【手続補正書】
【提出日】平成18年5月12日(2006.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  アリールアリルエーテルを遷移金属錯体触媒の存在下に過酸化水素酸化剤または有機ヒドロペルオキシド酸化剤と接触させることを含む、芳香族グリシジルエーテルエポキシ化合物の製造方法であって、少なくとも(a) 該アリールアリルエーテルがコンホメーション上の制限を受けている；または、(b) 該遷移金属錯体触媒が、遷移金属に結合した少なくとも1またはそれ以上の安定なリガンドを含んでいる、方法。
【請求項２】   (i)アリールアリルエーテル構造の運動性を限定する原子間隔の存在のため、(ii) アリールアリルエーテル構造の運動性を限定する、少なくとも１つがアリールアリルエーテル基である芳香環を結合する硬質セグメントの存在のため、または、(iii) アリルエーテル基の回転の自由を立体的に妨げまたは制限する、アリルエーテル基に対しオルト位にある、アリールアリルエーテルの芳香環上の少なくとも1個の置換基の存在のため、アリールアリルエーテルがコンホメーション上の制限を受けている、請求項1に記載の方法。
【請求項３】  アリールフェノールの多官能性アリールアリルエーテルを遷移金属錯体触媒の存在下に過酸化水素酸化剤または有機ヒドロペルオキシド酸化剤と接触させることを含み、少なくとも(a) 多官能性アリールアリルエーテルがコンホメーション上の制限を受けている、または、(b) 遷移金属錯体触媒が、遷移金属に結合した少なくとも1またはそれ以上の安定なリガンドを含んでいる、多官能性アリールグリシジルエーテルエポキシ化合物の製造方法。
【請求項４】  アリールアリルエーテルが以下の式I:
(R1)x(R2)yAr(OR3)z                           式I
［式中、
xは0〜750であり、yは0〜750であり、zは1〜150であり；
Arは芳香環を含む部分であり；
R1は、Ar部分の芳香環上のOR3基に対しオルト位の水素原子を置換する基であり；
R2は、Ar部分の芳香環上のOR3基に対しオルト位でない水素原子を置換する基であり；
OR3は、Ar部分の芳香環上の水素原子を置換するプロペニル含有オキシ基であり；そして、
R3はプロペニル含有基である］
で示される構造を有する、請求項1に記載の方法。
【請求項５】  Arが、単核芳香環を含む部分；多核芳香環を含む部分；多核縮合芳香環を含む部分；1またはそれ以上のヘテロ原子を有する多核縮合芳香環を含む部分；脂肪族環と縮合した単核または多核芳香環を含む部分；O、N、S、Si、B、P、およびこれらの組み合わせから選ばれる1またはそれ以上のヘテロ原子を含む脂肪族環と縮合した単核または多核縮合芳香環を含む部分；ならびに、各アリール部分がオリゴマーまたは高分子量有機シロキサン単位と結合しているアリール部分の群、から選ばれる部分である、請求項4に記載の方法。
【請求項６】  アリールアリルエーテルが以下の式II〜式V：
【化１】
2002517387.tif 000001
［式中、
xは0〜4であり、yは0〜3であり、そしてzは1〜4であり；
R1は、芳香環上のOR3基に対しオルト位の水素原子を置換する基であり；
R2は、芳香環上のOR3基に対しオルト位でない水素原子を置換する基であり；
OR3は、芳香環上の水素原子を置換するプロペニル含有オキシ基であり；
R3はプロペニル含有部分であり；
Xは存在しない；ヘテロ原子；-C(O)-；-S(O2)-；-C(O)-NH-；-P(O)Ar-；ヘテロ原子を持つまたは持たない有機脂肪族部分、；ヘテロ原子を持つまたは持たない脂環式基；ヘテロ原子を持つまたは持たない芳香族基；または、これらの任意の組み合わせであり；
mは0.001〜10であり；
Yは、1〜20の炭素原子を有する、ヘテロ原子を持つまたは持たない有機脂肪族部分；3〜20の炭素原子を有する、ヘテロ原子を持つまたは持たない脂環式部分；20以下の炭素原子を有する、ヘテロ原子を持つまたは持たない芳香族部分；または、Yは、オリゴマーまたは高分子量有機シロキサン単位であり；そして、
m'は3または4であり、またはYがオリゴマーまたは高分子量有機シロキサン単位である時、m'は1〜150である］
のいずれかにより示される構造を有する、請求項4に記載の方法。
【請求項７】  R1およびR2が、ハロゲン；1〜20の炭素原子を有するアルキル基；3〜20の炭素原子を有する脂環式基；6〜20の炭素原子を有する芳香族基；またはこれらの任意の組み合わせより成る群から選ばれる［ここでR1およびR2は異なっていても同一であってもよい］、請求項6に記載の方法。
