【手続補正書】
【提出日】平成18年8月8日(2006.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）エチレン性不飽和炭素原子に共有結合された少なくとも１個のフッ素原子を有するエチレン性不飽和化合物から誘導される少なくとも１個の反復単位と、
（ｂ）構造
【化１】
2005535753.tif 000001
（式中、ｎは、０、１または２であり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、独立して、Ｈ、ＯＲ５、ハロゲン、ハロゲンまたはエーテル酸素で任意選択的に置換された１〜１０個の炭素原子を有するアルキルまたはアルコキシ、Ｙ、Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＲ５、Ｒ６ＹまたはＯＲ６Ｙであり、
Ｙは、ＣＯＺまたはＳＯ２Ｚであり、
Ｒ５は、水素または酸に不安定な保護基であり、
ＲｆおよびＲｆ’は、１〜１０個の炭素原子を有する同じかまたは異なるフルオロアルキル基であるか、あるいは合一して（ＣＦ２）ｍ（式中、ｍは２〜１０）であり、
Ｒ６は、ハロゲンまたはエーテル酸素で任意選択的に置換された１〜２０個の炭素原子を有するアルキレン基であり、
Ｚは、ＯＨ、ハロゲンまたはＯＲ７であり、
Ｒ７は、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基であるが、但し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の少なくとも１個がＹ、ＯＲ５、Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＲ５、Ｒ６ＹまたはＯＲ６Ｙであることを条件とし、そしてＲ１（またはＲ３）がＯＨである場合、Ｒ２（またはＲ４）がＯＨでもハロゲンでもないことを条件とする）
を有するエチレン性不飽和化合物から誘導される少なくとも１個の反復単位と
から誘導される反復単位を含むことを特徴とするポリマー。
【請求項２】
構造（Ｉ）を有する前記化合物が、
【化２】
2005535753.tif 000002
（式中、Ｒ１２は１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基である）
よりなる群から選択されることを特徴とする請求項１に記載のポリマー。
【請求項３】
前記エチレン性不飽和炭素原子に共有結合された少なくとも１個のフッ素原子を有する少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物が、２〜２０個の炭素原子を含むフルオロオレフィンであることを特徴とする請求項１に記載のポリマー。
【請求項４】
フルオロアルコール基または保護されたフルオロアルコール基を含有する単位を更に含むことを特徴とする請求項１に記載のポリマー。
【請求項５】
構造単位
【化３】
2005535753.tif 000003
（式中、Ｅ１はＨまたはＣ１〜Ｃ１２アルキルであり、Ｅ２はＣＯ２Ｅ３、ＳＯ３Ｅまたは他の酸性基であり、ＥおよびＥ３は独立してＨ、非置換Ｃ１〜Ｃ１２アルキルおよびヘテロ原子置換Ｃ１〜Ｃ１２アルキルの群から選択される）
の少なくとも１種の酸含有基または保護された酸含有基を更に含むことを特徴とする請求項１に記載のポリマー。
【請求項６】
（１）
（ａ）エチレン性不飽和炭素原子に共有結合された少なくとも１個のフッ素原子を有するエチレン性不飽和化合物から誘導される少なくとも１個の反復単位と、
（ｂ）構造
【化４】
2005535753.tif 000004
（式中、ｎは、０、１または２であり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、独立して、Ｈ、ＯＲ５、ハロゲン、ハロゲンまたはエーテル酸素で任意選択的に置換された１〜１０個の炭素原子を有するアルキルまたはアルコキシ、Ｙ、Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＲ５、Ｒ６ＹまたはＯＲ６Ｙであり、
Ｙは、ＣＯＺまたはＳＯ２Ｚであり、
Ｒ５は、水素または酸に不安定な保護基であり、
