【事件の表示】
　特願２００６−１４６６２０「インプリント・リソグラフィ」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年１２月　７日出願公開、特開２００６−３３２６７７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１８年５月２６日（パリ条約による優先権主張　平成１７年５月２７日　米国）の出願であって、平成２１年７月３０日付けで手続補正がなされた後に通知された同年１２月８日付け拒絶理由（最後）に対し、平成２２年２月２６日付けで手続補正がなされたものの、同年９月８日付けで、前記２月２６日付け手続補正についての補正の却下の決定がなされるとともに拒絶査定がなされた。
　本件は、前記拒絶査定を不服として平成２３年１月１１日に請求された拒絶査定不服審判事件であって、当該請求と同時に手続補正がなされた。その後、当審において平成２３年９月６日付けで前置報告書の内容について意見を求めるための審尋を行ったところ、平成２４年３月６日付けで回答書が提出された。
　
第２　平成２３年１月１１日付け手続補正についての補正の却下の決定
[補正の却下の決定の結論]
　平成２３年１月１１日付け手続補正を却下する。
　
[理由]
１　補正の内容と目的
　平成２３年１月１１日付け手続補正（以下「本件補正」という。）は、特許請求の範囲の記載を補正するものであって、その特許請求の範囲の請求項１についてする補正は、本件補正前（平成２１年７月３０日付け手続補正書により補正、以下同様。）の請求項１に記載された発明特定事項である「光学エンコーダ」を構成する要素について、「放射線出力装置、第１回折格子、及び検出器を有し」なる事項を、「放射線出力装置、第１回折格子、前記放射線出力装置からの放射線を前記第１回折格子へ向けるように配置されるビームスプリッタ及び検出器を有し」と限定して減縮することにより、
「インプリント・テンプレートを保持するように構成されたテンプレートホルダと、基板テーブルと、光学エンコーダとを含み、
　前記光学エンコーダは、放射線出力装置、第１回折格子、
前記放射線出力装置からの放射線を前記第１回折格子へ向けるように配置されるビームスプリッタ
　前記放射線出力装置は、第２回折格子を照明するように構成され、
　前記検出器は、前記第１及び第２回折格子によって回折されたモアレ模様を含む放射線を検出して位置合せ信号を発するように配置される、インプリント・リソグラフィ装置。」（当審注：下線部は補正箇所を示す。）と補正するものであるから、本件補正のうち特許請求の範囲の請求項１についてする補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２（以下単に「特許法第１７条の２」という。）第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とする補正であるといえる。
　そこで、本件補正後の請求項１に係る発明（以下「本件補正発明」という。）が特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか、すなわち、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否かについて、以下に検討する。
　
２　本件補正発明
　本件補正発明は、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に記載された上記のとおりのものである。
　
３　引用例
（１）引用例１
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００５−１０８９７５号公報（以下「引用例１」という。）には、図面とともに以下の技術的事項の記載がある。
（１ａ）「【書類名】特許請求の範囲
【請求項１】
　原版と被転写基板とを接触させて転写する微細加工装置において、
　前記原版と前記被転写基板との相対的な位置合わせを行う補正駆動手段と、
　前記原版と前記被転写基板との相対的な位置ずれを計測するアライメント計測手段と、を有し、
　前記アライメント計測手段で計測した前記位置ずれを補正駆動手段で補正することを特徴とする微細加工装置。
…（中略）…
【請求項４】
　前記アライメント計測手段は、基板ステージ上に設置されアライメントマークを有する基準マーク台と、原版側に設置されたアライメントスコープとを有することを特徴とする請求項１記載の微細加工装置。
【請求項５】
　前記アライメントマークは、回折格子であることを特徴とする請求項４記載の微細加工装置。
