【手続補正書】
【提出日】平成18年6月1日(2006.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  式Ｉの化合物。
【化１】
2002516909.tif 000001
（式中、
Ｒ1及びＲ3は、同じでも異なっていても良く、それぞれ、ＯＨ、ＣＮ又はメトキシにより置換されていてもよい、ＣＦ3、ハロゲン、ＣＮ、Ｃ1-8アルキル又は分岐アルキル又はＣ1-8アルケニル又は分岐アルケニル又はＣ3-8シクロアルキル；カルボ環式基又はヘテロ環式基により置換されていてもよい、Ｃ1-8アルコキシ、Ｃ1-4アルキルオキシアルキル、Ｃ1-8アルキルチオ、Ｃ1-4アルキルチオアルキル、Ｃ1-8ジアルキルアミノ、Ｃ1-4ジアルキルアミノアルキル、ＣＯ2Ｒ5（Ｒ5はＣ1-4アルキル又はＣ1-4アルケニルである）；ハロゲン、Ｃ1-4アルキル、Ｃ1-4アルケニル、ＣＮ、Ｍｅ2Ｎ、ＣＯ2Ｍｅ、ＯＭｅ、アリール、ヘテロ環式基又はＲ5により置換されていてもよい、安定な結合を形成するいずれかの位置においてピラゾールに結合しているアリール又はヘテロ環式基であり、
Ｒ2は、Ｈ、ハロゲン又はメチルであり、
Ｌは、−ＮＨＣ（Ｏ）−、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ−、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｃ（Ｏ）−、−ＮＨＣ（Ｓ）−、−ＮＨ−、−ＮＨＣ（Ｏ）ＮＨ、ＮＨＣ（Ｓ）ＮＨ、ＮＨＣＨ2、−ＮＨＣＨ（Ｒ6）−（式中、Ｒ6は、ハロゲン、Ｃ1-4アルキル、ＣＮ、Ｍｅ2Ｎ、ＣＯ2Ｍｅ又はＯＭｅにより置換されていてもよい、Ｈ、ＣＮ、Ｃ1-6アルキル、Ｃ1-6アルキルオキシアルキルＣ1-6アルキルチオアルキル、Ｃ1-6アルキルスルフィニルアルキル、Ｃ1-6アルキルスルホニルアルキル、Ｃ3-6シクロアルキル、又はヘテロ環式基又はアリールである）、或いは−ＮＨＣ（Ｒ6）−低級アルキルであり、
Ｒ4は、一以上のハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ2、ＳＯ2ＮＨ2又はＲ7（式中、Ｒ7は、ハロゲン、ＯＨ、アルキルオキシ、ＣＮ、ＣＯＯ−低級アルキル、−ＣＯＮＨ−低級アルキル、−ＣＯＮ（低級アルキル）2、ジアルキルアミノ、フェニル又はヘテロ環式基により置換されていてもよい、フェニル、ヘテロ環式基、Ｃ3-6シクロアルキル、Ｃ1-6アルキル、Ｃ2-6アルケニル、Ｃ1-6アルキルオキシアルキル、Ｃ1-6アルキルチオアルキル、Ｃ1-6アルキルスルフィニルアルキル、Ｃ1-6アルキルスルホニルアルキル又はＣ2-6アルキニルである）により置換されていてもよい、Ｃ1-8アルキル、Ｃ1-8アルキルオキシ、Ｃ1-8アルキルチオ、Ｃ1-8アルキルアミノ、Ｃ1-4アルコキシアルキル、Ｃ1-4アルキルチオアルキル、Ｃ1-4アルキルアミノアルキル、Ｃ1-4ジアルキルアミノアルキル、カルボ環式基又はヘテロ環式基；ＣＯ2Ｒ7、−Ｎ（Ｒ7）2、−ＮＨ（Ｒ7）、−Ｃ（Ｏ）Ｒ7、−ＯＲ7、Ｓ（Ｏ）nＲ7（ｎは０、１又は２である）、−ＳＯ2ＮＨＲ7、−ＳＯ2Ｎ（Ｒ7）2である。
