【事件の表示】
　上記当事者間の特許第４２０２８３８号「無水石膏の製造方法」の特許無効審判事件についてされた平成２２年６月１５日付け審決に対し、東京高等裁判所において審決取消の判決（平成２２年（行ケ）第１０２３４号平成２３年３月２３日判決言渡）があったので、さらに審理のうえ、次のとおり審決する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第４２０２８３８号の請求項に係る発明についての特許を無効とする。
　審判費用は、被請求人の負担とする。
【理　由】
１．手続の経緯  
　本件特許第４２０２８３８号についての手続の概要は以下のとおりである。  
　平成１５年６月２５日　　特許出願  
　平成２０年１０月１７日　特許権の設定登録  
　平成２１年１０月２８日　特許無効審判の請求  
　平成２２年１月２２日　　答弁書及び訂正請求書提出  
　平成２２年４月２２日　　口頭審理（口頭審理陳述要領書提出） 
　平成２２年６月１５日　　審決 
　　　　　　　　　　　　　無効とすることはできない 
　平成２３年３月２３日　　判決（平成２２年（行ケ）第１０２３４号） 
　　　　　　　　　　　　　審決を取り消す 
　平成２３年４月１２日　　訂正請求申立書提出 
　平成２３年５月１８日　　訂正請求書提出 
　平成２３年５月２３日　　手続補正書提出 
　平成２３年９月２７日　　弁駁書提出 
　 
２．訂正の適否についての判断  
　平成２３年５月２３日付け手続補正書により補正された同年５月１８日付け訂正請求書に添付した訂正明細書による訂正（以下、「本件訂正」という。）の内容は以下のとおりであり、該手続補正書の特許請求の範囲の記載と該訂正明細書の特許請求の範囲の記載は同じである。 
　なお、平成２２年１月２２日付け訂正請求は、特許法第１３４条の２第４項の規定により取り下げられたものとみなす。 
　 
(2-1)訂正の内容 
◇訂正事項ａ 
　特許請求の範囲の記載を  
「【請求項１】　内筒の内部で燃料を燃焼させて該内筒の下部の開口部から燃焼ガスを噴出させ、前記内筒を囲繞し、下部が逆円錐状に形成された本体にナフタレンスルホン酸基を含む石膏廃材を供給し、該本体の内部で該石膏廃材を、該本体出口における粉粒体温度が３３０℃以上５００℃以下になるように、平均滞留時間３０分以上で加熱しながら、前記燃焼ガスによって流動化させ、生じたＩＩ型無水石膏を前記本体の内部から外部に排出し、前記内筒及び本体を備える無水石膏焼成炉から排出される燃焼ガスを集塵して捕集されるダストの７０質量％以上を、該無水石膏焼成炉に戻すことにより、ＩＩ型無水石膏の純度が９５％質量以上の製品を得ることを特徴とする無水石膏の製造方法。  
【請求項２】　削除　 
【請求項２】　前記集塵を２段階で行い、前段の集塵を集塵効率９０％以上のサイクロンで行うことを特徴とする請求項１に記載の無水石膏の製造方法。  
【請求項３】　前記前段の集塵を行うサイクロンを、前記無水石膏焼成炉の直上に配置し、該サイクロンにて集塵したダストを輸送機を介さずに直接該無水石膏焼成炉に戻すことを特徴とする請求項２に記載の無水石膏の製造方法。  
【請求項５】　削除　　」に訂正する。（下線部は、被請求人が付与したものである。）  
　  
◇訂正事項ｂ  
　発明の名称を「無水石膏の製造方法」に訂正する。 
　 
(2-2)訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否  
◇訂正事項ａについて 
　訂正事項ａは、詳述すれば(i)〜(vi)の訂正事項からなる。  
(i)請求項１について、「石膏廃材を供給し」とあるのを「ナフタレンスルホン酸基を含む石膏廃材を供給し」に訂正する。  
　 
(ii)請求項１について、「該本体の内部で該石膏廃材を３３０℃以上８４０℃以下に加熱しながら」とあるのを「該本体の内部で該石膏廃材を、該本体出口における粉粒体温度が３３０℃以上５００℃以下になるように加熱しながら」に訂正する。  
　 
(iii)請求項１について、「生じた無水石膏を」とあるのを「生じたＩＩ型無水石膏を」に訂正する。  
　 
(iv)請求項１について、「外部に排出する」とあるのを「外部に排出し、前記内筒及び本体を備える無水石膏焼成炉から排出される燃焼ガスを集塵して捕集されるダストの７０質量％以上を、該無水石膏焼成炉に戻すことにより、ＩＩ型無水石膏の純度が９５％質量以上の製品を得る」に訂正する。 
　 
(v)請求項２、５を削除する。 
　 
(vi)請求項２を削除することにより、訂正前の請求項３、４の項順を順次繰り上げると共に、従属する請求項の項番を訂正する。 
　 
　上記(i)〜(vi)の訂正事項についてそれぞれ検討する。  
(i)の訂正事項は、供給する「石膏廃材」について、「ナフタレンスルホン酸基を含む石膏廃材」に限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。  
　そして、本件特許明細書には、  
「【０００７】 
【発明が解決しようとする課題】 
しかし、原料に石膏廃材を用いて無水石膏を製造する場合には、従来のロータリーキルン等を用いて焼成すると、局所的に過剰に加熱される部分が生じ、石膏廃材に高性能減水剤として混和されているナフタレンスルホン酸基が分解されて硫黄酸化物が発生するおそれがあるという問題があった。また、石膏自体も、１０００℃以上に加熱すると、石膏が熱分解して大量に硫黄酸化物が発生するおそれがあるという問題があった。」 
「【００１１】 
