【手続補正書】
【提出日】平成17年5月19日(2005.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに反対面となる第１及び第２の面と、上記第１の面に隣接する第１の伝導性タイプを有するカソード領域と、上記第２の面に隣接し、上記カソード領域より正味ドープ濃度が低い第１の伝導性タイプを有するドリフト領域とを有する半導体領域と、
上記第２の面から上記半導体領域内に延び、該半導体領域内に１つ以上のメサを画定する１つ以上のトレンチと、
上記１つ以上のトレンチ内の上記半導体領域に隣接し、該半導体領域に接する熱成長絶縁層と、該熱成長絶縁層上に蒸着された蒸着成長絶縁層とを有する絶縁領域と、
上記半導体領域に隣接し、上記第２の面においてショットキー整流コンタクトを形成し、上記トレンチ内の上記絶縁領域に隣接するアノード電極とを備え、
上記トレンチは、上記カソード領域内まで延びていることを特徴とするショットキー整流器。
【請求項２】
上記絶縁領域は、酸化物を含むことを特徴とする請求項１記載のショットキー整流器。
【請求項３】
上記絶縁領域は、酸化シリコンを含むことを特徴とする請求項２記載のショットキー整流器。
【請求項４】
上記蒸着成長絶縁層は、化学気相成長法によって成長されていることを特徴とする請求項１記載のショットキー整流器。
【請求項５】
上記蒸着成長絶縁層は、化学気相成長法によって成長されていることを特徴とする請求項２記載のショットキー整流器。
【請求項６】
上記蒸着成長絶縁層は、化学気相成長法によって成長されていることを特徴とする請求項３記載のショットキー整流器。
【請求項７】
上記半導体領域は、シリコンを材料とすることを特徴とする請求項１記載のショットキー整流器。
【請求項８】
上記第１の伝導性タイプは、ｎ型伝導性であることを特徴とする請求項１記載のショットキー整流器。
【請求項９】
互いに反対面となる第１及び第２の面と、上記第１の面に隣接する第１の伝導性タイプを有するカソード領域と、上記第２の面に隣接し、上記カソード領域より正味ドープ濃度が低い第１の伝導性タイプを有するドリフト領域とを有する半導体領域と、
上記第２の面から上記半導体領域内に延び、該半導体領域内に１つ以上のメサを画定する１つ以上のトレンチと、
上記１つ以上のトレンチ内の上記半導体領域に隣接し、該半導体領域に接する熱成長絶縁層と、該熱成長絶縁層上に蒸着された蒸着成長絶縁層とを有する絶縁領域と、
上記半導体領域に隣接し、上記第２の面においてショットキー整流コンタクトを形成し、上記トレンチ内の上記絶縁領域に隣接するアノード電極とを備え、
上記絶縁領域の熱成長絶縁層が蒸着成長絶縁層より欠陥密度が低いことを特徴とするショットキー整流器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【発明の名称】トレンチショットキー整流器
【技術分野】
【０００１】
本発明は、整流器に関し、詳しくは、ショットキーバリア整流素子及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
整流器は、順方向の電流に対しては比較的低い抵抗を示し、逆方向の電流に対しては高い抵抗を示す。ショットキーバリア整流器は、スイッチングモード電源及び例えばモータ駆動等の他の高速スイッチング電源の出力整流器として採用されている。これらの整流器は、順方向に大きな電流を流すことができ、逆方向には高い阻止電圧（blocking voltage）を維持することができる。
【０００３】
