【手続補正書】
【提出日】平成18年4月3日(2006.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の重ね合わされた繊維性層を持つ物品を空気形成するための装置であって、
第一及び第二の実質的に別個の形成室と、
形成通路長さに沿って、前記第一及び第二形成室を通って移動できる多孔質繊維性表面と、
繊維性材料を前記第一形成室に導くための第一繊維供給機構と、
第一層を前記形成表面上に形成するために、前記第一形成室の前記形成表面上に前記繊維性材料を引き付けるように、前記第一形成室と連通する第一真空源と、
前記第一層の一部を除去し、その除去された部分を前記第一形成室に戻るように導く、第一除去及び方向付け機構と、
繊維性材料を前記第二形成室に導くための第二繊維供給機構と、
前記第二形成室の前記形成表面上における前記繊維性材料を引き付けて前記第一層と重なる第二層を前記形成表面上に形成するように、前記第二形成室と連通する第二真空源と、
を含む装置。
【請求項２】
超吸収性材料を前記第一形成室に導くための第一超吸収性供給機構、及び超吸収性材料を前記第二形成室に導くための第二超吸収性供給機構を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記形成表面は回転可能なドラム上にあり、該形成表面は、円弧状の形成通路長さに沿い前記第一及び第二形成室を通って移動することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記第一及び第二形成室は、前記円弧状の形成通路長さに沿った分離ゾーンで、互いに分離されていることを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記分離ゾーンは、形成通路長さの２５％より大きくないことを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記分離ゾーンは、形成通路長さの５％より大きくないことを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項７】
前記第一真空源は、前記円弧状通路長さの第一円弧状セグメントにわたって延びるドラム内の第一真空室、及び前記第一真空室において第一真空を形成するための第一空気取り扱い機構を含み、前記第二真空源は、前記円弧状通路長さの第二円弧状セグメントにわたって延びるドラム内の第二真空室、及び前記第二真空室において第二真空を形成するための第二空気取り扱い機構を含むことを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項８】
前記第一層の前記部分が前記第一除去及び方向付け機構によって除去される間に、前記形成表面上に前記第一層を保持する第三真空源を含み、前記第三真空源は、前記第一及び第二円弧状セグメントの間の前記円弧状通路長さの第三円弧状セグメントにわたって延びるドラムの内側にある第三真空室、及び前記第三真空室において第三真空を形成するための第三空気取り扱い機構を含むことを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記第一、第二、及び第三空気取り扱い機構は、それぞれの真空室を通る空気流を変えるように独立して調整可能であることを特徴とする請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記第一除去及び方向付け機構は、前記第一形成室の内側に位置されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
前記第一除去及び方向付け機構は、前記第一形成室の外側に位置されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
前記第二層の部分を除去し、除去された部分を前記第二形成室に戻すように導くための、第二除去及び方向付け機構を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
前記第二層の前記部分が前記第二除去及び方向付け機構によって除去される間に、前記形成表面上に前記第一及び第二層を保持する真空源を更に含み、前記第一及び第二層を保持するための前記真空源は、前記第二円弧状セグメントの下流方向にある前記円弧状通路長さの円弧状セグメントにわたって延びる真空室をドラムの内側に含み、前記真空室に真空を形成する空気取り扱い機構を含むことを特徴とする請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記第二除去及び方向付け機構は前記第二形成室の外側に位置しており、前記除去された部分を前記第二形成室に戻す運搬システムを備えることを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記第一及び第二繊維供給機構は、異なる繊維性材料をそれぞれの形成室に導くように作動することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１６】
前記第一及び第二超吸収性供給機構は、異なる超吸収性材料をそれぞれの形成室に導くように作動することを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項１７】
前記第一形成室は、前記形成通路長さに沿って前記第一及び第二形成室の組み合わされた長さの１０−５０％に沿って延びることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１８】
