【手続補正書】
【提出日】平成18年5月16日(2006.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水を噴霧や散水したときにセルフクリーニング性を示す表面を有する酸化物セラミック支持材料のセラミック成形物体であって、より詳しくは、屋根タイル、タイル、クリンカーレンガ、またはファサード壁面であり、前記成形物体が、多孔質酸化物セラミックコーティングを有し、前記コーティングが、ＴｉＯ２を含んで光触媒的に活性であり、そしてその比表面積が２５ｍ２／ｇ〜２００ｍ２／ｇの間、好ましくは４０ｍ２／ｇ〜１５０ｍ２／ｇの間の範囲であり、前記ＴｉＯ２がＴｉＣｌ４を火炎加水分解させて得られるもので、高度に分散されたＴｉＯ２であることを特徴とする、セラミック成形物体。
【請求項２】
前記コーティングが、４０ｍ２／ｇ〜１００ｍ２／ｇの間の範囲の比表面積を有することを特徴とする、請求項１に記載のセラミック成形物体。
【請求項３】
前記コーティングの層の平均の厚みが、５０ｎｍ〜約５０μｍの間、好ましくは１００ｎｍ〜１０μｍの間の範囲であることを特徴とする、先行する請求項の１項に記載のセラミック成形物体。
【請求項４】
前記酸化物セラミック支持材料と前記光触媒的に活性で多孔質な酸化物セラミックコーティングとの間に配されるのが、凸部を有する少なくとも１つの層であるか、前記酸化物セラミック支持材料が凸部を有するか、および／または前記光触媒的に活性で多孔質な酸化物セラミックコーティングが凸部を有する層の形態であることを特徴とする、先行する請求項の１項に記載のセラミック成形物体。
【請求項５】
前記凸部が、前記酸化物セラミック支持材料に固定された粒子状物質により形成されることを特徴とする、請求項４に記載のセラミック成形物体。
【請求項６】
前記粒子状物質が、好ましくは砕石、耐火粘土、粘土、鉱物質、セラミック粉末たとえばＳｉＣ、ガラス、ガラスシャモット、およびそれらの混合物からなる群より選択される耐熱性の粉砕物質であることを特徴とする、請求項５に記載のセラミック成形物体。
【請求項７】
前記粒子および／または前記凸部の大きさが、１５００ｎｍまで、好ましくは５０ｎｍ〜７００ｎｍの間、さらに好ましくは５０ｎｍ〜２００ｎｍの間の範囲であることを特徴とする、請求項５または請求項６に記載のセラミック成形物体。
【請求項８】
前記光触媒的に活性で多孔質な酸化物セラミックコーティングが、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、およびそれらの混合物からなる群より選択される光触媒的に活性な酸化物セラミック材料をさらに含むことを特徴とする、先行する請求項の１項に記載のセラミック成形物体。
【請求項９】
前記成形物体の前記酸化物セラミック支持材料が、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、およびそれらの混合物からなる群より選択される光触媒的に活性な酸化物セラミック材料を含むことを特徴とする、先行する請求項の１項に記載のセラミック成形物体。
【請求項１０】
前記光触媒的に活性な酸化物セラミック材料が、５ｎｍ〜１００ｎｍの間、好ましくは１０ｎｍ〜５０ｎｍの間の範囲の平均粒径を有することを特徴とする、先行する請求項の１項に記載のセラミック成形物体。
【請求項１１】
前記光触媒的に活性で多孔質な酸化物セラミックコーティング中および／または前記酸化物セラミック支持材料中に含まれる前記ＴｉＯ２に、アナターゼ構造が、ＴｉＯ２の全量を基準にして、少なくとも一部、好ましくは少なくとも４０重量％の割合で存在することを特徴とする、先行する請求項の１項に記載のセラミック成形物体。
【請求項１２】
前記光触媒的に活性で多孔質な酸化物セラミックコーティング中および／または前記酸化物セラミック支持材料中に含まれる前記ＴｉＯ２に、アナターゼ構造が、ＴｉＯ２の全量を基準にして、少なくとも７０重量％の割合で存在することを特徴とする、先行する請求項の１項に記載のセラミック成形物体。
【請求項１３】
前記ＴｉＯ２が、７０重量％のアナターゼと３０重量％のルチルとの混合物として存在することを特徴とする、先行する請求項の１項に記載のセラミック成形物体。
