Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月2日(2005.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
色付きコンタクトレンズを作製するための印刷装置であって、
（１）コンタクトレンズまたはコンタクトレンズ作製用の型部分を保持するための固定手段と、
（２）１つ以上のノズルを含むプリンタヘッドであって、各ノズルが、コンピュータシステムの制御下で、相互に独立して着色液の液滴を噴射することが可能であるプリンタヘッドと、
（３）コンピュータシステムの制御下で、コンタクトレンズまたは型部分の表面上の複数の所定位置の各々に、プリンタヘッドを１度に１つずつ正確に位置決めするための位置決め手段であって、前記位置決め手段が、コンタクトレンズまたは型部分またはプリンタヘッドを並進軸に沿って直線的に移動させるために使用するとき、コンタクトレンズまたは型部分またはプリンタヘッドを、コンタクトレンズまたは型部分の表面の頂点中心をコンタクトレンズまたは型部分の表面に対して垂直方向に通過する回転軸を中心に回転させ、そしてコンタクトレンズもしくは型部分またはプリンタヘッドを回転軸に対して傾斜させることが可能であるモータアセンブリを含む位置決め手段と、
を含む印刷装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
位置決め手段が、着色液の滴下液を経時シーケンスで供給するために、各ノズルを制御するための噴射制御手段であって、各ノズルからの２つの滴下液の間の時間間隔が一定または可変である噴射制御手段を更に含む、請求項３記載の印刷装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
位置決めするステップが、
物品（またはプリンタヘッド）を一定速度でプリンタヘッドのすぐ下（または物品のすぐ上）で直線的に移動させることと、
複数の着色液の滴下液を、１度に１滴ずつ、そして次の２つの滴下液の間の時間間隔が一定または可変である経時シーケンスで供給するように、各ノズルを制御するための噴射制御信号を生成することと、
を含む、請求項１０記載の方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１７】
プリンタヘッドが、少なくとも１つのノズルカラムを含む、請求項１０〜１４のいずれか１項記載の方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
「着色液の滴下液を経時シーケンスで供給すること」は、着色液の滴下液の複数のセットを１度に滴下液１セットずつ、着色液の滴下液２セットの間に一定または可変の時間間隔を取って経時シーケンスで供給することを指す。このような位置決め方法は、以下の例によって更に説明することができる。物品の表面上の印刷区域がプリンタヘッドのすぐ下を通過できるように適正に並べられた物品は、プリンタヘッドの下で一定の速度にて移動する。位置センサが、コンピュータシステムに信号を送信して、ゼロ時間を設定し、そして物品が印刷区域に入ったことをセンサが検知するとすぐに、着色液の滴下液の供給が、経時シーケンスで開始する。コンピュータシステムは、物品上の印刷区域で印刷を開始する前に、一定の時間を経過させることがあり、次に、プリンタヘッドが第一の位置にて制御されたパターンで着色液の液滴の第一列を供給するよう制御する。時間遅延の後、着色液の液滴の第二列が、絶えず移動する物品の第二の別の位置に供給される。この工程は、全体の色付き画像パターンが、物品上に再現されるように、列間の一定または可変の時間遅延によって、着色液の液滴の最終列が、絶えず移動する物品の最後の位置に供給されるまで継続する。この好ましい位置決め方法では、物品上の複数の所定位置を、ゼロ時間、時間遅延、および物品の移動速度によって正確に決定する。このような位置決め方法は、比較的高い印刷効率を有し、比較的高品質の色付き画像を作製し、そして大量生産環境において容易におよび好ましく実現することができる。しかしながら、このような印刷方法は、１つ以上のノズルカラムであって、物品上の印刷区域の少なくとも幅、例えばコンタクトレンズまたは型部分の印刷区域を含む円形ゾーンの少なくとも幅をカバーするノズルカラムの各々を含むプリンタヘッドを必要とすることがある。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月16日(2005.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ホイールリムであって、該ホイールリムは軸を規定するとともに、インボードタイヤビードシート保持フランジと、インボードタイヤビードシートと、前記軸方向に延出するウェルと、アウトボードタイヤビードシートとを含み、前記アウトボードタイヤビードシートは最端面において終わることと、
前記ホイールリムに接合されるホイールディスクであって、該ホイールディスクは概して中央に位置するホイール取付面と、外方へ延出する複数のスポークと、外側環状部と、当該ホイールディスクにおいて各スポーク対の間に形成される複数の開口とを含み、各スポークは内端と、外端と、背壁と、一対の対向側壁とを含み、スポークの内端はホイール取付面に接続され、スポークの外端は外側環状部に接続され、外側環状部は連続環状輪を備えており、連続環状輪は車両ホイールのアウトボードタイヤビードシート保持フランジを形成することと
を含むことを特徴とするフルフェース組立式車両ホイール。
【請求項２】
前記スポーク、ホイール取付面、及び外側環状部は相互に一体に形成されていることを特徴とする請求項１に記載のフルフェース組立式車両ホイール。
【請求項３】
前記ホイール取付面には中央に位置するパイロット孔と、前記パイロット孔の周囲において円周方向に間隔を置いて配置される複数のラグボルト収容穴とが備えられることを特徴とする請求項１に記載のフルフェース組立式車両ホイール。
【請求項４】
各１個のラグボルト収容穴は各１個のスポークに対応することを特徴とする請求項３に記載のフルフェース組立式車両ホイール。
【請求項５】
ホイール取付面は更に、その中に設けられる複数の突起を含むことを特徴とする請求項１に記載のフルフェース組立式車両ホイール。
【請求項６】
突起の１個は各ラグボルト収容穴対の間に配置されることを特徴とする請求項５に記載のフルフェース組立式車両ホイール。
【請求項７】
スポークの両側壁は相互に概して非平行に延出しており、その間に非均一なスポーク幅を形成することを特徴とする請求項１に記載のフルフェース組立式車両ホイール。
【請求項８】
少なくとも１個のスポークは、その中に形成される少なくとも１個の開口を含むことを特徴とする請求項１に記載のフルフェース組立式車両ホイール。
【請求項９】
ホイールディスク及びホイールリムは溶接により互いに接合され、各スポーク対の間に形成される開口は、アウトボードタイヤビードシート保持フランジに近接するとともに溶接接合領域に対して径方向のすぐ内方に位置する外周縁を含むことにより、フルフェース組立式車両ホイールに奥深い窓開口を備えることを特徴とする請求項１に記載のフルフェース組立式車両ホイール。
