【事件の表示】
　特願２００９−１９０９６６「リソグラフィ装置、偏光特性を決定する方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２１年１１月２６日出願公開、特開２００９−２７８１３３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１８年２月２４日（パリ条約による優先権主張　平成１７年２月２５日　米国）に出願された特願２００６−４８３０６号の一部を新たな特許出願として、平成２１年８月２０日に適法に出願された、いわゆる分割出願であって、平成２２年５月１０日付けで通知された拒絶理由に対し、同年８月１２日付けで手続補正がなされたものの、同年１１月５日付けで拒絶査定がなされた。
　本件は、前記拒絶査定を不服として平成２３年３月８日に請求された拒絶査定不服審判事件であって、当該請求と同時に手続補正がなされた。その後、当審において、平成２３年８月２５日付けで前置報告書の内容について意見を求めるための審尋を行ったところ、同年１１月４日付けで回答書が提出された。
　
第２　平成２３年３月８日付け手続補正についての補正の却下の決定
[補正の却下の決定の結論]
　平成２３年３月８日付け手続補正を却下する。
　
[理由]
１　補正の内容と目的
　平成２３年３月８日付け手続補正（以下「本件補正」という。）は、特許請求の範囲の記載を補正するものであって、本件補正前（平成２２年８月１２日付け手続補正書により補正、以下同様。）の請求項７を削除するとともに、補正前の請求項１及び５に、前記補正前の請求項７に記載されていた「前記干渉センサがずれ方向に相互に移動する少なくとも２つの波面間にシアリング干渉を提供するために配置された格子を含む」という事項を付加し、補正前の請求項１及び５を限定して減縮する補正であるから、本件補正のうち特許請求の範囲の請求項１及び５についてする補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２（以下単に「特許法第１７条の２」という。）第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とする補正であるといえる。
　そこで、本件補正後の請求項５に係る発明（以下「本件補正発明」という。）が特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか、すなわち、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否かについて、以下に検討する。
　
２　本件補正発明
　本件補正発明は、本件補正後の特許請求の範囲の請求項５に記載された以下のとおりのものである。
「　リソグラフィ装置内においてその投影系より前に位置する調整可能な偏光子の少なくとも２つの互いに異なる設定に対し、前記装置の基板位置における放射ビームの波面をそれぞれ測定するために、前記リソグラフィ装置の干渉センサを使用する工程と、
　前記波面測定から、前記投影系の偏光を生じさせる特性についての情報を求める工程と、を含み、
　前記偏光子は、前記放射ビームを互いに直交する２つの異なる方向に順次偏光し、
　前記干渉センサがずれ方向に相互に移動する少なくとも２つの波面間にシアリング干渉を提供するために配置された格子を含む、リソグラフィ装置の少なくとも１つの偏光特性を求める方法。」
　
３　引用例
（１）引用例１
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００４−６１５１５号公報（以下「引用例１」という。）には、図面とともに以下の技術的事項の記載がある。
（１ａ）「【請求項１】
　被験光学系による放射光線の偏光状態への影響を決定する方法において、
　所定の入射偏光状態の入射側放射光線を光学系に送り、
　光学系から出る放射光線によって出射偏光状態を測定し、
　入射偏光状態を基準として測定出射偏光状態を評価することによって、光学系による偏光状態への影響を決定する方法であって、
　指定可能な開口の光学結像系によって生じる偏光状態への影響は、ひとみ分解能で決定される方法。」
