【事件の表示】
　特願２００８−　４３４６５号「洗浄方法および電子部品の洗浄方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２０年　６月１２日出願公開、特開２００８−１３５７９０号〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、特許法第４１条に基づく優先権主張を伴う平成９年７月２日（優先日、平成８年７月５日）に出願した特願平９−１７７１５３号の一部を平成１７年１月７日に特許法第４４条第１項の規定により新たな特許出願とし、さらにその一部を平成２０年２月２５日に同規定により新たな特許出願としたものであって、平成２３年６月１３日付けで拒絶査定がなされ（発送：６月２１日）、これに対し、平成２３年９月２１日に拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに、その審判請求と同時に手続補正がなされたものである。
　
２．補正の内容・本願発明
　平成２３年９月２１日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）のうち特許請求の範囲についてした補正は、補正前の請求項４〜７を削除し、補正前の請求項８〜１０を請求項４〜６に、それぞれ繰り上げるものであって、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第１号に掲げられた請求項の削除を目的とするものである。
　
　そして、本願の請求項１〜６に係る発明は，本件補正後の特許請求の範囲の請求項１〜６に記載された事項により特定されるとおりのものと認められ、そのうち請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、次のとおりのものである。
　
「【請求項１】
　脱気処理した純水に酸素を溶解させて洗浄液を調製し、この洗浄液に超音波振動を付与して被洗浄物を洗浄することを特徴とする洗浄方法。」
　
３．刊行物とその記載事項
（１）原査定の拒絶理由にて引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平２−９１９２２号公報（以下「刊行物１」という。）には、図面と共に、以下の記載がある。
　
ア．「この発明は超音波洗浄装置に関し、
特に半導体ウエハを純水（超純水）
超音波洗浄装置
　
イ．「（発明が解決しようとする課題）
　しかしながら、従来の超音波洗浄装置にあっては、洗浄水に超音波を付加して洗浄しても洗浄効果が一様でなく、特に長時間洗浄を行なっていると徐々に洗浄効果が低下してくるという問題点があった。
　この原因を鋭意研究したところ、洗浄水の溶存ガスが少ないと洗浄効果が低下することがわかった。つまり超音波洗浄の洗浄機構は、洗浄液に超音波が付加されると、被洗浄物が超音波の音場によりその表面にキャビテーションが発生し、このキャビテーションの衝撃力により異物が除去される用に作用する。ところが、
純水のようにその製造プロセスで脱気された洗浄水のときには溶存ガスが少なく
（課題を解決するための手段）
　本発明は、上記課題解決のためになされたものであって、その構成は被洗浄物が収容された洗浄槽内に洗浄水供給系路を介して純水からなる洗浄水を供給し、該洗浄水に超音波を付加して被洗浄物を洗浄する超音波洗浄装置において、前記洗浄水供給系路にガス溶解手段を設けて洗浄水にガスを溶解させたことを特徴とするものである。」（第１頁右下欄第９行〜第２頁左上欄第１５行）
　
ウ．「以下、本発明装置の一実施例を添付図面を参照して説明する。
　第１図は本発明装置の概略構成を示すブロック図であって、図中１は上部開口形の洗浄槽であり、その底部に超音波発振器２が設けられている。
　洗浄槽１の内部下方には洗浄水供給管３が設けられているとともに、その上部開口端の廻りには溢流トラフ４が設けられている。したがって洗浄水供給管３からの洗浄水は洗浄槽１内を上向流して溢流トラフ４へ排出するように流過することができる。
　図中５はガス溶解手段としてのガス溶解槽であって、その内部にはガス透過膜が張設された多数のガス供給管６，６・・・が立設されていて、ガス溶解槽５の底部に設けられたガス供給口７からの供給ガスを各ガス供給管６，６・・・内を通過させ、ガス溶解槽５の上部に設けられたガス排出口８から排出できるように構成されている。
