【事件の表示】
　特願２０００−５３４９２０「アドレス・レゾリューションが改善されたパターン・ジェネレータ」拒絶査定不服審判事件〔平成１１年　９月１０日国際公開、ＷＯ９９／４５４４０、平成１４年　２月２６日国内公表、特表２００２−５０６２３５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　　本件出願の手続の経緯は、概要次のとおりである。 
　　国際出願日　　　　　：平成１１年　３月　２日  
　（優先権主張の日　　　：平成１０年　３月　２日、スウェーデン） 
　　国内書面　　　　　　：平成１２年　９月　１日 
　　拒絶理由通知（最初）：平成２０年１０月３１日（起案日）  
　　手続補正　　　　　　：平成２１年　３月　９日  
　　拒絶査定　　　　　　：平成２１年　６月　４日（起案日）  
　　拒絶査定不服審判請求：平成２１年１０月　９日  
　　手続補正　　　　　　：平成２１年１０月　９日  
　　審尋　　　　　　　　：平成２２年１０月　５日（起案日）  
　　回答書　　　　　　　：平成２３年　１月１１日  
　　　 
第２　平成２１年１０月９日付け手続補正についての補正の却下の決定 
〔補正の却下の決定の結論〕 
　平成２１年１０月９日付け手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。 
　 
〔理由〕 
１　目的要件違反
　本件補正は、特許請求の範囲を補正するものであって、その補正は、平成２１年３月９日付け手続補正により補正された請求項９の、  
「【請求項９】　加工品にアドレス・レゾリューションの改善されたパターンを作成する方法において、該方法が、
　書き込まれるべきパターンのデジタル表現を受け取る段階と、
　連続する部分的パターンをデジタル・パターン表現から抽出する段階と、
　前記パターンを変調装置用駆動信号に変換する段階と、
　前記変調装置用駆動信号を空間光変調装置に供給する段階と、
　超紫外線から赤外線までの波長の光を放射する段階と、
　多数の変調素子を有する前記空間光変調装置によって、前記放射された光を変調する段階と、
　前記加工品の動作及び前記空間光変調装置への信号の供給を調整することにより、前記加工品に画像を投影する段階と
を含み、
　前記変調装置用駆動信号および前記変調素子が、２よりも多い数の変調状態を生成するようにされ、前記電子データ処理及び伝送システムが、ある種類の画素マップをパターン・フィーチャーの内部に、別の種類の画素マップを前記フィーチャーの外部に、中間画素マップを境界線上に作成するようにされているとともに、境界線上の前記中間画素マップが、前記加工品に投影される前記空間光変調装置の画素に比べて微細なグリッドで前記境界線上の配置によって作成され、
　前記境界線の露光レベルが、前記中間画素マップ、及び複数の状態に変調する前記空間光変調装置の能力を用いて作成されることを特徴とするパターンを作成する方法。」
　なる記載を、
　本件補正後の請求項８の、
「【請求項８】　加工品にアドレス・レゾリューションの改善されたパターンを作成する方法において、該方法が、
　書き込まれるべきパターンのデジタル表現を受け取る段階と、
　連続する部分的パターンをデジタル・パターン表現から抽出する段階と、
　前記パターンを変調装置用駆動信号に変換する段階と、
　前記変調装置用駆動信号を空間光変調装置に供給する段階と、
　超紫外線から赤外線までの波長の光を放射する段階と、
　多数の変調素子を有する前記空間光変調装置によって、前記放射された光を変調する段階と、
　前記加工品の動作及び前記空間光変調装置への信号の供給を調整することにより、前記加工品に画像を投影する段階と
を含み、
　前記変調装置用駆動信号および前記変調素子が、２よりも多い数の変調状態を生成するようにされ、前記電子データ処理及び伝送システムが、ある種類の画素マップをパターン・フィーチャーの内部に、別の種類の画素マップを前記フィーチャーの外部に、中間画素マップを境界線上に作成するようにされているとともに、境界線上の前記中間画素マップが、前記加工品に投影される前記空間光変調装置の画素に比べて微細なグリッドで前記境界線上の配置によって作成され、
　前記境界線の露光レベルが、前記中間画素マップ、及び複数の状態に変調する前記空間光変調装置の能力を用いて作成され、
　前記変調装置用駆動信号からの前記境界線の実際の配置までの応答関数が特徴づけられた後、補正が施されることを特徴とするパターンを作成する方法。」
　という記載にすることを含むものである。
　
　ここで、上記本件補正による請求項８に係る補正は、「前記変調装置用駆動信号からの前記境界線の実際の配置までの応答関数が特徴づけられた後、補正が施される」という発明特定事項（なお、当該事項の意味は若干不明瞭ではあるが、本願明細書［００１６］段落の記載「駆動信号による反応から境界線の実際の配置までの特徴づけがなされた後、補正が施される。測定は実証的に行なわれ、校正関数がコンピュータ計算された後、データ処理および搬送システムに記憶される。」に対応するものと認められる。その具体的内容としては、加工品に露光パターン（露光によって形成されるパターン）を作成する際、露光用のシステムで用いられる所定の設計上のパターンデータに基づいて変調装置用駆動信号を生成して露光した場合に形成される、露光パターンの境界線の実際の配置状態を演算により導出する工程（すなわち、「応答関数が特徴づけられ」る工程。）を行い、その結果に基づいて設計上のパターンデータに何らかの補正を施す工程（すなわち、「補正が施される」工程。）を行うことにより、露光パターンの境界線の実際の配置状態等が所望する状態になるようにするという趣旨の技術的事項と推認される。）を追加する補正を含んでいるが、補正前の請求項９には、「変調装置用駆動信号からの前記境界線の実際の配置までの応答関数」を「特徴づけ」るという工程や「補正を施」すという工程、に直接対応する工程やそれらの上位概念的な工程は存在しないことは明らかであるので、上記発明特定事項の追加は新たな発明特定事項を付加するものであって、拒絶査定時の特許請求の範囲に記載した発明特定事項を限定する、いわゆる「特許請求の範囲の限定的減縮」に該当しないことは明らかである。
