【手続補正書】
【提出日】平成18年10月20日(2006.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  次の式（Ｉ）：
【化１】
2003512456.tif 000001
［式中、Ｗは、窒素または−ＣＲ３を表しており；
Ｒ１は、ハロゲン、ハロアルキル、ハロアルコキシ、Ｒ４Ｓ（Ｏ）ｎ−、または−ＳＦ５を表しており；
Ｒ２は、水素またはハロゲンを表しており；
Ｒ３は、ハロゲンを表しており；
Ｒ４は、アルキルまたはハロアルキルを表しており；そして、
ｎは、０、１、または２を表している］で表される化合物を調製するためのプロセス（Ａ）であって、当該プロセスが、次の式（ＩＩ）：
【化２】
2003512456.tif 000002
［式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＷは、上で定義された通りのものである］で表される化合物を、腐食抑制化合物の存在下において、トリフルオロ過酢酸で酸化するステップを含む、調製プロセス。
【請求項２】  前記トリフルオロ過酢酸が、トリフルオロ酢酸と過酸化水素との反応によりインサイチュー（ｉｎ  ｓｉｔｕ）で生成される、請求項１記載のプロセス。
【請求項３】  前記腐食抑制化合物がホウ酸である、請求項１または２に記載のプロセス。
【請求項４】  使用される腐食抑制化合物の量が、約０．０８から０．２モル当量である、請求項１、２、または３に記載のプロセス。
【請求項５】  使用されるトリフルオロ酢酸の量が１４から１５モル当量である、先行する請求項のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項６】  前記反応において使用される過酸化水素の量が、１．３から１．５当量である、先行する請求項のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項７】  前記反応が１０℃から１５℃の温度で実施される、先行する請求項のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項８】  当該プロセスが、更に、前記酸化反応の完了した反応混合物にクロロベンゼンを加えるステップ、及び、蒸留によりトリフルオロ酢酸を回収するステップを含む、先行する請求項のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項９】  請求項１で定義された通りの式（ＩＩ）で表される化合物を調製するためのプロセス（Ｂ）であって、当該プロセスが、次の式（ＩＩＩ）：
【化３】
2003512456.tif 000003
［式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＷは、請求項１で定義された通りのものである］で表されるジスルフィド、ギ酸塩、臭化トリフルオロメチル、及び極性溶媒を含む混合物に二酸化硫黄を加えるステップを含む、調製プロセス。
【請求項１０】  前記溶媒がＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである、請求項９記載のプロセス。
【請求項１１】  前記二酸化硫黄の添加中の反応温度が３５℃から５５℃である、請求項９または１０に記載のプロセス。
【請求項１２】  前記二酸化硫黄が０．５から２時間に渡って加えられる、請求項９、１０、または１１に記載のプロセス。
【請求項１３】  臭化トリフルオロメチル：式（ＩＩＩ）で表されるジスルフィドのモル比が３：１から５：１までである、請求項９ないし１２のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１４】  式（ＩＩＩ）で表されるジスルフィドに対する二酸化硫黄の使用量が１．２から１．５モル当量である、請求項９ないし１３のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１５】  式（ＩＩＩ）で表されるジスルフィドに対するギ酸塩の使用量が４から６モル当量である、請求項９ないし１４のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１６】  当該プロセスが、更に、結果として得られる式（ＩＩ）で表される化合物を、請求項１ないし８のいずれか一項で定義された通りのプロセスにおける開始材料として使用するステップを含む、請求項９ないし１５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１７】  請求項９で定義された通りの式（ＩＩＩ）で表されるジスルフィドを調製するためのプロセス（Ｃ）であって；当該プロセスが、有機溶媒中における、次の式（ＩＶ）：
【化４】
2003512456.tif 000004
［式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＷは、請求項１で定義された通りのものである］で表される化合物の溶液に、一塩化硫黄（Ｓ２Ｃｌ２）を加えるステップを含む、調製プロセス。
【請求項１８】  前記溶媒が、場合によりクロロベンゼンとの混合物としての、トルエン、ジクロロメタンもしくはジクロロエタン、または、アセトニトリル、プロピオニトリル、メチルグルタロニトリル、及びベンゾニトリル等の脂肪族もしくは芳香族のニトリル；または、それらの混合物；から選択される、請求項１７記載のプロセス。
【請求項１９】  前記溶媒がアセトニトリルである、請求項１７または１８に記載のプロセス。
