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【手続補正書】
【提出日】平成17年8月19日(2005.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１および第２の電流遮断アセンブリを備える電気化学的電池であって、前記第１および第２の電流遮断アセンブリは前記電池のためのオープンエンドケースに挿入され、
前記電池は正端子と、負端子と、１対の正電極および負電極とをさらに備え、
前記第１のアセンブリはハウジングと、前記ハウジング内のチャンバと、露出されたエンドキャッププレートとを有し、
前記エンドキャッププレートは前記第１のアセンブリ内の電気的導電通路を介して前記電極の一つに電気的に接続され、
前記第１のアセンブリはその内部に、前記第１のアセンブリ内の前記電気的通路の一部を形成するフレキシブル電気的導通部材を有し、
前記第１のアセンブリは所定の温度レベルが達成されたときに電流が前記電池内を流れないようにする熱感応手段をさらに有し、
前記熱感応手段は湾曲した面を有する形状記憶合金部材を有し、
前記第１のアセンブリは、前記形状記憶部材の面曲率の変化に対応して前記フレキシブル導通部材が動くようにする物理手段をさらに有し、
前記電池の温度が所定の温度に達したとき、前記形状記憶部材は偏向してその表面の少なくとも一部の曲率を変え、前記フレキシブル導通部材を動かして前記エンドキャッププレートと前記電極との間の前記電気的通路を遮断し、結果として前記電池を電流が流れるのを阻止し、
前記第１のアセンブリは、前記第１のアセンブリのハウジングの一部を形成し前記第１のアセンブリの外側環境に露出する面を有する圧力作動ダイアフラムを有し、前記ダイアフラムの偏向に対応して前記フレキシブル導通部材は動かされ、
前記ダイアフラムの露出された側のガス圧が上がると、前記ダイアフラムは前記第１のアセンブリの内側に向かって偏向し、前記物理手段が前記フレキシブル導通部材を押すようにして、これにより前記第１のアセンブリ内の前記電気的通路を遮断し、
前記第２のアセンブリはハウジングと、前記ハウジング内のチャンバと、前記ハウジングから密封されたエンドキャップとを有し、
前記第２のアセンブリは、前記ハウジングと前記第２のアセンブリのエンドキャップとの間に自己を通る電気的導電通路を有し、
前記第２のアセンブリは完全に前記電池内部に配置され、
前記第２のアセンブリは前記チャンバ内に、前記第２のアセンブリ内の前記電気的通路を電流が通るのを防ぐ熱感応手段を有し、
前記熱感応手段は、前記第２のアセンブリ内の温度が所定のレベルに達した時に作動可能であり、前記第２のアセンブリを通る前記電気的導電通路が遮断されるようにして、これにより前記電池の動作を終了させる、形状記憶合金部材を有する、
ことを特徴とする、電気化学的電池。
【請求項２】
前記電流遮断アセンブリ内の前記形状記憶金属部材は、形状記憶合金のディスクを有し、
前記ディスクは所定の温度に達したときに自己の厚さ方向に曲がる曲面を有する、
ことを特徴とする、請求項１に記載の電気化学的電池。
【請求項３】
前記ディスクは約０．０５乃至０．５ｍｍの間の厚さを有することを特徴とする、請求項２に記載の電気化学的電池。
【請求項４】
前記記憶金属部材の面曲率の変化に対応して前記フレキシブル導通部材を移動させる前記手段は、前記チャンバ内に配置され前記形状記憶部材と物理的に通じている電気的非導通部材であって、前記記憶部材が偏向したとき、前記非導通部材は前記フレキシブル導通部材に向かって移動し、前記エンドキャッププレートと前記電極との間の前記電気的通路を遮断することを特徴とする、請求項１乃至３のいずれかに記載の電気化学的電池。
【請求項５】
前記電気的非導通部材は細長いプラスティック部材であることを特徴とする、請求項４に記載の電気化学的電池。
【請求項６】
前記フレキシブル導通部材は貫通開口部を有するディスクを有し、
前記ディスクは外側縁を有し、前記外側縁はその一部から前記開口部へ突き出るフレキシブル部を有し、
前記外側縁は前記エンドキャップのアセンブリ内の絶縁部材の表面に置かれ前記フレキシブル部は前記形状記憶部材の偏向に対応して移動可能であり、これにより前記電気的通路を遮断することを特徴とする、請求項１乃至５のいずれかに記載の電気化学的電池。
【請求項７】
前記電池は可充電電池であることを特徴とする、請求項１乃至６のいずれかに記載の電気化学電池。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月19日(2005.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハウジング（２８０）と、
前記ハウジング内のチャンバと、
前記ハウジングから密封エンドキャップ（２３０）と、
を備える電流遮断アセンブリ（２２０）であって、
前記アセンブリは前記ハウジングと前記エンドキャップとの間を貫通する電気的導電通路を有し、
前記アセンブリは、電池の電極の１つと、対応する電池の端子と、の間の前記電気的導電通路の一部を形成するように電池に挿入可能であり、
前記アセンブリは前記チャンバ内に、前記アセンブリ内の前記電気的通路を電流が流れるのを防ぐ熱感応手段を有し、
前記アセンブリは前記熱感応手段の近くに電気抵抗手段をさらに有し、
前記抵抗手段を電流が自己を通過すると熱を発し、
前記抵抗手段は印加電圧の増加に伴って抵抗値を減少し、
前記熱感応手段は熱感応ディスク（２５０）を有し、
前記ディスクは通常の電池動作中に自己の厚さ方向に電流が流れるように前記アセンブリ内で方向付けがされており、
前記アセンブリ内の温度が所定のレベルに達したとき、前記ディスクの少なくとも一部が偏向し、前記アセンブリを通る前記電気的通路を遮断して、これにより前記電池が動作を終了するようにする、
ことを特徴とする、電流遮断アセンブリ。
【請求項２】
前記熱感応ディスクは、形状記憶合金を有することを特徴とする、請求項１に記載の電流遮断アセンブリ。
【請求項３】
前記熱感応ディスクは、バイメタルであることを特徴とする、請求項１または２に記載の電流遮断アセンブリ。
【請求項４】
前記熱感応ディスクは貫通する開口部を有し、前記ディスクは外側縁を有し、前記外側縁はその一部から前記開口部へ突き出るフレキシブル部を有し、
前記外側縁は前記エンドキャップ内の絶縁部材の表面と接触し、
前記フレキシブル部は第１の位置に湾曲可能面を有し、
前記アセンブリ内の電池温度が所定のレベルに達したとき、前記湾曲可能面は第２の位置に移動し、前記電気的通路を遮断する、
ことを特徴とする、請求項１乃至３のいずれかに記載の電流遮断アセンブリ。
【請求項５】
前記抵抗手段は前記ハウジング内に配置されるダイオードを有し、前記ダイオードは、電気化学的電池の正端子と負端子とにそれぞれ平行に電気的に接続される正端子と負端子とを有することを特徴とする、請求項１乃至４のいずれかに記載の電流遮断アセンブリ。
【請求項６】
前記抵抗手段は、前記ハウジング内に配置されるツェナーダイオードを有するダイオードサブアセンブリを有し、
前記ツェナーダイオードは、電気化学的電池の正端子と負端子とにそれぞれ平行に電気的に接続される正端子と負端子とを有することを特徴とする、請求項１乃至５のいずれかに記載の電流遮断アセンブリ。
