【事件の表示】
　特願２００１−２６９２９１「識別情報記録方法およびフォトマスクセット」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年　３月１４日出願公開、特開２００３−　７６０２６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１３年（２００１年）年９月５日の出願（特願２００１−２６９２９１号）であって、平成２３年１月２０日付けで手続補正がなされ、同年５月１８日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年８月１９日に拒絶査定不服審判の請求がなされ、同時に手続補正がなされたものである。
　その後、平成２４年１月２６日付けで前置報告書の内容について請求人の意見を事前に求める審尋がなされ、同年３月２８日付けで回答書が提出された。さらに、請求項の記載についての審尋がなされ、平成２４年７月２日付けでファクシミリにより回答が提出された。
　
第２　平成２３年８月１９日付けの手続補正についての補正の却下の決定
　
［補正の却下の決定の結論］
　平成２３年８月１９日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１　本件補正について
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１に係る発明は、平成２３年１月２０日付けの手続補正により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１の、
　
「複数の板状部材に対して相互に異なる識別情報を記録する方法であって、
　前記識別情報は、ｚ１桁の文字列Ａ、およびｚ２桁の文字列Ｂを含む文字列群（ｚ１は２以上の整数、ｚ２は２以上の整数）であり、
　（ａ）文字列ＡがＸ軸方向およびＹ軸方向に沿って周期的に配列された複数の第１フォトマスクと、文字列Ｂに用いられる１桁の文字がＸ軸方向およびＹ軸方向に沿って周期的に配列された遮光パターンを有する複数の第２フォトマスクを用意する工程と、
　（ｂ）前記板状部材の表面にフォトレジスト層を形成する工程と、
　（ｃ）前記複数の第１フォトマスクから選択した１枚のフォトマスクを用い、前記フォトレジスト層を部分的に露光することにより、前記文字列Ａの潜像を前記フォトレジスト層に形成する工程と、
　（ｄ）前記複数の第２フォトマスクから必要なフォトマスクを逐次選択し、前記文字列Ｂを構成する文字の潜像を前記フォトレジスト層に形成する工程と、
　を包含し、
　前記工程（ｄ）は、
　前記第２フォトマスク上の選択された文字が所定の位置に投影されるように、前記第２フォトマスクを前記フォトレジスト層に対して位置あわせする工程（ｄ１）と、
　位置あわせがなされた後、前記選択された文字の潜像を前記フォトレジストの前記所定の位置に形成する露光する工程（ｄ２）と、
　前記第２フォトマスク上の選択された文字が前記未露光領域の対応する位置に投影されるように、前記第２フォトマスクを前記フォトレジスト層に対して位置あわせする工程（ｄ３）と、
　位置あわせがなされた後、前記選択された文字の潜像を前記フォトレジストの前記未露光領域に形成する露光する工程（ｄ４）と、
を包含する、方法。」が　
　
「複数の板状部材に対して相互に異なる識別情報を記録する方法であって、
　前記識別情報は、ｚ１桁の文字列Ａ、およびｚ２桁の文字列Ｂを含む文字列群（ｚ１は２以上の整数、ｚ２は２以上の整数）であり、
前記文字列Ａおよび前記文字列Ｂは、前記複数の板状部材間で相互に異なり、
　（ａ）文字列Ａ
の全桁の文字
遮光パターンを有する
　（ｂ）前記板状部材の表面にフォトレジスト層を形成する工程と、
　（ｃ）前記複数の第１フォトマスクから選択した１枚のフォトマスクを用い、前記フォトレジスト層を部分的に露光することにより、
Ｘ軸方向およびＹ軸方向に沿って周期的に配列された
の全桁の文字
　（ｄ）前記複数の第２フォトマスクから必要なフォトマスクを逐次選択し、
Ｘ軸方向およびＹ軸方向に沿って周期的に配列された
の前記工程（ｃ）における未露光領域
逐次
　を包含し、
　前記工程（ｄ）は、
　前記第２フォトマスク上の選択された文字が所定の位置に投影されるように、前記第２フォトマスクを前記フォトレジスト層に対して位置あわせする工程（ｄ１）と、
