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【手続補正書】
【提出日】平成18年1月6日(2006.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  そのＮ−アルキルアミド基上に長鎖脂肪族炭化水素基を有する少なくとも１つのＮ−アルキルアミドカルボキシメチレン−Ｎ'，Ｎ''，Ｎ'''−トリス（カルボキシメチレン）エチレンジアミンのトリアルカリ塩と、添加剤として少なくとも１つの脂肪酸とを含有することを特徴とする光重合可能なフレキソ印刷版用の水性現像剤。
【請求項２】  ａ）支持体と化学線によって架橋可能な少なくとも１つの層とを含む記録材料を、化学線に画像様に暴露して、前記層の暴露された区域を架橋する工程と、
ｂ）前記層の未暴露区域を水性現像剤を用いて洗浄除去する工程と、
ｃ）前記処理された記録材料を乾燥する工程と
によりフレキソ印刷用の印刷版を調製する方法であって、前記水性現像剤が、そのＮ−アルキルアミド基上に長鎖脂肪族炭化水素基を有する少なくとも１つのＮ−アルキルアミドカルボキシメチレン−Ｎ'，Ｎ''，Ｎ'''−トリス（カルボキシメチレン）エチレンジアミンのトリアルカリ塩を含有することを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
（比較試験３）
一般的界面活性剤であるラウリル硫酸ナトリウムの０．５％水溶液を、現像剤として用いた。洗浄除去時間は、２７、３９および３２分であった。２％負荷と６％負荷との間で、汚染は連続的に増大した。４％負荷において、洗浄除去された糸状物は、版表面上に析出し、およびそれらの粘着性のためにほとんど除去できなかった。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
１．  そのＮ−アルキルアミド基上に長鎖脂肪族炭化水素基を有する少なくとも１つのＮ−アルキルアミドカルボキシメチレン−Ｎ'，Ｎ''，Ｎ'''−トリス（カルボキシメチレン）エチレンジアミンのトリアルカリ塩を含有することを特徴とする光重合可能なフレキソ印刷版用の水性現像剤。
２．  ０．２から５質量パーセントの前記エチレンジアミン誘導体（単数または複数）を含有することを特徴とする１．に記載の水性現像剤。
３．  ６〜２２炭素原子を有するアルキル基の使用を特徴とする１．に記載の水性現像剤。
４．  カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、および／またはオレイン酸の炭化水素鎖に相当するアルキル基の使用を特徴とする１．に記載の水性現像剤。
５．  ヤシ油脂肪酸の炭化水素鎖に相当するアルキル基の使用を特徴とする１．に記載の水性現像剤。
６．  添加物として、少なくとも１つのアミノアルコールおよび／または１つのアミノカルボン酸を含有することを特徴とする１．に記載の水性現像剤。
７．  添加剤として、少なくとも１つの脂肪酸を含有することを特徴とする１．に記載の水性現像剤。
８．  添加剤として、少なくとも１つのポリアミノ酸、好ましくはポリアスパラギン酸を含有することを特徴とする１．に記載の水性現像剤。
９．  水と、１０から９０質量パーセントの少なくとも１つの１．に記載のエチレンジアミン誘導体と、５から５０質量パーセントの少なくとも１つのアミノアルコールと、５から５０質量パーセントの少なくとも１つの脂肪酸とを含有することを特徴とする、光重合可能なフレキソ印刷版用水性現像剤を調製するための現像剤濃厚物。
１０．  ａ）支持体と化学線によって架橋可能な少なくとも１つの層とを含む記録材料を、化学線に画像様に暴露して、前記層の暴露された区域を架橋する工程と、
ｂ）前記層の未暴露区域を水性現像剤を用いて洗浄除去する工程と、
ｃ）前記処理された記録材料を乾燥する工程と
によりフレキソ印刷用の印刷版を調製する方法であって、前記水性現像剤が１．に記載のものであることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月1日(2006.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の超小型ディスプレイが位置づけられている投影シャーシに、第二の超小型ディスプレイを固定するための方法であって、
前記方法が、
ａ．前記第二の超小型ディスプレイをアライメントアセンブリに一時的に固定する工程；
ｂ．前記第二の超小型ディスプレイを前記投影シャーシに対して整列し、前記第一の超小型ディスプレイおよび前記第二の超小型ディスプレイによって発生した画像を集束させる工程、
ｃ．前記第二の超小型ディスプレイを前記投影シャーシに常置させるように固定する工程、
ｄ．前記アライメントアセンブリを前記第二の超小型ディスプレイから取り外す工程、
を包含する、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、ここで、
前記超小型ディスプレイがディスプレイフレームアセンブリに
強固に固定されている、方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法であって、ここで、
前記ディスプレイフレームアセンブリがフィールドレンズ
を備える、方法。
【請求項４】
請求項３に記載の方法であって、ここで、
前記ディスプレイフレームアセンブリが前記第二の超小型ディスプレイに対して前記フィールドレンズの位置を調整するための調整機構を備え、かつ
前記フィールドレンズの前記位置が請求項１の工程ｂと関連して調整される、方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法であって、ここで、
前記工程ｃが、
前記第二の超小型ディスプレイを前記シャーシに固定するように接着剤を滴下することによって
達成される、方法。
【請求項６】
投影シャーシに対して超小型ディスプレイを保持するためのディスプレイフレームであって、前記フレームが以下、
前記超小型ディスプレイが強固に固定されるほぼ矩形のマスクを有する硬質フレーム、
前記ディスプレイフレームに調整可能に固定されたフィールドレンズであって、それにより前記フィールドレンズが前記超小型ディスプレイに対して移動され得る、フィールドレンズ、および、
前記ディスプレイフレームを設置するための複数の設置穴であって、前記ディスプレイは前記投影シャーシ上で同様の複数の設置スタッドの上に設置される、設置穴、
を備える、フレーム。
【請求項７】
請求項６に記載のディスプレイフレームであって、前記設置スタッドに対して前記設置穴を固定するための接着剤をさらに備える、フレーム。
