【事件の表示】
　特願２００１−２４９１２３「真空処理装置及び真空処理方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年　２月２８日出願公開、特開２００３−　６０００５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯 
　本願は、平成１３年８月２０日の出願であって、平成２０年７月１４日に手続補正がなされ、平成２２年４月６日付けで拒絶の理由が通知され、同年６月１４日に手続補正がなされ、同年１１月２２日付けで拒絶査定がされ、これに対し、平成２３年２月２８日に拒絶査定に対する審判請求がなされたものである。 
 　 
２．本願発明
　本願の請求項１ないし３に係る発明は、平成２２年６月１４日に補正された特許請求の範囲の請求項１ないし３に記載された事項により特定されるとおりと認められるところ、請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、次のとおりである。
　
「真空中で処理対象物を搬送し且つ処理を行う真空処理装置であって、
　所定の処理用真空槽と連通可能な第１の搬送部と、
　前記第１の搬送部に対して一つのゲートバルブのみを介して連通し且つ所定の処理用真空槽と連通可能な第２の搬送部とを備え、
　前記第１の搬送部には、第１の搬送ロボットが設けられ、
　前記第２の搬送部には、第２の搬送ロボットが設けられ、
　前記第２の搬送部内の前記第１の搬送部側には、前記第１及び第２の搬送ロボットの回転方向に沿って複数の移送ステージが隣接配置され、当該複数の移送ステージを介して前記第１の搬送部と前記第２の搬送部のいずれへも処理対象物を搬送できるように構成されていることを特徴とする真空処理装置。」
　
３．刊行物記載の発明
　これに対し、本願出願前に頒布され、原審で引用された刊行物である特開平１０−２７０５２７号公報（以下「刊行物１」という。）には、次のように記載されている。 
　
ア．段落０００２〜０００８
「【０００２】
【従来の技術】金属薄膜や絶縁物薄膜は、半導体装置や液晶装置等に広く用いられている。その薄膜を形成するために、半導体基板やガラス基板等の成膜処理対象物を真空雰囲気に置いて処理する方法として、スパッタリング方法やＣＶＤ方法等の様々な方法が開発されており、形成したい薄膜の種類に応じ、適切な薄膜形成方法を選択できるようになっている。そのような薄膜形成工程以外にも、例えばドライエッチング工程等を含め、多様な処理が真空雰囲気を利用して行われている。
【０００３】・・・。
【０００４】図６の符号１０１は、マルチチャンバー方式の従来技術の複合型真空処理装置を示しており、搬送室１０２を中心とし、８個の真空槽(ａ〜ｈ)が設けられている。各真空槽のうち、符号ａと符号ｈで示すものはカセット室であり、符号ｂ〜ｄで示すものはＣＶＤ室、符号ｅ〜ｇで示すものは、スパッタ室である。
【０００５】真空雰囲気を用いる処理のうち、ＣＶＤ工程では真空槽内に薄膜材料である反応性ガスが導入され、エッチング工程では腐食性のエッチングガスが、スパッタリング工程では不活性なスパッタリングガスが導入される。・・・。
【０００６】この図６に示した複合型真空処理装置１０１では、各真空槽(ａ〜ｈ)から放出されたガスが、他の真空槽を汚染しないように、搬送室１０２内を仕切板１０３によって仕切り、第１室Ａと第２室Ｂの２室に分けており、カセット室ａと、反応性ガスを用いるＣＶＤ室ｂ〜ｄを第１室Ａ側に接続し、スパッタリングガスを用いるスパッタ室ｅ〜ｇと、カセット室ｈを第２室Ｂ側に接続している。
【０００７】第１室Ａと第２室Ｂ内には、搬送ロボット１０５１、１０５２と、ステージ１０６１、１０６２がそれぞれ設けられており、また、仕切板１０３には２個の仕切バルブ１０８１、１０８２が設けられている。通常の状態では各仕切バルブ１０８１、１０８２は閉じておき、第１室Ａと第２室Ｂとの間を仕切り、相互に汚染されないように構成している。
【０００８】処理対象物を第１室Ａと第２室Ｂとの間で移動させるときは、仕切バルブ１０８１、１０８２を開け、搬送ロボット１０５１、１０５２を動作させ、第１室Ａ内のステージ１０６１上に載置された処理対象物は、第２室Ｂ内の搬送ロボット１０５２によって第２室Ｂ内に搬入し、第２室Ｂ内のステージ１０６２上に載置された処理対象物は、第１室Ａ内の搬送ロボット１０５１によって第１室Ａ内に搬入する。処理対象物の移動が終了すると、直ちに仕切バルブ１０８１、１０８２を閉じ、第１室Ａと第２室Ｂとの間を仕切る。」
　
イ．図６
　第１室Ａの第２室Ｂ側にステージ１０６１が配置され、第２室Ｂの第１室Ａ側にステージ１０６２が配置されることが看取できる。
　
　上記記載を、技術常識を踏まえ、本願発明に照らして整理すると、上記刊行物１には、次の発明（以下「刊行物１発明」という。）が記載されているものと認められる。 
　
「真空中で処理対象物を搬送し且つ処理を行う真空処理装置であって、
　ＣＶＤ室ｂ〜ｄと連通可能な第１室Ａと、
　前記第１室Ａに対して２個の仕切バルブ１０８１、１０８２を介して連通し且つスパッタ室ｅ〜ｇと連通可能な第２室Ｂとを備え、
　前記第１室Ａには、搬送ロボット１０５１が設けられ、
　前記第２室Ｂには、搬送ロボット１０５２が設けられ、
