Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月16日(2005.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
その中に形成された１つ以上の凹部を含む外部表面を有する転写ロールを提供する工程と、
溶融熱可塑性組成物を前記転写ロールの外部表面に分配する工程と、
前記溶融エラストマー熱可塑性組成物を前記転写ロールの前記外部表面から拭き取って、前記溶融エラストマー熱可塑性組成物の一部が前記１つ以上の凹部に入り、さらに前記１つ以上の凹部の前記溶融エラストマー熱可塑性組成物の前記部分が、前記溶融エラストマー熱可塑性組成物を前記転写ロールの前記外部表面から拭き取った後、前記１つ以上の凹部に残るようにする工程と、
基材の第１の主面を前記転写ロールの外部表面および前記１つ以上の凹部にある前記溶融エラストマー熱可塑性組成物と接触させて、前記基材を前記転写ロールから分離することにより、前記１つ以上の凹部の前記溶融エラストマー熱可塑性組成物の少なくとも一部を前記基材の前記第１の主面に転写して、前記エラストマー熱可塑性組成物を含む１箇所以上の不連続ポリマー領域が、前記基材を前記転写ロールから分離した後、前記基材の前記第１の主面に配置されるようにする工程と
を含む複合ウェブの製造方法。
【請求項２】
前記基材の前記第１の主面が、多孔性表面を含み、前記転写工程が、前記基材の前記第１の主面の一部を前記１つ以上の凹部に押し付ける工程をさらに含み、前記１つ以上の凹部にある前記溶融エラストマー熱可塑性組成物の一部が前記１つ以上の凹部内の前記多孔性表面に浸透する請求項１記載の方法。
【請求項３】
その中に形成された１つ以上の凹部を含む外部表面を有する転写ロールを提供する工程と、
溶融熱可塑性組成物を前記転写ロールの外部表面に分配する工程と、
前記溶融エラストマー熱可塑性組成物を前記転写ロールの前記外部表面から拭き取って、前記溶融エラストマー熱可塑性組成物の一部が前記１つ以上の凹部に入り、さらに前記１つ以上の凹部の前記溶融エラストマー熱可塑性組成物の前記部分が、前記溶融エラストマー熱可塑性組成物を前記転写ロールの前記外部表面から拭き取った後、前記１つ以上の凹部に残るようにする工程と、
基材の第１の主面の一部を前記１つ以上の凹部に押し付けて、前記第１の主面が繊維を含む多孔性表面を含み、前記１つ以上の凹部にある前記溶融エラストマー熱可塑性組成物の一部が前記多孔性表面に浸透し、前記溶融エラストマー熱可塑性組成物が前記繊維の少なくとも数本の少なくとも一部を封入するようにする工程と、
前記基材を前記転写ロールから分離して、前記エラストマー熱可塑性組成物を含む１つ以上の不連続ポリマー領域が、前記基材を前記転写ロールから分離した後、前記基材の前記第１の主面に配置されるようにする工程と
を含む複合ウェブの製造方法。
【請求項４】
その中に形成された１つ以上の凹部を含む外部表面を有する転写ロールを提供する工程と、
溶融熱可塑性組成物を前記転写ロールの外部表面に分配する工程と、
前記溶融エラストマー熱可塑性組成物を前記転写ロールの前記外部表面から拭き取って、前記溶融エラストマー熱可塑性組成物の一部が前記１つ以上の凹部に入り、さらに前記１つ以上の凹部の前記溶融エラストマー熱可塑性組成物の前記部分が、前記溶融エラストマー熱可塑性組成物を前記転写ロールの前記外部表面から拭き取った後、前記１つ以上の凹部に残るようにする工程と、
基材の第１の主面を前記転写ロールの外部表面および前記１つ以上の凹部にある前記溶融エラストマー熱可塑性組成物と接触させて、前記基材を前記転写ロールから分離することにより、前記１つ以上の凹部の前記溶融エラストマー熱可塑性組成物の少なくとも一部を前記第１の基材の前記第１の主面に転写して、前記エラストマー熱可塑性組成物を含む１箇所以上の不連続ポリマー領域が、前記第１の基材を前記転写ロールから分離した後、前記第１の基材の前記第１の主面に配置されるようにする工程と、
第２の基材を前記第１の基材の前記第１の主面に積層して、前記第１の基材の前記１つ以上の不連続ポリマー領域が、前記第２の基材を前記第１の基材に積層した後、前記第１の基材と前記第２の基材との間に配置されるようにする工程と
を含む複合ウェブの製造方法。
【請求項５】
第１の主面と第２の主面を含む第１の基材と、前記第１の基材の前記第１の主面に配置されたエラストマー熱可塑性組成物で形成された複数の不連続エラストマーポリマー領域とを提供して、前記複数の不連続エラストマーポリマー領域の各不連続エラストマーポリマー領域が前記第１の基材の前記第１の主面に浸透させる工程と、
第１の主面と第２の主面を含む第２の基材と、前記第２の基材の前記第１の主面に配置された熱可塑性組成物で形成された複数の不連続ポリマー領域とを提供して、前記複数の不連続エラストマーポリマー領域の各不連続ポリマー領域が前記第２の基材の前記第１の主面に浸透させる工程と、
前記第１の基材を前記第２の基材へ積層する工程と
を含む複合ウェブの製造方法。
【請求項６】
前記第１および第２の主面を含む基材と、
前記基材の前記第１の主面に取り付けられた１本以上のメカニカルファスナーと、
前記基材に取り付けられた１つ以上の弾性要素とを含み、
前記１つ以上の弾性要素の各弾性要素が前記基材の一部に浸透する不連続エラストマー熱可塑性樹脂を含む弾性ファスニング物品。
【請求項７】
第１および第２の主面を含む基材と、
前記基材に取り付けられた１つ以上の弾性要素と、
前記基材の前記第１の主面に配置された１つ以上のボンディング部位とを含み、
前記１つ以上の弾性要素の各弾性要素が、前記基材の一部に浸透する不連続エラストマー熱可塑性領域を含む弾性物品。
【請求項８】
第１および第２の主面を含む基材と、
前記基材に取り付けられた１つ以上の弾性要素と、
前記基材に形成された１つ以上のスリットとを含み、
前記１つ以上の弾性要素の各弾性要素が、前記基材の一部に浸透する不連続エラストマー熱可塑性領域を含み、
前記１つ以上の弾性要素の少なくとも１つが前記１つ以上のスリットの各スリットを架け渡している弾性物品。
【請求項９】
第１および第２の主面を含む基材と、
前記基材に取り付けられた１つ以上の弾性要素と、
前記基材に形成された１つ以上のプリーツとを含み、
前記１つ以上の弾性要素の各弾性要素が、前記基材の一部に浸透する不連続エラストマー熱可塑性領域を含み、
前記１つ以上の弾性要素の少なくとも１つが前記１つ以上のプリーツの少なくとも１つのプリーツを架け渡している弾性物品。
【請求項１０】
第１および第２の主面、縦軸ならびに末端を含む基材と、
前記基材に取り付けられた１つ以上の弾性要素とを含み、
