【手続補正書】
【提出日】平成16年9月28日(2004.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カルベン配位子、多座配位子および１個以上の他の配位子を含み、前記他の配位子の少なくとも１個がｐＫａが少なくとも１５である制限（コンストレイント）立体障害配位子である、５配位金属鎖体、その塩、その溶媒和物またはそのエナンチオマー。
【請求項２】
多座配位子が、金属の配位に使用される少なくとも２個のヘテロ原子を含む、請求項１に記載の５配位金属鎖体。
【請求項３】
ヘテロ原子２個のうちの少なくとも１個が窒素原子である、請求項２に記載の５配位金属鎖体。
【請求項４】
前記他の配位子の１個がアニオン性配位子であるか、または、前記他の配位子の１個が溶媒であり、鎖体がアニオンと会合したカチオン性種である、請求項１〜３のいずれかに記載の５配位金属鎖体。
【請求項５】
ｐＫａが少なくとも１５である前記制限立体障害配位子は誘導体であり、ここで１個以上の水素原子が、非イオン性プロホスファトランスーパー塩基、または、イミダゾール−２−イリデン、ジヒドロイミダゾール−２−イリデン、オキサゾール−２−イリデン、チアゾール−５−イリデン、チアゾール−２−イリデン、ビス（イミダゾリン−２−イリデン）、ビス（イミダゾリジン−２−イリデン）、ピロリリデン、ピラゾリリデン、ジヒドロピロリリデン、ピロリリジニリデンおよびこれらのベンゾ縮合誘導体からなる群より選択されるＮ−複素環カルベン、の制限立体障害を与える基により置換されている、請求項１〜４のいずれかに記載の５配位金属鎖体。
【請求項６】
図３に示す一般式（ＩＡ）および（ＩＢ）の１つを有する金属鎖体から選択される請求項１記載の５配位金属鎖体であって、前記式中、
−  Ｍは周期律表の４、５、６、７、８、９、１０、１１および１２族からなる群より選択される遷移金属であり；
−  Ｚは酸素、イオウ、セレン、ＮＲ’’’’、ＰＲ’’’’、ＡｓＲ’’’’およびＳｂＲ’’’’からなる群より選択され；
−  Ｒ’’、Ｒ’’’およびＲ’’’’は各々、水素、Ｃ1-6アルキル、Ｃ3-10シクロア
ルキル、Ｃ1-6アルキル−Ｃ1-6アルコキシシリル、Ｃ1-6アルキル−アリールオキシシリル、Ｃ1-6アルキル−Ｃ3-10シクロアルコキシシリル、アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択されるか、または、Ｒ’’およびＲ’’’は一緒になってアリール基またはヘテロアリール基を形成し、それぞれの基は場合により、ハロゲン原子、Ｃ1-6アルキル、Ｃ1-6アルコキシ、アリール、アルキルスルホネート、アリールスルホネート、アルキルホスホネート、アリールホスホネート、Ｃ1-6アルキル−Ｃ1-6アルコキシシリル、Ｃ1-6アルキル−アリールオキシシリル、Ｃ1-6アルキル−Ｃ3-10シクロアルキルシリル、アルキルアンモニウムおよびアリールアンモニウムからなる群より各々独立して選択される置換基Ｒ5１個以上、好ましくは１〜３個で置換されており；
−  Ｒ’は一般式（ＩＡ）を有する化合物中に含まれる場合はＲ’’、Ｒ’’’およびＲ’’’’と同様に定義され、一般式（ＩＢ）を有する化合物中に含まれる場合はＣ1-6アルキレンおよびＣ3-8シクロアルキレンからなる群より選択され、前記アルキレン基またはシクロアルキレン基は場合により置換基Ｒ5１個以上で置換されており；
−  Ｒ1はｐＫａが少なくとも１５である制限立体障害基であり；
−  Ｒ2はアニオン性配位子または溶媒であり、Ｒ2が溶媒である場合は鎖体はアニオンに会合しており；
