Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月26日(2006.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板と、
該基板上に配置され、画素を動作するための導電性素子をそれぞれ含む複数の画素と、
該画素と画素との間に配置され、少なくとも２個の画素の導電性素子と接触し、白色光に対して少なくとも３の光学濃度を有し、厚さが１．５μｍ以下でありかつ平均抵抗率が少なくとも１×１０13Ωcmであるブラックマトリクスと、
を含む光学ディスプレイ。
【請求項２】  基板と、
該基板上に配置された光熱変換層と、
熱に暴露されると色が変化する光変化コーティングと、
転写層の一部を受容体に画像様の転写を行うように構成および配置された転写層と、
を含む、パターンを受容体に転写する熱転写要素。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月21日(2005.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
望ましい距離分解能は例えば１０ｃｍである。このような距離分解能は、周波数割当に関する法的規制の遵守するとき、３０ｍの測定範囲で、連続的に放射するレーダによっては、通常達成されない。従って、例えば特許文献１からは、非常に短いパルス（例えばτ＝３３３ｐｓ）を送信するパルスレーダを用いることが知られている。パルス繰返し周波数は通常は約５ＭＨｚの値になる。このことは、２００ｎｓの周期に従って、２つの測定パルス間隔の３０ｍという明瞭度範囲に対応する。この場合、距離測定は、電子制御可能な遅延回路によって調整可能である時間軸上の位置を有する距離ゲートが受信部に形成されることによって、実行される。測定技術では、この場合、常に１つの時間ゲートのみを検知することができる。測定される時間ゲートはその幅及び時間軸上のその位置を特徴とする。時間ゲートの幅は、通常、測定パルスのパルス幅と同一に選択される。遅延回路によって、時間軸上の位置を調整することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
特許文献２によって、自動調整式の操作モードを可能にするレーダ距離測定装置が公知である。この操作モードでは、遅延線を通って、遅延されたパルスが送信される。このパルスは減衰器を介して直接受信機に導かれる。受信機には、パルス発生器の各パルスによって、エコー信号の受信までの時間の間に測定回路が起動される。この測定回路は例えばのこぎり波発生器からなる。エコー信号が受信されると、瞬間電圧が、測定信号の送信以降に経過した時間の間の尺度として、また距離のための尺度として評価される。校正操作中に遅延して送信されたパルスは、シミュレートされたエコー信号として、受信回路に達する。パルスによる起動以降に経過した時間の間の測定値は、基準値と比較される。この装置の他の実施の形態では、遅延及び減衰は実際の測定範囲に従って切り換えられる。その目的は、実際の測定範囲のための校正を得るためである。温度変化による測定偏差、老化、構成要素の許容差等を補償することができる校正は、公知の装置では不可能である。何故ならば、遅延回路及び場合によっては試験信号源自体も温度、老化及び許容差に依存することがあるからである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
特許文献３によって、レーダ目標がシミュレートされてなるレーダ試験機が知られている。このため、送信された送信パルスからは、減少する振幅を有する同一間隔のパルスからなる残響信号が生じる。かくて、互いに固定となるように予備設定された間隔を有するレーダ目標がシミュレートされる。このことによって、例えばレーダスコープ上での、レーダ目標の再生は校正可能である。何故ならば、複数のシミュレートされたレーダ目標の間には、夫々に同一の間隔が生じる必要があるからである。
【特許文献１】WO98/04930 A1
【特許文献２】DE-OS 2002 681
【特許文献３】US 3,278,935。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月27日(2006.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  住宅配線を介してデータを受信するためのネットワークステーションであって、
入来するパルス信号を受信するための入力回路と、
入来するパルス信号に応答して、入来するパルス信号のエネルギを表わすパルスエネルギ値を生成するエネルギ検出器と、
パルスエネルギ値に応答して、エネルギ検出器のゲインを適応的に制御し、それによりパルスエネルギ値を予め定められたレベルに維持する適応エネルギ検出器ゲイン制御回路とを含む、ネットワークステーション。
【請求項２】  前記適応エネルギ検出器ゲイン制御回路は、入来するデータパケットに先立つアクセス識別時間間隔の間にエネルギ検出器のゲインを制御するよう構成される、請求項１に記載のネットワークステーション。
【請求項３】  入力回路によって受信されるパケットの各々は、送信ネットワークステーションを識別するための、データパルスに先立つ複数のアクセス識別パルスを含む、請求項１に記載のネットワークステーション。
【請求項４】  前記適応エネルギ検出器ゲイン制御回路は、アクセス識別パルスのうちの少なくとも１つに応答して、エネルギ検出器のゲインを制御するよう構成される、請求項３に記載のネットワークステーション。
【請求項５】  前記適応エネルギ検出器ゲイン制御回路は、アクセス識別パルスのうちの少なくとも１つに応答してエネルギ検出器によって生成されたパルスエネルギ値を予め設定されたしきい値レベルと比較するための比較器を含む、請求項４に記載のネットワークステーション。
【請求項６】  前記適応エネルギ検出器ゲイン制御回路はさらに、エネルギ検出器にゲイン制御値を与えてエネルギ検出器のゲインを制御するためのコントローラを含む、請求項５に記載のネットワークステーション。
【請求項７】  前記コントローラは、比較器の出力に応答して、パルスエネルギ値がしきい値レベルを超えるとエネルギ検出器のゲインを減じ、パルスエネルギ値がしきい値レベル未満であればエネルギ検出器のゲインを増す、請求項６に記載のネットワークステーション。
【請求項８】  前記エネルギ検出器は、時間の経過につれて積分を行なうための積分器を含む、請求項１に記載のネットワークステーション。
【請求項９】  前記エネルギ検出器ゲイン制御回路は、積分器によって生成される積分された信号の値を調整するよう構成される、請求項８に記載のネットワークステーション。
【請求項１０】  前記入力回路は、入来するパルス信号のエンベロープを表わすエンベロープパルス信号を生成するための、エンベロープ検出器を含む、請求項１に記載のネットワークステーション。
【請求項１１】  前記エネルギ検出器は、エンベロープパルス信号の積分を行なってパルスエネルギ値を生成するよう構成される、請求項１０に記載のネットワークステーション。
