(57)【要約】      （修正有）【課題】過酸化水素の分解によって生じるヒドロキシラジカルが原因となる口腔内での安定剤の分解、安定剤由来の他の物質の合成に伴って危惧される発がん性物質や人体に有毒の物質の発生を少なく抑制できより安全な口腔内クリーニングに有用な過酸化水素水溶液の提供。【解決手段】過酸化水素の濃度が１〜７w/v%、好ましくは２〜６ｗ／ｖ％であり、例えばリン酸、フェナセチン、アセトアニリドのいずれか一以上である酸化水素安定剤の濃度が８１ｐｐｍ（ｍｇ／Ｌ）以下である口腔内の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
過酸化水素の濃度が１w/v%以上７w/v%以下で、
過酸化水素安定剤の濃度が当水溶液中で８１ｐｐｍ（ｍｇ／Ｌ ）以下である口腔内の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液。
【請求項２】
過酸化水素の濃度が２w/v%以上６w/v%以下である請求項１に記載の口腔内の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液。
【請求項３】
過酸化水素安定剤が、フェナセチン、アセトアニリドのいずれか一以上である請求項１又は２に記載の口腔内の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液。
【請求項４】
不純物重金属含有量が過酸化水素に対して０．００１w/v%以下しか含まれない請求項１から３のいずれか一に記載の口腔内の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液。
【請求項５】
歯磨剤本剤と、
歯磨剤本剤に対して過酸化水素の濃度が１w/v%以上７w/v%以下で、
過酸化水素安定剤の濃度が本剤に対して８１ｐｐｍ（ｍｇ／Ｌ ）以下である紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用歯磨剤。
【請求項６】
過酸化水素の濃度が２w/v%以上６w/v%以下である請求項５に記載の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用歯磨剤。
【請求項７】
過酸化水素安定剤がリン酸、フェナセチン、アセトアニリドのいずれか一以上である請求項５又は６に記載の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用歯磨剤。
【請求項８】
不純物重金属含有量が過酸化水素に対して０．００１w/v%以下しか含まれない請求項５から７のいずれか一に記載の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用歯磨剤。
【請求項９】
請求項１から４のいずれか一に記載の口腔内の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液と紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線とを出射するスケーラーチップを含む歯科治療装置。
【請求項１０】
前記スケーラーチップは少なくとも紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液の流通路内面が非金属面である請求項９に記載の歯科治療装置。
【請求項１１】
スケーラーチップ先端から請求項１から４のいずれか一に記載の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液と紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線とを同時に出射して行う歯のクリーニング方法。
【請求項１２】
ブラシ植毛領域から紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線を照射するための紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射部を有する請求項５から８のいずれか一に記載の歯磨剤と合わせて使用するための歯ブラシ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、口腔内のクリーニング技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
口腔内のクリーニングを行う技術として従来から各種のものが提案されてきた。たとえば歯科治療装置のスケーラーチップの先端から過酸化水素水と紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線とを同時に照射して歯周病菌などの殺菌を行う技術が公開されている。
【０００３】
これは過酸化水素に紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線を照射することによって過酸化水素の分解を口腔内で図り、ヒドロキシラジカルを生成して歯周病菌などを殺菌するものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１２−８２１８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載の技術は、紫外線を照射して過酸化水素の分解を図りヒドロキシラジカルを生成することで殺菌を図るが、紫外線は過酸化水素のみならず多種の物質を分解することが知られている。近紫外可視光も同様である。さらに過酸化水素を分解することによって生じるヒドロキシラジカルもその強い酸化力によって多種の物質を分解することが知られている。
