【手続補正書】
【提出日】平成17年5月31日(2005.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸気−液体接触装置で使用するためのダウンカマーステップ装置であって、
ダウンカマーの境界壁と共に、ダウンカマーの蒸気−液体流通過通路の入口開口部を構成する径方向内側の入口ダウンカマーパネルと、
ダウンカマーの蒸気−液体流通過通路の中間レベルにおいて、前記入口ダウンカマーパネルに対して径方向外側に延びるステッププラットフォームと、
外側壁パネルおよび該外側壁パネルの両側まで延びる２つのチップレットを有する、前記ステッププラットフォームの下方に延びるステップ壁と、
前記容器の壁に向かって前記チップレットのうちの第２チップレットから離間するように外側に延びる第１延長部と前記容器の壁に向かって前記チップレットのうちの第２チップレットから離間するように外側に延びる第２延長部とを備え、これら延長部が前記第１および第２延長部の下方エッジに沿って下方トレイに対する液体流通過通路を構成するようになっているダウンカマーステップ装置。
【請求項２】
前記第１および第２延長部が前記内側入口ダウンカマーパネルと平行に延び、前記チップレットが前記延長部および前記外側パネル壁に対して斜めに配向されている、請求項１記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項３】
前記第１延長部および第２延長部の各々の下方エッジが共通する平面上にある、請求項２記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項４】
前記外側壁パネルが前記内側入口ダウンカマーパネルと平行に延びる弦壁パネルであり、前記第１および第２延長部が前記外側壁パネルの延長部に相応する下方エッジまで下方に延びている、請求項２記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項５】
前記チップレットの各々が前記弦壁パネルの内側壁表面に対して鈍角を形成する、請求項４記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項６】
前記ダウンカマー外側境界壁または容器の異なる位置に前記延長部を固定するための固定手段を更に含む、請求項２記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項７】
前記固定手段が前記延長部のそれぞれの外側エッジに沿って、かつ前記第１および第２延長部の上方にてこれら延長部の内側に延びる内側入口ダウンカマーパネルに沿って延びる支持バーを含む、請求項６記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項８】
前記チップレットの各々が前記外側壁パネルの内側壁表面に対して鈍角を形成する、請求項１記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項９】
前記内側入口ダウンカマーパネルがプレートを含み、径方向内側区域にてこのプレートに前記プラットフォームが取り付けられている、請求項１記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項１０】
上方に位置するトレイの出口端部を受けるように位置決めされたトレイ支持手段を更に備え、該トレイ支持手段が前記内側入口ダウンカマーパネルから径方向内側に延び、前記ステッププラットフォームが前記入口ダウンカマーパネルから径方向外側に延びている、請求項１記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項１１】
使用時に前記プレートの上部区域がセキを構成するような垂直幅を、前記内側入口ダウンカマーパネルが有する、請求項１記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項１２】
前記第１および第２延長部のそれぞれの１つの内側エッジから前記境界ダウンカマー壁の隣接する部分上の取り付け位置までの距離が、前記内側入口ダウンカマーパネルの対向する端部区域との接触点の間で、前記第１および第２延長部と面一に延びる弦寸法ラインの全距離の合計の約２０〜４０％である、請求項１記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項１３】
前記外側壁パネルが弦寸法ラインの全距離の４０〜８０％である弦長さを有する、請求項１２記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項１４】
前記チップレットが前記内側入口ダウンカマーパネルに対して斜めに配置されており、各チップレットが弦寸法ラインのうちの３０％までの傾きを有する、請求項１２記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項１５】
前記ダウンカマーステップ装置が前記ダウンカマーステップ装置の一体部品を形成する外側ダウンカマー境界壁と共にダウンカマーを構成し、前記外側ダウンカマー境界壁が前記容器の対応する内側壁表面の径方向内側に位置する、請求項１記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項１６】
前記ダウンカマーステップ装置がダウンカマーを構成し、使用時に前記容器の内側表面部分によって構成される外側境界壁を含む、請求項１記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項１７】
前記ステッププラットフォームが水平線から±３０°である、請求項１記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項１８】
前記内側入口ダウンカマーパネルと外側壁パネルの双方が真の垂直平面から±３°の範囲内にある、請求項１７記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項１９】
前記ステッププラットフォームの中心弦径方向外側エッジおよび２つのチップレットエッジを有し、中心弦径方向外側エッジの両端部から発散した状態で延びている、請求項１記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項２０】
前記フランジ延長部を容器に取り付けるための基本第１固定手段と、前記ステップアセンブリを前記容器に対して所定位置に更に取り付けるための第２固定手段を含む、請求項１記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項２１】
前記第２固定手段が前記外側壁パネルの両端部から延びる弦延長部を含む、請求項２０記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項２２】
