【事件の表示】
　特願２０００−２０６９４１「除電機能付き基板搬送アーム」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年　１月２５日出願公開、特開２００２−　２６１１０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　この出願は、平成１２年７月７日の特許出願であって、同２１年９月３０日付けで拒絶の理由が通知され、同２１年１２月４日に意見書及び手続補正書が提出され、同２２年７月１２日付けで最後の拒絶の理由が通知され、同２２年９月６日に意見書及び手続補正書が提出されたが、同２３年３月２３日付けで同２２年９月６日提出の手続補正書でした手続補正が却下されるとともに拒絶をすべき旨の査定がされ、これに対し、同２３年７月１日に本件審判の請求と同時に手続補正書による手続補正（以下「本件補正」という。）がされたものである。
　
第２　本件補正についての補正の却下の決定
［補正の却下の決定の結論］
　本件補正を却下する。
［理由］
１　補正の内容の概要
　本件補正は、特許請求の範囲を含む明細書について補正をするものであって、補正前後の請求項１の記載は、以下のとおりである。
（１）補正前
「基板を処理工程のため作業ステージに搬送し、前記基板を前記作業ステージに装着し、処理工程終了後前記基板を前記作業ステージから剥離して次処理工程に搬送する基板搬送アームであって、
　前記基板の外周に対向して配設される一対の支持アームと、
　該一対の支持アーム上に吸引管と接続される吸引通路を有する複数の基板支持部材に配設され、前記作業ステージに形成した段差部に位置し前記基板下面周縁部を吸着する真空吸着部と、
　前記支持アーム上の前記複数の基板支持部材間に配設され電極を有するイオン発生装置と、
　を備え、
　前記基板の裏面及び前記作業ステージ上面にイオン化フローを供給することを特徴とする除電機能付き基板搬送アーム。」
（２）補正後
「基板（１２）を処理工程のため作業ステージ（１３）に搬送し、前記基板を前記作業ステージに装着し、処理工程終了後前記基板を前記作業ステージから剥離して次処理工程に搬送する基板搬送アーム（１）であって、
　
前記基板搬送アームは、アーム本体（２）と、前記アーム本体に一体に形成される左右一対の支持アーム（３，３）と、前記各支持アーム上に配置される２組の基板支持部材（５）と、前記各基板支持部材内に形成された吸引管（９）と、前記吸引管に接続される前記各基板支持部材に設けられる吸着パッド（６）と、前記一対の支持アームの前記各基板支持部間に対向して配設されるイオン発生装置（１１）と、
　を備え、
　
前記基板の下面周縁部を前記吸着パッドで吸引固定して前記基板を前記作業ステージに搬送し、前記基板を前記作業ステージに装着時、前記吸着パッド及び前記イオン発生装置を前記作業ステージに形成した段差部（１３ａ）に位置させ、前記イオン発生装置は、前記基板の搬送時及び前記基板の作業ステージとの脱着時において、
２　補正の適否　　　
　本件補正の目的について検討すると、補正前の請求項１には、一対の支持アームが「基板の外周に対向して配設される」こと及びイオン発生装置が「電極を有すること」が記載されているが、補正後の請求項１には、これらに関する事項が特定されていない。
　このように、一対の支持アームが「基板の外周に対向して配設される」こと及びイオン発生装置が「電極を有すること」に関する発明特定事項を削除する補正は、特許請求の範囲を限定的に減縮するものではなく、また、請求項の削除、誤記の訂正又は明りょうでない記載の釈明を目的とするものでもない。
３　むすび
　したがって、本件補正は、平成１８年法律第５５号による改正前特許法第１７条の２第４項第１号から第４号までに掲げる事項のいずれかを目的とするものではなく、同法第１７条の２第４項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について 
１　本願発明
　本件補正は、上記のとおり却下されたので、この出願の請求項１及び２に係る発明は、願書に添付された明細書及び図面の記載からみて、平成２１年１２月４日付け手続補正書により補正された明細書における特許請求の範囲の請求項１及び２に記載された事項により特定されるとおりのものであると認めるところ、請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、上記第２の１の(１)の補正前の請求項１に示したとおりのものである。
