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【手続補正書】
【提出日】平成17年12月8日(2005.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面および後面を有する反射物品（１０，３０，３０’，４６，６２）であって、ダイクロイック反射体（１２，５０，６４，１２０）と再帰反射層（１４，３８，４０，４８，６６）とを具備し、該ダイクロイック反射体が、第１スペクトル範囲内の垂直入射光に対し相対的に高反射率を示し、第２スペクトル範囲内の垂直入射光に対し相対的に低反射率を示すよう構成された交互の層（Ａ，Ｂ）を備えた反射物品であり、
該ダイクロイック反射体（１２，５０，６４，１２０）が、実質的に平坦であり、該物品（１０，３０，３０’，４６，６２）の該前面に近接して配置されており、
該交互の層（Ａ，Ｂ）が、少なくとも第１ポリマおよび第２ポリマからなり、
該再帰反射層（１４，３８，４０，４８，６６）が、該物品の該前面から見て該ダイクロイック反射体の後方に配置されていることを特徴とする反射物品。
【請求項２】
少なくとも前記第１ポリマ層が、複屈折であることを特徴とする、請求項１記載の物品。
【請求項３】
関連する波長範囲に亙って、前記反射体の少なくとも２つの隣接層が、該反射体の平面に対して垂直な軸（ｚ）に沿って、該２つの隣接層の間の最大平面内屈折率差の５０％以下で異なる屈折率を有することを特徴とする、請求項２記載の物品。
【請求項４】
前記第２スペクトル範囲が、４００ｎｍから７００ｎｍまでの範囲の大部分を含むことを特徴とする、請求項１記載の物品。
【請求項５】
前記再帰反射層が、構造化表面を備えていることを特徴とする、請求項１記載の物品。
【請求項６】
前記再帰反射層が、ビーズ入りシーティングを備えることを特徴とする、請求項１記載の物品。
【請求項７】
前記再帰反射層が、煌くキューブコーナ再帰反射シーティングを備えることを特徴とする、請求項１記載の物品。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月13日(2006.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  それぞれが厚さ約１マイクロメータ以下であり全体として自立性フィルムを形成する複数のポリマー層を含む物品であって、約１．５０の屈折率を有する支持体の表面に光学的に結合されるとき、目的の波長範囲において該表面での該支持体の反射率を垂直な入射角で少なくとも約２桁のオーダーで低減させるように該ポリマー層が選択された物品。
【請求項２】  それぞれが厚さ約１マイクロメータ以下であり全体として自立性フィルムを形成する複数のポリマー層を含む物品であって、該ポリマー層が、垂直な入射角で目的の波長範囲において空気中で測定された反射率が約６％以下であるように選択される物品。
【請求項３】  （ａ）主表面を有するポリマー層を含む基材、及び
（ｂ）目的の第１の波長範囲において該主表面での該基材の反射率を低減させる該基材の該主表面に光学的に結合された反射防止積層体、を含む自立したフィルムの形の物品であって、該積層体が、（ｉ）約１．５５より大きい屈折率を有する高屈折率のポリマー及び（ｉｉ）約１．５５より小さい屈折率を有する低屈折率のポリマーの交互層を含む物品。
【請求項４】  複数のポリマー組成物を互いに共押出して自立したフィルムの形の複数のポリマー層を形成する工程を含む物品の作製方法であって、該物品が支持体に光学的に結合されるとき、該物品が目的の波長範囲において該支持体の反射率を低減させるように該層が選択される、物品の作製方法。
【請求項５】  （ａ）複数のポリマー組成物を互いに共押出して自立したフィルムを形成する工程であって、該フィルムが、
（ｉ）主表面を有するポリマー層を含む基材、
（ｉｉ）ポリマー層を含む前駆反射防止構造体、及び
（ｉｉｉ）少なくとも１つの除去可能なポリマー層を含む工程と、
（ｂ）該フィルムを延伸して該前駆反射防止構造体を該基材の該主表面に光学的に結合されると共に目的の波長範囲において該主表面での該基材の反射率を低減させるように選択された反射防止構造体に変換する工程と、を含む物品の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月8日(2005.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  再帰反射層を覆う多層フィルムを具備する反射物品であって、前記多層フィルムが第１の材料及び第２の材料を交互に積層された交互積層体を具備し、前記交互積層体が、第１のスペクトル領域内に垂直に入射する光に関して反射率を示し、第２のスペクトル領域内に垂直に入射する光に関して反射率を示すように構成されていることを特徴とする反射物品。
【請求項２】  前記多層フィルムが多層ポリマーフィルムであり、前記第１の材料が第１のポリマーを含み、前記第２の材料が第２のポリマーを含むことを特徴とする、請求項１記載の物品。
【請求項３】  少なくとも前記第１のポリマー層が複屈折性であることを特徴とする、請求項２記載の物品。
【請求項４】  関連する波長領域にわたって、前記フィルムにおける２層の隣接層が、前記フィルムの平面に垂直な軸に沿って偏光された光に対して、前記２層の隣接層の間の最大平面内屈折率差の５０％以下だけ異なる屈折率を備えていることを特徴とする、請求項３記載の物品。
【請求項５】  約５０％の反射率を有し、第一のスペクトル領域が、４００〜７００ｎｍのスペクトル領域の７５％であることを特徴とする、請求項２記載の物品。
【請求項６】  前記パターン形成された再帰反射層が、刻印層及び再帰反射層を具備することを特徴とする、請求項２記載の物品。
【請求項７】  前記パターン形成された再帰反射層が、ビーズ式再帰反射シート材料を含むことを特徴とする、請求項２記載の物品。
【請求項８】  ホログラフィ像を形成する微細構造のレリーフパターンをさらに具備することを特徴とする、請求項２記載の物品。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月6日(2006.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スペクトルの所望部分における光を反射するための反射フィルム本体であって、該スペクトルの所望部分において一次反射をそれぞれ有する多層積層体Ｍ1および多層積層体Ｍ2を含み、該多層積層体Ｍ1が光学繰り返し単位Ｒ1を含み、該多層積層体Ｍ2が光学繰り返し単位Ｒ2を含み、該光学繰り返し単位Ｒ1および光学繰り返し単位Ｒ2がそれぞれ、少なくとも０．０５の差異がある屈折率ｎ1およびｎ2をそれぞれ付随して有する少なくとも第１のポリマー層および第２のポリマー層を含み、該光学繰り返し単位Ｒ1の光学的膜厚が、該多層積層体Ｍ1の厚さ方向に単調に変化し、該光学繰り返し単位Ｒ2の光学的膜厚が、該多層積層体Ｍ1の厚さ方向の該光学繰り返し単位Ｒ1の最小光学的膜厚以下であるか、あるいは該多層積層体Ｍ1の厚さ方向の該光学繰り返し単位Ｒ1の最大光学的膜厚以上であるか、のいずれかの状態で該多層積層体Ｍ2の厚さ方向に実質的に一定であるか、または、該多層積層体Ｍ2の厚さ方向の該光学繰り返し単位Ｒ2の最小光学的膜厚が該多層積層体Ｍ1の厚さ方向の該光学繰り返し単位Ｒ1の該最小光学的膜厚に実質的に等しいか、該多層積層体Ｍ2の厚さ方向の該光学繰り返し単位Ｒ2の最大光学的膜厚が該多層積層体Ｍ1の厚さ方向の該光学繰り返し単位Ｒ1の該最大光学的膜厚に実質的に等しいかの状態で、該光学繰り返し単位Ｒ1の該単調な光学的膜厚変化とは反対に該多層積層体Ｍ2の厚さ方向に単調に変化するか、のいずれかであることを特徴とする反射フィルム本体。
