【手続補正書】
【提出日】平成18年9月21日(2006.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
硫酸製造プロセスであって、二酸化硫黄含有供給ガスを、少なくとも部分的に酸素と、直列に配置された主接触部の少なくとも２つの接触段階において反応させて三酸化硫黄を生成し、生成された三酸化硫黄含有ガスを、吸収器へ供給し、そこで反応させて硫酸にする硫酸製造プロセスにおいて、二酸化硫黄および三酸化硫黄含有ガスの部分流を最後の主接触段階の上流に配置される接触段階から引き出し、該部分流を、前記供給ガスと混合して、13体積％より多い二酸化硫黄含量を有する接触ガスを生成し、その後、第１の接触段階へ戻すことを特徴とする硫酸製造プロセス。
【請求項２】
請求項１に記載のプロセスにおいて、前記接触ガスは、14および25体積％の間の二酸化硫黄含量を有することを特徴とする硫酸製造プロセス。
【請求項３】
請求項１または２に記載のプロセスにおいて、好ましくは、前記部分流と混合する前に、空気および／または工業用酸素を、前記供給ガスへ供給し、該接触ガスの容積部分に基づいて、該接触ガスのSO2に対する02比率を、1.2より少なく、好ましくは、0.8より少なく調節することを特徴とする硫酸製造プロセス。
【請求項４】
請求項１から３までのいずれかに記載のプロセスにおいて、前記供給ガスへ供給される部分流の容積部分は、前記接触ガスの15および35%の間の量であることを特徴とする硫酸製造プロセス。
【請求項５】
請求項１から４までのいずれかに記載のプロセスにおいて、予備接触部を、前記主接触部の上流に設け、該予備接触部へ前記接触ガスを供給し、たかだか13体積％の二酸化硫黄を含むプロセスガスを前記予備接触部から引き出し、該プロセスガスを、前記主接触部の第１の接触段階へ供給することを特徴とする硫酸製造プロセス。
【請求項６】
請求項５に記載のプロセスにおいて、前記予備接触部は１つもしくは２つの予備接触段階を含むことを特徴とする硫酸製造プロセス。
【請求項７】
請求項５または６に記載のプロセスにおいて、前記主接触部に導入される前に、前記予備接触部から放出される前記プロセスガスを予備吸収器に通すことを特徴とする硫酸製造プロセス。
【請求項８】
請求項１から７までのいずれかに記載のプロセスにおいて、前記第２の主接触部に導入する前に、前記第１の主接触部から放出される前記プロセスガスを、中間吸収器に供給することを特徴とする硫酸製造プロセス
【請求項９】
請求項１から８までのいずれかに記載のプロセスにおいて、前記第２の主接触部から放出される前記プロセスガスを最終吸収器へ供給することを特徴とする硫酸製造プロセス。
【請求項１０】
請求項５から９までのいずれかに記載のプロセスにおいて、前記予備接触部から放出される前記プロセスガスの少なくとも一部を、バイパスを介して、前記予備吸収器を通り過ぎた先に、直接前記主接触部へ導くことを特徴とする硫酸製造プロセス。
【請求項１１】
請求項９に記載のプロセスにおいて、前記最終吸収器から放出される前記ガスにガススクラビングを受けさせ、とくに、二酸化硫黄に対する中和剤を生成する過酸化水素、アンモニアまたは水酸化ナトリウムによって受けさせることを特徴とする硫酸製造プロセス。
【請求項１２】
請求項１から11までのいずれかに記載のプロセスにおいて、前記部分流を、前記第１の接触段階に戻す前に、500℃未満の温度まで冷却することを特徴とする硫酸製造プロセス。
【請求項１３】
請求項１から12までのいずれかに記載のプロセスにおいて、部分流(T)として再循環される前記ガスの量を、該ガスが前記第１の接触段階を出るときの温度に基づいて調節することを特徴とする硫酸製造プロセス。
【請求項１４】
