【手続補正書】
【提出日】平成17年10月7日(2005.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁放射源によって供給された電磁放射から皮膚の目標領域の少なくとも一部分を覆うよう構成される少なくとも１つの部材を有し、
前記少なくとも１つの部材が、その少なくとも１つの部材に影響を与える電磁放射の特定量が電磁放射源の方向に反射されるように、構成されることを特徴とする装置。
【請求項２】
前記目標領域が所定の皮膚の領域である請求項１に記載の装置。
【請求項３】
少なくとも１つのシールド部材の各々が、影響を与える電磁放射を装置からそらせるように反射させるよう構成される請求項１に記載の装置。
【請求項４】
少なくとも１つのシールド部材の各々が、電磁放射の最小量を吸収するように構成される請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記電磁放射が光放射である請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記電磁放射源がレーザである請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記電磁放射源が二酸化炭素レーザによって生成される請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記電磁放射源がＥｒ：ＹＡＧレーザである請求項１に記載のフィルタリング装置。
【請求項９】
前記少なくとも１つのシールド部材が、前記目標領域の少なくとも０．１％を電磁放射から覆う請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの部材が、前記目標領域の多くとも９０％を電磁放射から覆う請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
前記目標領域の少なくとも一部分に前記電磁放射が影響することを防ぐように、前記少なくとも１つの部材が目標領域の少なくとも一部分を覆う請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
前記少なくとも１つの部材が、最小で５０μｍ、最大で３００μｍの幅である請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
前記少なくとも１つの部材が、少なくとも１つの開口を定義するように構成される請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
前記少なくとも１つの開口が、最小で５０μｍ、最大で１０００μｍの幅を有する請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの部材が冷却される請求項１に記載の装置。
【請求項１６】
前記少なくとも１つの部材が、最小で３７℃、最大でマイナス２０℃まで冷却されるよう適合される請求項１に記載の装置。
【請求項１７】
前記少なくとも１つの部材が、自身を通して延びる少なくとも１つのチャンネルを含む請求項１に記載の装置。
【請求項１８】
前記少なくとも１つのチャンネルが、冷却剤を通すように構成される請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
電磁放射を発生させるように電磁放射源を制御する段階と、
電磁放射を皮膚の目標領域に適用させるようにする段階と、
皮膚の目標領域の少なくとも一部分を電磁放射から覆う段階と、
を有することを特徴とする皮膚科的状況を処置するための方法。
【請求項２０】
前記覆う段階が、前記少なくとも１つの部材を含んだマスクを使用して実行される請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記少なくとも１つのシールド部材が、前記目標領域の少なくとも０．１％を電磁放射から覆う請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記少なくとも１つのシールド部材が、前記目標領域の多くとも９０％を電磁放射から覆う請求項２０に記載の方法。
【請求項２３】
前記目標領域の少なくとも一部分に前記電磁放射が影響することを防ぐように、前記少なくとも１つの部材が目標領域の少なくとも一部分を覆う請求項２０に記載の方法。
【請求項２４】
前記目標領域の少なくとも一部分に前記電磁放射が影響し、他の部分に影響しないように、前記少なくとも１つの部材が目標領域の少なくとも一部分を覆う請求項２０に記載の方法。
【請求項２５】
前記少なくとも１つの部材が、最小で５０μｍ、最大で３００μｍの幅である請求項２０に記載の方法。
【請求項２６】