　また、仮に、本件補正前の請求項９に係る発明に、上記発明特定事項に対応する工程が内在していたと認めたとしても、本件補正後の請求項８に係る発明は、上記発明特定事項が追加されたことにより、加工品に露光パターンを作成する際、露光パターンの境界線の実際の配置状態が設計上の所望する配置状態とは異なってしまうという課題についても解決するものになっていると認められるのに対して、補正前の特許請求の範囲に係る発明は当該課題を解決しようとするものではないので、補正前の特許請求の範囲に係る発明と本件補正後の請求項８に係る発明とは、解決しようとする課題が同一ではないから、やはり、上記本件補正による請求項８に係る補正は、拒絶査定時の特許請求の範囲に記載した発明特定事項を限定する「特許請求の範囲の限定的減縮」に該当しない。　
　さらに、上記発明特定事項を追加する補正は、請求項の削除、誤記の訂正、明りょうでない記載の釈明に該当しないことは明らかである。
　　　
　してみると、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２（以下、単に「特許法第１７条の２」という。）第４項各号に規定するいずれを目的とするものでもない。
　　　
　したがって、本件補正は、特許法第１７条の２第４項の規定に違反する。
　　 
２　独立特許要件違反
　上記のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第４項の規定に違反するものであるが、仮に、本件補正による請求項８に係る補正が特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる、特許請求の範囲の減縮を目的とする補正であるとした場合に、本件補正後の請求項８に記載されている発明特定事項により特定される発明(以下、「本件補正発明」という。)が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否か、すなわち、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たすか否かについて、以下に検討する。
　　　　　
２−１　本件補正発明 
　本件補正発明は、上記「１　目的要件違反」で述べた本件補正後の請求項８に記載のとおりのものである。 
　 　　
２−２　引用例 
（１）原査定の拒絶の理由に引用された、本願優先日前に頒布された刊行物である、特表平８−５０５００３号公報（以下「引用例１」という。）には、以下の技術的事項の記載がある（下線は当審で付した。）。 
　　 
（１ａ）「１．発明の技術分野
　本発明は、
図形または物体を表すディジタル・データを、パターン発生システム上でプリントできるように、ピクセル・フォーマットに変換する
　２．従来技術
　
集積回路のフォトリソグラフィック製造では、放射粒子エネルギーの影響を受けるレジストを所有のパターンで露光させて、回路の微細形状を形成する
半導体本体のフォトレジストを選択的に露光させる。他の例では、レジストがマスク基板上にあり、放射エネルギー自体の方向が、レジストにパターンを形成するように制御される
この選択的な露光は、マスク（またはレチクル）製作の一部として行うことも、あるいは、半導体ウェハを覆うレジスト膜上に直接パターンを「書き込む」ために行うこともできる
紫外線、可視光
　集積回路のフォトリグラフィック製造用のシステムは、本発明の出願人に譲渡された「Ｌａｓｅｒ  Ｐａｔｔｅｒｎ  Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ  Ａｐｐａｒａｔｕｓ」と題する米国特許第４７９６０３８号に記載されている。米国特許第４７９６０３８号では、
回路パターンは、レーザ光線を方向付けて工作物をレーザ光線に対して移動することによって、工作物上に書きこむことができる
ビームは、音響光学変調器（ＡＯＭ）を通過する。ＡＯＭは、回路パターンを形成する電気信号を受信する。工作物上にパターンを書き込むとき、ＡＯＭを使用してビームの強度を制御する
　・・・（中略）・・・
　上述のように、
ＡＯＭによって受信される電気信号はラスタライザによって発生される。ラスタ化とは、パターンをピクセル値の集合に変換することを意味する。ピクセル値は、ＡＯＭに送信される電気信号を表す
　・・・(中略)・・・
　
ラスタ化は概念的には、回路パターンのビット・マップ・イメージを作成することに類似している。ビット・マップ・イメージは複数のピクセル値を含む。各ピクセル値は、ＡＯＭに送信される電気信号に対応する。集積回路をプリントするのに必要な微細な細部を得るために、アドレス・グリッドはピクセル・グリッドよりも微細である
　ＡＯＭに電気信号を提供するフローを第１図に関して説明する。第１図を参照すると、形状命令および配置命令(geometric primitive and placement instructions)を含むファイル１０１がラスタライザ１０２に与えられる。ファイル１０１は、商業的に知られている多数の書込みフォーマットのうちの１つ、たとえばＭＥＢＥＳ（商標名）フォーマットやＡＬＦフォーマットでよい。
ラスタライザ１０２は、回路パターンのビット・マップ・イメージ１０３を作成する。したがって、パターンのビット・マップ・イメージは、ウェハ上で何度もプリントされる。ビット・マップ・イメージ１０３は次いで、Ａ０Ｍ１０４に与えられる。ＡＯＭ１０４は、レーザ光線の工作物上への露光を制御し、実際上、プリンティング動作を制御する
　知られているラスタライザは、レンダリング速度、２ビット強度（輝度）、および柔軟性が限られている。したがって、本発明の目的は、増加された速度で複数のピクセル強度を供給することができ、スケーラビリティを許容する、ラスタライザを提供することである。」（公報第６頁第４行〜第８頁第１２行）
　　　
（１ｂ）「発明の概要
　
パターン発生装置用のピクセル値を発生するラスタライザを開示する。ピクセル値は、パターン発生装置のプリンティング機構を駆動する。ラスタライザは、プリントすべきパターンを定義するファイルを受信し、パターンをサブフレームに分割し、各サブフレームをラスタ化し、次いで、パターン発生装置へのピクセルの供給を調整する
