【手続補正書】
【提出日】平成17年6月1日(2005.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）メソポーラスな形態を有する大きな比表面積を持った材料からなる基板と、
（ｉｉ）空間を分解するように基板に適用されたエレクトロクロミック材料を含み、エレクトロクロミック材料が、基板に、インクジェット法を用いて、約７５ｄｐｉ以上の空間解像度をもって適用されていることを特徴とするエレクトロクロミックディスプレイ素子に組み込むための電極構成体。
【請求項２】
（ｉ）メソポーラスな形態を有する大きな比表面積を持った材料からなる基板と、
（ｉｉ）空間を分解するように基板に適用された電荷蓄積用材料を含み、電荷蓄積用材料が基板に、インクジェット法を用いて、約７５ｄｐｉ以上の空間解像度をもって適用されていることを特徴とするエレクトロクロミックディスプレイ素子に組み込むための電極構成体。
【請求項３】
（ｉ）メソポーラスな形態を有する大きな比表面積を持った材料からなる基板と、
（ｉｉ）空間を分解するように基板に適用されたマスキング材料を含み、
マスキング材料が、基板に、インクジェット法を用いて、約７５ｄｐｉ以上の空間解像度をもって適用されていることを特徴とする、エレクトロクロミックディスプレイ素子に組み込むための電極構成体。
【請求項４】
（ｉ）メソポーラスな形態を有する大きな比表面積を持った材料からなる基板と、
（ｉｉ）インクジェット法を用いて、約７５ｄｐｉ以上の解像度を示すように、空間を分解するように基板に適用されるエレクトロクロミック材料を含み、
空間解像度はマスキング材料を約７５ｄｐｉ以上の空間解像度をもってインクジェット法によって基板に適用することにより得られ、前記マスキング材料はネガを形成し、その後、エレクトロクロミック材料の適用によってそのポジが現像されるエレクトロクロミックディスプレイ素子に組み込むための電極構成体。
【請求項５】
（ｉ）メソポーラスな形態を有する大きな比表面積を持った材料からなる基板と、
（ｉｉ）空間を分解するように基板に適用されるエレクトロクロミック材料を含み、エレクトロクロミック材料は、基板に約７５ｄｐｉ以上の空間解像度をもってインクジェット法を用いて、適用され、
（ａ）事前にエレクトロクロミック材料を適用した上にマスキング材料を適用する工程；
（ｂ）マスクされていないエレクトロクロミック材料のうちの少なくともいくらかを除去する工程；および、
（ｃ）場合によってはその後マスキング材料を除去する工程、
を含むエレクトロクロミックディスプレイ素子に組み込むための電極構成体。
【請求項６】
マスキング材料が、約７５ｄｐｉ以上の解像度を示し、空間を分解するようにインクジェット法により適用される請求項５に記載の電極構成体。
【請求項７】
（ｉ）基板；
（ｉｉ）空間を分解するように基板に適用された大きな比表面積の材料を含み、大きな比表面積の材料が、基板にインクジェット法を用いて約７５ｄｐｉ以上の空間解像度をもって適用され、かつ、空間解像度が非光リソグラフィ法によって得られることを特徴とする、エレクトロクロミックディスプレイ素子に組み込むための電極構成体。
メソポーラスな形態をしたメソポーラス材料で形成された大きな比表面積領域
【請求項８】
大きな比表面積の材料が金属酸化物である請求項１から７のいずれか一項に記載の電極構成体。
【請求項９】
大きな比表面積の材料が結晶形態の金属酸化物である請求項８に記載の電極構成体。
【請求項１０】
金属酸化物がＴｉＯ2、ＺｎＯ、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、ＩＴＯ（Ｓｎ：Ｉｎ2Ｏ3）およびＮｂＯ2ならびにこれらの組合せからなる群から選択される請求項８または９による電極構成体。
【請求項１１】
マトリックスアドレス設定システムでの組み込みに適合する、前記請求項のいずれかに記載の電極構成体。
【請求項１２】
（ｉ）メソポーラスな形態をしたメソポーラス材料を含む基板；
（ｉｉ）インクジェットにより空間を分解するように基板に適用されたエレクトロクロミック材料
を含むエレクトロクロミックディスプレイ素子に組み込むための電極構成体。