但し、式Ｉの化合物において、Ｌが−ＮＨＣ（Ｏ）−であり、Ｒ4がＭｅであり、Ｒ2がＨであり、Ｒ1がＭｅであり、Ｒ3がＭｅ、Ｃｌ、メチルチオ又はエトキシである場合；Ｌが−ＮＨＣ（Ｏ）−であり、Ｒ2がＨであり、Ｒ4がフェニルであり、Ｒ1がメチルであり、Ｒ3がフェニルである場合；Ｌが−ＮＨＣ（Ｏ）−であり、Ｒ2がＨであり、Ｒ1及びＲ3がＣＦ3であり、Ｒ4が３，５−ジメチル−４−イソオキサゾリル、又は４−メチル−１，２，３−チアジアゾール−５−イル、又は４−クロロフェニル、又は４−トリフルオロメトキシフェニルである場合；Ｌが−ＮＨ−であり、Ｒ4がＭｅであり、Ｒ2がＨであり、Ｒ3が４−メチルスルホニルフェニルであり、及びＲ1がトリフルオロメチル又はジフルオロメチルである場合；Ｌが−ＮＨ−であり、Ｒ1がＣＮであり、Ｒ2がＨであり、Ｒ3が４−メチルスルホニルフェニルであり、及びＲ4が４−メチルアミノフェニル又は４−エチルアミノフェニルである場合；Ｌが−ＮＨ−であり、及びＲ1及びＲ3がＭｅであり、Ｒ2がＨであり、及びＲ4が４−メトキシベンジル又は４−ニトロベンジルである場合；Ｌが−ＮＨＣ（Ｏ）ＮＨ−であり、Ｒ1及びＲ3がＣＦ3であり、Ｒ2がＨであり、及びＲ4が３，５−ジクロロフェニル、３，５−ジフルオロフェニル、又はｎ−プロピルである場合；Ｌが−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−であり、Ｒ1、Ｒ3及びＲ4がＭｅである場合；Ｌが−ＮＨＣＨ（Ｒ6）−であり、Ｒ1及びＲ3がＭｅであり、Ｒ6がＣＮ又はＨであり、及びＲ4が４−メトキシフェニル又は４−ニトロフェニルである場合；Ｌが−ＮＨＣ（Ｏ）−又は−ＮＨ−であり、Ｒ2がＨであり、Ｒ4がＣ1-6アルキル又は分岐アルキルであり、Ｒ1又はＲ3のいずれかがＣＦ3、ハロゲン、ジメチルアミノメチル、ＣＮ、Ｃ1-4アルキルチオ、又はＣＯ2Ｒ5であり、もう一方のＲ1又はＲ3が置換又は非置換フェニル又はヘテロ環式環である場合を除く。）
【請求項２】
Ｒ1が、直鎖、分岐又はシクロ−Ｃ3-8アルキル、アルケニル、又はアルキニル；Ｃ1-3アルキルオキシアルキル、Ｃ1-5アルキルオキシ、Ｃ1-3アルキルチオアルキル、Ｃ1-5アルキルチオ、ＣＦ3；ハロゲン、Ｃ1-4アルキル、ＣＮ、アルコキシ又はＭｅ2Ｎで置換されていてもよい、ヘテロ環式基又はアリールであり；
Ｒ2がＨであり；及び
Ｒ3がハロゲン、Ｍｅ、Ｅｔ、ＣＦ3、ＣＮ、シクロプロピル、ビニル、ＳＭｅ、ＯＭｅ；ハロゲン、Ｃ1-4アルキル、ＣＮ、アルコキシ又はＭｅ2Ｎにより置換されていてもよいヘテロ環式基又はアリールであり、
Ｌが−ＮＨＣ（Ｏ）−、−ＮＨ−、−ＮＨＣ（Ｏ）ＮＨ、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ、又は−ＮＨＣＨ（Ｒ6）−（Ｒ6はＨ、Ｃ1-4アルキル、又はＣＮである）であり、及び
