【手続補正書】
【提出日】平成18年6月14日(2006.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セラミック粉末の前駆体の混合物から、少なくとも１種の炭素源の存在下で、セラミック粉末を製造するための方法であって、以下の工程：
ａ）炭素源の存在下で、最終的には溶媒の存在下で均一化して、熱処理によりセラミック生成物をもたらすことができる前駆体粒子の均一な混合物を得ること；
ｂ）工程ａ）で得られる均一混合物中に最終的に存在する溶媒を除去すること；および
ｃ）炭素源が本質的に炭素からなるものではない場合に、工程ａ）またはｂ）で得られる均一混合物の熱処理により、工程ａ）またはｂ）で得られる前駆体の均一混合物中に存在する残留炭素を乾留すること
のうち少なくとも１つを含む、前記方法。
【請求項２】
炭素源が液体、固体、気体の形態であるか、または不均一系の形態である、請求項１記載の製造方法であって、該方法が、該方法の開始時に使用されるセラミック粉末前駆体の混合物の均一化を促進する溶媒の存在下で、少なくとも部分的に実施される、前記方法。
【請求項３】
液体形態の炭素源が、
１種以上の炭化水素；または、
分子量が５０，０００より高い１種以上のポリマー；
からなる群から選択される、請求項２記載の製造方法。
【請求項４】
液体炭素源が室温での液体炭化水素の混合物からなる、請求項３記載の製造方法。
【請求項５】
室温での液体炭化水素の混合物が製油所の廃棄物からなる、請求項４記載の製造方法。
【請求項６】
製油所の廃棄物が石油コークスまたは破壊コークスからなる、請求項５記載の製造方法。
【請求項７】
液体形態の炭素源が含酸素ポリマーの混合物からなるかまたは含酸素ポリマーをベースとする、請求項３記載の製造方法。
【請求項８】
液体形態の炭素源がアセトニトリル中ポリマー酸化物の混合物からなる、請求項７記載の製造方法。
【請求項９】
固体形態の炭素源が、合成炭素粒子もしくは天然炭素粒子、またはそれらの混合物から選択される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１０】
炭素の粒子が、ケッチェンブラック粒子、シャウィニガンブラック粒子、またはそれらの混合物である、請求項９記載の製造方法。
【請求項１１】
使用する固体炭素源が５０％より高い純度を有する、請求項９または１０に記載の製造方法。
【請求項１２】
固体炭素源中に存在する不純物が、硫黄、窒素および酸素からなる群から選択される、請求項９〜１１のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１３】
気体形態の炭素源が、アルカン、アルケン、アルキンまたはこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１４】
気体炭素源が、ＣＨ４、Ｃ２Ｈ６，Ｃ２Ｈ２およびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１３記載の製造方法。
【請求項１５】
均一化工程ａ）が粉砕により実施される、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１６】
粉砕が高エネルギータイプである、請求項１５記載の製造方法。
【請求項１７】
除去工程ｂ）の間の温度が４０〜１５０℃である、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１８】
溶媒の除去の温度が６０〜１２０℃である、請求項１７記載の製造方法。
【請求項１９】
炭素源ならびに溶媒が工程ａ）の間に導入される、請求項３〜１７のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２０】
還元性雰囲気下で少なくとも部分的に実施される、請求項１〜１９のいずれか１項に記載の製造方法であって、還元性雰囲気により、反応混合物中に存在する炭素の二酸化炭素への変態が防止され、炭素でコートされたセラミック粉末の粒子が得られる、前記製造方法。
【請求項２１】
固体炭素源が１０〜９００ナノメートルの大きさの炭素の粒子からなる、請求項１〜２０のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２２】
使用される炭素の粒子が、ＢＥＴ法にしたがって測定して５０ｍ２／ｇより大きい比表面積を有する、請求項２１記載の製造方法。
【請求項２３】
熱処理によりセラミック生成物をもたらすことができる粒子の混合物が、ＺｒＯ２粒子及びＹ２Ｏ３粒子の混合物である、請求項１〜２２のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２４】
熱処理によりセラミック生成物をもたらすことができる粒子の混合物が、ＺｒＯ２粒子がｘ重量パーセントとＹ２Ｏ３粒子が（１００−ｘ）重量パーセントとからなる混合物であり、ここで、ｘは１〜９９である、請求項１〜２２のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２５】
熱処理によりセラミック生成物をもたらすことができる粒子の混合物が、ＺｒＯ２粒子がｘ重量パーセントとＹ２Ｏ３粒子が（１００−ｘ）重量パーセントとからなる混合物であり、ここで、ｘは１〜９９であり、ｘは５０に近い、請求項１〜２２のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２６】
熱処理によりセラミック生成物をもたらすことができる粒子の混合物が、Ｌｉ２ＴｉＯ３粒子及びＴｉＯ２粒子の混合物である、請求項１〜２２のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２７】
熱処理によりセラミック生成物をもたらすことができる粒子の混合物が、Ｌｉ２ＴｉＯ３粒子がｘ重量パーセントとＴｉＯ２粒子が（１００−ｘ）重量パーセントとからなる混合物であり、ここで、ｘは１〜９９である、請求項１〜２２のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２８】
