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【手続補正書】
【提出日】平成18年6月6日(2006.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  酸化剤と、
イオン緩衝剤と、
パッシベーション剤と、
イミノ二酢酸とその塩から選ばれるキレート化剤と、
水と、
を含む初期成分の溶液である、半導体デバイスの製造に適したウェハ表面を修正するのに有用な加工液。
【請求項２】  前記パッシベーション剤が、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾールおよびその組み合わせからなる群より選択される請求項１記載の加工液。
【請求項３】  前記酸化剤が過酸化水素であり、前記イオン緩衝剤がリン酸水素アンモニウムであり、前記パッシベーション剤がベンゾトリアゾール、トリルトリアゾールおよびその組み合わせからなる群より選択される請求項１記載の加工液。
【請求項４】  過酸化水素が約０．５〜約１２．５重量パーセントの濃度で前記液体に存在し、リン酸水素アンモニウムが約１．０〜約８．０重量パーセントの濃度で前記液体に存在し、前記パッシベーション剤が約０．０２５〜約０．２０重量パーセントの濃度で前記液体に存在し、前記キレート化剤が約０．５〜約５．０重量パーセントの濃度で前記液体に存在し、残部が水である請求項３記載の加工液。
【請求項５】  ａ）パターンを形成するために表面がエッチングされた第１の材料と、前記第１の材料の表面を覆うように配置された第２の材料とを含むウェハを提供する工程と、
ｂ）前記ウェハの前記第２の材料を、請求項１〜３記載の加工液を存在させて研摩剤と接触させる工程と、
ｃ）前記ウェハの露出表面が平面になり、露出した第１の材料の少なくとも一領域と露出した第２の材料の一領域を有するようになるまで、前記第２の材料を前記研摩剤と接触させながら前記ウェハを相対的に動かす工程と
を含む半導体デバイスの製造に適したウェハ表面を修正する方法。
【請求項６】  前記研摩剤が、研摩物品に固定された三次元研摩複合体を含み、前記複合体がバインダーに固定および分散された複数の研磨粒子を含む請求項５記載の方法。
【請求項７】  前記研摩剤がスラリーと研磨パッドとを有し、前記スラリーが前記加工液と前記液体に分散された複数の研磨粒子とを含み、前記スラリーが前記研磨パッドを適用することにより前記ウェハの前記第２の材料と接触している請求項５記載の方法。
【請求項８】  研磨粒子と、
請求項１〜３記載の加工液と、
を含む研磨スラリー。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月24日(2006.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  エチレン及び／又はエチレンと少なくとも１種若しくはそれ以上の他のオレフィンを、チーグラー・ナッター系触媒、少なくとも１種のハロゲン化炭化水素、共触媒として式
Ｘn ＥＲ3-n 
（式中、Ｘは水素、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素から選ばれるハロゲン又はハロゲンの混合物であり、
ｎは０〜２の範囲であり、
Ｅは、元素周期表の１３族からの元素、例えばホウ素、アルミニウム及びガリウムなどであり、且つ
Ｒは、炭素原子１〜１００及び酸素原子０〜１０を含み、炭素又は酸素結合により１３族元素に結合されている炭化水素基である）
を有する少なくとも１種の化合物、並びに、
少なくとも１つの炭素−酸素−炭素結合（Ｃ−Ｏ−Ｃ）を含み、式
Ｒ1 −Ｏ（−Ｒ2 −Ｏ）n −Ｒ3 
（式中、ｎは０〜３０の範囲であり、
Ｒ1 ，Ｒ2 及びＲ3 は独立して、炭素原子１〜３０及び、本明細書で定義した元素周期表の１３族、１４族、１５族、１６族及び１７族から選ばれる元素又はそれらの混合物からなるヘテロ原子０〜３０を含み、さらにＲ1 ，Ｒ2 及び／又はＲ3 は結合して環式若しくは多環式構造の一部分を形成することができる）
を有する少なくとも１種の外部電子供与化合物と、重合条件下に、接触させることを含んでなる、エチレン及び／又はエチレンと少なくとも１種若しくはそれ以上のその他のオレフィンとを重合する方法。
【請求項２】  ハロゲン化炭化水素が、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロフルオロメタン、クロロジフルオロメタン、ジクロロジフルオロメタン、フルオロジクロロメタン、クロロトリフルオロメタン、フルオロトリクロロメタン及び１，２−ジクロロエタンよりなる群から選ばれる請求項１に記載の方法。
【請求項３】  ハロゲン化炭化水素がクロロホルムである請求項２に記載の方法。
【請求項４】  式Ｘn ＥＲ3-n を有する共触媒が、トリアルキルアルミニウム、ハロゲン化ジアルキルアルミニウム及びセスキハロゲン化アルキルアルミニウムよりなる群から選ばれる請求項１に記載の方法。
【請求項５】  トリアルキルアルミニウムが、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ−ｎ−プロピルアルミニウム、トリ−ｎ−ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−ｎ−ヘキシルアルミニウム、トリイソヘキシルアルミニウム、トリ−２−メチルペンチルアルミニウム、トリ−ｎ−オクチルアルミニウムよりなる群から選ばれ、ハロゲン化ジアルキルアルミニウムが、塩化ジメチルアルミニウム、塩化ジエチルアルミニウム、塩化ジブチルアルミニウム、塩化ジイソブチルアルミニウムよりなる群から選ばれ、そしてセスキハロゲン化アルキルアルミニウムが、セスキ塩化エチルアルミニウム、セスキ塩化エチルアルミニウム、セスキ塩化−ｎ−ブチルアルミニウム及びセスキ塩化イソブチルアルミニウムよりなる群から選ばれる請求項４に記載の方法。
【請求項６】  トリアルキルアルミニウムが、トリメチルアルミニウム及びトリエチルアルミニウムよりなる群から選ばれる請求項５に記載の方法。
【請求項７】  少なくとも１つの炭素−酸素−炭素結合（Ｃ−Ｏ−Ｃ）を含み、式Ｒ1 −Ｏ（−Ｒ2 −Ｏ）n −Ｒ3 を有する少なくとも１種の外部電子供与化合物が、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジオクチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、トリメチレンオキシド及びテトラヒドロピランよりなる群から選ばれる請求項１に記載の方法。
