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【手続補正書】
【提出日】平成17年9月15日(2005.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】
汚染土壌の周辺の１部に沿ってバリヤを確立させ；
処理領域にわたりカバーを設置し；
処理領域内の土壌を加熱し；
オフガスを土壌から抽出ウェルを介して除去し；
オフガスを抽出ウェルから導管を介し処理施設まで輸送し、ここでオフガス内の水銀の１部を導管内で凝縮させると共に重力により処理施設まで流動させ、地表では減圧を加える
ことを特徴とする水銀汚染土壌の矯正方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２２】
バリヤの確立が、フリーズウェルを土地中へ挿入すると共にフリーズウェルを始動させて土壌を冷却することにより土壌内の水を凍結させると共に、凍結バリヤを形成させる請求項１８に記載の方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３５】
処理領域における複数のヒータ、すなわち水銀の気化温度より高くまで土壌を加熱するよう形成されたヒータと；
気化水銀をオフガス流の成分として土壌から除去するよう形成された減圧システムと；
土壌から大気への蒸気の放出を阻止すべく形成されたグランドカバーと；
減圧システムに連結されて土壌に対し作動関係にある複数のライザ、すなわちオフガス流を上昇させるよう形成されたライザおよびオフガス流の凝縮温度よりも高くオフガス流を維持するよう形成されたライザと；
ライザに連結された蒸気収集システムと
からなり、蒸気収集システムはこの蒸気収集システム内で凝縮する水銀を重力により処理施設まで流動させることを特徴とする水銀汚染土壌の矯正システム。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５７】
水銀汚染土壌の程度を決定する方法において、土壌が水銀汚染を潜在的に含有する領域を位置決めし；
中性子検層具を潜在的に水銀汚染された土壌に設置し；
中性子検層具を付勢して潜在的水銀汚染土壌内の選択深さにおける水銀の濃度を決定し；更に
検層具を土壌から除去すると共に、中性子検層具を設置した土壌における開口部を土壌矯正ウェルのためのウェルボアコアとして使用する
ことを特徴とする水銀汚染土壌の程度の決定方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５８】
領域の位置決めが、土壌のレーダ調査を行って潜在的に水銀の存在に基づいた大きいシグナル応答を有する領域を見出すことからなる請求項５７に記載の方法。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６３】
土壌中への中性子検層具の設置が、この検層具を土壌中へ振動させることからなる請求項５７に記載の方法。
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６４】
土壌中への中性子検層具の設置が、この検層具をウェルボアに設置することからなる請求項５７に記載の方法。
【手続補正８】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６５】
領域の位置決めが、電磁調査を行って潜在的に土壌内の水銀の存在に基づく誘導極性異常を見出すことからなる請求項６３に記載の方法。
【手続補正９】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７２】
土壌ヒータの装備が、土壌ヒータの一部を土壌に埋没することからなる請求項６６に記載の方法。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７４】
土壌中への有孔ケースの設置が、このケースを穿孔ウェルボアに設置することからなる請求項７３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月1日(2005.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。
図１及び図２に示されているアダプタ１は、四つの側面３と、接触面５と、接触面５と平行になっている前面７（図３参照）とを備えている。略三角形状の橋渡し表面９が、隣接する側面３の間に配設されている。橋渡し表面９は、幾分湾曲しており、アダプタ１の隅部の近傍に位置している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
アダプタ１は、図３〜図５に示されているように、カップリング１８に接続されており、これにより、本発明によるツールホルダが得られる。カップリング１８は凹部１４に受容される雄部分を有している。アンカーボルト１９は第２の中心孔１７を貫通して雄部分のねじ孔まで延びており、それにより、接触面５がカップリング１８の協働表面と接触させられる。また、カップリング１８は駆動部材を備えており、アダプタ１とカップリング１８との間の回転に適した継手を提供するために、この駆動部材が溝１５内に受容される。さらに、中心線Ｃ−Ｃはカップリング１８の中心線を構成しており、よって、本発明のツールホルダの中心線をも構成している。取付領域１０は標準的なタイプのツールヘッド２０と協働するように形成されていることから標準的なタイプのものとし得る交換可能なツールヘッドが、アダプタ１の取付領域１０に適用される。交換可能なツールヘッド２０は、ねじ継手によって取付領域１０に係留される。すなわち、ねじ２１がアンカー孔１３内に延びている。取付面１０に配設された畝状に隆起した歯１１と協働する畝状に隆起した歯が、付属する取付面１０と協働することを意図されたツールヘッド２０の表面上に配設されている。これによって、アダプタ１上へのツールヘッド２０の格別に変動の少ない固定が得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月13日(2005.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３層Ａ、ＢおよびＣを含有する多層製品であって、層Ａは透明な熱可塑性プラスチック材料を含有し、層Ｂは透明な熱可塑性プラスチック材料と、透明な支持材料と支持材料上の１５０〜２００ｎｍの厚さの二酸化チタン層からなる顔料とを含有し、層Ｃは透明な熱可塑性プラスチック材料を含有し、さらなる層が二酸化チタン層の上に配置されうる多層製品。
【請求項２】
共押出によって請求項１による多層製品を製造する方法。
【請求項３】
壁外装材、パーテーション壁、天井外装材、仮天井、温室用窓ガラス、植物温室用窓ガラス、バス停用窓ガラス、屋根ふき材、入射光を弱め、または塗料のコートの代用として、かつ熱遮断用の窓ガラス用の装飾パネルを製造するための請求項１による多層製品の使用。
【請求項４】
請求項１による多層製品を含む製品。
【請求項５】