【請求項１２】  住宅配線を介してデータを受信するための方法であって、
入来するパルス信号のエネルギを表わすパルスエネルギ値をエネルギ検出器によって生成するステップと、
生成されたパルスエネルギ値に応答して前記エネルギ検出器のゲインを適応的に制御して、パルスエネルギ値を予め定められたレベルに維持するステップとを含む、方法。
【請求項１３】  前記エネルギ検出器のゲインを適応的に制御するステップは、入来するデータパケットに先立つアクセス識別時間間隔の間に行なわれる、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  入来するパケットは、送信ネットワークステーションを識別するためのデータパルスに先立つ複数のアクセス識別パルスを含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】  前記エネルギ検出器のゲインは、アクセス識別パルスのうちの少なくとも１つに応答して適応的に制御される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】  前記エネルギ検出器のゲインを適応的に制御するステップは、アクセス識別パルスのうちの少なくとも１つに応答してエネルギ検出器によって生成されたパルスエネルギ値と予め設定されたしきい値レベルとを比較するステップを含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】  パルスエネルギ値がしきい値レベルを超えるとエネルギ検出器のゲインは減じられ、パルスエネルギ値がしきい値レベル未満であればエネルギ検出器のゲインは増加される、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】  前記ゲインを適応的に制御するステップは、エネルギ検出器において生成される積分された信号の値を調整するステップを含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１９】  入来するパルス信号のエンベロープを表わすエンベロープパルス信号をエネルギ検出器に与えるステップをさらに含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項２０】  エンベロープパルス信号の積分を行なって、パルスエネルギ値を生成するステップをさらに含む、請求項１９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月27日(2006.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  感染細胞中で起こる抗原のプロセシングを妨げることなく樹状細胞へ効果的に感染し得る弱毒化ヘルペスウイルスであって、機能性UL43遺伝子および機能性vhs遺伝子を欠失している前記ウイルス。
【請求項２】  単純ヘルペスウイルス1型または2型である請求項１記載のウイルス。
【請求項３】  ICP47をコードする機能性遺伝子をさらに欠失している請求項１または２に記載のウイルス。
【請求項４】  機能性ICP34.5遺伝子をさらに欠失している、請求項１〜３のいずれか１項に記載のウイルス。
【請求項５】  機能性UL43遺伝子、機能性vhs遺伝子、機能性ICP47遺伝子および機能性ICP34.5遺伝子を欠失している、請求項１〜４のいずれか１項に記載のウイルス。
【請求項６】  機能性VMW65遺伝子を、該遺伝子内の転写活性化活性を破壊する該遺伝子の変異により欠失している、請求項１〜５のいずれか１項に記載のウイルス。
【請求項７】  ICP0、ICP4、ICP22、およびICP27をコードする遺伝子から選択される少なくとも1つの機能性前初期遺伝子を欠失している請求項１〜６のいずれか１項に記載のウイルス。
【請求項８】  ICP22をコードする機能性遺伝子を欠失している、請求項７に記載のウイルス。
【請求項９】  異種遺伝子を含んでなる請求項１〜８のいずれか１項に記載のウイルス。
【請求項１０】  前記異種遺伝子が、非腫瘍細胞と比較して腫瘍細胞中もしくは腫瘍細胞表面上で発現レベルが増大するポリペプチド；または非腫瘍細胞中には存在しないが腫瘍細胞中もしくは腫瘍細胞表面上に存在するポリペプチド；または免疫応答を改変し得るポリペプチド；をコードする、請求項９に記載のウイルス。
【請求項１１】  前記異種遺伝子が、寄生生物、ウイルスまたは細菌起源のポリペプチドをコードする、請求項９に記載のウイルス。
【請求項１２】  前記ウイルス起源のポリペプチドが、ヘルペスウイルス由来である、請求項１１に記載のウイルス。
【請求項１３】  前記異種遺伝子が腫瘍抗原をコードする、請求項９または１０に記載のウイルス。
【請求項１４】  １より多くの異種遺伝子を含む、請求項９〜１３のいずれか１項に記載のウイルス。
【請求項１５】  請求項１〜１４のいずれか１項に記載のウイルスに感染した樹状細胞。
【請求項１６】  ヒト樹状細胞である、請求項１５記載の樹状細胞。
【請求項１７】  in vitroで樹状細胞を請求項１〜１４のいずれか１項に記載のウイルスに感染させることを含んでなる、請求項１５または１６記載の細胞の製造方法。
【請求項１８】  請求項１〜１４のいずれか１項に記載のウイルス、または請求項１５もしくは１６記載の細胞を、製薬上許容し得る担体または希釈剤とともに含んでなる医薬組成物。
【請求項１９】  病原体の感染を治療もしくは予防するための、請求項１〜１４のいずれか１項に記載のウイルス、または請求項１５もしくは１６記載の細胞。
【請求項２０】  病原体の感染がウイルス感染である、請求項１９に記載のウイルスまたは細胞。
【請求項２１】  ウイルス感染がヘルペスウイルス感染である、請求項２０に記載のウイルスまたは細胞。
【請求項２２】  癌の治療または予防のための請求項１〜１４のいずれか１項に記載のウイルス。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月16日(2006.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  形質転換有効量の核酸を細胞に適用する工程、
形質転換有効量の該核酸をトラップするようにフィブリンゲルを細胞に適用する工程、および
細胞を該核酸で形質転換する工程、を含む、細胞を形質転換する方法。
【請求項２】  フィブリンゲルを形成するフィブリンまたはフィブリノーゲン組成物との混合物中で核酸を適用する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  請求項１に記載の工程を行うこと、および
前記形質転換した細胞を動物に移植すること、を含む、遺伝子治療を行う方法。
【請求項４】  核酸が適用される細胞が、より特定化される細胞型の前駆体であり、前記方法が、