【０００６】
ところで、一般の過酸化水素水は、過酸化水素の不安定性から安定剤を含んでいる。このような安定剤を含んでいる過酸化水素水を歯周病などの歯科治療に用いると、スケーラーチップから照射される紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線は過酸化水素のみならずこの安定剤にも照射される結果となるために予期せぬ物質が生成する可能性がある。また前述のとおり、過酸化水素を分解して生じるヒドロキシラジカルも安定剤と反応して予期せぬ物質が生成する可能性がある。例えば含まれている安定剤の分解等によって発がん性その他人体に有害な化学物質が生成される可能性があり、このようなリスクはできるだけ低減することが好ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記問題を解決するために、本発明者は、第一の発明として過酸化水素水に含有される安定剤を安全と思われる範囲である当水溶液中で８１ｐｐｍ（ｍｇ／Ｌ ）以下まで低減した過酸化水素水を紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射によるクリーニング用として発明した。
【０００８】
また第二の発明として、第一の発明を基本として過酸化水素の濃度が２w/v%以上６w/v%以下である口腔内の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液を発明した。
【０００９】
第三の発明として、第一、第二の発明を基本として、過酸化水素安定剤がリン酸、フェナセチン、アセトアニリドのいずれか一以上である口腔内の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液を発明した。
【００１０】
第四の発明として、第一から第三の発明を基本として、不純物重金属含有量が過酸化水素に対して０．００１w/v%以下しか含まれない口腔内の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液を発明した。
【００１１】
さらに第五の発明として、歯磨剤本剤と、歯磨剤本剤に対して過酸化水素の濃度が１w/v%以上７w/v%以下で、過酸化水素安定剤の濃度が本剤に対して８１ｐｐｍ（ｍｇ／Ｌ ）以下しか含まれない紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用歯磨剤を発明した。
【００１２】
第六の発明として、第五の発明を基本として、過酸化水素の濃度が２w/v%以上６w/v%以下である紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用歯磨剤を発明した。
【００１３】
第七の発明として、第五、第六の発明を基本として、過酸化水素安定剤がリン酸、フェナセチン、アセトアニリドのいずれか一以上である紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用歯磨剤を発明した。
【００１４】
第八の発明として、第五から第七の発明を基本として不純物重金属含有量が過酸化水素に対して０．００１w/v%以下しか含まれない紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用歯磨剤を発明した。
【００１５】
さらに第九の発明として、第一から第四の発明である口腔内の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液と紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線とを出射するスケーラーチップを含む歯科治療装置を発明した。
【００１６】
第十の発明として、第九の発明を基本として、前記スケーラーチップは少なくとも紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液の流通路内面が非金属面である歯科治療装置を発明した。
【００１７】
第十一の発明として、スケーラーチップ先端から第一から第四のいずれかの発明である紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液と紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線とを同時に出射して行う歯のクリーニング方法を発明した。
【００１８】
さらに第十二の発明として、ブラシ植毛領域から紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線を照射するための紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射部を有する第五から第八のいずれかの発明の歯磨剤と合わせて使用するための歯ブラシを発明した
【発明の効果】