【請求項１０】
ホイールリムであって、該ホイールリムは軸を規定するとともに、インボードタイヤビードシート保持フランジと、インボードタイヤビードシートと、前記軸方向に延出するウェルと、アウトボードタイヤビードシートとを含み、前記アウトボードタイヤビードシートは最端面において終わることと、
前記ホイールリムに接合されるホイールディスクであって、該ホイールディスクは概して中央に位置するホイール取付面と、外方へ延出する複数のスポークと、外側環状部と、当該ホイールディスクにおいて各スポーク対の間に形成される複数の開口とを含み、各スポークは内端と、外端と、背壁と、一対の対向側壁とを含み、前記スポークの内端は前記ホイール取付面に接続され、スポークの外端は外側環状部に接続され、外側環状部は連続環状輪を備えており、連続環状輪は車両ホイールのアウトボードタイヤビードシート保持フランジを形成し、前記スポーク、ホイール取付面及び外側環状部は相互に一体に形成され、前記ホイール取付面には中央に位置するパイロット孔と、パイロット孔の周囲において円周方向に間隔を置いて配置される複数のラグボルト収容穴とが設けられることと
を含むことを特徴とするフルフェース組立式車両ホイール。
【請求項１１】
各１個のラグボルト収容穴は各１個のスポークに対応することを特徴とする請求項１０に記載のフルフェース組立式車両ホイール。
【請求項１２】
ホイール取付面は更に、その中に設けられる複数の突起を含むことを特徴とする請求項１０に記載のフルフェース組立式車両ホイール。
【請求項１３】
突起の１個は各ラグボルト収容穴対の間に位置することを特徴とする請求項１２に記載のフルフェース組立式車両ホイール。
【請求項１４】
スポークの両側壁は相互に概して非平行に延出しており、その間に非均一なスポーク幅を形成することを特徴とする請求項１０に記載のフルフェース組立式車両ホイール。
【請求項１５】
スポークの少なくとも１個は、その中に形成される少なくとも１個の開口を含むことを特徴とする請求項１０に記載のフルフェース組立式車両ホイール。
【請求項１６】
ホイールディスク及びホイールリムは溶接により互いに接合され、各スポーク対の間に形成される開口は、アウトボードタイヤビードシート保持フランジに近接するとともに溶接接合領域に対して径方向のすぐ内方に位置する外周縁を含むことにより、フルフェース組立式車両ホイールに奥深い窓開口を備えることを特徴とする請求項１０に記載のフルフェース組立式車両ホイール。
【請求項１７】
ホイールリムであって、該ホイールリムは軸を規定するとともに、インボードタイヤビードシート保持フランジと、インボードタイヤビードシートと、前記軸方向に延出するウェルと、アウトボードタイヤビードシートとを含み、該アウトボードタイヤビードシートは最端面において終わることと、
前記ホイールリムに接合されるホイールディスクであって、該ホイールディスクは概して中央に位置するホイール取付面と、外方へ延出する複数のスポークと、外側環状部と、当該ホイールディスクにおいて各スポーク対の間に形成される複数の開口とを含み、各スポークは内端と、外端と、背壁と、一対の対向側壁とを含み、前記スポークの内端はホイール取付面に接続され、スポークの外端は外側環状部に接続され、外側環状部は連続環状輪を備えており、連続環状輪は車両ホイールのアウトボードタイヤビードシート保持フランジを形成し、スポーク、ホイール取付面及び外側環状部は相互に一体に形成され、ホイール取付面には中央に位置するパイロット孔と、パイロット孔の周囲において円周方向に間隔を置いて配置される複数のラグボルト収容穴と、その中に配置される複数の突起とが設けられることと
を含み、
ホイールディスク及びホイールリムは溶接により互いに接合され、各スポーク対の間に形成される開口は、アウトボードタイヤビードシート保持フランジに近接するとともに溶接接合領域に対して径方向のすぐ内方に位置する外周縁を含むことにより、フルフェース組立式車両ホイールに奥深い窓開口を備える
ことを特徴とするフルフェース組立式車両ホイール。
【請求項１８】
スポークの両側壁は相互に概して非平行に延出しており、その間に非均一なスポーク幅を形成することを特徴とする請求項１７に記載のフルフェース組立式車両ホイール。
【請求項１９】
少なくとも１個のスポークは、その中に形成される少なくとも１個の開口を含むことを特徴とする請求項１７に記載のフルフェース組立式車両ホイール。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月14日(2004.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２０】
患者の癌、炎症又は炎症に関連する疾患の治療用の医薬組成物であって、治療的に有効な量の請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、又は１８に記載の化合物を含んでなる、前記医薬組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２１】
癌の治療において使用するための、請求項２０に記載の医薬組成物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２２】
炎症の治療において使用するための、請求項２０に記載の医薬組成物。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２３】
炎症に関連する疾患の治療において使用するための、請求項２０に記載の医薬組成物。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２４】
前記炎症に関連する疾患が、関節炎である、請求項２３に記載の医薬組成物。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２５】
前記炎症に関連する疾患が、疼痛である、請求項２３に記載の医薬組成物。
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２６】
前記炎症に関連する疾患が、発熱である、請求項２３に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月20日(2005.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キト−オリゴマーの鎖長が約２〜５０の範囲にあり、脱アセチル化度が約０〜７０％の範囲にある、変形性関節炎およびリウマチ性関節炎を含む関節障害、炎症性障害およびその他のリウマチ性症状を含む群から選択される障害の治療用医薬製造のための、Ｎ−アセチルグルコサミン（ＮＡＧ）およびグルコサミンのキト−オリゴマーの使用。
【請求項２】
キト−オリゴマーの脱アセチル化度が約３０〜５０％の範囲にある請求項１の使用。
【請求項３】
キト−オリゴマーの少なくとも約１０重量％が２〜１２の鎖長をもつ請求項１の使用。
【請求項４】
キト−オリゴマーの約１５〜７５重量％が２〜１２の鎖長をもつ請求項１の使用。
