【事件の表示】
　特願２００７−　５８１０８「有機電界発光素子の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２０年　９月１８日出願公開、特開２００８−２１８３６３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１９年（２００７年）３月８日を出願日とする特願２００７−５８１０８号であって、平成２３年５月３０日付けで拒絶理由が通知され、同年８月５日付けで意見書が提出されるとともに、同日付けで手続補正がなされ、同年９月３０日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年１２月２８日に拒絶査定不服審判の請求がなされ、同時に手続補正がなされたものである。
　その後、当審において平成２４年５月１４日付けで、回答期限を定めて、前置報告書の内容について請求人に事前に意見を求める審尋をなしたが、回答期限を経過しても請求人から回答書は提出されなかった。
　
第２　平成２３年１２月２８日付けの手続補正についての補正の却下の決定
　
［補正の却下の決定の結論］
　平成２３年１２月２８日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１　本件補正について
　本件補正により、特許請求の範囲については、平成２３年８月５日付けの手続補正書の特許請求の範囲に記載の、
　
「【請求項１】
　第１の電極と、湿式成膜法により形成される有機層と、第２の電極とを、この順に有する有機電界発光素子の製造方法であって、
　該第１の電極と、該有機層とを形成した後、
　該有機層の表面と、該有機層を加熱する加熱手段との距離を５ｃｍ以下にして、該有機層の表面側のみから加熱する工程を有する
ことを特徴とする、有機電界発光素子の製造方法。
【請求項２】
　該有機層が、発光層である
ことを特徴とする、請求項１記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項３】
　該発光層が、低分子化合物からなる
ことを特徴とする、請求項２記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項４】
　該有機層の形成を、相対湿度０．０１〜１００ｐｐｍ、酸素の体積濃度０．０１ｐｐｍ〜１０ｐｐｍの雰囲気下で行う
ことを特徴とする、請求項１〜３の何れか一項に記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項５】
　該有機層の表面の全ての部分と、該加熱手段との距離を等しくする
ことを特徴とする、請求項１〜４の何れか一項に有機電界発光素子の製造方法。」が　
　
「【請求項１】
　第１の電極と、湿式成膜法により形成される有機層と、第２の電極とを、この順に有する有機電界発光素子の製造方法であって、
　該第１の電極と、該有機層とを形成した後、
　該有機層の表面と、該有機層を加熱する加熱手段との距離を５ｃｍ以下にして、該有機層の表面側のみから加熱する工程を有し、
　該有機層の表面の全ての部分と、該加熱手段との距離を同時に等しくする
ことを特徴とする、有機電界発光素子の製造方法。
【請求項２】
　該有機層が、発光層である
ことを特徴とする、請求項１記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項３】
　該発光層が、低分子化合物からなる
ことを特徴とする、請求項２記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項４】
　該有機層の形成を、相対湿度０．０１〜１００ｐｐｍ、酸素の体積濃度０．０１ｐｐｍ〜１０ｐｐｍの雰囲気下で行う
ことを特徴とする、請求項１〜３の何れか一項に記載の有機電界発光素子の製造方法。」と補正された。
　
　そして、この補正は、請求項１について、補正前の請求項１に補正前の請求項５の構成を組み込むとともに、「有機層の表面の全ての部分」と「加熱手段」との距離について「同時に」等しくすると限定する補正事項、及び、請求項５を削除する補正事項からなり、特許請求の範囲のいわゆる限定的減縮を目的とする補正を含むものであるといえる。