…（中略）…
【請求項７】
　前記補正駆動手段は、アライメントマークを持つアライメント基板を位置決めするアライメント基板ステージと、前記原版を所定の位置へ位置決めする原版ステージと、前記被
転写基板を所定の位置へ位置決めする基板ステージとを有することを特徴とする請求項１又は２記載の微細加工装置。
…（中略）…
【請求項１０】
　前記アライメント基板は、光を透過させる基板で構成されることを特徴とする請求項７
記載の微細加工装置。
…（以下略）」
（１ｂ）「【技術分野】
【０００１】
　本発明は、半導体製造など微細加工のため、パターニングされた原版とウエハ等被転写基板とを接触、もしくはその間隔を近づけて転写するナノインプリントリソグラフィ、あるいはソフトコンタクトリソグラフィ、近接場光リソグラフィ、プロキシミティ露光などの微細加工装置に関するものである。」
（１ｃ）「【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
　しかしながら、上記従来例では以下のような課題があった。
【００１２】
　原版となるモールドと被転写基板となるウエハとを接触させてパターンを転写する微細加工装置においては、モールドとウエハとの相対的な位置合わせをどのように行うのかの具体的な提案がなかった。そのため、被転写基板を重ねてパターニングするような従来の半導体製造には用いることができなかった。もし、従来の技術で半導体製造に適用すると、重ね合わせ精度が低下し、半導体生産の歩留まりが低下する。
【００１３】
　また、原版と被転写基板とを近接させてパターンを転写する微細加工装置においては、原版表面やウエハ表面の平面度より、原版とウエハとの間隔をほぼ接触するに近い状態に設定することができないため、ｂｏｘ−ｉｎ−ｂｏｘやｃｒｏｓｓ−ｉｎ−ｂｏｘのような計測方法は高精度な計測ができなかった。したがって、原版と被転写基板となるウエハとの相対的な位置合わせを高精度に行うことができなかった。さらに、原版とウエハの平面度が良く、それぞれをほぼ接触するに近い状態に設定できたとしても、従来の技術ではダイバイダイアライメントしか適用できない。グローバルアライメントを行うと、その都度、原版とウエハを引き離したり、接近させたりする駆動を伴うため、スループットが低下する。さらに、原版にエッチバリアが付着した状態でグローバルアライメントを行う可能性があり、アライメント計測精度を低下させるだけでなく、パーティクルやコンタミの発生原因となる。アライメント計測精度が低下すると重ね合わせ精度が低下する。また、スループットの低下や、パーティクルやコンタミの発生により、半導体デバイスの生産性が低下する。本発明はこのような従来技術の問題点に鑑み発明したものである。
【００１４】
　そこで、本発明の例示的な目的は、従来よりも精度良く原版と被転写基板とを位置合わせすることが可能な微細加工装置を提供することにある。」
（１ｄ）「【実施例３】
【００６４】
　図８は本実施例の微細加工装置全体の構成を表している。図８において、凹凸からなる転写パターンが描かれた原版であるテンプレート１は原版ステージ２に保持されている。テンプレート１は石英や蛍石など、紫外線を透過する材質とする。原版ステージ２はテンプレート１を装置基準に位置決めするように働く。原版ステージ２は少なくともＺ軸まわり（θ）の駆動軸を必要とするが、Ｚ軸および、Ｘ軸まわり（ωｙ）とＹ軸まわり（ωｘ）も有することが好ましい。なお、原版ステージ２は各駆動軸の位置を計測するためのポジショニングセンサを有するが不図示とした。ベース１２は不図示の本体定盤で固定されており、原版ステージ２とアライメントステージ１４を固定している。アライメントステージ１４は第二のアライメントスコープ１３を固定し、第二のアライメントスコープ１３がテンプレート１上のアライメントマークを探すように駆動する。第二のアライメントスコープ１３はテンプレート１の装置基準からの位置ずれ量を計測し、さらにテンプレート１と被転写基板となるウエハ４との相対的な位置ずれを計測するものである。計測方法は、アライメントマークを回折格子とし、テンプレート１およびウエハ４にアライメントマークを描き、アライメントマークへ向かって光を照射し、回折、反射して第二のアライメントスコープ１３に戻ってきた光の重心位置から相対的な位置ずれを計測する方法が有効である。ウエハ４はウエハチャック５に保持され、ウエハチャック５はウエハステージ６に固定されている。…（中略）…ウエハステージ６上には装置基準となる基準マーク台７が固定されている。なお、基準マーク台７にも回折格子からなるアライメントマークが描かれている。…（中略）…
【００６５】