【請求項５】
変形性関節炎およびリウマチ性関節炎を含む群から選択される関節障害の治療用医薬製造のための請求項１による使用。
【請求項６】
治療が対象者の関節障害の症状を緩和する請求項１の使用。
【請求項７】
医薬品が経口投与用である請求項１の使用。
【請求項８】
キト−オリゴマーの鎖長が約２〜５０の範囲にあり、脱アセチル化度が約０〜７０％の範囲にあるＮ−アセチルグルコサミン（ＮＡＧ）およびグルコサミンのキト−オリゴマーを含む、変形性関節炎およびリウマチ性関節炎を含む関節障害、炎症性障害およびその他のリウマチ性症状を含む群から選択される障害の治療用医薬組成物。
【請求項９】
キト−オリゴマーの脱アセチル化度が約３０〜５０％の範囲にある請求項１５の医薬組成物。
【請求項１０】
キト−オリゴマーの少なくとも約１０重量％が２〜１２の鎖長をもつ請求項１５の医薬組成物。
【請求項１１】
キト−オリゴマーの約１５〜７５重量％が２〜１２の鎖長をもつ請求項１７の医薬組成物。
【請求項１２】
約３５〜約５０％の範囲にある脱アセチル化度を有する水溶性部分脱アセチル化キチンを含む、抗炎症治療および関節障害治療用の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月26日(2005.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
虚血後の被験体の脳における再灌流損傷を予防または低減するための薬学的組成物であって、有効量のＰ−セレクチンアンタゴニストまたはＰ−セレクチンリガンド活性を有するそのフラグメントを含む、薬学的組成物。
【請求項２】
前記被験体が、発作に罹患している、請求項１に記載の薬学的組成物。
【請求項３】
前記再灌流損傷が、皮膚梗塞である、請求項１に記載の薬学的組成物。
【請求項４】
前記Ｐ−セレクチンアンタゴニストが、抗Ｐ−セレクチンリガンド抗体またはそのフラグメントである、請求項１に記載の薬学的組成物。
【請求項５】
前記Ｐ−セレクチンアンタゴニストが、可溶性ＰＳＧＬ−１タンパク質またはＰ−セレクチンリガンド活性を有するそのフラグメントである、請求項１に記載の薬学的組成物。
【請求項６】
前記可溶性ＰＳＧＬ−１タンパク質が、ヒトＰＳＧＬ−１である、請求項５に記載の薬学的組成物。
【請求項７】
前記可溶性ＰＳＧＬ−１タンパク質が、組換えタンパク質である、請求項５に記載の薬学的組成物。
【請求項８】
前記可溶性ＰＳＧＬ−１タンパク質が、免疫グロブリンのＦｃ部分を含む、請求項５に記載の薬学的組成物。
【請求項９】
前記免疫グロブリンが、ヒトＩｇＧ１である、請求項８に記載の薬学的組成物。
【請求項１０】
前記可溶性ＰＳＧＬ−１タンパク質が、組換えヒトＰＳＧ−Ｉｇ融合タンパク質である、請求項５に記載の薬学的組成物。
【請求項１１】
前記フラグメントが、配列番号２に示すアミノ酸配列のアミノ酸４２〜アミノ酸６０を含む、請求項１０に記載の薬学的組成物。
【請求項１２】
前記フラグメントが、配列番号２に示すアミノ酸配列のアミノ酸４２〜アミノ酸８８を含む、請求項１０に記載の薬学的組成物。
【請求項１３】
前記フラグメントが、配列番号２に示すアミノ酸配列のアミノ酸４２〜アミノ酸１１８を含む、請求項１０に記載の薬学的組成物。
【請求項１４】
前記フラグメントが、配列番号２に示すアミノ酸配列のアミノ酸４２〜アミノ酸１８９を含む、請求項１０に記載の薬学的組成物。
【請求項１５】
前記フラグメントが、配列番号２に示すアミノ酸配列のアミノ酸４２〜アミノ酸３１０を含む、請求項１０に記載の薬学的組成物。
【請求項１６】
前記可溶性ＰＳＧＬ−１タンパク質が、配列番号２のアミノ酸４２〜アミノ酸８８までのアミノ酸配列を含み、そのＣ末端が、免疫グロブリンのＦｃ部分と融合されている、請求項４に記載の薬学的組成物。
【請求項１７】
前記可溶性ＰＳＧＬ−１タンパク質がさらに、免疫グロブリンのＦｃ部分を含む、請求項１に記載の薬学的組成物。
【請求項１８】
前記被験体が、ヒトである、請求項１に記載の薬学的組成物。
【請求項１９】
前記Ｐ−セレクチンアンタゴニストが、再灌流の前に被験体に投与するために処方される、請求項１に記載の薬学的組成物。
【請求項２０】
前記Ｐ−セレクチンアンタゴニストが、有効量の接着分子の１つ以上のインヒビターと組み合わせて被験体に投与するために処方される、請求項１に記載の薬学的組成物。
【請求項２１】
前記Ｐ−セレクチンアンタゴニストが、再灌流の間に被験体に投与するために処方される、請求項１に記載の薬学的組成物。
【請求項２２】
前記Ｐ−セレクチンアンタゴニストが、有効量の接着分子の１つ以上のインヒビターと組み合わせて被験体に投与するために処方される、請求項１に記載の薬学的組成物。
【請求項２３】
被験体において、虚血後の被験体の脳における梗塞を予防または低減するための薬学的組成物であって、有効量のＰ−セレクチンアンタゴニストまたはＰ−セレクチンリガンド活性を有するそのフラグメントを含む、薬学的組成物。
【請求項２４】
被験体において発作後の脳に対する損傷を予防または低減するための薬学的組成物であって、有効量のＰ−セレクチンアンタゴニストまたはＰ−セレクチンリガンド活性を有するそのフラグメントを含む、薬学的組成物。
【請求項２５】
再灌流後の被験体の脳における血管に対する細胞接着を阻害するための薬学的組成物であって、有効量のＰ−セレクチンアンタゴニストまたはＰ−セレクチンリガンド活性を有するそのフラグメントを含む、薬学的組成物。
【請求項２６】
前記細胞が白血球である、請求項２５に記載の薬学的組成物。
【請求項２７】
被験体の脳において再灌流後の該被験体における細胞間接着を阻害するための薬学的組成物であって、有効量のＰ−セレクチンアンタゴニストまたはＰ−セレクチンリガンド活性を有するそのフラグメントを含む、薬学的組成物。
【請求項２８】
前記細胞が、白血球および血小板である、請求項２７に記載の薬学的組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月1日(2005.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ボツリヌス毒素を含む、臭汗症の予防および／または治療ならびに一般的な体臭の改善のための薬物。
【請求項２】
前記ボツリヌス毒素が、Ａ型、Ｂ型、Ｃ型、Ｄ型、Ｅ型、Ｆ型、およびＧ型ボツリヌス毒素またはその誘導体もしくはその断片から選択される、請求項１に記載の薬物。
【請求項３】
ボツリヌス毒素を含む、一般的な体臭の改善のための化粧手段。
【請求項４】
前記ボツリヌス毒素が、Ａ型、Ｂ型、Ｃ型、Ｄ型、Ｅ型、Ｆ型、およびＧ型ボツリヌス毒素またはその誘導体もしくはその断片から選択される、請求項３に記載の化粧手段。
【請求項５】
臭汗症の予防および／または治療ならびに一般的な体臭の改善のための薬物の製造のためのボツリヌス毒素の使用。
【請求項６】
一般的な体臭の改善のための化粧手段の製造のためのボツリヌス毒素の使用。
【請求項７】