【請求項８】  外部電子供与化合物が、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル及びテトラヒドロピランよりなる群から選ばれる請求項７に記載の方法。
【請求項９】  外部電子供与化合物がテトラヒドロフランである請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  チーグラー・ナッター系触媒が本明細書で定義した元素周期表の４族、５族、６族、７族、８族、９族及び１０族の金属から選ばれた遷移金属化合物を含んでなる請求項１に記載の方法。
【請求項１１】  遷移金属化合物の金属がチタン、ジルコニウム、バナジウム及びクロムよりなる群から選ばれる請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】  遷移金属化合物の金属がチタンである請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  マグネシウム及び塩素が、チーグラー・ナッター系触媒中に組み込まれて存在することを更に含む請求項１に記載の方法。
【請求項１４】  マグネシウム及び塩素が、チーグラー・ナッター系触媒中に組み込まれて存在することを更に含む請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】  ハロゲン化炭化水素が、ハロゲン化炭化水素：チーグラー・ナッター系触媒の遷移金属成分のモル比０．００１：１〜１：１の範囲で添加される請求項１に記載の方法。
【請求項１６】  共触媒が、共触媒：チーグラー・ナッター系触媒の遷移金属成分のモル比１：１〜１００：１の範囲で添加される請求項１に記載の方法。
【請求項１７】  共触媒：チーグラー・ナッター系触媒の遷移金属成分のモル比が１：１〜５０：１の範囲で添加される請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】  外部電子供与化合物が、外部電子供与化合物：チーグラー・ナッター系触媒の遷移金属成分のモル比０．０１：１〜１００：１の範囲で添加される請求項１に記載の方法。
【請求項１９】  外部電子供与化合物：チーグラー・ナッター系触媒の遷移金属成分のモル比が０．１：１〜５０：１の範囲で添加される請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】  重合条件が気相である請求項１に記載の方法。
【請求項２１】  重合条件が溶液相である請求項１に記載の方法。
【請求項２２】  重合条件がスラリー相である請求項１に記載の方法。
【請求項２３】  少なくとも１種若しくはそれ以上のその他のオレフィンが炭素原子３〜１６を有するオレフィンである請求項１に記載の方法。
【請求項２４】  少なくとも１種若しくはそれ以上のその他のオレフィンが、１−オクテン、１−ヘキセン、４−メチルペンタ−１−エン、１−ペンテン、１−ブテン及びプロピレンよりなる群から選ばれる請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】  エチレン及び少なくとも１種若しくはそれ以上のオレフィンの重合により得られるコポリマーが、そのコポリマーの少なくとも７０重量％の量のエチレンを含む請求項１に記載の方法。
【請求項２６】  チーグラー・ナッター系触媒がチタン、マグネシウム及び塩素を含む請求項１に記載の方法。
【請求項２７】  重合条件が気相である請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】  請求項１により製造されたポリエチレン生成物から作製されるフィルム。
【請求項２９】  請求項１により製造されたポリエチレン生成物から作製される製品。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月8日(2006.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  エチレン並びに／又はエチレン及び少なくとも１種若しくはそれ以上の他のオレフィンを、少なくとも１種又はそれ以上の内部電子供与体（但し、この内部電子供与体は、チーグラー−ナッタ型触媒の遷移金属化合物に対する内部電子供与体のモル比１：１〜１０００：１で存在する）、トリメチルアルミニウム並びに式１：
Ｒ1 −ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2 −Ｒ2 、
式２：
【化１】
2002538244.tif 000001
式３：
Ｒ5 −Ｏ−Ｒ6 
及び式４：
Ｒ7 −Ｏ（−Ｒ8 −Ｏ）n−Ｒ9 
（式中、ｎは１〜３０の範囲内であり、
Ｒ1 及びＲ2 は独立に、水素、１〜３０個の炭素原子及び０〜３０個の、元素周期表の第１３族、第１４族、第１５族、第１６族及び第１７族から選択された元素のヘテロ原子又はこれらの混合物を含む飽和及び不飽和脂肪族基並びに１〜３０個の炭素原子及び０〜３０個の、元素周期表の第１３族、第１４族、第１５族、第１６族及び第１７族から選択された元素のヘテロ原子又はこれらの混合物を含む置換及び非置換芳香族基からなる群から選ばれ、
Ｒ3 及びＲ4 は結合して、環式又は多環式構造の一部を形成し、そして、１〜３０個の炭素原子及び０〜３０個の、元素周期表の第１３族、第１４族、第１５族、第１６族及び第１７族から選択された元素のヘテロ原子又はこれらの混合物を含有する飽和及び不飽和脂肪族基並びに１〜３０個の炭素原子及び０〜３０個の、元素周期表の第１３族、第１４族、第１５族、第１６族及び第１７族から選択された元素のヘテロ原子又はこれらの混合物を含有する置換及び非置換芳香族基からなる群から独立に選択された炭化水素であり、
Ｒ5 は１〜３０個の炭素原子及び０〜３０個の、元素周期表の第１３族、第１４族、第１５族、第１６族及び第１７族から選択された元素のヘテロ原子又はこれらの混合物を含有する置換及び非置換芳香族基からなる群から選ばれ、
Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 及びＲ9 は、独立に、１〜３０個の炭素原子及び０〜３０個の、元素周期表の第１３族、第１４族、第１５族、第１６族及び第１７族から選択された元素のヘテロ原子又はこれらの混合物を含有する飽和及び不飽和脂肪族基並びに１〜３０個の炭素原子及び０〜３０個の、元素周期表の第１３族、第１４族、第１５族、第１６族及び第１７族から選択された元素のヘテロ原子又はこれらの混合物を含有する置換及び非置換芳香族基からなる群から選ばれる）
からなる群から選択された、少なくとも１個の炭素−酸素−炭素結合（Ｃ−Ｏ−Ｃ）を含有する、少なくとも１種又はそれ以上の外部電子供与体化合物を含むチーグラー−ナッタ型触媒と、重合条件下に接触させることを含んでなる、エチレン並びに／又はエチレン及び少なくとも１種若しくはそれ以上の他のオレフィンの重合方法。
