【事件の表示】
　特願２００５−１６７５０８「真空排気システム」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年１２月２１日出願公開，特開２００６−３４２６８８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯　
　本願は，平成１７年　６月　７日の特許出願であって，平成２２年１１月１７日付けで拒絶査定がなされ，これに対して，平成２３年　２月２４日付けで本件審判請求がなされるとともに，手続補正（前置補正）がなされたものである。　
　
II．平成２３年　２月２４日付けの手続補正の却下　
［補正却下の決定の結論］　
　平成２３年　２月２４日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
［理由］　
１．補正後の本願発明　
　本件補正により，特許請求の範囲の請求項１は，　
「【請求項１】　
　真空チャンバを真空に排気する真空排気システムにおいて，　
　気体を移送する一対のロータと，前記一対のロータを回転させるモータと，前記一対のロータを同期させるタイミングギヤとを備
え，真空チャンバに接続される第１
　
気体を移送する一対のロータと，前記一対のロータを回転させるモータと，前記一対のロータを同期させるタイミングギヤとを備え，接続管を介して前記第１真空ポンプに接続される第２真空ポンプと，
　
前記接続管
　
前記第１真空ポンプ及び前記第２真空ポンプ
　前記圧力センサにより検出された圧力に基づいて，前記ガス系統を流れる軸シールガスの流量を制御する制御部と，　
を備えたことを特徴とする真空排気システム。」　
と補正された。　
　上記補正は，本件補正前の平成２１年　９月１７日付け手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１に係る発明を特定するために必要な事項である「気体を移送する一対のロータと，前記一対のロータを回転させるモータと，前記一対のロータを同期させるタイミングギヤとを備えた少なくとも１つの真空ポンプと，」を「気体を移送する一対のロータと，前記一対のロータを回転させるモータと，前記一対のロータを同期させるタイミングギヤとを備
え，真空チャンバに接続される第１
気体を移送する一対のロータと，前記一対のロータを回転させるモータと，前記一対のロータを同期させるタイミングギヤとを備え，接続管を介して前記第１真空ポンプに接続される第２真空ポンプと
接続管に
第１真空ポンプ及び第２真空ポンプ
　そこで，本件補正後の前記請求項１に記載された発明（以下「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものか（平成１８年法律５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。　
　
２．引用例及びその記載事項　
（２−１）引用例１　
　平成２１年　７月１５日付けの拒絶理由で引用された本願の出願前に頒布された刊行物である特開２００５−１２０９５５号公報（以下「引用例１」という。）には，「真空排気装置」に関し，図面とともに以下の事項が記載又は示されている。　
　
・「【技術分野】　
【０００１】　
　本発明は，基板処理装置の真空チャンバを真空に排気する真空排気装置に関するものである。」　
　
・「【００１２】　
　図１に示すように，真空排気装置は，ブースターポンプとしての第１の真空ポンプ１と，メインポンプとしての第２の真空ポンプ２と，第１の真空ポンプ１及び第２の真空ポンプ２を収容するハウジング（筐体）３とを備えている。ハウジング３は底板４上に固定され，この底板４の上に第２の真空ポンプ２が設置されている。底板４の下部には４つの車輪５（図１では２つの車輪のみを示す）が固定されており，これにより真空排気装置が搬送可能となっている。　
【００１３】　
　第１の真空ポンプ１は，一対のルーツ型ポンプロータ２０（図１では１つのポンプロータのみを示す）を有するルーツ型真空ポンプであり，第２の真空ポンプ２は，一対のスクリュー型ポンプロータ４０（図１では１つのポンプロータのみを示す）を有するスクリュー型真空ポンプである。このように，第１の真空ポンプ１及び第２の真空ポンプ２は，互いに異なる形状のポンプロータをそれぞれ有している。第１の真空ポンプ１と第２の真空ポンプ２とはハウジング３内で互いに平行に設置され，第１の真空ポンプ１は第２の真空ポンプ２の上方に配置されている。　
