(57)【要約】【課題】ロール・トゥー・ロール方式で搬送する際にシワの発生を十分に抑制できるフィルム基材を提供する。【解決手段】フィルム基材３２は、一対の主面３２ａ，３２ｂを有し、摩擦力顕微鏡として日立ハイテクサイエンス社製環境制御型ユニットＡＦＭ５３００Ｅを用い、前記摩擦力顕微鏡のプローブ８１を、前記フィルム基材の各主面上を当該主面に沿って移動させたときの前記プローブの変位を、プローブ型番：ＳＩ−ＤＦ３−Ｐ３、走査エリア：５．０［μｍ］×２．５［μｍ］、測定周波数：０．５［Ｈｚ］、プローブたわみ量：−０．９９７７［ｎｍ］、フリクション測定設定荷重：−０．９０８［ｎＮ］、真空測定環境：３．０×１０−３［Ｐａ］、の条件で測定した場合における、ＦＦＭ［ｍｖ］の値が１２［ｍｖ］以下である。【選択図】図７Ａ
2017208034.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の主面を有するフィルム基材であって、
摩擦力顕微鏡として日立ハイテクサイエンス社製環境制御型ユニットＡＦＭ５３００Ｅを用い、前記摩擦力顕微鏡のプローブを、前記フィルム基材の各主面上を当該主面に沿って移動させたときの前記プローブの変位を、
プローブ型番：ＳＩ−ＤＦ３−Ｐ３
走査エリア：５．０［μｍ］×２．５［μｍ］
測定周波数：０．５［Ｈｚ］
プローブたわみ量：−０．９９７７［ｎｍ］
フリクション測定設定荷重：−０．９０８［ｎＮ］
真空測定環境：３．０×１０−３［Ｐａ］
の条件で測定した場合における、前記プローブの微小変位ΔＸ［ｎｍ］と、前記プローブの１ｎｍのねじれ変位に対する検出器の水平方向の信号差ＳＦＦＭ［ｍｖ／ｎｍ］と、の積として出力されるＦＦＭ［ｍｖ］の値が１２［ｍｖ］以下である、フィルム基材。
【請求項２】
請求項１に記載のフィルム基材と、
前記フィルム基材上に設けられた複数の導電パターンと、
を備え、
前記導電パターンは、遮光性を有する導線であって、各導線の間に開口部が形成されるように網目状に配置された導線から構成されている、透視性電極。
【請求項３】
請求項２に記載の透視性電極を備えたタッチパネル。
【請求項４】
表示装置と、
前記表示装置の表示面上に配置された、請求項３に記載のタッチパネルと、
を備えたタッチ位置検出機能付き表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルム基材に関する。また、本発明は、フィルム基材を備えた透視性電極に関する。また本発明は、透視性電極を備えたタッチパネルに関する。また本発明は、タッチパネルと表示装置とを組み合わせることによって得られるタッチ位置検出機能付き表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
今日、入力手段として、タッチパネル装置が広く用いられている。タッチパネル装置は、タッチパネル、タッチパネル上への接触位置を検出する制御回路、配線、およびＦＰＣ（フレキシブルプリント基板）を備えている。タッチパネル装置は、多くの場合、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等の表示装置が組み込まれた様々の装置等（例えば、券売機、ＡＴＭ装置、携帯電話、ゲーム機）に対する入力手段として、表示装置とともに用いられている。このような装置においては、タッチパネルが表示装置の表示面上に配置されており、これによって、表示装置に対する極めて直接的な入力、特に表示画像の位置座標及び該位置座標と対応付けられた情報の入力が可能になっている。タッチパネルのうち表示装置の表示領域に対面する領域は透明になっており、タッチパネルのこの領域が、接触位置（或いは接近位置）を検出し得るアクティブエリアを構成するようになる。
【０００３】
タッチパネルとして、投影型容量結合方式のタッチパネルが知られている。容量結合方式のタッチパネルにおいては、位置を検知されるべき外部導体（典型的には、指）が誘電体を介してタッチパネルに接触（或いは接近）する際、新たに寄生容量が発生する。この寄生容量に起因する静電容量の変化に基づいて、タッチパネル上における外部導体の位置が検出される。このような投影型容量結合方式のタッチパネルは例えば、ＰＥＴフィルムなどの透明基材と、透明基材上に設けられた複数の導電パターンと、を備えた透視性電極を含んでいる。導電パターンは、例えば、透光性および導電性を有するＩＴＯ（酸化インジウム錫）からなる透明導電材料から構成される。
【０００４】
また、導電パターンの電気抵抗値を低くし、これによってタッチ位置の検出精度を向上させるため、導電パターンを構成する材料として、透明導電材料よりも高い導電性を有する銀や銅などの金属材料を用いることが提案されている（例えば、特許文献１参照）。但し、これら金属材料は不透明の為、導電パターンが金属材料から構成される場合、導電パターンには、表示装置からの映像光を適切な比率で透過させるための開口部が形成されている。例えば導電パターンは、網目状に配置された導線によって構成されている。
【０００５】
ところで、銅などの金属材料は、高い導電性を有する一方で、金属光沢を示す。このため、未処理の金属材料が導線として用いられると、表示装置からの映像光の視認性が、導線の金属光沢によって妨げられることになる。特に銅は、銅に特有の赤味を帯びた色を示すため、銀などのその他の金属材料に比べて目立ち易く、このため表示装置からの映像光の視認性がより妨げられることになる。このような銅特有の金属光沢を和らげるため、例えば上述の特許文献１においては、金属層の面上に、窒化銅からなる低反射層を設けることにより、導線の金属光沢を軽減することが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１３−１６９７１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
フレキシブル基板などの可撓性を有する配線基板を製造する方法として、ロール・トゥー・ロール方式で供給され搬送されている長尺状の樹脂基材（フィルム基材）上に真空雰囲気中（厳密に言えば、減圧雰囲気中）で、蒸着、スパッタリング等の手法により上述の低反射層や金属層を形成して長尺状の配線基板を作製し、そして配線基板をロール状に巻き取る、という方法が考えられる。尚、此処で、「ロール・トゥー・ロール方式」とは、長尺帯状の可撓性基板を巻取（ロール）から巻き出し搬送して供給し、所定の加工を施した後、巻取（ロール）形態に巻き取る加工方式を言う。
【０００８】
このようなロール・トゥー・ロール方式では、フィルム基材とガイドローラとの間の摩擦が大きいと、フィルム基材にシワが発生して形状不良となることが知られている。本件発明者らの知見によれば、シワの発生要因として、以下の２つの要因が考えられる。
【０００９】
すなわち、ロール・トゥー・ロール方式では、フィルム基材は、ガイドローラ間において重力の影響で撓まないように、搬送方向（ＭＤ方向）に一定の張力がかけられた状態で搬送される。搬送方向（ＭＤ方向）に一定の張力がかけられて引っ張られることで、フィルム基材の幅方向（ＴＤ方向）には圧縮力が作用する。また、フィルム基材上に金属層等の薄膜を形成する際には、フィルム基材と薄膜との密着性を上げるために、フィルム基材を加熱しながら薄膜を形成する。フィルム基材が加熱されることで、フィルム基材の寸法が熱により変化する。そして、幅方向（ＴＤ方向）における圧縮力と熱による寸法変化（とくに熱膨張）との相乗効果にフィルム基材が耐えられずに変形して、シワが発生する（第１要因）。
【００１０】
また、一時的にシワが発生しても、フィルム基材とガイドローラとの間の滑り性が高い場合には、弾性回復力によりフィルム基材が元の形状に戻ろうとすることにより、発生したシワは容易に解消され得る。しかしながら、フィルム基材とガイドローラとの間の摩擦力が弾性回復力より大きい場合には、フィルム基材が元の形状に戻ることが摩擦力により妨げられるため、発生したシワは解消されることなく製品に残ってしまう（第２要因）。
【００１１】
本件発明者らは、当初、フィルム基材にシワが発生することを抑制するために、ＪＩＳ  Ｋ７１２５：１９９９に準拠した方法で測定した摩擦係数、すなわちＪＩＳ  Ｋ７１００：１９９９に規定された標準雰囲気中における摩擦係数が、所定の範囲内にあるフィルム基材を利用することを考えた。しかしながら、本件発明者らによる実際の検証によれば、上記摩擦係数が同程度である市販のフィルム基材の中には、シワが発生するフィルム基材と、シワが発生しないフィルム基材とが存在することがわかった。言い換えれば、上記摩擦係数の範囲を制限するやり方では、シワの発生を十分に抑制することはできないことがわかった。
【００１２】
例えば、本件発明者らは、新東科学株式会社製荷重変動型摩擦摩耗試験システム「トライボギア」（登録商標）ＴＹＰＥ：ＨＨＳ２０００を用いて、複数の市販のフィルム基材について、標準雰囲気中において摩擦係数の測定を行った。その後、測定された各フィルム基材の摩擦係数と、各フィルム基材へのシワの発生との相関について検討した。しかし、本件発明者らによる検討では、測定された各フィルム基材の摩擦係数と、各フィルム基材へのシワの発生との相関関係は認められなかった。すなわち、標準雰囲気中において測定されたフィルム基材の摩擦係数を所定の範囲内に制限することで、フィルム基材へのシワの発生を十分に抑制することは、困難であることが知見された。