  ホスト・プロセッサは、直列バスを介して異なるサブフレームを異なる形状エンジンに送信する。形状エンジンは、各サブフレームを並行的にピクセルとしてラスタ化する。形状エンジンは、ピクセル・バスを介してピクセルをパケット単位でビーム・ボードに送信する。各ビーム・ボードは、パターン発生装置の単一の書込み要素、たとえば、ビームと相互接続される。ホスト・プロセッサは、形状エンジンからビーム・ボードへのピクセル・パケットの伝送と、ビーム・ボードからパターン発生装置へのピクセル値の伝送も制御する。」（公報第８頁第１３行〜第９頁第２行）
　　　　　　　　
（１ｃ）「好ましい実施例の詳細な説明
　・・・（中略）・・・
　ビーム構成
　上記のように、
最初のレーザ光線は３２本のビームに分割されてブラシを形成し、工作物上にイメージを作成するように変調される
　工作物が所望のパターンを達成するためにブラシに垂直な方向に移動すると、ブラシ中の各ビームのデータは、ｎクロック（またはピクセル周期）だけ遅延する。現在の好ましい実施例では、ｎは６に等しい。これは、ビームが正しい位置に来るまでデータを遅延させる。この遅延は、走査方向でのビーム間の距離に対応する。実際上のブラシはまっすぐな線である。
　第２ｂ図は、時間遅延を導入する前のビーム構成を示す。第２ｂ図を参照すると、時間遅延がない場合、ブラシから成るビームは、角度θ（シータ）２１０でプリントされる。  ピクセル２１１間の間隔およびジアステマル・スプリットがストライプ軸に対するものであることに留意されたい。
　次に、第２ｃ図を参照すると、遅延後のビームのプリンティングが示されている。ビーム２２０が最初にプリントされ、
ステージが左から右に移動している
　　　　　　
（１ｄ）「プリント方式および誤差平均化
  
ピクセル・アドレス・グリッドを十分を小さくすることによって、発生する恐れのあるグリッド・スナップ誤差が無視できるものになることが分かっている（これは、ズーム・レンズ・アセンブリの必要をなくす効果も有する）
各ピクセル単位は、３２アドレス・グリッド単位を表す。これを達成するには、ビーム強度を変化させて（グレイ・スケーリング）エッジを配置する。従来型のシステムでは、グレイ・スケールは主として、工作物に対する連続物理ステージ・パスによって得られた。最大で１つの中間グレイ・スケール値が、ビーム強度によって直接、導入された
  
本発明の現在好ましい実施例では、ブラシ中のビームの１７個の強度変化レベルと、任意に選択可能な連続ステージ・パスとによって、グレイ・スケール（シェード）を得る。強度値は、パターン発生装置に結合されたラスタライザによって発生される
  
解像度を増加させ、平均化を向上させるには、１回のパスを標準グリッドに従って行い、１回のパスを升目補間(interstitial)グリッドに従って行う
  現在好ましい実施例で使用されるピクセル・グリッドを第３ａ図に示す。第３ａ図を参照すると、ＡおよびＢのラベルの付いたピクセルが１つのステージ・パス上にプリントされ、ＣおよびＤのラベルの付いたピクセルが１つのステージ・パス上にプリントされている。ＡおよびＢのラベルの付いたピクセルは標準グリッド上にプリントされ、ＣおよびＤのラベルの付いたピクセルは升目補間グリッド上にプリントされている。
  一般に、プリンティング・システムは、工作物がストライプ軸に沿って移動したとき、走査軸に沿ってレチクルを横切ってフレームをプリントする。フレームとはプリンティング単位であり、これについては以下でさらに詳しく説明する。
　同様に、水平に移動する表面を横切って上下に移動するブラッシュ・ストロークを視覚化してストライプが作成される。１つのストライプが完成したとき、次にプリントすべきストライプは、完成したストライプのすぐ下にあるレチクル上の位置にある。この方式は、ストライプごとに異なるデータでレチクルをプリントするうえで受け入れられている。」（公報第１２頁第２８行〜第１４頁第１０行）
　　　　
（１ｅ）「好ましい実施例のラスタライザの概要
　第５図は、現在好ましい実施例のラスタライザのブロック図である。
ホスト・コンピュータ５０１は、回路パターンを形成するデータを受信するために外部コンピュータ・システム５０２と相互接続され、プリント制御情報を受信するためにパターン発生装置５０３と相互接続されている。外部コンピュータ・システム５０２から受信されるデータは通常、配置(placement)に関する命令を含むファイルと、形状記述(geometry descriptions)のファイルである
ホスト・コンピュータ５０１上の計算手段は、形状記述を形状エンジン(Geometry Engine)５０４ないし５１１でラスタ化できるように分割し変換する
　現在好ましい実施例のホスト・コンピュータ５０１は、カリフォリニア州Ｍｏｕｎｔａｉｎ  ＶｉｅｗのＳＵＮ  Ｍｉｃｒｏｓｙｓｔｅｍｓ社から市販されているＳＰＡＲＣＳＴＡＴＩＯＮ  １０  ワークステーションである。しかし、本発明の趣旨および範囲から逸脱せずに、同じ動作特性を有する他の市販のコンピュータ・システムまたは自社独自のコンピュータ・システムを使用することができる。
　形状エンジン５０４ないし５１１は、直列バス５１５を介してホスト・コンピュータ５０１に結合されている。形状エンジン５０４ないし５１１は、この直列バス５１５を介して形状記述を受信する。第５図には、形状エンジン５０４ないし５１１が示されているが、現在好ましいものでは、２４個の形状エンジンがある。
形状エンジン５０４ないし５１１は、形状記述を、サブフレームのグレイ・スケール（シェード）・ピクセル・マップに変換する。各ピクセル値は、対応する位置での所望のビーム強度を表す。形状エンジンがサブフレームを完成した後、ピクセル・パケットは複数のビーム・ボードに送信される
　
各ビーム・ボードは、パターン発生装置中のｌ本のビーム光線にピクセル・データを提供する。各ビーム・ボードは、ピクセル・バス５１４を介して各形状エンジンに結合されている
ビーム・ボードは、パターン発生装置へのピクセル・データの提供を調整する
  このラスタライザ・アーキテクチャの特徴はスケーラビリティである。たとえば、３２本よりも多く、あるいは少ないビームを必要とするパターン発生装置と共にこのラスタライザを使用する場合、３２個よりも多く、あるいは少ないビーム・ボードを使用することができる。さらに、使用される形状エンジンの数は、所望のピクセルレンダリング性能に応じて増加させることも、あるいは減少させることもできる。」（公報第１５頁第２０行〜第１７頁第６行）
