【手続補正書】
【提出日】平成18年1月24日(2006.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【書類名】  明細書
【発明の名称】  培養基上に流体試料をデポジットし、整列したアレイを形成し、デポジットされたアレイを分析するための技術
【特許請求の範囲】
【請求項１】  顕微鏡分析反応に適した、受容表面上に液体ドットをアレイ状にデポジットするための装置であって、
互いに協働するデポジット部および液体供給源であって、正確に計量された微小径の液体滴をデポジット部の滴保持表面に形成するものと、
受容表面の上方で正確に規制された水平方向の位置に、デポジット部を配置するための搬送機構と、
受容表面に対して近づけたり遠ざけたりするデポジット動作において、デポジット部を相対的に移動させるための駆動機構とを備え、
反復動作により、液体滴を所望のアレイ状に正確にデポジットし、コンピュータ制御されることを特徴とするデポジット装置。
【請求項２】  請求項１の装置であって、
滴保持表面が、約１５ミクロン〜２５０ミクロンの直径を有することを特徴とする装置。
【請求項３】  請求項１または２の装置であって、
滴保持表面は、液体滴の境界を形成する形状が明瞭なリムにより形成されていることを特徴とする装置。
【請求項４】  請求項１または２の装置であって、
滴保持表面は、ピンまたはピン状の構造体の端面を有することを特徴とする装置。
【請求項５】  請求項４の装置であって、
ピンまたはピン状の構造体の端面が、通常平坦であり、側面が円筒形で滑らかであることを特徴とする装置。
【請求項６】  請求項１または４の装置であって、
デポジット部は、受容表面と接触したとき、デポジット動作の方向において弾力柔軟性を有するように取り付けられることを特徴とする装置。
【請求項７】  請求項６の装置であって、
デポジット部は、弾性部材の抵抗または重量に打ち克つことにより、弾力柔軟性をもって変位可能であることを特徴とする装置。
【請求項８】  請求項１の装置であって、
デポジット部は、軸方向に滑動可能なピンまたはピン状の構造体であり、
デポジット部のための駆動機構は、デポジット部が弾力柔軟性をもって受容表面と接触するレベルを超えて移動するように構成されていることを特徴とする装置。
【請求項９】  請求項１の装置であって、
デポジット部は、デポジットするとき、基準位置に水平方向に規制されることを特徴とする装置。
【請求項１０】  請求項１の装置であって、
デポジット部は、その水平方向の規制位置を決定する撓み部の上に取り付けられることを特徴とする装置。
【請求項１１】  請求項４の装置であって、
液体供給源は、デポジット位置のアレイに対して移動可能な可動液体貯蔵器を有し、
デポジット部と可動液体貯蔵器は、デポジット位置の直近でデポジット部に液体滴を供給するように構成されたことを特徴とする装置。
【請求項１２】  請求項１１の装置であって、
デポジット部および可動液体貯蔵器は、アレイに対して並進的に移動できるように連結され、デポジット部が受容表面に近づいたり遠ざかったりできるように連結を解除することを特徴とする装置。
【請求項１３】  請求項１１の装置であって、
可動液体貯蔵器は、自由表面を有する一定容量の液体を保持し、デポジット部が自由表面を貫通して降下および上昇することにより液体滴を得ることを特徴とする装置。
【請求項１４】  請求項１１の装置であって、
可動液体貯蔵器は、通常環状の液体保持表面を有し、
デポジット部は、収縮位置から伸張位置まで環状液体保持表面の内側を移動し、
デポジット部の滴保持表面は、収縮位置においては、可動液体貯蔵器の環状液体保持表面で保持されている液体の表面より収縮し、伸張位置においては、保持されている液体の表面を超えてこれを突出することを特徴とする装置。
【請求項１５】  請求項１１の装置であって、
可動液体貯蔵器は、表面張力により液体を保持可能な円形状部材を有することを特徴とする装置。
【請求項１６】  請求項１１の装置であって、
可動液体貯蔵器は、表面張力により液体を保持可能なＵ字状部材を有することを特徴とする装置。
【請求項１７】  請求項１１の装置であって、
可動液体貯蔵器は、表面張力により液体を保持可能な螺旋状部材を有することを特徴とする装置。
【請求項１８】  請求項１１の装置であって、
可動液体貯蔵器は、表面張力により液体を保持可能な閉口した部材を有することを特徴とする装置。
【請求項１９】  請求項１１の装置であって、
可動液体貯蔵器は、表面張力により液体を保持可能な部分的に閉口した部材を有することを特徴とする装置。
【請求項２０】  請求項１１の装置であって、
可動液体貯蔵器は、生物学的物質を含む液体を保持するために適した表面張力を有する材料を用いて形成された液体保持表面を有することを特徴とする装置。
【請求項２１】  請求項２０の装置であって、
可動液体貯蔵器は、生物学的物質を含む液体を保持するために約２５００ｍＮ／ｍより高い表面エネルギを有する材料を用いて形成された液体保持表面を有することを特徴とする装置。
【請求項２２】  請求項１１の装置であって、
可動液体貯蔵器は、比較的狭小なウェルから液体供給源を抽出するように構成された環状部材を有することを特徴とする装置。
【請求項２３】  請求項１１の装置であって、
可動液体貯蔵器は、少なくとも１０００マイクロインチの表面粗さにより形成された親水性表面を有することを特徴とする装置。
【請求項２４】  請求項１１の装置であって、
洗浄システムおよび制御システムを有し、
デポジット部および可動液体貯蔵器は、制御システムに呼応して洗浄システムとともに移動可能であることを特徴とする装置。
【請求項２５】  請求項２４の装置であって、
洗浄システムは、残渣液体を除去し、各部品を洗浄し、または乾燥させるために配設されたノズルを有することを特徴とする装置。
【請求項２６】  請求項１または１１の装置であって、
２個またはそれ以上のデポジット部が共通支持部の上に支持され、共通支持部が液体滴を受容表面上にそれぞれデポジットするために共通駆動部により駆動されることを特徴とする装置。
【請求項２７】  請求項１の装置であって、
２個またはそれ以上のデポジット部が共通支持部の上に支持され、共通支持部が液体滴を受容表面上にそれぞれデポジットするために共通駆動部により駆動され、
各デポジット部がそれぞれの環状貯蔵器リングに付随し、環状貯蔵リングが共通駆動部により駆動される共通支持部の上に取り付けられることを特徴とする装置。
【請求項２８】  請求項２７の装置であって、
各リングの間隔は、再供給のためにリングが浸漬されるマルチウェル貯蔵器プレートの間隔に対応することを特徴とする装置。
【請求項２９】  請求項２８の装置であって、
マルチウェルプレートのウェル間隔が、９６，３８４，８６４または１５３６マルチウェルプレートのウェル同士の間隔であることを特徴とする装置。
【請求項３０】  請求項１または１１の装置であって、
受容表面は、顕微鏡スライドを含むことを特徴とする装置。
【請求項３１】  請求項１または１１の装置であって、
受容表面は、硬くて滑らかな基板を含むことを特徴とする装置。
【請求項３２】  請求項１または１１の装置であって、
受容表面は、多孔性メンブレンを含むことを特徴とする装置。
【請求項３３】  請求項１または１１の装置であって、
受容表面は、ニトロセルロースを含むことを特徴とする装置。
【請求項３４】  請求項１または１１の装置であって、
受容表面は、ナイロンを含むことを特徴とする装置。
【請求項３５】  請求項１または１１の装置であって、
受容表面は、セルロースアセテートを含むことを特徴とする装置。
【請求項３６】  請求項１または１１の装置であって、
受容表面は、ゲルを含むことを特徴とする装置。
【請求項３７】  請求項１、１１または２６の装置を用いた方法であって、
受容表面の上に液体滴をデポジットすることを特徴とする方法。
【請求項３８】  生物学的化合物を基板の上にデポジットする方法、または生物学的化合物を基板の上の所定位置で別の物質と反応させる方法であって、
弾力柔軟性を有するデポジット部を機械的に降下させることにより、基板に対して正確に位置決めされた局在的なスポットに化合物または物質の少なくとも一方をデポジットするステップを有することを特徴とする方法。
【請求項３９】  請求項３８の方法であって、
ピンまたはピン状構造体によりデポジットされる生物学的化合物の液体供給源は、ピンまたはピン状構造体を液体に浸漬させるか、あるいは、
デポジット部は、表面張力により液体を保持する環状リングの内部において、基板の上方のデポジット位置で支持され、ピンは、比較的に微小な液体滴が表面張力によりピンまたはピン状構造体の端面に支持されるようにリングを貫通して移動し、デポジット部は、表面張力により液体を保持する環状リングの内部のデポジット位置において基板の上方に支持し、ピンが、リングを介して移動することにより、比較的に微小な液体滴が表面張力によりピンまたはピン状構造体の端部に支持され、好適には、ピンは、液体滴を計量し、形状が明確なリムにより形成された滴保持表面を有することを特徴とする方法。
【請求項４０】  請求項３９の方法であって、
デポジット部は、表面張力により液体を保持する環状リングの内部において、基板の上方のデポジット位置で支持され、
ピンは、比較的に微小な液体滴が表面張力によりピンまたはピン状構造体の端面に支持されるようにリングを貫通して移動し、
デポジット部は、表面張力により液体を保持する環状リングの内部のデポジット位置において基板の上方に支持し、
ピンが、リングを介して移動することにより、比較的に微小な液体滴が表面張力によりピンまたはピン状構造体の端部に支持されることを特徴とする方法。
【請求項４１】  請求項４０の方法であって、
デポジットされる液体は、マルチウェルプレートに配設された一連の液体から選択され、環状リングがデポジット部に供給する場合には、環状リングが再供給のためにマルチウェルプレートまで移動することを特徴とする方法。
【請求項４２】  請求項３８、３９または４１の方法であって、
液体滴のアレイを形成するステップをさらに有し、このステップは弾力柔軟性を有するデポジット部のアレイを形成するステップを含み、
これらのデポジット部は、ピンまたはピン状の構造体の形態を有し、９６ウェルプレートのウェル間隔と同等の間隔を有することを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
（発明の背景）
本発明は、所望する濃度と密度を有する微小量の流体を正確に、かつアレイ状に基板（培養基）にデポジットする（deposit）ことに関する。本発明は、例えば、反応実験するとき、デポジット（deposit）のオーバレイを形成するとき、生物学的物質を用いて微小なスライドおよびメンブレンを形成するときに有用である。
【０００２】
また本発明は、新規なデポジット技術を用いて形成されるアレイ生成物、およびこのデポジット技術を用いた分析方法に関する。
【０００３】
生化学分野においては、さまざまな組成物からなる何十、何百、何千、何万ものサンプルを反応領域または実験領域の上に正確に、しかも効率よくデポジットすることが好ましい。デポジットする速度が改善され、デポジットの大きさ、形状、量、配置位置に対する精度およびデポジットの濃度が増すと、重要な利点を享受できる。
【０００４】
特に、相当に開発の進んだ生化学的分析技術、および近年開発された「ラボ・オン・チップ（Lab on a Chip）」技術または「ジーン・チップ（Gene Chip）」技術においては、蛍光標識される微生物およびＤＮＡアッセイの高密度アレイを２次元領域に形成することが必要である。こうしたアレイを従来式の顕微鏡スライドの上に配置し、生産工程中に同時に数多く形成することが好ましい。
【０００５】
重要な応用例において、単一螺旋構造ＤＮＡやＰＮＡ、あるいは既知の情報を伝達するフラグメント（fragment）の形態を有する他の生化学的要素は、平坦なフィールドアレイの表面上に配分され、このアレイは、顕微鏡スライドあたり、１００，０００個もの対象物を含むことができる。このアレイの対象物が、識別シーケンス情報を表現している。各実験室において、アレイに配置できそうな対象物の全体の数に依存するが、アレイの対象物の直径が２５〜２５０ミクロンのオーダの範囲のさまざまなスポットとなるようにアレイの対象物を形成するよう試みられた。アレイの対象物は、潜在的相補性を有する蛍光標識されたフラグメントを用いてプローブ（probe）または精査される。こうしたフラグメントとハイブリダイゼーションとの間で照合が生じると、ハイブリダイゼーションの位置において、蛍光を確認することにより、陽性反応を確認する。相補的なストランド（strand）またはフラグメントをアレイにデポジットして、「照合（hit）」箇所を確認することにより、数多くの情報レベルを推論できる。
【０００６】
完全なる成果を実現し、これまでの分析技術での用途を改善するジーンチップ技術のために、対象物の高密度なアレイをガラス製の顕微鏡スライドまたはスライド状部材上に、迅速かつ正確に形成する安価な装置が望まれていた。このスライドは、幅が約２２ｍｍで、長さが５０ｍｍの領域を占め、外形上は２５ｍｍ×７５ｍｍのスライドである。
【０００７】
離散的で微少量の極めて多様な流体物質を顕微鏡スライド上にデポジットする際、離散的なスポットにデポジットされる容量は、その用途に応じるが、数ピコリットルから、１マイクロリットルの数分の１までである。この流体が保有する生物学的物質は、水溶液に含まれる数本のストランド短いオリゴヌクレオチドから、複雑なたんぱく質の高濃度の長いストランドまで、さまざまである。これらの流体の特性は著しい相違がある。水に類似したものもあれば、軽いオイルや蜂蜜に似た、より粘性の高いものもある。用いられる流体の範囲は、蒸発の特性およびその他の特性においても相当に広い差異がある。
【０００８】
対象とする流体にこれだけ大きな特性の差異があるので、広範囲の特性に対して動作して処理する単一型のプロセスは極めて困難であった。
【０００９】
フォトリソグラフ技術を採用したプロセスを用いると、極めて精度よく、しかも高いドット密度で、対象物を配置することができる。ただし、このプロセスは高価であり、生物学的、化学的な技術分野、および用いられる基板が制限される。これらの技術は、通常、単一の塩基を１度に１つずつ加えることにより、短いＤＮＡセグメント、または他の分子を形成する。
【００１０】
生物学的物質のドットアレイを形成するための特定のプロセスは、ピエゾ微小シリンダを用いて、物質を含む流体を吸引して噴射する。また他のプロセスは、「吸引ストロー（quill）」デポジットツールからなる、万年筆に似たプロセスを用いた。吸引ストロー装置は、受容基板の上でデポジット叩くことにより流体の所望量を吸上げ、吸引ストローのギャップにある流体を保持する新月状のものが、突然制止するツール内の流体の慣性により壊れて、流体の滴が、吸引ストローの内部から、衝突表面に効果的に飛び出る。
【００１１】
こうした技術の発展は、より大きいデポジットを形成するために、極めて古い技術を背景にしてなされたものである。このデポジットは、転送すべき流体を含む固定的な貯蔵器に、例えば、漬け込む１つのピンまたは一連のピンによる流体の転送部分であって、ピンを移動させて、通常、柔らかい基板に接触させて、比較的大きなスポットを形成する。これらの装置は、「複製（replicators）」として知られている。これまでのこうしたピンにより形成された生成物の具体例は、１ｍｍの格子の中心上に配置された０．６ｍｍの直径を有するスポットを有する２２ｃｍ×２２ｃｍの生物学的定量プレートである。このスポット密度は、現在の「ジーン・チップ」として必要なものよりも、ほぼ３オーダ低いものであって、同様に、既知の技術は、数多くの他の理由により、現在の目的に対しては実用的なものではない。
【００１２】
（発明の要約）
本発明の目的は、流体の極めて少量の滴を対応する高い密度でデポジットするための技術を確立することで、その滴の直径は、例えば３７５または３００μｍ未満で、重要な場合はそれより小さい。（本発明において、流体の「滴」という文言は、極めて微少量の流体を意味し、流体容量の特定の形状を意味するものではない。）流体および結果として生じるドットは、広範囲の特性を示すものとし、その特性とは、粘性、揮発特性、表面張力、濡れ性、表面活性特性、動的接触角度、および自由表面エネルギである。これらのも目的またはその他の目的は、数多くの特長および好適な実施形態により実現され、これらはそれぞれ新規で重要で、多くの場合、極めて効果的な結果を実現するのに貢献する。
【００１３】
本発明の１つの態様によれば、例えば、顕微鏡分析反応に適した、受容表面上に流体ドットをデポジットするための装置を提供することであって、このデポジット装置は、滴保持表面上において、微小径を有する流体滴の大きさを正確に計れるように、流体供給源と協働して関連付けられたデポジット部と、受容表面に対して正確に標準化された水平方向の位置に、デポジット部を配置するための搬送機構と、受容表面に対して近づけたり遠ざけたりして、デポジット部を移動させるための駆動機構とを備え、反復動作により、所定のアレイ状に正確に流体滴をデポジットし、好適には、コンピュータ制御される。
【００１４】
好適な実施形態は、１つまたはそれ以上の以下の特徴を有する。
