【手続補正書】
【提出日】平成18年5月31日(2006.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細胞に投与される場合、細胞周期Ｇ２チェックポイントを排除する化合物であって、該化合物は、以下の構造：
【化１】
2005528457.tif 000001
を有し、ベンゼンのいずれかまたは両方が、ピラジン、ピリミジン、ピペラジン、モルホリン、シクロヘキサン、ピペリジンまたはピリジンで置換され得；Ｒ１は、ハロゲン、臭素（Ｂｒ）、塩素（Ｃｌ）、フッ素（Ｆ）、ヨウ素（Ｉ）、アミノ（ＮＨ２）、ニトロ（ＮＯ２）、ヒドロキシ（ＯＨ）、Ｏ−メチル（ＯＣＨ３）、またはメチル（ＣＨ３）であり；Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、臭素（Ｂｒ）、塩素（Ｃｌ）、フッ素（Ｆ）、ヨウ素（Ｉ）、アミノ（ＮＨ２）、ニトロ（ＮＯ２）、メチル（ＣＨ３）、Ｏ−メチル（ＯＣＨ３）、ヒドロキシ（ＯＨ）、ＣＨ（ＣＨ３）２、ＣＨＯ、ＣＨＯＣＨ３、Ｏ（ＣＨ２）ｎＣＨ３、ＯＣＯ（Ｃ６Ｈ１２）Ｃｌ、ＣＯＯＣＨ３または水素であり；Ｘ１は、窒素（ＮＨ）、酸素（Ｏ）、または硫黄（Ｓ）であり；そしてＸ２は、酸素（Ｏ）または硫黄（Ｓ）である、化合物。
【請求項２】
細胞に投与される場合、ＤＮＡ損傷誘発性チェックポイントを排除する、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
正常細胞およびＤＮＡ損傷細胞を含む細胞の集団に投与される場合、ＤＮＡ損傷細胞を抑制または殺傷する、請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
細胞に投与される場合、細胞をＤＮＡ損傷剤または処置に感作する、請求項２に記載の化合物。
【請求項５】
４−クロロ−安息香酸４−メトキシ−フェニルエステル（ＣＤＢＣ００４）；４−クロロ−安息香酸ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４０１）；４−ブロモ−安息香酸ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４０２）；３，４，５−トリフルオロ−安息香酸ｐ−トリル１エステル（ＣＢＤＣ４０３）；４−フルオロ−安息香酸４−ブロモ−フェニル１エステル（ＣＢＤＣ４０４）；３，４−ジクロロ−安息香酸ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４０５）；２，４−ジクロロ−安息香酸ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４０６）；４−フルオロ−安息香酸ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４０７）；２，３，４，５，６−ペンタフルオロ−安息香酸ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４０８）；４−クロロ−安息香酸３，４−ジメチル−フェニルエステル（ＣＢＤＣ４０９）；４−クロロ−安息香酸４−ヒドロキシ−フェニルエステル（ＣＢＤＣ４１０）；４−フルオロ−安息香酸４−ヒドロキシ−フェニルエステル（ＣＢＤＣ４１１）；４−ブロモ−安息香酸４−フルオロ−フェニルエステル（ＣＢＤＣ４１２）；４−ブロモ−安息香酸４−トリフルオロメチル−フェニルエステル（ＣＢＤＣ４１３）；４−ブロモ−安息香酸４−ヒドロキシ−フェニルエステル（ＣＢＤＣ４１４）；４−ブロモ−安息香酸４−トリフルオロメトキシ−フェニルエステル（ＣＢＤＣ４１５）；４−ブロモ−安息香酸６−メチル−ピリジン−３−イルエステル（ＣＢＤＣ４１８）；４−ブロモ−チオ安息香酸０−ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４４０）；４−ブロモ−ジチオ安息香酸ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４４１）；および４−ブロモ−チオ安息香酸Ｓ−ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４４２）から選択される少なくとも１つの化合物を含む、請求項１に記載の化合物。