（１ｂ）「【０００６】
　周知のように、高精度に結像する光学素子の像品質を決定するために、像側波面と理想結像挙動とのずれを非常に正確に決定することができる波面センサを利用することが可能である。この目的のために、たとえば、いわゆるシヤリング干渉計が使用されている。これに基づいた波面検出装置が、ＤＥ１０１ ０９ ９２９Ａ１号明細書で開示されている。この装置は、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズの像品質の決定にも適しており、たとえば、光学コンダクタ及びその出力部に配置された穿孔マスクを有する波面源を被験光学結像系の物体面上に与える手段と、物体面と対をなす像面上の回折格子とを備えている。回折格子の下流側には、たとえば、ＣＣＤチップの形の空間分解放射光線検出器が接続され、介在させた光学素子が、回折格子によって生じた干渉写真を検出器のセンサ表面上に結像する。この形式の波面センサ法は、結像系の通常作動で使用されるものと同じ放射光線で結像系をテストすることができ、結像系と一体化させて１つの部材にすることができる。したがって、この形式の波面センサは、作動干渉計（ＯＩ）とも呼ばれる。」
（１ｃ）「【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
　本発明の課題は、冒頭に述べた形式の新規な方法及び新規な装置と共に、この場合に使用できる偏光分析装置を提供し、それによって、被験光学系による使用放射光線の偏光状態への影響及び／または収差補正を比較的正確に決定することができ、したがって特に、光学結像系の場合、それらが像品質への偏光誘発影響を非常に正確に決定するのにも適するようにすることである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
…（中略）…
【００１２】
　したがって、偏光状態への影響の決定は、空間分解能を伴わない純粋一体測定としてではなく、考慮中のひとみ範囲内の個別の座標点に対するひとみ分解能で行われる。これによって、偏光状態への影響によって生じる可能性がある光学収差について、光学結像系をひとみ分解能でテストすることができる。重要な適用分野は、半導体部品の製造において、微細構造を、たとえば、紫外線でマスクからウェハへ転写しなければならないウェハ露光用のマイクロリソグラフィ投影露光装置の高精度投影対物レンズの場合の収差のテストである。」
（１ｄ）「【００２４】
　図１は、光学系の結像部による偏光状態の影響を決定するための装置を有するマイクロリソグラフィ投影露光装置の構造を概略的に示している。…（中略）…
【００２５】
　この装置は、照明系１と投影対物レンズ２との間に、所定の入射偏光状態で投影対物レンズ２用の入射側放射光線を与える手段を備えている。この手段には、ビーム路上に順に拡散スクリーン３と、回転式偏光子４と、回転式補償板５（任意）と、スポットレンズと、１つまたは複数の開口を有するいわゆるピンホールまたは穿孔マスク７とが含まれる。…（以下略）」
（１ｅ）「【００３１】
　図２は、図１の構造の変更例を示し、わかりやすくするために、機能的に同一の素子には同一の参照記号を選択しており、これまでは図１の例の上記説明を参照することができる。特に、図２の例は、照明系１と、割り当てられた装置を利用して偏光特性をテスト中である投影対物レンズ２とを有するマイクロリソグラフィ投影露光装置に関し、照明系１及び投影対物レンズ２間の構造は、図１のものに一致している。
【００３２】
　前述したように、図１の装置は、位相減少した、すなわち、ひとみ位置に従属した大域位相項までのひとみ分解ジョーンズ行列を決定するために使用される。図２の実施形態に使用された装置は、シヤリング干渉測定法を所定の入射偏光状態と組み合わせることによって、この大域位相項を決定することができる。したがって、この装置は、被験投影対物レンズ２の出射側にシヤリング干渉計ユニット１４を有し、それにＣＣＤ検出器１０が接続されている。適当な構造の評価ユニット１３ａが、ＣＣＤ検出器に結合されている。
【００３３】
