Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月16日(2005.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  階層的に記述された集積回路レイアウトに関するオペレーションを実行する方法において、
複数のセルを含む階層的に記述された集積回路レイアウトを第１入力として提供するステップ、
特定のオペレーティング基準のセットを第２入力として提供するステップ、
上記レイアウトに関する上記特定のオペレーティング基準のセットに従ってレイアウト・オペレーションを実行するステップ、及び
上記レイアウト・オペレーションに応じて階層的に記述されたレイアウトに対応する階層的に形成された補正データを含む第１プログラム・データを生成し、第１プログラム・データが平坦化されたレイアウトに適用された場合には、レイアウトに関するオペレーションを実行した結果を表すデータを含む出力が生成されるようにするステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項２】  上記第１プログラム・データが、複数のセルに対応する複数のデルタ平面を含み、複数のセルの上記デルタ平面は、特定のセルの補正面と上記特定のセルの子セルに対応するデルタ平面との間の差を表すデータを含むことを特徴とする請求項１に記載の階層的に記述された集積回路レイアウトに関するオペレーションを実行する方法。
【請求項３】  上記複数セルの各々のセルに対する補正面が、上記補正面が平坦化されたセル・データに適用された場合には、セルに関するオペレーションを実行した結果を表す出力データを生成するデータを含むことを特徴とする請求項２に記載の階層的に記述された集積回路レイアウトに関するオペレーションを実行する方法。
【請求項４】  上記階層的に記述された集積回路レイアウト中の各セルに対する上記デルタ平面が、上記セルの各子セル間の相互作用、及び上記セルの初期幾何学形状と上記セルの各子セル間の相互作用を考慮に入れていることを特徴とする請求項３に記載の階層的に記述された集積回路レイアウトに関するオペレーションを実行する方法。
【請求項５】  上記第１プログラム・データが、算術的に記述されたデルタ平面のセットを含むことを特徴とする請求項２に記載の階層的に記述された集積回路レイアウトに関するオペレーションを実行する方法。
【請求項６】  上記第１プログラム・データが、論理的に記述されたデルタ平面のセットを含むことを特徴とする請求項２に記載の階層的に記述された集積回路レイアウトに関するオペレーションを実行する方法。
【請求項７】  上記第１プログラム・データが、複数のセルに対応する複数のデルタ平面を含み、更に上記第１プログラム・データを生成するステップが、
特定のオペレーティング基準のセットに応じて複数のセルの各セル毎に第１補正層を生成することを含む、階層的に記述されたレイアウトをコンパイルするステップ、及び
各セルのデルタ平面が上記セルの各子セル間の相互作用及びセルの初期幾何学形状と上記セルの各子セル間の相互作用を考慮に入れるように各セル毎にデルタ平面を生成するために、特定のオペレーティング基準のセットに応じて各セルの補正層を修正することを含む、階層的に記述されたレイアウトをリンクするステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の階層的に記述された集積回路レイアウトに関するオペレーションを実行する方法。
【請求項８】  上記レイアウト内の各セル毎に、上記セルのデルタ平面と上記セルの子セルのデルタ平面との和が上記セルの補正面を構成し、複数のセル中の各セルに対する補正面は、上記補正面が平坦化されたセル・データに適用された場合には、セルに関するオペレーションを実行した結果を表す出力データを生成するデータを含むことを特徴とする請求項７に記載の階層的に記述された集積回路レイアウトに関するオペレーションを実行する方法。
【請求項９】  上記コンパイルするステップが、レイアウトを深度方向にトラバースすることを含むことを特徴とする請求項７に記載の階層的に記述された集積回路レイアウトに関するオペレーションを実行する方法。
【請求項１０】  上記リンクするステップが、レイアウトを深度方向にトラバースすることを含むことを特徴とする請求項７に記載の階層的に記述された集積回路レイアウトに関するオペレーションを実行する方法。
【請求項１１】  第１の補正されたレイアウトを記述する第２プログラム・データを作るために、上記第１プログラム・データを、集積回路レイアウトを記述するデータに組み合わせるステップ、
上記第２プログラム・データを設計ルール・チェッカーに提供するステップ、及び
上記第１の補正されたレイアウトが集積回路設計ルールの範囲内に在るかどうかを確認するために上記設計ルール・チェッカーを作動させるステップを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の階層的に記述された集積回路レイアウトに関するオペレーションを実行する方法。
【請求項１２】  上記オペレーションが、論理演算及び算術演算を含むオペレーションのグループの内の１つを含むことを特徴とする請求項１に記載の階層的に記述された集積回路レイアウトに関するオペレーションを実行する方法。
【請求項１３】  上記第１プログラム・データが、ＧＤＳ−IIデータファイルにより記述されたデータを含むことを特徴とする請求項１に記載の階層的に記述された集積回路レイアウトに関するオペレーションを実行する方法。
【請求項１４】  上記第１プログラム・データが、光学的近接効果に対しレイアウトを補正するデータを含むことを特徴とする請求項１に記載の階層的に記述された集積回路レイアウトに関するオペレーションを実行する方法。
【請求項１５】  上記第１プログラム・データが、レイアウトに関し実行される論理演算に対しレイアウトを補正するデータを含むことを特徴とする請求項１に記載の階層的に記述された集積回路レイアウトに関するオペレーションを実行する方法。
【請求項１６】  上記レイアウトが、明視野レイアウトと暗視野レイアウトの内の１つを含むことを特徴とする請求項１に記載の階層的に記述された集積回路レイアウトに関するオペレーションを実行する方法。
【請求項１７】  上記レイアウトが、位相シフト・レイアウトを含むことを特徴とする請求項１に記載の階層的に記述された集積回路レイアウトに関するオペレーションを実行する方法。
【請求項１８】  マシンにより読み出し可能であり、且つ、請求項１に記載の方法を実行するために上記マシンによって実行可能な命令のプログラムを明確に具体化しているプログラム記憶装置。
【請求項１９】  階層的に記述された集積回路レイアウトに関する請求項１に記載の方法を実行するための装置。
【請求項２０】  請求項１に記載の方法に従って作られたフォトリソグラフィ・マスクにおいて、上記方法が、さらに、
上記第１プログラム・データと上記レイアウトを記述するデータとをマスク製作手段に提供するステップ、及び
