【事件の表示】
　特願２００６−５２９８３７「流動層装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年１１月２５日国際公開、ＷＯ２００４／１０１１３３、平成１８年１２月１４日国内公表、特表２００６−５２８０６４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、２００４年５月１４日（パリ条約による優先権主張　外国庁受理　２００３年５月１６日　（ＤＥ）ドイツ連邦共和国）を国際出願日とする出願であって、平成２１年８月２１日付けで拒絶理由が通知され、平成２２年２月２５日付けで意見書及び手続補正書が提出されたが、同年６月９日付けで拒絶査定がなされ、同年９月２１日付けで拒絶査定に対する審判請求がなされると共に手続補正書が提出され、その後、当審において平成２３年５月６日付けで審尋がなされ、それに対して同年１１月８日付けで回答書が提出されたものである。
　
第２　平成２２年９月２１日付けの手続補正についての補正の却下の決定
［補正の却下の決定の結論］
　平成２２年９月２１日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
　１　本件補正の内容
　本件補正は、特許請求の範囲の請求項１についての補正を含むものであり、当該請求項１についての補正は、本件補正前の（平成２２年２月２５日付けで提出された手続補正書により補正された）下記（１）に示す特許請求の範囲の請求項１を、下記（２）に示す特許請求の範囲の請求項１に補正するものである。
　
（１）本件補正前の特許請求の範囲の請求項１
「【請求項１】
　微量の粒状物質を顆粒化しかつコーティングするための流動層装置であって、
　少なくとも１つの実質的に円錐状の製品コンテナー（１）と、該製品コンテナー（１）より上に配置されフィルター（６）が挿入されたフィルターハウジング（５）と、前記円錐状の製品コンテナー（１）より下に配置され処理用空気供給手段を有するハウジング下側部（３）と、からなる流動層装置において、
　前記製品コンテナー（１）は篩底（２）を有し、該篩底（２）には二成分用ノズル（８）が中央に挿入され、
　処理すべき製品および処理のタイプによって前記篩底（２）に対する前記二成分用ノズル（８）の高さが調整可能となっており、
　前記製品コンテナー（１）の下側部分にあり、該製品コンテナー（１）の壁に対して湾曲した移行領域を具備する少なくともひとつのガイドエレメント（１５）が半径方向内向きに向けられており、かつ、前記篩底（２）に対してギャップ（３７）を隔てて配置されており、該ガイドエレメント（１５）が半径方向内向きの成分を有する処理用空気を前記ギャップ（３７）を通じて少なくとも部分的に前記二成分用ノズル（８）の方向に導く、流動層装置。」
　
（２）本件補正後の特許請求の範囲の請求項１
「【請求項１】
　微量の粒状物質を顆粒化しかつコーティングするための流動層装置であって、
　少なくとも１つの実質的に円錐状の製品コンテナー（１）と、該製品コンテナー（１）より上に配置されフィルター（６）が挿入されたフィルターハウジング（５）と、前記円錐状の製品コンテナー（１）より下に配置され処理用空気供給手段を有するハウジング下側部（３）と、からなる流動層装置において、
　前記製品コンテナー（１）は篩底（２）を有し、該篩底（２）には二成分用ノズル（８）が中央に挿入され、
　処理すべき製品および処理のタイプによって前記篩底（２）に対する前記二成分用ノズル（８）の高さが調整可能となっており、
　前記製品コンテナー（１）の下側部分にあり、該製品コンテナー（１）の壁に対して湾曲した移行領域を具備する少なくともひとつのガイドエレメント（１５）が半径方向内向きに
延在されて前記篩底（２）の内周の一部を覆い
（なお、下線は、補正箇所を示すために当審で付した。）
　
　２　本件補正の目的
　本件補正は、請求項１において、補正前に「半径方向内向きに向けられ」と特定されていた「ガイドエレメント（１５）」について、「半径方向内向きに延在されて前記篩底（２）の内周の一部を覆い」と特定することによって、補正前の「ガイドエレメント（１５）」を限定するものである。そして、補正後の請求項１に記載された発明と補正前の請求項１に記載された発明とで産業上の利用分野及び解決しようとする課題が異なるものではない。
　したがって、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号に規定される特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
　３　本件補正の適否