壁外装材、パーテーション壁、天井外装材、仮天井、温室用窓ガラス、植物温室用窓ガラス、バス停用窓ガラス、屋根ふき材、入射光を弱める窓ガラス、および塗料のコート用で熱遮断用の代用品からなる群から選択される請求項４による製品。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月9日(2005.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマー多層ウェブであって、
少なくとも２つの繊維の層であって、それぞれの層が流れ方向には実質的に連続である複数の異なる繊維を含む２つの繊維の層と、
横方向及び流れ方向のいずれの方向にも実質的に連続である少なくとも３つの層であって、この連続層の少なくとも１つは感圧接着剤を含む３つの連続層
とを含み、ここで前記繊維の層は連続層の間に埋め込まれており、前記多層ウェブの連続層材料によって互いに分離しているポリマー多層ウェブ。
【請求項２】
前記実質的に連続層が、ポリオレフィンとエラストマーブロックコポリマーのブレンド、天然もしくは合成ゴム、及びアイソタクチックポリプロピレンとエラストマーポリプロピレンのブレンドより選ばれる材料を含み、前記繊維の層が、環式ポリオレフィン及び環式ポリオレフィンと非環式ポリオレフィンのブレンドからなる群より選ばれる材料を含む、請求項１記載のウェブ。
【請求項３】
少なくとも２つの繊維の層と発泡されたポリマーを含む多数の実質的に連続である層を含み、前記繊維の層は連続層の間に埋め込まれ、連続層材料によって互いに分離されており、前記繊維はそのホモポリマー及びコポリマーを含む熱可塑性樹脂からなる群より選ばれる材料を含むポリマーウェブ。
【請求項４】
少なくとも２つの繊維の層と多孔質ポリマーフィルムを含む多数の実質的に連続である層を含み、前記繊維の層は連続層の間に埋め込まれ、連続層材料によって互いに分離されているポリマーウェブ。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月19日(2005.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３７】
前記工程（ａ）において前記プラスチック層が継ぎ目なしプラスチックフォイルの形態で提供され、かつ請求項３０記載の工程（ｇ）または請求項３３記載の工程（ｈ）において所定の幅を有するセキュリティストリップに裁断されることを特徴とする、請求項３０から３６の少なくとも１項記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３８】
前記工程（ａ）において前記プラスチック層が特別に用意されたキャリヤ材料上に配設されて転写材料を形成し、該転写材料が請求項３０記載の工程（ｇ）または請求項３３記載の工程（ｈ）において所定の幅を有するストリップに裁断されることを特徴とする、請求項３０から３６の少なくとも１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月1日(2005.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１又は複数のデッキを備えた海上施設であって、該デッキ上には、
(a)再ガス化施設と、
(b)液化ガスを運搬する船舶を係留するための単一点係留手段と、
(c)前記液化ガスを前記再ガス化施設へ荷降ろしするための手段と、
(d)前記再ガス化施設からガス輸送パイプラインへガスを輸送するための手段と、
が配置され、
それにより、前記単一点係留手段及び前記液化ガスを荷降ろしするための前記手段は、前記船舶と前記海上施設との間を回動するようにしてある、ことを特徴とする海上施設。
【請求項２】
方法であって、
(a)液化ガスを運搬する船舶を１又は複数のデッキを備えた海上施設に係留する段階であって、該デッキ上には、（i）再ガス化施設と、（ii）液化ガスを運搬する船舶を係留するための単一点係留手段と、（iii）前記液化ガスを前記再ガス化施設へ荷降ろしするための手段と、（iv）前記再ガス化施設からガス輸送パイプラインガスを輸送するための手段とが、配置されているような上記係留手段とを有し、
それにより、前記単一点係留手段及び前記液化ガスを荷降ろしするための前記手段は、前記船舶と前記海上施設との間を回動するようにしてあり、
(b)前記液化ガスを前記再ガス化施設へ荷降ろしする段階と、
(c)前記再ガス化施設から前記ガス輸送パイプラインへガスを輸送する段階と、
を備えていることを特長とする方法。
【請求項３】
前記単一点係留手段は、単一点係留結合部を有する請求項１に記載の海上施設。
【請求項４】
液化ガスを荷降ろしするための前記手段は、前記液化ガスを前記再ガス化施設のなかに荷降ろしするための流体輸送導管を有する荷役輸送結合部を有する請求項１に記載の海上施設。
【請求項５】
ガスを輸送するための前記手段は、ライザーとサブシーラインとからなる群から選択された装置を有する、請求項１に記載の海上施設。
【請求項６】
前記流体輸送手段は、ホース、可撓性パイプ、関節型パイプ、及びそれらの組合わせから選択される請求項４に記載の海上施設。
【請求項７】
前記荷役輸送結合部は、回動スイベル結合部を有する、請求項４に記載の海上施設。
【請求項８】
前記荷輸送結合部は、複数の回動スイベル結合部を有する、請求項７に記載の海上施設。
【請求項９】
前記流体輸送導管は、ブーム上で支持される、請求項４に記載の海上施設。
【請求項１０】
前記ブームは、回動構造組立体上で支持される、請求項９に記載の海上施設。
【請求項１１】
前記導管は、前記海上施設上に設置される流体スイベルを有する、請求項１０に記載の海上施設。
【請求項１２】
前記単一点係留手段は、前記回動構造組立体上に支持され、それにより前記単一係留手段及び前記荷役輸送結合部の両方の回動を可能にする、請求項１１に記載の海上施設。
【請求項１３】
前記海上施設は、上部と基部とを有し、前記基部は、鋼製フレームジャケット、鋼製ケイソン、コンクリートＧＢＳ及びコンクリートケイソンとからなる群から選択される、請求項４に記載の海上施設。
【請求項１４】
前記再ガス化施設は、前記荷役輸送結合部に直ぐ隣接する請求項４に記載の海上施設。
【請求項１５】
前記海上施設は、固定構造物である請求項４に記載の海上施設。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月22日(2005.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Sn-Ag-Cu合金に基づく無鉛ソフトハンダにおいて、0.8 〜1.2 重量％の銅その他スズ及び一般的な不純物が、5.0 〜20重量％の銀を有する基合金に添加され、この場合、0.8 〜1.2 重量％のインジウム，0.01〜0.2 重量％のニッケル又はニッケルの代わりに0.01〜0.2 重量％のゲルマニウム若しくは0.01〜0.2 重量％の例えばランタン又はネオジムのようなランタニドの要素が、この基合金に常に添加されていて、この場合、最後の３つの実施の形態の総和が0.01〜0.2 重量％になるように、これらの３つの実施の形態が母合金の形態で互いに組合わされ得ることを特徴とする無鉛ソフトハンダ。
