Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月10日(2005.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  マスクの一部分の画像を含む欠陥区域の画像を第一入力として提供するステップと、
リソグラフィパラメータの第一のセットを第二入力として提供するステップと、
上記第一入力に応じて第一模擬画像を生成するステップとを含み、上記第一模擬画像は、ウェーハが上記マスクの上記一部分を通して向けられた照射源に露光された場合には、上記ウェーハ上にプリントされることになる画像のシミュレーションを含み、上記照射源の特性は、上記リソグラフィパラメータの第一のセットを含むことを特徴とするリソグラフィで使われるマスクの欠陥を検査する方法。
【請求項２】  上記欠陥区域画像が上記欠陥区域画像のデジタル表示を含むことを特徴とするリソグラフィで使われるマスクの欠陥を検査する上記請求項１に記載の方法。
【請求項３】  上記照射源が、可視照射源を含むことを特徴とするリソグラフィで使われるマスクの欠陥を検査する上記請求項１に記載の方法。
【請求項４】  上記照射源が、非可視照射源を含むことを特徴とするリソグラフィで使われるマスクの欠陥を検査する上記請求項１に記載の方法。
【請求項５】  上記リソグラフィパラメータの第一のセットが、開口数、波長、シグマ、レンズ収差、焦点不整合、及び限界寸法を含む一群のパラメータの少なくとも一つを表すデータを含むことを特徴とする、リソグラフィで使われるマスクの欠陥を検査する上記請求項１に記載の方法。
【請求項６】  上記マスクが明視野マスク設計を含むことを特徴とする、リソグラフィで使われるマスクの欠陥を検査する上記請求項１に記載の方法。
【請求項７】  上記マスクが暗視野マスク設計を含むことを特徴とする、リソグラフィで使われるマスクの欠陥を検査する上記請求項１に記載の方法。
【請求項８】  上記マスクが位相シフトマスクを含むことを特徴とするリソグラフィで使われるマスクの欠陥を検査する上記請求項１に記載の方法。
【請求項９】  フォトレジスト処理パラメータのセットを第三入力として提供するステップと、
上記第三入力に応じて第二模擬画像を生成するステップとを含み、上記第二模擬画像が、上記ウェーハが上記マスクの上記一部分を通して向けられた照射源に露光された場合には、上記ウェーハ上にプリントされることになる画像のシミュレーションを含み、上記照射源の特性は、上記リソグラフィパラメータの第一のセットを含み、上記ウェーハは、上記フォトレジスト処理パラメータのセットにより特徴づけられたフォトレジスト材のコーティングを含むことを特徴とするリソグラフィで使われるマスクの欠陥を検査する上記請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  上記第一模擬画像が、上記ウェーハが上記マスクの上記一部分を通して向けられた照射源に露光された場合には上記ウェーハ上にプリントされることになる画像のシミュレーションを含むように、上記第一模擬画像を生成するステップがフォトレジスト処理パラメータのセットに既にキャリブレートされており、
上記照射源の特性が上記リソグラフィパラメータの第一のセットを含み、
上記ウェーハが上記フォトレジスト処理パラメータのセットにより特徴づけられたフォトレジスト材のコーティングを含むことを特徴とするリソグラフィで使われるマスクの欠陥を検査する上記請求項１に記載の方法。
【請求項１１】  上記フォトレジスト処理パラメータのセットが、厚さ、コントラスト、プリベーク時間、ポストベーク時間、現像時間、フォトレジスト濃度、現像液濃度、及びフォトレジストの光吸収を含む一群のパラメータの少なくとも一つのパラメータを表すデータを備えることを特徴とするリソグラフィで使われるマスクの欠陥を検査する上記請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】  上記第一模擬画像が、上記ウェーハが上記照射源への露光の後上記エッチング処理パラメータに従って上記ウェーハ上に転写されることになる画像のシミュレーションを含むように、上記第一模擬画像を生成するステップがエッチング処理パラメータのセットに既にキャリブレートされていることを特徴とするリソグラフィで使われるマスクの欠陥を検査する上記請求項１に記載の方法。
【請求項１３】  上記エッチング処理パラメータのセットが、エッチング時間、エッチング方法及び濃度を含む一群のパラメータの少なくとも一つのパラメータを表すデータを備えることを特徴とするリソグラフィで使われるマスクの欠陥を検査する上記請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  上記マスクの上記一部分の基準描写を提供するステップと、
基準画像を提供するステップとを含み、上記基準画像は、ウェーハが第二マスクを通して向けられた照射源に露光された場合には、上記ウェーハ上にプリントされることになる画像の表示を含み、上記照射源の特性は上記リソグラフィパラメータの第一のセットを含み、上記第二マスクは上記基準描写により描かれたマスクを含むことを特徴とするリソグラフィで使われるマスクの欠陥を検査する上記請求項１に記載の方法。
【請求項１５】  上記第一模擬画像を上記基準画像と比較するステップを更に含むことを特徴とするリソグラフィで使われるマスクの欠陥を検査する上記請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】  上記マスク上の欠陥を探して上記第一模擬画像を分析するステップを更に含むことを特徴とするリソグラフィで使われるマスクの欠陥を検査する上記請求項１に記載の方法。
【請求項１７】  マシンにより読み取り可能であり、且つ請求項１に記載の方法を実行するために上記マシンで実行可能な命令のプログラムを明確に具体化するプログラム記憶装置。
【請求項１８】  潜在的欠陥に関する規準のセットを提供するステップと、
上記潜在的欠陥に関する規準のセットの範囲内に入る特性を有する形状を探して上記マスクを走査するステップと、
潜在的欠陥を含む上記マスクの一部分の画像を含む欠陥区域画像を第一入力として生成するステップと、
リソグラフィパラメータの第一のセットを第二入力として提供するステップと、
上記第一入力に応じて、第一模擬画像を生成するステップとを含み、上記第一模擬画像は、ウェーハが上記マスクの上記一部分を通して向けられた照射源に露光された場合には、上記ウェーハ上にプリントされることになる画像のシミュレーションを含み、上記照射源の特性は、上記リソグラフィパラメータの第一のセットを含むことを特徴とする、リソグラフィで使われるマスクの欠陥を検査する方法。
【請求項１９】  請求項１に記載の方法を実行する装置。
【請求項２０】  リソグラフィで使われるマスクの欠陥をコンピュータに検査させるための内部に具体化されたコンピュータで読み取り可能なプログラムコードを有するコンピュータで使用可能な媒体を含むコンピュータプログラムプロダクトであって、上記コンピュータで読み取り可能なプログラムコードが、請求項１８に記載の方法を実行することを特徴とする、コンピュータプログラムプロダクト。