上記レイアウトを記述するデータと第１プログラム・データとに応じて、マスク製作手段でフォトリソグラフィ・マスクを生成するステップとを含むことを特徴とするフォトリソグラフィ・マスク。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月27日(2006.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】  
【請求項１】  制御データがＣＤ上にエンコードされる、ディジタル音楽ＣＤをコピープロテクトする方法であって、
ディジタル音楽ＣＤからのオーディオ・データの読み出しが妨害されるように、選択された制御データを不正確にする工程を有することを特徴とするコピープロテクト方法。
【請求項２】  請求項１記載のディジタル音楽ＣＤをコピープロテクトする方法であって、
前記不正確な制御データは、使用可能なデータ・リーダの誤り訂正装置によって訂正されることができないように構成されることを特徴とするコピープロテクト方法。
【請求項３】  請求項１又は２記載のコピープロテクト方法であって、
ＣＤ上にエンコードされた前記不正確なデータは、無視されるように、又は、該ディスク上のオーディオ・データの再生に対して一般的に影響を持たないように、構成されることを特徴とするコピープロテクト方法。
【請求項４】  請求項１乃至３のいずれか一記載のコピープロテクト方法であって、
ＣＤ上にエンコードされる前記不正確にされたデータは、該ＣＤ上のデータ・セクタ構成であることを特徴とするコピープロテクト方法。
【請求項５】  請求項１乃至４のいずれか一記載のコピープロテクト方法であって、
ＣＤ上のデータは一セクタにグループ化される複数のフレーム内へエンコードされ、
各セクタにグループ化されるフレーム数は規格外である、ことを特徴とするコピープロテクト方法。
【請求項６】  請求項１乃至５のいずれか一記載のコピープロテクト方法であって、
ＣＤ上にエンコードされる前記制御データは、該ディスクのマスタリングに先立って変更されることを特徴とするコピープロテクト方法。
【請求項７】  請求項６記載のコピープロテクト方法であって、
前記マスタリング工程において用いられるエンコーダのパラメータを、該マスタリングされたディスクのフレーム構成を変えるように変更する工程を更に有することを特徴とするコピープロテクト方法。
【請求項８】  制御データがＣＤ上にエンコードされた、コピープロテクトされたディジタル音楽ＣＤであって、
ディジタル音楽ＣＤからのオーディオ・データの読み出しが妨害されるように、選択された制御データが不正確にされることを特徴とするコピープロテクトされたディジタル音楽ＣＤ。
【請求項９】  請求項８記載のコピープロテクトされたディジタル音楽ＣＤであって、
前記不正確な制御データは、使用可能なデータ・リーダの誤り訂正装置によって訂正されることができないように構成されることを特徴とするコピープロテクトされたディジタル音楽ＣＤ。
【請求項１０】  請求項８又は９記載のコピープロテクトされたディジタル音楽ＣＤであって、
データは、ＣＤ上にフレームの形でエンコードされ、
該フレームはセクタにグループ化され、
各セクタには規格外の数のフレームが存在する、ことを特徴とするコピープロテクトされたディジタル音楽ＣＤ。
【請求項１１】  請求項８乃至１０のいずれか一記載のコピープロテクトされたディジタル音楽ＣＤであって、
該ＣＤは、規格外セクタのみを有することを特徴とするコピープロテクトされたディジタル音楽ＣＤ。
【請求項１２】  請求項８乃至１０のいずれか一記載のコピープロテクトされたディジタル音楽ＣＤであって、
該ＣＤは、規格外セクタを有すると共に、
不正確な他の制御データも追加的に有する、ことを特徴とするコピープロテクトされたディジタル音楽ＣＤ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月9日(2006.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
共有結合的に架橋結合した親水性の合成マクロマを含む、連続的生体吸収性のある合成ヒドロゲルマトリックス；
該連続的なヒドロゲルマトリックス中に分散された複数個の疎水性の相；及び
該疎水性の相の中に配置された治療剤を含み、ここで該疎水性の相は、該ヒドロゲルマトリックスからの該治療剤の放出の速度を制御する、薬物送達システム。
【請求項２】
該疎水性の相が、該ヒドロゲルマトリックスの形成の間に該ハイドロゲルマトリックス中で形成される、請求項1記載の薬物送達システム。
【請求項３】
該疎水性の相が、マイクロ液滴、マイクロ粒子、放出速度改変剤、６５℃より低い融点を持つ化合物、かつミセルを含む、若しくはこれらの組み合わせで構成された、請求項1又は２記載の薬物送達システム。
【請求項４】
該ヒドロゲルマトリックスが、ミクロスフェアとして形成された、請求項1記載の薬物送達システム。
【請求項５】
該ミクロスフェアが、標的に結合する生物活性のある標的物質を更に含む、請求項４記載の薬物送達システム。
【請求項６】
前記の共有結合的に架橋結合した親水性の合成マクロマが、求電子性の官能基と求核性の官能基との反応物を含む、請求項１から５のいずれか一項記載の薬物送達システム。
【請求項７】
該疎水性の相が、約1〜100μの範囲の大きさである、請求項1から５のいずれか一項記載の薬物送達システム。
【請求項８】
請求項1から７のいずれか一項記載の薬物送達システムを使用する、患者の体内で、治療剤の調節された放出を行うヒドロゲルの製造方法。
【請求項９】
該ヒドロマトリックス、該疎水性の相、又はその両方が、患者の組織で形成される、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
ヒドロゲルミクロスフェアの薬物送達システムの製造方法であって：
治療剤及び第一の化合物を第一溶剤相に分散又は溶解すること；
重合性物質及び第二化合物を、該第一溶液相とは実質的に非混和性である第二溶液相に、分散又は溶解すること；
第一溶液相を第二溶液相に分散し、分散剤を形成すること；
該分散剤を、該分散剤とは実質的に非混和性の相に分散し、マイクロ液滴を形成すること；及び
該重合性物質を重合して、該マイクロ液滴を含むヒドロゲルミクロスフェアを形成することを含み、該重合性物質の重合が該第一化合物及び該第二化合物との結合により開始される、前記製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月26日(2005.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  (a) 組成物の総質量の0.1〜10質量％の範囲の量で存在する、少なくとも１種のEDTAの水溶性アミンによる部分塩；
(b) 組成物の総質量の0.1〜4質量％の範囲の量で存在する、少なくとも１種のアルキルポリグリコシド界面活性剤；
(c) 組成物の総質量の最大１質量％の範囲の量で存在する、少なくとも１種のアルキルエーテルカルボン酸塩界面活性剤；及び
