【事件の表示】
　特願２００６−２５７６４０「磁気記録媒体の製造方法およびこの方法により得られる磁気記録媒体」拒絶査定不服審判事件〔平成２０年　４月　３日出願公開、特開２００８−　７７７９３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１８年９月２２日に出願したものであって、平成２２年３月２５日付で通知した拒絶の理由に対し、同年５月３１日付で手続補正されたが、同年６月２９日付で拒絶査定がされ、これに対し、同年９月３０日に拒絶査定不服審判が請求されたものである。
　
２．本願発明について
　（１）本願発明
　本願の請求項１乃至３に係る発明は，平成２２年５月３１日付で手続補正された特許請求の範囲の請求項１乃至３に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、そのうち請求項１に係る発明（以下，「本願発明」という。）は，次のとおりのものである。
　
　「非磁性基板上に、少なくとも磁気記録層、保護層および液体潤滑層を順次形成して積層体を得、次いで前記積層体の液体潤滑層に加熱処理を施す磁気記録媒体の製造方法であって、前記液体潤滑層の形成後、前記加熱処理の前に、超音波を印加したフルオロカーボン系溶剤中に前記積層体を浸漬させることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。」　
　
　（２）引用例
　原査定の拒絶の理由で引用された、本願の出願日前に頒布された刊行物である、特開２００１−１４３２５３号公報（以下、「第１引用例」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている。なお、下線は当審で付した。
　
(a)
「【請求項４】  
潤滑剤に紫外線照射を行い重合化する紫外線照射工程と、該紫外線照射工程後の潤滑剤を磁気記録媒体の表面に塗布する塗布工程とを有する、磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】  前記紫外線照射工程後で前記塗布工程前に、前記潤滑剤中の不用部分を取除く精製工程をさらに含む、
ことを特徴とする請求項４に記載の磁気記録媒体の製造方法。」
(b)
「【０００３】
図１は従来の
該ハードディスク１１０の層構成
ハードディスク１１０は基板１１１上に、下地膜１１３、磁性膜１１５が下から順に積層された基本構成を有しており、その上にカーボン系の保護膜として、例えばＤＬＣ（Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｌｉｋｅ  Ｃａｒｂｏｎ）１１７が形成さている。
「【０００６】
このため、従来からハードディスク１１０表面の前記保護膜１１７の上には、さらに潤滑剤を塗布して形成した潤滑膜１１９が設けられている。
「【００２２】
【発明の実施の形態】以下、図２から図４に基づいて、本発明の実施例を説明する。まず、図２は実施例の潤滑剤に紫外線処理を施す工程及びこの潤滑剤を磁気記録媒体に塗布する工程を概略的に示す図である。
図２において、工程（Ｉ）は液状の潤滑剤１に紫外線照射を行い重合化する紫外線照射工程である。
「【００２６】次に、上記紫外線照射工程（Ｉ）で潤滑剤１の内で高分子化された部分を分離して精製するのが精製工程（II）である。この精製工程（II）では、紫外線照射工程（Ｉ）で処理された潤滑剤１と分離用の有機溶剤４とを混合し、不用部分を有機溶剤４側に溶解させて分離する。なお、この精製工程（II）は省略することが可能である。
しかし、前記紫外線照射工程（Ｉ）で生じた不用部分を予め除去することで、潤滑剤１中の高分子化された部分の割合を増加させることができ、また磁気記録媒体１の表面を腐食するような汚染物質が発生していた場合にはこれを除去することができる。よって、磁気記録媒体１０上に塗布した時のボンド率を増加させ、磁気記録媒体１の腐食発生を防止する観点からは、この精製工程（II）を含むことが好ましい。
「【００２９】
