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　特願２００４−３０９３２４「露光装置及び露光方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　６月１６日出願公開、特開２００５−１５９３２２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件出願（以下「本願」という。）は、２００４年１０月２５日（優先権主張２００３年１０月３１日）の出願であって、平成２２年３月８日付けで拒絶理由が通知され、これに対し、同年５月１７日付けで手続補正がなされ、その後同年１１月１０日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成２３年２月１４日に拒絶査定に対する審判請求がなされると同時に手続補正がなされたものである。その後当審にて、平成２３年９月６日付けで審尋がなされ、これに対し同年１０月２１日付けで回答書が提出された。
　
２．平成２３年２月１４日付けの手続補正について
　平成２３年２月１４日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）は、特許請求の範囲及び明細書の段落【００１０】及び【００１１】を補正するものであって、本件補正における特許請求の範囲の請求項４については、本件補正前の平成２２年５月１７日付け手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項４の記載と同一の記載となっている。なお、本件補正前の平成２２年５月１７日付け手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項４については、平成２２年１１月１０日付け拒絶査定により、拒絶をすべきものであるとされている。
　
３．本願発明について
　本願の請求項４に係る発明（以下「本願発明」という。）は、本件補正後の特許請求の範囲の請求項４に記載された事項により特定された以下のとおりのものである。
「【請求項４】
　マスクのパターンの像を基板上に、投影光学系の像面側と前記感光基板との間に形成された液浸領域の液体を介して投影する露光装置であって、
　前記基板を保持する可動体と、該可動体を移動自在に支持する定盤とを備えるステージ装置と、
　液体を供給して前記液浸領域を形成する液体供給装置と、
　前記液浸領域から前記液体を回収する第１回収装置と、
　前記液体が前記定盤に流出した際に、該流出した前記液体を回収する第２回収装置と、
　前記液浸領域における前記液体の回収動作の異常を検出する制御装置と、
　を備えることを特徴とする露光装置。」
　
４．引用刊行物記載の発明
　これに対して，原査定の拒絶の理由に引用された，本願の優先日前である１９９９年（平成１１年）９月３０日に頒布された「国際公開第９９／４９５０４号」（以下「引用例」という。）には、図面とともに、以下の技術事項が記載されている。
　
（ａ）「技術分野
　本発明は、例えば、半導体素子、撮像素子（ＣＣＤ等）、液晶表示素子、又は薄膜磁気ヘッド等のデバイスを製造するためのリソグラフィ工程でマスクパターンを感光性の基板上に転写するために用いられる投影露光方法、及び装置に関し、更に詳しくは液浸法を用いた投影露光方法及び装置に関する。」（明細書第１頁第５−１０行）
　
（ｂ）「発明を実施するための最良の形態
　以下、本発明の好適な実施の形態の一例につき図１〜図４を参照して説明する。本例は本発明をステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置で露光を行う場合に適用したものである。
　図１は本例の投影露光装置の概略構成を示し、この図１において、露光光源としてのＫｒＦエキシマレーザ光源、オプティカル・インテグレータ（ホモジナイザー）、視野絞り、コンデンサレンズ等を含む照明光学系１から射出された波長２４８ｎｍの紫外パルス光よりなる露光光ＩＬは、レチクルＲに設けられたパターンを照明する。レチクルＲのパターンは、両側（又はウエハＷ側に片側）テレセントリックな投影光学系ＰＬを介して所定の投影倍率β（βは例えば１／４，１／５等）でフォトレジストが塗布されたウエハＷ上の露光領域に縮小投影される。なお、露光光ＩＬとしては、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、Ｆ2 レーザ光（波長１５７ｎｍ）や水銀ランプのｉ線（波長３６５ｎｍ）等を使用してもよい。以下、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に垂直な平面内で図１の紙面に垂直にＹ軸を取り、図１の紙面に平行にＸ軸を取って説明する。
