Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月21日(2005.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  水溶性ポリマーから構成されるマトリックス中に分散されたわずかに水溶性の粒状医薬物質からなる経口送達に適した固形粒状医薬剤形。
【請求項２】  ポリマーがヒドロキシプロピルセルロースである請求項１記載の剤形。
【請求項３】  ポリマーがヒドロキシプロピルメチルセルロースである請求項１記載の剤形。
【請求項４】  ポリマーがポリビニルピロリドンである請求項１記載の剤形。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月6日(2005.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 ａ）下記式で表される化合物の少なくとも１つを含有するヘアーコンディショニング剤、
【化１】
2001515021.tif 000001
ここで、X-はアニオンである；R1、R2、およびR3、は同一または異なっていることができ、互いに独立に、２〜６個の炭素原子の直鎖または分岐鎖アルキレン基である；R4は１〜６個の炭素原子の飽和または不飽和の、直鎖または分岐鎖脂肪族基であって、任意的に、ヒドロキシ、エポキシ、またはハロゲンで置換されていてもよい；E1、E2、およびE3は、各場合において同一または異なることができ、且つ、−H、−OH、および下記式（II）で表される脂肪族エステル基よりなる群から選ばれ、
【化２】
2001515021.tif 000002
ここで、R5は、11〜23個の炭素原子の飽和または不飽和の、直鎖または分岐鎖脂肪族基であって、任意的に、ヒドロキシ、エポキシ、またはハロゲンで置換されていてもよく、該ヘアーコンディショニング剤は50重量％以上の、E1、E2、およびE3の各々が式（II）の基であるところの式(I)の化合物を含み、該カチオン界面活性剤は組成物中に４重量％以下の量で存在する；および
ｂ）アニオン界面活性剤、
を含むヘアーコンディショニング組成物。
【請求項２】 アニオンが、クロライド、ブロマイド、アイオダイド、ナイトライト、ナイトレート、メチルスルフェート、エチルスルフェート、メチルフォスフェート及びアセテートよりなる群から選ばれる請求の範囲第１項記載の組成物。
【請求項３】 ヘアーコンディショニング剤が、75重量％以上の、E1、E2、およびE3の各々が個々に、式（II）の基から選ばれているところの式（I）の化合物を含み、25重量％以下の、E1、E2、およびE3のうちの２つが個々に、式（II）の基から選ばれているところの式（I）の化合物を含み、且つ、２重量％以下の、E1、E2、およびE3のうちの１つのみが、式（II）の基であるところの式（I）の化合物を含む、請求の範囲第１項記載の組成物。
【請求項４】 アニオン界面活性剤が、ラウリル硫酸アンモニウム、ラウレス硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸ナトリウム、及びラウレス硫酸ナトリウムよりなる群から選ばれる、請求の範囲第１項記載の組成物。
【請求項５】 ノニオン界面活性剤をさらに含む、請求の範囲第１項記載の組成物。
【請求項６】 下記工程を含む、ヘアーコンディショニング剤の製造方法
ａ）アルカノールアミンを脂肪化合物と反応させて反応生成物を形成する工程、該脂肪化合物は、炭素原子数１１〜２３個の脂肪族基を有し、且つ、脂肪酸および脂肪酸エステルよりなる群から選ばれ、該脂肪化合物とアルカノールアミンとのモル比が、1.5：１〜3.0：１である、および
ｂ）工程ａ）の反応生成物をアルキル化剤と反応させてモノ−、ジ−、及びトリ−エステルアミンの第四級アンモニウム誘導体を含む反応生成物を形成する工程、反応生成物の全重量の50重量％以上がトリエステルアミンの第四級アンモニウム誘導体である。
【請求項７】 アルカノールアミンを脂肪化合物と反応させる工程が、アルカノールアミンと脂肪化合物の混合物を次亜リン酸の存在下で加熱することにより行われる、請求の範囲第６項記載の方法。
【請求項８】 請求の範囲第１〜第５項のいずれか１項に記載のヘアーコンディショニング組成物を含む、２−イン−１コンディショニングシャンプー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
ここで、X-はアニオンである；R1、R2、R3、は同一または異なっていることができ、互いに独立に、２〜６個の炭素原子の直鎖または分岐鎖アルキレン基である；R4は１〜６個の炭素原子の飽和または不飽和の、直鎖または分岐脂肪族基であって、任意的に、ヒドロキシ、エポキシ、またはハロゲンで置換されていてもよい；E1、E2、およびE3は、各場合において同一または異なることができ、且つ、−H、−OH、および下記式（II）で表される脂肪族エステル基よりなる群から選ばれ、
【化４】
2001515021.tif 000003
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
ここで、R5は、11〜23個の炭素原子の飽和または不飽和の、直鎖または分岐鎖脂肪族基であって、任意的に、ヒドロキシ、エポキシ、またはハロゲンで置換されていてもよく、ただしE1、E2、またはE3の少なくとも１つが式（II）の基であって、該カチオン界面活性剤は組成物中に４重量％以下の量で存在する；および
ｂ）アニオン界面活性剤またはアニオン／ノニオン界面活性剤混合物、
を含む。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
第一段階において、４２８グラム（１．６７モル）の溶融したパルミチン酸、０．４２グラムのＢＨＴ（ブチル化ヒドロキシトルエン）、０．４２グラムのＢＨＡ（ブチル化ヒドロキシアニソール）、及び次亜リン酸の５０％溶液の０．７５グラムが、オーバーヘッド攪拌機、スリーボールスナイダーカラム(threeball Snyder column)、添加漏斗、蒸留装置、窒素スパージ、及び温度制御に接続されたところの反応容器に入れられた。該混合物は、窒素雰囲気下において約７０℃に保持されて、そして９０．６グラム（０．６１モル）のトリエタノールアミン(TEA)が加えられた。ＴＥＡを添加した後、該反応混合物の温度は、１分間当り約１．７℃の速度で徐々に昇温された。温度が１０５℃に到達したとき、真空が適用されて、Ｈｇの２６インチ（０．８８バール）まで系の圧力が低下された。温度が約１９５℃に上昇されるまで、加熱が継続された。該混合物は、所望の濃度のジエステルアミン及びトリエステルアミンが製造されるまで、この温度及び圧力に保持された。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
