【事件の表示】
　特願２００３−５６２６１７「スペクトル帯域の並列検出による測距並びに低コヒーレンス干渉法（ＬＣＩ）及び光学コヒーレンス断層撮影法（ＯＣＴ）信号の雑音低減のための装置及び方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年　７月３１日国際公開、ＷＯ０３／６２８０２、平成１７年　６月　２日国内公表、特表２００５−５１６１８７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　本願は，平成１５年１月２４日（パリ条約による優先権主張日　平成１４年１月２４日，平成１４年４月３０日，米国）を国際出願日とする出願であって，平成２１年１２月１１日付けで拒絶査定がされ，これに対し，平成２２年４月１６日に拒絶査定不服審判の請求がなされたものである。
　
　
第２　本願発明 
　本願の請求項１〜１３４に係る発明は，平成２１年６月９日付けの手続補正で補正された特許請求の範囲の請求項１〜１３４に記載された事項により特定されたとおりのものと認められ，その請求項１は，次のとおりである。
　
「【請求項１】
光学的画像形成のための装置であって，
　サンプルからの少なくとも１つの第１電磁気放射及び非反射性参照体からの少なくとも１つの第２電磁気放射を受信する装置と，
　前記第１電磁気放射，前記第２電磁気放射，並びに前記第１及び第２電磁気放射の組み合わせの少なくとも１つのスペクトラムを周波数成分に分離する少なくとも１つのスペクトル分離ユニットと，
　複数の検出器を含む少なくとも１つの検出構成であって，各検出器が，前記周波数成分の少なくとも１つの少なくとも一部を検出可能な前記検出構成と，を含み，
　ａ）前記第１及び第２電磁気放射が互いに干渉する，及び
　ｂ）前記第１及び第２電磁気放射の前記周波数成分が互いに干渉する，
の内少なくとも１つである装置。」（以下，「本願発明」という。）
　
　
第３　引用例およびその記載事項
　本願優先日前に頒布され，原査定の拒絶の理由において引用された刊行物である特開２００１−１７４４０４号公報（以下，「引用例１」という。）には，図面とともに，次の事項が記載されている。 なお，以下において，下線は当審にて付与したものである。
（１−ア）
「【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光断層像計測装置および計測方法に係り，特に，被計測物に照射して反射させた反射光を波長分散するとともに，この波長分散した反射光のデータに基づいて被計測物の断層像を計測する光断層像計測装置および計測方法に関する。」
　
（１−イ）
「【０００２】
【従来の技術】従来から，生体の内部断層像を得るためのスキャン技術が多く開発されてきているが，その中でも，近年，光を用いて生体の皮膚組織や眼球の網膜剥離等の生体における比較的表面付近の内部断層像を得る技術が開発されてきている。」
　
（１−ウ）
「【００２２】また，
生体の内部断層像を得るための
光断層像計測装置１３
【００２３】この光断層像計測装置１３は，前記可変遅延装置７の代わりに，
参照側集光レンズ６の光路上に参照光反射鏡１４を有しており，この参照光反射鏡１４の反射面の裏面には，前記参照光反射鏡１４を変位させることにより参照光Ｅ
Ｒ
（ｔ）をその伝搬時間および位相を変化させて反射させるための
遅延素子１５が配設されている
【００２４】
前記参照光反射鏡１４によって反射された参照光Ｅ
Ｒ
（ｔ）は，被計測物９の計測部位に照射されて反射された信号光Ｅ
ＢＳ
（ｔ）と半透過板５の位置で干渉されるようになっており
前記干渉光Ｅ
Ｒ
（ｔ）＋Ｅ
ＢＳ
（ｔ）を波長毎に分解するための波長分散手段としての回折格子１６が配設されている
