Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月13日(2006.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
植物の栄養特性を改良する方法であって、
植物の栄養特性と関連する、二次代謝経路の中間基質の利用を改変することができる酵素をコードする核酸配列を提供し、この酵素は二次代謝経路で天然に得られるものではなく、
種子選択性プロモーターと作動可能に連結した前記核酸配列を含んでなる発現カセットを用いて、植物の植物細胞を形質転換し、
植物細胞から、野生型植物に対して改良された栄養特性を有する、遺伝的に改変された植物を回収する
ことを含んでなる、方法。
【請求項２】
二次代謝経路がフェニルプロパノイド経路である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
酵素がコリンオキシダーゼである、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
酵素がフェルラ酸デカルボキシラーゼである、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
二次代謝経路が糖アルコール二次代謝経路である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
改良された栄養特性が、野生型植物に対して、フィチン酸含量が低下してなるものである、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
改良された栄養特性が、野生型植物に対して、シナピン含量が低下してなるものである、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
植物ゲノムに安定的に組み込まれた組換え核酸分子を含んでなる、野生型植物に対して改良された栄養特性を有する、遺伝的に改変された植物であって、
該組換え核酸分子が、
（ａ）  種子選択性プロモーター、および
（ｂ）  種子選択性プロモーターに作動可能に連結した核酸配列、ここでこの核酸配列は、植物の栄養特性と関連する、二次代謝経路の中間基質の利用を改変することができる酵素をコードしてなり、この酵素は二次代謝経路で天然に得られるものではないものである
を含んでなる、植物；
または、該植物の細胞、種子、もしくは構成要素。
【請求項９】
酵素がコリンオキシダーゼである、請求項８に記載の遺伝的に改変された植物。
【請求項１０】
酵素がフェルラ酸デカルボキシラーゼである、請求項８に記載の遺伝的に改変された植物。
【請求項１１】
酵素がイノシトール−Ｏ−メチルトランスフェラーゼである、請求項８に記載の遺伝的に改変された植物。
【請求項１２】
植物がアブラナ(Brassica napus)である、請求項９〜１１のいずれか一項に記載の遺伝的に改変された植物。
【請求項１３】
請求項９〜１２のいずれか一項に記載の遺伝的に改変された植物、または該植物の細胞、種子、もしくは構成要素の少なくとも一部に由来する、動物飼料。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月5日(2006.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  時間的な影響を受ける鍵を包含するインターフェース・ユニットと、
前記インターフェース・ユニットに接続されるプログラマブル・ユニットとから構成され、
上記鍵は空間的に分配され、時間においてシーケンシャルに実行される一連のインストラクションであり、
上記プログラマブル・ユニットはこのユニット内にも前記時間的な影響を受ける鍵が包含されていることが確認されると、前記インターフェース・ユニットからディジタル・コンテンツを受け取ることを特徴とするシステム。
【請求項２】  時間的な影響を受ける鍵を包含するインターフェース・ユニットと、
前記インターフェース・ユニットに接続されるプログラマブル・ユニットとから構成され、
前記時間的な影響を受ける鍵は、複数のサブパートに分割され、それぞれが、所定時間にわたって実行される認証プログラムのサブプログラムに割り当てられており、
上記プログラマブル・ユニットはこのユニット内にも前記時間的な影響を受ける鍵が包含されていることが確認されると、前記インターフェース・ユニットからディジタル・コンテンツを受け取ることを特徴とするシステム。
【請求項３】  時間的な影響を受ける鍵を包含するインターフェース・ユニットと、
前記インターフェース・ユニットに接続されるプログラマブル・ユニットとから構成され、
上記プログラマブル・ユニットはこのユニット内にも前記時間的な影響を受ける鍵が包含されていることが確認されると、前記インターフェース・ユニットからディジタル・コンテンツを受け取り、
前記ディジタル・コンテンツは、さらに前記プログラマブル・ユニットに前記ディジタル・コンテンツの受け取りが認められているか否かを示す取り消しリストを含むことを特徴とするシステム。
【請求項４】  ディジタル・コンテンツへの権限のないアクセスを防止する方法であって、この方法は、
インターフェース・ユニットとプログラマブル・ユニットの間において周期的に時間的な影響を受ける鍵を送信するステップと、
前記プログラマブル・ユニットが前記ディジタル・コンテンツの受け取りを認められているということを保証するための予備送信オペレーションを実行するステップと、
から構成され、
前記予備送信オペレーションを実行するステップは、前記インターフェース・ユニットと前記プログラマブル・ユニットの間の通信リンクが安全であることを検証するステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項５】  ディジタル・コンテンツへの権限のないアクセスを防止する方法であって、この方法は、
インターフェース・ユニットとプログラマブル・ユニットの間において周期的に時間的な影響を受ける鍵を送信するステップと、
前記プログラマブル・ユニットが前記ディジタル・コンテンツの受け取りを認められているということを保証するための予備送信オペレーションを実行するステップと、
から構成され、
前記時間的な影響を受ける鍵は、周期的に更新される一連のインストラクションであることを特徴とする方法。
【請求項６】  ディジタル・コンテンツに対する権限のないアクセスを防止する方法であって、この方法は、
インターフェース・ユニットとプログラマブル・ユニットの間において周期的に時間的な影響を受ける鍵を送信するステップと、
