【手続補正書】
【提出日】平成18年7月20日(2006.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ処理チャンバのチャンバ壁における誘電窓を保護し、前記窓の外側に設けられたコイルから発生され、前記窓とバッフルとを通じて前記チャンバ内でのプラズマ処理空間内におけるプラズマに流入する高周波エネルギーの誘導結合を円滑にする蒸着バッフルにおいて、
窓側とプラズマ側とを備えている導電性を有する本体を備え、
該本体には、前記窓側と前記プラズマ側との間を通過して内部を延在される複数の溝部と、前記本体の互いに隣接する前記溝部の各対の間に形成されたリブ部とが形成されており、
前記溝部には、前記本体の表面により定義されると共に、前記本体の見通し路を通じて前記チャンバ内の粒子が前記本体の前記プラズマ側から前記窓側まで前記チャンバ内を移動することを遮るための壁部が形成されており、
前記複数の溝部の各々には、実質的に前記本体の前記窓側のみで前記本体に取り付けられる構造部材が形成されており、
該構造部材には、前記バッフルを通じて誘導結合の効果を制限すること無く前記プラズマへ結合される出力の分布の均一性を改善するために、前記バッフル上で分配されている前記本体への連結手段が形成されている、
ことを特徴とするバッフル。
【請求項２】
前記溝部は、溝部の長手方向に沿う断面がシェブロン形状とされていることを特徴とする請求項１に記載のバッフル。
【請求項３】
前記構造部材が、前記溝部の対向する壁面を電気的に相互接続することにより前記本体の前記窓側の前記溝部を寸断する導電性のブリッジ部であることを特徴とする請求項１に記載のバッフル。
【請求項４】
前記本体は、冷却液入口と、冷却液出口と、前記入口から前記出口までの冷却液流路を形成する少なくとも一つの冷却液通路とを内部に備えており、前記通路は前記本体の少なくとも一つのリブ部に沿って前記本体内で延在されていることを特徴とする請求項１に記載のバッフル。
【請求項５】
前記本体は、冷却液入口と、冷却液出口と、前記入口から前記出口までの冷却液流路を形成する少なくとも一つの冷却液通路とを内部に備えており、前記通路は前記本体のリブ部の各々に沿って前記本体内で延在されていることを特徴とする請求項１に記載のバッフル。
【請求項６】
前記本体は、冷却液入口と、冷却液出口と、前記入口から前記出口までの冷却液流路を形成する少なくとも一つの冷却液通路とを内部に備えており、前記通路は前記本体の複数のリブ部に順次沿って前記本体内で延在されていることを特徴とする請求項１に記載のバッフル。
【請求項７】
前記溝部が、前記本体の中心を通る直径に対して直交して延在している略平行な複数の溝部とされており、
前記構造部材が、前記各溝部の対向する壁面を電気的に相互接続することにより、いかなる前記溝部も前記直径の両側で前記バッフルに沿って延在する単一の連続する溝部とならぬように前記溝部を寸断する導電性のブリッジ部であることを特徴とする請求項６に記載のバッフル。
【請求項８】
前記通路の少なくとも一部が、互いに隣接する前記溝部の各対の間で前記リブ部の各々に沿って延在され、前記通路の前記一部の各々が前記入口から前記出口までの連続する順次的な冷却液の流路を形成していることを特徴とする請求項７に記載のバッフル。
【請求項９】
プラズマ処理チャンバ内でのプラズマ処理空間内に流入する高周波エネルギーの誘導結合を行うためのプラズマ源において、
前記プラズマ処理チャンバの壁部に形成された誘電窓と、
高周波出力源に接続された前記窓の外側に設けられた高周波アンテナと、
前記窓と前記処理空間との間の前記チャンバ内部で前記窓に近接して設けられた請求項１に記載のバッフルであって、前記窓側が前記誘電窓に対向していると共に前記プラズマ側が前記プラズマ処理空間に面しているバッフルと、
を有することを特徴とするプラズマ源。
【請求項１０】
ｉＰＶＤプロセスにおいて窓の蒸着を防止する一方で粒子汚染を低下させるための方法において、
相対的に均一な温度勾配を維持するために、蒸着チャンバの内部の誘電窓に隣接して請求項１に記載のバッフルを提供するステップを備えていることを特徴とする方法。
【請求項１１】