請求項１から13までのいずれかに記載のプロセスをとくに実施するための硫酸製造プラントであって、直列に配置されて二酸化硫黄含有供給ガスを酸素によって変換して三酸化硫黄を生成する主接触部の少なくとも２つの接触段階と、少なくとも１つの吸収器とを含む硫酸製造プラントにおいて、少なくとも１つの予備接触段階は、前記主接触段階の上流に配置され、前記主接触部の最後の接触段階の上流に配置される１つの接触段階の出口は、たとえば再循環管路を介して、前記第１の予備接触段階の入口に接続されることを特徴とする硫酸製造プラント。
【請求項１５】
請求項14に記載のプラントにおいて、前記再循環管路は、高温のガス送風機を含むことを特徴とする硫酸製造プラント。
【請求項１６】
請求項14または15に記載のプラントにおいて、前記再循環管路は、前記第１の主接触部の最後の接触段階の出口で始まり、前記予備接触部の入口に通じることを特徴とする硫酸製造プラント。
【請求項１７】
請求項14から16までのいずれかに記載のプロセスにおいて、前記再循環管路は、前記予備接触部の最後の接触段階の出口から始まり、該予備接触部の入口に通じることを特徴とする硫酸製造プラント。
【請求項１８】
請求項14から17までのいずれかに記載のプロセスにおいて、前記予備接触部は、１つもしくは２つの予備接触段階を含み、前記第１の主接触部は、３つの主接触段階を含み、前記第２の主接触部は、２つの主接触段階を含むことを特徴とする硫酸製造プラント。
【請求項１９】
請求項14から18までのいずれかに記載のプロセスにおいて、前記予備接触部および前記第１の主接触部の間に予備吸収器を設け、該第１の主接触部および前記第２の主接触部の間に中間吸収器を設け、該第２の主接触部の下流に最終吸収器を設けることを特徴とする硫酸製造プラント。
【請求項２０】
請求項19に記載のプロセスにおいて、前記予備接触部および前記第１の主接触部の間に、前記予備吸収器を迂回して通じるバイパスを設けることを特徴とする硫酸製造プラント。
【請求項２１】
請求項14から20までのいずれかに記載のプロセスにおいて、前記予備接触部および前記第１の主接触部の入口管路の間に、該予備接触部を迂回して通じるバイパスを設けることを特徴とする硫酸製造プラント。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
さらに,本発明のプロセスは、効率的かつ低コスト低温度熱回収を可能にする。S03の吸収および濃縮された硫酸の生成は、発熱であり、たとえば、冷却水による多量の熱(製造されるH2SO4のトンあたり約2MkJ)の放出を一般に必要とする。いわゆる熱回収システムを用いることにより、この熱のかなりの部分を低圧蒸気に変換することができる。この部分は、供給ガスのSO2濃度の増加にともなって増加し、本発明のプロセスは、重要な利点を与える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
【図１】図１は、最新の技術によるプロセスおよびプラントのプロセスブロック図を示す。
【図２】図２は、本発明の第１の実施の形態によるプロセスおよびプラントのプロセスブロック図を示す。
【図３】図３は、本発明の第２の実施の形態によるプロセスおよびプラントのプロセスブロック図を示す。
【図４】図４は、本発明の第３の実施の形態によるプロセスおよびプラントのプロセスブロック図を示す。
【図５】図５は、本発明の第４の実施の形態によるプロセスおよびプラントのプロセスブロック図を示す。
【図６】図６は、本発明の第５の実施の形態によるプロセスおよびプラントのプロセスブロック図を示す。
【図７】図７は、本発明の第６の実施の形態によるプロセスおよびプラントのプロセスブロック図を示す。
【図８】図８は、本発明の第７の実施の形態によるプロセスおよびプラントのプロセスブロック図を示す。
【図９】図９は、本発明のプロセスの典型的かつ実際の実施の形態を示し、詳細に中間冷却およびシステムのエネルギー管理を示す。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
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