Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月7日(2005.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）ソッリドステートデバイスの副集成部品と、
（ii）導電性金属から形成され且つ副集成部品内でデバイスを接続する金属配線と、
（iii）導電性金属を覆って形成され且つ孔を含有する多孔質誘電体層と、
（iv）多孔質誘電体層内に形成された相互接続開口部と、
（ｖ）相互接続開口部内で多孔質誘電体の孔を被覆する封止誘電体層と、
（vi）相互接続開口部内の金属拡散バリアと
を有し、前記封止誘電体層が、
（１）ＳｉxＣy：Ｈz（ここでｘは１０〜５０の値を有し、ｙは１〜６６の値を有し、ｚは０．１〜６６の値を有し、ｘ＋ｙ＋ｚ≧９０原子％である）；
（２）ＳｉaＯbＣc：Ｈd（ここでａは１０〜３３の値を有し、ｂは１〜４０の値を有し、ｃは１〜６６の値を有し、ｄは０．１〜６０の値を有し、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ≧９０原子％であり、Ｃ／Ｓｉ＜０．５及びＨ／Ｃ＞０．５である）；又は
（３）ＳｉeＮfＣg：Ｈh（ここでｅは１０〜３３の値を有し、ｆは１〜５０の値を有し、ｇは１〜６６の値を有し、ｈは０．１〜６０の値を有し、ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ≧９０原子％であり、Ｃ／Ｓｉ＜０．５、Ｈ／Ｃ＞０．５である）
から選択される集積回路。
【請求項２】
封止誘電体層が、ＳｉxＣy：Ｈz（ここでｘは１０〜５０原子％の値を有し、ｙは１〜６６原子％の値を有し、ｚは０．１〜６６原子％の値を有し、ｘ＋ｙ＋ｚ≧９０原子％である）である請求項１に記載の集積回路。
【請求項３】
封止誘電体層が、ＳｉxＣy：Ｈz（ここでｘは２５〜３５原子％の値を有し、ｙは３０〜４０原子％の値を有し、ｚは２５〜３５原子％の値を有する）である請求項２に記載の集積回路。
【請求項４】
封止誘電体層が、ＳｉaＯbＣc：Ｈd（ここでａは１０〜３３原子％の値を有し、ｂは１〜４０原子％の値を有し、ｃは１〜６６原子％の値を有し、ｄは０．１〜６０原子％の値を有し、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ≧９０原子％であり、Ｃ／Ｓｉ＜０．５及びＨ／Ｃ＞０．５である）である請求項１に記載の集積回路。
【請求項５】
封止誘電体層が、ＳｉaＯbＣc：Ｈd（ここでａは１８〜２０原子％の値を有し、ｂは１８〜２１原子％の値を有し、ｃは３１〜３８原子％の値を有し、ｄは２５〜３２原子％の値を有する）である請求項４に記載の集積回路。
【請求項６】
封止誘電体層が、ＳｉeＮfＣg：Ｈh（ここでｅは１０〜３３原子％の値を有し、ｆは１〜５０の値を有し、ｇは１〜６６原子％の値を有し、ｈは０．１〜６０原子％の値を有し、ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ≧９０原子％であり、Ｃ／Ｓｉ＜０．５及びＨ／Ｃ＞０．５である）である請求項１に記載の集積回路。
【請求項７】
封止誘電体層が、ＳｉeＮfＣg：Ｈh（ここでｅは１８〜２０原子％の値を有し、ｆは１〜５０原子％の値を有し、ｇは３１〜３８原子％の値を有し、ｈは２５〜３２原子％の値を有する）である請求項６に記載の集積回路。
【請求項８】
多孔質誘電体層が、１０〜６０％の全空隙率を有し、孔間の連結性が０〜１００％の間である請求項１に記載の集積回路。
【請求項９】
金属拡散バリアが、Ｔａ、ＴａＮ、Ｔｉ、ＴｉＮ、ＴｉＳｉＮ、ＷＮ、ＷＣＮ又はそれらの組合せから選択される請求項１に記載の集積回路。
【請求項１０】
金属配線が、銅、アルミニウム、銀、金、合金又は超伝導体から製造される請求項１に記載の集積回路。
【請求項１１】
相互接続開口部が側壁を有し、封止誘電体層が相互接続開口部の側壁上にある請求項１に記載の集積回路。
【請求項１２】
上部、下部及び側壁を有する相互接続開口部内で、多孔質層間誘電体の孔を被覆及び封止する方法であって、
（Ａ）相互接続開口部に封止誘電体層を形成すること；
（Ｂ）相互接続開口部の上部及び下部から封止誘電体を除去すること；
（Ｃ）少なくとも封止誘電体層を被覆している相互接続開口部に金属拡散バリアを形成すること；
を含み、前記封止誘電体層が、
（１）ＳｉxＣy：Ｈz（ここでｘは１０〜５０原子％の値を有し、ｙは１〜６６原子％の値を有し、ｚは０．１〜６６原子％の値を有し、ｘ＋ｙ＋ｚ≧９０原子％である）；
（２）ＳｉaＯbＣc：Ｈd（ここでａは１０〜３３原子％の値を有し、ｂは１〜４０原子％の値を有し、ｃは１〜６６原子％の値を有し、ｄは０．１〜６０原子％の値を有し、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ≧９０原子％であり、Ｃ／Ｓｉ＜０．５及びＨ／Ｃ＞０．５である）；又は
（３）ＳｉeＮfＣg：Ｈh（ここでｅは１０〜３３原子％の値を有し、ｆは１〜５０原子％の値を有し、ｇは１〜６６原子％の値を有し、ｈは０．１〜６０原子％の値を有し、ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ≧９０原子％であり、Ｃ／Ｓｉ＜０．５及びＨ／Ｃ＞０．５である）
から選択される方法。
【請求項１３】
封止誘電体層が、ＳｉxＣy：Ｈz（ここでｘは１０〜５０原子％の値を有し、ｙは１〜６６原子％の値を有し、ｚは０．１〜６６原子％の値を有し、ｘ＋ｙ＋ｚ≧９０原子％である）である請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
封止誘電体層が、ＳｉxＣy：Ｈz（ここでｘは２５〜３５原子％の値を有し、ｙは３０〜４０原子％の値を有し、ｚは２５〜３５原子％の値を有する）である請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
封止誘電体層が、ＳｉaＯbＣc：Ｈd（ここでａは１０〜３３原子％の値を有し、ｂは１〜４０原子％の値を有し、ｃは１〜６６原子％の値を有し、ｄは０．１〜６０原子％の値を有し、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ≧９０原子％であり、Ｃ／Ｓｉ＜０．５及びＨ／Ｃ＞０．５である）である請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
封止誘電体層が、ＳｉaＯbＣc：Ｈd（ここでａは１８〜２０原子％の値を有し、ｂは１８〜２１原子％の値を有し、ｃは３１〜３８原子％の値を有し、ｄは２５〜３２原子％の値を有する）である請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
封止誘電体層が、ＳｉeＮfＣg：Ｈh（ここでｅは１０〜３３原子％の値を有し、ｆは１〜５０原子％の値を有し、ｇは１〜６６原子％の値を有し、ｈは０．１〜６０原子％の値を有し、ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ≧９０原子％であり、Ｃ／Ｓｉ＜０．５及びＨ／Ｃ＞０．５である）である請求項１２に記載の方法。
【請求項１８】
