【事件の表示】
　特願２００５−５０５２３５「エポキシ化合物及びカルボン酸化合物を含むリソグラフィー用下層膜形成組成物」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年１０月２１日国際公開、ＷＯ２００４／０９０６４０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本願は、２００４年　４月　１日を国際出願日とする出願（優先権主張　日本　２００３年　４月　２日）であって、平成２０年　８月２９日付けで手続補正書が提出され、平成２１年１０月２０日付けで通知した拒絶理由に対し、同年１２月２５日付けで手続補正書が提出されたが、平成２２年　２月　３日付けで拒絶査定され、これに対し、同年　５月１０日付けで拒絶査定に対する審判請求がなされると共に、同年同日付けで手続補正書が提出され、その後、当審の審尋に対する回答書が同年　９月　３日付けで提出されたものである。
　　
II.平成２２年　５月１０日付け手続補正の補正却下の決定
[補正却下の決定の結論]
　平成２２年　５月１０日付けの手続き補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　
[理由]
１．補正後の本願発明
　本件補正は、
　補正前（平成２１年１２月２５日付け手続補正書）の請求項１に対し、
・「リソグラフィー用レジスト下層膜組成物」が「強酸触媒成分を含まない」とする限定、及び、
・各（ｂ４）〜（ｂ６）の高分子化合物が「付加」重合したものであるとする限定、を付するものである。
　　
　本件補正は、
　平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号に規定される特許請求の範囲の限縮を目的とする補正に該当する。
　
　したがって、補正後の本願請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」とする。）は本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりものであると認められる。
　　
「【請求項１】
　（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分が、それぞれ、下記の化合物である場合において、
（Ａ）成分：少なくとも二つのエポキシ基を有する分子量２０００以下の化合物（ａ１）及びエポキシ基を有する高分子化合物（ａ２）、
（Ｂ）成分：少なくとも二つのフェノール性水酸基を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ１）、少なくとも二つのカルボキシル基を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ２）、少なくとも二つの酸無水物構造を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ３）、フェノール性水酸基を有する付加重合性モノマーを付加重合した高分子化合物（ｂ４）、カルボキシル基を有する付加重合性モノマーを付加重合した高分子化合物（ｂ５）及び酸無水物構造を有する付加重合性モノマーを付加重合した高分子化合物（ｂ６）、
（Ｃ）成分：フェノール性水酸基、カルボキシル基、又は酸無水物構造を有する付加重合性モノマーとエポキシ基を有する付加重合性モノマーとを付加重合した高分子化合物（ｃ１）、
　前記高分子化合物（ａ２）と前記（Ｂ）成分の（ｂ１）乃至（ｂ６）からなる群から選ばれる少なくとも一種との組み合わせ、前記化合物（ａ１）と前記高分子化合物（ｂ４）、（ｂ５）及び（ｂ６）からなる群より選ばれる少なくとも一種との組み合わせ、又は前記（Ｃ）成分を含み、かつ強酸触媒成分を含まないリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物であって、
　前記少なくとも二つのエポキシ基を有する分子量２０００以下の化合物（ａ１）は、
  
（式中、Ａ1、Ａ2及びＡ3はそれぞれ水素原子、メチル基又はエチル基を表し、Ｒ2は水素原子、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数３〜６のアルケニル基、ベンジル基、又はフェニル基を表す。）で表される化合物であり、
　前記エポキシ基を有する高分子化合物（ａ２）は、グリシジルアクリレート若しくはグリシジルメタクリレートを付加重合性モノマーとして含む高分子化合物、又は水酸基を有する高分子化合物とエピクロルヒドリン、グリシジルトシレートとの反応物を含む高分子化合物であり、
　前記少なくとも二つのフェノール性水酸基を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ１）は、ヒドロキシスチレンオリゴマー、置換ビフェノール化合物、置換トリスフェノール化合物、メチロール化フェノール化合物、メチロール化ビスフェノール化合物、置換フェノールノボラック及び置換クレゾールノボラックからなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物であり、
　前記少なくとも二つのカルボキシル基を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ２）は、
（式中、ｐ及びｑは１〜６の数を表し、Ｒ1は水素原子、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数３〜６のアルケニル基、ベンジル基、フェニル基又は−（ＣＨ2）ｒＣＯＯＨ（式中、ｒは１〜６の数を表す）を表す）で表される化合物であり、
　前記少なくとも二つの酸無水物構造を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ３）は、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水メチルナッジク酸、ドデシル無水コハク酸、無水クロレンディック酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメート）、メチルシクロへキセンテトラカルボン酸無水物、無水トリメリット酸及びポリアゼライン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物であり、
　前記フェノール性水酸基を有する付加重合性モノマーを付加重合した高分子化合物（ｂ４）は、ヒドロキシスチレンを単位構造として含むものであり、
　前記カルボキシル基を有する付加重合性モノマーを付加重合した高分子化合物（ｂ５）は、アクリル酸又はメタクリル酸を単位構造として含むものであり、
　前記酸無水物構造を有する付加重合性モノマーを付加重合した高分子化合物（ｂ６）は、無水マレイン酸を単位構造として含むものであり、
　前記フェノール性水酸基、カルボキシル基、又は酸無水物構造を有する付加重合性モノマーとエポキシ基を有する付加重合性モノマーとを付加重合した前記高分子化合物（ｃ１）は、前記フェノール性水酸基を有する付加重合性モノマー、前記カルボキシル基を有する付加重合性モノマー及び前記酸無水物構造を有する付加重合性モノマーからなる群から選ばれる少なくとも一種の付加重合性モノマーと前記グリシジルアクリレート及びグリシジルメタクリレートからなる群から選ばれる少なくとも一種との付加重合によって得られるものであることを特徴とする該リソグラフィー用下層膜形成組成物。」
　　
　以下に、本願補正発明が、特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるかどうかについて検討する。
　　
２．引用刊行物
２−１．引用刊行物１
　本願優先日前に頒布された特開２００２−２５１０１５号公報