ＲｆおよびＲｆ’は、１〜１０個の炭素原子を有する同じかまたは異なるフルオロアルキル基であるか、あるいは合一して（ＣＦ２）ｍ（式中、ｍは２〜１０）であり、
Ｒ６は、ハロゲンまたはエーテル酸素で任意選択的に置換された１〜２０個の炭素原子を有するアルキレン基であり、
Ｚは、ＯＨ、ハロゲンまたはＯＲ７であり、
Ｒ７は、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基であるが、但し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の少なくとも１個がＯＲ５、Ｙ、Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＲ５、Ｒ６ＹまたはＯＲ６Ｙであることを条件とし、そしてＲ１（またはＲ３）がＯＨである場合、Ｒ２（またはＲ４）がＯＨでもハロゲンでもないことを条件とする）
を有するエチレン性不飽和化合物から誘導される少なくとも１個の反復単位と
を含むフッ素含有ポリマーおよび
（２）光活性成分
を含むことを特徴とするフォトレジスト組成物。
【請求項７】
前記フッ素含有ポリマー中の構造（Ｉ）を有するモノマーが、
【化５】
2005535753.tif 000005
（式中、Ｒ１２は１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基である）
よりなる群から選択されることを特徴とする請求項６に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項８】
前記フッ素含有ポリマーがフルオロアルコール基または保護されたフルオロアルコール基を含有する単位を更に含むことを特徴とする請求項６に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項９】
前記フルオロアルコール基または保護されたフルオロアルコール基が構造
−Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＨ
（式中、ＲｆおよびＲｆ’は１〜１０個の炭素原子を有する同じかまたは異なるフルオロアルキル基であるか、あるいは合一して（ＣＦ２）ｍ（式中、ｍは２〜１０）である）を有するフルオロアルコール基を含有する少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物から誘導されることを特徴とする請求項８に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１０】
前記フルオロアルコール官能基または保護されたフルオロアルコール基を含有するモノマーが、
【化６】
2005535753.tif 000006
よりなる群から選択されることを特徴とする請求項９に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１１】
前記フッ素含有ポリマーが、構造単位
【化７】
2005535753.tif 000007
（式中、Ｅ１はＨまたはＣ１〜Ｃ１２アルキルであり、Ｅ２はＣＯ２Ｅ３、ＳＯ３Ｅまたは他の酸性基であり、ＥおよびＥ３は独立してＨ、非置換Ｃ１〜Ｃ１２アルキルおよびヘテロ原子置換Ｃ１〜Ｃ１２アルキルの群から選択される）
の少なくとも１種の酸含有基または保護された酸含有基を更に含むことを特徴とする請求項６に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１２】
前記フッ素含有ポリマーが極性モノマーから誘導される少なくとも１つの基を更に含むことを特徴とする請求項６に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１３】
前記光活性成分が光酸発生剤であることを特徴とする請求項６に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１４】
溶解抑制剤を更に含むことを特徴とする請求項６に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１５】
溶媒を更に含むことを特徴とする請求項６に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１６】
