【手続補正書】
【提出日】平成18年9月15日(2006.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式(VIII)
【化１】
2006503053.tif 000001
の化合物の製造法であり、
ステップＡ：
式(Ｉ)
【化２】
2006503053.tif 000002
の化合物を、式(II)
【化３】
2006503053.tif 000003
の化合物と、カルボキシ活性化剤の存在下、適当な溶媒中、
式(III)
【化４】
2006503053.tif 000004
の化合物の形成に適した条件下で接触させ、
続いて、ステップＢ：
式(III)の化合物と、式(XIII)
【化５】
2006503053.tif 000005
の化合物を、塩基の存在下、適当な溶媒中、式(IV)
【化６】
2006503053.tif 000006
の化合物の形成に適した条件下で接触させ、
続いて、ステップＣ：
式(IV)の化合物を、塩基と適当な溶媒中、式(Ｖ)
【化７】
2006503053.tif 000007
の化合物の形成に適した条件下で接触させ、
続いて、ステップＤ：
式(Ｖ)の化合物を、式(VI)
【化８】
2006503053.tif 000008
の化合物と、適当な溶媒中、所望によりアクティベーターの存在下、式(VII)
【化９】
2006503053.tif 000009
の化合物の形成に適した条件下で接触させ、
続いて、ステップＥ：
式(VII)の化合物を、ホルミル化剤と、適当な溶媒中、式(VIII)の形成に適した条件下で反応させる段階を含み；
上記式中、
Ｙはヒドロキシ保護基であり；
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の各々は独立して水素または脂肪族基であるか、または(Ｒ２とＲ３)および／または(Ｒ４とＲ５)は、一緒になってＣ４−７シクロアルキルを形成し；
Ｘは−ＣＨ２−、−Ｓ−、−ＣＨ(ＯＨ)−、−ＣＨ(ＯＲ)−、−ＣＨ(ＳＨ)−、−ＣＨ(ＳＲ)−、−ＣＦ２−、−Ｃ＝Ｎ(ＯＲ)−または−ＣＨ(Ｆ)−であり；
ここで、
Ｒはアルキルであり；
Ｇは−ＯＨまたは−Ｏ−Ｍ＋であって、Ｍは金属またはアミノ部分であり；
Ｒ１はアリールまたはヘテロアリールであり；
Ｘ'はハロであり；
Ｒ'はアルキルまたはアリールであり；そして
ｎは０から３であるが、但し、ｎが０であるなら、Ｘは−ＣＨ２−である、
方法。
【請求項２】
Ｒ１がＮヘテロ原子を有するヘテロアリールである式(VIII)の化合物を、酸化剤と接触させて対応するＮ−オキシド誘導体を形成するステップＦがさらに続く、請求項１記載の方法。
【請求項３】
ヒドロキシル−保護基を、式(VIII)の化合物とパラジウム触媒を反応させて除去し、式(IX)
【化１０】
2006503053.tif 000010
〔式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｘおよびｎは上記で定義の通りである。〕
の化合物を形成するステップがさらに続く、請求項１記載の方法。
【請求項４】
Ｒ２、Ｒ３およびＲ５の各々が水素であり；Ｒ４がブチルであり；Ｘが−ＣＨ２−であり；ｎが１であり；Ｙがベンジルまたはｔ−ブチルジメチルシリルであり；そしてＲ１が式
【化１１】
2006503053.tif 000011
〔式中、
Ｒ６およびＲ９は水素であり；
Ｒ７は水素またはＣ１−７アルキルであり；そして
Ｒ８は水素、ハロゲンまたはＣ１−７アルキルである。〕
である、請求項１記載の方法。
【請求項５】
Ｒ７が水素であり；そしてＲ８がフルオロである、請求項２記載の方法。
【請求項６】
Ｒ７がＣ１−７アルキルであり；そしてＲ８が水素である、請求項２記載の方法。
【請求項７】
Ｒ１が式(XIａ)
【化１２】
2006503053.tif 000012
〔式中、
Ｒ６、Ｒ７およびＲ９は水素であり；そして
