Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月10日(2006.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水膨潤性かつ水不溶性の超吸収体材料からなる超吸収体材料であって、前記超吸収体材料が、０．９重量パーセント塩化ナトリウム溶液約２．０グラム／超吸収体材料１グラムの超吸収体材料膨潤レベルにおける第１ゲル床摩擦角と、０．９重量パーセント塩化ナトリウム溶液約２．０グラム／超吸収体材料１グラムより大きい超吸収体材料膨潤レベルにおいて、前記第１ゲル床摩擦角に実質的に等しいか、又はそれより小さいゲル床摩擦角とを有し、前記第１ゲル床摩擦角が、約２０度であるか又はそれより小さいことを特徴とする超吸収体材料。
【請求項２】
水膨潤性かつ水不溶性の超吸収体材料からなる超吸収体材料であって、前記超吸収体材料が、０．９重量パーセント塩化ナトリウム溶液約２．０グラム／超吸収体材料１グラムの超吸収体材料膨潤レベルにおける第１ゲル床摩擦角と、０．９重量パーセント塩化ナトリウム溶液約２．０グラム／超吸収体材料１グラムより大きい超吸収体材料膨潤レベルにおける、前記第１ゲル床摩擦角より大きいゲル床摩擦角とを有し、前記第１ゲル床摩擦角が、約２０度であるか又はそれより小さいことを特徴とする超吸収体材料。
【請求項３】
複数の湿潤可能な繊維と、
前記湿潤可能な繊維と組み合わせられ、０．９重量パーセント塩化ナトリウム溶液約２．０グラム／超吸収体材料１グラムの超吸収体材料膨潤レベルにおける第１ゲル床摩擦角と、０．９重量パーセント塩化ナトリウム溶液約２．０グラム／超吸収体材料１グラムより大きい超吸収体材料膨潤レベルにおける、前記第１ゲル床摩擦角に実質的に等しい、又はそれより小さいゲル床摩擦角とを有する、水膨潤性かつ水不溶性の超吸収体材料と、
を含み、前記第１ゲル床摩擦角が、約２０度であるか又はそれより小さいことを特徴とする吸収体複合材。
【請求項４】
複数の湿潤可能な繊維と、
前記湿潤可能な繊維と組み合わせられ、０．９重量パーセント塩化ナトリウム溶液約２．０グラム／超吸収体材料１グラムの超吸収体材料膨潤レベルにおける第１ゲル床摩擦角と、０．９重量パーセント塩化ナトリウム溶液約２．０グラム／超吸収体材料１グラムより大きい超吸収体材料膨潤レベルにおける、前記第１ゲル床摩擦角より大きいゲル床摩擦角とを有する、水膨潤性かつ水不溶性の超吸収体材料と、
を含み、前記第１ゲル床摩擦角が、約２０度であるか又はそれより小さいことを特徴とする吸収体複合材。
【請求項５】
水膨潤性かつ水不溶性の超吸収体材料からなる超吸収体材料であって、前記超吸収体材料が、前記超吸収体材料の第１超吸収体材料膨潤レベルにおける第１ゲル床摩擦角と、前記超吸収体材料の前記第１超吸収体材料膨潤レベルより大きい超吸収体材料膨潤レベルにおける、前記第１ゲル床摩擦角より大きいゲル床摩擦角とを有し、前記第１ゲル床摩擦角が、約２０度であるか又はそれより小さいことを特徴とする超吸収体材料。
【請求項６】
複数の湿潤可能な繊維と、
前記湿潤可能な繊維と組み合わせられ、前記超吸収体材料の第１超吸収体材料膨潤レベルにおける第１ゲル床摩擦角と、前記超吸収体材料の前記第１超吸収体材料膨潤レベルより大きい超吸収体材料膨潤レベルにおける、前記第１ゲル床摩擦角より大きいゲル床摩擦角とを有し、前記第１ゲル床摩擦角が、約２０度であるか又はそれより小さいことを特徴とする吸収体複合材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2005534476.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月5日(2006.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一つのコアと、少なくとも一つの連続外側層とから形成された少なくとも一つの結晶によって構成された非均一吸着剤において、前記吸着剤のコアは、吸着剤のボリュームの少なくとも３５％であるボリューム吸着容量を有し、かつ、外側層は、５より大きい拡散選択性を有することを特徴とする非均一吸着剤。
【請求項２】
コアのボリューム吸着容量が、吸着剤のボリュームの少なくとも４０％であることを特徴とする請求項１に記載の非均一吸着剤。
【請求項３】
拡散選択性が、１０より大きいことを特徴とする請求項１または２に記載の非均一吸着剤。
【請求項４】
コアの吸着容量が、連続外側層の吸着容量より大きいことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の非均一吸着剤。
【請求項５】
コアが、部分的または全体的に空であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の非均一吸着剤。
【請求項６】
コアが、結晶化されたミクロポア性固体またはメゾポア性固体を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の非均一吸着剤。
【請求項７】
連続外側層が、結晶化されたミクロポア性個体を含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載の非均一吸着剤。
【請求項８】
コアが、０．１μｍ〜０．４ｍｍの結晶サイズを有することを特徴とする請求項６に記載の非均一吸着剤。
【請求項９】
コアが、０．２μｍ〜５０μｍの結晶サイズを有することを特徴とする請求項８に記載の非均一吸着剤。
【請求項１０】
連続外側層が、０．０１〜１００μｍの厚さを有することを特徴とする請求項１〜９のいずれか１つに記載の非均一吸着剤。
【請求項１１】
連続外側層が、０．１〜１０μｍの厚さを有することを特徴とする請求項１０に記載の非均一吸着剤。
【請求項１２】
コアおよび前記連続外側層が、ゼオライト固体であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１つに記載の非均一吸着剤。
【請求項１３】
球形または円筒形の形状であることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１つに記載の非均一吸着剤。
【請求項１４】
コアの半径が、吸着剤の全体の半径の少なくとも４０％であること特徴とする請求項１３に記載の非均一吸着剤。
【請求項１５】
ガス分離工程または蒸気分離工程における、請求項１〜１４のいずれか１つに記載の吸着剤の使用。
【請求項１６】
