【手続補正書】
【提出日】平成17年5月24日(2005.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 ターゲット核酸および内毒素を含む溶液中の、内毒素の濃度を低減する方法であって、
a. 第一の平衡化バッファーで平衡化した、第一のシリカマトリックスを準備し、ここで該平衡化バッファーは、実質的にカオトロピック試薬を含まず、
b. ターゲット核酸および内毒素を含む第一の溶液を調製し、ここで該第一の溶液は、実質的にカオトロピック試薬を含まず、
c. 該第一のシリカマトリックスと、該第一の溶液とを併合し、かくして第二の溶液を調製し、ここで該内毒素の少なくとも一つは、該第一のシリカマトリックスと内毒素/シリカ錯体を形成し、該第二の溶液は該第一の溶液中に存在する量よりも少量の該内毒素を含み、および
d. 該内毒素/シリカ錯体から該第二の溶液を分離する、
各工程を含むことを特徴とする、上記方法。
【請求項２】 上記工程(a)で与えられる、該第一のシリカマトリックスが、シリカで含浸されたフィルターを含む、請求項1記載の方法。
【請求項３】 上記工程(a)で与えられる、該第一のシリカマトリックスが、珪藻土、粉砕ガラス粒子、及びシリカゲルからなる群から選択されるシリカ材料を含む樹脂である、請求項1記載の方法。
【請求項４】 上記工程(d)において、遠心分離、常圧下での濾過、及び真空濾過からなる群から選択される外力を利用して、該第二の溶液から、該内毒素／マトリックス錯体を分離する、請求項1記載の方法。
【請求項５】 該第一のシリカマトリックスが、シリカゲル粒子を含む、請求項1記載の方法。
【請求項６】 該第一のシリカマトリックスが、第一のシリカ磁性粒子を含む、請求項1記載の方法。
【請求項７】 該内毒素／マトリックス錯体が、磁力を利用して、該第二の溶液から分離される、請求項6記載の方法。
【請求項８】 該第一溶液中の該ターゲット核酸の少なくとも90%が、該第二の溶液中に存在する、請求項1記載の方法。
【請求項９】 以下に記載する追加の工程を含む、請求項1記載の方法：
第二の平衡化バッファーで平衡化された、第二のシリカマトリックスを準備する工程と、
ターゲット核酸結合剤の存在下で、該第二の溶液と該第二のシリカマトリックスとを併合して、結合溶液を調製する工程と、ここで該ターゲット核酸は、該第二のシリカマトリックスと共に、核酸/マトリックス錯体を形成する、
該第二の溶液から、該第二のシリカマトリックスおよび核酸/マトリックス錯体を分離する工程と、
該核酸を、該核酸/マトリックス錯体から溶出する工程。
【請求項１０】 該第二の平衡化バッファーが、少なくとも100mMなる濃度でカオトロピック試薬を含む、請求項9記載の方法。
【請求項１１】 該結合剤が、カオトロピック試薬ではない塩、低分子量アルコール、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項9記載の方法。
【請求項１２】 該結合剤が、カオトロピック試薬を含む、請求項9記載の方法。
【請求項１３】 該ターゲット核酸がRNAであり、かつ該結合溶液中の該カオトロピック試薬の濃度が、0.5M以下である、請求項12記載の方法。
【請求項１４】 該ターゲット核酸がDNAであり、かつ該結合溶液中の該カオトロピック試薬の濃度が、少なくとも100mMである、請求項12記載の方法。
【請求項１５】 該第二のシリカマトリックスが、珪藻土、粉砕ガラス粒子、及びシリカゲルからなる群から選択されるシリカ材料を含む、請求項9記載の方法。
