【事件の表示】
　特願２００４−１５１７１４「露光装置、デバイス製造方法、及び液体除去方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年１０月　６日出願公開、特開２００５−２７７３６３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１６年（２００４年）年５月２１日（優先権主張　平成１５年５月２３日、平成１５年８月２８日、平成１６年２月２５日）の出願（特願２００４−１５１７１４号）であって、平成２２年３月１日付けで拒絶理由が通知され、同年５月１０日付けで手続補正がなされ、同年８月５日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年１１月１０日に拒絶査定不服審判の請求がなされたものである。
　その後、平成２３年１２月６日付けで拒絶理由（最後）が通知され、平成２４年２月１３日付けで手続補正がなされた。
　
第２　平成２４年２月１３日付けの手続補正についての補正の却下の決定
　
［補正の却下の決定の結論］
　平成２４年２月１３日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１　本件補正について
　本件補正により、平成２２年５月１０日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に係る発明である、
「投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、前記基板を露光する露光装置において、
　前記投影光学系の像面付近に配置される部品と、
　前記部品上に残留した液体を除去する液体除去機構と、を備え、
　前記部品は、基準部材を含む露光装置。」が、
　
「投影光学系と前記投影光学系の像面側に局所的に形成される液浸領域の液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、前記基板を露光する露光装置において、
 前記液浸領域を形成するために液体を供給する液体供給機構からの液体の供給動作と並行して、前記液浸領域の液体を回収する液体回収機構と、
　前記投影光学系の像面付近に配置される部品と、
　前記部品上に残留した液体を除去する液体除去機構と、を備え、
　前記部品は、前記液浸領域が形成される基準部材を含み、 
 前記液体除去機構は、前記液体回収機構による液体回収によって回収しきれずに前記部品上に残留した液体を除去する露光装置。」と補正された。
　
　そして、この補正は、本件補正前の請求項１に係る発明に対して、
(a)「液体」について「前記投影光学系の像面側に局所的に形成される液浸領域の」「液体」であることを限定する補正事項、
(b)「基準部材」について「前記液浸領域が形成される」「基準部材」であることを限定する補正事項、
(c)「前記液浸領域を形成するために液体を供給する液体供給機構からの液体の供給動作と並行して、前記液浸領域の液体を回収する液体回収機構」を追加して特定する補正事項、及び、
(d)「液体除去機構」について「前記液体回収機構による液体回収によって回収しきれずに前記部品上に残留した液体を除去する」ものであることを限定して特定する補正事項、
からなる。
　これらの補正事項は、特許請求の範囲のいわゆる限定的減縮を目的とするものを含むものであるといえるから、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下「平成１８年改正前特許法」という。）第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とするものを含む。
　
２　独立特許要件違反についての検討
　そこで、次に、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものか（平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第５項の規定に違反しないか）について検討する。
　
（１）本願補正発明
　本願補正発明は、平成２４年２月１３日付けの手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載されている事項により特定されるものである。（上記の「１　本件補正について」の記載参照。）
　
（２）引用例
