【手続補正書】
【提出日】平成18年10月26日(2006.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１の電極を有する静電チャックと、前記第１の電極に結合され、前記第１の電極にチャック電圧を供給するための第１のＤＣ電源と、前記第１の電極と前記第１のＤＣ電源との間に結合され、前記第１の電極に供給される第１の電流をモニタするための第１の電流モニタ回路であって、前記第１の電流を示す第１の信号を出力する前記第１の電流モニタ回路と、前記第１の信号に応じて、前記第１のＤＣ電源をバイアスするための補正電圧を出力して、前記補正電圧に応じて、前記チャック電圧を変化させるように構成された可変ＤＣ電源と、を含む、プラズマ処理システムにおいて、基板上のターゲット層をエッチングする際にエッチング処理の終了を確認するための方法であって、
終点モニタ入力部と終点モニタ出力部とを有する終点モニタ回路を前記可変ＤＣ電源に結合させる工程と、
前記終点モニタ入力部で、前記補正電圧を受け取る工程と、
前記終点モニタ回路を用いて、前記エッチング処理の前記終了を示すパターンに関して前記補正電圧を解析する工程と、
前記補正電圧において前記パターンを確認したときに、前記終点モニタ出力部で、前記エッチング処理の前記終了を示す終点信号を出力する工程と、
を備えることを特徴とする方法。
【請求項２】  請求項１記載の方法であって、
前記静電チャックは、前記第１のＤＣ電源に結合される第２の電極を含み、
前記プラズマ処理システムは、前記第２の電極と前記第１のＤＣ電源との間に結合され、前記第２の電極に供給される第２の電流をモニタするための第２の電流モニタ回路を含み、
前記可変ＤＣ電源によって出力される前記補正電圧は、前記第１の信号と、前記第２の電流モニタ回路によって出力される第２の信号であって、前記第２の電流を示す前記第２の信号と、の双方に応じている、方法。
【請求項３】  請求項２記載の方法であって、
前記プラズマ処理システムは、前記第１の電流モニタ回路と前記第２の電流モニタ回路とに結合された差動増幅装置であって、前記第１の信号と前記第２の信号とを入力として受け取り、前記可変ＤＣ電源に対して制御信号を出力することにより、前記可変ＤＣ電源によって出力される前記補正電圧を、前記第１の信号と前記第２の信号との双方に応じて変化させる前記差動増幅装置を含む、方法。
【請求項４】  請求項２または３記載の方法であって、
前記第１の信号と前記第２の信号とは、エッチング処理中において前記第１の電流と前記第２の電流とをほぼ一定に維持するために、前記可変ＤＣ電源によって用いられる、方法。
【請求項５】  請求項２ないし４のいずれかに記載の方法であって、
前記終点モニタ回路は、汎用マイクロコンピュータを含む、方法。
【請求項６】  請求項２ないし５のいずれかに記載の方法であって、
前記静電チャックは、ジョンセン・ラーベックチャックである、方法。
【請求項７】  請求項２ないし６のいずれかに記載の方法であって、
前記基板は、前記ターゲット層の下にある導電層を含む、方法。
【請求項８】  請求項２ないし６のいずれかに記載の方法であって、
前記基板は、前記ターゲット層の下にある誘電層を含む、方法。
【請求項９】  請求項２ないし６のいずれかに記載の方法であって、
前記ターゲット層は、二酸化ケイ素含有層であり、
前記基板は、さらに、前記ターゲット層の下にある誘電層を含む、方法。
【請求項１０】  請求項２ないし６のいずれかに記載の方法であって、
前記ターゲット層は、低誘電率層であり、
前記基板は、さらに、前記ターゲット層の下にある誘電層を含む、方法。
【請求項１１】  プラズマ処理システムにおいて基板上のターゲット層をエッチングする際にエッチング処理の終了を確認するための終点指示装置であって、
第１の電極を有する静電チャックと、
前記第１の電極に結合され、前記第１の電極にチャック電圧を供給するための第１のＤＣ電源と、
前記第１の電極と前記第１のＤＣ電源との間に結合され、前記第１の電極に供給される第１の電流をモニタするための第１の電流モニタ回路であって、前記第１の電流を示す第１の信号を出力する前記第１の電流モニタ回路と、