　　　　　　　　　　　　　
（１ｆ）「次に、ラスタライザの各構成要素についてさらに詳しく説明する。
　ホスト・コンピュータ
　プリンティング用の形状データは、形状エンジンによる変換に備えてホスト・コンピュータ上でコンパイルされる。一般に、
ホスト・コンピュータは、外部コンピュータ・システムから受信された形状データおよび配置命令を、各形状エンジンごとのサブフレームとして変換し分割する
・・・（中略）・・・
　ホスト・コンピュータは、形状エンジンおよびビーム・ボードによるピクセル・データの送信をパス・リストを介して制御する。形状エンジンの場合、パス・リストは、ラスタ化すべきサブフレーム、サブフレームに関するオフセット、およびサブフレームをビーム・ボードに送信する順序を記述する。ビーム・ボードの場合、パス・リストは、パターン発生装置に走査線を転送する順序を記述する。」（公報第１９頁第２０行〜第１９頁第１９行）
　　　　　　　　　　　　
（１ｇ）「形状エンジン
　
形状エンジンは、形状プリミティブ(geometry primitive)のラスタ化を実行する
　
現在好ましい実施例では、各形状エンジンは異なるサブフレームをラスタ化する
・・・（中略）・・・
　現在好ましい実施例では、形状エンジンは８個のレンダリング・プロセッサ６０５を含む。レンダリング・プロセッサ６０５は、ＡＳＩＣ(Application Specific Integrated Circuit)チップである。各レンダリング・プロセッサは、一度に２ピクセル処理する。各レンダリング・プロセッサ６０５は、データ微分解析器（ＤＤＡ）、４５゜加速器、ピクセル・キャッシュなどの要素を含む。そのような要素については、以下で形状エンジンの性能に関してさらに詳しく説明する。」（第１９頁第２０行〜第２０頁第２８行）
　　　　　　　　　
（１ｈ）「ピクセル強度（輝度）値の算出
　
レンダリング構成要素６０５は、レンダリング中のピクセル位置にある形状プリミティブの強度を集計することによってピクセル強度値を求める
　サブピクセル・グリッドによって、形状の重なりが発生したときに正しい強度を算出することができる。知られているオン／オフ・ピクセル・タイプのアルゴリズム（ブレゼンハムＤＤＡアルゴリズム）を使用してサブピクセル・マップ上に形状を発生する。次いで、一群のサブピクセルでピクセルを形成する。現在好ましい実施例では、サブピクセル・グリッドは、一辺が３２サブピクセルである。各ピクセルごとに１０２４個のサブピクセルがある。２回の物理ステージ・パスがあるので、２分の１の線量が一度に付着する。記憶要件を最小限に抑えるために、各パスで使用され記憶されるグリッドは、一辺が１６サブピクセルであり、合計で２５６サブピクセルになっている。ｌつが奇数ピクセル用であり、１つが偶数ピクセル用である、２つの異なるグリッドを使用することができる。このようなグリッドを第７ａ図に示す。第２の介在パス(interstitial pass)の間、Ｘ方向およびＹ方向に１サブピクセル空間だけアドレスをずらして、奇数アドレスのサンプリングを強制的に行う。ピクセルが正しい位置に置かれるようにステージを位置決めする。
ピクセルに必要とされる記憶域の量を最小限に抑えるには、フル・サブピクセルをサンプリングする技法を使用する。サンプルに関する１つの要件は、各Ｘサブピクセル・アドレスまたはＹサブピクセル・アドレスごとに１つのサブピクセルしかないことである。これによって、長方形のエッジを正しく配置することができる。したがって、どのように重なっているか、あるいはどのような順序であるかにかかわらず、答えは正しく、かつ同じである。第２に、良好なサンプルは、サンプリングされる点がランダムに広がっており、そのため、任意の線における誤差は「小さい」。
第７ｂおよび７ｃ図はそれぞれ、一辺当たり４サブピクセルの簡単なケースに関するフル・サブピクセルおよび良好なサンプルを示す
　
第７ｂ図を参照すると、ピクセル７０１が示されている。ピクセル７０１を通過する線７０２を使用して、この線よりも下にある、「オン」であるべきピクセル７０１の部分を示すと仮定する。したがって、サブピクセル７０３ないし７１１は「オン」になる。ピクセル強度値は９／１６になる。これは、このピクセルの厳密な強度値である
　第７ｃ図を参照すると、フル・サブピクセルのサンプルが示されている。サンプル・ピクセル７２０は、サブピクセル７２１ないし７２４をサンプル点としてサンプリングしたものである。サブピクセル７２１ないし７２４のうちのどの２つのサブピクセルも、同じＸサブピクセル・アドレスまたはＹサブピクセル・アドレスをもたないことに留意されたい。この場合、線７２５は、第７ａ図の線７０２に対応する。しかし、この場合、サンプリングされたサブピクセル７２２および７２４しか「オン」にならない。この結果、強度値は２／４＝１／２になる。「厳密な」強度値は９／１６なので、ｌ／１６の誤差が発生している。
　任意の線の場合、サンプリング手法では、記憶の必要量が低減されるために精度が犠牲になる。水平線および垂直線の場合、誤差は発生しない。最も重要なものは水平線および垂直線の配置精度なので、これは受け入れられる折合いである。この折合いによって、コストが低減され、性能が向上する。
１組の良好なサンプリング・サブピクセル・マップを求める技法が当技術分野で知られている。簡単に述べられる問題は、あらゆる行に１つの項目しかなく、あらゆる列に１つの項目しかない、グリッド上の項目の組合せの識別である。
　特定の形状に使用すべきサンプリング・サブピクセル・マップの選択は、徹底的な探索によって行われる。選択されるパターンは、４５０度エッジの場合、わずかにより最適なものになる。
  最終的なピクセル強度値を求めるとき、重なっている形状プリミティブの強度を検討しなければならない。したがって、各形状プリミティブから導かれた強度値を集計してピクセル用の最終強度値を発生する。」（公報第２１頁第２１行〜第２３頁第１７行）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（１ｉ）「ビーム・ボード
　