【００２５】さらに，前記回折格子１６の反射方向には，
回折格子１６により分光された干渉光Ｅ
Ｒ
（ｔ）＋Ｅ
ＢＳ
（ｔ）の波長スペクトルのデータを光の強度として光電流に変換して検出するための
リニアイメージセンサ１７が配設されており，このリニアイメージセンサ１７のセル表面側には，波長分散された干渉光Ｅ
Ｒ
（ｔ）＋Ｅ
ＢＳ
（ｔ）の検出素子である複数個のリニアイメージセンサ素子が整列配置されている
【００２６】また，前記リニアイメージセンサ１７には，
このリニアイメージセンサ１７が検出した光電流に基づいて被計測物９の反射率を演算するための反射率演算部１９が接続されている。前記反射率演算部１９には，演算された反射率分布を画像情報として処理するための画像処理部２０が接続されており，この画像処理部２０は，処理した画像情報を図示しないモニタ上に被計測物９の断層像として画像表示させるようになっている
　
（１−エ）
「【００３２】この光断層像計測装置１３によれば，波長分解により計測を行なうため，前記干渉光ＥＲ（ｔ）＋ＥＢＳ（ｔ）の干渉は，参照光ＥＲ（ｔ）の遅延時間と信号光ＥＢＳ（ｔ）の遅延時間とが等しくなくても生じる。前記光断層像計測装置１３によれば，前記可変遅延装置７を用いた光断層像計測装置１のように干渉光ＥＲ（ｔ）＋ＥＢＳ（ｔ）の検出を行なう際に遅延時間を緩やかに変化させて計測する必要がなく，リニアイメージセンサ１７により波長分解された干渉光ＥＲ（ｔ）＋ＥＢＳ（ｔ）を一度に検出させつつそのデータを蓄積させ，干渉光ＥＲ（ｔ）＋ＥＢＳ（ｔ）の波長スペクトルのデータから被計測物９全体の反射率分布を求めることができる。従って，可変遅延装置７を用いた前記光断層像計測装置１よりも計測時間が大幅に短縮することができるものである。」
　
（１−オ）
　図５には，
半透過板５の位置で干渉された干渉光Ｅ
Ｒ
（ｔ）＋Ｅ
ＢＳ
（ｔ）が，干渉光反射鏡２１により下方に反射され，当該反射された干渉光Ｅ
Ｒ
（ｔ）＋Ｅ
ＢＳ
（ｔ）が，回折格子１６により波長毎に分光され，当該分光された干渉光Ｅ
Ｒ
（ｔ）＋Ｅ
ＢＳ
（ｔ）が，シリンドリカルレンズ１８を介して，リニアイメージセンサ１７に導かれる様子
　
　上記摘記事項，特に摘記事項（１−ウ）の記載からみて，引用例１には，従来技術として，次の発明が開示されていると認められる。
　
「生体の内部断層像を得るための光断層像計測装置１３であって，
　参照側集光レンズ６の光路上に設けられた参照光反射鏡１４と，
　前記参照光反射鏡１４の反射面の裏面に設けられた遅延素子１５であって，前記参照光反射鏡１４を変位させることにより参照光ＥＲ（ｔ）をその伝搬時間および位相を変化させて反射させるための前記遅延素子１５と，
　半透過板５であって，前記参照光反射鏡１４によって反射された参照光ＥＲ（ｔ）と，被計測物９の計測部位に照射されて反射された信号光ＥＢＳ（ｔ）とが前記半透過板５の位置で干渉されるようになっている前記半透過板５と，
　前記干渉光ＥＲ（ｔ）＋ＥＢＳ（ｔ）を波長毎に分解するための波長分散手段としての回折格子１６と，
　前記回折格子１６により分光された干渉光ＥＲ（ｔ）＋ＥＢＳ（ｔ）の波長スペクトルのデータを光の強度として光電流に変換して検出するためのリニアイメージセンサ１７であって，波長分散された前記干渉光ＥＲ（ｔ）＋ＥＢＳ（ｔ）の検出素子である複数個のリニアイメージセンサ素子が整列配置されている前記リニアイメージセンサ１７と，
　前記リニアイメージセンサ１７が検出した光電流に基づいて前記被計測物９の反射率を演算するための反射率演算部１９と，
　前記反射率演算部１９に接続され，演算された反射率分布を画像情報として処理するための画像処理部２０であって，処理した画像情報をモニタ上に前記被計測物９の断層像として画像表示させるようになっている前記画像処理部２０と，
