【事件の表示】
　特願２００６−５１１７２５「露光装置及びデバイス製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年１０月１３日国際公開、ＷＯ２００５／０９６３５４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、２００５年３月３０日（優先権主張２００４年３月３０日、日本国）を国際出願日とする出願であって、平成２２年７月９日付けで拒絶の理由が通知され、これに対し、同年９月８日付けで手続補正がなされ、その後、同年１１月４日付けで拒絶査定がされた。
　本件は、これを不服として、平成２３年２月１０日に請求された拒絶査定不服審判であって、請求と同時に手続補正がなされ、その後、当審の平成２３年９月２日付け審尋に対して同年１０月２５日に回答書が提出されたものである。 
　
第２　平成２３年２月１０日付けの手続補正についての補正の却下の決定
　［補正の却下の決定の結論］
　平成２３年２月１０日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　［理由］
　（１）補正の内容
　本件補正は、特許請求の範囲及び明細書を補正するものであって、そのうち特許請求の範囲の補正は、補正前（平成２２年９月８日付けで補正、以下同様。）の
「【請求項１】
　投影光学系を介して物体を露光する露光装置であって、
　前記投影光学系の光軸方向及びその光軸に直交する平面内の２次元方向を含む少なくとも３自由度方向に、前記物体を保持して移動可能で、前記物体の前記光軸方向に関する位置を調整可能なステージと；
　前記光軸方向に関する前記ステージの位置情報を検出する第１位置検出装置と；
　前記光軸に直交する平面内における前記ステージの位置情報を検出する第２位置検出装置と；
　前記露光に先立って、前記ステージに保持された前記物体の露光対象面の面形状に関する情報を検出する面形状検出系と；
　前記物体に対する露光を行う際に、前記面形状検出系の検出結果と前記第１及び第２位置検出装置の検出結果とに基づいて前記ステージを駆動することにより、前記物体の露光対象面の面位置を調整する調整装置と；を備える露光装置。
　　【請求項２】
　請求項１に記載の露光装置において、
　前記投影光学系のベストフォーカス位置を計測する計測装置をさらに備え、
　前記調整装置は、前記計測装置の計測結果を基準として、前記物体の露光対象面の面位置を調整することを特徴とする露光装置。
　　【請求項３】
　請求項２に記載の露光装置において、
　前記計測装置は、前記ステージに設けられ前記投影光学系の光軸に直交する平面内に配置された所定の計測用パターンを介して前記投影光学系によって形成される空間像を計測する空間像計測器を有し、該空間像計測器を用いて、有効露光フィールド内の少なくとも１箇所での前記光軸方向に関する前記ステージの位置の変化に対する前記空間像の変化を計測し、その計測結果に基づいて前記投影光学系のベストフォーカス位置を計測することを特徴とする露光装置。
　　【請求項４】
　請求項１に記載の露光装置において、
　前記物体上に形成されたアライメントマークを検出するためのオフアクシスのアライメント系をさらに備え、
　前記面形状検出系は、前記アライメント系により前記アライメントマークが検出される際に、前記物体の露光対象面の前記光軸方向に関する位置を検出する焦点位置検出系を有し、該焦点位置検出系の検出結果と、前記焦点位置検出系により前記露光対象面の前記光軸方向に関する位置が検出される際の前記第２位置検出装置の検出結果とに基づいて、前記物体の露光対象面の面形状に関する情報を検出することを特徴とする露光装置。
　　【請求項５】
　請求項４に記載の露光装置において、
　前記焦点位置検出系は、前記物体上の複数の計測点に計測光を照射し、その反射光を検出することによって前記各計測点における前記光軸方向に関する前記物体の露光対象面の位置をそれぞれ検出可能な多点焦点位置検出系であることを特徴とする露光装置。
　　【請求項６】
　請求項５に記載の露光装置において、
　前記面形状検出系は、前記計測点間の検出原点ずれを検出し、その検出結果を考慮して、前記物体の露光対象面の面形状を検出することを特徴とする露光装置。
　　【請求項７】
　請求項１に記載の露光装置において、
　前記面形状検出系は、前記ステージの移動によりそのステージに保持された前記物体が横切る帯状の領域に照明光を照射する照射系と、前記帯状の領域を前記物体が横切る際のその物体の露光対象面からの前記照明光の反射光を受光する受光系とを含み、前記受光系における反射光の受光位置の基準位置からの位置ずれ量に基づいて、前記物体の露光対象面の面形状に関する情報を検出することを特徴とする露光装置。
