【手続補正書】
【提出日】平成17年11月15日(2005.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の物質（３４０）の検知するためのシステム（２１０）であって、
複数の検知領域を有し、各検知領域が少なくとも１種類の物質を検知するセンサディスク（２５０）と、
前記センサディスク（２５０）が複数の同心の溝または前記センサディスク（２５０）の中心から前記センサディスク（２５０）の外縁まで螺旋を描いている溝を有する表面を具備することと、
前記回転センサディスク（２５０）の前記検知領域から受光した光に反応する検出器（２６０，２６５）と、
各検知領域が前記検出器（２６０，２６５）に最も近い位置に移動するように前記センサディスク（２５０）を回転するためのモータ（２６２）と、
前記センサディスク（２５０）の前記検知領域から受光した光において検出された変化の関数として、少なくとも１種類の物質の測定値を算出するために、前記検出器（２６０，２６５）に連結された制御装置と、を具備するシステム。
【請求項２】
前記センサディスク（２５０）が、前記複数の物質を検知する複数の指示薬染料（３３０）で被覆された基板（３００）を具備し、さらに前記検出器（２６０，２６５）が１種類以上の指示薬染料から受光した光におけるスペクトル変化を検知する、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
複数の物質（３４０）の検知するためのシステム（２１０）であって、
複数の検知領域を有し、各検知領域が少なくとも１種類の物質を検知するセンサディスク（２５０）と、
前記回転センサディスク（２５０）の前記検知領域から受光した光に反応する検出器（２６０，２６５）と、
各検知領域が前記検出器（２６０，２６５）に最も近い位置に移動するように前記センサディスク（２５０）を回転するためのモータ（２６２）と、
前記センサディスク（２５０）の前記検知領域から受光した光において検出された変化の関数として、少なくとも１種類の物質の測定値を算出するために、前記検出器（２６０，２６５）に連結された制御装置と、
入射角で光ビームを用いて前記センサディスク（２５０）を露光するための光源（２２０）と、
前記センサディスク（２５０）が、
その上に少なくとも１つの溝を備えた表面を有する基板（４０５）と、
前記基板（４０５）の前記表面から外側に形成された金属層（４１０）と、前記金属層（４１０）が前記基板（４０５）の前記溝のある表面に実質的に適合していることと、
前記基板（４０５）の前記少なくとも１つの溝に平行な偏光を有する入射光の反射を抑制するために、前記金属層（４１０）から外側に形成された誘電層（４２０）と、前記誘電層（４２０）が前記センサディスク（２５０）の外周で厚さが変化するようになっていることと、を具備する定格子センサディスクであることと、
前記制御装置が、放射状格子センサディスク（２５０）の周囲における前記センサディスク（２５０）から受光した光が異常を呈する位置の変化に応じて、前記物質の測定値を確定するシステム。
【請求項４】
前記誘電層（４２０）が、少なくとも５０ｎｍの最小厚さを有する、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記検出器（２６０，２６５）が、前記基板（４０５）の前記溝に平行または垂直な偏光を有する光における変化に反応する、請求項３または４のいずれかに記載のシステム。
【請求項６】
複数の物質（３４０）を検知するためのシステム（２１０）であって、
複数の検知領域を有し、各検知領域が少なくとも１種類の物質を検知するセンサディスク（５００，５５０）と、
前記回転センサディスク（５００，５５０）の前記検知領域から受光した光に反応する検出器（２６０，２６５）と、
各検知領域が前記検出器（２６０，２６５）に最も近い位置に移動するように前記センサディスク（５００，５５０）を回転するためのモータ（２６２）と、
前記センサディスク（５００，５５０）の前記検知領域から受光した光において検出された変化の関数として、少なくとも１種類の物質の測定値を算出するために、前記検出器（２６０，２６５）に連結された制御装置と、
入射角で光ビームを用いて前記センサディスク（５００，５５０）を露光するための光源（２２０）と、
前記センサディスク（５００，５５０）が、
表面に複数の溝（５１０）を有する基板（５２０）と、前記溝（５１０）が前記表面の中心から放射方向に延在することと、