（平成２２年　２月　３日付け拒絶査定における引用文献３、以下「引用刊行物１」という。）には、以下の事項が記載されている。
（下線は当審にて付与した。）
　　
【請求項１】感光性樹脂組成物を用いて基板上にパターンを形成する方法において、
基板上に樹脂と架橋剤を含有する密着増強膜
密着増強膜上に感光性樹脂組成物層を形成
【請求項２】請求項１に記載のパターン形成方法に用いるための密着増強膜組成物であって、
該組成物は樹脂と架橋剤を含み、且つ当該樹脂が（ｉ）アクリル酸エステル、（ii）メタクリル酸エステル、（iii）スチレン系モノマー、（iv）アクリル酸および（v）メタクリル酸からなる単量体の少なくとも一種を重合成分とする重合体
　　
【００１６】また、本発明の
密着増強膜組成物を構成する架橋剤
多官能性エポキシド基含有化合物
　　
【００１８】また、
多官能性エポキシド基含有化合物としては
フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂
　　
【００２７】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明の態様はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００２８】
実施例１
下記の化合物（１）〜（３）を混合し、下記混合溶剤で２．５重量％になるように溶解した後、０．１μｍのフィルターを用いて濾過することにより密着増強膜組成物を調整した。
(1)アクリル系共重合体（メタクリル酸−スチレン共重合体） ８９重量部
(2)エポキシ架橋剤(トリフェニルグリシジルエーテルエタン) １０重量部
(3)ブロックタイプヘキサメチレンジイソシアネート           １重量部
溶剤
    プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  ５０％
    エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート    ５０％
【００２９】実施例２
　
実施例１で得られた密着増強膜組成物
密着増強膜
この膜上にノボラック樹脂と感光剤を含有するクラリアントジャパン（株）製ＡＺTMＰＬＰ−３０を回転塗布し、１２０℃、３００秒間ホットプレートにてべーク後、２５μｍ厚のフォトレジスト膜を得た。このフォトレジスト膜を日立製作所社製ｉ線ステッパー（ＮＡ＝０．５）にて露光し、無機アルカリを用いたＡＺTM３０３Ｎ（１：４）現像液（クラリアントジャパン（株）製）で２３℃、３００秒間現像した。その後、走査型電子顕微鏡によりパターン形状の観察をおこなったところ、５μｍ以上のライン・アンド・スペースパターン形状は矩形でかつパターン剥がれのない良好なものであった。
　　
　これらの記載事項から、引用刊行物１には次の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されているものと認められる。
「(1)アクリル系共重合体（メタクリル酸−スチレン共重合体）８９重量部
(2)エポキシ架橋剤（トリフェニルグリシジルエーテルエタン）１０重量部
(3)ブロックタイプヘキサメチレンジイソシアネート            １重量部
及び溶剤よりなり、基板と感光性樹脂組成物層の間に適用される密着増強組成物」
　　
　また、引用刊行物１【００１６】及び【００１８】には、密着増強膜組成物を構成する架橋剤としては多官能エポキシ基含有化合物が挙げられ、多官能エポキシ含有化合物としては、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂が挙げられることが記載されている。
　　
２−２．引用刊行物２
　本願優先日前に頒布された
　「エポキシ樹脂ハンドブック」，藤吉敏生著，日刊工業新聞社編，第１版，1987.12.25，第61-62頁には、以下の事項が記載されている。
　　
「２．１　フェノールおよびクレゾール型樹脂
・・・（中略）・・・
２．１．１　構造と特徴
フェノールノボラック型エポキシ樹脂は、フェノールとホルムアルデヒドとの反応生成物であるフェノールノボラックとエピクロルヒドリンとの反応によって得られる多官能のエポキシ樹脂であり、その構造式を（II.14）式に示す。フェノールの代わりにO-クレゾールを使用するとクレゾールノボラック型エポキシ樹脂が得られ、その構造式を(II.15)式に示す。
・・・(中略)・・・
」
　　
「２．１．２　製造方法
　ノボラック型エポキシ樹脂は、(II．17)式に示すようにノボラック樹脂とエピクロルヒドリンとをアルカリ存在下で反応させることによって製造される。フェノール性ＯＨのエポキシ化であるので、一般のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の場合の反応条件がほとんどそのまま適用できる。
　」
　
２−２．引用刊行物３
　本願優先日前に頒布された特表２００２−５０２９８２号公報には、以下の事項が記載されている。（下線は当審にて付与した。）
　　
【請求項１】
ａ．高分子量アクリルポリマーまたはコポリマーとｄｅｅｐＵＶ光吸収性のカルボン酸染料またはフェノール染料との反応生成物であって、前記カルボン酸染料またはフェノール染料が、カルボン酸染料の場合はヒドロキシエステル部分を介して、またはフェノール染料の場合はヒドロキシエーテル部分を介して結合した前記ポリマーまたはコポリマーを有し、前記部分は反応の間にその場で形成する反応生成物
ｂ．メラミン、尿素、ベンジオグアナミン、グリコルリルおよびそれらの誘導体からなる群より選択される
アルキル化アミノプラスト架橋剤
ｃ．硬化のためのプロトン酸触媒と、および
ｄ．少なくともアルコール２０パーセントを含む低ないし中、即ち７０℃ないし８０℃の沸点のアルコール含有溶媒系
を含む改良された熱硬化性ｄｅｅｐＵＶ抗反射組成物であって、
早い硬化速度、高い光学密度、ホトレジスト間の高い差溶解度を有する安全な揮発性溶媒中での良好な溶解度および塗布性を保ちかつ改良された適合性および像被覆を有しつつ、改良されたプラズマエッチ速度を有する組成物。
【請求項２】前記
ヒドロキシエステルまたはヒドロキシエーテル部分は、前記染料と前記アクリルポリマーまたはコポリマー中に含まれるグリシジルメタクリレート単位との反応により誘導される
　　
【請求項１７】前記
アミノプラスト硬化剤は
ポリ（４−ヒドロキシスチレン）からなる群より選択されるポリフェノールと共に存在し
前記ポリフェノールは染料結合アクリルポリマーまたはコポリマー上の遊離グリシジル部位と反応することによって熱架橋をもたらすのに働く
（当審注：当該箇所のアミノプラスト
硬化剤
架橋剤
　　
【０００１】
発明の背景
１．発明の分野
　本発明は、ｄｅｅｐＵＶ多層ホトレジストシステムにおける使用のための
最下層熱硬化性抗反射コーティング組成物
　　
【００２６】
　他の架橋様式は、アミノプラスト架橋剤の使用が非常に好ましいけれども、新規抗反射コーティングに適用されることができる。これらの他の様式は、単独でまたは前記アミノプラスト架橋処理と共に作用し得る。例えば、
未反応グリシジル官能基が染料結合アクリルポリマー上に存在する場合
ポリ（４−ヒドロキシスチレン）のようなポリフェノールは、遊離グリシジル部位での反応により抗反射コーティングの熱架橋をなしてアリールエーテル結合を形成することができる
　　
【００３４】
以下の非限定的な例は本発明を説明する。
　
実施例１
抗反射コーティングを染料結合ポリ（グリシジルメタクリレート）９０モルパーセントとメラミンホルムアルデヒド樹脂および酸触媒を混合することによって製造した。
Ａ．ポリ（グリシジルメタクリレート）ホモポリマー［ＰＧＭ］の製造
　
グリシジルメタクリレート
重合
【００３５】