第二段階において、反応容器は、温度制御、攪拌機、コンデンサー、窒素スイープ及び添加漏斗を取付けられた。段階１からのエステルアミンの４２５グラム（０．５２モル）が、４８．５グラムのイソプロパノールと一緒に該反応容器に加えられた。この混合物は、窒素雰囲気下においてい約５５℃に加熱された。６１．７グラム（０．４９モル）のジメチルサルフェートが、温度が８５℃を超えないような速度で滴下添加された。反応は２時間続けられた。次いで、ＥＤＴＡ（エチレンジアミン四酢酸）の４０％溶液の０．３４グラム及び１８．５グラムのイソプロパノールが加えられた。このように、トリアルキルメチル第四級化合物が製造される。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月12日(2005.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）：
【化１】
2001515075.tif 000001
［式中：
ＸおよびＹは、独立して、ＣＨまたは窒素である；ただし、ＸおよびＹが共にＣＨであることはない；
Ｚは、酸素または硫黄であり；
Ｒ1は、（Ｃ1-6）アルキル、（Ｃ2-6）アルケニルまたは（Ｃ1-6）アルコキシであり、その中のいずれも置換されてもよく、あるいはハロゲン、Ｒ7ＣＯ−またはＮＲ8Ｒ9ＣＯ−であり；
Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、独立して、（Ｃ1-6）アルキル、（Ｃ2-6）アルケニル、（Ｃ1-6）アルコキシまたは（Ｃ1-6）アルキルチオであり、その中のいずれも置換されてもよく、あるいは水素、ハロゲン、ニトロ、シアノ、アリールオキシ、アリール（Ｃ1-6）アルキルオキシ、アリール（Ｃ1-6）アルキル、Ｒ7ＣＯ−、Ｒ7ＳＯ2ＮＨ−、Ｒ7ＣＯＮ（Ｒ10）−、ＮＲ8Ｒ9−、ＮＲ8Ｒ9ＣＯ−、−ＣＯＯＲ8またはヘテロシクリルであり；ただしＲ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6の少なくとも１個は水素以外であるか；
または、隣接する一対のＲ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6がそれらの結合する炭素原子と一緒になって、置換されていてもよい炭素環式または複素環式環を形成し；
Ｒ7は、（Ｃ1-6）アルキルまたはアリールであり；
Ｒ8およびＲ9は、独立して、水素、（Ｃ1-6）アルキル、アリールまたはアリール（Ｃ1-6）アルキルであり；
Ｒ10は、水素または（Ｃ1-6）アルキルであり；また
ｎは、０、１、２、３または４である］
で示される化合物またはその医薬上許容される塩；
ただし、かかる化合物は、
ａ）Ｎ−１−イソキノリニル−Ｎ’−（１−メチル−１Ｈ−インドール−５−イル）ウレア；
ｂ）Ｎ−（３−クロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−Ｎ’−４−キノリニルウレア；
ｃ）Ｎ−（３−クロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−Ｎ’−（５−ニトロ−４−キノリニル）ウレア；
ｄ）Ｎ−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−Ｎ’−（７−クロロ−４−キノリニル）ウレア；
ｅ）Ｎ−（４−メトキシフェニル）−Ｎ’−（７−クロロ−４−キノリニル）ウレア；または
ｆ）Ｎ−（４−クロロフェニル）−Ｎ’−（７−クロロ−４−キノリニル）ウレア
である化合物を除く。
【請求項２】
ＸがＣＨであり、Ｙが窒素である請求項１記載の化合物。
【請求項３】
Ｚが酸素である請求項１または請求項２記載の化合物。
【請求項４】
ｎが０または１である、前記請求項のいずれか一つに記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ2ないしＲ6が、独立して、水素、ハロゲン、（Ｃ1-6）アルコキシ、（Ｃ1-6）アルキルチオまたはＮＲ8Ｒ9であり、Ｒ2ないしＲ6のうち少なくとも１個が水素以外の基であるか；または隣接する一対のＲ2ないしＲ6がそれらが結合する炭素原子と一緒になって、置換されてもよい５−ないし７−員の複素環式環を形成する、前記請求項のいずれか一つに記載の化合物。
【請求項６】
Ｒ2、Ｒ5およびＲ6が水素である、前記請求項のいずれか一つに記載の化合物。
【請求項７】
Ｒ2、Ｒ4およびＲ6が水素である、請求項１ないし５のいずれか一つに記載の化合物。
【請求項８】
式（ＩＩ）：
【化２】
2001515075.tif 000002
で示される化合物と式（ＩＩＩ）：
【化３】
2001515075.tif 000003
で示される化合物をカップリングさせ、
ここに、ＡおよびＢは、カップリングして−ＮＨＣＯＮＨ−または−ＮＨＣＳＮＨ−部分を形成する適当な官能基であり；Ｘ、Ｙおよびｎは、式（Ｉ）で定義した通りであり；またＲ1’ないしＲ6’は、式（Ｉ）で定義したＲ1ないしＲ6であるか、またはそれに変換できる基であり；その後、所望によりおよび必要に応じて、適当な順序にて、Ｒ1’ないしＲ6’がＲ1ないしＲ6以外の基である場合、それらを、各々、Ｒ1ないしＲ6に変換し、および／またはその医薬上許容される塩を形成することからなる、前記請求項のいずれか一つに定義した式（Ｉ）の化合物またはその塩の調製方法。
【請求項９】
請求項１ないし７記載のいずれか一つで定義した式（Ｉ）の少なくとも２個の化合物またはその医薬上許容される塩を含む化合物ライブラリー。
【請求項１０】
式（ＩＩ）：
【化４】
2001515075.tif 000004
［式中、Ａは−ＣＯＮ3、−ＮＨ2、−ＣＯ2Ｈ、−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ、−Ｎ＝Ｃ＝Ｓ、−ＮＨＣＯＬまたはハロゲンであり、Ｌは脱離基、ＸおよびＹは、式（Ｉ）で定義された通りであり、ｎは、１、２、３または４であり、Ｒ1’は、式（Ｉ）で定義されたようなＲ1であるか、またはそれに変換できる基である］
で示される化合物；ただし、
ａ）６−メトキシ−４−キノリンカルボン酸；
ｂ）６−エトキシ−４−キノリンカルボン酸；
ｃ）６−クロロ−４−キノリンカルボン酸；
ｄ）５−クロロ−４−キノリンカルボン酸；
ｅ）７−フルオロ−４−キノリンカルボン酸；または
ｆ）７−クロロ−４−キノリンカルボン酸；以外の化合物である。
【請求項１１】
請求項１ないし７記載のいずれか一つで定義した式（Ｉ）の化合物またはその医薬上許容される塩および医薬上許容される担体を含む医薬組成物。
【請求項１２】
ＸおよびＹが共にＣＨではなく、ａ）−ｆ）以外であるという条件なしで、請求項１ないし７のいずれかで定義された式（Ｉ）の化合物またはその医薬上許容される塩の有効量を、ヒトＨＦＧＡＮ７２レセプターのアンタゴニストを、必要とする対象への投与を含む、ヒトＨＦＧＡＮ７２レセプターのアンタゴニストが必要とされる疾患または障害の治療または予防方法。
【請求項１３】
ＸおよびＹが共にＣＨではなく、ａ）−ｆ）以外であるという条件なしで、ヒトＨＦＧＡＮ７２レセプターのアンタゴニストが必要とされる疾患または障害の治療または予防における使用のための請求項１ないし７で定義した式（Ｉ）の化合物またはその医薬上許容される塩。
【請求項１４】
