【手続補正書】
【提出日】平成18年9月22日(2006.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組織焼勺装置であって、
マイクロ波放射線を生成するよう配置されたマイクロ波放射線源と、
焼勺されるべき組織の中へ上記マイクロ波放射線を向けるためのプローブと、
上記源と上記プローブとの間に接続された反射放射線検出器と、
上記源と上記プローブとの間に接続されたインピーダンス調整器とを備え、
上記源によって生成された上記マイクロ波放射線は、５から６０ＧＨｚの範囲の安定した出力周波数を有し、
上記装置は、上記マイクロ波放射線の周波数とは異なる周波数を有する信号を生成するよう配置された局部発振器を含み、
上記反射放射線検出器は、上記局部発振器に接続され、上記局部発振器からの信号と反射した放射線を比較することにより、反射して上記プローブを通り上記源の方へ戻ってきたマイクロ波放射線の大きさおよび位相を検出するよう配置され、
上記インピーダンス調整器は、上記反射したマイクロ波放射線の検出された大きさおよび位相に基づいて制御可能である調整可能な複素インピーダンスを有する、装置。
【請求項２】
上記反射したマイクロ波放射線の上記検出された大きさおよび位相に基づいて上記インピーダンス調整器の上記複素インピーダンスを自動的に調整するよう配置されたコントローラを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
上記コントローラは、上記反射したマイクロ波放射線の上記検出された大きさおよび位相における変動に応じて動的に上記複素インピーダンスを調整するように構成される、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
上記マイクロ波放射線源は安定した基準信号に位相ロックされる、請求項１から３のいずれかに記載の装置。
【請求項５】
上記マイクロ波放射線源は、その安定した出力周波数が制御可能に変動し得るように調整可能である、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
上記マイクロ波放射線とは異なる周波数を有する信号を生成するよう配置された局部発振器に接続された前進する放射線検出器を有し、上記前進する放射線検出器は、上記局部発振器からの信号と上記前進する放射線を比較することにより、上記源から上記プローブに向かって前進するマイクロ波放射線の大きさおよび位相を検出するよう配置されており、上記インピーダンス調整器の上記複素インピーダンスは、上記前進するマイクロ波放射線の上記検出された大きさおよび位相に基づいてさらに調整可能である、請求項１から５のいずれかに記載の装置。
【請求項７】
上記マイクロ波放射線とは異なる周波数を有する信号を生成するよう配置された局部発振器に接続された付加的な検出器を含み、上記付加的な検出器は、上記局部発振器からの信号と上記前進するマイクロ波放射線または反射したマイクロ波放射線を比較することにより、上記源から上記プローブに向かって前進するか、または反射して上記プローブを通り上記源に戻ってくるマイクロ波放射線の大きさおよび位相を検出するよう配置されており、上記インピーダンス調整器の上記複素インピーダンスは、上記付加的な検出器によって検出された大きさおよび位相に基づいてさらに調整可能である、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
上記前進する放射線検出器および／または上記付加的な検出器は、上記反射放射線検出器と同じ局部発振器に接続される、請求項６または７に記載の装置。
【請求項９】
上記または各々の検出器は、上記局部発振器からの信号を、前記検出器により検出されるマイクロ波放射線と混合するためのミキサを含む、請求項１から８のいずれかに記載の装置。
【請求項１０】
上記検出器の１つ以上またはすべては、上記局部発振器に接続された位相比較器および電力センサを含む、請求項１から９のいずれかに記載の装置。
【請求項１１】
上記または各々の局部発振器は、上記マイクロ波放射線源とは別個である、請求項１から１０のいずれかに記載の装置。
【請求項１２】
上記または各々の局部発振器は、上記マイクロ波放射線源に接続され、上記源からの上記マイクロ波放射線とは異なる周波数を有する信号を上記源から生成するように構成される、請求項１から１０のいずれかに記載の装置。
