【手続補正書】
【提出日】平成18年2月15日(2006.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の工程；
いわゆる過酸化工程において下記式（ＩＩ）の１以上の酸ハロゲン化物、
2005519154.tif 000001
ここでＸはハライドである、
を
ｉ）ＭＯＯＨ／Ｍ2Ｏ2、ここでＭは、該方法において存在する１以上のパーオキサイドを分解することなくＨ2Ｏ2と反応して、ＭＯＯＨ／Ｍ2Ｏ2を生成するところの任意の金属又はアンモニウム含有基である、及び／又は
ｉｉ）下記式（ＩＩＩ）の１以上の過酸又はそのＭ塩
2005519154.tif 000002
と、水性相において反応させることにより、下記式（Ｉ）のジアシルパーオキサイド、
2005519154.tif 000003
ここでＲ1〜Ｒ4は独立して、水素、ハロゲン、及び飽和又は不飽和の、直鎖又は分岐の、任意的に１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル、アルカリール、及びアラルキル基からなる群から選択され、ただしもしＲ1及び／又はＲ2が水素であるならばＲ3及び／又はＲ4は水素ではなく、またその逆に、もしＲ3及び／又はＲ4が水素であるならば、Ｒ1及び／又はＲ2は水素ではなく、該工程においてＲ1−Ｃ−Ｒ2及び／又はＲ3−Ｃ−Ｒ4は、飽和又は不飽和であり得る環構造の一部であることができ、かつ１以上の独立して選択される基Ｒ1で置換されていることができる、あるいは，Ｒ1−Ｃ（Ｒ2）Ｈ及びＲ3−Ｃ（Ｒ4）Ｈの一方が、任意的に置換されていてもよい芳香環構造を表し、さらにただしＲ2がハロゲンであってＲ4が水素であり、かつＲ1とＲ3の両方が約１０〜約１６の炭素原子を有する長鎖アルキル基であるところの式（Ｉ）のジアシルパーオキサイドは除かれる、
を含む水性混合物を製造する工程であって、該工程において酸ハロゲン化物又は酸ハロゲン化物の混合物が、ＭＯＯＨ／Ｍ2Ｏ2及び／又は１以上の過酸又は過酸の塩を含む水と基本的には接触に至らせられるだけである工程、
本方法の任意の部分において酸ハロゲン化物のための１以上の溶媒を導入する任意的工程、
本方法の任意の部分において１以上の塩を導入する任意的工程、
過酸化工程の前、間、又は後に１以上のコロイド及び／又は界面活性剤を導入する任意的工程、
１以上の精製工程において該水性混合物を精製する任意的工程、
１以上の均一化工程において該水性混合物を均一化する任意的工程、
式（Ｉ）のジアシルパーオキサイドを含むところの前の工程からの生成物を重合化反応器へ移す工程、及び
１以上のエチレン性不飽和モノマーの存在下、前記ジアシルパーオキサイドを熱的に分解して、有機遊離基を生成して前記モノマーを前記重合化反応器中で重合化させる工程、
を含む方法。
【請求項２】
以下の工程；
いわゆる過酸化工程において下記式（ＩＩ）の１以上の酸ハロゲン化物、
2005519154.tif 000004
ここでＸはハライドである、
を
ｉ）ＭＯＯＨ／Ｍ2Ｏ2、ここでＭは、該方法において存在する１以上のパーオキサイドを分解することなくＨ2Ｏ2と反応して、ＭＯＯＨ／Ｍ2Ｏ2を生成するところの任意の金属又はアンモニウム含有基である、及び／又は
ｉｉ）下記式（ＩＩＩ）の１以上の過酸又はそのＭ塩
2005519154.tif 000005
と、水性相において反応させることにより、下記式（Ｉ）のジアシルパーオキサイド、
2005519154.tif 000006
ここでＲ1〜Ｒ4は独立して、水素、ハロゲン、及び飽和又は不飽和の、直鎖又は分岐の、任意的に１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル、アルカリール、及びアラルキル基からなる群から選択され、ただしもしＲ1及び／又はＲ2が水素であるならばＲ3及び／又はＲ4は水素ではなく、またその逆に、もしＲ3及び／又はＲ4が水素であるならば、Ｒ1及び／又はＲ2は水素ではなく、該工程においてＲ1−Ｃ−Ｒ2及び／又はＲ3−Ｃ−Ｒ4は、飽和又は不飽和であり得る環構造の一部であることができ、かつ１以上の独立して選択される基Ｒ1で置換されていることができる、あるいは，Ｒ1−Ｃ（Ｒ2）Ｈ及びＲ3−Ｃ（Ｒ4）Ｈの一方が、任意的に置換されていてもよい芳香環構造を表し、さらにただしＲ2がハロゲンであってＲ4が水素であり、かつＲ1とＲ3の両方がアルキル基であるならば、これらのアルキル基のそれぞれは約６までの炭素原子を有する、
を含む水性混合物を製造する工程であって、該工程において酸ハロゲン化物又は酸ハロゲン化物の混合物が、ＭＯＯＨ／Ｍ2Ｏ2及び／又は１以上の過酸又は過酸の塩を含む水と基本的には接触に至らせられるだけである工程、
本方法の任意の部分において酸ハロゲン化物のための１以上の溶媒を導入する任意的工程、
本方法の任意の部分において１以上の塩を導入する任意的工程、
過酸化工程の前、間、又は後に１以上のコロイド及び／又は界面活性剤を導入する任意的工程、
１以上の精製工程において該水性混合物を精製する任意的工程、
１以上の均一化工程において該水性混合物を均一化する任意的工程、
式（Ｉ）のジアシルパーオキサイドを含むところの前の工程からの生成物を重合化反応器へ移す工程、及び