【００１５】
滴保持表面が、３７５ミクロン未満の直径を有し、好適には３００ミクロン未満の直径を有し、さらに好適には、約１５ミクロンまたは５０ミクロン、〜２５０ミクロンの直径を有する。
【００１６】
滴保持表面は、流体の滴の境界を形成する明瞭な形状を有するリムにより形成されている。
【００１７】
このデポジット部は、ピンまたはピン状構造体であって、流体滴を保持する端面を有し、これらのピンまたはピン状の構造体が、端面と交差する側面を有して、リムを形成する。
【００１８】
本発明の別の広い態様は、受容表面自体に流体滴をデポジットする装置であって、デポジット部と流体供給源が協働して、正確な大きさの流体をデポジットするために、デポジット部の滴保持表面を形成し、デポジット部は、滴保持表面として機能する端面を有するピンまたはピン状の構造体デポジットあって、流体滴を保持する端面を有し、これらのピンまたはピン状の構造体が、端面と交差する側面を有して、リムを形成する。
【００１９】
好適には、これらのピンまたはピン状の構造体が、一般に平坦であり、側面が円筒形で滑らかである。
【００２０】
好適な場合、このデポジット装置において、デポジット部は、受容表面と接触したとき、デポジット動作の方向において、弾力柔軟性をもって取り付けられ、好適には、デポジット部が軸方向に滑動可能なピンまたはピン状の構造体であるとき、デポジット部は、弾性部材または重量の抵抗に打ち克つことにより、弾力柔軟性をもって外すことができ、同軸ばね、またはピンまたはピン状の構造体の上に作用する重りからなる付勢手段を有する。さらに、好適には、デポジット部のための駆動機構は、デポジット部が弾力柔軟性をもって受容表面と接触するレベルを超えて移動するように構成されている。
【００２１】
重要な場合、このデポジット装置において、デポジットするとき、基準位置に対して水平方向に抑圧され、このデポジット装置は、その水平方向の基準位置を形成する撓み部上に取り付けられ、あるいは、好適には、このデポジット部は、受容表面と接触するとき、その実装部に対して変位できるように取り付けられ、
このデポジット部は、水平方向の力または回転モーメントが付加されて、少なくとも１つの基準表面に接触し、好適には、このデポジット部は、ピンまたはピン状の構造体が受容表面と接触するとき、実装部に対して軸方向に自由に滑動できるピンまたはピン状の構造体を有し、このデポジット部は、ばねまたはこの装置の重りなどの重り、あるいは、傾斜するか偏心した部材、またはピンまたはピン状の構造体に付加される磁力により、水平方向の基準表面に対して付勢され、水平方向の力、または基準表面に対する回転モーメントを形成する。
【００２２】
数多くの重要な場合、流体供給源は、可動流体貯蔵器であって、デポジット配置位置のアレイに対して移動することができ、可動流体貯蔵器は、アレイに沿って多様な位置にデポジット部を配置して再供給するように構成される。
【００２３】
本発明の別の広い態様は、受容表面に流体滴をデポジットするための装置は、協働して流体滴をデポジットするデポジット部および可動流体貯蔵器と、受容表面の上にデポジット部を配置するための搬送機構と、受容表面に対して近づけたり遠ざけたりするデポジット動作において相対的にデポジット部を搬送する駆動機構とを備え、反復動作により、所望するアレイに流体滴をデポジットし、流体供給源は、可動流体貯蔵器デポジットあって、デポジット位置のアレイに対して移動することができ、流体貯蔵器は、アレイに沿って、さまざまな位置に、デポジット部を再補充するように構成されて配置される。
【００２４】
可動貯蔵器を用いた好適な実施形態において、デポジット部と可動貯蔵器は、デポジット位置の直近にあるデポジット部に対して、滴を供給するように構成され、好適には、デポジット部および可動流体貯蔵器は、アレイに対して並進的に移動するように接続され、デポジット部が受容表面に近づいたり、遠ざかったりするように接続されないようにすることを特徴とする装置。
【００２５】
多くの場合、好適には、可動貯蔵器は、遠く離れた大きい貯蔵器から再補給するように構成して配置される。
【００２６】
多くの場合、可動流体貯蔵器は、自由表面を有する流体の容積を保持し、デポジット部が降下し上昇して、流体滴を得て、好適には、可動流体貯蔵器は、マルチウェルプレートのウェル内に、複数の独立した流体量を保持するように構成され、このデポジット装置は、プレートの選択された容量から流体滴を得るように構成される。
【００２７】
別の受容な場合において、可動流体貯蔵器は、一般に、環状の流体保持表面、またはリングを有し（「環状」または「リング」という文言は、対向するか、隣接する表面を有する部材を広く意味し、その表面は、表面張力により流体の容量を保持でき、このデポジット部にも用いられる）、デポジット部は、収縮位置から伸長位置に、環状の流体保持表面の内部を移動し、収縮位置において、デポジット部の滴保持表面は、可動流体貯蔵器の環状の流体保持表面で保持されている流体の表面より引っ込んでおり、伸長位置において、デポジット部の滴保持表面は、保持されている流体の表面を超えてこれを突出している。
【００２８】
本発明の別の広い態様は、顕微鏡分析に適した、アレイ状の受容表面の上に流体滴をデポジットするための装置デポジットあって、正確な大きさの滴をデポジットする滴保持表面を、協働して形成するデポジット部および可動流体貯蔵器と、受容表面の上にデポジット部を、受容表面に対して近づけたり遠ざけたりして、配置するための駆動機構と、一般に、環状の流体保持表面を形成する貯蔵器とを備え、デポジット部は、収縮位置から伸長位置に、環状の流体保持表面の内部を移動し、収縮位置において、デポジット部の滴保持表面は、可動流体貯蔵器の環状の流体保持表面で保持されている流体の表面より引っ込んでおり、伸長位置において、デポジット部の滴保持表面は、保持されている流体の表面を超えてこれを突出している。
【００２９】
好適な実施形態において、環状流体保持表面は駆動部と関連付けられる部材は、デポジット部に対して再補給容量まで移動し、この中に、この部材が流体の供給を受けるために浸漬される。
【００３０】
特定の好適な実施形態において、このデポジット部は、例えば、１つまたは祖形状の特性を有するピンまたはピン状の構造体デポジットあって、このデポジット部は、環状流体保持表面に包囲され、軸方向に移動できるように構成される。
【００３１】
好適には、環状貯蔵器の流体保持表面は、例えば、少なくとも１０００マイクロインチの表面粗さ、または約２５００ｍＮ／ｍより高い表面エネルギを有する親水性の表面を有し、流体供給源を抽出するために環状部材と協働した場合、滴保持表面、またはデポジット部の先端部は、約２５００ｍＮ／ｍより高い表面エネルギを有する表面を有し、好適には、この流体保持表面は、タングステンから形成される。
【００３２】
上述の態様および好適なすべての実施形態において、デポジット装置は、洗浄システムを有し、受容表面に対するデポジットする位置関係、および洗浄システムに対する洗浄する位置関係に関連して、デポジット部の動きに対して制御を行うようにした制御システムを有する。
【００３３】
本発明の別の広い態様は、受容表面の上にアレイ状のドットをデポジットするための装置であって、流体の微小滴を正確に形成することができる端面表面を含むピンまたはピン上の構造体の形態を有するデポジット部と、デポジット部のための流体供給源と、受容表面の距離を隔てたデポジット位置のアレイ上において、デポジット部を相対的に移動させる機構と、選択されたデポジット位置において各流体の滴をデポジットするために受容表面に対して相対的に近づいたり遠ざかったりするようにデポジット部を、反復的に移動させる機構と、洗浄システムと、供給源に対する再供給位置関係、基板に対するデポジット位置関係、および洗浄システムに対する洗浄位置関係の間において、デポジット部の相対的動きを制御するようにした制御システムとを備える。
【００３４】
デポジット部がこれと付随する可動供給部と関連している場合、デポジット部と可動供給部は、好適には、制御システムに呼応して、洗浄システムまでともに移動することができ、好適には、可動供給部は、環状の部材であって、デポジット部はこれを介して動作し、好適には、これらの部品が洗浄された後、空気の流れを吹き付けるようなノズルを有する。
【００３５】
好適には、洗浄または乾燥ステーションは、好適には、圧縮空気、高圧流体、エアゾール、または加熱した空気などの円錐状の流体の流れを、デポジット部または可動流体源に放出するために形成された円形ノズルを有し、好適には、デポジット部は、ピンまたはピン状の構造体であって、環状の部材の形態を有する可動貯蔵器により包囲され、可動貯蔵器は、表面張力の効果により流体の供給源を保持し、ノズルは、残渣流体を取り除いて、各部品を洗浄し、乾燥させる。ある場合においては、円形の貯蔵器が、例えば、誘導型のヒータなどのヒータ関連付けられていることが好ましい。
【００３６】
上述のさまざまな態様および特性の好適な実施形態において、このデポジット装置は、少なくとも２つのデポジット部を有し、各デポジット部に対して流体滴を提供するための少なくとも１つの流体供給源を有し、受容表面のデポジット位置から離れたアレイ上を並進的にデポジット部をともに移動させる機構を有し、好適には、４つのデポジットヘッドを有する４つのデポジット部を有する。好適には、受容表面の上の各デポジット位置に各滴をデポジットするために、受容表面に対して近づいたり遠ざかったりして、各デポジット部を個別に反復的に移動させる機構、またはデポジット部を各々同時に移動させる機構を有する。
【００３７】
同時に動作させるためには、好適には、２個またはそれ以上のデポジット部が、共通支持部の上に支持されて、共通支持部が、各流体滴を受容表面上にデポジットするために、共通駆動部により駆動される。この場合、各デポジット部は、各環状貯蔵器リングに関連付けられて、貯蔵リングは、共通の駆動部により駆動される共通支持部の上に取り付けられ、好適には、リング間隔は、再供給されるためにリングが浸漬されるマルチウェル貯蔵器プレートの間隔に対応する。
【００３８】
デポジット部が流体の中に直接に下降して引き上げられて、滴を得る場合、好適には、デポジット部の間隔は、所定のマルチウェルプレートのウェル間隔と対応し、マルチウェルプレートは、可動流体供給源であって、基板の上に亙ってデポジットと付随するように構成されている。供給リングを用いる場合、またはデポジット部を直接漬ける場合、好適には、マルチウェルプレートのウェル間隔が、９６、３８４、８６４、または１５３６マルチウェルプレートのウェル同士の間隔であるか、あるいは、マルチウェルプレートのウェル間隔が９ｍｍまたはその約数である
【００３９】
好適に説明されたさまざまなデポジット装置は、１つまたはそれ以上の次の特性を有する。
【００４０】
このデポジット部およびその実装部は、デポジット部の受容表面に対する接触力を１グラム未満に制限し、好適には、０．５グラム未満に制限し、さらに好適には、０．３グラム未満に制限する。
【００４１】
デポジット部は、１０Ｈｚより高い固有周波数を有し、好適には、２０Ｈｚより高い固有周波数を有する。
【００４２】
受容表面に対して近づいたり遠ざかったりするデポジット部の動きは、好適には、摩擦力、またはデポジット部の支持部と関連付けられた減衰部材により、振動減衰される。
【００４３】
上述の任意のデポジット装置は、好適には、受容表面として機能する、数多くの顕微鏡スライド、またはスライド状構造体を実装するように構成され、制御システムは、スライドまたはスライド状構造体の上に、流体滴をデポジットするように配置して構成され、好適には、流体供給源は、生物学上の流体からなる。
【００４４】
本発明の別の広い態様は、受容表面の上の選択された位置に流体の少量滴をデポジットするための、支持部上に設けられた流体デポジットアセンブリであって、露出した先端部を有するデポジット部を有し、好適には、３７５ミクロンまたは３００ミクロン未満の直径を有し、受容表面の上に流体滴を搬送しデポジットする用に構成され配置され、安定的で水平方向の基準表面または表面位置がデポジット部と接触するために露出し、デポジット部が付勢される場合、支持部に対するデポジット部の水平方向の変位を防止するために構成され配置された表面または表面部分を有し、少なくともデポジット部が受容表面に近づいて流体滴をデポジットする時、基準表面または表面部分に対してデポジット部を付勢する手段を有し、受容表面に接触するとき、好適にも所望する位置において、デポジット先端部の位置に関連して付勢する手段を有する。
【００４５】
好適には、互いに独立したドットの高密度アレイに流体滴をデポジットするために、このアセンブリは、デポジット部の先端部の上に流体の個別の滴を反復して供給するための流体供給源と、受容表面のデポジットの離れた位置のアレイ上に亙って、相対的にデポジット部を搬送する機構と、受容表面上の各デポジット位置において、各ドットをデポジットするために、受容表面に対して相対的に近づけたり遠ざけたりするようにデポジット部を反復的に移動させる機構とを備え、好適には、流体供給源は、デポジット部とは異なる可動流体貯蔵器であって、一般にデポジット位置のアレイ上に亙って移動でき、流体貯蔵器は、アレイに対してさまざまな位置でデポジット部を再供給するように構成配置されている。
【００４６】
この態様の特定の好適な実施形態において、デポジット部は、滑動できるピンまたはピン状の構造体であって、可動貯蔵器により搬送される流体の容量内に漬ける用に構成配置され、好適には、貯蔵器は、個々の流体容量の複数分を保持するように構成され、このデポジット装置は、デポジット部に対して供給部を移動させて、デポジットすべき流体を選択し、好適には、貯蔵器は、９６ウェルプレートまたは複数の９６ウェルプレートを含むプレートであって、好適には、記録された可動マルチウェルプレートの中から選択されたウェルを、デポジット部とともに、コンピュータ制御のもと、移動させる少なくとも１つの駆動ステージを有し、これによりデポジット部を事前に選択されたウェルの中に出し入れして、このデポジット装置の選択された流体の滴を提供することができる。
【００４７】
他の好適な実施形態において、可動貯蔵器は、上述したような環状リングである。
【００４８】
実施形態において、デポジット部は、ピンまたはピン状の構造体であって、好適には、受容表面に対する所定の位置に配置された軸を有する回転表面と係合するように配置され、好適には、回転表面は、このデポジット部を支持する支持棚部の形態を有し、支持棚部とデポジット部が一体となって受容表面に向かって移動して、滴をデポジットするとき、受容表面に向かう方向に移動する際デポジット部を支持し、デポジット部の先端部が受容表面と接触するのに対応して自由に持ち上げ、好適には、回転表面は、係合するように配置されたデポジット部の一部の形状に実質的に合致する形状を有する表面を有し、好適には、各表面は円錐状で、好適には、各表面は直円錐の表面の一部の形状を有する。
【００４９】
特定の実施形態において、基準表面に対してデポジット部を付勢するための手段が、水平方向の力、または回転モーメントをデポジット部に与え、好適には、このデポジット部に与えられた水平方向の力、または回転モーメントは、デポジット部の上に偏心的に支持されたばね、またはデポジット部から離れた端部と接触する押圧部により与えられ、一方の接触端部と押圧部は、デポジット部の軸に対して弧状角度で設定された表面を有し、他方の表面は、傾斜した表面上と接触した凸状湾曲表面からなり、好適には、凸状湾曲表面は、傾斜した表面に対して支持される、好適には重りにより押下されたことにより、閉じ込められたボールにより形成される。
【００５０】
実施形態において、デポジット部は、ピンまたはピン状の構造体の形態であって、構造体が、デポジット部の軸の回りに回転するのを阻止し、好適には、ピンまたはピン状の構造体は、相補的な空間の中に閉じ込められ、あるいは、好適には、回転止めは、ピンまたはピン状の構造体を包囲し、摩擦力をもって固定されるコイルばねの部品からなり、ばねの突起部が、回転を阻止する制止表面と係合し、好適には、ばねは、ピンまたはピン状の構造体に対して、弾力柔軟性を与える。
【００５１】
本発明の別の広い態様は、上述のデポジット部を複数個備えるデポジット装置であって、共通のアクチュエータに呼応して、ともに移動するように配置され、好適には、このデポジット部は、ピンまたはピン状の構造体からなる。
【００５２】
本発明の別の好適な実施形態は、デポジット装置であって、デポジット部とは独立し、デポジット位置のアレイ上において移動できる可動流体貯蔵器を有し、この流体貯蔵器は、デポジット部をアレイに対する多様な位置において再供給するように構成配置され、ある場合においては、好適には、可動流体貯蔵器は、複数の個々の流体容量を保持するように構成され、このデポジット装置は、可動貯蔵器をデポジットに対して移動させて、デポジットすべき流体を選択でき、好適には、デポジット部は、ピンまたはピン状の構造体であって、コンピュータ制御のもと、可動流体貯蔵器により保持された流体の容量の選択されたものの中に浸漬し、好適には、可動流体貯蔵器は、９６個のウェルまたは複数の９６ウェルを有するプレート、またはウェル間隔が９ｍｍまたは９ｍｍの約数であって、好適には、この装置は、登録された流体貯蔵器をデポジット部とともに、コンピュータ制御のもと移動させる駆動ステージを有し、これによりデポジット部を事前に選択された流体容量の中に浸漬して、他の場合においては、好適には、可動貯蔵器は、表面張力により流体供給源を支持する環状リングである。
