Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月25日(2006.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  記憶媒体上に記録予定又は記録済みのビットストリームの各部分をアドレスする方法であって、前記各部分に時間情報を割り当てるアドレステーブルが使用され、前記各部分は一定数のビットを有し、
前記各部分は、データパケットを有し、
前記アドレステーブルにおいて、デルタ継続時間値が前記各部分に対する各アドレステーブルエントリに割り当てられ、連続するインデックスが各デルタ継続時間値に割り当てられ、デルタ継続時間値は、ある部分の最初のデータパケットの到着時間と前記部分の最後のデータパケットの直後のデータパケットの到着時間との差を表し、
前記記憶媒体上のターゲット部分アドレスの値を取得するため、前記ターゲットアドレスを有する部分の最も近い継続時間値までのすべてのデルタ継続時間値が累積され、前記最も近い継続時間値に関するデルタ継続時間エントリに対する対応する連続するインデックスが、前記ターゲット部分アドレス値を計算するため、前記一定のビット数と乗算される、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】  請求項１記載の方法であって、
前記記憶媒体は、ストリーマ装置又はＤＶＤレコーダであることを特徴とする方法。
【請求項３】  請求項１又は２記載の方法であって、
部分のサイズは、ＥＣＣブロックのビット数又はその倍数に対応することを特徴とする方法。
【請求項４】  ビットストリームの一定数のビットを含む各部分と、前記各部分に時間情報を割り当てるアドレステーブルとを有する記憶媒体であって、
前記各部分は、データパケットを有し、
前記アドレステーブルにおいて、デルタ継続時間値が前記各部分に対する各アドレステーブルエントリに割り当てられ、連続するインデックスが各デルタ継続時間値に割り当てられ、デルタ継続時間値は、ある部分の最初のデータパケットの到着時間と前記部分の最後のデータパケットの直後のデータパケットの到着時間との差を表し、
前記ターゲットアドレスを有する部分の最も近い継続時間値までのすべてのデルタ継続時間値が累積可能であり、前記最も近い継続時間値に関するデルタ継続時間エントリに対する対応する連続するインデックスが、当該記憶媒体上のターゲット部分アドレス値を計算するため、前記一定のビット数と乗算可能である、
ことを特徴とする記憶媒体。
【請求項５】  ビットストリームを記憶媒体上に記録するため、又はビットストリームを記憶媒体から再生するための装置であって、前記ビットストリームの各部分をアドレスするため、前記各部分に時間情報を割り当てるアドレステーブルが使用され、前記各部分は、データパケットとして構成される一定数のビットを有し、当該装置は、
アドレステーブルを格納するメモリと、
前記記憶媒体上のターゲット部分アドレスの値を計算する手段と、
を有し、
前記アドレステーブルにおいて、デルタ継続時間値が各アドレステーブルエントリに割り当てられ、連続するインデックスが各デルタ継続時間値に割り当てられ、デルタ継続時間値は、ある部分の最初のデータパケットの到着時間と前記部分の最後のデータパケットの直後のデータパケットの到着時間との差を表し、
前記計算する手段では、前記ターゲットアドレスを有する部分の最も近い継続時間値までのすべてのデルタ継続時間値が累積され、前記最も近い継続時間値に関するデルタ継続時間エントリに対する対応する連続するインデックスが、前記ターゲット部分アドレス値を計算するため、前記一定のビット数と乗算される、
ことを特徴とする装置。
【請求項６】  請求項５記載の装置であって、
当該装置は、ストリーマ装置又はＤＶＤレコーダであることを特徴とする装置。
【請求項７】  請求項５又は６記載の装置であって、
部分のサイズは、ＥＣＣブロックのビット数又はその倍数に対応することを特徴とする装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月10日(2006.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電界放出ディスプレイの汚染物質捕集方法、電界放出ディスプレイのターンオン方法、電界放出ディスプレイの製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アノードと、エミッタと、ゲート電極とを有する電界放出ディスプレイの内部の汚染物質をガス捕集装置により捕集する方法であって、
前記エミッタから放出される電子を引き付けることのできる所定電圧を前記アノードに印加し、
前記所定電圧が前記アノードに印加されている状態で前記エミッタからの電子の放出を開始し、
前記エミッタから放出される電子による放出電流を、該電子の放出の開始から所定期間かけて増加させ、
前記所定期間の間に時間に対する放出電流の増加率を大きくし、
放出された電子によって脱離した汚染物質を前記ガス捕集装置により捕集することを特徴とする電界放出ディスプレイの汚染物質捕集方法。
【請求項２】
アノードと、エミッタと、ゲート電極と、ゲッターとを有する電界放出ディスプレイをターンオンする方法であって、
前記エミッタから放出される電子を引き付けることのできる所定電圧を前記アノードに印加し、
前記所定電圧が前記アノードに印加されている状態で前記エミッタからの電子の放出を開始し、
前記エミッタから放出される電子による放出電流を前記電子の放出の開始から所定期間かけて増加させ、
前記所定期間の間に時間に対する放出電流の増加率を大きくすることを特徴とする電界放出ディスプレイのターンオン方法。
【請求項３】
アノードと、エミッタと、ゲート電極と、ガス捕集装置を有する電界放出ディスプレイの製造方法であって、
前記アノード、エミッタ、ゲート電極を形成し、
前記エミッタから放出される電子を引き付けることのできる所定電圧を前記アノードに印加し、
前記所定電圧が前記アノードに印加されている状態で前記エミッタからの電子の放出を開始し、
前記エミッタから放出される電子による放出電流を、該電子の放出の開始から所定期間かけて増加させ、かつ、
前記所定期間の間に時間に対する放出電流の増加率を大きくし、
放出された電子によって脱離した汚染物質を前記ガス捕集装置により捕集することを特徴とする電界放出ディスプレイの製造方法。
【請求項４】
アノードと、エミッタと、ゲート電極と、ゲッターとを有する電界放出ディスプレイの製造方法であって、
前記アノード、エミッタ、ゲート電極、ゲッターを形成し、
