(57)【要約】      （修正有）【課題】電子ペーパー、有機ＥＬディスプレイ、照明用途などの使用に耐えうる極めて高いガスバリア性能を有するガスバリアフィルムの製造方法を提供する。【解決手段】基材フィルム１の片面あるいは両面に有機コーティング３を有し、一方の有機コーティング層の上にバリア層２を有するバリアフィルムの製造法であって、基材フィルムの片面あるいは両面に有機コーティング層を形成する工程と、一方の有機コーティング層上にガスバリア層を形成する工程と、加熱処理してガスバリアフィルムの熱収縮率（１５０℃で３０分加熱後）が０．５％未満となるように熱収縮させる工程を有するガスバリアフィルムの製造方法。【選択図】図１
2017144593.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムの片面あるいは両面に有機コーティング層を有し、一方の有機コーティング層の上にバリア層を有するバリアフィルムの製造方法であって、基材フィルムの片面あるいは両面に有機コーティング層を形成する工程（Ａ）と、一方の有機コーティング層上にバリア層を形成する工程（Ｂ）と、加熱処理してガスバリアフィルムの熱収縮率（１５０℃で３０分加熱後）が０．５％未満となるように熱収縮させる工程（Ｃ）とを有する、ガスバリアフィルムの製造方法。
【請求項２】
前記工程（Ａ）が前記工程（Ｃ）を含む、請求項１に記載のガスバリアフィルムの製造方法。
【請求項３】
前記工程（Ｂ）の後に前記工程（Ｃ）を有する、請求項１または２に記載のガスバリアフィルムの製造方法。
【請求項４】
前記工程（Ａ）が、基材フィルムの一方の面に有機コーティング層(ａ１)を形成する工程（Ａ１）と、基材フィルムの他方の面に有機コーティング層(ａ２)を形成する工程（Ａ２）とをこの順に有し、工程（Ａ１）および工程（Ａ２）のいずれか一方もしくは両方が前記工程（Ｃ）を含むことを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載のガスバリアフィルムの製造方法。
【請求項５】
前記工程（Ａ２）が、有機コーティング層（ａ２）を塗布する工程と加熱乾燥する工程とを有し、前記加熱乾燥工程が前記工程（Ｃ）を兼ねることを特徴とする、請求項４に記載のガスバリアフィルムの製造方法。
【請求項６】
前記工程（Ａ２）が、加熱乾燥工程の後に紫外線硬化工程を有することを特徴とする、請求項５に記載のガスバリアフィルムの製造方法。
【請求項７】
前記有機コーティング層（ａ１）の算術平均粗さ（Ｒａ１）が１．５ｎｍ未満であり、前記有機コーティング層（ａ２）の算術平均粗さ（Ｒａ２）が１．５ｎｍ以上であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載のガスバリアフィルムの製造方法。
【請求項８】
前記有機コーティング層（ａ１）の上にバリア層を有することを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載のガスバリアフィルムの製造方法。
【請求項９】
前記有機コーティング層（ａ１，ａ２）が紫外線硬化性樹脂層であることを特徴とする、請求項１〜８のいずれかに記載のガスバリアフィルムの製造方法。
【請求項１０】
前記バリア層が酸化亜鉛、二酸化ケイ素、酸化アルミニウムの共存相からなる層であって、ＩＣＰ発光分光分析法により測定される亜鉛原子濃度が２０〜４０ａｔ％、ケイ素原子濃度が５〜２０ａｔ％、アルミニウム原子濃度が０．５〜５ａｔ％、酸素原子濃度が３５〜７０ａｔ％である組成で構成されたことを特徴とする、請求項１〜９のいずれかに記載のバリアフィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、食品、医薬品などの包装用途や、太陽電池、電子ペーパー、有機ＥＬディスプレイ・照明などの電子デバイス用部材に使用される極めて優れたガスバリア性能を有するガスバリアフィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にガスバリアフィルムは基材であるプラスチックフィルムの表面に、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理気相成長法（ＰＶＤ法）、あるいはプラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法（ＣＶＤ法）等を利用して、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウム等の金属酸化物や、窒化アルミニウム、窒化ケイ素などの窒化物、炭化ケイ素などの炭化物などの無機化合物薄膜であるガスバリア層を形成してなる。