ビーム・ボードは、形状エンジンとパターン発生装置の間のバッファとして働く。現在好ましい実施例では、パターン発生装置の各ビームごとに１つのビーム・ボードがある
　ピクセル・データは、パケットの形で形状エンジンから送られてくる。各パケットは、長さが１０２４ピクセルである。各ピクセルは、５ビット・グレイ・スケール・レベルである。各ピクセル・パケットには１７ビット・アドレスが関連付けられる。このアドレスは、パケットを記憶するフレーム・バッファ・メモリのページを識別する。
第８図は、現在好ましい実施例で使用されるビーム・ボードのブロック図である。
・・・（中略）・・・
　
出力ＦＩＦＯ８０３は、フレーム・バッファ８０５からデータ・パケットを受信し、そのデータをパターン発生装置のＡＯＭドライバヘ転送できるように保持す
　出力ＦＩＦＯ８０３は、プリント・クロックが受信されたときに空になる。データの幅は、ＭＵＸ８０６を介して８ピクセルからｌピクセルに減少される。
ピクセルは次いで、参照テーブルを介して線形値から非線形値に変換され、次いで、タイミングが補償され、電圧レベルに変換される。次いで、この電圧レベルを使用して、２００ＭＨｚ正弦波が変調され、結果がＩＷに増幅される。これは、出力制御・補償・変調装置８０７を介して行われる。この信号は次いで、パターン発生装置のＡＯＭに転送される
　　　　　　
（１ｊ）「ピクセル・バス
　形状エンジンは、ピクセル・バスを介してビーム・ボードに結合される。ピクセル・バスは２つの主要な機能を実行する。第１の機能は、形状エンジンからビーム・ボードヘデータを高い総転送速度で送ることである。現在好ましい実施例では、最大転送速度は、毎秒２ギガ・ピクセルを超える。
第２の機能は、１つの形状エンジンから３２個の異なるビーム・ボードへピクセル・パケットを分配することである。これは、各形状エンジンがサブフレームをラスタ化するからである。サブフレームの各部は、「ブラシ」中の複数のレーザ光線のそれぞれを使用してプリントされる
　　　 　　　
（１ｋ）図１
（１ｌ）図７ｂ
　　　　
〔引用例１に記載された発明〕　 
　これらの記載事項からして、引用例１には、 
「図形または物体を表すディジタル・データを、パターン発生システム上でプリントできるように、ピクセル・フォーマットに変換し、マスクまたは半導体上のレジストにパターンを書き込む集積回路のフォトリソグラフィック製造の方法であって、
　ラスタライザにおいて、
　ホスト・コンピュータは、外部コンピュータ・システムから受信された形状データおよび配置命令を、各形状エンジンごとのサブフレームとして変換し分割し、
　ホスト・コンピュータに結合された各形状エンジンは異なるサブフレームをラスタ化するものであり、形状記述を受信し、形状記述をサブフレームのグレイ・スケール・ピクセル・マップに変換し、サブフレームの各ピクセル値は、対応する位置での所望のビーム強度を表しており、形状エンジンがサブフレームを完成した後、ピクセル・パケットは複数のビーム・ボードに送信され、
　ビーム・ボードは、パターン発生装置へのピクセル・データの提供を調整し、パターン発生装置中のｌ本のビーム光線にピクセル・データを提供し、ピクセルは参照テーブルを介して線形値から非線形値に変換され、タイミングが補償され、電圧レベルに変換され、この電圧レベルを使用して、２００ＭＨｚ正弦波が変調され、その結果がＩＷに増幅され、この信号がパターン発生装置のＡＯＭ（音響光学変調器）ドライバに転送され、
　ＡＯＭは、レーザ光線の工作物上への露光を制御し、実際上、プリンティング動作を制御するものであり、
　レーザ光線が３２本のビームに分割されてブラシを形成し、３２本のビームは工作物上にイメージを作成するようにＡＯＭで変調され、ビームが左から右に移動しているステージ上の工作物にプリント・イメージをプリントし、
　集積回路をプリントするのに必要な微細な細部を得るために、アドレス・グリッドはピクセル・グリッドよりも微細であり、ピクセル・アドレス・グリッドを十分に小さくすることによって、発生する恐れのあるグリッド・スナップ誤差が無視できるものにするため、各ピクセル単位が３２アドレス・グリッド単位を表すようにし、これを達成するように、ビーム強度を変化させてグレイ・スケーリングエッジを配置するために、中間グレイ・スケール値がビーム強度によって直接、導入されており、ピクセル値はＡＯＭに送信される電気信号に対応し、各ピクセルは５ビット・グレイ・スケール・レベルであり、形状エンジンのレンダリング・プロセッサは、レンダリング中のピクセル位置にある形状プリミティブの強度を集計することによってピクセル強度値を求め、例えば、一辺当たり４サブピクセルの簡単なケースでは、ピクセル７０１を線７０２が通過する場合、ピクセル７０１を通過する線よりも下にあるサブピクセル７０３ないし７１１のサブピクセルが「オン」であると、ピクセル強度値は９／１６となり、
　解像度を増加させ、平均化を向上させるために、１回のパスを標準グリッドに従って行い、１回のパスを升目補間(interstitial)グリッドに従って行う、集積回路のフォトリソグラフィック製造の方法。」
　の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。 
　　　　 
（２）原査定の拒絶の理由に引用された、本願優先日前に頒布された刊行物である、特開平５−３６５９５号公報（以下「引用例２」という。）には、以下の技術的事項の記載がある（下線は当審で付した。）。
　　　　
（２ａ）「【００１２】即ち，可変矩形型電子線露光装置を用い，非矩形パターン１を複数個の矩形パターン２に分割し, 矩形パターン内を矩形ショットを繋いで露光する電子線露光方法において，図１（ａ）に示すように，該矩形パターン２のエッジ３が常に該非矩形パターン１の斜辺４より突出しないように分割し，該斜辺に近接する該矩形ショット５には，その他の矩形パターン２より高い露光量を与えることにより，また，前記高い露光量を与える手段として，２回以上のショットを重ねて露光することにより，図１（ｂ）に示すような非矩形の描画パターン７を，
或いは，図１（ｃ）に示すように，該矩形パターン２のエッジ３が常に該非矩形パターン１の斜辺４より突出するように分割し，該斜辺を含む該矩形ショット６には，その他の矩形パターン２より低い露光量を与えることにより，図１（ｄ）に示すような非矩形の描画パターン７を高いパターン精度で得ることができる
