【事件の表示】
　特願２００５−２５４９０７号「導電性積層体、その製造方法、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマディスプレイ用保護板」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年　７月１３日出願公開、特開２００６−１８６３０９号〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯  
　本願は、平成１７年９月２日（優先権主張平成１６年１１月３０日）の出願であって、平成２３年４月４日付けで拒絶査定がなされ（発送日：同年４月１２日）、これに対し、同年７月１２日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに、その審判の請求と同時に手続補正がなされたものである。
　
第２　平成２３年７月１２日付け手続補正についての補正却下の決定
〔補正却下の決定の結論〕  
　平成２３年７月１２日付け手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。　  
　  
〔理由〕  
　１　本願補正発明  
　本件補正は、特許請求の範囲の請求項６について、補正前（平成２２年１１月４日付け手続補正書）の特許請求の範囲の請求項７に、
「【請求項７】
　（Ａ）酸化亜鉛粉末および酸化チタン粉末を用いて製造されたターゲットを用い、スパッタ法によってチタンと亜鉛の合計に対するチタンの割合が、１〜２０原子％である酸化物層を形成する工程と、
　（Ｂ）銀ターゲットまたは銀合金のターゲットを用い、スパッタ法によって金属層を形成する工程と
　を繰り返し、最後に工程（Ａ）で酸化物層を形成することによって、
　基体上に、基体側から、酸化物層と金属層とが交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層された多層構造体である導電膜が形成された導電性積層体を得る、導電性積層体の製造方法。」
　とあったものを、
　  
「【請求項６】
　（Ａ）酸化亜鉛粉末および酸化チタン粉末を用いて製造されたターゲットを用い、スパッタ法によってチタンと亜鉛の合計に対するチタンの割合が、１〜２０原子％である酸化物層を形成する工程と、
　（Ｂ）銀ターゲットまたは銀合金のターゲットを用い、スパッタ法によって金属層を形成する工程と
　を繰り返し、最後に工程（Ａ）で酸化物層を形成することによって、
　基体上に、基体側から、酸化物層と金属層とが交互
に積
、金属層が４層設けられ
　と補正（下線は補正箇所を示し、当審で付した。）することを含むものである。
　
　上記補正は、願書に最初に添付した明細書に記載された実施例１及び４を根拠として、「酸化物層と金属層」について、補正前に「交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層された」とあったものを「交互に積層され、金属層が４層設けられた」と限定するものであり、かつ、補正前の請求項７に記載された発明と補正後の請求項６に記載される発明の産業上の利用分野及び解決しようとする課題が同一であるので、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下「改正前特許法」という。）第１７条の２第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　  
　そこで、本件補正後の請求項６に記載された発明（以下「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）否かについて検討する。 
　  
　２　刊行物
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の優先権主張の日前に頒布された特開２００３−１５７０１８号公報（以下「刊行物」という。）には、図面と共に次の事項が記載されている。 
　  
　ア　「【０００６】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、平面型ディスプレイパネル本体の破損を防止するとともに、該本体から放出される電磁ノイズ、近赤外線を低減する電磁波及び近赤外線遮蔽機能を有する平面型ディスプレイパネルを提供することを目的としている。」