熱処理によりセラミック生成物をもたらすことができる粒子の混合物が、Ｌｉ２ＴｉＯ３粒子がｘ重量パーセントとＴｉＯ２粒子が（１００−ｘ）重量パーセントとからなる混合物であり、ここで、ｘは１〜９９であり、ｘは５０に近い、請求項１〜２２のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２９】
炭素源はポリオキシエチレンをベースとするポリマーである、請求項２６〜２８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項３０】
炭素源は平均分子量が５４，０００であるポリオキシエチレンをベースとするポリマーである、請求項２６〜２８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項３１】
炭素源は平均分子量が５４，０００であるポリオキシエチレンをベースとするポリマーであり、前記ポリオキシエチレンは、均一化工程を実施する前に水性溶媒又はアセトニトリルなどの有機溶媒中に溶解される、請求項２６〜２８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項３２】
セラミック生成物をもたらすことができる粒子の混合物が、１ナノメートル〜１０マイクロメートルの大きさを有する、請求項１〜３１のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項３３】
セラミック生成物をもたらすことができる粒子の混合物が、２０ナノメートル〜８００ナノメートルの大きさを有する、請求項１〜３１のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項３４】
ＺｒＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＴｉＯ２またはＬｉ２ＴｉＯ３の粒子が１〜１０ミクロンの大きさを有する、請求項２３〜３３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項３５】
固体炭素源が、Ｄ５０が１０ナノメートル〜１０マイクロメートルであることを特徴とする大きさの分布を有する、請求項２〜３４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項３６】
固体炭素源が、炭素粉末であり、Ｄ５０が１０ナノメートル〜１０マイクロメートルであることを特徴とする大きさの分布を有する、請求項２〜３４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項３７】
固体炭素源が、炭素粉末であり、Ｄ５０が１００ナノメートル〜２マイクロメートルであることを特徴とする大きさの分布を有する、請求項２〜３４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項３８】
炭素源が、粉末形態のポリマーまたは炭化水素からなり、その粒子が１０ナノメートル〜５００ナノメートルのＤ５０を有する、請求項２〜３７のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項３９】
炭素源が、粉末形態のポリマーまたは炭化水素からなり、その粒子が１０〜２００ナノメートルのＤ５０を有する、請求項２〜３７のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項４０】
熱処理によりセラミック生成物をもたらすことができる炭素源が、Ｄ５０が１０ナノメートル〜１０マイクロメートルであることを特徴とする大きさの分布を有する、請求項１〜３９のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項４１】
熱処理によりセラミック生成物をもたらすことができる炭素源が、Ｄ５０が１００ナノメートル〜２マイクロメートルであることを特徴とする大きさの分布を有する、請求項１〜３９のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項４２】
使用される粒子が、Ｄ５０が１マイクロメートル以下であることを特徴とする大きさ寸法を有する、請求項１〜４１のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項４３】
使用される粒子が、１マイクロメートルに近い大きさ寸法を有する、請求項１〜４１のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項４４】
均一化が、方法の工程ａ）において、乾燥条件下で、及び／又は、溶媒中で実施される、請求項１〜４３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項４５】
均一化が、方法の工程ａ）において、日本国HOSOKAWA製のAglomasterミキサーにより乾燥条件下で、及び／又は、日本国HOSOKAWA製のメカノフュージョンデバイスにより溶媒中で実施される、請求項１〜４３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項４６】
工程ａ）が１〜３時間続く、請求項１〜４５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項４７】
工程ａ）が約２時間続く、請求項４６記載の製造方法。
【請求項４８】
工程ｃ）が３〜２４時間続く、請求項５〜４７のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項４９】
工程ｃ）が約３時間続く、請求項４８記載の製造方法。
【請求項５０】
少なくとも１つの工程が、不活性雰囲気下で実施される、請求項１〜４９のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項５１】