ア　本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平１０−３０３１１４号公報（以下「引用例１」という。なお、当審の拒絶理由（最後）に引用されたものである。）には、以下の事項が記載されている。（下線は当審において付したものである。）
　
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、
レチクル上に描画されたパターンを投影光学系によってウエハに焼付ける露光装置に関し、特に液浸型の露光装置に関する。
　
「【００１２】
【第１の実施例の説明】図１は、本発明の第１の実施例による投影露光装置の全体構成を示し、ここでは、物体側と像側の両側においてテレセントリックに構成された円形イメージフィールドを有する縮小投影レンズ系ＰＬを介して、レチクルＲ上の回路パターンを半導体ウエハＷ上に投影しつつ、レチクルＲとウエハＷとを投影レンズ系ＰＬに対して相対走査するレンズ・スキャン方式の投影露光装置を示す。図１において照明系１０は、波長１９３ｎｍのパルス光を放射するＡｒＦエキシマレーザ光源（不図示）、その光源からのパルス光の断面形状を整形するビームエクスパンダ（不図示）、その整形されたパルス光を入射して２次光源像（複数の点光源の集まり）を生成するフライ・アイレンズ等のオプチカルインテグレータ（不図示）、その２次光源像からのパルス光を均一な照度分布のパルス照明光にする集光レンズ系（不図示）、そのパルス照明光の形状を走査露光時の走査方向（Ｙ方向）と直交した方向（Ｘ方向）に長い矩形状に整形するレチクルブラインド（照明視野絞り、不図示）、及びそのレチクルブラインドの矩形状の開口からのパルス光ＩＬを図１中のコンデンサーレンズ系１２、ミラー１４と協働してレチクルＲ上にスリット状又は矩形状の照明領域ＡＩとして結像するためのリレー光学系（不図示）とを含んでいる。
【００１３】レチクルＲは、走査露光時には大きなストロークで１次元方向に等速移動可能なレチクルステージ１６上に真空吸着（場合によっては静電吸着、機械締結）される。レチクルステージ１６は、図１においては装置本体のコラム構造体１９上を図中の左右（Ｙ方向）にスキャン移動するようにガイドされ、図の紙面と垂直な方向（Ｘ方向）にも移動するようにガイドされる。そのレチクルステージ１６のＸＹ平面内での座標位置や微小回転量は、レチクルステージ１６の一部に取り付けられた移動鏡（平面鏡やコーナーミラー）ＭＲｒにレーザビームを投射して、その反射ビームを受光するレーザ干渉計システム１７によって逐次計測される。そしてレチクルステージ制御器２０は、干渉計システム１７によって計測されるＸＹ座標位置に基づいてレチクルステージ１６を駆動するためのリニアモータやボイスコイル等のモータ１８を制御し、レチクルステージ１６のスキャン方向の移動と非スキャン方向の移動とを制御する。
【００１４】さて、コンデンサーレンズ系１２とミラー１４から射出された矩形状のパルス照明光ＩＬがレチクルＲ上の回路パターン領域の一部を照射すると、その照明領域ＡＩ内に存在するパターンからの結像光束が１／４倍の縮小投影レンズ系ＰＬを通して、ウエハＷの表面に塗布された感応性のレジスト層に結像投影される。その投影レンズ系ＰＬの光軸ＡＸは、円形イメージフィールドの中心点を通り、照明系１０とコンデンサーレンズ系１２の各光軸とも同軸になるように配置されている。また投影レンズ系ＰＬは、波長１９３ｎｍの紫外線に対して高い透過率を有する石英と螢石の２種類の硝材で作られた複数枚のレンズ素子で構成され、螢石は主に正のパワーを持つレンズ素子に使われる。さらに投影レンズ系ＰＬの複数枚のレンズ素子を固定する鏡筒の内部は、波長１９３ｎｍのパルス照明光の酸素による吸収を避けるために窒素ガスに置換されている。このような窒素ガスによる置換は照明系１０の内部からコンデンサーレンズ系１２（又はミラー１４）までの光路に対しても同様に行われる。
【００１５】ところで、
ウエハＷはその裏面を吸着するホルダテーブルＷＨ上に保持される。
ホルダテーブルＷＨの内底部の周辺には、ウエハＷの外周を所定の幅で取り囲むような環状の補助プレート部ＨＲＳが設けられている。
【００１６】この補助プレート部ＨＲＳの主要な機能は、フォーカス・レベリングセンサーの検出点がウエハＷの外形エッジの外側に位置するような場合の代替のフォーカス検出面として利用されることである。また
補助プレート部ＨＲＳは、ウエハＷ上のショット領域とレチクルＲ上の回路パターンとを相対的に位置合わせするときに使われるアライメントセンサーのキャリブレーションや、ショット領域を走査露光するときに使われるフォーカス・レベリングセンサーのキャリブレーションにも兼用可能である。
　