　を備えた光断層像計測装置１３。」（以下，「引用発明」という。）　
　
　同様に，本願優先日前に頒布され，原査定の拒絶の理由において周知例として引用された刊行物である特開２００１−２６４２４６号公報（以下，「周知例１」という。）には，図面とともに，次の事項が記載されている。 　
（２−ア）
「【特許請求の範囲】
【請求項１】  被検体に低コヒーレンス光を照射し，前記被検体において散乱した光の情報から前記被検体の断層像を構築する光イメージング装置において，
前記低コヒーレンス光を被検体に照射し，前記被検体よりの反射光を受光する光照射受光手段と，
前記光照射受光手段と接続し，前記被検体から戻ってきた前記低コヒーレンス光と基準光とを干渉させるとともに，干渉位置を光軸に対し軸方向に走査するため，その走査範囲に対応した伝搬時間を変化させる伝搬時間変化手段と，
干渉光強度を干渉信号として検出する光検出器とを有し，
前記光照射受光手段がマッハツエンダー干渉系の光路の片側に，前記伝搬時間変化手段が前記マッハツエンダー干渉系のもう一方の光路に設けられ，
前記伝搬時間変化手段が透過光学素子による光走査を用いて伝播時間を変化させる
　
（２−イ）
「【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は，被検体に低干渉性光を照射し，被検体において散乱した光の情報から被検体の断層像を構築する光イメージング装置に関する。」
　
（２−ウ）
「【０００２】
【従来の技術】・・・
【０００３】上記特表平６−５１１３１２号では，生体組織の特定の深さから散乱・反射光を検出するため，リファレンスミラーを進退することにより得ている。・・・さらに，生体組織内部の断層画像を構築するため，生体組織に照射する光ビームを走査し，前記リファレンスミラーの進退とを同期させることで断層像を構築している。
・・・
【０００６】しかし，マイケルソン干渉系を用いた場合，・・・検出器に戻る光量に対し，信号が圧倒的に小さくなり，ＳＮ比を向上させることが困難である。また，生体からの微弱な反射光のうち７５％を捨てていることになり，これもＳＮ比を減衰する原因となる。
・・・
【００１０】さらに，
反射型の高速デイレイラインでは，可動ミラー以外のファイバ端や光学素子表面の反射も戻り光となるため，得たい信号光以外のノイズ光が発生し，ＳＮ比を劣化させる原因となる
　
（２−エ）
「【００１１】本発明は，上記事情に鑑みてなされたものであり，高ＳＮで高速なリファレンス走査手段を有すると共に，干渉系を安価に構成することのできる光イメージング装置を提供することを目的としている。」
　
（２−オ）
「【０１４９】第９の実施の形態：図３０及び図３１は本発明の第９の実施の形態に係わり，図３０は透過型ディレイラインの構成を示す図，図３１は図３０の光学ブロックを４枚張り合わせた合成ブロックを示す図である。
【０１５０】第９の実施の形態は，第１の実施の形態とほとんど同じであるので，異なる点のみ説明し，同一の構成には同じ符号をつけ説明は省略する。
【０１５１】（構成・作用）透過型ディレイライン９が第１の実施の形態と異なり，
本実施の形態の透過型ディレイライン９では，
入射ＳＭＦ８から出射した光は，
階段状ブロック１９６に入射する
階段状ブロックの屈折率をｎ，周囲が空気であるとすると，一段移動するごとに
（ｎ−１）Δｄ
ごとに，入射ＳＭＦ８から出射ＳＭＦ１０までの光路長が変化する
　
（２−カ）
　図１には，
基準光すなわち参照光の伝送路に透過型ディレイライン９が設置されている様子
　
　また，本願優先日前に頒布された刊行物である特開平１−１４５５４５号公報（以下，「周知例２」という。）には，図面とともに，次の事項が記載されている。 
（３−ア）
「［産業上の利用分野］