Ｂ．ＰＧＭへの９−アントラセンカルボン酸［ＡＣＡ］の付加
　
ポリマー固形分２．５１ｇおよび遊離エポキシ官能基
含む上述のＰＧＭ溶液
ＡＣＡ
　　
【００３９】
　
ストリッピング試験の説明
　硬化した抗反射コーティング層のフィルム厚および光吸光度を、シリコンおよび水晶基材のそれぞれについて決定する。試料をその後、
慣用のホトレジスト溶媒である乳酸エチルで５秒間浸漬し、続いて５０００ｒｐｍで３０秒間スピン乾燥する。フィルム厚および光吸光度を再決定する。フィルム厚または光吸光度における数パーセントより大きい（５％より大きい）減少が溶媒ストリッピングから生じた場合、抗反射コーティングは実際の使用について不充分な耐溶媒性を有すると判断される
　　
【００４４】
　
中間層試験の説明
　
この試験はホトレジストと抗反射コーティングとの間の混合についての潜在能力を評価する
抗反射コーティングおよびレジストの有意な混合が生じた場合、抗反射コーティング層は、Åまたは開始抗反射コーティング厚のパーセントとして表され得る厚さにおける明瞭な増加を表す。混合を非常に受ける抗反射コーティングは、レジスト処理後に厚さにおける１０％より大きな増加を表す。５％未満の中間層値は許容可能とみなされる
　　
【００４８】
　
実施例４
　
抗反射コーティングを過剰なグリシジル官能性を有する染料結合グリシジルメタクリレートコポリマーをポリフェノール硬化剤（ノボラック）と混合することによって製造
Ａ．架橋剤としてノボラックをまた触媒として２−メチルイミダゾールを使用した抗反射組成物配合
　
遊離グリシジル官能基
含む実施例１において製造した母液
ノボラック樹脂
２−メチルイミダゾール触媒
コーティング溶液
【００４９】
Ｂ．抗反射コーティング特性
　前記溶液をろ過し（０．２μｍ）、４０００ｒｐｍで６０秒間スピンコートし、１００℃で３０秒間乾燥し、そして２０５℃で６０秒間ホットプレート焼成して波長２４８ｎｍで光学密度１４．７／μｍを有する抗反射コーティングを得た。
乳酸エチルストリッピング試験は厚さ変化１％未満および吸光度損失２．２％を生じ、ポリフェノール硬化老化はフィルムを有効に不溶化したことを示した
　　
　これらの記載事項より、引用刊行物３に次の発明（以下「引用発明３」という。）が記載されているものと認められる。
「９−アントラセンカルボン酸よりなるｄｅｅｐ　ＵＶ染料が付加され、遊離エポキシ官能基を有する染料結合ポリ（グリシジルメタクリレート）と、架橋剤としてノボラック樹脂と、触媒として２−メチルイミダゾールを含有する最下層熱硬化性抗反射コーティング組成物」
　　
　また、引用刊行物３【請求項１７】には架橋剤がノボラック類の他、ポリ（４−ヒドロキシスチレン）からも選択されることが記載されている。
　　
３．対比・判断
３−１．特許法第２９条第２項について
（１）本願補正発明と引用発明１とを対比すると、
　引用発明１の
・「（１）アクリル系共重合体（メタクリル酸−スチレン共重合体）」
・「（２）エポキシ架橋剤（トリフェニルグリシジルエーテルエタン）」
・「基板と感光性樹脂組成物層の間に適用される密着増強組成物」は、それぞれ、
　本願補正発明における
・「カルボキシル基を有する付加重合性モノマーを付加重合した高分子化合物（ｂ５）」であって、「アクリル酸又はメタクリル酸を単位構造として含むもの」
・「エポキシ基を有する」「化合物」(当審注：説明のためａ２’とする。)
・「リソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物」
　に相当する。
　　
　そして、引用発明１におけるリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物」には、「強酸触媒成分」は含まれていない。
　　
　よって、本願補正発明と引用発明１とは、以下の相違点１において相違しその他の点で一致する。
[相違点１]
本願補正発明においては、エポキシ基を有する化合物が「エポキシ基を有する高分子化合物（ａ２）」であって、「グリシジルアクリレート若しくはグリシジルメタクリレートを付加重合性モノマーとして含む高分子化合物、又は水酸基を有する高分子化合物とエピクロルヒドリン、グリシジルトシレートとの反応物を含む高分子化合物」であるのに対して、引用発明１においては、「（２）エポキシ架橋剤（トリフェニルグリシジルエーテルエタン）」であるから「高分子」ではなく、かつ、「グリシジルアクリレート若しくはグリシジルメタクリレートを付加重合性モノマーとして含む高分子化合物、又は水酸基を有する高分子化合物とエピクロルヒドリン、グリシジルトシレートとの反応物を含む高分子化合物」のいずれにも該当しない。
　　
　相違点１について検討する。
　引用刊行物１【００１６】及び【００１８】においては架橋剤として、多官能エポキシ含有化合物が使用し得ることが記載され、当該多官能エポキシ含有化合物としては、フェノールノボラックエポキシ樹脂、或いは、クレゾールノボラックエポキシ樹脂が挙げられることが記載されており、引用発明１における「（２）エポキシ架橋剤（トリフェニルグリシジルエーテルエタン）」に替えてこれらフェノールノボラックエポキシ樹脂、或いは、クレゾールノボラックエポキシ樹脂を採用することに技術的な困難性はなく、当業者が容易に想起し得た事項である。　
　ここで、当該フェノールノボラックエポキシ樹脂・クレゾールノボラックエポキシ樹脂は、引用刊行物２に記載されているようにフェノール・Ｏ−クレゾールとホルムアルデヒドの反応生成物であるフェノールノボラック・クレゾールノボラックとエピクロルヒドリンとの反応物であり、フェノールノボラック・クレゾールノボラックは、水酸基を有する高分子化合物であるから、当該フェノールノボラックエポキシ樹脂・クレゾールノボラックエポキシ樹脂は、本願補正発明における（ａ２）に相当している。
　　
　したがって、本願補正発明は引用刊行物１に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　　
（２）本願補正発明１と引用発明３とを対比すると、
　引用発明３における
・「９−アントラセンカルボン酸よりなるｄｅｅｐ　ＵＶ染料が付加され、遊離エポキシ官能基を有する染料結合ポリ（グリシジルメタクリレート）」
・「架橋剤としてノボラック樹脂」
・「最下層熱硬化性抗反射コーティング組成物」は、それぞれ、
　本願補正発明１における
・「エポキシ基を有する高分子化合物（ａ２）」であって「グリシジルメタクリレートを付加重合性モノマーとして含む高分子化合物」、
・「フェノール性水酸基を有する」「モノマーを」「重合した高分子化合物」（当審注：説明のためｂ４’とする。）
・「リソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物」
　に相当する。
　　
　そして、引用発明３の「リソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物」中に含まれる触媒として２−メチルイミダゾールは強酸成分ではないので、強酸触媒成分は含まれていない。
　　
　よって、本願補正発明と引用発明３とは、以下の相違点２において相違し、その他の点で一致する。
[相違点２]
　本願補正発明においては、フェノール性水酸基を有するモノマーを重合した高分子化合物は、「フェノール性水酸基を有する付加重合性モノマーを付加重合した高分子化合物（ｂ４）」であって、「ヒドロキシスチレンを単位構造として含むもの」であるのに対して、引用発明３においてはこれが「ノボラック」であるから、「付加」重合によるものではなく、かつ、「ヒドロキシスチレンを単位構造として含むもの」ではない。
　　
　上記[相違点２]について検討する。