(d)該組成物の総質量に対して最大0.5質量％のエトキシル化された非イオン性界面活性剤を含む、水性洗浄組成物。
【請求項２】  前記少なくとも１種のアルキルポリグリコシド界面活性剤が、該組成物中に存在する全ての他の界面活性剤に対し少なくとも４：１の比で存在する、請求項１記載の洗浄組成物。
【請求項３】  前記組成物がpH範囲５〜９を有する、請求項１記載の洗浄組成物。
【請求項４】  前記水溶性アミンが、アルカノールアミン及びモルホリンから選択される、請求項１記載の洗浄組成物。
【請求項５】  前記アルカノールアミンが、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、アミノエチルエタノールアミン、2-アミノ,2-メチル-1-プロパノール、モノブタノールアミン、ジエタノールイソプロパノールアミン、及びモノイソプロパノールアミンから選択される、請求項４記載の洗浄組成物。
【請求項６】  前記水溶性アミンがモノイソプロパノールアミンである、請求項４記載の洗浄組成物。
【請求項７】  更に殺生剤を含有する、請求項１記載の洗浄組成物。
【請求項８】  前記少なくとも１種のEDTAの水溶性アミンによる部分塩が、該組成物中に、組成物の総質量の0.2〜５質量％の範囲の量で存在する、請求項１記載の洗浄組成物。
【請求項９】  前記少なくとも１種のアルキルポリグリコシド界面活性剤が、該組成物中に、組成物の総質量の0.125〜２質量％の範囲の量で存在する、請求項１記載の洗浄組成物。
【請求項１０】  前記少なくとも１種のアルキルエーテルカルボキシル化された界面活性剤が、該組成物中に、組成物の総質量の0.0025〜0.4質量％の範囲の量で存在する、請求項１記載の洗浄組成物。
【請求項１１】  前記エトキシル化された非イオン性界面活性剤が、該組成物中に、組成物の総質量の0.001〜0.5質量％の範囲の量で存在する、請求項１記載の洗浄組成物。
【請求項１２】  前記エトキシル化された非イオン性界面活性剤が、該組成物中に、組成物の総質量の0.0025〜0.2質量％の範囲の量で存在する、請求項11記載の洗浄組成物。
【請求項１３】  更に少なくとも１種の揮発性溶剤を含む、請求項１記載の洗浄組成物。
【請求項１４】  前記少なくとも１種の揮発性溶剤が、該組成物中に、組成物の総質量の最大15質量％の範囲の量で存在する、請求項13記載の洗浄組成物。
【請求項１５】  前記少なくとも１種の揮発性溶剤が、該組成物中に、組成物の総質量の２〜10質量％の範囲の量で存在する、請求項14記載の洗浄組成物。
【請求項１６】  更に少なくとも１種の不揮発性補助溶剤を含む、請求項13記載の洗浄組成物。
【請求項１７】  前記少なくとも１種の不揮発性補助溶剤が、該組成物中に、組成物の総質量の最大質量1％の範囲の量で存在する、請求項16記載の洗浄組成物。
【請求項１８】  前記少なくとも１種の不揮発性補助溶剤が、該組成物中に、組成物の総質量の0.0025〜0.1質量％の範囲の量で存在する、請求項17記載の洗浄組成物。
【請求項１９】  汚れた表面を洗浄し、実質的に条痕がない洗浄な表面を提供する方法であり、該方法が、
(a) 組成物の総質量の0.1〜10質量％の範囲の量で存在する、少なくとも１種のEDTAの水溶性アミンによる部分塩；
(b) 組成物の総質量の0.1〜4質量％の範囲の量で存在する、少なくとも１種のアルキルポリグリコシド界面活性剤；
(c) 組成物の総質量の最大１質量％の範囲の量で存在する、少なくとも１種のアルキルエーテルカルボン酸塩界面活性剤；及び
(d)該組成物の総質量に対して最大0.5質量％のエトキシル化された非イオン性界面活性剤を含有する水性洗浄組成物を、汚れた表面に塗布することを含む、方法。
【請求項２０】  水及び、
(a) 組成物の総質量の0.1〜10質量％の範囲の量で存在する、少なくとも１種のEDTAの水溶性アミンによる部分塩；
(b) 組成物の総質量の0.1〜4質量％の範囲の量で存在する、少なくとも１種のアルキルポリグリコシド界面活性剤；
(c) 組成物の総質量の最大１質量％の範囲の量で存在する、少なくとも１種のアルキルエーテルカルボン酸塩界面活性剤；及び
(d)該組成物の総質量に対して最大0.5質量％のエトキシル化された非イオン性界面活性剤を含む濃縮物を含有する、そのまま使用できる洗浄組成物であり、
ここで該濃縮物の水に対する比が約１：２〜１：10の範囲であるような、組成物。
【請求項２１】  (a) 組成物の総質量の0.1〜10質量％の範囲の量で存在する、少なくとも１種のEDTAの水溶性アミンによる部分塩；
(b) 組成物の総質量の0.1〜4質量％の範囲の量で存在する、少なくとも１種のアルキルポリグリコシド界面活性剤；
(c) 組成物の総質量の最大１質量％の範囲の量で存在する、少なくとも１種のアルキルエーテルカルボン酸塩界面活性剤；及び
(d)該組成物の総質量に対して最大0.5質量％のエトキシル化された非イオン性界面活性剤を含む、汚れた表面のための水性洗浄組成物であり、
ここで該水溶性アミンが、該表面は24時間以上実質的に条痕がない状態であるように該表面に対し条痕抵抗性を提供することが可能である水溶性アミンから選択される、組成物。
【請求項２２】  前記水溶性アミンが、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、アミノエチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、及びモノブタノールアミンから選択される、請求項21記載の洗浄組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月30日(2005.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）正極、負極、コバルトオキシヒドロキシド前駆体および塩基性溶液を用意して、配合物を形成させ、
（ｂ）前記正極に電流を印加して導電性コバルトオキシヒドロキシドを前記正極上に形成させ、
（ｃ）前記導電性コバルトオキシヒドロキシドを前記配合物から除去する、
ことを含んでなり、前記前駆体が酸化コバルトを含んでなる、導電性コバルトオキシヒドロキシドの製造法。
【請求項２】