　すなわち、本件補正における特許請求の範囲の補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下「平成１８年改正前特許法」という。）第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とするものを含むものである。
　
２　独立特許要件違反についての検討
　そこで、次に、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものか（平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反しないか）について検討する。
　
（１）本願補正発明
　本願補正発明は、平成２３年１２月２８日付けの手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載されている事項により特定されるものである。（上記の「１　本件補正について」の記載参照。）
　
（２）引用例
ア　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である特開２００５−２７５２７５号公報（以下「引用例１」という。）には、次の事項が記載されている。（なお、下記「イ　引用例１に記載された発明の認定」に直接関与する記載に下線を付した。）
　
「【技術分野】
【０００１】
　本発明は、乾燥装置、乾燥方法、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置、及び液晶装置に関する。」
　
「【０００４】
　ところで、このような乾燥装置を用いた場合においては、基板の周囲から乾燥が進むため、基板の中央部、周辺部での乾燥速度の違いによる膜厚バラツキが生じるという問題があった。また、基板上に乾燥速度が異なる材料を塗布した場合には、基板の中央部や周辺部に関係なく、乾燥速度が小さい材料よりも乾燥速度が大きい材料が先に乾燥してしまい、膜厚バラツキが生じてしまうという問題があった。更に、このような膜厚バラツキは、基板サイズが大きい程、面内の膜厚均一性を得ることが困難になるという問題があった。」
　
「【００３２】
　（第１実施形態）
　まず、本発明の乾燥装置の第１実施形態を説明する。
　図１は、本実施形態の乾燥装置の構造を説明するための断面図である。
　図１に示すように、乾燥装置１ａは、加熱装置（乾燥手段）４上に塗布材料（被乾燥対象）３が塗布された基板２を備えた構成となっている。また、当該乾燥装置１ａは、Ｎ２ガス等が充填されたチャンバ内に配置されており、不活性ガス雰囲気下において塗布材料３の乾燥を行うようになっている。
【００３３】
　このような乾燥装置１ａにおいて、加熱装置４は、伝熱部材５及び加熱源６から構成されている。また、伝熱部材５は、基板２に対向する位置に基板対向面５ｂを備え、当該基板対向面５ｂと基板２の間には空隙５ａが形成されている。基板対向面５ｂは所定の曲率の曲面であり、基板２の中央部（第１部分）２ｃと周辺部（第２部分）２ｓにおいて、空隙５ａの大きさを異ならせている。また、中央部２ｃから周辺部２ｓに向けて、空隙５ａの大きさが連続的に異なっている。
【００３４】
　具体的には、基板サイズが５００ｍｍ□の場合には、
基板中央部２ｃにおける空隙５ａは約１ｍｍ程度の隙間（対向方向の距離）ｔｃとなっており、基板周辺部２ｓにおける空隙５ａは約４０ｍｍ程度の隙間（対向方向の距離）ｔｓとなっている。
　なお、空隙５ａ内の伝熱部材５と基板２との間には、不図示のギャップ部材が設けられており、当該ギャップ部材は基板２の撓みが生じないように空隙５ａ上に基板２を保持するようになっている。従って、基板２は伝熱部材５の上面において平坦な状態で保持されている。
【００３５】
　また、加熱源６は、ホットプレート、赤外線照射部等の公知の加熱装置である。また、加熱源６には温度制御装置が接続されており、所望の温度に設定可能となっている。本実施形態においては、加熱源６の温度は３０℃〜６０℃に設定されている。