【請求項８】  アルキル基；脂環式基；または芳香族基が1またはそれ以上のヘテロ原子を含み、且つこのヘテロ原子が、ヘテロ原子の結合原子価を満たすのに必要な置換基を持つまたは持たない、O、N、S、Si、BもしくはP、またはこれらヘテロ原子の任意の組み合わせから選ばれる、請求項7に記載の方法。
【請求項９】  R1およびR2が部分的または完全に弗素化されていてよい、請求項8に記載の方法。
【請求項１０】  R1がメチル、エチル、イソプロピル、およびハロゲンから選ばれる、請求項7に記載の方法。
【請求項１１】  R3が、
【化２】
2002517387.tif 000002
ならびに、
【化３】
2002517387.tif 000003
から選ばれる構造のいずれかを末端とする、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、またはシクロへキセンオキシドから誘導されるポリアルキレンオキシド基［式中、R5は、水素；1〜20の炭素原子を有するアルキル基；3〜20の炭素原子を有する脂環式基；6〜20の炭素原子を有する芳香族基であり［ここで、各々個々のR5は同一の基であってよく、また互いに異なる基であってもよい］；そしてiは0〜6である］
から選ばれる、請求項6に記載の方法。
【請求項１２】  前記アリールアリルエーテルが、2,6-ジメチルフェニルアリルエーテル；2,6-ジメチルフェニルメタリルエーテル；4-メチル-2,6-ジブロモフェニルアリルエーテル；4-メチル-2,6-ジブロモフェニルメタリルエーテル；1,4-、1,5-、または2,6-ナフタレンジアリルエーテル；1,4-、1,5-または2,6-ナフタレンジメタリルエーテル；4,4'-ビスフェノールAジアリルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラメチル)ビスフェノールAジアリルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラブロモ)ビスフェノールAジアリルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラメチル-2,2',6,6'-テトラブロモ)ビスフェノールAジアリルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラメチル)ビスフェノールFジアリルエーテル；4,4'-ビスフェノールFジアリルエーテル；4,4'-ビスフェノールスルホンジアリルエーテル；4,4'-ビスフェノールKジアリルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラメチル-2,2',6,6'-テトラブロモビフェノール)ジアリルエーテル；9,9-ビス(4-アリルオキシフェニル)フルオレン；4,4'-ビフェノールジアリルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラメチルビフェノール)ジアリルエーテル；4,4'-ジアリルオキシ-α-メチルスチルベン；1,3-ビス(4-アリルオキシフェニル)アダマンタン；4,4'-ビスフェノールAジメタリルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラメチル)ビスフェノールAジメタリルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラブロモ)ビスフェノールAジメタリルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラメチル-2,2',6,6'-テトラブロモ)ビスフェノールAジメタリルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラメチル)ビスフェノールFジメタリルエーテル；4,4'-ビスフェノールFジメタリルエーテル；4,4'-ビスフェノールスルホンジメタリルエーテル；4,4'-ビスフェノールKジメタリルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラメチル-2,2',6,6'-テトラブロモビフェノール)ジメタリルエーテル；9,9-ビス(4-メタリルオキシフェニル)フルオレン；4,4'-ビフェノールジメタリルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラメチルビフェノール)ジメタリルエーテル；4,4'-ジメタリルオキシ-α-メチルスチルベン；1,3-ビス(4-メタリルオキシフェニル)アダマンタン；o-クレゾール-ホルムアルデヒドノボラックのアリルエーテル(官能価は2より大)；フェノール-ホルムアルデヒドノボラックのアリルエーテル(官能価は2より大)；フェノール-ジシクロペンタジエニルノボラックのアリルエーテル(官能価は2より大)；ナフトール-ホルムアルデヒドノボラックのアリルエーテル(官能価は2より大)；o-クレゾール-ホルムアルデヒドノボラックのメタリルエーテル(官能価は2より大)；フェノール-ホルムアルデヒドノボラックのメタリルエーテル(官能価は2より大)；フェノール-ジシクロペンタジエニルノボラックのメタリルエーテル(官能価は2より大)；ナフトール-ホルムアルデヒドノボラックのメタリルエーテル(官能価は2より大)；トリスフェニロールメタントリアリルエーテル；トリス(2,6-ジメチルフェニロール)メタントリアリルエーテル；1,1,2,2-テトラフェニロールエタンテトラアリルエーテル；トリスフェニロールメタントリメタリルエーテル；トリス(2,6-ジメチルフェニロール)メタントリメタリルエーテル；および1,1,2,2-テトラフェニロールエタンテトラメタリルエーテルから選ばれる、請求項6に記載の方法。
【請求項１３】  ヒドロペルオキシド酸化剤が水性過酸化水素［ここでこの水性過酸化水素は、過酸化水素3〜75重量%を含有する］である、請求項1に記載の方法。
【請求項１４】  ヒドロペルオキシド酸化剤が、以下の一般構造：
【化４】
2002517387.tif 000004
［式中、Ra、Rb、Rcは同一または異なっており、且つ水素、アルキル基、脂環式基、芳香族基、またはこれらの組み合わせから選ばれ；またはRa、Rb、Rcのうち2もしくはそれ以上の組み合わせは同一の構造単位内にある］
を有する有機ヒドロペルオキシドである、請求項1に記載の方法。
【請求項１５】  有機酸化剤が、tert-ブチルヒドロペルオキシドおよびtert-アミルヒドロペルオキシドから選ばれ；そして所望により不活性有機溶媒溶液または水溶液である［ここでtert-ブチルヒドロペルオキシドおよびtert-アミルヒドロペルオキシド溶液は3〜75重量%の有機ヒドロペルオキシドを含有する］、請求項14に記載の方法。
【請求項１６】  遷移金属錯体触媒が、以下の一般構造：
[M+nsOt(Q)u(H)v(L1)v(L2)v(L3)v(L4)v.....(Lp)v]w(G1)v(G2)v(G3)v(G4)v....(Gp)v
［式中、
Mはdoまたはfo遷移金属元素であり；
nは金属Mの酸化状態であり、且つnは0または1〜7の整数であり；
sは1〜5の整数であり；
Oは、構造：
M=O；
を有する金属オキソ部分の酸素であるか；
またはOは、構造：
M-O-HまたはM-O-M
を有するM-μ-オキソ部分の酸素であり；
tは0〜3の整数であり；
QはO2［式中、Oは酸素である］であり、そしてQは、以下の構造：
【化５】
2002517387.tif 000005
で示されるように、一つの頂点が金属原子Mであり、他の二つの頂点がペルオキソ基により形成されるような三員環を形成するように、金属Mに結合しているペルオキソ基であり；
uは0〜3の整数であり；
Hは、構造：
M-H
を有する金属原子Mと結合した水素原子であり；
またはHは、構造：
M-O-H
を有する金属-μ-オキソ部分の酸素と結合した水素原子であり；
L、L1、L2、L3、L4およびLpは、p個のリガンドの最大数までのリガンドであり；G1、G2、G3、G4、およびGpは、p個の陽イオンの最大数までの、M-O-陰イオンに対する対陽イオンであり；
vは0〜10の整数であり；そして、
wは1〜10の整数である］
を有する、請求項1に記載の方法。
【請求項１７】  遷移金属Mが、IVa、Va、VIa、およびVIIa族から選ばれる、請求項16に記載の方法。
【請求項１８】  遷移金属Mが、Ti、Zr、V、Mo、W、ReおよびMnから選ばれる、請求項17に記載の方法。
【請求項１９】  リガンドL1、L2、L3、L4.....Lpの各々が、強固に結合した、置換され得ない、中性もしくは塩基性の、一座もしくは多座リガンドであるか；または不安定な、弱く結合した、中性もしくは塩基性の、一座もしくは多座リガンドであるか；またはこれらの組み合わせのいずれかであってよい、請求項16に記載の方法。