　つぎに、図９から図１１を用いて、本実施例のアライメント計測とその補正、および転写の手順を示す。
【００６６】
　図９はテンプレート１を装置基準に位置決めする行程を示している。はじめに、テンプレート１のアライメントマークと基準マーク台７のアライメントマークが対向する位置へウエハステージ６を駆動する。つぎに、第二のアライメントスコープ１３がテンプレート１上のアライメントマークを探すようにアライメントステージ１４を駆動させる。そしてテンプレート１越しに、テンプレート１と基準マーク台７との位置ずれを計測する。計測した基準マーク台との位置ずれ量、すなわち装置基準との位置ずれ量に基づき、原版ステージ２で補正する。この状態で、テンプレート１は装置基準に位置決めされたことになる。
【００６７】
　図１０はウエハのアライメント計測の行程を示している。第二のアライメントスコープ１３でテンプレート１越しに、テンプレート１とウエハ４との間隙（ギャップ）を計測し、アライメント計測のためのギャップ、例えば３０μｍに設定する。その設定のための駆動は原版ステージ２もしくはウエハステージ６の少なくともいずれか一方で行う。そして、第二のアライメントスコープ１３でテンプレート１越しに、テンプレート１のアライメントマークとウエハ４上のアライメントマークを計測し、テンプレート１とウエハ４との相対的な位置ずれを求める。このとき、転写するショット位置ごとにアライメント計測を行うダイバイダイアライメント方式でも良いが、複数のショットをまとめてアライメント計測するグローバルアライメント方式が好ましい。」
（１ｅ）
「【図８】
　
【図９】　　　　　　　　　　　　　　　　　【図１０】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
　これら引用例１の記載および図面の図示内容からして、引用例１には以下の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているといえる。
「凹凸からなる転写パターンが描かれた原版であるテンプレート１を保持する原版ステージ２と、ウエハ４を保持するウエハチャック５を固定するウエハステージ６と、
テンプレート１の装置基準からの位置ずれ量を計測し、さらにテンプレート１と被転写基板となるウエハ４との相対的な位置ずれを計測する第二のアライメントスコープ１３とを具備し、
テンプレート１ならびにウエハ４及びウエハステージ６上の装置基準となる基準マーク台７に、回折格子からなるアライメントマークを描き、
前記第二のアライメントスコープ１３は、テンプレート１越しに、テンプレート１のアライメントマークとウエハ４もしくは基準マーク台７上のアライメントマークを計測するよう、アライメントマークへ向かって光を照射し、回折、反射して当該第二のアライメントスコープ１３に戻ってきた光の重心位置から、テンプレート１とウエハ４、もしくは、テンプレート１と基準マーク台７の相対的な位置ずれを計測し、
前記位置ずれ量に基づいて位置決めを行う、ナノインプリントリソグラフィ装置。」
　
（２）引用例２
　同じく原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平３−１９３１２号公報（以下「引用例２」という。）には、図面とともに以下の技術的事項の記載がある。
（２ａ）第１頁右下欄第１〜４行
「〔産業上の利用分野〕
　本発明はリソグラフイ技術に関するものであり、特にアライメントの精度を向上するに好適なアライメントマークに関する。」
（２ｂ）第１頁右下欄第５〜２０行
「〔従来の技術〕
　従来、アライメントを高精度に行うために格子パターンを重ね合わせて発生するモアレ縞を利用する方法が提案されている。すなわち、モアレ縞の周期Ｌは格子の周期をｌ、２つの格子のなす角をθとするとき、Ｌ＝ｌ／ｓｉｎθとなり、格子がｌだけ移動するときモアレ縞の移動量はＬとなる。そしてθが微小なとき移動量Ｌは大きな値となり、例えばθ＝１０°のときＬはｌの約６倍の値となる。
　したがって、微小な移動を大きな移動量で読みとることができ、比較的高精度なアライメントが可能である。なお、この従来の方法については「アプライドオプテイツクス１１巻１１号（１９７２）２５５５頁（Ａｐｐｌ．Ｏｐｔ．１１，１１（１９７２）ＰＰ２５５５）」において論じられている。」
（２ｃ）第２頁左下欄第２行〜右下欄第１７行
「〔実施例〕
実施例１
　以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。同図は直線状のゾーンプレートを２つ用いた場合を示す。ホトマスク上とウエーハ上に同一形状のゾーンプレートを設ける。同図（ａ）は両者が完全に一致した場合を示す。同図（ｂ）はホトマスク上とウエーハ上のゾーンプレートがΔｌだけずれた場合を示す。このときモアレ縞が発生し、上下のモアレ縞の間隔はＬとなる。同図（ｃ）はゾーンプレートのずれ量Δｌが同図（ｂ）より小さくなったときのモアレ縞を示し、上下のモアレ縞の間隔Ｌは大きくなる。このようにモアレ縞の間隔はゾーンプレートのずれ量に反比例し、ずれ量が小さくなる程、間隔が増大する。このため微細なアライメントに好都合である。
　…（中略）…
　第２図は本発明のアライメントマークを使用した縮小投影露光装置の構成を示す。アライメントマーク１はレテイクル２およびウエーハ３の上に形成されている。レテイクル２上のアライメントマーク１は照明光学系４からの光により照射され、縮小投影レンズ６を通過した後ウエーハ上に結像する。この結像したアライメントマークは、あらかじめウエーハ３上に形成されたアライメントマーク１′に重ね合わされてレテイクル２とウェーハ３のアライメントが実行される。すなわち、両アライメントマーク１，１′は縮小投影レンズ６を通して撮像管７により映像化される。そして信号処理、演算回路を含むアライメント制御部８に入力された後、同制御部８からレテイクル移動機構９のフィードバックが実行される。」
（２ｄ）第２図
「
　　　　　　　　　」
　
（３）引用例３
　本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平２−１３３９１３号公報（以下「引用例３」という。）には、図面とともに以下の技術的事項の記載がある。
（３ａ）第２頁右上欄第１〜５行
「　本発明は、半導体素子等の製造に使用される投影露光装置の位置合わせ装置に関するものであり、特に原画パターンを有するマスクと、この原画パターンが転写される半導体ウェハ等の基板とを相対的に位置合わせする装置に関するものである。」
（３ｂ）第３頁右下欄第２０行〜第４頁左上欄第１４行
「　次に、本発明の実施例による位置合わせ装置について説明するが、その前に本発明の基礎となる技術について第１図を参照して説明する。
　所定の回路パターンとアライメント用の回折格子マークとを有するレチクル１は２次元移動可能なレチクルステージ２に保持される。…（中略）…またウェハ４上にもレチクル１に形成された格子マークと同様の回折格子マークが形成されている。」
（３ｃ）第４頁左下欄第１３〜右下欄第１４行
「　次にこのステッパーのアライメント系について説明する。アライメント用の照射光はレーザ光源１０から射出され、透過型の基準回折格子を放射状に形成したラジアル・グレイティング１１を通り、フーリエ変換レンズ１３を介してフーリエ面（アライメント光学系の瞳面）に配置された空間フィルター１５に達する。ラジアル・グレイティング１１はモータ１２によってほぼ一定の速度で回転可能に構成される。このラジアル・グレイティング１１に入射したレーザ光は０次光、±１次光、±２次光……のように回折し、それぞれ異なった回折角で広がっていく、第１図では０次光ＬＢ０、＋１次光＋ＬＢ１及び−１次光−ＬＢ１のみを示す。これら０次光、±１次光はレンズ系１３の作用でともに主光線が平行になるとともに、フーリエ面に配置された空間フィルター１５上で明確に分離して分布し、０次光ＬＢ０のみが遮断され、±１次光は透過する。空間フィルター１５を通った±１次光はビームスプリッタ−１４で反射された後、瞳リレー系１７Ａを通り、ビームスプリッタ−２０を透過して２焦点光学系２１に入射する。」
（３ｄ）第５頁左下欄第５行〜右下欄第６行
「　さて、アライメント用のレーザ光の±１次光ＬＢ１（Ｓ偏光）は焦点面２７ａでレチクル１の回折格子マーク部分に、＋１次光＋ＬＢ１と−１次光−ＬＢ１との成す角度で２方向から入射し結像する。またレチクル１の透明部を透過した焦点面２６ａからの±１次光ＬＢ１（Ｐ偏光）は、投影レンズ３を介して焦点面２６ｂでウェハ４の回折格子マーク部分に、＋１次光と−１次光との成す角度で２方向から入射し結像する。そしてレチクルｌの回折格子マークからの反射回折光はダイクロイックミラー２２、２焦点光学系２１を介してビームスプリッタ２０で反射された後、瞳リレー系１７Ｂを通って瞳共役面（フーリエ面）に配置された空間フィルター２３で軸上を進む回折光のみがフィルタリングされ、さらに集光レンズ２４によって光電検出器２５に達する。またウェハ４の回折格子マークからの反射回折光は投影レンズ３を介して元の光路を戻り、レチクル１の透明部を透過してダイクロイックミラー２２、２焦点光学系２１、ビームスプリンタ２０、瞳リレー系１７Ｂ、空間フィルター２３、及び集光レンズ２４を通って光電検出器２５に達する。」
