Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】平成18年5月15日(2006.5.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気を導入するための空気ダクト（３）と、自動車の内部（５）への気流の出口用の流れ出口開口部（６，７）を備え、前記空気ダクトに導入される空気を制御する制御手段（４）とを備える自動車等のインストルメントパネル（１）の換気手段（１）であって、前記制御手段が、第１の動作状態（ａ）の場合においては自動車の内部へ導入された気流が第１の流れ出口開口部（６）によってのみ外部に流れ、第２の動作状態（ｂ）の場合においては自動車の内部へ導入された気流が第２の流れ出口開口部（７）によってのみ外部に流れるように設計される、換気手段。
【請求項２】
前記第１の流れ出口手段（６）が拡散流れを達成するために備えられ、
前記第２の流れ出口開口部（７）が配向された流れを達成するために備えられる、
請求項１に記載の換気手段。
【請求項３】
固定された接合部（８）上に関節状に取り付けられた流れ出口プレート（９）が前記第１の流れ出口開口部（９）と共に供され、前記第１の動作の状態（ａ）において、前記出口プレート（９）が前記空気ダクト（３）の断面に架掛される、請求項１乃至２のいずれかに記載の換気手段。
【請求項４】
両側が関節状に取り付けられている制御プレート（１０）を備え、前記制御プレートの片側（１１）が流れ出口プレートに結合するように配置され、前記制御プレートのもう一方の側（１２）が線形のガイド部（１３）に結合するように配置される、請求項３に記載の換気手段。
【請求項５】
固定された接合部（８）から離間した側の流れ前記出口プレート（９）が、層板の間に配置された残りの流れ出口プレートとある角度で配向された第２の流れ出口開口部（７）を備える、請求項４に記載の換気手段。
【請求項６】
前記第１の流れ出口開口部（６）と前記第２の流れ出口開口部（７）が前記制御プレート（１０）によって離間される、請求項５に記載の換気手段。
【請求項７】
前記第１の流れ出口開口部（６）が気流の強度を増加させるべく設計され、
前記調整手段（４）が前記第１の状態（ａ）から第２の状態（ｂ）へと移行する、
請求項１乃至６のいずれかに記載の換気手段。
【請求項８】
前記第２の流れ出口開口部（７）からの気流の出口方向が、気流の強度によって変化する、請求項１乃至７のいずれかに記載の換気手段。
【請求項９】
前記制御手段が、前記気流の前記強度の一時可変「閉ループ」制御用に備えられる、請求項８に記載の換気手段。
【請求項１０】
前記換気手段が略中央において乗用車のインストルメントパネルの上側に備えられる、請求項１乃至９のいずれかに記載の換気手段。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】
他の物に加えて、調整手段４は流れ出口プレート９を備える。これは小さな面積の断面部分を有する第１の出口開口部６を備え、車内の方向への気流を伴って、ここで実質的に拡散する気流を生成する。流れ出口プレート９は固定された接合部と関節状に接合されるように配置されている。流れ出口プレート９はさらに、固定された接合部８と離れたその端の部分で（図において状態ｂの上部右側に見られる）制御プレート１０に流れ出口プレート９を関節状に接合する接合部をさらに備えている。制御プレート１０は反対側に、僅かに曲った線形のガイドレール１３に関節状に取り付けられるか導かれる。状態ｂの動きにおいて、この接合部はガイドレール１３の頂上の中央部に位置している。状態ａの動きにおいて、この接合部はガイドレール１３の底の中央部に位置している。制御プレート１０は実質的に気密の様態で設計されているので、状態ａの動きにおいて右のダクト壁は制御プレート１０によって形成されており、このように気流は、流れ出口プレート９から実質的に垂直にかつ拡散的に流れる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月6日(2006.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線治療の送達方法において、
第１画像を含むとともに関心領域を特定した患者に対する放射線処置計画を生成し、
関心領域を含む患者の第２画像を取得し、
第１画像に対して第２画像を比較し、
第２画像における関心領域の位置に基づいて患者の位置及び放射線送達パラメータの一方を調整し、
放射線を患者に送達するようにした方法。
【請求項２】
第２画像中の関心領域が第１画像中とは異なる位置に存在しているか否かを判定することを更に含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記関心領域は患者の内部にある請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第２画像中の関心領域の位置に基づいて患者に送達されるべき放射線処置計画を評価することを更に含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第２画像中の関心領域の位置に基づいて放射線処置計画の線量投与分布を決定することを更に含む請求項４に記載の方法。
【請求項６】
放射線治療の送達方法において、
第１画像を含むとともに関心領域を特定した患者に対する放射線処置計画を生成し、
放射線送達装置に対して患者を位置決めし、
関心領域を含んだ患者の第２画像を取得し、
第２画像中の関心領域の位置に基づいて患者に送達すべき放射線処置計画を評価し、
第１画像及び第２画像中の関心領域の位置とはことなる関心領域の位置に基づいて異なる放射線処置計画を決定し、
放射線処置計画の一つを選択し、
選択した放射線処置計画に基づいて患者の位置及び放射線送達計画の一方を調整することからなる方法。
【請求項７】
異なる放射線処置計画の決定には、異なる放射線処置計画についての線量投与分布を決定することが更に含まれる請求項６に記載の方法。
【請求項８】
放射線処置計画の一つの選択は前記線量投与分布に基づく請求項７に記載の方法。
【請求項９】
放射線処置計画の一つの選択は関心領域の好適な位置に基づく請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
放射線処置の送達を変更する方法において、
第１画像を含むとともに関心領域を特定した患者に対する放射線処置計画を生成し、
放射線送達装置に対して患者を位置決めし、
関心領域を含んだ患者の第２画像を取得し、
輪郭化された解剖学的構造による線量再位置決め技術及び日々の選択による複数のマージンによる最適化技術の一方を第２画像に基づいて使用して放射線処置計画の送達を変更するか否かを決定する方法。
【請求項１１】
選択した技術に基づいて患者の位置及び放射線送達計画の一方を調整することを更に含む請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