前記工程（Ｉ）（或いはさらに前記工程（II））で処理された潤滑剤１は、塗布工程（III)で磁気記録媒体１０上へ塗布される。上記潤滑剤１は、塗布用のフッ素系の溶剤５、例えばフロリナートＦＣ７７（３Ｍ社製）にて希釈され、濃度約０．０５重量％の潤滑剤溶液６とされる。磁気記録媒体１０は、図１で示した従来の磁気記録媒体１１０と同様の構成を有し、その表面に炭素系のカーボン膜、例えばＤＬＣで形成したものを準備する。この磁気記録媒体１０の表面に上記潤滑剤溶液６を塗布する。
【００３０】
ここでの塗布処理としては、例えば引上げ速度約１０から約３５０ｍｍ／ｓ、浸漬時間約３０ｓｅｃでの浸漬処理を行う。
本実施例の磁気記録媒体１０は原則として、前述したまでの工程（ＩからIII 又はＩとIII)を経た後には、高いボンド率で十分な低摩擦・耐磨耗性及び撥水性を備えた潤滑膜１９を備えている。
【００３１】ただし、潤滑膜１９を構成する膜中にはモービル層１９ｂが未だ存在している。
図２では図示していないが、前述までの工程（III)後に磁気記録媒体１０を洗浄用の溶剤に浸漬する洗浄処理を付加してもよい。この洗浄処理によりカーボン系保護膜との結合が弱いモービル層１９ｂが除去できる。
【００３２】
ここで使用される洗浄用の溶剤は、前記潤滑剤１の希釈の際に使用したフッ素系の溶剤５と同じものを使用することができる。
【００３３】
さらに、潤滑膜１９の熱処理について説明する。潤滑剤１の塗布後、さらに磁気記録媒体１０に熱処理の工程（IV）を付加してもよい。この熱処理の工程（IV）は上記洗浄処理後に行ってもよい。
　
　上記記載事項を総合勘案すると、上記第１引用例には、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　
　「潤滑剤に紫外線照射を行い重合化する紫外線照射工程と、該紫外線照射工程後の潤滑剤を磁気記録媒体の表面に塗布する塗布工程とを有する磁気記録媒体の製造方法であって、
　該磁気記録媒体は、基板上に順に磁性膜と保護膜と潤滑膜とを有し、
　該塗布工程の後に磁気記録媒体をフロリナートＦＣ７７に浸漬する洗浄処理と、
　該洗浄処理後に磁気記録媒体に熱処理を行う工程とを有する、
　磁気記録媒体の製造方法。」
　
　同じく、原査定の拒絶の理由で引用された、本願の出願日前に頒布された刊行物である、特開昭６３−１７５２２５号公報（以下、「第２引用例」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている。なお、下線は当審で付した。
(c)
「ディスク上に塗布された余分のパーフロロアルキルポリエーテルを洗い落とす洗浄方法については、例えば前記有機溶剤中に浸漬することでも可能であるが、
必要に応じて超音波洗浄
　
　同じく、原査定の拒絶の理由で引用された、本願の出願日前に頒布された刊行物である、国際公開第０１／１４０３号（以下、「第３引用例」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている。なお、下線は当審で付した。
(d)
「なお、ここで使用される洗浄用の溶剤６としては、前記潤滑剤の希釈に使用したフッ素系の溶剤と同じものを使用することができる。」（第８頁１４−１５行）
(e)
「また、洗浄処理（III）において、洗浄用の溶剤６が沸騰しない程度の温度（前記フロリナートＦＣ７７を選択したときには２５℃程度）とし、
超音波装置を使用して洗浄
(f)
「次に、図４に示されるように磁気記録媒体１上に形成された潤滑膜２に対して、加熱処理（II）を行う。」（第１０頁１３−１４行）
(g)
「そして、加熱処理（II）がなされた磁気記録媒体１を容器６０に蓄えられた洗浄用の溶剤６に浸漬して、洗浄処理（III）を行う。ここで、行われる洗浄処理の条件は前述第１実施例と同様である。」（第１０頁１９−２１行）
　
　（３）対比
　本願発明と引用発明とを対比する。
