【手続補正書】
【提出日】平成17年10月21日(2005.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
銀系触媒の存在下に、オレフィン、酸素及び反応改質剤を含む供給原料を反応させることを含み、ここで反応改質剤は供給原料中に存在する反応改質剤の活性種の有効なモル量の供給原料中に存在する炭化水素類の有効なモル量に対する比である相対的な量Ｑで存在し、該プロセスが、
Ｑの値がＱ１である第１の稼働フェーズで稼働するステップと、
次いで供給原料組成が、Ｑの値がＱ２であり、商Ｑ２／Ｑ１の値が０．５〜１．５の範囲になる、第１の稼働フェーズ中で使用された供給原料組成とは異なる第２の稼働フェーズで続いて稼働するステップとを含む、
オレフィンのエポキシ化のプロセス。
【請求項２】
オレフィンがエチレンであり、反応改質剤が有機塩化物を含み、そして場合によっては、硝酸塩あるいは亜硝酸塩を生成する化合物を含む請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
反応改質剤が１０までの炭素原子、特に６までの炭素原子を有するクロロ炭化水素からなり、塩化メチル、塩化エチル、二塩化エチレン、塩化ビニルの１つ以上を含む請求項２に記載のプロセス。
【請求項４】
供給原料の中に存在する反応改質剤の活性種の有効なモル量が供給原料の中に存在するそれぞれの反応改質剤のモル量にファクターを乗じ、得られる乗算の積を合計することによって計算され、存在するならばメチル化合物である反応改質剤のファクターが１／５〜１／２の範囲に、特に１／３．５〜１／２．５の範囲にあるとの認識のもとに、それぞれのファクターが、問題となる反応改質剤の分子当たりに存在する活性なヘテロ原子、特に硫黄および／または窒素原子の数を表わす請求項１から３のいずれかに記載のプロセス。
【請求項５】
供給原料の中に存在する炭化水素類の有効なモル量が、供給原料の中に存在するそれぞれの炭化水素類のモル量にファクターを乗じ、得られる乗算の積を合計することによって計算され、存在するならばメタンのファクターが０．１〜０．５の範囲にあり、存在するならばエタンのファクターが５０〜１５０の範囲にあり、存在するならば少なくとも３の炭素原子を有する炭化水素類のファクターが１０〜１００００の範囲にあり、すべてのファクターが、定義によって１であるエチレンのファクターに相関している請求項１から４のいずれかに記載のプロセス。
【請求項６】
存在するならばメタンのファクターが０〜０．４の範囲にあり、存在するならばエタンのファクターが７０〜１２０の範囲にあり、存在するならば少なくとも３つの炭素原子を有する炭化水素類のファクターが５０〜２０００の範囲にあり、すべてのファクターが、定義によって１であるエチレンのファクターに相関している請求項５に記載のプロセス。
【請求項７】
相対的な量Ｑが、１×１０−６〜１００×１０−６の範囲に、特に２×１０−６〜５０×１０−６の範囲にある請求項１から６のいずれかに記載のプロセス。
【請求項８】
供給原料中に存在する炭化水素類が、オレフィンに加えて、メタン、エタン、プロパン、シクロプロパンの１つ以上を含む請求項１から７のいずれかに記載のプロセス。
【請求項９】
オレフィンオキシド形成に対する選択性が最適となるようなＱ１の値が使用される請求項１から８のいずれかに記載のプロセス。
【請求項１０】
商Ｑ２／Ｑ１の値が０．８〜１．２の範囲に、特に０．９〜１．１の範囲に、より特に０．９５〜１．０５の範囲にある請求項１から９のいずれかに記載のプロセス。
【請求項１１】
第２フェーズが、第１の操作フェーズ中で使用された供給原料の炭化水素組成および反応改質剤組成からその少なくとも１つが異なる供給原料の炭化水素組成および反応改質剤組成で稼働される請求項１から１０のいずれかに記載のプロセス。
【請求項１２】
第２の操作フェーズ中で使用された供給原料中の反応改質剤（複数可）の濃度が、供給原料中に存在する炭化水素（複数可）の量あるいはタイプの変動に応じて計算される請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１３】