　シヤリング干渉計ユニット自体は、たとえば、前述のＤＥ１０１ ０９ ９２９Ａ１号明細書、及び同様に前述の先行ドイツ特許出願第１０２ １７ ２４２．０号に記載されているような従来構造であり、さらなる詳細についてはこれらを参照することができる。必要な制御及び評価処理は、当該技術分野の専門家には関連の処理ステップの本説明から直ぐに明らかであるように、評価ユニット１３ａで実行される。ジョーンズ行列解析における基本的な二光束干渉法が、図３の例で概略的に説明されている。これは、オリジナルジョーンズ行列Ｔと、Δｘだけ変位したジョーンズ行列ＴΔとによって表される２つの視野の重合部の出射側放射強度を、合計行列Ｔ＋ＴΔと入射偏光行列Ｐｉｎとの行列積及びエルミート形共役合計行列（Ｔ＋ＴΔ）＋のトレースフォーメーションから生じる。オリジナル及び変位ジョーンズ行列Ｔ及びＴΔがそれぞれ定位相因子までわかっている場合、それらの位相差Δαは次式の関係から決定することができる。
【００３４】
　　ｅｘｐ［ｉΔα］＝Ｑ／トレース［ＴＰｉｎＴΔ＋］
但し、Ｑ＝トレース［ＴＰｉｎＴΔ＋］、Ｔ及びＴΔはそれぞれ位相減少オリジナル及び変位ジョーンズ行列を表す。移相技法を使用しながら、シヤリング干渉計ユニット１４での測定により、変調信号の振幅及び位相から一般的な複素数Ｑを得ることができる。現在考慮中のシヤリング干渉法を使用することにより、偏光対物レンズ２の実際の有効作動で使用されるものと同一の放射光線を使用することができるので、この測定法は、作動干渉計（ＯＩ）測定法とも呼ばれる。
【００３５】
　その場合、ひとみ座標ｘ全体にわたる位相α（ｘ）の空間特性を積分によって決定することができる。これにより、たとえば、図１の装置を利用した楕円偏光ＮＡ測定から、位相減少ジョーンズ行列がすでに既知である時、投影対物レンズ２用の完全なジョーンズ行列を決定することができる。唯一の前提条件は、図２のＯＩ測定の場合、照明の、すなわち、投影対物レンズ２の入射側の偏光状態が完全にわかっていることであり、この場合、それはまったくの非偏光であることもできる。図２の例では、入射側偏光子４及び任意の入射側補償板５を使用することによって、所定の完全偏光入射側放射状態がもたらされる。
【００３６】
　そのような複素数Ｑ＝トレース［ＴＰｉｎＴΔ＋］から個々のジョーンズ行列要素を推定することができないので、図２に従った装置は、単独で位相減少ジョーンズ行列を決定することができない。それとは対照的に、図４に従った構造ではこれが可能になり、その構造には、図２の構造と比べて、シヤリング干渉計ユニット１４とＣＣＤ検出器１０との間に回転式偏光子１５を設ける変更が加えられている。このために、図２の例の任意の入射側補償板が、図４の例では省かれている。その他の点では、これらの２つの実施形態は同一構造である。
【００３７】
　図４の装置の場合、ジョーンズ行列の個々の要素を入射側回転式偏光子４及び出射側回転式偏光子１５によって投影することができる。したがって、値ＴｘｘＴΔｘｘ＋は、トレースＱに対して、ｘ方向に直線偏光した状態のある入射側及び出射側設定を生じる。行列要素Ｔｘｘに対してＴｘｘ＝ａ・ｅｘｐ［ｉφ］を使用すると、これはトレース値Ｑに対して、
　　Ｑ＝ａ（ａ＋Δａ）・ｅｘｐ［−ｉΔφ］
の関係を生じ、これは、シヤリング干渉計ユニット１４での測定によって、したがって、モジュラスａ（ａ＋Δａ）及び位相−ｉΔφに対する微分表現によって決定することができるので、ジョーンズ行列要素Ｔｘｘは、ひとみ座標全体にわたる数値積分によって決定することができる。位相面φは、この場合に限って、すべてのひとみ位置で同一である積分定数まで決定される。
【００３８】
　同様に、他の行列要素Ｔｙｘ、Ｔｘｙ及びＴｙｙは、したがって全位相減少ジョーンズ行列は、ｙ方向に直線偏光された入射または出射状態を設定することによって決定することができる。４つのジョーンズ行列要素は、モジュラス及び位相がひとみ座標の関数として決定されるが、４つの関連位相面は、それらの積分定数がわからないため、相互間に決まった関係がない。たとえば、ひとみ範囲の少なくとも１点について、楕円偏光測定を行い、その測定結果が４つの位相面間に欠落している関係を生じるようにすることによって、これを解決することができる。たとえば、投影対物レンズ２の光軸に沿って市販の単軸楕円偏光計を使用した測定が、この目的には十分である。」