【請求項８】
請求項６に記載のディスプレイフレームであって、前記投影シャーシに対して前記ディスプレイフレームを位置設定するために前記ディスプレイフレームに一時的に固定される調整機構をさらに備える、フレーム。
【請求項９】
請求項６に記載のディスプレイフレームであって、前記ディスプレイフレームに対して強固に固定された開口絞りをさらに備える、フレーム。
【請求項１０】
請求項６に記載のディスプレイフレームであって、前記超小型ディスプレイに対して前記フィールドレンズの前記位置を固定するための接着剤をさらに備える、フレーム。
【請求項１１】
請求項６に記載のディスプレイフレームであって、前記ディスプレイフレームに強固に固定された開口絞りをさらに備える、フレーム。
【請求項１２】
請求項６に記載のディスプレイフレームであって、前記ディスプレイフレーム内への粒子状物体の侵入を防止するためのガスケットをさらに備える、フレーム。
【請求項１３】
第一の超小型ディスプレイが位置づけられている投影シャーシに対して、第二の超小型ディスプレイを位置設定するための機械式集束固定装置であって、前記装置が以下、
前記第二の超小型ディスプレイを保持するためのフレーム、
前記投影シャーシに対して前記フレームを一時的に保持および位置設定し、前記第二の超小型ディスプレイおよび前記第一の超小型ディスプレイによって発生した画像を集束するためのアライメントアセンブリ、
を備え、ここで、
前記フレームが前記投影シャーシに対して固定された後、前記アライメントアセンブリが前記フレームから取り除かれるように適合される、
装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の機械式集束固定装置であって、前記アライメントアセンブリを前記フレームから取り除く前に、前記フレームを前記投影シャーシに結合するための結合物質をさらに備える、装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の機械式集束固定装置であって、ここで、前記結合物質が接着剤である、装置。
【請求項１６】
請求項１４に記載の機械式集束固定装置であって、ここで、前記結合物質がエポキシである、装置。
【請求項１７】
請求項１３に記載の機械式集束固定装置であって、前記装置が、前記フレームに移動可能に固定されたフィールドレンズであって、それにより前記第二の超小型ディスプレイに対する前記フィールドレンズの前記位置が調整可能である、フィールドレンズ、をさらに備える、装置。
【請求項１８】
請求項１７に記載の機械式集束固定装置であって、ここで、前記フィールドレンズがネジの付けられたリングによって前記フレームに固定され、それにより前記フィールドレンズのハウジングの回転が前記第二の超小型ディスプレイに対して前記フィールドレンズを移動させる、装置。
【請求項１９】
請求項１３に記載の機械式集束固定装置であって、前記第二の超小型ディスプレイに対して前記フレーム上に強固に固定された開口絞りをさらに備える、装置。
【請求項２０】
請求項１３に記載の機械式集束固定装置であって、前記第二の超小型ディスプレイおよび前記フレームの間をシールするためのガスケットをさらに備える、装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月15日(2006.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
図３は、駆動スプロケットが矢印１１の方向に回転する際の、ローラ２８（実線）の係合経路（仮想線ローラ）と駆動接触位置を更に示す。図３は、チェーンピッチとスプロケット弦ピッチが共に理論ピッチＰに等しい、最大資材スプロケットの谷径Ｄ2上に着接されたチェーンローラ２８による理論的事例を描写する。この理論的事例では、ローラの係合開始時に発生するノイズは、ローラ２８がルート面（歯底曲面）Ｒiに衝突した結果生じるラジアル成分ＦRと、ローラが駆動接触へと移動する際、同ローラ２８が点ＴＰにおいて係合歯フランクと衝突する際に生成される接線成分ＦTと、を有する。最初にラジアル衝撃が生じ、ほぼ同時に接線衝撃が追随すると考えられる。ローラ衝撃速度ＶAは、点ＴＰで駆動接触にあるローラ２８によって、係合フランク接点ＴＰを通って作用するように示され、また該接点ＴＰに実質的に垂直である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
図１５及び１５ａは、歯形１５４と１５８とのかみ合いの遅れを示す。特に、図１５は、歯溝１５４の点Ａにおいて谷径に着接された第１のローラ１１８ａと、第２の歯溝１５４の点Ａにおいてかみ合い接触し始めた第２のローラ１１８ｂと、歯溝１５８の駆動スプロケットとかみ合う直前の第３のローラ１１８ｃとを有する、図８のスプロケット１１２を示す。図１５ａは、第３のローラ１１８ｃが点Ａ'においてそのルートが緩和された歯溝１５８にかみ合い接触する瞬間に至るまで、時計回り方向に回転された図１５のスプロケットを示す。ローラ１１８ｂが点Ａにおけるその最初の接触位置から移動し、１２時の位置において歯形１５４と駆動接触で完全に着接するよう、スプロケット１１２は角度τを介して回転しなければならない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
非対称歯溝１５４及び１５８（図１１及び１３に個々に示される）においてと同様、非対称歯溝２５４のルート面２５６は傾斜した平面１７０、１７２（図１１）のうちの１つ又は両方のいずれかを更に有することができる。記載されたように、傾斜した平面は特定された程度のチェーンピッチの伸長ΔＰに順応することにより、チェーンピッチの伸長即ちチェーン摩耗を補償する。加えて、傾斜したルート面１７０、１７２は半径方向反力を低下させることを助長し、それにより、全体的なノイズレベルへのローラの半径方向衝撃ノイズの寄与率を低下させる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９７】
ここで図１８を参照して、スプロケット２１２（図１６）は係合側又はフランク２８６を有する第３の歯２８２と、非係合側又はフランク２８８を有する第４の歯２８４とを更に有する。係合フランク２８６と非係合フランク２８８は協働して歯溝２５８を画定し、ローラ１２８などの、チェーン１１６に連結されたローラを収容する。従って、スプロケット歯２８２は必然的に歯２５２のうちの１つとして分類され、スプロケット歯２８４はスプロケット歯２５０又は２５２の何れか１つとして分類されうる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
