【手続補正書】
【提出日】平成17年6月10日(2005.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エネルギを基板に供給するシステムであって、
各々が力学的に選択可能な方向に伝搬する複数の放射ビームを生成する少なくとも１つの力学的に向きを設定可能な放射エネルギ源と、
互いに独立に配置を設定可能な複数のビーム操作素子と、
を有し、前記ビーム操作素子のいくつかは、前記複数のビームが入力されると共に前記複数のビームを前記基板上の選択可能な位置へと案内することを特徴とするシステム。
【請求項２】
前記少なくとも１つの力学的に向きを設定可能な放射エネルギ源は、各々が放射エネルギのパルスによって画定される複数のビームを出力する放射エネルギのパルス源を含むことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記少なくとも１つの放射エネルギ源は、少なくとも１つのパルスレーザを含み、前記複数の放射ビームは、少なくとも１つのパルスレーザビームを含むことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記少なくとも１つのパルスレーザは、Ｑスイッチレーザであることを特徴とする請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記少なくとも１つの力学的に向きを設定可能な放射エネルギ源は、Ｑスイッチレーザを有することを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記少なくとも１つの力学的に向きを設定可能な放射エネルギ源は、放射エネルギのビームが入力されると共に前記ビームを選択可能な個数のサブビームに分割するビームスプリッタを有することを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記少なくとも１つの力学的に向きを設定可能な放射エネルギ源は、放射エネルギのビームが入力されると共に前記ビームを複数のサブビームに分割し、さらに前記サブビームをそれぞれ選択可能な方向に案内するビームスプリッタを有することを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記ビームスプリッタは、前記サブビームを選択可能な方向に向けて案内するように動作することを特徴とする請求項６に記載のシステム。
【請求項９】
前記ビームスプリッタは、制御信号によって動作が制御されている音響光学偏向器を有することを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記音響光学偏向器は、前記制御信号によって制御される音響波ジェネレータを有し、前記音響波ジェネレータは、前記サブビームの個数を決定する音響波を生成することを特徴とする請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記音響光学偏向器は、前記制御信号によって制御される音響波ジェネレータを有し、前記音響波ジェネレータは、前記サブビームの前記選択可能な方向を決定する音響波を生成することを特徴とする請求項９に記載のシステム。
【請求項１２】
前記音響波は、前記サブビームの前記選択可能な方向を決定することを特徴とする請求項１０記載のシステム。
【請求項１３】
前記音響波は、空間的に異なる複数の音響波セグメントを含み、空間的に異なる音響波セグメントの各々は、異なる周波数を有する前記制御信号の部分によって画定されることを特徴とする請求項１２記載のシステム。
【請求項１４】
前記空間的に異なる音響波セグメントの各々は、対応するサブビームの対応する空間的に異なる方向を決定し、前記方向は、前記音響波セグメントに対応する制御信号の部分の周波数の関数であることを特徴とする請求項１３記載のシステム。
【請求項１５】
前記空間的に異なる音響波セグメントの個数は、対応するサブビームの個数を決定することを特徴とする請求項１３記載のシステム。
【請求項１６】
前記少なくとも１つの力学的に向きを設定可能な放射エネルギ源は、放射エネルギのビームが入力されて前記ビームを選択可能な個数のサブビームに分割する力学的に構成を設定可能なビームスプリッタを有し、
前記力学的に構成を設定可能なビームスプリッタは、構成を変更可能な期間内に前記サブビームの個数及び方向の少なくとも１つを変更可能であり、
前記放射エネルギのパルスは、前記構成を設定可能な期間よりも大なるパルス間隔によって時間に関して互いに分離されていることを特徴とする請求項２記載のシステム。
