【手続補正書】
【提出日】平成18年6月15日(2006.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放出源から放出される多成分ガス混合物に含まれる酸化窒素を還元するための装置であって、
（ａ）放出源から下流の方にガス混合物を輸送するための排気ガス導管、
（ｂ）還元剤を導管の中に注入するためのインジェクター、および
（ｃ）インジェクターより下流側の導管内に位置させた１つもしくはそれ以上のガス分析計
を含んでなる装置。
【請求項２】
酸化窒素の還元に触媒作用を有する触媒をさらに含んでなる請求項１に記載の装置。
【請求項３】
インジェクターより上流側の導管内に位置させた１つもしくはそれ以上のガス分析計をさらに含む請求項１に記載の装置。
【請求項４】
酸化窒素の還元に触媒作用を有する触媒をさらに含んでなる請求項３に記載の装置。
【請求項５】
放出源が、固定式の燃焼源である、請求項１、２、３または４のいずれかに記載の装置。
【請求項６】
燃焼源が、発電プラント、燃焼炉、蒸気タービンまたはガスタービンである、請求項５に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１５】
本発明の装置、その装置の使用、およびその装置の使用方法に関するさらなる記述は、米国仮出願第６０／３７０，４４５号明細書（出願日２００２年４月５日）および米国出願番号第１０／１１７，４７２号明細書（出願日２００２年４月５日）に見いだすことができるが、これらの出願それぞれのすべてを、すべての目的において本明細書の一部として援用するものとする。
本発明の好適な実施の態様は次のとおりである。
１．  放出源から放出される多成分ガス混合物に含まれる酸化窒素を還元するための装置であって、
（ａ）放出源から下流の方にガス混合物を輸送するための排気ガス導管、
（ｂ）還元剤を導管の中に注入するためのインジェクター、および
（ｃ）インジェクターより下流側の導管内に位置させた１つもしくはそれ以上のガス分析計
を含んでなる装置。
２．  酸化窒素の還元に触媒作用を有する触媒をさらに含んでなる上記１に記載の装置。
３．  触媒を、ガス分析計より上流側に位置させる上記２に記載の装置。
４．  触媒を、ガス分析計より下流側に位置させる上記２に記載の装置。
５．  第１の触媒をガス分析計より上流側に位置させ、第２の触媒をガス分析計より下流側に位置させる上記２に記載の装置。
６．  触媒が、垂直方向に配置された複数の触媒床を含んでなり、そして、第１の触媒床をガス分析計より上流側に垂直に位置させ、第２の触媒床をガス分析計より下流側に垂直に位置させる上記５に記載の装置。
７．  第１のガス分析計を触媒よりも上流側に位置させ、第２のガス分析計を触媒よりも下流側に位置させる上記２に記載の装置。
８．  複数のガス分析計を含んでなる上記１に記載の装置。
９．  複数のガス分析計を含んでなり、そして第１の触媒を複数のガス分析計より上流側に位置させ、第２の触媒を複数のガス分析計より下流側に位置させる上記２に記載の装置。
１０．  インジェクターより上流側の導管内に位置させた１つもしくはそれ以上のガス分析計をさらに含む上記１に記載の装置。
１１．  酸化窒素の還元に触媒作用を有する触媒をさらに含んでなる上記１０に記載の装置。
１２．  触媒を、ガス分析計より上流側に位置させる上記１１に記載の装置。
１３．  触媒を、ガス分析計より下流側に位置させる上記１１に記載の装置。
１４．  第１の触媒をガス分析計より上流側に位置させ、第２の触媒をガス分析計より下流側に位置させる上記１１に記載の装置。
１５．  触媒が、垂直方向に配置された複数の触媒床を含んでなり、そして、第１の触媒床をガス分析計より上流側に位置させ、第２の触媒床をガス分析計より下流側に位置させる上記１４に記載の装置。