【００１４】　
　第１の真空ポンプ１の吸気口２３ａには吸気配管６が設けられており，この吸気配管６は基板処理装置に組み込まれた真空チャンバ（図１には図示せず）に接続されている。なお，基板処理装置としては，半導体ウェハや液晶パネルなどの基板にエッチング処理やＣＶＤ処理を施すエッチング装置やＣＶＤ装置などが挙げられる。第１の真空ポンプ１の下部には排気口２３ｂが設けられており，この排気口２３ｂは接続配管７を介して第２の真空ポンプ２の吸気口４３ａに接続されている。第２の真空ポンプ２の排気口４３ｂには排気配管８が接続され，この排気配管８を介して気体（プロセスガス）が外部に排気される。このように，第１の真空ポンプ１と第２の真空ポンプ２とは直列に接続され，第２の真空ポンプ２は，第１の真空ポンプ１よりも下流側に配置されている。すなわち，第１の真空ポンプ１は第２の真空ポンプ２よりも真空側に配置され，第２の真空ポンプ２は大気側に配置されている。この第２の真空ポンプ２は大気圧下でも起動可能に構成されている。」　
　
・「【００２０】　
　回転軸２１の他方の端部には，互いに噛み合う一対のタイミングギヤ２８が固定されている。これらのタイミングギヤ２８はギヤケーシング２９に収容されている。ギヤケーシング２９の周壁には冷却配管２５Ａが埋設されており，この冷却配管２５Ａに冷却水を流通させることにより，タイミングギヤ２８及び軸受２２Ａが冷却されるようになっている。なお，一対のポンプロータ２０はモータＭ１によって同期して回転駆動されるため，タイミングギヤ２８の役割としては，突発的な外部要因によるポンプロータ２０の同期回転の脱調を防ぐことにある。　
【００２１】　
　軸受２２Ａと１段目のルーツロータ２０ａとの間に位置して軸スリーブ３１Ａが回転軸２１に固定されており，この軸スリーブ３１Ａの外周面を囲むようにラビリンスシール３２Ａが設けられている。同様に，軸受２２Ｂと２段目のルーツロータ２０ｂとの間に位置して軸スリーブ３１Ｂが回転軸２１に固定されており，この軸スリーブ３１Ｂの外周面を囲むようにラビリンスシール３２Ｂが設けられている。これらのラビリンスシール３２Ａ，３２Ｂにより，ポンプロータ２０によって昇圧された気体（プロセスガス）が軸受２２Ａ，軸受２２Ｂ，及びモータＭ１側に流入することが防止される。なお，軸受２２Ａ，２２Ｂの潤滑剤としてはオイルが用いられている。これにより，軸受２２Ａ，２２Ｂにプロセスガスの副生成物が付着した場合でも，軸受２２Ａ，２２Ｂにオイルを流すことにより副生成物を除去することができる。　
【００２２】　
　軸受２２Ａ及びラビリンスシール３２Ａは軸受ケーシング３３Ａによって覆われ，同様に，軸受２２Ｂ及びラビリンスシール３２Ｂは軸受ケーシング３３Ｂによって覆われている。ロータケーシング２３，モータケーシング２４，及び軸受ケーシング３３Ａ，３３Ｂは別体として構成されており，これらはロータケーシング２３，軸受ケーシング３３Ａ，３３Ｂ，モータケーシング２４の順に組み立てられる。　
【００２３】　
　軸受２２Ａ，２２Ｂ及びラビリンスシール３２Ａ，３２Ｂにプロセスガスの副生成物が析出してしまうことを防止するために，クリーンガスを供給する供給口３５Ａ，３５Ｂがギヤケーシング２９及び軸受ケーシング３３Ｂにそれぞれ設けられている。吸気側の供給口３５Ａから供給されたクリーンガスはギヤケーシング２９の内部空間を満たした後，軸受２２Ａ，ラビリンスシール３２Ａの順に流れ，これにより軸受２２Ａ及びラビリンスシール３２Ａがプロセスガスに晒されることが防止される。同様に，排気側の供給口３５Ｂから供給されたクリーンガスは，軸受２２Ｂ，ラビリンスシール３２Ｂの順に流れ，これにより軸受２２Ｂ及びラビリンスシール３２Ｂがプロセスガスに晒されることが防止される。なお，クリーンガスとしては，空気や窒素など気体（プロセスガス）との反応に関与しない安定なガスであれば使用可能である。　
【００２４】　
