【事件の表示】
　特願２００５−５１３４４７「露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　３月１０日国際公開、ＷＯ２００５／０２２６１４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１６年８月２５日（優先権主張　平成１５年８月２８日　日本国）を国際出願日とする出願であって、平成２２年１月２７日付けで拒絶の理由が通知され、同年３月２９日付けで手続補正がなされ、同年６月９日付けで拒絶査定がなされ、これに対して同年９月１０日に拒絶査定不服審判の請求がなされると同時に手続補正がなされたものである。
　その後、前置報告書の内容について、審判請求人の意見を求めるために平成２３年７月５日付けで審尋がなされ、同年９月２日付けで当該審尋に対する回答書が提出された。
　
　
　
２．補正の却下の決定
［補正の却下の決定の結論］
　平成２２年９月１０日付け手続補正（以下「本件補正」という）を却下する。
　
［理由］
２−１．本願補正発明
　本件補正は、本件補正前の特許請求の範囲の請求項１の記載を以下のとおり補正することを含むものである。
　
「  転写用のパターンが形成された第１物体を第１光ビームで照明し、前記第１光ビームで前記第１物体及び投影光学系を介して第２物体を露光する露光方法において、
　前記投影光学系の鏡筒に取り付けられた照射機構を用いて、
前記第１物体を照明する照明条件の変更に基づき、
照射する
の照射位置を調整して前記第２光ビーム
その照射位置に
　
　上記の請求項１に係る補正は、本件補正前の特許請求の範囲の請求項１に記載した発明を特定するための事項である「第２光ビームを照射」する工程について、「前記第１物体を照明する照明条件の変更に基づき」「照射位置を調整」すると限定することを含むものであり、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下「平成１８年改正前特許法」という）第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とする補正に該当する。
　
　そこで、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に記載した発明（以下「本願補正発明」という）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか、すなわち平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するかについて以下に検討する。
　
　
２−２．引用例
２−２−１．刊行物の記載事項
２−２−１−１．引用例１
　本願の優先日前に頒布され、原査定の拒絶の理由に引用された刊行物である、特開２００１−１９６３０５号公報（以下「引用例１」という）には、以下の技術事項が記載されている（後述の「２−２−２．引用発明の認定」において引用した記載に下線を付した）。
　
記載事項１−ａ．【０００２】乃至【０００４】
「【０００２】
【従来の技術】光線により回転非対称に作用を受ける光学装置の結像特性が、回転非対称性から生じる結像欠陥によって損なわれることがある。こうした結像欠陥は例えば、投影光に関して言えば、屈折または反射光学部材の回転非対称な光誘導加熱による結果だけでなく例えば、他の光誘導効果の結果としても起こり、例えば光学部材における相当する回転非対称な膨張、及び／又は、回転非対称な屈折率分布をもたらすコンパクションなどである。高品質の結像が求められる場合、特にマイクロリソグラフの投影プリンティング処理ではそうであるが、上述した光によって引き起こされる結像欠陥を容認することはできない。