本発明にかかる無水石膏の製造方法は、粉粒体を流動化状態として、高温の燃焼ガスを接触させて加熱する間接加熱方式を採用し、粉粒体層は完全混合状態となり、全体として略々均一な温度となり、局所的に過剰に加熱されることはないため、原料としての石膏廃材粉末が、石膏自体の分解温度（１０００℃以上）や、混和剤として含有されるナフタレンスルホン酸基の分解温度（８５０℃以上）に加熱されることを避けることができる。これによって、硫黄酸化物の発生を大幅に抑制することができる。ここで、石膏廃材粉末による粉粒体層温度を３３０℃〜８４０℃に制御し、２０分以上の滞留時間を与えることで、硫黄酸化物をほとんど発生させずに、石膏廃材中の２水石膏を完全にII型無水石膏化することができる。」との記載があることから、上記(i)の訂正事項は、本件特許明細書に記載された事項の範囲内においてなされたものである。  
　 
(ii)の訂正事項は、本体内部での石膏廃材の加熱について、「本体出口における粉粒体温度が３３０℃以上５００℃以下になるように、平均滞留時間３０分以上で加熱」すると限定するものであり、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。  
　そして、本件特許明細書には、 
「【００３４】 
無水石膏焼成炉３１は、下部のコーン部分の有効容積が１．５ｍ３で、上部円筒部分の内径が１，８５０ｍｍの試験用焼成炉である。また、無水石膏焼成炉３１からの排気経路に設けられたサイクロン３５は、集塵効率が９３％であって、これによって排気ガスの第一段集塵を行い、さらにバグフィルタ３６にて第二段集塵を行った後、ファン３７を介して排気ガスを大気に放出した。サイクロン３５及びバグフィルタ３６の捕集ダストＤは、合流した後、所定の割合をスクリューコンベア３９を介して無水石膏焼成炉３１に戻し、残部を製品に混入した。無水石膏焼成炉３１の運転条件は、炉出口粉粒体温度が４６０℃、炉出口ガス温度が４１０℃であり、時産０．７０ｔ−無水石膏／ｈを目標とした。」 
「【００１１】 
本発明にかかる無水石膏の製造方法は、粉粒体を流動化状態として、高温の燃焼ガスを接触させて加熱する間接加熱方式を採用し、粉粒体層は完全混合状態となり、全体として略々均一な温度となり、局所的に過剰に加熱されることはないため、原料としての石膏廃材粉末が、石膏自体の分解温度（１０００℃以上）や、混和剤として含有されるナフタレンスルホン酸基の分解温度（８５０℃以上）に加熱されることを避けることができる。これによって、硫黄酸化物の発生を大幅に抑制することができる。ここで、石膏廃材粉末による粉粒体層温度を３３０℃〜８４０℃に制御し、２０分以上の滞留時間を与えることで、硫黄酸化物をほとんど発生させずに、石膏廃材中の２水石膏を完全にII型無水石膏化することができる。」との記載、および 
【００４２】【表２】には、「炉出口粉粒体温度（℃）を４６０℃（実施例１）、４７０℃（実施例２）、４５０℃（実施例３）、４７０℃（実施例４）にする」ことの表示があることから、上記(ii)の訂正事項は、本件特許明細書に記載された事項の範囲内においてなされたものである。  
　なお、当該訂正事項について、請求人は、口頭審理陳述要領書において、加熱温度を、本体内部の温度での規定から本体出口温度での規定に変えるものであるから、特許請求の範囲を変更するものである旨主張している。  
　この点について検討すると、上述のとおり、本件特許明細書には、「【００３４】・・・無水石膏焼成炉３１の運転条件は、炉出口粉粒体温度が４６０℃、炉出口ガス温度が４１０℃であり、時産０．７０ｔ−無水石膏／ｈを目標とした。」という記載があることから、本件特許発明を具体的に実施する際には、炉出口（本体出口）での粉粒体温度が特定温度となるように運転条件を調整していることが理解でき、そして、口頭審理において被請求人が陳述したとおり、本件特許発明で使用するいわゆるコニカルケトル炉における炉出口の温度は、本体内部での加熱温度と実質的には変わらないとみることができることから、加熱温度を、本体内部の温度での規定から本体出口温度での規定に変えたとしても、特許請求の範囲を変更するものであるとはいえない。 
　 
(iii)の訂正事項は、製造する無水石膏について、「ＩＩ型無水石膏」に限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。  
　そして、本件特許明細書には、  
「【０００９】 
そこで、本発明は、上記従来の技術における問題点に鑑みてなされたものであって、硫黄酸化物の発生を大幅に抑制することができるとともに、高純度のII型無水石膏を得ることができ、燃費も低い無水石膏の製造方法及び無水石膏焼成システムを提供することを目的とする。」 
「【００１１】 
本発明にかかる無水石膏の製造方法は、粉粒体を流動化状態として、高温の燃焼ガスを接触させて加熱する間接加熱方式を採用し、粉粒体層は完全混合状態となり、全体として略々均一な温度となり、局所的に過剰に加熱されることはないため、原料としての石膏廃材粉末が、石膏自体の分解温度（１０００℃以上）や、混和剤として含有されるナフタレンスルホン酸基の分解温度（８５０℃以上）に加熱されることを避けることができる。これによって、硫黄酸化物の発生を大幅に抑制することができる。ここで、石膏廃材粉末による粉粒体層温度を３３０℃〜８４０℃に制御し、２０分以上の滞留時間を与えることで、硫黄酸化物をほとんど発生させずに、石膏廃材中の２水石膏を完全にII型無水石膏化することができる。」との記載があることから、本件特許明細書に記載された事項の範囲内においてなされたものである。  
　 
(iv)の訂正事項は、製造する無水石膏について、「内筒及び本体を備える無水石膏焼成炉から排出される燃焼ガスを集塵して捕集されるダストの７０質量％以上を、該無水石膏焼成炉に戻すことにより、ＩＩ型無水石膏の純度が９５％質量以上の製品を得る」に限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。  
そして、本件特許明細書には、 