【００１３】
ここで、本件発明者らは、フィルム基材上に成膜処理を行う際には、真空中等の減圧下にて成膜処理を行うことがあることに着目した。減圧下で成膜処理を行う場合、フィルム基材は、減圧下でガイドローラと接触しながら搬送されることになる。また、本件発明者らのさらなる実験によれば、フィルム基材における、標準雰囲気中の摩擦係数と減圧下の摩擦係数との間には、明確な相関関係が認められないことが知見された。すなわち、あるフィルム基材が標準雰囲気中において低い摩擦係数を有している場合に、当該フィルム基材が減圧下においても低い摩擦係数を有するとは限らない。したがって、減圧下におけるフィルム基材とガイドローラとの間の滑り性を評価するためには、標準雰囲気中において測定されたフィルム基材の摩擦係数を用いるのでは不充分といえる。
【００１４】
本発明は、以上のような点を考慮してなされたものである。本発明の目的は、ロール・トゥー・ロール方式で搬送しながら薄膜を形成する際にシワの発生を十分に抑制できるフィルム基材、および当該フィルム基材を備えた透視性電極、タッチパネル、およびタッチ位置検出機能付き表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明によるフィルム基材は、
一対の主面を有するフィルム基材であって、
摩擦力顕微鏡として日立ハイテクサイエンス社製環境制御型ユニットＡＦＭ５３００Ｅを用い、前記摩擦力顕微鏡のプローブを、前記フィルム基材の各主面上を当該主面に沿って移動させたときの前記プローブの変位を、
プローブ型番：ＳＩ−ＤＦ３−Ｐ３
走査エリア：５．０［μｍ］×２．５［μｍ］
測定周波数：０．５［Ｈｚ］
プローブたわみ量：−０．９９７７［ｎｍ］
フリクション測定設定荷重：−０．９０８［ｎＮ］
真空測定環境：３．０×１０−３［Ｐａ］
の条件で測定した場合における、前記プローブの微小変位ΔＸ［ｎｍ］と、前記プローブの１ｎｍのねじれ変位に対する検出器の水平方向の信号差ＳＦＦＭ［ｍｖ／ｎｍ］と、の積として出力されるＦＦＭ［ｍｖ］の値が１２［ｍｖ］以下である。
【００１６】
本発明による透視性電極は、
上述した本発明によるフィルム基材のいずれかと、
前記フィルム基材上に設けられた複数の導電パターンと、
を備え、
前記導電パターンは、遮光性を有する導線であって、各導線の間に開口部が形成されるように網目状に配置された導線から構成されている。
【００１７】
本発明によるタッチパネルは、上述した本発明による透視性電極を備える。
【００１８】
本発明によるタッチ位置検出機能付き表示装置は、
表示装置と、
前記表示装置の表示面上に配置された、上述した本発明によるタッチパネルと、
を備える。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、ロール・トゥー・ロール方式で搬送しながらフィルム基材上に薄膜を形成する際にフィルム基材にシワが発生することを十分に抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】図１は、本発明の第１の実施の形態において、透視性電極を示す平面図である。
【図２Ａ】図２Ａは、図１において符号ＩＩが付された一点鎖線で囲まれた部分における導電パターンを拡大して示す平面図である。
【図２Ｂ】図２Ｂは、導電パターンの一変形例を拡大して示す平面図である。
【図３】図３は、透視性電極を図２ＡのＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿って切断した場合を示す断面図である。
【図４】図４は、図３に示す透明基材および導線を拡大して示す断面図である。
【図５】図５は、フィルム基材のＦＦＭ信号の値を得るための、摩擦力顕微鏡のプローブの変位の測定方法について説明する図である。
【図６Ａ】図６Ａは、図５のプローブの変位の一例を示す図である。
【図６Ｂ】図６Ｂは、図５のプローブの変位の一例を示す図である。
【図６Ｃ】図６Ｃは、図５のプローブの変位の一例を示す図である。
【図７Ａ】図７Ａは、透視性電極の製造方法を説明するための図である。
【図７Ｂ】図７Ｂは、透視性電極の製造方法を説明するための図である。
【図７Ｃ】図７Ｃは、透視性電極の製造方法を説明するための図である。
【図７Ｄ】図７Ｄは、透視性電極の製造方法を説明するための図である。
【図７Ｅ】図７Ｅは、透視性電極の製造方法を説明するための図である。
【図８】図８は、本発明の第３の実施の形態において、タッチ位置検出機能付き表示装置を示す展開図である。
【図９】図９は、図８のタッチ位置検出機能付き表示装置におけるタッチパネルを示す平面図である。
【図１０】図１０は、図９において符号Ｘが付された一点鎖線で囲まれた部分における導電パターンを拡大して示す平面図である。
【図１１】図１１は、タッチパネルを図１０のＸＩ−ＸＩ線に沿って切断した場合を示す断面図である。
【図１２】図１２は、図１２に示すタッチパネルの一部を拡大して示す断面図である。
【図１３】図１３は、本発明の第２の実施の形態におけるタッチパネルの一変形例を示す断面図である。
【図１４】図１４は、本発明の第２の実施の形態におけるタッチパネルの一変形例を示す断面図である。
【図１５】図１５は、表示装置側に配置される導線の断面形状の一変形例を示す図である。
【図１６】図１６は、本発明の第３の実施の形態における透視性電極を示す断面図である。
【図１７】図１７は、図１６に示す透視性電極の一部を拡大して示す断面図である。
【図１８】図１８は、実施例のサンプル及び比較サンプルにおけるＦＦＭの値を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下に、添付の図面を参照して、本発明の実施の形態を詳細に説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示の理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
【００２２】
＜第１の実施の形態＞
以下、図１〜図７Ｅを参照して、本発明の第１の実施の形態について説明する。
【００２３】
まず、図１を参照して、本実施の形態によるフィルム基材３２を備えた透視性電極３１について説明する。図１は、観察者側から見た場合の透視性電極３１を示す平面図である。
【００２４】
ここでは、透視性電極３１が、投影型の静電容量結合方式のタッチパネル用に構成される例について説明する。なお、「容量結合」方式は、タッチパネルの技術分野において「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等とも呼ばれており、本明細書では、これらの「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等と同義の用語として取り扱う。典型的な静電容量結合方式のタッチパネルは、導電性のパターンを有しており、外部の導体（典型的には人間の指）がタッチパネルに接近することにより、外部の導体とタッチパネルの導電性のパターンとの間でコンデンサ（静電容量）が形成される。そして、このコンデンサの形成に伴った電気的な状態の変化に基づき、タッチパネル上において外部導体が接近している位置の位置座標が特定される。
【００２５】
図１に示すように、透視性電極３１は、フィルム基材３２と、フィルム基材３２上に設けられた複数の導電パターン４１と、を備えている。図１に示すように、各導電パターン４１は長方形の輪郭線形状をなし、該長方形の長辺は図１の上下方向にそれぞれ帯状に延びている。また、複数の導電パターン４１は、各導電パターン４１が延びる方向に直交する方向において、一定の配列ピッチで並べられている。導電パターン４１の配列ピッチは、タッチ位置の検出に関して求められる分解能に応じて定められるが、例えば数ｍｍである。尚、本発明に於いて、タッチパネルの「タッチ」とは、人の指、鉛筆等の筆記具の先端がタッチパネル或いは透視性電極に直接接触する場合以外に、数ｍｍ以下の距離を空けて非接触的に接近する場合も包含する。
【００２６】
図１に示すように、透視性電極３１のフィルム基材３２は、タッチ位置を検出され得る領域に対応する矩形状のアクティブエリアＡａ１と、アクティブエリアＡａ１の周辺に位置する矩形枠状の非アクティブエリアＡａ２と、を含んでいる。アクティブエリアＡａ１および非アクティブエリアＡａ２は、それぞれ、後述するタッチ位置検出機能付き表示装置１０の表示装置のアクティブエリアおよび非アクティブエリアに対応して区画されたものである。
【００２７】
上述の導電パターン４１は、アクティブエリアＡａ１内に配置されている。また非アクティブエリアＡａ２には、各導電パターン４１に電気的に接続された複数の額縁配線４３と、フィルム基材３２の外縁近傍に配置され、各額縁配線４３に電気的に接続された複数の端子部４４と、が設けられている。
【００２８】