【０００３】包括的なＥＰ  ０  ８２３  ６６２  Ａ２により、最初に説明した種類の光学装置は知られている。そこでは補償光源を使用して、少なくともそのような結像欠陥の部分的低減を達成する努力がなされている。補償光を吸収させることにより、光学システムにおける温度分布を均一化することで達成されている。その場合、投影光が作用しない光学部材の端部の区域を通って補償光が光軸に平行に導かれる。その結果、投影プリンティングに利用できる光学装置の有効な口径が制限される。投影光の光路と平行な補償光に必要な入力結合が更に構造の一体化の問題を生じるが、これは、追加の入力結合部材、及び／又は、偏向部材を投影光の光路内に、及び／又は、近くに挿入する必要があるからである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的は、補償光を使用して有効口径に悪影響を与えることなく光学部材の温度分布を対称、及び／又は、均一にできる最初に説明した種類の光学装置を開発することである。」
　
記載事項１−ｂ．【００２０】乃至【００３５】
「【００２０】
【発明の実施の形態】図１に示す結像補正されたレンズ１は、
マイクロリソグラフィ投影プリンティング装置
【００２１】
投影光ビーム２は
紫外線放射ビームである
【００２２】
レンズ１は取付台５に配置される
取付台５にレンズ１を装着させるため、取付台は、２つの台座部分６および７に対して後部からネジ付きリング（図示しない）を使用して締め付けられる
台座部分は、各々がほぼ９０°の角度領域に亘って広がっている互いに向かい合うリングの一部（セグメント）の形で、取付台５の輪状の基本ケース８上に形成される
【００２３】投影ビーム２は、その断面区域の短辺４が各々の場合に台座部分６および７の方向に向くように誘導される。
【００２４】台座部分６および７が形成されている領域の間を閉じ、完全なリングとしている
基本ケース８
にレンズ１の光軸と同軸のアーク状案内溝９が形成されている
【００２５】上述したような
基本ケース８の案内溝９の中で周縁方向に変位可能な保持ブロック１０の内部に、光ファイバ１１の端部が
装着される
【００２６】
保持ブロック１０は
補償光供給装置の一部である
ファイバ１１の端部から出てくるビーム１２は、レンズ１の周縁表面１３に入射して貫通する
横方向光ビーム１２の波長は４ミクロンより長く、レンズ１の製作で使用される石英ガラスの吸収領域内にある
【００２７】光ファイバ１１は横方向光ビーム１２の波長を大きく吸収しないガラス材料で作成される。光ファイバ１１は、それらの入力端部を結合されて入力保持ブロック１４でファイバ束になる。入力保持ブロック１４の上流側に接続されているのが光学出力分配器１５で、ファイバ束上に結像された入力光ビーム１６を個々のファイバ１１に分配する。こうした出力分配器１５は、様々な構造形体で既知である。出力分配は例えば、個々のファイバ１１に付随する光学部品を偏光することにより、または、ファイバ１１に付随する適切なフィルタにより、あるいは代わりに、個々のファイバ１１内に結合される入力光ビーム１６の光量に影響を及ぼすようにファイバ１１の入力を個々に調節することにより達成される。
【００２８】入力光ビーム１６は、レーザ１７などの赤外線光源により放射され、ファイバ１１のファイバ束上に結像光学部品１８を使って結像される。出力分配器１５およびレーザ１７は、出力制御回路１９と通信リンクを持つ。出力制御回路は、２次元ＣＣＤアレイなどのセンサ配置２１からの信号を受信するプリンティング制御回路２０と通信リンクを持つ。
【００２９】レンズ１の結像補正は、以下の手段で達成される。
レンズ１の領域に矩形断面区域を持つ投影ビーム２によって、レンズ１は投影ビーム２の波長での材料の残留吸収のために加熱される
【００３０】レンズ１の周縁表面１３を経由して供給される横方向光ビーム１２により、更なる熱寄与が、光線吸収の結果として同様に伝達される。しかしながら、波長で４ミクロン以上でのレンズ１材料の高い吸収能力により、横方向光ビームは、特定の深さまでしかレンズ１を貫通しない。横方向光ビームは、通常、投影光ビーム１により照射されるレンズ１の区域２には達しないため、吸収された光線出力に対応する熱は、実際には投影光ビーム２の外側にあるレンズ１の側面領域に生じるという結果になる。