【請求項２１】  請求項１８に記載の方法を実行する、リソグラフィで使われるマスクの欠陥を検査するための装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月20日(2005.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  往復動プランジャを挿通させることができるボアが設けられると共にボアと同心の第１の環状溝及びボアと同心であって、第１の環状溝から軸方向に間隔を置いて設けられた第２の環状溝を備えたシールキャリヤと、第１の環状溝内に配置されて、前記プランジャに面し、端部領域がシールキャリヤにより支持された環状シールと、第２の環状溝内に配置されて、前記プランジャに接触する環状案内軸受とを有し、環状案内軸受の内径は、第１の環状溝と第２の環状溝との間の領域ではシールキャリヤのボアの内径よりも０．０００５〜０．００１５インチ（０．０１２７〜０．０３８１mm）小さいことを特徴とする高圧流体シール組立体。
【請求項２】  高圧流体シールキャリヤであって、往復動プランジャが挿通できるボアを備えると共にボアと同心であって、環状シールを受け入れるようになった環状溝を備えた本体を有し、シールキャリヤは、ボアと同心で前記プランジャに接触し、環状溝から軸方向に間隔を置いて設けられた環状案内軸受を備え、環状案内軸受の内周部は、往復動プランジャが挿通できるボアの一部を形成し、環状案内軸受の内径は、環状溝と環状案内軸受との間の領域ではシールキャリヤのボアの内径よりも０．０００５〜０．００１５インチ（０．０１２７〜０．０３８１mm）小さいことを特徴とする高圧流体シールキャリヤ。
【請求項３】  高圧ポンプ組立体であって、駆動機構に結合されていて、高圧シリンダ内に形成された高圧室内で往復動するプランジャと、高圧室に隣接して設けられていて、高圧室からの高圧流体の漏れを実質的に防止するシール組立体とを有し、シール組立体は、往復動プランジャが挿通できるボアを備えると共にボアと同心の第１の環状溝及びボアと同心であって、第１の環状溝から軸方向に間隔を置いて設けられた第２の環状溝を有するシールキャリヤと、第１の環状溝内に配置されていて、端部領域がシールキャリヤにより支持された環状シールと、第２の環状溝内に配置されて前記プランジャに接触する環状案内軸受とを有し、環状案内軸受の内径は、第１の環状溝と第２の環状溝との間の領域ではシールキャリヤのボアの内径よりも０．０００５〜０．００１５インチ（０．０１２７〜０．０３８１mm）小さく、プランジャが案内軸受と接触するが、シールキャリヤには接触しないようになっていることを特徴とする高圧ポンプ組立体。
【請求項４】  環状シールの外周の周りにぐるりと設けられていて、加圧ストロークの始動の際に環状シールを付勢するエラストマーシールを更に有することを特徴とする請求項３記載の高圧ポンプ組立体。
【請求項５】  環状案内軸受、プランジャ及びシールの材料は、プランジャとシールとの間及びプランジャと案内軸受との間の摩擦係数が低くなるよう選択されていることを特徴とする請求項３記載の高圧ポンプ組立体。
【請求項６】  プランジャは、部分安定化ジルコニアセラミックで作られ、案内軸受は、樹脂含浸黒鉛で作られ、シールは、超高分子量ポリエチレンで作られていることを特徴とする請求項５記載の高圧ポンプ組立体。
【請求項７】  高圧流体シールを製作する方法であって、環状案内軸受をシールキャリヤの開口部内へ挿入し、同一装置で機械加工によりボアを案内軸受及びシールキャリヤに形成し、案内軸受のボアの内径は、シールキャリヤのボアの内径よりも小さいことを特徴とする方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成17年8月17日(2005.8.17)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１】  ０．０１モル／Ｌ〜２モル／ＬのＨ+ −濃度の水溶液状態で存在する少なくとも１種の３価のランタニド類元素および／またはランタンおよび／またはイットリウムから３価のアクリニド類を分離するために、３価のアクチニドを一般式  （４）
【化１】
2001516809.tif 000001
［式中、Ｒ1 はフェニルまたはナフチル基であり、
Ｒ2 はフェニルまたはナフチル基であり、
あるいはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、シアノ、ニトロ、ハロゲニル基で置換されたＲ1 およびＲ2 残基であり、その際にＲ1 およびＲ2 がメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、シアノ、ニトロ、ハロゲニル基より成る群から選択される少なくとも１つの基で置換されていてもよい。］
で表される（ビス）アリール−ジチオホスフィン酸によって有機溶剤または有機溶剤混合物中で相乗剤の添加下に３価のアクチニドを抽出する、３価のアクチニド類の分離方法において、相乗剤としてトリオクチルホスファート、トリス−（２−プロピルペンチル）−ホスファートおよびトリス−（２−エチルヘキシル）−ホスファートより成る群から選択される少なくとも１種類の化合物を使用することを特徴とする、上記方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
水性相にはランタニド類の３価のイオン（セリウム（Ｃｅ）、プラセオジム（Ｐｒ）、ネオジム（Ｎｄ）、プロメチウム（Ｐｒ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユウロピウム（Ｅｕ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、テルビウム（Ｔｂ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ホルミウム（Ｈｏ）、エルビウム（Ｅｒ）、ツリウム（Ｔｍ）、イットテルビウム（Ｙｂ）、ルテチウム（Ｌｕ）並びにランタン（Ｌａ）およびイットリウム（Ｙ）またはこれらの群の内の少なくとも１種類および３価のアクチニド類、例えばアメリシウム（Ａｍ）および／またはキュリウム（Ｃｍ）のイオンが含まれている。この水性相は０．０１〜２モル／Ｌの強酸のＨ+ −濃度に相当する低いｐＨ値を示す。酸としてはＨＣｌ，Ｈ2 ＳＯ4 およびＨＮＯ3 を使用することができる。ＨＮＯ3 は容易に溶解する塩を生じるので有利である。抽出は、抽出剤として一般式（４）Ｒ2 ＰＳ（ＳＨ）で表されるビス（アリール）ジチオホスフィン酸を含有する有機溶剤によって行なう：
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
表１〜４に記載のデータにつては以下の条件が該当する：
表１：
硝酸溶液からの０．５モル／Ｌのビス（クロロフェニル）ジチオホスフィン酸と０．２５モル／Ｌの相乗剤とのトルエン中混合物でのＡｍ(III) およびＥｕ(III) の抽出への相乗剤の影響。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】
表２：
硝酸溶液からの０．５モル／Ｌのビス（クロロフェニル）ジチオホスフィン酸＋０．２５モル／Ｌのトリオクチルホスフィンオキシドとの混合物でのＡｍ(III) およびＥｕ(III) の抽出への溶剤の影響。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