【請求項１７】
前記互いに独立に配置を設定可能な複数のビーム操作素子は、向きを変更可能な期間内に前記サブビームの方向を変更でき、
前記放射エネルギのパルスは、前記向きを変更可能な期間よりも短いパルス間隔によって時間に関して互いに分離されていることを特徴とする請求項２記載のシステム。
【請求項１８】
前記互いに独立に配置を設定可能な複数のビーム操作素子は、前記向きを変更可能な期間内に前記サブビームの方向を変更でき、
前記放射エネルギのパルスは、前記向きを変更可能な期間よりも短いパルス間隔によって互いに分離されることを特徴とする請求項１６記載のシステム。
【請求項１９】
前記複数のビーム操作素子の各々は、少なくとも１つの選択的に傾斜するアクチュエータに装着されている反射器を有することを特徴とする請求項３記載のシステム。
【請求項２０】
前記複数のビーム操作素子の各々は、少なくとも１つの選択的に傾斜するアクチュエータに装着されている反射器を有することを特徴とする請求項１８記載のシステム。
【請求項２１】
前記少なくとも１つのアクチュエータは、圧電装置からなることを特徴とする請求項１９記載のシステム。
【請求項２２】
前記少なくとも１つのアクチュエータは、ＭＥＭ装置からなることを特徴とする請求項１９記載のシステム。
【請求項２３】
前記複数のビーム操作素子は、前記複数のサブビームに含まれるサブビームの個数を超える個数のビーム操作素子を含み、
前記複数のサブビームのうちの少なくともいくつかは、前記複数のビーム操作素子の少なくともいくつかに案内され、他の前記複数のビーム操作素子は、配置が調整されていることを特徴とする請求項１８記載のシステム。
【請求項２４】
前記選択可能な個数のサブビームは、全て同一面内に含まれることを特徴とする請求項６記載のシステム。
【請求項２５】
互いに独立に配置可能な複数のビーム操作素子は、ビーム操作素子の２次元アレイからなることを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項２６】
前記少なくとも１つの力学的に配置が設定可能な放射エネルギ源と、前記互いに独立に配置可能な複数のビーム操作素子との間に、任意に挿入される固定反射器のアレイをさらに有することを特徴とする請求項２５記載のシステム。
【請求項２７】
前記互いに独立に配置可能なビーム操作素子は、前記放射ビームを案内して前記場所での前記基板の一部を除去するように動作することを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項２８】
エネルギを基板に供給するシステムであって、
放射ビームを生成する少なくとも１つの放射エネルギ源と、
前記放射エネルギ源と前記基板との間に配置されるビームスプリッタと、
を有し、前記ビームスプリッタは、前記ビームを選択可能な複数のサブビームに分割するように動作することを特徴とするシステム。
【請求項２９】
前記少なくとも１つの放射エネルギ源は、放射エネルギのパルス源を含み、前記ビームは、放射エネルギのパルスによって画定されることを特徴とする請求項２８に記載のシステム。
【請求項３０】
前記少なくとも１つの放射エネルギ源は、少なくとも１つのパルスレーザを含み、前記放射ビームは、パルスレーザビームを含むことを特徴とする請求項２８に記載のシステム。
【請求項３１】
前記少なくとも１つのパルスレーザは、Ｑスイッチレーザであることを特徴とする請求項３０に記載のシステム。
【請求項３２】
前記少なくとも１つの放射エネルギ源は、Ｑスイッチレーザを有することを特徴とする請求項２８に記載のシステム。
【請求項３３】
前記ビームスプリッタは、前記複数のサブビームの各々を選択可能な方向へ案内するように動作することを特徴とする請求項２８に記載のシステム。
【請求項３４】
前記ビームスプリッタは、制御信号によって動作が制御される音響光学偏向器を有することを特徴とする請求項３３に記載のシステム。
【請求項３５】
前記音響光学偏向器は、前記制御信号によって制御される音響波ジェネレータを有し、前記音響波ジェネレータは、前記サブビームの個数を決定する音響波を生成することを特徴とする請求項３４に記載のシステム。
【請求項３６】
前記音響光学偏向器は、前記制御信号によって制御される音響波ジェネレータを有し、前記音響波ジェネレータは、前記サブビームの前記選択可能な方向を決定する音響波を生成することを特徴とする請求項３４に記載のシステム。
【請求項３７】
前記音響波は、前記サブビームの前記選択可能な方向を決定することを特徴とする請求項３５記載のシステム。