　　【請求項８】
　請求項１に記載の露光装置において、
　前記面形状検出系は、干渉計を有し、該干渉計を用いて、前記物体の露光対象面の面形状に関する情報を検出することを特徴とする露光装置。
　　【請求項９】
　請求項８に記載の露光装置において、
　前記干渉計は、その光波が前記物体の露光対象面に対し斜入射する斜入射干渉計であることを特徴とする露光装置。
　　【請求項１０】
　請求項１に記載の露光装置において、
　前記調整装置は、前記面形状検出系により前記物体の露光対象面の面形状に関する情報が検出される際に、前記第１位置検出装置によって検出された前記光軸方向に関する前記ステージの位置情報を考慮して、前記物体に対する露光を行う際に、前記物体の露光対象面の面位置を調整することを特徴とする露光装置。
　　【請求項１１】
　請求項１に記載の露光装置において、
　前記面形状検出系は、前記物体の露光対象面の面形状に関する情報とともに、その露光対象面と前記ステージの基準面との前記光軸方向に関する相対位置に関する情報を検出することを特徴とする露光装置。
　　【請求項１２】
　請求項１１に記載の露光装置において、
　前記投影光学系を介して前記光軸方向に関する前記ステージの位置を検出可能な検出機構をさらに備え、
　前記調整装置は、前記露光に先立って、前記検出機構の検出結果と、前記相対位置に関する情報と、前記物体の露光対象面の面形状に関する情報とに基づいて、前記光軸方向に関する前記物体の露光対象面の面位置を特定することを特徴とする露光装置。
　　【請求項１３】
　請求項１２に記載の露光装置において、
　前記調整装置は、前記検出機構の検出基準と前記投影光学系のベストフォーカス位置との差を検出し、その検出結果を考慮して、前記物体の露光対象面の面位置を調整することを特徴とする露光装置。
　　【請求項１４】
　請求項１に記載の露光装置において、
　前記物体の露光対象面の面位置に関する情報の検出を、前記面形状検出系と前記物体との間に液体を満たさない状態で行い、
　前記露光を、前記投影光学系と前記物体との間に液体を満たした状態で行うことを特徴とする露光装置。
　　【請求項１５】
　請求項１〜１４のいずれか一項に記載の露光装置を用いて、物体上にデバイスパターンを転写するリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法。
…（略）…
　　【請求項２５】
　露光対象の物体を保持可能で、所定の方向に移動可能なステージと；
　前記ステージの移動によりそのステージに保持された前記物体が横切る帯状の領域に照明光を照射する照射系と、前記帯状の領域を前記物体が横切る際のその物体の露光対象面からの前記照明光の反射光を受光する受光系とを有し、前記受光系の出力に基づいて、前記物体の露光対象面の面形状に関する情報を検出する検出装置と；
　前記帯状領域を前記物体が横切るように前記ステージを制御するとともに、前記帯状領域を前記物体が一度横切ることによって得られる、前記物体の露光対象面のほぼ全域の面形状の情報に基づいて、前記物体の露光対象面の面位置調整を行う制御装置と；を備え、　前記検出装置は、前記帯状の領域を横切る前記物体の幅と同等以上の長さの領域に前記照明光を照射する露光装置。
　　【請求項２６】
　請求項２５に記載の露光装置において、
　前記物体上に露光光を照射するための光学系と；
　前記物体と前記光学系との間の空間を液体で満たす液浸機構とをさらに備え、
　前記検出装置は、前記液浸機構により前記物体と前記光学系との間の空間を液体で満たす前に、前記物体の露光対象面の面形状に関する情報を検出することを特徴とする露光装置。
　　【請求項２７】
　請求項２６に記載の露光装置において、
　前記物体上のアライメントマークを検出するアライメント系をさらに備え、
　前記アライメント系は、前記液浸機構により前記物体と前記光学系との間の空間を液体で満たす前に、前記物体上のアライメントマークを検出することを特徴とする請求項２６に記載の露光装置。
　　【請求項２８】
　請求項２７に記載の露光装置において、
　前記検出装置は、前記アライメント系による前記アライメントマークの検出後に、前記物体の露光対象面の面形状に関する情報を検出することを特徴とする露光装置。
　　【請求項２９】
　請求項２７に記載の露光装置において、