参照により本願に援用されるメヘロートラ(Mehrotra)他に付与された米国特許第５３６５１０２号「ＭＯＳトレンチを有するショットキーバリア整流器（Schottky Barrier Rectifier with MOS Trench）」には、理想的な境目のはっきりした平行平板のｐｎ接合（parallel-plane P-N junction）によって理論的に達成できる降伏電圧よりも高い降伏電圧を有するショットキーバリア整流器が開示されている。このような整流器の断面を図１に示す。図１に示すように、整流器１０は、第１の伝導性タイプ、通常ｎ型伝導性を有し、第１の面１２ａと、この第１の面１２ａの反対面である第２の面１２ｂとを備える半導体基板１２を備えている。半導体基板１２は、第１の面１２ａに隣接する不純物が比較的高濃度にドープされたカソード領域１２ｃ（図では、ｎ＋として示す）を備える。カソード領域１２ｃから第２の面１２ｂには、第１の伝導性タイプ（ｎとして示す）を有するドリフト領域１２ｄが延びている。このように、カソード領域１２ｃの不純物濃度は、ドリフト領域１２ｄの不純物濃度より高い。ドリフト領域１２ｄには、対向する２つの側面１４ａ、１４ｂによって定義される断面幅が「Ｗｍ」のメサ１４が形成されている。メサ１４の形状は、細長状（stripe）であってもく、方形（rectangular）であってもよく、円筒状（cylindrical）であってもよく、他の類似する形状であってもよい。メサ１４が形成された側には、絶縁領域１６ａ、１６ｂ（ＳｉＯ２を材料とする）が設けられている。更に、整流器１０は、絶縁領域１６ａ、１６ｂ上に設けられたアノード電極１８を備える。アノード電極１８は、メサ１４と、第２の面１２ｂにおいてショットキー整流コンタクトを形成している。アノード電極１８とメサ１４の界面で形成されるショットキーバリアの高さは、使用されている電極金属及び半導体（例えば、Ｓｉ、Ｇｅ、ＧａＡｓ及びＳｉＣ）の種類に依存し、及びメサ１４の不純物濃度に依存する。更に、第１の面１２ａ側には、カソード領域１２ｃに隣接してカソード電極２０が設けられている。カソード電極２０は、オーミックコンタクトでカソード領域１２ｃに接続されている。
【０００４】
電力消費を下げ及びエネルギ効率を高めたいという要求に応じて、最新の電源の電圧は低下し続け、電力整流器のオン状態における電圧降下（on-state voltage drop）を低減するとともに、順方向バイアス電流密度のレベル（high forward-biased current density level）を高く維持することは有益である。当業者に周知のように、オン状態電圧降下は、通常、金属／半導体接合に亘る順方向の電圧降下と、半導体領域及びカソードコンタクトにおける直列抵抗とに依存する。
【０００５】
また、通常、電力消費を下げるためには、逆バイアス時の漏れ電流を最少にする必要がある。逆バイアス漏れ電流は、逆バイアス阻止モードの動作における整流器に流れる電流である。逆バイアス阻止電圧を高く維持するとともに、逆バイアス漏れ電流を最少にするために、整流器の半導体部分は、金属／半導体界面における逆バイアス電界が大きくなり過ぎないように、通常、低濃度にドープされ、比較的厚く形成されている。更に、所定の逆バイアス電圧に対する逆バイアス漏れ電流の大きさは、金属領域と半導体領域間のショットキーバリアの高さ（ポテンシャル障壁）に反比例する。したがって、電力消費の削減を実現するためには、順バイアス電圧降下及び逆バイアス漏れ電流の両方を最少にし、逆方向阻止電圧を最大にする必要がある。
【０００６】