前記プログラマブル・ユニットが前記ディジタル・コンテンツの受け取りを認められているということを保証するための予備送信オペレーションを実行するステップと、
から構成され、
前記予備送信オペレーションを実行するステップは、前記プログラマブル・ユニットにロードされている認証プログラムが変更されているか否かをチェックするステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項７】  ディジタル・コンテンツに対する権限のないアクセスを防止する方法であって、この方法は、
インターフェース・ユニットとプログラマブル・ユニットの間において周期的に時間的な影響を受ける鍵を送信するステップと、
前記プログラマブル・ユニットが前記ディジタル・コンテンツの受け取りを認められているということを保証するための予備送信オペレーションを実行するステップと、
から構成され、
前記予備送信オペレーションを実行するステップは、プログラマブル・ユニットを認証するステップを含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月24日(2005.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  表面の敏感さを減少するように半導体ウェハの表面を準備処理する方法において、
誘電体材料の層を表面に有する半導体基体を用意し、そして
上記半導体基体の表面の敏感さを減少するに充分な電磁放射にウェハの表面を露出させる、
という段階を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】  上記誘電体材料は、熱酸化物、プラズマ増強化学蒸着により付着される二酸化シリコン、高密度プラズマ増強化学蒸着により付着される二酸化シリコン、ホスホロウスシリケートガラス、ボロホスホロウスガラス、スピンオンガラス及び窒化シリコンより成る群から選択される請求項１に記載の方法。
【請求項３】  表面の敏感さを減少するように半導体ウェハの表面を準備処理する方法において、
汚染物を表面に有する半導体基体を用意し、そして
上記半導体表面から汚染物を除去するに充分な電磁放射にウェハの表面を露出させる、
という段階を含むことを特徴とする方法。
【請求項４】  上記汚染物は、過剰なＨ2Ｏ、炭素含有分子、Ｓｉ−ＯＨ結合、Ｓｉ−Ｆ結合、及びＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の少なくとも１つを含む請求項３に記載の方法。
【請求項５】  上記電磁放射は、ほぼ真空紫外線からほぼ紫外線波長の範囲である請求項１又は３に記載の方法。
【請求項６】  上記波長は、約６０ナノメータないし約５５０ナノメータである請求項５に記載の方法。
【請求項７】  上記電磁放射の強度は、約０．００５Ｗ／ｃｍ2ないし約１００Ｗ／ｃｍ2の範囲である請求項５に記載の方法。
【請求項８】  表面の敏感さを減少するように半導体ウェハを準備処理する方法において、
汚染物を表面に有する半導体基体を用意し、
上記ウェハ及びチャックをチャンバに配置し、
上記チャンバを排気し、そして
エクシマーランプ、誘電体バリア放電装置及びオープンエクシマー装置の１つから導出された電磁放射に、上記表面から汚染物を実質的に除去するに充分な時間、上記ウェハを露出する、
という段階を含むことを特徴とする方法。
【請求項９】  半導体ウェハを準備処理する方法において、
汚染物を表面に有する半導体基体を用意し、
上記ウェハをチャンバに配置し、
上記チャンバを排気し、
真空紫外線波長及び紫外線波長の少なくとも一方の電磁放射を放出することのできるモイエティを上記チャンバに導入し、
上記モイエティから真空紫外線及び紫外線の少なくとも一方の放射を発生するに充分な電界に上記モイエティを露出し、そして
真空紫外線及び紫外線の少なくとも一方の放射に、上記半導体基体の表面から汚染物を実質的に除去するに充分な時間、上記ウェハを露出する、
という段階を含むことを特徴とする方法。
【請求項１０】  半導体ウェハの表面を準備処理する装置において、
チャンバと、
上記チャンバ内に配置され、半導体ウェハを保持する加熱チャックであって、３次元的に移動することのできるチャックと、
真空紫外線及び紫外線の少なくとも一方の放射を上記チャンバ内で上記チャック上に発生するソースと、
上記チャンバにガスを導入する入口ポートと、
上記チャンバを排気する排気ポートと、
上記チャンバの圧力を減少するポンプと、
を備えたことを特徴とする装置。
【請求項１１】  上記放射をウェハに向けるための反射器を更に含む請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】  誘電体材料の層を表面に含み、そして表面の敏感さを減少するに充分な真空紫外線及び紫外線の少なくとも一方の放射に表面を露出することにより表面が準備処理された半導体ウェハ。
【請求項１３】  上記半導体ウェハの表面は、表面の敏感さを減少するために上記表面から汚染物を除去するに充分な真空紫外線及び紫外線の少なくとも一方の放射に上記表面を露出することにより準備処理される半導体ウェハ。
【請求項１４】  半導体ウェハの表面に非ドープのシリケートガラスの層を形成する方法において、
誘電体材料の層を表面に含む半導体ウェハを用意し、
表面の敏感さを減少するに充分な真空紫外線及び紫外線の少なくとも一方の放射に上記ウェハの表面を露出し、そして
非ドープのシリケートガラスの層を上記表面に付着する、
という段階を含むことを特徴とする方法。
【請求項１５】  半導体ウェハの表面に非ドープのシリケートガラスの層を形成する方法において、
汚染物を表面に含む半導体ウェハを用意し、
上記表面から汚染物を除去するに充分な真空紫外線及び紫外線の少なくとも一方の放射に上記ウェハの表面を露出し、そして
非ドープのシリケートガラスの層を上記表面に付着する、
という段階を含むことを特徴とする方法。
【請求項１６】  半導体基体に半導体デバイス構造体を設け、
上記半導体デバイス構造体の上に横たわる導通ラインを設け、これら導通ライン間にはギャップが形成され、
上記導通ライン間にギャップが残るように上記基体の表面に誘電体層を設け、  上記熱酸化物層の表面の敏感さを減少するように電磁放射で上記誘電体層を処理し、上記ギャップを非ドープのシリケートガラス層で埋めることを特徴とする集積回路の製造方法。
【請求項１７】  前処理された誘電体層を後調整する方法において、
前処理された誘電体層を用意し、そして
上記前処理された誘電体層を汚染から保護するモイエティを用いて上記前処理された誘電体層を露出する、
という段階を含むことを特徴とする方法。
