Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月28日(2006.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メモリであって、
複数の行及び列に配列されるランダムアクセスメモリセルのアレイであって、前記複数の行及び列の各交点に一つのメモリセルが形成される前記アレイと、
複数の書き込みビットラインであって、その各々がデータ値をランダムアクセスメモリセルの前記アレイの所定の列に位置する所定のメモリセルに格納するために使用される前記複数の書き込みビットラインと、
複数の読み出しビットラインであって、その各々がランダムアクセスメモリセルの前記アレイの所定の列に位置する所定のメモリセルに格納されるデータ値を読み出すために使用される前記複数の読み出しビットラインとを備え、前記複数の書き込みビットラインは前記複数の読み出しビットラインから電気的に絶縁されており、トンネル接合メモリセルの複数の物理的に隣接する列は、前記複数の読み出しビットラインのうちの一つの読み出しビットラインを共有する、メモリ。
【請求項２】
メモリであって、
複数の行及び列に配列されるランダムアクセスメモリセルと、
複数の書き込みビットラインであって、その各々がデータ値をランダムアクセスメモリセルの前記アレイの所定の列に位置する所定のメモリセルに格納するために使用される前記複数の書き込みビットラインと、
複数の読み出しビットラインであって、その各々がランダムアクセスメモリセルの前記アレイの所定の列に位置する所定のメモリセルに格納されるデータ値を読み出すために使用され、複数の読み出しビットラインは非書き込みであり、かつ、前記複数の書き込みビットラインと平行である、前記複数の読み出しビットラインと、
複数の読み出しワードラインであって、その各々が所定行のメモリセルに位置する所定セルのデータ値を読み出すために前記読み出しビットラインと共に使用される前記複数の読み出しワードラインと、
複数の書き込みワードラインであって、その各々がデータ値を前記所定行のメモリセルに位置する前記所定メモリセルに格納するために前記書き込みビットラインと共に使用される前記複数の書き込みワードラインとを備え、前記複数の読み出しワードラインは前記複数の書き込みワードラインから電気的に絶縁されており、ランダムアクセスメモリセルの複数の物理的に隣接する列は、前記複数の読み出しビットラインのうちの一つの読み出しビットラインを共有し、同じ行の隣接する列内の各ランダムアクセスメモリセルは前記複数の読み出しワードラインのうちの一つの共通ワードラインを共有する、メモリ。
【請求項３】
メモリ内の回路を電気的に絶縁する方法であって、
ランダムアクセスメモリセルのアレイを複数の行及び列の形態で提供して前記複数の行及び列の各交点に一つのメモリセルを形成すること、
複数の書き込みビットラインを設け、前記複数の書き込みビットラインの各々を使用して一つのデータ値をランダムアクセスメモリセルの前記アレイの所定の列に位置する所定のメモリセルに格納すること、
複数の読み出しビットラインを設け、前記複数の読み出しビットラインの各々を使用してランダムアクセスメモリセルの前記アレイの所定の列に位置する所定のメモリセルに格納されるデータ値を読み出すことであって、複数の読み出しビットラインは非書き込みであり、かつ、前記複数の書き込みビットラインと平行である、前記複数の読み出しビットラインを設けること、
前記複数の書き込みビットラインを前記複数の読み出しビットラインから電気的に絶縁すること、
ランダムアクセスメモリセルの複数の物理的に隣接する列で前記複数の読み出しビットラインのうちの一つの読み出しビットラインを共有することを備える、方法。
【請求項４】
メモリであって、
複数の行及び列に配列されるランダムアクセスメモリセルのアレイであって、前記複数の行及び列の各交点に一つのメモリセルが形成される前記アレイと、
複数の読み出しビットラインであって、その各々がランダムアクセスメモリセルの前記アレイの所定の列に位置する所定のメモリセルに格納されるデータ値を読み出すために使用され、複数の読み出しビットラインは非書き込みである、前記複数の読み出しビットラインと、
複数の読み出しワードラインであって、その各々がメモリセルの所定の行に位置する所定のセルのデータ値を読み出すために前記読み出しビットラインと共に使用される前記複数の読み出しワードラインとを備え、
トンネル接合メモリセルの複数の物理的に隣接する列は、前記複数の読み出しビットラインのうちの一つの読み出しビットラインを共有し、同じ行の隣接する列の各ランダムアクセスメモリセルは、前記複数の読み出しワードラインのうちの共通のワードラインを共有し、
トンネル接合メモリセルの前記複数の物理的に隣接する列の各々は更に、複数の隣接するビットセルのグループを含み、
グループ選択トランジスタは、グループ選択信号により制御されて、前記複数の隣接する列のうちの一つからの複数の隣接グループのうちの一つを、前記グローバル読み出しビットラインに選択的に接続する、メモリ。
【請求項５】
メモリであって、
複数の行及び列に配列されるランダムアクセスメモリセルのアレイであって、前記複数の行及び列の各交点に一つのメモリセルが形成される前記アレイと、
複数の書き込みビットラインであって、各々が第１の最大電圧を使用する前記複数の書き込みビットラインとを備え、
ランダムアクセスメモリセルの前記アレイは、前記第１の最大電圧よりも低く、制御電極酸化膜により決まる定格電圧を有するトランジスタ群を含む、メモリ。
【請求項６】
メモリであって、
複数の行及び列に配列されるランダムアクセスメモリセルのアレイであって、前記複数の行及び列の各交点に一つのメモリセルが形成される前記アレイと、
複数の読み出しビットラインであって、その各々がランダムアクセスメモリセルの前記アレイの所定の列に位置する所定のメモリセルに格納されるデータ値を読み出すために使用される前記複数の読み出しビットラインと、
複数の読み出しワードラインであって、その各々がメモリセルの所定の行に位置する所定のセルのデータ値を読み出すために前記読み出しビットラインと共に使用される前記複数の読み出しワードラインとを備え、
トンネル接合メモリセルの複数の物理的に隣接する列は、前記複数の読み出しビットラインのうちの一つの読み出しビットラインを共有し、同じ行の隣接する列の各ランダムアクセスメモリセルは、前記複数の読み出しワードラインのうちの共通のワードラインを共有し、
トンネル接合メモリセルの前記複数の物理的に隣接する列の各々は更に、複数の隣接するビットセルのグループを含み、
グループ選択トランジスタは、グループ選択信号により制御されて、前記複数の隣接する列のうちの一つからの複数の隣接グループのうちの一つを、前記グローバル読み出しビットラインに選択的に接続し、
前記複数の隣接ビットセルのグループの各々は、基準端子に直列接続される、メモリ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月1日(2006.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周囲感知システム、特に赤外線暗視システムによって路上車両の前方周囲を検出する方法であって、周囲データが周囲センサによって感知され、前記周囲センサによって感知された前記周囲データ内の対象物が、該データを処理することによって検出され、前記対象物が検出される認知領域が、前記周囲センサによって感知された領域の構成領域に対応し、前記認知領域は複数の構成領域に分割され、ある構成領域で評価が行われ、他の構成領域で評価が行われない方法であって、