プラズマ処理チャンバの前記チャンバ壁における誘電窓を保護し、前記窓の外側に設けられたコイルから発生され、前記窓とバッフルとを通じて前記チャンバ内のプラズマに流入する高周波エネルギーの誘導結合を円滑にする蒸着バッフルにおいて、
導電性を有する本体であって、
該本体には、前記バッフルが前記コイルに対して所定の位置と方向で設置されるときに、高周波エネルギーが前記バッフルを通じて結合され、前記本体内の電流流路を寸断するように前記本体を延在している複数の溝部と、プラズマ処理チャンバからの蒸着材料の付着を容易にするために調整された少なくとも一つの表面とが形成されており、
前記溝部は、設置されるときに前記チャンバ内の粒子が前記窓に向かって移動するための見通し路を遮るように構成されており、
前記本体が、隣接する前記溝部の各対の間に形成されたリブ部と、冷却液入口と、冷却液出口と、前記入口から前記出口までの冷却液流路を形成する少なくとも一つの冷却液通路とを備えており、前記少なくとも一つの通路は複数のリブ部に沿って前記本体内で延在されており、
前記通路は、前記本体の前記調整面から蒸着材料が実質的に剥離することを防止するために十分に均一な温度分布を維持するよう、前記本体を通る冷却液の流れを促進するように構成されている本体、
を有していることを特徴とするバッフル。
【請求項１２】
前記本体が、平面に対して平行に延在するリブ部を備え、略平坦とされていることを特徴とする請求項１１に記載のバッフル。
【請求項１３】
前記溝部は複数の略平行な溝部を含んでおり、
前記本体は複数の導電性のブリッジ部を備えており、
各ブリッジ部は、いかなる溝部も前記本体の前記直径を実質的に横切って延在しないように溝部を寸断していることを特徴とする請求項１１に記載のバッフル。
【請求項１４】
前記通路は前記入口と前記出口との間で直列的に接続された複数の中間区域を備えており、
前記リブ部の各々は、長手方向に延在している前記通路の前記中間区域の一つを備えており、
前記通路が、該通路の前記中間区域の各々に順次沿って前記入口から前記出口への連続する冷却液流路を形成していることを特徴とする請求項１１に記載のバッフル。
【請求項１５】
前記通路は前記入口と前記出口との間で複数の中間区域を備えており、
前記リブ部の各々は、長手方向に延在している前記通路の前記中間区域の一つを備えており、
前記中間区域は、流れの流路が前記入口から前記出口に至るまでに一の中間区域から他の中間区域を通過する際に流れの方向が変更されるように前記入口と前記出口との間で直列的に接続されており、
これにより、前記通路が、該通路の前記中間区域の各々に順次沿って前記入口から前記出口への単一の連続する蛇行状の冷却液流路を形成していることを特徴とする請求項１１に記載のバッフル。
【請求項１６】
前記通路は前記入口と前記出口との間で複数の中間区域を備えており、
前記リブ部の各々は、長手方向に延在している前記通路の前記中間区域の一つを備えており、
前記通路が、該通路の前記中間区域の各々を通って前記入口から前記出口に至る冷却液流路を形成していることを特徴とする請求項１１に記載のバッフル。
【請求項１７】
前記溝部が、前記本体の中心を通る直径に対して直交して延在している略ストレートな複数の溝部とされており、
前記本体は、前記溝部の対向する壁面を電気的に相互接続することにより、いかなる前記溝部も前記直径の両側で前記シールドに沿って延在する単一の連続する溝部とならぬように前記溝部を寸断する導電性のブリッジ部を備えていることを特徴とする請求項１６に記載のバッフル。
【請求項１８】
前記本体が、中央部の円形状の部材と外側の環状部材とを備えており、
周辺部によって区画された中央部の前記円形状の部材は、前記溝部と、前記リブと、前記周辺から穿設されて前記リブの一つのそれぞれの長さだけ延在されている前記通路の前記中間区域とを備えており、
前記円形状の部材を囲繞している前記環状部材は、前記円形状の部材の周辺部と結合された内面と、内部に形成された前記入口及び前記出口と、前記内面に形成された前記相互接続通路部とを備えており、
該相互接続通路部は、前記通路の異なる前記中間区域を直列的に相互接続して、前記通路を通じて前記入口から前記出口への連続する冷却液流路を形成していることを特徴とする請求項１７に記載のバッフル。