前記１つ以上の弾性要素が、不連続エラストマー熱可塑性領域を含み、前記１つ以上の弾性要素が、幅よりも大きな長さを有し、前記１つ以上の弾性要素の長さが、前記縦軸とほぼ並んでおり、そしてさらに、前記１つ以上の弾性要素における弾性熱可塑性材の合計量が、前記縦軸に沿って前記末端に向かって移動するときに変化しているファスニングタブ物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】複合ウェブの製造方法及び弾性物品
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月31日(2005.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板（１０）を設け、
前記基板（１０）にフォトレジストの層（１２）を堆積し、
前記フォトレジスト（１２）上の特定の位置で厚みを変化させる方法を使用して前記フォトレジスト（１２）に所望のパターンを生成し、グレースケール輪郭化されたフォトレジストを製作し、
前記グレースケール輪郭化されたフォトレジストをハードコーティング（１４）で被覆して所望のグレースケール輪郭を有する表面を形成し、
前記ハードコーティング上にバッキング（１８）を設け、
前記基板（１０）と前記フォトレジスト（１２）を前記ハードコーティングから除去して前記ハードコーティングからマスタモールドを形成し、
前記モールドマスタを使用したスタンピング又はモールディングにより少なくとも１つの光学要素を複製する
光学要素の製造方法。
【請求項２】
エッチング可能な基板（１０）を設け、
前記基板（１０）にフォトレジストの層（１２）を堆積し、
前記フォトレジスト（１２）上の特定の位置の厚みを変化させる方法を使用して前記フォトレジスト（１２）に所望のパターンを生成して、グレースケール輪郭化されたフォトレジストを製作し、
前記基板（１０）をエッチングし、前記エッチングされた基板上に所望の光学要素の輪郭を製作してマスタモールド（４６）を生成し、
スタンピング又はモールディングにより前記マスタモールドを使用して少なくとも１つの光学要素を複製する
光学要素の製造方法。
【請求項３】
前記所望のパターンは、グレースケールリソグラフィと直接描画リソグラフィのうちの少なくとも１つを使用して生成される、請求項１又は請求項２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記グレースケールリソグラフィと共に高エネルギビーム感応処理を使用する、請求項１又は請求項２に記載の製造方法。
【請求項５】
前記モールドマスタは前記マスタモールドから少なくとも１つの二次モールドを製作するために使用され、前記二次モールドは前記光学要素のスタンピング又はモールディングに使用される、請求項１又は請求項２に記載の製造方法。
【請求項６】
前記エッチングされた基板をハードコーティングで被覆する工程をさらに備える、請求項２に記載の製造方法。
【請求項７】
前記ハードコーティングを、電気メッキ、スパッタリング、及び化学的気相成長法のうちの少なくともいずれか１つを用いて堆積する、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項８】
媒体をマスタモールドでスタンピング又はモールディングすることにより前記媒体を光学要素に成形し、前記マスタモールドはフォトレジスト（１２）に所望を形成することで生成され、前記成形されたフォトレジストをハードコーティング（１４）で被覆し、前記コーティングにバッキング（１６）を設け、前記形成されたフォトレジストを除去して前記成形されたハードコーティングとバッキングにより形成された前記マスタモールドを得る、光学要素の製造方法。
【請求項９】
媒体をマスタモールドでスタンピング又はモールディングすることにより前記媒体を光学要素に成形し、前記マスタモールドは基板上に堆積されたフォトレジスト（１２）に所望を形成することで生成され、前記基板をエッチングして前記マスタモールドを形成する光学要素の製造方法。
【請求項１０】
前記マスタモールドは前記エッチングされた基板をハードコーティングで被覆することにより形成される、請求項９に記載の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２（ｄ）
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２（ｄ）】
2005508269.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2005508269.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月24日(2006.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リングタイプの金型装置を介してカップを駆動することによって容器本体を製造するためのパンチアセンブリ(2)であって、近位端および遠位端を備えるラム(4)を具備してなり、
パンチ(6)が前記ラム(4)の前記遠位端上に配置され、前記パンチ(6)は前記ラム(4)の前記遠位端の外面を取り囲む内部表面を有し、前記パンチ(6)の前記内部表面に沿ってチャネル(18)が延在しており、
冷却流体媒体は、前記チャネル(18)に沿って前記パンチ(6)の前記内部表面へ、および前記ラム(4)の前記遠位端の前記外面の周囲へ分配されることを特徴とするパンチアセンブリ(2)。
【請求項２】
前記ラム(4)の前記近位端に連結されたマニホルド(12)と、
前記パンチ(6)の前記内部表面へ、および前記ラム(4)の前記遠位端の前記外面の周囲へ前記冷却流体媒体を供給するための複数の流体入口管(8)と、
前記パンチ(6)の前記内部表面から前記冷却流体媒体を取り除くための複数の流体出口管(10)と、をさらに具備してなることを特徴とする請求項1に記載のパンチアセンブリ(2)。
【請求項３】
前記入口管(8)から前記パンチ(6)の前記内部表面に至る複数の入口ポート(16)と、
前記パンチ(6)の前記内部表面から前記出口管(10)に至る複数の出口ポート(20)と、をさらに具備してなることを特徴とする請求項2に記載のパンチアセンブリ(2)。
【請求項４】
前記入口管(8)および出口管(10)は、前記入口管および出口管(8,10)が前記ラム(4)の周囲に交互に並んだ状態で環状に離間されかつ配置されていることを特徴とする請求項2に記載のパンチアセンブリ(2)。
【請求項５】
前記入口管および出口管(8,10)が平行であることを特徴とする請求項4に記載のパンチアセンブリ(2)。
【請求項６】
前記パンチ(6)が近位端を備え、前記出口ポート(20)が前記パンチ(6)の前記近位端に近接していることを特徴とする請求項3に記載のパンチアセンブリ(2)。