２　刊行物記載事項
　これに対して、この出願前に頒布された刊行物である特開２０００−８２７３２号公報（以下「刊行物１」という。）、特開平１１−１６３１０２号公報（以下「刊行物２」という。）及び実願平３−１０４１０４号（実開平５−４５６４１号）のＣＤ−ＲＯＭ（以下「刊行物３」という。）が原査定の拒絶の理由に引用されており、これらの刊行物には、以下のとおりの事項が記載されている。
（１）刊行物１
　第１欄第４０行−第２欄末行
「【発明の実施の形態】以下、本発明による静電気除去用ロボットハンドの実施形態を図面に基づいて説明する。
【０００７】図１は、一実施形態に係る静電気除去用ロボットハンドの平面図を示す。
【０００８】図１に示すハンド１は、薄型基板としてのガラス基板２を搬送するための搬送ロボットのハンドであり、図示しない機台及びこの機台の上部に屈伸可能に配設されるアームとともに搬送ロボットの構成要素となり、上記アームの上部に配設されている。
【０００９】このハンド１は、基部３と、この基部３から略平行に延設された一対の保持部４、４とを備える。各保持部４の上面には、複数の吸着孔５及び吸着パッド６が設けられている。各吸着孔５は、図示しない配管を介して図示しない真空ポンプに接続され、保持部４の上面に載置されたガラス基板２を真空吸着する。なお、この配管には電磁弁が配設され、この電磁弁の開弁、閉弁により、真空ポンプと吸着孔５との連通、遮断が制御される。
【００１０】さらに、各保持部４の上面及び下面には、複数のイオン化気体噴出孔７が形成されている。これらのイオン化気体噴出孔７の形成位置は、図示しないガラス基板収納用カセット内にハンド１を侵入させ、ハンド１の上面及び下面からイオン化気体を噴出させたとき、この噴き出されたイオン化気体が、ハンド１の上方及び下方に位置するガラス基板２の下面及び上面の全面に略均等に吹き付けられることとなる位置関係に基づいて決定される。
【００１１】また、これらのイオン化気体噴出孔７は、複数系統に分割されており、各系統毎に配管８及びイオン化気体を発生するイオナイザー９が設けられる。イオナイザー９はハンド１の基部３に設けられ、＋電極と−電極間に高電圧を印加し放電によりイオン化気体を発生するよう構成される。イオナイザー９には、発生したイオン化気体をイオン化気体噴出孔７まで圧送するための圧送用気体が流入され、イオン化気体は圧送用気体によってイオン化気体噴出孔７まで圧送され、イオン化気体噴出孔７から勢いをもって噴き出される。この圧送用気体は、コンプレッサー１０により加圧された窒素ガス又はドライエアー等不活性ガスであり、フィルター１１及び配管１２を経てイオナイザー９に供給される。また、圧送用気体の配管１２には電磁弁１３及び圧力センサ１４が配設され、この圧力センサ１４及び電磁弁１３にコントローラ１５が電気的に接続されている。
【００１２】次に、上記のように構成されたハンド１の使用方法について説明する。
【００１３】まず、ハンド１をガラス基板収納用カセットに正対させる。そして、ハンド１を前進させ、この前進途中から、あるいは、カセットへの侵入後に、コントローラ１５からの開弁信号により電磁弁１３を開弁させる。この電磁弁１３が開弁すると、コンプレッサー１０により加圧された圧送用気体はイオナイザー９に供給開始され、圧送用気体によりイオン化気体はイオン化気体噴出孔７まで圧送され、このイオン化気体噴出孔７からイオン化気体が噴き出される。この噴き出されたイオン化気体は、ハンド１の上方及び下方に位置するガラス基板２の下面及び上面に吹き付けられ、ガラス基板２に帯電している静電気を除去する作用をする。その後は、電磁弁１３を閉弁させてイオン化気体の噴出を終了させ、今度は、真空ポンプ側の電磁弁を開弁させ、吸着孔５に吸着力を発生させ、ハンド１を上昇させてガラス基板２をハンド１の保持部４に吸着可能にする。」
　上記摘記事項より、刊行物１には、次の事項が記載されていると認める。
「ガラス基板（２）を搬送するハンド（１）であって、
　一対の保持部（４、４）と、
　一対の保持部（４、４）に配設され、配管と接続されてガラス基板（２）下面を真空吸着する吸着孔（５）と、
