【手続補正書】
【提出日】平成18年1月25日(2006.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  一般式（Ｉ）を有する２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール。
【化１】
2002501063.tif 000001
（式中、X及びX'は、同一又は異なり、水素原子、塩素及び臭素から選ばれるハロゲン原子、直鎖又は枝分かれC1‐C18アルキル基、直鎖又は枝分かれC1‐C18アルコキシル基、又はシアノ基を表し、
R1及びR'1は、同一又は異なり、塩素及び臭素から選ばれるハロゲン原子、直鎖又は枝分かれC1‐C18アルキル基、直鎖又は枝分かれC2‐C18アルケニル基、直鎖又は枝分かれC2‐C18アルキニル基、C5‐C18シクロアルキル基、該シクロアルキル基は任意に置換されていてもよい、C7‐C15アリールアルキル又はアルキルアリール基、C6‐C14アリール基、該アリール基は任意に置換されていてもよい、直鎖又は枝分かれC1‐C18アルコキシル基、酸素、窒素及び硫黄から選ばれる少なくとも一つのヘテロ原子を含む５又は６原子のヘテロ環基、該ヘテロ環基は任意に置換されてもよい、以下の式を有する基、
【化２】
2002501063.tif 000002
−ＣＯＲ4基又は‐ＮＲ5Ｒ6基
（ここで、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は同一又は異なり、直鎖又は枝分かれC1‐C18アルキル基、直鎖又は枝分かれC2‐C18アルケニル基、直鎖又は枝分かれC2‐C18アルキニル基、C5‐C18シクロアルキル基、該シクロアルキル基は任意に置換されていてもよい、C7‐C15アリールアルキル又はアルキルアリール基、C6‐C14アリール基、該アリール基は任意に置換されていてもよい、酸素、窒素及び硫黄から選ばれるヘテロ原子を少なくとも一つ含む５又は６原子のヘテロ環基、該ヘテロ環基は任意に置換されていてもよい、
また、Ｒ1及びＲ'1は同一又は異なり、以下の一般式（II）、（III）又は（IV）を有するエステル基、
【化３】
2002501063.tif 000003
又は一般式（Ｖ）を有するアミド基を表し、
【化４】
2002501063.tif 000004
（式中、Ｒ'は、直鎖又は枝分かれC1‐C18アルキル基、直鎖又は枝分かれC2‐C18アルケニル基、直鎖又は枝分かれC2‐C18アルキニル基、C5‐C18シクロアルキル基、該シクロアルキル基は任意に置換されていてもよい、C7‐C15アリールアルキル又はアルキルアリール基、C6‐C14アリール基、該アリール基は任意に置換されていてもよい、直鎖又は枝分かれC1‐C18アルコキシル基、酸素、窒素及び硫黄から選ばれるヘテロ原子を少なくとも一つ含む５又は６原子のヘテロ環基、該ヘテロ環基は任意に置換されていてもよい。）
また、Ｒ1及びＲ'1は同一又は異なり、式（VI）を有する４、４‐エチリデンビスフェノール基を表し、
【化５】
2002501063.tif 000005
Ｒ2及びＲ3は同一又は異なり、水素原子、直鎖又は枝分かれC1‐C18アルキル基、フェニル基、酸素、窒素及び硫黄から選ばれるヘテロ原子を少なくとも一つ含む５又は６原子のヘテロ環基を表し、該ヘテロ環基は任意に置換されていてもよい。）
【請求項２】  式中、C5‐C18シクロアルキル基、C6‐C14アリール基、および５又は６原子のヘテロ環基が、塩素及び臭素から選ばれるハロゲン原子、直鎖又は枝分かれC1‐C18アルキル基、直鎖又は枝分かれC2‐C18アルケニル基、直鎖又は枝分かれC2‐C18アルキニル基、ＯＨ基、ＮＨ基又はＳＨ基で置換されている請求項１記載の一般式（１）を有する２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール。
【請求項３】  式中、C1‐C18アルキル基が、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｔ−アミル、２−エチルヘキシル、ｎ−オクチル、１,１,３,３−テトラメチルブチル、ｎ−ドデシル、１,１,７,７−テトラメチルオクチル、ｎ‐オクタデシルである請求項１記載の一般式（１）を有する２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール。
【請求項４】  式中、C2‐C18アルケニル基が、ビニル、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレンである請求項１記載の一般式（１）を有する２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール。
【請求項５】  式中、C2‐C18アルキニル基が、アセチレン、プロピン、ブチン、２−ブチンである請求項１記載の一般式（１）を有する２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール。
【請求項６】  式中、任意に置換されていてもよいC5‐C18シクロアルキル基が、シクロへキシル、シクロペンチル、メチルシクロヘキシルである請求項１記載の一般式（１）を有する２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール。
【請求項７】  式中、C7‐C15アリールアルキル又はアルキルアリール基が、ベンジル、２−フェニルエチル、４−ｔ−ブチルベンジルである請求項１記載の一般式（１）を有する２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール。
【請求項８】  式中、任意に置換されていてもよいC6‐C14アリール基が、フェニル、ナフチル、アントラセニル、２−ヒドロキシフェニルである請求項１記載の一般式（１）を有する２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール。
【請求項９】  式中、C1‐C18アルコキシル基が、メトキシル、エトキシル、プロポキシル、ｎ‐ブトキシルである請求項１記載の一般式（１）を有する２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール。
【請求項１０】  式中、任意に置換されていてもよい５又は６原子のヘテロ環基が、ピペリジン、モルホリン、ピペラジン、トリアゾール、テトラメチルピペリジン、ペンタメチルピペリジン、テトラメチルモルホリン、ペンタメチルモルホリン、４−ヒドロキシ−テトラメチルピペリジンである請求項１記載の一般式（１）を有する２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール。
