【手続補正書】
【提出日】平成18年6月23日(2006.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光データ記憶媒体用の光記録及び読出しシステムであって、
−  基板上に形成された記録スタックを持つ前記媒体であって、前記記録スタックは、大気中で波長λを有する集束放射線ビームによって記録されるのに適しており、前記記録スタックは前記基板から最も離れた第１光学面を有する媒体、及び
−  開口数ＮＡを有する対物レンズを有し、記録の間に前記対物レンズから前記集束放射線ビームを発する光学ヘッドであって、前記対物レンズが前記光データ記憶媒体の前記記録スタック側に配され、前記記録スタックに最も近い第２光学面を有する光学ヘッドであって、前記第１光学面から５０μｍ未満の自由作動距離で記録／読出しする光ヘッド、
を有する光データ記録媒体用の光記録及び読出しシステムにおいて、前記第１光学面及び前記第２光学面の少なくとも一方が、透明疎水層を備えており、前記透明疎水層は、屈折率ｎを有し、０．５λ／ｎ未満の厚さを有することを特徴とするシステム。
【請求項２】
前記第２光学面が、０．２５λ／ｎにほぼ等しい厚さの疎水層を備えている、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記第２光学面が、０．２５λ／ｎにほぼ等しい厚さの親水層を備えている、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記光ヘッドが、前記光ヘッドの、前記記録スタックに最も近い側に配されている磁気コイルを更に有し、前記光ヘッドの光軸が、前記磁気コイルの中央を通過し、前記光データ記憶媒体の前記記録スタックが、前記光磁気型である、請求項1に記載のシステム。
【請求項５】
前記磁気コイルが、６０μｍ未満の内径を有する、請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
前記疎水層が、ポリパラキシリレン、フルオロカーボン及びこれらの共重合体のグループから選択された物質を含む、請求項１ないし５のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項７】
前記磁気コイルが、部分的に透明なスライダ内に収容されており、前記部分的に透明なスライダは、前記第１光学面から、＞０．５λ／ｎ、且つ、＜２μｍの距離で浮動する、請求項４ないし６のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項８】
基板上に形成された記録スタックを持つ光データ記憶媒体であって、前記記録スタックは、大気中で波長λを有する集束放射線ビームによって記録するのに適しており、前記記録スタックが前記基板から最も離れた第１光学面を有する光データ記録媒体において、前記第１光学面が、屈折率ｎを有し０．５λ／ｎ未満の厚さを持つ透明疎水層を備えていることを特徴とする、光データ記憶媒体。
【請求項９】
前記第１光学面が、０．２５λ／ｎ未満の厚さを有する疎水層を備えている、請求項８に記載の光データ記憶媒体。
【請求項１０】
前記疎水層が、ポリパラキシリレン、フルオロカーボン及びこれらの共重合体のグループから選択された物質を含む、請求項８又は９に記載の光データ記憶媒体。
【請求項１１】
請求項１ないし５のいずれか一項に記載したシステムにおいて信頼できる記録及び読出しをする、請求項８ないし１０のいずれか一項に記載の光データ記憶媒体の使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
しかしながら、ＦＷＤが減少される場合、集束放射線ビームが通過する透明基板の厚さは、減少されなければならない。更に、前記ＮＡが増加された場合、媒体表面が前記光システムの光軸に対する垂線から偏向される角度（傾斜角）の許容量は、前記透明基板の厚みによる複屈折又は収差の影響を受けて、減少される。従って、高いＮＡでの傾斜角の影響の緩和化は、透明基板の厚さを減少させる他の理由である。この減少された厚さを有する透明基板は、カバー層、又はより一般的にはカバースタックとも呼ばれている。従って、第４世代光記録におけるカバー層の目的は、主に、記録スタックを損傷から保護すること、及び短いＦＷＤを可能にすることである。上述の光（磁気）データ記憶媒体内に情報を記録するには、記録層を記録温度まで加熱するために、集束放射線ビーム（例えば光）が、光ヘッドから、０．６ないし１．２ｍｍの間の厚さを有する透明基板を経て、記録スタックに照射される。光磁気（ＭＯ）媒体の場合、同時に、磁気ヘッドによって磁界が印加される。前記磁界は、磁界変調装置を使用して、前記情報に関して変調されることができる。この結果、前記情報が、前記記録媒体上に記録されることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