塩基、界面活性剤、解像度向上剤、定着剤、残留物減少剤、塗布助剤、可塑剤およびＴｇ（ガラス転移温度）調整剤よりなる群から選択される少なくとも１種の添加剤を更に含むことを特徴とする請求項６に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１７】
（１）基材および
（２）
（ａ）（ｉ）エチレン性不飽和炭素原子に共有結合された少なくとも１個のフッ素原子を有するエチレン性不飽和化合物から誘導される少なくとも１個の反復単位と、
（ｉｉ）構造
【化８】
2005535753.tif 000008
（式中、ｎは０、１または２であり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、独立して、Ｈ、ＯＲ５、ハロゲン、ハロゲンまたはエーテル酸素で任意選択的に置換された１〜１０個の炭素原子を有するアルキルまたはアルコキシ、Ｙ、Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＲ５、Ｒ６ＹまたはＯＲ６Ｙであり、
ＹはＣＯＺまたはＳＯ２Ｚであり、
Ｒ５は、水素または酸に不安定な保護基であり、
ＲｆおよびＲｆ’は、１〜１０個の炭素原子を有する同じかまたは異なるフルオロアルキル基であるか、あるいは合一して（ＣＦ２）ｍ（式中、ｍは２〜１０）であり、
Ｒ６は、ハロゲンまたはエーテル酸素で任意選択的に置換された１〜２０個の炭素原子を有するアルキレン基であり、
Ｚは、ＯＨ、ハロゲンまたはＯＲ７であり、
Ｒ７は、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基であるが、但し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の少なくとも１個が、Ｙ、ＯＲ５、Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＲ５、Ｒ６ＹまたはＯＲ６Ｙであることを条件とし、そしてＲ１（またはＲ３）がＯＨである場合、Ｒ２（またはＲ４）がＯＨでもハロゲンでもないことを条件とする）
を有するエチレン性不飽和化合物から誘導される少なくとも１個の反復単位と
から誘導される反復単位を含むフッ素含有ポリマーおよび
（ｂ）光活性成分
を含むフォトレジスト組成物
を含むことを特徴とする被覆された基材。
【請求項１８】
前記基材がマイクロエレクトロニックウェハであることを特徴とする請求項１７に記載の被覆された基材。
【請求項１９】
前記マイクロエレクトロニックウェハが、ケイ素、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素および窒化ケイ素よりなる群から選択される材料を含むことを特徴とする請求項１８に記載の被覆された基材。
【請求項２０】
クアドラシクランとフルオロアルキルベンゾエート化合物の反応生成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０７】
（実施例１７）
（ＴＦＥおよびＴＣＮ−（Ｆ），Ｃ（ＣＦ３）２ＯＨ）ポリマーの合成）
２００ｍＬのステンレススチール圧力容器に６０．８ｇのＴＣＮ−（Ｆ），Ｃ（ＣＦ３）２ＯＨ）、５０ｍＬの「ソルカン（Ｓｏｌｋａｎｅ）」（登録商標）３６５ｍｆｃおよび１．５９ｇの「パーカドックス（Ｐｅｒｋａｄｏｘ）」（登録商標）１６Ｎ開始剤を投入した。容器を密閉し、ドライアイス中で冷却し、窒素でパージし、排気し、３０ｇのＴＦＥを投入した。その後、容器を５０℃で１８時間にわたり内容物と合わせて攪拌する一方で、内部圧力は２５７ｐｓｉから２４０ｐｓｉに低下した。容器を室温に冷却し、１気圧にベントした。追加の「ソルカン（Ｓｏｌｋａｎｅ）」（登録商標）３６５ｍｆｃを用いて容器内容物を除去して、リンスした。組み合わせた反応器溶液とリンス液を過剰のヘキサン（６５０ｍＬのヘキサンへの３０〜３５ｍＬ部分）に添加した。沈殿物を濾過し、ヘキサンで洗浄し、数時間にわたり空気乾燥させ、その後、若干窒素パージしつつ８８〜９０℃で真空炉内で一晩乾燥させた。１６．５ｇの白色ポリマーが単離された。ＧＰＣ分析：Ｍｎ４７００、Ｍｗ９３００、Ｔｇ２０５℃（ＤＳＣ）。１９Ｆ  ＮＭＲ（δ、ＴＨＦ−ｄ８）−１６７．８、−１６８．９、−１４０．７および−１４３．８（環ＣＦ）、−７１〜−７６（Ｃ（ＣＦ３）２ＯＨ）、−９５〜−１２５（ＣＦ２）。分析検出：Ｃ４４．６４７、Ｈ３．１３、Ｆ４４．８２。