「【００３７】
【第２の実施例の説明】次に、本発明の第２の実施例について図４を参照して説明する。本実施例は、先の第１の実施例にも同様に適用可能な液体ＬＱの温度制御法とウエハＷの交換時の液体ＬＱの取り扱い方法とを示す。従って、図４において先の図１，３中の部材と同じものには同一の符号をつけてある。さて、図４においてホルダテーブルＷＨの内底部に円形の凹部として形成されたウエハ載置部には複数の吸着面１１３が形成されている。そして
円形のウエハ載置部の周辺には、液体ＬＱの供給と排出に用いる溝５１が環状に形成され、その溝５１の一部は、テーブルＷＨ内に形成された通路５２を介して、外部のパイプ５３につながれている。
【００３８】一方、
パイプ５３は、切り替えバルブ６２を介して、液体供給ユニット６４と排出ポンプ６６に接続されている。切り替えバルブ６２は、制御器６０からの指令に応答して、液体供給ユニット６４からの液体ＬＱをパイプ５３に供給する流路か、パイプ５３からの液体ＬＱを排出ポンプ６６を介して供給ユニット６４に戻す流路かを切り替えるように動作する。
【００３９】さて、このような構成において、ウエハＷがホルダテーブルＷＨの載置部上に搬送され、プリアライメントされた状態で複数の吸着面１１３上に載置されると、図３に示した真空吸着用の配管１１２を介して減圧固定される。この間、温度調整器５０Ａ，５０Ｂは、目標となる温度に制御され続けている。
そしてウエハＷの真空吸着が完了すると、切り替えバルブ６２がクローズ位置から供給ユニット６４側に切り替わり、温度調整された液体ＬＱがポンプ６４Ａの作動によって、パイプ５３、通路５２、溝５１を介してホルダテーブルＷＨの壁部ＬＢの内部に一定量だけ注入されて、切り替えバルブ６２がクローズ位置に戻る。その後、ウエハＷに対する露光が完了すると、直ちに切り替えバルブ６２がクローズ位置から排出ポンプ６６側に切り替わり、排出ポンプ６６の作動によってテーブルＷＨ上の液体ＬＱが溝５１、パイプ５３を介して供給ユニット６４のリザーブタンク内に戻される。
【００４０】このように本実施例によれば、液浸露光中の液体ＬＱはホルダテーブルＷＨ内の温度調整器５０Ａ，５０Ｂによって温度制御され、ウエハ交換動作中は液体ＬＱを供給ユニット６４内に回収して温度制御するようにしたので、ウエハ交換が大気中で可能になるとともに、液体ＬＱの大きな温度変化を防止できると云った利点がある。さらに本実施例によれば、ウエハ交換後にホルダテーブルＷＨに注入される液体ＬＱは、たとえ設定温度に対して僅か（例えば０．５℃程度）に異なっていたとしても、液体層の深さＨｑ（図３参照）が総じて浅いために比較的早く設定温度に到達し得るから、温度安定を待つ時間も短縮され得る。
【００４１】
【第３の実施例の説明】次に第３の実施例について図５を参照して説明する。
図５は先の図３の構成を改良したホルダテーブルＷＨの部分断面を表し、
ホルダテーブルＷＨは、ウエハＷを保持するウエハチャック９０と、フォーカス・レベリングのためのＺ方向移動とチルト移動を行うＺＬステージ８２とに別れており、
チャック９０には、図１、３、４と同様に、壁部ＬＢ、補助プレート部ＨＲＳ、真空吸着用の配管１１２、液体ＬＱの供給、排出用のパイプ５３（図４参照）に接続される通路５３Ａ，５３Ｂがそれぞれ形成されている。
通路５３Ａはウエハチャック９０内部の補助プレート部ＨＲＳの周辺部分につながっており、
【００４２】さらに本実施例では、チャック９０の中央部に３つ（２つのみ図示）の貫通孔９１が形成され、この貫通孔９１を通って上下動する３つ（２つのみ図示）のセンターアップピン８３が、上下動駆動機構８５の上に設けられている。この上下動駆動機構８５は、ＸＹステージ３４側に固定される。その３つのセンターアップピン８３は、ウエハ交換時にチャック９０上のウエハＷを載置面から一定量だけ持ち上げたり、ウエハＷを載置面上に下ろしたりするためのものであり、ウエハＷがチャック９０の載置面に真空吸着された状態では、図５に示すようにセンターアップピン８３の先端面は、チャック９０の載置面よりも下がった位置に設定される。
【００４３】一方、本実施例で使用する投影レンズ系ＰＬの先端部には、サブ鏡筒８０の先端に光軸ＡＸと垂直に固定された石英の平行平板ＣＧが取り付けられ、したがって先端のレンズ素子ＬＥ１（平凸レンズ）が液体ＬＱに浸かることがないように構成されている。本実施例では、この平行平板ＣＧの下面とウエハＷの表面との間隔が、見かけ上のワーキングディスタンスとなり、先の実施例と同様に２ｍｍ以下に設定される。またサブ鏡筒８０の平行平板ＣＧとの取付け面は防水加工され、サブ鏡筒８０の内部には窒素ガスが充填されている。
