメント又はL字形（アングル）のパターンを称する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
図１を再び参照して、図１に本発明の一つの実施例を示す。図１に示すセルロース系繊維のウエブ１２はエンボス加工パターンを有する。１個の反復パターン１４は、複数の独立で特有のランド１６と、複数の独立の構成要素２０を有する背景マトリクス１８とからなる。背景マトリクス１８は独立のエンボス加工された構成要素２０を６８個毎６．４５平方センチメートル（６８個毎平方インチ）の密度で有する。独立で特有のランド１６は背景マトリクス１８から独立の構成要素２０を取り除いた大きさに対応する。複数の独立の構成要素２０で取り囲まれた独立で特有のランド１６の輪郭２２はハート状の形状を有する。独立の構成要素２０は雨滴形の形状を有する。独立の構成要素２０は０．０６４５平方センチメートル（０．０１平方インチ）の面積を有する。独立で特有のランド１６は１．６５８平方センチメートル（０．２５７平方インチ）の面積を有する。１個の反復パターン１４の中の独立で特有のランド１６の総面積は１個の反復パターンの面積の１１．２%を占める。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
図３は本発明の他の実施例を示す。図３に示すセルロース系繊維のウエブ１２はエンボス加工パターンを有する。１個の反復パターン１４は複数の独立で特有のランド１６と背景マトリクス１８からなり、この背景マトリクス１８は独立の構成要素２０を有する。背景マトリクス１８は４８個毎６．４５平方センチメートル（４８個毎平方インチ）の密度の独立の構成要素２０を有する。独立で特有のランド１６は、背景マトリクス１８から独立で特有のランド１６の輪郭２２を取り除いた大きさに対応する。複数の独立の構成要素２０で取り囲まれた独立で特有のランド１６の輪郭２２はハート状形状を有する。独立で特有のランド１６も、この独立で特有のランド１６の中に３３個の独立の構成要素２４を有し、その集合体はハート状形状を形成する。独立の構成要素２０は雨滴形形状を有する。独立の構成要素２０は０．０９６８平方センチメートル（０．０１５平方インチ）の面積を有する。独立で特有のランド１６は２．９５５平方センチメートル（０．４５８平方インチ）の面積を有する。１個の反復パターン１４における独立で特有のランド１６の総面積は１個の反復パターン１４の面積の９．１％を占める。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
図５は本発明の他の実施例を示す。図５に示すセルロース系繊維のウエブ１２はエンボス加工パターンを有する。１個の反復パターン１４は複数の独立で特有のランド１６と背景マトリクス１８からなり、この背景マトリクス１８は複数の独立のエンボス加工された構成要素２０を有する。この背景マトリクス１８は独立の構成要素２０を５３個毎６．４５平方センチメートル（５３個毎平方インチ）の密度で有する。独立で特有のランド１６は背景マトリクス１８から約５２個の独立の構成要素２０を取り除いた大きさに対応する。複数の独立の構成要素２０によって取り囲まれた独立で特有のランド１６の輪郭２２は菱形の形状を有する。独立で特有のランド１６は独立で特有のランド１６の中に残った約２１個の独立の構成要素２４を有する。何個かの独立の構成要素２０は菱形の形状の各縁の直線に沿ってカットされる。部分２４Ａは残留した独立の構成要素２４の集合体２３を形成するために残る。独立の構成要素２０は雨滴形の形状を有する。独立の構成要素２０は０．０８３９平方センチメートル（０．０１３平方インチ）の面積を有する。独立で特有のランド１６は６．３２３平方センチメートル（０．９８平方インチ）の面積を有する。１個の反復パターン１４の中の独立で特有のランド１６の総面積は１個の反復パターン１４の面積の２０％を占める。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
図６は本発明の他の実施例を示す。図６に示すセルロース系繊維のウエブ１２はエンボス加工パターンを有する。１個の反復パターン１４は複数の独立で特有のランド１６と背景マトリクス１８からなり、この背景マトリクス１８は複数の独立のエンボス加工された構成要素２０を有する。この背景マトリクス１８は独立の構成要素２０を４８個毎６．４５平方センチメートル（４８個毎平方インチ）の密度で有する。独立で特有のランド１６は背景マトリクス１８から約３０個の独立の構成要素２０を取り除いた大きさに対応する。複数の独立の構成要素２０で取り囲まれた独立で特有のランド１６の輪郭２２は円のような形状を有する。独立で特有のランド１６は独立で特有のランド１６の中に残る約１５個の独立の構成要素２４を有する。何個かの残った独立の構成要素２４はハート状形状の各縁の直線に沿ってカットされる。部分２４Ａは残りの独立の構成要素２４の集合体２３を形成するために残る。独立の構成要素２０は雨滴形の形状を有する。独立の構成要素２０は０．０９６８平方センチメートル（０．０１５平方インチ）の面積を有する。独立で特有のランド１６は４．１４８平方センチメートル（０．６４３平方インチ）の面積を有する。１個の反復パターン１４の中の独立で特有のランド１６の総面積は１個の反復パターンの面積の１１．４％を占める。