前記エミッタから放出される電子を引き付けることのできる所定電圧を前記アノードに印加し、
前記所定電圧が前記アノードに印加されている状態で前記エミッタからの電子の放出を開始し、
前記エミッタから放出される電子による放出電流を前記電子の放出の開始から所定期間かけて増加させ、かつ、
前記所定期間の間に時間に対する放出電流の増加率を大きくすることを特徴とする電界放出ディスプレイの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月4日(2006.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  製造プロセスにおいて、流体をほぼ所定温度範囲内に維持するために使用するフィードバックを含むヒータシステムであって、
キャビティを有し、流体が該キャビティ内を貫いて流動する胴部を有する構成部品と、
該構成部品内に位置決めされ、電源に連結されたヒータ素子と、
構成部品の胴部内に位置決めされた温度センサと、
該温度センサに電気的に連結され、温度センサからの入力を受け、該入力が所定温度範囲内のものであるか否かを判断して、流体温度を所定温度範囲内に維持するべく、電源からヒータ素子に提供される電力を調節する信号を電源に出力するコントローラと、
を含み、ヒータ素子が構成部品の胴部内のヒータ素子キャビティ内に配置されるヒータシステム。
【請求項２】  ヒータ素子と温度センサとが単一の装置を構成する請求項１のヒータシステム。
【請求項３】  キャビティに近接して配置した複数のヒータ素子と、
複数の温度センサとを含む請求項１のヒータシステム。
【請求項４】  温度センサがキャビティに近接して位置決めされる請求項１のヒータシステム。
【請求項５】  ヒータ素子が押し嵌めを使用して構成部品内に保持される請求項１のヒータシステム。
【請求項６】  電源が、ヒータ素子に電力を提供するための交流電源である請求項１のヒータシステム。
【請求項７】  ヒータ素子が流体流れの軸線方向に全体に沿って胴部の実質的に全体を貫いて伸延される請求項１のヒータシステム。
【請求項８】  構成部品が質量流れコントローラであり、流体がガス状のＢＣＬ3であり、製造プロセスが半導体製造プロセスであり、所定の温度範囲が４０〜７０℃である請求項１のヒータシステム。
【請求項９】  構成部品が、ガス流路内の質量流れコントローラであり、ヒータ素子が、質量流れコントローラ内の流体温度を上昇させるように作動する請求項１のヒータシステム。
【請求項１０】  構成部品が複数の帯域を含み、コントローラが、構成部品内の各帯域を個別に制御して構成部品内の各帯域を所定温度範囲内に維持する多帯域コントローラである請求項１のヒータシステム。
【請求項１１】  センサが、キャビティの一体性を損なうことなく、部分的に該キャビティ内に位置決めされる請求項１のヒータシステム。
【請求項１２】  半導体プロセスにおいて、キャビティを備えた胴部を有する質量流れコントローラ内を流動するガスを所定温度範囲内に維持するためのヒータシステムであって、
質量流れコントローラの主胴部内に位置決めしたヒータ素子と、
ヒータ素子に連結した電源と、
温度を検出するためにキャビティに近接して位置決めした温度センサと、
温度センサからの、検出された温度を入力として受け、検出された温度が所定の温度範囲内にあるか否かを判断して、検出された温度を所定温度範囲内に維持するべく、電源からヒータ素子に提供される電力を調節する信号を電源に出力するコントローラと、
を含み、質量流れコントローラが複数の帯域を含み、該質量流れコントローラが構成部品内の各帯域を個別に制御して構成部品内の各帯域を所定温度範囲内に維持する多帯域コントローラであるヒータシステム。
【請求項１３】  キャビティに近接して配置された複数のヒータ素子と、
複数のセンサにして、各ヒータ素子に少なくとも１つのセンサが近接配置された複数のセンサと、
を更に含む請求項１２のヒータシステム。
【請求項１４】  各ヒータ素子が、流体流れの軸線に全体に沿って、実質的に胴部全体を貫いて伸延される請求項１３のヒータシステム。
【請求項１５】  製造プロセスにおいて流体を所定温度範囲内に維持するべく加熱するための方法であって、
構成部品内のキャビティを通して流体を流動させること、
構成部品内にヒータ素子を位置決めすること、
電源からヒータ素子に電力を提供してヒータ素子を発熱させること、
構成部品内に位置決めした温度センサにより温度を検出すること、
温度センサからの温度信号をコントローラ位置で受けること、
流体を所定温度範囲に維持するために、ヒータ素子に提供される電力を調節すること、
を含む方法。
【請求項１６】  ヒータ素子に近接して温度センサを位置決めすることを更に含む請求項１５の方法。
【請求項１７】  キャビティに近接して温度センサを位置決めすることを更に含む請求項１５の方法。
【請求項１８】  構成部品内に複数のヒータ素子を位置決めすることを更に含む請求項１５の方法。
【請求項１９】  各ヒータ素子に個別に電力を提供することを更に含む請求項１８の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月24日(2006.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  入力差動電圧信号をシフトして、シフトされた差動電圧信号を展開させるために、入力差動電圧信号を受信するように動作するエミッタフォロワ対と、
第１の差動電流を逆に前記エミッタフォロワ対に供給することにより、前記エミッタフォロワ対のトランスコンダクタンスが逆に変化して、第１の差動対のトランスコンダクタンスの変化を補償するように構成された第１の差動対と、
直列接続された第１の抵抗器及び第２の抵抗器とを含み、シフトされた差動電圧信号を受信するように結合され、シフトされた差動電圧信号を増幅して、出力電圧信号を発生させるように構成した主差動増幅器とを備えることを特徴とする差動増幅器。
【請求項２】  前記エミッタフォロア対が、第１のトランジスタと第２のトランジスタとを含み、前記第１の差動対が、第３のトランジスタと第４のトランジスタとを含み、前記第１のトランジスタと前記第２のトランジスタのトランスコンダクタンスが変化して、前記第４及び第３のトランジスタのトランスコンダクタンスの変動をそれぞれ補償することを特徴とする請求項１に記載の差動増幅器。
【請求項３】  前記主差動増幅器が、第５のトランジスタと第６のトランジスタとを含む第２の差動対を含み、前記第２の差動対が、シフトされた差動電圧信号を受信して出力信号を発生させるようにされたことを特徴とする請求項２に記載の差動増幅器。
