【手続補正書】
【提出日】平成18年1月20日(2006.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２０ｐｐｍ未満の水と、９０ｐｐｍ未満の酸素と、
ｉ）水素よりも多くのフッ素が存在し、２個（ＣＨ−ＣＨ）よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｈ結合は存在せず、６個（ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ）よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｆ結合は存在せず、かつ−ＣＨ2ＣＨ3基は存在しない、２〜１０個の炭素原子を有する環状、線状、もしくは分枝状ヒドロフルオロカーボン、
ｉｉ）水素よりも多くのフッ素が存在し、２個よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｈ結合は存在せず、−ＣＨ2ＣＨ3基は存在せず、かつエーテル酸素の両側に水素を有するシーケンス（ＣＨ−Ｏ−ＣＨ）は存在しない、Ｘ−Ｒfa［ＯＲfb］ｎＯＲfcＹ〔式中、ＸおよびＹは、水素またはフッ素であることが可能であり、かつＲfa、Ｒfb、およびＲfcは、炭素１〜３個の線状もしくは分枝状フルオロカーボン基である〕、
ｉｉｉ）ＣnＦ2n-v+2Ｈv〔式中、ｎ＝２〜１０、ｖ＜ｎ＋１、フッ素の数は水素の数に等しいかまたはそれよりも多く、２個よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｈ結合は存在せず、６個よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｆ結合は存在せず、かつＣＨ2ＣＨ3基は存在しない〕、
ｉｖ）ＣnＦ2n+1ＣＦＨＣＦＨＣmＦ2m+1〔式中、ｎは１〜４に等しく、かつｍは１〜４に等しい〕、
ｖ）ＣＦ3ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ3、
ｖｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2Ｏ］nＣＦＨＣＦ3〔式中、ｎ＝１〜５〕、
ｖｉｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2Ｏ］nＣＦ2ＣＦ3〔式中、ｎ＝１〜５〕、
ｖｉｉｉ）ＨＣＦ2（ＯＣＦ2）n（ＯＣＦ2ＣＦ2）mＯＣＦ2Ｈ〔式中、ｎ＋ｍ＝１〜８〕、ならびに
ｉｘ）水素よりも多くのフッ素が存在し、２個（ＣＨ−ＣＨ）よりも長い連続した水素は存在せず、−ＣＨ2ＣＨ3基は存在せず、６個（ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ）よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｆ結合は存在せず、かつ窒素または酸素のいずれにも、すぐ隣接したＣ−Ｈ結合は存在しない、環状、線状、もしくは分枝状のペルフルオロカーボンアミンおよびヒドロフルオロカーボンアミンならびにエーテル−アミン、
よりなる群から選択される１種もしくはそれ以上の化合物とを含んでなる、有機組成物。
【請求項２】
光学画像形成用途に使用するための有機組成物を調製する方法であって、
ｉ）水素よりも多くのフッ素が存在し、２個（ＣＨ−ＣＨ）よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｈ結合は存在せず、６個（ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ）よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｆ結合は存在せず、かつ−ＣＨ2ＣＨ3基は存在しない、２〜１０個の炭素原子を有する環状、線状、もしくは分枝状ヒドロフルオロカーボン、
ｉｉ）水素よりも多くのフッ素が存在し、２個よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｈ結合は存在せず、−ＣＨ2ＣＨ3基は存在せず、かつエーテル酸素の両側に水素を有するシーケンス（ＣＨ−Ｏ−ＣＨ）は存在しない、Ｘ−Ｒfa［ＯＲfb］ｎＯＲfcＹ〔式中、ＸおよびＹは、水素またはフッ素であることが可能であり、かつＲfa、Ｒfb、およびＲfcは、炭素１〜３個の線状もしくは分枝状フルオロカーボン基である〕、