【００４４】このように投影レンズ系ＰＬの先端に平行平板ＣＧを設けるようにすると、投影レンズ系ＰＬの実質的なバックフォーカス距離（屈折力を持つ先端の光学素子から像面までの距離）が１０〜１５ｍｍ程度であっても、容易にワーキングディスタンスＬを１〜２ｍｍ程度にして液体の温度変化の影響を低減させた液浸投影法が実現できる。また、平行平板ＣＧは後付けで設けることができるから、平行平板ＣＧの表面の一部分を波長の数分の１程度のオーダーで研磨することにより、投影像内で生じている局所的な微少歪曲収差（あるいはランダムなディストーション）を容易に修正することが可能となる。すなわち、平行平板ＣＧは投影レンズ系ＰＬの最先端のレンズ素子を液体から保護する窓としての機能と、ディストーション補正板としての機能とを兼ね備えることになる。なお、別の見方をすれば平行平板ＣＧを含めて投影レンズ系ＰＬの結像性能が保証されているので、平行平板ＣＧが投影レンズ系ＰＬの最先端の光学素子であることに変わりはない。」
　
「【図１】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
「【図４】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
「【図５】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
イ　引用例１に記載された発明
　【図１】【図５】から、補助プレート部ＨＲＳが液浸状態で使用されていることが見て取ることができ、技術常識を踏まえると、【図４】に記載されたものにおいても、補助プレート部ＨＲＳは液浸状態で使用されるものと認められる。
　上記記載（図面の記載も含む）から、引用例１には、【図４】に記載されている液浸型露光装置の発明として、
「レチクル上に描画されたパターンを投影光学系によってウエハに焼付ける液浸型の露光装置に関し、
　ウエハＷはその裏面を吸着するホルダテーブルＷＨ上に保持（載置）され、
　円形のウエハ載置部の周辺には、液体ＬＱの供給と排出に用いる溝５１が環状に形成され、その溝５１の一部は、テーブルＷＨ内に形成された通路５２を介して、外部のパイプ５３につながれ、
　パイプ５３は、切り替えバルブ６２を介して、液体供給ユニット６４と排出ポンプ６６に接続され、切り替えバルブ６２は、制御器６０からの指令に応答して、液体供給ユニット６４からの液体ＬＱをパイプ５３に供給する流路か、パイプ５３からの液体ＬＱを排出ポンプ６６を介して供給ユニット６４に戻す流路かを切り替えるように動作し、
　ウエハＷの真空吸着が完了すると、切り替えバルブ６２がクローズ位置から供給ユニット６４側に切り替わり、温度調整された液体ＬＱがポンプ６４Ａの作動によって、パイプ５３、通路５２、溝５１を介してホルダテーブルＷＨの壁部ＬＢの内部に一定量だけ注入されて、切り替えバルブ６２がクローズ位置に戻り、
　ウエハＷに対する露光が完了すると、排出ポンプ６６の作動によってテーブルＷＨ上の液体ＬＱが溝５１、パイプ５３を介して供給ユニット６４のリザーブタンク内に戻され、
　ホルダテーブルＷＨの内底部の周辺には、ウエハＷの外周を所定の幅で取り囲むような環状の補助プレート部ＨＲＳが設けられ、
　補助プレート部ＨＲＳは、ウエハＷ上のショット領域とレチクルＲ上の回路パターンとを相対的に位置合わせするときに使われるアライメントセンサーのキャリブレーションや、ショット領域を走査露光するときに使われるフォーカス・レベリングセンサーのキャリブレーションにも兼用可能であり、
　補助プレート部ＨＲＳは液浸状態で使用される露光装置。」の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されている。
　
ウ　本願の優先日前に頒布された刊行物である国際公開９９／４９５０４号（以下「引用例２」という。なお、当審の拒絶理由（最後）に周知例として引用されたものであり、また、原審の拒絶理由においても引用されたものである。）には、以下の事項が記載されている。
　
（ア）「技術分野
　本発明は、例えば、半導体素子、撮像素子（ＣＣＤ等）、液晶表示素子、又は薄膜磁気ヘッド等のデバイスを製造するためのリソグラフィ工程でマスクパターンを感光性の基板上に転写するために用いられる投影露光方法、及び装置に関し、更に詳しくは液浸法を用いた投影露光装置に関する。」（明細書第１ページ第５〜１０行）
　