【請求項４】  前記第１、第２、第３、第４、第５及び第６のトランジスタが、それぞれにベース、コレクタ及びエミッタがあるバイポーラ接合トランジスタであることを特徴とする請求項３に記載の差動増幅器。
【請求項５】  前記第１及び第２のトランジスタのエミッタが、前記第３及び第４のトランジスタのベースにそれぞれ結合され、前記第３及び第５のトランジスタが、それらのベース及びエミッタで並列に結合され、前記第４及び第６のトランジスタが、それらのベース及びエミッタで並列に結合されることを特徴とする請求項４に記載の差動増幅器。
【請求項６】  前記第４のトランジスタのコレクタが、前記第１のトランジスタのエミッタに結合され、前記第３のトランジスタのコレクタが、前記第２のトランジスタのエミッタに結合されることにより、前記第３及び第４のトランジスタのコレクタ電流が、前記第２及び第１のトランジスタにそれぞれ逆に与えられることを特徴とする請求項５に記載の差動増幅器。
【請求項７】  前記主差動増幅器が、前記第６及び第６のトランジスタのエミッタ間で直列に結合され、接合で互いに結合された第１の抵抗器及び第２の抵抗器と、
前記第１及び第２の抵抗器を流れる電流を供給するために接合に結合された第１の電流源と、
前記第５及び第６のトランジスタのコレクタにそれぞれ結合された第１の負荷抵抗器及び第２の負荷抵抗器とをさらに含むことを特徴とする請求項５に記載の差動増幅器。
【請求項８】  前記第１及び第２の抵抗器が同等の抵抗器であり、前記第１及び第２の負荷抵抗器が同等の抵抗器であることを特徴とする請求項７に記載の差動増幅器。
【請求項９】  前記第１及び第６のトランジスタのコレクタが結合され、前記第２及び第５のトランジスタのコレクタが結合されることを特徴とする請求項７に記載の差動増幅器。
【請求項１０】  前記エミッタフォロワ対と前記第２の差動対との間に結合されて、エミッタフォロワ対からシフトされた差動電圧をさらにシフトする副エミッタフォロワ対をさらに備えることを特徴とする請求項７に記載の差動増幅器。
【請求項１１】  前記副エミッタフォロワ対が、第７のトランジスタ及び第８のトランジスタとを含み、前記トランジスタが、ベース、コレクタ及びエミッタがあるバイポーラ接合トランジスタであることを特徴とする請求項１０に記載の差動増幅器。
【請求項１２】  前記第７及び第８のトランジスタが、同等のトランジスタであることを特徴とする請求項１１に記載の差動増幅器。
【請求項１３】  前記第７及び第８のトランジスタのベースが、前記第１及び第２のトランジスタのエミッタにそれぞれ結合され、前記第７及び第８のトランジスタのエミッタが、前記第５及び第６のトランジスタのベースにそれぞれ結合されることを特徴とする請求項１２に記載の差動増幅器。
【請求項１４】  前記第７のトランジスタのエミッタに結合される第２の電流源と、
前記第８のトランジスタのエミッタに結合される第３の電流源とをさらに備え、前記第２及び第３の電流源が、前記第７及び第８のトランジスタのコレクタ電流をそれぞれ設定するように動作することを特徴とする請求項１３に記載の差動増幅器。
【請求項１５】  前記第１及び第６のトランジスタのコレクタが結合され、前記第２及び第５のトランジスタのコレクタが結合されることを特徴とする請求項９又は１０に記載の差動増幅器。
【請求項１６】  主差動対がある差動増幅器のトランスコンダクタンス補償回路であって、
入力差動電圧信号をシフトして、シフトされた差動電圧信号を展開させるために、入力差動電圧信号を受信するように動作するエミッタフォロワ対と、
第１の差動電流を逆に前記エミッタフォロワ対に供給することにより、前記エミッタフォロワ対のトランスコンダクタンスが逆に変化して、第１の差動対のトランスコンダクタンスの変化を補償するように構成された第１の差動対とを備え、
前記主差動対の間に第１の抵抗器及び第２の抵抗器が直列に接続されることを特徴とする差動増幅器。
【請求項１７】  前記エミッタフォロア対が、第１のトランジスタと第２のトランジスタとを含み、前記第１の差動対が、第３のトランジスタと第４のトランジスタとを含み、前記第１のトランジスタと前記第２のトランジスタのトランスコンダクタンスが変化して、前記第４及び第３のトランジスタのトランスコンダクタンスの変動をそれぞれ補償することを特徴とする請求項１６に記載の差動増幅器。
【請求項１８】  前記主差動増幅器が、第５のトランジスタと第６のトランジスタとを含む第２の差動対を含み、前記第２の差動対が、シフトされた差動電圧信号を受信して出力信号を発生させるようにされたことを特徴とする請求項１７に記載の差動増幅器。
【請求項１９】 主差動対がある差動増幅器のトランスコンダクタンス補償回路であって、
入力差動電圧信号を受信しシフトして、シフトされた差動電圧信号を展開させるための入力手段と、
第１の差動電流を逆に前記入力手段に供給することによって、前記受信シフト手段のトランスコンダクタンスが逆に変化して、差動電流出力手段のトランスコンダクタンスの変化を補償するための手段と、
前記主差動対の間に第１の抵抗器及び第２の抵抗器が直列に接続されることを特徴とする差動増幅器。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月8日(2006.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部光源に結合されるフアイバ光学照明装置を有するシース、ハンドル、及びハンドル内の、レンズ系に光学的に連結される画像化装置を含む内視鏡本体を提供すること、
シースを相互連結具で内視鏡ハンドルに連結することによって内視鏡本体にシースを配置することを含むことを特徴とする内視鏡を組立てる方法。
【請求項２】
更に、ズーム制御器を具備する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
更に、シースに取り付けられたレンズを具備する請求項１に記載の方法。
【請求項４】
レンズがプリズムである請求項３に記載の方法。
【請求項５】
レンズ系が少なくとも４つのレンズを含む請求項１に記載の方法。
【請求項６】
光源に連結されるフアイバ光学照明装置を有するシースを含む内視鏡本体と、
レンズ系に光学的に連結される画像化装置をハンドル内に備えて、内視鏡本体に連結された内視鏡ハンドルと、
ハンドルにシースを連結する相互固定具と
を具備することを特徴とする内視鏡装置。
【請求項７】
更に、装置内にズーム組立体を具備する請求項６に記載の装置。
【請求項８】
更に、シースの遠位端にレンズを具備する請求項６に記載の装置。
【請求項９】