【請求項１３】
電極構成体が、固定画像または可変画像のポジまたはネガのいずれかの少なくとも一部を形成するのに適合した、前記請求項のいずれかに記載の電極構成体。
【請求項１４】
大きな比表面積の材料に等しく空間を分解するようにエレクトロクロミック材料が適用された請求項７に記載の電極構成体。
【請求項１５】
エレクトロクロミック材料が、適用される基板上での該材料の横方向の運動と比較して、基板に強く固着している請求項１、４、５、または１２から１４のうちのいずれか一項に記載の電極構成体。
【請求項１６】
エレクトロクロミック材料が、適用されるエレクトロクロミック材料の横拡散を防ぐように作用するアンカー基を備えている請求項１５に記載の電極構成体。
【請求項１７】
マスキング材料が、適用される基板上のマスキング材料の横方向の運動と比較して、基板に強く固着している請求項３、５または６に記載の電極構成体。
【請求項１８】
マスキング材料が、適用されるマスキング材料の横拡散を防ぐように作用するアンカー基を備えている請求項１７に記載の電極構成体。
【請求項１９】
アンカー基が、ホスホネート、カルボキシレート、スルホネート、サリチレート、シロキシ、ボレート、カテコレートおよびチオール基の１つまたは複数から選択される請求項１６または１８に記載の電極構成体。
【請求項２０】
アンカー基がホスホネートである請求項１６、１８または２１のうちのいずれか一項に記載の電極構成体。
【請求項２１】
エレクトロクロミック材料が、堆積後に重合性および／または架橋性である請求項１、４から６、または、１２から１６のうちのいずれか一項に記載の電極構成体。
【請求項２２】
エレクトロクロミック材料が、カスケード反応によって重合性および／または架橋性である請求項２１に記載の電極構成体。
【請求項２３】
マスキング材料が、堆積後に重合性および／または架橋性である請求項３、５、６または１７のいずれか一項に記載の電極構成体。
【請求項２４】
マスキング材料が、カスケード反応によって重合性および／または架橋性である請求項２３に記載の電極構成体。
【請求項２５】
材料が次のメカニズムの少なくとも１つ：たとえば還元的もしくは酸化的な、電解重合により、熱により、光化学的に、またはラジカル的に重合性である請求項２１または２３に記載の電極構成体。
【請求項２６】
材料が電解重合により重合性である請求項２５に記載の電極構成体。
【請求項２７】
重合反応が還元が引き金となって起きる請求項２６に記載の電極構成体。
【請求項２８】
重合性エレクトロクロミックまたはマスキング材料が重合性基を含んでいる請求項２１から２７のうちのいずれか一項に記載の電極構成体。
【請求項２９】
重合性基が末端基である請求項２８に記載の電極構成体。
【請求項３０】
重合性材料が、次の各基：ビニル；スチレン；アミン；アミド；カルボン酸；酸性の塩化物；ホスホン酸；アルコール；シランを含み、および／またはアクリレート（たとえば、メタクリレート）などの共重合体材料である請求項２８または請求項２９に記載の電極構成体。
【請求項３１】
エレクトロクロミック材料またはマスキング材料が、求核性のアンカー基または求電子性のアンカー基を備えている請求項３０に記載の電極構成体。
【請求項３２】
アンカー基が
【化１】
2004537743.tif 000001
または
【化２】
2004537743.tif 000002
ここで、
【化３】
2004537743.tif 000003
または
【化４】
2004537743.tif 000004
であり、Ｘは−Ｃｌ、または−Ｂｒ、または−ＯＴｓである請求項３１に記載の電極構成体。
【請求項３３】
エレクトロクロミック材料またはマスキング材料が、求電子性構築ブロックまたは求核性構築ブロックの１つまたは複数で処理される請求項３０から３２のうちのいずれか一項に記載の電極構成体。
【請求項３４】
求電子性構築ブロックおよび／または求核性構築ブロックが、さらにマスキングまたはエレクトロクロミック材料の一層の追加を可能にする請求項３３に記載の電極構成体。
【請求項３５】