　　　
（２ｂ）「【００２８】・・・第４の実施例は大型電子計算機械を用いてデータを処理する場合である。
【００２９】電子線露光装置描画用データ作成フローを図６に示す。請求項３に係る第４の実施例について，図７により説明する。図７（ａ）に示すような集積回路パターンを描画する場合，図６で作成した露光装置用のデータを読み込み，非矩形パターン８と矩形パターン９に大分割して，矩形パターン９となる部分はそのまま露光処理に回す。
【００３０】図７（ｂ）に示す斜辺10を有する２個の非矩形パターン８は，非矩形であることを認識して，図６のフローに示した非矩形パターン処理に回す。そして，図７（ｃ）に示すように，決められたパラメーターに沿って矩形パターン11に分割する。この場合は0.５μｍ幅の細長い矩形パターン11に分割し, かつ矩形パターン11のエッジ12が非矩形パターン８の斜辺10より常に突出するように処理する。
【００３１】次に, 図５（ｄ）に示すように，細長い矩形パターン11を非矩形パターンのエッジを含む矩形パターン16のショットと，それ以外の矩形パターンのショット11に分割し，エッジを含む矩形パターン16のショットは，エッジを含まない矩形パターン11のショットの0.8倍の露光量で露光をするように, 計算機に指定する。
【００３２】そのデータを電子線露光装置へ転送して露光が行われる。図７（ｅ）に示すように，露光されたレジスト膜の描画パターン15は，前述の実施例と同様に，非矩形パターン８の斜辺10がほぼ直線となって，段差が緩和されたものとなる。」
　　　　
（２ｃ）図１
（２ｄ）図６
（２ｅ）図７
　　　
２−３　本件補正発明と引用発明との対比 
　本件補正発明と引用発明とを対比する。 
　 　　　
＜対応関係Ａ＞ 
　引用発明の「解像度を増加させ、平均化を向上させるため」の方法を含む「マスクまたは半導体上のレジストにパターンを書き込む集積回路のフォトリソグラフィック製造の方法」は、本件補正発明の「加工品にアドレス・レゾリューションの改善されたパターンを作成する方法」に相当する。 
　 　　　
＜対応関係Ｂ＞ 
　引用発明の「ラスタライザ」で「ホスト・コンピュータ」が「外部コンピュータ・システム」から、「形状データおよび配置命令」を「受信」することは、本件補正発明の「書き込まれるべきパターンのデジタル表現を受け取る段階」に相当する。 
　　 
＜対応関係Ｃ＞ 
　引用発明の「ラスタライザ」で「ホスト・コンピュータ」が「外部コンピュータ・システムから受信された形状データおよび配置命令を、各形状エンジンごとのサブフレームとして変換し分割し」、「ホスト・コンピュータに結合された各形状エンジンは異なるサブフレームをラスタ化する」ことは、形状データからサブフレームのラスタ化データを抽出することであるから、本件補正発明の「連続する部分的パターンをデジタル・パターン表現から抽出する段階」に相当する。 
　　 
＜対応関係Ｄ＞ 
　引用発明の「ラスタライザ」で「ビーム・ボード」によって「ピクセルは参照テーブルを介して線形値から非線形値に変換され、タイミングが補償され、電圧レベルに変換され、この電圧レベルを使用して、２００ＭＨｚ正弦波が変調され、その結果がＩＷに増幅され、この信号がパターン発生装置のＡＯＭ（音響光学変調器）ドライバに転送され」ることは、形状データから得たピクセル・データをＡＯＭドライバで用いる信号に変換してＡＯＭドライバに供給することであるから、本件補正発明の「パターンを変調装置用駆動信号に変換する段階」及び「変調装置用駆動信号を空間光変調装置に供給する段階」に相当する。　 
　　　
＜対応関係Ｅ＞ 
　引用発明で「レーザ光線」を用いるということは、技術常識を踏まえれば、当該「レーザ光線」が放射光源から放射される工程が存在することを示しているから、引用発明の当該構成と本件補正発明の「超紫外線から赤外線までの波長の光を放射する段階」とは、「所定の波長の光を放射する段階」である点で共通する。
　　　　
＜対応関係Ｆ＞
　引用発明で「レーザ光線が３２本のビームに分割されてブラシを形成し、３２本のビームは工作物上にイメージを作成するようにＡＯＭで変調され」ることは、ＡＯＭが３２本のビームを同時に変調可能な構造を有することを意味しており、技術常識を参酌すると、当該ＡＯＭは少なくとも３２個の音響光学変調素子からなる（含む）ものであるといえるから、本件補正発明の「多数の変調素子を有する空間光変調装置によって、放射された光を変調する段階」に相当する。
　　　
＜対応関係Ｇ＞
　引用発明で「ビーム・ボードは、パターン発生装置へのピクセル・データの提供を調整し、パターン発生装置中のｌ本のビーム光線にピクセル・データを提供し、ピクセルは参照テーブルを介して線形値から非線形値に変換され、タイミングが補償され、電圧レベルに変換され、この電圧レベルを使用して、２００ＭＨｚ正弦波が変調され、その結果がＩＷに増幅され、この信号がパターン発生装置のＡＯＭ（音響光学変調器）ドライバに転送され」「レーザ光線が３２本のビームに分割されてブラシを形成し、３２本のビームは工作物上にイメージを作成するようにＡＯＭで変調され、ビームが左から右に移動しているステージ上の工作物にプリント・イメージをプリント」することは、ステージの動作に合わせてビーム・ボードからＡＯＭに供給される信号に基づいて照射されるビームによってプリント・イメージが工作物に投影されることを意味するから、本件補正発明の「加工品の動作及び空間光変調装置への信号の供給を調整することにより、前記加工品に画像を投影する段階」に相当する。
　　　
＜対応関係Ｈ＞
　引用発明の「ピクセル値はＡＯＭに送信される電気信号に対応し、各ピクセルは５ビット・グレイ・スケール・レベルであ」ることは、本件補正発明の「変調装置用駆動信号および変調素子が、２よりも多い数の変調状態を生成するようにされ」ていることに相当する。
　　　
＜対応関係Ｉ＞