　前記検出装置は、前記アライメント系による前記アライメントマークの検出前に、前記物体の露光対象面の面形状に関する情報を検出することを特徴とする露光装置。
　　【請求項３０】
　請求項２５〜２９のいずれか一項に記載の露光装置を用いて、物体上にデバイスパターンを形成するリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法。」を
「　【請求項１】
　露光対象の物体を保持可能で、所定の方向に移動可能なステージと；
　前記ステージの移動によりそのステージに保持された前記物体が横切る帯状の領域に照明光を照射する照射系と、前記帯状の領域を前記物体が横切る際のその物体の露光対象面からの前記照明光の反射光を受光する受光系とを有し、前記受光系の出力に基づいて、前記物体の露光対象面の面形状に関する情報を検出する検出装置と；
　前記帯状領域を前記物体が横切るように前記ステージを制御するとともに、前記帯状領域を前記物体が一度横切ることによって得られる、前記物体の露光対象面のほぼ全域の面形状の情報に基づいて、前記物体の露光対象面の面位置調整を行う制御装置と；を備え、　前記検出装置は、前記帯状の領域を横切る前記物体の幅と同等以上の長さの領域に前記照明光を照射する露光装置。
　　【請求項２】
　請求項１に記載の露光装置において、
　前記物体上に露光光を照射するための光学系と；
　前記、
　前記検出装置は、前記液浸機構により前記物体と前記光学系との間の空間を液体で満たす前に、前記物体の露光対象面の面形状に関する情報を検出することを特徴とする露光装置。
　　【請求項３】
　請求項２に記載の露光装置において、
　前記物体上のアライメントマークを検出するアライメント系をさらに備え、
　前記アライメント系は、前記液浸機構により前記物体と前記光学系との間の空間を液体で満たす前に、前記物体上のアライメントマークを検出することを特徴とする露光装置。
　　【請求項４】
　請求項３に記載の露光装置において、
　前記検出装置は、前記アライメント系による前記アライメントマークの検出後に、前記物体の露光対象面の面形状に関する情報を検出することを特徴とする露光装置。
　　【請求項５】
　請求項３に記載の露光装置において、
　前記検出装置は、前記アライメント系による前記アライメントマークの検出前に、前記物体の露光対象面の面形状に関する情報を検出することを特徴とする露光装置。
【請求項６】
　請求項３に記載の露光装置において、
　前記照射系と前記受光系とは、前記光学系と前記アライメント系との間に、前記照射系によって前記照明光が照射される前記帯状の領域が位置するように配置されていることを特徴とする露光装置。
【請求項７】
　請求項３に記載の露光装置において、
　前記ステージが、前記アライメント系の下方から前記光学系の下方に移動する際に、前記ステージ上の前記物体が、前記帯状の領域を通過することを特徴とする露光装置。
【請求項８】
　請求項３に記載の露光装置において、
　前記アライメント系で前記物体のアライメントマークの検出が行われる計測位置から前記光学系を使って前記物体の露光が行われる露光位置まで前記ステージを移動させる間に前記物体の面形状が検出されることを特徴とする露光装置。
【請求項９】
　請求項１〜８のいずれか一項に記載の露光装置を用いて、物体上にデバイスパターンを形成するリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法。」と補正するものである。
　
（２）補正の目的についての検討
　上記（１）の補正内容のうち「露光装置」に関する発明について検討すると、本件補正前は、請求項１乃至１４並びに２５乃至２９に係る発明が「露光装置」に関する発明であって、本件補正後は、請求項１乃至８に係る発明が「装置」に関する発明である。
　ここで、本件補正後の請求項１乃至５に係る発明は、それぞれ本件補正前の請求項２５乃至２９に係る発明そのものである。
　一方、本件補正後の請求項６乃至８に係る発明は、本件補正後の請求項３すなわち本件補正前の請求項２７を引用する発明であって、本件補正前において請求項２７を引用する「装置」に関する発明は、本件補正前の請求項２８及び２９に係る発明のみであり、上述のとおり、これらの発明は、本件補正後の請求項４及び５に係る発明そのものであるから、本件補正後の請求項６乃至８は本件補正前の請求項２８及び２９を限定して減縮したものであるとすることはできない。