−  Ｒ3はおよびＲ4は各々、水素、または、Ｃ1-20アルキル、Ｃ1-20アルケニル、Ｃ1-20アルキニル、Ｃ1-20カルボキシレート、Ｃ1-20アルコキシ、Ｃ1-20アルケニルオキシ、Ｃ1-20アルキニルオキシ、アリール、アリールオキシ、Ｃ1-20アルコキシカルボニル、Ｃ1-8アルキルチオ、Ｃ1-20アルキルスルホニル、Ｃ1-20アルキルスルフィニルＣ1-20アルキルスルホネート、アリールスルホネート、Ｃ1-20アルキルホスホネート、アリールホスホネート、Ｃ1-20アルキルアンモニウムおよびアリールアンモニウムからなる群より選択される炭水化物基であり；
−  Ｒ’ならびにＲ3およびＲ4の一方は相互に結合して２座の配位子を形成し；
−Ｒ’’’およびＲ’’’’は相互に結合して窒素、リン、砒素およびアンチモンからなる群より選択されるヘテロ原子を含む脂肪族の環系を形成し；
−  Ｒ3およびＲ4は一緒になって縮合芳香族環系を形成し、
−  ｙはＭとＲ3およびＲ4を担持した炭素原子との間のｓｐ２炭素原子の数を示し、かつ０〜３の整数である、５配位金属鎖体、その塩、その溶媒和物およびそのエナンチオマー。
【請求項７】
Ｒ1が誘導体であり、ここで１個以上の水素原子がイミダゾール−２−イリデン、ジヒドロイミダゾール−２−イリデン、オキサゾール−２−イリデン、チアゾール−５−イリデン、チアゾール−２−イリデン、ビス（イミダゾリン−２−イリデン）、ビス（イミダゾリジン−２−イリデン）、ピロリリデン、ピラゾリリデン、ジヒドロピロリリデン、ピロリリジニリデンおよびこれらのベンゾ縮合誘導体からなる群より選択されるＮ−複素環カルベン、または、非イオン性プロホスファトランスーパー塩基、の制限立体障害を与える基により置換されている、請求項６に記載の５配位金属鎖体。
【請求項８】
Ｒ2がＣ1-20アルキル、Ｃ1-20アルケニル、Ｃ1-20アルキニル、Ｃ1-20カルボキシレート、Ｃ1-20アルコキシ、Ｃ1-20アルケニルオキシ、Ｃ1-20アルキニルオキシ、アリール、アリールオキシ、Ｃ1-20アルコキシカルボニル、Ｃ1-8アルキルチオ、Ｃ1-20アルキルスルホニル、Ｃ1-20アルキルスルフィニル、Ｃ1-20アルキルスルホネート、アリールスルホネート、Ｃ1-20アルキルホスホネート、アリールホスホネート、Ｃ1-20アルキルアンモニウム、アリールアンモニウム、ハロゲン原子およびシアノからなる群より選択される、請求項６または７に記載の５配位金属鎖体。
【請求項９】
金属が周期律表の４、５、６、７、８、９、１０、１１および１２族からなる群より選択される遷移金属である、請求項１〜８のいずれかに記載の５配位金属鎖体。
【請求項１０】
金属がルテニウム、オスミウム、鉄、モリブデン、タングステン、チタン、レニウム、銅、クロム、マンガン、パラジウム、白金、ロジウム、バナジウム、亜鉛、カドミウム、水銀、金、銀、ニッケルおよびコバルトからなる群より選択される、請求項１〜９のいずれかに記載の５配位金属鎖体。
【請求項１１】
図４に示す一般式（ＩＩＩＡ）または（ＩＩＩＢ）の一方を有する４配位金属鎖体であって、
−  Ｍは周期律表の４、５、６、７、８、９、１０、１１および１２族からなる群より選択される遷移金属であり；
−  Ｚは酸素、イオウ、セレン、ＮＲ’’’’、ＰＲ’’’’、ＡｓＲ’’’’およびＳｂＲ’’’’からなる群より選択され；
−  Ｒ’’、Ｒ’’’およびＲ’’’’は各々、水素、Ｃ1-6アルキル、Ｃ3-8シクロアルキル、アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択されるか、または、Ｒ’’およびＲ’’’は一緒になってアリール基またはヘテロアリール基を形成し、それぞれの基は場合により、ハロゲン原子、Ｃ1-6アルキル、Ｃ1-6アルコキシ、アリール、アルキルスルホネート、アリールスルホネート、アルキルホスホネート、アリールホスホネート、アルキルアンモニウムおよびアリールアンモニウムからなる群より各々独立して選択される置換基Ｒ5１個以上、好ましくは１〜３個で置換されており；
