【手続補正書】
【提出日】平成18年9月19日(2006.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つまたはそれ以上のシリコーンオイル残留物を含む高分子基材の表面の改変方法であって、
ｉ）シリコーンオイル残留物の少なくとも一部を抽出する工程と、
ｉｉ）前記基材に、火炎処理、コロナ処理、プラズマ処理、液体化学薬品による処理、付着処理およびそれらの組み合わせのうちから選択されるの表面処理を行う工程とを含む、方法。
【請求項２】
抽出工程ｉ）の間に、約３０００までの分子量を有するシリコーンオイル残留物の少なくとも一部が抽出される請求項１に記載の方法。
【請求項３】
抽出工程ｉ）の間に、１気圧（ａｔｍ）、１００℃において１マイクロバール（μｂａｒ）以上の蒸気圧を有するシリコーンオイル残留物の少なくとも一部が抽出される請求項１および２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項４】
工程ｉ）の間に除去されるシリコーンオイル残留物の量は、少なくとも基材の０．１重量％である請求項１乃至３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
工程ｉ）は、真空処理、熱処理、並びに気体および超臨界状態のいずれかの状態にある溶媒を用いた抽出のうちの少なくともいずれかを含む、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
工程ｉ）は、基材の真空処理を含み、前記真空処理は、１０ミリバール（ｍｂａｒ）以下の一定圧力に達するまで真空反応器中で実施される請求項１乃至５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
工程ｉ）は、基材の熱処理を含み、前記熱処理は、１００℃を超える温度において、少なくとも０．３時間にわたって実施される請求項１乃至６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
工程（ｉ）は、界面活性剤を含有する水、マイクロエマルション、及び有機溶媒のうち
から選ばれる溶媒を用いた残留物の抽出を含む請求項１乃至７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
工程（ｉ）は、１つ以上のガスを用いた残留物の抽出を含み、該１つ以上のガスは、ＣＯ２、およびＣＯ２と、パラフィンおよび酸素化物のうちから選ばれる１つ以上のガスとの混合物のうちから選ばれ、「ガス」という用語は、抽出の間の状態を示す請求項１乃至８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
工程（ｉ）は、抽出工程の少なくとも一部の間に、超臨界状態にある１つまたはそれ以上の超臨界溶媒を用いて残留物を抽出することを含み、前記超臨界溶媒は、Ｃ１〜Ｃ１２炭化水素のうちから選択される１つまたはそれ以上の化合物を含む、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
基材表面は、処理工程ｉｉ）に先だって中間プライマー付着工程に供され、前記中間処理工程は、材料の付着を含み、前記付着は、付着材料が基材の表面上に析出することを含む、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
基材表面は、基材から残留物を抽出するのと同時または抽出に続いて、中間プライマー付着工程に供される請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
中間プライマー付着工程は、分散または溶解された付着材料を保持する溶媒を用いることによって実施される、請求項１１および１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
中間プライマー付着工程は、高いガス圧力下で、分散または溶解された付着材料の調製および塗布を行い、圧力を徐々に低下させることにより、基材の表面上および基材内に材料の析出をもたらし、該析出は、溶媒を徐々に蒸発させて前記付着材料の付着を生じることによってもたらされる、請求項１１乃至１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
工程（ｉｉ）において基材は、火炎処理、コロナ処理、プラズマ（ＣＶＤ／ＰＶＤ）処理のうちから選択される処理の１つまたはそれ以上を用いて、およびシラン処理など液相での化学物質を用いることによって、およびエポキシ樹脂などの溶剤系プライマーを伴う処理を用いることによって、処理される請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
工程（ｉｉ）における表面処理は、基材の表面上への材料の付着を含む請求項１乃至１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
処理工程ｉｉ）において、または追加の処理工程において、基材に対して、１つ以上の塗料層、導電性ポリマー層、および生化学的目的のためのコーティングのうちから選ばれるコーティングプロセスを行う請求項１乃至１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
基材は、添加剤を有するか、または有さないシリコーンゴム（プレス成形および射出成形および押出されたＲＴＶ、ＨＴＶ）から選ばれる材料を含む請求項１乃至１７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１９】
工程ｉ）は、熱抽出処理を含み、前記熱抽出処理は、１００℃を超える温度において、少なくとも０．３時間にわたって実施され、プラズマ処理の形態である表面処理が、熱抽出処理の終了後、２４時間以内に実施される、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
工程ｉ）は、熱抽出処理を含み、前記熱抽出処理は、１００℃を超える温度において、少なくとも０．３時間にわたって実施され、前記表面処理はプラズマ処理であり、工程ｉ
）と工程ｉｉ）との間、処理された基材は除湿下で保存される、請求項１に記載の方法。
【請求項２１】
請求項１乃至２０のいずれか１項に記載の、１つまたはそれ以上のシリコーンオイル残留物を含む高分子基材の表面改変方法であって、
０）射出成形、押出またはプレスによって基材を成形する工程と、
ｉ）シリコーンオイル残留物の少なくとも一部を抽出する工程と、
ｉｉ）基材に対して表面処理を行う工程とを含み、
成形された基材からのシリコーンオイル残留物の除去と、表面処理とが、組み合わされた１つのプロセスにおいて実施される方法。
【請求項２２】
抽出された基材は、表面処理に先立って、液体残留物を除去するために真空または熱に供され、真空プロセスは約１００〜１マイクロバール（μｂａｒ）の圧力で行われ、熱処理は１１０〜２００℃の間で０．３〜２時間行われる請求項１乃至２１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２３】