【００１９】
本発明により、安定剤の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線による口腔内での分解又は安定剤由来の他の物質の合成、さらには過酸化水素の分解によって生じるヒドロキシラジカルが原因となる口腔内での安定剤の分解、安定剤由来の他の物質の合成に伴って危惧される発がん性物質や人体に有毒の物質の発生を少なく抑制できより安全な口腔内クリーニングを実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】過酸化水素水からのラジカル発生の概念図
【図２】フェナセチン濃度８１ｐｐｍの過酸化水素水溶液Aのレーザー照射前の高速液体クロマトグラフィー（HPLC）の分析結果
【図３】フェナセチン濃度８１ｐｐｍの過酸化水素水溶液Aのレーザー照射後の高速液体クロマトグラフィー（HPLC）の分析結果
【図４】フェナセチン濃度３４４ｐｐｍの過酸化水素水溶液Fのレーザー照射前の高速液体クロマトグラフィー（HPLC）の分析結果
【図５】フェナセチン濃度３４４ｐｐｍの過酸化水素水溶液Fのレーザー照射後の高速液体クロマトグラフィー（HPLC）の分析結果
【図６】アセトアニリド濃度１７７ｐｐｍの過酸化水素水溶液Jのレーザー照射前の高速液体クロマトグラフィー（HPLC）の分析結果
【図７】アセトアニリド濃度１７７ｐｐｍの過酸化水素水溶液Jのレーザー照射後の高速液体クロマトグラフィー（HPLC）の分析結果
【図８】フェナセチン濃度３４４ｐｐｍの過酸化水素水溶液F、アセトアニリド濃度１７７ｐｐｍの過酸化水素水溶液Jへのレーザー照射有無による人細胞への細胞毒性試験結果  １回目
【図９】フェナセチン濃度３４４ｐｐｍの過酸化水素水溶液F、アセトアニリド濃度１７７ｐｐｍの過酸化水素水溶液Jへのレーザー照射有無による人細胞への細胞毒性試験結果  ２回目
【図１０】８００ｎｍ〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線によるヒドロキシラジカルの発生を確認したことを示す図
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の実施の形態について、添付図面を用いて説明する。なお、本発明は、これら実施形態に何ら限定されるべきものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において、種々なる態様で実施し得る。実施形態１は、主に請求項１、２、３、４、９、１０、及び１１について説明する。実施形態２は、主に請求項５、６、７、８、及び１２について説明する。
＜実施形態１＞
【００２２】
本実施形態の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液は、過酸化水素の濃度が１w/v%以上７w/v%以下で、過酸化水素安定剤の濃度が当水溶液中で８１ｐｐｍ以下しか含まれないことを特徴とする。過酸化水素の濃度が１w/v%以下では十分にヒドロキシラジカルを発生できず殺菌の作業効率がわるく、７w/v%以上ではヒドロキシラジカルの発生量が多くなりすぎて少量の過酸化水素安定剤で１日から２日間程度品質を保持して保管することが困難となる。
【００２３】
本実施形態の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液には過酸化水素が含まれており、この過酸化水素が紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射によってヒドロキシルラジカルに分解され、口腔内の歯周病菌を殺菌する。殺菌力は、過酸化水素の濃度及び光の強弱の組み合わせによって調整可能である。たとえば、過酸化水素の濃度が３w/v%の場合、４０５ｎｍ前後（例えばプラスマイナス１０％程度の幅）の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射を行うことが考えられる。ここで、図１を参照する。図１は、本実施形態の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液による殺菌体であるヒドロキシラジカルの発生の概念図である。
【００２４】
分解前の過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）に対してレ紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線レーザーを照射すると、矢印のように光分解されてＨＯ・（エイチオードット：ドットは不対電子（ラジカル）の存在を示す）に変化する。このＨＯ・は不対電子をもつ構造であり、酸化力が強く、相手である歯周病菌の細胞膜などを酸化して破壊することによって殺菌を行う。
【００２５】
一方、過酸化水素水は安定性が低く流通、保管の段階で過酸化水素が分解してしまうので一般には安定剤を含有する。安定剤はリン酸、フェナセチン、アセトアニリドなどで一般に数百ppm含まれる。これらの安定剤はそれ自体では反応性が低く、過酸化水素がかかわる殺菌、漂白などの化学反応に影響を与えないからである。
【００２６】
