【手続補正書】
【提出日】平成18年1月26日(2006.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス非透過性材料により形成された第１層と、ガス非透過性材料により形成された第２層とを含み、上記第１層及び第２層は、電気伝導性プラグ材料により閉じられた孔をその膜厚方向に有し、
さらに、上記第１層と第２層との間に第３中間層を含み、該第３中間層は、電気伝導性を有し、上記第１層及び第２層を貫通する孔内の前記プラグ材料に電気的に接続されていることを特徴とする燃料電池ガスセパレータ。
【請求項２】
前記第１層及び第２層の材料が同一である請求項１記載のガスセパレータ。
【請求項３】
前記第１層及び第２層のそれぞれの材料がジルコニアである請求項１又は２記載のガスセパレータ。
【請求項４】
前記ジルコニアが、イットリアにより安定化されている請求項３記載のガスセパレータ。
【請求項５】
前記ジルコニアが、約２０ｗｔ％以下のアルミナを含有する請求項３記載のガスセパレータ。
【請求項６】
前記第１層及び第２層のそれぞれの膜厚が、２０〜２５０μｍの範囲にある請求項１〜５のいずれかに記載のガスセパレータ。
【請求項７】
前記第３中間層の膜厚が、１０〜１００μｍの範囲にある請求項１〜６のいずれかに記載のガスセパレータ。
【請求項８】
前記第３中間層の電気伝導性材料が、輝コバルト鉱、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｎｉ、前記金属を１以上含有する合金、及び他の銀ベース材料から選ばれる請求項１〜７のいずれかに記載のガスセパレータ。
【請求項９】
前記第３中間層の材料が、電気伝導性プラグ材料と同一である請求項１〜８のいずれかに記載のガスセパレータ。
【請求項１０】
前記孔が、前記第１層及び第２層の膜厚方向に対して垂直に延びる請求項１〜９のいずれかに記載のガスセパレータ。
【請求項１１】
前記第１層内の孔が、第２層内の孔に対して互い違いに形成されている請求項１〜１０のいずれかに記載のガスセパレータ。
【請求項１２】
各孔の断面の平均的な大きさが、５０〜１０００μｍの範囲にある請求項１〜１１のいずれかに記載のガスセパレータ。
【請求項１３】
前記第１層及び第２層のそれぞれを貫通する孔の全面積が、前記層の電極接触領域の表面領域１０００ｍｍ２に対して０．１〜２０ｍｍ２の範囲にある請求項１〜１２のいずれかに記載のガスセパレータ。
【請求項１４】
前記電気伝導性プラグ材料が、輝コバルト鉱、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｎｉ、前記金属を１以上含有する合金及び他の銀ベース材料から選ばれる請求項１〜１３のいずれかに記載のガスセパレータ。
【請求項１５】
前記電気伝導性プラグ材料が、金属銀、Ａｇが主成分である金属混合物、銀合金及び銀ガラス複合物から選ばれる請求項１４記載のガスセパレータ。
【請求項１６】
前記電気伝導性プラグ材料が、銀と、金、パラジウム、プラチナ及びステンレス鋼のうち１以上とが合金化されているか、若しくは混合されている請求項１５記載のガスセパレータ。
【請求項１７】
前記電気伝導性プラグ材料が、約１０〜４０ｗｔ％のガラスを含有する銀−ガラス複合物である請求項１５記載のガスセパレータ。
【請求項１８】
前記銀−ガラス複合物が、約１５〜３０ｗｔ％のガラスを含有する請求項１７記載のガスセパレータ。
【請求項１９】
前記銀−ガラス複合物における銀が、市販の純粋な銀、銀合金若しくは銀混合物から選ばれる請求項１５、１７若しくは１８のいずれかに記載のガスセパレータ。
【請求項２０】
前記銀が、金、パラジウム、プラチナ若しくはステンレス鋼のいずれか１以上と合金化されるか若しくは混合される請求項１９記載のガスセパレータ。
【請求項２１】
前記銀−ガラス複合物中のガラスが、結晶化に対して安定である請求項１５及び１７〜２０のいずれかに記載のガスセパレータ。
【請求項２２】
前記銀−ガラス複合物中のガラスが、高濃度シリカガラスである請求項１５及び１７〜２１のいずれかに記載のガスセパレータ。
【請求項２３】
前記ガラスの組成物が、０−５.５ｗｔ％Ｎａ２Ｏ、８−１４ｗｔ％Ｋ２Ｏ、０−２.２ｗｔ％ＭｇＯ、１−３ｗｔ％ＣａＯ、０−６ｗｔ％ＳｒＯ、０−８ｗｔ％ＢａＯ、６−２０ｗｔ％Ｂ２Ｏ３、３−７ｗｔ％Ａｌ２Ｏ３、５８−７６ｗｔ％ＳｉＯ２及び０−１０ｗｔ％ＺｒＯ２である請求項２２記載のガスセパレータ。
【請求項２４】
