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【手続補正書】
【提出日】平成17年10月18日(2005.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  −ａ）豆乳および
ｂ）少なくとも１つのアミラーゼによる少なくとも１つの穀物の加水分解産物、および／またはアーモンドミルク
からなる混合物を調製し、
−ストレプトコッカス  サーモフィラスの少なくとも１菌株を含む乳酸種でその混合物を発酵させる
からなることを特徴とする植物起源原料の乳酸発酵による食品の製造方法。
【請求項２】  乳酸種が、ポスト酸性化の減少性を有するストレプトコッカス  サーモフィラスの少なくとも１菌株を含むことを特徴とする請求項１による方法。
【請求項３】  米、大麦、小麦およびエンバクからなる群から選択される少なくとも１つの穀物の加水分解産物が用いられることを特徴とする請求項１または２のいずれかによる方法。
【請求項４】  豆乳／成分ｂ）混合物が、豆乳から得られる乾燥成分を2.5〜9重量％含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか１つによる方法。
【請求項５】  乳酸種が、ビフィドバクテリウム種、ラクトバシラス種、ラクトコッカス種、ペディオコッカス種からなる群から選択される乳酸菌の少なくとも１菌株をも含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれか１つによる方法。
【請求項６】  請求項1〜5のいずれか１つの方法によって得られることを特徴とする植物原料に基づく発酵製品。
【請求項７】  請求項２の方法によって得られ、かつ
−約10℃の温度で28日間貯蔵した後にストレプトコッカス  サーモフィラスを少なくとも106CFU/ml含み；
−発酵の終わりにおけるpHと約10℃の温度で28日間貯蔵した後のpHとの間の相違が0.2pH単位より低い
ことを特徴とする請求項６による発酵製品。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月15日(2005.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  患者の脈管または他の肉体領域への接近を可能にする皮下移植の作成に際しての、移植可能接近ポートの用途であって、該移植は、患者の脈管または他の肉体領域への接続手段を備え、かつ、経皮接近トラクトの遠位端に配置され、該接近トラクトを通してカニューレにより反復的に接近されるようにし、該ポートは、作動可能閉鎖要素を含み、該カニューレと該患者脈管または他の肉体領域との間での流体の反復的交換を設けるように、かつ、該カニューレの引出し時に再度閉鎖するように配置される、用途。
【請求項２】  皮下組織に封入され、かつ、肉体領域との流体導通状態を設ける装置を備える経皮接近システムであって、該装置は事前確立されたレセプタクルを含んで、該レセプタクルと整列状態にあるトラクトを通してカニューレを受容し、該装置を通して該肉体領域と流体導通状態に該カニューレを連結する、システム。
【請求項３】  前記トラクトは、前記レセプタクルの皮膚表面から連続的に延びる、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】  前記トラクトは前記カニューレが存在しない場合に存在する、請求項２に記載のシステム。
【請求項５】  前記トラクトは傷組織により包囲される、請求項２に記載のシステム。
【請求項６】  前記トラクトは前記カニューレが存在しない場合にスリットを備える、請求項２に記載のシステム。
【請求項７】  予備形成された接近トラクトの下に配置される移植ポートであって、該ポートは作動可能な閉鎖手段およびカニューレを備え、該カニューレは該予備形成された接近トラクトを通して該ポートに少なくとも部分的に挿入され、該挿入されたカニューレは、該カニューレと該ポートの間に流体導通状態を設けて、開放位置に該閉鎖手段を偏倚させる、移植ポート。
【請求項８】  カニューレと、
方法を明示する、使用についての使用説明書と、
該カニューレおよび使用についての該使用説明書を包含するパッケージとを備え、
該方法は、
予備形成された接近トラクトの近位端の皮膚上または人工モデル上の接近部位を観察する工程と、
該接近カニューレを、該接近トラクトのものと角度同軸に該接近部位と整列させる工程とを含む、キット。
【請求項９】  前記カニューレに接続される、または、接続可能なカテーテルを更に備える、請求項８に記載のキット。
【請求項１０】  カニューレと、
方法を明示する、使用についての使用説明書と、
該カニューレおよび使用についての該使用説明書を包含するパッケージとを備え、
該方法は、
カニューレを経皮導入して、皮膚侵入点を有する接近トラクトを規定し、かつ、該ポートまで伸張させる工程と、
該接近トラクトにわたる傷組織形成を生じるのに十分な間隔で、かつ、十分な期間にわたり、同一接近トラクトを通して該ポートをカニューレと反復的に接近させる工程とを含む、キット。
【請求項１１】  前記カニューレに接続される、または、接続可能なカテーテルを更に備える、請求項１０に記載のキット。
【請求項１２】  皮下移植可能ポートと、
方法に従って該ポートを移植する使用説明書と、
該ポートおよび使用についての該使用説明書を包含するパッケージとを備え、
該方法は、
皮下組織ポケットにポートを移植する工程であって、該ポートの接近カニューレ受容開口が皮膚の無傷領域の下に配置される工程と、
皮膚の該無傷領域を通して該開口に貫通要素を導入する工程であって、該要素は、接近トラクトを設けるのに十分な期間にわたり、該開口に固着状態に維持される、工程とを含む、
キット。
【請求項１３】  貫通要素を更に備える、請求項１２に記載のキット。
【請求項１４】  前記貫通要素は接近カニューレを備える、請求項１３に記載のキット。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月31日(2005.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  乳頭受入開口（５）を有する乳頭受入手段（３）、乳房に対して前記開口（５）を密閉するための密閉手段（６）、前記乳頭受入手段（３）内に挿入された乳頭を清浄するための清浄手段（９）、及び乳頭からプリミルクを抽出するための手段を含む乳頭清浄及び予備搾乳装置において、前記乳頭清浄手段（９）が円状に配置されかつ乳頭を適合させることができる中央スペースを形成する円筒形の回転可能なブラシ（１１）を含み、前記ブラシ（１１）の縦方向軸は前記乳頭受入手段（３）の縦方向軸に実質的に平行であること、及びプリミルクを抽出するための前記手段が前記乳頭受入手段に減圧を与えるための真空供給手段（１９）を含むことを特徴とする乳頭清浄及び予備搾乳装置。