導電パターン４１に接続されている額縁配線４３および端子部４４は、導電パターン４１からの信号を透視性電極３１の外部に取り出すために設けられたものである。信号を適切に伝達することができる限りにおいて、額縁配線４３および端子部４４の具体的な構成が特に限られることはない。例えば額縁配線４３および端子部４４は、後述する導線５１と同一の層構成で導線５１と同時に形成されるものであってもよい。
【００２９】
次に、図２Ａを参照して、導電パターン４１のパターン形状について説明する。図２Ａは、図１において符号ＩＩが付された一点鎖線で囲まれた部分における導電パターン４１を示す平面図である。図２Ａに示すように、導電パターン４１は、遮光性および導電性を有する導線５１であって、各導線５１の間に開口部５１ａが形成されるように網目状に配置された導線５１から構成されている。
【００３０】
導電パターン４１全体の面積のうち開口部５１ａによって占められる面積の比率（以下、開口率と称する）が十分に高くなり、これによって、表示装置からの映像光が適切な透過率で透視性電極３１のアクティブエリアＡａ１を透過することができる限りにおいて、導線５１の寸法や形状が特に限られることはない。例えば図２Ａに示す例において、導電パターン４１は、矩形状に形成された導線５１を所定の方向に沿って並べることによって構成されている。開口率は、表示装置から放出される映像光の特性などに応じて適宜設定される。
【００３１】
導線５１の線幅は、求められる開口率、導電パターンの不可視性などに応じて設定されるが、例えば導線５１の線幅は１μｍ〜５μｍの範囲内、より好ましくは１μｍ〜３μｍの範囲内、さらに好ましくは２μｍ以下に設定されている。また、互いに平行に延びる各導線５１の配列ピッチＰ１も、求められる開口率などに応じて設定される。これによって、観察者が視認する映像に対して導線５１が及ぼす影響を、無視可能な程度まで低くすること、即ち十分な不可視性を得ることができる。
【００３２】
なお図２Ａにおいては、導電パターン４１が、開口部形状が矩形状に形成された導線５１を所定の方向に沿って並べることによって構成されている例を示したが、これに限られることはない。例えば図２Ｂに示すように、導電パターン４１は、開口部形状が菱形状に形成された導線５１を所定の方向に沿って並べることによって構成されていてもよい。又、本実施形態に於いては、図２Ａ及び図２Ｂに示す如く導電パターン４１の開口部５１ａは導電パターン４１の延びる方向と直交方向（同図の左右方向）の配列個数が２個となっているが、本発明に於ける該配列個数は２個にのみ限定されるわけでは無く、タッチパネルの位置検知の分解能、感度、導電パターン不可視性等に応じて適宜個数に設計される。
【００３３】
次に、図３および図４を参照して、透視性電極３１の層構成について説明する。図３は、透視性電極３１を図２ＡのＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿って切断した場合を示す断面図であり、図４は、図３に示すフィルム基材３２および導線５１を拡大して示す断面図である。
【００３４】
図３に示すように、透視性電極３１は、一対の主面３２ａ，３２ｂを有する透明なフィルム基材３２と、フィルム基材３２の面上に設けられた導線５１から成る導電パターン４１と、を含んでいる。なお、本明細書において「透明」とは、光透過率が十分に高く、その向こう側が透けて見える性質を意味する。具体的には、例えば可視光透過率が５０％以上、より好ましくは８０％以上、更に好ましくは９０％以上である。また、フィルム基材３２は、ヘーズが小さいことが好ましい。具体的には、例えばヘーズが１％以下、より好ましくは０．５％以下である。なお、全光線透過率はＪＩＳ  Ｋ７３６１−１：１９９７に準拠して測定され、ヘーズはＪＩＳ  Ｋ７１３６：２０００に準拠して測定される。又、一対の主面３２ａ，３２ｂとは、図１乃至図３に示されるフィルム基材３２の如く、対向する一対の面の表面積が其の他面の表面積に比べて遥かに大きい多面体（通常は直方体）に於いて、斯かる表面積が其の他面より大きい対向する一対の面を意味する。通常、表面及び裏面と呼称される面がこれに相当する。長尺帯状フィルムをガイドローラで搬送する際に、ガイドローラと接触して傷付いたり、ガイドロールとの摩擦力を生じる面は主に一対の主面である。
【００３５】
フィルム基材３２は、上述の導電パターン４１や額縁配線４３などのパターンや配線を支持するためのものである。このフィルム基材３２は、図４の如く表示装置からの映像光を透過させることができる透明基材３３と、透明基材３３と導電パターン４１の導線５１との間に設けられたアクリル系樹脂層３４ａと、を含んでいる。またフィルム基材３２は、透明基材３３のうち導線５１に向かい合う側とは反対の側に設けられたアクリル系樹脂層３４ｂをさらに含んでいてもよい。
【００３６】
透明基材３３を構成する材料としては、透明性および可撓性を有する材料が用いられ、例えば合成樹脂（プラスチック）が用いられる。合成樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂、ポリプロピレン（ＰＰ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）等のポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、またはトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などのセルロース系樹脂等の可撓性及び透明性を有する樹脂が用いられる。フィルム基材の厚みは２０μｍ〜５００μｍとする。
【００３７】
アクリル系樹脂層３４ａ，３４ｂは、ロール・トゥー・ロール方式で透視性電極３１を製造する際のガイドローラとの摩擦により生じ得る擦り傷などに対する耐擦傷性を高めるという機能や、透視性電極３１の透過率や反射率などの光学特性を調整するという機能を実現するために設けられる層である。
【００３８】
アクリル系樹脂層３４ａ，３４ｂを構成する材料としては、アクリル樹脂が用いられる。該アクリル樹脂としては、十分な耐擦傷性と透明性を有する物が好ましく、これら条件を満たす代表的なものとして、電離放射線照射による架橋反応乃至は重合反応で硬化する電離放射線硬化型アクリル樹脂が挙げられる。斯かる電離放射線硬化型アクリル樹脂としては、分子中に（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基等の重合性官能基を有する（メタ）アクリレートプレポリマー又は（メタ）アクリレート単量体が用いられる。該（メタ）アクリレートプレポリマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート等のプレポリマーが挙げられる。又、該（メタ）アクリレート単量体としてはエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）メタクリレート単量体等が挙げられる。（此処で、「（メタ）アクリロイル基」、「（メタ）アクリレート」等の表記は、各々「アクリロイル基又はメタクリロイル基」、「アクリレート又はメタクリレート」を意味する。）これらプレポリマー及び単量体は、耐擦傷性、可撓性、塗工適性等の要求性能に応じて、適宜、上記プレポリマーを１種類単独又は２種類以上混合して、上記単量体を１種類単独又は２種類以上混合して、或いは上記プレポリマー１種類以上と上記単量体１種類以上とを混合して用いられる。又、電離放射線として紫外線又は可視光線を使用する場合には、これらプレポリマー及び単量体１００質量部に対して、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物等の光開始剤を０．１質量部〜５質量部程度添加することができる。又、耐擦傷性を高める為に、該アクリル樹脂中に粒径０．１〜５μｍの微粒子をフィラー（充填剤）として添加してもよい。該微粒子としては、シリカ（酸化珪素）、アルミナ（酸化アルミニウム）、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等からなる無機物粒子、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、珪素樹脂、弗素樹脂、メラミン樹脂等の有機物粒子からなるものが使用できる。また、該微粒子の添加量は、該アクリル系樹脂層組成物中に０．１〜３０質量％程度とすることが出来る。又、該アクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂの厚みは、乾燥硬化状態で１〜５μｍ程度とすることが出来る。電離放射線としては、紫外線、可視光線、Ｘ線等の電磁波、電子線、アルファ線等の荷電粒子線が用い得る。尚、本実施形態に於いては、アクリレートプレポリマー、アクリレート単量体、及びベンゾトリアゾール系光開始剤からなる紫外線硬化型アクリル樹脂組成物の硬化物を用いた。
【００３９】