ｉｉｉ）ＣnＦ2n-v+2Ｈv〔式中、ｎ＝２〜１０、ｖ＜ｎ＋１、２個よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｈ結合は存在せず、６個よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｆ結合は存在せず、かつＣＨ2ＣＨ3基は存在しない〕、
ｉｖ）ＣnＦ2n+1ＣＦＨＣＦＨＣmＦ2m+1〔式中、ｎは１〜４に等しく、かつｍは１〜４に等しい〕、
ｖ）ＣＦ3ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ3、
ｖｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2Ｏ］nＣＦＨＣＦ3〔式中、ｎ＝１〜５〕、
ｖｉｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2Ｏ］nＣＦ2ＣＦ3〔式中、ｎ＝１〜５〕、
ｖｉｉｉ）ＨＣＦ2（ＯＣＦ2）n（ＯＣＦ2ＣＦ2）mＯＣＦ2Ｈ〔式中、ｎ＋ｍ＝１〜８〕、ならびに
ｉｘ）水素よりも多くのフッ素が存在し、２個（ＣＨ−ＣＨ）よりも長い連続した水素は存在せず、−ＣＨ2ＣＨ3基は存在せず、かつ６個（ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ）よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｆ結合は存在せず、しかも窒素または酸素のいずれにも、すぐ隣接したＣ−Ｈ結合は存在しない、環状、線状、もしくは分枝状のペルフルオロカーボンアミンおよびヒドロフルオロカーボンアミンならびにエーテル−アミン、
よりなる群から選択される化合物を、１種もしくはそれ以上の光化学活性種を抽出するための１つもしくはそれ以上の手段を用いた処理に、少なくとも該１種もしくはそれ以上の光化学活性種の所望の濃度が達成されるまで、付すことを含んでなる方法。
【請求項３】
基材上に光学画像を形成する方法であって、
ａ）１４０〜２６０ｎｍの範囲の電磁放射線を放射することのできる線源から電磁放射線を放射することと、
ｂ）該放射線の少なくとも一部分を受容するように配置されたターゲット上で該放射線を受容することと
を含んでなり、
１種もしくはそれ以上の光透過性組成物が、該放射線源と該ターゲットとの間に配置され、該光透過性組成物のうちの少なくとも１種が、１種もしくはそれ以上の光化学活性種を抽出するための１つもしくはそれ以上の手段で処理された組成物と、
ｉ）水素よりも多くのフッ素が存在し、２個（ＣＨ−ＣＨ）よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｈ結合は存在せず、６個（ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ）よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｆ結合は存在せず、かつ−ＣＨ2ＣＨ3基は存在しない、２〜１０個の炭素原子を有する環状、線状、もしくは分枝状ヒドロフルオロカーボン、
ｉｉ）水素よりも多くのフッ素が存在し、２個よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｈ結合は存在せず、−ＣＨ2ＣＨ3基は存在せず、かつエーテル酸素の両側に水素を有するシーケンス（ＣＨ−Ｏ−ＣＨ）は存在しない、Ｘ−Ｒfa［ＯＲfb］ｎＯＲfcＹ〔式中、ＸおよびＹは、水素またはフッ素であることが可能であり、かつＲfa、Ｒfb、およびＲfcは、炭素１〜３個の線状もしくは分枝状フルオロカーボン基である〕、
ｉｉｉ）ＣnＦ2n-v+2Ｈv〔式中、ｎ＝２〜１０、ｖ＜ｎ＋１、２個よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｈ結合は存在せず、６個よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｆ結合は存在せず、かつＣＨ2ＣＨ3基は存在しない〕、