液体分離工程における、請求項１〜１４のいずれか１つに記載の吸着剤の使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の別の実施形態によると、吸着剤のボリュームの少なくとも３５％であるボリューム吸着容量を有する吸着剤のコアが、０．１〜２０ｎｍの細孔直径を有する結晶化ミクロポア性固体または２０〜５００ｎｍの細孔直径を有する結晶化メゾポア性固体によって構成される吸着性物質から形成される。結晶化ミクロポア性固体の中から、例えばセラミック、粘土、柱状粘土（ｐｉｌｌａｒ  ｃｌａｙ）、活性炭素、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、ゼオライト（ＦＡＵ構造型（Ｘゼオライト、Ｙゼオライト）、ＢＥＡ構造型（ベータゼオライト）に属するゼオライト等）を選択することが可能である。結晶化メゾポア性固体の中で、ＭＣＭ−４１およびＭＣＭ−４８固体が特に好ましい。概して、０．１ｎｍ〜５００ｎｍの細孔サイズを有し、かつ、吸着剤のボリュームの少なくとも３５％、好ましくは、吸着剤のボリュームの少なくとも４０％、非常に好ましくは、吸着剤のボリュームの少なくとも４５％であるボリューム吸着容量を有する、結晶化されたまたはアモルファスのあらゆる細孔性ヘテロ構造が吸着剤のコアを形成するために適している。本発明による吸着剤のコアを構成する結晶のサイズは、有利には、０．１μｍ〜０．４ｍｍ、より有利には、０．２〜５０μｍ、より一層有利には、０．５〜５μｍである。吸着剤のコアは、無視してよい拡散抵抗を有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
（ここで、Ｒｃは、球体の半径であり、Ｄは拡散係数であり、分子が研究される固体の固定された距離を移動するために必要な平均時間を表している。）により規定される。
【表２】
2005534479.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
３ＭＰおよび２２ＤＭＢの特性拡散時間が２つの吸着剤において同一であることは明らかである。Ｘゼオライトにおけるこれら分子の拡散が非常に速いので、非均一吸着剤におけるこの固体の存在によって導かれる拡散抵抗は無視してよい。２つの吸着剤は、したがって、分離の拡散選択性の点において同一である。結論として、本発明による非均一吸着剤は、拡散選択性の特性を維持しながら、均一吸着剤の吸着容量を２倍にすることを可能にする。したがって、非均一吸着剤を形成するために吸着物質によって構成されたコアを吸着剤の構造に導入することによって、吸着容量における適切な向上、非常に満足な拡散選択性特性を保護する非均一吸着剤が導かれる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月14日(2006.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者体内の空間にアクセスしこれを照らすための外科処置システムにおいて、
前記患者体内に配置可能で、長さに沿って作業チャネルを画定している内壁面を有している牽引子と
少なくとも１つの壁部材と、前記少なくとも１つの壁部材に沿う少なくとも１つの光伝達要素とを含んでいる照明要素と、を備えており、
前記少なくとも１つの壁部材は、前記内壁面に沿って配置可能で、且つ前記内壁面と摩擦係合可能であり、前記摩擦係合は、前記照明要素の前記牽引子に対する位置を保つのに十分であるシステム。
【請求項２】
前記少なくとも１つの光伝達要素は、前記少なくとも１つの壁部材に沿って伸張し且つその周りに間隔を空けて配置されている複数の光伝達要素を含んでいる、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記少なくとも１つの壁部材は、内壁部材と外壁部材を含んでおり、前記複数の光伝達要素は、前記内壁部材と前記外壁部材の間の通路内に配置されている、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記複数の光伝達要素は光ファイバを備えている、請求項２に記載のシステム。
【請求項５】
前記少なくとも１つの壁部材は、前記内壁面に沿うように曲げることができる、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記牽引子の前記内壁面は、前記作業チャネルを実質的に取り囲み、前記照明要素の前記少なくとも１つの壁部材は、前記内壁面の少なくとも約５０パーセントに亘って伸張している、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記少なくとも１つの壁部材が前記内壁面と摩擦係合を維持している状態で、前記照明要素を前記内壁面に沿って軸方向に動かすことができる、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記少なくとも１つの壁部材が前記内壁面と摩擦係合を維持している状態で、前記照明要素を前記内壁面に沿って周方向に動かすことができる、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記少なくとも１つの壁部材は、前記牽引子の前記内壁面に沿って配置可能な凸状に湾曲した面を含んでいる第１壁部材と、前記凸状に湾曲した壁面に対向して凹状に湾曲した壁面を含んでいる第２壁部材とを含んでいる、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
前記第１及び第２壁部材は、両側の側方エッジの間に伸張している、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記第１及び第２壁部材は、前記両側の側方エッジに沿って互いに連結されている、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記第１及び第２壁部材は、前記両側の側方エッジの間で、前記内壁面に沿ってその５０パーセントを越えて伸張している、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１３】
前記第１及び第２壁部材は、不透明材料で構成されている、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１４】
前記凹状に湾曲した壁面は、前記作業チャネルに平行な通路を形成している、請求項９に記載のシステム。
【請求項１５】
前記牽引子は管である、請求項１に記載のシステム。
【請求項１６】
外科処置用照明器具において、
一対の壁部材と、前記一対の壁部材の間の少なくとも１つの光伝達要素とを含んでいる照明要素を備えており、前記一対の壁部材は、前記照明要素の凹状に湾曲した内壁面と、これに対向する凸状に湾曲した外壁面を形成しており、前記壁部材は、前記照明要素が配置されている通路に沿うように曲げることができる器具。
【請求項１７】
前記一対の壁部材は両側の側方エッジの間に伸張している、請求項１６に記載の器具。
【請求項１８】
前記一対の壁部材は、前記両側の側方エッジの間に半円形状を形成している、請求項１７に記載の器具。
【請求項１９】
前記少なくとも１つの光伝達要素は、前記一対の壁部材に沿って伸張し、且つその間にに間隔を空けて配置された複数の光伝達要素を含んでいる、請求項１６に記載の器具。