【請求項２】  乳頭が二つのブラシ（１１）の間のスペース内に引き込まれることを防ぐためにブラシの間に位置する細長い棒（１２）の形の防壁手段を含むことを特徴とする請求項１の乳頭清浄及び予備搾乳装置。
【請求項３】  乳頭受入手段（３）の縦方向軸と実質的に同心に配置されたチューブの形の防壁手段を含み、前記チューブが乳頭と接触するようになるブラシのためにその壁に開口が備え付けられることを特徴とする請求項１又は２の乳頭清浄及び予備搾乳装置。
【請求項４】  プリミルク収集容器（３９）に選択的に接続されることができる出口（２１）を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかの乳頭清浄及び予備搾乳装置。
【請求項５】  前記密閉手段（６）が弾力性カラーを含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれかの乳頭清浄及び予備搾乳装置。
【請求項６】  前記密閉手段（６）が膨らませることのできるカラーを含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれかの乳頭清浄及び予備搾乳装置。
【請求項７】  乳頭殺菌手段を含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれかの乳頭清浄及び予備搾乳装置。
【請求項８】  乳頭受入開口（５５）を有する乳頭受入手段（５３）、乳房に対して前記開口（５５）を密閉するための密閉手段（５６）、前記乳頭受入手段（５３）内に挿入された乳頭を清浄するための清浄手段（５９）及び乳頭からプリミルクを抽出するための手段を含む乳頭清浄及び予備搾乳装置において、前記乳頭清浄手段（５９）が前記乳頭受入手段（５３）の縦方向軸に垂直でありかつ流体を内部に注入するために前記乳頭受入手段の上方表面の近くにほぼ接線方向に配置された少なくとも一つのノズルを含むこと、及びプリミルクを抽出するための前記手段が前記乳頭受入手段（５３）に減圧を与えるための真空供給手段（６９）を含むことを特徴とする乳頭清浄及び予備搾乳装置。
【請求項９】  注入された流体の清浄作用を増大するために乳頭カップ（５３）の内部壁上に突出部（７７）を含むことを特徴とする請求項８の乳頭清浄及び予備搾乳装置。
【請求項１０】  プリミルク収集容器（３９）に選択的に接続されることができる出口（２１）を含むことを特徴とする請求項８又は９の乳頭清浄及び予備搾乳装置。
【請求項１１】  前記密閉手段（５６）が弾力性カラーを含むことを特徴とする請求項８〜１０のいずれかの乳頭清浄及び予備搾乳装置。
【請求項１２】  前記密閉手段（５６）が膨らませることのできるカラーを含むことを特徴とする請求項８〜１１のいずれかの乳頭清浄及び予備搾乳装置。
【請求項１３】  乳頭殺菌手段を含むことを特徴とする請求項８〜１２のいずれかの乳頭清浄及び予備搾乳装置。
【請求項１４】  ロボット搾乳システムにおける請求項１〜１３のいずれかの乳頭清浄及び予備搾乳装置の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月17日(2005.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
選択した環境要素の哺乳類対象に対する遺伝子的影響を評価する方法であって、
（ａ）各グリッドが、上記哺乳類の種の正常な構成員から得た遺伝子または遺伝子断片を含むオリゴヌクレオチド配列である複数の特徴的で明らかな遺伝子配列断片を予め定めた領域に固定化した表面を含んでなる、複数の同一グリッドを準備する工程と；
（ｂ）哺乳類細胞、組織または器官を、十分な時間環境要素に曝して、該細胞のメッセンジャーＲＮＡの転写に影響を与える工程と；
（ｃ）工程（ｂ）の上記曝露細胞、組織または器官からｍＲＮＡを抽出および単離する工程と；
（ｄ）上記要素に曝していない哺乳類細胞、組織または器官から対照ｍＲＮＡを抽出および単離する工程と；
（ｅ）工程（ｃ）および（ｄ）のｍＲＮＡ、または逆転写により該ｍＲＮＡから生成されるｃＤＮＡを検出可能な標識で標識する工程と；
（ｆ）曝露細胞、組織または器官由来の標識ｍＲＮＡまたはｃＤＮＡを第１の同一グリッドにハイブリダイズさせて、検出可能な第１のハイブリダイゼーションパターンを生産する工程と；
（ｇ）標識対照ｍＲＮＡまたはｃＤＮＡを第２の同一グリッドにハイブリダイズさせて、第２の、対照ハイブリダイゼーションパターンを生産する工程と；
（ｈ）第１のハイブリダイゼーションパターンと第２のハイブリダイゼーションパターンとを比較して、上記の要素に曝した上記の哺乳類細胞、組織または器官の転写調節に対する影響を示す、対照パターンからの上記第１のパターンのあらゆる変化を同定する工程とを含んでなる方法。
【請求項２】
上記グリッドがヒト遺伝子由来の特徴的な核酸配列タグを含んでなる請求項１記載の方法。
【請求項３】
上記グリッドが、選択した組織またはセルラインからクローン化した遺伝子由来の特徴的な核酸配列タグを含んでなる請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
上記グリッドが、選択した毒性の同定に特に関連する遺伝子由来の特徴的な核酸配列タグを含んでなる上記請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
上記哺乳類細胞をインビボまたは培養中で曝露してなる上記請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
上記哺乳動物を曝す環境要素が、該哺乳動物の食事または物理的状態の変化である上記請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
上記曝露工程が、
ａ）上記哺乳動物への導入遺伝子の投与；
ｂ）上記哺乳動物からの遺伝子の除去；
ｃ）上記哺乳動物への外来性化合物の投与；
ｄ）上記哺乳動物への内在性化合物またはそのアナログの投与；または
ｅ）上記哺乳動物または細胞の病原性微生物への曝露
を含んでなる請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
転写上の影響が、曝露哺乳動物細胞、組織または器官におけるｍＲＮＡ転写の増加または減少である上記請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
上記哺乳動物が、ヒト以外の霊長類、齧歯動物、イヌおよびヒトから選択される上記請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
上記検出可能な標識が蛍光分子である上記請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
上記明らかな遺伝子配列が既知の遺伝子またはその断片である上記請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