前記塩基性溶液がKOHを含んでなる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記正極がニッケルを含んでなる、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記正極がニッケルプレートを含んでなる、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記正極がニッケル発泡体を含んでなる、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記正極がさらに酸化コバルトを含んでなる、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記負極が白金を含んでなる、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記負極が白金プレートを含んでなる、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記負極が白金金網を含んでなる、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記導電性コバルトオキシヒドロキシドが少なくとも0.5s/cmの導電率を有する、請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記導電性コバルトオキシヒドロキシドが少なくとも1.0s/cmの導電率を有する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記導電性コバルトオキシヒドロキシドが少なくとも1.5s/cmの導電率を有する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記導電性コバルトオキシヒドロキシドが少なくとも2.0s/cmの導電率を有する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記導電性コバルトオキシヒドロキシドが少なくとも2.5s/cmの導電率を有する、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
下記を含んでなるバッテリーの製造法。
（ａ）正極、負極、酸化コバルトを含んでなるコバルトオキシヒドロキシド前駆体および塩基性溶液を用意して配合物を形成させ、
（ｂ）前記正極に電流を印加して導電性コバルトオキシヒドロキシドを前記正極上に形成させ、
（ｃ）前記導電性コバルトオキシヒドロキシドを前記配合物から除去し、
（ｄ）前記導電性コバルトオキシヒドロキシドを水酸化ニッケルと組み合わせて第２の正極を形成させ、
（ｅ）前記第２の正極を第２の負極、隔離板および電解質と組み合わせてバッテリーを形成させることを含んでなるバッテリーの製造法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月10日(2006.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  以下の工程、
ａ）ＬＣＳＴを下回る温度でＬＣＳＴポリマーを溶剤中に溶解させること、
ｂ）工程ａ）で得られた溶液を被覆しようとする粒子と混合すること、
ｃ）工程ｂ）で得られた混合物の温度を、前記ＬＣＳＴポリマーが前記粒子の表面に付着する温度以上の温度に上げること、及び、
ｄ）付着したＬＣＳＴポリマーをそれ自体として固定化させること、
を特徴とする、ＬＣＳＴポリマーで粒子を被覆するための方法。
【請求項２】  前記粒子はＬＣＳＴポリマーによって実質的に完全に包囲される、請求項１記載の方法。
【請求項３】  ＬＣＳＴポリマーのコーティング又はシースの層厚は２０ｎｍ以上である、請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】  ＬＣＳＴポリマーは前記粒子の表面上に実質的に非可逆的な吸着を可能にする官能基を有する、請求項１〜３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】  前記官能基は酸基、ヒドロキシル基、アミノ基、ホスフェート基、メルカプタン基、ケイ素化合物又は疎水性基からなる群から選ばれる、請求項４記載の方法。
【請求項６】  ＬＣＳＴポリマーは粒子の表面にイオン結合又は化学結合を形成することができる官能基を有する、請求項１〜３のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】  ＬＣＳＴポリマーは、ＬＣＳＴポリマーの前記粒子への付着後に、ＬＣＳＴポリマーを架橋反応で架橋することができる官能基を有する、請求項１〜３のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】  前記官能基はカルボキシル誘導体、クロロホルメート基、アミノ基、イソシアネート基、オキシラン基及び／又はラジカル架橋可能な基からなる群より選ばれる、請求項６又は７記載の方法。
【請求項９】  前記官能基は溶液のｐＨを変更することにより架橋反応が開始されうるように選択される、請求項７記載の方法。
【請求項１０】  ＬＣＳＴポリマーは、そのＬＣＳＴが操作温度を下回るように選択される、請求項１〜９のいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】  使用される粒子は顔料粒子、充填材粒子、平均粒径が１００ｎｍ未満のナノ粒子、又は、繊維である、請求項１〜１０のいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】  前記繊維はガラス繊維、カーボンファイバー、テキスタイル繊維、金属繊維又はポリマー繊維からなる群から選ばれる、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】  前記粒子は顆粒、薄板状、針状又は不規則形状である、請求項１〜１２のいずれか１項記載の方法。
【請求項１４】  請求項１〜１３のいずれか１項記載の方法によりＬＣＳＴポリマーで粒子を被覆する、液体媒体中の粒子の分散体を安定化させるための方法。
【請求項１５】  以下の工程、
ａ）ＬＣＳＴを下回る温度でＬＣＳＴポリマーを溶剤中に溶解させること、
ｂ）工程ａ）で得られた溶液を被覆しようとする非粒子基材の表面と接触させること、
ｃ）基材の表面にＬＣＳＴポリマーの付着が起こる温度以上に温度を上げること、及び、
ｄ）付着したＬＣＳＴポリマーをそれ自体として固定化すること、
を特徴とする、ＬＣＳＴポリマーで非粒子基材の表面を被覆するための方法。
【請求項１６】  ＬＣＳＴポリマーは非粒子基材の表面に実質的に非可逆的な吸着を可能にする官能基を有する、請求項１５記載の方法。
【請求項１７】  前記官能基は、酸基、ヒドロキシル基、アミノ基、ホスフェート基、メルカプタン基、ケイ素化合物又は疎水性基からなる群から選ばれる、請求項１６記載の方法。
【請求項１８】  ＬＣＳＴポリマーは非粒子基材の表面にイオン結合又は化学結合を形成することができる官能基を有する、請求項１５記載の方法。
【請求項１９】  ＬＣＳＴポリマーは、ＬＣＳＴポリマーの基材表面への付着に次いで、架橋反応でＬＣＳＴポリマーを架橋させることができる官能基を有する、請求項１５記載の方法。
【請求項２０】  前記官能基はカルボキシル誘導体、クロロホルメート基、アミノ基、イソシアネート基、オキシラン基及び／又はラジカル架橋可能な基からなる群から選ばれる、請求項１８又は１９記載の方法。
【請求項２１】  前記官能基は溶液のｐＨを変更することにより架橋反応が開始されうるように選択される、請求項１９記載の方法。
