【手続補正書】
【提出日】平成17年8月22日(2005.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  光ビームを出力する光源と、
上記光源に隣接して設けた透明基板と、
上記透明基板の表面上にある第１の光学部品とを有し、
上記光学部品は上記光ビームを受け、上記光源から出力されたビームを所定強度パターンを有する光ビームに整形する集積型ビーム整形器。
【請求項２】  上記第１の光学部品は、上記光源に隣接して、上記透明基板の第１の表面上にある請求項１の集積型ビーム整形器。
【請求項３】  上記第１の光学部品は、上記所定強度パターンを有する上記光ビームを上記第１の表面の反対側にある第２の表面に提供する請求項１の集積型ビーム整形器。
【請求項４】  上記光源は、上記透明基板上に直接設けてある請求項１の集積型ビーム整形器。
【請求項５】  上記光源により出力された上記光ビームが楕円形であり、上記第１の光学部品が上記光ビームの楕円度を低下させる請求項１の集積型ビーム整形器。
【請求項６】  上記光源により出力された上記光ビームが楕円形であり、上記第１の光学部品は円形の光ビームを第２の光学部品に提供する請求項１の集積型ビーム整形器。
【請求項７】  上記第２の光学部品が上記透明基板上にある請求項６の集積型ビーム整形器。
【請求項８】  上記光源が、複数の光源を有するウェーハから得られた光源ダイである請求項１の集積型ビーム整形器。
【請求項９】  上記光源が、楕円ビームを形成する端面発光レーザで、上記第１の光学部品が上記楕円ビームを円形にする請求項１の集積型ビーム整形器。
【請求項１０】  上記光源からの上記光ビームの向きを上記第１の光学部品に変える鏡を有する請求項１の集積型ビーム整形器。
【請求項１１】  上記透明基板上にソフトな開口部を有する請求項１０の集積型ビーム整形器。
【請求項１２】  上記透明基板上にソフトな開口部を有する請求項１の集積型ビーム整形器。
【請求項１３】  上記所定強度分布が、十字線、円形、矩形、非ガウス型の強度分布の少なくとも一つである請求項１の集積型ビーム整形器。
【請求項１４】  上記所定強度分布は、上端が平坦である、複数のスポットからなるパターン、中階調画像の少なくとも一つである請求項１の集積型ビーム整形器。
【請求項１５】  上記透明基板に対する第１の表面と、上記光源に対向する表面とに設けてあるスペーサブロックを有する請求項１の集積型ビーム整形器。
【請求項１６】  上記光源が、ヒートシンクと、上記ヒートシンクに設けたレーザダイとを有する請求項１の集積型ビーム整形器。
【請求項１７】  上記ヒートシンクが、上記透明基板よりも長い請求項１の集積型ビーム整形器。
【請求項１８】  上記透明基板に接合された別の透明基板を有する請求項１の集積型ビーム整形器。
【請求項１９】  上記透明基板と上記光源を有するハウジングを備えている請求項１の集積型ビーム整形器。
【請求項２０】  予め決められた位相パターンを上記光ビームに与える第２の光学部品を有し、上記第２の光学部品は上記ハウジングに設けてある請求項１９の集積型ビーム整形器。
【請求項２１】  予め決められた位相パターンを上記光ビームに与える第２の光学部品を有する請求項１の集積型ビーム整形器。
【請求項２２】  上記第２の光学部品は、上記第１の光学部品の反対の表面上にある上記透明基板上にある請求項２１の集積型ビーム整形器。
【請求項２３】  上記第２の光学部品により与えられる上記第２の予め決められた位相パターンは、所定の設定距離において上記予め決められた所定強度分布で焦点を合わせる請求項２１の集積型ビーム整形器。
【請求項２４】  上記光源ダイは、上記透明基板として機能するウェーハ上に設けられている請求項８の集積型ビーム整形器。