　図３（ａ）乃至図３（ｄ）に示すように，１段目のルーツロータ２０ａ（及び２段目のルーツロータ２０ｂ）はロータケーシング２３内において互いに対向して配置されている。モータＭ１に駆動されてルーツロータ２０ａ（ポンプロータ２０）が同期回転すると，吸気側の気体はルーツロータ２０ａとロータケーシング２３の内面との間に閉じ込められて排気側に移送される。このような気体の移送が連続して行われることにより，吸気口２３ａに接続されている真空チャンバ内の排気が行われる。なお，本実施形態では，ロータとしてルーツ型を使用しているが，これに限らずスクリュー型やクロー型などを用いてもよい。いずれの場合でも，複数段のロータが軸方向に配列された多段型のポンプロータが用いられる。また，ポンプロータ２０の段数は２段に限られず，３段以上であってもよい。」　
　
・「【００２６】　
　図４は図１に示す第２の真空ポンプを示す断面図である。第２の真空ポンプは，一対のスクリュー型ポンプロータを備える点で第１の真空ポンプと異なっている。その他の第２の真空ポンプの構成は第１の真空ポンプと同様であり，その重複する説明を省略する。　
【００２７】　
　図４に示すように，ロータケーシング４３内には，互いに対向する一対のスクリュー型の多段ポンプロータ４０（図４には１つのポンプロータのみを示す）が配置されている。これらのポンプロータ４０はモータＭ２（モータステータＭ２−１，モータロータＭ２−２）によって同期して反対方向に回転駆動される。それぞれのポンプロータ４０は，１段目のスクリューロータ（吸気側ロータ）４０ａと，２段目のスクリューロータ（排気側ロータ）４０ｂと，これらのスクリューロータ４０ａ，４０ｂが固定される回転軸４１とを備えている。１段目及び２段目のスクリューロータ４０ａ，４０ｂは，互いに噛み合うように配置される。１段目のスクリューロータ４０ａは２段目のスクリューロータ４０ｂに比べて軸方向の幅が広く，かつピッチも大きく設定されている。なお，本実施形態に係る第２の真空ポンプではスクリュー型のロータが用いられているが，ルーツ型またはクロー型のロータを用いてもよい。　
【００２８】　
　ポンプロータ４０同士，及びポンプロータ４０とロータケーシング４３の内面との間には微小な隙間が形成されており，これによりポンプロータ４０がロータケーシング４３内で非接触で回転可能となっている。１段目のスクリューロータ４０ａの上方に位置するロータケーシング４３の部位には吸気口４３ａが形成され，２段目のスクリューロータ４０ｂの下方に位置するロータケーシング４３の部位には排気口４３ｂが形成されている。吸気口４３ａは，上述した第１の真空ポンプ１の排気口２３ｂ（図１及び図２参照）に接続配管７を介して接続されている。　
【００２９】　
　このような構成において，第１の真空ポンプ１から排気された気体（プロセスガス）は，接続配管７を介して吸入口４３ａからロータケーシング４３内に導入される。気体は，１段目のスクリューロータ４０ａ及び２段目のスクリューロータ４０ｂの回転により圧縮され，排気口４３ｂより排気される。なお，排気速度は，第１の真空ポンプ１の１段目のルーツロータ２０ａ，２段目のルーツロータ２０ｂ，第２の真空ポンプ２の１段目のスクリューロータ４０ａ，２段目のスクリューロータ４０ｂの順に小さくなる。　
【００３０】
　第２の真空ポンプ２は第１の真空ポンプ１よりも大気側に近いため，第２の真空ポンプ２内部の圧力は第１の真空ポンプ１内部の圧力よりも高くなる。このために，プロセスガスの副生成物は，第２の真空ポンプ２内で析出しやすい。本実施形態では，第２の真空ポンプ２にスクリュー型のポンプロータ４０を採用しているため，第２の真空ポンプ２内に析出した副生成物をポンプロータ４０の回転により掻き出すことができる。すなわち，１段目及び２段目のスクリューロータ４０ａ，４０ｂやロータケーシング４３の内面に副生成物が析出した場合でも，スクリューロータ４０ａ，４０ｂ（ポンプロータ４０）を回転させることによって副生成物を排気口４３ｂに送り出すことができる。このように，スクリューロータ４０ａ，４０ｂは生成物排出のために適した形状を有している。　
【００３１】　
　接続配管７には，第１の真空ポンプ１から排気された気体（プロセスガス）の圧力を測定する圧力センサ５０が設けられている。圧力センサ５０は制御盤（図１参照）１０に接続されており，制御盤１０は圧力センサ５０の出力値（気体の圧力）に基づいて第１の真空ポンプ１のポンプロータ２０（図１及び図２参照）の回転速度を制御するようになっている。」　
