【手続補正書】
【提出日】平成18年3月17日(2006.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  式：
【化１】
2002510700.tif 000001
（式中、Ｍはチタン、ジルコニウム及びハフニウムからなる群から選ばれる第IV族金属であり、
Ｒ′は、それぞれ独立に、水素、ヒドロカルビル基、シリル基、ゲルミル基、スタンニル基及び２個又はそれ以上のＲ′基が結合して環を形成し得る基からなる群から選ばれ、
Ｌは炭素、ケイ素、ゲルマニウム及び錫からなる群から選ばれる第１４族元素を含む共有橋架け基であり、
Ｅは窒素、リン、ヒ素及びアンチモンからなる群から選ばれる第１５族元素であり、
Ｙは化合物を炭化水素可溶性にするアニオンであり、
Ｒは、それぞれ独立に、ヒドロカルビル基、シリル基、２個のＲ基が結合して環を形成し得る基並びにＬ基及びＲ基が結合して環を形成し得る基からなる群から選ばれ、
Ｘは、それぞれ独立に、水素、ハライド、ヒドロカルビル基、シリル基、アルコキシド、アリールオキシド、アミド、アリールアミド、ホスファイド、アリールホスファイド、カルボキシレート及びスルホネートからなる群から選ばれ、
Ｄは中性ルイス塩基であり、
ｍはＭの原子価及び酸化状態に依存して１，２又は３であり、
ｎは０，１又は２であり、
ｏは１又は２であり、
ｐは１又は２であり、
ｑは１又は２であり、そして
１≦ｑ≦ｐ≦ｏ≦２である）
のシクロペンタジエニル遷移金属化合物。
【請求項２】  Ｙがテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス〔３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル〕ボレート、テトラキス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボレート及びテトラキス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボレートからなる群から選ばれるアニオンである請求項１に記載の化合物。
【請求項３】  Ｙがテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートである請求項２に記載の化合物。
【請求項４】  〔（Ｃ5 Ｈ4 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ〔Ｈ〕Ｍｅ2)ＴｉＣｌ3 〕+ Ｙ- （但し、Ｙは化合物を炭化水素可溶性にするアニオンである）を含む請求項１に記載の化合物。
【請求項５】  Ｙがテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートである請求項４に記載の化合物。
【請求項６】  シクロペンタジエニル遷移金属化合物がモノシクロペンタジエニル遷移金属化合物である請求項１に記載の化合物。
【請求項７】  ｍが３である請求項６に記載の化合物。
【請求項８】  Ｍがチタン及びジルコニウムからなる群から選ばれる請求項１に記載の化合物。
【請求項９】  Ｍがチタンである請求項８に記載の化合物。
【請求項１０】  Ｒ′が、それぞれ独立に、水素及びＣ1 〜Ｃ4 アルキルからなる群から選ばれる請求項１に記載の化合物。
【請求項１１】  少なくとも２個のＲ′基が水素である請求項１０に記載の化合物。
【請求項１２】  Ｒ′が水素である請求項１０に記載の化合物。
【請求項１３】  ＬがＣＲ″2 ，ＣＲ″2 ＣＲ″2 ，ＣＲ″2 ＣＲ″2 ＣＲ″2 及びＣＲ″＝ＣＲ″（式中、Ｒ″は、それぞれ独立に、水素、Ｃ1 〜Ｃ14アルキル及びＣ1 〜Ｃ14アリールからなる群から選ばれる）からなる群から選ばれる共有橋架け基である請求項１に記載の化合物。
【請求項１４】  ＬがＣＲ″2 ，ＣＲ″2 ＣＲ″2 及びＣＲ″2 ＣＲ″2 ＣＲ″2 （式中、Ｒ″は、それぞれ独立に、水素及びメチルからなる群から選ばれる）からなる群から選ばれる請求項１３に記載の化合物。
【請求項１５】  ＬがＣＨ2 ＣＨ2 である請求項１４に記載の化合物。
【請求項１６】  Ｅが窒素及びリンからなる群から選ばれる請求項１に記載の化合物。
【請求項１７】  Ｅが窒素である請求項１６に記載の化合物。
【請求項１８】  Ｒが、それぞれ独立に、ヒドロカルビル基及び２個のＲ基が結合して環を形成し得る基から選ばれる請求項１に記載の化合物。
【請求項１９】  Ｘが、それぞれ独立に、ハライド及びアルコキシドからなる群から選ばれる請求項１に記載の化合物。
【請求項２０】  Ｘが、それぞれ独立に、塩素及びイソプロポキシドからなる群から選ばれる請求項１９に記載の化合物。
【請求項２１】  Ｘが塩素である請求項２０に記載の化合物。