ｉｖ）ＣnＦ2n+1ＣＦＨＣＦＨＣmＦ2m+1〔式中、ｎは１〜４に等しく、かつｍは１〜４に等しい〕、
ｖ）ＣＦ3ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ3、
ｖｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2Ｏ］nＣＦＨＣＦ3〔式中、ｎ＝１〜５〕、
ｖｉｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2Ｏ］nＣＦ2ＣＦ3〔式中、ｎ＝１〜５〕、
ｖｉｉｉ）ＨＣＦ2（ＯＣＦ2）n（ＯＣＦ2ＣＦ2）mＯＣＦ2Ｈ〔式中、ｎ＋ｍ＝１〜８〕、ならびに
ｉｘ）水素よりも多くのフッ素が存在し、２個（ＣＨ−ＣＨ）よりも長い連続した水素は存在せず、−ＣＨ2ＣＨ3基は存在せず、かつ６個（ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ）よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｆ結合は存在せず、しかも窒素または酸素のいずれにも、すぐ隣接したＣ−Ｈ結合は存在しない、環状、線状、もしくは分枝状のペルフルオロカーボンアミンおよびヒドロフルオロカーボンアミンならびにエーテル−アミン、
よりなる群から選択される１種もしくはそれ以上の化合物とを含んでなる方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
長さ約２フィート×直径１インチのハステロイチューブに３Ａモレキュラーシーブを充填し、３１０℃のチューブオーブン中に配置し、窒素ガスで一晩パージングした。翌朝、最初に窒素パージガスを液体窒素冷却トラップに通し、実験の残りの部分が行えるように適度に乾燥していることを確認した。次に、チューブ炉を停止し、乾燥窒素のパージを保持しながらモレキュラーシーブを室温まで戻した。約１〜２グラムの乾燥した３Ａモレキュラーシーブを、ハステロイチューブのバックエンドから、１０ｍｌのバートレル（ＶｅｒｔｒｅｌTM）ＸＦ溶媒がすでに入っている１オンスサンプルバイアルに、直接注いだ。ただちに、ゴムセプタムでバイアルに蓋をし、次に、溶媒と３Ａモレキュラーシーブとが良好な接触を行えるように一晩ローリングさせた。カール・フィッシャー分析に供すべくサンプルをシリンジで取り出して分析にかけたところ、水は０．７１ｐｐｍであった。
本発明の好適な実施の態様は次のとおりである。
１．２０ｐｐｍ未満の水と、９０ｐｐｍ未満の酸素と、
ｉ）水素よりも多くのフッ素が存在し、２個（ＣＨ−ＣＨ）よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｈ結合は存在せず、６個（ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ）よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｆ結合は存在せず、かつ−ＣＨ2ＣＨ3基は存在しない、２〜１０個の炭素原子を有する環状、線状、もしくは分枝状ヒドロフルオロカーボン、
ｉｉ）水素よりも多くのフッ素が存在し、２個よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｈ結合は存在せず、−ＣＨ2ＣＨ3基は存在せず、かつエーテル酸素の両側に水素を有するシーケンス（ＣＨ−Ｏ−ＣＨ）は存在しない、Ｘ−Ｒfa［ＯＲfb］ｎＯＲfcＹ〔式中、ＸおよびＹは、水素またはフッ素であることが可能であり、かつＲfa、Ｒfb、およびＲfcは、炭素１〜３個の線状もしくは分枝状フルオロカーボン基である〕、
ｉｉｉ）ＣnＦ2n-v+2Ｈv〔式中、ｎ＝２〜１０、ｖ＜ｎ＋１、フッ素の数は水素の数に等しいかまたはそれよりも多く、２個よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｈ結合は存在せず、６個よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｆ結合は存在せず、かつＣＨ2ＣＨ3基は存在しない〕、