　引用刊行物３【請求項１７】では、硬化剤（当審注：引用刊行物３において硬化剤は架橋剤と同趣旨で使用）はノボラック類、およびポリ（４−ヒドロキシスチレン）から選択される旨記載されており、引用刊行物３【００２６】では、ノボラック類及びポリ（４−ヒドロキシスチレン）は、両者共に、遊離グリシジル部位での反応により抗反射コーティングの熱架橋をなしてアリールエーテル結合を形成するためのポリフェノール供給源となることが記載されている。
　ここで、引用刊行物３に記載されているポリ（４−ヒドロキシスチレン）は、フェノール性水酸基を有する付加重合性モノマーを付加重合した高分子化合物であり、ヒドロキシスチレンを単位構造として含むものであって、本願補正発明のｂ４に相当する。
　してみると、引用発明３におけるノボラックに替えて、ポリ（４−ヒドロキシスチレン）を採用することは当業者であれは容易に想起し得た事項である。
　　
　したがって、本願補正発明は、引用刊行物３記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　　
４．むすび
　以上のとおり、本件補正は平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例とされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に反するので、同法第１５９条において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　　
ＩＩＩ．本願発明について
　
１．補正後の請求項１に係る発明
　
　平成２２年　５月１０日付けの手続補正書は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明は、平成２１年１２月２５日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
　　
「【請求項１】
　（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分が、それぞれ、下記の化合物である場合において、
（Ａ）成分：少なくとも二つのエポキシ基を有する分子量２０００以下の化合物（ａ１）及びエポキシ基を有する高分子化合物（ａ２）、
（Ｂ）成分：少なくとも二つのフェノール性水酸基を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ１）、少なくとも二つのカルボキシル基を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ２）、少なくとも二つの酸無水物構造を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ３）、フェノール性水酸基を有する付加重合性モノマーを重合した高分子化合物（ｂ４）、カルボキシル基を有する付加重合性モノマーを重合した高分子化合物（ｂ５）及び酸無水物構造を有する付加重合性モノマーを重合した高分子化合物（ｂ６）、
（Ｃ）成分：フェノール性水酸基、カルボキシル基、又は酸無水物構造を有する付加重合性モノマーとエポキシ基を有する付加重合性モノマーとを重合した高分子化合物（ｃ１）、
　前記高分子化合物（ａ２）と前記（Ｂ）成分の（ｂ１）乃至（ｂ６）からなる群から選ばれる少なくとも一種との組み合わせ、前記化合物（ａ１）と前記高分子化合物（ｂ４）、（ｂ５）及び（ｂ６）からなる群より選ばれる少なくとも一種との組み合わせ、又は前記（Ｃ）成分を含む下層膜形成組成物であって、
　前記少なくとも二つのエポキシ基を有する分子量２０００以下の化合物（ａ１）は、
（式中、Ａ1、Ａ2及びＡ3はそれぞれ水素原子、メチル基又はエチル基を表し、Ｒ2は水素原子、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数３〜６のアルケニル基、ベンジル基、又はフェニル基を表す。）で表される化合物であり、
　前記エポキシ基を有する高分子化合物（ａ２）は、グリシジルアクリレート若しくはグリシジルメタクリレートを付加重合性モノマーとして含む高分子化合物、又は水酸基を有する高分子化合物とエピクロルヒドリン、グリシジルトシレートとの反応物を含む高分子化合物であり、
　前記少なくとも二つのフェノール性水酸基を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ１）は、ヒドロキシスチレンオリゴマー、置換ビフェノール化合物、置換トリスフェノール化合物、メチロール化フェノール化合物、メチロール化ビスフェノール化合物、置換フェノールノボラック及び置換クレゾールノボラックからなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物であり、
　前記少なくとも二つのカルボキシル基を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ２）は、
（式中、ｐ及びｑは１〜６の数を表し、Ｒ1は水素原子、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数３〜６のアルケニル基、ベンジル基、フェニル基又は−（ＣＨ2）ｒＣＯＯＨ（式中、ｒは１〜６の数を表す）を表す）で表される化合物であり、
　前記少なくとも二つの酸無水物構造を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ３）は、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水メチルナッジク酸、ドデシル無水コハク酸、無水クロレンディック酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメート）、メチルシクロへキセンテトラカルボン酸無水物、無水トリメリット酸及びポリアゼライン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物であり、
　前記フェノール性水酸基を有する付加重合性モノマーを重合した高分子化合物（ｂ４）は、ヒドロキシスチレンを単位構造として含むものであり、
　前記カルボキシル基を有する付加重合性モノマーを重合した高分子化合物（ｂ５）は、アクリル酸又はメタクリル酸を単位構造として含むものであり、
　前記酸無水物構造を有する付加重合性モノマーを重合した高分子化合物（ｂ６）は、無水マレイン酸を単位構造として含むものであり、
　前記フェノール性水酸基、カルボキシル基、又は酸無水物構造を有する付加重合性モノマーとエポキシ基を有する付加重合性モノマーとを重合した前記高分子化合物（ｃ１）は、前記フェノール性水酸基を有する付加重合性モノマー、前記カルボキシル基を有する付加重合性モノマー及び前記酸無水物構造を有する付加重合性モノマーからなる群から選ばれる少なくとも一種の付加重合性モノマーと前記グリシジルアクリレート及びグリシジルメタクリレートからなる群から選ばれる少なくとも一種との重合によって得られるものであることを特徴とする該下層膜形成組成物。」
　
２．引用刊行物
　引用刊行物１の記載事項は前記「II．２−１」に記載したとおりである。
　
３．対比・判断
　本願の請求項１に係る発明は、本願補正発明の「リソグラフィー用レジスト下層膜組成物」が「強酸触媒成分を含まない」とする限定、及び、各（ｂ４）〜（ｂ６）の高分子化合物が「付加」重合したものであるとする限定を省いたものに相当する。
　そうすると、本願の請求項１に係る発明の構成要件を全て包含し、更に他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「II．３」で検討したとおり、引用刊行物１に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願の請求項１に係る発明も同様の理由において、引用刊行物１に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４．むすび
