【手続補正書】
【提出日】平成17年9月26日(2005.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】巨大細孔を有する触媒を用いてベンゼンポリカルボン酸またはその誘導体を水素化する方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  巨大細孔を有する支持体に塗布された、活性金属として周期律表の遷移元素群ＶＩＩＩの少なくとも１つの金属を単独でかまたは周期律表の遷移元素群ＩまたはＶＩＩの少なくとも１つの金属と一緒に含有する触媒の存在下に、ベンゼンポリカルボン酸もしくはその誘導体またはその２つ以上の混合物を水素含有ガスと接触させることによってベンゼンポリカルボン酸もしくはその誘導体またはその２つ以上の混合物を水素化する方法において、
ジメチルテレフタレートを水素化する場合に、前記支持体が少なくとも５０ｎｍの平均孔径および最大３０ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積を有し、活性金属の量が触媒の全質量に対して０．０１〜３０質量％であり、かつ活性金属の表面積と触媒支持体の表面積との比が０．０５未満である場合には、支持体に塗布された、活性金属としてルテニウムを単独でかまたは周期律表の遷移元素群Ｉ、ＶＩＩまたはＶＩＩＩの少なくとも１つの金属と一緒に含有する触媒
および/または
前記支持体の細孔容積の１０〜５０％が５０ｎｍ〜１００００ｎｍの範囲内の孔径を有する巨大細孔によって形成されており、支持体の細孔容積の５０〜９０％が２〜５０ｎｍの範囲内の孔径を有する中間細孔によって形成されており、この場合細孔容積の総和は１００％にまでなる場合には、支持体に塗布された、活性金属としてルテニウムを単独でかまたは周期律表の遷移元素群Ｉ、ＶＩＩまたはＶＩＩＩの少なくとも１つの金属と一緒に、触媒の全質量に対して０．０１〜３０質量%の量で含有する触媒
を用いての水素化を除外するものとすることを特徴とする、巨大細孔を有する触媒を用いてベンゼンポリカルボン酸またはその誘導体を水素化する方法。
【請求項２】  触媒が、支持体に塗布された、活性金属として周期律表の遷移元素群ＶＩＩＩの少なくとも１つの金属を単独でかまたは周期律表の遷移元素群ＩまたはＩＶの少なくとも１つの金属と一緒に含有し、この場合この支持体は、少なくとも５０ｎｍの平均孔径および最大で３０ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積を有し、活性金属の量は、触媒の全質量に対して０．０１〜３０質量％である、請求項１記載の方法。
【請求項３】  触媒が、支持体に塗布された、活性金属として周期律表の遷移元素群ＶＩＩＩの少なくとも１つの金属を単独でかまたは周期律表の遷移元素群ＩまたはＶＩＩの少なくとも１つの金属と一緒に、触媒の全質量に対して０．０１〜３０質量％の量で含有し、この場合この支持体の細孔容積の１０〜５０％は、５０ｎｍ〜１００００ｎｍの範囲内の孔径を有する巨大細孔によって形成されており、支持体の細孔容積の５０〜９０％は、２〜５０ｎｍの範囲内の孔径を有する中間細孔によって形成されており、その際に細孔容積の総和は１００％までになる、請求項１記載の方法。
【請求項４】  触媒が、支持体に塗布された、活性金属として周期律表の遷移元素群ＶＩＩＩの少なくとも１つの金属を単独でかまたは周期律表の遷移元素群ＩまたはＶＩＩの少なくとも１つの金属と一緒に、触媒の全質量に対して０．０１〜３０質量％の量で含有し、この場合この支持体は、少なくとも０．１μｍの平均孔径および最大で１５ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積を有する、請求項１記載の方法。
【請求項５】  ベンゼンポリカルボン酸またはその誘導体をフタル酸、テレフタル酸およびイソフタル酸のモノアルキルエステルおよびジアルキルエステル、トリメリト酸、トリメシン酸およびヘミメリト酸のモノアルキルエステル、ジアルキルエステルおよびトリアルキルエステル、ピロメリト酸のモノアルキルエステル、ジアルキルエステル、トリアルキルエステルおよびテトラアルキルエステル、この場合アルキル基は、線状であっても分枝鎖状であってもよく、それぞれ３〜１８個の炭素原子を有し、フタル酸、トリメリト酸およびヘミメリト酸の無水物、ピロメリト酸二無水物ならびにこれらの２つ以上の混合物から構成される群から選択する、請求項１から４までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】  支持体が活性炭、炭化珪素、酸化アルミニウム、二酸化珪素、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛またはこれらの２つ以上の混合物からなる、請求項１から５までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】  水素化を溶剤または希釈剤の存在下で実施する、請求項１から６までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】  水素化を連続的に実施する、請求項１から７までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】  ケミカルアブストラクツ登録番号（以下：CAS No.）８４７７７−０６−０を有するジ（イソペンチル）フタレートを水素化することによって得ることができるシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジ（イソペンチル）エステル；
CAS No.７１８８８−８９−６を有するジ（イソヘプチル）フタレートを水素化することによって得ることができるシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジ（イソヘプチル）エステル；
CAS No.６８５１５−４８−０を有するジ（イソノニル）フタレートを水素化することによって得ることができるシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジ（イソノニル）エステル；
ｎ−ブテンを基礎とするCAS No.２８５５３−１２−０を有するジ（イソノニル）フタレートを水素化することによって得ることができるシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジ（イソノニル）エステル；
イソブテンを基礎とするCAS No.２８５５３−１２−０を有するジ（イソノニル）フタレートを水素化することによって得ることができるシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジ（イソノニル）エステル；
CAS No.６８５１５−４６−８を有するジ（ノニル）フタレートを水素化することによって得ることができるシクロヘキサンジカルボン酸の１，２−ジ−Ｃ９−エステル；
CAS No.６８５１５−４９−１を有するジ（イソデシル）フタレートを水素化することによって得ることができるシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジ（イソデシル）エステル；
CAS No. ６８５１５−４２−４を有する相応するフタル酸エステルを水素化することによって得ることができるシクロヘキサンジカルボン酸の１，２−ジ−Ｃ７〜１１−エステル；
次のCAS Nos.：
１１１３８１−８９−６、
１１１３８１−９０−９、
１１１３８１−９１−０、
６８５１５−４４−６、
６８５１５−４５−７および
３６４８−２０−７
を有するジ−Ｃ７〜１１−フタレートを水素化することによって得ることができるシクロヘキサンジカルボン酸の１，２−ジ−Ｃ７〜１１−エステル；
CAS No.９８５１５−４３−５を有するジ−Ｃ９〜１１−フタレートを水素化することによって得ることができるシクロヘキサンジカルボン酸の１，２−ジ−Ｃ９〜１１−エステル；
本質的にジ−（２−プロピルヘプチル）フタレートから構成されている、ジ（イソデシル）フタレートを水素化することによって得ることができる、１，２−ジ（イソデシル）シクロヘキサンジカルボン酸エステル；
分枝鎖状Ｃ７〜９−アルキルエステル基および線状Ｃ７〜９−アルキルエステル基を有する相応するフタル酸エステルを水素化することによって得ることができる１，２−ジ−Ｃ７〜９−シクロヘキサンジカルボン酸エステル。
【請求項１０】  シクロヘキサンジカルボン酸エステルもしくはシクロヘキサントリカルボン酸エステルまたはこれらの２つ以上の混合物をプラスチック中の可塑剤として使用する方法。
【請求項１１】  可塑剤が請求項９記載の少なくとも１つの化合物を有する、請求項１０記載の使用する方法。