　そこで、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下、「本件補正発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるかどうかについて、さらに検討する。
　
（１）刊行物の記載
　　ア　引用刊行物の記載事項 
　原査定の拒絶の理由で引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開昭６２−２２７４３７号公報（以下、「引用刊行物１」という。）及び特公昭４７−４７２２９号公報（以下、「引用刊行物２」という。）には、それぞれ、図面とともに以下の事項が記載されている。
　
　（ア）引用刊行物１（特開昭６２−２２７４３７号公報）
（引１Ａ）「２　特許請求の範囲
１．　粒状物、特に薬剤又はそれに類似した物質のペレツト化又はそれに類似した処理をする装置であつて、渦動層容器を有し、この渦動層容器内で下方から上方に向けられたガス流が被処理物質と一緒に上昇させられ、渦動層容器内に他の処理装置が設けられている形式のものにおいて、渦動層容器（３）の上方範囲にロータ円板（７）が設けられていることを特徴とする、粒状物のペレツト化又はそれに類似した処理をする装置。」（第１ページ左下欄第５〜１５行）
　
（引１Ｂ）「有利には各上昇管には少なくとも１つの、特に同軸的で有利には高さ調節可能なスプレーノズルが配属されている。高さ調節可能なスプレーノズルによつては種々異なる生産速度に対する調節が可能であるのでノズルはノズルが材料密度のもつとも大きい範囲にスプレーするようになる。」（第４ページ左下欄第１７行〜右下欄第３行）
　
（引１Ｃ）「既に本発明の装置との関係で記述したようにスプレー、被覆、乾燥等を行なう渦動層処理と同時にペレツト化と圧縮とを行なうことができる。」（第５ページ左上欄第１２〜１５行）
　
（引１Ｄ）「第１図に示された渦動層装置は流動化できる粒子をペレツト処理又はその他の処理をするために役立つ。この装置は外側のケーシング２を有し、このケーシング２は中央範囲に渦動層容器３を形成している。この渦動層容器３の下側は孔あき底４によつて制限あれており、この孔あき底４を通つてガス、例えば空気又は窒素が矢印ＰＦ１（Ｆｉｇ１）に応じて供給される。渦動層容器３の内部では被処理物質は供給されたガスによつて矢印ＰＦ２で示すように移動させられる。
　渦動層容器３内には上昇管５があり、…（略）…この上昇管５には孔あき底４の中央に配置されたスプレーノズル６が配属されていた。
　さらに本発明によれば渦動層容器３の上方範囲にはロータ円板７が配置されている。…（略）…ガス流（ＰＦ２）によつて出発材料は上昇管５において上昇させられ、スプレーノズル６から噴出されるスプレー霧と接触させられる。このスプレー霧は固体分成分とバインダとを有している。…（略）…粒子はロータ円板７に当たるときにまだ比較的に塑性であるので、粒子はそこで十分に丸められる。この過程は数度繰返えられ、粒子は２〜４倍に拡大される。処理しようとする粒子のプロセス中に増大する種々異なる大きさに適合させるためには上昇管５、ロータ円板７とスプレーノズル６は個々にかつ一緒に、有利には互いに無関係に高さ調節可能である。これは第１図に半分ずつ異つた位置で前述の部分が図示されていることで示されている。…（略）…スプレーノズルが調節可能であることによつて種々異なる粒子密度に調節することができる。この場合にはスプレーノズル６は有利には被処理物質の粒子密度が最大である範囲に合わせて調節される。」（第５ページ左上欄第１９行〜右下欄第１２行）
　
（引１Ｅ）「第６図には断面して示されたケーシング壁１１と上昇管５と共に孔あき底４が平面図で示されている。この場合には中央にスプレーノズル６のための開口１４が示されている。さらにこの場合には通過開口の横断面は孔あき底４の半径方向で見て異つていることが判る。上昇管５の投影面の外側の通過開口１５ａは、上昇管５の内部にある通過開口１５ｂよりも小さな直径を有している。この異なる通過横断面によつて循環する渦動層の形成が助勢される。ケーシング壁１１と孔あき底４との間の外側のコーナ範囲においてある程「デツド域」を回避するためには容器壁１１に隣接して通過開口１５ａに比して拡大された通過開口１５ｃが設けられている。この構成は被処理物質を中央に戻すことを助ける。中央に戻された被処理物質は中央の主流ガスによつて再び捉えられかつ上方へ運搬される。種々の半径範囲に種々異なる直径の通過開口を設ける代りに、同様の効果は第７図に示すように場合によつては同じ大きさの孔の種々異なる数で得ることもできる。」（第６ページ左下欄第１８行〜右下欄第１８行）
　
（引１Ｆ）「スプレーノズル６としてはいわゆる多物質ノズルを設けておくこともできる。この多物質ノズルによつては液状の成分の他にガス状の成分をも渦動層に供給することが可能である。このガスによつては液体ノズルから噴出される液体の加速を行なうことができる。」（第７ページ右上欄第１５〜２０行）
