【事件の表示】
　特願２００２−５４７９３５「セファロスポリン調製に有用なカップリング方法と中間体」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年　６月１３日国際公開、ＷＯ０２／４６１９８、平成１６年　７月　８日国内公表、特表２００４−５２０２９３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯　
　 
　本願は、平成２００１年１１月２２日（パリ条約による優先権主張　２０００年１２月４日　米国）を国際出願日とする特許出願であって、平成１９年１０月１９日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、平成２０年１月２１日に拒絶査定不服審判の請求がなされたものである。 
　 
２　本願発明　
　 
　本願の請求項１〜１１に係る発明は、平成１９年１０月３日付けの手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１〜１１に記載される事項により特定されるものであって、そのうち請求項３は以下のとおりのものである。（以下「本願発明」という。） 
　
　「式Ｉ：　
　　【化５】　
　
　
［式中、基ＣＯ２Ｒ１はカルボン酸又はカルボン酸塩であり；Ｒ２は式：　
　　【化６】　
　
　
を有し、上記式中、Ａ１はＣ６−Ｃ１０アリール、Ｃ１−Ｃ１０ヘテロアリール及びＣ１−Ｃ１０ヘテロサイクリルから成る群から選択され、Ａ２は水素、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル、Ｃ６−Ｃ１０アリール、Ｃ１−Ｃ６アルキル（ＣＯ）（Ｃ１−Ｃ６）アルキル−Ｏ−、ＨＯ（ＣＯ）（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、モノ−（Ｃ６−Ｃ１０アリール）（Ｃ１−Ｃ６アルキル）、ジ−（Ｃ６−Ｃ１０アリール）（Ｃ１−Ｃ６アルキル）、及びトリ−（Ｃ６−Ｃ１０アリール）（Ｃ１−Ｃ６アルキル）から成る群から選択される］　
で示される３−環状エーテル置換セファロスポリン又はその製薬的に受容される塩の調製方法であって、　
　式Ｖ：　
　　【化７】　
　
　
［式中、Ｒ２は上記で定義した通りであり；Ｒ３はパラ−ニトロベンジル又はアリルである］　
で示される化合物を適当な脱保護剤と、溶媒の存在下で反応させることを含む上記方法。」
　
３　引用刊行物の記載の概要　
　
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先権主張日前に頒布された、「特表平５−５０９３０５号 」（以下、「引用例」という。）には、以下の記載がある。　
　
（１−ａ）「１．式（Ｉ）：　
　
　
［式中、Ｒ１は水素、メトキシまたはホルムアミド；　
Ｒ２はアシル基；　
ＣＯ２Ｒ３はカルボキシ基またはカルボシラートアニオン、またはＲ３は容易に除去可能なカルボキシ保護基；　
Ｒ４はアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、ジアルキルアミノ、ＣＯ２Ｒ、ＣＯＮＲ２、ＳＯ２ＮＲ２（ここで、Ｒは水素またはＣ１−６アルキルである）、アリールおよびヘテロサイクリルから選択される４個までの置換基であり、それは同一または異なっていてもよく、ここでいずれのＲ４アルキル置換基も、所望によりいずれの他のＲ４置換基によって置換されていてもよい；　
ＸはＳ、ＳＯ、ＳＯ２、ＯまたはＣＨ２；ｍは１または２；およびｎは０を意味する］　
で示される化合物またはその塩。　
２．〜６．　略　
７．セファロスポリン核の３−位に結合している環状エーテル基が置換されていないか、またはＣ１−６アルキル、Ｃ１−６アルコキシ、Ｃ１−６アルコキシカルボニル、Ｃ１−６アルカノイルオキシＣ１−６アルキルまたはＣ１−６アルコキシＣ１−６アルキルから選択される３個までの置換基によって置換されている請求項１〜６記載のいずれか１つの化合物。　
８．〜１４．　略　
１５．（６Ｒ，７Ｒ）−７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｓ）−テトラヒドロフラン−２−イル］セフ−３−エム−４−カルボン酸ナトリウムである化合物。」（Ｐ１左下欄　請求項１〜Ｐ２右上欄　請求項１５）
　
（１−ｂ）「（ａ）式（ＩＩ）：（式（ＩＩ）略）　