インビトロでまたは移植後の工程でインビボで、細胞を特定化した細胞型に成熟させること、をさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】  形質転換有効量の遺伝子治療に有効な核酸を組織に適用する工程、
該形質転換有効量の核酸をトラップするようにフィブリンゲルを該組織に適用する工程、および
該組織の細胞を該核酸で形質転換する工程、を含む、遺伝子治療を行う方法。
【請求項６】  前記適用工程を可能にするために、前記組織を外科的に露出させる工程をさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】  内部組織を外科的に露出させること、
形質転換有効量の核酸を組織に適用すること、
形質転換有効量の核酸をトラップするために該組織にフィブリンゲルを適用すること、
該組織の細胞を該核酸で形質転換すること、を含む、動物に外科手術を行う方法であって、ここで該核酸は抗原をコードするか、または病原性微生物による感染に対する抗体または細胞傷害性Ｔリンパ球応答を誘導するペプチドを含むものである、方法。
【請求項８】  前記核酸が抗原をコードするか、連鎖球菌属、ブドウ球菌属、ボルデテラ属、コリネバクテリア属、ミコバクテリウム属、ナイセリア属、ヘモフィルス属、放線菌属、ストレプトミセス属、ノカルジア属、腸内細菌、エルシニア属、ファンシセラ属（Ｆａｎｃｉｓｅｌｌａ）、パスツレラ属、モラクセラ属、アシネトバクター属、エリジペロスリックス属、ブランハメラ亜属、アクチノバチルス属、連鎖桿菌属、リステリア属、カリマトバクテリウム属、ブルセラ菌属、バチルス属、クロストリディウム属、トレポネマ属、大腸菌属、サルモネラ菌属、クレブシェラ属、ビブリオ属、プロテウス属 、エルウィニア属、ボレリア菌属、レプトスピラ菌属、スピリルム属、カンピロバクター属、シゲラ属、レジオネラ属、シュードモナス属、アエロモナス属、リケッチア属、クラミジア属、ボレリア菌属、マイコプラズマ属、ヘリコバクター属、サッカロミセス属、クルベロマイセス属（Ｋｌｕｖｅｒｏｍｙｃｅｓ）、カンジダ属またはニューモシスチス属のメンバーである病原性微生物による感染に対する抗体もしくは細胞傷害性Ｔリンパ球応答を誘発するペプチドを含有する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】  （ａ）（ｉ）フィブリンモノマー、（ｉｉ）フィブリノーゲンもしくは別のフィブリン前駆体または（ｉｉｉ）フィブリンアナログ、
のいずれか１つを含むフィブリンゲルを形成するための第１の組成物；
（ｂ）（１）第１の組成物が（ｉ）に準ずるものである場合はフィブリンをモノマーとして安定化する条件を逆転させる薬剤、（２）第１の組成物が（ｉｉ）に準ずるものである場合はフィブリノーゲンもしくはフィブリン前駆体をフィブリンに変換する薬剤、または（３）第１の組成物が（ｉｉｉ）に準ずるものである場合はフィブリンアナログとゲルを形成するフィブリン関連分子、
をふくむフィブリンゲルを形成するための第２の組成物；ならびに
（ｃ）第３の組成物中に分離して構成されているか、または第１または第２の組成物に組み込まれている、遺伝子治療に有効な量の核酸であって、ここで、第１および第２の組成物から形成されるフィブリンゲルは細胞または組織の近傍で核酸をトラップするために有効である、組成物、
を含むキット。
【請求項１０】  核酸が細胞を形質転換またはトランスフェクトする効率を上昇させるための別のアジュバントと共に構成されている、請求項９に記載のキット。
【請求項１１】  細胞を核酸で形質転換またはトランスフェクトして組換え細胞を作製すること、
組換え細胞を動物に移植すること、および
フィブリンゲルを適用して組換え細胞を動物内の所望の位置にトラップすること、を含む、遺伝子治療を行う方法。
【請求項１２】  さらに、移植工程および適用工程を可能にするために、組織を外科的に露出させる工程を含む、請求項１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月11日(2005.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
このような複合シート材料の性能を評価する方法のより詳細な検討は、「多目的吸収性および切断抵抗性シート材料」というタイトルで一般的に譲渡され、共同出願された同時継続の米国特許出願番号［０９／３３６，４９６］よりわかり、この開示を参照することにより、本明細書の一部を構成するものとする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月4日(2005.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  吸収性材料であって、約０．００５インチ（０．０１３ｃｍ）と約０．０５０インチ（０．１３ｃｍ）との間の厚さを有する吸収性材料と、
該吸収性材料に付着される切断抵抗性材料であって、前記切断抵抗性材料は複数の開口部を有し、および前記切断抵抗性材料は約５０％未満の開口部面積を有し、および約０．００５インチ（０．０１３ｃｍ）と約０．０２０インチ（０．０５ｃｍ）との間の厚さを有する切断抵抗性材料と
を含み；
前記切断抵抗性材料は、前記吸収性材料の上部面に付着される下部面と、前記下部面の反対側に配置される実質的に平坦な切断表面とを有し；および
前記切断抵抗性材料は、平方インチ当たり約１０個と約２００個との間（平方センチメートル当たり約１．５５個と約３１．０個との間）の開口部を有する
ことを特徴とする切断抵抗性および吸収性シート。
【請求項２】  該開口部は、約０．０１０インチ（０．０２５ｃｍ）と約０．１００インチ（０．２５ｃｍ）との間の最大寸法を有することを特徴とする請求項１に記載のシート。
【請求項３】  該シートは、その中に形成される複数の折目線を有することを特徴とする請求項１に記載のシート。
【請求項４】  該折目線は、直線状であり、および該シートの残部よりも引裂に対する抵抗性が低いことを特徴とする請求項３に記載のシート。
【請求項５】  該切断抵抗性材料は、該吸収性材料の上部面に付着される下部面、および該下部面の反対側に配置される実質的に平坦な切断表面を有し、および該折目線は、該切断抵抗性材料の下部面に形成されることを特徴とする請求項３または４に記載のシート。
【請求項６】  該切断抵抗性材料は、該吸収性材料の上部面に付着される下部面、および該下部面の反対側に配置される実質的に平坦な切断表面を有し、および該シートは、該切断表面に付着されるカバー層をさらに含むことを特徴とする前記請求項のいずれかに記載のシート。
【請求項７】  該カバー層は、繊維質材料を含むことを特徴とする請求項６に記載のシート。
【請求項８】  該吸収性材料に付着される液体不浸透性かつ滑り抵抗性である裏打層をさらに含むことを特徴とする前記請求項のいずれかに記載のシート。
【請求項９】  該シートは、該シートの周囲の少なくとも１部に沿って、隆起したエッジを有することを特徴とする前記請求項のいずれかに記載のシート。