　
（引１Ｇ）「第８図においては外側ケーシング２は円錐状に上方に向かつて拡大されて構成されている。これによつて所定の使用分野においてはより好ましい流動状態が得られ、特に下方範囲において上昇管の下方の入口に対する供給状態が改善される。」（第７ページ左下欄第１９行〜右下欄第４行）
　
（引１Ｈ）「第９図に示された全体図にはロータ円板７の上方にあるフイルタ１２の良好な配置が示されている。」（第７ページ右下欄第５〜７行）
　
（引１Ｉ）第１図及び第８図から、スプレーノズル６が孔あき底４を貫通していることが看取される。
　
（引１Ｊ）第９図から、フイルタ１２が渦動層容器３の上方に配置され、フイルタ１２はハウジングの態様であること、外側ケーシング２の中央範囲の渦動層容器３が円錐状であること、及び渦動層容器３の下方にはガスを供給するハウジングの態様の部分が存在することが看取される。
　
　（イ）引用刊行物２（特公昭４７−４７２２９号公報）
（引２Ａ）「本発明は流動床装置に使用する分配器に関するものであり、とくに被流動粉粒体の附着、凝集、塊状化を防止することを目的とした分配器の構造に関する。
　流動床装置は一般に気流により粉粒体を流動化して、反応、乾燥、造粒その他種々の単位操作を行う場合に広く使用され、」（第１ページ第１欄第２４〜３０行）
　
（引２Ｂ）「粒子の分配器への附着塊状化などは、流動のもつとも緩漫な分配器周辺部すなわち流動床周壁と分配器の接合部分におこり、…（略）…このような流動阻害の原因を排除するためには、分配器内面の如何なる部分においても絶えず粒子が移動しつづけることが必要であることが分つた。
　本発明の流動床用分配器は以上の理由から分配器表面における粒子の不断の移動を目的とする」（第１ページ第２欄第８〜２２行）
　
（引２Ｃ）「上記の目的を達成するため…（略）…気流の噴射角度を水平もしくは斜下方とし、気流の噴出力を粒子の分配器の表面上における移動推進に利用したのち、流動床内の圧力分布により生ずる気体の上昇流により粒子を流動化させ、さらに粒子の分配器表面上の移動に重力の分力を利用するため分配器の表面が中心部に向う斜面を形成するようにしたものである。」（第１ページ第２欄第２９行〜第２ページ第３欄第１行）
　
（引２Ｄ）「分配器本体１は多孔板よりなる周壁２および傾斜底板３と底板４とよりなり、底板４の中央部に粒子排出管５を、周壁２の頂部には分配器本体１を流動容器に装着するためのフランジ６を備えている。…（略）…環状板７，７’，７”……は微小な間隔をもつて重畳され、それらの上面は少なくとも一部分が傾斜して仕上げられているので、それらの傾斜面が粒子の中心方向への移動のための底面を形成する。…（略）…９，９’，９”……は環状板７，７’，７”……の間隙を規制するワツシヤーである。ワツシヤー９，９’，９”……により規制される間隙は気流の噴出口１０，１０’，１０”……として環状をなし同心円状に開口する。気流の噴出方向は第１図の分配器においては中心に向う水平流であり、第３図の分配器においては斜め下方流をなす。これは環状板の上面の傾斜により決定される。」（第２ページ第３欄第５〜３０行）
　
（引２Ｅ）第１図から、「フランジ６」における分配器内部側の部分が湾曲していることが看取される。
　
（引２Ｆ）第１図及び第３図から、環状板７，７’，７”……は、半径方向内向きに配置され、多孔板を覆い、環状板７，７’，７”……と多孔板との間にはギャップが存在し、当該ギャップが噴出口１０，１０’，１０”……と連通していることが看取される（「ワツシヤー９，９’，９”……」は、「環状板７，７’，７”……の間隙を規制する」（引２Ｄ）ものなので、ギャップと「噴出口１０，１０’，１０”……」との連通を妨げていない。）。
　
（引２Ｇ）第８図から、「環状板７，７’，７”……」を備える「分配器２３」が、「流動床本体１２」の下側に位置することが看取される。
　
　　イ　周知文献の記載事項
　本願の優先日前に頒布された刊行物である国際公開第０１／３７９８０号（以下、「周知文献１」という。）及び特開２００２−２９２２６６号公報（以下、「周知文献２」という。）には、それぞれ、図面とともに以下の事項が記載されている。
　
　（ア）周知文献１（国際公開第０１／３７９８０号。当審による仮訳はパテントファミリーである特表２００３−５２５７２６号公報に基づくものである。ドイツ語で使用されるウムラウト記号については、例えば「ａ」のウムラウトであれば「ａｅ」と代用表記し、エスツェットについては「ｓｓ」と代用表記した。これらの代用表記箇所には、当審で下線を付した。）