レンズ系が少なくとも４つのレンズを有する請求項６に記載の装置。
【請求項１０】
レンズがプリズムである請求項８に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月2日(2006.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ある量の液体材料を内部に保管し、駆動体に取り付けて、前記液体材料を処置部位に分配および塗布することができるノズルであって、その一方の端部の入口から他方の端部の先端にある出口まで画定される通路を有し、前記入口が、前記ノズルを駆動体に取り付ける時に、前記駆動装置が前記ノズル内の通路に接近する手段を提供し、前記通路が、予め決められた量の液体材料を含むサイズであり、前記出口が、液体材料を前記通路から分配することを可能にしていて、
前記ノズルが、前記出口が貫通する先端の表面の少なくとも一部分に液体材料を分散させる液体塗布機構を前記先端にさらに含み、前記出口より大きい前記先端の表面領域によって前記液体材料を処置部位に塗布することができ、
前記液体塗布機構が、前記出口周囲の前記先端の球状部分上に房状の繊維を備える、
ことを特徴とするノズル。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月15日(2006.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１の高さで第１の複数の水平に配置されたドラムと、第２の高さに延在する第２の複数の垂直に配置されたドラムと、を具備する一連の回転可能な紙巻きたばこ移送ドラムであって、前記第２の複数の垂直に配置されたドラムは、前記第１の複数の配置されたドラムからの出力分を受け取り、前記一連のドラムは、前記第１の高さで紙巻きたばこの行列を受け取り、前記紙巻きたばこを移送通路に沿って第２の高さへ上げながら、実質的に前記行列に配列された前記紙巻きたばこを維持するように適合された、移送ドラムと、
前記移送通路に沿った位置にある拒絶ステーションであって、前記紙巻きたばこの行列から１本の紙巻きたばこを取り除くように作用する拒絶ステーションと、
前記拒絶ステーションを選択的に始動するように作用する制御機と、
前記第２の高さにあるスタック形成機であって、前記第２の複数の垂直に配置されたドラムの出力分を受け取る前記スタック形成機と、
を具備するドラムエレベータ。
【請求項２】  前記水平に配置されたドラムの少なくとも幾つかの第１の部材は、外部駆動源から回転可能に駆動されるように構成され、
前記ドラムエレベータは、
前記水平に配置されたドラムの前記外部から駆動された第１の部材とは無関係に、前記垂直に配置されたドラムを回転可能に駆動するための手段と、
前記水平に配置されたドラムの前記外部から駆動された第１の部材の回転速度を示す信号を生成するためのモニタ手段と、
をさらに具備し、
前記制御機は、前記モニタ手段から信号を受け取るように構成され、前記制御機はさらに、内部駆動手段を制御するように構成され、かくして、前記垂直に配置されたドラムは、前記水平に配置されたドラムの前記外部から駆動された第１の部材と同期して回転することができる
請求項１に記載のドラムエレベータ。
【請求項３】  前記制御機はさらに、前記垂直に配置されたドラムから紙巻きたばこを取り除くように、前記水平に配置されたドラムの回転の終了後にも前記垂直に配置されたドラムの操作を続けるように構成される、
請求項１又は２に記載のドラムエレベータ。
【請求項４】  前記制御機は、第１の検査ステーションから紙巻きたばこの品質を示す信号を受け取るように構成され、前記第１の検査ステーションは、紙巻きたばこの行列から受け入れ不可能な紙巻きたばこを検出するように構成され、前記制御機はさらに、前記信号に応答して、前記拒絶ステーションを始動して、前記紙巻きたばこの行列から受け入れ不可能な紙巻きたばこの少なくとも第１の部分を排出するように構成される
前記請求項のいずれかに記載のドラムエレベータ。
【請求項５】  前記検査ステーションは、前記移送通路に沿った位置で作用する
請求項４に記載のドラムエレベータ。
【請求項６】  前記第１の検査ステーションによる受け入れ不可能な紙巻きたばこの前記検出の確認を示す信号を生成するように構成された第２の検査ステーション、
をさらに具備し、前記第２の検査ステーションは、前記移送通路に沿った位置で作用し、前記制御機は、確認信号に応答して、前記拒絶ステーションを始動して、前記紙巻きたばこの行列から受け入れ不可能な紙巻きたばこの少なくとも第１の部分を排出するようにさらに構成される
請求項４、又は５に記載のドラムエレベータ。
【請求項７】  前記水平に配置されたドラムの隣接する一対の間に規定されたニップに射出ステーション
をさらに具備する、前記請求項のいずれかに記載のドラムエレベータ。
【請求項８】  前記拒絶ステーションは、
前記一対の隣接するドラムの間に規定されたニップであって、前記一対の隣接するドラムは上流ドラムと下流ドラムとを含むニップと、
少なくとも部分的に前記上流ドラムに沿って配置され、前記ドラムが前記ニップ内に保持された前記紙巻きたばこを回転するときに、前記上流ドラムに紙巻きたばこを保持するように作用する第１の真空プレナムと、
前記第１の真空プレナムを、前記ニップに隣接する位置で終了する手段と、
前記ニップに隣接する前記下流ドラムにある第２の真空プレナムと、
前記第２の真空プレナムを選択的に排気し通気するための手段と、
を具備し、前記第２の真空プレナムは、前記第２の真空プレナムの排気時に前記上流ドラムから前記下流ドラム上へ紙巻きたばこを引き、前記第２の真空プレナムの通気時に前記上流ドラムと前記下流ドラムとの間から紙巻きたばこを取り除くように配列される
請求項７に記載のドラムエレベータ。
【請求項９】  前記スタック形成機の出力分を運ぶように配列されたコンベヤと、
コンベヤ速度の範囲から選択的に前記コンベヤを駆動するための調節可能な手段と、
をさらに具備し、
前記スタック形成機は、
前記スタック形成機に入る紙巻きたばこの速度を示す信号を生成するように配列されたカウンタと、
前記紙巻きたばこの通路に沿った位置にある実質的に静止した要素であって、紙巻きたばこは、前記コンベヤ上のスタックされた紙巻きたばこの集合体として該要素を越えて排出されるようにする要素と、
前記スタックされた紙巻きたばこの集合体が所定の高さに維持することができるように、紙巻きたばこの速度の前記信号に応答して、前記調節可能なコンベヤ駆動手段を調節するように構成されたコンベヤ制御機と、