ｉｖ）ＣnＦ2n+1ＣＦＨＣＦＨＣmＦ2m+1〔式中、ｎは１〜４に等しく、かつｍは１〜４に等しい〕、
ｖ）ＣＦ3ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ3、
ｖｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2Ｏ］nＣＦＨＣＦ3〔式中、ｎ＝１〜５〕、
ｖｉｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2Ｏ］nＣＦ2ＣＦ3〔式中、ｎ＝１〜５〕、
ｖｉｉｉ）ＨＣＦ2（ＯＣＦ2）n（ＯＣＦ2ＣＦ2）mＯＣＦ2Ｈ〔式中、ｎ＋ｍ＝１〜８〕、ならびに
ｉｘ）水素よりも多くのフッ素が存在し、２個（ＣＨ−ＣＨ）よりも長い連続した水素は存在せず、−ＣＨ2ＣＨ3基は存在せず、６個（ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ）よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｆ結合は存在せず、かつ窒素または酸素のいずれにも、すぐ隣接したＣ−Ｈ結合は存在しない、環状、線状、もしくは分枝状のペルフルオロカーボンアミンおよびヒドロフルオロカーボンアミンならびにエーテル−アミン、
よりなる群から選択される１種もしくはそれ以上の化合物とを含んでなる、有機組成物。
２．前記１種もしくはそれ以上の化合物が、ペルフルオロトリブチルアミン、ペルフルオロ−Ｎ−メチルモルホリン、ＣnＦ2n+1ＣＦＨＣＦＨＣmＦ2m+1〔式中、ｎは１〜４に等しく、かつｍは１〜４に等しい〕、およびＨＣＦ2（ＯＣＦ2）n（ＯＣＦ2ＣＦ2）mＯＣＦ2Ｈ〔式中、ｎ＋ｍ＝１〜８〕よりなる群から選択される上記１に記載の組成物。
３．前記１種もしくはそれ以上の化合物が、ペルフルオロトリブチルアミン、ペルフルオロ−Ｎ−メチルモルホリン、ＣＦ3ＣＦＨＣＦＨＣＦ2ＣＦ3、ＣＦ3ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ3、およびＨＣＦ2Ｏ（ＣＦ2Ｏ）n（ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）mＣＦ2Ｈ〔式中、ｎ＋ｍ＝２〜６〕よりなる群から選択される上記１に記載の組成物。
４．前記１種もしくはそれ以上の化合物のうちの少なくとも１種が液体である上記１に記載の組成物。
５．光学画像形成用途に使用するための有機組成物を調製する方法であって、
ｉ）水素よりも多くのフッ素が存在し、２個（ＣＨ−ＣＨ）よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｈ結合は存在せず、６個（ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ）よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｆ結合は存在せず、かつ−ＣＨ2ＣＨ3基は存在しない、２〜１０個の炭素原子を有する環状、線状、もしくは分枝状ヒドロフルオロカーボン、
ｉｉ）水素よりも多くのフッ素が存在し、２個よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｈ結合は存在せず、−ＣＨ2ＣＨ3基は存在せず、かつエーテル酸素の両側に水素を有するシーケンス（ＣＨ−Ｏ−ＣＨ）は存在しない、Ｘ−Ｒfa［ＯＲfb］ｎＯＲfcＹ〔式中、ＸおよびＹは、水素またはフッ素であることが可能であり、かつＲfa、Ｒfb、およびＲfcは、炭素１〜３個の線状もしくは分枝状フルオロカーボン基である〕、
ｉｉｉ）ＣnＦ2n-v+2Ｈv〔式中、ｎ＝２〜１０、ｖ＜ｎ＋１、２個よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｈ結合は存在せず、６個よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｆ結合は存在せず、かつＣＨ2ＣＨ3基は存在しない〕、
ｉｖ）ＣnＦ2n+1ＣＦＨＣＦＨＣmＦ2m+1〔式中、ｎは１〜４に等しく、かつｍは１〜４に等しい〕、