輪郭化された解剖学的構造による線量再位置決め技術は患者の新たな位置を決定するために第１画像及び第２画像を自動的に融合することからなる請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
患者の新たな位置の決定は関心領域に対する線量投与分布に基づく請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
放射線処置計画は複数の送達計画を含み、日々の選択による複数のマージンによる最適化技術は第２画像中の関心領域の位置に基づいて送達計画の一つを選択することを含む請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
各送達計画は第１画像中の関心領域の位置に基づいて関心領域の周りにマージンを形成する輪郭を含む請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
放射線治療の送達方法において、
患者の関心領域の第１画像を取得し、
第１画像に基づいて患者のための複数の放射線処置計画を生成し、
関心領域の第２画像を取得し、
第２画像中の関心領域の位置に基づいて放射線処置計画の一つを選択することを含む方法。
【請求項１７】
第１画像中の関心領域の位置を第２画像中の関心領域の位置と比較することをさらに含む請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
各放射線処置計画は第１画像中の関心領域の位置に基づいて関心領域の周りにマージンを形成する輪郭を含む請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
放射線治療を送達するシステムにおいて、
コンピュータと、
コンピュータに接続されるとともに、関心領域を特定する第１画像に基づいて放射線治療処置計画に関する情報を格納し、かつ、関心領域を特定する第２画像に関する情報を格納するデータベースと、
コンピュータによってアクセス可能であってコンピュータにて読み取り可能な媒体中に格納され、かつ、第１画像と第２画像との間の関心領域の位置における変化を決定するために動作可能であるとともに、関心領域への放射線の送達前に関心領域の位置及び放射線治療処置計画の一方を自動的に変更するために動作可能なソフトウェアプログラムと
からなるシステム。
【請求項２０】
関心領域は患者の内部にある請求項１９に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月9日(2005.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）ｉ）フィラメント状物品の露出部分の少なくとも一部に実質的にむらのあるコーティングを直接的または間接的に適用するか、またはｉｉ）回転支持体に実質的にむらのあるコーティングを適用する、コーティングステーションと、
ｂ）前記フィラメント状物品または回転支持体の長手方向に沿う異なる位置で液状コーティングに周期的に接触または再接触する２つ以上の回転ロールを具備する改善ステーションと、
ｃ）前記実質的にむらのあるコーティングを前記回転支持体に適用し、前記ロールに接触させる場合には、得られたより均一なコーティングを前記フィラメント状物品に転移させるための転移ステーションと、
を含み、前記ロールの周期によって前記コーティングの均一性が改善される装置。
【請求項２】
前記フィラメント状物品または回転支持体が移動方向を有し、前記ロールのうちの少なくとも１つのロールの回転方向が前記移動方向と同一である、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
ａ）フィラメント状物品の露出部分の少なくとも一部にボイドまたは実質的にむらのあるコーティングを適用し、実質的に不均一にコーティングされた前記フィラメント状物品を、コーティングによって濡れた複数のロールを具備する改善ステーションに通過させるか、または
ｂ）回転支持体にボイドまたは実質的にむらのあるコーティングを適用し、そのコーティングを、コーティングによって濡れた複数のロールに接触させること、
を含み、前記ロールが、
ｃ）前記フィラメント状物品の長手方向に沿って、または
ｄ）前記回転支持体の周囲の異なる位置で、
まだ乾いていないコーティングと接触および再接触し、前記ロールの周期によって前記コーティングの均一性が改善されることを特徴とするフィラメント状物品のコーティング方法。
【請求項４】
前記フィラメント状物品または回転支持体が移動方向を有し、前記ロールのうち少なくとも１つのロールの回転方向が前記移動方向と同一である、請求項３に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成18年2月10日(2006.2.10)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
本発明の思想の有利な態様にしたがって、中空のラムに加えて、またはそれに代えてマイクロコンポーネントに面するライン接続の端部に配置される円錐状部が提供される。このタイプの円錐状部は、適合する関連の穴が設計されたマイクロコンポーネントに対して押圧されるライン接続の導入および位置決めを簡略化する。
弾性物質からなる円錐状部が好適に提供される。ライン接続の端部に弾性を有する円錐状部を設計することによって、さらなる密封処置または追加のシーリングデバイスを用いなくとも、マイクロコンポーネントとそれに対して押圧されるライン接続との間にこの円錐状部がしっかりと密封された接続を形成することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月22日(2006.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくともＴｉＣｌ４、任意的な１以上の慣用の電子ドナー、および式ＴｉＸｘ（ＯＲ）ｚ（Ｘはハロゲンであり、Ｒはアルキルであり、ｘ＝０〜３、ｚ＝１〜４、および２＜ｘ＋ｚ＜４であり、上記分子は電荷が中性である。）の１以上のチタン（ハロ）アルコキシドを含む廃棄流を処理する方法において、該方法が熱処理工程を含み、該熱処理工程の条件が、該熱処理工程からの残渣が２０℃の温度で粒子物質の形状の最終廃棄物であるように選択されるところの方法。
【請求項２】
Ｒが１〜１０個の炭素原子を有する低級アルキルである、請求項１記載の方法。
【請求項３】
熱処理が、大気圧および１６０℃以上の温度、またはそれと同等であり得る圧力／温度の条件での工程を含む、請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
圧力が大気圧以上である、請求項３記載の方法。
【請求項５】
入ってくる廃棄流中に存在する本質的に全ての希釈剤または溶媒が回収される、請求項1〜４の何れか１項記載の方法。
【請求項６】
チタン（ハロ）アルコキシドの少なくとも一部が分解されて１以上のＴｉ（ハロ）オキシドおよび／またはアルキルハライドが形成されるように条件が選択される、請求項1〜５の何れか１項記載の方法。