−  Ｒ’は一般式（ＩＩＩＡ）を有する化合物中に含まれる場合はＲ’’、Ｒ’’’およびＲ’’’’と同様に定義され、または、一般式（ＩＩＩＢ）を有する化合物中に含まれる場合はＣ1-6アルキレンおよびＣ3-8シクロアルキレンからなる群より選択され、前記アルキレンまたはシクロアルキレン基は場合により置換基Ｒ5１個以上で置換されており；
−  Ｒ1はｐＫａが少なくとも１５である制限立体障害基であり；
−  Ｒ2はアニオン性配位子である、４配位金属鎖体、その塩、その溶媒和物およびそのエナンチオマー。
【請求項１２】
図４に示す一般式（ＩＩＡ）または（ＩＩＢ）の一方を有する４配位金属鎖体であって、
−  Ｍは周期律表の４、５、６、７、８、９、１０、１１および１２族からなる群より選択される遷移金属であり；
−  Ｚは酸素、イオウ、セレン、ＮＲ’’’’、ＰＲ’’’’、ＡｓＲ’’’’およびＳｂＲ’’’’からなる群より選択され；
−  Ｒ’’、Ｒ’’’およびＲ’’’’は各々、水素、Ｃ1-6アルキル、Ｃ3-8シクロアルキル、アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択され、前記各基は場合によりハロゲン原子、Ｃ1-6アルキル、Ｃ1-6アルコキシ、アリール、アルキルスルホネート、アリールスルホネート、アルキルホスホネート、アリールホスホネート、アルキルアンモニウムおよびアリールアンモニウムからなる群より各々独立して選択される置換基Ｒ5１個以上、好ましくは１〜３個で置換されているか、または、Ｒ’’およびＲ’’’は一緒になってアリール基またはヘテロアリール基を形成し、前記基は、臭素、Ｃ２-6アルキル、Ｃ2-6アルコキシ、アリール、アルキルスルホネート、アリールスルホネート、アルキルホスホネート、アリールホスホネート、アルキルアンモニウムおよびアリールアンモニウムからなる群より選択される置換基Ｒ5１個で置換されているが、または、ハロゲン原子、Ｃ1-6アルキル、Ｃ1-6アルコキシ、アリール、アルキルスルホネート、アリールスルホネート、アルキルホスホネート、アリールホスホネート、アルキルアンモニウムおよびアリールアンモニウムからなる群より各々独立して選択される置換基Ｒ5２個以上で置換されており；
−  Ｒ’は一般式（ＩＩＡ）を有する化合物中に含まれる場合はＲ’’、Ｒ’’’およびＲ’’’’と同様に定義され、または、一般式（ＩＩＢ）を有する化合物中に含まれる場合はＣ1-6アルキレンおよびＣ3-8シクロアルキレンからなる群より選択され、前記アルキレンまたはシクロアルキレン基は場合により置換基Ｒ5１個以上で置換されており；
−  Ｒ2はアニオン性配位子であり；
−  Ｒ6は芳香族および不飽和の脂環族基、好ましくはアリール基およびＣ4-20シクロアルケニル基であって、前記基は１個以上のＣ1-6アルキル基で場合により置換されたものである、４配位金属鎖体、その塩、その溶媒和物およびそのエナンチオマー。
【請求項１３】
（ａ）請求項１〜１０のいずれかに記載の触媒活性５配位金属鎖体、および、
（ｂ）前記触媒活性５配位金属鎖体（ａ）を支持するのに適する担体の支持量、
を含む不均一触媒反応において使用するための、支持された触媒。
【請求項１４】
転移反応、原子転移ラジカル反応、付加重合反応およびビニル化反応からなる群より選択される反応における触媒成分としての、請求項１〜１０のいずれかに記載の５配位金属鎖体または請求項１３に記載の支持された触媒の使用。
【請求項１５】
少なくとも１つの第１のオレフィン性化合物を請求項１〜１０のいずれかに記載の５配位金属鎖体または請求項１３に記載の支持された触媒に接触させるステップを包含する転移反応を行う方法。
【請求項１６】
前記第１のオレフィン性化合物を有機酸または無機酸あるいは好ましくはアルミニウム、チタンまたはホウ素系のルイス酸に接触させることを更に含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