ｖ）ＣＦ3ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ3、
ｖｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2Ｏ］nＣＦＨＣＦ3〔式中、ｎ＝１〜５〕、
ｖｉｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2Ｏ］nＣＦ2ＣＦ3〔式中、ｎ＝１〜５〕、
ｖｉｉｉ）ＨＣＦ2（ＯＣＦ2）n（ＯＣＦ2ＣＦ2）mＯＣＦ2Ｈ〔式中、ｎ＋ｍ＝１〜８〕、ならびに
ｉｘ）水素よりも多くのフッ素が存在し、２個（ＣＨ−ＣＨ）よりも長い連続した水素は存在せず、−ＣＨ2ＣＨ3基は存在せず、かつ６個（ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ）よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｆ結合は存在せず、しかも窒素または酸素のいずれにも、すぐ隣接したＣ−Ｈ結合は存在しない、環状、線状、もしくは分枝状のペルフルオロカーボンアミンおよびヒドロフルオロカーボンアミンならびにエーテル−アミン、
よりなる群から選択される化合物を、１種もしくはそれ以上の光化学活性種を抽出するための１つもしくはそれ以上の手段を用いた処理に、少なくとも該１種もしくはそれ以上の光化学活性種の所望の濃度が達成されるまで、付すことを含んでなる方法。
６．前記１種もしくはそれ以上の光化学活性種が水分を含んでなり、かつ所望の濃度が２０ｐｐｍ以下である上記５に記載の方法。
７．前記１種もしくはそれ以上の光化学活性種が酸素を含んでなり、かつ所望の濃度が９０ｐｐｍ以下である上記５に記載の方法。
８．前記１種もしくはそれ以上の光化学活性種が水分および酸素を含んでなり、かつ所望の濃度がそれぞれ２０ｐｐｍ以下および９０ｐｐｍ以下である上記５に記載の方法。
９．前記１種もしくはそれ以上の化合物が、ペルフルオロトリブチルアミン、ペルフルオロ−Ｎ−メチルモルホリン、ＣnＦ2n+1ＣＦＨＣＦＨＣmＦ2m+1〔式中、ｎは１〜４に等しく、かつｍは１〜４に等しい〕、およびＨＣＦ2（ＯＣＦ2）n（ＯＣＦ2ＣＦ2）mＯＣＦ2Ｈ〔式中、ｎ＋ｍ＝１〜８〕よりなる群から選択される上記５に記載の方法。
１０．前記１種もしくはそれ以上の化合物が、ペルフルオロトリブチルアミン、ペルフルオロ−Ｎ−メチルモルホリン、ＣＦ3ＣＦＨＣＦＨＣＦ2ＣＦ3、ＣＦ3ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ3、およびＨＣＦ2Ｏ（ＣＦ2Ｏ）n（ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）mＣＦ2Ｈ〔式中、ｎ＋ｍ＝２〜６〕よりなる群から選択される上記５に記載の方法。
１１．前記１種もしくはそれ以上の化合物のうちの少なくとも１種が液体である上記５に記載の方法。
１２．前記手段が、前記化合物をモレキュラーシーブに接触させることを含んでなる上記５に記載の方法。
１３．前記手段が、不活性ガスでスパージングすることを含んでなる上記５に記載の方法。
１４．前記手段が、前記化合物をモレキュラーシーブに接触させることと、前記化合物を不活性ガスでスパージングすることとを含んでなる上記５に記載の方法。
１５．基材上に光学画像を形成する方法であって、
ａ）１４０〜２６０ｎｍの範囲の電磁放射線を放射することのできる線源から電磁放射線を放射することと、
ｂ）該放射線の少なくとも一部分を受容するように配置されたターゲット上で該放射線を受容することと
を含んでなり、
１種もしくはそれ以上の光透過性組成物が、該放射線源と該ターゲットとの間に配置され、該光透過性組成物のうちの少なくとも１種が、１種もしくはそれ以上の光化学活性種を抽出するための１つもしくはそれ以上の手段で処理された組成物と、
ｉ）水素よりも多くのフッ素が存在し、２個（ＣＨ−ＣＨ）よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｈ結合は存在せず、６個（ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ）よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｆ結合は存在せず、かつ−ＣＨ2ＣＨ3基は存在しない、２〜１０個の炭素原子を有する環状、線状、もしくは分枝状ヒドロフルオロカーボン、