ＸおよびＹが共にＣＨではなく、ａ）−ｆ）以外であるという条件なしで、ヒトＨＦＧＡＮ７２レセプターのアンタゴニストが必要とされる疾患または障害の治療または予防に用いるための医薬の製造における請求項１ないし７で定義した式（Ｉ）の化合物またはその医薬上許容される塩の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月11日(2005.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  水系ポリマー組成物に、乾燥ポリマーの３〜１０重量％のアルキルポリグリコールエーテル非イオン界面活性剤を添加する工程を含んでなる水系ポリマー組成物の最低フィルム形成温度を低下させる方法。
【請求項２】  アルキルポリグリコールエーテルが、ラウリルアルコール、オレイルアルコール、ステアリルアルコール又はこれらの混合物のエトキシル化生成物である請求項１に記載の方法。
【請求項３】  アルキルポリグリコールエーテルが、式：
Ｒ−Ｃ≡Ｃ−Ｒ1 
［式中、Ｒ及びＲ1 は、それぞれ、炭素数１〜１５の直鎖及び分岐鎖アルキルから選択され、Ｒ及びＲ1 の少なくとも１個は、１〜３個のヒドロキシル基を含有し、各ヒドロキシル基のＨは、独立に、式：
（ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｏ）n Ｈ  又は  （ＣＨ2 −ＣＨ（ＣＨ3)−Ｏ）m Ｈ
（式中、ｎ及びｍは、それぞれ１〜５０の範囲であり、ｎ及びｍの合計は６０未満である）
の置換基で置換されている］
の化合物から選択される請求項１に記載の方法。
【請求項４】  アルキルポリグリコールエーテルが、式：
【化１】
2001515118.tif 000001
（式中、ｍ及びｎの合計は１〜３０の範囲である）
の少なくとも１個の化合物である請求項３に記載の方法。
【請求項５】  水系ポリマー組成物が２５０ｇ／Ｌより少ないＶＯＣを有する請求項１に記載の方法。
【請求項６】  水系ポリマー組成物が５０ｇ／Ｌより少ないＶＯＣを有する請求項５に記載の方法。
【請求項７】  水系ポリマー組成物が溶媒、顔料、レベリング剤、レオロジー剤、流動調節剤、増量剤、反応性凝集助剤、艶消剤、顔料湿潤、分散剤、界面活性剤、紫外（ＵＶ）吸収剤、ＵＶ光安定剤、脱泡剤、消泡剤、沈降防止剤、だれ止め剤、増粘剤、皮張り防止剤、色わかれ防止剤、色むら防止剤、殺菌剤、防かび剤、腐食防止剤、増粘剤、可塑剤、反応性可塑剤、硬化剤、凝集剤及びこれらの混合物から選択される添加剤を更に含む請求項１に記載の方法。
【請求項８】  基板を、ポリマー樹脂、水及び、乾燥ポリマーの３〜１０重量％のアルキルポリグリコールエーテル非イオン界面活性剤を含む水系ポリマー組成物（前記界面活性剤はポリマー樹脂の重合後に添加する）と共に準備し、そして
基板を前記水系ポリマー組成物で被覆する基板の被覆方法。
【請求項９】  アルキルポリグリコールエーテルが、式：
Ｒ−Ｃ≡Ｃ−Ｒ1
［式中、Ｒ及びＲ1 は、それぞれ、炭素数１〜１５の直鎖及び分岐鎖アルキルから選択され、Ｒ及びＲ1 の少なくとも１個は、１〜３個のヒドロキシル基を含有し、各ヒドロキシル基のＨは独立に、式：
（ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｏ）n Ｈ  又は  （ＣＨ2 −ＣＨ（ＣＨ3)−Ｏ）m Ｈ
（式中、ｎ及びｍは、それぞれ１〜５０の範囲であり、ｎ及びｍの合計は６０未満である）
の置換基で置換されている］
の化合物から選択される請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  アルキルポリグリコールエーテルが、式：
【化２】
2001515118.tif 000002
［式中、ｍ及びｎの合計は１〜３０の範囲である］
の少なくとも１個の化合物を含む請求項９に記載の方法。
【請求項１１】  前記基板が、木材、木材副製品、石膏ボート、プラスチック、金属及び織物製品から選択される請求項８に記載の方法。
【請求項１２】  水系ポリマー組成物に、乾燥ポリマーの３〜１０重量％の非イオン界面活性剤を添加する工程を含んでなる水系ポリマー組成物の最低フィルム形成温度を低下させる方法であって、前記非イオン界面活性剤が、式：
Ｒ−Ｃ≡Ｃ−Ｒ1
［式中、Ｒ及びＲ1 は、それぞれ、炭素数１〜１５の直鎖及び分岐鎖アルキルから選択され、Ｒ及びＲ1 の少なくとも１個は、１〜３個のヒドロキシル基を含有し、各ヒドロキシル基のＨは独立に、置換されていないか又は式：
（ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｏ）n Ｈ  又は  （ＣＨ2 −ＣＨ（ＣＨ3)−Ｏ）m Ｈ
（式中、ｎ及びｍは、それぞれ１〜５０の範囲であり、ｎ及びｍの合計は６０未満である）
の置換基で置換されている］
の化合物から選択される水系ポリマー組成物の最低フィルム形成温度を低下させる方法。
【請求項１３】  非イオン界面活性剤が
（ｉ）式：
【化３】
2001515118.tif 000003
の少なくとも１個の化合物
（ｉｉ）式：
【化４】
2001515118.tif 000004
（式中、ｍ及びｎの合計は１〜３０の範囲である）
の少なくとも１個の化合物、並びに
（ｉｉｉ）（ｉ）及び（ｉｉ）の混合物
からなる群から選ばれる請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  水系ポリマー組成物が２５０ｇ／Ｌより少ないＶＯＣを有する請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】  水系ポリマー組成物が５０ｇ／Ｌより少ないＶＯＣを有する請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】  水系ポリマー組成物が溶媒、顔料、レベリング剤、レオロジー剤、流動調節剤、増量剤、反応性凝集助剤、艶消剤、顔料湿潤、分散剤、界面活性剤、紫外（ＵＶ）吸収剤、ＵＶ光安定剤、脱泡剤、消泡剤、沈降防止剤、だれ止め剤、増粘剤、皮張り防止剤、色わかれ防止剤、色むら防止剤、殺菌剤、防かび剤、腐食防止剤、増粘剤、可塑剤、反応性可塑剤、硬化剤、凝集剤及びこれらの混合物から選択される添加剤を更に含む請求項１２に記載の方法。
【請求項１７】  ポリマー樹脂、水及び乾燥ポリマーの３〜１０重量％の非イオン界面活性剤を含んでなる水系ポリマー組成物を製造する工程（前記非イオン界面活性剤は、式：
Ｒ−Ｃ≡Ｃ−Ｒ1
［式中、Ｒ及びＲ1 は、それぞれ、炭素数１〜１５の直鎖及び分岐鎖アルキルから選択され、Ｒ及びＲ1 の少なくとも１個は、１〜３個のヒドロキシル基を含有し、各ヒドロキシル基のＨは、独立に、置換されていないか又は式：
（ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｏ）n Ｈ  又は  （ＣＨ2 −ＣＨ（ＣＨ3)−Ｏ）m Ｈ
（式中、ｎ及びｍは、それぞれ１〜５０の範囲であり、ｎ及びｍの合計は６０未満である）
の置換基で置換されている］
の化合物から選択される、そして前記水系ポリマー組成物で基板を被覆する工程を含んでなる基板の被覆方法。
【請求項１８】  非イオン界面活性剤が
（ｉ）式：
【化５】
2001515118.tif 000005
の少なくとも１個の化合物
（ｉｉ）式：
【化６】
2001515118.tif 000006
（式中、ｍ及びｎの合計は１〜３０の範囲である）
の少なくとも１個の化合物、並びに