前記ボツリヌス毒素が、Ａ型、Ｂ型、Ｃ型、Ｄ型、Ｅ型、Ｆ型、およびＧ型ボツリヌス毒素またはその誘導体もしくはその断片から選択される、請求項１または請求項２に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月19日(2005.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁基板（１）に電極アレイを形成するために前記絶縁基板（１）に積層される薄膜導電層（２）をエッチングする方法であって、
―エッチングを行う前に、前記電極アレイの電極パターンに対応するパターンを有する保護膜（３）を前記導電層（２）に積層し、
―エッチングにおいて、前記導電層（２）の表面のうち前記保護膜に保護されない非保護領域（４）を電気化学エッチング溶液と接触させ、対極（１０）が浸されている前記溶液において、前記対極（１０）と前記非保護領域（４）との間に電流を流すことにより前記非保護領域（４）を前記導電層（２）の膜厚分だけエッチングする工程を含む方法において、エッチング中に、
―前記基板（１）は形成される電極の全般方向に対応する方向に走行するよう構成され、
―前記溶液において前記電流が流通するように、前記電流は、前記導電層（２）の表面上に位置し前記走行方向を横切る接触線（１３）に沿って前記非保護領域（４）に供給され、
―前記溶液は、前記エッチングされる導電層（２）の表面及び前記対極（１０）の活性面（６１）によって形成される剪断帯（７）において循環するように構成されることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記接触線（１３）と、前記剪断帯（７）における前記接触線（１３）に最も近接する部分（８）との間の距離が、前記エッチングされる領域の幅全体にわたって一定であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記接触線（１３）は真直ぐで、前記走行方向に対して垂直であり、
前記剪断帯（７）における前記溶液の循環方向は、前記走行方向と同じ向きあるいは反対向きに設定され、
前記剪断帯（７）は、前記エッチングされる領域の幅全体にわたって略一定の厚さを有することを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記剪断帯（７）は、前記走行方向において、前記対極（１０）の活性面（６１）の幅と略一致する距離にわたって略一定の厚さを有することを特徴とする請求項３記載の方法。
【請求項５】
前記薄膜導電層（２）は、酸化スズ、酸化クロム、酸化インジウム、あるいはこれら２つ以上の混合物をベースとすることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記電気化学エッチング溶液は、塩化水素酸、硫酸、硝酸、クロム酸、酢酸、蟻酸のうちの少なくとも１つから構成されることを特徴とする請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記絶縁基板（１）はガラスからなることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
絶縁基板（１）上に配置される薄膜導電層（２）上の領域をエッチングする装置であって、請求項１乃至１４のいずれかに記載の方法を実行するのに用いられ、
―エッチングされる面が前記エッチング溶液と接触するよう前記基板（１）を走行路面に沿って走行させる手段（５ａ，５ｂ，５ｂ`，５ｃ）、
―前記溶液と接触する前の前記導電層（２）に電流を供給する手段、
―前記溶液に浸されていて、前記電流を返すために設けられる対極（１０）、
―前記溶液において前記電流供給手段と前記電流返還対極（１０）との間に電流を流通させる手段を有する装置において、
―前記電流供給手段は、前記走行路に沿って前記基板（１）上の前記導電層（２）の表面と接触するよう適応されたレール（１１）から構成され、前記レール（１１）は、前記導電層と前記レールとの接触線（１３）が走行路を横切るように配置され、
―さらに前記対極（１０）の活性面（６１）と走行路との間の区域内に前記溶液を循環させるための手段を有し、前記溶液循環区域が前記走行路の上流開口部（８）と下流開口部（９）とを含む剪断帯（７）を形成することを特徴とする装置。
【請求項９】
前記レールは（１１）、前記接触線（１３）と、前記剪断帯（７）における前記接触線に最も近接する部分（８）との間の距離が、前記エッチングされる領域の幅全体にわたって一定であるように構成されることを特徴とする請求項８記載の装置。
【請求項１０】
前記レール（１１）は真直ぐで、前記走行方向に対して垂直であり、
―前記対極（１０）の活性面（６１）と走行路との間の距離は、エッチングされる領域の幅全体にわたって略一定であり、
―前記溶液を循環させる手段は、前記溶液を前記剪断帯（７）において前記基板が走行する方向と同じ向き又は反対向きの方向に循環させるように構成されることを特徴とする請求項９記載の装置。
【請求項１１】
前記対極（１０）の活性面（６１）は、前記走行路と平行な主要面を有することを特徴とする請求項１０記載の装置。
【請求項１２】
前記溶液循環手段は、前記剪断帯（７）の開口部（８，９）の幅全体にわたって一定の溶液流速を得るための溶液流分布手段から構成されることを特徴とする請求項１０乃至１１のいずれかに記載の装置。
【請求項１３】
前記剪断帯の開口部（８，９）のいずれかに存在する前記溶液を回収する手段及び前記回収されたよう液を再度循環させる手段を有することを特徴とする請求項８乃至１２のいずれかに記載の装置。
【請求項１４】
少なくとも１つの電極アレイを有するディスプレイの前面パネル又はフェースプレートの製造における請求項１乃至７のいずれかに記載の方法あるいは請求項８乃至１３のいずれかに記載の装置の適用。
【請求項１５】
前記パネル又はフェースプレートの製造は、前記電極アレイへの誘電エナメル層の積層工程、及び前記エナメル層のベーキング工程を含むことを特徴とする請求項１４に記載の適用。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月29日(2005.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
低電力ＲＦ受信器（１）の相関段階（６）において処理される中間信号（ＩＦ）を生成する無線周波数信号周波数変換デバイス（３）であって、
前記受信器のアンテナ（２）によってピック・アップされた無線周波数信号をろ過し、第１周波数変換中に影像周波数を除去するための受動選択フィルタである第１パスバンド・フィルタ（１２）と、
第１信号の周波数が第２信号の周波数より高い、第１高周波数信号と第２高周波数信号を生成するための発振信号生成手段（２０−２９）と、
周波数が、前記無線周波数信号の搬送波周波数から前記第１信号の周波数を減算した結果に等しい信号を生成するために、前記ろ過された無線周波数信号を前記第１高周波数信号と混合する第１ミキサ・ユニット（１４）と、
前記第１ミキサ・ユニットから発信された前記信号をろ過する第２パスバンド・フィルタ（１５）と、
