Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月12日(2006.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配列番号１のアミノ酸配列に対して９０％以上の配列同一性を有する配列、その断片またはその誘導体から成り、セルロース分解活性を有することを特徴とするセルラーゼ。
【請求項２】
配列番号１の位置３１から位置２６１まで伸びるアミノ酸配列に対して９０％以上の配列同一性を有する連続アミノ酸配列を含むことを特徴とする請求項１記載のセルラーゼ。
【請求項３】
前記誘導体が、配列番号１に対して５０％以上の配列同一性を有することを特徴とする請求項１記載のセルラーゼ。
【請求項４】
前記誘導体が、配列番号１に対して７０％以上の配列同一性を有することを特徴とする請求項３記載のセルラーゼ。
【請求項５】
配列番号２の配列に対応するＤＮＡ；高ストリンジェント条件下において配列番号２の配列にハイブリダイズするＤＮＡ；配列番号２の配列に対して７６％以上の配列同一性を有するＤＮＡ；および低ストリンジェント条件下において配列番号２の配列の少なくとも部分を含む第二ＤＮＡ分子にハイブリダイズするＤＮＡ；より成る群から選択されるＤＮＡ配列によりコードされることを特徴とする請求項１記載のセルラーゼ。
【請求項６】
配列番号１記載のアミノ酸配列を含むことを特徴とする請求項１記載のセルラーゼ。
【請求項７】
放線菌から得られることを特徴とする請求項１記載のセルラーゼ。
【請求項８】
切断されてセルラーゼ活性を有しかつ分子量約２５ｋＤの断片を形成することを特徴とする請求項１記載のセルラーゼ。
【請求項９】
ＳＤＳ−ＰＡＧＥで測定して分子量が約３６ｋＤであり、計算した等電点が約５．９であり、至適ｐＨが４０℃で約８および６０℃で７であることを特徴とする放線菌由来のセルラーゼ。
【請求項１０】
請求項１から５いずれか１項記載のセルラーゼをコードするＤＮＡ 。
【請求項１１】
低ストリンジェント条件下において配列番号２の配列に対してハイブダイズすることを特徴とするＤＮＡ。
【請求項１２】
中ストリンジェント条件下において配列番号２の配列に対してハイブリダイズすることを特徴とする請求項１１記載のＤＮＡ 。
【請求項１３】
高ストリンジェント条件下において配列番号２の配列に対してハイブリダイズすることを特徴とする請求項１２記載のＤＮＡ 。
【請求項１４】
セルラーゼを作成する方法であって：
（ａ）請求項１０記載のＤＮＡ分子を単離し；
（ｂ）発現に適した生物体を前記ＤＮＡで形質転換し；
（ｃ）セルラーゼをコードする前記ＤＮＡの発現に適した条件下において前記形質転換生物体を増殖させ；さらに
（ｄ）セルラーゼを含む水性混合物を回収する；工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項１５】
前記水性混合物から前記セルラーゼを精製する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
前記生物体がバシラス種を含むことを特徴とする請求項１４記載の方法。
【請求項１７】
前記生物体がストレプトミセス種を含むことを特徴とする請求項１４記載の方法。
【請求項１８】
前記生物体がストレプトミセス・リビデンスを含むことを特徴とする請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
微生物中のセルラーゼをコードするＤＮＡを同定する方法であって：
（ａ）配列番号２に対応する配列の少なくとも部分を包含し、第二ＤＮＡに対してハイブリダイズすると検出可能なシグナルを産生し得るＤＮＡプローブを調製し；
（ｂ）ＤＮＡを微生物から単離し、さらに該ＤＮＡを無作為に切断してＤＮＡ断片ライブラリーを作成することによって、第二ＤＮＡを該微生物から調製し；
（ｃ）低ストリンジェント条件下において前記ＤＮＡプローブを前記第二ＤＮＡと反応させ；
（ｄ）前記工程（ｃ）においてハイブリダイズしたＤＮＡ断片を検出および単離し；
（ｅ）前記ＤＮＡプローブとハイブリダイズする前記第二ＤＮＡの断片に対応する完全長遺伝子を得る；工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項２０】
請求項１９記載の方法に基づき単離された遺伝子によってコードされるセルラーゼを作成する方法であって：
（ａ）発現に適した生物体を前記ＤＮＡで形質転換し；
（ｂ）前記ＤＮＡがコードする遺伝子の発現に適した条件下で前記形質転換生物体を増殖させ；
（ｃ）前記セルラーゼを含む水性混合物を回収する；工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項２１】
請求項１から９いずれか１項記載のセルラーゼを含有する洗剤組成物。
【請求項２２】
動物飼料の添加物としての請求項１から９いずれか１項記載のセルラーゼの使用。
【請求項２３】
織物加工のための請求項１から９いずれか１項記載のセルラーゼの使用。
【請求項２４】
パルプおよび紙の加工における請求項１から９いずれか１項記載のセルラーゼの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月25日(2006.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  配列番号２７９０からのアミノ酸配列のフラグメントを含むタンパク質であって、ここで該フラグメントが、該配列からの少なくとも７アミノ酸を含む、タンパク質。
【請求項２】  配列番号２〜配列番号３０２０の偶数の配列番号からなる群より選択されるアミノ酸配列を含む、タンパク質。
【請求項３】  請求項１に記載のタンパク質に対して５０％以上の相同性を有する、タンパク質。
【請求項４】  配列番号２〜配列番号３０２０の偶数の配列番号からなる群より選択されるアミノ酸配列のフラグメントを含むタンパク質であって、ここで該フラグメントが、該配列からの１４以上の連続するアミノ酸を含む、タンパク質。
【請求項５】  請求項１〜３のいずれか１項に記載のタンパク質に特異的に結合する、抗体。
【請求項６】  請求項１〜３のいずれか１項に記載のタンパク質をコードする、核酸分子。
【請求項７】  配列番号１〜配列番号３０１９の奇数の配列番号からなる群より選択されるヌクレオチド配列を含む、請求項５に記載の核酸分子。
【請求項８】  配列番号１〜配列番号３０１９の奇数の配列番号からなる群より選択されるヌクレオチド配列のフラグメントを含む核酸分子であって、ここで該フラグメントが、該配列からの４０以上の連続するヌクレオチドを含む、核酸分子。
