【事件の表示】
　特願２００５−３７６１９８「カラーフィルタの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１９年　７月１２日出願公開、特開２００７−１７８６６２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１７年１２月２７日の出願であって、平成２２年１２月３日付けで拒絶理由が通知され、平成２３年２月１４日付けで意見書が提出されるとともに、同日付けで手続補正がなされ、同年４月２０日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年７月１４日に拒絶査定に対する審判請求がなされ、同時に手続補正がなされたものである。
　その後、平成２４年６月１５日付けで、審判請求人に前置報告書の内容を示し意見を求めるための審尋を行ったところ、同年８月７日付けで回答書が提出された。
　
第２　平成２３年７月１４日付けの手続補正についての補正の却下の決定
[補正の却下の決定の結論]
　平成２３年７月１４日付けの手続補正を却下する。
　
[理由]
１．補正後の請求項に記載された発明
　平成２３年７月１４日付けの手続補正（以下「本件補正」という）により、本願の本件補正前の特許請求の範囲の請求項２は、本件補正後の請求項１として、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２（以下単に「改正前特許法第１７条の２」という）第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的として、以下のように補正された。
「基板上に感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層を、階調マスクを用いて露光し、現像して、前記感光性樹脂からなる高さの調整された２種以上の同一機能部材を形成する同一機能部材形成工程とを有するカラーフィルタの製造方法であって、
　前記階調マスクは、透明基板と、遮光膜と、透過率調整機能を有する半透明膜とが、透明基板、遮光膜、および半透明膜の順に積層され、前記透明基板上に前記遮光膜および前記遮光膜上に形成された半透明膜が設けられた遮光領域と、前記透明基板上に前記半透明膜のみが設けられた半透明領域と、前記透明基板上に前記遮光膜および前記半透明膜のいずれも設けられていない透過領域とを有し、
　前記半透明膜および前記遮光膜がクロム系膜であり、
　前記半透明膜は、波長３６５ｎｍでの透過率が波長３００ｎｍでの透過率より大きく、波長３６５ｎｍでの透過率と波長３００ｎｍでの透過率との差が６．５％〜１３．５％の範囲内であり、
　前記感光性樹脂は、ネガ型感光性樹脂であり、
　前記露光は、３００ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲内の波長を含む露光光により行われることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。」（以下「補正発明」という。）
　
　そこで、上記補正発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否か（改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するか否か）について、以下に検討する。
　
２．引用刊行物
　引用文献１：特開２００４−４５７５７号公報
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である、上記引用文献１には、図面とともに以下の事項が記載されている。（下線は当審で付した。）
（ａ）「【００２０】
（マスクの構造）
まず、
カラーフィルタ層を形成する際に使用されるマスクについて説明する。図１は、本実施例においてカラーフィルタ層を製造する際に使用されるマスク１００を示している。このマスク１００はハーフトーンマスクを利用したものである。
【００２１】
光は、物質を通過する際に伝播速度が遅れ、その分だけ位相が変わる。そこで、透明な薄膜をマスク上に設けると、局所的に位相を変えることが可能になる。この透明膜は、位相を変換するという意味で位相シフタと呼ぶ。この方法は転写すべきパターンが形成されているマスクに光の位相を変化させる部分（シフタ）を設け、シフタを通過して位相が変わった光とシフタを通過せずに位相の変わっていない光の干渉を利用する方式である。
【００２２】
ハーフトーンマスクは、上記位相シフタ方式を利用しており、遮光部に相当する吸収体によって、一部光を通過させることを可能にしている。前記一部通過した光と、そのまま通過した光とは、位相が反転している。このため、位相反転による光強度の低下が起こり、従来とは異なるフォトリソグラフィー工程を実施することができる。ハーフトーン膜の材料としては、クロム系、モリブデン系、タングステン系、シリコン系などが挙げられる。
【００２３】