【請求項３８】
前記音響波は、空間的に異なる複数の音響波セグメントを含み、空間的に異なる音響波セグメントの各々は、異なる周波数を有する前記制御信号の部分によって画定されることを特徴とする請求項３７記載のシステム。
【請求項３９】
前記空間的に異なる音響波セグメントの各々は、対応するサブビームの対応する空間的に異なる方向を決定し、前記方向は、前記音響波セグメントに対応する制御信号の部分の周波数の関数であることを特徴とする請求項３８記載のシステム。
【請求項４０】
前記空間的に異なる音響波セグメントの個数は、対応するサブビームの個数を決定することを特徴とする請求項３８記載のシステム。
【請求項４１】
前記ビームスプリッタは、前記ビームが入力される力学的に構成を設定可能なビームスプリッタからなり、
前記ビームスプリッタは、構成を変更可能な期間内に前記サブビームの個数及び方向の少なくとも１つを変更可能であり、
前記放射エネルギのパルスは、前記構成を変更可能な期間よりも大なるパルス間隔によって時間に関して互いに分離されていることを特徴とする請求項２９記載のシステム。
【請求項４２】
向きを変更可能な期間内に前記サブビームの方向を変更できる互いに独立に配置を設定可能な複数のビーム操作素子をさらに有し、
前記放射エネルギのパルスは、前記向きを変更可能な期間よりも短いパルス間隔によって時間に関して互いに分離されていることを特徴とする請求項２９記載のシステム。
【請求項４３】
前記互いに独立に配置を設定可能な複数のビーム操作素子は、前記向きを変更可能な期間内に前記サブビームの方向を変更でき、
前記放射エネルギのパルスは、前記向きを変更可能な期間よりも短いパルス間隔によって互いに分離されることを特徴とする請求項４１記載のシステム。
【請求項４４】
複数のビーム操作素子をさらに有し、前記複数のビーム操作素子の各々は、少なくとも１つの選択的に傾斜するアクチュエータに装着されている反射器を有することを特徴とする請求項３０記載のシステム。
【請求項４５】
前記複数のビーム操作素子の各々は、少なくとも１つの選択的に傾斜するアクチュエータに装着されている反射器を有することを特徴とする請求項４３記載のシステム。
【請求項４６】
前記少なくとも１つのアクチュエータは、圧電装置からなることを特徴とする請求項４４記載のシステム。
【請求項４７】
前記少なくとも１つのアクチュエータは、ＭＥＭ装置からなることを特徴とする請求項４４記載のシステム。
【請求項４８】
前記複数のビーム操作素子は、前記複数のサブビームに含まれるサブビームの個数を超える個数のビーム操作素子を含み、
前記複数のサブビームのうちの少なくともいくつかは、前記複数のビーム操作素子の少なくともいくつかに案内され、他の前記複数のビーム操作素子は、配置が調整されていることを特徴とする請求項４３記載のシステム。
【請求項４９】
前記選択可能な個数のサブビームは、全て同一面内に含まれることを特徴とする請求項３５記載のシステム。
【請求項５０】
互いに独立に配置可能な複数のビーム操作素子は、ビーム操作素子の２次元アレイからなることを特徴とする請求項４２記載のシステム。
【請求項５１】
前記少なくとも１つの放射エネルギ源と、前記互いに独立に配置可能な複数のビーム操作素子との間に、任意に挿入される固定反射器のアレイをさらに有することを特徴とする請求項５０記載のシステム。
【請求項５２】
前記互いに独立に配置可能なビーム操作素子は、前記放射ビームを案内して特定の場所で前記基板の一部を除去するように動作することを特徴とする請求項４２記載のシステム。
【請求項５３】
エネルギを基板に供給するシステムであって、
放射ビームを生成する少なくとも１つの放射エネルギ源と、
前記放射エネルギ源と前記基板との間に配置され、前記ビームから少なくとも２つのサブビームを生成すると共に各サブビームのエネルギ密度特性を選択するオプトエレクトロニクスマルチビームジェネレータと、
を有することを特徴とするシステム。
【請求項５４】
前記少なくとも１つの放射エネルギ源は、放射エネルギパルス源を含み、前記ビームは、放射エネルギのパルスによって画定されることを特徴とする請求項５３に記載のシステム。
【請求項５５】
前記少なくとも１つの放射エネルギ源は、少なくとも１つのパルスレーザを含み、前記放射ビームは、パルスレーザビームを含むことを特徴とする請求項５３に記載のシステム。
【請求項５６】
前記少なくとも１つのパルスレーザは、Ｑスイッチレーザであることを特徴とする請求項５５に記載のシステム。
【請求項５７】