【００３１】従って、前記熱寄与の結果生じたレンズ１の温度分布は、横方向光ビーム１２の誘導された個々の出力、それらの波長および形、及び、レンズ１における横方向光ビーム１２の重ね合わせに左右される。横方向光ビーム１２によるレンズ１の追加加熱の目的は、温度分布を対称にする、及び／又は、前記レンズの予め選択された形状の温度分布を達成することである。これは、制御可能な結像特性をもたらす。
【００３２】経験的な値に基づいて前記パラメータは、投影光ビーム２の残留吸収および横方向光ビーム１２の意図的な吸収から生じる熱寄与のため、レンズ１においてできるだけ均一な温度分布が発生するように選択される。前記
温度分布の均一化により、レンズ１の残留吸収で生じた結像欠陥を、投影プリンティングの間に理想的に除去することができる
【００３３】
投影プリンティング装置の光学装置の結像特性が、光学装置の焦点面に配置されるセンサ配置２１により監視される
【００３４】このように
取得された結像特性に基づいてプリンティング制御回路２０は、レンズ１において可能な限り均一な温度分布が投影光ビーム２と横方向光ビーム１２との結合された吸収によって達成されるように、個々の横方向光ビーム１２の出力に対して設定値を割り当てる
【００３５】横方向光ビーム１２の出力用設定値は、プリンティング制御回路２０により出力分配器１５に送られ、出力分配器は、様々なファイバ１１の間に入力光ビーム１６の対応する出力分布をもたらす。」
　
記載事項１−ｃ．【００４５】乃至【００５３】
「【００４５】横方向光ビーム１１２および２１２を整形するために、レンズ１０１および２０１は、図２および図３に示されるようにファセットを刻むことができる。図１のそれに対応する前記代替構造形体の構成部材については、１００および２００ほど増えた参照番号がつけられているが、詳細については再度説明されない。
【００４６】図２においてレンズ１０１の周縁表面１１３は、横方向光ビーム１１２がファセット１２２の領域でレンズ１０１を貫通するように、各々の横方向光ビーム１１２に付随する凸面ファセット１２２を持つ。ファセット１２２は、レンズ１０１の光軸に垂直な平面（図２および図３の図面平面）と、それと垂直で各々のファセット１２２の中心を包含するメリジオナル平面との両方において凸面に湾曲している。
【００４７】ファセット１２２の凸面のためにファセット１２２に入る際の横方向光ビーム１１２は、ファセットのない図１で説明された状況においてより、より多く集光させられる。横方向光ビーム１１２の集光は、図２に直角な平面にもあるファセット１２２によって更に達成される。
【００４８】前記のより大きな集光は、レンズ１０１内の横方向光ビーム１１２の対応する集光をもたらし、従って、横方向光ビーム１１２の重ね合わせ領域の変更された形状をもたらし、結果的に、横方向光ビーム１１２の吸収の結果としてレンズ１０１内の変更された温度分布をもたらす。
【００４９】図３に示された凹面ファセット２２３は、横方向光ビーム２１２の出力発散に対しファセット２２３の曲率半径を適切に適応させると、出力発散がレンズ２０１内に入る際に実際上変更されないようにすることができる。これは、凹面ファセット表面を横方向光ビーム２１２の放射方向と垂直にして、ファセット表面で何の屈折も起こらないようにできるためである。横方向光ビーム２１２の吸収によって加熱されるレンズ２０１の領域は、従って図１および図２で示された状況と比べて大きくなる。
【００５０】４ミクロンより長く、かつレンズ材料に比較的多く吸収される波長を持つ赤外線光源の代わりに、レンズ材料に対して比較的低い吸収係数を持つ波長の光源を使うことができる。こうした光源は、比較的安価で市販されている。
【００５１】こうした光源を持つ実施形態が図４に示されている。図１の構成要素に対応する代替構成要素については、３００増やした参照番号を付けて、詳細については再度説明しない。
【００５２】レーザは、りん化インジウム・ダイオードレーザである。レーザから放射される入力光ビーム３１６の波長は、１４００ｎｍの領域にある。石英ガラス製のレンズ３０１の固有吸収は増加するが、波長４ミクロン以上の波長での吸収には匹敵しない。レーザ３１７の温度を変更することで前記レーザの放射波長は、特定領域において整調できる。
