【手続補正書】
【提出日】平成17年8月23日(2005.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力ビームを測定ビームおよび少なくとも１つの他のビームに分割し、該測定ビームを測定物体への少なくとも２つの通路を含む測定経路に沿って向け、該他のビームを基準物体への少なくとも２つの通路を含む基準経路に沿って向け、該測定ビームが該少なくとも２つの通路を通過した後、該測定ビームと該他のビームとを重ね合わせる干渉計であって、前記測定物体は前記基準物体に対して相対的に移動して前記測定物体と前記基準物体との間の距離を変化させることが可能である前記干渉計と、
該測定物体が移動するとき、前記測定ビームの経路が第１通路および第２通路中にずれ、
該第２通路中に付与されるシヤーが、該第１通路中に付与されたシヤーを消去するように、該第１通路の後でかつ該第２通路の前に該測定ビームを向け直す一つ以上の光学機器とを備える装置。
【請求項２】
前記測定ビーム経路の前記シヤーが、前記第１通路中に前記測定物体に入射する前記測定経路の一部に直交する方向に沿った前記測定物体の移動によって生じる、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記一つ以上の光学機器が、前記第１通路の後でかつ前記第２通路の前に前記測定ビームを向け直す前部反射表面と、前記第２通路の後でかつ前記他のビームとの重合せの前に前記測定ビームを向け直す後部反射表面とを有するミラーを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記測定物体が、逆反射器を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記基準物体が、逆反射器または平面反射表面を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記基準物体が移動するとき、前記基準経路が前記第１通路および前記第２通路中にずれる、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記第２通路中に付与される前記シヤーが、前記第１通路中に付与されたシヤーを消去するように、前記第１通路の後でかつ前記第２通路の前に前記他のビームを向け直す一つの光学機器を更に備える、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記一つ以上の光学機器が、前記第１通路の後で、前記測定物体から遠ざかるように進行する前記測定ビームの第１部分を受け取り、前記測定ビームの該第１部分および第２部分がほぼ平行であるように、前記第２通路中に前記測定ビームの第２部分を前記測定物体に向け直す奇数の反射表面を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記測定ビームおよび前記他のビームが、異なる周波数を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記測定物体が、定偏角反射器を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
前記一つ以上の光学機器が、第１反射表面と、該第１反射表面に対してある角度に配向した第２反射表面とを備える、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記一つ以上の光学機器が、切頭プリズムを備える、請求項１０に記載の装置。
【請求項１３】
前記重合せビーム間の光学干渉に応答して、前記ビームの経路間の光路長差を表す干渉信号を生成する検出器を更に備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
前記検出器に連結され、前記干渉信号に基づいて、前記ビームの光路長差の変化を推定する分析装置を更に備える、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
入力ビームを測定ビームおよび少なくとも１つの他のビームに分割して、該測定ビームを測定物体への少なくとも２つの通路を含む測定経路に沿って向け、前記少なくとも１つの他のビームを基準物体へ向け、該測定ビームが、該少なくとも２つの通路を通過した後、該測定ビームを該他のビームと重ね合わせる干渉計であって、前記測定物体は前記基準物体に対して相対的に移動して前記測定物体と前記基準物体との間の距離を変化させることが可能である前記干渉計と、