　さらに、本件補正後の請求項６乃至８に係る発明は、「投影光学系の光軸方向及びその光軸に直交する平面内の２次元方向を含む少なくとも３自由度方向に、前記物体を保持して移動可能で、前記物体の前記光軸方向に関する位置を調整可能なステージ」、「光軸方向に関する前記ステージの位置情報を検出する第１位置検出装置」及び「光軸に直交する平面内における前記ステージの位置情報を検出する第２位置検出装置」という発明特定事項を具備していない点で、本件補正前の請求項１乃至１４のいずれの請求項を限定して減縮したものでもない。
　してみると、結局、本件補正によって請求項６乃至８が増項されているといえる。
　したがって、本件補正のうち特許請求の範囲の補正は、補正前の特許請求の範囲を減縮することを目的とするものではない。
　また、当該補正は、請求項の削除、誤記の訂正、または、明りょうでない記載の釈明のいずれを目的とするものでもない。
　
（３）むすび
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項の規定に違反するものであり、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　平成２３年２月１０日付けの手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項２５に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２２年９月８日付け手続補正書によって補正された特許請求の範囲の請求項２５に記載された次のとおりのものと認める。
「露光対象の物体を保持可能で、所定の方向に移動可能なステージと；
　前記ステージの移動によりそのステージに保持された前記物体が横切る帯状の領域に照明光を照射する照射系と、前記帯状の領域を前記物体が横切る際のその物体の露光対象面からの前記照明光の反射光を受光する受光系とを有し、前記受光系の出力に基づいて、前記物体の露光対象面の面形状に関する情報を検出する検出装置と；
　前記帯状領域を前記物体が横切るように前記ステージを制御するとともに、前記帯状領域を前記物体が一度横切ることによって得られる、前記物体の露光対象面のほぼ全域の面形状の情報に基づいて、前記物体の露光対象面の面位置調整を行う制御装置と；を備え、
　前記検出装置は、前記帯状の領域を横切る前記物体の幅と同等以上の長さの領域に前記照明光を照射する露光装置。」
　
２　引用刊行物
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前である平成１６年３月４日に頒布された「特開２００４−７１８５１号公報 」（以下「引用例」という。）には、次の事項が記載されている。
（１）発明の詳細な説明の記載
「【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、たとえば半導体素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等をリソグラフィー工程で製造する際に使用される半導体露光装置において、最良な像性能を得るべくウエハー表面位置を計測する方法およびそれを搭載した半導体露光装置に関するものである。」
「【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
微細化トレンドにしたがって焦点深度がきわめて小さくなり、露光すべきウエハー表面を最良結像面に合わせ込む精度いわゆるフォーカス精度もますます厳しくなってきている。特に走査露光方向のウエハー表面の傾きも厳密に測定し精度良く補正する必要が生じて来ている。特に表面形状精度が悪いウエハーにおいては露光領域のフォーカス検出精度が問題となる事が判明した。数値例を上げると、露光装置の焦点深度は、０．４μｍと言う値の場合もあり、それに対してウエハーの平面度の制御要求は、深度の１／５とすれば０．０８μｍ、１／１０とすれば、０．０４μｍとなり、数十ｎｍのオーダーとなっている。
【０００９】
この問題は前述の様に走査型露光装置、通称スキャナーで露光スリットに差し掛かる前にウエハー表面位置を光斜入射系の表面位置検出手段で計測する、そのタイミングが飛び飛びである事が原因であり、その間のウエハー平面度に関しては情報が無い為、考慮する事ができない事によるものである。別の言葉でこの問題点を表現すれば、『スキャナーにおける、フォーカスサンプリング誤差』と言える。
【００１０】