【００５３】横方向光ビーム３１２は、あまり吸収されないためレンズ３０１を透過する。全ての横方向光ビーム３１２は、中央のほぼ回転対称な領域で重なり、その領域は投影光ビーム３０２内にあり、それ自体は温度分布の回転非対称性に影響を与えない。必要とされる回転対称性は、投影光ビーム３０２の外側にある横方向光ビーム３１２の領域によって達成される。」
　
記載事項１−ｄ．図１
「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
２−２−１−２．引用例２
　
　本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平０８−００８１７８号公報（以下「引用例２」という）には、以下の技術事項が記載されている（後述の「２−４−１．相違点１について」において引用した記載に下線を付した）。
　
記載事項２−ａ．【０００４】
「【０００４】一般に投影光学系を有したステッパーを用いて微細な回路パターンの転写を行う際、該投影光学系を構成するレンズが露光用の紫外光の一部を吸収して、レンズが熱的に膨張して、その表面形状が変化したり、更にはレンズの内部の温度分布が一様でなくなりレンズ内部に不均一な屈折率分布が生じてくる場合がある。この結果、該投影光学系の結像特性が変化してくるという問題があった。」
　
記載事項２−ｂ．【００１７】乃至【００１９】
「【００１７】ステップアンドスキャン方式では上述のようにスリット状の照明光束を用いて投影露光をしている為、投影レンズ１０２内部を透過する光束も光軸１１０に関して回転対称にはならない。例えば典型的な場合では、図３８に示すようｙ軸方向に伸びた温度分布になる。図３８中で、１３１は投影レンズ１０２を構成する光学エレメントの一部をｘ，ｙ面内に描いたものであり、斜線部１３２は実際に光束が透過する範囲を摸式的に示してある。
【００１８】前述の通り投影レンズが露光光の一部を吸収すると熱的変化により光学特性が変化することが問題となる。特に図３８に示すように、投影レンズの光軸に関して回転対称でない熱吸収（温度分布）がある場合には、レンズの波面収差が回転非対称となり、焦点位置，結像倍率等の光学特性が回転非対称となり、非点収差等の回転非対称な収差が生じる。従って、投影レンズの解像力が低下する。
【００１９】更にレチクル上のパターン光透過率の不均一性、四重極照明等の新たな照明方法の普及等を考えると、投影レンズの温度分布が光軸に関して回転対称になることは多く、非回転対称な波面収差が発生する機会も多い。」
　
記載事項２−ｃ．【００３５】
「【００３５】
【実施例】図１は本発明をステップアンドスキャン方式の
投影露光装置
　
記載事項２−ｄ．【０１１６】乃至【０１２３】
「【０１１６】本実施例では
照明光学系にアパーチャ３４８を挿入して照明用の光束を制限し
【０１１７】
アパーチャ３４８としては、例えば図２８に示すものが用いられる
アパーチャ３４８には２つの開口３６３，３６４が設けられており
【０１１８】この考え方を更に進めて、アパーチャ３４８として
図２９のように４つの開口３４６〜３４７を有するものを用いる
【０１１９】上述の変形照明法により解像度が向上する理由については、例えば“Proc.SPIE No.1674 Optical/Laser Microlithography V,P.92(1992) ”等に詳しく記載されているのでここでは説明を省略する。
【０１２０】アパーチャ３４８は、前述の通り投影レンズ３４６の瞳位置３５０と共役な位置に設置されるので、前記アパーチャ３４８の開口部の像が、投影レンズ３４６の内部の瞳位置３５０の近傍に形成されることになる。その影響を図３０を用いて説明する。
【０１２１】図中、３７２は前記瞳位置３５０近傍にあるレンズエレメントのうちの１枚を表す。アパーチャ３４３として図２８に示したものを用いると、レンズエレメント３７２には斜線３７４，３７５の位置に光束が集中的に入射することになり、その結果、レンズエレメント３７２の温度分布は図３１に示すように光軸に関して非回転対称な分布になってしまう。