（周１Ａ）「The invention relates to a device for coating particles, comprising a container with a perforated flow contact floor through which an upwardly-flowing process gas can be delivered; at least one ascending tube, which is located in the container at a distance from the flow contact floor, whose top end is open to the container, and in whose bottom end a spray nozzle for spraying coating material into the ascending tube is arranged. A coating area is formed inside the ascending tube and feedback area is formed outside said ascending tube. The particles are guided upwards through the coating area, at the same time being subjected to the action of the process gas and the spray stream of coating material, flow downwards in the feedback area under the influence of gravity and are guided back into the coating area across a gap. Means for delivering a supporting gas are provided in or on the container near the perforated flow contact floor, these means guiding in a supporting gas flow in the direction of the gap with at least one flow component that is oriented inwards, sideways, in order to form a sliding gas layer and to transport the particles between the feedback area and the coating area in a directed particle flow. In addition or alternatively, constructional shaping means are situated in the bottom area of the container, said means forming a transition channel between the feedback area and the coating area with essentially constant peripheral surfaces. 」（フロントページ(57)Abstract欄）（「下方から上方に流れるプロセスガスを供給し得る穴開き流動床を有する容器と、上方端を容器に向けて開放し、被覆材料を噴射する噴霧ノズルが下端に配置され、容器の流動床に対して間隔をあけて配設された少なくとも一つの直立管とを備えた粒子を被覆する装置が提案される。この直立管の内部に被覆区域が形成され、直立管の外方に返送区域が形成されている。粒子はプロセスガスと被覆材料の噴射流の作用により下方から上方に被覆区域を通して案内方され、返送区域で重力の作用の下方に上方から下方に流れ、隙間を経由して被覆区域に戻る。ガス案内層を形成するためおよび粒子を向きの定まった粒子の流れにして返送区域と被覆区域との間に運ぶため、外方から内方に向く少なくとも一つの横方向流れ成分を有するキャリヤガスの流れを隙間の方向に導入するキャリヤガス供給手段が容器の中またはその上方の穴開き流動床の近くに設けられ、および／または返送区域と被覆区域との間に移行通路をほぼ連続的な境界面で形成する構造形成手段が容器の下方領域に配設されている。」（フロントページ(57)【要約】欄））
　
（周１Ｂ）「In Fig. 2 ist die Ringanordnung nach Fig. 3 und 4 im eingebauten Zustand genauer dargestellt, wobei zu erkennen ist, da
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　（イ）周知文献２（特開２００２−２９２２６６号公報）