本実施の形態に於いては、斯かるアクリル系樹脂層３４ａ，３４ｂ表面に於ける動摩擦特性が、後述の如く、特定真空雰囲気中に於いて特定装置を用いて特定条件下で測定されたフィルム基材のＦＦＭ信号値の範囲が特定範囲になるように構成する。其の為には、上記のアクリル樹脂中に添加する微粒子について、其の平均粒径ＤＡＶＧとアクリル系樹脂層３４ａ，３４ｂの膜厚ｔとの関係を
ＤＡＶＧ＞ｔ
とすると共に、微粒子の形状、微粒子の粒径分布、アクリル樹脂中の微粒子の添加量（単位表面積当たりの微粒子数）、及びアクリル樹脂中に於ける微粒子の分散状態等を、適宜、加減調整する。
【００４０】
なお、アクリル系樹脂層３４ａは、複数の層から構成されていてもよい。例えば、図示はしないが、アクリル系樹脂層３４ａは、第１アクリル系樹脂層と、第１アクリル系樹脂層と透明基材３３との間に設けられた第２アクリル系樹脂層と、を含んでいてもよい。この場合、好ましくは、第１アクリル系樹脂層の屈折率は、１．５８〜１．７５の範囲内になっており、第２アクリル系樹脂層の屈折率は、１．５０〜１．６０の範囲内になっており、かつ、第１アクリル系樹脂層の屈折率は、第２アクリル系樹脂層の屈折率よりも大きくなっている。これによって、アクリル系樹脂層３４ａに、上述のハードコート層としての機能だけでなく、透過率や反射率などの光学特性を調整する機能を持たせることができる。第１アクリル系樹脂層を構成する材料としては、ベースとなるアクリル樹脂の中に、酸化ニオブやジルコニウムなどの高屈折率材料からなる粒子やフィラーを分散させたものが用いられ得る。また、第２アクリル系樹脂層を構成する材料としては、アクリル樹脂などが用いられ得る。
【００４１】
同様に、アクリル系樹脂層３４ｂも、複数の層から構成されていてもよい。例えば、図示はしないが、アクリル系樹脂層３４ｂは、第１アクリル系樹脂層と、第１アクリル系樹脂層と透明基材３３との間に設けられた第２アクリル系樹脂層と、を含んでいてもよい。この場合、好ましくは、第１アクリル系樹脂層の屈折率は、１．５８〜１．７５の範囲内になっており、第２アクリル系樹脂層の屈折率は、１．５０〜１．６０の範囲内になっており、かつ、第１アクリル系樹脂層の屈折率は、第２アクリル系樹脂層の屈折率よりも大きくなっている。これによって、アクリル系樹脂層３４ａの場合と同様に、アクリル系樹脂層３４ｂに、上述のハードコート層としての機能だけでなく、透過率や反射率などの光学特性を調整する機能を持たせることができる。第１アクリル系樹脂層および第２アクリル系樹脂層を構成する材料としては、アクリル系樹脂層３４ａの場合と同様の材料が用いられ得る。
【００４２】
アクリル系樹脂層３４ａ，３４ｂが複数の層から構成されている場合、例えば、アクリル系樹脂層３４ａ，３４ｂが、第１アクリル系樹脂層と、第１アクリル系樹脂層と透明基材３３との間に設けられた第２アクリル系樹脂層と、を含んでいる場合、第１アクリル系樹脂層のアクリル樹脂中に、フィラー（充填剤）として第１アクリル系樹脂層の厚みよりも大きな粒径を有する微粒子が添加されてもよい。この微粒子は、第１アクリル系樹脂層の厚みよりも大きな粒径を有するので、その頂部が第１アクリル系樹脂層の表面よりも突出するようになる。これにより、フィルム基材３２の表面に微小な凹凸を形成して、フィルム基材３２とガイドローラとの間に十分な滑り性を付与することができる。したがって、フィルム基材３２がガイドローラに張り付いてフィルム基材３２にシワが発生することを、抑制することができる。微粒子としては、例えば、シリカ（酸化珪素）、アルミナ（酸化アルミニウム）、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等からなる無機物粒子、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、珪素樹脂、弗素樹脂、メラミン樹脂等の有機物粒子からなるものが使用できる。スチレンアクリル系樹脂の有機物粒子からなるものを使用すれば、微粒子とアクリル樹脂との屈折率を合わせることでヘーズを低減させることができるため、より好ましい。
【００４３】
なお、本明細書において示されている屈折率は、特に断らない限り、波長５００ｎｍの光に対する屈折率を意味している。
【００４４】
なお、アクリル系樹脂層３４ａ，３４ｂのうち透明基材３３の観察者側に位置するアクリル系樹脂層のことを「観察者側アクリル系樹脂層」と称し、反対側に位置するアクリル系樹脂層のことを「表示装置側アクリル系樹脂層」と称することもある。なお後述するように、導線５１は、フィルム基材３２の観察者側に位置することもあれば、フィルム基材３２の表示装置側に位置することもある。従って、アクリル系樹脂層３４ａが「観察者側アクリル系樹脂層」になりアクリル系樹脂層３４ｂが「表示装置側アクリル系樹脂層」になることもあれば、アクリル系樹脂層３４ｂが「観察者側アクリル系樹脂層」になりアクリル系樹脂層３４ａが「表示装置側アクリル系樹脂層」になることもある。
【００４５】
ところで、発明が解決しようとする課題の欄でも言及したように、ロール・トゥー・ロール方式でフィルム基材を搬送しながらフィルム基材上に薄膜を形成する場合、フィルム基材とガイドローラとの間の摩擦が大きいと、フィルム基材にシワが発生して形状不良となることが知られている。
【００４６】
そこで、本件発明者らは、当初、フィルム基材にシワが発生することを抑制するために、ＪＩＳ  Ｋ７１２５：１９９９に準拠した方法で測定した摩擦係数（以下、標準雰囲気摩擦係数と言う）が、所定の範囲内にあるフィルム基材を利用することを考えた。しかしながら、本件発明者らによる実際の検証によれば、標準雰囲気摩擦係数が同程度である市販のフィルム基材の中には、シワが発生するフィルム基材と、シワが発生しないフィルム基材とが存在することがわかった。言い換えれば、標準雰囲気摩擦係数の範囲を制限するやり方では、シワの発生を十分に抑制することはできないことがわかった。
【００４７】
このような課題に対して鋭意研究を進めた結果、本件発明者らは、真空雰囲気中において特定の装置を用いて特定の条件下で測定されたフィルム基材の後述のＦＦＭ信号の値と、当該フィルム基材へのシワの発生との間に、高い相関が存在することを知見するに至った。すなわち、真空雰囲気中において特定の装置を用いて特定の条件下で測定されたフィルム基材のＦＦＭ信号の値の範囲を制限することで、フィルム基材へのシワの発生を抑制し得ることが知見された。これは、このＦＦＭ信号の値が、当該フィルム基材の真空雰囲気中の動摩擦係数に対応することによるものと考えられる。
【００４８】
図５は、ＦＦＭ信号の値を得るための、摩擦力顕微鏡のプローブの変位の測定方法について説明する図である。本実施の形態では、摩擦力顕微鏡として、原子間力顕微鏡（Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ；ＡＦＭ）を備える日立ハイテクサイエンス社製環境制御型ユニットＡＦＭ５３００Ｅを用いる。
【００４９】
図５に示された例では、摩擦力顕微鏡は、先端に探針８２を有するプローブ８１と、図示しない光源から射出されプローブ８１の上面８１ａで反射した光Ｌ１を受ける検出器８３と、を有している。プローブ８１は探針８２が設けられた側を自由端とする片持ち状に配置されており、これにともなって、プローブ８１は「カンチレバー」とも呼ばれる。図示された例では、検出器８３の検出面は、水平方向に隣り合う第１領域８３ａ及び第２領域８３ｂの２つの領域に分割されている。検出器８３の第１領域８３ａ及び第２領域８３ｂには、それぞれフォトダイオード等の光を電圧に変換し得る光電変換素子が配置されている。なお、検出器８３の各領域８３ａ，８３ｂは、さらに上下に２分割され、計４つの領域に分割されていてもよい。
【００５０】
プローブ８１をフィルム基材３２の各主面３２ａ，３２ｂ上の走査エリア８５内を、当該主面３２ａ，３２ｂに沿って、プローブ８１の長手方向と交差する方向、とりわけ直交する方向、に移動させると、プローブ８１の探針８２と当該主面３２ａ，３２ｂとの間に生じる動摩擦力によって、プローブ８１にねじれ方向の傾き（変位）が生じる。
【００５１】
図示しない光源から射出された光Ｌ１は、プローブ８１の上面８１ａで反射し、検出器８３に入射する。光Ｌ１の検出器８３への入射位置は、プローブ８１の上面８１ａの傾き（変位）によって変化する。すなわち、光Ｌ１の検出器８３の各領域８３ａ，８３ｂへの入射割合は、プローブ８１の上面８１ａの傾き（変位）、とりわけプローブ８１のねじれ方向の傾き（変位）、によって変化する。したがって、検出器８３の各領域８３ａ，８３ｂに入射した光Ｌ１により、各領域８３ａ，８３ｂに配置された光電変換素子で生じる電圧差（信号差）を測定することにより、プローブ８１の変位、とりわけプローブ８１のねじれ方向の傾き（変位）を測定することができる。
【００５２】
図６Ａ〜図６Ｃは、摩擦力顕微鏡のプローブ８１の変位の一例を示す図である。とりわけ、図６Ａ〜図６Ｃは、摩擦力顕微鏡のプローブ８１を、一対の主面３２ａ，３２ｂを有するフィルム基材３２の一方の主面３２ａ上を、当該主面３２ａに沿って移動させたときの、プローブ８１の変位の一例を示している。なお、図６Ａ〜図６Ｃでは、プローブ８１をその長手方向に沿った方向から見て示している。
