【事件の表示】
　特願２００３−２０９３９１「排ガス処理装置における触媒充填装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年３月１７日出願公開、特開２００５−６６４０７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１５年８月２８日の出願であって、平成１９年１０月５日付けで拒絶理由が通知され、平成１９年１２月１７日付けで意見書及び手続補正書が提出され、平成２０年１月１８日付けで上申書が提出され、平成２０年８月２９日付けで拒絶査定され、平成２０年１０月２日付けで拒絶査定不服審判の請求がなされ、平成２０年１１月４日付けで手続補正書が提出されたものであり、その後、平成２３年５月１６日付けで特許法第１６４条第３項に基づく報告を引用した審尋が通知され、平成２３年７月１５日付けで回答書が提出されたものである。
　
２．平成２０年１１月４日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成２０年１１月４日付けの手続補正を却下する。
［理由］
（１）本件補正
　平成２０年１１月４日付けの手続補正（以下、必要に応じて「本件補正」という。）は、明細書の特許請求の範囲を次のとおりに補正することを含むものである。
「【請求項１】　触媒充填装置の内壁に付設されたオーステナイト系ステンレス製支持台上に、セラミック担体に触媒を担持させたハニカム触媒ユニットが配置され、排ガス流れが上から下に向かう様に構成された触媒充填装置であって、排ガス処理時に前記ハニカム触媒ユニットの入口温度が３００℃以上となり、かつ前記ハニカム触媒ユニットの出口温度が前記入口温度よりも１００℃以上高くなる状況下で使用されるものであり、
　前記ハニカム触媒ユニットと装置内壁の間隙に、平均粒径０．５〜５ｍｍの粒状物からなる充填層が少なくとも形成され、
　前記粒状物は、Ｐｔ、ＰｄおよびＲｈよりなる群から選択される１種以上をγ−アルミナ粒状物表面に担持させたものであることを特徴とする排ガス処理装置における触媒充填装置。」
　
　上記補正は、本件補正前の請求項１に記載された発明を特定する事項である「支持台」を「オーステナイト系ステンレス製支持台」に限定し、同じく「ハニカム触媒ユニット」を「セラミック担体に触媒を担持させたハニカム触媒ユニット」に限定したものであるから、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）について、特許出願の際独立して特許を受けることができるものか、以下に検討する。
　
（２）刊行物に記載された事項
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前に頒布された刊行物である実公昭６１−１３０５９号公報（以下、「刊行物１」という。）には、図面と共に次の事項が記載されている。
（ア）「触媒容器内に触媒を配設し、前記触媒中に未処理排出ガスを通過させて前記排出ガスの浄化をおこなう装置において、前記触媒容器内に複数のモノリス触媒を並設し、前記複数のモノリス触媒相互の間および該モノリス触媒の周囲に、粒状触媒および粒状担体のうちの少なくともいずれか一方からなるシール材を詰めたことを特徴とする排出ガス浄化装置。」（実用新案登録請求の範囲）
（イ）「第３図および第４図はこの考案の一実施例を示し、第３図は固定式排出ガス浄化装置の排出ガス流に従う系統的部分断面説明図、第４図は第３図のＣ−Ｃ線断面図であつて、塗装ブースあるいは焼成炉等より排出される溶剤を含む未処理排出ガスは、前述の如く活性炭等を用いた前処理によつて炭化水素等の有害成分の濃度を高められたのち、未処理ガス導入口２１より矢印Ａ方向に導入されてフアン２２によつて管内を圧送され、途中に設けたガスサンプリング口２３に接続したガス濃度検出器２４で濃度検出されると同時に、燃焼室２５内に送り込まれる。」（第２頁第３欄４０行〜同頁第４欄７行）