　レチクルＲはレチクルステージＲＳＴ上に保持され、レチクルステージＲＳＴにはＸ方向、Ｙ方向、回転方向にレチクルＲを微動する機構が組み込まれている。レチクルステージＲＳＴの２次元的な位置、及び回転角はレーザ干渉計（不図示）によってリアルタイムに計測され、この計測値に基づいて主制御系１４がレチクルＲの位置決めを行う。
　一方、ウエハＷはウエハホルダ（不図示）を介してウエハＷのフォーカス位置（Ｚ方向の位置）及び傾斜角を制御するＺステージ９上に固定されている。Ｚステージ９は投影光学系ＰＬの像面と実質的に平行なＸＹ平面に沿って移動するＸＹステージ１０上に固定され、ＸＹステージ１０はベース１１上に載置されている。Ｚステージ９は、ウエハＷのフォーカス位置（Ｚ方向の位置）、及び傾斜角を制御してウエハＷ上の表面をオートフォーカス方式、及びオートレベリング方式で投影光学系ＰＬの像面に合わせ込み、ＸＹステージ１０はウエハＷのＸ方向、及びＹ方向の位置決めを行う。Ｚステージ９（ウエハＷ）の２次元的な位置、及び回転角は、移動鏡１２の位置としてレーザ干渉計１３によってリアルタイムに計測されている。この計測結果に基づいて主制御系１４からウエハステージ駆動系１５に制御情報が送られ、これに基づいてウエハステージ駆動系１５は、Ｚステージ９、ＸＹステージ１０の動作を制御する。露光時にはウエハＷ上の各ショット領域を順次露光位置にステップ移動し、レチクルＲのパターン像を露光する動作がステップ・アンド・リピート方式で繰り返される。
　さて、本例では露光波長を実質的に短くして解像度を向上すると共に、焦点深度は実質的に広くするために、液浸法を適用する。そのため、少なくともレチクルＲのパターン像をウエハＷ上に転写している間は、ウエハＷの表面と投影光学系ＰＬのウエハ側のレンズ４の先端面（下面）との間に所定の液体７を満たしておく。投影光学系ＰＬは、他の光学系を収納する鏡筒３と、そのレンズ４とを有しており、レンズ４のみに液体７が接触するように構成されている。これによって、金属よりなる鏡筒３の腐食等が防止されている。」（明細書第９頁第１４行−第１１頁第７行）
　
（ｃ）「その液体７は、その液体のタンク、加圧ポンプ、温度制御装置等からなる液体供給装置５によって、所定の排出ノズル等を介してウエハＷ上に温度制御された状態で供給され、その液体のタンク及び吸引ポンプ等からなる液体回収装置６によって、所定の流入ノズル等を介してウエハＷ上から回収される。液体７の温度は、例えば本例の投影露光装置が収納されているチャンバ内の温度と同程度に設定されている。そして、投影光学系ＰＬのレンズ４の先端部をＸ方向に挟むように先端部が細くなった排出ノズル２１ａ、及び先端部が広くなった２つの流入ノズル２３ａ，２３ｂ（図２参照）が配置されており、排出ノズル２１ａは供給管２１を介して液体供給装置５に接続され、流入ノズル２３ａ，２３ｂは回収管２３を介して液体回収装置６に接続されている。更に、その１対の排出ノズル２１ａ、及び流入ノズル２３ａ，２３ｂをほぼ１８０°回転した配置の１対のノズル、及びそのレンズ４の先端部をＹ方向に挟むように配置された２対の排出ノズル、及び流入ノズルも配置されている。」（明細書第１２頁第１３−２６行）
　
（ｄ）「次に、液体７の供給及び回収方法について説明する。
　図２において、実線で示す矢印２５Ａの方向（−Ｘ方向）にウエハＷをステップ移動させる際には、液体供給装置５は、供給管２１、及び排出ノズル２１ａを介してレンズ４の先端部４ＡとウエハＷとの間に液体７を供給する。そして、液体回収装置６は、回収管２３及び流入ノズル２３ａ，２３ｂを介してウエハＷ上から液体７を回収する。このとき、液体７はウエハＷ上を矢印２５Ｂの方向（−Ｘ方向）に流れており、ウエハＷとレンズ４との間は液体７により安定に満たされる。」（明細書第１４頁第１−８行）
　
（ｅ）「次に、液体７の供給量、及び回収量の制御方法について説明する。