　位置あわせがなされた後、前記選択された文字の潜像を前記フォトレジストの前記所定の位置に形成する露光する工程（ｄ２）と、
　前記第２フォトマスク上の選択された文字が前記未露光領域の対応する位置に投影されるように、前記第２フォトマスクを前記フォトレジスト層に対して位置あわせする工程（ｄ３）と、
　位置あわせがなされた後、前記選択された文字の潜像を前記フォトレジストの前記未露光領域に形成する
ように
を包含
し
各板状部材内で共通の文字列Ａおよび文字列Ｂを各板状部材の異なる位置に記録する、
　
　そして、この補正は、
（１）「（前記）文字列Ａ及び（前記）文字列Ｂ」について「複数の板状部材間で相互に異な」ることを特定する補正事項、
（２）第１フォトマスクに周期的に配列される「文字列Ａ」については、文字列Ａの「全桁の文字」が配列されることを特定する補正事項、
（３）「複数の第１フォトマスク」について「遮光パターンを有する」ことを特定する補正事項、
（４）「文字列Ｂ」についても、第２フォトマスクにおいて「Ｘ軸方向およびＹ軸方向に沿って周期的に配列され」ることを特定する補正事項、
（５）「文字列Ｂを構成する文字の潜像」の形成について、「工程（ｃ）における未露光領域に逐次形成する」ことを特定する補正事項、
（６）補正前の請求項１において「形成する露光する」とあったのを、「形成するように露光する」と訂正する補正事項、及び、
（７）各板状部材内での文字列Ａ及び文字列Ｂの記録について「各板状部材内で共通の文字列Ａおよび文字列Ｂを各板状部材の異なる位置に記録する」ことを特定する補正事項、
からなる。
　上記の（１）〜（５）、（７）の補正事項は、いずれも、特許請求の範囲のいわゆる限定的減縮を目的とする補正事項であり、上記（６）の補正事項は誤記の訂正を目的とする補正事項であるから、本件補正による請求項１に係る発明の補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下「平成１８年改正前特許法」という。）第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とするものを含む。
　
２　独立特許要件違反についての検討
　そこで、次に、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第５項の規定に適合するか）について検討する。
　
（１）本願補正発明
　本願補正発明は、平成２３年８月１９日付けの手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載されている事項により特定されるものである。（上記の「１　本件補正について」の記載参照。）
　
（２）原査定の拒絶の理由に引用された本願の出願の日前の特許出願
ア　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願の日前の特許出願であって、その出願後には出願公開がされた特願２０００−２５３６５２号（特開２００２−７５８１７号）（以下「引用先願」という。）の明細書及び図面には、以下の事項が記載されている。（下線は当審において付した。）なお、引用先願の発明者は本願の発明者と同一ではなく、また本願の出願の時において、引用先願の出願人は本願の出願人と同一でもない。
　
「　　【０００１】
　　【発明の属する技術分野】
　本発明は、
複数個の薄膜素子が一括して形成されるウエハに対してウエハ識別情報を記入するためのウエハ識別情報記入方法
　
「　　【００３７】
　　【発明の実施の形態】
　以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
　始めに、図３を参照して、本発明の一実施の形態に係るウエハ識別情報記入方法ならびにウエハ識別情報記入用露光方法および装置が適用されるウエハとそれに記入される情報について説明する。図３に示したように、本実施の形態が適用されるウエハ１には、複数個の薄膜素子（以下、単に素子と記す。）２が一括して形成される。図３において１つの素子２を拡大して示したように、各素子２の同じ位置には、ウエハ識別情報３と素子配置情報４とが記入される。なお、素子２は、半導体素子でもよいし、薄膜磁気ヘッド等のマイクロデバイスであってもよい。
　　　【００３８】
　
ウエハ識別情報３は、ウエハを識別するための情報であり、各桁が数字または記号で表される複数の桁を含んでいる。
　　　【００３９】