【請求項１９】
前記通路は前記入口と前記出口との間で複数の中間区域を備えており、
前記本体が、周辺部と前記溝部と前記リブと前記通路の前記中間区域とを備えた中央部の円形状の部材と、前記溝部と外側の環状部材とを備えており、
前記通路の前記中間区域の各々は、前記リブの一つに沿って延在されると共に中央部の前記円形状の部材の周辺上で延在されており、前記中間区域に沿う全ての点は、少なくとも前記端部の一つから前記中間区域の直線長さに沿ってアクセス可能とされており、
前記本体は更に、中央部の前記円形状の部材を囲繞すると共に中央部の前記円形状の部材の周辺に隣接して結合された内面とを有する環状部材を備えており、
前記通路が、前記環状部材の前記内面に形成された相互接続通路部を備えていると共に、前記入口ポートと前記出口ポートとの間の前記通路の前記中間区域の各々を接続していることを特徴とする請求項１１に記載のバッフル。
【請求項２０】
プラズマ処理チャンバ内でのプラズマ処理空間内に流入する高周波エネルギーの誘導結合を行うための誘導結合プラズマ源において、
前記プラズマ処理チャンバの壁部に形成された誘電窓と、
高周波出力源に接続された前記窓の外側に設けられたコイルと、
前記窓と前記処理空間との間の前記チャンバ内部に設けられた請求項１１に記載のバッフルとを備えていることを特徴とするプラズマ源。
【請求項２１】
プラズマ処理において窓の蒸着を防止する一方で粒子汚染を低下させるための方法において、
相対的に均一な温度勾配を維持するために、蒸着チャンバの内部の誘電窓に隣接して請求項１１に記載のバッフルを提供するステップを備えていることを特徴とする方法。
【請求項２２】
プラズマ処理チャンバのチャンバ壁における誘電窓を保護し、前記窓の外側に設けられたコイルから発生され、前記窓とバッフルとを通じて前記チャンバ内のプラズマに流入する高周波エネルギーの誘導結合を円滑にする蒸着バッフルにおいて、
導電性を有する本体であって、
該本体には、前記バッフルが前記コイルに対して所定の位置と方向で設置されるときに、高周波エネルギーが前記バッフルを通じて結合され、前記本体内の電流流路を寸断するように前記本体を延在している複数の溝部とが形成されており、
前記本体が、隣接する前記溝部の各対の間に形成されたリブ部と、冷却液入口と、冷却液出口と、前記入口から前記出口までの冷却液流路を形成する少なくとも一つの冷却液通路とを備えており、前記少なくとも一つの通路は複数のリブ部に沿って前記本体内で延在されており、
前記通路は前記入口と前記出口との間で複数の中間区域を備えており、
前記本体は、周辺部と前記溝部と前記リブと前記通路の前記中間区域とを備えた中央部の円形状の部材を備えていると共に、前記通路の前記中間区域の各々は、前記リブの一つに沿って延在されると共に中央部の前記円形状の部材の周辺上で延在されており、
前記本体は更に、中央部の前記円形状の部材を囲繞すると共に中央部の前記円形状の部材の周辺に隣接して結合された内面とを有する環状部材を備えており、
前記通路が、前記環状部材の前記内面に形成された相互接続通路部を備えていると共に、前記入口ポートと前記出口ポートとの間の前記通路の前記中間区域の各々を接続している本体、
を有していることを特徴とするバッフル。
【請求項２３】
前記中間区域に沿う全ての点は、少なくとも前記端部の一つから前記中間区域の直線長さに沿ってアクセス可能とされていることを特徴とする請求項２２に記載のバッフル。
【請求項２４】
前記溝部は複数の略平行な溝部を含んでおり、
前記本体は複数の導電性のブリッジ部を備えており、
各ブリッジ部は、いかなる溝部も前記本体の前記直径を実質的に横切って延在しないように溝部を寸断していることを特徴とする請求項２２に記載のバッフル。
【請求項２５】
前記中間区域は、一の中間区域から他の中間区域を通過する際に流れの方向が変更され、前記入口から前記出口への連続する蛇行状の冷却液流路が形成されるように前記入口と前記出口との間で直列的に接続されていることを特徴とする請求項２２に記載のバッフル。
【請求項２６】
プラズマ処理チャンバの前記チャンバ壁における誘電窓を通じて、前記窓の外側に設けられたコイルから発生される高周波エネルギーを結合するステップと、