前記少なくとも１つの部材が、少なくとも１つの開口を定義するように構成される請求項２０に記載の方法。
【請求項２７】
前記少なくとも１つの開口が、最小で５０μｍ、最大で１０００μｍの幅を有する請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記少なくとも１つの部材が冷却される請求項２０に記載の方法。
【請求項２９】
前記少なくとも１つの部材が、最小で３７℃、最大でマイナス２０℃まで冷却されるよう適合される請求項２０に記載の方法。
【請求項３０】
前記少なくとも１つの部材が、自身を通して延びる少なくとも１つのチャンネルを含む請求項２０に記載の方法。
【請求項３１】
前記少なくとも１つのチャンネルが、冷却剤を通すように構成される請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
前記マスクが、前記電磁放射源の方向に所定量の電磁放射を反射するように構成される請求項１９に記載の方法。
【請求項３３】
前記マスクが、前記電磁放射源からそらせるように電磁放射を反射させるよう構成される請求項１９に記載の方法。
【請求項３４】
前記マスクが、電磁放射を拡散させるように構成される請求項１９に記載の方法。
【請求項３５】
前記電磁放射が特定の波長を有する請求項１９に記載の方法。
【請求項３６】
前記マスクの表面がほぼ特定の波長範囲の周期性をもったミクロ組織を有する請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】
前記マスクが所定量の電磁放射を吸収するように構成される請求項１９に記載の方法。
【請求項３８】
前記電磁放射源がアブレーション型レーザである請求項１９に記載の方法。
【請求項３９】
前記電磁放射源が二酸化炭素レーザである請求項１９に記載の方法。
【請求項４０】
前記電磁放射源がＥｒ：ＹＡＧレーザである請求項１９に記載の方法。
【請求項４１】
さらなる電磁放射を発生させるようにさらなる電磁放射源を制御する段階と、
さらなる電磁放射を皮膚の目標領域に適用する段階と、
をさらに含む請求項１９に記載の方法。
【請求項４２】
前記さらなる電磁放射源が前記電磁放射源と実質的に同じである請求項４１に記載の方法。
【請求項４３】
前記さらなる電磁放射源が前記電磁放射源と異なっている請求項４１に記載の方法。
【請求項４４】
さらなる電磁放射源がＱ−スイッチ・ルビーレーザ、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ、ＫＴＰレーザ、およびアレキサンドライトレーザ、のうちの１つである請求項４１に記載の方法。
【請求項４５】
物質を目標領域に導入する段階をさらに有し、前記物質が、成長因子、コラーゲン副産物、コラーゲン前駆体、ヒアルロン酸、ビタミン、酸化防止剤、アミノ酸、および追加の無機物質うちの１つである請求項１９に記載の方法。
【請求項４６】
電磁放射源によって皮膚の目標領域に発生させた電磁放射を指向するように構成された送出モジュールと、
皮膚の目標領域の少なくとも一部分を電磁放射から覆うように構成された少なくとも１つの部材を含むマスクと、
を含むことを特徴とする皮膚科的状況を処置するための装置。
【請求項４７】
前記少なくとも１つの部材が、前記電磁放射源の方向に所定量の電磁放射を反射するように構成される請求項４６に記載の装置。
【請求項４８】
前記少なくとも１つの部材の各々が、前記電磁放射源からそらせるように電磁放射を反射させるよう構成される請求項４６に記載の装置。
【請求項４９】
前記少なくとも１つの部材の各々が、電磁放射を拡散させるように構成される請求項４６に記載の装置。
【請求項５０】
前記電磁放射が特定の波長を有する請求項４６に記載の装置。
【請求項５１】
前記少なくとも１つの部材の各々が、特定の波長範囲の周期性をもったミクロ組織を有する請求項５０に記載の装置。
【請求項５２】
前記少なくとも１つの部材の各々が最低量の電磁放射を吸収するように構成される請求項４６に記載の装置。
【請求項５３】
前記電磁放射源がアブレーション型レーザである請求項４６に記載の装置。
【請求項５４】
前記電磁放射源が二酸化炭素レーザである請求項４６に記載の装置。
【請求項５５】
前記電磁放射源がＥｒ：ＹＡＧレーザである請求項４６に記載の装置。
【請求項５６】
前記少なくとも１つのシールド部材が、前記目標領域の少なくとも０．１％を電磁放射から覆う請求項４６に記載の装置。
【請求項５７】
前記少なくとも１つの部材が、前記目標領域の多くとも９０％を電磁放射から覆う請求項４６に記載の装置。
【請求項５８】
前記目標領域の少なくとも一部分に前記電磁放射が影響することを防ぐように、前記少なくとも１つの部材が目標領域の少なくとも一部分を覆う請求項４６に記載の装置。
【請求項５９】
