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【手続補正書】
【提出日】平成17年10月21日(2005.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弾力性クッションのための上部および側部を有するストレッチカバーであって、
前記ストレッチカバーを所定の位置に保持するとともに、通常使用において表面皺が実質的に存在しない状態を維持するのに十分な弾性回復力を有する第１の布地であり、縦方向に平行および垂直の方向において加荷重１５ポンド（６６．７２Ｎ）で３０％より大きい伸び、かつ、縦方向に平行および垂直の方向において伸び２５％で２００グラムの最小回復力を有する第１の布地を含むことを特徴とするストレッチカバー。
【請求項２】
前記布地が少なくとも８５重量％のセグメント化ポリウレタンからなる長鎖合成エラストマーを含むことを特徴とする請求項１に記載のストレッチカバー。
【請求項３】
前記布地が前記カバーの周囲端を含むことを特徴とする請求項１に記載のストレッチカバー。
【請求項４】
請求項１に記載の二つのストレッチカバーを含むストレッチカバーセットであって、第１のストレッチカバーが椅子の背部クッションにフィットし、第２のストレッチカバーが椅子の座部クッションにフィットすることを特徴とするストレッチカバーセット。
【請求項５】
前記ストレッチカバーの周囲が、弾性バンドまたは弾力性バンドを含まないことを特徴とする請求項３に記載のストレッチカバー。
【請求項６】
縦方向に平行および垂直の方向において加荷重１５ポンド（６６．７２Ｎ）で３０％より大きい伸び、かつ、縦方向に平行および垂直の方向において伸び２５％で２００グラムの最小回復力を有する布地を含む上部パネルおよび側部パネルを有するストレッチカバーであって、
前記ストレッチカバーの周囲が、弾性バンドまたは弾力性バンドを含まないことを特徴とするストレッチカバー。
【請求項７】
前記布地が少なくとも８５重量％のセグメント化ポリウレタンからなる長鎖合成エラストマーを含むことを特徴とする請求項６に記載のストレッチカバー。
【請求項８】
椅子の背部クッションをカバーするための前部および側部を有する背部カバーと、
椅子の座部をカバーするための上部および側部を含む座部カバーと、
を含むストレッチカバーセットであって、
前記カバーが、縦方向に平行および垂直の方向において加荷重１５ポンド（６６．７２Ｎ）で３０％より大きい伸び、かつ、縦方向に平行および垂直の方向において伸び２５％で２００グラムの最小回復力を有する布地を含むことを特徴とするストレッチカバーセット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
一軸延伸ウーブンは、たとえ垂直方向の伸びが十二分に適切であるとしても、形状フィットストレッチカバーを被せることを可能にするのに不十分な縦方向での伸びを示す。非弾性ウーブンは、形状フィットストレッチカバーを被せることを可能にするのに適切ないずれかの方向における伸びが不足している。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
１．  弾力性クッションのための上部および側部を有するストレッチカバーであって、
前記ストレッチカバーを所定の位置に保持するとともに、通常使用において表面皺が実質的に存在しない状態を維持するのに十分な弾性回復力を有する第１の布地であり、縦方向に平行および垂直の方向において加荷重１５ポンド（６６．７２Ｎ）で３０％より大きい伸び、かつ、縦方向に平行および垂直の方向において伸び２５％で２００グラムの最小回復力を有する第１の布地を含むことを特徴とするストレッチカバー。
２．  前記布地が少なくとも８５重量％のセグメント化ポリウレタンからなる長鎖合成エラストマーを含むことを特徴とする１．に記載のストレッチカバー。
３．  前記布地が前記カバーの周囲端を含むことを特徴とする１．に記載のストレッチカバー。
４．  １．に記載の二つのストレッチカバーを含むストレッチカバーセットであって、第１のストレッチカバーが椅子の背部クッションにフィットし、第２のストレッチカバーが椅子の座部クッションにフィットすることを特徴とするストレッチカバーセット。
５．
前記ストレッチカバーの周囲が、弾性バンドまたは弾力性バンドを含まないことを特徴とする３．に記載のストレッチカバー。
６．  縦方向に平行および垂直の方向において加荷重１５ポンド（６６．７２Ｎ）で３０％より大きい伸び、かつ、縦方向に平行および垂直の方向において伸び２５％で２００グラムの最小回復力を有する布地を含む上部パネルおよび側部パネルを有するストレッチカバーであって、
前記ストレッチカバーの周囲が、弾性バンドまたは弾力性バンドを含まないことを特徴とするストレッチカバー。
７．  前記布地が少なくとも８５重量％のセグメント化ポリウレタンからなる長鎖合成エラストマーを含むことを特徴とする６．に記載のストレッチカバー。
８．  椅子の背部クッションをカバーするための前部および側部を有する背部カバーと、
椅子の座部をカバーするための上部および側部を含む座部カバーと、
を含むストレッチカバーセットであって、
前記カバーが、縦方向に平行および垂直の方向において加荷重１５ポンド（６６．７２Ｎ）で３０％より大きい伸び、かつ、縦方向に平行および垂直の方向において伸び２５％で２００グラムの最小回復力を有する布地を含むことを特徴とするストレッチカバーセット。
９．  椅子の背部クッションの前面および側面の少なくとも一部をカバーするための前部および側部を有するストレッチカバーと、
前記椅子の座部クッションの上面および側面の少なくとも一部をカバーするための上部および側部を有するストレッチカバーと、
を含む別個の背部クッションおよび座部クッションを有する椅子用のストレッチカバーセットであって、
前記ストレッチカバーが、縦方向に平行および垂直の方向において加荷重１５ポンド（６６．７２Ｎ）で３０％より大きい伸び、かつ、縦方向に平行および垂直の方向において伸び２５％で２００グラムの最小回復力を有する布地から製造されることを特徴とするストレッチカバーセット。
１０.  弾力性クッションに交換できるように布張りをする方法であって、
（ａ）ストレッチカバーがより大きい弾性回復力を有する第２の布地を必要とせずに、通常使用において皺が実質的に存在しない状態を維持するように、縦方向に平行および垂直の方向において伸び２５％で２００グラムの最小回復力を有する布地を含むストレッチカバーを提供する工程と、
（ｂ）前記弾力性クッションの上を覆って工程（ａ）の前記ストレッチカバーを延伸する工程と、
（ｃ）前記ストレッチカバーを解放して、前記ストレッチカバーが前記弾力性クッションを締めることを可能にする工程と、
を含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月28日(2005.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）着用者の鼻および口を少なくとも覆うようにフィットして、着用時に内部気体空間が作られる本体と、