【請求項９】  請求項６に記載の核酸分子に相補的なヌクレオチド配列を含む、核酸分子。
【請求項１０】  請求項７に記載の核酸分子に相補的なヌクレオチド配列を含む、核酸分子。
【請求項１１】  請求項８に記載の核酸分子に相補的なヌクレオチド配列を含む、核酸分子。
【請求項１２】  請求項１〜１１のいずれかに記載のタンパク質、核酸、または抗体を含む、薬学的組成物。
【請求項１３】  ワクチン組成物または診断用組成物である、請求項１２に記載の薬学的組成物。
【請求項１４】  ナイセリア細菌に起因する感染の処置または予防のための医薬の製造における、請求項１〜１１のいずれか1項に記載のタンパク質、核酸分子または抗体の、使用。
【請求項１５】  請求項１に記載のタンパク質を含む薬学的組成物であって、該組成物が免疫原性である、薬学的組成物。
【請求項１６】  請求項２に記載のタンパク質を含む薬学的組成物であって、該組成物が免疫原性である、薬学的組成物。
【請求項１７】  請求項３に記載のタンパク質を含む薬学的組成物であって、該組成物が免疫原性である、薬学的組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月22日(2006.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一組のプラスミドを含む、クローン化ウイルスｃＤＮＡから感染性インフルエンザウイルスを発生させる組成物であって、
各プラスミドが１つのウイルスゲノムセグメントを含み、ウイルスゲノムセグメントに対応するウイルスｃＤＮＡが、ＲＮＡポリメラーゼＩ（ＰｏｌＩ）プロモーターと正確な３’末端を有するｖＲＮＡまたはｃＲＮＡの合成のための調節要素との間に挿入されていて、それによりｖＲＮＡまたはｃＲＮＡの発現がもたらされ、次に、その全体が、ＲＮＡポリメラーゼＩＩ（ＰｏｌＩＩ）プロモーターとポリアデニル化シグナルとの間に挿入されていて、それによりウイルスｍＲＮＡおよび対応するウイルスタンパク質の発現がもたらされ、ｖＲＮＡまたはｃＲＮＡおよびウイルスタンパク質の完全なセットの発現によって感染性インフルエンザウイルスのアセンブリがもたらされる組成物。
【請求項２】
正確な３’末端を有するｖＲＮＡまたはｃＲＮＡの合成のための調節要素が、ＲＮＡポリメラーゼＩ（ｐｏｌＩ）ターミネーター配列である請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
正確な３’末端を有するｖＲＮＡまたはｃＲＮＡの合成のための調節要素が、リボザイム配列である請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
ｐｏｌＩプロモーターがポリアデニル化シグナルに隣接していて、ｐｏｌＩターミネーター配列がｐｏｌＩＩプロモーターに隣接している請求項２に記載の組成物。
【請求項５】
ｐｏｌＩプロモーターがｐｏｌＩＩプロモーターに隣接していて、ｐｏｌＩターミネーター配列がポリアデニル化シグナルに隣接している請求項２に記載の組成物。
【請求項６】
インフルエンザウイルスがインフルエンザＡ型ウイルスである請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
インフルエンザウイルスがインフルエンザＢ型ウイルスである請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
ウイルスゲノムセグメントが、
（ｉ）ウイルスポリメラーゼ複合タンパク質、Ｍタンパク質およびＮＳタンパク質からなる群から選択したタンパク質をコードしていて；
（ｉｉ）細胞培養中での成長によく適応した株から、または弱毒化した株から、もしくは両方から得られる
請求項６に記載の組成物。
【請求項９】
ウイルスゲノムセグメントが赤血球凝集素（ＨＡ）遺伝子もしくはノイラミニダーゼ（ＮＡ）遺伝子、または両方を含み、前記遺伝子が病原性インフルエンザウイルスから得られる請求項６に記載の組成物。
【請求項１０】
前記組成物がｐＨＷ２４１−ＰＢ２、ｐＨＷ２４２−ＰＢ１、ｐＨＷ２４３−ＰＡ、ｐＨＷ２４４−ＨＡ、ｐＨＷ２４５−ＮＰ、ｐＨＷ２４６−ＮＡ、ｐＨＷ２４７−ＭおよびｐＨＷ２４８−ＮＳからなる群から選択したマップを有する１つまたは複数のプラスミドを含む請求項６に記載の組成物。
【請求項１１】
前記組成物がｐＨＷ１８１−ＰＢ２、ｐＨＷ１８２−ＰＢ１、ｐＨＷ１８３−ＰＡ、ｐＨＷ１８４−ＨＡ、ｐＨＷ１８５−ＮＰ、ｐＨＷ１８６−ＮＡ、ｐＨＷ１８７−ＭおよびｐＨＷ１８８−ＮＳからなる群から選択したマップを有する１つまたは複数のプラスミドを含む請求項６に記載の組成物。
【請求項１２】
請求項１に記載の組成物を含む宿主細胞。
【請求項１３】
請求項７に記載の組成物を含む宿主細胞。
【請求項１４】
請求項６に記載の組成物を含む宿主細胞。
【請求項１５】
請求項９に記載の組成物を含む宿主細胞。
【請求項１６】
感染性インフルエンザウイルスビリオンを生成する方法であって、ウイルスタンパク質およびｖＲＮＡまたはｃＲＮＡの産生を可能にする条件下で請求項１２に記載の宿主細胞を培養し、それにより感染性インフルエンザウイルスを生成することを含む方法。
【請求項１７】
病原性インフルエンザビリオンを生成する方法であって、ウイルスタンパク質およびｖＲＮＡまたはｃＲＮＡの産生を可能にする条件下で請求項１５に記載の宿主細胞を培養し、それにより病原性感染性インフルエンザウイルスを生成することを含む方法。
【請求項１８】
弱毒化インフルエンザウイルスを発生させる方法であって、
（ａ）請求項１に記載の組成物中の１つまたは複数のウイルス遺伝子を突然変異させることと、および
（ｂ）適切な宿主細胞に導入した組成物によって生成された感染性インフルエンザウイルスが弱毒化されるかどうかを判定することを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月26日(2005.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）膜（３）の第１の表面上に配置された透明電極構造（２）を有する膜（３）を提供するステップと、
（ｂ）該膜（３）の該第１の表面上に表示媒体（４）を印刷するステップであって、該表示媒体（４）が、結合剤中に分散された電気光学的に活性な材料を含む、ステップと、
（ｃ）該表示媒体（４）の少なくとも一部をおおう第２の電極（６）を印刷するステップと、