【００５３】
本発明は、とりわけ、本明細書で説明した流体の流体滴をデポジットする上述すべてのデポジット装置を用いる方法に関して特徴付けている。
【００５４】
本発明の別の広い態様は、生物学的な化合物を基板の上にデポジットする方法、または、生物学的な化合物を基板の上の所定位置にある別の物質と反応させる方法であって、基板に対して正確に位置決めされた局在化したスポットに、少なくとも１つの化合物または物質を、弾力柔軟性のあるデポジット部を機械的に降下させることにより、デポジットするステップを有し、好適には、弾力柔軟性のあるピンまたはピン状の構造体は、化合物または物質の滴が表面張力により基板に向かって保持されており、デポジット部は、基板または化合物が事前に塗布された基板の上にデポジットするまで降下され、その後、基板からデポジット部を持ち上げるステップを有し、流体滴を基板、または事前に塗布された化合物に転送させ、好適には、デポジット部は、基板に近づくとき、約１グラム未満、好適には０．５グラム未満、さらに好適には約０．３グラムの力で基板に力を加え、好適には、滴の直径が３００ミクロン未満で、好適には２００ミクロンまたは１００ミクロン未満で、ある場合は、この技術により、好適には、化合物と別の物質を両方とも順序良くデポジットされる。
【００５５】
好適には、特定の場合において、ピンまたはピン状構造体によりデポジットされる生物学的化合物または物質の流体供給源は、ピンまたはピン状構造体を流体に浸漬させるか、あるいは、デポジット部は、表面張力により流体を保持する環状リングの内部のデポジット位置において基板の上方に支持し、ピンが、リングを介して移動することにより、比較的に微小な流体滴が、表面張力により、ピンまたはピン状構造体の端部に支持され、好適には、ピンは、明瞭な形状を有するリムにより形成された、滴の大きさを計る滴保持表面を有する。
【００５６】
好適には、デポジットすべき流体が、マルチウェルプレート、デポジットピンまたはピン上の構造体に隣接する基板に亙って移動するプレート、または環状供給リングにより巡回されるプレートに配置された一連の流体から選択される。
【００５７】
本発明の別の広い態様は、流体ドットのアレイを形成する方法であって、弾力柔軟性デポジット部のアレイを形成するステップを有し、好適には、デポジット部は、ピンまたはピン状構造体の形態であり、デポジット部は、９６ウェルプレート、または９６個の複数のウェルを有するプレートのウェル間隔に対応する間隔を有し、あるいは、９ｍｍ間隔または９ｍｍの約数の間隔を有し、好適には、抽出計画によれば、可動環状供給リングが、プレートのウェル内に浸漬されるか、デポジット部が、プレートのウェル内に直接に浸漬されて、デポジット部上の流体滴を提供し、受容表面上に実質的により高い密度のアレイ状の位置に滴を搬送し、好適には、滴は、顕微鏡スライドまたはスライド状部材の上に支持されたメンブレンの上に、正方形アレイのパターンでデポジットされる。
【００５８】
多様な方法において、この方法は、好適には、流体滴は、コンピュータ制御のもと、少なくとも１つの弾力柔軟性をもって取り付けられた、滴保持表面を有するピンまたはピン状構造体を選択されて位置に移動させるステップを有し、この滴保持表面は、約３７５ミクロン未満の直径を有し、好適には、２５０ミクロン未満の直径を有し、ピンまたはピン状構造体を用いて、所望の物質の滴を選択された位置にデポジットするステップを有する。
【００５９】
多様な方法において、この方法は、受容表面は、壊れやすいか、軟弱であり、好適には、受容表面は、多孔性または微小多孔性を有し、好適には、ニトロセルロース、ナイロン、セルロースアセテート、ポリビニルジンフロライド、またはゲルからなり、好適には、壊れやすいか、軟弱である受容表面を形成する部材が、硬い支持部材の上に直接的に実装されるか、または中間的な柔らかいか、弾性を有する緩衝部材の上に実装されている。
【００６０】
好適には、この方法は、本明細書で説明された流体のグループから選択された流体の１つの流体をデポジットするために用いられ、好適には、この物質は、生物学的物質と反応させるための生物学的プローブまたは化学物質であって、蛍光発光する物質、インク、染料、着色剤またはマーカ、光活性物質、うわぐすり、またはカプセル材料、または腐食剤、洗浄剤、または中和剤である。
【００６１】
本発明の別の広い態様は、生物学的流体を、ピンまたはピン状の構造体を用いてデポジットする方法であって、表面張力によりリング内に流体を支持するステップと、比較的に微小な流体滴がピンの端部により表面張力で保持され、受容表面にデポジットされるように、リングを介してピンまたはピン状の構造体を移動させるステップを有する。
【００６２】
好適には、上述の任意の方法で形成されたアレイ状に形成されたデポジットは、広範囲走査顕微鏡を用いて、顕微鏡的に調査される。
【００６３】
本発明は、アレイ形成物により特徴付けられ、このアレイ形成物は、９６ウェルプレートのウェル配分の関数と対応するパターンを有する高密度アレイ状に形成された、直径が約３７５ミクロン未満、好適には３００ミクロン未満、さらに好適には、１５ミクロンまたは５０ミクロン〜２５０ミクロンである流体のデポジットされたドットからなり、好適には、アレイ状のドットは、直径の３倍以下、好適には２倍以下、または約１．５倍以下の間隔で互いに離間し、好適には、デポジットは、ガラス製顕微鏡スライド、または壊れやすいか、軟弱な表面、好適には、多孔性または微小多孔性表面の上に配置され、好適には、この表面は、ニトロセルロース、ナイロン、セルロースアセテート、ポリビニルジンフロライド、またはゲルからなり、壊れやすいか、軟弱な表面が、硬い支持部材の上に実装される。
【００６４】
（好適な実施形態）
好適な実施形態において、微小断面を有するデポジットピンは、可動流体貯蔵器とともに用いられ、このピンが反復してこの貯蔵器に浸漬される。このピンは、貯蔵器から流体の滴をその先端部に形成して保持するような大きさと形状を有する。この滴は、一点（１つのドット）をデポジットするのに充分なだけの物質を含んでいる。
【００６５】
滴の容積は、一般に、ピンの断面積、形状、ピン先端部の表面特性のほか、デポジットされる流体の粘性および表面張力、および先端部に供給する技術に依存して決まる。
【００６６】
デポジットピンの先端部を、明瞭な形状のリム（縁）を有するように形成すると、その他の要素が一定であるとき、先端部が反復して形成する流体の滴は、一定の体積を有することが分かっている。
【００６７】
現在のところ、ピンの先端部のリムは、「正方形」であることが好ましく、つまり、ピンの先端部の端面は、ピンの側面に対して実質的に直角をなしており、ピンの側面は滑らかである。ピンは、水平方向断面において、他の形状であってもよいが、円形であることが好ましい。流体を容易に受容する多孔性の基板にデポジットする場合などの特定の状況において、ピンの端面は、ピンが流体を保持する機能を最適化するために、表面張力を改善する表面を有する。例えば、この端面が、少なくとも１０００マイクロインチの表面粗さを有していてもよいし、例えば、タングステンのように（２５００ｍＮ／ｍより）高い表面エネルギを有する材料で形成されていてもよい。
【００６８】
デポジットピンの先端部領域において、ワイヤまたはワイヤ形状の直径（真径または断面の大きさ）が０．００１インチ（２５ミクロン）〜０．０１５インチ（３７５ミクロン）の間にあるデポジットピンを用いることにより、従来の濃度を有する生物学的流体を用いて、約２０ミクロン〜約３７５ミクロンの間の流体ドットのアレイがデポジットできることが分かっている。０．０１２インチ（３００ミクロン）より微小な先端部を、ここでは「微小先端部」という。先端部の大きさの好適な範囲は、５０ミクロンから２５０ミクロンである。
【００６９】
好適な実施形態において、受容表面に対してピンが接触する少なくともその瞬間において、ピンは水平方向の抑制部により基準位置に対して正確に位置合わせされる。またピンは、好適には弾力性を有する実装部により、軸方向に制御されており、最大のデポジット力が１グラム未満、好適には、例えば０．３グラムといった０．５グラム未満となるように制限される。このように水平方向に抑制することにより、確実に、滴が正確な位置にデポジットされる一方、こうした「軟着陸（soft landing）」により、境界が明瞭なデポジットを形成しやすくなり、長期間の使用期間において滴の大きさを一定にする機能を果たすようにピンの先端面形状を保護し、さらに受容表面となり得る壊れやすい基板を保護することができる。
【００７０】
こうした装置を用いて、デポジットされた流体のドットをアレイ状に密集させることができる。このとき、アレイのドットの中心から中心までの間隔は、ドット径の３倍未満であり、ドット径のたったの２倍、または１．５倍未満の場合もしばしばある。
【００７１】
図１は、外力を加えることにより、基準位置に対して水平方向に規制された微小先端部を有するデポジットピン１２の自由本体図である（図１Ａ参照）。これにより、受容基板２０と接触する瞬間に、先端部が正確なＸ，Ｙ位置に配置される。先端部１２ｄは、明瞭な形状を有するリム１２ｆを有し、円形の断面を有している。その断面の直径ｄは、約１５ミクロンより大きく、約３７５ミクロン未満、好適には３００ミクロン未満の範囲に入り、好適には１５または５０ミクロン〜２５０ミクロンの間に入る。一般に対応する大きさの流体の微小ドットを高密度に詰めてアレイ状に形成して、基板の上にデポジットすることができる。
【００７２】
図１および図１Ａの実施形態において、デポジットピンは、支持部１７上に搬送されている。このピンは、基板と接触する瞬間、水平方向に抑制されるが、軸方向に弾力柔軟性をもって取り付けられ、ピンが基板と接触したとき、支持部に対して上方向に自由に変位できる。支持部が基板から持ち上げられたとき、ピンはその台座に自由に戻ることができる。ピンが基板に与える圧力は、ピン自身の重量で決まるか、ばねまたは付加される荷重が追加される。好適には、製造公差に起因してピン形状が変形しても、ピンが確実に再現性よく同じ位置にデポジットされるように、このピンを回転しないように固定する。
【００７３】
好適にも、水平方向に位置決めされ、支持部から軸方向に変位可能なピンについて、図１Ｂ〜図１Ｆ、図２〜図２Ｂ、図２’、および図３〜図３Ｂを参照しながら詳細に説明する。図示された実装部は、周辺の状況の広範な範囲に亙って正確に動く。
【００７４】
水平方向に基準を有する別の好適なピン実装部が、図４、図４Ａおよび図４Ｂで示されている。ピン１２は、平行かつ平坦で距離を隔てた一対のカンチレバ撓み部７０，７２により支持されており、この撓み部は、ピンの所望する弾力柔軟性を有する動きの方向に対して垂直方向に延びて、平行四辺形型の実装部を形成し、ピンを基板上の正確な位置に着地できるように、ピンを基準位置に対して水平方向に抑圧する。軟着陸は、撓み部の弾力柔軟性により実現される。２５ミクロン径（０．００１インチ径）程度の微小なドットアレイを正確にデポジットするため、撓み部７０，７２の少なくとも一方に金属ばねからなる構成部品を用いて、デポジットピンがデポジットする毎に元の垂直位置に戻るように構成されている。
【００７５】
例えば、顕微鏡スライドの厚みや、流体ドットを付着させるスライド状の部材の厚みのばらつきから、基板の高さが変化する場合であっても、図１〜図４に示すように、デポジットピンの実装部と駆動部を適当に配置することにより、受容基板に接触するときの力を小さく、予想できる（「軟着陸させる」）ようにすることができる。基板に対するデポジットピンの力を１グラムのオーダより小さく、または０．５グラムより小さく、好適には約０．３グラムより小さく制御することにより、より優れた結果を得ることができる。
【００７６】
現在のところ好適には、デポジットピンは、垂直方向に往復運動するが、その他の動きを用いてもよい。
【００７７】
このデポジットシステムは、長期間に亙って寸法的に安定しており、温度、湿度、その他の外因変化に対して影響を受けない。このシステムは、例えば、１枚のスライド毎に１０，０００スポットを有する４０枚の顕微鏡スライドすべてをスポットすることができる。この処理に際しては、同時に操作させるピンの数に依存して、数時間から数週間必要となる。この装置は、何時間も無人で操作させることができる。
【００７８】
このシステムを高速で操作するために、１０Ｈｚより高い（例えば２０Ｈｚ）固有共鳴周波数を有することが好ましく、これは、ピンの質量を小さくして、適当な支持部を設けることにより実現することができる。
【００７９】
例えば、滴形成または滴デポジットの周期が０．１秒となるように、高速操作させるために、固有共鳴周波数を１０Ｈｚまたは２０Ｈｚよりも高くすることに加えて、ピン実装システムは、動作しているピン部材の動きを、好適には臨界的振動減衰値に近くなるまで振動減衰する装置を有する。このように振動減衰させることにより、ピンが飛び跳ねないようにし、スポット処理の機能を損なわないようにすることができる。さらに、デポジット動作毎に、ピンを迅速に動かすことができる。好適な実施形態では、ピン支持部に極めて高い弾力柔軟性をもたせると同時に振動減衰させることができる。弾力柔軟性と振動減衰性の一般的な原理を図１Ｇに示す。アクチュエータＡが、極めて高い弾力柔軟性を有し、振動減衰装置Ｘにより緩衝された支持ばねＺを介して動作し、動作アセンブリが１０Ｈｚを超える固有振動数を有する。荷重されたピンを滑らせた場合、滑動表面の摩擦力を用いて振動減衰させることができる。
【００８０】
ピンの重量が不十分であるか、カウンタバランスを取るばね実装システムとともに、デポジット表面に垂直な軸方向に動く円筒形デポジットピンを採用した実施形態において、ピンにおいて測定したときに、１ミリメートルあたりに５グラム未満の剛性を有するピンに対するばね支持システムは、ピンの撓み量が１ミリメートルの数分の１である場合、良好な結果が得られることが分かっている。ある特定の場合においては、ばねの撓み比が３ｇ／ｍｍで、約０．２ｍｍで撓むばねシステムが、顕微鏡スライドの範囲に亙って再現性よく、極めて良好に、流体ドットをデポジットすることができる。
【００８１】
硬い基板上に生物学的流体または試薬をデポジットするために、デポジットピンを用いることが、一連の相当に拡大された概略図５Ａ〜５Ｅで図示されている。一方、図５Ｆ〜５Ｉは、虚弱で、柔らかく、多孔性のメンブレンなどの上に流体ドットをデポジットするためのピンの利用について図示している。
【００８２】
図５Ａにおいて、デポジットピンＰが、例えば可動補助貯蔵器ＭＷ（図１参照）や、補助貯蔵リング１４（図１、４参照）から得た流体の滴Ｆを支持するところを図示するものである。ピンは、駆動部Ｄにより制御されて、受容表面Ｒ上の選択された標的ポイントＳに向かって移動する。補助貯蔵器ＭＷ内に漬ける場合、表面張力の効果により、明瞭な形状のリムを有するピンの先端部上に、実質的に半球状の流体滴Ｆが保持される（図７参照）。ピンの先端部が補助貯蔵リング１４で保持されている流体の中を貫通した場合、通常、滴Ｆはより浅く、あまり丸くない（図９参照）。顕微鏡スライドの場合、表面Ｒは、例えばシレンコートされたガラスなど、不浸透性および不可湿性を有する。
【００８３】
図５Ｂにおいて、ピンは受容表面Ｒに向かって充分に進行すると、流体滴は表面Ｒに接触する。滴は、一般的な円筒形状Ｃに変形するような力が加えられる。
【００８４】
図５Ｃにおいて、ピンＰは、さらに受容表面Ｒに向かって、レベルＬまで進行する。流体シリンダＣ１は、膨らんだ形態を有し、その周囲は拡張するが、受容表面とピンＰの先端部の間の中間付近にある凝集した流体の塊として存在している。上述のように、ピンを駆動するシステムは、ピンが基板に与える最大力を制限するように、ピンが受容表面Ｒに向かってさらに進行しないようにピンを規制する。
【００８５】
好適な機械的なシステムにおいては、ピンは、高い弾力柔軟性をもって取り付けられ、流体または基板に対する機械的接触により、ピンに伝わる抵抗力により反応する。その結果、ピンの先端部は、駆動部により過剰に進行することなく制止する。
【００８６】
その他のシステムにおいては、位置検出に基づいて、駆動部は、所望のレベルに達したときに、位置検出器に呼応して制止される。複合システムにおいては、弾力柔軟性のある、または機械的な制限システムと、位置検出器とを組み合わせたものが採用される。
【００８７】
図５Ｃで示す流体シリンダＣ１は、図５Ｂで示す基底部よりも拡張する。流体の壁の拡張度合いおよび湾曲度合いは、表面Ｒの濡れ性の度合い、流体の表面張力特性、およびピンに与えられる荷重に依存する。
【００８８】
図５Ｄにおいて、ピンＰは表面Ｒから遠ざかり、標的ポイントＳに滴ＤＦを残す。滴ＤＦは、基底部の直径に縮小するようにしてもよい。こうした、縮小および拡張の度合いは、受容表面の濡れ性および流体の表面張力特性に依存する。表面Ｒが疎水性である場合、デポジットされた流体滴は、表面が乾燥するにつれて収縮し、表面Ｒが親水性で、繊維質で、多孔性の表面である場合、滴は拡張する。いずれにせよ、デポジットされたドットの大きさは、主にピン１２の先端部の大きさに依存する。
【００８９】