「【請求項２】　前記内筒及び本体を備える無水石膏焼成炉から排出される燃焼ガスを集塵して捕集されるダストの７０質量％以上を、該無水石膏焼成炉に戻すことを特徴とする請求項１に記載の無水石膏の製造方法。」との記載があることから、本件特許明細書に記載された事項の範囲内においてなされたものである。 
　 
(v)の訂正事項は、請求項２、５を削除するものであって、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。  
　 
(vi)の訂正事項は、請求項２の削除に整合させて行うものであることから、明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。 
　 
◇訂正事項ｂについて 
　訂正事項ｂの発明の名称を「無水石膏の製造方法」に訂正することは、請求項５（無水石膏焼成システム）の削除に整合させて行うものであることから、明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。。 
　 
(2-3)訂正の適否についてのむすび  
　以上のとおりであるから、上記訂正事項ａは、特許請求の範囲の減縮または明りょうでない記載の釈明を目的とするものであって、特許明細書に記載された事項の範囲内においてなされたものであり、また、実質的に特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもなく、訂正事項ｂは、明りょうでない記載の釈明を目的とするものであって、特許明細書に記載された事項の範囲内においてなされたものであり、また、実質的に特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。 
　したがって、本件訂正は、特許法第１３４条の２ただし書き、及び同条第５項において準用する同法第１２６条第３項、４項の規定に適合するので適法な訂正である。  
　  
３．本件特許発明  
　上記のとおり本件訂正は認められたので、本件特許の請求項１〜３に係る発明（以下「本件発明１」〜「本件発明３」という。）は、平成２３年５月２３日付け手続補正書により補正された同年５月１８日付け訂正請求書に添付した訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１〜３に記載された事項により特定される次のとおりのものである。 　 　  
「【請求項１】　内筒の内部で燃料を燃焼させて該内筒の下部の開口部から燃焼ガスを噴出させ、前記内筒を囲繞し、下部が逆円錐状に形成された本体にナフタレンスルホン酸基を含む石膏廃材を供給し、該本体の内部で該石膏廃材を、該本体出口における粉粒体温度が３３０℃以上５００℃以下になるように、平均滞留時間３０分以上で加熱しながら、前記燃焼ガスによって流動化させ、生じたＩＩ型無水石膏を前記本体の内部から外部に排出し、前記内筒及び本体を備える無水石膏焼成炉から排出される燃焼ガスを集塵して捕集されるダストの７０質量％以上を、該無水石膏焼成炉に戻すことにより、ＩＩ型無水石膏の純度が９５％質量以上の製品を得ることを特徴とする無水石膏の製造方法。  
【請求項２】　前記集塵を２段階で行い、前段の集塵を集塵効率９０％以上のサイクロンで行うことを特徴とする請求項１に記載の無水石膏の製造方法。  
【請求項３】　前記前段の集塵を行うサイクロンを、前記無水石膏焼成炉の直上に配置し、該サイクロンにて集塵したダストを輸送機を介さずに直接該無水石膏焼成炉に戻すことを特徴とする請求項２に記載の無水石膏の製造方法。」  
　 
４．請求人の主張 
　請求人は、特許第４２０２８３８号の請求項１乃至３に係る発明（無水石膏の製造方法）についての特許を無効とする、審判請求費用は被請求人の負担とする、との審決を求め、証拠方法として、下記甲第１号証〜甲第９号証、甲第１１号証〜甲第２１号証（甲第１０号証は本件特許公報）を提出し、無効審判請求書、口頭審理陳述要領書および弁駁書において、 
　本件発明１、２は、本件出願前に頒布された刊行物である下記の甲第１号証〜甲第８号証、甲第１１号証〜甲第１４号証、甲第１６号証および甲第１７号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、 
　本件発明３は、同甲第１号証〜甲第９号証、甲第１１号証〜甲第１４号証、甲第１６号証および甲第１７号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるので、 
　本件発明１〜３（無水石膏の製造方法）は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるので、これらの発明に係る特許は、特許法第１２３条第１項第２号により無効にすべきものである旨主張している。  
　  
（証拠方法） 
○甲第１号証：特公昭６０−９８５２号公報  
　 
○甲第２号証：特開２００２−８６１２６号公報  
　 
○甲第３号証：特開平６−２７９０７５号公報  
　 
○甲第４号証：特開平１１−１００２４４号公報  
　 
○甲第５号証：特開平１０−２３０２４２号公報  
　 
○甲第６号証：村上恵一監修、「新しい資源・セッコウとその利用」、株式会社ソフトサイエンス社、昭和５１年３月２０日、第１版第１刷、第１９０〜１９１頁  
　 
○甲第７号証：特許第２５７１３７４号公報  
　 
○甲第８号証：特開２００３−１１７３４３号公報  
　 
○甲第９号証：石膏石灰学会編著、「石膏石灰ハンドブック」、株式会社技報堂、昭和４７年６月１５日、第１版第１刷、第４４４〜４４５頁  
　 
○甲第１１号証：特開平５−２９３３５０号公報  
　 
○甲第１２号証：特開平６−１２７９９４号公報  
　 
○甲第１３号証：特開２００２−６８８２０号公報  
　 
○甲第１４号証：特開平６−１４２６３３号公報  
　 