Ｒ4が、一以上のハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ2、ＳＯ2ＮＨ2、又はＲ7（Ｒ7は、ＯＨ、ＣＮ、−ＣＯＯ−低級アルキル、−ＣＯＮＨ−低級アルキル、−ＣＯＮ（低級アルキル）2、ジアルキルアミノ、又はヘテロ環式基により置換されていてもよいＣ1-6アルキル、Ｃ2-6アルケニル、Ｃ1-6アルキルオキシアルキル、Ｃ1-6アルキルチオアルキル、又はＣ2-6アルキニルである）により置換されていてもよい、Ｃ1-6アルキル、Ｃ1-4アルキルオキシアルキル、Ｃ1-4アルキルチオアルキル、シクロヘキシル、シクロペンチル、インダニル、インドリル、フェニル、チエニル、ナフチル、イソオキサゾリル又はピリジル；ＣＯ2Ｒ7、−Ｎ（Ｒ7）2、−ＮＨ（Ｒ7）、−Ｃ（Ｏ）Ｒ7、−ＯＲ7、Ｓ（Ｏ）nＲ7（ｎは０、１又は２である）−ＳＯ2ＮＨＲ7、−ＳＯ2Ｎ（Ｒ7）2である、
請求項１記載の化合物。
【請求項３】
Ｒ1がＥｔ、ｉ−Ｐｒ、ｎ−Ｐｒ、ｔ−Ｂｕ、シクロペンチル、ＣＦ3、−ＯＥｔ、ＭｅＯＣＨ2−、２−又は３−テトラヒドロフラニル、２−，３−，又は４−ピリジル、２−フラニル、又は２−チアゾリルであり；
Ｒ2がＨであり；
Ｒ3がＣＮ、ＣＦ3、Ｃｌ、Ｍｅ、Ｅｔ、ＳＭｅ、シクロプロピル、ビニル、又は２−フラニルであり；
ＬがＮＨＣ（Ｏ）−、−ＮＨ−又はＮＨＣＨ2−であり；及び
Ｒ4が、Ｃ1-3アルキル、クロロ、フルオロ、ＣＦ3、ＯＣ1-4アルキル、ＯＣ3-5アルケニル、ＣＯ2Ｃ1-2アルキル、ＳＭｅ、ＣＮ、ＮＯ2、ＮＭｅ2及びＯ（ＣＨ2）pＲ13（ｐは３又は４であり、Ｒ13はＣＮ、ＣＯ2Ｍｅ、２−（１，３−ジオキソラニル）、ＯＨ、又はＯＣ6Ｈ5である）から選ばれる１〜３の基により置換されていてもよいフェニル環；Ｃｌ、Ｂｒ、Ｍｅ、ＣＮ、ＣＦ3、ＯＣＦ3、ＮＯ2、又はＯ（ＣＨ2）pＲ13（ｐは３又は４であり、Ｒ13はＣＮ、ＣＯ2Ｍｅ、２−（１，３−ジオキソラニル）、ＯＨ、又はＯＣ6Ｈ5である）から選ばれる１〜３の基により置換されていてもよい、１−若しくは２−インダニル、２−テトラヒドロピラニル、又は２−チエニル、３−フラニル、３−若しくは４−ピリジル、４−イソオキサゾリル、１−イソキノリニル、２−インドリル、２−ベンゾチエニル及び４−ピラゾリルからなる群から選ばれるヘテロ環；Ｃ5-6アルキル、Ｃ5-6シクロアルキル、又はシクロヘキセニルである；
請求項１記載の化合物。
【請求項４】
Ｒ1がｉ−Ｐｒ、ＣＦ3、３−ピリジル又は４−ピリジルであり；
Ｒ2がＨであり；
Ｒ3がＣＮ、ＣＦ3、Ｃｌ、Ｍｅ、ＳＭｅ又はＥｔであり；
ＬがＮＨＣ（Ｏ）−、−ＮＨ−又はＮＨＣＨ2−であり；及び
Ｒ4が、Ｏ（ＣＨ2）3Ｒ13（Ｒ13はＣＮ、ＯＨ又は２−（１，３−ジオキソラニル）である）により置換されていてもよいフェニル環；ＯＣ3-4アルキル、Ｏ（ＣＨ2）4ＯＨ、１−ペンテニル；Ｍｅ、Ｃｌ、Ｆ及びＣＮから選ばれる１〜３つの基；６位でＯ（ＣＨ2）2ＯＥｔ又はＯ（ＣＨ2）3Ｒ13（Ｒ13はＣＮ、ＯＨ又は２−（１，３−ジオキソラニル）である）により置換されていてもよい３−ピリジル；塩素により置換されていてもよい４−ピリジニル；Ｍｅ又はＢｒにより置換されていてもよい２−チエニル；３，５−ジメチル−４−イソオキサゾリル、１−メチル−２−インドリル、シクロペンチル、シクロヘキシル、１−インダニル又はｎ−ペント−３−イルである、
請求項１記載の化合物。
【請求項５】  以下からなる群から選ばれる化合物：