図５Ｅにおいて、実質的に流体を保持しないピンＰは、水平方向の移動Ｍを伴って、受容表面Ｒから遠ざかる。ピンＰは迅速に再供給され、次の標的ポイントに移行する。重要な場合、基板全体においてピンに付随する、例えば図１に示す可動貯蔵器ＭＷや図１または図４に示す環状供給リング１４などの局在的な可動補助貯蔵器から再供給される。デポジットサイクルは、ピンが移動する他の水平位置（Ｘ，Ｙ）において反復して行われる。
【００９０】
硬くて滑らかな基板上にデポジットを配置する代わりに、この基板は、多孔性、または微小多孔性メンブレン、あるいは、例えば、ニトロセルロースメンブレンアセテート、ポリビニルジンフロライド（ＰＶＤＦ）またはナイロンなどの虚弱なフィルムであってもよいし、寒天ゲルやその他のゲルであってもよい。特定の基板は、利用される核酸、たんぱく質、またはその他の用いられる搬送方法に応じて選択することができる。また基板は、過去の参照データを作製するために以前に用いられた基板と同じものであってもよいし、過去の参照データと現在の実験結果を比較考量することもできる。ピンの弾力柔軟性により、こうした壊れやすい基板は損傷しないように保護される。
【００９１】
デポジットピンが生物学的な流体または試薬を、繊細で、柔らかく、あるいは多孔性を有する基板の上にデポジットするときのデポジットピンの動作が、相当に拡大された図５Ｆ〜図５Ｉに図示されている。繊細で、比較的に柔らかいメンブレンＤＭが、硬い支持部ＲＳの上に直接支持されている。
【００９２】
図５Ｆにおいて、図５Ａのように、明瞭な形状を有するリム１２ｆを有するデポジットピンＰの先端部が、可動補助貯蔵器から得られた流体試料または試薬の正確に計量された滴Ｆを保持し、所定のデポジットポイントＳに向かって移動する。
【００９３】
図５Ｇにおいて、このピンが受容表面Ｒに向かって充分に進行し、流体滴が表面に接触する。ピンＰの微小な圧力により、図５Ｇのように、メンブレンＳＭを若干変形させるが、ピンが軸方向に弾力柔軟性を有するので、比較的柔らかい基板に損傷を与えないようにすることができる。メンブレンの多孔性や柔らかさ、および任意の毛細管に依存して、流体は若干、横方向に拡散するが、流体のデポジットされたドットの大きさは、主にピンの先端部の大きさに依存する。
【００９４】
その他の場合において、柔らかく、または弾性的な保護用緩衝部材（図示せず）を、デポジットピンと基板の間に介在させてもよい。緩衝部材自体が実質的な弾力柔軟性を有する場合、ある程度の弾力柔軟性が要求されるときであっても、デポジットピン自体には弾力柔軟性をもたせなくてもよい場合がある。
【００９５】
図５Ｈにおいて、実質的に流体を保持しないピンＰは、水平方向の移動成分Ｍを伴って、受容表面Ｒから遠ざかり、次の標的ポイントに移行する。微小な接触圧力、先端部の形状、および介在する流体の存在により、基板の粒子が先端部に残存することはない。微小なデポジット圧力を取り除くと、このメンブレンは元の形状に復帰し始める。
【００９６】
図５Ｉに示すように、繊細なメンブレンは、短時間で実質的に元の形状に戻り、流体は乾燥する。デポジットピンの先端部と実質的に同じ大きさの乾燥したデポジットＤＤが残る。
【００９７】
図５Ｊは、例えば鋳造で形成された微小多孔性ニトロセルロースフィルムの薄膜などの繊細なメンブレンＤＭを保持するガラス製の顕微鏡スライドまたはスライド状の部材ＭＳを示している。この薄膜は、例えば、グレース・バイオ−ラボ（Grace Bio-Labs）社から、登録商標オンサイト（Oncyte）フィルムスライドとして市販されている。上述したプロセスを用いて、こうした微小多孔性フィルム上に流体の微小アレイをデポジットすることができる。デポジット受容表面自体が硬くなくても、硬い支えがあるために、市販されている硬いフレームを支持するロボット装置を用いて、繊細なメンブレンを自動的に処理し、スキャンなどすることができる。
【００９８】
図５Ａ〜図５Ｄおよび図５Ｆ〜図５Ｉに示すように、デポジットされた個々のドットの高密度アレイは、１つまたはそれ以上のデポジットピンが反復してデポジット動作することにより形成される。このとき、以下で詳述するように、コンピュータ制御により、選択された流体を正確に選択された位置にデポジットすることができる。
【００９９】
図５Ｋ〜図５Ｎは、１つのデポジットの上に別のデポジットを正確に位置合わせしてデポジットする様子を示す概略拡大図である。これは、説明しようとするこの装置の位置合わせ精度により実現される。図５Ｋは、デポジットピンを用いて、上述の技術により、あるいは既知の位置にデポジットできるその他の技術により形成されたデポジット１００を示す。図５Ｌは、ドット１００に対して正確に位置合わせされ、下降して流体滴Ｃ１をドット１００に接触させるデポジットピン１２を示す。図５Ｍは、依然として流体状態にあるデポジットされた第２の滴１０４を示し、図５Ｎは、ドット１００の上にデポジットされた乾燥した第２のドット１０６を示す。
【０１００】
同様にして、図５Ｏ〜図５Ｒは、大きなデポジットピン１２０を用いて、比較的に大きい流体スポットをデポジットした後、さらに微小先端部を有するより小さいデポジットピン１２を用いて微小滴をデポジットする様子を示す。図５Ｏにおいて、ピン１２０上の大きい滴は、図５Ｐに示すように大きなデポジット滴１１０を形成し、これが乾燥して、図５Ｑで示すように乾燥スポット１１２を形成する。続いて、小さい滴１１４が、図５Ｒで示すように大きいスポット１１２上の選択された正確な位置にデポジットされる。この位置は、コンピュータメモリにより特定され、顕微鏡検査の際に用いられ、検査結果と関連付けることができる。
【０１０１】
図５Ｓ〜図５Ｖは、選択された受容基板と流体を用いて、図５Ｋ〜図５Ｎで示す動作を上下反転して実施し得る可能性を示唆する図である。同様に、上述のその他のデポジット動作も、上下反転して、またはその他の角度を与えて、実施することができる。
【０１０２】
図６を参照すると、デポジットピン１２と、ロッド１５により支持された補助貯蔵リング１４を備えたデポジット装置を用いて、微量滴定プレートＭＰの従来式ウェルの平坦な底面ＦＢ上に流体ドットをデポジットすることができる。デポジットピン１２が長く直径が小さいという利点を活かして、流体ＤＦの数多くのデポジットを正確に配置することができる。これにより、デポジットピンは、正確に配置された位置でウェルの底部に到達することができる。例えば、底部の既知の記録された位置にドットとして、一連のプローブをひとまとめにすることができ、分析物（analyte）を含む流体を用いてウェルを充填した後、反応期間または培養期間を経て、顕微鏡を用いてウェルの底部を走査し、あるいは検査して、どのデポジットプローブが分析物の流体と照合するか判断することができる。よく知られた一連のプローブを用いたこういったプレートを事前に準備することにより、数多くの流体または所与の流体を用いたプローブ動作を評価することができる。
【０１０３】
以下、デポジットするとき、ピンを基準位置に対して水平方向に規制し、微小先端部を極めて精度の高いＸ，Ｙ位置に容易に配置する好適な実施形態の詳細について説明する。
【０１０４】
図１を参照すると、デポジットピン１２は、比較的大きい本体部１２ａと、大きさの抑えられた下側部分１２ｂとを有し、下側部分１２ｂは明瞭な形状を有するリム１２ｆを含むデポジット先端部１２ｄを有する。またピンは、上方向に延びるガイド部１２ｃを有する。
【０１０５】
大きい本体部１２ａは、下向きの環状表面１２ｅを有し、ここに支持部が接触し、ピンの重量を支えるための支持力ＦＳを受ける。
【０１０６】
この装置は、図１で示す水平断面図で見ると、互いに一定の方向をなす一対の基準表面Ｒｅｆ１，Ｒｅｆ２に対し、ピン１２に水平方向のバイアス力Ｆｂを作用させるように構成されている。これらの基準表面は、Ｘ成分およびＹ成分を有する応力を与えることにより、Ｘ座標およびＹ座標におけるピンの動きを規制するように配置されている。これらの応力のＸ成分の合力は、バイアス力Ｆｂとつり合うような抵抗力Ｆｒを形成する。この基準表面は、ピンが軸Ａ（Ｚ方向）に沿って軸方向に対しては自由に動ける（滑る）ように構成してあり、基板と係合したとき、先端部１２ｄが軸方向には弾力柔軟性を有するようにしてある。
【０１０７】
特定の実際的な実施形態において、ピンを実装するために、破線で示した垂直方向に離間した２つの水平プレート９，１１が、支持部１７を形成するために接合される。この支持部１７は、Ｘ方向、Ｙ方向、およびＺ方向に動き、デポジット動作、洗浄動作、および再供給動作を通じて、ピンを搬送する。上側プレート９は、下側プレートから選択された距離だけ離れ、ピンの角度およびその先端部１２ｄを選択された公差内に規制するような規制力ＦＣを与える。
【０１０８】
設計範囲内にあるレベル２０、レベル２０ａ、または２０ｂのいずれの位置にあっても、支持部１７を降下させると、正確に位置合わせされた先端部１２ｄが基板Ｒと係合する。ピンは、基板と係合すると止まる。弾力柔軟性を有するピンがその台座の上方で安定して保持された状態で、支持部１７はさらに下方向に動き、一方、支持部は逆方向に動くと、ピンが支持部上に再び配置される。こうして、支持部の垂直方向の動きは、精度よく制御する必要がなくなる。その上、ピンは、基板の高さの公差範囲内において、基板と適正に接触することができる。
【０１０９】
水平方向のバイアス力Ｆｂは、ピンを基準位置に水平方向から規制するためのものであるが、ピンが基板と対峙するとき、支持部１７に対するピンの軸方向の動きを許容する数多くの手法で、バイアス力Ｆｂをデポジットピン１２に与えることができる。図１Ｂは、小型ばね付勢ベアリングにより水平方向のバイアス力を与える様子を示すものである。この小型ばね付勢ベアリングは、基準表面Ｒｅｆ１，Ｒｅｆ２により形成される内側角部に向けてピンを押さえ付けるが、軸方向には自由に動かすことができる。図１Ｃは、ピンの重量が若干の回転モーメントを与え、これを基準表面Ｒｅｆ１，Ｒｅｆ２に対して付勢するが、ピンを軸方向に対しては自由に動かすことができるように、ピンの長手方向軸Ａが垂直方向に対して傾斜した様子を示す。
【０１１０】
その他の技術として、偏心負荷またはその他の負荷技術によりバイアスを加えることが含まれる。永久磁石または電磁石の磁力を用いて、所定の角部または円錐台座の特定の円弧部にピンを引き寄せることができる。同様に、静電気力を用いて、例えば、一方の部材の一部領域に他方の部材に対して電荷を与えて、放電しないように誘電体膜を用いることにより、デポジットピンが基板に接近したとき引力が働くようにする。こうした負荷技術による垂直方向の影響は、充分小さく、ピンに働く軸方向の力により克服することができる。こうして、弾力柔軟性をもってピンを軸方向に移動させることができる。
【０１１１】
図１Ｄ〜図１Ｆは、上述したように、円錐台座（図１Ｅ参照）の一部に対する正接面Ｐ１およびＰ２が、ピンに効率よく力を与えて、Ｘ方向およびＹ方向において、ピン１２の水平方向の動きを制する互いに対して一定の角度をなす２つの基準表面を形成する様子を示す。台座表面を形成する他の回転表面についても同様である。台座表面の所与の一部に対する選択的台座は、上述の負荷技術を用いて実現することができる。
【０１１２】
図２、図２Ａおよび図２Ｂは、ピンを水平方向に規制された状態で支持するための回転表面を用いた実施形態を示す。
【０１１３】
（可動マルチウェルプレートＭＷまたは供給リング１４などの流体供給装置を有する）流体デポジットピン１２は、支持部１７の上側プレート９と下側プレート１１の間に挟持されている。支持部１７は、供給動作およびデポジット動作を行うために矢印Ｚの方向に動く。図２、図２Ａおよび図２Ｂにおいて、ピン拡張部１２ａは、通常、プレート１１に設けた台座１３，１３ａ，１３ｂ内に配設され、プレートがピンの重量を支えている。このピンは、図示するように、基板２０に対して先端部１２ｄが接触すると、台座から上方向に自由に移動することができる。ピン１２が台座に配設されているとき、ピンの先端部１２ｄのＸ位置およびＹ位置は、ピン１２の完成度、上側支持プレート９までの相対距離、ガイドピンの上側部分１２ｃとプレート９に設けたガイド孔１９の間のクリアランス、および接触構造体の所定の側面に対する（許容される程度に僅かな）ピンの水平方向バイアスを加えるこのシステムの好適な特徴により決定される。こうした目的のため、図２では、圧縮ばね２２が上側プレート９およびピン１２の上向きレッジ（棚部）２４の間に配置される。このばねは、所定位置に固定され、中心軸Ａに対して多少、予期できる程度に非対称に下向きの力を加えて、ピンを所定の側にして、プレート１１上の台座の同じ領域の上にピンを再現性よく配置する。ピンの質量をも考慮しながら、基板２０に対するピンの先端部１２ｄに弾力的な圧力を加えるように、ばね２２の大きさと位置が決定される。
【０１１４】
図２’の構成において、ばね２４’の下側部分をピンの周囲にぴったりと接触させることにより、ピンを回転方向に固定する一方、ばねの上側脚部２２ａは、止め具として機能するように、プレート１９に設けた孔を貫通して延びている。このようにピンの回転位置を固定すると、反復的動作の間、その形状の変化により、所定位置から逸脱しないようにできる。
【０１１５】
このシステムが高い固有振動数を得るように、ばねの大きさと特性を選択することができる。これまで説明したさまざまな実施形態において、ピンは支持部に対して軸方向に滑動させ、摩擦接触させることにより、高速往復運動中の動きを所望する程度に振動減衰することができる。その他の場合では、振動減衰材料をばねまたはその他の装置の実装部に設けてもよい。
【０１１６】
図２Ａおよび図２Ｂの実施形態において、例えば、ばね２２、２２’を用いて、あるいは（アレイ状のピンを用いる場合、隣接するすべてのピンが平行となるようにして）垂直線から数度だけピンの長手軸を傾斜させることにより、同様にピンを水平方向に付勢する。
【０１１７】
図２、図２Ａおよび図２Ｂに示す円筒形状のピンは、望ましい程度の完成度で容易に形成することができる。距離Ｄを増やすと、製造時のばらつきなどに起因して、名目上の配向位置からピンが乱れる可能性を低減することを考慮すると、上側プレートの孔と上側ピン１２ｃの間の所与のクリアランス許容量を得るために距離Ｄ（図２）を容易に選択できる。すなわち、これらの実施形態の下側プレート１１は、ピン１２ｄの先端部の垂直レベルを決め、上側プレート９は、下側プレート１１の十分に上方に配置されるので、形成された距離と角度により、ピン先端部の水平位置を所望する公差内に収めることができる。したがって、基板２０上の高密度アレイを正確にデポジットすることができる。
【０１１８】
図２、図２Ａ、および図２Ｂから分かるように、駆動されるピンの支持構造体１７は、その先端部１２ｄが許容可能レベルの範囲の最低レベルに十分に達することができるように下方向に移動する。先の実施形態と同様、ピンが所定位置に維持されるという文脈において、ピン先端部１２ｄが軸方向に弾力柔軟性を有するので、ピンは、基板と対峙するとき、台座から持ち上げられるまで、制御されたほんの小さな圧力を基板に与えることになる。
【０１１９】
図３において、ピン１２’のピン拡張部１２’と台座１３は、先端部１２ｄ’が基板と係合していなければ、通常接触する補完的な円錐表面を有する（ただし説明のために、接触していないように図示した）。拡張本体部１２ａ’の上側端面１２ｇは、以下に詳述するように、選択された方向に傾斜し、鋼球ベアリング３８が傾斜表面上の中心軸Ａからずれた位置で支持されている。重り３９が鋼球ベアリング３８の上に配置され、スペーサブロック４１のボアにより収容されている。このスペーサブロック４１は、上側および下側プレート９、１１により固定されている。好適には、スペーサブロックは、例えば、デルリンのような低摩擦高機能プラスチックで形成されている。デポジットピン１２ｄ’の所望される程度に弾力柔軟度を調整し、偏心位置に配置された鋼球ベアリング３８を介して、円錐台座（図１参照）の一部に向かって微小な回転モーメントＭＯをピンに与えるように重り３９の大きさを選択する。
【０１２０】
図３Ａの断面図から分かるように円筒形状の重り３９は、Ａ軸の回りを自由に回転することができ、過剰な抵抗（drag）が加わることを防止する。しかし、ピンの本体部１２’は、図示したように、正方形断面を有し、スペーサブロック４１の正方形の通路４２内に配置される。こうして、ピンが回転するのを防止し、上側端面１２ｇと先端部１２ｄ’の配向方向を一定にする。軸Ａに対して傾斜する端面１２ｇと、ピンの正方形断面の平坦部は、協調的に関連して、正方形通路４２と接触している。これは、正方形通路の角部に向かう傾斜端面により実現される。偏心重り３９、ピンが荷重により付勢する円錐台座の領域、およびピンの回転防止により、デポジット先端部１２ｄ’は、正確に定められた水平方向の一定の位置に配置できる。（ばねではなくて）選択された重りを用いることにより、受容基板の可能性のある高さの範囲に亙って、基板に対するスポット力を一定とすることができ、その結果、その領域におけるスポットサイズの再現性を改善させることができる。
【０１２１】
高密度アレイ状に正確に配置することを必要とするアレイ状の微小先端部を用いるとき、こうした水平方向の配置は極めて重要である。
【０１２２】