銀系触媒が担持体、特にα−アルミナ担持体上の銀およびさらなる元素あるいはその化合物を含み、さらなる元素が、窒素、硫黄、リン、ホウ素、フッ素、ＩＡ族金属、ＩＩＡ族金属、レニウム、モリブデン、タングステン、クロム、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、バナジウム、タリウム、トリウム、タンタル、ニオブ、ガリウム、およびゲルマニウムおよびこれらの混合物からなるグループから選択される請求項１から１２のいずれかに記載のプロセス。
【請求項１４】
銀系触媒が担持体、特にα−アルミナ担持体上の銀、レニウムあるいはその化合物、さらなる元素が窒素、硫黄、リン、ホウ素、フッ素、ＩＡ族金属、ＩＩＡ族金属、モリブデン、タングステン、クロム、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、バナジウム、タリウム、トリウム、タンタル、ニオブ、ガリウム、ゲルマニウムおよびこれらの混合物からなるグループから選択されるさらなる元素あるいはその化合物と、そして場合によっては、硫黄、リン、ホウ素あるいはその化合物の１つ以上から選択されてもよいレニウム助触媒を含む請求項１３に記載のプロセス。
【請求項１５】
オレフィンのエポキシ化のプロセスであって、該プロセスが銀系触媒の存在下に、オレフィン、酸素および反応改質剤を含む供給原料を反応させることを含み、該プロセスが
第１の稼働フェーズで稼働するステップと、
次いで、触媒上の反応改質剤の活性種の濃度が実質上不変であるように、供給原料組成が第１の稼働フェーズ中で使用された供給原料組成とは異なる第２の稼働フェーズで稼働するステップとを含むプロセス。
【請求項１６】
オレフィンオキシドを１，２−ジオールあるいは１，２−ジオールエーテルに転換することを含む１，２−ジオールあるいは１，２−ジオールエーテルを製造する方法であって、オレフィンオキシドが、請求項１から１５のいずれかに記載のオレフィンオキシドの生産のためのプロセスによって得られたものである方法。
【請求項１７】
銀系触媒を保持するリアクターと、リアクターにオレフィン、酸素、反応改質剤を含む供給原料を供給するための手段と、供給原料中に存在する反応改質剤の活性種の有効なモル量の供給原料中に存在する炭化水素類の有効なモル量に対する比である相対的な量Ｑで供給原料中に存在する反応改質剤を制御するための改質剤制御手段を含む、供給原料および／または供給原料組成を制御するための供給原料制御手段とを含み、供給原料制御手段が、
Ｑの値がＱ１である第１の稼働フェーズで稼働するステップと、
次いでＱの値がＱ２であり、商Ｑ２／Ｑ１の値が０．５〜１．５の範囲になる、第１の稼働フェーズ中で使用された供給原料組成とは供給原料組成が異なる第２の稼働フェーズで稼働するステップとのプロセスステップを制御するように構成されている請求項１から１５のいずれかによってプロセスを行うのに適切なシステム。
【請求項１８】
コンピュータが読取り可能なメディアと、請求項１から１５のいずれかに記載のプロセスのための計算を実行するためにコンピュータシステムのデータ処理システムに命令するのに適切な、コンピュータが読取り可能なメディアに記録された、コンピュータが読取り可能なプログラムコードとを含むコンピュータプログラム製品。
【請求項１９】
請求項１から１５のいずれかに記載されたプロセスを制御するためにデータ処理システムに命令するのに適切な、コンピュータが読取り可能なメディアに記録された、コンピュータが読取り可能なプログラムコードをさらに含む請求項１８に記載のコンピュータプログラム製品。
【請求項２０】
コンピュータプログラム製品が請求項１８または１９に記載されているコンピュータプログラム製品と、コンピュータプログラム製品から読まれた命令を受けるように構成されたデータ処理システムとを含むコンピュータシステム。