【手続補正書】
【提出日】平成18年2月22日(2006.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】 
【請求項１】 
波長≦１９３ｎｍ用、特にＥＵＶリソグラフィー用の照射機構において、
１．１  少なくとも１つの光源（１，２００）と、
１．２  二次光源（２１８）を生成する少なくとも１つの装置であって、グリッドエレメント（５，１０２，２１４）に分割された少なくとも１つの第１の反射鏡若しくは第１のレンズ（７，９，１００，３０４，４０２）を備えた装置と、
１．３   グリッドエレメント（５，１０２，２１４）に分割された少なくとも１つの第１の反射鏡若しくは第１のレンズ（７，９，１００，３０４，４０２）を備えた反射鏡部材若しくはレンズ部材と照明機構のレチクル面（１４，３１８，４０８）との間に配置された一又は二以上の光学的エレメント（１２，３２，３０６，３０８，４０４，４０６）とを備え、光学的エレメントは二次光源を照明機構の出口瞳（２６，３２０，４１０）に投影する照射機構において、
１．４  前記光源（１，２００）は波長≦１９３ｎｍの放射を生じるための光源であって、該光源は１つの波長スペクトルをマーク面に照射するものであり、応用特にリソグラフィーのために使用される波長範囲内の波長についての前記光源からの照射は前記マーク面に直交する方向について５ｍｒａｄ未満のビーム発散を示すことを特徴とする照射機構。
【請求項２】 
応用特にリソグラフィーのために使用される波長範囲内の波長についての前記光源からの照射はマーク面において１００ｍｒａｄ未満のビーム発散を示すことを特徴とする、請求項１に記載の照射機構。 
【請求項３】
さらに、前記光源（１，２００）から放射されるビームを、マーク面に対して直交する方向について発散させる光学的エレメント（２０６，３００，４００）を備えたことを特徴とする、請求項１又は２のいずれかに記載の照射機構。
【請求項４】 
応用特にリソグラフィーのために使用される波長範囲内の波長についての前記光源からの照射はマーク面において５ｍｒａｄ未満のビーム発散を示すことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の照射機構。  
【請求項５】
マーク面においてかつマーク面に直交する方向について前記光源（１，２００）から放射されたビームを発散するために光学的エレメント（２０６，３００，４００）を備えたことを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項６】
光学的エレメント（２０６，３００，４００）が前記光源（１，２００）から放射されたビームを発散するための発散反射鏡（４００）若しくは発散レンズを備えたことを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項７】 
前記発散反射鏡（４００）は斜入射反射鏡であることを特徴とする請求項６に記載の照射機構。
【請求項８】 
光学的エレメント（２０６，３００，４００）が前記光源（１，２００）から放射されたビームを発散するための走査反射鏡を備えたことを特徴とする請求項３から５のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項９】 
発散ビームを集光する光学的エレメント（２０８，３０２）を備えたことを特徴とする請求項３から８のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項１０】 
光源からの照射が１０ｎｍから１５ｎｍの範囲の波長を含むことを特徴とする請求項１から９のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項１１】 
照射光源がシンクロトロン照射光源であることを特徴とする請求項１から１０のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項１２】 
シンクロトロン照射光源がウィグラー又はアンジュレーター光源であることを特徴とする請求項１１に記載の照射機構。
【請求項１３】 
第１の反射鏡（７，３０４，４０２）のグリッドエレメント（５，１０２，２０４）が二次光源（２１８）を作り出すことを特徴とする請求項１から１２のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項１４】 
グリッドエレメントに分割された第１の反射鏡若しくは第１のレンズ（７，３０４，４０２）のグリッドエレメント（５，１０２，２０４）が、グリッドエレメントの像が主に照射機構のレチクル面（１４，３１８）において光学的エレメント（１２，３２，３０６，３０８，４０４，４０６）によって重なるような形状にされかつ配置されたことを特徴とする請求項１から１３のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項１５】 