これまで説明してきた特性、すなわち、ピンの水平方向の基準、軸方向の弾力柔軟性、安定性、高速固有振動数、および固有振動減衰特性は、図４Ａで示すデポジットピンの撓み実装部を用いて実現することができる。２つの類似した高い柔軟性を有する平坦な撓み部７０ａ，７２ａは同様の弾性を有するが、一方の撓み部、すなわち撓み部７０ａは、例えば金属ばねのような極めて安定的な材料で形成されており、他方の撓み部７２ａは良好な振動減衰特性を有する。
【０１２３】
この安定的な撓み部７０ａは、好適には、例えば０．００２インチ厚のステンレススチールのような薄い金属シートをフォトエッチングすることにより製造される。これは、安定性が高く、剛性が低いが、振動減衰特性はよくない。他方の撓み部７２ａは、同等に柔軟性を有することが好ましいが、所望する振動減衰特性を有し、安定性が低い。第２の撓み部７２ａは、例えば同一のフォトエッチングされた薄いプラスチックシート６１を２枚接合したようなものにより形成されおり、このシートは、例えばデュポン社から市販されているカプトン（登録商標）などの０．００５インチ厚のポリイミド樹脂である。例えば、０．００２インチ厚のエネルギ吸収接合材は、これらの樹脂シートの間に振動減衰層７７を有する。接合材は、３Ｍ社から市販されている型番62-60065-4826-1か、３Ｍ社の両面テープ型番９２７などのゴムセメントからなる薄膜コートであってもよい。
【０１２４】
図４Ｂで示す択一的な構成において、撓み部７０ｂ，７２ｂは同一のものであって、各撓み部は、１枚の金属層７３と１枚の弾性層７５が弾性振動減衰層７７を介して接合されている。例えば、０．００１６インチ厚のステンレススチール層、または０．００２２インチ厚の銅ベリリウム合金層を０．００５インチ厚ポリイミド層に振動減衰層により接合するなどして、適当な厚みを有する材料を選択することにより、図４Ａの柔軟性と同等の柔軟性を実現する。
【０１２５】
撓み部の物理的特性についても、特定の必要性に応じて、撓み部の形状を変化させることにより同様に調整される。例えば、切り抜きを設けることである。
【０１２６】
製造時において、大きな面積を有する３つの材料のサンドイッチ状接合体が形成されて、撓み部の形状は、所望の輪郭および任意の切り抜きをフォトエッチングすることにより形成することができる。
【０１２７】
図４、図４Ａ、および図４Ｂで示すタイプのデポジットピン装置の類型（cluster）において、例えば図２４Ａおよび図２４Ｂを用いて後述するように、９６−ウェルプレート（９６個のウェルプレート）内のウェルの間隔に対応するような９ｍｍのピン間隔を用いて、撓み部は、好適には、幅が８ｍｍで長さが２２ｍｍで、２つまたはそれ以上のピンを有する。また撓み部は、９ｍｍピン間隔で平行に並んで配置される。後述するように、こうした装置を９ｍｍのピン間隔で２組並べて用いることが好ましい。そうすると、ピンのＸ，Ｙアレイを実現することができる。
【０１２８】
（Ｂ．可動流体貯蔵器とデポジットピンとの関連性）
同じ流体を連続してデポジットするためには、顕微鏡スライドまたはメンブレンを準備する際、または単一の基板上に余剰なデポジットを提供する際、固定的な中央供給源から周期的に再供給を受ける可動補助貯蔵器は、デポジット位置付近にあるデポジット装置とともに移動する。
【０１２９】
図７を参照すると、デポジットヘッドは、図１または図４に示すデポジットピンＰと、再供給を受ける前に数多くのドットをデポジットするのに十分なサンプルを保有できるだけの大きさを有する補助貯蔵器ＳＲとを備える。
【０１３０】
例えば、顕微鏡プレートＲ、または繊細または柔らかいメンブレンなどの上のターゲットＳに滴Ｆをデポジットした後、この装置は、プレートＲ１の方へ移動し、ピンＰは、付随する補助貯蔵器ＳＲに漬けて引き上げられることにより、滴Ｆ１が再供給される。新しい滴は、プレートＲ１のターゲットポイントＳ１の位置にデポジットされる。これを続けて行う。
【０１３１】
このシステムは、図８で示すような数多くの顕微鏡スライドまたはメンブレンを準備する上で非常に有用である。中央流体供給源ＣＳは、好適にも、９６ウェルプレートなどのような微生物学研究で従来から用いられているマルチウェルプレートである。洗浄乾燥ステーションＣＬも同様に設けられている。デポジットの手順は、まず洗浄乾燥ステーションＣＬを介したコンピュータ制御のもとで、デポジットデバイス装置と可動補助貯蔵器ＳＲを中央流体供給源ＣＳまで搬送し、そこで、例えば９６ウェルプレートの選択されたウェルから選択された流体サンプルを補助貯蔵器ＳＲに供給される。その後、これらの装置は、一連の受容表面Ｒ−Ｒｎの上を移動し、同様にコンピュータ制御のもとで、各基板の選択された位置に流体ドットをデポジットする。例えば、中央流体供給源ＣＳの異なるウェルから異なる流体サンプルを制御しながら選択して、プレートＲまたはその他の表面上の異なる位置のそれぞれに対して、この手順が何度も反復される。異なる試料に配置位置を関連づけるデータがメモリ内に記録され、後続の走査処理および読取処理に用いられる。
【０１３２】
個々の各滴を正確に計量するデポジット装置、例えば微小先端部に正方形リム形状を有するデポジットピンと、これに付随し、一連のデポジットを実現するのに十分な量を保持する局在的な可動補助貯蔵器とを組み合わせたような装置を用いる技術は、数多くの利点を有する。微小移動に基づくこの技術によれば、中央供給源までの往復運動するのを避けて、時間を節約し、長距離搬送することで蒸発してしまう損失を避けることができる。その結果、形成された滴は極めて微小で、デポジットされたアレイは非常に高密度である。さらにドットは、デポジットされたドットのアレイ全体に亙って、大きさと濃度または生化学的含有量において一定に維持することができる。洗浄、搬送、試料の採取に要する全体の時間を短くすることができれば、デポジットは、全体として、非常に迅速で、安価で、好適にも小型にすることができる。
【０１３３】
こうして、スライドまたはメンブレンのアレイ上への反復動作により、数多くの（例えば１０〜１００個の）同一の顕微鏡スライドまたはメンブレンを容易に準備することができる。各基板は、システムに導入された数多くのマルチウェルプレートのうちの異なるウェルから、補助貯蔵器を再供給することにより、数多くの異なる流体からなるドットを保持することができる。
【０１３４】
補助貯蔵器とデポジット装置を分離して、再供給およびデポジットするために互いに独立して移動できるようにする。これと同時に、補助貯蔵器とデポジット装置を接続して、または少なくとも協働させて、受容表面上を水平方向に移動させて、一連のデポジットを形成させる。補助貯蔵器は、例えばウェルの中に浸漬させたり、適当なピペットの下に配置するなどして、再供給位置に移動させる。一連のデポジットに必要な量以上の十分な流体を保持させることができる。また、相当に限定された蒸発領域に曝して、一連の複数デポジット動作の間に蒸発して、流体中の対象となる物質の濃度が、実質的に影響を受けないようにすることができる。
【０１３５】
上記のように、可動補助貯蔵器から得られた、所定の大きさを有する単一の流体滴を正確に形成し、正確な個別の位置に滴をデポジットし、さらに滴をデポジットするために補助貯蔵器に局部的に移動して戻るように構成されたデポジット装置について説明してきた。図７および図８の好適な実施形態において、ピンを直接に漬ける付随する補助貯蔵器とともに、図１で示す軸方向に往復運動するデポジットピンがこの目的のために用いられる。択一的には、局部的な補助貯蔵器に漬けるプローブが、ワイヤまたはピンと協調した回転運動または並進運動することにより、この動作を実現することができる。
【０１３６】
図９および図１０を参照すると、別の好適な可動補助貯蔵器は、環状リング１４であって、これは図示されたように、表面張力の効果により内部対向表面の間に流体を保持する。
【０１３７】
デポジットピン１２は、先端部に明瞭な形状を有するリム１２ｆを有し、その先端部の直径は所望する大きさのドットをデポジットするように選択される。デポジットピン１２は、補助貯蔵リング１４に対して軸に対して対称に取り付けられている。リング１４はピンの直径より相当に大きい内径ｄ１を有するので、流体空間ｆｓがピンとリングの内側表面との間に形成される。図９Ｅおよび図１０に示すように、リング１４の外径ｄ２は、中央供給プレート２１のウェル１９より小さい寸法を有するので、リングをウェルの中に浸漬させることができる。
【０１３８】
図９Ａ〜図９Ｄに示す一連のデポジット動作の間、リング１４は、支持ロッド１５により固定される一方、デポジットピン１２は、付随するドライバＤにより一連の垂直位置に移動する。開始位置において、ピン１２の端面１２ｄは、リング１４の内部表面の間に表面張力効果により保持された保持流体Ｒｆの上側表面よりも上方に引き上げられている。これを図９Ａで示す。（説明上、ピンは、保持流体Ｒｆの完全に上方に引き上げられているが、それは必ずしも必要なことではない。）
【０１３９】
図９と図９Ａを比較すると、ピン先端部が、保持流体Ｒｆの上側表面より上方から（図９Ａ）下側表面の下方に移動している（図９）。このとき、輪郭が明瞭なリムを有するピンの先端部は、保持流体Ｒｆから正確に計量された流体を滴Ｆとして採取する。この滴は、その後図９Ｃおよび図９Ｄで示す一連の動作でデポジットされる。
【０１４０】
図９Ｅの再供給位置において、環状リング１４を供給プレートのウェル内に浸漬するために、支持ロッド１５に用いて下方に移動させる一方、ピン１２は、図９Ｅに示すように、より高い位置で支持されるか、図９Ｌを参照して後述するように、再供給動作を支援するようにしてもよい。図９Ａで示すように、このリングは、付随ドライバＤ１により動かされている。
【０１４１】
図９Ｆおよび図９Ｇに示すように、洗浄乾燥ステーションにおいて、ピン１２の下側端面とリング１４’は垂直方向において位置合わせされている。（ここでは、リングは円筒状リングとして図示してある。）
【０１４２】
図９Ｆに示すように、洗浄ステーションにおいて、洗浄過程を支援するために、洗浄溶液のバット（タンク）の中で、リングとピンを同じ方向または反対方向に往復運動させる。洗浄ステーションは超音波浴槽であってもよい。
【０１４３】
図９Ｇに示す多目的ステーションは、デポジットピン１２と供給リング１４を受容する大きさを有する。このステーションは、ピンとリングに向かって、内側方向に向いた環状ノズル２００を有し、例えば、圧縮空気、加圧された液体またはエアゾールなどの流体源から円錐状の流れを、これらの部品に吹き付ける。これらの部品１２、１４に向かって通り過ぎた流れは、これら部品から取り除かれた物質を留めるための処分可能なフィルタ２０２を有するトラップへ向かう。このトラップは、真空ポンプと連動してもよい。図示するように、ノズル２００は、２次的な空気経路２０４と連動しており、必要ならば、２次的な空気の流れを与えることができる。
【０１４４】
図９Ｇに示す装置は、これらの部品からサンプル流体を取り除き、これら部品を洗浄して乾燥させる上で有用である。例えば、ピンとリングに対して、１つまたはそれ以上の流体の流れを同時にまたは連続的に、あるいは連続的または断続的に吹き付けて、残余サンプル流体をこれらの部品から取り除いて、トラップ内に収容する。その後、例えば液体ストリームや水性洗剤を含むエアゾールの洗浄流体などの液体または空気の流体ストリームをこれらの部品を吹き付ける。その後、ノズルからの純水ですすぐ（リンスする）。洗浄過程後、ノズルからの空気の流れは、導入空気フロー２０４から供給されて、ピンとリングを乾燥させる。このとき、空気の流れを加熱してもよい。
【０１４５】
ＰＣＲ（ポリメラーゼ連鎖反応）で得られた流体を限定的な流体量をデポジットする場合、９６ウェルプレートのウェルから供給することは、特別な問題が生じる。図９Ｈを参照すると、ウェル１００は、通常、２〜１０マイクロリットル（１マイクロリットル＝１立方ミリメートル）の極めて少量の流体を保持するように形成されている。これらのウェルは、通常、直径が約６ｍｍの上部と、直径約２ｍｍの半円形状の底部を有する円錐形状を有する。例えば、水などの粘性の低い液体は、こうしたウェル内に表面張力により保持されるので、プレートが反転したとき、重力に逆らって、１５マイクロリットルまでの体積が保持できる。表面張力、重力、慣性、および真空の総合的作用に起因して、補助貯蔵リングに供給するための少量の液体を狭小なウェルから抽出することが困難となる。
【０１４６】
こうしたウェルから液体を取り出すために、供給リング１４は、特別の流体保持力のある表面を設ける。１つの例が、内部表面に少なくとも１０００マイクロインチの表面粗さを形成することである。すると、リングの中央領域が実質的に優れた親水特性を有する。つまり、表面張力の効果により、流体に対する良好な「保持力（grip）」を与えることができる。こうして、ほぼ同程度の形状を有する貯蔵器から適正な容量の流体を採取することができる。リングの表面張力効果を補うために、またウェルの保持特性と競合するように、リングの外部表面にも同様に、流体保持力のある表面を形成してもよい。
【０１４７】
内部表面および外部表面の表面粗さは、サンドペーパで磨いたり、穴をあけたり、旋盤の上でツール（tool）やタップ（tap）を用いてこの部品を機械加工処理することにより形成することができる。リングは、同様に、結合剤を用いて焼結するか、鋳造して形成された適当なきめの粗い微粒子を用いて製造することもできる。同様に、例えば、カーバイド粒子により形成されたような耐久性のあるコーティングを用いることもできる。
【０１４８】
図９Ｉを参照すると、１つの好適な実施形態において、ステンレススチール製の円筒形リング１４Ａは、高さｈが０．０５インチで、内径が０．０６０インチで、外形Ｄが０．０８０インチである。ツールを用いて、１インチあたり８０本のねじ山を有する雌ねじを形成する。このとき、ねじ山の高さとピッチは０．０１２インチとなる。（内径は、用いられるデポジットピンＰの直径よりもはるかに大きくなる。）図９Ｈを参照すると、粗い表面を有する環状リングは、ＰＣＲプレートの円錐ウェルから、効率よく液体を採取することができる。内側リング表面により形成される好適な表面張力の効果が与えられるにもかかわらず、滑らかな表面により良好な洗浄が促進される。
【０１４９】
図９Ｉおよび図９Ｊに示してあるのは、例えば、０．１５インチの直径を有するステンレススチール線などの支持ロッド１５であって、この支持ロッドは、リングの外側とはんだ付けまたはスポット鎔接されている。この支持ロッドが、リングの動きを駆動し、不正確な位置合わせを是正して、狭小なウェルに入るように水平方向および軸方向の柔軟性を提供する。
【０１５０】
図９Ｋに示してあるのは、ピンとリング装置の１つの形態であって、リング１４とピン１２の流体接触表面は、１メートルあたり２５００ミリニュートンを超える表面エネルギを有し、好適には、タングステン層Ｔで形成された特定の物質２１により形成される。
【０１５１】
図９Ｋおよび図９Ｌは、リングに再供給する際のピンとリングの好適な関係を示す図である。リングがマルチウェルプレートの中の選択されたウェルＷの中に浸漬されたとき、ピンはリングの領域内に存在して、リングが流体を抽出するのを支援する。これらの表面張力特性は、効果的に協働して、ウェルの壁が有する、微少量の流体を抽出させないようにする表面張力効果に打ち勝つ。現在のところ好適な関係においては、ピンの底部先端表面が実質的にリングの下側表面と同じレベルにある。この装置をウェルＷから浸漬しているところから引き上げると、所望量の流体が引き上げられ、この流体は、図９Ｍに示すように、半月状の滴のように垂れ下がり、抽出リングにより保持される。このリングが保護し保持する量を用いて、図９Ｋの破線で示すように、ピンがリングを繰り返し通り抜けることにより、微小滴をデポジットすることができる。
【０１５２】
補助貯蔵リングは、例えば、軸方向に隣接した円形リング、多数巻螺旋形状、閉じたシリンダ、開口矩形リング、開口Ｕ字型構造など、多様な好適な形態を有することができる。こうして、「リング」または「環状リング」という文言は、任意の閉じた、または部分的に閉じた構造体を意味するものであって、隣接する、または対向する表面の間の表面張力の効果により、空間に所定量の液体を保持し、この空間において、デポジットピン１２のようなデポジット装置が動作することができる。リングの開口部または穴の大きさは、リングの断面形状を形成するワイヤまたはリボンの大きさなどと同様、流体の特性（例えば、粘性および表面張力）、貯蔵リングに蓄積される所定の流体から得られるデポジット数、およびリングを往復するデポジットピンの大きさに関連して選択される。
【０１５３】
上記のおよびその他の補助貯蔵器と協働するデポジットピンの大きさと形状は、用途に応じて変える。例えば、円形断面のピンの面積と同等な正方形、六角形、矩形または楕円など、さまざまな水平方向の断面を有するピンを利用することが可能できる。とりわけ、微小ドットを形成するために、ピンは、好適にも、段差的な水平方向断面を有していてもよい。例えばピンは、デポジット端部においてデポジット滴の大きさを決める微小断面を有し、構造的に安定させるために、主要本体部においてはより大きい断面を有する。図２Ｂに一例が示されている。
【０１５４】
局在的な可動供給源の広い態様を実現するために、上記以外に示した他の技術を用いることができる。例えば、大きい浸漬ロッドであって、大きな滴を保持する拡張されたデポジットピンは、ピンとともに移動し、回転などの適当な動きによりピンが巡回する。