【請求項２】
前記反射フィルム本体がさらに、前記スペクトルの所望部分において一次反射を有する光学繰り返し単位Ｒ3を含む多層フィルムＭ3を含み、該光学繰り返し単位Ｒ3が、少なくとも０．０５の屈折率差を有する少なくとも２種類のポリマー層を含み、かつ該多層フィルムＭ3方向に実質的に一定の、前記多層積層体Ｍ1の厚さ方向の前記光学繰り返し単位Ｒ1の最小光学的膜厚以下である光学的膜厚を有するか、あるいは、該光学繰り返し単位Ｒ1の該単調な光学的膜厚変化とは反対に該多層フィルムＭ3の厚さ方向に単調に変化して、該多層フィルムＭ3の厚さ方向の該光学繰り返し単位Ｒ3の最小光学的膜厚が、該多層積層体Ｍ1の厚さ方向の該光学繰り返し単位Ｒ1の最小光学的膜厚に実質的に等しいかのいずれかであり、前記光学繰り返し単位Ｒ2が実質的に一定の光学的膜厚を有する場合には、該光学繰り返し単位Ｒ1の最大光学的膜厚が、該多層積層体Ｍ2の厚さ方向の該光学繰り返し単位Ｒ2の光学的膜厚以上であるか、あるいは該光学繰り返し単位Ｒ2の光学的膜厚が該多層積層体Ｍ1方向の該光学繰り返し単位Ｒ1の単調な変化とは反対に該多層積層体Ｍ2の厚さ方向に単調に変化する場合には、該光学繰り返し単位Ｒ1の最大光学的膜厚が、該光学繰り返し単位Ｒ2の最大光学的膜厚に実質的に等しいかのいずれかであることを特徴とする、請求項１記載の反射フィルム本体。
【請求項３】
前記光学繰り返し単位Ｒ1およびＲ2の少なくとも一方が、ポリマー層Ａ、ＢおよびＣをＡＢＣ順に配置して含み、該ポリマー層Ａ、ＢおよびＣが、互いに異なる屈折率ｎa、ｎbおよびｎcをそれぞれ付随して有し、該屈折率ｎbが該屈折率ｎaと該屈折率ｎcとの中間であることを特徴とする、請求項１記載の反射フィルム本体。
【請求項４】
前記光学繰り返し単位Ｒ1およびＲ2の少なくとも一方が、前記ポリマー層Ａ、ＢおよびＣをＡＢＣＢパターンで含むことを特徴とする、請求項３記載の反射フィルム本体。
【請求項５】
ｎbが、ｎaとｎcとの積の平方根に等しく、ポリマー層Ａが光学的膜厚比率ｆa＝１／３を、ポリマー層Ｂが光学的膜厚比率ｆb＝１／６を、およびポリマー層Ｃが光学的膜厚比率ｆc＝１／３を有することを特徴とする、請求項４記載の反射フィルム本体。
【請求項６】
前記光学繰り返し単位Ｒ1およびＲ2の少なくとも一方が、面内軸ｘ方向の屈折率ｎxd、面内軸ｙ方向の屈折率ｎyd、および該面内軸ｘおよびｙに垂直である光学軸ｚ方向の屈折率ｎzdを有するポリマー層Ｄと、面内軸ｘ方向の屈折率ｎxe、面内軸ｙ方向の屈折率ｎye、および該面内軸ｘおよびｙに垂直である光学軸ｚ方向の屈折率ｎzeを有するポリマー層Ｅとを含み、ｎzdとｎzeとの差が０．０３以下であり、ｎxdとｎxeとの差および／またはｎydとｎyeとの差が少なくとも０．０５であることを特徴とする、請求項１記載の反射フィルム本体。
【請求項７】
前記反射フィルム本体が、スペクトルの可視領域において実質的に透過性であり、スペクトルの赤外線領域の少なくとも一部において反射性であることを特徴とする、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の反射フィルム本体。
【請求項８】
前記光学繰り返し単位Ｒ1、Ｒ2および／またはＲ3の前記光学的膜厚の単調な変化が、互いに無関係に、実質的に直線状である、あるいは指数法則に対応していることを特徴とする、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の反射フィルム本体。
【請求項９】
請求項１乃至６のいずれか１項に規定された反射フィルム本体を提供するステップと、
入射光の少なくとも一部を該反射フィルム本体から反射するステップと、
を含む光を反射する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月20日(2006.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基体、その基体上に形成された高屈折率層、及びその高屈折率層上に形成された金属導電層を含む実質的に透明の電極組立体であり、前記導電層上に形成された、少なくとも４００オーム／□の導電率を有する高屈折率トップ層、並びに、少なくとも前記トップ層及び導電層が、その導電層が複数の個別電極に分割されるようにパターン化されていることを特徴とする、電極組立体。
【請求項２】  個別電極を覆うトップ層の部分に接続された複数の導体により特徴付けられる、請求項１に記載の電極組立体。
【請求項３】  二つの電極組立体の間に挟まれた液晶材料を含む液晶ディスプレイ組立体であって、その電極組立体の少なくとも一つが、請求項１又は２のいずれかに記載された組立体であることを特徴とする、液晶ディスプレイ組立体。
【請求項４】  電極組立体形成方法であって、基体上に順に、高屈折率層、及び、金属導電層を形成することを含み、金属導電層上に少なくとも４００オーム／□の導電率を有する高屈折率トップ層を形成すること、並びに、金属導電層から複数の個別電極を形成するようにそのトップ層及び導電層をパターン化することを特徴とする、電極組立体形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月10日(2006.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ポリビニルアルコールおよび水溶性もしくは水分散性の第２のポリマーの混合物を含む配向された高分子フィルムと前記高分子フィルムに配合された二色染料材料とを含む偏光フィルム。
【請求項２】 前記第２のポリマーがポリエステルである、請求項１に記載の偏光フィルム。
【請求項３】 前記第２のポリマーがポリビニルピロリドンである、請求項１に記載の偏光フィルム。
【請求項４】 ポリビニルアルコールおよび水溶性もしくは水分散性の第２のポリマーの混合物を含む、フィルム寸法にそって延伸することにより配向された高分子フィルムであって、該第２のポリマーは延伸の間に高分子フィルムが著しくひび割れることを低減するのに十分な量含まれている高分子フィルムと前記高分子フィルムに配合された二色染料材料とを含む偏光フィルム。
【請求項５】 基板と、
ポリビニルアルコールおよび水溶性もしくは水分散性の第２のポリマーを含み、前記基板上に配置された配向された高分子フィルムと、