本出願は、特許請求の範囲に記載の発明を含め、以下の発明を包含する。
（１）  （ａ）エチレン性不飽和炭素原子に共有結合された少なくとも１個のフッ素原子を有するエチレン性不飽和化合物から誘導される少なくとも１個の反復単位と、
（ｂ）構造
【化９】
2005535753.tif 000009
（式中、ｎは、０、１または２であり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、独立して、Ｈ、ＯＲ５、ハロゲン、ハロゲンまたはエーテル酸素で任意選択的に置換された１〜１０個の炭素原子を有するアルキルまたはアルコキシ、Ｙ、Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＲ５、Ｒ６ＹまたはＯＲ６Ｙであり、
Ｙは、ＣＯＺまたはＳＯ２Ｚであり、
Ｒ５は、水素または酸に不安定な保護基であり、
ＲｆおよびＲｆ’は、１〜１０個の炭素原子を有する同じかまたは異なるフルオロアルキル基であるか、あるいは合一して（ＣＦ２）ｍ（式中、ｍは２〜１０）であり、
Ｒ６は、ハロゲンまたはエーテル酸素で任意選択的に置換された１〜２０個の炭素原子を有するアルキレン基であり、
Ｚは、ＯＨ、ハロゲンまたはＯＲ７であり、
Ｒ７は、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基であるが、但し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の少なくとも１個がＹ、ＯＲ５、Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＲ５、Ｒ６ＹまたはＯＲ６Ｙであることを条件とし、そしてＲ１（またはＲ３）がＯＨである場合、Ｒ２（またはＲ４）がＯＨでもハロゲンでもないことを条件とする）
を有するエチレン性不飽和化合物から誘導される少なくとも１個の反復単位と
から誘導される反復単位を含むことを特徴とするポリマー。
（２）  構造（Ｉ）を有する前記化合物が、
【化１０】
2005535753.tif 000010
（式中、Ｒ１２は１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基である）
よりなる群から選択されることを特徴とする（１）に記載のポリマー。
（３）  前記エチレン性不飽和炭素原子に共有結合された少なくとも１個のフッ素原子を有する少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物が、２〜２０個の炭素原子を含むフルオロオレフィンであることを特徴とする（１）に記載のポリマー。
（４）  前記フルオロオレフィンが、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、弗化ビニリデン、弗化ビニル、パーフルオロ−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、パーフルオロ−（２−メチレン−４−メチル−１，３−ジオキソラン）、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）ｔＣＦ＝ＣＦ２（式中、ｔは１または２である）およびＲｆ’’ＯＣＦ＝ＣＦ２（式中、Ｒｆ’’は１〜１０個の炭素原子を有する飽和フルオロアルキル基である）よりなる群から選択されることを特徴とする（３）に記載のポリマー。
（５）  前記フルオロオレフィンがテトラフルオロエチレンであることを特徴とする（４）に記載のポリマー。
（６）  フルオロアルコール基または保護されたフルオロアルコール基を含有する単位を更に含むことを特徴とする（１）に記載のポリマー。
（７）  前記フルオロアルコール基または保護されたフルオロアルコール基が、構造
−Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＨ
（式中、ＲｆおよびＲｆ’は、１〜１０個の炭素原子を有する同じかまたは異なるフルオロアルキル基であるか、あるいは合一して（ＣＦ２）ｍ（式中、ｍは２〜１０）である）を有するフルオロアルコール基を含有する少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物から誘導されることを特徴とする（６）に記載のポリマー。