前記チャンバの内部で前記窓に近接してバッフルを設けて前記窓を保護するステップとを備え、
前記バッフルは、延在される複数の溝部を有する導電性の本体を備えており、前記溝部により前記本体の電流経路を寸断するステップと、
前記バッフルを、前記高周波エネルギーが前記バッフルを通じて結合されるように前記コイルに対して位置決めすると共に方向を合わせるステップと、
前記溝部を、前記窓に向かって前記チャンバ内を移動する粒子に対する見通し路を遮るように構成するステップと、
前記本体を通じて冷却液を容易に流すように隣接する溝部の対の間の前記バッフル内で延在された冷却液通路を通じて流れる冷却液によって前記バッフルを冷却し、前記本体の前記調整面から蒸着材料が実質的に剥離することを防止するために十分に均一な温度分布を維持するステップと、
を備えていることを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項２７】
前記冷却が、前記バッフルの入口から、互いに隣接する溝部の複数の対の間を順次通過して前記バッフルの出口に至る連続する冷却液通路を通じて冷却液を流すステップを含むことを特徴とする請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
プラズマ処理チャンバのチャンバ壁における誘電窓を保護し、前記窓の外側に設けられたコイルから発生され、前記窓とバッフルとを通じて前記チャンバ内でのプラズマ処理空間内におけるプラズマに流入する高周波エネルギーの誘導結合を円滑にする蒸着バッフルにおいて、
前記コイルは、前記窓に対して近接し且つ平行に延在している平行な複数の導電体セグメントを備えており、
前記バッフルは、中央部の円形状の部材と、外側の環状部材とを有し、中央部の前記円形状の部材は周辺部によって区画され、前記円形状の部材を囲繞している前記環状部材が、前記円形状の部材の周辺部と結合された内面を有する導電性の本体を備えており、
前記本体が、
（１）  該本体の前記周辺部から前記本体の内部を通過し、前記本体の中央部の前記円形状の部材を横切って前記周辺部へと延在している直線状で平行な複数の溝部であって、
（ａ）  前記本体内の電流流路を寸断し、且つ、前記溝を前記窓に対しては平行で前記複数の導電体セグメントに対しては垂直となるようにして、前記バッフルを、前記コイルに対して所定の位置と方向で設置したときに、高周波エネルギーが前記バッフルを通じて結合され、
（ｂ）  設置されるときに前記チャンバ内の粒子が前記窓に向かって移動するための見通し路を遮るように、
構成された溝部と、
（２）  前記本体の中央部の前記円形状の部材内のリブ部と、
（３）  複数の前記溝部の対向する壁面を電気的に相互接続し、且つ、いくつかの導電性セグメントは一のブリッジ部の一側上の溝部を横切り、他の導電性セグメントは一のブリッジ部の他側上の同じ溝部を横切り、これにより、前記溝部が前記本体の中央部の前記円形状の部材を横切っては連続しないように、導電性セグメント間の前記周辺部から離れた各々の溝部を寸断している導電性のブリッジ部と、
（４）  前記環状部材内に形成された冷却液入口及び冷却液出口と、前記入口から前記出口への冷却液流路を形成している冷却液通路であって、複数の前記リブ部に沿って前記本体内を延在し、且つ、前記ブリッジ部の各々に隣接している冷却液通路と、
を備えていることを特徴とする蒸着バッフル。
【請求項２９】
請求項２８に記載の蒸着バッフルを備えた処理装置であって、
端壁を備えたプラズマ処理空間と、
プラズマ処理空間の前記端壁における平面的な誘電窓と、
前記誘電窓の外側に配置され、前記誘電窓と前記バッフルとを通過して前記処理空間内のプラズマへと至る三次元的なコイルであって、前記誘電窓に対して平行な軸と複数の平行な導電性セグメントとを備え、該導電性セグメント内を前記誘電窓の径に対して垂直な同一方向に電流を流して、前記複数の導電性セグメントを取り囲む磁場を生じさせるコイルと、
を備えており、
前記バッフルが、前記溝を前記窓の前記径に対しては平行で前記複数の導電体セグメントに対しては垂直となるようにして、前記コイルに対して所定の位置と方向で設置されている、
ことを特徴とする処理装置。