（ｉｉｉ）（ｉ）及び（ｉｉ）の混合物
からなる群から選ばれる請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】  前記基板が、木材、木材副製品、石膏ボード、プラスチック、金属及び織物製品から選択される請求項１７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月26日(2005.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  陽極で電子を放出する少なくとも１種の酸化可能な物質ＲＥＤ1および陰極で電子を受容する少なくとも１種の還元可能な物質ＯＸ2を含んでなりそしてそのように作用する際にスペクトルの可視領域における吸収の増加を伴う弱く着色されたまたは無色の形態からそれぞれ着色された形態ＯＸ1およびＲＥＤ2への遷移を受け、弱く着色されたまたは無色の形態が電荷の平衡後に回復されるエレクトロクロミック系であって、存在する物質ＲＥＤ1およびＯＸ2の少なくとも一方が互いに架橋を介して共有結合されていること並びにａ）＞２００ｇ／モル、好ましくは＞２５０ｇ／モル、のモル質量を有しおよび／またはｂ）ケージ様構造を有する少なくとも１つのアニオンタイプＸ-が存在することを特徴とする系。
【請求項２】  式
【化１８】
2001515120.tif 000001
［式中、
ＹおよびＺは互いに独立して基ＯＸ2またはＲＥＤ1を表し、但し条件として少なくとも１個のＹはＯＸ2を表しそして少なくとも１個のＺはＲＥＤ1を表し、
ここで
ＯＸ2は対イオンとして請求項１に記載のアニオンＸ-を含んでなる可逆的に電気化学的に還元可能なカチオン性レドックス系の基を表し、そして
ＲＥＤ1は可逆的に電気化学的に酸化可能なレドックス系の基を表す］
に相当するエレクトロクロミック物質。
【請求項３】  請求項１に記載のエレクトロクロミック系および少なくとも１種の不活性溶媒を含んでなるエレクトロクロミック流体。
【請求項４】  請求項３に記載のエレクトロクロミック流体を含んでなるエレクトロクロミック装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月20日(2005.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  紙又は板紙の多層ウェブを形成するための、特にベース層上に上部層を形成するための方法であって、繊維懸濁液噴射が二つの緊張されたワイヤ（１６，２２；１６′，２２′；２２′，２７）（それらの一つ（１６；１６′；２２′）は湿ったベース層を運ぶ）によって作られるツインワイヤロール間隙中に送出される第２ヘッドボックス（２１；２１′，２６）によってなされる場合において、前記ツインワイヤロール間隙（１６，２２；１６′，２２′；２２′，２７）後の上部層の形成が少なくとも一つの形成ロール（２３；２３′，２８）を含むロール形成ユニットによって形成するロールによってのみ行われ、前記ロール形成ユニットが繊維懸濁液噴射が前記二つの緊張されたワイヤの外側の降伏撓みを生じるような高いスピードで前記ツインワイヤロール間隙に送出され、一方回転支持体（３１ａ−ｃ；３１ａ′−ｃ′；３２ａ−ｃ）（それらの少なくとも一つは前記撓みを補償するために弾性的に又は変位可能に装着される）上で前記ワイヤを案内することによって外部ワイヤの前記撓み中の緊張を実質的に一定に維持する種類のものであり、前記ツインワイヤロール間隙に送出される前記繊維懸濁液噴射のスピードが少なくとも３００ｍ／ｍｉｎであり、外部及び内部ワイヤのワイヤ張力が少なくとも４ｋＮ／ｍであることを特徴とする方法。
【請求項２】  前記ツインワイヤロール間隙に送出される前記繊維懸濁液噴射のスピードが少なくとも５００ｍ／ｍｉｎ、好ましくは少なくとも８００ｍ／ｍｉｎであることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】  上部層における必要な繊維配向度が第２ヘッドボックスにおいて実質的に発生される請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】  脱水中の繊維懸濁液とワイヤの間のスピード差が±４０ｍ／ｍｉｎの最大値、相対的には最小剪断応力点に制限されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか記載の方法。
【請求項５】  少なくとも前記外部ワイヤのワイヤ張力が少なくとも６ｋＮ／ｍ、好ましくは少なくとも８ｋＮ／ｍであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか記載の方法。
【請求項６】  前記ロール形成を実施するために前記ツインワイヤロール間隙の一部を構成する形成ロールが使用され、前記形成ロールが少なくとも０．６ｍの半径、好ましくは少なくとも０．８ｍの半径を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか記載の方法。
【請求項７】  請求項１〜６のいずれか記載の種類のロール形成が第１層を含む全ての層を形成するために実施されることを特徴とする多層ウェブを形成するための請求項１〜６のいずれか記載の方法。
【請求項８】  請求項１に記載の方法を使用するための、紙又は板紙の多層ウェブを形成するための、特にベース層上に上部層を形成するための形成装置であって、その形成装置が二つの緊張されたワイヤ（１６，２２；１６′，２２′；２２′，２７）（それらの一つ（１６；１６′；２２′）は湿ったベース層を運ぶ）によって作られるツインワイヤロール間隙中に繊維懸濁液噴射を送出するように配置された第２ヘッドボックス（２１；２１′，２６）を含む場合において、その形成装置がベース層上に上部層の形成のための唯一の形成ユニットとして少なくとも一つの形成ロール（２３；２３′，２８）を含むロール形成ユニットを含み、前記ロール形成ユニットが繊維懸濁液噴射が前記二つの緊張されたワイヤの外側の降伏撓みを生じるような高いスピードで前記ツインワイヤロール間隙に送出される種類のものであり、前記装置が回転支持体（３１ａ−ｃ；３１ａ′−ｃ′；３２ａ−ｃ）（それらの少なくとも一つは前記撓みを補償するために弾性的に又は変位可能に装着される）上で前記ワイヤを案内することによって外部ワイヤの前記撓み中の緊張を実質的に一定に維持するための手段をさらに含むことを特徴とする形成装置。
【請求項９】  前記ツインワイヤロール間隙の一部を構成する形成ロールの半径が少なくとも０．６ｍ、好ましくは少なくとも０．８ｍであることを特徴とする請求項８記載の装置。
【請求項１０】  ベース層を含む全ての層の形成のための請求項８又は９記載の種類のロール形成ユニットを含むことを特徴とする請求項８又は９記載の多層ウェブを形成するための形成装置。
【請求項１１】  請求項１〜６のいずれか記載の方法及び／又は請求項６〜１０のいずれか記載の装置を用いて形成されることを特徴とする多層紙又は板紙製品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2001515153.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2001515153.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月2日(2005.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 貫通した流体通路と、