封止誘電体層が、ＳｉeＮfＣg：Ｈh（ここでｅは１８〜２０原子％の値を有し、ｆは１〜５０原子％の値を有し、ｇは３１〜３８原子％の値を有し、ｈは２５〜３２原子％の値を有する）である請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
多孔質誘電体層が、１０〜６０％の全空隙率を有し、孔間の連結性が０〜１００％の間である請求項１２に記載の方法。
【請求項２０】
金属拡散バリアが、Ｔａ、ＴａＮ、Ｔｉ、ＴｉＮ、ＴｉＳｉＮ、ＷＮ、ＷＣＮ又はそれらの組合せから選択される請求項１２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月8日(2005.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チャンバ内に配置され、ボックスを保持するための複数のコンパートメントを有するローターと、
ローターの上のボックスにガス又は液体をスプレーするように配置されたノズルのアレイと、
流体経路によって、１つ又は複数のノズルに接続された混合器と、
混合器に水を供給するための水インレット経路と、
洗浄溶液源と、
洗浄溶液源を混合器に接続している洗浄溶液供給経路と、
洗浄溶液供給経路に接続され、洗浄溶液源から混合器へ、制御可能なポンプ送り速度で洗浄溶液をポンプで送る定量ポンプとを備えている、ボックスを洗浄するための装置。
【請求項２】
水源に接続され、水インレット経路に所望のインレット水圧をかけるための昇圧ポンプをさらに備えている、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
一部のノズルが、ローターにある角度でスプレーするように配置され、又は、部分的に上向きもしくは下向きにスプレーするように配置されている、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
混合器が、水と洗浄溶液とを混合するための混合制御バルブを備えている、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
水インレット経路に接続され、制御バルブに供給される水の流量を測定するための流量計をさらに備えている、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
定量ポンプが、調節可能なポンプ送り速度もしくは調節可能なポンプストローク長、又は、これらの両方を有している容積式ダイヤフラムポンプを備えている、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
外側の液体スプレーノズルがローターに向かって内向きにスプレーするように配置され、
内側の流体スプレーがローターに向かって外向きにスプレーするように配置されている、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
洗浄溶液源が、洗剤源、界面活性剤源、及び／又は、オゾン水源を備えている、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
ローターに向かって、それぞれ、外向き及び内向きに乾燥ガスをスプレーするように配置されている内側及び外側の乾燥ガススプレーノズルをさらに備えている、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
回転軸のまわりにボックスを回転させる過程と、
貯蔵容器から洗浄溶液をポンプで送る過程と、
洗浄溶液を、予め設定された量の水と混合して、洗浄溶液と水の混合剤を得る過程と、
洗浄溶液と水の混合剤をボックスにスプレーする過程とを含んでいる、ボックスを洗浄するための方法。
【請求項１１】
洗浄溶液が、洗剤、界面活性剤、及び／又は、オゾン水を含んでいる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
上記ポンプ送りが流れ定量ポンプを経由して行われるようになっていて、
洗浄溶液と水の混合剤中における洗浄溶液の濃度が所望の濃度となるように、流れ定量ポンプの流量を設定する過程をさらに含んでいる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
上記混合が混合制御バルブを経由して行われる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
混合制御バルブに流入する水の量を測定する過程をさらに含んでいる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
上記混合剤が、ローターにある角度でスプレーされ、又は、部分的に上もしくは下に傾けてスプレーされるようになっている、請求項１０に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ボックスを洗浄するための装置及び方法
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月22日(2005.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シャッタ（１０）を有する燃料タンクの補給管ヘッドと一体化されていて、補給管ヘッドの軸線に平行な軸線に沿ってシャッタ（１０）に及ぼされるスラストの作用下でシャッタ（１０）を引っ込み可能にするノズル（２２）の作用を介して補給管の自動開放を可能にするクロージャシステムであって、戻しばね（１１）がシャッタ（１０）を閉鎖位置に保つことができ、シャッタ（１０）が補給管ヘッドの軸線に平行なスラスト力によって解除できる妨害手段を備えているクロージャシステムにおいて、妨害手段は、切形の円筒形ベゼル（５）であり、該切形の円筒形ベゼル（５）は、その軸線回りに回転でき、その下面と上面の両方が平べったくなっており、この円筒形ベゼル（５）は、締付けによりシャッタ（１０）と係合可能であることを特徴とするクロージャシステム。
【請求項２】
シャッタ（１０）とベゼル（５）との間でシャッタ（１０）の周囲に設けられた圧縮可能な円形シール（７）を有することを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項３】
締付け係合は、差込み装置によって行われ、差込み装置の相互に作用する部品（２３）（２４）は、ベゼルの円筒形内面及びシャッタの周囲にそれぞれ設けられていることを特徴とする請求項２記載のシステム。
【請求項４】
差込み装置の前記部品は、厚さがべべルの形態で様々な平べったい突出部（２３）（２４）から成り、前記突出部は、互いに上下逆さまになった状態で配置されていることを特徴とする請求項３記載のシステム。
【請求項５】
捩りばね（３）が、シャッタの開いているとき、ベゼル（５）を解錠且つ非締付け位置に保つことができることを特徴とする請求項２〜４のうち何れか一に記載のシステム。
【請求項６】
ロッド（４）が、補給管ヘッドを保護する車体構造フラップ（１）にベゼル（５）を連結しており、前記ロッド（４）は、捩りばね（３）に張力を加えることができ、フラップ（１）を閉じるとベゼル（５）を施錠位置まで回転させることができることを特徴とする請求項２〜５のうち何れか一に記載のシステム。
【請求項７】