上記明らかな遺伝子配列が未知の遺伝子またはその断片である上記請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
選択した化合物の哺乳類対象に対する毒性の影響を予測する方法であって、該方法が、
（ａ）哺乳類対象に対して共通する既知の毒性の影響を有し、該共通する毒性の影響に特徴的な共通の「フィンガープリント」ハイブリダイゼーションパターンを生じる、既知で構造上異なる複数の毒物を用いるグリッドの較正により請求項１の方法を実施する工程と；
（ｂ）試験化合物をスクリーニングし、試験ハイブリダイゼーションパターンを生じさせる請求項１の工程（ａ）〜（ｆ）に記載の工程と；
（ｃ）試験ハイブリダイゼーション化合物を上記フィンガープリントハイブリダイゼーションパターンと比較する工程とを含んでなり、
フィンガープリントと試験パターンとの間の実質的同一性が、上記試験化合物が上記共通する毒性の影響を有することを示す方法。
【請求項１４】
フィンガープリントと実質的に同一であるハイブリダイゼーションパターンに基づく、初期の段階の薬剤開発からの試験化合物の排除をさらに含んでなる請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
環境要素への曝露に反応して転写が変化し、および請求項１記載の方法によって同定される単離遺伝子配列。
【請求項１６】
請求項１５の遺伝子配列の発現によって生産される単離タンパク質。
【請求項１７】
請求項１５の遺伝子配列の発現を調節でき、上記環境要素に対する毒性の反応の予防において使用する治療用化合物。
【請求項１８】
請求項１６のタンパク質の活性を調節でき、上記環境要素に対する毒性の反応の予防または該毒性の反応の治療に使用する治療用化合物。
【請求項１９】
請求項１５の遺伝子配列を検出可能に標的にできる試薬を含んでなる、環境要素に対する毒性の反応の診断に有用な診断用組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月1日(2005.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  裏材支持体と感圧接着剤繊維の絡み合ったウェブからなる繊維接着剤層とを備える低傷害接着剤が塗布された支持体であって、該ウェブのＭＶＴＲが少なくとも１０００ｇ／ｍ2／日であり、乾いた皮膚への初期接着が２０ｇ／２．５ｃｍ（０．０８Ｎ／ｃｍ）であり、２日連続で１日あたり１０回テープを引き剥がした後のＴＥＷＬが最後の引き剥がしから０．５時間後に２０ｇ／ｍ2／時間未満（原ＴＥＷＬは３〜７ｇ／ｍ2／時間）である、支持体。
【請求項２】  接着剤が塗布された支持体の使用方法であって、
ａ）ＭＶＴＲが少なくとも１０００ｇ／ｍ2／日であり、乾いた皮膚への初期接着が少なくとも２０ｇ／２．５ｃｍ（０．０８Ｎ／ｃｍ）である感圧接着剤繊維の絡み合ったウェブからなる繊維接着剤層を有する裏材支持体を提供するステップと、
ｂ）該接着剤が塗布された支持体を皮膚に接着し、続いて該支持体を除去するステップであって、その結果該接着剤が塗布された支持体が２日連続で１日あたり１０回テープを引き剥がした後のＴＥＷＬが最後に引き剥がしてから０．５時間後に２０ｇ／ｍ2／時間未満（原ＴＥＷＬは３〜７ｇ／ｍ2／時間）であるステップと、
を含む方法。
【請求項３】  生物医学的電極であって、
裏材支持体と該裏材支持体に塗布された繊維接着剤層とからなる低傷害接着剤が塗布された支持体であって、該繊維接着剤層が感圧接着剤繊維の絡み合ったウェブを含み、該ウェブのＭＶＴＲが少なくとも１０００ｇ／ｍ2／日であり、乾いた皮膚への初期接着が少なくとも２０ｇ／２．５ｃｍ（０．０８Ｎ／ｃｍ）であり、２日連続で１日あたり１０回テープを引き剥がした後のＴＥＷＬが最後に引き剥がしてから０．５時間後に２０ｇ／ｍ2／時間未満（原ＴＥＷＬは３〜７ｇ／ｍ2／時間）である低傷害接着剤が塗布された支持体と、
前記低傷害接着剤が塗布された支持体に隣接する導体部材と、
前記導体部材と接触する導電接着剤の層と、
を具備する生物医学的電極。
【請求項４】  裏材支持体と感圧接着剤繊維の絡み合ったウェブからなる繊維接着剤層とを備える低傷害接着剤が塗布された支持体であって、該裏材支持体は吸収材料を含み、さらに該接着剤が塗布された支持体の乾いた皮膚への初期接着が少なくとも２０ｇ／２．５ｃｍ（０．０８Ｎ／ｃｍ）であり、濡れた皮膚への初期接着が少なくとも２０ｇ／２．５ｃｍ（０．０８Ｎ／ｃｍ）であり、濡れた皮膚への初期接着が乾いた皮膚への初期接着の少なくとも６５％である、支持体。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月18日(2005.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  アルミニウム５０〜９５重量％、ニッケル１０〜５０重量％、鉄０〜２０重量％、セリウム、セリウム混合金属、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデンまたはマンガン０〜１５重量％および任意のさらなるガラス形成元素を含んでなる合金の溶融物を、１０4Ｋ／ｓを超える冷却速度で急速凝固させ、急速凝固させた合金を、有機または無機塩基によって処理する方法によって得られるラネーニッケル触媒。
【請求項２】  アルミニウム５０〜９５重量％、ニッケル１０〜５０重量％、鉄０〜２０重量％、セリウム、セリウム混合金属、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデンまたはマンガン０〜１５重量％および任意のさらなるガラス形成元素の合金の溶融物を、１０4Ｋ／ｓを超える冷却速度で冷却させ、急速凝固させた合金を、有機または無機塩基によって処理することを特徴とするラネーニッケル触媒の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
（技術分野）
本発明は、改良された有効寿命を有するラネーニッケル（ＲａＮｉ）触媒、その製造方法、有機化合物の水素化、特に芳香族ニトロ化合物の水素化における使用に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
急速凝固によって調製された非晶質／部分非晶質または微結晶質合金から得られる本発明による触媒は、向上した有効寿命および副生物の少ない形成によって、ならびに従来の触媒と比較してより良好な触媒特性の再現性によって特徴づけられる。大工業規模での使用のための触媒必要量は結果として減少される。このことは、例えば、ジニトロトルエンまたは他の芳香族ニトロ化合物を水素化することによる２，４−／２，６−トリレンジアミンの工業的な製造において、特に他の溶媒の不存在下での水素化において有利である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