【請求項２】  少なくとも１種又はそれ以上の内部電子供与体がエーテル、チオエーテル、アミン、エステル、チオエステル、アミド、無水物、酸ハライド、アルデヒド、ケトン、アルコール、ニトリル、ホスフィン、シラン及びカルボン酸からなる群から選択される請求項１に記載の方法。
【請求項３】  少なくとも１種又はそれ以上の内部電子供与体がエーテル、エステル、アルコール及びシランからなる群から選ばれる請求項２に記載の方法。
【請求項４】  少なくとも１種又はそれ以上の外部電子供与体化合物がテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、メチルプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジオクチルエーテル、トリメチレンオキシド及びテトラヒドロピランからなる群から選ばれる請求項１に記載の方法。
【請求項５】  ハロゲン化炭化水素の存在を更に含んでなる請求項１に記載の方法。
【請求項６】  ハロゲン化炭化水素がクロロホルムである請求項５に記載の方法。
【請求項７】  チーグラー−ナッタ型触媒が、遷移金属化合物（但し、金属は、本明細書で定義した、元素周期表の第４族、第５族、第６族、第７族、第８族、第９族及び第１０族の金属から選ばれる）を含む請求項１に記載の方法。
【請求項８】  遷移金属化合物の金属がチタン、ジルコニウム、バナジウム及びクロムからなる群から選ばれる請求項７に記載の方法。
【請求項９】  遷移金属化合物の金属がチタンである請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  チーグラー−ナッタ型触媒中にマグネシウム及び塩素の存在を更に含んでなる請求項１に記載の方法。
【請求項１１】  チーグラー−ナッタ型触媒中に含まれるマグネシウム及び塩素の存在を更に含んでなる請求項７に記載の方法。
【請求項１２】  ハロゲン化炭化水素を、チーグラー−ナッタ型触媒の遷移金属成分に対するハロゲン化炭化水素のモル比０．００１：１〜１：１の範囲で添加する請求項５に記載の方法。
【請求項１３】  トリメチルアルミニウムを、チーグラー−ナッタ型触媒の遷移金属成分に対するトリメチルアルミニウムのモル比１：１〜１００：１の範囲で添加する請求項１に記載の方法。
【請求項１４】  チーグラー−ナッタ型触媒の遷移金属成分に対するトリメチルアルミニウムのモル比が１：１〜５０：１の範囲内である請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】  外部電子供与体化合物をチーグラー−ナッタ型触媒の遷移金属成分に対する外部電子供与体化合物のモル比０．０１：１〜１００：１の範囲で添加する請求項１に記載の方法。
【請求項１６】  チーグラー−ナッタ型触媒の遷移金属成分に対する外部電子供与体化合物のモル比が、０．１：１〜５０：１の範囲内で添加する請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】  重合条件が気相である請求項１に記載の方法。
【請求項１８】  重合条件が溶液相である請求項１に記載の方法。
【請求項１９】  重合条件がスラリー相である請求項１に記載の方法。
【請求項２０】  少なくとも１種又はそれ以上の他のオレフィンが、炭素数３〜１６のオレフィンである請求項１に記載の方法。
【請求項２１】  少なくとも１種又はそれ以上の他のオレフィンが１−オクテン、１−ヘキセン、４−メチルペント−１−エン、１−ペンテン、１−ブテン及びプロピレンからなる群から選ばれる請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】  エチレン及び少なくとも１種又はそれ以上の他のオレフィンの重合から得られるコポリマーが、コポリマーの少なくとも７０重量％の量のエチレンを含む請求項１に記載の方法。
【請求項２３】  チーグラー−ナッタ型触媒がチタン、マグネシウム及び塩素を含む請求項１に記載の方法。
【請求項２４】  ハロゲン化炭化水素の存在を更に含む請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】  重合条件が気相である請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】  請求項１に記載の方法に従って製造されたポリエチレンから加工されたフィルム。
【請求項２７】  請求項１に記載の方法に従って製造されたポリエチレンから加工された物品。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月24日(2006.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  エチレン及び／又はエチレンと少なくとも１種若しくはそれ以上の他のオレフィンを、チーグラー・ナッター系触媒、トリメチルアルミニウム及び外部電子供与体としてテトラヒドロフランと、重合条件下に、接触させることを含んでなる、エチレン及び／又はエチレンと少なくとも１種若しくはそれ以上の他のオレフィンとを重合する方法。
【請求項２】  ハロゲン化炭化水素の存在を更に含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】  ハロゲン化炭化水素がクロロホルムである請求項２に記載の方法。
【請求項４】  チーグラー・ナッター系触媒が本明細書で定義した元素周期表の４族、５族、６族、７族、８族、９族及び１０族の金属から選ばれた遷移金属化合物を含んでなる請求項１に記載の方法。
【請求項５】  遷移金属化合物の金属がチタン、ジルコニウム、バナジウム及びクロムよりなる群から選ばれる請求項４に記載の方法。
【請求項６】  遷移金属化合物の金属がチタンである請求項５に記載の方法。
【請求項７】  少なくとも１種の内部電子供与体の存在を更に含む請求項１に記載の方法。
【請求項８】  マグネシウム及び塩素が、チーグラー・ナッター系触媒中に組み込まれて存在することを更に含む請求項１に記載の方法。
【請求項９】  マグネシウム及び塩素が、チーグラー・ナッター系触媒中に組み込まれて存在することを更に含む請求項４に記載の方法。
【請求項１０】  マグネシウム及び塩素が、チーグラー・ナッター系触媒中に組み込まれて存在することを更に含む請求項７に記載の方法。
【請求項１１】  ハロゲン化炭化水素が、ハロゲン化炭化水素：チーグラー・ナッター系触媒の遷移金属成分のモル比０．００１：１〜１：１の範囲で添加される請求項２に記載の方法。
【請求項１２】  トリメチルアルミニウムが、トリメチルアルミニウム：チーグラー・ナッター系触媒の遷移金属成分のモル比１：１〜１００：１の範囲で添加される請求項１に記載の方法。