前記第１の信号に応じて、前記第１のＤＣ電源をバイアスするための補正電圧を出力して、前記補正電圧に応じて、前記チャック電圧を変化させるように構成された可変ＤＣ電源と、
前記可変ＤＣ電源に結合された終点モニタ回路であって、前記補正電圧を入力として受け取り、前記エッチング処理の前記終了を示すパターンに関して前記補正電圧を解析するための回路を含み、さらに、前記補正電圧において前記パターンを確認したときに、前記エッチング処理の前記終了を示す終点信号を出力するための回路を含む、前記終点モニタ回路と、
を備えることを特徴とする終点指示装置。
【請求項１２】  請求項１１記載の終点指示装置であって、
前記静電チャックは、前記第１のＤＣ電源に結合される第２の電極を含み、
前記終点指示装置は、さらに、
前記第２の電極と前記第１のＤＣ電源との間に結合され、前記第２の電極に供給される第２の電流をモニタするための第２の電流モニタ回路であって、前記第２の電流を示す第２の信号を出力する前記第２の電流モニタ回路を備え、
前記可変ＤＣ電源によって出力される前記補正電圧は、前記第１の信号と前記第２の信号との双方に応じている、終点指示装置。
【請求項１３】  請求項１２記載の終点指示装置であって、
前記可変ＤＣ電源によって出力される前記補正電圧は、前記第１の電流と前記第２の電流とを異符号でほぼ等しく保つように、構成されている、終点指示装置。
【請求項１４】  請求項１２または１３記載の終点指示装置であって、
前記可変ＤＣ電源によって出力される前記補正電圧は、前記第１の電流と前記第２の電流との大きさが等しいか否かに関わらず、前記エッチングを通じて、前記第１の電流と前記第２の電流とをほぼ一定に保つように、構成されている、終点指示装置。
【請求項１５】  請求項１２ないし１４のいずれかに記載の終点指示装置であって、さらに、
前記第１の電流モニタ回路と前記第２の電流モニタ回路とに結合された差動増幅装置であって、前記第１の信号と前記第２の信号とを入力として受け取り、前記可変ＤＣ電源に対して制御信号を出力することにより、前記可変ＤＣ電源によって出力される前記補正電圧を、前記第１の信号と前記第２の信号との双方に応じて変化させる前記差動増幅装置を備える、終点指示装置。
【請求項１６】  請求項１２ないし１５のいずれかに記載の終点指示装置であって、
前記終点モニタ回路は、汎用マイクロコンピュータを含む、終点指示装置。
【請求項１７】  請求項１２ないし１６のいずれかに記載の終点指示装置であって、
前記静電チャックは、ジョンセン・ラーベックチャックである、終点指示装置。
【請求項１８】  請求項１２ないし１７のいずれかに記載の終点指示装置であって、
前記基板は、前記ターゲット層の下にある導電層を含む、終点指示装置。
【請求項１９】  請求項１２ないし１７のいずれかに記載の終点指示装置であって、
前記基板は、前記ターゲット層の下にある誘電層を含む、終点指示装置。
【請求項２０】  請求項１２ないし１７のいずれかに記載の終点指示装置であって、
前記ターゲット層は、二酸化ケイ素含有層であり、
前記基板は、さらに、前記ターゲット層の下にある誘電層を含む、終点指示装置。
【請求項２１】  プラズマ処理システムにおいて基板上のターゲット層をエッチングする際にエッチング処理の終了を確認するための終点指示装置であって、
第１の電極を有する静電チャックと、
前記第１の電極に結合され、前記第１の電極にチャック電圧を供給するための第１のＤＣ電源と、
前記第１の電極と前記第１のＤＣ電源との間に結合され、前記第１の電極に供給される第１の電流をモニタするための第１の電流モニタ回路であって、前記第１の電流を示す第１の信号を出力する前記第１の電流モニタ回路と、
前記第１の電流モニタ回路に結合された終点モニタ回路であって、前記第１の信号を第１の入力として受け取り、前記エッチング処理の前記終了を示すパターンに関して前記第１の信号を解析するための回路を含み、さらに、前記第１の信号において前記パターンを確認したときに、前記エッチング処理の前記終了を示す終点信号を出力するための回路を含む、前記終点モニタ回路と、