求電子性構築ブロックおよび／または求核性構築ブロックが重合性および／または架橋性である請求項３３または請求項３４に記載の電極構成体。
【請求項３６】
他のエレクトロクロミックまたはマスキング材料が重合性および／または架橋性である請求項３４または請求項３５に記載の電極構成体。
【請求項３７】
求電子性構築ブロックが以下からなる群：
【化５】
2004537743.tif 000005
（Ｘは−Ｃｌ、または−Ｂｒ、または−ＯＴｓである）の１つまたは複数から選択される請求項３３から３６のうちのいずれか一項に記載の電極構成体。
【請求項３８】
求核性構築ブロックが以下からなる群：
【化６】
2004537743.tif 000006
の１つまたは複数から選択される請求項３３から３７のうちのいずれか一項に記載の電極構成体。
【請求項３９】
エレクトロクロミック材料が１つまたは複数のビオロゲンを含む請求項１、４から６、１２、１４から１６、２１、２２または２５から３８のうちのいずれか一項に記載の電極構成体。
【請求項４０】
ビオロゲンがビニル置換ビオロゲンである請求項３９に記載の電極構成体。
【請求項４１】
ブロッキング材料が、材料のその後の付着を防ぐことが望まれる基板の少なくとも１つの区域に適用される請求項１、４から６、１２、１４から１６、２１、２２または２５から４０のうちのいずれか一項に記載の電極構成体。
【請求項４２】
ブロッキング材料がエレクトロクロミック材料に反発性である請求項４１に記載の電極構成体。
【請求項４３】
その後の付着が、エレクトロクロミック材料、あるいは重合および／または架橋および／またはカスケード反応において使用される材料の付着である請求項４１または４２に記載の電極構成体。
【請求項４４】
適用されるブロッキング材料がホスホネート基を含む請求項４０から４３のうちのいずれか一項に記載の電極構成体。
【請求項４５】
エレクトロクロミック材料が、ブロッキング材料の適用の後に重合されかつ／または架橋されかつ／またはカスケード反応に入る請求項４１から４４のうちのいずれか一項に記載の電極構成体。
【請求項４６】
ブロッキング材料の適用の後に、さらにエレクトロクロミック材料が適用される請求項４１から４５のうちのいずれか一項に記載の電極構成体。
【請求項４７】
エレクトロクロミック材料が架橋されかつ／または重合されかつ／またはカスケード反応に入る前に、反発性材料が付着される請求項４１から４６のうちのいずれか一項に記載の電極構成体。
【請求項４８】
エレクトロクロミック材料が１０-8ｍｏｌ／ｃｍ2より大きな表面濃度で存在する請求項１、４から６、１２、１４から１６、２１、または、２５から４７のうちのいずれか一項に記載の電極構成体。
【請求項４９】
可視光線に透明な前記いずれかの請求項に記載の電極構成体。
【請求項５０】
エレクトロクロミック材料が切り替え可能な画素の形で提供される請求項１、４から６、１２、１４から１６、２１、２２または２５から４９のうちのいずれか一項に記載の電極構成体。
【請求項５１】
（ｉ）メソポーラスな形態を有する大きな比表面積を持った材料からなる基板を準備する、あるいは、メソポーラスな形態を有する、大きな比表面積をもった材料を基板に適用する工程；
（ｉｉ）エレクトロクロミック材料、電荷蓄積材料、マスキング材料およびメソポーラス材料形成用材料からなる群から選択される１つまたは複数の材料を、約７５ｄｐｉより大きな解像度を示すようにインクジェット法により、空間を分解するように基板または適用されたメソポーラス材料に適用する工程を含む電極構成体の製造方法。
【請求項５２】
一方の材料上に他方の材料を重ね刷りするため多段式方法である請求項５１に記載の方法。
【請求項５３】
前記材料がエレクトロクロミック材料であり、エレクトロクロミック材料を基板に付着させた後、材料のその後の付着を防ぐことが望まれる基板の少なくとも１つの区域にブロッキング材料が適用される請求項５１または５２に記載の方法。
【請求項５４】
ブロッキング材料がエレクトロクロミック材料に反発性である請求項５３に記載の方法。
【請求項５５】
その後の付着が、エレクトロクロミック材料、あるいは重合および／または架橋および／またはカスケード反応で使用される材料の付着である請求項５３または５４に記載の方法。