該第２通路中に、該測定物体から前記干渉計に向かって伝播する該測定ビームが通った該測定経路の一部が、該測定物体の移動に関係なく同一に維持されるように、該第１通路の後でかつ該第２通路の前に該測定ビームを向け直す一つ以上の光学機器であって、該第２通路の後で、かつ該他のビームとの重合せの前にも、該測定ビームを向け直す前記一つ以上の光学機器とを備える装置。
【請求項１６】
前記一つ以上の光学機器が、前部反射表面および後部反射表面を有するミラーを備える、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記測定ビームが、前記他のビームと重ね合わされる前に、前記ミラーの前記前部反射表面および前記後部反射表面のそれぞれと少なくとも１回接触する、請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記測定経路および前記基準経路が、光路長差を画定し、光路長差の変化が、前記測定物体および前記基準物体の相対位置の変化を表す、請求項１５に記載の装置。
【請求項１９】
入力ビームを測定ビームおよび少なくとも１つの他のビームに分割し、該測定ビームを測定物体への少なくとも２つの通路を含む測定経路に沿って向け、該測定ビームが該少なくとも２つの通路を通過した後、該測定ビームを該他のビームと重ね合わせる干渉計と、
該第１通路の後でかつ該第２通路の前に、該測定ビームを向け直す第１光学機器と、
該第２通路の後でかつ該測定ビームと該他のビームとの組合せの前に該測定ビームを向け直す第２光学機器とを備え、該第１光学機器および該第２光学機器の配向が決定されたとき、該測定ビームと該他のビームとの相対ビーム・シヤーが、前記第１通路中に該測定物体に入射する該測定経路の一部に直交する方向に沿った該測定物体の移動に関係なく同一に維持されるように、該第１光学機器および該第２光学機器が設計される装置。
【請求項２０】
入力ビームを測定ビームおよび少なくとも１つの他のビームに分割し反射表面を有するキューブ・コーナ逆反射器への少なくとも２つの通路を含む測定経路に沿って該測定ビームを向け、該測定ビームが該少なくとも２つの通路を通過した後で、該測定ビームを該他のビームと重ね合わせる干渉計と、
該第２通路中に、該測定ビームが、該第１通路中に該測定ビームが接触した順序の最後であった該逆反射器の反射表面に向かって進行するように、該第１通路の後でかつ該第２通路の前に該逆反射器から遠ざかるように該測定ビームを向け直す奇数の反射表面であって、前記奇数は１よりも大である反射表面と、
該第２通路の後でかつ該他のビームとの重合せの前に、該測定ビームを向け直す反射表面とを備える装置。
【請求項２１】
入力ビームを少なくとも第１ビームおよび第２ビームに分割し、第１物体から反射される第１経路に沿って該第１ビームを向け、第２物体から反射される第２経路に沿って該第２ビームを向け、該第１物体および該第２物体によってそれぞれ反射された後、該第１ビームおよび該第２ビームを重ね合わせる干渉計と、
該第１物体に入射する該第１ビームの一部の方向に平行ではない方向の領域を通って進行する該第２ビームの一部と、
該領域の環境条件の変化により、該第１ビームおよび該第２ビームの光路長が同じ量変化するように、該領域を通して該第１ビームの一部を向ける一つ以上の光学機器とを備える装置。
【請求項２２】
前記環境条件が、温度を含む、請求項２１に記載の装置。
【請求項２３】
前記第１経路が、前記第１物体への少なくとも２つの通路を含む、請求項２１に記載の装置。
【請求項２４】
前記第２通路中に前記第１ビームに付与されるシヤーが、前記第１通路中に前記第１ビームに付与されたシヤーを消去するように、前記一つ以上の光学機器が、第１通路の後でかつ第２通路の前に前記第１ビームを向け直す第１反射表面を含む、請求項２３に記載の装置。
【請求項２５】
前記一つ以上の光学機器が、前記第１物体に入射する前記第１ビームの前記一部の方向に平行な方向から、前記領域を通過する前記第２経路の前記一部に平行な方向に前記第１ビームを向ける第２反射表面を含む、請求項２４に記載の装置。
【請求項２６】
入力ビームを少なくとも第１ビームおよび第２ビームに分割し、第１物体から反射される第１経路に沿って該第１ビームを向け、第２物体から反射される第２経路に沿って該第２ビームを向け、該第１物体および該第２物体からそれぞれ反射された後、該第１ビームと該第２ビームとを重ね合わせる干渉計であって、前記第１物体は前記第２物体に対して相対的に移動して前記第１物体と前記第２物体との間の距離を変化させることが可能である前記干渉計と、