米国特許第５６１２５６７号によれば、図１に示す整流器を用いることにより、ドリフト領域１２ｄのメサ形状の部分の電荷の多数キャリアと、絶縁領域１６ａ、１６ｂの反対側の金属アノード電極１８の部分との間の電荷結合により、好ましい効果が得られる。特に、金属−半導体コンタクト（ショットキーコンタクト）の中央の電界が理想的な平行平板の整流器（plane-parallel rectifier）に比してかなり低減される。ショットキーコンタクトの中央の電界が低減されると、ショットキーバリアの高さが低くなり、逆バイアス漏れ電流が著しく減少する。逆バイアス漏れ電流は、逆バイアス（阻止）モードの動作において整流器を流れる電流である。更に、電界プロファイルのピークが、金属−半導体コンタクトから離れて、ドリフト領域１２ｄ内に移動する。このように、電界のピークがショットキーコンタクトから離れて移動するので、メサ１４は、より高い電圧を維持でき、すなわち、理想的な平行平板の整流器よりも高い降伏電圧（逆方向阻止電圧）を実現できる。
【０００７】
図２は、図１に示すショットキー整流器におけるトレンチ酸化層の厚みと降伏電圧との関係を示すグラフであり、上述した特許の図１２を複写したものである。特に、降伏電圧は、酸化層の厚みが少なくとも２２００Åになるまで、単調に増加する。図２に示すグラフは、メサ幅が０．５μｍ、セルピッチが１μｍ、トレンチの深さが３μｍ、ドリフト領域の厚みが４μｍのショットキー整流器について得られたものである。
【０００８】
図２に示すように、高電圧用途に使用されるショットキー整流器では、トレンチ酸化層の厚みを比較的厚くする必要がある。酸化層は、一般的に、熱処理によって成長される。熱処理を採用することにより、酸化層−半導体界面における欠陥密度が低い良好なエピタキシー成長が得られるという利点がある。しかしながら、酸化層を熱によって成長させる場合の成長速度は遅く、したがって２０００Å以上の厚みを有するトレンチ酸化層を形成することは困難である。また、化学気相成長法（chemical vapor deposition：以下、ＣＶＤという。）等の代わりの技術は、蒸着速度は速いが、欠陥密度が高くなり、したがって、酸化層−半導体界面における電荷が多くなるという問題がある。
【０００９】
そこで、当該技術分野では、高い電圧で動作するとともに、比較的容易に製造できるトレンチショットキー整流器の実現が望まれている。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上述及びこの他の課題は、本発明により解決される。すなわち、本発明に係るショットキー整流器は、互いに反対面となる第１及び第２の面と、第１の面に隣接する第１の伝導性タイプを有するカソード領域と、第２の面に隣接し、カソード領域より正味ドープ濃度が低い第１の伝導性タイプを有するドリフト領域とを有する半導体領域と、第２の面から半導体領域内に延び、半導体領域内に１つ以上のメサを画定する１つ以上のトレンチと、１つ以上のトレンチ内の半導体領域に隣接し、半導体領域に接する熱成長絶縁層と、熱成長絶縁層上に蒸着された蒸着成長絶縁層とを有する絶縁領域と、半導体領域に隣接し、第２の面においてショットキー整流コンタクトを形成し、トレンチ内の絶縁領域に隣接するアノード電極とを備える。そして、トレンチはカソード領域内まで延びている。また、好ましくは、絶縁領域の熱成長絶縁層は蒸着成長絶縁層より欠陥密度が低い。
【００１１】
半導体領域は、好ましくはシリコンを材料とし、第１の伝導性タイプは、好ましくはｎ型伝導性であり、カソード電極は、好ましくは第１の面に形成される。
【００１２】
トレンチの下部は、好ましくは、トレンチの深さの約２５乃至４０％を占める。幾つかの実施例においては、トレンチは、カソード領域内まで延び、絶縁されたトレンチの下部は、カソード領域とドリフト領域の間に延びる。
【００１３】
絶縁領域は、好ましくは、酸化シリコンを材料とし、この酸化シリコンを蒸着させて形成してもよく、熱成長により形成してもよい。
【００１４】
幾つかの実施例において、絶縁領域上にアノード電極の一部を構成するポリシリコン領域を設ける。
【００１５】
本発明により、順方向バイアスに時の電圧降下が低く、逆方向バイアス時の漏れ電流が少なく、降伏電圧が高い新たなショットキーバリア整流器を実現できる。