【請求項１０】  該切断抵抗性材料は、該吸収性材料の上部面に付着される下部面、および該下部面の反対側に配置される実質的に平坦な切断表面を有し、および該切断表面は非光沢の外観を有することを特徴とする前記請求項のいずれかに記載のシート。
【請求項１１】  切断表面と反対側の下部面とを有する切断抵抗性層を提供する工程と、
該切断抵抗性層の切断表面と下部面との間に開口部を形成する工程であって、該切断表面の開口部の総表面積は、該切断表面の残りの表面積よりも小さい工程と、
吸収性層の材料に対して、該切断抵抗性層の下部面を付着させる工程と
を含むことを特徴とする切断抵抗性および吸収性シートを形成するための方法。
【請求項１２】  該切断抵抗性層の下面および切断表面の少なくとも一方の中に折目線を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  該切断抵抗性層の切断表面に対して吸収性カバー層を付着させる工程をさらに含むことを特徴とする請求項１１または１２に記載の方法。
【請求項１４】  該吸収性層の材料に対して液体不浸透性裏打層を付着させる工程をさらに含むことを特徴とする請求項１１、１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】  吸収性材料と、
該吸収性材料に付着される切断抵抗性材料と
を含むシート材料であって、該シート材料は少なくとも３０ｋｇｆ／ｃｍのスライス抵抗性を示し、および該シート材料は液体との接触後に染みを生じることを特徴とするシート材料。
【請求項１６】  該シート材料は、少なくとも０．２の吸収効率を示すことを特徴とする請求項１５に記載のシート材料。
【請求項１７】  該切断抵抗性材料は、該吸収性材料内の染みが該切断抵抗性材料を通して見ることができるように光透過性であることを特徴とする請求項１５または１６に記載のシート材料。
【請求項１８】  該切断抵抗性材料は、それを通して該吸収性材料内の染みを見ることができる開口部を有することを特徴とする請求項１５、１６または１７に記載のシート材料。
【請求項１９】  該切断抵抗性材料は、反対側に配置される第１および第２の表面を有し、該吸収性材料は該第１の表面に付着され、および該シート材料は、
該切断抵抗性材料の第２の表面に付着される被覆層
をさらに含み、該被覆層は、液体との接触後に染みを生じることを特徴とする請求項１５、１６、１７または１８に記載のシート材料。
【請求項２０】  該被覆層は、不織材料を含むことを特徴とする請求項１９に記載のシート材料。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月8日(2006.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  フィジカル・トレーニング装置に使用するためのペダル・デバイスにおいて、ペダル・デバイスが、ペダル・クランク・アームに取り付け可能なペダル・シャフト（３）を通して軸方向に延びている回転軸の回りに回転自在であり、該回転軸に回転可能な従来のトレーニング運動を行うのに使用される第１のペダル（２）と、
前記回転軸の横方向に延びている傾斜軸の回りに枢支接続（４ａ、４ｂ）を通して前記第１のペダル（２）に傾斜可能に取付けられ、弾性手段（７）からの反作用に対して鋭角（α）だけ前記第１のペダル（２）に関しどちらかの側に傾斜可能である第２のペダル（１）とを備え、
前記第１のペダル（２）が前記第２のペダル（１）の周の内側にあって、第２のペダル（１）が第２のペダルを部分的に囲み、前記傾斜軸が前記回転軸を通して横方向に延びており、前記弾性手段（７）が前記第１のペダル（２）と前記第２のペダル（１）との間で無負荷時に中立位置で第２のペダル（１）を保持するために設けられており、弾性手段（７）が前記傾斜軸の両側で前記第２のペダル（１）上の部分と係合するために傾斜軸に近接して前記第１のペダル（２）に取付けられていることを特徴とするペダル・デバイス。
【請求項２】  前記鋭角が０〜３５度、好ましくは０〜２０度であることを特徴とする請求項１に記載のペダル・デバイス。
【請求項３】  前記弾性手段（７）が、前記傾斜軸に近接しそして傾斜軸の両側で前記第２のペダル（１）上の部分と係合するために延びているばねの脚で前記第１のペダル（２）に取付けられた少なくとも一つのばねであることを特徴とする請求項１に記載のペダル・デバイス。
【請求項４】  前記中立位置にあるとき前記弾性手段（７）が第２のペダル（１）を前記第１のペダル（２）と実質的に平行にする寸法にされていることを特徴とする請求項１または３に記載のペダル・デバイス。
【請求項５】  前記ペダル・デバイスが前記フィジカル・トレーニング装置を構成する自転車に設けられていることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載のペダル・デバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
図１および２に示されるように、傾斜可能ペダル１は、図示される実施形態では、枢支接続４ａと４ｂ（図３参照）の共通中心を通って延びる枢支軸に関してどちらかの側に約１５度の角度αだけ傾けることができる。しかし、この角度値αは、枢支接続４ａおよび４ｂの中心と、傾斜可能ペダル１のプラットフォーム６の底面との間の距離ｘ（図２参照）に応じて角度０−３５度または角度０−２０度の範囲で変えることができる。
距離ｘは使用法に応じて決まり、本発明を実施するときに優先される。傾斜可能ペダル１は、ニュートラル位置では、弾性手段７、適切にはばね７によって、ペダル本体２と、その要素５ａおよび５ｂとに実質的に平行になるように付勢される。ばね７によって提供されるばね力は、図１に示されるようにペダル・デバイスの傾斜可能部品１をニュートラル位置に動かすためだけに大きさを決められており、本来、部品１使用時に傾斜に対する実質的な抵抗を提供するようには設計されていない。しかし、ペダル・デバイスを使用する人が、ピン４ａ、４ｂを通る傾斜軸に関する一方または他方の側へのペダル１の傾斜に対していくらかの抵抗を感じるようにする必要がある場合、そのような抵抗を生み出すように弾性手段またはばね７の寸法を取ることができることは明らかである。ばねは、ペダル２に取り付けられ、かつ端部をデバイスの傾斜可能ペダル部品に取り付られた状態で示されているが、弾性手段またはばね手段を例えば２つのペダル部品１と２の間、例えばプラットフォーム６の下側とそれに対向するペダル本体２の面との間に提供することによって弾性手段からそのようなばね力を提供する他の方法を想定することもできる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