係合フランク２８６は、フランク平面部２８９の半径方向外側端部に正接する半径Ｒfを有する。半径Ｒiによって定められる第１のルート面は、フランク平面２８９の半径方向内側端部と、点Ｃから半径方向外側に延出する無機能平面部（図示されず）の半径方向外側端部とに正接する。更に詳細には、図１８ａに示されるように、ルート半径Ｒiの最大値は、点Ｂ及びＣにおける２点／線接触を確実にするよう、最小ローラ半径０．５Ｄ1以下である。ローラが点Ｂ及びＣにおいて着接する時、Ｒ1≦０．５Ｄ1の結果として、ルート面２６０とローラ１２８との間に小さな間隙２９３が画定される。また、第１の無機能平面（図示されず）は点Ｂと半径Ｒiによって定められるルート面の半径方向外側端部との間に延出し、第２の無機能平面は点Ｃと半径Ｒiによって定められるルート面の半径方向内側端部との間に延出する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
図２２を参照して、ローラ着接角度β258はローラ着接角度β254よりも大きく、角度Φ254は実質的にΦ258に等しい。結果として、プロファイル２５４の最初の接線ローラ−スプロケット衝撃は接点Ａ（図示されず）において起こり、プロファイル２５８の最初の接線ローラ−スプロケット衝撃は接点Ａ'（図示されず）において起こる。更に、プロファイル２５４について、次のラジアルローラ−スプロケット衝撃は接点Ｃにおいて起こり、完全なかみ合いの着接は点Ｂ及びＣにおいて起こる。プロファイル２５８について、次のラジアルローラ−スプロケット衝撃は接点Ｃにおいて起こり、完全なかみ合いの着接は点Ｂ'及びＣにおいて起こる。従って、プロファイル２５４、２５８の最初の接線衝撃に相対的なずれが生じる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月17日(2006.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ディスクブレーキのためのアクチュエータデバイスであって、
使用において、力伝達デバイス（１７，１８）を介してブレーキの摩擦素子（２，３）を回転ブレーキディスクに係合する位置へ移動させる働きをする回転アクチュエータ（１３）と、該アクチュエータから該力伝達デバイスへ力を伝達するスラスト部材（１７Ａ，１８Ａ）とから成り、該アクチュエータは、該スラスト部材の回転を防止するような態様で該スラスト部材に係合するように構成されており、前記力伝達デバイスは、伸縮自在のアジャスターストラットの一部を構成する１対の互いに螺合した素子（２４，２５）を含み、該螺合した素子のうちの一方の素子（２５）は、前記スラスト部材（１７Ａ，１８Ａ）によって担持された断面非円形部材（２７）によって、回転しないように保持されていることを特徴とするアクチュエータデバイス。
【請求項２】  前記スラスト部材は、前記アクチュエータの凹部内に受容されており、該凹部を形成する壁（１３Ｂ）が該スラスト部材に係合して該スラスト部材の回転を防止するようになされていることを特徴とする請求項１に記載のアクチュエータデバイス。
【請求項３】  前記凹部内に収容されており、前記回転アクチュエータ（１３）と前記スラスト部材（１７Ａ，１８Ａ）との間で作動する円筒形ローラ（１５，１６）を含むことを特徴とする請求項２に記載のアクチュエータデバイス。
【請求項４】  前記壁（１３Ｂ）は、前記円筒形ローラ（１５，１６）の一端を受容するための穴（１３Ｃ）を有することを特徴とする請求項３に記載のアクチュエータデバイス。
【請求項５】  前記非円形部材は、前記一方の素子の、該非円形部材の形状と補完関係をなす形状の孔内に嵌入する細長い心棒であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のアクチュエータデバイス。
【請求項６】  前記スラスト部材の一端は、ヘッドを有し、前記細長い心棒（２７）は、該ヘッドから突出しており、該ヘッドは、該スラスト部材の回転を防止するために前記アクチュエータによって係合される表面（１７Ｂ）を呈することを特徴とする請求項５に記載のアクチュエータデバイス。
【請求項７】  前記一方の素子（２５）は、雄ねじを有する軸であり、前記螺合した素子のうちの他方の素子（２４）は、該雄ねじに螺合する雌ねじを有するスリーブであることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のアクチュエータデバイス。
【請求項８】  請求項１〜７のいずれか１項に記載のアクチュエータデバイスを組み入れたディスクブレーキ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
レバー１０は、１対の針軸受組立体１４を介してキャリパー５内に回転自在に支持された回転作動部材即ちアクチュエータ１３と一体であるか、又は、それに取り付けられている。作動部材１３は、その回転軸線から偏心した軸線を有する円筒形ローラ１５，１６を収容する凹部を有し、調節自在のタペット組立体１７，１８として例示された隣接するスラスト部材組立体のスラスト部材１７Ａ，１８Ａに圧接するローラ１５，１６に偏心作動係合する。なお、当該凹部を形成する壁１３Ｂは、それぞれの円筒形ローラ１５又は１６の一端を受容するための穴１３Ｃを有している。レバー１０及びそれに連結された作動部材１３を回転させると、作動スラスト（推力）をタペット組立体１７，１８を介して直接作動される摩擦素子２に与え、キャリパー５によって間接作動される摩擦素子３に対してはキャリパー５による反作用を介して作動スラストを与える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
図４に明示されているように、スラスト部材１７Ａは、４辺の平坦な表面１７Ｂを有する総体的に長方形である。スラスト部材１７Ａは、作動部材１３内の凹部内に収容されている。作動部材１３は、スラスト部材１７Ａを回転させないように保持するために、近接する平坦表面１７Ｂに係合する少くとも１つの（壁１３Ｂの）平面状表面１３Ａを有する。これが、心棒２７を介して内側軸２５の回り止めの働きをする。これにより、外側スリーブ２４がアジャスター１９によって回されたとき、内側軸２５は、前記アジャスターストラットを伸張させる方向に軸方向の調節移動を行い、それによって摩擦素子２又は３の摩耗を補償する。図３にみられるように、レバー１０が図示の休止位置にあるときは、陰影部分Ａで示される作動部材１３の平面状表面１３Ａがスラスト部材１７Ａの表面１７Ｂにオーバーラップしてスラスト部材１７の回転を防止する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2002507706.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月28日(2005.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  サンプル内の核酸増幅を検出する方法であって、
