【手続補正書】
【提出日】平成18年5月9日(2006.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  リソグラフィーシステムにおいて線幅を選択的に最適化する方法であって、
（ａ）最適化のために線幅制御パラメータを選択する工程と、
（ｂ）該リソグラフィーシステムにおいて、スキャンされているスロット内の複数の焦点を設定し、これにより、該線幅制御パラメータを最適化する工程と
を包含する、方法。
【請求項２】  前記工程（ａ）は、Ｈ−Ｖバイアス、Ｇ−ＩバイアスおよびＣＤスルーフォーカスからなる線幅制御パラメータの群から線幅制御パラメータを選択する工程をさらに包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記工程（ａ）は、最適化のため、複数の線幅制御パラメータを選択する工程をさらに包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記工程（ｂ）は、フレキシブルチャックの表面を撓ませて、前記リソグラフィーシステムにおいてスキャンされている前記スロット内の前記複数の焦点を設定し、これにより、前記線幅制御パラメータを最適化する工程をさらに包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】  リソグラフィー装置、レチクルおよびレチクルを有するリソグラフィー装置の１つを較正する工程をさらに包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】  前記較正工程は、フィールドスルーフォーカスをプリントする工程をさらに包含する、請求項５に記載の方法。
【請求項７】  前記較正工程は、空中イメージモニタを用いて、スロットの線幅スルーフォーカスを決定する工程をさらに包含する、請求項５に記載の方法。
【請求項８】  スキャン方向に沿ったスロット点に対して複数の焦点を設定する工程をさらに包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項９】  前記スキャン方向に沿った前記スロット点に対して複数の焦点を設定する工程は、フレキシブルチャックの表面を撓ませて、該複数の焦点を該スキャン方向に沿った該スロット点に対して設定し、これにより、前記線幅制御パラメータを最適化する工程をさらに包含する、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  前記フレキシブルチャックの表面を撓ませる工程は、前記スロットがスキャンされている間に行なわれる、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】  リソグラフィーシステムにおいて用いられる焦点オフセット係数の組を生成する方法であって、
（ａ）リソグラフィー装置、レチクルおよびレチクルを有するリソグラフィー装置の１つを較正する工程と、
（ｂ）該工程（ａ）の間に収集されたデータに基づいて、該焦点オフセット係数の組を決定する工程と
を包含する方法。
【請求項１２】  前記工程（ｂ）は、
（ｉ）前記工程（ｂ）において収集された前記データから曲線をプロットし、前記焦点オフセット係数の組を該プロットされた曲線から決定する工程と、
（ｉｉ）演算デバイスまたは素子を用いて、該工程（ｂ）の間に収集されたデータから、該焦点オフセット係数の組を直接決定する工程と
のうちの１つをさらに包含する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  前記工程（ａ）は、前記較正工程の間にプリントされた線幅を測定する工程をさらに包含する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】  前記線幅を測定する工程は、線幅を光学的に測定する工程を包含する、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】  前記線幅を測定する工程は、線幅を電気的プローブで測定する工程を包含する、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】  フィールドを既知の焦点設定でプリントする工程と、スキャン方向に沿ったスロット位置の焦点オフセット係数を決定する工程とをさらに包含する、請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】  リソグラフィープロセスの間に線幅を選択的に最適化するシステムであって、
投射システムと、
フレキシブルチャックと、
該投射システムおよび該フレキシブルチャックに接続された焦点オフセット制御器であって、該焦点オフセット制御器は、該リソグラフィープロセスの間、スキャンされているスロット内の複数の焦点を設定するように構成され、これにより、線幅制御パラメータが最適化される、焦点オフセット制御器と、
を備える、システム。
【請求項１８】  前記フレキシブルチャックが配置されるウェハステージをさらに備える、請求項１７に記載のシステム。
【請求項１９】  前記焦点オフセット制御器は、スキャン方向に沿った異なるスロット位置に対して、複数の焦点を１つのスロット点において設定するようにさらに構成される、請求項１７に記載のシステム。
【請求項２０】  リソグラフィーシステムにおいて線幅を最適化する方法であって、
（ａ）スロット内の様々な点に対して、直線をプリントする工程と、
（ｂ）線幅制御パラメータを選択する工程と、
（ｃ）該プリントされた直線に基づいて、該線幅制御パラメータに対して焦点オフセット係数を決定する工程と、
（ｄ）該焦点オフセット係数のうちの所定のものをグループ化することにより、該焦点オフセット係数の組を形成する工程と、
（ｅ）該焦点オフセット係数の該組に基づいて、該スロット内の複数の焦点を制御する工程と
を包含する、方法。
【請求項２１】  前記工程（ｂ）は、Ｈ−Ｖバイアス、Ｇ−ＩバイアスおよびＣＤスルーフォーカスからなる線幅制御パラメータの群から線幅制御パラメータを選択する工程をさらに包含する、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】  前記工程（ｂ）は、最適化のため、複数の線幅制御パラメータを選択する工程をさらに包含する、請求項２０に記載の方法。
【請求項２３】  前記工程（ｅ）は、フレキシブルチャックの表面を撓ませて、前記リソグラフィーシステムにおいてスキャンされている前記スロット内の前記複数の焦点の前記制御を実行する工程をさらに包含する、請求項２０に記載の方法。
【請求項２４】  リソグラフィー装置、レチクルおよびレチクルを有するリソグラフィー装置の１つを較正する工程をさらに包含する、請求項２０に記載の方法。
【請求項２５】  前記較正工程は、フィールドスルーフォーカスをプリントする工程をさらに包含する、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】  前記較正工程は、空中イメージモニタを用いて、スロットの線幅スルーフォーカスを決定する工程をさらに包含する、請求項２４に記載の方法。
【請求項２７】  前記制御工程は、フレキシブルチャックの表面を撓ませて、スキャン方向に沿って前記スロット内の前記複数の焦点の制御を実行する工程をさらに包含する、請求項２０に記載の方法。
【請求項２８】  前記フレキシブルチャックの表面を撓ませる工程は、前記スロットがスキャンされている間に行なわれる、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】  リソグラフィーシステムにおいて用いられる焦点オフセット係数の組を生成する方法であって、
（ａ）リソグラフィー装置、レチクルおよびレチクルを有するリソグラフィー装置のうちの１つを較正する工程と、
（ｂ）スロット内の様々な点に対して、直線をプリントする工程と、
（ｃ）該直線に対する焦点オフセット係数を決定する工程と、
（ｄ）該焦点オフセット係数のうちの所定のものをグループ化することにより、該焦点オフセット係数の組を形成する工程と
を包含する、方法。
【請求項３０】  前記工程（ｃ）は、
（ｉ）工程（ｂ）から収集されたデータに基づいてプロットされた曲線を用いて、前記決定工程を実行する工程と、
（ｉｉ）演算デバイスまたは素子を用いて、工程（ｂ）に基づいてデータを処理し、前記決定工程を実行する工程と
のうちの１つを包含する、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】  前記工程（ｃ）は、前記プリントされた直線の線幅を測定する工程をさらに包含する、請求項２９に記載の方法。
【請求項３２】  前記線幅を測定する工程は、線幅を光学的に測定する工程を包含する、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】  前記線幅を測定する工程は、線幅を電気的プローブで測定する工程を包含する、請求項３１に記載の方法。
【請求項３４】  フィールドを既知の焦点設定でプリントする工程と、スキャン方向に沿ったスロット位置の焦点オフセット係数を決定する工程とをさらに包含する、請求項２９に記載の方法。