（周２Ａ）「【発明の属する技術分野】本発明は粉粒体の乾燥、造粒、コーティング等を行う装置に関するものであって、特に流動層底部に位置する粉粒体を原料液噴出用のノズル近傍に効果的に導くようにした新規な流動層造粒乾燥装置に係るものである。」（段落【０００１】）
　
（周２Ｂ）「また後者のノズル下部における目皿板の開口比を大きくする形態では、流動層が薄いことに因み、主にノズル近傍部に位置する粉粒体のみが、上方に吹き上げられてしまい、全体的な粉粒体の流動（循環）が促進されるものではなかった。」（段落【０００６】）
　
（周２Ｃ）「このように本発明では、通気孔２０ａは、ここを通過する流動風が、ノズル６の設置部位に向かって吹き出すように開口されるため、流動層Ｆの底部に位置する粉粒体Ｇは、この流動風の作用によって、常時、ノズル近傍への移動傾向が付与されるものである。特に図３（ａ）に示すように形成した場合には、粉粒体Ｇを、ほぼ最短距離でノズル６近傍まで移動させ、ノズル６の近傍を通過する粉粒体Ｇの量を効果的に増大させ得るものである。なおノズル向きの通気孔２０ａから吹き出された熱風（流動風）は、単に流動層底部の粉粒体Ｇをノズル６に送るのみならず、ノズル６の近傍において、通気孔２０ｃから、ほぼ真上に吹き込まれる流動風と相まって、上昇気流を生起し、粉粒体Ｇをノズル６上部に効果的に吹き上げるものである。」（段落【００１７】）
　
　　ウ　引用刊行物１記載の発明
　上記ア（ア）の記載事項（引１Ａ）（以下、「引１Ａ」という。（引１Ｂ）〜（周２Ｃ）についても同様。）によると、粒状物のペレツト化又はそれに類似した処理をする装置が記載され、引１Ｃによると、その処理について「スプレー、被覆、乾燥等を行なう渦動層処理と同時にペレツト化と圧縮とを行なうこと」と記載され、引１Ｄによると、その処理を行う装置が「渦動層装置」であることが記載されている。
　引１Ｄによると、渦動層装置が外側のケーシング２を有し、このケーシング２は中央範囲に渦動層容器３を形成しており、渦動層容器３の下側は孔あき底４によって制限されており、孔あき底４を通って渦動層容器３にガスが供給され、孔あき底４の中央にスプレーノズル６が配置され、スプレーノズル６が高さ調節可能であることが記載されている。
　引１Ｇによると、外側ケーシング２は円錐状であることが記載され、引１Ｊによると、渦動層容器３も円錐状であることが記載されている。
　引１Ｈによると、ロータ円板７の上方にフイルタ１２が配置され、引１Ｊによると、フイルタ１２が渦動層容器３の上方に配置されることが記載されている。
　したがって、引用刊行物１には、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認める。
 「粒状物についてスプレー、被覆、乾燥等を行なう渦動層処理と同時にペレツト化と圧縮とを行なうための渦動層装置であって、
　円錐状の渦動層容器３と、該渦動層容器３より上に配置されたフイルタ１２と、前記円錐状の渦動層容器３より下からガスを供給する部分と、からなる渦動層装置において、
　前記渦動層容器３の下側は孔あき底４によって制限されており、該孔あき底４にはスプレーノズル６が中央に配置され、
　前記スプレーノズル６の高さが調節可能となっている、渦動層装置。」
　
（２）対比
　本件補正発明と引用発明とを対比する。
　
　引用発明の「渦動層装置」に用いられる被処理物質は、「流動化できる粒子」（引１Ｄ）であり、「渦動層容器３の内部では被処理物質は供給されたガスによつて矢印ＰＦ２で示すように移動させられる」（引１Ｄ）ことは、被処理物質が流動することにほかならないから、引用発明の「渦動層装置」は、本件補正発明の「流動層装置」に相当する。
　
　引用発明の「粒状物」及び「被覆」は、本件補正発明の「粒状物質」及び「コーティング」にそれぞれ相当する。
　本件補正発明の「顆粒化」について、本願明細書には、「顆粒化の際には、導入した粉状出発材料は所望の態様で粒状に成長させるべきである。…（略）…同時に、ノズル８から放出されるスプレイ流体はバインダ剤（たとえば、HPMC、PVP等）を含まなければならず、それによって個々の粒子が確実に結合するようになる。」（段落【００３５】）と記載されている。
　一方、引用発明の渦動層装置では、「スプレー霧は固体分成分とバインダとを有している。…（略）…粒子はロータ円板７に当たるときにまだ比較的に塑性であるので、粒子はそこで十分に丸められる。この過程は数度繰返えられ、粒子は２〜４倍に拡大される。」（引１Ｄ）という処理がなされているから、バインダによって粒子が結合され、粒子が成長すること、すなわち顆粒化がなされていることは明らかである。
　したがって、引用発明の「粒状物についてスプレー、被覆、乾燥等を行なう渦動層処理と同時にペレツト化と圧縮とを行なう」との事項は、本件補正発明の「粒状物質を顆粒化しかつコーティングする」との事項に相当する。