【請求項７】
本質的に全てのＴｉＣｌ４が廃棄流から回収されるように条件が選択される、請求項1〜６の何れか１項記載の方法。
【請求項８】
該熱処理工程の前に慣用の蒸留工程を含む、請求項1〜７の何れか１項記載の方法。
【請求項９】
熱処理工程の凝縮物が、精製のための蒸留工程へ再循環される、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
蒸留および／または熱処理工程からのＴｉＣｌ４含有留出物流が、Ｔｉに基づくチーグラーナッタ触媒の製造プロセスへ再循環される、請求項1〜９の何れか１項記載の方法。
【請求項１１】
該方法に導入されまたは該方法において形成されるＴｉＣｌ４の沸点より低い沸点を有するアルキルハライドが回収される、請求項1〜１０の何れか１項記載の方法。
【請求項１２】
熱処理工程の間、反応混合物が撹拌されまたは動かされる、請求項1〜１１の何れか１項記載の方法。
【請求項１３】
ｉ）中和および／または加水分解、ii）慣用の酸化、iii）固体マトリックス中への廃棄物の混入、ｉｖ）熱分解、ｖ）熱加水分解、ｖｉ）他の廃棄物質との混合、ｖii）廃棄物がＴｉ源として役立ち得るところのプロセスへの固体廃棄生成物の再循環、およびｖiii）適切な希釈剤／凝集助剤による希釈／結合から成る群から選択される１以上の更なる工程を任意の順序で含む、請求項1〜１２の何れか１項記載の方法。
【請求項１４】
該方法の最終廃棄物中に存在する１以上の慣用の（複合体にされた）電子ドナーまたは他の有益な化合物が、加水分解、抽出または他の慣用の技術によって回収されるところの工程をさらに含む、請求項1〜１３の何れか１項記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
新規方法は、熱処理工程からの残渣が粒子物質の形状、例えば固体、多孔性および／または中空（例えば液体で満たされる）の粒子、大きい塊（chunks）、塊（lumps）、凝塊、顆粒、小片、小球、フレークの形状の最終廃棄物であり、２０℃の温度で、好ましくは９０℃の温度で、最も好ましくは熱処理温度で、吸収されたおよび／または吸着された液体をなおも含み得るようにプロセス条件が選択されるところの熱処理工程を含むことを特徴とする。最も好ましくは、上記残渣が、これらの温度で自由に流動する粉末である。好ましい実施態様の粒子物質の粒子サイズは、本発明に必須ではない。好ましくは、取扱いを容易にするために、粒子サイズが０．１μｍ〜１０ｃｍ、より好ましくは０．２μｍ〜４ｃｍの範囲である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
なお、特定の要件、例えばリサイクル仕様および／または地方の廃棄物規則、に応じて、最終廃棄物は、結果を最適にするために、下記処理工程の任意の１以上を任意の順序で使用してさらに処理される。ｉ）例えば（水性）（土類）アルカリ（ヒドロ）酸化物を用いる、その後の慣用の処理における中和および／または加水分解、ii）例えば高められた温度の空気を用いての、（有機）化合物を酸化するための慣用の酸化、もし条件が適切に選択されるならば、唯一の残留Ｔｉ化合物はそのとき、ＴｉＯ２である、iii）慣用のエンキャプシュレーション法、溶融および／または焼結法による、固体の好ましくは無機のマトリックス、例えばガラス、中への廃棄物の混入、ｉｖ）慣用の方法での有機化合物の熱分解、ｖ）熱加水分解、水の存在下および酸素の不存在下での熱処理、ｖｉ）他の廃棄物質との混合、ｖii）廃棄物がＴｉ源として役立ち得るところのプロセス、例えばＴｉ塩および／またはＴｉ酸化物が製造されるところのプロセス、への固体廃棄生成物の再循環、およびｖiii）例えば溶液、懸濁物、スラリー、ペースト、凝集物、および／または他の粒子物質、例えばペレット、小球など、を形成するための、適切な希釈剤／凝集助剤による希釈／結合（combination）。所望するならば、更なる処理工程の各々が、１以上の続く反応容器中で行われ得る。しかし、便利ならば、１つの同じ反応器もプロセス全体のために使用され得る。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
熱処理の終わりの最終廃棄物は粒子物質である。好ましくは、上記粒子物質は、２０℃の温度、好ましくは９０℃の温度で自由に流動する。これは、生成する廃棄流の本質的に全ての液体溶媒／希釈剤が上記方法において再循環されていることを意味する。好ましい最終のチタン（ハロ）オキシド含有廃棄物は本質的に無害であるため、所望により、上記で述べた任意的な工程ｉ〜ｖiiiの任意の１以上の後、および規則に応じて、任意の適する手段によって処分され得る。上記廃棄物の現在のはるかに低い危険分類故に、実質的な経済上および取扱い上の利点が生じる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月19日(2005.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）処理が望ましい水（２０）を含む流入液を、該水中の不所望の微小有機体の細胞壁を破壊するのに十分な量のオゾン（２１）に曝し、これにより微小有機体内から栄養素を生物同化を受け入れる形態で解放する工程であって、該オゾンは、更に、毒性、有機性、かつタンニン性の化合物を生物同化を受け入れる形態に酸化するのに十分な量である該工程、及び（ｂ）前記解放し、酸化した栄養素を除去するようにした水生植物（２２）を前記オゾンに暴した水と接触させる工程を含む水処理方法。
【請求項２】
前記水生植物が、付着した藻類の群落を含み、かつ該方法が、（ｃ）該藻類群落を出る水を、追加のオゾン処理（２３）に曝す工程、及び（ｄ）該更にオゾンに曝した水を、第二の付着した藻類の群落（２４）上に流す工程を更に含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
工程（ａ）の前に、前記流入液を化学凝集により前処理して、過剰の栄養素の若干を沈殿させる工程を更に含む請求項１に記載の方法。
【請求項４】
該方法が、前記水流し工程に続いて、前記水をオゾン（２３）で後処理する工程を更に含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
該方法が、前記水流し工程に続いて、前記水を活性炭フィルターに通す工程を更に含む請求項１に記載の方法。
【請求項６】
処理が望ましい水を含む流入液を、該水中の不所望の微小有機体の細胞壁を破壊するのに十分な量のオゾンに曝し、これにより微小有機体内から栄養素を生物同化を受け入れる形態で解放するための手段（１３）であって、該オゾンは、更に毒性、有機性、かつタンニン性の化合物を生物同化を受け入れる形態に酸化するのに十分な量である該手段（１３）；前記オゾンに暴した水から前記解放した栄養素及び前記酸化した化合物を除去するようにした水生植物（２２）；及び前記オゾンに曝した水を前記水曝し手段から前記水生植物に向けるための手段（１８）を含む、過剰の栄養素を含む水の処理システム。
【請求項７】