（イ）「さて、本例では露光波長を実質的に短くして解像度を向上すると共に、焦点深度は実質的に広くするために、液浸法を適用する。そのため、少なくともレチクルＲのパターン像をウエハＷ上に転写している間は、ウエハＷの表面と投影光学系ＰＬのウエハ側のレンズ４の先端面（下面）との間に所定の液体７を満たしておく。投影光学系ＰＬは、他の光学系を収納する鏡筒３と、そのレンズ４とを有しており、レンズ４のみが液体７が接触するように構成されている。これによって、金属よりなる鏡筒３の腐食等が防止されている。」（明細書第１０ページ末行〜第１１ページ第７行）
　
（ウ）「その液体７は、その液体のタンク、加圧ポンプ、温度制御装置等からなる液体供給装置５によって、所定の排出ノズル等を介してウエハＷ上に温度制御された状態で供給され、その液体のタンク及び吸引ポンプ等からなる液体回収装置６によって、所定の流入ノズル等を介してウエハＷ上から回収される。液体７の温度は、例えば本例の投影露光装置が収納されているチャンバ内の温度と同程度に設定されている。そして、投影光学系ＰＬのレンズ４の先端部をＸ方向に挟むように先端部が細くなった排出ノズル２１ａ、及び先端部が広くなった２つの流入ノズル２３ａ，２３ｂ（図２参照）が配置されており、排出ノズル２１ａは供給管２１を介して液体供給装置５に接続され、流入ノズル２３ａ，２３ｂは回収管２３を介して液体回収装置６に接続されている。更に、その１対の排出ノズル２１ａ、及び流入ノズル２３ａ，２３ｂをほぼ１８０°回転した配置の１対のノズル、及びそのレンズ４の先端部をＹ方向に挟むように配置された２対の排出ノズル、及び流入ノズルも配置されている。」（明細書第１２ページ第１３行〜末行）
　
（エ）「また、液体７がウエハＷ上を流れるため、ウエハＷ上に異物が付着している場合であっても、その異物を液体７により流し去ることができるという利点がある。また、液体７は液体供給装置５により所定の温度に調整されているため、ウエハＷ表面の温度調整が行われて、露光の際に生じる熱によるウエハの熱膨張による重ね合わせ精度等の低下を防ぐことができる。従って、ＥＧＡ（エンハンスト・グローバル・アライメント）方式のアライメントのように、アライメントと露光とに時間差のある場合であっても、ウエハの熱膨張により重ね合わせ精度が低下してしまうことを防ぐことができる。また、本例の投影露光装置では、ウエハＷを移動させる方向と同じ方向に液体７が流れているため、異物や熱を吸収した液体をレンズ４の先端部４Ａの直下の露光領域上に滞留させることなく回収することができる。」（明細書第１４ページ第１９行〜第１５ページ第４行）
　
（オ）「次に、液体７の供給量、及び回収量の制御方法について説明する。
　図４は、投影光学系ＰＬのレンズ４とウエハＷとの間への液体７の供給及び回収の様子を示し、この図４において、ウエハＷは矢印２５Ａの方向（−Ｘ方向）に移動しており、排出ノズル２１ａより供給された液体７は、矢印２５Ｂの方向（−Ｘ方向）に流れ、流入ノズル２３ａ，２３ｂにより回収される。レンズ４とウエハＷとの間に存在する液体７の量をウエハＷの移動中でも一定に保つため、本例では液体７の供給量Ｖｉ（ｍ３／ｓ）と回収量Ｖｏ（ｍ３／ｓ）とを等しくし、また、ＸＹステージ１０（ウエハＷ）の移動速度ｖに比例するように液体７の供給量Ｖｉ、及び回収量Ｖｏを調整する。即ち、主制御系１４は液体７の供給量Ｖｉ、及び回収量Ｖｏを、以下の式により決定する。
　Ｖｉ＝Ｖｏ＝Ｄ・ｖ・ｄ　　　　　　　　　　　　（３）　
　ここで、図１に示すようにＤはレンズ４の先端部の直径（ｍ）、ｖはＸＹステージ１０の移動速度（ｍ／ｓ）、ｄは投影光学系ＰＬの作動距離（ワーキング・ディスタンス）（ｍ）である。ＸＹステージ１０をステップ移動するときの速度ｖは、主制御系１４により設定されるものであり、Ｄ及びｄは予め入力されているため、（３）式に基づいて液体７の供給量Ｖｉ、及び回収量Ｖｏを調整することで、図４のレンズ４とウエハＷとの間には液体７が常時満たされる。」（明細書第１５ページ下から第５行〜第１６ページ第１４行）
　
（カ）「さらに、液体７を流す範囲はレチクルのパターン像の投影領域（露光光の照射領域）の全域を覆うように設定されていればよく、その大きさは任意でよいが、流速、流量等を制御する上で、前述の各実施の形態のように露光領域よりも少し大きくしてその範囲をできる限り小さくしておくことが望ましい。」（明細書第２０ページ第１０〜１４行）
　
「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
エ　本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平６−１２４８７３号公報（以下「引用例３」という。なお、原審の拒絶理由に引用されたものである。）には、以下の事項が記載されている