【請求項７】
前記ツェナーダイオードの端子は前記アセンブリの前記露出されたエンドキャップに電気的に接続され、
前記ツェナーダイオードの前記接続された端子は、前記露出されたエンドキャップと同じ極性を有することを特徴とする、請求項６に記載の電流遮断アセンブリ。
【請求項８】
前記アセンブリは独立構造を有することを特徴とする、請求項１乃至７のいずれかに記載の電流遮断アセンブリ。
【請求項９】
前記ダイオードサブアセンブリは、前記ダイオードの端子の１つに接続された導電性部材をさらに有し、前記導電性部材は前記ダイオードから伸延し、同じ極性の電池端子に電気的に接続されることを特徴とする、請求項６乃至８のいずれかに記載の電流遮断アセンブリ。
【請求項１０】
前記導電性部材の本体は電気絶縁体で囲まれていることを特徴とする、請求項９に記載の電流遮断アセンブリ。
【請求項１１】
前記ツェナーダイオードは約１００乃至５００マイクロワットの間のワット数を有することを特徴とする、請求項６乃至１０に記載の電流遮断アセンブリ。
【請求項１２】
前記ツェナーダイオードは、約５ボルト未満のツェナー電圧を有することを特徴とする、請求項６乃至１１に記載の電流遮断アセンブリ。
【請求項１３】
前記ツェナーダイオードはウェハチップであることを特徴とする、請求項６乃至１２に記載の電流遮断アセンブリ。
【請求項１４】
前記ダイオードサブアセンブリは、多角形または楕円形のウェハの形状であることを特徴とする、請求項６乃至１３に記載の電流遮断アセンブリ。
【請求項１５】
正端子（２４５）と、負端子（２４６）と、１対の陽電極（２１１）および陰電極（２１３）とを備え、請求項１乃至１４のいずれかに記載の電流遮断アセンブリを備える、電気化学的電池（２１５）。
【請求項１６】
前記アセンブリは、前記電池の内容積に完全におさまる独立ユニットであり、
前記電池は、好ましくは直方体状で全厚が約３乃至１０ｍｍの間である可充電電池であることを特徴とする、請求項１５に記載の電気化学的電池。
【請求項１７】
前記アセンブリは前記電極の１つと対応する電池の端子との間の電気的通路の一部を形成し、
前記アセンブリの前記ハウジングおよび前記エンドキャップの一方は前記電池の電極の１つに電気的に接続され、他方は対応する電池の端子に電気的に接続されることを特徴とする、請求項１５または１６に記載の電気化学的電池。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月3日(2005.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】  約１０標準立方センチメートル／分(sccm)及び約１００標準立方センチメートル／分の間の流量でＮ2ガスを流す手順をさらに備える請求項７記載のフォトレジスト層及び基盤層に対する誘電体層の選択性を改善する選択性改善方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体集積回路(ＩＣ’ｓ)の製造に関する。さらに詳しくは、本発明は、高選択性でもって半導体デバイスの高アスペクト比形状構成を製造するための改善された方法に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
以上のような観点において、必要とされるものは、誘電体材料を貫通するようにエッチングする操作の速さを低下することなく、高い選択性を達成するための改善された方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月31日(2005.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒトの患者における中耳感染を処置するための医薬の製造におけるシプロフロキサシンおよびデキサメタゾンの配合物を含む水性懸濁組成物の使用であって、ここで、該患者が、少なくとも一方の耳において、中耳炎および開放性鼓膜を有し、そして
該医薬は、該患者の耳の耳道の表面へ塗布される、使用。
【請求項２】
請求項１に記載の使用であって、前記水性懸濁組成物は、以下：
ａ）０．０１〜０．５重量％のデキサメタゾン；
ｂ）０．１〜０．４重量％のシプロフロキサシン；
ｃ）本質的に、組成物が約２５０〜３５０ｍＯｓｍの重量オスモル濃度を有するのに十分な量のＮａＣｌからなる張力剤；
ｄ）０．１〜０．５重量％の非イオン性ポリマー；
ｅ）０．０１〜０．２重量％の非イオン性界面活性剤；および
ｆ）緩衝剤、
を含み、ここで、該組成物は、約３〜５のｐＨを有する、使用。
【請求項３】
前記デキサメタゾンが、デキサメタゾンアルコールであり、かつ、前記シプロフロキサシンが、塩酸シプロフロキサシン一水和物である、請求項１に記載の使用。
【請求項４】
前記水性懸濁組成物が、０．１重量％のデキサメタゾンおよび０．３重量％のシプロフロキサシンを含む、請求項１に記載の使用。
【請求項５】
請求項４に記載の使用であって、前記医薬は、患者の耳に、１日に２回の割合で３滴または４滴が投与されるように処方され、ここで、各滴が、３０〜３５μＬである、使用。
【請求項６】
請求項１に記載の使用であって、前記水性懸濁組成物が、本質的に、以下：
ａ）０．１重量％のデキサメタゾンアルコール；
ｂ）０．３５重量％の塩酸シプロフロキサシン一水和物；
ｃ）該組成物が約２５０〜３５０ｍＯｓｍの重量オスモル濃度を有するのに十分な量のＮａＣｌ；
ｄ）０．２重量％のヒドロキシエチルセルロース；
ｅ）０．０５重量％のチロキサポール；
ｆ）酢酸ナトリウムおよび酢酸を含む緩衝剤；
ｇ）０．０１重量％の塩化ベンザルコニウム；
ｈ）０．０１重量％のエデト酸二ナトリウム；
ｉ）０．６重量％のホウ酸
から構成され；かつ
ここで、該組成物が、約４．５のｐＨを有する、使用。
【請求項７】
前記医薬が、開放性鼓膜を通じて中耳へ前記水性懸濁組成物を押し進めるように耳珠をポンピングすることと組み合せて投与されるように処方される、請求項１に記載の使用。
【請求項８】
前記デキサメタゾンが、平均体積基準の３μｍより小さい平均粒子サイズを有する、請求項１に記載の使用。
【請求項９】
前記中耳炎が、急性中耳炎である、請求項１に記載の使用。
【請求項１０】
前記中耳炎が、慢性化膿性中耳炎である、請求項１に記載の使用。
【請求項１１】
請求項１に記載の使用であって、シプロフロキサシンおよびデキサメタゾンの配合物を含む前記医薬は、該組成物が、開放性鼓膜に罹患する患者における中耳炎を処置するために使用され得ることを明示する用法とともに包装される、使用。
【請求項１２】
ヒトの患者における中耳感染を処置するための薬学的組成物であって、該薬学的組成物は、シプロフロキサシンおよびデキサメタゾンの配合物を含む水性懸濁組成物を含有し、
ここで、該患者が、少なくとも一方の耳において、中耳炎および開放性鼓膜を有し；そして該薬学的組成物は、該患者の耳道の表面に塗布されるために処方される、薬学的組成物。
【請求項１３】
請求項１２に記載の薬学的組成物であって、前記水性懸濁組成物は、以下：
ａ）０．０１〜０．５重量％のデキサメタゾン；
ｂ）０．１〜０．４重量％のシプロフロキサシン；
ｃ）本質的に、組成物が約２５０〜３５０ｍＯｓｍの重量オスモル濃度を有するのに十分な量のＮａＣｌからなる張力剤；
ｄ）０．１〜０．５重量％の非イオン性ポリマー；