（１ｆ）「【図１】　　　　【図２】　　　　　　　　　【図４】
　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
　これら引用例１の記載および図面の図示内容からして、引用例１には以下の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているといえる。
「マイクロリソグラフィ投影露光装置において、
照明系と投影対物レンズとの間に、所定の入射偏光状態で投影対物レンズ用の入射側放射光線を与える、入射側回転式偏光子を含む手段を備え、
前記投影対物レンズによる偏光状態への影響及び／または収差を決定する方法であって、
被験光学結像系である前記投影対物レンズの物体面上に波面源を与え、前記物体面と対をなす像面上に回折格子を設けるとともに、前記回折格子の下流側に、空間分解放射光線検出器であるＣＣＤ検出器を接続し、
前記回折格子によって生じた干渉写真を前記ＣＣＤ検出器のセンサ表面上に結像する形式の波面センサであるシヤリング干渉計ユニットを前記投影対物レンズの出射側に設け、
ジョーンズ行列の個々の要素であるＴｘｘ，Ｔｙｘ，Ｔｘｙ及びＴｙｙを、前記入射側回転式偏光子及び前記回折格子と前記ＣＣＤ検出器の間に設けた出射側回転式偏光子によって、入射及び出射の偏光状態の設定を、ｘ方向またはｙ方向に直線偏光した状態とすることによって測定し、
前記投影対物レンズの偏光状態への影響及び／または収差を決定する方法。」
　
（２）引用例２
　また、前置報告書において周知例として引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特表２００３−５２４１７５号公報（以下「引用例２」という。）には、図面とともに以下の技術的事項の記載がある。
（２ａ）「【請求項４８】　波面源（８）によって波面を生成し、
　前記波面と、異なる周期性方向でそれぞれ１つの周期的回折構造を有する回折格子（１１）とを用いてインターフェログラムを生成し、
　ビーム感応性の検出器によってインターフェログラムの像を撮影する、波面検出のための方法において、
　前記波面源（８）または回折格子（１１）を、周期性方向で、相応する格子周期の整数倍分だけシフトさせるようにしたことを特徴とする方法。」
（２ｂ）「【００５０】
　本発明は、請求項４８に記載の方法にも関している。波面源または回折格子のその周期性方向での相応する格子周期の整数倍分のシフトによって、直交する干渉系コントラストを抑えることができ、インターフェログラムの評価を著しく容易にすることができる。
　　　【００５１】
　その際、波面源ないし回折格子のシフトは、検出器の画像撮影期間（典型的には３０ｍｓｅｃ）中に行うことができる。この場合の回折格子のシフト距離は、典型的には６〜１８μｍである。
　　　【００５２】
　非常に高速な検出器を用いれば、波面源ないし回折格子のシフト期間中に多数のインターフェログラム画像を撮影することも可能である。この場合はその後でこれらの多数のインターフェログラム画像を波面検出に利用できる。というのも個々のインターフェログラム画像の重畳は、完全な回折格子シフト期間中の前記の画像統合に再び相応させられるからである。」
（２ｃ）「【００６４】
　実施例
　図１には、波面検出のための装置１が断面図で概略的に示されている。この場合光学系５の物体面３内に設けられた波面源７が波面を生成する。この波面源７から出射し、輪郭線で概略的に表わされている波面９は、光学系５を透過し、該光学系５によって出射されるべき波面１０に変形される。この波面はその後回折格子１１に入射する。
　　　【００６５】
　光学系５（この光軸５０はＺ方向に平行している）は、双方向矢印で表わされた光学素子、例えばレンズ１３，１５を含み、波面源７を回折格子１１に結像している。この場合この回折格子１１は、物体面３に対して共役な結像面におかれる。光学系５の絞り１７は図１にも認められる。
　　　【００６６】