　図４は、投影光学系ＰＬのレンズ４とウエハＷとの間への液体７の供給及び回収の様子を示し、この図４において、ウエハＷは矢印２５Ａの方向（−Ｘ方向）に移動しており、排出ノズル２１ａより供給された液体７は、矢印２５Ｂの方向（−Ｘ方向）に流れ、流入ノズル２３ａ，２３ｂにより回収される。レンズ４とウエハＷとの間に存在する液体７の量をウエハＷの移動中でも一定に保つため、本例では液体７の供給量Ｖｉ（ｍ3 ／ｓ）と回収量Ｖｏ（ｍ3 ／ｓ）とを等しくし、また、ＸＹステージ１０（ウエハＷ）の移動速度ｖに比例するように液体７の供給量Ｖｉ、及び回収量Ｖｏを調整する。即ち、主制御系１４は液体７の供給量Ｖｉ、及び回収量Ｖｏを、以下の式により決定する。
　Ｖｉ＝Ｖｏ＝Ｄ・ｖ・ｄ　　　　　　　　　　　　（３）　
　ここで、図１に示すようにＤはレンズ４の先端部の直径（ｍ）、ｖはＸＹステージ１０の移動速度（ｍ／ｓ）、ｄは投影光学系ＰＬの作動距離（ワーキング・ディスタンス）（ｍ）である。ＸＹステージ１０をステップ移動するときの速度ｖは、主制御系１４により設定されるものであり、Ｄ及びｄは予め入力されているため、（３）式に基づいて液体７の供給量Ｖｉ、及び回収量Ｖｏを調整することで、図４のレンズ４とウエハＷとの間には液体７が常時満たされる。」（明細書第１５頁第２２行−第１６頁第１４行）
　
（ｆ）「図１
　 
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
（ｇ）「図２
　 
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
　上記引用例の記載事項及び図面を総合勘案すると、引用例には、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
　
「液浸法を用いた投影露光装置において、
　露光光源としてのＫｒＦエキシマレーザ光源、オプティカル・インテグレータ（ホモジナイザー）、視野絞り、コンデンサレンズ等を含む照明光学系１から射出された波長２４８ｎｍの紫外パルス光よりなる露光光ＩＬは、レチクルＲに設けられたパターンを照明し、
　レチクルＲのパターンは、投影光学系ＰＬを介して所定の投影倍率βでフォトレジストが塗布されたウエハＷ上の露光領域に縮小投影され、
　ウエハＷはウエハホルダを介してウエハＷのフォーカス位置及び傾斜角を制御するＺステージ９上に固定されており、
　Ｚステージ９は投影光学系ＰＬの像面と実質的に平行なＸＹ平面に沿って移動するＸＹステージ１０上に固定され、ＸＹステージ１０はベース１１上に載置されており、
　レチクルＲのパターン像をウエハＷ上に転写している間は、ウエハＷの表面と投影光学系ＰＬのウエハ側のレンズ４の先端面との間に所定の液体７を満たしておき、
　その液体７は、その液体のタンク、加圧ポンプ、温度制御装置等からなる液体供給装置５によって、所定の排出ノズル等を介してウエハＷ上に温度制御された状態で供給され、その液体のタンク及び吸引ポンプ等からなる液体回収装置６によって、所定の流入ノズル等を介してウエハＷ上から回収され、
　レンズ４とウエハＷとの間に存在する液体７の量をウエハＷの移動中でも一定に保つため、液体７の供給量Ｖｉと回収量Ｖｏとを等しくし、また、ＸＹステージ１０（ウエハＷ）の移動速度ｖに比例するように主制御系１４が液体７の供給量Ｖｉ、及び回収量Ｖｏを調整する、
　液浸法を用いた投影露光装置。」
　
５．対比
　本願発明と、引用発明を比較する。
　引用発明における「レチクルＲ」は、本願発明における「マスク」に相当する。
　引用発明における「ウエハＷ」は、本願発明における「基板」及び「感光基板」に相当する。
　引用発明における「投影光学系ＰＬのウエハ側」は、本願発明における「投影光学系の像面側」に相当する。
　引用発明における「所定の液体７」は、本願発明における「液体」に相当する。
　引用発明における「ウエハＷの表面と投影光学系ＰＬのウエハ側のレンズ４の先端面との間」は、「所定の液体７を満たしてお」かれる空間であるから、本願発明における「液浸領域」に相当する。
　引用発明における「液浸法を用いた投影露光装置」は、「照明光学系１から射出された」「露光光ＩＬは、レチクルＲに設けられたパターンを照明し、レチクルＲのパターンは、投影光学系ＰＬを介して所定の投影倍率βでフォトレジストが塗布されたウエハＷ上の露光領域に縮小投影され」るものであり、かつ「レチクルＲのパターン像をウエハＷ上に転写している間は、ウエハＷの表面と投影光学系ＰＬのウエハ側のレンズ４の先端面との間に所定の液体７を満たしてお」くものであるから、本願発明における「マスクのパターンの像を基板上に、投影光学系の像面側と前記感光基板との間に形成された液浸領域の液体を介して投影する露光装置」に相当する。