（ａ）核酸ポリメラーゼ、（ｂ）標的ポリヌクレオチドにハイブリダイズすることができるプライマー及び（ｃ）該標的ポリヌクレオチドにハイブリダイズすることができるオリゴヌクレオチドプローブの存在下で該標的ポリヌクレオチドについての核酸増幅を行う工程であって、該プローブは、該プローブの長さにそって、ドナーからの蛍光がアクセプターにより減少する距離で間隔をおいている蛍光ドナー分子及び蛍光アクセプター分子及び一本鎖配列であって二本鎖形態にあるときに該配列を切断する制限酵素により認識される配列を含み、該配列がドナー及びアクセプター分子の中間に位置している工程、
制限酵素を増幅生成物に適用して、二本鎖増幅生成物を切断し、アクセプター分子をドナー分子から遊離させる工程、及び、
サンプルからの蛍光シグナルを検出する工程
を含む方法。
【請求項２】  該オリゴヌクレオチドプローブが、該標的ポリヌクレオチドの３’末端領域で該標的ポリヌクレオチドへハイブリダイズし、該ポリヌクレオチドの３’末端が増幅の間に延長して、該プローブの相補領域を形成することができる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  該制限酵素が増幅反応の間じゅう存在し、増幅反応の進行を該ドナー分子からのシグナルの増加を測定することによりモニターする、請求項２に記載の方法。
【請求項４】  該制限酵素がTaq1又はPspG1である、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】  核酸ポリメラーゼが熱安定性酵素である、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】  プローブが５’領域及び３’領域において相補配列を有し、標的ポリヌクレオチド配列へ結合する前は５’領域及び３’領域が互いに結合している、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】  該ドナー分子がフルオレセイン色素を含んでいる、請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】  該アクセプター分子がローダミン色素又はCy5である、請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】  該ドナー分子がプローブの３’末端領域でヌクレオチドへ結合し、該アクセプター分子がプローブの５’末端領域で結合している、請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】  該ドナー分子がプローブの５’末端領域でヌクレオチドへ結合し、該アクセプター分子がプローブの３’末端領域でヌクレオチドへ結合している、請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】  増幅反応を、制限酵素による切断に耐性を有する修飾ヌクレオチドを使用して行う、請求項１〜１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】  該修飾ヌクレオチドがメチル化ヌクレオチドである、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  増幅反応が進行し、少なくともあるアンプリコン生成物が存在するまで制限酵素の作用が阻害される、請求項１１又は１２に記載の方法。
【請求項１４】  あるアンプリコン生成物が得られるまで、制限酵素が反応混合物の残部から離れて維持される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】  制限酵素が溶解可能なバリヤーにより抑制される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】  制限酵素が抗体の存在により阻害される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】  制限酵素が、特定の温度に曝露されるときのみ活性になる酵素である、請求項１３に記載の方法。
【請求項１８】  増幅反応をポリメラーゼ連鎖反応（PCR）を使用して行う、請求項１〜１７のいずれかに記載の方法。
【請求項１９】  プローブが増幅プライマーの５’末端で結合している、請求項１〜１８のいずれかに記載の方法。
【請求項２０】
標的ポリヌクレオチドの量が既知であり、結果を使用して制限酵素の活性を評価する、請求項１に記載の方法。
【請求項２１】 ドナー分子、アクセプター分子並びに該ドナー及び該アクセプター分子の中間に位置している特定の二本鎖DNA配列を切断する制限酵素に対する部位を含むオリゴヌクレオチドプローブの、請求項１〜２３のいずれかに記載の方法における使用。
【請求項２２】  プローブが５’領域及び３’領域において相補配列を有し、標的ポリヌクレオチド配列へ結合する前は５’領域及び３’領域が互いに結合している、請求項２１に記載の使用。
【請求項２３】  該ドナー分子がフルオレセイン色素を含み、該アクセプター分子がローダミン色素又はCy5である、請求項２１又は２２に記載の使用。
【請求項２４】  該プローブ内において、該ドナー分子が該アクセプター分子から少なくとも１５ヌクレオチド離れている、請求項２１〜２３のいずれかに記載の使用。
【請求項２５】  該ドナー分子がプローブの３’末端領域でヌクレオチドへ結合し、該アクセプター分子がプローブの５’末端領域でヌクレオチドへ結合している、請求項２１〜２４のいずれかに記載の使用。
【請求項２６】  該ドナー分子がヌクレオチドへプローブの５’末端領域で結合し、該アクセプター分子がプローブの３’末端領域でヌクレオチドへ結合している、請求項２１〜２５のいずれかに記載の使用。
【請求項２７】
該オリゴヌクレオチドプローブが増幅プライマーの５’末端で結合している、請求項２１〜２６のいずれかに記載の使用。
【請求項２８】  請求項１〜２０のいずれかに記載の方法を行うためのキットであって、
標的ポリヌクレオチドへハイブリダイズすることができ、かつ、蛍光ドナー分子、蛍光アクセプター分子及び一本鎖配列であって二本鎖形態にあるときに該配列を切断する制限酵素により認識される配列を含み、該配列はドナー及びアクセプター分子の中間に位置している配列を含むオリゴヌクレオチドプローブと、
