【手続補正書】
【提出日】平成17年5月25日(2005.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
毎秒２，０００パルスを超えるパルス繰返し率で作動することができるレーザであって、
Ａ）（１）レーザガス、
（２）放電領域を形成する２つの細長い電極、
（３）毎秒２，０００パルス又はそれ以上の範囲の繰返し率で作動する時に、各パルスに続いて、前記放電領域から次のパルスの前に生成された実質的に全ての放電生成イオンを取り除くために、該放電領域において前記レーザガスの十分なガス速度を生み出すための接線型(tangential type)ファン、及び
（４）少なくとも一つのフィン付き熱交換器を含み、少なくとも１６ｋｗの熱エネルギを前記レーザガスから取り除くことができる熱交換器システム、
を包含するレーザチャンバモジュールと、
Ｂ）約５ｍＪの範囲の正確に制御されたパルスエネルギにより毎秒約２，０００パルスの繰返し率で前記放電領域からレーザパルスを生成するのに十分な電気パルスを前記電極に供給するように構成されたパルスパワーシステムと、
Ｃ）ラインナローイング光学構成要素を含む第１の光学器械モジュールと、
Ｄ）出力カプラを含む第２の光学器械モジュールと、
を含み、
該出力カプラ及び第１の光学器械モジュールは、共振空洞と、前記放電領域及び前記レーザチャンバモジュールを通るレーザビーム経路とを形成し、
Ｅ）ビーム経路パージシステムと、
Ｆ）前記チャンバモジュールと前記ラインナローイングモジュールとの間で、前記パージシステムに真空品質の実質的に酸素のないビーム経路をもたらすための第１の密封ベローズシールユニットと、
Ｇ）前記チャンバモジュールと前記出力カプラとの間で、前記パージシステムに真空品質の実質的に酸素のないビーム経路をもたらすための第２の密封ベローズシールユニットと、
を更に含み、
前記密封ベローズシールは、前記チャンバモジュールの交換のために取り外すことができる、
ことを特徴とするレーザ。
【請求項２】
毎秒２，０００パルスを超えるパルス繰返し率で作動することができるレーザであって、
Ａ）（１）レーザガス、
（２）放電領域を形成する２つの細長い電極、
（３）毎秒２，０００パルス又はそれ以上の範囲の繰返し率で作動する時に、各パルスに続いて、前記放電領域から次のパルスの前に生成された実質的に全ての放電生成イオンを取り除くために、該放電領域において前記レーザガスの十分なガス速度を生み出すための接線型(tangential type)ファン、及び
（４）少なくとも一つのフィン付き熱交換器を含み、少なくとも１６ｋｗの熱エネルギを前記レーザガスから取り除くことができる熱交換器システム、
を包含するレーザチャンバモジュールと、
Ｂ）約５ｍＪの範囲の正確に制御されたパルスエネルギにより毎秒約２，０００パルスの繰返し率で前記放電領域からレーザパルスを生成するのに十分な電気パルスを前記電極に供給するように構成されたパルスパワーシステムと、
Ｃ）ラインナローイング光学構成要素を含む第１の光学器械モジュールと、
Ｄ）出力カプラを含む第２の光学器械モジュールと、
を含み、
該出力カプラ及び第１の光学器械モジュールは、共振空洞と、前記レーザチャンバモジュールを通るレーザビーム経路とを形成し、該チャンバモジュールから分離してレーザに取り付けられ、
Ｅ）前記ビーム経路の前記チャンバモジュールと前記第１の光学構成要素モジュールとの間に配置された熱分断式開口と、
を更に含むことを特徴とするレーザ。
【請求項３】
前記熱分断式開口は、密封ベローズシールユニットの一部分であることを特徴とする請求項２に記載のレーザ。
【請求項４】
毎秒２，０００パルスを超えるパルス繰返し率で作動することができるレーザであって、
Ａ）（１）レーザガス、
（２）放電領域を形成する２つの細長い電極、
（３）毎秒２，０００パルス又はそれ以上の範囲の繰返し率で作動する時に、各パルスに続いて、前記放電領域から次のパルスの前に生成された実質的に全ての放電生成イオンを取り除くために、該放電領域において前記レーザガスの十分なガス速度を生み出すための接線型(tangential type)ファン、及び
（４）少なくとも一つのフィン付き熱交換器を含み、少なくとも１６ｋｗの熱エネルギを前記レーザガスから取り除くことができる熱交換器システム、
を包含するレーザチャンバモジュールと、