　
・「【００３２】　
　次に，本実施形態に係る真空排気装置の動作について図５を参照して説明する。　
　図５は，第１の真空ポンプ及び第２の真空ポンプのポンプロータの回転速度，及び圧力センサによって測定された気体の圧力を示すグラフである。　
　図５に示すように，まず，第２の真空ポンプ２を起動させ，第２の真空ポンプ２のポンプロータ４０が定格回転速度Ｓ４に到達するまでその回転速度を上昇させる。その後，第２の真空ポンプ２は定格回転速度で運転される。第２の真空ポンプ２が起動した時点から所定の設定時間ＰＴが経過した後，第１の真空ポンプ１を起動させる。なお，第２の真空ポンプ２内の気体の圧力が当該第２の真空ポンプ２の許容排気圧力範囲内である所定の圧力Ｐ０に達した後，第１の真空ポンプ１を起動させてもよい。第１の真空ポンプ１のポンプロータ２０の回転速度がＳ３に達すると，ポンプロータ２０は一定の回転速度で回転する。　
【００３３】　
　第１の真空ポンプ１及び第２の真空ポンプ２の運転に伴い，気体（プロセスガス）の圧力は更に低下する。気体の圧力が低下してＰ２に達したときに，ポンプロータ２０の回転速度を更に上昇させる。そして，ポンプロータ２０の回転速度がＳ２に達したところでポンプロータ２０を一定の回転速度で回転させる。更に気体の圧力がＰ１に達したとき，ポンプロータ２０の回転速度を更に上昇させ，Ｓ１（定格回転速度）に到達させる。その後，ポンプロータ２０を一定の回転速度（Ｓ１）で回転させる。ポンプロータ２０が定格回転速度に到達した後，何らかの要因により気体の圧力が上昇した場合には，ポンプロータ２０の回転速度をＳ２またはＳ３にまで低下させる。　
【００３４】　
　このように，真空排気装置によって移送される気体の圧力に応じて第１の真空ポンプ１のポンプロータ２０の回転速度を変化させることにより，モータＭ１にかかる負荷を低減させることができる。なお，本実施形態においては，圧力センサ５０は接続配管７内に配置されているが，第２の真空ポンプ２のロータケーシング４３内の１段目のスクリューロータ４０ａと２段目のスクリューロータ４０ｂとの間に圧力センサを配置してもよく，または，吸気配管６（図１参照），第１の真空ポンプ１のロータケーシング２３内部，または吸気口２３ａに配置してもよい。」　
　
・段落【００２０】，【００２６】の記載事項からみて，図４には，「一対のポンプロータ４０の同期回転の脱調を防ぐタイミングギヤ２８」が示されている。　
　また，段落【００２６】〜【００２９】の記載事項によれば，「第２の真空ポンプ２のポンプロータ４０が気体を移送すること」は明らかである。　
　そして，段落【００２３】，【００２６】の記載事項からみて，図４には，「第２の真空ポンプ２にクリーンガスを供給する供給口３５Ａ，３５Ｂ」が示されている。　
　
　これらの記載事項と図示内容を総合すると，上記引用例１には，以下の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されていると認められる。　　
「真空チャンバを真空に排気する真空排気装置において，　
  気体を移送する一対のポンプロータ２０と，前記一対のポンプロータ２０を回転させるモータＭ１と，前記一対のポンプロータ２０の同期回転の脱調を防止するタイミングギヤ２８とを備え，真空チャンバに接続される第１の真空ポンプ１と，　
　気体を移送する一対のポンプロータ４０と，前記一対のポンプロータ４０を回転させるモータＭ２と，前記一対のポンプロータ４０の同期回転の脱調を防止するタイミングギヤ２８とを備え，接続配管７を介して前記第１の真空ポンプ１に接続される第２の真空ポンプ２と，　
　前記接続配管７に設けられた圧力センサ５０と，　
  前記第１の真空ポンプ１及び前記第２の真空ポンプ２の軸受２２Ａ，２２Ｂ及びラビリンスシール３２Ａ，３２Ｂにプロセスガスの副生成物が析出してしまうことを防止するために，クリーンガスを供給する供給口３５Ａ，３５Ｂと，
　前記圧力センサ５０により検出された圧力に基づいて，第１の真空ポンプ１のポンプロータ２０の回転速度を制御する制御盤１０と，　
　を備えた真空排気装置。」　
　
（２−２）引用例２　