（ｂ）前記内部気体空間と流体連通する呼気弁とを有し、前記呼気弁が、
（ｉ）封止表面と呼気が通過して前記内部気体空間を残すオリフィスとを有する弁シートと、
（ｉｉ）前記弁シートに装着されて、前記弁を閉位置にしたときに前記封止表面と接触し、かつ前記フラップは呼気中に前記封止表面から離れて曲がり、呼気が前記オリフィスを通過して最終的に外部気体空間に入る可撓性フラップとを含み、前記可撓性フラップが少なくとも第１および第２の並置層を含み、前記層の少なくとも一方の層が他方の層より硬い、または前記層の少なくとも一方の弾性率が他方の層より大きいろ過フェイスマスク。
【請求項２】
前記第１および第２の層がそれぞれ異なる弾性率を有する第１および第２の材料を含む請求項１に記載のろ過フェイスマスク。
【請求項３】
前記フラップが前記封止表面に対して配置されているとき、前記第１の層が前記第２の層よりも前記封止表面近くに配置されており、前記第２の層の弾性率が前記第１の層より大きい請求項２に記載のろ過フェイスマスク。
【請求項４】
前記フラップが前記封止表面に対して配置されているとき、前記第１の層が前記封止表面と接触している請求項３に記載のろ過フェイスマスク。
【請求項５】
前記呼気弁が前記マスク本体に装着されている請求項１に記載のろ過フェイスマスク。
【請求項６】
ろ過材料層を含む流体透過性マスク本体を有する負圧ハーフマスクである請求項１に記載のろ過フェイスマスク。
【請求項７】
前記呼気弁がフラッパ型の呼気弁である請求項１に記載のろ過フェイスマスク。
【請求項８】
前記フラッパ型の呼気弁が平らな封止表面を有している請求項７に記載のろ過フェイスマスク。
【請求項９】
中立条件下では前記可撓性フラップが前記封止表面に対してプレスされていない請求項８に記載のろ過フェイスマスク。
【請求項１０】
前記可撓性フラップが前記第１の層と実質的に同じ剛性を有する第３の層を含んでいる請求項１に記載のろ過フェイスマスク。
【請求項１１】
前記可撓性フラップが前記第２の層に対して対称性を示し、前記第２の層が前記第１および第３の層より硬い請求項１０に記載のろ過フェイスマスク。
【請求項１２】
前記第２の層の弾性率が前記第１の層より大きく、前記フラップが前記封止表面に対して配置されているとき、前記第１の層が前記封止表面と接触している請求項１に記載のろ過フェイスマスク。
【請求項１３】
前記第１の層の弾性率が好ましくは約０．１５〜１０メガパスカルであり、前記第２の層の弾性率が約２〜１．１×１０６メガパスカルである請求項１２に記載のろ過フェイスマスク。
【請求項１４】
前記第１の層の弾性率が好ましくは約１〜７メガパスカルであり、前記第２の層の弾性率が約２００〜１１，０００メガパスカルである請求項１２に記載のろ過フェイスマスク。
【請求項１５】
前記第１および第２の層が両方ともポリマー材料を含有し、前記第２の層が前記第１の層より硬く、前記第１の層と第２の層の弾性率比が０．０１未満であり、前記可撓性フラップの厚さが約２０〜７００μｍである請求項１に記載のろ過フェイスマスク。
【請求項１６】
前記第１の層の厚さが約５〜７００μｍ、前記第２の層の厚さが約５〜１００μｍである請求項３に記載のろ過フェイスマスク。
【請求項１７】
（ｉ）封止表面と流体が通過するオリフィスとを有する弁シートと、
（ｉｉ）前記弁シートに装着された可撓性フラップとを含み、前記弁を閉位置にしたときに前記フラップが前記封止表面と接触し、呼気流れが前記弁を通過したときに前記フラップが前記封止表面から離れることができ、前記可撓性フラップが少なくとも第１および第２の並置層を含み、前記フラップが開閉時に曲がり、前記層の少なくとも一方の層が他方の層より硬い、または前記層の少なくとも一方の弾性率が他方の層より大きい呼気弁。
【請求項１８】
前記弁が閉じているときに、前記第１の層が前記第２の層よりも前記封止表面近くに配置されており、前記第２の層が前記第１の層より硬い請求項１７に記載の吸気弁。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月28日(2005.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
注目する人体領域に移動させることができるプローブを有する共焦点顕微鏡システムにおいて、前記プローブが、実質的に横断方向の一次元に沿って延びる共焦点光スペクトルにより前記領域を照明する手段及び、別の次元に沿って前記スペクトルを移動させ、反射された前記共焦点光スペクトルを測定することにより、前記人体領域の画像を得る手段を有することを特徴とするシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月13日(2005.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二座ホスファイト、二座ホスフィナイト、および二座ホスフィンよりなる群から選択された少なくとも１種の二座リン含有配位子を、ニトリル溶媒とニッケルよりも陽性である還元性金属との存在下で、塩化ニッケルと接触させる工程を含み、前記塩化ニッケルは前記還元性金属に関してモル過剰であることを特徴とするヒドロシアン化触媒の調製方法。
【請求項２】
水和塩化ニッケルを約２００〜約２４０℃で１２時間未満にわたって処理する工程を含むことを特徴とする無水塩化ニッケルの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
噴霧乾燥機から単離したＮｉＣｌ２二水和物を次に、熱油供給によって２４４℃に間接的に加熱して、それより約１０℃低いバルク温度をもたらす熱処理機中へ連続的に供給したことを除いて、実施例２１の手順を繰り返した。熱処理機中の圧力を大気圧よりもわずかに下に維持した。熱処理機から排出された無水生成物は、１重量パーセント未満Ｈ２Ｏの残留水分を含有した。約８０℃の反応温度でを除いて、実施例１のそれと同様な触媒調製に使用した時、この材料は６２％転化率をもたらした。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
１．  二座ホスファイト、二座ホスフィナイト、および二座ホスフィンよりなる群から選択された少なくとも１種の二座リン含有配位子を、ニトリル溶媒とニッケルよりも陽性である還元性金属との存在下で、塩化ニッケルと接触させる工程を含み、前記塩化ニッケルは前記還元性金属に関してモル過剰であることを特徴とするヒドロシアン化触媒の調製方法。
２．  前記還元性金属がＮａ、Ｌｉ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｔｉ、Ｖ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、およびＳｎよりなる群から選択されることを特徴とする１．に記載の方法。
３．  前記ヒドロシアン化触媒から未反応塩化ニッケルを分離する工程をさらに含むことを特徴とする２．に記載の方法。