【請求項１３】
上記プローブは生体組織に貫入するように構成される、請求項１から１２のいずれかに記載の装置。
【請求項１４】
反射して上記プローブを通り上記源の方へ戻ってくるマイクロ波放射線を、上記源から上記プローブに向かって前進するマイクロ波放射線から分離するよう配置されたセパレータを有する、請求項１から１３のいずれかに記載の装置。
【請求項１５】
上記インピーダンス調整器は三重スタブ同調器である、請求項１から１４のいずれかに記載の装置。
【請求項１６】
上記プローブは、細長い内側の導体と、上記内側の導体と同軸である外側の導体と、上記導体間における誘電層とを含む、請求項１から１５のいずれかに記載の装置。
【請求項１７】
上記プローブは導波管である、請求項１から１５のいずれかに記載の装置。
【請求項１８】
上記プローブの外径は１ｍｍ未満である、請求項１から１７のいずれかに記載の装置。
【請求項１９】
上記マイクロ波放射線源は波長λの放射線を生成するよう配置され、上記インピーダンス調整器と上記プローブとが、その間でマイクロ波放射線を伝えるよう配置された放射線伝達手段によって接続され、上記放射線伝達手段の長さは調整可能であり、上記放射線伝達手段と上記プローブとを合計した長さはλ／２の倍数に等しくなるように調整可能である、請求項１から１８のいずれかに記載の装置。
【請求項２０】
同軸の組織焼勺プローブであって、内側の導体と、前記内側の導体を取囲む誘電体と、前記誘電体を取囲む導電性鞘と、前記鞘上にある１つ以上のバランとを有し、上記または各々のバランは吹付け誘電体を含む、プローブ。
【請求項２１】
上記または各々のバランはさらに、前記吹付け誘電体を取囲む外側の導体を含む、請求項２０に記載のプローブ。
【請求項２２】
前記プローブは、波長λのマイクロ波放射線での使用に対して設計され、上記または各々の前記バランの、前記プローブの軸方向での長さは、λ／４またはその奇数倍数である、請求項２０または２１に記載のプローブ。
【請求項２３】
同軸の組織焼勺プローブのためのバランを作製する方法であって、同軸プローブにおける外側の導電性鞘の外側表面に対して液体または粉末状の誘電体を吹付けまたはその他で配置するステップと、前記誘電体が液体の場合に上記液体を凝固させるステップとを備え、こうして上記バランが形成される、方法。
【請求項２４】
さらに、前記誘電体のまわりに外側の導体を配置するステップを備える、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記プローブは、波長λのマイクロ波放射線での使用に対して設計され、上記バランの、前記プローブの軸方向での長さは、λ／４またはその奇数倍数である、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
外科手術用装置であって、
組織の焼勺に適した第１の周波数のマイクロ波放射線の源と、
上記源から、焼勺されるべき組織の中へマイクロ波放射線を向けるためのプローブと、
上記源からの前記マイクロ波放射線を変調しないことによって未変調のマイクロ波放射線を上記プローブの中を通して向けるＯＦＦ状態、および、上記源からのマイクロ波放射線を変調して前記第１の周波数よりも小さい第２の周波数のパルスにするＯＮ状態、を有する変調器とを備え、前記第２の周波数は組織の切開に適しており１０ＫＨｚから５００ＭＨｚの範囲内である、装置。
【請求項２７】
上記装置はさらに、前記変調器と前記プローブとの間に低域フィルタを備え、前記低域フィルタは、前記第１の周波数を通す第１の状態と、前記第２の周波数を通すが前記第１の周波数をフィルタ除去する第２の状態とを有する、請求項２６に記載の装置。
【請求項２８】
前記変調器は、前記第２の周波数を変化させることが可能である、請求項２７に記載の
装置。
【請求項２９】
前記変調器は、前記第２の周波数を変化させることが可能であり、前記低域フィルタは、第２の状態において帯域幅を変化させることが可能である、請求項２８に記載の装置。
【請求項３０】
前記第１の周波数は５ＧＨｚ以上である、請求項２６から２９のいずれかに記載の装置。
【請求項３１】
前記第２の周波数は５００ｋＨｚから３０ＭＨｚの範囲内の周波数である、請求項２６から３０のいずれかに記載の装置。