グリッドエレメントが、アパーチャ及びフィリングの程度によって定まる照射機構の出口瞳（２４）が照射されるような形状にされかつ配置されたことを特徴とする請求項１４に記載の照射機構。
【請求項１６】 
発散照射ビームを集光する光学的エレメントが少なくとも１つの凹面反射鏡又は集光レンズ（２０８，３０２）を備えたことを特徴とする請求項９から１５のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項１７】 
発散及び／又は集光する光学的エレメントを備えた集光装置は、グリッドエレメント（２１４）を有する第１の反射鏡（７，３０４，４０２）がほぼ円形で照射されるように構成されていることを特徴とする請求項３から１６のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項１８】 
発散及び／又は集光する光学的エレメントを備えた集光ユニットは、光源（１，２００）を絞り面（２１２）に投影することを特徴とする請求項３から１７のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項１９】 
グリッドエレメント（２１４）はプレーナファセットとして構成されていることを特徴とする請求項１３から１８のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項２０】 
グリッドエレメント（２１４）を有する反射鏡（７，３０４，４０２）のプレーナファセットは、各プレーナファセットの中心ビームが照射されるレチクル面におけるフィールドの中心を通る光学軸（２２２）上においてレチクル面（１４，３１８）で合うように反射鏡面上で傾斜して配置する請求項１９に記載の照射機構。
【請求項２１】 
グリッドエレメント（２１４）はプリズムであって、該プリズムは、各プリズムの中心ビームがレチクル面のフィールド中心を通る光学軸（２２２）上でレチクル面（１４，３１８）において合うように方向をを向いて配置することを特徴とする請求項１３から１８のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項２２】 
発散及び／又は集光する光学的エレメントを備えた集光装置は、光源（１，２００）をレチクル面（１４，３１８）に投影することを特徴とする請求項３から１７のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項２３】 
グリッドエレメント（２１４）は、二次光源（２１２，１００２）が絞り面（２１２）に形成されるような集光効果を有することを特徴とする請求項１３から１７のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項２４】 
光源（２００）から照射ビームを発散する光学的エレメント（２０６，３００，４００）までの距離は２０００ｍｍ以下であることを特徴とする請求項３から２３のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項２５】 
照射ビームを発散する光学的エレメント（２０６，３００，４００）から照射機構のさらなるレンズ機構までの距離は１０００ｍｍ以下であり、さらに、照射ビーム（２０８，３０２）を集光する手段と、グリッドエレメント（２１４）に分割された少なくとも１つの反射鏡（４０２）と、二次光源（１１２，２１６，４１２，１０００）を照射機構の出口瞳（２６，３２０，４１０）に投影する光学的エレメントとを備えたことを特徴とする請求項２４に記載の照射機構。
【請求項２６】 
照射機構の光学的エレメントの光軸であって水平面において照射源に延びるその光軸が、水平面においてレチクル表面の垂直軸と光軸との角度が最大でも２０°好ましくは１０°であるように配置したレチクル面（１４，３１８，４０８）上に入るように偏向するように、照射機構の光学的エレメントが配置していることを特徴とする請求項１から２５のいずれか一項に記載の照射機構。 
【請求項２７】 
第１の反射鏡のグリッドエレメント（２１４）又はグリッドエレメントを有する第１のレンズが、グリッドエレメントの結果として照射ビームを集光する光学的エレメントの集光効果が現れるように構成されていることを特徴とする請求項１から１５のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項２８】 
反射鏡面上の第１の反射鏡（４０２）のグリッドエレメント（２１４）が、各グリッドエレメントの中心ビームがレチクル面（１４，３１８）において照射されるフィールドの中心を通る光学軸上においてレチクル面（１４，３１８）で合うように傾斜して配置することを特徴とする請求項２７に記載の照射機構。
【請求項２９】 
