【手続補正書】
【提出日】平成18年3月24日(2006.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
−  １つ又は２つのＸ鎖、即ち、α−Ｄ−キシロピラノシル（１，６）−β−Ｄ−グルコピラノシル若しくはα−Ｄ−キシロピラノシル（１，６）−Ｄ−グルコピラノース、又はβ−Ｄ−キシロピラノシル（１，４）−β−Ｄ−グルコピラノシル若しくはβ−Ｄ−キシロピラノシル（１，４）−Ｄ−グルコピラノース鎖、あるいはＸｏｌとも呼ばれるＸの還元型、
−  １つ又は２つのＦ鎖、即ち、α−Ｌ−フコピラノシル（１，２）−β−Ｄ−ガラクトピラノシル（１，２）−α−Ｄ−キシロピラノシル（１，６）−β−Ｄ−グルコピラノシル若しくはα−Ｌ−フコピラノシル（１，２）−β−Ｄ−ガラクトピラノシル（１，２）−α−Ｄ−キシロピラノシル（１，６）−Ｄ−グルコピラノース鎖、又はα−Ｌ−フコピラノシル（１，２）−β−Ｄ−ガラクトピラノシル（１，２）−β−Ｄ−キシロピラノシル（１，４）−β−Ｄ−グルコピラノシル若しくはα−Ｌ−フコピラノシル（１，２）−β−Ｄ−ガラクトピラノシル（１，２）−β−Ｄ−キシロピラノシル（１，４）−Ｄ−グルコピラノース鎖、あるいはＦｏｌとも呼ばれるＦの還元型、並びに
−  少なくとも１つのＧ鎖、即ち、４位で置換されているか、又は置換されていない、β−Ｄ−グルコピラノシル又はＤ−グルコピラノース単位、あるいはＧｏｌとも呼ばれるＧの還元型［ここで、
該Ｘ、Ｆ、及びＧ鎖は、ランダムな順で相互に結合しており、適宜、以下の修飾：（ｉ）ヒドロキシル基の修飾、即ち、グルコース残基が末端位で還元されているか、又はされていない、アセチル化又はメトキシル化又はアシル化誘導体、（ii）還元的アミノ化によるような、末端還元性単位の修飾、（iii）接近可能なＧａｌ及びＧｌｃ残基の６位での酸化を含む］
を含むことを特徴とする化合物［ここで、
該化合物は、以下の性質：
−  グルタチオンレダクターゼを刺激する性質、及び／又は
−  植物におけるホスホリパーゼＤを刺激する性質、及び／又は
−  グリコシルヒドロラーゼを刺激する性質、
を有する］の、該化合物の上述の性質に関連した使用、即ち：
−  寒さに対する適応のような非生物的ストレスに対する植物の適応、あるいは渇水、湿気又は塩分のような水に関するストレスに対する適応、
−  開花の制御、
−  結実の制御、
−  細菌、ウイルス、真菌のような病原体に対する防御反応の誘導
の範囲内における使用［ただし、式：ＸＸＦＧの化合物の上述の使用を除く］。
【請求項２】
−  キシロースでは２若しくは３若しくは４位、又はガラクトースでは３若しくは４若しくは６位、又はグルコースでは２若しくは３若しくは４若しくは６位、又はフコースでは２若しくは３若しくは４位でのモノアセチル化型、
−  グルコースでは、２と３、２と４、３と４、２と６、３と６若しくは４と６位、又はキシロースでは２と３、２と４、若しくは３と４位、又はガラクトースでは３と４、３と６、若しくは４と６位、又はフコースでは２と３、２と４、若しくは３と４位でのジアセチル化型、あるいは分子を形成する２つのモノアセチル化糖を考慮した任意の組合せ、
−  キシロースでは２、３及び４位、又はグルコースでは２、３及び４、若しくは２、３及び６位、又はガラクトースでは３、４及び６位、又はフコースでは２、３及び４位でのトリアセチル化型、あるいは分子を形成する３つのモノアセチル化糖又は１つのモノアセチル化糖と１つのジアセチル化糖を考慮した任意の組合せ、
−  テトラアセチル化〜全アセチル化型、あるいは分子を形成するアセチル化されているか又はされていない異なる糖の任意の組合せ
から選択されるアセチル化誘導体に対応する、請求項１記載の化合物の使用。
【請求項３】
