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【手続補正書】
【提出日】平成17年4月28日(2005.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
最大寸法におけるサイズが５０ナノメートル〜５００ミクロンの３次元的ヘッド部分、および
該ヘッド部分の各々に結合した複数のテール部分（ここで該テール部分は、抗原提示細胞上のレセプターと相互作用し得るホスホ−アミノ酸末端基、および少なくとも３つの直鎖炭素原子の化学スペーサー基を有し、また該スペーサー基は、該スペーサー基の近位末端において各ヘッド部分に結合しており、遠位末端においては該ホスホアミノ酸基のホスフェートに結合している）
からなる生体適合性合成実体。
【請求項２】
本発明の実体の末端基を形成するホスホ−アミノ酸基が、一般式：
【化１】
2005502725.tif 000001
［式中、Ｒは、Ｃ１〜Ｃ４の直鎖または分枝鎖のアルキレン、アルキレン−オキシ、アルキレン−チオ、アルキレン−アミン、フェニル、ヨード置換フェニル、または５員Ｎ−複素環式基を表す］
を有する、請求項１に記載の実体。
【請求項３】
該ホスホ−アミノ酸基が、ホスホ−セリン基またはホスホ−スレオニン基である、請求項２に記載の実体。
【請求項４】
該ホスホ−アミノ酸基が、式：
【化２】
2005502725.tif 000002
のホスホ−セリン基である、請求項４に記載の実体。
【請求項５】
該ヘッド部分が、哺乳動物患者への投与が承認されている等級の、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ガラス、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのビーズである、請求項１〜４のいずれかに記載の実体。
【請求項６】
該ヘッド部分が、ポリメチルメタクリレートのビーズである、請求項５に記載の実体。
【請求項７】
請求項１に記載のホスホ−アミノ酸を保有する実体からなる、哺乳動物患者における障害の症状の緩和剤。
【請求項８】
該障害が、Ｔ細胞媒介障害、炎症性障害、内皮機能不全障害または不適合サイトカイン発現障害である、請求項７に記載の緩和剤。
【請求項９】
該生体適合性液体中のホスホ−アミノ酸を保有する実体が懸濁液として、動脈内、静脈内、筋肉内または皮下で投与される、請求項７または請求項８に記載の緩和剤。
【請求項１０】
哺乳動物患者における障害の症状を緩和するための医薬製造における、請求項１〜６のいずれかに記載のホスホ−アミノ酸を保有する実体の使用。
【請求項１１】
哺乳動物患者における障害の症状の緩和における、請求項１〜６のいずれかに記載のホスホ−アミノ酸を保有する実体の使用。
【請求項１２】
請求項１〜６のいずれかに記載のホスホ−アミノ酸を保有する実体を含む、神経変性疾患の処置剤。
【請求項１３】
請求項１〜６のいずれかに記載のホスホ−アミノ酸を保有する実体を含む、不適合サイトカイン発現により特徴付けられる免疫系障害の処置剤。
【請求項１４】
請求項１〜６のいずれかに記載のホスホ−アミノ酸を保有する実体を含む、内皮機能不全障害の処置剤。
【請求項１５】
請求項１〜６のいずれかに記載のホスホ−アミノ酸を保有する実体からなる生体適合性合成体および医薬的に許容される担体を含む医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月1日(2005.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸−酸化分解によってセルロースエーテルを解重合する方法であって、粉砕及び乾燥したセルロースエーテルを、ガス状の酸でガス処理するかまたは酸の溶液を吹き付けること及び、同時に、酸化剤とまたは酸化剤の溶液と接触させること、並びに５０〜１２０℃の範囲の温度下に０．０１〜１０時間の間解重合し、次いで塩基を添加することによって酸を中和し、この際、解重合の間の反応混合物の含水率が１０重量％を超えてはならないこと、を特徴とする上記方法。
【請求項２】
セルロースエーテルとして、メチル−、エチル−、プロピル−、ヒドロキシエチルメチル−、ヒドロキシプロピルメチル−、エチルヒドロキシエチル−またはエチルメチルセルロースを使用することを特徴とする、請求項１の方法。
【請求項３】
ａ）セルロースを０．５〜１０モル当量のアルカリでアルカリ化し、
ｂ）得られたアルカリセルロースをエーテル化剤でエーテル化し、
ｃ）得られたセルロースエーテルを、それの凝固点を超える温度の水で洗浄し、そして固形物中の含水率が２５〜８０重量％となるように遠心分離または濾過によってその塩溶液から固形物を分離することによって、塩含有率を０．５重量％未満にまで減少させ、そして
ｄ）得られた含湿セルロースエーテルを、粉砕乾燥装置を用いて５０〜１２０℃の範囲の温度で同時に乾燥及び粉砕して、含水率を１０重量％未満とする、
ことによって得られたセルロースエーテルを使用することを特徴とする、請求項１または２の方法。
【請求項４】
段階ａ）において、α−セルロース含有率が９０〜９９．９％であるセルロースを使用することを特徴とする、請求項３の方法。
【請求項５】
解重合されたセルロースエーテルが、水中２．０％濃度（完全乾質基準）で２０℃で測定して≦５０ｍＰａ・ｓのヘプラー粘度を有することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一つの方法。
【請求項６】
酸として鉱酸及び／または有機酸を使用することを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一つの方法。
【請求項７】
鉱酸として塩酸、硫酸、硝酸及び／またはリン酸を使用することを特徴とする、請求項６の方法。
【請求項８】
有機酸としてトリフルオロ酢酸、酢酸、蟻酸、シュウ酸、フタル酸、マレイン酸及び／または安息香酸が使用されることを特徴とする、請求項６の方法。
【請求項９】
使用されるセルロースエーテルを基準にして、酸が、０．０１〜２重量％の純粋な酸の量で使用されることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一つの方法。
【請求項１０】
酸化剤として、パーオキソ化合物、オゾン、過ホウ酸塩、亜塩素酸ナトリウム、ハロゲン及び／またはハロゲン酸化物が使用されることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一つの方法。
【請求項１１】
酸化剤として過酸化水素が使用されることを特徴とする、請求項１０の方法。
【請求項１２】
酸化剤としてオゾンが使用されることを特徴とする、請求項１０の方法。
【請求項１３】
酸化剤が、セルロースエーテルを基準にして０．０１〜３重量％の量で使用されることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか一つの方法。
【請求項１４】
酸により触媒された加水分解的−酸化的分解が、５０〜１２０℃の範囲の温度で行われることを特徴とする、請求項１〜１３のいずれか一つの方法。
【請求項１５】
酸により触媒された加水分解的−酸化的分解が、１００〜１０３０ｍｂａｒの範囲の圧力で行われることを特徴とする、請求項１〜１４のいずれか一つの方法。
【請求項１６】
解重合の後に、酸の使用量を基準にして０．１〜２．０モル当量の少なくとも一種の塩基性塩が加えられることを特徴とする、請求項１〜１５のいずれか一つの方法。