この問題はステッパーにおいても発生しているが、スキャナーほど重要視はされない。何故ならスキャナーにおいては、露光スリット部分での露光であり、ステッパーの場合の露光範囲、例えば露光範囲が角２０ｍｍとか、と比較して狭い露光面積である。スキャナーの場合、この露光スリットの面積が狭い範囲なので、ウエハーの平面度に対して、その狭い範囲に関して、フォーカスを変えたり、チルトさせたりして対応できるが、ステッパーの場合は、例えば角２０ｍｍと言う広い範囲での最適像面となる様な対応のみであり、狭い範囲でのウエハー平面度のばらつきへの対応ができない点が異なる事である。（もちろんステッパーの最適像面を求めるのに、ウエハー上で細かいサンプリングに基ずいた情報の方が高精度を達成するのは当然の事ではあるが。）
【００１１】
例えばこの計測のタイミングとしては、図７に示す様に、スキャン方向に対してウエハー上３ｍｍ毎の飛び飛びの値で行うとする。すると、この３ｍｍの間の情報、例えば図７のポイントＦＰ１、ＦＰ２、ＦＰ３では、ウエハー平面度が悪い為、３ｍｍの飛び飛びの計測から求め、先読み計測による平面から、Δずれている場合が発生する。露光では、先読み計測による平面を露光投影光学系の最良像面に一致させて露光するので、図７では、ずれ量Δだけデフォーカスして露光する事が発生する。この飛び飛びの計測はスキャン方向だけでなく、スキャン方向と直交する方向でも同じように発生する。この原因は、計測のタイミングではなく、図１４，１５に示した光斜入射系の計測点数の構成数によるものである。
【００１２】
もちろん、計測タイミングを細かく、例えば１ｍｍずつや、光斜入射系の計測点数を多くする事で、図９のずれ量Δの誤差は小さくなるが、露光時の走査速度の低下や走査計測時間の増大によるスループットの低下や、装置構成の複雑化に伴う装置価格Ｕｐ，トラブル発生の可能性増大と言う、別の問題を発生させる恐れがある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明では、マスク上に形成された回路パターンをウエハー上に投影露光する投影露光装置において、マスクとウエハーを相対的に走査して露光する露光装置であり、ウエハー上に斜め方向から照射し、ウエハーからの反射光をセンサーにて検出することでウエハー表面の高さ方向の情報を計測するウエハー表面位置計測手段を有し、露光領域の前後と露光領域内のそれぞれの位置に少なくとも３点以上の計測点を有し、前記３点の高さ計測点は平面を形成するように配置されており、３点の高さ位置情報から露光領域の平均的な高さと走査露光方向と直交方向、つまり露光スリットの長手方向の傾き、および走査露光方向への傾きを算出し、露光すべきウエハー表面を最適露光像面位置に補正駆動を行うようにしたものであり、そのウエハー平面度を露光装置に搬入する前に、露光装置とは別に構成したフォーカス検出系により、露光装置での走査露光方向でのフォーカス計測のタイミングによる飛び飛びの計測点の間、及びに走査露光方向と直交方向に構成した少なくとも３点以上の計測点の間のウエハーの平面情報を事前に求めておき、露光時にはフォーカス検出系で計測しない間のウエハーの位置では、該平面情報を使用して、フォーカス、チルトを制御、駆動することを特徴とした半導体露光方法、及びに露光装置の提案であり、ウエハー平面情報を計測するフォーカス検出系の位置が、露光位置のフォーカス検出系とは異なる位置で行い、そのウエハー平面度を計測する時の、ウエハーを支持する吸着方法が、露光装置での吸着方法と同一な方法で行い、その間をウエハーを移動する時に、ウエハーとウエハーを吸着しているウエハーチャックと一緒に移動する、ことを特徴とした半導体露光方法、及び露光装置。
【００１４】
まず、本発明での新規提案の内容の説明を行う前に、従来の走査型露光装置、所謂スキャナーのウエハーに対するフォーカス、チルト計測についての図２以降を用いて詳細な説明を行う。図２は今までに製品化や既に提案されている露光装置の構成を示すものである。
【００１５】
エキシマレーザーなどの光源８００から射出された光は、露光に最適な所定の形状の露光光束に成型される照明系８０１を経て、マスクまたはレチクル１（以後レチクルと呼ぶ）の下面に形成されたパターン面を照明する。レチクル１のパターン面には露光すべきＩＣ回路パターンが形成されており、上記パターンから射出された光は投影露光レンズ（以下“投影レンズ”とする）を通過して結像面に相当するウエハー面上近傍に像を形成する。前記レチクルは１方向に往復走査可能なレチクルステージＲＳ上に載置されている。ウエハーは図面上のＸＹおよびＺ方向に走査駆動可能また傾け補正（チルトと呼ぶ）可能な構成となっているウエハーステージＷＳ上に載置されている。
【００１６】