【０１５５】
（Ｃ．動作装置）
上述の原理を実施するための、いくつかの好適で新規な動作装置について、以下説明する。
【０１５６】
（浸漬およびドット装置）
図１に示す可動貯蔵器ＭＷは、マルチウェルプレートを意味する多数セルを有する。適当なＸ，Ｙステージは、コンピュータ制御により、選択された流体再供給ウェルをピンの下に位置合わせして配置する。このピンは、降下するように制御され、貯蔵器流体（の浸液）に接触し、上昇して垂れ下がった状態にある滴の微小量を抽出する。
【０１５７】
ピンは十分に引き上げられると、例えば、コンピュータ制御された貯蔵器の側方の動きにより、ピンと貯蔵器が離れて、ピンは邪魔されることなく自由に降下することができて、微小流体滴を基板上のターゲット位置にデポジットすることができる。
【０１５８】
ピンとマルチウェル供給源が適宜搬送され、この処理が選択された流体のサンプルが必要な場所で反復されると、コンピュータ制御により、適正なウェル内にある流体が、所望の位置で再供給され、デポジットする適当なピンに位置合わせされる。ピンが前回の指令時とは異なる流体を含むウェルとは異なる流体を採取するように指令を受けた場合、コンピュータ制御により、ピンは、液体除去、洗浄、および乾燥ステーションに搬送され、汚染を防止する。
【０１５９】
効率的に動作させるためには、図２４に示すように、ウェルのパターン形状に合わせた間隔で、複数のピンを用いてもよい。こうして各ピンは、９６ウェルプレートまたは３８４ウェルプレートなどの生化学分野および分析業界で広く知られたマルチウェルプレート貯蔵器の個々のウェルの中に浸漬することができる。
【０１６０】
ピン装置およびその駆動機構は、良好な位置精度が求められるとき、高精度ＸＹ構台（gantry）の上に取り付けることが好ましい。マルチウェルプレートは、デポジット平面と平行な平面において２方向の自由度を有していてもよく、ピン装置の下方で別個の構造体の上において位置を記録することができる。なぜなら、比較的に大きいウェル、つまりプレートのための並進移動部の位置精度は、ピンの位置精度をよりも低いためである。ただし、図１１および図１１Ａの実施形態において、マルチピン装置ＰＡおよび可動マルチウェル貯蔵器ＭＷは、好適にも、同一のＸＹ構台を共有している。
【０１６１】
図１１のレイル支持部６０は、例えば、Ｙ座標においてリニアモータの動きを支持するように形成され、Ｘステージ６２の上に実装されている（モータは図示されていない）。図示されるように、Ｙ方向のリニアモータ＃１および＃２は、それぞれ、ピン装置ＰＡおよびマルチウェル貯蔵器ＭＷをＹ方向に駆動している。貯蔵器は、ピン装置に対して貯蔵器をＸ方向に移動させる別の駆動部により駆動される第２のリニアモータＸ２を有する。ピン装置は、同様に、制御しながら、別の駆動部Ｚにより駆動して、Ｚ方向に自由に移動できる。
【０１６２】
図１１に示すように、マルチウェル貯蔵器は、コンピュータ制御のもと、ピン装置からＹ方向に分離し、Ｚステージが駆動して、ピンにより基板Ｒの上にデポジットを形成させる。次に図１１Ａに示すように、コンピュータ制御によるＹ２およびＸ２の動きにより、マルチウェル貯蔵器が移動して、引き上げられたピンの下方に適正に位置合わせされる。Ｚ方向の動きにより、ピンＰＡは、再供給を受けるために、指定されたウェルの中に浸漬される。ピンは、再び引き上げられ、マルチウェル貯蔵器Ｙ２の動きをもって水平方向に外れるように移動し、基板ＲまたはＲ１上の新しいターゲットＸＹ位置に反復して配置される。この可動貯蔵器技術は、任意の構成を有するピンを用いて有用である。さらに、さまざまな図１、図２、および図３に関連して説明した構造体により実現可能な高密度ピン装置を用いて、あるいは、図４に関して説明した柔軟性のある実装部を用いて、ピンが支持部に対して高い精度で再現性よく空間上制御されるとき、リニアモータ指定装置が高い精度を有する利点を享受することができる。
【０１６３】
（複数のピンパターン形状）
図１２の好適な実施形態において、図１〜図４により好適に形成された２列の４つのピンＰは、９６ウェルプレートのウェル間隔と合致する９ｍｍの正方形格子で分割されている。これにより、図１３および図１４に示す手法に沿って、９６個のウェル、すなわち１度に８個のウェルを顕微鏡スライドのアレイに搬送することができる。また、各スライド上に約８×８ｍｍの大きさの分離されたブロックからなる構成を形成して、全体で約１８ｍｍ×３６ｍｍの面積をカバーすることができる。８ブロックの各々において、１回のＺ方向駆動により、ピンは同時にデポジットする。このヘッドは、同じ流体を用いて一連のスライドの各々に対して動作を反復し、異なるウェルから流体を得る前に洗浄される。同じピンを用いて、同じ流体を数多くの所定ブロック内の指定された位置にデポジットするか、８分割ブロックを含む数多くのスライドからなるブロックに対応して、デポジットすることができる。図１４に示す一連の動作を行うことにより、すべてのウェルが各ピンにより巡回される。図１５およびその拡大図である図１５Ｂは、この装置と方法を用いて、単一のスライド上に形成されたアレイを示す。（実際のドットの大きさは、図示したものよりもずっと小さく、ドットの密度は、ずっと高く、例えば単一のスライド上に５０，０００から１００，０００個のドットを含む。）
【０１６４】
同様の好適な実施形態において、図１６、図１７、図１８、図１９、および図１９Ｂに示すように、１２ピンの格子が２列で各列６ピン有する。図１６に示すように、各ピンは、同様に、９ｍｍ四方の格子パターン形状を有し、９６ウェルプレートのウェルの間隔と合致している。この装置は、１度に１２ウェル、９６ウェルのすべてから流体を搬送することができ、全体の面積が約１８×５４ｍｍの１２分割ブロックの構成物を制御する。図１９は、こうしたアレイを示す。
【０１６５】
いずれの装置を用いた場合でも、この方法はコンピュータ制御しながら実施され、例えば、ドット間と同程度の間隔を有する２０ミクロン〜３７５ミクロン直径のドットのアレイなど、マルチウェルプレートに形成されるアレイよりも、はるかにより高密度に配置された流体ドットのアレイを形成することができる。
【０１６６】
ピンが９ｍｍの中心に配置されたとき、正方形アレイ自体が基板の表面全体において９ｍｍ中心上に配置される。図１４で示す手順で（１〜２列およびＡ行〜Ｈ行）抽出することにより、反復してサンプリングすることにより、すべてのウェルが巡回される。これらのピンは、流体を変える毎に、コンピュータ制御のもと、洗浄ステーション（図示せず）に搬送される。マルチウェルプレートの含有物、またはプレート数は、マルチウェルプレート中の低密度のウェル分布から高密度アレイに分配することができる。
【０１６７】
同様に、図１６〜図１９を参照すると、同様に９ｍｍピン間隔を用いて、２列６ピンを用いると、コンピュータ制御により、ウェルからの一連の抽出は、すべてのウェルからサンプルを採取して、顕微鏡スライドまたは図１９に示すアレイおよびスライド寸法を有する他の基板上に独特に配分する。
【０１６８】
こうしたグループをなすピンの利点は、１つまたはそれ以上の数多くの顕微鏡スライドまたは基板の上に同時に数多くのデポジットされたドットを形成できる点にある。これにより、高密度アレイを形成するための時間と費用を実質的に削減することができる。
【０１６９】
９ｍｍ四方格子上のピンを集合させることにより、例えば３８４ウェル、８６４ウェル、または１５３６ウェルといった９ｍｍ四方格子の整数倍の四方格子上に形成されたウェル間隔を有するプレートから流体を搬送することができる。コンピュータ制御された構台装置により、ピンに対して選択されたウェルを正確に配置することができ、受容基板に対してピンを正確に配置することができる。
【０１７０】
明らかに、同じ論理を用いると、ピンをより高密度な構成を有するように配置して、プレートをより小さいウェル間隔に適合させることができる。
【０１７１】
アレイが高密度になればなるほど、各微小ドットの配置に対する位置公差は厳格となる。図１〜図４で説明した、水平方向に規制されたデポジットピンを有するシステムは、特に、正確で密度の高いアレイを反復して形成することができる。これらの原則を用いると、先端部に流体を供給するモードは、その他の動作パラメータと同様に、流体の特性を考慮して選択することができる。リング供給モードについて、以下説明する。
【０１７２】
（ピン−リング装置）
図１〜図４に示すピン装置は、単純な軸方向リング並進機構とともに用いることができる。かなり大きなウェルから流体を抽出する必要がある場合、複数のピンおよび供給リングからなる十分に小型の装置が利用できる。図２０は、支持部または駆動機構を省略して、ピンとリングの関係を示す図である。図２０で示すのは、供給リング１４、ピン先端部１２ｄ、支持ロッド部１５からリング１４まで延びるリング本体部３５、ピンシャフト１２ｂ、ピン本体部１２ａの上に形成されたピン台座１３、およびピンガイド１２ｇである。図２０Ａは、一連のこのような４つのピン−リング装置を示す。明らかに、このようにして任意の数の装置を組み合わせることができる。図２１は、４つのピン−リング装置を示し、図２によるピン保持構造体を実現することができる。さらに、図２１は、リング保持構造体および相対的垂直運動させることのできる各線形ステップモータＺ１，Ｚ２を示している。受容表面に対してデポジットするためのＺ１の動きは、好適には、余分な移動を含むものであって、デポジットピンの弾力柔軟度により、表面高さの所定の範囲に亙って、受容表面に対して適正にデポジットすることができる。Ｘ方向およびＹ方向の動きに対する各支持線形ガイドレールは、完全なアレイ形成機構を構成する。図２２は、図２１のＹステージのリニアモータに取り付けられたデザインの実際の市販品を示す。
【０１７３】
図２３、図２３Ａ、および図２３Ｂを参照すると、この場合のデポジットピンは、平行四辺形のカンチレバ構造体の上に取り付けられている。距離を隔てた設けた平坦撓み部６０は、介在するブロック６２を実装プレート６４と６７で挟むことにより、実装ブロック６２上に並行に取り付けられている。これらの撓み部は、カンチレバ式に中間ブロック６６まで延びている。中間ブロックは、図２３Ｂに示すように、主要移動体７６に付随するプッシャロッド６８と係合するように構成されている。中間ブロック６６からカンチレバ式にさらに延びているのは、並行な撓み部７０と７２で、これらは切り抜き７４を有し、撓み部を繊細で従順性（弾力柔軟性）を高くする。繊細な撓み部７０と７２の端部７９には、デポジットピン１２を設ける。図２３は、この構造体に力を加えないときの状態を示し、撓み部は水平で、ピンの重量は、実装構造体により支持されている。図２３Ａにおいて、矢印６８の方向に加えられた力は、図示するように、硬い撓み部６０の歪みを形成し、ブロック６６が受容表面に対して並行であり続け、デポジットピン１２は、受容表面に対して垂直９１のままである。（つまり、比較的に硬い撓み部６０と関連する駆動部は、正確なステージの役割を果たす。）
【０１７４】
この撓み部は、デュポン社からケブラ（登録商標出願）として市販されているポリイミド樹脂などの人工樹脂で形成してもよいし、銅ベリリウム合金またはステンレススチールのような薄いばね金属をエッチングして形成してもよい。好適にも、硬い撓み部と虚弱な撓み部は、単一シートのばね台（spring stock）から連続的に形成される。
【０１７５】
図２３において、プッシャ６８は、図示しないリードスクリュを介して回転モータ７６により駆動されている。支持ロッド１５上に取り付けられた補助貯蔵リング１４は、同様にリードスクリュを介して、リングを垂直方向に動かすモータ８２により駆動されている。
【０１７６】
モータは、デポジット動作を行うごとに、ホームポジションから所定の距離だけ、あるいは位置センサのレベルに達して停止させるまで、プッシャ６８を進行させることができる。顕微鏡スライドまたは他の基板表面Ｒは、例えば製造時の許容公差により、若干異なる高さを有することがある。プッシャ６８の停止位置は、デポジットピン１２が顕微鏡スライドまたは他の対象物の厚さの許容範囲内にある最低の厚みに達して接触するような位置を十分に超える。顕微鏡スライドまたは他の基板が通常よりも相当に厚い場合、繊細な撓み部７０または７２（あるいは、上述以外の装置）が有する柔軟性により、正確にドットを形成し、ピンの先端部を保護するためには、デポジット力は、依然として所定値よりも超えることはなく、この所定値は通常１グラム未満で、好適には０．５グラム未満である。
【０１７７】
図２４は、個別に動作できるデポジットピンからなるデポジットクラスタを示す。このデポジットクラスタは、図１〜３および図４で示した数多くのデポジット装置により形成される。クラスタ２８は、図示しないが、個別の駆動部ＤおよびＤ’を有する。このデポジット装置は、流体を採取してデポジットするために、各ピンおよび各リングに対して、それぞれ独立したＺ軸方向の駆動部を有し、動作する部品の位置を制御電気回路に示すためのセンサを有する。また、各デポジットピン１２および各リング１４に対して、それぞれホームセンサを有する。これらの装置は、共通の制御電気回路により位置合わせして、Ｘの動き、またはＸ，Ｙの動きを機械的に協働する。（ステージがＹ方向に受容基板を進める場合は、Ｘ方向にだけ移動させる。）
【０１７８】
クラスタ２８を選択されたＸ位置まで移動させて、または選択されたＸ，Ｙ位置まで移動させるとき、コンピュータ制御しながら数多くの異なる動作を行うことができ、任意の順序で流体を採取して、任意の所望する位置にデポジットすることができる。従来式の微小滴定プレートを用いた場合、こうしたクラスタは、特に多目的に利用できる道具となる。
【０１７９】
このような実施形態において、アリクォート支持リング１４とピン１２は、クラスタ内にあって、中心から中心までの距離が９ｍｍで離間し、あるいは９６ウェルプレートが動作しやすいように複数構成されている。（このとき、ウェルは中心間距離が９ｍｍで、１２個の孔を８列有する。）より密度の高いプレートも同様にこの構成を用いることができて、同じ形態であるが、より多くの孔１６×２４のとき、孔と孔の間の距離は９／２ｍｍとなって、３８４個のウェルを形成する。図２４の装置は、既存の自動化された９６ウェルプレート処理装置を用いて、より高い密度を有するプレートを利用することができる。上述の装置は、任意の装置と同様、両方のタイプのプレートを用いることができる。
【０１８０】
独立して動作できるデポジットピンのクラスタが有する汎用性が、次の具体例により示されている。
【０１８１】
例えば、中心間同士の距離が９ｍｍであるように設定された補助貯蔵リングをピンとともにＸ，Ｙ方向にインデックス（索引）を付し、上述した装置と同様に複数のリングを同時に下方に移動（降下）させ、一般的な９６−または３８４−ウェルプレートのうちの４つのウェルから供給または再供給することができる。
【０１８２】
適正にインデックスを付した後、４つのピンを同時に下方に移動させ、供給プレートと同様に４箇所でデポジットを行う。
【０１８３】
択一的には、再供給する際、他のすべてのウェルが受動的な状態で維持されている間、１つの補助貯蔵リングが選択されたウェルからサンプルを採取するために降下する。すると、クラスタは、次のリングが同じウェルまたは別の選択されたウェルに達するまで移動し、その時点でアリクォートを採取するために降下する。こうして、すべてのリングは、同じウェルから同じ流体を、または選択されたウェルから別の流体を抽出することができる。
【０１８４】
クラスタ２８は、連続したピンの採取またはデポジット動作の間、Ｘ，Ｙ方向に移動することができる。その結果、すべてのピンは、１つのスライドにすべて同じ流体または異なる流体を単一のスライド上の選択可能なアドレスにデポジットすることができる。または、各ピンは、異なるスライドの異なる位置にデポジットすることができる。あるいは、２つのピンが１つのスライド、または２つの異なるスライドにデポジットすることができる。さらにまた、１つのデポジットの上に別のデポジットを行うことができる。
【０１８５】
オペレータは、１つまたはそれ以上の装置を動作させないようにすることもできる。
【０１８６】
このように、図１〜３および図４に示す装置による独立して動作可能なデポジットピンとリングを高密度に集合させることにより、高速で、汎用性のある動作を実現することができる。
【０１８７】
図２４Ａ、図２４Ｂ、および図２４Ｄは、撓み部に実装されたピンにより実現される、複数のピンヘッドを設けて、１つのアクチュエータにより同時に駆動されるすべてのアリクォート支持部の動作を示している。線形ステージ技術を用いると、Ｘ方向およびＹ方向デポジット９ｍｍ間隔を有する２列４ピン１２は、すべてフレーム１２０上に取り付けられており、フレーム１２０は、単一モータＤによりレール１６０に沿って往復運動する。これにより、８本のピンを同時に移動させることができる。同様に、２列４個の協働リング１４は、同じ間隔でリング支持部１２４の上に取り付けられている。単一の支持部１２４は、キャリッジ１２６を介して１つのモータＤ１により駆動される。図示された実施形態では、両方の実施形態は同じレイル１６０を共有している。図２４Ｃに示すドットのパターンは、図２４Ａおよび図２４Ｄで示すモータＤの単一の動作により形成されている。
【０１８８】
（アレイヤ）