ロッド（４）は、ベゼル（５）に固定され、それと同時にベゼル（５）と一体の舌部（１７）によって支持された滑り路の形態をしている長円形の部品（１４）に設けられているスロット（１５）のスライダを構成し、滑り路は、フラップ（１）を閉鎖位置から開いても、ベゼル（５）の施錠回転状態には影響が無いように寸法決めされていることを特徴とする請求項６記載のシステム。
【請求項８】
ノズル（２２）の導入により燃料タンクの補給管ヘッドを開く方法であって、補給管ヘッドを保護する車体構造フラップ（１）を開いた後、ノズル（２２）を補給管ヘッドの軸線に平行な方向で強制的に導入してこれをスパイダ（８）に押し付けることにより、まず最初に回転動作可能な平べったいリングの形態をしたベゼル（５）を解錠し、次にシャッタ（１０）を解錠して締付け解除し、次にシャッタを傾けてこれを引っ込めることによって開き、導入スラスト力は、ばね（１１）により及ぼされる戻し力に打ち勝つのに十分であり、ベゼル（５）の回転の妨害解除及びシャッタ（１０）の開放は、以下のように、即ち、
ａ）スラスト力を補給管ヘッドの軸線に平行な方向でスパイダ（８）に及ぼし、それによりまず最初にベゼル（５）の回転の妨害を解除し、次にシャッタ（１０）を解錠して外す傾向のある差込みを次第に開き、
ｂ）捩れ状態で張力が加えられていて、一端が固定され、他端がベゼル（５）と一体の第２のばね（３）が弛緩し、したがってベゼル（５）を差込みの開放に有利な方向で回転駆動するようにし、
ｃ）ベゼルの回転の作用下において、ベゼル（５）の円筒形内面に設けられた斜切突出部（２３）が、シャッタ（１０）の周りに設けられた類似した逆さまの斜切部（２４）から外れて締付けにより力で先に組み付けられたベゼル（５）とシャッタ（１０）を分離し、
ｄ）シャッタ（１０）とベゼル（５）との間でシャッタ（１０）の周囲に設けられた圧縮可能な円形シール（７）が弛緩してシャッタ（１０）が傾くようにして行われることを特徴とする方法。
【請求項９】
開放後、補給管ヘッドを再び閉じ、ロッド（４）の側方運動により車体構造フラップ（１）の閉鎖によって補給管ヘッドを施錠し、ロッドの一端は、フラップのベースのところに位置した箇所（１８）のところで関節連結され、ロッドの他端は、ベゼル（５）の延長部をなす舌部（１７）によって支持された滑り路の形態をしている長円形部品（１４）に設けられているスロット（１５）のスライダとして働き、ロッド（４）の運動により、ベゼル（５）は差込みの閉鎖、シール（７）の締付け及びスパイダ（８）によるベゼル（５）の回転の阻止に有利な方向に回転することを特徴とする請求項８記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月12日(2005.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨複合材エレメントを包含するテクスチャー加工された三次元研磨複合材を有し、機械的な摩耗インジケータをさらに有する固定研磨物品。
【請求項２】
侵食可能な研磨複合材エレメントを有する請求項１記載の固定研磨物品。
【請求項３】
前記磨耗インジケータが、金属材料、可視材料、又は磁性材料を包含する請求項１又は２記載の固定研磨物品。
【手続補正書】
【提出日】平成17年4月20日(2005.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】
該積層体が、噛み合い延伸機を用いて、機械方向と横断する方向に延伸する請求項１記載の製造方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成18年4月24日(2006.4.24)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５９】
【化５】
2004535380.tif 000001
（式中、Ｒ’は、単独では、水素又は２５個までの炭素原子を含有する脂肪族基であり；Ｒ’’は、単独では、ヒドロキシ又は２５個までの炭素原子を含有する脂肪族基であり、ただしＲ’が水素のとき、Ｒ’’は１０個までの炭素原子を有する置換フェニル、フェナルキル（phenalkyl）又は置換フェナルキル、ナフチル及び置換ナフチル、ピリジルからなる群から選択されるアリール基であってもよく；並びにＲ’及びＲ’’は、それらが結合している窒素原子と合せたときには、２５個までの炭素原子を有する環式又は複素環式基、例えば、ピペリジノ、モルホリノ等を表す）の３−置換−ｐ−メンタンである。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６３】
【化６】
2004535380.tif 000002
式中、Ｒ’及びＲ’’は、単独では、それぞれ水素、Ｃ１〜Ｃ５アルキル、又は１〜Ｃ８ヒドロキシアルキルであり、合計で８個を超えない炭素原子を提供し、ただしＲ’が水素のとき、Ｒ’’は６個までの炭素原子を有するアルキルカルボキシアルキルであってもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月6日(2005.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チタン酸リチウムの製造方法であって、
ａ．チタンとリチウムを含むブレンドを調製するステップ、
ｂ．該ブレンドを蒸発させてリチウム化合物とチタン化合物の混合物を形成するステップであって、該蒸発が該ブレンドの液体の沸点より高いが該リチウム化合物と該チタン化合物の有意な反応が起こる温度より低い温度で行われるステップ、及び
ｃ．該混合物を焼成して５〜２０００nmの粒子径を有し及び２７〜４００m2/gの表面積を有するチタン酸リチウムを形成する前記方法。
【請求項２】
該チタン酸リチウムを破砕するステップを更に含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
破砕する前に該チタン酸リチウムが洗浄される、請求項２記載の方法。
【請求項４】
該チタン酸リチウムを噴霧乾燥するステップを更に含む、請求項３記載の方法。
【請求項５】
その噴霧乾燥した生成物を再燃焼させるステップを更に含む、請求項４記載の方法。
【請求項６】
該再燃焼が４５０℃〜７５０℃の温度で行われる、請求項５記載の方法。
【請求項７】
該ブレンドがチタンとリチウムの水溶液を含んでいる、請求項１記載の方法。
【請求項８】
該リチウムが塩化リチウム、オキシ塩化リチウム、硝酸リチウム、水酸化リチウム、及びその混合物からなる群より選ばれる供給源から供給される、請求項７記載の方法。
【請求項９】
該溶液がオキシ塩化チタンと塩化リチウムの混合物を含んでいる、請求項７記載の方法。
【請求項１０】
該ブレンドがリチウム含有溶液中の無定形の酸化チタン化合物の懸濁液を含んでいる、請求項１記載の方法。
【請求項１１】
該蒸発工程が噴霧乾燥機で行われる、請求項１記載の方法。
【請求項１２】
該蒸発工程が１２０℃〜３５０℃の温度で行われる、請求項１記載の方法。
【請求項１３】
該焼成工程が７００℃〜９００℃の温度で行われる、請求項１記載の方法。
【請求項１４】
該チタン酸リチウムがチタン酸リチウム最終生成物の大きさより小さいか又は同じ大きさに破砕される、請求項２記載の方法。
【請求項１５】
該混合物が無定形の酸化チタン化合物とリチウム塩の膜を含んでいる、請求項１記載の方法。
【請求項１６】
該無定形の酸化チタン化合物が二酸化チタンであり、該リチウム塩が水酸化リチウムである、請求項１５記載の方法。
【請求項１７】