【００３６】
　塗布材料３は、乾燥装置１ａに基板２が搬入される前に、公知の湿式成膜法によって塗布された材料であり、機能性材料と溶媒が均一に混合された材料である。当該塗布材料３は基板２の上面に均一な膜で塗布形成されている。
　なお、本実施形態においては、被乾燥対象として塗布材料を代表に上げて説明するが、当該塗布材料を限定するものではない。例えば、固化している材料や粉末でもよい。
【００３７】
　次に、乾燥装置１ａの動作について説明する。
　図１に示すように、加熱源６によって伝熱部材５が加熱されると、当該伝熱部材５の熱は空隙５ａを介して基板２に伝達する。ここで、空隙５ａにおいては、ｔｃ＜ｔｓであるので、中央部２ｃと周辺部２ｓを比較して、加熱源６の発熱は基板周辺部２ｓに伝達し難くなる。また、中央部２ｃから周辺部２ｓに向けて隙間が連続的に異なっているので、中央部２ｃから周辺部２ｓに向けて基板２への伝熱量が勾配を有することとなる。従って、中央部２ｃにおいては熱量が高く、周辺部２ｓにおいては熱量が低くなり、中央部２ｃが高温、周辺部２ｓが低温となる。これによって、塗布材料３に含まれる溶媒は中央部２ｃにおいて乾燥しやすく、周辺部２ｓにおいて乾燥し難くなる。また、中央部２ｃと周辺部２ｓの間において連続的に乾燥速度が異なることとなる。
【００３８】
ここで、自然放置状態、或いは本実施例とは異なり
通常のｔｃ＝ｔｓの場合
【００３９】
　上述したように、本実施形態においては、伝熱部材５の空隙５ａの隙間は、ｔｃ＜ｔｓとなっており、また、中央部２ｃから周辺部２ｓに向けて隙間が連続的に異なっているので、中央部２ｃと周辺部２ｓの間において塗布材料３の乾燥速度を連続的に異ならせることができる。
ここで、自然放置状態、或いは本実施例とは異なり通常のｔｃ＝ｔｓの場合における塗布材料３の乾燥速度は、中央部２ｃにおいて小さく、周辺部２ｓにおいて大きいので、上記伝熱部材５の伝熱を利用することによって、乾燥速度の差を相殺することができ、塗布材料３を均一に乾燥させることができる。
　従って、従来のように乾燥速度の差異に起因して塗布材料３の膜厚が不均一になるという問題を解決でき、即ち、塗布材料３の膜厚バラツキを抑制できる。また、基板サイズが大きい場合であっても基板２面内の塗布材料３の膜厚均一性を得ることができる。
【００４０】
　また、加熱源６が伝熱部材５を介して塗布材料３に熱を与えるので、当該塗布材料３を乾燥させることができる。また、伝熱部材５の空隙５ａがｔｃ＜ｔｓであるので、隙間ｔｓにおいては塗布材料３に伝熱し難くなり、乾燥速度を小さくすることができる。これに対して、隙間ｔｃにおいては塗布材料３に伝熱しやすくなり、乾燥速度を大きくすることができる。
【００４１】
　また、基板２の裏面側、即ち、塗布材料３の形成面とは反対の面に、伝熱部材５が配置されているので、基板２を介して乾燥装置４が塗布材料３を乾燥させることができる。
【００４２】
　また、従来のように膜厚バラツキを均一にするための複数の工程が不要になるので、工程数の削減に伴う高スループット化を実現できる。また、基板サイズが大きくなったとしても、乾燥装置４が簡素であるので、製造コストを削減できる。
【００４３】
　なお、本実施形態においては、中央部２ｃと周辺部２ｓの塗布材料３の乾燥速度が異なる場合に、上記の乾燥装置４を用いて中央部２ｃと周辺部２ｓの乾燥速度及び膜厚バラツキを均一化しているが、これを限定するものではない。
　例えば、乾燥速度が小さい塗布材料（第１被乾燥対象）とそれが大きい塗布材料（第２被乾燥対象）が同一の基板２上に塗布形成されている場合に、乾燥速度が小さい塗布材料が塗布された部分（第１部分）における隙間ｔｃと、乾燥速度が大きい塗布材料が塗布された部分（第２部分）における隙間ｔｓを異ならせ、ｔｃ＜ｔｓとなるように上記のように塗布材料３を乾燥させてもよい。このようにすれば、乾燥速度が大きい塗布材料と乾燥速度が小さい塗布材料の乾燥速度の差を相殺することができ、基板２上の塗布材料を均一に乾燥させることができ、均一な膜厚を実現できる。