【請求項７】
空気流が前記容器本体を前記パンチ(6)から分離することを助けるための中央ポート(24)を前記ラム(4)内にさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のパンチアセンブリ(2)。
【請求項８】
前記マニホルド(12)に前記冷却流体媒体を供給するための温度制御装置をさらに含むことを特徴とする請求項2に記載のパンチアセンブリ(2)。
【請求項９】
前記冷却流体媒体温度を制御するために前記パンチ(6)の前記外部温度を監視する手段をさらに含むことを特徴とする請求項8に記載のパンチアセンブリ(2)。
【請求項１０】
前記入口管および出口管(8,10)が低熱移動特性を持つ材料から構成されることを特徴とする請求項2に記載のパンチアセンブリ(2)。
【請求項１１】
前記入口管および出口管(8,10)は、前記パンチ(6)の前記内部表面に前記冷却流体媒体を均一に分配するため対称的な環状配列で交互に並んでいることを特徴とする請求項4に記載のパンチアセンブリ(2)。
【請求項１２】
前記パンチ(6)は遠位端を有すると共に、前記入口ポート(16)は前記パンチ(6)の前記遠位端近傍に存在することを特徴とする請求項6に記載のパンチアセンブリ(2)。
【請求項１３】
前記パンチ(6)は近位端および遠位端を有し、前記出口ポート(20)は前記パンチ(6)の前記近位端近傍に存在すると共に、前記入口ポート(16)は前記パンチ(6)の前記遠位端に存在することを特徴とする請求項3に記載のパンチアセンブリ(2)。
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月24日(2004.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
冷却液処理処方物であって、以下：
ａ．金属イオン封鎖剤、
ｂ．キレート化剤、
ｃ．緩衝化剤、
ｄ．分散剤、
ｅ．ペプチゼーション剤、
ｆ．解膠剤、
ｇ．乳化剤、
ｈ．研磨剤、
ｉ．吸着剤、
を含有する、処方物。
【請求項２】
請求項１に記載の処方物であって、該処方物は、以下：
ａ．Ｃ６Ｈ５Ｎａ３Ｏ７、
ｂ．Ｎａ５Ｐ３Ｏ１０、
ｃ．Ｎａ−Ａ型ゼオライト、
ｄ．ＥＤＴＡ、および
ｅ．ＳｉＯ２  Ｎａ２Ｏ、
を含有する、処方物。
【請求項３】
前記処方物が、液体形態である、請求項１に記載の処方物。
【請求項４】
前記処方物が、固体形態である、請求項１に記載の処方物。
【請求項５】
前記処方物が、粉末形態である、請求項１に記載の処方物。
【請求項６】
前記処方物が、顆粒形態である、請求項１に記載の処方物。
【請求項７】
前記処方物が、界面活性剤を含む、請求項１に記載の処方物。
【請求項８】
前記界面活性剤が、ジデシルジメチルアンモニウムクロライドを含む、請求項７に記載の処方物。
【請求項９】
前記処方物が、生物殺傷剤を含有する、請求項１に記載の処方物。
【請求項１０】
前記処方物が、漏出指示色素を含有する、請求項１に記載の処方物。
【請求項１１】
前記処方物が、食品等級の構成要素からなる、請求項１に記載の処方物。
【請求項１２】
前記処方物が、７〜９の範囲のｐＨで前記冷却液を緩衝化する構成要素からなる、請求項１に記載の処方物。
【請求項１３】
請求項１２に記載の処方物であって、前記緩衝処方物が、約３．８％のケイ酸ナトリウム、１１．６９％のＥＤＴＡ、３６．３％のゼオライト、１．４％のトリポリリン酸ナトリウムおよび４６．９％のクエン酸ナトリウムから構成される、処方物。
【請求項１４】
前記処方物が、前記吸着剤および研磨剤が、ゼオライトを含めることによって提供される、請求項１に記載の処方物。
【請求項１５】
前記処方物が、トリポリリン酸ナトリウムを含む、請求項１に記載の処方物。
【請求項１６】
前記処方物が、粉末化ケイ酸ナトリウムを含む、請求項１に記載の処方物。
【請求項１７】
前記処方物が、ＥＤＴＡを含む、請求項１に記載の処方物。
【請求項１８】
前記処方物が、クエン酸ナトリウムを含む、請求項１に記載の処方物。
【請求項１９】
冷却液処理処方物であって、３．８重量％のＳｉＯ２  ＮＡ２Ｏ、１１．６重量％のＥＤＴＡ、３６．３重量％のＮａ−Ａ型ゼオライト、１．４重量％のＮａ５Ｐ３Ｏ１０および４６．９重量％のＣ６Ｈ５Ｎａ３Ｏ７を含有する、処方物。
【請求項２０】
ＨＶＡＣシステムのための冷却液処理処方物であって、該システム中の処理されるべき水１リットル当たりの重量比で、以下：
４０ｍｇ／ｌのＳｉＯ２（５７．２％のＳｉＯ２および２３．８％のＮａ２Ｏとして）；
１７１ｍｇ／ｌのＥＤＴＡ（８１％のＮａ４ＥＤＴＡとして）；
６．２５ｍｇ／ｌのＰ（Ｎａ５Ｐ３Ｏ１０として）；
８６５ｍｇ／ｌのシトレート（Ｃ６Ｈ５Ｎａ３Ｏ７として）；および
２６．７ｍｇ／ｌのジデシルジメチルアンモニウムクロライド（８０％）、
を含有する、処方物。
【請求項２１】
漏出指示色素をさらに含有する、請求項２０に記載の処方物。
【請求項２２】
ＨＶＡＣシステムのための冷却液処理処方物であって、該システム中の処理されるべき水１リットル当たりの重量比で、以下：
４０ｍｇ／ｌのＳｉＯ２（５７．２％のＳｉＯ２および２３．８％のＮａ２Ｏとして）；
１７１ｍｇ／ｌのＥＤＴＡ（８１％のＮａ４ＥＤＴＡとして）；
６６０ｍｇ／ｌのゼオライト（Ｎａ−Ａ型）；
６．２５ｍｇ／ｌのＰ（Ｎａ５Ｐ３Ｏ１０として）；
８６５ｍｇ／ｌのシトレート（Ｃ６Ｈ５Ｎａ３Ｏ７として）；および
２６．７ｍｇ／ｌのジデシルジメチルアンモニウムクロライド（８０％）、
を含有する、処方物。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月15日(2005.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸素原子を介して少なくとも一種のヘテロ原子に結合され、少なくとも一種の３〜１３族還元性金属イオンで電荷平衡化されたフレームワーク金属を含有する部分的に還元された活性化金属イオンポリオキソメタレートを含む酸化触媒。
【請求項２】
フレームワーク金属原子がモリブデンであり、ヘテロ原子がリン、そして還元性金属原子が、ニオブ、チタン、モリブデン、またはジルコニウムの一またはそれ以上のイオンである請求項１に記載の触媒。
【請求項３】
還元性金属イオンがニオブイオンである請求項２に記載の触媒。
【請求項４】
部分的に還元された活性化ニオブポリオキソモリブデートを含む酸化触媒であって、ニオブ変換ポリオキソモリブデートが、ポリオキソモリブデートのピリジニウムアダクトを非酸化性雰囲気中で375〜450℃の有効活性温度まで加熱することにより活性化する酸化触媒。
【請求項５】