を包含し、特徴付けられる、可撓性の電気的に活性な表示装置（１）を印刷する方法。
【請求項２】  前記表示媒体（４）がカプセル化された電気泳動表示媒体であることにおいて特徴付けられる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記第２の電極（６）が不透明導電電極であることにおいて特徴付けられる、請求項１または２のいずれかに記載の方法。
【請求項４】  前記第２の電極（６）が銀インク電極または黒鉛インク電極であることにおいて特徴付けられる、請求項３に記載の方法。
【請求項５】  前記透明電極構造（２）が、該電極構造（２）を前記膜（３）上に印刷することによって形成されることにおいて特徴付けられる、請求項１から４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】  前記表示媒体（４）が顔料および有機流体中に混合された有機ポリマーを含むことにおいて特徴付けられる、請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】  前記膜（３）がポリマー膜を含むことにおいて特徴付けられる、請求項１から６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】  前記膜（３）がポリエステル膜を含むことにおいて特徴付けられる、請求項７に記載の方法。
【請求項９】  前記表示媒体（４）が、結合剤中に分散されたカプセル化された電気光学的に活性な材料を含み、該材料が１００ミクロンの平均直径を有するカプセルにカプセル化されることにおいて特徴付けられる、請求項１から８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】  （ａ）第１の膜（３）の第１の表面上に配置された電極構造（２）を有する膜（３）を提供するステップと、
（ｂ）該第１の膜（３）の該第１の表面上に、結合剤中に分散されたカプセル化された電気光学的に活性な材料（４）を印刷するステップと、
（ｃ）第２の膜（３’）を提供するステップと、
（ｄ）電極構造（６）を該第２の膜（３’）上に印刷するステップと、
（ｅ）該印刷された電極構造（６）が該カプセル化された電気光学的に活性な材料（４）と電気的な連通にあるように、該第１の膜（３）および該第２の膜（３’）を積層するステップと、
を包含し、特徴付けられる、可撓性の電気的に活性な表示装置（１）を印刷する方法。
【請求項１１】  前記電極構造（２）が、前記第１の膜（３）上に該電極構造（２）を印刷することによって形成されることにおいて特徴付けられる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】  前記第１の膜（３）がポリマー膜を含むことにおいて特徴付けられる、請求項１０または１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月26日(2005.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ビュー面およびリア面を有し、流体を含むキャビティを有するポリマーマトリックスを含み、該キャビティが非球形であることを特徴とする、カプセル封じ電気泳動ディスプレイ。
【請求項２】  前記キャビティ内の前記流体が油であることを特徴とする、請求項１に記載のディスプレイ。
【請求項３】  前記キャビティの高さに対する幅のアスペクト比が１．２よりも大きいことを特徴とする、請求項１または２に記載のディスプレイ。
【請求項４】  前記アスペクト比が１．５よりも大きいことを特徴とする、請求項３に記載のディスプレイ。
【請求項５】  前記アスペクト比が１．７５よりも大きいことを特徴とする、請求項４に記載のディスプレイ。
【請求項６】  前記ポリマーマトリックスの体積分率が０．０と０．９との間であることを特徴とする、請求項１から５のいずれかに記載のディスプレイ。
【請求項７】  前記体積分率が０．０５と０．２との間であることを特徴とする、請求項６に記載のディスプレイ。
【請求項８】  前記ビュー面が実質的に平面であることを特徴とする、請求項１から７のいずれかに記載のディスプレイ。
【請求項９】  前記ビュー面および前記リア面の両方が実質的に平面であることを特徴とする、請求項８に記載のディスプレイ。
【請求項１０】  前記ビュー面の光学的に活性な部分が８０％よりも大きいことを特徴とする、請求項１から９のいずれかに記載のディスプレイ。
【請求項１１】  前記光学的に活性な部分が９０％よりも大きいことを特徴とする、請求項１０に記載のディスプレイ。
【請求項１２】  前記流体を含むキャビティがエラストマーカプセル内に配置されることを特徴とする、請求項１から１１のいずれかに記載のディスプレイ。
【請求項１３】  カプセル封じ電気泳動ディスプレイを作成するプロセスであって、
（ａ）結合剤を硬化することを包含し、
（ｂ）該結合剤に機械的な力を付与し、それにより、該結合剤に、非球形を有する少なくとも１つのカプセルを形成させることを特徴とする、プロセス。
【請求項１４】  前記ステップ（ａ）および（ｂ）が同時に起こることを特徴とする、請求項１３に記載のプロセス。
【請求項１５】  前記機械的な力が、ローラー、真空ラミネーションプレス、機械プレスのいずれか１つ以上により付与されることを特徴とする、請求項１３または１４に記載のプロセス。
【請求項１６】  前記機械的な力により、前記結合剤が引き伸ばされることを特徴とする、請求項１３から１５のいずれかに記載のプロセス。
【請求項１７】  カプセル封じ電気泳動ディスプレイを作成するプロセスであって、結合剤を硬化することを包含し、該結合剤が、硬化時に変形して少なくとも１つの非球形カプセルの形成を引き起こす蒸発性結合剤であることを特徴とする、プロセス。
【請求項１８】  前記蒸発性結合剤が、アクリル、ウレタンまたはポリ（ビニルアルコール）結合剤であることを特徴とする、請求項１７に記載のプロセス。
【請求項１９】  前記流体を含むキャビティの非球形が、平坦にされた球形であることを特徴とする、請求項１に記載のディスプレイ。
【請求項２０】  前記流体を含むキャビティの非球形が、円筒形であることを特徴とする、請求項１に記載のディスプレイ。
【請求項２１】  前記流体を含むキャビティの非球形が、多面の多面体であることを特徴とする、請求項１に記載のディスプレイ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月26日(2006.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