（ウ）「また、燃焼室２５は燃料供給装置２８に接続され、燃焼室２５内で前記燃料を燃焼させて未処理排出ガス温度を200〜400℃程度に上昇させる。昇温後の未処理排出ガスは引続いて排出ガス浄化装置の触媒容器２９内に送り込まれる。」（第２頁第４欄１１〜１５行）
（エ）「上記触媒容器２９内には、第４図にも示すように、多数の楕円形状のモノリス触媒３０が多数並設されている。すなわち、図示例の場合には楕円形状のモノリス触媒３０が触媒受け３１上に二段重ねで積まれていると同時に、これら複数のモノリス触媒３０が位置ずれを生ずるのを防止するために各モノリス触媒３０の間に固定枠３２を設けている。」（第２頁第４欄１６〜２３行）
（オ）「すなわち、前述した如くモノリス触媒３０は触媒受け３１によつて支持されているが、触媒受け３１の上記断熱空間３４を形成する部分はガス不透過性の密閉状態となつており、触媒受け３１の上記シール材３３と接する部分はガス不透過性であるかもしくはシール材３３を構成する粒状触媒または粒状担体の粒径よりも小さな孔を有する多孔状（多孔板または金網等）となつており、楕円形状のモノリス触媒３０と接する部分は多孔状（多孔板または金網等）またはモノリス触媒３０の底面形状よりも小さな直径の開口部（楕円形その他）を有する構造となつている。」（第３頁第５欄１６〜２８行）
（カ）「なお、モノリス触媒３０の上方側および下方側にはそれぞれ測温体３８および３９を設け、各々触媒容器２９の入口側温度および出口側温度を測定しうるようにしている。このうち、出口側温度は燃料供給装置２８および二次空気導入量制御機構へフイードバツクされ、出口側温度が上昇しすぎたときにはダンパ２７の開度を変えて二次空気導入口２６より二次空気を導入し、排出ガス温度ならびに排出ガス濃度を低下させて触媒床温度が600℃以上とならないように制御している。」（第３頁第５欄３９行〜同頁第６欄４行）
（キ）「上述したように、各モノリス触媒３０の相互間および該モノリス触媒３０の周囲に形成された空間部分に、粒状触媒および粒状担体のうちのいずれか一方または両方からなるシール材３３を詰めているが、この状態においては第５図に示すように、同一の空間速度（S.V.）ではモノリス触媒３０（この場合は四角セルで47セル／cm2（300セル／in2）のもの）の方がシール材３３を構成する粒状触媒（この場合は直径２〜４mmのもの）よりも著るしく圧力損失が少ないため、触媒容器２９内に導入された未処理排出ガスのほとんどがモノリス触媒３０を通過して良好に浄化される。そして、第５図に示すように、空間速度（S.V）が高い程モノリス触媒３０と粒状触媒との間における圧力損失の差が大きくなるため、空間速度（S.V）が高い程その効果が大きくあらわれる。また、空間速度（S.V）が低い場合には、シール材３３の役目を果している粒状触媒または粒状担体中を未処理排出ガスが若干通過することもありうるが、とくにシール材３３が粒状触媒である場合にはシール材３３を通過している間に未処理排出ガスの浄化がおこなわれる。」（第３頁第６欄１６〜３７行）
（ク）「また、粒状担体は一般にγ−アルミナ等の活性アルミナで作られており、この担体だけでも若干触媒性能を有しているので未処理排出ガスの浄化が行われる。」（第３頁第６欄３７〜４０行）
（ケ）「また、粒状触媒およびモノリス触媒３０の触媒金属種としては、炭化水素（HC）の浄化の場合に白金（Pt）系もしくは白金（Pt）−パラジウム（Pd）系のものが適している。」（第４頁第７欄７〜１０行）
（コ）「実施例  １