【請求項２】
Sn-Ag-Cu合金に基づく無鉛ソフトハンダにおいて、0.8 〜1.2 重量％の銅その他スズ及び一般的な不純物が、5.0 〜5.5 重量％の銀を有する基合金に添加され、この場合、0.8 〜1.2 重量％のインジウム，0.01〜0.2 重量％のニッケル又はニッケルの代わりに0.01〜0.2 重量％のゲルマニウム若しくは0.01〜0.2 重量％の例えばランタン又はネオジムのようなランタニドの要素が、この基合金に常に添加されていて、この場合、最後の３つの実施の形態の総和が0.01〜0.2 重量％になるように、これらの３つの実施の形態が母合金の形態で互いに組合わされ得ることを特徴とする無鉛ソフトハンダ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
電子機器及び電子技術で使用されるソフトハンダは、熱的に接合すべき金属部材に対して良好な濡れ状況に加えて継目部分内で可能な限り小さい電気抵抗及び可能な限り高い疲れ強さも有しなければならない。したがって、非常に異なる熱膨張係数を有する材料自体が、これらのソフトハンダで互いに接合され得る。この場合、ハンダの融点又は溶融範囲が一方で最大動作温度を十分に超えるものの、同時にソフトハンダによって接合すべき構造部材が接合過程にこのハンダによって必要な溶融温度のために損傷しないように低いことも特に重要である。さらに、ハンダとして使用される合金が共融特性又は準共融特性を呈することが、最適なハンダ付けに対して好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
これらの全ての非常に多様な要求は、既にSnPbハンダによってほとんど満たされ得る。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明の課題は、従来の技術のこれらの欠点を排除すること、及び無鉛ソフトハンダを改良することにある。この無鉛ソフトハンダの溶融範囲及び凝固範囲は、214 ℃で始まって一方では共融であるものの、他方では適切なドーピングによって一定に上に拡大され得、同時にスズの粗い窪みを決して形成しやすくしない。ハンダの滑らかで均質な表面が、溶融後に保証される。さらに、例えば非常に良好な漏れ性能，高い疲れ強さ，良好な耐食性，良好な可塑性及び粘性並びに僅かな電気抵抗のような良好な物理特性及び化学特性の点で優れている。本発明の無鉛ソフトハンダは、ＢＧＡボール（チップ製造用のハンダボール）として使用するために適している。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
この場合、本発明の１重量％のインジウムの添加物は、基ハンダSn- ５％Ag- １％Cuの特に漏れ性能，耐食性，可塑性及び粘性のような物理特性を改良する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
同様に、本発明の１重量％のインジウムの添加は、基ハンダSn- ５％Ag- １％Cuの特に漏れ性能，耐食性，可塑性及び粘性のような物理特性を改良する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
無鉛ソフトハンダを本発明の解決手段によって説明する。この無鉛ソフトハンダの溶融範囲及び凝固範囲は、一方では214 ℃で初めて共融であるものの、他方では適切なドーピングによって上に向かって特定に拡大され得、同時にスズの粗い窪みを生成しにくくし、溶融後にハンダの滑らかで均質な表面を保証し、さらに非常に良好な漏れ性能，高い疲れ強さ，良好な耐食性，良好な可塑性及び粘性並びに僅かな電気抵抗のような良好な物理特性及び化学特性の点で優れていて、ＢＧＡボール（チップ製造用のハンダボール）としての使用に対して適する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月29日(2004.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
単層のカーボンナノチューブを選択された方位に空間的に整列配置する方法であって、
分散剤を該ナノチューブに付着する段階と、
反応基をナノチューブに付着した分散剤に固着する段階と、
ナノチューブを構造と連結させるために、構造に固着された反応部位と反応基とを結合する段階と
を含み、
前記分散剤が、約１３．２を超えない親水‐親油性バランス値を有する洗浄剤、デオキシコレート、タウロコール酸、シクロデキストリン、カオトロピック塩、ポリオキシエチレン・ソルビトール・エステル、ポロキサマー、サポゲニン・グリコシドおよびこれらの化合物から成る群から選択される、
方法。
【請求項２】
単層のカーボンナノチューブを変形する方法であって、
分散剤を単層のカーボンナノチューブに付着する段階と、
反応基を含む化合物を前記分散剤に固着する段階とを含み、
前記分散剤は、水溶液において前記ナノチューブを他のナノチューブから効果的に分散させ、
前記分散剤が、約１３．２を超えない親水‐親油性バランス値を有する洗浄剤、デオキシコレート、タウロコール酸、シクロデキストリン、カオトロピック塩、ポリオキシエチレン・ソルビトール・エステル、ポロキサマー、サポゲニン・グリコシドおよびこれらの化合物から成る群から選択され、
前記反応基は、該反応基を反応部位に露出する際、構造に固着される該反応部位と結合し得る
方法。
【請求項３】
空間的に方位づけられた単層のカーボンナノチューブの構造を形成する方法であって、
水溶液において該ナノチューブを各々から分散させるために該ナノチューブを分散剤分子で被覆する段階と、
反応基を前記分散剤分子に固着する段階と、
それ自体に固着された反応基を含む分散剤分子で被覆された前記ナノチューブを少なくとも一つの構造に固着される空間指向の反応部位に前記反応部位及び前記反応基間の結合反応を経て固着する段階と
を含み、
前記分散剤が、約１３．２を超えない親水‐親油性バランス値を有する洗浄剤、デオキシコレート、タウロコール酸、シクロデキストリン、カオトロピック塩、ポリオキシエチレン・ソルビトール・エステル、ポロキサマー、サポゲニン・グリコシドおよびこれらの化合物から成る群から選択される、
方法。
【請求項４】
単層のカーボンナノチューブ含む構造であって、前記単層のカーボンナノチューブが、前記ナノチューブに付着した分散剤分子と、前記分散足分子に固着された反応基とを有し、
前記反応基は、反応部位と結合されて前記ナノチューブを前記反応部位と連結し、
前記分散剤が、約１３．２を超えない親水‐親油性バランス値を有する洗浄剤、デオキシコレート、タウロコール酸、シクロデキストリン、カオトロピック塩、ポリオキシエチレン・ソルビトール・エステル、ポロキサマー、サポゲニン・グリコシドおよびこれらの化合物から成る群から選択される、
構造。
【請求項５】
溶液であって、
分散剤分子で被覆され、前記溶液に分散されている複数の単層のカーボンナノチューブと、
