【手続補正書】
【提出日】平成18年2月15日(2006.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体２３０の平坦な表面２３４上に均一皮膜２３２を堆積するための装置２００であって、
ａ）複数のプラズマを発生するための複数のプラズマ源２１２からなる１以上のアレイ２１０であって、前記複数のプラズマ源２１２の各々が陰極２１４、陽極２１６、及びプラズマ室２０２内に配設された非反応性プラズマ源ガス用入口２１８を含む、１以上のアレイ２１０、
ｂ）前記基体２３０を収容するための堆積室２０４であって、当該堆積室２０４は前記プラズマ室２０２と流体流通状態にあり、前記プラズマ室２０２は第一の所定圧力に維持され、当該堆積室２０４は第二の所定圧力に維持され、前記第二の所定圧力は前記第一の所定圧力より低い、堆積室２０４、並びに
ｃ）１種以上の反応体ガスを一定流量で前記複数のプラズマの各々に供給するため、前記堆積室２０４内に配設された１以上の共通反応体ガスインジェクター２２０
を含んでなる装置２００。
【請求項２】
前記複数のプラズマ源２１２の１以上が膨張熱プラズマ源である、請求項１記載の装置２００。
【請求項３】
前記１以上のアレイ２１０が、前記複数のプラズマ源２１２からなる１以上の線状アレイを含む、請求項１記載の装置２００。
【請求項４】
前記１以上のアレイ２１０が、前記複数のプラズマ源２１２からなる１以上の二次元アレイを含む、請求項１記載の装置２００。
【請求項５】
複数のプラズマ源２１２のアレイ２１０で発生される複数のプラズマ中に１種以上の反応体ガスの一様な流れを注入するための共通反応体ガスインジェクター２２０であって、
ａ）前記１種以上の反応体ガスを反応体ガス源から供給するために役立つ内部空間を有する管壁構造物からなる反応体ガス入口、
ｂ）第一のプラズマに近接した第一の複数のオリフィス２４０であって、当該第一の複数のオリフィス２４０の各々は前記管壁構造物を通って前記内部空間から前記反応体ガス入口の外面まで延在しており、当該第一の複数のオリフィス２４０は前記１種以上の反応体ガスが前記内部空間から当該第一の複数のオリフィス２４０を通過して前記第一のプラズマ中に第一の流量で注入されるように向けられている、第一の複数のオリフィス２４０、及び
ｃ）第二のプラズマに近接した第二の複数のオリフィス２４２であって、当該第二の複数のオリフィス２４２の各々は前記管壁構造物を通って前記内部空間から前記反応体ガス入口の外面まで延在しており、当該第二の複数のオリフィス２４２は前記１種以上の反応体ガスが前記内部空間から当該第二の複数のオリフィス２４２を通過して前記第二のプラズマ中に第二の流量で注入されるように向けられており、前記第二の流量は前記第一の流量と実質的に等しい、第二の複数のオリフィス２４２
を含んでなる共通反応体ガスインジェクター２２０。
【請求項６】
基体２３０の表面２３４上に均一皮膜２３２を堆積するための装置２００であって、
ａ）複数のプラズマを発生するための複数のプラズマ源２１２からなる１以上のアレイ２１０であって、前記複数のプラズマ源２１２の１以上が膨張熱プラズマ源であり、前記複数のプラズマ源２１２の各々が陰極２１４、陽極２１６、及びプラズマ室２０２内に配設された非反応性プラズマ源ガス用入口２１８を含む、１以上のアレイ２１０、
ｂ）前記基体２３０を収容するための堆積室２０４であって、当該堆積室２０４は前記プラズマ室２０２と流体流通状態にあり、前記プラズマ室２０２は第一の所定圧力に維持され、当該堆積室２０４は第二の所定圧力に維持され、前記第二の所定圧力は前記第一の所定圧力より低い、堆積室２０４、並びに
ｃ）１種以上の反応体ガスの一様な流れを前記複数のプラズマの各々に注入するため、前記堆積室２０４内に配設された１以上の共通反応体ガスインジェクター２２０であって、（ｉ）前記反応体ガスを１以上の反応体ガス源から供給するために役立つ内部空間を有する管壁構造物からなる反応体ガス入口と、（ii）第一のプラズマに近接した第一の複数のオリフィス２４０であって、当該第一の複数のオリフィス２４０の各々は前記管壁構造物を通って前記内部空間から前記反応体ガス入口の外面まで延在しており、当該第一の複数のオリフィス２４０は前記反応体ガスが前記内部空間から当該第一の複数のオリフィス２４０を通過して前記第一のプラズマ中に第一の流量で注入されるように向けられている、第一の複数のオリフィス２４０と、（iii）第二のプラズマに近接した第二の複数のオリフィス２４２であって、当該第二の複数のオリフィス２４２の各々は前記管壁構造物を通って前記内部空間から前記反応体ガス入口の外面まで延在しており、当該第二の複数のオリフィス２４２は前記反応体ガスが前記内部空間から当該第二の複数のオリフィス２４２を通過して前記第二のプラズマ中に第二の流量で注入されるように向けられており、前記第二の流量は前記第一の流量と実質的に等しい、第二の複数のオリフィス２４２とを含んでなる共通反応体ガスインジェクター２２０