【００１６】
更に、本発明によれば、このようなショットキーバリア整流器を単純な、したがって経済的な製造技術で製造できる。
【００１７】
本発明の他の実施例及び利点は、以下の発明の実施の形態の説明、実施例及び添付の請求の範囲によって、当業者に明らかとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の好ましい実施例を示す図面を参照して、本発明を詳細に説明する。なお、本発明は、以下に説明する実施例とは異なる形式でも実現でき、したがって、以下の実施例は、本発明を限定するものではない。
【００１９】
図３は、本発明に基づくショットキーバリア整流器の断面図である。整流器１０は、第１の伝導性タイプ、通常ｎ型伝導性を有し、第１の面１２ａと、この第１の面１２ａの反対面である第２の面１２ｂとを備える半導体基板１２を備える。半導体基板１２は、好ましくは、第１の面１２ａに隣接する不純物が比較的高濃度にドープされたカソード領域１２ｃ（図では、ｎ＋として示す）を備える。具体的には、カソード領域１２ｃには、第１の伝導性タイプを有する不純物が約５×１０１９／ｃｍ３の濃度でドープされている。カソード領域１２ｃから第２の面１２ｂには、第１の伝導性タイプ（ｎとして示す）を有するドリフト領域１２ｄが延びている。具体的には、例えば３０Ｖ素子の場合、ドリフト領域１２ｄには、第１の伝導性タイプを有する不純物を約３．３×１０１６／ｃｍ３の濃度でドープするとよい。ドリフト領域１２ｄとカソード領域１２ｃは、非整流ｎ＋／ｎ接合を形成している。
【００２０】
ドリフト領域１２ｄには、断面幅が「Ｗｍ」のメサ１４が形成されている。メサ１４は、２つのトレンチによって画定されている。トレンチ内の、半導体領域に隣接する部分には、絶縁領域１６（この実施例では、熱成長酸化層）が形成されている。各絶縁領域１６は、第１の絶縁領域１６ａ及び第２の絶縁領域１６ｂを備える。第１の絶縁領域１６ａは、熱成長層である。第２の絶縁領域１６ｂは、第１の絶縁領域１６ａ上に蒸着法によって成長されている。後述するように、熱成長領域により、酸化層−半導体界面を比較的少ない欠陥で形成し、蒸着領域により、比較的厚いトレンチ酸化層を成長させることができる。絶縁層１６全体の厚さは、代表的には、約７００〜２０００Åである。幅Ｗｍは、代表的には、約１ミクロンである。また、トレンチの深さｄは、代表的には、約３ミクロンである。
【００２１】
メサ１４は、図面の奥方向（third dimension、図示せず）に延びており、細長状（stripe）であってもく、方形（rectangular）であってもよく、円筒状（cylindrical）であってもよく、他の類似する形状であってもよい。当業者に理解されるように、メサ１４は、様々なトレンチ構成を用いて、半導体基板１２の半導体領域内に形成することができる。
【００２２】
例えば、メサ１４は、図面の奥方向に延びている隣接した直線状のトレンチの複数の対間に形成することができる。別の具体例として、環状のトレンチによってメサ１４を形成してもよい。これらのいずれの具体例においても、トレンチの横方向の断面は、図３に示す通りとなる。
【００２３】
アノード電極１８は、第２の面に沿って、ドレイン領域１２ｄに隣接するように直接形成されている。アノード電極１８は、絶縁領域１６にも直接隣接している。アノード電極１８は、半導体のドレイン領域１２ｄに接する部分、すなわち第２の面１２ｂに沿って、ショットキーバリア整流接合を形成している。
【００２４】
更に、第１の面１２ａ側には、カソード領域１２ｃに隣接してカソード電極（図示せず）が設けられている。カソード電極は、好ましくは、オーミックコンタクトでカソード領域１２ｃに接続されている。
【００２５】