ところが紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線レーザーの照射は過酸化水素であるか安定剤であるかを問わずに行われる。紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線レーザーはエネルギーが高いために化学物質を分解する能力が強力であり、反応性が一般に低い安定剤であっても分解されて未知の物質を生成する恐れがある。加えて過酸化水素に紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線レーザーを照射することにより生成するヒドロキシラジカルもその強い酸化力で安定剤を分解したり分解物どうしの未知の合成反応にて未知の化学物質する恐れがある。
【００２７】
そこで、過酸化水素安定剤の濃度と分解産物の有無との関係を明らかにするために、以下の実験を行った。
【００２８】
すなわち、安定剤としてのフェナセチン濃度が８１ｐｐｍである過酸化水素水溶液Ａ、安定剤としてのフェナセチン濃度が３３４ｐｐｍである過酸化水素水溶液Ｆ、及び安定剤としてのアセトアニリド濃度が１７７ｐｐｍである過酸化水素水溶液Ｊに対して、波長４０５ｎｍのレーザー光を照射して、照射前後におけるＨＰＬＣのクロマトグラムの変化の有無を評価した。
【００２９】
図２は、水溶液Ａに対してレーザー照射前にＨＰＬＣ測定を行った結果を示す図である。予定されている物質である過酸化水素とフェナセチン以外に含有されていないことが示されている。図３は、水溶液Ａに対して５分間のレーザー照射後にＨＰＬＣ測定を行った結果を示す図である。図２及び図３に示すように、５分間のレーザー照射ではクロマトグラムに大きな変化は認められなかった。つまり、５分間のレーザーの照射によって安定剤としてのフェナセチン濃度が８１ｐｐｍである過酸化水素水溶液Ａには新たな物質の生成は確認されていない。なお、５分間とするのは歯周病等の歯科治療において連続してレーザーを照射する時間はせいぜい数十秒程度であり、５分間レーザーを照射し続けて安全と見なされれば、実際の治療での安全が確保されると考えられるからである。
【００３０】
図４は、安定剤としてのフェナセチン濃度が３３４ｐｐｍである過酸化水素水溶液Ｆに対してレーザー照射前にＨＰＬＣ測定を行った結果を示す図である。水溶液Ｆに関してもレーザー照射前の含有物質として検出される物質は過酸化水素とフェナセチンのみである。図５は、水溶液Ｆに対して５分間のレーザー照射後にＨＰＬＣ測定を行った結果を示す図である。図４及び図５に示すように、５分間のレーザー照射でクロマトグラムに新たなピークが発生し、レーザー照射前になかった未知の物質の発生が安定剤としてのフェナセチン濃度が３３４ｐｐｍである過酸化水素水溶液Ｆに認められた（図５の矢印）。
【００３１】
図６は、安定剤としてのアセトアニリド濃度が１７７ｐｐｍである過酸化水素水溶液Ｊに対してレーザー照射前にＨＰＬＣ測定を行った結果を示す図である。水溶液Ｊについてもレーザー照射前には過酸化水素とアセトアニリド以外は検出されていない。図７は、水溶液Ｊに対して５分間のレーザー照射後にＨＰＬＣ測定を行った結果を示す図である。図６及び図７に示すように、５分間のレーザー照射でクロマトグラムに新たなピークが発生し、安定剤としてのアセトアニリド濃度が１７７ｐｐｍである過酸化水素水溶液Ｊにおいてレーザー照射前になかった未知の物質の発生が認められた（図７の矢印）。
【００３２】
以上の実験により、一般の過酸化水素水に含まれる安定剤であるフェナセチン及びアセトアニリドは、一定以上の濃度の場合、少なくとも５分間のレーザー照射で分解し、未知の物質である分解産物あるいは合成物が生成されることが示された。他方、フェナセチン濃度が８１ｐｐｍで、レーザー照射時間が５分以内であれば、分解産物が生成されないことが示された。
本実施形態の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液を用いて治療を行う際には、常に水溶液を出射し続けるため、過酸化水素水溶液が一定の場所にとどまってレーザー照射を受けることはない。したがって、５分間のレーザー照射で変化がなければ、臨床に用いた際にも新たな分解産物が生成されることはないといえる。
よって、本実施形態の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液には、過酸化水素安定剤が全く含まれないことが望ましいが、含まれる場合、その濃度は当水溶液中で８１ｐｐｍ以下である。反応による分解産物の観点からもコストの観点からも、過酸化水素安定剤の濃度は低いほど望ましい。過酸化水素安定剤としては、フェナセチン、アセトアニリド、リン酸、のいずれか一以上を用いることが考えられる。
なお、過酸化水素安定剤は、鉄などの金属イオンによって過酸化水素が分解されることを防止するために添加されている。そこで、過酸化水素の希釈に用いる精製水における鉄及び銅の分析を行ったところ、いずれも検出限界（０．０５ｍｇ／Ｌ）以下であることが確認された。安定剤を所定量以下しか含有しない濃度30w/v%程度の過酸化水素水の原液を冷暗所にて保管し精製水で3w/v%に希釈して作った過酸化水素水で、鉄及び銅が検出限界（０．０５ｍｇ／Ｌ）以下でフェナセチン、アセトアニリドの含有量が８１ppm(mg/L)以下であるものについて加速試験を行った結果室温で３年間は安定であるという結果が得られた。
