【手続補正書】
【提出日】平成18年3月10日(2006.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）有効量の剪断防護化合物を含む細胞増殖培地に宿主細胞のポピュレーションを接種し、ｂ）前記細胞増殖培地において前記宿主細胞を培養し、ｃ）前記細胞増殖培地中の前記宿主細胞に、本質的に細胞溶解成分を含まないウイルス種子のストックのアリコートを感染させ、ｄ）工程ｃ）のウイルス感染細胞をガス散布しながら培養し、ｅ）前記宿主細胞及び細胞増殖培地から細胞内及び／または細胞外ウイルスを収集し、並びにｆ）工程ｅ）の収集ウイルスを精製することを含む大規模ウイルス産生方法。
【請求項２】
前記剪断防護化合物がＰｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）Ｆ−６８、他のＰｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）コポリマー、ヒドロキシエチルスターチ、セルロース誘導体、血清、トリプトースホスフェート、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ウシ血清アルブミン、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）及びデキストランからなる群から選択される請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記剪断防護化合物がＰｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）Ｆ−６８である請求項２に記載の方法。
【請求項４】
Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）Ｆ−６８が約０．３〜約１０ｇ／Ｌの濃度で存在する請求項３に記載の方法。
【請求項５】
Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）Ｆ−６８が約１〜約２ｇ／Ｌの濃度で存在する請求項４に記載の方法。
【請求項６】
ガスを最高約０．１ＶＶＭの流量に相当する流量で散布する請求項１に記載の方法。
【請求項７】
ガスを最高約０．００１〜０．０５ＶＶＭの流量に相当する流量で散布する請求項６に記載の方法。
【請求項８】
ガスを最高約０．１ＶＶＭの流量に相当する流量で散布する請求項２に記載の方法。
【請求項９】
ガスを最高約０．００１〜０．０５ＶＶＭの流量に相当する流量で散布する請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
ガスを最高約０．１ＶＶＭの流量に相当する流量で散布する請求項３に記載の方法。
【請求項１１】
ガスを最高約０．００１〜０．０５ＶＶＭの流量に相当する流量で散布する請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
ガスを最高約０．１ＶＶＭの流量に相当する流量で散布する請求項４に記載の方法。
【請求項１３】
ガスを最高約０．００１〜０．０５ＶＶＭの流量に相当する流量で散布する請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
ガスを最高約０．１ＶＶＭの流量に相当する流量で散布する請求項５に記載の方法。
【請求項１５】
ガスを最高約０．００１〜０．０５ＶＶＭの流量に相当する流量で散布する請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
ａ）有効量の剪断防護化合物を含む細胞増殖培地に宿主細胞のポピュレーションを接種し、ｂ）前記細胞増殖培地において前記宿主細胞を培養し、ｃ）前記細胞増殖培地中の前記宿主細胞に、本質的に細胞溶解成分を含まないアデノウイルス種子のストックのアリコートを感染させ、ｄ）工程ｃ）のアデノウイルス感染細胞をガス散布しながら培養し、ｅ）前記宿主細胞及び前記細胞増殖培地から細胞内及び／または細胞外アデノウイルスを収集し、並びにｆ）工程ｅ）の収集アデノウイルスを精製することを含む大規模アデノウイルス産生方法。
【請求項１７】
剪断防護化合物がＰｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）Ｆ−６８、他のＰｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）コポリマー、ヒドロキシエチルスターチ、セルロース誘導体、血清、トリプトースホスフェート、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ウシ血清アルブミン、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）及びデキストランからなる群から選択される請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記剪断防護化合物がＰｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）Ｆ−６８である請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）Ｆ−６８が約０．３〜約１０ｇ／Ｌの濃度で存在する請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）Ｆ−６８が約１〜約２ｇ／Ｌの濃度で存在する請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