ｅ）０．０１〜０．２重量％の非イオン性界面活性剤；および
ｆ）緩衝剤、
を含み、ここで、該組成物は、約３〜５のｐＨを有する、薬学的組成物。
【請求項１４】
前記デキサメタゾンが、デキサメタゾンアルコールであり、かつ、前記シプロフロキサシンが、塩酸シプロフロキサシン一水和物である、請求項１２に記載の薬学的組成物。
【請求項１５】
前記水性懸濁組成物が、０．１重量％のデキサメタゾンおよび０．３重量％のシプロフロキサシンを含む、請求項１２に記載の薬学的組成物。
【請求項１６】
請求項１５に記載の薬学的組成物であって、前記薬学的組成物は、患者の耳に、１日に２回の割合で３滴または４滴が投与されるように処方され、ここで、各滴が、３０〜３５μＬである、薬学的組成物。
【請求項１７】
請求項１２に記載の薬学的組成物であって、前記水性懸濁組成物が、本質的に、以下：
ａ）０．１重量％のデキサメタゾンアルコール；
ｂ）０．３５重量％の塩酸シプロフロキサシン一水和物；
ｃ）該組成物が約２５０〜３５０ｍＯｓｍの重量オスモル濃度を有するのに十分な量のＮａＣｌ；
ｄ）０．２重量％のヒドロキシエチルセルロース；
ｅ）０．０５重量％のチロキサポール；
ｆ）酢酸ナトリウムおよび酢酸を含む緩衝剤；
ｇ）０．０１重量％の塩化ベンザルコニウム；
ｈ）０．０１重量％のエデト酸二ナトリウム；
ｉ）０．６重量％のホウ酸
から構成され；かつ
ここで、該組成物が、約４．５のｐＨを有する、薬学的組成物。
【請求項１８】
前記薬学的組成物が、開放性鼓膜を通じて中耳へ前記水性懸濁組成物を押し進めるように耳珠をポンピングすることと組み合せて投与されるように処方される、請求項１２に記載の薬学的組成物。
【請求項１９】
前記デキサメタゾンが、平均体積基準の３μｍより小さい平均粒子サイズを有する、請求項１２に記載の薬学的組成物。
【請求項２０】
前記中耳炎が、急性中耳炎である、請求項１２に記載の薬学的組成物。
【請求項２１】
前記中耳炎が、慢性化膿性中耳炎である、請求項１２に記載の薬学的組成物。
【請求項２２】
前記薬学的組成物が、開放性鼓膜に罹患する患者における中耳炎を処置するために使用され得ることを明示する用法とともに包装される、請求項１２に記載の薬学的組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月21日(2005.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機充填剤で強化されたエラストマー組成物を含むトレッドを有するタイヤであって、少なくとも、
（ｉ）ジエンエラストマー、
（ｉｉ）強化充填剤として、８０ｐｈｒより多い量の、
（ａ）５０〜１００ｍ2／ｇのＢＥＴ比表面積と、
（ｂ）５０〜３５０ｎｍの平均粒径（ｄw）、
とを特徴として有するＬＳシリカでその全体又は一部が構成される無機充填剤、
（ｉｉｉ） 強化無機充填剤とジエンエラストマーとを結合するカップリング剤、
（ｉＶ）硫黄をベースとした加硫系、
をベースとしたタイヤトレッド（ｐｈｒ＝ジエンエラストマー１００部当りの質量部）。
【請求項２】
強化無機充填剤の量が９０〜１５０ｐｈｒである、請求項１に記載のタイヤ。
【請求項３】
カーボンブラックを更に含み、該カーボンブラックが２〜２０ｐｈｒの量で存在する、請求項１又は２に記載のタイヤ。
【請求項４】
加硫系が、スルフェンアミドの第一促進剤を含み、硫黄とスルフェンアミド促進剤の全体量が１．２５〜２．７５ｐｈｒの範囲内である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のタイヤ。
【請求項５】
加硫系が、更にグアニジン誘導体を含み、硫黄とスルフェンアミドとグアニジン誘導体の全体量が１．７５〜４．２５ｐｈｒの範囲内である、請求項４に記載のタイヤ。
【請求項６】
加硫系が、加硫活性化剤として０．５〜１．５ｐｈｒの亜鉛を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載のタイヤ。
【請求項７】
ジエンエラストマー、強化無機充填剤及び加硫系をベースとした、耐摩耗性、ローリング抵抗性、グリップ、横滑り推力性能の改善された平衡性を有する硫黄加硫性タイヤトレッドの製造方法であって、次の工程：
ジエンエラストマー中に、「非生産的」第一工程において、少なくとも、強化充填剤として、８０ｐｈｒよりも多い量の、
（ａ）５０〜１００ｍ2／ｇのＢＥＴ比表面積と、
（ｂ）５０〜３５０ｎｍの平均粒径（ｄw）
を特徴として有するシリカ（以後、ＬＳシリカ）でその全体又は一部が構成される無機充填剤と、該シリカと該ジエンエラストマーとを結合するカップリング剤とを混入する工程、
全体の混合物を、１段階以上で、１１０℃〜１９０℃の最大温度が達成されるまで熱機械的に混練する工程、
全体の混合物を１００℃未満の温度まで冷却する工程、
次いで、「生産的」第二工程において、硫黄と第一加硫促進剤を混入する工程、
全体の混合物を１１０℃未満の最大温度が達成されるまで混練する工程、
この様にして得られたエラストマー組成物をタイヤトレッドの形状でカレンダー加工又は押出し加工する工程、
を含む事を特徴とする方法（ｐｈｒ＝ジエンエラストマー１００部当りの質量部）。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月15日(2005.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子材基板表面を処理するための装置において、
ａ） ガス流入口及びマイクロ波エネルギー源のいずれともガスが流通するプラズマ混合チャンバ、
ｂ） 処理チャンバ内室が処理チャンバ外室内に収められており、前記処理チャンバ内室が前記外室へのガス流通開口を有する二重室処理領域、
ｃ）前記プラズマ混合チャンバと前記処理チャンバ外室の間のガスの流通を可能にするアパーチャ、及び
ｄ） 前記外室にとり付けられた真空排気配管、
を備え、
ｅ） 前記処理内室の前記開口が前記アパーチャと位置合せされ、前記開口はあらかじめ定められた距離だけ前記アパーチャから離されている、
ことを特徴とする装置。
【請求項２】
前記あらかじめ定められた距離が１〜６インチ（約２.５〜１５ｃｍ）であることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記処理チャンバ外室に大気ベントが取り付けられていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記内室内に高分子材成形品をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記内室が処理されるべき高分子材成形品であることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記処理チャンバ内室が、側壁、底及び、前記開口を画定するテーパ付ネック部を有することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記処理チャンバ外室の基台部の取り外しのための空気圧昇降システムをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記プラズマ混合チャンバ及び前記処理チャンバ外室を前記アパーチャを介して接続するコンジットをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項９】