　本発明は，被測定物からの反射光あるいは後方散乱光をヘテロダイン法により検出し，被試験物の特性を測定する反射試験方法および装置に関するものである。」（２頁右上欄２〜６行）
　
（３−イ）
「
光遅延回路９は，
各種の方法で実現できる
第３図においてはハーフミラ−１１と対向するミラー１２を，また第４図においては光ファイバ１３，レンズ１４およびレンズ１５，光ファイバ１６からなる平行ビーム系におけるコリメート用レンズ１５と光ファイバ１６を，それぞれ各図における破線の位置（Ｚ＝０）から実線の位置（Ｚ＝Ｚ
０
）まで動かし，光路長を変化させることにより実現できる
　
（３−ウ）
　第３図には，ミラー１２を移動させることで光路長を変化させる光遅延回路，すなわち，
反射性の遅延回路
　
（３−エ）
　第４図には，コリメート用レンズ１５（当審注：第４図中では，コリメート用レンズの図番は１４となっているが，上記摘記事項（３−イ）の記載からみて，当該図番「１４」は，「１５」の誤記であることが明らかである。）および光ファイバ１６（当審注：第４図中では，光ファイバの図番は１５となっているが，上記摘記事項（３−イ）の記載からみて，当該図番「１５」は，「１６」の誤記であることが明らかである。）を移動させることで光路長を変化させる光遅延回路，すなわち，
非反射性の遅延回路
　
　同様に，本願優先日前に頒布された刊行物である国際公開第００／１６０３４号（以下，「周知例３」という。）には，図面とともに，次の事項が記載されている。
（４−ア）
「The interferometer 130 illustrated in FIG.7 is similar to that illustrated in FIG.6 , except that the expense of one of the optical circulators is avoided by use of a transmissive delay element 132 rather than a reflective reference arm delay.」（１５頁下から５行〜下から３行），
当審仮訳（対応日本公報である特表２００３−５２４７５８号公報の段落【００３５】を参照。）「
図７に示す干渉計１３０は，一方の光サーキュレータのコストが，反射性基準アーム遅延ではなく伝達遅延素子１３２の使用によって回避される
　
　
第４　対比・判断 
　
１　対比
　本願発明と引用発明とを対比する。
　
ア　引用発明の「光断層像計測装置１３」は，「処理した画像情報をモニタ上に前記被計測物９の断層像として画像表示させるようになっている」から，本願発明の「光学的画像形成のための装置」に相当する。
　
イ　引用発明の「被計測物９の計測部位に照射されて反射された信号光ＥＢＳ（ｔ）」は，本願発明の「サンプルからの少なくとも１つの第１電磁気放射」に相当する。また，引用発明の「前記参照光反射鏡１４によって反射された参照光ＥＲ（ｔ）」と，本願発明の「非反射性参照体からの少なくとも１つの第２電磁気放射」とは，「参照体からの少なくとも１つの第２電磁気放射」である点で共通する。
　さらに，引用発明の「半透過板５」，「回折格子１６」および「リニアイメージセンサ１７」は，「被計測物９の計測部位に照射されて反射された信号光ＥＢＳ（ｔ）」および「前記参照光反射鏡１４によって反射された参照光ＥＲ（ｔ）」を受信していることが明らかである。
　以上のことから，引用発明の「半透過板５であって，前記参照光反射鏡１４によって反射された参照光ＥＲ（ｔ）と，被計測物９の計測部位に照射されて反射された信号光ＥＢＳ（ｔ）とが前記半透過板５の位置で干渉されるようになっている前記半透過板５と，
