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　特願２０００−５２７５６９「エチレンのホモポリマーおよびコポリマー」拒絶査定不服審判事件〔平成１１年７月１５日国際公開、ＷＯ９９／３５１７４、平成１４年１月８日国内公表、特表２００２−５００２４９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１．手続の経緯 
　本願は、平成１１年１月５日（パリ条約による優先権主張　１９９８年１月７日　グレート・ブリテン及び北部アイルランド連合王国）を国際出願日とする特許出願であって、平成２０年９月２２日付けで拒絶理由が通知され、平成２１年３月２５日に意見書並びに誤訳訂正書及び手続補正書が提出され、同年７月２８日付けで拒絶査定がなされ、それに対して、同年１２月３日に拒絶査定不服審判が請求され、平成２２年１月２０日に手続補正書（補正対象書類：審判請求書）が提出されたものである。
　
第２．本願発明
　本願の請求項１〜１８に係る発明は、平成２１年３月２５日付け誤訳訂正書及び手続補正書により補正された明細書（以下、「本願明細書」という。）及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲請求項１〜１８に記載された事項により特定されるとおりのものと認められ、そのうち、請求項１に係る発明、請求項７に係る発明及び請求項１１に係る発明（以下、それぞれ「本願発明１」、「本願発明７」及び「本願発明１１」という。）は次のとおりのものである。
　
「【請求項１】エチレンと３〜２０個の炭素原子を有する１種もしくはそれ以上のα−オレフィンとのコポリマーにおいて：
（ａ）ＧＰＣ／オンライン粘度測定法によって測定される、０．５〜０．９の範囲の長鎖分枝ｇ'値と、
（ｂ）０．６〜１．４の範囲の導関数δ（ＭＳ）／δ（Ｐ）の数値［ここでＭＳはｃＮで表したコポリマーの溶融強度であり、ＰはＭＰａで表したコポリマーの押出圧力である］と
を有することを特徴とするコポリマー。」
　
「【請求項７】エチレンと３〜２０個の炭素原子を有する１種もしくはそれ以上のα−オレフィンとのコポリマーにおいて：
（ａ）ＧＰＣ／オンライン粘度測定法によって測定される、０．５〜０．９の範囲の長鎖分枝ｇ'値と、
（ｂ）７．５〜１２．０の範囲の導関数δ（ＭＳ）／δ（ｌｏｇγ）の数値［ここでＭＳはｃＮで表したコポリマーの溶融強度であり、γは秒-1で表したコポリマーの剪断速度である］と
を有することを特徴とするコポリマー。」
　
「【請求項１１】エチレンのホモポリマーまたはエチレンと３〜２０個の炭素原子を有する１種もしくはそれ以上のα−オレフィンとのコポリマーにおいて、０．６５〜０．８の長鎖分枝ｇ'値を有することを特徴とするホモポリマーもしくはコポリマー。」
　
第３．原査定における拒絶の理由について
　原査定は、「この出願については、平成２０年９月２２日付け拒絶理由通知書に記載した理由３、４によって、拒絶をすべきものです。」としているが、このうち、「理由３」は、「この出願は発明の詳細な説明の記載が特許法第３６条第４項に規定する要件を満たしていない。」というものである。　そして、平成２０年９月２２日付け拒絶理由通知書には、この「理由３」について、次の事項が備考として付記されている。
「（２）本願明細書の発明の詳細な説明の欄には、長鎖分枝ｇ'値、導関数δ（ＭＳ）／δ（Ｐ）の数値、導関数δ（ＭＳ）／δ（ｌｏｇγ）の数値と、重合条件との関係が何ら説明されていない。
　このため、請求項１−４０に記載の要件を満たす任意の長鎖分枝ｇ'値、任意の導関数δ（ＭＳ）／δ（Ｐ）の数値または任意の導関数δ（ＭＳ）／δ（ｌｏｇγ）の値を有する重合体を製造する場合に、どのような条件で行えば、目的とする重合体を製造できるのか、本願出願時の技術常識を参酌しても、当業者が、理解できるものとは認められない。」
　また、原査定である平成２１年７月２８日付け拒絶査定には、上記した事項に加え、次の点がさらに付記されている。
「一方、出願人は、平成２１年３月２５日付け意見書において、実施例に重合方法が記載されている点を主張するのみで、重合条件と長鎖分枝ｇ'値、導関数δ（ＭＳ）／δ（Ｐ）の数値、導関数δ（ＭＳ）／δ（ｌｏｇγ）の数値との関係について何ら示していない。」
　
第４．原査定の妥当性
１．本願明細書における発明の詳細な説明が、特許法第３６条第４項に規定する要件を満たしているか、すなわち、当業者が本願発明１及び７の「コポリマー」並びに本願発明１１の「ホモポリマーもしくはコポリマー」の実施をすることができる程度に明確にかつ十分に記載したものであるか否かについて検討する。