【請求項２０】
前記複数の光伝達要素は、前記一対の壁部材の間の通路に配置されている、請求項１９に記載の器具。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
或る特定の実施形態では、照明要素６０は、プラスチック製の光ファイバの形態で形成された光伝達要素６６の両側に沿って配置された一対のステンレス鋼板で構成されている。別の実施形態では、壁部材６２、６４が光の通過を防ぐ不透明材料で構成され、光伝達要素６６の遠位端を通して光が集束されるようになっている。他の実施形態は、照明要素６０を他の材料で、例えば、プラスチック材料又は他の金属及び合金などで作ることを考えている。照明要素６０は、筒状で、牽引子の内壁面と摩擦係合するようになっている場合も考えている。また、照明要素６０を、フック状部材、セットスクリュー、又は他の連結装置などを介して牽引子の近位端に連結することも考えられる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月14日(2006.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ビームを発する光源と、
サンプル空間と、
光検出器と、
干渉計機構であって、リファレンス用反射器と、前記光ビームを前記リファレンス用反射器へ向かうリファレンスビームと前記サンプル空間へ向かうサンプルビームとに分割し、前記光検出器上において、前記リファレンス用反射器からの反射ビームを前記サンプル空間からの戻りビームと結合するビームスプリッタ−結合機構とを含む干渉計機構とを備え、
前記光源が、１．６μｍから２．０μｍの範囲内にある出射波長を有し、特に、高エネルギー準位と低エネルギー準位との間の遷移に対応する１．８μｍの波長において、主たる赤外出射を有しており、
前記光源が、ポンピング準位から前記高エネルギー準位への誘導放射を発生させる励起システムを含んでいることを特徴とする光コヒーレンストモグラフィーシステム。
【請求項２】
前記光源が、互いに向かい合ったキャビティ反射器の光キャビティ内に配された、Ｔｍドープファイバーを含んでいることを特徴とする請求項１記載の光コヒーレンストモグラフィーシステム。
【請求項３】
前記キャビティ反射器が、７６０ｎｍから８１０ｎｍの波長範囲に対する反射防止コーティングを施されていることを特徴とする請求項２記載の光コヒーレンストモグラフィーシステム。
【請求項４】
前記キャビティ反射器または該キャビティ反射器のコーティングが、２．２μｍから２．４μｍの波長範囲に対して、高反射率を有していることを特徴とする請求項２または３記載の光コヒーレンストモグラフィーシステム。
【請求項５】
前記キャビティ反射器または該キャビティ反射器のコーティングが、２．２μｍから２．４μｍの波長範囲および／または１．４０μｍから１．５μｍの波長範囲に対して、高反射率を有していることを特徴とする請求項２、３または４記載の光コヒーレンストモグラフィーシステム。
【請求項６】
前記光キャビティが、１．６−２．０μｍの波長範囲に対して、０．０４未満の反射率を有していることを特徴とする請求項２記載の光コヒーレンストモグラフィーシステム。
【請求項７】
入射側のキャビティ反射器または該キャビティ反射器のコーティングが、１．６μｍから２．０μｍの波長範囲に対して、高反射率を有しており、
出射側のキャビティ反射器または該キャビティ反射器のコーティングが、１．６μｍから２．０μｍの波長範囲に対して、低反射率を有していることを特徴とする請求項６記載の光コヒーレンストモグラフィーシステム。
【請求項８】
互いに向かい合ったキャビティ反射器の光キャビティ内に配された、Ｔｍドープファイバーを含み、
前記キャビティ反射器が、１．６μｍから２．０μｍの波長範囲に対する反射防止コーティングを有しており、特に１．８μｍの波長に対する反射防止コーティングを施されていることを特徴とする光増幅器。
【請求項９】
Ｔｍドープファイバーであって、該ファイバーの長軸に沿って延在するファイバーコアと、該ファイバーコアを取り巻く二重クラッドとを有することを特徴とするファイバー。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月21日(2006.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
後面、ならびに垂直経線、水平経線、中央オプチカルゾーン、中央オプチカルゾーンから外に延びる複合ゾーン、複合ゾーンを包囲する周辺ゾーン、及び周辺ゾーンに接し、一点で共通の接平面を有するエッジゾーンを含む前面を含むコンタクトレンズであって、
複合ゾーンが、周辺ゾーン、複合ゾーン及び中央オプチカルゾーンが互いに一点で共通の接平面を有することを保証する面を有し、
周辺ゾーンが面を有し、その面が、後面と組み合わさって、（１）レンズ頂部から垂直経線及び垂直経線に平行な線それぞれに沿って下向きに累進的に増大してオプチカルゾーンとエッジゾーンとの間の位置で最大値に達したのち、エッジゾーンの縁まで減少するレンズ厚さを有すること、又は（２）垂直経線を通る平面に対して鏡像対称性を有し、水平経線の周囲の領域で実質的に一定の厚さを有し、水平経線から垂直経線及び垂直経線に平行な線それぞれに沿ってコンタクトレンズの頂部又は底部まで累進的に減少する厚さを有することを特徴とする厚さ分布をレンズの周辺ゾーンに提供するコンタクトレンズ。
【請求項２】
周辺ゾーンの面積が中央オプチカルゾーンの面積以上である、請求項１記載のコンタクトレンズ。
【請求項３】
厚さ分布が、レンズ頂部から垂直経線及び垂直経線に平行な線それぞれに沿って下向きに累進的に増大してオプチカルゾーンとエッジゾーンとの間の位置で最大値に達したのち、エッジゾーンの縁まで減少するレンズ厚さを有することを特徴とする、請求項１及び２記載のコンタクトレンズ。
【請求項４】
厚さ分布が、垂直経線を通過する平面に対して鏡像対称性を有すること、水平経線の周囲の領域で実質的に一定の厚さを有すること、及び水平経線から垂直経線及び垂直経線に平行な線それぞれに沿ってコンタクトレンズの頂部又は底部まで累進的に減少する厚さを有することを特徴とする、請求項１及び２記載のコンタクトレンズ。
【請求項５】
前面が、レンズの片側からレンズの他方の側まで延びる一連の等値線を有し、周辺ゾーンのレンズの厚さが一連の等値線それぞれに沿って実質的に一定のままである、請求項３及び４記載のコンタクトレンズ。
【請求項６】
等値線の一つが、水平経線と合致する直線であり、残りの等値線が弓形であり、水平経線よりも上の各弓形が互いに異なり、開眼位置での目の上まぶたの縁の一つの弓形を模し、水平経線よりも下の各弓形が互いに異なり、開眼位置での目の下まぶたの縁の一つの弓形を模す、請求項５記載のコンタクトレンズ。
【請求項７】