　素子配置情報４は、ウエハ１内における素子２の位置を識別するための情報であり、各桁が数字または記号で表される複数の桁を含んでいる。素子配置情報４は素子２毎に異なる。しかし、同種の素子２を形成する複数のウエハ１では、素子配置情報４はウエハ１毎に異なることはない。」
　
「　　【００４０】
　次に、図１を参照して、本実施の形態に係るウエハ識別情報記入用露光装置（以下、単に露光装置とも記す。）の構成について説明する。この露光装置は、露光用の光を出射する光源１１と、ウエハ１が載置されるウエハステージ１２と、光源１１とウエハステージ１２との間に配置され、マスク３０が載置されるマスクステージ１３とを備えている。露光装置は、更に、光源１１とマスクステージ１３との間に配置された複眼集光レンズ等の光学系１４と、マスクステージ１３とウエハステージ１２との間に配置された露光レンズ１５とを備えている。光学系１４は、光源１１から出射された光を、マスクステージ１３に載置されたマスク３０に照射する。露光レンズ１５は、マスク３０に描画されたパターンを、ウエハステージ１２に載置されたウエハ１に投影する。」
　
「　　【００５１】
　次に、本実施の形態に係るウエハ識別情報記入方法について説明する。このウエハ識別情報記入方法は、本実施の形態に係るウエハ識別情報記入用露光方法を含んでいる。このウエハ識別情報記入方法は、ウエハ識別情報を記入する対象となるウエハを選択する工程と、選択されたウエハに対して、パターニングされたレジスト層を利用してウエハ識別情報を記入する工程とを備えている。ウエハ識別情報を記入する方法としては、例えば、パターニングされたレジスト層をエッチングマスクとして、このレジスト層の下地の層をエッチングする方法でもよいし、パターニングされたレジスト層をフレームとしてめっきを行ってめっき層を形成する方法でもよい。また、本実施の形態では、パターニングされたレジスト層を利用してウエハ識別情報を記入する工程において、パターニングされたレジスト層を利用して素子配置情報も記入するようにしている。ウエハ識別情報および素子配置情報の記入を行う工程は、素子２の形成前、形成途中、形成後のいずれであってもよい。
　　　【００５２】
　以下、図４および図５を参照して、パターニングされたレジスト層の下地の層をエッチングする方法を用いる場合におけるウエハ識別情報を記入する工程について説明する。図４は、この場合におけるウエハ識別情報を記入する工程を示す流れ図、図５は、図４に示した工程を説明するための説明図である。
　　　【００５３】
　図４および図５に示した工程では、まず、図４のステップＳ１０１および図５の（ａ）に示したように、
ウエハ上に形成された所定の層５０の上に、ウエハ識別情報を記入するための情報記入用膜５１を形成する。
情報記入用膜５１の上に、レジストを塗布して、レジスト層５２を形成する。
レジスト層５２に対して、ウエハ識別情報用の
マスクを
使用して、ウエハ識別情報のパターン
を多重露光する
　　　【００５４】
　なお、レジスト層５２がネガレジストよりなる場合には、ウエハ識別情報用のマスクおよび素子配置情報用のマスクとしては、ウエハ識別情報および素子配置情報を構成する各数字または記号のパターンの部分は光を透過させ、他の部分は光を遮断するマスクが用いられる。
　　　【００５５】
　一方、レジスト層５２がポジレジストよりなる場合には、ウエハ識別情報用のマスクとしては、ウエハ識別情報を構成する各数字または記号を囲う１桁分の領域内のうち各数字または記号のパターンの部分では光を遮断し、前記領域内のうち他の部分では光を透過させる共に、少なくとも、そのマスクがいずれの桁の露光に使用されてもウエハ識別情報の他の桁および素子配置情報の露光位置に対応する部分では光を遮断するような遮断パターンを有するマスクが用いられる。このような遮断パターンは、例えば、前記領域内のうち各数字または記号のパターンの部分では光を遮断し、前記領域内のうち他の部分では光を透過させる共に、前記領域外の部分では全て光を遮断するような遮断パターンとしてもよい。
　　　【００５６】
　また、レジスト層５２がポジレジストよりなる場合には、素子配置情報用のマスクとしては、素子配置情報を構成する各数字または記号を囲う複数桁分の領域内のうち各数字または記号のパターンの部分では光を遮断し、前記領域内のうち他の部分では光を透過させる共に、少なくともウエハ識別情報の露光位置に対応する部分では光を遮断するような遮断パターンを有するマスクが用いられる。このような遮断パターンは、例えば、前記領域内のうち各数字または記号のパターンの部分では光を遮断し、前記領域内のうち他の部分では光を透過させる共に、前記領域外の部分では全て光を遮断するような遮断パターンとしてもよい。