従来法で製造された先駆体合金からの触媒と比較して、本発明による触媒の有効寿命の向上は、驚くほどであり、予想できないほどである。本発明による触媒で見られる有効寿命の向上は、他の溶媒が存在しない場合の工業グレードの２，４／２，６−ジニトロトルエン混合物の還元の例によって明らかに示されうる。
以下、本発明およびその実施態様を記載する。
（１）アルミニウム５０〜９５重量％、ニッケル１０〜５０重量％、鉄０〜２０重量％、セリウム、セリウム混合金属、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデンまたはマンガン０〜１５重量％および任意のさらなるガラス形成元素を含んでなる合金の溶融物を、１０4Ｋ／ｓを超える冷却速度で急速凝固させ、急速凝固させた合金を、有機または無機塩基によって処理する方法によって得られるラネーニッケル触媒。
（２）さらなるガラス形成元素として、ホウ素、ケイ素、炭素および／またはリンを、０〜５０重量％の量で含んでなることを特徴とする前記（１）に記載のラネーニッケル触媒。
（３）アルミニウム５０〜９５重量％、ニッケル１０〜５０重量％、鉄０〜２０重量％、セリウム、セリウム混合金属、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデンまたはマンガン０〜１５重量％および任意のさらなるガラス形成元素の合金の溶融物を、１０4Ｋ／ｓを超える冷却速度で冷却させ、急速凝固させた合金を、有機または無機塩基によって処理することを特徴とするラネーニッケル触媒の製造方法。
（４）合金溶融物を、回転冷却輪の上へ供給するかまたは反対方向に回転する２つの冷却輪の間の隙間の中に供給することによって合金を冷却させることを特徴とする前記（３）に記載の方法。
（５）合金溶融物を、水中水噴霧によって冷却することを特徴とする前記（３）に記載の方法。
（６）急速凝固を、溶融引抜によって行うことを特徴とする前記（３）に記載の方法。
（７）有機化合物の水素化のための前記（１）または（２）に記載のラネーニッケル触媒の使用。
（８）芳香族ニトロ化合物の水素化のための前記（７）に記載の使用。
（９）２，４−／２，６−ジニトロトルエン混合物の水素化のための前記（７）に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月21日(2005.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）該混合物の構成要素を加圧するステップと、
ｂ）該構成要素を第１の高圧混合ゾーンに通すステップと、
ｃ）該構成要素を該第１の高圧混合ゾーンに通した後に、該加圧された構成要素を熱交換器に通して該構成要素を冷却するステップと、
ｄ）該加圧された構成要素を該熱交換器に通した後に、該加圧された混合物を最後の高圧混合ゾーンに通すステップと、を含み、ステップｂ）とステップｄ）との間で再加圧ステップは発生しないことを特徴とする、複数相の混合物を製造する方法。
【請求項２】
上記高圧混合ゾーンは、上記構成要素の２つまたはそれ以上のストリームが互いに衝突することを含むことを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項３】
上記衝突するストリームの各々はノズルを通り、上記最後の高圧混合ゾーンのノズルは、上記第１の高圧混合ゾーンのノズルよりも小さいことを特徴とする、請求項２記載の方法。
【請求項４】
上記衝突するストリームの各々はノズルを通り、該ノズルの出口から衝突点までの距離は該ノズルの直径よりも小さいことを特徴とする、請求項２記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月12日(2005.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ZSM-5、ZSM-11またはMCM-41タイプの結晶構造を有するチタンゼオライトを基剤とするエポキシ化触媒であって、チタンゼオライトと、該チタンゼオライトの質量に対して５〜２０質量％の珪素誘導体から選ばれるバインダーとを含む押出適性のある塊を押出し、押出機から出てくる押出物を切断し、及びこうして得られた粒子を焼成することにより、該バインダーが触媒のマトリックスを形成する材料に転換し得られた押出顆粒の形態であることを特徴とする、エポキシ化触媒。
【請求項２】  チタンゼオライトが、約９５０〜９６０cm-1に赤外吸収バンドを有する請求項１記載の触媒。
【請求項３】  チタンゼオライトが、式xTiO2(1-x)SiO2（式中、ｘは０．０００１乃至０．５、好ましくは０．００１乃至０．０５である。）を満足するシリケートである請求項１または２記載の触媒。
【請求項４】  押出顆粒が円筒状で、直径が０．５乃至５mm、好ましくは１乃至２mm、長さが１乃至８mm、好ましくは２乃至４mmである請求項１乃至３のいずれかに記載の触媒。
【請求項５】  １乃至９９質量％、好ましくは５０乃至９８質量％のチタンゼオライトを含み、残りがマトリックスである請求項１乃至４のいずれかに記載の触媒。
【請求項６】  押出顆粒が、
(a)ペーストを形成するために、チタンゼオライト粉末、水、１種以上のバインダー、１種以上の可塑剤及び任意にその他の添加剤を含む混合物をブレンドする工程、
(b)押出物を得るために、押出により工程(a)で得られたペーストを造形する工程、
(c)少なくとも水の一部を除去するために乾燥する工程、
(d)少なくとも存在する有機残渣の一部を除去するために焼成する工程、
を含み、押出顆粒を得るために、押出工程(b)及び乾燥工程(c)の間または焼成工程(d)の後に実施される造粒工程を含む方法により得られる請求項１乃至５のいずれかに記載の触媒。
【請求項７】  可塑剤が澱粉またはセルロースのような多糖類であり、好ましくはメチルセルロース、カルボキシメチルセルロース及びヒドロキシエチルセルロースから選択され、前記バインダーがシロキサンのような珪素誘導体から選択される請求項６記載の触媒。
【請求項８】  工程(a)で使用したチタンゼオライト粉末の平均直径が１０μm以下である請求項６または７記載の触媒。
【請求項９】  工程(a)で使用した可塑剤の量が、使用されるチタンゼオライトの質量に対して１乃至１０質量％である請求項６乃至８のいずれかに記載の触媒。
【請求項１０】  工程(a)の混合物に、使用されるチタンゼオライトの質量に対して５乃至３５質量％の増孔物質を添加する請求項６乃至９のいずれかに記載の触媒。
【請求項１１】  オレフィン化合物、好ましくはアリルクロライドまたはプロピレンとペルオキシド化合物、好ましくは過酸化水素との反応によるエポキシド、好ましくは1,2-エポキシ-3-クロロプロパンまたは1,2-エポキシプロパンの合成における、請求項１乃至１０のいずれかに記載の触媒の使用。