を具備する、前記請求項のいずれかに記載のドラムエレベータ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月7日(2006.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （i）１対の対向し間隔を設けられた空気透過性の電極と、
（ii）誘電性材料の離散粒子からなり、前記電極間に広がり、前記粒子が接触関係にある空気透過性の固定ベッドと、
（iii）電極間に電位差を付与し、電極間の方向に電界を付与する手段と、
（iv）一方の電極を通過し、誘電性材料の固定ベッドを横切り、他方の電極を通過する空気流れを与える手段とからなる空気清浄装置において、
前記誘電性材料は２０以下の誘電定数を有することを特徴とする空気清浄装置。
【請求項２】  前記装置に空気流れを与える手段は、付与された電位差によって生成される電界に平行な方向に空気流れを与えるようにした請求項１に記載の空気清浄装置。
【請求項３】  前記電極間に電位差を付与する手段は、１０−１５ＫＨｚでＶｐｋ−ｐｋ＝１０−２０ＫＶの電位差を付与するようにした請求項１または２に記載の空気清浄装置。
【請求項４】  前記装置に空気流れを与える手段はファンである請求項１に記載の空気清浄装置。
【請求項５】  前記電極は金網または金属メッシュである請求項１に記載の空気清浄装置。
【請求項６】  前記金網または金属メッシュは鋼またはニッケルからなる請求項５に記載の空気清浄装置。
【請求項７】  前記誘電性材料はガラスである請求項６に記載の空気清浄装置。
【請求項８】  前記誘電性材料の固定ベッドは、分離した粒子のベッド、発泡体、スポンジ状構造、または空隙と接触する関係に配置されたフィラメントのような細長い要素からなるベッドからなる請求項１に記載の空気清浄装置。
【請求項９】  前記誘電体材料は分離した粒子からなり、該分離した粒子は規則的な形状のビードである請求項８に記載の空気清浄装置。
【請求項１０】  前記ビードは１ｍｍから６ｍｍの径を有する請求項９に記載の空気清浄装置。
【請求項１１】  第１の空気透過性電極、誘電性材料の離散粒子からなる空気透過性固定ベッド、および第２の空気透過性電極を通して空気を通過させ、
電極間に電位差を付与して電極間の方向に電界を発生させ、空気中の酸素をオゾンに変換する空気清浄方法において、
前記誘電性材料は２０以下の誘電定数を有することを特徴とする空気清浄方法。
【請求項１２】  前記空気は、電極間に生成される電界に平行に、電極と空気透過性固定ベッドを通して通過させる請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  前記電位差は、１０−１５ＫＨｚでＶｐｋ−ｐｋ＝１０−２０ＫＶを電極間に付与する請求項１１または１２に記載の方法。
【請求項１４】  前記空気は、ファンによって、前記電極と前記誘電性材料からなる固定ベッドを通過させる請求項１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月25日(2006.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  患者の身体内の作業空間を開いた状態に保持するために皮下組織を引っ込めるための装置であって、
近位端部および遠位端部を有する細長い部材を備え、該細長い部材は、その細長い部材の中に細長い通路を定めて弓形の横断面を有しており、
更に、実質的に透明な照明部材を備え、該照明部材は、光源に接続可能な近位部分と、前記近位部分からの光を前記細長い通路内に方向付けるために前記細長い通路内にある遠位部分とを有しており、
前記照明部材は、前記近位部分から伝達された光を前記細長い部材によって定められる長さ方向の窓に向かって前記遠位部分内に放散するために、前記遠位部分に複数の横方向溝を有する、
ことを特徴とする装置。
【請求項２】  更に、前記細長い部材の前記近位端部から延びるハンドルを備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】  前記照明部材の前記近位部分は、前記ハンドルを貫いて延びることを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項４】  前記ハンドルは、前記細長い通路から離れるように前記細長い部材の長さ方向軸線に対して実質的に垂直に延びることを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項５】  前記細長い部材は、射出成形されたプラスチック製であることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項６】  前記細長い部材は、実質的に透明であることを特徴とする請求項１の装置。
【請求項７】  前記照明部材は、射出成形されたプラスチック製であることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項８】  前記長さ方向の作業用窓に沿って実質的に均一に光を放散するために、前記横方向溝は、前記照明部材の遠位先端に向かって前記遠位部分内に次第に深く延びることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項９】  前記照明部材は、前記細長い部材の内側表面に沿って延びることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月31日(2006.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ａ）細胞膜浸透性の放射線不透過型画像形成剤と、
ｂ）前記画像形成剤を患者に投与するための手段と、
ｃ）所定の異なるエネルギー・スペクトルを有する複数のＸ線ビームを発生させるための手段と、
ｄ）前記Ｘ線ビーム発生手段とは反対の前記患者の側に配置された、放射線撮影画像を獲得するための手段と、
ｅ）単一の画像を生成するために複数の前記放射線撮影画像の重み付けされた組合せを実行するための手段と
を含む、身体組織の放射画像形成用システム。
【請求項２】  ａ）受動拡散によって細胞に入ることができ、かつ細胞標的に選択的に結合する放射線不透過型画像形成剤と、
ｂ）前記画像形成剤を患者に投与するための手段と、
ｃ）Ｘ線ビームを発生させるための手段と、
ｄ）前記Ｘ線ビーム発生手段とは反対の前記患者の側に配置された、放射線撮影画像を獲得するための手段と
を含む、身体組織の放射線撮影画像形成用システム。
【請求項３】  ａ）Ｘ線ビームを発生させること、