前記少なくとも１つの放射エネルギ源は、Ｑスイッチレーザを有することを特徴とする請求項５３に記載のシステム。
【請求項５８】
前記オプトエレクトロニクスマルチビームジェネレータは、選択可能な個数のサブビームを生成するように動作することを特徴とする請求項５３に記載のシステム。
【請求項５９】
前記オプトエレクトロニクスマルチビームジェネレータは、複数のサブビームを生成すると共に前記サブビームの各々を選択可能な方向に案内するように動作することを特徴とする請求項５３に記載のシステム。
【請求項６０】
前記オプトエレクトロニクスマルチビームジェネレータは、前記複数のサブビームの各々を選択可能な方向へ案内するように動作することを特徴とする請求項５８に記載のシステム。
【請求項６１】
前記オプトエレクトロニクスマルチビームジェネレータは、制御信号によって動作が制御される音響光学偏向器を有することを特徴とする請求項６０に記載のシステム。
【請求項６２】
前記音響光学偏向器は、前記制御信号によって制御される音響波ジェネレータを有し、前記音響波ジェネレータは、前記サブビームの個数を決定する音響波を生成することを特徴とする請求項６１に記載のシステム。
【請求項６３】
前記音響光学偏向器は、前記制御信号によって制御される音響波ジェネレータを有し、前記音響波ジェネレータは、前記サブビームの前記選択可能な方向を決定する音響波を生成することを特徴とする請求項６１に記載のシステム。
【請求項６４】
前記音響波は、前記サブビームの前記選択可能な方向を決定することを特徴とする請求項６２記載のシステム。
【請求項６５】
前記音響波は、空間的に異なる複数の音響波セグメントを含み、空間的に異なる音響波セグメントの各々は、異なる周波数を有する前記制御信号の部分によって画定されることを特徴とする請求項６４記載のシステム。
【請求項６６】
前記空間的に異なる音響波セグメントの各々は、対応するサブビームの対応する空間的に異なる方向を決定し、前記方向は、前記音響波セグメントに対応する制御信号の部分の周波数の関数であることを特徴とする請求項６５記載のシステム。
【請求項６７】
前記空間的に異なる音響波セグメントの個数は、対応するサブビームの個数を決定することを特徴とする請求項６５記載のシステム。
【請求項６８】
前記オプトエレクトロニクスマルチビームジェネレータは、選択可能な個数のサブビームを生成する力学的に構成を設定可能なオプトエレクトロニクスマルチビームジェネレータからなり、
前記力学的に構成を設定可能なオプトエレクトロニクスマルチビームジェネレータは、構成を変更可能な期間内に前記サブビームの個数及び方向の少なくとも１つを変更可能であり、
前記放射エネルギのパルスは、前記構成を変更可能な期間よりも大なるパルス間隔によって時間に関して互いに分離されていることを特徴とする請求項５４記載のシステム。
【請求項６９】
向きを変更可能な期間内に前記サブビームの方向を変更できる互いに独立に配置を設定可能な複数のビーム操作素子をさらに有し、
前記放射エネルギのパルスは、前記向きを変更可能な期間よりも短いパルス間隔によって時間に関して互いに分離されていることを特徴とする請求項５４記載のシステム。
【請求項７０】
前記互いに独立に配置を設定可能な複数のビーム操作素子は、前記向きを変更可能な期間内に前記サブビームの方向を変更でき、
前記放射エネルギのパルスは、前記向きを変更可能な期間よりも短いパルス間隔によって互いに分離されることを特徴とする請求項６８記載のシステム。
【請求項７１】
複数のビーム操作素子をさらに有し、前記複数のビーム操作素子の各々は、少なくとも１つの選択的に傾斜するアクチュエータに装着されている反射器を有することを特徴とする請求項５５記載のシステム。
【請求項７２】
前記複数のビーム操作素子の各々は、少なくとも１つの選択的に傾斜するアクチュエータに装着されている反射器を有することを特徴とする請求項７０記載のシステム。
【請求項７３】
前記少なくとも１つのアクチュエータは、圧電装置からなることを特徴とする請求項７１記載のシステム。
【請求項７４】
前記少なくとも１つのアクチュエータは、ＭＥＭ装置からなることを特徴とする請求項７１記載のシステム。
【請求項７５】
前記複数のビーム操作素子は、前記複数のサブビームに含まれるサブビームの個数を超える個数のビーム操作素子を含み、
前記複数のサブビームのうちの少なくともいくつかは、前記複数のビーム操作素子の少なくともいくつかに案内され、他の前記複数のビーム操作素子は、配置が変更されていることを特徴とする請求項７０記載のシステム。
【請求項７６】
前記選択可能な個数のサブビームは、全て同一面内に含まれることを特徴とする請求項５８記載のシステム。