【請求項１２】  請求項１乃至１０のいずれかに記載された触媒の存在下において、オレフィン化合物、好ましくはアリルクロライドまたはプロピレンをペルオキシド化合物、好ましくは過酸化水素と反応させることによりエポキシド、好ましくは1,2-エポキシ-3-クロロプロパンまたは1,2-エポキシプロパンを調製する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月25日(2005.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】有機分子または一群の有機分子を原料から抽出する力法、あるいは慣用の抽出法により得られる抽出物を精製する方法であって、それがメトキシーノナフルオロブタン（Ｃ4Ｆ9ＯＣＨ3）、その異性体（（ＣＦ3）2ＣＦＣＦ2ＯＣＨ3）、エトキシーノナフルオロブタン（Ｃ4Ｆ9ＯＣ2Ｈ5）、その異性体（（ＣＦ3）2ＣＦＣＦ2ＯＣ2Ｈ5）、及びプロポキシーウンデカフルオロペンタン（Ｃ5Ｆ11ＯＣ3Ｈ7）からなる群より選ばれる少なくとも１種のヒドロフルオロエーテルを含む溶剤媒体を使用し、該ヒドロフルオロエーテルが大気圧で＋１５℃〜＋１００℃の範囲の沸点を有することを特徴とする方法。
【請求項２】上記ヒドロフルオロエーテルが、大気圧で＋３０℃〜＋８０℃の範囲の沸点を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】上記溶剤媒体が、少なくとも一つの共溶剤を含むことを特徴とする請求項１または２のいずれかに記載の方法。
【請求項４】上記共溶剤が、エタノール及び水からなる群より選ばれることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】その方法が室温で行われることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】その方法が大気圧で行われることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月29日(2005.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも一つの第１液体（１２）と少なくとも一つの気体（１６）を衝突させることによって前記第１液体を噴霧および気化させるのに適した装置（１０）であって、
（ａ）前記気体が前記装置にそれを通って入る気体入口（４０）と、
（ｂ）前記第１液体が前記装置にそれを通って入る前記気体入口から隔絶した少なくとも一つの液体入口（３０）と、
（ｃ）放出端部（２７）であって、
（i）前記第１液体の少なくとも一つのストリームが前記装置からそれを通って放出される少なくとも一つの第１液体放出出口（３２）と、
（ii）気体の少なくとも一つのストリームが前記装置からそれを通って放出される少なくとも一つの気体放出出口（４１）と、を具備し、前記第１液体の放出されたストリームと衝突させ、それによって噴霧する、放出端部（２７）と、
（ｄ）前記液体入口（３０）を前記第１液体放出出口（３２）と連通させる第１液体通路（３４）と、
（ｅ）前記第１液体通路（３４）から隔絶し、前記気体入口（４０）を少なくとも一つの気体放出出口（４１）と連通させる気体通路（４２）と、を有し、前記気体通路（４２）が、
（i）熱が少なくとも一つの予備加熱チャンバ（５０）内の気体から伝達されて前記第１液体通路（３４）の初期部分内の前記第１液体を予備加熱できるように配置された前記チャンバ（５０）と、
（ii）予備加熱チャンバ（５０）よりも、気体流の方向に垂直の、実質的に小さい断面積を有し、故に、前記気体通路（４２）を貫流する気体の速度を増す前記予備加熱チャンバ（５０）の下流に収れんさせた通路（６８）と、を具備する、装置。
【請求項２】  複数の液体を噴霧および気化させるのに適した装置（１００’）であって、
気体が前記装置にそれを通って入る気体入口（１３５’）と、少なくとも一つの気体放出出口と、前記気体入口を少なくとも一つの前記気体放出出口と連通させる気体通路とを有する、装置にして、
（ａ）各液体が前記装置にそれらを通って入る複数の液体入口（１３１’）と、
（ｂ）前記液体入口の少なくとも一つを少なくとも一つの対応する液体放出出口と連通させる複数の液体通路（１２９’）と、
（ｃ）放出端部（１２３’）であって、
（i）液体の対応する数のストリームが前記装置からそれらを通って放出される複数の液体放出出口と、
（ii）気体の少なくとも一つのストリームが前記装置からそれを通って放出される前記液体放出出口を包囲する少なくとも一つのオリフィスを具備する前記気体放出出口と、を具備し、放出された液体の前記ストリームと集中的且つ内破的に衝突させ、それによって噴霧する、放出端部（１２３’）と、の組合せから成り、
上記気体通路は、少なくとも１つの予熱加熱チャンバであって、該チャンバ内の気体から上記液体通路の初期部分内の液体に熱を伝達するように設けられている予熱加熱チャンバと、
予備加熱チャンバよりも気体流の方向に垂直であって実質的により小さい断面積を有する予熱加熱チャンバの下流に収れんさせた通路であって、これにより、前記気体通路を貫流する気体の速度を増加させる通路と、を具備する、装置。
【請求項３】  少なくとも一つの第１液体（１２）と少なくとも一つの気体（１６）を衝突させることによって前記第１液体（１２）を噴霧および気化させるのに適した装置（１０）であって、
（ａ）前記気体が前記装置にそれを通って入る気体入口（４０）と、
（ｂ）前記第１液体が前記装置にそれを通って入る第１液体入口（３０）と、
（ｃ）放出端部（２７）であって、
（i）前記第１液体の少なくとも一つのストリームが前記装置からそれを通って放出される少なくとも一つの第１液体放出出口（３２）と、
（ii）気体の少なくとも一つのストリームが前記装置からそれを通って放出される少なくとも一つの気体放出出口（４１）と、を具備し、前記第１液体の放出されたストリームと衝突させ、それによって噴霧する、放出端部（２７）と、
（ｄ）前記液体入口（３０）を前記第１液体放出出口（３２）と連通させる第１液体通路（３４）と、
（ｅ）前記気体入口を少なくとも一つの前記気体放出出口（４１）と連通させる気体通路（４２）と、を具備し、前記気体通路が、前記第１液体通路（３４）を包囲する管状圧力減衰チャンバ（５５）と、複数の気体入口部（５７）と複数の気体出口部（５９）とを具備し、前記気体入口部（５７）が前記気体出口部（５９）と半径方向にオフセットされている、装置。
【請求項４】  加熱した気体との衝突を経て少なくとも一つの液体（１２）を噴霧する方法であって、
（ａ）気体通路（４２）を貫流する前記加熱気体（１６）の流れから熱を伝達させて、少なくとも一つの液体（１２）を予備加熱するステップと、
（ｂ）ステップ（ａ）に続いて、前記加熱気体の流れを加速するステップと、
（ｃ）ステップ（ｂ）に続いて、前記予備加熱した液体流を集中的に包囲する少なくとも一つの集中加熱気体ストリームに加速された加熱気体流を整形するステップと、