を備える、終点指示装置。
【請求項２２】  請求項２１記載の終点指示装置であって、
前記静電チャックは、前記第１のＤＣ電源に結合される第２の電極を含み、
前記終点指示装置は、さらに、
前記第２の電極と前記第１のＤＣ電源との間に結合され、前記第２の電極に供給される第２の電流をモニタするための第２の電流モニタ回路であって、前記第２の電流を示す第２の信号を出力する前記第２の電流モニタ回路を備え、
前記終点モニタ回路は、前記第２の信号を第２の入力として受け取り、前記終点信号は、前記第１の信号と前記第２の信号との双方に応じている、終点指示装置。
【請求項２３】  請求項２１記載の終点指示装置であって、
前記静電チャックは、単極静電チャックである、終点指示装置。
【請求項２４】  プラズマ処理システムにおいて基板上のターゲット層をエッチングする際にエッチング処理の終了を確認するための終点指示装置であって、
第１の電極と第２の電極を有する静電チャックと、
前記第１の電極と前記第２の電極とに結合され、前記第１の電極と前記第２の電極とにチャック電圧を供給するための第１のＤＣ電源と、
前記第１の電極と前記第１のＤＣ電源との間に結合され、前記第１の電極に供給される第１の電流をモニタするための第１の電流モニタ回路であって、前記第１の電流を示す第１の信号を出力する前記第１の電流モニタ回路と、
前記第２の電極と前記第１のＤＣ電源との間に結合され、前記第２の電極に供給される第２の電流をモニタするための第２の電流モニタ回路であって、前記第２の電流を示す第２の信号を出力する前記第２の電流モニタ回路と、
前記第１の電流モニタ回路と前記第２の電流モニタ回路とに結合され、前記第１の信号と前記第２の信号とを入力として受け取り、前記第１の信号と前記第２の信号との双方に応じて差動出力信号を出力する差動増幅装置と、
前記差動増幅装置に結合された終点モニタ回路であって、前記差動出力信号を入力として受け取り、前記エッチング処理の前記終了を示すパターンに関して前記差動出力信号を解析するための回路を含み、さらに、前記差動出力信号において前記パターンを確認したときに、前記エッチング処理の前記終了を示す終点信号を出力するための回路を含む、前記終点モニタ回路と、
を備えることを特徴とする終点指示装置。
【請求項２５】  請求項２４記載の終点指示装置であって、
前記静電チャックは、ジョンセン・ラーベックチャックである、終点指示装置。
【請求項２６】  請求項２４または２５記載の終点指示装置であって、
前記基板は、前記ターゲット層の下にある導電層を含む、終点指示装置。
【請求項２７】  請求項２４または２５記載の終点指示装置であって、
前記基板は、前記ターゲット層の下にある誘電層を含む、終点指示装置。
【請求項２８】  プラズマ処理システムにおいて基板上のターゲット層をエッチングする際にエッチング処理の終了を確認するための終点指示装置であって、
第１の電極と第２の電極を有する静電チャックと、
前記第１の電極と前記第２の電極とに結合され、前記第１の電極と前記第２の電極とにチャック電圧を供給するための第１のＤＣ電源と、
前記第１のＤＣ電源の出力と並列に結合された第１の電流経路と、
前記第１の電流経路内のノードに結合され、前記ノードに流れる第１の電流をモニタするための第１の電流モニタ回路であって、前記第１の電流を示す第１の信号を出力する前記第１の電流モニタ回路と、
前記第１の電流モニタ回路に結合された終点モニタ回路であって、前記第１の信号を入力として受け取り、前記エッチング処理の前記終了を示すパターンに関して前記第１の信号を解析するための回路を含み、さらに、前記第１の信号において前記パターンを確認したときに、前記エッチング処理の前記終了を示す終点信号を出力するための回路を含む、前記終点モニタ回路と、
を備えることを特徴とする終点指示装置。
【請求項２９】  請求項２８記載の終点指示装置であって、
前記第１の電流モニタ回路は、前記ノードとグランドとの間に、直列に結合される、終点指示装置。
【請求項３０】  請求項２８記載の終点指示装置であって、さらに、
