【手続補正書】
【提出日】平成18年2月1日(2006.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）：
【化１】
2006514095.tif 000001
［ここで、式中、
Ｒ１は水素または低級アルキルである；
Ｒ２はハロゲン、ヒドロキシ、低級アルコキシイミノもしくは低級アルコキシが任意に置換する低級アルキル；低級アルケニル；シクロアルキル；シアノ；低級アルカノイル；シクロアルキルカルボニル；Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルカルバモイル；カルバモイル；Ｎ−低級アルコキシ−Ｎ−低級アルキルカルバモイル；アミノ；ジ（低級）アルキルアミノ；低級アルコキシカルボニルアミノ；Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルカルバモイルアミノ；Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルカルバモイル）−Ｎ−低級アルキルアミノ；ハロゲン；ヒドロキシ；カルボキシ；低級アルコキシカルボニル；アロイル；ヘテロ環状カルボニル；ヘテロ環状基；低級アルキルスルホニル；低級アルコキシ、Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルカルバモイルもしくはハロゲンが任意に置換する低級アルコキシ；シクロアルキルオキシ；低級アルキルチオ；または低級アルキルスルフィニルである;
Ｒ３はアミノ、カルバモイルアミノもしくは低級アルキルスルホニルアミノが任意に置換する低級アルキル；ハロゲン；シアノ；ヒドロキシ；低級アルカノイルオキシ；低級アルキレンジオキシ；アリール、ヒドロキシ、シアノ、アミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級アルキルスルホニルアミノもしくはカルバモイルアミノが任意に置換する低級アルコキシ；ニトロ；アミノ；ヘテロ環状基；低級アルキルチオ；低級アルキルスルフィニル；または低級アルキルスルホニルである；
Ｒ４は水素；シアノ；フタロイルもしくは低級アルキルが任意に置換するアミノ；アリール；ヘテロ環状基；低級アルコキシ；ヒドロキシ；低級アルキルスルホニルオキシ；低級アルカノイルオキシ；トリチルアミノおよび低級アルコキシカルボニル、アミノおよび低級アルコキシカルボニル、アミノおよびカルボキシ、アミノおよびカルバモイル、もしくはアミノおよびヒドロキシが置換する低級アルキル；Ｎ−低級アルコキシカルボニル−Ｎ−低級アルキルアミノ；ハロゲンが任意に置換する低級アルカノイル；カルボキシ；低級アルキルスルホニル；スルホ；低級アルキルシリルオキシ；低級アルコキシカルボニル；低級アルキルが任意に置換するスルファモイル；低級アルキルが任意に置換するカルバモイル；低級アルキルチオ；低級アルキルスルフィニル；カルバモイルオキシ；チオウレイド；または 
式：
Ｒ５−Ｇ−Ｊ−
（式中、Ｇは−ＣＯ−または−ＳＯ２−である；Ｊは−Ｎ（Ｒ６）−（式中、Ｒ６は水素または低級アルキルである）；またＲ５は低級アルコキシカルボニルもしくは低級アルキルが任意に置換するアミノ；ヒドロキシ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級アルカノイルオキシ、アミノもしくはハロゲンが任意に置換する低級アルキル；低級アルコキシ；水素；ヘテロ環状基；またはアリールである）で示される基である；
ＸはＯ、Ｓ、ＳＯまたはＳＯ２である；
ＹはＣＨまたはＮである；
Ｚは低級アルキレンまたは低級アルケニレンである；および
ｍは０または１である；
ただし、Ｒ４が水素の場合、Ｒ３はアミノ、カルバモイルアミノもしくは低級アルキルスルホニルアミノが置換する低級アルキル；またはアリール、ヒドロキシ、シアノ、アミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級アルキルスルホニルアミノもしくはカルバモイルアミノが置換する低級アルコキシである］
で示される化合物またはその塩。
【請求項２】
Ｒ１が水素；
Ｒ２がハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキルオキシイミノもしくは低級アルコキシが任意に置換する低級アルキル；シクロアルキル；ハロゲン；ハロゲンが任意に置換する低級アルコキシ；または低級アルキルチオ；
Ｒ３がアリール、ヒドロキシ、シアノ、アミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級アルキルスルホニルアミノもしくはカルバモイルアミノが任意に置換する低級アルコキシ；