【請求項１７】
塩基性の塩として炭酸ナトリウム及び／または炭酸水素ナトリウムが使用されることを特徴とする、請求項１６の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月1日(2005.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラスフレークが高屈折率層と低屈折率層で交互に被覆されていることおよびガラスフレークが少なくとも３層に被覆されていることを特徴とするガラスフレークを基礎とする多層顔料。
【請求項２】
顔料が下記被覆からなる一層配列を少なくとも有することを特徴とする請求項１に記載の多層フレーク:
(Ａ)屈折率n＞1.8である被覆、
(Ｂ)屈折率n≦1.8である被覆、および、
(Ｃ)屈折率n＞1.8である被覆。
但し、層束(Ａ)＋(Ｂ)が標準層集合(Ａ)＋(Ｂ)＋(Ｃ)４回まで存在してもよい。
【請求項３】
ガラスフレークが厚み１μｍ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の多層顔料。
【請求項４】
層が金属酸化物、金属サブオキサイド、金属フッ化物、金属オキシハライド、金属カルコゲナイド、金属硫化物、金属窒化物、金属酸化窒化物、金属カーバイド、あるいはこれらの混合物からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の多層顔料。
【請求項５】
高屈折率層がＴiＯ2、Ｆe2Ｏ3、ＴiＦe2Ｏ5、Ｆe3Ｏ4、ＢiＯＣl、Ｃr2Ｏ3、ＺrＯ2、ＺnＯ、ＳnＯ2、ＣoＯ、Ｃo3Ｏ4、ＶＯ2、Ｖ2Ｏ3、チタン酸鉄、酸化鉄水和物、チタンサブオキサイド、バナジン酸ビスマス、アルミン酸コバルト、金属硫化物、金属カルコゲナイド、金属窒化物、金属酸化窒化物、金属カーバイド、あるいはこれらの混合物からなることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の多層顔料。
【請求項６】
低屈折率層がＳiＯ2、Ａl2Ｏ3、ＡlＯ(ＯＨ)、Ｂ2Ｏ3、ＭgＦ2、あるいはこれらの混合物からなることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の多層顔料。
【請求項７】
下記層構造を有することを特徴とする請求項２に記載の多層顔料。
【表１】
2005502738.tif 000001
【請求項８】
前記顔料が請求項２に記載の一層配列を少なくとも有し、該一層配列がさらに
(Ｄ)保護外層
を有することを特徴とする、請求項２〜７のいずれかに記載の多層顔料。
【請求項９】
ガラスフレークが３層被覆されていることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の多層顔料。
【請求項１０】
湿式化学被覆法によるか化学的または物理的気相堆積法によってガラスフレークを被覆すること、および被覆されたガラスフレークを焼成することを含む多層顔料を製造する方法。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれかに記載の多層顔料の、プラスチック、塗装材、粉末塗装材、ペンキ、インキ、印刷インキ、ガラス、陶磁器、農業用フォイルでの、または、化粧処方での使用、あるいは、紙およびプラスチックのレーザーマーキングのための使用。
【請求項１２】
請求項１に記載の多層顔料を含む処方。
【請求項１３】
請求項１に記載の多層顔料を含む非粉塵粉末、ペーストおよび顆粒。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
【表１】
2005502738.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月4日(2005.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
ジルコニウム合金から成る、高強度の、室温で塑性変形可能なベリリウム不含の成形体において、前記成形体が、式
Ｚｒａ（Ｅ１）ｂ（Ｅ２）ｃ（Ｅ３）ｄ（Ｅ４）ｅ
［式中、
Ｅ１は、元素Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｗ、Ｔｉ、Ｖ、Ｈｆ及びＹで形成される群の１種の元素又は複数の元素から成り、
Ｅ２は、元素Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｄ及びＰｔで形成される群の１種の元素又は複数の元素から成り、
Ｅ３は、元素Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｚｎ及びＭｎで形成される群の１種の元素又は複数の元素から成り、
Ｅ４は、元素Ａｌ、Ｇａ、Ｓｉ、Ｐ、Ｃ、Ｂ、Ｓｎ、Ｐｂ及びＳｂで形成される群の１種の元素又は複数の元素から成り、その際、
ａ＝１００−（ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ）
ｂ＝５〜１５
ｃ＝５〜１５
ｄ＝０〜１５
ｅ＝５〜１５
（原子％でのａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ）
であり、かつ場合により、製造技術的にやむを得ない僅かな添加物及び不純物を伴う］の組成に相当する材料から成り、
かつ、前記成形体は均質な微細構造を有しており、この微細構造は埋込まれた延性の樹枝状体心立方相を有するガラス状又はナノ結晶質マトリックスから成り、その際、最大１０％のわずかな体積割合で第３の相が含まれていてよいことを特徴とする、ジルコニウム合金から成る、高強度の、室温で塑性変形可能なベリリウム不含の成形体。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月6日(2005.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｐＨが６．０〜１０．０であり、ＶＯＣが０．２４ｋｇ／ｌ未満であり、かつ膜形成バインダーを３０重量％〜７０重量％およびそれに対応して前記バインダーの水性液状ビヒクルを７０重量％〜３０重量％含む水性塗料組成物であって、前記バインダーが、
ａ．前記バインダーの重量を基準として２０重量％〜９５重量％のカルバメート反応生成物であって、（１）脂肪族ポリイソシアネートと、（２）一価アルコールと、（３）ヒドロキシ官能性脂肪族カルボン酸と、次に（４）数平均分子量が１００〜２０００のポリアルキレンエーテルグリコールとの反応、さらにアミンと反応させることによって得られる水分散性生成物から構成されるカルバメート反応生成物、および
ｂ．前記バインダーの重量を基準として５重量％〜８０重量％の水と相溶性のあるアルキル化メラミン架橋剤、
を含むことを特徴とする、水性塗料組成物。
【請求項２】
請求項１に記載の組成物が塗装されていることを特徴とする基材。
【請求項３】
着色された塗料組成物のベース塗膜を有する基材であって、請求項１に記載の組成物のクリア塗膜が上塗りされていることを特徴とする基材。
【請求項４】
請求項１に記載の組成物の着色された下塗り塗膜と、着色された塗料組成物のベース塗膜と、請求項１に記載の組成物のクリア塗膜の上塗りと、を備えた多層塗膜を有することを特徴とする基材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