【０００３】
特に優れたガスバリア性を有するガスバリアフィルムの製造技術としては、例えば基材フィルム上に有機ケイ素化合物の蒸気と酸素を含有するガスを用いてプラズマＣＶＤ法によりケイ素酸化物を主体とし、炭素、水素、ケイ素及び酸素を少なくとも１種類含有した化合物を形成することによって、透明性を維持しつつガスバリア性を向上させる方法が用いられている（特許文献１）。
【０００４】
一方、このようなガスバリアフィルムは封止材、接着剤を用いて、水蒸気や酸素などの遮断を必要とする食品や医薬品などの包装材料、高い防湿性を必要とする電子デバイス（例えば有機薄膜、ＣＩＧＳ系などのフレキシブル太陽電池、有機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬ照明、電子ペーパーなど）の封止に用いられる。
【０００５】
また、封止工程では封止材にエポキシ樹脂系接着剤やオレフィン系ホットメルト材などが用いられる。この封止工程においては熱ラミネーションや封止材塗工後のＵＶ照射による架橋、熱架橋工程が伴うため、ガスバリアフィルムに熱負荷が発生することとなる。特に加熱延伸工程を経て製造されるプラスチックフィルムを基材としたガスバリアフィルムでは、このような熱負荷が発生すると、熱収縮してしまう状態となる。
【０００６】
この収縮応力によって封止体全体に歪みを発生させたり、微小な無機化合物結晶の集まりであるバリア層に応力割れが発生し、バリア性低下が発生してしまう問題があった。また熱収縮が大きい基材フィルムと熱収縮が小さいガスバリア層との収縮差による応力差が発生し、層間密着強度が低下してしまう問題もあった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１１−２０１３０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、電子ペーパー、有機ＥＬディスプレイ、照明用途などの使用に耐えうる極めて高いガスバリア性能を有するガスバリアフィルムの製造方法を提供することを目的とし、ガスバリアフィルムを用いた熱負荷を伴う封止工程において、ガスバリアフィルムの熱収縮による封止体の変形、ガスバリア性の低下、基材フィルムとガスバリア層の層間密着強度低下を防止することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明は以下の構成をとる。
【００１０】
第１の発明は、基材フィルムの片面あるいは両面に有機コーティング層を有し、一方の有機コーティング層の上にバリア層を有するバリアフィルムの製造方法であって、基材フィルムの片面あるいは両面に有機コーティング層を形成する工程（Ａ）と、一方の有機コーティング層上にバリア層を形成する工程（Ｂ）と、加熱処理してガスバリアフィルムの熱収縮率（１５０℃で３０分加熱後）が０．５％未満となるように熱収縮させる工程（Ｃ）とを有するガスバリアフィルムの製造方法である。
【００１１】
第２の発明は、前記発明であって工程（Ａ）が工程（Ｃ）を含むことを特徴とする。
【００１２】
第３の発明は、前記第１または第２の発明であって、工程（Ｂ）の後に工程（Ｃ）を有することを特徴とする。
【００１３】
第４の発明は、前記第１〜第３のいずれかの発明であって、工程（Ａ）が、基材フィルムの一方の面に有機コーティング層(ａ１)を形成する工程（Ａ１）と、基材フィルムの他方の面に有機コーティング層(ａ２)を形成する工程（Ａ２）とをこの順に有し、工程（Ａ１）および工程（Ａ２）のいずれか一方もしくは両方が工程（Ｃ）を含むことを特徴とする。
【００１４】
第５の発明は、第４の発明であって、工程（Ａ２）が、有機コーティング層（ａ２）を塗布する工程と加熱乾燥する工程とを有し、前記加熱乾燥工程が工程（Ｃ）を兼ねることを特徴とする。
【００１５】
第６の発明は、第５の発明であって、工程（Ａ２）が、加熱乾燥工程の後に紫外線硬化工程を有することを特徴とする。