【請求項２０】  前記一塩化硫黄の純度が９９．４％から９９．９％ｗ／ｗである、請求項１７、１８、または１９に記載のプロセス。
【請求項２１】  前記溶媒としてアセトニトリルが使用されるとき、水の含量が＜１０００ｐｐｍであり、エタノールの含量が＜１５００ｐｐｍであり、そして、アンモニアの含量が＜１００ｐｐｍである、請求項１７ないし２０のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項２２】  前記一塩化硫黄の添加時間が１分から１０分である、請求項１７ないし２１のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項２３】  前記一塩化硫黄の添加開始時における前記混合物の反応温度が、５℃から２５℃までである、請求項１７ないし２２のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項２４】  当該プロセスが、更に、式（ＩＩＩ）で表されるジスルフィドを：
ａ）塩化水素を除去するため、前記ジスルフィドを含有する反応混合物を減圧下において加熱すること；
ｂ）その結果として生じる脱気された反応混合物を大気圧下で加熱し、続いて、約３０℃に冷却すること；
ｃ）弱塩基を加えることにより、該反応混合物のｐＨを６．５から７に調整すること；及び
ｄ）該混合物を約５℃の温度に冷却し、そして、濾過により前記所望のジスルフィドを単離すること；
により精製することを含む、請求項１７ないし２３のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項２５】  当該プロセスが、更に、その結果として生じる式（ＩＩＩ）で表されるジスルフィドを、請求項９ないし１６のいずれか一項で定義された通りのプロセスにおける開始材料として使用することを含む、請求項１７ないし２４のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項２６】  次の式（Ｉ）：
【化５】
2003512456.tif 000005
［式中、Ｗは、窒素または−ＣＲ３を表しており；
Ｒ１は、ハロゲン、ハロアルキル、ハロアルコキシ、Ｒ４Ｓ（Ｏ）ｎ−、または−ＳＦ５を表しており；
Ｒ２は、水素またはハロゲンを表しており；
Ｒ３は、ハロゲンを表しており；
Ｒ４は、アルキルまたはハロアルキルを表しており；そして、
ｎは、０、１、または２を表している］で表される化合物を調製するためのプロセスであって、当該プロセスが：
（ａ）有機溶媒中における次の式（ＩＶ）：
【化６】
2003512456.tif 000006
［式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＷは、上で定義された通りのものである］で表される化合物の溶液に一塩化硫黄（Ｓ２Ｃｌ２）を加えて、次の式（ＩＩＩ）：
【化７】
2003512456.tif 000007
［式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＷは、上で定義された通りのものである］で表されるジスルフィドを生成すること；
（ｂ）次の式（ＩＩ）：
【化８】
2003512456.tif 000008
［式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＷは、上で定義された通りのものである］で表される化合物を生成するため、式（ＩＩＩ）で表されるジスルフィド、ギ酸塩、臭化トリフルオロメチル、及び極性溶媒からなる混合物に二酸化硫黄を加えること；及び
（ｃ）腐食抑制化合物の存在下において、式（ＩＩ）で表される前記化合物をトリフルオロ過酢酸で酸化すること；
を含む、調製プロセス。
【請求項２７】  式（Ｉ）で表される前記化合物が：
５−アミノ−１−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−３−シアノ−４−トリフルオロメチルスルフィニルピラゾ−ル；
である、請求項１ないし８または請求項２６のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項２８】  式（ＩＩ）で表される前記化合物が：
５−アミノ−１−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−３−シアノ−４−トリフルオロメチルチオピラゾ−ル；
である、請求項９ないし１６または請求項２６のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項２９】  式（ＩＩＩ）で表される前記化合物が：
５−アミノ−１−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−３−シアノピラゾ−ル−４−イルジスルフィド；
である、請求項１７ないし２６のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項３０】  Ｒ１が、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、または−ＳＦ５を表しており；
Ｗが−ＣＲ３を表しており；そして
Ｒ２及びＲ３が塩素を表している；
先行する請求項のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項３１】  請求項１、１６、または２６のいずれか一項で定義された通りのプロセスで生成されたときの、請求項１で定義された通りの式（Ｉ）で表される化合物。