【手続補正書】
【提出日】平成18年5月8日(2006.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】プロセス流体が、2.0wt％未満のハロゲンを有しており、ジメチルカーボネート、メチルピバレート、メチルエチルカーボネート、メチルイソプロピルカーボネート、メチルネオペンチルカーボネート、メチルtert-ブチルカーボネート、ジイソプロピルカーボネート、ネオペンチルアセテート、エチレングリコールジアセテート、1,3-プロピレングリコールジアセテート、1,3-プロピレングリコールジアセテート、1,2-ブチレングリコールジアセテート、1,3-ブチレングリコールジアセテート、2,3-ブチレングリコールジアセテート、ネオペンチルグリコールジアセテート、2,2-ジメチルジオキソラン、2,2,4-トリメチルジオキソラン、2,2,4,5-テトラメチルジオキソラン、エチルピバレート、イソプロピルビバレート、tert-ブチルピバレート、ネオペンチルピバレート、ピバロニトリル、エチレングリコールモノピバレート、1,2-プロピレングリコールモノピバレート、1,2-ブチレングリコールモノピバレート、2,3-ブチレングリコールモノピバレート、エチレングリコールピバレートアセテート、エチレングリコールジピバレート、1,2-プロピレングリコールピバレートアセテート、1,2-ブチレングリコールピバレートアセテート、1,3-ブチレングリコールピバレートアセテート、2,3-ブチレングリコールピバレートアセテート、1,2-プロピレングリコールジピバレート、ネオペンチルグリコールモノピバレート、ネオペンチルグリコールピバレートアセテート、イソプロピルイソブチレート、ネオペンチルイソブチレート、メチル2,2,4,4-テトラメチルペンタノエート(メチルネオノナノエート)、イソプロピルネオノナノエート、2,2,4,4-テトラメチルペンタノニトリル、ネオペンチルグリコールモノイソブチレート、メチル3,5,5-トリメチルヘキサノエート及び2以上のそれらの混合物から成る群から選ばれる化合物を含むことを特徴とする、溶媒、担体、希釈剤及び界面活性剤のいずれか1つ以上として作用するプロセス流体を用いる工業的不燃方法。
【請求項２】第一流体の少なくともいくらかが大気中に蒸発する第一流体を含むプロセス流体を用い、該プロセス流体が2.0wt％未満のハロゲンを有することを特徴とする工業的不燃方法において、前記第一流体の少なくとも一部を、ジメチルカーボネート、メチルピバレート、メチルエチルカーボネート、メチルイソプロピルカーボネート、メチルネオペンチルカーボネート、メチルtert-ブチルカーボネート、ジイソプロピルカーボネート、ネオペンチルアセテート、エチレングリコールジアセテート、1,3-プロピレングリコールアセテート、1,3-プロピレングリコールジアセテート、1,2-ブチレングリコールジアセテート、1,3-ブチレングリコールジアセテート、2,3-ブチレングリコールジアセテート、ネオペンチルグリコールジアセテート、2,2-ジメチルジオキソラン、2,2,4-トリメチルジオキソラン、2,2,4,5-テトラメチルジオキソラン、エチルピバレート、イソプロピルビバレート、tert-ブチルピバレート、ネオペンチルピバレート、ピバロニトリル、エチレングリコールモノピバレート、1,2-プロピレングリコールモノピバレート、1,2-ブチレングリコールモノピバレート、2,3-ブチレングリコールモノピバレート、エチレングリコールピバレートアセテート、エチレングリコールジピバレート、1,2-プロピレングリコールピバレートアセテート1,2-ブチレングリコールピバレートアセテート、1,3-ブチレングリコールピバレートアセテート、2,3-ブチレングリコールピバレートアセテート、1,2-プロピレングリコールジピバレート、ネオペンチルグリコールモノピバレート、ネオペンチルグリコールピバレートアセテート、イソプロピルイソブチレート、ネオペンチルイソブチレート、メチル2,2,4,4-テトラメチルペンタノエート(メチルネオノナノエート)、イソプロピルネオノナノエート、2,2,4,4-テトラメチルペンタノニトリル、ネオペンチルグリコールモノイソブチレート、メチル3,5,5-トリメチルヘキサノエート、メタノール、イソプロパノール及び2以上のそれらの混合物から成る群から選ばれる第二流体と置換させ、その方法を行うことにより生じる大気中の光化学反応によるオゾン生成を低減させることを含む工業的不燃方法の改良法。
【請求項３】プロセス流体が、溶媒、担体、希釈剤、界面活性剤又はそれらのいずれかの組合わせとして作用する、請求項2に記載の方法。
【請求項４】プロセス流体がハロカーボンを含有しない、請求項2又は請求項3に記載の方法。