【００５３】
図６Ａは、プローブ８１がフィルム基材３２の主面３２ａに接触して停止している状態を示している。図示された例では、プローブ８１の上面８１ａは水平方向と平行をなしている。プローブ８１は、矢印で示された、プローブ８１の長手方向と交差し且つ水平方向と平行をなす方向にフィルム基材３２の主面３２ａに沿って移動される。とりわけプローブ８１は、プローブ８１の長手方向と直交する方向に移動される。このプローブ８１のフィルム基材３２の主面３２ａに沿った移動は、真空環境中にて行われる。本実施の形態において、真空とは、具体的には３．０×１０−３［Ｐａ］の圧力を有する状態を指す。
【００５４】
プローブ８１をフィルム基材３２の各主面３２ａ，３２ｂ上を、当該主面３２ａ，３２ｂに沿って移動させると、プローブ８１の探針８２と当該主面３２ａ，３２ｂとの間に生じる動摩擦力によって、プローブ８１にねじれ方向の傾き（変位）が生じる。フィルム基材３２の主面３２ａの真空雰囲気中の動摩擦係数が低い場合、図６Ｂに示すように、プローブ８１の上面８１ａは、水平方向（フィルム基材３２の主面３２ａと平行な方向）に対して比較的小さい角度を有して傾き（変位）を生じる。これに対して、フィルム基材３２の主面３２ａの真空雰囲気中の動摩擦係数が高い場合、図６Ｃに示すように、プローブ８１の上面８１ａは、水平方向（フィルム基材３２の主面３２ａと平行な方向）に対して比較的大きい角度を有して傾き（変位）を生じる。
【００５５】
本実施の形態において、プローブ８１の変位に対応する信号としては、プローブ８１の横方向の変位（ねじれ変位を検出）に対応した、検出器８３の第１領域８３ａ及び第２領域８３ｂに入る光量に対応する信号（電圧）の差分である信号（ＦＦＭ信号と称する）が用いられる。
【００５６】
プローブ８１の変位と、プローブ８１の探針８２とフィルム基材３２との間に働く動摩擦力と、の関係について説明する。ＦＦＭ信号（ＦＦＭ）とプローブ８１の微小変位ΔＸとの間には、下記の数式（１）の関係があることが知られている。
ＦＦＭ［ｍＶ］＝ＳＦＦＭ［ｍＶ／ｎｍ］×ΔＸ［ｎｍ］  …（１）
式中、ＦＦＭは微小変位ΔＸを生じた場合に出力される電圧値であり、ＳＦＦＭはねじれ感度であって、ΔＸ＝１ｎｍのねじれ変位に対する検出器８３の水平方向の信号（電圧）差であり、ΔＸはプローブ８１の微小変位である。
【００５７】
なお、微小領域の摩擦力Ｆｔ［Ｎ］は下記の数式（２）で表される。
Ｆｔ［Ｎ］＝Ｃｔ［Ｎ／ｍ］×ΔＸ［ｎｍ］×１０−９  …（２）
式中、Ｃｔは、プローブ８１におけるねじれのバネ定数を表す。
【００５８】
上記の数式（１）及び（２）より、ＦＦＭ信号と微小領域の摩擦力Ｆｔ［Ｎ］との関係は、下記の数式（３）で示すことができる。
Ｆｔ［Ｎ］＝（Ｃｔ［Ｎ／ｍ］／ＳＦＦＭ［ｍＶ／ｎｍ］）×ＦＦＭ［ｍＶ］×１０−９  …（３）
【００５９】
ここで、プローブ８１のバネ定数Ｃｔとねじれ感度ＳＦＦＭは、プローブ８１や装置の固有の定数であるので、微小領域の摩擦力とＦＦＭ信号差とは比例関係が成立していることは明らかである。したがって、バネ定数、ねじれ感度を正確に見積もり、測定により得られたＦＦＭ信号を用いることにより、プローブ８１の探針８２とフィルム基材３２との間に働く動摩擦力を推算することも可能である。
【００６０】
本実施の形態のフィルム基材３２は、一対の主面３２ａ，３２ｂを有し、摩擦力顕微鏡として日立ハイテクサイエンス社製環境制御型ユニットＡＦＭ５３００Ｅを用い、前記摩擦力顕微鏡のプローブ８１を、前記フィルム基材３２の各主面３２ａ，３２ｂ上を当該主面３２ａ，３２ｂに沿って移動させたときの前記プローブ８１の変位を、
プローブ型番：ＳＩ−ＤＦ３−Ｐ３
走査エリア：５．０［μｍ］×２．５［μｍ］
測定周波数：０．５［Ｈｚ］
プローブたわみ量：−０．９９７７［ｎｍ］
フリクション測定設定荷重：−０．９０８［ｎＮ］
真空測定環境：３．０×１０−３［Ｐａ］
の条件で測定した場合における、前記プローブ８１の微小変位ΔＸ［ｎｍ］と、前記プローブ８１の１ｎｍのねじれ変位に対する検出器８３の水平方向の信号差ＳＦＦＭ［ｍｖ／ｎｍ］と、の積として出力されるＦＦＭ［ｍｖ］の値が１２［ｍｖ］以下である。
【００６１】
ここで、走査エリア、測定周波数（タッピング周期）、プローブたわみ量（押込み量）、フリクション測定設定荷重及び真空測定環境（真空圧）は、いずれも、摩擦力顕微鏡として用いられる日立ハイテクサイエンス社製環境制御型ユニットＡＦＭ５３００Ｅにおいて所望の値を設定することができるようになっている。
【００６２】
また、ＦＦＭ［ｍｖ］の値が１２［ｍｖ］以下である、とは、走査エリア８５内で、プローブ８１を、プローブ８１の長手方向と交差する一方向にフィルム基材３２の主面３２ａに沿って移動（走査）しながらＦＦＭ［ｍｖ］の値を測定し、さらに、プローブ８１を、プローブ８１の長手方向と交差する他方向にフィルム基材３２の主面３２ａに沿って移動（走査）しながらＦＦＭ［ｍｖ］の値を測定し、プローブ８１を一方向に移動した際に測定された全てのＦＦＭの値の絶対値、及び、プローブ８１を他方向に移動した際に測定された全てのＦＦＭの値の絶対値、の平均値が、１２［ｍｖ］以下であることを意味している。
【００６３】
このようなフィルム基材３２によれば、フィルム基材３２の真空中における動摩擦係数に対応するＦＦＭ信号（ＦＦＭ）の値が小さいので、真空中におけるフィルム基材３２の表面（主面）に易滑性を付与することができる。したがって、ロール・トゥー・ロール方式でフィルム基材３２を搬送しながらフィルム基材３２に何らかの処理を行う際に、真空中等の減圧下でのフィルム基材３２とガイドローラとの間の摩擦を減少させ、搬送中にフィルム基材３２にシワが発生することを効果的に抑制することができる。また、フィルム基材３２の真空中における動摩擦係数そのものを算出する必要がないので、フィルム基材３２の表面（主面）の易滑性の評価を容易かつ簡便に行うことができる。
【００６４】
なお、フィルム基材３２は、熱収縮性を有することが好ましい。ロール・トゥー・ロール方式では、フィルム基材３２は、ガイドローラ間において重力の影響で撓まないように、搬送方向（ＭＤ方向）に一定の張力がかけられた状態で搬送される。搬送方向（ＭＤ方向）に一定の張力がかけられて引っ張られることで、フィルム基材の幅方向（ＴＤ方向）には圧縮力が作用する。フィルム基材３２が熱収縮性を有する場合には、幅方向（ＴＤ方向）における圧縮率を熱収縮により緩和することができるため、フィルム基材３２にシワが発生しにくくなる。
【００６５】
フィルム基材３２が熱膨張性を有する場合には、幅方向（ＴＤ方向）における圧縮力と熱膨張との相乗効果により、フィルム基材３２にシワが発生しやすくなる。そのため、フィルム基材３２が熱膨張性を有する場合には、熱による寸法変化が小さい方が好ましい。具体的には、例えば、表面と平行な一方向に単位断面積あたり２０ｍＮ／ｍｍ２の張力がかけられた状態で測定された、表面と平行かつ前記一方向に対して直角な方向の−１０℃での長さをＬ０、８０℃での長さをＬとした時、（Ｌ−Ｌ０）／Ｌ０×１００の式で計算される寸法変化率が、０．２５以下であることが好ましい。
【００６６】
次に、導線５１の層構成について説明する。図４に示すように、導線５１は、フィルム基材３２側から順に配置された低反射層５４、本体層５３および低反射層５５を有する導線形成層５２を含んでいる。
【００６７】
本体層５３は、導線５１における導電性を主に実現するための層である。本発明に於けるこの本体層５３は、その厚みが例えば０．２μｍ以下になるよう、より具体的には０．０２μｍ〜０．２μｍの範囲内になるよう構成されている。これによって、導線５１全体の厚みが大きくなることを抑制することができ、このことにより、導線５１の側面において外光や映像光が反射されてしまうことを抑制することができる。このため、透視性電極３１が取り付けられる表示装置における視認性を十分に確保することができる。
【００６８】
一方、本体層５３の厚みを小さくすることは、導線５１の電気抵抗値が大きくなってしまうことを導き得る。ここで本実施の形態においては、本体層５３を構成する材料として、その比抵抗が所望の値以下である金属材料を用いており、例えばその比抵抗が４．０×１０−６（Ωｍ）以下である金属材料を用いている。これによって、導線５１の電気抵抗値を十分に低くすることができる。例えば、本体層５３のシート抵抗値を０．３Ω／□以下にすることができる。本体層５３を構成するための、その比抵抗が４．０×１０−６（Ωｍ）以下である金属材料としては、本発明に於いては、例えば、金、銀、銅、白金、アルミニウム、錫等の金属を９０重量％以上含む材料（金属単体、金属合金等）を用いることが出来る。本実施形態に於いては、９９重量％の銅を含む材料を用いることができる。
【００６９】
ところで、銅などの金属材料は、高い導電性を有する一方で、金属光沢を示す。このため、未処理の金属材料が導線５１として用いられると、表示装置からの映像光の視認性が、導線の金属光沢によって妨げられることになる。特に銅は、銅に特有の赤味を帯びた色を示すため、銀などのその他の金属材料に比べて目立ち易く、このため表示装置からの映像光の視認性がより妨げられることになる。