【請求項２０】  リガンドが多座リガンドであり、且つ1個の同じ金属原子に結合し、または2もしくはそれ以上の異なる金属原子に結合しているか、または、リガンドが、有機ポリマー骨格、無機ポリマー骨格、もしくはハイブリッド無機-有機ポリマー骨格に結合している、請求項19に記載の方法。
【請求項２１】  リガンドが、O、N、S、Si、B、Pまたはこれらヘテロ原子の任意の組み合わせから選ばれるヘテロ原子を含む、請求項16に記載の方法。
【請求項２２】  リガンドが、酸素含有リガンド、燐含有リガンド、窒素含有リガンド、芳香族部分含有リガンド、有機シリル含有リガンド、有機シリルオキシ含有リガンド、およびこれらの組み合わせから選ばれる一座または多座リガンドである、請求項16に記載の方法。
【請求項２３】  リガンドが部分的または完全に弗素化されている、またはリガンドLがそのリガンド構造中に1またはそれ以上の不斉中心またはキラル中心を含んでいる、請求項16に記載の方法。
【請求項２４】  対陽イオンG1、G2、G3、G4.....Gpの各々が、Ia族アルカリ金属の無機陽イオン、またはIIa族アルカリ土類金属の無機陽イオン、もしくはIIIa族の金属の無機陽イオン、または、少なくとも1個のIVa族のプニコゲン元素、およびプニコゲン原子に結合している少なくとも1個の有機置換基を含んでいる有機プニコゲン含有陽イオンである、請求項16に記載の方法。
【請求項２５】  Ia族アルカリ金属対陽イオンの各々がNa+、K+、もしくはCs+であり；またはIIIa族の金属の無機陽イオンがAl+++である、請求項24に記載の方法。
【請求項２６】  IIa族アルカリ土類金属の無機陽イオンの各々がMg++またはCa++である、請求項24に記載の方法。
【請求項２７】  有機プニコゲン含有陽イオンの各々が、窒素、燐、砒素、アンチモンもしくはビスマスから選ばれる少なくとも1またはそれ以上の四級陽イオン中心を含む、請求項26に記載の方法。
【請求項２８】  プニコゲン原子に結合している有機置換基が、C1-C20脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、ヘテロ環式脂肪族または芳香族炭化水素、およびハロゲン含有脂肪族または芳香族炭化水素である、請求項26に記載の方法。
【請求項２９】  プニコゲン原子に結合している有機置換基が、有機、無機もしくはハイブリッド有機-無機オリゴマーまたはポリマー構造の骨格または側鎖上にある、請求項28に記載の方法。
【請求項３０】  遷移金属錯体触媒が均一触媒である、請求項1に記載の方法。
【請求項３１】  遷移金属錯体触媒が不均一触媒である、請求項1に記載の方法。
【請求項３２】  遷移金属錯体触媒が、 Ti、Zr、V、Mo、W、ReもしくはMnの遷移金属錯体またはこれらの任意の組み合わせである、請求項30または31に記載の方法。
【請求項３３】  遷移金属錯体触媒が、遷移金属錯体のリガンド上の反応性基および固体担体上の反応性基の間の縮合反応によって固体担体上に担持されている、請求項30に記載の方法。
【請求項３４】  遷移金属錯体触媒が、強く安定な金属-リガンド結合(ここで該リガンドは元々固体担体の構成成分上に結合しているか、またはその一部である)の形成によって固体担体上に担持されている、請求項30に記載の方法。
【請求項３５】  遷移金属錯体触媒が、スチレン-コ-ジビニルベンゼンを基礎とする架橋ポリマー、イオン交換樹脂、芳香族ポリイミド、オルガノゾルゲル、木炭、炭素、シリカ、アルミナ、Ba2SO4、MgO、クレー、シリケート、ゼオライト、ホスフィット、アルミネートまたはこれらの組み合わせから選ばれる担体上に付着し、つなぎ止められ、またはその中にカプセル化されている、請求項30に記載の方法。
【請求項３６】  アリールグリシジルエーテルが以下の式X：
(R1)x(R2)yAr(OR4)z                          式X
［式中、
xは0〜750であり、yは0〜750であり、zは1〜150であり；
Arは芳香環を含む部分であり；
R1は、Ar部分の芳香環上のOR4基に対しオルト位の水素原子を置換している基であり；
R2は、Ar部分の芳香環上のOR4基に対しオルト位でない水素原子を置換している基であり；そして、
OR4は、Ar部分の芳香環上の水素を置換しているエポキシド含有オキシ基であり；そして、
R4はエポキシド含有基である］
で示される構造を有する、請求項1に記載の方法。