【請求項１８】  上記モイエティは、アンモニア、塩素、ＨＣｌ、Ｆ2、ＳＦ6、クロロフルオロカーボン、Ｂｒ2、Ｏ2、Ｈ2、ＨＦ、Ｈ2ＳＯ4、ＣｌＳＯ3及びＨ2Ｏ2より成る群から選択される請求項１７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月19日(2006.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  データ通信システムにおける一対の第１および第２の通信装置ＣおよびＴのうちの少なくとも一方を認証する方法であって、
前記第１の通信装置Ｃに公開鍵を記憶するステップと、
前記公開鍵Ｃを組み込んだ前記第２の通信装置Ｔによって共通秘密を計算するステップと、
前記共通秘密を前記第１の通信装置Ｃに記憶するステップと、
前記第２の通信装置Ｔがチャレンジ値χを生成し、前記チャレンジ値χを前記第１の通信装置Ｃに送信するステップと、
前記第１の通信装置Ｃが、前記記憶されている公開鍵Ｃを含む情報を第２の通信装置Ｔに送信するステップと、
前記第２の通信装置Ｔが、前記受信された公開鍵Ｃから試験共通秘密値を計算するステップと、
前記第１および第２の通信装置が、前記チャレンジ値χおよび前記共通秘密値を使用して１方向関数f1を適用して応答信号を計算するステップと、
前記第１の通信装置Ｃが、前記計算された応答信号を前記第２の通信装置Ｔに送信し、それにより、前記第２の通信装置が前記第１の通信装置を検証することができるステップとを含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月17日(2006.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】インターネットで音声呼出しを開始する方法、ＩＰネットワークを介してＩＰ音声呼出しを設定する方法、および受信装置のためにＩＰ音声呼出しを受信する方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  インターネットで音声呼出しを開始する方法であって、
被呼装置へインターネット音声呼出しを開始するステップと、
前記被呼装置が、既にインターネットに接続されているかどうかを確認するステップと、
前記被呼装置が、インターネットに接続されていなければ、関連する発信者ＩＤ情報で前記被呼装置へ公衆交換電話網（ＰＳＴＮ）による呼出しを開始するステップと、
前記インターネット音声呼出しを確立するために前記被呼装置をインターネットに接続するステップであって、前記被呼装置が、前記インターネットに接続された前記関連する発信者ＩＤ情報に対応している、前記ステップと、
から成る、前記方法。
【請求項２】  前記関連する発信者ＩＤ情報が、所定の発信者ＩＤ番号である、請求項１記載の方法。
【請求項３】  ＩＰネットワークを介してＩＰ音声呼出しを設定する方法であって、
被呼装置へＩＰ音声呼出しを開始するステップと、
前記被呼装置が、ＩＰネットワークに接続されているかどうかを確認するステップと、
前記被呼装置が、ＩＰネットワークに接続されていなければ、特有の呼出しパターンで公衆交換電話網（ＰＳＴＮ）による呼出しを前記被呼装置へ開始するステップと、
前記ＩＰ音声呼出しを確立するために前記被呼装置をＩＰネットワークを介して接続するステップであって、前記被呼装置が、前記ＩＰネットワークに接続された前記特有の呼出しパターンに対応している、前記ステップと、
から成る、前記方法。
【請求項４】  前記特有の呼出しパターンが、通常の公衆交換電話網（ＰＳＴＮ）電話による呼出しパターンと異なる、請求項３記載の方法。
【請求項５】  受信装置のためにＩＰ音声呼出しを受信する方法であって、
前記受信装置が前記ＩＰネットワークに接続されている場合、ＩＰネットワークを介してＩＰ音声呼出しを受信するステップと、
（ａ）ステップ、（ｂ）ステップ、および（ｃ）ステップに応答して、前記受信装置を前記ＩＰネットワークに接続するステップと、
から成り、
前記（ａ）ステップ、（ｂ）ステップ、および（ｃ）ステップが、それぞれ、
（ａ）特有の呼出しパターンおよび公衆交換電話網（ＰＳＴＮ）ラインを介した発信者ＩＤ情報のうちの少なくとも１つを含む公衆交換電話網（ＰＳＴＮ）電話呼出しを受信するステップ、
（ｂ）発信者ＩＤ情報が受信されたときに、前記受信した発信者ＩＤ情報を所定の発信者ＩＤ情報と比較するステップ、
（ｃ）前記特有の呼出しパターンおよび前記受信した発信者ＩＤ情報と前記所定の発信者ＩＤ情報の一致のうちの少なくとも１つに応答して、前記ＩＰネットワークを介して、前記ＩＰ音声呼出しを確立するステップ、
である、前記方法。
【請求項６】  前記発信者ＩＤ情報が、前記方法を開始する装置と関連する、請求項１記載の方法。
【請求項７】  前記方法を開始する装置が、発呼装置と前記被呼装置の間で動作するサーバーである、請求項６に記載の方法。
【請求項８】  前記発信者ＩＤ情報が、タイプ１発信者ＩＤ情報である、請求項１記載の方法。
【請求項９】  前記発信者ＩＤ情報が、前記方法を開始する装置と関連する、請求項５記載の方法。
【請求項１０】    前記方法を開始する装置が、発呼装置と前記被呼装置の間で動作するサーバーである、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】  前記発信者ＩＤ情報が、タイプ１発信者ＩＤ情報である、請求項５記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月21日(2005.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  所定の変調スキームに従って遠距離通信システムでの送信のためのデータストリームに作用させるパルス関数の周波数と振幅との関係を定義する方法であって、
所望のコストパラメータを定義することと、
所望のコストパラメータによって異なる周波数範囲についてのパルス関数の振幅を定義することとを含むことを特徴とする方法。
【請求項２】  請求項１に記載の方法において、
周波数範囲についてのパルス関数の振幅が反復手順で定義され、この手順において、パルス関数が修正され、コストパラメータの適切なバランスが達成されるまで、コストパラメータが決定されることを特徴とする方法。
【請求項３】  請求項１または請求項２に記載の方法において、
前記各コストパラメータを加重するステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項４】  請求項３に記載の方法において、
前記コストパラメータ間の適切なバランスが、それぞれのコストとそれぞれの加重を最適化することにより達成されることを特徴とする方法。