（ｄ）前記集中加熱気体ストリームを前記予備加熱した液体ストリームと集中的に衝突させるステップと、の組合せからなる、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月27日(2005.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基材の少なくとも一部の表面上にコーティング層を形成する方法であって、
（ａ）キャリアーガスの流れを、第１液体組成物を含む第１コーティング流と衝突させ、キャリアーガス速度が前記第１流速度よりも実質的に速い速度において前記衝突が行われ、前記キャリアーガス速度と前記第１コーティング流速度との比が、実質的にすべての前記第１液体組成物が気化して蒸気を発生するために十分である工程と、
（ｂ）前記蒸気を前記基材の前記表面まで流動させ、前記表面が前記蒸気の前記凝縮温度より低温である工程と、
（ｃ）前記表面上で前記蒸気が液体として凝縮して前記コーティング層を形成する工程とを含む方法。
【請求項２】  前記蒸気が第１蒸気であって、前記方法が、
（１）第２キャリアーガスの流れを、第２液体組成物を含む第２コーティング流と衝突させ、第２キャリアーガス速度が前記第２コーティング流速度よりも実質的に速い速度において前記衝突が行われ、前記キャリアーガス速度と前記第２コーティング流速度との比が、実質的にすべての前記第２液体組成物が気化して蒸気を発生するために十分である工程と、
（２）前記第２液体の蒸気を、表面が前記蒸気の前記凝縮温度よりも低温である前記基材の前記表面まで流動させる工程と、
（３）前記表面上で前記第２蒸気が凝集してコーティング層の一部を形成する工程とをさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記第１コーティング流組成物が、互いに反応することができる第１および第２成分を少なくとも含み、それによって前記基材上に形成された前記コーティング層が、前記第１および第２成分から誘導される反応生成物を含む請求項１に記載の方法。
【請求項４】  工程（ａ）が、キャリアーガスと前記第１液体組成物の前記流れのそれぞれを少なくともノズルの第１および第２オリフィスから、前記流れが衝突するように放出し、
（ｂ）前記第１オリフィスが、円環形であり、前記キャリアーガスの流れが前記第１オリフィスから移動する際に、頂点に向かって内側に先細りする中空で実施的に円錐形のキャリアーガスの流れを放出するように適合しており、前記キャリアーガスの流れは内部領域を有し、
（ｃ）前記第２オリフィスが、前記キャリアーガスの流れの前記内部領域を通って前記キャリアーガスの流れと実質的に前記頂点において衝突するように前記第１液体組成物の流れを放出するように適合している請求項１に記載の方法。
【請求項５】  基材の少なくとも一部の表面にコーティング層を形成する方法であって、
（ａ）液体組成物を霧化する工程と、
（ｂ）前記霧化液体組成物をキャリアーガスと接触させ、キャリアーガス速度が前記霧化液体流速度よりも実質的に速い速度において前記衝突が行われ、前記キャリアーガス速度と前記霧化液体流速度との比が、実質的にすべての前記霧化液体組成物が気化して蒸気を発生するために十分である工程と、
（ｃ）前記蒸気を前記基材の前記表面まで流動させ、前記表面が前記蒸気の前記凝縮温度より低温である工程と、
（ｄ）前記表面上に前記蒸気を液体として凝縮させて前記コーティング層を形成する工程とを含む方法。
【請求項６】  前記液体組成物が少なくとも１種類の放射線硬化性成分を含み、前記方法が、前記凝縮した蒸気に前記コーティング層の固化に有効な線量の放射硬化エネルギーを照射する工程をさらに含む請求項５に記載の方法。
【請求項７】  （ａ）キャリアーガスを第１液体組成物の複数の気化した液滴と、実質的にすべての前記第１液体組成物が気化して蒸気を発生するような条件下で接触させる入口領域を有するチャンバーと、
（ｂ）前記第１液体組成物と前記キャリアーガスとが通過して前記チャンバーに入る入口端と、
（ｃ）前記第１液体組成物のミストを前記チャンバ−内で発生させるための前記入口端の近傍に位置する霧化手段であって、前記霧化手段が、前記液体組成物を気化させるために前記第１液体組成物の少なくとも１つの流れと前記キャリアーガスの少なくとも１つの流れとを放出して前記流れがノズル前方で衝突するように適合させたノズルを含む霧化手段と、
（ｄ）コーティングを行う基材を支持し冷却面を有する基材支持体であって、前記冷却面が前記蒸気の前記凝縮温度より低温に到達可能であり、前記冷却面は前記蒸気が前記冷却面まで流れることができる位置にある基材支持体とを含むコーティング装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月29日(2005.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  冷凍外科治療用システムであって、
近端部と、遠端部と、これらの間に軸心を形成するガス排出ルーメンとを備えるフレキシブルなカテーテル本体、
前記カテーテル本体の前記遠端部近くに、前記ガス排出ルーメンと流体連通状態に配置された管内バルーン、前記管内バルーンは周囲の管壁に径方向に係合するべく膨張可能である、
低温冷却流体供給源、
前記管内バルーン内に、前記冷却流体供給源と流体連通状態に配置された少なくとも一つのポート、そして
前記バルーン内に入れ子配置された封じ込みブラダー、前記封じ込みブラダーは、前記少なくとも一つのポート上に配置されている、を有する冷凍外科治療用システム。
【請求項２】  前記低温冷却流体供給源は、主ルーメンを備えるフレキシブル流体供給チューブを有し、該フレキシブル流体供給チューブは前記カテーテル本体の前記排出ルーメン内に配置されている請求項１に記載の冷凍外科治療用システム。
【請求項３】  前記低温冷却流体供給源は、断熱ルーメンを有する請求項１に記載の冷凍外科治療用システム。
【請求項４】  前記断熱ルーメンは、同軸スリーブを有する請求項３に記載の冷凍外科治療用システム。
【請求項５】  前記少なくとも一つのポートは、少なくとも一つのジュール−トンプソンオリフィスを有する請求項１〜４のいずれか一項に記載の冷凍外科治療用システム。
【請求項６】  前記少なくとも一つのポートは、前記低温冷却流体供給源から前記管内バルーン内に、低温冷却流体を、少なくともその一部を液体として、前記液体の気化のエンタルピによってバルーン壁が冷却されるように放出する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の冷凍外科治療用システム。
【請求項７】  前記少なくとも一つのポートが、前記低温冷却流体を、前記バルーン壁の少なくとも一部をコーティングするように放出する請求項６に記載の冷凍外科治療用システム。
【請求項８】  前記管内バルーンは、近端部と遠端部を備えるバルーン壁と、それらの間に延出する径方向向き領域とを有し、前記少なくとも一つのポートは、前記膨張されたバルーン壁の前記領域を、前記バルーン壁の前記両端部の内少なくとも一つよりも低い温度に冷却する、請求項１〜７のいずれか一項に記載の冷凍外科治療用システム。