【請求項７７】
互いに独立に配置可能な複数のビーム操作素子は、ビーム操作素子の２次元アレイからなることを特徴とする請求項６９記載のシステム。
【請求項７８】
固定反射器のアレイをさらに有し、前記固定反射器のアレイは、前記少なくとも１つの放射エネルギ源と、前記互いに独立に配置可能な複数のビーム操作素子との間に任意に挿入されることを特徴とする請求項７７記載のシステム。
【請求項７９】
前記互いに独立に配置可能なビーム操作素子は、前記放射ビームを案内して特定の場所で前記基板の一部を除去するように動作することを特徴とする請求項６９記載のシステム。
【請求項８０】
基板を微細機械加工するシステムであって、
放射ビームパルスを生成する少なくとも１つの放射エネルギパルス源と、
前記放射エネルギ源と前記基板との間に配置されて変更可能な選択可能角度で複数のサブビームを出力するビームスプリッタと、
複数の選択可能空間配向偏向器と
を有し、
前記ビームパルスは、パルス間隔によって分離された複数のパルスを含み、
前記選択可能空間配置偏向器の１つは、パルス間隔よりも大きい時間内で３次元の向きを変化するように動作し、前記空間配置偏向器のいくつかは、前記サブビームが入力されると共に前記サブビームを前記基板に案内することを特徴とするシステム。
【請求項８１】
前記少なくとも１つのパルス放射エネルギ源は、少なくとも１つのパルスレーザを含み、前記放射のパルスビームは、少なくとも１つのパルスレーザビームを含むことを特徴とする請求項８０に記載のシステム。
【請求項８２】
前記少なくとも１つのパルスレーザは、Ｑスイッチレーザであることを特徴とする請求項８１に記載のシステム。
【請求項８３】
前記少なくとも１つのパルス放射エネルギ源は、Ｑスイッチレーザを有することを特徴とする請求項８０に記載のシステム。
【請求項８４】
前記複数のサブビームは、選択可能な個数のサブビームを含むことを特徴とする請求項８０に記載のシステム。
【請求項８５】
前記ビームスプリッタは、制御信号によって動作が制御される音響光学偏向器を有することを特徴とする請求項８０に記載のシステム。
【請求項８６】
前記音響光学偏向器は、前記制御信号によって制御される音響波ジェネレータを有し、前記音響波ジェネレータは、前記サブビームの個数を決定する音響波を生成することを特徴とする請求項８５に記載のシステム。
【請求項８７】
前記音響光学偏向器は、前記制御信号によって制御される音響波ジェネレータを有し、前記音響波ジェネレータは、前記サブビームの前記選択可能な角度を決定する音響波を生成することを特徴とする請求項８５に記載のシステム。
【請求項８８】
前記音響波は、前記サブビームの前記選択可能な角度を決定することを特徴とする請求項８６記載のシステム。
【請求項８９】
前記音響波は、空間的に異なる複数の音響波セグメントを含み、空間的に異なる音響波セグメントの各々は、異なる周波数を有する前記制御信号の部分によって画定されることを特徴とする請求項８８記載のシステム。
【請求項９０】
前記空間的に異なる音響波セグメントの各々は、対応するサブビームの対応する空間的に異なる方向を決定し、前記方向は、前記音響波セグメントに対応する制御信号の部分の周波数の関数であることを特徴とする請求項８９記載のシステム。
【請求項９１】
前記空間的に異なる音響波セグメントの個数は、対応するサブビームの個数を決定することを特徴とする請求項８９記載のシステム。
【請求項９２】
前記ビームスプリッタは、前記放射パルスビームが入力されると共に、前記パルスビームを選択可能な個数のサブビームに分割する力学的に構成を設定可能なビームスプリッタからなり、
前記力学的に構成を設定可能なビームスプリッタは、構成を変更可能な期間内に前記サブビームの個数及び方向の少なくとも１つを変更可能であり、
前記パルス間隔は、前記構成を変更可能な期間よりも長いことを特徴とする請求項８０記載のシステム。
【請求項９３】
前記複数の選択可能空間配向偏向器は、向きを変更可能な期間内に前記サブビームの角度を変更でき、
前記パルス間隔は、前記向きを変更可能な期間よりも短いことを特徴とする請求項８０記載のシステム。
【請求項９４】
前記複数の選択可能空間配向偏向器は、向きを変更可能な期間内に前記サブビームの角度を変更でき、
前記パルス間隔は、前記向きを変更可能な期間よりも短いことを特徴とする請求項９２記載のシステム。
【請求項９５】
前記複数の選択可能空間配向偏向器の各々は、少なくとも１つの選択的に傾斜するアクチュエータに装着されている反射器を有することを特徴とする請求項８１記載のシステム。