　
「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造工程においてウエハ上に微細な回路パターンを露光する為の液浸式投影露光装置に関する。」
　
「【００２２】ウエハ２の全面の露光が完了すると、これと同時に輸送ポンプ２２が再び作動し、チャンバ９内の液体３０を排出し始める。この時、液面ゲ−ジ１９が常時液体３０の高さを検知しており、液体３０の高さがウエハチャック１２面より僅かに低くなった時点で、輸送ポンプを停止させる。従って、排出する液体３０の量は、僅かである。この後、ウエハチャック１２のバキュ−ムを切り、搬出ハンド１１−４で、ウエハチャック１２上のウエハ２をハンドリングして、ウエハカセット１０に収納する。この時、収納直前に、ウエハ２の両面をクリ−ンなエアでブロ−して、液体３０をウエハ２表面から除去するようにしてもよい。」
　
（３）対比
ア　対比
　本願補正発明と引用発明１とを対比する。
　引用発明１の「レチクル上に描画されたパターンを投影光学系によってウエハに焼付ける液浸型の露光装置」と、本願補正発明「投影光学系と前記投影光学系の像面側に局所的に形成される液浸領域の液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、前記基板を露光する露光装置」とは、「投影光学系と前記投影光学系の像面側に形成される液浸領域の液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、前記基板を露光する露光装置」である点で一致する。
　
　引用発明１の「円形のウエハ載置部の周辺には、液体ＬＱの供給と排出に用いる溝５１が環状に形成され、その溝５１の一部は、テーブルＷＨ内に形成された通路５２を介して、外部のパイプ５３につながれ、パイプ５３は、切り替えバルブ６２を介して、液体供給ユニット６４と排出ポンプ６６に接続され、切り替えバルブ６２は、制御器６０からの指令に応答して、液体供給ユニット６４からの液体ＬＱをパイプ５３に供給する流路か、パイプ５３からの液体ＬＱを排出ポンプ６６を介して供給ユニット６４に戻す流路かを切り替えるように動作し、ウエハＷの真空吸着が完了すると、切り替えバルブ６２がクローズ位置から供給ユニット６４側に切り替わり、温度調整された液体ＬＱがポンプ６４Ａの作動によって、パイプ５３、通路５２、溝５１を介してホルダテーブルＷＨの壁部ＬＢの内部に一定量だけ注入されて、切り替えバルブ６２がクローズ位置に戻り」の特定事項から、引用発明１の「液体ＬＱの供給と排出に用いる溝５１」「通路５２」「外部のパイプ５３」「切り替えバルブ６２」及び「液体供給ユニット６４」が、本願補正発明の「前記液浸領域を形成するために液体を供給する液体供給機構」に相当するものであり、引用発明１の「液体ＬＱの供給と排出に用いる溝５１」「通路５２」「外部のパイプ５３」「切り替えバルブ６２」及び「排出ポンプ６６」が、本願補正発明の「前記液浸領域の液体を回収する液体回収機構」に相当するものである。
　
　引用発明１の「ホルダテーブルＷＨの内底部の周辺に」設けられる「ウエハＷの外周を所定の幅で取り囲むような環状の補助プレート部ＨＲＳ」が、本願補正発明の「前記投影光学系の像面付近に配置される部品」に相当する。
　引用発明１の「補助プレート部ＨＲＳは、ウエハＷ上のショット領域とレチクルＲ上の回路パターンとを相対的に位置合わせするときに使われるアライメントセンサーのキャリブレーションや、ショット領域を走査露光するときに使われるフォーカス・レベリングセンサーのキャリブレーションにも兼用可能」であること、及び、「補助プレート部ＨＲＳは液浸状態で使用される」ことが、本願補正発明の「前記部品は、前記液浸領域が形成される基準部材を含」むことに相当する。
　
イ　一致点・判断
　そうすると、本願補正発明と引用発明１とは、
「投影光学系と前記投影光学系の像面側に形成される液浸領域の液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、前記基板を露光する露光装置において、
 前記液浸領域を形成するために液体を供給する液体供給機構と、前記液浸領域の液体を回収する液体回収機構と、
　前記投影光学系の像面付近に配置される部品と、を備え、
　前記部品は、前記液浸領域が形成される基準部材を含む露光装置。」
の発明である点で一致し、次の各点で相違する。
　
ウ　相違点
（ア）相違点１