　原査定の拒絶理由で引用された本願の出願前に頒布された刊行物である特開２００３−３４３４７２号公報（以下「引用例２」という。）には，「真空ポンプの軸シール構造」に関し，図面とともに以下の事項が記載されている。　
　
・「【特許請求の範囲】　
【請求項１】端部を軸受で回転自在に固定されたロータを持ち，該ロータを収納するケーシングを具備し，該ケーシングは，吸込ポート及び吐出ポートを備えている真空ポンプにおいて，前記軸受へ不活性ガスを送るための通気路を設けたことを特徴とする真空ポンプ。
【請求項２】前記軸受部に送る不活性ガスの流量又は／及び圧力を制御する機能を備えていることを特徴とする請求項１に記載の真空ポンプ。」　
　
・「【０００１】　
【発明の属する技術分野】本発明は半導体製造工程等の反応性ガスを流す工程で使用するロータを持つ真空ポンプにおいて，ロータをハウジングに回転自在に固定するための軸受が反応性ガスにより腐蝕されたり，反応性ガスにより生成された生成物が付着しない軸シール構造に関する。」　
　
・「【０００８】　
【発明の実施の形態】以下，本発明の縦置型スクリュー式真空ポンプへの適応例を図１を用いて説明する。　
【０００９】まず，本実施形態に係るスクリュー式真空ポンプ１００の構成について説明する。　
【００１０】スクリュー式真空ポンプ１００は，スクリュウロータ１０１及び１０２を備えている。スクリュウロータ１０１，１０２は，ハウジング１０３の内部に形成された排気側ロータ収納室としてのハウジング１０３に収納されている。詳述すると，スクリュウロータ１０１は軸受１０４及び１０５によってハウジング１０３に回転可能に支持され，スクリュウロータ１０２は軸受１０６及び１０７によってハウジング１０３に回転可能に支持されている。また，シール１０８，１０９，１１０及び１１１は軸受１０４，１０５，１０６及び１０７とハウジング１０３内の排気室１１０ｅとを隔離し，軸受１０４，１０５，１０６及び１０７の潤滑油がハウジング１０３内に漏洩することを防止するとともに，ハウジング１０３の排気室１１０ｅから軸受１０４，１０５，１０６及び１０７に異物が侵入することを防止している。　
【００１１】また，スクリュウロータ１０１及びスクリュウロータ１０２の一端部には，スクリュウロータ１０１及びスクリュウロータ１０２の一方の回転に伴ってスクリュウロータ１０１及びスクリュウロータ１０２の他方を回転させるタイミングギア１１２及び１１３が，それぞれ互いに噛み合うように固定されている。更に，スクリュウロータ１０２の一端部には，モータ１１４が一体的に連結している。　
【００１２】前記タイミングギア１１２及び１１３が収納されているギア室１１５は底部に潤滑油１１６が溜まっている。前記ギア室１１５と前期モータ１１４とはオイルシール１１７及び１１８でギア室１１５内の潤滑油１１６がモータ側に漏れないように封止されている。　
【００１３】１１９，１２０，１２１及び１２２はハウジングに形成された不活性ガスの通気路である。真空ポンプの運転中は不活性ガスをわずかに流しながら，排気室１１０ｅ内から反応性ガスや反応性ガスにより生成された生成物が軸受１０４，１０５，１０６及び１０７に流れ込まないようにする。真空ポンプの停止時には真空ポンプを制御している図示していないコントローラから停止信号を受け，通気路１１９，１２０，１２１及び１２２への不活性ガスの流量調整バルブが動作し，排気室１１０ｅの圧力に対し軸受部１２０及びギヤ室１１５の圧力が常に同じもしくは，高い状態を保ちながら大気圧まで上昇するように通常より多量かつ／もしくは高圧の不活性ガスを不活性ガスの通気路１１９に流す。また，不活性ガスの供給を２つに分け，図示していない切替バルブで動作させても良い。さらに排気室内の圧力と軸受部の圧力を圧力センサー等の測定手段を用いて測定し，測定データをもとに排気室内の圧力と軸受部内を予め決められた所定の圧力差になるように不活性ガスの流量及び／又は圧力を制御することにより真空ポンプの性能を極力低下させることなく軸受を反応生成ガスによる腐食や生成物から守ることができる。」　
　
・段落【００１１】の記載事項及び図１からみて，「モータ１１４がスクリュウロータ１０１，１０２を回転させていること」，及び，「タイミングギヤ１１２，１１３がスクリュウロータ１０１，１０２を同期させていること」は明らかである。　