シリコーン材料を成形してスイッチキャップを形成する工程と、
シリコーンオイル残留物の少なくとも一部を抽出する工程と、
前記表面をコロナまたはプラズマによって処理する工程と、
処理された表面を塗料で被覆する工程とを有する請求項１乃至２２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２４】
射出成形を用いて、シリコーン材料を成形してスイッチキャップを形成する工程と、
シリコーンオイル残留物の少なくとも一部を真空処理において抽出する工程と、
前記表面をプラズマによって処理する工程とを有する請求項２０乃至２２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２５】
射出成形を用いて、ＬＳＲシリコーン材料を成形してスイッチキャップを形成する工程と、
シリコーンオイル残留物の少なくとも一部を真空処理において抽出する工程と、
前記表面をプラズマによって処理する工程とを有し、
前記抽出工程が、１０マイクロバール（μｂａｒ）以下の一定圧力に達するまで真空反応器内で処理することを含み、前記表面処理工程は同一の前記反応器内で実施される請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
射出成形を用いて、シリコーン材料を成形してスイッチキャップを形成する工程と、
少なくとも基材の０．１重量％のシリコーンオイル残留物を熱処理において抽出する工程と、
前記表面をプラズマによって処理する工程とを有する請求項２１乃至２３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２７】
射出成形を用いて、シリコーン材料を成形してスイッチキャップを形成する工程と、
少なくとも基材の０．５重量％のシリコーンオイル残留物を熱処理において抽出する工程と、
前記表面をプラズマによって処理する工程とを有する請求項２１乃至２３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２８】
射出成形を用いて、シリコーン材料を成形してスイッチキャップを形成する工程と、
少なくとも基材の１．０重量％のシリコーンオイル残留物を熱処理において抽出する工程と、
前記表面をプラズマによって処理する工程とを有する請求項２１乃至２３のいずれか１
項に記載の方法。
【請求項２９】
射出成形を用いて、シリコーン材料を成形してスイッチキャップを形成する工程と、
少なくとも基材の２．０重量％のシリコーンオイル残留物を熱処理において抽出する工程と、
前記表面をプラズマによって処理する工程とを有する請求項２１乃至２３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３０】
前記表面処理工程は前記抽出工程の終了後２４時間以内に実施される請求項２３乃至２９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３１】
前記抽出工程は水の形態にある液体残留物の除去を含む請求項２３乃至２６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３２】
前記表面処理工程は基材表面上へ材料を付着させることを含む２２乃至３１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３３】
１つまたはそれ以上のシリコーンオイル残留物を含む高分子基材に物質を組み込む方法であって、
ｉ）シリコーンオイル残留物の少なくとも一部を抽出する工程と、
ｉｉ）前記基材に付着処理を行う工程とを含む方法。
【請求項３４】
付着工程は、付着材料を基材の上および中に析出させることを含む請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】
基材は、基材から残留物を抽出するのと同時に、あるいは抽出後に、付着工程に供される請求項３４に記載の方法。
【請求項３６】
付着工程は、分散または溶解された付着材料を保持する溶媒を用いて実施され、前記分散または溶解された付着材料を保持する溶媒は、表面に塗布されて、溶媒を徐々に蒸発させることで、基材の表面および基材内へ前記付着材料の付着をもたらす、請求項３３乃至３５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３７】
付着工程は、高いガス圧力下で、圧力を徐々に低下させることにより、基材の表面上および基材内に材料の析出をもたらし、該析出は、溶媒を徐々に蒸発させて前記付着材料の付着を生じることによってもたらされる請求項３３乃至３６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３８】
工程（ｉ）は、ＣＯ２、およびＣＯ２と、パラフィンおよび酸素化物から選ばれる１つ以上のガスとの混合物のうちから選ばれる１つ以上のガスを用いた残留物の抽出を含み、「ガス」という用語は、抽出の間の状態を示す請求項３３乃至３７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３９】
工程（ｉ）は、抽出工程の少なくとも一部の間に、超臨界状態にある１つまたはそれ以上の超臨界溶媒を用いて残留物を抽出することを含み、前記超臨界溶媒は、Ｃ１〜Ｃ１２炭化水素から選択される１つまたはそれ以上の化合物を含む、請求項３３乃至３８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項４０】
分子量が約７０〜約３０００の範囲を有する低分子量化合物からなる１つ以上の液体残留物を含む加硫ゴム材料に、物質を組み込む方法であって、
ｉ）液体残留物の少なくとも一部を抽出する工程と、
ｉｉ）前記加硫ゴム材料に対して付着処理を行う工程とを含む、方法。
【請求項４１】
付着工程は、高いガス圧力下で行われ、圧力を徐々に低下させることにより、基材の表面上および基材内に材料の析出をもたらす、請求項４０に記載の方法。
【請求項４２】
工程（ｉ）は、ＣＯ２、およびＣＯ２と、パラフィンおよび酸素化物から選ばれる１つ以上のガスとの混合物のうちから選ばれる１つ以上のガスを用いた残留物の抽出を含み、「ガス」という用語は、抽出の間の状態を示す請求項４０乃至４１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項４３】
工程（ｉ）は、抽出工程の少なくとも一部の間に、超臨界状態にある１つまたはそれ以上の超臨界溶媒を用いて残留物を抽出することを含み、前記超臨界溶媒は、Ｃ１〜Ｃ１２炭化水素から選択される１つまたはそれ以上の化合物を含む、請求項４０乃至４２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項４４】
請求項１乃至４３のいずれか１項の方法を用いて得られるゴム製品。
【請求項４５】
前記製品がシリコーンゴムスイッチキャップである、請求項４４に記載のゴム製品。
【請求項４６】
処理された表面が塗料で被覆されており、前記表面に対する塗料の接着性が、シリコーンオイル残留物の抽出を行わなかった場合に得られる接着性よりも高い、請求項４５に記載のゴム製品。