○甲第１５号証：井伊谷鋼一著、「集塵技術マニュアル」、日刊工業新聞社、昭和４７年３月３１日、初版、広３１頁、第１２〜１３頁  
　 
○甲第１６号証：菱田一雄著、「ばい煙・粉じんの排出防止対策と実例」、電氣雑誌ＯＨＭ、株式会社オーム社、昭和４５年１０月１２日（昭和４５年１０月２９日国立国会図書館受入）、第５７巻、第１０号、第４４〜５５頁 
　 
○甲第１７号証：海外技術資料研究所専門委員会翻訳・編集、「公害技術資料　粉塵による大気汚染防止技術　原典　CONTROL TECHNIQUES FOR PARTICULATE AIR POLLUTANTS (No.51)」、株式会社海外資料研究所、昭和４９年３月２９日国立国会図書館受入、２−３、３−１７、３−２８、３−２９、４−３、４−４、４−５、６−３４、６−４０、６−４１頁  
　 
○甲第１８号証：本件審決取消訴訟、平成２２年９月１６日付け原告（請求人）準備書面 
　 
○甲第１９号証：本件審決取消訴訟、平成２２年１１月１２日付け被告（被請求人）準備書面 　  
　 
○甲第２０号証：特開２００１−１４６４２０号公報 
　 
○甲第２１号証：特開２００２−６８７４０号公報 
　 
５．被請求人の主張  
　被請求人は、みなし取り下げされた平成２２年１月２２日付け訂正請求書に添付した訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（無水石膏の製造方法）は、請求人の提示する甲第１号証〜甲第９号証、甲第１１号証〜甲第１７号証の記載に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえず、同請求項１に従属する形式で記載された請求項２〜４に係る発明（無水石膏の製造方法）も同じく当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえないので、 
　本件発明１〜３（無水石膏の製造方法）は、特許法第２９条第２項により特許を受けることができないものではないので、これらの発明に係る特許は、特許法第１２３条第１項第２号により無効にすべきものでない旨主張しているということができる。 
　 
６．甲各号証記載の発明  
◇甲第１号証：特公昭６０−９８５２号公報  
(1)特許請求の範囲 
「１　粉末化されたあるいは粒状の石膏、または他の粒状材料を熱処理するための装置であって、使用に際しての前記材料により接触される無孔底を有する容器、熱処理されるべき前記材料のための入口、熱処理された材料のための出口、および少なくとも一本の下方に延びて熱ガスを通すようになされて前記底に隣接して容器の内側に開口した加熱管を具備し、前記容器は前記出口によって決まる材料の高さでの容器の横断面積よりも小さな面積の底を提供すべく少なくとも使用中の材料で占められる区域の側壁が傾斜せしめられており、前記容器の前記底は前記底における粒状材料を前記開口の近傍に制限すべく前記加熱管の前記開口に関して形状づけられ、寸法づけられかつ配置されておりそして前記容器の前記底は前記加熱管の前記開口の底端より下に設けられた少なくとも一個の内部突起を有し、しかして、操作中前記加熱管の下方部分から出る熱ガスが熱処理された材料の堆積を阻止すべく前記底を横切って連続的に前記材料を掃引するようになしたことを特徴とする粉末化されたあるいは粒状の石膏、または他の粒状材料を熱処理するための装置。  
　・・・  
３　使用中の材料によって占められる容器の前記区域は逆円錐形であり、かかる容器の垂直軸線に実質的に沿って前記加熱管が配置されている特許請求の範囲第１項または第２項に記載の粉末化されたあるいは粒状の石膏、または他の粒状材料を熱処理するための装置。  
４　前記加熱管はその下方部分の側壁に付加的に複数のガス分配孔を有する特許請求の範囲第１項から第３項のいずれか一項に記載の粉末化されたあるいは粒状の石膏、または他の粒状材料を熱処理するための装置。  
５　前記加熱管は上方部分で燃料供給源および酸素含有ガス源に接続されうるものであり、かつ前記加熱管は燃料バーナーを含む特許請求の範囲第１項から第４項のいずれか一項に記載の粉末化されたあるいは粒状の石膏、または他の粒状材料を熱処理するための装置。」  
　 
(2)第３欄第２２〜２４行 
「本発明は粒状材料特に鉱物を熱処理するための、特に石膏（水和硫酸カルシウム）をか焼するための装置に関する。」（当審注：システムの入力文字制限のため、「暇」の「日」が「火」である文字を「か」で表記することで「か焼」とする。以下同じ。） 
　 
(3)第４欄第１８〜２９行  
「本発明によれば、使用中容器含有物によって接触せしめられる無孔底および熱処理される材料の入口、熱処理された材料の出口、および底に隣接して容器の内面に向いて開いた、熱ガスの通路のために設けられた少なくとも一つの下方に向って延びた加熱管を有する容器からなる粒状材料を熱処理するための装置を提供し、この容器の底は管開口近くで底で材料を制限させるように形作り、これによって使用中加熱管の下方部分から出る熱ガスは、底で材料を加熱と同時に循環させ、これによって容器の内容物全部を実質的に攪拌し加熱するようにする。」 
　 
(4)第５欄第１７〜２１行 
「更に拡大した直径または断面積の上方帯域はダストとして排出ガス中に伴われて失われる微細な材料（これは次に排出ガスから分離する必要がある。）の量を減少させる。」 
　 
(5)第６欄第４１〜４３行 
「容器は装置の熱効率を増強させるため熱損失に対して外部から保温するのが好ましい。またその上方帯域を收塵器に接続するのが望ましい。」 
　 
(6)第７欄第４〜９行 
「容器を連続式で運転するとき、材料例えば硫酸カルシウム二水和物のためのバルブ付入口を設け、熱処理された材料のためのバルブ付出口または溢流装置を設けるのが好ましい。容器への材料の供給または容器からの材料の放出を制御するため、適切な任意の方法を使用できる。」  
　 