下塗りを施してベース塗膜およびクリア塗膜で被覆した板をグラベロメーターによる試験に供したところ試験結果は４となり、また、これを標準的な付着力試験に供しても付着不良が見られなかった。この試験結果から、この下塗り剤が市販の自動車塗料に使用するための条件を満たしていることが示された。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
１．  ｐＨが６．０〜１０．０であり、ＶＯＣが０．２４ｋｇ／ｌ未満であり、かつ膜形成バインダーを３０重量％〜７０重量％およびそれに対応して前記バインダーの水性液状ビヒクルを７０重量％〜３０重量％含む水性塗料組成物であって、前記バインダーが、
ａ．前記バインダーの重量を基準として２０重量％〜９５重量％のカルバメート反応生成物であって、（１）脂肪族ポリイソシアネートと、（２）一価アルコールと、（３）ヒドロキシ官能性脂肪族カルボン酸と、次に（４）数平均分子量が１００〜２０００のポリアルキレンエーテルグリコールとの反応、さらにアミンと反応させることによって得られる水分散性生成物から構成されるカルバメート反応生成物、および
ｂ．前記バインダーの重量を基準として５重量％〜８０重量％の水と相溶性のあるアルキル化メラミン架橋剤、
を含むことを特徴とする、水性塗料組成物。
２．  ブロック化された酸触媒を、前記バインダーの重量を基準として０．１〜５．０重量％含有することを特徴とする、１．に記載の塗料組成物。
３．  前記ブロック化された酸触媒が、アミンでブロック化された有機スルホン酸を含むことを特徴とする、２．に記載の塗料組成物。
４．  前記架橋剤が、ヘキサメトキシメチロールメラミンの単量体およびメチル化／ブチル化混合型メラミンからなる群から選択されることを特徴とする、１．に記載の塗料組成物。
５．  前記脂肪族ポリイソシアネートが、ヘキサメチレンジイソシアネートの三量体であることを特徴とする、１．に記載の塗料組成物。
６．  前記一価アルコールが、シクロヘキサノールであることを特徴とする、１．に記載の塗料組成物。
７．  前記ヒドロキシ官能性脂肪族カルボン酸が、ヒドロキシ酢酸であることを特徴とする、１．に記載の塗料組成物。
８．  前記ポリアルキレンエーテルグリコールが、ポリプロピレンエーテルグリコールであることを特徴とする、１．に記載の塗料組成物。
９．  前記アミンが、アミノメチルプロパノールであることを特徴とする、１．に記載の塗料組成物。
１０．  顔料対バインダーの重量比０．１／１００〜２００／１００で分散させた顔料を含有することを特徴とする、１．に記載の塗料組成物。
１１．  紫外線安定剤を、前記バインダーの重量を基準として約０．１重量％〜１０重量％含有することを特徴とする、１．に記載の塗料組成物。
１２．  前記カルバメート反応生成物が、ヘキサメチレンジイソシアネートの三量体と、シクロヘキサノールと、ヒドロキシ酢酸と、次にポリプロピレンエーテルグリコールと、アミノメチルプロパノールと、の反応生成物から本質的に構成されており、
前記組成物が、アミノメチルプロパノールをブロック剤とするブロック化スルホン酸触媒を、前記バインダーの重量を基準として０．１〜５重量％含有し、
前記アルキル化メラミン架橋剤が、メチル化／ブチル化混合型メラミンを含む、クリア塗料組成物として有用であることを特徴とする、１．に記載の塗料組成物。
１３．  顔料を、顔料対バインダー比５／１００〜１００／１００で含有し、
前記カルバメート反応生成物が、ヘキサメチレンジイソシアネートの三量体と、シクロヘキサノールと、ヒドロキシ酢酸と、次にポリプロピレンエーテルグリコールと、アミノメチルプロパノールと、の反応生成物から本質的に構成されており、
前記組成物が、アミノメチルプロパノールをブロック剤とするブロック化スルホン酸触媒を、前記バインダーの重量を基準として０．１〜５重量％含有し、
前記アルキル化メラミン架橋剤が、ヘキサメトキシメチロールメラミンの単量体を含む、下塗り剤組成物として有用であることを特徴とする、１．に記載の塗料組成物。
１４．  １．に記載の組成物が塗装されていることを特徴とする基材。
１５．  着色された塗料組成物のベース塗膜を有する基材であって、１．に記載の組成物のクリア塗膜が上塗りされていることを特徴とする基材。
１６．  １．に記載の組成物の着色された下塗り塗膜と、着色された塗料組成物のベース塗膜と、１．に記載の組成物のクリア塗膜の上塗りと、を備えた多層塗膜を有することを特徴とする基材。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月8日(2005.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）式
【化１】
2005502769.tif 000001
（式中、各Ａは独立に、シュウ酸基、マロン酸基、コハク酸基、グルタル酸基、アジピン酸基またはピメリン酸基からなる群から選択される二酸基であり、Ｒは水素、炭素数１〜１６のアルキルまたはアリール基である）を有するカルボキシル化イミノ化合物、（ｂ）水、および（ｃ）酸化剤を含み構成される、硬質表面から汚れを除去するためのＣＩＰ組成物。
【請求項２】
前記カルボキシル化イミノ化合物がイミノジコハク酸またはその塩である、請求項１に記載のＣＩＰ組成物。
【請求項３】
前記酸化剤が過酸化水素である、請求項１又は２に記載のＣＩＰ組成物。
【請求項４】
汚れを除去するための前記組成物が、約０．１重量％乃至約６０．０重量％のカルボキシル化イミノ化合物と、約０．０１％乃至約６０．０％の酸化剤とを含む、請求項１乃至３のいずれか１項に記載のＣＩＰ組成物。
【請求項５】
（ａ）式
【化２】
2005502769.tif 000002
（式中、各Ａは独立して、シュウ酸基、マロン酸基、コハク酸基、グルタル酸基、アジピン酸基またはピメリン酸基からなる群から選択される二酸基であり、Ｒは水素、炭素数１〜１６のアルキルまたはアリール基である）を有するカルボキシル化イミノ化合物および水を含む組成物を供給するステップと、
（ｂ）約２０乃至約５０００ｐｐｍの酸化剤を含む使用クリーニング溶液を生成する速度で酸化剤を供給し、更に、該カルボキシル化イミノ化合物および水を含む組成物及び酸化剤を食品加工装置と接触させるステップと、
を含み構成される、食品加工装置から汚れを除去するためのＣＩＰ方法。
【請求項６】
前記カルボキシル化イミノ化合物および酸化剤が食品加工装置へ同時に供給される、請求項５に記載の汚れを除去するためのＣＩＰ方法。
【請求項７】
前記カルボキシル化イミノ化合物および酸化剤が食品加工装置へ同時に供給されない、請求項５に記載の汚れを除去するためのＣＩＰ方法。
【請求項８】
（ａ）式
【化３】
2005502769.tif 000003
（式中、各Ａは独立して、シュウ酸基、マロン酸基、コハク酸基、グルタル酸基、アジピン酸基またはピメリン酸基からなる群から選択される二酸基であり、Ｒは水素、炭素数１〜１６のアルキルまたはアリール基である）を有するカルボキシル化イミノ化合物を含む第１の組成物と、
（ｂ）酸化剤を含む第２の組成物と、
を備えたＣＩＰクリーニングのためのキット。
【請求項９】
前記酸化剤が過酸化水素である、請求項８に記載のキット。
【請求項１０】
前記カルボキシル化イミノ化合物がイミノジコハク酸またはその塩である、請求項８又は９に記載のキット。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月22日(2005.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基材に付着できる露出接着剤の第１の層、バッキング層、および第２の基材に付着できる露出接着剤の第２の層を有する光ルミネセンス粘着テープであって、露出接着剤の第２の層が、テープがＦＩＮＡＴ方法２（９０°引きはがし粘着力）に従って残渣を残さずに第２の基材から除去できるように選択された感圧接着剤を含み、前記テープが少なくとも１つの光ルミネセンス剤を含む、光ルミネセンス粘着テープ。