周辺ゾーンが、中央オプチカルゾーンの下方に配置されたうね構造を含み、このうね構造が、前面から外に延びてユーザの下まぶたとの係合を可能にし、それにより、ユーザによって装用されたときコンタクトレンズに対して垂直並進支持を提供する、請求項３及び４記載のコンタクトレンズ。
【請求項８】
周辺ゾーンが、オプチカルゾーンの下方に配置された斜面付きうねゾーンを含み、斜面付きうねゾーンが、上縁、斜面付き下縁、前面から外に延びる緯線方向うね及び斜面付き下縁と周辺ゾーンの包囲面との滑らかな移行を保証する複合ゾーンである傾斜部を含む、請求項３及び４記載のコンタクトレンズ。
【請求項９】
斜面付き下縁及び緯線方向うねが平坦化された形状である、請求項８記載のコンタクトレンズ。
【請求項１０】
周囲ゾーン全体が、第一導関数及び／又は第二導関数の連続性を有する、請求項３及び４記載のコンタクトレンズ。
【請求項１１】
周辺ゾーンが、スプラインベースの数学的関数によって画定されているか、いくつかの異なる表面パッチでできている、請求項１０記載のコンタクトレンズ。
【請求項１２】
トーリック、多焦点又はトーリック多焦点コンタクトレンズである、請求項３及び４記載のコンタクトレンズ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月20日(2006.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
約10ミクロン未満の実質的に一様な厚さを有し、入射放射を伝搬させるのに適し、かつ中心波長の周りの波長範囲で動作するのに適した複屈折デバイスであって、
ベース基板と、
交互に異なる屈折率を有し、異なる前記ベース基板の第1の表面に付着させられた周期的屈折率層から成り、中心波長よりも短い周期性を有する層と、
前記ベース基板に対して遠位に前記層に実質的に隣接して配置されたキャップ基板とを含み、
0位相と2Π位相との間の任意の位相遅れを生じさせるのに適したデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月11日(2006.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィックテンプレートの形成方法であって、
最上面を有し、該最上面にレリーフ構造が形成され、該レリーフ構造に少なくとも一つのギャップ欠陥を有するリソグラフィックテンプレートを設ける工程と、
直描可能な材料をリソグラフィックテンプレートのレリーフ構造の上およびギャップ欠陥内に設ける工程と、
直描可能な材料に描画を行なうことにより、ギャップ欠陥内に描画された材料の層を形成する工程と、
全ての過剰な直描可能な材料をリソグラフィックテンプレートのレリーフ構造から取り除く工程とを含み、ギャップ欠陥が修復された後、描画された材料の層の少なくとも一部がギャップ欠陥内に残る、リソグラフィックテンプレートの形成方法。
【請求項２】
リソグラフィックテンプレートの形成方法であって、
最上面を有する基板を設ける工程と、
基板によって支持されるパターニング層を設ける工程と、
パターニング層をパターニングすることにより、レリーフ構造を有するパターニングされたレリーフ層とそのパターニングされたレリーフ層に存在する少なくとも一つのギャップ欠陥とを形成する工程、
直描可能な酸化物材料をパターニングされたレリーフ層上およびギャップ欠陥内に設ける工程と、
直描可能な酸化物材料に描画を行なうことにより、描画された酸化物から成る層をギャップ欠陥内に形成する工程と、
全ての過剰な直描可能な酸化物材料をパターニングされたレリーフ層から取り除く工程とを含み、ギャップ欠陥が修復された後、描画された材料の層の少なくとも一部がギャップ欠陥内に残る、リソグラフィックテンプレートの形成方法。
【請求項３】
表面を有するリソグラフィックテンプレートと、
リソグラフィックテンプレートの表面に形成されるレリーフ構造と、
レリーフ構造に形成される修復されたギャップ欠陥とを備えるリソグラフィックテンプレート。
【請求項４】
デバイスを製造するための方法であって、
基板を設ける工程と、
基板を放射線感受性材料層により被覆する工程と、
リソグラフィックテンプレートを形成する工程であって、該リソグラフィックテンプレートが、
表面を有するリソグラフィックテンプレートと、
リソグラフィックテンプレートの表面に形成されたレリーフ構造と、
レリーフ構造に形成された修復されたギャップ欠陥とを備える、工程と、
リソグラフィックテンプレートが、テンプレートと基板との間に位置する放射線感受性材料層に接触するように、リソグラフィックテンプレートを配置する工程と、
テンプレートに圧力を加える工程であって、それにより、放射線感受性材料層がテンプレート上のレリーフパターンに流れ込むようになる、工程と、
リソグラフィックテンプレートに光照射して、基板上の放射線感受性材料層の少なくとも一部を感光させることにより、放射線感受性材料層におけるパターンにさらに影響を与える工程と、
テンプレートを基板から取り外す工程とを備える方法。
【請求項５】
ギャップ欠陥と無関係である過剰な描画された材料を取り除く工程であって、それにより、修復されたギャップ欠陥を有する完成したリソグラフィックテンプレートを生成する工程をさらに有する請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月24日(2006.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
単色光源、単一ラインレーザー、多重ラインレーザー及び発光ダイオードのうちの少なくとも１つから成る励起源、
試料チャンバ、
前記励起源により発出された光を受光するべく位置づけされた第１の集光素子、
前記励起源により励起された試料により発出された光を受光するように位置づけされた、光検出用の第１の検出器、及び
前記第１の検出器で受光したデータを処理し、自己相関データ、相互相関データ又はそれらの組合せを含むデータを提供するための、前記第１の検出器に結合された相関器、
を有して成る、ポータブル式螢光相関分光器。
【請求項２】
前記第１の集光素子が集光レンズ及び光ファイバのうちの少なくとも１つを有して成る、請求項１に記載の分光器。
【請求項３】
試料体積中で前記励起源により発出された光を集束するべく位置づけされた第２の集光素子をさらに有して成り、前記第２の集光素子は集光レンズ及び光ファイバのうちの少なくとも１つを有して成る請求項１又は２に記載の分光器。
【請求項４】
前記試料チャンバがフローチャンバを有して成る、請求項１〜３のいずれか一項に記載の分光器。
【請求項５】
第２の集光素子をさらに有して成り、前記第１の集光素子は前記第２の集光素子と直交関係にあるか又は前記第２の集光素子と線形の関係にある、請求項１に記載の分光器。
【請求項６】
前記第２の集光素子からの光を受光し前記第１の検出器まで前記光を透過させるように位置づけされた吸収フィルタをさらに有して成る、請求項３又は５に記載の分光器。
【請求項７】