表４：
０．５モル／Ｌのビス（クロロフェニル）ジチオホスフィン酸＋０．２５モル／Ｌのトリオクチルホスフィンオキシドとの第三ブチルベンゼン中混合物での色々なＨＮＯ3-濃度のシュミレーションしたアクチニド(III) −ランタニド類(III) 溶液からＡｍ(III) の選択的抽出。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月9日(2006.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  次の工程を含む金属基体の被覆方法：
（ａ）金属基体を用意する工程：及び
（ｂ）前記金属基体の表面に処理溶液を適用する工程、但しここに前記処理溶液は部分的に加水分解されたアミノシラン及びフッ素含有無機化合物を含む。
【請求項２】  前記金属基体がアルミニウム、アルミニウム合金及びこれらの混合物からなる群から選ばれる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記金属基体の表面に処理溶液を適用する工程が、前記金属基体を前記処理溶液で約２秒〜約５分の期間接触させることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記処理溶液の温度が約大気温度から約１５０°Ｆである、請求項１に記載の方法。
【請求項５】  次の工程を含む、金属基体を腐食から保護する方法：
（ａ）金属基体を用意する工程：
（ｂ）前記金属基体を洗浄する工程：
（ｃ）前記金属基体の表面に、部分的に加水分解されたアミノシラン及びフッ素含有無機化合物を含む処理溶液を適用して転化被膜（ｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎ
ｃｏａｔｉｎｇ）を形成する工程；及び
（ｄ）前記金属基体を乾燥する工程。
【請求項６】  前記金属基体を乾燥する工程の間、乾燥温度が６０°Ｆ〜１８０°Ｆである、請求項５に記載の方法。
【請求項７】  前記金属基体の乾燥の工程の後、前記処理溶液によって提供される転化被膜が前記金属基体上に、約１０mg／sq.ft.〜約１４mg／sq.ft.の重量存在する、請求項５に記載の方法。
【請求項８】  前記アミノシランが、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、アミノプロピルトリメトキシシラン、アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、アミノエチルアミノプロピルトリエトキシシラン、アミノエチルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン及びこれらの混合物から選ばれ、前記フッ素含有無機化合物がフッ化チタン、フルオロチタン酸、フルオロジルコニウム酸、フルオロハフニウム酸及びこれらの混合物からなる群から選ばれる、請求項５に記載の方法。
【請求項９】  前記金属基体が、アルミニウム、アルミニウム合金及びこれらの混合物からなる群から選ばれる、請求項５に記載の方法。
【請求項１０】  前記金属基体を水でリンスする工程を更に含む、請求項５に記載の方法。
【請求項１１】  部分的に加水分解されたアミノシラン及びフッ素含有無機化合物を含む、処理溶液。
【請求項１２】  前記フッ素含有無機化合物がフッ化チタン、フルオロチタン酸、フルオロジルコニウム酸、フルオロハフニウム酸及びこれらの混合物からなる群から選ばれる、請求項１１に記載の処理溶液。
【請求項１３】  前記アミノシランが、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、アミノプロピルトリメトキシシラン、アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、アミノエチルアミノプロピルトリエトキシシラン、アミノエチルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン及びこれらの混合物から選ばれる、請求項１１に記載の処理溶液。
【請求項１４】  前記アミノシランがγ−アミノプロピルトリエトキシシランであり、前記フッ素含有無機化合物がフルオロチタン酸である、請求項１３に記載の処理溶液。
【請求項１５】  前記処理溶液が実質的にクロム酸塩を含まない、請求項１１に記載の処理溶液。
【請求項１６】  前記フッ素含有無機化合物に対するアミノシランの重量比が、約０．５：１〜約２：１である、請求項１１に記載の処理溶液。
【請求項１７】  前記溶液のpHが約６以下である、請求項１１に記載の処理溶液。
【請求項１８】  前記処理溶液がシラン架橋剤を含まない、請求項１１に記載の処理溶液。
【請求項１９】  次の工程を含む、ポリマー被膜の適用の前に金属基体を処理する方法：
（ａ）金属基体を用意する工程；
（ｂ）前記金属基体の表面に処理溶液を適用する工程；及び
（ｃ）ポリマー被膜を適用する工程；
但し、ここに前記処理溶液は部分的に加水分解されたアミノシラン及びフッ素含有無機化合物を含む。
【請求項２０】  前記ポリマー被膜が、ペンキ、接着剤、ゴム及びこれらの混合物からなる群から選ばれる、請求項１９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月9日(2005.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
図４は水膜の温度の上昇を示している。この上昇は方程式３によって表現される。
【数２】
2001516043.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月18日(2005.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  検査されるべき物質と接触する電極に電気パルスを印加することにより過渡応答を発生させ、前記印加直後の初期過渡応答から、あるいは前記パルス終端における減衰の終了に至るまで、前記過渡応答を記録し、次いで前記過渡応答を多変量解析法により評価することを特徴とする測定方法。
【請求項２】  検査されるべき物質と接触する電極に電気パルスを印加することにより過渡応答を発生させ、前記過渡応答を前記パルス印加後の少なくとも１つの測定値及びピーク値到達前の少なくとも１つの測定値について記録し、次いで前記得られた測定値を多変量解析法により評価することを特徴とする測定方法。
【請求項３】  検査されるべき物質と接触する電極に電気パルスを印加することにより過渡応答を発生させ、前記過渡応答を少なくとも前記パルス印加後のピーク値について記録し、次いで前記得られた測定値を多変量解析法により評価することを特徴とする測定方法。
【請求項４】  検査されるべき物質と接触する電極に電気パルスを印加することにより過渡応答を発生させ、前記過渡応答を第１パルスのピーク値到達後であるが前記応答が前記ピーク値の９０％より小さくなる前の少なくとも１つの測定値について記録し、次いで前記得られた測定値を多変量解析法により評価することを特徴とする測定方法。