　前記干渉光ＥＲ（ｔ）＋ＥＢＳ（ｔ）を波長毎に分解するための波長分散手段としての回折格子１６と，前記回折格子１６により分光された干渉光ＥＲ（ｔ）＋ＥＢＳ（ｔ）の波長スペクトルのデータを光の強度として光電流に変換して検出するためのリニアイメージセンサ１７であって，波長分散された前記干渉光ＥＲ（ｔ）＋ＥＢＳ（ｔ）の検出素子である複数個のリニアイメージセンサ素子が整列配置されている前記リニアイメージセンサ１７と，」を備える点と，本願発明の「サンプルからの少なくとも１つの第１電磁気放射及び非反射性参照体からの少なくとも１つの第２電磁気放射を受信する装置」を含む点とは，「サンプルからの少なくとも１つの第１電磁気放射及び参照体からの少なくとも１つの第２電磁気放射を受信する装置」を含む点で共通する。
　
ウ　引用発明の「前記干渉光ＥＲ（ｔ）＋ＥＢＳ（ｔ）を波長毎に分解するための波長分散手段としての回折格子１６」は，光の波長が光の周波数と１対１に対応するものであり，波長毎に分解することにより周波数毎に分解することとなるのは技術常識であるから，本願発明の「前記第１及び第２電磁気放射の組み合わせの」「スペクトラムを周波数成分に分離する少なくとも１つのスペクトル分離ユニット」，すなわち，「前記第１電磁気放射，前記第２電磁気放射，並びに前記第１及び第２電磁気放射の組み合わせの少なくとも１つのスペクトラムを周波数成分に分離する少なくとも１つのスペクトル分離ユニット」に相当する。
　
エ　引用発明の「リニアイメージセンサ素子」および「リニアイメージセンサ１７」は，それぞれ，本願発明の「検出器」および「検出構成」に相当する。
　また，引用発明の「波長分散された前記干渉光ＥＲ（ｔ）＋ＥＢＳ（ｔ）の検出素子である複数個のリニアイメージセンサ素子」が，波長分散された干渉光の少なくとも１つ，すなわち，周波数成分の少なくとも１つを検出していることは，明らかである。
　してみると，引用発明の「前記回折格子１６により分光された干渉光ＥＲ（ｔ）＋ＥＢＳ（ｔ）の波長スペクトルのデータを光の強度として光電流に変換して検出するためのリニアイメージセンサ１７であって，波長分散された前記干渉光ＥＲ（ｔ）＋ＥＢＳ（ｔ）の検出素子である複数個のリニアイメージセンサ素子が整列配置されている前記リニアイメージセンサ１７」は，本願発明の「複数の検出器を含む少なくとも１つの検出構成であって，各検出器が，前記周波数成分の少なくとも１つの少なくとも一部を検出可能な前記検出構成」に相当する。
　
オ　引用例１の摘記事項（１−オ）の記載からみて，引用発明では，半透過板５から回折格子１６に至る光路においては，「被計測物９の計測部位に照射されて反射された信号光ＥＢＳ（ｔ）」と，「前記参照光反射鏡１４によって反射された参照光ＥＲ（ｔ）」とが互いに干渉しており，また，回折格子１６からリニアイメージセンサ１７に至る光路においては，前記「信号光ＥＢＳ（ｔ）」の分光すなわち周波数成分と，前記「参照光ＥＲ（ｔ）」の分光すなわち周波数成分とが互いに干渉しているといえるから，この点は，本願発明の「ａ）前記第１及び第２電磁気放射が互いに干渉する，及びｂ）前記第１及び第２電磁気放射の前記周波数成分が互いに干渉する，の内少なくとも１つである」点に相当する。
　
　してみると，両者は， 
　
（一致点）
「光学的画像形成のための装置であって，
　サンプルからの少なくとも１つの第１電磁気放射及び参照体からの少なくとも１つの第２電磁気放射を受信する装置と，
　前記第１電磁気放射，前記第２電磁気放射，並びに前記第１及び第２電磁気放射の組み合わせの少なくとも１つのスペクトラムを周波数成分に分離する少なくとも１つのスペクトル分離ユニットと，
　複数の検出器を含む少なくとも１つの検出構成であって，各検出器が，前記周波数成分の少なくとも１つの少なくとも一部を検出可能な前記検出構成と，を含み，
　ａ）前記第１及び第２電磁気放射が互いに干渉する，及び