前記形成表面は、形成表面に沿って間隔を持って複数の多孔質領域を持ち、各々の多孔質領域は、第一深さに繊維性材料を堆積するための第一区分及び前記第一深さより深い第二深さに繊維性材料を堆積するための第二区分を持ち、前記第一除去及び方向付け機構は、各々の多孔質領域の第一区分上で前記第一層から材料を除去し、他の多孔質領域で堆積するために第一形成室に戻るように導き、これにより前記多孔質領域の前記第二区分の第一層の深さを増加するようにされていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１９】
前記第一除去及び方向付け機構は、各々の多孔質領域の前記第一区分において、実質的にすべての前記第一層を除去するように作動することを特徴とする請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
複数の重ね合わされた繊維性層を持つ物品を形成する方法であって、
形成通路の長さに沿って、実質的に別個の第一及び第二形成室を通って多孔質形成表面を移動させ、
繊維性材料を前記第一形成室に導き、
前記形成表面上に第一層を形成するために、前記形成表面上の前記第一形成室に、前記繊維性材料を真空引き付け、
前記第一層の一部分を除去し、除去された部分を前記第一形成室に戻すように導き、
繊維性材料を前記第二形成室に導き、更に
前記第一層に重ね合わされた前記形成表面上に第二層を形成するために、前記第二形成室内の前記形成表面上に前記繊維性材料を真空引き付けする、
ことからなる方法。
【請求項２１】
更に、超吸収性材料を前記第一形成室に導き、かつ、超吸収性材料を前記第二形成室に導くことを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
超吸収性材料は、第一質量流量率で前記第一形成室に導かれ、超吸収性材料は、前記第一質量流量率とは異なる第二質量流量率で前記第二形成室に導かれることを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
繊維性材料は、第一質量流量率で前記第一形成室に導かれ、繊維性材料は前記第一質量流量率と異なる第二質量流量率で前記第二形成室に導かれることを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項２４】
前記形成表面はドラム上にあり、前記方法は更に、円弧状形成通路長さに沿って前記形成表面を移動するために、前記ドラムを回転することを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項２５】
前記第一形成室と連通し、前記円弧状通路長さの第一円弧状セグメントにわたって延びる前記ドラム内部の第一真空室で真空を形成し、前記第二形成室と連通し、前記円弧状通路長さの第二円弧状セグメントにわたって延びる前記ドラム内部の第二真空室で真空を形成することを特徴とする請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
更に、前記第一層の前記部分が前記第一除去及び方向付け機構によって除去される間に前記形成表面上に前記第一層を保持するために、前記第一と第二円弧状セグメントの間の円弧状通路長さの第三円弧状セグメントにわたって延びる前記ドラムの内部にある第三真空室に真空を形成することを特徴とする請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記形成表面は、前記形成表面に沿って間隔を持った複数の多孔質領域を持ち、各々の多孔質領域は、第一深さに繊維性材料を堆積するための第一区分及び前記第一深さより深い第二深さに繊維性材料を堆積するための第二区分を持ち、更に前記除去及び方向付け段階は、各々の多孔質領域の前記第一区分上の前記第一層から実質的にすべての材料を除去し、前記第一形成室に戻して他の多孔質領域上に堆積させるように導き、これにより前記多孔質領域の前記第二区分において前記第一層の深さを増加させることを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項２８】
更に、前記第二層の部分を除去し、除去された部分を前記第二形成室に戻すように導くことを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項２９】
前記形成表面はドラム上にあり、前記方法は更に、円弧状形成通路長さに沿って前記形成表面を移動するようにドラムを回転させ、前記第二層の前記部分が除去される間に、前記形成表面上の前記第一及び第二層を保持するために、前記円弧状通路の円弧状セグメントにわたって延びる前記ドラムの内部の真空室に真空を形成することを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項３０】
更に、各々の真空室の真空を、他の真空室とは独立して変えるために、前記第一及び第二真空室内の空気流を調整することを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項３１】
複数の重ね合わされた繊維性層を持つ物品を形成する方法であって、
形成表面に沿って間隔を持った複数の多孔質領域を有し、各々の多孔質領域が、第一深さに繊維性材料を堆積するための第一区分と前記第一深さより深い第二深さに繊維性材料を堆積するための第二区分を有する多孔質形成表面を、円弧状形成通路の長さに沿い、実質的に別個の第一及び第二形成室を通って移動させ、
前記第一形成室に繊維性材料を導き、
前記形成表面上の前記第一形成室に、前記繊維性材料を真空引き付けして前記形成領域の前記第一及び第二区分上に第一層を形成し、
前記第二形成室に繊維性材料を導き、
前記形成表面上の前記第二形成室に、前記繊維性材料を真空引き付けして前記第一層に重ねて前記形成領域の前記第一及び第二区分上に第二層を形成する、
ことを特徴とする方法。