このような整流器は、逆バイアス降伏電圧が高い。あらゆる特定の動作原理に頼ることなく、この設計により、アノード電極１８とメサ１４との間に電荷結合を生じさせ、メサ構造内の電圧プロファイルに良好に影響し、逆バイアス時の降伏電圧を高くし、漏れ電流を小さくできる絶縁領域１６を実現することができる。第１の絶縁領域１６ａの厚さを第２の絶縁領域１６ｂに対して最適化する技術は、当該技術分野においては周知である。
【００２６】
本発明の別の実施例を図４に示す。図４に示す実施例は、図３に示す実施例に類似しているが、トレンチがドリフト領域１２ｄを越えて、カソード領域１２ｃ内に延びている点が図３に示す実施例と異なる。
【００２７】
本発明の更なる実施例を図５及び図６に示す。図５に示す実施例では、チタン層１８ａと、チタン−タングステン層１８ｂと、タングステン層１８ｃとを備える多層アノード電極を用いることにより、アノード電極１８とドリフト領域１２ｄ間のコンタクトのショットキー整流特性を向上させている。具体的には、チタン−タングステン層１８ｂは、５０％のチタンと、５０％のタングステンとを含む。更に、順方向バイアス時の電圧降下を低減するために、半導体素子内にｐ＋領域を形成する（図６参照）。この具体例では、ｐ＋領域の不純物濃度は、１×１０１９ｃｍ３としている。
【００２８】
図７Ａ〜図７Ｂは、図３に示すトレンチショットキー整流器１０の製造工程を示している。これらの図面に示すように、ｎドープエピタキシャル層（ドリフト領域１２ｄに対応する）を従来のｎ＋ドープ基板（カソード領域１２ｃに対応する）上に成長させる。エピタキシャル層１２ｄの厚さは、代表的には約７μｍとする。次に、フォトレジストマスキングプロセスを用いて、トレンチ２１の位置を画定するマスク部（図示せず）を形成する。これらのマスク部間の開口部を介し、好ましくは反応性イオンエッチングによって、トレンチ２１を、代表的には約３μｍの深さにドライエッチングする。次に、マスク層を除去し、熱酸化と蒸着により、構造体表面全体に酸化層１６ａ、１６ｂをそれぞれ形成する。酸化層１６ａ、１６ｂは、代表的には二酸化シリコン（ＳｉＯ２）のような酸化層である。熱酸化層１６の厚みは、代表的には約７００〜２０００Åとする。
【００２９】
熱酸化による成長は、一般的な手法であり、シリコン酸化層である酸化層１６ａを成長させるために用いることができる。全ての熱処理において、二酸化シリコンは、シリコン（Ｓｉ）から形成される。酸素が存在すると、この反応は、室温でも起こる。なお、妥当な処理時間内で良質な酸化層を形成するためには、高温（通常９００℃〜１２００℃）での処理が必要である。酸素を酸素源として用いる場合、この反応はドライ酸化と呼ばれる。一方、水蒸気を酸素源として用いる場合、この反応はスチーム酸化又はウェット酸化と呼ばれる。スチーム酸化の成長速度は、ドライ酸化の成長速度より速い。シリコン酸化層である酸化層１６ａを成長させるためには、常圧成長技術（atmospheric growth technique）、急速熱酸化法（rapid thermal oxidation）、高圧酸化法（high-pressure oxidation）、陽極酸化法（anodic oxidation）等を含む様々な熱酸化法を用いることができる。熱酸化法は、成長速度が遅いため、欠陥がない層を形成できるという利点がある。
【００３０】