バナジウムも含有する請求項４に記載の酸化触媒。
【請求項６】
ポリオキソモリブデート：
【化１】
2005508247.tif 000001
（式中、ｘ＝１または２；ｍ＝１０〜１８；ｎ＝０〜４、およびｙ＝４０〜６２、Pyrはピリジニウムイオン、そしてａおよびｃはポリオキソアニオン：
【化２】
2005508247.tif 000002
の電荷を平衡にするように計算される。）を含む酸化触媒前駆体。
【請求項７】
酸化触媒の製造法であって、
ａ．Mo、P、0、および、場合によりVを含有するポリオキソアニオンを形成すること；
ｂ．ポリオキソアニオンを電荷平衡量のNbおよびピリジニウムと交換してポリオキソモリブデートを形成すること；
ｃ．ニオブポリオキソモリブデートの触媒として活性な相を形成するのに足る時間にわたって非酸化性雰囲気中で400〜450℃に加熱することにより交換したポリオキソモリブデートを活性化すること；
の各工程を含む酸化触媒の製造法。
【請求項８】
炭化水素または置換炭化水素を部分的に酸化した生成物に変換する方法であって、炭化水素供給流を、部分酸化条件下で酸素源の存在下で請求項１〜７のいずれかに記載の活性化部分還元金属イオンポリオキソメタレート触媒に接触させることを含む当該方法。
【請求項９】
C3炭化水素をアクリル酸を含有する混合物に酸化する方法であって、C3 炭化水素供給流を酸化条件下で酸素源の存在下で請求項１〜７のいずれかに記載の触媒に接触させることを含む当該方法。
【請求項１０】
C４炭化水素をマレイン酸を含有する混合物に酸化する方法であって、C４ 炭化水素供給流を酸化条件下で酸素源の存在下で請求項１〜７のいずれかに記載の触媒に接触させることを含む当該方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月6日(2005.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
着色剤の粒子サイズの減少および／または分散を引き起こす条件下で、またミリングメディアの存在下でメディアミル内の着色剤スラリーをミリングする工程を含む、着色剤分散体の製造方法であって、該ミリングメディアがプラスチック製の実質的に立方形のミリングメディアであることを特徴とする、上記方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法に従って調製された着色剤分散体を含むことを特徴とする、インクジェットインク。
【請求項３】
請求項１に記載の方法に従って調製された着色剤分散体を含むことを特徴とする、自動車ペイント。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
【表１】
2005508250.tif 000001
本出願は、特許請求の範囲に記載の発明を含め、以下の発明を包含する。
（１）  着色剤の粒子サイズの減少および／または分散を引き起こす条件下で、またミリングメディアの存在下でメディアミル内の着色剤スラリーをミリングする工程を含む、着色剤分散体の製造方法であって、該ミリングメディアがプラスチック製の実質的に立方形のミリングメディアであることを特徴とする、上記方法。
（２）  前記メディアの比重が水の比重よりも大きいかまたはそれに等しく、かつミリングされる前記スラリーの約±２０％以内であることを特徴とする、（１）に記載の方法。
（３）  前記メディアの比重が約１．０〜１．３の範囲にあり、かつ前記スラリーの密度が約１．０５〜約１．３５ｇ／ｍＬの範囲にあることを特徴とする、（１）に記載の方法。
（４）  前記メディアの比重が約１．０〜１．３の範囲にあり、かつ前記スラリーの密度が約１．０５〜約１．２５ｇ／ｍＬの範囲にあることを特徴とする、（１）に記載の方法。
（５）  前記ミリングが、連続モードで動作するメディアミルにより行われることを特徴とする、（１）に記載の方法。
（６）  前記メディアミルが、少なくとも１．５リットルの容積を有するミリングチャンバーを含むことを特徴とする、（１）に記載の方法。
（７）  前記メディアが０．３５〜０．８ｍｍのサイズであることを特徴とする、（１）に記載の方法。
（８）  前記着色剤スラリーが水性系であることを特徴とする、（１）に記載の方法。
（９）  前記メディアが、ポリアミドおよびポリカーボネートから選択されるプラスチックで構成されていることを特徴とする、（１）〜（８）のいずれかの一に記載の方法。
（１０）
前記メディアがポリアミドナイロンで構成されていることを特徴とする、（９）に記載の方法。
（１１）  （１）〜（１０）のいずれかの一に記載の方法に従って調製された着色剤分散体を含むことを特徴とする、インクジェットインク。
（１２）  （１）〜（１０）のいずれかの一に記載の方法に従って調製された着色剤分散体を含むことを特徴とする、自動車ペイント。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月31日(2005.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
顔料ナノ粒子を製造するための装置であって：
蒸気領域を有しており、顔料前駆体物質を蒸発させる炉；
前記炉の該蒸気領域に対して開放しており、蒸発した顔料前駆体物質からの蒸気を受容する沈殿導管；
前記沈殿導管中に開放しており、収集流体を送出して前記沈殿導管中の該蒸気と接触させる収集流体口（該蒸気は凝縮して顔料ナノ粒子を形成する）、及び
前記沈殿導管に流体的に接続しており、該収集流体中の該顔料ナノ粒子を収集する収集系、を含む前記装置。
【請求項２】
炉が顔料前駆体物質を昇華させる、請求項１記載の装置。
【請求項３】
更に、沈殿導管と機能的に関係しているポンプを含み、前記ポンプが蒸気を炉から沈殿導管中に抜き出す、請求項１記載の装置。
【請求項４】
更に、炉と機能的に関係しているポンプを含み、前記ポンプが顔料前駆体物質を前記炉中に吸い込む、請求項１記載の装置。
【請求項５】
更に、顔料前駆体物質と沈殿導管の間に提供されるフィルターを含み、前記フィルターが、該顔料前駆体物質が前記沈殿導管に入るのを妨げる、請求項１記載の装置。
【請求項６】
更に、収集系が、沈殿導管に流体的に接続している収集ドラムを有しており、顔料前駆体物質及び収集流体が前記収集ドラムに送出される、請求項１記載の装置。
【請求項７】
収集系が、収集ドラムと機能的に関係しているベンチュリスクラバーを有しており、前記ベンチュリスクラバーがキャリヤガス中に同伴された顔料ナノ粒子の少なくとも一部を取り出す、請求項６記載の装置。
【請求項８】
収集ドラムからの収集流体の少なくとも一部がベンチュリスクラバーを通して再循環される、請求項７記載の装置。
【請求項９】
