【手続補正書】
【提出日】平成17年5月30日(2005.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロエレクトロニック加工片を電気化学的に処理する反応器であって、
反応容器、
前記反応容器の上部分の加工片処理ゾーン、
前記反応容器内の前記処理ゾーンの下の第１の電極隔室、
前記反応容器内の前記処理ゾーンの下の第２の電極隔室、
前記反応容器の第１の部分に電解液処理流体を送る第１の流体導管と、前記反応容器の第２の部分に電解液処理流体を送る第２の流体導管、
前記反応容器内の前記電極隔室と前記処理ゾーンの間の界面部材を備え、
前記界面部材は、選択された物質が前記電極隔室から前記処理ゾーンへ通過するのを防ぐように構成され、
前記第１の電極隔室内にある第１の電極、
前記第２の電極隔室内にあり前記第１の電極と同心の第２の電極、
を備えることを特徴とする反応器。
【請求項２】
前記界面部材は、選択されたイオンを前記第１、第２の電極隔室の少なくとも一方から前記処理ゾーンに通過させるイオン膜からなる請求項１に記載の反応器。
【請求項３】
前記イオン膜は、ペルフルオリネーテッドメンブレンからなる請求項２に記載の反応器。
【請求項４】
前記界面部材は、フィルタからなる請求項１に記載の反応器。
【請求項５】
前記フィルタは、多孔性部材からなる請求項４に記載の反応器。
【請求項６】
前記界面部材は、気泡が前記電極隔室から前記処理ゾーンへ通過するのを防ぐように構成される請求項１に記載の反応器。
【請求項７】
前記界面部材は、気泡が前記電極隔室から前記処理ゾーンへ通過するのを防ぐように構成されたフィルタである請求項１に記載の反応器。
【請求項８】
前記界面部材は、気泡が前記電極隔室から前記処理ゾーンへ通過するのを防ぐように構成されたイオン膜である請求項１に記載の反応器。
【請求項９】
前記界面部材は、気泡が前記電極隔室から前記処理ゾーンへ通過するのを防ぐように構成され、前記電極隔室は前記反応容器から気泡を排出するように構成されている請求項１に記載の反応器。
【請求項１０】
前記反応容器内にディストリビュータを備え、
前記第１の流体導管は、前記ディストリビュータの第１のチャンネルであり、
前記第２の流体導管は、前記ディストリビュータの第２のチャンネルであり、
前記ディストリビュータは、前記第１と第２のチャンネルの両方への入口開口を含み、
前記第１のチャンネルは、前記入口から前記第１の電極隔室へ前記電解液処理流体を送るように構成され、前記第２のチャンネルは、前記入口から前記第２の電極隔室へ前記電解液処理流体を送るように構成され、前記入口は前記第１と第２の電極隔室に共通である請求項１に記載の反応器。
【請求項１１】
前記界面部材は、選択されたイオンを前記第１、第２の電極隔室の少なくとも一方から前記処理ゾーンに通過させるイオン膜からなる請求項１０に記載の反応器。
【請求項１２】
前記界面部材は、フィルタからなる請求項１０に記載の反応器。
【請求項１３】
前記フィルタは、多孔性部材からなる請求項１２に記載の反応器。
【請求項１４】
前記界面部材は、イオン膜からなる請求項１０に記載の反応器。
【請求項１５】
前記イオン膜は、銅イオン透過性のペルフルオリネーテッドメンブレンからなる請求項１４に記載の反応器。
【請求項１６】
前記イオン膜は、処理流体に対して不透過性である請求項１４に記載の反応器。
【請求項１７】
前記第１の流体導管は、第１の処理流体の源に結合する第１の入口と、前記第１の入口に流体的に通じている一次流チャンネルとを有し、第１の処理流体を処理ゾーンへ向けて導き、
前記第２の流体導管は、第２の処理流体の源に結合する第２の入口と、第１の電極隔室と、前記第１の電極隔室と同心の第２の電極隔室とを有し、前記第１と第２の電極隔室は前記第２の入口に流体的に通じて、第２の処理流体を含有し、
前記界面部材は、前記第１と第２の処理流体の間を選択されたイオンが通過できる少なくとも１つのイオン膜からなり、前記イオン膜は前記反応用器内の前記第１と第２の電極より上で前記処理ゾーンより下に位置する請求項１に記載の反応器。
【請求項１８】
前記第１の処理流体は陰極液又は陽極液のうちの一方からなり、前記第２の処理流体は陰極液又は陽極液のうちの他方からなる請求項１７に記載の反応器。
【請求項１９】
前記イオン膜は、ペルフルオリネーテッドメンブレンからなる請求項１８に記載の反応器。
【請求項２０】
前記イオン膜は、銅イオンが通過できるペルフルオリネーテッドメンブレンからなる請求項１８に記載の反応器。