　
２．本願明細書の発明の詳細な説明における記載
　本願明細書の発明の詳細な説明には次の記載がある。
ア．「本発明は、新規なポリマー、特に広分子量分布と強靱性と向上した処理性とを有する新規なコポリマーに関するものである。」（段落0001）
　
イ．「近年、メタロセン触媒の導入に基づきポリオレフィンコポリマーの製造にて多くの進歩がなされている。メタロセン触媒は、一般にチーグラー触媒よりも高い活性を有するという利点を与え、単一部位の性質である触媒として通常説明されている。その単一部位性のため、メタロセン触媒により製造されるポリオレフィンコポリマーはしばしばその分子構造が極めて均一である。たとえば、従来のチーグラー製造物質と比較し、これらは比較的狭い分子量分布（ＭＷＤ）および狭い単鎖分枝分布（ＳＣＢＤ）を有する。メタロセン生成物の或る種の性質は狭いＭＷＤにより向上されるが、しばしばこれら物質を有用な物品およびフィルムまで処理する際にチーグラー製造物質と比べ困難に遭遇する。さらに、メタロセン製造物質のＳＣＢＤにおける均一性は或る種の構造体を容易には得ることを可能にしない。
　処理性を向上させる手法は長鎖分枝（ＬＣＢ）を含ませることであり、これは有利な性質を損傷することなく処理性を向上させる観点から特に望ましい。……
　他の手法は、フィルムもしくは物品まで加工する前にポリマーにポリマー処理助剤を添加することである。……
　この問題に対する異なる手法は個々のポリマー物質の配合物もしくは混合物である組成物を作成することであり、その目的は処理問題を最小化しながら所定成分の有利な性質を最大化させることにある。……
　処理問題の解決策を与えるとともにＳＣＢＤを変化させる他の方法は、材料をたとえば一連の反応器におけるような異なる反応器条件下で一連の重合により製造する各種のカスケード過程の開発であった。実質的に、配合物に或る程度類似する物質が、たとえば分子量分布のような各種の物理的性質の１つより多い様相で製造される。優秀な処理特性を有するポリオレフィン組成物をこのように作成しうるが、これら方法は単一反応器の使用に比べ高価かつ複雑である。……
　処理性を改善するとともにＳＣＢＤを変化させる他の有力可能な手法は多成分触媒を使用することであった。或る種の場合、同一の支持体にメタロセン触媒と慣用のチーグラー・ナッタ触媒とを有する触媒がマルチモダル物質を製造すべく使用される。他の場合、２種のメタロセン触媒がポリオレフィン重合に使用されている。異なる分子量の各成分および組成物は、単一群の重合条件下で操作される単一反応器で製造される。」（段落0002〜0007）
　
ウ．「極めて処理容易であると共に好ましくは単一の反応器を用いる重合法で好ましくは支持された単一メタロセン触媒系を用い、好ましくは気相にて半連続的または好ましくは単一群の反応器条件下で連続的に操作して製造されるポリオレフィンコポリマー組成物を製造しうることが望ましい。
　さらに、高分枝低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）と同様な処理性および衝撃強度を有するポリマーを製造することも望ましい。
　さらに低密度ポリエチレンフィルム用途にて使用するのに適する上記性質を持ったポリマーを製造することも極めて望ましい。
　今回、向上した処理性を有すると共に特定の溶融強度特性を有するエチレンとα−オレフィンとのコポリマーを製造しうることが判明した。この種のコポリマーは有利には単一の気相流動床反応器を用い単一のメタロセン触媒系を使用して製造される。」（段落0012〜0015）
　
エ．「本発明のホモポリマーおよびコポリマーは好適には、単一の反応器にて単一メタロセン触媒系の存在下に所要モノマーを連続重合させて作成される。連続重合という用語は、ホモポリマーおよびコポリマー生成物の連続的もしくは定期的抜き取りと並行して反応器へ各モノマーを連続供給しながら少なくとも顕著な時間にわたり操作される方法を意味する。好ましくは連続重合は気相にて高められた温度でポリマー粒子の流動床の存在下に行われ、流動床を内蔵する反応器の入口と出口とを連結するループの周囲に未反応モノマーを連続循環させる。２種の可能な手法の例が……に記載されている。……。メタロセン触媒系はメタロセン錯体と活性化用助触媒とからなり、気相法の場合は好ましくは不活性キャリヤ（たとえばシリカ）に支持される。触媒系は必要に応じ予備重合させ、かつ／またはたとえばアルミニウムアルキルのような第ＩＩＩａ族金属アルキル掃去剤の存在下で用いることができる。