【請求項２】
基材が請求項１に記載の粘着テープによって互いに付着している、第１の基材および第２の基材を含むアセンブリー。
【請求項３】
ａ）第１の基材を提供するステップと、
ｂ）請求項１に記載の光ルミネセンス粘着テープを提供するステップと、
ｃ）前記粘着テープを第１の露出接着剤表面によって第１の基材に付着するステップと、
ｄ）光ルミネセンス粘着テープを光ルミネセンス剤を励起できる電磁放射線に曝露するステップと、
ｅ）第１の基材上の粘着テープの存在を光電セルによって確認するステップと、
ｆ）第２の基材を提供するステップと、
ｇ）第２の基材を第２の接着剤層によって、前記粘着テープを有する第１の基材に付着するステップと、
を含む、２つの基材を互いに付着させる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月11日(2005.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
ノーマルパラフィンの量がディーゼル燃料組成物に対し９９重量％未満であるノーマルパラフィン又は該ノーマルパラフィンと分岐パラフィンとの混合物、及びディーゼル燃料組成物に対し１０重量％未満の量の芳香族炭化水素を含み、かつセタン価が４０以上で、硫黄含有量が１００ｐｐｍ未満で、引火点が１５５°Ｆ（６８℃）以上であるディーゼル燃料組成物を提供する工程、
該ディーゼル燃料組成物をディーゼルエンジンに配送する工程、及び
該ディーゼル燃料組成物を燃焼させて、ディーゼルエンジンの稼働用エネルギーを発生させる工程、
を含むディーゼルエンジンの稼働方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月28日(2005.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
引張により剥離する粘着テープ物品であって、
（ａ）粘着剤部分および非粘着性プルタブを有する引張により剥離する粘着テープ条片、
（ｂ）第１および第２の互いに反対側に位置する主表面と、第１および第２末端とを有するベースプレートであって、前記ベースプレートの第１主表面が前記引張りにより剥離する粘着剤条片の粘着剤部分と付着させるように構成されたベースプレート、および
（ｃ）第１部分、第２部分、ならびに第１および第２の互いに反対側に位置する主表面を有する可撓性の長い結束用ストラップであって、前記結束用ストラップの第１部分の第１表面が前記ベースプレートの第２表面に付着され、前記結束用ストラップの第２部分が前記ベースプレートの第２末端を超えて延在し、そして前記結束用ストラップの第２部分の第２表面が嵌合表面を含む結束用ストラップにして、前記結束用ストラップの第２部分が、少なくとも１つの物品のまわりに配置され、前記嵌合表面を折り返してそれ自体に結合させ、それによって閉ループを形成することができる結束用ストラップを含む、引張により剥離する粘着テープ物品。
【請求項２】
前記結束用ストラップの第２部分の第２表面の嵌合表面が、それから突出した複数のファスナー要素を含む、請求項１に記載の引張により剥離する粘着テープ物品。
【請求項３】
前記結束用ストラップが、前記結束用ストラップの第２部分とは反対側の前記結束用ストラップの第１部分から延在する第３部分を含み、前記結束用ストラップの第３部分が互いに反対側に位置する第１および第２表面の主表面を有し、少なくとも前記第３部分の第１表面が前記結束用ストラップの第２部分と嵌合係合するためのファスナー要素を含む、請求項１に記載の引張により剥離する粘着テープ物品。
【請求項４】
前記結束用ストラップの第１部分が、前記ベースプレートの第２表面に付着させる付着部分と、前記ベースプレートの第２表面を覆う前記付着部分に近接した重なり部分とを含み、前記重なり部分が開口部を含む、請求項１に記載の引張により剥離する粘着テープ物品。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月26日(2005.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン、および
（ｂ）フルオロ化ケトン、
を含む共沸様組成物であって、
前記組成物が：
（ｉ）本質的に約１２．５〜約９９．０重量パーセントの１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタンと約１．０〜約８７．５重量パーセントのＣ2Ｆ5Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ3）2とからなり、約７６０トルにおいて約４０℃より低温で沸騰する、組成物、
（ｉｉ）本質的に約６１．０〜約９９．０重量パーセントの１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタンと約１．０〜約３９．０重量パーセントの（ＣＦ3）2ＣＦＣ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ3）2とからなり、約７６０トルにおいて約４０℃より低温で沸騰する、組成物、
（ｉｉｉ）本質的に約７３．５〜約９９．０重量パーセントの１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタンと約１．０〜約２６．５重量パーセントのＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ3）2とからなり、約７６０トルにおいて約４０℃より低温で沸騰する、組成物、
（ｉｖ）本質的に約１２．５〜約９５．０重量パーセントの１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタンと約５．０〜約８７．５重量パーセントのＣ2Ｆ5Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ3）2とからなり、約７６０トルにおいて約４０℃より低温で沸騰する、組成物、
（ｖ）本質的に約６１．０〜約９５．０重量パーセントの１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタンと約５．０〜約３９．０重量パーセントの（ＣＦ3）2ＣＦＣ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ3）2とからなり、約７６０トルにおいて約４０℃より低温で沸騰する、組成物、および
（ｖｉ）本質的に約７３．５〜約９５．０重量パーセントの１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタンと約５．０〜約２６．５重量パーセントのＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ3）2とからなり、約７６０トルにおいて約４０℃より低温で沸騰する、組成物：
からなる群より選択され、
前記組成物が密閉式引火点を有さない、共沸様組成物。
【請求項２】
本質的に：
（ａ）１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン、および
（ｂ）フルオロ化ケトン、
からなる共沸組成物であって、