式（Ｉ）又は（Ｉａ）
【化１】
2006511609.tif 000001
の複素環ケトンを製造する方法であって、
式（ＩＩ）
【化２】
2006511609.tif 000002
で表される複素環化合物を、式（ＩＩＩ）
【化３】
2006511609.tif 000003
で表されるα，β−不飽和カルボン酸、又は
式（ＩＶ）
【化４】
2006511609.tif 000004
で表される無水物と反応させ、該反応を、少なくとも１種類の有機強酸と、少なくとも１種類の水吸収剤とを含む液体反応媒体中で行い、前記有機強酸は式（ＩＩＩ）のカルボン酸よりも酸性度が強く、前記反応は式（ＩＩ）の複素環化合物を、式（ＩＩＩ）のα，β−不飽和カルボン酸又は式（ＩＶ）の無水物と一緒かつ同時に、前記液体媒体に添加することにより、５０℃〜１１０℃の温度範囲において行われ、
各式中
Ｒ1は水素又はＣ1−Ｃ40炭素含有基を意味し、
Ｒ2は水素又はＣ1−Ｃ40炭素含有基を意味し、又は
Ｒ1とＲ2とが共同で環式基を形成し、
Ｒ3はＣ1−Ｃ40炭素含有基を意味し、
Ｘは周期表第１６族元素、又は二価窒素基−（Ｎ−Ｒ4）−を意味し、Ｒ4は過ハロゲン化Ｃ1−Ｃ40炭素含有基及びＣ1−Ｃ40オルガノスルホニル基からなる群から選択された電子吸引性基であることを特徴とする、複素環ケトンの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月24日(2006.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体ウエハ上に形成された金属層を適応的に電解研磨する方法であって、
前記金属層の一部分を電解研磨する段階であって、前記金属層の各部分が別個に電解研磨される、段階と、
前記一部分を電解研磨する前に、電解研磨する対象の前記金属層の前記部分の厚さの計測値を判定する段階と、
前記厚さの計測値に基づいて、前記部分を電解研磨する量を調節する段階と、
を有する方法。
【請求項２】
前記金属層の一部分を電解研磨する段階は、前記金属層の前記部分に隣接するノズルを通じて前記金属層の前記部分に電解液の流れを適用する段階を有する、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記ウエハは、前記ノズルが前記金属層に隣接して静止状態で保持されている間に、ウエハチャックを使用し、保持、回転、及び並進運動される、請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記ウエハは、前記ノズルが前記金属層に隣接して並進運動する間に、ウエハチャックを使用して、保持及び回転される、請求項２記載の方法。
【請求項５】
前記部分を電解研磨する量を調節する段階は、前記電解液の流れに印加する研磨電流又は電圧を調節する段階を有する、請求項２記載の方法。
【請求項６】
前記部分を電解研磨する量を調節する段階は、前記部分の研磨持続時間を調節する段階を有する、請求項２記載の方法。
【請求項７】
前記厚さの計測値を判定する段階は、厚さ測定ツールを使用して判定された前記金属層の前記厚さの計測値のマップを取得する段階を有する、請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記厚さの計測値を判定する段階は、エンドポイント検出器を使用して前記金属層の厚さの計測値を計測する段階を更に有し、
前記部分を電解研磨する量を調節する段階は、
前記厚さ測定ツールを使用して判定された前記金属層の前記厚さの計測値の前記マップを使用して、初期研磨において、前記部分を電解研磨する量を調節する段階と、
前記エンドポイント検出器を使用して計測された前記厚さの計測値を使用して、後続の研磨において、前記部分を電解研磨する量を調節する段階と、
を有する、請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記マップ上に厚さの計測値を具備する前記金属層の複数の部分の厚さの計測値に基づいて、前記マップ上に厚さの計測値を具備していない前記金属層の部分の厚さの計測値を補間する段階を更に有する、請求項７記載の方法。
【請求項１０】
厚さの計測値を判定する段階は、前記金属層に隣接するエンドポイント検出器を使用して前記金属層の厚さの計測値を計測する段階を有する、請求項１記載の方法。
【請求項１１】
前記ウエハは、前記エンドポイント検出器が前記金属層に隣接して静止状態で保持されている間に、ウエハチャックを使用して、保持、回転、及び並進運動される、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記厚さの計測値は、複数のピクセルパーティションを使用してマッピングされ、１つのピクセル位置は、前記エンドポイント検出器を使用して計測可能な１つのフィールドに対応している、請求項１０記載の方法。
【請求項１３】
前記ウエハ上のパターンの金属密度に基づいて、前記部分の研磨の終了点を判定する段階を更に有する、請求項１０記載の方法。
【請求項１４】
前記エンドポイント検出器は、光学センサである、請求項１０記載の方法。
【請求項１５】
前記エンドポイント検出器は、渦電流センサである、請求項１０記載の方法。
【請求項１６】
半導体ウエハ上に形成された金属層を適応的に電解研磨するシステムであって、
前記金属層の各部分を別個に電解研磨するべく構成された電解研磨モジュールと、
制御システムと、を有し、
前記制御システムは、
前記金属層の一部分を電解研磨する前に、前記部分の厚さの計測値を判定し、
前記厚さの計測値に基づいて、前記部分を電解研磨する量を調節するべく、構成されている、システム。
【請求項１７】
前記電解研磨モジュールは、前記金属層の前記部分に電解液の流れを適用するべく構成されたノズルを有する、請求項１６記載のシステム。
【請求項１８】
前記ノズルが前記ノズルに隣接して静止状態で保持されている間に、前記ウエハを保持、回転、及び並進運動させるべく構成されたウエハチャックを更に有する、請求項１７記載のシステム。
【請求項１９】
前記ノズルは、並進運動するべく構成されており、前記ウエハを保持及び回転させるべく構成されたウエハチャックを更に有する、請求項１７記載のシステム。
【請求項２０】
前記制御システムは、前記電解液の流れに印加する研磨電流又は電圧を調節するか、或いは前記部分の研磨持続時間を調節するべく構成されている、請求項１７記載のシステム。
【請求項２１】