　前記第１室Ａの前記第２室Ｂ側には、ステージ１０６１が配置され、前記第２室Ｂの前記第１室Ａ側には、ステージ１０６２が配置され、当該ステージ１０６１、１０６２を介して前記第１室Ａと前記第２室Ｂのいずれへも処理対象物を搬送できるように構成されている真空処理装置。」
　
４．対比・判断 
　本願発明と刊行物１発明とを対比すると、刊行物１発明における「ＣＶＤ室ｂ〜ｄ」は本願発明における「所定の処理用真空槽」に相当し、同様に「第１室Ａ」は「第１の搬送部」に、「仕切バルブ１０８１、１０８２」は「ゲートバルブ」に、「スパッタ室ｅ〜ｇ」は「所定の処理用真空槽」に、「第２室Ｂ」は「第２の搬送部」に、「搬送ロボット１０５１」は「第１の搬送ロボット」に、「搬送ロボット１０５２」は「第２の搬送ロボット」に、「ステージ１０６１、１０６２」は「複数の移送ステージ」に、相当する。
　
　また、刊行物１発明の「前記第１室Ａの前記第２室Ｂ側には、ステージ１０６１が配置され、前記第２室Ｂの前記第１室Ａ側には、ステージ１０６２が配置され」と、本願発明の「前記第２の搬送部内の前記第１の搬送部側には、前記第１及び第２の搬送ロボットの回転方向に沿って複数の移送ステージが隣接配置され」とは、「前記第１の搬送部と前記第２の搬送部との間には複数の移送ステージが配置され」である限りにおいて、一致する。
　
　そうすると、本願発明と刊行物１発明とは、以下の点で一致する。 
「真空中で処理対象物を搬送し且つ処理を行う真空処理装置であって、
　所定の処理用真空槽と連通可能な第１の搬送部と、
　前記第１の搬送部に対してゲートバルブを介して連通し且つ所定の処理用真空槽と連通可能な第２の搬送部とを備え、
　前記第１の搬送部には、第１の搬送ロボットが設けられ、
　前記第２の搬送部には、第２の搬送ロボットが設けられ、
　前記第１の搬送部と前記第２の搬送部との間には複数の移送ステージが配置され、当該複数の移送ステージを介して前記第１の搬送部と前記第２の搬送部のいずれへも処理対象物を搬送できるように構成されている真空処理装置。」 
 　 
　そして、以下の点で相違する。
　相違点１：ゲートバルブの数について、本願発明は「一つのみ」であるが、刊行物１発明は「２個」である点。
　相違点２：複数の移送ステージについて、本願発明は「前記第２の搬送部内の前記第１の搬送部側には、前記第１及び第２の搬送ロボットの回転方向に沿って複数の移送ステージが隣接配置され」るが、刊行物１発明は「前記第１室Ａの前記第２室Ｂ側には、ステージ１０６１が配置され、前記第２室Ｂの前記第１室Ａ側には、ステージ１０６２が配置され」る点。
　
　相違点１について検討する。
　刊行物１発明におけるゲートバルブは、真空雰囲気の異なる第１の搬送部と第２の搬送部との間で、処理対象物を搬送するために設けられたものであるから、ゲートバルブが「２個」でないと、装置として成り立たないという事情は見いだせない。
　ゲートバルブが「２個」の場合、それぞれ駆動機構が必要であり、「一つのみ」のものと比較して、構造が複雑になることは明らかである。
　よって、装置の簡素化の観点から、ゲートバルブを「一つのみ」とすることは、例えば、特開平１０−３０８４３０号公報の図１にもみられるごとく、設計的事項にすぎない。
　
　相違点２について検討する。
　刊行物１発明における複数の移送ステージは、移送ステージを介して処理対象物のやり取りのためのものであるから、両搬送部に一つずつ配置しなければならない必然性はない。
　本願発明における「前記第２の搬送部内の前記第１の搬送部側には、前記第１及び第２の搬送ロボットの回転方向に沿って複数の移送ステージが隣接配置され」る技術的意義は、発明の詳細な説明によると「第１〜第３の移送ステージ３１〜３３を介して上記第１及び第２の搬送ロボット２１、２２間において基板６のやり取りができるように」（段落００２４）するためのものである。
　刊行物１発明、本願発明、いずれにおいても、第１、第２の搬送ロボット間に、複数の移送ステージが存在すれば十分であり、複数の移送ステージの位置を「第２の搬送部内の前記第１の搬送部側」と特定したことによる技術的意義は認められない。
　複数の移送ステージの位置について検討すると、ともに第１の搬送部に配置する、ともに第２の搬送部に配置する、両搬送部に一つずつ配置する、の３とおりがあるにすぎないから、例えば、上記特開平１０−３０８４３０号公報の図１にもみられるごとく、「ともに第２の搬送部に配置する」を選択し、相違点２に係るものとすることに困難性は認められない。
　
　なお、請求人は、審判請求理由で、刊行物１発明は「二つの室内にはそれぞれステージが一つしかないため、多くのプロセスを必要とする工程において処理速度を向上させることは困難」と主張する。
　しかし、処理速度は、各処理用真空槽が行う処理内容、処理順序（処理対象物の流れ）によって異なるものであるから、請求人の主張は根拠がない。
　
　また、これら相違点を総合勘案しても、格別の技術的意義が生じるとも認められない。
　
５．むすび 
　本願発明は、刊行物１発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、他の請求項に係る発明を検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものであるから、結論のとおり審決する。