【請求項６】
以下の構造：
【化２】
2005528457.tif 000002
を有する、４−クロロ−安息香酸４−メトキシ−フェニルエステル（ＣＢＤＣ００４）を含む、請求項１に記載の化合物。
【請求項７】
以下の構造：
【化３】
2005528457.tif 000003
を有する、４−クロロ−安息香酸ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４０１）を含む、請求項１に記載の化合物。
【請求項８】
以下の構造：
【化４】
2005528457.tif 000004
を有する、４−ブロモ−安息香酸ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４０２）を含む、請求項１に記載の化合物。
【請求項９】
以下の構造：
【化５】
2005528457.tif 000005
を有する、３，４，５−トリフルオロ−安息香酸ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４０２）を含む、請求項１に記載の化合物。
【請求項１０】
以下の構造：
【化６】
2005528457.tif 000006
を有する、４−フルオロ−安息香酸４−ブロモ−フェニルエステル（ＣＢＤＣ４０４）を含む、請求項１に記載の化合物。
【請求項１１】
以下の構造：
【化７】
2005528457.tif 000007
を有する、３，４−ジクロロ−安息香酸ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４０５）を含む、請求項１に記載の化合物。
【請求項１２】
以下の構造：
【化８】
2005528457.tif 000008
を有する、２，４−ジクロロ−安息香酸ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４０６）を含む、請求項１に記載の化合物。
【請求項１３】
以下の構造：
【化９】
2005528457.tif 000009
を有する、４−フルオロ−安息香酸ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４０７）を含む、請求項１に記載の化合物。
【請求項１４】
以下の構造：
【化１０】
2005528457.tif 000010
を有する、２，３，４，５，６−ペンタフルオロ−安息香酸ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４０８）を含む、請求項１に記載の化合物。
【請求項１５】
以下の構造：
【化１１】
2005528457.tif 000011
を有する、４−クロロ−安息香酸３，４−ジメチル−フェニルエステル（ＣＢＤＣ４０９）を含む、請求項１に記載の化合物。
【請求項１６】
以下の構造：
【化１２】
2005528457.tif 000012
を有する、４−クロロ−安息香酸４−ヒドロキシ−フェニルエステル（ＣＢＤＣ４１０）を含む、請求項１に記載の化合物。
【請求項１７】
以下の構造：
【化１３】
2005528457.tif 000013
を有する、４−フルオロ−安息香酸４−ヒドロキシ−フェニルエステル（ＣＢＤＣ４１１）を含む、請求項１に記載の化合物。
【請求項１８】
以下の構造：
【化１４】
2005528457.tif 000014
を有する、４−ブロモ−安息香酸４−フルオロ−フェニルエステル（ＣＢＤＣ４１２）を含む、請求項１に記載の化合物。
【請求項１９】
以下の構造：
【化１５】
2005528457.tif 000015
を有する、４−ブロモ−安息香酸４−トリフルオロメチル−フェニルエステル（ＣＢＤＣ４１３）を含む、請求項１に記載の化合物。
【請求項２０】
以下の構造：
【化１６】
2005528457.tif 000016
を有する、４−ブロモ−安息香酸４−ヒドロキシ−フェニルエステル（ＣＢＤＣ４１４）を含む、請求項１に記載の化合物。
【請求項２１】
以下の構造：
【化１７】
2005528457.tif 000017
を有する、４−ブロモ−安息香酸４−トリフルオロメトキシ−フェニルエステル（ＣＢＤＣ４１５）を含む、請求項１に記載の化合物。
【請求項２２】