　
　イ　「【００１５】（導電層）透光性の導電層５は、高剛性透明基板４の一方の面側に設けられた電磁波遮蔽性および近赤外線遮蔽性を有する少なくとも１層の金属層を含む。金属層としては、Ａｕ、ＡｇおよびＣｕからなる群から選ばれる１種以上の金属又は該金属を主成分とする層が好ましく、特に、比抵抗が小さく、吸収が小さいことから、Ａｇを主成分とする金属層が好ましい。さらにＡｇを主成分とする金属層としては、Ａｇの拡散を抑制し、結果として耐湿性が向上することから、Ａｇを主成分としＰｄ、ＡｕまたはＣｕの少なくとも一つを含む金属層であることが好ましい。Ｐｄ、ＡｕまたはＣｕの少なくとも一つの含有割合は、ＡｇとＰｄ、ＡｕまたはＣｕの少なくとも一つの含量との総量に対して０．３〜１０原子％であることが好ましい。０．３原子％以上であればＡｇの安定化の効果が得られると共に、１０原子％以下とすることで良好な耐湿性を維持しつつ、良好な成膜速度及び可視光透過率が得られる。したがって、以上の観点からは、添加量は５．０原子％以下が適当である。また、添加量が増加するとターゲットコストが著しく増加するので、通常必要な耐湿性を勘案すると、０．５〜２．０原子％程度の範囲となる。単層として導電層５を形成する場合、この金属層の厚さは５〜２０ｎｍ、好ましくは８〜１５ｎｍとされる。この金属層の形成方法は特に限定されないが、透明基板の一方の面側に直接、薄い金属膜を均一に成膜可能なスパッタ法を用いて成膜することが好ましい。
【００１６】本発明において、導電層５としては、低いシート抵抗値、低い反射率、高い可視光線透過率が得られることから、高剛性透明基板４上に、酸化物層と金属層を交互に積層した多層導電膜、特に、酸化物層、金属層、酸化物層、と交互に計（２ｎ＋１）層（ｎは１以上の整数）積層された多層導電膜が好適に使用される。酸化物層としては、Ｂｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｎ、ＩｎおよびＺｎからなる群から選ばれる１種以上の金属の酸化物を主成分とする層が挙げられる。好ましくはＴｉ、Ｓｎ、ＩｎおよびＺｎからなる群から選ばれる１種以上の金属の酸化物を主成分とする層である。特に、吸収が小さく、屈折率が２前後であることから、ＺｎＯを主成分とする層、屈折率が大きく、好ましい色調を少ない層数で得られやすいことからＴｉＯ２を主成分とする層が好ましい。酸化物層は、複数の薄い酸化物層から構成されていてもよい。例えば、ＺｎＯを主成分とする酸化物層に代えて、ＳｎＯ２を主成分とする層とＺｎＯを主成分とする層とから形成することもできる。
【００１７】ＺｎＯを主成分とする酸化物層は、Ｚｎ以外の１種以上の金属を含有するＺｎＯからなる酸化物層であることが好ましい。含有された前記の１種以上の金属は、酸化物層中では主として酸化物の状態で存在している。１種以上の金属を含有するＺｎＯとしては、Ｓｎ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｂ、ＭｇおよびＧａからなる群から選ばれる１種以上の金属を含有するＺｎＯが好ましく挙げられる。前記１種以上の金属の含有割合は、得られる導電膜の耐湿性が向上することから、該金属の合計量とＺｎとの総量に対して１〜１０原子％が好ましい。１原子％以上とすれば、充分にＺｎＯ膜の内部応力を低減せしめて、良好な耐湿性を得ることができる。また１０原子％以下とすれば、ＺｎＯの結晶性が良好に維持されると共に、金属層との相性が低下することがない。安定して再現性よく低内部応力のＺｎＯ膜を得ること、およびＺｎＯの結晶性を考慮すると、金属の含有割合は２〜６原子％が好ましい。
【００１８】酸化物層の幾何学的膜厚（以下、単に膜厚という）は、最も透明基板に近い酸化物層および最も透明基板から遠い酸化物層は２０〜６０ｎｍ（特に３０〜５０ｎｍ）、それ以外の酸化物層は４０〜１２０ｎｍ（特に４０〜１００ｎｍ）とすることが好ましい。金属層の合計膜厚は、例えば得られる導電層の抵抗値の目標を２．５Ω／□とした場合、２５〜４０ｎｍ（特に２５〜３５ｎｍ）、抵抗値の目標を１．５Ω／□とした場合、３５〜５０ｎｍ（特に３５〜４５ｎｍ）とすることが好ましい。酸化物層と金属層との全合計膜厚は、例えば、金属層数が２の場合は１５０〜２２０ｎｍ（特に１６０〜２００ｎｍ）、金属層数が３の場合は２３０〜３３０ｎｍ（特に２５０〜３００ｎｍ）、金属層数が４の場合は２７０〜３７０ｎｍ（特に３１０〜３５０ｎｍ）であることが好ましい。」