【請求項９６】
前記複数の選択可能空間配向偏向器の各々は、少なくとも１つの選択的に傾斜するアクチュエータに装着されている反射器を有することを特徴とする請求項９４記載のシステム。
【請求項９７】
前記少なくとも１つのアクチュエータは、圧電装置からなることを特徴とする請求項９５記載のシステム。
【請求項９８】
前記少なくとも１つのアクチュエータは、ＭＥＭ装置からなることを特徴とする請求項９５記載のシステム。
【請求項９９】
前記複数の選択可能空間配向偏向器は、前記複数のサブビームに含まれるサブビームの個数を超える個数の選択可能空間配向偏向器を含み、
前記複数のサブビームのうちの少なくともいくつかは、前記複数の選択可能空間配向偏向器の少なくともいくつかに案内され、他の前記選択可能空間配向偏向器は、配置が変更されていることを特徴とする請求項９４記載のシステム。
【請求項１００】
前記選択可能な個数のサブビームは、全て同一面内に含まれることを特徴とする請求項８４記載のシステム。
【請求項１０１】
前記複数の選択可能空間配向偏向器は、選択可能空間配向偏向器の２次元アレイからなることを特徴とする請求項８０記載のシステム。
【請求項１０２】
固定反射器のアレイをさらに有し、前記固定反射器のアレイは、前記少なくとも１つのパルス放射エネルギ源と、前記複数の選択可能空間配向偏向器との間に任意に挿入されることを特徴とする請求項１０１記載のシステム。
【請求項１０３】
前記選択可能空間配向偏向器は、前記サブビームを案内して前記場所で前記基板の一部を除去するように動作することを特徴とする請求項８０記載のシステム。
【請求項１０４】
基板を微細機械加工するシステムであって、
放射ビームパルスを生成する少なくとも１つの放射エネルギパルス源と、
前記ビームを選択可能な個数の出力ビームに分割するビームスプリッタと、
少なくとも１つの出力ビームが入力されると共に前記少なくとも１つの出力ビームを案内して前記基板の一部を微細機械加工する少なくとも１つのビーム操作素子と、
を有し、
前記出力ビームは、前記選択可能な個数に機能的に関係したエネルギ特性を有することを特徴とするシステム。
【請求項１０５】
前記少なくとも１つの放射エネルギ源は、放射エネルギのパルス源を含み、前記出力ビームの各々は、放射エネルギのパルスによって画定されることを特徴とする請求項１０４に記載のシステム。
【請求項１０６】
前記少なくとも１つの放射エネルギ源は、少なくとも１つのパルスレーザを含み、前記放射のビームは、パルスレーザビームを含むことを特徴とする請求項１０４に記載のシステム。
【請求項１０７】
前記少なくとも１つのパルスレーザは、Ｑスイッチレーザであることを特徴とする請求項１０６に記載のシステム。
【請求項１０８】
前記少なくとも１つの放射エネルギ源は、Ｑスイッチレーザであることを特徴とする請求項１０４に記載のシステム。
【請求項１０９】
前記ビームスプリッタは、前記出力ビームの各々を選択可能な方向に案内することを特徴とする請求項１０４に記載のシステム。
【請求項１１０】
前記ビームスプリッタは、制御信号によって動作が制御される音響光学偏向器を有することを特徴とする請求項１０９に記載のシステム。
【請求項１１１】
前記音響光学偏向器は、前記制御信号によって制御される音響波ジェネレータを有し、前記音響波ジェネレータは、前記出力ビームの個数を決定する音響波を生成することを特徴とする請求項１１０に記載のシステム。
【請求項１１２】
前記音響光学偏向器は、前記制御信号によって制御される音響波ジェネレータを有し、前記音響波ジェネレータは、前記出力ビームの前記選択可能な方向を決定する音響波を生成することを特徴とする請求項１１０に記載のシステム。
【請求項１１３】
前記音響波は、前記出力ビームの前記選択可能な方向も決定することを特徴とする請求項１１１記載のシステム。
【請求項１１４】
前記音響波は、空間的に異なる複数の音響波セグメントを含み、空間的に異なる音響波セグメントの各々は、異なる周波数を有する前記制御信号の部分によって画定されることを特徴とする請求項１１３記載のシステム。
【請求項１１５】
前記空間的に異なる音響波セグメントの各々は、対応する出力ビームの対応する空間的に異なる方向を決定し、前記方向は、前記音響波セグメントに対応する制御信号の部分の周波数の関数であることを特徴とする請求項１１４記載のシステム。
【請求項１１６】
前記空間的に異なる音響波セグメントの個数は、対応する出力ビームの個数を決定することを特徴とする請求項１１４記載のシステム。
【請求項１１７】