【００４４】
　（第２実施形態）
　次に、本発明の乾燥装置の第２実施形態を説明する。
　図２は、本実施形態の乾燥装置の構造を説明するための断面図である。
　なお、本実施形態においては、先に記載の実施形態と異なる部分について説明し、同一構成には同一符号を付して説明を簡略化する。
【００４５】
　本実施形態においては、基板２上に複数の領域２ａが設けられており、当該領域毎に塗布材料３を形成した場合について説明する。
　図２に示すように、乾燥装置１ｂは、伝熱部材５’を備えており、当該伝熱部材５’は領域２ａに応じた複数の空隙５ａを備えている。ここで、空隙５ａにおいては領域２ａ毎に基板２と伝熱部材５’の間の隙間が異なっている。具体的には、領域２ａの中央部（第３部分）２ａｃと周辺部（第４部分）２ａｓおいて、空隙５ａの大きさを異ならせ、かつ、領域中央部２ａｃから領域周辺部２ａｓに向けて、空隙５ａの大きさが連続的に異なっている。また、領域中央部２ａｃにおける空隙５ａは約１ｍｍ程度の隙間（対向方向の距離）ｔｃとなっており、領域周辺部２ａｓにおける空隙５ａは約２ｍｍ程度の隙間（対向方向の距離）ｔｓとなっている。
【００４６】
　上述したように、本実施形態においては、領域２ａにおける基板２と伝熱部材５’の間隙５ａの隙間が、ｔｃ＜ｔｓとなるように設定され、かつ、その隙間が領域中央部２ａｃと領域周辺部２ａｓの間において連続的に異なっているので、領域中央部２ａｃと領域周辺部２ａｓの間において塗布材料３の乾燥速度を連続的に異ならせることができる。
【００４７】
　ここで、自然放置状態、或いは本実施例とは異なり
通常のｔｃ＝ｔｓの場合
　従って、乾燥速度の差異に起因して領域２ａ毎の塗布材料３の膜厚が不均一になるという問題を解決でき、即ち、領域２ａ毎の塗布材料３の膜厚バラツキを抑制できる。
【００４８】
　（第３実施形態）
　次に、本発明の乾燥装置の第３実施形態を説明する。
　図３は、本実施形態の乾燥装置の構造を説明するための断面図である。
　なお、本実施形態においては、先に記載の実施形態と異なる部分について説明し、同一構成には同一符号を付して説明を簡略化する。
【００４９】
　図３に示すように、乾燥装置１ｃは、基板２がステージ９上に載置されており、当該基板２に対向するように加熱装置４が配置されている。そして、基板２上に塗布材料（被乾燥対象）３が塗布されており、加熱装置４と塗布材料３が直接的に対向している。
　ここで、加熱装置４は、加熱源６と温度調整ユニット７と高さ調整機構８とを備えており、高さ調整機構８は加熱源６と基板２の間隔を所望に設定するようになっている。そして、本実施形態においては、高さ調整機構８は隙間ｔｃ及び隙間ｔｓをｔｃ＜ｔｓとなるようにしている。
【００５０】
　上述したように、本実施形態においては、先に記載の実施形態と同様の効果を奏すると共に、加熱源６と塗布材料３が対向配置されているので、塗布材料３と加熱源６の間の空間を介して、塗布材料３を直接的に乾燥させることができる。
【００５１】
　（第４実施形態）
　次に、本発明の乾燥装置の第４実施形態を説明する。
　図４は、本実施形態の乾燥装置の構造を説明するための断面図である。
　なお、本実施形態においては、先に記載の実施形態と異なる部分について説明し、同一構成には同一符号を付して説明を簡略化する。
【００５２】
　図４に示すように、乾燥装置１ｄは、基板２がステージ９上に載置されており、当該基板２に対向するように減圧装置（乾燥手段）１０が配置されている。そして、基板２上に塗布材料（被乾燥対象）３が塗布されており、減圧装置１０と塗布材料３が直接的に対向している。
　ここで、減圧装置１０は、吸引部１１と減圧ポンプ１２とを備えている。減圧ポンプ１２と吸引部１１は配管によって接続されており、減圧ポンプによって気体が吸引されることによって、吸引部１１の複数の吸引孔１１ａから基板２上の気体を吸引するようになっている。吸引孔１１ａは、吸引部１１の吸引面１１ｂ上に疎密が生じないように等ピッチで形成されており、その孔径は同一になっている。そして、本実施形態においては、吸引面１１ｂと基板２の間の間隔が、基板中央部２ｃと基板周辺部２ｓにおいて異なっており、基板中央部２ｃにおける隙間ｔｃが基板周辺部２ｓにおける隙間ｔｓよりも小さくなっている。