Ｒ４が式：
Ｒ５−Ｇ−Ｊ−
（式中、Ｒ５、ＧおよびＪはそれぞれ請求項１に定義したとおりである）で示される基；
ＸがＯまたはＳ；および
Ｚが低級アルキレン；
である請求項１記載の化合物。
【請求項３】
Ｒ２が、ハロゲンが任意に置換する低級アルキル；シクロアルキル；ハロゲン；またはハロゲンが任意に置換する低級アルコキシ；
Ｒ３が低級アルコキシ；
Ｒ４が式：
Ｒ５−Ｇ−Ｊ−
（式中、Ｇは−ＣＯ−または−ＳＯ２−であり；Ｊは−ＮＨ−であり；およびＲ５はアミノまたは低級アルキルである）で示される基；および
ＸがＯ；
である請求項２記載の化合物。
【請求項４】
該化合物が、
Ｎ−（２−｛４−［３−クロロ−１−（４−メトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−フェノキシ｝エチル）尿素；
Ｎ−｛４−［３−（ジフルオロメチル）−１−（４−メトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］ベンジル｝メタンスルホンアミド；
Ｎ−｛４−［３−（ジフルオロメチル）−１−（４−メトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］ベンジル｝尿素；
Ｎ−（２−｛４−［３−（ジフルオロメチル）−１−（４−メトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］フェノキシ｝エチル）尿素；
Ｎ−（２−｛４−［１−（４−メトキシフェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］フェノキシ｝エチル）尿素；
Ｎ−（２−｛４−［３−（ジフルオロメチル）−１−（６−メトキシ−３−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］フェノキシ｝エチル）尿素；
Ｎ−（２−｛４−［３−シクロプロピル−１−（４−メトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］フェノキシ｝エチル）尿素；
Ｎ−（２−｛４−［３−（ジフルオロメチル）−１−（６−メトキシ３−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］フェノキシ｝エチル）尿素；
Ｎ−（２−｛４−［１−（４−メトキシフェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］フェノキシ｝エチル）アセトアミド；または
Ｎ−（２−｛４−［３−（２，２−ジフルオロエトキシ）−１−（６−メトキシ−３−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］フェノキシ｝エチル）尿素；
である請求項３記載の化合物。
【請求項５】
式（I）:
【化２】
2006514095.tif 000002
［ここで、式中、
Ｒ１は水素または低級アルキルである；
Ｒ２はハロゲン、ヒドロキシ、低級アルコキシイミノもしくは低級アルコキシが任意に置換する低級アルキル；低級アルケニル；シクロアルキル；シアノ；低級アルカノイル；シクロアルキルカルボニル；Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルカルバモイル；カルバモイル；Ｎ−低級アルコキシ−Ｎ−低級アルキルカルバモイル；アミノ；ジ（低級）アルキルアミノ；低級アルコキシカルボニルアミノ；Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルカルバモイルアミノ；Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルカルバモイル）−Ｎ−低級アルキルアミノ；ハロゲン；ヒドロキシ；カルボキシ；低級アルコキシカルボニル；アロイル；ヘテロ環状カルボニル；ヘテロ環状基；低級アルキルスルホニル；低級アルコキシ、Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルカルバモイルもしくはハロゲンが任意に置換する低級アルコキシ；シクロアルキルオキシ；低級アルキルチオ；または低級アルキルスルフィニルである;
Ｒ３はアミノ、カルバモイルアミノもしくは低級アルキルスルホニルアミノが任意に置換する低級アルキル；ハロゲン；シアノ；ヒドロキシ；低級アルカノイルオキシ；低級アルキレンジオキシ；アリール、ヒドロキシ、シアノ、アミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級アルキルスルホニルアミノもしくはカルバモイルアミノが任意に置換する低級アルコキシ；ニトロ；アミノ；ヘテロ環状基；低級アルキルチオ；低級アルキルスルフィニル；または低級アルキルスルホニルである；