　回折格子１１には、空間分解能型検出器１９が後置接続されている。検出器２０は、ビーム感応性のセンサ面２０（例えばＣＣＤチップ）を含んでおり、さらに回折格子１１と当該センサ面２０の間に配置された結像系２２を含んでいる。この結像系２２は、回折格子１１から生成されたインターフェログラムないしシアリンググラム（Scherogramm）としてセンサ面２０に結像される。この結像系２２は、顕微鏡対物レンズ２１とさらなる光学素子２３および２５を有しており、光学素子１５と共に絞り１７をセンサ面２０に結像している。これは瞳ビーム経路２７によって表わされている。この結像系２２は正弦補正されており、この場合は顕微鏡対物レンズ２１の正弦補正の品質であって、これは測定された波面に関するシアリング距離の不変性に対して決定的なものである。
　　　【００６７】
　波面源７は、図２に詳細に示されているホールマスク８を含んでいる。これは光導波路２９の出力側に設けられている。この光導波路２９は、光学系５の全画像領域の検査のために、シフトモジュール３１を用いて物体面３に対して平行にＸ軸方向および/またはＹ軸方向にシフト可能である。このことは、双方向矢印３３と一点鎖線のゴースト図３５によって表わされている。
　　　【００６８】
　装置１では、シフトモジュール３１によって光学系５の画像フィールドの走査のために、光導波路２９と同時に検出器１９もＸ軸方向および/またはＹ軸方向にシフトされる。
　　　【００６９】
　回折格子１１は、回折格子１１の直交干渉系のうちの１つのコントラストを抑えるために、移動モジュール３７によって光学系５の像面内を、すなわちＸ軸方向および/またはＹ軸方向にシフトされ得る。」
（２ｄ）「【図１】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
４　本件補正発明と引用発明の対比
　本件補正発明と引用発明を対比すると、以下のとおりである。
（１）引用発明の「マイクロリソグラフィ投影露光装置において、照明系と投影対物レンズとの間に、所定の入射偏光状態で投影対物レンズ用の入射側放射光線を与える、入射側回転式偏光子を含む手段（を備え）」という事項が、本件補正発明の「リソグラフィ装置内においてその投影系より前に位置する調整可能な偏光子」に相当し、引用発明の「前記投影対物レンズによる偏光状態への影響」が、本件補正発明の「投影系の偏光を生じさせる特性」及び「リソグラフィ装置の少なくとも１つの偏光特性」に相当する。
　
（２）また、引用発明の「シヤリング干渉計ユニット」は、「投影対物レンズによる偏光状態への影響及び／または収差を決定する」ために、「被験光学結像系である前記投影対物レンズの物体面上に波面源を与え、前記物体面と対をなす像面上に回折格子を設けるとともに、前記回折格子の下流側に、空間分解放射光線検出器であるＣＣＤ検出器を接続し、前記回折格子によって生じた干渉写真を前記ＣＣＤ検出器のセンサ表面上に結像する形式の波面センサ」であり、当業者の技術常識に照らすと、前記「投影対物レンズによる偏光状態への影響及び／または収差を決定する」ことは、マイクロリソグラフィ投影露光装置において、当該装置に配される基板位置における波面を測定することに他ならないといえるから、引用発明の「回折格子によって生じた干渉写真を前記ＣＣＤ検出器のセンサ表面上に結像する形式の波面センサであるシヤリング干渉計ユニット」が、本件補正発明の「前記装置の基板位置における放射ビームの波面を」「測定するため」の「前記リソグラフィ装置の干渉センサ」に相当するといえる。そして、引用発明の「シヤリング干渉計ユニット」に関する前記事項からして、引用発明と本件補正発明は、いずれも、「シアリング干渉を提供するために配置された格子を含む」点で一致していることも明らかである。
　
（３）さらに、引用発明の「ジョーンズ行列の個々の要素であるＴｘｘ，Ｔｙｘ，Ｔｘｙ及びＴｙｙを、前記入射側回転式偏光子及び前記回折格子と前記ＣＣＤ検出器の間に設けた出射側回転式偏光子によって、入射及び出射の偏光状態の設定を、ｘ方向またはｙ方向に直線偏光した状態とすることによって測定」するという事項は、ジョーンズ行列に関する技術常識に照らすと、入射側回転式偏光子を用いて、投影対物レンズへの入射光の偏光状態を、ｘ方向及びｙ方向に直線偏光した状態とする工程を含み、それぞれの偏光状態において測定がなされることを意味するといえるから、引用発明と本件補正発明は、「偏光子の少なくとも２つの互いに異なる設定に対し」「放射ビームの波面をそれぞれ測定する」点、「偏光子は、前記放射ビームを互いに直交する２つの異なる方向に順次偏光」する点、及び、「偏光を生じさせる特性についての情報を求める」で一致するといえる。
