【事件の表示】
　特願２００１−　　９４５４「離型フィルムおよびその製造法」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年　７月３１日出願公開、特開２００２−２１０８６０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯
　本願は、平成１３年１月１７日の出願であって、平成２２年８月１９日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成２２年１１月１１日に拒絶査定不服審判の請求がなされたものである。
　
２　本願発明について
（１）本願発明
　本願の請求項１〜４に係る発明は、平成２２年６月１日にした手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１〜４に記載された事項により特定されるものと認められるところ、請求項１は次のとおり記載されている。
「【請求項１】 基材と、該基材の少なくとも一方の面に設けた離型層とからなり、更に、上記の離型層が、有機珪素化合物の蒸気からなる蒸着用モノマ−ガスを原料とし、キャリヤ−ガスとして、アルゴンガスまたはヘリウムガスからなる不活性ガスを使用し、更に、酸素供給ガスとして、酸素ガスを使用して調製してなるガス組成物を使用し、これを、高周波プラズマ方式による低温プラズマ発生装置を利用する低温プラズマ化学気相成長法による珪素酸化物の連続薄膜層からなり、
また、上記の珪素酸化物の連続薄膜層中には、炭素、水素、珪素、および、酸素の中の１種類あるいは２種類以上からなる化合物を少なくとも１種類以上を含有し、
かつ、上記の珪素酸化物の連続薄膜層中には、炭素原子含有量が、１０原子％〜５０原子％の範囲で含有していること
を特徴とする離型フィルム。」
（以下、請求項１に係る発明を、「本願発明１」という。）
　
（２）引用例の記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願前に頒布された刊行物である特開２０００−２１２５２３号公報（以下、「引用例１」という。）には、次の記載がある。
ａ「【０００１】【発明の属する技術分野】本発明は粘着テープ等の粘着層を保護する離型フィルムに関し、更に詳しくは、離型層自体の基材との密着性に優れ、離型層にシリコーン等の低分子成分を含まないことから離型剤が粘着層に移行しない離型フィルムに関する。」
ｂ「【０００４】【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記の問題点が解消され、基材及び粘着層との密着性に優れ、粘着層の性能を低下させず、使用に際しては粘着層からの剥離が容易な粘着テープ等に使用される剥離フィルムを提供することである。」
ｃ「【０００９】本発明でプラズマＣＶＤ法でシリカ膜を形成する際に使用される原料は、有機シロキサンである。有機シロキサンとしては、Ｓｉ原子にアルキル基が結合しているシロキサンが使用され、例えば、モノアルキル乃至ヘキサアルキルジシロキサン（アルキル基の炭素数は１〜３程度）等のジシロキサンの水素原子の一部ないし全部がアルキル基で置換されたものが好ましいものとして挙げられる。
【００１０】上記のシリカ膜は、例えば、プラズマＣＶＤ装置内に発生させた酸素、アルゴン及びヘリウムのプラズマ中に上記の有機シランを反応ガスとして導入することによって基材上に形成される。本発明におけるシリカ膜は、一般式ＳｉＯｘＲｙ（ｘは１．５０〜１．９９、ｙは０．０２〜１、Ｒは炭素数が１〜３のアルキル基）で表されるアルキル基がシリカ原子に結合したシリカ膜である。このアルキル基の存在によって離型層と基材フィルムとの親和性が向上し、離型層と基材フィルムとの密着性が向上する。一方、離型フィルムと粘着層との接着性は適度に低下し、粘着層からの剥離層の剥離が容易となる。」
ｄ「【００１１】【実施例】次に実施例を上げて本発明を具体的に説明する。
実施例１、比較例１〜２
基材フィルムとして厚さが１００μｍのＰＥＴフィルム（東レ社製　ルミラーＴ−６０）を用い、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、Ｏ２、Ｈｅ及びＡｒを用い、２．１Ｋｗ、４０ＫＨｚの電力を製膜ドラムとガス噴出電極との間に印加し、上記基材フィルムの温度を２０℃に制御してプラズマＣＶＤを行った。各原料ガスの流量は、ＨＭＤＳＯが０．１７ＳＬＭ、Ｏ２が０．５１ＳＬＭ、Ｈｅが０．５１ＳＬＭ、Ａｒが０．３５ＳＬＭで行った。」
ｅ「【００１６】上記の結果から、本発明の離型フィルムは、未使用時には粘着層に対して適度な接着力を有し、使用時には容易に粘着層から剥離できることが確認された。」
　以上の記載によれば、引用例１には、次の発明が記載されていると認められる。