ｂ）両方向細胞膜浸透性の放射線不透過型画像形成剤を含む組織に前記Ｘ線ビームを照明すること、
ｃ）照明中に、前記組織の放射線撮影画像を獲得すること
を含む、身体組織の放射線撮影画像形成方法。
【請求項４】  ａ）Ｘ線ビームを発生させること、
ｂ）細胞内標的に選択的に結合された、両方向細胞膜浸透性の放射線不透過型画像形成剤を含む組織に前記Ｘ線ビームを照明すること、
ｃ）照明中に、前記組織の放射線撮影画像を獲得すること
を含む、身体組織の放射線撮影画像形成方法。
【請求項５】  組織の機能的画像および解剖学的画像を位置合わせして生成する方法であって、
ａ）所定の異なるエネルギー・スペクトルを有する複数のＸ線ビームを発生させること、
ｂ）前記複数のビームで放射線不透過型画像形成剤を含む組織を照明すること、
ｃ）前記複数のビームの各々で照明中に、前記組織の放射線撮影画像を獲得すること、
ｄ）少なくとも２つの前記放射線撮影画像から前記機能的画像を生成することを含む方法。
【請求項６】  一般式
【化１】
2002524126.tif 000001
を有する組成物であって、
上式で、Ｓ部分はピラノースまたはフラノースであり、
Ｘ部分は、非置換または置換型のＣ1〜Ｃ8アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルケニル、アルキルアリール、アルキルアミノ、アルキルアミド、アミド、またはアリールアミドであり、少なくとも１個の原子がおよそＺ＝３５からおよそＺ＝７４の原子番号を有する元素の放射線不透過性原子で置換されたものであり、
Ｌ部分は、Ｓ部分およびＸ部分に結合した非置換または置換型のＣ1〜Ｃ8アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルケニル、アルキルアリール、アルキルアミノ、アルキルアミド、アミド、またはアリールアミドである組成物。
【請求項７】  一般式
【化２】
2002524126.tif 000002
を有する組成物であって、
上式で、Ｓ部分は、ヌクレオチド配列が少なくとも２個の残基を含むオリゴヌクレオオチドであり、
Ｘ部分は、非置換または置換型のＣ1〜Ｃ8アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルケニル、アルキルアリール、アルキルアミノ、アルキルアミド、アミド、またはアリールアミドであり、少なくとも１個の原子がおよそＺ＝３５からおよそＺ＝７４の原子番号を有する元素の放射線不透過性原子で置換されたものであり、
Ｌ部分は、Ｓ部分およびＸ部分に結合した非置換または置換型のＣ1〜Ｃ8アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルケニル、アルキルアリール、アルキルアミノ、アルキルアミド、アミド、またはアリールアミドである組成物。
【請求項８】  ａ）一般式Ｓ−Ｌ−Ｘを有する組成物であって、前記組成物が細胞膜浸透性であり、ただしＳが前記組織中の細胞分子に選択的に結合する結合部分であり、
Ｘが放射線不透過性部分であり、
Ｌが、Ｓ部分をＸ部分に結合させる結合部分であるものを投与すること、
ｂ）Ｘ部分によって減衰させることができる放射線源を前記組織に照射すること、および
ｃ）前記組織の画像を獲得すること、
を含む組織の画像形成方法。
【請求項９】  実行可能なコンピュータ命令を包含する、コンピュータ可読記憶媒体であって、デジタル画像処理システムで実行するときに、前記命令によって、前記デジタル画像処理システムが、
ａ）複数の放射線撮影画像を獲得することであって、前記放射線撮影画像の各々が、所定の固有のエネルギー・スペクトルを有する複数のＸ線ビームの１つによって、放射線不透過型画像形成剤を含む生体内の組織を透視する間に獲得されるものであること、および
ｂ）前記複数の放射線撮影画像から機能的画像を生成すること
を含む方法を行うものである、実行可能なコンピュータ命令を包含するコンピュータ可読記憶媒体。
【請求項１０】  実行可能なコンピュータ・プログラム命令を包含する、コンピュータ可読記憶媒体であって、デジタル画像処理システムで実行するときに、前記命令によって、前記デジタル画像処理システムが、
ａ）生体内の組織に放射線源を照射することによって得られた少なくとも１つの放射線撮影画像を獲得することであって、前記放射線源が、前記生体内の組成物によって減衰させることができるものであり、前記組成物が、両方向細胞膜浸透性で放射線不透過性であり、かつ細胞標的に結合できるものであること、および
ｂ）前記放射線撮影画像の少なくとも１つから画像を生成すること
を含む方法を行うものである、実行可能なコンピュータ・プログラム命令を包含するコンピュータ可読記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月1日(2006.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  生体外の第１の場所と生体内の第２の場所との間で動力を伝達するシステムであって、主制御器とアンテナ基装置とを有してなり、主制御器は動力源と第１の場所に配置可能な送信器とを有してなり、アンテナ基装置は送信器からの出力を受信すべく第２の場所に配置可能であって、動力源は、アンテナ基装置により受信されてかつアンテナ基装置を励動する電気的エネルギーとして使われるべく、０．５〜５ＧＨｚの高周波電磁放射線を放出して、これにより主制御器とアンテナ基装置とが電気誘導を介して通信する必要をなくし、使用時には、アンテナ基装置が伝達された動力をアンテナ基装置を制御する電気エネルギーに変換し、主制御器が生体から少なくとも約１２ｃｍの距離のアンテナ基装置に動力を伝達することを特徴とする動力の伝達システム。
【請求項２】  さらに情報が伝達され、主制御器がさらにアンテナ基装置からデータを受信する受信器を有していることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項３】  主制御器が生体から少なくとも約５０ｃｍの距離にあるアンテナ基装置に動力を伝達できることを特徴とする請求項１または２に記載のシステム。
【請求項４】  主制御器が生体から少なくとも約１００ｃｍの距離にあるアンテナ基装置に動力を伝達できることを特徴とする請求項１〜３のいずれかひとつに記載のシステム。
【請求項５】  主制御器内の動力源が０．８〜２．５ＧＨｚの範囲の高周波電磁放射線を放出することを特徴とする請求項１〜４のいずれかひとつに記載のシステム。
【請求項６】  アンテナ基装置のアンテナ形式がアンテナ基装置の構造中に集積された二次元全方向性形式であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかひとつに記載のシステム。