　　　【００５７】
　上記の露光の工程（ステップＳ１０３）は、本実施の形態に係るウエハ識別情報記入用露光装置を用いて行われる。この工程については、後で詳しく説明する。
　　　【００５８】
　次に、図４のステップＳ１０４および図５の（ｄ）に示したように、
露光後のレジスト層５２を現像してパターニングされたレジスト層５２Ａを形成する。
　　　【００５９】
　なお、図４および図５に示した工程において、情報記入用膜５１としては、ウエハ１上に素子２を構成する各膜を形成する際のウエハの位置合わせに用いられる指標を形成するための膜を用い、この指標の形成と同時にウエハ識別情報および素子配置情報の記入を行ってもよい。」
　
「　　【００７１】
　以下の説明では、ウエハ識別情報がＭ進数のＮ桁の番号であるものとする。この場合、
ウエハ識別情報用のマスクとしては
各マスクには、それぞれ、ウエハ１に投影したときにウエハ１における素子２と同じ配列となるように、同じ数字または記号が素子２の数だけ描画されている。
　　　【００７２】
　また、本実施の形態では、ウエハ識別情報のパターンを露光するための上記のＭ枚のマスクの他に、素子配置情報のパターンを露光するための１枚のマスクが用意される。そして、ウエハ識別情報のパターンを露光する工程において、この素子配置情報のパターンを露光するためのマスクを用いて、素子配置情報のパターンの露光も行う。従って、本実施の形態では、ウエハ識別情報のパターンを露光する工程において、マスクの選択と選択されたマスクを用いた露光とが、合計（Ｎ＋１）回だけ繰り返されて、レジスト層に対して、ウエハ識別情報のパターンと素子配置情報のパターンが多重露光される。」
　
「　　【００７６】
　また、本実施の形態では、ウエハ識別情報における各桁の数字または記号が、ウエハ１内の各素子２に対応する領域内において、互いに異なる位置に記入されるように、ウエハ識別情報のパターンの露光の際には、ウエハ識別情報における各桁毎に、ウエハ１とマスク３０との位置関係が変えられる。更に、素子配置番号のパターンの露光の際には、ウエハ１内の各素子２に対応する領域内において、素子配置番号がウエハ識別情報とは異なる位置に記入されるように、ウエハ１とマスク３０との位置関係が設定される。
　　　【００７７】
　図９は、上述のウエハ１とマスク３０との位置関係の変化の一例を示している。この例では、ウエハ識別情報は４桁であるものとしている。図９では、ウエハ識別情報の各桁を、最上位桁から順に符号３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄで表している。また、この例では、素子配置情報も４桁であるものとしている。図９では、素子配置情報を符号４ｅで表している。
　　　【００７８】
　図９に示した例では、（ａ）〜（ｄ）に示したように、それぞれマスク３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄを用いて、ウエハ識別情報の最上位桁３ａから最下位桁３ｄまで順に各桁のパターンの露光を行った後、（ｅ）に示したように、マスク３０ｅを用いて、素子配置情報４ｅのパターンの露光を行うようにしている。
ウエハ１内の各素子２に対応する領域内において、ウエハ識別情報における各桁３ａ〜３ｄの数字または記号および素子配置番号４ｅが互いに異なる位置に記入されるように、各パターンの露光時におけるマスク３０ａ〜３０ｅの位置は変化している。
ウエハ識別情報における各桁３ａ〜３ｄのパターンの露光
の順番は任意に決めることができる。
　
「　　【０１００】
　また、
ウエハ識別情報が、ウエハ１に応じて数字または記号が変化し得る桁と、ウエハ１に応じて数字または記号が変化しない桁とを含む場合
ウエハ１に応じて数字または記号が変化し得る桁に関しては、１桁毎にマスクを選択して露光を行う。ウエハ１に応じて数字または記号が変化しない桁が複数ある場合には、これらの桁に関しては、
複数桁の数字または記号のパターンが描画されたマスクを用いて、複数桁についての露光を同時に行って
　