【請求項１１】  以下の式を有する請求項１記載の２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール。
【化６】
2002501063.tif 000006
【請求項１２】  以下の式を有する請求項１記載の２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール。
【化７】
2002501063.tif 000007
【請求項１３】  一般式（ＶＩＩＡ）又は（ＶＩＩＢ）を有する２‐（２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールを、
【化８】
2002501063.tif 000008
【化９】
2002501063.tif 000009
（式中、Ｘ、Ｘ'、Ｒ1及びＲ'1は、上記と同一の意味を有する。）
一般式（ＶＩＩＩ）を有する２，４−イミダゾリジンジオン１−モノメチロールと
【化１０】
2002501063.tif 000010
（式中、Ｒ2及びＲ3は上記と同じ意味を有する。）
濃硫酸の存在下で、７０％から９８％の濃度で−５℃から３０℃の温度範囲で反応させて、これから一般式（ＩＸＡ）又は（ＩＸＢ）を有する中間化合物が単離される原料物質を得ることからなり、
【化１１】
2002501063.tif 000011
【化１２】
2002501063.tif 000012
（式中、Ｘ、Ｘ'、Ｒ1及びＲ1'は、上記と同一の意味を有する。）
ここで、一般式（ＩＸＡ）又は（ＩＸＢ）を有する中間化合物は、該原料物質を水氷中に滴下し、ろ過に続いて洗浄及び不活性有機溶媒の存在下で結晶化を行うことによって得られる固体を除去することによって、原料物質から単離される請求項１〜１２のいずれか１項記載の一般式（１）を有する２−（２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールの調製方法。
【請求項１４】  結晶化を行うために使われる不活性有機溶媒が、直鎖又は環状脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、アルコール、塩素化芳香族溶媒、ケトン、エチレングリコールのモノアルキルエーテルである請求項１３記載の方法。
【請求項１５】  Rが一般式（II）、（III）又は（IV）を有するエステル基または、一般式（５）を有するアミドを表すとき、一般式（VIIA）又は（VIIB）を有する２‐（２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールと一般式（VIII）を有する２，４−イミダゾリジンジオン１−モノメチロールとの反応が、触媒としてトルエン及びp‐トルエンスルフォン酸の存在下、室温からトルエンの沸点までの温度範囲で行われる一般式（１）を有する２‐（２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールの調製方法。
【請求項１６】  一般式（IXA）又は（IXB）を有する中間体が、ホルムアルデヒドと、炭酸ナトリウム又は炭酸水素ナトリウムのようなアルカリ触媒の存在下、メタノールのような不活性有機溶媒の存在下、５０℃から６５℃の間で反応し、一般式（XA）又は（XB）を有する化合物を得、
【化１３】
2002501063.tif 000013
【化１４】
2002501063.tif 000014
（式中、Ｘ、Ｘ'、Ｒ1及びＲ1'は、上記と同一の意味を有する。）
それらは続いて一般式（VIIA）又は（VIIB）を有する化合物と反応し、一般式（VIIA）又は（VIIB）を有する該化合物と一般式（VIII）を有する２，４−イミダゾリジンジオン１−モノメチロールとの反応に関して請求項１３から１５に特定されたのと同様な状態下で操作し、一般式（１）を有する化合物を得る請求項１３から１５のいずれか１項記載の方法。
【請求項１７】  一般式（XIA）又は（XIB）を有する２−（２'‐ヒドロキシ−３‐ヒドロキシメチルフェニル）ベンゾトリアゾールを、
【化１５】
2002501063.tif 000015
【化１６】
2002501063.tif 000016
（式中、Ｘ、Ｘ'、Ｒ1及びＲ1'は上記と同じ意味を有する。）
一般式（XII）を有する２，４−イミダゾリジンジオンと反応させ、
【化１７】
2002501063.tif 000017
（式中、Ｒ2及びＲ3は、上記と同一の意味を有する。）
請求項１３又は１５に特定されているのと同一条件下で操作し、これから一般式（１）を有する化合物が単離される原料物質を得ることからなり、ここで、一般式（１）を有する化合物は、原料物質を水氷中に滴下し、ろ過し次いで、洗浄及び請求項１４に従い不活性有機溶媒の存在下で結晶化によって固体を除去することによって単離される請求項１〜１６のいずれか１項記載の一般式（１）を有する２−（２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールの調製方法。
【請求項１８】  有機ポリマー及び、請求項１〜１７のいずれか１項記載の一般式（１）を有する１以上の２‐（２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールを有効量含む高分子組成物。
【請求項１９】  一般式（１）を有する２‐（２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールが、他の安定剤と組合されている、請求項１８記載の高分子組成物。
【請求項２０】  有機ポリマーがポリカーボネートから選ばれる、請求項１８又は１９記載の高分子組成物。
【請求項２１】  請求項１８から２０のいずれか１項記載の高分子組成物の処理から得られる最終製品。
【請求項２２】  有機ポリマー用の熱、酸素および光安定剤としての、請求項１から１７のいずれか１項記載の一般式（１）を有する２‐（２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールの使用。
【請求項２３】  有機ポリマー用の光安定剤としての、請求項２２記載の一般式（１）を有する２‐（２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールの使用。
【請求項２４】  １０‐１００マイクロメートルの厚さの上層がそれらの組成物を含むが、中間層は請求項１から１７いずれか１項記載の一般式（１）を有する化合物を含まないか又は少量含む、多層システムの製造への請求項１８から２０のいずれか１項記載の高分子組成物の使用。
【請求項２５】  コーティング又はペイント組成物としての、請求項１８から２０記載の高分子組成物の使用。