　ｂ）前記第１及び第２電磁気放射の前記周波数成分が互いに干渉する，
の内少なくとも１つである装置。」
の点で一致し，以下の点で相違する。
　
（相違点）第２電磁気放射が，本願発明では，「非反射性参照体からの少なくとも１つの第２電磁気放射」であるのに対し，引用発明では，前記参照光反射鏡１４によって反射された参照光ＥＲ（ｔ）である点。
　
２　上記相違点について
　引用例１の摘記事項（１−ウ）における「【００２３】この光断層像計測装置１３は，前記可変遅延装置７の代わりに，参照側集光レンズ６の光路上に参照光反射鏡１４を有しており，この参照光反射鏡１４の反射面の裏面には，前記参照光反射鏡１４を変位させることにより参照光ＥＲ（ｔ）をその伝搬時間および位相を変化させて反射させるための，例えば，ピエゾ素子（ＰＺＴ）等の遅延素子１５が配設されている。・・・」の記載からみて，引用発明では，参照光反射鏡１４および遅延素子１５からなる可変遅延装置を用いているといえる。
　ところで，可変遅延装置の構成として，非反射性の遅延装置が，例えば，周知例１（摘記事項（２−ア），（２−オ）および（２−カ）），周知例２（摘記事項（３−イ）および（３−エ）），および，周知例３（摘記事項（４−ア））に記載されているように，本願優先日前に周知である。
　そして，（ア）引用発明も上記周知技術も，被測定物からの反射光と参照光との干渉により被測定物を分析する装置である点において共通していること，（イ）可変遅延は，各種の手法で実現でき，どのような手法を採用するかは，当業者が適宜選択し得る事項であるといえること（摘記事項（３−イ）），および，（ウ）反射型の遅延装置では，可動ミラー以外のファイバ端や光学素子表面の反射も戻り光となるため，得たい信号光以外のノイズ光が発生するという問題が知られていたこと（摘記事項（２−ウ）），を総合的に考慮すれば，引用発明に，上記周知技術を適用し，参照光の光路に設ける可変遅延装置を，非反射性の遅延装置すなわち非反射性の参照体とすること，すなわち，上記相違点における本願発明のようにすることは，当業者であれば，何ら困難性はなく，容易に想到し得る事項であるといえる。
　
　そして，本願明細書に記載された本願発明によってもたらされる効果は，引用例１に記載の事項および周知技術から，当業者であれば予測することができる程度のものであり，格別顕著なものとはいえない。
  
３　請求人の主張について
　請求人は，審判請求書４頁下から２行〜５頁１行において「先の拒絶理由で引用された引用文献１乃至５のいずれも，独立の請求項に提供された他の記載と一緒に『非反射性参照体』の使用を教示も示唆も開示もしておりません。」と主張している。
　しかし，周知例１（拒絶理由で周知例として引用された引用文献５）の摘記事項（２−カ）には，参照光の伝送路に透過型ディレイライン９が設けることが記載されており，当該「透過型ディレイライン９」は，「非反射性参照体」であるといえる。また，引用発明に，周知技術を適用して，参照光の光路に設ける可変遅延装置を，非反射性の遅延装置すなわち非反射性の参照体とするのが容易であることは，上記「２　上記相違点について」で検討のとおりである。
　よって，請求人の上記主張は採用することができない。
　
４　まとめ  
　上記のとおり，本願発明は，引用発明および周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものである。 
　
　
第５　むすび　 
　以上のとおり，本願発明は，引用発明および周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。　
　
　そうすると，他の請求項について言及するまでもなく，本願は，拒絶すべきものである。
　
　よって，結論のとおり審決する。