【事件の表示】
　特願２００５−５０６８３１「ステージ装置、固定方法、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年１２月１６日国際公開、ＷＯ２００４／１０９７８０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１６年（２００４年）６月３日（優先権主張　平成１５年６月４日）を国際出願日として国際出願された特願２００５−５０６８３１号であって、平成２１年９月２５日付けで拒絶理由が通知され、同年１１月３０日付けで意見書が提出されるとともに、同日付けで手続補正がなされ、平成２２年２月１２日付けで拒絶理由（最後）が通知され、同年４月１９日付けで意見書が提出されるとともに、同日付けで手続補正がなされ、同年７月７日付けで拒絶理由（最後）が通知され、同年９月１３日付けで意見書が提出されるとともに、同日付けで手続補正がなされ、同年１２月１５日付けで同年９月１３日付けの手続補正に対する補正の却下の決定がなされ、同日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、平成２３年４月４日に拒絶査定不服審判の請求がなされ、同時に手続補正がなされたものである。
　その後、当審において平成２３年９月２日付けで前置報告書の内容につて請求人に事前に意見を求める審尋をなし、同年１１月７日付けで回答書が提出された。
　
第２　平成２３年４月４日付けの手続補正についての補正の却下の決定について
　
［補正の却下の決定の結論］
　平成２３年４月４日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１　本件補正について
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１に係る発明は、平成２２年４月１９日付けの手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載の、
　
「戴置面に板状体を戴置して移動可能な移動部材を有するステージ装置であって、
　前記載置面に設けられて前記板状体を吸着する吸着部材と、
　前記板状体を前記戴置面に固定する固定装置と、を備え、
　前記固定装置は、前記板状体が前記吸着部材によって吸着された状態で前記移動部材が所定の位置まで移動するのに伴って前記板状体に接触して該板状体の固定を行う、ことを特徴とするステージ装置。」が　
　
「
外部から搬送されるマスクを
マスクステージ
を備え、前記マスクステージと基板とを第一の方向に相対移動させながら当該基板に対して露光を行う露光装置
　前記載置面に設けられて前記
マスク
　前記
マスク
　前記
マスクステージの移動を前記固定装置の駆動に変換する変換装置と、
　
前記マスクステージは、前記マスクが搭載される搭載領域と、前記マスクが照明される照明領域との間を前記第一の方向に関して移動し、
マスク
マスクステージ
前記搭載領域から前記照明領域
している間の所定の位置において、前記変換装置によって変換された動力により
マスク
該マスク
露光
　
　そして、この補正は、補正前の「板状体」を「（外部から搬送される）マスク」と限定するとともに、「ステージ装置」について、「マスクが搭載される搭載領域と、前記マスクが照明される照明領域との間を前記第一の方向に関して移動」する「マスクステージ」を有するとともに、「前記マスクステージと基板とを第一の方向に相対移動させながら当該基板に対して露光を行う露光装置」が備えるものであることを限定し、さらに「マスクステージの移動を前記固定装置の駆動に変換する変換装置」とを備え、「マスクステージが前記搭載領域から前記照明領域まで移動している間の所定の位置において、前記変換装置によって変換された動力により前記マスクに接触して該マスクの固定を行う」ことを限定する補正事項からなり、特許請求の範囲のいわゆる限定的減縮を目的とする補正であるといえる。
　すなわち、本件補正における請求項１に係る発明の補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下「平成１８年改正前特許法」という。）第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とするものである。
　
２　独立特許要件違反についての検討
　そこで、次に、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものか（平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反しないか）について検討する。
　
（１）本願補正発明