可変ＤＣ電源を備え、
前記第１の電流モニタ回路は、前記可変ＤＣ電源と前記ノードとの間に、直列に結合される、終点指示装置。
【請求項３１】  プラズマ処理システムにおいて基板上のターゲット層をエッチングする際にエッチング処理の終了を確認するための終点指示装置であって、
第１の電極を有する静電チャックと、
前記第１の電極に結合され、前記第１の電極にチャック電圧を供給するための第１のＤＣ電源と、
前記基板の電位を反映する信号を受け取るように構成された終点モニタ回路であって、前記エッチング処理の前記終了を示すパターンに関して前記基板の前記電位を反映する前記信号を解析するように構成された回路と、さらに、前記基板の前記電位を反映する前記信号を確認したときに、前記エッチング処理の前記終了を示す終点信号を出力するための回路と、を含む、前記終点モニタ回路と、
を備えることを特徴とする終点指示装置。
【請求項３２】  請求項３１記載の終点指示装置であって、
前記基板の前記電位を反映する前記信号は、前記基板と接触するプローブによって取得される、終点指示装置。
【請求項３３】  プラズマ処理システムにおいて基板上のターゲット層をエッチングする際にエッチング処理の終了を確認するための終点指示装置であって、
第１の電極と第２の電極とを有する静電チャックと、
前記第１の電極と前記第２の電極とに結合され、前記第１の電極と前記第２の電極とにチャック電圧を供給するための第１のＤＣ電源と、
前記第１の電極と前記第１のＤＣ電源との間に結合され、前記第１の電極に供給される第１の電流をモニタするための第１の電流モニタ回路であって、前記第１の電流を示す第１の信号を出力する前記第１の電流モニタ回路と、
前記第２の電極と前記第１のＤＣ電源との間に結合され、前記第２の電極に供給される第２の電流をモニタするための第２の電流モニタ回路であって、前記第２の電流を示す第２の信号を出力する前記第２の電流モニタ回路と、
前記第１の電流モニタ回路と前記第２の電流モニタ回路とに結合され、前記第１の信号と前記第２の信号とを入力として受け取り、制御信号を出力する差動増幅装置と、
前記差動増幅装置に結合され、前記制御信号を受け取るための可変ＤＣ電源であって、前記制御信号に応じて、前記第１のＤＣ電源をバイアスするための補正電圧を出力するように構成された前記可変ＤＣ電源と、
前記可変ＤＣ電源に結合された終点モニタ回路であって、前記補正電圧を入力として受け取り、前記エッチング処理の前記終了を示すパターンに関して前記補正電圧を解析するための回路を含み、さらに、前記補正電圧において前記パターンを確認したときに、前記エッチング処理の前記終了を示す終点信号を出力するための回路を含む、前記終点モニタ回路と、
を備えることを特徴とする終点指示装置。
【請求項３４】  請求項３３記載の終点指示装置であって、
前記補正電圧は、前記第１のＤＣ電源をバイアスすることにより、前記エッチング処理中において前記第１の電流と前記第２の電流とをほぼ一定に維持する、終点指示装置。
【請求項３５】  第１の電極を有する静電チャックを含むプラズマ処理システムにおいて基板上のターゲット層をエッチングする際にエッチング処理の終了を確認するコンピュータシステムのための回路基板であって、
前記第１の電極にチャック電圧を供給するために前記第１の電極に結合可能な第１のＤＣ電源と、
前記第１の電極に供給される第１の電流をモニタするために前記第１のＤＣ電源に結合される第１の電流モニタ回路であって、前記第１の電流を示す第１の信号を出力する前記第１の電流モニタ回路と、
前記第１の信号に応じて、前記第１のＤＣ電源をバイアスするための補正電圧を出力して、前記補正電圧に応じて、前記チャック電圧を変化させるように構成された可変ＤＣ電源と、
前記可変ＤＣ電源に結合された終点モニタ回路であって、前記補正電圧を入力として受け取り、前記エッチング処理の前記終了を示すパターンに関して前記補正電圧を解析するための回路を含み、さらに、前記補正電圧において前記パターンを確認したときに、前記エッチング処理の前記終了を示す終点信号を出力するための回路を含む、前記終点モニタ回路と、