前記周囲データに多段評価が施され、前記認知領域が複数の構成領域に分割される前に、前記認知領域を車線に制限するために、前記認知領域で車線がまず規定され、前記構成領域の各々に対して特定の評価が施されることを特徴とする方法。
【請求項２】
車線検出が画像処理方法によって実施されるかあるいは車線がナビゲーションシステムのデータによって規定されることで、前記車線が規定されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記車線を境界付けるために、予め規定された別の許容領域も加えられるように、前記認知領域が制限されることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記認知領域で評価を実施するために、画像処理方法によって対象物の認知が実施されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記認知領域で評価を実施するために、誤警報を排除するため分類方法によって対象物の分類が実施されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記認知領域の評価のために、障害物に関する情報を適時に提供できるように、検出された対象物からの距離が決定されることを特徴とする請求項４又は５に記載の方法。
【請求項７】
追跡方法によって前記認知領域で評価を実施するために、対象物の移動方向が車両自体の移動に対応するかどうかを認知するため、前記対象物の移動が感知されることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月17日(2006.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａ）ポリカーボネート、ポリエステルカーボネート、ポリアミド、ポリアルキレンテレフタレートおよびポリオキシメチレンの群から少なくとも１つが選択される、熱可塑性樹脂（thermoplastic）または熱可塑性樹脂の混合物、および
Ｂ）少なくとも２つのグラフトポリマーＢ．１およびＢ．２の共沈（co-precipitation）によって得られた混合物
を含有する組成物。
【請求項２】
難燃剤（flameproofing agents）を含有する、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
ビニル（コ）ポリマーを含有する、請求項１記載の組成物。
【請求項４】
モノマー状およびオリゴマー状リン化合物の群から少なくとも１つが選択される難燃剤を含有する、請求項２記載の組成物。
【請求項５】
ビニル芳香族化合物、ビニルシアニド、（メタ）アクリル酸（Ｃ１−Ｃ８）−アルキルエステル、不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸の誘導体の群から少なくとも１つのモノマーに基づいたビニル（コ）ポリマーを含有する、請求項３記載の組成物。
【請求項６】
各々の場合
ｉ）少なくとも１つのビニルモノマー５〜９５重量％と
ii）ガラス転移温度＜１０℃を有する１つ以上のグラフトベース９５〜５重量％
である、少なくとも２つのグラフトポリマーＢ．１およびＢ．２の共沈により得られた混合物を含有する、請求項１記載の組成物。
【請求項７】
モノマーｉ）が、
ｉ１）ビニル芳香族化合物、環置換されたビニル芳香族化合物、および（メタ）アクリル酸（Ｃ１−Ｃ８）−アルキルエステルから選択される、少なくとも１つのモノマー５０〜９９重量部、および
ｉ２）ビニルシアニド、（メタ）アクリル酸（Ｃ１−Ｃ８）−アルキルエステルおよび不飽和カルボン酸の誘導体から選択される、少なくとも１つのモノマー１〜５０重量部
の混合物である、請求項６記載の組成物。
【請求項８】
グラフトベースが、ジエンゴム、ＥＰ（Ｄ）Ｍゴムおよびアクリレートゴムの群から少なくとも１つが選択される、請求項６記載の組成物。
【請求項９】
グラフトポリマーＢ．１：Ｂ．２の重量比が９５：５〜５：９５である、請求項１記載の組成物。
【請求項１０】
グラフトポリマーＢ．１：Ｂ．２の重量比が９０：１０〜２５：７５である、請求項９記載の組成物。
【請求項１１】
グラフトポリマーＢとビニル（コ）ポリマーＢ．３との重量比が９０：１０〜１０：９０でビニル（コ）ポリマーＢ．３を含有する、請求項３記載の組成物。
【請求項１２】
Ａ）２０〜９８．５重量部およびＢ）１．５〜８０重量部を含有する、請求項１記載の組成物。
【請求項１３】
成形品の製造における、請求項１記載の組成物の使用。
【請求項１４】
請求項１〜１２記載の組成物から得られ得る成形物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月2日(2006.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エチレン及びＣ３〜２０のアルファオレフィンコモノマーのコポリマー２０〜４０重量％、及びより低い重量平均分子量のエチレンポリマー６０〜８０重量％を含むポリエチレン組成物において、上記組成物の複数のポリエチレンが全体として９３５〜９６５ｋｇ／ｍ３の密度、６００００〜３０００００ｇ／モルの重量平均分子量、０．１〜１０ｇ／１０分の１９０℃におけるＭＦＲ２．１６、及び２．５〜１０の分子量分布（ＭＷＤ）を有し、上記コポリマーが０．００６〜９モル％のコモノマー含有量、及び１０００炭素当たり０．０３〜４５分岐の分岐度を有し、上記ポリマーが９３９〜９７５ｋｇ／ｍ３の密度、及び２００００〜２０００００ｇ／モルの重量平均分子量を有するポリエチレン組成物。
【請求項２】
上記組成物が長鎖の分岐を含まないところの、請求項１に記載のポリエチレン組成物。
【請求項３】
上記コポリマーが、非架橋型ビス−シクロペンタジエニルメタロセン触媒を用いて製造されるところの、請求項１又は２のいずれか１項に記載のポリエチレン組成物。
【請求項４】
５００〜１５００Ｐａ．ｓのη３００値、及び１３００〜８００００Ｐａ．ｓのη０．０５値を有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５】
１０００Ｐａ．ｓ未満のη３００値及び１３００００Ｐａ．ｓ未満のη０．０５値を有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載のポリエチレン組成物を押出、キャスティング、又は金型成形すること含むポリエチレン物品の製造方法。
【請求項７】
上記コポリマーが、非架橋型のビス−シクロペンタジエニルメタロセン触媒により触媒された、エチレン及びＣ３〜２０のアルファオレフィンのコモノマーの重合化により製造されるところの、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
上記組成物をブロー成形することを含む、請求項６〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
ポリエチレン物品の製造において請求項１〜５のいずれか１項に記載のポリエチレン組成物を使用する方法。
【請求項１０】