該リチウム塩が塩化リチウムである、請求項１５記載の方法。
【請求項１８】
該混合物が、直径が１〜１００μmの中空球を含んでいる、請求項１記載の方法。
【請求項１９】
該中空球の膜厚が３０ナノメートル〜１０００ナノメートルである、請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
該ブレンド中のリチウムの量とチタンの量の比(Li/Ti)が０．１１６〜０．１２８である、請求項１記載の方法。
【請求項２１】
該チタン酸リチウムの相純度がLi4Ti5O12スピネル重量で少なくとも９８％である、請求項２０記載の方法。
【請求項２２】
所望の粒子径が５〜２０００nmで表面積が２７〜４００m2/gのチタン酸リチウムの製造方法であって、粒子径が該所望の粒子径より小さいチタン酸リチウムを焼成するステップを含み、該焼成が２５０℃〜９００℃の温度で行われる、前記方法。
【請求項２３】
その焼成した生成物を分散させて微結晶を遊離させる、請求項２２記載の方法。
【請求項２４】
請求項１〜２３のいずれか１項記載の方法によって形成されたLi4Ti5O12。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月22日(2005.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３７】
封止されたベース部と、ベース部から上方に延在し、かつ前記容器へのホット・フィル
、蓋閉めおよび冷却に起因する真空によって誘発される前記容器の体積収縮に順応するよ
うに構成されている活性ケージを含む本体部と、該本体部から上方に延在する口部を備え
る上部とを有する容器であって、前記活性ケージを反転していることを特徴とする容器
。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３８】
封止されたベース部と、ベース部から上方に延在する本体部と、該本体部から上方に延
在する口部を備える上部とを有し、前記本体部が、前記容器へのホット・フィル、蓋閉め
および冷却に起因する真空によって誘発される前記容器の体積収縮に順応するために、外
周と、該外周の周りに配置された活性ケージとを含む容器であって、該活性ケージを反転
していることを特徴とする容器。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2004535339.tif 000001
【誤訳訂正書】
【提出日】平成17年6月22日(2005.6.22)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項４】
高速鍛造、膨張鍛造、アキシアル圧縮成形、冷間等静圧圧縮成形（ＣＩＰ）、または熱間等静圧圧縮成形（ＨＩＰ）によって前記容器に対して外的圧力が作用せられることを特徴とする請求項２または３に記載の構成部品の製造方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項６】
前記複合材料半製品は後の構成部品に相当する形状を有する半製品に再成形され、該半製品は、前記膨張剤粉末のガス放出温度よりも高くかつ前記金属粉末の固／液範囲内の温度であるが、前記カバー層材料の融点よりも低い温度に加熱されることによって前記構成部品となるように発泡させられることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の構成部品の製造方法。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項７】
請求項１乃至５の方法のいずれかに基づいて製造可能であり、中実の金属カバー層（２〜５）と、該金属カバー層間に配され、少なくとも一種類の金属粉末及び少なくとも一種類の膨張剤粉末からなるコア層であって真空下で保持され水分及びガスを実質上含まない加圧コア層とからなる複合材料半製品。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３３】
このようにして得られたパッケージを、圧延によって平面的な複合材料ブランクに再成形する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月20日(2004.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ホルムアルデヒドを含まない熱硬化性樹脂をベース紙に含浸することによって製造することができるプレプレグであって、
乾燥後に前記プレプレグが残留水分含量２〜約３重量％を有しており、
前記プレプレグの乾燥後に前記プレグレグの樹脂が熱可塑性であり、そして乾燥後のプレプレグを更に処理する際に温度効果の結果として、熱硬化性を有するポリマーへの架橋が可能であり、そして
前記樹脂が、
重合状態においてα、β−エチレン系不飽和モノ又はジカルボン酸を５重量％より少ない量で含有しており、ラジカル重合によって得ることができるポリマー少なくとも１種を含有し、
重合状態においてα、β−エチレン系不飽和モノ又はジカルボン酸を１５重量％より多い量で含有しており、ラジカル重合によって得ることができるポリマー少なくとも１種を含有し、しかも
ヒドロキシル基少なくとも２つを有するアルカノールアミン少なくとも１種を含有しているポリマーであるか、又は、
前記樹脂が
重合状態においてα、β−エチレン系不飽和モノ又はジカルボン酸を５〜１００重量％までの量で含有しており、ラジカル重合によって得ることができるポリマー少なくとも１種を含有し、しかも
ヒドロキシル基少なくとも２つを有するアルカノールアミン少なくとも１種を含有している、ポリマーである
ことを特徴とする、前記プレプレグ。
【請求項２】  約１３２℃で約４０秒間にわたる前記プレプレグの熱処理の場合に前記樹脂の架橋度が最大約８０％になる、請求項１に記載のプレプレグ。
【請求項３】  前記樹脂が追加の高分子材料であるポリマーＩＩとの混合物中に存在している、請求項１又は２に記載のプレプレグ。
【請求項４】  前記樹脂が、追加の高分子材料であるポリマーＩＩとの、９０：１０〜６５：３５の比率の混合物中に存在している、請求項３に記載のプレプレグ。
【請求項５】  前記ポリマーＩＩが、紫外線/電子線照射によって硬化可能な高分子材料である、請求項３に記載のプレプレグ。
【請求項６】  前記樹脂が、前記ベース紙の単位面積当たり重量で１０〜７０％の量でベース紙に含まれている、請求項１〜５のいずれか一項に記載のプレプレグ。
【請求項７】  照射硬化性層が、ベース紙の少なくとも片面に含まれている、請求項１〜６のいずれか一項に記載のプレプレグ。
【請求項８】   照射硬化性アクリレート層が、ベース紙の表面に含まれている、請求項７に記載のプレプレグ。
【請求項９】  前記プレプレレグが、化粧用プレプレグである、請求項１〜８のいずれか一項に記載のプレプレグ。
【請求項１０】  請求項１〜９のいずれか一項に記載のプレプレグから得ることができる化粧紙又は化粧コーティング材料。
【請求項１１】  非コート紙のペーパーウェブの表面に、ホルムアルデヒドを含まない熱硬化性樹脂を付与することによるプレプレグの製造方法であって、
残留水分含量を２〜約３重量％に調整し、しかも
前記樹脂が熱可塑性であり、そして乾燥後のプレプレグを更に処理する際に温度効果の結果として、熱硬化性を有するポリマーへの架橋が可能であり、そして