１つ以上のラジカル（共）重合性の単量体の原子または基転移ラジカル重合のための触媒系の触媒成分としての下記の化合物の使用であって、
−  請求項１〜１０のいずれかに記載の５配位金属鎖体または請求項１３記載の支持された触媒、または、
−  図４に示す一般式（ＩＣ）および（ＩＤ）の一方を有する５配位金属鎖体または場合により担体の支持量と組み合わせたそのカチオン性種、ここで：
○  Ｍ、Ｚ、Ｒ’、Ｒ’’、Ｒ’’’、Ｒ’’’’、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびｙは請求項６において定義したものであり、
○  Ｒ16は中性の電子供与体、例えば式ＰＲ17Ｒ18Ｒ19のホスフィンであり、ここでＲ17、Ｒ18およびＲ19は各々独立してＣ1-20アルキル、Ｃ3-10シクロアルキル、ヘテロアリールおよびアリールからなる群より選択される、
から選択される化合物の使用。
【請求項１８】
前記化合物がラジカル転移可能な原子または基を有する重合開始剤および／または界面活性剤と組み合わせて使用される、請求項１７に記載の使用。
【請求項１９】
場合により炭素原子４〜２０個を有するジエン１種以上と組み合わせた炭素原子２〜１２個を有するα−オレフィン１種以上の付加重合のための触媒系であって、
（Ａ）請求項６記載の一般式（ＩＢ）を有する鎖体、
（Ｂ）化合物（Ａ）と反応することによりそのイミン部分を金属アミン構造に変換する能力を有する化合物、および、
（Ｃ）化合物（Ａ）と反応することによりイオン対を形成する能力を有する化合物、
を含む、触媒系。
【請求項２０】
請求項６記載の５配位金属鎖体の担体への共有結合に適する誘導体であって、Ｒ’および/またはＲ’’が下記式：
【化１】
2005515260.tif 000001
（式中、
−  Ｒ20はＣ1-6アルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレンおよびＣ3-8シクロアルキレンからなる群より選択される基であり、前記基は場合により、Ｃ1-20アルキル、Ｃ2-20アルケニル、Ｃ2-20アルキニル、Ｃ1-20カルボキシレート、Ｃ1-20アルコキシ、Ｃ2-20アルケニルオキシ、Ｃ2-20アルチニルオキシ、Ｃ2-20アルコキシカルボニル、Ｃ１-20アルチルスルホニル、Ｃ１-20アルチニルスルフィニル、Ｃ１-20アルキルチオ、アリールオキシおよびアリールからなる群より各々が独立して選択される置換基Ｒ24１個以上で置換されており；
−  Ｄは酸素、イオウ、ケイ素、アリーレン、メチレン、ＣＨＲ24、Ｃ（Ｒ24）2、ＮＨ、ＮＲ24およびＰＲ24からなる群より選択される２価の原子または基であり；
−  Ｒ21、Ｒ22およびＲ23は各々独立して水素、ハロゲンおよびＲ24からなる群より選択され；
−  ｎは１〜２０の整数であり；
ただし、Ｒ21、Ｒ22およびＲ23の少なくとも１個はＣ1-20アルコキシ、Ｃ2-20アルケニルオキシ、Ｃ2-20アルキニルオキシ、Ｃ2-20アルコキシカルボニル、Ｃ1-20アルキルスルホニル、Ｃ1-20アルキニルスルフィニル、Ｃ1-20アルキルチオおよびアリールオキシからなる群より選択される）を有する基で置き換えられるか置換されている、誘導体。
【請求項２１】
（ａ）請求項２０に記載の誘導体、および、
（ｂ）担体、
の共有結合の生成物を含む、不均一触媒反応において使用するための支持された触媒。
【請求項２２】
直接または間接的にスペーサー分子を介して、そのＮおよび／またはＺ原子により、および/または、Ｒ’、Ｒ’’またはＲ’’’が官能基を担持している場合は前記官能基により、コア分子に各々結合している、請求項６〜１２のいずれかに記載の２種以上の化合物を含む、デンドリマー物質。