【手続補正書】
【提出日】平成18年7月6日(2006.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  エネルギーが与えられたガスで基板処理チャンバ内で行われるプロセスの終点検出方法であって、
（ａ）前記プロセスのプロセス変数を検出するステップ、前記プロセス変数は、（ｉ）前記エネルギーが与えられたガスによる放射、（ii）前記チャンバ内の基板から反射される放射、（iii）前記エネルギーが与えられたガスの反射パワーレベル、及び（iv）前記チャンバ内の温度の少なくとも１つを有し、
（ｂ）前記プロセス変数が前記プロセスの終点を示すと終点信号を発生するステップ、
（ｃ）前記プロセスのプロセスパラメータを検出するステップ、前記プロセスパラメータは、（ｉ）ソース電力、（ii）ＲＦ順方向電力、反射電力、または整合素子（iii）ＲＦピーク・ツー・ピーク電圧、電流、または位相、（iv）ＤＣバイアスレベル、（V）チャンバ圧力、またはスロットルバルブ位置、（vi）ガス混合物、または流速、（vi）基板温度、または基板の組成、（viii）チャンバ素子または壁の温度、（ix）磁界の閉じ込めレベル、または磁石の位置の少なくとも１つを有し、
（ｄ）前記終点信号が、前記プロセスパラメータを評価することによって、正しいか、誤りであるかを判断するステップ、
を有することを特徴とする方法。
【請求項２】  前記ステップ（ｄ）は、前記プロセスパラメータが所定の値であるか、または所定の値の範囲内にあるとき、前記終点信号は、正しいと判断するステップを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記ステップ（ｄ）は、前記プロセスパラメータが所定の値または所定の値の範囲内にないならば、前記プロセスパラメータを、誤りフラッグをセットするように判断し、且つ、前記終点信号が発生され、誤りフラッグがセットされるならば、前記終点信号を誤りと判断し、または前記終点信号が発生され、誤りフラッグがセットされないならば、前記終点信号を正しいと判断するステップを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】  少なくとも３つのプロセスパラメータをモニタするステップを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】  更に、（１）プロセスパラメータが、以下の式における応答係数に相当する第２の値の範囲内にあるか否かを判断するステップ、
Δ(λ)/I(λ)＝AR・ΔR/R＋AP・ΔP/P＋AF1・ΔF1/F1＋AF2・ΔF2/F2＋AF3・ΔF3/F3
ここで、Ｒは、エネルギーが与えられたガスに与えられるＲＦ電力、
Ｐは、チャンバ内のガスの圧力、
Ｆ1、Ｆ2、Ｆ3は、ガスの流量、
ＡR、ＡP、ＡＦ1、ＡＦ2、ＡＦ3は、それらのそれぞれの応答係数であり、且つ、
（２）測定された放射強度が第１の値の範囲内にあり、及び前記プロセスパラメータが第２の値の範囲内にあるとき、前記プロセスの終点に達したか否かを判断するステップ、
を有することを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項６】  複数の前記プロセスパラメータをモニタするステップを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】  少なくとも３つのプロセスパラメータをモニタするステップを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】  検出されたプロセス係数及びプロセスパラメータをサーバへ転送し、プロセスコントローラが、前記ステップ(ｂ)と(ｄ)を行うために前記プロセス変数とプロセスパラメータにアクセスすることができるようにステップを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】  防火壁によってプロセスコントローラを前記サーバから隔離するステップを有することを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  エネルギーが与えられたガスで基板処理チャンバ内で行われるプロセスの終点を検出するための終点検出装置であって、