Ｒ４は水素；シアノ；フタロイルもしくは低級アルキルが任意に置換するアミノ；アリール；ヘテロ環状基；低級アルコキシ；ヒドロキシ；低級アルキルスルホニルオキシ；低級アルカノイルオキシ；トリチルアミノおよび低級アルコキシカルボニル、アミノおよび低級アルコキシカルボニル、アミノおよびカルボキシ、アミノおよびカルバモイル、もしくはアミノおよびヒドロキシが置換する低級アルキル；Ｎ−低級アルコキシカルボニル−Ｎ−低級アルキルアミノ；ハロゲンが任意に置換する低級アルカノイル；カルボキシ；低級アルキルスルホニル；スルホ；低級アルキルシリルオキシ；低級アルコキシカルボニル；低級アルキルが任意に置換するスルファモイル；低級アルキルが任意に置換するカルバモイル；低級アルキルチオ；低級アルキルスルフィニル；カルバモイルオキシ；チオウレイド；または 
式：
Ｒ５−Ｇ−Ｊ−
（式中、Ｇは−ＣＯ−または−ＳＯ２−である；Ｊは−Ｎ（Ｒ６）−（式中、Ｒ６は水素または低級アルキルである）；またＲ５は低級アルコキシカルボニルもしくは低級アルキルが任意に置換するアミノ；ヒドロキシ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級アルカノイルオキシ、アミノもしくはハロゲンが任意に置換する低級アルキル；低級アルコキシ；水素；ヘテロ環状基；またはアリールである）で示される基である；
ＸはＯ、Ｓ、ＳＯまたはＳＯ２である；
ＹはＣＨまたはＮである；
Ｚは低級アルキレンまたは低級アルケニレンである；および
ｍは０または１である；
ただし、Ｒ４が水素の場合、Ｒ３はアミノ、カルバモイルアミノもしくは低級アルキルスルホニルアミノが置換する低級アルキル；またはアリール、ヒドロキシ、シアノ、アミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級アルキルスルホニルアミノもしくはカルバモイルアミノが置換する低級アルコキシである］
で示される化合物またはその塩の製造法であって、以下の工程からなる方法：
１）式（II）:
【化３】
2006514095.tif 000003
で示される化合物またはその塩と、式（III）：
【化４】
2006514095.tif 000004
で示される化合物またはその塩とを酸性条件下に反応させて、式（Ｉａ）：
【化５】
2006514095.tif 000005
（上記式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ、Ｙ、Ｚおよびｍはそれぞれ上記定義のとおりである）
で示される化合物またはその塩とする工程；または
２）式（ＩＶ）：
【化６】
2006514095.tif 000006
で示される化合物またはその塩と、式（Ｖ）：
Ｒ４−Ｚ−Ｑ          （Ｖ）
で示される化合物またはその塩とを反応させて、式（Ｉｂ）：
【化７】
2006514095.tif 000007
（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ＹおよびＺはそれぞれ上記定義のとおりである；ＸａはＯまたはＳであり；Ｑはヒドロキシまたは酸残基である）
で示される化合物またはその塩を得る工程。
【請求項６】
有効成分としての請求項１に記載の化合物を、医薬的に非毒性の担体または賦形剤とともに含有してなる医薬組成物。
【請求項７】
医薬として使用する請求項１に記載の化合物。
【請求項８】
ヒトまたは動物における炎症性症状、種々の疼痛、膠原病、自己免疫疾患、種々の免疫性疾患、鎮痛、血栓症、癌または神経変性疾患の治療および／または予防用の医薬製造のための請求項１に記載の化合物の使用。
【請求項９】
請求項１に記載の化合物を含有してなる鎮痛剤であって、急性または慢性の炎症を原因とするか、またはそれと関連する疼痛の治療および／または予防に、胃腸障害を引き起こさずに使用し得る鎮痛剤。
【請求項１０】
リウマチ様関節炎、変形性関節炎、腰椎リウマチ、リウマチ様脊椎炎、痛風性関節炎、または若年性関節炎を原因とするか、またはそれと関連する疼痛；腰痛症；頚肩腕症候群；肩甲上腕骨関節周囲炎；手術もくは傷害後の疼痛および腫脹の治療または予防に、胃腸障害を引き起こさずに使用し得る請求項１０記載の鎮痛剤。
【請求項１１】
請求項１記載の化合物（Ｉ）を含有する医薬組成物とそれに関連する文書とを含んでなる商品パッケージであって、当該文書が化合物（Ｉ）が炎症性症状、種々の疼痛、膠原病、自己免疫疾患、種々の免疫性疾患、鎮痛、血栓症、癌または神経変性疾患の予防または治療に使用し得ること、または使用すべきであることを記載したものである商品パッケージ。