前記制御システムは、前記部分を電解研磨する量に対する調節を、オフセット時間だけ、前記部分の研磨に先行して、判定するべく構成されている、請求項１６記載のシステム。
【請求項２２】
厚さ測定ツールを更に有し、前記制御システムは、前記厚さ測定ツールから前記金属層の前記厚さの計測値のマップを取得する、請求項１６記載のシステム。
【請求項２３】
前記電解研磨モジュールは、前記金属層の前記厚さを計測するべく構成されたエンドポイント検出器を有する、請求項１６記載のシステム。
【請求項２４】
前記電解研磨モジュールは、前記エンドポイント検出器が前記金属層に隣接して静止状態で保持されている間に、前記ウエハを保持、回転、並進運動させるべく構成されたウエハチャックを更に有している、請求項２３記載のシステム。
【請求項２５】
前記電解研磨モジュールは、前記エンドポイント検出器が並進運動している間に、前記ウエハを保持及び回転させるべく構成されたウエハチャックを更に有している、請求項２３記載のシステム。
【請求項２６】
前記エンドポイント検出器は、光学センサ又は渦電流センサである、請求項２３記載のシステム。
【請求項２７】
前記エンドポイント検出器は、前記ウエハ上の金属密度に基づいて、前記部分の研磨の終了点を判定するべく構成されている、請求項２３記載のシステム。
【請求項２８】
前記電解研磨モジュールは、
第１処理チャンバと、
前記第１処理チャンバを制御するべく構成された第１サブシステムと、
第２処理チャンバと、
前記第２処理チャンバを制御するべく構成された第２サブシステムと、
を有し、
前記制御システムは、前記第１及び第２サブシステムに接続されている、請求項１６記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月26日(2006.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エラストマー性物品であって、
初期にエポキシド基を含むエラストマー性ポリマーを含む第一表面に主体マトリックスと、
前記第一表面にグラフトされたフルオロカーボン成分と、
前記第一表面に付与されたシリコン潤滑剤と、
を含み、
前記フルオロカーボン成分は、エポキシド基との反応によるエステル結合を介して前記エラストマー性ポリマーとグラフトされており、
前記シリコン潤滑剤は、有極官能性を示す変成シリコンを含む、
ことを特徴とする物品。
【請求項２】
更に、前記第一表面に付与された長鎖アルコールを有することを特徴とする請求項１に記載のエラストマー性物品。
【請求項３】
前記アルコールは、ヘキサデカノル、オクタデカノル、及びこれらの混合物から成るグループから選択されることを特徴とする請求項２に記載のエラストマー性物品。
【請求項４】
前記エラストマー性ポリマーは、天然又は合成ゴムであることを特徴とする請求項１に記載のエラストマー性物品。
【請求項５】
前記エラストマー性ポリマーは、ブロックコポリマーであることを特徴とする請求項１に記載のエラストマー性物品。
【請求項６】
前記ブロックコポリマーは、スチレン−イソプレン−スチレンブロックコポリマー、スチレン−ポリブタジエン−スチレンブロックコポリマー、スチレン−ブタジエンブロックコポリマー、及びこれらの混合物から成るグループから選択されることを特徴とする請求項５に記載のエラストマー性物品。
【請求項７】
前記主体マトリックスは、エラストマー性ポリマーを含む内部層及び第二エラストマー性ポリマーを含む外部層から成り、前記外部層は、前記主体マトリックスの第一表面を含むことを特徴とする請求項１に記載のエラストマー性物品。
【請求項８】
前記内部層は、スチレン−エチレンブチレン−スチレンブロックコポリマーを含むことを特徴とする請求項７に記載のエラストマー性物品。
【請求項９】
更に、前記エラストマー性ポリマーにヒドロキシ成分側鎖を含み、単一ヒドロキシ成分及び単一フルオロカルボン成分は、エラストマー性ポリマー上の後続炭素原子に側鎖であることを特徴とする請求項１に記載のエラストマー性物品。
【請求項１０】
前記シリコンは、アミノ変成されたものであることを特徴とする請求項１に記載のエラストマー性物品。
【請求項１１】
前記フルオロカルボン成分は、前記シリコンに結合されたことを特徴とする請求項１に記載のエラストマー性物品。
【請求項１２】
前記エラストマー性物品は、手袋であることを特徴とする請求項１に記載のエラストマー性物品。
【請求項１３】
前記手袋の着用側は、前記第一表面であることを特徴とする請求項１２に記載のエラストマー性物品。
【請求項１４】
前記手袋は、無粉末手袋であることを特徴とする請求項１２に記載のエラストマー性物品。
【請求項１５】
エラストマー性手袋であって、
着用側である前記第一表面に、初期にエポキシド基を含むエラストマー性ポリマーを含む主体マトリックスと、
前記エポキシド基との反応によって形成されるエステル結合で前記エラストマー性ポリマーにグラフトされたフルオロカーボン成分と、
前記着用側に付与されたシリコン潤滑剤とを含み、前記シリコン潤滑剤は、アミノ変成シリコンを含むことを特徴とする手袋。
【請求項１６】
エラストマー性物品を形成する方法であって、
第一表面に位置した、エポキシド基を含む不飽和エラストマー性ポリマーを含む主体マトリックスをフォーマー上に形成し、
エポキシド基との反応によるエステル結合で、フルオロカーボン成分を前記エラストマー性ポリマーにグラフトし、
有極官能性を表す変成シリコンを、前記第一表面に付与し、これにより前記物品を形成し、
前記フォーマーから前記物品を剥離する、
ことからなる方法。
【請求項１７】
更に、前記フォーマー上で前記エラストマー性ポリマーを硬化することを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記エラストマー性ポリマーは、フルオロカーボンを前記エラストマー性ポリマーにグラフトする前に硬化されることを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記エラストマー性ポリマーは、フルオロカーボンを前記エラストマー性ポリマーにグラフトした後に硬化されることを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
前記物品は、前記変成シリコンを付与する前に前記フォーマーから剥離されることを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項２１】
前記物品は、前記変成シリコンを付与した後に前記フォーマーから剥離されることを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項２２】