【請求項５】  請求項４に記載の方法において、
最適化がオプティマイザコンピュータプログラムを利用して行われることを特徴とする方法。
【請求項６】  請求項１乃至５の何れか一項に記載の方法において、
前記コストパラメータが、電力効率、周波数利用率、ビット誤り率、ＡＦＣ、ナイキストおよびエネルギーなどの一つまたはそれ以上のグループから選択されることを特徴とする方法。
【請求項７】  請求項１乃至６の何れかに記載の方法が定義する関係に従って成形されたパルス関数によりデータストリームを変換するパルス関数発生器。
【請求項８】  遠距離通信システムにおいて送信用の信号を提供する変調器において、
請求項７のパルス関数発生器に従ってデータストリームを成形する手段を備えることを特徴とする変調器。
【請求項９】  請求項８に記載の変調器において、
前記成形手段がフィルタを備えることを特徴とする変調器。
【請求項１０】  請求項８に記載の変調器において、
前記成形手段が照合テーブルを備えることを特徴とする変調器。
【請求項１１】  請求項８乃至１０の何れか一項に従った変調器と、復調器とを備える通信装置用のトランシーバ。
【請求項１２】  請求項１１に記載のトランシーバを備える通信システムにおいて動作可能な通信装置。
【請求項１３】  チャネルが所定の変調スキームに従った周波数とタイムスロットとの組合わせであるＴＤＭＡ遠距離通信システムにおける送信用の信号を提供する変調器であって、
データストリームが搬送波信号による変調に先立って、請求項７のパルス発生器により成形されることを特徴とする変調器。
【請求項１４】  所定の変調スキームに従ったＣＤＭＡ遠距離通信システムにおける送信用の信号を提供する変調器であって、
データストリームが搬送波信号による変調に先立って、請求項７のパルス発生器により成形されることを特徴とする変調器。
【請求項１５】  請求項１３または請求項１４に記載の変調器において、
変調スキームがＭＳＫである変調器。
【請求項１６】  請求項１３または請求項１４に記載の変調器において、
変調スキームがＭＳＫである変調器。
【請求項１７】  チャネルが周波数とタイムスロットとの組合わせであるＴＤＭＡ遠距離通信システムの第一モード、ならびにＣＤＭＡ遠距離通信システムの第二モードで動作可能なデュアルモード通信装置であって、
第一、第二の両方の動作モードで所定の変調スキームに従って搬送波信号によりデータストリームを変調する変調器と、無線電話の動作モードに従ったそれぞれのパルス関数によるデータストリームの成形に用いるパルス関数発生器とを備えることを特徴とする装置。
【請求項１８】  コストパラメータの第一セットが望まれる時は第一モードで、コストパラメータの第二セットが望まれる時には第二モードで動作可能なデュアルモード通信装置であって、無線電話が、
望まれるコストパラメータの第一セットにより成形されるパルス関数に従ってデータストリームを変換するための第一パルス関数発生器と、
望まれるコストパラメータの第二セットにより成形されるパルス関数に従ってデータストリームを変換するための第二パルス関数発生器と、
電話の動作モードに従ってパルス関数発生器を選択する手段とを備え、
パルス関数のうち少なくとも一つは請求項１乃至６の何れかに記載の方法により定義される関係に従って成形されることを特徴とする装置。
【請求項１９】  請求項１８に記載の通信装置であって、
第一モードでは第一データレート、第二モードでは第二データレートで動作可能であることを特徴とする装置。
【請求項２０】  請求項１９に記載の通信装置において、
第一データレートが音声アプリケーションに対応し、第二データレートがデータアプリケーションに対応することを特徴とする装置。
【請求項２１】  請求項１８乃至２１の何れかに記載の通信装置において、
ＴＤＭＡ遠距離通信システムにおいて動作可能なことを特徴とする装置。
【請求項２２】  請求項１８乃至２０の何れかに記載の通信装置において、
第一パルス関数発生器がガウス形状のパルスを生成することを特徴とする装置。
【請求項２３】  コストパラメータの第一セットが望まれる時は第一モードで、コストパラメータの第二セットが望まれる時は第二モードで動作可能なデュアルモード通信装置であって、無線電話が、
第一および第二の両動作モードで所定の変調スキームに従って搬送波によりデータストリームを変調する変調器と、
望まれるコストパラメータの第一セットにより成形されるパルス関数に従ってデータストリームを成形するための第一パルス関数発生器と、
望まれるコストパラメータの第二セットにより成形されるパルス関数に従ってデータストリームを成形するための第二パルス関数発生器と、
電話の動作モードに従ってパルス関数発生器を選択する手段とを備えることを特徴とする装置。
【請求項２４】  通信システム用の変調スキームを選択する方法であって、
請求項１乃至７の何れかに記載の方法に従った第一変調スキームのためのパルス関数を定義することと、
同じ望まれるコストパラメータに用いる第二の変調スキームのためのパルス関数を定義することと、
各スキームについて結果として得られるコストパラメータを決定することと、
望まれるパラメータを条件として、結果として良好なコストパラメータが得られる変調スキームを選択することとを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月19日(2006.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  移動局と固定通信システムとの間の通信がハードハンドオフ期間で失うところの時間量を最小化するための方法で、
（ａ）受信器がオリジネーション周波数から交替周波数に同調し、
（ｂ）デスティネーション基地局から交替周波数で信号を受信し、
（ｃ）交替周波数で受信した信号を蓄積し、
（ｄ）受信器がオリジネーション周波数に再同調し、
（ｅ）移動局が両方同時に、
（ｅ１）オリジネーション基地局からオリジネーション周波数で信号を受信し、
（ｅ２）交替周波数が移動局とデスティネーション基地局との間の通信をサポートできるか否かを決定するために上記蓄積信号を分析し、
（ｆ）上記蓄積信号の分析で交替周波数が移動局とデスティネーション基地局との間の通信をサポートできると決定した際、オリジネーション基地局からデスティネーション基地局に移動局のハードハンドオフを可能にする、
これらのステップを含む方法。
【請求項２】  上記オリジネーション基地局は移動局に同調メッセージを送信するステップから成り、この同調メッセージは上記移動局を上記交替周波数に同調する指示をする請求項１の方法。
【請求項３】  （ａ）オリジネーション基地局がオリジネーション周波数で動作し、