前記励起源から光を受光するように位置づけされた第１のダイクロマティックミラー、  前記ダイクロマティックミラーから反射された光を受光するように位置づけされた第２の集光素子、
アパーチャ、
前記第１のダイクロマティックミラーを通し、かつ前記アパーチャを通して透過させられた光を受光するように位置づけされた第３の集光素子、及び
前記第３の集光素子を通して透過させられた光を受光するように位置づけされた第２のダイクロマティックミラー、
をさらに有して成り、
前記第１の検出器が、前記第２のダイクロマティックミラーから反射された光、及び前記第２のダイクロマティックミラーを通して透過させられた光のうちの少なくとも１つを受光するように位置づけされている、請求項１に記載の分光器。
【請求項８】
前記励起源から光を受光するように位置づけされた第１のダイクロマティックミラー、
前記第１のダイクロマティックミラーにより反射された光を受光するように位置づけされた第２の集光素子、
前記ダイクロマティックミラーを通して透過させられた光を受光するように位置づけされた第３の集光素子、
前記第３の集光素子を通過する光を受光するように位置づけされた第２のダイクロマティックミラー、及び
アパーチャ及び光ファイバのうちの少なくとも１つを有して成るコンポーネント、
をさらに有して成り、
前記第１の検出器が、前記コンポーネントを通して前記第２のダイクロマティックミラーから反射された光、及び前記コンポーネントを通し前記第２のダイクロマティックミラーを通って透過させられた光のうちの少なくとも１つを受光するように位置づけされている、請求項１に記載の分光器。
【請求項９】
前記第２のダイクロマティックミラーから反射された光、及び前記第２のダイクロマティックミラーを通して透過させられた光のうちの少なくとも１つを受光するように位置づけされている第２の検出器、
前記第２のダイクロマティックミラーから反射された光を受光するように位置づけされた第１の吸収フィルタ、及び
前記第２のダイクロマティックミラーを通って透過させられた光を受光するように位置づけされた第２の吸収フィルタのうちの少なくとも１つをさらに有して成る、請求項７又は８に記載の分光器。
【請求項１０】
前記第１の集光素子は前記励起源によって発出された光を受光するように位置づけされた光ファイバを有して成り、前記光ファイバは前記試料チャンバ内に配置された端部を有し、前記の分光器は第２の集光素子をさらに有して成り、前記第２の集光素子は前記光ファイバの前記端部上に焦点合わせされている、請求項１又は５に記載の分光器。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月31日(2006.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプル中の構成要素をアッセイする方法であって、当該方法が以下のステップ：
サンプルを照射で励起し、ここで当該サンプルが以下の：
未知標的、病原体要素、毒素、及びコンビナトリアル・ライブラリーの構成要素の少なくとも１つ、
少なくとも１のプローブ、及び
少なくとも１の蛍光タグ、
を含み；
上記サンプルのサブボリュームから蛍光を計測し；そして
当該蛍光のゆらぎを分析する
を含む、前記方法。
【請求項２】
前記サンプルが、以下の： 
ａ.  複数の固有質量増大成分、ここで各固有の質量増大成分が固有の質量を有する
ｂ．  複数の標的；
ｃ．  複数の蛍光タグ；及び
ｄ．  複数のプローブ；
のうちの少なくとも１つをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記サンプルが、複数の固有プローブを含み、ここで各固有プローブが固有の蛍光タグと固有の結合部位を含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記サンプルが、複数の固有質量増大成分、（ここで各固有質量増大成分は、固有の質量を有する）、複数の標的、複数の蛍光タグ、及び複数のプローブを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記分析が、以下の：
ａ）  蛍光強度のゆらぎの大きさと、蛍光ゆらぎの相関期間のうちの少なくとも１を測定し、
ｂ）  前記サンプルの相互相関関数と前記サンプルの自己相関関数のうちの少なくとも１を含む相関関数を測定し、
ｃ）  モーメント解析、フーリエ変換解析、及びパワー・スペクトル分析の内の少なくとも１を含む分析を行い、
ｄ）  前記サンプルの相互相関関数と前記サンプルの自己相関関数のうちの少なくとも１を含む相関関数を測定し、そして相関関数の減衰時間を測定し、
ｅ）  前記サンプルの相互相関関数と前記サンプルの自己相関関数のうちの少なくとも１を含む相関関数を測定し、そして相関関数の時間０値を測定し、
ｆ）  前記サンプルの真の自己相関関数を測定し、
ｇ）  前記サンプルの真の相互相関関数を測定し、そして
ｈ）  前記サンプルの真の相関関数を測定し、ここで当該測定が以下の：
蛍光相関分光装置からサンプルの計測された相関関数を取得し、そして
当該計測された相関関数に補正アルゴリズムを適用することを含む、
のうちの少なくとも１つを含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記プローブが、複数の固有プローブであって、固有蛍光タグ及び固有ビーズのうちの少なくとも１を含む固有プローブを含み、そして前記分析が以下の：
前記複数の固有プローブの各々の粒子割合、
前記複数の固有プローブの各々の自己相関関数、及び
前記複数の固有プローブの各々の相互相関関数
の内の少なくとも１を測定することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
以下の：
複数の固有ビーズ、ここで各固有ビーズが異なるサイズを有し；及び
固有標的に結合するように適合される複数のプローブ、ここで当該プローブは、上記ビーズに結合する
を含むキット。
【請求項８】
前記キットがさらに、複数の蛍光タグを含む、請求項７に記載のキット。
【請求項９】
サンプルの真の相関関数の測定用コンピューター・プログラムを記録するコンピューターが読み込み可能な媒体を含む製品であって、当該コンピューター・プログラムが以下の：
該サンプルの計測された相関関数を取得するための第一コード・セグメント；及び
計測された相関関数に補正アルゴリズムを適用するための第二コード・セグメント；
を含む、前記製品。
【請求項１０】
サンプルの真の相関関数の測定用システムであって、当該システムが、サンプルに関する情報を記憶するメモリー装置、並びに蛍光相関分光装置からのサンプルの計測された相関関数を求め、そして計測された相関関数に補正アルゴリズムを適用する指令でプログラムされるプロセッサーを含む、前記システム。
【請求項１１】
前記サンプルの真の相関関数の測定用蛍光相関分光装置であって、該装置が、以下の：
励起源；
当該サンプルの蛍光を計測する第一検出器と第二検出器；