以下の構造：
【化１８】
2005528457.tif 000018
を有する、４−ブロモ−安息香酸６−メチル−ピリジン−３−イルエステル（ＣＢＤＣ４１８）を含む、請求項１に記載の化合物。
【請求項２３】
以下の構造：
【化１９】
2005528457.tif 000019
を有する、４−ブロモ−チオ安息香酸０−ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４４０）を含む、請求項１に記載の化合物。
【請求項２４】
以下の構造：
【化２０】
2005528457.tif 000020
を有する、４−ブロモ−ジチオ安息香酸ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４４１）を含む、請求項１に記載の化合物。
【請求項２５】
以下の構造：
【化２１】
2005528457.tif 000021
を有する、４−ブロモ−チオ安息香酸Ｓ−ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４４２）を含む、請求項１に記載の化合物。
【請求項２６】
薬学的に受容可能なキャリアおよび請求項１に記載の化合物を含む、薬学的組成物。
【請求項２７】
薬学的に受容可能なキャリアおよび請求項２に記載の化合物を含む、薬学的組成物。
【請求項２８】
細胞におけるＧ２チェックポイントを排除するための組成物であって、請求項１に記載の少なくとも１つの化合物を含む、組成物。
【請求項２９】
ＤＮＡ損傷細胞を抑制または殺傷するための組成物であって、該組成物は、細胞に投与された場合に、前記細胞周期Ｇ２チェックポイントを排除するのに有効な量の、請求項１に記載の少なくとも１つの化合物を含む、組成物。
【請求項３０】
前記ＤＮＡ損傷細胞が、ＤＮＡ損傷誘発性Ｇ２チェックポイントを有する、請求項２９に記載の組成物。
【請求項３１】
前記ＤＮＡ損傷細胞が、損傷したＧ１チェックポイントを有する、請求項２９に記載の組成物。
【請求項３２】
前記ＤＮＡ損傷細胞が、癌細胞である、請求項２９に記載の組成物。
【請求項３３】
ＤＮＡ損傷剤または処置とともに使用するための請求項２９に記載の組成物であって、前記化合物が、細胞をＤＮＡ損傷剤または処置に感作する、組成物。
【請求項３４】
ＤＮＡ損傷細胞を選択的に標的化するための組成物であって、該組成物は、請求項１に記載の少なくとも１つの化合物を含み、該組成物は、ＤＮＡ損傷細胞および正常細胞を含む細胞の集団への投与に適しており、前記Ｇ２チェックポイントの排除は、ＤＮＡ損傷細胞を抑制または殺傷し、そして正常細胞に対する細胞傷害効果をほとんど有さないか、あるいは有さない、組成物。
【請求項３５】
ＤＮＡ傷害剤または処置とともに使用するための、請求項３４に記載の組成物。
【請求項３６】
前記ＤＮＡ損傷細胞が、癌細胞である、請求項３４に記載の組成物。
【請求項３７】
インビボでの投与に適している、請求項２９に記載の組成物。
【請求項３８】
エキソビボでの投与に適している、請求項２９に記載の組成物。
【請求項３９】
インビトロでの投与に適している、請求項２９に記載の組成物。
【請求項４０】
細胞増殖障害を処置するための組成物であって、該組成物は、請求項１に記載の少なくとも１つの化合物を含み、少なくとも１つのＤＮＡ損傷細胞の異常増殖または望まない増殖によって特徴付けられる細胞増殖障害を有する被験体への投与に適している、組成物。
【請求項４１】
前記障害が、新生物または癌である、請求項４０に記載の組成物。
【請求項４２】
前記新生物または癌が、腫瘍である、請求項４１に記載の組成物。
【請求項４３】
前記腫瘍が、固体腫瘍である、請求項４２に記載の組成物。
【請求項４４】
前記腫瘍が、液体腫瘍である、請求項４２に記載の組成物。
【請求項４５】
ＤＮＡ損傷処置とともに使用するための、請求項４０に記載の組成物。
【請求項４６】
抗増殖治療とともに使用するための、請求項４０に記載の組成物。
【請求項４７】