（ｂ）複数のデスティネーション基地局が交替周波数で動作し、
（ｃ）同調できる移動局が、オリジネーション周波数または交替周波数のいずれかで動作し、
以下のステップを特徴とする方法で、
（ｄ）上記移動局がオリジネーション周波数から交替周波数に同調し、
（ｅ）上記移動局が交替周波数で上記デスティネーション基地局からの信号を受信し、
（ｆ）上記交替周波数で受信した信号を蓄積し、
（ｇ）上記移動局がオリジネーション周波数に再同調し、
（ｈ）移動局が両方同時に、
（ｈ１Ａ）上記オリジネーション基地局に信号を送信し、
（ｈ１Ｂ）上記オリジネーション基地局から信号を受信し、
（ｈ１Ｃ）上記オリジネーション周波数でオリジネーション基地局からの信号を受信すると共に上記オリジネーション基地局に信号を送信し、
（ｈ２）上記交替周波数が移動局とデスティネーション基地局との間の通信をサポートできるか否かを決定するために上記蓄積信号を分析し、
（ｉ）上記蓄積信号の分析で交替周波数が移動局とデスティネーション基地局との間の通信をサポートできると決定した際、上記オリジネーション基地局から上記デスティネーション基地局に上記移動局のハードハンドオフを可能にする、
これらを含む通信システムに用いる方法。
【請求項４】  上記オリジネーション基地局は移動局に同調メッセージを送信するステップを含むことを特徴とし、この同調メッセージは上記移動局を上記交替周波数に同調する指示をする請求項３の方法。
【請求項５】  移動局と固定通信システムとの間の通信がハードハンドオフ期間の損失である時間量を最小とするための装置において、
（ａ）受信器をオリジネーション周波数から交替周波数に同調する手段、
（ｂ）デスティネーション基地局から上記交替周波数で信号を受信する手段、
（ｃ）上記交替周波数で受信した信号を蓄積する手段、
（ｄ）上記受信器を上記オリジネーション周波数に再同調する手段、
（ｅ）移動局が両方同時に行う手段、
（ｅ１）オリジネーション基地局からオリジネーション周波数で信号を受信し、
（ｅ２）交替周波数が移動局とデスティネーション基地局との間の通信をサポートできるか否かを決定するために上記蓄積信号を分析し、
（ｆ）上記蓄積信号の分析で交替周波数が移動局とデスティネーション基地局との間の通信をサポートできると決定した際、オリジネーション基地局からデスティネーション基地局に移動局のハードハンドオフを可能にする手段、
から成る装置。
【請求項６】  上記オリジネーション基地局は移動局に同調メッセージを送信するステップから成り、この同調メッセージは上記移動局を上記交替周波数に同調する指示をする請求項５の装置。
【請求項７】  （ａ）オリジネーション基地局がオリジネーション周波数で動作し、
（ｂ）複数のデスティネーション基地局が交替周波数で動作し、
（ｃ）同調できる移動局が、オリジネーション周波数または交替周波数のいずれかで動作し、
以下を特徴とする装置で、
（ｄ）上記移動局がオリジネーション周波数から交替周波数に同調する手段、
（ｅ）上記移動局が交替周波数で上記デスティネーション基地局からの信号を受信する手段、
（ｆ）上記交替周波数で受信した信号を蓄積する手段、
（ｇ）上記移動局がオリジネーション周波数に再同調する手段、
（ｈ）移動局が両方同時に行う手段、
（ｈ１Ａ）上記オリジネーション基地局に信号を送信し、
（ｈ１Ｂ）上記オリジネーション基地局から信号を受信し、
（ｈ１Ｃ）上記オリジネーション周波数で上記オリジネーション基地局からの信号を受信する共に上記オリジネーション基地局に信号を送信し、
（ｈ２）上記交替周波数が移動局とデスティネーション基地局との間の通信をサポートできるか否かを決定するために上記蓄積信号を分析し、
（ｉ）上記蓄積信号の分析で交替周波数が移動局とデスティネーション基地局との間の通信をサポートできると決定した際、上記オリジネーション基地局から上記デスティネーション基地局に上記移動局のハードハンドオフを可能にする手段、
を含む通信システムに用いる装置。
【請求項８】  上記オリジネーション基地局は上記移動局に同調メッセージを送信する手段を含むことを特徴とし、この同調メッセージは上記移動局を上記交替周波数に同調する指示をする請求項７の装置。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成17年8月17日(2005.8.17)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
本発明の別の1つの目的は、光学回折素子として、(例えば液晶位相シフトアレイなどの)時間依存性アドレス指定可能な位相シフト媒体を使用して、複数の独立的に操縦される光学トラップを形成するための新規の方法を提供することにある。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月5日(2006.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  前以て決定した量の紫外線に暴露したとき、検出可能な色に変化するために十分な量のジインモノマーをホトクロミック剤として含む装置または組成物を身体の部分上に配置することを含んでなり、前記装置または組成物は前記身体の部分を損傷しないで除去可能であり、前記装置はエラストマーのバンドまたは非エラストマーの透明な接着性フィルムを有し、そして前記組成物は前記ホトクロミック因子を混入した接着性プラスチックを含んでなる、身体の部分に関連する前以て選択した量の紫外線を検出する方法。
【請求項２】  前記装置が弾性バンドである、請求項1 に記載の方法。
【請求項３】  前記装置が接着性テープである、請求項1 に記載の方法。
【請求項４】  前記装置がデカルコマニアである、請求項1 に記載の方法。
【請求項５】  前記組成物がマニキュア液である、請求項1 に記載の方法。
【請求項６】  前以て決定した量の紫外線に暴露したとき、検出可能な色に変化するために十分な異なる量のジインモノマーをホトクロミック剤として有する領域を有する装置を身体の部分上に配置することを含んでなり、前記装置は前記身体の部分を損傷しないで除去可能である半恒久的装置であり、そして前記装置はエラストマーのバンドまたは非エラストマーの透明な接着性フィルムを有し、身体の部分に関連する複数の異なる量の紫外線を検出する方法。
【請求項７】  前記装置が弾性バンドである、請求項6 に記載の方法。
【請求項８】  前記装置が接着性テープである、請求項6 に記載の方法。
【請求項９】  前記装置がデカルコマニアである、請求項6 に記載の方法。
【請求項１０】  エラストマー組成物と、前以て決定した量の紫外線に暴露したとき、検出可能な色に変化するために十分な量のホトクロミック剤としてのジインモノマーとを含んでなる、身体の部分上に着用するように設計された、前以て決定した量の紫外線を検出する装置。