【請求項５】  検査されるべき物質と接触する電極に電気パルスを印加することにより過渡応答を発生させ、前記過渡応答を第１パルスのピーク値到達後であるが前記応答が前記ピーク値の９０％、好ましくはピーク値の９５％より小さくなる前の少なくとも１つの測定値、ピーク値到達前の１つの値、及びピーク値について記録し、次いで前記得られた測定値を多変量解析法により評価することを特徴とする測定方法。
【請求項６】  前記パルスのそれぞれは、電流、電圧、エネルギー、導電度または対照される作用からなる群から選ばれる１つのパルスであるが、前記群の内で選ばれないものの内の１つを記録する、例えば電流を測定する場合には電圧または導電度を対照し、一方前記作用を対照する場合には電流または電圧のいずれかを記録することを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】  連続する電気パルスの、例えば電流及び／または電圧値、形状、またはパルスとパルス間休止との関係、または周波数を変えるか、あるいは前記パルスを電流または電圧の上昇または下降曲線に重畳することを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】  １つの電気的パラメータ及び別の１つのその他のパラメータの、少なくとも２つのパラメータの変化で、２次元応答パターンを与えることを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項９】  例えば相異なる材料からなるか、相異なる材料で被覆されるか、あるいは相異なる態様で修飾された、複数の相異なる測定電極を使用することを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】  複数の相異なる電極を、前記電極が互に作用するかあるいは前記電極による測定が互いの測定結果に作用するような関係に配置することを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】  前記測定の原理が、１つ、２つまたは３つの電極タイプにおける電圧計測法、電位差計測法または導電度計測法であることを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】  相異なる測定電極間で共通の電流または電圧発生器及びまたは記録装置を連続して循環的に切り換えることにより、前記電極のそれぞれへのパルス間に十分な時間を生じさせて、同じ電極に次のパルスが到達する前に以前のパルスが液体に与えた作用を消滅させることを特徴とする請求項１から１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】  前記パルスの周波数を変化させることを特徴とする請求項１から１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】  前記パルスの振幅を変化させることを特徴とする請求項１から１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】  前記過渡応答を、多変量認識法またはその他の同様な類別法による評価の前に、例えば微分、積分、比例等の適当な形状強調または発現技法により処理することを特徴とする請求項１から１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】  前記パルス周波数の変化幅が、例えば１０Ｈｚ〜１００ｋＨｚと、大きいことを特徴とする請求項１から１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】  検査されるべき物質と接触するための電極と接続されたパルス発生器、前記パルスの印加時に得られる過渡応答を記録するための記録装置及び多変量解析パターン認識法により前記過渡応答を評価するためのコンピュータを含むことを特徴とする電子式味覚センサ。
【請求項１８】  前記コンピュータがさらに、前記パルスの大きさ、形状または周波数等を制御するために、あるいは発生されたパルスと測定された応答との間を相関づけるために接続されることを特徴とする請求項１７記載の電子式味覚センサ。
【請求項１９】  ポンプハウジングを含み、検査試料を前記ハウジングに通して流せるようにポンプ素子が前記ハウジング内で回転可能であり、前記ポンプ素子のローターに前記ハウジングの壁体に配置された電極を払って清浄にするブラシまたはゴム製ブレードシールが備えられていることを特徴とする、測定用試験セルである電子式味覚センサ。
【請求項２０】  試験中は前記検査試料の流速が一定であることを特徴とする請求項１９記載の測定用試験セルである電子式味覚センサ。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月4日(2005.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
隣接する２個の基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9によって形成される、オルト縮合された飽和、不飽和または芳香族性の環を有するフェノレーション（phenolation）は、たとえば、下記の構造
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
および３，４−位置でオルト縮合されたそれらの異性体を含み、それによって、オルト縮合された環を形成するために必要のない基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9の意味はそれぞれ同じままである。加えて、オルト縮合された環では、１個のメチレン基が酸素によって置換され、隣接する２個のメチレン基がオキシカルボニル基およびカルボニルオキシ基によって置換されていることができる。オルト縮合された飽和、不飽和または芳香族性の環を有する好ましいフェノレーションは、インダニル、インデニル、ナフチル、ジヒドロナフチルまたはテトラヒドロナフチル基を含み、それによって、オルト縮合された環は、２，３−または３，４−位置で結合することができ、オルト縮合された環を形成するために必要のない基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は、式Ｉで与えた意味を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月12日(2005.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  メモリ属性索引信号を受信し、メモリ属性索引信号に応答して直線メモリ属性信号を選択するメモリ属性パレットと、
直線メモリ属性信号を受信し、直線メモリ属性信号に応答して有効メモリ属性信号を選択する有効メモリ属性セレクタと、
有効メモリ属性セレクタに物理属性信号を提供する物理属性レジスタと、
有効メモリ属性信号を受信し、有効メモリ属性信号に応答してメモリ管理信号を提供するメモリ管理回路とから構成され、上記有効メモリ属性セレクタは直線メモリ属性信号と物理属性信号に応答して有効メモリ属性信号を選択することを特徴とするコンピュータ・システム。
【請求項２】  メモリ属性索引信号を受信し、メモリ属性索引信号に応答して直線メモリ属性信号を選択するメモリ属性パレットと、