周波数が、前記第１ミキサ・ユニットから発信された前記信号の周波数から前記第２信号の周波数を減算した結果に等しい信号を生成するために、前記第２フィルタによってろ過された前記信号を前記第２高周波数信号と混合するための第２ミキサ・ユニット（１６）と、
中間信号を生成するための、前記第２ミキサ・ユニットによって提供された前記信号の成形手段（１７、１８、１９）とを含み、
前記第２フィルタが非常に選択的ではないフィルタであることを特徴とするデバイス。
【請求項２】
前記第２フィルタが、前記第１、第２ミキサ・ユニットと、前記信号成形手段と、前記発振信号生成手段のある部分と共に、ＲＦ／ＩＦ集積回路（１０）に統合されることを特徴とする請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記第２フィルタが、前記第１ミキサ・ユニットによって生成された前記信号がろ過および増幅される能動フィルタであることを特徴とする請求項１に記載のデバイス。
【請求項４】
前記第１ミキサ・ユニットによって生成された前記信号の周波数が、前記無線周波数信号の搬送波周波数より５０分の１から１００分の１、好ましくは６４分の１小さい限界内にあることを特徴とし、
また前記第１高周波数信号の周波数が、前記第２高周波数信号の周波数よりｎ倍大きく、ｎが具体的には５０から１００の範囲から選択された整数であり、好ましくは６４であることを特徴とする低電力ＧＰＳ受信器用の請求項１に記載のデバイス。
【請求項５】
前記発振信号生成手段が、基準発振器ユニットと、前記基準発振器ユニット（２６−２９）に接続された周波数シンセサイザ（２０から２５）とを含み、前記シンセサイザが、前記基準発振器ユニットによって提供された基準信号に基づいて前記第１高周波数信号と前記第２高周波数信号を提供することを特徴とし、
位相ロック・ループを含むすべての前記周波数シンセサイザ要素が、電圧制御発振器用の制御信号ろ過ローパス・フィルタを除いて、前記ＲＦ／ＩＦ集積回路に統合され、前記発振器が前記第１高周波数信号を生成することを特徴とし、
また、前記発振器ユニットが、周波数が水晶（２９）によって決定される基準信号を提供し、その周波数が１０と２０ＭＨｚとの間にあり、すべての前記発振器ユニット要素が、前記水晶（２９）を除いて、前記ＲＦ／ＩＦ集積回路に統合されることを特徴とする請求項１に記載のデバイス。
【請求項６】
前記発振信号生成デバイスが、基準発振器ユニットと、前記基準発振器ユニット（２６−２９）に接続された周波数シンセサイザ（２０から２５）とを含み、前記シンセサイザが、前記基準発振器ユニットによって提供される基準信号に基づいて前記第１高周波数信号を提供し、前記基準発振器ユニットが、前記第２高周波数信号を提供することを特徴とし、
位相ロック・ループを含むすべての前記周波数シンセサイザ要素が、電圧制御発振器用の制御信号ろ過ローパス・フィルタを除いて、前記ＲＦ／ＩＦ集積回路に統合され、前記発振器が前記第１高周波数信号を生成することを特徴とし、
また、前記発振器ユニットが、周波数が水晶（２９）によって決定される基準信号を提供し、その周波数が１０と２０ＭＨｚとの間にあり、すべての前記発振器ユニット要素が、前記水晶（２９）を除いて、前記ＲＦ／ＩＦ集積回路に統合されることを特徴とする請求項１に記載のデバイス。
【請求項７】
前記第２高周波数信号が、第２同相信号と第２直角位相信号で形成され、前記第２ミキサ・ユニットが、前記第１ミキサから発信された前記信号を前記第２同相信号と混合するための第１ミキサ（１６ａ）と、前記第１ミキサ・ユニットから発信された前記信号を前記第２直角位相信号と混合するための第２ミキサ（１６ｂ）とを含み、前記成形手段が、同相信号と直角位相信号で形成された中間複素信号を提供するために、前記第１ミキサと前記第２ミキサ（１６ａ、１６ｂ）から信号を受信することを特徴とする請求項１に記載のデバイス。
【請求項８】
前記成形手段が、前記第２ミキサ・ユニットの各ミキサの後に、ローパス・フィルタ（１７ａ、１７ｂ）と、それに続いて制御利得増幅器（１８ａ、１８ｂ）と、発振器ユニットによって提供されたクロック信号（ＣＬＫ）によってクロックされるアナログ／デジタル変換器（１９ａ、１９ｂ）とを含み、前記変換器の一方が、サンプリングおよび定量化された中間信号の同相信号を提供し、他方の変換器が、サンプリングおよび定量化された中間信号の直角位相信号を提供することを特徴とする請求項９に記載のデバイス。
【請求項９】
前記第１ミキサ・ユニットと、前記第２パスバンド・フィルタと、前記第２ミキサ・ユニットと、前記成形手段と、前記発振信号生成手段の大部分とを含むことを特徴とする請求項１に記載のデバイス用のＲＦ／ＩＦ集積回路。
【請求項１０】
シリコンなどの半導体材料および０．２５μｍ以下のＣＭＯＳ技法で作成されることを特徴とする請求項１２に記載のＲＦ／ＩＦ集積回路。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月1日(2005.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
それぞれが、ソースおよびターゲット言語の少なくとも１において、同じ言語の第１の言語項目と第２の言語項目を備える翻訳単位を生成するために、対応するソース例テキストとターゲット例テキストを利用するための手段と、
それぞれの前記第１の言語項目と結合できる候補第２言語項目に関する制限を以後に生成するための手段と、
を備える、翻訳に使用されるデータを作成するためのコンピュータ言語翻訳開発システム。
【請求項２】
前記生成手段は、制限の初期集合を選択し、前記制限の初期集合を一般化し、一般化された制限の集合を提供するように構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
制限の初期集合の前記選択は、その複数の候補翻訳を生成するために前記翻訳単位を使用して、前記ソース例テキストとターゲット例テキストを翻訳し直し、前記ソース例テキストとターゲット例テキストを翻訳するために使用される場合に前記ソース例テキストとターゲット例テキストの生成を可能にするが、前記ソース例テキストと前記ターゲット例テキストに一致しない候補翻訳の数を制限する制限のリストを作成することによって実行される、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記制限の初期集合は、制限のすべての可能な集合の内、相対的に少ない数の制限を表現するために選択される、請求項２または請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記制限の初期集合は、制限の可能な最小の集合を表現するために選択される、請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
前記生成手段は、類似する制限を示す第１の言語項目の部分集合の位置を突き止めることによって、およびその制限を修正し、それらの制限の類似性を高めることによって前記制限の初期集合を一般化するように構成される、請求項２乃至請求項５のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項７】