　
・段落【００１３】の記載事項からみて，「圧力センサーにより測定した測定データをもとに，通気路１１９−１２２を流れる不活性ガスの流量を制御する」ものであれば，何らかの「制御部を備える」ことは明らかである。　
　
　これらの記載事項と図示内容を総合すると，上記引用例２には，以下の発明（以下「引用発明２」という。）が記載されていると認められる。
「吸入ポート及び吐出ポートを備えている真空ポンプにおいて，　
　反応性ガスを流す工程で使用するスクリュウロータ１０１，１０２と，前記スクリュウロータ１０１，１０２を回転させるモータ１１４と，前記スクリュウロータ１０１，１０２を同期させるタイミングギヤ１１２，１１３とを備えたスクリュー式真空ポンプ１００と，　
　排気室内と軸受部の圧力を測定する圧力センサーと，　
　スクリュー式真空ポンプ１００の軸受１０４−１０７に不活性ガスを供給する通気路１１９−１２２と，
　前記圧力センサーにより測定した測定データをもとに，前記通気路１１９−１２２を流れる不活性ガスの流量を制御する制御部と，
　を備えた真空ポンプ。」　
　
 ３．発明の対比　
　本願補正発明と引用発明１とを対比すると，後者の「真空排気装置」は前者の「真空排気システム」に相当し，以下同様に，「ポンプロータ２０」及び「ポンプロータ４０」は「ロータ」に，「モータＭ１」及び「モータＭ２」は「モータ」に，「第１の真空ポンプ１」は「第１真空ポンプ」に，「第２の真空ポンプ２」は「第２真空ポンプ」に，「接続配管７」は「接続管」に，「圧力センサ５０」は「圧力センサ」に，「制御盤１０」は「制御部」にそれぞれ相当する。
　また，後者の「一対のポンプロータ２０の同期回転の脱調を防止するタイミングギヤ２８」及び「一対のポンプロータ４０の同期回転の脱調を防止するタイミングギヤ２８」は，前者の「一対のロータを同期させるタイミングギヤ」に相当し，後者の「接続配管７に設けられた圧力センサ５０」は，前者の「接続管に設置された圧力センサ」に相当し，後者の「第１の真空ポンプ１及び第２の真空ポンプ２の軸受２２Ａ，２２Ｂ及びラビリンスシール３２Ａ，３２Ｂにプロセスガスの副生成物が析出してしまうことを防止するために，クリーンガスを供給する供給口３５Ａ，３５Ｂ」は，前者の「第１真空ポンプ及び第２真空ポンプに軸シールガスを供給するガス系統」に相当する。　
　そして，後者の「圧力センサ５０により検出された圧力に基づいて，第１の真空ポンプ１のポンプロータ２０の回転速度を制御する制御盤１０」と，前者の「圧力センサにより検出された圧力に基づいて，ガス系統を流れる軸シールガスの流量を制御する制御部」とは，「圧力センサにより検出された圧力に基づいて，何らかの制御をする制御部」において共通する。　
　そうすると，両者は，　
「真空チャンバを真空に排気する真空排気システムにおいて，　
  気体を移送する一対のロータと，前記一対のロータを回転させるモータと，前記一対のロータを同期させるタイミングギヤとを備え，真空チャンバに接続される第１真空ポンプと，　
　気体を移送する一対のロータと，前記一対のロータを回転させるモータと，前記一対のロータを同期させるタイミングギヤとを備え，接続管を介して前記第１真空ポンプに接続される第２真空ポンプと，　
　前記接続管に設置された圧力センサと，　
　前記第１真空ポンプ及び前記第２真空ポンプに軸シールガスを供給するガス系統と，　
　前記圧力センサにより検出された圧力に基づいて，何らかの制御をする制御部と，　
　を備えた真空排気システム。」
の点で一致し，以下の点で相違すると認められる。　
　
＜相違点＞　
　接続管に設置された圧力センサにより検出された圧力に基づいて，何らかの制御をする制御部において，制御部の行う制御の対象が，本願補正発明では，「ガス系統を流れる軸シールガスの流量」であるのに対して，引用発明１では，「第１の真空ポンプ１のポンプロータ２０の回転速度」である点。
　
４．相違点の検討（当審の判断）　
　まず，上記引用例１には，段落【００２３】に「軸受２２Ａ，２２Ｂ及びラビリンスシール３２Ａ，３２Ｂがプロセスガスに晒されることが防止され，プロセスガスの副生成物が析出してしまうことを防止する」旨の課題についての示唆がある。　