　引用発明では、「Ｚステージ９」は、「ウエハＷ」をその「上に固定」するものであり、かつ「Ｚステージ９」は「投影光学系ＰＬの像面と実質的に平行なＸＹ平面に沿って移動するＸＹステージ１０上に固定され」ており、かつ「ＸＹステージ１０はベース１１上に載置されて」いることから、引用発明における「Ｚステージ９」及び「ＸＹステージ１０」は、本願発明における「基板を保持する可動体」に相当する。
　引用発明における「ベース１１」は、その上に「投影光学系ＰＬの像面と実質的に平行なＸＹ平面に沿って移動するＸＹステージ１０」を「載置」するものであるから、本願発明における「可動体を移動自在に支持する定盤」に相当する。
　引用発明が、「Ｚステージ９」、「ＸＹステージ１０」及び「ベース１１」からなる「ウエハＷ」の保持移動機構を備えることは明らかであり、引用発明の上記「ウエハＷ」の保持移動機構は、本願発明における「基板を保持する可動体と、該可動体を移動自在に支持する定盤とを備えるステージ装置」に相当する。
　引用発明では、「その液体７は、その液体のタンク、加圧ポンプ、温度制御装置等からなる液体供給装置５によって、所定の排出ノズル等を介してウエハＷ上に温度制御された状態で供給され」ることから、引用発明における「所定の排出ノズル等」及び「液体供給装置５」は、本願発明における「液体を供給して」「液浸領域を形成する液体供給装置」に相当する。
　引用発明では、「その液体７は、」「その液体のタンク及び吸引ポンプ等からなる液体回収装置６によって、所定の流入ノズル等を介してウエハＷ上から回収され」ることから、引用発明における「所定の流入ノズル等」及び「液体回収装置６」は、本願発明における「液浸領域から」「液体を回収する第１回収装置」に相当する。
　引用発明における「液体７の供給量Ｖｉ、及び回収量Ｖｏを調整する」「主制御系１４」は、本願発明における「制御装置」に相当する。
　
　すると、本願発明と、引用発明とは、次の点で一致する。
＜一致点＞
　マスクのパターンの像を基板上に、投影光学系の像面側と前記感光基板との間に形成された液浸領域の液体を介して投影する露光装置であって、
　前記基板を保持する可動体と、該可動体を移動自在に支持する定盤とを備えるステージ装置と、
　液体を供給して前記液浸領域を形成する液体供給装置と、
　前記液浸領域から前記液体を回収する第１回収装置と、
　制御装置と、
　　を備えた露光装置。
　
　一方で、両者は、次の点で相違する。
＜相違点＞
　本願発明は、制御装置が「前記液体が前記定盤に流出した際に、該流出した前記液体を回収する第２回収装置と、前記液浸領域における前記液体の回収動作の異常を検出する」のに対し、引用発明は、制御装置に相当する主制御系１４が上記発明特定事項を備えていない点。
　
６．当審の判断
　上記相違点について検討する。
　液体を使用する装置において、液体が存在する領域の下方に漏れた液体を受け止める受け皿を配置し、受け皿の中にセンサを備えて、液体の漏れを検知して異常を検出する技術は、本願の優先日前において周知である（必要ならば、特開２００１−３２０８３７号公報の段落【００３１】及び【図３】、並びに特開平８−１８７６５８号公報の段落【０００８】を参照のこと。）。上記周知技術における「受け皿」及び「受け皿の中」の「センサ」は、それぞれ本願発明における「第２回収装置」及び「異常を検出する」「装置」に相当する。
　そして、引用発明は液体７を使用する装置である。
　よって、引用発明に、同一の技術分野の上記周知技術を適用することは、当業者ならば容易になし得ることであり、その適用の際に引用発明に備わっている「主制御系１４」に上記周知技術の「センサ」の信号を処理させるようにすることは、当業者ならば適宜なし得る設計的事項に過ぎない。ゆえに、引用発明及び周知技術に基いて、上記相違点に係る発明特定事項を得ることは、当業者にとって容易になし得ることである。
　そして、本願発明の作用効果は、引用発明及び上記周知技術から当業者が予測しうる程度のものに過ぎない。
　
　なお、請求人は、平成２３年１０月２１日付け回答書において、補正案を提示して補正の用意がある旨の意思表示をしている。しかしながら、上記補正案を検討したが、上記判断に影響を与えるものではなかった。
　
７．むすび
　したがって、本願発明は、引用例に記載された発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。