［式中、Ｒ１、ＣＯ２Ｒ３、Ｒ４、ｍ、ｎおよびＸは前記の請求項１の式（Ｉ）の記載と同じ、いずれの反応基も保護されていてよく、かつアミノ基は所望によりアシル化を生じさせる基で置換されていてもよい］で示される化合物またはその塩を、式（ＩＩＩ）：　
Ｒ２ＯＨ　（ＩＩＩ）　
［式中、Ｒ２は前記の請求項１の式（Ｉ）の記載と同じ、かついずれの反応基も保護されていてもよい］　
で示される酸のＮ−アシル化誘導体で処理するか：または、　
（ｂ）式（ＩＶ）：（式（ＩＶ）略）で示される化合物を環化するか、または　
（ｃ）式（Ｘ）：（式（Ｘ）略）で示される化合物を、式（ＸＩ）（式（ＸＩ）略）　
で示される化合物で処理し、　
その後、要すればまたは所望により、次に示す１の工程：　
ｉ）いずれの保護基も除去し；　
ｉｉ）基ＣＯ２Ｒ３を異なる基ＣＯ２Ｒ３に変え；　
ｉｉｉ）基Ｒ２を異なる基Ｒ２に変え；　
ｉｖ）基Ｘを異なる基Ｘに変え；　
Ｖ）その生成物を塩に変えること　
を実施することからなる、請求項１〜２８記載のいずれか１つの式（Ｉ）の化合物の製造方法。」（Ｐ３右上欄　請求項３９）　
　
(１−ｃ)「式（Ｉ）または（Ｉａ）の化合物中、任意の置換基として存在してもよい、いずれのカルボキシの塩およびイン・ビボにて加水分解可能なエステルを包含するカルボキシ保護誘導体もまた本発明の範囲内に含まれることが認識されるであろう。さらに、式（Ｉ）または（Ｉａ）の化合物中、任意の置換基として存在してもよい、いずれのアミン基または置換アミノ基の酸付加塩もまた本発明の範囲内に包含される。　
適当なエステルを形成するカルボキシル保護基は、通常の条件下で除去しうるものである。Ｒ３についてのこのような基は、ベンジル、ｐ−メトキンベンジル、ベンゾイルメチル、ｐ−ニトロベンジル、・・・ｔ−ブチル、ｔ−アミル、アリル、ジフェニルメチル、・・・または前記のようなイン・ビボにて加水分解可能なエステル基を包含する。・・・カルボキシル基は、個々のＲ３基に対して適当な常法、例えば、酸−および塩基−触媒の加水分解により、または酵素触媒の加水分解により、またはその分子の残部に実質的に影響を及ぼさない条件下で水素化分解することにより前記のいずれかのエステルより生成することができる。」（Ｐ５左上欄　１１行〜左下欄　３行）　
(１−ｄ)「前記の方法および後記の方法において、保護基を除去することが必要であるかもしれない。脱保護は、望ましくない副反応を最小限とするような、その分野において知られているいずれの都合のよい方法によっても実施することができる。望ましくない副生成物の分離は標準方法を用いて実施することができる。」（Ｐ９左上欄　２４〜２７行）
　
(１−ｅ)「実施例７　
（６Ｒ，７Ｒ）−７−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｓ）−テトラヒドロフラン−２−イルコセフー３−エム−４−カルボン酸ナトリウム
　
（ａ）（６Ｒ，７Ｒ）−７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｓ）−テトラヒドロフラン−２−イル］セフー３−エムー４−カルボン酸４−メトキシベンシル　
　塩化メタンスルホニル２０３μｍ（２，６２ミリモル）を、−３０°ＣにてＤＭＦ８ｍｌ中２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−メトキノイミノ酢酸５２８ｍｇ（２，６３ミリモル）およびＮ、Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン４５８μｌに加えた。−３０±１０℃ｄｅ３０分間撹拌後、ＤＭＦ５ｍｌ中（６Ｒ，７Ｒ）−７−アミノ−３−［（Ｓ）−テトラヒドロフラン−２−イル］セー３−エムー４−カルボン酸４−メトキシベンジル９３０ｍｇ（２．３８ミリモル）の溶液、ついでピリジン２１３μｍ（２．６３ミリモル）を加えた。反応混合液を水浴に移し、さらに１時間撹拌を続けた。酢酸エチルで希釈した後、この溶液を飽和炭酸水素ナトリウム溶液、５％水性クエン酸、水（２回）および食塩水で連続的に洗浄し、乾燥し、ついで真空下で濃縮した。残渣をシリカゲル上でクロマトグラフィーに付し、ヘキサン中５０．７０および９０％酢酸エチルで溶出して精製し、黄色泡状の標記化合物１．１３８ｇ（８３％）を得た。・・・　
　
（ｂ）（６Ｒ，７Ｒ）〜７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｓ）−テトラヒドロフラン−２−イル］セフ−３−エム−４−カルボン酸ナトリウム　