(7)第７欄第３４〜４０行  
「本発明の装置中での処理材料の流動化は、それが主として流入ガスによるにしろあるいは放出された蒸気による自己流動化によるにしろ、内容物の急速かつ効率的な混合に寄与し、熱伝達に寄与する、そしてまた連続運転中生成物の放出さえも容易にする。この使用のために容器には機械的攪拌機を備える必要はない。」 
　 
(8)第８欄第１４〜２１行 
「主として有効か焼温度を制御することによってこの装置で半水プラスターおよび無水プラスターまたはその混合物の製造を行うことができる。例えば処理すべき硫酸カルシウムの温度を約１４０〜１７０℃に保つならば、硫酸カルシウム二水和物からの主たるか焼生成物は半水石膏である、十方（当審注：「一方」の誤記と認められる。）更に高い温度、約３５０℃以上の温度では主生成物は無水硫酸カルシウムである。」  
　 
(9)第８欄第４２行〜第９欄第２行 
「先ず第１図を参照して逆円錐形の容器１は限定された面積の丸底２およびか焼すべき材料例えば粉末石膏のための供給パイプ４、および集塵器（図示せず）に接続した排出ガス出口パイプ５を嵌合した蓋３を有する。」 
　 
(10)第９欄第７〜１０行 
「容器を運転するとき容器中の粉末材料の通常の高さは１０で示す。か焼された材料のための出口は導出パイプ１２に接続した外方溢流堰１１の形で設ける。バルブ付底部放出口２１も設ける。」 
　 
(11)第９欄第２７〜３５行 
「燃料ガス例えば天然ガスはパイプ１６を介して、容器中の材料の高さ１０に近い所で管６内に配置したノズル混合形のガスバーナー１７に供給する。空気はファン１９から空気パイプ１８を通ってこのバーナーに別々に供給する。ノズル混合バーナー１７を通る燃料／空気混合物はスパーク針２０で点火され、燃焼による熱いガス状生成物は管中を下方に向って通過し、その開放端１３および孔１４を通って出る。」  
　 
(12)上記(1)の「・・・粉末化されたあるいは粒状の石膏・・・」、上記(8)の「・・・更に高い温度、約３５０℃以上の温度では主生成物は無水硫酸カルシウムである。」、上記(3)の「・・・使用中加熱管の下方部分から出る熱ガスは、底で材料を加熱と同時に循環させ、これによって容器の内容物全部を実質的に攪拌し加熱するようにする。」、上記(7)の「本発明の装置中での処理材料の流動化は、それが主として流入ガスによるにしろあるいは放出された蒸気による自己流動化によるにしろ、内容物の急速かつ効率的な混合に寄与し、熱伝達に寄与する・・・」、(10)の「・・・か焼された材料のための出口は導出パイプ１２に接続した外方溢流堰１１の形で設ける。バルブ付底部放出口２１も設ける。」との記載からして、引用例には、「外方溢流堰１１およびバルブ付底部放出口２１」を含めた容器の内部で流動化されている処理材料（粉粒体）の温度がほぼ均一であってこれを約３５０℃以上にすること、つまり、「『外方溢流堰１１およびバルブ付底部放出口２１』における粉粒体温度を約３５０℃以上にする」ことが記載されているということができる 
　 
　上記(1)ないし(11)の記載事項および上記(12)の検討事項より、甲第１号証には、 
「加熱管６の内部で燃料を燃焼させて該加熱管６の下部の『開口およびガス分配孔１４』から燃焼ガスを放出させ、前記加熱管６を囲み、下部が逆円錐形の容器１に石膏を供給し、該容器１の内部で該石膏を、『外方溢流堰１１およびバルブ付底部放出口２１』における粉粒体温度が約３５０℃以上になるように加熱しながら、前記燃焼ガスによって流動化させ、生じた無水硫酸カルシウムを前記容器１の内部から外部に排出し、前記加熱管６及び容器１を備える『か焼するための装置』から排出される排出ガスを集塵してダストを分離すると共に、排出ガス中に伴われて失われる微細な材料の量を減少させる、無水硫酸カルシウムの製造方法。」の発明（以下、「甲第１号証記載の発明」という。）が開示されている。 
　 
◇甲第２号証：特開２００２−８６１２６号公報  
(13)「【請求項１】 セメントクリンカ焼成用のサスペンションプレヒータに石膏ボード廃材を給養し、下部から４００〜８５０℃の熱風を吹き込むことにより、石膏ボード廃材の石膏と石膏に付着している紙とを同時に焼成する方法。」 
　 
(14)「【０００５】 
【発明が解決しようとする課題】石膏ボード廃材から石膏を回収するために、石膏ボード廃材に含まれる紙を除去する手段として、焼成による方法が考えられるが、ロータリーキルンとグレードクーラの組合せでは、石膏微粉の存在のため温度コントロールが難しく、石膏の分解が起こらない温度まで加熱し、紙を完全燃焼させることは困難である。したがって、本発明の目的は、石膏ボード廃材からリサイクル石膏を得る方法を提供することである。 
【０００６】 
【課題を解決するための手段】上述した本発明の目的は、セメントクリンカ焼成用のサスペンションプレヒータに石膏ボード廃材を給養し、下部から４００〜８５０℃の熱風を吹き込むことにより、石膏ボード廃材の石膏と石膏に付着している紙とを同時に焼成し、焼成された石膏をロータリーキルンで冷却することにより達成される。」 
　 
(15)「【０００８】 
【発明実施の形態】石膏ボード廃材に含まれる紙を完全燃焼させるために必要な温度は、紙の形態、粒度および燃焼時間によって異なるが、４００〜７００℃の範囲であり、紙の耐火度が低い程、粒度の細かい程、燃焼時間が長い程、低温で完全燃焼させることができる。 
【０００９】一方、加熱による石膏の分解は、約９５０℃から起こることが知られており、石膏ボード廃材を石膏の分解が起こらない温度まで加熱し、紙を完全に焼成するためには、石膏ボード廃材焼成時の温度を４００〜８５０℃の範囲に維持する必要がある。 
【００１０】本発明における石膏ボード廃材の焼成方法は、ロータリーキルン以外の熱風源において発生させた４００〜８５０℃の熱風をサスペンションプレヒータ下部に導入し、石膏ボード廃材をサスペンションプレヒータに給養することにより、紙を完全に燃焼させると共に、石膏の分解によるＳＯｘの発生を抑制し、かつロータリーキルンにおいて回収物の冷却を行うものである。 