【請求項２２】  ＬＣＳＴポリマーはそのＬＣＳＴ温度が前記表面処理された非粒子基材の操作温度よりも低いように選択される、請求項１５記載の方法。
【請求項２３】  前記非粒子基材は紙、レザ−、テキスタイル、ガラス片、石、セラミック、金属又はプラスティック材料からなる群より選ばれる、請求項１５記載の方法。
【請求項２４】  使用される基材は半導体ウェハである、請求項１５記載の方法。
【請求項２５】  請求項１５〜２２のいずれか１項記載のとおりのＬＣＳＴポリマーの付着のための工程を特徴とする、半導体ウェハの表面上にマスクを形成させるための方法。
【請求項２６】  付着しそして固定化されたＬＣＳＴポリマーをベースとするコーティングを有する粒子。
【請求項２７】  付着しそして固定化されたＬＣＳＴポリマーを含むコーティングを有する、非粒子基材。
【請求項２８】  請求項２６記載の粒子からなる１種以上の顔料及び液体ビヒクルを含む、バインダーを含有しない顔料ペースト。
【請求項２９】  前記液体ビヒクルは水及び／又は有機溶剤を含む、請求項２８記載の顔料ペースト。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月10日(2005.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  物理層システムおよび媒体アクセス制御（ＭＡＣ）層サブシステムを備えるデータリンク層システムを含み、通信網に接続可能な、通信デバイスとともに用いるための翻訳システムであって、
前記物理層システムの変更された特性を反映するピギーバックパケットを作成するように構成された生成器；および
前記生成器と関連し、前記ピギーバックパケットを受信し、前記物理層システムに関する情報を抽出するように構成された相関器を備えることを特徴とする翻訳システム。
【請求項２】  前記媒体アクセス制御（ＭＡＣ）層サブシステムを実質的に修正することなく、前記生成器がさらに前記ピギーバックパケットを作成し、かつ送信し、および前記相関器がさらに前記ピギーバックパケットを受信し、かつ前記情報を抽出するよう動作するものである請求項１記載の翻訳システム。
【請求項３】  前記ピギーバックパケットが前記物理層システムによって受信されるデータパケットと関連付けられることを特徴とする請求項１記載の翻訳システム。
【請求項４】  前記物理層システムと関連する前記特性が前記物理層システムのインタフェース特性又は前記通信網の伝送ライン特性である請求項１記載の翻訳システム。
【請求項５】  前記生成器が、さらに前記物理層システムと関連する前記特性を決定し、前期特性を前記ピギーバックパケットに記憶し、前記ピギーバックパケットにフラグを設定し、および前記ピギーバックパケットを前記データリング層システムにパスするよう動作するものである。請求項１記載の翻訳システム。
【請求項６】  前記相関器がさらに、前記物理層システムに関する前記情報を前記通信デバイス内に実現される受信サブシステムにパスするよう動作するものである請求項１記載の翻訳システム。
【請求項７】  前記生成器が、前記物理層システムの特性を変更する際に基礎となる、前記データパケットと独立した前記ピギーバックパケットを作成するよう動作するものである請求項１に記載の翻訳システム。
【請求項８】  物理層システムおよび媒体アクセス制御（ＭＡＣ）層サブシステムを備えるデータリンク層システムを含み、通信網に接続可能な、通信デバイスとともに用いるための方法であって、
前記物理層システムの変更された特性を反映するピギーバックパケットを作成するステップ；および
前記ピギーバックパケットを受信し、前記物理層システムに関する情報を抽出するステップを含むことを特徴とする方法。  
【請求項９】  通信網に接続可能な通信デバイスであって、
前記通信網に接続された物理層システム；
前記物理層システムに接続された、媒体アクセス制御（ＭＡＣ）層サブシステムを備えるデータリンク層システム；および
翻訳システムを含み、この翻訳システムが：
前記物理層システムの変更された特性を反映するピギーバックパケットを作成する生成器；および
前記生成器と関連し、前記ピギーバックパケットを受信し、前記物理層システムに関する情報を前記データリンク層システムによる使用のために抽出する相関器を備えることを特徴とする通信デバイス。
【請求項１０】  物理層システムおよびプロトコルスタックと関連するデータリンク層システムを有する種々のタイプのパケットを使用する通信網とともに用いるピギーバックパケットであって、
前記ピギーバックパケットがデータパケットと独立しているかどうかを示すパケットタイプ；および
前記物理層システム内で用いられる変調信号のタイプを示す変調タイプを含むことを特徴とするピギーバックパケット。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月12日(2006.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  蓄積メディアにおける蓄積された情報を処理するシステムを制御する方法であって、
（Ａ）再生動作モードの期間に、蓄積された情報を再生するステップと、
（Ｂ）前記再生動作モードの期間に、ユーザ入力に応答して複数のブックマークの中から前記蓄積された情報内の対応する位置を表すブックマークを選択する機会をユーザに与えるステップと、
（Ｃ）前記再生モードの期間に、前記選択されたブックマークに対応する位置から前記蓄積された情報を再生するように変更するステップと、
を含み、
前記ステップ（Ｂ）は、
前記蓄積メディアに関連する前記複数のブックマークの最大数を決定するステップと、
利用可能な前記最大数の前記複数のブックマークと、前記蓄積メディアに関連する前記複数のブックマークの中の前記実際に利用可能なものとを表示するオンスクリーン・メニューを発生するステップと、
を含み、
前記メニューは、（ａ）新しいブックマークを設定すること、（ｂ）ブックマークを選択してこの選択されたブックマークをクリアすること、（ｃ）ブックマークを選択してこの選択されたブックマークに対応する位置から前記蓄積された情報を再生すること、および（ｄ）前に実行した操作を取り消すこと、の中の１つを、前記ビデオ表示の背景部分においてプログラム情報再生を見続けながらユーザが実行することを可能にする、
前記方法。
【請求項２】  前記複数のブックマークを、各々が所定数のブックマークを有する複数のセットにグループ化するステップと、
前記各グループのブックマークを格納するステップと、
所望のセットのブックマークを検索する機会をユーザに与えるステップと、
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記ステップ（Ｂ）は、さらに、前記複数のブックマークの中から第１と第２のブックマークを選択する機会をユーザに与えるステップを含み、
前記ステップ（Ｃ）は、さらに、
前記選択された第１のブックマークに対応する位置から前記第２のブックマークの位置に対応する位置までの前記蓄積された情報の再生を行うように変更するステップと、