【請求項１４】
前記コーティングが水に対して少なくとも１４０度の接触角またはエッジ角を有する超疎水性表面を有することを特徴とする、先行する請求項の１項に記載のセラミック成形物体。
【請求項１５】
前記コーティングの前記超疎水性表面が、オルモセレン、ポリシロキサン、アルキルシラン、および／またはフルオロシランを、好ましくはＳｉＯ２と組み合わせて使用することにより形成されることを特徴とする、請求項１４に記載のセラミック成形物体。
【請求項１６】
前記コーティングの前記超疎水性表面が凸部を有することを特徴とする、請求項１４または請求項１５に記載のセラミック成形物体。
【請求項１７】
前記超疎水性表面の前記凸部が、粒子状物質を使用して形成されていることを特徴とする、請求項１６に記載のセラミック成形物体。
【請求項１８】
水を噴霧や散水したときにセルフクリーニング性を示す表面を有する、酸化物セラミック支持材料のセラミック成形物体、より詳しくは、屋根タイル、タイル、クリンカーレンガ、またはファサード壁面を製造するための方法であって、前記成形物体が、２５ｍ２／ｇ〜２００ｍ２／ｇの間、好ましくは４０ｍ２／ｇ〜１５０ｍ２／ｇの間の範囲の比表面積を有する、ＴｉＯ２を含んで光触媒的に活性で多孔質な酸化物セラミックコーティングを有しており、
前記方法には以下の：
（ａ）ＴｉＣｌ４を火炎加水分解させて得られるもので、高度に分散されたＴｉＯ２を含む光触媒的に活性な酸化物セラミック粉末、調整剤および／または接着剤、および液相を混合して、懸濁液を得る工程、
（ｂ）工程（ａ）において得られた前記懸濁液を前記酸化物セラミック支持材料に塗布して層を形成させる工程、および
（ｃ）工程（ｂ）において得られた前記層を硬化させて、光触媒的に活性な多孔質の酸化物セラミックコーティングを製造する工程、を含む方法。
【請求項１９】
凸部を有する少なくとも１つの層を、先行する工程において前記酸化物セラミック支持材料に塗布し、そして、工程（ａ）において製造された前記懸濁液を、凸部を有する層を備えた前記酸化物セラミック支持材料に塗布し、次いで工程（ｃ）において硬化させることを特徴とする、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
追加として粒子状物質を工程（ａ）において添加することを特徴とする、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記酸化物セラミック支持材料の上に粒子状物質を固定することにより前記凸部が形成されることを特徴とする、請求項１８または請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
前記粒子状物質が、好ましくは砕石、耐火粘土、粘土、鉱物質、セラミック粉末たとえばＳｉＣ、ガラス、ガラスシャモット、およびそれらの混合物からなる群より選択される耐熱性の粉砕物質であることを特徴とする、請求項２０または請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記粒子状物質の平均粒径が、１５００ｎｍまで、好ましくは５０ｎｍ〜７００ｎｍの間、さらに好ましくは５０ｎｍ〜２００ｎｍの間の範囲にあることを特徴とする、請求項２０から２２までの１項に記載の方法。
【請求項２４】
工程（ａ）において使用される調整剤が有機粘度調整剤であることを特徴とする、請求項１８から２３までの１項に記載の方法。
【請求項２５】
前記有機粘度調整剤としてカルボキシメチルセルロースが使用されることを特徴とする、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
工程（ａ）において使用される接着剤がポリシロキサンであることを特徴とする、請求項１８から２５までの１項に記載の方法。
【請求項２７】
工程（ａ）における前記液相として水が使用されることを特徴とする、請求項１８から２６までの１項に記載の方法。
【請求項２８】