前記樹脂として、
重合状態においてα、β−エチレン系不飽和モノ又はジカルボン酸を５重量％より少ない量で含有しており、ラジカル重合によって得ることができるポリマー少なくとも１種を含有し、
重合状態においてα、β−エチレン系不飽和モノ又はジカルボン酸を１５重量％より多い量で含有しており、ラジカル重合によって得ることができるポリマー少なくとも１種を含有し、しかも
ヒドロキシル基少なくとも２つを有するアルカノールアミン少なくとも１種を含有している
ポリマーか、又は
重合状態においてα、β−エチレン系不飽和モノ又はジカルボン酸を５〜１００重量％までの量で含有しており、ラジカル重合によって得ることができるポリマー少なくとも１種を含有し、しかも
ヒドロキシル基少なくとも２つを有するアルカノールアミン少なくとも１種を含有している
ポリマーを用いることを特徴とする前記プレプレグの製造方法。
【請求項１２】  約１３２℃で約４０秒間にわたる前記プレプレグの熱処理の場合に最大約８０％の架橋を示す樹脂を用いる、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  前記樹脂が追加の高分子材料であるポリマーＩＩとの混合物中に存在している、請求項１１又は１２に記載の方法。
【請求項１４】  前記樹脂が、追加の高分子材料であるポリマーＩＩとの、９０：１０〜６５：３５の比率の混合物中に存在している、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】  前記ポリマーＩＩが、紫外線/電子線照射によって硬化可能な高分子材料である、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】  前記含浸用の樹脂を、前記ベース紙の単位面積当たり重量で１０〜７０％の量でペーパーウェブ上に付与する、請求項１１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】  照射硬化性ポリマー少なくとも１種を含有する層をベース紙の表面上に付与し、そして樹脂による含浸をベース紙の裏面から行う、請求項１１〜１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】  含浸する樹脂を含有する溶液又は分散液を、フィルムプレス又はサイズプレスによって紙上に付与する、請求項１１〜１７のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
本発明によって用いられるポリマー溶液の付与は、抄紙機において又はオフラインで噴霧、含浸、ローラーアプリケーション又はブレードアプリケーション（ドクターブレード）によって行うことができる。サイズプレス又はフィルムプレスを介した付与がとりわけ好ましい。パルプ懸濁液にポリマーを凝固剤として、パルプの質量を基準として５重量％までの濃度で添加することもできる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月4日(2005.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二つの電極ピンを含むパイロテクニック点火要素と、
前記二つの電極ピンを封入する開始装置本体と、
前記開始装置本体内に封入されていない露出部分を含む開始装置電気インターフェースと、
前記二つの電極ピン及び前記開始装置電気インターフェースに取り付けられており、前記開始装置本体に封入されている制御回路と、
を備え、
前記露出部分は、前記制御回路の少なくとも一部分のすぐ横にある少なくとも一つの露出した接触部を含むことを特徴とする自動車パイロテクニック開始装置アセンブリ。
【請求項２】
前記開始装置本体は、モールドされることを特徴とする請求項１に記載の開始装置アセンブリ。
【請求項３】
前記開始装置アセンブリは、ガスシール領域を含み、前記制御回路は、前記ガスシール領域から離れていることを特徴とする請求項１に記載の開始装置アセンブリ。
【請求項４】
前記開始装置アセンブリの軸方向の全長は、２１ミリメータより短いことを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の開始装置アセンブリ。
【請求項５】
前記点火要素は、前記開始装置本体内に封入されたフレアー状の底部を有する出力容器を含むことを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の開始装置アセンブリ。
【請求項６】
前記点火要素は、前記開始装置本体内に封入されたフレアー状の底部を有する絶縁カップを含むことを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の開始装置アセンブリ。
【請求項７】
前記制御回路は、予めカプセル封入されていることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の開始装置アセンブリ。
【請求項８】
内部形状を有する拡大開口部を備えた適合コネクタとともに使用する開始装置アセンブリであって、該開始装置アセンブリは前記拡大開口部の内部形状に適合する外部形状を有することを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の開始装置アセンブリ。
【請求項９】
ａ）請求項１に記載の開始装置アセンブリと、
ｂ）適合コネクタ本体に規定されており、前記制御回路を含む開始装置本体の一部分を収容するように形成された拡大開始装置開口部を含む適合コネクタ本体と、
ｃ）前記適合コネクタ本体に接続されており、前記拡大開始装置開口部内に配置され前記開始装置電気インターフェースと適合するように形成されたバスワイヤ電気インターフェースを含むバスワイヤと、
を備えることを特徴とする自動車パイロテクニック開始装置−適合コネクタアセンブリ。
【請求項１０】
前記拡大開始装置開口部は、前記開始装置本体が前記拡大開始装置開口部に収容されるときに、前記開始装置本体を適所にぴったりと保持するように形成された係合機構を含むことを特徴とする請求項９に記載の開始装置−適合コネクタアセンブリ。
【請求項１１】
前記開始装置本体が前記拡大開始装置開口部に収容されるときに、弾性変形するように更に構成されており、前記バスワイヤ電気インターフェースの弾性変形が現れる程度は、確実に前記開始装置本体が前記拡大開始装置開口部内にぴったり保持されるように、且つ、確実に前記電気インターフェース同士が電気的に接触して互いにぴったり保持されるように選択されることを特徴とする請求項１０に記載の開始装置−適合コネクタアセンブリ。
【請求項１２】
前記拡大開始装置開口部は、半径方向の方向決め機構を含むことを特徴とする請求項１０に記載の開始装置−適合コネクタアセンブリ。
【請求項１３】
前記開始装置本体が前記拡大開始装置開口部内に一杯に収容されるときに、前記開始装置−適合コネクタアセンブリの軸方向の全長は、２１ミリメータより短いことを特徴とする請求項９から１２のいずれかに記載の開始装置−適合コネクタアセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月10日(2006.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細長く延びる金属製支持コア（１０）、
