【手続補正書】
【提出日】平成18年7月13日(2006.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
含窒素ヒドロフルオリドと、
脱イオン水と、
有機溶剤と、
キレート剤と、
場合により、
アミン／カルボン酸緩衝剤と
を含む、湿式剥離組成物。
【請求項２】
前記含窒素ヒドロフルオリドは、フッ化アンモニウム（ＮＨ４Ｆ）を含む、請求項１に記載の湿式剥離組成物。
【請求項３】
前記含窒素ヒドロフルオリドは、アミンヒドロフルオリド塩を含む、請求項１に記載の湿式剥離組成物。
【請求項４】
前記含窒素ヒドロフルオリドは、組成物の総重量を基準にして約０．１〜約４０．０重量％の量で前記組成物中に存在する、請求項１に記載の湿式剥離組成物。
【請求項５】
脱イオン水は、組成物の総重量を基準にして、約２０〜約７５重量％の量で前記組成物中に存在する、請求項１に記載の湿式剥離組成物。
【請求項６】
前記有機溶剤は、（i）グリコール、（ii）ポリグリコール、(iii）グリコールエーテル、（iv）ポリグリコールエーテル、ならびにクラス（i）〜（iv）の中から選択された２種もしくはそれ以上の溶剤成分の相溶性混合物、ブレンドおよび溶液からなる群から選択される、１種もしくはそれ以上の溶剤を含む、請求項１に記載の湿式剥離組成物。
【請求項７】
前記有機溶剤は、１種もしくはそれ以上のグリコールを含む、請求項６に記載の湿式剥離組成物。
【請求項８】
前記１種もしくはそれ以上のグリコールは、エチレングリコール、プロピレングリコール、およびネオペンチルグリコールからなる群から選択されるグリコールを含む、請求項７に記載の湿式剥離組成物。
【請求項９】
前記有機溶剤は、１種もしくはそれ以上のポリグリコールを含む、請求項６に記載の湿式剥離組成物。
【請求項１０】
前記１種もしくはそれ以上のポリグリコールは、ポリエチレングリコールおよびポリプロピレングリコールよりなる群から選択されたポリグリコールを含む、請求項９に記載の湿式剥離組成物。
【請求項１１】
前記有機溶剤は、１種もしくはそれ以上のグリコールエーテルを含む、請求項６に記載の湿式剥離組成物。
【請求項１２】
前記有機溶剤は、１種もしくはそれ以上のポリグリコールエーテルを含む、請求項６に記載の湿式剥離組成物。
【請求項１３】
前記有機溶剤は、クラス（i）〜（iv）の中から選択された２種もしくはそれ以上の溶剤成分の相溶性混合物、ブレンド、または溶液を含む、請求項６に記載の湿式剥離組成物。
【請求項１４】
前記有機溶剤は、組成物の総重量を基準にして、約２５〜約７９重量％の量で前記組成物中に存在する、請求項６に記載の湿式剥離組成物。
【請求項１５】
ＳＡＲＣ材料のエッチング速度は、ＩＬＤ材料のエッチング速度の約１０倍〜約１１５倍速い、請求項１に記載の湿式剥離組成物。
【請求項１６】
前記キレート剤は、ＳＡＲＣおよびＩＬＤ材料への湿式剥離組成物の暴露の際に、前記ＳＡＲＣとＩＬＤ材料との間のエッチング速度選択性をコントロールするのに有効であるタイプのものであり、かつ、有効である量で存在する、請求項１に記載の湿式剥離組成物。
【請求項１７】
前記キレート剤は、α−アミノ酸を含む、請求項１に記載の湿式剥離組成物。
【請求項１８】
前記キレート剤は、イミノジ酢酸（ＩＤＡ）を含む、請求項１に記載の湿式剥離組成物。
【請求項１９】
前記キレート剤は、組成物の総重量を基準にして、約１０重量％までの量で前記組成物中に存在する、請求項１に記載の湿式剥離組成物。
【請求項２０】