少なくとも１つの工程が、窒素もしくはアルゴン、またはこれらの混合物の雰囲気下で実施される、請求項１〜４９のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項５２】
本方法の少なくとも１つの工程が、方法の最後に得られるセラミック粉末から痕跡量の残留炭素を除去するために、空気または純粋な酸素などの酸素源の存在下で実施される、請求項１〜５１のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項５３】
炭素源が少なくとも部分的に液体及び／又は気体の形態である、請求項１５記載の製造方法。
【請求項５４】
工程ａ）の溶媒除去が、２００〜５００℃の温度で、１２〜２４時間の熱処理により実施される、請求項５２記載の製造方法。
【請求項５５】
工程ａ）の溶媒除去が、２００〜５００℃の温度で、約２０時間の熱処理により実施される、請求項５２記載の製造方法。
【請求項５６】
工程ａ）の溶媒除去が、約４００℃の温度で、１２〜２４時間の熱処理により実施される、請求項５２記載の製造方法。
【請求項５７】
工程ａ）の溶媒除去が、約４００℃の温度で、約２０時間の熱処理により実施される、請求項５２記載の製造方法。
【請求項５８】
乾留工程が、熱処理によりセラミック製品をもたらすことができる混合物を均一化するために使用した反応器中で実施される、請求項５３記載の製造方法。
【請求項５９】
得られるセラミック粉末の粒子が１０ｎｍ〜１ミクロンの粒子径を有する、請求項１〜５８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６０】
得られるセラミック粉末の粒子径の寸法が５０〜５００ｎｍである、請求項５８記載の製造方法。
【請求項６１】
均一化工程ａ）における温度が２０〜４０℃である、請求項１〜６０のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６２】
工程ａ）の温度が約２５℃である、請求項６１記載の製造方法。
【請求項６３】
乾留工程ｃ）の温度が２００〜４５０℃である、請求項１〜６２のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６４】
工程ｃ）の温度が約４００℃である、請求項６３記載の製造方法。
【請求項６５】
方法において使用される炭素源の量が、熱処理によりセラミックをもたらすことができる粒子の２〜１０重量パーセントである、請求項１〜６３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６６】
方法において使用される炭素源の量が、熱処理によりセラミックをもたらすことができる粒子の約６重量パーセントである、請求項１〜６３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６７】
炭素源がポリマーであり、方法において使用されるポリマーの量が、熱処理によりセラミックをもたらすことができる粒子混合物の５〜３０重量パーセントである、請求項１〜６３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６８】
炭素源がポリマーであり、方法において使用されるポリマーの量が、熱処理によりセラミックをもたらすことができる粒子混合物の約２０重量パーセントである、請求項１〜６３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６９】
炭素源がポリマーであり、方法において使用されるポリマーの量が、熱処理によりセラミックをもたらすことができる粒子混合物の約１０重量パーセントである、請求項１〜６３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７０】
粉砕に供される粒子混合物中のＹ２Ｏ３の量が５〜１５重量パーセントであり、ＺｒＯ２の量が５〜１５重量パーセントである、請求項２３〜２５及び２９〜６６のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７１】
工程ｂ）または工程ｃ）において得られるセラミック粉末がナノタイプである、請求項１〜７０のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７２】
得られるセラミック粒子の粒子径が１０〜９００ナノメートルである、請求項７０記載の製造方法。
【請求項７３】
請求項１〜７２のいずれか１項に記載の製造方法により得られるセラミック粉末。
【請求項７４】
炭素でコートされたＬｉ２Ｔｉ２Ｏ４の粒子からなる、請求項７３記載のセラミック粉末。
【請求項７５】
請求項２０または２３〜２５のいずれか１項に記載の製造方法を実施することにより得られるセラミック粉末。
【請求項７６】
請求項１〜７２のいずれか１項に記載の工程と、得られるセラミック粉末を、８００℃より高い温度で、少なくとも１回の熱処理に供する工程とを含む、セラミック製品を製造するための方法。
【請求項７７】
請求項１〜７２のいずれか１項に記載の工程と、得られるセラミック粉末を、８００℃より高い温度で、３〜２４時間の少なくとも１回の熱処理に供する工程とを含む、セラミック製品を製造するための方法。
【請求項７８】
請求項７６または７７に記載の製造方法により得られるセラミック製品。
【請求項７９】
請求項７３〜７５のいずれか１項に記載のセラミック粉末または請求項７８記載のセラミック製品の燃料電池の分野または自動車の分野に分野における使用。
【請求項８０】
ピストンヘッドを製造するための請求項７９記載の使用。
【請求項８１】
セラミック製アノードまたはセラミック電解質を製造するための請求項７９記載の使用。
【請求項８２】
請求項５０または５１に記載の方法を実施することにより得られるセラミック粉末のセラミック電気絶縁体の製造における使用。