【００７０】
このような銅特有の金属光沢を和らげるため、本体層５３に比べて金属光沢が抑制された薄い低反射層５４、５５が、本体層５３の両面に設けられている。以下、低反射層５４、５５について説明する。
【００７１】
低反射層５４、５５は、窒化銅からなる層である。窒化銅は、酸素原子をさらに含んでいてもよい。窒化銅としては、例えば、１０〜１５アトミック％の窒素と、１０〜１５アトミック％の酸素と、７０〜８０アトミック％の銅を含む銅化合物が用いられ得る。このような窒化銅を用いて構成される低反射層５４においては、その金属光沢が、本体層５３における金属光沢に比べて軽減されており、特に、銅に特有の赤味を帯びた色が軽減されており、特に銅に特有の赤味を帯びた色が低減されている。このため、導線５１からの反射光によって映像の視認性が低下することを抑制することができる。
【００７２】
また、低反射層５４、５５は、本体層５３に比べて小さな厚みを有しており、具体的には、低反射層５４、５５の厚みは、１０ｎｍ〜６０ｎｍの範囲内になっているため、導線５１全体の厚みが大きくなることを抑制することができ、このことにより、導線５１の側面において外光や映像光が反射されてしまうことを抑制することができる。
【００７３】
また、低反射層５４、５５の厚みを１０ｎｍ〜６０ｎｍの範囲内に設定することによっても、導線５１における光の反射率を低くすることができる。この理由としては、限定はされないが例えば、低反射層５４、５５において生じる薄膜干渉を挙げることができる。薄膜干渉とは、低反射層５４、５５の一方の面で反射された光と、低反射層５４、５５の他方の面で反射された光とが干渉するという現象である。低反射層５４、５５の厚みを上述の１０〜６０ｎｍの範囲内に設定することにより、反射光を弱めるように薄膜干渉が生じ、これによって、導線５１における光の反射率が低減されることが考えられ得る。
【００７４】
上述のような薄い低反射層５４、５５を形成するための方法が特に限られることはなく、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、電子ビーム法などの公知の薄膜形成法を用いることができる。例えばスパッタリング法が用いられる場合、真空雰囲気中に所定の流量に制御された窒素ガスまたは窒素ガスおよび酸素ガスの両方を供給しながら、銅からなるターゲットに放電電力を印加することによって、所望の組成を有する上述の窒化銅からなる層を得ることができる。
【００７５】
次に、以上のような構成からなる透視性電極３１を製造する方法について、図７Ａ〜図７Ｅを参照して説明する。
【００７６】
はじめに、図７Ａに示すように、フィルム基材３２を準備する。フィルム基材３２は、上述のように、透明基材３３と、透明基材３３の両側の面にそれぞれ設けられたアクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂと、を含んでいる。
【００７７】
フィルム基材３２を作製する方法の一例について説明すると、まず、長尺状の透明基材３３を準備し、透明基材３３の両側の面にアクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂを形成する。例えば、アクリル樹脂を含む塗工液を、コーターを用いて透明基材３３上にコーティングすることにより、アクリル系樹脂層３４ａ，３４ｂを形成することができる。この際、コーターとしては、好ましくは、アクリル系樹脂層３４ａ，３４ｂの平坦性を十分に確保することができるものが用いられ、例えばグラビアコーターが用いられる。なお、アクリル系樹脂層３４ａ，３４ｂを形成するための塗工液には、アクリル系樹脂層３４ａ，３４ｂの平坦性を高めるためのレベリング剤が含まれていてもよい。これによって、例えば、アクリル系樹脂層３４ａ上に導線５１の層を形成する際にピンホールなどの欠陥が生じてしまうことを抑制することができる。
【００７８】
フィルム基材３２を準備した後、ロール・トゥー・ロール方式でフィルム基材３２を搬送しながら、図７Ｂに示すように、アクリル系樹脂層３４ａ上に、低反射層５４をする。低反射層５４は、たとえば、窒素ガスを含む１０−１Ｐａの圧力の真空雰囲気中で、周波数３０ｋＨｚ〜２ＭＨｚの交流放電（以下、特定周波数の交流放電、或いは交流放電とも略稱する）を用いて銅のターゲットをスパッタリングすることにより、形成することができる。周波数３０ｋＨｚ〜２ＭＨｚの交流放電と直流放電（以下、ＤＣ放電とも略稱する）とを併用して銅のターゲットをスパッタリングしてもよい。また、窒素ガスに加えて酸素ガスをさらに導入してもよい。
【００７９】
次に、図７Ｂに示すように、低反射層５４上に、本体層５３を形成する。そして、本体層５３上に、低反射層５５を形成する。本体層５３および低反射層５５を形成するための方法としては、上述のように、スパッタリング法などの薄膜形成法を用いることができる。
【００８０】
このようにして、透視性電極３１を作製するための元材としての積層体６０（ブランクとも呼ばれる）が得られる。積層体６０は、フィルム基材３２と、フィルム基材３２上に設けられた導線形成層５２と、を備えている。導線形成層５２は、フィルム基材３２側から順に配置された低反射層５４、本体層５３および低反射層５５を含んでいる。
【００８１】
積層体６０を準備した後、図７Ｃに示すように、導線形成層５２上に感光性レジスト層７１を所定のパターンで形成する。感光性レジスト層７１は、特定波長域の光、例えば紫外線に対する感光性を有している。感光性レジスト層７１のタイプが特に限られることはない。例えば光溶解型の感光性レジスト層が用いられてもよく、若しくは光硬化型の感光性レジスト層が用いられてもよい。ここでは、光溶解型の感光性レジスト層が用いられる例について説明する。
【００８２】
感光性レジスト層７１は、導線５１のパターンに対応したパターンで形成されている。感光性レジスト層７１は、例えば、はじめに、積層体６０の表面上にコーターを用いて感光性レジスト材料をコーティングし、次に、感光性レジスト材料を所定のパターンで露光して現像することによって、所定のパターン形状の感光性レジスト層７１が形成される。
【００８３】
次に、図７Ｄに示すように、感光性レジスト層７１をマスクとして低反射層５５、本体層５３および低反射層５４をエッチングする。なお上述のように、低反射層５５、本体層５３および低反射層５４のいずれも、銅を含むよう構成されている。このため、銅を溶解させることができるエッチング液を用いて、低反射層５５、本体層５３および低反射層５４を同時にエッチングすることができる。エッチング液としては、例えば塩化第２鉄水溶液が用いられる。
【００８４】
次に、本体層５３上に残っている感光性レジスト層７１に対して、これを溶解除去する薬液によって洗浄して脱膜処理する。これによって、図７Ｅに示すように、感光性レジスト層７１を除去することができる。このようにして、低反射層５５、本体層５３、および低反射層５４を有する導線形成層５２をパターン形成し、これから構成された導線５１を備える透視性電極３１を得ることができる。
【００８５】
ここで本実施の形態によれば、上述のように、導線５１は、９０重量％以上の銅を含む本体層５３と、本体層５３の面上に設けられた窒化銅からなる低反射層５４と、を含んでいる。このため、銅の金属光沢に起因して、赤味を帯びた光が観察者に到達してしまうことを、低反射層５４によって抑制することができる。また、本体層５３、および低反射層５４、５５のいずれもが銅を含むため、積層体６０から透視性電極３１を作製する際、銅を選択的に溶かすことができるエッチング液を用いることにより、積層体６０の本体層５３、低反射層５４、５５を同時にエッチングして導線５１を形成することができる。このため、透視性電極３１を作製するために必要になる工数を小さくすることができる。
【００８６】
本実施の形態のフィルム基材３２は、一対の主面３２ａ，３２ｂを有し、摩擦力顕微鏡として日立ハイテクサイエンス社製環境制御型ユニットＡＦＭ５３００Ｅを用い、前記摩擦力顕微鏡のプローブ８１を、前記フィルム基材３２の各主面３２ａ，３２ｂ上を当該主面３２ａ，３２ｂに沿って移動させたときの前記プローブ８１の変位を、
プローブ型番：ＳＩ−ＤＦ３−Ｐ３
走査エリア：５．０［μｍ］×２．５［μｍ］
測定周波数：０．５［Ｈｚ］
プローブたわみ量：−０．９９７７［ｎｍ］
フリクション測定設定荷重：−０．９０８［ｎＮ］
真空測定環境：３．０×１０−３［Ｐａ］
の条件で測定した場合における、前記プローブ８１の微小変位ΔＸ［ｎｍ］と、前記プローブ８１の１ｎｍのねじれ変位に対する検出器８３の水平方向の信号差ＳＦＦＭ［ｍｖ／ｎｍ］と、の積として出力されるＦＦＭ［ｍｖ］の値が１２［ｍｖ］以下である。
【００８７】
このようなフィルム基材３２によれば、フィルム基材３２の真空中における動摩擦係数に対応するＦＦＭ信号（ＦＦＭ）の値が小さいので、真空中におけるフィルム基材３２の表面（主面）に易滑性を付与することができる。したがって、ロール・トゥー・ロール方式でフィルム基材３２を搬送しながらフィルム基材３２に何らかの処理を行う際に、真空中等の減圧下でのフィルム基材３２とガイドローラとの間の摩擦を減少させ、搬送中にフィルム基材３２にシワが発生することを効果的に抑制することができる。また、フィルム基材３２の真空中における動摩擦係数そのものを算出する必要がないので、フィルム基材３２の表面（主面）の易滑性の評価を容易かつ簡便に行うことができる。