【請求項３７】  Arが、単核芳香環を含む部分；多核芳香環を含む部分；多核縮合芳香環を含む部分；O、N、S、Si、B、P、およびこれらの組み合わせから選ばれる1またはそれ以上のヘテロ原子を有する多核縮合芳香環を含む部分；脂肪族環と縮合した単核または多核芳香環を含む部分；1またはそれ以上のヘテロ原子を含む脂肪族環と縮合した単核または多核芳香環を含む部分；または、各アリール基がオリゴマーまたは高分子量有機シロキサン単位と結合しているアリール部分の群、である、請求項36に記載の方法。
【請求項３８】  アリールグリシジルエーテルが、式XI〜XIV：
【化６】
2002517387.tif 000006
［式中、
xは0〜4であり、yは0〜4であり、そしてzは1〜4であり；
R1は、芳香環上のOR4基に対しオルト位の水素原子を置換する基であり；
R2は、芳香環上のOR4基に対しオルト位でない水素原子を置換する基であり；
OR4は、芳香環上の水素を置換するエポキシド含有オキシ基であり；
R4はエポキシド含有基であり；
Xは存在しない：ヘテロ原子；-C(O)-；-S(O2)-；-C(O)-NH-；-P(O)Ar-；ヘテロ原子を持つまたは持たない有機脂肪族部分、；ヘテロ原子を持つまたは持たない脂環式基；ヘテロ原子を持つまたは持たない芳香族基；または、これらの任意の組み合わせであり；
ここでxは０〜3であり、yは0〜2であり、zは1〜2であり；
mは0.001〜10であり；
Yは、1〜20の炭素原子を有する、ヘテロ原子を持つまたは持たない有機脂肪族部分；3〜20の炭素原子を有する、ヘテロ原子を持つまたは持たない脂環式部分；20以下の炭素原子を有する、ヘテロ原子を持つまたは持たない芳香族部分；または、Yは、オリゴマーまたは高分子量有機シロキサン単位であり；そして、
m'は3〜4であり、またはYがオリゴマーまたは高分子量有機シロキサン単位である時、m'は1〜150である］
のいずれかにより示される構造を有する、請求項36に記載の方法。
【請求項３９】  R4が、
【化７】
2002517387.tif 000007
ならびに、以下の
【化８】
2002517387.tif 000008
から選ばれる構造を末端とする、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシドおよびシクロへキセンオキシドから誘導されるポリアルキレンオキシド基［式中、R5は、水素；1〜20の炭素原子を有するアルキル基；3〜20の炭素原子を有する脂環式基；6〜20の炭素原子を有する芳香族基［ここで、各々個別のR5は同一の基であるか、または互いに異なる基であってもよい］であり；そしてiは0〜6である］から選ばれる、請求項38に記載の方法。
【請求項４０】  R4が
【化９】
2002517387.tif 000009
である、請求項39に記載の方法。
【請求項４１】  前記アリールグリシジルエーテルが、2,6-ジメチルフェニルグリシジルエーテル；2,6-ジメチルフェニルメチルグリシジルエーテル；4-メチル-2,6-ジブロモフェニルグリシジルエーテル；4-メチル-2,6-ジブロモフェニルメチルグリシジルエーテル；1,4-、1,5-、または2,6-ナフタレンジグリシジルエーテル；4,4'-ビスフェノールAジグリシジルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラメチル)ビスフェノールAジグリシジルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラブロモ)ビスフェノールAジグリシジルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラメチル-2,2',6,6'-テトラブロモ)ビスフェノールAジグリシジルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラメチル)ビスフェノールFジグリシジルエーテル；4,4'-ビスフェノールFジグリシジルエーテル；4,4'-ビスフェノールスルホンジグリシジルエーテル；4,4'-ビスフェノールKジグリシジルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラメチル-2,2',6,6'-テトラブロモビフェノール)ジグリシジルエーテル；9,9-ビス(4-グリシジルオキシフェニル)フルオレン；4,4'-ビフェノールジグリシジルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラメチルビフェノール)ジグリシジルエーテル；4,4'-ジヒドロキシ-α-メチルスチルベンジグリシジルエーテル；1,3-ビス(4-グリシジルオキシフェニル)アダマンタン；4,4'-ビスフェノールAジメチルグリシジルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラメチル)ビスフェノールAジメチルグリシジルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラブロモ)ビスフェノールAジメチルグリシジルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラメチル-2,2',6,6'-テトラブロモ)ビスフェノールAジメチルグリシジルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラメチル)ビスフェノールFジメチルグリシジルエーテル；4,4'-ビスフェノールFジメチルグリシジルエーテル；4,4'-ビスフェノールスルホンジメチルグリシジルエーテル；4,4'-ビスフェノールKジメチルグリシジルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラメチル-2,2',6,6'-テトラブロモビフェノール)ジメチルグリシジルエーテル；9,9-ビス(4-メチルグリシジルオキシフェニル)フルオレン；4,4'-ビフェノールジメチルグリシジルエーテル；4,4'-(3,3',5,5'-テトラメチルビフェノール)ジメチルグリシジルエーテル；4,4'-ジヒドロキシ-α-メチルスチルベンジメチルグリシジルエーテル；1,3-ビス(4-メチルグリシジルオキシフェニル)アダマンタン；o-クレゾール-ホルムアルデヒドノボラックのグリシジルエーテル(官能価は2より大)；フェノール-ホルムアルデヒドノボラックのグリシジルエーテル(官能価は2より大)；フェノール-ジシクロペンタジエニルノボラックのグリシジルエーテル(官能価は2より大)；ナフトール-ホルムアルデヒドノボラックのグリシジルエーテル(官能価は2より大)；o-クレゾール-ホルムアルデヒドノボラックのメチルグリシジルエーテル(官能価は2より大)；フェノール-ホルムアルデヒドノボラックのメチルグリシジルエーテル(官能価は2より大)；フェノール-ジシクロペンタジエニルノボラックのメチルグリシジルエーテル(官能価は2より大)；ナフトール-ホルムアルデヒドノボラックのメチルグリシジルエーテル(官能価は2より大)；トリスフェニロールメタントリグリシジルエーテル；トリス(2,6-ジメチルフェニロール)メタントリグリシジルエーテル；1,1,2,2-テトラフェニロールエタンテトラグリシジルエーテル；トリスフェニロールメタントリメチルグリシジルエーテル；トリス(2,6-ジメチルフェニロール)メタントリメチルグリシジルエーテル；および1,1,2,2-テトラフェニロールエタンテトラメチルグリシジルエーテルから選ばれる、請求項38に記載の方法。
【請求項４２】  反応を0℃〜120℃の温度で実施する、請求項1に記載の方法。
【請求項４３】  反応を、大気圧、大気圧を超える圧力、または大気圧を下回る圧力で実施する、請求項1に記載の方法。
【請求項４４】  反応混合物中に存在する溶媒を含み、且つこの溶媒が、脂肪族、脂環式または芳香族炭化水素溶媒；部分的または完全にハロゲン化された脂肪族、脂環式または芳香族炭化水素溶媒；脂肪族、脂環式または芳香族アルコールまたはニトリル；部分的または完全に弗素化された脂肪族、脂環式または芳香族アルコール溶媒；CO2およびこれらの組み合わせから選ばれる、請求項1に記載の方法。
【請求項４５】  反応混合物中に存在するアリールアリルエーテルに対する触媒のモル比が、アリールアリルエーテル1モルにつき触媒1x10-6〜1モルである、請求項1に記載の方法。
【請求項４６】  固体担体材料の総重量に対する触媒錯体中の金属の総重量が、固体担体1部につき金属1x10-6部〜1部の範囲である、請求項33に記載の方法。
【請求項４７】  基質アリールアリルエーテルに対する不均一触媒の重量比が、アリールアリルエーテル1部につき不均一触媒100部〜10部の範囲である、請求項33に記載の方法。
【請求項４８】  アリルエーテルに対する酸化剤のモル比が、アリールアリルエーテル1当量につき0.6モル〜20モルである、請求項14に記載の方法。
【請求項４９】   (A) アリールアリルエーテル、
(B) 過酸化水素酸化剤または有機ヒドロペルオキシド酸化剤、および、
(C) 遷移金属錯体触媒、
［ここで、(a) アリールアリルエーテルはコンホメーション上の制限を受けているか；または、(b) 遷移金属錯体触媒は、該遷移金属に結合した少なくとも1またはそれ以上の安定なリガンドを含んでいる］
の反応混合物を含む組成物。