前記分散剤分子に固着された複数の化合物と
を含み、
前記分散剤が、約１３．２を超えない親水‐親油性バランス値を有する洗浄剤、デオキシコレート、タウロコール酸、シクロデキストリン、カオトロピック塩、ポリオキシエチレン・ソルビトール・エステル、ポロキサマー、サポゲニン・グリコシドおよびこれらの化合物から成る群から選択され、
前記化合物は、反応部位への反応基の露出の際に反応部位と結合し得る反応基を含む、
溶液。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月9日(2005.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹版印刷によって形成され、少なくとも１つの領域に、直接隣接している印刷区画面を有している少なくとも１つのハーフトーン・イメージを備えるデータ担体であって、前記区画面が特定の色調値を有し、前記イメージの少なくとも１つの領域が触知可能であり、前記データ担体が少なくとも３つの異なる色調値を有して成ることを特徴とするデータ担体。
【請求項２】
前記ハーフトーン・イメージが、ポートレートであることを特徴とする請求項１記載のデータ担体。
【請求項３】
前記区画面が、前記オリジナル・ハーフトーン・イメージに重畳されたスクリーンによって得られることを特徴とする請求項１または２記載のデータ担体。
【請求項４】
前記スクリーンが、ピクセル・スクリーンであることを特徴とする請求項１〜３いずれか１項記載のデータ担体。
【請求項５】
前記スクリーンが、前記オリジナル・ハーフトーン・イメージの画像情報から得られることを特徴とする請求項１〜４いずれか１記載のデータ担体。
【請求項６】
前記区画面が触知可能であることを特徴とする請求項１〜５いずれか１項記載のデータ担体。
【請求項７】
前記ハーフトーン・イメージが、触知構造体要素を更に備えていることを特徴とする請求項１〜６いずれか１項記載のデータ担体。
【請求項８】
前記区画面の各々に、それぞれ１つの触知構造体要素が配されていることを特徴とする請求項１〜７いずれか１項記載のデータ担体。
【請求項９】
前記触知構造体要素が、前記区画面と比較してより大きいか、またはより小さい振幅を有していることを特徴とする請求項１〜８いずれか１項記載のデータ担体。
【請求項１０】
前記触知構造体要素が、視覚的に知覚できないことを特徴とする請求項１〜９いずれか１項記載のデータ担体。
【請求項１１】
前記区画面の少なくとも一部が、視覚的に識別可能な光を反射する凹凸パターンを備えていることを特徴とする請求項１〜１０いずれか１項記載のデータ担体。
【請求項１２】
前記ハーフトーン・イメージが、少なくとも該領域の一部に重畳され、外観に影響を及ぼし、前記区画面によって異なる方向性を有する微細構造体を備えていることを特徴とする請求項１〜１１いずれか１項記載のデータ担体。
【請求項１３】
請求項１５または１６記載の印刷プレートを用いて印刷されたデータ担体。
【請求項１４】
ハーフトーン・イメージを備えるデータ担体を製造する方法であって、
（１）データ担体材料を提供するステップ、
（２）請求項１５または１６記載の凹版印刷プレートを作製するステップ、および
（３）前記ステップ（２）で作製した印刷プレートを用いて、前記データ担体材料に印刷を施すステップ
の各ステップを有して成ることを特徴とする方法。
【請求項１５】
表面に少なくとも１つの彫込み領域を有する、ハーフトーン・イメージを印刷するための凹版印刷プレートであって、前記彫込み領域が、少なくとも該領域の一部に、特定の彫込み深度を有する直接隣接している区画面を備え、前記凹版印刷プレートが少なくとも３つの彫込み深度が異なる区画面を有して成ることを特徴とする印刷プレート。
【請求項１６】
前記区画面が、同一および/または異なる彫込み深度を有していることを特徴とする請求項１５記載の印刷プレート。
【請求項１７】
請求項１５または１６記載の凹版印刷プレートを作製する方法であって、
（１）オリジナル・ハーフトーン・イメージを区画面に変換するステップ、
（２）前記区画面の各々に特定の色調値を割り当てるステップ、
（３）前記色調値に特定の彫込み深度を割り当てるステップ、および
（４）前記印刷プレート表面に、前記割り当てた彫込み深度を有する区画面を彫り込むステップ
の各ステップを有して成ることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月13日(2005.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動しているパッケージ材（１）であって、電磁誘導により加熱可能な層と該パッケージ材の移動方向に横たわる溶接領域（２）を有する熱可塑性層とを備えたパッケージ材（１）を溶接する溶接装置であって、交流発電機と、交流電流を磁界に変換するコイル（３，５，６）と、特定の方向へと磁力線を形成する強磁性要素（７，８，１０−１３）とを具備し、上記磁界がパッケージ材（１）を横切って上記電磁誘導により加熱可能な層を加熱するように向けられている溶接装置において、上記溶接領域（２）に沿って位置する少なくとも２つの独立した領域（１４，１６−１８）のところで磁力線がパッケージ材（１）を横切るように配設された一組の強磁性要素（７，８，１０−１３，１９−２１）をさらに具備することを特徴とする溶接装置。
【請求項２】
第１の強磁性要素（７）が該第１の強磁性要素の各端部が上記独立した領域（１４，１６−１８）の一方または他方に近接して位置するようにパッケージ材（１）の一方の側に近接して配置され、第２の強磁性要素（８，１０−１２）と第３の強磁性要素（８，１０−１２）とが第２の強磁性要素の端部の一方が上記独立した領域（１４，１６−１８）の一方に近接して位置し且つ第３の強磁性要素の端部の一方が上記独立した領域（１４，１６−１８）の他方に近接して位置するようにパッケージ材（１）の他方の側に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の溶接装置。
【請求項３】
溶接すべき層に近接して該溶接すべき層の両側に配置された上記３つの強磁性要素（７，８，１０）の端部が該溶接すべき層の厚みの２〜２００倍の距離を開けて離れていることを特徴とする請求項１または２に記載の溶接装置。
【請求項４】
上記第２の強磁性要素（８，１０−１２）と第３の強磁性要素（８，１０−１２）とがコイル（３，５，６）により囲まれていることを特徴とする請求項２または３に記載の溶接装置。
【請求項５】
複数の強磁性要素（１９−２１）が１つの強磁性要素の各端部が別の強磁性要素の端部（１９，２１）の上方または下方に位置するようにパッケージ材の各側に近接して交互に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の溶接装置。
【請求項６】
強磁性要素（７，８，１０，１１，１９−２１）の組が強磁性回路を形成し、コイル（６）が１つの強磁性要素（７，８，１０，１１，１９−２１）を囲んでいることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の溶接装置。