前記ビームスプリッタは、構成を変更可能な期間内に前記出力ビームの個数及び方向の少なくとも１つを変更可能であり、
前記放射エネルギのパルスは、前記構成を変更可能な期間よりも長いパルス間隔によって時間に対して分離されていることを特徴とする請求項１０５記載のシステム。
【請求項１１８】
前記少なくとも１つのビーム操作素子は、向きを変更可能な期間内に前記出力ビームの方向を変更でき、
前記放射エネルギのパルスは、前記向きを変更可能な期間よりも短いパルス間隔によって時間に関して分離されていることを特徴とする請求項１０５記載のシステム。
【請求項１１９】
前記少なくとも１つのビーム操作素子は、向きを変更可能な期間内に前記出力ビームの方向を変更でき、
前記放射エネルギのパルスは、前記向きを変更可能な期間よりも短いパルス間隔によって時間に関して互いに分離されていることを特徴とする請求項１１７記載のシステム。
【請求項１２０】
前記少なくとも１つのビーム操作素子の各々は、少なくとも１つの選択的に傾斜するアクチュエータに装着されている反射器を有することを特徴とする請求項１０６記載のシステム。
【請求項１２１】
前記少なくとも１つのビーム操作素子の各々は、少なくとも１つの選択的に傾斜するアクチュエータに装着されている反射器を有することを特徴とする請求項１１９記載のシステム。
【請求項１２２】
前記少なくとも１つのアクチュエータは、圧電装置からなることを特徴とする請求項１２０記載のシステム。
【請求項１２３】
前記少なくとも１つのアクチュエータは、ＭＥＭ装置からなることを特徴とする請求項１２０記載のシステム。
【請求項１２４】
前記少なくとも１つのビーム操作素子の各々は、前記選択可能な個数の出力ビームに含まれる出力ビームの個数を超える個数のビーム操作素子を含み、
前記選択可能な個数の出力ビームのうちの少なくともいくつかは、前記少なくとも１つのビーム操作素子の少なくともいくつかに案内され、他の前記少なくとも１つのビーム操作素子は、配置が変更されていることを特徴とする請求項１１９記載のシステム。
【請求項１２５】
前記選択可能な個数の出力ビームは、全て同一面内に含まれることを特徴とする請求項１０４記載のシステム。
【請求項１２６】
前記少なくとも１つのビーム操作素子は、ビーム操作素子の２次元アレイからなることを特徴とする請求項１０４記載のシステム。
【請求項１２７】
固定反射器のアレイをさらに有し、前記固定反射器のアレイは、前記少なくとも１つの放射エネルギ源と、前記少なくとも１つのビーム操作素子との間に任意に挿入されることを特徴とする請求項１２６記載のシステム。
【請求項１２８】
前記少なくとも１つのビーム操作素子は、前記出力ビームを案内して前記基板の一部を除去するように動作することを特徴とする請求項１０４記載のシステム。
【請求項１２９】
エネルギを基板に供給するシステムであって、
複数の放射ビームを生成する少なくとも１つの放射エネルギ源と、
第１の複数の選択可能に配置可能な偏向器と、
第２の複数の選択可能に配置可能な偏向器と
を有し、
前記第１の複数のビームは、前記複数のビームを第１の複数の位置に向けて案内する第１の期間の間に、前記第１の複数の選択可能に配置可能な偏向器に向けて案内され、
前記第２の複数の選択可能に配置可能な偏向器は、前記第１の期間の間に選択可能に配置が決められ、
前記第１の複数の放射ビームは、前記複数のビームを第２の複数の位置に向けて案内する第２の期間の間に、前記第２の複数の選択可能に配置可能な偏向器に向けて案内されることを特徴とするシステム。
【請求項１３０】
前記少なくとも１つの放射エネルギ源は、放射エネルギのパルス源を含み、前記複数のビームの各々は、放射エネルギのパルスによって画定されることを特徴とする請求項１２９に記載のシステム。
【請求項１３１】
前記少なくとも１つの放射エネルギ源は、少なくとも１つのパルスレーザを含み、前記複数のビームは、少なくとも１つのパルスレーザビームを含むことを特徴とする請求項１２９に記載のシステム。
【請求項１３２】
前記少なくとも１つのパルスレーザは、Ｑスイッチレーザであることを特徴とする請求項１３１に記載のシステム。
【請求項１３３】
前記少なくとも１つの放射エネルギ源は、Ｑスイッチレーザであることを特徴とする請求項１２９に記載のシステム。
【請求項１３４】
前記複数のビームは、選択可能な個数のサブビームからなることを特徴とする請求項１２９に記載のシステム。
【請求項１３５】
前記複数のビームの各々は、選択可能な方向に案内されることを特徴とする請求項１２９に記載のシステム。
【請求項１３６】
前記複数のビームの各々は、選択可能な方向に案内されることを特徴とする請求項１３４に記載のシステム。