前記高分子フィルムに配合された二色染料材料と、
を含む光学デバイス。
【請求項６】 溶媒中でポリビニルアルコールおよび水溶性もしくは水分散性の第２のポリマーの分散液を形成する工程と、
基板を前記分散液で被覆する工程と、
前記分散液から前記溶媒を除去して高分子フィルムを形成する工程と、
前記高分子フィルムを配向させる工程と、
前記高分子フィルムに二色染料材料を配合する工程と、
を含む光学デバイスの製造方法。
【請求項７】 ポリビニルアルコールおよび水溶性もしくは水分散性の第２のポリマーを含む配向された高分子フィルムと、前記高分子フィルムに配合された二色染料材料とを含む表示装置。
【請求項８】 溶媒中でポリビニルアルコールおよび水溶性もしくは水分散性の第２のポリマーの分散液を形成する工程と、
基板を前記分散液で被覆する工程と、
前記分散液から前記溶媒を除去して高分子フィルムを形成する工程と、
前記高分子フィルムを配向させる工程と、
前記高分子フィルムに二色染料材料を配合する工程と、
を含む偏光フィルムの製造方法。
【請求項９】 基板の上に、ポリビニルアルコールおよび水溶性もしくは水分散性の第２のポリマーを、ポリビニルアルコール：第２のポリマーの重量比が５：１〜１００：１の範囲となる量で含む高分子フィルムを形成する工程と、
基板の上に配置されている間に高分子フィルムを配向させる工程と、
高分子フィルムに二色染料材料を配合する工程と、
高分子フィルムを基板から除去する工程と、
を包含する偏光フィルムの製造方法。
【請求項１０】 基板の上に、ポリビニルアルコールおよび水溶性もしくは水分散性の第２のポリマーを、ポリビニルアルコール：第２のポリマーの重量比が５：１〜１００：１の範囲となる量で含む高分子フィルムを形成する工程と、
基板の上に配置されている間に高分子フィルムを配向させる工程と、
高分子フィルムに二色染料材料を配合して偏光フィルムを形成する工程と、
高分子フィルムを基板から除去する工程と、
得られた偏光フィルムを光学デバイスに組み込む工程と、
を包含する光学デバイスの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月6日(2006.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  二色性偏光子と、該二色性偏光子と同じ光路に位置する反射性偏光子とを含む光学偏光子であって、
該反射性偏光子が、
約７０〜１００ｍｏｌ％が第１カルボキシレートサブユニットであり、０〜約３０ｍｏｌ％が第１コモノマーカルボキシレートサブユニットであるカルボキシレートサブユニットと、約７０〜１００ｍｏｌ％が第１グリコールサブユニットであり、０〜約３０ｍｏｌ％が第１コモノマーグリコールサブユニットであるグリコールサブユニットとを有し、かつ第１コポリエステルの該カルボキシレートサブユニットと該グリコールサブユニットの合計の少なくとも約２．５ｍｏｌ％が第１コモノマーカルボキシレートサブユニット、第１コモノマーグリコールサブユニット、またはそれらを組み合わせたものである半晶質で複屈折性である該第１コポリエステルを含む複数の第１光学層と、
該反射性偏光子が形成された後の６３２．８ｎｍにおける面内複屈折が約０．０４以下である第２ポリマーを含む複数の第２光学層と、
を含むことを特徴とする光学偏光子。
【請求項２】 二色性偏光子と、該二色性偏光子と同じ光路に位置する反射性偏光子とを含む光学偏光子であって、
該反射性偏光子が、
約７０〜１００ｍｏｌ％が第１カルボキシレートサブユニットであり、０〜約３０ｍｏｌ％が第１コモノマーカルボキシレートサブユニットであるカルボキシレートサブユニットと、約７０〜１００ｍｏｌ％が第１グリコールサブユニットであり、０〜約３０ｍｏｌ％が第１コモノマーグリコールサブユニットであるグリコールサブユニットとを有し、かつ第１コポリエステルの該カルボキシレートサブユニットと該グリコールサブユニットの合計の少なくとも約０．５ｍｏｌ％が第１コモノマーカルボキシレートサブユニット、第１コモノマーグリコールサブユニット、またはそれらを組み合わせたものである半晶質で複屈折性である該第１コポリエステルを含む複数の第１光学層であって、面内屈折率が１．８３以下であり少なくとも０．２０異なっている第１光学層と、
該反射性偏光子が形成された後の６３２．８ｎｍにおける面内複屈折が約０．０４以下である第２ポリマーを含む複数の第２光学層と、
を含むことを特徴とする光学偏光子。
【請求項３】 二色性偏光子と、該二色性偏光子と同じ光路に位置する反射性偏光子とを含む光学偏光子であって、
該反射性偏光子が、
約７０〜１００ｍｏｌ％が第１カルボキシレートサブユニットであり、０〜約３０ｍｏｌ％が第１コモノマーカルボキシレートサブユニットであるカルボキシレートサブユニットと、約７０〜１００ｍｏｌ％が第１グリコールサブユニットであり、０〜約３０ｍｏｌ％が第１コモノマーグリコールサブユニットであるグリコールサブユニットとを有し、かつ第１コポリエステルの該カルボキシレートサブユニットと該グリコールサブユニットの合計の少なくとも約０．５ｍｏｌ％が第１コモノマーカルボキシレートサブユニット、第１コモノマーグリコールサブユニット、またはそれらを組み合わせたものである半晶質で複屈折性である該第１コポリエステルを含む複数の第１光学層であって、配向の後に、６３２．８ｎｍの光について、少なくとも０．０２ユニット、かつ６３２．８ｎｍの光について同一の面内複屈折率を有する同様に構成されたポリエチレンナフタレート層についての配向方向における屈折率以下の、配向方向における屈折率を有する第１光学層と、
該反射性偏光子が形成された後の６３２．８ｎｍにおける面内複屈折が約０．０４以下である第２ポリマーを含む複数の第２光学層と、
を含むことを特徴とする光学偏光子。
【請求項４】 前記第２ポリマーが第２コポリエステルを含む、請求項１〜３のいずれかに記載の光学偏光子。
【請求項５】 前記第２コポリエステルが、約２０〜１００ｍｏｌ％が第２カルボキシレートサブユニットであり、０〜約８０ｍｏｌ％が第２コモノマーカルボキシレートサブユニットであるカルボキシレートサブユニットと、約４０〜１００ｍｏｌ％が第２グリコールサブユニットであり、０〜約６０ｍｏｌ％が第２コモノマーグリコールサブユニットであるグリコールサブユニットとを含み、該第２コポリエステルのカルボキシレートサブユニットとグリコールサブユニットの合計の約１０ｍｏｌ％以上が第２コモノマーカルボキシレートサブユニット、第２コモノマーグリコールサブユニット、またはそれらを組み合わせたものである、請求項４に記載の光学偏光子。
【請求項６】 前記多層反射性偏光子が形成された後に、前記第１コポリエステルが６３２．８ｎｍにおいて０．１以上の面内複屈折を有する、請求項１〜３のいずれかに記載の光学偏光子。
【請求項７】 前記第１カルボキシレートサブユニットが、ナフタレートサブユニットまたはテレフタレートサブユニットである、請求項１〜３のいずれかに記載の光学偏光子。
【請求項８】 １層以上の非光学層をさらに含む、請求項１〜３のいずれかに記載の光学偏光子。