【００１１】本発明における熱風発生源としては、発電設備等の高温の排ガスおよび熱風炉等が使用でき、燃料としては、都市ガス、ＬＮＧ、重油、灯油等が挙げられるが、Ｓ分の少ない燃料を使用する方が好ましい。」 
　 
(16)「【００１８】実施例および比較例の焼成品を粉末X線回折で確認したところ、実施例１〜３および比較例１、３の石膏の形態は、全て無水石膏であり、比較例２については、その殆どが無水石膏であったが、極微量の半水石膏も含まれていた。焼成品の粉末X線回折の結果より、上記表１における焼成品の強熱減量は、未燃焼の紙分の炭化に伴うものであると考えられ、強熱減量の値は、焼成品に含まれる不完全燃焼の紙の割合を知る目安になるものと考えられる。」 
　 
(17)【００１６】【表１】には、「実施例１での焼成温度が４００℃である」ことの表示がある。 
　  
　上記(13)ないし(17)の記載事項より、甲第２号証には、 
「『石膏ボード廃材（石膏廃材）』を供給して、『焼成温度が４００℃（実施例１）になるように』加熱して『ＩＩ型無水石膏』を生じさせる」ことが開示されている。 
　 
◇甲第７号証：特許第２５７１３７４号公報  
(14)「【請求項５】焼成すべき材料の床を含有するための容器および容器の頂部から下方に延び、上記床中に熱ガスを直接導入するための下方区域中に少なくとも一つの開口を有するチユーブを有する焼成すべき材料を焼成する装置であって、上記床の最上部の上のレベルから、装置が操作中にあるとき上記床の最上部の下のレベルまで延びる外チユーブによって熱ガスチユーブがその長さの一部のみが取り巻かれており、外チユーブの上方区域中に少なくとも１種の比較的冷たい溶相性物質を導入するための装置が設けられていることを特徴とする焼成装置。  
・・・  
【請求項７】容器を出る排ガスからダストを分離するため容器の上方区域にダスト分離器を接続し、ダストコレクターから外チユーブの上方区域に排ガスを循環させるための装置を設けた特許請求の範囲第５項または第６項記載の焼成装置。  
【請求項８】ダスト分離器からチユーブの上方区域に分離されたダストを循環させるための装置を設けた特許請求の範囲第５項、第６項または第７項記載の焼成装置。」  
　 
(15)第３欄第１７〜１９行  
「本発明は焼成装置、特に硫酸カルシウム２水塩または石膏の如き焼成すべき材料を焼成するための装置に関する。」  
　 
(16)第５欄第１９〜２７行 
「排ガス出口１５はサイクロンダスト分離器３１に接続され、そこからダクト３２は最終ダストコレクターに導かれ、続いて排ガスの放出をする。冷たい排ガスを外チユーブ２６に再循環させるときには、それらは都合よくダクト３２から取り出され、図示する如くフアン３３によつてガス入口２９にポンプで送られる。微細にされた焼成された材料はサイクロン３１の基部３４で回収され、所望によつて破線で示す如く固体入口２８に再循環させることができる。」  
　 
　上記(14)ないし(16)の記載事項より、甲第７号証には、 
「石膏焼成装置から排出される排ガス（燃焼ガス）のダストをサイクロンで集塵して分離し、このダストを石膏焼成装置に戻す」ことが開示されている。 
　 
◇甲第１１号証：特開平５−２９３３５０号公報  
(17)「【請求項２】　重量平均分子量が１００００〜３００００の縮合物を得ることを特徴とする請求項１記載の石膏−水スラリー用分散剤の製造法。」 
　 
(18)「【０００２】 
【従来の技術】従来、石膏−水スラリー用分散剤として高度な分散性を示すナフタレンスルホン酸ホルムアルデヒド縮合物（以下ナフタレン系と称す）が知られている。」 
　 
　上記(17)(18)の記載事項より、甲第１１号証には、 
「重量平均分子量が１００００〜３００００であるナフタレンスルホン酸ホルムアルデヒド縮合物を含む石膏（ナフタレンスルホン酸基を含む石膏）を使用する」ことが開示されている。 
　 
◇甲第１２号証：特開平６−１２７９９４号公報  
(19)「【０００２】 
【従来の技術】従来、石膏−水スラリー用分散剤として高度な分散性を示すナフタレンスルホン酸ホルムアルデヒド縮合物（以下ナフタレン系と称す）が知られている。石膏ボードの製造において、ナフタレン系分散剤を使用することにより、混練り水量が低減され、乾燥時間の短縮が可能となり、生産性が向上する。石膏ボードの製造は、所定の配合に応じて、石膏、混和剤水溶液、硬化促進剤水溶液等と泡沫とを同時にピンミキサーと称される混練機に投入して10秒程度の攪拌で排出され、上下のボード（紙）に挟み込む生産工程からなっている。」 
　 
　上記(19)の記載事項より、甲第１２号証には、 
「ナフタレンスルホン酸ホルムアルデヒド縮合物を含む石膏（ナフタレンスルホン酸基を含む石膏）を使用する」ことが開示されている。 
　 
◇甲第１３号証：特開２００２−６８８２０号公報  
(20)「【０００２】 
【従来の技術】従来、石膏ボード等に用いられる石膏スラリーの製造には、分散剤としてリグニンスルホン酸塩やナフタレンスルホン酸塩ホルムアルデヒド縮合物、メラミンスルホン酸塩ホルムアルデヒド縮合物、トリスフェノール・アミノベンゼンスルホン酸塩共縮合物（特開平６−９１１４９号公報）等が使用されているが、製造合理化の観点から更に減水性の高い石膏スラリーの製造方法の開発が要望されている。」 
　 
　上記(20)の記載事項より、甲第１３号証には、「ナフタレンスルホン酸塩ホルムアルデヒド縮合物を含む石膏（ナフタレンスルホン酸基を含む石膏）を使用する」ことが開示されている。 
　 
◇甲第１４号証：特開平６−１４２６３３号公報  