有効メモリ属性セレクタに物理属性信号を提供する物理属性レジスタと、
直線メモリ属性信号を受信し、直線メモリ属性信号および物理属性信号に応答して有効メモリ属性信号を選択する有効メモリ属性セレクタと、
有効メモリ属性信号を受信し、有効メモリ属性信号に応答してメモリ管理信号を提供するメモリ管理回路と
を含むコンピュータ・システム。
【請求項３】  メモリ属性索引信号を受信し、物理メモリ索引信号に応答して直線メモリ属性信号を選択するメモリ属性パレットと、
入力したメモリ属性信号を記憶し、次いでパレット・レジスタに転送する少なくとも１つの外部レジスタと、
有効メモリ属性セレクタに物理属性信号を提供する物理属性レジスタと、
直線メモリ属性信号を受信し、直線メモリ属性信号および物理属性信号に応答して有効メモリ属性信号を選択する有効メモリ属性セレクタとを含み、
上記メモリ属性パレットはリニアメモリ属性信号を記憶するパレットレジスタであり、上記少くとも１つの外部レジスタはプログラムとオペレーティングシステムにアクセス出来ることを特徴としたコンピュータ・システム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月8日(2005.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料中の物質と相互作用する感度を高めるセンサ（５０）と、
第１及び第２の複数の入射角にわたって光ビームに前記センサを暴露する光源（２０）であって、前記第１の複数の入射角が前記センサ表面の垂線に対して正角であり、前記第２の複数の入射角が前記垂線に対して負角である光源と、
前記第１及び第２の複数の入射角の各角度に対して前記センサから反射した光（７０）に感応する検出器（６０）と、
前記第１の検出器に連結され、反射光の第１の変化を検出する前記第１の複数の入射角の異常角θ１と反射光の第２の変化を検出する前記第２の複数の入射角の異常角θ２との間の角度差の関数として前記試料中の物質の基準を算出する制御器と、
を含むことを特徴とする、試料（１５０）中の物質（１４０）を検定するシステム（１０）。
【請求項２】
前記センサが表面プラズモン共鳴センサであることを特徴とする、請求項１記載のシステム。
【請求項３】
前記センサが、少なくとも１つの入射角に対する入射光の零次反射率を抑制する誘電層（１８０）を有する回折異常センサであることを特徴とする、請求項１記載のシステム。
【請求項４】
前記センサが、
実質的に周期的な溝輪郭に形成された表面（１０５）を有する基板（１００）と、
前記基板から外側に形成された薄い金属層（１１０）と、
前記薄い金属層から外側に形成された増感層（１３０）であって、前記物質と相互作用可能な増感層と、
を更に含むことを特徴とする、請求項１記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月28日(2005.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
特定の部位において起こっている反応を示す光について、反応部位のアレイ（配列）を同時にモニタリングするための装置であって、
複数の反応部位において、複数の液体サンプルを受け取る手段と、
液体サンプル内に、少なくとも1の試薬を分注する手段と、
特定の液体サンプルの反応により生じる光が、光学感受性デバイスの特定の予め決められた領域に衝突するように配置された光学感受性デバイスと、
前記予め決められた領域の各々の上に衝突する光のレベルを検出する手段と、
反応部位の各々についての経時的な光のレベルの変動を記録するための手段
を含むことを特徴とする装置。
【請求項2】
請求項1に記載の装置であって、複数の前記液体サンプルを受け取る手段が、プレートを含むことを特徴とする装置。
【請求項3】
ＤＡＮ配列中の標的塩基を同定するための装置であって、
特定の反応部位において、複数の液体サンプルを受け取るプレートと、
前記サンプルの中に、少なくとも1の試薬を分注する手段と、
前記光学感受性デバイスの特定の領域に生じるヌクレオチドの取り込みを示す、特定の液体サンプルの反応によって生じる光を感受できるように設置された、光学感受性デバイスと、
各々の前記予め決められた領域の上に生じている光のレベルを検出する手段と、
経時的な前記光のレベルの変動を記録する手段
を含むことを特徴とする装置。
【請求項4】
請求項1、2および3に記載の装置であって、光学感受性デバイスが、単一光変換機を含むことを特徴とする装置。
【請求項5】
請求項1、2、3あるいは4に記載の装置であって、下部より反応部位をモニタリングするように配置されている装置。
【請求項6】
請求項1から5に記載の装置であって、
レンズのアレイが前記反応部位と光学感受性デバイスとの間にあるか、あるいは、使用中に、前記反応部位と光学感受性デバイスとの間に配置されることを特徴とする装置。
【請求項7】
請求項6に記載の装置であって、前記レンズのアレイが、対応する反応部位の間隔よりも少ない間隔で隔てられていることを特徴とする装置。
【請求項8】
請求項1から7に記載の装置であって、光学感受性デバイスが、電荷結合デバイスを含むことを特徴とする装置。
【請求項9】
請求項8に記載の装置であって、光学感受性デバイスが、フレームトランスファー電荷結合デバイスを含むことを特徴とする装置。
【請求項10】
請求項1から9に記載の装置であって、所定の反応部位からの総光アウトプットの測定値を記録する手段を含むことを特徴とする装置。
【請求項11】
請求項1から10に記載の装置であって、前記光学感受性デバイスからの電気的アウトプットをデジタル信号に変換する手段を含むことを特徴とする装置。
【請求項12】
請求項11に記載の装置であって、前記変換手段が、単一のブロックの隣接する複数のピクセルからの信号を変換することを特徴とする装置。
【請求項13】
請求項2から12に記載の装置であって、前記プレートが熱制御装置と接触していることを特徴とする装置。
【請求項14】
請求項2から13に記載の装置であって、プレートの反応部位間にマスキング手段があることを特徴とする装置。
【請求項15】
請求項14に記載の装置であって、前記マスキング手段がブロック内のチャンネルによって提供されていることを特徴とする装置。
【請求項16】
請求項15に記載の装置であって、前記ブロックが、温度調節手段を含むことを特徴とする装置。
【請求項17】
請求項15又は16記載の装置であって、前記チャンネルが、その下部に向かって外向きに張り出していることを特徴とする装置。
【請求項18】
DNA配列中の標的塩基を同定する方法であって、
複数の反応部位から光学感受性デバイスの対応する各部分に発せられる光のレベルを検出する工程、
光学感受性デバイスの各部分に衝突する光を、他の領域からの信号と区別して電気的信号に変換する工程、
対応する電気信号から別個の領域の各々について、光の強度を決定する工程と、
前記電気的信号の経時的な変動を記録する工程
を含むことを特徴とする方法。
【請求項19】
請求項18に記載の方法であって、複数の反応部位を同時にモニタリングする工程を含む方法。
【請求項20】
請求項18または19に記載の方法であって、光学感受性デバイスの連続する読み取り可能な状態の間隔が、連続する反応部位への試薬を添加する間隔と同じかまたは、それより短いことを特徴とする方法。