N-[4-(5-エチル-3-ピリジン-3-イル-ピラゾール-1-イル)フェニル]ピリジン-3-カルボキシアミド；
(2-クロロ-6-フルオロベンジル)-[4-(5-エチル-3-ピリジン-3-イル-ピラゾール-1-イル)フェニル]アミン；
(2-メチルベンジル)-[4-(5-エチル-3-ピリジン-3-イル-ピラゾール-1-イル)フェニル]アミン；
[6-(3-シアノプロポキシ)ピリジン-3-イルメチル]-[4-(5-シアノ-3-ピリジン-3-イル-ピラゾール-1-イル)フェニル]アミン；
[6-(3-[1,3]ジオキソラン-2-イルプロポキシ)ピリジン-3-イルメチル]-[4-(5-シアノ-3-ピリジン-3-イル- ピラゾール-1-イル)フェニル]アミン；
N-[4-(5-エチル-3-ピリジン-3-イル-ピラゾール-1-イル)フェニル]-1-メチルインドール-2-カルボキシアミド；
(2-クロロ-6-フルオロベンジル)-[4-(5-シアノ-3-ピリジン-3-イル-ピラゾール-1-イル)フェニル]アミン；
[4-(5-シアノ-3-ピリジン-3-イル-ピラゾール-1-イル)フェニル]-(2,6-ジメチルベンジル)-アミン；
(2-クロロ-6-メチルベンジル)-[4-(5-シアノ-3-ピリジン-3-イル-ピラゾール-1-イル)フェニル]アミン；
[4-(5-シアノ-3-ピリジン-3-イル-ピラゾール-1-イル)フェニル]-(2-インダニルメチル)アミン；
[4-(5-エチル-3-ピリジン-3-イル-ピラゾール-1-イル)フェニル]-(2-インダニルメチル)アミン；
[4-(5-エチル-3-ピリジン-3-イル-ピラゾール-1-イル)フェニル]- (2-フルオロ-6-メチルベンジル)アミン；
4-(3-シアノプロポキシ)-N-[4-(5-シアノ-3-ピリジン-3-イル-ピラゾール-1-イル)フェニル]ベンズアミド；
N-[4-(5-シアノ-3-ピリジン-3-イル-ピラゾール-1-イル)フェニル]-4-(3-[1,3]ジオキソラン-2-イル-プロポキシ)ベンズアミド；
[4-(3-シアノプロポキシ)ベンジル]-[4-(5-エチル-3-ピリジン-3-イル-ピラゾール-1-イル)フェニル]アミン；及び
[4-(3-シアノプロポキシ)ベンジル]-[4-(5-シアノ-3-ピリジン-3-イル-ピラゾール-1-イル)フェニル]アミン。
【請求項６】  治療上有効な量の式Ｉの化合物を含む、炎症性疾患を治療するための医薬組成物。
【化２】
2002516909.tif 000002
（式中、
Ｒ1及びＲ3は同じでも異なっていても良く、それぞれ、ＯＨ、ＣＮ又はメトキシにより置換されていてもよい、ＣＦ3、ハロゲン、ＣＮ、Ｃ1-8アルキル又は分岐アルキル又はＣ1-8アルケニル又は分岐アルケニル又はＣ3-8シクロアルキル；カルボ環式基又はヘテロ環式基により置換されていてもよい、Ｃ1-8アルコキシ、Ｃ1-4アルキルオキシアルキル、Ｃ1-8アルキルチオ、Ｃ1-4アルキルチオアルキル、Ｃ1-8ジアルキルアミノ、Ｃ1-4ジアルキルアミノアルキル、ＣＯ2Ｒ5（Ｒ5はＣ1-4アルキル又はＣ1-4アルケニルである）；ハロゲン、Ｃ1-4アルキル、Ｃ1-4アルケニル、ＣＮ、Ｍｅ2Ｎ、ＣＯ2Ｍｅ、ＯＭｅ、アリール、ヘテロ環式基又はＲ5により置換されていてもよい、安定な結合を形成するいずれかの位置でピラゾールに結合しているアリール又はヘテロ環式基であり、