　
（４）そうすると、本件補正発明と引用発明は、
「　リソグラフィ装置内においてその投影系より前に位置する調整可能な偏光子の少なくとも２つの互いに異なる設定に対し、前記装置の基板位置における放射ビームの波面をそれぞれ測定するために、前記リソグラフィ装置の干渉センサを使用する工程と、
　前記波面測定から、前記投影系の偏光を生じさせる特性についての情報を求める工程と、を含み、
　前記偏光子は、前記放射ビームを互いに直交する２つの異なる方向に順次偏光し、
　前記干渉センサがシアリング干渉を提供するために配置された格子を含む、リソグラフィ装置の少なくとも１つの偏光特性を求める方法。」の点で一致し、次の点で相違する。
　
〈相違点〉
　干渉センサに設けられている「格子」が、
本件補正発明は「ずれ方向に相互に移動する少なくとも２つの波面間にシアリング干渉を提供するために配置された」ものであるのに対し、引用発明はその点明らかでない点。
　
５　相違点についての検討、判断
（１）最初に、格子が提供するシアリング干渉を生じる「２つの波面」について検討する。
　シアリング干渉計が、「もとの波面とそれを多少変位させてつくった波面とを重ね合わせるタイプの干渉計」であることは、当業者の技術常識に属する事項であり（必要なら、マグローヒル科学技術用語大辞典改訂第３版「シャーリング干渉計」の項参照）、また、本願明細書の発明の詳細な説明には、シアリング干渉計について、「横方向シアリングの場合、干渉は波面と、横方向にずれた（シアリングされた）オリジナル波面の写しとの間に起こる。本実施例では、さらなる回折素子ＧＲは、波面を、互いに対してわずかにずれた（シアリングされた）複数の波面に分裂させる。干渉はそれらの間に見られる。」（【００５０】参照）と記載されているものの、具体的に、「シアリングされた複数の波面の波面同士を干渉させる」ことに関する記載はないことからして、本件補正発明において、シアリング干渉を生じる２つの波面とは、「オリジナル波面」と、「オリジナル波面から多少変位させてつくられたオリジナル波面の写し」を意味すると解される。
　そうすると、格子に関する上記相違点は、格子が、オリジナル波面と、そのオリジナル波面がシアリング（波面分裂）しつつ変位したオリジナル波面の写しとの間に、シアリング干渉を提供するために設けられることであると解される。
　
（２）ここで、引用例２（なお、引用例２は、引用例１で引用されている「ＤＥ１０１ ０９ ９２９Ａ１号明細書」（上記３（１）（１ｂ），（１ｅ）参照）に対応する日本国公表公報である）には、検出器の画像撮像期間中に、回折格子をＸ軸および／またはＹ軸方向の一方向に所定距離シフト移動させ、生成された波面と回折格子を用いてインターフェログラムないしシアリンググラムの像を撮影し、波面検出を行うことが記載され（上記３（２）の各摘記参照）、シアリング干渉を提供するための格子をシフト移動可能なように構成することが記載されているといえる。
　
（３）そうすると、引用発明において、格子を移動可能とし、オリジナル波面と、格子によって変位せしめられた波面との間にシアリング干渉が提供されるよう干渉センサを構成すること、すなわち、干渉センサに設けられている「格子」を、「ずれ方向に相互に移動する少なくとも２つの波面間にシアリング干渉を提供するために配置された」ものとするよう構成することは、引用例２に記載されているごとき当業者に周知の事項に基いて、当業者が容易になし得る事項である。
　