【００１６】
第７の発明は、第１〜第６のいずれかの発明であって、有機コーティング層（ａ１）の算術平均粗さ（Ｒａ１）が１．５ｎｍ未満であり、有機コーティング層（ａ２）の算術平均粗さ（Ｒａ２）が１．５ｎｍ以上であることを特徴とする。
【００１７】
第８の発明は、第１〜第７のいずれかの発明であって、有機コーティング層（ａ１）の上にバリア層を有することを特徴とする。
【００１８】
第９の発明は、第１〜第８のいずれかの発明であって、有機コーティング層（ａ１，ａ２）が紫外線硬化性樹脂層であることを特徴とする。
【００１９】
第１０の発明は、第１〜第９のいずれかの発明であって、バリア層が酸化亜鉛、二酸化ケイ素、酸化アルミニウムの共存相からなる層であり、ＩＣＰ発光分光分析法により測定される亜鉛原子濃度が２０〜４０ａｔ％、ケイ素原子濃度が５〜２０ａｔ％、アルミニウム原子濃度が０．５〜５ａｔ％、酸素原子濃度が３５〜７０ａｔ％である組成で構成されたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
本発明は有機薄膜太陽電池、電子ペーパー、有機ＥＬディスプレイ、照明用途などの使用に好適なガスバリアフィルムの製造方法を提供するものであり、ガスバリアフィルムを用いた熱負荷を伴う封止工程においてガスバリアフィルムの熱収縮による封止体の変形、ガスバリア性の低下、基材フィルムとガスバリア層の層間密着強度低下を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】ガスバリアフィルムの断面構成１。
【図２】ガスバリアフィルムの断面構成２。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
まず、第１の発明に係るガスバリアフィルムの製造方法の実施形態を示す。また本発明によって形成されるガスバリアフィルムの断面構成の例を図１，２に示す。
【００２３】
本発明は、基材フィルムの片面あるいは両面に有機コーティング層を有し、一方の有機コーティング層の上にバリア層を有するバリアフィルムの製造方法に関する。基材フィルムは有機高分子化合物からなるフィルムであれば特に限定されず、例えば、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレートあるいはポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、エチレン酢酸ビニル共重合体のケン化物、ポリアクリロニトリル、ポリアセタール等の各種ポリマーからなるフィルムを使用することができる。好ましくは、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンからなるフィルムであり、透明度や強靭性、汎用性の面でポリエチレンテレフタレートが最も好ましい。基材フィルムを構成するポリマーは、ホモポリマー、コポリマーのいずれでもよいし、また、単独またはブレンドして用いることができる。フィルム厚みは３〜１８８μｍ程度まで任意に選択できるが、電子デバイスの封止用途としては５０〜１００μｍ厚みが好適である。また本基材フィルムの片面あるいは両面に形成する有機コーティング層は、基材フィルム表面の平滑性を高め、バリア層の膜欠陥を防止する為や、基材フィルムとバリア層との密着性を高める目的、あるいは基材フィルムからのオリゴマー析出防止の目的で設けられる。材料としてエポキシ系、アクリル系、ポリエステル系、ウレタン系などの塗材を用いて形成することが好ましく、熱硬化性樹脂でも良いが紫外線硬化樹脂が好ましい。希釈材はＩＰＡやＭＥＫ、酢酸エチルなどの有機溶剤を用いることができる。
【００２４】
本発明で形成されるバリア層は金属または金属酸化物が好適であり、亜鉛、珪素、アルミニウム、銅、錫、酸化亜鉛、酸化珪素、および酸化アルミニウムの少なくとも１種からなるが、これら以外のものでも使用することができる。特に酸化亜鉛、二酸化ケイ素、酸化アルミニウムの共存相からなる層であって、ＩＣＰ発光分光分析法により測定される亜鉛原子濃度が２０〜４０ａｔ％、ケイ素原子濃度が５〜２０ａｔ％、アルミニウム原子濃度が０．５〜５ａｔ％、酸素原子濃度が３５〜７０ａｔ％である組成で構成されたものが好適である。上記が好適である理由は、非常にしなやかで透明な非晶質のバリア膜が形成できる為であり、基材フィルム自身の伸縮による外力に対応してバリア層も伸縮することが出来る。