【００８８】
＜第２の実施の形態＞
次に、図８〜図１２を参照して、本発明の第２の実施の形態について説明する。本実施の形態においては、上述の透視性電極３１を備えるタッチパネルと表示装置とを組み合わせることによって得られるタッチ位置検出機能付き表示装置について説明する。本実施の形態において、上述の各実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。また、各実施の形態において得られる作用効果が本実施の形態においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。
【００８９】
図８は、タッチ位置検出機能付き表示装置１０を示す展開図である。図８に示すように、タッチ位置検出機能付き表示装置１０は、タッチパネル３０と、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどの表示装置１５とを組み合わせることによって構成されている。
【００９０】
図示された表示装置１５は、フラットパネルディスプレイとして構成されている。表示装置１５は、表示面１６ａを有した表示パネル１６と、表示パネル１６に接続された表示制御部（図示せず）と、を有している。表示パネル１６は、映像を表示することができるアクティブエリアＡ１と、アクティブエリアＡ１を取り囲むようにしてアクティブエリアＡ１の外側に配置された非アクティブエリア（額縁領域とも呼ばれる）Ａ２と、を含んでいる。表示制御部は、表示されるべき映像に関する情報を処理し、映像情報に基づいて表示パネル１６を駆動する。表示パネル１６は、表示制御部の制御信号に基づいて、所定の映像を表示面１６ａに表示する。すなわち、表示装置１５は、文字や図等の情報を映像として出力する出力装置としての役割を担っている。
【００９１】
なお、図８に示すように、タッチパネル３０の観察者側、すなわち表示装置１５とは反対の側に、透光性を有する保護板１２がさらに設けられていてもよい。保護板１２は例えば、タッチパネル３０の観察者側の面に接着層などによって接着されている。この保護板１２は、指などの外部導体との接触によってタッチパネル３０のパターンや表示装置１５が損傷することを防ぐためのものであり、いわゆる前面板とも称されるものである。
【００９２】
図８に示すように、タッチパネル３０は、表示装置１５の表示面１６ａに、例えば接着層（図示せず）を介して接着されている。このタッチパネル３０は、２枚の透視性電極３１を組み合わせることによって構成されている。図８においては、観察者側に配置された透視性電極が符号３１Ａで表されており、透視性電極３１Ａよりも表示装置側に配置された透視性電極が符号３１Ｂで表されている。以下の説明において、符号３１Ａが付された透視性電極を第１透視性電極３１Ａ、符号３１Ｂが付された透視性電極を第２透視性電極３１Ｂとも称する。
【００９３】
図９は、観察者側から見た場合のタッチパネル３０を示す平面図である。図９においては、第１透視性電極３１Ａの構成要素が実線で表され、第２透視性電極３１Ｂの構成要素が点線で表されている。
【００９４】
図９に示すように、第１透視性電極３１Ａおよび第２透視性電極３１Ｂはそれぞれ、所定の方向に延びる複数の導電パターン４１を備えている。ここで、第１透視性電極３１Ａおよび第２透視性電極３１Ｂは、各々の導電パターン４１が互いに交差する方向に延びるよう、配置されている。例えば、第１透視性電極３１Ａは、その導電パターン４１が第１方向Ｄ１に沿って延びるよう、配置されている。一方、第２透視性電極３１Ｂは、その導電パターン４１が、第１方向Ｄ１に直交する第２方向Ｄ２に沿って延びるよう、配置されている。
【００９５】
図１０は、図９において符号Ｘが付された一点鎖線で囲まれた部分における導電パターン４１を拡大して示す平面図である。図１０に示すように、第１透視性電極３１Ａの導電パターン４１および第２透視性電極３１Ｂの導電パターン４１はそれぞれ、網目状に配置された導線５１から構成されている。
【００９６】
図１１は、タッチパネル３０を図１０のＸＩ−ＸＩ線に沿って切断した場合を示す断面図である。図１１に示すように、タッチパネル３０は、第１透視性電極３１Ａの導線５１および第２透視性電極３１Ｂの導線５１のいずれもがフィルム基材３２の表示装置側に位置するよう、第１透視性電極３１Ａおよび第２透視性電極３１Ｂを組み合わせることによって構成されている。なお、第１透視性電極３１Ａと第２透視性電極３１Ｂとの間には接着層３８などが介在されていてもよい。
【００９７】
図１２は、図１１に示すタッチパネル３０の一部を拡大して示す断面図である。図１２に示すように、第１透視性電極３１Ａの導線５１および第２透視性電極３１Ｂの導線５１はいずれも、上述の導線形成層５２を含んでいる。ここで図１２に示すように、導線形成層５２は、本体層５３と、本体層５３の観察者側に設けられた低反射層５４と、本体層５３の表示装置側に設けられた低反射層５５と、を含んでいる。
【００９８】
本体層５３の観察者側に低反射層５４が設けられているため、観察者側からタッチパネル３０に入射した外光が導線５１によって反射されて観察者側に戻ってしまうことを抑制することができる。これによって、導線５１が観察者から視認されてしまうことを抑制することができ、このことにより、表示装置１５からの映像の視認性が導線５１によって妨げられることを抑制することができる。また、本体層５３の表示装置側に低反射層５５が設けられているため、タッチパネル３０に入射した表示装置１５からの映像光が導線５１によって反射されて表示装置１５側に戻り、その後、表示装置１５の構成要素によって再び反射されてノイズ光として観察者に到達してしまうことを抑制することができる。
【００９９】
また、上述のように、導線形成層５２の本体層５３は、その厚みが０．２μｍ以下になるよう構成されている。本実施の形態においては０．１μｍとされている。このため、フィルム基材３２の法線方向から傾斜した方向に沿ってタッチパネル３０に入射した光が導線形成層５２の側面によって反射してしまうことを抑制することができる。このことにより、導線５１の側面が観察者から視認されてしまうことや、導線５１の側面によって表示装置からの映像光が妨げられてしまうことを抑制することができる。従って、映像の視認性を向上させることができる。
【０１００】
なお、上述した本実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、図面を参照しながら、変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した本実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。また、上述した実施の形態において得られる作用効果が変形例においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。
【０１０１】
図１１においては、第１透視性電極３１Ａの導線５１および第２透視性電極３１Ｂの導線５１のいずれもがフィルム基材３２の表示装置側に位置する例を示したが、これに限られることはない。例えば図１３に示すように、第１透視性電極３１Ａの導線５１は、フィルム基材３２の観察者側に位置し、一方、第２透視性電極３１Ｂの導線５１は、フィルム基材３２の表示装置側に位置していてもよい。
【０１０２】
また図１４に示すように、第１透視性電極３１Ａの導線５１は、フィルム基材３２の表示装置側に位置し、一方、第２透視性電極３１Ｂの導線５１は、フィルム基材３２の観察者側に位置していてもよい。
【０１０３】
次に、導線５１がフィルム基材３２の表示装置側に設けられている場合における、導線５１の断面形状の好ましい一例について、図１５を参照して説明する。
【０１０４】
図１５に示すように、導線５１の導線形成層５２は、表示装置１５に向かうにつれて先細になるテーパ形状を有している。この場合、フィルム基材３２の法線方向から傾斜した方向に沿ってタッチパネル３０に入射した外光Ｌ２は、導線形成層５２のテーパ形状のため、導線５１の側面に入射することなく表示装置１５側へ抜けていくことができる。このため、外光が導線５１によって反射されて観察者側に戻ってしまうことをさらに抑制することができる。
【０１０５】
導線形成層５２の具体的なテーパ形状は、想定される外光の傾斜の程度などに応じて適切に設定されるが、例えば、フィルム基材３２の法線方向と導線５１の側面とが成す角は１０°〜３０°の範囲内となっている。
【０１０６】
なお、上述した本実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。
【０１０７】
＜第３の実施の形態＞