　塩化アルミニウム１６２ｃｍｇ（１，２１ミリモル）を−２０”℃でアニソール７ｍｌおよび乾燥ジクロロメタン３５ｍｌに加え、１５分間撹拌した。ついで、冷却浴の温度を一４０℃まで下げ、（６Ｒ，７Ｒ）−７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−４（Ｓ）−テトラヒドロフラン−２−イル］セフー３−エム−４−カルボン酸４−メトキンベンジル２３５ｍｇ（０，４１ミリモル）のジクロロメタン５ｍｌ中溶液に加えた。１０分後、この溶液をクエン酸三ナトリウム（０，５Ｍ）１２ｍｌで処理し、ついで室温で激しく１０分間撹拌した。水性層を分離し、ジクロロメタンで２回洗浄し、真空下で濃縮した。残渣をＨＰ２０ＳＳ上でクロマトグラフィーに付して、水、ついで水中１％ＴＨＦで溶出した。生成物を含有するフラクション（ｈｐｌｃ分析）を合し、凍結乾燥して標記化合物１２６ｍｇ（６５％）を得た。・・・」（Ｐ１７左上欄　４行〜左下欄３行）　
　
４　対比・判断　
　
　上記摘記事項（１−ｅ）の記載からみて、引用例には、「（６Ｒ，７Ｒ）−７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｓ）−テトラヒドロフラン−２−イル］セフー３−エムー４−カルボン酸４−メトキシベンシルのジクロロメタン溶液に、アニソールおよび乾燥ジクロロメタンに加えられた塩化アルミニウムを加え、得られた溶液をついでクエン酸三ナトリウムで処理することにより、（６Ｒ，７Ｒ）−７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｓ）−テトラヒドロフラン−２−イル］セフ−３−エム−４−カルボン酸ナトリウムを製造する方法。」（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認める。　
　本願発明と引用発明とを対比する。　
　上記引用発明の原料化合物は、その化学構造を本願発明の式Ｖに当てはめてみると、式Ｖ中の符号Ｒ２は、そのＡ１が２−アミノチアゾール−４−イル、Ａ２がメチルであり、Ｒ３が４−メトキンベンジルである場合の化合物に、また、生成化合物は、同様に、式Ｉ中の符号Ｒ１がカルボン酸ナトリウムである場合の化合物に相当する。　
　ところで、本願明細書には、実施例１として、７−（２−（２−アミノチアゾル−４−イル）−２−メトキシイミノ）−３−テトラヒドロフラン−２−イル）−８−オキソ−５−チア−１−アザ−ビシクロ［４．２．０］オクタ−２−エン−２−カルボン酸ナトリウムを製造する方法が、製造目的化合物の化学構造式とともに記載されている。そして、生成化合物の化学構造は、式I中の符号Ｒ２は、そのＡ１が２−イミノチアゾール−４−イル、Ａ２がメチルであり、Ｒ１がカルボン酸ナトリウムである化合物であり、当該化合物を製造する方法をその具体的態様として含むものである。　
　そうすると、本願発明と引用発明は、ともに、「（６Ｒ，７Ｒ）−７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｓ）−テトラヒドロフラン−２−イル］セフ−３−エム−４−カルボン酸ナトリウムを、（６Ｒ，７Ｒ）−７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｓ）−テトラヒドロフラン−２−イル］セフー３−エムー４−カルボン酸エステルから製造する方法。」である点で一致し、以下の点で相違する。　
　
相違点
　本願発明においては、上記のセフー３−エムー４−カルボン酸エステルのエステルがパラ−ニトロベンジルまたはアリルである場合の化合物を適当な脱保護剤と、溶媒の存在下で反応させて、対応する４−カルボン酸またはカルボン酸塩を製造するとされているのに対して、引用発明においては、同エステルが４−メトキシベンジルである場合の化合物を塩化アルミニウムとアニソール、ジクロロメタンの存在下で反応させたのち、クエン酸三ナトリウムで処理して４−カルボン酸ナトリウムを製造している点　
で相違する。　
　
　そこで、上記相違点を以下検討する。　