【請求項７】
隣接していない強磁性要素（７，８，１０，１１，１９−２１）間に配置された１つ又は１つ以上の磁性スクリーンをさらに具備することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載の溶接装置。
【請求項８】
強磁性バー（７，１９，２１）の一部が溶接ロッド（２３）に配置され、該溶接ロッドが上記強磁性バー（７，１９，２１）内に磁力線を収めるように配設されたスクリーン要素を有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１つに記載の溶接装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月17日(2005.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリントヘッドにおいて流体チャネルをレーザー加工する方法であって、
超小型電子回路を有する基板にＵＶレーザー光線を向けて、該基板を貫通する流体チャネルを形成するステップを含み、
前記基板は、第１のチャネル領域を有する第１の表面と、第２のチャネル領域を有する反対側の第２の表面とを有し、前記レーザー光線は、前記第１および第２のチャネル領域に向けられて前記流体チャネルの二方向レーザー加工を行う、方法。
【請求項２】
前記第１の表面は前記超小型電子回路を有し、前記第２の表面は前記第１の表面よりも前にレーザー加工される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記流体チャネルの大部分は、前記第２の表面からレーザー加工される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
プリントヘッドにおいて流体チャネルをレーザー加工する方法であって、
超小型電子回路を有する基板に流体チャネルを形成するステップであって、該基板は、第１の領域を有する第１の表面と、反対側の第２の表面とを有している、ステップと、
波長が３５０ｎｍ乃至３５５ｎｍである、ダイオード励起固体パルスＵＶレーザー光線を用いて、前記第１の領域の近傍の前記第１の表面をレーザー加工するステップと、
を含む方法。
【請求項５】
前記レーザー光線は、前記第１の表面の前記第１の領域上で、トップハット状の均一な強度を有している、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
ＵＶレーザー加工プロセスを用いて形成された、プリントヘッド内の流体スロットを有する部品であって、
シリコン基板およびセラミック基板のうちの少なくとも一方における第１の表面上の流体噴射器と、
ＵＶレーザー光線を用いて形成された、前記基板を貫く流体スロットと、
を備え、流体が、前記基板内の前記流体スロットを通って前記流体噴射器に流れることができる、部品。
【請求項７】
前記基板は、前記第１の表面の反対側の第２の表面を有し、前記流体スロットの幅は、前記第１の表面近くで５ミクロン乃至１００ミクロンの範囲であり、前記流体スロットの幅は、前記第２の表面近くで１００ミクロン乃至３００ミクロンの範囲であり、該第２の表面近くの幅は、前記第１の表面近くの幅よりも少なくとも１０％広い、請求項６に記載の部品。
【請求項８】
前記流体スロットは、前記基板の中立軸近くにＵＶレーザー加工ブレイクスルー領域を有するスロット壁を備えている、請求項６に記載の部品。
【請求項９】
前記流体スロットは少なくとも１つの座ぐりを備えている、請求項６に記載の部品。
【請求項１０】
前記流体スロットは、レーザー光線トレースの複数のクッキー抜き型パターンによって形成される、段付きスロット壁を備えている、請求項６に記載の部品。
【請求項１１】
前記流体スロットは、先細の少なくとも１つのスロット壁を備えている、請求項６に記載の部品。
【請求項１２】
前記基板は、前記第１の表面の反対側の第２の表面を有し、前記スロットは、スロット壁と、前記第１の表面と前記スロット壁との間の第１のスロット縁部と、前記第２の表面と前記スロット壁との間の第２のスロット縁部とを有し、前記第１のスロット縁部に沿った粗さは最大でも３ミクロンであり、前記第２のスロット縁部に沿った粗さは最大でも５ミクロンである、請求項６に記載の部品。
【請求項１３】
前記ＵＶレーザー光線は、ダイオード励起固体パルスＵＶレーザー光線であり、前記基板はシリコン基板である、請求項６に記載の部品。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月5日(2005.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持材および１個以上のコーティング層をその上に含むインクジェット記録媒体システムであって、コーティング層の少なくとも１個が、式：
【化１】
2005512863.tif 000001
（式中、
ｎは、０〜２０モル％であり、
ｍは、５０〜９７モル％であり、
ｘは、０〜２０モル％であり、
ｙは、０〜２０モル％であり、
ｚは、０〜２モル％であり、そして
ｘ＋ｙは、３〜２０モル％であり、
Ｒ1およびＲ3は、独立に、Ｈ；３−プロピオン酸もしくはそのＣ1〜Ｃ6アルキルエステル；または２−メチル−３−プロピオン酸もしくはそのＣ1〜Ｃ6アルキルエステル
であり、
Ｒ2およびＲ4は、独立に、ＨまたはＣ1〜Ｃ6アルキルである）
で示されるコポリマーを含む、記録媒体システム。
【請求項２】
前記コポリマーの重量平均分子量Ｍwが、１０，０００〜３００，０００である、請求項１記載の記録媒体システム。
【請求項３】
前記コポリマーの重量平均分子量Ｍwが、３０，０００〜１３０，０００であり、かつ
ｎが、０〜５モル％であり、
ｍが、７５〜９０モル％であり、
ｘが、０〜２０モル％であり、
ｙが、０〜２０モル％であり、
ｚが、０〜２モル％であり、そして
ｘ＋ｙは、３〜２０モル％である、
請求項１記載の記録媒体システム。
【請求項４】
支持材のすぐ上にコーティングを含み、前記コーティングが前記コポリマーを含む、請求項１記載の記録媒体システム。
【請求項５】
支持材および少なくとも１個のインクジェットインク受容層を含み、前記受容層の１個以上が、前記コポリマーを含む、請求項１記載の記録媒体システム。
【請求項６】
前記受容層の１個以上が、ゼラチン、デンプン、スチレンブタジエンゴムラテックス、（メタ）アクリル酸エステル類のホモポリマーおよびコポリマー、ポリアクリル酸、ニトリルブタジエンゴムラテックス、ポリエチレングリコール、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリウレタンラテックスおよび懸濁液、ビニルアルコール／酢酸ビニルコポリマー、ポリアルキルオキサゾリン、ポリフェニルオキサゾリン、ポリエチレンイミン類、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルエチルセルロース、ヒドロキシエチルメチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）のようなポリ（Ｎ−ビニル複素環）、直鎖状ポリ（Ｎ−ビニルアミド類）の（コ）ポリマー、ポリビニルアミンの（コ）ポリマーおよびカチオン性ポリマーからなる群より選択される少なくとも１種のポリマーをさらに含む、請求項５記載の記録媒体システム。
