【手続補正書】
【提出日】平成18年8月25日(2006.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  物体を乾燥させる処理と物体を洗浄する処理のうち少なくとも一方を実施する装置であって、装置は、
乾燥されるべき選択された物体を受容し包含する閉鎖チャンバーを備えており、閉鎖チャンバーは、選択された物体を閉鎖チャンバー内に設置し、また、閉鎖チャンバーから除去することができるようにする開放可能な入口通路を有し、閉鎖チャンバーは、選択された表面張力を有している洗浄液を閉鎖チャンバー内に搬送する洗浄液源と流体連絡状態にある第１開口を有して、選択された物体が洗浄液中に部分的または十分に沈めるようにし、閉鎖チャンバーは、第１の選択された体積流量の範囲で存在している体積流速ｒ１で洗浄液を閉鎖チャンバーから出すことができるようにする第２の開口を有しており、
ヘッド軸線を有し、かつ、閉鎖チャンバーと流体連絡状態にある第３の開口を有しており、洗浄液の表面張力よりも実質的に低い表面張力を有している選択された液体を受容する振動ヘッドを更に備えており、振動ヘッドは、第２の選択された体積流量の範囲で存在している体積流速ｒ２で選択された液体を受け取り、選択された液体に閉鎖チャンバー内で噴霧粒子を形成させるようにしたことを特徴としている、装置。
【請求項２】  前記振動ヘッドに隣接して１つ以上の選択された方向に不活性ガスを導入するように位置決めされている不活性ガス源を更に備えており、不活性ガス源が存在していない場合の前記噴霧粒子の移動に対して、振動ヘッドの軸線に対する増大した角度で振動ヘッドから離れる方向に噴霧粒子を移動させるようにした、請求項１に記載の装置。
【請求項３】  前記チャンバー内部に位置決めされて、前記振動ヘッドに残って実質的に振動ヘッドの前記軸線に平行に移動している粒子を受け取るようにしたマスクを更に特徴とする、請求項２に記載の装置。
【請求項４】  前記振動ヘッドに隣接して制御可能な経時変化するガス圧で不活性ガスを導入することができるようにする圧力調節装置を前記不活性ガス源が有していることを更に特徴とする、請求項２に記載の装置。
【請求項５】  ガス圧が或る時間のうちで概ね周期的である経時変化することを更に特徴とする、請求項４に記載の装置。
【請求項６】  前記振動ヘッドが10kHz≦ｆ≦10,000kHzの範囲にある少なくとも１つの周波数で振動することを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項７】  少なくとも１つの噴霧粒子の直径ｄが10μm≦ｄ≦50μmの範囲で存在するように前記周波数ｆが選択されていることを特徴とする、請求項６に記載の装置。
【請求項８】  前記振動ヘッドが20kHz≦ｆ≦80kHzの範囲にある少なくとも１つの周波数で振動することを更に特徴とする、請求項６に記載の装置。
【請求項９】  前記選択された液体が前記選択された物体には化学的に実質的に無反応であることを更に特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】  前記選択された液体が、イソプロピルアルコール、エチルアルコール、メチルアルコール、テトラヒドロフラン、過フルオロヘキサン、ヘキサン、エーテルから構成される実質的に無反応性液の範疇から採択されることを特徴とする、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】  前記閉鎖チャンバー内の前記洗浄液の深さが３mm/秒と１０mm/秒の間の割合で減少するように前記第１の選択された範囲の流速ｒ１が選択されていることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項１２】  前記第２の選択された範囲の前記流速ｒ２が１ml/分≦ｒ２≦５ml/分の範囲にあることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項１３】  前記選択された液体が５psi≦ｐ≦５０psiの範囲にある圧力ｐで前記閉鎖チャンバー内に受容されることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】  前記選択された液体の液源が前記振動ヘッドに接続され、かつ、前記閉鎖チャンバーの外部に設置されていることを更に特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項１５】  前記選択された液体の前記液源が前記閉鎖チャンバーから少なくとも１メートル離して配置されていることを更に特徴とする、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】  前記選択された液体の前記液源が、わずか２５ml程度の体積Ｖの選択された液体を保有していることを特徴とする、請求項１４に記載の装置。