前記曝し手段が、容器（１１）；前記流入液を前記容器の底部（１５）近くに搬送するための流入液ライン（１４）；前記容器の底部（１５）近くにオゾン化水を噴射すると共に、前記流入液及びオゾン化水を容器の上方に流しながら、混合し、これによりオゾンに曝した水を形成するためのオゾンライン（１３）を含むと共に、前記オゾンに曝した水を向けるための手段が、水を前記容器の頂部（１７）近くから前記水生植物（２２）に搬送するための手段を含む請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
該システムが、活性炭フィルターと、前記水生植物（２２）の下流の該フィルターに前記水を通す手段とを更に含む請求項６に記載のシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】オゾンを用いた水生植物ろ過用前処理兼後処理システム及び方法
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月28日(2006.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多層テープを集合させる方法であって、電磁放射線によるテープの溶融結合を含み、テープが、少なくとも一方向に配向されていて且つ放射線に対して透明である少なくとも一つのプラスチック層と、放射線によって運ばれるエネルギーを部分的に吸収する少なくとも一つの層を含み、集合体の少なくとも一つのテープの一つの面がプラスチックで予め形成されている支持体に溶融結合される事を特徴とする方法。
【請求項２】
少なくとも二つのテープが溶融結合される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
テープのプラスチックの少なくとも一つの層が単一方向に配向されている、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
電磁放射線が７００〜１２００ｎｍの範囲の波長を有する、請求項１〜３のいずれか1項記載の方法。
【請求項５】
電磁放射線がレーザー放射線である、請求項1〜４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
プラスチックで予め形成されている支持体が非配向のプラスチック管状支持体である、請求項１〜５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
電磁放射線の吸収を担う材料がカーボンブラックである、請求項１〜６のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
多層テープの少なくとも二つの隣接する厚味が溶融結合されている、非配向プラスチックコアを含むプラスチック複合管であって、前記テープが一緒に巻かれて結合されていて、各テープの少なくとも一つの層は電磁放射線に対して透明なプラスチックで形成され且つ少なくとも一方向に配向され、各テープの少なくとも今一方の層は電磁放射線を吸収する材料を含む事を特徴とするプラスチック複合管。
【請求項９】
吸収材を含む層も配向されている、請求項８に記載のプラスチック複合管。
【請求項１０】
テープが、配向された材料の層で形成されており、７００〜１２００ｎｍの範囲の波長の電磁放射線に対して透明であり、透明層と同じ方向で配向された同じプラスチックを含み、及び該放射線を吸収する材料を含む二つの薄い層の間に配置されている、請求項８又は９に記載のプラスチック複合管。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月13日(2006.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ
【化１】
2005518966.tif 000001
の化合物、および式ＩＩ
【化２】
2005518966.tif 000002
〔式中、Ｒ1は、Ｃ1〜Ｃ20アルキルまたはＣ6〜Ｃ10アリールであり、これらはハロゲン、Ｃ1〜Ｃ４アルキル、−ＮＲ2Ｒ3（ここでＲ2およびＲ3は、相互に独立して水素またはＣ1〜Ｃ8アルキルを表す）、またはＣ1〜Ｃ8アシルアミノによって１〜３回置換されることができる〕の化合物
を含む、顕色剤の混合物。
【請求項２】
化合物Ｉの化合物ＩＩに対する重量比が９９９：１〜１：１の範囲で選択される、請求項１記載の混合物。
【請求項３】
ａ）基材シートと、
ｂ）基材シートの表面上に形成された、
ｂ１）発色剤化合物と
ｂ２）請求項１記載の顕色剤の混合物と
を含む感熱性着色像形成層と
を含む感熱性記録材料。
【請求項４】
ａ）基板シートと、
ｂ）基板シートの表面上に形成された、
ｂ１）発色剤化合物と
ｂ２）請求項１記載の顕色剤の混合物と
ｂ３）安定剤および／または増感剤と
から本質的になる感熱性着色像形成層と
から本質的になる請求項３記載の感熱性記録材料。
【請求項５】
感熱性記録材料製造用の感熱性着色像形成層の製造のための、請求項１記載の混合物の使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【化４】
2005518966.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月24日(2006.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つの刻印型（２５）と、刻印対象である製品に前記刻印型を打ち込むための打撃装置（３）と、を含む金属製品特に連続鋳造製品のための刻印装置であって、前記打撃装置（３）が、
前記刻印型（２５）を打撃する打撃ピン（６）と、
前記打撃ピンを駆動する打撃スプリング（８）と、
前記打撃スプリングに作用する装置（１５）を有する駆動手段（１２）と、
を備えることを特徴とする刻印装置。
【請求項２】
前記駆動手段（１２）が、電動機からなる装置（１５）によって駆動でき、
それによって、前記打撃スプリング（８）が反発力を与えられ、その後反発力付与状態を保持し、続いて制御された状態で反発力が開放される、
ことを特徴とする請求項１記載の刻印装置。
【請求項３】
前記打撃ピン（６）の打撃スプリング（８）は、固定支持軸受（９）と前記打撃ピン（６）に備わる支持カラー（１０）との間に配置され、且つ前記支持カラー（１０）に対して押圧するカム手段（１２）によって、前記打撃スプリング（８）の反発力の方向に作用できる、
ことを特徴とする請求項１または２記載の刻印装置。
【請求項４】
前記カム手段（１２）が、前記電動機からなる装置（１５）によって回転させることができ且つ対向配置された二つのカム（１４ａ、１４ｂ）を備えるカムキャリヤー（１３）を含むことを特徴とする請求項３に記載の刻印装置。
【請求項５】
前記カム手段（１２）が、ウオーム歯車（１６）によって駆動できることを特徴とする請求項３または４に記載の刻印装置。
【請求項６】
前記打撃装置（３）が、前記打撃ピン（６）のための案内軸受（７ａ、７ｂ）を有する実装構造体（５）を備え、且つ前記支持カラー（１０）が実装構造体（５）内に配置された案内手段（１１）に沿って滑ることを特徴とする請求項３〜５のいずれか１項に記載の刻印装置。