前記流体通路に沿った長さと前記流体通路を横断する方向の幅とを持ち、その幅が長さよりも大きい流体管路（３８）と、 
前記流体管路内に配置されているクライオポンプアレイ（３４）と、
を備えるコールド・トラップにおいて、
前記流体管路に組み込まれて一体化され、前記流体通路を横断する方向に移動するバルブ機構（４４）を開閉するゲートバルブ（２０ａ）を備え、
前記クライオポンプアレイ（３４）は、前記ゲートバルブの下流側で前記流体管路内に配置されて前記流体通路を横断する中央開口（３５）を囲む外縁部を有し、前記流体通路が前記中央開口を通って延びており、前記外縁部で前記流体通路から水蒸気を捕集する、ことを特徴とするコールド・トラップ（２０）。
【請求項２】 請求項１において、
前記アレイ（３４）が、厚さ（ｔ）、横断幅および外縁部幅（ｗ）を有し、その横断幅および外縁部幅が前記厚さよりも大きいコールドトラップ（２０）。
【請求項３】 請求項２において、
前記流体管路（３８）が処理チャンバ（１０）に結合されているコールドトラップ（２０）。
【請求項４】 請求項３において、
前記流体管路（３８）が真空ポンプ（２２）に結合されて、ガスを前記流体通路に沿って前記流体管路を通して吸引するコールドトラップ（２０）。
【請求項５】 請求項４において、
前記真空ポンプ（２２）がターボ分子ポンプであるコールドトラップ（２０）。
【請求項６】 請求項１において、
前記ゲートバルブ（２０ａ）がソレノイド（４０）で動作するコールドトラップ（２０）。
【請求項７】 請求項１において、
さらに、前記アレイ（３４）を冷却する極低温冷凍機（４６）を有するコールドトラップ（２０）。
【請求項８】 請求項１において、
さらに、前記冷凍機（４６）を前記アレイ（３４）に熱伝導性よく結合する熱伝導ストラット（３６）を有するコールドトラップ（２０）。
【請求項９】 請求項１において、
前記アレイ（３４）が板金から形成された平坦なリング形状であるコールドトラップ（２０）。
【請求項１０】 請求項１において、
前記アレイ（３４）が中空状であるコールドトラップ（２０）。
【請求項１１】 コールドトラップ（２０）を備えて水蒸気を捕集する方法であって、そのコールドトラップは、貫通した流体通路、その流体通路に沿った長さおよび流体通路を横断する方向の幅を持つ流体管路（３８）を有し、その流体管路の幅が長さよりも大きいものであり、 
さらに前記方法は、 前記流体管路に組み込まれて一体化され、前記流体通路を横断する方向に駆動するバルブ機構（４４）を有するゲートバルブ（２０ａ）を開いて、前記流体管路を通る前記流体通路を開放し、
前記流体管路内に、前記流体通路を横断する中央開口の周囲を囲む外縁部が設けられたクライオポンプアレイ（３４）を配置して、前記流体通路が前記中央開口（３５）を通って延びるようにし、 前記アレイを極低温度に冷却し、
水蒸気を前記流体通路から前記アレイの外縁部上に捕集する、
各ステップを有する水蒸気を捕集する方法。
【請求項１２】 請求項１１において、
さらに、厚さ（ｔ）、横断幅および外縁部幅（ｗ）を持ち、その横断幅と外縁部幅の両方が前記厚さ寸法よりも大きい、前記アレイ（３４）を設けるステップを有する水蒸気を捕集する方法。
【請求項１３】 請求項１１において、
さらに、前記流体管路に結合した真空ポンプ（２２）により、前記流体管路（３８）を通してガスを吸引するステップを有する水蒸気を捕集する方法。
【請求項１４】 請求項１１において、
前記ゲートバルブ（２０ａ）を開くステップが、ソレノイド（４０）でそのゲートバルブを作動させる水蒸気を捕集する方法。
【請求項１５】 請求項１１において、
前記クライオポンプアレイ（３４）を冷却するステップが、 極低温冷凍機（４６）を熱伝導ストラット（３６）によって前記アレイに熱伝導性よく結合し、
前記ストラットと前記アレイを前記冷凍機で冷却する、
各ステップを有する水蒸気を捕集する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月1日(2005.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
欧州特許出願第９５  ９０４  ６７４．９号は、その様な自給式マイクロポンプを記述する。しかし、その文書に記述される入口弁の製作は容易ではない。
欧州特許出願第９０ ８１０ ２７２．６号は、逆止弁を形成する入口部材を有するマイクロポンプを記述する、しかしそれはポンプを自給式には出来ない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
従来技術のマイクロポンプの性能に比較される本発明のマイクロポンプの改善された性能を証明するために、図１から５の形態及び２つの逆さのピラミッドの形状のオリフィス４４の使用により得られる稼働例を次に示す。オリフィス４４の満水体積は、１５ｘ１０-9Ｌ（リッター）であった、弁２８の下に形成される満水体積、即ち膜４２と第１の板１２の間は３４ｘ１０-9Ｌであった（比較では、ＥＰ出願９０  ８１０  ２７２．６の図７Ａの入口弁の相当する体積は、５００ｘ１０-9Ｌより大きい）、そして単位輸送量の値は、１５０ｘ１０-9Ｌであった。そのような入り口ポンプにより、マイクロポンプは、１より大きい圧縮比、即ち全体の満水体積に対する単位輸送体積の比を有していた。
この結果は、最高で約０．１の圧縮比を有する自給式と言われる流体用の従来技術のマイクロ加工のマイクロポンプにより得られるそれより、かなりより優れている。
ここでの説明及び図面においては、指示方法は全く制限されないことが理解されなければならない。添付図について以下説明する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月26日(2005.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  電解槽の底の上に沈降した固形物の除去のために前記電解槽の底部を該槽の他の部分から分離する分離用部材であって、
該分離用部材の軌道を形成する支持制御部材が前記電解槽内に設置され、
前記電解槽の少なくとも１つの後壁と、該後壁の最も近くに位置する電極との間に残された空間を通じて、該分離用部材が前記電解槽内に挿入され、かつ該槽内から取り出されることを特徴とする分離用部材。
【請求項２】  請求項１に記載の分離用部材において、該分離用部材は構成要素で作られており、該構成要素は互に屈曲するように相互に連結されることを特徴とする分離用部材。
【請求項３】  請求項１または２に記載の分離用部材において、該分離用部材によって前記電解槽の底の付近に分離された空間と、前記後壁の近傍に位置する空間とが一つの本質的に閉じた空間を形成することを特徴とする分離用部材。
【請求項４】  請求項３に記載の分離用部材において、該分離用部材が前記電解槽内に一つの密閉された均一な表面を形成することを特徴とする分離用部材。