上述のマスク１００を用い、半透過反射型カラーフィルタ基板用の透過表示用カラーフィルタ領域と反射表示用カラーフィルタ領域を一度に作製し、それぞれの領域において、好適なカラーフィルタ特性を兼ね備えたカラーフィルタ基板を作製できる。
【００２４】
本実施例では、
カラーフィルタ材料としてネガ型カラーレジストを用いている
【００２５】
図１のマスク１００は、１００％の光透過率を有する全透過領域１と、光を全く透過しない遮光領域２と、光を所定の割合（１０％〜５０％の範囲）透過する領域３（以下、「中間透過率領域」と記す）とから形成されている。
　
（ｂ）「【００３１】
（
カラーフィルタ基板の製造方法
次に、本実施例のカラーフィルタ基板を形成する工程の一例を図４に示す。また、図３に示す１つのカラー画素、すなわち３つのドット領域１９に対応する部分を形成する場合の形成過程を図５及び図６に示す。
【００３２】
まず、ガラスやプラスチックなどの基板４上に、アルミニウム、アルミニウム合金、銀合金、クロムなどの金属を蒸着法やスパッタリング法などによって薄膜状に成膜した後、フォトリソグラフィー法を用いてパターニングする。これにより、図５（ａ）に示すように、開口１３を備えた反射膜６を形成する（工程Ｐ１）。なお、開口１３は透過表示領域に対応して形成されるものであり、その幅をＸで示す。
【００３３】
次に、図５（ｂ）に示すように、上記反射膜６の開口１３を除く部分に、透明レジスト５を形成する（工程Ｐ２）。この透明レジスト５は、例えば基板４及び反射膜６の表面上にフォトリソグラフィー法などによって開口１３の直上領域の部分を選択的に除去すること
により形成できる。なお、透明レジスト５の材料としては、例えば透明なアクリル樹脂やエポキシ樹脂などを用いることができる。
【００３４】
なお、反射膜６と透明レジスト５の積層状態は、透明レジスト５が下、反射膜６がその上とすることも可能である。
【００３５】
次に、
図１に示すマスク１００を利用し、カラーフィルタの赤色着色層７、緑色着色層８、及び青色着色層９を順に作製する（工程Ｐ３）。
【００３６】
具体的には、まず、
図５（ｃ）に示すように、赤の着色材料１５を基板４に塗布し、マスク１００を使用して、フォトリソグラフィー法によりパターニングを実施する。
【００３７】
この全透過領域１は、照射された光の１００％が透過される領域であり、この全透過領域１においては露光量が大きいため形成される着色層７の膜厚は厚くなる。これが透過表示用カラーフィルタ領域となる。一方、中間透過率領域３は、４０％の透過率を有するため、着色材料１５の露光量はその分減少し、その結果、中間透過率領域３に対応した着色層７の膜厚は薄くなる。この膜厚の薄い領域が反射表示用カラーフィルタ領域となる。
【００３８】
同様にして、緑色着色層８及び青色着色層９を作製し、さらに隣接するドット領域間に遮光層（ブラックマスク）ＢＭが形成される。以上の工程を経て、図６（ｂ）に示すように、３色の着色層７〜９、即ちカラーフィルタ層が形成される。なお、遮光層ＢＭは、樹脂ブラックではなく、３色の着色層７〜９が重ね合わされた、いわゆる重ね遮光層として形成してもよい。
【００３９】
このように、中間透過率領域（ハーフトーンマスク領域）を含むマスク１００を使用し、光の強度を落として露光量を調整してフォトリソグラフフィー工程を実施することができるため、反射表示用カラーフィルタ領域の薄膜化が可能となる。
【００４０】
本実施例では、フォトリソグラフィー工程において、マスク１００全体に２５０ｍＪの露光量を照射した場合、透過表示用カラーフィルタ領域で露光量が２５０ｍＪとなり、反射表示用カラーフィルタ領域では透過表示用カラーフィルタ部分と比較して４０％の照射光、すなわち１００ｍＪで露光が可能なマスク設計をとっている。ただし、この条件は、４０％に限定されるものではなく、１０％〜５０％の範囲内の他の条件でも、望ましい好適な膜厚を得ることができる。もし、この条件を１０％未満、又は５０％よりも大きくした場合、すなわち、中間透過率領域の光透過率が１０％〜５０％の範囲外である場合には、反射表示用カラーフィルタ領域において、好適な膜厚を得ることはできない。中間透過率領域の光透過率が１０％未満の場合、反射表示用カラーフィルタ領域に対応する膜厚が過度に薄く形成される。つまり、明るさは充分得られる反面、所望の彩度を得ることができない。一方、光透過率が５０％を越える場合には、反射表示用カラーフィルタ領域に対応する膜厚が過度に厚く形成される。つまり、中間透過率領域の光透過率が１０％未満の場合とは逆に、彩度は充分得られる反面、所望の明るさを得ることができない。このように、光透過率が１０％〜５０％の範囲外の条件では、反射表示用カラーフィルタ領域において好適な膜厚を得ることができない。
」
　
（ｃ）記載事項（ａ）の【００２４】の「カラーフィルタ材料としてネガ型カラーレジストを用いている」の「カラーフィルタ材料」が、上記記載事項（ｂ）の【００３５】〜【００３７】に記載される、フォトリソグラフィ法によりパターニングされる「着色層７」を形成する「着色材料１５」のことであることは、当業者には明らかである。
　