（３ｅ）第５頁右下欄第１７行〜第６頁左上欄第３行
「　さて光電検出器２５から得られる光電信号は、レチクル１又はウェハ４を２方向から照射する±１次光±ＬＢ１によって作られた干渉縞が各回折格子マーク上でピッチ方向に流れるように照射されることになるので、ラジアル・グレイティング１１の回転速度に応じた周波数の正弦波状の交流信号となる。」
　
４　本件補正発明と引用発明の対比
　本件補正発明と引用発明を対比すると、以下のとおりである。
（１）当業者の技術常識に照らすと、引用発明の「凹凸からなる転写パターンが描かれた原版であるテンプレート１」、「原版ステージ２」、「ウエハ４を保持するウエハチャック５を固定するウエハステージ６」が、それぞれ、本件補正発明の「インプリント・テンプレート」、「テンプレートホルダ」、「基板テーブル」に相当することは明らかである。
　
（２）また、引用発明の「第二のアライメントスコープ１３」と、本件補正発明の「光学エンコーダ」を対比すると、両者は位置合わせをするための手段であることは明らかであるから、引用発明の「第二のアライメントスコープ１３」と、本件補正発明の「光学エンコーダ」は、「位置合わせ手段」である点で共通する。
　
（３）そして、引用発明の「第二のアライメントスコープ１３」に係る、
「テンプレート１ならびにウエハ４及びウエハステージ６上の装置基準となる基準マーク台７に、回折格子からなるアライメントマークを描き、
前記第二のアライメントスコープ１３は、テンプレート１越しに、テンプレート１のアライメントマークとウエハ４もしくは基準マーク台７上のアライメントマークを計測するよう、アライメントマークへ向かって光を照射し、回折、反射して当該第二のアライメントスコープ１３に戻ってきた光の重心位置から、テンプレート１とウエハ４、もしくは、テンプレート１と基準マーク台７の相対的な位置ずれを計測し、
前記位置ずれ量に基づいて位置決めを行う」という事項と、
本件補正発明の「光学エンコーダ」に係る、
「前記光学エンコーダは、放射線出力装置、第１回折格子、前記放射線出力装置からの放射線を前記第１回折格子へ向けるように配置されるビームスプリッタ及び検出器を有し、
　前記放射線出力装置は、第２回折格子を照明するように構成され、
　前記検出器は、前記第１及び第２回折格子によって回折されたモアレ模様を含む放射線を検出して位置合せ信号を発するように配置される」という事項を対比すると、
（ａ）引用発明は「アライメントマークへ向かって光を照射し」、「回折、反射して第二のアライメントスコープ１３に戻ってきた光の重心位置から、テンプレート１とウエハ４、もしくは、テンプレート１と基準マーク台７の相対的な位置ずれを計測」するのであるから、引用発明が、本件補正発明の「放射線出力装置」及び「放射線を検出して位置合せ信号を発する」「検出器」に相当する部材を具備することは明らかである。
（ｂ）引用発明は、「テンプレート１ならびにウエハ４及びウエハステージ６上の装置基準となる基準マーク台７に、回折格子からなるアライメントマーク」が描かれ、「テンプレート１越しに、テンプレート１のアライメントマークとウエハ４もしくは基準マーク台７上のアライメントマークを計測するよう、アライメントマークへ向かって光を照射」するのであるから、引用発明の「テンプレート１」に描かれた、「回折格子」である「アライメントマーク」が、本件補正発明の「第１回折格子」と同等の機能を果たし、また、引用発明の「ウエハ４及びウエハステージ６上の装置基準となる基準マーク台７」に描かれた、「回折格子からなるアライメントマーク」が、本件補正発明の「第２回折格子」に相当するといえる。
（ｃ）そうすると、両者は、「放射線出力装置」、「前記放射線出力装置からの放射線」が「第１回折格子へ向けるように配置され」、「及び検出器を有し、
　前記放射線出力装置は、第２回折格子を照明するように構成され、
　前記検出器は、前記第１及び第２回折格子による回折を含む放射線を検出して位置合せ信号を発するように配置される」点で一致しているといえる。
　
（４）以上のとおりであるから、本件補正発明と引用発明は、
「インプリント・テンプレートを保持するように構成されたテンプレートホルダと、基板テーブルと、位置合わせ手段とを含み、
　前記位置合わせ手段は、放射線出力装置、前記放射線出力装置からの放射線を第１回折格子へ向けるように配置され、及び検出器を有し、
　前記放射線出力装置は、第２回折格子を照明するように構成され、
　前記検出器は、前記第１及び第２回折格子による回折を含む放射線を検出して位置合せ信号を発するように配置される、インプリント・リソグラフィ装置。」の点で一致し、次の点で相違する。
　