請求項１０に記載されるシステム
を含む、前記装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月21日(2006.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心軸と、第一の中央オプチカルゾーンを有する前面と、第二の中央オプチカルゾーンを有する反対側の後面と、を含むトーリック多焦点コンタクトレンズであって、
第一の中央オプチカルゾーン及び第二の中央オプチカルゾーンの一方が、中央円形区域及び中央円形区域を包囲する環状領域を有し、中央円形区域が、１．０〜３．０mmの直径を有し、近見視力矯正及び場合によっては中間視力矯正のための累進度数付加ゾーンであり、環状領域が、遠見視力矯正のための光学度数を有する球面又は非球面を有し、中央円形区域及び環状領域が中心軸とで同心であり、
第一の中央オプチカルゾーン及び第二の中央オプチカルゾーンの他方がトロイダル面又は双円錐面であり、
累進度数付加ゾーンが、方程式（３）の二以上の一次関数又は方程式（４）もしくは方程式（５）
【数１】
2005534966.tif 000001
（式中、ｐ（ｘ）は、中心から距離ｘのところでの付加度数であり、ｂiは、直線の切片である係数であり、ｋiは、中心からの距離の関数としての付加度数の変化率であり、Ａは、最大付加度数であり、Ｄは、累進度数付加ゾーンの直径であり、ｎは、１よりも大かつ１０以下である整数又は非整数であることができる任意の数である）
によって画定される度数付加プロフィールを提供する表面を有し、
第一及び第二の中央オプチカルゾーンが組み合わさって、乱視性視覚異常を矯正するための円柱光学度数及び老眼を補正するための多焦点度数を提供するトーリック多焦点コンタクトレンズ。
【請求項２】
度数付加プロフィールが、ｐ（ｘ）＝ｂ1＋ｋ1ｘの第一の一次関数及びｐ（ｘ）＝ｂ2＋ｋ2ｘの第二の一次関数（式中、ｂ1は、３〜１０の値を有し、ｋ1は、−１〜−１０の値を有し、ｂ2は、５〜１２であり、ｋ2は、−５〜−１３である）によって画定される、請求項１記載のトーリック多焦点コンタクトレンズ。
【請求項３】
度数付加プロフィールが方程式（４）（式中、Ａは、３〜１０の値を有する）によって画定される、請求項１記載のトーリック多焦点コンタクトレンズ。
【請求項４】
度数付加プロフィールが方程式（５）（式中、Ａは、３〜１０の値を有し、３≦ｎ≦５である）によって画定される、請求項１記載のトーリック多焦点コンタクトレンズ。
【請求項５】
前記累進度数ゾーンの直径Ｄが１．８mm〜２．３mmである、請求項１記載のトーリック多焦点コンタクトレンズ。
【請求項６】
前記第一の中央オプチカルゾーンが前記中央円形区域及び前記中央円形区域を包囲する前記環状領域を有し、前記第二の中央オプチカルゾーンが前記トロイダル面又は前記双円錐面である、請求項１記載のトーリック多焦点コンタクトレンズ。
【請求項７】
ソフトレンズである、請求項１記載のトーリック多焦点コンタクトレンズ。
【請求項８】
累進度数付加ゾーンの面が、（Ｉ）方程式（３）〜（５）のいずれか一つにしたがってＸ軸に沿って一連の別個の度数点を計算／生成し、（II）スプラインベースの関数を使用して、一連の計算された度数点それぞれを通過し、中心軸に対して垂直であり、環状領域の曲線に正接する曲線を記述し、（III）前記曲線を中心軸を中心に回転させることによって得られる、請求項１記載のトーリック多焦点コンタクトレンズ。
【請求項９】
一連の度数点の数が１０〜３０であり、一連の度数点がＸ軸に沿って均等に分布している、請求項８記載のトーリック多焦点コンタクトレンズ。
【請求項１０】
中心軸と、第一の中央オプチカルゾーンを有する前面と、第二の中央オプチカルゾーンを有する反対側の後面と、を含むトーリック多焦点コンタクトレンズであって、
第一の中央オプチカルゾーン及び第二の中央オプチカルゾーンの少なくとも一方が、中央円形区域及び中央円形区域を包囲する環状領域を有し、中心から環状領域の内周縁まで累進的に低下したのち実質的に一定にとどまる度数を一連の経線それぞれに沿って提供する面を有し、一連の経線それぞれに沿う前記円形区域の度数プロフィールが、方程式（６）又は方程式（７）もしくは（８）
【数４】
2005534966.tif 000002
（式中、ｐθ（ｘ）は、前記円形区域内で中心から経線に沿って距離ｘのところでの度数であり、ｂiは、直線の切片である係数であり、ｋiは、中心からの距離の関数としての付加度数の変化率であり、ｐθは、その経線沿いのベース度数である）の少なくとも二つの一次関数によって記述され、
中央円形区域が１．０〜３．０mmの直径を有し、
中央円形区域及び環状領域が中心軸とで同心であり、乱視性視覚異常を矯正するための一つの同一の円柱光学度数を提供するトーリック多焦点コンタクトレンズ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月7日(2006.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶セルを駆動する方法であって：
データソースからデータソース信号を受け取る段階；
前のフレームから前記液晶セルに残留している残留電圧レベルを測定する段階；
前記データソースの信号及び前記残留電圧レベルの関数として駆動信号を計算する段階；
前記液晶セルに前記駆動信号を加える段階；
を有することを特徴とする方法。
【請求項２】
液晶表示ドライバ回路であって：
液晶セルのセル電圧を検出するため及び前記セル電圧を表す出力信号を検出手段に供給する検出手段；
一方で、データソース信号に基づいてデータ駆動信号を、他方で、前記検出手段の出力信号を、生成する駆動電圧生成手段；
前記液晶セルにこのように生成したデータ駆動信号を加える駆動信号印加手段；並びに
前記駆動信号印加手段及び前記検出手段のタイミングを制御するスイッチ制御部；
を有することを特徴とする液晶表示ドライバ回路。
【請求項３】
請求項２に記載の液晶表示ドライバ回路であって：
データソースの出力に結合されるデータ信号入力；
ゲートパルスソースに結合されるゲート信号入力；
液晶表示装置のデータラインに結合された回路出力；
を有する液晶表示ドライバ回路であり、
前記駆動信号印加手段は、前記駆動電圧生成手段の第２入力と前記回路出力との間で結合され；
前記検出手段は、前記駆動電圧生成手段の第２入力と前記回路出力との間で結合される；
ことを特徴とする液晶表示ドライバ回路。
【請求項４】
請求項３に記載の液晶表示ドライバ回路であって、前記検出手段は、前記駆動電圧生成手段の前記第２入力に結合された出力を有するラッチを有する、ことを特徴とする液晶表示ドライバ回路。
【請求項５】
請求項３に記載の液晶表示ドライバ回路であって：
前記駆動信号印加手段は前記スイッチ制御部の第１出力に結合された制御入力を有する第１制御可能スイッチを有する、液晶表示ドライバ回路であり；
前記検出手段は、前記制御部の第２出力に結合された制御入力を有し；