  四角セルでかつ47セル／cm2（300セル／in2）を有する楕円形モノリス担体（容量；１個当り1.7ｌ）に活性アルミナコートをおこない、次いで白金を付着させ白金担持量1.5ｇ／ｌ・触媒および2.0ｇ／ｌ・触媒の楕円形モノリス触媒を各々24個作成した。次いで、上記楕円形モノリス触媒を触媒充填部内容積55ｌの触媒容器内に第３図および第４図に示す如く２段に積み重ね、前記楕円形モノリス触媒相互の間および該モノリス触媒の周囲に形成された空間部分に、直径２〜４mmの粒状触媒（触媒金属担持量Pt＋Pd＝0.6ｇ／ｌ・触媒、Pt／Pd＝5/2）約14ｌを充填してシールをおこない、炭化水素の転化性能およびアルデヒドの残存濃度を測定した。その結果を表１および表２に示す。なお、表１は炭化水素の転化性能を示し、表２はアルデヒドの残存濃度を示している。なお、表１における測定条件は、入口ガス濃度（炭化水素HC）2000ppm（キシレン換算）、空間速度20000Hr-1であり、表２における測定条件は、入口ガス濃度（アルデヒド）50〜60ppm、空間速度20000Hr-1である。」（第４頁第７欄１１行〜同頁第８欄１６行）として、第４頁の表１、２には、炭化水素の転化率、アルデヒドの残存濃度について、粒状触媒のみを用いた参考例１、モノリス触媒を用いシール材としてアスベストを用いた参考例２の結果と共に実施例の結果が記載されている。
　
（３）対比、判断
　刊行物１には、記載事項（ア）に「触媒容器内に触媒を配設し、前記触媒中に未処理排出ガスを通過させて前記排出ガスの浄化をおこなう装置において、前記触媒容器内に複数のモノリス触媒を並設し、前記複数のモノリス触媒相互の間および該モノリス触媒の周囲に、粒状触媒および粒状担体のうちの少なくともいずれか一方からなるシール材を詰めた・・・排出ガス浄化装置」が記載されている。
　そして、記載事項（イ）に記載のとおり、記載事項（ア）に記載された「排出ガス浄化装置」の一実施例について、記載事項（エ）に「モノリス触媒３０が触媒受け３１上に・・・積まれている」ことが記載され、記載事項（ウ）に「未処理排出ガス温度を200〜400℃程度に上昇させ」、「昇温後の未処理排出ガス」を「触媒容器２９内に送り込」むことが、記載事項（カ）に「触媒床温度が600℃以上とならないように制御」することが記載されている。
　また、記載事項（ケ）には「粒状触媒・・・の触媒金属種としては、・・・白金（Pt）系もしくは白金（Pt）−パラジウム（Pd）系のものが適している」ことが、記載事項（コ）には「モノリス担体・・・に活性アルミナコートをおこない、次いで白金を付着させ・・・モノリス触媒を・・・作成した」こと、「モノリス触媒相互の間および該モノリス触媒の周囲に形成された空間部分に、直径２〜４mmの粒状触媒・・・を充填し」たことが記載されている。
　そして、記載事項（カ）に「モノリス触媒３０の上方側および下方側にはそれぞれ測温体３８および３９を設け、各々触媒容器２９の入口側温度および出口側温度を測定しうるようにしている」との記載があることからみて、触媒容器３０内で未処理排出ガスは上方から下方に向けて触媒中を通過することは明らかである。
　記載事項（ア）に記載された「排出ガス浄化装置」は、その「触媒容器」内で排出ガスの浄化を行うものであることは明らかであるから、この「触媒容器」に着目して上記記載事項を整理すると、刊行物１には、
「触媒容器内の触媒受け上に、モノリス担体に活性アルミナコートをおこない、次いで白金を付着させて作成した複数のモノリス触媒を並設し、前記触媒中に上方から下方に向けて未処理排出ガスを通過させて前記排出ガスの浄化をおこなう触媒容器であって、200〜400℃程度に昇温させた未処理排出ガスが送り込まれ、触媒床温度が600℃以上とならないように制御して前記排出ガスの浄化をおこなう触媒容器において、
　前記複数のモノリス触媒相互の間および該モノリス触媒の周囲に形成された空間部分に、直径２〜４mmの白金（Pt）系もしくは白金（Pt）−パラジウム（Pd）系の触媒金属を担持した粒状触媒からなるシール材を充填した排出ガス浄化装置の触媒容器。」
の発明（以下、「刊行１発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
　本願補正発明と刊行１発明とを対比すると、刊行１発明の「触媒受け」は、本願補正発明の「支持台」に相当し、刊行１発明の「排出ガス」は、本願補正発明の「排ガス」に相当する。
　刊行１発明の「モノリス担体」と本願補正発明の「セラミック担体」は、「担体」である点において共通する。そして、刊行１発明の「複数のモノリス触媒」は、「担体」に触媒を担持させたものであることは明らかであり、本願補正発明の「ハニカム触媒ユニット」に相当する。
