【手続補正書】
【提出日】平成18年9月26日(2006.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１個、２個、３個もしくはそれ以上の封入マイクロチャネル構造を含む微小流動性デバイス(microfluidic device)であって、それぞれのマイクロチャネル構造が、
ａ) 環境雰囲気へ開いている入口を有する入口装置(inlet arrangement)；
ｂ) 入口より下流の微小反応室；および
ｃ) 出口；
を含む微小流動性デバイスの製造方法であって、それぞれのマイクロチャネル構造の対応する部分が、基板の同じペアの間に規定されるようにプラスチック材料で作られている２個もしくはそれ以上の本質的に平坦な基板を互いに接合することによって製造される方法であって、
i) プラスチック材料で作られており、それぞれが、片面(それぞれサイドａＩおよびサイドａII)に、一体となった際にそれぞれのマイクロチャネル構造の上流部分を規定する表面領域を含む、２つの本質的に平坦な基板ＩおよびIIを提供すること；
ii) 親水性かつ透明であって、かつサイドａＩおよびサイドａIIの少なくとも一方の表面領域に酸化金属を含む層(基層)を導入すること；
iii) サイドａＩをサイドａIIに向き合わせて接着し、それぞれのマイクロチャネル構造の上流部分を形成すること；
iv) 所望により、さらに平坦な基板を接合してマイクロチャネル構造を完成させること；
の段階を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
該酸化金属を酸化インジウム錫および／または酸化チタンを含み、その両方が好ましくはナノ結晶形態であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
１個もしくはそれ以上のさらなる層を、段階(iii)の前もしくは後に、該基層の上に導入することを特徴とする、請求項１〜２の何れかに記載の方法。
【請求項４】
１個、２個、３個もしくはそれ以上の封入マイクロチャネル構造を含む微小流動性デバイスであって、それぞれのマイクロチャネル構造が、
ａ) 液体のための入口を有する入口装置；
ｂ) 入口より下流の微小反応空間(ＲＭ１)；および
ｃ) 入口および微小反応空間(ＲＭ１)の間に位置し、プラスチック材料で作られている２つの平坦な基板(ここで、該基板は該マイクロチャネル構造に共通である)の間に規定される上流部分；
を含む微小流動性デバイスであって、該上流部分の内部の壁が酸化金属を含む基層上の親水性表面領域を露出していることを特徴とする微小流動性デバイス。
【請求項５】
酸化金属が酸化インジウム錫または酸化チタンであって、その両方が好ましくはナノ結晶形態であることを特徴とする、請求項４に記載のデバイス。
【請求項６】
親水性表面領域が、
ａ) 基層によって提供され；および／または
ｂ) その表面上で非イオン性親水性基を露出している最上層(top layer)の一部；
であることを特徴とする、請求項４〜５の何れかに記載のデバイス。
【請求項７】
(i) 親水性表面領域が(ｂ)に記載するものであり；そして
(ii) 該基層と該最上層の間に１個以上の中間層がある；
ことを特徴とする、請求項６に記載のデバイス。
【請求項８】
該層のそれぞれが、非共有結合かつ／または共有結合、非共有結合によって別の層に結合している、請求項６〜７の何れかに記載のデバイス。
【請求項９】
該最上層は、それが存在する場合、最上層の表面と接触する蛋白質水溶液からの蛋白質の非特異的吸着が、本質的にないことを特徴とする、請求項６〜８の何れか１項に記載のデバイス。
【請求項１０】
該部分が、入口ユニットに添加された液体の、さらに下流側のマイクロチャンネル構造への制御されない漏れを防ぐバルブ機能における下流方向端に位置している入口装置の一部を含み、該入口装置の内部表面が、典型的には該ユニットに添加された水溶液の流体先端が毛管現象によりバルブ機能に到達できる程度に濡れ得ることを特徴とする、請求項４〜９の何れか１項に記載のデバイス。
【請求項１１】
該部分が２つの機能ユニットの間の水性液体の輸送のために用いられるマイクロ導管(microconduit)を含むことを特徴とする、請求項４〜１０の何れか１項に記載のデバイス。
【請求項１２】
該部分が、微小反応空間(ＲＭ１)の上流に位置する微小反応空間(ＲＭ２)を含むこと、および／または微小反応空間(ＲＭ１)が酸化金属を含む基層上に親水性表面を露出していることを特徴とする、請求項４〜１１の何れか１項に記載のデバイス。
【請求項１３】