　本願補正発明は、平成２３年４月４日付けの手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載されている事項により特定されるものである。（上記の「１　本件補正について」の記載参照。）
　
（２）引用例
ア　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平１１−４０６５７号公報（以下「引用例１」という。）には、次の事項が記載されている。（なお、下記「イ　引用例１に記載された発明の認定」において直接引用した記載に下線を付した。）
　
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体回路パターンや液晶素子パターンなどが形成されたレチクルやマスク、あるいはそのようなパターンが投影露光される感光基板をステージ上で保持することができる試料保持装置に関する。また本発明は、レチクルやマスクと感応基板とを投影光学系を挟んで同期して移動する
走査型露光装置
【０００２】
【従来の技術】たとえばレチクルステージとウエハステージを互に逆方向に投影縮小率に応じた速度比でそれぞれ移動して、レチクルパターンをウエハに投影露光する走査型投影露光装置では、各種のパターンが形成されたレチクルはレチクルステージ上に真空吸着で搭載され、ウエハやガラス基板も基板ステージ上に真空吸着で搭載される。たとえばレチクルステージに設けられたバキュームパッド上にレチクルを載置し、コンプレッサによってバキュームパッドの上部の空気を吸引してレチクルがレチクルステージに吸着される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、スループットを向上させるためにステージ移動速度が高速化されると、真空吸着でレチクルを保持する場合にはレチクルステージの慣性力でレチクルが正規の位置からずれてしまうおそれがある。吸着力を確保するために真空吸着の面積を広げることも考えられるが、面積を広げる余地はあまりなく、慣性力によるずれを防止するだけの吸着力を得ることは難しい。そして、レチクルがわずかでもずれると、レチクルのアライメント精度が著しく低下する。
【０００４】本発明は、ステージの加速減時の慣性力で試料ずれが起きにくくするとともに、試料の表面が歪まないよう試料を固定保持する試料保持装置およびその試料保持装置を備えた走査型露光装置を提供することを目的としている。」
　
「【０００７】
【発明の実施の形態】図１〜図４により、本発明が適用された試料保持装置を備える走査型露光装置について説明する。
【０００８】図１において、エキシマレーザなどのパルス発振型の光源１からの露光用照明光が照明光学系２を介して均一な照度分布のパルス露光光ＩＬとしてレチクル３を照明する。照明光学系２は、ビーム整形光学系、減光光学系、オプティカルインテグレータ、視野絞りおよびコンデンサレンズなどから構成される。レチクル３には半導体回路パターンや液晶素子パターンが形成されており、そのパターンを透過した透過光は投影光学系９によりウエハ１０上に投影される。ウエハ１０の表面にはフォトレジストが塗布されており、投影されたパターン像がレジスト上に露光されて潜像が形成される。
【０００９】
レチクル３は、後述するレチクルホルダ３０、３２を介してレチクルステージ４上に後述する試料保持装置６０で固定保持され、レチクルステージ４は投影光学系９の光軸と垂直な面内でＸＹ方向に移動する。露光に際してレチクル３をＸ方向および−Ｘ方向に移動して露光光ＩＬを走査する。
【００１０】ここで、レチクルステージ４上にレチクル３を固定する試料保持装置６０について図２〜図４に基づいて詳細に説明する。
【００１１】レチクルステージ４を上方から見た図２（ａ）とその正面図である図２（ｂ）において、レチクルステージ４上にはレチクルホルダ３０，３２が対向配置されている。レチクルホルダ３０，３２はたとえばセラッミックスで形成され、その平面度は０．４μｍ以下とされる。なお、レチクル３の平面度は通常１〜２μｍである。
レチクルホルダ３０，３２にはその長手方向に沿って真空ウエハ吸着用の開口３０ａ，３２ａが形成され、レチクル３はレチクルホルダ３０，３２上で真空吸着される。さらに、レチクル３は試料保持装置６０によりレチクルホルダ３０，３２との間で挟持固定される。
【００１２】試料保持装置６０について説明する。なお、試料保持装置６０は左右にそれぞれ設けられるが、その構成は同一であり右側の試料保持装置６０について説明する。レチクルホルダ３０，３２のＸ方向の外側には所定の間隔をあけて一対のブラケット６１が設置され、この一対のブラケット６１には軸６２によりクランパ６３のアーム６４が回転可能に軸支され、これにより、クランパ６３はブラケット６１に対して回転可能に保持される。軸６２の軸心の高さ位置はレチクル３の表面の高さとほぼ一致するようにされている。その理由は後述する。