高分子材基板の方面を処理する方法において、
ａ） 請求項１に記載の装置を提供し、前記処理領域内に前記高分子材基板を配置する工程、
ｂ） 前記プラズマ混合チャンバで低温プラズマを生成する工程、及び
ｃ） 前記プラズマを前記二重室処理チャンバに導き入れる工程、
を有してなることを特徴とする方法。
【請求項１０】
前記プラズマを前記装置から排気する工程をさらに含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記プラズマ生成工程に先立ち、前記処理チャンバ内室に高分子材成形品を入れる工程をさらに含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記内室が処理されるべき高分子材成形品であることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
前記高分子材がポリスチレンであることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2005504855.tif 000001
【図１Ａ】
2005504855.tif 000002
【図２】
2005504855.tif 000003
【図３】
2005504855.tif 000004
【図４】
2005504855.tif 000005
【図５】
2005504855.tif 000006
【図６】
2005504855.tif 000007
【図７】
2005504855.tif 000008
【図８】
2005504855.tif 000009
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月24日(2005.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
硫黄硬化加硫エラストマー材料から硬化可能なエラストマー材料を得るための化学組成物であって、
前記化学組成物の４０〜６５重量％の硫黄と、
第一の促進剤及び第二の促進剤を含む促進剤混合物であって、該第一の促進剤と該第二の促進剤との重量％比が１：１〜５：１である促進剤混合物と、
前記化学組成物の２〜６重量％の活性化剤と、
からなる化学組成物。
【請求項２】
前記促進剤混合物が第三の促進剤を含み、前記第一の促進剤と前記第二の促進剤と前記第三の促進剤との重量％比が３：３：１〜４：１：１である請求項１に記載の化学組成物。
【請求項３】
前記第一の促進剤がＮ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミドであり、前記第二の促進剤が２−メルカプトベンゾチアゾール亜鉛であり、前記第三の促進剤がテトラメチルチウラムモノスルフィドである請求項２に記載の化学組成物。
【請求項４】
前記活性化剤が脂肪酸の亜鉛塩を含み、該脂肪酸の亜鉛塩が前記化学組成物の３〜６重量％を構成する請求項１に記載の化学組成物。
【請求項５】
前記活性化剤が酸化亜鉛とステアリン酸との混合物を含む請求項１に記載の化学組成物。
【請求項６】
前記第一の促進剤がＮ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミドであり、前記第二の促進剤が２−メルカプトベンゾチアゾール亜鉛及びテトラメチルチウラムモノスルフィドからなる群より選択され、前記促進剤混合物が前記化学組成物の約１５〜約５１重量％を構成する請求項１に記載の化学組成物。
【請求項７】
硫黄硬化加硫エラストマー材料から、有用なエラストマー製品に再配合および再硬化させることができる硬化可能なエラストマー材料を得るためのプロセスであって、
前記硫黄硬化加硫エラストマー材料を細かい粒子屑にする工程、
前記粒子屑及び化学組成物（該化学組成物は、該化学組成物の４０〜６５重量％の硫黄と第一の促進剤及び第二の促進剤を含む促進剤混合物であって、該第一の促進剤と該第二の促進剤との重量％比が１：１〜５：１である促進剤混合物と該化学組成物の２〜６重量％の活性化剤とからなる）を加工機に投入する工程、および
前記粒子屑及び前記化学組成物の混合物に７５〜８５℃の温度で２分以下の時間せん断力を付与する工程、
を含むプロセス。
【請求項８】
前記粒子屑と前記化学組成物との比率が、粒子屑１００部に対し化学組成物１〜２部である請求項７に記載のプロセス。
【請求項９】
前記促進剤混合物が第三の促進剤を含み、前記第一の促進剤と前記第二の促進剤と前記第三の促進剤との重量％比が３：３：１〜４：１：１である請求項７に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記活性化剤が脂肪酸の亜鉛塩を含み、該脂肪酸の亜鉛塩が前記化学組成物の３〜６重量％を構成する請求項７に記載のプロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月29日(2005.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有効量のプロスタグランジン化合物を含む、哺乳類対象におけるＣｌＣチャンネルをオープンするための組成物。
【請求項２】
有効量のプロスタグランジン化合物を含む、哺乳類対象におけるクロライドイオン透過性の低下に関連する症状の処置用組成物。
【請求項３】
該クロライドイオン透過性の低下に関連する症状が嚢胞性線維症である、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
プロスタグランジン化合物が下記一般式（Ｉ）で表される化合物である、請求項１から３のいずれかに記載の組成物：
【化１】
2005504836.tif 000001
［式中、Ｌ、ＭおよびＮは、水素原子、ヒドロキシ、ハロゲン原子、低級アルキル、ヒドロキシ（低級）アルキルまたはオキソ（ここでＬおよびＭの少なくとも１つは水素以外の基であり、五員環は少なくとも１つの二重結合を有していてもよい）；
Ａは、−ＣＨ２ＯＨ、−ＣＯＣＨ２ＯＨ、−ＣＯＯＨまたはその官能性誘導体；
Ｂは、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−；
Ｚは
【化２】
2005504836.tif 000002
（ここでＲ４およびＲ５は、水素、ヒドロキシ、ハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシまたはヒドロキシ（低級）アルキルであり、ただし、Ｒ４およびＲ５が同時にヒドロキシおよび低級アルコキシであることはない）；
Ｒ１は、非置換またはハロゲン、アルキル、ヒドロキシ、オキソ、アリールまたは複素環基で置換された飽和または不飽和二価低〜中級脂肪族炭化水素残基であり、脂肪族炭化水素における少なくとも１の炭素原子は任意に酸素、窒素または硫黄によって置換されていてもよい；そして、
Ｒａは、非置換またはハロゲン、オキソ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルカノイルオキシ、シクロ（低級）アルキル、シクロ（低級）アルキルオキシ、アリール、アリールオキシ、複素環基または複素環オキシ基で置換された飽和または不飽和の低〜中級脂肪族炭化水素残基；シクロ（低級）アルキル；シクロ（低級）アルキルオキシ；アリール；アリールオキシ；複素環基；複素環オキシ基］。