上記組成物をブロー成形することによる上記物品の製造における請求項９に記載の使用方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月26日(2006.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）組成物の重量基準で６２〜６７重量％の量のペンタフルオロエタン、トリフルオロメトキシジフルオロメタンまたはヘキサフルオロシクロプロパン、またはこれらの２つ以上の混合物、
（ｂ）組成物の重量基準で２６〜３６重量％の量の１,１,２,２−あるいは１,１,２,２−テトラフルオロエタン、トリフルオロメトキシペンタフルオロエタン、１,１,１,２,３,３−ヘプタフルオロプロパンまたはこれらの２つ以上の混合物、
（ｃ）組成物の重量基準で３〜４重量％の量のイソブタン、および
（ｄ）該組成物が他のフルオロカーボン成分を５％以上含まない、
を含んでなる組成物。
【請求項２】
成分（ｃ）が前記組成物の重量基準で約３.５重量％の量で存在する請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
成分（ａ）が前記組成物の重量基準で約６４〜約６６重量％の量で存在する請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
成分（ｂ）が前記組成物の重量基準で約２８〜約３２重量％の量で存在する請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
成分（ａ）：成分（ｂ）の重量比が少なくとも１.５：１である請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記重量比が１.５：１〜３：１である請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
（ａ）組成物の重量基準で６２〜６７重量％の量のペンタフルオロエタン、
（ｂ）組成物の重量基準で２６〜３６重量％の量の１,１,１,２−テトラフルオロエタン、
（ｃ）組成物の重量基準で３〜４重量％の量のイソブタン、
（ｄ）該組成物が他のフルオロカーボン成分を５％以上含まない、及び
（ｅ）場合により、鉱油、アルキルベンゼン潤滑剤、合成潤滑剤、及びフッ化油からなる群から選択される１種以上の潤滑剤、ならびに極圧剤、耐摩耗性改良剤、酸化防止剤、熱安定性改良剤、腐触防止改良剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、清浄剤、消泡剤、及び粘度調節剤からなる群から選択される１種以上の添加剤、
から本質的になる組成物。
【請求項８】
更に潤滑剤及び添加剤からなる群から選択される追加の成分を少なくとも含んでなる請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
潤滑剤が鉱油、アルキルベンゼン潤滑剤、合成潤滑剤、及びフッ化油からなる群から選択される１種以上の潤滑剤である請求項８記載の組成物。
【請求項１０】
添加剤が、極圧剤、耐摩耗性改良剤、酸化防止剤、熱安定性改良剤、腐触防止改良剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、清浄剤、消泡剤、及び粘度調節剤からなる群から選択される１種以上の添加剤である、請求項９記載の組成物。
【請求項１１】
請求項１記載の組成物を凝縮し、その後冷却されるべき物体の近傍で該組成物を蒸発させることを含んでなる冷凍を生成させる方法。
【請求項１２】
請求項１記載の組成物を冷媒として含む冷凍装置。
【請求項１３】
請求項７記載の組成物を凝縮し、その後冷却されるべき物体の近傍で該組成物を蒸発させることを含んでなる冷凍を生成させる方法。
【請求項１４】
請求項７記載の組成物を冷媒として含む冷凍装置。
【請求項１５】
組成物が、成分（ｄ）としての他のフルオロカーボンが０％である、請求項１記載の組成物。
【請求項１６】
組成物が、成分（ｄ）としての他のフルオロカーボンが０％である、請求項７記載の組成物。
【請求項１７】
組成物が、成分（ｄ）としての他のフルオロカーボンを２％未満含む、請求項１記載の組成物。
【請求項１８】
組成物が、成分（ｄ）としての他のフルオロカーボンを２％未満含む、請求項７記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月13日(2006.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
少なくとも１種類の第４級アンモニウム化合物および少なくとも１種類のポリエーテルを含有するサテンニッケル皮膜を電解析出するための酸めっき浴において、上記少なくとも１種類のポリエーテルは、パーフルオロ化アルキル鎖と有機シリコン鎖からなる群から選択され、少なくとも１つの強疎水性側鎖を有する酸めっき浴。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月2日(2006.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性支持体の塗工時のミスト発生を低減するための、ａ）ＭaＭHbＤcＤHdＴeＴHfとｂ）量αのＣＨ2＝ＣＨＲ1との次式のヒドロシリル化反応生成物を含んでなる組成物。
Ｍ'gＭaＭHb-gＤcＤ'hＤHd-hＴeＴ'iＴHf-i
式中、α＋１≦ｂ＋ｄ＋ｆ、１．５≦ｂ＋ｄ＋ｆ≦１００、２≦ａ＋ｂ≦１２、０≦ｃ＋ｄ≦１０００、０≦ｅ＋ｆ≦１０であり、Ｒ1はハロゲン、水素、Ｃ1〜Ｃ60一価炭化水素基、Ｃ1〜Ｃ60一価ポリエステル基、Ｃ1〜Ｃ60一価ニトリル基、Ｃ1〜Ｃ60一価アルキルハライド基及びＣ1〜Ｃ60一価ポリエーテル基並びにこれらの混合物からなる群から選択される一価基であり、
Ｍ＝Ｒ2Ｒ3Ｒ4ＳｉＯ1/2、
ＭH＝ＨＲ5Ｒ6ＳｉＯ1/2、
Ｄ＝Ｒ7Ｒ8ＳｉＯ2/2、
ＤH＝ＨＲ9ＳｉＯ2/2、
Ｔ＝Ｒ11ＳｉＯ3/2、
ＴH＝ＨＳｉＯ3/2、
Ｍ'＝（ＣＨ2ＣＨＲ1）Ｒ5Ｒ6ＳｉＯ1/2、
Ｄ'＝（ＣＨ2ＣＨＲ1）Ｒ9ＳｉＯ2/2、
Ｔ'＝（ＣＨ2ＣＨＲ1）ＳｉＯ3/2であり
Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ11は各々独立にＣ1〜Ｃ60一価炭化水素基から群から選択され、下付文字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ及びｉは、ｂ＋ｄ＋ｆ−ｇ−ｈ−ｉ＞０であることを条件として、０又は正の数である。
【請求項２】
ａ）請求項１記載の反応生成物組成物とｂ）（ＭjＭVikＤlＤVimＴnＴVio）pＱp）qとのヒドロシリル化反応生成物を含んでなる組成物。
式中、下付文字ｊ、ｋ、ｌ、ｍ、ｎ、ｏ及びｐは、ｋ＋ｍ＋ｏ＞０、ｋ＋ｍ＋ｏ＜ｂ＋ｄ＋ｆ−ｇ−ｈ−ｉ、ｐが０．４〜４．０であることを条件として、０又は正の数であり、ｑは、（ｂ＋ｄ＋ｆ−ｇ−ｈ−ｉ）／（（（ｋ＋ｍ＋ｏ）ｐ）ｑ）が４．５９〜０．２５であることを条件として、０でない正の数であり、
ＭVi＝ＲViＲ5Ｒ6ＳｉＯ1/2、
ＤVi＝ＲViＲ10ＳｉＯ2/2、
ＴVi＝ＲViＳｉＯ3/2、
Ｑ＝ＳｉＯ4/2であり、
Ｒ10は独立にＣ1〜Ｃ60一価炭化水素基から選択され、各ＲViは独立にＣ2〜Ｃ60一価アルケニル炭化水素基から選択される。
【請求項３】
Ｒ1が、Ｃ1〜Ｃ60一価炭化水素基、Ｃ1〜Ｃ60一価ポリエステル基、Ｃ1〜Ｃ60一価ニトリル基、Ｃ1〜Ｃ60一価アルキルハライド基及びＣ1〜Ｃ60一価ポリエーテル基からなる群から選択される、請求項２記載の組成物。