　
　ウ　「【００２３】（前略）本発明のＰＤＰ１においては、導電層５によって近赤外線を遮蔽できるが、反射防止層６に近赤外線遮蔽性能を持たせることにより、近赤外線遮蔽効果をさらに向上させ得る。（後略）」
　
　エ　「【００２７】
【実施例】実施例１：  以下の手順によって本発明に係るＰＤＰ装置を作製した。
【００２８】（高剛性前面保護板の作製）ソーダライムガラス板（厚さ３．２ｍｍ）をＰＤＰ本体と同寸法に切出し、面取りを行った。次にこの矩形のガラス板片面の全周に端から幅１０ｍｍの部分に、スクリーン印刷法によりＡｇペースト（村田製作所社製）を印刷した。Ａｇペーストを印刷したガラス板を、６６０℃に加熱後、強制風冷することにより強化した。Ａｇペースト上にスパッタ膜が形成されることを防ぐため、Ａｇペーストが印刷された部分をステンレス製薄板で覆い、粘着テープにて仮止めした。次にＡｇペーストが印刷されたガラス面に、スパッタ法により、３Ａｌ−ＺｎＯ（４０ｎｍ）／１．０Ｐｄ−Ａｇ（１０ｎｍ）／３Ａｌ−ＺｎＯ（８０ｎｍ）／１．０Ｐｄ−Ａｇ（１２ｎｍ）／３Ａｌ−ＺｎＯ（８０ｎｍ）／１．０Ｐｄ−Ａｇ（１０ｎｍ）／３Ａｌ−ＺｎＯ（４０ｎｍ）の多層膜を成膜した。それぞれの膜の成膜条件を表１に示す。
　（中略）
【００３０】なお、「３Ａｌ−Ｚｎ」とは、ＡｌをＡｌとＺｎとの総量に対し３原子％含有するＺｎを意味し、また「３Ａｌ−ＺｎＯ」は３Ａｌ−Ｚｎをターゲットとし、酸素存在下でのスパッタ法で生成する膜を表す。また「１．０Ｐｄ−Ａｇ」とは、ＰｄをＰｄとＡｇの総量に対し１．０原子％含有するＡｇを意味する。スパッタ法による多層膜成膜後、ステンレス製薄板を外した。」
　
　オ　表１には、「ターゲット」として「３Ａｌ−Ｚｎ」及び「１．０Ｐｄ−Ａｇ」が記載されている。
　
　カ　上記イの段落【００１７】の「ＺｎＯを主成分とする酸化物層は、Ｚｎ以外の１種以上の金属を含有するＺｎＯからなる酸化物層であることが好ましい。含有された前記の１種以上の金属は、酸化物層中では主として酸化物の状態で存在している。１種以上の金属を含有するＺｎＯとしては、Ｓｎ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｂ、ＭｇおよびＧａからなる群から選ばれる１種以上の金属を含有するＺｎＯが好ましく挙げられる。」との記載、上記イの段落【００１５】の「金属層としては、Ａｕ、ＡｇおよびＣｕからなる群から選ばれる１種以上の金属又は該金属を主成分とする層が好ましく」及び「Ａｇを主成分とする金属層としては、Ａｇの拡散を抑制し、結果として耐湿性が向上することから、Ａｇを主成分としＰｄ、ＡｕまたはＣｕの少なくとも一つを含む金属層であることが好ましい。」との記載、上記エの段落【００２８】の「Ａｇペーストが印刷されたガラス面に、スパッタ法により、３Ａｌ−ＺｎＯ（４０ｎｍ）／１．０Ｐｄ−Ａｇ（１０ｎｍ）／３Ａｌ−ＺｎＯ（８０ｎｍ）／１．０Ｐｄ−Ａｇ（１２ｎｍ）／３Ａｌ−ＺｎＯ（８０ｎｍ）／１．０Ｐｄ−Ａｇ（１０ｎｍ）／３Ａｌ−ＺｎＯ（４０ｎｍ）の多層膜を成膜した。それぞれの膜の成膜条件を表１に示す。」との記載、上記エの段落【００３０】の「『３Ａｌ−Ｚｎ』とは、ＡｌをＡｌとＺｎとの総量に対し３原子％含有するＺｎを意味し、また『３Ａｌ−ＺｎＯ』は３Ａｌ−Ｚｎをターゲットとし、酸素存在下でのスパッタ法で生成する膜を表す。また『１．０Ｐｄ−Ａｇ』とは、ＰｄをＰｄとＡｇの総量に対し１．０原子％含有するＡｇを意味する。スパッタ法による多層膜成膜後、ステンレス製薄板を外した。」との記載、並びに上記オの表１の記載からみて、刊行物の【実施例】の高剛性前面保護板の作製では、亜鉛およびアルミニウムを用いて製造されたターゲットを用い、スパッタ法によってアルミニウムと亜鉛の合計に対するアルミニウムの割合が、３原子％である酸化物層を形成する工程と、銀を主成分としパラジウムを含むターゲットを用い、スパッタ法によって金属層を形成する工程とを繰り返すことが明らかである。
　
　これらの記載事項及び図示内容を総合し、本願補正発明の記載ぶりに則って整理すると、刊行物には、次の発明（以下「刊行物に記載された発明」という。）が記載されている。  