【請求項７】
一つの案内軸受（７ａ）が、前記打撃スプリング（８）のための固定支持軸受（９）として使用されることを特徴とする請求項６に記載の刻印装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月7日(2006.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
(ａ)２０ｍ２／ｇよりも大きい表面積を有し、２００℃より高い温度でか焼されている金属酸化物であり、アセトンで飽和され、前記アセトンで２５℃において１時間接触させたときに、アセトンの８０％より多くを変換させる金属酸化物、
(ｂ)バインダー、
(ｃ)マトリックス物質及び
(ｄ)５オングストローム未満の平均細孔サイズを有する分子篩
を含有する触媒組成物。
【請求項２】
金属酸化物の表面積が７０ｍ２／ｇよりも大きい、請求項１に記載の触媒組成物。
【請求項３】
金属酸化物が、元素の周期表の２族から選ばれる、請求項１又は請求項２に記載の触媒組成物。
【請求項４】
３族の金属酸化物をさらに含有する、請求項３に記載の触媒組成物。
【請求項５】
分子篩、及び少なくとも一つの、元素周期表の２族から選ばれる金属の酸化物を含有し、金属酸化物が、１００℃において、少なくとも０.０３ｍｇ／金属酸化物ｍ２の、二酸化炭素の取り込みを有する、触媒組成物。
【請求項６】
(ａ)シリコアルミノ燐酸塩分子篩及び／又はアルミノ燐酸塩分子篩、バインダー及びマトリックス物質を配合させ、触媒前駆体を生成し、(ｂ)前記触媒前駆体に、２００℃乃至７００℃の範囲の温度にか焼された少なくとも一つの金属酸化物を添加することを含む、触媒組成物を製造する方法。
【請求項７】
分子篩、バインダー、マトリックス物質及び金属酸化物を含有する分子篩触媒組成物であり、金属酸化物は、アセトンで飽和され、前記アセトンで２５℃において１時間接触させたときに、アセトンの８０％より多くを変換させる、分子篩触媒組成物の存在下で、供給原料を一つ以上のオレフィンに変換する方法。
【請求項８】
少なくとも一つのオキシジェネートを含有する供給原料を、小細孔分子篩、バインダー、マトリックス物質、２００℃乃至７００℃の範囲の温度にか焼されている酸化マグネシウム、及び３族金属酸化物を含有する触媒組成物と接触させることを含む、一つ以上のオレフィンを生成する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月7日(2006.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分子篩、並びに少なくとも一つの、元素の周期表の３族、元素のランタニド系列及び元素のアクチニド系列から選ばれる金属の酸化物を含有する触媒組成物であり、前記金属酸化物が、１００℃において、少なくとも０.０３ｍｇ／金属酸化物ｍ２の、二酸化炭素の取り込みを有する、触媒組成物。
【請求項２】
３族金属酸化物及び／又はランタニド元素又はアクチニド系列元素の酸化物、バインダー、マトリックス物質及びシリコアルミノ燐酸塩分子篩を含有する分子篩触媒組成物。
【請求項３】
分子篩を含有する第一の粒子を、少なくとも一つの、元素の周期表の３族、元素のランタニド系列及び元素のアクチニド系列から選ばれる金属の酸化物を含有する第二の粒子と、物理的に混合することを含む、触媒組成物を生成する方法であり、前記金属酸化物が、１００℃において、少なくとも０.０３ｍｇ／金属酸化物ｍ２の、二酸化炭素の取り込みを有する、方法。
【請求項４】
分子篩、並びに少なくとも一つの、元素の周期表の３族、元素のランタニド系列及び元素のアクチニド系列から選ばれる金属の酸化物を含有する触媒組成物であり、前記金属酸化物が、１００℃において、少なくとも０.０３ｍｇ／金属酸化物ｍ２の、二酸化炭素の取り込みを有する、触媒組成物の存在下で、供給原料を、一つ以上のオレフィンに変換する方法。
【請求項５】
請求項３に記載の方法により生成される触媒組成物の存在下で、供給原料を一つ以上のオレフィンに変換する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月24日(2005.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミナ担体上に担持した銀を含むエチレンオキサイド製造用触媒の製造方法において、銀を沈着させる前に前記担体に水−熱処理を行い、前記水−熱処理が、担体の２００℃を超える温度での焼成をはさんで少なくとも２回の担体洗浄からなる一連の処理系列を含む改良。
【請求項２】
前記水−熱処理が、その間に担体の３００℃〜１０００℃の温度範囲での焼成をはさんで少なくとも２回の担体洗浄からなる一連の処理系列を含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記担体が一連の１から５回の洗浄サイクルに供され、次に、前記担体が一連の１から５回の洗浄サイクルに再び供される前に２００°を超える特定温度で焼成される、一連の担体洗浄と担体焼成のサイクルを前記水−熱担体処理が含む請求項１に記載の方法。
【請求項４】
洗浄−焼成−洗浄という一連の処理が、全部で２から５回の洗浄サイクルに前記担体が供されるまで繰り返され、各洗浄サイクルが１から５回の個々の担体洗浄を含み、順次行なわれる洗浄サイクルの間に１から４回の焼成サイクルが置かれる請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記担体焼成が少なくとも０．５時間継続される請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記担体焼成が空気、または、酸素を含む他の気体雰囲気で実施される請求項６に記載の方法。
【請求項７】
前記担体焼成が本質的に酸素を含まない気体雰囲気で実施される請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記担体が、前記水−熱担体処理の後、５０〜１０００℃に加熱される請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記水−熱処理が、本質的に不純物を含まない水での担体洗浄を含む請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記水−熱担体処理が、フッ化アンモニウムのモル濃度が０．０００１と５．０の間であるフッ化アンモニウム水溶液での担体洗浄を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記水−熱担体処理が、ハロゲン化水素酸もしくはオキシハロゲン化水素酸、または、窒素、リンおよび硫黄のオキシ酸が含まれる無機酸、あるいは、カルボン酸、もしくはスルホン酸、もしくはホスホン酸などの、ヒドロニウムイオンのモル濃度が０．０００１と５．０の間である水溶液での担体洗浄を含む請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記水−熱担体処理が、アルカリ金属イオン（ＩＡ族）、アルカリ土類金属イオン（ＩＩＡ族）もしくはアンモニウムイオンと、酢酸イオン、炭酸イオン、水酸化物イオン、ハロゲン化物イオン、硝酸イオン、シュウ酸イオン、リン酸イオン、硫酸イオンなどとの塩の、塩のモル濃度が０．０００１と５．０の間である水溶液での担体洗浄を含む請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