アレイヤ（arrayer）の構台について、以下詳述するが、１つのデポジットヘッド、および独立して動作できる単一のピンヘッドか、上述の多様なデザインの複数のピンヘッドを備えることができる。これらを組み合わせることも可能である。
【０１８９】
図２５は、顕微鏡スライド、または繊細で柔らかい基板、あるいは硬い支持体に支持された多孔性のメンブレンを準備するためのスライド準備装置の斜視図である。その機能は、本発明の微小ドット技術を用いて、数多くの同じ基板の上に異なる組成からなる流体ドットからなる高密度アレイを迅速にデポジットすることである。図２５を参照すると、可動流体貯蔵装置の中央流体供給源として機能する９６ウェルプレート３１が４つある。
【０１９０】
水平方向のベースプレート２００は、動作部品を固定するための支持構造体である。ベースプレート２００に固定されているのは、垂直補助プレート２１０、２２０、２３０および２４０である。これらのプレートに固定されてあるのは、平行平面内において、Ｘ方向およびＹ方向に移動させるためのＸ軸装置２６０およびＹ軸装置２７０からなる２軸動作装置２５０である。
【０１９１】
Ｘ軸装置２６０およびＹ軸装置２７０のガイドレールは、ベースプレート２００に対して平行で、ベースプレート２００に平行な面でＸ方向およびＹ方向に移動するデポジットクラスタ２８を搬送することができる。
【０１９２】
Ｘ軸装置２６０は、日本にあるアデプト（Adept）から市販されている装置である。このＸ軸装置２６０は、デジタル技術およびアナログ技術を採用し、ドライブスクリュおよびシャフト位置エンコーダを有する回転サーボモータにより制御しながら高速移動させる。Ｘ軸装置２６０により搬送されるのは、直交して配置されるＹ軸装置であって、Ｘ軸装置と同様に動作する、より小さいタイプの装置である。
【０１９３】
デポジットクラスタ２８は、図２４に示すように、実装構造体の上に一体化される４つのデポジット機構からなる。これらの装置は、図示した多様な構造体に基づいて構成してもよい。
【０１９４】
一連のデポジット動作が完了した後、ＸターミナルおよびＹターミナルは、デポジット部品を洗浄ステーションへ搬送する。いくつかの実施形態では、流体を得るウェルまたは他の貯蔵器の上方を通過し、空気の突風を浴びて、余分な流体を吹き飛ばしてもよいし、余剰の流体を取り除くために、下方方向へ移動するのを突然止めることにより、不要な流体を取り除くことができる。
【０１９５】
図２５の装置において、クラスタ２８のピンおよびリングのアレイは、図９Ｆに示すように、洗浄するための水の入った貯蔵器内に固定してもよい。この貯蔵器は、水のレベルを有し、ポンプが常に水を補填する。ピンやリングから流体を除去して乾燥することに対して、拭き取り紙またはセルローススポンジを配置してもよい。
【０１９６】
択一的には、図９Ｇによる流体除去ステーションを用いて、空気の流れによって、ピンおよびリングから残余流体を取り除いてもよい。こうして空気の突風により残渣流体が一掃された４ピンアレイは、次に、加熱された空気により、洗浄され、液体またはエアゾールの流れによりリンスされ、そして乾燥される。
【０１９７】
図２６は、このマシンの制御装置を示し、Ｘ軸およびＹ軸の動作、ならびにＸ軸およびＹ軸のホーム中心に関する制御を示す。リードスクリュが駆動している支持部の実際の位置が検出されて、搬送部をホーム位置に移動させ、その後カウンタを初期化して、搬送部をＸ軸およびＹ軸方向に沿って正確に配置することができる。たくさんのうちの１つのデポジッションヘッドが、概略、図示されている。上述のように、各デポジッションヘッドは、ピン駆動モータとリング駆動モータの２つのモータを有し、これらのモータは、制御コンピュータにより指令を受けている。
【０１９８】
繊細で柔らかいメンブレンを支持するスライド状の硬い部材を含む顕微鏡スライドの上にデポジットするために、これらのスライドをテーブルに固定するか、既知の位置に配置されたガイドと位置合わせされる。マシンのベースプレート上の部材がスライドを所定の配向方向に特定する。
【０１９９】
図２５Ａの実施形態において、顕微鏡スライドＭＳがスライド支持部３０の上に支持されている。このスライド支持部は、一端部が止め具３１と係合し、他端部がばねワイヤ３２と係合する。ワイヤ３２は、支持部３０の底面上に設けた支持スクリュから、支持部に設けた孔３３を介して延びており、図面上右方向にばね付勢されて、スライドＭＳと係合して、止め具３１に対して力を与える。ばね圧力は、マシンが動作中に振動を生じても、スライドＭＳをまっすぐに正確な位置にしっかりと固定すれば十分である。
【０２００】
このスライドは、７つのスライドの補助グループとして、並んで取り付けられ、薄くて長手方向の端部は互いに係合している。７番目のスライドの位置は、それより前の６つのスライドの公差にのみ依存している。こうした補助グループを設けることにより、確実にアレイを正確に配置することができる。コンピュータは、これらスライドに「話す」ことができ、情報をバーコードとして記録することができる。バーコードリーダが、Ｙ軸のサーボ機構２７０の上で、デポジット手段２８に隣接して取りつけられている。一連のシーケンスは、デポジット装置の複数のリングを充填することから始まり、図２７の制御手順に従って実施される。
【０２０１】
大量の生成物を使用する場合、図１〜２７を用いて説明したこの装置は、好適にも、迅速に動作し、水平方向に規制された、軸方向に弾力柔軟性を有するピンを用いる。このとき、デポジット周期が０．１秒未満で、衝撃と振動は最小限に抑えられ、この装置の固有振動数が１０Ｈｚより大きく、しばしば好適にも２０Ｈｚならば、ピンの接触圧力は、１．０グラム未満で、好適には０．５グラムで、多くの場合好適にも約０．３グラムであって、しかもこの装置は振動減衰装置を採用している。
【０２０２】
基板に対するピンの圧力が小さいので、ピン動作を速くしても、流体がはねたり、分離するような状態を回避することができ、その結果、繊細または壊れやすい受容表面上にデポジットする場合であっても、常に、均一な形状の流体ドットを正確に制御された位置にデポジットすることができる。
【０２０３】
デポジットピンのデポジット動作において、基板の上に滴を接触させた後に、ピンを引き上げることにより、静止した流体の慣性と表面張力の組み合わされた効果（さらに、通常好適であるが、下方向にデポジットする場合は重力の効果を加えて）が流体の滴に作用して、持ち上げられたピンによる表面張力を克服する。流体の滴が基板表面にデポジットされ、ピンが実質的に流体を有さないとき、自由に補充して、迅速に次の目的地に移動する。
【０２０４】
流体の体積が、標準的な大きさを有するピンおよび標準的に条件により正確に特定され、ピンの配置位置が正確に制御されるので、一定の大きさのスポット、ドット、および微小ドット、ならびに正確な配置位置が実現されて、観測結果の定量化を改善することができる。
【０２０５】
（Ｄ．新規な使用方法の具体例）
上述の装置は、ＤＮＡの本質的な断片部分や事前に合成された任意の長さを有するオリゴヌクレオチドを用いる場合、有用である。化学物質、光学反応化学物質と同様、任意の非光学反応化学物質にまったく制限はない。同様に、ＤＮＡの存在の有無を検出するために有用な染料を、生化学的な物質を事前にデポジットされたスポットまたは微小スポットの記録された位置に、選択的にデポジットする。逆も同様にできる。
【０２０６】
高速でスポットされる数多くの生化学的材料の中には、例えば、ＤＮＡ、ＲＮＡ、またはＰＮＡ（ペプチド核酸）のようなハイブリッド、ＰＣＲ（ポリメラーゼ連鎖反応）製品、クローンＤＮＡ、および抽出ゲノムＲＮＡやＤＮＡなどの断片的な核酸、およびその人工的な類似物が挙げられる。
【０２０７】
同様に挙げられるものとして、制限酵素の断片、完全または一部の長さを有するｃＤＮＡ、ｍＲＮＡ、または同様の変形物、たんぱく質受容体、酵素、抗体、ペプチド、たんぱく質消化物などのたんぱく質、炭素水和物、医薬品、バクテリア、ウィールス、イースト、菌、ＰＰＬＯなどの微生物、細胞および組織の断片、脂質、脂肪たんぱく質、プラスチック樹脂ポリマ、懸濁役中の微小粒子固体などがある。
【０２０８】
デポジット装置は、デポジット触媒、試薬、または上述のデポジット物質や後述するタイプの任意の材料を含むカプセル物質に対しても用いてもよい。こうして、アレイサイト、またはこれらの物質が後に反応または成長させるための微小ウェルを形成することができる。あるいは、極めて有害で有毒な基板である場合には、デポジットまたは反応場所を中和または洗浄することができる。
【０２０９】
このアレイヤの最も基本的な使用は、一般に、顕微鏡スライドまたはスライド状支持部のような多孔性または硬い平坦な表面上に核酸の高密度アレイを形成することである。微小多孔性メンブレンやゲル、ガラス製スリップ、プラスチック表面、微小プレートのウェルなどの壊れやすい、または柔らかい表面の上、あるいは、先に被膜するか派生させたものである任意の基板の上のデポジットは、受容表面として機能する。
【０２１０】
特に、メンブレンとゲルは、これまで数多くの重要な歴史的データが得られた分野においては馴染みのある物質を用いると、自動化装置を用いて高密度に分析が可能であるので望ましい。ラス製のカバースリットが顕微鏡スライドよりも薄く、巧みに操作しやすく、さらに透過型顕微鏡を用いた光ビームが透過するときに、スリップがより薄く、光の吸収性がより少ないために、より良好な光を得ることができるので、壊れやすいガラス製のカバースリットの上にデポジットすることは好ましい。この装置によれば、表面を傷つけたり、変形させることなく、プラスチック表面上にデポジットすることができる。
【０２１１】
この表面が変形しないようにすることは重要なことであり、柔軟性を有する小さい接触力で用いることにより実現される。表面が変形しない場合、デポジットが焦点表面に維持されるので、焦点を有する顕微鏡を用いて観察しやすくする。
【０２１２】
微小プレートのウェル内で使用することは重要なことである。上述のように、デポジットピンの水平方向の寸法が狭く、長さは長いので、ウェルの底部上の複数の位置または他の流体汚染領域にデポジットすることができる。例えば、このアレイヤを用いて、ウェルの底部上の既知の位置にある数多くのスポットをデポジットして、分析物流体に対する臨床的検査を行うことができる。例えば、ウェルの底部にあるアレイのスポットの各々は、既知のヌクレオチドプローブであってもよい。このウェルに加えられたサンプルは、サンプルに適合するスポットと雑種を形成する。例えば、各ウェルの底部の既知の場所にプリントされた何百もの異なるプローブに関するバインデング（binding）を検出するために、９６ウェルプレートを用いて、診断的な検査を行うことができる。異なる患者のサンプルを各ウェルに配置して、単一のマルチプレートを用いて１度に複数の評価を行うことができる。
【０２１３】
この装置の別の利用方法は、有用な速度で、統計的に測定される分子の数または単位を単一のウェルでデポジットできることである。適正な大きさのピンとともに、供給リングに適正な濃度の懸濁液を用い、ウェル毎にピンを押し下げて、統計的に、所望する量をデポジットすることができる。その後、デポジットされたものと、ウェル内の栄養分、実験的な薬品などと反応させることができる。
【０２１４】
挿入の概念は、懸濁液中の粒子をデポジットすることを含み、セルに対する粒子の効果を調査するために、例えば、細胞をデポジットし、その後、アスベストの粒子や沈殿したシリカまたは他の目的物をデポジットすることを含む。専用のアリクォート貯蔵器およびデポジットピンを用いて、効率的な速度で実施できる安価で極めて正確な微小制御実験の具体例がいくつかある。
【０２１５】
多くの重要な場合、デポジットされたスポットの流体や液体キャリアが蒸発して、キャリアにより搬送された生化学的または他の物質が乾燥した物質の粘性または結合特性により所定位置に止まる。その他の場合、スポット技術は、流体をデポジットし、流体状態で維持される場合に有用で、例えば、上述したように、細胞が生存し続けるように流体栄養媒体を含むウェルの中にデポジットすることができる。
【０２１６】
多くの場合、どこにデポジットして、共通の試薬をどの位置にデポジットして放置したかを認識しておくことは重要なことである。手順は、デポジットに紫外線照射を与えて物質を架橋するか、例えばＤＮＡとデポジットされた表面の間を架橋処理して派生した表面を用いることにより、所定位置に例えばＤＮＡを含むデポジットすることである。１つの例は、Ｅ．Ｓ．アミノシランでシラネート表面被膜されたもので、イオン性または静電気性の力によりＤＮＡなどの負電気を帯びたデポジットと結合する正電気を帯びた表面を形成する。
【０２１７】
生物化学研究および臨床試験に加えて、この装置は、化学実験室においても利用できる。例えば水質などの流体の分析、重合反応などの樹脂に対する実験、およびサンプルを少しずつ変化させたホストから最適な比と最適な選択の決定など、多くの異なる変形物に対する微少量の実験に用いることができる。微小な量、異なる経時順序、反応に関する異なる動力学、および異なる混合物に対して広い有用性の範囲を有する。これらすべての場合において、この装置は、少量の液体、液体中の懸濁する固体、懸濁液中のセルを、制御した状態で、正確に処理することができる。
【０２１８】
上述の装置を用いてデポジットすることにより、迅速でかつ正確に観察でき、所定の実験に対する試行回数を減らし、データの統計的意義を改善することができる。費用が削減され、実験手続が改善される。これまで不定であった精度であったものが、結果の定量化は、一定の正確なドット形成により実現される。その結果、基板におけるデポジットスポットおよび直近の背景表面の蛍光発光を検出するとき、検出における信号ノイズ比が改善される。
【０２１９】
このシステムは、デポジット装置の特性および動作と制御が効率的である技術に起因して多くの状況において有用である。以下に、さらなる具体例を示す。
【０２２０】
このシステムを用いて、アルコール系流体などの高揮発性を有する流体のドットをガラス製またはシリコン製の硬い基板やメンブレンなどの上にデポジットすることができる。デポジット位置までデポジットピンに付随して移動する比較的に大きい局在的な可動式貯蔵器リングは、蒸発を制限する比較的に小さい露出された表面−質量比を有する。微小な体積のサンプルをピンの先端部上からほんの短い局所的な距離を移動させるので、流体のドットがデポジットされるまでの間に、微小サンプルが蒸発状態に曝されることを制限する。
【０２２１】
必要ならば、動作デポジット機構は、さらに蒸発により損失しないように、デポジット機構とともにＸ，Ｙ方向に移動するヘッドに取り付けた保護シールドにより、風損（ウィンデージ）から封止してもよい。別の場合では、高湿度、または揮発性物質の高い分圧など、この装置が動作する環境を制御して、蒸発損失量を制御し、あるいは温度および湿度を制御して、特定の制御された条件下において、デポジット処理またはシステム動作自体を最適化する。
【０２２２】
化学反応または成長段階を評価するための経時的なサンプリングは、研究員が随行していなくても自動的に実施することができる。１つの例では、ピンが貫通して動作する流体支持リングは、反応貯蔵器として用いることができ、この反応貯蔵器から、継続的に反応するサンプルが付随するデポジットピンにより抽出されて、後の検査のためにデポジットされる。
【０２２３】
この実施例または他の実施例において、所定の時間間隔において、別のピンがリングを介して、基板上の各位置において生じる反応や成長を止める阻止剤をデポジットすることもできる。同一反応アレイの異なる位置において、一定の時間間隔でこれを行うことで、多様な時間における一連の状態を保存して、後に検査することができる。
【０２２４】
このデポジットシステムを利用する別の方法において、局在的な貯蔵器リングに腐食液を備える。デポジットピンは、反応基板表面上において所望するアレイ状に微小で正確なスポットまたは微小スポットを配分する。例えば、流体を含む微小ウェルを形成するために、この装置は、シリコン基板に微小ドットアレイ状に塩酸などの酸をデポジットする。エッチング反応が生じ、基板が中和されて、洗浄されると、微小ウェルの対応するウェルが形成される。これらは、エッチング処理の結果、好適な親水性の流体保持表面を有することができる。この後に、同じデポジットシステムを用いて、１つまたはそれ以上の物質を各ウェルに正確に配列して、所望する反応処理または成長処理に利用する。こうして準備されたプレートは、広範囲走査顕微鏡に搬送され、観察される。
【０２２５】
９６ウェルプレートが異なるカラーインクまたは染料を有する場合、上述のアレイヤを用いて、織物、紙などを色印刷することができる。色付けされた領域は、構台の届く範囲全体にわたり、カラー供給源および洗浄ステーションよりも小さい。
【０２２６】
アレイヤを用いて、例えばプロトタイプの基板や限定数量の基板など、単一のプリント回路基板を形成することができる。このとき、このマシンは、うわぐすりやフォトレジスト、またはその他の保護コーティング材料をデポジットするために用い、酸エッチングから保護する必要のある銅クラッドやその他の物質を形成する。同様に、アレイヤを用いて、光活性を有する物質をデポジットして、リソグラフィ技術を用いて「生化学的な」デポジットを形成することができる。
【０２２７】
（Ｅ．アレイすることおよび顕微鏡評価の組み合わせ）