収集流体が、蒸気を凝縮して、沈殿導管中で顔料ナノ粒子を形成させる、請求項１記載の装置。
【請求項１０】
更に、沈殿導管中に開放している収集流体口を含み、前記収集流体口が、収集流体を送出して前記沈殿導管中の蒸気と接触させ、該収集流体が該蒸気を凝縮して顔料ナノ粒子を形成させる、請求項１記載の装置。
【請求項１１】
収集流体が液体窒素である、請求項１０記載の装置。
【請求項１２】
収集流体が、本質的に水及びエチレングリコールからなる群から選択される、請求項１記載の装置。
【請求項１３】
沈殿導管が炉の外部にある、請求項１記載の装置。
【請求項１４】
炉が少なくとも二つの温度帯域を有する、請求項１記載の装置。
【請求項１５】
炉が約540〜700℃の温度範囲に維持される、請求項１記載の装置。
【請求項１６】
炉が約680℃に加熱される、請求項１記載の装置。
【請求項１７】
顔料前駆体物質が銅フタロシアニンである、請求項１記載の装置。
【請求項１８】
顔料ナノ粒子を製造するための方法であって：
顔料前駆体物質を蒸発させて、蒸気を形成し；
該蒸気を沈殿導管中に抜き出し；
該沈殿導管中の該蒸気を迅速に凝縮して、顔料ナノ粒子を形成し；
該顔料ナノ粒子を該沈殿導管中の収集流体と接触させ；そして、
該収集流体中の該顔料ナノ粒子を収集すること、を含む前記方法。
【請求項１９】
更に、顔料前駆体物質を炉中に抜き出すことを含み、その際、該顔料前駆体物質が該炉中で蒸発する、請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
顔料ナノ粒子を収集することが、該顔料ナノ粒子をキャリヤガスから取り出すことを含む、請求項１８記載の方法。
【請求項２１】
顔料ナノ粒子が、キャリヤガスを収集ドラムに通気することにより、少なくとも部分的に該キャリヤガスから取り出される、請求項１８記載の方法。
【請求項２２】
顔料ナノ粒子が、キャリヤガスをベンチュリスクラバーを通るように向けることにより、少なくとも部分的に該キャリヤガスから取り出される、請求項１８記載の方法。
【請求項２３】
前駆体物質が銅フタロシアニンである、請求項１８記載の方法。
【請求項２４】
顔料前駆体物質の蒸発が約540〜700℃の温度範囲で起こる、請求項１８記載の方法。
【請求項２５】
請求項１８記載の方法にしたがって製造された、顔料ナノ粒子及び収集流体の混合物。
【請求項２６】
顔料ナノ粒子が約10重量％、エチレングリコールが約15重量％、そして水が約75重量％であることを特徴とする、請求項２５記載の顔料ナノ粒子及び収集流体の混合物。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月17日(2005.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気濾過媒体であって：
ａ）多数の混ざり合った繊維を含んでなる繊維性基質と
ｂ）多数の繊維の大部分の各々を包囲する皮膜であって、補助物質を含むゲル生成ポリマー層、架橋ポリ（スチレンスルホン酸）（遊離酸または塩）、架橋ポリアクリル酸（遊離酸または塩）、架橋ポリ（メタクリル酸）、架橋ポリ（ビニルピリジン）第四アンモニウム塩および架橋ポリエチレンイミン第四アンモニウム塩およびこれらのコポリマー類からなる群から選択される抗病原性ポリマーまたは中和ポリマー網状構造を構成する皮膜
とを含む空気濾過媒体。
【請求項２】
ポリマー網状構造が酸性官能価、塩基性官能価および酸化性官能価からなる官能価群から選択される官能価を含む請求項１記載の空気濾過媒体。
【請求項３】
ポリマー網状構造が架橋４−スチレンスルホン酸を含む請求項１記載の空気濾過媒体。【請求項４】
ポリマー網状構造が第四アンモニウム官能価を含む請求項１記載の空気濾過媒体。
【請求項５】
ポリマー網状構造が架橋ポリ（ビニルピリジン）第四アンモニウム塩である請求項４記載の空気濾過媒体。
【請求項６】
ポリマー網状構造が補助物質類を含むゲル生成ポリマーである請求項１記載の抗病原性空気濾過媒体。
【請求項７】
ゲル生成ポリマーが多糖類、多糖誘導体類、ポリ（ビニルピロリドン）、ポリ（ヒドロキシエチル メタクリレート）、２ないし約１２個のエトキシ反復単位をいずれかの部位に有するポリエチレングリコール メタクリレート類、ポリ（ビニルピロリドン）とポリ（スチレンスルホン酸ナトリウム）との混合物類、ポリ（エチレングリコール）とポリ（ビニルピロリドン）との混合物類およびカルボキシメチルセルロースとヒドロキシエチルセルロースとの混合物類からなる群から選択される請求項６記載の抗病原性空気濾過媒体。
【請求項８】
多糖誘導体が、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチル−２−ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースおよびカルボキシメチルセルロースからなる群から選択される請求項７記載の抗病原性空気濾過媒体。
【請求項９】
ゲル生成ポリマーがヒドロキシメチルセルロースを含む請求項６記載の空気濾過媒体。【請求項１０】
ヒドロキシメチルセルロースが、メラミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂およびジメチロール尿素からなる群から選択される架橋剤で架橋される請求項９記載の空気濾過媒体。
【請求項１１】
ポリマー網状構造が補助物質類を含むゲル生成ポリマーであり、液体が、不揮発性希釈液に溶解した酸、塩基および酸化剤の溶液類；不揮発性希釈液中金属コロイド懸濁液；および界面活性剤担持不揮発性油からなる群から選択される請求項１記載の抗病原性空気濾過媒体。
【請求項１２】
液体が植物油および非イオン性界面活性剤を含んでなる界面活性剤担持油である請求項１１記載の空気濾過媒体。
【請求項１３】
液体が金属コロイド懸濁液である請求項１１記載の空気濾過媒体。
【請求項１４】
空気濾過媒体の製法であって：
ａ）複数の混ざり合った繊維を含んでなる繊維性基質をプレポリマー溶液で湿潤させ、前記プレポリマー溶液は、ゲル生成プレポリマー溶液、４−スチレンスルホン酸と架橋剤との混合物を含むプレポリマー溶液、ビニルピリジンと架橋剤との混合物を含むプレポリマー溶液、ビニルピリジンの第四アンモニウム塩と架橋剤との混合物を含むプレポリマー溶液、およびこれらの組み合わせからなるプレポリマー溶液群から選択され；
ｂ）空気濾過媒体が抗病原性または中和性になるようにプレポリマー溶液を硬化させて、繊維周囲にポリマー網状構造を形成し、前記ポリマー網状構造はゲル生成性の架橋４−スチレンスルホン酸、架橋ビニルピリジン、またはビニルピリジンの架橋第四アンモニウム塩である
前記製法。
【請求項１５】