前記生成手段は、その部分集合のすべての構成要素のすべての制限の結合に対応する制限の集合を第１の項目の各部分集合に割り当てるように構成される、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記一般化が帰納によって実行される、請求項２乃至請求項７のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項９】
前記一般化は、初期動作の数に比較して識別可能な動作の数を削減するために実行される、請求項２乃至請求項８のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１０】
前記制限は、ソーステキストの分析およびターゲットテキストの生成の少なくとも１の間にその第１の言語項目が結合されてはならない第２の言語項目のリストを、第１の言語項目ごとに備える、請求項１乃至請求項９のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１１】
初期制約の集合の選択と、
最小複雑度原則に従った前記初期制約の一般化と、
を備える、翻訳単位または分析単位の許可された組み合わせに関する制約を推論する方法。
【請求項１２】
それぞれがソース言語およびターゲット言語の少なくとも１の中で、第１の言語項目と、その第１の言語項目がどの第２の言語項目とともに発生できるのかを制限するプロパティデータとを備える、元の翻訳単位を生成するための手段と、
前記元の翻訳単位の第１の言語項目とプロパティデータの新しい組み合わせを備える追加の合成翻訳単位を生成するための手段と、
を備える、翻訳に使用されるデータを作成するためのコンピュータ言語翻訳開発システム。
【請求項１３】
前記合成翻訳単位は、
類似するプロパティデータを有する翻訳単位の位置を突き止めることによって生成される、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記合成翻訳単位は、
第１に対して異なる第１の言語項目を備える第１と同じプロパティデータとを備える少なくとも第１の翻訳単位および第２の翻訳単位の位置を突き止め、
第１の翻訳単位と同じ第１の言語項目と異なるプロパティデータとを備える第３の翻訳単位の位置を突き止め、
第２の翻訳単位と同じ第１の言語項目と、第３の翻訳単位と同じプロパティデータをと備える合成第４の翻訳単位を生成する
ことによって生成される、請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記プロパティデータは、
第１の言語項目と同じ言語であって、その翻訳単位の中で第1の言語項目とともに発生しなければならない少なくとも１つの第２の言語項目と、
を備える、請求項１２乃至請求項１４のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１６】
前記第１の言語項目は翻訳単位の主要語を備え、前記プロパティデータはその主要語のドーターのリストを備える、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
それぞれが少なくとも１つの言語項目を備える、翻訳単位の相似する対の識別と、
識別可能な言語項目動作の数を削減する新しい翻訳単位の作成と、
を備える、翻訳単位の例の集合から翻訳単位の一般化を推論するための方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月31日(2005.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の成分、
Ａ      ポリマー
Ｂ      不飽和基を有する反応性化合物
Ｃ      フリーラジカル光開始剤
を含む照射硬化可能な粉体フォトレジスト組成物において、該粉体フォトレジスト組成物が現像剤に可溶であり、かつ該粉体フォトレジスト組成物が４０〜１２０℃のＴｇ、及び９０〜１３５ｍｇＫＯＨ／ｇの酸価を有するところの組成物。
【請求項２】
ポリマーが少なくとも７０℃のＴｇを有するところの、請求項１に記載の照射硬化可能な粉体フォトレジスト組成物。
【請求項３】
粉体フォトレジスト組成物が、２．５〜３．３の成分Ａと成分Ｂとの比を有するところの，請求項１に記載の照射硬化可能な粉体フォトレジスト組成物。
【請求項４】
現像剤が、水―アルカリ溶液又は超臨界二酸化炭素からなる群から選択されるところの、請求項１〜３のいずれか１項に記載の照射硬化可能な粉体フォトレジスト組成物。
【請求項５】
以下の成分、
Ａ      少なくとも７０℃のＴｇを有し、ポリマーが水アルカリ現像剤溶液に溶解      
することを可能にする官能基を有するポリマー
Ｂ      不飽和基を有する反応性化合物
Ｃ      フリーラジカル光開始剤
を含む照射硬化可能な粉体フォトレジスト組成物において、該照射硬化可能な粉体フォトレジスト組成物が以下の性質、
Ｉ      ９０〜１３５ｍｇＫＯＨ／ｇの酸価、
ＩＩ    ４０〜１２０℃のＴｇ、
ＩＩＩ  ２．５〜３．３の成分Ａと成分Ｂとの比、
の少なくとも１つを有するところの粉体フォトレジスト組成物。
【請求項６】
組成物が３つの性質Ｉ，ＩＩ，及びＩＩＩすべてを示すところの、請求項５に記載の樹脂組成物。
【請求項７】
成分Ａがポリマーの混合物を含むところの、請求項５又は６のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項８】
成分Ａ中のポリマーが１０００〜６００００の数平均分子量を有するところの、請求項７に記載の樹脂組成物。
【請求項９】
成分Ａ中のポリマーが８０〜２４０ｍｇＫＯＨ／ｇの酸価を有するところの、請求項７に記載の樹脂組成物。
【請求項１０】
成分Ａの量が５５〜８５重量％であるところの請求項５〜６のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項１１】
成分Ｂが５０℃より低い融点を有するところの、請求項５〜６のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項１２】
成分Ｂが、水アルカリ溶液によるプリント回路基板の現像の温度より低い融点を有するところの、請求項５〜６のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項１３】
成分Ｂが少なくとも２の不飽和基を有する１以上の化合物を含むところの、請求項５〜６のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項１４】
成分Ｂが少なくとも３の不飽和基を有する１以上の成分を含むところの、請求項５〜６のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項１５】
１以上の不飽和基がアクリレート基を含むところの、請求項５〜６のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項１６】