〈相違点１〉
　位置合わせ手段が、本件補正発明は「光学エンコーダ」であって、「回折されたモアレ模様を含む放射線」を検出して位置合せを行うのに対し、引用発明の「第二のアライメントスコープ１３」は、エンコーダであることを特定せず、また、光の重心位置を検出して位置合せを行うものであって、モアレ模様を検出して位置合せを行っていない点。
〈相違点２〉
　第１回折格子が、本件補正発明は「光学エンコーダ」が有するものであるのに対し、引用発明は、テンプレート１に設けられている点。
〈相違点３〉
　本件補正発明は、放射線出力装置からの放射線を第１回折格子へ向けるように配置される「ビームスプリッタ」を具備しているに対し、引用発明は、当該構成を具備していない点。
　
５　相違点についての検討、判断
（１）相違点１について
　本願の明細書の発明の詳細な説明の記載（例えば【００３８】、【００３９】参照）からして、本件補正発明の「光学エンコーダ」は、「回折格子」を「エンコーダ目盛」として機能せしめること、すなわち、回折格子を用いることを意味するにすぎないと認められるから、相違点１のうち「光学エンコーダ」であるか否かは、実質的な相違点ではない。
　また、リソグラフィーの技術分野において、アライメント精度向上のため、相互に位置合せが必要な２つの部材に設けられた２つのゾーンプレート、すなわち回折格子によって生じるモアレ模様を検出して位置合せを行うことは、引用例２に記載されている（上記３（２）の各摘記参照）ように、本願優先日前公知の事項である。
　そうすると、引用発明において、光の重心位置を検出して位置合せを行うに代えて、「回折されたモアレ模様を含む放射線」を検出して位置合せを行うように構成することは、引用例２に記載された技術的事項に基いて当業者が格別の困難なくなし得る事項である。
　
（２）相違点２について
　引用発明のテンプレート１に描かれたアライメントマークは、第二のアライメントスコープ１３を用いて、「（原版ステージに保持された）テンプレート１の装置基準からの位置ずれ量を計測し、さらにテンプレート１と被転写基板となるウエハ４との相対的な位置ずれを計測する」ものである。
　一方、本件補正発明において、光学エンコーダに「第１回折格子」を設けるのは、本願明細書の「【００４５】検出したモアレ信号に基づいて、基板３４と光学エンコーダ３５の相対位置を決める。光学エンコーダ３５が、インプリント・テンプレート３１を保持するインプリント・テンプレートホルダ３２に固定してあるので、基板３４とインプリント・テンプレート３１の相対位置を決めてもよい（すなわち、基板３４とテンプレート３１が位置合わせされる）。…（以下略）」、「【００５８】テンプレートホルダ３２に隣接して位置する光学エンコーダ３５を有する例について説明し、かつ、図示したが、該光学エンコーダを別の位置に設けてもよい。例えば、或る例（図示せず）では、検出器格子のない光学エンコーダがインプリント・テンプレート３１の上に位置し、検出器格子３７をインプリント・テンプレート３１それ自体の一部として設けてもよい（適当な開口または窓がテンプレートホルダ３２に設けられる）。これは、合わせ位置測定がインプリント・テンプレートに対する基板の位置の直接測定であるという利点を有する。」という記載からして、光学エンコーダを、インプリント・テンプレートを保持するテンプレートホルダに固定し、当該光学エンコーダと基板の相対位置を求めることにより、間接的に、インプリント・テンプレートと基板の相対位置を求めるためといえる。さらに、本件補正後の請求項５には、「前記第１回折格子は、前記インプリント・テンプレートに設置されている、請求項１に記載のインプリント・リソグラフィ装置。」と記載されているとおり、本件補正発明は、第１回折格子をインプリント・テンプレートに設ける態様をも含むものである。
　そして、引用発明においても、テンプレート１を保持する原版ステージ２と、第２のアライメントスコープが所定の位置関係にあれば、アライメントマークを第２のアライメントスコープに設けることにより、間接的に、テンプレート１と被転写基板となるウエハ４との相対的な位置ずれが計測できることは明らかである。
　そうすると、相違点２は、実質的な相違点ではない、もしくは、引用発明において、第２のアライメントスコープを原版ステージ２に固定し、テンプレート１に設けられているアライメントマークを第２のアライメントスコープに設けるよう変更した、当業者が適宜なし得る設計変更にすぎない。
　
（３）相違点３について
　半導体露光装置におけるマスクとウエハの位置決めのために、双方に設けられた回折格子同士の干渉像を利用する装置において、干渉縞検出のための光をビームスプリッタを用いて前記回折格子に照射することは、引用例３に記載されている（上記３（３）の各摘記参照）ように、本願優先日前に周知の事項である。
