【事件の表示】
　特願２００５−　１３６０４「ガラス・コーティング」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年　５月１１日出願公開、特開２００６−１１７５０１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯  
　本願は、平成１７年１月２１日（パリ条約による優先権主張　平成１６年１０月１９日　欧州特許庁（ＥＰ））の出願であって、平成２０年２月１５日付けで拒絶理由が通知され、同年８月１８日付けで意見書が提出されるとともに特許請求の範囲についての手続補正がされ、同年１２月５日付けで拒絶査定がされ、これに対して、平成２１年３月６日に拒絶査定不服審判の請求がされ、同年３月３１日付けで特許請求の範囲についての手続補正がされるとともに、同年５月２７日付けで審判請求書についての手続補正がされ、当審における平成２３年７月２１日付けの特許法第１６４条第３項で規定する報告書を引用した審尋に対して、平成２４年１月２０日付けで回答書が提出されたものである。 
 　　 
第２　平成２１年３月３１日付けの手続補正についての補正の却下の決定 
１　補正の却下の決定の結論
　平成２１年３月３１日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
 　 
２　決定の理由
（１）　本件補正の内容 
　本件補正は、特許請求の範囲の請求項の記載を、以下の（Ａ）から（Ｂ）とする補正事項から成る。 
 　　 
（Ａ） 
「【請求項１】
　ＺｎＯ、ＺｎＯ：Ａｌ、ＮｉＣｒ、ＮｉＣｒＯｘ、ＴｉＯｘ、ＴｉＯ２、Ｗ、ＷＯ、ＷＯｘ、Ｚｒ、ＺｒＯｘ、ＺｒＯの内の少なくとも１つの材料からなり、イオン処理された第１層と、
　少なくとも５０％の銀成分を含む材料からなり、前記第１層の上に形成される第２の赤外放射線反射層と
から成り、
可視光線に対して透明であることを特徴とするガラスコーティング。
　　【請求項２】
　前記イオン処理がアルゴンイオンによるイオン照射である請求項１に記載のガラスコーティング。
　　【請求項３】
　前記イオン処理が酸素イオンによるイオン照射である請求項１に記載のガラスコーティング。
　　【請求項４】
　前記イオン処理がアルゴンイオンと酸素イオンとの混合イオン照射である請求項１に記載のガラスコーティング。
　　【請求項５】
　前記第２の赤外放射線反射層が純粋な銀からなる請求項１に記載のガラスコーティング。
　　【請求項６】
　前記第１層の材料が、少なくとも５０パーセントのＺｎＯ成分を含む請求項１に記載のガラスコーティング。
　　【請求項７】
　前記第１層の材料が純粋のＺｎＯからなる請求項１に記載のガラスコーティング。
　　【請求項８】
　イオン照射により処理された第１層の材料が、ＺｎＯｘ、ＺｎＯ：Ａｌ、Ｚｎ：ＡｌＯｘ、（０＜ｘ＜１）　のいずれか１つである請求項１に記載のガラスコーティング。
　　【請求項９】
　前記第１層が前記第２の赤外放射線反射層に直接コーティングされている請求項１に記載のガラスコーティング。
　　【請求項１０】
　層を形成する順番を、ガラス基板−ＴｉＯ２−イオン照射されたＺｎＯ−Ａｇ−ＮｉＣｒＯｘ−Ｓｉ３Ｎ４とした請求項１に記載のガラスコーティング。
　　【請求項１１】
　表面に可視光線に対して透明であるコーティングを施されたガラス基板であって、
前記コーティング層が、
　ＺｎＯ、ＺｎＯ：Ａｌ、ＮｉＣｒ、ＮｉＣｒＯｘ、ＴｉＯｘ、ＴｉＯ２、Ｗ、ＷＯ、ＷＯｘ、Ｚｒ、ＺｒＯｘ、ＺｒＯの内の少なくとも１つの材料からなり、イオン処理された第１層と、
　前記第１層の上に形成され、少なくとも５０％の銀成分からなる第２の赤外放射線反射層と
から成ることを特徴とするガラス基板。」 
 　　 
（Ｂ） 
「【請求項１】
　ガラス・コーティングを形成するための方法であって、前記ガラス・コーティングは可視光線に対して透明であり、
　前記ガラス・コーティングは、ＺｎＯ、ＺｎＯ：Ａｌ、ＮｉＣｒ、ＮｉＣｒＯｘ、ＴｉＯｘ、ＴｉＯ２、Ｗ、ＷＯ、ＷＯｘ、Ｚｒ、ＺｒＯｘ、ＺｒＯの内の少なくとも１つの材料からなるコーティング層を第１の層として形成され、
　第２の、赤外放射線を反射する層が、少なくとも５０パーセントの銀を含む成分を有しており、前記第１の層の上に蒸着されており、