【０１２２】図３１中、色が濃い部分ほど温度が高いことを表すのは前述の図２５及び図２６の説明の場合と同様である。
図３１中の３８１〜３８８は
加熱手段であり
この場合には加熱手段３８１，３８５の温度を主として上昇させることにより、レンズエレメント３７２の温度分布を図２６で説明したような回転対称な形に補正することができる
【０１２３】又、
アパーチャ３４８として図２９に示すものを用いれば
この場合には、加熱手段３８１，３８３，３８５，３８７の温度を主として上昇させることにより、レンズエレメント３７２の温度分布を図２６で示すように対称な形に補正することができる
　
記載事項２−ｅ．図２８
「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
記載事項２−ｆ．図２９
「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
記載事項２−ｇ．図３１
「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
２−２−２．引用発明の認定
　記載事項１−ａ、１−ｂ及び１−ｄの記載内容から、引用例１には、
「　マイクロリソグラフィ投影プリンティング装置を用いた方法において、
　投影光ビーム２は紫外線放射ビームであり、
　レンズ１は取付台５に配置され、取付台５にレンズ１を装着させるため、取付台は、２つの台座部分６および７に対して後部からネジ付きリングを締め付けられ、台座部分は、各々がほぼ９０°の角度領域に亘って広がっている互いに向かい合うリングの一部（セグメント）の形で、取付台５の輪状の基本ケース８上に形成され、基本ケース８にレンズ１の光軸と同軸のアーク状案内溝９が形成されており、基本ケース８の案内溝９の中で周縁方向に変位可能な保持ブロック１０の内部に、光ファイバ１１の端部が装着され、保持ブロック１０は補償光供給装置の一部であり、ファイバ１１の端部から出てくるビーム１２は、レンズ１の周縁表面１３に入射して貫通し、横方向ビーム１２の波長は４ミクロンより長く、レンズ１の製作で使用される石英ガラスの吸収領域内にあり、
　レンズ１の領域に矩形断面区域を持つ投影ビーム２によって、レンズ１は投影ビーム２の波長での材料の残留吸収のために加熱され、
　投影プリンティング装置の光学装置の結像特性が光学装置の焦点面に配置されるセンサ配置２１により監視され、取得された結像性能に基づいてプリンティング制御回路２０は、レンズ１において可能な限り均一な温度分布が投影光ビーム２と横方向ビーム１２との結合された吸収によって達成されるように、個々の横方向ビーム１２の出力に対して設定値を割り当てることにより、レンズ１の結像欠陥を除去する、
　マイクロリソグラフィ投影プリンティング装置を用いた方法。」
（以下「引用発明」という）が記載されていると認められる。
　
２−３．対比
　本願補正発明と引用発明とを対比する。
　
　引用発明は「マイクロリソグラフィ投影プリンティング装置を用いた方法」であるから、当業者の技術常識から、転写（プリンティング）用のパターンが形成された第１物体（所謂、マスクやレチクル等）を「投影光ビーム２」で照明し、前記「投影光ビーム２」で前記第１物体及び「レンズ１」を介して第２物体（所謂、ウェハ等）を露光するものであることは明らかである。よって、引用発明の「マイクロリソグラフィ投影プリンティング装置を用いた方法」は、本願補正発明の「転写用のパターンが形成された第１物体を第１光ビームで照明し、前記第１光ビームで前記第１物体及び投影光学系を介して第２物体を露光する露光方法」に相当する。