　そして，上記引用例２には，「真空ポンプの性能を極力低下させることなく軸受を反応生成ガスによる腐食や生成物から守ることができる」ことを課題として，「排気室内と軸受部の圧力を測定する圧力センサーと，スクリュー式真空ポンプ１００の軸受１０４−１０７に不活性ガスを供給する通気路１１９−１２２と，前記圧力センサーにより測定した測定データをもとに，前記通気路１１９−１２２を流れる不活性ガスの流量を制御する，真空ポンプ」が記載されており，少なくとも「排気室内」は，「真空排気システムの真空領域」に相当するから，「排気室内と軸受部の圧力を測定する圧力センサー」は，少なくとも「真空排気システムの真空領域に設置された圧力センサ」を含むものであり，「スクリュー式真空ポンプ１００の軸受１０４−１０７に不活性ガスを供給する通気路１１９−１２２」は「真空ポンプに軸シールガスを供給するガス系統」に相当し，「圧力センサーにより測定した測定データをもとに，通気路１１９−１２２を流れる不活性ガスの流量を制御する制御部」は「圧力センサにより検出された圧力に基づいて，ガス系統を流れる軸シールガスの流量を制御する制御部」に相当するから，上記引用例２には，「少なくとも真空排気システムの真空領域に設置された圧力センサを含み，真空ポンプに軸シールガスを供給するガス系統と，前記圧力センサにより検出された圧力に基づいて，前記ガス系統を流れる軸シールガスの流量を制御する制御部」が開示されていると認められる。　
　そこで，上記引用例２に開示された圧力センサは，「接続管」に設置されたものではないものの，「真空排気システムの真空領域」である「排気室内」に設置されたものであり，引用発明の圧力センサは同じく「真空排気システムの真空領域」の「接続管」に設置されたものである。　
　また，本願明細書の段落【００１８】には，「圧力センサ５０は真空領域であればどこに取付けてもよい。」と記載され，上記引用例１の段落【００３４】には，「なお，本実施形態においては，圧力センサ５０は接続配管７内に配置されているが，第２の真空ポンプ２のロータケーシング４３内の１段目のスクリューロータ４０ａと２段目のスクリューロータ４０ｂとの間に圧力センサを配置してもよく，または，吸気配管６（図１参照），第１の真空ポンプ１のロータケーシング２３内部，または吸気口２３ａに配置してもよい。」と記載されるように，圧力センサは真空領域内であれば，接続管（接続配管）に設けるか，排気室内（ロータケーシング内）に設けるかは，任意選択的な事項にすぎない。　
　そうすると，本願補正発明と同様の課題についての示唆のある引用発明１に，同様の課題を有する上記引用例２に開示された事項を適用して，「接続管に設置された圧力センサにより検出された圧力に基づいて，ガス系統を流れる軸シールガスの流量を制御する制御部」とすることは，当業者が容易に想到し得たものである。　
　
　そして，上記相違点を併せ備える本願補正発明の奏する作用効果について検討してみても，引用発明１及び上記引用例２に開示された事項から当業者が予測し得たものであって，格別なものとはいえない。　
　
　したがって，本願補正発明は，引用発明１及び上記引用例２に開示された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない。　
　
 ５．むすび　
　以上のとおり，本件補正は，平成１８年法律５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり，同法第１５９条第１項で準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。　
　よって，補正却下の決定の結論のとおり決定する。　
　
III．本願発明について　
１．本願発明の記載事項　
　本件補正は，上記のとおり却下され，また，審査段階において，平成２２年　５月２６日付け手続補正が却下されているので，本願の請求項１〜３に係る発明は，平成２１年　９月１７日付け手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１〜３に記載された事項により特定されるものと認められるところ，請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は，次のとおりである。