前記レチクルステージとウエハーステージを露光倍率の比率の速度で相対的に走査させることでレチクル上のショット領域の露光を行う。ワンショット露光が終了した後にはウエハーステージは次のショットへステップ移動し、先ほどとは逆方向に走査露光を行い次のショットが露光される。これらの動作をステップアンドスキャンといいスキャナー特有の露光方法である。これを繰り返すことでウエハー全域についてショット露光する。
【００１７】
ワンショット内の走査露光中には、フォーカス、チルト検出系３３によりウエハー表面の面位置情報を取得し、露光像面からのずれ量を算出し、Ｚ方向および傾き（チルト）方向へのステージ駆動によりほぼ露光スリット単位でウエハー表面の高さ方向の形状に合わせこむ動作が行われている。
【００１８】
このフォーカス、チルト検出系は光学的な高さ計測システムを使用している。ウエハー表面に対して大きな角度（低入射角度）で光束を入射させ、反射光の像ズレをＣＣＤなどの位置検出素子で検出する方法をとっている。特に、ウエハー上の複数の計測すべき点に光束を入射させ、各々の光束を個別のセンサーに導き、異なる位置の高さ計測情報から露光すべき面のチルトを算出している。
【００１９】
特に、近年では露光光の短波長化、投影レンズの高ＮＡ化が激しくなり、露光焦点深度が激減してきている、本発明では矩形形状の走査スリットの短い方向、つまり走査方向への面傾きも高精度に計測補正する必要が生じてきている。」
　
（２）図面の記載
　引用例の図２に開示された露光装置の図からして、図２には、投影露光用照明光学系８０１が投影レンズ２を介してウエハーステージＷＳ上のウエハー３に対向しており、かつ、フォーカス、チルト検出系３３がウエハー３に対して斜め方向に対向して設けられている露光装置が記載されているといえる。
　
（３）引用例記載の発明
　（１）、（２）の記載事項によると、引用例には、以下の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
「ウエハーを載置し、ＸＹおよびＺ方向に走査駆動可能な構成となっているウエハーステージＷＳと、
ウエハー表面に対して光束を入射させ、反射光の像ズレを検出する位置検出素子を有し、ウエハー表面の面位置情報を取得するフォーカス、チルト検出系３３とを備え、
ウエハー平面情報を計測するフォーカス、チルト検出系３３によりウエハー表面の面位置情報を取得し、露光像面からのずれ量を算出し、Ｚ方向および傾き（チルト）方向へのステージ駆動によりウエハー表面の高さ方向の形状に合わせこむ動作が行われ、
フォーカス、チルト検出系は、ウエハー表面に対して大きな角度（低入射角度）で光束を入射させる露光装置。」
　
３　対比
（１）引用発明の「ウエハー」が本願発明の「露光対象の物体」に相当することは明らかであるから、引用発明の「ウエハーを載置し、ＸＹおよびＺ方向に走査駆動可能な構成となっているウエハーステージＷＳ」は、本願発明の「露光対象の物体を保持可能で、所定の方向に移動可能なステージ」に相当する。
　
（２）引用発明は、「ウエハー表面に対して光束を入射させ」ることからして、引用発明が、本願発明の「露光対象の物体に照明光を照射する照射系」に相当する部材を有していることは明らかである。
　また、引用発明の「位置検出素子」は「ウエハー表面に対して光束を入射させ、反射光の像ズレを検出する」ものであるから、引用発明の「位置検出素子」は、本願発明の「受光系」に相当し、引用発明の「反射光の像ズレを検出する位置検出素子」は、本願発明の「物体の露光対象面からの前記照明光の反射光を受光する受光系」に相当する。
　さらに、引用発明の「ウエハー表面の面位置情報」は、本願発明の「物体の露光対象面の面形状に関する情報」に相当する。
　また、引用発明の「フォーカス、チルト検出系」は「ウエハー平面情報を計測する」ものであるから、本願発明の「検出装置」に相当する。
　そうすると、引用発明の「ウエハー表面に対して光束を入射させ、反射光の像ズレを検出する位置検出素子を有し、ウエハー表面の面位置情報を取得するフォーカス、チルト検出系３３」を備える点と、本願発明の「ステージの移動によりそのステージに保持された前記物体が横切る帯状の領域に照明光を照射する照射系と、前記帯状の領域を前記物体が横切る際のその物体の露光対象面からの前記照明光の反射光を受光する受光系とを有し、前記受光系の出力に基づいて、前記物体の露光対象面の面形状に関する情報を検出する検出装置」を備える点とは、「物体に照明光を照射する照明系と、物体の露光対象面からの前記照明光の反射光を受光する受光系とを有し、前記受光系の出力に基づいて、前記物体の露光対象面の面形状に関する情報を検出する検出装置」を備える点で一致する。