過酸化水素の分解を防止する観点からは、本実施形態の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液には不純物重金属が全く含まれないことが望ましい。希釈後の過酸化水素水溶液中に不純物金属が含有されているか検出限界が０．０５ｍｇ／Ｌである装置によって検査した。その結果鉄、銅のいずれも検出されなかった。
【００３３】
したがって安定剤を８１ｐｐｍ以下しか含まない過酸化水素であっても、鉄や銅の含有が０．０５ｍｇ／Ｌ以下であれば、
【００３４】
つまり、安定剤を８１ｐｐｍ以下しか含まず、鉄や銅の含有が０．０５ｍｇ／Ｌ以下であれば、４０５ｎｍ前後（例えばプラスマイナス１０％程度の幅）の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射レーザー照射によって歯周病治療に十分なヒドロキシラジカルを発生させる過酸化水素水溶液とすることができる。
【００３５】
本実施形態の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液を歯のクリーニングに用いる場合には、たとえば、紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液と紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線とを出射するスケーラーチップを含む歯科治療装置を構成し、スケーラーチップ先端から紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液と紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線とを同時に出射することによってクリーニングを行うことが考えられる。
【００３６】
このように構成する場合、金属イオンは過酸化水素の分解を促進するため、スケーラーチップは少なくとも紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用水溶液の流通路内面が非金属面であることが望ましい。
【００３７】
なお過酸化水素水の濃度として、２w/v%以上６w/v%以下であるとなお好ましく、３w/v%前後２０%程度が最も好ましい。十分なヒドロキシラジカルの発生がある上に、安定剤がごく微量でも十分に長時間（３年程度以上）品質を保持できるからである。
＜実施形態２＞
【００３８】
本実施形態の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用歯磨剤は、歯磨剤本剤に対して過酸化水素の濃度が１w/v%以上７w/v%以下で、過酸化水素安定剤が本剤に対して８１ｐｐｍ以下しか含まれないことを特徴とする。本実施形態の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用歯磨剤における過酸化水素安定剤及び不純物重金属に関しては、実施形態１で説明したところと同様である。
【００３９】
本実施形態の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用歯磨剤を歯のクリーニングに用いる場合には、たとえば、ユーザーは、ブラシ植毛領域から紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線を照射するための紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射部を有する歯ブラシのブラシ部分に歯磨剤を塗布し、歯磨剤に対して紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線を照射しながら歯磨きを行うことによって、歯磨きと同時に口腔内を殺菌することが可能となる。
【００４０】
研磨剤としては、リン酸水素カルシウム、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム等を含有する。これらは化学的に安定であり、過酸化水素と反応しないし、レーザー照射によっても変質しない。発泡剤としては、ラウロイルサルコシンソーダ、ラウリル硫酸ナトリウム、を含有する。これらも紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射レーザー照射によって変質しないからである。また保湿剤としてのソルビトール、グリセリン、プロピレングリコール等や、結合材としてのアルギン酸ナトリウム、カルボキシメチルセルロース等は、本件発明の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射クリーニング用歯磨剤の紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線照射工程の後に利用するように構成してもよい。
＜安定剤分解物の毒性の確認＞
１．光照射オキシドール製品および光照射3% 過酸化水素水の濃縮乾固物の調製
【００４１】
前記過酸化水素水溶液Fおよび前記過酸化水素水溶液J，並びに3% 過酸化水素水（過酸化水素 30%、三徳化学工業（株）を純水で10倍に希釈  安定剤なし）の各200 μl を96穴マイクロプレートの各well に分注し、上方より405 nm レーザー（RV-1000, リコー光学（株））を600 mW の出力（放射照度 1800 mW/cm2）で20分間照射した（図8、図９中  LD（+））。