【請求項４】
Ｒ1が、Ｃ15〜Ｃ60一価炭化水素基、Ｃ15〜Ｃ60一価ポリエステル基、Ｃ15〜Ｃ60一価ニトリル基、Ｃ15〜Ｃ60一価アルキルハライド基及びＣ15〜Ｃ60一価ポリエーテル基からなる群から選択される、請求項２記載の組成物。
【請求項５】
Ｒ1が、Ｃ30〜Ｃ60一価炭化水素基、Ｃ30〜Ｃ60一価ポリエステル基、Ｃ30〜Ｃ60一価ニトリル基、Ｃ30〜Ｃ60一価アルキルハライド基及びＣ30〜Ｃ60一価ポリエーテル基からなる群から選択される、請求項２記載の組成物。
【請求項６】
Ｒ1がスチリルである、請求項２記載の組成物。
【請求項７】
各Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11がメチルである、請求項３乃至請求項６のいずれか１項記載の組成物。
【請求項８】
ａ）ＭaＭHbＤcＤHdＴeＴHfとｂ）量αのＣＨ2＝ＣＨＲ1との次式のヒドロシリル化反応生成物を含んでなる組成物。
Ｍ'gＭaＭHb-gＤcＤ'hＤHd-hＴeＴ'iＴHf-i
式中、α＋１≦ｂ＋ｄ＋ｆ、ｇ≦ｂ、ｈ≦ｄ、ｉ≦ｆ、１．５≦ｂ＋ｄ＋ｆ≦１００、２≦ａ＋ｂ≦１２、０≦ｃ＋ｄ≦１０００、０≦ｅ＋ｆ≦１０であり、Ｒ1はハロゲン、水素、Ｃ1〜Ｃ60一価炭化水素基、Ｃ1〜Ｃ60一価ポリエステル基、Ｃ1〜Ｃ60一価ニトリル基、Ｃ1〜Ｃ60一価アルキルハライド基及びＣ1〜Ｃ60一価ポリエーテル基からなる群から選択される一価基であり、
Ｍ＝Ｒ2Ｒ3Ｒ4ＳｉＯ1/2、
ＭH＝ＨＲ5Ｒ6ＳｉＯ1/2、
Ｄ＝Ｒ7Ｒ8ＳｉＯ2/2、
ＤH＝ＨＲ9ＳｉＯ2/2、
Ｔ＝Ｒ11ＳｉＯ3/2、
ＴH＝ＨＳｉＯ3/2、
Ｍ'＝（ＣＨ2ＣＨＲ1）Ｒ5Ｒ6ＳｉＯ1/2、
Ｄ'＝（ＣＨ2ＣＨＲ1）Ｒ9ＳｉＯ2/2、
Ｔ'＝（ＣＨ2ＣＨＲ1）ＳｉＯ3/2であり、
Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ11は各々独立にＣ1〜Ｃ60一価炭化水素基から選択され、下付文字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ及びｉは、ｇ＞０、ｂ−ｇ＞０、ｈ＞０及びｄ−ｈ＞０であることを条件として、０又は正の数である、
【請求項９】
ａ）請求項８記載の反応生成物組成物とｂ）（ＭjＭVikＤlＤVimＴnＴVio）pＱp）qとのヒドロシリル化反応生成物を含んでなる組成物。
式中、下付文字ｊ、ｋ、ｌ、ｍ、ｎ、ｏ及びｐは、ｋ＋ｍ＋ｏ＞０、ｋ＋ｍ＋ｏ＜ｂ＋ｄ＋ｆ−ｇ−ｈ−ｉ、ｐが０．４〜４．０であることを条件として、０又は正の数であり、ｑは、（ｂ＋ｄ＋ｆ−ｇ−ｈ−ｉ）／（（（ｋ＋ｍ＋ｏ）ｐ）ｑ）が４．５９〜０．２５であることを条件として、０でない正の数であり、
ＭVi＝ＲViＲ5Ｒ6ＳｉＯ1/2、
ＤVi＝ＲViＲ10ＳｉＯ2/2、
ＴVi＝ＲViＳｉＯ3/2、
Ｑ＝ＳｉＯ4/2であり、
Ｒ10は独立にＣ1〜Ｃ60一価炭化水素基から選択され、各ＲViは独立にＣ2〜Ｃ60一価アルケニル炭化水素基から選択される。
【請求項１０】
可撓性基材の塗工時のミスト発生を低減する方法であって、基材を塗工するためのコーティング組成物を製造し、該コーティング組成物に請求項１乃至請求項９のいずれか１項記載の組成物を添加することを含んでなる方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
塗膜の不均一性によって生じるもう一つの問題は、塗工装置付近で作業する塗工装置作業者の産業衛生及び安全性に関する問題である。
【特許文献１】米国特許第２６７６１８２号明細書
【特許文献２】米国特許第３１５９６０１号明細書
【特許文献３】米国特許第３１５９６６２号明細書
【特許文献４】米国特許第３２２０９７２号明細書
【特許文献５】米国特許第３７１５３３４号明細書
【特許文献６】米国特許第３７７５４５２号明細書
【特許文献７】米国特許第３８１４７３０号明細書
【特許文献８】米国特許第４５２０１６０号明細書
【特許文献９】米国特許第５３８９３６５号明細書
【特許文献１０】米国特許第５３９９６１４号明細書
【特許文献１１】米国特許第５６２５０２３号明細書
【特許文献１２】米国特許第５６９８６５５号明細書
【特許文献１３】米国特許第５８１７７２９号明細書
【特許文献１４】米国特許第５９９４４５４号明細書
【特許文献１５】米国特許第６２１１３２３号明細書
【特許文献１６】米国特許出願公開第２００２／００５８２２３号明細書
【特許文献１７】国際公開第０１／９８４１８号パンフレット
【特許文献１８】国際公開第０１／９８４２０号パンフレット
【特許文献１９】国際公開第０２／１８５０６号パンフレット
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月25日(2006.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内側表面を有する液体不浸透性材料の一体的に形成された衣服本体と、
前記一体的に形成された衣服本体の前記内側表面の少なくとも一部に貼付された繊維（２４）とを備える保護衣服であって、
前記衣服本体が前記衣服の所望域につくられた異なった厚みの域を有することを特徴とする保護衣服。
【請求項２】
前記一体的に形成された衣服本体の前記内側表面に関連付けられた吸収性デバイス（２０、６２）を更に含む請求項１に記載の保護衣服。
【請求項３】
前記衣服本体の少なくとも一部分に、蒸泄を可能にする多数の穿孔が設けられる、請求項１又は請求項２に記載の保護衣服。
【請求項４】
着用者上で前記衣服を調整するために、前記衣服本体に関連付けられた調整デバイス（７４）を更に含む請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の保護衣服。
【請求項５】
前記一体的に形成された衣服本体に関連付けられたコネクタ（９４）、及び前記コネクタによって前記一体的に形成された衣服本体に連結される管（９６）を更に含む請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の保護衣服。
【請求項６】
前記繊維（２４）が任意の適切な材料からなる請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の保護衣服。
【請求項７】
前記繊維（２４）が綿である、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の保護衣服。
【請求項８】
前記調整デバイス（７４）がストラップ、スナップ、クリップ、あるいはファスナである請求項４に記載の保護衣服。
【請求項９】
前記吸収性デバイス（２０）は吸収性材料あるいは吸収性パッドである請求項２から請求項８のいずれか１項に記載の保護衣服。
【請求項１０】
前記一体的に形成された衣服本体の内側表面が第１部分と第２部分を備える請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の保護衣服。
【請求項１１】
前記吸収性デバイス（２０）が前記一体的に形成された衣服本体の内側表面の前記第２部分と関連付けられる請求項１０に記載の保護衣服。
【請求項１２】
前記第２部分が前記吸収性デバイス（２０）を超えて延在する請求項１０に記載の保護衣服。
【請求項１３】
前記吸収性デバイス（２０）が前記第２部分を超えて延在する請求項１０に記載の保護衣服。
【請求項１４】
前記内側表面の前記第１部分に蒸泄を可能にする多数の穿孔が設けられる請求項１０から請求項１３のいずれか１項に記載の保護衣服。