(21)「【請求項１】 石膏ボード芯の少なくとも一部に石膏ボード用原紙が付着してなる石膏ボードの廃材を加熱して石膏ボード用原紙を炭化させることを特徴とする石膏ボード廃材から石膏を回収する方法。」 
　 
(22)「【０００６】また、得られる石膏を単に増量材として、或はアルカリ剤の存在下で水和させて再利用する場合には、石膏ボードの廃材を３６０℃以上で、好ましくは３６０〜６００℃で加熱して原紙を炭化させ脱水した石膏の殆どがII型無水石膏とすることもできるし、原紙を燃焼させて石膏をII型無水石膏とすることもできる。この場合にも、加熱時間は任意とすることができるが、０.１〜３時間、好ましくは０.５〜１時間とするのがよい。高温加熱前の廃材の破砕が充分でなく塊状であると、原紙の炭化後でもIII 型無水石膏が塊状のまま残ることがあるので容易に再利用できるように高温加熱後に粉砕工程を設けることができる。この場合の粉砕も、上述した破砕と同様の条件で行うことができる。本発明では、上記方法により回収した石膏（III 型無水石膏）を単独で石膏芯として使用することもでき、又、通常の焼石膏と混合して使用することもできる。」 
　 
　上記(21)(22)の記載事項より、甲第１４号証には、 
「『石膏ボード廃材（石膏廃材）』を供給して、『加熱温度が３６０〜６００℃になるように、所定の時間（０.１〜３時間）で』加熱して『ＩＩ型無水石膏』を生じさせる」ことが開示されている。 
　 
７．当審の判断  
(7-1)本件発明１について  
　本件発明１と甲第１号証記載の発明とを対比する。 
○甲第１号証記載の発明の「加熱管６」、「『開口およびガス分配孔１４』」、「放出」、「囲み」、「逆円錐形の」、「容器１」、「『外方溢流堰１１およびバルブ付底部放出口２１』」、「無水硫酸カルシウム」、「『か焼するための装置』」、「排出ガス」は、 
　本件発明１の「内筒」、「開口部」、「噴出」、「囲繞し」、「逆円錐形状に形成された」、「本体」、「本体出口」、「無水石膏」、「無水石膏焼成炉」、「燃焼ガス」にそれぞれ相当する。 
　 
○甲第１号証記載の発明の「粉粒体温度が約３５０℃以上になるように加熱しながら」と、本件発明１の「本体出口における粉粒体温度が３３０℃以上５００℃以下になるように、平均滞留時間３０分以上で加熱しながら」とは、「粉粒体温度が約３５０℃以上５００℃以下になるように加熱しながら」という点で共通する。 
　 
○甲第１号証記載の発明の「集塵してダストを分離すると共に、排出ガス（燃焼ガス）中に伴われて失われる微細な材料の量を減少させる」ことと、本件発明１の「集塵して捕集されるダストの７０質量％以上を、無水石膏焼成炉に戻すことにより、ＩＩ型無水石膏の純度が９５％質量以上の製品を得る」こととは、「集塵してダストを分離すると共に、燃焼ガス中に伴われて失われる微細な材料の量を減少させる」という点で共通する。 
　 
　上記より、本件発明１と甲第１号証記載の発明とは、 
「内筒の内部で燃料を燃焼させて該内筒の下部の開口部から燃焼ガスを噴出させ、前記内筒を囲繞し、下部が逆円錐状に形成された本体に石膏を供給し、該本体の内部で該石膏を、本体出口における粉粒体温度が３５０℃以上５００℃以下になるように加熱しながら、前記燃焼ガスによって流動化させ、生じた無水石膏を前記本体の内部から外部に排出し、前記内筒及び本体を備える無水石膏焼成炉から排出される燃焼ガスを集塵してダストを分離すると共に、燃焼ガス中に伴われて失われる微細な材料の量を減少させる、無水石膏の製造方法。」という点で一致し、以下の点で相違している。 
＜相違点１＞ 
　本件発明１では、「ナフタレンスルホン酸基を含む石膏廃材」を供給して、「粉粒体温度が３３０℃以上５００℃以下になるように、平均滞留時間３０分以上で」加熱して「ＩＩ型無水石膏」を生じさせるのに対して、甲第１号証記載の発明では、石膏を供給して、粉粒体温度が約３５０℃以上になるように加熱して無水石膏を生じさせるものの、上記事項を発明特定事項にしていない点。 
　 
＜相違点２＞ 
　本件発明１では、「集塵して捕集されるダストの７０質量％以上を、無水石膏焼成炉に戻すことにより、ＩＩ型無水石膏の純度が９５％質量以上の製品を得る」のに対して、甲第１号証記載の発明では、ダストを集塵して分離すると共に、排出ガス（燃焼ガス）中に伴われて失われる微細な材料の量を減少させるものの、上記事項を発明特定事項にしていない点。 
　 
　上記両相違点について検討する。 
＜相違点１＞について 
　上記６．より、 
　甲第２号証には、「『石膏ボード廃材（石膏廃材）』を供給して、『焼成温度が４００℃（実施例１）になるように』加熱して『ＩＩ型無水石膏』を生じさせる」ことが開示され、 
　甲第１４号証には、「『石膏ボード廃材（石膏廃材）』を供給して、『加熱温度が３６０〜６００℃になるように、所定の時間（０.１〜３時間）』加熱して『ＩＩ型無水石膏』を生じさせる」ことが開示され、 
　甲第１１ないし１３号証には、「ナフタレンスルホン酸基を含む石膏を使用する」ことが開示されている。 
　上記からして、一般に、「『石膏廃材』を供給して、『粉粒体温度が例えば４００℃程度になるように、所定の時間で』加熱して『ＩＩ型無水石膏』を生じさせる」ことは本件出願前周知の事項（以下、「周知の事項Ａ」という。）であり、また、「ナフタレンスルホン酸基を含む石膏廃材が存在する」ことも本件出願前周知の事項（以下、「周知の事項Ｂ」という。）である。 
　また、甲第１号証記載の発明と上記周知の事項Ａとは、「石膏を加熱して無水石膏を生じさせる」という点で共通している。　 
　そうすると、甲第１号証記載の発明の「石膏を供給して、粉粒体温度が約３５０℃以上になるように加熱して無水石膏を生じさせる」ことについて、上記の点で共通する周知の事項Ａを適用することで、「石膏廃材」を供給して、「粉粒体温度が例えば４００℃程度になるように、所定の時間（例えば０.１〜３時間）で」加熱して「ＩＩ型無水石膏」を生じさせるようにすることは、当業者であれば容易に想到し得ることである。 