【請求項９】 光学偏光子の製造方法であって、
７０〜１００ｍｏｌ％が第１カルボキシレートサブユニットであり、０〜３０ｍｏｌ％が第１コモノマーカルボキシレートサブユニットであるカルボキシレートサブユニットと、７０〜１００ｍｏｌ％が第１グリコールサブユニットであり、０〜３０ｍｏｌ％が第１コモノマーグリコールサブユニットであるグリコールサブユニットとを含有し、かつ第１コポリエステルの該カルボキシレートサブユニットと該グリコールサブユニットの合計の少なくとも０．５ｍｏｌ％が第１コモノマーカルボキシレートサブユニット、第１コモノマーグリコールサブユニット、またはそれらを組み合わせたものである半晶質で複屈折性である該第１コポリエステルを含む複数の第１光学層と、反射性偏光子フィルムが形成された後の６３２．８ｎｍにおける面内複屈折が約０．０４以下である第２ポリマーを含む複数の第２光学層とを含む反射性偏光子を形成する工程と、
ポリビニルアルコールと二色染色材料とを含む二色性偏光子を該反射性偏光子の上に形成する工程と、
該二色性偏光子を実質的に亀裂させずに、約１６０℃以下の温度で該二色性偏光子と該反射性偏光子とを延伸して配向させる工程と、を含む光学偏光子の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月12日(2006.1.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  (１)  異なる分子量を有するポリマー鎖の混合物を含む粗ポリマーの溶液を、分子量カットオフ（ＭＷＣＯ）値を有する少なくとも一つの多孔質ポリマー媒体中を通過させ、これによって前記粗ポリマー混合物を前記ＭＷＣＯ値より上の分子量を有するポリマー鎖を含む第一画分と前記ＭＷＣＯ値より下の分子量を有するポリマー鎖を含む第二画分とに分け、そして
(２)  第一工程で製造した少なくとも一つの画分を少なくとも一つの放射線感受性化合物および少なくとも一つの溶剤に添加して放射線感受性組成物を製造する工程からなる、放射線感受性組成物を製造する方法。
【請求項２】  前記粗ポリマー混合物中の前記ポリマー鎖が、ノボラック、ヒドロキシスチレンのポリマー、ヒドロキシスチレンのコポリマー、部分的にもしくは完全に保護されたヒドロキシスチレンのポリマー、または部分的にもしくは完全に保護されたヒドロキシスチレンのコポリマーからなる群より選ばれる請求項１に記載の方法。
【請求項３】  粗ポリマーのための溶剤が、脂肪族アルコール、ケトン、アルデヒド、エーテルおよびエステルならびにそれらの組合せからなる群より選ばれる請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記放射線感受性化合物が、少なくとも一つの光活性化合物である請求項１に記載の方法。
【請求項５】  前記放射線感受性化合物が少なくとも一つの光酸発生剤であり、そして前記放射線感受性組成物が化学増幅されたフォトレジストである請求項１に記載の方法。
【請求項６】  前記分子量カットオフ（ＭＷＣＯ）値が１０,０００ダルトンである請求項１に記載の方法。
【請求項７】  前記分子量カットオフ（ＭＷＣＯ）値が６,０００ダルトンである請求項１に記載の方法。
【請求項８】  前記分子量カットオフ（ＭＷＣＯ）値が３,０００ダルトンである請求項１に記載の方法。
【請求項９】  (ａ)  少なくとも一つの溶剤、
(ｂ)  少なくとも一つの放射線感受性化合物、および
(ｃ)  少なくとも一つのバインダー樹脂：
からなる放射線感受性組成物であって、前記バインダー樹脂の少なくとも一つが請求項１
の方法により製造されたポリマー画分である前記組成物。
【請求項１０】  前記バインダー樹脂が、ノボラック、ヒドロキシスチレンのポリマー、ヒドロキシスチレンのコポリマー、部分的にもしくは完全に保護されたヒドロキシスチレンのポリマー、または部分的にもしくは完全に保護されたヒドロキシスチレンのコポリマーからなる群より選ばれる請求項９に記載の放射線感受性組成物。
【請求項１１】  前記の少なくとも一つの溶剤が、乳酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートおよびそれらの組合せからなる群より選ばれる請求項９に記載の放射線感受性組成物。
【請求項１２】  前記放射線感受性化合物が、少なくとも一つの光活性化合物である請求項９に記載の放射線感受性組成物。
【請求項１３】前記放射線感受性化合物が、少なくとも一つの光酸発生剤である請求項９に記載の放射線感受性組成物。
【請求項１４】  (１)  異なる分子量を有するポリマー鎖の混合物を含む粗ポリマー混合物の溶液を、分子量カットオフ（ＭＷＣＯ）値を有する第一の多孔質ポリマー媒体中を通過させ、これによって前記粗ポリマー混合物を、前記ＭＷＣＯ値より大きい分子量を有するポリマー鎖を含む第一画分と前記ＭＷＣＯ値よりも低い分子量を有するポリマー鎖を含む第二画分とに分け、
(２)  前記第二画分を第二の多孔質ポリマー媒体中を通過させ、その際、前記第二の多孔質ポリマー媒体は、前記第一の多孔質ポリマー媒体の前記ＭＷＣＯ値よりも低い所定のＭＷＣＯ値を有し、これによって前記第二画分を、前記ＭＷＣＯ値の間の分子量を有するポリマー鎖を含む第三画分と第二ポリマー媒体の前記ＭＷＣＯ値よりも低い分子量を有するポリマー鎖を含む第四画分とに分け、そして
(３)  前記第三画分を少なくとも一つの放射線感受性化合物および少なくとも一つの溶剤に加えて放射線感受性組成物を製造する：
工程からなる放射線感受性組成物を製造する方法。
【請求項１５】前記第一の多孔質ポリマー媒体の前記ＭＷＣＯが６０００ダルトンであり、そして前記第二の多孔質ポリマー媒体の前記ＭＷＣＯが３０００ダルトンである請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】  (ａ)  少なくとも一つの溶剤、
(ｂ)  少なくとも一つの放射線感受性化合物、および
(ｃ)  少なくとも一つのバインダー樹脂、
からなる放射線感受性組成物であって、前記バインダー樹脂の少なくとも一つが、請求項１４に記載の方法により製造されたポリマー画分である前記組成物。
【請求項１７】  (１)  異なる分子量を有するポリマー鎖の混合物を含む粗ポリマー混合物の溶液を、分子量カットオフ（ＭＷＣＯ）値を有する第一の多孔質ポリマー媒体中を通過させ、これによって前記粗ポリマー混合物を前記第一のＭＷＣＯ値より大きい分子量を有するポリマー鎖を含む第一画分と前記ＭＷＣＯ値より低い分子量を有するポリマー鎖を含む第二画分とに分け、
(２)  前記第一画分を第二の多孔質ポリマー媒体中を通過させ、前記第二の多孔質ポリマー媒体は前記第一の多孔質ポリマー媒体の前記ＭＷＣＯ値より大きい所定のＭＷＣＯ値を有し、これによって前記第一画分を前記第二のポリマー媒体の前記ＭＷＣＯ値より大きい分子量を有するポリマー鎖を含む第三画分と前記ＭＷＣＯ値の間の分子量を有するポリマー鎖を含む第四画分とに分け、そして
(３)  前記第四画分を少なくとも一つの放射線感受性化合物および少なくとも一つの溶剤に加えて放射線感受性組成物を製造する：