【請求項１７】  粒子拡散手段が前記閉鎖チャンバー内部の前記振動ヘッド附近に配置されて、前記噴霧粒子が振動ヘッドから離れる方向に移動するにつれて、閉鎖チャンバー内で噴霧粒子を拡散させることを更に特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項１８】  前記粒子拡散手段が２０℃≦Ｔ≦１００℃の範囲にある温度Ｔに維持された加圧ガス源を有しており、また、粒子拡散手段は、前記噴霧粒子が、前記振動ノズルから離れる方向に移動するにつれて、方向を変えるように、加圧ガスを方向付けるガス方向付け手段を更に有していることを更に特徴とする、請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】  前記選択された液体の相を変化させなくても、前記噴霧粒子の実質的に全部が前記閉鎖チャンバー内で形成されることを更に特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項２０】  １秒あたり２ジュールより低いエネルギー消費で、前記噴霧粒子が前記閉鎖チャンバー内に形成されることを更に特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項２１】  実質的に不活性なガスのガス源と、
前記閉鎖チャンバーに設けられ、加熱された不活性ガス源に接続されており、加熱された不活性ガス源から閉鎖チャンバー内に不活性ガスを入れる第４の開口と、
前記閉鎖チャンバーに設けられ、前記第４の開口と同一であってもよく、閉鎖チャンバー内の不活性ガスを閉鎖チャンバーから出すことができるようにした第５の開口とを備えていることを更に特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項２２】  実質的に不活性なガスの第２ガス源と、
前記閉鎖チャンバーに設けられ、第２の不活性ガス源に接続されており、第２の不活性ガス源から閉鎖チャンバー内に第２の不活性ガスを入れる第４の開口と、
前記閉鎖チャンバーに設けられ、前記第４の開口と同一であってもよく、閉鎖チャンバー内の第２の不活性ガスを閉鎖チャンバーから出すことができるようにした第５の開口と、
第２の不活性ガス源に接続されており、第２の不活性ガスが閉鎖チャンバーに入るのを許容および制御し、また、前記洗浄液が閉鎖チャンバーから出て行っている間に、閉鎖チャンバー内の総ガス圧を外部環境の圧力附近に維持し、或いは、それ以上に維持するガス入口手段を更に備えていることを更に特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項２３】  前記選択された液体の貯蔵器と、
選択された液体の貯蔵器に接続され、実質的に継続的に作動されて選択された液体から汚染物粒子を濾過除去し、濾過処理後の選択された液体の大半または全部を選択された液体の貯蔵器に帰還させる液体濾過手段とを更に備えていることを更に特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項２４】  前記第１の液体濾過手段に接続されており、前記濾過処理された選択された液体の選択された部分を受け取り、受け取った液体を更に濾過処理する第２の液体濾過手段と、
第２の液体濾過手段からの液体を受容する第２の貯蔵器を更に備えており、第１の選択された液体の貯蔵器と第２の選択された液体の貯蔵器のうちの少なくとも一方が前記振動ヘッド用に選択された液体を供与することを更に特徴とする、請求項２３に記載の装置。
【請求項２５】  活動停止期間の後に前記装置が始動されると、選択された期間、前記選択された液体の全ての流れの方向を調節し直し、選択された期間の後に、選択された液体が干渉を受けずに流動することができるようにする液体流れ偏向装置と、
流れ偏向装置から選択された液体を受け取って濾過する濾過手段とを更に備えていることを更に特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項２６】  前記振動ヘッドは、
前記選択された液体の少なくとも１滴を受けて振動する面を含み、選択された液体の噴霧粒子を生成する選択された固体材料の塊を有しており、選択された固体材料は窒化シリコンおよび窒化シリコン水酸化物から構成された固体材料の範疇から採択されており、
選択された固体材料の塊に接触して位置決めされ、交流電圧源に接続され、選択された固体材料の塊に振動を生じる圧電クリスタルを更に有していることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項２７】  物体を乾燥させる処理と物体を洗浄する処理のうち少なくとも一方を実施する方法であって、この方法は
乾燥されるべき選択された物体を閉鎖チャンバーに設置する工程と、
十分な量の、選択された表面張力を有している洗浄液を閉鎖チャンバーに入れて、選択された物体が洗浄液中に部分的または十分に沈められるようにする工程と、
洗浄液の表面張力よりも実質的に低い表面張力を有している選択された液体を、選択された体積流量の範囲にある体積流速ｒ２で閉鎖チャンバーに入れる工程と、
閉鎖チャンバー内で選択された液体の噴霧粒子を形成する工程と、
