【手続補正書】
【提出日】平成17年8月5日(2005.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を、複数の気相反応物質が交互に繰り返す表面反応にさらすように構成された反応装置であって、
反応空間を画定する反応室と、
前記反応空間内に配置され、該反応空間を、基板が配置される第１の部分と、第２の部分とに分けるシャワーヘッドプレートと、
第１の前駆体源からの第１の前駆体が、前記シャワーヘッドプレートを通過して流れずに直接基板と通じるように、前記反応空間の前記第１の部分と連通した前記第１の前駆体源と、
前記第２の前駆体源からの第２の前駆体が、前記シャワーヘッドプレートを通過して流れることにより基板と通じるように、前記反応空間の前記第２の部分と連通した第２の前駆体源と、
を有し、
前記シャワーヘッドプレートは、基板上における前記表面反応を水平方向に調節するように構成されている反応装置。
【請求項２】
前記シャワーヘッドプレートは、少なくとも一部分で、複数の通路を画定する第１のプレートを含み、該複数の通路は、前記第２の部分から前記反応室の第１の部分へ延びる、請求項１に記載の反応装置。
【請求項３】
前記第１のプレートが可変厚みを有する請求項２の反応装置。
【請求項４】
前記第１のプレートの複数の通路を選択的に開閉するように構成されたシャッタープレートを備える請求項２に記載の反応装置。
【請求項５】
前記シャッタープレートは、前記第１のプレートの複数の通路から幾何学的に中心軸線を外して配置された複数の通路を含む請求項４に記載の反応装置。
【請求項６】
前記シャワーヘッドプレートが可変厚さを有する請求項４に記載の反応装置。
【請求項７】
前記シャワーヘッドプレートは、一体形成された単一のプレートである請求項１に記載の反応装置。
【請求項８】
前記シャワーヘッドプレートは、基板の反応表面での流れの状態を変化させる構成とされている請求項１に記載の反応装置。
【請求項９】
前記反応装置は、プラズマ生成源を含み、前記反応装置の第２の部分は、インサイチューラジカル生成用のプラズマ空洞を形成する請求項１に記載の反応装置。
【請求項１０】
前記プラズマ生成源は、誘導結合プラズマを生成する構成とされている請求項９に記載の反応装置。
【請求項１１】
前記プラズマ生成源は、容量結合プラズマを生成する構成とされている請求項９に記載の反応装置。
【請求項１２】
前記プラズマ生成源は、第１の電極および第２の電極を含む請求項１１に記載の反応装置。
【請求項１３】
前記第１の電極は、前記反応室の外部に配置され、前記シャワーヘッドは、前記第２の電極である請求項１２に記載の反応装置。
【請求項１４】
前記第１の電極は、前記反応室の内部に配置され、前記シャワーヘッドは、前記第２の電極である請求項１２に記載の反応装置。
【請求項１５】
基板を、複数の気相反応物質が交互に繰り返す表面反応にさらすように構成された反応装置であって、
反応空間を画定する反応室と、
前記反応室内に配置された基板と、
上面および下面を有するプラズマ生成装置であって、前記反応室内に配置されて、前記プラズマ生成装置の下面と基板との間においてはプラズマの生成を行わずに、前記プラズマ生成装置の上面と、前記反応室の上部壁との間においてプラズマの生成を行う前記プラズマ生成装置と、
入口から前記反応空間と連通した第１の前駆体源と、
前記プラズマ生成装置の上面から、前記プラズマ生成装置の側部に沿って、前記プラズマ生成装置の下面と前記基板との間の空間へ、前記第１の前駆体を方向付けるように構成されて、前記第１の前駆体が、実質的に、基板と実質的に平行な第１の方向に流れるようにする前記フローガイドと、
を備える反応装置。
【請求項１６】
前記プラズマ生成装置は、誘導結合プラズマを生成する構成とされている請求項１５に記載の反応装置。
【請求項１７】
前記プラズマ生成装置の下面は、導電プレートを含む請求項１６に記載の反応装置。
【請求項１８】
前記プラズマ生成装置は、容量結合プラズマを生成する構成とされている請求項１５に記載の反応装置。
【請求項１９】
基板を、複数の気相反応物質が交互に繰り返す表面反応にさらすように構成された反応装置であって、
機械的な力によって相互に固定された上部および下部を含む反応空間を画定する反応室と、
前記反応空間内に配置され、基板が配置される第１の部分と、第２の部分とに前記反応空間を分けるシャワーヘッドプレートであって、該シャワーヘッドプレートが、少なくとも一部分において、前記反応室の前記第２の部分から前記第１の部分へ延びる複数の通路を画定し、前記反応室の前記上部と前記下部とにより、少なくとも一部分で、形成された空間の間に支持された前記シャワーヘッドプレートと、
前記反応空間の前記第１の部分と連通した第１の前駆体源と、
前記第２の前駆体源からの第２の前駆体が、前記シャワーヘッドプレートを通過して流れずに基板と直接通じるように、前記反応空間の前記第２の部分と連通した第２の前駆体源と、