　本発明のホモポリマーおよびコポリマーを作成すべく使用しうる適するメタロセン錯体は、１〜３個のη5結合シクロペンタジエニル、インデニルもしくはフルオレニルリガンドを有する第ＩＶＢ族（すなわちチタン族）の有機金属錯体からなっている。これらリガンドは未置換またはその炭素原子の１個もしくはそれ以上にて限定はしないが１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基を包含する置換基で置換することができ、最も好適なメタロセン錯体はシクロペンタジエニル、インデニルおよびフルオレニルリガンドの少なくとも２個が二価の架橋基、たとえば１〜８個の炭素原子を有するアルキレン基または……により互いに接続されたものである。……
　この種の錯体におけるインデニルもしくはフルオレニルリガンドはその水素化誘導体の形態とすることもできる。
　最も好適なメタロセン錯体は次の一般式：
【化４】
［式中、Ｍはチタン、……であり、
Ｄは必要に応じ……で置換された安定な共役ジエンであり或いはルイス塩基官能価を有することもでき、前記Ｄは４〜４０個の非水素原子を有すると共にＭと一緒にπ−錯体を形成し、
Ｚは１〜２０個の炭素原子を有するアルキレン基または……からなる架橋基であり、
Ｒは水素または……であり、ｘは１〜６である］
を有するものである。
　この群における最も好適なメタロセン錯体は、Ｘ−線回折もしくはＮＭＲにより証明されるように、Ｄリガンドがη3様式でＭ原子にπ−結合したものである。この種のメタロセン錯体は＋２酸価状態にあるＭ原子により特性化される。
　好適錯体は、Ｍがジルコニウムであると共にＺがエチレン（ＣＨ2ＣＨ2）であるものである。
　Ｄリガンドは特に好ましくは次の群から選択される：
……；ｓ−ｃｉｓ−η4−１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン；……
（前記ｓ−ｃｉｓジエン基は金属と共にここに規定したしたようにπ−錯体を形成する）。
　外部置換ジエンと特に１，４−ジフェニル置換ブタジエンが特に適している。
　……
　最も好適な錯体はエチレンビス（インデニル）ジルコニウム（ＩＩ）１，４−ジフェニルブタジエンであって、次式：
【化５】
を有する。
　さらに水素化同族体、すなわちエチレンビス（テトラヒドロインデニル）ジルコニウム（ＩＩ）１，４−ジフェニルブタジエンも好適である。
　上記メタロセン錯体と共に使用するのに適する活性化用助触媒は好ましくはトリ（ヒドロカルビル）ボラン、特にトリアルキルボランもしくはトリアリールボランである。最も好適な助触媒は過弗素化トリ（アリール）硼素化合物、最も好ましくはトリス（ペンタフルオロフェニル）ボランである。他の活性化剤は、プロトンをメタロセン錯体におけるリガンドの１種に供給しうるブレンステッド酸であるカチオンの硼酸塩を包含する。……
　本発明のメタロセン錯体と共に使用するのに適する他の種類の活性化剤は、（Ａ）カチオンとアニオン（ここでアニオンは活性水素を有する成分からなる少なくとも１個の置換基を有する）とからなるイオン性化合物と、（Ｂ）金属もしくはメタロイドが周期律表第１〜１４族からのものである有機金属もしくはメタロイド化合物との反応生成物である。
　……
　この種類の特に好適な活性化剤は、アルキルアンモニウムトリス（ペンタフルオロフェニル）４−（ヒドロキシフェニル）ボレートとトリアルキルアミンとから得られる反応生成物である。たとえば好適活性化剤は、ビス（水素タロウアルキル）メチルアンモニウムトリス（ペンタフルオロフェニル）（４−ヒドロキシフェニル）ボレートとトリエチルアミンとの反応生成物である。
　……
　本発明に使用するのに適するメタロセン触媒系は特に好適には支持される。典型的には、支持体は任意の有機もしくは無機不活性固体とすることができる。しかしながら、たとえばタルク、無機酸化物のような特に多孔質の支持体、並びに……が好適である。使用しうる適する無機酸化物材料はたとえばシリカ、……を包含する。……
　本発明の方法により支持触媒と共に使用するのに最も適する支持物質はシリカである。適するシリカはクロスフィールドＥＳ７０およびダビッドソン９４８シリカを包含する。
　シリカは使用前に乾燥させるのが好適であり、これは典型的にはたとえば２００〜８５０℃の高められた温度で加熱して行われる。