【請求項１１】  前記装置がゴムバンドである、請求項10に記載の装置。
【請求項１２】  異なる領域において複数の濃度のジインモノマーを有し、異なるレベルの紫外線に対する暴露において色変化を生ずる、請求項10に記載の装置。
【請求項１３】  接着性支持体と、前以て決定した量の紫外線に暴露したとき、検出可能な色に変化するために十分な量のホトクロミック剤としてジインモノマーとを有し、身体の部分上に配置して、前以て決定した量の紫外線を検出する装置。
【請求項１４】  前記ホトクロミック剤がデザインで存在する、請求項13に記載の装置。
【請求項１５】  前記接着性支持体が前記ホトクロミック剤を含んでなる非接着性層に結合させた接着性層を有する、請求項13に記載の装置。
【請求項１６】  前記ホトクロミック剤が前記非接着性層の中に混入されている、請求項15に記載の装置。
【請求項１７】  前記ホトクロミック剤が前記非接着性層上にコーティングされている、請求項15に記載の装置。
【請求項１８】  異なる領域において複数の濃度のジインモノマーを有し、異なるレベルの紫外線に対する暴露において色変化を生ずる、請求項13に記載の装置。
【請求項１９】  前記ホトクロミック剤の色変化のグラデーションと比較するために、少なくとも１つの標準的色領域をさらに含む、請求項13に記載の装置。
【請求項２０】  前記ホトクロミック剤より上の前記装置の部分が紫外線フィルター組成物を有する、請求項13に記載の装置。
【請求項２１】  前以て決定した量の紫外線に暴露したとき、検出可能な色に変化するために十分な量のジインモノマーをホトクロミック剤として含むクリアーフィルムが接着されたメガネのレンズ。
【請求項２２】  累積的光又は紫外線暴露を測定するための組成物であって、
光照射及び紫外線照射の少なくとも一方への暴露に際して検出可能な色の変化を提供するために十分な量のホトクロミック剤を含んでなり、爪又は皮膚上で使用するために製剤化された組成物。
【請求項２３】  前記組成物がローションとして製剤化されたスキンケア組成物である、請求項22に記載の組成物。
【請求項２４】  前記組成物が日焼けスクリーンを含む、請求項22に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月11日(2005.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】  請求項６から請求項９のいずれかに記載された電気泳動装置であって、前記トレイを通して前記溝の温度を制御することが可能であるように前記トレイが熱伝達性の材料で作成されることを特徴とする電気泳動装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月10日(2006.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  経路に沿ってパルスレーザーエネルギーのほぼ矩形の不均一なビーム（１０２）を発生させるためのエキシマレーザー（１０４）であって、該不均一なビームが不均一な空間的強度分布を有する、エキシマレーザー（１０４）と、
該不均一なビームの該経路に配置された手段（１０、１２）であって、該不均一なビームを、所定の実質的に均一な空間的強度分布を有する空間的に積分したビームに変換する、手段（１０、１２）と、
収束レンズ（２２）であって、回折性の光学的ディフューザー（１２）からの該ビームを空間的積分表面上に収束するように配置された、収束レンズ（２２）と
を備える、組織切除のためのエキシマレーザーシステムであって、
該変換手段（１０、１２）が該回折性の光学的ディフューザー（１２）を備え、該回折性の光学的ディフューザー（１２）は、該レーザー（１０４）から間隔を空けて配置されており、該ビームの該経路にわたって配置された回折パターンを有し、該空間的に積分したビームの断面が実質的に円形の空間的強度分布を有するように、該ほぼ矩形の不均一なビームを変換するように配置されていることを特徴とする、エキシマレーザーシステム。
【請求項２】  前記レーザー（１０４）が約１９３ｎｍの波長を有するＡｒＦレーザーである、請求項１に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項３】  前記不均一なビーム（１０２）が、一軸に沿って実質的にガウス分布に従う空間的強度分布を有する、請求項１または２に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項４】  前記実質的に円形の空間的強度分布が、均一な中心領域を有するシルクハット型のプロファイルを有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項５】  前記均一な中心領域が、前記空間的に積分したビームの断面の約７０％〜８５％を覆う、請求項４に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項６】  前記ディフューザー（１２）が、その上に形成された前記回折パターンを有する透明部分（１８）を有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項７】  前記回折パターンが、複数の間隔を空けられたエッチングされた線を含む、請求項６に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項８】  前記透明部分（１８）がほぼ矩形である、請求項６または７に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項９】  前記透明部分（１８）が、石英、または溶融シリカ、またはフッ化マグネシウム、またはフッ化カルシウム、またはフッ化リチウム、またはサファイアを含む透明な材料を含む、請求項６〜８のいずれか一項に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項１０】  前記収束レンズ（２２）が、前記回折性の光学的ディフューザー（１２）の一表面上で研削される、請求項１〜９のいずれか一項に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項１１】  前記空間的積分平面が、前記収束レンズ（２２）の焦点の周りに配置されている、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項１２】  眼の角膜を再び形付けるための請求項１〜１１のいずれか一項に記載のエキシマレーザーシステムであって、