（８）  ＲｆおよびＲｆ’がパーフルオロアルキル基であることを特徴とする（７）に記載のポリマー。
（９）  構造
−ＸＣＨ２Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＨ
（式中、ＲｆおよびＲｆ’は、１〜１０個の炭素原子を有する同じかまたは異なるフルオロアルキル基であるか、あるいは合一して（ＣＦ２）ｍ（式中、ｍは２〜１０）であり、Ｘは元素の周期律表の第ＶＡ族または第ＶＩＡ族からの元素である）を有するフルオロアルコール基を含有する単位を更に含むことを特徴とする（１）に記載のポリマー。
（１０）  Ｘが、酸素、硫黄、窒素およびリンよりなる群から選択されることを特徴とする（９）に記載のポリマー。
（１１）  Ｘが酸素であることを特徴とする（１０）に記載のポリマー。
（１２）  フルオロアルコール基または前記保護されたフルオロアルコール基が、
【化１１】
2005535753.tif 000011
よりなる群から選択されるモノマーから誘導されることを特徴とする（７）に記載のポリマー。
（１３）  構造単位
【化１２】
2005535753.tif 000012
（式中、Ｅ１はＨまたはＣ１〜Ｃ１２アルキルであり、Ｅ２はＣＯ２Ｅ３、ＳＯ３Ｅまたは他の酸性基であり、ＥおよびＥ３は独立してＨ、非置換Ｃ１〜Ｃ１２アルキルおよびヘテロ原子置換Ｃ１〜Ｃ１２アルキルの群から選択される）
の少なくとも１種の酸含有基または保護された酸含有基を更に含むことを特徴とする（１）に記載のポリマー。
（１４）  前記ヘテロ原子が、酸素、窒素、硫黄、ハロゲンおよびリン原子よりなる群から選択されることを特徴とする（１３）に記載のポリマー。
（１５）  前記ヘテロ原子が酸素であり、前記ヘテロ原子置換Ｃ１〜Ｃ１２アルキルがヒドロキシル基を更に含むことを特徴とする（１４）に記載のポリマー。
（１６）  前記酸含有基または保護された酸含有基がカルボン酸含有モノマーから誘導されることを特徴とする（１３）に記載のポリマー。
（１７）  前記酸含有基または保護された酸含有基が、ｔ−ブチルアクリレート、２−メチル−２−アダマンチルアクリレート、２−メチル−２−ノルボルニルアクリレートおよびアクリル酸よりなる群から選択されるモノマーから誘導されることを特徴とする（１３）に記載のポリマー。
（１８）
極性モノマーから誘導される少なくとも１つの基を更に含むことを特徴とする（１）に記載のポリマー。
（１９）  （１）
（ａ）エチレン性不飽和炭素原子に共有結合された少なくとも１個のフッ素原子を有するエチレン性不飽和化合物から誘導される少なくとも１個の反復単位と、
（ｂ）構造
【化１３】
2005535753.tif 000013
（式中、ｎは、０、１または２であり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、独立して、Ｈ、ＯＲ５、ハロゲン、ハロゲンまたはエーテル酸素で任意選択的に置換された１〜１０個の炭素原子を有するアルキルまたはアルコキシ、Ｙ、Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＲ５、Ｒ６ＹまたはＯＲ６Ｙであり、
Ｙは、ＣＯＺまたはＳＯ２Ｚであり、
Ｒ５は、水素または酸に不安定な保護基であり、
ＲｆおよびＲｆ’は、１〜１０個の炭素原子を有する同じかまたは異なるフルオロアルキル基であるか、あるいは合一して（ＣＦ２）ｍ（式中、ｍは２〜１０）であり、
Ｒ６は、ハロゲンまたはエーテル酸素で任意選択的に置換された１〜２０個の炭素原子を有するアルキレン基であり、
Ｚは、ＯＨ、ハロゲンまたはＯＲ７であり、
Ｒ７は、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基であるが、但し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の少なくとも１個がＯＲ５、Ｙ、Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＲ５、Ｒ６ＹまたはＯＲ６Ｙであることを条件とし、そしてＲ１（またはＲ３）がＯＨである場合、Ｒ２（またはＲ４）がＯＨでもハロゲンでもないことを条件とする）