請求項１に記載の方法で調製されたエチレンオキシド触媒担体。
【請求項１４】
請求項１に記載の担体に坦持された銀を含むエチレンオキシド触媒。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月27日(2006.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
容器内の溶融金属に気体を供給するための気体放出インペラであって、ボア孔（１１０）と、気体供給源に結合されてなる第１の端部（１０６）と、前記容器の底部（１０４）に設けられた開口を介して前記容器中を上方に延びる第２の端部（１１２）とを有している回転可能な中空シャフト（１０２）を備え、
前記シャフトにおける第２の端部は、前記ボア孔と流体連通する気体放出ノズル（１１４）を含み、
さらに、前記シャフトをその長手方向軸線を中心として回転させるための駆動手段を有するインペラにおいて、
前記回転可能なシャフトは、前記容器の底部において前記開口からの流体の漏れを防止するためのシール（１１８、１３０）を有し、該シールは、前記回転可能なシャフト及び前記容器と直接的な密封係合をなして、前記回転可能なシャフトと前記容器との間に液封を形成する、ことを特徴とするインペラ。
【請求項２】
前記容器の底部と密封係合を形成するために、前記シャフトを前記シールに対して下方に付勢するための手段をさらに有する、請求項１に記載のインペラ。
【請求項３】
前記シールは、環状サポート（１１８）と、環状ブッシュ（１３０）とを有し、前記サポートは、前記容器開口を貫通する下部（１１７）と、前記容器内に延びる上部（１２１）とを有し、前記サポート上部は、前記ブッシュ（１３０）を支持するためのサポ−ト表面（１２８）を有し、前記サポートとブッシュとは、前記シャフトの第２の端部の円周のまわりに同軸上に設けられ、前記ブッシュは、前記シャフトの円周と密封係合する、請求項２に記載のインペラ。
【請求項４】
前記サポート上部（１２１）は、外方にフレア状に広げられた肩部（１２４）を有し、前記肩部は、前記容器を密封係合するために、前記容器開口より広い、請求項３に記載のインペラ。
【請求項５】
前記サポート上部は、円錐状の外表面を有する請求項４に記載のインペラ。
【請求項６】
前記付勢手段は、バネ（１５２）を有する請求項５に記載のインペラ。
【請求項７】
前記シャフトは、前記容器の下に少なくとも１つのベアリング（１４２、１５６）を有する請求項６に記載のインペラ。
【請求項８】
前記ブッシュ（１３０）と前記サポート（１１８）とは、セラミック、炭化物、グラファイト、硼化チタン、タングステン、アルミナ、酸化ジルコニウム、炭化珪素、窒化珪素、窒化硼素、炭化チタン、及び炭化タングステンの群から選択された材料から形成される、請求項７に記載のインペラ。
【請求項９】
前記溶融金属に接触する前記インペラの部分は、前記溶融金属をはじく材料から形成されている請求項８に記載のインペラ。
【請求項１０】
前記溶融金属に接触する前記インペラの部分は、前記溶融金属をはじく材料によって被覆されていることを特徴とする請求項８に記載のインペラ。
【請求項１１】
溶融金属から発泡金属を生成するためのシステムであって、前記溶融金属を含む容器であって、底部に開口を有する容器と、請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の前記インペラとを有することを特徴とするシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月7日(2006.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分子篩、並びに少なくとも一つの、元素周期表４族から選ばれる金属の酸化物を含有する触媒組成物であり、前記金属酸化物が、１００℃において、少なくとも０.０３ｍｇ／金属酸化物ｍ２の、二酸化炭素の取り込みを有する、触媒組成物
【請求項２】
活性な４族金属酸化物及び２族及び／又は３族金属酸化物、バインダー、マトリックス物質及びシリコアルミノ燐酸塩分子篩を含有する分子篩触媒組成物。
【請求項３】
分子篩を含有する第一の粒子を、４族金属酸化物を含有し、１００℃において、少なくとも０.０３ｍｇ／金属酸化物粒子ｍ２の、二酸化炭素の取り込みを有する第二の粒子と、物理的に混合することを含む、触媒組成物を生成する方法。
【請求項４】
分子篩、及び１００℃において、少なくとも０.０３ｍｇ／金属酸化物ｍ２の、二酸化炭素の取り込みを有する活性な４族金属酸化物を含有する触媒組成物の存在下で、供給原料を一つ以上のオレフィンに変換する方法。
【請求項５】
分子篩、バインダー、マトリックス物質、並びにバインダー及びマトリックス物質とは異なる金属酸化物の混合物を含有する分子篩触媒組成物の存在下で、供給原料を一つ以上のオレフィンに変換する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月9日(2005.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
中空楔形状光ガイドにして、
互いに平行に対向する頂部縁および底部縁ならびに互いに平行に対向する側面を有する、光のための長方形入力穴と、
前記長方形入力穴の前記頂部縁に取り付けられた透明頂部平坦シートであって、前記長方形入力穴に対して直交しており、且つ、光の出口穴を形成する透明頂部平坦シートと、
前記長方形入力穴の前記底部縁に固定された底部平坦シートと、
を備え、
該底部平坦シートは前記頂部平坦シートに向かって傾斜し、前記頂部平坦シートと前記底部平坦シートとの間で前記光ガイドの長さにそって減少する間隙を形成しており、
前記頂部平坦シートは内部全反射形体を有する外面をさらに備え、前記内部全反射形体のそれぞれは、直角三角形断面を備え、且つ、前記長方形入力穴の前記頂部縁に垂直な前記頂部平坦シートの長さ方向に延びており、
前記底部平坦シートは一つの面上に反射光採収形体を含み、
前記反射光採収形体は、前記長方形入力穴に平行な面に対して傾斜されており且つ前記出口穴に直角な軸の周りを回転せしめられている面を含む、
中空楔形状光ガイド。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月26日(2006.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