更に、前記第一表面に長鎖アルコールを付与することを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項２３】
約５重量％より小さい前記長鎖アルコールの溶液を付与することを特徴とする請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
更に、約０．０５重量％から約５重量％の間の前記変成シリコンの溶液を付与することを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項２５】
更に、前記エラストマー性ポリマーにフルオロカーボン成分をグラフトした後、前記フォーマー上の前記主体マトリックスを、約ｐＨ８から約ｐＨ１１の間の水性溶液に、約１時間から約３時間の間液浸することを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月10日(2006.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イソシアネート、イソシアネート反応性化合物及びイソシアネートとイソシアネート反応性化合物との反応のための触媒を含んでなり、前記イソシアネート反応性化合物がポリエステル、ポリエステルポリウレタン、ポリカーボネート又はそれらの混合物のジオール又はそれより高官能性のポリオールであり、前記ポリエステルがヒドロキシカルボン酸もしくはそれに対応するラクトンから誘導されたものであり、且つ前記触媒が立体的にヒンダードされたビスマス化合物である熱硬化性ポリウレタン反応性組成物。
【請求項２】
固体の表面奪活イソシアネート、イソシアネート反応性化合物及びイソシアネートとイソシアネート反応性化合物との反応のための触媒を含んでなり、前記イソシアネート反応性化合物がポリエステル、ポリカーボネート又はそれらの混合物のジオール又はそれより高官能性のポリオールであり、前記ポリエステルがヒドロキシカルボン酸もしくはそれに対応するラクトンから誘導されたものであり、且つその触媒が立体的にヒンダードされたビスマス化合物である熱硬化性ポリウレタン反応性組成物。
【請求項３】
組成物が室温で液体であって、イソシアネートが固体の表面奪活イソシアネートであり、イソシアネート反応性化合物がポリエステルポリウレタンのジオール又はそれより高官能性のポリオールである請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物を含む接着剤。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物を熱硬化させることにより得られるポリウレタン。
【請求項６】
ａ）イソシアネート反応性化合物として、ポリエステル、ポリカーボネート又はそれらの混合物のジオールもしくはそれより高官能性のポリオールであって、そのポリエステルがヒドロキシカルボン酸又は対応するラクトンから誘導されたものであり、且つ液状のジオール又はそれより高官能性のポリオールを供給し、そしてそれに、少なくとも２つの一級アミノ基を有する化合物を加え、
ｂ）固体のイソシアネートを加え、そして
ｃ）前記イソシアネート反応性化合物及び立体的にヒンダードされたビスマス触媒を含む混合物を加える、
工程を含んでなる請求項２に記載の熱硬化性ポリウレタン反応性組成物の製造方法。
【請求項７】
ａ）イソシアネート反応性化合物として、ポリエステルポリウレタンの液体のジオール又はそれより高官能性のポリオールを供給し、
ｂ）固体のイソシアネートを加え、そして
ｃ）前記イソシアネート反応性化合物及び立体的にヒンダードされたビスマス触媒を含む混合物を加える、
工程を含んでなる請求項３に記載の熱硬化性ポリウレタン反応性組成物の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月25日(2006.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
ポリエーテルモノオール２
モノオール [シェル・ケミカル社製の「ネオドール２５」] ２０３ｇ（１．００当量）をステンレス鋼製反応器内へ入れ、次いで亜鉛ヘキサシアノコバルテート−ｔ−ブチルアルコール錯体（米国特許第５４８２９０８号明細書の記載に従って調製した錯体）０．１４３ｇを添加し、混合物を１３０℃において真空下で撹拌しながら１時間加熱することによって、モノオールスターターから痕跡量の水を除去した。プロピレンオキシド８５４７ｇ（１９４．２当量）を反応器内へ６時間かけて導入した。エポキシドの添加終了後、混合物を１３０℃において、減圧が観測されなくなるまで加熱した。反応生成物を真空下でのストリッピング処理に付した後、反応器から取出した。得られたポリエーテルの特性は次の通りである。ＯＨ価：６．４、当量：８７５０、官能価：１、不飽和度：０．０４ｍｅｑ／ｇ未満。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月30日(2006.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
約０．１〜約１０μの範囲内の粒径、及び０．５〜３．０μのメジアン粒径を有することを特徴とする小さな粒子の銅ピリチオンを含む組成物であって、然も、前記小さな粒子の銅ピリチオンが、それより大きな粒径の銅ピリチオン粒子と比較して、約５℃〜約１５℃の冷水環境に曝される海洋ペイントで一層大きな抗菌性能を示し、そして、前記ペイントを前記冷水海洋環境に曝した時に、少なくとも１μｇ／ｃｍ２／日の浸出速度を示す、上記組成物。
【請求項２】
ペイントの全重量に基づき、約１％〜約５％の汚染防止に有効な量で、請求項１に記載の組成物を含むことを特徴とするペイント。
【請求項３】
ペイントの中に、請求項１に記載の組成物を配合することを含む、冷水環境中のペイントの汚染防止効力を増大する方法。
【請求項４】
液体分散剤中に分散させた小さな固体粒子の銅ピリチオンを含む、塵を生じない銅ピリチオン分散物を含む組成物であって、然も、前記固体粒子が、約０．１〜約１０μの範囲内の粒径、及び０．５〜３．０μのメジアン粒径を有する組成物。
【請求項５】
固体粒子が、約０．２５〜約７μの範囲内の粒径、及び０．５〜２μの小さなメジアン粒径を有する、請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