【請求項５】オゾン生成の低減がOFPスケールを用いる計算に基づいている、請求項2乃至４のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項６】オゾン生成の低減が絶対MIRスケールを用いる計算に基づいている、請求項5に記載の方法。
【請求項７】前記方法が定常工業的方法である、請求項1乃至6のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項８】前記置換が、
i) 前記置換の前のプロセス流体のOFPよりも少なくとも10％小さいOFP、
ii) −6.1℃より高い温度に上がるプロセス流体の引火点、
iii) 500mg/kg以上へのプロセス流体の毒性量の増大、
iv）24時間にわたり測定されたときに、65mg/m3未満の密度への、2.5μm(ミクロン)未満の直径を有する粒子の形成における減少、
v) n-ブチルアセテートに対して0.1乃至12の範囲への、プロセス流体の蒸発速度における変化、及び
vi) プロセス流体中に存在する酸触媒との反応に基づくプロセス流体の分解における低減の改良の少なくとも1つをもたらす、請求項2乃至7のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項９】前記置換が前記改良i)乃至vi)の少なくとも2つをもたらす、請求項8に記載の方法。
【請求項１０】前記置換が前記改良i)乃至vi)の少なくとも3つをもたらす、請求項9に記載の方法。
【請求項１１】前記置換が流体のブレンドをもたらし、そのブレンドが15℃より高い引火点を有する、請求項2乃至10のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項１２】前記ブレンドが、38℃より高い引火点を有する、請求項11に記載の方法。
【請求項１３】前記ブレンドが、60℃より高い引火点を有する、請求項12に記載の方法。
【請求項１４】前記置換がプロセス流体のOFPにおいて10％以上の低減をもたらす、請求項5乃至16のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項１５】 前記低減が25％以上である、請求項14に記載の方法。
【請求項１６】 前記低減が50％以上である、請求項15に記載の方法。
【請求項１７】 第二流体が、
i) −6.1℃より高い引火点、
ii) 500mg/kg以上の毒性量、
iii）24時間にわたり測定されたときに、2.5μm(ミクロン)未満の直径を有する粒子の65mg/m3未満の密度を有する形成、
iv) n-ブチルアセテートに対して0.1乃至12の範囲の蒸発速度
の少なくとも1つの特性を有する、請求項2乃至16のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項１８】 第二流体が前記特性i)乃至iv)の少なくとも2つを有する、請求項17に記載の方法。
【請求項１９】 第二流体が前記特性i)乃至iv)の少なくとも3つを有する、請求項18に記載の方法。
【請求項２０】 置換される第一流体が、分岐したC6-C9アルカン類、直鎖アルカン類、脂環式C6-C10炭化水素類、天然炭化水素類(α-又はβ−ピネン又はターペンタイン類)、エタノール、プロパノール及びより高級の非第三アルコール類、C3及びより高級のエーテル類、エーテルアルコール類、エーテルアルコールアセテート類、エチルエトキシプロピオネート類、C5及びより高級のケトン類、環式ケトン類、C7+芳香族炭化水素、ハロカーボン類、特に塩素化及び臭素化炭化水素、テトラヒドロフラン(THF)のような環式エーテル類及びミネラルスピリット類から選ばれる、請求項2乃至19のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項２１】 置換される第一流体が、MEKの蒸発速度からn-ブチルアセテートの蒸発速度までの蒸発速度を有し、前記置換の後に、プロセス流体がMEKの蒸発速度からn-ブチルアセテートの蒸発速度までの蒸発速度を有する、請求項2乃至20のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項２２】 前記第一流体が1つ以上の第一又は第二C4及びより高級のアルコール類、エタノール、プロパノール及びエーテルアルコール類を含み、前記アルコールの少なくとも一部が、メタノール及びイソプロパノールから選ばれるアルコールと置換される、請求項2乃至21のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項２３】 500kg/年より多いプロセス流体を用いる、請求項1乃至22のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項２４】 