前記組成物が：
（ｉ）本質的に約４８．３重量パーセントの１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタンと約５１．７重量パーセントのＣ2Ｆ5Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ3）2とからなり、約７６０トルにおいて約３５．４℃で沸騰する、組成物、
（ｉｉ）本質的に約７９．０重量パーセントの１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタンと約２１．０重量パーセントの（ＣＦ3）2ＣＦＣ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ3）2とからなり、約７６０トルにおいて約３９．６℃で沸騰する、組成物、および
（ｉｉｉ）本質的に約８６．７重量パーセントの１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタンと約１３．３重量パーセントのＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ3）2とからなり、約７６０トルにおいて約３９．９℃で沸騰する、組成物、
からなる群より選択される、共沸組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月29日(2005.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）  Ｎ−アシルアミノ酸またはその塩、および
（ｂ）  ポリオールおよび／またはポリオール脂肪酸エステル
を含有する水性洗浄製剤。
【請求項２】
Ｎ−アシルアミノ酸（成分ａ）のアミノ酸成分がグルタミン酸および／またはアスパラギン酸に由来することを特徴とする請求項１に記載の洗浄製剤。
【請求項３】
Ｎ−アシルアミノ酸（成分ａ）のアシル基は、式（Ｉ）：
【化１】
2005502766.tif 000001
［式中、Ｒ１炭素数が６〜２２で０および／または１〜３個の二重結合を有する直鎖または分枝状のアシル基である］
に相当する脂肪酸に由来することを特徴とする請求項１または２に記載の洗浄製剤。
【請求項４】
Ｎ−アシルアミノ酸（成分ａ）のアシル基は、Ｃ１２−１８ヤシ油脂肪酸に由来することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の洗浄製剤。
【請求項５】
Ｎ−アシルアミノ酸は、アルカリ金属塩および／またはアンモニウム塩として存在することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の洗浄製剤。
【請求項６】
成分（ａ）としてＮ−ココイルグルタミン酸塩を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の洗浄製剤。
【請求項７】
成分（ｂ）として、グリセロール、アルキレングリコール、自己縮合度が１．５〜１０の工業用オリゴグリセロール混合物、メチロール化合物、低級アルキルグルコシド、炭素数５〜１２の糖アルコール、炭素数５〜１２の糖およびアミノ糖よりなる群から選ばれるポリオールを含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の洗浄製剤。
【請求項８】
成分（ｂ）として、脂肪酸部分グリセリド、アルキレングリコール脂肪酸エステル、低級アルキルグルコシド脂肪酸エステルおよびメチロール脂肪酸部分エステルよりなる群から選ばれるポリオールエステルを含有することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の洗浄製剤。
【請求項９】
成分（ｂ）として、アシル基がＮ−アシルアミノ酸のアシル基に相当するポリオール脂肪酸エステルを含有することを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の洗浄製剤。
【請求項１０】
成分（ｂ）として、アルキレングリコールモノ−および／またはアルキレングリコールジココイルエステルを含有することを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の洗浄製剤。
【請求項１１】
（ａ）  １〜５０重量％のＮ−アシルアミノ酸またはその塩、および
（ｂ）  ０．０１〜１重量％のポリオールおよび／またはポリオール脂肪酸エステル
（但し、合計量は水で１００重量％となる）
および任意に低級脂肪族アルコールを含有することを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の洗浄製剤。
【請求項１２】
水分含有量が５０〜８０重量％であることを特徴とする請求項１１に記載の洗浄製剤。
【請求項１３】
０．１〜５重量％の低級アルコールを含有することを特徴とする請求項１１に記載の洗浄製剤。
【請求項１４】
Ｎ−アシルアミノ酸またはその塩を製造する方法であって、
（ａ）  少なくとも１つのアミノ酸またはその塩とアルカリ源の混合物を反応器へ導入し、式（ＩＩ）：
【化２】
2005502766.tif 000002
［式中、Ｒ２は炭素数が６〜２２のアルキル基またはアルケニル基であり、Ｘは塩素、臭素またはヨウ素である］
に相当する脂肪酸ハロゲン化物を混合エレメント中の該混合物へ添加し、
（ｂ）  次いで、ポリオールおよび／またはポリオール脂肪酸エステルを反応混合物へ添加する、
方法。
【請求項１５】
Ｎ−アシルアミノ酸またはその塩の水性製剤の低温挙動を向上するための安定剤としてのポリオールおよび／またはポリオール脂肪酸エステルの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月5日(2005.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ライナーであって、
（ａ）水と反応してゲル化体を形成することができるイソシアネート基を有する親水性プレポリマーと、
（ｂ）水性ポリマー分散体であって、前記ポリマーが前記イソシアネート基に対して反応性である基を有する分散体と、
の反応生成物を含み、前記分散体は十分に高い固形分を有し、前記ポリマーは十分に高い弾性率、およびガラス転移温度または結晶融解温度を有し、そのため前記反応生成物の２４時間引張強さが少なくとも約２．５ＭＰａとなるライナー。
【請求項２】
ライナーであって、
（ａ）イソシアネート基を有する親水性プレポリマーと、
（ｂ）水性ポリウレタン−ポリアクリルまたはポリ（スチレン−アクリル）の分散体であって、前記ポリウレタン−ポリアクリルまたはポリ（スチレン−アクリル）が前記イソシアネート基に対して反応性である基を有する分散体と、
の反応生成物を含むライナー。
【請求項３】
ライナーであって、
（ａ）イソシアネート基を有する親水性プレポリマーと、
（ｂ）水性ポリマー分散体であって、前記ポリマーが前記イソシアネート基に対して反応性である基を有する分散体と、
の反応生成物を含み、前記分散体の全重量を基準とする前記分散体の含水率が約８０重量％以下であるライナー。
【請求項４】
表面にライナーを設ける方法であって、前記方法が、
（ａ）前記表面に、
（１）イソシアネート基を有する親水性プレポリマーと、
（２）水性ポリマー分散体であって、前記ポリマーが前記イソシアネート基に対して反応性である基を有する分散体とを適用するステップと、
（ｂ）前記成分（１）および（２）を反応させて前記ライナーを形成させるステップとを含み、