　上記引用文献１の記載事項から、引用文献１には、以下の発明が記載されている。
「着色材料１５を基板４に塗布し、ハーフトーンマスクを利用したマスク１００を使用して、フォトリソグラフィー法によりパターニングを実施し、膜厚の厚い着色層７である透過表示用カラーフィルタ領域と膜厚の薄い着色層７である反射表示用カラーフィルタ領域を形成するカラーフィルタ基板の製造方法であって、
　マスク１００は、１００％の光透過率を有する全透過領域１と、光を全く透過しない遮光領域２と、光を所定の割合（１０％〜５０％の範囲）透過する領域３とから形成されており、
　着色材料１５としてネガ型カラーレジストを用いることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。」（以下「引用発明」という。）
　
３．対比
　引用発明と補正発明とを対比する。
（１）引用発明は「着色材料１５としてネガ型カラーレジストを用い」ているから、引用発明の「着色材料１５」が補正発明の「感光性樹脂」に相当し、また、「着色材料１５」が「着色層７」を形成することから、引用発明の「着色材料１５を基板４に塗布し」が補正発明の「基板上に感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程」に相当する。
（２）引用発明の「ハーフトーンマスクを利用したマスク１００」が補正発明の「階調マスク」に相当し、また、引用発明の「フォトリソグラフィー法によりパターニングを実施」することは露光・現像してパターンを形成することであることは技術常識であり、また、「膜厚の厚い着色層７である透過表示用カラーフィルタ領域と膜厚の薄い着色層７である反射表示用カラーフィルタ領域を形成する」ことが補正発明の「感光性樹脂からなる高さの調整された２種以上の同一機能部材を形成する」ことに相当することが当業者には明らかであるから、引用発明の「ハーフトーンマスクを利用したマスク１００を使用して、フォトリソグラフィー法によりパターニングを実施し、膜厚の厚い着色層７である透過表示用カラーフィルタ領域と膜厚の薄い着色層７である反射表示用カラーフィルタ領域を形成する」が、補正発明の「前記感光性樹脂層を、階調マスクを用いて露光し、現像して、前記感光性樹脂からなる高さの調整された２種以上の同一機能部材を形成する同一機能部材形成工程」に相当する。
（３）引用発明の「カラーフィルタ基板」が、補正発明の「カラーフィルタ」に相当する。
（４）引用発明の「１００％の光透過率を有する全透過領域１」、「光を全く透過しない遮光領域２」、「光を所定の割合（１０％〜５０％の範囲）透過する領域３」が、それぞれ、補正発明の「透過領域」、「遮光領域」、「半透明領域」に相当する。
（５）引用発明の「ネガ型カラーレジスト」が補正発明の「ネガ型感光性樹脂」に相当する。
　
　してみると、両者は、
「基板上に感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層を、階調マスクを用いて露光し、現像して、前記感光性樹脂からなる高さの調整された２種以上の同一機能部材を形成する同一機能部材形成工程とを有するカラーフィルタの製造方法であって、
　前記階調マスクは、遮光領域と、半透明領域と、透過領域とを有し、
　前記感光性樹脂は、ネガ型感光性樹脂であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。」で一致し、次の（イ）、（ロ）の点で相違する。
　
（イ）補正発明では「階調マスクは、透明基板、遮光膜、および半透明膜の順に積層され、前記透明基板上に前記遮光膜および前記遮光膜上に形成された半透明膜が設けられた遮光領域と、前記透明基板上に前記半透明膜のみが設けられた半透明領域と、前記透明基板上に前記遮光膜および前記半透明膜のいずれも設けられていない透過領域とを有し、前記半透明膜および前記遮光膜がクロム系膜であり、前記半透明膜は、波長３６５ｎｍでの透過率が波長３００ｎｍでの透過率より大きく、波長３６５ｎｍでの透過率と波長３００ｎｍでの透過率との差が６．５％〜１３．５％の範囲内であ」るのに対して、引用発明では「マスク１００は、１００％の光透過率を有する全透過領域１と、光を全く透過しない遮光領域２と、光を所定の割合（１０％〜５０％の範囲）透過する領域３とから形成されて」いる点。
（ロ）補正発明では「前記露光は、３００ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲内の波長を含む露光光により行われる」のに対して、引用発明では「フォトリソグラフィー法」において使用する露光光の波長が明らかでない点。
　
４．判断
　上記相違点（イ）、（ロ）について検討する。
・相違点（イ）について
　階調マスクが、透明基板、遮光膜、および半透明膜の順に積層され、前記透明基板上に前記遮光膜および前記遮光膜上に形成された半透明膜が設けられた遮光領域と、前記透明基板上に前記半透明膜のみが設けられた半透明領域と、前記透明基板上に前記遮光膜および前記半透明膜のいずれも設けられていない透過領域とを有する構成は、特開２００１−１００６５２号公報（特に、段落【００７２】〜【００７３】、図７参照）に示されるように周知である。