ガス供給口７から供給されるガスとしては空気，チッ素ガス，炭酸ガスその他のガスを供給することができ、このうちから被洗浄物に悪影響を与えないものが選択される
　ガス溶解槽５の側壁底部には洗浄水としての純水が供給される入口９が設けられているとともに、その上部には出口１０が設けられていて、入口９から供給された純水は各ガス供給管６，６・・・の外側空間を通過して出口１０に達し、ここから洗浄水供給系路１１を介して前述の洗浄水供給管３へ供給されるように構成されている。
　上述の構成からなる本実施例で超音波洗浄を行なうには、洗浄槽１内に図示しない適当な支持機構により被洗浄物（例えば半導体ウエハ）ａを保持し、超音波発振器２を作動させ、洗浄水供給管３から洗浄水を供給して行なう。
　この洗浄水供給管３へ供給される洗浄水はガス溶解槽５で充分にガスが溶解されたものである。すなわちガス溶解槽５のガス供給口７へ図示しないガス供給源からガスを供給しつつ、入口９から
図示しない純水製造プロセスからの純水を供給する
ガスの溶解された純水すなわち洗浄水
　出口１０から送出された洗浄水は洗浄水供給系路１１を介して洗浄水供給管３へ供給される。このため充分な溶存ガスを含む洗浄水が洗浄槽１内を上向流し、この際、超音波が付加されると、被洗浄物ａの表面でキャビテーションが効果的に発生する。このキャビテーションの衝撃力によって被洗浄物ａの表面に付着している化学薬品等の異物が効率よく除去される。」（第２頁右上欄第２行〜第２頁右下欄第１３行）
　
エ．「以下に、溶存ガスの濃度割合による洗浄効果の違いを第２図のグラフを参照して説明する。
　この図は、洗浄水供給管３から毎分５１の洗浄水（純水）を供給するとともに、超音波発振器２から
２００ＫＨｚの超音波
　なお、被洗浄物として４インチ半導体ウエハの表面に０．２μｍのポリスチレンラテックスを２００〜３００個付着させたものが用いられている。
　この図から明らかなように
溶存ガス（酸素）の濃度が８ｐｐｍ以上では９５％以上の除去率が得られ
　
　上記摘記事項ア〜ウと第１図の記載を総合すると、刊行物１には、次の発明（以下「刊行物１記載の発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
　製造プロセスで脱気された純水に空気，チッ素ガス，炭酸ガスその他の被洗浄物に悪影響を与えないガスを溶解して洗浄水とし、この洗浄水に超音波を付加して被洗浄物を洗浄する洗浄方法。
　
（２）原査定の拒絶理由にて引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平４−５８５２７号公報（以下「刊行物２」という。）には、図面と共に、以下の記載がある。
　
オ．「上記目的を達成するために、本発明では被洗浄物を、気体を溶解させた洗浄液中に浸漬し、非接触的加熱手段で加熱することによって、被洗浄物表面極近傍の
溶解気体を気泡化する
　本発明において、非接触的加熱手段としては、赤外線及び／又は可視光線の照射がよく、これらの照射の波長は洗浄液に比較して被洗浄物に多く吸収される波長を用いるのがよい。
　そして、上記の洗浄方法は、被洗浄物として精密加工された物例えば
半導体ウェハ、特にシリコンウェハ
純水又は超純水を用いる
　また、本発明において、
洗浄液中に溶解させる気体
酸素
　
（３）原査定の拒絶理由にて引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平８−１０７２６号公報（以下「刊行物３」という。）には、図面と共に、以下の記載がある。
　
カ．「【請求項１】  洗浄液に用いる溶媒に予め難溶性の気体を加圧溶解させ、かくして得られた洗浄液を用いて被洗浄体を常圧で洗浄処理することを特徴とする洗浄方法。
【請求項２】  前記気体が、空気、
酸素
【請求項３】  前記洗浄液に用いる溶媒が、
水
　
キ．「【従来の技術】工業用金属板、機械部品等の加工品類からの
加工油の除去やＩＣ基板等不純物の除去
　
ク．「【００１０】さらに、本発明の洗浄装置においては、加圧下で気体を洗浄液に用いる溶媒に溶解させるための耐圧性気体溶解タンク内に加圧した気体を供給することにより、加圧下で洗浄液に難溶性の気体を溶解させることができる。気体を溶解した洗浄液は、タンクに接続したパイプを経由して、パイプの先端に取り付けられた被洗浄体に対して洗浄液を適用する手段によって被洗浄体に適用されるため、