（ａ）（１）前記プロセス変数が、（ｉ）前記エネルギーが与えられたガスによる放射、（ii）前記チャンバ内の基板から反射される放射、（iii）前記エネルギーが与えられたガスの反射パワーレベル、及び（iv）前記チャンバ内の温度の少なくとも１つを有する前記プロセスのプロセス変数、及び
（２）前記プロセスパラメータが、（ｉ）ソース電力、（ii）ＲＦ進行電力、反射電力、または整合素子（iii）ＲＦピーク・ツー・ピーク電圧、電流、または位相、（iv）ＤＣバイアスレベル、（V）チャンバ圧力、またはスロットルバルブ位置、（vi）ガス混合物、または流速、（vi）基板温度、または基板の組成、（viii）チャンバ素子または壁の温度、（ix）磁界の閉じ込めレベル、または磁石の位置の少なくとも１つを有する前記プロセスのプロセスパラメータ、
を検出する１つ以上の検出器と、
（ｂ）（１）前記プロセス変数が前記プロセスの終点を示すとき、終点信号を発生するため、及び
（２）前記終点信号が、前記プロセスパラメータを評価することによって、正しいか、誤りであるかを判断するために適合したコントローラと、
を有することを特徴とするプロセスの終点を検出するための終点検出装置。
【請求項１１】  前記コントローラは、前記プロセスパラメータが所定の値であるか、または所定の値の範囲内にあるとき、前記終点信号が正しいと判断することを特徴とする請求項１０に記載の終点検出装置。
【請求項１２】  前記コントローラは、前記プロセスパラメータが所定の値でないか、または所定の値の範囲内にないならば、誤りフラッグをセットするようにプロセスパラメータを評価し、且つ、（ｉ）前記終点信号が発生され、前記誤りフラッグがセットされるならば、前記終点信号は誤りであると判断するか、または（ii）前記終点信号が発生され、前記誤りフラッグがセットされないならば、前記終点信号は正しいと判断することを特徴とする請求項１０に記載の終点検出装置。
【請求項１３】  １つ以上の検出器が複数のプロセスパラメータをモニタすることを特徴とする請求項１０に記載の終点検出装置。
【請求項１４】  １つ以上の検出器が少なくとも３つのプロセスパラメータをモニタすることを特徴とする請求項１０に記載の終点検出装置。
【請求項１５】  前記コンとローラは、更に、
（１）前記プロセスパラメータが所定の値に相当しないか、所定の値の範囲内にないならば、誤りフラッグをセットするように前記プロセスパラメータを評価し、且つ、
（２）（ｉ）前記終点信号が発生され、前記誤りフラッグがセットされるならば、前記終点信号は誤りであると判断するか、または（ii）前記終点信号が発生され、前記誤りフラッグがセットされないならば、前記終点信号は正しいと判断することを特徴とする請求項１０に記載の終点検出装置。
【請求項１６】  更に、前記検出器から前記検出されたプロセス変数及びプロセスパラメータを受信するサーバを有し、前記コントローラは、前記プロセス変数及びプロセスパラメータを回復するために前記サーバにアクセスするようにされることを特徴とする請求項１０に記載の終点検出装置。
【請求項１７】  前記コントローラは、（１）測定された放射強度が第１の値に相当するか第１の範囲内の値に相当するかを判断し、
（２）前記プロセスパラメータが以下の式の応答係数に相当する第２の値の範囲あるかを判断し、
Δ(λ)/I(λ)＝AR・ΔR/R＋AP・ΔP/P＋AF1・ΔF1/F1＋AF2・ΔF2/F2＋AF3・ΔF3/F3
ここで、Ｒは、エネルギーが与えられたガスに与えられるＲＦ電力、
Ｐは、チャンバ内のガスの圧力、
Ｆ1、Ｆ2、Ｆ3は、ガスの流量、
ＡR、ＡP、ＡＦ1、ＡＦ2、ＡＦ3は、それらのそれぞれの応答係数であり、且つ、
（３）前記プロセスの終点は、前記放射強度が前記第１の値であるか、または前記第１の範囲内の値であり、前記プロセス条件は前記第２の範囲内の値であるかを判断するようにされることを特徴とする請求項１０に記載の終点検出装置。