Ｒ８はハロゲンまたはＣ１−７アルキルである。〕
である、請求項１記載の方法。
【請求項８】
Ｒ８がフルオロである、請求項７記載の方法。
【請求項９】
約０℃から約８０℃の温度で、約２から約１２のｐＨで、かつジオキサン、塩化メチレン、ジクロロメタン、トルエン、アセトン、メチルエチルケトン、ＴＨＦ、酢酸イソプロピル、ＤＭＦおよびアルコールからなる群から選択される１個またはそれ以上の溶媒中で行う、請求項１記載の方法。
【請求項１０】
式(Ｉ)
【化１３】
2006503053.tif 000013
の化合物を、式(II)
【化１４】
2006503053.tif 000014
の化合物と、カルボキシ活性化剤の存在下、適当な溶媒中、式(III)
【化１５】
2006503053.tif 000015
の化合物の形成が適当な条件下で接触させることを含み、
上記式中、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の各々は独立して水素またはアルキルであるか、または(Ｒ２とＲ３)および／または(Ｒ４とＲ５)は、一緒になってＣ４−７シクロアルキルを形成し；そして
Ｙはヒドロキシ−保護基である、
方法。
【請求項１１】
Ｒ２、Ｒ３およびＲ５が水素であり；Ｒ４がｎ−ブチルであり；そしてＹがベンジルまたはｔ−ブチルジメチルシリルである、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
約５℃から約３５℃の温度で約２時間から約５時間、約３から約５のｐＨで行い、カルボキシ−活性化剤がＤＣＣ、ＣＤＭＴまたはＥＤＣｌであり、溶媒がＴＨＦ／水である、請求項１０記載の方法。
【請求項１３】
式(III)
【化１６】
2006503053.tif 000016
の化合物と式(XIII)
【化１７】
2006503053.tif 000017
の化合物を、塩基の存在下、適当な溶媒中、式(IV)
【化１８】
2006503053.tif 000018
の化合物の形成に適した条件下で接触させることを含み、
上記式中、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の各々は独立して水素またはアルキルであるか、または(Ｒ２とＲ３)および／または(Ｒ４とＲ５)は、一緒になってＣ４−７シクロアルキルを形成し；
Ｙはヒドロキシ−保護基であり；
Ｘ'はハロであり；そして
Ｒ'はアルキルまたはアリールである、
方法。
【請求項１４】
Ｒ２、Ｒ３およびＲ５の各々が水素であり；Ｒ４がＣ１−７アルキルであり；Ｘ'がクロロであり；Ｒ'がメチルまたはフェニルまたはトルイルであり；そしてＹがベンジルまたはｔ−ブチルジメチルシリルである、請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
Ｒ４がｎ−ブチルであり；そしてＲ'がメチルである、請求項１０記載の方法。
【請求項１６】
約−５℃から約５℃の温度で、約２時間から約５時間、約９から約１０のｐＨで行い、塩基がピリジン、ＤＭＡＰ、トリアルキルアミン、樹脂結合塩基またはヒューニッヒ塩基であり、溶媒がピリジン、ＴＨＦまたはＥｔＯＡｃである、請求項１０記載の方法。
【請求項１７】
式(IV)
【化１９】
2006503053.tif 000019
の化合物を、塩基と適当な溶媒中、式(Ｖ)
【化２０】
2006503053.tif 000020
の化合物の形成に適した条件下で接触させることを含み、
上記式中、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の各々は独立して水素またはアルキルであるか、または(Ｒ２とＲ３)および／または(Ｒ４とＲ５)は、一緒になってＣ４−７シクロアルキルを形成し；そして
Ｙはヒドロキシ−保護基である、
方法。
【請求項１８】