該第１経路が、該第１物体への２つの通路を含み、該第１通路中の該第１経路が、該第１物体に接触する２つの部分を含み、該２つの部分が、第１平面に沿ってあり、該第２経路が、該第２物体への２つの通路を含み、該第１通路中の該第２経路が、該第２物体に接触する２つの部分を含み、該２つの部分が、第２平面に沿ってあり、
該第１物体が、該第１物体と接触する該第１経路の該２つの部分の一方に直交する方向に沿って移動するとき、該第１経路が、該第１通路および該第２通路中にずれ、
該第２通路中に付与されるシヤーが、該第１通路中に付与されるシヤーを消去するように、該第１通路の後でかつ該第２通路の前に該第１ビームを向け直す一つ以上の光学機器とを備える装置。
【請求項２７】
前記第１平面が、前記第２平面に平行であり、かつ前記第２平面から間隔をおいて配置される、請求項２６に記載の装置。
【請求項２８】
前記第１物体が、逆反射器を備える、請求項２６に記載の装置。
【請求項２９】
前記逆反射器の使用可能な有効径が、前記ビーム・スプリッタの有効径より大きい、請求項２８に記載の装置。
【請求項３０】
集積回路をウエハの上に製造する際に使用されるリソグラフィ・システムであって、
ウエハを支持するステージと、
空間的にパターン化された放射を該ウエハの上に撮像する照明システムと、
該撮像放射に対する該ステージの位置を調節する位置決めシステムと、
第１自由度に沿って該ステージの位置を測定する請求項１に記載の装置とを備えるリソグラフィ・システム。
【請求項３１】
第２自由度に沿って前記ステージの位置を測定する請求項１に記載の装置の第２の装置を更に備える、請求項３０に記載のリソグラフィ・システム。
【請求項３２】
集積回路をウエハの上に製造する際に使用されるリソグラフィ・システムであって、
ウエハを支持するステージと、
放射ソースと、マスクと、位置決めシステムと、レンズ組立品と、請求項１に記載の装置とを含む照明システムであって、動作中、該ソースが、空間的にパターン化された放射を生成するために、放射を該マスクを通して向け、該位置決めシステムが、ウエハに対する該マスクの位置を調節し、該レンズ組立品が、該空間的にパターン化された放射を該ウエハの上に撮像し、請求項１に記載の装置が、該ウエハに対する該マスクの位置を第１自由度に沿って測定する、前記照明システムとを備えるリソグラフィ・システム。
【請求項３３】
前記マスクの位置を第２自由度に沿って測定する、請求項１に記載の装置である第２の装置を更に備える、請求項３２に記載のリソグラフィ・システム。
【請求項３４】
リソグラフィ・マスクの製造に使用されるリソグラフィ・システムであって、
基板をパターン化するために、書込みビームを提供するソースと、
該基板を支持するステージと、
該書込みビームを該基板に送達するビーム方向付け組立品と、
該ステージと該ビーム方向付け組立品とを互いに関して位置決めする位置決めシステムと、
該ビーム方向付け組立品に対する該ステージの位置を第１自由度に沿って測定する請求項１に記載の装置とを備えるシステム。
【請求項３５】
第２自由度に沿って前記ステージの位置を測定する、請求項１に記載の装置である第２の装置を更に備える、請求項３４に記載のリソグラフィ・システム。
【請求項３６】
測定物体の位置の変化を測定する干渉分光システムであって、
入力ビームを測定ビームおよび少なくとも基準ビームに分割し、測定物体への少なくとも２つの通路を含む測定経路に沿って該測定ビームを向け、前記少なくとも１つの他のビームを基準物体へ向け、該測定ビームが該少なくとも２つの通路を通過した後、該測定ビームと該基準ビームとを重ね合わせる干渉計であって、前記測定物体は前記基準物体に対して相対的に移動して前記測定物体と前記基準物体との間の距離を変化させることが可能である前記干渉計と、
該測定物体が、第１方向に沿って、または該第１方向に直交する第２方向に沿って横方向に移動するとき、該測定ビームの該経路が第１通路および第２通路中にずれ、
該測定物体の移動のために該第２通路中に付与されるシヤーが、該移動のために該第１通路中に付与されたシヤーを消去するように、該第１通路の後でかつ該第２通路の前に該測定ビームを向け直す一つ以上の光学機器であって、前記第２通路の後でかつ前記基準ビームとの重合せの前に、該測定ビームを向け直す前記一つ以上の光学機器とを備える干渉分光システム。
【請求項３７】
干渉計を通り、測定物体への少なくとも２つの通路を含む測定経路に沿って測定ビームを向け、ここで、該測定ビームの該経路が、該測定物体が移動するとき、該第１通路および該第２通路中にずれることと、
少なくとも１つの他のビームを基準経路に沿って該干渉計に通して向け、前記基準経路は基準物体への少なくとも２つの経路を含み、前記測定物体は前記基準物体に対して相対的に移動して前記測定物体と前記基準物体との間の距離を変化させることが可能であり、
