【手続補正書】
【提出日】平成17年11月1日(2005.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物質を溶融するための、特に、高純度で侵食性および／または高融点のガラスまたはガラスセラミックを溶融するための装置（１、１０１、２０１、３０１）であって、
坩堝（１０）、
電磁放射線を放射する放射装置（３０）であって、該放射線により前記坩堝（１０）内に供給されることができる溶融物（４０）中にエネルギーを導入することが可能であり、該溶融物を吸収された高周波パワーによって加熱することが可能である、放射装置（３０）、および
前記坩堝（１０）に付与される混合装置または均質化装置（５０、１５０、２５０、３５０、３５０’）
を備え、前記坩堝が溶融坩堝であって、溶融物が溶融坩堝中に存在している間に溶融物を混合および／または均質化することができる、物質を溶融するための装置。
【請求項２】
前記混合装置または均質化装置（５０、１５０、２５０、３５０、３５０’）は、混合または均質化が、汚染されずに、あるいは少なくともほとんど汚染されずに行なわれるように設計されている、請求項１に記載の物質を溶融するための装置（１、１０１、２０１、３０１）。
【請求項３】
前記溶融物（４０）は、前記混合装置または均質化装置（５０、１５０、２５０、３５０、３５０’）により意図的に内部の動きが起こされることができる、請求項１または２に記載の物質を溶融するための装置（１、１０１、２０１、３０１）。
【請求項４】
既定流が前記混合装置または均質化装置（５０、１５０、２５０、３５０、３５０’）により前記溶融物（４０）中に誘導される、請求項１ないし３のいずれか1項に記載の物質を溶融するための装置（１、１０１、２０１、３０１）。
【請求項５】
第１の材料（５２、１５６、２５６）を前記混合装置または均質化装置（５０、１５０、２５０、３５０、３５０’）により前記溶融物（４０）中に導入することができ、前記第１の材料（５２、１５６、２５６）により前記溶融物（４０）中にほぼ既定の動きを誘導することが可能である、請求項１ないし４のいずれか1項に記載の物質を溶融するための装置（１、１０１、２０１、３０１）。
【請求項６】
前記坩堝（１０）は、前記溶融物（４０）用の流出開口部（２２）と、前記溶融物（４０）中に浸漬されるブリッジ（２４）、特に冷却ブリッジ（２４）とを備え、該ブリッジ（２４）により未溶融バッチ画分を前記流出開口部（２２）に近づかないようにする、請求項１ないし５のいずれか1項に記載の物質を溶融するための装置（１、１０１、２０１、３０１）。
【請求項７】
前記坩堝（１０）に付与される攪拌装置（３５０、３５０’）を備える、請求項１ないし６のいずれか1項に記載の物質を溶融するための装置（３０１）。
【請求項８】
前記溶融物（４０）中で溶解または溶融することができる攪拌機（３５０’）を備える、請求項１ないし７のいずれか1項に記載の物質を溶融するための装置（３０１）。
【請求項９】
前記溶融物（４０）中にガスまたは気泡（５２）を導入する装置（５０）を備える、請求項１ないし８のいずれか1項に記載の物質を溶融するための装置（１）。
【請求項１０】
１つおよび／または複数のガスノズル（５０）を備える、請求項１ないし９のいずれか1項に記載の物質を溶融するための装置（１）。
【請求項１１】
前記１つおよび／または複数のガスノズル（５０）は冷却、特に液体冷却される、請求項１０に記載の物質を溶融するための装置（１）。
【請求項１２】
前記ガスノズル（５０）は、前記坩堝（１０）の基部（１４）に配置される、請求項１０または１１に記載の物質を溶融するための装置（１）。
【請求項１３】
前記ガスノズル（５０）の少なくとも第１の部分（５１）が、前記坩堝（１０）の内部に突出している、および／または前記第１の部分（５１）が、低汚染材料、特に軽金属（たとえばアルミニウム）からなる、請求項１０、１１、または１２に記載の物質を溶融するための装置（１）。
【請求項１４】
前記坩堝の壁（１２、１４）上に、特に、前記坩堝の基部（１４）上にある固体スカル層（４２、４２ａ）を穿孔する装置（５８）を備える、請求項１ないし１３のいずれか１項に記載の物質を溶融するための装置（１）。
【請求項１５】
前記坩堝壁（１２、１４）上に、特に、前記坩堝底部（１４）上にある固体スカル層（４２、４２ａ）を穿孔する針（５８）を備え、該針（５８）は、高温に耐えることができる材料、特に、タングステン、モリブデン、および／またはイリジウムを含有する、請求項１ないし１４のいずれか１項に記載の物質を溶融するための装置（１）。
【請求項１６】
前記針（５８）は、前記ガスノズル（５０）のほぼ中央に配置される、請求項１５に記載の物質を溶融するための装置（１）。
【請求項１７】