【請求項21】
請求項18から20に記載の方法であって、個々のサンプルに対して生じる光のアウトプットを経時的に記載する工程を含み、それゆえ、サンプルに対して特定の試薬を添加したときに生じる個々のピークの読み取りを可能にすることを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記の方法にしたがって行われたDNAシークエンシングは、単純なやり方で高品質のデータを生み出すことができるが、その方法の生産性は、仮に単一反応として行われるならば、高くはない（典型的には、100秒当たり１塩基の読み込み）。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月12日(2006.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  サンプルを、免疫グロブリンを非特異的に吸着するか、または結合できる試薬化合物と混合し、その後、サンプルを加熱処理、続く冷却段階に付すことを特徴とする、種々のサンプルマトリックスの複合体からの免疫グロブリンのFc部分に結合できる天然または組換えタンパク質、ポリペプチドまたはペプチド(熱安定性免疫リガンド)の定量的解離の方法。
【請求項２】  緩衝剤および／またはタンパク質を、各々pHおよびタンパク質含量のサンプル変化を補うように加熱段階前に添加することを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項３】  キレート化剤を、存在し得る重金属イオンを結合するために加熱段階前に添加することを特徴とする、請求項１または２記載の方法。
【請求項４】  試薬化合物が疎水性および陰性荷電末端を有することを特徴とする、請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】  試薬化合物がドデシル硫酸ナトリウム(SDS)であることを特徴とする、請求項１から４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】  試薬化合物の加熱段階前のサンプル中の濃度が、１０から４０mM、好ましくは３０から４０mMであることを特徴とする、請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】  加熱段階を３から１８０分の間の範囲および６０から１００℃の間の範囲で適用することを特徴とする、請求項１から６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】  冷却段階において、加熱段階後の温度が温度を０から４０℃、好ましくは、４から３５℃の範囲に低下させることを特徴とする、請求項１から７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】  加熱段階中のpHが、５から８の間、好ましくは６から７.５の範囲であることを特徴とする、請求項１から８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】  リン酸またはホウ酸緩衝液を加熱段階前にサンプルに添加ことを特徴とする、請求項２から９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】  加熱段階前のサンプル中の緩衝剤の濃度が５から１００mMの範囲内で選択されることを特徴とする、請求項２から１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】  加熱段階前にサンプルに添加するタンパク質の濃度が、添加した試薬化合物の１／２０から１／１００、即ち、０.１から２mM、好ましくは０.３から２mMの範囲で選択されることを特徴とする、請求項２から１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】  キレート化剤がサンプル中に加熱段階前に０.５から５mMの範囲内の濃度で存在することを特徴とする、請求項３から１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】  以下の段階：
ａ)アッセイするサンプルの、好ましくは定められたタンパク質含量を有するリン酸緩衝化溶液での前希釈、および前希釈したサンプルと、熱安定性免疫リガンドを解離するためにこのサンプルマトリックスのために調節した定められた試薬との混合；
ｂ)アッセイするサンプルの混合、加熱および続く冷却；そして
ｃ)好ましくはアッセイに使用したサンプル希釈緩衝液と比例して添加したタンパク質含量を有するリン酸緩衝化溶液との免疫化学アッセイの実施
により特徴付けられる、請求項１から１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】  熱安定性免疫リガンドの解離用試薬が、ドデシル硫酸ナトリウム(SDS)とキレート化剤、好ましくはジエチレントリアミン五酢酸(DETAPAC)またはエチレンジアミン四酢酸(EDTA)を含むことを特徴とする、請求項１４記載の方法。
【請求項１６】  未知(定義されていない)サンプルの場合、定められたタンパク質溶液を含むサンプルを１＋４の比率で混合し、本混合物を次いで試薬溶液と１＋２の比率で混合することを特徴とする、請求項１４または１５のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】  定められたタンパク質含量を有する好ましいリン酸緩衝化溶液を、アッセイに使用するサンプル希釈緩衝液に、サンプル希釈緩衝液中、０.０２％の遊離SDS濃度まで使用することを特徴とする、請求項１４から１６のいずれかに記載の方法。
【請求項１８】  アッセイする前希釈サンプルの加熱を２時間、１００℃で行い、続いて室温に冷却することを特徴とする、請求項１４から１７のいずれかに記載の方法。
【請求項１９】  二つの反応溶液、即ち定められたタンパク質溶液および試薬溶液のpHが、６.０−７.５に、例えば、１N  NaOHまたは１N  HClの手段により調節されていることを特徴とする、請求項１４から１８のいずれかに記載の方法。
【請求項２０】  １(サンプル)：４(タンパク質溶液)：１０(試薬溶液)の好ましい混合比率を使用することを特徴とする、請求項１４から１９のいずれかに記載の方法。
【請求項２１】  定められたタンパク質溶液がリン酸緩衝液であり、Na２HPO４・２H２O、KH２PO４、KCl、NaClおよびウシ血清アルブミンまたは卵アルブミンまたは他のアルブミンまたはこれらの混合物からなる群から選択されるタンパク質を含むことを特徴とする、請求項１４から２０のいずれかに記載の方法。
【請求項２２】  方法が熱安定性免疫リガンドの測定のための免疫アッセイの一部であることを特徴とする、請求項１から２１のいずれかに記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
更に、アッセイにおける試薬溶液のサンプル希釈緩衝液への添加は、抗体の重鎖の復元に対して対応して働き、SDS分子の脱着、したがってリガンドの再結合を防止する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