気体が均一に溶解した洗浄液
洗浄液中に溶解した気体の均一で微細な泡を発生し、それによって被洗浄体を均一に効率よく洗浄する
　
（４）本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平６−１７９９８７号公報（以下「刊行物４」という。）には、図面と共に、以下の記載がある。
　
ケ．「【００２５】通常、大気圧下で水に溶存している空気は、窒素１６〜１８ｐｐｍ、酸素６〜８ｐｐｍで飽和しているとされているが、前記のようにして洗浄水５に
純酸素を曝気する
【００２６】尚、上部空間６ａの雰囲気は前記のようにして浮上した純酸素により酸素が富化された状態になっているので、洗浄水５を前記のように密封槽６の天井部から散水して槽内に導入することにより、
洗浄水５に酸素が溶解し、これによっても溶存酸素量が増大する
　
コ．「【００３３】本実施例の洗浄装置１では、前記のように微泡状の気相酸素を含んで見掛けの溶存酸素量が１０〜２５ｐｐｍの状態になっている洗浄水５を超音波洗浄槽３に供給し、洗浄水５にワーク４を浸漬して超音波振動子２から洗浄水５に超音波を放射することによりワーク４の洗浄を行う。ワーク４は前記状態の洗浄水５に浸漬されることにより、表面に付着している油分が乳化されて除去される。
【００３４】このとき、
超音波振動子２から洗浄水５に超音波を放射すると、微泡状の純酸素が集合して、或は溶存している気体が気化して、比較的大きな気泡が生成される。
　
４．発明の対比
  本願発明と刊行物１記載の発明を対比すると、刊行物１記載の発明における「製造プロセスで脱気された純水」は本願発明における「脱気処理した純水」に相当し、以下同様に、「溶解して」は「溶解させて」に、「洗浄水とし」は「洗浄液を調製し」に、「超音波を付加して」は「超音波振動を付与して」に、各々相当する。
　
　また、刊行物１記載の発明における「空気，チッ素ガス，炭酸ガスその他の被洗浄物に悪影響を与えないガス」も本願発明における「酸素」も、共に「（被洗浄物に悪影響を与えない）気体」ということができる。
　
（請求人の主張の検討）
　請求人は、審判請求書において、本願発明における「脱気処理した純水」は「純水をさらに脱気処理してその中の気体を除去したもの」であって、刊行物１記載の発明における「製造プロセスで脱気がなされた純水」と異なる旨の主張（これは、本願が分割された特願２００５−９２４３号における平成１９年９月２５日付け意見書においても同様）しているので、この点に関して検討する。
　
　まず、「純水」という用語は、従来より、不純物の少ない広範な洗浄水を表現するものとして使用されており、
脱イオン等は施されているが脱気処理されていない洗浄水も「純水」と呼ばれることがある
純水
脱気されておらず
　
　よって刊行物１記載の発明における「製造プロセスで脱気がなされた純水」は、「脱イオン等は施されているが
脱気処理されていない
　
　また、本願発明の発明特定事項である「脱気処理した純水」は、脱気処理の時期に関しては何ら限定を有していない。
　このため、「脱気処理した純水」は、脱気時期としては「純水製造後」、「純水製造中（製造プロセス）」のいずれをも含み、、脱気処理の時期を「製造プロセス」とする刊行物１記載の発明における「製造プロセスで脱気がなされた純水」も、「脱気処理した純水」に該当することは明らかである。
　
　さらに、刊行物１記載の発明の実施例（摘記事項ウ「入口９から
図示しない純水製造プロセスからの純水を供給する
純水製造プロセス直後の純水
技術的意味からみても
　
　故に、請求人の主張は採用できない。
　
　したがって、両者の一致点、相違点は、次のとおりである。
　
（一致点）
　脱気処理した純水に（被洗浄物に悪影響を与えない）気体を溶解させて洗浄液を調製し、この洗浄液に超音波振動を付与して被洗浄物を洗浄する洗浄方法。
　
（相違点）
　脱気処理した純水に溶解される「（被洗浄物に悪影響を与えない）気体」が、本願発明においては「酸素」であるのに対し、刊行物１記載の発明においては「空気，チッ素ガス，炭酸ガス
その他の
　
５．判断
 　以下、相違点につき検討する。
　
　刊行物１には、
純
溶存ガス（酸素）の濃度が８ｐｐｍ以上では９５％以上の除去率が得られ優れた洗浄効果
　
