【手続補正書】
【提出日】平成18年8月18日(2006.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ｉ）：
【化１】
2005535719.tif 000001
（式（Ｉ）中、
【化２】
2005535719.tif 000002
は、シクロメタル化リガンドであり、
Ｍは４０より大きな原子量を有する金属であり、
Ｘ及びＹはそれぞれ独立して、ヘテロ原子、ヘテロ原子含有基、又はヘテロ環から選択され、
Ｚは二価の連結基であり、
Ｚは式ＪＲ’ｐＲ’’ｑの基であり、ここで、Ｊは水素又は金属又は非金属であり、Ｒ’及びＲ’’は独立して、アルケニル、ヘテロアリール、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アリールアミノ、スルフィド、アルキルスルフィド、アリールスルフィド、ホスフィノ、アルキルホスフィノ、又はアリールホスフィノであり、ｐ及びｑは０〜２の整数であり、
ｍ及びｎは、１及び２から選択される整数であり、ここでｎ＋ｍの合計が２又は３であり、
但し、
【化３】
2005535719.tif 000003
がアニオン性であるという条件のもとである）
で表される化合物。
【請求項２】
Ｊがホウ素である、請求項１記載の化合物。
【請求項３】
前記ヘテロ原子含有基が、ＯＲ、ＳＲ、ＮＲ２、及びＰＲ２から選択され、ここでＲはアルキル、アリール、又はヘテロアリールである、請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
ＲがＣ１〜Ｃ６アルキル、アリール、又はヘテロアリールである、請求項３に記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ’及びＲ’’がヘテロアリールである、請求項１に記載の化合物。
【請求項６】
Ｒ’及びＲ’’が、アルキル、アリール、及びピラゾールからなる群から選択され、かつｐ及びｑがそれぞれ１である、請求項５に記載の化合物。
【請求項７】
Ｒ’がピラゾールであり、Ｒ’’がピラゾールであり、ｐ及びｑがそれぞれ１である、請求項４に記載の化合物。
【請求項８】
Ｘ及びＹがピラゾールである、請求項５に記載の化合物。
【請求項９】
Ｚが水素である、請求項５に記載の化合物。
【請求項１０】
前記金属がＩｒ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ａｇ、及びＡｕからなる群から選択される、請求項１に記載の化合物。
【請求項１１】
前記金属がＩｒである、請求項１０に記載の化合物。
【請求項１２】
前記金属がＰｔである、請求項１０に記載の化合物。
【請求項１３】
下記式（ＩＩＩ）：
【化４】
2005535719.tif 000004
（式（ＩＩＩ）中、Ｒ１１及びＲ１２それぞれは独立して、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルアリール、ＣＮ、ＣＦ３、ＣＯ２Ｒ、Ｃ（Ｏ）Ｒ、ＮＲ２、ＮＯ２、ＯＲ、ハロ、アリール、ヘテロアリール、置換されたアリール、置換されたヘテロアリール、又はヘテロ環式基から選択され、さらに追加で又は代わりに、いずれか２つの隣接置換位置が一緒に、独立して、縮合環化した５〜６員環式基を形成し、ここで前記環式基はシクロアルキル、シクロヘテロアルキル、アリール、又はヘテロアリールであり、さらにここで前記縮合環化した５〜６員環式基は場合により１以上のアルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルアリール、ＣＮ、ＣＦ３、ＣＯ２Ｒ、Ｃ（Ｏ）Ｒ、ＮＲ２、ＮＯ２、ＯＲ、又はハロで置換されることができ；
各Ｒは独立して、アルキル、アリール、又はヘテロアリールであり；かつ、
添え字ａ及びｂは、独立して０、１、２、及び３から選択される）
を有する、請求項１に記載の化合物。
【請求項１４】
下記式ＩＶ：
【化５】
2005535719.tif 000005
を有する、請求項５に記載の化合物。
【請求項１５】
下記式Ｖ：
【化６】
2005535719.tif 000006