Ｒ2はＨ、ハロゲン、又はメチルであり、
Ｌは、−ＮＨＣ（Ｏ）−、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ−、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｃ（Ｏ）−、−ＮＨＣ（Ｓ）−、−ＮＨ−、−ＮＨＣ（Ｏ）ＮＨ、ＮＨＣ（Ｓ）ＮＨ、ＮＨＣＨ2、−ＮＨＣＨ（Ｒ6）−（Ｒ6は、ハロゲン、Ｃ1-4アルキル、ＣＮ、Ｍｅ2Ｎ、ＣＯ2Ｍｅ又はＯＭｅにより置換されていてもよい、Ｈ、ＣＮ、Ｃ1-6アルキル、Ｃ1-6アルキルオキシアルキルＣ1-6アルキチオアルキル、Ｃ1-6アルキルスルフィニルアルキル、Ｃ1-6アルキスルホニルアルキル、Ｃ3-6シクロアルキル、又はヘテロ環式基又はアリールである）、或いは−ＮＨＣ（Ｒ6）−低級アルキルであり、
Ｒ4は、一以上のハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ2、ＳＯ2ＮＨ2、又はＲ7（Ｒ7は、ハロゲン、ＯＨ、アルキルオキシ、ＣＮ、ＣＯＯ−低級アルキル、−ＣＯＮＨ−低級アルキル、−ＣＯＮ（低級アルキル）2、ジアルキルアミノ、フェニル又はヘテロ環式基により置換されていてもよい、フェニル、ヘテロ環式基、Ｃ3-6シクロアルキル、Ｃ1-6アルキル、Ｃ2-6アルケニル、Ｃ1-6アルキルオキシアルキル、Ｃ1-6アルキルチオアルキル、Ｃ1-6アルキルスルフィニルアルキル、Ｃ1-6アルキルスルホニルアルキル又はＣ2-6アルキニルである）により置換されていてもよい、Ｃ1-8アルキル、Ｃ1-8アルキルオキシ、Ｃ1-8アルキルチオ、Ｃ1-8アルキルアミノ、Ｃ1-4アルコキシアルキル、Ｃ1-4アルキルチオアルキル、Ｃ1-4アルキルアミノアルキル、Ｃ1-4ジアルキルアミノアルキル、カルボ環式基又はヘテロ環式基；ＣＯ2Ｒ7、−Ｎ（Ｒ7）2、−ＮＨ（Ｒ7）、−Ｃ（Ｏ）Ｒ7、−ＯＲ7、Ｓ（Ｏ）nＲ（ｎは０、１又は２である）、−ＳＯ2ＮＨＲ7、−ＳＯ2Ｎ（Ｒ7）2である。）
【請求項７】  治療上有効な量の式Ｉの化合物を含む、自己免疫疾患を治療するための医薬組成物。
【化３】
2002516909.tif 000003
（式中、Ｒ1及びＲ3は同じでも異なっていても良く、それぞれ、ＯＨ、ＣＮ又はメトキシにより置換されていてもよい、ＣＦ3、ハロゲン、ＣＮ、Ｃ1-8アルキル又は分岐アルキル又はＣ1-8アルケニル又は分岐アルケニル又はＣ3-8シクロアルキル；カルボ環式基又はヘテロ環式基により置換されていてもよい、Ｃ1-8アルコキシ、Ｃ1-4アルキルオキシアルキル、Ｃ1-8アルキルチオ、Ｃ1-4アルキルチオアルキル、Ｃ1-8ジアルキルアミノ、Ｃ1-4ジアルキルアミノアルキル、ＣＯ2Ｒ5（Ｒ5はＣ1-4アルキル又はＣ1-4アルケニルである）；ハロゲン、Ｃ1-4アルキル、Ｃ1-4アルケニル、ＣＮ、Ｍｅ2Ｎ、ＣＯ2Ｍｅ、ＯＭｅ、アリール、ヘテロ環式基又はＲ5により置換されていてもよい、安定な結合を形成するいずれかの位置でピラゾールに結合しているアリール又はヘテロ環式基であり；