【００１３】クランパ６３の中央部には駆動アーム６５が取り付けら、この駆動アーム６５はレチクルステージ４上に設置されたギアヘッド付きのモータ６６で駆動される。図３によく示されているように、モータ６６の出力軸６６ａにはカム板６７が設けられ、カム板６７の一端にはカムフォロア６８が回転可能に設けられている。このカムフォロア６８がアーム６５の下面に当接し、モータ６６によりカム板６７を反時計回り方向に揺動することにより、クランパ６３が軸６２を回転中心として反時計回り方向に揺動する。アーム６５にはクランパ６３を時計回り方向の付勢力が不図示のばねにより与えられている。したがって、モータ６６によりカム板６７を時計回り方向に揺動すると、クランパ６３はばね力により時計回り方向に揺動し、図３に２点鎖線で示すようなレチクル投入姿勢となる。」
　
「【図１】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
「【図２】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
イ　引用例１に記載された発明の認定
　上記記載（図面の記載も含む）から、引用例１には、
「レチクル３は、レチクルホルダ３０，３２を介してレチクルステージ４上に固定保持され、レチクルステージ４は投影光学系９の光軸と垂直な面内でＸＹ方向に移動し、露光に際してレチクル３をＸ方向および−Ｘ方向に移動して露光光ＩＬを走査する走査型露光装置であって、
　レチクルホルダ３０，３２にはその長手方向に沿って真空ウエハ吸着用の開口３０ａ，３２ａが形成され、レチクル３はレチクルホルダ３０，３２上で真空吸着され、さらに、レチクル３は試料保持装置６０によりレチクルホルダ３０，３２との間で挟持固定される走査型露光装置。」の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。
　
ウ　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平９−１４８４０６号公報（以下「引用例２」という。）には、次の事項が記載されている。
　
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、半導体製造装置（基板処理装置）などに備えられる基板搬送装置に係り、特には、半導体ウエハ（基板）の外周端部付近を支持するＣ型の搬送アームと、搬送アームを駆動する搬送駆動手段とを有し、搬送アームに基板が支持された状態で搬送アームが搬送駆動手段に駆動されてその基板が搬送されるとともに、所定の受渡し位置で搬送アームと所定の基板受渡し対象との間で基板の受渡しが行なわれる基板搬送装置に関する。」
　
「【０００５】このような基板処理装置は、基板加熱処理部や基板冷却処理部が並設される水平１軸方向に、スピンコーターやスピンデベロッパーなどの薬液を使う基板処理部を並設し、熱処理部と、スピンコーターやスピンデベロッパーとを対向配置させ、その間に基板搬送装置の基板搬送路を配置するように構成されている。
【０００６】従って、基板搬送装置の搬送アームは、上記基板搬送路に沿った水平１軸方向への移動が行なわれるとともに、基板搬送路上の搬送位置と、各基板処理部内で基板を受け渡す受渡し位置との間で出退移動（水平移動）されるように構成されている。また、例えば、鉛直方向に積層される基板加熱処理部と基板冷却処理部との間の基板の搬送などのために鉛直方向に昇降可能に構成され、さらに、例えば、対向配置される基板冷却処理部とスピンコーターとの間の基板搬送において、上記出退移動の方向を略１８０°転換するために、鉛直軸周りに旋回されるようにも構成されている。このように、この種の基板搬送装置は、搬送アームが複数の動作を行なえるように構成されていて、搬送アームを駆動する搬送駆動機構は、例えば、搬送アームを基板搬送路に沿った水平１軸方向へ移動させる水平移動駆動機構や、鉛直方向へ昇降させる昇降駆動機構、鉛直軸周りに旋回させる旋回駆動機構、搬送位置と受渡し位置との間で搬送アームを出退移動させる出退駆動機構などを備えて構成されている。なお、それぞれの駆動機構にはモーターなどの駆動源を備えている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。すなわち、基板処理装置全体のスループットの向上を図るために、最近では、基板搬送装置による基板の搬送時間の短縮化が図られる傾向にある。そのため、上記搬送アームの基板搬送中の動作速度（水平移動や昇降、旋回などの速度）を高速化させるとともに、可能な限り２つの動作を同時に行なわせるようにしている。