【請求項２２】  ｎが１又は２であり、Ｄがエーテル及びテトラヒドロフランからなる群から選ばれる請求項１に記載の化合物。
【請求項２３】  ｎが０である請求項１に記載の化合物。
【請求項２４】  式：
【化２】
2002510700.tif 000002
（式中、Ｍはチタン、ジルコニウム及びハフニウムからなる群から選ばれた第IV族金属であり、
Ｒ′は、それぞれ独立に、水素、ヒドロカルビル基、シリル基、ゲルミル基、スタンニル基及び２個又はそれ以上のＲ′基が結合して環を形成し得る基からなる群から選ばれ、
Ｌは炭素、ケイ素、ゲルマニウム及び錫からなる群から選ばれる第１４族元素を含む共有橋架け基であり、
Ｅは窒素、リン、ヒ素及びアンチモンからなる群から選ばれる第１５族元素であり、
Ｒは、それぞれ独立に、ヒドロカルビル基、シリル基、２個のＲ基が結合して環を形成し得る基並びにＬ基及びＲ基が結合して環を形成し得る基からなる群から選ばれ、
Ｘは、それぞれ独立に、水素、ハライド、ヒドロカルビル基、シリル基、アルコキシド、アリールオキシド、アミド、アリールアミド、ホスファイド、アリールホスファイド、カルボキシレート及びスルホネートからなる群から選択され、
Ｄは中性ルイス塩基であり、
ｍはＭの原子価及び酸化状態に依存して１，２又は３であり、
ｎは０，１又は２であり、
ｏは１又は２であり、
ｐは１又は２であり、
ｑは１又は２であり、そして
１≦ｑ≦ｐ≦ｏ≦２である）
の化合物を、非配位又は弱配位アニオンを有するブレンステッド酸と反応させることを含んでなる請求項１に記載のシクロペンタジエニル遷移金属化合物の製造方法。
【請求項２５】  反応を、溶媒中で、−１００℃〜３００℃の温度で実施する請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】  温度が２５℃〜１００℃である請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】  ブレンステッド酸がＨＢ〔３，５−（ＣＦ3)Ｃ6 Ｈ2 〕4 ，ＨＢ（Ｃ6 Ｆ5)4 及びＣ6 Ｈ5 ＮＨ3 −Ｂ（Ｃ6 Ｆ5)4 から選ばれる請求項２４に記載の方法。
【請求項２８】  溶媒がハロゲン化溶媒である請求項２５に記載の方法。
【請求項２９】  式：
【化３】
2002510700.tif 000003
（式中、Ｍはチタン、ジルコニウム及びハフニウムからなる群から選ばれる第IV族金属であり、
Ｒ′は、それぞれ独立に、水素、ヒドロカルビル基、シリル基、ゲルミル基、スタンニル基及び２個又はそれ以上のＲ′基が結合して環を形成し得る基からなる群から選ばれ、
Ｌは炭素、ケイ素、ゲルマニウム及び錫からなる群から選ばれる第１４族元素を含む共有橋架け基であり、
Ｅは窒素、リン、ヒ素及びアンチモンからなる群から選ばれる第１５族元素であり、
Ｙは化合物を炭化水素可溶性にするアニオンであり、
Ｒは、それぞれ独立に、ヒドロカルビル基、シリル基、２個のＲ基が結合して環を形成し得る基並びにＬ基及びＲ基が結合して環を形成し得る基からなる群から選ばれ、
Ｘは、それぞれ独立に、水素、ハライド、ヒドロカルビル基、シリル基、アルコキシド、アリールオキシド、アミド、アリールアミド、ホスファイド、アリールホスファイド、カルボキシレート及びスルホネートからなる群から選ばれ、
Ｄは中性ルイス塩基であり、
ｍはＭの原子価及び酸化状態に依存して１，２又は３であり、
ｎは０，１又は２であり、
ｏは１又は２であり、
ｐは１又は２であり、
ｑは１又は２であり、そして
１≦ｑ≦ｐ≦ｏ≦２である）
の化合物を、ブレンステッド酸と反応させて式：
【化４】
2002510700.tif 000004
（式中、Ｍはチタン、ジルコニウム及びハフニウムからなる群から選ばれる第IV族金属であり、
Ｒ′は、それぞれ独立に、水素、ヒドロカルビル基、シリル基、ゲルミル基、スタンニル基及び２個又はそれ以上のＲ′基が結合して環を形成し得る基からなる群から選ばれ、
Ｌは炭素、ケイ素、ゲルマニウム及び錫からなる群から選ばれる第１４族元素を含む共有橋架け基であり、
Ｅは窒素、リン、ヒ素及びアンチモンからなる群から選ばれる第１５族元素であり、
Ｙはアニオンであり、
Ｒは、それぞれ独立に、ヒドロカルビル基、シリル基、２個のＲ基が結合して環を形成し得る基並びにＬ基及びＲ基が結合して環を形成し得る基からなる群から選ばれ、
Ｘは、それぞれ独立に、水素、ハライド、ヒドロカルビル基、シリル基、アルコキシド、アリールオキシド、アミド、アリールアミド、ホスファイド、アリールホスファイド、カルボキシレート及びスルホネートからなる群から選ばれ、
Ｄは中性ルイス塩基であり、
ｍはＭの原子価及び酸化状態に依存して１，２又は３であり、
ｎは０，１又は２であり、
ｏは１又は２であり、
ｐは１又は２であり、
ｑは１又は２であり、そして
１≦ｑ≦ｐ≦ｏ≦２である）
