【手続補正書】
【提出日】平成17年12月7日(2005.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトリソグラフィ・プロセスで使用するためのフォトマスクの光学特性を変更するための方法であって、前記フォトマスクは基板層と前記基板層上のコーティング層とからなり、前記方法は、
超短波パルス化レーザ・ビームを生成するためのパルス化レーザ源を提供するステップと、
前記パルス化レーザ・ビームを所望の目標位置で走査、方向指示、および焦点合わせするための光学素子を提供するステップと、
前記基板を介して前記パルス化レーザ・ビームを方向指示するステップ、およびこれを回折光学素子を書き込むために前記コーティング層に隣接する前記基板内に位置する目標位置上に焦点合わせするステップと、
前記目標位置での前記基板の散乱特性を変更するステップと、
を有する、方法。
【請求項２】
前記回折光学素子はシェーディング素子である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記回折光学素子は位相シフト素子である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記回折光学素子は基板内の微小クラックを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記回折光学素子は前記目標位置で前記基板の前記屈折率をローカルに変更することによって生成される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記パルス化レーザ源は超短波パルス化レーザ源である、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記超短波パルス化レーザ源はフェムト秒レーザ源である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記回折光学素子はテーパ形で生成されるものであり、前記テーパ形は細い端の方がコーティング層に近い、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記回折光学素子は円錐形である、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記回折光学素子はピラミッド形である、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記テーパ形の前記回折光学素子はピクセルの層で作られ、それぞれの層は所定のエネルギーおよび密度および幾何学的配置でパターン化されたピクセルの配列からなるものである、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
フォトリソグラフィ・プロセスで使用するためのフォトマスクの光学特性を変更するためのシステムであって、前記フォトマスクは基板層と前記基板層上のコーティング層とからなり、前記方法は、
超短波パルス化レーザ・ビームを生成するためのパルス化レーザ源と、
前記パルス化レーザ・ビームを前記基板内の所望の目標位置で走査、方向指示、および焦点合わせするための光学素子と、
前記目標位置を含む視野を閲覧するための現場マシン視覚システムと、
前記システムの動作を制御および監視するために提供された制御ユニットとを含むものであって、
前記システムは前記コーティング層に隣接する前記基板内の目標位置に回折光学素子を書き込むことが可能であり、その結果前記目標位置で前記基板の光散乱特性を変更する、
システム。
【請求項１３】
前記パルス化レーザ源は超短波パルス化レーザ源である、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記超短波パルス化レーザ源はフェムト秒レーザ源である、請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記パルス化レーザ源は波長が１９０から９００ｎｍの範囲内であるレーザ・ビームを提供するものである、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１６】
前記現場マシン視覚システムは前記光学素子のいくつかを共用するものであり、したがって前記現場マシン視覚システムは書込みを直接閲覧するものである、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１７】
前記パルス化レーザ・ビームの前の前記フォトマスクでの所定の目標位置の位置特定および位置決め用の倍率の低い光学部品をさらに含む、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１８】
高調波生成器と、前記パルス化レーザ・ビームの出力エネルギーを制御するための可変減衰器とが、さらに提供される、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１９】
前記パルス化レーザ・ビームを走査するためのスキャナが提供される、請求項１２に記載のシステム。
【請求項２０】
前記スキャナは、検流計スキャナ、圧電作動スキャナ、音響光学デフレクタを含むグループから選択されるものである、請求項１９に記載のシステム。
【請求項２１】
前記パルス化レーザ・ビームの下で前記フォトマスクを動かすための移動ステージが提供される、請求項１２に記載のシステム。
【請求項２２】
前記移動ステージは３軸移動ステージである、請求項２１に記載のシステム。
【請求項２３】
前記フォトマスクを照らすための光源が提供される、請求項１２に記載のシステム。
【請求項２４】
さらに前記光源には光ガイドおよび可変開口絞りが提供される、請求項２３に記載のシステム。
【請求項２５】
前記光学素子にはビーム・スプリッタ、対物レンズ、チューブ・レンズ、コンデンサ・レンズが含まれる、請求項１２に記載のシステム。
【請求項２６】
ＣＣＤカメラがさらに提供され、前記ＣＣＤカメラによって記録されたイメージはフレーム・グラバによって取り込まれ、前記フォトマスクの前記光学特性を査定するために前記制御ユニットによって処理される、請求項１２に記載のシステム。
【請求項２７】
前記フォトマスク内の前記欠陥の位置、向き、および寸法を決定するためのコンピュータ化プログラムが提供される、請求項２６に記載のシステム。
【請求項２８】
前記当該コンピュータ化プログラムは、前記欠陥をピクセル・マップに任意に変換するものである、請求項２７に記載のシステム。
【請求項２９】
前記コンピュータ化プログラムは、前記欠陥の前記寸法および向き、フレネル回折、ならびに前記パルス化レーザ源によって書き込まれた前記パターン化ピクセルの散乱性を考慮に入れて、前記回折光学素子の形状、向き、および配置を決定するものである、請求項２７に記載のシステム。
【請求項３０】
実質上、後述の明細書および添付の図面に記載されたように、フォトリソグラフィ・プロセスで使用するためのフォトマスクの光学特性を変更するための方法であって、前記フォトマスクは基板層と前記基板層上のコーティング層からなる、方法。
【請求項３１】
実質上、後述の明細書および添付の図面に記載されたように、フォトリソグラフィ・プロセスで使用するためのフォトマスクの光学特性を変更するためのシステムであって、前記フォトマスクは基板層と前記基板層上のコーティング層からなる、システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の好ましい実施形態に従って、フォトリソグラフィ・プロセスで使用するためのフォトマスクを修理するための方法が提供され、当該フォトマスクは基板層と基板層上のクロム層とからなり、当該クロム層に欠陥を有するものであって、当該方法は、
超短波パルス化レーザ・ビームを生成するためのパルス化レーザ源を提供すること、
当該パルス化レーザ・ビームを所望の目標位置で走査、方向指示、および焦点合わせするための光学素子（ｅｌｅｍｅｎｔ）を提供すること、
当該基板を介して当該パルス化レーザ・ビームを方向指示すること、およびこれを回折（ｄｉｆｆｒａｃｔｉｖｅ）光学素子を書き込むために欠陥に隣接する基板内に位置する目標位置上に焦点合わせすること、
当該目標位置での当該基板の光散乱特性を変更することを有する。
さらに本発明の好ましい実施形態によれば、回折光学素子はシェーディング素子である。
さらに本発明の好ましい実施形態によれば、回折光学素子は位相シフト素子である。
さらに本発明の好ましい実施形態によれば、回折光学素子は基板内の微小クラックを有する。
さらに本発明の好ましい実施形態によれば、回折光学素子は目標位置で基板の屈折率をローカルに変更することによって生成される。
さらに本発明の好ましい実施形態によれば、パルス化レーザ源は超短波パルス化レーザ源である。
さらに本発明の好ましい実施形態によれば、超短波パルス化レーザ源はフェムト秒レーザ源である。
さらに本発明の好ましい実施形態によれば、回折光学素子はテーパ形で生成されるものであり、当該テーパ形は細い端の方がクロム層に近い。
さらに本発明の好ましい実施形態によれば、回折光学素子は円錐形である。
さらに本発明の好ましい実施形態によれば、回折光学素子はピラミッド形である。
さらに本発明の好ましい実施形態によれば、テーパ形の回析光学素子はピクセルの層で作られ、それぞれの層は所定のエネルギーおよび密度および幾何学的配置でパターン化されたピクセルの配列からなるものである。