Ｒ２、Ｒ３およびＲ５の各々が水素であり；Ｒ４がＣ１−７アルキルであり；Ｘ'がクロロであり；Ｒ'がメチルまたはフェニルであり；そしてＹがベンジルまたはｔ−ブチルジメチルシリルである、請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
Ｒ４がｎ−ブチルであり；そしてＲ'がメチルである、請求項１７記載の方法。
【請求項２０】
約４０℃から約８０℃の温度で、約２時間から約４時間、約８から約１２のｐＨで行い、塩基が炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、重炭酸リチウム、重炭酸ナトリウムまたはアルキルリチウムであり、溶媒がアセトンまたはメチルエチルケトンである、請求項１７記載の方法。
【請求項２１】
式(Ｖ)
【化２１】
2006503053.tif 000021
の化合物と、式(VI)
【化２２】
2006503053.tif 000022
の化合物を、適当な溶媒中所望によりアクティベーターの存在下、式(VII)
【化２３】
2006503053.tif 000023
の化合物の形成に適した条件下で接触させることを含み、
上記式中、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の各々は独立して水素またはアルキルであるか、または(Ｒ２とＲ３)および／または(Ｒ４とＲ５)は、一緒になってＣ４−７シクロアルキルを形成し；
Ｙはヒドロキシ−保護基であり；
Ｘは−ＣＨ２−、−Ｓ−、−ＣＨ(ＯＨ)−、−ＣＨ(ＯＲ)−、−ＣＨ(ＳＨ)−、−ＣＨ(ＳＲ)−、−ＣＦ２−、−Ｃ＝Ｎ(ＯＲ)−または−ＣＨ(Ｆ)−であり；
ここで、
Ｒはアルキルであり；
Ｒ１はアリールまたはヘテロアリールであり；そして
ｎは０から３であるが、但し、ｎが０であるなら、Ｘは−ＣＨ２−である、
方法。
【請求項２２】
Ｒ２、Ｒ３およびＲ５の各々が水素であり；Ｒ４がＣ１−７アルキルであり；Ｘが−ＣＨ２−であり；Ｙがベンジルまたはｔ−ブチルジメチルシリルであり；そしてＲ１が式(XIａ)
【化２４】
2006503053.tif 000024
〔式中、
Ｒ６およびＲ９は水素であり；
Ｒ７は水素またはＣ１−７アルキルであり；そして
Ｒ８は水素、ハロゲンまたはＣ１−７アルキルである。〕
の部分である、請求項２１記載の方法。
【請求項２３】
Ｒ４がｎ−ブチルであり；そしてＲ１が式
【化２５】
2006503053.tif 000025
〔式中、
Ｒ７は水素であり；そして
Ｒ８はフルオロである。〕
の部分である、請求項２２記載の方法。
【請求項２４】
約６０℃から約８０℃の温度で約５時間から約１０時間、約５から約１１のｐＨで行い、アクティベーターが２−エチルヘキサン酸、酢酸またはイソ酪酸であり、溶媒がＴＨＦ、ジオキサンまたはジメトキシエタンである、請求項２１記載の方法。
【請求項２５】
アクティベーターの非存在下で行い、溶媒がＭｅＯＨ・Ｈ２ＯまたはＥｔＯＨ・Ｈ２Ｏである、請求項２４記載の方法。
【請求項２６】
式(VII)
【化２６】
2006503053.tif 000026
の化合物を、ホルミル化剤と、適当な溶媒中、式(VIII)
【化２７】
2006503053.tif 000027
の化合物の形成に適した条件下で接触させることを含み、
上記式中、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の各々が独立して水素またはアルキルであるか、または(Ｒ２とＲ３)および／または(Ｒ４とＲ５)は、一緒になってＣ４−７シクロアルキルを形成し；
Ｙはヒドロキシ−保護基であり；
Ｘは−ＣＨ２−、−Ｓ−、−ＣＨ(ＯＨ)−、−ＣＨ(ＯＲ)−、−ＣＨ(ＳＨ)−、−ＣＨ(ＳＲ)−、−ＣＦ２−、−Ｃ＝Ｎ(ＯＲ)−または−ＣＨ(Ｆ)−であり；
ここで
Ｒはアルキルであり；
Ｒ１はアリールまたはヘテロアリールであり；そして
ｎは０から３であるが、但し、ｎが０であれば、Ｘは−ＣＨ２−である、
方法。
【請求項２７】