【請求項１３】  トリメチルアンモニウム：チーグラー・ナッター系触媒の遷移金属成分のモル比が１：１〜５０：１の範囲である請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  テトラヒドロフランが、テトラヒドロフラン：チーグラー・ナッター系触媒の遷移金属成分のモル比０．０１：１〜１００：１の範囲で添加される請求項１に記載の方法。
【請求項１５】  テトラヒドロフラン：チーグラー・ナッター系触媒の遷移金属成分のモル比が０．１：１〜５０：１の範囲である請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】  重合条件が気相である請求項１に記載の方法。
【請求項１７】  重合条件が溶液相である請求項１に記載の方法。
【請求項１８】  重合条件がスラリー相である請求項１に記載の方法。
【請求項１９】  少なくとも１種若しくはそれ以上の他のオレフィンが炭素原子３〜１６を有するオレフィンである請求項１に記載の方法。
【請求項２０】  少なくとも１種若しくはそれ以上の他のオレフィンが、１−オクテン、１−ヘキセン、４−メチルペンタ−１−エン、１−ペンテン、１−ブテン及びプロピレンよりなる群から選ばれる請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】  エチレン及び少なくとも１種若しくはそれ以上のオレフィンの重合により得られるコポリマーが、そのコポリマーの少なくとも７０重量％の量のエチレンを含む請求項１に記載の方法。
【請求項２２】  チーグラー・ナッター系触媒がチタン、マグネシウム及び塩素を含む請求項１に記載の方法。
【請求項２３】  ハロゲン化炭化水素の存在を更に含む請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】  重合条件が気相である請求項２２に記載の方法。
【請求項２５】  請求項１により製造されたポリエチレンから作製されるフィルム。
【請求項２６】  請求項１により製造されたポリエチレンから作製される製品。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月8日(2006.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  エチレン並びに／又はエチレン及び少なくとも１種若しくはそれ以上の他のオレフィンを、内部電子供与体を実質的に含まないチーグラー−ナッタ型触媒、トリメチルアルミニウム及び式：
Ｒ1 −Ｏ（−Ｒ2 −Ｏ）n−Ｒ3 （式中、ｎは１〜３０の範囲内であり、Ｒ1 ，Ｒ2 及びＲ3 は独立に、１〜３０個の炭素原子及び０〜３０個の、本明細書に定義されたような元素周期表の第１３族、第１４族、第１５族、第１６族及び第１７族から選択された元素のヘテロ原子又はこれらの混合物を含み、更に、Ｒ1 ，Ｒ2 及び／又はＲ3 は結合して、環式又は多環式構造を形成してよい）を有する、少なくとも１個の炭素−酸素−炭素結合（Ｃ−Ｏ−Ｃ）を含有する、少なくとも１種又はそれ以上の外部電子供与体化合物と、重合条件下に接触させることを含んでなる、エチレン並びに／又はエチレン及び少なくとも１種若しくはそれ以上の他のオレフィンの重合方法。
【請求項２】  式Ｒ1 −Ｏ（−Ｒ2 −Ｏ）n −Ｒ3 を有する、少なくとも１個の炭素−酸素−炭素結合（Ｃ−Ｏ−Ｃ）を含有する、少なくとも１種の外部電子供与体化合物がテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジオクチルエーテル、トリメチレンオキシド及びテトラヒドロピランからなる群から選ばれる請求項１に記載の方法。
【請求項３】  外部電子供与体化合物がテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジオクチルエーテル、トリメチレンオキシド及びテトラヒドロピランからなる群から選ばれる請求項２に記載の方法。
【請求項４】  ハロゲン化炭化水素の存在を更に含んでなる請求項１に記載の方法。
【請求項５】  ハロゲン化炭化水素がクロロホルムである請求項４に記載の方法。
【請求項６】  チーグラー−ナッタ型触媒が、遷移金属化合物（但し、金属は、本明細書で定義した、元素周期表の第４族、第５族、第６族、第７族、第８族、第９族及び第１０族の金属から選ばれる）を含む請求項１に記載の方法。
【請求項７】  遷移金属化合物の金属がチタン、ジルコニウム、バナジウム及びクロムからなる群から選ばれる請求項６に記載の方法。
【請求項８】  遷移金属化合物の金属がチタンである請求項７に記載の方法。
【請求項９】  チーグラー−ナッタ型触媒中にマグネシウム及び塩素の存在を更に含んでなる請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  チーグラー−ナッタ型触媒中に含まれるマグネシウム及び塩素の存在を更に含んでなる請求項６に記載の方法。
【請求項１１】  ハロゲン化炭化水素を、チーグラー−ナッタ型触媒の遷移金属成分に対するハロゲン化炭化水素のモル比０．００１：１〜１：１の範囲で添加する請求項４に記載の方法。
【請求項１２】  トリメチルアルミニウムを、チーグラー−ナッタ型触媒の遷移金属成分に対するトリメチルアルミニウムのモル比１：１〜１００：１の範囲で添加する請求項１に記載の方法。
【請求項１３】  チーグラー−ナッタ型触媒の遷移金属成分に対するトリメチルアルミニウムのモル比が１：１〜５０：１の範囲内である請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  外部電子供与体化合物をチーグラー−ナッタ型触媒の遷移金属成分に対する外部電子供与体化合物のモル比０．０１：１〜１００：１の範囲で添加する請求項１に記載の方法。
【請求項１５】  チーグラー−ナッタ型触媒の遷移金属成分に対する外部電子供与体化合物のモル比が、０．１：１〜５０：１の範囲内で添加する請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】  重合条件が気相である請求項１に記載の方法。
【請求項１７】  重合条件が溶液相である請求項１に記載の方法。
【請求項１８】  重合条件がスラリー相である請求項１に記載の方法。
【請求項１９】  少なくとも１種又はそれ以上の他のオレフィンが、炭素数３〜１６のオレフィンである請求項１に記載の方法。