「【図１】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
「【図３】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
「【図５】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
「【図９】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
イ　引用先願の明細書に記載された発明の認定
　【図３】からウエハ１上の複数個の薄膜素子２は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向にそって周期的に配列されていることは明らかである。上記の引用先願の明細書の記載（図面の記載も含む）を総合勘案すれば、引用先願の明細書及び図面には、
「複数個の薄膜素子２がＸ軸方向及びＹ軸方向にそって周期的に配列されて一括して形成されるウエハ１に対してウエハ識別情報３を記入するためのウエハ識別情報記入方法であって、
　ウエハ識別情報３は、ウエハを識別するための情報であり、各桁が数字または記号で表される複数の桁を含み、当該複数の桁は、ウエハ１に応じて数字または記号が変化し得る桁と、ウエハ１に応じて数字または記号が変化しない複数桁とを含み、
　ウエハ識別情報３用の各マスクには、それぞれ、ウエハ１に投影したときにウエハ１における薄膜素子２と同じ配列となるように、同じ数字または記号が薄膜素子２の数だけ描画され、
　ウエハ１に応じて数字または記号が変化し得る桁に関しては、１桁毎にマスクを選択して露光を行い、ウエハ１に応じて数字または記号が変化しない複数の桁に関しては、複数桁の数字または記号のパターンが描画されたマスクを用いて、複数桁についての露光を同時に行い、
　ウエハ識別情報３における各桁のパターンの露光の順番は任意に決めることができ、
　当該露光においては、ウエハ上に形成された所定の層５０の上に、ウエハ識別情報３を記入するための情報記入用膜５１を形成し、情報記入用膜５１の上に、レジストを塗布して、レジスト層５２を形成し、レジスト層５２に対して、ウエハ識別情報用のマスクを使用して、ウエハ識別情報のパターンを露光し、露光後のレジスト層５２を現像してパターニングされたレジスト層５２Ａを形成し、
　ウエハ１内の各薄膜素子２に対応する領域内において、ウエハ識別情報３における各桁の数字または記号が互いに異なる位置に記入されるように、露光時におけるマスクの位置は変化するウエハ識別情報記入方法。」
の発明（以下「先願発明」という。）が記載されている。
　
（３）本願補正発明と先願発明の対比及び当審の判断
ア　対比
　本願補正発明と先願発明を対比する。
　
（ア）先願発明の「ウエハ１」が、本願補正発明の「板状部材」に相当する。また、先願発明の「ウエハ識別情報３」は、複数のウエハを識別するためのものであり、当然に複数のウエハに対して相互に異なる情報であることから、先願発明の「（複数個の薄膜素子２がＸ軸方向及びＹ軸方向にそって周期的に配列されて一括して形成される）ウエハ１に対してウエハ識別情報３を記入するためのウエハ識別情報記入方法」が、本願補正発明の「複数の板状部材に対して相互に異なる識別情報を記録する方法」に相当する。
　
（イ）先願発明の「ウエハ１に応じて数字または記号が変化し得る桁に関しては、１桁毎にマスクを選択して露光を行い」の特定事項において「１桁毎」に露光を行うことからして、ウエハ１に応じて数字または記号が変化し得る桁は、複数（２以上）の桁であることが想定されているといえる。すなわち、先願発明のウエハ識別情報３は「ウエハ１に応じて数字または記号が変化し得る」２以上の桁の文字列と、「ウエハ１に応じて数字または記号が変化しない」２以上の桁の文字列を含むものである。
　また、本願補正発明の「前記文字列Ａおよび前記文字列Ｂは、前記複数の板状部材間で相互に異な」ることは、請求人の釈明したところによれば、「文字列Ａと文字列Ｂの両方を合わせたもの（すなわち、文字列Ａと文字列Ｂからなる識別情報）が、複数の板状部材間で相互に異なる」という意味である（応対記録における、請求人が平成２４年７月２日に提出した回答の記載参照）。