　刊行１発明の「触媒容器」は、「前記触媒中に上方から下方に向けて未処理排出ガスを通過させて前記排出ガスの浄化をおこなう」ものであるから、「排ガス流れが上から下に向かう様に構成された」ものであるといえ、また、「200〜400℃程度に昇温させた未処理排出ガスが送り込まれ、触媒床温度が600℃以上とならないように制御して前記排出ガスの浄化をおこなう」ものであるから、「排ガス処理時に前記ハニカム触媒ユニットの入口温度が３００℃以上となり、かつ前記ハニカム触媒ユニットの出口温度が前記入口温度よりも１００℃以上高くなる状況下で使用される」ものを含むことは明らかである。
  刊行１発明の「該モノリス触媒の周囲に形成された空間部分」は、本願補正発明の「前記ハニカム触媒ユニットと装置内壁の間隙」に相当することは明らかであり、刊行１発明でこの「空間部分」に「粒状触媒からなるシール材を充填」することにより形成される層は「充填層」といえるものである。
　刊行１発明の「粒状触媒」は、本願補正発明の「粒状物」に相当し、両者の平均粒径は「２〜４mm」の範囲で重複し、担持する金属種も「ＰｔまたはＰｔ−Ｐｄ」で重複する。
　そして、刊行１発明の「排出ガス浄化装置」は、本願補正発明の「排ガス処理装置」に相当し、刊行１発明の「触媒容器」は「触媒充填装置」といえるものである。
　
　してみると、両者は、
「触媒充填装置内の支持台上に、担体に触媒を担持させたハニカム触媒ユニットが配置され、排ガス流れが上から下に向かう様に構成された触媒充填装置であって、排ガス処理時に前記ハニカム触媒ユニットの入口温度が３００℃以上となり、かつ前記ハニカム触媒ユニットの出口温度が前記入口温度よりも１００℃以上高くなる状況下で使用されるものであり、
　前記ハニカム触媒ユニットと装置内壁の間隙に、平均粒径２〜４ｍｍの粒状物からなる充填層が少なくとも形成され、
　前記粒状物は、ＰｔまたはＰｔ−Ｐｄを粒状物に担持させたものである排ガス処理装置における触媒充填装置」
で一致し、次の点で相違する。
　
相違点ａ：本願補正発明は、「支持台」が、触媒充填装置の「内壁に付設された」ものであり、「オーステナイト系ステンレス製」であるのに対し、刊行１発明はかかる特定がない点
相違点ｂ：本願補正発明は、「担体」が、「セラミック」担体であるのに対し、刊行１発明はかかる特定がない点
相違点ｃ：本願補正発明は、「粒状物」が、「γ−アルミナ」粒状物であり、ＰｔまたはＰｔ−Ｐｄを「表面」に担持させたものであるのに対し、刊行１発明はかかる特定がない点
　
　そこでまず、相違点ａについて検討する。
　刊行１発明においても、「支持台」は、触媒充填装置内でハニカム触媒ユニットを保持するものであるから、どの様な態様で付設するのであれ、「支持台」を触媒充填装置の内壁に付設することは当然のことである。
　また、刊行物１の記載事項（オ）にも「触媒受け３１」として「金網」が例示されているように、触媒充填装置内でハニカム触媒ユニットを保持するものである「支持体」は、通常、強度に優れた金属材で構成されるものであり、高温腐食環境で使用されることを考慮して、この「支持台」をオーステナイト系ステンレス製とすることは当業者にとって当然のことである。
　
　次に、相違点ｂについて検討する。
　そもそも、ハニカム担体の材質として「セラミック」は最も一般的なものである。
　よって、刊行１発明において「担体」として「セラミック」担体を用いることに、当業者にとっての何らの困難性も見出せない。
　
　最後に、相違点ｃについて検討する。
　刊行物１の記載事項（ク）に「粒状担体は一般にγ−アルミナ等の活性アルミナで作られて」いることが記載されているとおり、触媒金属を担持する粒状物の材質としてγ−アルミナは最も一般的なものである。また、このγ−アルミナからなる粒状物に触媒金属が担持される態様として、その「表面」に触媒金属が担持されることは最も一般的な態様である。