【０００８】しかしながら、例えば、搬送アームを急速に降下させながら急速に旋回させた場合のように、２つの動作を同時に、かつ、高速で行なった場合に、基板が搬送アームから飛び出し、基板の一部が水平規制部材の上に乗り上げて搬送アームが基板を斜めに支持した状態になったり、場合によっては基板を落下させるような問題が発生していた。
【０００９】本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、基板搬送中における搬送アームからの基板の飛び出しを防止し得る基板搬送装置を提供することを目的とする。」
　
「【００１４】そこで、このような事実に鑑み、本発明者は、上記不都合を解消し得る以下の発明をなした。
【００１５】すなわち、本発明者がなした発明のうち、請求項１に記載の発明は、半導体ウエハ（以下、「基板」という）の外周端部付近を支持するＣ型の搬送アームと、前記搬送アームを駆動する搬送駆動手段とを有し、前記搬送アームに基板が支持された状態で前記搬送アームが前記搬送駆動手段に駆動されてその基板が搬送されるとともに、所定の受渡し位置で前記搬送アームと所定の基板受渡し対象との間で基板の受渡しが行なわれる基板搬送装置において、前記基板の外周端部付近を下方から載置支持する載置支持手段と、前記基板の外周端縁に非接触な非作用状態と、前記基板の外周端縁を圧接する作用状態とをとるように開閉自在に構成された圧接手段と、が前記搬送アームに付設され、かつ、前記圧接手段を開閉駆動する開閉駆動手段を備えたものである。
【００１６】また、請求項２に記載の発明は、上記請求項１に記載の基板搬送装置において、前記開閉駆動手段の駆動源を、前記搬送駆動手段の駆動源と別に設けたものである。
【００１７】また、請求項３に記載の発明は、上記請求項１に記載の基板搬送装置において、前記搬送アームは、前記基板の受渡しのために、前記受渡し位置と、前記基板を搬送する所定の搬送位置との間で出退移動され、前記搬送駆動手段は、前記搬送アームの受渡し位置と搬送位置との間の出退移動を行なう出退駆動手段を備えており、かつ、前記開閉駆動手段は、前記出退駆動手段により搬送アームが出退移動する過程で、前記受渡し位置の近傍に固定設置された部材に係合して前記圧接手段の開閉が行なわれる機械機構で構成されているものである。」
　
「【００１８】
【作用】本発明の作用は次のとおりである。すなわち、請求項１に記載の発明によれば、開閉駆動手段は、基板の搬送中、圧接手段を作用状態にし、基板の受渡しの際には圧接手段を非作用状態にするように開閉駆動する。従って、基板の搬送中、基板の外周端縁付近が載置支持手段に下方から載置支持され、かつ、圧接手段が基板の外周端縁を圧接しており、基板の重力による力に加えて、圧接手段が圧接する力が基板の外周端縁に作用するので、基板の搬送中に搬送アームから基板が飛び出すのを防止し得るようになった。また、基板の受渡しの際には圧接手段が非作用状態になって、圧接手段が基板の外周端縁に非接触になり、基板は載置支持手段に載置支持されているだけになるので、基板の受渡しのために搬送アームから基板が取り出されたり、搬送アームが基板を受け取ったりする動作を圧接手段が妨げない。
【００１９】請求項２に記載の発明によれば、圧接手段の開閉を駆動する開閉駆動手段の駆動源を、搬送アームの搬送駆動手段の駆動源と別に設けたので、搬送アームの駆動と独立して圧接手段の開閉を行なわせることができ、搬送アームの駆動のタイミングに拘束されずに、圧接手段の開閉を任意（所望）のタイミングで行なわせることが可能となる。
【００２０】また、請求項３に記載の発明では、搬送アームは、基板の受渡しのために、受渡し位置と、基板を搬送する所定の搬送位置との間で出退移動され、搬送駆動手段は、搬送アームの受渡し位置と搬送位置との間の出退移動を行なう出退駆動手段を備えている。そして、圧接手段の開閉を駆動する開閉駆動手段は、出退駆動手段により搬送アームが出退移動する過程で、受渡し位置の近傍に固定設置された部材に係合して圧接手段の開閉が行なわれる機械機構で構成されている。つまり、開閉駆動手段に特別な駆動源を設けずに、出退駆動手段による搬送アームの出退移動を利用した機械的な機構で開閉駆動手段を構成したので、上記請求項２に記載の発明に比べて構成が簡単になる。」
　
（３）本願補正発明と引用発明との対比
ア　対比
　本願補正発明と引用発明とを対比する。