前記分散体は十分に高い固形分を有し、前記ポリマーは十分に高い弾性率、およびガラス転移温度または結晶融解温度を有し、そのため前記ライナーの２４時間引張強さが少なくとも約２．５ＭＰａとなる方法。
【請求項５】
前記表面が鉱山の開口部である請求項４に記載の方法。
【請求項６】
表面にライナーを設ける方法であって、前記方法が、
（ａ）前記表面に、
（１）イソシアネート基を有する親水性プレポリマーと、
（２）水性ポリウレタン−ポリアクリルまたはポリ（スチレン−アクリル）の分散体であって、前記ポリウレタン−ポリアクリルまたはポリ（スチレン−アクリル）が前記イソシアネート基に対して反応性である基を有する分散体とを適用するステップと、
（ｂ）前記成分（１）および（２）を反応させて前記ライナーを形成するステップとを含む方法。
【請求項７】
表面にライナーを設ける方法であって、前記方法が、
（ａ）前記表面に、
（１）イソシアネート基を有する親水性プレポリマーと、
（２）水性ポリマー分散体であって、前記ポリマーがイソシアネート基に対して反応性である基を有する分散体とを適用するステップと、
（ｂ）前記成分（１）および（２）を反応させて前記ライナーを形成させるステップとを含み、
前記分散体の全質量を基準とする前記分散体の含水率が約８０ｗｔ％以下である方法。
【請求項８】
請求項１、２、または３のいずれか一項に記載のライナー、あるいは請求項４、６、または７のいずれか一項に記載の方法によって形成されたライナーによりライニングされた鉱山の開口部。
【請求項９】
ライナーを形成するためのキットであって、前記キットは、
（ａ）イソシアネート基を有する親水性プレポリマーと、
（ｂ）前記成分（ａ）と混合すると反応してライナーを形成する水性ポリマー分散体であって、前記ポリマーが前記イソシアネート基に対して反応性である基を有する分散体とを含み、
前記分散体は十分に高い固形分を有し、前記ポリマーは十分に高い弾性率、およびガラス転移温度または結晶融解温度を有し、そのため前記ライナーの２４時間引張強さが少なくとも約２．５ＭＰａとなるキット。
【請求項１０】
ライナーを形成するためのキットであって、前記キットは、
（ａ）イソシアネート基を有する親水性プレポリマーと、
（ｂ）前記成分（ａ）と混合すると反応してライナーを形成する水性ポリウレタン−ポリアクリルまたはポリ（スチレン−アクリル）の分散体であって、前記ポリウレタン−ポリアクリルまたはポリ（スチレン−アクリル）が前記イソシアネート基に対して反応性である基を有する分散体とを含むキット。
【請求項１１】
ライナーを形成するためのキットであって、前記キットは、
（ａ）イソシアネート基を有する親水性プレポリマーと、
（ｂ）前記成分（ａ）と混合すると反応してライナーを形成する水性ポリマー分散体であって、前記ポリマーが前記イソシアネート基に対して反応性である基を有する分散体とを含み、
前記分散体の全重量を基準とする前記分散体の含水率が約８０重量％以下であるキット。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月24日(2005.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも３つの帯域を含む反応器系で単量体を連続的に重合することからなる吸水性・水不溶性重合体の製造方法であって、第一の帯域は、単量体、開始剤および水が、単量体の重合が開始されるような条件下で、連続的に供給される開始帯域であり、第二の帯域はゲル相帯域であり、第三の帯域は造粒帯域であり、反応器系は第二および第三の帯域中に少なくとも２つの回転軸を有し、かつ第二および第三の帯域の中の最高点温度は５０〜１００℃であることを特徴とする方法。
【請求項２】
第一の帯域に供給される水の少なくとも一部が、蒸気の形態であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
単量体が中和度５０〜８０モル％の部分的に中和したアクリル酸を２５〜５０質量％含有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
開始帯域の温度が４０〜８５℃であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
反応器の中の最高点温度が、圧力を減らし、水を蒸発させ、凝縮液が第三の帯域へ戻されるような還流条件下で水を凝縮することにより、６０〜８５℃の温度範囲に維持されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
３つの帯域の合計平均滞留時間が４〜８０分であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
第一の帯域への全エネルギー供給量の５０〜９０％が重合反応の熱によって供給され、１０〜４０％が注入される蒸気によって供給され、０〜１５％が反応器の壁を加熱することによって供給されることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項８】
反応器から取り出された重合体が０．２〜５０ｍｍの質量平均粒度を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
第一の帯域への原料供給流量が反応器容積１リットル当たり毎時０．５〜５ｋｇであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
第一の帯域への原料供給速度が反応器容積１リットル当たり毎時１．３〜３．３ｋｇであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
第三の帯域、取り出し流れ、またはその両方に過硫酸塩を導入することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
単量体が水溶性混合物の中にあり、該混合物は第一の帯域に供給される前に向流の不活性気体によって脱酸素されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
３つの帯域の合計滞留時間が７〜２０分であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
３つの帯域が１つの反応器の中に含まれていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
少なくとも第二および第三の帯域が１つの反応器の中に含まれていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
第一の帯域は、第二および第三の帯域とは別の容器の中にあることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
第一の帯域への供給原料の中の単量体濃度は、供給原料の質量を基準にして少なくとも４５質量％であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
反応器系の中の軸の少なくとも２つは、半径の描く範囲が重なり合い、反対方向に回転することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
少なくとも２つの軸が異なる速度で回転することを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