【請求項７】  アンテナ基装置のアンテナ形式が単純双極、刻み目のあるまたはないループ、またはスロットおよびパッチ形式を含んだマイクロストリップ・アンテナであることを特徴とする請求項１〜６のいずれかひとつに記載のシステム。
【請求項８】  アンテナ基装置がさらにアンテナ基装置近傍の所定の状態をモニターしかつ主制御器により受信される１以上のそれらの状態を示す信号を放出する手段を含んでいることを特徴とする請求項１〜７のいずれかひとつに記載のシステム。
【請求項９】  アンテナ基装置がさらに電流パルスを発生する手段を有していることを特徴とする請求項１〜８のいずれかひとつに記載のシステム。
【請求項１０】  アンテナ基装置が医療機器であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかひとつに記載のシステム。
【請求項１１】  アンテナ基装置がステント（ｓｔｅｎｔ）であることを特徴とする請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】  動力源と送信器とを具えた主制御器が配置されている生体外の第１の場所とアンテナ基装置が配置されている生体内の第２の場所との間で動力を伝達する方法であって、動力源から０．５〜５ＧＨｚの高周波電磁放射線を発生し、該放射線を主制御器の送信器から放出し、アンテナ基装置において該放射線を受信し、該放射線でアンテナ基装置を励動することを特徴とする動力伝達方法。
【請求項１３】  高周波電磁放射線が０．８〜２．５ＧＨｚであることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  さらにアンテナ基装置をして電流のパルスを発生・放出させおよび／またはアンテナ基装置近傍の所定の状態をモニターさせて主制御器により受信されるべくそれら状態の１以上を表す信号を放出させることを特徴とする請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】  ステントがバネ付勢されており、かつステントがモニター装置を含有しており、ステントのバネがアンテナとして機能することを特徴とする請求項１１に記載のシステム。
【請求項１６】  モニター装置がステントの支持体中に配置されていることを特徴とする請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】  モニター装置が医療機器の近傍で所定の状態をモニターする手段を有していることを特徴とする請求項１５または１６に記載のシステム。
【請求項１８】  モニター装置が主制御器により受信されるべくそれら状態の１以上を表す信号を放出する手段を有していることを特徴とする請求項１７に記載のシステム。
【請求項１９】  主制御器からの動力と指令とをアンテナ基装置にリレーする中間埋込みが設けられていることを特徴とする請求項１５〜１８のいずれかひとつに記載のシステム。
【請求項２０】  システムが人工筋肉刺激システムであって、アンテナ基装置が１以上の刺激装置を有しており、該刺激装置が筋肉に人工電気刺激を与え、筋電図センサーが刺激中に筋肉からの筋電図信号を測定し、神経系プロセッサーが測定された筋電図信号を受信して、収縮力と筋肉の疲労に関する情報を抽出し、主制御器が神経系プロセッサーの出力端に接続されて、抽出された情報に基づいて人工電気刺激を制御することを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項２１】  筋電図レコーダーとインテリジェント信号プロセッサーとが設けられており、監視下にトレイニング段階を行い、固定刺激パターンが同じ筋肉中の異なるアンテナ基装置に印加され、筋電図記録が筋肉収縮パターンに対して神経系プロセッサーにより記憶され、システムが筋電図信号、力および疲労の相関関係を学習し、爾後、同じ筋肉が異なるパルス形状および振幅で刺激された場合の収縮力を記録し、時間筋電図波形状と収縮力と疲労を伴って刺激されている筋肉から受信された筋電図信号のスペクトルとを相関付け、パルス形状と刺激速度とを変化させて定常な筋肉収縮を達成することを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月2日(2006.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  大腿骨インプラント及び膝蓋骨インプラント含む形式の人工膝において、前記大腿骨インプラント及び前記膝蓋骨インプラントは、前記大腿骨インプラントと前記膝蓋骨インプラントが相対的に動くと、前記大腿骨インプラントを前記膝蓋骨インプラントに摺動自在に係合させる支持面を有し、前記人工膝は、前記膝蓋骨インプラントの支持面の一部を摺動自在に受け入れるような形状になった関節面を有する滑車インプラントを有し、前記関節面は、前記膝蓋骨インプラントが前記大腿骨インプラント及び前記滑車インプラントと共に使用できるように前記大腿骨インプラントの支持面の一部と形状が実質的に同一であることを特徴とする人工膝。
【請求項２】  前記関節面は、大腿骨インプラントの支持面の少なくとも一部と実質的に同一の形状を有していることを特徴とする請求項１記載の人工膝。
【請求項３】  前記滑車インプラントの前記関節面は、共通生成曲線を所定の生成軸線の回りに所定角度回転させることにより形成されることを特徴とする請求項１記載の人工膝。
【請求項４】  前記滑車インプラントの前記関節面は、前記共通生成曲線を第１の所定の距離動かすことによって生成された第１の横方向表面を備えた複合面であり、前記第１の横方向表面は、前記共通生成曲線を第２の半径で所定角度回転させることによって生成された第２の横方向表面に横方向に接合されていることを特徴とする請求項１記載の人工膝。
【請求項５】  大腿骨の膝側端部に取り付け可能であり、膝蓋骨の後側部分に取り付けられた膝蓋骨インプラントと協働できる滑車インプラントであって、膝蓋骨インプラントは、大腿骨の膝の端部に取って代わる大腿骨インプラントを含む人工装具のコンポーネントであり、前記滑車インプラントは、膝蓋骨インプラントの一部を摺動自在に受け入れるような形状になった関節面を有し、前記関節面は、大腿骨インプラントの表面の一部と形状が実質的に同一であって、膝蓋骨インプラントが大腿骨インプラント及び前記滑車インプラントと共に使用できるようになっていることを特徴とする滑車インプラント。
【請求項６】  前記関節面は、膝蓋骨インプラントに係合する溝を有していることを特徴とする請求項５記載の滑車インプラント。