　よって、刊行１発明において、「粒状物」を、「γ−アルミナ」粒状物「表面」にＰｔまたはＰｔ−Ｐｄが担持されたものとすることに、当業者にとっての何らの困難性も見出せない。
　
　そして、刊行物１の記載事項（キ）に「モノリス触媒３０・・・の方がシール材３３を構成する粒状触媒・・・よりも著るしく圧力損失が少ないため、触媒容器２９内に導入された未処理排出ガスのほとんどがモノリス触媒３０を通過して良好に浄化される」こと、「シール材３３が粒状触媒である場合にはシール材３３を通過している間に未処理排出ガスの浄化がおこなわれる」ことが記載されており、刊行１発明においても良好な排ガス処理効率を得ることができるものと認められる。
　確かに、刊行物１には、「高温時にハニカム触媒ユニットと装置内壁の間隙が拡張した場合でも、未処理ガスのリークを確実に防止することができ、排ガス処理効率を高めることのできる触媒充填装置を提供する」という本願補正発明の課題は記載されていない。
　しかし、「触媒充填装置」は、その内部で高温排ガスが触媒と接触することにより排ガスに含まれる有害成分の除去を行うものである以上、金属製の支持材とセラミック製のハニカム担体は共に高温に曝され、金属とセラミックの熱膨張係数の差により、常温時と比較して高温時にハニカム触媒ユニットと装置内壁の間隙が拡張し、変形することは、従来より当該技術分野において広く知られていたことであり、かかる高温時のハニカム触媒ユニットと装置内壁の間隙の拡張により生じる未処理排ガスの流出を防止することは、例えば、本願明細書に特許文献４として示された特開昭５７−５６０２６号公報に記載されているとおり、従来より当該技術分野において広く知られていた技術課題である。
　よって、上記の本願補正発明の課題は当該技術分野において従来より認識されていた課題にすぎず、「前記ハニカム触媒ユニットと装置内壁の間隙に、平均粒径０．５〜５ｍｍの粒状物からなる充填層が少なくとも形成され、前記粒状物は、ＰｔまたはＰｔ−Ｐｄを粒状物表面に担持させたものである」刊行１発明においても、高温時にハニカム触媒ユニットと装置内壁の間隙が拡張し、変形した場合でも、粒状物が流動することによりこの間隙が塞がれるため未処理ガスのリークを確実に防止することができ、しかも、粒状物の触媒機能によりこの間隙に流入した排ガスも処理することができ、よって、高い排ガス処理効率を得ることができることは、当業者が容易に予測し得たことであると認められる。
　そして、本願明細書及び図面の記載を検討しても、本願補正発明において、「支持台」を触媒充填装置の「内壁」に付設された「オーステナイト系ステンレス製」としたこと、「担体」を「セラミック」担体としたこと、「粒状物」を「γ−アルミナ」「表面」に触媒金属を担持させたものとしたこと、さらにはこれらを組み合わせたことにより、当業者が予測し得ない格別顕著な効果が奏されたものとは認められない。
　
　したがって、本願補正発明は、刊行物１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであって、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
　なお、請求人は、回答書において、刊行物１に記載された発明は「断熱空間３４」を有するものであることを前提として、本願補正発明は刊行物１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない旨主張している。
　確かに、刊行物１には、実用新案登録請求の範囲に記載された考案の実施例として、「触媒容器２９が・・・水平断面が矩形状をなし、その対向する二辺側とモノリス触媒３０に周囲との間の空間部分にシール材３３を詰め、他の対向する二辺側においては触媒容器２９の側壁部から若干離れた位置に断熱空間３４を介して側壁３５を設け、この側壁３５とモノリス触媒３０の周囲との間の空間部分にシール材３３を詰め」たものが記載され（第２頁第４欄３８行〜第３頁第５欄２行）、「触媒容器２９の四辺共に断熱空間３４を介して側壁３５を設け、この側壁３５とモノリス触媒３０との間および各モノリス触媒３０相互の間の空間部分にシール材３３を詰める構造であつても良い」（第３頁第５欄２〜６行）ことが記載されている。