【請求項５】  請求項１または２に記載の分離用部材において、該分離用部材によって分離された空間が、電解液を含む電解槽の空間に連通していることを特徴とする分離用部材。
【請求項６】  請求項１から５までのいずれかに記載の分離用部材において、前記電解槽の底部に洗浄剤を供給するために、固形物洗浄装置の少なくとも一部が該分離用部材に取り付けられていることを特徴とする分離用部材。
【請求項７】  請求項６に記載の分離用部材において、前記洗浄剤が液体であることを特徴とする分離用部材。
【請求項８】  請求項６に記載の分離用部材において、前記洗浄剤が気体であることを特徴とする分離用部材。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月25日(2005.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
鉱石または精鉱を、結果として得られる酸浸出スラリーから、非ニッケル及び非コバルト金属に加えてニッケル価及び／又はコバルト価を含みｐＨ＜２で溶液を得るように、ｐＨ＜２で加圧下に酸浸出に付す工程と、
溶液を、非ニッケル及び非コバルト金属を含む固体と、結果として得られるニッケル価及び／又はコバルト価を含む溶液とを生成するように、約５から６のｐＨで第１の沈殿に付す工程と、
結果として得られた溶液を、ニッケル及び／又はコバルトを含む固体と、ニッケル及びコバルトが枯渇した溶液とを生成するように、約７から８のｐＨで第２の沈殿に付す工程とからなることを特徴とするニッケル価及び／又はコバルト価及び他の金属を含む鉱石または精鉱からの金属の抽出のための方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
〔発明の要旨〕
本発明に従って、鉱石または精鉱を、結果として得られる酸浸出スラリーから、非ニッケル及び非コバルト金属に加えてニッケル価及び／又はコバルト価を含みｐＨ＜２で溶液を得るように、ｐＨ＜２で加圧下に酸浸出に付す工程と、溶液を、非ニッケル及び非コバルト金属を含む固体と、結果として得られるニッケル価及び／又はコバルト価を含む溶液とを生成するように、約５から６のｐＨで第１の沈殿に付す工程と、結果として得られた溶液を、ニッケル及び／又はコバルトを含む固体と、ニッケル及びコバルトが枯渇した溶液とを生成するように、約７から８のｐＨで第２の沈殿に付す工程とからなるニッケル価及び／又はコバルト価及び他の金属を含む鉱石または精鉱からの金属の抽出のための方法が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月18日(2005.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  酸化チタンおよびアルミニウムからチタン合金／アルミナ金属マトリックス複合材料を製造する方法であって、
酸化チタンとアルミニウムの混合物を不活性環境下で高エネルギーミル処理して、実質的にそれぞれの粒子が酸化チタンとアルミニウム相の微細混合物を含む中間粉末生成物を製造し、
この中間粉末生成物を加熱して、実質的にそれぞれの粒子が、微細なアルミナ粒子で強化されたチタン合金マトリックスを含むチタン合金／アルミナ金属マトリックス複合材料を生成させることを含む方法。
【請求項２】  加熱工程において、中間粉末生成物を、３０分を越える期間、７５０℃を越えない温度に加熱する請求項１に記載の方法。
【請求項３】  中間粉末生成物を、実質的に１〜６時間の期間、実質的に７００±５０℃の温度に加熱する請求項２に記載の方法。
【請求項４】  アルミニウムを導入する前に、酸化チタンを７００℃を越える温度で水素ガスに暴露することを含む予備還元工程をさらに含む請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】  中間粉末生成物の実質的にそれぞれの粒子が、５００ｎｍまたはそれ未満のサイズの酸化チタンとアルミナ相の微細混合物を含む請求項１に記載の方法。
【請求項６】  微細なアルミナ粒子が、実質的に２０ｎｍ〜３ミクロンの範囲内の平均直径を有する請求項１記載の方法。
【請求項７】  高エネルギーミル処理を高エネルギーボールミルにおいて行う請求項１に記載の方法。
【請求項８】  ボールミルのボールが、５〜３０ｍｍの直径を有する請求項７に記載の方法。
【請求項９】  ボールとミル処理される成分(ボール：成分)の全重量比が４：１〜１０：１の範囲内である請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  高エネルギーミル処理がスプリット-ディスカスミル処理によって行われる請求項１に記載の方法。
【請求項１１】  不活性雰囲気が１またはそれ以上の希ガスを含む請求項１に記載の方法。
【請求項１２】  加熱工程中の加熱温度および加熱期間を、チタンアルミニド含量を最適にするように調節する請求項１に記載の方法。
【請求項１３】  酸化チタンがルチルなどのチタン鉱石である請求項１に記載の方法。
【請求項１４】  酸化チタンの純度が好ましくは９８.５重量％またはそれ以上である請求項１に記載の方法。
【請求項１５】  アルミニウムの純度が９８.５重量％またはそれ以上である請求項１に記載の方法。
【請求項１６】  反応：３ＴiＯ２＋４Ａl→２Ａl２Ｏ３＋３Ｔiにおける酸化チタンとアルミニウムの比がほぼ化学量論量である請求項１に記載の方法。
【請求項１７】  反応：３ＴiＯ２＋４Ａl→２Ａl２Ｏ３＋３Ｔiに対して、アルミニウム量が化学量論量よりも実質的に２０％多い量である請求項１に記載の方法。
【請求項１８】  チタン合金／アルミナ金属マトリックス複合材料をさらに高エネルギーミル処理に戻して、粒子の形状および／またはサイズを改善する工程をさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項１９】  他の金属の酸化物を酸化チタンと共に含有させる請求項１に記載の方法。
【請求項２０】  ８％またはそれ未満の他の金属の酸化物が存在する請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】  他の金属酸化物が別の遷移金属元素を含む請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】  他の遷移金属元素がバナジウムである請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】  高エネルギーミル処理および加熱工程を通常の環境下で行う請求項１に記載の方法。
【請求項２４】  高エネルギーミル処理、加熱および予備還元工程を通常の環境下で行う請求項４に記載の方法。
【請求項２５】  ３μｍ以下の平均直径を有し、複合材料の１０容量％以上および６０容量％未満を構成するアルミナ粒子で強化されたチタン合金マトリックスを、実質的にそれぞれの粒子が含むチタン合金／アルミナ金属マトリックス複合材料。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月6日(2005.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ビットボデー、