前記空間的に積分したビームの領域を通過するために、前記空間的積分平面の周りの前記回折性のオプティクス（１２）から間隔を置かれた開口（１１６）と、
第２の平面（１３２）で通過されたビームの像を形成するための該開口（１１６）から間隔を置かれた収束レンズ（１２２）と
を備える、エキシマレーザーシステム。
【請求項１３】  レーザーパルス間で前記開口（１１６）の寸法を調節するための手段（２１６）を備える、請求項１２に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項１４】  前記通過されるビームの像を置換するための走査手段（２１２、２１４）をさらに備える、請求項１２または１３に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項１５】  処置テーブル（２６０）に従って前記像を置換するように構成された前記走査手段（２１２、２１４）用の制御手段（２０４）をさらに備える、請求項１４に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項１６】  レーザーパルス間で前記回折性の光学的ディフューザー（１２）を移動させるための手段（２１８）をさらに備える、請求項１〜１５のいずれか一項に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項１７】  前記移動させるための手段（２１８）が、前記回折性の光学的ディフューザー（１２）の回転をもたらすように構成されている、請求項１６に記載のエキシマレーザーシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月27日(2006.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  共有メモリリソースへのアクセスを要する複数の処理エレメントを含むコンピュータシステムであって、
前記処理エレメント間において前記メモリリソースへのアクセスを制御するための優先度競合解消回路を含み、前記優先度競合解消回路は前記複数の前記処理エレメントの各々に対応して割当てられる予め定められた異なる初期優先度を含み、前記複数の前記処理エレメントのうち選択された処理エレメントが、その前記初期優先度が最高の優先度である場合に、前記メモリリソースへのアクセスを与えられると、前記複数の前記処理エレメントのうちの前記選択された処理エレメントの前記初期優先度は最低の優先度に変えられ、前記複数の前記処理エレメントのうちの他のすべての処理エレメントの前記優先度は次のより高い優先度に増分され、前記複数の前記処理エレメントのうちの他のすべての処理エレメントは共通の最高優先度に達するまで次のより高い優先度に増分可能であり、前記処理エレメントの部分集合の前記優先度は前記異なる初期優先度にデフォルトで戻る、コンピュータシステム。
【請求項２】  前記優先度競合解消回路が、前記複数の処理エレメント間の誤った優先度を動的に訂正するためのコンパレータを含む、請求項１に記載のコンピュータシステム。
【請求項３】  前記コンパレータが、前記誤った優先度を訂正するために「より大きいまたは同等」機能を実行するよう動作する、請求項２に記載のコンピュータシステム。
【請求項４】  前記優先度競合解消回路が、前記複数の処理エレメント間の優先度拘束を動的に解消するためのコンパレータを含み、優先度拘束は前記複数の処理エレメントのうちの１つより多くの処理エレメントが増分されて共通の最高優先度になることに起因する、請求項１に記載のコンピュータシステム。
【請求項５】  前記複数の前記処理エレメントの各々に対して割当てられた前記初期優先度が、前記動的優先度競合解消回路の各々の出力ポートによって維持される、請求項１に記載のコンピュータシステム。
【請求項６】  前記動的優先度競合解消回路が、いくつかのデータ経路付けリソースを通じて結合された第１複数個の入力ポートと第２複数個の出力ポートとを含む、請求項１に記載のコンピュータシステム。
【請求項７】  前記データ経路付けリソースがいくつかの競合解消リソースによって作動的に制御される、請求項６に記載のコンピュータシステム。
【請求項８】  ２０個の入力ポートと１６個の出力ポートとを含む、請求項６に記載のコンピュータシステム。
【請求項９】  複数の処理エレメントと共有メモリリソースとを含む、コンピュータシステム中の動的優先度競合解消の方法であって、
前記複数の処理エレメントの各々に対応して予め定められた異なる初期優先度を割当てるステップと、
前記複数の処理エレメントのうち最高の初期優先度を有する、アクセスを要求している処理エレメントに前記メモリリソースへのアクセスを与えるステップと、
前記複数の処理エレメントのうち前記メモリリソースへのアクセスを要求して与えられた処理エレメントの前記初期優先度を減少させて最低の優先度にするステップと、
前記複数の処理エレメントのうち残った処理エレメントの各々の前記優先度を次のより高い優先度に増分するステップとを含み、前記複数の処理エレメントのうち残った処理エレメントの各々は共通の最高優先度に達するまで増分可能であり、前記方法はさらに
前記複数の処理エレメントの残った各々のうち、増加されて共通の最高優先度になった１つより多くの処理エレメントの部分集合の前記優先度を、前記予め定められた異なる初期優先度にデフォルトするステップを含む、方法。
【請求項１０】  アクセスを与える前記ステップ、減少させる前記ステップ、および増分する前記ステップが優先度競合解消回路によって行なわれる、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】  前記複数の処理エレメント間の優先度を比較するステップと、
前記複数の処理エレメント間の誤った優先度を動的に訂正するステップとをさらに含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】  前記誤った優先度を訂正するために、「より大きいまたは同等」機能によって前記比較するステップが行なわれる、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  前記複数の処理エレメント間の優先度を比較するステップと、
前記複数の処理エレメント間の優先度拘束を動的に解消するステップとをさらに含み、優先度拘束は前記複数の処理エレメントのうちの１つより多くの処理エレメントが増分されて共通の最高優先度になることに起因する、請求項９に記載の方法。