　
　引用発明の「渦動層容器３」及び「孔あき底４」は、本件補正発明の「製品コンテナー（１）」及び「篩底（２）」にそれぞれ相当し、引用発明の「渦動層容器３の下側は孔あき底４によって制限されて」いるとの事項は、本件補正発明の「製品コンテナー（１）は篩底（２）を有」するとの事項に相当する。
　
　引用発明のフイルタ１２はハウジングの態様である（引１Ｊ参照。）以上、その中にフィルターの機能を持つ部材が挿入されていることは明らかであるから、引用発明の「渦動層容器３より上に配置されたフイルタ１２」は、本件補正発明の「該製品コンテナー（１）より上に配置されフィルター（６）が挿入されたフィルターハウジング（５）」に相当する。
　
　引用刊行物１には、渦動層容器３の下方にガスを供給するハウジングの態様の部分が存在することが示されており（引１Ｊ参照。）、ハウジングの態様の部分がガスを供給する手段を有していることは明らかである。そして、この「ガス」は、「空気又は窒素」（引１Ｄ）であって、「被処理物質は供給されたガスによつて矢印ＰＦ２で示すように移動させられる」（引１Ｄ）のであるから、本件補正発明の「処理用空気」に相当する。
　したがって、引用発明の「前記円錐状の渦動層容器３より下からガスを供給する部分」は、本件補正発明の「前記円錐状の製品コンテナー（１）より下に配置され処理用空気供給手段を有するハウジング下側部（３）」に相当する。
　
　引用発明の「スプレーノズル６」は、「液状の成分の他にガス状の成分をも渦動層に供給することが可能」（引１Ｆ）なものであるから、本件補正発明の「二成分用ノズル（８）」に相当する。
　また、引用発明の孔あき底４は、「中央にスプレーノズル６のための開口１４」（引１Ｅ）を有しており、スプレーノズル６は孔あき底４を貫通しているから（引１Ｉ参照。）、引用発明の「該孔あき底４にはスプレーノズル６が中央に配置され」るとの事項は、本件補正発明の「篩底（２）には二成分用ノズル（８）が中央に挿入され」るとの事項に相当する。
　さらに、引用発明では、孔あき底４の位置は一定であると認められるから、スプレーノズル６の高さが変化することによって、孔あき底４に対するスプレーノズル６の相対的な高さも同様に変化することは明らかである。よって、引用発明における「スプレーノズル６の高さが調節可能となっている」との事項は、本件補正発明の「前記篩底（２）に対する前記二成分用ノズル（８）の高さが調整可能となって」いるとの事項に相当する。
　
　よって、両者は、次の点で一致する。
＜一致点＞
　粒状物質を顆粒化しかつコーティングするための流動層装置であって、
　少なくとも１つの実質的に円錐状の製品コンテナー（１）と、該製品コンテナー（１）より上に配置されフィルター（６）が挿入されたフィルターハウジング（５）と、前記円錐状の製品コンテナー（１）より下に配置され処理用空気供給手段を有するハウジング下側部（３）と、からなる流動層装置において、
　前記製品コンテナー（１）は篩底（２）を有し、該篩底（２）には二成分用ノズル（８）が中央に挿入され、
　前記篩底（２）に対する前記二成分用ノズル（８）の高さが調整可能となっている、流動層装置。
　
　そして、両者は、次の点で相違する。
＜相違点１＞
　粒状物質について、本件補正発明では、「微量の」と特定されているのに対して、引用発明では、このような特定がないこと。
＜相違点２＞
　篩底に対する二成分用ノズルの高さが調整可能であることについて、本件補正発明では、「処理すべき製品および処理のタイプによって」調整可能と特定しているのに対して、引用発明では、このような特定がないこと。
＜相違点３＞
　本件補正発明では、「前記製品コンテナー（１）の下側部分にあり、該製品コンテナー（１）の壁に対して湾曲した移行領域を具備する少なくともひとつのガイドエレメント（１５）が半径方向内向きに延在されて前記篩底（２）の内周の一部を覆い、かつ、前記篩底（２）に対してギャップ（３７）を隔てて配置されており、該ガイドエレメント（１５）が半径方向内向きの成分を有する処理用空気を前記ギャップ（３７）を通じて少なくとも部分的に前記二成分用ノズル（８）の方向に導く」と特定しているのに対して、引用発明では、本件補正発明の「ガイドエレメント」に相当する構成がなく、「ガイドエレメント」に関するこのような特定もないこと。
　
（３）相違点についての判断 
　上記の各相違点について検討する。 
　
　　ア　相違点１について
　引用刊行物１には、渦動層処理等が施される粒状物の量についての説明はないが、引用発明は、「粒状物、特に薬剤又はそれに類似した物質のペレツト化又はそれに類似した処理をする装置」（引１Ａ）であるから、適用される処理量については、その使用目的の範囲で選択できる事項といえる。