第一の帯域への供給原料が、単量体、開始剤および水の溶液を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項２１】
単量体はアクリル酸を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項２２】
重合体微粉が再利用されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項２３】
少なくとも３つの帯域を含む反応器系で単量体を連続的に重合することからなる吸水性・水不溶性重合体の製造方法であって、第一の帯域は、単量体、開始剤および水が、単量体の重合が開始されるような条件下で、連続的に供給される開始帯域であり、第二の帯域は高粘性のゲル相帯域であり、第三の帯域は造粒帯域であり、反応器系は第二および第三の帯域中に少なくとも２つの回転軸を有し、かつ反応器系の少なくとも第二および第三の帯域の圧力が大気中より低いことを特徴とする方法。
【請求項２４】
第一の帯域に供給される水の少なくとも一部が、蒸気の形態であることを特徴とする請求項２３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月26日(2005.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イソシアネート基を有するポリマーまたはオリゴマーを含む組成物中のポリイソシアネート単量体の量を減少させるための方法であって、この組成物を、アリールアルキルアルコールおよび１つの第二級アミノ基を有するアルコキシシランを含む消去剤と反応させることを含む方法。
【請求項２】
アリールアルキルアルコールが、式（Ｉ）のベンジルアルコール：
【化１】
2005502748.tif 000001
（式中、Ｒは水素、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基、アルコキシ基、またはアリールオキシ基であり、ｎは１から５の整数である）である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
アリールアルキルアルコールが、ベンジルアルコール、トリメチルベンジルアルコール、ｏ−メチルベンジルアルコール、ｐ−メチルベンジルアルコール、ｍ−メチルベンジルアルコール、クミノール、ｏ−エチルベンジルアルコール、ｐ−メトキシベンジルアルコール、２，４−ジメトキシベンジルアルコール、またはｐ−エトキシベンジルアルコールである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
アリールアルキルアルコールが、ベンジルアルコールである、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
アルコキシシランが、式（ＩＩ）の化合物：
Ｒ1Ｒ2Ｒ3Ｓｉ−Ｒ’−ＮＨＲ''      （ＩＩ）
、または式（ＩＩＩ）の化合物：
Ｒ1Ｒ2Ｒ3Ｓｉ−Ｒ’−ＮＨ−Ｒ’−ＳｉＲ1Ｒ2Ｒ3      （ＩＩＩ）
（式中、Ｒ1、Ｒ2、およびＲ3はそれぞれ、Ｒ1、Ｒ2、およびＲ3のうち少なくとも１つが、容易に加水分解性基であるという条件で、アルキル基またはアルコキシ基；アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、またはアリールアルコキシ基、あるいはハロゲン原子であり、Ｒ’は、Ｏで置換されているかもしくは置換されていない、炭素原子が１個から２０個の二価の炭化水素基であり、Ｒ’’は、炭素原子が１個から８個のアルキル基である）である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
アルコキシシランが、Ｎ−（ｎ−ブチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−メチル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミン、またはＮ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシランである、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
ポリイソシアネート単量体が、２，４−トリレンジイソシアネートと２，６−トリレンジイソシアネートの混合物である、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月5日(2005.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  Ｍｇ、Ｔｉ、ハロゲンおよび式（Ｉ）：
【化１】
2005502743.tif 000001
（式中、Ｒ’はＣ1−Ｃ20の炭化水素基であり、Ｒ1は任意にヘテロ原子を含むＣ1−Ｃ20の炭化水素基であり、かつＲ2はＨまたは任意にヘテロ原子を含むＣ1−Ｃ20の炭化水素基であり、ただしＲ2がＨのとき、Ｒ1はイソブチルまたはＣ5−Ｃ20の炭化水素基である）
のマレエートから選択される電子ドナーからなる、オレフィンＣＨ2＝ＣＨＲ（式中、Ｒは水素または１−１２の炭素原子を有するヒドロカルビル基である）の重合用固体触媒成分。
【請求項２】  Ｒ2がＨであり、かつＲ1が５から１０の炭素原子を有する第１級アルキル基またはシクロアルキル基である請求項１による固体触媒成分。
【請求項３】  （ａ）請求項１または２による固体触媒成分；
（ｂ）アルキルアルミニウム化合物および、任意に、
（ｃ）１つまたはそれ以上の電子ドナー化合物（外部ドナー）
と接することにより得られる生成物からなる、オレフィンＣＨ2＝ＣＨＲ（式中、Ｒが水素または１−１２の炭素原子を有するヒドロカルビル基である）の重合用の触媒。
【請求項４】  請求項３による触媒の存在下に行われる、オレフィンＣＨ2＝ＣＨＲ（式中、Ｒは水素または１−１２の炭素原子を有するヒドロカルビル基である）の(共)重合用プロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月26日(2005.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デジタル処理装置であって、
命令を実行するためのプロセッサであって、該命令はメモリアクセス命令を含み、次のメモリアクセスが現在のメモリアクセスに連続したものであるかどうかを指示する次のアクセス信号を発生する、前記プロセッサ；
連続バーストモードの動作を有し、前記プロセッサとの通信用のメモリバスを有するメモリ；および
前記メモリアクセス命令に応答して前記メモリへのアクセスを制御するためのバスインターフェイスユニットであって、次のアクセス信号がアサートされている間メモリの連続バーストモードを可能にする、前記バスインターフェイスユニット；
とを含む、前記デジタル処理装置。
【請求項２】
プロセッサが、マイクロコントローラへの命令を実行するためのマイクロコントローラを含む、請求項１に記載のデジタル処理装置。
【請求項３】
バスインターフェイスユニットが、次のアクセス信号がディアサートされた場合にメモリの連続バーストモードを禁じる、請求項１に記載のデジタル処理装置。
【請求項４】
メモリが、フラッシュメモリを含む、請求項１に記載のデジタル処理装置。
【請求項５】
プロセッサ、メモリおよびバスインターフェイスユニットが、無線ターミナルにおける使用のためのベースバンドプロセッサを形成する、請求項１に記載のデジタル処理装置。
【請求項６】