　以上のとおりでＩ．手続の経緯
　本願は、２００４年　４月　１日を国際出願日とする出願（優先権主張　日本　２００３年　４月　２日）であって、平成２０年　８月２９日付けで手続補正書が提出され、平成２１年１０月２０日付けで通知した拒絶理由に対し、同年１２月２５日付けで手続補正書が提出されたが、平成２２年　２月　３日付けで拒絶査定され、これに対し、同年　５月１０日付けで拒絶査定に対する審判請求がなされると共に、同年同日付けで手続補正書が提出され、その後、当審の審尋に対する回答書が同年　９月　３日付けで提出されたものである。
　　
II.平成２２年　５月１０日付け手続補正の補正却下の決定
[補正却下の決定の結論]
　平成２２年　５月１０日付けの手続き補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　
[理由]
１．補正後の本願発明
　本件補正は、
　補正前（平成２１年１２月２５日付け手続補正書）の請求項１に対し、
・「リソグラフィー用レジスト下層膜組成物」が「強酸触媒成分を含まない」とする限定、及び、
・各（ｂ４）〜（ｂ６）の高分子化合物が「付加」重合したものであるとする限定、を付するものである。
　　
　本件補正は、
　平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号に規定される特許請求の範囲の限縮を目的とする補正に該当する。
　
　したがって、補正後の本願請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」とする。）は本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりものであると認められる。
　　
「【請求項１】
　（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分が、それぞれ、下記の化合物である場合において、
（Ａ）成分：少なくとも二つのエポキシ基を有する分子量２０００以下の化合物（ａ１）及びエポキシ基を有する高分子化合物（ａ２）、
（Ｂ）成分：少なくとも二つのフェノール性水酸基を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ１）、少なくとも二つのカルボキシル基を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ２）、少なくとも二つの酸無水物構造を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ３）、フェノール性水酸基を有する付加重合性モノマーを付加重合した高分子化合物（ｂ４）、カルボキシル基を有する付加重合性モノマーを付加重合した高分子化合物（ｂ５）及び酸無水物構造を有する付加重合性モノマーを付加重合した高分子化合物（ｂ６）、
（Ｃ）成分：フェノール性水酸基、カルボキシル基、又は酸無水物構造を有する付加重合性モノマーとエポキシ基を有する付加重合性モノマーとを付加重合した高分子化合物（ｃ１）、
　前記高分子化合物（ａ２）と前記（Ｂ）成分の（ｂ１）乃至（ｂ６）からなる群から選ばれる少なくとも一種との組み合わせ、前記化合物（ａ１）と前記高分子化合物（ｂ４）、（ｂ５）及び（ｂ６）からなる群より選ばれる少なくとも一種との組み合わせ、又は前記（Ｃ）成分を含み、かつ強酸触媒成分を含まないリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物であって、
　前記少なくとも二つのエポキシ基を有する分子量２０００以下の化合物（ａ１）は、
  
（式中、Ａ1、Ａ2及びＡ3はそれぞれ水素原子、メチル基又はエチル基を表し、Ｒ2は水素原子、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数３〜６のアルケニル基、ベンジル基、又はフェニル基を表す。）で表される化合物であり、
　前記エポキシ基を有する高分子化合物（ａ２）は、グリシジルアクリレート若しくはグリシジルメタクリレートを付加重合性モノマーとして含む高分子化合物、又は水酸基を有する高分子化合物とエピクロルヒドリン、グリシジルトシレートとの反応物を含む高分子化合物であり、
　前記少なくとも二つのフェノール性水酸基を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ１）は、ヒドロキシスチレンオリゴマー、置換ビフェノール化合物、置換トリスフェノール化合物、メチロール化フェノール化合物、メチロール化ビスフェノール化合物、置換フェノールノボラック及び置換クレゾールノボラックからなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物であり、
　前記少なくとも二つのカルボキシル基を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ２）は、
（式中、ｐ及びｑは１〜６の数を表し、Ｒ1は水素原子、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数３〜６のアルケニル基、ベンジル基、フェニル基又は−（ＣＨ2）ｒＣＯＯＨ（式中、ｒは１〜６の数を表す）を表す）で表される化合物であり、
　前記少なくとも二つの酸無水物構造を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ３）は、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水メチルナッジク酸、ドデシル無水コハク酸、無水クロレンディック酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメート）、メチルシクロへキセンテトラカルボン酸無水物、無水トリメリット酸及びポリアゼライン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物であり、
　前記フェノール性水酸基を有する付加重合性モノマーを付加重合した高分子化合物（ｂ４）は、ヒドロキシスチレンを単位構造として含むものであり、
　前記カルボキシル基を有する付加重合性モノマーを付加重合した高分子化合物（ｂ５）は、アクリル酸又はメタクリル酸を単位構造として含むものであり、
　前記酸無水物構造を有する付加重合性モノマーを付加重合した高分子化合物（ｂ６）は、無水マレイン酸を単位構造として含むものであり、
　前記フェノール性水酸基、カルボキシル基、又は酸無水物構造を有する付加重合性モノマーとエポキシ基を有する付加重合性モノマーとを付加重合した前記高分子化合物（ｃ１）は、前記フェノール性水酸基を有する付加重合性モノマー、前記カルボキシル基を有する付加重合性モノマー及び前記酸無水物構造を有する付加重合性モノマーからなる群から選ばれる少なくとも一種の付加重合性モノマーと前記グリシジルアクリレート及びグリシジルメタクリレートからなる群から選ばれる少なくとも一種との付加重合によって得られるものであることを特徴とする該リソグラフィー用下層膜形成組成物。」
　　
　以下に、本願補正発明が、特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるかどうかについて検討する。
　　
２．引用刊行物
２−１．引用刊行物１
　本願優先日前に頒布された特開２００２−２５１０１５号公報
（平成２２年　２月　３日付け拒絶査定における引用文献３、以下「引用刊行物１」という。）には、以下の事項が記載されている。
（下線は当審にて付与した。）
　　
【請求項１】感光性樹脂組成物を用いて基板上にパターンを形成する方法において、
基板上に樹脂と架橋剤を含有する密着増強膜