【００５３】
　次に、乾燥装置１ｄの動作について説明する。
　図４に示すように、減圧ポンプ１２が作動すると、吸引部１１内が減圧され、塗布材料３上の気体が吸引孔１１ａを介して吸引部１１内に均一に吸引される。ここで、吸引面１１ｂと基板２の間隔は、ｔｃ＜ｔｓであるので、中央部２ｃと周辺部２ｓを比較して、中央部２ｃ上の気体の流速は周辺部２ｓよりも大きくなる。また、中央部２ｃから周辺部２ｓに向けて隙間が連続的に異なっているので、中央部２ｃから周辺部２ｓに向けて基板２上での気体の流速が勾配を有することとなる。従って、中央部２ｃにおいては流速が大きく、周辺部２ｓにおいては流速が小さくなる。これによって、塗布材料３に含まれる溶媒は中央部２ｃにおいて乾燥しやすく、周辺部２ｓにおいて乾燥し難くなる。また、中央部２ｃと周辺部２ｓの間において連続的に乾燥速度が異なることとなる。
【００５４】
　ここで、自然放置状態、或いは本実施例とは異なり
通常のｔｃ＝ｔｓの場合
【００５５】
　上述したように、本実施形態においては、吸引面１１ｂと基板２の隙間は、ｔｃ＜ｔｓとなっており、また、中央部２ｃから周辺部２ｓに向けて隙間が連続的に異なっているので、中央部２ｃと周辺部２ｓの間において塗布材料３の乾燥速度を連続的に異ならせることができる。
　ここで、自然放置状態、或いは本実施例とは異なり通常のｔｃ＝ｔｓの場合における塗布材料３の乾燥速度は、中央部２ｃにおいて小さく、周辺部２ｓにおいて大きいので、吸引部１１が吸引することによって生じる流速の差を利用することによって、乾燥速度の差を相殺することができ、塗布材料３を均一に乾燥させることができる。
　従って、従来のように乾燥速度の差異に起因して塗布材料３の膜厚が不均一になるという問題を解決でき、即ち、塗布材料３の膜厚バラツキを抑制できる。また、基板サイズが大きい場合であっても基板２面内の塗布材料３の膜厚均一性を得ることができる。」
　
「【００６４】
　次に、このような有機ＥＬ装置７０の製造方法について、図９〜図１１を用いて説明する。なお、図９〜図１１では、説明を簡略化するべく、単一の画素７１についてのみ図示する。
　ここで、有機ＥＬ装置７０では後述する発光層による発光光を基板側から取り出すことも可能であり、また基板と反対側から取り出す構成とすることも可能である。発光光を基板側から取り出す構成とする場合、基板材料としてはガラスや石英、樹脂等の透明ないし半透明なものが用いられるが、特に安価なガラスが好適に用いられる。」
　
「【００７０】
　そして、各配線の上面をも覆うように層間絶縁膜２４０を形成し、中継電極２３６に対応する位置にコンタクトホール（図示せず）を形成し、そのコンタクトホール内にも埋め込まれるようにＩＴＯ膜を形成し、更に、そのＩＴＯ膜をパターニングして、信号線１３２、共通給電線１３３及び走査線（図示せず）に囲まれた所定位置に、ソース・ドレイン領域１４３ａに電気的に接続する
画素電極１４１を形成する。
　
「【００７２】
　
次いで、
インクジェット法（液滴吐出方式）を利用して正孔注入層を形成する。
　
「【００７５】
　
次いで、
インクジェット法（液滴吐出方式）を利用して発光層（発光機能層）を形成する。
　
「【００８４】
　このようにして
各色の発光層形成材料を吐出し塗布した後に、
　ここで、発光層形成材料１１４Ｂ中の溶媒を乾燥させるには、上記の第１〜第６実施形態の記載したいずれかの乾燥装置を用いることにより乾燥処理が行われる。
　即ち、透明基板１２１における各色の
発光層１４０Ｂが形成される側（形成面）に加熱装置４
を対向配置させる。更に、
前述のｔｃ＝ｔｓとなるような通常の乾燥
　このような乾燥装置を用いることにより、乾燥速度の差異に起因して各色の発光層１４０Ｂの膜厚バラツキが生じるという問題を解決し、透明基板１２１の中央部及び周辺部における各色の発光層１４０Ｂの膜厚を均一にすることができる。