を有するエチレン性不飽和化合物から誘導される少なくとも１個の反復単位と
を含むフッ素含有ポリマーおよび
（２）光活性成分
を含むことを特徴とするフォトレジスト組成物。
（２０）  前記フッ素含有ポリマー中の構造（Ｉ）を有するモノマーが、
【化１４】
2005535753.tif 000014
（式中、Ｒ１２は１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基である）
よりなる群から選択されることを特徴とする（１９）に記載のフォトレジスト組成物。
（２１）  （ａ）が２〜２０個の炭素原子を含むフルオロオレフィンであることを特徴とする（１９）に記載のフォトレジスト組成物。
（２２）  前記フルオロオレフィンが、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、弗化ビニリデン、弗化ビニル、パーフルオロ−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、パーフルオロ−（２−メチレン−４−メチル−１，３−ジオキソラン）、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）ｔＣＦ＝ＣＦ２（式中、ｔは１または２である）およびＲｆ’’ＯＣＦ＝ＣＦ２（式中、Ｒｆ’’は１〜１０個の炭素原子を有する飽和フルオロアルキル基である）よりなる群から選択されることを特徴とする（２１）に記載のフォトレジスト組成物。
（２３）  前記フルオロオレフィンがテトラフルオロエチレンであることを特徴とする（２２）に記載のフォトレジスト組成物。
（２４）  前記フッ素含有ポリマーがフルオロアルコール基または保護されたフルオロアルコール基を含有する単位を更に含むことを特徴とする（１９）に記載のフォトレジスト組成物。
（２５）  前記フルオロアルコール基または保護されたフルオロアルコール基が構造
−Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＨ
（式中、ＲｆおよびＲｆ’は１〜１０個の炭素原子を有する同じかまたは異なるフルオロアルキル基であるか、あるいは合一して（ＣＦ２）ｍ（式中、ｍは２〜１０）である）を有するフルオロアルコール基を含有する少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物から誘導されることを特徴とする（２４）に記載のフォトレジスト組成物。
（２６）  ＲｆおよびＲｆ’はパーフルオロアルキル基であることを特徴とする（２５）に記載のフォトレジスト組成物。
（２７）  前記フッ素含有ポリマーが、構造
−ＸＣＨ２Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＨ
（式中、ＲｆおよびＲｆ’は１〜１０個の炭素原子を有する同じかまたは異なるフルオロアルキル基であるか、あるいは合一して（ＣＦ２）ｍ（式中、ｍは２〜１０）であり、Ｘは元素の周期律表の第ＶＡ族および第ＶＩＡ族からの元素である）を有するフルオロアルコール基を更に含むことを特徴とする（１９）に記載のフォトレジスト組成物。
（２８）  Ｘが酸素、硫黄、窒素およびリンよりなる群から選択されることを特徴とする（２７）に記載のフォトレジスト組成物。
（２９）  Ｘが酸素であることを特徴とする（２８）に記載のフォトレジスト組成物。
（３０）  前記フルオロアルコール官能基または保護されたフルオロアルコール基を含有するモノマーが、
【化１５】
2005535753.tif 000015
よりなる群から選択されることを特徴とする（２５）に記載のフォトレジスト組成物。
（３１）  前記フッ素含有ポリマーが、構造単位
【化１６】
2005535753.tif 000016
（式中、Ｅ１はＨまたはＣ１〜Ｃ１２アルキルであり、Ｅ２はＣＯ２Ｅ３、ＳＯ３Ｅまたは他の酸性基であり、ＥおよびＥ３は独立してＨ、非置換Ｃ１〜Ｃ１２アルキルおよびヘテロ原子置換Ｃ１〜Ｃ１２アルキルの群から選択される）
の少なくとも１種の酸含有基または保護された酸含有基を更に含むことを特徴とする（１９）に記載のフォトレジスト組成物。