グリッドエレメントが、二次光源（１１２，２１６，４１２，１０００）が絞り面（２１２）に形成されるような集光効果を有することを特徴とする請求項２７又は２８のいずれかに記載の照射機構。
【請求項３０】 
グリッドエレメントはプリズムであって、該プリズムは、各プリズムの中心ビームがレチクル面（１４，３１８）のフィールド中心を通る光学軸（２２２）上においてレチクル面（１４，３１８）で合うように方向を向いて配置することを特徴とする請求項２７に記載の照射機構。
【請求項３１】 
照射ビームを発散する光学的エレメントは、光源からの照射ビームがグリッドエレメント（２１４）を有する第１の反射鏡（７，３０４，４０２）上の所定の表面全体を走査するように動くことができる反射鏡を有する装置を備えたことを特徴とする請求項１から３０のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項３２】 
所定の表面は円形である請求項３１に記載の照射機構。
【請求項３３】 
グリッドエレメントを有する２つの反射鏡又はレンズが備えられ、第１の反射鏡又はレンズ（７，３０４，４０２）はフィールドハニカム形状に構成された複数のグリッドエレメントを備え、第２の反射鏡又はレンズは瞳面ハニカム（９）形状に構成された複数のグリッドエレメントを備えたことを特徴とする請求項１から３２のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項３４】 
瞳面ハニカムが二次光源（１１２，２１６，４１２，１０００）の場所に位置することを特徴とする請求項３３に記載の照射機構。 
【請求項３５】 
フィールドハニカムが各瞳面ハニカムと関連し、瞳面ハニカムは、二次光源を出口瞳に投影する光学的エレメント共にフィールドハニカムをレチクル面に投影することを特徴とする請求項３３又は３４のいずれかに記載の照射機構。
【請求項３６】 
第１の反射鏡又はレンズ（７，３０４，４０２）上のフィールドハニカムは、それらが交差しないように、かつ、それらの像がレチクル面（１４，３１８）において照射される表面領域をカバーするように配置されている請求項３３から３５のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項３７】
それぞれの配置の結果として、特に、互いに対する反射鏡上の反射フィールド及び瞳面ハニカムの回転及び傾斜の結果として、光路がフィールドハニカムと瞳面ハニカムのペアの間に形成されることを特徴とする請求項３３から３６のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項３８】
レンズの屈折フィールド及び瞳面ハニカムのプリズム部分の偏向角の方位及び選択の結果として、光路がフィールドハニカムと瞳面ハニカムのペアの間に形成されることを特徴とする請求項３２から３６のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項３９】
光学的エレメントが一様性の修正のために能動的レンズまたは反射鏡を備えたことを特徴とする請求項１から３８のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項４０】
フィールド反射鏡の少なくとも１つは掃引を行うフィールド反射鏡であることを特徴とする請求項１から３９のいずれか一項に記載の照射機構。 
【請求項４１】
グリッドエレメント、又はグリッドエレメントに分割される第１の反射鏡若しくはレンズが、ハニカムアスペクト比を小さくするため、非点収差的なフィールドハニカムの形状に構成されていることを特徴とする請求項１から４０のいずれか一項に記載の照射機構。
【請求項４２】
−請求項１から４１のいずれか一項に記載の照明機構と；
−キャリアー機構上のマスクと；  
−投射対物レンズと；
−キャリアー機構上の感光性対象物と；を備えたマイクロリソグラフィーの投影照射装置。 
【請求項４３】 
スキャニング機構として作製された請求項４２に記載の投影照射装置。 
【請求項４４】 
感光性対象物が組織構造を持たないマスクの場合に、感光性対象物上の照射強度の位置依存性が±５％未満、好ましくは±２％未満であることを特徴とする請求項４２又は４３のいずれかに記載の投影照射装置。 
【請求項４５】 
感光性対象物が組織構造を持たないマスクの場合に、感光性対象物上のスキャンエネルギーの位置依存性が±５％未満、好ましくは±２％未満であることを特徴とする請求項４２又は４３のいずれかに記載の投影照射装置。  
【請求項４６】 
ＥＵＶに対して透明なバキュームウィンドウが光路に配置されていることを特徴とする、請求項４２から４５のいずれか一項に記載の投影照射装置。 
【請求項４７】 
バキュームウィンドウが照射機構内の光束の収縮部に配置されていることを特徴とする、請求項４６に記載の投影照射装置。 
【請求項４８】 
請求項４２から４７に記載の投影照射装置を持つマイクロエレクトロニクス部材特に半導体チップを製造する方法。