　一対の保持部（４、４）に配設され電極を有するイオナイザー（９）と、
　を備え、
　ガラス基板（２）の下面にイオン化気体を吹き付ける静電気除去用ロボットハンド。」（以下「刊行物１記載の発明」という。）
（２）刊行物２
ア　第２欄第１０行−第４８行
「【００１０】次に、サセプタの第２の従来例を図１７、図１８で説明する。
【００１１】載置台４の上面には前記した凹部３が形成されると共に該凹部３の周辺部を貫通する通孔５を複数個（図示では４個）穿設したもので、該通孔５には図示しないウェーハ支持ピンが挿通されており、該ウェーハ支持ピンは昇降可能となっている。
【００１２】ウェーハ２を移載する場合は、前記ウェーハ支持ピンを上昇させ前記ウェーハ２を前記載置台４より持上げた状態とし、ロボットアーム（図示せず）により前記ウェーハ２の授受を行う。前記ロボットアームの前記ウェーハ受載部はコの字状のフォークとなっており、該フォークは前記ウェーハ２の外周部を支持し、前記ウェーハ支持ピンとの干渉を避ける。前記ウェーハ２が前記ロボットアームによって前記反応室内に搬入されると、前記ウェーハ支持ピンが上昇して前記ウェーハ２を受載する。前記ロボットアームは退き、前記ウェーハ支持ピンが降下して前記ウェーハ２が前記載置台４の前記凹部３内に載置される。
【００１３】前記反応室（図示せず）内で前記ウェーハ２に各種処理が施された後、該ウェーハ２は前述と逆の手順で前記反応室外部へ搬出される。
【００１４】次にサセプタの第３の従来例を図１９〜図２１で説明する。
【００１５】載置台６の上面には前記した凹部３が形成されると共に周辺部には該凹部３より一段低い弓形の段差面７が左右対称に２箇所形成されている。該段差面７は前記凹部３との境界線８が前記ウェーハ２の搬送方向と平行で且前記各境界線８間の距離が前記ウェーハ２の直径より短くなる様設けられている。
【００１６】前記ウェーハ２は前記フォーク（図示せず）上に外周部が支持された状態で受載され、前記反応室（図示せず）内に自動搬送される。前記ウェーハ２は前記載置台６の上方位置迄搬送され、前記フォークを前記境界線８と平行にした状態で下降させ、前記ウェーハ２は前記載置台６の前記凹部３内に載置される。
【００１７】前記反応室内で前記ウェーハ２に各種処理が施された後、該ウェーハ２は前述と逆の手順で前記反応室外部へ搬出される。」
イ　図２０−２１
　載置台（６）周辺部に段差面（７）が形成されており、このことにより切り欠かれた形状部分が形成されていることが看取できる。
　また、上記載置台（６）周辺部に形成された切り欠かれた形状部分にフォークが位置され、この位置からフォークが上昇されてウェーハ（２）が載置台（６）から剥離されることは、技術常識より明らかである。
　以上のとおりであるので、刊行物２には、次の事項が記載されていると認める。
「ウェーハ（２）を各種処理のため反応室内に設けられた載置台（６）に搬送し、ウェーハ（２）を載置台（６）に載置し、各種処理が施された後、ウェーハ（２）を載置台（６）から剥離して反応室外部へ搬出するロボットアームであって、
　ウェーハ（２）の外周部を支持するコの字状のフォークを備え、
　載置台（６）周辺部に形成した切り欠かれた形状部分にフォークを位置し、フォークを上昇してウェーハ（２）を載置台（６）から剥離すること。」（以下「刊行物２記載の技術的事項」という。）
（３）刊行物３
ア　第４ページ第４行−第６行
「本考案は、ＴＦＴ基板等に対する基板処理装置に関し、特に、直接加熱あるいは直接冷却等の処理をガラス基板に対して施すことのできる基板処理装置に関する。」
イ　第６ページ第８行−第７頁第７行
「次に、本実施例の動作について、図１、図２を参照して説明する。
　図１に示すように、基板７は搬送部８により前工程より本処理部へ搬入されてくる。次に、基板７は搬送部８によってプレート１上の中央位置に搬送される。次いで図２の（ｃ）に示すように、テーブル４が上昇して基板７をプレート１の上面に対して少し傾けた状態で搬送部８より持ち上げ、続いて搬送部８は所定の待機位置に移動する。
　　　【００１４】
　次に、図２の（ｂ）に示すように、テーブル４が下降し始め、これと同時に静電除去装置９が作動して、基板７への帯電を防止しながら基板７をプレート１上に着地させる。