「【請求項１】　
　真空チャンバを真空に排気する真空排気システムにおいて，　
　気体を移送する一対のロータと，前記一対のロータを回転させるモータと，前記一対のロータを同期させるタイミングギヤとを備えた少なくとも１つの真空ポンプと，　
　前記真空排気システム中の真空領域に設置された圧力センサと，　
　前記少なくとも１つの真空ポンプに軸シールガスを供給するガス系統と，
　前記圧力センサにより検出された圧力に基づいて，前記ガス系統を流れる軸シールガスの流量を制御する制御部と，　
を備えたことを特徴とする真空排気システム。」　
　
２．引用例の記載事項　
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例及びその記載事項は前記II．２．に記載したとおりである。　
　
３．対比・判断　
　本願発明と引用発明２とを対比すると，後者の「真空ポンプ」は前者の「真空排気システム」に相当し，以下同様に，「スクリュウロータ１０１，１０２」は「一対のロータ」に，「モータ１１４」は「モータ」に，「タイミングギヤ１１２，１１３」は「タイミングギヤ」に，「スクリュー式真空ポンプ１００」は「少なくとも１つの真空ポンプ」に，「圧力センサ−」は「圧力センサ」に，それぞれ相当する。　
　また，真空ポンプは，通常，真空に排気するためのものであるから，後者の「吸入ポート及び吐出ポートを備えている真空ポンプ」と，前者の「真空チャンバを真空に排気する真空排気システム」とは，「真空に排気する真空排気システム」において共通し，後者の「反応性ガスを流す工程で使用するスクリュウロータ１０１，１０２」は，前者の「気体を移送する一対のロータ」に相当し，後者の「排気室内」「の圧力を測定する圧力センサー」は，前者の「真空排気システム中の真空領域に設置された圧力センサ」に相当する。　
　そして，後者の「スクリュー式真空ポンプ１００の軸受１０４−１０７に不活性ガスを供給する通気路１１９−１２２」は，前者の「少なくとも１つの真空ポンプに軸シールガスを供給するガス系統」に相当し，後者の「圧力センサーにより測定した測定データをもとに，通気路１１９−１２２を流れる不活性ガスの流量を制御する制御部」は，前者の「圧力センサにより検出された圧力に基づいて，ガス系統を流れる軸シールガスの流量を制御する制御部」に相当する。　
　そうすると，両者は，　
「真空に排気する真空排気システムにおいて，　
　気体を移送する一対のロータと，前記一対のロータを回転させるモータと，前記一対のロータを同期させるタイミングギヤとを備えた少なくとも１つの真空ポンプと，　
　前記真空排気システム内の真空領域に設置された圧力センサと，　
　前記少なくとも１つの真空ポンプに軸シールガスを供給するガス系統と，
　前記圧力センサーにより検出された圧力に基づいて，前記ガス系統を流れる軸シールガスの流量を制御する制御部と，　
を備えた真空排気システム。」　
の点で一致し，以下の点で相違すると認められる。　
　
＜相違点＞　
　真空排気システムが，本願発明では，「真空チャンバを真空に排気する」ものであるのに対して，引用発明２では，「真空チャンバ」が明記されておらず，真空ポンプの吸入ポートに「真空チャンバ」が接続されているか否かが特定されてない点。　
　
　以下，上記相違点について検討する。　
　真空ポンプは，真空チャンバを真空に排気するためのものであることは技術常識であり（例えば，上記引用例１の段落【０００１】，【００１４】を参照のこと。），引用発明２の真空ポンプの吸入ポートに真空チャンバを接続することに格別の困難性はない。　
　
　そうすると，本願発明は，引用発明２及び上記技術常識に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものである。　
　
４．むすび　
　以上のとおり，本願発明（請求項１に係る発明）は，引用発明２及び上記技術常識に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。　
　そうすると，このような特許を受けることができない発明を包含する本願は，本願の他の請求項について検討するまでもなく，拒絶されるべきものである。　
　よって，結論のとおり審決する。