【手続補正書】
【提出日】平成18年5月31日(2006.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
製造システムを監視する方法であって、
前記製造システムに関する複数の観測状態を定義するステップと、
前記観測状態に対する状態推定値を生成するステップと、
前記状態推定値のそれぞれに対して、不確定性の値を生成するステップと、
前記製造システムのなかの実体に関する測定データを受信するステップと、
前記測定データおよび前記状態推定値に関する不確定性の値に基づき、前記状態推定値を更新するステップとを含み、前記方法はさらに、
前記製造システムにおいて活動を実行するための複数のスケジュール候補を特定するステップと、
前記スケジュール候補に基づいて、前記不確定性の値に対する変更を予測するステップと、
前記不確定性の値に対する予測された変更に基づいて、前記スケジュール候補の一つを選択するステップとを含む方法。
【請求項２】
前記状態推定値を含む状態推定ベクトルを生成するステップと、
前記状態推定ベクトルに関連し、前記不確定性の値を定義する対角項と、前記状態間の相互依存性の関係を定義する非対角項とを含む共分散行列を生成するステップとをさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記製造システムにおいて加工ステップを実行するステップと、
前記加工ステップおよびそれに関係する不確定性の値に基づいて各状態推定値を更新するステップとをさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記製造システムは複数の製品を加工するように構成された複数のツールを含み、前記複数の観測状態を定義するステップは、ツールの状態および製品の状態のうちの少なくとも一つを定義するステップをさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項５】
製造システムに関する追加の観測状態を特定するステップと、
前記追加の観測状態についての初期状態推定を生成するステップと、
前記状態推定ベクトルと前記初期状態推定とを組み合わせるステップと、
前記追加の観測状態についての初期共分散推定を生成するステップと、
前記初期共分散推定と前記共分散行列とを組み合わせるステップとをさらに含む、請求項２記載の方法。
【請求項６】
第１時間において、初期状態推定値の第１組を特定するステップと、
前記第１時間の後に発生した、前記製造システムに関する、イベントの待ち行列を保持するステップと、
第１測定イベントを受信するステップと、
前記第１測定イベントに関する、前記プロセスイベントの一つを特定するステップと、
前記特定されたプロセスイベントの後に発生したイベントを選択するステップと、
前記第１測定イベントと前記選択されたイベントの組とに基づいて、前記初期状態推定値を繰り返し更新するステップとをさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記測定データに基づいて、第１出力マッピングを生成するステップと、
前記第１出力マッピング、前記測定データおよび前記関係する不確定性の値に基づいて、前記状態推定値を更新するステップと、
前記第１加工イベントの後に発生した、第２加工イベントに関する第２測定値を受信するステップと、
前記第２測定値に基づいて、第２出力マッピングを生成するステップと、
前記第２出力マッピング、第２測定値および前記関係する不確定性の値に基づいて、前記状態推定値を更新するステップとをさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記複数のスケジュール候補を生成するステップは、
複数の加工活動をスケジューリングするステップと、
前記加工活動の一部に関する、複数の測定活動をスケジューリングするステップであって、各スケジュール候補のそれぞれは前記加工活動の異なった部分を持つところのステップとをさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項９】
前記複数のスケジュール候補を生成するステップは、
複数の加工活動をスケジューリングするステップであって、各スケジュール候補のそれぞれは前記加工活動についての異なった順序を持つところのステップをさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項１０】
前記複数のスケジュール候補を生成するステップは、
複数の加工活動を特定するステップと、
前記加工活動を実行することができる複数のプロセスツールを特定するステップと、
前記加工活動を実行するために選択された、それぞれ異なったプロセスツールを持つスケジュール候補を生成するステップとをさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項１１】
前記不確定性の値に対する前記予測された変更に基づいて、前記スケジュール候補のそれぞれに関する、不確定性の測定基準を生成するステップと、
最も小さい不確定性の測定基準を持つスケジュール候補を選択するステップとをさらに有する、請求項１記載の方法。
【請求項１２】
各スケジュール候補は複数の加工活動を含み、前記不確定性の値に対する予測された変更に基づいて、前記スケジュール候補の一つを選択するステップはさらに、
前記優先加工活動を実行しながら、最も小さい不確定性を持つスケジュール候補の一つを選択するステップをさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項１３】