該アクセプターと該ドナーの中間で該プローブを切断することができる制限酵素を含むことを特徴とするキット。
【請求項２９】  更に増幅反応に使用する１又はそれ以上の試薬を含む、請求項２８に記載のキット。
【請求項３０】  該試薬が、制限酵素に耐性を有するヌクレオチド鎖を生成することができる修飾ヌクレオチドを含んでいる、請求項２９に記載のキット。
【請求項３１】  該修飾ヌクレオチドがメチル化ヌクレオチドを含んでいる、請求項３０に記載のキット。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月16日(2006.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  反射放射線信号内に含まれるデータを受動的に符号化するためのマイクロ加工組立レフレクターであって、入射放射線信号（２０）を、前記入射放射線信号の放射線源に向かって反射させる反射構造体（１０）を備えるマイクロ加工組立レフレクターにおいて、
その一部が少なくとも部分的に２つの異なる平面に配置されている複数の反射表面と、
選択的に作動可能な変形可能な構造（１２）であって、前記反射構造体の前記複数の反射表面の第１の反射表面の少なくとも一部上に配置されて、前記第１の反射表面の一部内に不連続性を導入し、前記入射放射線信号の一部を前記放射線源から離れた方向に導き、これにより、前記変形可能な構造の選択的な作動に依存して、前記反射放射線信号に含まれるデータを符号化する変形可能な構造を含んでなることを特徴とする、マイクロ加工組立レフレクター。
【請求項２】  前記変形可能な構造（１２）がプレートである、請求項１に記載のマイクロ加工組立レフレクター。
【請求項３】  前記プレートが、
第１の残留応力値を有する第１の材料の第１の層（３４）と、
前記第１の残留応力値と異なる残留応力値を有する第２の材料の第２の層（３０）とを有する、請求項２に記載のマイクロ加工組立レフレクター。
【請求項４】  前記変形可能な構造（１２）が、梁（９２）である、請求項１に記載のマイクロ加工組立レフレクター。
【請求項５】  前記梁（９２）が、前記反射表面にほぼ平行な反射プレート（９４）と、近位端が前記反射表面に接続され、遠位端が前記反射プレートに接続されている基板コネクション（９６）とを含む、請求項４に記載のマイクロ加工組立レフレクター。
【請求項６】  前記変形可能な構造が、前記入射放射線信号を選択的に反射させ、明瞭な信号を生成する３次元反射表面（１２０）を含む、請求項１に記載のマイクロ加工組立レフレクター。
【請求項７】  前記反射構造の第２の反射表面上に配置されている第２の変形可能な構造をさらに含む、請求項１に記載のマイクロ加工組立レフレクター。
【請求項８】  前記変形可能な構造及び前記第２の変形可能な構造が、個別に作動可能である、請求項７に記載のマイクロ加工組立レフレクター。
【請求項９】  前記変形可能な構造が、第１の残留応力値の第１の材料層（３０）と、前記第１の層に対向して位置する第２の材料層（３４）とを含み、
前記第１の残留応力値と異なる第２の残留応力値の前記第２の材料によって、前記プレート部材が動かされることにより、前記不連続性が形成される、請求項１に記載のマイクロ加工組立レフレクター。
【請求項１０】  前記変形可能な構造を作動するための手段をさらに含むマイクロ加工組立レフレクターであって、
前記作動するための手段は、前記変形可能な構造と通信することが可能である、請求項１に記載のマイクロ加工組立レフレクター。
【請求項１１】  前記作動するための手段が、マイクロプロセッサ（３６）である、請求項１０に記載のマイクロ加工組立レフレクター。
【請求項１２】  レフレクターを利用して、放射線信号を変調するための方法であって、放射源により生成された入射放射線信号を該レフレクター（１３０）により受信し、該レフレクターは、その一部が少なくとも部分的に２つの異なる平面に配置されている複数の反射表面を備える、放射線信号を変調するための方法において、
前記レフレクターの少なくとも１つの表面の一部（１３４）を選択的に機械的に変形するステップであって、該変形により、不連続性が、前記少なくとも１つの表面内に選択的に形成されて、前記レフレクターにより反射される入射放射線信号の量が減少され、前記入射放射線信号の一部が前記放射線源から離れた方向に反射される、ステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項１３】  前記表面の前記一部を変形する前記ステップが、前記反射放射線信号を変調するステップを含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  前記レフレクターが、放射線放射器を含み、さらに、前記放射線信号に応答して、前記放射器により、第２の放射線信号を生成するステップを具備する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】  前記レフレクターが、放射線検出器を含み、前記検出器により、前記放射線信号を検出するステップをさらに具備する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】  前記表面の前記一部を変形する前記ステップが、時間とともに、変形の程度を変化させるステップを含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１７】  前記部分と異なる程度で、前記レフレクターの表面の第２の部分を機械的に変形し、不規則的不連続を表面内に形成するステップをさらに含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１８】  入射放射線信号を放射源から受信し、反射放射線信号に含まれるデータを受動的に符号化するためのマイクロ加工組立レフレクターであって、その上に反射表面を有する基板を備えるレフレクターにおいて、
不連続性を、前記反射表面の一部に導入するように選択的に作動可能であり、これにより、前記入射放射線信号の一部を前記放射線源から離れた方向に導く変形可能な反射プレートを備え、
前記反射表面は、間隔と高さにおいて不規則な複数の特徴を含み、データは、前記不規則な特徴と前記変形可能な反射プレートの選択的な作動とに依存して、前記反射放射線信号に含まれる符号化されたデータであることを特徴とする、マイクロ加工組立レフレクター。
【請求項１９】