４．  前記還元性金属がＺｎまたはＦｅであることを特徴とする２．に記載の方法。
５．  前記触媒調製が３０〜１００℃の温度で、および５〜５０ｐｓｉａ（３４〜３４０ｋＰａ）の圧力で実施されることを特徴とする４．に記載の方法。
６．  前記触媒調製が５０〜９０℃の温度で実施されることを特徴とする５．に記載の方法。
７．  塩化ニッケル対還元性金属のモル比が１．１：１〜５０：１であることを特徴とする６．に記載の方法。
８．  塩化ニッケル対還元性金属の前記モル比が２：１〜２５：１であることを特徴とする７．に記載の方法。
９．  前記二座リン含有配位子が式
【化１】
2005510346.tif 000001
（式中、
Ｒ１は、非置換または１個もしくは複数個のＣ１〜Ｃ１２アルキルもしくはＣ１〜Ｃ１２アルコキシ基で置換されたフェニル、非置換または１個もしくは複数個のＣ１〜Ｃ１２アルキルもしくはＣ１〜Ｃ１２アルコキシ基で置換されたナフチルであり、
ＺおよびＺ１は、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩおよびＩＶを有する基よりなる群から独立して選択される：
【化２】
2005510346.tif 000002
式中、
Ｒ２およびＲ９は同じものであり、かつ、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、およびＣ１〜Ｃ１２アルコキシから選択され、
Ｒ３およびＲ８は同じものであり、かつ、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、およびＣ１〜Ｃ１２アルコキシから選択され、
Ｒ４およびＲ７は同じものであり、かつ、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、およびＣ１〜Ｃ１２アルコキシから選択され、
Ｒ５およびＲ６は同じものであり、かつ、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、およびＣ１〜Ｃ１２アルコキシから選択される；
【化３】
2005510346.tif 000003
式中、
ＸはＯ、Ｓ、またはＣＨ（Ｒ１８）であり、
Ｒ１０およびＲ１７は同じものであり、かつ、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、およびＣ１〜Ｃ１２アルコキシから選択され、
Ｒ１１およびＲ１６は同じものであり、かつ、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、およびＣ１〜Ｃ１２アルコキシから選択され、
Ｒ１２およびＲ１５は同じものであり、かつ、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、およびＣ１〜Ｃ１２アルコキシから選択され、
Ｒ１３およびＲ１４は同じものであり、かつ、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、およびＣ１〜Ｃ１２アルコキシから選択され、そして
Ｒ１８はＨまたはＣ１〜Ｃ１２アルキルである；
【化４】
2005510346.tif 000004
式中、
Ｒ１９およびＲ２０は同じものであり、かつ、ＨおよびＣＯ２Ｒ２１から選択され、
Ｒ２１はＣ１〜Ｃ１２アルキル、または非置換もしくはＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されたＣ６〜Ｃ１０アリールである；
【化５】
2005510346.tif 000005
式中、
ＡはＯ、Ｓ、またはＣＨ（Ｒ２４）であり、
Ｒ２２およびＲ２３は同じものであり、かつ、ＨおよびＣＯ２Ｒ２５から選択され、
Ｒ２４はＨまたはＣ１〜Ｃ１２アルキルであり、
Ｒ２５はＣ１〜Ｃ１２アルキルである；または）
の化合物であることを特徴とする８．に記載の方法。
１０．  前記塩化ニッケルが３．に従って調製されたヒドロシアン化触媒から分離された未反応塩化ニッケルであることを特徴とする９．に記載の方法。
１１．  前記塩化ニッケルが無水であることを特徴とする９．に記載の方法。
１２．  前記無水塩化ニッケルが水和塩化ニッケルを約２００〜約２４０℃の温度で１２時間未満にわたって処理する工程を含む方法によって製造されることを特徴とする１１．に記載の方法。
１３．  前記水和塩化ニッケルがＮｉＣｌ２・６Ｈ２ＯまたはＮｉＣｌ２・２Ｈ２Ｏであることを特徴とする１２．に記載の方法。
１４．  前記無水塩化ニッケルが
（ａ）約１２０〜約１５０℃の出口温度で塩化ニッケルの水溶液を噴霧乾燥する工程と、
（ｂ）工程（ａ）の前記生成物を約２００〜約２４０℃の温度で１２時間未満にわたって熱乾燥する工程と
を含む方法によって製造されることを特徴とする１１．に記載の方法。
１５．  前記噴霧乾燥出口温度が１〜４５秒の熱暴露の平均滞留時間で約１３０〜約１３５℃であることを特徴とする１４．に記載の方法。
１６．  前記還元性金属が２０メッシュ以下の粒径を有することを特徴とする１５．に記載の方法。
１７．  水和塩化ニッケルを約２００〜約２４０℃で１２時間未満にわたって処理する工程を含むことを特徴とする無水塩化ニッケルの製造方法。
１８．  前記水和塩化ニッケルがＮｉＣｌ２・６Ｈ２ＯまたはＮｉＣｌ２・２Ｈ２Ｏであることを特徴とする１７．に記載の方法。
１９．  （ａ）塩化ニッケルの水溶液を約１２０〜約１５０℃の出口温度で噴霧乾燥する工程と、
（ｂ）工程（ａ）の前記生成物を約２００〜約２４０℃の温度で１２時間未満にわたって熱乾燥する工程と
を含むことを特徴とする１７．に記載の方法。
２０．前記噴霧乾燥出口温度が、１〜４５秒の全暴露時間で、約１３０〜約１３５℃であることを特徴とする１９．に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月5日(2006.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリプロピレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ）、木材、またはアルミニウムから成る成形品への、ガラス転移温度が５０℃以上のポリマーをベースとする単層または多層表面フィルムの積層方法であって、以下の本質的な処理ステップ：
ａ）洗浄剤によるフィルム表面の前処理、
ｂ）必要に応じ、その後のコロナ処理、
ｃ）必要に応じ、その後のフィルム表面へのプライマーの適用、
ｄ）電磁放射での加熱によるフィルムの熱活性化、
ｅ）フィルム表面へのホットメルト接着剤の適用、
ｆ）必要に応じ、プライマーの適用または洗浄剤処理による成形面の前処理、必要に応じ、その後の揮発性成分を除去するための風乾、必要に応じ、熱の供給、必要に応じ、その後の成形面のコロナ処理または火炎処理、
ｇ）フィルムを成形品に付着させること、必要に応じ、一材料を他方へプレスすること、
を特徴とする方法。
【請求項２】