工程からなる放射線感受性組成物を製造する方法。
【請求項１８】  前記第一の多孔質ポリマー媒体の前記ＭＷＣＯが６０００ダルトンであり、そして前記第二の多孔質ポリマー媒体の前記ＭＷＣＯが１０,０００ダルトンである請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】  (ａ)  少なくとも一つの溶剤、
(ｂ)  少なくとも一つの放射線感受性化合物、および
(ｃ)  少なくとも一つのバインダー樹脂、
からなる放射線感受性組成物であって、前記バインダー樹脂の少なくとも一つが請求項１７に記載の方法により製造されたポリマー画分である前記組成物。
【請求項２０】  前記粗ポリマー混合物中の前記ポリマー鎖が、ヒドロキシスチレンの反復単位を有するコポリマー、メタクリレートまたはアクリレート反復単位を有する部分的に保護されたヒドロキシスチレンまたは完全に保護されたヒドロキシスチレンからなる群より選ばれる請求項１に記載の方法。
【請求項２１】  前記バインダー樹脂が、ヒドロキシスチレンの反復単位を有するコポリマー、メタクリレートもしくはアクリレート反復単位を有する部分的に保護されたヒドロキシスチレンまたは完全に保護されたヒドロキシスチレンからなる群より選ばれる請求項９に記載の放射線感受性組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月6日(2006.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ポリマー層Ａ、ＢおよびＣをＡＢＣ順に配置して含む光学繰り返し単位を含む、スペクトルの可視領域の光を透過しつつ該スペクトルの赤外線領域の光を反射する反射フィルムであって、該ポリマー層Ａが、面内軸ｘおよびｙ方向にそれぞれ屈折率ｎxaおよびｎyaを有し、該ポリマー層Ｂが、該面内軸ｘおよびｙ方向にそれぞれ屈折率ｎxbおよびｎybを有し、該ポリマー層Ｃが、該面内軸ｘおよびｙ方向にそれぞれ屈折率ｎxcおよびｎycを有し、該ポリマー層Ａ、ＢおよびＣが、該面内軸に垂直な交軸ｚ方向にそれぞれ屈折率ｎza、ｎzbおよびｎzcを有し、このときｎxbがｎxaとｎxcとの中間であってｎxaがｎxcを上回る、および／またはｎybがｎyaとｎycとの中間であってｎyaがｎycを上回り、差異ｎza−ｎzbおよびｎzb−ｎzcの少なくとも一方が０未満である、あるいは該差異の双方が実質的に０に等しいことを特徴とするフィルム。
【請求項２】  前記光学繰り返し単位が、前記ポリマー層Ａ、ＢおよびＣをＡＢＣＢのパターンで含む請求項１に記載の反射フィルム。
【請求項３】  スペクトルの赤外線部分において１次反射をそれぞれ有する多層フィルムＭ１および多層フィルムＭ２を含む前記反射フィルムであって、該多層フィルムＭ１が、該多層フィルムＭ１の厚さ方向に光学膜厚を単調に変化させる光学繰り返し単位Ｒ１を含み、該多層フィルムＭ２が、該多層フィルムＭ２の厚さ方向に光学膜厚が、該多層フィルムＭ１の厚さ方向の光学繰り返し単位Ｒ１の最小光学膜厚以下である、あるいは該多層フィルムＭ１の厚さ方向の光学繰り返し単位Ｒ１の最大光学膜厚以上である状態で実質的に一定である光学繰り返し単位Ｒ２を含む、または、該光学繰り返し単位Ｒ２の光学膜厚が、該光学繰り返し単位Ｒ１の光学膜厚変化とは反対に、該多層フィルムＭ２の厚さ方向に単調に変化し、該多層フィルムＭ２の厚さ方向の該光学繰り返し単位Ｒ２の最小光学膜厚が、該多層フィルムＭ１の厚さ方向の該光学繰り返し単位Ｒ１の最小光学膜厚に実質的に等しい、あるいは該多層フィルムＭ２の厚さ方向の該光学繰り返し単位Ｒ２の最大光学膜厚が、該多層フィルムＭ１の厚さ方向の該光学繰り返し単位Ｒ１の最大光学膜厚に実質的に等しい請求項１または２に記載の反射フィルムであって、
繰り返し単位Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方が請求項１又は２に記載の繰り返し単位として規定される、請求項１または２に記載の反射フィルム。
【請求項４】  請求項１〜３のいずれか１項に定義された反射フィルムを支持台上に含む材料。
【請求項５】  第１のポリマー層Ａと、
第２のポリマー層Ｂと、
第３のポリマー層Ｃとを含む光学体であって、
Ａ、ＢおよびＣがＡＢＣ順で配置され、ＢがＡおよびＣに隣接し、
Ａが、互いに垂直な軸ｘ、ｙおよびｚ方向に偏向された光に対して屈折率ｎxA、ｎyAおよびｎzAをそれぞれ有し、Ｂが、互いに垂直な軸ｘ、ｙおよびｚ方向に偏向された光に対して屈折率ｎxB、ｎyBおよびｎzBをそれぞれ有し、Ｃが、互いに垂直な軸ｘ、ｙおよびｚ方向に偏向された光に対して屈折率ｎxC、ｎyCおよびｎzCをそれぞれ有し、軸ｚが層Ｂに垂直であり、層Ａ、ＢおよびＣの屈折率が式Ｉ：ｎzC≧ｎzB≧ｎzA （式Ｉ）と、
式ＩＩ：ｎxA＞ｎxB＞ｎxC （式ＩＩ）および
式ＩＩＩ：ｎyA＞ｎyB＞ｎyC （式ＩＩＩ）の
少なくとも１つに従っていることを特徴とする光学体。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月9日(2005.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  空気不透過性コンテナ、及びその中に収容されたガスと吸着剤を備えた絶縁用パネルであって、前記吸着剤は、少なくとも約２００ｍ2 ／ｇの表面積を有し、２２℃におけるよりも約０℃未満の温度において前記ガスをより多く吸着し、−３４℃における前記コンテナ内の圧力が、２２℃における前記コンテナ内の圧力の約８０％以下である絶縁用パネル。
【請求項２】  前記吸着剤がシリカ粒子を含んでなる請求項１に記載の絶縁用パネル。
【請求項３】  前記吸着剤がヒュームドシリカを含んでなる請求項１に記載の絶縁用パネル。
【請求項４】  前記吸着剤がシリカゲルを含んでなる請求項１に記載の絶縁用パネル。
【請求項５】  前記吸着剤がシリカエーロゲルを含んでなる請求項１に記載の絶縁用パネル。
【請求項６】  請求項１に記載の絶縁用パネルを表面を覆って配置することを含む、外界の熱的作用から表面を絶縁する方法。
【請求項７】  請求項２に記載の絶縁用パネルを表面を覆って配置することを含む、外界の熱的作用から表面を絶縁する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月13日(2006.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ドアがその閉止位置に近づく時、ストライカーと作用上協働するラッチと、ドアを保持する係止状態にラッチを維持するように、ラッチと自己係合する係止用爪と、ドアを開けるために係止用爪の係合を解除することが選択的に実施可能な係止解除手段とを含み、
前記係止解除手段が、ラッチとの係合から係止用爪を外すようにレスト位置から移動可能である爪リフターと、該爪リフターと係合し、該爪リフターを前記レスト位置から移動させるように選択的に移動可能な動力駆動出力部材とを有している、車両ドア用ラッチアセンブリであって、