前記基板（５２０）の前記表面から外側に形成される金属層と、前記金属層が前記基板（５２０）の前記溝のある表面に実質的に適合していることと、を具備するシステム。
【請求項７】
前記溝（５１０）が前記定格子センサディスク（５００）の外周で一定周期を備え、前記光源（２２０）が光ビームを前記回転センサディスク（５００）の前記表面を横切って放射方向に走査し、さらに前記制御装置が各検出領域に対して前記定格子センサディスク（５００）の半径に沿って、各検知領域から受光した検出光が異常を呈する位置を確定する、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記溝（５６０）が前記放射状格子センサディスク（５００）の外周で変化する周期を備え、前記光源（２２０）が前記回転放射状格子センサディスク（５００）の前記表面の前記中心から固定した半径で、前記光ビームを用いて前記センサディスク（５００）を露光する、請求項６に記載のシステム。
【請求項９】
前記放射状格子センサディスク（５００）が、前記金属層から外側に形成された誘電層（４２０）をさらに具備し、前記検出器（２６０，２６５）が前記基板の前記溝に平行な偏光を有する光における変化を検知する、請求項７に記載のシステム。
【請求項１０】
前記放射状格子センサディスク（５００）が、標本において少なくとも１種類の物質と相互に作用を及ぼすために、前記金属層から外側に形成された検知層（３３０）をさらに含み、前記検出器（２６０，２６５）が前記基板の前記溝に垂直な偏光を有する光における変化を検知する、請求項８に記載のシステム。
【請求項１１】
前記検出器が、
前記回転センサディスクの前記検知領域から前記光を受光し、前記受光した光を第１の成分（２８５）および第２の成分（２９０）に分割するための偏光ビームスプリッタ（２８０）と、前記第１の成分が前記基板の前記溝に平行な偏光を有し、前記第２の成分が前記基板の前記溝に垂直な偏光を有することと、
前記受光した光の前記第１の成分を受光するための第１の検出器（２６０）と、前記第１の検出器が前記第１の成分の強度を表す出力信号を有することと、
前記受光した光の前記第２の成分を受光するための第２の検出器（２６５）と、前記第２の検出器が前記第２の成分の強度を表す出力信号を有することと、を具備し、前記制御装置が前記第１の検出器の前記出力信号と前記第２の検出器の前記出力信号の比を表し、さらに前記制御装置が前記出力信号の前記比に応じて、前記物質の前記測定値を確定する、請求項１乃至１０のいずれか1項に記載のシステム。
【請求項１２】
表面に少なくとも１つの溝を有する基板（４０５）と、
前記基板の前記表面から外側に形成された金属層（４１０）と、前記金属層が前記基板の前記溝のある表面に実質的に適合していることと、
前記基板の前記溝に平行な偏光を有する入射光の反射を抑制するために、前記金属層から外側に形成された誘電層（４２０）と、前記誘電層が前記センサディスクの外周で最小厚さから最大厚さまで変化するようになっていることと、を具備する定格子センサディスク。
【請求項１３】
前記基板が複数の同心の溝を有する、請求項１２に記載のディスク。
【請求項１４】
前記基板が前記センサディスクの中心から前記センサディスクの外縁まで螺旋を描いている溝を有する、請求項１２に記載のディスク。
【請求項１５】
表面に複数の溝（５１０，５６０）を有する基板（３００）と、前記溝が前記表面の中心から放射方向に延在することと、
前記基板（３００）の前記表面から外側に形成された金属層（３１０）と、前記金属層が前記基板（３００）の前記溝のある表面に実質的に適合していることと、
前記金属層から外側に形成された検知層と、前記検知層が標本の少なくとも１種類の物質と相互に作用を及ぼすために選択されることと、を具備する放射状格子センサディスク（５００，５５０）。
【請求項１６】
前記基板（３００）の前記溝（５１０）が前記センサディスクの外周で一定周期を備える、請求項１５に記載のディスク。
【請求項１７】
前記基板（３００）の前記溝（５６０）の周期が前記センサディスクの外周で変化する、請求項１５に記載のディスク。
【請求項１８】
標本における物質を分析するための方法であって、
前記センサディスクの中心から前記センサディスクの外縁まで放射方向に延在する複数の溝を有する金属回折格子を備えるセンサディスクを設けるステップと、
前記センサと前記標本が相互作用を及ぼし合うステップと、
前記センサディスクを回転するステップと、
前記センサディスクから受光した光が異常を呈する前記センサディスクの半径に沿った位置で、シフトの関数として前記標本における前記物質の測定値を確定するステップと、を具備する方法。