【請求項５】
プロスタグランジン化合物が１３，１４−ジヒドロ−１６−モノまたはジハロゲン−プロスタグランジン化合物である、請求項１から３のいずれかに記載の組成物。
【請求項６】
プロスタグランジン化合物が１３，１４−ジヒドロ−１５−ケト−１６モノまたはジハロゲン−プロスタグランジン化合物である、請求項１から３のいずれかに記載の組成物。
【請求項７】
プロスタグランジン化合物が１３，１４−ジヒドロ−１６−モノまたはジフルオロ−プロスタグランジン化合物である、請求項１から３のいずれかに記載の組成物。
【請求項８】
プロスタグランジン化合物が１３，１４−ジヒドロ−１５−ケト−１６モノまたはジフルオロ−プロスタグランジン化合物である、請求項１から３のいずれかに記載の組成物。
【請求項９】
プロスタグランジン化合物が１３，１４−ジヒドロ−１６モノまたはジハロゲン−プロスタグランジンＥ化合物である、請求項１から３のいずれかに記載の組成物。
【請求項１０】
プロスタグランジン化合物が１３，１４−ジヒドロ−１５−ケト−１６モノまたはジハロゲン−プロスタグランジンＥ化合物である、請求項１から３のいずれかに記載の組成物。
【請求項１１】
プロスタグランジン化合物が１３，１４−ジヒドロ−１６，１６−ジフルオロ−プロスタグランジンＥ１化合物である、請求項１から３のいずれかに記載の組成物。
【請求項１２】
プロスタグランジン化合物が１３，１４−ジヒドロ−１５−ケト−１６，１６−ジフルオロ−プロスタグランジンＥ１化合物または１３，１４−ジヒドロ−１５−ケト−１６，１６−ジフルオロ−１８−メチル−プロスタグランジンＥ１化合物である、請求項１から３のいずれかに記載の組成物。
【請求項１３】
Ａが式（Ｖ）で表される−ＣＯＯＨの官能性誘導体である請求項４に記載の組成物：
−ＣＯＮＲ’Ｒ''（Ｖ）
[式中、Ｒ’およびＲ''は、水素、低級アルキル、アリール、アルキル−またはアリール−スルホニル、低級アルケニルまたは低級アルキニル]。
【請求項１４】
プロスタグランジン化合物が１３，１４−ジヒドロ−１５−ケト−１６，１６−ジフルオロ−ＰＧＥ１Ｎ−エチルアミドである、請求項１３に記載の組成物。
【請求項１５】
プロスタグランジン化合物が１３，１４−ジヒドロ−１５−ケト−１６，１６−ジフルオロ−ＰＧＦ１αＮ−エチルアミドである、請求項１３に記載の組成物。
【請求項１６】
式(IV)で表される新規化合物：
【化３】
2005504836.tif 000003
[式中、Ｌ、ＭおよびＮは、水素、ヒドロキシ、ハロゲン、低級アルキル、ヒドロキシ（低級）アルキルまたはオキソ（ここでＬおよびＭの少なくとも１つは水素以外の基であり、五員環は１または複数の二重結合を有していてもよい）；
Ｒ’およびＲ''は、水素、低級アルキル、アリール、アルキル−またはアリール−スルホニル、低級アルケニルまたは低級アルキニル；
Ｂは、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−；
Ｒ１は、非置換またはハロゲン、アルキル、ヒドロキシ、オキソ、アリールまたは複素環基で置換された飽和または不飽和二価低〜中級脂肪族炭化水素残基であり、脂肪族炭化水素における少なくとも１の炭素原子は任意に酸素、窒素または硫黄によって置換されていてもよい；そして、
Ｒａは、非置換またはハロゲン、オキソ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルカノイルオキシ、シクロ（低級）アルキル、シクロ（低級）アルキルオキシ、アリール、アリールオキシ、複素環基または複素環オキシ基で置換された飽和または不飽和の低〜中級脂肪族炭化水素残基；シクロ（低級）アルキル；シクロ（低級）アルキルオキシ；アリール；アリールオキシ；複素環基；複素環オキシ基]。
【請求項１７】
化合物が１３，１４−ジヒドロ−１５−ケト−１６，１６−ジフルオロ−ＰＧＥ１Ｎ−エチルアミドである、請求項１６に記載の化合物。
【請求項１８】
化合物が１３，１４−ジヒドロ−１５−ケト−１６，１６−ジフルオロ−ＰＧＦ１αＮ−エチルアミドである、請求項１６に記載の化合物。
【請求項１９】
化合物が１３，１４−ジヒドロ−１５−ケト−１７−フェニル−１８，１９，２０−トリノールＰＧＦ２αＮ−エチルアミドである、請求項１６に記載の化合物。
【請求項２０】
化合物が１３，１４−ジヒドロ−１５−ケト−２０−エチル−ＰＧＦ２αＮ−エチルアミドである、請求項１６に記載の化合物。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月29日(2005.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ又はＩＩ
【化１】
2005504823.tif 000001
式中、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は独立に水素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、アリール及びヘテロサイクリルから選ばれ、又はＲ1、Ｒ1に結合した窒素原子及びＲ2が一緒になって、Ｓ、Ｏ及びＮよりなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を有する４〜８員複素環を形成し、そして、
Ｒ5はＣ1〜Ｃ10アルキル、アリール及びヘテロサイクリルから選ばれ、又はＲ1、Ｒ1に結合した窒素原子及びＲ2が一緒になってＳ、Ｏ及びＮよりなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を有する４〜８員複素環を形成する、
の化合物又はその製薬学的に許容できる塩。
【請求項２】
式Ｉａ又はＩＩａ
【化２】
2005504823.tif 000002
式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は請求項１に示されたとおりである、
の構造を有する請求項１記載の化合物。
【請求項３】
Ｒ4が水素又であるか又はアリールもしくはＮ含有ヘテロサイクリルで置換されたＣ1〜Ｃ10アルキルである請求項２記載の化合物。
【請求項４】
Ｒ3がＣ4〜Ｃ10アルキルである請求項２記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ1、Ｒ1に結合した窒素及びＲ2が一緒になってＳ、Ｏ及びＮよりなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を有する４〜８員複素環を形成する請求項２記載の化合物。
【請求項６】
Ｒ1、Ｒ1に結合した窒素及びＲ2が一緒になって
【化３】
2005504823.tif 000003
を形成する請求項５記載の化合物。
【請求項７】
１Ｈ−ピロロ［２，１−ｄ］［１，２，５］トリアゼピン−１，５（２Ｈ）−ジオン，４−（１，１−ジメチルプロピル）−７，８，９，９ａ−テトラヒドロ−である請求項１記載の化合物。
【請求項８】