リガンドの可能性のある変性は、正確に同じ方法で定められたタンパク質溶液および試薬溶液の標準の前希釈および処理により補正される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月13日(2006.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  回転駆動力を第１軸（３８）から第２軸（４０）へ伝えるための弾性軸継手組立体であって、前記弾性軸継手組立体が、
（ａ）  概ね長いエラストマー部材（４２）であって、
（ｉ）  エラストマー部材の一方の端部に配され、かつ第１軸（３８）を覆って締り嵌めをもたらすような大きさにされた第１孔（７４）と、
（ｉｉ）  エラストマー部材の反対側の端部に配され、かつ第２軸（４０）を覆って締り嵌めをもたらすような大きさにされた第２孔（８０）と
を有しているエラストマー部材（４２）と、
（ｂ）  エラストマー部材の外面を覆って締り嵌めをもたらす大きさにされた中央開口を有しており、かつ、エラストマー部材に対して、第１軸（３８）および第２軸（４０）のうちの少なくとも一方でエラストマー部材を保持し、その結果、これらの軸（３８、４０）がエラストマー部材を介して互いに連結される、圧縮力をもたらす長いスリーブ（８６）とを備え、スリーブ（８６）の外面が、エラストマー部材の中心軸に関して変化する半径での箇所の軌跡を規定する輪郭を有するカム面（９６）を備え、
前記弾性軸継手組立体がさらに、
（ｃ）スリーブ（８６）が貫通して延びるほぼ四辺形の開口を有するリンクを備えており、前記リンクは、スリーブ（８６）が回転するとスリーブ（８６）のカム面（９６）に乗り上げる、弾性軸継手組立体。
【請求項２】  エラストマー部材（４２）が、横断して延びるウェブ（９８）を含み、かつ、第１孔（７４）と第２孔（８０）との間に配置されている請求項１に記載の弾性軸継手組立体。
【請求項３】  スリーブ（８６）とエラストマー部材（４２）の外面とのうちの少なくとも一方が、従動軸（４０）の位置をキー止めするために心合わせ溝を含んでいる請求項１に記載の弾性軸継手組立体。
【請求項４】  別のスリーブ（８６）とエラストマー部材（４２）の外面とが、心合わせ溝の内部に嵌まるような大きさにされた心合わせリッジを含んでおり、前記心合わせ溝および心合わせリッジが、互いに協働して、エラストマー部材とスリーブ（８６）との間に締り嵌めをもたらす請求項３に記載の弾性軸継手組立体。
【請求項５】  リンクは、カム面（９６）が四辺形開口の一方側部に乗り上げると、スリーブ（８６）から離れる方向へ移動するように駆動されるプランジャー（５６）に連結される請求項１に記載の弾性軸継手組立体。
【請求項６】  スリーブ（８６）が、剛性材料の上に成形されるエラストマー材料からなる請求項１に記載の弾性軸継手組立体。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月13日(2006.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  水の流れから動力を抽出するように動作可能な装置であって、
流路を規定するように形成された少なくとも１つの流体誘導形成部であって、該流路は、入水部と、出水部と、該入水部と該出水部との間に配置された流れ加速圧縮部とを有しており、該流れ加速圧縮部は、該流路の該流れ加速圧縮部中を水が流れるにつれて該流路中を流れる水が加速させられるような形状を有している、少なくとも１つの流体誘導形成部と、
該流路の外部にある位置に配置された流体駆動エンジンと、
該流体駆動エンジンと加速された水の流れを有する該流路の一部との間に流体連絡を提供するように配置された導管であって、該導管の開放端は、該流れ加速圧縮部の中に延びており、該流体駆動エンジンは、該導管に沿った流体の流れが該流体駆動エンジンを駆動するように機能するように構成されている、導管と
を備える、装置。
【請求項２】  前記導管は、前記流体駆動エンジンと、最大水速度を提供するように形成された前記流路の一部との間に流体連絡を提供するように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項３】  流体が流れる方向の前記流路の外部は、前記少なくとも１つの流体誘導形成部によって囲まれており、該流路の入口は、該流路の中央の断面よりも大きな断面積を有する、請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】  前記少なくとも１つの流路は、該流路の両端部の中央の平面を中心として実質的に対称である、請求項１〜３のいずれかに記載の装置。
【請求項５】  前記流路を規定する内側表面は、概して湾曲している、請求項１〜４のいずれかに記載の装置。
【請求項６】  前記導管は可撓性である、請求項１〜５のいずれかに記載の装置。
【請求項７】  流体貯蔵部および前記流体駆動エンジンと該流体貯蔵部との間の流体連絡経路を備える、請求項１〜６のいずれかに記載の装置。
【請求項８】  前記流体駆動エンジンにより駆動されるように構成された発電器を備える、請求項１〜７のいずれかに記載の装置。
【請求項９】  前記流体の流れは水中の流体の流れであり、前記少なくとも１つの流体誘導形成部の少なくとも一部分は水中に配置され、浮動構造物をさらに備え、前記駆動エンジンは該浮動構造物上に配置される、請求項１〜８のいずれかに記載の装置。
【請求項１０】  前記少なくとも１つの流体誘導形成部は、平行に構成された複数の流路を規定するように配置され、該複数の流路は、対応する複数の導管を有する、請求項１〜９のいずれかに記載の装置。
【請求項１１】  前記複数の導管は、相互の流体連絡および前記流体駆動エンジンとの流体連絡が得られるように構成される、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】  前記動力抽出装置は複数の流体駆動エンジンを備え、該流体駆動エンジンはそれぞれ、対応する導管および流路と流体連絡する、請求項１０に記載の装置。
【請求項１３】  水入水部と低速／高速水出水部とを有する遠心ポンプを備える装置であって、該ポンプは、該水入水部が該流路を流れる水を受け入れるように該流路内に配置され、該低速出水部が水を該流路に返すように配置され、該高速水出水部は、水を前記導管へと放出するように配置される、請求項１〜１２のいずれかに記載の装置。
【請求項１４】  螺旋状の流体流路を有する概して平坦な円形ドラムを備え、該ドラムは、該流路を流れる水を受け入れるように配置され、かつ、前記導管と流体連絡するように配置される水出水部を備え、これにより、該ドラムに入来する流体は渦巻き状の円盤を形成し、該流体の一部は該導管へと放出される、請求項１〜１２のいずれかに記載の装置。
【請求項１５】  前記円形ドラムは２重楔型形状の断面を有し、これにより、該円形ドラムの断面は中央部よりも外周部において大きい、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】  前記概して平坦な円形ドラムは、該ドラム内に同心状の羽根を備える、請求項１４に記載の装置。