【００２５】
本発明において、基材フィルムの片面あるいは両面に有機コーティング層を形成する工程（Ａ）とは、ウェットコーティング装置で有機コーティング層を形成する工程を意味しており、塗材の乾燥と硬化が加熱工程のみで構成されるものでも良いが、硬化が紫外線照射工程で構成されているものが最も望ましい。
【００２６】
塗材の塗布手段としては、グラビア、リバースグラビア、マイクログラビア、スリットダイなどの手段が好適である。
【００２７】
バリア層を形成する工程（Ｂ）とは、金属または金属酸化物であるバリア層２の製造工程を示しており、真空排気設備を有するドライコーティング装置で加工される。ＣＶＤや多元蒸着設備が好適であるが、スパッタ装置が最も好ましく用いることができる。
【００２８】
バリア層形成工程（Ｂ）で形成されるバリア層の膜厚は５０〜３００ｎｍ程度が好ましく、１００〜２００ｎｍが最も好ましい。５０ｎｍより膜厚が薄い場合はバリア性が不安定となり、３００ｎｍより厚い場合は、加工コストが高くなり、屈曲によってバリア膜が割れ易くなる傾向がある。
【００２９】
加熱処理してガスバリアフィルムの熱収縮率（１５０℃で３０分加熱後）が０．５％未満となるように熱収縮させる工程（Ｃ）とは、フィルムを加熱出来る工程であれば良く、ウェットコーティング設備の乾燥工程や、オーブン、加熱炉を有する巻取り装置などを用いる工程である。加熱処理温度は１００〜２００℃の範囲で、加熱時間は１秒〜３００秒程度の範囲が好ましく、１５０〜１８０℃で３０秒〜１２０秒程度の範囲が更に好ましい。加熱後のバリアフィルムの熱収縮率（１５０℃３０分）はフィルム走行方向（ＭＤ方向）、フィルム幅方向（ＴＤ方向）共に０．５％未満となるのが好ましい。
【００３０】
次に第２の発明の実施形態を示す。
【００３１】
工程（Ａ）が工程（Ｃ）を含むことを特徴とするものであり、工程（Ａ）が有するウェットコーティング装置の乾燥工程を用いて工程（Ｃ）である加熱処理を実施するものである。すなわち乾燥工程温度を１００〜２００℃の範囲とし、乾燥工程時間を１秒〜３００秒程度の範囲とする。更に好適な乾燥工程温度は１５０〜１８０℃で乾燥工程時間は３０秒〜１２０秒程度の範囲である。
【００３２】
次に第３の発明の実施形態を示す。
【００３３】
前記工程（Ｂ）の後に工程（Ｃ）を有することを特徴とするものであり、工程（Ｂ）にてバリア層を形成した後、あらためて工程（Ｃ）の加熱工程を設けるものである。それぞれの工程における実施形態は第１の発明のとおりである。本工程が好適である理由は、工程（Ｂ）にて非常にしなやかな非晶質のバリア膜が形成できる為であり、基材フィルム自身の伸縮による外力に対応してバリア層も伸縮することが可能であるためである。
【００３４】
次に第４の発明の実施形態を示す。
【００３５】
本発明は前記いずれかに記載のガスバリアフィルムの製造方法であって、工程（Ａ）が、基材フィルムの一方の面に有機コーティング層(ａ１)を形成する工程（Ａ１）と、基材フィルムの他方の面に有機コーティング層(ａ２)を形成する工程（Ａ２）とをこの順に有し、工程（Ａ１）および工程（Ａ２）のいずれか一方もしくは両方が工程（Ｃ）を含むことを特徴とする。
【００３６】
本発明ば、図２の断面構成のバリアフィルムの製造方法であって、有機コーティング層（ａ１）および（ａ２）は第１の発明に記載の工程（Ａ）を用いて、基材フィルムの両面へ、それぞれ（ａ１），（ａ２）の順で形成するものであり、工程（Ａ１）、工程（Ａ２）のウェットコーティング設備の乾燥工程において、いずれか一方あるいは両方に第１の発明に記載の、工程（Ｃ）に係る加熱処理工程を有するものである。
【００３７】
特に本製造方法の特徴は、基材フィルムの両面へそれぞれ有機コーティング層（ａ１），（ａ２）を設けることにより、基材フィルムからのオリゴマー析出を防止することが出来、透明性の低下やバリア性悪化を防止することが出来ることである。
【００３８】
次に第５の発明の実施形態を示す。
【００３９】