　これらのことを踏まえれば、先願発明の「ウエハ識別情報３は、ウエハを識別するための情報であり、各桁が数字または記号で表される複数の桁を含み、当該複数の桁は、ウエハ１に応じて数字または記号が変化し得る桁と、ウエハ１に応じて数字または記号が変化しない複数桁とを含」むことが、本願補正発明の「前記識別情報は、ｚ１桁の文字列Ａ、およびｚ２桁の文字列Ｂを含む文字列群（ｚ１は２以上の整数、ｚ２は２以上の整数）であり、前記文字列Ａおよび前記文字列Ｂは、前記複数の板状部材間で相互に異な」ることに相当する。
　
（ウ）ａ　先願発明における「ウエハ１」には「複数個の薄膜素子２がＸ軸方向及びＹ軸方向にそって周期的に配列されて一括して形成される」こと、及び、「ウエハ識別情報３用の各マスクには、それぞれ、ウエハ１に投影したときにウエハ１における薄膜素子２と同じ配列となるように、同じ数字または記号が素子２の数だけ描画され」ることから、先願発明の「ウエハ識別情報３用の各マスク」には「数字または記号のパターン」が「Ｘ軸方向およびＹ軸方向に沿って周期的に配列され」ている。
ｂ　よって、先願発明の「ウエハ１に応じて数字または記号が変化しない複数の桁に関しては、複数桁の数字または記号のパターンが描画されたマスクを用いて、複数桁についての露光を同時に行」うこと（工程）が、本願補正発明の「文字列Ａの全桁の文字がＸ軸方向およびＹ軸方向に沿って周期的に配列された遮光パターンを有する複数の第１フォトマスク」「を用意する工程」に相当する。
　
（エ）上記（ウ）のａで述べた点を踏まえれば、先願発明の「ウエハ１に応じて数字または記号が変化し得る桁に関しては、１桁毎にマスクを選択して露光を行」うこと（工程）が、本願補正発明の「文字列Ｂに用いられる１桁の文字がＸ軸方向およびＹ軸方向に沿って周期的に配列された遮光パターンを有する複数の第２フォトマスクを用意する工程」に相当する。
　
（オ）先願発明の「ウエハ上に形成された所定の層５０の上に、ウエハ識別情報３を記入するための情報記入用膜５１を形成し、情報記入用膜５１の上に、レジストを塗布して、レジスト層５２を形成」すること（工程）が、本願補正発明の「前記板状部材の表面にフォトレジスト層を形成する工程」に相当する。
　
（カ）ａ　先願発明において「レジスト層５２に対して、ウエハ識別情報用のマスクを使用して、ウエハ識別情報のパターンを露光し、露光後のレジスト層５２を現像してパターニングされたレジスト層５２Ａを形成」することから、先願発明の「露光」は、技術常識からして当然に、それによって「潜像を前記フォトレジスト層に形成する」ものである。
ｂ　よって、さらに、上記（ウ）のａで述べたことも踏まえると、先願発明の「ウエハ１に応じて数字または記号が変化しない複数の桁に関しては、複数桁の数字または記号のパターンが描画されたマスクを用いて、複数桁についての露光を同時に行い」「露光後のレジスト層５２を現像してパターニングされたレジスト層５２Ａを形成」すること（工程）が、本願補正発明の「前記複数の第１フォトマスクから選択した１枚のフォトマスクを用い、前記フォトレジスト層を部分的に露光することにより、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に沿って周期的に配列された前記文字列Ａの全桁の文字の潜像を前記フォトレジスト層に形成する工程」に相当する。
　
（キ）ａ　引用発明における「ウエハ識別情報３における各桁のパターンの露光の順番は任意に決めることができ」ること、及び、「ウエハ１内の各素子２に対応する領域内において、ウエハ識別情報３における各桁の数字または記号が互いに異なる位置に記入されるように、露光時におけるマスクの位置は変化する」ことから、引用発明においては「ウエハ１に応じて数字または記号が変化しない複数の桁」の露光を先に行い、その後、未露光領域に「ウエハ１に応じて数字または記号が変化し得る桁」の露光を行うことも可能であるといえる。
ｂ　よって、さらに、上記（ウ）のａで述べたこと及び（カ）のａで述べたことも踏まえると、先願発明の「ウエハ１に応じて数字または記号が変化し得る桁に関しては、１桁毎にマスクを選択して露光を行い」「露光後のレジスト層５２を現像してパターニングされたレジスト層５２Ａを形成」すること（工程）、並びに、「ウエハ識別情報における各桁のパターンの露光の順番は任意に決めることができ」ること、及び、「ウエハ１内の各素子２に対応する領域内において、ウエハ識別情報３における各桁の数字または記号が互いに異なる位置に記入されるように、露光時におけるマスクの位置は変化する」ことが、本願補正発明の「前記複数の第２フォトマスクから必要なフォトマスクを逐次選択し、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に沿って周期的に配列された前記文字列Ｂを構成する文字の潜像を前記フォトレジスト層の前記工程（ｃ）における未露光領域に逐次形成する工程」に相当する。