【００４２】
本操作を26回以上繰り返し行い、各サンプルにつき5 ml 以上を確保した。各サンプル５ml をガラスチューブに入れ、エバポレーター（Rotary Evaporator RE200、ヤマト科学（株））を用い、加温温度約40度、冷却水温約0度にて濃縮を行った。チューブに残った過酸化水素を分解するために5000 unit/mlのカタラーゼ (ウシ肝臓由来、和光純薬工業（株）)水溶液を200 μlを各チューブに分注した。
【００４３】
その後、さらにエバポレーターにかけ、乾固物を得た。
【００４４】
比較対照として光照射なしの過酸化水素水溶液FおよびJ，並びに3% 過酸化水素水の各5 ml も同様の処理を行い（図８、図９中  LD（−））、乾固物を得た。得られた乾固物に生理食塩水を2.5 ml 加え溶解し、0.22 μm のメンブランフィルターにてろ過滅菌したものを供試した。
２．増殖期のヒト歯肉線維芽細胞に対する各サンプルの影響
【００４５】
25 cm2 フラスコで37℃、5％CO2 条件下で培養したヒト歯肉線維芽細胞（（株）プライマリーセル）を0.25% Trypsin-EDTA液 (Life Technologies社)で処理し、常法に従い 細胞密度が2x104 cells/mlなるよう培地にて細胞懸濁液を調製した。
【００４６】
ここで培地は、Dulbecco's Modified Eagle Medium (DMEM, Life Technologies社) に、ウシ胎児血清 (Life Technologies社) およびペニシリン/ストレプトマイシン溶液（ペニシリン10000 units/mlおよびストレプトマイシン10 mg/ml、和光純薬工業（株））をそれぞれ10% (v/v) および 1% (v/v) になるよう添加したものを増殖用培地として用いた。
【００４７】
この細胞懸濁液を100 μl/well の割合で96穴マイクロプレートに播種した。37℃、5％CO2 条件下で約1日間培養後、各サンプルを100 μl/well の割合で加え、室温にて20分間放置した。各サンプルを除去後、培地にて1回洗浄した。培地を100 μl/well の割合で加え、37℃、5％CO2 条件下でさらに2日間培養後、MTT (methyl thiazolyl tetrazorium) 法により細胞増殖の程度を測定した。具体的には、培養後にMTT試薬（Trevigen社）を各wellに10 μlずつ加え、さらに37℃、5％CO2 条件下で２時間培養した。
【００４８】
培養後、Detergent試薬（Trevigen社）を各100 μl加え、遮光下、室温で2時間放置した。そして、595 nmでの吸光度をマイクロプレートリーダー(FilterMax F5, Molecular Devices社) を用いて測定した。サンプルの代わりに滅菌生理食塩水処理した群を対照群とし、対照群の吸光度を100%とした時の各処理群の割合(%)を算出した。対照群に対する有意差は、Dunnettの多重比較解析法で検定した。試験は2回行った。結果を図８（１回目）、図９（２回目）に示す。
光照射した過酸化水素水溶液FおよびJの濃縮乾固物の生理食塩水溶液は、いずれの試験においても増殖期のヒト歯肉線維芽細胞に対して20分間という短時間処理で非常に強い細胞毒性を示した。同条件で3% H2O2 水溶液の濃縮乾固物の生理食塩水溶液は、細胞毒性を示さなかった。
【００４９】
以上より安定剤、特にフェナセチン、アセトアニリドの紫外線又は／及び近紫外可視光線又は／及び８００〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線による分解物は人にとって有毒であることが確認された。
＜８００ｎｍ〜９００ｎｍの赤外線近傍領域光線によるヒドロキシラジカルの発生＞
【００５０】
図１０の例では、レーザー光の照射時間を変えて実験を行った。すなわち、ヒドロキシルラジカル発生の光照射時間依存性を調べた。同図において、□が１Ｍの場合を、◆が０．１Ｍの場合を示している。 濃度と照射時間に依存した信号強度（ＤＭＰＯ−ＯＨ）の増加が観測された。また、０．１Ｍの場合であってもヒドロキシルラジカルの発生が認められた。 本例は、８０５ｎｍの赤外光を照射した場合の例である。８０５ｎｍの赤外光の照射は、ガラスセル（直径３０ｍｍ、深さ５ｍｍ）に９９０μＬとＤＭＰＯ１０μＬ加え、照射した。 なお、赤外光を用いたレーザー照射装置は、株式会社ユニタック製を使用した。光照射前においては、ヒドロキシルラジカルは５μＭであった。光を照射すると、ヒドロキシルラジカルは、１０秒当たり２μｍずつ直線的に増加した。１０μＭ発生させるためには、２５秒以上照射すればよいことがわかった。赤外光（８０５ｎｍ）を過酸化水素（１Ｍ）に照射するとヒドロキシルラジカルの生成が明らかとなった。さらに、赤外線近傍領域では、８００〜９００ｎｍがより好ましい。８００〜９００ｎｍの範囲においては、他の範囲に比べてヒドロキシルラジカルの発生量が著しく増加するからである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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