成分Ｂが２０℃において液体である化合物と、２０℃において固体である化合物とを含む、請求項５〜６のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項１７】
固体が３５℃より高い融点を有するところの、請求項１６に記載の樹脂組成物。
【請求項１８】
液体成分が１２〜２２重量％を構成し、固体成分が３〜８重量％を構成するところの、請求項１７に記載の樹脂組成物。
【請求項１９】
成分Bが合計組成物に対して１５〜４５重量％の量において存在するところの、請求項５〜６のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項２０】
以下の成分、
Ａ      少なくとも７０℃のＴｇを有し、超臨界CO2中に溶解するポリマー
Ｂ      不飽和基を有する反応性化合物
Ｃ      フリーラジカル光開始剤
を含む照射硬化可能な粉体フォトレジスト組成物において、該粉体フォトレジスト組成物が以下の性質、
Ｉ      ０〜５０ｍｇＫＯＨ／ｇの酸価
ＩＩ    ４０〜１２０℃のＴｇ
ＩＩＩ  ２．５〜３．３の成分Ａと成分Ｂとの比
の少なくとも１を有するところの粉体フォトレジスト組成物。
【請求項２１】
組成物が０．０１〜５重量％のエアロジルをさらに含むところの、請求項１〜２０のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項２２】
成分を予備混合する工程、該成分を１２０〜１７０℃の温度において押出しする工程を含み、及び随意的に粉砕する工程及び押出し物を篩分ける工程を含んでもよい、請求項１〜２２のいずれか１項において記述される樹脂組成物を製造する方法。
【請求項２３】
押出し物をエアロジルでコーティングする追加的工程が用いられるところの、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
エアロジルの量が押出し物の合計重量に対して０．０１〜５重量％であるところの、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
基材に粉体の薄い層を施与する方法において、磁性又は非磁性粒子の存在下、最初に粉体粒子が摩擦又は誘導によって帯電され、次に輸送され、次いで基材に施与され、又は基材又は転写媒体と輸送手段との間の電場によって転写媒体に施与され、次に基材に転写され施与され、その後粉体組成物が溶融されて樹脂の連続層となるところの方法により粉体組成物が基材に施与されるところの方法。
【請求項２６】
磁性又は非磁性粒子の存在下、最初に粉体粒子が摩擦又は誘導によって帯電され、次に輸送され、次いで基材又は転写媒体と輸送手段との間の電場によって転写媒体に施与され、次に基材に転写され施与され、その後粉体組成物が溶融されて樹脂の連続層となるところの方法により粉体組成物が基材に施与されるところの、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
粉体フォトレジスト組成物を基材の片面又は両面に施与する工程、選択的にフォトレジストを照射に露光する工程、フォトレジストを現像する工程そして基材をエッチングする工程を含むプリント回路基板を製造する方法において、請求項１〜２１のいずれか１項において記述される該粉体フォトレジスト組成物が使用されるところの方法。
【請求項２８】
請求項２５又は２６のいずれか１項に記載の方法により粉体フォトレジスト組成物が基材に施与されるところの、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
請求項１〜２１のいずれか１項において記述される粉体組成物が使用されるところの方法において製造されたプリント回路基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
基板上への施与の方法
粉体粒子の基材への施与の好ましい方法は、電磁ブラシ（ＥＭＢ）により行われる。この方法は、粉体粒子が磁性又は非磁性粒子の存在下、最初に摩擦あるいは誘導により帯電され、次に輸送され、次いで基材に施与されることを特徴とするか、あるいは粉体粒子が基材又は転写媒体と輸送手段との間の電場により転写媒体に施与され、次に基材に転写されることを特徴とし、その後、粉体フォトレジスト組成物は溶かされ、粉体フォトレジストは基材に接着する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月7日(2005.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気絶縁性であるがイオン伝導性であるセパレータによって隔離された陽極と陰極を含む電気化学電池において、
前記セパレータが、下記の式Iのエチレン系不飽和カルボン酸またはその塩と下記の式IIの芳香族化合物とのコポリマー含むことを特徴とする前記電気化学電池：
【化１】
2005507543.tif 000001
【化２】
2005507543.tif 000002
（式中、R1、R2、R3、R4、R5およびR6は、水素原子、1〜10個の炭素原子を有するアルキル基、およびアリール基からなる群から選ばれ；R7は、スルホネート基、カルボキシレート基および会合した平衡カチオンからなる群から選ばれ；Aは、直接結合および8個までの炭素原子を有するアルキル基からなる群から選ばれる）。
【請求項２】
R1、R2、R3、R4、R5およびR6のすべてが水素原子を示す、請求項１記載の電気化学電池。
【請求項３】
前記式(I)の化合物が下記の式(Ia)を有する、請求項１記載の電気化学電池：
【化３】
2005507543.tif 000003
（式中、R1、R2およびR3は、請求項１において定義したとおりである）。
【請求項４】
R1、R2およびR3のすべてが水素原子を示す、請求項３記載の電気化学電池。
【請求項５】
前記式(Ia)の化合物がアクリル酸またはメタクリル酸である、請求項３記載の電気化学電池。
【請求項６】
前記式(Ia)の化合物がアクリル酸である、請求項３記載の電気化学電池。
【請求項７】
前記式(II)の化合物がスチレンスルホネートである、請求項１記載の電気化学電池。
【請求項８】
前記式(II)の化合物がスチレンスルホン酸ナトリウムである、請求項７記載の電気化学電池。
【請求項９】
前記式(I)の化合物(1種以上)対前記式(II)の化合物(1種以上)のモル比が20：80〜60：40である、請求項１記載の電気化学電池。
【請求項１０】
前記セパレータが前記陽極または前記陰極上の前記ポリマーのコーティングである、請求項１記載の電気化学電池。
【請求項１１】
前記セパレータが前記ポリマーのコーティングを有する多孔質基体である、請求項１記載の電気化学電池。
【請求項１２】
前記基体の両面が前記ポリマーによってコーティングされている、請求項１１記載の電気化学電池。
【請求項１３】
前記基体の１面のみが前記ポリマーによってコーティングされている、請求項１２記載の電気化学電池。
【請求項１４】
前記基体上の前記ポリマーのコーティングが前記基体の厚さを通して部分的にのみ延びている、請求項１１記載の電気化学電池。
【請求項１５】