図面では、静止位置にある傾斜可能ペダル本体のプラットフォームが、地面に対して垂直な位置、およびペダル本体２の通常の使用位置まで回転することができるようにする解決策が示されている。そのようなずらしたシャフト配置により、ペダル・シャフト３に関してペダル・デバイスを９０度回転させるだけで、要素５ａおよび５ｂを備えるペダル本体２の係合面、または傾斜可能ペダル部品１を活用できるようになるので、ペダル使用者は、ペダル・デバイスのどちら側を使用するかをより簡単に選択できるようになる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月3日(2006.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
テープ装着ローラーと、
プレストリップローラーと、
第１の位置と第２の位置との間を動くことができる第１のアキュムレータと、
テープに印刷するためのプリンタと、を具備するテープ取扱システムであって、
該テープ取扱システムは、該テープ装着ローラーから該プリンタへのテープ経路を含み、該プレストリップローラーおよび該第１のアキュムレータは、該テープ装着ローラーと該プリンタとの間の該テープ経路に位置し、
該第１のアキュムレータが該第１の位置にあるときに、該プレストリップローラーは駆動されず、該第１のアキュムレータが該第２の位置にあるときに、該プレストリップローラーが駆動されることを特徴とするテープ取扱システム。
【請求項２】
テープ装着ローラーと、
プレストリップローラーと、
第１の位置と第２の位置との間を動くことができる第１のアキュムレータと、
テープに印刷するためのプリンタと、を具備するテープ取扱システムであって、
該テープ取扱システムは、該テープ装着ローラーから該プリンタへのテープ経路を含み、該プレストリップローラーおよび該第１のアキュムレータは、該テープ装着ローラーと該プリンタとの間の該テープ経路に位置し、
該第１のアキュムレータが該第１の位置にあるときに、該プレストリップローラーは駆動されず、該第１のアキュムレータが該第２の位置にあるときに、該プレストリップローラーは駆動されるテープ取扱システムと、
テープ切断機構と、
テープを物体に貼り付けるためのテープ貼付機構と、を具備し、
該装置は、該テープ取扱システムから該テープ貼付機構へのテープ経路を含み、該テープ切断機構は、該テープ取扱システムと該テープ貼付機構との間のテープ経路に位置することを特徴とする、テープ取扱システムおよびテープアプリケータを含む装置。
【請求項３】
前記テープ取扱システムは、前記第２の位置にある前記第１のアキュムレータを検出するための第１のセンサをさらに具備し、
該第１のセンサが該第２の位置にある該第１のアキュムレータを検出するときに、前記プレストリップローラーが駆動されることを特徴とする、請求項１記載のテープ取扱システムまたは請求項２記載の装置。
【請求項４】
前記テープ取扱システムは、
前記プレストリップローラーを駆動するための駆動モータと、
第１のコントローラと、をさらに具備し、
前記第１のセンサが前記第２の位置にある前記第１のアキュムレータを検出したときに、該第１のセンサは該第１のコントローラに信号を送り、その後、該第１のコントローラは該駆動モータに信号を送って、該プレストリップローラーを駆動することを特徴とする、請求項１記載のテープ取扱システムまたは請求項２記載の装置。
【請求項５】
前記テープ取扱システムは、第１の位置と第２の位置との間を動くことができる第２のアキュムレータをさらに具備し、
該第１の位置から該第２の位置への該第２のアキュムレータの運動が、前記プリンタに印刷を開始させることを特徴とする、請求項１記載のテープ取扱システムまたは請求項２記載の装置。
【請求項６】
前記テープ取扱システムは、（ｆ）前記第１の位置にあるときに前記第２のアキュムレータを検出するための第２のセンサをさらに具備することを特徴とする、請求項１記載のテープ取扱システムまたは請求項２記載の装置。
【請求項７】
前記プリンタが印刷を完了して、前記第２のアキュムレータが前記第２の位置にあるときに、該プリンタは、該第２のアキュムレータが前記第１の位置に来るまで印刷せずにテープを供給し続けることを特徴とする、請求項１記載のテープ取扱システムまたは請求項２記載の装置。
【請求項８】
ライナーなしの感圧接着剤テープのロールが、前記テープ装着ローラーに装着されることを特徴とする、請求項１記載のテープ取扱システムまたは請求項２記載の装置。
【請求項９】
前記テープ貼付機構は、前記テープを、側部とコーナーとシームとを含む箱に貼り付けることを特徴とする、請求項２記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月22日(2005.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  式Ｉの21-ヒドロキシ-6,19-オキシドプロゲステロンを含む医薬組成物。
【請求項２】  式Ｉの21-ヒドロキシ-6,19-オキシドプロゲステロン及び1種類以上の医薬に適する担体を含む医薬組成物。
【請求項３】  グルココルチコイド過剰が関与する疾患の治療又は予防に使用するための、式Ｉの21-ヒドロキシ-6,19-オキシドプロゲステロンを含む医薬組成物。
【請求項４】  前記疾患が、クッシング症候群である、請求項３に記載の医薬組成物。
【請求項５】  前記疾患が、医原性の高コルチコイド症である、請求項３に記載の医薬組成物。
【請求項６】  前記疾患が、抑鬱症である、請求項３に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月6日(2006.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  磁気読取／書込みステーション（ＰＩＬ）、サーマル印刷ステーション（ＴＴ）、および制御手段（ＵＣ）を備えるタイプのチケット処理装置（ＤＩＳ）用マン／マシンインターフェース方法であって、
ａ）設定チケット（ＴＩＴＣ）の磁気ストライプに、設定しようとするチケット処理装置（ＤＩＳ）の少なくともいくつかの動作パラメータを書込み、設定パラメータの磁気記載に対応して、前記設定チケット（ＴＩＴＣ）上に前記設定パラメータを印刷する段階と、
ｂ）設定しようとする処理装置（ＤＩＳ）中に設定チケット（ＴＩＴＣ）を挿入する段階と、
ｃ）設定チケット（ＴＩＴＣ）の磁気ストライプの内容を読み取る段階と、
ｄ）読み取られた設定パラメータを記憶し、一方では、記憶された前記設定パラメータを用いてチケット処理装置の動作を制御手段（ＵＣ）が設定できるようにし、他方では、対応する前記設定パラメータを上に印刷した設定チケット（ＴＩＴＣ）を設置者が得ることを可能にする段階と
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】  段階ａ）が、少なくとも１つの磁気読取／書込みステーションと、１つのサーマル印刷ステーションと、制御手段とを備える、選択されたプログラミング機械を用いて設定チケット（ＴＩＴＣ）をプログラミングすることからなることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  １）チケット処理装置（ＤＩＳ）のアクティビティに関する情報を取り込む段階と、
２）取り込んだ前記情報を記憶する段階と、