密着増強膜上に感光性樹脂組成物層を形成
【請求項２】請求項１に記載のパターン形成方法に用いるための密着増強膜組成物であって、
該組成物は樹脂と架橋剤を含み、且つ当該樹脂が（ｉ）アクリル酸エステル、（ii）メタクリル酸エステル、（iii）スチレン系モノマー、（iv）アクリル酸および（v）メタクリル酸からなる単量体の少なくとも一種を重合成分とする重合体
　　
【００１６】また、本発明の
密着増強膜組成物を構成する架橋剤
多官能性エポキシド基含有化合物
　　
【００１８】また、
多官能性エポキシド基含有化合物としては
フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂
　　
【００２７】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明の態様はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００２８】
実施例１
下記の化合物（１）〜（３）を混合し、下記混合溶剤で２．５重量％になるように溶解した後、０．１μｍのフィルターを用いて濾過することにより密着増強膜組成物を調整した。
(1)アクリル系共重合体（メタクリル酸−スチレン共重合体） ８９重量部
(2)エポキシ架橋剤(トリフェニルグリシジルエーテルエタン) １０重量部
(3)ブロックタイプヘキサメチレンジイソシアネート           １重量部
溶剤
    プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  ５０％
    エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート    ５０％
【００２９】実施例２
　
実施例１で得られた密着増強膜組成物
密着増強膜
この膜上にノボラック樹脂と感光剤を含有するクラリアントジャパン（株）製ＡＺTMＰＬＰ−３０を回転塗布し、１２０℃、３００秒間ホットプレートにてべーク後、２５μｍ厚のフォトレジスト膜を得た。このフォトレジスト膜を日立製作所社製ｉ線ステッパー（ＮＡ＝０．５）にて露光し、無機アルカリを用いたＡＺTM３０３Ｎ（１：４）現像液（クラリアントジャパン（株）製）で２３℃、３００秒間現像した。その後、走査型電子顕微鏡によりパターン形状の観察をおこなったところ、５μｍ以上のライン・アンド・スペースパターン形状は矩形でかつパターン剥がれのない良好なものであった。
　　
　これらの記載事項から、引用刊行物１には次の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されているものと認められる。
「(1)アクリル系共重合体（メタクリル酸−スチレン共重合体）８９重量部
(2)エポキシ架橋剤（トリフェニルグリシジルエーテルエタン）１０重量部
(3)ブロックタイプヘキサメチレンジイソシアネート            １重量部
及び溶剤よりなり、基板と感光性樹脂組成物層の間に適用される密着増強組成物」
　　
　また、引用刊行物１【００１６】及び【００１８】には、密着増強膜組成物を構成する架橋剤としては多官能エポキシ基含有化合物が挙げられ、多官能エポキシ含有化合物としては、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂が挙げられることが記載されている。
　　
２−２．引用刊行物２
　本願優先日前に頒布された
　「エポキシ樹脂ハンドブック」，藤吉敏生著，日刊工業新聞社編，第１版，1987.12.25，第61-62頁には、以下の事項が記載されている。
　　
「２．１　フェノールおよびクレゾール型樹脂
・・・（中略）・・・
２．１．１　構造と特徴
フェノールノボラック型エポキシ樹脂は、フェノールとホルムアルデヒドとの反応生成物であるフェノールノボラックとエピクロルヒドリンとの反応によって得られる多官能のエポキシ樹脂であり、その構造式を（II.14）式に示す。フェノールの代わりにO-クレゾールを使用するとクレゾールノボラック型エポキシ樹脂が得られ、その構造式を(II.15)式に示す。
・・・(中略)・・・
」
　　
「２．１．２　製造方法
　ノボラック型エポキシ樹脂は、(II．17)式に示すようにノボラック樹脂とエピクロルヒドリンとをアルカリ存在下で反応させることによって製造される。フェノール性ＯＨのエポキシ化であるので、一般のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の場合の反応条件がほとんどそのまま適用できる。
　」
　
２−２．引用刊行物３
　本願優先日前に頒布された特表２００２−５０２９８２号公報には、以下の事項が記載されている。（下線は当審にて付与した。）
　　
【請求項１】
ａ．高分子量アクリルポリマーまたはコポリマーとｄｅｅｐＵＶ光吸収性のカルボン酸染料またはフェノール染料との反応生成物であって、前記カルボン酸染料またはフェノール染料が、カルボン酸染料の場合はヒドロキシエステル部分を介して、またはフェノール染料の場合はヒドロキシエーテル部分を介して結合した前記ポリマーまたはコポリマーを有し、前記部分は反応の間にその場で形成する反応生成物
ｂ．メラミン、尿素、ベンジオグアナミン、グリコルリルおよびそれらの誘導体からなる群より選択される
アルキル化アミノプラスト架橋剤
ｃ．硬化のためのプロトン酸触媒と、および
ｄ．少なくともアルコール２０パーセントを含む低ないし中、即ち７０℃ないし８０℃の沸点のアルコール含有溶媒系
を含む改良された熱硬化性ｄｅｅｐＵＶ抗反射組成物であって、
早い硬化速度、高い光学密度、ホトレジスト間の高い差溶解度を有する安全な揮発性溶媒中での良好な溶解度および塗布性を保ちかつ改良された適合性および像被覆を有しつつ、改良されたプラズマエッチ速度を有する組成物。
【請求項２】前記
ヒドロキシエステルまたはヒドロキシエーテル部分は、前記染料と前記アクリルポリマーまたはコポリマー中に含まれるグリシジルメタクリレート単位との反応により誘導される
　　
【請求項１７】前記
アミノプラスト硬化剤は
ポリ（４−ヒドロキシスチレン）からなる群より選択されるポリフェノールと共に存在し
前記ポリフェノールは染料結合アクリルポリマーまたはコポリマー上の遊離グリシジル部位と反応することによって熱架橋をもたらすのに働く
（当審注：当該箇所のアミノプラスト
硬化剤
架橋剤
　　
【０００１】
発明の背景
１．発明の分野
　本発明は、ｄｅｅｐＵＶ多層ホトレジストシステムにおける使用のための
最下層熱硬化性抗反射コーティング組成物
　　
【００２６】
　他の架橋様式は、アミノプラスト架橋剤の使用が非常に好ましいけれども、新規抗反射コーティングに適用されることができる。これらの他の様式は、単独でまたは前記アミノプラスト架橋処理と共に作用し得る。例えば、
未反応グリシジル官能基が染料結合アクリルポリマー上に存在する場合
ポリ（４−ヒドロキシスチレン）のようなポリフェノールは、遊離グリシジル部位での反応により抗反射コーティングの熱架橋をなしてアリールエーテル結合を形成することができる
　　
【００３４】
以下の非限定的な例は本発明を説明する。
　
実施例１
抗反射コーティングを染料結合ポリ（グリシジルメタクリレート）９０モルパーセントとメラミンホルムアルデヒド樹脂および酸触媒を混合することによって製造した。
Ａ．ポリ（グリシジルメタクリレート）ホモポリマー［ＰＧＭ］の製造
　
グリシジルメタクリレート
重合
【００３５】
Ｂ．ＰＧＭへの９−アントラセンカルボン酸［ＡＣＡ］の付加
　
ポリマー固形分２．５１ｇおよび遊離エポキシ官能基
含む上述のＰＧＭ溶液
ＡＣＡ
　　
【００３９】
　
ストリッピング試験の説明
　硬化した抗反射コーティング層のフィルム厚および光吸光度を、シリコンおよび水晶基材のそれぞれについて決定する。試料をその後、