　引用発明は、「レンズ１の領域に矩形断面区域を持つ投影ビーム２によって、レンズ１は投影ビーム２の波長での材料の残留吸収のために加熱され」るものであり、当該加熱による影響に対して、「レンズ１において可能な限り均一な温度分布が投影光ビーム２と横方向ビーム１２との結合された吸収によって達成されるように、個々の横方向ビーム１２の出力に対して設定値を割り当てる」ものであるから、当該設定値の割り当ては、投影ビーム２による加熱の影響が相殺されるように、例えば、個々の横方向ビーム１２のうち、前記投影ビーム２によって加熱される位置に対応する横方向ビーム１２の出力をオフ、前記投影ビーム２によって加熱される位置とは異なる位置に対応する横方向ビーム１２の出力をオンとするように、横方向ビーム１２の照射位置を実質的に調整しているものであるといえる。よって、引用発明の「保持ブロック１０の内部に、光ファイバ１１の端部が装着され」、「ファイバ１１の端部から出てくるビーム１２は、レンズ１の周縁表面１３に入射して貫通し」、「レンズ１において可能な限り均一な温度分布が投影光ビーム２と横方向ビーム１２との結合された吸収によって達成されるように、個々の横方向ビーム１２の出力に対して設定値を割り当てることにより、レンズ１の結像欠陥を除去する」ことは、本願補正発明の「照射機構を用いて」、「前記光学部材の表面の少なくとも一部に照射する」「第２光ビームの照射位置を調整して前記第２光ビームをその照射位置に照射し、前記投影光学系の結像特性を補正すること」に相当する。
　引用発明の「投影光ビーム２は紫外線放射ビームであり」、引用発明の「横方向ビーム１２の波長は４ミクロンより長く、レンズ１の製作で使用される石英ガラスの吸収領域内にあ」ることから、引用発明の「（横方向）ビーム１２」は、引用発明の「投影光ビーム２」とは異なる波長域であることが分かり、当該事項は、本願補正発明の「第２光ビーム」が「第１光ビームと異なる波長域」のものであることに相当する。
　引用発明は、「基本ケース８にレンズ１の光軸と同軸のアーク状案内溝９が形成されており、基本ケース８の案内溝９の中で周縁方向に変位可能な保持ブロック１０の内部に、光ファイバ１１の端部が装着され」ることから、引用発明の「保持ブロック１０」は、「基本ケース８」に備えられているといえる。一方、引用発明では、「レンズ１は取付台５に配置され、取付台５にレンズ１を装着させるため、取付台は、２つの台座部分６および７に対して後部からネジ付きリングを締め付けられ、台座部分は、各々がほぼ９０°の角度領域に亘って広がっている互いに向かい合うリングの一部（セグメント）の形で、取付台５の輪状の基本ケース８上に形成され」る、すなわち、「基本ケース８」は「レンズ１」を保持するものであるといえ、また一般に鏡筒とは、レンズをその内部に保持するものを指し、その形態（輪状、筒状等）には格別の意味を有しないことから、引用発明の「基本ケース８」は、本願補正発明の「投影光学系の鏡筒」に相当する。してみれば、引用発明の「保持ブロック１０」が「基本ケース８」に備えられていることは、本願補正発明の「照射機構」が「投影光学系の鏡筒に取り付けられ」ていることに相当する。
　
  したがって、本願補正発明と引用発明とは、
「　転写用のパターンが形成された第１物体を第１光ビームで照明し、前記第１光ビームで前記第１物体及び投影光学系を介して第２物体を露光する露光方法において、
　前記投影光学系の鏡筒に取り付けられた照射機構を用いて、前記光学部材の表面の少なくとも一部に照射する前記第１光ビームと異なる波長域の第２光ビームの照射位置を調整して前記第２光ビームをその照射位置に照射し、前記投影光学系の結像特性を補正する露光方法。」
である点で一致し、以下の点で相違する。
　
（相違点１）
　本願補正発明では、「前記第１物体を照明する照明条件の変更に基づき」「第２光ビームの照射位置を調整して」いるのに対し、引用発明では、「投影プリンティング装置の光学装置の結像特性が、光学装置の焦点面に配置されるセンサ配置２１により監視され、取得された結像性能に基づいて」「個々の横方向ビーム１２の出力に対して設定値を割り当て」ている点。
　
（相違点２）
　本願補正発明では、「前記投影光学系の光学部材の斜め上方又は下方から」「第２光ビームをその照射位置に照射し」ているのに対し、引用発明では、「レンズ１の周縁表面１３に」「（横方向）ビーム１２」を「入射」させている点。
　
　
２−４．判断
２−４−１．相違点１について
　記載事項２−ａ乃至２−ｇの記載内容から、引用例２には、