攪拌部（４６）及び固定部（４８）を備える少なくとも１個の撹拌歯状体（１４）、
前記固定部（４８）と協働して前記少なくとも１個の撹拌歯状体（１４）を前記細長く延びる金属製支持コア（１０）へ固定する固定手段（４０）、から構成される溶鉱炉用の撹拌アームであって、
前記少なくとも１個の撹拌歯状体（１４）は板状であって、前記固定部（４８）は、前記細長く延びる金属製支持コア（１０）が軸方向に通過する貫通穴（５０）を含む前記板の一部によって形成されていること、及び
前記固定手段（４０）は前記貫通穴（５０）周囲の前記固定部（４８）と協働して前記撹拌歯状体（１４）を前記細長く延びる金属製支持コア（１０）へ固定することを特徴とする前記撹拌アーム。
【請求項２】
前記貫通穴（５０）が長円形形状であることを特徴とする請求項１記載の撹拌アーム。
【請求項３】
前記撹拌歯状体（１４）がセラミックで製造されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の撹拌アーム。
【請求項４】
前記固定部（４８）が第一材料から成り、また前記攪拌部（４６）が第二材料から成り、及び前記第一材料は前記第二材料よりも高い延性をもつことを特徴とする請求項３記載の撹拌アーム。
【請求項５】
前記第一材料が鋳鋼であり、また前記第二材料がセラミック材料であることを特徴とする請求項４記載の撹拌アーム。
【請求項６】
前記撹拌歯状体（１４）には鋳鋼から成るコアが含まれており、該コアは前記固定部（４８）及び前記攪拌部（４６）の上方へ延びており、及び前記攪拌部（４６）にはセラミックジャケットが設けられていることを特徴とする請求項１項ないし３項のいずれかに記載の撹拌アーム。
【請求項７】
前記固定手段が、前記細長く延びる金属製支持コア（１０）上を滑動されかつ前記撹拌歯状体（１４）の固定部（４８）にある貫通穴（５０）と嵌合する歯状体支持スリーブ（４０）を含むことを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載の撹拌アーム。
【請求項８】
前記歯状体支持スリーブ（４０）は数個の撹拌歯状体（１４）の貫通穴（５０）と嵌合することによってそれら撹拌歯状体（１４）を支持することを特徴とする請求項７記載の撹拌アーム。
【請求項９】
前記歯状体支持スリーブ（４０）が前記細長く延びる金属製支持コア（１０）と形状嵌合をなすことを特徴とする請求項７または８記載の撹拌アーム。
【請求項１０】
前記歯状体支持スリーブ（４０）が前記少なくとも１個の撹拌歯状体（１４）の貫通穴（５０）との形状嵌合をなすことを特徴とする請求項７ないし９のいずれかに記載の撹拌アーム。
【請求項１１】
前記歯状体支持スリーブ（４０）の外側断面と前記貫通穴（５０）の双方がいずれも長円形形状であることを特徴とする請求項１０記載の撹拌アーム。
【請求項１２】
前記歯状体支持スリーブ（４０）には、
内側金属製スリーブ（４２）及び外側金属製スリーブ（４４）、
前記内側金属製スリーブ（４２）と前記外側金属製スリーブ（４４）との間にある断熱材料（４６）、及び
前記撹拌歯状体（１４）の固定部（４８）にある貫通穴（５０）の縁部（５２）によって嵌合される前記外側金属製スリーブ（４４）上の衝撃吸収緩衝層（５４）、が含まれていることを特徴とする請求項７ないし１１のいずれかに記載の撹拌アーム。
【請求項１３】
前記内側金属製スリーブ（４２）及び前記外側金属製スリーブ（４４）が双方ともステンレススチール製であることを特徴とする請求項１２記載の撹拌アーム。
【請求項１４】
前記歯状体支持スリーブ（４０）にはさらに、
前記外側金属製スリーブ（４４）から前記衝撃吸収緩衝層を通って突き出している骨組素子（６２）、及び
前記衝撃吸収緩衝層（５４）上の鋳造可能な耐火材層（６０）が含まれ、前記少なくとも１個の撹拌歯状体（１４）の固定部（４８）が前記耐火材層（６０）中に埋め込まれていることを特徴とする請求項１２または１３記載の撹拌アーム。
【請求項１５】
前記歯状体支持スリーブ（４０）が前記少なくとも１個の撹拌歯状体（１４）及び前記鋳造可能な耐火材層（６０）を含むプレハブユニットを形成し、及び前記プレハブユニットが前記細長く延びる金属製支持コア（１０）上を滑動するように設計されていることを特徴とする請求項１４記載の撹拌アーム。
【請求項１６】
前記歯状体支持スリーブ（４０）には金属製支持素子（６４）が含まれ、前記固定部（４８）が前記支持素子（６４）にもたれかかることを特徴とする請求項７ないし１５のいずれかに記載の撹拌アーム。
【請求項１７】
前記金属製支持コア（１０）が互いに堅く固定された２つの隣接し合った外側管（１６，１８）を含むことを特徴とする請求項１ないし１６のいずれかに記載の撹拌アーム。
【請求項１８】
前記隣接し合った外側管（１６，１８）が遠心力を利用して鋳造されたスチールパイプから製造されることを特徴とする請求項１７記載の撹拌アーム。
【請求項１９】
前記外側管（１６，１８）のそれぞれには、その内部に冷却剤を流すための環状の間隙（２４、２６）との境界を形成するように該外側管（１６，１８）中に配設された同軸内側管（２０，２２）が含まれていることを特徴とする請求項１７または１８記載の撹拌アーム。
【請求項２０】
環状の冷却用間隙中に冷却剤のためのらせん状流路を形成するため該環状間隙中にワイヤ（２８，３０）を配設することを特徴とする請求項１９記載の撹拌アーム。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれかにおいて請求された撹拌アームを少なくとも１台備える多段炉型溶鉱炉。
【請求項２２】
溶鉱炉用の撹拌アームであって、細長く延びる金属製支持コア、撹拌部及び固定部を備える多数の撹拌歯状体、前記細長く延びる金属製支持コアへ外嵌され、そして前記撹拌歯状体を前記細長く延びる金属製支持コアに固定するため前記固定部と連携する歯状体支持スリーブを含む固定手段であって、該固定手段は、
一つの内側金属製スリーブ、
一つの外側金属製スリーブ、
前記内側金属製スリーブと外側金属製スリーブとの間に配置され、前記細長く延びる金属製支持コアのとぎれのない断熱をなすための断熱材、
を有していること、を特徴とする撹拌アーム。
【請求項２３】
前記内側金属製スリーブは、前記細長く延びる金属製支持コアに、外形によって嵌合していることを特徴とする請求項２２記載の撹拌アーム。
【請求項２４】
前記断熱材は、微孔性熱材であることを特徴とする請求項２２記載の撹拌アーム。
【請求項２５】
前記歯状体支持スリーブは、前記撹拌歯状体とで、前記細長く延びる金属製支持コア上に外嵌する一つにプレハブ体を形成することを特徴とする請求項２２記載の撹拌アーム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月10日(2005.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射主表面を有する基体からなり、前記主表面（６）が、光学的な厚み（２ｋ＋１）λ／４（ｋは正または０の整数であり、λは蛍光が励起される波長λ0〜蛍光が発光される波長λ1の範囲にある波長を表わす）を有する透明層によって蛍光検出に対して感受性を有するようにされた局所部位（５）を有することを特徴とするバイオチップ。
【請求項２】