を含んでなる装置２００。
【請求項７】
基体２３０の平坦な表面２３４上に均一皮膜２３２を堆積するための方法であって、
ａ）平坦な表面２３４を有する基体２３０を堆積室２０４に供給する段階、
ｂ）堆積室２０４を所定の堆積圧力に排気する段階、
ｃ）複数のプラズマ源２１２からなる１以上のアレイ２１０から複数のプラズマを発生させる段階、
ｄ）第一のプラズマ中への１種以上の反応体ガスの第一の流量が第二のプラズマ中への１種以上の反応体ガスの第二の流量と実質的に等しくなるようにして、１以上の共通反応体ガスインジェクター２２０を通して１種以上の反応体ガスを複数のプラズマの各々に注入する段階、
ｅ）１種以上の反応体ガス及び複数のプラズマを基体２３０に向けて堆積室２０４内に流す段階、並びに
ｆ）１種以上の反応体ガスを複数のプラズマと反応させて基体２３０の平坦な表面２３４上に皮膜２３２を形成する段階
を含んでなる方法。
【請求項８】
複数のプラズマ源２１２の１以上が、陰極２１４、陽極２１６、及びプラズマ室２０２内に配設された非反応性プラズマ源ガス用入口２１８を有する膨張熱プラズマ源である、請求項７記載の方法。
【請求項９】
第一のプラズマ中への１種以上の反応体ガスの第一の流量が第二のプラズマ中への１種以上の反応体ガスの第二の流量と実質的に等しくなるようにして、複数のプラズマ源２１２のアレイ２１０で発生される複数のプラズマ中に１種以上の反応体ガスを注入するための方法であって、
ａ）１種以上の反応体ガスを反応体ガス源から共通反応体ガスインジェクター２２０に供給する段階、
ｂ）１種以上の反応体ガスを、第一のプラズマに近接した共通反応体ガスインジェクター２２０中の第一の複数のオリフィス２４０に通過させる段階であって、第一の複数のオリフィス２４０は１種以上の反応体ガスが第一のプラズマ中に第一の所定流量で注入されるように向けられている段階、並びに
ｃ）１種以上の反応体ガスを、第二のプラズマに近接した共通反応体ガスインジェクター２２０中の第二の複数のオリフィス２４２に通過させる段階であって、第二の複数のオリフィス２４２は１種以上の反応体ガスが第二のプラズマ中に第二の所定流量で注入されるように向けられており、第二の所定流量は第一の所定流量と実質的に等しい段階
を含んでなる方法。
【請求項１０】
平坦な表面２３４上に堆積した均一皮膜２３２を有する基体２３０であって、均一皮膜２３２が、
ａ）表面２３４を有する基体２３０を堆積室２０４に供給する段階であって、堆積室２０４は複数のプラズマ源２１２からなる１以上のアレイ２１０と流体流通状態にあり、複数のプラズマ源２１２の１以上は陰極２１４、陽極２１６、及びプラズマ室２０２内に配設された非反応性プラズマ源ガス用入口２１８を有する膨張熱プラズマ源であり、プラズマ室２０２は堆積室２０４と流体流通状態にある段階、
ｂ）堆積室２０４を所定の堆積圧力に排気し、プラズマ室２０２を第一の所定圧力に排気する段階であって、所定の堆積圧力は第一の所定圧力より低い段階、
ｃ）複数のプラズマ源２１２中に複数のプラズマを発生させ、複数のプラズマを前記堆積室２０４内に流す段階、
ｄ）複数のプラズマが堆積室２０４内に流入する際、第一のプラズマ中への１種以上の反応体ガスの第一の流量が第二のプラズマ中への１種以上の反応体ガスの第二の流量と実質的に等しくなるようにして、１以上の共通反応体ガスインジェクターを通して１種以上の反応体ガスを複数のプラズマの各々に注入する段階、
ｅ）１種以上の反応体ガス及び複数のプラズマを基体２３０に向けて堆積室２０４内に流す段階、並びに
ｆ）１種以上の反応体ガスを複数のプラズマの各々と反応させて基体２３０の表面２３４上に皮膜２３２を形成する段階
によって堆積したものである、基体２３０。