【請求項１５】
前記内側表面の前記第２部分が蒸泄を防止するように実質的に穿孔されていない請求項１０から請求項１４のいずれか１項に記載の保護衣服。
【請求項１６】
前記繊維（２４）が前記吸収性デバイス（２０）に関連付けられた前記衣服本体の部分の近傍である請求項２及び請求項９から請求項１５のいずれか１項に記載の保護衣服。
【請求項１７】
前記一体的に形成された衣服本体が外側表面を有し、前記一体的に形成された衣服本体の前記外側表面の少なくとも一部分に貼付される繊維（２４）をさらに備える、請求項１から請求項１６のいずれか１項に記載の保護衣服。
【請求項１８】
前記衣服が体にぴったりとした縫い目のない衣服である請求項１から請求項１７のいずれか１項に記載の保護衣服。
【請求項１９】
前記衣服が包帯材（７０）である請求項１から請求項１８のいずれか１項に記載の保護衣服。
【請求項２０】
前記衣服が下着である請求項１から請求項１９のいずれか１項に記載の保護衣服。
【請求項２１】
前記包帯材（７０）が包帯あるいは包帯パッドである請求項１９に記載の保護衣服。
【請求項２２】
前記下着がパンツ（５０）あるいはブラジャ（６０）である請求項２０に記載の保護衣服。
【請求項２３】
前記液体不浸透性材料が天然エラストマーあるいは合成エラストマーである請求項１から請求項２２のいずれか１項に記載の保護衣服。
【請求項２４】
前記液体不浸透性材料及び／又は前記繊維が、少なくとも１つの顔料、染料、又はそれらの組み合わせを備える請求項１から請求項２３のいずれか１項に記載の保護衣服。
【請求項２５】
前記液体不浸透性材料及び／又は前記繊維が、少なくとも１つの芳香を備える請求項１から請求項２４のいずれか１項に記載の保護衣服。
【請求項２６】
エンボス模様又はエンボスパタンをさらに備える請求項１から請求項２５のいずれか１項に記載の保護衣服。
【請求項２７】
前記コネクタ（９４）が吸収性材料と関連付けられる請求項５から請求項２６のいずれか１項に記載の保護衣服。
【請求項２８】
前記管（９６）が体から液体を吸収し、又は移送することができる請求項５から請求項２７のいずれか１項に記載の保護衣服。
【請求項２９】
前記管（９６）が液体を体に送達することができる請求項５から請求項２８のいずれか１項に記載の保護衣服。
【請求項３０】
前記コネクタ（９４）が前記衣服本体と一体的に形成される請求項５から請求項２９のいずれか１項に記載の保護衣服。
【請求項３１】
前記コネクタ（９４）が前記包帯材本体と別個であるが、前記包帯材本体に取り付けられる請求項５から請求項２９のいずれか１項に記載の保護衣服。
【請求項３２】
前記コネクタ（９４）が、液体不浸透性材料で構成され、前記液体不浸透性材料が天然エラストマー又は合成エラストマーである請求項５から請求項３１のいずれか１項に記載の保護衣服。
【請求項３３】
前記衣服本体が裂け目域（４２）を備える請求項１から請求項３２のいずれか１項に記載の保護衣服。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月17日(2006.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
次に、これら溶液を試料布地（「真」白色（true white））に、パッド及びニップロールを用いて、含浸量約８５〜９０％owfとなるように適用した。布地上への活性化合物AlphasanTMの付着量は、約１．０％owfであった。被覆した試料布地、対照布地及び比較布地について、ほとんどの場合ある回数の洗濯の前及び後に、種々の異なる特性を分析した。下記の各洗濯試験において、布地は、標準的な家庭用洗濯機（Sears KenmoreTM Heavy Duty, Super Capacity）を用い、温度制御器を４０．５±３℃（１０５±５°Ｆ）にセットして、AATCC Test Method 130-1981 に従って洗濯した。すすぎ温度は冷温（２１．１±３℃（７０±５°Ｆ））に設定した。標準サイクル（１０分洗濯サイクル；２８分全サイクル）で中程度の洗濯物量に対して、TideTM粉末洗剤約１００ｇを使用した。試料布地を取り出し、標準的な家庭用乾燥機により、綿設定で１０分間乾燥した。上記で製造した布地のいずれも、導電性は示さなかった。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月4日(2006.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生物成長プレートを走査する装置であって、
生物成長プレートを１つ以上の異なる照明色で選択的に照明し、第１の照明色を生成する第１の光源と、第２の照明色を生成する第２の光源と、第３の照明色を生成する第３の光源と、を含む多色照明源と、
前記生物成長プレートの画像を取り込むように配向されたカメラと、
前記第１、第２及び第３の光源の各々に対する照明継続時間と照明強度とを制御するように前記照明源を制御し、前記異なる照明色の各々で照明中に前記生物成長プレートの１つ以上の画像を取り込むように前記カメラを制御するプロセッサと、を含む装置。
【請求項２】
前記プロセッサが前記カメラで取り込んだ画像のうちの２つ以上を合成して前記生物成長プレートの合成画像を形成する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記多色照明源が前記生物成長プレートの第１の側を照明する第１の照明部品と、前記生物成長プレートの第２の側を照明する第２の照明部品と、を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記第１の光源が赤色照明を生成する１組の赤色発光ダイオードを含み、
前記第２の光源が緑色照明を生成する１組の緑色発光ダイオードを含み、
前記第３の光源が青色照明を生成する１組の青色発光ダイオードを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記プロセッサが、前記発光ダイオードの組の各々に対して照明継続時間と照明強度とを独立して制御する１組のプログラム可能コントローラを含む、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記カメラが単色カメラおよび二次元エリアカメラからなる群から選択される、請求項１に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月26日(2006.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のピクセルを有し、各々のピクセルの所定の色に対する照度が、パルス幅セグメントのシーケンスの各セグメント内のパルスに応答して制御され、各セグメントの各パルスの状態が、そのパルスに伴うインターバルの間ピクセルが照射されるかどうかを決定する、パルス幅変調表示システムの作動方法であって、
選択されたパルスを発生させてピクセル輝度を増加させ、第１および第２のピクセル輝度限界間のピクセル輝度レベルの第１の範囲内で、第１の大きい持続パルス成分が発生されて第２のピクセル輝度限界に到達し、第２および第３のピクセル輝度限界間のピクセル輝度レベルの第２の範囲内で、第１の大きい持続パルス成分が発生され続け、第３のピクセル輝度限界に到達すると第１の大きい持続パルス要素が発生されたまま第２の大きい持続パルス成分が発生されるステップを有する、前記方法。