請求項１記載の方法を実行するよう設計されることを特徴とするコンピュータプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
請求項６記載のコンピュータプログラムを有することを特徴とする記憶装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月24日(2006.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スイッチング信号の発生のためのトランスポンダにより作動されるスイッチングデバイスであって、
−  コンデンサ（Ｃ１），識別コイル（Ｌ１）及び発振器増幅器（１２）を有する発振回路（１０）、および
−  前記発振回路（１０）において同調された前記周波数（ｆ１）を評価し、変化を見いだしたときにスイッチング信号（Ｓ）を発生する周波数監視器（２０）、
を備え、
−  前記識別コイル（Ｌ１）及び前記コンデンサ（Ｃ１）が前記発振回路（１０）の共振周波数（ｆ１）を決定するものである、
スイッチングデバイスにおいて、
前記識別コイル（Ｌ１）がスイッチ（３０）を介して前記機能回路（４０）に接続され得ることを特徴とするスイッチングデバイス。
【請求項２】
前記スイッチング信号（Ｓ）が制御線（２２）を介して機能回路（４０）に送られることを特徴とする請求項１に記載のスイッチングデバイス。
【請求項３】
独立電源（５０）により前記発振器増幅器（１２）及び前記周波数監視器（２０）に電力が供給されることを特徴とする請求項１に記載のスイッチングデバイス。
【請求項４】
前記周波数監視器（２０）が切離し可能なように前記電源（５０）に接続されていることを特徴とする請求項３に記載のスイッチングデバイス。
【請求項５】
前記切離し可能性が前記機能回路（４０）により作動されるスイッチ（２４）を用いて実現されていることを特徴とする請求項４に記載のスイッチングデバイス。
【請求項６】
前記スイッチ（３０）が前記周波数監視器（２０）のスイッチング信号（Ｓ）により作動され得ることを特徴とする請求項１に記載のスイッチングデバイス。
【請求項７】
前記発振回路（１０）の前記共振周波数（ｆ１）が、この目的のために前記発振回路（１０）に接続されている前記識別コイル（Ｌ１）及び前記コンデンサ（Ｃ１）により定められることを特徴とする請求項１に記載のスイッチングデバイス。
【請求項８】
前記発振回路（１０）の前記共振周波数（ｆ１）がトランスポンダ（６０）の共振周波数と一致することを特徴とする請求項１に記載のスイッチングデバイス。
【請求項９】
前記周波数監視器（２０）が微分回路を有することを特徴とする請求項１に記載のスイッチングデバイス。
【請求項１０】
前記周波数監視器（２０）が前記発振回路（１０）において同調されている共振発振の位相関係における変化を識別するように形成されていることを特徴とする請求項１に記載のスイッチングデバイス。
【請求項１１】
請求項１に記載のスイッチングデバイスを、機能回路（４０）のオンへの切り換えに使用する方法。
【請求項１２】
小容量電源（４２）により前記機能回路（４０）に電力が供給されることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
スイッチング信号（Ｓ）によりオンに切り換えることができる機能回路（４０）によって機能を起動するシステムにおいて、前記スイッチング信号（Ｓ）の発生が請求項１に記載のスイッチングデバイスにより行なわれることを特徴とするシステム。
【請求項１４】
トランスポンダ読取デバイス（４０）により認証を識別するシステムであって、交信により、またトランスポンダ（６０）を用いて、使用者の前記認証を検証するシステムにおいて、前記トランスポンダ読取デバイス（４０）が、前記トランスポンダ（６０）が前記トランスポンダ読取デバイス（４０）に提示されたときに前記トランスポンダ読取デバイス（４０）をオンに切り換える、請求項１に記載のスイッチングデバイスに接続されていることを特徴とするシステム。
【請求項１５】
ドア用施錠システムにおいて、前記施錠システムが、トランスポンダ（６０）との交信により、前記施錠システムを作動させるために使用者の認証を検証するトランスポンダ読取デバイス（４０）をオンに切り換える、請求項１に記載のスイッチングデバイスを有することを特徴とする施錠システム。
【請求項１６】
前記識別コイル（Ｌ１）がドアノブ（７０）内に配置されていることを特徴とする請求項１５に記載の施錠システム。
【請求項１７】
前記識別コイル（Ｌ１）が中空空間（７６）内に配置され、前記中空空間（７６）の前記ドアノブ（７０）側の内表面がシールド（７８）で覆われていることを特徴とする請求項１６に記載の施錠システム。
【請求項１８】
前記シールド（７８）が前記ドアノブの材料内に誘起される渦電流による損失の発生を防止する材料でつくられていることを特徴とする請求項１７に記載の施錠システム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月26日(2005.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベンチマーク定義を包含する電子データ構造において、
該電子データ構造はＳＧＭＬベースの言語によって読取り可能なフォーマットを有するファイルであることを特徴とする電子データ構造。
【請求項２】
前記ファイルはＸＭＬファイルである、請求項１記載の電子データ構造。
【請求項３】
前記ファイルはＨＴＭＬファイルである、請求項１または２記載の電子データ構造。
【請求項４】
前記ファイルはさらにベンチマークデータを包含する、請求項１から３までのいずれか１項記載の電子データ構造。
【請求項５】
コンピュータシステムにおける１つまたは複数のプロセスの実行により、請求項１から４までのいずれか１項記載の電子データ構造を処理する方法において、
１つまたは複数の前記電子データ構造を電子手段により第２のパーティに表すことを特徴とする、方法。
【請求項６】
記電子手段はインターネットを含み、１つまたは複数の前記電子データ構造とのリンクがインターネットページ上に設けられている、請求項５記載の方法。
【請求項７】
ビジネスプロセスを支援するソフトウェア、例えば企業資源計画ソフトウェアにおいて使用する、請求する請求項５または６記載の方法。
【請求項８】
コンピュータシステムにおける１つまたは複数のプロセスの実行により、請求項１から４までのいずれか１項記載の電子データ構造を処理するコンピュータシステムにおいて、
−プログラム命令を有するメモリと、
−データを入力する入力手段と、
−データを記憶する記憶手段と、
−１つまたは複数の前記電子データ構造を電子手段により第２のパーティに表すプログラム命令に応答するプロセッサとを備えることを特徴とする、コンピュータシステム。
【請求項９】
前記電子手段はインターネットを含み、１つまたは複数の前記電子データ構造とのリンクがインターネットページ上に設けられている、請求項８記載のコンピュータシステム。
【請求項１０】
ビジネスプロセスを支援するソフトウェア、例えば企業資源計画ソフトウェアにおいて使用される、請求項８または９記載のコンピュータシステム。