【請求項１６】 外力を利用して、工程(h)における該第二の溶液から、該第二のシリカマトリックスおよび核酸/マトリックス錯体を分離し、該外力が、遠心分離、大気圧下での濾過、磁力、および真空濾過からなる群から選択されるものである、請求項9記載の方法。
【請求項１７】 実質的にカオトロピック試薬を含まず、かつ200mM未満の濃度で塩を含む、溶出バッファーを使用して、該ターゲット核酸を、該核酸/マトリックス錯体から溶出する、請求項9記載の方法。
【請求項１８】 プラスミドDNAおよび内毒素を含む溶液中の、内毒素の濃度を低減する方法であって、
a. 第一の平衡化バッファーで平衡化した、第一のシリカマトリックスを準備し、ここで該平衡化バッファーは、実質的にカオトロピック試薬を含まず、
b. プラスミドDNAおよび内毒素を含む第一の溶液を調製し、ここで該第一の溶液は、実質的にカオトロピック試薬を含まず、
c. 該第一のシリカマトリックスと、該第一の溶液とを併合し、かくして第二の溶液を調製し、ここで該内毒素の少なくとも一つは、該第一のシリカマトリックスと内毒素/シリカ錯体を形成し、該第二の溶液は該第一の溶液中に存在する量よりも少量の該内毒素を含み、および
d. 該該内毒素/マトリックス錯体から、該第二の溶液を分離する、
各工程を含むことを特徴とする、上記方法。
【請求項１９】 該第一のシリカマトリックスが、珪藻土、粉砕ガラス、制御された多孔質ガラス、及びシリカゲルからなる群から選択されるシリカ材料を含む、請求項18記載の方法。
【請求項２０】 該第一のシリカマトリックスが、シリカ磁性粒子である、請求項18記載の方法。
【請求項２１】 遠心分離、大気圧下での濾過、磁力、及び真空濾過からなる群から選択される外力を、上記工程(d)において利用して、該第二の溶液から、該該内毒素／マトリックス錯体を分離する、請求項18記載の方法。
【請求項２２】 該第一の溶液中に存在する、該プラスミドDNAの少なくとも90%が、該第二の溶液から該第一のシリカマトリックスを除去した後の、該第二の溶液中に存在する、請求項18記載の方法。
【請求項２３】 更に、以下の工程を含む、請求項18記載の方法：
第二の平衡化バッファーで平衡化された、第二のシリカマトリックスを準備する工程と、
プラスミドDNA結合剤の存在下で、該第二の溶液と該第二のシリカマトリックスとを併合して、結合溶液を調製する工程と、ここで該プラスミドDNAは、該第二のシリカマトリックスと共に、DNA/マトリックス錯体を形成する、
該第二の溶液から、該第二のシリカマトリックスおよびDNA/マトリックス錯体を分離する工程と、
該核酸を、該DNA/マトリックス錯体から溶出する工程。
【請求項２４】 該第二のシリカマトリックスが、珪藻土、粉砕ガラス、制御された多孔質ガラス、及びシリカゲルからなる群から選択されるシリカ材料を含む、請求項23記載の方法。
【請求項２５】 該第二のシリカマトリックスが、シリカ磁性粒子である、請求項23記載の方法。
【請求項２６】 該第二の平衡化バッファーが、少なくとも約200mMなる濃度で、カオトロピック試薬を含む、請求項23記載の方法。
【請求項２７】 該結合剤がカオトロピック試薬であり、かつ該結合溶液が、少なくとも1Mなる濃度で、該カオトロピック試薬を含む、請求項23記載の方法。
【請求項２８】 該カオトロピック試薬が、グアニジン塩酸塩である、請求項27記載の方法。
【請求項２９】 該DNA/マトリックス錯体および第二のシリカマトリックスに、溶出バッファーを添加することにより、該プラスミドDNAを、該DNA/マトリックス錯体から溶出し、該溶出バッファーが、実質的にカオトロピック試薬を含まない、請求項23記載の方法。
【請求項３０】 該溶出バッファーが、200mM以下の非-カオトロピック塩、およびキレート剤を含む、請求項29記載の方法。