前記ビットボデーに取り付けた未強化ボタンの少なくとも１つの環状列、及び
前記ビットボデーにおける、前記未強化ボタンの半径方向外側に取り付けた、強化ボタンの少なくとも１つの環状列
を含む部分強化ドリルビットであって、未強化ボタンの少なくとも１つの列における未強化ボタンの全摩耗体積が、強化ボタンの最外環状列の全摩耗体積の75％より大きい、部分強化ドリルビット。
【請求項２】  前記未強化ボタンの列の１つにおける前記未強化ボタンの数が、前記強化ボタンの最外環状列における強化ボタンの数に少なくとも等しい、請求項１に記載のドリルビット。
【請求項３】  前記未強化ボタンの少なくとも一部が、前記強化ボタンのいずれより大きい摩耗体積を有する、請求項１または２に記載のドリルビット。
【請求項４】  未強化ボタンの半径方向最外の列が、下部基底面を規定し、前記末強化ボタンの最外列の半径方向外側に配置した、隣接する強化ボタンの列の上部基底面に関して、少なくとも3.0mm の距離だけ、前記下部基底面が軸方向前方に変位している、請求項１〜３のいずれか１項に記載のドリルビット。
【請求項５】  ビットボデー、
前記ビットボデーに取り付けた未強化ボタンの少なくとも１つの環状列、及び
前記ビットボデーにおける、前記未強化ボタンの半径方向外側に取り付けた、強化ボタンの少なくとも１つの環状列
を含む部分強化ドリルビットであって、前記未強化ボタンの列の１つにおける前記未強化ボタンの数が、強化ボタンの環状最外列における強化ボタンの数に少なくとも等しい、部分強化ドリルビット。
【請求項６】  前記未強化ボタンの少なくとも一部が、前記強化ボタンのいずれより大きい摩耗体積を有する、請求項５に記載のドリルビット。
【請求項７】  未強化ボタンの半径方向最外の列が、下部基底面を規定し、前記未強化ボタンの最外列の半径方向外側に配置した、隣接する強化ボタンの列の上部基底面に関して、少なくとも3.0mm の距離だけ、前記下部基底面が軸方向前方に変位している、請求項５または６に記載のドリルビット。
【請求項８】  前記ビットボデーが、洗浄媒体を通すための、前記ビットボデーを貫いて延びる少なくとも１つの流路を含み、前記少なくとも１つの流路が前記ボデーの側面で末端となっている、請求項５〜７のいずれか１項に記載のドリルビット。
【請求項９】  ビットボデー、
前記ビットボデーに取り付けた未強化ボタンの少なくとも１つの環状列、及び
前記ビットボデーにおける、前記未強化ボタンの半径方向外側に取り付けた、強化ボタンの少なくとも１つの環状列
を含む部分強化ドリルビットであって、前記未強化ボタンの少なくとも一部が、前記強化ボタンのいずれより大きい摩耗体積を有する、部分強化ドリルビット。
【請求項１０】  ビットボデー、
前記ビットボデーに取り付けた未強化ボタンの少なくとも１つの環状列、及び
前記ビットボデーにおける、前記未強化ボタンの半径方向外側に取り付けた、強化ボタンの少なくとも１つの環状列
を含む部分強化ドリルビットであって、未強化ボタンの半径方向最外の列が、下部基底面を規定し、前記未強化ボタンの最外列の半径方向外側に配置した、隣接する強化ボタンの列の上部基底面に関して、少なくとも3.0mm の距離だけ、前記下部基底面が軸方向前方に変位している、部分強化ドリルビット。
【請求項１１】  前記最外の未強化ボタンが、前記ビットの縦軸に平行に配向している、請求項９または１０に記載のドリルビット。
【請求項１２】  前記最外の未強化ボタンが、前記ビットの縦軸に関して傾斜している、請求項９〜１１のいずれか１項に記載のドリルビット。
【請求項１３】  ビットボデー、
前記ビットボデーに取り付けた未強化ボタンの少なくとも１つの環状列、及び
前記ビットボデーにおける、前記未強化ボタンの半径方向外側に取り付けた、強化ボタンの複数の半径方向に間隔をあけた環状列
を含む部分強化ドリルビットであって、前記未強化ボタンの列の少なくとも１つにおける未強化ボタンの数が、前記強化ボタンの列における強化ボタンの平均の数より多い、部分強化ドリルビット。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月10日(2005.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  測定スペース（８）を備えたフレーム（１０）と、
流れ通路（７）と測定スペースとの間でフレームに装着され、両端部（２、９）が開放して測定スペースへのガス又はガス混合物の流れによって発生した圧力波を通す測定ダクト（６）と、
フレームに装着され、圧力波を測定するのに用いられ、測定ダクトの第２の端部（９）の近くに配置された測定要素（１）と
を有し、
測定ダクトが、ガス又はガス混合物の流れの方向に対してほぼ垂直方向に向けられかつその長手方向軸線の回りで回転できるように配置され、
測定ダクトが、測定ダクトの第１の端部（２）に配置され、交互に流れの方向に向いたり流れに対して対向するように配置されて変化する周期的な圧力波を測定ダクトへ導くようにされた第１のオリフィス（４）を備えている、流れ通路（７）内のガス又はガス混合物の流れを測定する装置において、
測定ダクトが、測定スペース内へのびる測定ダクトの部分に配置されて、測定スペース及び測定ダクト内の静圧力を均一化する第２のオリフィス（３）を備えていることを特徴とするガス又はガス混合物の流れの測定装置。
【請求項２】  第１のオリフィス（４）の直径が測定ダクト（６）の内径より大きいことを特徴とする請求項１に記載のガス又はガス混合物の流れの測定装置。
【請求項３】  測定ダクト（６）に接続され、測定ダクト（６）を回転させる動力手段（５）を有することを特徴とする請求項１又は２に記載のガス又はガス混合物の流れの測定装置。
【請求項４】  測定要素（１）が、圧力波を電気信号に変換するように機能するマイクロホン又は等価物であり、また一つ以上の測定要素（１1、１2、………１n）を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のガス又はガス混合物の流れの測定装置。
【請求項５】  測定ダクト（６）が、流れ通路（７）及び測定スペース（８）に気密かつ液密に接続されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のガス又はガス混合物の流れの測定装置。
【請求項６】  測定ダクト（６）及び測定スペース（８）に不純物が流入するのを阻止するため測定スペース（８）に保護空気を流す供給手段を備えていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載のガス又はガス混合物の流れの測定装置。
【請求項７】  流れ通路（７）内へのびる測定ダクト（６）の部分が、測定ダクトの長手方向軸線に垂直な半径方向に対して種々の角度に配置された一つ以上のオリフィス（４1、４2、………４n）を備え、異なった位相で変化する周期的圧力波が測定ダクト内へ導入されることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載のガス又はガス混合物の流れの測定装置。
【請求項８】  電気信号を処理し整形する手段（１６、１７）を有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載のガス又はガス混合物の流れの測定装置。