慣用のホトレジスト溶媒である乳酸エチルで５秒間浸漬し、続いて５０００ｒｐｍで３０秒間スピン乾燥する。フィルム厚および光吸光度を再決定する。フィルム厚または光吸光度における数パーセントより大きい（５％より大きい）減少が溶媒ストリッピングから生じた場合、抗反射コーティングは実際の使用について不充分な耐溶媒性を有すると判断される
　　
【００４４】
　
中間層試験の説明
　
この試験はホトレジストと抗反射コーティングとの間の混合についての潜在能力を評価する
抗反射コーティングおよびレジストの有意な混合が生じた場合、抗反射コーティング層は、Åまたは開始抗反射コーティング厚のパーセントとして表され得る厚さにおける明瞭な増加を表す。混合を非常に受ける抗反射コーティングは、レジスト処理後に厚さにおける１０％より大きな増加を表す。５％未満の中間層値は許容可能とみなされる
　　
【００４８】
　
実施例４
　
抗反射コーティングを過剰なグリシジル官能性を有する染料結合グリシジルメタクリレートコポリマーをポリフェノール硬化剤（ノボラック）と混合することによって製造
Ａ．架橋剤としてノボラックをまた触媒として２−メチルイミダゾールを使用した抗反射組成物配合
　
遊離グリシジル官能基
含む実施例１において製造した母液
ノボラック樹脂
２−メチルイミダゾール触媒
コーティング溶液
【００４９】
Ｂ．抗反射コーティング特性
　前記溶液をろ過し（０．２μｍ）、４０００ｒｐｍで６０秒間スピンコートし、１００℃で３０秒間乾燥し、そして２０５℃で６０秒間ホットプレート焼成して波長２４８ｎｍで光学密度１４．７／μｍを有する抗反射コーティングを得た。
乳酸エチルストリッピング試験は厚さ変化１％未満および吸光度損失２．２％を生じ、ポリフェノール硬化老化はフィルムを有効に不溶化したことを示した
　　
　これらの記載事項より、引用刊行物３に次の発明（以下「引用発明３」という。）が記載されているものと認められる。
「９−アントラセンカルボン酸よりなるｄｅｅｐ　ＵＶ染料が付加され、遊離エポキシ官能基を有する染料結合ポリ（グリシジルメタクリレート）と、架橋剤としてノボラック樹脂と、触媒として２−メチルイミダゾールを含有する最下層熱硬化性抗反射コーティング組成物」
　　
　また、引用刊行物３【請求項１７】には架橋剤がノボラック類の他、ポリ（４−ヒドロキシスチレン）からも選択されることが記載されている。
　　
３．対比・判断
３−１．特許法第２９条第２項について
（１）本願補正発明と引用発明１とを対比すると、
　引用発明１の
・「（１）アクリル系共重合体（メタクリル酸−スチレン共重合体）」
・「（２）エポキシ架橋剤（トリフェニルグリシジルエーテルエタン）」
・「基板と感光性樹脂組成物層の間に適用される密着増強組成物」は、それぞれ、
　本願補正発明における
・「カルボキシル基を有する付加重合性モノマーを付加重合した高分子化合物（ｂ５）」であって、「アクリル酸又はメタクリル酸を単位構造として含むもの」
・「エポキシ基を有する」「化合物」(当審注：説明のためａ２’とする。)
・「リソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物」
　に相当する。
　　
　そして、引用発明１におけるリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物」には、「強酸触媒成分」は含まれていない。
　　
　よって、本願補正発明と引用発明１とは、以下の相違点１において相違しその他の点で一致する。
[相違点１]
本願補正発明においては、エポキシ基を有する化合物が「エポキシ基を有する高分子化合物（ａ２）」であって、「グリシジルアクリレート若しくはグリシジルメタクリレートを付加重合性モノマーとして含む高分子化合物、又は水酸基を有する高分子化合物とエピクロルヒドリン、グリシジルトシレートとの反応物を含む高分子化合物」であるのに対して、引用発明１においては、「（２）エポキシ架橋剤（トリフェニルグリシジルエーテルエタン）」であるから「高分子」ではなく、かつ、「グリシジルアクリレート若しくはグリシジルメタクリレートを付加重合性モノマーとして含む高分子化合物、又は水酸基を有する高分子化合物とエピクロルヒドリン、グリシジルトシレートとの反応物を含む高分子化合物」のいずれにも該当しない。
　　
　相違点１について検討する。
　引用刊行物１【００１６】及び【００１８】においては架橋剤として、多官能エポキシ含有化合物が使用し得ることが記載され、当該多官能エポキシ含有化合物としては、フェノールノボラックエポキシ樹脂、或いは、クレゾールノボラックエポキシ樹脂が挙げられることが記載されており、引用発明１における「（２）エポキシ架橋剤（トリフェニルグリシジルエーテルエタン）」に替えてこれらフェノールノボラックエポキシ樹脂、或いは、クレゾールノボラックエポキシ樹脂を採用することに技術的な困難性はなく、当業者が容易に想起し得た事項である。　
　ここで、当該フェノールノボラックエポキシ樹脂・クレゾールノボラックエポキシ樹脂は、引用刊行物２に記載されているようにフェノール・Ｏ−クレゾールとホルムアルデヒドの反応生成物であるフェノールノボラック・クレゾールノボラックとエピクロルヒドリンとの反応物であり、フェノールノボラック・クレゾールノボラックは、水酸基を有する高分子化合物であるから、当該フェノールノボラックエポキシ樹脂・クレゾールノボラックエポキシ樹脂は、本願補正発明における（ａ２）に相当している。
　　
　したがって、本願補正発明は引用刊行物１に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　　
（２）本願補正発明１と引用発明３とを対比すると、
　引用発明３における
・「９−アントラセンカルボン酸よりなるｄｅｅｐ　ＵＶ染料が付加され、遊離エポキシ官能基を有する染料結合ポリ（グリシジルメタクリレート）」
・「架橋剤としてノボラック樹脂」
・「最下層熱硬化性抗反射コーティング組成物」は、それぞれ、
　本願補正発明１における
・「エポキシ基を有する高分子化合物（ａ２）」であって「グリシジルメタクリレートを付加重合性モノマーとして含む高分子化合物」、
・「フェノール性水酸基を有する」「モノマーを」「重合した高分子化合物」（当審注：説明のためｂ４’とする。）
・「リソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物」
　に相当する。
　　
　そして、引用発明３の「リソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物」中に含まれる触媒として２−メチルイミダゾールは強酸成分ではないので、強酸触媒成分は含まれていない。
　　
　よって、本願補正発明と引用発明３とは、以下の相違点２において相違し、その他の点で一致する。
[相違点２]
　本願補正発明においては、フェノール性水酸基を有するモノマーを重合した高分子化合物は、「フェノール性水酸基を有する付加重合性モノマーを付加重合した高分子化合物（ｂ４）」であって、「ヒドロキシスチレンを単位構造として含むもの」であるのに対して、引用発明３においてはこれが「ノボラック」であるから、「付加」重合によるものではなく、かつ、「ヒドロキシスチレンを単位構造として含むもの」ではない。
　　
　上記[相違点２]について検討する。
　引用刊行物３【請求項１７】では、硬化剤（当審注：引用刊行物３において硬化剤は架橋剤と同趣旨で使用）はノボラック類、およびポリ（４−ヒドロキシスチレン）から選択される旨記載されており、引用刊行物３【００２６】では、ノボラック類及びポリ（４−ヒドロキシスチレン）は、両者共に、遊離グリシジル部位での反応により抗反射コーティングの熱架橋をなしてアリールエーテル結合を形成するためのポリフェノール供給源となることが記載されている。