前記変形可能な反射プレートが、その一端において前記基板に取り付けられており、前記反射プレートの一部内にカールを具備する、請求項１８に記載のマイクロ加工組立レフレクター。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月20日(2006.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
第１の装置が、センサ信号と少なくとも１つの追加情報をビット列に変換するための、アクティブセンサ（１）に接続された信号処理装置（２）と、ビット列を一時記憶するためのシフトレジスタ（３）と、伝送すべきパルス信号を発生するために電源（５）に作用するための、シフトレジスタに接続された状態ジェネレータ（４）とを備えていることを特徴とする請求項２〜６のいずれか一つに記載のセンサ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月17日(2006.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  式：
【化１】
2002507616.tif 000001
［式中、
Ｗは、ＣＨ又はＮを示し、
Ｖは、ＣＨ又はＮＯを示し、
Ｒ１は、水素、アシル、カルボキシル又はアルキルを示し、
Ｒ３は、水素又はエステル部分を示し、
Ｒ２は、式：
【化２】
2002507616.tif 000002
【化３】
2002507616.tif 000003
（式中、
Ｘ及びＹは、互いに独立にそれぞれ、（Ｃ２−５）アルキレン又は（Ｃ２−５）アルケニレン（但し、１個の−Ｃ＝Ｃ−二重結合が存在するか又は少なくともＣ４のアルケニレンの場合に２個の−Ｃ＝Ｃ−二重結合が存在する）を示し、
Ｒ４は、水素又はアルキルを示し、
Ｒ５は、水素、アルキル又はアミノイミノメチルを示し、
Ｒ６は、水素、アルキル、シクロアルキル、アミノ、ヒドロキシ、アルコキシ、ヘテロシクリル又は式−Ｎ＝ＣＨＲ８（但し、Ｒ８は、アルキル、アリール又はヘテロシクリルを示す）の基を示し、又は
Ｒ５及びＲ６は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、ヘテロシクリルを示し、
Ｒ’６は、アルキルを示し、
Ｒ７は、水素を示し、又は
Ｒ６及びＲ７は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、ヘテロシクリルを形成する）
の基を示す］
の化合物。
【請求項２】  式
【化４】
2002507616.tif 000004
（式中、Ｗ、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ５及びＲ６は、請求項１で定義された通りである）
の化合物。
【請求項３】  ７−｛［（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−（Ｚ）−（フルオロメトキシイミノ）アセチル］アミノ｝−３−｛［（３−エチル−２−メチルイミノーイミダゾリジン−１−イル）イミノ］メチル｝−３−セフェム−４−カルボン酸。
【請求項４】  遊離形での請求項１〜３の何れか１項に記載の化合物。
【請求項５】  塩の形での請求項１〜３の何れか１項に記載の化合物。
【請求項６】  溶媒和物の形での上記請求項の何れか１項に記載の化合物。
【請求項７】  式：
【化５】
2002507616.tif 000005
［式中、
Ｗｐは、ＣＨ又はＮを示し、
Ｖｐは、＝ＣＨ−又は＝Ｎ−Ｏ−を示し、
Ｒ１ｐは、水素、アシル、カルボキシル、置換されていないアルキル又はハロゲン若しくはカルボキシルによって置換されたアルキルを示し、
Ｒ３ｐは、水素、エステル生成基又はカチオンを示し、
Ｒ２ｐは、式：
【化６】
2002507616.tif 000006
（式中、Ｘｐ及びＹｐは、同じか又は異なっており、それぞれ−（ＣＨ２）ｎ−基（式中、ｎは２〜５の数字を示し、そして任意に１個又は２個のＣＨ２−基は−ＣＨ＝ＣＨ−基によって置き換わり、そして任意に１個又は２個以上の水素原子は、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、カルボキシル又はエトキシカルボニルによって置き換わっている）を示し、
Ｒ４ｐは、水素、アルキル又はヒドロキシアルキルを示し、
Ｒ５ｐは、水素、アルキル、（ポリ）ヒドロキシアルキル又はアミノアルキル（但し、任意にアルキル基は更に、官能基、例えばカルボン酸残基、スルホン酸残基又はリン酸残基によって置換されている）を示し、
Ｒ６ｐは、水素、アルキル、ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、アミノ、ヒドロキシ、アルコキシアルキル、シクロアルキル、基Ｎ＝ＣＨＲ８ｐ（式中、Ｒ８ｐは、アリール又はヘテロアリールを示す）又は基−ＮＲ９ｐＲ１０（式中、Ｒ９ｐ及びＲ１０は、同じか若しくは異なっており、それぞれ水素、アルキル、ヒドロキシアルキル若しくはアリールを示すか又は窒素原子と一緒になって、５若しくは６環員を有し１個若しくは２個の窒素及び／若しくは酸素原子を有する飽和の非置換複素環を示す）を示し、そして
Ｒ７ｐは、水素を示すか又は
Ｒ７ｐ及びＲ６ｐは、窒素原子と一緒になって、１個又は２個の窒素及び／又は酸素原子を含有する５〜７環員を有する複素環を示す。但し、ＷｐがＣＨを示し、Ｖｐが＝Ｎ−Ｏ−を示し、Ｒ１ｐが水素又はメチルを示し、Ｒ２ｐが式ｄ）の基を示し、そしてＲ３ｐが水素を示す場合、Ｒ５ｐ及びＲ６ｐは、同時に水素又はメチル以外の基を示す］
の、遊離形で又は、このような形が存在する場合、それらの酸付加塩、内部塩、第四級塩若しくは水和物の形での化合物。
【請求項８】  式：
【化７】
2002507616.tif 000007
（式中、Ｗ、Ｖ及びＲ１は、前記定義された通りであり、そして
α）Ｒｂはヒドロキシを示し、そしてＲｃ及びＲｄは一緒になって結合を示すか又は
β）Ｒｄは、水素、カチオン、エステル生成基又はシリル基を示し、そしてＲｂ及びＲｃは一緒になってオキソ基を示す）
の化合物を、遊離形又はその酸付加塩の形で、式：
【化８】
2002507616.tif 000008
（式中、Ｒ２は前記定義された通りである）
のアミンと反応させることを含む、式Ｉの化合物の製造方法。
【請求項９】  薬物として使用するための、請求項１に記載の化合物。
【請求項１０】  微生物性疾患の治療のための医薬の製造に使用するための請求項１に記載の化合物。
【請求項１１】  少なくとも１種の薬物坦体又は希釈剤と組み合わせて、薬物的に許容される塩形又は遊離形で、式Ｉの化合物を含有する薬物組成物。
【請求項１２】  シュードモナス、エシエリヒア、エンテロバクター、クレブシエラ、モラクセラ、エンテロコッカス、ストレプトコッカス及びスタフィロコッカスから選択された細菌によって起こされる微生物性疾患の治療に於ける、請求項１０に記載の使用のための、請求項１に記載の化合物。