プレポリマー溶液が４−スチレンスルホン酸とジビニルベンゼン架橋剤とを含む請求項１４記載の製法。
【請求項１６】
繊維性基質を、グリセロールと水との混合液に溶解したスチレンスルホン酸、ジビニルベンゼンおよびラジカル開始剤の溶液で湿潤させる請求項１５記載の製法。
【請求項１７】
プレポリマー溶液がビニルピリジンと架橋剤との混合物を含み、さらに：
ポリマー網状構造上のペンダントピリジン基を第四アンモニウム塩に変換してポリマー網状構造を抗病原性にする工程を含む
請求項１４記載の製法。
【請求項１８】
前記変換工程が繊維性基質と、グリセロールと水との混合液中にビニルピリジン、ジビニルベンゼンおよびラジカル開始剤を溶解した溶液とを接触させることを含む請求項１７記載の製法。
【請求項１９】
プレポリマー溶液がビニルピリジンの第四アンモニウム塩と架橋剤との混合物を含む請求項１４記載の製法。
【請求項２０】
プレポリマー溶液がゲル生成プレポリマー溶液を含み、ゲル生成工程が、繊維性基質と、少なくも１種類の不揮発性希釈液に溶解した酸、塩基または酸化剤の溶液；少なくも１種類の不揮発性希釈剤液の金属コロイド懸濁液；および界面活性剤担持不揮発性油からなる液体類から選択される液体とを接触させることを含む請求項１４記載の製法。
【請求項２１】
前記液体が銀コロイド懸濁液および銅コロイド懸濁液からなる群から選択される請求項２０記載の製法。
【請求項２２】
前記液体がメチルメタクリレート、１,４−ブタンジオール ジアクリレート、ラジカル開始剤、非イオン性界面活性剤および植物油の溶液である請求項２０記載の製法。
【請求項２３】
ゲル生成ポリマーが共有結合架橋線状ポリマー類、イオンまたは水素結合相互作用によって架橋した線状ポリマー類からなる群から選択される請求項６ないし請求項１０のいずれか一つに記載の濾過媒体。
【請求項２４】
補助物質の一つが有機過酸化物である請求項６ないし請求項１０、および請求項２３のいずれか一つに記載の濾過媒体。
【請求項２５】
補助物質類の一つが過マンガン酸カリである請求項６ないし請求項１０、および請求項２３および請求項２４のいずれか一つに記載の濾過媒体。
【請求項２６】
補助物質類の一つが酸性物質である請求項６ないし請求項１０、および請求項２３ないし請求項２５のいずれか一つに記載の濾過媒体。
【請求項２７】
補助物質類の一つが塩基性物質である請求項６ないし請求項１０、および請求項２３ないし請求項２６のいずれか一つに記載の濾過媒体。
【請求項２８】
補助物質類の一つが漂白剤である請求項６ないし請求項１０、および請求項２３ないし請求項２７のいずれか一つに記載の濾過媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月9日(2005.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線を使用して空気を殺菌する装置であって、
入口端部、末端方向で対向する出口端部、空気に接触する内部表面、及び外部表面を有する空気入口チューブ；
空気入口チューブの表面の少なくとも一部上に位置する全内部反射構造；
空気入口チューブのまわりに位置する空気収容容器；
紫外線の空気収容容器の透過を可能にするが空気を透過させない紫外線窓；
前記紫外線窓を通過し、空気入口チューブの内部表面に衝突する紫外線を提供する高強度紫外線ランプ；及び
（ｆ）空気収容容器から延びる空気出口；
を有することを特徴とする装置。
【請求項２】
前記空気入口チューブは紫外線等級シリカガラスから構成されることを特徴とする請求項１の装置。
【請求項３】
前記全内部反射構造は空気入口チューブの外部表面に沿って延びる複数のプリズム光ガイドを有することを特徴とする請求項１の装置。
【請求項４】
フィードバック機構としての空気収容容器内へのびる紫外線センサを含む警報手段を更に有することを特徴とする請求項１の装置。
【請求項５】
前記空気出口からの空気通路内にオゾンを酸素に変換するための触媒フィルタを更に有することを特徴とする請求項１の装置。
【請求項６】
殺菌されるべき空気が前記空気入口チューブ入口端部へ入る前に汚染物を除去するための空気フィルタを更に有することを特徴とする請求項５の装置。
【請求項７】
前記空気入口チューブの空気通路中に配置される偏向ミラーを更に有することを特徴とする請求項１の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月8日(2005.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バルキング汚泥、浮遊汚泥、および／または泡の形成を減少または回避する方法であって、バイオガス施設において使用される、糸状のおよび凝集する微生物を保有する排出液、汚泥、または有機基質の処理に際し、排出液、汚泥、または有機基質が導管（２、４）に誘導され、そして導管（２、４）において配置される少なくとも１つのくびれ（３）を介し、そして凝集する微生物に対する糸状微生物の数の相対的な比率を減少するのに十分である剪断負荷に供され、剪断負荷が導管（２、４）における乱流動によって生成され、および排出液、汚泥、または有機基質の流動速度が減圧下で導管（２、４）のくびれ（３）を通過する際に増加され、その後、排出液中に、汚泥中に、または有機基質中に空洞化が生じることを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、内径がくびれ（３）にて最も小さく、そしてくびれ（３）の上流側での導管（２）の内径が、くびれ（３）の下流側での導管（４）の内径よりも大きくなるように、導管（２、４）の内径が選択される場合、空洞化の発生が調節可能であることを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法であって、空洞化の持続時間が、くびれ（３）の下流側に配置される導管（４）の長さによって調節可能であることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の方法であって、導管（２、４）におけるくびれ（３）の内径が可変性であることを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の方法であって、排出液、汚泥、または有機基質に含まれるか、または混入する気体泡が、導管（２、４）への導入の前に少なくとも部分的に除去されることを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項５に記載の方法であって、排出液、汚泥、または有機基質が、浸漬された軸（８）の外側に運搬されることによって、混入するかまたは含まれる気体泡が少なくとも部分的に除かれることを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の方法であって、導管（２、４）を介して誘導される排出液、汚泥、または有機基質のレイノルズ数が、少なくとも１００，０００、好ましくは少なくとも２５０，０００、さらに好ましくは少なくとも５００，０００であることを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の方法であって、排出液、汚泥、または有機基質が、導管（２、４）を介して通過される後に噴霧されることを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の方法であって、少なくとも１つのくびれ（３）がノズルであることを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の方法であって、排出液が活性化汚泥または混成の生物群集であることを特徴とする方法。