前記出力部材が、駆動モーターによって前進及び後退させられるプランジャーであって、該プランジャーが又、該プランジャーが爪リフターと係合しない不作動角度位置へ横方向に移動可能であることと、
前記係止解除手段が更に、前記プランジャーの移動の経路を制御する案内手段であって、前記プランジャーとアセンブリの固定部分の一方上にあって、前記プランジャーと前記部分の他方上にあるフォロワーと協働するトラック構成体を含み、前進させられた位置から後退する間に前記プランジャーが前記不作動位置へ移動するようにさせ、それによって、後退の間に動力が無くなった場合に、係止解除のための爪リフターの手動操作がプランジャーによって妨げられないようにする、案内手段を含むことと、を特徴とする車両ドア用ラッチアセンブリ。
【請求項２】  更に、爪リフターの手動移動によって独立して作用される、プランジャーの切り離し構成体を含み、前進の間又は前進させられた位置にある間に動力が無くなった場合に、前記プランジャーを前記不作動位置に移動して、フォロワー及びトラック構成体によって移動されない場合において前記手動操作がプランジャーによって妨げられないようにすることを特徴とする請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項３】  前記モーターが前進及び後退のためにナットと係合するウォームを駆動し、前記プランジャーが横方向の移動のために前記ナットへ回転式に取付けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載のアセンブリ。
【請求項４】  前記フォロワーが、前記トラック構成体と係合するように弾性的に付勢されたピンを含み、前記トラック構成体が、カム状ランプであって、前記プランジャーが前記爪リフターと係合するように前進させられる時には前記ピンが前記ランプを乗り越えるが、後退の際には前記ピンが前記ランプの近傍を辿り、プランジャーを横方向に移動するように成形されたカム状ランプを有することを特徴とする請求項１、２又は３に記載のアセンブリ。
【請求項５】  前記トラック構成体が、前記プランジャーが完全な後退状態に達する時に、前記プランジャーを不作動位置から戻すようにピンに係合する部分を含んでいることを特徴とする請求項４に記載のアセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月11日(2005.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  電圧信号を調節するための回路であって、
第１および第２の電圧信号記憶素子のそれぞれに正および負の電圧信号をほぼ同時に供給する第１の回路と、
所定の速度で前記各電圧信号記憶素子の前記各電圧信号を選択的にサンプリングする第２の回路とを備え、
上記第１の回路は各正負電圧信号を第１および第２の電圧記憶素子に他の記憶素子への電圧信号の供給とは独立して供給することを特徴とする電圧信号調整装置。
【請求項２】  液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）・システムであって、
前記ＬＣＤシステムにおいて液晶セル間にかかる電圧信号をローカルに調節するための電圧信号調節回路を備え、
前記電圧信号調節回路が、各電圧信号記憶素子にそれぞれ正および負の電圧信号を概ね同時に供給するための第１の回路構成と、概ね所定の速度で前記各電圧信号記憶素子の前記各電圧信号を選択的にサンプリングするための第２の回路構成とを備え、
データは記憶素子の特性に従って更新されることを特徴とする液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）・システム。
【請求項３】  電圧信号調節回路であって、
各電圧信号記憶素子に各電圧信号を概ね同時に供給するための第１の回路と、
調節された電圧信号をローカルに生成するように、前記各電圧信号記憶素子の前記電圧信号をサンプリングするための第２の回路と
を備え、データは記憶素子の特性に応じて更新されることを特徴とする電圧信号調節回路。
【請求項４】  電圧信号をローカルに調節する方法であって、
各電圧信号記憶素子にほぼ同時に、かつ非同期に各電圧信号を加える工程、
前記調節された電圧信号をローカルに生成するように、所定の速度で前記各電圧信号記憶素子の前記電圧信号をサンプリングする工程と、
記憶素子の特性に応じてデータを更新する工程と、
からなることを特徴とする方法。
【請求項５】  ディスプレイ・システムであって、
前記ディスプレイ・システムにおいて光調節素子間にかけられる電圧信号をローカルに調節するための電圧信号調節回路を備え、
前記電圧信号調節回路が、各電圧信号記憶素子に各電圧信号を概ね同時に供給するための第１の回路構成と、調節された電圧信号をローカルに生成するように、概ね所定の速度で前記各電圧信号記憶素子の前記各電圧信号をサンプリングするための第２の回路構成とを備え、記憶素子の特性に応じてデータを更新することを特徴とするディスプレイ・システム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月14日(2005.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像取得装置と、ディジタルデータの少なくとも一部に署名を行うセキュリティ要素を有する、ディジタルデータよりなる画像の取得の認証を行う装置であって、
前記セキュリティ要素は、秘密鍵Ｋ１を用いる解読回路を有する分離可能な構成要素であり、
該セキュリティ要素は、前記画像取得装置に設けられたインターフェース回路によって前記画像取得装置に接続されている、
ことを特徴とする装置。
【請求項２】
請求項１記載の装置であって、
前記分離可能な構成要素は、ハッシュ回路を組み込むことを特徴とする装置。
【請求項３】
請求項１記載の装置であって、
前記画像取得装置は、多重回路と、第１のハッシュされたデータを生成するため、ディジタルデータの少なくとも１つの第１部分をハッシュ処理する回路とをさらに有し、
チップカードの秘密鍵Ｋ１を用いる解読回路は、第１のハッシュされたデータの署名を生成するために、前記第１のハッシュされたデータの解読を行い、
前記署名と前記ディジタルデータは、多重された信号を構成するために、前記多重回路へ伝送される、
ことを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項４】
請求項２記載の装置であって、
前記画像取得装置は、多重回路と、第１のハッシュされたデータを生成するため、前記画像取得装置からのディジタルデータの少なくとも第１部分をハッシュ処理するチップカードのハッシュ回路とをさらに有し、
前記第１のハッシュされたデータの署名を生成するために、前記第１のハッシュされたデータは前記解読回路で解読され、
前記チップカードから発せられる署名と前記ディジタルデータは、多重信号を構成するために前記多重回路に伝送される、