ステップａ）を省くことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
使用する電磁放射は、ＩＲ放射を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
使用する電磁放射は、波長範囲が０．７〜１．５μｍの近赤外（ＮＩＲ）放射を含むことを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
使用する電磁放射は、範囲が３０〜１００ＭＨｚの無線周波数を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項６】
使用する電磁放射は、周波数範囲が４００ＭＨｚ〜３ＧＨｚのマイクロ波を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項７】
成形品へのフィルムの付着後に熱活性化が起こり、ここで必要に応じ、ステップd)における活性化を省くことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
使用するホットメルト接着剤は、ＷＯ９９／２８３６３の反応性ポリウレタン接着剤を含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の方法に従う、積層成形品の製造方法。
【請求項１０】
ドア、外観要素、ドア枠および窓枠のための、または家具建築における、請求項１〜７のいずれかに記載の方法により製造可能な積層成形品の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月25日(2005.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チェーンソーのためのガイドバー（１０）における装置であって、前記ガイドバー（１０）が、接着剤の少なくとも一つの層（１５，１６）により結合される少なくとも二つの層（１１、１２、１３）を有する装置において、
互いに結合される各層の少なくとも一つの表面は、前記互いに結合される各層が一緒に押圧されるときに前記接着剤のためのスロットをもたらす幾つかの突出部分（１７）を備えることを特徴とする、装置。
【請求項２】
前記突出部分（１７）の高さは、前記スロットの幅を形成することを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記突出部分（１７）は、前記突出部分（１７）の領域を減じるように幾何学形状の輪郭部として形成されることを特徴とする、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記互いに結合される層の表面上に非直線形状をもたらすように配置された少なくとも三つの突出部分（１７）があることを特徴とする、請求項１から請求項３のいずれか一つの請求項に記載の装置。
【請求項５】
前記ガイドバー（１０）は三つの層（１１、１２、１３）を有することを特徴とする、請求項１から請求項３のいずれか一つの請求項に記載の装置。
【請求項６】
前記突出部分（１７）は中間層（１２）上に配置されることを特徴とする、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記中間層（１２）は、両側に前記突出部（１７）を備えることを特徴とする、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
中間層（１２）上の前記突出部分（１７）は、ボブ切り、エンボス加工または型成形により製造されることを特徴とする、請求項５から請求項７のいずれか一つの請求項に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月14日(2005.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
流体調節施設(plant)用冷却水システムにおけるレジオネラ菌(Legionella)を抑制する方法において、少なくとも10日毎に、再循環冷却水から熱に感受性の熱除去装置を切り離すこと、そして熱に感受性の熱除去装置が、所定時間切り離された再循環冷却水を少なくとも60℃の高温へ加熱することを含む方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
温度が少なくとも70℃の場合に、所定時間が少なくとも5秒である、請求項1記載の方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
所定時間が少なくとも30分である、請求項1記載の方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
所定時間が少なくとも60分である、請求項1記載の方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
加熱頻度が少なくとも24時間毎に1回である、請求項1記載の方法。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
流体調節施設(plant)用作動式冷却水システムにおけるレジオネラ菌(Legionella)を抑制する方法において、5%より少ない再循環冷却水を側路(bypass)加熱システムへ方向付け、そして側路(bypass)加熱システムにおける水を、少なくとも60℃の高温に所定時間加熱することを含む方法。
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
1%より少ない再循環冷却水を側路(bypass)加熱システムへ方向付ける、請求項9記載の方法。
【手続補正８】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
高くした温度(elevated temperature)が少なくとも70℃である、請求項９記載の方法。
【手続補正９】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
冷却水が冷却を必要としない場合に湿球温度としての周辺温度に実際に近似した冷却水の温度を維持し、これによりレジオネラ菌(Legionella)の増殖を最少にすることを含む、請求項1記載の方法。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
熱に感受性の熱除去装置へ、前記切り離している期間に殺菌剤を投与することをさらに含む、請求項1記載の方法。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
再循環冷却水から熱に感受性の熱除去装置を切り離すこと、そして熱に感受性の熱除去装置が、所定の時間切り離された再循環冷却水を少なくとも60℃の高温へ加熱することをさらに含む、請求項9記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月28日(2005.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