Ｒ2は、Ｈ、ハロゲン、又はメチルであり、
Ｌは、−ＮＨＣ（Ｏ）−、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ−、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｃ（Ｏ）−、−ＮＨＣ（Ｓ）−、−ＮＨ−、−ＮＨＣ（Ｏ）ＮＨ、ＮＨＣ（Ｓ）ＮＨ、ＮＨＣＨ2、−ＮＨＣＨ（Ｒ6）−（Ｒ6は、ハロゲン、Ｃ1-4アルキル、ＣＮ、Ｍｅ2Ｎ、ＣＯ2Ｍｅ又はＯＭｅにより置換されていてもよい、Ｈ、ＣＮ、Ｃ1-6アルキル、Ｃ1-6アルキルオキシアルキルＣ1-6アルキチオアルキル、Ｃ1-6アルキルスルフィニルアルキル、Ｃ1-6アルキスルホニルアルキル、Ｃ3-6シクロアルキル、又はヘテロ環式基又はアリールである）、或いは−ＮＨＣ（Ｒ6）−低級アルキルであり、
Ｒ4は、一以上のハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ2、ＳＯ2ＮＨ2、又はＲ7（Ｒ7は、ハロゲン、ＯＨ、アルキルオキシ、ＣＮ、ＣＯＯ−低級アルキル、−ＣＯＮＨ−低級アルキル、−ＣＯＮ（低級アルキル）2、ジアルキルアミノ、フェニル又はヘテロ環式基により置換されていてもよい、フェニル、ヘテロ環式基、Ｃ3-6シクロアルキル、Ｃ1-6アルキル、Ｃ2-6アルケニル、Ｃ1-6アルキルオキシアルキル、Ｃ1-6アルキルチオアルキル、Ｃ1-6アルキルスルフィニルアルキル、Ｃ1-6アルキルスルホニルアルキル又はＣ2-6アルキニルである）により置換されていてもよい、Ｃ1-8アルキル、Ｃ1-8アルキルオキシ、Ｃ1-8アルキルチオ、Ｃ1-8アルキルアミノ、Ｃ1-4アルコキシアルキル、Ｃ1-4アルキルチオアルキル、Ｃ1-4アルキルアミノアルキル、Ｃ1-4ジアルキルアミノアルキル、カルボ環式基又はヘテロ環式基；ＣＯ2Ｒ7、−Ｎ（Ｒ7）2、−ＮＨ（Ｒ7）、−Ｃ（Ｏ）Ｒ7、−ＯＲ7、Ｓ（Ｏ）nＲ7（ｎは０、１又は２である）、−ＳＯ2ＮＨＲ7、−ＳＯ2Ｎ（Ｒ7）2である。）
【請求項８】  治療上有効な量の式Ｉの化合物を含む、過剰のＩＬ−２生産が寄因する疾患を治療するための医薬組成物。
【化４】
2002516909.tif 000004
（式中、
Ｒ1及びＲ3は同じでも異なっていても良く、それぞれ、ＯＨ、ＣＮ又はメトキシにより置換されていてもよい、ＣＦ3、ハロゲン、ＣＮ、Ｃ1-8アルキル又は分岐アルキル又はＣ1-8アルケニル又は分岐アルケニル又はＣ3-8シクロアルキル；カルボ環式基又はヘテロ環式基により置換されていてもよい、Ｃ1-8アルコキシ、Ｃ1-4アルキルオキシアルキル、Ｃ1-8アルキルチオ、Ｃ1-4アルキルチオアルキル、Ｃ1-8ジアルキルアミノ、Ｃ1-4ジアルキルアミノアルキル、ＣＯ2Ｒ5（Ｒ5はＣ1-4アルキル又はＣ1-4アルケニルである）；ハロゲン、Ｃ1-4アルキル、Ｃ1-4アルケニル、ＣＮ、Ｍｅ2Ｎ、ＣＯ2Ｍｅ、ＯＭｅ、アリール、ヘテロ環式基又はＲ5により置換されていてもよい、安定な結合を形成するいずれかの位置でピラゾールに結合しているアリール又はヘテロ環式基であり、
Ｒ2はＨ、ハロゲン、又はメチルであり、