　引用発明の「潤滑剤に紫外線照射を行い重合化する紫外線照射工程」は、「潤滑剤１中の高分子化された部分の割合を増加させる」「精製工程（II）を含むことが好ましい。」（上記、（２）(b)段落【００２６】を参照。）を勘案すると、「潤滑剤」を一部「重合化」して「高分子化された部分」を合成する工程であるといえるから、引用発明の「該紫外線照射工程後の潤滑剤」は、該「高分子化された部分」を含む潤滑剤組成物であるということができ、したがって、引用発明の「潤滑剤に紫外線照射を行い重合化する紫外線照射工程と、該紫外線照射工程後の潤滑剤を磁気記録媒体の表面に塗布する塗布工程」「潤滑膜」は、該「高分子化された部分を含む潤滑剤組成物」を「を磁気記録媒体の表面に塗布」して形成した「潤滑膜」であるといえるところ、本願発明は、「液体潤滑層」を形成する潤滑剤に関し限定を有していないので、引用発明の「潤滑剤に紫外線照射を行い重合化する紫外線照射工程と、該紫外線照射工程後の潤滑剤を磁気記録媒体の表面に塗布する塗布工程」「潤滑膜」は、本願発明の「液体潤滑層」を満足する。
　引用発明の「基板」、「磁性膜」、「保護膜」、「磁気記録媒体の製造方法」は、それぞれ本願発明の「非磁性基板」、「磁気記録層」、「保護層」、「磁気記録媒体の製造方法」に相当する。
　引用発明の「フロリナートＦＣ７７」は、分子式Ｃ８Ｆ１８で表される物質である（例えば、特開２０００−７２６０１号公報の最終頁の段落【００１９】の記載を参照。）ことから、本願発明の「フルオロカーボン系溶剤」に相当する。
　引用発明の「潤滑剤を磁気記録媒体の表面に塗布する塗布工程」、「磁気記録媒体をフロリナートＦＣ７７に浸漬する洗浄処理」、「磁気記録媒体に熱処理を行う工程」は、それぞれ本願発明の「液体潤滑層を」「形成して積層体を得」、「フルオロカーボン系溶剤中に前記積層体を浸漬させること」、「前記積層体の液体潤滑層に加熱処理を施す」に相当する。
　また、これらの工程等の実施順序に関し、引用発明では「該塗布工程の後に」「洗浄処理」を行い、「該洗浄処理後に」「熱処理を行う」のに対し、本願発明においては「前記液体潤滑層の形成後、前記加熱処理の前に」「超音波を印加したフルオロカーボン系溶剤中に前記積層体を浸漬させること」を行っており、各工程の実施順序も一致している。　
　
　そうすると、本願発明と引用発明とは次の点で一致する。
　
　一致点
　「非磁性基板上に、少なくとも磁気記録層、保護層および液体潤滑層を順次形成して積層体を得、
　次いで前記積層体の液体潤滑層に加熱処理を施す磁気記録媒体の製造方法であって、
　前記液体潤滑層の形成後、前記加熱処理の前に、フルオロカーボン系溶剤中に前記積層体を浸漬させる磁気記録媒体の製造方法。」
　
　一方、次の点で相違する。
　
　相違点
　「フルオロカーボン系溶剤中に前記積層体を浸漬させる」工程に関し、本願発明は、「超音波を印加」するものに限定されているのに対し、引用発明は、「超音波を印加」する点に関する限定を有していない点。
　
　
　（４）判断
　「洗浄処理」を行う際に「超音波を印加」することは、第２引用例、第３引用例に記載されている。
　また、引用発明において「超音波を印加」することに関し特段の阻害要因は見いだせず、かつ、本願発明において「超音波を印加」しなかった場合と比較して当業者に予測できない格別顕著な効果が奏されていることを確認することができる具体的な記載を発明の詳細な説明に見いだせないことも勘案すると、「溶剤に浸漬する洗浄処理」を行う際に単に「超音波を印加」するという程度のことは、当業者であれば適宜なしうる程度のことである。
　
　したがって，本願発明は，第１引用例ないし第３引用例に記載された発明に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものである。
　　
　（３）むすび
　以上のとおり，本願の請求項１に係る発明は，第１引用例ないし第３引用例に記載された発明に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項について論及するまでもなく、本願は、拒絶すべきものである。
　よって，結論のとおり審決する。