論理ベクトルで刺激される集積回路チップをテストするための一体型システムであって、
その上にチップを配置するためのテスト・ベンチと、
前記チップへ論理ベクトルを加えるためのアダプタと、
固体液浸レンズを備えた集光光学部材と、
ナビゲーション・モードにおいて前記集光光学部材を通して前記チップを照明するための主照明源と、
前記チップから反射されて両凸の固体液浸レンズによって集光された光を用いて前記チップをイメージングするためのイメージャと、
チップから放出されたフォトンを検出して対応する電気信号を生成するように検出モードにおいて動作可能なフォトン・センサと、
前記フォトン・センサを制御するためのゲーティング・タイマと、
前記電気信号を受け取って前記フォトンのタイミング情報を生成するシステム・コントローラと、を備え、
前記光源は、前記検出モードの間、前記チップの照明を停止するインテグレーテッド・システム。
【請求項２】
前記テスト・ベンチに下側から接続される可動ステージであって、前記集光光学部材が取り付けられた可動ステージをさらに備える請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記チップの温度制御を可能にする冷却メカニズムをさらに備える請求項１に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月28日(2005.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各々がローカルクロックを使用する複数のコンピュータ装置における第１のコンピュータ装置が、第２のコンピュータ装置で稼働するクロックを用いて前記第２のコンピュータ装置によってタイムスタンプを押されたデータが複製されたか否かを判定する複数のコンピュータ装置間でデータを複製する方法であって、
前記第１のコンピュータ装置は、前記第２のコンピュータ装置からのタイムスタンプを自身のローカルクロックからの時間信号と比較して差分を判定し、前記差分を使用して前記第２のコンピュータ装置からのより最近のデータと関連付けられているタイムスタンプに適用する正しい差分を導き出すことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記第１のコンピュータ装置の前記ローカルクロックは、絶対的な対外的に生成された時間に設定されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記第１のコンピュータ装置によって導き出される前記差分は、前記第２のコンピュータ装置の前記ローカルクロックが線形に変動していることを前提とすることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】
時間枠の変更を吸収するための故意の時間調整が前記第２のコンピュータ装置上の前記ローカルクロックに対して行なわれると、前記第２のコンピュータ装置はこの時間調整の記録を格納し、前記第１のコンピュータ装置へと提供することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記第２のコンピュータ装置は、格納される１つ以上のタイムスタンプが新規の時間枠においても正しいままであるように前記故意の時間調整の量だけ前記タイムスタンプを変更することを特徴とする請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記第１のコンピュータ装置は、時間依存仲裁規則を正しく適用して幾つかの矛盾するデータ複製要求のうちのどれを実行すべきかを判定するために、自身のクロックに関連する正しい差分の知識を使用することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記第２のコンピュータ装置により適用される前記タイムスタンプは、複製されるべきデータを含むデータベースレコードの一部ではないことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記タイムスタンプは、データに対する変更を識別するのに必要な最小限のデータのみを含む変更ログに存在することを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項９】
データを複製することができ、第２のコンピュータ装置によってタイムスタンプを押されたデータが前記第２の装置上で稼動するクロックを使用して複製されたか否かを判定するコンピュータ装置において、
前記第２のコンピュータ装置からのタイムスタンプを自身のローカルクロックからの時間信号と比較して差分を判定し、前記差分を使用して前記第２のコンピュータ装置からのより最近のデータと関連付けられているタイムスタンプに適用する正しい差分を導き出すことを特徴とする装置。
【請求項１０】
サーバであり、前記第２のコンピュータ装置は前記サーバのクライアントとして動作することを特徴とする請求項９記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
［発明の概要］
本発明の第１の態様によると、各々がローカルクロックを使用する複数のコンピュータ装置における第１のコンピュータ装置が、第２のコンピュータ装置で稼働するクロックを用いて前記第２のコンピュータ装置によってタイムスタンプを押されたデータが複製されたか否かを判定する複数のコンピュータ装置間でデータを複製する方法であって、
前記第１のコンピュータ装置は、前記第２のコンピュータ装置からのタイムスタンプを自身のローカルクロックからの時間信号と比較して差分を判定し、前記差分を使用して前記第２のコンピュータ装置からのより最近のデータと関連付けられているタイムスタンプに適用する正しい差分を導き出すことを特徴とする方法が提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
第２の態様において、データを複製することができ、第２のコンピュータ装置によってタイムスタンプを押されたデータが前記第２の装置上で稼動するクロックを使用して複製されたか否かを判定するコンピュータ装置において、
前記第２のコンピュータ装置からのタイムスタンプを自身のローカルクロックからの時間信号と比較して差分を判定し、前記差分を使用して前記第２のコンピュータ装置からのより最近のデータと関連付けられているタイムスタンプに適用する正しい差分を導き出すことを特徴とする装置が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月13日(2005.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コリオリ流量計から処理材料へのイオン移動による汚染を受けない超高純度を有する前記処理材料の流れを受け取り、この流れを延長する前記流量計を製造する方法において、