　引用発明の「集積回路をプリントするのに必要な微細な細部を得るために、アドレス・グリッドはピクセル・グリッドよりも微細であり、ピクセル・アドレス・グリッドを十分を小さくすることによって、発生する恐れのあるグリッド・スナップ誤差が無視できるものにするため、各ピクセル単位が３２アドレス・グリッド単位を表すようにし、これを達成するように、ビーム強度を変化させてグレイ・スケーリングエッジを配置するために、中間グレイ・スケール値がビーム強度によって直接、導入されて」いる構成は、工作物に生成する露光パターンのエッジがグレイ・スケーリングエッジ、すなわち中間調レベルで表現されるエッジとなっているということであるので、技術常識を踏まえれば、当該露光パターンのエッジに対応する、露光を制御するＡＯＭに送信されるピクセル・データ（グレイ・スケール・ピクセル・マップ）に含まれるパターンのエッジ部領域、のピクセルマップは中間グレイスケール値で構成されることになり、かつ、アドレス・グリッドはピクセル・グリッドよりも微細であり、各ピクセル単位が３２アドレス・グリッド単位を表すということはピクセルに比べてアドレス・グリッドの方が微細であることを意味するから、当該構成は本件補正発明の「電子データ処理及び伝送システムが」「中間画素マップを境界線上に作成するようにされているとともに、境界線上の前記中間画素マップが、加工品に投影される空間光変調装置の画素に比べて微細なグリッドで前記境界線上の配置によって作成され」る構成に相当する。
　　　
＜対応関係Ｊ＞
　引用発明の「グレイ・スケーリングエッジ」は「中間グレイ・スケール値がビーム強度によって直接、導入され」ることで生成されるものであり、かつ、レーザ光のビームによる露光の制御は、ピクセル・データに基づいてＡＯＭが行うものであるから、引用発明の当該構成は、本件補正発明の「境界線の露光レベルが、前記中間画素マップ、及び複数の状態に変調する前記空間光変調装置の能力を用いて作成され」ることに相当する。
　　　　
　以上の対応関係からして、本件補正発明と引用発明とは、 
「加工品にアドレス・レゾリューションの改善されたパターンを作成する方法において、該方法が、
　書き込まれるべきパターンのデジタル表現を受け取る段階と、
　連続する部分的パターンをデジタル・パターン表現から抽出する段階と、
　前記パターンを変調装置用駆動信号に変換する段階と、
　前記変調装置用駆動信号を空間光変調装置に供給する段階と、
　所定の波長の光を放射する段階と、
　多数の変調素子を有する前記空間光変調装置によって、前記放射された光を変調する段階と、
　前記加工品の動作及び前記空間光変調装置への信号の供給を調整することにより、前記加工品に画像を投影する段階と
を含み、
　前記変調装置用駆動信号および前記変調素子が、２よりも多い数の変調状態を生成するようにされ、前記電子データ処理及び伝送システムが中間画素マップを境界線上に作成するようにされているとともに、境界線上の前記中間画素マップが、前記加工品に投影される前記空間光変調装置の画素に比べて微細なグリッドで前記境界線上の配置によって作成され、
　前記境界線の露光レベルが、前記中間画素マップ、及び複数の状態に変調する前記空間光変調装置の能力を用いて作成される、パターンを作成する方法。」 
の点で一致し、以下の点で相違する。 
　　 
（相違点１）
　「所定の波長の光を放射する段階」に関して、本件補正発明は「超紫外線から赤外線までの波長の光を放射する段階」であるのに対して、引用発明は特定の波長に限定していない点。
　　　
（相違点２）
　本件補正発明は「電子データ処理及び伝送システムが、ある種類の画素マップをパターン・フィーチャーの内部に、別の種類の画素マップを前記フィーチャーの外部に・・・作成する」のに対して、引用発明は、ＡＯＭに送信されるピクセル・データ（グレイ・スケール・ピクセル・マップ）に含まれるパターンのエッジ部領域（グレイ・スケーリングエッジ）以外の部分に適用されるピクセルマップの種類を限定していない点。
　　
（相違点３） 
　本件補正発明は「変調装置用駆動信号からの境界線の実際の配置までの応答関数が特徴づけられた後、補正が施される」という工程を有するのに対して、引用発明は当該工程を有さない点。
　　
２−４　検討・判断 
　上記相違点について検討する。 
　　　
（１）相違点１について
　引用例１の上記摘記事項（１ａ）に「紫外線、可視光・・・を含め、いくつかの放射エネルギー源が使用されている。」と記載されているように、フォトリソグラフィの露光光に紫外線、可視光等の波長の光を用いることは従来技術に過ぎないから、引用発明のレーザ光についても、紫外線、可視光等の波長のものとすることは、当業者にとって何ら創意を必要とすることではない。
　そうすると、引用発明において、相違点１に係る構成を得ることは、当業者であれば容易になし得ることである。
　　　
（２）相違点２について
（２−１）ＡＯＭに送信されるピクセル・データ（グレイ・スケール・ピクセル・マップ）に含まれるパターンのエッジ部領域（グレイ・スケーリングエッジ）とは、当該パターンの内側で所定の中間調レベルのピクセルと当該パターンの外側で前記所定の中間調レベル以外の中間調レベルのピクセルとが存在することにより生ずる境界のことであるから、当該エッジ部領域が存在するということは、当該エッジ部領域を挟んだパターンの内側と外側とが異なる種類のピクセル・データで構成される状態となっているのは、技術常識からして当然のことに過ぎない。
　そうすると、相違点２に係る構成は実質的には相違点ではない。
（２−２）引用例２の上記摘記事項（２ｂ）、（２ｅ）には、パターン精度を高めるために、露光される描画パターンの斜辺を含む領域は０．８倍の露光量とし、露光される描画パターンの斜辺以外の領域は通常の露光量とし、露光される描画パターンの存在しない部分は露光されない空白部となるように、大型電子計算機械のデータを作成する技術が記載されており、技術常識を踏まえれば、露光される描画パターンの斜辺を含む領域の０．８倍の露光量とする部分のパターンデータは中間調レベルのデータであり、かつ、露光される描画パターンの斜辺以外の領域の部分と露光される描画パターンのない部分とでは、露光状態のオンとオフとでデータの種類が異なることは明らかである。
　ここで、引用発明と引用例２に記載の技術とは、露光パターンの精度を高めるために、露光用のシステムで用いられるパターンデータの境界線の領域部分を中間調レベルのデータとする露光方法に関するものであるから、引用発明に引用例２に記載の技術を採用して、引用発明における、露光を制御するＡＯＭに送信されるピクセル・データ（グレイ・スケール・ピクセル・マップ）に含まれる、グレイ・スケーリングエッジではない部分のピクセルについて、露光されるべきパターンのあるパターンの内側と無い外側とでピクセル・データの種類（中間調レベル）を異ならせるようにすることは、当業者であれば容易になし得ることである。