を備えることを特徴とする回路基板。
【請求項３６】  請求項３５記載の回路基板であって、
前記静電チャックは、前記第１のＤＣ電源に結合される第２の電極を含み、
前記回路基板は、さらに、
前記第２の電極に供給される第２の電流をモニタするために前記第１のＤＣ電源に結合される第２の電流モニタ回路であって、前記第２の電流を示す第２の信号を出力する前記第２の電流モニタ回路を備え、
前記可変ＤＣ電源によって出力される前記補正電圧は、前記第１の信号と前記第２の信号との双方に応じている、回路基板。
【請求項３７】  請求項３６記載の回路基板であって、
前記可変ＤＣ電源によって出力される前記補正電圧は、前記第１の電流と前記第２の電流とを異符号でほぼ等しく保つように、構成されている、回路基板。
【請求項３８】  請求項３６記載の回路基板であって、
前記可変ＤＣ電源によって出力される前記補正電圧は、前記第１の電流と前記第２の電流との大きさが等しいか否かに関わらず、前記エッチングを通じて、前記第１の電流と前記第２の電流とをほぼ一定に保つように、構成されている、回路基板。
【請求項３９】  請求項３６ないし３８のいずれかに記載の回路基板であって、さらに、
前記第１の電流モニタ回路と前記第２の電流モニタ回路とに結合された差動増幅装置であって、前記第１の信号と前記第２の信号とを入力として受け取り、前記可変ＤＣ電源に対して制御信号を出力することにより、前記可変ＤＣ電源によって出力される前記補正電圧を、前記第１の信号と前記第２の信号との双方に応じて変化させる前記差動増幅装置を備える、回路基板。
【請求項４０】  請求項３６ないし３９のいずれかに記載の回路基板であって、
前記終点モニタ回路は、前記コンピュータシステムを利用する、回路基板。
【請求項４１】  請求項３６ないし４０のいずれかに記載の回路基板であって、
前記静電チャックは、ジョンセン・ラーベックチャックである、回路基板。
【請求項４２】  請求項３６ないし４１のいずれかに記載の回路基板であって、
前記基板は、前記ターゲット層の下にある導電層を含む、回路基板。
【請求項４３】  請求項３６ないし４２のいずれかに記載の回路基板であって、
前記基板は、前記ターゲット層の下にある誘電層を含む、回路基板。
【請求項４４】  第１の電極を有する静電チャックを含むプラズマ処理システムにおいて基板上のターゲット層をエッチングする際にエッチング処理の終了を確認するコンピュータシステムのための回路基板であって、
前記第１の電極にチャック電圧を供給するために前記第１の電極に結合可能な第１のＤＣ電源と、
前記第１の電極に供給される第１の電流をモニタするために前記第１のＤＣ電源に結合される第１の電流モニタ回路であって、前記第１の電流を示す第１の信号を出力する前記第１の電流モニタ回路と、
前記第１の電流モニタ回路に結合された終点モニタ回路であって、前記第１の信号を第１の入力として受け取り、前記エッチング処理の前記終了を示すパターンに関して前記第１の信号を解析するための回路を含み、さらに、前記第１の信号において前記パターンを確認したときに、前記エッチング処理の前記終了を示す終点信号を出力するための回路を含む、前記終点モニタ回路と、
を備える、回路基板。
【請求項４５】  請求項４４記載の回路基板であって、
前記静電チャックは、前記第１のＤＣ電源に結合される第２の電極を含み、
前記回路基板は、さらに、
前記第２の電極に供給される第２の電流をモニタするために前記第１のＤＣ電源に結合される第２の電流モニタ回路であって、前記第２の電流を示す第２の信号を出力する前記第２の電流モニタ回路を備え、
前記終点モニタ回路は、前記第２の信号を第２の入力として受け取り、前記終点信号は、前記第１の信号と前記第２の信号との双方に応じている、回路基板。
【請求項４６】  請求項４４記載の回路基板であって、
前記静電チャックは、単極静電チャックである、回路基板。
【請求項４７】  第１の電極と第２の電極を有する静電チャックを含むプラズマ処理システムにおいて基板上のターゲット層をエッチングする際にエッチング処理の終了を確認するコンピュータシステムのための回路基板であって、