【請求項２５】  複数の上記光源は、上記ヒートシンクに接合されており、上記透明基板として機能するウェーハとの接合前に切断されて光源ヒートシンクダイを形成し、上記ウェーハは複数の第１の光学部品を有し、上記光源ヒートシンクダイを有するウェーハが接合され、切断されて上記集積型ビーム整形器が形成される請求項１６の集積型ビーム整形器。
【請求項２６】  複数の上記第１の光学部品は、上記透明基板上にあり、上記ヒートシンクとして機能するウェーハに接合される前に切断されて第１の光学部品ダイが形成され、上記ウェーハは該ウェーハに接合された複数の上記光源を有し、上記ウェーハは該ウェーハに接合された上記第１の光学部品ダイが切断されて集積型ビーム整形器が形成される請求項１６の集積型ビーム整形器。
【請求項２７】  上記複数の光源はリソグラフィ法により形成された整合マークを有し、上記ヒートシンクはリソグラフィ法により形成された整合マークを有し、上記ウェーハはリソグラフィ法により形成された整合マークを有し、上記複数の整合マークはそれぞれ接合される部分を整列するためにそれぞれの接合中に利用される請求項２５の集積型ビーム整形器。
【請求項２８】  上記複数の光源はリソグラフィ法により形成された整合マークを有し、上記ヒートシンクはリソグラフィ法により形成された整合マークを有し、上記ウェーハはリソグラフィ法により形成された整合マークを有し、上記複数のマークは接合される部分を整列するためにそれぞれの接合中に利用される請求項２６の集積型ビーム整形器。
【請求項２９】  複数の光学部品を透明基板ウェーハ上に設ける工程と、
複数の一体型部品を形成するために、上記複数の光学部品に隣接して複数の光源を設ける工程と、
上記一体型部品を切断して集積型ビーム整形器を形成する工程と、
光源からのビームを対応する光学部品によって所定の予め決められた強度分布に整形する工程とを有する集積型ビーム整形器を形成する方法。
【請求項３０】  上記複数の光学部品に隣接して複数の光源を設ける工程の前に、上記光源をヒートシンク上に接合する工程を有する請求項２９の方法。
【請求項３１】  上記複数の光学部品に隣接して複数の光源を設ける工程の前に、上記ヒートシンクに接合された複数の光源を切断する工程を有する請求項３０の方法。
【請求項３２】  上記複数の光学部品に隣接して複数の光源を設ける工程の前に、上記透明基板ウェーハを切断して個々の光学部品を形成する工程を有する請求項３０の方法。
【請求項３３】  上記複数の光学部品に隣接して複数の光源を設ける工程は、上記複数の光源を上記透明基板ウェーハ上に直接設ける工程を有する請求項２９の方法。
【請求項３４】  上記複数の光学部品に隣接して複数の光源を設ける工程は、上記複数の光源をスペーサ部材を介して上記透明基板ウェーハ上に設ける工程を有する請求項２９の方法。
【請求項３５】  上記複数の光学部品に隣接して複数の光源を設ける工程は、上記接合された複数の光源を上記透明基板ウェーハ上に直接設ける工程を有する請求項３０の方法。
【請求項３６】  上記複数の光学部品に隣接して複数の光源を設ける工程は、上記接合された複数の光源をスペーサ部材を介して上記透明基板ウェーハ上に設ける工程を有する請求項３０の方法。
【請求項３７】  上記複数の光学部品に隣接して複数の光源を設ける工程の前に、上記光学部品が設けられる表面の反対にある上記透明基板の表面に複数の別の光学部品を設ける工程を有する請求項２９の方法。
【請求項３８】  上記切断の前に、対応する光源から対応する光学部品にビームを導くための複数のミラーを設ける工程を有する請求項２９の方法。
【請求項３９】  上記複数の光学部品のそれぞれについて、リソグラフィ法により上記透明基板上に整合部材を形成する工程と、
リソグラフィ法により上記複数の光源上に対応する複数の整合部材を形成する工程と、
上記複数の光学部品に隣接して複数の光源を設ける工程の中で、上記整合部材を用いる請求項２９の方法。