３）記憶した前記情報をステートメントチケット（ＴＩＲ）上に印刷する段階と
をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】  段階３）が、装置の機構部と動作機能に関する諸要素を表す、ステートメントチケット（ＴＩＲ）上に重ねられたサイクルおよび発生事象カウンタを編集することを含むことを特徴とする、請求項３に記載の方法。
【請求項５】  前記ステートメントチケット（ＴＩＲ）上に、サーマル印刷に対応してステートメント情報を書き込む、段階４）をさらに含むことを特徴とする、請求項３または４に記載の方法。
【請求項６】  ｉ）サーマル印刷の水平（Ｈ）フレーミング、垂直（Ｖ）フレーミング、またはサーマル印刷の密度（Ｄ）に関係する、少なくとも１つの印刷基準マーク（ＲＥＨ１、ＲＥＶ、ＲＥＨ２）を含むサーマル印刷基準チケット（ＴＲＥＦ３）を準備する段階と、
ｉｉ）調節しようとするチケット処理装置中に、サーマル印刷基準チケット（ＴＲＥＦ３）を挿入する段階と、
ｉｉｉ）サーマル印刷基準チケット（ＴＲＥＦ３）上に、基準マーク（ＲＥＨ１、ＲＥＶ、ＲＥＨ２）に対して、少なくとも１つの基準スケール（Ｈ、Ｖ、Ｄ）を印刷する段階と、
ｉｖ）基準スケール（Ｈ、Ｖ、Ｄ）の要素と基準マーク（ＲＥＨ１、ＲＥＶ、ＲＥＨ２）との間の一致の値を示す段階と
をさらに含むことを特徴とする、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】  Ｉ）調節しようとするチケット処理装置中に、チケットの一方の横縁部（ＢＡＶＴ）から他の横縁部（ＢＡＲＴ）まで前記チケットの縦方向側部上に延びる、磁気ストライプ（ＰＭ）を備える基準チケット（ＴＲＥＦ４）を挿入する段階と、
ＩＩ）基準チケット（ＴＲＥＦ４）の横縁部を検出する段階と、
ＩＩＩ）基準チケット（ＴＲＥＦ４）の磁気ストライプ（ＰＭ）上に、基準チケットが磁気読取／書込み部に到着する前に開始され、基準マーク（ＲＥ１）を備える一連の基本基準記載を、書き込む段階と、
ＩＶ）基準チケット（ＴＲＥＦ４）の磁気ストライプ上に書き込まれた基本基準記載（ＳＩＥＲ）の数を、基準マーク（ＲＥ１）までカウントし、該カウントから、チケットの横縁部の光学的検出と磁気記載の間の距離（ＤＩＤＩ）を導き出す段階と
を含むことを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】  破れ易い線を含む基準チケット（ＴＲＥＦ）を準備し、基準チケットが調節すべきチケット処理装置中に挿入され、切断位置が目視で破れ易い線と比較される切断位置中心合せ段階をさらに含むことを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】  装置の基本動作を、機能ずつ、および／またはコードラインずつ進める検査段階をさらに含むことを特徴とする、請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】  磁気読取／書込みステーション（ＰＩＬ）、サーマル印刷ステーション（ＴＴ）、および制御手段（ＵＣ）を含むタイプのチケット処理装置用マン／マシンインターフェース装置であって、
設定チケット（ＴＩＴＣ）の磁気ストライプ上に、設定しようとするチケット処理装置（ＤＩＳ）の少なくともいくつかの動作パラメータの書み込みに適した手段と、前記設定チケット（ＤＩＳ）上に磁気プログラミングに対応して前記設定パラメータを印刷する手段とを含むこと、
設定しようとするチケット処理装置（ＤＩＳ）の読取／書込みステーション（ＰＩＬ）が、設定しようとする前記チケット処理装置（ＤＩＳ）中に挿入された設定チケット（ＴＩＴＣ）の磁気ストライプの内容を読み取ることができること、および
制御手段（ＵＣ）が、読み取られた設定パラメータを記憶することのできる記憶手段を含み、記憶手段は一方では、記憶された前記設定パラメータを用いてチケット処理装置の動作を制御手段（ＵＣ）が設定できるようにし、他方では、対応する前記設定パラメータが上に印刷される設定チケット（ＴＩＴＣ）を設置者が得ることを可能にすること
を特徴とする装置。
【請求項１１】  チケット処理装置のアクティビティに関する情報の書き留めに適した手段を含み、記憶手段は、書き留められた前記情報を記憶することができ、印刷ステーション（ＴＴ）は、記憶された前記情報をステートメントチケット（ＴＩＲ）上に印刷することができることを特徴とする、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】  磁気読取／書込みステーション（ＰＩＬ）が、前記ステートメントチケット（ＴＩＲ）上に、サーマル印刷に対応して前記ステートメント情報を書き込むことができることを特徴とする、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】  チケットの一方の横縁部（ＢＡＶＴ）から他方の横縁部（ＢＡＲＴ）まで延び、前記チケットの縦側部上にある磁気ストライプ（ＰＭ）を含む、基準チケット（ＴＲＥＦ４）を準備することに適した手段と、
基準チケット（ＴＲＥＦ４）の横縁部を検出する手段（ＤＯ１１）と、
基準チケット（ＴＲＥＦ４）の磁気ストライプ（ＰＭ）上に一連の基本基準記載（ＳＩＥＲ）を書く手段（ＴＭ１）とを備え、基準チケット（ＴＲＥＦ４）が磁気書込みステーション（ＴＭ１）に到着する前に、基本基準記載が開始され、基本基準記載は基準マーク（ＲＥ１）を含み、
さらに、基準チケット（ＴＲＥＦ４）の磁気ストライプ（ＰＭ）の上に書き込まれた基本基準記載（ＳＩＥＲ）の数を、基準マーク（ＲＥ１）までカウントし、該カウントから、チケットの横縁部の光学的検出部（ＤＯ１１）と磁気記載（ＴＭ１）の間の距離（ＤＩＤＩ）を導き出す手段（ＵＣ）を備えることを特徴とする、請求項１０から１２のいずれか一項に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月26日(2006.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ポリマーに共有結合されている反応性染料を含む高分子材料中に配置された反射性フレークを含む着色層と前記着色層中に部分的に埋め込まれている光学エレメントの層とを含む露出レンズ再帰反射物品。
【請求項２】  反応性染料、反射性フレークおよびポリマー前駆物質を含む前駆物質カラーコーティングを光学エレメントに接触させる工程と、
前記反射性フレークを含み、ポリマーに共有結合されている前記染料を有し、着色層によって支持された前記光学エレメントを有する前記着色層を形成するために、前記前駆物質カラーコーティングを硬化させる工程と
を含む着色再帰反射物品を製造する方法。
【請求項３】  反応性染料、反射性フレークおよびポリマー前駆物質を含む無溶媒前駆物質カラーコーティング層を支持体の表面上に被着する工程と、
キャリア層中に配置されていない光学エレメントを前記前駆物質カラーコーティング層上に被着する工程と、