【請求項２０】  少なくとも１種又はそれ以上の他のオレフィンが１−オクテン、１−ヘキセン、４−メチルペント−１−エン、１−ペンテン、１−ブテン及びプロピレンからなる群から選ばれる請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】  エチレン及び少なくとも１種又はそれ以上の他のオレフィンの重合から得られるコポリマーが、コポリマーの少なくとも７０重量％の量のエチレンを含む請求項１に記載の方法。
【請求項２２】  チーグラー−ナッタ型触媒がチタン、マグネシウム及び塩素を含む請求項１に記載の方法。
【請求項２３】  ハロゲン化炭化水素の存在を更に含む請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】  重合条件が気相である請求項２２に記載の方法。
【請求項２５】  請求項１に記載の方法に従って製造されたポリエチレンから加工されたフィルム。
【請求項２６】  請求項１に記載の方法に従って製造されたポリエチレンから加工された物品。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月19日(2006.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ２つの主要対向面を有する画像受容層を含み、この画像受容層がエチレン酢酸ビニル一酸化炭素ターポリマーを含む、画像受容媒体。
【請求項２】  前記画像受容層が、前記ターポリマーと混合された少なくとも１種の他のポリマーをさらに含み、この他のポリマーがエチレン酢酸ビニル樹脂と、エチレン（メタ）アクリル酸共重合体樹脂と、ポリエチレン樹脂と、ポリプロピレン樹脂と、イオノマーと、酸変性または酸／アクリレート変性エチレン酢酸ビニルと、少なくとも２つのモノエチレン性不飽和モノマー単位を含み、１つのモノマー単位が置換されたアルケンを含み、各分枝が１〜約８個の炭素原子を含み、他の１つのモノマー単位が非三級アルキルアルコールの（メタ）アクリル酸エステルを含み、アルキル基が１〜約１２個の炭素原子を含有し、アルキル鎖中にヘテロ原子を含むことができ、アルコールが本質的に直鎖、分枝、または環状であることができるポリマーと、これらの他のポリマーの組み合わせとから成る群より選択される請求項１に記載の画像受容媒体。
【請求項３】  プロピレン−エチレン共重合体を含む基材層を含む、請求項１に記載の画像受容媒体。
【請求項４】  エチレン酢酸ビニル樹脂および充填剤を含む下塗り層を含む、請求項１に記載の画像受容媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月12日(2006.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項０８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項０８】  水圧式又は空気式に作動する工具の打撃運動又は振動を減衰させる方法において、少なくとも２つの部材の間に配置された弾性ゴム材料から製造された１つの連結部材を伴うこれらの２つの部材を有する１つの装置が、１つの工具とこの工具を液体状又は気体状の媒体を通す１本の供給管に連結するための１つの連結結合部材と間に中間連結され、この場合、弾性的なポリマー材料又はゴム状材料が、この装置のこれらの両部材の間の中間空間を連結させるため流し込まれ、注入され又は押出され、次いで、場合によっては部分的に架橋され又は重合されることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月4日(2006.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ２つのポートを含むパワーメカニズムのための油圧ブレーキであって、ハウジングと該ハウジングに回転可能に連結されたシャフトとを有し、さらに、
前記シャフトと一体的に回転するように前記シャフトに連結されたブレーキプレートと、
前記ハウジングに連結され前記ブレーキプレートに隣合うリアクションプレートと、
前記ハウジング内にあるキャビティにあるアクチベイティングピストンと、
前記アクチベイティングピストンを第１方向へ付勢するばねと、
前記キャビティ内に配置され、前記アクチベイティングピストンの一部と前記ハウジングの間の第１デアクチベイションキャビティを画定する第１シールと、
前記第１デアクチベイションキャビティを前記パワーメカニズムの１つのポートに接続し前記パワーメカニズムの前記１つのポートが加圧されたときブレーキを前記ばねと反対方向へ作動させるための第１通路と、
前記キャビティ内に配置され、前記アクチベイティングピストンの一部と前記ハウジングの間にあり前記第１デアクチベンションキャビティと直接の連通関係にない第２デアクチベイションキャビティを画定する第２シールと、
前記第２デアクチベイションキャビティを前記加圧メカニズムのもう１つのポートに接続し前記パワーメカニズムのもう１つのポートが加圧されたときブレーキを前記ばねと反対方向へ作動させるための第２通路とを有してなる、
油圧ブレーキ。
【請求項２】  前記アクチベイティングピストンと前記リアクションプレートとを前記ハウジングに非回転可能に連結するピンを具えた、請求項１の油圧ブレーキ。
【請求項３】  前記第１デアクチベイションキャビティが前記第２デアクチベイションキャビティから径方向にずれている、請求項１の油圧ブレーキ。
【請求項４】  前記第１デアクチベイションキャビティが前記第２デアクチベイションキャビティと軸方向に重なっている、請求項１の油圧ブレーキ。
【請求項５】  前記第１デアクチベイションキャビティと前記第２デアクチベイションキャビティの表面積が実質的に等しい、請求項１の油圧ブレーキ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月27日(2006.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  トレッド（４８）と；２つのサイドウォール（４３、４５、７０，９０）と；半径方向外側カーカスプライ（５７、７７、９７）、各々が伸長不能な環状ビード（４９ａ、４９ｂ、９６ｂ）を含む２つのビード領域（５６ａ、５６ｂ、７６ｂ、９３ｂ）、各サイドウォール内に、一方の部分（５２ａ、５２ｂ、７２ｂ、９２ｂ）が２つのウェッジインサート（５８ａ／５９ａ、５８ｂ／５９ｂ、７８ｂ／７９ｂ、９８ｂ／９９ｂ）の間に配設された２部分不連続プライ（５２、７２、９２ｂ）を含むカーカスと；前記トレッドと前記半径方向外側カーカスプライとの間に位置する１つまたは複数のベルトとを有する空気入りラジアルプライランフラットタイヤであって、