【請求項１１】
バルキング汚泥、浮遊汚泥、および／または泡の形成を減少または回避するための装置であって、装置が、少なくとも１つのくびれ（３）を有する導管（２、４）と、導管（２、４）を介して排出液、汚泥、または有機基質を運搬するためのデバイス（７）とを有し、それによって、バイオガス施設において使用される、糸状のおよび凝集する微生物を保有する排出液、汚泥、または有機基質の処理が、空洞化の作用の下に達成され、そして絞り弁（５）が導管（４）のくびれ（３）の下流側に配置されることを特徴とする装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の装置であって、導管（２、４）の内径がくびれ（３）にて最も小さく、そしてくびれ（３）の上流側での導管（２）の内径が、くびれ（３）の下流側での導管（４）の内径よりも大きいことを特徴とする装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の装置であって、くびれ（３）の上流の導管（２）の内径と、くびれ（３）の下流の導管（４）の内径との比率が約５：１と約１．２：１との間であることを特徴とする装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の装置であって、比率が約３：１と約１．５：１との間、好ましくは２：１であることを特徴とする装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の装置であって、少なくとも１つのくびれ（３）が収束内径および散開内径を備える部分を含み、ここで収束内径の部分は上流側に配置され、および散開内径の部分は下流側に配置されることを特徴とする装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載の装置であって、収束内径の部分の長さが、散開内径の部分の長さよりも短いことを特徴とする装置。
【請求項１７】
請求項１１〜１６のいずれかに記載の装置であって、くびれ（３）の下流側に配置される導管（４）の長さが可変的に調節可能であることを特徴とする装置。
【請求項１８】
請求項１１〜１７のいずれかに記載の装置であって、くびれ（３）がノズルであることを特徴とする装置。
【請求項１９】
請求項１８に記載の装置であって、コンフューザーがノズル（３）の上流側に配置されることを特徴とする装置。
【請求項２０】
請求項１１〜１９のいずれかに記載の装置であって、拡散器がくびれの下流側、好ましくは絞り弁（５）の上流にて、導管（４）の後ろに配置されることを特徴とする装置。
【請求項２１】
請求項１１〜２０のいずれかに記載の装置であって、排出液、汚泥、または有機基質を運搬するためのデバイス（７）がポンプであることを特徴とする装置。
【請求項２２】
請求項２１に記載の装置であって、ポンプが浸漬された軸（８）中に配置されることを特徴とする装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月24日(2005.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
眼球に衝撃波ダメージ又は熱ダメージをほとんど与えることなく強膜組織をシングルショットで厚さ５−３０μｍで融除するようになっている、レーザビームを生成するレーザ光源であって、１００μｓを越える滞留時間及び１００μｍより大きなスポットサイズの少なくとも一方の条件を備えて前記ビームが前記眼球に入射するものと、
前記眼球の外側からの前記ビームの前記眼球への照準を合わせるようになっている眼球有効位置コントローラと、
を有する、眼球に眼科手術を行う装置。
【請求項２】
レーザビームを使用して眼科処置中に眼球を観察する眼球用顕微鏡を有することを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記顕微鏡によって観察される、除去される前記組織を表示するモニタを有することを特徴とする、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記レーザの視線と顕微鏡のそれを混合するビームコンバイナを有することを特徴とする、請求項２または３に記載の装置。
【請求項５】
前記位置コントローラは、前記レーザ光源と患者の眼球との相対位置及び角度を固定する眼球フレームを有することを特徴とする、請求項１から４のいずれかに記載の装置。
【請求項６】
前記位置コントローラは、前記レーザビームの入口と空間的に走査するレーザビームの出口を備えたスキャナを有することを特徴とする、請求項１から５のいずれかに記載の装置。
【請求項７】
眼球上で所望のパターンで組織を除去するために前記スキャナを駆動する、制御回路を有することを特徴とする、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
眼球上で前記手術の進行を監視し、進行信号を生成するセンサを有することを特徴とする、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
除去される組織の画像を取得するカメラと、
前記画像を処理するイメージプロセッサと、
を有することを特徴とする、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記進行信号を使用して前記組織除去状態の指標を生成することを特徴とする、請求項８または９に記載の装置。
【請求項１１】