【請求項９】  前記少なくとも一つのポートが、前記バルーン壁の前記領域に対する前記バルーン壁の両端の冷却を抑制するために、前記バルーン壁の遠端部と前記バルーン壁の近端部より熱的に離間されている、請求項６〜８のいずれか一項に記載の冷凍外科治療用システム。
【請求項１０】  前記少なくとも一つのポートは、前記膨張されたバルーン壁の前記領域を、前記バルーン壁の前記遠端部よりも低い温度に冷却するべく配置されており、前記ガス排出ルーメンは、前記バルーン壁の前記近端部が前記バルーン壁の前記領域よりも高い温度に留まるべく、前記バルーン壁の前記近端部の冷却を抑制するために、前記バルーン壁の前記近端部の遠位側に延出している、請求項９に記載の冷凍外科治療用システム。
【請求項１１】  前記管内バルーンは、少なくとも１ｃｍの長さを有し、前記少なくとも一つのポートは、前記バルーン壁の近端部と前記バルーン壁の遠端部から少なくとも０．５ｃｍ離間して配置されている請求項１〜１０のいずれか一項に記載の冷凍外科治療用システム。
【請求項１２】  前記封じ込めブラダーの各端部は、前記管内バルーンの各端部から、少なくとも０．２５ｃｍ軸心方向内方に離間しており、そして、前記カテーテル本体内にバルーン膨張ルーメンを有し、前記管内バルーンは、前記バルーン膨張ルーメンから膨張媒体を受取り、そして、前記封じ込めブラダーは、前記冷却流体供給源から前記低温冷却流体を受取る、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の冷凍外科治療用システム。
【請求項１３】  前記冷却流体供給源と連通した複数の冷却流体分配ポートを有し、当該冷却流体分配ポートは、前記管壁の一部を均一に冷却するように前記管内バルーン内に分布されている請求項１〜１２のいずれか一項に記載の冷凍外科治療用システム。
【請求項１４】  前記冷却流体分配ポートは、前記管内バルーン内で周方向に互いに離間配置されている請求項１３に記載の冷凍外科治療用システム。
【請求項１５】  前記冷却流体分配ポートは、径方向に向けられている請求項１４に記載の冷凍外科治療用システム。
【請求項１６】  前記冷却流体分配ポートは、前記管内バルーン内に於いて軸心方向に分布されている請求項１３に記載の冷凍外科治療用システム。
【請求項１７】  前記冷却流体分配ポートは、前記管内バルーン内に配置された多孔筒状構造体によって形成され、前記ポートは、前記多孔筒状構造体上で軸心方向及び周方向に分布されている請求項１３〜１６のいずれか一項に記載の冷凍外科治療用システム。
【請求項１８】  前記少なくとも一つのポートを形成するディフューザヘッドを有し、前記ディフューザヘッドは、前記バルーン内に於いて第１位置と第２位置との間を軸心方向に移動可能である請求項１〜１７のいずれか一項に記載の冷凍外科治療用システム。
【請求項１９】  前記ディフューザヘッドは、前記ディフューザヘッドが前記第１位置にある時にハウジング内に配置され、そして、前記少なくとも一つのポートは、前記ディフューザヘッドが前記第２位置にある時に前記ハウジングの外部に位置する、請求項１８に記載の冷凍外科治療用システム。
【請求項２０】  前記ディフューザヘッドは軸心方向通路を備え、そして、前記ディフューザヘッドの前記通路内に摺動自在に配置された支持体を有し、軸心方向支持体は、前記管内バルーンの近端部から前記管内バルーンの遠端部へと延出している請求項１９に記載の冷凍外科治療用システム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月19日(2006.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】    【請求項１】  ＭＲＩスキャナが置かれたＲＦ遮蔽のＭＲＩ検査室内からＭＲＩスキャナの動作を制御するＭＲＩ制御装置であって、  前記ＭＲＩ検査室内に置かれ前記ＭＲＩ検査室内で制御情報を含む赤外線制御信号を生成するＭＲＩ赤外線遠隔制御装置と、  前記赤外線遠隔制御装置が放射する赤外線制御信号を受ける位置に置かれ、この信号に応じて電気制御信号を生成する赤外線受信器と、  前記ＭＲＩ検査室の外に置かれ、前記赤外線受信器に接続されると共に前記ＭＲＩスキャナに接続されかつ走査情報を受信するＭＲＩコントローラであって、前記赤外線受信器から受けた制御情報に基づいて前記ＭＲＩスキャナの動作を制御することが可能なＭＲＩコントローラと、  を備えたＭＲＩ制御装置。    【請求項２】  前記ＭＲＩ検査室内に置いた別のＲＦ遮蔽空間を更に備え、前記赤外線受信器は前記ＭＲＩ検査室の前記別のＲＦ遮蔽空間内に置かれた、請求項１に記載のＭＲＩ制御装置。    【請求項３】  前記ＭＲＩ検査室の前記別のＲＦ遮蔽空間内に置かれた第１の光ファイバ送信器を更に備え、少なくとも１本の光ファイバ・ケーブルは前記第１の光ファイバ送信器に接続され、前記ＭＲＩ検査室の前記別のＲＦ遮蔽空間から延びて前記ＭＲＩ検査室を通り、前記ＭＲＩ検査室を出て前記ＭＲＩコントローラに接続される第１の光ファイバ受信器に至り、前記赤外線受信器は前記第１の光ファイバ送信器に接続されて前記第１の光ファイバ送信器に信号を与える、請求項２に記載のＭＲＩ制御装置。    【請求項４】  ＭＲＩスキャナが置かれたＲＦ遮蔽のＭＲＩ検査室内で映像を選択的に表示するＭＲＩ表示装置であって、  前記ＭＲＩ検査室内に置かれ前記ＭＲＩ検査室内で赤外線選択信号を生成するＭＲＩ赤外線遠隔制御装置と、  前記赤外線遠隔制御装置が放射する赤外線選択信号を受ける位置に置かれ、この信号に応じて電気制御信号を生成する赤外線受信器と、  前記ＭＲＩ検査室内に置かれ映像を表示する表示装置と、  前記ＭＲＩ検査室の外に置かれ前記ＭＲＩ検査室内の前記表示装置に接続されて映像信号を与えるビデオ切替えボックスと、  前記ＭＲＩ検査室の外に置かれ前記ビデオ切替えボックスの第１の入力に接続されたＭＲ映像ビデオ信号源と、  前記ＭＲＩ検査室内に置かれ前記ビデオ切替えボックスの第２の入力に接続する第１のビデオ装置と、を備え、  前記ビデオ切替えボックスは前記赤外線遠隔制御装置で制御して、前記ビデオ切替えボックスの入力の１つを選択して前記表示装置で表示することができる、  ＭＲＩ表示装置。    【請求項５】  ＭＲＩスキャナを置いたＭＲＩ検査室内から１つまたは複数の装置を制御する制御装置であって、 前記ＭＲＩ検査室内に置かれ、前記ＭＲＩ検査室内で赤外線制御信号を生成し、かつ前記ＭＲＩ検査室内で生成される大きな磁界による吸引力が実質的に及ばないように強磁性体を実質的に含まないようにした、赤外線遠隔制御装置と、  前記赤外線遠隔制御装置が放射する赤外線制御信号を受け、これに応答して電気制御信号を生成する赤外線受信器と、を備えた制御装置。    