ｉｉ）水素よりも多くのフッ素が存在し、２個よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｈ結合は存在せず、−ＣＨ2ＣＨ3基は存在せず、かつエーテル酸素の両側に水素を有するシーケンス（ＣＨ−Ｏ−ＣＨ）は存在しない、Ｘ−Ｒfa［ＯＲfb］ｎＯＲfcＹ〔式中、ＸおよびＹは、水素またはフッ素であることが可能であり、かつＲfa、Ｒfb、およびＲfcは、炭素１〜３個の線状もしくは分枝状フルオロカーボン基である〕、
ｉｉｉ）ＣnＦ2n-v+2Ｈv〔式中、ｎ＝２〜１０、ｖ＜ｎ＋１、２個よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｈ結合は存在せず、６個よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｆ結合は存在せず、かつＣＨ2ＣＨ3基は存在しない〕、
ｉｖ）ＣnＦ2n+1ＣＦＨＣＦＨＣmＦ2m+1〔式中、ｎは１〜４に等しく、かつｍは１〜４に等しい〕、
ｖ）ＣＦ3ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ3、
ｖｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2Ｏ］nＣＦＨＣＦ3〔式中、ｎ＝１〜５〕、
ｖｉｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2Ｏ］nＣＦ2ＣＦ3〔式中、ｎ＝１〜５〕、
ｖｉｉｉ）ＨＣＦ2（ＯＣＦ2）n（ＯＣＦ2ＣＦ2）mＯＣＦ2Ｈ〔式中、ｎ＋ｍ＝１〜８〕、ならびに
ｉｘ）水素よりも多くのフッ素が存在し、２個（ＣＨ−ＣＨ）よりも長い連続した水素は存在せず、−ＣＨ2ＣＨ3基は存在せず、かつ６個（ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ−ＣＦ）よりも長い連続した隣接Ｃ−Ｆ結合は存在せず、しかも窒素または酸素のいずれにも、すぐ隣接したＣ−Ｈ結合は存在しない、環状、線状、もしくは分枝状のペルフルオロカーボンアミンおよびヒドロフルオロカーボンアミンならびにエーテル−アミン、
よりなる群から選択される１種もしくはそれ以上の化合物とを含んでなる方法。
１６．前記１種もしくはそれ以上の化合物が、ペルフルオロトリブチルアミン、ペルフルオロ−Ｎ−メチルモルホリン、ＣnＦ2n+1ＣＦＨＣＦＨＣmＦ2m+1〔式中、ｎは１〜４に等しく、かつｍは１〜４に等しい〕、およびＨＣＦ2（ＯＣＦ2）n（ＯＣＦ2ＣＦ2）mＯＣＦ2Ｈ〔式中、ｎ＋ｍ＝１〜８〕よりなる群から選択される上記１５に記載の方法。
１７．前記１種もしくはそれ以上の化合物が、ペルフルオロトリブチルアミン、ペルフルオロ−Ｎ−メチルモルホリン、ＣＦ3ＣＦＨＣＦＨＣＦ2ＣＦ3、ＣＦ3ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ3、およびＨＣＦ2Ｏ（ＣＦ2Ｏ）n（ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）mＣＦ2Ｈ〔式中、ｎ＋ｍ＝２〜６〕よりなる群から選択される上記１５に記載の方法。
１８．前記１種もしくはそれ以上の化合物のうちの少なくとも１種が液体である上記１５に記載の方法。
１９．前記放射線源および前記ターゲットのうちの前記少なくとも一方が、前記光透過性組成物中に液浸される上記１５に記載の方法。
２０．放射線源とターゲットの両方が、前記光透過性組成物中に液浸される上記１５に記載の方法。
２１．前記処理された組成物が、２０ｐｐｍ未満の水と、９０ｐｐｍ未満の酸素とを含んでなる、上記１５に記載の方法。
２２．前記手段が、前記化合物をモレキュラーシーブに接触させることを含んでなる上記１５に記載の方法。
２３．前記手段が、不活性ガスでスパージングすることを含んでなる上記１５に記載の方法。
２４．前記手段が、前記化合物をモレキュラーシーブに接触させることと、前記化合物を不活性ガスでスパージングすることとを含んでなる上記１５に記載の方法。