　液浸領域の形成に関し、本願補正発明は、「液体の供給動作と並行して」「液体を回収する」ことにより、「局所的」に形成するものであるのに対し、引用発明１においては、その点の特定がない点。
　
（イ）相違点２
　本願補正発明は、「液体回収機構による液体回収によって回収しきれずに前記部品上に残留した液体を除去する」「液体除去機構」を備えるのに対し、引用発明１においては、その点の特定がない点。
　
（４）当審の判断
ア　上記各相違点について検討する。
（ア）相違点１について
　引用例２には、液浸型露光装置における液浸領域の形成について、上記「（２）引用例」の「ウ」の「（オ）」において「液体７の供給量Ｖｉ、及び回収量Ｖｏを調整する」ことで、「レンズ４とウエハＷとの間には液体７が常時満たされる」ように設定することが記載され、また、上記「（２）引用例」の「ウ」の「（カ）」において、「液体７を流す範囲」について「露光領域よりも少し大きくしてその範囲をできる限り小さくしておくこと」が記載されている。よって、液浸型露光装置において、「液体の供給動作と並行して」「液体を回収する」ことにより、「局所的」に液浸領域を形成することは、引用例２にも記載されているように周知の技術である。
　引用発明１においても、上記の周知技術を採用し、上記相違点１に係る本願補正発明の発明特定事項を得ることは当業者が容易になし得たことに過ぎない。
　なお、本願の明細書の発明の詳細な説明の【０１６１】における「また、上述の実施形態においては、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間に局所的に液体を満たす露光装置を採用しているが、本発明は、特開平６−１２４８７３号公報に開示されているような露光対象の基板を保持したステージを液槽の中で移動させる液浸露光装置にも適用可能である。」の記載は、上記の引用発明１に周知技術を採用することが当業者にとって容易であるとすることを裏付けるものである。
　
（イ）相違点２について
　引用例３には液浸型露光装置の露光完了後に、液体を排出（回収）し、ウエハを取り出した後、「ウエハ２の両面をクリ−ンなエアでブロ−して、液体３０をウエハ２表面から除去する」ことが記載されている。すなわち、液体回収後に液浸されていた部材から（回収後に残留した）液体を除去することは、引用例３に記載されているように周知の技術である。
　引用発明１においても、露光処理後に部材をよりクリーンな状態にするという露光装置における自明な課題（この点について、例えば、特開平５−１００１８２号公報（【０００２】）、特開２００１−２８４３０４号公報（【０００５】〜【０００７】）等参照）に応じて、露光装置の基準部材（引用発明１においては「補助プレート部ＨＲＳ」）に対して上記の周知技術を適用し、上記相違点２に係る本願補正発明の発明特定事項を得ることは当業者が容易になし得たことに過ぎない。
　
イ　本願補正発明の奏する作用効果
　そして、本願補正発明によってもたらされる効果は、引用発明１及び周知技術から当業者が予測し得る程度のものである。
　
ウ　まとめ
　以上のとおり、本願補正発明は、引用発明１及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
３　むすび
　したがって、本願補正発明は特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるということができないから、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、同法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
 第３　本願発明について
１　本願発明
　平成２４年２月１３日付けの手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２２年５月１０日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものである。（上記「第２　平成２４年２月１３日付けの手続補正についての補正の却下の決定」の「１　本件補正について」の記載参照。）
　
２　引用例
（１）当審の拒絶理由には、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平１０−３０３１１４号公報が引用されている。その記載内容は、上記「第２　平成２４年２月１３日付けの手続補正についての補正の却下の決定」の「２　独立特許要件違反についての検討」の「（２）引用例」の「ア」に記載されたとおりであり、また、上記と同様に上記の特開平１０−３０３１１４号公報を以下「引用例１」という。