　特に、インクジェット法を利用して発光層１４０Ｂを形成する場合には、透明基板１２１の周辺部における乾燥速度が中央部よりも大きいために乾燥ムラが生じやすいが、上記の乾燥方法を利用することにより、乾燥ムラの発生を抑制できるので、均一な膜厚、均一な膜質で発光層１４０Ｂを形成することができる。また、発光層１４０Ｂの膜厚、膜質が均一になることで、発光特性や発光寿命のバラツキを抑制することができる。
【００８５】
　
その後、
陰極１５４を形成し、有機ＥＬ装置７０を得る。
　
　
「【図３】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
イ　引用例１に記載された発明の認定
　【００３４】並びに【００３８】、【００４７】、【００５４】及び【００８４】等の記載から、引用例１には、基板中央部２ｃにおける加熱装置と発光層形成材料との空隙をｔｃとし、基板周辺部２ｓにおける加熱装置と発光層形成材料との空隙ｔｓとするとき、ｔｃ＝ｔｓとなるような通常の（従来の）乾燥を行うことも、（従来例として）記載されているということができる。なお、上記のｔｃ＝ｔｓとなるような通常の乾燥とは、発光層形成材料表面の全ての部分で加熱装置と発光層形成材料との空隙を、同時に等しくするものであることは明らかである。
　上記記載（図面の記載も含む）から、引用例１には、
「画素電極を形成し、次いで、インクジェット法（液滴吐出方式）を利用して正孔注入層及び発光層（発光機能層）を形成し、その後、陰極を形成して、有機ＥＬ装置を得る製造方法において、
　発光層形成材料を吐出し塗布した後に、発光層が形成される側（形成面）に加熱装置４を対向配置させ、
　基板中央部２ｃにおける加熱装置と発光層形成材料との空隙をｔｃとし、基板周辺部２ｓにおける加熱装置と発光層形成材料との空隙ｔｓとするとき、ｔｃ＝ｔｓとなるような通常の乾燥を行う有機ＥＬ装置の製造方法。」の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。
　
（３）本願補正発明と引用発明との対比
ア　対比
　本願補正発明と引用発明とを対比する。
　引用発明の「画素電極」が、本願補正発明の「第１の電極」に相当し、引用発明の「インクジェット法（液滴吐出方式）」の層形成は、本願補正発明の「湿式成膜法」であるといえるから、引用発明の「インクジェット法（液滴吐出方式）を利用して」形成された「正孔注入層及び発光層（発光機能層）」が、本願補正発明の「湿式成膜法により形成される有機層」に相当し、引用発明の「陰極」が、本願補正発明の「第２の電極」に相当する。
　よって、引用発明の「画素電極を形成し、次いで、インクジェット法（液滴吐出方式）を利用して正孔注入層及び発光層（発光機能層）を形成し、その後、陰極を形成して、有機ＥＬ装置を得る製造方法」が、本願補正発明の「第１の電極と、湿式成膜法により形成される有機層と、第２の電極とを、この順に有する有機電界発光素子の製造方法」に相当する。
　
　引用発明の「発光層形成材料を吐出し塗布した後に、発光層が形成される側（形成面）に加熱装置４を対向配置させ」ることと、本願補正発明の「該第１の電極と、該有機層とを形成した後、該有機層の表面と、該有機層を加熱する加熱手段との距離を５ｃｍ以下にして、該有機層の表面側のみから加熱する工程を有」することとは、「該第１の電極と、該有機層とを形成した後、該有機層の表面側のみから加熱する工程を有」する点で一致する。
　
　引用発明の「基板中央部２ｃにおける加熱装置と発光層形成材料との空隙をｔｃとし、基板周辺部２ｓにおける加熱装置と発光層形成材料との空隙ｔｓとするとき、ｔｃ＝ｔｓとなるような通常の乾燥を行う」ことが、本願補正発明の「該有機層の表面の全ての部分と、該加熱手段との距離を同時に等しくする」ことに相当する。
　
イ　一致点
　よって、本願補正発明と引用発明は、
「第１の電極と、湿式成膜法により形成される有機層と、第２の電極とを、この順に有する有機電界発光素子の製造方法であって、
　該第１の電極と、該有機層とを形成した後、
　該有機層の表面側のみから加熱する工程を有し、