ポリマーに共有結合された反応性染料を含有する着色層を形成するために前記前駆物質カラーコーティングを硬化させる工程と
を含む再帰反射物品を製造する無溶媒法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月26日(2006.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）結合剤層と,
（ｂ）前記結合剤層に部分的に埋め込まれた光学エレメント層と、
（ｃ）前記光学エレメント層の裏に機能的に位置する反射層と、
（ｄ）ポリマーに共有結合された染料を含む着色層と
を含み、
前記着色層が前記光学エレメント層と前記反射層との間に配置された、露出レンズ再帰反射物品。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月15日(2006.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）次式（Ｉ）：
【化１】
2006508903.tif 000001
［式中、
Ｒaは、Ｏ、Ｓ、Ｎ、Ｐ、Ｓｉまたはハロゲン原子を任意に含有する、直鎖状もしくは分岐状の、飽和もしくは不飽和のＣ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ6〜Ｃ20アリール、Ｃ7〜Ｃ20アリールアルキルまたはＣ7〜Ｃ20アルキルアリール基であるか；またはＲaは、Ｒdと一緒になってＣ4〜Ｃ7環を形成することができ；
Ｒb、ＲcおよびＲdは、互いに同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、またはＯ、Ｓ、Ｎ、Ｐ、Ｓｉもしくはハロゲン原子を任意に含有する、直鎖状もしくは分岐状の、飽和もしくは不飽和のＣ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ6〜Ｃ20アリール、Ｃ7〜Ｃ20アリールアルキルもしくはＣ7〜Ｃ20アルキルアリール基であるか、または２以上の隣接する置換基Ｒb、ＲcおよびＲdは、Ｏ、Ｓ、Ｎ、ＰまたはＳｉ原子を任意に含有する、置換基を担うことができる１以上のＣ4〜Ｃ7環を形成する］を有する化合物と；
ｂ）式（II）：
ＭｔＲ13      （II）
［式中、Ｍｔは、元素の周期律表の１３族に属する金属であり；Ｒ1は、互いに同一または異なって、ハロゲン原子、ハロゲン化Ｃ6〜Ｃ20アリールおよびハロゲン化Ｃ7〜Ｃ20アルキルアリール基であり；２つのＲ1基は、金属Ｍｔと１つの縮合環を形成することができる］のルイス酸とを接触させることによって得ることができる有機金属化合物。
【請求項２】
式（III）：
【化２】
2006508903.tif 000002
［式中、
Ｍｔは、元素の周期律表（ＩＵＰＡＣ）の１３族に属する金属であり；Ｒ1は、互いに同一または異なって、ハロゲン原子、ハロゲン化Ｃ6〜Ｃ20アリールまたはハロゲン化Ｃ7〜Ｃ20アルキルアリール基であるか；または２つのＲ1基は、金属Ｍｔと１つの縮合環を形成することができ；置換基Ｒ5、Ｒ4およびＲ3は、互いに同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、またはＯ、Ｓ、Ｎ、Ｐ、Ｓｉまたはハロゲン原子を任意に含有する、直鎖状もしくは分岐状の飽和もしくは不飽和の、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ6〜Ｃ20アリール、Ｃ7〜Ｃ20アリールアルキルもしくはＣ7〜Ｃ20アルキルアリール基であるか、あるいは２以上の隣接する置換基Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、Ｏ、Ｓ、Ｎ、ＰまたはＳｉを任意に含有する、１以上のＣ4〜Ｃ7環を形成し；
Ｒ2は、Ｏ、Ｓ、Ｎ、Ｐ、Ｓｉもしくはハロゲン原子を任意に含有する、直鎖状もしくは分岐状の、飽和もしくは不飽和のＣ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ6〜Ｃ20アリール、Ｃ7〜Ｃ20アリールアルキルもしくはＣ7〜Ｃ20アルキルアリール基であるか、またはＲ2は、Ｒ5と一緒になってＣ4〜Ｃ7環を形成することができる］
を有する請求項１による有機金属化合物。
【請求項３】
式（IV）：
【化４】
2006508903.tif 000003
［式中、
ＭｔおよびＲ1は、請求項１のように定義され；
置換基Ｒ3'、Ｒ4'およびＲ5'は、互いに同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、またはＯ、Ｓ、Ｎ、Ｐ、Ｓｉもしくはハロゲン原子を任意に含有する、直鎖状もしくは分岐状の、飽和もしくは不飽和のＣ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ6〜Ｃ20アリール、Ｃ7〜Ｃ20アリールアルキルもしくはＣ7〜Ｃ20アルキルアリール基であるか、または２以上の隣接する置換基Ｒ3'、Ｒ4'およびＲ5'は、Ｏ、Ｓ、Ｎ、ＰまたはＳｉ原子を任意に含有する、置換基を担うことができる１以上のＣ4〜Ｃ7環を形成し；この環は脂肪族であることができるか、または任意に二重結合を含むことができ；ただし、該環は芳香族ではなく；
Ｒ2'は、Ｏ、Ｓ、Ｎ、Ｐ、Ｓｉまたはハロゲン原子を任意に含有する、直鎖状または分岐状の、飽和または不飽和の、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ6〜Ｃ20アリール、Ｃ7〜Ｃ20アリールアルキルもしくはＣ7〜Ｃ20アルキルアリール基であるか；またはＲ2'は、Ｒ5'と一緒になってＣ4〜Ｃ7環を形成することができる］
を有する請求項１による有機金属化合物。
【請求項４】
ａ）請求項１に記載の式（Ｉ）を有する化合物；
ｂ）請求項１に記載の式（II）のルイス酸；および
ｃ）式ＫＲf3［式中、Ｋは、窒素（Ｎ）またはリン（Ｐ）原子であり；Ｒfは、互いに同一または異なって、Ｏ、Ｓ、Ｎ、Ｐ、Ｓｉまたはハロゲン原子を任意に含有する、直鎖状もしくは分岐状の、飽和もしくは不飽和の、Ｃ1〜Ｃ30アルキル、Ｃ6〜Ｃ20アリール、Ｃ7〜Ｃ20アリールアルキルおよびＣ7〜Ｃ20アルキルアリール基であるか、または２つのＲfは、Ｏ、Ｓ、Ｎ、ＰまたはＳｉ原子を任意に含有する、置換基を担うことができる１つのＣ4〜Ｃ7環を形成することができる］の化合物
を任意の順序で接触させることにより得ることができる塩。
【請求項５】
（Ａ）少なくとも１つの遷移金属有機金属化合物、および
（Ｂ）ａ）次式（Ｉ）：
【化１０】
2006508903.tif 000004
（式中、Ｒa、Ｒb、ＲcおよびＲdは請求項１に記載される）を有する化合物；
ｂ）式（II）：
ＭｔＲ13  （II）；
（式中、ＭｔおよびＲ1は請求項１に記載される）のルイス酸；および
ｃ）任意に、式ＫＲf3（式中、ＫおよびＲfは請求項４に記載される）の化合物
を接触させることにより得ることができる有機金属化合物
を接触させることにより得られる生成物を含むオレフィン重合用触媒系。
