【手続補正書】
【提出日】平成18年7月28日(2006.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ
【化１】
2005534685.tif 000001
［式中、Ｌは場合により置換されていてもよい炭素部分であり、
各Ｒは独立して場合により置換されていてもよい炭素部分から選択され、
ｋは０〜４の整数であり、
そしてＸ1はハロゲンである］
の３−ハロ−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピラゾール化合物を製造する方法であって、
式ＩＩ
【化２】
2005534685.tif 000002
［式中、Ｘ2はＯＳ（Ｏ）mＲ1、ＯＰ（Ｏ）p（ＯＲ2）2またはＸ1以外のハロゲンであり、
ｍは１または２であり、
ｐは０または１であり、
Ｒ1はアルキルおよびハロアルキル；ならびに場合によりアルキルおよびハロゲンから選択される１〜３個の置換基によって置換されていてもよいフェニルから選択され、そして
各Ｒ2は独立してアルキルおよびハロアルキル；ならびに場合によりアルキルおよびハロゲンから選択される１〜３個の置換基によって置換されていてもよいフェニルから選択される］
の４，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピラゾール化合物を、適切な溶媒の存在下で、式ＨＸ1の化合物と接触させることを含んでなる方法。
【請求項２】
Ｘ2がハロゲンまたはＯＳ（Ｏ）mＲ1である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
Ｘ1がＣｌまたはＢｒである請求項１に記載の方法。
【請求項４】
式Ｉの化合物が式Ｉａ
【化３】
2005534685.tif 000003
であり、そして式ＩＩの化合物が式ＩＩａ
【化４】
2005534685.tif 000004
［式中、
各Ｒ3は独立してＣ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ2〜Ｃ4アルケニル、Ｃ2〜Ｃ4アルキニル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ2〜Ｃ4ハロアルケニル、Ｃ2〜Ｃ4ハロアルキニル、Ｃ3〜Ｃ6ハロシクロアルキル、ハロゲン、ＣＮ、ＮＯ2、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルアミノ、Ｃ2〜Ｃ8ジアルキルアミノ、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキルアミノ、（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）（Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル）アミノ、Ｃ2〜Ｃ4アルキルカルボニル、Ｃ2〜Ｃ6アルコキシカルボニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキルアミノカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8ジアルキルアミノカルボニルまたはＣ3〜Ｃ6トリアルキルシリルであり、
Ｒ4はＨまたは場合により置換されていてもよい炭素部分であり、
ＺはＮまたはＣＲ5であり、
Ｒ5はＨまたはＲ3であり、そして
ｎは０〜３の整数である］
である請求項１に記載の方法。
【請求項５】
ＺがＮであり、ｎが１であり、そしてＲ3がＣｌまたはＢｒでありかつ３位に存在する請求項４に記載の方法。
【請求項６】
Ｘ1がＢｒであり、Ｘ2がＣｌまたはＯＳ（Ｏ）mＲ1であり、ｍが２であり、そしてＲ1がフェニルまたは４−メチルフェニルである請求項４に記載の方法。
【請求項７】
式ＩＩＩ
【化５】
2005534685.tif 000005
［式中、
Ｘ1はハロゲンであり、
各Ｒ3は独立してＣ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ2〜Ｃ4アルケニル、Ｃ2〜Ｃ4アルキニル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ2〜Ｃ4ハロアルケニル、Ｃ2〜Ｃ4ハロアルキニル、Ｃ3〜Ｃ6ハロシクロアルキル、ハロゲン、ＣＮ、ＮＯ2、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルアミノ、Ｃ2〜Ｃ8ジアルキルアミノ、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキルアミノ、（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）（Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル）アミノ、Ｃ2〜Ｃ4アルキルカルボニル、Ｃ2〜Ｃ6アルコキシカルボニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキルアミノカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8ジアルキルアミノカルボニルまたはＣ3〜Ｃ6トリアルキルシリルであり、
ＺはＮまたはＣＲ5であり、
Ｒ5はＨまたはＲ3であり、
Ｒ6はＣＨ3、Ｆ、ＣｌまたはＢｒであり、
Ｒ7はＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＩまたはＣＦ3であり、
Ｒ8aはＣ1〜Ｃ4アルキルであり、
Ｒ8bはＨまたはＣＨ3であり、そして
ｎは０〜３の整数である］
の化合物を、式Ｉａ
【化６】
2005534685.tif 000006
［式中、Ｒ4はＨまたは場合により置換されていてもよい炭素部分である］
の化合物を使用して製造する方法であって、
請求項４に記載の方法によって式Ｉａの化合物を製造することを特徴とする方法。
【請求項８】
ＺがＮであり、ｎが１であり、そしてＲ3がＣｌまたはＢｒでありかつ３位に存在する請求項７に記載の方法。
【請求項９】
Ｘ1がＢｒであり、Ｘ2がＣｌまたはＯＳ（Ｏ）mＲ1であり、ｍが２であり、そしてＲ1がフェニルまたは４−メチルフェニルである請求項７に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
そのまま、あるいはアセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジクロロメタンまたはクロロホルムを含む様々な適切な溶媒中で、室温から溶媒の還流温度の範囲に及ぶ最適温度で、反応を実行することができる。アントラニルアミドを生成するベンゾオキサジノンとアミンとの一般的反応は、化学文献に十分に証明されている。ベンゾオキサジノンの化学に関する概説に関して、ジャコブセン（Ｊａｋｏｂｓｅｎ）ら、バイオーガニック  アンド  メディシナル  ケミストリー（Ｂｉｏｒｇａｎｉｃ  ａｎｄ  Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）２０００、８，２０９５−２１０３、およびその中の引用文献を参照のこと。コッポラ（Ｃｏｐｐｏｌａ）、ジャーナル  オブ  ヘテロサイクリック  ケミストリー（Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）１９９９、３６、５６３−５８８も参照のこと。
