【手続補正書】
【提出日】平成18年5月23日(2006.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下のもの：
・≡Ｓｉ−アルケニル単位を有する少なくとも１種のポリオルガノシロキサン（ＰＯＳ）Ａ、
・≡Ｓｉ−Ｈ単位を有する少なくとも１種のポリオルガノシロキサン（ＰＯＳ）Ｂ、
・少なくとも１種の金属触媒Ｃ、
・随意としての≡Ｓｉ−アルケニル単位を有する少なくとも１種のＰＯＳ樹脂Ｄ、
・随意としての少なくとも１種の架橋防止剤Ｅ、
・随意としての少なくとも１種の接着促進剤Ｆ、
・随意としての少なくとも１種の無機充填剤Ｇ、
・随意としての少なくとも１種の特異的特性を付与するための機能性添加剤Ｈ
を含むシリコーン調製品から得られる、≡Ｓｉ−アルケニル単位上への≡Ｓｉ−Ｈ単位の重付加によって架橋させたポリオルガノシロキサン（ＰＯＳ）から選択される架橋シリコーン含有物品の表面処理方法であって、
・前記物品のシリコーン表面の少なくとも一部の上に少なくとも１つのプラズマジェットをスプレーすることから本質的に成り、
・用いられるプラズマが均一大気圧プラズマであり、
・回転ヘッドと、該回転ヘッドの回転軸に対して中心を外れた１つ又はそれより多くのプラズマノズルとを含み、それぞれのプラズマノズルが前記回転軸に対して平行軸でプラズマジェットを発生することができるものであるプラズマスプレー装置によって連続的に実施される
ことを特徴とする、前記表面処理方法。
【請求項２】
次の必須工程：
・（Ｉ）請求項１に記載の液状シリコーン調製品を用いてシリコーン部材を形成させる；
・（II）工程（Ｉ）で形成されたこの液状シリコーン調製品を架橋させる；
・（III）架橋シリコーン表面の少なくとも一部をプラズマで処理する；
・（IV）工程（Ｉ）及び（II）を繰り返す：
を含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法によって処理された架橋シリコーン物品の製造方法。
【請求項３】
シリコーン表面が受け取るプラズマの量を、該表面のエネルギーが３０ｍＮ／ｍより大きくなるような量にすることを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記シリコーン含有物品が、柔軟な基材と、この基材に接着する単層又は多層コーティングを形成する１つ又はそれより多くの架橋シリコーン部材とを含むことを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記シリコーン含有物品がシリコーン成形型又はシリコーン型成形物品であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
≡Ｓｉ−アルケニル単位上への≡Ｓｉ−Ｈ単位の重付加によって架橋させたポリオルガノシロキサン（ＰＯＳ）から選択される架橋シリコーンを含有する物品の組立て方法であって、
組み立てられるべき物品の内の少なくとも１つが請求項１〜４のいずれかに記載の方法から誘導されたものであること、及び
液状接着剤を用い、これを被処理シリコーン表面の少なくとも一部に塗布することによって前記物品が組み立てられること
を特徴とする、前記組立て方法。
【請求項７】
選択されるＰＯＳ−Ａが、次式：
ＷaＺbＳｉＯ(4-(a+b))/2          （１）
（ここで、記号Ｗは同一であっても異なっていてもよく、それぞれアルケニル基であり；
記号Ｚは同一であっても異なっていてもよく、それぞれ、触媒の活性に対して好ましくない作用がなく、非加水分解性の、ハロゲン化されていてもよい一価炭化水素基であり；
ａは１又は２であり、ｂは０、１又は２であり、ａ＋ｂは１〜３の範囲である）
のシロキシ単位を有し、随意としてのその他の単位の内の少なくとも一部が次の実験式：
ＺcＳｉＯ(4-c)/2          （２）
（ここで、Ｚは上で定義した通りであり、