【請求項１４】  前記複数の前記処理エレメント各々に対応して割当てられた前記初期優先度を、前記優先度競合解消回路のそれぞれの出力ポートで維持するステップをさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月16日(2005.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１個の案内ピン（１８，１９）を有する相手コネクタ（１７）と嵌合するための電気コネクタ（１）であって、該コネクタ（１）と一体的であり、前記コネクタ同士を嵌合させるために前記相手コネクタ（１７）と相互作用し、少なくとも１個の案内スロット（５，６）を有する摺動駆動部材（２）と、該摺動駆動部材（２）を入口位置にロックするために設けられたロック部材とを具備し、前記案内ピン（１８，１９）は、前記コネクタ同士を接続するために前記摺動駆動部材（２）の操作により前記案内スロット（５，６）を通って移動すると共に、前記コネクタ同士を接続解除するために前記摺動駆動部材（２）の操作により前記案内スロット（５，６）を通って反対方向に移動し、前記案内ピン（１８，１９）は前記案内スロット（５，６）内に挿入可能であり、前記案内ピン（１９）は、前記コネクタ同士が嵌合すると、前記摺動駆動部材が入口位置から前記コネクタ同士が接触する最終位置へ移動可能になる程度まで前記ロック部材がロック解除するように、コネクタ（１７）をロック解除するものとして作用する電気コネクタにおいて、
前記摺動駆動部材（２）をロックするための前記ロック部材は、挿入方向に沿って弾性を有する、前記摺動駆動部材（２）上のアーム（９）として設計され、その一側が前記案内スロット（６）と境を接し、前記案内スロット（１６）内に前記案内ピン（１９）を挿入するために前記コネクタ（１）の開口（１５）と相互作用することを特徴とする電気コネクタ。
【請求項２】
前記摺動駆動部材（２）及び前記コネクタ（１）上に、互いに嵌合するラッチ部材（７，８，１３）が設けられ、前記摺動駆動部材２）を前記入口位置に対応する第１ラッチ位置と、最終位置である第２ラッチ位置にラッチすることを特徴とする請求項１記載のコネクタ。
【請求項３】
前記弾性アーム（９）は、その他側が前記摺動駆動部材（２）の材料切欠（１０）部と境を接することを特徴とする請求項１又は請求項２記載のコネクタ。
【請求項４】
前記摺動駆動部材（２）は、２個の側壁（４）及び前記案内スロット（５，６）が配置された、略Ｕ形状であることを特徴とする請求項１ないし請求項３のうちいずれか１項記載のコネクタ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月25日(2006.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  質量分析計システムにおいて：
検体イオンパルスを供給するためのパルスイオン源；
質量分析計；
前記イオン源と前記質量分析計との間にわたるイオン行路；及び
前記イオン行路に配置され、前記イオン行路の少なくとも一部に制動ガスを有するイオン輸送デバイス；
を含み：
前記イオン源から放出されたイオンのエネルギー広がりの縮小；前記イオン源からのイオンパルスの擬連続イオンビームへの変換；前記検体イオンの不必要なフラグメンテーションの少なくともある程度の抑制；並びに前記イオン行路に沿ってイオンを空間的及び時間的に広げ、よってピーク電流を下げ、空間電荷効果を弱めること；
の内の少なくとも１つを生じさせることを特徴とする質量分析計システム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月2日(2005.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  電気化学発光結合反応方法を利用して液体サンプル、特に体液を、前記サンプル中に含まれる物質について分析する方法であって、
少なくとも１つの特異的な生化学的結合反応を含み、化学発光標識物質を含む分析の特徴である複合体を形成させ、さらに前記複合体を磁性微粒子に結合させる反応手順を実施し、
標識された微粒子の濃度を測定するための作用電極(４)を備えた測定セル(２)内で検出サイクルを実施する
ことを含んでなり、前記検出サイクルは、
電気化学的な洗浄を行うのに適した強力な酸化電位(ClO)および／または還元電位(ClR)を作用電極(４)に印加する洗浄段階(20)、
一連の還元および酸化電位パルス (CO1、CR1、CO2、CR2等)を作用電極へ交互に印加する調整段階(22)、
微粒子を含むサンプルを作用電極(４)と接触させ、作用電極(４)のサンプルには面していない側に配置されたマグネットの磁界によって微粒子を引き寄せ、サンプルに面する作用電極の堆積表面(4a)に微粒子を堆積させる捕捉段階(23)、および、
作用電極に電位を印加してECL反応を引き起こし、標識物質から発せられた電気化学発光を測定して作用電極(４)の堆積表面(4a)上に堆積した標識物質の濃度を判定する測定段階(21)、
からなる一連の段階を含むものであり、
微粒子の堆積を安定に向上させるために、酸化もしくは還元電位を有する追加の電位パルス(DIP)を検出サイクルの電圧曲線の調整段階(22)と捕捉段階(23)の間に導入し、前記追加の電位パルス(DIP)を、サンプルを作用電極(４)に接触させるtP時点より前に、酸化電位でも還元電位でもない中性の電位に戻すことを特徴とする、前記分析方法。
【請求項２】  追加の電位パルス(DIP)に先立って印加される調整段階(22)の最後の電位パルスが、還元電位パルス (CR3)である、請求項１記載の方法。
【請求項３】  追加の電位パルス(DIP)が酸化電位パルスである、請求項１または２記載の方法。
【請求項４】  調整段階(22)において、酸化電位パルス (CO1、CO2等)および還元電位パルス(CR1、CR2等)を作用電極(４)へ交互に印加する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】  追加の電位パルス(DIP)が、測定段階(21)においてECL反応を引き起こす電位と同じ極性を有し、前記追加の電位パルス(DIP)の最大値がECL反応を引き起こす電位の最大値よりも低い、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】  微粒子の堆積を向上させるために、複数の追加の電位パルスを検出サイクルの電圧曲線の調整段階(22)と捕捉段階(23)の間に導入し、最後の追加の電位パルスを、サンプルを作用電極に接触させる前に、酸化電位でも還元電位でもない中性の電位に戻す、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。