【請求項２１】
前記第１の電極は第１の環状導電性部材からなり、前記第２の電極は第２の環状導電性部材からなる請求項１７に記載の反応器。
【請求項２２】
前記第１の環状導電性部材は、前記反応容器内の最も内側の電極であり、中央開口部を有し、そこを通って少なくとも一つの処理流体が導かれる請求項１７に記載の反応器。
【請求項２３】
前記イオン膜は、陰イオン選択性のポリマーからなる請求項１７に記載の反応器。
【請求項２４】
前記イオン膜は、陽イオン選択性のポリマーからなる請求項１７に記載の反応器。
【請求項２５】
前記イオン膜は、粒子が前記第１と第２の処理流体の間を通過するのを防ぐように構成されている請求項１７に記載の反応器。
【請求項２６】
前記イオン膜は、有機添加物が前記第１と第２の処理流体の間を通過するのを防ぐように構成されている請求項１７に記載の反応器。
【請求項２７】
前記イオン膜は、気泡が前記第１と第２の処理流体の間を通過するのを防ぐように構成されている請求項１７に記載の反応器。
【請求項２８】
前記第１の導管は、前記第１の処理流体を前記反応容器を通って前記処理ゾーンへ流す手段であり、前記第２の導管は、前記第２の処理流体を複数の電極隔室を通って流す手段であり、前記イオン膜は、前記第１と第２の処理流体の間にイオンを選択的に通過させる手段である請求項１７に記載の反応器。
【請求項２９】
更に、前記反応用器内へ横方向に延びる誘電性シールドを備え、前記電極の少なくとも１つにより生じた電界から加工片の少なくとも一部をシールドする請求項１に記載の反応器。
【請求項３０】
前記界面部材は、選択されたイオンが通過できるイオン膜からなる請求項２９に記載の反応器。
【請求項３１】
前記イオン膜は、ペルフルオリネーテッドメンブレンからなる請求項３０に記載の反応器。
【請求項３２】
前記界面部材は、フィルタからなる請求項２９に記載の反応器。
【請求項３３】
前記フィルタは、多孔性部材からなる請求項３１に記載の反応器。
【請求項３４】
前記第１の電極は第１の環状導電性部材からなり、前記第２の電極は第２の環状導電性部材からなり、前記第１の環状導電性部材は、前記反応容器内の最も内側の電極である請求項２９に記載の反応器。
【請求項３５】
誘電性区分は、前記反応容器内の電界形成ユニットの第１の横方向誘電性区分を含み、前記電界形成ユニットの前記第１の横方向誘電性区分は、前記第１の電極の上に位置する請求項２９に記載の反応器。
【請求項３６】
前記電界形成ユニットは、前記第２の電極の上に位置する第２の横方向誘電性区分を備える請求項２５に記載の反応器。
【請求項３７】
前記誘電性区分は、外側同心電極の上に位置する請求項２９に記載の反応器。
【請求項３８】
加工片処理ゾーンを有する反応容器内でマイクロエレクトロニック加工片を電気化学的に処理する方法であって、
電解液処理流体の第１の部分を前記反応容器内の第１の電極隔室を通って流し、前記処理流体の第２の部分を前記反応容器内の第２の電極隔室を通って流すことにより、前記処理流体を前記反応容器の第１の部分を通って導くステップと、
前記処理流体内の物質が、前記電極隔室から出て前記処理ゾーンへ流れるのを防ぐステップと、
前記第１の電極隔室内の前記第１の電極に第１の電位を印加し、前記第２の電極隔室内の前記第２の電極に前記第１の電位と異なる第２の電位を印加するステップと、
マイクロエレクトロニック加工片の表面に前記第１と第２の電極によりできた電界をかけるステップとを含むことを特徴とする方法。
【請求項３９】
電解液処理流体を導くステップは、前記処理流体を前記反応容器の入口を通って通過させ、前記処理流体の前記第１の部分を前記入口から前記反応容器の第１のチャンネルを通って前記第１の電極隔室へ流し、前記処理流体の前記第２の部分を前記入口から前記反応容器の第２のチャンネルを通って前記第２の電極隔室へ流すことを含む請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
前記加工片に前記電界をかけている間に、前記第１の電位と前記第２の電位の少なくとも一方を変化させることを含む請求項３９に記載の方法。
【請求項４１】
一次流体流を、前記反応容器を通って前記処理ゾーンへ導き、ディストリビュータの第１と第２のチャンネルを通って流れる前記処理流体は、前記反応容器の少なくとも一部を通る前記一時流体流とは分離した前記処理流体の二次流体流を含む請求項３９に記載の方法。
【請求項４２】
前記一次流体流は陰極液からなり、前記二次流体流は陽極液からなる請求項４１に記載の方法。