　引用発明の「レチクル３」が、本願補正発明の「（外部から搬送される）マスク」に相当し、引用発明の「レチクルホルダ３０，３２を介して」その上にレチク３を固定保持する「レチクルステージ４」が、本願補正発明の「マスクステージを有するステージ装置」に相当し、引用発明の「Ｘ方向および−Ｘ方向」が、本願補正発明の「第一の方向」に相当するから、引用発明の「レチクル３は、レチクルホルダ３０，３２を介してレチクルステージ４上に固定保持され、レチクルステージ４は投影光学系９の光軸と垂直な面内でＸＹ方向に移動し、露光に際してレチクル３をＸ方向および−Ｘ方向に移動して露光光ＩＬを走査する走査型露光装置」が、本願補正発明の「外部から搬送されるマスクを戴置面に戴置して移動可能なマスクステージを有するステージ装置を備え、前記マスクステージと基板とを第一の方向に相対移動させながら当該基板に対して露光を行う露光装置」に相当する。
　
　引用発明の「レチクルホルダ３０，３２上」で「レチクル３」を「真空吸着」する「真空ウエハ吸着用の開口３０ａ，３２ａ」が、本願補正発明の「前記載置面に設けられて前記マスクを吸着する吸着部材」に相当する。
　
　引用発明の「レチクル３」を「レチクルホルダ３０，３２との間で挟持固定」する「試料保持装置６０」が、本願補正発明の「前記マスクを前記戴置面に固定する固定装置」に相当する。
　
イ　一致点
　よって、本願補正発明と引用発明は、
「外部から搬送されるマスクを戴置面に戴置して移動可能なマスクステージを有するステージ装置を備え、前記マスクステージと基板とを第一の方向に相対移動させながら当該基板に対して露光を行う露光装置であって、
　前記載置面に設けられて前記マスクを吸着する吸着部材と、
　前記マスクを前記戴置面に固定する固定装置と、
を備える露光装置。」の発明である点で一致し、次の各点で相違する。
　
ウ　相違点
（ア）相違点１
　本願補正発明が「マスクステージは、マスクが搭載される搭載領域と、マスクが照明される照明領域との間を第一の方向に関して移動」するものであるのに対し、引用発明は、レチクルの設置において搭載領域と照明領域の間で移動するものか否かについては明確でない点。
　
（イ）相違点２
　本願補正発明は、「マスクステージの移動を固定装置の駆動に変換する変換装置」を備え、「固定装置は、マスクが吸着部材によって吸着された状態でマスクステージが搭載領域から照明領域まで移動している間の所定の位置において、変換装置によって変換された動力によりマスクに接触して該マスクの固定を行う」のに対して、引用発明においては、その点の特定はない点。
　
（４）当審の判断
ア　上記各相違点について検討する。
（ア）相違点１について
　引用例１の【図１】の記載からも容易にわかるように、レチクルをステージを移動することなく照明位置（領域）で設置しようとすれば、照明光学系などが妨げとなって設置が困難（又は面倒）になることから、引用発明においても、上記の困難（又は面倒）を避けるためにも、レチクルの設置において、レチクルが照明される照明位置（領域）とは異なる搭載位置（領域）でレチクルをステージに搭載した後、ステージを照明位置（領域）に移動させて、レチクルを照明位置に設置することが必要となることは当然といえる。よって、当該「レチクルが照明される照明位置とは異なる搭載位置でレチクルをステージに搭載し、ステージを照明位置に移動させて、レチクルを照明位置に設置すること」は、技術常識を参酌すれば、引用例１において実質的には記載されているに等しい事項であるか、又は、当業者が当然に採用すべき設計的事項であるといえる。
　そして、ステージを搭載位置から照明位置に移動させることに関して、その移動方向をどの方向にするかは、その違いによって格別の作用効果を奏するものでもないから、方向を「第１の方向」とすることは、当業者が必要に応じて適宜選択し得ることに過ぎない。
　よって、相違点１は格別の相違点とはいえない。
　
（イ）相違点２について
　引用例２には
「搬送アームは、基板の受渡しのために、受渡し位置と、基板を搬送する所定の搬送位置との間で出退移動され、搬送駆動手段は、搬送アームの受渡し位置と搬送位置との間の出退移動を行なう出退駆動手段を備えている。そして、圧接手段の開閉を駆動する開閉駆動手段は、出退駆動手段により搬送アームが出退移動する過程で、受渡し位置の近傍に固定設置された部材に係合して圧接手段の開閉が行なわれる機械機構で構成されている。」（【００２０】）、及び、
「従って、基板の搬送中、基板の外周端縁付近が載置支持手段に下方から載置支持され、かつ、圧接手段が基板の外周端縁を圧接しており、基板の重力による力に加えて、圧接手段が圧接する力が基板の外周端縁に作用するので、基板の搬送中に搬送アームから基板が飛び出すのを防止し得るようになった。また、基板の受渡しの際には圧接手段が非作用状態になって、圧接手段が基板の外周端縁に非接触になり、基板は載置支持手段に載置支持されているだけになるので、基板の受渡しのために搬送アームから基板が取り出されたり、搬送アームが基板を受け取ったりする動作を圧接手段が妨げない。」（【００１８】）