　前記第１の層が、前記第２の層が蒸着されるに先だって、加速されたイオンによって照射されることを特徴とする方法。
　　【請求項２】
　前記第１層として形成される層が、スパッタリングにより蒸着されたＺｎＯの層である請求項１に記載の方法。
　　【請求項３】
　前記第２の層として形成される層が、スパッタリングにより蒸着されたＡｇ層である請求項１に記載の方法。
　　【請求項４】
　ａ）　スパッタリングによりガラス基板上にＴｉＯ２層を蒸着するステップと、
　ｂ）　スパッタリングにより前記ＴｉＯ２層上にＺｎＯ層を蒸着するステップと、
　ｃ）　イオン照射によりＺｎＯ層を処理するステップと、
　ｄ）　スパッタリングにより前記ＺｎＯ層上にＡｇ層を蒸着するステップと、
　ｅ）　スパッタリングによりＡｇ層の上にＮｉＣｒＯx層を蒸着するステップと、
　ｆ）　スパッタリングにより前記ＮｉＣｒＯx層上にＳｉ３Ｎ４層を蒸着するステップと
からなることを特徴とする請求項１に記載の方法。
　　【請求項５】
　赤外放射線を反射する層が純粋の銀である請求項１に記載の方法。
　　【請求項６】
　イオン照射される第１の層が、少なくとも５０％のＺｎＯ成分を含む請求項１に記載の方法。
　　【請求項７】
　イオン照射される第１の層が、少なくとも純ＺｎＯからなることを特徴とする請求項６に記載の方法。
　　【請求項８】
　イオン照射される第１の層が、ＺｎＯx、またはＺｎＯ：Ａｌ、またはＺｎ：ＡｌＯxのいずれかからなることを特徴とする請求項１に記載の方法。
　　【請求項９】
　前記イオン照射が、Ａｒイオンからなることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
　　【請求項１０】
　前記イオン照射が、酸素イオンからなることを特徴とする請求項１に記載の方法。
　　【請求項１１】
　前記イオン照射が、Ｏ２イオンおよびＡｒイオンの混合体からなることを特徴とする請求項１に記載の方法。」 
 　　 
（２）　本件補正の適否についての判断
　本件補正により、請求項１〜１１に係る発明は方法の発明に補正されている。
　しかしながら、補正前のいずれの請求項においても、方法の発明は記載されておらず、方法の発明に補正する補正事項が、補正前の特許請求の範囲に記載されたいずれかの発明特定事項を限定することにはならない。
　そうすると、上記補正事項は、いわゆる特許請求の範囲の限定的減縮を目的とするものには該当しない。  
　さらに、上記補正事項は、請求項の削除、誤記の訂正、明りょうでない記載の釈明のいずれをも目的とするものでもない。  
 　　  
（３）　審判請求人の主張について
　審判請求人は、平成２４年１月２０日付け回答書（以下、単に「回答書」という。）の「（３）出願人の意見」において、本件補正は、平成２０年１２月５日付け拒絶査定の理由３の１に関して受けた、「ガラス・コーティング」なる物の構成の一部を「イオン照射」なる処理を伴う製造方法で特定するものであり、他の製造方法によって製造される具体的な物を想定できるとはいえないため、発明に属する具体的な事物を理解することができないから、発明が不明確であるとの指摘を解消すべく、本願発明をコーティングの発明から方法の発明に補正したものである旨の主張を行っており、かかる主張は、上記補正事項が明りょうでない記載の釈明を目的として、物の発明を方法の発明に補正するものであるとの主張を行っているものとみれなくもない。
　しかしながら、上記拒絶査定の理由３の１では、「イオン処理」の条件に依存して、物としての特性が広範囲に変化するため、請求項に係る発明の範囲が不明確であると述べているのであって、審判請求人が主張するような、「他の製造方法によって製造される具体的な物を想定できるとはいえない」との理由は述べていないから、上記審判請求人の主張は、その根拠に錯誤があるといわざるを得ない。また、本願発明をコーティングという物の発明から方法の発明に補正したものであるとの主張についても、本件補正が単に発明のカテゴリーを物から方法へ補正したものではなく、補正前の請求項に係る発明には特定されていなかった「蒸着」、「スパッタリング」なる用語が、補正後の請求項１〜４及びこれを引用する請求項５〜１１に係る発明において新たに特定されている点や、補正前の請求項９に対応する請求項が補正後の特許請求の範囲に存在しない等、補正前と補正後の請求項の対応関係が１対１の関係にない点に照らして考えると、本願発明をコーティングという物の発明から方法の発明に補正したとする上記主張も採用できない。