　また、階調マスクにおいて、半透明膜および遮光膜をクロム系膜で形成することは、特開２００２−１８９２８０号公報（特に、段落【００１５】〜【００１６】、【００３０】参照）に示されるように、また、半透明膜として使用されるクロム系膜の波長３６５ｎｍ、３００ｎｍでの透過率が、波長３６５ｎｍでの透過率が波長３００ｎｍでの透過率より大きく、波長３６５ｎｍでの透過率と波長３００ｎｍでの透過率との差が６．５％〜１３．５％の範囲内であるものは、特開平６−３４２２０５号公報（特に、段落【０００８】、図９参照）に示されるように、いずれも周知である。
　すると、引用発明の「マスク１００」の具体的構造として、これら周知技術を参酌して、透明基板上に、クロム系膜からなる遮光膜、波長３６５ｎｍ、３００ｎｍでの透過率が、波長３６５ｎｍでの透過率が波長３００ｎｍでの透過率より大きく、波長３６５ｎｍでの透過率と波長３００ｎｍでの透過率との差が６．５％〜１３．５％の範囲内であるようなクロム系膜からなる半透明膜を、この順に積層して形成された構造として、上記相違点（イ）に係る補正発明の発明特定事項を得ることは当業者には容易である。
　
・相違点（ロ）について
　フォトリソグラフィー法に使用する露光光として、波長３００ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲内の波長を含む露光光（例えば、高圧水銀ランプを光源とする、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）が挙げられる。）を使用することは周知であるから、引用発明において、フォトリソグラフィー法に使用する露光光として、上記周知の波長の露光光を使用することは、当業者が適宜選択し得ることである。
　
　そして、補正発明が奏し得る効果は、引用発明及び周知技術から当業者が予測し得る範囲のものであって格別なものではない。
　
　したがって、補正発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
　５．小括
　以上のとおり、本件補正は、改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
１．本願発明
　平成２３年７月１４日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の特許請求の範囲の請求項１に係る発明は、平成２３年２月１４日付けの手続補正で補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される以下のとおりのものである。
「基板上に感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層を、階調マスクを用いて露光し、現像して、前記感光性樹脂からなる高さの調整された２種以上の同一機能部材を形成する同一機能部材形成工程とを有するカラーフィルタの製造方法であって、
　前記階調マスクは、透明基板と、遮光膜と、透過率調整機能を有する半透明膜とが順不同に積層され、前記透明基板上に前記遮光膜が設けられた遮光領域と、前記透明基板上に前記半透明膜のみが設けられた半透明領域と、前記透明基板上に前記遮光膜および前記半透明膜のいずれも設けられていない透過領域とを有し、前記半透明膜は、波長３６５ｎｍでの透過率が波長３００ｎｍでの透過率より大きく、波長３６５ｎｍでの透過率と波長３００ｎｍでの透過率との差が６．５％〜１３．５％の範囲内であり、
　前記感光性樹脂は、ネガ型感光性樹脂であり、
　前記露光は、３００ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲内の波長を含む露光光により行われることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。」（以下「本願発明」という。）
　
１．引用刊行物
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である、上記引用文献１の記載内容は、上記「第２」「２．」に記載したとおりである。
　
２．対比・判断
　本願発明は、上記「第２」で検討した補正発明の「透明基板、遮光膜、および半透明膜の順に」、「前記透明基板上に前記遮光膜
および前記遮光膜上に形成された半透明膜
　そうすると、本願発明の発明特定事項を全て含み、更に限定したものに相当する補正発明が、上記「第２」「４．」に記載したとおり、引用発明と周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
第４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、本願の他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。