（３２）  前記ヘテロ原子が、酸素、窒素、硫黄、ハロゲンおよびリン原子よりなる群から選択されることを特徴とする（３１）に記載のフォトレジスト組成物。
（３３）  前記ヘテロ原子が酸素であり、前記ヘテロ原子置換Ｃ１〜Ｃ１２アルキルがヒドロキシル基を更に含むことを特徴とする（３２）に記載のフォトレジスト組成物。
（３４）  前記酸含有基または保護された酸含有基がカルボン酸含有モノマーであることを特徴とする（３１）に記載のフォトレジスト組成物。
（３５）  前記酸含有基または保護された酸含有基がｔ−ブチルアクリレート、２−メチル−２−アダマンチルアクリレート、２−メチル−２−ノルボルニルアクリレートおよびアクリル酸よりなる群から選択されることを特徴とする（３４）に記載のフォトレジスト組成物。
（３６）  前記フッ素含有ポリマーが極性モノマーから誘導される少なくとも１つの基を更に含むことを特徴とする（１９）に記載のフォトレジスト組成物。
（３７）  前記光活性成分が光酸発生剤であることを特徴とする（１９）に記載のフォトレジスト組成物。
（３８）  溶解抑制剤を更に含むことを特徴とする（１９）に記載のフォトレジスト組成物。
（３９）  溶媒を更に含むことを特徴とする（１９）に記載のフォトレジスト組成物。
（４０）  前記溶媒がエーテルエステル、ケトン、エステル、グリコールエーテル、置換炭化水素、芳香族炭化水素、フッ素化溶媒および超臨界ＣＯ２よりなる群から選択されることを特徴とする（３９）に記載のフォトレジスト組成物。
（４１）  塩基、界面活性剤、解像度向上剤、定着剤、残留物減少剤、塗布助剤、可塑剤およびＴｇ（ガラス転移温度）調整剤よりなる群から選択される少なくとも１種の添加剤を更に含むことを特徴とする（１９）に記載のフォトレジスト組成物。
（４２）  （１）基材および
（２）
（ａ）（ｉ）エチレン性不飽和炭素原子に共有結合された少なくとも１個のフッ素原子を有するエチレン性不飽和化合物から誘導される少なくとも１個の反復単位と、
（ｉｉ）構造
【化１７】
2005535753.tif 000017
（式中、ｎは０、１または２であり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、独立して、Ｈ、ＯＲ５、ハロゲン、ハロゲンまたはエーテル酸素で任意選択的に置換された１〜１０個の炭素原子を有するアルキルまたはアルコキシ、Ｙ、Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＲ５、Ｒ６ＹまたはＯＲ６Ｙであり、
ＹはＣＯＺまたはＳＯ２Ｚであり、
Ｒ５は、水素または酸に不安定な保護基であり、
ＲｆおよびＲｆ’は、１〜１０個の炭素原子を有する同じかまたは異なるフルオロアルキル基であるか、あるいは合一して（ＣＦ２）ｍ（式中、ｍは２〜１０）であり、
Ｒ６は、ハロゲンまたはエーテル酸素で任意選択的に置換された１〜２０個の炭素原子を有するアルキレン基であり、
Ｚは、ＯＨ、ハロゲンまたはＯＲ７であり、
Ｒ７は、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基であるが、但し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の少なくとも１個が、Ｙ、ＯＲ５、Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＲ５、Ｒ６ＹまたはＯＲ６Ｙであることを条件とし、そしてＲ１（またはＲ３）がＯＨである場合、Ｒ２（またはＲ４）がＯＨでもハロゲンでもないことを条件とする）
を有するエチレン性不飽和化合物から誘導される少なくとも１個の反復単位と
から誘導される反復単位を含むフッ素含有ポリマーおよび
（ｂ）光活性成分
を含むフォトレジスト組成物
を含むことを特徴とする被覆された基材。
（４３）  前記基材がマイクロエレクトロニックウェハであることを特徴とする（４２）に記載の被覆された基材。
（４４）  前記マイクロエレクトロニックウェハが、ケイ素、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素および窒化ケイ素よりなる群から選択される材料を含むことを特徴とする（４３）に記載の被覆された基材。
（４５）  クアドラシクランとフルオロアルキルベンゾエート化合物の反応生成物。