　したがって、上記審判請求人の主張は採用はできない。
　
（４）　むすび  
　したがって、上記補正事項を有する本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。  
　
第３　本願発明について
　本件補正は上記のとおり却下されたので、本願の発明は、平成２０年８月１８日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１〜１１に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、上記「第２　２　（１）　本件補正の内容」の（Ａ）に、【請求項１】として示したとおりのものである。 
 　 
第４　原審における拒絶査定の理由
　原審における拒絶査定（以下、「原査定」という。）の理由の一つは、この出願の特許請求の範囲の記載が、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない、というものであり、その具体的な理由は、原査定の備考に記載した以下のものである。
　
「・理由２の１について
・・・
　手続補正後の請求項１では、「イオン処理された第１層」が「ZnO、ZnO:Al、NiCr、NiCrOx、TiOx、TiO2、W、WO、WOx、Zr、ZrOx、ZrOの内の少なくとも１つの材料」からなるものに特定されているが、発明の詳細な説明において、イオン照射処理による効果の客観的裏付けとともに実質的に記載されていると認められるのは、上記請求項１に記載された各種物質のうち「ZnO」のみである。そして、ZnO以外の物質に対してイオン照射による処理を行った場合であっても、ZnOの場合同様の効果が奏されることが自明でない点は、先の拒絶理由通知書でも説示のとおりであり、意見書を参酌しても、この点に関する具体的な主張も釈明もない。
　よって、技術常識を考慮しても、発明の詳細な説明に何ら客観的裏付けを伴った記載のないZnO以外の物質が記載されている請求項１に係る発明の範囲まで、発明の詳細な説明に開示された内容を拡張できるとはいえないため、請求項１に係る発明は発明の詳細な説明に記載したものでない。
・・・　
・理由２の２について
・・・
　発明の詳細な説明には、「少なくとも50%の銀成分を含む」なる第２の赤外放射線反射層の銀組成の下限値について、記載も示唆もされていない。
　よって、請求項１に係る発明は発明の詳細な説明に記載したものでない」
　
第５　当審の判断
１　本願発明
　上記「第３」で述べたとおり、本願発明は、上記「第２　２　（１）　本件補正の内容」の（Ａ）に、【請求項１】として示したとおりのものである。
　
２　発明の詳細な説明の記載事項
　これに対して、発明の詳細な説明には以下の記載がされている。
　
（ａ）「【発明が解決しようとする課題】
　【０００９】
　本発明の目的は、熱放射線を反射する層を厚くしないで、可視光線をよく透過する基板コーティングの断熱性を改善することである。
【課題を解決するための手段】
・・・
　【００１１】
　本発明は、ガラス・コーティングおよびこのガラス・コーティングを形成するための方法に関する。ガラス・コーティングは、ＺｎＯの第１の層およびその上に堆積されたＡｇの第２の層からなる。ＺｎＯ層上にＡｇ層を塗布する前に、ＺｎＯ層がイオンにより照射される。
　【００１２】
　本発明により達成される利点は、特に、銀層が塗布される層の特殊な前処理により、それ以上材料を塗布しなくても、その表面の抵抗を最大２０％低減するように、熱放射線を反射する層のエピタキシャル成長に影響を与えることにある。この場合、熱放射線を反射する層は、好適には、銀であることが好ましく、銀が塗布される層は、好適には、ＺｎＯであることが好ましい。このＺｎＯの前処理は、好適には、イオン衝撃により行うことが好ましい。
　【００１３】
　銀には、少量の、すなわち１０重量％未満のＣｕ、Ａｌ、Ｎｄ、Ｉｎ、Ｙｔ、Ｓｂ、Ｖ等を混合することができる。ＺｎＯまたはＺｎＯ：Ａｌの代わりに、例えば、ＮｉＣｒ、ＮｉＣｒＯｘ、ＴｉＯｘ、ＴｉＯ２、Ｗ、ＷＯ、ＷＯｘ、Ｚｒ、ＺｒＯｘ、ＺｒＯをエピタキシャル成長層用に使用することができる。」