【請求項５６】
適用される反発性材料がホスホネート基を含む請求項５４に記載の方法。
【請求項５７】
材料がエレクトロクロミック材料であって、エレクトロミック材料が、反発性材料の適用後に重合されかつ／または架橋される請求項５１から５６のうちのいずれか一項に記載の方法。
【請求項５８】
エレクトロクロミック材料が、ブロッキング材料の適用後に重合されかつ／または架橋される請求項５３から５７のうちのいずれか一項に記載の方法。
【請求項５９】
メソポーラスな成形加工材料を印刷し、この材料がエレクトロクロミック材料を、メソポーラスな形態を有するように重ね刷りする工程を含む請求項５１から５８のうちのいずれか一項に記載の方法。
【請求項６０】
メソポーラス材料；
エレクトロクロミック材料；
電荷蓄積材料またはマスキング・コンパウンドが、固定画像の再生を可能とするように固定画像として材料に適用される所望の画像に関する画像情報を利用する為に適用される工程を含む請求項５１から５９のいずれか一項に記載の電極構成体の製造方法。
【請求項６１】
（ｉ）請求項１から５０のうちのいずれか一項に記載の少なくとも２つの電極を含むサブ組立体；および
（ｉｉ）サブ組立体上少なくとも４つの個別区域を有するエレクトロクロミック材料のマトリックスであって、インクジェット法によりエレクトロクロモフォア材料が約７５ｄｐｉより大きな空間解像度をもったマトリックスを含むマトリックスアドレッサブルなシステムの一部を形成するのに適合する組立体。
【請求項６２】
請求項１から５０のうちのいずれか一項に記載の電極構成体を組み込んだ少なくとも２つの作用電極、および少なくとも１つの対電極を含む、エレクトロクロミック素子中への組み込みに適した電極組立体。
【請求項６３】
たとえば、直接アドレス設定システムによってアドレス可能な請求項６２に記載の組立体。
【請求項６４】
さらにアドレス設定手段を含む請求項６２または請求項６３に記載の組立体。
【請求項６５】
請求項１から５０のうちのいずれか一項に記載の少なくとも２つの作用電極および少なくとも２つの対電極を含み、選択された作用電極および選択された対電極間の電圧印加を受ける少なくとも４つの個別区域が存在するように、作用電極と対電極間が互いに配置されており、組立体上４つの区域の各々にエレクトロクロミック材料が付与されている組立体。
【請求項６６】
（ｉ）支持体；
（ｉｉ）支持体上に配置された、作用電極、メソポーラスな形態をした大きな比表面積を持った材料からなるこの作用電極と対電極；
（ｉｉｉ）作用電極の少なくとも一部に空間的に分離して適用されたメソポーラスな形態を有する材料、及び、（通常、作用状態である選択された状態で）画像を表示するように配置された個別量のエレクトロクロミック材料；
（ｉｖ）作用電極と対電極間の電解質を含み、
ここで、エレクトロクロミック材料は、作用電極上に、メソポーラスな形態をした材料がインクジェット法により、約７５ｄｐｉより大きな空間解像度を示すように適用されている画像表示用のエレクトロクロミック素子。
【請求項６７】
（ｉ）支持体；
（ｉｉ）支持体上に配置された請求項１から５０のうちのいずれか一項による電極構成体を組み込んだ作用電極、および対電極；
（ｉｉｉ）作用電極と対電極間の電解質を含み、
ここで、画像は約７５ｄｐｉより大きな解像度で形成される画像表示用のエレクトロクロミック素子。
【請求項６８】
マトリックスアドレス手段を組み込んだ請求項６６または請求項６７に記載の素子。
【請求項６９】
ドットマトリックスディスプレイを組み込んだ請求項６６から６７のうちのいずれか一項に記載の素子。
【請求項７０】
下記構造：
【化７】
2004537743.tif 000007
を含む化合物。
【請求項７１】
１つまたは複数の適当な対イオンを含む請求項７０に記載の化合物。
【請求項７２】
ハロゲン；過塩素酸塩；トリフレート；ＢＦ4；およびＰＦ6-からなる群から選ばれた１つまたは複数の対イオンを含む請求項７１に記載の化合物。
【請求項７３】
化合物Ｎ−（ホスホノ−２−エチル）Ｎ’−ビニル−４，４’−ビピリジニウムジブロミド。