「基材と、該基材の少なくとも一方の面に設けた離型層とからなり、更に、上記の離型層が、有機シロキサンの蒸気からなる蒸着用モノマーガスを原料とし、キャリヤーガスとして、アルゴンガス又はヘリウムガスからなる不活性ガスを使用し、更に、酸素供給ガスとして、酸素ガスを使用して調製してなるガス組成物を使用したプラズマ化学気相成長法によるシリカ膜からなり、また、上記のシリカ膜は、一般式ＳｉＯｘＲｙ（ｘは１．５０〜１．９９、ｙは０．０２〜１、Ｒは炭素数が１〜３のアルキル基）で表されるアルキル基がシリカ原子に結合した化合物からなり、上記のシリカ膜中に炭素原子を含有した離型フィルム」
　
（３）対比
　本願発明１と引用例１記載の発明とを対比すると、引用例１記載の発明の「有機シロキサン」、「一般式ＳｉＯｘＲｙ（ｘは１．５０〜１．９９、ｙは０．０２〜１、Ｒは炭素数が１〜３のアルキル基）で表されるアルキル基がシリカ原子に結合した化合物」は、それぞれ本願発明１の「有機珪素化合物」、「炭素、水素、珪素、および、酸素の中の１種類あるいは２種類以上からなる化合物」に相当する。
　また、本願明細書の段落【００１３】の「…かかる珪素酸化物の連続薄膜
層としては、例えば、化学気相成長法等を用いて、珪素酸化物の連続薄膜層の１層からなる単層膜あるいは２層以上からなる多層膜等を形成して製造することができるものである。」という記載、及び、引用例１記載の発明において「シリカ膜」が化学気相成長法により形成されることから、引用例１記載の発明の「シリカ膜」は、本願発明１の「珪素酸化物の連続薄膜層」に相当する。
　そうすると、両者は、
「基材と、該基材の少なくとも一方の面に設けた離型層とからなり、更に、上記の離型層が、有機珪素化合物の蒸気からなる蒸着用モノマーガスを原料とし、キャリヤーガスとして、アルゴンガスまたはヘリウムガスからなる不活性ガスを使用し、更に、酸素供給ガスとして、酸素ガスを使用して調製してなるガス組成物を使用したプラズマ化学気相成長法による珪素酸化物の連続薄膜層からなり、また、上記の珪素酸化物の連続薄膜層中には、炭素、水素、珪素、および、酸素の中の１種類あるいは２種類以上からなる化合物を少なくとも１種類以上含有し、上記の珪素酸化物の連続薄膜層中に炭素原子を含有した離型フィルム」
である点で一致し、次の点で相違する。
　
　《相違点１》
　本願発明１では、プラズマ化学気相成長法に用いる装置として、高周波プラズマ方式による低温プラズマ発生装置を利用するのに対し、引用例１記載の発明では、そのような構成を備えていない点。
　
　《相違点２》
　本願発明１では、珪素酸化物の連続薄膜層中の炭素原子含有量が１０〜５０原子％であるのに対し、引用例１記載の発明では、そのように特定されていない点。
　
（４）相違点の検討
　上記各相違点について検討する。
　
  《相違点１について》
　プラズマ化学気相成長法を行う際に、高周波プラズマ方式による低温プラズマ発生装置を利用することは、特に文献を示すまでもない程の周知技術であり、引用例１記載の発明に上記周知技術を適用することを妨げる特段の事情はないので、引用例１記載の発明に上記周知技術を適用して、上記相違点１に係る本願発明１の構成とすることは、当業者が容易に想到し得たことである。
　
  《相違点２について》
　本願明細書の段落【００１９】の「上記において、炭素原子含有量が、５原子％未満、更には、１０原子％未満であると、撥水基であるメチル基（ＣＨ３）の存在が少なくなり、剥離性等が低下するという理由により好ましくなく、また、炭素原子含有量が、５０原子％を超えると、更には、７０原子％を超えると、膜の硬度、強度等が低下し、剥がれ落ちる減少が生じるという理由により好ましくないものである。」という記載から、本願発明１の炭素原子含有量は、主としてメチル基の含有量を表す指標であることがわかる。
　一方、引用例１の段落【００１０】には、珪素酸化物の連続薄膜層中にアルキル基が存在することによって、基材と離型層との密着性及び離型フィルムの剥離性が高まる点が記載されており、また、請求項３及び段落【００１０】には、アルキル基としてメチル基を用い得る点も記載されている。
　そして、引用例１の上記段落【００１０】の記載を参酌して、所望の基材と離型層との密着性及び離型フィルムの剥離性を得るために、メチル基の含有量を適宜設定することは当業者が容易になし得たことであり、また、メチル基の含有量を炭素原子含有量で表すことは当業者が適宜設計し得た事項である。
　さらに、本願明細書の表１においては、炭素原子含有量が３０原子％のものを実施例、２原子％のものを比較例として示しているに過ぎず、１０〜５０原子％の数値範囲すべての部分において顕著な効果を奏するか否かは不明であるので、炭素原子含有量の数値範囲を１０〜５０原子％と限定することによって顕著な効果を奏するとはいえない。
　したがって、炭素原子含有量を１０〜５０原子％と設定して、上記相違点２に係る本願発明１の構成とすることは、当業者が容易に想到し得たことである。
　
　また、本願発明１が奏する効果は、引用例１記載の発明及び上記周知技術から当業者が予測できたものであって、格別顕著なものとはいえない。
　したがって、本願発明１は、引用例１記載の発明及び上記周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　
（５）むすび
　以上のとおり、本願発明１は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。