 　 
（ｂ）「【００１８】
　銀の下のＺｎＯ層は底部阻止層として機能する。この層は銀層の特性に大きく影響する。例えば、この層は銀の層抵抗を低減するが、このことは導電性を改善するのと同じ効果がある。
　【００１９】
　これにより、光を反射する銀の性能が向上する。何故なら、透過率とコーティング・システムの表面抵抗との間には直接的な相関関係があるからである。表面抵抗が低ければ低いほど、コーティングの断熱性がよくなる。
　【００２０】
　下に位置するＺｎＯ層を通しての銀の表面抵抗の周知の低減は、本発明によりさらに改善され、それによりＺｎＯ層がイオン・ビームで照射される。それにより、銀層の放射率が改善され、可視範囲内の波長に対する高い透過性が同様に改善される。
　【００２１】
　イオンによりＺｎＯ表面を修正すると、以降の銀層のエピタキシャル成長に強力に影響する。銀の表面抵抗は、さらに銀を塗布しなくても最大２０％低減する。」 
　 
（ｃ）「【００３３】
　図２は、５つの異なる層２１〜２５を示すが、本発明にとって重要なのは、実質的には層２２および２３だけである。それ故、ガラスの２層システム、すなわちＺｎＯ−Ａｇにより試験を行った。表１にその結果の要約を示す。
・・・
　【００３４】
　　【表１】
・・・
　【００３６】
　ＺｎＯを処理しなかった銀層の表面抵抗は１０．８オームであり、ＺｎＯを処理した場合の表面抵抗は少なくとも８％〜２７％低減した。
　【００３７】
　また、５つの層からなるコーティングを使用して試験を行った。表２は、明度（ｃｏｌｏｒ　ｖａｌｕｅ）および表面抵抗についてのこれらの試験の結果を示す。
　【００３８】
　　【表２】
・・・
　【００３９】
・・・
　上記データは、焼戻し前のコーティングした基板に関するものである。これらのデータに基づいて、イオン処理後の層抵抗は、イオン処理を行わなかった層の層抵抗と比較すると有意に低減しているのは明らかである。
　【００４０】
　タイプ１、タイプ２、タイプ３は、イオン・エネルギーであり、タイプ１は高エネルギー、タイプ２は中程度のエネルギー、タイプ３は、低エネルギーを示す。
　【００４１】
　下記の表３は、焼戻しを行った後に得られた値を示す。
　【００４２】
　　【表３】
　すべての場合に、ＺｎＯ層をイオンで処理した後に、層抵抗の低減が認められた。
・・・
　【００４３】
　下記の表４に示す一連の試験の結果も、透過性および表面抵抗もＺｎＯ層のイオン処理により改善されたことを確認している。
　【００４４】
　　【表４】
」 
　
　なお、【００１１】に記載の「Ｚｎｏ層」は、「ＺｎＯ層」の明らかな誤記と認定した。
 　 
３　判断 
ア　発明の詳細な説明の（ａ）には、本願発明が解決しようとする課題に関して、熱放射線を反射する層を厚くしないで、可視光線をよく透過する基板コーティングの断熱性を改善することが記載されるとともに、本願発明により達成される利点として、上記熱放射線を反射する層として好適な銀層を塗布する前に、ＺｎＯ層をイオンにより照射することで、銀層のエピタキシャル成長に影響を与えて、銀層の表面抵抗を最大２０％低減することが記載されており、（ｂ）には、イオン照射がＺｎＯ表面を修正し、以降の銀層のエピタキシャル成長に強力な影響を与えるものであり、銀層の表面抵抗を低減させることにより、断熱性、放射率、及び可視範囲内の波長に対する透過性が改善することが記載されている。
　すなわち、（ａ）、（ｂ）には、本願発明の課題が、熱放射線を反射する層を厚くしないで、可視光線をよく透過する基板コーティングの断熱性を改善することであり、当該課題の解決手段として、第１層であるＺｎＯ層にイオン照射を行ってその表面を修正することで、銀層へのエピタキシャル成長に影響を与えてその表面抵抗を低減することが記載されている。
　また、（ａ）には、銀層に代わる材料に関して、銀に１０重量％未満のＣｕ、Ａｌ、Ｎｄ、Ｉｎ、Ｙｔ、Ｓｂ、Ｖ等を混合可能であることが記載される一方、ＺｎＯ層に代わる材料に関して、ＺｎＯまたはＺｎＯ：Ａｌの代わりに、例えば、ＮｉＣｒ、ＮｉＣｒＯｘ、ＴｉＯｘ、ＴｉＯ２、Ｗ、ＷＯ、ＷＯｘ、Ｚｒ、ＺｒＯｘ、ＺｒＯをエピタキシャル成長層用に使用可能であることが記載されている。
　