を備えた反応装置。
【請求項２０】
複数のサイクルを含む原子層堆積方法であって、各サイクルは、
基板が配置される反応空間に第１の前駆体を供給するステップと、
基板表面に、吸着種の層が形成されるように第１の前駆体を吸着させるステップと、
前記反応空間から第１の前駆体を除去するステップと、
第２の前駆体を供給するステップと、
実質的に完全な状態で、基板上を延びるシャワーヘッドプレートの中を、前記吸着種と反応する第２の前駆体を通過させるステップと、
前記反応空間から前記第２の前駆体を除去するステップと、
を含む原子層堆積方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
上述のように、シャワーヘッドプレート６７は、反応空間５４全体にまたがる単一のエレメントからなることが好ましい。そのような実施形態では、シャワーヘッドプレート６７は、反応室５２の上部４００と下部４０２との間に機械加工して設けた空間４０４に堅固に嵌めることによって支持され得る。シャワーヘッドプレート６７は、上部および下部の対向した側により積極的な機械的な力をかけることによって、このように所定位置に維持することができる。すなわち、シャワーヘッドプレート６７は、相対的に可動な、反応室５２の上部４００と下部４０２との間に締め付けられ、シャワーヘッドプレートを所定位置に固定する固定具を追加する必要はない。他の実施形態では、シャワーヘッドプレート６７は、複数の部品から形成可能であり、かつ／または他の方法で、例えば反応室５２内に位置する支持物により支持可能である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
シャッタープレート１０２は、アクチュエータエレメント１０６に機械連結されて、好ましくはｘｙ平面において、シャワーヘッドプレート６７に相対移動させることができる。ここに示した実施形態では、アクチュエータ１０６は、ｘ方向にシャッタープレート１０２を移動するように構成される。アクチュエータ１０６は、例えば、圧電、磁気、および／または電気のような多くの方式にすることができる。図４Ｂに示すように、シャッタープレート１０２を用いて、シャワープレート６７に対するシャッタープレート１０２の位置に応じて、シャッタープレート１０２の通路７２およびシャワーヘッド６７の通路１０４を開閉することができる。１つまたはそれ以上のバイパス通路１１０が、シャッタープレート１０２およびシャワーヘッドプレート６７の下流端に設けられて、シャッタープレート１０２が閉鎖位置にある時（図４Ｂ）、反応室の上部６８内のガスを排気部６６から排出させ得ることが好ましい。バイパス通路１１０は、図４Ａに示すように、シャッタープレート１０２が開放位置にある時、閉鎖されることが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
ここに示した実施形態では、ＲＦコイル２７４およびエンクロージャ２７６は、必ず、基板２６８上に入口３０４からの前駆体を流すために、入口３０４からの前駆体がＲＦコイル２７４の上方、周りおよびその下を流れるように、反応室２６０内に配置される。そのように、フローガイド３０８を反応室２６０内に配置して、ＲＦコイルの周りに一方向に前駆体を案内する。ここには示していないが、ここに示す構成では、フローガイド３０８が、ＲＦコイル２７４の上面４０６の上方において一水平方向に前駆体を案内するように、ＲＦコイル２７４上方にチャネルを形成していることを理解すべきである。次いで、前駆体は、ＲＦコイル２７４の一部分に沿って垂直に流れ、その位置において、流れは、水平方向を向いて広がって、その結果、前駆体が基板２６８上、およびＲＦコイル２７４の下面４０８の下を実質的に水平な一方向に流れる。基板２６８の下流において、この流れは、上向きの垂直方向に案内され、次いで、その流れは、ＲＦコイル２７４上を水平に出口３０６へ向かう。変更された実施形態では、出口３０６は、ＲＦコイル２７４より下に配置可能である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
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【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４Ａ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４Ａ】
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【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
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