【請求項７】
前記支持材と前記インク受容層との間にバリヤー層をさらに含む、請求項５記載の記録媒体システム。
【請求項８】
支持材、少なくとも１個のインクジェットインク受容層、および保護コーティング層を含み、前記保護コーティング層が前記コポリマーを含む、請求項１記載の記録媒体システム。
【請求項９】
保護コーティング層を含む、請求項１記載の記録媒体システム。
【請求項１０】
保護コーティング層を含み、前記保護コーティング層が前記コポリマーを含む、請求項５記載の記録媒体システム。
【請求項１１】
保護コーティング層を含む、請求項７記載の記録媒体システム。
【請求項１２】
保護コーティング層を含み、前記保護コーティング層が前記コポリマーを含む、請求項７記載の記録媒体システム。
【請求項１３】
インクジェットインクをさらに含む、請求項１記載の記録媒体システム。
【請求項１４】
非晶質シリカ、結晶質シリカ、アルミニウム三水和物、カオリン、タルク、チョーク、ベントナイト、ゼオライト、ガラスビーズ、炭酸カルシウム、カリウムナトリウムアルミニウムケイ酸塩、けいそう土、アルミニウムのケイ酸塩、マグネシウムのケイ酸塩、二酸化チタン、ポリオレフィン類、ポリスチレン、ポリウレタン、デンプン、ポリ（メチルメタクリレート）およびポリテトラフルオロエチレンからなる群より選択される１種以上の顔料、充填剤または有機粒状物質をさらに含む、請求項１記載の記録媒体システム。
【請求項１５】
界面活性剤、帯電防止剤、増粘剤、懸濁化剤、ｐＨ調節化合物、光安定剤、酸化防止剤、湿潤剤、静菌剤、架橋剤および蛍光増白剤からなる群より選択される１種以上の添加剤をさらに含む、請求項１記載のインクジェット記録媒体システム。
【請求項１６】
前記添加剤が、フェノール系酸化防止剤、ヒドロキシベンゾトリアゾール紫外線吸収剤、ベンゾフェノン紫外線吸収剤、ヒドロキシフェニルトリアジン紫外線吸収剤およびヒンダードアミン光安定剤からなる群より選択される、請求項１５記載の記録媒体システム。
【請求項１７】
前記支持材が、セルロースエステル類、酢酸セルロース、ポリエステル類、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリ（酢酸ビニル）、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸ならびにメチルおよびエチルエステル類、ナイロン類のようなポリアミド類、ポリ（エチレンテレフタレート）（ＰＥＴ）のようなポリエステル類、ポリイミド類、ポリエーテル類、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデンまたはポリスルホンアミド類を含む、請求項１記載の記録媒体システム。
【請求項１８】
前記支持材が、紙または透明なポリ（エチレンテレフタレート）である、請求項１記載の記録媒体システム。
【請求項１９】
ｎが、０〜２０モル％であり、
ｍが、６５〜９７モル％であり、
ｘが、３〜２０モル％であり、
ｙが、０であり、
ｚが、０〜２モル％であり、そして
ｘ＋ｙが、３〜２０モル％である、
請求項１記載の記録媒体システム。
【請求項２０】
ｎが、０〜５モル％であり、
ｍが、７５〜９７モル％であり、
ｘが、３〜２０モル％であり、
ｙが、０であり、
ｚが、０〜２モル％であり、そして
ｘ＋ｙが、３〜２０モル％であり、
Ｒ1およびＲ2が、Ｈである、
請求項１記載の記録媒体システム。
【請求項２１】
請求項１記載のコポリマーを含む、インクジェットインク。
【請求項２２】
インクジェット記録媒体システムを作製する方法であって、１個以上のコーティング層を支持材上に塗布することを含み、コーティング層の少なくとも１個が請求項１記載のコポリマーを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月16日(2005.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二糖類を含有する、動物被験者における小腸の内膜の状態を診断しまたは評価するのに有用な剤であって、ここで、
該剤は、標識化され、そして小腸において特異的に発現する指標酵素によって作用されて二酸化炭素を産生する、
該剤。
【請求項２】
動物被験者における小腸の内膜の状態を診断しまたは評価するための方法において使用する請求項１記載の剤であって、該方法は、
最初の息試料を採取し；
該動物被験者に標識被験剤を投与し（ここで、該剤は、小腸において特異的に発現する指標酵素によって作用されて二酸化炭素を産生する）；
該標識被験剤を投与後に、１つ以上の更なる息試料を採取し；
該最初の息試料中および該更なる１つ以上の息試料中の標識二酸化炭素のレベルを確認しおよび比較し、次いで、該被験剤の摂取後の標識二酸化炭素の変化を算出する（ここで、該最初の息試料と更なる息試料の間の標識二酸化炭素レベルの減少は、小腸の損傷の指標である）；
ことを含む、該剤。
【請求項３】
動物は小腸管の損傷を患っている、請求項１または２のいずれか記載の剤。
【請求項４】
小腸管の損傷は、胃腸炎および粘膜炎からなる群から選ばれる、請求項１または２のいずれか記載の剤。
【請求項５】
該胃腸炎は感染性物質によって引き起こされる、請求項４記載の剤。
【請求項６】
動物は化学療法を受けている、請求項１または２のいずれか記載の剤。
【請求項７】
動物被験者はヒトである、請求項１または２のいずれか記載の剤。
【請求項８】
該剤は１３Ｃで標識化される、１または２のいずれか記載の剤。
【請求項９】
二糖類はスクロースおよびマルトースからなる群から選ばれる、請求項１または２のいずれか記載の剤。
【請求項１０】
酵素は二糖類分解酵素である、請求項１または２のいずれか記載の剤。
【請求項１１】
酵素はスクラーゼおよびマルターゼからなる群から選ばれる、請求項１または２のいずれか記載の剤。
【請求項１２】
１２Ｃに対する１３Ｃの比率を測定する、請求項２記載の剤。
【請求項１３】
該息試料を該標識被験剤の最初の摂取の３０分以上後に採取する、請求項２記載の剤。
【請求項１４】
該息試料を該標識被験剤の最初の摂取の６０分以上後に採取する、請求項２記載の剤。
【請求項１５】
該息試料を該標識被験剤の最初の摂取の４５分後と３時間後の間に採取する、請求項２記載の剤。
【請求項１６】
更なる息Ｈ２を測定する、請求項２記載の剤。
【請求項１７】
２つ以上の更なる息試料を採取する、請求項２記載の剤。
【請求項１８】
蓄積的な標識ＣＯ２を確認する、請求項２記載の剤。
【請求項１９】
動物被験者は、該標識被験剤を投与する前に絶食する、請求項２記載の剤。
【請求項２０】