１以上のエチレン性不飽和モノマーの存在下、前記ジアシルパーオキサイドを熱的に分解して有機遊離基を生成して、前記モノマーを前記重合化反応器中で重合化させる工程、
を含む方法。
【請求項３】
以下の工程；
いわゆる過酸化工程において下記式（ＩＩ）の１以上の酸ハロゲン化物、
2005519154.tif 000007
ここでＸはハライドである、
を
ｉ）ＭＯＯＨ／Ｍ2Ｏ2、ここでＭは、該方法において存在する１以上のパーオキサイドを分解することなくＨ2Ｏ2と反応して、ＭＯＯＨ／Ｍ2Ｏ2を生成するところの任意の金属又はアンモニウム含有基である、及び／又は
ｉｉ）下記式（ＩＩＩ）の１以上の過酸又はそのＭ塩
2005519154.tif 000008
と、水性相において反応させることにより、下記式（Ｉ）のジアシルパーオキサイド、
2005519154.tif 000009
ここでＲ1〜Ｒ4は独立して、水素、及び飽和又は不飽和の、直鎖又は分岐の、任意的に１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル、アルカリール、及びアラルキル基からなる群から選択され、ただしもしＲ1及び／又はＲ2が水素であるならばＲ3及び／又はＲ4は水素ではなく、またその逆に、もしＲ3及び／又はＲ4が水素であるならば、Ｒ1及び／又はＲ2は水素ではなく、該工程においてＲ1−Ｃ−Ｒ2及び／又はＲ3−Ｃ−Ｒ4は、飽和又は不飽和であり得る環構造の一部であることができ、かつ１以上の独立して選択される基Ｒ1で置換されていることができる、あるいは，Ｒ1−Ｃ（Ｒ2）Ｈ及びＲ3−Ｃ（Ｒ4）Ｈの一方が、任意的に置換されていてもよい芳香環構造を表す、
を含む水性混合物を製造する工程であって、該工程において酸ハロゲン化物又は酸ハロゲン化物の混合物が、ＭＯＯＨ／Ｍ2Ｏ2及び／又は１以上の過酸又は過酸の塩を含む水と基本的には接触に至らせられるだけである工程、
本方法の任意の部分において酸ハロゲン化物のための１以上の溶媒を導入する任意的工程、
本方法の任意の部分において１以上の塩を導入する任意的工程、
過酸化工程の前、間、又は後に１以上のコロイド及び／又は界面活性剤を導入する任意的工程、
１以上の精製工程において該水性混合物を精製する任意的工程、
１以上の均一化工程において該水性混合物を均一化する任意的工程、
式（Ｉ）のジアシルパーオキサイドを含むところの前の工程からの生成物を重合化反応器へ移す工程、及び
１以上のエチレン性不飽和モノマーの存在下、前記ジアシルパーオキサイドを熱的に分解して有機遊離基を生成して、前記モノマーを前記重合化反応器中で重合化させる工程、
を含む方法。
【請求項４】
過酸化工程において得られるジアシルパーオキサイドが、前記過酸化工程後１６８時間の期間内に重合化工程において使用されるところの、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
ジアシルパーオキサイドが本方法において５℃までの温度において貯蔵され取り扱われるところの、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
Ｍ及びＨ2Ｏ2の源からＭＯＯＨ／Ｍ2Ｏ2を製造し、そして過酸化工程を行うために全く同じ反応器が使用されるところの、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
エチレン性不飽和モノマーの重量に基づいて、０．００５〜２重量％のジアシルパーオキサイドが重合化工程において使用されるところの、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
該エチレン性不飽和モノマーが塩化ビニルモノマーを含むところの、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
ハロゲン化ラウロイル、ハロゲン化イソブタノイル、ハロゲン化２−エチルブタノイル、ハロゲン化２−エチルヘキサノイル、ハロゲン化２−クロロプロパノイル、シクロヘキサンカルボニルハライド、３−メチルシクロヘキサンカルボニルハライド、及び２，３−ジハロシクロヘキサンカルボニルハライドからなる群から選択される少なくとも１の酸ハロゲン化物が使用されるところの、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
少なくとも１の得られるジアシルパーオキサイドが非対称であるところの、請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
過酸が過酸化工程において使用されるところの、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
基本的に溶媒なしであるところの、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
ジアシルパーオキサイドが、反応温度において重合化反応混合物に添加されるところの、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。