　
（２）引用例１に記載された発明
　上記の「第２　平成２４年２月１３日付けの手続補正についての補正の却下の決定」の「２　独立特許要件違反についての検討」の「（２）引用例」の「ア」における引用例１の摘記事項から、引用例１には【図５】に記載された発明として、
「レチクル上に描画されたパターンを投影光学系によってウエハに焼付ける液浸型の露光装置に関し、
　ウエハＷはその裏面を吸着するホルダテーブルＷＨ上に保持され、
　ホルダテーブルＷＨの内底部の周辺には、ウエハＷの外周を所定の幅で取り囲むような環状の補助プレート部ＨＲＳが設けられ、
　補助プレート部ＨＲＳは、ウエハＷ上のショット領域とレチクルＲ上の回路パターンとを相対的に位置合わせするときに使われるアライメントセンサーのキャリブレーションや、ショット領域を走査露光するときに使われるフォーカス・レベリングセンサーのキャリブレーションにも兼用可能であり、
　ホルダテーブルＷＨは、ウエハＷを保持するウエハチャック９０を備え、
　チャック９０には、液体ＬＱの供給、排出用のパイプ５３に接続される通路５３Ａ，５３Ｂがそれぞれ形成され、通路５３Ａはウエハチャック９０内部の補助プレート部ＨＲＳの周辺部分につながっており、
　ウエハＷに対する露光が完了すると、排出ポンプ６６の作動によってテーブルＷＨ上の液体ＬＱが溝５１、パイプ５３を介して供給ユニット６４のリザーブタンク内に戻される露光装置。」の発明（以下「引用発明２」という。）が記載されている。
　
３　本願発明と引用発明２の対比
（１）対比
　本願発明と引用発明２を対比する。
　引用発明２の「レチクル上に描画されたパターンを投影光学系によってウエハに焼付ける液浸型の露光装置」が、本願発明の「投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、前記基板を露光する露光装置」に相当する。
　
　引用発明２の「ホルダテーブルＷＨの内底部の周辺に」「ウエハＷの外周を所定の幅で取り囲むよう」に「設けられ」た「環状の補助プレート部ＨＲＳ」が、本願発明の「前記投影光学系の像面付近に配置される部品」に相当する。
　
　引用発明２の「ウエハＷに対する露光が完了すると」、「テーブルＷＨ上の液体ＬＱ」を「供給ユニット６４のリザーブタンク内に戻」す「溝５１」、「液体ＬＱの供給、排出用のパイプ５３」、「通路５３Ａ，５３Ｂ」及び「排出ポンプ６６」は、それによって「補助プレート部ＨＲＳ」上の液体ＬＱも供給ユニット６４のリザーブタンク内に戻すもの、すなわち、補助プレート部ＨＲＳ上に残留していた液体を補助プレート部ＨＲＳ上から除去するものであるといえるから、引用発明２の上記「溝５１、液体ＬＱの供給、排出用のパイプ５３、通路５３Ａ，５３Ｂ及び排出ポンプ６６」が、本願発明の「前記部品上に残留した液体を除去する液体除去機構」に相当する。
　
　引用発明２の「補助プレート部ＨＲＳは、ウエハＷ上のショット領域とレチクルＲ上の回路パターンとを相対的に位置合わせするときに使われるアライメントセンサーのキャリブレーションや、ショット領域を走査露光するときに使われるフォーカス・レベリングセンサーのキャリブレーションにも兼用可能で」あることが、本願発明の「前記部品は、基準部材を含む」ことに相当する。
　
（２）一致点・判断
　そうすると、本願発明と引用発明２とは、
「投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、前記基板を露光する露光装置において、
　前記投影光学系の像面付近に配置される部品と、
　前記部品上に残留した液体を除去する液体除去機構と、を備え、
　前記部品は、基準部材を含む露光装置。」
の発明である点で一致し、両者に相違するところはない。
　よって、本願発明は引用発明２であるということができるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。
　仮に、両者の間に相違点があったとしても、それは設計上の微差に過ぎないといえるから、本願発明は引用発明２に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、引用発明２であるから特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないか、又は、引用発明２に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。