固体粒子が、約０．５〜約２．８μの範囲内のメジアン粒径を有する、請求項４に記載の組成物。
【請求項７】
液体分散剤が、水、有機溶媒、及びそれらの組合せからなる群から選択されている、請求項４に記載の組成物。
【請求項８】
組成物の全重量に基づき、固体粒子が、約２０重量％〜約９９．９５重量％の量で存在し、液体分散剤が、約０．０５重量％〜約８０重量％の量で存在する、請求項４に記載の組成物。
【請求項９】
組成物の全重量に基づき、固体粒子が約２０重量％〜約７０重量％の量で存在し、液体分散剤が、約３０重量％〜約８０重量％の量で存在する、請求項４に記載の組成物。
【請求項１０】
液体分散剤中に分散させた小さな固体粒子の銅ピリチオンを含む組成物であって、前記固体粒子が約０．１〜約１０μの範囲内の粒径、及び０．５〜３．０μのメジアン粒径を有し、組成物の全量に基づき、前記固体粒子が約２０重量％〜約７０重量％の量、そして前記液体分散剤が約３０重量％〜約８０重量％の量で存在し、更に、表面活性剤、重合樹脂、結合剤、及びそれらの組み合わせからなる群から選択された塵発生防止剤を、組成物の全量に基づき、約０．０５％〜約３０％含む、上記組成物。
【請求項１１】
（ａ）  銅ピリチオンの大きな固体粒子を、すり潰し、粉砕、粉末化、超音波処理、及びそれらの組合せからなる群から選択された力にかけることにより、約０．１〜約１０μの範囲内の粒径、及び０．５〜３．０μのメジアン粒径の小さな固体粒子の銅ピリチオンを与える工程、及び
（ｂ）  前記小さな銅ピリチオン粒子を液体分散剤中に分散させる工程、
を含む、液体分散剤中に分散させた小さな固体粒子の銅ピリチオンの、塵を生じない分散物の製造方法。
【請求項１２】
粉砕を、ボールミル、ジェットミル、空気分類ミル（ＡＣＭ）、ネッチュ粉砕、又はそれらの組合せからなる群から選択された技術により行う、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
（ａ）  銅ピリチオンの大きな固体粒子を液体分散剤中に分散し、前記大きな固体粒子が中に分散した液体分散物を与える工程、及び
（ｂ）  前記銅ピリチオンの液体分散物を、すり潰し、粉砕、粉末化、超音波処理、及びそれらの組合せからなる群から選択された力にかけ、前記分散物中の大きな粒子の粒径を、約０．１〜約１０μの範囲内の粒径、及び０．５〜３．０μのメジアン粒径へ減少させる工程、
を含む、液体分散剤中に分散した銅ピリチオンの小さな固体粒子の、塵を生じない分散物を製造する方法。
【請求項１４】
粉砕を、ボールミル、ジェットミル、空気分類ミル（ＡＣＭ）、ネッチュ粉砕、又はそれらの組合せからなる群から選択された技術により行う、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
約０．１〜約１０μの範囲内の粒径、及び０．５〜３．０μのメジアン粒径を有する銅ピリチオンの固体粒子を汚染防止に有効な量ペイントへ添加することを含む、ペイントの汚染防止特性を向上させる方法。
【請求項１６】
銅ピリチオンの固体粒子が、約０．２５〜約７μの範囲内の粒径、及び２μより小さなメジアン粒径を有する、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
ペイント基材、及び汚染防止に有効な量の、約０．１〜約１０μの範囲内の粒径、及び０．５〜３．０μのメジアン粒径を有する銅ピリチオン固体粒子を含む、汚染防止ペイント。
【請求項１８】
ペイント基材、及び汚染防止に有効な量の、約０．２５〜約７μの範囲内の粒径、及び０．５〜２μのメジアン粒径を有する銅ピリチオン固体粒子を含む、汚染防止ペイント。
【請求項１９】
冷水海洋環境中で、銅ピリチオン含有ペイントからの銅ピリチオンの浸出速度を増大する方法において、約０．１〜約１０μの範囲内の粒径、及び０．５〜３．０μのメジアン粒径を有する銅ピリチオンの固体粒子をペイント中へ配合し、前記ペイントを前記冷水海洋環境に曝した時、１０．６℃の冷水温度で測定して、少なくとも１μｇ／ｃｍ２／日のペイントからの銅ピリチオン浸出速度を与えることを含む、上記浸出速度増大方法。
【請求項２０】
前記銅ピリチオンが、液体分散剤中に分散された小さな固体粒子を含む塵を生じない銅ピリチオン分散物を、汚染防止に有効な量含み、前記固体粒子が約０．１〜約１０μの範囲内の粒径、及び０．５〜３．０μ未満のメジアン粒径を有する、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記分散物が、更に、表面活性剤、重合樹脂、結合剤、及びそれらの組み合わせからなる群から選択された塵発生防止剤を、組成物の全量に基づき、約０．０５％〜約３０％含む、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
冷水海洋環境中で、ペイント基材、及び汚染防止に有効な量の銅ピリチオン固体粒子を含むペイントからの銅ピリチオンの浸出速度を増大することを含み、然も、前記固体粒子が、約０．１〜約１０μの範囲内の粒径、及び０．５〜３．０μのメジアン粒径を有し、更に前記固体粒子が、前記ペイントを前記冷水海洋環境に曝した時、１０．６℃の冷水温度で測定して、少なくとも１μｇ／ｃｍ２／日のペイントからの浸出速度を有する、上記銅ピリチオン含有汚染防止ペイント。
【請求項２３】
前記銅ピリチオンが、液体分散剤中に分散された小さな固体粒子を含む塵を生じない銅ピリチオン分散物を、汚染防止に有効な量含み、前記固体粒子が約０．１〜約１０μの範囲内の粒径、及び０．５〜３．０μ未満のメジアン粒径を有する、請求項２２に記載の銅ピリチオン含有汚染防止ペイント。
【請求項２４】
前記分散物が、更に、表面活性剤、重合樹脂、結合剤、及びそれらの組み合わせからなる群から選択された塵発生防止剤を、組成物の全量に基づき、約０．０５％〜約３０％含む、請求項２３に記載の銅ピリチオン含有汚染防止ペイント。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月19日(2006.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次式：
【化１】
2006511643.tif 000001
（式中、（Ｉ）の１００モル部に対して、（ＩＩ）は８５〜９８モル部であり、（ＩＩＩ）は２〜１５モル部であり、（IＶ）は１００〜２１０モル部であって、
ただし、
（Ｉ）／（ＩＩ）＋（ＩＩＩ）のモル比が、約０．９０〜約１．１０であり、
（ＩＶ）が１７５モル部以上のとき、（ＩＩＩ）が２〜１０モル部であり、および