ユーザ制御に応答して、前記選択された第１のブックマークに対応する位置から前記第２のブックマークの位置に対応する位置までの前記蓄積された情報の再生を選択的に断続的に繰り返すステップと、
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記蓄積メディアは、ＤＶＤディスクであり、
特定のＤＶＤディスクに対して実際に存在するブックマークを決定する前記ステップは、前記ディスク・プレーヤにおける不揮発性メモリにおける前記ＤＶＤディスクに関係するデータを評価するステップを含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項５】  前記ステップ（Ｂ）の前に、前記再生動作モードの期間にユーザがブックマークへのユーザ・アクセスをイネーブルする動作モードがイネーブルされたかどうかを判定するステップが来て、
前記再生動作モードの期間にブックマークへのユーザ・アクセスをイネーブルする動作モードがイネーブルされた場合にだけ前記ステップ（Ｂ）および前記ステップ（Ｃ）を実行する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】  前記システムは、ＤＶＤプレーヤからなり、前記蓄積メディアは、ＤＶＤディスクからなり、
ユーザ命令に応答して新しいブックマークを設定する前記ステップは、前記ＤＶＤ仕様に従って、最も近いＮＡＶ＿ＰＡＣＫアドレスを含めた一時停止機能に関連するデータを格納するステップを含み、
再生を新しいブックマーク位置から変更する前記ステップは、格納されたＮＡＶ＿ＰＡＣＫアドレスを用いて前記ＤＶＤ仕様に従ってユーザ操作の再開命令を開始するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】  前記ステップ（Ｃ）は、さらに、第１と第２のブックマークを選択するステップと、前記選択された第１のブックマークに対応する位置から前記選択された第２のブックマークに対応する位置まで前記蓄積された情報を断続的に繰り返し再生するステップと、を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】  蓄積メディアに蓄積された情報を処理する装置であって、
前記装置の再生動作モードの期間に前記蓄積メディアに蓄積された情報にアクセスしてそれを処理するデータ処理ユニットと、
ユーザ入力を受け取るユーザ制御装置と、
オンスクリーン表示を発生するオンスクリーン表示装置と、
前記データ処理ユニットと前記ユーザ制御装置と前記オンスクリーン表示装置とに結合されて、再生動作モードを起動し、前記再生動作モードの期間に、前に格納したブックマークにアクセスする機会をユーザに与える制御器であって、前記ブックマークは、前記蓄積された情報内の対応する位置を表す、前記制御器と、
を具え、
前記制御器は、前記蓄積メディアに関連する前記複数のブックマークの最大数と、前記最大数の前記複数のブックマークの中の何れが前記蓄積メディアに対して実際に利用可能であるかとを決定し、
前記オンスクリーン表示ユニットは、利用可能な前記最大数の前記複数のブックマークと、前記蓄積メディアに関連する前記複数のブックマークの中の前記実際に利用可能なものとを表示するオンスクリーン・メニューを発生し、
前記メニューは、（ａ）新しいブックマークを設定すること、（ｂ）ブックマークを選択してこの選択されたブックマークをクリアすること、（ｃ）ブックマークを選択してこの選択されたブックマークに対応する位置から前記蓄積された情報を再生すること、および（ｄ）前に実行した操作をユーザが取り消すことを可能にすること、の中の１つを、ビデオ表示の背景部分においてプログラム情報再生を見続けながらユーザが実行することを可能にする、
前記装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月16日(2006.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）４.５未満のｐＨを有し、少なくともグルコン酸誘導体もしくはその塩を含む生育不能醗酵培地を与え、ここで、前記グルコン酸誘導体は、２,４−ケト−Ｄ−グルコン酸、２,５−ジケト−Ｄ−グルコン酸、イドン酸、２−ケト−Ｌ−グロン酸（ＫＬＧ）、バニリン酸、およびアスコルビン酸からなる群から選ばれる；そして
ｂ）前記生育不能醗酵培地から電気透析によりグルコン酸誘導体を除去し、それにより少なくともグルコン酸誘導体を含む濃縮溶液および系から除去される中性物を有する生育不能醗酵培地廃棄流れを与える
工程を含む精製濃縮グルコン酸誘導体の調製方法。
【請求項２】
前記生育不能醗酵培地が、2.0未満のｐＨを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記酸性化生育不能醗酵培地がさらに、グルコン酸誘導体とともに、生育不能醗酵培地から除去される無機不純物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
電気透析によってグルコン酸誘導体を含む濃縮溶液から無機不純物を分離することをさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
ａ）４.５未満のｐＨを有し、２,４−ケト−Ｄ−グルコン酸、２,５−ジケト−Ｄ−グルコン酸、イドン酸、２−ケト−Ｌ−グロン酸（ＫＬＧ）、バニリン酸、およびアスコルビン酸からなる群から選ばれるグルコン酸誘導体、無機不純物、および中性物を少なくとも含む生育不能醗酵培地を与え；
ｂ）前記生育不能醗酵培地から電気透析によりグルコン酸誘導体および無機不純物を除去し、それにより少なくともグルコン酸誘導体と無機不純物を含む濃縮酸性化水溶液、ならびに非イオン化された中性物を含みグルコン酸誘導体が本質的に除去された消費された生育不能醗酵培地廃棄流れを含む廃棄流れを与え；
ｃ）前記濃縮酸性化水溶液から無機不純物を分離し、それによりグルコン酸誘導体の精製濃縮水溶液を与え；そして
ｄ）前記精製濃縮水溶液からグルコン酸誘導体を回収する。
工程を含む、精製濃縮グルコン酸誘導体の調製方法。
【請求項６】
前記生育不能醗酵培地が2.0未満の酸性のｐＨを有する、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
濃縮酸性化水溶液から無機不純物を分離する前記の工程が電気透析により実施される、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
電気透析がセル中で行われ、このセルは、少なくとも一つの供給流区画と濃縮物区画を与えるように互いに十分に間隔を取った複数の交互の陽イオン交換膜と陰イオン交換膜、および電気透析セルを通る電流を与えるための電源に接続されていてセル容器の両端に配置された陽極および陰極を有する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