【請求項６】  ＭＲＩスキャナを置いたＲＦ遮蔽のＭＲＩ検査室内からＭＲＩスキャナの動作を制御するＭＲＩ制御装置であって、  前記ＭＲ���検査室内に置かれ、前記ＭＲＩ検査室内で制御情報または走査情報を含む制御信号を生成するＭＲＩ適合の赤外線遠隔制御装置と、  前記赤外線遠隔制御装置が放射する制御信号を受ける位置に置かれ、この信号に応じて電気制御信号を生成する赤外線受信器と、  前記ＭＲＩ検査室の外に置かれ、制御情報を受信するために前記受信器に接続されると共に前記ＭＲＩスキャナを制御するために前記ＭＲＩスキャナに接続されたＭＲＩコントローラであって、前記受信器から受けた制御情報または走査情報に基づいて前記ＭＲＩスキャナの動作を制御する、ＭＲＩコントローラと、  前記ＭＲＩ検査室内にある別のＲＦ遮蔽空間であって、前記受信器が前記ＭＲＩ検査室の前記別のＲＦ遮蔽空間内に置かれる、別のＲＦ遮蔽空間と、 前記ＭＲＩ検査室の前記別のＲＦ遮蔽空間内に置かれ、少なくとも１本の光ファイバ・ケーブルに接続された第１の光ファイバ送信器であって、前記少なくとも１本の光ファイバ・ケーブルは前記ＭＲＩ検査室の前記別のＲＦ遮蔽空間から延びて前記ＭＲＩ検査室を通り、前記ＭＲＩ検査室を出て前記ＭＲＩコントローラに接続された第１の光ファイバ受信器に接続され、かつ前記赤外線受信機に接続されて信号を与えるようにした、第１の光ファイバ送信器と、  前記ＭＲＩ検査室の前記別のＲＦ遮蔽空間内に置かれた表示装置と、  を備えたＭＲＩ制御装置。    【請求項７】  ＭＲＩスキャナが置かれＲＦ遮蔽で境界が画定されたＭＲＩ検査室内からＭＲＩスキャナの動作を制御するＭＲＩ制御装置であって、 前記ＭＲＩ検査室内に置かれ前記ＭＲＩ検査室内で制御情報を含む制御信号を生成するＭＲＩ遠隔制御装置と、 前記遠隔制御装置が放射する制御信号を受ける位置に置かれ、この信号に応じて電気制御信号を生成する受信器と、 前記ＭＲＩ検査室の境界の外に置かれ、前記受信器に接続されると共に前記ＭＲＩスキャナに接続され、かつ走査情報を受信する、ＭＲＩコントローラであって、前記受信器から受けた制御情報に基づいて前記ＭＲＩスキャナの動作を制御することが可能なＭＲＩコントローラと、 を備えたＭＲＩ制御装置。    【請求項８】  ＭＲＩスキャナとＭＲＩコントローラに関連して使用するＭＲＩ検査室に設置可能な表示装置と制御装置の組み合わせ装置であって、前記表示装置は、 映像を表示する表示端末と、 前記表示端末から延在するＲＦ遮蔽ケーシングによって少なくとも部分的に画定されたＲＦ遮蔽空間と、 前記ＲＦ遮蔽空間内に位置され赤外線制御信号を受信する赤外線受信機と、 前記ＲＦ遮蔽空間内に位置された光ファイバ送信機であって、前記赤外線受信機に接続して信号が与えられるようにした前記光ファイバ送信機と、 前記ＲＦ遮蔽空間内に位置され光ファイバ制御信号を受信し、前記表示端末に接続されて前記表示端末によって表示された映像を制御するようにした光ファイバ受信機と、 を備えた、表示装置と制御装置の組み合わせ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月16日(2005.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  プラズマCVD 法で、焼結した超硬合金若しくはサーメット、セラミックス又は高速度鋼を基とする切削工具を、１９ＧＰａ以上の硬さを有する微細結晶粒５〜２００ｎｍのα-Ａｌ２Ｏ３及びγ-Ａｌ２Ｏ３の少なくとも１種の被膜で被覆する方法において、
プラズマを２つの電極又は２組の電極の間に印加されるバイポーラパルス直流電圧により生成し、被覆される基材本体を前記電極に固定しかつ電気的に接続し、上記電極又は電極の組が交互にアノード及びカソードとして作用し、化学反応物が、ＣＯ２，ＣＯ２，ＣＯ又はＮ２Ｏの酸素ドナーを含む、ＡｌＣｌ３，Ｈ２及びＡｒであり、パルス周波数を５〜１００ｋＨｚに設定し、パルス振幅を３００〜１０００ボルトに設定し、基材温度が、被覆する工具本体の材料に応じて、５００〜８００℃であることを特徴とする、切削工具を被覆する方法。
【請求項２】  前記酸素ドナーがＯ２であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記化学反応物を、体積％で、
ＡｌＣｌ３：０．１〜２．０、
Ｏ２：      ０．１〜３．９、
Ｈ２：      ２５〜９５、及び
Ａｒ：     ５〜７５
に設定することを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項４】  全プロセス圧力を０．０５〜１ｋＰａに設定することを特徴とする、請求項３に記載の方法。
【請求項５】  負のパルスのオン時間Ｐ−が正のパルスのオン時間Ｐ＋以上、かつ前記正のパルスのオン時間が前記負のパルスのオン時間の１０％以上のＰ−≧Ｐ＋≧０．１Ｐ−であり、更に前記負のパルスのオン時間が周期Ｔの１０％以上のＰ−≧０．１Ｔであり、負及び正のパルスのオフ時間を０以上のｔ−≧０及びｔ＋≧０に設定することを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項６】  前記バイポーラパルス直流電圧の正の振幅Ａ＋及び負の振幅Ａ−が等しい大きさであることを特徴とする、請求項５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月14日(2005.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ツールドライバに接続されて回転運動するツールであって、
第１表面を有する装着プレートと、
該装着プレートの第１表面に取り付けられた複数の研磨セグメントであって、少なくとも１つの研磨セグメントが、焼結した接着剤中の研磨粒子からなる複数の実質的に平行な層から作られ、当該複数の層の１つの略平面によって規定されるセグメント面を有し、該セグメント面は、装着プレートの第１表面に対して、０度〜１８０度の間（０度および１８０度を除く）の角度を形成する、複数の研磨セグメントと、
を具備するツール。
【請求項２】  前記ツールドライバは前記装着プレートを移動方向に動かし、前記セグメントの少なくとも１つは、該移動方向が該セグメント面に対して０度〜１８０度の間（０度および１８０度を除く）の角度である地点で、該セグメントが工作物に接触するように、該装着プレートに取り付けられる請求項１記載のツール。
【請求項３】  ツールドライバに接続されるツールであって、
第１表面を有する装着プレートと、
該装着プレートの第１表面に取り付けられた複数の研磨セグメントであって、少なくとも１つの研磨セグメントが、焼結した接着剤中の研磨粒子からなる複数の層から作られ、当該複数の層の１つの略平面によって規定されるエレメント面を有し、各研磨セグメントは研削表面をさらに含み、該研削表面は、該エレメント面に対して０度〜１８０度の間（０度および１８０度を除く）の角度で形成される複数の研磨セグメントと、
前記ツールドライバに取り付けられて行なう研削操作中に工作物に接触する該ツール表面によって規定される作業領域であって、第１端と第２端と該第１端から該第２端へ変動する曲率とを含む作業領域と、
を具備し、
該研削表面の累積面積が前記作業領域の面積の５％〜９５％を占めるツール。