動物被験者は、該標識被験剤を投与する前に標準的な食餌を摂食する、請求項２記載の剤。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか１つに記載の剤を使用することによって、動物被験者における小腸の内膜の状態を診断しまたは評価するための息収集装置であって、ここで、該息収集装置は、
（ｉ）密封チャンバー
（ｉｉ）入口、および
（ｉｉｉ）出口
を含む、該装置。
【請求項２２】
入口は人工空気供給部と連結する、請求項２１記載の息収集装置。
【請求項２３】
出口はシリンジと連結し、ここで、該シリンジは該息収集チャンバーからの息試料の収集を促進する、請求項２１記載の息収集装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月9日(2005.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明による試験装置は、マイクロ流体工学、ポリメラーゼ連鎖反応（ＰＣＲ）技術を含む多数の既存ＭＥＭ技術を融合して設計される。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月17日(2005.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
熱流束コンパレーターの好ましい態様では、流束は、２つの入力面の各々と接触することによって伝えられる。また、第２絶縁材料から成る前記第２層は、前記直交方向に沿って同じ厚さを有している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
パッド２が設けられたストリップ１は、２５ミクロン〜１２０ミクロンの厚さ、例えば５０ミクロンの厚さを有する２つの同じプラスチック・フィルム５，６、例えばカプトン（Ｋａｐｔｏｎ）フィルム５，６の間に挿入される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
このような熱流束コンパレーターは、そのそれぞれの入力面に２つの熱流束を接触によって当該コンパレーターに伝える２つのサポート１００と１０１との間で使用される。サポート１００とフィルム８との間およびサポート１０１とフィルム７との間の熱接触をそれぞれ向上させるために、そのようなフィルムは、ストリップ１から離れる方向を向く面が個々の金属層１０および９で各々被覆されている。これらの金属層は、好ましくは軟金属から形成され、０．０１ミクロン〜１００ミクロンの厚さを有しており、それによって、各々の接触する熱流束がコンパレーターの各入力面の全表面に分散されることが確保される。熱接触材料の付加的な層（図２および図３に図示せず）を、金属層９とサポート１０１との間および金属層１０とサポート１００との間に配置してもよい。このような付加的な熱接触材料を用いる場合、金属層９および金属層１０の表面に存在する屈曲部（ａｎｆｒａｃｔｕｏｓｉｔｙ）ならびにサポート１００および１０１の表面に存在する屈曲部に入り込むことができるゲルを使用することが有利となる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
このような態様の１つの特別な利点は、かかる熱流束コンパレーターの製造が簡単なことであり、また、その製造コストが安く、更には、そのようなコンパレーターの取り扱いが容易であることである。これらは、金属パッドが、その金属パッドを構成することを目的とする金属を溶解したイオンの形態で含む溶液から電気メッキをすることによって形成できることに起因している。それゆえ、製造プロセスは、例えば、そのような電気メッキ工程、マスクを配置し、除去する工程、化学エッチング工程、プラスチック・フィルムおよび／または金属フィルムを切断する工程、ならびに重ねた層を組み合わせる工程等、簡単な工程から成っている。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月2日(2005.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チップと基板が互いに接近するように少なくとも１つのナノスケールチップを基板に対して位置づける段階を含み、核酸がチップから基板に移動されて、相補的な核酸にハイブリダイゼーションすることができる安定な核酸ナノスケールパターンを基板に作製する、直接書込みナノリソグラフィーによって基板に核酸を沈着する方法。
【請求項２】
ナノスケールチップが走査型プローブ顕微鏡チップである、請求項1記載の方法。
【請求項３】
チップが正電荷を有するように修飾される、請求項1記載の方法。
【請求項４】
チップが、核酸と塩を含む溶液でコーティングされた原子間力顕微鏡チップである、請求項1記載の方法。
【請求項５】
核酸が、基板に化学吸着または共有結合を提供する官能基を含む、請求項1記載の方法。
【請求項６】
核酸がオリゴヌクレオチドである、請求項1記載の方法。
【請求項７】
移動が、相対湿度少なくとも約25%において実施される、請求項1記載の方法。
【請求項８】
核酸パターンが、約500nmまたはそれ以下の横方向の寸法を有する、請求項1記載の方法。
【請求項９】
移動後、基板が非パターニング領域において不働態化される、請求項1記載の方法。
【請求項１０】
走査型プローブ顕微鏡チップを修飾核酸で濡らす段階と、基板に核酸を移動させてナノスケールパターンを形成するのに十分基板に接近させて濡らしたチップを位置づける段階とを含む、修飾核酸を基板に直接パターニングする方法であって、該核酸が基板に化学吸着または共有結合を提供する官能基で修飾され、該官能基がスペーサーを介して核酸に結合される方法。
【請求項１１】
核酸が、基板の求電子基と反応することができる、求核基を有するように修飾される、請求項10記載の方法。
【請求項１２】
チップが正に荷電されるようにチップを修飾する段階を含む、直接書込み式ナノリソグラフィー中の走査型プローブ顕微鏡チップから基板への核酸の移動を改善する方法。
【請求項１３】
チップが原子間力顕微鏡チップである、請求項12記載の方法。
【請求項１４】
核酸のチップへの接着を改善する1種またはそれ以上の組成物でチップを処理する段階を含む、走査型プローブ顕微鏡チップから基板への核酸の直接書込み式沈着を改善する方法。
【請求項１５】
少なくとも1種の組成物が、アミノ官能性と加水分解可能な官能性を含む化合物を含む、請求項14記載の方法。
【請求項１６】
少なくとも1種の組成物がシラン化合物を含む、請求項14記載の方法。
【請求項１７】
(a)直接書込みナノリソグラフィーによって、ナノスケールチップから基板に第１の核酸を沈着させて、横方向のナノスケール形状が約1,000 nmまたはそれ以下の沈着物を形成する段階と、
(b)ナノ粒子で核酸沈着物をハイブリダイゼーションする段階であって、ナノ粒子が、(1)第１の核酸に相補的である第2の核酸、または(2)第2の核酸を第１の核酸に結合する結合鎖の核酸に相補的である第2の核酸のいずれかで官能基化される段階と
を含む、ナノ粒子を集成してナノスケールパターンを形成する方法。
【請求項１８】