Ｂ）約５ｍＪの範囲の正確に制御されたパルスエネルギにより毎秒約２，０００パルスの繰返し率で前記放電領域からレーザパルスを生成するのに十分な電気パルスを前記電極に供給するように構成されたパルスパワーシステムと、
Ｃ）ラインナローイング光学構成要素を含む第１の光学器械モジュールと、
Ｄ）出力カプラを含む第２の光学器械モジュールと、
を含み、
該出力カプラ及び第１の光学器械モジュールは、共振空洞と、前記レーザチャンバモジュールを通るレーザビーム経路とを形成し、該チャンバモジュールから分離してレーザに取り付けられ、
Ｅ）ビーム経路パージシステムと、
を更に含み、
出力ビームを形成するパルスレーザビームを生成するよう構成され、また、該出力ビームの波長及び帯域幅をモニタするための波長計モジュールを含み、更に、前記出力カプラと前記波長計モジュールとの間で前記パージシステムに真空品質の実質的に酸素のないビーム経路をもたらすための密封ベローズシールを含むことを特徴とするレーザ。
【請求項５】
前記ビーム経路パージシステムは、窒素パージ供給装置を含むことを特徴とする請求項１に記載のレーザ。
【請求項６】
前記ビーム経路パージシステムは、ヘリウムパージ供給装置を含み、パージシステムは、前記第１の光学器械モジュールをヘリウムでパージするよう構成されていることを特徴とする請求項１に記載のレーザ。
【請求項７】
前記パージシステムは、窒素パージ供給装置及びヘリウムパージ供給装置を含み、該ヘリウムパージ供給装置は、少なくとも前記第１の光学器械モジュールをヘリウムでパージするよう構成されていることを特徴とする請求項１に記載のモジュール式レーザ。
【請求項８】
毎秒２，０００パルスを超えるパルス繰返し率で作動することができるレーザであって、
Ａ）（１）レーザガス、
（２）放電領域を形成する２つの細長い電極、
（３）毎秒２，０００パルス又はそれ以上の範囲の繰返し率で作動する時に、各パルスに続いて、前記放電領域から次のパルスの前に生成された実質的に全ての放電生成イオンを取り除くために、該放電領域において前記レーザガスの十分なガス速度を生み出すための接線型(tangential type)ファン、及び
（４）少なくとも一つのフィン付き熱交換器を含み、少なくとも１６ｋｗの熱エネルギを前記レーザガスから取り除くことができる熱交換器システム、
を包含するレーザチャンバモジュールと、
Ｂ）約５ｍＪの範囲の正確に制御されたパルスエネルギにより毎秒約２，０００パルスの繰返し率で前記放電領域からレーザパルスを生成するのに十分な電気パルスを前記電極に供給するように構成されたパルスパワーシステムと、
Ｃ）ラインナローイング光学構成要素を含む第１の光学器械モジュールと、
Ｄ）出力カプラを含む第２の光学器械モジュールと、
を含み、
該出力カプラ及び第１の光学器械モジュールは、共振空洞と、前記レーザチャンバモジュールを通るレーザビーム経路とを形成し、該チャンバモジュールから分離してレーザに取り付けられ、
Ｅ）ビーム経路パージシステムと、
Ｆ）前記ビーム経路又は前記出力ビーム内のレーザビーム吸収物質を検出するためのパージガス汚染検出器と、
を更に含むことを特徴とするレーザ。
【請求項９】
前記汚染検出器は、レーザパルス放射の前記物質による吸収から生じた圧力波を検出するためのエレクトレット音響検波器を含むことを特徴とする請求項８に記載のレーザ。
【請求項１０】
毎秒２，０００パルスを超えるパルス繰返し率で作動することができるレーザであって、
Ａ）（１）レーザガス、
（２）放電領域を形成する２つの細長い電極、
（３）毎秒２，０００パルス又はそれ以上の範囲の繰返し率で作動する時に、各パルスに続いて、前記放電領域から次のパルスの前に生成された実質的に全ての放電生成イオンを取り除くために、該放電領域において前記レーザガスの十分なガス速度を生み出すための接線型(tangential type)ファン、及び
（４）少なくとも一つのフィン付き熱交換器を含み、少なくとも１６ｋｗの熱エネルギを前記レーザガスから取り除くことができる熱交換器システム、
を包含するレーザチャンバモジュールと、
Ｂ）約５ｍＪの範囲の正確に制御されたパルスエネルギにより毎秒約２，０００パルスの繰返し率で前記放電領域からレーザパルスを生成するのに十分な電気パルスを前記電極に供給するように構成されたパルスパワーシステムと、
Ｃ）ラインナローイング光学構成要素を含む第１の光学器械モジュールと、
Ｄ）出力カプラを含む第２の光学器械モジュールと、
を含み、
該出力カプラ及び第１の光学器械モジュールは、共振空洞と、前記レーザチャンバモジュールを通るレーザビーム経路とを形成し、該チャンバモジュールから分離してレーザに取り付けられ、