と記載されており、板状部材（基板）保持手段（搬送アーム）が、板状部材の受け渡し位置と板状部材の保持位置（搬送位置）の間で出退移動され、当該出退移動の過程で板状部材の固定手段（圧接手段）の作用の変換（開閉）が行われて、受け渡し位置では固定手段（圧接手段）を非作用状態とし、保持位置では固定手段（圧接手段）を作用状態とする、保持手段上での板状部材の固定手段による固定及びその解除の機構は、引用例２にも記載されている周知技術であるといえる。すなわち、板状部材保持手段の移動を固定手段の駆動に変換する変換手段は周知技術である。
　上記（ア）でも述べたように、「レチクルが照明される照明位置とは異なる搭載位置でレチクルをステージに搭載し、ステージを照明位置に移動させて、レチクルを照明位置に設置すること」は、技術常識を参酌すれば、引用例１において実質的には記載されているに等しい事項であるか、又は、当業者が当然に採用すべき設計的事項であるといえることに鑑みれば、引用発明に上記の周知技術を採用し、引用発明において「レチクルが照明される照明位置とは異なる搭載位置でレチクルをステージに搭載し、ステージを照明位置に移動させ」るステージの移動動作を試料保持装置６０の駆動に変換する手段を設けるように構成して、上記相違点２に係る本願補正発明の発明特定事項を得ることは当業者が容易になし得たことである。
　なお、上記のステージの移動動作を試料保持装置６０の駆動に変換する手段の具体化は当業者が適宜設定し得る設計的事項に過ぎない。
　
イ　本願補正発明の奏する作用効果
　そして、本願補正発明によってもたらされる効果は、引用発明及び周知技術から当業者が予測し得る程度のものである。
　
ウ　まとめ
　以上のとおり、本願補正発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
３　むすび
　したがって、本願補正発明は特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるということができないから、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、同法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
 第３　本願発明について
１　本願発明
　平成２３年４月４日付けの手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成２２年４月１９日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものである。（上記「第２　平成２３年４月４日付けの手続補正についての補正の却下の決定について」の「１　本件補正について」の記載参照。）
　
２　引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例の記載事項及び引用発明については、上記「第２　平成２３年４月４日付けの手続補正についての補正の却下の決定について」の「２　独立特許要件違反についての検討」の「（２）引用例」に記載したとおりである。
　
３　対比・判断
　上記「第２　平成２３年４月４日付けの手続補正についての補正の却下の決定について」の「１　本件補正について」に記載したように、本願発明に対して、補正前の「板状体」を「（外部から搬送される）マスク」と限定するとともに、「ステージ装置」について、「マスクが搭載される搭載領域と、前記マスクが照明される照明領域との間を前記第一の方向に関して移動」する「マスクステージ」を有するとともに、「前記マスクステージと基板とを第一の方向に相対移動させながら当該基板に対して露光を行う露光装置」が備えるものであることを限定し、さらに「マスクステージの移動を前記固定装置の駆動に変換する変換装置」とを備え、「マスクステージが前記搭載領域から前記照明領域まで移動している間の所定の位置において、前記変換装置によって変換された動力により前記マスクに接触して該マスクの固定を行う」ことを限定したものが本願補正発明である。
　そうすると、本願発明の発明特定事項をすべて含み、本願発明をさらに限定しものに相当する本願補正発明が、上記「第２　平成２３年４月４日付けの手続補正についての補正の却下の決定について」の「２　独立特許要件違反についての検討」の「（３）本願補正発明と引用発明との対比」及び「（４）当審の判断」において記載したとおり、引用発明及び引用例２に記載の周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様に、引用発明及び引用例２に記載の周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、引用発明及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。