前記プロセス流体を含む被覆組成物で基体を被覆することを含む塗布方法である、請求項1乃至23のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項２５】 前記化合物又は前記第2流体がジメチルカーボネート又はメチルピバレートを含む、請求項1乃至24のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項２６】 前記化合物又は前記第２流体がメチルtert-ブチルカーボネート、tert-ブチルピバレート又はピバロニトリルを含む、請求項1乃至24のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項２７】 前記化合物又は前記第二流体が、エチレングリコールジピバレート、ジイソプロピルカーボネート、メチルエチルカーボネート、エチルピバレート、エチレングリコールピバレートアセテート、ネオペンチルピバレート、ネオペンチルグリコールジアセテート、メチルネオペンチルカーボネート、1,3-プロピレングリコールジアセテート、ネオペンチルイソブチレート、エチレングリコールジアセテート、1,2-プロピレングリコールモノピバレート、1,2-プロピレングリコールピバレートアセテート、1,2-ブチレングリコールモノピバレート、ネオペンチルメチルイソプロピルカーボネート、イソプロピルイソブチレート、1,2-ブチレングリコールピバレートアセテート、2,3-ブチレングリコールモノピバレート、2,3-ブチレングリコールピバレートアセテート又はイソプロピルピバレートを含む、請求項1乃至24のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項２８】 前記化合物又は第二流体が、ネオペンチルグリコールモノピバレート、1,2-プロピレングリコールジアセテート、1,2-ブチレングリコールジアセテート、メチルsec-ブチルカーボネート、メチル3,5,5-トリメチルヘキサノエート、2,3-ブチレングリコールジアセテート、エチレングリコールモノピバレート又は1,3-ブチレングリコールジアセテートを含む、請求項1乃至24のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項２９】 ａ．流体Fが存在しない系のオゾン生成ポテンシャル(OFP)よりも低いオゾン生成ポテンシャル及び、
ｂ．i) 流体Fが存在しない系の引火点より高い引火点、
ii) 流体Fが存在しない系の毒性量よりも多い毒性量(より低い毒性)、
iii）(24時間にわたり測定されたときに、)流体Fが存在しない系の密度よりも低い密度における、2.5μm(ミクロン)未満の直径を有する粒子、
iv) n-ブチルアセテートに対して0.1乃至12の範囲の蒸発速度、及び
v) 流体Fが存在しない系の酸触媒の存在における分解傾向よりも低い、酸触媒の存在における分解傾向
の少なくとも1つを含む系特性を付与するために、大気中への系の少なくとも一部の蒸発及び2.0wt％未満のハロゲンを含むことを特徴とする工業的不燃方法における適用のための流体系において流体Fを使用する方法であり、流体Fが、酸素部分を含み、炭素炭素不飽和結合及び芳香族基を含有する部分を実質的に有しない揮発性の有機化合物であり、カーボネート類、アセテート類、ピバレート類、イソブチレート類、ペンタノエート類、ヘキサノエート類、ノナノエート類及びニトリル類から選択されることを特徴とする流体Fを使用する方法。
【請求項３０】 流体Fが(1)≦1.5又は(2)≦1.0又は(3)≦0.5のOFP(オゾンg/流体gの単位で絶対MIRスケールで測定したとき)を有し、及び／又は、流体Fの使用により得られる流体系のOFPが(1)≦1.5又は(2)≦1.0又は(3)≦0.5のOFP(オゾンg/系gの単位での絶対MIRスケール)を有する、請求項29に記載の方法。
【請求項３１】 (1)10乃至90重量％又は(2)20乃至80重量％又は(3)25乃至75重量％の流体Fを含有する流体系を生じる、請求項29又は請求項30に記載の方法。
【請求項３２】 系に付与される性質(ｂ)が、
i) (1)−6.1より高い又は(2)15℃より高い又は(3)38℃より高い又は(4)60℃より高い引火点、
ii) (1)＞500又は(2)＞1000又は(3)＞2000又は(4)＞3000又は(5)＞5000 (mg/kgの単位における経口割合LD50スケールにおいて)である毒性量、
iii）(24時間にわたり測定されたときに、)(1)65mg/m3未満又は(2)50mg/m3未満である密度における、2.5μm(ミクロン)未満の直径を有する粒子の形成、及び