　他面において本発明のエチレンのホモポリマーまたはエチレンと３〜２０個の炭素原子を有する１種もしくはそれ以上のα−オレフィンとのコポリマーは、メタロセン錯体と活性化用助触媒（この活性化用助触媒はアルキルアルミノキサン、たとえばメチルアルミノキサン（ＭＡＯ）でない）とからなる単一のメタロセン触媒の存在下に作成することができる。」（段落0041〜0062）
　
オ．「
実施例１（Ｚｒ（ＩＩ）重合触媒の作成および使用
（ｉ）　
シリカの処理
　１１０リットルのヘキサンにおけるクロスフィールドＥＳ７０シリカ（２０ｋｇ、予め５００℃にて５時間にわたり焼成）の懸濁物を窒素下で２４０リットル容器にて作成し、３．０ｇのスタジス４２５（１リットルのヘキサンで希釈）を添加した。ヘキサンにおけるＴＥＡの溶液（３０．０モル、０．９４０Ｍ溶液）をゆっくり撹拌懸濁物に３０分間かけて添加すると共に、懸濁物の温度を３０℃に維持した。懸濁物をさらに２時間にわたり撹拌した。ヘキサンをデカントし、シリカをヘキサンで洗浄して最終洗液におけるアルミニウム含有量を１ミリモルＡｌ／リットル未満にした。最終的に懸濁物を６０℃で減圧乾燥させて、自由流動性の処理シリカ粉末を得た。
（ｉｉ）　
触媒の製造
　モレキュラシーブ（３５０ｍｌ）で乾燥させたトルエンを、乾燥窒素グローブボックス内の大シュレンク管における１００ｇの処理シリカ粉末に添加した。チューブを充分振とうして懸濁物を形成させると共に１時間にわたり静置させた。懸濁物にトルエンにおけるトリス（ペンタフルオロフェニル）硼素の溶液（１１．３ｍｌ、７．８５重量％、ｄ＝０．８８ｇ／ｍｌ）を注射器により添加した。次いでｒａｃエチレンビスインデニルジルコノセン１−４ジフェニルブタジエン（０．８４５ｇ）を添加した。混合物を充分５分間にわたり振とうし、次いで室温で減圧乾燥させて自由流動性の桃色／赤色粉末を得た。
（ｉｉｉ）　
エチレン／ヘキセン−１コポリマーの気相流動床製造
　エチレンとヘキセン−１と水素と窒素とを、直径１５ｃｍの連続流動床反応器システムを用いて重合させた。ポリマー生成物を反応器から定期的間隔にて取り出した。操作条件を表１に示す。生成物は白色の自由流動性粉末であった。
実施例２及び３（Ｚｒ（ＩＩ）触媒の作成および使用）
（ｉ）　
シリカ支持体の処理
　１１０リットルのヘキサンを窒素下で２４０リットル容器に入れ、１．７ｇのスタジス４２５（１重量％にてヘキサンで希釈）を添加した。次いで１１ｋｇのＥＳ７０クロスフィールドシリカ（予め５００℃にて５時間にわたり乾燥）を添加した。次いで１６．５モルのＴＥＡ（ヘキサン中０．８７モル）を３０分間かけて３０℃にて添加した。２時間の保持時間の後、ヘキサンをデカントし、シリカを１３０リットルヘキサンで６回洗浄した。
（ｉｉ）　
触媒の製造
　上記のように処理したシリカを乾燥させ、次いで３８リットルのトルエンを添加した。トルエンにおける１１．７ｋｇのｒａｃエチレンビスインデニルジルコノセン１−４ジフェニルブタジエン溶液（１．３２重量％）を１５分間かけて室温にて添加した。０．７ｇのスタジス４２５（トルエン中に１重量％で希釈）を添加した。次いで触媒を４０℃で減圧（４ｍｍＨｇ）乾燥して自由流動性粉末を得た。
　次いで２．３３ｋｇのトリスペンタフルオロフェニル硼素溶液（トルエン中６．１２重量％）を２時間かけて室温にて添加すると共に連続撹拌を維持した。撹拌を維持しながら再び１時間の保持時間の後、残留溶剤を有する桃色／赤色触媒が得られた。
（ｉｉｉ）　
エチレン／ヘキセン−１コポリマーの気相流動床製造
　エチレンとヘキセン−１と水素と窒素とを直径４５ｃｍの連続流動床反応器に供給した。ポリマー生成物を反応器から連続的に抜き取った。操作条件を表１に示す。
実施例４
（ｉ）　
シリカの処理
　１１０リットルのヘキサンにおけるＥＳ７０シリカ（１６ｋｇ、予め５００℃にて５時間にわたり焼成）を窒素下で２４０リットルの容器にて作成した。１リットルのヘキサンで希釈された１．７ｇのスタジス４２５を添加した。ヘキサンにおけるＴＥＡの溶液（２４．０モル、１．０Ｍ溶液）をゆっくり撹拌懸濁物に３０分かけて添加すると共に、懸濁物の温度を３０℃に維持した。懸濁物をさらに２時間撹拌した。ヘキサンを濾過し、シリカをヘキサンで洗浄して最終洗液におけるアルミニウム含有量が１ミリモルＡｌ／リットル未満となるようにした。最終的に、懸濁物を６０℃で減圧乾燥させて自由流動性の処理シリカ粉末を得た。
（ｉｉ）　
触媒加工
　４１．６リットルのトルエンを上記処理シリカ粉末に添加した。次いでトルエンにおける１２．６７ｋｇのｒａｃエチレンビスインデニルジルコノセン１−４ジフェニルブタジエン溶液（１．１６重量％）を１５分間かけて室温で添加し、次いで２５℃に１５分間保った。１リットルのトルエンで希釈された５０ｐｐｍのスタジス４２５を添加した。次いで触媒を４０℃で減圧乾燥させて自由流動性粉末を得た。