請求項１ないし１６のいずれか１項に記載の装置（１０１、２０１）およびバッチ（１５６、２５６）を含むシステムであって、その構成または形状がバッチ（１５６、２５６）を溶融物（４０）へ導入することによって溶融物（４０）の混合または均質化を行うことができるようなものであるシステム。
【請求項１８】
請求項１ないし１６のいずれか１項に記載の装置（１０１、２０１）および溶融物へ導入することができるペレット化されたおよび／またはコーティングされたバッチ（１５６、２５６）を含むシステム。
【請求項１９】
請求項１ないし１６のいずれか１項に記載の装置（１０１、２０１）および溶融物へ導入することができ、かつ溶融時にガスまたは気泡を放出するバッチ（１５６）を含むシステム。
【請求項２０】
物質を溶融するための、特に、高純度で浸食性および／または高融点のガラスまたはガラスセラミックを溶融するための、特に、請求項１ないし１６のいずれか１項に記載の物質を溶融する装置（１、１０１、２０１、３０１）の運転のための方法であって、
溶融坩堝（１０）を備えるステップと、
電磁放射線を放射する放射装置（３０）を備えるステップと、
特に前記溶融坩堝（１０）を冷却するステップと、
前記放射装置（３０）が放射する電磁放射線により前記溶融坩堝内で溶融物を加熱するステップと、
前記溶融坩堝（１０）内の前記溶融物（４０）を混合または均質化するステップと、
を含む方法。
【請求項２１】
前記溶融物（４０）の混合または均質化は、汚染されずに、あるいは少なくともほとんど汚染されずに行なわれる、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記溶融物（４０）は、混合または均質化するよう意図的に内部の動きが起こされる、請求項２０または２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記溶融物（４０）における流れは、混合または均質化のため所定の様式で誘導される、請求項２０ないし２２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２４】
第１の材料（５２、１５６、２５６）が混合または均質化のため前記溶融物中に導入され、前記第１の材料（５２、１５６、２５６）は、前記溶融物（４０）中にほぼ既定の流動を引き起こすか、少なくとも誘導する、請求項２０ないし２３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２５】
前記溶融物（４０）用の流出開口部（２２）と、前記溶融物（４０）中に浸漬されるブリッジ（２４）、特に冷却ブリッジ（２４）とを備える溶融坩堝（１０）が備えられ、前記ブリッジ（２４）により未溶融バッチ画分が前記流出開口部（２２）に近づかないようにされる、請求項２０ないし２４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２６】
バッチ（１５６、２５６）が前記溶融物（４０）中に導入され、前記バッチ（１５６、２５６）の構成または前記バッチの成分の形状は、前記溶融物（４０）中への前記バッチ（１５６、２５６）の導入が前記溶融物（４０）の混合または均質化を同時溶融でもたらすようなものである、請求項２０ないし２５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２７】
ペレット化されたおよび／またはコーティングされたバッチ（１５６、２５６）が前記溶融物（４０）中に導入される、請求項２０ないし２６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２８】
溶融時にガスまたは気泡（１５２）を放出するバッチ（１５６）が前記溶融物（４０）中に導入される、請求項２０ないし２７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２９】
前記溶融物（４０）が混合または均質化するよう攪拌される、請求項２０ないし２８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３０】
自ら溶解する攪拌機（３５０’）が前記溶融物（４０）中に導入される、請求項２０ないし２９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３１】
ガスまたは気泡（５２）が混合または均質化のため前記溶融物中に導入される、請求項２０ないし３０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３２】
請求項１ないし１９のいずれか１項に記載の物質を溶融するための装置（１、１０１、２０１、３０１）または請求項２０ないし３１のいずれか１項に記載の方法により製造されるかまたは製造可能な、ガラス製品またはガラスセラミック製品。