【請求項９】  測定スペース（８）を備えたフレーム（１０）と、
流れ通路（７）と測定スペースとの間でフレームに装着され、両端部（２、９）が開放して測定スペースへのガス又はガス混合物の流れによって発生した圧力波を通す測定ダクト（６）と、
フレームに装着され、圧力波を測定するのに用いられ、測定ダクトの第２の端部（９）の近くに配置された測定要素（１）と
を有し、
測定ダクトが、ガス又はガス混合物の流れに対してほぼ垂直な平面で回転され、その結果、オリフィス（４）が交互に流れの方向に向いたり流れに対して対向するようにし、
オリフィスを介して測定ダクト内に発生した変化する周期的な圧力波が測定ダクトへ通され、
変化する周期的な圧力波が測定要素において電気信号に変換される
ように構成した装置を用いて、流れ通路（７）内のガス又はガス混合物の流れを測定する方法において、
測定スペース内の静圧力が、測定スペース内にのびる第２のオリフィスによって流れ通路内の静圧力に連続して等しくされ、そして
電気信号の振幅に基いて流れが測定されることを特徴とするガス又はガス混合物の流れの測定方法。
【請求項１０】  電気信号から実質的に他の全ての信号をろ波することにより正弦波信号が分離されることを特徴とする請求項９に記載のガス又はガス混合物の流れの測定方法。
【請求項１１】  測定ダクト（６）が、定速度で回転されることを特徴とする請求項９又は１０に記載のガス又はガス混合物の流れの測定方法。
【請求項１２】  流れが、式ｖ2＝ΔＰ（ここでｖは流れであり、ΔＰは流れ通路内の動圧力及び静圧力との圧力差すなわち電気信号の振幅である）に基いて計算されることを特徴とする請求項９〜１１のいずれか一項に記載のガス又はガス混合物の流れの測定方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月18日(2005.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  送信機および受信機間の通信の方法であって、
制御チャネルを介して制御情報を通信する工程と、
情報チャネルを介して音声またはデータを通信する工程と、
前記情報チャネルを介して音声およびデータを通信するために、第１の変調方式を使用する工程と、
前記制御チャネルを介して制御情報を通信するために、前記第１の変調方式と異なる第２の変調方式を使用する工程とを備えることを特徴とする方法。
【請求項２】  前記第１および第２の変調方式はシンボルレートが同じであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記制御チャネルが付随制御チャネルであることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】  ハンドオーバが前記付随制御チャネルを介して開始されることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】  前記付随制御チャネルが高速付随制御チャネルであることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項６】  前記付随制御チャネルが低速付随制御チャネルであることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項７】  前記第１および第２の変調方式が線形変調方式であることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】  前記第１の変調方式が前記第２の変調方式よりも変調レベルが高いことを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】  前記第２の変調方式が前記第１の変調方式の減じた信号セットを使用することを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  前記第１および第２の変調方式の変調レベルが同じであることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】  前記第１の変調方式と前記第２の変調方式とが同じパルス形状を使用することを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】  前記第１および第２の変調方式が同じバースト形式を使用することを特徴とする請求項１から１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】  前記第１および第２の変調方式が同じトレーニングシーケンスを使用することを特徴とする請求項１から１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】  前記第１の変調方式がＱＡＭ変調方式であり、前記第２の変調方式がＱＰＳＫ変調方式であることを特徴とする請求項１から１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】  前記第１および第２の変調方式はシンボルレートが異なっていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１６】  前記制御チャネルが非付随制御チャネルであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１７】  前記第１の変調方式が線形変調方式であり、前記第２の変調方式が非線形変調方式であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１８】  前記第１の変調方式がＱＡＭ変調方式であり、前記第２の変調方式がＧＭＳＫ変調方式であることを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】  前記第１の変調方式が８ＰＳＫ変調方式であり、前記第２の変調方式がＧＭＳＫ変調方式であることを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】  前記情報チャネルが付随制御情報を通信するために第３の変調方式を使用する付随制御チャネルを有することを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項２１】  前記第３の変調方式が線形変調方式であることを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】  前記第３の変調方式がＱＰＳＫ変調方式であることを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】  基地局および移動局間の通信の方法であって、
第１の変調方式を使用して、情報チャネルを介して音声またはデータを通信すること、および
第２の変調方式を使用して、前記情報チャネルを介してバンド内シグナリング情報を通信することを含み、前記バンド内シグナリング情報が、伝送されたバーストに使用された変調タイプ、チャネル符号化、または音声符号化の少なくとも１つ以上を示す予約ビットを含むことを特徴とする方法。