　しかし、これらは実用新案登録請求の範囲に記載された考案の一実施例にすぎず、実用新案登録請求の範囲には、「断熱空間」について何らの記載もない。
　しかも、「断熱空間３４」は、「触媒容器２９の側壁部に近いモノリス触媒３０の温度低下を防止することができるため、触媒層温度を確保しかつ均一な触媒床温度を維持することが可能であり、未処理排出ガスの浄化効率を著しく高めることができるようになる」（第３頁第５欄９〜１３行）という機能を有するものであるところ、刊行物１の第２頁第３欄２〜１８行に記載された従来の技術の問題点、同頁同欄１９〜２９行に記載された考案の目的、第５頁第９欄２５行〜同頁第１０欄１７行に記載された考案の効果の記載を検討しても、触媒層温度を確保しかつ均一な触媒床温度を維持することにより未処理排出ガスの浄化効率を高めることは、刊行物１の実用新案登録請求の範囲に記載された考案の目的、効果でないことは明らかである。
　してみると、刊行物１の実用新案登録請求の範囲の記載を基にして刊行物１に記載された事項を総合することにより、「断熱空間」を備えていない装置の発明を認定することができることは明らかである。
　よって、請求人の上記主張は根拠のないものである。
　
（４）むすび
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
３．本願発明について
（１）本願発明 
　平成２０年１１月４日付けの手続補正は前記２．のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明１」という。）は、平成１９年１２月１７日付け手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される以下のとおりのものである。
【請求項１】　触媒充填装置の内壁に付設された支持台上にハニカム触媒ユニットが配置され、排ガス流れが上から下に向かう様に構成された触媒充填装置であって、排ガス処理時に前記ハニカム触媒ユニットの入口温度が３００℃以上となり、かつ前記ハニカム触媒ユニットの出口温度が前記入口温度よりも１００℃以上高くなる状況下で使用されるものであり、
　前記ハニカム触媒ユニットと装置内壁の間隙に、平均粒径０．５〜５ｍｍの粒状物からなる充填層が少なくとも形成され、
　前記粒状物は、Ｐｔ、ＰｄおよびＲｈよりなる群から選択される１種以上をγ−アルミナ粒状物表面に担持させたものであることを特徴とする排ガス処理装置における触媒充填装置。
　
（２）引用刊行物 
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物である刊行物１及びその記載事項は、前記２．（２）に記載したとおりである。
　
（３）対比・判断
　本願発明１は、前記２．で検討した本願補正発明に関し、「オーステナイト系ステンレス製支持台」を「支持台」に拡張し、「セラミック担体に触媒を担持させたハニカム触媒ユニット」を「ハニカム触媒ユニット」に拡張したものである。
　してみると、本願発明１の発明特定事項のうち「支持台」を「オーステナイト系ステンレス製支持台」に限定し、「ハニカム触媒ユニット」を「セラミック担体に触媒を担持させたハニカム触媒ユニット」に限定したものに相当する本願補正発明が、前記２．（３）に記載したとおり、刊行物１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願補正発明と同様の理由により、本願発明１も、刊行物１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（４）むすび 
　以上のとおり、本願発明１は、刊行物１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。