　まず、セファロスポリン核の３−位に結合している環状エーテル基についてみると、摘記事項（１−ａ）の請求項１には、Ｒ４基が置換したテトラヒドロフラニル基もしくはテトラヒドロピラニル基であること、ここでＲ４基は４個までの置換基であることが規定されている。そして、摘記事項（１−ａ）の請求項７には、請求項１〜６記載のいずれか１つの化合物として、セファロスポリン核の３−位に結合している環状エーテル基が置換されていない化合物もＲ４基を有する化合物とともに記載されているから、上記Ｒ４基が置換していない場合の化合物も式（Ｉ）で表される化合物（摘記事項（１−ａ）の請求項１）に包含されることは明らかである。そして、引用例の記載のこのような理解は、ｐ７右上欄〜ｐ８左上欄に、式（１ａ）で表される化合物として、テトラヒドロフラン環が非置換である場合の化合物が多数挙げられていることとも符合するものである。　
　そうすると、引用発明に係る（６Ｒ，７Ｒ）−７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｓ）−テトラヒドロフラン−２−イル］セフ−３−エムー４−カルボン酸４−メトキシベンシルは、セファロスポリン核の３−位に結合している環状エーテル基が置換されていない式（Ｉ）で表される化合物の一実施態様に相当する。　
　引用例には、式（Ｉ）で表される化合物の４−カルボン酸エステルを形成するカルボキシル保護基について、パラ−メトキシベンジル基のほか、パラ−ニトロベンジル基、アリル基も包含される旨記載されている（摘記事項（１−ｃ））。　
　そして、前記のとおり、引用発明に係る（６Ｒ，７Ｒ）−７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｓ）−テトラヒドロフラン−２−イル］セフ−３−エムー４−カルボン酸４−メトキシベンシルは、セファロスポリン核の３−位に結合している環状エーテル基が置換されていない式（Ｉ）で表される化合物の一実施態様に相当する化合物であるから、当該化合物の４−カルボン酸エステルを形成するカルボキシル保護基である４−メトキシベンジル基を、引用例に式（Ｉ）で表される化合物の４−カルボン酸エステルを形成するカルボキシル保護基として列挙されている基であるパラ−ニトロベンジル基、アリル基に代えた化合物を原料化合物とすることは、引用例に記載されているに等しいか、そうでないとしても当業者が容易になし得ることである。　
　また、製造方法についてみても、引用発明において、４−メトキシベンジルカルボン酸を塩化アルミニウムとアニソール、ジクロロメタンの存在下で反応させるとの工程は、４−カルボン酸エステルを形成するカルボキシル保護基である４−メトキベンジル基を脱保護する工程であり、ここで、塩化アルミニウムが脱保護剤として、またアニソール、ジクロロメタンが溶媒として機能していることも明らかである。そして前記脱保護工程の結果、カルボン酸が生成し、つづく工程において、４−カルボン酸ナトリウムが生成すると認められるものである。　
　カルボキシル保護基の種類に応じてその脱保護の条件が異なることは当然であり、上記のパラ−ニトロベンジル基、アリル基が、ともにセフ−３−エムー４−カルボン酸誘導体化合物を含むβ−ラクタム化合物の技術分野において通常用いられている保護基であり、また、その脱保護条件についても本願優先権主張日前にすでに広く知られているのであるから（必要なら、特開平１０−１２０６８７号公報（請求項８、段落００５７、００５９、００６３、００７０、００７１、００７３）、特開平６−２２００５４号公報（請求項１〜３、１１、１２、段落０００７、００３１、第３表実施例Ｎｏ１８）、特開平２−２４７１６４号公報（Ｐ１８左上欄９行〜左下欄１３行、実施例４、なお、同公報は拒絶理由通知書において引例された引用文献２に同じ）参照。）、それらカルボキシル保護基の脱保護にあたり、保護基の種類に応じて、「適当な脱保護剤と、溶媒の存在下で反応させる」とすることも、引用例に記載されているに等しいか、そうでないとしても当業者が容易になし得ることである。　
　本願明細書に記載の本願発明の効果も、引用例の記載、及び当業界における技術常識から当業者が容易に予測し得たものにすぎないか、あるいは本願発明を特定する事項を採用することにより奏される効果であることが試験を行う等により確認されているものでもないのであって、結局、本願発明が、当業者の予測を超えて格別の効果を奏し得たものと認めることはできない。　
５　むすび　
　
　以上のとおり、本願発明は、引用例に記載された発明、並びに本願優先権主張日前の技術常識に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。　
　よって、結論のとおり審決する。