（２−３）小括　
　上記（２−１）または（２−２）のとおりであるから、引用発明において、相違点２に係る構成を得ることは、当業者であれば容易になし得ることである。
　　　　　
（３）相違点３について
　フォトリソグラフィの技術分野において、露光パターンを設計上の所望のパターンに近付けるために、シミュレーション技術を用いて、所定の設計パターンに対する露光パターンの境界（パターンのエッジ）の実際の位置を求めて、その結果に応じて設計パターンに補正を行うことは、周知の技術である（例えば、特開平９−３４０９７号公報（請求項１及び実施例１等）、特開平９−３４１０１号公報（請求項４及び実施例８等）、特開平８−８１６１号公報（段落【００２１】等）を参照されたい。）。
　露光パターンを設計上の所望のパターンに近付ける必要があることは、フォトリソグラフィの技術分野において極めてよく知られた課題であるから、引用発明に上記周知の技術を採用することは当業者であれば容易に想到することである。
　そうすると、引用発明において、上記周知の技術を採用することで、相違点３に係る構成を得ることは、当業者であれば容易になし得ることである。
　　　　　　
（４）本件補正発明の作用効果
　本件補正発明が奏する作用効果は、引用発明及び周知の技術、または、引用発明、引用例２に記載の技術及び周知の技術から当業者が予測できる範囲のものである。
　 
（５）まとめ
　よって、本件補正発明は、当業者が、引用発明及び周知の技術、または、引用発明、引用例２に記載の技術及び周知の技術に基いて容易に発明をすることができたものである。 
　 
３　本件補正についてのむすび 
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第４項の規定に違反するものであり、また、仮に、当該規定に適合するものであったとしても、本件補正発明は、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるから、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たさないものであり、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 
　 
第３　本願発明について 
１　本願発明 
　平成２１年１０月９日付け手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の特許請求の範囲に記載された発明は、平成２１年３月９日付けの特許請求の範囲の請求項９に記載されたとおりのものであるところ、その請求項９に係る発明（以下「本願発明」という。）は、次のとおりのものである。 
　 　　
「【請求項９】　加工品にアドレス・レゾリューションの改善されたパターンを作成する方法において、該方法が、
　書き込まれるべきパターンのデジタル表現を受け取る段階と、
　連続する部分的パターンをデジタル・パターン表現から抽出する段階と、
　前記パターンを変調装置用駆動信号に変換する段階と、
　前記変調装置用駆動信号を空間光変調装置に供給する段階と、
　超紫外線から赤外線までの波長の光を放射する段階と、
　多数の変調素子を有する前記空間光変調装置によって、前記放射された光を変調する段階と、
　前記加工品の動作及び前記空間光変調装置への信号の供給を調整することにより、前記加工品に画像を投影する段階と
を含み、
　前記変調装置用駆動信号および前記変調素子が、２よりも多い数の変調状態を生成するようにされ、前記電子データ処理及び伝送システムが、ある種類の画素マップをパターン・フィーチャーの内部に、別の種類の画素マップを前記フィーチャーの外部に、中間画素マップを境界線上に作成するようにされているとともに、境界線上の前記中間画素マップが、前記加工品に投影される前記空間光変調装置の画素に比べて微細なグリッドで前記境界線上の配置によって作成され、
　前記境界線の露光レベルが、前記中間画素マップ、及び複数の状態に変調する前記空間光変調装置の能力を用いて作成されることを特徴とするパターンを作成する方法。」 
　　　　 
２　引用例 
　原査定の拒絶の理由で引用された引用例及びその記載事項は、前記「第２」「〔理由〕」「２−２　引用例」に記載したとおりである。 
　 
３　本願発明と引用発明との対比、検討・判断 
　本願発明は、前記「第２」「〔理由〕」「１　目的要件違反」で検討した本件補正発明の発明特定事項において、平成２１年１０月９日付け手続補正により導入された「変調装置用駆動信号からの前記境界線の実際の配置までの応答関数が特徴づけられた後、補正が施される」という発明特定事項を省いたものに相当する。 
　そして、本願発明の発明特定事項を全て含んだ本件補正発明は、上記「第２」「〔理由〕」「２−４　検討・判断」に記載したとおり、当業者が引用発明及び周知の技術に基いて容易に発明をすることができたものである。 
　してみると、本願発明も同様の理由（本願発明から省かれた発明特定事項に対応する相違点３についての判断部分を除く。）により、当業者が、引用発明、または、引用発明及び引用例２に記載の技術に基いて容易に発明をすることができたものである。　 
　　　
　なお、本願の請求項１に係る発明は、本願発明とカテゴリが相違するものの、その実質的な内容は本願発明の各段階を当該段階を実行するための装置類に置き換えた程度のものと認められる。そうすると、本願の請求項１に係る発明についても、本願発明と同様の理由により、当業者が、引用発明、または、引用発明及び引用例２に記載の技術に基いて容易に発明をすることができたものである。　 
　　　　　 
４　むすび 
　以上のとおり、本願の請求項９に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。本願の請求項１に係る発明も同様に、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。　　
　したがって、本願は拒絶すべきものである。 
　　
　よって、結論のとおり審決する。