　
（３）引用発明は、「ウエハー平面情報を計測するフォーカス、チルト検出系３３によりウエハー表面の面位置情報を取得し、露光像面からのずれ量を算出し、Ｚ方向および傾き（チルト）方向へのステージ駆動によりウエハー表面の高さ方向の形状に合わせこむ動作が行われ」ているから、本願発明の「物体の露光対象面の」「面形状の情報に基づいて、前記物体の露光対象面の面位置調整を行う制御装置」を備えたものであるといえる。
　
　上記（１）〜（３）の点から、本願発明と引用発明は、
「露光対象の物体を保持可能で、所定の方向に移動可能なステージと；
　前記ステージの移動によりそのステージに保持された前記物体に照明光を照射する照射系と、物体の露光対象面からの前記照明光の反射光を受光する受光系とを有し、前記受光系の出力に基づいて、前記物体の露光対象面の面形状に関する情報を検出する検出装置と；
　前記物体の露光対象面の面形状の情報に基づいて、前記物体の露光対象面の面位置調整を行う制御装置と；を備えた露光装置。」
で一致し、以下（ａ）、（ｂ）の各点で相違する。
　
（ａ）物体の露光対象面の面形状に関する情報を検出するための検出装置の構成として、本願発明は、照明系が、「物体を横切る帯状の領域」であって、「前記帯状の領域を横切る前記物体の幅と同等以上の長さの領域」に照明光を照射するもので、受光系が、「前記帯状の領域を物体が横切る際に」反射光を受光する構成を採用し、前記面形状に関する情報が、「前記帯状領域を前記物体が横切るように前記ステージを制御するとともに、前記帯状領域を前記物体が一度横切ることによって得られる」のに対し、引用発明は、照明系が物体を照射する領域や受光系が反射光を受光する領域、及び、前記領域とステージの制御の関係について特定していない点
（ｂ）物体の露光対象面の面位置調整を行うために得る面形状の情報が、本願発明は、物体の露光対象面のほぼ全域の情報に基づいているのに対し、引用発明は、物体の露光対象面のどの程度の情報に基づいているのか不明である点
　
４　当審の判断
　以下、上記相違点について検討する。
（ａ）の点について
　検出装置が、帯状の領域を横切る物体の幅と同等以上の長さの領域に照明光を照射して、当該光を物体に対して一度物体全体に走査して、その反射光を受光することにより物体の情報を検出することは、スキャナーや複写機の分野において広く行われている周知技術である。
　そして、本願発明における面形状の情報の検出も上記周知技術も、光を照射・受光して物体の情報を得ることで共通する技術であるから、引用発明の検出装置の構成として、照明系を、物体を横切る帯状の領域であって、前記帯状の領域を横切る前記物体の幅と同等以上の長さの領域に照明光を照射ものとし、受光系を、前記帯状の領域を物体が横切る際に反射光を受光する構成を採用して、前記面形状に関する情報を、前記帯状領域を前記物体が横切るように前記ステージを制御するとともに、前記帯状領域を前記物体が一度横切ることによって得ることは、格別困難なことではない。
　
（ｂ）の点について
　引用例には、「【０００８】…（中略）…微細化トレンドにしたがって焦点深度がきわめて小さくなり、露光すべきウエハー表面を最良結像面に合わせ込む精度いわゆるフォーカス精度もますます厳しくなってきている。特に走査露光方向のウエハー表面の傾きも厳密に測定し精度良く補正する必要が生じて来ている。特に表面形状精度が悪いウエハーにおいては露光領域のフォーカス検出精度が問題となる事が判明した。」と記載されており、引用発明は、精度の良い露光を行うために、物体の露光対象面の面形状に関する情報を検出し、当該情報に基づいて物体の露光対象面の面位置調整を行うものである。
　よって、この面位置調整を露光対象面の一部にだけ行って、物体の露光対象面のほぼ全域の面形状の情報に基づいて行わない方が、むしろ不自然であるといえる。
　したがって、引用発明において、物体の露光対象面の面位置調整を、物体の露光対象面のほぼ全域の面形状の情報に基づいて行うことは、容易に行いうることであって格別の困難性はない。
　
　相違点（ａ）、（ｂ）については上記のとおりであり、本願発明によってもたらされる効果は、引用発明及び周知技術から当業者が当然に予測できる範囲内のものと認められる。
　よって、本願発明は、引用発明及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例に記載された発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。