【請求項１３７】
前記第１の複数の偏向器の少なくとも１つは、制御信号によって動作が制御される音響光学偏向器を有することを特徴とする請求項１３６に記載のシステム。
【請求項１３８】
前記音響光学偏向器は、前記制御信号によって制御される音響波ジェネレータを有し、前記音響波ジェネレータは、前記個数のサブビームを決定する音響波を生成することを特徴とする請求項１３７に記載のシステム。
【請求項１３９】
前記音響光学偏向器は、前記制御信号によって制御される音響波ジェネレータを有し、前記音響波ジェネレータは、前記ビームの前記選択可能な方向を決定する音響波を生成することを特徴とする請求項１３７に記載のシステム。
【請求項１４０】
前記音響波は、前記ビームの前記選択可能な方向も決定することを特徴とする請求項１３８記載のシステム。
【請求項１４１】
前記音響波は、空間的に異なる複数の音響波セグメントを含み、空間的に異なる音響波セグメントの各々は、異なる周波数を有する前記制御信号の部分によって画定されることを特徴とする請求項１４０記載のシステム。
【請求項１４２】
前記空間的に異なる音響波セグメントの各々は、対応するビームの対応する空間的に異なる方向を決定し、前記方向は、前記音響波セグメントに対応する制御信号の部分の周波数の関数であることを特徴とする請求項１４１記載のシステム。
【請求項１４３】
前記空間的に異なる音響波セグメントの個数は、対応するビームの個数を決定することを特徴とする請求項１４１記載のシステム。
【請求項１４４】
前記複数のビームは、選択可能な個数のビームを有し、
前記少なくとも１つの放射エネルギ源は、構成を変更可能な期間内に前記ビームの個数及び方向の少なくとも１つを変更可能であり、
前記放射エネルギのパルスは、前記構成を変更可能な期間よりも長いパルス間隔によって時間に対して互いに分離されていることを特徴とする請求項１３０記載のシステム。
【請求項１４５】
前記複数の選択可能に配置可能な偏向器は、向きを変更可能な期間内に前記サブビームの方向を変更でき、
前記第１の複数の選択可能な配置自在な偏向器は、前記向きを変更可能な期間の間に前記ビームの方向を変更可能であり、
前記放射エネルギのパルスは、前記向きを変更可能な期間よりも短いパルス間隔によって時間に関して互いに分離されていることを特徴とする請求項１３０記載のシステム。
【請求項１４６】
前記第１の複数の選択自在に配置可能な偏向器は、向きを変更可能な期間内に前記ビームの方向を変更でき、
前記放射エネルギのパルスは、前記向きを変更可能な期間よりも短いパルス間隔によって時間に関して互いに分離されていることを特徴とする請求項１４４記載のシステム。
【請求項１４７】
前記複数の選択自在に配置自在な偏向器の各々は、少なくとも１つの選択的に傾斜するアクチュエータに装着されている反射器を有することを特徴とする請求項１３１記載のシステム。
【請求項１４８】
前記複数の偏向器の選択自在に配置自在な偏向器の各々は、少なくとも１つの選択的に傾斜するアクチュエータに装着されている反射器を有することを特徴とする請求項１４６記載のシステム。
【請求項１４９】
前記少なくとも１つのアクチュエータは、圧電装置からなることを特徴とする請求項１４７記載のシステム。
【請求項１５０】
前記少なくとも１つのアクチュエータは、ＭＥＭ装置からなることを特徴とする請求項１４７記載のシステム。
【請求項１５１】
前記第１の複数の選択自在に配置自在な偏向器は、前記複数のビームに含まれるビームの個数を超える個数の偏向器を含み、
前記複数のビームのうちの少なくともいくつかは、前記複数の選択自在に配置自在な偏向器の少なくともいくつかに案内され、他の前記複数の選択自在に配置自在な偏向器は、配置が変更されていることを特徴とする請求項１４６記載のシステム。
【請求項１５２】
前記選択可能な個数のビームは、全て同一面内に含まれることを特徴とする請求項１３４記載のシステム。
【請求項１５３】
前記第１の複数の選択自在に配置自在な偏向器は、選択自在に配置自在な偏向器の２次元アレイからなることを特徴とする請求項１２９記載のシステム。
【請求項１５４】
固定反射器のアレイをさらに有し、前記固定反射器のアレイは、前記少なくとも１つの放射エネルギ源と、前記複数の選択自在に配置自在な偏向器との間に任意に挿入されることを特徴とする請求項１５３記載のシステム。
【請求項１５５】
前記第２の複数の選択自在に配置自在な偏向器は、前記複数のビームを案内して前記複数の第２の場所で前記基板の一部を除去するように動作することを特徴とする請求項１２９記載のシステム。