該第２通路中に付与されるシヤーが、該第１通路中に付与されたシヤーを消去するように、該第１通路の後でかつ該第２通路の前に該測定ビームを向け直し、
該測定ビームが該少なくとも２つの通路を通過した後、該測定ビームを該他のビームと重ね合わせることを備える方法。
【請求項３８】
前記測定物体が、前記第１通路中に前記測定物体に入射する前記測定経路の一部に直交する方向に沿って移動するとき、前記測定ビームの前記経路が、前記第１通路および前記第２通路中にずれる、請求項３７に記載の方法。
【請求項３９】
前記測定ビームが前記他のビームと重ね合わされたとき、前記測定ビームが、前記他のビームの伝播方向に対して一定を維持する方向に伝播するように、前記測定ビームが前記少なくとも２つの通路を通過した後で、かつ前記他のビームと重ね合わされる前に、前記測定ビームを向け直すことを更に備える、請求項３７に記載の方法。
【請求項４０】
前記基準物体が、逆反射器または平面反射表面を備える、請求項３７に記載の方法。
【請求項４１】
前記測定物体が、逆反射器または定偏角反射器を備える、請求項３７に記載の方法。
【請求項４２】
前記測定経路と前記基準経路との光路長差を決定することを更に備える、請求項３７に記載の方法。
【請求項４３】
前記光路長差の変化に基づいて、前記基準物体に対する前記測定物体の位置の変化を決定することを更に備える、請求項４２に記載の方法。
【請求項４４】
前記測定ビームおよび前記他のビームが、異なる周波数を有する、請求項３７に記載の方法。
【請求項４５】
前記重なりビームから干渉信号を検出することを更に備える、請求項３７に記載の方法。
【請求項４６】
前記干渉信号に基づいて、前記測定物体の位置の変化を決定することを更に備える、請求項３７に記載の方法。
【請求項４７】
測定物体への少なくとも２つの通路を含む干渉計を通る測定経路に沿って測定ビームを向け、
少なくとも１つの他のビームを基準経路に沿って該干渉計を通して向け、前記基準経路は基準物体への少なくとも２つの経路を含み、前記測定物体は前記基準物体に対して相対的に移動して前記測定物体と前記基準物体との間の距離を変化させることが可能であり、
該第２通路中に、該測定物体から該干渉計に向かって伝播する該測定ビームが通った該測定経路の一部が、該測定物体の移動に関係なく同一に維持されるように、該第１通路の後でかつ該第２通路の前に該測定ビームを向け直し、
該測定ビームが該少なくとも２つの通路を通過した後、二度目に前記測定ビームを向け直し、
二度目に前記測定ビームを向け直した後、該測定ビームと該他のビームとを重ね合わせることを備える方法。
【請求項４８】
前記第２通路中に、前記測定物体から前記干渉計に向かって伝播する前記測定ビームが通った前記測定経路の一部が、前記測定物体に入射する前記測定経路の一部に直交する方向に沿った前記測定物体の移動に関係なく同一に維持されるように、前記測定ビームが向け直される、請求項４７に記載の方法。
【請求項４９】
前記測定ビームが前記他のビームと重ね合わされたとき、前記測定ビームが、前記他のビームの伝播方向に対して一定を維持する方向に伝播する、請求項４７に記載の方法。
【請求項５０】
干渉計を通り、測定物体への少なくとも２つの通路を含む測定経路に沿って測定ビームを向け、
少なくとも１つの他のビームを基準物体と接触するように該干渉計を通して向け、前記測定物体は前記基準物体に対して相対的に移動して前記測定物体と前記基準物体との間の距離を変化させることが可能であり、
該測定経路と該他の経路との相対ビーム・シヤーが、該測定物体の移動に関係なく同一に維持されるように、該第１通路の後でかつ該第２通路の前に該測定ビームを向け直し、
該測定ビームが該少なくとも２つの通路を通過した後、二度目に前記測定ビームを向け直し、
二度目に前記測定ビームを向け直した後、該測定ビームと該他のビームとを重ね合わせることを備える方法。
【請求項５１】
前記第１通路の後でかつ前記第２通路の前に前記測定ビームを向け直すことが、前記測定経路と前記他の経路との相対ビーム・シヤーが、前記測定物体に入射する前記測定経路の一部に直交する方向に沿った前記測定物体の移動に関係なく同一に維持されるように、前記測定ビームを向け直すことを備える、請求項５０に記載の方法。
【請求項５２】
前記測定ビームが、前記他のビームと重ね合わされたとき、前記測定ビームが、前記他のビームの伝播方向に対して一定を維持する方向に伝播するように、前記測定ビームが前記少なくとも２つの通路を通過した後で、かつ前記他のビームと重ね合わされる前に、前記測定ビームを向け直すことを更に備える、請求項５０に記載の方法。
【請求項５３】