　
（ク）上記（カ）のａで述べたこと及び（キ）のａで述べたことも踏まえると、先願発明の「ウエハ１に応じて数字または記号が変化し得る桁に関しては、１桁毎にマスクを選択して露光を行」うこと、「当該露光においては」、「レジスト層５２に対して、ウエハ識別情報用のマスクを使用して、ウエハ識別情報のパターンを露光し、露光後のレジスト層５２を現像してパターニングされたレジスト層５２Ａを形成し」、「ウエハ１内の各薄膜素子２に対応する領域内において、ウエハ識別情報３における各桁の数字または記号が互いに異なる位置に記入されるように、露光時におけるマスクの位置は変化する」ことが、本願補正発明の「前記工程（ｄ）は、前記第２フォトマスク上の選択された文字が所定の位置に投影されるように、前記第２フォトマスクを前記フォトレジスト層に対して位置あわせする工程（ｄ１）と、位置あわせがなされた後、前記選択された文字の潜像を前記フォトレジストの前記所定の位置に形成する露光する工程（ｄ２）と、前記第２フォトマスク上の選択された文字が前記未露光領域の対応する位置に投影されるように、前記第２フォトマスクを前記フォトレジスト層に対して位置あわせする工程（ｄ３）と、位置あわせがなされた後、前記選択された文字の潜像を前記フォトレジストの前記未露光領域に形成するように露光する工程（ｄ４）と、を包含」することに相当する。
　
（ケ）先願発明は「ウエハ１に応じて数字または記号が変化し得る桁に関しては、１桁毎にマスクを選択して露光を行い、ウエハ１に応じて数字または記号が変化しない複数の桁に関しては、複数桁の数字または記号のパターンが描画されたマスクを用いて、複数桁についての露光を同時に行」うと特定されているように、当然のことながら、「マスク」を用いて「露光を行う」ものである。
　また、先願発明の「ウエハ識別情報３用の各マスクには、それぞれ、ウエハ１に投影したときにウエハ１における薄膜素子２と同じ配列となるように、同じ数字または記号が薄膜素子２の数だけ描画され」の特定事項におけるの「各マスク」には、「ウエハ１に応じて数字または記号が変化しない複数の桁」（本願補正発明の「文字列Ａ」に相当）用のマスク及び「ウエハ１に応じて数字または記号が変化し得る桁」（本願補正発明の「文字列Ｂ」に相当）用のマスクが含まれるといえる。
　よって、先願発明の「ウエハ識別情報３用の各マスクには、それぞれ、ウエハ１に投影したときにウエハ１における薄膜素子２と同じ配列となるように、同じ数字または記号が薄膜素子２の数だけ描画され」、当該「マスク」を用いて「露光を行う」ことが、本願補正発明の「各板状部材内で共通の文字列Ａおよび文字列Ｂを各板状部材の異なる位置に記録する」ことに相当する。
　
イ　一致点及び相違点
　よって、本願補正発明と先願発明は、
「複数の板状部材に対して相互に異なる識別情報を記録する方法であって、
　前記識別情報は、ｚ１桁の文字列Ａ、およびｚ２桁の文字列Ｂを含む文字列群（ｚ１は２以上の整数、ｚ２は２以上の整数）であり、前記文字列Ａおよび前記文字列Ｂは、前記複数の板状部材間で相互に異なり、　
　（ａ）文字列Ａの全桁の文字がＸ軸方向およびＹ軸方向に沿って周期的に配列された遮光パターンを有する複数の第１フォトマスクと、文字列Ｂに用いられる１桁の文字がＸ軸方向およびＹ軸方向に沿って周期的に配列された遮光パターンを有する複数の第２フォトマスクを用意する工程と、
　（ｂ）前記板状部材の表面にフォトレジスト層を形成する工程と、
　（ｃ）前記複数の第１フォトマスクから選択した１枚のフォトマスクを用い、前記フォトレジスト層を部分的に露光することにより、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に沿って周期的に配列された前記文字列Ａの全桁の文字の潜像を前記フォトレジスト層に形成する工程と、
　（ｄ）前記複数の第２フォトマスクから必要なフォトマスクを逐次選択し、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に沿って周期的に配列された前記文字列Ｂを構成する文字の潜像を前記フォトレジスト層の前記工程（ｃ）における未露光領域に逐次形成する工程と、