噴霧粒子の一部により洗浄液の露出面上に選択された液体の膜を形成することができるようにする工程と、
選択された体積流量の範囲にある体積流速ｒ１で閉鎖チャンバーから洗浄液を排出させ、選択された液体の膜が選択された物体の露出面上に形成されるようにする工程と、
選択された液体の膜により選択された物体の露出面上の洗浄液を追い出すようにする工程とを特徴とする、方法。
【請求項２８】  前記噴霧粒子に向けて１つ以上の方向に不活性ガスを方向付けて、不活性ガス源が存在していないときの前記噴霧粒子の移動に対して、選択された方向に対する増大した角度で、選択された方向から離れる方向へ噴霧粒子にチャンバー内を移動させる工程を更に特徴とする、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】  前記選択された方向に前記チャンバー内を移動する、少なくとも１個の前記噴霧粒子を除去する工程を更に特徴とする、請求項２７に記載の方法。
【請求項３０】  制御可能な経時変化するガス圧で不活性ガスを導入する工程を更に特徴とする、請求項２７に記載の方法。
【請求項３１】  前記経時変化するガス圧を変化させて、或る時間のうちでは概ね周期的であるガス圧を生成する工程を更に特徴とする、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】  噴霧粒子を形成する前記工程は、10kHz≦ｆ≦10,000kHzの範囲にある選択された周波数ｆで振動する振動ノズルを前記選択された液体に通過させることを更に特徴とする、請求項２７に記載の方法。
【請求項３３】  前記周波数ｆを20kHz≦ｆ≦80kHzの範囲に入るように選択する工程を更に特徴とする、請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】  少なくとも１個の前記噴霧粒子の直径ｄ(sel）が１０μm≦ｄ(sel）≦５０μmの範囲に入るように前記周波数ｆを選択する工程を更に特徴とする、請求項３２に記載の方法。
【請求項３５】  前記選択された物体と化学的に実質的に無反応であるように前記選択された液体を選択する工程を更に特徴とする、請求項２７に記載の方法。
【請求項３６】  イソプロピルアルコール、エチルアルコール、メチルアルコール、テトラヒドロフラン、アセトン、過フルオロヘキサン、ヘキサン、エーテルから構成される実質的に無反応性の液体の範疇から前記選択された液体を選択する工程を更に特徴とする、請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】  前記閉鎖チャンバー内の前記洗浄液の深さが３mm/秒と１０mm/秒の間の割合で減少するように前記流速ｒ１を選択する工程を更に特徴とする、請求項２７に記載の方法。
【請求項３８】  前記第２の選択された範囲１ml/分≦ｒ２≦５ml/分に存在するように前記流速ｒ２を選択する工程を更に特徴とする、請求項２７に記載の方法。
【請求項３９】  前記選択された液体の相を変化させずに、前記噴霧粒子の実質的に全てを前記閉鎖チャンバー内で形成する工程を更に特徴とする、請求項２７に記載の方法。
【請求項４０】  １秒あたり２ジュールよりも少ないエネルギー消費で、前記噴霧粒子を前記閉鎖チャンバー内で形成する工程を更に特徴とする、請求項２７に記載の方法。
【請求項４１】  前記洗浄液が前記閉鎖チャンバーから排出された後で、実質的に全てのガスを閉鎖チャンバーから除去する工程を更に特徴とする、請求項２７に記載の方法。
【請求項４２】  前記洗浄液が前記閉鎖チャンバーから排出された後で、加熱された、選択されたパージガスに閉鎖チャンバーを通過させる工程を更に特徴とする、請求項４１に記載の方法。
【請求項４３】  前記洗浄液が前記閉鎖チャンバーから排出されている時に、選択された置換ガスを閉鎖チャンバーに入れる工程と、
選択された置換ガスを閉鎖チャンバーに入れる流速を制御して、洗浄液が閉鎖チャンバーから排出されている間、閉鎖チャンバー内の総ガス圧が外部環境の圧力に近くなる、或いは、それより高くなるようにする工程を更に特徴とする、請求項２７に記載の方法。
【請求項４４】  前記選択された液体を実質的に継続して濾過し、選択された液体から汚染物粒子を除去し、濾過処理後の選択された液体の大半または全部を選択された液体用の貯蔵器に帰還させる工程を更に特徴とする、請求項２７に記載の方法。
【請求項４５】  前記濾過された、選択された液体の選択された部分を受け取り、受け取った液体を更に濾過処理する工程と、
更に濾過された、選択された液体を用いて、前記噴霧粒子を形成する工程とを更に特徴とする、請求項４４に記載の方法。
【請求項４６】 活動停止期間の後に前記装置が始動されたとき、選択された期間、前記選択された液体の全ての流れの方向を調節し直す工程と、
調節し直された前記選択された液体を濾過する工程と、
選択された期間の後に、選択された液体が干渉を受けずに流動することができるようにして、前記噴霧粒子を形成するのに使用される工程とを更に特徴とする、請求項２７に記載の方法。