【手続補正書】
【提出日】平成17年11月28日(2005.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザビームのパターン発生器であって、
支持体のモータを有し、基板を支持することができる基板支持体と、
レーザビームを発生するレーザビーム源と、
パターンによりレーザビームの強さを変調するビーム変調器と、
前記基板を横切って前記レーザビームを走査するために、スピン周波数で回転可能な複数のミラー面を有する回転スキャナーと、
前記回転スキャナーから生じるレーザビームの走査におけるエラーを補償するために、前記スピン周波数の高調波を有する回転スキャナーの修正信号により前記レーザビームをずらす回転スキャナー補償器と、
前記基板を横切って前記レーザビームを変調し、走査して、基板上に前記パターンを発生するために、前記回転支持体、レーザビーム源、ビーム変調器、回転スキャナー及び回転スキャナー補償器を制御するプログラムを有するコントローラと、
を有し、それにより、修正されたレーザビームのパターンが基板上に発生されることを特徴とするレーザビームのパターン発生器。
【請求項２】
前記コントローラは、前記回転スキャナーのミスアライメント；前記ミラー面における欠陥；及び前記回転スキャナーからの振動の１つ以上によって生じるレーザビームの走査におけるエラーを修正する回転スキャナーの修正信号を発生するように適合されていることを特徴とする請求項１に記載のレーザビームのパターン発生器。
【請求項３】
前記回転スキャナー補償器は、ステアリングミラーと前記ステアリングミラーを回転させるモータを有し、前記モータは、前記レーザビームを反射することによって前記レーザビームが偏向されるように、前記ステアリングミラーを回転させる、回転スキャナーの修正信号を受信するように適合されていることを特徴とする請求項１に記載のレーザビームのパターン発生器。
【請求項４】
前記回転スキャナーの修正信号は、式ΣＡnSin(ｎωｔ＋Φn)であり、ただし、ＡnS波係数、ｔは時間、ｎは高調波の次数、ωはスピン周波数、Φn)は移相であることを特徴とする請求項１に記載のレーザビームのパターン発生器。
【請求項５】
スピン周波数は、約２０〜約８００Ｈzであることを特徴とする請求項１に記載のレーザビームのパターン発生器。
【請求項６】
前記コントローラは、前記支持体のモータによって前記基板支持体の位置決めにおけるエラーを修正する支持体の修正信号を発生するように適合されている請求項１に記載のレーザビームのパターン発生器。
【請求項７】
前記コントローラは、支持体のモータによって基板支持体の歳差エラーを修正する歳差修正信号を発生するように適合されていることを特徴とする請求項１に記載のレーザビームのパターン発生器。
【請求項８】
前記コントローラは、回転スキャナーの修正信号を近似するルックアップテーブルを有し、前記ルックアップテーブルは、前記回転スキャナーの各ミラー面に対する値を有していることを特徴とする請求項１に記載のレーザビームのパターン発生器。
【請求項９】
更に、リアルタイムで前記レーザビームの位置を監視するように適合されたビーム検出器を有し、前記コントローラもリアルタイムで前記レーザビームの位置におけるエラーを修正するリアルタイム修正信号を発生するように適合されていることを特徴とする請求項１に記載のレーザビームのパターン発生器。
【請求項１０】
レーザビームのパターン発生器であって、
支持体のモータを有する、基板を支持することができる基板支持体と、
レーザビームを発生するレーザビーム源と、
パターンによりレーザビームの強さを変調するビーム変調器と、
前記基板を横切って前記レーザビームを走査するために、スピン周波数で回転可能な複数のミラー面を有する回転スキャナーと、
前記回転スキャナーから生じるレーザビームの走査におけるエラーを補償するために、回転スキャナーの修正信号により前記レーザビームをずらす回転スキャナー補償器と、
前記基板を横切って前記レーザビームを変調し、走査して、基板上に前記パターンを発生するために、前記回転支持体、レーザビーム源、ビーム変調器、回転スキャナー及び回転スキャナー補償器を制御するプログラムを有するコントローラとを有し、前記コントローラは、式ΣＡnSin(ｎωｔ＋Φn)（ただし、Ａnは係数、ｔは時間、ｎは高調波の次数、ωはスピン周波数、Φnは移相である）の前記回転スキャナーの修正信号を発生するように適合され、前記回転スキャナーから生じる前記レーザビームの走査におけるエラーを補償し、且つ前記回転スキャナー補償器へ前記信号を送り、それにより修正されたレーザビームのパターンが基板上に発生されることを特徴とするレーザビームのパターン発生器。
【請求項１１】
前記コントローラは、回転スキャナーの修正信号を近似するルックアップテーブルを有し、前記ルックアップテーブルは、前記回転スキャナーの各ミラー面に対する値を有していることを特徴とする請求項１０に記載のレーザビームのパターン発生器。
【請求項１２】
前記コントローラは、前記回転スキャナーの歳差エラーを修正する支持体の修正信号を発生するように適合されていることを特徴とする請求項１０に記載のレーザビームのパターン発生器。
【請求項１３】
基板上にパターンを発生する方法であって、
（ａ）基板支持体上に基板を配置するステップと、
（ｂ）レーザビームを発生するステップと、
（ｃ）パターンにより前記レーザビームの強さを変調するステップと、
（ｄ）前記基板を横切って前記レーザビームを走査するために、スピン周波数でビームスキャナーを回転するステップと、
（ｅ）前記回転スキャナーから生じる前記レーザビームの走査におけるエラーを補償するために、前記スピン周波数の高調波を有する回転スキャナーの修正信号により前記レーザビームをずらすステップと、
を有することを特徴とするパターンを発生する方法。
【請求項１４】
前記コントローラは、前記回転スキャナーのミスアライメント；前記ミラー面における欠陥；及び前記回転スキャナーからの振動の１つ以上によって生じるレーザビームの走査におけるエラーを修正する回転スキャナーの修正信号を発生するステップを有することを特徴とする請求項１３に記載の基板上にパターンを発生する方法。
【請求項１５】
前記ステップ（ｅ）は、スレアリングミラーを回転するステップを有することを特徴とする請求項１３に記載の基板上にパターンを発生する方法。
【請求項１６】
前記回転スキャナーの修正信号は、式ΣＡnSin(ｎωｔ＋Φn)（ただし、Ａnは係数、ｔは時間、ｎは高調波の次数、ωはスピン周波数、Φnは移相である）であることを特徴とする請求項１３に記載のパターンを発生する方法。
【請求項１７】
前記スピン周波数は、約２０Ｈz〜約８００Ｈzであることを特徴とする請求項１３に記載のパターンを発生する方法。
【請求項１８】
前記回転スキャナーは、多くのミラー面を有し、且つ前記方法は、更に、各々のミラー面に対するサンプル値によって高調波を近似する回転スキャナーの修正信号をルックアップすることを特徴とする請求項１３に記載のパターンを発生する方法。
【請求項１９】
更に、回転多角形ミラーの歳差エラーを修正する収差修正信号を発生するステップを有することを特徴とする請求項１３に記載のパターンを発生する方法。
【請求項２０】
更に、リアルタイムで前記レーザビームの位置を監視し、前記レーザビームの位置におけるエラーを修正するリアルタイム修正信号を発生するステップを有することを特徴とする請求項１３に記載のパターンを発生する方法。