【請求項２】
前記第１および第２の大きい持続パルス成分のうちの少なくとも１つが、単一のパルスから成る、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１および第２の大きい持続パルス成分のうちの少なくとも１つが、パルスの組合せから成る、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記各大きい持続パルス成分の前記持続期間が、選択されてピクセル輝度の緩やかな増加に伴う過渡現象が最小化され、ピクセル輝度限界に到達して各セグメントのパルスの数を最小化する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
少なくとも１組の前記大きい持続パルス成分が、同じセグメントに存在する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
少なくとも１組の前記大きい持続パルス成分が、異なるセグメントに存在する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
ピクセル輝度を増加させるために発生された前記パルスが、実質的に同じセグメントに限定される、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
複数のピクセルを有し、各々のピクセルの所定の色に対する照度が、パルス幅セグメントのシーケンスの各セグメント内のパルスに応答して制御され、各セグメントの各パルスの状態が、そのパルスに伴うインターバルの間ピクセルが照射されるかどうかを決定する、パルス幅変調表示システムの作動方法であって、
選択されたパルスを停止することによりピクセル輝度を減少させ、所定のピクセル輝度限界内で、発生されていた第１の大きい持続パルス成分を正に停止させて、連続したより低いピクセル輝度限界で、各々の予め発生され未だ停止されていない大きい持続パルス成分を発生させた状態で、第１の大きい持続パルス成分が停止されたままで第２の大きい持続パルス成分が停止されるステップを有する、前記方法。
【請求項９】
前記第１および第２の大きい持続パルス成分のうちの少なくとも１つが、単一のパルスから成る、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記第１および第２の大きい持続パルス成分のうちの少なくとも１つが、パルスの組合せから成る、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記各大きい持続パルス成分の前記持続時間が、選択されてピクセル輝度の一体的減少に伴って過渡現象が最小化され、ピクセル輝度限界に到達して各セグメントのパルスの数が最小化される、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
前記大きい持続パルス成分が、同じセグメントに存在する、請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
前記大きい持続パルス成分が、異なるセグメントに存在する、請求項８に記載の方法。
【請求項１４】
前記停止されたパルスが、実質的に同じセグメントに限定される、請求項８に記載の方法。
【請求項１５】
光源と、
入射光をスクリーンに集束させるための映写レンズと、
アレイに配置された複数の個々のマイクロミラーを有するディジタル・マイクロミラー・デバイスであって、個々のマイクロミラーは、関連するドライバ・セルに適用されるドライブ信号の受信に応答して円弧内で回転可能であり、光源からの光を映写レンズ内およびスクリーン上に反射して、その画素を照射する、前記ディジタル・マイクロミラー・デバイスと、
反射させて映写レンズ内に投射するため三原色のそれぞれを連続してディジタル・マイクロミラー・デバイスに照射するための手段と、
選択されたパルスを発生することによりピクセル輝度を増加するためのパルス幅セグメントのシーケンスを形成するプロセッサであって、第１および第２のピクセル輝度限界間の輝度レベルの第１の範囲内で、第１および第２のピクセル輝度限界間の輝度レベルの第１の範囲内で第１の大きい持続パルス成分が発生されて、第２のピクセル輝度限界に到達し、第２および第３のピクセル輝度限界間のピクセル輝度レベルの第２の範囲内で、第１の大きい持続パルス成分が発生されたままで、第３のピクセル輝度限界に到達すると、第１の大きい持続パルスを発生させたままで、第２の大きい持続パルス成分が発生される前記プロセッサと、
ディジタル・マイクロミラー・デバイスを駆動して相当するピクセルを照射するためプロセッサにより生成されたパルス幅のシーケンスに応答するドライバ回路と、
を有する、パルス幅変調表示システム。
【請求項１６】
前記第１および第２の大きい持続パルス成分のうちの少なくとも１つが、単一のパルスから成る、請求項１５に記載のパルス幅変調表示システム。
【請求項１７】
前記第１および第２の大きい持続パルス成分のうちの少なくとも１つが、パルスの組合せから成る、請求項１５に記載のパルス幅変調表示システム。
【請求項１８】
光源と、
入射光をスクリーンに集束させるための映写レンズと、
アレイに配置された複数の個々のマイクロミラーを有するディジタル・マイクロミラー・デバイスであって、個々のマイクロミラーは、関連するドライバ・セルに適用されるドライブ信号の受信に応答して円弧内で回転可能であり、光源からの光を映写レンズ内およびスクリーン上に反射して、その画素を照射するものであり、
反射させて映写レンズ内に投射するため三原色のそれぞれを連続してディジタル・マイクロミラー・デバイスに照射するための手段と、
選択されたパルスを停止することによりピクセル輝度を減少するためのパルス幅セグメントのシーケンスを形成するプロセッサであって、他の予め発生されていた大きい持続パルス成分で未だ停止されていないものを発生させた状態で、第１のピクセル輝度限界で、発生されていた第１の大きい持続パルス成分が正に停止されて、第２の連続したより低いピクセル輝度限界で、第１の大きい持続パルス成分が停止されたままで、第２の大きい持続パルスを停止される前記プロセッサと、
ディジタル・マイクロミラー・デバイスを駆動して相当するピクセルを照射するためプロセッサにより生成されたパルス幅のシーケンスに応答するドライバ回路と、
を有する、パルス幅変調表示システム。
【請求項１９】
前記第１および第２の大きい持続パルス成分のうちの少なくとも１つが単一のパルスから成る、請求項１８に記載のパルス幅変調表示システム。
【請求項２０】
前記第１および第２の大きい持続パルス成分のうちの少なくとも１つがパルスの組合せから成る、請求項１８に記載のパルス幅変調表示システム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月10日(2006.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成分（Ａ）として、式
【化１】
2006508381.tif 000001
〔式中、環Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは、ヒドロキシ又は部分
【化２】
2006508381.tif 000002