　また、洗浄液中に洗浄のための気泡を発生しやすくするため、洗浄液中に予め溶解させておく気体として「（純）酸素」を用いることは、刊行物２（摘記事項オ）、刊行物３（摘記事項カ）、刊行物４（摘記事項ケ、コ）記載のように、本願の優先日前、周知の技術手段である。さらに、刊行物２〜４において使用される「酸素」が「被洗浄物に悪影響を与えないガス」であることは自明である。
　
　よって、刊行物１記載の発明において、洗浄用気泡であるキャビテーションを発生しやすくするため、洗浄液中に予め溶解させておく気体として、「（純）酸素」を用いることは、上記刊行物１記載の示唆及び周知の技術手段に倣って、当業者が容易に想到し得た事項である。
　
　そして、本願発明により得られる効果も、刊行物１記載の発明、刊行物１記載の示唆、及び周知の技術手段から、当業者であれば、予測できる程度のものであって、格別なものとはいえない。
　
（請求人の主張の検討）
（主張１）
　請求人は、審判請求書にて、本願発明における「脱気処理した純水」は「純水をさらに脱気処理してその中の気体を除去したもの」であり、刊行物１記載の発明における「製造プロセスで脱気がなされた純水」と異なることを前提として、
「引用文献１（当審注：刊行物１に対応）は超音波の付加時に洗浄水による被洗浄物表面でのキャビテーションを効果的に発生させる際、『製造プロセスで脱気がなされた純水』では溶存ガスが少ないために、この純水にガスを溶解する発明です。このような引用文献１において、超音波の付加時に洗浄水中の溶存ガスにより被洗浄物表面でのキャビテーションを効果的に発生させることを企図することを考慮すれば、当業者は『製造プロセスで脱気がなされた純水』に比べてさらに溶存ガスを取り除いた本願発明で用いる「脱気処理した純水」つまり「純水をさらに脱気処理したもの」をガスの溶解対象としての使用を当然に回避するばかりか、それをガスの溶解対象として着目することもありません。」（請求書第８頁第１５行〜第２７行）と主張している。
　しかしながら、上記「４．発明の対比」でも検討したように、刊行物１記載の発明における「製造プロセスで脱気がなされた純水」は、
それ自体で
　
（主張２）
　請求人は、審判請求書にて、本願発明の効果に関連し、
「本願の請求項１，４，５に係る発明では、目的とする特定のガスが溶解された洗浄液を調製できるために、洗浄液に超音波振動を付与して所望の被洗浄物（または電子部品）を洗浄する際、目的とする特定のガスに起因するラジカル等を発生させて被洗浄物（または電子部品）を洗浄できます。 
 　実施形態の例に沿って説明しますと、本願の請求項１に係る発明のように脱気処理した純水に酸素を溶解して洗浄液を調製し、この洗浄液に超音波振動を付与することにより超音波振動があたった洗浄液の溶存酸素から瞬間的にヒドロキシラジカルを発生でき、短い時間でそのヒドロキシラジカルが分解されます。このため、洗浄液は酸化還元電位が上昇せず、瞬間的に発生したヒドロキシラジカルと超音波により被洗浄物表面に付着した不純物、特にパーティクルを効率よく除去することができます。」（請求書第５頁第第１０行〜第２０行）、
「しかも、本願の請求項１に係る発明のように酸素を溶解させる対象として脱気処理された純水を用いることによって、目的とする酸素が溶解された洗浄液を調製できるため、超音波振動の付与時において洗浄液中に不必要なラジカル等の発生を防ぐと共に超音波の伝達効率を向上して被洗浄物表面に付着した不純物、特にパーティクルを効率よく除去できるという顕著な作用、効果は、引用文献１（刊行物１に対応），２（刊行物２に対応）および４には全く示唆されていません。」（請求書第９頁第９行〜第１４行）
と主張している。
　
　しかしながら、刊行物１記載の発明において、「脱気処理した純水」に特定の被洗浄物に悪影響を与えないガス（酸素）を溶解した場合、当該ガス成分の溶存濃度
のみ
キャビテーションにより局所的にもたらされる高温高圧の環境下においてヒドロキシラジカルが生成されること
　
　よって、刊行物１記載の発明において、「脱気処理した純水」に酸素を溶解し、超音波振動を付与した場合、キャビテーションの発生が促進され、同時に、ヒドロキシラジカルの生成も促進されて、洗浄効果が高まることは、当業者であれば、予測できる程度のものであり、請求人の主張は採用できない。
　
６．結び
　以上のとおり、本願発明は、刊行物１記載の発明、刊行物１記載の示唆、及び周知の技術手段に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　よって、結論のとおり審決する。