iv) n-ブチルアセテートの蒸発速度に対して(1)5乃至3又は(2)3乃至2又は(3)2乃至1又は(4)1.0乃至0.3又は(5)0.3乃至0.1の範囲の蒸発速度
から選ばれる、請求項29乃至31のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項３３】 1つより多い流体Fが用いられる、請求項29乃至32のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項３４】 前記工業的方法が、被覆用途、洗浄用途、抽出方法、農業化学の用途、印刷用インク用途、粘着付与方法(tackification processes)、熱伝達方法又は溶解方法を含む、請求項29乃至33のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項３５】 前記方法が、大気中への、(1)≧10％又は(2)≧20％又は(3)≧50％又は(4)≧75％又は(5)≧90％又は(6)≧99％である、流体系の割合の蒸発を含む、請求項29乃至34のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項３６】 流体Fが、分岐したC6-C9アルカン類、直鎖アルカン類、脂環式C6-C10炭化水素類、天然炭化水素類(α-又はβ-ピネン又はターペンタイン類)、エタノール、プロパノール及びより高級の非ターシャリーアルコール類、C3及びより高級のエーテル類、エーテルアルコール類、エーテルアルコールアセテート類、エチルエトキシプロピオネート、C5及びより高級のケトン類、環式ケトン類、C7+芳香族炭化水素、ハロカーボン類、特に塩素化及び臭素化炭化水素、テトラヒドロフラン(THF)のような環式エーテル類及びミネラルスピリット類から選ばれる、請求項29乃至35のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項３７】 流体Fが、ヒドロカルビル部分がメチル及び／又はエチル及び／又はイソプロピルから選ばれる化合物である、請求項29乃至36のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項３８】 流体Fが、全体的に、(1)1より大きい又は(2)5より大きい又は(3)9以上である、非メチル水素に対するメチル水素の比を有するヒドロカルビル部分を含む、請求項29乃至37のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項３９】 流体Fがジメチルカーボネート又はメチルピバレートを含有する、請求項29乃至38のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項４０】 流体Fがメチルtert-ブチルカーボネート、tert-ブチルピバレート又はピバロニトリルを含有する、請求項29乃至38のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項４１】 流体Fが、エチレングリコールジピバレート、ジイソプロピルカーボネート、メチルエチルカーボネート、エチルピバレート、エチレングリコールピバレートアセテート、ネオペンチルピバレート、ネオペンチルグリコールジアセテート、メチルネオペンチルカーボネート、1,3-プロピレングリコールジアセテート、ネオペンチルイソブチレート、エチレングリコールジアセテート、1,2-プロピレングリコールモノピバレート、1,2-プロピレングリコールピバレートアセテート、1,2-ブチレングリコールモノピバレート、ネオペンチルアセテート、メチルイソプロピルカーボネート、イソプロピルイソブチレート、1,2-ブチレングリコールピバレートアセテート、2,3-ブチレングリコールモノピバレート、2,3-ブチレングリコールピバレートアセテート又はイソプロピルピバレートを含む、請求項29乃至38のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項４２】 流体Fが、ネオペンチルグリコールモノピバレート、1,2-プロピレングリコールジアセテート、1,2-ブチレングリコールジアセテート、メチルsec-ブチルカーボネート、メチル3,5,5-トリメチルヘキサノエート、2,3-ブチレングリコールジアセテート、エチレングリコールモノピバレート又は1,3-ブチレングリコールジアセテートを含む、請求項29乃至38のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項４３】 