なお、本発明の主たる態様及び特徴を要約すれば以下のとおりである。
１．  式Ｉ
【化１】
2005534685.tif 000007
［式中、Ｌは場合により置換されていてもよい炭素部分であり、
各Ｒは独立して場合により置換されていてもよい炭素部分から選択され、
ｋは０〜４の整数であり、
そしてＸ1はハロゲンである］
の３−ハロ−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピラゾール化合物を製造する方法であって、
式ＩＩ
【化２】
2005534685.tif 000008
［式中、Ｘ2はＯＳ（Ｏ）mＲ1、ＯＰ（Ｏ）p（ＯＲ2）2またはＸ1以外のハロゲンであり、
ｍは１または２であり、
ｐは０または１であり、
Ｒ1はアルキルおよびハロアルキル；ならびに場合によりアルキルおよびハロゲンから選択される１〜３個の置換基によって置換されていてもよいフェニルから選択され、そして
各Ｒ2は独立してアルキルおよびハロアルキル；ならびに場合によりアルキルおよびハロゲンから選択される１〜３個の置換基によって置換されていてもよいフェニルから選択される］
の４，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピラゾール化合物を、適切な溶媒の存在下で、式ＨＸ1の化合物と接触させることを含んでなる方法。
２．  ｍが２であり、そしてｐが１である上記１に記載の方法。
３．  Ｘ2がハロゲンまたはＯＳ（Ｏ）mＲ1である上記２に記載の方法。
４．  Ｘ2がＣｌまたはＯＳ（Ｏ）mＲ1であり、そしてＲ1がＣ1〜Ｃ2アルキル、フェニルまたは４−メチルフェニルである上記３に記載の方法。
５．  Ｘ1がＣｌまたはＢｒである上記１に記載の方法。
６．  式Ｉの化合物が式Ｉａ
【化３】
2005534685.tif 000009
であり、そして式ＩＩの化合物が式ＩＩａ
【化４】
2005534685.tif 000010
［式中、
各Ｒ3は独立してＣ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ2〜Ｃ4アルケニル、Ｃ2〜Ｃ4アルキニル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ2〜Ｃ4ハロアルケニル、Ｃ2〜Ｃ4ハロアルキニル、Ｃ3〜Ｃ6ハロシクロアルキル、ハロゲン、ＣＮ、ＮＯ2、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルアミノ、Ｃ2〜Ｃ8ジアルキルアミノ、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキルアミノ、（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）（Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル）アミノ、Ｃ2〜Ｃ4アルキルカルボニル、Ｃ2〜Ｃ6アルコキシカルボニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキルアミノカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8ジアルキルアミノカルボニルまたはＣ3〜Ｃ6トリアルキルシリルであり、
Ｒ4はＨまたは場合により置換されていてもよい炭素部分であり、
ＺはＮまたはＣＲ5であり、
Ｒ5はＨまたはＲ3であり、そして
ｎは０〜３の整数である］
である上記１に記載の方法。
７．  Ｒ4がＣ1〜Ｃ4アルキルである上記６に記載の方法。
８．  ＺがＮであり、ｎが１であり、そしてＲ3がＣｌまたはＢｒでありかつ３位に存在する上記７に記載の方法。
９．  Ｘ1がＢｒであり、Ｘ2がＣｌまたはＯＳ（Ｏ）mＲ1であり、ｍが２であり、そしてＲ1がフェニルまたは４−メチルフェニルである上記７に記載の方法。
１０．  式ＩＩＩ
【化５】
2005534685.tif 000011
［式中、
Ｘ1はハロゲンであり、
各Ｒ3は独立してＣ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ2〜Ｃ4アルケニル、Ｃ2〜Ｃ4アルキニル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ2〜Ｃ4ハロアルケニル、Ｃ2〜Ｃ4ハロアルキニル、Ｃ3〜Ｃ6ハロシクロアルキル、ハロゲン、ＣＮ、ＮＯ2、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルアミノ、Ｃ2〜Ｃ8ジアルキルアミノ、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキルアミノ、（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）（Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル）アミノ、Ｃ2〜Ｃ4アルキルカルボニル、Ｃ2〜Ｃ6アルコキシカルボニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキルアミノカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8ジアルキルアミノカルボニルまたはＣ3〜Ｃ6トリアルキルシリルであり、
ＺはＮまたはＣＲ5であり、
Ｒ5はＨまたはＲ3であり、
Ｒ6はＣＨ3、Ｆ、ＣｌまたはＢｒであり、
Ｒ7はＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＩまたはＣＦ3であり、
Ｒ8aはＣ1〜Ｃ4アルキルであり、
Ｒ8bはＨまたはＣＨ3であり、そして
ｎは０〜３の整数である］
の化合物を、式Ｉａ
【化６】
2005534685.tif 000012
［式中、Ｒ4はＨまたは場合により置換されていてもよい炭素部分である］
の化合物を使用して製造する方法であって、
上記６に記載の方法によって式Ｉａの化合物を製造することを特徴とする方法。
１１．  Ｒ4がＣ1〜Ｃ4アルキルである上記１０に記載の方法。
１２．  ＺがＮであり、ｎが１であり、そしてＲ3がＣｌまたはＢｒでありかつ３位に存在する上記１１に記載の方法。
１３．  Ｘ1がＢｒであり、Ｘ2がＣｌまたはＯＳ（Ｏ）mＲ1であり、ｍが２であり、そしてＲ1がフェニルまたは４−メチルフェニルである上記１１に記載の方法。