　基板７は、プレート部１上の上面に置かれると吸着口３を介してプレート１上に吸着固定される。次いでテーブル４の下降が完了し、図２の（ａ）に示されるように、静電除去装置９は動作を停止する。
　　　【００１５】
　この状態で基板７に対して所定時間加熱または冷却処理が施され、その後基板７の吸着は解除される。次いで、テーブル４が上昇し始め、それと同時に図２の（ｂ）に示すように、静電解除装置９が作動を開始して、基板７の裏面とプレート１の上面との間にプラスおよびマイナスのイオンを吹きつける。
　　　【００１６】
　この基板７への帯電防止動作はテーブル４の基板持ち上げ動作期間中続けられ、その上昇が完了すると図２の（ｃ）に示すように静電除去装置９は動作を停止する。
　　　【００１７】
　以上好ましい実施例について説明したが、本考案はこの実施例に限定されるものではなく、種々の変更が可能である。
　例えば、実施例では、静電除去装置９の動作タイミングをテーブル４の昇降開始タイミングと合わせていたが、これに代えて基板７のプレート１への着地の直前に動作を開始させ着地完了直後に動作を停止させ、またプレートからの離脱直前に動作を開始させ離脱完了直後に動作を停止させるようにすることができる。」
　上記摘記事項より、刊行物３には、次の事項が記載されていると認める。
「基板処理装置において、静電除去装置（９）により基板（７）の裏面及びプレート（１）の上面にプラスおよびマイナスのイオンを吹きつけること。」（以下「刊行物３記載の技術的事項」という。）
３　対比
　本願発明と刊行物１記載の発明とを対比すると、刊行物１記載の発明の「ガラス基板」は、本願発明の「基板」に相当しており、以下同様に、「ハンド」は「基板搬送アーム」に、「保持部」は「支持アーム」に、「真空吸着する吸着孔」は「吸着する真空吸着部」に、「イオナイザー」は「イオン発生装置」に、「下面」は「裏面」に、「イオン化気体を吹き付ける」は「イオン化フローを供給する」に、「静電気除去用ロボットハンド」は「除電機能付き基板搬送アーム」にそれぞれ相当している。
　また、刊行物１記載の発明の「配管」は、本願発明の「吸引管」に相当しており、「吸引管」と「真空吸着部」との接続について、刊行物１記載の発明と本願発明とは、「真空吸着部が吸引管と接続されている」ことに限り一致している。
　以上、両者の一致点及び相違点は、次のとおりである。
（１）一致点
　「基板を搬送する基板搬送アームであって、
　一対の支持アームと、
　該一対の支持アームに配設され、吸引管と接続される前記基板下面を吸着する真空吸着部と、
　前記支持アームに配設され電極を有するイオン発生装置と、
　を備え、
　前記基板の裏面にイオン化フローを供給する除電機能付き基板搬送アーム。」
（２）相違点
ア　＜相違点１＞
　本願発明では、基板搬送アームが、基板を処理工程のため作業ステージに搬送し、基板を作業ステージに装着し、処理工程終了後基板を作業ステージから剥離して次処理工程に搬送するものであり、一対の支持アームが、基板の外周に対向して配設されているのに対し、刊行物１記載の発明では、そのようなものではない点。
イ　＜相違点２＞
　本願発明では、一対の支持アーム上に吸引管と接続される吸引通路を有する複数の基板支持部材に配設され、作業ステージに形成した段差部に位置し基板下面周縁部を吸着する真空吸着部を備えているのに対し、刊行物１記載の発明では、そのようなものではない点。
ウ　＜相違点３＞
　本願発明では、イオン発生装置が、支持アーム上の複数の基板支持部材間に配設され、基板の裏面及び作業ステージ上面にイオン化フローを供給しているのに対し、刊行物１記載の発明では、そのようなものではなく、イオン化フローについては、基板の裏面に供給している点。
４　判断
　上記各相違点について、以下検討する。
（１）＜相違点１＞について
　上記刊行物２には、上記２の（２）のとおりの技術的事項が記載されており、刊行物２記載の技術的事項「ウェーハ」は、本願発明の「基板」に相当しており、以下同様に、「各種処理」は「処理工程」に、「各種処理が施された後、」は「処理工程終了後」に、「載置台」は「作業ステージ」に、「ロボットアーム」は「基板搬送アーム」に、「ウェーハの外周部を支持するコの字状のフォーク」は「基板の外周に対向して配設される一対の支持アーム」に、「切り欠かれた形状部分」は「段差部」にそれぞれ相当しているので、刊行物２記載の技術的事項を本願発明の用語を用いて表現すれば次のとおりである。