ガスを最高約０．１ＶＶＭの流量に相当する流量で散布する請求項１６に記載の方法。
【請求項２２】
ガスを最高約０．００１〜０．０５ＶＶＭの流量に相当する流量で散布する請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
ガスを最高約０．１ＶＶＭの流量に相当する流量で散布する請求項１７に記載の方法。
【請求項２４】
ガスを最高約０．００１〜０．０５ＶＶＭの流量に相当する流量で散布する請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
ガスを最高約０．１ＶＶＭの流量に相当する流量で散布する請求項１８に記載の方法。
【請求項２６】
ガスを最高約０．００１〜０．０５ＶＶＭの流量に相当する流量で散布する請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
ガスを最高約０．１ＶＶＭの流量に相当する流量で散布する請求項１９に記載の方法。
【請求項２８】
ガスを最高約０．００１〜０．０５ＶＶＭの流量に相当する流量で散布する請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
ガスを最高約０．１ＶＶＭの流量に相当する流量で散布する請求項２０に記載の方法。
【請求項３０】
ガスを最高約０．００１〜０．０５ＶＶＭの流量に相当する流量で散布する請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
ａ）細胞溶解成分を含まない細胞増殖培地に宿主細胞を接種及び培養し、ｃ）工程ａ）の宿主細胞にウイルスを感染させて、ウイルス感染宿主細胞を得、ｄ）前記ウイルス感染宿主細胞を培養し、ｅ）いずれもの添加細胞溶解成分による助勢を伴わずに前記宿主細胞及び前記細胞増殖培地から細胞内及び／または細胞外ウイルスを収集し、並びにｆ）工程ｅ）の収集ウイルスを濃縮して、非清澄化ウイルス種子ストックを得ることを含む細胞溶解成分を含まないウイルス種子ストックの作成方法。
【請求項３２】
工程ｅ）のウイルスを非機械的剪断により宿主細胞から遊離させる請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
工程ｅ）のウイルスを機械的剪断により宿主細胞から遊離させる請求項３１に記載の方法。
【請求項３４】
前記機械的剪断方法が中空糸限外濾過、プレ−ト及びフレーム精密濾過、超音波、高圧ホモジナイジェーション、ポンプ、衝突ジェット（ｉｍｐｉｎｇｉｎｇ  ｊｅｔ）、並びに機械的粉砕からなる群から選択される請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】
工程ｅ）及びｆ）を、細胞溶解及び減量のために感染細胞培養物を中空糸限外濾過にかけることにより同時に実施する請求項３１に記載の方法。
【請求項３６】
請求項３１〜３５に記載の方法により作成した非清澄化ウイルス種子ストック。
【請求項３７】
ａ）細胞溶解成分を含まない細胞増殖培地に宿主細胞を接種及び培養及びｃ）工程ａ）の宿主細胞にアデノウイルスを感染させて、アデノウイルス感染宿主細胞を得、ｄ）前記アデノウイルス感染宿主細胞を培養し、ｅ）いずれもの添加細胞溶解成分による助勢を伴わずに前記宿主細胞及び前記細胞増殖培地から細胞内及び／または細胞外アデノウイルスを収集し、並びにｆ）工程ｅ）の収集アデノウイルスを濃縮して、非清澄化アデノウイルス種子ストックを得ることを含む細胞溶解成分を含まないアデノウイルス種子ストックの作成方法。
【請求項３８】
工程ｅ）のウイルスを非機械的剪断により宿主細胞から遊離させる請求項３７に記載の方法。
【請求項３９】
工程ｅ）のウイルスを機械的剪断により宿主細胞から遊離させる請求項３７に記載の方法。
【請求項４０】
前記機械的剪断方法が中空糸限外濾過、プレ−ト及びフレーム精密濾過、超音波、高圧ホモジナイジェーション、ポンプ、衝突ジェット、並びに機械的粉砕からなる群から選択される請求項３９に記載の方法。
【請求項４１】
工程ｅ）及びｆ）を、細胞溶解及び減量のために感染細胞培養物を中空糸限外濾過に供することにより同時に実施する請求項３７に記載の方法。
【請求項４２】
請求項３７〜４１に記載の方法により作成した非清澄化ウイルス種子ストック。
【請求項４３】
前記非清澄化ウイルス種子ストックを更に清澄化工程に供する請求項３１に記載の方法。
【請求項４４】
請求項４３に記載の方法により作成した清澄化ウイルス種子ストック。
【請求項４５】
前記非清澄化ウイルス種子ストックを更に清澄化工程に供する請求項３７に記載の方法。
【請求項４６】
請求項４５に記載の方法により作成した清澄化ウイルス種子ストック。