流体Fが、ジメチルカーボネート、メチルピバレート、メチルエチルカーボネート、メチルイソプロピルカーボネート、メチルネオペンチルカーボネート、メチルtert-ブチルカーボネート、ジイソプロピルカーボネート、ネオペンチルアセテート、エチレングリコールジアセテート、1,3-プロピレングリコールジアセテート、1,3-プロピレングリコールジアセテート、1,2-ブチレングリコールジアセテート、1,3-ブチレングリコールジアセテート、2,3-ブチレングリコールジアセテート、ネオペンチルグリコールジアセテート、2,2-ジメチルジオキソラン、2,2,4-トリメチルジオキソラン、2,2,4,5-テトラメチルジオキソラン、エチルピバレート、イソプロピルビバレート、tert-ブチルピバレート、ネオペンチルピバレート、ピバロニトリル、エチレングリコールモノピバレート、1,2-プロピレングリコールモノピバレート、1,2-ブチレングリコールモノピバレート、2,3-ブチレングリコールモノピバレート、エチレングリコールピバレートアセテート、エチレングリコールジピバレート、1,2-プロピレングリコールピバレートアセテート、1,2-ブチレングリコールピバレートアセテート、1,3-ブチレングリコールピバレートアセテート、2,3-ブチレングリコールピバレートアセテート、1,2-プロピレングリコールジピバレート、ネオペンチルグリコールモノピバレート、ネオペンチルグリコールピバレートアセテート、イソプロピルイソブチレート、ネオペンチルイソブチレート、メチル2,2,4,4-テトラメチルペンタノエート(メチルネオノナノエート)、イソプロピルネオノナノエート、2,2,4,4-テトラメチルペンタノニトリル、ネオペンチルグリコールモノイソブチレート、メチル3,5,5-トリメチルヘキサノエート及び2以上のそれらの混合物から成る群から選ばれる化合物を含む、請求項29乃至38のいずれか1請求項に記載の方法。
【請求項４４】 酸素部分を含有し、炭素炭素不飽和結合又は芳香族基を有する部分を実質的に有しない化合物である流体Fを含有する1つ以上の有機揮発性配合流体を含有する工業的配合流体系であり、流体Fが、カーボネート類、アセテート類、ピバレート類、イソブチレート類、ペンタノエート類、ヘキサノエート類、ノナノエート類、ニトリル類及び2つ以上のそれらの混合物から成る群から選ばれ、流体Ｆが、(オゾンg／流体F gの単位における絶対MIRスケールにより)≦1.5のオゾン生成ポテンシャル(OFP)を有し、配合流体系が、流体Ｆが存在しない配合流体系のOFPよりも10％以上少ないOFPを有するような量で存在する系。
【請求項４５】 流体Fの量が、系のOFPが、流体Ｆが存在しない系のOFPの(1)25％以上又は(2)50％以上であるような量である、請求項44に記載の系。
【請求項４６】 流体Fが、全体的に、(1)1より大きい又は(2)5より大きい又は(3)9以上である、非メチル水素に対するメチル水素の比を有するヒドロカルビル部分を含む、請求項44又は請求項45に記載の系。
【請求項４７】 流体Fが、ジメチルカーボネート、メチルピバレート、メチルエチルカーボネート、メチルイソプロピルカーボネート、メチルネオペンチルカーボネート、メチルtert-ブチルカーボネート、ジイソプロピルカーボネート、ネオペンチルアセテート、エチレングリコールジアセテート、1,3-プロピレングリコールアセテート、1,3-プロピレングリコールジアセテート、1,2-ブチレングリコールジアセテート、1,3-ブチレングリコールジアセテート、2,3-ブチレングリコールジアセテート、ネオペンチルグリコールジアセテート、2,2-ジメチルジオキソラン、2,2,4-トリメチルジオキソラン、2,2,4,5-テトラメチルジオキソラン、エチルピバレート、イソプロピルビバレート、tert-ブチルピバレート、ネオペンチルピバレート、ピバロニトリル、エチレングリコールモノピバレート、1,2-プロピレングリコールモノピバレート、1,2-ブチレングリコールモノピバレート、2,3-ブチレングリコールモノピバレート、エチレングリコールピバレートアセテート、エチレングリコールジピバレート、1,2-プロピレングリコールピバレートアセテート、1,2-ブチレングリコールピバレートアセテート、1,3-ブチレングリコールピバレートアセテート、2,3-ブチレングリコールピバレートアセテート、1,2-プロピレングリコールジピバレート、ネオペンチルグリコールモノピバレート、ネオペンチルグリコールピバレートアセテート、イソプロピルイソブチレート、ネオペンチルイソブチレート、メチル2,2,4,4-テトラメチルペンタノエート(メチルネオノナノエート)、イソプロピルネオノナノエート、2,2,4,4-テトラメチルペンタノニトリル、ネオペンチルグリコールモノイソブチレート、メチル3,5,5-トリメチルヘキサノエート及び2以上のそれらの混合物から成る群から選ばれる化合物を含む、請求項44乃至46のいずれか1請求項に記載の系。