前記ガラスの組成物が、０−２.０ｗｔ％Ｎａ２Ｏ、８−１３.５ｗｔ％Ｋ２Ｏ、０−０.０５ｗｔ％ＭｇＯ、１−１.６ｗｔ％ＣａＯ、０.５−１ｗｔ％ＳｒＯ、０−４.４ｗｔ％ＢａＯ、６−２０ｗｔ％Ｂ２Ｏ３、３−６.０ｗｔ％Ａｌ２Ｏ３、６０−７５ｗｔ％ＳｉＯ２及び０−５.０ｗｔ％ＺｒＯ２である請求項２３記載のガスセパレータ。
【請求項２５】
各電気伝導性被膜を、第１層及び第２層の電極接触サイドの電気伝導性プラグ材料上に備える請求項１〜２４のいずれかに記載のガスセパレータ。
【請求項２６】
前記被膜が、前記第１層及び第２層のそれぞれの各電極接触領域上に拡がる請求項２５に記載のガスセパレータ。
【請求項２７】
カソード接触サイド上の前記電気伝導性被膜が銀若しくは銀合金である請求項２５又は２６に記載のガスセパレータ。
【請求項２８】
前記カソード接触サイド上の被膜が、約４〜２０ｗｔ％のＳｎを含有するＡｇ−Ｓｎ合金である請求項２７記載のガスセパレータ。
【請求項２９】
前記カソード接触サイド上の被膜が、前記被膜の電気伝導性を改善するため、約１０ｗｔ％以下のドーパントを含有するＡｇ−Ｓｎ合金である請求項２７又は２８に記載のガスセパレータ。
【請求項３０】
前記カソード接触サイド上の被膜が、Ａｇ−Ｓｎ合金であり、１０〜１０００μｍの範囲の膜厚を有する請求項２７〜２９のいずれかに記載のガスセパレータ。
【請求項３１】
前記カソード接触サイド上の被膜が、ＳｎＯ２表面層を有するＡｇ−Ｓｎ合金である請求項２７〜３０のいずれかに記載のガスセパレータ。
【請求項３２】
前記カソード接触サイド上の被膜が、市販の純粋な銀からなり、５０〜２５０μｍの範囲にある膜厚を有する請求項２７記載のガスセパレータ。
【請求項３３】
アノード接触サイド上の電気伝導性被膜が、ニッケルからなる請求項２５〜３２のいずれかに記載のガスセパレータ。
【請求項３４】
前記アノード接触サイド上のニッケル被膜が、市販の純粋なものである請求項３３記載のガスセパレータ。
【請求項３５】
前記アノード接触サイド上のニッケル層が、１０〜１０００μｍの範囲にある膜厚を有する請求項３３又は３４記載のガスセパレータ。
【請求項３６】
銀の層を、ニッケルの被膜と、第１層若しくは第２層のいずれかのアノード接触サイドとの間の電極接触領域に備える請求項３３〜３５のいずれかに記載のガスセパレータ。
【請求項３７】
前記銀の層が、市販の純粋な銀を含有する請求項３６記載のガスセパレータ。
【請求項３８】
前記銀の層が、１０〜１０００μｍの範囲にある膜厚を有する請求項３６又は３７に記載のガスセパレータ。
【請求項３９】
ガス流通路を規定する表面形成層を、前記第１層及び第２層のそれぞれの電極接触サイド上に備え、
前記表面形成層が、電気伝導性を有し、電気伝導性プラグ材料が充填された孔を被覆していることを特徴とする請求項１〜３８のいずれかに記載のガスセパレータ。
【請求項４０】
前記アノード接触サイド上の表面形成層が、固体酸化物燃料電池アノード材料により形成され、前記カソード接触サイド上の表面形成層が、固体酸化物燃料電池カソード材料により形成され、
前記表面形成層が、前記第１層及び第２層若しくはそれらの上に形成された電気伝導性被膜に接着されていることを特徴とする請求項３９記載のガスセパレータ。
【請求項４１】
電気伝導性被膜を、アノード接触サイド及びカソード接触サイド上の表面形成層上のそれぞれに備える請求項３９又は４０に記載のガスセパレータ。
【請求項４２】
前記カソード接触サイドの表面形成層上の被膜が、金属銀により形成されている請求項４１記載のガスセパレータ。
【請求項４３】
前記アノード接触サイドの表面形成層上の被膜が、ニッケルにより形成されている請求項４１又は４２に記載のガスセパレータ。
【請求項４４】
燃料電池ガスセパレータを形成する方法であって、
ガス非透過性材料により形成され、膜を貫通する孔を有する、ガスセパレータの第１層及び第２層を準備する工程と、
電気伝導性材料からなり、第１の膜厚を有し、さらに前記第１層と第２層との間に置かれる第３層に、第１層及び第２層を重ね合わせる工程と、
前記積層された第１層、第２層及び第３層を圧縮する工程とを有し、
上記条件の下では、電気伝導性材料が押し流され、それにより、電気伝導性材料からなる第３層が、上記第１の膜厚より薄い第２の膜厚を有し、前記電気伝導性材料が第１層及び第２層の孔内に流れ込んで前記孔が塞がれているガスセパレータが作製されることを特徴とする製造方法。
【請求項４５】
前記第１層及び第２層が、該第１層及び第２層を貫通する孔が互い違いになるように形成され、若しくは方向付けられる請求項４４記載の製造方法。