励振器を流管手段に連結する段階と、
ピックオフ手段を前記流管手段に連結する段階と、を含み、
前記方法は、更に、
前記流管手段を基板に連結する段階であって、前記流管手段は、前記処理材料が前記流管手段の材料から前記処理材料へのイオン移動による汚染を受けないように保つ材料で形成されている、前記連結段階と、
前記流管手段の入口端部及び出口端部を、少なくとも１つの処理接続部に連結し、前記流量計を通る超清純流路を形成する段階と、によって特徴付けられている方法。
【請求項２】
前記流管手段を前記基板に連結する前記段階は、更に、ＰＦＡで形成されている前記流管手段を利用して、前記処理材料の流れを、前記流管手段の材料から前記処理材料へのイオン移動による汚染を受けないように維持する段階を含んでいることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記流管手段を前記基板に連結する前記段階は、前記流管手段を腐食させて、流量計構成要素を連結するのに適した表面を作る段階によって進められることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記流管手段を前記基板に連結する前記段階は、前記流管手段を真っ直ぐにして、固有の湾曲又は望ましくない残留曲がりを取り除く段階によって進められることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記流管手段を前記基板に連結する前記段階は、接着剤を使って前記流管手段を前記基板に取り付ける段階を含んでいることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記励振器手段を前記流管手段に取り付ける前記段階は、更に、接着剤を使って前記励振器手段を前記流管手段に連結する段階を含んでいることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記ピックオフ手段を前記流管手段に連結する前記段階は、更に、接着剤を使って前記ピックオフ手段を前記流管手段に接着する段階を含んでいることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記ピックオフ手段を前記流管に連結する前記段階は、光学ピックオフを使用し易くするために、前記流管手段部分の一部分を不透明にする段階を含んでいることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
流量計から処理材料へのイオン移動による汚染を受けない超高純度を有する処理材料の流れを測定するための質量流量計（１００）において、
基板（１０１）と、
前記基板に連結されている流管手段（１０２、１０３）と、
前記流管手段を、処理材料が中を流れている前記流管手段の共鳴周波数で振動させるための、前記流管手段に取り付けられている励振器（Ｄ）と、
前記振動している材料が満たされた流管手段のピックオフ手段に隣接している部分の、誘起されたコリオリ変位を示す信号を発生させるための、前記流管手段に連結されているピックオフ手段（ＬＰＯ、ＲＰＯ）と、
前記流管手段に連結されている少なくとも１つの処理接続部手段（１０７−１１０）と、を備えており、
前記流管手段と前記少なくとも１つの処理接続部部手段は、イオンを、前記流管手段から前記処理材料へ移動させない材料で形成されており、その結果、前記流量計を通る超清純流路になっていることを特徴とする質量流量計。
【請求項１０】
前記流管手段は、ＰＦＡで形成され、前記処理材料の流れを、前記流管手段から前記処理材料へのイオン移動による汚染を受けないよう維持していることを特徴とする、請求項９に記載のコリオリ流量計。
【請求項１１】
前記処理接続部手段が前記基板に連結されていることを特徴とする、請求項９に記載のコリオリ流量計。
【請求項１２】
前記流管手段は、光が前記流管手段を透過しないようにする不透明な部分（７２０）を有していることを特徴とする、請求項９に記載のコリオリ流量計。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月22日(2005.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スクリーン上に画像を生成するための装置であって、
（Ａ）照明光を生成する光源と、
（Ｂ）画像光を生成するために照明光を選択的に反射するパネルであって、共通平面に配置された選択的に調整可能な複数の反射素子であって、少なくとも第１の位置と第２の位置との間で調整可能な素子を具備するパネルと、
（Ｃ）画像光を受光し、前記スクリーン上に前記画像を生成する投射レンズと、
（Ｄ）前記光源から前記パネルに向けて照明光を透過させ、前記パネルから前記投射レンズに向けて画像光を透過させるプリズムアセンブリであって、
（Ｉ）前記光源から照明光を受光する第１の面と、
（ＩＩ）前記第１の面によって透過された照明光が内部全反射される第２の面と、
（ＩＩＩ）前記第２の面から前記パネルに向けて反射される照明光を透過させる第３の面と、を具備するプリズムを含むプリズムアセンブリと、を備え、
（ａ）前記第２の面および前記第３の面が前記パネルから前記投射レンズに反射される画像光を透過させ、
（ｂ）前記第１の面および前記第２の面がそれぞれ、
（ｉ）９０°より大きい角度で交差する２つの縁および
（ｉｉ）９０°より小さい角度で交差する２つの縁を具備していることを特徴とする装置。
【請求項２】
（ｉ）前記光源が光源軸を規定し、
（ｉｉ）前記パネルが水平軸を規定し、
（ｉｉｉ）前記光源軸と前記水平軸との間の角度が約２０°以下であることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項３】
（ｉ）前記第３の面が下縁を有し、
（ｉｉ）前記パネルが水平軸を規定し、
（ｉｉｉ）前記下縁と前記水平軸との間の角度が４５°未満であることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項４】
（ｉ）請求項１記載の装置と、
（ｉｉ）請求項１記載の前記装置を収容するキャビネットと、
（ｉｉｉ）請求項１記載の前記装置によって形成される画像がその上に表示され、前記キャビネットによって保持されるスクリーンと、を具備することを特徴とする背面スクリーンプロジェクタ。
【請求項５】
前記装置が、前記光源と前記プリズムアセンブリとの間に二成分中継素子を備えることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項６】
スクリーン上に画像を生成するための装置であって、
（Ａ）照明光を生成する光源と、
（Ｂ）画像光を生成するために照明光を選択的に反射するパネルであって、共通平面に配置された選択的に調整可能な複数の反射素子であって、少なくとも第１の位置と第２の位置との間で調整可能な素子を具備するパネルと、