これは第４の発明に係る工程（Ａ２）が、有機コーティング層（ａ２）を塗布する工程と加熱乾燥する工程とを有し、前記加熱乾燥工程が工程（Ｃ）を兼ねるものである。工程（Ａ２）の形態は第１の発明における工程（Ａ）に準じ、その乾燥工程の条件を第１の発明における工程（Ｃ）の形態としたものである。これは加熱工程によって生じやすいオリゴマー析出に対し、既に工程（Ａ１）を実施した後の工程（Ａ２）に工程（Ｃ）の加熱工程を実施することで、特にオリゴマー析出を抑制することが出来ることを特徴とする。
【００４０】
次に第６の発明の実施形態を示す。
【００４１】
これは第５の発明に係るガスバリアフィルムの製造方法であって前記工程（Ａ２）が、加熱乾燥工程の後に紫外線硬化工程を有することを特徴とする。この時、乾燥工程温度は第１の発明に記載の工程（Ｃ）の加熱処理温度であり。その後、紫外線硬化工程にて紫外線ランプを照射し、有機コーティング層の塗材を硬化させることを特徴とする。積算光量が０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ２となる範囲で照射し硬化させることが好適である。本製造方法によって、工程（Ａ２）において工程（Ｃ）の加熱処理を実施しても、乾燥工程での基材フィルムの熱収縮時にはまだ有機コーティング層（ａ２）が硬化していない為、基材フィルムに合わせて有機コーティング層（ａ２）が自由に伸縮できることを特徴とする。
【００４２】
次に第７の発明の実施形態を示す。
【００４３】
これは前記第１〜第６のいずれかの発明であって、有機コーティング層（ａ１）の算術平均粗さ（Ｒａ１）が１．５ｎｍ未満であり、有機コーティング層（ａ２）の算術平均粗さ（Ｒａ２）が１．５ｎｍ以上とするものである。ガスバリアフィルムの製造方法として、バリア性発現の為の平滑性を有する面と、巻取り時の噛み込み空気層を排除し、安定して巻き取ることが出来る表面粗さを大きくした面とを有することを特徴とし、具体的には有機コーティング層（ａ２）には球状シリカなど無機粒子を添加しておき、有機コーティング層（ａ１）には添加しないようにすることが望ましい。
【００４４】
次に第８の発明について実施形態を示す。
【００４５】
これは前記第１〜第７のいずれかの発明であって有機コーティング層（ａ１）の上にバリア層を有することを特徴としており、有機コーティング層（ａ１）の平滑な表面上に工程（Ｂ）によってバリア層を形成することで、安定して良好なバリア層を得ることが出来ることを特徴とする。
【００４６】
次に第９の発明の実施形態を示す。
【００４７】
これは前記第１〜第８のいずれかの発明であって、有機コーティング層（ａ１，ａ２）が紫外線硬化性樹脂層であることを特徴とする。有機コーティング層材料としてエポキシ系、アクリル系、ポリエステル系、ウレタン系などの樹脂塗材を用いて形成することが好ましい。
【００４８】
次に第１０の発明の実施形態を示す。
【００４９】
これは前記第１〜第９のいずれかの発明であって、バリア層が酸化亜鉛、二酸化ケイ素、酸化アルミニウムの共存相からなる層であり、ＩＣＰ発光分光分析法により測定される亜鉛原子濃度が２０〜４０ａｔ％、ケイ素原子濃度が５〜２０ａｔ％、アルミニウム原子濃度が０．５〜５ａｔ％、酸素原子濃度が３５〜７０ａｔ％である組成で構成されたことを特徴とする。これにより非常にしなやかなで透明な非晶質のバリア膜が形成できる。、基材フィルム自身の伸縮による外力に対応してバリア層も伸縮することが出来ることによる。
【実施例】
【００５０】
以下、本発明のガスバリアフィルムの製造方法の具体的な例を説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００５１】
（評価方法）
（１）ガスバリアフィルムの水蒸気透過率（ｇ／ｍ２・２４ｈ）
温度４０℃、相対湿度９０％、測定面積５０ｃｍ２の条件で、英国テクノロックス（Ｔｅｃｈｎｏｌｏｘ）社製の水蒸気透過率測定装置“ＤＥＬＴＡＰＥＲＭ”を使用して本発明のガスバリアフィルムの製造方法により作製されたガスバリアフィルムの水蒸気透過率の測定をした。サンプル数は水準当たり２検体とし、測定回数は各検体について５回とし、得られた１０点の平均値を水蒸気透過率（ｇ／ｍ２・２４ｈ）とした。
【００５２】
（２）評価判定
バリア層２を形成した後、加熱処理をするものについて、バリア層２を形成した時点での水蒸気透過率を基準とし、加熱処理後の水蒸気透過率の変化率が２未満のものをガスバリアフィルムの実用特性が合格であるとし、２以上を不合格であるとした。また加熱処理後にバリア層２を形成するものは、バリア値が１×１０-3ｇ／ｍ２・２４ｈ以下のものを合格とし、以上のものは不合格とした。