　を包含し、
　前記工程（ｄ）は、
　前記第２フォトマスク上の選択された文字が所定の位置に投影されるように、前記第２フォトマスクを前記フォトレジスト層に対して位置あわせする工程（ｄ１）と、
　位置あわせがなされた後、前記選択された文字の潜像を前記フォトレジストの前記所定の位置に形成する露光する工程（ｄ２）と、
　前記第２フォトマスク上の選択された文字が前記未露光領域の対応する位置に投影されるように、前記第２フォトマスクを前記フォトレジスト層に対して位置あわせする工程（ｄ３）と、
　位置あわせがなされた後、前記選択された文字の潜像を前記フォトレジストの前記未露光領域に形成するように露光する工程（ｄ４）と、
を包含し、各板状部材内で共通の文字列Ａおよび文字列Ｂを各板状部材の異なる位置に記録する、方法。」の発明である点で一致し、両者の間に、格別、相違するところがない。
　
ウ　当審の判断
　以上のとおり、本願補正発明と先願発明に相違点はなく、本願補正発明は、先願発明と同一であるから、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができない。
　
３　むすび
　したがって、本願補正発明は特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるということができないから、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
 第３　本願発明について
１　本願発明
　平成２３年８月１９日付けの手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２３年１月２０日付けの手続補正により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものである。（上記「第２　平成２３年８月１９日付けの手続補正についての補正の却下の決定」の「１　本件補正について」の記載参照。）
　
２　原査定の拒絶の理由に引用された本願の出願の日前の特許出願
　原査定の拒絶の理由に引用された本願の出願の日前の特許出願（引用先願）の記載事項及び先願発明については、上記「第２　平成２３年８月１９日付けの手続補正についての補正の却下の決定」の「２　独立特許要件違反についての検討」の「（２）原査定の拒絶の理由に引用された本願の出願の日前の特許出願」に記載したとおりである。
　
３　対比・判断
　上記「第２　平成２３年８月１９日付けの手続補正についての補正の却下の決定」の「１　本件補正について」に記載したように、本願発明に対して、
（１）「（前記）文字列Ａ及び（前記）文字列Ｂ」について「複数の板状部材間で相互に異な」ることを特定する補正事項、
（２）第１フォトマスクに周期的に配列される「文字列Ａ」については、文字列Ａの「全桁の文字」が配列されることを特定する補正事項、
（３）「複数の第１フォトマスク」について「遮光パターンを有する」ことを特定する補正事項、
（４）「文字列Ｂ」についても、第２フォトマスクにおいて「Ｘ軸方向およびＹ軸方向に沿って周期的に配列され」ることを特定する補正事項、
（５）「文字列Ｂを構成する文字の潜像」の形成について、「工程（ｃ）における未露光領域に逐次形成する」ことを特定する補正事項、
（６）補正前の請求項１において「形成する露光する」とあったのを、「形成するように露光する」と訂正する補正事項、及び、
（７）各板状部材内での文字列Ａ及び文字列Ｂの記録について「各板状部材内で共通の文字列Ａおよび文字列Ｂを各板状部材の異なる位置に記録する」ことを特定する補正事項、
によって限定（及び誤記の訂正）をしたものが本願補正発明である。
　そうすると、本願発明の発明特定事項をすべて含み、本願発明をさらに限定して特定したものに相当する本願補正発明が、上記「第２　平成２３年８月１９日付けの手続補正についての補正の却下の決定」の「２　独立特許要件違反についての検討」の「（３）本願補正発明と先願発明の対比及び当審の判断」において記載したとおり、先願発明と同一であるから、本願発明も、同様に、先願発明と同一である。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、先願発明と同一であるから、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。