前記目標領域の少なくとも一部分に前記電磁放射が影響することを防ぐように、前記少なくとも１つの部材が目標領域の少なくとも一部分を覆う請求項４６に記載の装置。
【請求項６０】
側壁に形成された開口を備えたケースをさらに有し、前記ケースが電磁放射源及び送出モジュールを含み、かつ前記少なくとも１つの部材が前記開口に位置決めされている請求項４６に記載の装置。
【請求項６１】
前記送出モジュールがビームコリメータを含む請求項４６に記載の装置。
【請求項６２】
前記送出モジュールが光学部品を含む請求項４６に記載の装置。
【請求項６３】
電磁放射源によって発生させた電磁放射を皮膚の目標領域内の所定領域に指向するように構成された送出モジュールであって、前記所定領域が前記送出モジュールに対応する位置に位置決めされ、かつ電磁放射が前記皮膚の目標領域内の所定領域の表皮組織と真皮組織に熱的損傷を引き起こすよう適合される送出モジュールと、
前記送出モジュールを移動させることが可能な移動手段であって、前記送出モジュールが前記所定領域の空間的に隔てられた複数の個々の照射領域を狙うようにした移動手段と、
を有することを特徴とする皮膚科的状況を処置するための装置。
【請求項６４】
前記電磁放射源がアブレーション型レーザである請求項６３に記載の装置。
【請求項６５】
前記電磁放射源がダイオードレーザ、ファイバレーザ、固体レーザ、およびガスレーザーのうち１つである請求項６３に記載の装置。
【請求項６６】
側壁に形成された開口を備えたケースをさらに有し、前記ケースが電磁放射源、送出モジュール、及び移動手段を含む請求項６３に記載の装置。
【請求項６７】
前記開口に位置決めされた透明板をさらに有し、前記透明板が前記ケースを密閉する請求項６６に記載の装置。
【請求項６８】
前記電磁放射が特定の波長を有する請求項６７に記載の装置。
【請求項６９】
前記透明板が特定の波長における所定量の電磁放射を吸収する請求項６８に記載の装置。
【請求項７０】
前記透明板が皮膚の目標領域に美学的な影響を与えるために冷却される請求項６７に記載の装置。
【請求項７１】
前記透明板が、最小で３７℃、最大でマイナス２０℃まで冷却されるよう適合される請求項６７に記載の装置。
【請求項７２】
前記送出モジュールがビームコリメータを含む請求項６３に記載の装置。
【請求項７３】
前記送出モジュールが光学部品を含む請求項６３に記載の装置。
【請求項７４】
空間的に隔てられた複数の個々の照射領域の皮膚の真皮組織が、その所定の深さまで損傷される請求項６３に記載の装置。
【請求項７５】
空間的に隔てられた複数の個々の照射領域が、最小で目標領域の５パーセント、最大で目標領域の６０パーセントにわたる請求項６３に記載の装置。
【請求項７６】
空間的に隔てられた複数の個々の照射領域のそれぞれの間の平均距離は最小で１０μｍ、最大で２０００μｍである請求項６３に記載の装置。
【請求項７７】
空間的に隔てられた複数の個々の照射領域のそれぞれが約０．１ｍｍの直径を有する請求項６３に記載の装置。
【請求項７８】
空間的に隔てられた複数の個々の照射領域のそれぞれが最小で１μｍ、最大で５００μｍの最小寸法の横方向直径を有する請求項６３に記載の装置。
【請求項７９】
前記送出モジュールと皮膚の目標領域との間に配置された光学的に透明なプレートをさらに有する請求項６３に記載の装置。
【請求項８０】
前記光学的に透明なプレートが冷却される請求項７９に記載の装置。
【請求項８１】
前記光学的に透明なプレートが最小で３７℃、最大でマイナス２０℃まで冷却される請求項７９に記載の装置。
【請求項８２】
空間的に隔てられた複数の個々の照射領域の第１のものが、空間的に隔てられた複数の個々の照射領域の第２のものと隔てられる請求項６３に記載の装置。
【請求項８３】
空間的に隔てられた複数の個々の照射領域の第１のものが、空間的に隔てられた複数の個々の照射領域の第２のものと非照射の皮膚の部分によって隔てられる請求項８２に記載の装置。
【請求項８４】
空間的に隔てられた複数の個々の照射領域の第１のものが、第１セットのパラメータに関連する電磁放射にさらされ、空間的に隔てられた複数の個々の照射領域の第２のものが、第２セットのパラメータに関連する電磁放射にさらされる請求項６３に記載の装置。
【請求項８５】
少なくとも２つの個々の照射領域が、影響を受けない領域によってお互いに隔てられる請求項６３に記載の装置。
【請求項８６】
少なくとも２つの個々の照射領域が、最小で約１２５μｍだけお互いに隔てられる請求項８５に記載の装置。
【請求項８７】
少なくとも２つの個々の照射領域が、最大で約５００μｍだけお互いに隔てられる請求項８５に記載の装置。
【請求項８８】
１平方センチメートルの面積中における少なくとも１００の個々の照射領域のあるものが、少なくとも１００の個々の照射領域の他のものと、影響を受けない領域によって隔てられる請求項６３に記載の装置。