　次いでトルエンにおける２．２２ｋｇのトリス（ペンタフルオロフェニル）硼素溶液（６．１２重量％）を２時間かけて室温にて添加すると共に連続撹拌を維持した。再び撹拌を維持する１時間の保持時間の後、残留溶剤を有する触媒が得られた。
（ｉｉｉ）　
エチレン−ヘキセン−１コポリマーの気相流動床製造
　重合を、表１に要約した条件下で実施例１と同様に行った。
実施例５
（ｉ）　
シリカの処理
２６．２４ｋｇのＴＥＡ処理ＥＳ７０シリカを、実質的に実施例４に記載したように窒素下でドライヤーにて作成した。
（ｉｉ）　
触媒加工
　ビス（水素化タロウアルキル）メチルアンモニウムトリス（ペンタフルオロフェニル）（４−ヒドロキシフェニル）ボレートのトルエンにおける１０リットルの０．０８０９Ｍ溶液を、トルエンにおける０．９リットルのＴＥＡ（１．０１Ｍ）と混合した。この混合物を撹拌しながら処理シリカに添加すると共に、４５分間にわたり混合した。溶剤を３１℃の温度にて１時間にわたり減圧除去した。トルエンにおける２５リットルの０．０２１Ｍ　ｒａｃエチレンビスインデニルジルコノセン１−４ジフェニルブタジエンを添加し、４５分間にわたり混合した。溶剤を１０５分間かけて減圧下で３４℃にて除去した。仕上触媒はスチール灰色であり、０．２５％未満の残留溶剤を含有した。
（ｉｉｉ）　
エチレン−ヘキセン−１−コポリマーの気相流動床製造
　重合を、表１に要約した条件下で実施例２および３と同様に行った。
実施例６
（ｉ）　
シリカ支持体の処理
　１１０リットルのヘキサンにおけるＥＳ７０シリカの懸濁物（１６ｋｇ、予め５００℃にて５時間にわたり焼成）を窒素下に２４０リットルの容器で作成した。１．７ｇのスタジス４２５の溶液（ヘキサン１リットル中）を添加した。ヘキサンにおけるＴＥＡの溶液（２４．０モル、０．８３８Ｍ溶液）をゆっくり撹拌懸濁物に３０分かけて添加すると共に、懸濁物の温度を３０℃に維持した。この懸濁物をさらに２時間撹拌した。ヘキサンを濾過し、シリカをヘキサンで洗浄して最終洗液におけるアルミニウム含有量が０．５ミリモルＡｌ／リットル未満となるようにした。最終的に、懸濁物を６０℃で減圧乾燥させて自由流動性の処理シリカ粉末を得た。
（ｉｉ）　
触媒の製造
　全操作は乾燥ボックス内で不活性窒素雰囲気下に行った。ビス（水素化タロウアルキル）メチルアンモニウムトリス（ペンタフルオロフェニル）（４−ヒドロキシフェニル）ボレートのトルエンにおける６４．５ｍｌの０．０７３Ｍ溶液に、トルエンにおける２０．８ｍｌの０．２５Ｍ　Ｅｔ3Ａｌを添加した。８４．７ｍｌのこの混合物を定量的に３リットル丸底フラスコにおける１５０ｇの処理シリカに添加し、得られた混合物を室温にて３０分間撹拌した。溶剤を３０℃にて減圧除去して、もはや揮発物の蒸発が観察されなくなる点まで除去した。その直後に、トルエンにおける１３８．３ｍｌの０．０１７Ｍ　ｒａｃエチレンビステトラヒドロインデニルジルコノセン１−４ジフェニルブタジエンを添加すると共に、粉末を再び室温にて３０分間撹拌した。溶剤を室温にて減圧下に、もはや揮発物の蒸発が観察されなくなる点まで除去した。
（ｉｉｉ）　
エチレン／ヘキセン−１コポリマーの気相流動床製造
　重合を、表１に要約した条件下で実施例１と同様に行った。
実施例７
　全操作を乾燥ボックス内で不活性窒素雰囲気下に行った。
（ｉ）　
シリカの処理
　５００℃にて空気中で焼成された２０ｇのクロスフィールドＥＳ７０シリカを２５０ｍｌのシュレンクフラスコに正確に秤量した。１２５ｍｌのヘキサンを添加してスラリーを作成した。ヘキサンにおける３０．８ｍｌの１．０Ｍ　ＴＥＡを添加すると共にフラスコを手で回動させ、フラスコを１時間にわたり静置させた。処理シリカをフリットで濾過すると共にヘキサンで数回洗浄した。シリカを減圧下に室温にて一定重量まで乾燥させた。２１．７ｇの処理シリカが回収された。
（ｉｉ）　
触媒の製造
　２ｇの上記処理シリカを１００ｍｌのシュレンクフラスコに正確に秤量し、次いで８ｍｌのトルエンを添加してスラリーを作成した。トルエンにおける２．４ｍｌの０．０１７Ｍ　ｒａｃエチレンビステトラヒドロインデニルジルコノセン１−４ジフェニルブタジエンと０．５ｍｌの０．１２７Ｍトリス（ペンタフルオロフェニル）硼素とをその順序で添加すると共にフラスコを手動で回動させた。溶剤を室温にて減圧下に一定重量まで除去した。１．９ｇの触媒粉末が回収された。