　ここで、相違点３について、請求人は、ビームスプリッタを用いることにより、「ゼロ次の回折パターンを除去することが可能となる。これにより、バックグランド強度はゼロになり、検出器による信号検出が容易になる。」旨、主張するが、本願明細書の発明の詳細な説明には、どのようにしてゼロ次の回折パターンを除去することできるのか何ら記載がない上、引用例３においては、ビームスプリッタ以外の要素である「空間フィルタ」を用いることにより、ゼロ次光以外の光を利用することが記載されている（上記３（３ｃ）参照）ことからして、ビームスプリッタを用いるという発明特定事項と、ゼロ次の回折パターンを除去できるという作用効果が関連する根拠が明らかでないから、上記請求人の主張は根拠がなく採用できない。
　したがって、相違点３に係る構成を引用発明に具備せしめることに格別の困難性を見出すことはできない。
　
（４）以上検討したとおりであるから、本件補正発明は、本願の出願前に頒布された刊行物である引用例１ないし３に記載された事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
６　本件補正についての結び
　以上のとおり、本件補正のうち特許請求の範囲の請求項１に係る補正は、特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とする補正であって、本件補正後の請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるから、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たさないものである。
　したがって、本件補正は、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　平成２３年１月１１日付け手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の特許請求の範囲に記載された発明は、本件補正前の特許請求の範囲の請求項１ないし２３に記載されたとおりのものであるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、次のとおりのものである。
「インプリント・テンプレートを保持するように構成されたテンプレートホルダと、基板テーブルと、光学エンコーダとを含み、
　前記光学エンコーダは、放射線出力装置、第１回折格子、及び検出器を有し、
　前記放射線出力装置は、第２回折格子を照明するように構成され、
　前記検出器は、前記第１及び第２回折格子によって回折されたモアレ模様を含む放射線を検出して位置合せ信号を発するように配置される、インプリント・リソグラフィ装置。」
　
２　刊行物
　原査定の拒絶の理由に引用された本願の優先日前に頒布された刊行物およびその記載事項、ならびに引用発明は、上記第２[理由]３（１）、（２）に記載したとおりである。
　
３　本願発明と引用発明の対比、検討
　本願発明は、上記第２[理由]１で検討したとおり、本件補正発明の「光学エンコーダ」を構成する要素について、「放射線出力装置、第１回折格子、前記放射線出力装置からの放射線を前記第１回折格子へ向けるように配置されるビームスプリッタ及び検出器を有し」という事項から「ビームスプリッタ」なる要素を除き、「放射線出力装置、第１回折格子、及び検出器を有し」という事項としたものである。
　そうすると、本願発明と引用発明は、上記第２［理由］４で検討したとおりの一致点で一致し、相違点１及び２で相違する。
　
４　相違点についての判断
　相違点１が、引用例２に記載された技術的事項に基いて当業者が格別の困難なくなし得る事項であること、相違点２が、実質的な相違点ではない、もしくは、当業者が適宜なし得る設計変更にすぎないことは、既に、上記第２［理由］５（１）、（２）で述べたとおりである。
　したがって、本願発明も、引用例１に記載された発明、及び、引用例２に記載された技術的事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５　むすび
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、本願の優先日前に頒布された刊行物である引用例１に記載された発明、及び、引用例２に記載された事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。