製造システムにおける活動をスケジューリングする方法であって、
前記製造システムに関する複数の観測状態を定義するステップと、
前記観測状態に対する状態推定値を生成するステップと、
前記状態推定値に対して、不確定性の値を生成するステップと、
前記製造システムにおいて活動を実行するための複数のスケジュール候補を特定するステップと、
前記スケジュール候補に基づいて、前記不確定性の値に対する変更を予測するステップと、
前記不確定性の値に対する予測された変更に基づいて、前記スケジュール候補の一つを選択するステップとを含む方法。
【請求項１４】
製造システムにおける活動をスケジューリングする方法であって、
前記製造システムに関する複数の観測状態を定義するステップと、
前記観測状態に対する状態推定値を生成するステップと、
前記状態推定値に対して、不確定性の値を生成するステップと、
前記製造システムにおける複数の処理活動候補を特定するステップと、
前記複数の処理活動候補のそれぞれの最初の処理に基づいて、前記不確定性の値に対する変更を予測するステップと、
前記不確定性の値に対する予測された変更に基づいて、最初の処理のために前記処理活動候補の一つを選択するステップとを含む方法。
【請求項１５】
製造システムにおける活動をスケジューリングする方法であって、
前記製造システムに関する複数の観測状態を定義するステップと、
前記観測状態に対する状態推定値を生成するステップと、
前記状態推定値に対して、不確定性の値を生成するステップと、
選択された処理活動を実行可能な複数の処理装置候補を特定するステップと、
前記処理装置候補のそれぞれにおける前記選択された処理活動の実行に基づいて、前記不確定性の値に対する変更を予測するステップと、
前記不確定性の値に対する予測された変更に基づいて、前記選択された処理活動を実行するために、前記複数の処理装置候補の一つを選択するステップとを含む方法。
【請求項１６】
製造システムを監視するためのシステムであって、
製造システムに関する複数の観測状態を定義し、前記観測状態に対する状態推定値を生成し、前記状態推定値のそれぞれに対して、不確定性の値を生成し、前記製造システムのなかの実体に関する測定データを受信し、前記測定データおよび前記状態推定値に関する前記不確定性の値に基づき状態推定値を更新するように構成されたコントローラを備え、当該システムはさらに、
前記製造システムにおいて活動を実行するための複数のスケジュール候補を特定し、前記スケジュール候補に基づいて、前記不確定性の値に対する変更を予測し、前記不確定性の値に対する予測された変更に基づいて、前記スケジュール候補の一つを選択するように構成されたスケジューリングコントローラを備えるシステム。
【請求項１７】
前記コントローラはさらに、
前記状態推定値を含む状態推定ベクトル、および
前記状態推定ベクトルに関連し、前記不確定性の値を定義する対角項と、前記状態間の相互依存性の関係を定義する非対角項とを含む共分散行列を生成するように構成されている、請求項１６記載のシステム。
【請求項１８】
製造システムにおける活動をスケジューリングするためのシステムであって、
製造システムに関する複数の観測状態を定義し、前記観測状態に対する状態推定値を生成し、前記状態推定値に対して、不確定性の値を生成するように構成された処理コントローラと、
前記製造システムにおいて活動を実行するための複数のスケジュール候補を特定し、前記スケジュール候補に基づいて、前記不確定性の値に対する変更を予測し、前記不確定性の値に対する予測された変更に基づいて、前記スケジュール候補の一つを選択するように構成されたスケジューリングコントローラとを備えるシステム。
【請求項１９】
製造システムにおける活動をスケジューリングするためのシステムであって、
製造システムに関する複数の観測状態を定義し、前記観測状態に対する状態推定値を生成し、前記状態推定値に対して、不確定性の値を生成するように構成された処理コントローラと、
前記製造システムにおける複数の処理活動候補を特定し、前記複数の処理活動候補のそれぞれの最初の処理に基づいて、前記不確定性の値に対する変更を予測し、前記予測された不確定性の値に基づいて、最初の処理のために前記処理活動候補の一つを選択するように構成されたスケジューリングコントローラとを備えるシステム。
【請求項２０】
製造システムにおける活動をスケジューリングするためのシステムであって、
製造システムに関する複数の観測状態を定義し、前記観測状態に対する状態推定値を生成し、前記状態推定値に対して、不確定性の値を生成するように構成された処理コントローラと、
選択された処理活動を実行可能な複数の処理装置候補を特定し、前記処理装置候補のそれぞれにおける前記選択された処理活動の実行に基づいて、前記不確定性の値に対する変更を予測し、前記不確定性の値に基づいて、前記選択された処理活動を実行するために、前記複数の処理装置候補の一つを選択するように構成されたスケジューリングコントローラとを備えるシステム。
【請求項２１】
製造システムにおける活動をスケジューリングするためのシステムであって、
前記製造システムに関する複数の観測状態を定義する手段と、
前記観測状態に対する状態推定値を生成する手段と、
前記状態推定値に対して、不確定性の値を生成する手段と、
前記製造システムにおいて活動を実行するための複数のスケジュール候補を特定する手段と、
前記スケジュール候補に基づいて、前記不確定性の値に対する変更を予測する手段と、
前記不確定性の値に対する予測された変更に基づいて、前記スケジュール候補の一つを選択する手段とを備えるシステム。