４−クロロ−安息香酸４−メトキシ−フェニルエステル（ＣＤＢＣ００４）；４−クロロ−安息香酸ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４０１）；４−ブロモ−安息香酸ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４０２）；３，４，５−トリフルオロ−安息香酸ｐ−トリル１エステル（ＣＢＤＣ４０３）；４−フルオロ−安息香酸４−ブロモ−フェニル１エステル（ＣＢＤＣ４０４）；３，４−ジクロロ−安息香酸ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４０５）；２，４−ジクロロ−安息香酸ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４０６）；４−フルオロ−安息香酸ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４０７）；２，３，４，５，６−ペンタフルオロ−安息香酸ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４０８）；４−クロロ−安息香酸３，４−ジメチル−フェニルエステル（ＣＢＤＣ４０９）；４−クロロ−安息香酸４−ヒドロキシ−フェニルエステル（ＣＢＤＣ４１０）；４−フルオロ−安息香酸４−ヒドロキシ−フェニルエステル（ＣＢＤＣ４１１）；４−ブロモ−安息香酸４−フルオロ−フェニルエステル（ＣＢＤＣ４１２）；４−ブロモ−安息香酸４−トリフルオロメチル−フェニルエステル（ＣＢＤＣ４１３）；４−ブロモ−安息香酸４−ヒドロキシ−フェニルエステル（ＣＢＤＣ４１４）；４−ブロモ−安息香酸４−トリフルオロメトキシ−フェニルエステル（ＣＢＤＣ４１５）；４−ブロモ−安息香酸６−メチル−ピリジン−３−イルエステル（ＣＢＤＣ４１８）；４−ブロモ−チオ安息香酸０−ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４４０）；４−ブロモ−ジチオ安息香酸ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４４１）；および４−ブロモ−チオ安息香酸Ｓ−ｐ−トリルエステル（ＣＢＤＣ４４２）から選択される少なくとも１つの化合物を含む、請求項２９に記載の組成物。
【請求項４８】
ＤＮＡ損傷誘発性Ｇ２チェックポイントを排除する非ペプチド化合物をスクリーニングする方法であって、以下：
（ａ）試験化合物を提供する工程；
（ｂ）インビボで細胞の集団を提供する工程；
（ｃ）該細胞の集団にＧ２／Ｍ期細胞の蓄積を引き起こすＤＮＡ損傷剤を投与する工程；
（ｄ）該試験化合物を該ＤＮＡ損傷剤で処置された集団の第１の処置された部分に投与する工程；
（ｅ）該集団の該第１の処置された部分におけるＧ２／Ｍ期の細胞数を測定する工程であって、該集団における該Ｇ２／Ｍ期の細胞数を測定する工程が、Ｇ２細胞周期停止の細胞数を示す工程；
（ｆ）該ＤＮＡ損傷剤で処置された該集団の第２の処置されない部分における該Ｇ２／Ｍ期の細胞数を測定する工程であって、該集団における該Ｇ２／Ｍ期の細胞数を測定する工程が、該Ｇ２細胞周期停止の細胞数を示す工程；ならびに
（ｇ）該（ｅ）の数と該（ｆ）の数を比較し、工程（ｅ）のＧ２／Ｍ期のより低い細胞数が、該試験化合物が、該第１に処置された部分における該ＤＮＡ損傷誘発性Ｇ２細胞周期チェックポイントを排除することを示す工程
を包含する、方法。
【請求項４９】
請求項４８に記載の方法であって、前記試験化合物は、以下の構造：
【化１】
2005528457.tif 000022
を有し、ベンゼンのいずれかまたは両方が、ピラジン、ピリミジン、ピペラジン、モルホリン、シクロヘキサン、ピペリジンまたはピリジンで置換され得；Ｒ１は、ハロゲン、臭素（Ｂｒ）、塩素（Ｃｌ）、フッ素（Ｆ）、ヨウ素（Ｉ）、アミノ（ＮＨ２）、ニトロ（ＮＯ２）、ヒドロキシ（ＯＨ）、Ｏ−メチル（ＯＣＨ３）、メチル（ＣＨ３）、または水素（Ｈ）であり；Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、臭素（Ｂｒ）、塩素（Ｃｌ）、フッ素（Ｆ）、ヨウ素（Ｉ）、アミノ（ＮＨ２）、ニトロ（ＮＯ２）、メチル（ＣＨ３）、Ｏ−メチル（ＯＣＨ３）、ヒドロキシ（ＯＨ）、ＣＨ（ＣＨ３）２、ＣＨＯ、ＣＨＯＣＨ３、Ｏ（ＣＨ２）ｎＣＨ３、ＯＣＯ（Ｃ６Ｈ１２）Ｃｌ、ＣＯＯＣＨ３または水素であり；Ｘ１は、窒素（ＮＨ）、酸素（Ｏ）、または硫黄（Ｓ）であり；そしてＸ２は、酸素（Ｏ）または硫黄（Ｓ）である、方法。