前記触媒活性を有するコーティングと前記酸化物セラミック支持材料との間の接着性を、工程（ｃ）において製造された前記光触媒的に活性で多孔質な酸化物セラミックコーティングに、レーザー光またはＮＩＲ光またはＵＶ光を照射する方法により改良することを特徴とする、請求項１８から２７までの１項に記載の方法。
【請求項２９】
工程（ａ）において使用される前記光触媒的に活性な酸化物セラミック粉末が、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、およびそれらの混合物からなる群より選択される材料をさらに含むことを特徴とする、請求項１８から２８までの１項に記載の方法。
【請求項３０】
前記成形物体の前記酸化物セラミック支持材料に含まれるのが、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、およびそれらの混合物からなる群より選択される光触媒的に活性な酸化物セラミック材料であることを特徴とする、請求項１８から２９までの１項に記載の方法。
【請求項３１】
工程（ａ）において使用される前記光触媒的に活性な酸化物セラミック粉末が、５ｎｍ〜１００ｎｍの間、好ましくは１０ｎｍ〜５０ｎｍの間の範囲の粒子を含むことを特徴とする、請求項１８から２９までの１項に記載の方法。
【請求項３２】
前記光触媒的に活性な酸化物セラミック粉末中および／または前記酸化物セラミック支持材料中に含まれる前記ＴｉＯ２に、アナターゼ構造が、ＴｉＯ２の全量を基準にして、少なくとも一部、好ましくは少なくとも４０重量％の割合で存在することを特徴とする、請求項１８から３１までの１項に記載の方法。
【請求項３３】
前記光触媒的に活性な酸化物セラミック粉末中および／または前記酸化物セラミック支持材料中に含まれる前記ＴｉＯ２に、アナターゼ構造が、ＴｉＯ２の全量を基準にして、少なくとも７０重量％の割合で存在することを特徴とする、請求項１８から３２までの１項に記載の方法。
【請求項３４】
前記光触媒的に活性な酸化物セラミック粉末中および／または前記酸化物セラミック支持材料中に含まれる前記ＴｉＯ２が、７０重量％のアナターゼと３０重量％のルチルとの混合物として存在することを特徴とする、請求項１８から３３までの１項に記載の方法。
【請求項３５】
工程（ｂ）において形成された前記層を、工程（ｃ）において、３００℃までの温度で乾燥させるか、および／または３００℃を超え１１００℃までの温度でか焼させることにより、硬化させることを特徴とする、請求項１８から３４までの１項に記載の方法。
【請求項３６】
工程（ｃ）におけるか焼操作の前に、前記液相を蒸発させることにより、工程（ｂ）において形成された前記層を少なくとも部分的に予備乾燥させることを特徴とする、請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】
工程（ｃ）において硬化させた前記コーティングを疎水化させて、水に対して少なくとも１４０度の接触角またはエッジ角を有する超疎水性表面を形成させることを特徴とする、請求項１８から３６までの１項に記載の方法。
【請求項３８】
工程（ａ）において追加として疎水化剤を添加し、工程（ｂ）で製造された前記コーティングを工程（ｃ）において３００℃までの温度で乾燥させることにより硬化させることを特徴とする、請求項１８から３４までの１項に記載の方法。
【請求項３９】
無機−有機ハイブリッド分子、好ましくはポリシロキサン溶液を疎水化のために使用することを特徴とする、請求項３７または請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
疎水化操作のために、オルモセレン、アルキルシランおよび／またはフルオロシランを、好ましくはＳｉＯ２との混合物で使用することを特徴とする、請求項３７または請求項３８に記載の方法。
【請求項４１】
前記疎水化操作において、粒子状物質を添加して凸部を有する超疎水性表面を形成させることを特徴とする、請求項３７から４０までの１項に記載の方法。
【請求項４２】
屋根タイル、タイル、クリンカーレンガ、またはファサード壁面のための酸化物セラミックコーティング中における、ＴｉＣｌ４を火炎加水分解させて得られる高度に分散されたＴｉＯ２の使用。