絶縁層１６ｂは、例えば化学気相成長法（chemical vapor deposition：以下、ＣＶＤという。）等の蒸着法によって形成される。ＣＶＤでは、蒸着される材料は、そのままの（intact）ウェーハ表面に蒸着される。ここでは、常圧化学気相成長法（atmospheric pressure chemical vapor deposition：ＡＰＣＶＤ）、低圧化学気相成長法（low-pressure chemical vapor deposition：ＬＰＣＶＤ）、プラズマ増速化学気相成長法（plasma-enhanced chemical vapor deposition：ＰＥＣＶＤ）等を含む様々なＣＶＤを用いることができる。ここで再び、絶縁層１６ｂが二酸化シリコンであると仮定すると、例えばＡＰＣＶＤプロセスにおいては、シラン（ＳｉＨ４）と酸素（Ｏ２）を混合し、成膜チャンバ内において、代表的には約４５０℃の温度で反応させ、ＳｉＯ２を生成する。典型的なＬＰＣＶＤプロセスでは、例えば約９００℃といったより高い温度を用い、ジクロロシラン（ＳｉＣｌ２Ｈ２）を二酸化窒素（ＮＯ２）と反応させてＳｉＯ２を生成する。周知のＰＥＣＶＤでは、典型的には約４００℃のより低い温度を用い、テトラエチルオルソシリケート（tetraethylorthosilicate：ＴＥＯＳ又はＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）を酸素と反応させて、ＳｉＯ２を生成する。必要であれば、高温アニール工程により、蒸着されたＣＶＤ層を高密度化することもできる。この高密度化の後、蒸着されたシリコン酸化膜は、熱成長された酸化層の構造及び特性に近くなる。蒸着法の熱成長法に対する利点は、成長速度が速いという点である。したがって、比較的厚いトレンチ酸化層を容易に形成することができる。更に、酸化層−半導体界面には、熱成長層が設けられているため、この界面における欠陥密度を過度に高くすることなく、厚い酸化層を実現できる。
【００３１】
そして、図７Ｂに示すように、アノード電極１８を設け、この構造体を完成する。アノード電極１８は、例えば（ａ）Ｔｉ：Ｗ層を設け、次に（ｂ）Ｐｔ：Ｓｉ層を設け、次に（ｃ）Ａｌ層を設けることにより、形成形成することができる。別の具体例として、（ａ）Ｔｉ：Ｎ層を設け、次に（ｂ）Ｐｔ：Ｓｉ層を設け、次に（ｃ）Ａｌ層を設けることにより、アノード電極１８を形成することができる。
【００３２】
更に、図５に示すような（上述の説明参照）構造のアノード電極１８を形成してもよい。この具体例では、アノード電極１８は、（ａ）Ｔｉ層を設け、次に（ｂ）Ｔｉ：Ｗ層を設け、次に（ｃ）Ｗ層を設けることにより形成される。
【００３３】
図６に示すような構造を形成する場合、上述の工程は、エピタキシャル層１２ｄを成長させた直後ではなく、エピタキシャル層１２ｄの上部に例えばイオン注入及び拡散プロセスによってｐ＋層を形成した後に行われる。
【００３４】
以上のように、本発明は、トレンチショットキー整流器とその製造方法を提供する。本発明に基づくトレンチショットキー整流器は、厚いトレンチ酸化層を有し、したがって降伏電圧を高くできる。本発明を幾つかの実施例により説明したが、上述の実施例を更に様々に変更できることは、当業者にとって明らかである。これらの変更は、本発明の開示の範囲内にあり、本発明は、添付の請求の範囲によってのみ定義される。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】従来のトレンチＭＯＳバリアを用いたショットキー整流器の断面図である。
【図２】図１に示すショットキー整流器におけるトレンチ酸化層の厚さと降伏電圧の関係を示すグラフである。
【図３】本発明を適用したトレンチショットキー整流器の断面図である。
【図４】本発明を適用したトレンチショットキー整流器の断面図である。
【図５】本発明を適用したトレンチショットキー整流器の断面図である。
【図６】本発明を適用したトレンチショットキー整流器の断面図である。
【図７Ａ】図３に示す本発明を適用したトレンチショットキー整流器の製造工程を説明する断面図である。
【図７Ｂ】図３に示す本発明を適用したトレンチショットキー整流器の製造工程を説明する断面図である。