ナノスケールチップが原子間力顕微鏡チップである、請求項17記載の方法。
【請求項１９】
ナノ粒子が金ナノ粒子である、請求項17記載の方法。
【請求項２０】
沈着する段階(a)が、核酸のナノアレイを形成するために反復され、段階(b)におけるハイブリダイゼーション段階がこのナノアレイを用いて実施される、請求項17記載の方法。
【請求項２１】
核酸のナノスケールの沈着物を基板にハイブリダイゼーションする段階であって、沈着物が第１の核酸およびナノ粒子を含み、ナノ粒子が、(1)第１の核酸に相補的である第2の核酸、または(2)第2の核酸を第１の核酸に結合する結合鎖の核酸に相補的である第2の核酸のいずれかで官能基化される段階
を含む、ナノ粒子を集成してナノスケールのパターンを形成する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月7日(2005.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極封止部を保護するためにリングレーザジャイロスコープにバイアスをかけるためのシステムであって、
フレームであって、複数の電極は前記フレームに装着され、電場はジャイロスコープの動作中に前記複数の電極間に創出され、かつ、前記電場は前記フレーム内のイオンを最低電位に向けて移動させる、フレームと、
各々が前記複数の電極の１つと前記フレームとの間に位置する複数の封止部と、
正の電位を供給するための電源であって、アース側および非アース側を有する電源と、
前記電源の前記非アース側に電気的に位置する電流制御器と、
前記最低電位となるために電気的に接続される搭載構造体と、
を組み合わせて含むシステム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムであって、前記イオンは、前記搭載構造体に移動し、前記複数の電極への移動は、最小に抑えられる、システム。
【請求項３】
請求項１に記載のシステムであって、前記複数の封止部の各々は、インジウム、スズ、鉛、インジウム合金、スズ合金、および、鉛合金からなるグループから選択される材料で構成される、システム。
【請求項４】
請求項１に記載のシステムであって、前記電源は、実質的に＋６００ボルトを供給する、システム。
【請求項５】
電極封止部を保護するためにリングレーザジャイロスコープにバイアスをかけるための方法であって、該方法は、
搭載構造体および複数の電極を設けるステップを含み、
前記搭載構造体は、最低電位にある、方法。
【請求項６】
請求項５に記載の方法であって、イオンは、前記搭載構造体に移動し、前記複数の電極への移動は、最小に抑えられる、方法。
【請求項７】
請求項５に記載の方法であって、電源は、前記搭載構造体を前記最低電位に置くために接続される正電圧を供給する、方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法であって、前記電源は、＋６００ボルトを供給する、方法。
【請求項９】
請求項５に記載の方法であって、複数の封止部の各々は、インジウム、スズ、鉛、インジウム合金、スズ合金、および、鉛合金からなるグループから選択される材料で構成される、方法。
【請求項１０】
継続的な用途の応用例において電極封止部を保護するためにリングレーザジャイロスコープにバイアスをかけるためのシステムであって、
Ｚｅｒｏｄｕｒで構成されるフレームであって、複数の電極は前記フレームに装着され、前記複数の電極は少なくとも１つのカソードおよび少なくとも１つのアノードを含み、電場は前記ジャイロスコープの動作中に前記複数の電極間に創出され、かつ、前記電場は前記フレーム内のイオンを最低電位に向けて移動させる、フレームと、
各々が前記複数の電極の１つと前記フレームとの間に位置するインジウムから構成される複数の封止部と、
実質的に＋６００ボルトの正電位を供給するための電源であって、アース側および非アース側を有する電源と、
前記電源の前記非アース側に電気的に位置する電流制御器と、
前記最低電位となるために電気的に接続される搭載構造体であって、イオンは前記搭載構造体に移動し、前記複数の電極への移動は最小に抑えられ、前記搭載構造体はイオンの蓄積があっても実質的に動作可能であり、かつ、前記搭載構造体はディザモータである、搭載構造体と、
を組み合わせて含むシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月2日(2005.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２７】
前記結合パートナーは、抗原と、抗原断片と、レセプターと、核酸と、ポリクローナル抗体、モノクローナル抗体および抗体断片とからなるグループから選択される、請求項２１に記載の組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２８】
前記添加剤は、約０．０２Ｍから０．２Ｍまでの範囲の濃度で存在する、請求項２１に記載の組成物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2005512074.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月10日(2005.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光路に沿って光を送るように構成された光源（１０２）と、
前記光源に光結合され、前記光の少なくとも一部分を変調信号の関数として変調するように構成された少なくとも１つの変調器（１１６，１１８）と、
前記少なくとも１つの変調器に光結合され、前記光路の末端における前記光の感知強度に基づいて検出器出力を生成するように構成された検出器（１０８）と、
前記検出器出力（１３０）を受信し、光路長を示す出力を提供するように構成された電子システム（１２６）と、を備え、前記変調信号は前記検出器出力の関数である、
光路の長さを決定するセンサ。
【請求項２】
前記光源と前記少なくとも１つの変調器の間に光結合された光スプリッタ（１２０）をさらに含み、それにより前記光スプリッタを通過する光が第１の経路（１３２）と第２の経路（１３４）とに分割され、前記電子システムは、前記検出器出力の変化に応答して前記変調信号の周波数を調整し、前記変調信号を前記光路に関係する周波数に維持する、請求項１に記載のセンサ。
【請求項３】
光路に沿って光を生成するステップと、
前記光を第１のビーム（１３２）および第２のビーム（１３４）に分割するステップと、
前記第１のビームおよび前記第２のビームのうち少なくとも一方を変調信号に応じて変調して、前記第１のビームと前記第２のビームの間に差を生じさせるステップと、
前記第１のビームおよび前記第２のビームを再結合して再結合信号を生成するステップと、
検出器（１０８）において、前記再結合信号の出力強度を検出するステップと、
前記出力強度に応じて前記変調信号を調整するステップと、
前記変調信号の関数として前記光路の前記長さを計算するステップと、
を含む光路の長さを決定する方法。