【手続補正書】
【提出日】平成17年10月21日(2005.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電極が取り付けられ、かつ水性アルカリ電解液で満たされる電解槽であって、他の電極が接続された物品が浸漬された電解槽内において、金属および合金にセラミック被膜を形成するプロセスであって、前記プロセスがプラズマ放電方式でなされるようにパルス電流が前記電極間に供給されるプロセスにおいて、
ｉ）前記電極に予め定められた周波数範囲を有する高周波の二極性電流パルスを供給する工程と、
ｉｉ）予め定められた音波周波数範囲の音響振動を前記電解液中に生成させる工程であって、前記音響振動の周波数範囲は前記電流パルスの周波数範囲と重なるような工程とを備えるプロセス。
【請求項２】
前記被膜はＭｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｈｆといった金属もしくはそれらの合金、またはＡｌ−Ｂｅ、Ｔｉ−Ａｌ、Ｎｉ−Ｔｉ、Ｎｉ−Ａｌ、Ｔｉ−Ｎｂ、Ａｌ−Ｚｎ、Ａｌ−Ａｌ2Ｏ3，Ｍｇ−Ａｌ2Ｏ3といった化合物もしくは複合物に形成される請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
各電流パルスはそのパルスの全持続時間の１０％よりも大きくない時間内に最大値に至る電流の初期急勾配増大部分とそれに続く電流が最初は急速に減少してその後最大値の５０％以下まで徐々に減少する部分を含む形状を有している請求項１または２に記載のプロセス。
【請求項４】
前記音響振動は酸素による前記電解液の空気水力学的な飽和を生じさせる請求項１乃至３のいずれかに記載のプロセス。
【請求項５】
前記電解液に酸素または空気が供給される請求項４に記載のプロセス。
【請求項６】
超分散固体粒子を前記電解液内に導き、前記音響振動によって安定した水性ゾルを生成する工程をさらに備える請求項１乃至５のいずれかに記載のプロセス。
【請求項７】
前記固体粒子は０．５μｍよりも大きくない粒子径を有している請求項６に記載のプロセス。
【請求項８】
前記固体粒子は金属の酸化物、硼化物、炭化物、窒化物、珪化物、または硫化物の形態の化合物から構成される請求項６または７に記載のプロセス。
【請求項９】
前記プラズマ放電方式はプラズマ電解酸化方式である請求項１乃至８のいずれかに記載のプロセス。
【請求項１０】
前記セラミック被膜は２から１０μｍ／分の速度で形成される請求項１乃至のいずれかに記載のプロセス。
【請求項１１】
前記物品に印加される電流は３から２００Ａ／ｄｍ2の電流密度を有する請求項１乃至１０のいずれかに記載のプロセス。
【請求項１２】
前記物品に印加される電流は１０から６０Ａ／ｄｍ2の電流密度を有する請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記電流パルスは少なくとも５００Ｈｚのパルス継続周波数を有する請求項１乃至１２
のいずれかに記載のプロセス。
【請求項１４】
前記パルス継続周波数は１，０００から１０，０００Ｈｚの範囲内にある請求項１３に記載のプロセス。
【請求項１５】
金属および合金にセラミック被膜を形成する装置であって、電極を有する電解槽と、パルス電流を前記電極に送る供給源と、少なくとも１つの音響振動発生器を備える装置において、
ｉ）前記供給源は前記電極に予め定められた周波数範囲の高周波の二極性電流パルスを供給するのに適応するようにされ、
ｉｉ）前記少なくとも１つの音響振動発生器は前記槽内に含まれる電解液内に音響振動を生成させるのに適応するようにされ、前記音響振動は前記電流パルスの周波数範囲と重なる予め定められた音波周波数範囲を有する
装置。
【請求項１６】
前記供給源は各電流パルスがそのパルスの全持続時間の１０％よりも大きくない時間内に最大値に至る電流の初期急勾配増大部分とそれに続く電流が最初は急速に減少してその後最大値の５０％以下まで徐々に減少する部分を含む形状を有するのに適応するようにされている請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記少なくとも１つの音響発生器は電解液を流動させる少なくとも１つの投入部を有している空気水力学的共鳴器である請求項１５または１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記少なくとも１つの空気水力学的共鳴器によって生成される音響振動は、前記空気水力学的共鳴器の前記投入部における前記電解液の流れの圧力を変更させることによって、制御される請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
請求項１ないし１４のいずれか１つに記載のプロセスによって金属または合金に形成されるセラミック被膜。
【請求項２０】
請求項１５ないし１８のいずれか１つに記載の装置を用いて金属または合金に形成されるセラミック被膜。
【請求項２１】
前記被膜は全被膜厚みの１４％よりも大きくない厚みの多孔性外層を有する請求項１９または２０に記載のセラミック被膜。
【請求項２２】
前記多孔性外層は全被膜厚みの１０％よりも大きくない厚みを備える請求項２１に記載のセラミック被膜。
【請求項２３】
前記多孔性外層は全被膜厚みの８％よりも大きくない厚みを備える請求項２２に記載のセラミック被膜。
【請求項２４】
前記被膜は０．６から２．１μｍの低い粗さ（Ｒａ）の表面を有する請求項１９ないし２３のいずれか１つに記載のセラミック被膜。
【請求項２５】
金属または合金にプラズマ放電プロセスによって形成されるセラミック被膜であって、０．６から２．１μｍの低い粗さ（Ｒａ）の表面を有する請求項１ないし１４のいずれか一つのセラミック被膜。
【請求項２６】
前記被膜は５００から２１００ＨＶの微小硬度を有する緻密な微細多結晶性構造を有する請求項１９ないし２５のいずれか１つに記載のセラミック被膜。
【請求項２７】
２から１５０μｍの全厚みを有する請求項１９ないし２６のいずれか１つに記載のセラミック被膜。
【請求項２８】
第１電極が取り付けられ、かつ水性アルカリ電解液で満たされる電解槽であって、他の電極が接続された物品が浸漬された電解槽内において、金属および合金にセラミック被覆を形成するプロセスであって、前記プロセスをプラズマ放電方式で行えるように電流パルスを前記電極間に供給するプロセスにおいて、前記電極に予め定められた周波数範囲を有する高周波の二極性電流パルスを供給する工程を備え、
前記電流パルスが、そのパルスの全持続時間の１０％以下の時間で最大値に至る電流の初期急勾配増大部分と、それに続く電流が最初は急速に減少してその後最大値の５０％以下まで徐々に減少する部分とを含む形状を有するプロセス。
【請求項２９】
予め定められた音波周波数範囲の音響振動を前記電解液中に発生させて、前記音響振動の周波数範囲が前記電流パルスの周波数範囲と重なるようにする工程をさらに備える請求項２８に記載のプロセス。
【請求項３０】
金属および合金にセラミック被膜を形成する装置であって、電極を有する電解槽と、パルス電流を前記電極に送る電源と、少なくとも１つの音響振動発生器とを備える装置において、前記電源は前記電極に予め定められた周波数範囲の高周波の二極性電流パルスを供給でき、前記電源は、各電流パルスがそのパルスの全持続時間の１０％以下の時間で最大値に至る電流の初期急勾配増大部分と、それに続く電流が最初は急速に減少してその後最大値の５０％以下まで徐々に減少する部分を含む形状を有するようにすることができる装置。
【請求項３１】
前記少なくとも１つの音響振動発生器は、前記電解槽内に閉じ込められると電解液内に音響振動を発生でき、前記音響振動は前記電流パルスの周波数範囲と重なる予め定められた音波周波数範囲を有する請求項３０に記載の装置。