入力ビームを測定ビームと少なくとも１つの他のビームとに分離し、
反射表面を有するキューブ・コーナ逆反射器への少なくとも２つの通路を含む測定経路に沿って、該測定ビームを向け、
前記少なくとも１つの他のビームを基準物体と接触するように向け、前記逆反射器は前記基準物体に対して相対的に移動して前記逆反射器と前記基準物体との間の距離を変化させることが可能であり、
該第２通路中に、該測定ビームが、該第１通路中に該測定ビームによって接触された順序の最後であった該逆反射器の反射表面に向かって進行するように、該第１通路の後でかつ該第２通路の前に、該逆反射器から遠ざかって進行するように該測定ビームを向け、
該測定ビームが該少なくとも２つの通路を通過した後、二度目に前記測定ビームを向け直し、
二度目に前記測定ビームを向け直した後、該測定ビームと該他のビームとを重ね合わせることを備える方法。
【請求項５４】
第１物体と接触する第１経路に沿って第１ビームを干渉計に通し、
第２物体と接触する第２経路に沿って第２ビームを該干渉計に通し、ここで、該第２経路の一部が、該第１物体と接触する該第１ビームの一部の方向に平行ではない方向の領域を通って進行することと、
該領域の環境条件の変化により、該第１ビームおよび該第２ビームの光路長の変化の量が等しくなるように、該領域を通して該第１ビームの一部を向け、
該第１物体および該第２物体によってそれぞれ反射された後、該第１ビームおよび該第２ビームを重ね合わせることを備える方法。
【請求項５５】
環境条件が、温度を含む、請求項５４に記載の方法。
【請求項５６】
前記第１経路が、前記第１物体への少なくとも２つの通路を含む、請求項５４に記載の方法。
【請求項５７】
前記第１通路中に前記第１ビームに付与されたシヤーが、前記第２通路中に前記第１ビームに付与されるシヤーによって消去されるように、前記第１通路の後でかつ前記第２通路の前に前記第１ビームを向け直すことを更に備える、請求項５６に記載の方法。
【請求項５８】
前記第１物体に接触する前記第１ビームの一部の方向に平行な方向から、領域を通過する前記第２経路の一部に平行な方向に、前記第１ビームを向けることを更に備える、請求項５４に記載の方法。
【請求項５９】
前記第１ビームが前記第２ビームと重ね合わされたとき、前記第１ビームが、前記第２ビームの伝播方向に対して一定である方向に伝播するように、前記第１ビームが前記少なくとも２つの通路を通過した後で、かつ前記第２ビームと重ね合わされる前に、前記第１ビームを向け直すことを更に備える、請求項５６に記載の方法。
【請求項６０】
前記第１ビームおよび前記第２ビームが重ね合わされたとき、前記第１ビームと前記第２ビームとの間の相対シヤーが、前記第１物体に入射する前記第１ビームの一部の方向に直交する方向の前記第１物体の移動に関係なく一定を維持するように、前記第１通路の後でかつ前記第２通路の前に、前記第１ビームを向け直すことを更に備える、請求項５６に記載の方法。
【請求項６１】
集積回路をウエハの上に製造するリソグラフィ方法であって、
ウエハをステージの上で支持し、
空間的にパターン化された放射を該ウエハの上に撮像し、
該撮像放射に対する該ステージの位置を調節し、
請求項３７に記載の方法を使用して、該ステージの相対位置を第１自由度に沿って測定することを備えるリソグラフィ方法。
【請求項６２】
第２自由度に沿って前記ステージの前記相対位置を測定するために、請求項３７に記載の方法を使用することを更に備える、請求項６１に記載のリソグラフィ方法。
【請求項６３】
集積回路をウエハの上に製造するリソグラフィ方法であって、
ウエハをステージの上で支持し、
空間的にパターン化された放射を生成するために、ソースからの放射をマスクに通し、
該ウエハに対して該マスクを位置決めし、
請求項３７に記載の方法を使用して、第１自由度に沿って該ウエハに対する該マスクの位置を測定し、
該空間的にパターン化された放射を該ウエハの上に撮像することを備えるリソグラフィ方法。
【請求項６４】
第２自由度に沿って該マスクの相対位置を測定するために、請求項３７に記載の方法を使用することを更に備える、請求項６３に記載のリソグラフィ方法。
【請求項６５】
ビーム書込み方法であって、
基板をパターン化するために書込みビームを提供し、
該基板をステージの上で支持し、
該書込みビームを該基板に送達し、
該ステージを該書込みビームに対して位置決めし、
請求項３７に記載の方法を使用して、第１自由度に沿って該ステージの相対位置を測定することを備えるビーム書込み方法。
【請求項６６】
第２自由度に沿って該ステージの相対位置を測定するために、請求項３７に記載の方法を使用することを更に備える、請求項６５に記載のビーム書込み方法。