前記ポリマーの量が10〜60 gsmである、請求項１〜１４のいずれか１項記載の電気化学電池。
【請求項１６】
前記ポリマーの量が20〜50 gsmである、請求項１５記載の電気化学電池。
【請求項１７】
前記ポリマーの量が30〜40 gsmである、請求項１５記載の電気化学電池。
【請求項１８】
陽極または陰極をバッテリーハウジング中に挿入し；セパレータを、式(I)の酸またはその塩と前記式(II)の芳香族化合物との前記コポリマーの溶液または分散液を前記陽極または前記陰極上に塗布し、前記コポリマーを前記溶液または分散液から析出させることによって、前記陽極または陰極上に形成させ；そして、電気化学電池を完成させることを特徴とする、請求項１〜１７のいずれか１項記載の電気化学電池の組立て方法。
【請求項１９】
前記コポリマーを、前記溶液または分散液から、前記溶液または分散液をアルカリ性水溶液と接触させることによって析出させる、請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
前記アルカリ性水溶液を前記電気化学電池用の電解質として使用する、請求項１９記載の方法。
【請求項２１】
前記アルカリ性水溶液がKOHの溶液である、請求項１９記載の方法。
【請求項２２】
バッテリーハウジング中に、陽極、陰極、および前記式(I)の酸またはその塩と前記式(II)の芳香族化合物とのコポリマーのコーティングを支持している多孔質基体を含むセパレータを挿入し、前記コーティングされた多孔質基体を前記陽極と陰極の間に位置させ、そして、前記電池を完成させる、請求項１１〜１７のいずれか１項記載の電気化学電池の組立て方法。
【請求項２３】
バッテリーハウジング中に、陽極、陰極、および前記陽極と前記陰極の間に位置させた式(I)の酸またはその塩と前記式(II)の芳香族化合物とのコポリマーのフィルムを含むセパレータを挿入し、そして、前記電池を完成させる、請求項１〜９のいずれか１項記載の電気化学電池の組立て方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月12日(2005.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス分析装置用の液体分離器であって、
試料注入ポートと、
試料排出ポートと、
低圧ポートと、
液体収集室と、
前記試料注入ポート内に導かれた気体試料を収容するために前記試料注入ポートと前記試料排出ポートとの間に配置され、前記試料排出ポートに連通する上方排出口と前記液体収集室に連通する下方排出口とを含む注入部と、
前記気体試料から液体を分離するために前記試料注入ポートと前記試料排出ポートとの間に配置され前記注入部に設けられ、前記上方排出口を有する前記注入部の内面から間隔を隔てて前記注入部内に支持され、前記下方排出口を通って前記液体収集室へと流入する前記気体試料から液体を分離する第１気体透過性液体非透過性フィルタエレメントと、
前記液体収集室と前記低圧ポートとの間に配置され前記液体収集室に連通する注入口と前記低圧ポートに連通する排出口とを含む排出部を有する液体トラップフィルタ室と、
前記排出部の前記注入口と前記排出口との間に配置され前記排出部に設けられ、前記排出部の前記排出口を有する前記排出部の内面から間隔を隔てて前記排出部内に支持される第２気体透過性液体非透過性フィルタエレメントと、
を備えるガス分析装置用の液体分離器。
【請求項２】
前記注入部は、前記第１フィルタエレメントと前記試料排出ポートとの間に配置され前記上方排出口を有する内壁を有しており、前記第１フィルタエレメントは、前記注入部の前記内壁に重なるように配置されている、
請求項１に記載の液体分離器。
【請求項３】
前記排出部は、前記第２フィルタエレメントと前記低圧ポートとの間に配置され前記排出部の前記排出口を有する内壁を有しており、前記第２フィルタエレメントは、前記排出部の前記内壁に重なるように配置されている、
請求項１に記載の液体分離器。
【請求項４】
前記第１フィルタエレメントは、前記注入部内において垂直方向に薄くて平らな部材であり、前記第２フィルタエレメントは、前記排出部内において垂直方向に薄くて平らな部材である、
請求項２又は３に記載の液体分離器。
【請求項５】
前記注入部の前記内壁に設けられた支持ウェブをさらに備えており、前記支持ウェブは、前記注入部の前記内壁から間隔を隔てて前記注入部内で前記第１フィルタエレメントを支持し、気体を前記上方排出口へと流すことができるようにする有効領域を提供し、
前記排出部の前記内壁に設けられた支持ウェブをさらに備えており、前記支持ウェブは、前記排出部の前記内壁から間隔を隔てて前記排出部内で前記第２フィルタエレメントを支持し、気体を前記低圧ポートへと流すことができるようにする有効領域を提供する、
請求項２に記載の液体分離器。
【請求項６】
前記第１フィルタエレメントを前記注入部に封入するカバーをさらに備えている、
請求項２に記載の液体分離器。
【請求項７】
前記カバーは、前記カバーと前記注入部の前記内壁との間に前記第１フィルタエレメントを取り付けるために、前記第１フィルタエレメントに係合する少なくとも１つの凹状フィルタ係合面を有している、
請求項６に記載の液体分離器。
【請求項８】
前記第１フィルタエレメントは、ポリテトラフルオロエチレン薄層膜からなり、前記第２フィルタエレメントは、ポリテトラフルオロエチレン薄層膜からなる、
請求項１に記載の液体分離器。
【請求項９】
前記試料排出ポートおよび前記低圧ポートの少なくともいずれか一方に、自己密封式フィルタをさらに備える、
請求項１に記載の液体分離器。
【請求項１０】
前記液体収集室内に配置されるバッフルをさらに備え、前記バッフルは、前記注入部の前記下方排出口と前記排出口の前記注入口との間に配置され、前記液体収集室の下面に沿う方向の、前記注入部の前記下方排出口と前記排出部の前記注入口との間の仕切りとなる、
請求項１に記載の液体分離器。
【請求項１１】
ガス分析装置用の液体分離器であって、
試料注入ポート、試料排出ポート、および低圧ポートを有する閉塞容器と、
第１液体トラップフィルタエレメントと、
第２液体トラップフィルタエレメントと、
を備え、
前記閉塞容器は、液体収集室と液体トラップフィルタ室とを有し、前記液体トラップフィルタ室は、前記試料注入ポートに導かれた気体試料を受け取るために前記試料注入ポートと前記試料排出ポートとの間に配置される注入部と、前記液体収集室と前記低圧ポートとの間に配置される排出部とを有し、前記注入部は、前記試料排出ポートに連通する上方排出口と前記液体収集室に連通する下方排出口とを有し、前記排出部は、前記液体収集室に連通する注入口と前記低圧ポートに連通する排出口とを有し、
前記第１液体トラップフィルタエレメントは、前記注入部に含まれ前記注入部内に支持され、前記気体試料から液体を分離するために前記試料注入ポートと前記試料排出ポートとの間に配置され、前記下方排出口を通って前記液体収集室へと流入する前記気体試料から液体を分離し、
第２液体トラップフィルタエレメントは、前記排出部に含まれ前記排出部内に支持され、前記排出部の前記注入口と前記排出口との間に配置される、
ガス分析装置用の液体分離器。