【請求項１３】  薬物としての、請求項１に記載の式Ｉの化合物の使用又は請求項１２記載の組成物の使用。
【請求項１４】  微生物性疾患の治療が必要な被検者に、有効量の式Ｉの化合物を投薬することを含む、微生物性疾患の治療方法。
【請求項１５】  式：
【化９】
2002507616.tif 000009
［式中、
Ｙ’は、アルキレンを示し、
Ｒ’５は、水素、アルキル又はアルキルアミノを示し、
Ｒ’’６は、水素、アルキル、ヒドロキシ、アルコキシ、シクロアルキル、アミノ又はヘテロシクリルを示し、
Ｒ’７及びＲ’８は、互いに独立に、水素、カルボキシル、アルコキシカルボニル又はアルキルを示し、
Ｒ’’’６及びＲ’’’’６は、互いに独立に、アルキルを示し、又は
Ｒ’’’６及びＲ’’’’６は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、ヘテロシクリルを示し、
Ｒ’’５は、アルキルを示し、又は
Ｒ’’５及びＲ’’’６は一緒になって、アルキレンを示し、
Ｒ’’’５及びＲ’’’’’６は互いに独立に、アルキルを示し、
Ｒ’’’’’’６及びＲ’’７は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、ヘテロシクリルを形成し、
Ｒ’４及びＲ’’’’’’’６は互いに独立に、アルキルを示し、そして
Ｈａｌ’−は、ハロゲンを示す。（但し、Ｒ’５、Ｒ’７及びＲ’８が水素であり、Ｒ’’６が水素、２−（Ｎ−モルホリノ）エチル、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル、（２−ヒドロキシエチル）アミノ又は２−ヒドロキシエチルである式ＩＩｎｔの化合物を除く。）］
の化合物。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月10日(2005.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
有利な構成では流体通路はシリンダヘッド側で外側カバーで閉ざされるか（閉じたデッキ）あるいは開いていて、後者の態様はシリンダヘッドの流体系に流体を導く接続を所謂「オープンデッキ」構造様式で有利に実現する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月30日(2006.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  セラミック母材複合物により形成され、削磨可能なセラミック層により断熱された基板部品を有するガスタービンであって、
削磨可能なセラミック層は、
種々の寸法を有する複数の中空の酸化物系球体と、
ホスファート結合剤と、
少なくとも１つの酸化物充填剤粉末とよりなる組成物により形成され、
ホスファート結合剤は球体と少なくとも１つの充填剤粉末の間のギャップを部分的に充填しており、
球体はホスファート結合剤及び少なくとも１つの酸化物充填剤粉末中において、各球体が少なくとも３つの他の球体と接触するように配置しており、基板と削磨可能な断熱層は同様な熱膨張係数を有し、さらにこの組成物は最高約１６００℃の温度で安定であることを特徴とするガスタービン。
【請求項２】  セラミック層は部品の表面に接合されている請求項１のガスタービン。
【請求項３】  部品は、外表面がタービンの高温ガス流にさらされ、外表面に請求項１の組成物が接合された静翼である請求項１又は２のガスタービン。
【請求項４】  部品は、内表面に請求項１の組成物が接合された燃焼器である請求項１又は２のガスタービン。
【請求項５】  部品は、内表面が燃焼器の排出ガスにさらされ、この内表面に請求項１の組成物が接合された移行部ダクトである請求項１又は２のガスタービン。
【請求項６】  シュラウド内で回転可能な動翼先端部をさらに有し、部品は、動翼先端部が内部で回転する内表面に請求項１の組成物が接合されたシュラウドであり、かくして動翼先端部が組成物に溝を削り取ってタービンの動翼先端部のための特注の封止部を形成する請求項１又は２のガスタービン。
【請求項７】  請求項１のセラミック母材複合物より成るガスタービンの部品を断熱するためのセラミック断熱組成物であって、
種々の寸法を有する複数の中空の酸化物系球体と、
ホスファート結合剤と、
少なくとも１つの酸化物充填剤粉末とよりなり、
ホスファート結合剤が球体と少なくとも１つの充填剤粉末の間のギャップを部分的に充填しており、
球体が、各球体が少なくとも３つの他の球体と接触するようにホスファート結合剤と少なくとも１つの充填剤粉末の中に位置しており、さらにこの組成物は最高約１６００℃の温度で安定であることを特徴とするセラミック断熱組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月27日(2006.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  リサイクルされたコート紙の加工の間に製紙装置へのホワイトピッチの付着を抑制する方法であって、前記コート紙にホワイトピッチの付着を抑制するに有効な量の少なくとも１種のエチレンアミン化合物を添加することを含み、前記エチレンアミン化合物が少なくとも１つの-(ＣＲ2-ＣＲ2-ＮＨ)-単位を有し、式中、Ｒは独立にＨ又は１〜１０個の炭素原子を含むアルキルである方法。
【請求項２】  前記エチレンアミン化合物が、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラアミン、テトラエチレンペンタアミン、平均分子量が60〜500であるエチレンアミンオリゴマーの混合物、及びこれらの混合物からなる群より選ばれる、請求項２記載の方法。
【請求項３】  前記エチレンアミン化合物がコート紙に、被覆紙の全固体分を基準として10ppm〜5000ppmの量で添加される、請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】  前記エチレンアミン化合物がコート紙に、被覆紙の全固体分を基準として100ppm〜2500ppmの量で添加される、請求項３記載の方法。
【請求項５】  前記エチレンアミン化合物がコート紙に、被覆紙の全固体分を基準として500ppm〜1500ppm の量で添加される、請求項４記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月18日(2005.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  物品を処理するための方法において、物品を流動床内に配置する工程と、物品を流動床を通って運搬する工程と、第一のエレベータを用いて物品を流動床内に降下する工程と、第二のエレベータを用いて物品を流動床から取り出す工程と、流動床の媒体内に設置されたセンサを用いて流動床の温度を制御する工程とを具備する方法。