プロセッサ、メモリおよびバスインターフェイスユニットが、単一の基板上に組み立てられている、請求項１に記載のデジタル処理装置。
【請求項７】
デジタル処理装置におけるメモリアクセスの方法であって、
メモリアクセス命令を含む命令を実行し、そして次のメモリアクセスが現在のメモリアクセスに連続したものであるかどうかを指示する次のアクセス信号を発生する、プロセッサを設けるステップ；
連続バーストモードの動作を有するメモリを設けること；および
次のアクセス信号がアサートされている間、前記メモリの連続バーストモードを可能にするステップ；
を含む、上記方法。
【請求項８】
プロセッサを設けるステップが、マイクロコントローラへの命令を実行するためのマイクロコントローラを設けることを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
メモリを設けるステップが、フラッシュメモリを設けることを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
次のアクセス信号がディアサートされた場合に、メモリの連続バーストモードを禁じるステップをさらに含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
無線用途のベースバンドプロセッサであって、
マイクロコントローラへの命令を実行するためのマイクロコントローラであって、該命令がメモリアクセス命令を含み、次のメモリアクセスが現在のメモリアクセスに連続したものであるかどうかを指示する次のアクセス信号を発生する、前記マイクロコントローラ；
連続バーストモードの動作を有し、前記マイクロコントローラとの通信用のメモリバスを有する、フラッシュメモリ；および 
前記メモリアクセス命令に応答して前記フラッシュメモリへのアクセスを制御するためのバスインターフェイスユニットであって、次のアクセス信号がアサートされている間フラッシュメモリの連続バーストモードを可能にする、前記バスインターフェイスユニット；
を含む、前記ベースバンドプロセッサ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
発明の概要
本発明の第一の観点により、デジタル処理装置が提供される。該デジタル処理装置は、メモリアクセス命令を含む命令を実行するプロセッサであって、次のメモリアクセスが現在のメモリアクセスに連続したものであるかどうかを指示する次のアクセス信号を発生する前記プロセッサ、連続バーストモードの動作を有し、前記プロセッサとの通信用のメモリバスを有するメモリ、および、メモリアクセス命令に応答してメモリアクセスを制御するためのバスインターフェイスユニットを含む。前記バスインターフェイスユニットは、次のアクセス信号がアサートされている間、メモリの連続バーストモードを可能にする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月26日(2005.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チップカード（１４）に初期化データ（ＩＮＤ）を読み込むための方法であって、前記チップカード（１４）により実行される、
暗号化された認証値（ＥＡＶ）を受け取る工程、
少なくとも１つのリリースキー（ＥＮＫ）を得るために前記暗号化された認証値（ＥＡＶ）を解読する工程、
前記得られたリリースキー（ＥＮＫ）が前記チップカード（１４）に格納されているリリースキー（ＥＮＫ'）に一致するか否かをチェックする工程、及び
前記リリースキー（ＥＮＫ，ＥＮＫ'）が一致すれば、前記初期化データ（ＩＮＤ）を受け取り、前記チップカード（１４）の不揮発性メモリ（３０）に前記初期化データ（ＩＮＤ）を書き込む工程、
を有する方法において、
前記暗号化された認証値（ＥＡＶ）の前記解読により少なくとも１つのロードキー（ＬＤＫ）がさらに得られ、前記初期化データ（ＩＮＤ）が暗号化された初期化データ（ＥＩＮＤ）として前記チップカード（１４）により受け取られて、前記チップカード（１４）において前記ロードキー（ＬＤＫ）を用いて解読されることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記暗号化された認証値（ＥＡＶ）の前記解読により、前記チップカード（１４）の、後続する読込及び／または初期化プロセス及び／または以降の機能に影響を与える、少なくとも１つの初期化パラメータ（ＩＮＰ）がさらに得られることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記リリースキー（ＥＮＫ）及び／または前記ロードキー（ＬＤＫ）及び／または前記少なくとも１つの初期化パラメータ（ＩＮＰ）が暗号チェックサム（ＣＣＳ）により保護され、前記暗号チェックサム（ＣＣＳ）が認証値（ＡＶ）から得られることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
マイクロコントローラ（２６）、読出専用メモリ（３２）及び不揮発性メモリ（３０）を有し、前記マイクロコントローラ（２６）の制御下で請求項１から３のいずれか１項に記載の方法を実行するように設定されていることを特徴とするチップカード。
【請求項５】
チップカード（１４）を初期化するためのレコード（ＤＳ）を生成するための方法であって、
少なくとも１つのリリースキー（ＥＮＫ）を導くことができる認証値（ＡＶ）を生成する工程、
暗号化された認証値（ＥＡＶ）を得るために認証値キー（ＡＶＫ）を用いて前記認証値（ＡＶ）を暗号化する工程、
前記暗号化された認証値（ＥＡＶ）を前記レコード（ＤＳ）に組み入れる工程、及び
暗号化されていないかまたは暗号化されている初期化データ（ＩＮＤ，ＥＩＮＤ）を前記レコード（ＤＳ）に組み入れる工程、
を有する方法において、
ロードキー（ＬＤＫ）が生成され、前記初期化データ（ＩＮＤ）が前記ロードキー（ＬＤＫ）を用いて暗号化されて、暗号化された初期化データ（ＥＩＮＤ）として前記レコード（ＤＳ）に組み入れられることを特徴とする方法。
【請求項６】
前記認証値（ＡＶ）は、前記認証値（ＡＶ）から、前記チップカード（１４）の、後続する読込及び／または初期化プロセス及び／または以降の機能に影響を与える少なくとも１つの初期化パラメータ（ＩＮＰ）がさらに導かれるように生成されることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記リリースキー（ＥＮＫ）及び／または前記ロードキー（ＬＤＫ）及び／または前記少なくとも１つの初期化パラメータ（ＩＮＰ）が暗号チェックサム（ＣＣＳ）により前記認証値（ＡＶ）内に保護され、前記暗号チェックサム（ＣＣＳ）が前記認証値（ＡＶ）から得られるように前記認証値（ＡＶ）が生成されることを特徴とする請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】
コンピュータ読出可能なデータ記憶媒体において、請求項５から７のいずれか１項に記載の方法によって生成可能または生成済であるレコード（ＤＳ）を有することを特徴とするコンピュータ読出可能なデータ記憶媒体。
【請求項９】
チップカード（１４）を初期化するための方法において、
製造業者ステーション（１０）において請求項５から７のいずれか１項に記載の方法によりレコード（ＤＳ）を生成する工程、
前記レコード（ＤＳ）を処理ステーション（１２）に転送する工程、及び
請求項１から３のいずれか１項に記載の方法により前記レコード（ＤＳ）を前記チップカード（１４）に読み込む工程、
を有することを特徴とする方法。