　  
「（Ａ）亜鉛およびアルミニウムを用いて製造されたターゲットを用い、スパッタ法によってアルミニウムと亜鉛の合計に対するアルミニウムの割合が、３原子％である酸化物層を形成する工程と、
　（Ｂ）銀を主成分としパラジウムを含むターゲットを用い、スパッタ法によって金属層を形成する工程と
を繰り返し、最後に工程（Ａ）で酸化物層を形成することによって、
　高剛性透明基板４上に、高剛性透明基板４側から、酸化物層と金属層とが交互に積層され、金属層が３層設けられた導電層５を得る、導電層５の製造方法。」
　
　３　対比  
　本願補正発明と刊行物に記載された発明とを対比すると、後者の「高剛性透明基板４」は前者の「基体」に相当し、以下同様に、「導電層５」は「多層構造体である導電膜が形成された導電性積層体」に、「銀を主成分としパラジウムを含むターゲット」は「銀ターゲットまたは銀合金のターゲット」に、「３原子％」は「１〜２０原子％」にそれぞれ相当する。
　
　また、後者の「亜鉛およびアルミニウムを用いて製造されたターゲット」と前者の「酸化亜鉛粉末および酸化チタン粉末を用いて製造されたターゲット」とは「少なくとも亜鉛および亜鉛以外の金属を用いて製造されたターゲット」という限りで共通する。
　
　また、後者の「金属層が３層設けられた」と前者の「金属層が４層設けられた」とは、「金属層が複数層設けられた」という限りで共通する。
　
　したがって、両者は、 
「（Ａ）少なくとも亜鉛および亜鉛以外の金属を用いて製造されたターゲットを用い、スパッタ法によって亜鉛以外の金属と亜鉛の合計に対する亜鉛以外の金属の割合が、１〜２０原子％である酸化物層を形成する工程と、
　（Ｂ）銀ターゲットまたは銀合金のターゲットを用い、スパッタ法によって金属層を形成する工程と
を繰り返し、最後に工程（Ａ）で酸化物層を形成することによって、
　基体上に、基体側から、酸化物層と金属層とが交互に積層され、金属層が複数層設けられた多層構造体である導電膜が形成された導電性積層体を得る、導電性積層体の製造方法。」
　である点で一致し、以下の点で相違している。
　
〔相違点１〕
　スパッタ法によって酸化物層を形成する工程において、
　本願補正発明は、ターゲットが「酸化亜鉛粉末および酸化チタン粉末」を用いて製造され、「チタンと亜鉛の合計に対するチタンの割合」が１〜２０原子％であるのに対し、
　刊行物に記載された発明は、ターゲットが「亜鉛およびアルミニウム」を用いて製造され、「アルミニウムと亜鉛の合計に対するアルミニウムの割合」が３原子％である点。
　
〔相違点２〕
　本願補正発明は、金属層が「４層」設けられるのに対し、
　刊行物に記載された発明は、金属層が「３層」設けられる点。
　
　４　当審の判断
（１）相違点１
　刊行物の段落【００１７】には「ＺｎＯを主成分とする酸化物層は、Ｚｎ以外の１種以上の金属を含有するＺｎＯからなる酸化物層であることが好ましい。含有された前記の１種以上の金属は、酸化物層中では主として酸化物の状態で存在している。１種以上の金属を含有するＺｎＯとしては、Ｓｎ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｂ、ＭｇおよびＧａからなる群から選ばれる１種以上の金属を含有するＺｎＯが好ましく挙げられる。」と記載されており、この記載からみて、刊行物には、「ＺｎＯを主成分とする酸化物層」に含有される金属として、「アルミニウム」に換えて「チタン」を用いることが示唆されている。
　
　また、その際の「金属の含有割合」は、同段落【００１７】に「得られる導電膜の耐湿性が向上することから、該金属の合計量とＺｎとの総量に対して１〜１０原子％が好ましい。」と記載されている。
　
　一方、この出願の優先日前に、酸化亜鉛粉末や酸化チタン粉末を混合してターゲットを製造し、スパッタ法によって酸化物膜を形成することは、周知技術（例えば、特開平１０−１１４００８号公報の段落【００５２】ないし段落【００５４】、特開２００４−１６８６３６号公報の段落【００５５】ないし段落【００５９】参照。）である。
　
　そうしてみると、スパッタ法によって酸化物層を形成するにあたって、刊行物に記載された発明の「アルミニウム」に換えて「チタン」を選択することは、当業者が容易に着想し得たことであって、それに伴って、ターゲットを「酸化亜鉛粉末および酸化チタン粉末」を用いて製造することは、前記周知技術に基づいて、当業者が容易になし得たことである。また、その際の「チタンと亜鉛の合計に対するチタンの割合」は１〜１０原子％の範囲内で適宜決定される設計事項である。