（ｉｉｉ）　
エチレン−ヘキセン−１コポリマーの気相製造
　重合を２．５リットルの撹拌固定床オートクレーブで行った。これには３００ｇの乾燥ＮａＣｌを充填すると共に、撹拌を３００ｒｐｍにて開始させた。反応器を５００ｐｐｍ容量の水素を含有する８．３９バールのエチレンまで加圧すると共に７１℃まで加熱した。１−ヘキセンを、質量スペクトロメータで測定して６０００ｐｐｍ容量のレベルまで導入した。０．５ｇのＴＥＡを反応器に導入した。別の容器にて０．１ｇの触媒を追加０．５ｇのＴＥＡ処理シリカと混合した。合した触媒およびＴＥＡ処理シリカを次いで反応器に注入した。エチレン圧力を要求に応じ供給物にて維持し、ヘキセンを液体として反応器に供給することによりｐｐｍ濃度を維持した。二重加熱および冷却浴により温度を調整した。１８０分間の後、反応器を圧力解除させ、次いで塩およびポリマーを放出弁を介して除去した。ポリマーを著量の蒸留水で洗浄して塩を除去し、次いで５０℃にて乾燥させた。２８２ｇの白色ポリマー粉末が回収された。
【表１】
【表２】
【表３】
」（段落0091〜0114）
　
３．本願発明１について
　本願発明１に係るコポリマーは、「広分子量分布と強靱性と向上した処理性とを有する」（摘示ア）ものである。従来、メタロセン触媒をして製造したポリオレフィンコポリマーは、狭い分子量分布（ＭＷＤ）と狭い単鎖分枝分布（ＳＣＢＤ）のため、フィルムまで処理するのが困難であり、その処理性を向上させる手法として、(i)長鎖分枝（ＬＣＢ）を含ませること、(ii)フィルムまで加工する前にポリマーにポリマー処理助剤を添加すること、(iii)個々のポリマー物質の配合物又は混合物である組成物を作成すること、(iv)一連の反応器におけるような異なる反応器条件下で一連の重合（カスケード過程）により製造すること、(v)多成分触媒を使用することなどが試みられたが、コストが増大したり、処理が複雑なものであった（摘示イ）。このため、単一の気相流動床反応器を用い、単一メタロセン触媒系を使用して製造されるものである（摘示ウ）。
　そして具体的な製造方法としては摘示エに記載されているとおりであり、当該箇所には、好ましいメタロセン触媒、活性化用助触媒及び支持物質についても記載されている。
　しかしながら、上記の製造方法において、本願発明１で特定する「（ａ）０．５〜０．９の範囲の長鎖分枝ｇ'値」及び「（ｂ）０．６〜１．４の範囲の導関数δ（ＭＳ）／δ（Ｐ）の数値」との関係についての記載は一切なく、どのようにすれば、長鎖分岐ｇ'値が「０．５〜０．９の範囲」となるのか、また、導関数δ（ＭＳ）／δ（Ｐ）の数値が「０．６〜１．４の範囲」となるかについては全く不明である。
　そこで、実施例（摘示オ）に記載されるその製造方法と「長鎖分岐ｇ'値」及び「導関数δ（ＭＳ）／δ（Ｐ）」の数値との関係について検討する。
　まず、これらの実施例は、すべてエチレンとα−オレフィンとしての１−ヘキセンとのコポリマーを製造している点で同じであり、その製造方法を検討すると、触媒についは、実施例１〜５は同じメタロセン錯体である「ｒａｃエチレンビスインデニルジルコノセン１−４ジフェニルブタジエン」が使用され、実施例６、７では「ｒａｃエチレンビステトラヒドロインデニルジルコノセン１−４ジフェニルブタジエン」が使用されており、また、活性化用助触媒については、実施例１〜４及び７では「トリスペンタフルオロフェニル硼素」が使用され、実施例５及び６では「ビス（水素化タロウアルキル）メチルアンモニウムトリス（ペンタフルオロフェニル）（４−ヒドロキシフェニル）ボレートとトリエチルアルミニウムとの反応生成物」が使用されており、さらに、支持物質はいずれも乾燥シリカをＴＥＡで処理した「ＴＥＡ処理シリカ」を使用している。
　ここで、これらの、メタロセン錯体、活性化用助触媒及び支持物質については、すべて摘示エで好適なものと記載されているものに該当する。なお、活性化用助触媒については、「たとえば好適活性化剤は、ビス（水素化タロウアルキル）メチルアンモニウムトリス（ペンタフルオロフェニル）（４−ヒドロキシフェニル）ボレートとトリエチルアミンとの反応生成物である。」と記載されているが、「トリエチルアミン」は「トリエチルアルミニウム」の誤記と認められる。
　また、製造装置については、実施例１〜６は、いわゆる「気相連続流動床反応器」（実施例１、４、６は直径１５ｃｍ、実施例２、３、５は直径４５ｃｍ）を使用しているが、実施例７は「気相撹拌固定床オートクレーブ」を使用している点で実施例１〜６とは相違するものである。