（Ｃ）画像光を受光し、前記スクリーン上に前記画像を生成する投射レンズと、
（Ｄ）前記光源から前記パネルに向けて照明光を透過させ、前記パネルから前記投射レンズに向けて画像光を透過させるプリズムアセンブリであって、
（Ｉ）前記光源から照明光を受光する面と、
（ＩＩ）前記パネルに向けて照明光を透過させ、前記パネルから反射される画像光を受光する面と、
（ＩＩＩ）画像光を前記投射レンズに向けて透過させる面と、を具備するプリズムを含むプリズムアセンブリと、を備え、
（ａ）前記プリズムアセンブリは、内部全反射が生じる少なくとも１つの面を備え、
（ｂ）前記光源と前記光源から照明光を受光する面との間の光路が折畳まれていないことを特徴とする装置。
【請求項７】
前記少なくとも１つの面が、照明光を前記パネルに向けることを特徴とする請求項６記載の装置。
【請求項８】
（ｉ）前記光源が光源軸を規定し、
（ｉｉ）前記パネルが水平軸を規定し、
（ｉｉｉ）前記光源軸と前記水平軸との間の角度が約２０°以下であることを特徴とする請求項６記載の装置。
【請求項９】
（ｉ）前記パネルに向けて照明光を透過させ、前記パネルから反射される画像光を受光する面が、下縁を有し、
（ｉｉ）前記パネルが水平軸を規定し、
（ｉｉｉ）前記下縁と前記水平軸との間の角度が４５°未満であることを特徴とする請求項６記載の装置。
【請求項１０】
（ｉ）請求項６記載の装置と、
（ｉｉ）請求項６記載の前記装置を収容するキャビネットと、
（ｉｉｉ）請求項６記載の前記装置によって形成される画像がその上に表示され、前記キャビネットによって保持されるスクリーンと、を具備することを特徴とする背面スクリーンプロジェクタ。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月23日(2005.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
覚醒監視装置であって、
ａ）振幅に関する比較的ゆっくりとした眼及び瞼の動き、揺れる瞼、部分的な眼の閉じ、垂れ下がる瞼、ゆっくりとした又はあちこち動く眼の動き、ゆっくりとした長時間の眼の閉じ、断続的運動（サッカード）の動きの欠如、及び眼の協調の喪失のうちの一以上の存在を知るために、瞼及び眼の動きを測定する手段、
ｂ）測定値を連続的に記録する記憶手段と、
ｃ）これらの測定値を、所定の増分する血中アルコールのレベルに対して測定されたある試料集団の眼及び瞼の動きのパラメータの測定値の平均をとった所定の目盛と比較するデータ処理装置と、
ｄ）前記目盛に基づいて覚醒度の測定値を示すためのディスプレイ、又は
ｅ）血中アルコールと等価の目盛に基づく所定の法定限界値に達する目盛の読み取りによって起動される警告手段と、を含む覚醒監視装置。  
【請求項２】
請求項１に記載の覚醒監視装置であって、
少なくとも一つの赤外光パルス発生器と一つの赤外線検知器とが少なくとも一つの眼に取り付けられている、覚醒監視装置。
【請求項３】
請求項２に記載の覚醒監視装置であって、
前記検知器が、各パルスが伝送される直前に光の全体的なレベルを測定し、この全体的なレベルをパルス中に測定された反射率の結合されたレベルから差し引く、覚醒監視装置。
【請求項４】
覚醒度合いを測定する方法であって、
反射された赤外光パルスを使用して、瞬きの速度対振幅の比率及び／又は断続的運動の速度対振幅の比率の測定値を得、所定の時間に亘ってこれらの測定値の平均をとり、この平均値の覚醒した被検者に対する所定の平均値からの偏差を測定することにより、被検者の眼の動きを分析する方法。
【請求項５】
請求項４に記載の方法であって、
測定された瞬きの速度対振幅の比率及び断続的運動の速度対振幅の比率が、血中アルコール成分の等価の値の目盛に関係付けられる、方法。
【請求項６】
請求項５に記載の方法であって、
反射された光のパルスが、各々の眼における２つの場所で検知される、方法。
【請求項７】
請求項５に記載の方法であって、
一の場所が眼の動きに伴う反射を検知し、第２の場所が断続的な運動に伴う反射を検知する、方法。
【請求項８】
被検者の覚醒測定装置であって、
ａ）被検者の少なくとも一方の眼に隣接して配置されるようになされた赤外線パルス発生器と、
ｂ）前記赤外線パルス発生器に隣接して配置された少なくとも一つの反射光検知器と、
ｃ）検知器の信号を伝達する手段と、
ｄ）検知器の信号を受け取り且つ各パルスが伝達される直前の光の全体的なレベルを、パルス発生中に測定された反射率の組み合わせられたレベルから差し引いて反射率の測定値を提供する、データ処理手段と、を含み、
ｅ）前記データ処理手段は、前記反射率測定値を分析して、振幅に対する比較的ゆっくりとした眼及び瞼の動き、揺れる瞼、部分的な眼の閉じ、垂れ下がる瞼、ゆっくりとした又はあちこち動く眼の動き、ゆっくりとした長時間の眼の閉じ、断続的運動の動きの欠如、及び眼の協調の喪失のうちの一以上の存在を知るために、瞼及び眼の動きを評価するようになされている、覚醒測定装置。
【請求項９】
請求項８に記載の覚醒測定装置であって、
反射された光のパルスが、各々の目の上の２つの場所で検知される、覚醒測定装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の覚醒測定装置であって、
一の場所が眼の動きに伴う反射を検知し、第２の場所が断続的運動に伴う反射を検知する、覚醒測定装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の覚醒測定装置であって、
前記データ処理装置が、瞬きの速度対振幅の比率及び／又は断続的運動の速度対振幅の比率の測定値を得、所定の時間に亘ってこれらの測定値の平均をとり、この平均値の、覚醒した被検者に対する所定の平均値からの偏差を測定するために、反射信号を分析する、覚醒測定装置。
【請求項１２】
請求項１０に記載の覚醒測定装置であって、
測定された瞬きの速度対振幅の比率及び断続的運動の速度対振幅の比率が、血中アルコール成分と等価の値の目盛に変換される、覚醒測定装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の覚醒測定装置であって、
覚醒度の測定値を表示するためのディスプレイ又は血中アルコールレベルの目盛に基づいた所定の限度に達する目盛の読み取りによって作動せしめられる警告装置を含んでいる、覚醒測定装置。
【請求項１４】
覚醒監視装置であって、
ａ）瞼及び眼の動きを測定するための手段と、
ｂ）測定値を連続的に記録する記憶手段と、
ｃ）瞬きの速度対振幅の比率及び／又は断続的運動の速度対振幅の比率の値を得るために記録された測定値を分析し、覚醒している被検者のための所定の平均値からの偏差を測定する、データ処理装置と、
ｄ）分析された測定値を示すためのディスプレイと、
ｅ）所定の測定閾値を超えたときに作動せしめられる警告手段と、を含む覚醒測定装置。
【請求項１５】
請求項１３に記載の覚醒測定装置であって、