前記２部分不連続プライの２つの部分のそれぞれ（５２ａ、５２ｂ、７２ｂ、９２ｂ）は２つの交差バイアス布層（６４、６６）で作られ、前記交差バイアス布層はそれぞれ平行に整列したコード（６５、６７）で作られ、前記２つの交差バイアス布層のうちの第１布層（６４）の平行に整列したコードは、第２布層（６６）の平行に整列したコードと大きさがほぼ等しく方向が逆な、半径方向に対してある角度に向けられていて、かつ、前記それぞれの布層の平行に整列したコードは、半径方向に対して４０0 から６５0 の角度に向けられていることを特徴とする空気入りラジアルプライランフラットタイヤ。
【請求項２】  トレッド（４８）と；２つのサイドウォール（４３、４５、７０，９０）と；半径方向外側カーカスプライ（５７、７７、９７）、各々が伸長不能な環状ビード（４９ａ、４９ｂ、９６ｂ）を含む２つのビード領域（５６ａ、５６ｂ、７６ｂ、９３ｂ）、各サイドウォール内に、一方の部分（５２ａ、５２ｂ、７２ｂ、９２ｂ）が２つのウェッジインサート（５８ａ／５９ａ、５８ｂ／５９ｂ、７８ｂ／７９ｂ、９８ｂ／９９ｂ）の間に配設された２部分不連続プライ（５２、７２、９２ｂ）を含むカーカスと；前記トレッドと前記半径方向外側カーカスプライとの間に位置する１つまたは複数のベルトとを有する空気入りラジアルプライランフラットタイヤであって、前記２部分不連続プライの２つの部分のそれぞれ（５２ａ、５２ｂ、７２ｂ、９２ｂ）は、半径方向に対して波形である平行コード（８１）の１つまたは複数の層（８０）から作られる、ことを特徴とする、空気入りラジアルプライランフラットタイヤ。
【請求項３】  トレッド（４８）と；ショルダ（５４ａ、５４ｂ、７４ｂ）を有する２つのサイドウォール（４３、４５、７０，９０）と；１つまたは複数の半径方向外側カーカスプライ（５７、７７、９７）、各々が伸長不能な環状ビード（４９ａ、４９ｂ、９６ｂ）を含む２つのビード領域（５６ａ、５６ｂ、７６ｂ、９３ｂ）、インナーライナ（４４）、各サイドウォール内に、一方の部分（５２ａ、５２ｂ、７２ｂ、９２ｂ）が２つの略等しい撓み性のウェッジインサート（５８ａ／５９ａ、５８ｂ／５９ｂ、７８ｂ／７９ｂ、９８ｂ／９９ｂ）の間に配設された２部分不連続プライ（５２、７２、９２ｂ）を含むカーカスと；前記トレッドと前記半径方向外側カーカスプライとの間に位置する１つまたは複数のベルトとを有する空気入りラジアルプライランフラットタイヤであって、２つのウェッジインサートと前記２部分不連続プライの部分とのそれぞれの組合せが、前記１つまたは複数の半径方向外側カーカスプライと前記インナーライナとの間の軸方向に位置するサイドウォールたわみ領域内にあり、前記ビード領域（５６ａ、５６ｂ、７６ｂ）の近傍の位置（５５ａ、５５ｂ、７５ｂ）から前記ショルダ（５４ａ、５４ｂ、７４ｂ）の近傍の近接位置（５３ａ、５３ｂ、７３ｂ）まで半径方向に概ね延在していることを特徴とする空気入りラジアルプライランフラットタイヤ。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月25日(2005.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  両側のエッジを有するテープを回転軸の周りに大きくなっていくテープ・パックに巻き取る方法において、
前記テープの新たに到着する巻きのそれぞれを、前記大きくなっていくテープ・パック上の流体フィルム上で浮動させることと、前記流体フィルムを利用して、前記テープの新しく巻いたもののそれぞれの両側のエッジを、いくつかの巻きにわたり、前記大きくなっていくテープ・パック中の先行するすべてのテープ巻いたものの対応するエッジと継続的に整列させるとともに、前記いくつかの巻きのうちの先頭の巻きそれぞれがテープ・パックの残りの部分に固定されるまで、前記巻きの間の前記流体フィルムのインクリメントを徐々に０に減少させることにより、流体のほとんどないテープ・パックを確立することとを、組み合わせたものであって、前記テープ・パック中のテープのほぼすべてのテープの巻いたものの、対応するすべての両エッジが、前記テープ・パックの放射方向の両面に沿って同一平面上にある改良。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月15日(2005.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  吸湿性組成物の包装方法であって、吸湿性組成物による２０週間後の吸湿量を０．１５重量％未満に制限するのに有効な容器で厚さ０．２５〜０．６０ｍｍのポリプロピレン樹脂の単層からなる容器内に吸湿性組成物を配置し、容器を封止することを含む方法。
【請求項２】  前記吸湿性組成物がポリウレタン、ポリカーボネート、ポリエステル及びポリアミドからなる群の１種以上の樹脂からなる、請求項１記載の方法。
【請求項３】  前記吸湿性組成物が、１種以上のポリアミド樹脂、又は１種以上のポリアミド樹脂を含むブレンドからなる、請求項１記載の方法。
【請求項４】  前記吸湿性組成物が１種以上のポリアミド樹脂と１種以上のポリフェニレンエーテル樹脂との相溶化ブレンドからなる、請求項１記載の方法。
【請求項５】  前記吸湿性材料を５０℃〜１１０℃の温度で包装する工程を含む、請求項１記載の方法。
【請求項６】  前記単層の厚さが０．２８〜０．４０ｍｍである、請求項１記載の方法。
【請求項７】  吸湿性組成物のペレットの包装方法であって、当該方法が、ペレット温度５０℃〜１１０℃の吸湿性組成物のペレットを、吸湿性組成物による２０週間後の吸湿量を０．１５重量％未満に制限するのに有効な容器で厚さ０．２５〜０．６０ｍｍのポリプロピレン樹脂の単層からなる容器に収め、容器を封止することを含む方法。
【請求項８】  前記吸湿性組成物がポリウレタン、ポリカーボネート、ポリエステル及びポリアミドからなる群の１種以上の樹脂からなる、請求項７記載の方法。
【請求項９】  前記単層の厚さが０．２８〜０．４０ｍｍである、請求項７記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月27日(2005.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】  前記保護基セット１のメンバーが、レブリノイル、クロロアセテート、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニルおよび２−トリメチルシリルエチルカーボネートである、請求項３に記載の単糖構築ブロック。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
（１．塩基加溶媒分解）
ａ）ヒドロキシ保護について：
アシルタイプ保護基、例えば、クロロアセテート（また、チオウレア感受性）
ブロモアセテート（また、ピリジン感受性）
カーボネート、例えば、Ａｌｌｏｃ（Ｐｄ０）
Ｆｍｏｃ（β脱離）
Ｔｒｏｃ
ｐ−ニトロフェニルスルホニルエチルオキシカルボニル
レブリノイル（また、ヒドラジン感受性）