前記弦延長部の各々が少なくとも１つの圧力等化孔を含む、請求項２１記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項２３】
前記第２固定手段が前記ステップ壁の下方エッジから下方に延びる少なくとも１つの足を含む、請求項２０記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項２４】
前記第１および第２延長部が前記チップレットのそれぞれの内側エッジと一体的であり、前記ダウンカマー入口パネルと接触している、請求項１記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項２５】
前記チップレットが前記外側壁パネルよりも更に垂直方向に下方に延びている、請求項１記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項２６】
前記チップレットが使用時に下方に位置するトレイに接触するように十分に延びている、請求項２５記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項２７】
前記チップレットが前記チップレットの下方エッジ区域に設けられた流れバッフルを含む、請求項２６記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項２８】
前記チップレットは前記ステップ壁の下方エッジ区域に設けられた流れバッフルを含む、請求項１記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項２９】
前記ステッププラットフォームが前記外側パネル壁に相応する中心エッジと前記チップレットに一致する２つのチップレットエッジとを含むエッジ上に、３つの直線状の流れを有する、請求項１記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項３０】
下方のトレイに接触するよう、前記ステップ壁から十分な長さだけ延びた支持手段を含み、前記支持手段はこれを通過する流れ抵抗を最小限にせしめるオフセットエッジ部分を有する、請求項１記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項３１】
蒸気−液体接触装置が容器を含み、この容器内にダウンカマーおよび蒸気−液体接触トレイが設けられ、ダウンカマーが径方向外側の境界ダウンカマー壁を有する、ダウンカマーおよび蒸気−液体接触トレイを備えた蒸気−液体接触装置内で使用するためのダウンカマーステップ装置において、
径方向内側の入口ダウンカマーパネルを備え、該パネルが前記境界ダウンカマー壁と共にダウンカマーの蒸気−液体流れ通過通路の入口開口部を形成し、
前記ダウンカマーの蒸気−液体流れ通過通路の中間レベルで前記入口ダウンカマーパネルに対して径方向外側に延びるほぼ水平のステッププラットフォームを含み、
更に前記ステッププラットフォームの下方で延び、前記外側境界ダウンカマー壁に対してダウンカマーの蒸気−液体流れ通過通路の下方の受け領域を構成すると共に、下方に位置する蒸気−液体接触トレイに対して前記ダウンカマーのトレイの流れ通過通路の少なくとも一部を形成するステップ壁とを備え、
前記ステップ壁が外側壁パネルおよび前記外側壁パネルの両側に対する２つのチップレットを有し、前記チップレットが前記外側壁パネルから径方向内側に延び、前記外側壁パネルと前記外側境界ダウンカマー壁との間に第１受け領域の開口部区域を形成し、更にそれぞれのチップレットの壁パネルと前記外側境界ダウンカマー壁との間に第２および第３受け領域の開口部区域を形成し、前記チップレットが構成する平面が前記ダウンカマーの外側境界壁の径方向内側の第１および第２平面交差位置にて前記入口ダウンカマーパネルによって構成される平面に接触し、それぞれ第１および第２延長部が前記第１および第２平面交差位置から前記外側境界壁に向かって延び、前記第１及び第２延長部は下方に位置する蒸気−液体染色トレイの上方に位置する下方エッジを有し、前記第１および第２延長部の下方エッジと下方に位置する蒸気−液体接触トレイとの間に、ダウンカマーのトレイの流れ通過通路に流れ通過区域が形成されている、ダウンカマーステップ装置。
【請求項３２】
タワーと、
前記タワーによって支持された上方トレイと、
前記タワーによって支持された下方トレイと、
前記タワーによって支持され、前記タワー内に位置する、請求項１記載のダウンカマー装置とを備えた、蒸気−液体接触アセンブリ。
【請求項３３】
タワー内に支持された上方トレイおよび下方トレイの双方を通過するようにガスを向ける工程と、
前記上方トレイを通過するガスに流体が接触し、蒸気−液体混合物を形成するように前記下方トレイの上方にて前記タワー内に支持された上方トレイを横断するように流体を向ける工程と、
前記蒸気−液体混合物をダウンカマー内に向け、前記ダウンカマーから出てくる流体を下方のトレイに供給する工程とを備え、
前記ダウンカマーが中間のステッププラットフォームおよび前記ステッププラットフォームに取り付けられ、前記ステッププラットフォームから下方に延びるステップ壁を有し、流体の一部が前記プラットフォームに接触し、前記プラットフォームから離間するように流れ、流体の他の部分がステッププラットフォームの反対側に接触しないで、下方のトレイまで直接下方に落下するように、前記プラットフォームおよびステップ壁の寸法および配置が定められており、下方のトレイとその上方に位置するダウンカマーの下方エッジとの間の相対的鉛直方向間隙によってダウンカマーの下方エッジが、下方のトレイのアクティブ領域に向かって下方エッジの下方を通過する流体の水平流動を制御する、蒸気−液体接触方法。
【請求項３４】
前記ステッププラットフォームは水平線から±１０°である、請求項１から３１までのいずれかに記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項３５】
流体が水平線から±１０°であるステッププラットフォームに供給される、請求項３３記載の蒸気−液体接触方法。
【請求項３６】
前記第一および第二延長部は、鉛直方向に充分な長さを有していて、それらの下方エッジの下方を通ってダウンカマー装置の入口側から液体流れ通過通路を介して下方のトレイのアクティブ領域に流れるダウンカマー出口流れに対する方向および運動量流れ制御として機能する第一および第二下方エッジを有する、請求項１から３１までのいずれかに記載のダウンカマーステップ装置。
【請求項３７】
前記ステップ壁も、その下方を通ってダウンカマー装置の入口側から液体流れ通過通路を介して下方のトレイのアクティブ領域に流れるダウンカマー出口流れに対する方向および運動量流れ制御として機能する下方エッジ領域を有する、請求項３６記載のダウンカマーステップ装置。