　そして、本願明細書には、「最少量の粒状製品用」（段落【０００５】）、「供給可能な量としては２から例えば１００ｇの間で変えられると考えられる。」（段落【００３０】）という記載があるものの、「微量」の程度を明確に特定した記載はない。
　そうすると、引用発明において、渦動層処理等が施される粒状物の量を「微量」とすることは、粒状物の種類や渦動層装置の大きさに応じて、当業者が適宜なし得る設計事項である。
　
　　イ　相違点２について
　引用刊行物１には、スプレーノズル６の高さが調節可能であることについて、「高さ調節可能なスプレーノズルによつては種々異なる生産速度に対する調節が可能である」（引１Ｂ）、「処理しようとする粒子のプロセス中に増大する種々異なる大きさに適合させるためには上昇管５、ロータ円板７とスプレーノズル６は個々にかつ一緒に、有利には互いに無関係に高さ調節可能である。…（略）…スプレーノズル６は有利には被処理物質の粒子密度が最大である範囲に合わせて調節される。」（引１Ｄ）と記載されている。すなわち、引用発明において、スプレーノズル６の高さは、「生産速度」、「粒子のプロセス中に増大する種々異なる大きさ」、「被処理物質の粒子密度が最大である範囲」によって調節されている。そして、これらの事項は、処理すべき製品や処理のタイプに応じて変化するものである。
　したがって、引用発明において、二成分用ノズルの高さを、相違点２のように処理すべき製品及び処理のタイプによって調整可能とすることは、当業者が適宜なし得る設計事項である。
　
　　ウ　相違点３について
　（ア）引用発明は、「通過開口の横断面は孔あき底４の半径方向で見て異つていることが判る。上昇管５の投影面の外側の通過開口１５ａは、上昇管５の内部にある通過開口１５ｂよりも小さな直径を有している。この異なる通過横断面によつて循環する渦動層の形成が助勢される。ケーシング壁１１と孔あき底４との間の外側のコーナ範囲においてある程「デツド域」を回避するためには容器壁１１に隣接して通過開口１５ａに比して拡大された通過開口１５ｃが設けられている。この構成は被処理物質を中央に戻すことを助ける。」（引１Ｅ）と記載されるように、ケーシング壁１１と孔あき底４との間の外側すなわち渦動層側のコーナ範囲に存在する被処理物質を中央に戻し、循環する渦動層の形成を助勢することをも意図している。
　
　（イ）また、周知文献１及び周知文献２に記載されるように、流動層装置において、流動層の底部の粒子を装置の中心に向けて水平方向に移動させ、流動を促進させることは、周知の事項でもある。
　すなわち、周知文献１には、穴開き流動床を有する容器と噴霧ノズルとを備えた粒子を被覆する装置において（周１Ａ参照。）、半径方向内向きのガス流により、粒子が残るようなデッドゾーンをなくし、粒子が噴霧ノズルあるいは被覆区域へ移動され、内向きのガス流が流動床の開口３０を通過して来るプロセスガスの流れと協働することが示されている（周１Ｂ参照。）。
　周知文献２には、粉粒体の乾燥、造粒、コーティング等を行う装置において（周２Ａ参照。）、ノズル６の設置部位に向かって吹き出す流動風によって、流動層Ｆの底部に位置する粉粒体Ｇにノズル近傍への移動傾向を付与し、ノズル６近傍のほぼ真上に吹き込まれる流動風と相まって、粉粒体Ｇをノズル６上部に効果的に吹き上げることで、粉粒体の流動を促進することが示されている（周２Ｂ及び周２Ｃ参照。）。
　
　（ウ）そして、引用刊行物２には、反応、乾燥、造粒等を行う流動床装置に使用する分配器において（引２Ａ参照。）、分配器表面における粒子の不断の移動を目的とし（引２Ｂ参照。）、流動床本体１２の下側で、環状板７，７’，７”……が多孔板を覆い、環状板７，７’，７”……と多孔板との間にはギャップが存在し、当該ギャップは気流の噴出口１０，１０’，１０”……と連通しており、気流の噴出方向は中心に向かう水平流もしくは斜め下方流となっており（引２Ｄ、引２Ｆ及び引２Ｇ参照。）、気流の噴出は分配器の表面上における粒子の移動、すなわち粒子の中心方向への移動を推進し（引２Ｃ及び引２Ｄ参照。）、さらに気体の上昇流により粒子を流動化させること（引２Ｃ参照。）が記載されている。
　ここで、環状板７，７’，７”……と多孔板との間のギャップは、気流の噴出口１０，１０’，１０”……と連通しており、多孔板を通過してギャップ内に導入された流動用気体が気流の噴出口１０，１０’，１０”へ向って半径方向内向きに流れていることは明らかである。
　
　（エ）上記（イ）のとおり、流動層装置において、流動層底部の粒子を装置の中心に向けて水平方向に移動させて流動を促進させることは、周知の事項であって、その点に関しては、引用刊行物１にも、上記（ア）のとおり、引用発明の渦動層容器３におけるケーシング壁１１と孔あき底４とのコーナ範囲に存在する被処理物質を中央に戻して、循環する渦動層の形成を助勢することを意図することが記載されている。