前記スイッチ制御部は前記ゲート信号入力に結合された入力を有する；
ことを特徴とする液晶表示ドライバ回路。
【請求項６】
請求項５に記載の液晶表示ドライバ回路であって、入力においてゲートパルスを受け取るとき、前記スイッチ制御部は：
検出パルスが、ゲートパルスの持続時間より短い所定の持続時間を有するように、第２制御可能スイッチが前記検出パルスの持続時間の間に導通状態にスイッチングされるように、前記第２制御可能スイッチのための前記第２制御信号として前記検出パルスを第２出力において生成するように；並びに
前記駆動パルスの前記持続時間が、ゲートパルスの持続時間引く前記所定の持続時間に実質的に等しいように、前記第１制御可能スイッチが前記駆動パルスの前記持続時間の間に導通状態にスイッチングされるように、前記第１制御可能スイッチのための前記第１制御信号として駆動パルスを生成するように；
適合される、ことを特徴とする液晶表示ドライバ回路。
【請求項７】
請求項６に記載の液晶表示ドライバ回路であって、前記スイッチ制御部は：
前記所定の持続時間を有する第１出力パルスを第１出力において生成するように適合された、ゲートパルスの立ち上がりエッジによりトリガ可能なモノパルス生成部であって、前記第１出力は前記スイッチ制御部の前記第２出力に結合される、モノパルス生成部；及び
前記スイッチ制御部の前記入力に結合された１つの入力を有し、前記モノパルス生成部と逆の出力パルスを受け取るために結合された他の入力を有するＡＮＤゲートであって、該ＡＮＤゲートの出力は前記スイッチ制御部の前記第１出力に結合されている、ＡＮＤゲート；
を有する、ことを特徴とする液晶表示ドライバ回路。
【請求項８】
請求項２に記載の液晶表示ドライバ回路であって、前記駆動電圧生成手段は：
前記データソース信号と前記検出手段出力信号とを受け取るための関数計算ユニット；
前記関数計算ユニットの出力である補正信号に前記データソース信号を加えるための加算器；及び
前記駆動電圧生成手段の出力である、前記加算器の出力；
を有する、ことを特徴とする液晶表示ドライバ回路。
【請求項９】
行及び列の状態に配列された画素のマトリクスを有する液晶表示装置であって、各々の画素は、ドライバトランジスタのドレイン電極に接続された１つの端子を有する液晶セルと、列データラインに接続されたドライバトランジスタのソース電極と、行ゲートラインに接続されたドライバトランジスタのゲート電極とを有する、液晶表示装置であり：
各々の行ゲートラインはゲートドライバの対応する出力に結合されており；
各々の列データラインは請求項２に記載の液晶表示ドライバ回路に関連し、各々の列データラインは前記の関連するドライバ回路の出力に結合され、この関連するドライバ回路のデータ入力はデータドライバの対応する出力に結合されている；
ことを特徴とする液晶表示ドライバ回路。
【請求項１０】
集積データソースであって：
データソース信号を供給する出力を有するデータソース；及び
請求項２に記載の液晶表示ドライバ回路；
を有することを特徴とする集積データソース。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月30日(2006.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前方表面および後方表面を有するコンタクトレンズであって、該表面のうちの少なくとも一つが非回転対称であり、さらには該非回転対称表面が、複数の異なる形状の放射状に隣接するゾーンを有し、該レンズは、１つの３次多項式によって定義される断面プロフィールを有する結合融合ゾーンを有する、コンタクトレンズ。
【請求項２】
請求項１に記載のコンタクトレンズであって、前記非回転対称表面がさらに、複数の方位角状に隣接する融合ゾーンを有し、完全な融合ゾーンを描く、コンタクトレンズ。
【請求項３】
請求項２に記載のコンタクトレンズであって、１５°間隔で総計２４の融合ゾーンを有し、全３６０°の融合ゾーン表面を描く、コンタクトレンズ。
【請求項４】
第１ゾーンプロフィールおよび該第１ゾーンプロフィールに放射状に隣接する異なる第２ゾーンプロフィールを含む断面表面プロフィールを有し、該第１ゾーンプロフィールおよび該第２ゾーンプロフィールを滑らかかつ連続的に結合する融合ゾーンを有するコンタクトレンズであって、該融合ゾーンプロフィールが１つの３次多項式で定義される、コンタクトレンズ。
【請求項５】
請求項４に記載のコンタクトレンズであって、複数の方位角状に隣接する融合ゾーンプロフィールを有し、完全な融合ゾーン表面を描く、コンタクトレンズ。
【請求項６】
請求項５に記載のコンタクトレンズであって、３６０°の表面にわたって、１５°の増分間隔で方位角状に配置された２４の融合ゾーンプロフィールを含む、コンタクトレンズ。
【請求項７】
滑らかでかつ連続な表面を形成するため、少なくとも２つの放射状に隣接する異なるゾーンを結合することを必要とする光学収差補正レンズ用非回転対称表面を設計する方法であって、以下：
少なくとも２つのゾーンの間に、滑らかかつ連続的な通路を決定する工程であって、該融合通路が、１つの３次多項式：
ｚ（ｘ）＝ａ１＋ａ２・ｘ＋ａ３・ｘ２＋ａ４・ｘ３
によって定義される経線断面プロフィールを有し、ここで、ｚ（ｘ）は融合ゾーンプロフィールのサッグ値である、工程、
を包含する、方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法であって、さらに以下：
ａ）選択された経線の、ｘ１、ｚ１、ｘ２、ｚ２およびｍ１、ｍ２の値を得る工程であって、ここで（ｘ１，ｚ１）および（ｘ２，ｚ２）は、それぞれ、前記第１経線断面表面ゾーンプロフィールおよび前記第２経線断面表面ゾーンプロフィールの終点座標および始点座標であって、代表的には前記第１ゾーン表面および前記放射状に隣接する異なる第２ゾーン表面を表し、そしてｍ１およびｍ２は（ｘ１，ｚ１）および（ｘ２，ｚ２）での傾き値である、工程；
ｂ）未知係数ａｎについて多項方程式を解き、該経線断面融合ゾーンプロフィールを決定する工程；および
ｃ）異なる選択された経線について、工程（ａ）および（ｂ）を繰り返す、工程、
を包含する、方法。
【請求項９】
請求項８に記載の方法であって、ａ１、ａ２、ａ３、ａ４の解が、以下の式：
【数１】
2005534961.tif 000001
で得られる、方法。
【請求項１０】
非回転対称表面を有する光学レンズを製造するシステムであって、以下：
装置であって、光学収差補正を供与するため、変更される予定の表面を有する光学素子と共同的に連動可能であり、実行可能な命令上に際して該光学素子の表面を変更するのに適している、装置；
制御システムであって、動作上該装置と関連し、ならびに該命令を含む媒体を受けとり、実行するために該装置に該命令を供与するのに適合化された制御システム；
および、媒体であって、制御システムにより読み取りし、ならびに装置による命令の実行に適した、実施可能な命令を含む媒体を含み、