【請求項１１】
コンピュータシステムにおける１つまたは複数のプロセスの実行により、請求項１から４までのいずれか１項記載の電子データ構造を処理する命令を包含するコンピュータ読取り可能媒体において、
１つまたは複数の前記電子データ構造を電子手段により第２のパーティに表す命令を有することを特徴とする、コンピュータ読取り可能媒体。
【請求項１２】
前記電子手段はインターネットを含み、１つまたは複数の前記電子データ構造とのリンクがインターネットページ上に設けられている、請求項１１記載のコンピュータ読取り可能媒体。
【請求項１３】
ビジネスプロセスを支援するソフトウェア、例えば企業資源計画ソフトウェアにおいて使用される、請求項１１または１２記載のコンピュータ読取り可能媒体。
【請求項１４】
搬送波の形態で実施されているコンピュータデータ信号において、
コンピュータシステムにおける１つまたは複数のプロセスの実行により、請求項１から４までのいずれか１項記載の電子データ構造を処理するコードを包含し、
該コードは、１つまたは複数の前記電子データ構造を電子手段により第２のパーティに表す命令を包含することを特徴とする、コンピュータデータ信号。
【請求項１５】
ビジネスプロセスを支援するソフトウェアにおいて請求項１から４までのいずれか１項記載の電子データ構造を使用するプロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月31日(2005.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
位置の検知および処理のための手段（１１０）と、
前記位置の検知および処理のための手段に接続させた画像の管理およびレンダリングのための手段（１２０）と、
前記位置の検知および処理のための手段に、並びに前記画像の管理およびレンダリングのための手段に接続させたユーザのインタフェース接続のための手段（１３０）と、
を備えるビューイングシステム。
【請求項２】
バーチャルアイテムの少なくとも１つの領域をメモリ（１２４）内に入れるステップと、
ディスプレイ（１２５）上で前記バーチャルアイテムの領域の一部分をビューするステップと、
前記領域の別の一部分をビューするために前記ディスプレイを移動するステップと、
を含むディスプレイ上でバーチャルアイテムをビューするための方法。
【請求項３】
ディスプレイ（１２５）を取り付けて有する制御部（３００）を備え
前記制御部は、位置検知および処理コンポーネント（１１０）を備えており、
前記取り付けたディスプレイは、前記位置検知および処理コンポーネントと接続させた画像管理およびレンダリングコンポーネント（１２０）を備えており、かつ
前記取り付けたディスプレイは、前記制御部を移動させることによって前記取り付けたディスプレイ上の画像（２０１）内のオブジェクトの周りを移動することが可能である、
ビューイングシステム。
【請求項４】
位置センサ（９０２）と、
前記位置センサに取り付けたディスプレイ（９０３）と、
前記位置センサに接続させた視覚的センサ（９０４）と、を備え、
前記視覚的センサはオペレータ（９０５）に関するフィーチャ（９０６）を検知することが可能であり、
前記フィーチャは前記視覚的センサによって識別させるアンカーであり、
前記位置センサは前記視覚的センサによって識別される前記アンカーの位置に従って前記オペレータの位置を決定し、かつ
前記アンカーの前記位置は、作用対象のどの部分が前記ディスプレイ上にあるべきかを指示する、
ビューイングシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月3日(2006.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体またはメモリデバイス基板を化学機械研磨するための組成物であって：
活性化剤と接触させたときにフリーラジカルを生成する少なくとも１の化合物を含む液体であって、液体ｐＨが１〜１１である、液体と；
表面を持ち、表面と結合した少なくとも１の活性化剤を持つ複数の粒子であって、少なくとも１の活性化剤が鉄、銅、銀またはそれらの組み合わせを含み、化合物と反応してフリーラジカルを形成する、複数の粒子；
とを含み
化学機械研磨プロセスで使用されるときに組成物が所望の金属を除去するが、基板が仕上済みの利用可能な半導体またはメモリデバイスになるためにさらなる加工を受けられないように欠陥または不均一性を生成しない、組成物。
【請求項２】
半導体またはメモリデバイス基板を化学機械研磨するための組成物であって：
少なくとも１の活性化剤と接触させたときにフリーラジカルを生成する少なくとも１の化合物を含む液体であって、液体が複数の酸化状態を持つ溶解金属イオン５００ｐｐｍ未満を含み、液体ｐＨが１〜１１であり、少なくとも１の化合物が少なくとも１の活性化剤と接触させたときにフリーラジカルを生成する、液体と；
液体と接触した表面を持ち、および表面と結合した少なくとも１の活性化剤を持つ複数の粒子であって、表面と結合した活性化剤はフリーラジカルを形成する化合物と反応してフリーラジカルを形成し、金属の解離性塩であって組成物重量の５〜１００００ｐｐｍの量で存在する、複数の粒子と；を含み、
化学機械研磨プロセスで使用されるときに組成物が所望の材料を除去するが、基板が仕上済みの利用可能な半導体またはメモリデバイスになるためにさらなる加工を受けられないように欠陥または不均一性を生成しない、組成物。
【請求項３】
半導体またはメモリデバイス基板を化学機械研磨するための組成物であって：
活性化剤と接触させたときに反応性酸素含有フリーラジカルを生成する少なくとも１の酸化剤を含む液体と；
表面を持ち、表面と結合した鉄および銅のうちの少なくとも１つのイオンを含む少なくとも１の活性化剤を持つ複数の粒子であって、表面と結合した活性化剤が組成物中の重量で５ｐｐｍ〜３０，０００ｐｐｍの範囲の総量で存在する複数の粒子と
を含み、
化学機械研磨プロセスで使用されるときに組成物が所望の材料を除去するが、基板が仕上済みの利用可能な半導体またはメモリデバイスになるためにさらなる加工を受けられないように欠陥または不均一性を生成しない、組成物。
【請求項４】
少なくとも１の化合物が、組成物中に０．０１重量％〜３０重量％の量で存在するペル化合物を含む、請求項１、２または３のいずれかに記載の組成物。
【請求項５】
ペル化合物が少なくとも１つのペルオキシドを含む、請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
ペル化合物が過酸化水素を含み、組成物中に０．０１重量％〜１０重量％の量で存在する、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
ペル化合物が過酢酸を含み、組成物中に０．０１重量％〜１０重量％の量で存在する、請求項５に記載の組成物。
【請求項８】
ペル化合物が少なくとも１つのペルサルフェートを含む、請求項４に記載の組成物。
【請求項９】
ペル化合物が少なくとも１つのペルホスフェートを含む、請求項４に記載の組成物。