Ｌは、−ＮＨＣ（Ｏ）−、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ−、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｃ（Ｏ）−、−ＮＨＣ（Ｓ）−、−ＮＨ−、−ＮＨＣ（Ｏ）ＮＨ、ＮＨＣ（Ｓ）ＮＨ、ＮＨＣＨ2、−ＮＨＣＨ（Ｒ6）−（Ｒ6は、ハロゲン、Ｃ1-4アルキル、ＣＮ、Ｍｅ2Ｎ、ＣＯ2Ｍｅ又はＯＭｅにより置換されていてもよい、Ｈ、ＣＮ、Ｃ1-6アルキル、Ｃ1-6アルキルオキシアルキルＣ1-6アルキチオアルキル、Ｃ1-6アルキルスルフィニルアルキル、Ｃ1-6アルキスルホニルアルキル、Ｃ3-6シクロアルキル、又はヘテロ環式基又はアリールである）、或いは−ＮＨＣ（Ｒ6）−低級アルキルであり、
Ｒ4は、一以上のハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ2、ＳＯ2ＮＨ2、又はＲ7（Ｒ7は、ハロゲン、ＯＨ、アルキルオキシ、ＣＮ、ＣＯＯ−低級アルキル、−ＣＯＮＨ−低級アルキル、−ＣＯＮ（低級アルキル）2、ジアルキルアミノ、フェニル又はヘテロ環式基により置換されていてもよい、フェニル、ヘテロ環式基、Ｃ3-6シクロアルキル、Ｃ1-6アルキル、Ｃ2-6アルケニル、Ｃ1-6アルキルオキシアルキル、Ｃ1-6アルキルチオアルキル、Ｃ1-6アルキルスルフィニルアルキル、Ｃ1-6アルキルスルホニルアルキル又はＣ2-6アルキニルである）により置換されていてもよい、Ｃ1-8アルキル、Ｃ1-8アルキルオキシ、Ｃ1-8アルキルチオ、Ｃ１−８アルキルアミノ、Ｃ１−４アルコキシアルキル、Ｃ１−４アルキルチオアルキル、Ｃ１−４アルキルアミノアルキル、Ｃ１−４ジアルキルアミノアルキル、カルボ環式基又はヘテロ環式基；ＣＯ２Ｒ７、−Ｎ（Ｒ７）２、−ＮＨ（Ｒ７）、−Ｃ（Ｏ）Ｒ７、−ＯＲ７、Ｓ（Ｏ）ｎＲ７（ｎは０、１又は２である）、−ＳＯ２ＮＨＲ７、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ７）２である。）
【請求項９】  請求項１記載の化合物及び医薬的に許容できる担体又はアジュバントを含有する医薬組成物。
【請求項１０】  1-(4-ニトロフェニル)-3-(ピリジン-3-イル)-1H-ピラゾール-5-カルボニトリル。
【請求項１１】  1-(4-ニトロフェニル)-3-(ピリジン-3-イル)-5-エチル-H-ピラゾール。
【請求項１２】  医薬化合物を製造するのに有用なピラゾール中間体の製造方法であって、3,5-二置換-1H-ピラゾールと、
【化５】
2002516909.tif 000005
（式中、
Ｒ１'は、アルキルカルボニル又はエーテルＣＨ（Ｒａ）ＯＲｂ（Ｒａは水素又はメチルであり、Ｒｂは適当な保護基である）であり、及び
Ｒ３'はＣ１−４アルキルである）
脱離基Ｘで４位で置換したニトロベンゼンとを、
【化６】
2002516909.tif 000006
塩基と共に溶媒中で、約75℃において約１時間反応させて、主生成物として1-(4-ニトロフェニル)-3,5-二置換1H-ピラゾールを得、及び
【化７】
