【手続補正書】
【提出日】平成18年11月2日(2006.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）化合物Ａとｂ）量αのＣＨ2＝ＣＨＲ'ＣＨ＝ＣＨ2とのヒドロシリル化反応生成物を含んでなる組成物。
式中、Ｒ'はハロゲン、水素、Ｃ1〜Ｃ60二価炭化水素基、Ｃ1〜Ｃ60二価ポリエステル基、Ｃ1〜Ｃ60二価ニトリル基、Ｃ1〜Ｃ60二価アルキルハライド基及びＣ1〜Ｃ60二価ポリエーテル基からなる群から選択される二価基であり、α＞ｂ＋ｄ＋ｆ−ｇ−ｈ−ｉであり、
化合物Ａはｃ）Ｍ'gＭaＭHb-gＤcＤ'hＤHd-hＴeＴ'iＴHf-iとｄ）（（ＭjＭVikＤlＤVimＴnＴVio）pＱ）qとのヒドロシリル化反応生成物であり、下付文字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ、ｊ、ｋ、ｌ、ｍ、ｎ、ｏ及びｐは０又は正の数であり、ｑは０でない正の数であり、ｋ＋ｍ＋ｏ＜ｂ＋ｄ＋ｆ−ｇ−ｈ−ｉであり、ｐは０．４〜４．０であり、ｑは１〜２００であり、（ｂ＋ｄ＋ｆ−ｇ−ｈ−ｉ）／（（（ｋ＋ｍ＋ｏ）ｐ）ｑ）として規定されるＭ'gＭaＭHb-gＤcＤ'hＤHd-hＴeＴ'iＴHf-iと（ＭjＭVikＤlＤVimＴnＴVio）pＱ）qとの比は５０．０〜０．０１であり、
化合物Ｍ'gＭaＭHb-gＤcＤ'hＤHd-hＴeＴ'iＴHf-iはｅ）ＭaＭHbＤcＤHdＴeＴHfとｆ）量βのＣＨ2＝ＣＨＲ1とのヒドロシリル化反応生成物である。
式中、β＋１≦ｂ＋ｄ＋ｆ、ｂ＋ｄ＋ｆ−ｇ−ｈ−ｉ＞０、１．５≦ｂ＋ｄ＋ｆ≦１００、２≦ａ＋ｂ≦１２、０≦ｃ＋ｄ≦１０００、０≦ｅ＋ｆ≦１０、Ｒ1はハロゲン、水素、Ｃ1〜Ｃ60一価炭化水素基、Ｃ1〜Ｃ60一価ポリエステル基、Ｃ1〜Ｃ60一価ニトリル基、Ｃ1〜Ｃ60一価アルキルハライド基及びＣ1〜Ｃ60一価ポリエーテル基並びにこれらの混合物からなる群から選択される一価基であり、
Ｍ＝Ｒ2Ｒ3Ｒ4ＳｉＯ1/2、
ＭH＝ＨＲ5Ｒ6ＳｉＯ1/2、
ＭVi＝ＲViＲ5Ｒ6ＳｉＯ1/2、
Ｄ＝Ｒ7Ｒ8ＳｉＯ2/2、
ＤH＝ＨＲ9ＳｉＯ2/2、
ＤVi＝ＲViＲ10ＳｉＯ2/2、
Ｔ＝Ｒ11ＳｉＯ3/2、
ＴH＝ＨＳｉＯ3/2、
ＴVi＝ＲViＳｉＯ3/2、
Ｑ＝ＳｉＯ4/2、
Ｍ'＝（ＣＨ2ＣＨＲ1）Ｒ5Ｒ6ＳｉＯ1/2、
Ｄ'＝（ＣＨ2ＣＨＲ1）Ｒ9ＳｉＯ2/2、
Ｔ'＝（ＣＨ2ＣＨＲ1）ＳｉＯ3/2、であり、
各Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11は独立にＣ1〜Ｃ60一価炭化水素基から選択され、各ＲViは独立にＣ2〜Ｃ60一価アルケニル炭化水素基から選択される。
【請求項２】
Ｒ1が、Ｃ15〜Ｃ60一価炭化水素基、Ｃ15〜Ｃ60一価ポリエステル基、Ｃ15〜Ｃ60一価ニトリル基、Ｃ15〜Ｃ60一価アルキルハライド基及びＣ15〜Ｃ60一価ポリエーテル基並びにこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
Ｒ1が、Ｃ30〜Ｃ60一価炭化水素基、Ｃ30〜Ｃ60一価ポリエステル基、Ｃ30〜Ｃ60一価ニトリル基、Ｃ30〜Ｃ60一価アルキルハライド基及びＣ30〜Ｃ60一価ポリエーテル基並びにこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１記載の組成物。
【請求項４】
Ｒ1が、Ｃ10〜Ｃ40一価炭化水素基、Ｃ10〜Ｃ40一価ポリエステル基、Ｃ10〜Ｃ40一価ニトリル基、Ｃ10〜Ｃ40一価アルキルハライド基及びＣ10〜Ｃ40一価ポリエーテル基並びにこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１記載の組成物。
【請求項５】
Ｒ1がスチリルである、請求項１記載の組成物。
【請求項６】
各Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11がメチルである、請求項２乃至請求項５のいずれか１項記載の組成物。
【請求項７】
各Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11がＣ30〜Ｃ60一価炭化水素基、Ｃ30〜Ｃ60一価ポリエステル基、Ｃ30〜Ｃ60一価ニトリル基、Ｃ30〜Ｃ60一価アルキルハライド基及びＣ30〜Ｃ60一価ポリエーテル基並びにこれらの混合物からなる群から選択される、請求項２乃至請求項５のいずれか１項記載の組成物。