　ここで、引用刊行物３に記載されているポリ（４−ヒドロキシスチレン）は、フェノール性水酸基を有する付加重合性モノマーを付加重合した高分子化合物であり、ヒドロキシスチレンを単位構造として含むものであって、本願補正発明のｂ４に相当する。
　してみると、引用発明３におけるノボラックに替えて、ポリ（４−ヒドロキシスチレン）を採用することは当業者であれは容易に想起し得た事項である。
　　
　したがって、本願補正発明は、引用刊行物３記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　　
４．むすび
　以上のとおり、本件補正は平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例とされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に反するので、同法第１５９条において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　　
ＩＩＩ．本願発明について
　
１．補正後の請求項１に係る発明
　
　平成２２年　５月１０日付けの手続補正書は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明は、平成２１年１２月２５日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
　　
「【請求項１】
　（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分が、それぞれ、下記の化合物である場合において、
（Ａ）成分：少なくとも二つのエポキシ基を有する分子量２０００以下の化合物（ａ１）及びエポキシ基を有する高分子化合物（ａ２）、
（Ｂ）成分：少なくとも二つのフェノール性水酸基を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ１）、少なくとも二つのカルボキシル基を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ２）、少なくとも二つの酸無水物構造を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ３）、フェノール性水酸基を有する付加重合性モノマーを重合した高分子化合物（ｂ４）、カルボキシル基を有する付加重合性モノマーを重合した高分子化合物（ｂ５）及び酸無水物構造を有する付加重合性モノマーを重合した高分子化合物（ｂ６）、
（Ｃ）成分：フェノール性水酸基、カルボキシル基、又は酸無水物構造を有する付加重合性モノマーとエポキシ基を有する付加重合性モノマーとを重合した高分子化合物（ｃ１）、
　前記高分子化合物（ａ２）と前記（Ｂ）成分の（ｂ１）乃至（ｂ６）からなる群から選ばれる少なくとも一種との組み合わせ、前記化合物（ａ１）と前記高分子化合物（ｂ４）、（ｂ５）及び（ｂ６）からなる群より選ばれる少なくとも一種との組み合わせ、又は前記（Ｃ）成分を含む下層膜形成組成物であって、
　前記少なくとも二つのエポキシ基を有する分子量２０００以下の化合物（ａ１）は、
（式中、Ａ1、Ａ2及びＡ3はそれぞれ水素原子、メチル基又はエチル基を表し、Ｒ2は水素原子、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数３〜６のアルケニル基、ベンジル基、又はフェニル基を表す。）で表される化合物であり、
　前記エポキシ基を有する高分子化合物（ａ２）は、グリシジルアクリレート若しくはグリシジルメタクリレートを付加重合性モノマーとして含む高分子化合物、又は水酸基を有する高分子化合物とエピクロルヒドリン、グリシジルトシレートとの反応物を含む高分子化合物であり、
　前記少なくとも二つのフェノール性水酸基を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ１）は、ヒドロキシスチレンオリゴマー、置換ビフェノール化合物、置換トリスフェノール化合物、メチロール化フェノール化合物、メチロール化ビスフェノール化合物、置換フェノールノボラック及び置換クレゾールノボラックからなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物であり、
　前記少なくとも二つのカルボキシル基を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ２）は、
（式中、ｐ及びｑは１〜６の数を表し、Ｒ1は水素原子、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数３〜６のアルケニル基、ベンジル基、フェニル基又は−（ＣＨ2）ｒＣＯＯＨ（式中、ｒは１〜６の数を表す）を表す）で表される化合物であり、
　前記少なくとも二つの酸無水物構造を有する分子量２０００以下の化合物（ｂ３）は、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水メチルナッジク酸、ドデシル無水コハク酸、無水クロレンディック酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメート）、メチルシクロへキセンテトラカルボン酸無水物、無水トリメリット酸及びポリアゼライン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物であり、
　前記フェノール性水酸基を有する付加重合性モノマーを重合した高分子化合物（ｂ４）は、ヒドロキシスチレンを単位構造として含むものであり、
　前記カルボキシル基を有する付加重合性モノマーを重合した高分子化合物（ｂ５）は、アクリル酸又はメタクリル酸を単位構造として含むものであり、
　前記酸無水物構造を有する付加重合性モノマーを重合した高分子化合物（ｂ６）は、無水マレイン酸を単位構造として含むものであり、
　前記フェノール性水酸基、カルボキシル基、又は酸無水物構造を有する付加重合性モノマーとエポキシ基を有する付加重合性モノマーとを重合した前記高分子化合物（ｃ１）は、前記フェノール性水酸基を有する付加重合性モノマー、前記カルボキシル基を有する付加重合性モノマー及び前記酸無水物構造を有する付加重合性モノマーからなる群から選ばれる少なくとも一種の付加重合性モノマーと前記グリシジルアクリレート及びグリシジルメタクリレートからなる群から選ばれる少なくとも一種との重合によって得られるものであることを特徴とする該下層膜形成組成物。」
　
２．引用刊行物
　引用刊行物１の記載事項は前記「II．２−１」に記載したとおりである。
　
３．対比・判断
　本願の請求項１に係る発明は、本願補正発明の「リソグラフィー用レジスト下層膜組成物」が「強酸触媒成分を含まない」とする限定、及び、各（ｂ４）〜（ｂ６）の高分子化合物が「付加」重合したものであるとする限定を省いたものに相当する。
　そうすると、本願の請求項１に係る発明の構成要件を全て包含し、更に他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「II．３」で検討したとおり、引用刊行物１に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願の請求項１に係る発明も同様の理由において、引用刊行物１に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができあるから、本願の請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであって、他の請求項については検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　　
　よって、結論のとおり審決する。