【請求項４３】
前記マイクロエレクトロニック加工片の表面に前記第１と第２の電極により形成された電界をかけるステップは、前記マイクロエレクトロニック加工片の表面を前記陰極液に接触させることからなる請求項４２に記載の方法。
【請求項４４】
前記マイクロエレクトロニック加工片の表面を前記陰極液に接触させている間に、前記第１の電位と前記第２の電位の少なくとも一方を変化させることを含む請求項４３に記載の方法。
【請求項４５】
前記反応容器内の前記処理ゾーンと前記第１と第２の電極隔室の少なくとも一方との間に多孔性部材を設けることにより、前記陰極液を前記陽極液から分離するステップを含む請求項４３に記載の方法。
【請求項４６】
前記反応容器内の前記処理ゾーンと前記第１と第２の電極隔室の少なくとも一方との間にイオン膜を設けることにより、前記陰極液を前記陽極液から分離するステップを含む請求項４３に記載の方法。
【請求項４７】
電解液処理流体を導くステップは、陽極液の第１の部分を前記第１の電極隔室を通って流し、前記処陽極液の第２の部分を前記第２の電極隔室を通って流すことを含み、
更に、（ａ）陰極液が前記処陽極液に流入しないようにして、前記陰極液を前記反応容器を通って前記処理ゾーンへ導くステップと、（ｂ）選択したイオンを前記陰極液と前記陽極液の間を通過させるステップを含む請求項３８に記載の方法。
【請求項４８】
前記第１の電極に第１の電位を印加し、前記第２の電極に第２の電位を印加するステップと、
前記加工片の表面が前記陰極液に接触している間に、前記第１の電位と前記第２の電位の少なくとも一方を変化させるステップとを含む請求項４７に記載の方法。
【請求項４９】
前記陰極液が前記陽極液に流入することを防ぐため、前記陰極液と前記陽極液との間に界面部材を配置するステップを含む請求項４７に記載の方法。
【請求項５０】
前記界面部材は、前記反応容器内の前記処理ゾーンと前記第１と第２の電極隔室の少なくとも一方との間のフィルタからなる請求項４９に記載の方法。
【請求項５１】
前記界面部材は、多孔性フィルタからなり、
イオンを、前記陰極液と前記陽極液の間を通過させるステップは、イオンと流体を、前記多孔性フィルタを通って通過させることからなる請求項４９に記載の方法。
【請求項５２】
前記界面部材は、前記反応容器内の前記処理ゾーンと前記第１と第２の電極隔室の少なくとも一方との間に位置するイオン膜からなる請求項４９に記載の方法。
【請求項５３】
前記界面部材は、前記反応容器内の前記処理ゾーンと前記第１と第２の電極隔室の少なくとも一方との間に位置するイオン膜からなり、
イオンを、前記第１の流体流と前記第２の流体流との間を通過させることは、イオンを、前記イオン膜を通って移動させ、流体が前記イオン膜を横切ることを防ぐことからなる請求項４９に記載の方法。
【請求項５４】
前記電界を形成するため、前記加工片の表面の少なくとも一部をシールドするステップを含む請求項３８に記載の方法。
【請求項５５】
前記加工片の表面が前処理流体に接触している間に、前記第１の電位と前記第２の電位の少なくとも一方を変化させるステップを含む請求項５４に記載の方法。
【請求項５６】
一次流体流を、前記反応容器を通って前記処理ゾーンへ導き、二次流体流を前記第１と第２の電極隔室を通って導く請求項５４に記載の方法。
【請求項５７】
前記一次流体流は陰極液からなり、前記二次流体流は陽極液からなる請求項５６に記載の方法。
【請求項５８】
物質が前記第１と第２の電極隔室から出るのを防ぐステップは、前記処理ゾーンと前記第１と第２の電極隔室の間にイオン膜を設けることからなる請求項５７に記載の方法。
【請求項５９】
前記マイクロエレクトロニック加工片の表面を前記陰極液に接触させている間に、前記第１の電位と前記第２の電位の少なくとも一方を変化させるステップを含む請求項５８に記載の方法。
【請求項６０】
前記第２の電極は、前記第１の電極と同心の環状導電性部材であり、前記加工片の少なくとも一部をシールドするステップは、前記第２の電極と前記加工片との間に、環状誘電性横方向区分を配置することからなる請求項５４に記載の方法。
【請求項６１】
前記第１の電極は、最も内側の電極であり、第１の導電性リングを形成し、前記第２の電極は前記第１の導電性リングと同心の第２の導電性リングであり、
前記加工片の少なくとも一部をシールドするステップは、前記第１の電極と前記加工片との間に、第１の環状誘電性横方向区分を配置し、前記第２の電極と前記加工片との間に、第二の環状誘電性横方向区分を配置することからなる請求項６０に記載の方法。