（式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、及びＲ１４それぞれは独立して、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルアリール、ＣＮ、ＣＦ３、ＣＯ２Ｒ、Ｃ（Ｏ）Ｒ、ＮＲ２、ＮＯ２、ＯＲ、ハロ、アリール、ヘテロアリール、置換されたアリール、置換されたヘテロアリール、又はヘテロ環式基から選択され、さらに追加で又は代わりに、いずれか２つの隣接置換位置が一緒に、独立して、縮合環化した５〜６員環式基を形成し、ここで前記環式基はシクロアルキル、シクロヘテロアルキル、アリール、又はヘテロアリールであり、さらにここで前記縮合環化した５〜６員環式基は場合により１以上のアルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルアリール、ＣＮ、ＣＦ３、ＣＯ２Ｒ、Ｃ（Ｏ）Ｒ、ＮＲ２、ＮＯ２、ＯＲ、又はハロで置換されることができ；
各Ｒは独立して、アルキル、アリール、及びヘテロアリールであり；かつ、
添え字ａ、ｂ、ｃ、及びｄは、独立して０、１、２、及び３から選択される）
を有する、請求項１に記載の化合物。
【請求項１６】
下記式（Ｉ）：
【化７】
2005535719.tif 000007
（式中、
【化８】
2005535719.tif 000008
は、シクロメタル化リガンドであり、
Ｍは４０以上の原子量を有する金属であり、
Ｘ及びＹはそれぞれ独立して、ヘテロ原子含有基、又はヘテロ環から選択され、
ｍ及びｎは１及び２から選択される整数であり、ここでｎ＋ｍの合計が２又は３であり、
Ｚは水素又は式ＪＲ’ｐＲ’’ｑで表される基であり、ここで、Ｊは水素又は金属又は非金属であり、ここでＪはＡｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ｃｕ、Ａｇ、及びＡｕからなる群から選択され、
Ｒ’及びＲ’’は独立して、水素、アルキル、アルケニル、ヘテロアリール、ハロゲン、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アリールアミノ、スルフィド、アルキルスルフィド、アリールスルフィド、ホスフィノ、アルキルホスフィノ、又はアリールホスフィノであり、ｐ及びｑは０〜２の整数であり、
但し、
【化９】
2005535719.tif 000009
がアニオン性であるという条件のもとである）
で表される化合物。
【請求項１７】
Ｘ及びＹがヘテロ環である、請求項１６に記載の化合物。
【請求項１８】
Ｘ及びＹがピラゾールである、請求項１７に記載の化合物。
【請求項１９】
Ｒ’がピラゾールであり、Ｒ’’がピラゾールであり、かつ、ｐ及びｑがそれぞれ１である、請求項１８に記載の化合物。
【請求項２０】
Ｒ’が、二座のアルキル、アリール、及びカルボキシルリガンド、並びにキレート配位リガンドからなる群から選択され、ｐが１であり、ｑが０である、請求項１６に記載の化合物。
【請求項２１】
Ｒ’及びＲ’’が、アルキル、アリール、及びピラゾールからなる群から選択され、かつ、ｐ及びｑがそれぞれ１である、請求項１６に記載の化合物。
【請求項２２】
Ｚが水素である、請求項１６に記載の化合物。
【請求項２３】
前記金属が、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ａｇ、及びＡｕからなる群から選択される、請求項１６に記載の化合物。
【請求項２４】
前記金属がＩｒである、請求項２３に記載の化合物。
【請求項２５】
前記金属がＰｔである、請求項２３に記載の化合物。
【請求項２６】
下記式（ＩＩ）：
【化１０】
2005535719.tif 000010
（式中、
【化１１】
2005535719.tif 000011
は、シクロメタル化リガンドであり、
Ｍは４０より大きな原子量を有する金属であり、
Ｚは二価の連結基であり、
ｍは１又は２であり、
Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、Ｒ’ａ、Ｒ’ｂ、及びＲ’ｃは、これらが存在する場合には、独立して、Ｈ、アルキル、アリール、ヘテロアリール、ハロゲン、アルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、アリールアミノ、スルフィド、アルキルスルフィド、アリールスルフィド、ホスフィノ、アルキルホスフィノ、又はアリールホスフィノから選択され、
但し、
【化１２】
2005535719.tif 000012
がアニオン性であるという条件のもとである。）
を有する、請求項１６に記載の化合物。
【請求項２７】
有機層を含む発光デバイスであって、前記有機層が下記式：
【化１３】
2005535719.tif 000013
（式中、
【化１４】
2005535719.tif 000014
は、シクロメタル化リガンドであり、