ここで、該命令が、該装置に、非回転対称表面の第１断面表面プロフィールと非回転対称表面の放射状に隣接する異なる第２断面表面の間に、滑らかかつ連続な融合ゾーン表面プロフィールを形成するように命令し、ここで該融合表面プロフィールは１つの３次多項式
ｚ（ｘ）＝ａ１＋ａ２・ｘ＋ａ３・ｘ２＋ａ４・ｘ３
（ここで、ｚ（ｘ）は融合ゾーンプロフィールのサッグ値である）
によって定義される、システム。
【請求項１１】
請求項１０に記載のシステムであって、前記装置が数値制御旋盤である、システム。
【請求項１２】
請求項１０に記載のシステムであって、前記装置がレーザーである、システム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月25日(2006.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
ポスト混合された酸化アルミニウム及び水酸化アルミニウムの粒子サイズが０．１〜１０ミクロンの範囲であるところの、請求項１〜３のいずれか１項に記載のトナー組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
各ポスト混合される添加物成分の粒子サイズは０．０１〜１０ミクロンの範囲、好ましくは０．１〜１０ミクロンの範囲であり、一般的にトナー粒子の自身のサイズよりは下であるべきである。しかし例外として、摩擦帯電添加物質、例えば静電印刷又は静電複製工程の施与条件下、溶融するワックスの場合、より大きな粒子が原則として使用され得る。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月12日(2006.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板を提供する工程と、
前記透明基板（１２，３２）上に載置された不透明膜（１４，３４）を形成する工程と、
前記不透明膜上に載置された第一マスキング膜（１６，３８）を形成する工程と、
前記第一マスキング膜（１７，４６）上に載置された第二マスキング膜（１８，４２）を形成する工程と、
前記第二マスキング膜をパターニングして、第一開口部を形成する工程と、
前記第一開口部（１７，２２，２４，４６，４８，５２）を、第二マスキング膜および不透明膜に貫通させて、かつ透明基板内に拡大して、透明基板の第一位相シフト領域（２５，５０）を露出する工程と、
前記第一マスキング膜（１６，３８）を陥没させて第二開口部（２４）を形成する工程と、前記第二開口部は、第一開口部の外側縁部を越えて延びていることと、
前記第二開口部内の透明基板上に載置された不透明膜の一部を除去して、透明基板のリム領域（２６）を露出する工程と、
前記第一マスキング膜および第二マスキング膜を除去して、リム位相シフトマスクを形成する工程とを含む、リム位相シフトマスクの形成方法。
【請求項２】
透明基板（１２，３２，６２）を提供する工程と、
前記透明基板上に載置された不透明膜（１４，３４，６４）を形成する工程と、
前記不透明膜上に載置されたレジスト膜（１６，３８，６６）を形成する工程と、
前記レジスト膜をパターニングして、第一開口部（２２，４８，６８）を形成する工程と、
前記第一開口部を、不透明膜に貫通させて、かつ透明基板内に拡大して、透明基板の第一位相シフト領域（２５，５０，７１）を露出する工程と、
前記透明基板上に載置され、かつレジスト膜の下部に存在する不透明膜（１４，３４，６４）の一部を陥没させる工程と、
前記不透明膜の一部を陥没させる間、レジスト膜（１６，３８，６６）の一部を陥没させる工程と、
前記不透明膜の一部を陥没させた後、レジスト膜（１６，３８，６６）を除去して、リ
ム位相シフトマスクを形成する工程とを含むリム位相シフトマスクの形成方法。
【請求項３】
半導体基板（８９）を提供する工程と、
前記半導体基板（８９）上にレジスト膜（８８）を形成する工程と、
リム位相シフトマスク（８４）を提供する工程と、
前記リム位相シフトマスク（８４）を介して放射源（８１）を半導体基板（８９）に照射して、レジスト膜（８８）上の露光パターンを形成する工程と、を含む半導体デバイスの製造方法であって、前記リム位相シフトマスク（８４）は、
透明基板（１２，３２）を提供する工程と、
前記透明基板上に載置された不透明膜（１４，３４）を形成する工程と、
前記不透明膜上に載置された第一マスキング膜（１６，３８）を形成する工程と、
前記第一マスキング膜上に載置された第二マスキング膜（１８，４２）を形成する工程と、
前記第二マスキング膜をパターニングして、第一開口部（１７，４６）を形成する工程と、
前記第一開口部（１７，２２，２４，４６，４８，５２）を、第二マスキング膜および不透明膜に貫通させて、かつ透明基板内に拡大して、透明基板の第一位相シフト領域（２５，５０）を露出する工程と、
前記第一マスキング膜（図５の１６，３８）を陥没させて第二開口部を形成する工程と、前記第二開口部（図５の２４）は、第一開口部の外側縁部を越えて延びていることと、
前記第二開口部内の透明基板上に載置された不透明膜の一部を除去して、透明基板のリム領域（２６）を露出する工程と、
前記第一マスキング膜および第二マスキング膜を除去して、リム位相シフトマスクを形成する工程とを含む工程により形成される方法。
【請求項４】
第一位相シフト領域（２５，５０）はリム領域（２６）を透過する放射の位相に関して光の位相を１８０度シフトさせる請求項１に記載の方法。
【請求項５】
レジスト膜（１６，３８，６６）をパターニングして第一開口部（２２，４８，６８）を形成する工程の後、かつ、レジスト膜を除去してリム位相シフトマスクを形成する工程の前に、レジスト膜は形成されない請求項２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月8日(2006.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一時キャリアバッキングと、
前記一時キャリアバッキングに配置された一時キャリア組成物と、
前記一時キャリア組成物に部分的に埋め込まれた微粒子と
を含み、前記一時キャリア組成物が熱硬化性組成物を含む、一時微粒子キャリアフィルム。
【請求項２】
一時キャリアバッキングと、
前記一時キャリアバッキングに配置された一時キャリア組成物と、
前記一時キャリア組成物に部分的に埋め込まれた微粒子と
を含み、前記一時キャリア組成物が架橋熱可塑性ポリマーを含む、一時微粒子キャリアフィルム。
【請求項３】
光学ビーズと、
前記光学ビーズを基材に永続的に接合するよう構成された、軟化温度が９０〜２０５℃の接着層と、
前記ビーズを保持する一時キャリア層であって、軟化温度が２１０℃を超える架橋ポリオレフィンを含む一時キャリア層と
を含み、前記ビーズを前記基材に永続的に接合する際に前記一時キャリア層が前記ビーズを放出するよう構成されている、ビーズを基材に転写するよう構成された、微粒子転写フィルム。