イ　そして、本願発明に係る具体的な実施例として、（ｃ）にはイオン処理された第１層がＺｎＯ層であり、第１層の上に形成される第２の赤外放射線反射層が銀層である場合について、銀層の表面抵抗が低下するとともに可視光範囲の透過性に優れるコーティングが得られることが記載されているから、本願発明に係る第１層がＺｎＯ層であり、第２の赤外放射線反射層が銀層である場合の本願発明は、発明の詳細な説明に記載されているといえる。 
　
ウ　しかしながら、発明の詳細な説明のすべての記載を参酌しても、本願発明において列挙される、ＺｎＯ以外の第１層を採用する場合や、５０％の銀成分を含む、すなわち５０％もの他成分を含む第２の赤外放射線反射層を採用する場合においても、当該第２の赤外放射線反射層の表面抵抗が低下するとともに可視光範囲の透過性に優れるコーティングが得られることを実証した具体的な実施例は何ら示されていない。
　
エ　また、上記「ア」で述べたとおり、本願発明における課題の解決手段は、第１層であるＺｎＯ層にイオン照射を行ってその表面を修正することで銀層へのエピタキシャル成長に影響を与えることであるが、一般にエピタキシャル成長は、基板材料の結晶構造、面方位、格子常数等の物理定数によってその実現が左右されることが技術常識であるところ、ＺｎＯと、第１層として列挙されたその他の材料との間には、これらの物理定数に類似性や関連性が認められないから、第１層をＺｎＯ層とした実施例の記載のみから、第１層として列挙されたその他の材料を用いた場合においても、第１層をＺｎＯ層としたときと同じ銀層のエピタキシャル成長が実現することを推認することができないし、上記その他の材料を銀層のエピタキシャル成長の基板層材料として使用できることが、本願の優先日前の技術常識であるとも認められない。
　
オ　他方、第１層材料の差異に起因する上記結晶構造、面方位、格子常数等の物理定数の差異を、イオン照射条件を制御することで解消することも想起し得ないではないが、そのような技術が本願の優先日前の慣用技術であるとも認められないし、本願明細書において上記結晶構造、面方位、格子常数等の物理定数の差異を解消するための指針を与えるようなイオン照射条件が開示されているわけでもない。
　
カ　そうすると、（ｃ）に記載された具体的な実施例において銀層に与えられたエピタキシャル成長への影響を、ＺｎＯに代えて第１層として列挙されたその他の材料層を使用した場合においても同様に与え得ることが当業者にとって推認できないから、本願発明の課題を解決できる範囲を、第１層として列挙されたその他の材料層を使用した場合においてまで拡張ないし一般化することはできない。
　
キ　さらに、エピタキシャル成長する第２の赤外放射線反射層について見ても、純銀と５０％の他成分を含む材料とでは、他成分の種類によっては結晶構造、面方位、格子常数等の物理定数が相当に相違するものであるから、上記「エ」〜「カ」で述べた理由と同様の理由により、第２の赤外放射線反射層を銀層とした実施例の記載のみから、第２の赤外放射線反射層として５０％の他成分を含む材料を使用した場合にまでそのエピタキシャル成長の実現を推認することができない。
　したがって、本願発明の課題を解決できる範囲を、第２の赤外放射線反射層として５０％の他成分を含む材料を使用した場合においてまで拡張ないし一般化することもできない。
　
ク　以上のとおり、発明の詳細な説明の欄に記載された技術内容を、イオン処理された第１層がＺｎＯ層であり、第１層の上に形成される第２の赤外放射線反射層が銀層である場合に特定していない本願発明に拡張ないし一般化することはできないから、本願発明は発明の詳細な説明において発明の課題を解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲を超えて特許を請求しようとするものであり、特許を受けようとする発明が発明の詳細な説明に記載したものであるとはいえないから、本願発明に係る出願は特許法第３６条第６項第１号の規定を満たさない。 
 　 
４　審判請求人の主張について