前記液晶ポリマーの融点が４００℃以上であることを条件とする）の繰り返し単位から本質的になる液晶ポリマーを含むことを特徴とする組成物。
【請求項２】
前記モル比が約０．９５〜約１．０５であることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
５〜約１０００ｐｐｍのアルカリ金属カチオンをさらに含むことを特徴とする請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の組成物の造形品またはフィルム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
カリウムカチオンを存在させずに、実施例２の組成物のＬＣＰを作製すると、融点は４２４℃であり、そのポリマーの色はより暗いものであった。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
［１］  次式：
【化２】
2006511643.tif 000002
（式中、（Ｉ）の１００モル部に対して、（ＩＩ）は８５〜９８モル部であり、（ＩＩＩ）は２〜１５モル部であり、（IＶ）は１００〜２１０モル部であって、
ただし、
（Ｉ）／（ＩＩ）＋（ＩＩＩ）のモル比が、約０．９０〜約１．１０であり、
（ＩＶ）が１７５モル部以上のとき、（ＩＩＩ）が２〜１０モル部であり、および
前記液晶ポリマーの融点が４００℃以上であることを条件とする）の繰り返し単位から本質的になる液晶ポリマーを含むことを特徴とする組成物。
［２］  ３〜約１０モル部の（ＩＩ）が存在することを特徴とする［１］に記載の組成物。
［３］  ９０〜９７モル部の（ＩＩＩ）が存在することを特徴とする［１］または［２］に記載の組成物。
［４］  約１００〜約１７５モル部の（ＩＶ）が存在することを特徴とする［１］〜［３］のいずれか１項に記載の組成物。
［５］  ３〜約１０モル部の（ＩＩ）が存在し、９０〜９７モル部の（ＩＩＩ）が存在し、および約１００〜約１７５モル部の（ＩＶ）が存在することを特徴とする［１］に記載の組成物。
［６］  前記融点が約４１０℃以上であることを特徴とする［１］〜［５］のいずれか１項に記載の組成物。
［７］  前記モル比が約０．９５〜約１．０５であることを特徴とする［１］〜［６］のいずれか１項に記載の組成物。
［８］  ５〜約１０００ｐｐｍのアルカリ金属カチオンをさらに含むことを特徴とする［１］〜［７］のいずれか１項に記載の組成物。
［９］  ［１］〜［８］のいずれか１項に記載の組成物の造形品またはフィルム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月6日(2006.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
ポリオレフィンワックスを製造するためのまたは熱分解のために使用されるポリオレフィンポリマーを製造するためのメタロセン触媒は式 M1Lxで表されるキラルなまたは非キラルな遷移金属化合物である。遷移金属化合物 M1Lxは少なくとも１つのπ−リガンド、例えばシクロペンタジエニル−リガンドが結合している少なくとも１つの中心金属原子 M1 を有している。更に、中心金属原子 M1は置換基、例えばハロゲン原子、アルキル、アルコキシまたはアリール基が結合していてもよい。M1 は元素周期律表の第 III、 IV、 V または VI 主属の元素、例えば Ti, Zr またはHfであるのが好ましい。シクロペンタジエニル−リガンドとは非置換のシクロペンタジエニル基および置換されたシクロペンタジエニル基、例えばメチルシクロペンタジエニル、インデニル、２−メチルインデニル、２−メチル−４−フェニルインデニル、テトラヒドロインデニルまたはオクタヒドロフルオレニル基を意味する。π−リガンドは橋架けされていてもまたは橋架けされていなくてもよく、その際に単一および多重ブリッジ（環系によるブリッジも含む）の両方が可能である。“メタロセン” とは、１つより多いメタロセン−フラグメントを含む化合物、いわゆる多核メタロセンも含む。これらは任意の置換パターンおよびブリッジ変種を有していてもよい。かゝる多核メタロセンの個々のメタロセン−フラグメントは互いに同一でも異なっていてもよい (ヨーロッパ特許出願公開第０，６３２，０６３号明細書（A）)。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月24日(2006.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）モノマー濃度が５０重量％より上であるように少なくとも１種の重合性モノマー、開始剤システム、および任意の溶媒システムを含む反応混合物を、１つもしくはそれ以上の温度制御されたセクションを有するプラグフロー反応器中へ導入する工程と、
ｂ）該反応混合物が該反応器を通って本質的にプラグフロー方式で移動するにつれて該モノマーを重合させる工程であって、それによって少なくとも９０％のモノマーのポリマーへの転化が達成される工程と、
ｃ）該重合した有機材料を排出する工程と
を含む目標構造を有する有機材料の連続製造法。
【請求項２】
少なくとも１種のモノマーが温度感受性である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
少なくとも１種のモノマーが低分子量を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記有機材料を工程ｃ）の後に失活剤で失活させる工程をさらに含む、請求項７に記載の方法。
【請求項５】
前記反応混合物が前記プラグフロー反応器を通って進み続けるにつれてブロックコポリマーが形成されるように１種もしくはそれ以上の重合性モノマーが該反応混合物に逐次加えられる１つもしくはそれ以上の工程を上記の工程ｂ）とｃ）との間にさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記重合性モノマーの少なくとも１種が温度感受性である、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
ｃ）の後に前記重合した有機材料を含有する反応混合物から溶媒を除去する工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記反応器が撹拌管型反応器である、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記反応器が撹拌管型反応器と押出機との組合せである、請求項１に記載の方法。