　そして、上記（ウ）のとおり、引用刊行物２には、「環状板７，７’，７”……」と多孔板とのギャップ及び当該環状板の噴出口を通じて噴出する気体によって、粒子を流動床装置の中心方向に移動させる方法が記載されており、半径方向内向きに設けられた通路により気体を流動層の中心に導出する手段が開示されている。
　そうすると、引用発明において、上記コーナ範囲の被処理物質を中央に戻して渦動層容器３内の流動を促進するために、引用刊行物２記載の上記「環状板」による気体導出手段に基づいて、孔あき底４とのギャップを半径方向内向きに延在させて処理用空気の導出路として採用し、「前記篩底（２）に対してギャップ（３７）を隔てて配置されており、該ガイドエレメント（１５）が半径方向内向きの成分を有する処理用空気を前記ギャップ（３７）を通じて少なくとも部分的に前記二成分用ノズル（８）の方向に導く」の構成とすることは、当業者が容易に想到し得る事項である。
　また、ガイドエレメントが「該製品コンテナー（１）の壁に対して湾曲した移行領域を具備する」及び「半径方向内向きに延在されて」との構成を有する点は、引用刊行物２に、流動層本体１２と接続される「フランジ６」の分配器内部側の部分が湾曲する構造（引２Ｅ参照）、及び「環状体」が半径方向内向きに配置した構造（引２Ｆ参照）が開示されており、容器内の被処理物質の流れを円滑にする必要に照らせば、当業者が適宜なし得る設計事項である。
　さらに、ガイドエレメントが「篩底（２）の内周の一部を覆い」との構成を有する点については、引用刊行物１に「中央に戻された被処理物質は中央の主流ガスによつて再び捉えられかつ上方へ運搬される。」（引１Ｅ）と記載されることから、引用発明の渦動層容器３内では、中央の主流ガスの流れを妨げないように、篩底の中央部以外の領域に相当する「内周の一部」を覆う必要があるのは当然の設計事項である。
　
　（オ）以上のことから、引用発明において、相違点３に係る本件補正発明の発明特定事項とすることは、引用発明、引用刊行物２に記載された技術的事項、及び周知の事項に基づいて当業者が容易になし得るものである。
　
　　エ　効果について
　本件補正発明を全体としてみても、非常に高い効率を有しかつ出来るだけ完全かつ均一に固体粒子をコーティングすることができるという本件補正発明の効果は、引用発明、引用刊行物２に記載された技術的事項、及び周知の事項からみて格別なものとはいえない
　
（４）小括
　よって、本件補正発明は、引用発明、引用刊行物２に記載された技術的事項、及び周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。  
　
　４　むすび
　以上のとおりであるから、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反する。よって、本件補正は、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
　１　本願発明
　以上のとおり、本件補正は却下されたため、本願の特許請求の範囲の請求項１〜１６に係る発明は、平成２２年２月２５日付け手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１〜１６に記載された事項により特定されるとおりのものであると認められるところ、特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、上記「第２［理由］１（１）」の【請求項１】のとおりである。
　
　２　引用刊行物記載の発明
　引用刊行物１（特開昭６２−２２７４３７号公報）には、上記「第２［理由］３（１）ウ」で示したとおりの発明（以下、上記「第２［理由］３（１）ウ」と同様に、「引用発明」という。）が記載されていると認める。
　
　３　対比・判断
　上記「第２［理由］２」で検討したように、本件補正発明は、本願発明の発明特定事項に限定を加えたものである。本願発明の発明特定事項をすべて含み、さらに限定を付加したものに相当する本件補正発明が、上記「第２［理由］３（４）」のとおり、引用発明、引用刊行物２に記載された技術的事項、及び周知の事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様に、引用発明、引用刊行物２に記載された技術的事項、及び周知の事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、本願は、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、拒絶されるべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。