Ｅ）ビーム経路パージシステムを更に含み、
前記第１の光学器械モジュールは、ＰＺＴ駆動装置及びステッパモータによって駆動される同調ミラーを備え、該ＰＺＴ駆動装置及びステッパモータの両者は該第１の光学器械モジュールのパージされた部分からベローズシールによって分離されていることを特徴とするレーザ。
【請求項１１】
毎秒２，０００パルスを超えるパルス繰返し率で作動することができるレーザであって、
Ａ）（１）レーザガス、
（２）放電領域を形成する２つの細長い電極、
（３）毎秒２，０００パルス又はそれ以上の範囲の繰返し率で作動する時に、各パルスに続いて、前記放電領域から次のパルスの前に生成された実質的に全ての放電生成イオンを取り除くために、該放電領域において前記レーザガスの十分なガス速度を生み出すための接線型(tangential type)ファン、及び
（４）少なくとも一つのフィン付き熱交換器を含み、少なくとも１６ｋｗの熱エネルギを前記レーザガスから取り除くことができる熱交換器システム、
を包含するレーザチャンバモジュールと、
Ｂ）約５ｍＪの範囲の正確に制御されたパルスエネルギにより毎秒約２，０００パルスの繰返し率で前記放電領域からレーザパルスを生成するのに十分な電気パルスを前記電極に供給するように構成されたパルスパワーシステムと、
Ｃ）ラインナローイング光学構成要素を含む第１の光学器械モジュールと、
Ｄ）出力カプラを含む第２の光学器械モジュールと、
を含み、
該出力カプラ及び第１の光学器械モジュールは、共振空洞と、前記レーザチャンバモジュールを通るレーザビーム経路とを形成し、該チャンバモジュールから分離してレーザに取り付けられ、
Ｅ）ビーム経路パージシステムを更に含み、
前記第１の光学器械モジュールは、格子面を形成する回折格子と、パージガスを該格子面の近傍に押し付けるためのパージ手段とを含むことを特徴とするレーザ。
【請求項１２】
毎秒２，０００パルスを超えるパルス繰返し率で作動することができるレーザであって、
Ａ）（１）レーザガス、
（２）放電領域を形成する２つの細長い電極、
（３）毎秒２，０００パルス又はそれ以上の範囲の繰返し率で作動する時に、各パルスに続いて、前記放電領域から次のパルスの前に生成された実質的に全ての放電生成イオンを取り除くために、該放電領域において前記レーザガスの十分なガス速度を生み出すための接線型(tangential type)ファン、及び
（４）少なくとも一つのフィン付き熱交換器を含み、少なくとも１６ｋｗの熱エネルギを前記レーザガスから取り除くことができる熱交換器システム、
を包含するレーザチャンバモジュールと、
Ｂ）約５ｍＪの範囲の正確に制御されたパルスエネルギにより毎秒約２，０００パルスの繰返し率で前記放電領域からレーザパルスを生成するのに十分な電気パルスを前記電極に供給するように構成されたパルスパワーシステムと、
Ｃ）ラインナローイング光学構成要素を含む第１の光学器械モジュールと、
Ｄ）出力カプラを含む第２の光学器械モジュールと、
を含み、
該出力カプラ及び第１の光学器械モジュールは、共振空洞と、前記レーザチャンバモジュールを通るレーザビーム経路とを形成し、該チャンバモジュールから分離してレーザに取り付けられ、
Ｅ）窒素フィルタを備えた窒素パージシステムを含むビーム経路パージシステム、
を更に含むことを特徴とするレーザ。
【請求項１３】
流量モニタを備えた窒素パージモジュールを更に含み、更に、レーザからの排気パージガスを搬送するためのパージ排気管を含むことを特徴とする請求項１２に記載のレーザ。
【請求項１４】
電気作動シャッタを備えたシャッタユニットと、指令信号によりレーザ出力ビーム経路内に配置することができる電力計とを更に含むことを特徴とする請求項１に記載のレーザ。
【請求項１５】
前記密封ベローズシールの各々は、金属Ｃシールリングを含むことを特徴とする請求項１に記載のレーザ。
【請求項１６】
前記密封ベローズシールの各々は、エラストマーを含有せず、前記チャンバからの振動隔離をもたらし、大気ガスからのビーム列隔離をもたらし、前記ＬＮＰ又は前記出力カプラユニットを妨げることなく前記レーザチャンバの自由な交換を可能にすることを特徴とする請求項１に記載のレーザ。
【請求項１７】
前記密封ベローズシールの少なくとも１つは、前記金属Ｃシールリングの損傷を防止するように構成された円形リッジを有するベローズ部を含むことを特徴とする請求項１５に記載のレーザ。