ｂ）アミノ保護について：
Ｄｄｅ、Ｗｏｗ（１級アミン感受性）
テトラフタロイル
ジクロロフタロイル
２,５−ジメチル−ピロリル（１級アミン感受性）
ベンジルオキシカルボニル
ペンテニル
（２．フッ素イオン感受性）
ヒドロキシ保護について：
ｔ−ブチルジフェニルシリル
トリイソプロピルシリル
トリメチルシリルエチル
トリフェニルシリルエチル
（全てＨＦ／ピリジンで切断可能）
（３．還元感受性）
トリフルオロメチル
トリクロロメチルオキシメチル
トリクロロメチルオキシカーボネート
（全て亜鉛／酢酸で切断可能）
（４．β脱離感受性の塩基不安定性保護基）
エトキシエチル
シアノエチル
ＮＳＣ（ｐ−ニトロベンジル−スルホニルエチルオキシカルボニル）
ｐ−ニトロベンジル−スルホニルエチル
（５．水素添加分解感受性保護基）
ナフチルメチル
置換ナフチルメチル
（６．酸化感受性保護基：）
ｐ−メトキシベンジル
３，４−ジメトキシベンジル
２，４，６−トリメトキシベンジル
３，４−メチレンジオキシベンジル
アシルアミドベンジル
アジドベンジル
ｐ−アジド−ｍ−クロロベンジル
（７．アリル保護基）
Ｐｄ０錯体で切断可能
（８．光不安定性保護基：）
ｏ−ニトロベンジルオキシカーボネート
ｏ−ニトロベンジル
ジニトロベンジル
２−オキソ−１，２−ジフェニルエチル
（９．Ｒｅｌａｙ脱保護によって除去可能な保護基）
メチルチオエチル
アシルオキシベンジル
ベンジルチオエチル。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
【化７】
2002538085.tif 000001
ここで、
Ａ、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、一般式ＩおよびＩＩについて定義される通りであり、そして、
Ｂ２、Ｃ２、Ｄ２およびＥ２が、保護基セット１のメンバーから選択され、そしてそれら自体において直交セット（例えば、炭水化物保護基レブリノイル（アンモニア不安定性）、クロロアセテート（チオウレア不安定性）、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル（酸化不安定性）および２−トリメチルシリルエチルカーボネート（フッ素イオン不安定性））を構成する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月12日(2006.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  １つのシステムチャンバ（１２）と１つの供給チャンバ（１０）とを備えたケーシング（１）を有し、システムチャンバ（１２）が生化学反応のあいだ産生システムを収容し、供給チャンバ（１０）が生化学反応のあいだ供給液を収容し、システムチャンバ（１２）と供給チャンバ（１０）とが一枚の半透膜によって分離されている無細胞ポリペプチド生合成の単一用途のための使い捨て生物反応モジュールであって、
前記ケーシング（１）が、それぞれ環状の緊着帯（１８）を有する少なくとも２つのチャンバ部（３、５）を有し、該環状の緊着帯（１８）のあいだに１枚の半透膜（７）が該膜（７）の周辺外周帯（１４）を挟着するシール手段（９）によって密閉して緊着固定され、システムチャンバ（１２）がシステムチャンバ部（５）と半透膜（７）により区画され、前記供給チャンバが供給チャンバ部（３）と半透膜（７）により区画されてなるモジュール。
【請求項２】  前記チャンバ部の一方（５または３）が半透膜（７）の緊着固定のための緊着帯（１８）に１本の周回溝（１３）を有し、他方のチャンバ部（３または５）が溝（１３）に嵌入する突出リブ（１６）を有し、膜（７）をチャンバ部（３、５）のあいだに緊着固定された周辺外周帯（１４）のところで溝に押し込む請求項１記載のモジュール。
【請求項３】  １つのシステムチャンバ（１２）と１つの供給チャンバ（１０）とを備えたケーシング（１）を有し、システムチャンバ（１２）が生化学反応の間中における産生システムを収容し、供給チャンバ（１０）が生化学反応の間中における供給液を収容し、システムチャンバ（１２）と供給チャンバ（１０）とが一枚の半透膜によって分離されている無細胞ポリペプチド生合成の単一用途のための使い捨て生物反応モジュールであって、
前記ケーシング（１）が、少なくとも２つのチャンバ部（３、５）を有し、該チャンバ部のあいだに１枚の半透膜（７）が該膜（７）の周辺外周帯（１４）を挟着するシール手段（９）によって密に緊着固定され、システムチャンバ（１２）がシステムチャンバ部（５）と半透膜（７）とによって限界を定められ、前記供給チャンバが供給チャンバ部（３）と半透膜（７）とによって限界を定められており、
前記少なくとも１つの供給チャンバ（１０）および／またはシステムチャンバ（１２）が、１つの磁気攪拌素子（１７）を有するモジュール。
【請求項４】  前記チャンバ部（３、５）の少なくとも一方が、半透膜（７）に対向した壁面（３８、３９）にチャンバ部（３、５）によって囲繞されたチャンバ（１０、１２）に注入するための１つの注入口（４０、４１）を有する請求項１、２または３記載のモジュール。 
【請求項５】  前記半透膜（７）が透析膜である請求項１、２、３または４記載のモジュール。 
【請求項６】  前記ケーシングが１つのシステムチャンバ（１２）と該システムチャンバに隣接する２つの供給チャンバ（１０、１１）とからなり、該供給チャンバがシステムチャンバ（１２）から第１および第２の半透膜（７、８）によって分離され、ケーシング（１）が２つの供給チャンバ部（３、４）を有し、第１の半透膜（７）がシステムチャンバ部（５）と第１の供給チャンバ部（３）とのあいだに緊着固定され、かつ第２の半透膜（８）がシステムチャンバ部（５）と第２の供給チャンバ部（４）とのあいだに緊着固定されている請求項１、２、３、４または５記載のモジュール。 
【請求項７】  請求項１、２、３、４、５または６記載のモジュールを用いた生化学反応を実施する方法であって、
前記供給チャンバ（１０）内の供給液が、生化学反応のあいだ、外部の圧力によって加圧されず、その結果、供給チャンバ（１０）とシステムチャンバ（１２）とのあいだの分子交換を実質的に拡散に基づいて行なう方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月13日(2006.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  以下の特徴を有する、植物または動物細胞で姉妹染色分体の分離を調節する能力をもつ化合物を特定する方法：
セパリンを、そのタンパク質分解活性に対する基質および場合によってその補助因子の存在下で被験化合物とともに保温し、さらに前記セパリンのタンパク質分解活性に対する前記被験化合物の調節効果を決定する。