　そして、製造されたエチレン／ヘキセン−１コポリマーについてみれば、実施例１〜４については、「長鎖分岐ｇ'値」（摘示オの
表２
表２（続き）
　これらを検討すると、実施例７は「連続流動床反応器」を用いない点で本願発明１の実施例とはいえないとしても、実施例５及び６は、「連続流動床反応器」を用い、摘示エに記載された製造条件（メタロセン錯体、活性化用助触媒及び支持物質）をすべて採用するにもかかわらず、導関数δ（ＭＳ）／δ（Ｐ）の数値が本願発明１で特定する範囲から外れており、また長鎖分枝ｇ'値はなぜか測定されておらず、したがって本願発明１の実施例に該当するということはできない。
　また、本願発明１は「広い分子量分布」を有するコポリマーを製造することをその目的としているが（摘示ア）、摘示オの表２には、実施例１〜４においては分子量分布「Ｍｗ／Ｍｎ」が５．０〜５．９と広いものが得られているのに対し、実施例５〜７では「３．５〜３．７」と狭いものしか得られていないことが明らかである。このことからも、実施例５〜７が本願発明１の実施例に該当するということはできない。
　そうすると、「気相連続流動床反応器」を使用し、「ＴＥＡ処理シリカ」を支持物質とし、メタロセン錯体として「ｒａｃエチレンビスインデニルジルコノセン１，４−ジフェニルブタジエン」又は「ｒａｃエチレンビステトラヒドロインデニルジルコノセン１，４−ジフェニルブタジエン」及び活性化用助触媒として「トリス（ペンタフルオロフェニル）硼素」又は「ビス（水素化タロウアルキル）メチルアンモニウムトリス（ペンタフルオロフェニル）（４−ヒドロキシフェニル）ボレートとトリエチルアルミニウムの反応生成物」を使用したとしても必ずしも本願発明１に係る「エチレンと３〜２０個の炭素原子を有する１種もしくはそれ以上のα−オレフィンとのコポリマー」を製造できるか否かは明らかではなく、どのようにすれば、長鎖分岐ｇ'値を「０．５〜０．９の範囲」と、また、導関数δ（ＭＳ）／δ（Ｐ）の数値を「０．６〜１．４の範囲」とすることができるのかについては、発明の詳細な説明の記載からは不明である。
　したがって、本願明細書の発明の詳細な説明の記載からは、本願出願時の技術常識を参酌しても、本願発明１に係るコポリマーを製造するために、当業者は過度の試行錯誤を必要とするものと認められる。
　
４．本願発明７について
　上記「３．本願発明１について」と同様に検討する。
　摘示エにおける製造方法において、本願発明７で特定する「（ａ）０．５〜０．９の範囲の長鎖分枝ｇ'値」及び「（ｂ）７．５〜１２．０の範囲の導関数δ（ＭＳ）／δ（ｌｏｇγ）の数値」との関係についての記載は一切なく、どのようにすれば、長鎖分岐ｇ'値が「０．５〜０．９の範囲」となるのか、また、導関数δ（ＭＳ）／δ（ｌｏｇγ）の数値が「７．５〜１２．０の範囲」となるかについては全く不明である。
　そして、実施例１〜７において製造されたエチレン／ヘキセン−１コポリマーについてみれば、実施例１〜４については、「長鎖分岐ｇ'値」（摘示オの
表２
表２（続き）
　実施例７は「連続流動床反応器」を用いない点で本願発明７の実施例とはいえないとしても、実施例５及び６は、「連続流動床反応器」を用い、摘示エに記載された製造条件（メタロセン錯体、活性化用助触媒及び支持物質）をすべて採用するにもかかわらず、導関数δ（ＭＳ）／δ（ｌｏｇγ）の数値が本願発明７で特定する範囲から外れており、また長鎖分枝ｇ'値はなぜか測定されておらず、したがって本願発明７の実施例に該当するということはできない。
　また、本願発明７は「広い分子量分布」を有するコポリマーを製造することをその目的としているが（摘示ア）、摘示オの表２には、実施例１〜４においては分子量分布「Ｍｗ／Ｍｎ」が５．０〜５．９と広いものが得られているのに対し、実施例５〜７では「３．５〜３．７」と狭いものしか得られていないことが明らかである。このことからも、実施例５〜７が本願発明７の実施例に該当するということはできない。
　そうすると、「気相連続流動床反応器」を使用し、「ＴＥＡ処理シリカ」を支持物質とし、メタロセン錯体として「ｒａｃエチレンビスインデニルジルコノセン１，４−ジフェニルブタジエン」又は「ｒａｃエチレンビステトラヒドロインデニルジルコノセン１，４−ジフェニルブタジエン」及び活性化用助触媒として「トリス（ペンタフルオロフェニル）硼素」又は「ビス（水素化タロウアルキル）メチルアンモニウムトリス（ペンタフルオロフェニル）（４−ヒドロキシフェニル）ボレートとトリエチルアルミニウムの反応生成物」を使用したとしても必ずしも本願発明７に係る「エチレンと３〜２０個の炭素原子を有する１種もしくはそれ以上のα−オレフィンとのコポリマー」を製造できるか否かは明らかではなく、どのようにすれば、長鎖分岐ｇ'値を「０．５〜０．９の範囲」と、また、導関数δ（ＭＳ）／δ（ｌｏｇγ）の数値を「７．５〜１２．０の範囲」とすることができるのかについては、発明の詳細な説明の記載からは不明である。