　そして、この際に、上記周知の事項Ｂの「ナフタレンスルホン酸基を含む石膏廃材」を供給するかどうかは、不都合なく無水石膏を製造する等の観点より、当業者であれば適宜決定する、ナフタレンスルホン酸基の物性の確認等に基いた選択事項であるということができる。 
　したがって、相違点１に係る本件発明１の発明特定事項とすることは、当業者であれば甲第１号証記載の発明および本件出願前周知の事項（例えば、甲第２、１１〜１４号証参照）に基いて当業者であれば容易になし得ることである。 
　 
＜相違点２＞について 
　甲第１号証記載の発明の「ダストを集塵して分離すると共に、排出ガス（燃焼ガス）中に伴われて失われる微細な材料の量を減少させる」ことについて、これは、燃焼ガス中に伴われて失われるダストが材料として用い得られるものであって、この失われるダスト（材料）の量を減少させるという技術思想を開示するものであり、そうである以上、集塵して分離されたダストを材料として「か焼するための装置」（無水石膏焼成炉）に戻し、供給した石膏の殆どをか焼（焼成）して無水石膏（ＩＩ型無水石膏）にする、つまり、無水石膏（ＩＩ型無水石膏）の純度の高い製品を得ようとすることは、当業者であれば容易に想到し得ることである。 
　そして、この際に、集塵して分離されたダストのどれくらいを戻すのか、また、どれくらいの高い純度にするかは、製造効率を良好にする等の観点より、当業者であれば適宜決定する設計事項であるということができる。 
　したがって、相違点２に係る本件発明１の発明特定事項とすることは、当業者であれば甲第１号証記載の発明および本件出願前周知の事項（例えば、甲第２号証、甲第１１〜１４号証参照）に基いて当業者であれば容易になし得ることである。 
　 
　よって、本件発明１は、甲第１号証記載の発明および本件出願前周知の事項（例えば、甲第２、１１〜１４号証参照）に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。 
　 
(7-2)本件発明２について 
　本件発明２は、本件発明１において、「集塵を２段階で行い、前段の集塵を集塵効率９０％以上のサイクロンで行う」ことを限定事項にするものである。 
　ここで、上記６．より、甲第７号証には、「石膏焼成装置から排出される排ガス（燃焼ガス）のダストをサイクロンで集塵して分離し、このダストを石膏焼成装置に戻す」ことが開示されている。
　また、一般に、排ガスのダストを集塵して分離する手段を多段にすることは、普通に行われている常套手段である。 
　そうすると、甲第１号証記載の発明において、上記(7-1)の「＜相違点２＞について」で検討したように、集塵して分離されたダストを材料として「か焼するための装置」（無水石膏焼成炉）に戻す際に、上記の甲第７号証記載の事項および常套手段を適用することで、集塵を２段階で行い、前段の集塵をサイクロンで行なうことは、当業者であれば容易に想到し得ることである。 
　そして、この際に、前段のサイクロンの集塵効率をどれくらいにするかは、製造効率を良好にする等の観点より、当業者であれば適宜決定する設計事項であるということができる。 
　よって、本件発明２は、甲第１号証記載の発明および本件出願前周知の事項（例えば、甲第２、７、１１〜１４号証参照）に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。 
　 
(7-3)本件発明３について 
　本件発明３は、本件発明２において、「前段の集塵を行うサイクロンを、無水石膏焼成炉の直上に配置し、該サイクロンにて集塵したダストを輸送機を介さずに直接該無水石膏焼成炉に戻す」ことを限定事項にするものである。 
　ここで、甲第１号証には、上記６．(5)で示したように、「容器は装置の熱効率を増強させるため熱損失に対して外部から保温するのが好ましい。またその上方帯域を收塵器に接続するのが望ましい。」との記載があり、これは、「か焼するための装置」（無水石膏焼成炉）の上方に收塵器（集塵器）を配置すると共に、熱損失を小さくして熱効率を増強するという技術思想を開示するものである。 
　そうすると、甲第１号証記載の発明において、上記(7-2)で検討したように、前段のサイクロンで集塵して分離されたダストを材料として無水石膏焼成炉に戻す際に、上記の「無水石膏焼成炉の上方に集塵器を配置すると共に、熱損失を小さくして熱効率を増強するという技術思想」からして、無水石膏焼成炉の上方に前段のサイクロンを配置すると共にこのサイクロンと無水石膏焼成炉とをできる限り近接させることで熱損失を小さくして熱効率を増強すること、つまり、前段のサイクロンを無水石膏焼成炉の直上に配置し、該サイクロンにて集塵したダストを輸送機を介さずに直接該無水石膏焼成炉に戻すようにすることは、当業者であれば容易に想到し得ることである。 
　よって、本件発明３は、甲第１号証記載の発明および本件出願前周知の事項（例えば、甲第２、７、１１〜１４号証参照）に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。 
　 
８．むすび  
　以上のとおりであるから、本件発明１〜３は、甲第１号証記載の発明および本件出願前周知の事項（例えば、甲第２、７、１１〜１４号証参照）に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであって、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるので、これらの発明に係る特許は、特許法第１２３条第１項第２号により無効とすべきものである。 
　審判に関する費用については、特許法第１６９条第２項の規定で準用する民事訴訟法第６１条の規定によって、被請求人の負担すべきものとする。  
　よって、結論のとおり審決する。