１６．  第１のガス分析計を触媒よりも上流側に位置させ、第２のガス分析計を触媒よりも下流側に位置させる上記１１に記載の装置。
１７．  複数のガス分析計を含んでなり、そして第１の触媒を複数のガス分析計より上流側に位置させ、第２の触媒を複数のガス分析計より下流側に位置させる上記１１に記載の装置。
１８．  ガス分析計が化学／電気活性材料のアレイを含んでなる上記１、２、１０または１１のいずれかに記載の装置。
１９．  ガス分析計が、ガス混合物内の個々のガス成分の、ガス混合物内の個々の濃度に関連する、少なくとも１つの信号を出力する上記１、２、１０または１１のいずれかに記載の装置。
２０．  ガス分析計が、ガス混合物内のガス成分のサブグループの、ガス混合物内の合計の濃度に関連する、少なくとも１つの信号を出力する上記１、２、１０または１１のいずれかに記載の装置。
２１．  ガス分析計が、ガス混合物内の個々のガス成分の、ガス混合物内の個々の濃度に関連する、少なくとも１つの信号と、ガス混合物内のガス成分のサブグループの、ガス混合物内の合計の濃度に関連する、少なくとも１つの信号とを出力する上記１、２、１０または１１のいずれかに記載の装置。
２２．  ガス分析計が、意志決定ルーチンに信号を出力する上記１、２、１０または１１のいずれかに記載の装置。
２３．  すべての触媒より上流側にあるガス分析計と、すべての触媒より下流側にあるガス分析計の両方が、意志決定ルーチンに信号を出力する上記１、２、１０または１１のいずれかに記載の装置。
２４．  すべての触媒より上流側にあるガス分析計と、第１の触媒より下流側かつ第２の触媒より上流側にあるガス分析計と、すべての触媒より下流側にあるガス分析計がそれぞれ、意志決定ルーチンに信号を出力する上記１、２、１０または１１のいずれかに記載の装置。
２５．  ガス分析計がマップに信号を出力する上記１、２、１０または１１のいずれかに記載の装置。
２６．  ガス分析計が、還元剤の注入を制御する意志決定ルーチンに信号を出力する上記１、２、１０または１１のいずれかに記載の装置。
２７．  ガス分析計が、注入すべき還元剤の量を計算する意志決定ルーチンに信号を出力する上記１、２、１０または１１のいずれかに記載の装置。
２８．  ガス分析計が、ガス混合物内の個々の酸化窒素成分の、ガス混合物内の個々の濃度に関連する、少なくとも１つの信号を出力する上記１、２、１０または１１のいずれかに記載の装置。
２９．  ガス分析計が、ガス混合物内のすべての酸化窒素成分の、ガス混合物内の合計の濃度に関連する、少なくとも１つの信号を出力する上記１、２、１０または１１のいずれかに記載の装置。
３０．  ガス分析計が、ガス混合物内の１つもしくはそれ以上または全部の酸化窒素成分の、ガス混合物内の個々の濃度に関連する、少なくとも１つの信号を出力し、信号が注入すべき還元剤の量を計算する意志決定ルーチンに出力される上記１、２、１０または１１のいずれかに記載の装置。
３１．  還元剤がアンモニアである上記１、２、１０または１１のいずれかに記載の装置。
３２．  還元剤が尿素である上記１、２、１０または１１のいずれかに記載の装置。
３３．  燃焼源が固定式である上記１、２、１０または１１のいずれかに記載の装置。
３４．  上記１、２、１０または１１のいずれかに記載の酸化窒素ガスを還元するための装置を含んでなる、発電プラント。
３５．  上記１、２、１０または１１のいずれかに記載の酸化窒素ガスを還元するための装置を含んでなる、燃焼炉。
３６．  上記１、２、１０または１１のいずれかに記載の酸化窒素ガスを還元するための装置を含んでなる、蒸気タービン。
３７．  上記１、２、１０または１１のいずれかに記載の酸化窒素ガスを還元するための装置を含んでなる、ガスタービン。