【請求項８】
可撓性支持体の塗工時のミスト発生を低減するための、ａ）化合物Ａとｂ）量αのＣＨ2＝ＣＨＲ'ＣＨ＝ＣＨ2とのヒドロシリル化反応生成物を含んでなる組成物。
式中、Ｒ'はハロゲン、水素、Ｃ1〜Ｃ60二価炭化水素基、Ｃ1〜Ｃ60二価ポリエステル基、Ｃ1〜Ｃ60二価ニトリル基、Ｃ1〜Ｃ60二価アルキルハライド基、Ｃ1〜Ｃ60二価ポリエーテル基及びこれらの混合物からなる群から選択される二価基であり、α＞ｂ＋ｄ＋ｆ−ｇ−ｈ−ｉであり、
化合物Ａはｃ）Ｍ'gＭaＭHb-gＤcＤ'hＤHd-hＴeＴ'iＴHf-iとｄ）（（ＭjＭVikＤlＤVimＴnＴVio）pＱ）qとのヒドロシリル化反応生成物であり、下付文字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ、ｊ、ｋ、ｌ、ｍ、ｎ、ｏ及びｐは０又は正の数であり、ｑは０でない正の数であり、ｋ＋ｍ＋ｏ＜ｂ＋ｄ＋ｆ−ｇ−ｈ−ｉであり、ｐは０．４〜４．０であり、ｑは１〜２００であり、（ｂ＋ｄ＋ｆ−ｇ−ｈ−ｉ）／（（（ｋ＋ｍ＋ｏ）ｐ）ｑ）として規定されるＭ'gＭaＭHb-gＤcＤ'hＤHd-hＴeＴ'iＴHf-iと（ＭjＭVikＤlＤVimＴnＴVio）pＱ）qとの比は５０．０〜０．０１であり、
化合物Ｍ'gＭaＭHb-gＤcＤ'hＤHd-hＴeＴ'iＴHf-iはｅ）ＭaＭHbＤcＤHdＴeＴHfとｆ）量βのＣＨ2＝ＣＨＲ1とのヒドロシリル化反応生成物である。
式中、β＋１≦ｂ＋ｄ＋ｆ、ｂ＋ｄ＋ｆ−ｇ−ｈ−ｉ＞０、１．５≦ｂ＋ｄ＋ｆ≦１００、２≦ａ＋ｂ≦１２、０≦ｃ＋ｄ≦１０００、０≦ｅ＋ｆ≦１０、Ｒ1はハロゲン、水素、Ｃ1〜Ｃ60一価炭化水素基、Ｃ1〜Ｃ60一価ポリエステル基、Ｃ1〜Ｃ60一価ニトリル基、Ｃ1〜Ｃ60一価アルキルハライド基及びＣ1〜Ｃ60一価ポリエーテル基並びにこれらの混合物からなる群から選択される一価基であり、
Ｍ＝Ｒ2Ｒ3Ｒ4ＳｉＯ1/2、
ＭH＝ＨＲ5Ｒ6ＳｉＯ1/2、
ＭVi＝ＲViＲ5Ｒ6ＳｉＯ1/2、
Ｄ＝Ｒ7Ｒ8ＳｉＯ2/2、
ＤH＝ＨＲ9ＳｉＯ2/2、
ＤVi＝ＲViＲ10ＳｉＯ2/2、
Ｔ＝Ｒ11ＳｉＯ3/2、
ＴH＝ＨＳｉＯ3/2、
ＴVi＝ＲViＳｉＯ3/2、
Ｑ＝ＳｉＯ4/2、
Ｍ'＝（ＣＨ2ＣＨＲ1）Ｒ5Ｒ6ＳｉＯ1/2、
Ｄ'＝（ＣＨ2ＣＨＲ1）Ｒ9ＳｉＯ2/2、
Ｔ'＝（ＣＨ2ＣＨＲ1）ＳｉＯ3/2、であり、
各Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11は独立にＣ1〜Ｃ60一価炭化水素基から選択され、各ＲViは独立にＣ2〜Ｃ60一価アルケニル炭化水素基から選択される。
【請求項９】
可撓性基材の塗工時のミスト発生を低減する方法であって、基材を塗工するためのコーティング組成物を製造し、該コーティング組成物に請求項１乃至請求項８のいずれか１項記載の組成物を添加することを含んでなる方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
塗膜の不均一性によって生じるもう一つの問題は、塗工装置付近で作業する塗工装置作業者の産業衛生及び安全性に関する問題である。
【特許文献１】米国特許第２６７６１８２号明細書
【特許文献２】米国特許第３１５９６０１号明細書
【特許文献３】米国特許第３１５９６６２号明細書
【特許文献４】米国特許第３２２０９７２号明細書
【特許文献５】米国特許第３７１５３３４号明細書
【特許文献６】米国特許第３７７５４５２号明細書
【特許文献７】米国特許第３８１４７３０号明細書
【特許文献８】米国特許第５３９９６１４号明細書
【特許文献９】米国特許第５６２５０２３号明細書
【特許文献１０】米国特許第５６９８６５５号明細書
【特許文献１１】米国特許第５８１７７２９号明細書
【特許文献１２】米国特許第５９９４４５４号明細書
【特許文献１３】米国特許第６３８８００５号明細書
【特許文献１４】米国特許第６４５１９０９号明細書
【特許文献１５】国際公開第０１／９８４１８号パンフレット
【特許文献１６】国際公開第０１／９８４２０号パンフレット
【特許文献１７】国際公開第０２／１８５０６号パンフレット