【００５３】
また本バリアフィルムを用いてポリイミドフィルムをラミネート加工し、熱収縮シワが発生したものは実用特性が不合格であるとした。
【００５４】
（実施例１)
図１の断面構成のものを形成すべく加工した。基材フィルム１は厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８）を使用した。その上に有機コーティング層３をウェットコーティング用コーターにて１μｍ厚みとなるようグラビア塗布した。塗工液はＤＩＣ(株)製“ユニディック”(登録商標)ＲＣ２９−１２４（ウレタンアクリレート系ＵＶ硬化型フィルムコート剤）をＭＥＫにてＮＶ（固形分濃度）５０質量％に調整し用いた。乾燥工程にて１００℃で１分間乾燥後、硬化工程にて紫外線ランプを用いて積算光量０．５Ｊ／ｃｍ２で照射して硬化させた。有機コーティング層３の算術平均粗さはＲａ＝１．０ｎｍであった。
その後バリア層２を形成した。バリア層２の形成は酸化亜鉛／二酸化ケイ素／酸化アルミニウムの混合物を焼結したターゲットを保持したスパッタリング装置を用い、バリア膜の組成として、亜鉛原子濃度が３０．０ａｔ％、ケイ素原子濃度が１０．０ａｔ％、アルミニウム原子濃度が２．０ａｔ％、酸素原子濃度が５８．０ａｔ％のものを形成した。バリア層の厚みは１５０ｎｍとした。本状態での水蒸気透過率は５×１０−４ｇ／ｍ２・２４ｈであった。
【００５５】
次に本バリアフィルムを再びウェットコーティング用コーターの乾燥工程にて１８０℃の環境温度で３０秒間加熱処理したのち常温まで冷却した。その後の水蒸気透過率は５．５×１０−４ｇ／ｍ２・２４ｈ(変化率１．１)であり、また本バリアフィルムを１５０℃３０分処理した後の熱収縮率は最大で０．３％であった。
【００５６】
その後、本バリアフィルムと被封止体を模擬したポリイミドフィルム（東レ・デュポン株式会社製“カプトン” （登録商標）５００Ｖ）とをホットメルトを用いてロールラミネート加工を実施した。ホットメルトは旭化学合成株式会社製  アサヒメルトＴＣ１０を用い、ロール温度は１５０℃とした。その結果、ラミネートフィルムは熱収縮しわが発生せず、平坦で良好なラミネート品が出来たので合格とした。
【００５７】
（実施例２)
実施例１の製造工程において、有機コーティング層３形成時の乾燥工程を１８０℃３０秒の条件とし、乾燥と加熱処理を兼ねて実行した。その後、実施例１と同様にバリア膜２を形成し、その後の加熱工程は省略した。本状態で水蒸気透過率は５×１０−４ｇ／ｍ２・２４ｈであった。また１５０℃３０分処理した後の熱収縮率は最大で０．３％であった。その後、実施例１と同様にラミネート加工を実施したがラミネートフィルムに熱収縮しわは発生せず平坦で良好なラミネート品が出来たので合格とした。
【００５８】
（実施例３)
図２の構成でバリアフィルムを加工した。実施例１と同様の基材フィルム１を用い、その上に実施例１と同様の有機コーティング層３を形成した。引き続き反対面に有機コーティング層４として、有機コーティング層３と同様の塗材に下記の表面処理シリカ粒子分散液を固形分換算で８質量％添加したものを用いて１μｍ厚みにグラビア塗布した。乾燥工程や硬化工程条件は同条件とした。本結果により得られた有機コーティング層４の算術平均粗さはＲａ＝５．０ｎｍであった。その後、実施例１と同様に有機コーティング層３の上へバリア層２を形成した。本状態で水蒸気透過率は５×１０−４ｇ／ｍ２・２４ｈであった。バリア層２形成の後、実施例１と同様に１８０℃３０秒の加熱工程を実施し、常温まで冷却した。その後の水蒸気透過率は５．５×１０−４ｇ／ｍ２・２４ｈ（変化率１．１）であり、また本バリアフィルムを１５０℃３０分処理した後の熱収縮率は最大で０．３％であった。その後、実施例１と同様にラミネート加工を実施したがラミネートフィルムに熱収縮しわは発生せず平坦で良好なラミネート品が出来たので合格とした。
【００５９】
＜表面処理シリカ粒子分散液＞
コロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製の「オルガノシリカゾル  ＩＰＡ−ＳＴＺＬ」）１５０質量部に、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１３．７質量部と１０質量％蟻酸水溶液１．７質量部を混合し、７０℃にて１時間撹拌した。次いで、フッ素化合物（Ｈ２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ２−（ＣＦ２）８Ｆ）１３．８質量部および２，２−アゾビスイソブチロニトリル０．５７質量部を加えた後、６０分間９０℃にて加熱撹拌して分散液を得た。
【００６０】
（実施例４)
実施例３の製造工程において有機コーティング層４の乾燥工程条件を１８０℃３０秒とし、バリア層２形成までの他の工程は同様とした。バリア層２形成後の加熱処理は省略した。本状態で水蒸気透過率は５×１０−４ｇ／ｍ２・２４ｈであった。また１５０℃３０分処理した後の熱収縮率は最大で０．３％であった。その後、実施例１と同様にラミネート加工を実施したが、ラミネートフィルムに熱収縮しわは発生せず平坦で良好なラミネート品が出来たので合格とした。
【００６１】
（実施例５）
実施例３の製造工程において機コーティング層３および４の乾燥工程条件を１８０℃３０秒とし、バリア層２形成までの他の工程は同様とした。バリア層２形成後の加熱処理は省略した。本状態で水蒸気透過率は５×１０−４ｇ／ｍ２・２４ｈであった。また１５０℃３０分処理した後の熱収縮率は最大で０．２％であった。その後、実施例１と同様にラミネート加工を実施したがラミネートフィルムに熱収縮しわは発生せず平坦で良好なラミネート品が出来たので合格とした。
【００６２】
（実施例６)
実施例１の製造工程で、バリア層２の形成手段は同様とし、スパッタリング装置のターゲット材料を酸化亜鉛とし、バリア層２を酸化亜鉛層とした。この状態で測定した水蒸気透過率は５×１０−３ｇ／ｍ２・２４ｈであった。その後、実施例１と同様の加熱処理を実施したところ、蒸気透過率は８×１０−３ｇ／ｍ２・２４ｈ(変化率１．６)であった。また１５０℃３０分処理した後の熱収縮率は最大で０．３％であった。その後、実施例１と同様にラミネート加工を実施したがラミネートフィルムに熱収縮しわは発生せず平坦で良好なラミネート品が出来たので合格とした。
【００６３】
（比較例１）
実施例１の製造工程でバリア層２までを形成した。本状態で水蒸気透過率は５×１０−４ｇ／ｍ２・２４ｈであった。また１５０℃３０分処理した後の熱収縮率は最大で１．０％であった。その後加熱処理することなく、実施例１と同様にラミネート加工を実施したところ、熱収縮しわが発生し、ラミネートフィルムが波うち状態となった。判定は不合格であった
（比較例２)
実施例１の製造工程で有機コーティング層３を設けることなく、基材フィルム１の表面へバリア層２を形成した。基材フィルム１表面の算術平均粗さはＲａ＝５０ｎｍであった。本状態で水蒸気透過率は５×１０−３ｇ／ｍ２・２４ｈであった。その後、実施例１と同様の加熱処理を実施したところ、蒸気透過率は５×１０−２ｇ／ｍ２・２４ｈ（変化率１０）であった。水蒸気透過率が悪く、加熱処理後の変化率も１０であった為、判定は不合格であった。
【産業上の利用可能性】
【００６４】
本発明の方法で製造される金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムは、水蒸気や酸素などのガスバリア性能に優れていることから、太陽電池や、有機ＥＬディスプレイなどの表示体素子に用いることができる。例えば、有機薄膜太陽電池においては、発光層を片面、あるいは両面から本発明による金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムで挟み込む構成にすることにより、発電性能の低下が小さい有機薄膜太陽電池を提供することができる。また、有機ＥＬディスプレイにおいては、発光層を片面、あるいは両面から本発明による金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムで挟み込む構成にすることにより発光特性の低下が小さい有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【符号の説明】
【００６５】
１  基材フィルム
２  バリア層
３、４  有機コーティング層
【図１】
2017144593.tif 000003
【図２】
2017144593.tif 000004