１Ｈ−ピロロ［２，１−ｄ］［１，２，５］トリアゼピン−１，５（２Ｈ）−ジオン，４−（１，１−ジメチルプロピル）−７，８，９，９ａ−テトラヒドロ−２−［３−（３−ピリジニル］プロピル］−，（９ａＳ）−である請求項１記載の化合物。
【請求項９】
請求項１の化合物と製薬学的に許容できる担体を含んでなる製薬学的組成物。
【請求項１０】
疾患又は外傷により引き起こされるニューロン損傷により特徴付けられる症状に苦しむ患者を治療する製薬学的組成物を調製するための請求項1記載の化合物の使用。
【請求項１１】
疾患又は外傷により引き起こされるニューロン損傷により特徴付けられる症状の発症を患者において抑制する製薬学的組成物を調製するための請求項1記載の化合物の使用。
【請求項１２】
症状が脳、脊髄又は末梢神経のいずれかの部分に対する外傷により引き起こされる請求項１０又は１１記載の使用。
【請求項１３】
症状がパーキンソン病、アルツハイマー病、脳卒中、多発性硬化症、筋萎縮性側索硬化症、末梢性ニューロパシー及びベル麻痺よりなる群から選ばれる請求項１０又は１１記載の使用。
【請求項１４】
症状がパーキンソン病である請求項１３記載の使用。
【請求項１５】
症状がアルツハイマー病である請求項１３記載の使用。
【請求項１６】
症状が糖尿病性ニューロパシーである請求項１３記載の使用。
【請求項１７】
ニューロン成長を刺激する製薬学的組成物を調製するため請求項1記載の使用。
【請求項１８】
Ｒ3aがＣ1〜Ｃ10アルキル、アリール及びヘテロサイクリルから選ばれ、又はＲ1が、Ｒ1の結合している窒素原子及びＲ2と一緒になってＳ、Ｏ及びＮよりなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を有する４〜８員複素環を形成する、式Ｉａ
【化４】
2005504823.tif 000004
の化合物を製造する方法であって、
（ａ）下記式で表される化合物１を化合物２と反応させて化合物３を生成させ、
【化５】
2005504823.tif 000005
（ｂ）化合物３をＲ3a−Ｍと反応させて上記式で表される化合物４を生成させ、そして
（ｃ）化合物４をＨ2Ｎ−ＮＨＲ4と反応させて化合物Ｉａを生成させる、
ことを含んでなる方法。
【請求項１９】
下記式で表される化合物ＩｃをＲ5Ｙ（式中、Ｙはハロゲンである）と反応させて下記式で表される化合物Ｉｄ及びＩＩを生成させることを含んでなる式Ｉｄ及びＩＩの化合物を製造する方法。
【化６】
2005504823.tif 000006
【請求項２０】
化合物ＩｃとＩＩをクロマトグラフィーにより分離する段階を更に含んでなる請求項１９記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月12日(2005.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スポーツ用衣服に固着するようにできる第１部分（１０）と、擦りむきに対して抵抗できる第２部分（３０）と、第１部分を衣服から取外すこと無く第１部分（１０）から第２部分（３０）を分離するようにできる相互作用手段（２４ａ〜２４ｃ、１４ａ〜１４ｃ）とを有する膝用パッドにおいて、
前記相互作用手段（２４ａ〜２４ｃ、１４ａ〜１４ｃ）は、第１部分（１０）の上と、第２部分（３０）に固着連結された膝用パッドの中間部材（２０）の上に等しく配置され、前記分離が、前記第１部分（１０）に関して第２部分（３０）の回転運動を介して行われる形式であることを特徴とする膝用パッド。
【請求項２】
前記第１部分（１０）は、衝撃に抵抗する材料、好適には金属で作られ、バヨネット形である相互作用手段は、前記中間部材（２０）上の少なくとも２つの雄形手段（２４ａ〜２４ｃ）を有し、膝用パッドの前記第１部分（１０）の対応する開口（１４ａ〜１４ｃ）において、前記雄形手段（２４ａ〜２４ｄ）と開口（１４ａ〜１４ｃ）が周辺に沿って不等間隔状態に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の膝用パッド。
【請求項３】
前記中間部材（２０）は、雄形／雌形固着手段（２８ａ〜２８ｄ、３８ａ〜３８ｄ）によって前記擦りむき抵抗部分（３０）に接合され、例えば熱シーリングまたは接着剤接合によって恒久的に行われることを特徴とする請求項１に記載の膝用パッド。
【請求項４】
前記擦りむき抵抗部分（３０）は、プラスチック材料でまた作られる前記中間部材（２０）上に射出されるプラスチック材料を用いて作られることを特徴とする請求項１に記載の膝用パッド。
【請求項５】
前記第１部分（１０）は、ねじが切られた部分（１９）を有するので、下側の衣服にねじ部材によって固着できることを特徴とする上記請求項のいずれか１つに記載の膝用パッド。
【請求項６】
前記第２部分（３０）は、前記第１部分（１０）から分離される時に、容易に確認できるように異なった色彩を有していることを特徴とする上記請求項のいずれか１つに記載の膝用パッド。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月7日(2005.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式
【化１】
2005504842.tif 000001
［式中、Ｘは原子結合線、−ＣＨ２−ＮＨ−、−ＣＨ２−ＮＨ−ＮＨ−又は−ＣＨ＝Ｎ−ＮＨ−を表し、Ｒは直鎖もしくは分枝鎖Ｃ１〜Ｃ３０−アルキル−、Ｃ３〜Ｃ２０−シクロアルキル−、アダマンチル−、ノルボルニル−、トリシクロデシル−、ベンジル−、フリル−、ピリジル−、アントラシル−、ナフチル−、フェナントリル−、ペリナフチル−又はキヌクリジニル−基を表し、これは１個以上のヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル基及び／又は１個以上のハロゲン原子又は１個以上のアミノ基により置換されていてよく、
Ｙは直鎖もしくは分枝鎖Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル−、Ｃ３〜Ｃ８−シクロアルキル−、ベンジル−、フリル−又はピリジル−基を表し、これは１個以上のヒドロキシル基、カルボン酸基、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル基及び／又は１個以上のハロゲン原子又は１個以上のアミノ基により置換されていてよい］
に相当するグアニジン誘導体の塩。
【請求項２】
Ｒがペンチル−、ヘキシル−、ヘプチル−、オクチル−、ノニル−、デシル−、ウンデシル−、ドデシル−、トリデシル−、シクロドデシル−、トリシクロ［５，２，１，０２，６］−デシル−、ビシクロ［２，２，１］−シクロヘキシル−又はトルイル基及び殊にデシル基を表す、請求項１記載の塩。
【請求項３】
Ｙがメチル、エチル、プロピル、イソ−プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、ヒドロキシエチル−又は２−ヒドロキシ−２，３−ジカルボン酸プロピルである、請求項１又は２記載の塩。
【請求項４】
Ｘが−ＣＨ２−ＮＨ−ＮＨ−又は−ＣＨ＝Ｎ−ＮＨ−を表す、請求項１から３までのいずれか１項記載の塩。
【請求項５】
ウンデシリデンアミノグアニジンアセテート、ウンデシリデンアミノグアニジンラクテート及び殊にウンデシリデンアミノグアニジンエナンタート及びウンデシリデンアミノグアニジンペラルゴネートである、請求項１記載の塩。