前記第１の電極と前記第２の電極とに結合され、前記第１の電極と前記第２の電極とにチャック電圧を供給するための第１のＤＣ電源と、
前記第１のＤＣ電源の出力と並列に結合された第１の電流経路と、
前記第１の電流経路内のノードに結合され、前記ノードに流れる第１の電流をモニタするための第１の電流モニタ回路であって、前記第１の電流を示す第１の信号を出力する前記第１の電流モニタ回路と、
前記第１の電流モニタ回路に結合された終点モニタ回路であって、前記第１の信号を入力として受け取り、前記エッチング処理の前記終了を示すパターンに関して前記第１の信号を解析するための回路を含み、さらに、前記第１の信号において前記パターンを確認したときに、前記エッチング処理の前記終了を示す終点信号を出力するための回路を含む、前記終点モニタ回路と、
を備えることを特徴とする回路基板。
【請求項４８】  請求項４７記載の回路基板であって、
前記第１の電流モニタ回路は、前記ノードとグランドとの間に、直列に結合される、回路基板。
【請求項４９】  請求項４７記載の回路基板であって、さらに、
可変ＤＣ電源を備え、
前記第１の電流モニタ回路は、前記可変ＤＣ電源と前記ノードとの間に、直列に結合される、回路基板。
【請求項５０】  第１の電極を有する静電チャックを含むプラズマ処理システムにおいて基板上のターゲット層をエッチングする際にエッチング処理の終了を確認するコンピュータシステムのための回路基板であって、
前記第１の電極に結合され、前記第１の電極にチャック電圧を供給するための第１のＤＣ電源と、
前記基板の電位を反映する信号を受け取るように構成された終点モニタ回路であって、前記エッチング処理の前記終了を示すパターンに関して前記基板の前記電位を反映する前記信号を解析するように構成された回路と、さらに、前記基板の前記電位を反映する前記信号を確認したときに、前記エッチング処理の前記終了を示す終点信号を出力するための回路と、を含む、前記終点モニタ回路と、
を備えることを特徴とする回路基板。
【請求項５１】  請求項５０記載の回路基板であって、
前記基板の前記電位を反映する前記信号は、前記基板と接触するプローブによって取得される、回路基板。
【請求項５２】  第１の電極と第２の電極とを有する静電チャックを含むプラズマ処理システムにおいて基板上のターゲット層をエッチングする際にエッチング処理の終了を確認するコンピュータシステムのための回路基板であって、
前記第１の電極と前記第２の電極とにチャック電圧を供給するために前記第１の電極と前記第２の電極とに結合可能な第１のＤＣ電源と、
前記第１の電極に供給される第１の電流をモニタするために前記第１のＤＣ電源に結合される第１の電流モニタ回路であって、前記第１の電流を示す第１の信号を出力する前記第１の電流モニタ回路と、
前記第２の電極に供給される第２の電流をモニタするために前記第１のＤＣ電源に結合される第２の電流モニタ回路であって、前記第２の電流を示す第２の信号を出力する前記第２の電流モニタ回路と、
前記第１の電流モニタ回路と前記第２の電流モニタ回路とに結合され、前記第１の信号と前記第２の信号とを入力として受け取り、制御信号を出力する差動増幅装置と、
前記差動増幅装置に結合され、前記制御信号を受け取るための可変ＤＣ電源であって、前記制御信号に応じて、前記第１のＤＣ電源をバイアスするための補正電圧を出力するように構成された前記可変ＤＣ電源と、
前記可変ＤＣ電源に結合された終点モニタ回路であって、前記補正電圧を入力として受け取り、前記エッチング処理の前記終了を示すパターンに関して前記補正電圧を解析するための回路を含み、さらに、前記補正電圧において前記パターンを確認したときに、前記エッチング処理の前記終了を示す終点信号を出力するための回路を含む、前記終点モニタ回路と、
を備えることを特徴とする回路基板。
【請求項５３】  請求項５２記載の回路基板であって、
前記補正電圧は、前記第１のＤＣ電源をバイアスすることにより、前記エッチング処理中において前記第１の電流と前記第２の電流とをほぼ一定に維持する、回路基板。