【請求項８９】
１平方センチメートルの面積中における少なくとも１０００の個々の照射領域のあるものが、少なくとも１０００の個々の照射領域の他のものと、影響を受けない領域によって隔てられる請求項６３に記載の装置。
【請求項９０】
（ａ）第１及び第２の電磁放射を発生させるように電磁放射源を制御する段階と、
（ｂ）第１の電磁放射を、皮膚の目標領域における空間的に隔てられた複数の個々の照射領域の第１の個々の照射領域に適用させる段階であって、前記第１の個々の照射領域の表皮組織及び真皮組織が熱的に損傷を受けるようにする段階と、
（ｃ）第２の電磁放射を、皮膚の目標領域における空間的に隔てられた複数の個々の照射領域の第２の個々の照射領域に適用させる段階であって、第１の電磁放射が第２の電磁放射と同じかまたは異なったものであり、第１及び第２の個々の照射領域が影響を受けない領域によって隔てられるようにする段階と、
を有することを特徴とする皮膚科的状況を処置するための方法。
【請求項９１】
前記目標領域が約１ｃｍ２の表面積を有する請求項９０に記載の方法。
【請求項９２】
前記電磁放射源がアブレーション型レーザである請求項９０に記載の方法。
【請求項９３】
前記電磁放射源がダイオードレーザ、ファイバレーザ、固体レーザ、およびガスレーザーのうち１つである請求項９０に記載の方法。
【請求項９４】
空間的に隔てられた複数の個々の照射領域の皮膚の真皮組織が、その所定の深さまで損傷される請求項９０に記載の方法。
【請求項９５】
空間的に隔てられた複数の個々の照射領域が、最小で目標領域の２０パーセント、最大で目標領域の４０パーセントにわたる請求項９０に記載の方法。
【請求項９６】
空間的に隔てられた複数の個々の照射領域のそれぞれの間の平均距離は最小で約１０μｍ、最大で約２０００μｍである請求項９０に記載の方法。
【請求項９７】
空間的に隔てられた複数の個々の照射領域のそれぞれが約０．１ｍｍの直径を有する請求項９０に記載の方法。
【請求項９８】
空間的に隔てられた複数の個々の照射領域のそれぞれが最小で約１μｍ、最大で約５００μｍの最小寸法の横方向直径を有する請求項９０に記載の方法。
【請求項９９】
（ｄ）目標領域に位置決めされる光学的に透明なプレートを配置する段階
をさらに有する請求項９０に記載の方法。
【請求項１００】
前記光学的に透明なプレートが冷却される請求項９９に記載の方法。
【請求項１０１】
前記光学的に透明なプレートが最小で３７℃、最大でマイナス２０℃まで冷却される請求項９９に記載の方法。
【請求項１０２】
第１の個々の照射領域が第２の個々の照射領域と隔てられる請求項９０に記載の方法。
【請求項１０３】
第１の個々の照射領域が第２の個々の照射領域と非照射の皮膚の部分によって隔てられる請求項９０に記載の方法。
【請求項１０４】
第１の電磁放射が第１セットのパラメータに関連し、第２の電磁放射が第２セットのパラメータに関連する請求項９０に記載の方法。
【請求項１０５】
少なくとも２つの個々の照射領域が、影響を受けない領域によってお互いに隔てられる請求項９０に記載の方法。
【請求項１０６】
少なくとも２つの個々の照射領域が、最小で約１２５μｍだけお互いに隔てられる請求項１０５に記載の方法。
【請求項１０７】
少なくとも２つの個々の照射領域が、最大で約５００μｍだけお互いに隔てられる請求項１０５に記載の方法。
【請求項１０８】
１平方センチメートルの面積中における少なくとも１００の個々の照射領域のあるものが、少なくとも１００の個々の照射領域の他のものと、影響を受けない領域によって隔てられる請求項９０に記載の方法。
【請求項１０９】
１平方センチメートルの面積中における少なくとも１０００の個々の照射領域のあるものが、少なくとも１０００の個々の照射領域の他のものと、影響を受けない領域によって隔てられる請求項９０に記載の方法。
【請求項１１０】
解剖学的構造の目標領域に対して使用できるように構成された少なくとも１つの電磁放射を供給することが可能な第１の設備と、
前記目標領域の第１の位置に少なくとも１つの電磁放射の少なくとも１つの第１の放射を、また前記目標領域の第２の位置に少なくとも１つの電磁放射の少なくとも１つの第２の放射を、指向することが可能な第２の設備と、
を含む皮膚科的状況を処置するための装置であって、
前記第１及び第２の位置には、互いにおよそ最小１０μｍ、最大２ｍｍの距離が与えられていることを特徴とする皮膚科的状況を処置するための装置。
【請求項１１１】
前記目標領域と前記第１の設備との間の相対速度情報を得ることを助けることが可能な第３の設備をさらに有し、前記相対速度情報は前記第２の設備によって使用できる請求項１１０に記載の装置。
【請求項１１２】
前記第２の設備は、前記電磁放射を、少なくとも１つの第１の放射と少なくとも１つの第２の放射に分離することが可能な請求項１１０に記載の装置。