次に図１６および図１７を参照して、本発明の第３の実施の形態について説明する。本実施の形態においては、フィルム基材３２の両側に導線５１が設けられる例について説明する。本実施の形態において、上述の各実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。また、各実施の形態において得られる作用効果が本実施の形態においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。
【０１０８】
図１６に示すように、透視性電極３１は、フィルム基材３２と、フィルム基材３２の観察者側の面（第１面、主面）３２ａ上に設けられた導線５１と、フィルム基材３２の表示装置側の面（第２面、主面）３２ｂ上に設けられた導線５１と、を備えている。第１面３２ａ側の導線５１からなる導電パターン４１および第２面３２ｂ側の導線５１からなる導電パターン４１は、互いに交差するように設けられている。例えば、同図に於いては、第１面３２ａ上の導電パターン４１は紙面と直交方向に、又第２面３２ｂ上の導電パターン４１は紙面と平行方向に延びている。このため本実施の形態によれば、１枚の透視性電極３１によってタッチパネル３０を構成することができる。
【０１０９】
図１７は、図１６に示す透視性電極３１の一部を拡大して示す断面図である。図１７に示すように、フィルム基材３２の第１面３２ａおよび第２面３２ｂ上に設けられた導線５１は、それぞれ、上述の導線形成層５２を含んでいる。このため、観察者側からタッチパネル３０に入射した外光が導線５１によって反射されて観察者側に戻ってしまうことを抑制することができる。これによって、導線５１が観察者から視認されてしまうことを抑制することができ、このことにより、表示装置１５からの映像の視認性が導線５１によって妨げられることを抑制することができる。
【０１１０】
なお、上述した本実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。
【０１１１】
上記の各実施の形態に於いては、アクリル系樹脂層３４ａ，３４ｂ表面に於ける動摩擦特性を特定真空雰囲気中に於いて特定の装置を用いて特定の条件下で測定されたフィルム基材のＦＦＭ信号の値の範囲が特定範囲になるように構成した。
【０１１２】
但し、本発明はこれに限定されることは無い。斯かる形態以外に、フィルム基材３２自体の表面即ち第１面３２ａ及び第２面３２ｂを、アクリル系樹脂層３４ａ，３４ｂを形成すること無く、動摩擦特性を特定真空雰囲気中に於いて特定の装置を用いて特定の条件下で測定されたフィルム基材３２のＦＦＭ信号の値の範囲が特定範囲になるように構成しても良い。其の為には、フィルム基材３２中にアクリル系樹脂層３４ａ，３４ｂと同様に微粒子を添加したり、或いは、フィルム基材３２の表面に、動摩擦特性が特定真空雰囲気中に於いて特定の装置を用いて特定の条件下で測定されたフィルム基材３２のＦＦＭ信号の値の範囲が特定範囲になるような微小凹凸形状を賦形（エンボス加工）する。
【０１１３】
以上の各実施の形態に於いては、透視性電極３１の用途をタッチパネルのタッチ位置検知電極を例に説明してきた。但し、本発明の透視性電極３１の用途はこれに限定されるわけでは無い。タッチ位置検知電極の他、ＥＬ（電場発光）画像表示装置の透視性電極、各種画像表示装置の画面、建築物の窓、車両の窓等に装着する透視性電磁波遮蔽材、建築物の窓、車両の窓等に霜取りや曇り除去の為に装着する透視性加熱電極等の用途に使用する事も可能である。
【実施例】
【０１１４】
次に、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。
【０１１５】
図７Ａに示すように、透明基材３３と、透明基材３３の両面に設けられたアクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂと、を含むフィルム基材３２を準備した。本実施例では、サンプルとして、５種類のフィルム基材３２を準備した。フィルム基材３２の透明基材３３を構成する材料としては、厚さ１００μｍの２軸延伸ＰＥＴフィルムを用いた。フィルム基材３２のアクリル系樹脂層３４ａ，３４ｂを構成する材料としては、アクリロイル基を分子中に有する単量体、アクリロイル基を分子中に有するプレポリマー、及びベンゾトリアゾール系光反応開始剤から紫外線硬化型アクリル樹脂を紫外線照射によって架橋硬化せしめたものを用いた。
【０１１６】
各サンプルについて、ＦＦＭ信号の値を測定した。摩擦力顕微鏡として日立ハイテクサイエンス社製環境制御型ユニットＡＦＭ５３００Ｅを用い、以下の条件で摩擦力顕微鏡のプローブの変位を測定し、プローブの微小変位ΔＸ［ｎｍ］と、プローブの１ｎｍのねじれ変位に対する検出器の水平方向の信号差ＳＦＦＭ［ｍｖ／ｎｍ］と、の積として出力されるＦＦＭ［ｍｖ］の値を取得した。
プローブ型番：ＳＩ−ＤＦ３−Ｐ３
走査エリア：５．０［μｍ］×２．５［μｍ］
測定周波数（タッピング周期）：０．５［Ｈｚ］
プローブたわみ量（押込み量）：−０．９９７７［ｎｍ］
フリクション測定設定荷重：−０．９０８［ｎＮ］
真空測定環境（真空圧）：３．０×１０−３［Ｐａ］
【０１１７】
その後、各サンプルを、真空中（３．０×１０−３［Ｐａ］）でガイドローラを介して搬送し、搬送後のシワの有無を目視で観察した。
【０１１８】
各サンプルについて、アクリル系樹脂層の厚み［μｍ］、アクリル系樹脂層に含まれる微粒子の材質及び粒径［μｍ］、ＦＦＭ［ｍｖ］、及び、シワの有無についてまとめたものを表１に示す。また、各サンプルのＦＦＭ［ｍｖ］の値を棒グラフで表したものを図１８に示す。ここで、ＦＦＭ［ｍｖ］の値が１２［ｍｖ］以下であるものを、ＦＦＭ［ｍｖ］の値が小さいものから順にサンプル１〜３とし、ＦＦＭ［ｍｖ］の値が１２［ｍｖ］より大きいものを、ＦＦＭ［ｍｖ］の値が小さいものから順に比較サンプル１〜２とした。
【０１１９】
【表１】
2017208034.tif 000003
【０１２０】
表１に示すように、ＦＦＭ［ｍｖ］の値が１２［ｍｖ］以下であるサンプル１〜３は、真空中での搬送後にもシワが目視されず、良好なフィルム形状を有していた。ＦＦＭ［ｍｖ］の値が１２［ｍｖ］より大きい比較サンプル１〜２は、真空中での搬送後にシワが目視された。
【０１２１】
これにより、フィルム基材３２として、摩擦力顕微鏡として日立ハイテクサイエンス社製環境制御型ユニットＡＦＭ５３００Ｅを用い、上述の条件で摩擦力顕微鏡のプローブの変位を測定し、取得されたＦＦＭ［ｍｖ］の値が１２［ｍｖ］以下であるフィルム基材３２を用いることにより、当該フィルム基材３２を真空中でガイドローラを介して搬送した際に、当該フィルム基材３２へのシワの発生を効果的に抑制することができることが確認された。したがって、減圧下で成膜処理を行う場合等、フィルム基材が減圧下でガイドローラと接触しながら搬送される場合、搬送時におけるフィルム基材へのシワの発生を抑制する観点から、フィルム基材として、このＦＦＭ［ｍｖ］の値が１２［ｍｖ］以下であるフィルム基材を用いることが、極めて有効であるといえる。
【符号の説明】
【０１２２】
１０  タッチ位置検出機能付き表示装置
１２  保護板
１５  表示装置
１６  表示パネル
３０  タッチパネル
３１  透視性電極
３２  フィルム基材
３２ａ，３２ｂ  主面
３３  透明基材
３４ａ，３４ｂ  アクリル系樹脂層
３８  接着層
４１  導電パターン
４３  額縁配線
４４  端子部
５１  導線
５２  導線形成層
５３  本体層
５４  低反射層
５５  低反射層
６０  積層体
７１  感光性レジスト層
８１  プローブ
８２  探針
８３  検出器
８５  走査エリア
【図１】
2017208034.tif 000004
【図２Ａ】
2017208034.tif 000005
【図２Ｂ】
2017208034.tif 000006
【図３】
2017208034.tif 000007
【図４】
2017208034.tif 000008
【図５】
2017208034.tif 000009
【図６Ａ】
2017208034.tif 000010
【図６Ｂ】
2017208034.tif 000011
【図６Ｃ】
2017208034.tif 000012
【図７Ａ】
2017208034.tif 000013
【図７Ｂ】
2017208034.tif 000014
【図７Ｃ】
2017208034.tif 000015
【図７Ｄ】
2017208034.tif 000016
【図７Ｅ】
2017208034.tif 000017
【図８】
2017208034.tif 000018
【図９】
2017208034.tif 000019
【図１０】
2017208034.tif 000020
【図１１】
2017208034.tif 000021
【図１２】
2017208034.tif 000022
【図１３】
2017208034.tif 000023
【図１４】
2017208034.tif 000024
【図１５】
2017208034.tif 000025
【図１６】
2017208034.tif 000026
【図１７】
2017208034.tif 000027
【図１８】
2017208034.tif 000028