実施例において、磁気コイルは、スライダ内に収容されており、該スライダは、前記第１面から、＞０．５λ／ｎ、且つ、＜２μｍの距離で、浮動する。この場合、前記スライダは、対物レンズの一部を形成し、疎水層が、該スライダの、光データ記憶媒体に面している表面に設けられる。スライダ技術は、例えば、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）技術から知られている。この技術によって、「近接場（ｎｅａｒ  ｆｉｅlｄ）」構造が可能であり、この場合、対物レンズの外側表面及び光学データ記憶媒体の外側表面は、互いに１波長λよりもはるかに短いオーダの間隔をあけており、即ちＦＷＤ≦λ／１０である。前記構造において、媒体と対物レンズとの間の結合は、エバネッセント波の光結合による影響を受け得る。前記構造におけるＮＡは、１よりも大きくあることができる。遠距離場、即ちＦＷＤ>>λ／１０の構造も、スライダベースの技術によって可能である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
図１Ａ及び１Ｂにおいて、光データ記憶媒体５用の光記録及び読出しシステムの実施例が示されている。媒体５は、例えばスパッタリングによって、基板８上に形成された記録スタック９を有する。記録スタック９は、集束放射線ビーム１によって記録されるのに適している。集束放射線ビーム１の波長λは、４０５ｎｍである。記録スタック９は、基板８から最も離れた第１光学面６を有する。光ヘッド３であって、開口数ＮＡ＝０．８５の対物レンズ２を有し、記録の間に、該対物レンズから集束放射線ビーム１を発する光ヘッド３は、前記光データ記憶媒体５の記録スタック９側に設けられている。光ヘッド３の対物レンズ２は、記録スタック９に最も近い第２光学面７を有し、媒体５の第１光学面６から、自由作動距離ｄＦ＝１５μｍで、記録／読出しをする。磁気コイル４を収容している透明エレメントが、対物レンズ２の一部を形成していることと、第２光学面７とは、このエレメントの媒体５に最も近い面であることに留意されたい。第１光学面６及び第２光学面７は、ＡＦ１６００によって出来ている疎水層１０、１１を備えており、テトラフルオロエチレン、及びペルフルオロ‐２，２-ジメチル−１，３−ジオキソールの共重合体であって、これは、約１．３５の屈折率を有する。前記疎水層の厚さは、３０ｎｍである。ＡＦ１６００のようなフルオロポリマコーティングの準備は、以下のようにして行われる。特定の状況に依存して、超音波処理（ｓｏｎｉｆｉｃａｔｉｏｎ）、すすぎ、及び乾燥から成るディスク表面の清浄化ステップが必要であり得る。前記ディスクが清浄である場合、フルオロシランの層が、室温で気相から予め蒸着（ｄｅｐｏｓｉｔ）されて、フルオロポリマコーティングの付着性（ａｄｈｅｓｉｏｎ）を改善する。前記フルオロポリマコーティングは、ディップコーティング又はスピンコーティングによって、作製されることができる。この目的を達成するために、ＡＦ１６００のようなフルオロポリマは、ＦＣ−７５（ペルフルオロ‐２‐ブチルテトラハイドロフラン(Ａｃｒｏｓ社製)）に溶解されることができる。最終的に、コーティングされたディスクは、層流状の大気によって、乾燥される。この時点で、熱処理も可能である。パリレンでディスクをコーティングするには、該ディスクが完全に清浄である必要がある。金属表面上では、パリレンは、通常、高い付着性を示すが、ガラス又はアルミニウム酸化物のような酸化物表面上では、通常、ほとんど付着性を示さない。これらの場合、Ａ１７４（γ‐メタクリル‐オキシプロピル‐トリメトキシシラン）の層が、常温で気相からか、又は１：１００：１００のＡ１７４：水：イソ‐プロパノール混合物状でスピン若しくはディップコーティングによるか、のいずれかによって、最初に蒸着される。過剰のＡ１７４は、純粋なイソプロパノールによってすすぎ落とされ、前記ディスクは、清浄大気中において周囲温度で乾燥される。パリレン蒸着は、ＰＤＳ２０１０（ＳＣＳヨーロッパ社から購入可能）のような、商業的に利用可能なパリレンコーティング装置内で実施される。基本的には、パリレン単量体が気化され、回転している基板上に蒸着される。更に、一般的に知られているように、詳細は文献において見つけることができる。光ヘッド３は、更に、該光ヘッド３の記録スタック９に最も近い側に配された磁気コイル４を有する。光ヘッド３の光軸は、磁気コイル４の中央を通り抜けており、光データ記憶媒体５の記録スタック９は、光磁気型である。記録スタック９は、例えば、基板８に始まってこの順番で、従来技術において知られている反射金属層（例えば２５ｎｍのＡｌ）、他の補助層、の磁性物質ＴｂＦｅＣｏの２４ｎｍ層、及びＳｉＮ又はＺｎＳ／ＳｉＯ２の６０ｎｍの干渉層を含み得る。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
図４には、スライダベースの光記録システムが示されている。ディスク上方のスライダ２ａの浮動高度は、約１μｍである。１μｍ>>λ／１０であるので、これは、上記で規定した近接場記録ではないことに留意されたい。この例では、スライダは、これは光磁気記録に使用される磁界変調（ＭＦＭ）コイル４を収容している。更に、符号は、図１Ａのものと対応している。スライダ２ａの集束放射線ビーム１が通過する部分が、対物レンズ２の一部を形成していることに留意されたい。