蛍光検出に対して感受性を有するようにされた部位（５）を覆う前記透明層が、（２ｋ＋１）λ1／４（ｋは、正または０の整数）に等しい光学的な厚みを有することを特徴とする請求項１によるバイオチップ。
【請求項３】
感受性を有する部位（５）の外部で、主表面（６）が、厚みｍλ′／２（ｍは正または０の整数であり、λ′はλ0〜λ1の範囲にある波長を表わす）の透明層で覆われていることを特徴とする請求項１または請求項２によるバイオチップ。
【請求項４】
感受性を有する部位の外部で、主表面（６）が、厚みｍλ0／２の透明層で覆われてい
ることを特徴とする請求項３によるバイオチップ。
【請求項５】
感受性を有する部位（５）の外部で、基体（１）の表面（６）が、薄層（２２）、特に第一の物質の分子の単層で覆われており、その第一の物質は、一端で基体と共有結合を作らせるようにするシランまたはシラノールのような捕捉保持基を有し、他端で安定した不活性な化学官能基、例えばＣＨ3およびそのハロゲン化誘導体を有する（ＣＨ2）ｐ（１＜ｐ＜３０）タイプの炭化水素鎖からなることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つによる方法。
【請求項６】
第一の物質が、疎水性のシランであることを特徴とする請求項５によるバイオチップ。
【請求項７】
感受性を有する部位（５）が、薄層（２３）、特に第二の物質の分子の単層で覆われており、その第二の物質は、例えばシラン官能基またはシラノール官能基のような、共有結合で基体に固定させるのに適した基を一端で有し、そして、例えば酸ＣＯＯＨ官能基またはアルコールＯＨ官能基を示す基のような共有結合でプローブ分子に固定させるのに適した基を他端で有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つによるバイオチップ。
【請求項８】
前記第二の物質が、親水性のシランであることを特徴とする請求項７によるバイオチップ。
【請求項９】
基体の表面が、前記第二の物質Ｂの層で覆われ、そして感受性を有する部位（５）の外部で、前記第二の物質Ｂの前記層が停止物質Ｃで覆われていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１つによるバイオチップ。
【請求項１０】
以下の工程、
ａ）厚みｍλ′／２の透明層（１０）を基体（１）上に付着させ、そして
ｂ）前記感受性を有する部位を形成するように、透明層の厚みが（２ｋ＋１）λ／４に等しい前記透明層内で、ウエルまたはスタッド（５）を作製する、
を行うことを特徴とする請求項１〜９のいずれか１つによるバイオチップを製造する方法。
【請求項１１】
以下の工程：
ｃ）選択的な転写にて、第一の物質Ａの前記薄層（２２）を付着させ、そして
ｄ）基体を、前記第二の物質Ｂを含む溶液に浸漬させる、
を行うことを特徴とする請求項１０による方法。
【請求項１２】
工程ｃ）および／またはｄ）が、共有結合の形成を容易にさせるために、続いて熱処理することを特徴とする請求項１１による方法。
【請求項１３】
工程ｂ）の後、以下の工程、
ｅ）前記第二の物質Ｂの薄層（３０）を、基体（１）の全表面（６）にわたって付着させ、そして
ｆ）前記感受性を有する部位（５）の外部で、停止物質Ｃの層３１を付着させる、
を行うことを特徴とする請求項１０による方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
好ましい実施の形態において、バイオチップは、感受性を有する部位が、第二の薄層、特に第二の物質Ｂの分子の単層で覆われており、その第二の物質は、共有結合で基体に固定させるのに適した基、例えばシラン官能基またはシラノール官能基を一端で示し、そして共有結合でプローブ分子に固定させるに適した基、例えば酸ＣＯＯＨ官能基またはアルコールＯＨ官能基を示す基を他端で示すことを特徴とする。
前記第二の物質は親水性である。
バイオチップは、基体の表面が、前記物質Ｂの層で覆われ、そして感受性を有する部位の外部で、前記層が停止層Ｃで覆われていることを特徴としていてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
薄層２２および２３（分子の二、三の層以下）の厚みは、表面の光学特性を有意に修飾するのに十分ではなく、従って２つの技術によって得られる選択的な特性を組み合わせる。
つまり、その方法は、物理化学的な制限を利用している。それは、感受性を有する部位の間での領域で、疎水性の単層を形成する分子を付着させるマイクロ転写を局所的に用いることによって、親水特性のプローブを受容するであろう領域を区別する。つまり、感受性を有する部位の内部は、予め合成されたプローブ上で保持すること、または生物学的な分子の現場での合成に適したシランを用いるために、シラン化される。疎水性の単層のミクロ転写は、平坦であってもよく、また浮き彫りになった転写領域を示すマイクロパッドにて構成されていてもよい転写表面３０を使って行われる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月13日(2005.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
活性部分が不活性形態で保持されているケージド化合物から該活性部分を放出する方法であって、前記ケージド化合物を高エネルギーのＤＣ電流パルスにさらす工程を含む方法。
【請求項２】
前記ケージド化合物が、該ケージド化合物を前記高エネルギーのＤＣ電流パルスにさらす時点で、前記活性部分に対して化学的に活性である少なくとも１つの試薬も含有する電解質媒質中に溶解または懸濁される請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記活性化学部分および前記少なくとも１つの試薬が、それらの化学反応が測定可能なシグナルを生じるように選択される請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記測定可能なシグナルが発光である請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記ＤＣ電流パルスが、総エネルギー約０．０１ｍＪ〜約１５Ｊを供給する請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記ケージド化合物が芳香環含有保護基を有する請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記ケージド化合物が、ヘテロ原子により前記活性部分に連結された２−ニトロベンジル基を含む請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記活性部分が、測定可能な結果を伴う化学反応を誘発するのに必要な化合物である、請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
前記活性部分が、カルシウムイオン、ＡＴＰ、ＧＴＰ、フルオレセイン、ビオチンまたはストレプトアビジンである請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
所定の分析物に対する生化学的結合アッセイを実施する方法であって、前記分析物を含有するかまたは前記分析物を含有することが疑わしい媒質、前記分析物に対する少なくとも１つの特異的結合パートナー、および成分の１つがケージングされているシグナル発生系の他の成分を含む混合物を調製する工程、ケージド化合物を高エネルギーＤＣ電気パルスにさらすことにより活性形態でケージド化合物から活性部分を放出させる工程、および前記シグナル発生系より発生したシグナルを測定する工程を含む方法。