【請求項７】  前記関節面は、膝蓋骨インプラントと実質的に合致した状態で係合すること特徴とする請求項５記載の滑車インプラント。
【請求項８】  前記関節面は、膝蓋骨インプラントと実質的に点接触することを特徴とする請求項５記載の滑車インプラント。
【請求項９】  前記関節面は、膝蓋骨インプラントと実質的に線接触することを特徴とする請求項５記載の滑車インプラント。
【請求項１０】  前記滑車インプラントは、右の膝と左の膝の何れにも取り付けることができるよう長手方向軸線の回りに対称であることを特徴とする請求項５記載の滑車インプラント。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月21日(2005.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  中心の細長く伸びた軸線を有する歯列矯正アーチワイヤーであって、断面において、
唇側−咬合側隅縁部分と、唇側−歯肉側隅縁部分と、舌側−咬合側隅縁部分と、舌側−歯肉側隅縁部分とを有し、
前記唇側−咬合側隅縁部分および前記唇側−歯肉側隅縁部分の舌側に位置する細長く伸びた唇側凹部を有し、
前記舌側−咬合側隅縁部分から前記舌側−歯肉側隅縁部分まで延在するほぼ平坦な舌側部分を有する歯列矯正アーチワイヤー。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月31日(2006.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  薬用のエアゾールフォームの組成であって、有効な量の、
薬用活性成分、
閉塞剤、
水溶溶媒および
有機共溶媒を含み、
薬用活性成分は水および閉塞剤の両者に不溶であって、
閉塞剤は、使用の際、皮膚の上に閉塞層を形成するのに十分な量含まれる、薬用のエアゾールフォームの組成。
【請求項２】  非水溶性の薬用活性成分は、鎮痛剤、抗炎症剤、抗真菌剤、抗菌剤、麻酔剤、キサンチン、性ホルモン、抗ウイルス剤、痒み止め、抗ヒスタミン薬またはコルチコステロイドからなる、１つまたはそれ以上の群から選択される、請求項１に記載の薬用のエアゾールフォームの組成。
【請求項３】  薬用活性成分は、吉草酸ベタメタゾンおよびプロピオン酸クロベタゾールからなる、１つまたはそれ以上の群から選択されたコルチコステロイドである、請求項１または２に記載の薬用のエアゾールフォームの組成。
【請求項４】  薬用活性成分は、薬用のエアゾールフォームの組成の総重量に基づき、約０．００５重量％から約１０重量％の量含まれる、請求項１から３のいずれかに記載の薬用のエアゾールフォームの組成。
【請求項５】  閉塞剤は、鉱油、長鎖脂肪酸、動物性脂肪、植物性脂肪および非水溶性ポリマーからなる、１つまたはそれ以上の群から選択される、請求項１から４のいずれかに記載の薬用のエアゾールフォームの組成。
【請求項６】  閉塞剤はペトロラタムを含む、請求項１から５のいずれかに記載の薬用のエアゾールフォームの組成。
【請求項７】  閉塞剤は、組成の総重量に基づき、約５５重量％またはそれ未満、好ましくは１０重量％から５０重量％の量含まれる、請求項１から６のいずれかに記載の薬用のエアゾールフォームの組成。
【請求項８】  有効な量の乳化剤をさらに含む、請求項１から７のいずれかに記載の薬用のエアゾールフォームの組成。
【請求項９】  乳化剤は、非イオン性、カチオンまたはアニオン界面活性剤、脂肪族
アルコール、脂肪酸ならびに脂肪酸塩からなる、いずれか１つまたはそれ以上の群から選択される、請求項８に記載の薬用のエアゾールフォームの組成。
【請求項１０】  乳化剤は、ソルビタンエステルおよびポリオキシエチレン脂肪族アルコールエーテルの混合剤を含む、請求項８または９に記載の薬用のエアゾールフォームの組成。
【請求項１１】  乳化剤の成分は、組成の総重量に基づき、約１重量％から１５重量％の量含まれる、請求項８、９または１０に記載の薬用のエアゾールフォームの組成。
【請求項１２】  水溶溶媒は、組成の総重量に基づき、約２５重量％から９５重量％の量含まれる、請求項１から１１のいずれかに記載の薬用のエアゾールフォームの組成。
【請求項１３】  有機共溶媒は、組成の総重量に基づき、約０．２５重量％から５０重量％の量含まれる、請求項１から１２のいずれかに記載の薬用のエアゾールフォームの組成。
【請求項１４】  組成の総重量に基づき、好ましくは２．５重量％から２０重量％の有効な量のエアゾール噴射剤をさらに含む、請求項１１から１３のいずれかに記載の薬用のエアゾールフォームの組成。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月31日(2006.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸による歯牙侵蝕を軽減させるための、４．５以下の有効ｐＨを有する経口投与される酸性組成物の製造における粘度調整ポリマー物質の使用。
【請求項２】
粘度調整ポリマー物質が複合多糖物質である請求項１記載の使用。
【請求項３】
複合多糖物質がアルギン酸塩、キサンタンまたはペクチンである請求項２記載の使用。
【請求項４】
組成物の有効ｐＨが２．０から４．５である請求項１ないし３のいずれか一つ記載の使用。
【請求項５】
酸性物質がクエン酸、リンゴ酸、乳酸、酒石酸、リン酸、酢酸またはそれらの混合物を含む請求項１ないし４のいずれか一つに記載の使用。
【請求項６】
酸性組成物がカルシウムが酸１モル当たり０．８モルまでの量で組成物内にあるように、カルシウム化合物を含有する請求項１ないし５のいずれか一つに記載の使用。
【請求項７】
カルシウム源が可溶性カルシウム塩である請求項６記載の使用。
【請求項８】
酸性組成物が飲料または飲料を調製するための液体または固体濃縮物である請求項１ないし７のいずれか一つに記載の使用。
【請求項９】
飲料が健康ドリンクである請求項８記載の使用。
【請求項１０】
酸性組成物が口腔の健康ケア製品である請求項１ないし７のいずれか一つに記載の使用。
【請求項１１】
飲料が２．５から４．０までの範囲のｐＨを有する請求項８記載の使用。
【請求項１２】
飲料が０．０１から４％ｗ／ｗの範囲にある滴定酸度を有する請求項８記載の使用。
【請求項１３】
粘度調整ポリマー物質を酸性口腔組成物に加え、カルシウムを酸１モル当たり０から０．８モルの範囲で加えてもよく、必要ならばまたは要すれば有効ｐＨを調整し、４．５以下の有効ｐＨを有する組成物を提供することを含む、口腔用の酸性組成物の歯牙侵蝕能を減少させる方法。