ｃは０〜３の範囲の値を有する）
の単位である、請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
選択されるＰＯＳ−Ｂが次式：
ＨdＬeＳｉＯ(4-(d+e))/2          （３）
（ここで、記号Ｌは同一であっても異なっていてもよく、それぞれ、触媒の活性に対して好ましくない作用がなく、非加水分解性の、ハロゲン化されていてもよい一価炭化水素基であり；
ｄは１又は２であり、ｅは０、１又は２であり、ｄ＋ｅは１〜３の範囲の値を有する）
のシロキシ単位を有し且つ随意としてのその他の単位の内の少なくとも一部が次の実験式：
ＬgＳｉＯ(4-g)/2          （４）
（ここで、Ｌは上で定義した通りであり、
ｇは０〜３の範囲の値を有する）
の単位である、請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
前記ＰＯＳ−Ａ及び／又はＰＯＳ樹脂Ｄのアルケニル基Ｗがシロキシ単位Ｄ並びに随意としてのＭ及び／又はＴが有するビニル基Ｖｉであることを特徴とする、請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
剥離試験Ｔによって測定して２．７Ｎ／ｃｍより高い接着強度を有することを特徴とする、請求項１〜４及び６〜９のいずれかに記載の方法によって得ることができる架橋シリコーンエラストマーコーティング。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
これらの目的及び他の目的は、本発明によって達成される。本発明は、まず最初に、
・≡Ｓｉ−アルケニル（好ましくは≡Ｓｉ−ビニル）単位を有する少なくとも１種のポリオルガノシロキサン（ＰＯＳ）Ａ、
・≡Ｓｉ−Ｈ単位を有する少なくとも１種のポリオルガノシロキサン（ＰＯＳ）Ｂ、
・少なくとも１種の金属触媒Ｃ、好ましくは白金をベースとするもの、
・随意としての≡Ｓｉ−アルケニル（好ましくは≡Ｓｉ−ビニル）単位を有する少なくとも１種のＰＯＳ樹脂Ｄ、
・随意としての少なくとも１種の架橋防止剤Ｅ、
・随意としての少なくとも１種の接着促進剤Ｆ、
・随意としての少なくとも１種の無機充填剤Ｇ、
・随意としての少なくとも１種の特異的特性を付与するための機能性添加剤Ｈ
を含むシリコーン調製品から得られる架橋シリコーン｛好ましくは≡Ｓｉ−アルケニル（好ましくは≡Ｓｉ−ビニル）単位上への≡Ｓｉ−Ｈ単位の重付加によって架橋させたポリオルガノシロキサン（ＰＯＳ）から選択されるシリコーン｝含有物品の表面処理方法であって、
・前記物品のシリコーン表面の少なくとも一部の上に少なくとも１つのプラズマジェットをスプレーすることから本質的に成り、
・用いられるプラズマが均一大気圧プラズマであり、
・回転ヘッドと、該回転ヘッドの回転軸に対して中心を外れた１つ又はそれより多くのプラズマノズルとを含み、それぞれのプラズマノズルが前記回転軸に対して平行軸でプラズマジェットを発生することができるものであるプラズマスプレー装置によって連続的に実施される
ことを特徴とする前記表面処理方法に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９０】
かくして、この組成物は、例えば部分Ｐ１が成分（Ｆ．１）及び（Ｆ．２）を含み、部分Ｐ２が成分（Ｆ．３）を含有して成ることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０７】
プラズマトーチ下での基材の処理の２４時間後に、被験複合材料を製造する。こうして調製された複合材料の全体を、僅かな加圧下で１６０℃において３分間焼成する。クロスヘッド移動速度が５０ｍｍ／分の一定速度である引張試験機を用いて１８０°において剥離条件Ｔ下で組立品を試験する。添付した図２に、この剥離試験Ｔを図示する。接着性値をＮ／ｃｍで表わす。試験の繰返し精度は±３．５％と評価された。