前記回路は、前記組織除去の制御ループを閉じるために前記指標を使用することを特徴とする、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記組織除去状態の指標は、組織除去エリアに残された組織の厚さを含むことを特徴とする、請求項１０または１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記組織除去状態の指標は、組織除去エリアに残された組織を通る浸出レートを含むことを特徴とする、請求項１０または１１に記載の装置。
【請求項１４】
前記センサは眼圧を計測することを特徴とする、請求項８に記載の装置。
【請求項１５】
前記センサは非穿孔性のセンサであることを特徴とする、請求項８に記載の装置。
【請求項１６】
前記センサは接触型のセンサであることを特徴とする、請求項８に記載の装置。
【請求項１７】
前記制御回路は、前記センサから信号を受信することを特徴とする、請求項８に記載の装置。
【請求項１８】
ユーザ入力を有し、前記制御回路は前記センサからの信号に相当する前記入力への入力内容を受信及び解釈することを特徴とする、請求項８に記載の装置。
【請求項１９】
前記コンバイナと一体となったフレームを有し、このフレームは前記レーザビームを前記眼球の少なくとも一部に対してブロックすることを特徴とする、請求項１から１８のいずれかに記載の装置。
【請求項２０】
前記レーザ光源はＣＯ２レーザ光源であることを特徴とする、請求項１から１９のいずれかに記載の装置。
【請求項２１】
本発明の例示的な実施形態では、前記レーザ光源は同位体１３Ｃ１６Ｏ２レーザ光源であることを特徴とする、請求項１から１９のいずれかに記載の装置。
【請求項２２】
前記レーザ光源はエルビウム：ＹＳＧＧレーザ光源であることを特徴とする、請求項１から１９のいずれかに記載の装置。
【請求項２３】
前記レーザ光源は波長が１．８μｍ近辺であるダイオードレーザ光源であることを特徴とする、請求項１から１９のいずれかに記載の装置。
【請求項２４】
前記レーザ光源はＵＶレーザ光源であることを特徴とする、請求項１から１９のいずれかに記載の装置。
【請求項２５】
前記レーザ光源は、第２の可視波長の照準光を生成し、これは前記レーザビームと整列していることを特徴とする、請求項１から２４のいずれかに記載の装置。
【請求項２６】
前記レーザビームはパルス状のレーザであり、各パルスはシングルショットであることを特徴とする、請求項１から２５のいずれかに記載の装置。
【請求項２７】
前記レーザ光はパルス状のレーザであり、複数のパルスがシングルショットとしてグループ化されていることを特徴とする、請求項１から２５のいずれかに記載の装置。
【請求項２８】
前記レーザビームは連続的なレーザであり、人工的にゲート制御されてショットを生成することを特徴とする、請求項１から２５のいずれかに記載の装置。
【請求項２９】
前記滞留時間が１００ｍｓより長いことを特徴とする、請求項１から２８のいずれかに記載の装置。
【請求項３０】
前記スポットサイズが１００μｍより大きいことを特徴とする、請求項１から２８のいずれか又は２９に記載の装置。
【請求項３１】
各ショットの継続時間が１ｍｓより大きいことを特徴とする、請求項２６から２８のいずれかに記載の装置。
【請求項３２】
前記回路は、非穿孔性トラベクレクトミーに適したリザーバの形状に強膜組織を除去するよう形成されていることを特徴とする、請求項６に記載の装置。
【請求項３３】
前記回路は、非穿孔性トラベクレクトミーに適した浸出エリアの形状に強膜組織を除去するよう形成されていることを特徴とする、請求項６に記載の装置。
【請求項３４】
前記ビームは５ワットより大きいパワーを有することを特徴とする、請求項１から２８又は２９−３３のいずれかに記載の装置。
【請求項３５】
前記レーザはシングルショットで１０−３０μｍを融除することを特徴とする、請求項１から２８又は２９−３４のいずれかに記載の装置。
【請求項３６】
前記レーザはシングルショットで１６−２５μｍを融除することを特徴とする、請求項１から２８又は２９−３４のいずれかに記載の装置。
【請求項３７】
前記レーザはシングルショットで１６−２０μｍを融除することを特徴とする、請求項１から２８又は２９−３４のいずれかに記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月20日(2005.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロトタイプグリップの第１表面の上にメッキを電鋳する工程であって、
該第１表面は、少なくとも部分的に、２．５４ｃｍ×２．５４ｃｍ当り少なくとも３０００ステムの密度を有する直立したステムの配列によって画定されかつ導電性があり、そのために該メッキは、該プロトタイプグリップの該第１表面に対応するその第１部分の上に、該プロトタイプの上の該直立したステムの配列の反転像配列を有するグリップ用モールドを画定する工程；
該グリップ用モールドから該プロトタイプグリップを分離する工程；
該グリップ用モールドの第１部分の上にポリマー材料を導入し、それが直立したステムの配列の該反転像の配列の中および上に流れる工程；
該ポリマー材料を硬化させる工程；および
該グリップ用モールドから該硬化させたポリマー材料を分離し、該グリップ用モールドの該第１部分に相当する仕上がり表面の上に、２．５４ｃｍ×２．５４ｃｍ当り少なくとも３０００ステムの密度を有する直立したステムの配列を有することで、所望の摩擦を画定する特性を有する成形ポリマーハンドグリップを画定する工程；
を包含する、成形ポリマーハンドグリップを製造する方法。
【請求項２】
前記配列が複数の直立したステムのゾーンを有し、かつ、隣接したゾーンの中の該ステムの高さが異なっている、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記配列が複数の直立したステムのゾーンを有し、かつ、隣接したゾーンの中の該ステムの配置が異なっている、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記プロトタイプグリップの該第１表面を、直立したステムを有さない少なくとも１つの領域を含むように画定する工程をさらに包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記グリップ用モールドが、２つまたはそれ以上の分離可能なモールドセクションとして画定され、そして該分離工程が、該モールドセクションを動かして互いから離すことを包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記プロトタイプグリップを形成する工程、および
少なくとも該第１表面を含めて該プロトタイプグリップの部分を、薄い導電性材料の層でコーティングする工程、
をさらに包含する、請求項１に記載の方法。