ことを特徴とする請求項２記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月12日(2006.1.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  多層光学フィルムを製造するための供給ブロックであって、
（ａ）少なくとも第１および第２流路を含む勾配プレートであって、該流路の少なくとも一方が、該流路に沿って第１部分から第２部分まで変化する断面領域を有する勾配プレートと、
（ｂ）該第１流路と連通する第１の複数の導管と、該第２流路と連通する第２の複数の導管とを有する供給管プレートであって、各々の導管が、該導管自体の個々のスロットダイに供給し、第１端部と第２端部とを有し、該導管の該第１端部が該流路と連通し、該導管の該第２端部が該スロットダイと連通する供給管プレートと、
を含む供給ブロック。
【請求項２】  少なくとも１つの前記第1および第２の複数の導管に近接して配置された軸線ロッド加熱器をさらに含む、請求項１記載の供給ブロック。
【請求項３】 （ｃ）外面を有し、前記勾配プレートおよび前記供給管プレートを囲むハウジングと、
（ｄ）該ハウジングの該外面に取り付けられるプレート型加熱器と、
を更に含む、請求項１記載の供給ブロック。
【請求項４】 多層光学フィルムを製造する方法であって、
（ａ）樹脂の少なくとも第１および第２の流れを提供するステップと、
（ｂ）請求項１記載の供給ブロックを使用して、該第１および第２の流れを複数の層に分割し、該第１の流れの層が該第２の流れの層と交互配置されて複合流を生じるようにするステップと、
（ｃ）該複合流を押出ダイに通して、各々の層が隣接層の主面にほぼ平行な多層ウェブを形成するステップと、
（ｄ）該多層ウェブを流延ロール上に流延して、流延多層フィルムを形成するステップと、
を含む方法。
【請求項５】 ステップ（ｂ）の後に、
（ｅ）前記複合流を増倍器内に送り、そこで前記複合流が複数の分岐流に分割され、該増倍器が、該分岐流の少なくとも１つを該分岐流の流れを横断する方向に膨張させるステップと、
（ｆ）前記分岐流を前記複合流に再び結合し、前記複合流の層の数を増加させるステップと、
をさらに含む、請求項４記載の方法。
【請求項６】 表面組織付き多層光学フィルムを製造する方法であって、
（ａ）樹脂の少なくとも第１および第２の流れを提供するステップと、
（ｂ）該第１および該第２の流れを複数の層に分割し、該第１の流れの層が該第２の流れの層と交互配置されて複合流を生じるようにするステップと、
（ｃ）該複合流を押出しダイに通して、各々の層が隣接層の主面にほぼ平行な多層ウェブを形成するステップと、
（ｄ）該多層ウェブを流延ロール上に流延するステップと、
（ｅ）該多層ウェブを微細エンボス加工ロールに接触させて流延多層フィルムを形成するステップと、
を含む方法。
【請求項７】 ステップ（ｂ）の後に、
（ｆ）前記複合流を増倍器内に送り、そこで該複合流が複数の分岐流に分割され、該増倍器が、該分岐流の少なくとも１つを該分岐流の流れの方向を横断する方向に膨張させるステップと、
（ｇ）該分岐流を該複合流に再び結合し、該複合流の層の数を増加させるステップと、
をさらに含む、請求項６記載の方法。
【請求項８】 多層光学フィルムを製造する方法であって、
（ａ）樹脂の少なくとも第１および第２の流れを提供するステップであって、樹脂の該第１の流れがポリエチレンナフタレートのコポリマー（ｃｏＰＥＮ）であり、樹脂の該第２の流れがポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）であるステップと、
（ｂ）該第１および該第２の流れを複数の層に分割し、該第１の流れの層が該第２の流れの層と交互配置されて複合流を生じるようにするステップと、
（ｃ）該複合流をダイに通して同時に押し出し、各々の層が隣接層の主面にほぼ平行な多層ウェブを形成するステップであって、該ｃｏＰＥＮおよびＰＭＭＡ樹脂が約２６０℃の溶融温度で同時に押し出され、該ｃｏＰＥＮの樹脂の複屈折が、特定の圧伸比でホモポリマーＰＥＮ樹脂の複屈折に比べて約０．０２単位以下だけ低下するステップと、
（ｄ）該多層ウェブを流延ロール上に流延して、流延多層フィルムを形成するステップと、
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月16日(2006.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】脂質ブレンドを含むリン脂質懸濁液の調製
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  リン脂質懸濁液を調製する方法であって、
（ａ）少なくとも２つの脂質を第１の非水性溶媒と接触させて溶液を形成する工程と、
（ｂ）該溶液を濃厚ゲルに濃縮する工程と、
（ｃ）該濃厚ゲルを第２の非水性溶媒と接触させて溶液を形成する工程と、
（ｄ）工程（ｃ）の溶液を濃縮して、脂質ブレンドを形成する工程と、
（ｅ）該脂質ブレンドを非水性溶媒と接触させ、それにより該脂質ブレンドが該非水性溶媒に実質的に溶解して溶液を形成する工程と、
（ｆ）非水性溶媒を除去することなしに、工程（ｅ）の溶液を水性溶液と接触させて脂質懸濁液を形成する工程と
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】  工程（ｅ）の非水性溶媒が、プロピレングリコール、エチレングリコール、およびポリエチレングリコール３００から選択されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記脂質ブレンドが、
（ａ）１，２−ジパルミトイル−ｓｎ−グリセロ−３−ホスファチジルコリン、
（ｂ）１，２−ジパルミトイル−ｓｎ−グリセロ−３−ホスファチジン酸一ナトリウム塩、および
（ｃ）Ｎ−（メトキシポリエチレングリコール５０００カルバモイル）−１，２−ジパルミトイル−ｓｎ−グリセロ−３−ホスファチジルエタノールアミン一ナトリウム塩
を含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】  前記脂質ブレンドと接触させる前に、工程（ｅ）の非水性溶媒が３０〜７０℃の温度に加熱されることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項５】  工程（ｅ）の非水性溶媒に対する該脂質ブレンドの比が、前記非水性溶媒１ｍＬあたり該脂質ブレンド５ｍｇから１５ｍｇ／ｍＬであることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項６】  工程（ｆ）において、該水性溶液が、水、食塩水、食塩水／グリセリン混合物、および食塩水／グリセリン／非水性溶媒混合物から選択されることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項７】  該水性溶液が、食塩水、グリセリン、およびプロピレングリコールの混合物であることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】  ６．８ｍｇ／ｍＬの塩化ナトリウムが存在し、０．１ｍＬ／ｍＬのグリセリンが存在し、０．１ｍＬ／ｍＬのプロピレングリコールが存在し、約０．７５〜１．０ｍｇ／ｍＬの該脂質ブレンドが存在することを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】  （ｇ）工程（ｆ）の脂質懸濁液を、該懸濁液中に存在する脂質類の最も高いゲル−液晶相転移温度と等しい温度か、またはそれより高い温度に加熱する工程
をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  前記工程（ｇ）において、該脂質懸濁液が少なくとも６７℃の温度に加熱されることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】  （ｈ）該脂質懸濁液を滅菌フィルターに通して濾過する工程
をさらに含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１２】  （ｉ）工程（ｈ）の濾過溶液をバイアルに分配する工程
をさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  （ｊ）工程（ｉ）のバイアルのヘッドスペースガスをペルフルオロカーボンガスと交換する工程
をさらに含むことを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  該ペルフルオロカーボンガスがペルフルオロプロパンであることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】  前記ヘッドスペースガスの交換が凍結乾燥チャンバーを用いて行われることを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】  （ｋ）工程（ｊ）のバイアルを滅菌する工程
をさらに含むことを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】  工程（ａ）において、第１の非水性溶媒がメタノールおよびトルエンの混合物であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１８】  工程（ｃ）において、第２の非水性溶媒がメチルｔ−ブチルエーテルであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月4日(2005.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  Ａ  芳香族ポリカーボネートまたはポリエステルカーボネート５〜９５重量部、
Ｂ  Ｂ．１  １種または２種以上のビニルモノマー５〜９５重量％と、
Ｂ．２  １０℃未満のガラス転移温度を有する１種または２種以上のグラフト基材９５〜５重量％との少なくとも１種のグラフトポリマー０．５〜６０重量部
Ｃ  熱可塑性ビニルコポリマー０〜４５重量部
Ｄ  一般式（Ｉ）：
【化１】
2002509175.tif 000001
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、互いに独立して、Ｃ1−Ｃ8−アルキル、Ｃ5−Ｃ6−シクロアルキル、Ｃ6−Ｃ20−アリールまたはＣ7−Ｃ12−アラルキル（これらは、場合により、ハロゲン化される）を示し、
ｎは、互いに独立して、０または１であり、
Ｎは、平均５〜３０の数であり、
Ｘは、６〜３０個の炭素原子を有する単核または多核芳香族基を示す。］
で示される少なくとも１種のリン化合物０．５〜２０重量部
Ｅ  フッ素化ポリオレフィン０〜５重量部、ならびに
Ｆ．１  ２００ｎｍ以下の平均粒子直径を有する非常に微細な無機粉体０．５〜４０重量部、および／または
Ｆ．２  式（ＩＡ）：
【化２】
2002509175.tif 000002
［式中、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13は、互いに独立して、場合によりハロゲン化されるＣ1−Ｃ8−アルキルまたは場合によりハロゲン化されるＣ6−Ｃ20−アリールを示し、
ｍ１は、０または１を示し、
ｎ１は、０または１を示す。］
で示されるモノリン化合物０．５〜２０重量部
（すべての成分の重量部の合計が１００である）を含有する難燃性熱可塑性成形組成物。
【請求項２】  式（Ｉ）において、Ｒ1〜Ｒ4は、互いに独立して、場合により臭素化または塩素化されるクレジル、フェニル、キシレニル、プロピルフェニルまたはブチルフェニル基を示し、Ｘは、場合により塩素化または臭素化されるビスフェノールＡ、レゾルシノールまたはヒドロキノンを示す請求項１に記載の成形組成物。
【請求項３】  式（Ｉ）中のＸが、式（ＩＩ）：
【化３】
2002509175.tif 000003
［式中、Ａは、単結合、Ｃ1−Ｃ5−アルキレン、Ｃ2−Ｃ5−アルキリデン、Ｃ5−Ｃ6−シクロアルキリデン、−Ｏ−、−ＳＯ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、Ｃ6−Ｃ12−アリーレン基（ヘテロ原子を場合により含有する付加的な芳香族環と縮合されうる）または式（ＩＩＩ）：
【化４】
2002509175.tif 000004
で示される基もしくは式（ＩＶ）：
【化５】
2002509175.tif 000005
で示される基を示し、
Ｂは、それぞれの場合Ｃ1−Ｃ8−アルキル基、ハロゲン、Ｃ6−Ｃ10−アリール基またはＣ7−Ｃ12−アラルキル基を示し、
ｘは、それぞれの場合、互いに独立して０、１または２であり、
ｐは、１または０であり、
Ｒ5およびＲ6は、個々に、それぞれのＸ1に対して互いに独立して、選択され、水素またはＣ1−Ｃ6−アルキルを示し、
Ｘ1は、炭素を示し、
ｍは、少なくとも１つの原子Ｘ1上のＲ5およびＲ6が同時にアルキルである条件で、４〜７の整数である。］
で示されるジフェノールから誘導される請求項１に記載の成形組成物。
【請求項４】  成分Ｆ．１として、周期律表の第１〜第５主族または第１〜第８亜族の１種の金属と元素酸素、硫黄、ホウ素、炭素、リン、窒素、水素もしくは珪素またはそれらの混合物との化合物を含有する請求項１〜３のいずれかに記載の成形組成物。
【請求項５】  成分Ｆ．１が、ＴｉＯ2、ＳｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、ベーマイト、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3、リン酸アルミニウム、酸化鉄ならびにそれらの混合物およびそれらのドープ化化合物から選択される少なくとも１種の化合物である請求項１に記載の成形組成物。
【請求項６】  成形品の製造のための請求項１〜５のいずれかに記載の成形組成物の使用。
【請求項７】  請求項１〜６のいずれかに記載の成形組成物から製造される成形品。