Ｒ２、Ｒ３およびＲ５の各々が水素であり；Ｒ４がＣ１−７アルキルであり；Ｘが−ＣＨ２−であり；Ｙがベンジルまたはｔ−ブチルジメチルシリルであり；そしてＲ１が式(XIａ)
【化２８】
2006503053.tif 000028
〔式中、
Ｒ６およびＲ９は水素であり；
Ｒ７は水素またはＣ１−７アルキルであり；そして
Ｒ８は水素、ハロゲンまたはＣ１−７アルキルである。〕
の部分である、請求項２６記載の方法。
【請求項２８】
Ｒ４がｎ−ブチルであり；そしてＲ１が式
【化２９】
2006503053.tif 000029
〔式中、
Ｒ７は水素であり；そして
Ｒ８はフルオロである。〕
の部分である、請求項２６記載の方法。
【請求項２９】
約０℃から約２５℃の温度で、約２０分から約１時間行い、ホルミル化剤がＨＣＯ２Ｈ／Ａｃ２Ｏまたはトリフルオロエチルホルメートであり、溶媒がＥｔＯＡｃ、酢酸イソプロピル、酢酸ｔ−ブチルまたはＴＨＦである、請求項２６記載の方法。
【請求項３０】
式(Ｉ)
【化３０】
2006503053.tif 000030
〔式中、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の各々は独立して水素またはアルキルであるか、または(Ｒ２とＲ３)は、一緒になってＣ４−７シクロアルキルを形成するが、但し、Ｒ４またはＲ５のいずれかが水素であれば、他方の置換基、すなわち、Ｒ４またはＲ５は水素またはメチルではない。〕
の化合物。
【請求項３１】
Ｒ５が水素であり；そしてＲ４がＣ２−７アルキルである、請求項３０記載の化合物。
【請求項３２】
式(Ｉｂ)
【化３１】
2006503053.tif 000031
〔式中、
Ｇは−ＯＨまたは−Ｏ−Ｍ＋であって、Ｍは金属またはアンモニウム部分であり；そして
Ｒ２、Ｒ３およびＲ５の各々は独立して水素またはアルキルであるか、または(Ｒ２とＲ３)は、一緒になってＣ４−７シクロアルキルを形成するが、但し、Ｒ５はｎ−ブチルではない。〕
である、請求項３０記載の化合物。
【請求項３３】
式(Ｉａ)
【化３２】
2006503053.tif 000032
〔式中、
Ｇは−ＯＨまたは−Ｏ−Ｍ＋であって、Ｍは金属またはアンモニウム部分であり；そして
Ｒ４はアルキルである。〕
である、請求項３０記載の化合物。
【請求項３４】
式(Ｉｆ)−(Ｉｈ)
【化３３】
2006503053.tif 000033
からなる群から選択される、化合物。
【請求項３５】
式(VII)
【化３４】
2006503053.tif 000034
〔式中、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の各々は独立して水素またはアルキルであるか、または(Ｒ２とＲ３)は、一緒になってＣ４−７シクロアルキルを形成でき；
Ｙはヒドロキシ−保護基であり；
Ｘは−ＣＨ２−、−Ｓ−、−ＣＨ(ＯＨ)−、−ＣＨ(ＯＲ)−、−ＣＨ(ＳＨ)−、−ＣＨ(ＳＲ)−、−ＣＦ２−、−Ｃ＝Ｎ(ＯＲ)−または−ＣＨ(Ｆ)−であり；
ここで、
Ｒはアルキルであり；
Ｒ１はアリールまたはヘテロアリールであり；そして
ｎは０から３であるが、但し、ｎが０であれば、Ｘは−ＣＨ２−であり、また、Ｒ４およびＲ５は異なる。〕
の化合物。
【請求項３６】
Ｒ２、Ｒ３およびＲ５の各々が水素であり；Ｒ４がＣ１−７アルキルであり；Ｘが−ＣＨ２−であり；Ｙがベンジルまたはｔ−ブチルジメチルシリルであり；そしてＲ１が式(XIａ)
【化３５】
2006503053.tif 000035
〔式中、
Ｒ６およびＲ９は水素であり；
Ｒ７は水素またはＣ１−７アルキルであり；そして
Ｒ８は水素、ハロゲンまたはＣ１−７アルキルである。〕
の部分である、請求項３５記載の化合物。
【請求項３７】
Ｒ４がｎ−ブチルであり；そしてＲ１が式
【化３６】
2006503053.tif 000036
〔式中、
Ｒ７は水素であり；そして
Ｒ８はフルオロである。〕
の部分である、請求項３６記載の化合物。