【請求項６】
ウンデシリデンアミノグアニジンヘキサノエートである、請求項１記載の塩。
【請求項７】
カルボン酸基Ｏ−ＣＯ−Ｙの代わりにスルホン酸基又はホスホン酸基が存在する、請求項１または２記載の塩。
【請求項８】
腫瘍疾患、自己免疫疾患、心臓−循環疾患、感染症又はウィルス性疾患の治療のための製薬学的調剤において、請求項１から６までのいずれか１項記載の１種以上の塩及び場合により慣用の添加剤及び賦形剤が含有されていることを特徴とする、腫瘍疾患、自己免疫疾患、心臓−循環疾患、感染症又はウィルス性疾患の治療のための製薬学的調剤。
【請求項９】
請求項８記載の製薬学的調剤の製造法において、慣用の添加剤及び／又は賦形剤を用いて、請求項１から７までのいずれか１項記載の塩を投与形へと加工することを特徴とする、請求項８記載の製薬学的調剤の製造法。
【請求項１０】
相応する塩基及び酸をほぼ等モル量準備し、慣用の添加剤及び／又は賦形剤を用いて加工することにより、請求項１から７までのいずれか１項記載の塩を投与形へと加工する、請求項９記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月9日(2005.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
エーテルおよびエステルからなる群から選択される内部供与体、および、ＲＳｉ（ＯＲ）３化合物からなる群から選択される外部供与体を含むことを特徴とする、請求項１２〜１４のいずれかに記載の配位触媒システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１７】
一般式（Ｉ）で表される窒素含有有機アルミニウム錯体の製造方法であって、
式中、
ＲおよびＲ’は、互いに独立して、ＣＨ３、Ｃ２Ｈ５またはｉ−Ｃ４Ｈ５であり、
Ｒ１およびＲ１’は、互いに独立して、ＣＨ３またはＣ２Ｈ５であり、
Ｒ２は、
【化６】
2005504848.tif 000001
からなる群から選択される無置換の炭化水素であり、
Ｒ３およびＲ４は、ＣＨ２であり、
そして、互いに独立して、ｍおよびｎは０または１であり、ｏ＝１であって、
一般式（ＩＩ）
【化７】
2005504848.tif 000002
式中、Ｒ１、Ｒ１’、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、請求項１に定義の通りである、
で表される化合物を、一般式（ＩＩＩ）
【化８】
2005504848.tif 000003
式中、ＲおよびＲ’は、請求項１に定義の通りである、
で表される化合物と、−５０〜＋３０℃の温度範囲で非プロトン性溶媒中で反応させること、そして反応生成物を分離すること、を特徴とする、
前記製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２１】
プロペン重合用の触媒システムの製造方法であって、
（ａ）ハロゲン化チタンまたはハロゲン化バナジウムを、ＭｇＣｌ２またはＳｉＯ２またはＳｉＯ２とＭｇＣｌ２の組み合わせの上に、内部供与体、および請求項１〜６のいずれかに記載の一般式（Ｉ）で表される窒素含有有機アルミニウム化合物、および請求項８または９に記載の化合物を添加して、担持すること、
または
（ｂ）請求項１〜６のいずれかに記載の一般式（Ｉ）で表される窒素含有有機アルミニウム化合物および請求項８または９に記載の化合物を、ＭｇＣｌ２、ＳｉＯ２またはＭｇＣｌ２と組み合わせたＳｉＯ２の上に担持し、ハロゲン化チタンまたはハロゲン化バナジウムを加え、そして内部供与体および／または外部供与体を加えること、
または
（ｃ）請求項１〜６のいずれかに記載の一般式（Ｉ）で表される窒素含有有機アルミニウム化合物および請求項８または９に記載の化合物およびハロゲン化チタンまたはハロゲン化バナジウムから活性種を生成し、この種をＭｇＣｌ２またはＳｉＯ２またはＳｉＯ２とＭｇＣｌ２の組み合わせの上に、１種または２種以上の内部供与体および１種または２種以上の外部供与体を添加して、担持すること、
を特徴とする、前記製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月5日(2005.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５７】
４−［４−（３，４−メチレンジオキシベンジルアミノ）−９Ｈ−１，３，９−トリアザフルオレン−２−イル］吉草酸、
４−（４−ベンジルアミノ−９Ｈ−１，３，９−トリアザフルオレン−２−イル）吉草酸、
４−［４−（３，４−ジメトキシベンジルアミノ）−９Ｈ−１，３，９−トリアザフルオレン−２−イル］吉草酸、
４−［４−（３，４−ジクロロベンジルアミノ）−９Ｈ−１，３，９−トリアザフルオレン−２−イル］吉草酸、
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５８】
４−｛４−［（ピリジン−３−イルメチル）アミノ］−９Ｈ−１，３，９−トリアザフルオレン−２−イル｝吉草酸、
４−［４−（３−クロロ−４−メトキシベンジルアミノ）−９Ｈ−１，３，９−トリアザフルオレン−２−イル］シクロヘキサンカルボン酸、
４−［４−（３，４−メチレンジオキシベンジルアミノ）−９Ｈ−１，３，９−トリアザフルオレン−２−イル］シクロヘキサンカルボン酸、
４−（４−ベンジルアミノ−９Ｈ−１，３，９−トリアザフルオレン−２−イル）シクロヘキサンカルボン酸、
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月7日(2005.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軽金属含有品の表面上に保護被膜を形成する方法であって、
Ａ）水とＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｇｅ及びＢから成る群から選択される元素の水溶性及び水分散性錯フッ化物及び酸化フッ化物から成る群から選択される１つ以上の付加成分とを含む陽極酸化処理溶液を供給することと、
Ｂ）前記陽極酸化処理溶液と接触する陰極を供給することと、
Ｃ）前記軽金属含有品を前記陽極酸化処理溶液中に陽極として配置することと、
Ｄ）前記表面上に前記保護被膜を形成するのに有効な時間だけ、前記陽極酸化処理溶液中で陽極と陰極の間で電流を流すことと、
を含む方法。
【請求項２】
前記軽金属含有品がマグネシウムを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記軽金属含有品がアルミニウムを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記陽極酸化処理溶液が工程Ｄ）の間、５℃〜９０℃の温度で維持される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記軽金属含有品がマグネシウムを含み、前記電流が平均電圧が２００ボルトを超えないパルス直流である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