【請求項１７】  前記流路と前記流体駆動エンジンとの間の流体流れの経路内に平行に配置された少なくとも２つの収容器であって、該収容器の内部と外部との間での流体連絡を可能にする補充バルブをそれぞれ備える、収容器と、
各収容器および該流路と該流体駆動エンジンとの間の流体連絡を抑制することが可能なように構成された分離バルブ構成部であって、一方の収容器に収容されている流体が該流路と流体連絡し、該流体駆動エンジンが消耗した場合、該分離バルブ構成部は、該流路と該流体駆動エンジンとの間の流体連絡を、該収容器を介して一時的に抑制し、これにより、該補充バルブを用いて該収容器を補充することを可能とする、分離バルブ構成部と、
を備える、請求項１〜１６のいずれかに記載の装置。
【請求項１８】  水中の流体の流れに応答して流体を汲み上げるように動作可能な構造であって、
流路を規定するように形成された少なくとも１つの流体誘導形成部であって、該流路は、流れ加速圧縮部を有しており、該流れ加速圧縮部は、該流路の該流れ加速圧縮部中を流体が流れるにつれて該流路中の流体が加速させられるような形状を有している、少なくとも１つの流体誘導形成部と、
該流れ加速圧縮部の中に延びている導管であって、加速された流体の流れを有する該流路の一部と該流路の外部の一点との間に流体連絡を提供するように配置された導管と
を備える、構造。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の１つの局面によれば、水の流れから動力を抽出するように動作可能な装置が提供される。この装置は、水が流路の流れ加速圧縮部を流れるにつれて、流路中の水を流れる水が加速させられるような形状を有している流れ加速圧縮部を有する流路を規定するように形成された少なくとも１つの流体誘導形成部（ｆｌｕｉｄ  ｄｉｒｅｃｔｉｎｇ  ｆｏｒｍａｔｉｏｎ）と、流路の外部にある位置に配置された流体駆動エンジンと、流体駆動エンジンと加速された水の流れを有する流路の一部との間に流体連絡を提供するように配置された導管とを含む。導管の開放端は、流れ加速圧縮部の中に延びている。流体駆動エンジンは、導管に沿った流体の流れが流体駆動エンジンを駆動するように機能するように構成されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本デバイスの別の局面によれば、水中の流体の流れに応答して流体を汲み上げるように動作可能な構造が提供される。この構造は、流路の流れ加速圧縮部中を流体が流れるにつれて流路中の流体が加速させられるような形状を有している流れ加速圧縮部を有する流路を規定するように形成された少なくとも１つの流体誘導形成部と、流れ加速圧縮部の中に延びている導管であって、加速された流体の流れを有する流路の一部と流路の外部の一点との間に流体連絡を提供するように配置された導管とを含む。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月8日(2006.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】マイクロチャネル熱交換器及び熱伝達方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）第１主面および第２主面を有するポリマーフィルム材料第１層であって、前記第１主面が、前記第１層の面に沿って第１点から第２点まで延在し、最小アスペクト比が約１０：１で水力半径が約３００μｍ以下である複数の流れチャネルを有する微細複製された構造化面を含む第１層と、
（ｂ）構造化ポリマー面の少なくとも一部の上に重ねられ、複数の実質的に分離した流路を形成するために前記複数の流れチャネルの少なくとも一部を覆う閉鎖面を含む第１被覆層と、
（ｃ）ポテンシャル源からのポテンシャルにより、第１ポテンシャルから第２ポテンシャルへの流体移動を促進可能とする、前記実質的に分離した流路と流体的に接続されたマニホールドを含み、このような流体の移動によって材料の前記第１被覆層に熱的な影響が与えられ、移動する流体と前記第１被覆層との間の熱伝達が促進される能動流体移送を利用する熱交換器。
【請求項２】  熱伝達流体と、熱交換器の近傍で熱的な影響が与えられる別の媒体との間における熱伝達方法であって、
（ａ）第１主面と第２主面とを有するポリマーフィルム材料層を含み、前記第１主面が前記層の面に沿って第１点から第２点まで延在する複数の流れチャネルを有する微細複製された構造化面を含む熱交換器を提供する工程と、
（ｂ）所定の初期温度を有する熱交換流体の供給源が前記流路と接続する工程と、
（ｃ）前記熱交換器内で別の媒体と前記流体との間で熱伝導が起こる位置に前記熱交換器を配置する工程と、
（ｄ）前記熱交換器の前記流路にわたってポテンシャル源を供給し、それによって第１ポテンシャルから第２ポテンシャルまで前記流路内を前記流体が移動し、前記流体の移動によって、前記移動流体と前記他の媒体との間で熱を伝達し、前記熱交換器の近傍の前記媒体に熱的な影響を与える工程と、
を含む方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、熱伝達媒体としての能動流体の分離した小さな複数のチャネルが定められるマイクロチャネル構造面を具備する熱交換器及び熱伝達方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
本明細書で使用されるアスペクト比は、チャネルの長さとその水力半径との比を意味し、水力半径は濡らすことができるチャネルの断面積を、濡らすことのできるチャネルの周囲の長さで割ったものである。構造化面は、最小アスペクト比（長さ／水力半径）が１０：１であり、ある実施態様では約１００：１を超え、他の実施態様では少なくとも約１０００：１である分離した流れチャネルが形成されることが好ましい微細構造化面である。上限については、アスペクト比は無制限に大きくてもよいが、一般的には約１，０００，０００：１未満である。チャネルの水力半径は約３００μｍ以下である。多くの実施態様では、水力半径は１００μｍ未満とすることができ、１０μｍ未満もありうる。一般に多くの用途では小さいほど良いが（そして水力半径はサブミクロンサイズとなりうる）、通常ほとんどの実施態様では水力半径は１μｍ以上である。以下により詳細に説明するが、これらの要因で定義されるチャネルによって、能動流体移送装置内で効率的なバルク流体移送が可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月15日(2005.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ゴム１００重量部当りの重量部（phr）で次のａ−ｄからな
ることを特徴とするゴム組成物：
ａ．９０−１０phrのアルキル化したクロロスルホン化ポリエチレン；
ｂ．１０−９０phrのエチレンビニルアセテートコポリマー；
ｃ．２０−７５phrのカーボンブラック；  及び
ｄ．２−１０phrの有機過酸化物。
【請求項２】  ゴム１００重量部当りの重量部（phr）で次のａ及びｂより
なるゴム組成物から製造された動力伝達ベルト：
ａ．９０−１０phrのアルキル化したクロロスルホン化ポリエチレン；及び
ｂ．１０−９０phrのエチレンビニルアセテートコポリマー。
【請求項３】  ０．５−１０phrの過酸化物加硫助剤をさらに含む、請求
項２に記載のベルト。