2002516909.tif 000007
微量生成物として異性体の1-(4-ニトロフェニル)-3,5-二置換-1H-ピラゾールを得る工程を含む前記製造方法。
【請求項１３】  医薬化合物を製造する際の中間体として有用な3-アルキル-1-(4-アミノフェニル)-5-置換-1H-ピラゾールを製造する方法であって、
（a）1-(4-ニトロフェニル)-3-[1-(テトラヒドロピラン-2-イルオキシ)アルキル]-5-置換-1H-ピラゾールと酸とを溶媒中で反応させて、アルコール3-(1-ヒドロキシアルキル)-1-(4-ニトロフェニル)-5-置換-1H-ピラゾールを得る工程；
（b）該アルコールを酸化剤で処理してケトン3-アルカノイル-1-(4-ニトロフェニル)-5-置換-1H-ピラゾールを得る工程；
（c）メチル-トリフェニルホスホニウムブロミドから誘導されるリンイリドによるウィッティッヒ反応を使用して、ケトンをオレフィン3-(1-アルキルビニル)-1-(4-ニトロフェニル)-5-置換-1H-ピラゾールに変換する工程；及び
（d）該オレフィンを還元条件下で反応させて3-アルキル-1-(4-アミノフェニル)-5-置換-1H-ピラゾールを得る工程；
を含む前記製造方法。
【請求項１４】  医薬化合物を製造する際の中間体として有用な5-シアノピラゾールを製造する方法であって、
（a）3-アセチルピリジンとジエチルオキサレートとを、適当な溶媒中、塩基の存在下で反応させて2,4-ジオキソ-4-ピリジン-3-イル酪酸エチルエステルを得る工程；
（b）該エステルとヒドラジンとを適当な溶媒中で縮合させて3,5-二置換ピラゾール, 3-(ピリジン-3-イル)-1H-ピラゾール-5-カルボン酸エチルエステルを形成する工程；
（c）該3,5-二置換ピラゾールエチルエステルと適当な塩基とを、適当な溶媒中で反応させてピラゾールの１位でアニオンを形成する工程；
（d）得られた１位にアニオンを有するピラゾールとフルオロニトロベンゼンとを反応させて、1-ニトロフェニル-3,5-二置換ピラゾールエチルエステル, 1-(4-ニトロフェニル)-3-(ピリジン-3-イル)-1H-ピラゾール-5-カルボン酸エチルエステルを製造する工程；
（e）1-ニトロフェニル-3,5-二置換ピラゾールエチルエステルを適当な溶媒中で適当な塩基により加水分解して、1-ニトロフェニル-3,5-二置換ピラゾールカルボン酸, 1-(4-ニトロフェニル)-3-(ピリジン-3-イル)-1H-ピラゾール-5-カルボン酸を形成する工程；
（f）1-ニトロフェニル-3,5-二置換ピラゾールカルボン酸と適当なクロロホルメートとを適当な塩基の存在下で反応させ、次いで水酸化アンモニムを添加することにより、1-ニトロフェニル-3,5-二置換ピラゾールカルボキシアミド, 1-(4-ニトロフェニル)-3-(ピリジン-3-イル)-1H-ピラゾール-5-カルボキシアミドを形成する工程；及び
（g）得られたカルボキシアミドを適当な溶媒中で適当な脱水剤により脱水することにより、1-ニトロフェニル-3,5-二置換ピラゾールカルボニトリル, 1-(4-ニトロフェニル)-3-(ピリジン-3-イル)-1H-ピラゾール-5-カルボニトリルを提供する工程；
を含む前記製造方法。