　
（２）相違点２
　刊行物の段落【００１６】には「導電層５としては、低いシート抵抗値、低い反射率、高い可視光線透過率が得られることから、高剛性透明基板４上に、酸化物層と金属層を交互に積層した多層導電膜、特に、酸化物層、金属層、酸化物層、と交互に計（２ｎ＋１）層（ｎは１以上の整数）積層された多層導電膜が好適に使用される。」と記載され、同段落【００１８】には「酸化物層と金属層との全合計膜厚は、例えば、金属層数が２の場合・・・、金属層数が３の場合・・・、金属層数が４の場合は・・・であることが好ましい。」と記載されており、これらの記載からみて、刊行物には、金属層の数を、３層に限らず、４層とすることが示唆されている。
　
　そして、スパッタ法によって多層膜を製造するにあたって、金属層の数を３層から４層へ変更することによって格別、製造方法としての支障が生じるともいえない。
　
　そうしてみると、刊行物に記載された発明において、金属層の数を「３層」から「４層」とすることに格別の困難性があるとはいえない。
　
　また、本願補正発明の奏する効果は、刊行物に記載された発明及び前記周知技術から予測することができ、格別のものでない。
　附言すると、請求人が審判請求書で述べる「特に、金属層を４層にすることによって、近赤外線遮蔽性に特に優れるものである。」との主張は、「導電性積層体の製造方法」によって得られた「導電性積層体」自体が奏する効果であって、「導電性積層体の製造方法」の効果ではない。
　
　したがって、本願補正発明は、刊行物に記載された発明及び前記周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるので、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができない。　  
　  
　５　むすび  
　以上のとおりであるから、本件補正は、改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。  
　  
第３　本願発明  
　１　本願発明  
　本件補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１ないし７に係る発明は、平成２２年１１月４日付けの手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１ないし７に記載された事項により特定されたとおりのものであるところ、その請求項７に係る発明（以下「本願発明」という。）は、前記「第２〔理由〕１」に補正前の請求項７として記載したとおりのものである。
  　  
　２　刊行物  
　原査定の拒絶の理由に引用した刊行物、その記載事項、及び刊行物に記載された発明は、前記「第２〔理由〕２」に記載したとおりである。  
　  
　３　対比及び当審の判断  
　本願発明は、前記「第２〔理由〕」で検討した本願補正発明において、「酸化物層と金属層」についての「交互に積層され、金属層が４層設けられた」を「交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層された」と拡張したものである。　 
　  
　そうしてみると、実質的に本願発明の発明特定事項をすべて含んだものに相当する本願補正発明が、前記「第２〔理由〕３及び４」に記載したとおり、刊行物に記載された発明及び前記周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、刊行物に記載された発明及び前記周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。　  
　４　むすび  
　以上のとおりであるから、本願発明は、刊行物に記載された発明及び前記周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 　  
　
　したがって、本願のその他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。  
　  
　よって、結論のとおり審決する。