　したがって、本願明細書の発明の詳細な説明の記載からは、本願出願時の技術常識を参酌しても、本願発明７に係るコポリマーを製造するために、当業者は過度の試行錯誤を必要とするものと認められる。
　
５．本願発明１１について
（１）「エチレンと３〜２０個の炭素原子を有する１種もしくはそれ以上のα−オレフィンとのコポリマー」について、上記「３．本願発明１について」と同様に検討する。
　摘示エにおける製造方法において、本願発明１１で特定する「０．６５〜０．８の長鎖分枝ｇ'値」との関係についての記載は一切なく、どのようにすれば、長鎖分岐ｇ'値が「０．６５〜０．８」となるのかについては全く不明である。
　そして、実施例１〜７において製造されたエチレン／ヘキセン−１コポリマーについてみれば、実施例１〜４については、「長鎖分岐ｇ'値」（摘示オの
表２
　実施例７は「連続流動床反応器」を用いない点で本願発明１１の実施例とはいえないとしても、実施例５及び６は、「連続流動床反応器」を用い、摘示エに記載された製造条件（メタロセン錯体、活性化用助触媒及び支持物質）をすべて採用するにもかかわらず、長鎖分枝ｇ'値はなぜか測定されておらず、したがって本願発明１１の実施例に該当するということはできない。
　また、本願発明１１は「広い分子量分布」を有するコポリマーを製造することをその目的としているが（摘示ア）、摘示オの
表２
　そうすると、「気相連続流動床反応器」を使用し、「ＴＥＡ処理シリカ」を支持物質とし、メタロセン錯体として「ｒａｃエチレンビスインデニルジルコノセン１，４−ジフェニルブタジエン」又は「ｒａｃエチレンビステトラヒドロインデニルジルコノセン１，４−ジフェニルブタジエン」及び活性化用助触媒として「トリス（ペンタフルオロフェニル）硼素」又は「ビス（水素化タロウアルキル）メチルアンモニウムトリス（ペンタフルオロフェニル）（４−ヒドロキシフェニル）ボレートとトリエチルアルミニウムの反応生成物」を使用したとしても必ずしも本願発明１１に係る「エチレンと３〜２０個の炭素原子を有する１種もしくはそれ以上のα−オレフィンとのコポリマー」を製造できるか否かは明らかではなく、どのようにすれば、長鎖分岐ｇ'値を「０．６５〜０．８」とすることができるのかについては、発明の詳細な説明の記載からは不明である。
　したがって、本願明細書の発明の詳細な説明の記載からは、本願出願時の技術常識を参酌しても、本願発明１１に係るコポリマーを製造するために、当業者は過度の試行錯誤を必要とするものと認められる。
　
（２）本願発明１１に係る発明では、「０．６５〜０．８の長鎖分枝ｇ'値」を有する「エチレンのホモポリマー」も包含するものであるが、上記実施例はすべて、エチレン／ヘキセン−１コポリマーを製造しており、エチレンホモポリマーにおいて「０．６５〜０．８の長鎖分枝ｇ'値」とするには、どのようにすればいいのか、実施例から予測することは困難であるとともに、ホモポリマーについては、長鎖分枝ｇ'値を「０．６５〜０．８の範囲」内とすることと本願発明の作用効果との関係も明らかではない。
　したがって、本願明細書の発明の詳細な説明の記載からは、本願出願時の技術常識を参酌しても、本願発明１１に係るホモポリマーを製造するために、当業者は過度の試行錯誤を必要とするものと認められる。
　
６．まとめ
　したがって、本願明細書の発明の詳細な説明の記載からは、本願出願時の技術常識を参酌しても、本願発明１及び７に係るコポリマー並びに本願発明１１に係るホモポリマー又はコポリマーを製造するために、当業者は過度の試行錯誤を必要とするものと認められ、したがって、本願明細書の発明の詳細な説明は、当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されているものとは認められない。
　
第５．むすび
　以上のとおりであるから、本願明細書の発明の詳細な説明の記載は、特許法第３６条第４項に規定する要件を満たしておらず、この点についての原査定の拒絶の理由は妥当なものと認められる。
　そうすると、本願は、原査定における他の拒絶の理由について検討するまでもなく、この理由により拒絶すべきものである。
　よって、上記結論のとおり審決する。