グルコン酸誘導体の回収が直接乾燥により実施される、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記無機不純物が無機酸である、請求項５に記載の方法。
【請求項１１】
工程（ｂ）で使用される陰イオン交換膜が、供給流中の中性物の濃縮物区画への輸送を実質的に防止する、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
工程（ｃ）で使用される陰イオン交換膜が十分に密な気孔構造を有し、それによって、無機陰イオンが膜を通って輸送され、そしてグルコン酸誘導体陰イオンの輸送が実質的にもしくは全体的に防止される、請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
ａ）２,４−ケト−Ｄ−グルコン酸、２,５−ジケト−Ｄ−グルコン酸、イドン酸、２−ケト−Ｌ−グロン酸（ＫＬＧ）、バニリン酸、およびアスコルビン酸からなる群から選ばれるグルコン酸誘導体陰イオン、金属の対イオン、および補酵素を少なくとも含む生体外反応器培地を与え；
ｂ）前記生体外反応器培地を、少なくとも一つの供給流区画を間に与えるように十分に間隔を取った少なくとも一つの交互の陰イオン交換膜および陽イオン交換膜、少なくとも一つの塩基区画を間に与えるように陽イオン交換膜から十分に間隔を取って配置されたバイポーラ膜、少なくとも一つの濃縮物区画を間に与えるように陰イオン交換膜から十分に間隔を取って配置されたバイポーラ膜、およびセルを通して電流を与えるために電源に接続されていてセルの両端に配置された陽極と陰極を含む電気透析セルに導入する
工程を含む高精製濃縮グルコン酸誘導体の調製方法であって、
前記グルコン酸誘導体陰イオンがプロトン化され、前記金属の対イオンが水酸化物イオンを加え、それにより、少なくとも、グルコン酸誘導体を含む濃縮水溶液、少なくとも金属水酸化物溶液を含む流れおよび中性物を含む廃棄流れを与える、方法。
【請求項１４】
金属水酸化物を含む供給流区画に二酸化炭素を添加することをさらに含み、それにより金属炭酸塩および金属重炭酸塩からなる群から選ばれる溶液中に炭酸塩生成物を形成する、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
補酵素を含む流れをさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記濃縮水溶液からグルコン酸誘導体を回収することをさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】
ａ）２,４−ケト−Ｄ−グルコン酸、２,５−ジケト−Ｄ−グルコン酸、イドン酸、２−ケト−Ｌ−グロン酸（ＫＬＧ）、バニリン酸、およびアスコルビン酸からなる群から選ばれるグルコン酸誘導体の塩、金属の対イオン、および補酵素を少なくとも含む醗酵溶液を与え；
ｂ）前記醗酵溶液を、少なくとも一つの供給流区画を間に与えるように十分に間隔を取った少なくとも一つの交互の陰イオン交換膜および陽イオン交換膜、少なくとも一つの塩基区画を間に与えるように陽イオン交換膜から十分に間隔を取って配置されたバイポーラ膜、少なくとも一つの濃縮物区画を間に与えるように陰イオン交換膜から十分に間隔を取って配置されたバイポーラ膜、およびセルを通して電流を与えるために電源に接続されていてセルの両端に配置された陽極と陰極を含む電気透析セルに導入し、そこで前記グルコン酸誘導体陰イオンがプロトン化され、前記金属の対イオンが水酸化物イオンを加え、それにより、少なくとも、グルコン酸誘導体を含む濃縮水溶液、少なくとも金属水酸化物溶液を含む流れおよび非イオン化された中性物を含む廃棄流れを与える、
工程を含む高精製濃縮グルコン酸誘導体の調製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月29日(2006.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】  炭化水素蒸気の透過を抑制するためのバリヤー層（８８）を有するフランジ部材（１８、１１８、２１８）を製造する方法であって、
（ａ）多層パリソン（８０）を形成する工程と、
（ｂ）少なくとも第１のポリマー層（９４）、第２のポリマー層（９６）および前記バリヤー層（８８）を有し、該バリヤー層（８８）が前記第１のポリマー層（９４）と前記第２のポリマー層（９６）との間にあり、前記パリソンを膨張させて軸（８６）を有するチューブを形成する工程と、
（ｃ）前記チューブが壁（８４）を有し、前記壁が前記チューブに沿って軸方向に延びる内部開口（８５）を画成する工程と、
（ｄ）前記チューブを前記軸（８６）を略横断（９８、１００）するように切断してフランジ部材（１８、１１８、２１８）を形成する工程と、
を有することを特徴とするフランジ部材を製造する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月19日(2005.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  脊柱の棘突起の間に位置決め可能な脊柱に関連した痛みを軽減するためのインプラントにおいて：
そこからのびている中心本体を具備した第１ウイングを含み、前記中心本体が縦軸を有し；
前記中心本体の上方に位置決めされたスペーサを含み、前記スペーサが前記インプラントを棘突起の間に位置決めするのを助けるために前記中心本体に対して位置決め可能なように前記中心本体の前記縦軸のまわりを回転可能であるインプラント。
【請求項２】  前記スペーサが長円形横断面を有することを特徴とする請求項１に記載のインプラント。
【請求項３】  前記スペーサが縦軸に対して実質的に垂直な平面において長円形横断面を有することを特徴とする請求項１に記載のインプラント。
【請求項４】  前記スペーサが円形又は卵形横断面を有することを特徴とする請求項１に記載のインプラント。
【請求項５】  前記スペーサが閉曲線横断面を有することを特徴とする請求項１に記載のインプラント。
【請求項６】  前記スペーサが円筒形であることを特徴とする請求項１に記載のインプラント。
【請求項７】  前記スペーサが前記中心本体から離間されていることを特徴とする請求項１に記載のインプラント。
【請求項８】  前記スペーサが前記中心本体の方向に繰返し偏向可能である材料製であることを特徴とする請求項１に記載のインプラント。
【請求項９】  前記中心本体の方向への前記スペーサの偏向に備えるために、前記スペーサが前記中心本体から離間されていることを特徴とする請求項４に記載のインプラント。
【請求項１０】  脊柱の棘突起の間に位置決め可能な脊柱に関連した痛みを軽減するためのインプラントにおいて：
前記インプラントを棘突起に対して位置決めし、保持するための手段と；
前記インプラントを棘突起の解剖学的形態に合わせて調節する手段とを含むインプラント。
【請求項１１】  前記調節手段が前記位置決め及び保持手段に対して位置決め可能な部材を含むことを特徴とする請求項１０に記載のインプラント。