（４）なお、請求人は、平成２３年１１月４日付け回答書で、シアリング干渉が、互いにわずかにずれて分裂した複数の波面の間の干渉を意味するかのごとき主張を行っているので、当該主張について検討するに、上記（１）で述べたとおり、そのような干渉を行わせることについて、本願明細書の発明の詳細な説明には具体的な記載はないし、仮に、シアリング干渉をそのように解したとしても、前記「分裂した複数の波面」が、オリジナル波面から得られるものである以上、オリジナル波面から分裂した複数の波面同士を干渉させることにより、オリジナル波面とオリジナル波面から多少変位させてつくられたオリジナル波面の写しとから得られる干渉像と等価な干渉像が得られるであろうことは、引用例２に記載されているごとき周知の事項に接した当業者であれば、容易に想到し得ることである。
　
（５）以上検討したとおりであるから、上記相違点は、当業者に周知の事項に基いて当業者が容易に想到することができたものであるから、本件補正発明は、本願の優先日前に頒布された刊行物である引用例１に記載された発明、及び、当業者に周知の事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
６　本件補正についての結び
　以上のとおり、本件補正のうち特許請求の範囲の請求項５に係る補正は、特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とする補正であって、本件補正後の請求項５に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるから、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たさないものである。
　したがって、本件補正は、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　平成２３年３月８日付け手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の特許請求の範囲に記載された発明は、本件補正前の特許請求の範囲の請求項１ないし１０に記載されたとおりのものであるところ、その請求項５に係る発明（以下「本願発明」という。）は、次のとおりのものである。
「　リソグラフィ装置内においてその投影系より前に位置する調整可能な偏光子の少なくとも２つの互いに異なる設定に対し、前記装置の基板位置における放射ビームの波面をそれぞれ測定するために、前記リソグラフィ装置の干渉センサを使用する工程と、
　前記波面測定から、前記投影系の偏光を生じさせる特性についての情報を求める工程と、を含み、
　前記偏光子は、前記放射ビームを互いに直交する２つの異なる方向に順次偏光する、リソグラフィ装置の少なくとも１つの偏光特性を求める方法。」
　
２　刊行物
　原査定の拒絶の理由に引用された本願の優先日前に頒布された刊行物およびその記載事項、ならびに引用発明は、前記「第２　[理由]３」の「（１）」に記載したとおりである。
　
３　本願発明と引用発明の対比、検討
　本願発明は、上記「第２［理由］１」で検討したとおり、本件補正発明から、「前記干渉センサがずれ方向に相互に移動する少なくとも２つの波面間にシアリング干渉を提供するために配置された格子を含む」という限定的事項を除いたものに相当する。
　そうすると、本願発明と引用発明は、上記「第２［理由］４」で検討したとおり、
「　リソグラフィ装置内においてその投影系より前に位置する調整可能な偏光子の少なくとも２つの互いに異なる設定に対し、前記装置の基板位置における放射ビームの波面をそれぞれ測定するために、前記リソグラフィ装置の干渉センサを使用する工程と、
　前記波面測定から、前記投影系の偏光を生じさせる特性についての情報を求める工程と、を含み、
　前記偏光子は、前記放射ビームを互いに直交する２つの異なる方向に順次偏光する、リソグラフィ装置の少なくとも１つの偏光特性を求める方法。」の点で一致し、何らの相違点も見いだすことができない。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願の請求項５に係る発明は、本願の優先日前に頒布された刊行物である引用例１に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号の規定により特許を受けることができないものである。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。