測定された瞬きの速度対振幅の比率及び断続的運動の速度対振幅の比率が、血中アルコール成分の等価の値の目盛に関係付けられる、覚醒測定装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月28日(2005.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オブジェクトを作成する方法であって、
生成モデルを取得するステップと、
前記オブジェクトを生成するために前記生成モデルを処理するステップと
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月10日(2005.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開放旋回可能な蓋を備えるシガレット包装箱若しくはシガリロボックスを密接に収容するために適した内室を有する容器であって、容器内に組み込まれた旋回軸を中心として旋回可能な蓋部分を備えており、蓋部分がシガレット包装箱若しくはシガリロボックスの蓋に適合されており、さらに蓋部分の開放旋回を助成するためのばね部材及び、蓋部分のための解除可能な係止部材を備えている形式のものにおいて、容器の蓋部分内側に少なくとも１つの連行部（１５，２０）を配置してあり、連行部が蓋部分（１４，１９）の開放に際してシガレット包装箱若しくはシガリロボックスの蓋を強制的に一緒に旋回させるようになっており、ばね部材（２３）が有利には運動を減速されていることを特徴とする、シガレット包装箱若しくはシガリロボックスのための容器。
【手続補正書】
【提出日】平成16年7月28日(2004.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）（ｉ）目的組換えポリペプチドをコードする第１のヌクレオチド配列と、（ｉｉ）選択マーカーをコードし、宿主細胞を選択物質と接触させると増幅される第２のヌクレオチド配列とを含む第１のポリヌクレオチドベクターと、
（ｂ）第２のヌクレオチド配列が別の選択マーカーをコードする第３のヌクレオチド配列で置換されている以外は第１のポリヌクレオチドベクターと本質的に同一のヌクレオチド配列をもつ第２のポリヌクレオチドベクターを真核宿主細胞に導入することを含み、
第１のポリヌクレオチドベクターと第２のポリヌクレオチドベクターは宿主細胞のゲノムに組込まれている、目的組換えポリペプチドを発現する形質転換真核宿主細胞の生産方法。
【請求項２】
第２のヌクレオチド配列がジヒドロ葉酸レダクターゼポリペプチドをコードし、選択物質かメトトレキセートである請求項１に記載の方法。
【請求項３】
目的組換えポリペプチドがヒトエリスロポエチンである請求項１に記載の方法。
【請求項４】
第３のヌクレオチド配列が抗生物質耐性をコードする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
抗生物質が耐性Ｇ−４１８、ネオマイシン又はネオマイシン群の別の抗生物質である請求項４に記載の方法。
【請求項６】
宿主細胞がチャイニーズハムスター卵巣（ＣＨＯ）細胞である請求項１に記載の方法。
【請求項７】
（ａ）（ｉ）目的組換えポリペプチドをコードする第１のヌクレオチド配列と、（ｉｉ）選択マーカーをコードし、宿主細胞を選択物質と接触させると増幅される第２のヌクレオチド配列を含む第１のポリヌクレオチドベクターと、
（ｂ）第２のヌクレオチド配列が別の選択マーカーをコードする第３のヌクレオチド配列で置換されている以外は第１のポリヌクレオチドベクターと本質的に同一のヌクレオチド配列をもつ第２のポリヌクレオチドベクターを１個以上の染色体に組込んでなる形質転換真核宿主細胞。
【請求項８】
第２のヌクレオチド配列がジヒドロ葉酸レダクターゼポリペプチドをコードする請求項７に記載の宿主細胞。
【請求項９】
目的組換えポリペプチドがエリスロポエチンである請求項７に記載の宿主細胞。
【請求項１０】
ＣＨＯ細胞である請求項７に記載の宿主細胞。
【請求項１１】
第１のヌクレオチド配列の発現を可能にする条件下で請求項７から１０のいずれか一項に記載の形質転換宿主細胞を培養することを含む、目的組換えポリペプチドの生産方法。
【請求項１２】
第２のヌクレオチド配列の増幅を誘導する選択物質の存在下に宿主細胞を培養する請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
第２のヌクレオチド配列がジヒドロ葉酸レダクターゼポリペプチドをコードし、選択物質がメトトレキセートである請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
目的組換えポリペプチドがエリスロポエチンである請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
発現された目的組換えポリペプチドを培地に分泌させる請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
発現された目的組換えポリペプチドを培地から回収することを更に含む請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
目的組換えポリペプチドがエリスロポエチンである請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
（ａ）ジヒドロ葉酸レダクターゼポリペプチドとエリスロポエチンをコードするポリヌクレオチド配列と、（ｂ）（ａ）のポリヌクレオチド配列と異なる、エリスロポエチンと抗生物質耐性を付与するポリペプチドをコードするポリヌクレオチド配列を１個以上の染色体に安定的に組込んでなる形質転換哺乳動物宿主細胞。
【請求項１９】
ヒトエリスロポエチンをコードするポリヌクレオチド配列の発現を可能にする条件下で請求項１８に記載の宿主細胞を培養することを含む、組換えヒトエリスロポエチンの生産方法。
【請求項２０】
メトトレキセートの存在下に宿主細胞を培養する請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
発現された目的組換えポリペプチドを培地に分泌させる請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
発現された目的組換えポリペプチドを培地から回収することを更に含む請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
（ａ）（ｉ）目的組換えポリペプチドをコードする第１のヌクレオチド配列と、（ｉｉ）宿主細胞ゲノムに組込まれている場合に、ヌクレオチド配列の増幅を誘導する選択物質と宿主細胞を接触させると増幅される第２のヌクレオチド配列を含む第１のポリヌクレオチドベクターと、
（ｂ）第２のヌクレオチド配列が別の選択マーカーをコードする第３のヌクレオチド配列で置換されている以外は第１のポリヌクレオチドベクターと本質的に同一のヌクレオチド配列をもつ第２のポリヌクレオチドベクターを含む組成物。
【請求項２４】
目的組換えポリペプチドがヒトエリスロポエチンである請求項２３に記載の組成物。