【請求項６】
請求項５に記載の触媒系の存在下に重合条件下で１以上のオレフィンを接触させることを含む、１以上のオレフィンの重合方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月12日(2006.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モノクローナル抗体の集団を抗細菌モノクローナル抗体に関してスクリーニングする方法であって、
一般式：
2006508910.tif 000001
式中、n＝0〜12である、ホモセリンラクトン分子、
一般式（IV）：
2006508910.tif 000002
式中、Xが任意のアミノ酸であり、かつn＝1〜10であるペプチドチオラクトン、
または、オートインデューサー2（AI-2）、
2006508910.tif 000003
または、Pro-AI-2
2006508910.tif 000004
もしくはそのC1〜C10飽和もしくは不飽和カルボン酸誘導体からなる群より選択される分子を担体分子に結合すること、およびそのようにして形成された結合体を、その結合した誘導体の存在下でモノクローナル抗体の集団から、遊離した可溶型のホモセリンラクトン、ペプチドチオラクトン、AI-2またはPro-AI-2もしくはそのC1〜C10飽和もしくは不飽和カルボン酸誘導体に特異的に結合するモノクローナル抗体を同定するために用いることを含む方法。
【請求項２】
担体分子がタンパク質である、請求項1記載の方法。
【請求項３】
モノクローナル抗体の集団がファージディスプレイライブラリーである、請求項1または請求項2に記載の方法。
【請求項４】
医療に用いるための、請求項1〜3のいずれか一項記載の方法によって同定されたモノクローナル抗体。
【請求項５】
細菌感染症の治療のための医薬品の調製における、請求項1〜3のいずれか一項記載の方法によって同定されたモノクローナル抗体の使用。
【請求項６】
一般式：
2006508910.tif 000005
式中、n＝0〜12である、ホモセリンラクトン分子、
一般式（IV）：
2006508910.tif 000006
式中、Xが任意のアミノ酸であり、かつn＝1〜10である、ペプチドチオラクトン、
または、オートインデューサー2（AI-2）、
2006508910.tif 000007
または、Pro-AI-2
2006508910.tif 000008
もしくはそのC1〜C10飽和もしくは不飽和カルボン酸誘導体からなる群より選択される分子の使用であって、その結合した誘導体の存在下で遊離した可溶型の分子に特異的に結合するモノクローナル抗体を同定するためにモノクローナル抗体の集団をスクリーニングするための使用。
【請求項７】
対象からの試料中の一般式：
2006508910.tif 000009
式中、n＝0〜12である、ホモセリンラクトン分子、
一般式（IV）：
2006508910.tif 000010
式中、Xが任意のアミノ酸であり、かつn＝1〜10である、ペプチドチオラクトン、
またはオートインデューサー2（AI-2）、
2006508910.tif 000011
または、Pro-AI-2
2006508910.tif 000012
もしくはそのC1〜C10飽和もしくは不飽和カルボン酸誘導体からなる群より選択される分子に対するモノクローナル抗体であって、その結合した誘導体の存在下で、遊離した可溶型の分子と特異的に結合する抗体。
【請求項８】
一般式Iのホモセリンラクトン分子が、式中n＝0のN-ブタノイル-L-ホモセリンラクトン（BHL）、式中n＝8のN-ドデカノイル-L-ホモセリンラクトン（dDHL）および式中n＝10のn-テトラデカノイル-L-ホモセリンラクトン（tDHL）である、請求項7記載のモノクローナル抗体。
【請求項９】
一般式IIのホモセリンラクトン分子が、式中n＝2のN-(-3-オキソヘキサノイル)-L-ホモセリンラクトン（OHHL）および式中n＝8のN-(-3-オキソドデカノイル)-L-ホモセリンラクトン（OdDHL）である、請求項7記載のモノクローナル抗体。
【請求項１０】
一般式IIIのホモセリンラクトン分子が、式中n＝0のN-(-3-ヒドロキシブタノイル)-L-ホモセリンラクトン（HBHL）である、請求項7記載のモノクローナル抗体。
【請求項１１】
ペプチドチオラクトン分子が
2006508910.tif 000013
または
2006508910.tif 000014
または
2006508910.tif 000015
または
2006508910.tif 000016
である、請求項7記載のモノクローナル抗体。
【請求項１２】
一本鎖抗体（scAb）である、請求項7〜11のいずれか一項記載のモノクローナル抗体。
【請求項１３】
抗体断片である、請求項7〜11のいずれか一項記載のモノクローナル抗体。
【請求項１４】
抗体断片が一本鎖可変領域断片（scFv）である、請求項13記載のモノクローナル抗体。
【請求項１５】
抗体断片が単一ドメインの断片である、請求項13記載のモノクローナル抗体。
【請求項１６】
請求項7〜15のいずれか一項に定義された抗体を含む薬学的組成物。
【請求項１７】
単位投薬式剤形して提供される、請求項7〜15のいずれか一項に定義された抗体を含む部分、および使用説明書を有するキット。
【請求項１８】
医療に用いるための、請求項7〜15のいずれか一項に定義されたモノクローナル抗体。
【請求項１９】
細菌感染症または細菌感染症が原因となる免疫抑制の治療のための医薬品の調製に用いるための、請求項7〜15のいずれか一項に定義されたモノクローナル抗体の使用。
【請求項２０】
一般式：
2006508910.tif 000017
式中、n＝0〜12である、ホモセリンラクトン分子、
一般式（IV）：
2006508910.tif 000018
式中、Xが任意のアミノ酸であり、かつn＝1〜10である、ペプチドチオラクトン、
または、オートインデューサー2（AI-2）、
2006508910.tif 000019
または、Pro-AI-2
2006508910.tif 000020
もしくはそのC1〜C10飽和もしくは不飽和カルボン酸誘導体からなる群より選択される分子に対するモノクローナル抗体であって、その結合した誘導体の存在下で、遊離した可溶型の分子を特異的に結合し、以下の段階を含む方法によって入手可能な抗体：
（1）担体分子に結合する分子を用いてモノクローナル抗体のファージディスプレーライブラリーをスクリーンニングする段階、
（2）任意で前記ライブラリーを再度スクリーンニングする段階、
（3）遊離した非結合の分子を用いてファージディスプレーライブラリーをスクリーンニングする段階、
（4）任意で該ライブラリーを再度スクリーンニングする段階。
【請求項２１】
それぞれNCIMB-41167、NCIMB-41168、NCIMB-41169、およびNCIMB-41170に寄与されている大腸菌クローン G3H5、G3B12、G3G2、またはG3H3由来の一本鎖抗体（scAb）。