糖が、適宜、ピラノース又はフラノース型の、α又はβ型であり、そして１→２、１→３、１→４、又は１→６型の結合により相互連結している化合物の、請求項１又は２記載の使用。
【請求項４】
下記式：
【化１】
2005527532.tif 000001
［式中、
−  Ｇ、Ｘ及びＦは、請求項１と同義であり、
−  ａ、ｂ、及びｃは、相互に独立に、１又は２を表す］で示される構造から選択されるグリコシド構造を含むことを特徴とする化合物の、請求項１〜３のいずれか１項記載の使用。
【請求項５】
グルコース残基が、末端位で還元されているか、又はされていない、式：ＸＦＧのグリコシド構造を含むか、又は式：ＸＧＦ、ＦＸＧ、ＦＧＸ、ＧＦＸ、及びＧＸＦに相当する、ＸＦＧから誘導される構造を含むか、あるいは請求項１と同義の修飾により誘導された構造を含む化合物の、請求項１〜４のいずれか１項記載の使用。
【請求項６】
以下：ＸＦＸＧ、ＸＦＧＸ、ＦＧＸＸ、ＦＸＧＸ、ＦＸＸＧ、ＧＸＸＦ、ＧＸＦＸ、ＧＦＸＸ、ＸＸＧＦ、ＸＧＸＦ、ＸＧＦＸから選択される化合物の、請求項１〜４のいずれか１項記載の使用。
【請求項７】
下記式：
【化２】
2005527532.tif 000002
で示される化合物の、請求項１〜４のいずれか１項記載の使用。
【請求項８】
下記式：
【化３】
2005527532.tif 000003
で示されるＸＦＧ化合物の、請求項１〜４のいずれか１項記載の使用。
【請求項９】
モノマー単位として、請求項１〜８のいずれか１項と同義の化合物を含むポリマー又はオリゴマー（該ポリマー又はオリゴマーは、２〜約３００モノマー単位、特に２〜約１００単位、又は２〜約５０単位、又は２〜約２０単位、特に５〜１２単位を含むことを特徴とする）の、請求項１〜８のいずれか１項記載の使用。
【請求項１０】
植物においてグルタチオンレダクターゼを刺激するプロセスであって、請求項１〜９のいずれか１項記載の少なくとも１つの化合物での植物の処理、特に該化合物を含む組成物でのこれらの植物が栽培される土壌の洗浄による処理、又はこのような組成物での種子のコーティングによる処理、又は圃場における処理すべき植物へのこのような組成物の葉面散布による処理の段階を含むことを特徴とするプロセス。
【請求項１１】
寒さに対する適応のような非生物的ストレスに対する植物の適応、あるいは渇水、湿気又は塩分のような水に関するストレスに対する適応のためのプロセスの履行のための、請求項１０記載のプロセスの適用。
【請求項１２】
植物におけるホスホリパーゼＤ産生の刺激のプロセスであって、請求項１〜９のいずれか１項記載の少なくとも１つの化合物での植物の処理、特に該化合物を含む組成物でのこれらの植物が栽培される土壌の洗浄による処理、又はこのような組成物での種子のコーティングによる処理、又は圃場における処理すべき植物へのこのような組成物の葉面散布による処理の段階を含むことを特徴とするプロセス。
【請求項１３】
開花の制御のためのプロセス、そして特に花の誘導、開花期間、及び落花の制御のためのプロセスの履行のための、並びに／又は結実の制御のためのプロセス、そして特に果実の成熟、落葉及び落果の始動及び期間の制御のためのプロセスの履行のための、請求項１２記載のプロセスの適用。
【請求項１４】
植物におけるグリコシルヒドロラーゼの産生の刺激のためのプロセスであって、請求項１〜９のいずれか１項記載の少なくとも１つの化合物での植物の処理、特に該化合物を含む組成物でのこれらの植物が栽培される土壌の洗浄による処理、又はこのような組成物での種子のコーティングによる処理、又は圃場における処理すべき植物へのこのような組成物の葉面散布による処理の段階を含むことを特徴とするプロセス。
【請求項１５】
細菌、ウイルス、真菌のような病原体に対する防御反応の誘導のプロセスの履行のための、請求項１４記載のプロセスの適用。