によって置換されており、ここで、Ｒ１は、水素又はＣ１〜Ｃ４−アルキルであり、Ｒ２は、水素又はＣ１〜Ｃ４−アルキルであり、ｎは、０、１、２、又は３であり、環Ｅは、置換されていないか、又はＣ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、ヒドロキシ、ＮＨＣＯＲ３、ＮＨＳＯ２Ｒ４又はＳＯ２ＮＨＲ５によって置換されており、ここで、Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル又はフェニルであり、Ｒ４は、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル又はフェニルであり、Ｒ５は、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル又はフェニルである〕
の緑色着色剤と、
（ｂ）成分（Ｂ）として、アルカリ可溶性オリゴマー又はポリマー（反応性又は非反応性）と、
（ｃ）成分（Ｃ）として、重合可能なモノマーと、
（ｄ）成分（Ｄ）として、光開始剤と、
（ｅ）成分（Ｅ）として、エポキシ化合物と、
さらに、所望により、
（ｆ）成分（Ｆ）として、さらなる添加物類とを含む、感光性樹脂組成物。
【請求項２】
請求項１記載の感光性樹脂組成物を用いるソルダーレジストプロセスであって、当該プロセスが、
（１）成分（Ａ）〜（Ｅ）及び所望により（Ｆ）を混合する工程と、
（２）得られる組成物を基板に適用する工程（「基板のコーティング工程」）と、
（３）存在する場合、８０〜９０℃の温度で、溶媒を蒸発させる工程と、
（４）コーティングされる基板をネガマスクを介するか又は直接レーザー撮像によって、照射にさらす工程と、
（５）照射されるサンプルをアルカリ水溶液を用いて現像し、硬化していない領域を除去する工程と、および
（６）前記サンプルを約１５０℃の温度で熱硬化させ、カルボン酸とエポキシ成分との間の架橋を開始させる工程とを含む、プロセス。
【請求項３】
請求項２に記載のプロセスによって得られるコーティングされた基板。
【請求項４】
請求項１記載の感光性樹脂組成物でコーティングされる基板。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月27日(2006.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
供給される第１サウンドフレームから正弦波成分を表す第２サウンドフレーム及び残差を表すオプションとしての第３サウンドフレームを決定する方法において、該方法が、
・  前記第１サウンドフレームにおいて抽出されていない成分から正弦波成分を決定する第１ステップと、
・  前記第１サウンドフレームに関する重要度を決定する第２ステップと、
・  前記第１サウンドフレームから前記正弦波成分を抽出すると共に該正弦波成分を前記第２サウンドフレームに組み込む第３ステップと、
・  前記重要度が停止規準を満たすまで前記各ステップを繰り返す第４ステップと、
を有し、前記第１サウンドフレームに関する重要度を決定する第２ステップが、前記第３ステップの前に実行されるか、又は前記第３ステップと前記第４ステップとの間で実行されることを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、
・  前記重要度が前記停止規準を満たした場合に、前記第３サウンドフレームを前記第１サウンドフレームに設定する第５ステップ、
を更に有することを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の方法において、
前記第１サウンドフレームから前記正弦波成分を抽出すると共に該正弦波成分を前記第２サウンドフレームに組み込む第３ステップが、
・  前記正弦波成分を前記第１サウンドフレームから除去する第６ステップ、
を更に有していることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１ないし３の何れか一項に記載の方法において、前記重要度がエネルギ量であることを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１ないし４の何れか一項に記載の方法において、前記重要度が、サウンドに対する人間の応答のような音響心理学的情報を考慮に入れることを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項１ないし５の何れか一項に記載の方法において、前記重要度は知覚尺度が前記第１サウンドフレームを重要でないと見なす場合に前記停止規準を満たし、該知覚尺度がサウンドに対する耳の知覚を表すことを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項１ないし６の何れか一項に記載の方法において、前記重要度が、
【数１】
2006508386.tif 000001
のうちの少なくとも一方を有する音響心理学的エネルギレベルであり、ここで、Ｒm(f)は成分が除去された可能性のある前記第１サウンドフレームのパワースペクトルを表し、ａ(f)はパワーで計算された前記第１サウンドフレームのマスキング閾であるmsk(f)の逆関数を表し、ｆは周波数ビンを表し、ｍは前記第１ステップないし前記第３ステップが現在何回実行されているかを表す現反復番号を表し（ｍは当該反復の開始時に０に設定される）、ΔＤは前記検出可能性の増分を表すことを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項１ないし７の何れか一項に記載の方法において、前記重要度は前記検出可能性が１以下である場合に前記停止規準を満たすことを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項１ないし８の何れか一項に記載の方法において、前記重要度は前記低下が所定値より小さい場合に前記停止規準を満たすことを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項１ないし７の何れか一項に記載の方法において、オプションとして前記重要度が前記停止規準を満たした場合に前記第３サウンドフレームを前記第１サウンドフレームに設定する第５ステップ及び前記正弦波成分を前記第１サウンドフレームから除去する第６ステップを伴う前記第１〜第４ステップが少なくとももう１つのサウンドフレームに対して更に実行され、これに対応して前記第１、第２及び第３サウンドフレームの新たな組が適用され、発生されることを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項１ないし１０の何れか一項に記載の方法を実行するコンピュータシステム。
【請求項１２】
コンピュータ読み取り可能な媒体上に記憶されたプログラムコード手段を有するコンピュータプログラムであって、該コンピュータプログラムがコンピュータ上で実行された場合に請求項１ないし１０の何れか一項に記載の方法を実行するコンピュータプログラム。
【請求項１３】
前記方法のステップを実行する手段を有するような装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月15日(2006.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
実質的に直交する縦方向および横方向に延びる通路および／または壁を有する建造物における屋内の測位方法であって、
縦方向に対してｃｏｓｅｃ２の感度パターンを有するアンテナを備える基地局を設け、
全方向性アンテナを備える移動局を設け、