Ｍは４０より大きな原子量を有する金属であり、
Ｘ及びＹはそれぞれ独立してヘテロ原子含有基又はヘテロ環から選択され、
Ｚは二価の連結基であり、
ｍ及びｎは１及び２から選択される整数であり、ここでｎ＋ｍの合計が２又は３であり、
但し、
【化１５】
2005535719.tif 000015
がアニオン性であるという条件のもとである。）
で表される化合物を含む発光デバイス。
【請求項２８】
Ｚが一般構造ＪＲ’ｐＲ’’ｑによって表され、ここでＪは水素、金属、又は非金属であり、Ｒ’及びＲ’’は独立して、Ｈ、アルキル、アルケニル、アリール、ヘテロアリール、ハロゲン、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アリールアミノ、スルフィド、アルキルスルフィド、アリールスルフィド、ホスフィノ、アルキルホスフィノ、又はアリールホスフィノであり、かつ、ｐ及びｑは０〜２の整数である、請求項２７に記載の発光デバイス。
【請求項２９】
Ｊが、Ｈ、Ａｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ｃｕ、Ａｕからなる群から選択される、請求項２８に記載の発光デバイス。
【請求項３０】
Ｘ及びＹがヘテロ環である、請求項２７に記載の発光デバイス。
【請求項３１】
Ｘ及びＹがピラゾールである、請求項３０に記載の発光デバイス。
【請求項３２】
Ｊがホウ素である、請求項２８に記載の発光デバイス。
【請求項３３】
Ｘ及びＹが両者ともにピラゾールである、請求項３２に記載の発光デバイス。
【請求項３４】
Ｒ’がピラゾールであり、ｂが０であり、かつ、ａが２である、請求項３３に記載の発光デバイス。
【請求項３５】
Ｒ’が、二座のアルキル、アリール、及びカルボキシルリガンド、並びにキレート配位リガンドからなる群から選ばれ、ｂは０であり、かつ、ａは１である、請求項２８に記載の発光デバイス。
【請求項３６】
Ｒ’及びＲ’’が、アルキル、アリール、及びピラゾールからなる群から選択され、かつ、ｐ及びｑがそれぞれ１である、請求項２７に記載の発光デバイス。
【請求項３７】
Ｚが水素である、請求項２７に記載の発光デバイス。
【請求項３８】
Ｘ及びＹがピラゾールである、請求項３７に記載の発光デバイス。
【請求項３９】
前記金属が、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ａｇ、Ａｕからなる群から選択される、請求項２７に記載の発光デバイス。
【請求項４０】
前記金属がＩｒである、請求項３９に記載の発光デバイス。
【請求項４１】
前記金属がＰｔである、請求項３９に記載の発光デバイス。
【請求項４２】
Ｘ及びＹの少なくとも１つが、ＯＲ、ＳＲ、ＮＲ２、ＰＲ２からなる群から選択される、請求項２７に記載の発光デバイス。
【請求項４３】
Ｒが、Ｈ、アルキル、アリール、ヘテロアリール、ハロゲン、アルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、アリールアミノ、スルフィド、アルキルスルフィド、アリールスルフィド、ホスフィノ、アルキルホスフィノ、又はアリールホスフィノからなる群から選択される、請求項３９に記載の発光デバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
その後に続く製造プロセスの間に下の層を保護するために保護層が用いられうる。例えば、金属又は金属酸化物のトップ電極を加工するために用いられるプロセスは、有機層を損傷する可能性があり、保護層がそのような損傷を減少又は排除するために用いられうる。デバイス１００においては、カソード１６０の加工の間、保護層１５５が下の有機層に対する損傷を低減しうる。好ましくは、保護層はそれが輸送するタイプの担体（デバイス１００中の電子）に対して高い担体移動度を有し、それによりデバイス１００の作動電圧は著しく増加しない。ＣｕＰｃ、ＢＣＰ、及び様々な金属フタロシアニン類が、保護層に用いられうる材料の例である。その他の材料又は材料の組み合わせ物が用いられうる。保護層１５５の厚さは、好ましくは、有機保護層１５５が堆積された後に起こる加工プロセスによる下の層への損傷がほとんど又は全くないために充分な厚さであり、しかもデバイス１００の作動電圧を著しく増加させるほど厚くはない。保護層１５５は、その導電性を高めるためにドープされうる。例えば、ＣｕＰｃ又はＢＣＰ保護層１５５はＬｉでドープされうる。保護層のより詳細な説明は、Ｌｕらの米国特許出願第０９／９３１，９４８号中に見ることができ、その全てを本願中に援用する。