「　投影露光装置を用いた方法において、
　照明光学系に２つの開口３６３，３６４が設けられたアパーチャを挿入した場合には、加熱手段３８１〜３８８のうち、加熱手段３８１，３８５の温度を主として上昇させ、照明光学系に４つの開口３４６〜３４７を有するアパーチャを挿入した場合には、加熱手段３８１〜３８８のうち、加熱手段３８１，３８３，３８５，３８７の温度を主として上昇させることにより、レンズエレメント３７２の温度分布を対称な形に補正する、
　投影露光装置を用いた方法。」
が記載されていると認められる。
　
　ここで、投影露光装置において、複数の照明条件を変更可能とした構成は周知である（例えば、特開２００３−０７７８０６号（【００３３】、【００３７】、【００４０】、図８参照））。
　当該周知事項に照らすと、引用例２に記載の発明で、２種類のアパーチャを用いる場合を想定し、どちらのアパーチャを用いた場合にも対応可能なように加熱手段３８１〜３８８を配置しているのは、複数の照明条件を変更可能に構成した場合を考慮したものであると認められる。そうでないとしても、上記周知の構成を採用して照明条件を変更可能に構成することは、当業者が適宜設計する事項に過ぎない。
　そして、引用例２に記載された発明における、「照明光学系に２つの開口３６３，３６４が設けられたアパーチャを挿入した場合」及び「照明光学系に４つの開口３４６〜３４７を有するアパーチャを挿入した場合」は共に、上記相違点１に係る本願補正発明の構成における「前記第１物体を照明する照明条件」に相当する。
　よって、引用例２に記載された発明は、“第１物体を照明する照明条件に基づいて、加熱する位置を調整する”ものであるといえる。
　
　引用発明と引用例２に記載された発明とは、投影露光装置を用いた方法である点で技術分野が共通し、非対称な照明光に起因する発熱により生じる光学特性の低下をレンズの任意の位置を加熱して対称な温度分布とすることにより補正する点で課題も共通するので、引用発明において、引用例２に記載された発明における、“第１物体を照明する照明条件に基づいて加熱する位置を調整する”という技術思想を採用することにより、上記相違点１に係る本願補正発明の構成を得ることは、当業者であれば容易に想到し得ることである。
　
２−４−２．相違点２について
　光学部材表面を部分的に加熱するためのビームの照射を、光学部材の斜め上方から行う構成は、本願優先日前に周知である（例えば、特開平０９−２３２２１３号【０００２】、【００２９】乃至【００３１】、図５参照）。
　また、所望の位置へビームを照射しようとする際、光学部材の斜め上方から行うとにより、幾何学的に有利であることは明らかである。
　よって、引用発明において、「（横方向）ビーム１２」を「レンズ１」の斜め上方から照射する構成とすることは当業者が適宜行う設計事項であり、上記相違点２に係る本願補正発明の構成を得ることは、当業者であれば容易に想到し得ることである。
　
　なお、請求人は審判請求書において、以下のように主張している。
「　また、引用文献１（当審注：本審決における「引用例１」）の段落［００４５］及び図２、図３の例では、レンズの側面から供給されるビームを集光又は発散させるために、レンズ１０１，２０１の側面に曲率を設けている点、並びに引用文献１の段落［００５０］−［００５３］及び図４の例では、レンズ材料に対する吸収係数の低い波長の光を用いてあえてレンズ３０１に対する横方向光ビーム３１２の透過距離を深くしている点より、引用発明１では、結像特性の補償用の光は、光学系の光軸に垂直な方向に、かつレンズの側面に供給することのみを想定しているものと思料いたします。」（回答書においても同様の主張をしている）