ア　審判請求人は、本願発明に係る第１層の材料に関して、平成２１年５月２７日付け審判請求書の手続補正書（以下、単に「審判請求書」という。）の「（３）−４　拒絶査定の認定について」において、ＺｎＯ以外の第１層の材料については、明細書の段落[００１３]に記載されているとした上で、これらの材料は、光透過性で断熱性のあるコーティングとしての材料の発明として請求されているわけではなく、本願発明の特徴は、第１層へのイオン照射にあり、これらの指摘された材料は、対象とする第１層を構成する材料を代表するものとして規定しているものであるから、これら全ての材料を第１層とする層に対する効果を示す具体的、実証的な実施例がないからといって発明の詳細な説明に記載が必要という要件を満たしていないということにはならないと主張しており、かかる主張は、要するに、本願発明の特徴は光透過性で断熱性のあるコーティング材料、及びかかるコーティング材料を得るための第１層へのイオン照射にあるのであって、第１層材料に特徴があるものではないとの主張を行っているものと解される。
　確かに、段落[００１３]に記載される第１層の材料は、光透過性で断熱性のあるコーティングとしての材料ではなく、その下地層として機能するものであるが、上記「３　ア」で述べたとおり、光透過性で断熱性のあるコーティングを実現するためには、そのエピタキシャル成長に影響を与える第１層の存在が必要不可欠である。そして、エピタキシャル成長の実現が、第１層の材料の種類によって左右されるものであることは、上記「３　エ」〜「３　カ」で述べたとおりである。
　そうすると、第１層の材料として、具体的な実施例のないＺｎＯ以外の材料を採用する場合にまで、光透過性で断熱性のあるコーティングが得られるという本願発明の効果を推認することができず、第１層の材料はかかるコーティングを得るための特徴というべきものであるから、上記第１層の材料に関する審判請求人の主張は採用できない。
　
イ　また、審判請求人は、第２の赤外放射線反射層に関して、審判請求書の「（３）−４　拒絶査定の認定について」において、明細書の段落[００１３]においては、銀の成分として１０％未満の銅、アルミ、・・等が含まれていてもよいと記載されているから、銀の成分は９０％以上あればよいということであるとした上で、本願発明は、銀の成分を特定することを特徴とする発明ではないが、銀を５０％以上含む材料とはその材料が銀としての特徴を示すことを意味することであると主張している。
　しかしながら、本願発明で特定されている第２の赤外放射線反射層としての材料は、「少なくとも５０％の銀成分を含む材料」であるから、銀の成分は９０％以上あればよいことが明細書の段落[００１３]に記載されているとしても、本願発明で特定されている第２の赤外放射線反射層としての材料が段落[００１３]に記載されていることにはならない。また、（ａ）に記載される、可視光線をよく透過する基板コーティングの断熱性を改善するという本願発明の課題を解決するために、断熱性、放射率、及び可視範囲内の波長に対する透過性の改善に直接寄与する第２の赤外放射線反射層の成分が重要な技術的意義を有することは明らかであるし、本願発明の課題を解決するために重要な技術である第２の赤外放射線反射層のエピタキシャル成長という観点で見た場合に、５０％もの他成分を含む材料と純銀とで、同様な振る舞いをすることが当業者にとって推認可能でないことは、上記「３　キ」で述べたとおりである。
　したがって、上記第２の赤外放射線反射層に関する審判請求人の主張も採用できない。
　
ウ　なお、審判請求人は回答書の「（３）出願人の意見」において、拒絶査定とされた補正前の請求項１についての審査官の認定それ自体については不当と考えていたものの、その不当である旨の反論をしていない旨主張している。
　しかしながら、拒絶査定に対する反論は、審判請求書の提出によってその機会が与えられており、当該審判請求書において審査官の認定が不当である旨の反論をしていないことを理由に、再度の反論の機会を与えねばならないとする規定は存在しない。
　したがって、かかる審判請求人の主張も当を得たものではない。
　
第６　むすび 
　以上のとおりであるから、本願の特許請求の範囲の記載が特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていないとする原査定の拒絶の理由は妥当であり、その他の拒絶の理由及び当該理由に対する審判請求人の主張を検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。 
　よって、結論のとおり審決する。