【手続補正書】
【提出日】平成18年2月13日(2006.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光活性化合物を含有し、かつ親油性有機化合物を含有する溶媒システムに溶解されたフィルターシステムを含有する日焼け止め組成物であって、
前記組成物中での比率で混合した前記フィルターシステムと前記溶媒システムとの混合物が、少なくとも約８の誘電率を有する日焼け止め組成物。
【請求項２】
光活性物質を含むフィルターシステムと、
一般式（I）
【化１】
2005523297.tif 000001
（式中、R1は、C1-C8アルキルからなる群から選択され、R2は、C3-C30アルキル、C3-C30アルケニル、アリール、及びC3-C8シクロアルキルからなる群から選択される）で表される化合物を含む溶媒システムと、
を含む日焼け止め組成物。
【請求項３】
光活性物質を含むフィルターシステムと、
ジブチルオクチルリンゴ酸塩、ジイソアミルリンゴ酸塩、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される化合物を含む溶媒システムと、
を含む日焼け止め組成物。
【請求項４】
光活性物質を含むフィルターシステムの所定量と、親油性有機化合物を含む溶媒システムの所定量とを含む日焼け止め組成物であって、
前記フィルターシステムの光分解の速度定数が、理論的に最小である光分解の速度定数の約１５０％以下である、日焼け止め組成物。
【請求項５】
前記溶媒システムが、
一般式（I）
【化２】
2005523297.tif 000002
（式中、R1は、C1-C8アルキルからなる群から選択され、R2は、C3-C30アルキル、C3-C30アルケニル、アリール、及びC3-C8シクロアルキルからなる群から選択される）で表される化合物を含む、
請求項１、３又は４に記載の日焼け止め組成物。
【請求項６】
一般式（Ｉ）で表される化合物が、N,N-ジメチルデカンアミド、N,N-ジエチルデカンアミド、N,N-ジイソプロピルデカンアミド、N,N-ジメチルイソステルアミド、N,N-ジエチルイソステルアミド、N,N-ジイソプロピルイソステルアミド、N,N-ジメチルミリストアミド、N,N-ジエチルミリストアミド、N,N-ジイソプロピルミリストアミド及びそれらの組合せからなる群から選択される、請求項５に記載の日焼け止め組成物。
【請求項７】
前記溶媒システムは、
一般式（II）
【化３】
2005523297.tif 000003
（式中、R3及びR4は、それぞれ、水素、C1-C20アルキル、C1-C20アルケニル、アリール及びC3-C8シクロアルキルからなる群から選択される）で表される化合物を含む、請求項１乃至６いずれかに記載の日焼け止め組成物。
【請求項８】
一般式（II）で表される化合物が、ジイソアミルリンゴ酸塩、ジブチルオクチルリンゴ酸塩、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項７に記載の日焼け止め組成物。
【請求項９】
前記溶媒システムは、
一般式（III）
【化４】
2005523297.tif 000004
（式中、R5及びR6は、それぞれ、C3-C30アルキル、C3-C30アルケニル、アリール、C3-C8シクロアルキル及びC3-C8シクロアルケニルからなる群から選択される）で表される化合物を含む、請求項１乃至８いずれかに記載の日焼け止め組成物。
【請求項１０】
一般式（III）で表される化合物が、ヘキサメチレンビス(2-ブチルオクチル)ウレタン、ヘキサメチレンビス（2-エチルヘキシル）ウレタン、ビス(ドデシル）イソホロンウレタン、ビス（ドデシル）テトラメチルキシレンウレタン、2,4-(2-ブチルオクチル)トルイン酸ウレタン、2,6-(2-ブチルオクチル)トルイン酸ウレタン、2,4-(ドデシル)トレイン酸ウレタン、2,6-(ドデシル)トレイン酸ウレタン、ビス（2-ブチルオクチル)-4,4'-ビフェニレンウレタン、ビス（2-ブチルオクチル)-2,4'-ビフェニレンウレタン、ビス（2-ブチルオクチル）-2,2'-ビフェニレンウレタン、ビス（ドデシル）-4,4'-ビフェニレンウレタン、ビス（ドデシル）-2,4'-ビフェニレンウレタン、ビス（ドデシル）-2,2'-ビフェニレンウレタン及びそれらの組合せからなる群から選択される、請求項９に記載の日焼け止め組成物。
【請求項１１】
前記光活性物質が、組成物の全重量の約０．１重量％から約２０重量％で含有される、請求項１乃至１０いずれかに記載の日焼け止め組成物。
【請求項１２】
前記光活性物質が、組成物の全重量の約１重量％から約１５重量％で含有される、請求項１１に記載の日焼け止め組成物。
【請求項１３】
前記光活性化合物が、2-ヒドロキシ4-メトキシベンゾフェノン、アボベンゾン、4-イソプロピルジベンゾイルメタン、メンチルアントラニレート、メチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン及びそれらの組合せからなる群から選択される、請求項１乃至１２いずれかに記載の日焼け止め組成物。
【請求項１４】
前記フィルターシステムがアボベンゾンを含む、請求項１３に記載の日焼け止め組成物。
【請求項１５】
前記フィルターシステムがオクチルサリチル酸塩をさらに含む、請求項１４に記載の日焼け止め組成物。
【請求項１６】
2-エチルヘキシルp-メトオキシケイ皮酸塩、イソアミルp-メトオキシケイ皮酸塩、オクチルサリチル酸塩、p-メチルベンジリデン-D,L-カンフル、フェニルベンゾフェノン、イソオクチル4-フェニルベンゾフェノン-2'-カルボン酸塩、p-メトキシケイ皮酸塩、2-フェニル-5-メチルベンゾオキサゾール、オクチルp-ジメチルアミノ安息香酸塩、p-安息香酸、2-エチルヘキシルp-ジメチルアミノ安息香酸塩、ペンチルp-ジメチルアミノ安息香酸塩、エチル4-ビス（ヒドロキシプロピル）-アミノ安息香酸塩、3,3,5-トリメチルシクロヘキシルサリチル酸塩及びそれらの組合せからなる群から選択される光活性化合物をさらに含む、請求項１３に記載の日焼け止め組成物。
【請求項１７】
前記フィルターシステムが、組成物の全重量の約１重量％から約４０重量％で含有される請求項１乃至１６いずれかに記載の日焼け止め組成物。
【請求項１８】
前記溶媒システムが、組成物の全重量の約０．１重量％から約４０重量％で含有される請求項１乃至１７いずれかに記載の日焼け止め組成物。
【請求項１９】
前記溶媒システムが、組成物の全重量の約３重量％から約２０重量％で含有される請求項１８に記載の日焼け止め組成物。
【請求項２０】
化粧料に許容される軟化剤、安定剤、乳化剤及びそれらの組合せからなる群から選択される化合物をさらに含む、請求項１乃至１９いずれかに記載の日焼け止め組成物。
【請求項２１】
イソエイコサン、ポリイソブテン、鉱油、オクチルドデシルネオペンタノエート、エチルヘキシルステアリン酸塩、エチルヘキシルパルミチン酸塩、イソプロピルパルミチン酸塩、イソプロピルミリスチン酸塩、C12-Cl5アルキル安息香酸塩、カプリル酸トリグリセリド、カプリン酸トリグリセリド及びそれらの組合せからなる群から選択される化合物をさらに含む、請求項１乃至２０いずれかに記載の日焼け止め組成物。
【請求項２２】
一般式（II）
【化５】
2005523297.tif 000005
（式中、R3は、n-ブチルアルキルであり、R4は、n-ヘキシルアルキルである）で表されるリンゴ酸エステル。