　しかしながら、記載事項１−ｃ（【００４５】乃至【００４９】）の記載内容を参酌すると、引用例１の図２及び図３により示される実施形態においてレンズ１０１及び２０１の側面に曲率が設けられている技術的意義は、横方向光ビーム１１２及び２１２を集光又は発散させる必要性が生じた場合にそれに対応するためであると認められるところ、そのような必要性がない場合には当該曲率を設けることは不要であると認められる（例えば、引用発明として認定した図１に示される実施形態においては当該曲率は設けられていない）。そして、レンズ１の側面に当該曲率を設けていないものにおいては、横方向ビーム１２をレンズの側面に照射することは必ずしも必要でないから、横方向ビーム１２をレンズの斜め上方から照射する構成を採用することについて、何らの阻害要件も認められない。
　同様に、横方向光ビームの波長についても、記載事項１−ｃ（【００５０】乃至【００５３】）の記載内容を参酌すると、図４に示される実施形態においてレンズ材料に対する吸収係数の低い波長の光を用いている技術的意義は、単に安価な光源を用いることができることであると認められ、（引用発明として認定した図１に示される実施形態を含む）他の実施形態においては、その波長がレンズ１の吸収領域内であり、特定の深さまでしかレンズ１を貫通しないビームが用いられている（記載事項１−ｂ（【００２６】、【００３０】）参照））。そして、その波長がレンズ１の吸収領域内であり、特定の深さまでしかレンズ１を貫通しないビームが用いられているものにおいては、横方向ビーム１２をレンズの側面に照射することは必ずしも必要でないから、横方向ビーム１２をレンズの斜め上方から照射する構成を採用することについて、何らの阻害要件も認められない。
　よって、上記主張は採用できない。
　
２−５．本願補正発明の効果について
　本願補正発明による効果は、引用発明、引用例２に記載された発明及び周知技術に基いて、当業者が予測し得る範囲内のものに過ぎず、格別なものとはいえない。
　
　
２−６．補正の却下の決定のむすび
　以上のとおり、本願補正発明は、引用発明、引用例２に記載された発明及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　したがって、本件補正は、平成１８年改正前特許法１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
　
　
３．本願発明について
３−１．本願発明
　本件補正は上記のとおり却下されたので、本願の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という）は、平成２２年３月２９日付け手続補正により補正された以下のとおりのものである。
　
「　転写用のパターンが形成された第１物体を第１光ビームで照明し、前記第１光ビームで前記第１物体及び投影光学系を介して第２物体を露光する露光方法において、
　前記投影光学系の鏡筒に取り付けられた照射機構を用いて、前記投影光学系の光学部材の斜め上方又は斜め下方から、前記光学部材の表面の少なくとも一部に前記第１光ビームと異なる波長域の第２光ビームを照射して、前記投影光学系の結像特性を補正することを特徴とする露光方法。」
　
　
３−２．引用例
　引用例及びその記載事項は、前記「２−２．引用例」に記載したとおりである。
　
　
３−３．対比・判断
　本願発明は、本願補正発明において「前記第１物体を照明する照明条件の変更に基づき」「照射位置を調整」すると限定のあるところ、これを削除したものに相当する。なお、本願補正発明における「照射する」及び「その照射位置に」の文言が削除されているが、これらの点に基づく実質的な差異はないと認められる。
　そうすると、本願発明と引用発明とは、前記「２−３．対比」で述べた相違点２においてのみ相違するが、前記「２−４−２．相違点２について」で述べたように、当該相違点２は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に想到することができたものであるから、本願発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　
３−４．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受ける事ができない。
　
　したがって、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。