の中間生成物を生成させ、そして式（III)の中間生成物を、非配位又は弱配位アニオンの塩と反応させることを含んでなる請求項１に記載のシクロペンタジエニル遷移金属化合物の製造方法。
【請求項３０】  式（II）の化合物とブレンステッド酸との反応を、溶媒中で、−１００℃〜３００℃の範囲内の温度で実施し、そして式（III)の中間生成物と非配位又は弱配位アニオンの塩と反応を、溶媒中で−１００℃〜３００℃の範囲内の温度で実施する請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】  反応のそれぞれを２５℃〜１００℃で実施する請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】  ブレンステッド酸がハロゲン化水素、硫酸水素塩、リン酸水素塩及び硝酸水素塩からなる群から選択される請求項２９に記載の方法。
【請求項３３】  ブレンステッド酸がハロゲン化水素である請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】  非配位又は弱配位アニオンの塩がトリフェニルカルベニウム  テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ナトリウム  テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、リチウム  テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルカルベニウム  テトラキス（３，５−トリフルオロメチルフェニル）ボレート及びナトリウム  テトラキス（３，５−トリフルオロメチルフェニル）ボレートからなる群から選択される請求項２９に記載の方法。
【請求項３５】  （Ａ）請求項１に記載のシクロペンタジエニル遷移金属化合物並びに
（Ｂ）（１）アルモキサン、
（２）（Ａ）の化合物から１個の置換基Ｘを引き抜くことができる置換活性非配位又は弱配位アニオンの塩、
（３）（Ａ）の化合物から１個の置換基Ｘを引き抜くことができる中性ルイス酸、
（４）有機金属化合物（但し、金属はリチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、亜鉛、ホウ素及びアルミニウムからなる群から選ばれる）及び
（５）Ｂ（１）〜Ｂ（４）の混合物
からなる群から選ばれる活性化剤
を含んでなる触媒系。
【請求項３６】  （Ａ）の化合物が、請求項１に記載のモノシクロペンタジエニル遷移金属化合物である請求項３５に記載の触媒系。
【請求項３７】  （Ａ）の化合物及び（Ｂ）の活性化剤が１０0 〜１０6 のＡ／Ｂの比で存在する請求項３５に記載の触媒系。
【請求項３８】  Ａ／Ｂの比が１０2 〜１０5 である請求項３７に記載の触媒系。
【請求項３９】  Ｂ（１）のアルモキサンが、メチルアルモキサンであり、Ｂ（２）の置換活性非配位若しくは弱配位アニオンの塩が、ホウ酸塩及びアルミン酸塩からなる群から選ばれ、Ｂ（３）の中性ルイス酸が、ボラン及びアランからなる群から選択され、そしてＢ（４）の有機金属化合物が、アルキルボラン、アルキルアルミニウム及びアルキル亜鉛からなる群から選ばれる請求項３５に記載の触媒系。
【請求項４０】  Ｂ（４）の有機金属化合物がトリアルキルアルミニウムである請求項３９に記載の触媒系。
【請求項４１】  （Ａ）の化合物がホウ酸塩アニオンを有する請求項１に記載のモノシクロペンタジエニル遷移金属化合物であり、そして（Ｂ）の活性化剤がアルミニウムアルキルである請求項３５に記載の触媒系。
【請求項４２】  （Ａ）の化合物が担体に担持されている請求項３５に記載の触媒系。
【請求項４３】  担体がプレポリマー、酸化マグネシウム、シリカ、アルミナ及びカーボンブラックからなる群から選ばれる請求項４２に記載の触媒系。
【請求項４４】  （ｉ）少なくとも１種のオレフィンを、オレフィンを重合させるのに十分な温度、圧力及び時間、請求項３５に記載の触媒系と接触させる工程並びに（ii）得られたポリオレフィンを回収する工程を含んでなるポリオレフィンの製造方法。
【請求項４５】  温度が０℃〜３００℃であり、圧力が１気圧〜１，５００気圧であり、そして時間が１秒〜１２時間である請求項４４に記載の方法。
【請求項４６】  少なくとも１種のオレフィンがα−オレフィンである請求項４４に記載の方法。
【請求項４７】  α−オレフィンがＣ2 〜Ｃ8 α−オレフィンからなる群から選ばれる請求項４６に記載の方法。
【請求項４８】  α−オレフィンがエチレン又はプロピレンである請求項４７に記載の方法。
【請求項４９】  α−オレフィンがエチレンとＣ3 〜Ｃ8 コモノマー及びプロピレンとＣ4 〜Ｃ8 コモノマーから選択される請求項４７に記載の方法。
【請求項５０】  請求項４４に記載の方法によって製造されたポリオレフィン。