【請求項１２】  前記調節手段が前記位置決め及び保持手段に対して位置決め可能な部材を含み；
前記部材が棘突起に関して好ましい方向性を有する形状を有することを特徴とする請求項１０に記載のインプラント。
【請求項１３】  脊柱の棘突起の間に位置決め可能な脊柱に関連した痛みを軽減するためのインプラントにおいて：
インプラントを棘突起に対して保持する第１部材と；
インプラントを棘突起の解剖学的形態に合わせて調節するために、インプラントが棘突起に対して挿入されると前記第１部材に対して再位置決めすることができるように、前記第１部材に対して可動である第２部材とを含むインプラント。
【請求項１４】  前記スペーサがニッケル・チタン合金製であることを特徴とする請求項１に記載のインプラント。
【請求項１５】  インプラントが棘突起の間の後方位置から脊柱の椎骨本体により近い前方位置に挿入されると前記スペーサが回転できることを特徴とする請求項１に記載のインプラント。
【請求項１６】  インプラントが棘突起の間の後方位置から脊柱の椎骨本体により近い前方位置に挿入されると前記部材が位置決め及び保持手段に対して回転できることを特徴とする請求項１０に記載のインプラント。
【請求項１７】  インプラントが棘突起の間の後方位置から脊柱の椎骨本体により近い前方位置に挿入されると前記第２部材が第１部材に対して回転できることを特徴とする請求項８に記載のインプラント。
【請求項１８】  脊柱の隣接する棘突起の間に位置決め可能な脊柱に関連した痛みを軽減するためのインプラントにおいて：
中心本体、ガイド及び第１ウイングを含む第１ユニットを含み、前記第１ウイングが前記中心本体の第１端に位置決めされ、前記ガイドが前記第１ウイングから遠位に位置決めされた前記中心本体の第２端からのびており；
前記中心本体が縦軸を含み；
前記中心本体の上方に具備されたスペーサを含み、前記スペーサの少なくとも一部分が前記中心本体から離間され、前記中心本体のまわりを回転可能であり；
第２ウイングを含み；
第２ウイングを第１ユニットに固定する器具を含むインプラント。
【請求項１９】  棘突起に変化を起こさずに２つの棘突起の間で中心本体を押圧することを可能にするために前記ガイドが尖らされていることを特徴とする請求項１８に記載のインプラント。
【請求項２０】  脊柱の隣接する棘突起の間に位置決め可能な脊柱に関連した痛みを軽減するためのインプラントにおいて：
中心本体、本体の第１端に位置決めされたガイド及び本体の第２端に位置決めされたストップを含む第１ユニットを含み；
前記中心本体が縦軸を含み；
前記中心本体の上方に具備されたスペーサを含み、前記スペーサの少なくとも一部分が前記中心本体から離間され、前記中心本体のまわりを回転可能であり；
前記スペーサが前記ガイドと前記ストップとの間の定位置に保持されているインプラント。
【請求項２１】  前記スペーサが超弾性材料製であることを特徴とする請求項１、１８または２０に記載のインプラント。
【請求項２２】  脊柱の隣接する棘突起の間に位置決め可能な脊柱に関連した痛みを軽減するためのインプラントシステムにおいて：
横断面に少なくとも１つの長軸及び少なくとも１つの短軸を有するスペーサを含み；
挿入ガイド、中心本体、ストップ及びハンドルを含む挿入具を含み、前記ガイド及びび前記ストップが前記中心本体の反対側からのび、前記ハンドルが前記ストップからのびており；
スペーサがガイドの上方にストップに当接するように嵌着され、その後に挿入具により２つの隣接する椎骨の間に位置決めされるインプラントシステム。
【請求項２３】  前記スペーサが円筒形で、横断面形状が楕円形であることを特徴とする請求項１８、２０または２２に記載のインプラント。
【請求項２４】  前記スペーサが円筒形で、長軸及び短軸のある横断面を有することを特徴とする請求項１８、２０または２２に記載のインプラント。
【請求項２５】  脊柱の隣接する棘突起の間に位置決め可能な脊柱に関連した痛みを軽減するためのインプラントにおいて：
第１ウイングを含み；
第１ウイングに対して取付けられたスペーサを含み、前記スペーサを棘突起の間に位置決めするのを助けるように前記スペーサが第１ウイングに対して位置決め可能であるインプラント。
【請求項２６】  前記スペーサが超弾性ニッケル・チタン合金製であることを特徴とする請求項１、１８、２０、２２または２５に記載のインプラント。
【請求項２７】  前記スペーサが第１スペーサ部分及び第２スペーサ部分から形成され、その各々が前記中心本体に作動可能結合されていることを特徴とする請求項１に記載のインプラント。
【請求項２８】  前記スペーサは、少なくとも１つの長軸線と、少なくとも１つの短軸線とを備える断面を有する、請求項２２に記載のインプラント。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月3日(2005.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カベルゴリンの形態Ｉを生成するための方法であって、粗カベルゴリンを含むトルエン／ジエチルエーテル混合物から所望する結晶性形態を結晶化し、その後生じた結晶を回収して乾燥することを含む方法。
【請求項２】
カベルゴリンの形態Ｉを生成するための方法であって、カベルゴリンの溶媒和形態Ｖを通して、トルエン／ジエチルエーテル混合物から粗カベルゴリンを結晶化することを含む方法。
【請求項３】
結晶化が、トルエン／ジエチルエーテル混合物中に粗カベルゴリンを溶解し、生じた溶液を冷却して、生じた図５のＸＲＤ粉末パターンを備えるカベルゴリンの溶媒和形態Ｖを収集し、乾燥することによって溶媒和物をカベルゴリン形態Ｉに転換することを含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
トルエン／ジエチルエーテル混合物が１：１混合物である、請求項１から３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
トルエン／ジエチルエーテル混合物を−２５°から−９℃の温度に冷却する、請求項３又は４に記載の方法。
【請求項６】
トルエン／ジエチルエーテル混合物を約−１２℃の温度に冷却する、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
図５のＸＲＤ粉末パターンを備えるカベルゴリンの溶媒和形態Ｖ。
【請求項８】
請求項７で定義するようなカベルゴリンの溶媒和形態Ｖを生成する方法であって、トルエン／ジエチルエーテル混合物中に粗カベルゴリンを溶解し、生じた溶液を冷却して、生じたカベルゴリンの溶媒和形態Ｖを収集することを含む方法。
【請求項９】
トルエン／ジエチルエーテル混合物が１：１混合物である、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
トルエン／ジエチルエーテル混合物を−２５°から−１２℃の温度に冷却し、減圧下でのろ過によって又は遠心ろ過によって溶媒和形態Ｖを収集し、その後生じた固体をむらなく乾燥することを含む、請求項８又は９に記載の方法。