　該有機層の表面の全ての部分と、該加熱手段との距離を同時に等しくする有機電界発光素子の製造方法。」の発明である点で一致し、次の点で相違する。
　
ウ　相違点
　有機層の表面と加熱手段との距離を、本願補正発明においては、「５ｃｍ以下にして」いるのに対して、引用発明においては、その点の特定がない点。
　
（４）当審の判断
ア　上記相違点について検討する。
　有機層（乾燥対象物）と加熱手段の距離をどの程度とするかは、当業者が、必要とする乾燥速度等を勘案して適宜設定し得るものであり、より早く（すなわち、より効率的に）乾燥させるためには、有機層（乾燥対象物）と加熱手段の距離をできるだけ小さくすることが要請されることは技術常識から当然といえる。
　そして、上限値の「５ｃｍ」という具体的値については、引用例１の【００３４】には、ｔｃとｔｓが異なる場合ではあるが、それぞれ、１ｍｍ、４０ｍｍと、５ｃｍ（＝５０ｍｍ）以下の数値が示されていることを踏まえると、上記の上限値を「５ｃｍ」としたことについても格別の困難性は認められない。
　したがって、引用発明においても、有機層（乾燥対象物）と加熱手段の距離をできるだけ小さくし、その上限を５cmと定めて、上記相違点に係る本願補正発明の発明特定事項を得ることは当業者が容易になし得たことである。
　
イ　本願補正発明の奏する作用効果
　そして、本願補正発明における「長寿命の素子が得られる」という効果は、「発光層が形成される側（形成面）に加熱装置４を対向配置させ」ている引用発明がすでに有していた効果であるといえることを踏まえると、本願補正発明によってもたらされる効果は、引用発明から当業者が予測し得る程度のものであるといえる。
　
ウ　まとめ
　以上のとおり、本願補正発明は、引用発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
３　むすび
　したがって、本願補正発明は特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるということができないから、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、同法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
 第３　本願発明について
１　本願発明
　平成２３年１２月２８日付けの手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２３年８月５日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものである。（上記「第２　平成２３年１２月２８日付けの手続補正についての補正の却下の決定」の「１　本件補正について」の記載参照。）
　
２　引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例の記載事項及び引用発明については、上記「第２　平成２３年１２月２８日付けの手続補正についての補正の却下の決定」の「２　独立特許要件違反についての検討」の「（２）引用例」に記載したとおりである。
　
３　対比・判断
　上記「第２　平成２３年１２月２８日付けの手続補正についての補正の却下の決定」の「１　本件補正について」に記載したように、本願発明に対して、補正前の請求項５の構成を組み込むとともに、「有機層の表面の全ての部分」と「加熱手段」との距離について「同時に」等しくすると限定したものが本願補正発明である。
　そうすると、本願発明の発明特定事項をすべて含み、本願発明をさらに限定したものに相当する本願補正発明が、上記「第２　平成２３年１２月２８日付けの手続補正についての補正の却下の決定」の「２　独立特許要件違反についての検討」の「（３）本願補正発明と引用発明との対比」及び「（４）当審の判断」において記載したとおり、引用発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様に、引用発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。