「基板を処理工程のため反応室内に設けられた作業ステージに搬送し、基板を作業ステージに載置し、処理工程終了後基板を作業ステージから剥離して反応室外部へ搬出する基板搬送アームであって、
　基板の外周に対向して配設される一対の支持アームを備え、
　作業ステージ周辺部に形成した段差部に一対の支持アームを位置し、一対の支持アームを上昇して基板を作業ステージから剥離すること。」
　刊行物１記載の発明と刊行物２記載の技術的事項とは、基板搬送アームである点で共通しているので、刊行物１記載の発明に刊行物２記載の技術的事項を採用することに格別の困難性はなく、また、その採用に際し、刊行物２記載の基板搬送アームは、基板を反応室内に搬送し、処理工程終了後反応室外部へ搬出するものであるが、基板を作業ステージに搬送し、処理工程終了後次処理工程に搬送することに用いることは必要に応じて適宜なされる設計的事項にすぎない。
　したがって、基板搬送アームが、基板を処理工程のため作業ステージに搬送し、基板を作業ステージに装着し、処理工程終了後基板を作業ステージから剥離して次処理工程に搬送するものであり、一対の支持アームが、基板の外周に対向して配設されるものとすることは、刊行物１記載の発明に刊行物２記載の技術的事項を採用することにより当業者が容易に想到することができたことである。
（２）＜相違点２＞について
　刊行物１記載の発明において、一対の支持アームに真空吸着部をどのように配設するか、吸引管と真空吸着部とをどのように接続するかは、必要に応じて適宜なされる設計的事項にすぎず、一対の支持アーム上に吸引管と接続する吸引通路を有する複数の基板支持部材を設け、該複数の基板支持部材に該吸引通路と接続する真空吸着部を設けることに格別の困難性はない。
　そして、刊行物２記載の技術的事項は、該段差部に一対の支持アームを位置し、一対の支持アームを上昇して基板を作業ステージから剥離するものであるが、一対の支持アーム上に設けた複数の基板支持部材を設け、該基板支持部材に真空吸着部を設けるとともに、真空吸着部を作業ステージに形成した段差部に位置して基板下面周縁部を吸着することにも格別の困難性はない。
　以上のとおり、一対の支持アーム上に吸引管と接続される吸引通路を有する複数の基板支持部材に配設され、作業ステージに形成した段差部に位置し基板下面周縁部を吸着する真空吸着部を備えることは、刊行物１記載の発明に刊行物２記載の技術的事項を採用することにより当業者が容易に想到することができたことである。
（３）＜相違点３＞について
　上記刊行物３には、上記２の（３）のとおりの技術的事項が記載されており、刊行物３記載の技術的事項「静電除去装置」は、本願発明の「イオン発生装置」に相当しており、以下同様に、「プレート」は「作業ステージ」に、「プラスおよびマイナスのイオンを吹きつける」は「イオン化フローを供給する」にそれぞれ相当しているので、刊行物３記載の技術的事項を本願発明の用語を用いて表現すれば次のとおりである。
「基板処理装置において、イオン発生装置により基板の裏面及び作業ステージ上面にイオン化フローを供給すること。」
　刊行物１記載の発明と刊行物３記載の技術的事項とは、基板の除電に関する点で共通しているので、刊行物１記載の発明に刊行物３記載の技術的事項を採用して、イオン発生装置により基板の裏面及び作業ステージ上面にイオン化フローを供給すること格別の困難性はなく、そして、このようにイオン化フローを供給するイオン発生装置を支持アームのどのような個所に配設するかは必要に応じて適宜なされる設計的事項にすぎず、支持アーム上の複数の基板支持部材間に配設することにも格別の困難性はない。
（４）＜作用・効果＞について
　本願発明が奏する作用・効果は、刊行物１記載の発明、刊行物２記載の技術的事項及び刊行物３記載の技術的事項から当業者が予測できる程度のものであって格別のものではない。
５　むすび
　以上のとおり、本願発明は、刊行物１記載の発明、刊行物２記載の技術的事項及び刊行物３記載の技術的事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、この出願の請求項２に係る発明について判断するまでもなく、この出願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。