一方の前記基地局および前記移動局から他方の前記移動局および基地局に測距信号を送信し、
受信した測距信号の、前記送信信号との比較による、相対信号強度を測定して、前記移動局から前記基地局までの横方向距離の大きさを得る、
方法。
【請求項２】
第２の基地局を設け、
一方の前記第２の基地局および前記移動局から他方の前記第２の基地局および前記移動局に第２の測距信号を送信し、
複数の前記基地局と前記移動局との間で送信される前記測距信号からのデータを使用して、前記移動局の位置を決定する、
ことをさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２の基地局が、横方向に対してｃｏｓｅｃ２の感度パターンを有するアンテナを備える請求項２に記載の方法。
【請求項４】
第３の基地局を設け、
一方の前記第３の基地局および前記移動局から他方の前記第３の基地局および前記移動局に第３の測距信号を送信し、
複数の前記基地局と前記移動局との間で送信される前記測距信号からのデータを使用して、前記移動局の位置を決定する、
ことをさらに含む請求項２または３に記載の方法。
【請求項５】
前記第３の基地局が、垂直方向に対してｃｏｓｅｃ２の感度パターンを有するアンテナを備える請求項４に記載の方法。
【請求項６】
好ましい縦方向および横方向を有する建造物において、移動局の位置を求めるのに使用される基地局であって、
アンテナと、
測距信号を前記アンテナを介して前記移動局に送信し、かつ／または前記移動局から受信するように構成される送信機および／または受信機と、
を備え、
前記アンテナは、ビルディング内の縦方向、横方向、または垂直方向に対してｃｏｓｅｃ２の感度パターンを有する、
基地局。
【請求項７】
実質的に直交する縦方向および横方向に延びる通路および壁を有する建造物において、移動局の位置を求めるためのシステムであって、
請求項６に記載の複数の基地局と、
全方向性アンテナを有する移動局と、  
を備え、
前記システムは、前記移動局と前記基地局との間で測距信号を送信し、それらの送信強度に対する受信測距信号の減衰を測定するように構成されている、
システム。
【請求項８】
前記測定減衰値と前記基地局の位置とから前記移動局の位置を計算するためのコードをさらに備える請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
実質的に直交する縦方向および横方向に延びる通路および壁を有するビルディングと、
前記ビルディング内に設備された請求項６に記載の複数の基地局と、
を備え、
前記基地局のうちの第１の基地局が、前記ビルディング内における縦方向に向いたｃｏｓｅｃ２のパターンを有する向きのアンテナを備え、
前記基地局のうちの第２の基地局が、前記ビルディング内において横方向に向いたｃｏｓｅｃ２のパターンを有する向きのアンテナを備えた、
設備済システム。
【請求項１０】
前記基地局のうちの第３の基地局が、前記ビルディング内における垂直方向に向いたｃｏｓｅｃ２のパターンを有する向きのアンテナを有する請求項９に記載の設備されたシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月3日(2006.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）少なくとも部分的に第１の流体で充満された第１の流体リザーバと、
（ｂ）複数のチャネルを含む基板と、
（ｃ）前記基板の少なくとも１つのチャネルと流体連通する第２の流体リザーバと、
（ｄ）前記第１の流体リザーバと前記第２の流体リザーバとの間に位置するバリアと、
を格納するハウジングを含む物品であって、
前記物品は、前記バリアを開放することにより所望の時点で操作可能に構成され、前記バリアの開放により前記流体の少なくとも一部が前記第１のリザーバから前記第２のリザーバへ流れて前記基板の少なくとも１つのチャネルと接触し、
前記物品は、前記流体が前記基板のチャネルを通って移動するときに前記流体の進行を表示するように構成された、物品。
【請求項２】
前記基板が、予め定めた大きさおよび形状を有する複数のチャネルを備えた微細構造化表面を含む、請求項１に記載の物品。
【請求項３】
（ａ）少なくとも部分的に第１の流体で充満された第１の流体リザーバと、
（ｂ）複数のチャネルを含む基板と、
（ｃ）入口開口、流体が流れるための内部流路、前記基板の少なくとも１つのチャネルと流体連通する第１の出口、および通気孔と連通する第２の出口を有する細長い管を含む耐圧縮性リザーバと、
（ｄ）前記第１の流体リザーバと前記耐圧縮性リザーバの前記入口開口との間に位置するバリアと、
を格納するハウジングを含む物品であって、
前記物品は、前記バリアを開放することにより所望の時点で操作可能に構成され、前記バリアの開放により前記流体の少なくとも一部が前記第１のリザーバから前記耐圧縮性リザーバへ流れて前記基板の少なくとも１つのチャネルと接触し、
前記物品は、前記流体が前記基板のチャネルを通って移動するときに前記流体の進行を表示するように構成された、物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３４】
【図１ａ】起動前の本発明の物品の一実施形態の上面図を示す。
【図１ｂ】図１ａの物品の線１ｂ−１ｂに沿った断面図を示す。
【図１ｃ】図１ａの物品の線１ｃ−１ｃに沿った断面図を示す。
【図１ａ（１）】起動後であるが満了前の本発明の物品の一実施形態の上面図を示す。
【図１ｂ（１）】起動後であるが満了前の図１ａ’の物品の線１ｂ−１ｂに沿った断面図を示す。
【図１ａ（２）】満了後の本発明の物品の一実施形態の上面図を示す。
【図１ｂ（２）】満了後の図１ａ”の物品の線１ｂ−１ｂに沿った断面図を示す。
【図２ａ】起動前の本発明の物品の一実施形態の上面図を示す。
【図２ａ−１】上部フィルムを除去した図２ａの物品の上面図を示す。
【図２ｂ】図２ａの物品の線２ａ−２ａに沿った断面図を示す。
【図２ｃ】図２ａの物品の線２ｃ−２ｃに沿った断面図を示す。
【図２ｄ】図２ａの物品の線２ｄ−２ｄに沿った断面図を示す。
【図２ａ（１）】起動後であるが満了前の本発明の物品の一実施形態の上面図を示す。
【図２ｂ（１）】起動後であるが満了前の図２ａ’の物品の線２ｂ−２ｂに沿った断面図を示す。
【図２ａ（２）】満了後の本発明の物品の一実施形態の上面図を示す。
【図２ｂ（２）】満了後の図２ａ”の物品の線２ｂ−２ｂに沿った断面図を示す。
【図３ａ】起動前の本発明の物品の一実施形態の上面図を示す。
【図３ｂ】図３ａの物品の線３ａ−３ａに沿った断面図を示す。
【図３ｃ】図３ａの物品の線３ｃ−３ｃに沿った断面図を示す。
【図３ａ（１）】起動後であるが満了前の本発明の物品の一実施形態の上面図を示す。
【図３ｂ（１）】起動後であるが満了前の図３ａ’の物品の線３ｂ−３ｂに沿った断面図を示す。
【図３ａ（２）】満了後の本発明の物品の一実施形態の上面図を示す。
【図３ｂ（２）】満了後の図３ａ”の物品の線３ｂ−３ｂに沿った断面図を示す。
【図４】本発明に従って有用な基板の一実施形態の斜視図を示す。
【図５】本発明に従って有用な基板のもう１つの実施形態の斜視図を示す。
【図６】本発明に従って有用な基板のもう１つの実施形態の斜視図を示す。
【図７】本発明に従って有用な基板のもう１つの実施形態の斜視図を示す。
【図８】本発明に従って有用な基板のもう１つの実施形態の斜視図を示す。
【図８ｂ】図８の基板の平面図を示す。
【図８ｃ】図８ｂの基板の線８ｃ−８ｃに沿った断面図を示す。