該部分が、微小反応空間(ＲＭ１)の上流に位置する検出ユニットを含むことを特徴とする、請求項４〜１２の何れか１項に記載のデバイス。
【請求項１４】
該部分が、場合により微小反応空間と組み合わされた、および／または一致している加熱ユニットを含むことを特徴とする、請求項４〜１３の何れか１項に記載のデバイス。
【請求項１５】
該基層が透明である、請求項４〜１４の何れか１項に記載のデバイス。
【請求項１６】
該基層が電気伝導性であることを特徴とする、請求項４〜１５の何れか１項に記載のデバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
第３の目的は、加熱、導電測定などの場所でプラスチック基板を介して液体を同時に観測しながら、微小流動性デバイスの液体輸送システム中で、加熱、導電測定、液流の電気動力学的駆動、電気泳動などのために、局所的に電圧をかけ得る、本明細書で定義した別の微小流動性デバイスを提供することである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
プラスチック基板表面へのネガティブな効果を避けるための基層の導入に適切な方法および／または条件を選択することが重要である。従って、特に基板表面が、マイクロ導管を規定する微小構造を有するならば、高エネルギー・インプットを必要とする方法および／または条件、例えばプラスチック基板の温度をその軟化温度付近もしくは以上まで上げることは避けるべきである。このことは、特に、スパッタリングに適用される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
さらなる層の導入に適切な技術は、以下に例示し得る。
ａ) WO 03 086960 (Gyros AB) および US 2003/0213551 (Gyros AB)に記載された通りに、有機前駆体分子をベースとしたガス・プラズマからの堆積；
ｂ) 非イオン性ポリマー{場合により WO 01 47637 (Gyros AB)に概略した通りに電荷を帯びているもしくは帯びていない基体に結合している}でのコーティング(US 6236083(Caliper)を参照のこと)；
ｃ) 酸化金属層または幾つかの他の前もって導入された層の表面を、少なくとも二官能性試薬と反応させること{ここで、１つの官能基(Ｉ)は共有結合または幾つかの他の安定な結合を介して試薬を表面に結合させることができ、試薬の残りの幾つかの他の官能基(II)が、作られた新しい表面上に露出する}。該試薬は、場合によりその表面の化学的特性を規定する官能基(II)で、層を規定する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９０】
微小反応空間(ＲＭ、例えばＲＭ１)は、反応が起こるべきマイクロキャビティーである。該反応は、２個もしくはそれ以上の反応物{ここで、その１個もしくはそれ以上が微小反応空間中に存在する固相に固定されていてもよい}に関係していてもよい。利用される反応物は、下記の種類の親和性反応物および／または１個もしくはそれ以上の共有結合の切断および／または形成によって構造的に新しい存在に変換される１個もしくはそれ以上の反応物を含む。触媒系の反応物、例えば酵素系も、しばしば含まれる(例えば酵素、基質、補因子、補酵素、補助基質(cosubstrate)など)。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２５】
電気的性質
堆積した層は、それが導電性を示すほど高密度の電荷キャリアを含まなければならない。これらのキャリアは、自由電子と酸素空孔であり、そして過剰集合は吸収を起こす。高導電性、低抵抗性は、可視領域での高透過率に対してバランスをとる。透過率９０％付近を有するＩＴＯフィルムは、１００Ω／スクエア以上の抵抗を有する。７５％未満の透過率を有するフィルムにおいて、３０Ω／スクエアの抵抗が得られた。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２６】
ＩＴＯフィルムの接触角
表１(酸素分圧１０％、スキャン数４)に従ってスパッタリングしたフィルムのために、堆積直後の静的水接触角(static water angle)は、２０〜３０°付近の間を変化した。Al-folio 中で４週間保存した後、９５％ ＥｔＯＨで洗浄後、静的水接触角は２１°であった。これより、より長い時間（例えば１、２、３カ月以上）での保存のための許容される保存安定性が、この種類の表面修飾で達成されるであろうという兆候が顕著である。