【請求項２】  前記セパリンがリコンビナントである請求項１の方法。
【請求項３】  前記セパリンがヒトのセパリンである請求項１または２の方法。
【請求項４】  前記基質が、ホスファターゼ抑制物質の存在下でバキュロウイルスで遺伝子組換えによって製造されたタンパク質である請求項１の方法。
【請求項５】  前記基質がヒトのＳＣＣ１もしくはそのフラグメントまたはその変種である請求項１の方法。
【請求項６】  前記基質が配列番号：１に記載のアミノ酸配列をもつペプチドもしくはその切断可能フラグメントまたはその変種である請求項５の方法。
【請求項７】  前記セパリンが植物セパリンである請求項１または２の方法。
【請求項８】  前記基質がタンパク質分解活性による切断生成物の量に比例して検出可能なシグナルを発生する標識を有し、さらに前記シグナルが前記被験化合物の存在下および非存在下で測定される請求項１から７のいずれかの方法。
【請求項９】  前記標識が蛍光である請求項８の方法。
【請求項１０】  人間を治療するための、セパリン活性抑制物質。
【請求項１１】  人間の癌を治療するためのヒトセパリン活性抑制物質。
【請求項１２】  癌治療用医薬の製造のための、セパリン抑制物質の使用。
【請求項１３】  減数分裂での染色体の分離異常によって惹起される先天異常を防止するヒトセパリン活性抑制物質。
【請求項１４】  減数分裂での染色体の分離異常によって惹起される先天異常防止用医薬を製造するための、セパリン抑制物質の使用。
【請求項１５】  活性成分としてヒトセパリン抑制物質を含む医薬組成物。
【請求項１６】  植物細胞の倍数性を増加させるための植物セパリン抑制物質。
【請求項１７】  ＳＣＣ１のプロテアーゼ認識部位のアミノ酸配列を含むペプチドの誘導体である、セパリン抑制物質。
【請求項１８】  ＭＤＤＲＥＩＭＲＥＧＳＡＦＥＤＤＤＭ（配列番号：１）のペプチドの誘導体又はその変異体若しくはフラグメントである、請求項１７に記載のセパリン抑制物質。
【請求項１９】  アルデヒド、ハロゲノメチルまたはアシルオキシメチル基を用いて修飾されたペプチドである、請求項１７又は１８に記載のセパリン抑制物質。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月6日(2006.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】  コンピュータ読取可能媒体上に存在し、請求項１〜４のうちのいずれか１項に記載の方法をコンピュータに実施させる命令を含む、コンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月23日(2006.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）光学素子の層と、
（ｂ）該光学素子を透過した光が反射コーティングによって光学素子に反射されて戻るように光学素子と一致するように配置され光学素子に関して位置決めされた反射コーティングと、を含む再帰反射性物品であって、前記反射コーティングが複数の層を含み、（ｉ）少なくとも２つの隣接した層が異なった屈折率を有し、（ｉｉ）前記反射コーティングが、前記光学素子の平均寸法の約１０％より小さい平均の厚さを各々有する多数の高分子層を含有する、再帰反射性物品。
【請求項２】  （ａ）光学素子の層と、
（ｂ）該光学素子を透過した光が反射コーティングによって光学素子に反射されて戻るように光学素子と一致するように配置され光学素子に関して位置決めされた、複数の高分子層を含む反射コーティングと、を含む再帰反射性物品であって、高分子層が、前記第１の屈折率を有する第１の高分子材料と、前記第１の屈折率と異なった第２の屈折率を有する第２の高分子材料と、を含有し、前記高分子層の各々の平均の厚さが、前記光学素子の平均寸法の１０％より小さい、再帰反射性物品。
【請求項３】  前記反射コーティングの少なくとも２つの隣接した層が、少なくとも０．０５異なる屈折率を有する、請求項１または２に記載の再帰反射性物品。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月21日(2005.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  水槽内の細菌性微生物と藻類の抑制方法であって、置換基において少なくとも一つの陽電荷を有するテトラピロールおよび/またはテトラアゾピロール族の光増感剤を、魚や植物を水槽から取り出すことなく水槽内の水に直接加えることを特徴とする抑制方法。
【請求項２】  光増感剤が、バクテリオクロロフィル類、クロリン類、ポルフィリン類、フタロシアニン類、ナフタロシアニン類から選ばれることを特徴とする請求項１に記載の抑制方法。
【請求項３】  光増感剤が、ポルフィリン骨格構造を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の抑制方法。
【請求項４】  光増感剤が、２〜４つの陽電荷を保有していることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の抑制方法。
【請求項５】  光増感剤が、メソ位置に二つの陽電荷を保有していることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の抑制方法。
【請求項６】  光増感剤が、少なくとも一つの親油性置換基を保有していることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の抑制方法。
【請求項７】  親油性置換基が、４〜１２個の炭素原子を有するアルキル基である請求項６に記載の抑制方法。
【請求項８】  光増感剤が、１〜３０μmol／lの濃度で存在していることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の抑制方法。
【請求項９】  異なる吸収スペクトルを有する光増感剤を同時に使用することによって、可視光線のスペクトル全体が光増感に利用されることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の抑制方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
親油性置換基は、細胞膜に対する増感剤の親和力を高めることにより、その抑制作用を上げることができる。細胞質膜に浸透可能な好ましい基類は、４〜１４個、好ましくは、８〜１２個の炭素原子を有するアルキル鎖である。このようなアルキル基類を、増感剤の骨格構造の中に置換基としてピリジリウム、ピペラジニリウムまたはピペリジニリウム置換基の窒素原子に導入すると有利である。