上述の任意の実施形態のアレイヤ、動作ステップ、または動作のアレイ生成物と、特に、ユーザが用いることができる広範囲走査顕微鏡などの走査顕微鏡を組み合わせることは、本発明の重要な特徴である。ここで説明した原理は、上述の広い範囲の流体および状況において、非常に高い密度で形成される広い面積を有するアレイを実現可能とする。一方、広範囲走査顕微鏡は、同程度に正確で安価に、こうした広いアレイを用いて得られる結果を読取ることができる。この装置と方法の広範囲で正確な特性は、組み合わせて、微小ドット反応および分析において、権能を付与し、意義の深い発展を実現するように補足する。生物工学で用いられるような蛍光標識された成分や、蛍光標識された汚染物のアレイを用い、蛍光励起する適当な広範囲走査顕微鏡を用いて読取ることは、特に有用である。
【０２２８】
（Ｆ．有用な追加的特徴）
１つの実施形態において、コンピュータ制御のもとで搬送できるデポジット機構に誘導型ヒータを設ける。この場合、貯蔵器リングおよびデポジットピンの材料、または少なくともこれら装置の表面は、誘導型ヒータの交流磁場により誘導される電流を通すことができる電気的に導電性のある材料で形成される。コンピュータ制御のもと、貯蔵器リングとピンは、ヒータ内で一瞬放置され、誘導電流の抵抗的損失（Ｉ２Ｒ）に基づいて加熱され、例えば貯蔵器リングとデポジットピンを滅菌し、あるいは装置により保持されている流体材料の対生物作用を制止する。
【０２２９】
別の例において、加熱することが好ましい反応物流体を保持する貯蔵器リングを、誘導型ヒータに導入することができる。流体が熱伝導体により、誘導的に加熱されたリングからの流体に加熱される。こうした加熱処理は、後続のデポジットのために、流体内で反応させ始めるのに用いることができる。
【０２３０】
その他の装置は、比較的大量の流体のための搬送装置を有している。例えば、対象となる流体のスポットをデポジットした後に、微小ウェルに栄養素や、希釈液、反応物を微小ウェルに充填する。コンピュータ制御されたピペットのような搬送装置を、ヘッドおよびデポジットピンを含むＸ−Ｙ支持体の上に取り付けることができる。コンピュータ制御のもとで機能させて、より大量の流体を反応位置に搬送する。この反応場所において、流体のドットは、先にデポジットされていて、全体の実験は自動化されている。このようにして導入された流体は、例えば、溶剤、腐食剤、殺菌剤、洗浄剤、カプセル被膜材料である。
【０２３１】
別の方法において、デポジットピンにより、異なる場所に異なる量の選択された位置に反応剤をデポジットすることができる。効率よく滴定し、反応物の異なる濃度において、反応を観察することができる。こうして、第１の反応位置（例えば、平坦な領域または橋貯蔵器のウェル）において、デポジットピンは反応物の正確な滴をデポジットでき、第２の位置において、反応物の正確に同一の滴を観察でき、第３の位置において、反応物の正確に同一の滴を観察できる。こうして、事前にその位置に塗布しておいた別の物質、または後に塗布される別の物質に対する反応物の反応を、所望濃度の範囲全般に亙って、評価できる。
【０２３２】
こうした装置は、特に、研究用実験にうまく適合するが、産業上のプロセス制御においても適用される。
【０２３３】
スポット装置の変形物は、現代の削り器に類似したような、異なる特性を有する一連の交換可能なヘッドを備える。コンピュータ制御のもとに、この装置のＸ−Ｙ支持体は、基板に亙ってその機能を実行する所望のヘッドを選択するように移動する。この場合、選択された装置は、補助貯蔵器リングデポジットあってもよく、一連のこうしたリングから、内径が異なっていたり、ワイヤやリボンの大きさが異なっていたり、漬けるウェルが異なっていたりする。これらは、流体粘性の異なる場合、または異なる大きさを有するデポジットピンを用いた場合の多様な容量を搬送することができる。同様に、デポジットピンの異なる大きさは、一連のピンから選択することができ、デポジットすべきスポットの大きさを変えることができる。ヘッドも選択することができて、実験を準備したり、実施したり、標準のまたは診断的なウェルプレートおよびスライドを形成することができる。
【０２３４】
いくつかの場合において、完全なコンピュータ制御を用いて、これらの装置を選別して使用することにより、技術者が随行しなくても、複数の仕事をこなす実験を自動的に行うことができる。
【０２３５】
標準的な顕微鏡スライド、多孔性のまたは柔らかいメンブレン、およびその他の繊細な基板の上に流体のスポットをデポジットすることに加えて、相当に広い領域の基板の上に、またはその他の基板の上に、さらに、特定の形状を有する、例えば、この装置自体で形成される微小キャビティを有する基板の上に、上述の技術のうちの１つを用いて、スポットをデポジットすることができる。
基板に事前形成された微小キャビティを用いて搬送されされたプレートが、用いられて、この装置の自動制御により流体のデポジットが位置合わせされる。あるいは、このユニットの制御装置が、好適にも微小ウェルのアレイの位置とパターン形状を「読取る」視覚装置を有しており、自動的に、または、オペレータの制御に基づいて、ウェル内の流体のドットを正確にデポジットすることができる。
【０２３６】
（Ｆ．結論）
これまでさまざまに説明してきたように、流体デポジット位置の大面積のアレイを用いて、同じ濃度または反応、あるいは正確に変化させた濃度または反応を正確に、再現性よく、実施し、制御することができる。これにより、生体工学、生命工学、化学、汚染検出、プロセス制御の分野、および産業界一般において、反応または成長プロセスを促進するように試験を実施することができる。
【０２３７】
こうして、生体工学研究のための顕微鏡スライドまたはメンブレンを安価に形成するための装置のほか、研究および産業を発展させる、汎用性のある広く変化する一連の装置、機器、方法、および製品に対する貢献があった。
【０２３８】
ここで詳細に説明しなかったその他の数多くの実施形態は、特定の用途に対して説明した原理を応用することができ、このクレームの範疇に入る。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１は、基準表面に対して付勢されることにより、水平方向に規制されたデポジットピンの固定しない本体図を示し、デポジットピンが採用される択一的な可動補助貯蔵器を示す。
【図１Ａ】  図１Ａは、図１の１Ａ−１Ａ線から見た断面図である。
【図１Ｂ】  図１Ｂは、図１Ａと同様の図であって、他のピン付勢装置を示す。
【図１Ｃ】  図１Ｃは、図１Ａと同様の図であって、他のピン付勢装置を示す。
【図１Ｄ】  図１Ｄは、支持プレートの相補的な台座表面と合致する円錐表面を有するデポジットピンの斜視図である。
【図１Ｅ】  図１Ｅは、支持台座表面の長手方向の一部分を示す図である。
【図１Ｆ】  図１Ｆは、ピンに付勢した水平方向のバイアスに呼応した支持台座部の応力を分析したベクトルを表す図である。
【図１Ｇ】  図１Ｇは、ばね実装した振動減衰されたデポジットピンを示す図である。
【図２】  図２は、デポジットピン、およびピンを水平方向に規制する協働支持部を組み合わせたときの側面図である。
【図２’】  図２’は、図２の択一的な一部分に関する好適な装置を示す図である。
【図２Ａ】  図２Ａは、デポジットピン、およびピンを水平方向に規制する協働支持部を組み合わせたときの側面図である。
【図２Ｂ】  図２Ｂは、デポジットピン、およびピンを水平方向に規制する協働支持部を組み合わせたときの側面図である。
【図３】  図３は、デポジットピン、およびピンを水平方向に規制する協働支持部を組み合わせたときの側面図である。
【図３Ａ】  図３Ａは、図３の３Ａ−３Ａ線から見た断面図である。
【図３Ｂ】  図３Ｂは、図３の３Ｂ−３Ｂ線から見た断面図である。
【図４】  図４は、一対の平行ばね撓み部により実装されたデポジットピンの斜視図であって、これにより、デポジットピンは、水平方向に規制され、その軸の回りに回転しないようにし、可動補助貯蔵器を貫通するように垂直方向に移動する。
【図４Ａ】  図４Ａは、一対のばね撓み部を用いたその他のデポジットピン実装構成の一部を示す図である。
【図４Ｂ】  図４Ｂは、一対のばね撓み部を用いたその他のデポジットピン実装構成の一部を示す図である。
【図５Ａ】  図５Ａは、生物学的流体または試薬を、微小な接触力で、顕微鏡スライドのような受容表面にデポジットするデポジットピンの動作を示す図である。
【図５Ｂ】  図５Ｂは、生物学的流体または試薬を、微小な接触力で、顕微鏡スライドのような受容表面にデポジットするデポジットピンの動作を示す図である。
【図５Ｃ】  図５Ｃは、生物学的流体または試薬を、微小な接触力で、顕微鏡スライドのような受容表面にデポジットするデポジットピンの動作を示す図である。
【図５Ｄ】  図５Ｄは、生物学的流体または試薬を、微小な接触力で、顕微鏡スライドのような受容表面にデポジットするデポジットピンの動作を示す図である。
【図５Ｅ】  図５Ｅは、生物学的流体または試薬を、微小な接触力で、顕微鏡スライドのような受容表面にデポジットするデポジットピンの動作を示す図である。
【図５Ｆ】  図５Ｆは、壊れやすく、多孔性または柔らかいメンブレンなどのようなものの上に、流体をデポジットするデポジットピンの動作を示す図である。
【図５Ｇ】  図５Ｇは、壊れやすく、多孔性または柔らかいメンブレンなどのようなものの上に、流体をデポジットするデポジットピンの動作を示す図である。
【図５Ｈ】  図５Ｈは、壊れやすく、多孔性または柔らかいメンブレンなどのようなものの上に、流体をデポジットするデポジットピンの動作を示す図である。
【図５Ｉ】  図５Ｉは、壊れやすく、多孔性または柔らかいメンブレンなどのようなものの上に、流体をデポジットするデポジットピンの動作を示す図である。
【図５Ｊ】  図５Ｊは、ドットをアレイ状にデポジットできるメンブレンを支持する硬いスライドを示す図である。
【図５Ｋ】  図５Ｋは、１つのデポジットの上に、正確に位置合わせして、別のデポジットをデポジットするプロセスを示す図である。
【図５Ｌ】  図５Ｌは、１つのデポジットの上に、正確に位置合わせして、別のデポジットをデポジットするプロセスを示す図である。
【図５Ｍ】  図５Ｍは、１つのデポジットの上に、正確に位置合わせして、別のデポジットをデポジットするプロセスを示す図である。
【図５Ｎ】  図５Ｎは、１つのデポジットの上に、正確に位置合わせして、別のデポジットをデポジットするプロセスを示す図である。
【図５Ｏ】  図５Ｏは、大きなスポットを有するデポジットを示す図であって、その上に小さい流体ドットがデポジットされる様子を示す。
【図５Ｐ】  図５Ｐは、大きなスポットを有するデポジットを示す図であって、その上に小さい流体ドットがデポジットされる様子を示す。
【図５Ｑ】  図５Ｑは、大きなスポットを有するデポジットを示す図であって、その上に小さい流体ドットがデポジットされる様子を示す。
【図５Ｒ】  図５Ｒは、大きなスポットを有するデポジットを示す図であって、その上に小さい流体ドットがデポジットされる様子を示す。
【図５Ｓ】  図５Ｓは、垂直方向上方向にデポジットされる動作により形成される複数のデポジットを示す。
【図５Ｔ】  図５Ｔは、垂直方向上方向にデポジットされる動作により形成される複数のデポジットを示す。
【図５Ｕ】  図５Ｕは、垂直方向上方向にデポジットされる動作により形成される複数のデポジットを示す。
【図５Ｖ】  図５Ｖは、垂直方向上方向にデポジットされる動作により形成される複数のデポジットを示す。
【図６】  図６は、マルチウェルプレートの平坦底面のウェルの上に流体のドットをデポジットする様子を示す図である。
【図７】  図７は、デポジットピンとして図示する個別のデポジット装置とともに、１つのデポジット位置から別のデポジット位置まで移動する可動補助貯蔵器を示す図である。
【図８】  図８は、洗浄ステーションおよび流体試料の中央供給源を組み合わせて、図７で示す動作を用いるシステムを示す図である。
【図９】  図９は、デポジットピンおよび環状の補助貯蔵器を有するデポジットヘッドの側面図であって、デポジットピンが補助貯蔵器を貫通して動作する様子を示す。
【図９Ａ】  図９Ａは、図９で示すヘッドのデポジット動作の一連の段階を示す図である。
【図９Ｂ】  図９Ｂは、図９で示すヘッドのデポジット動作の一連の段階を示す図である。
【図９Ｃ】  図９Ｃは、図９で示すヘッドのデポジット動作の一連の段階を示す図である。
【図９Ｄ】  図９Ｄは、図９で示すヘッドのデポジット動作の一連の段階を示す図である。
【図９Ｅ】  図９Ｅは、図９の補助貯蔵器の供給または再供給する様子を示す図である。
【図９Ｆ】  図９Ｆは、図９で示すリングおよびピンを洗浄ステーションで洗浄する様子を示す図である。
【図９Ｇ】  図９Ｇは、ピンおよびリングから流体を取り除き、洗浄し、乾燥するためのステーションを示す図である。
【図９Ｈ】  図９Ｈは、ＰＣＲプレートのウェルの狭小ウォールと、ウェル内に補助貯蔵器が供給される様子を示す図である。
【図９Ｉ】  図９Ｉは、図９Ｈで示す狭小主要供給源から粘性の低い流体を抽出するために適した、現在のところ好適な環状の補助貯蔵器装置の側面図である。
【図９Ｊ】  図９Ｊは、図９Ｉの装置の端部正面図ある。
【図９Ｋ】  図９Ｋは、ピンとリングの拡大図であって、流体接触表面がとりわけ被膜されている様子を示す図である。
【図９Ｌ】  図９Ｌは、局在的な流体供給源が抽出するために、装置が浸漬されている様子を示す拡大図である。
【図９Ｍ】  図９Ｍは、図９Ｋと同様、この装置により抽出された流体量を示す図である。
【図１１】  図１１は、マルチウェル可動供給貯蔵器と協働するために取り付けられた複数ピンを有するデポジットヘッドの斜視図である。
【図１１Ａ】  図１１Ａは、供給関係にある図１１で示す同じ構成部品を示す図である。
【図１２】  図１２は、微小デポジットピンの動作可能なピンパターンを示す図である。
【図１３】  図１３は、標準的な９６ウェル供給プレートに対するピンの初期の関係を示す図である。
【図１４】  図１４は、図１２で示すピンの有用なサンプリング順序を示す図である。
【図１５】  図１５は、顕微鏡スライドの上の個別の正方形を示す図であって、この上に図１２で示すピンが同時に接触する様子を示す図である。
【図１５Ｂ】  図１５Ｂは、正方形の詳細を示す図である。
【図１６】  図１６は、図１２と同様の図であって、１２ピン抽出アレイを用いた、９６ウェル供給プレートを用いた装置を示す図である。
【図１７】  図１７は、図１３と同様の図であって、１２ピン抽出アレイを用いた、９６ウェル供給プレートを用いた装置を示す図である。
【図１８】  図１８は、図１４と同様の図であって、１２ピン抽出アレイを用いた、９６ウェル供給プレートを用いた装置を示す図である。
【図１９】  図１９は、図１５と同様の図であって、１２ピン抽出アレイを用いた、９６ウェル供給プレートを用いた装置を示す図である。
【図１９Ｂ】  図１９Ｂは、図１５Ｂと同様の図であって、１２ピン抽出アレイを用いた、９６ウェル供給プレートを用いた装置を示す図である。
【図２０】  図２０は、図２により構成されたデポジットピンと供給リングを組み合わせた斜視図である。
【図２０Ａ】  図２０Ａは、図２０で示す装置を４つ組み合わせた同様の図である。
【図２１】  図２１は、アレイ形成装置としてＸ，Ｙ，Ｚ方向に移動できるように取り付けられた図２で示すピンの詳細を用いた特定の図である。
【図２２】  図２２は、図２０Ａまたは図２１の装置グループを採用した、市販利用のために構成されたアレイヤシステム
【図２３】  図２３は、動作時、各々異なる段階において組み合わせた、デポジットピンの弱い湾曲実装部および強い湾曲実装部を示す図である。
【図２３Ａ】  図２３Ａは、動作時、各々異なる段階において組み合わせた、デポジットピンの弱い湾曲実装部および強い湾曲実装部を示す図である。
【図２３Ｂ】  図２３Ｂは、ピンおよび補助貯蔵器リングに対する駆動部を組み合わせた図２３の補助装置の斜視図である。
【図２４】  図２４は、４つの個別に動作可能なデポジットピンを有する編成されたデポジットシステムを示す図である。
【図２４Ａ】  図２４Ａは、単一の駆動部により駆動される数多くの撓み部実装されたデポジットピン、および単一の駆動部により駆動される対応する数の補助貯蔵器リングを有する編成されたデポジットシステムを示す斜視図である。
【図２４Ｂ】  図２４Ｂは、単一の駆動部により駆動される数多くの撓み部実装されたデポジットピン、および単一の駆動部により駆動される対応する数の補助貯蔵器リングを有する編成されたデポジットシステムを示す平面図である。
【図２４Ｃ】  図２４Ｃは、図２４Ａおよび図２４Ｂで示すシステム
【図２４Ｄ】  図２４Ｄは、線形ステージにより駆動される編成されたシステムの斜視図である。
【図２５】  図２５は、生物学的流体のドットを、一連の顕微鏡スライドの上に、高密度アレイ状にデポジットするための装置の斜視図である。
【図２５Ａ】  図２５Ａは、図２５の装置に有用なスライド保持装置の側面図である。
【図２６】  図２６は、デポジット動作を実施するための制御システムソフトウェアおよび方法の特性を示す図である。
【図２７】  図２７は、デポジット動作を実施するための制御システムソフトウェアおよび方法の特性を示す図である。