【請求項１１】
前記シグナルが発光である請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記ＤＣ電流パルスが、総エネルギー約０．０１ｍＪ〜約１５Ｊを供給する請求項１０または１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記混合物が、ルシフェリンと反応可能な発光タンパク質に連結または結合された前記分析物、ケージド化合物触媒およびルシフェリンを含み、発光タンパク質―ルシフェリン間反応によって化学発光を生じる請求項１０〜１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
前記触媒がカルシウムである請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記発光タンパク質が、貝虫類(ostracods)または介形虫類(cypridina)のエクオリン、オベリン、ニミオプシン、ベロビン、フォラシン、ルシフェラーゼである請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記分析物が、測定可能な結果を発生するためのルシフェラーゼ酵素に連結または結合されている、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記ケージド化合物が触媒ケージドＡＴＰである請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記ケージド化合物がケージドルシフェリンである請求項１２に記載の方法。
【請求項１９】
結合アッセイのシグナル伝達メカニズムが一旦活性化されると発光をもたらす、所定の分析物に対する結合アッセイを実施する方法であって、電解質媒質中に、前記分析物を含有するかまたは前記分析物を含有することが疑わしい液体、前記分析物に対する１つまたは複数の特異的結合パートナー、および成分の１つまたは複数がケージングされている光発生シグナル伝達メカニズムの他の必須成分の混合物を調製する工程、ケージド化合物からの活性部分のアンケージングおよびそれによる光生成反応の開始をもたらす高エネルギーＤＣ電気パルスに前記媒質をさらすことにより、活性形態で前記ケージド化合物から活性部分を放出する工程、および前記シグナル伝達メカニズムから放出された光シグナルを測定する工程を含む方法。
【請求項２０】
前記シグナル伝達メカニズムが、発光タンパク質化学発光反応による光発生である請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記シグナル伝達メカニズムが、ルシフェラーゼ化学発光反応による光発生である請求項１９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月3日(2005.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照射されたターゲットから放射性同位元素を分離するための方法において、その方法が、
（ｉ）前記放射性同位元素を含む表面固体材料を有する照射されたターゲットを用意し；
（ｉｉ）該照射されたターゲットを溶解媒体で処理し；
（ｉｉｉ）一方では該溶解媒体を前記照射されたターゲットの該表面固体材料と接触させながら、該溶解媒体に超音波処理を適用し；
（ｉｖ）該放射性同位元素を含有する該溶解媒体を単離し；
（ｖ）工程（ｉｉ）〜工程（ｉｖ）を随意的に繰り返す；
ことからなる、放射性同位元素を分離するための前記方法。
【請求項２】
照射されたターゲットから放射性同位元素を分離するための方法において、その方法が、
（ｉ）前記放射性同位元素を含む表面固体材料を有する照射されたターゲットを用意し；
（ｉｉ）該照射されたターゲットを溶解媒体で処理し；
（ｉｉｉ）一方では該溶解媒体を前記照射されたターゲットの該表面固体材料と接触させながら、該溶解媒体に超音波処理を適用し；
（ｉｖ）該放射性同位元素を含有する該溶解媒体を単離する；
ことからなる、放射性同位元素を分離するための前記方法。
【請求項３】
照射されたターゲットが支持体材料をさらに含む、請求項１又は２の方法。
【請求項４】
支持体材料が銀を含む、請求項３の方法。
【請求項５】
照射されたターゲットが表面固体材料と支持体材料との間に配置された不活性層をさらに含む、請求項４の方法。
【請求項６】
表面固体材料だけが溶解される、請求項４又は５の方法。
【請求項７】
照射されたターゲットが陽子で照射される、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
溶解媒体が酸化剤を含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
溶解媒体が酸を含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
溶解媒体中に浸漬された超音波処理プローブを介して超音波処理が適用される、請求項８又は９の方法。
【請求項１１】
溶解媒体の外部超音波処理を介しての超音波処理が適用される、請求項８又は９の方法。
【請求項１２】
表面固体材料がモリブデン、ニッケル、ロジウム、亜鉛、酸化亜鉛、銅、タリウム、カドミウム又は酸化ガリウムを含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
放射性同位元素が201Ｔｌ、83Ｒｂ、88Ｙ、88Ｚｒ、96Ｔｃ、97Ｒｕ、62Ｃｕ、67Ｃｕ、111Ｉｎ、67Ｇａ又は68Ｇｅである、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
照射されたターゲットから放射性同位元素201Ｔｌを分離するための方法において、その方法が、
（ｉ）支持体材料上に203Ｔｌを含む表面固体材料を有する照射されたターゲットを用意し；
（ｉｉ）希硝酸を含む溶解媒体で該照射されたターゲットを処理し；
（ｉｉｉ）一方では該溶解媒体を前記照射されたターゲットの203Ｔｌ表面固体材料と接触させながら、該溶解媒体に超音波処理を適用し；
（ｉｖ）201Ｔｌ放射性同位元素を含有する希硝酸溶解媒体を単離し；
（ｖ）工程（ｉｉ）〜工程（ｉｖ）を随意的に繰り返す；
ことからなる、放射性同位元素201Ｔｌの分離のための前記方法。
【請求項１５】
照射されたターゲットから放射性同位元素201Ｔｌを分離するための方法において、その方法が、
（ｉ）支持体材料上に203Ｔｌを含む表面固体材料を有する照射されたターゲットを用意し；
（ｉｉ）希硝酸を含む溶解媒体で該照射されたターゲットを処理し；
（ｉｉｉ）一方では該溶解媒体を前記照射されたターゲットの203Ｔｌ表面固体材料と接触させながら、該溶解媒体に超音波処理を適用し；
（ｉｖ）201Ｔｌ放射性同位元素を含有する希硝酸溶解媒体を単離する；
ことからなる、放射性同位元素201Ｔｌの分離のための前記方法。
【請求項１６】
支持体材料が銀である、請求項１４又は１５の方法。
【請求項１７】
溶解媒体の外部超音波処理を介して超音波処理が適用される、請求項１６の方法。