工程Ｄ）の間に可視光線の放射が発生する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
工程Ｄ）の間に、前記保護被膜が１分当たり少なくとも厚さ１ミクロンの速度で形成される、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記軽金属含有品がアルミニウムを含み、前記電流がパルス直流または交流である、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記軽金属含有品がアルミニウムを含み、前記保護被膜が白色である、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記電流がパルス直流である、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記陽極酸化処理溶液が、Ｈ2ＴｉＦ6、Ｈ2ＺｒＦ6、Ｈ2ＨｆＦ6、Ｈ2ＳｉＦ6、Ｈ2ＧｅＦ6、Ｈ2ＳｎＦ6、Ｈ3ＡｌＦ6、ＨＢＦ4及びこれらの塩並びにこれらの混合物から成る群から選択される錯フッ化物を用いて調製される、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記陽極酸化処理溶液がさらにＨＦまたはその塩を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記陽極酸化処理溶液がアミン、アンモニア、またはこれらの混合物を用いて調製される、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
主としてアルミニウムまたはマグネシウムを含む金属品の表面上に保護被膜を形成する方法であって、
Ａ）水とＴｉ、Ｚｒ、Ｓｉ及びこれらの組み合わせから成る群から選択される元素の水溶性錯フッ化物または酸化フッ化物とを含む陽極酸化処理溶液を供給することと、
Ｂ）前記陽極酸化処理溶液と接触する陰極を供給することと、
Ｃ）前記金属品を前記陽極酸化処理溶液中に陽極として配置することと、
Ｄ）平均電圧が１２５ボルトを超えないパルス直流または交流を、前記表面上に前記保護被膜を形成するのに有効な時間だけ、前記陽極と前記陰極間に電流を流すことと、
を含む方法。
【請求項１５】
前記陽極酸化処理溶液が、少なくとも４つのフッ素原子とＴｉ、Ｚｒ、Ｓｉ及びこれらの組み合わせから成る群から選択される少なくとも１つの原子を含む陰イオンを含む錯フッ化物を用いて調製される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記陽極酸化処理溶液が、Ｈ2ＴｉＦ6、Ｈ2ＺｒＦ6、Ｈ2ＳｉＦ6及びこれらの塩並びに混合物から成る群から選択される錯フッ化物を用いて調製される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
前記錯フッ化物が少なくとも０.１Ｍの濃度で前記陽極酸化処理溶液中に導入される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１８】
前記陽極酸化処理溶液がさらにフッ化水素酸、フッ化水素酸塩、またはこれらの混合物を含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１９】
前記陽極酸化処理溶液が、Ｔｉ，Ｚｒ及びＳｉから成る群から選択される少なくとも１つの元素の少なくとも１つの錯フッ化物を、Ｔｉ，Ｚｒ，Ｓｉ，Ｈｆ，Ｓｎ，Ｂ，Ａｌ及びＧｅから成る群から選択される少なくとも一つの元素の酸化物，水酸化物，カルボン酸塩またはアルコキシドである少なくとも１つの化合物と化合させることによって調製される少なくとも１つの錯酸化フッ化物を含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項２０】
前記陽極酸化処理溶液のｐＨが３〜１１である、請求項１４に記載の方法。
【請求項２１】
アルミニウム、マグネシウムまたはこれらの混合物を含む金属品の表面上に保護被膜を形成する方法であって、
Ａ）Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｂ及びこれらの組み合わせから成る群から選択される元素の水溶性錯フッ化物または酸化フッ化物と、フッ素を含むがＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｓｉ、Ｓｎ、ＧｅまたはＢの元素はいずれも含まない無機酸またはその塩とを水に溶解することによって調製され、ｐＨが３〜１１である陽極酸化処理溶液を供給することと、
Ｂ）前記陽極酸化処理溶液と接触する陰極を供給することと、
Ｃ）前記金属品を前記陽極酸化処理溶液中に陽極として配置することと、
Ｄ）平均電圧が１２５ボルトを超えないパルス直流または交流を、前記表面上に前記保護被膜を形成するのに有効な時間だけ、前記陽極と前記陰極の間で電流を流すことと、
を含む方法。
【請求項２２】
前記陽極酸化処理溶液のｐＨが、アンモニア、アミン、アルカリ金属水酸化物またはこれらの混合物を用いて調整される、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記無機酸がフッ化水素酸またはその塩である、請求項２１に記載の方法。
【請求項２４】
前記陽極酸化処理溶液がさらにキレート剤を含む、請求項１、１４または２１に記載の方法。
【請求項２５】
Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｉ、Ｈｆ、Ｓｎ、Ｂ、Ａｌ及びＧｅから成る群から選択される少なくとも１つの元素の酸化物、水酸化物、カルボン酸塩またはアルコキシドである少なくとも１つの化合物が、前記陽極酸化処理溶液を調製するためにさらに使用される、請求項２１に記載の方法。
【請求項２６】
主としてアルミニウムを含む金属品の表面上に保護被膜を形成する方法であって、
Ａ）ジルコニウムの水溶性錯フッ化物またはその塩を水中でジルコニウムの酸化物、水酸化物、カルボン酸塩またはアルコキシドに化合させることによって調製され、ｐＨが３〜５である、陽極酸化処理溶液を供給することと、
Ｂ）前記陽極酸化処理溶液と接触する陰極を供給することと、
Ｃ）前記金属品を前記陽極酸化処理溶液中に陽極として配置することと、
Ｄ）平均電圧が１２５ボルトを超えないパルス直流または交流を、前記表面上に前記保護被膜を形成するのに有効な時間だけ、前記陽極と前記陰極間に電流を流すことと、
を含む方法。
【請求項２７】
Ｈ2ＺｒＦ6またはその塩が、前記陽極酸化処理溶液を調製するために使用される、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
塩基性カルボン酸ジルコニウムが、前記陽極酸化処理溶液を調製するために用いられる
、請求項２６に記載の方法。
【請求項２９】
前記陽極酸化処理溶液のｐＨが塩基を用いて調整される、請求項２６に記載の方法。
【請求項３０】
前記陽極酸化処理溶液が、０.１〜１重量％の塩基性カルボン酸ジルコニウムを１０〜１６重量％のＨ2ＺｒＦ6またはその塩と水中で化合させて、前記陽極酸化処理溶液のｐＨを３〜５に調整するために必要に応じて塩基を添加することによって調製される、請求項２６に記載の方法。