【請求項２】  上記第一のエレベータが流動床に関して第一の位置にあり、上記第二のエレベータが流動床に関して第二の位置にある請求項１に記載の方法。
【請求項３】 物品を流動床を通って運搬する上記工程がオーバーヘッド機構により移動される製品ホルダーに物品を取外し可能に取り付ける工程を具備する請求項１に記載の方法。
【請求項４】  流動床を通過した空気の一部をリサイクルする工程をさらに具備する請求項１に記載の方法。
【請求項５】 流動床で使用された空気の一部をリサイクルする上記工程が空気を濾過する工程をさらに具備する請求項４に記載の方法。
【請求項６】  流動床内のセンサからの出力が流動床にいつ熱を加えるかと流動床のどこに熱を加えるかとを決定するためのフィードバック制御ループにおいてフィードバックとして用いられる請求項１に記載の方法。
【請求項７】 流動床を通って物品を運搬する上記工程が物品を所望の速度で運搬することを含み、前記所望の速度が物品を熱処理するために必要な流動床内での時間に帰着する請求項１に記載の方法。
【請求項８】  流動床を流動させるために必要な熱の一部をリサイクルする工程をさらに具備する請求項１に記載の方法。
【請求項９】  物品を熱処理するための方法において、物品を熱処理するために第一流動床を通って物品を運搬する工程と、物品を急冷するために第二流動床を通って物品を運搬する工程と、第一流動床から物品を取り出す工程と、物品を第二流動床に移動する工程と、物品を第二流動床に降下させる工程とを具備する方法。
【請求項１０】  物品が第一のステーションと第二のステーションとの間にあるときに物品から媒体を除去する工程をさらに具備する請求項９に記載の方法。
【請求項１１】  物品が第一のステーションと第二のステーションとの間にあるときに物品から媒体を除去する工程をさらに具備し、該媒体除去工程が物品から砂をブローする工程と、砂をリサイクルする工程とを具備する請求項９に記載の方法。
【請求項１２】  １時間以下で物品を熱処理する工程をさらに具備する請求項９に記載の物品の処理方法。
【請求項１３】  １時間以下で物品をエージングする工程を更に具備する請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  ３０分以下で物品を急冷する工程をさらに具備する請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】 物品を急冷する工程と物品をエージングする工程とをさらに具備し、物品を熱処理し、急冷し、エージングするのにかかる時間が２時間以下である請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】  物品を処理する方法において、物品を流動床内に配置する工程と、物品を流動床を通って運搬する工程であって物品を熱処理するために必要な流動床内での時間に帰着する所望の速度で物品を運搬することを含む工程と、流動床の媒体内に設置されたセンサを用いて流動床の温度を制御する工程とを具備する方法。
【請求項１７】  物品を処理する上記工程が１時間以下で物品を熱処理することを含む請求項１６に記載の物品の処理方法。
【請求項１８】  １時間以下で物品をエージングする工程をさらに具備する請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】  ３０分以下で物品を急冷する工程をさらに具備する請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】  物品を急冷する工程と物品をエージングする工程とをさらに具備し、物品を熱処理し、急冷し、エージングするのにかかる時間が２時間以下である請求項１７に記載の方法。
【請求項２１】  流動床を流動させるために必要な熱の一部をリサイクルする工程をさらに具備する請求項１６に記載の方法。
【請求項２２】 物品を流動床を通って運搬する上記工程が製品ホルダーに物品を取外し可能に取り付ける工程を具備する請求項１６に記載の方法。
【請求項２３】 物品を流動床を通って運搬する上記工程がオーバーヘッド機構により物品を移動させることを含む請求項２２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月17日(2006.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ゼオライトを含む触媒の存在下かつ溶媒の存在下でモノオレフィンと過酸化物との反応によりエポキシドを製造する方法であって、モノオレフィン、過酸化物、触媒、生成したエポキシド及び溶媒を含む反応媒体のｐＨが４．８〜６．５であることを特徴とする方法。
【請求項２】  反応媒体のｐＨが、５〜６である、請求項１記載の方法。
【請求項３】  過酸化物が反応媒体１ｋｇ当たり１〜１０モル、好ましくは１．５〜５モルの量で使用される、請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】  過酸化物が、１０〜７０質量％、好ましくは２０〜５０質量％の過酸化物を含む水溶液の形態で使用される、請求項１〜３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】  反応が０〜１５０℃、一般的に０〜７０℃、好ましくは２０〜４０℃の温度で実施される、請求項１〜４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】  反応媒体のｐＨが、塩基の添加によって４．８〜６．５の区域に維持される、請求項１〜５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】  塩基が弱塩基から選択される、請求項６記載の方法。
【請求項８】  塩基が酢酸ナトリウムである、請求項７記載の方法。
【請求項９】  ゼオライトがチタンシリカライトであって、好ましくはZSM-5型の結晶性構造を持つＴＳ−１型のものである、請求項１〜８のいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】  エポキシドが1,2-エポキシプロパンであり、オレフィンがプロピレンであり、過酸化物が過酸化水素であり、及び溶媒がメタノールである、請求項１〜９のいずれか１項記載の方法。