アミン／カルボン酸緩衝剤を含む、請求項１に記載の湿式剥離組成物。
【請求項２１】
前記緩衝剤は、湿式剥離組成物がシリケートに対してエッチングで有効であるｐＨ範囲内に剥離組成物のｐＨを安定化するタイプのものであり、かつ、安定化する量で存在する、請求項２０に記載の湿式剥離組成物。
【請求項２２】
前記緩衝剤は、ＳＡＲＣおよびＩＬＤ材料への湿式剥離組成物の暴露の際に、前記ＳＡＲＣとＩＬＤ材料との間のエッチング速度選択性をコントロールするのに有効であるタイプのものであり、かつ、有効である量で存在する、請求項２０に記載の湿式剥離組成物。
【請求項２３】
前記緩衝剤は、アルキル−、ジアルキル−、およびトリアルキル−アミンからなる群から選択される、１種もしくはそれ以上のアミンを含む、請求項２０に記載の湿式剥離組成物。
【請求項２４】
前記緩衝剤は、モノ−、ジ−、およびトリ−カルボン酸からなる群から選択される、１種もしくはそれ以上のカルボン酸を含む、請求項２０に記載の湿式剥離組成物。
【請求項２５】
前記緩衝剤は、組成物の総重量を基準にして、約２０重量％までの量で前記組成物中に存在する、請求項２０に記載の湿式剥離組成物。
【請求項２６】
前記組成物が、
０．１〜４０．０重量％のフッ化アンモニウム（ＮＨ４Ｆ）または他のアミンヒドロフルオリド塩と、
２０〜７５重量％の脱イオン水（ＤＩＷ）と、
２５〜７９重量％の有機溶剤と、
０．４〜１０重量％のキレート剤と、
０〜２０重量％のアミン／カルボン酸緩衝剤と、
を含み、
重量百分率は組成物の総重量基準であり、かつ、合計重量百分率は１００重量％を超えない、請求項１に記載の湿式剥離組成物。
【請求項２７】
合計重量百分率が１００重量％に等しい、請求項２６に記載の湿式剥離組成物。
【請求項２８】
前記組成物が、調合物Ａ〜Ｋからなる群から選択され、
調合物Ａ
０．５％のＩＤＡ
１．０％のＮＨ４Ｆ
９８．５％のプロピレングリコール：水の３：１の混合物
調合物Ｂ
１．５％のＩＤＡ
１．０％のＮＨ４Ｆ
９７．５％のプロピレングリコール：水の３：１の混合物
調合物Ｃ
０．５％のＩＤＡ
４．０％のＮＨ４Ｆ
９５．５％のプロピレングリコール：水の３：１の混合物
調合物Ｄ
１．５％のＩＤＡ
４．０％のＮＨ４Ｆ
９４．５％のプロピレングリコール：水の３：１の混合物
調合物Ｅ
０．５％のＩＤＡ
１．０％のＮＨ４Ｆ
２５％の水
７３．５％のジエチレングリコール
調合物Ｆ
０．５％のＩＤＡ
１．０％のＮＨ４Ｆ
２５％の水
７３．５％のプロピレングリコールメチルエーテル
調合物Ｇ
０．５％のＩＤＡ
１．０％のＮＨ４Ｆ
２５％の水
７３．５％のジエチレングリコールメチルエーテル
調合物Ｈ
０．５％のＩＤＡ
１．０％のＮＨ４Ｆ
２５％の水
７３．５％のトリエチレングリコールメチルエーテル
調合物Ｉ
０．５％のフッ化アンモニウム
２．２５％のメチルジエタノールアミン
２．７５％のマロン酸
２５％の水
６９．５％のジエチレングリコール
調合物Ｊ
１０％のＮ，Ｎ−ジメチルジグリコールアミンヒドロフルオリド塩
２５％の水
６５％のジエチレングリコール
調合物Ｋ
４０％のＮ，Ｎ−ジメチルジグリコールアミンヒドロフルオリド塩
２５％の水
３５％のジエチレングリコール
であり、
前記調合物中の成分の百分率は調合物の総重量を基準とした重量によるものである、請求項１に記載の湿式剥離組成物。
【請求項２９】
調合物Ａを含む、請求項２８に記載の湿式剥離組成物。
【請求項３０】
調合物Ｂを含む、請求項２８に記載の湿式剥離組成物。
【請求項３１】
調合物Ｃを含む、請求項２８に記載の湿式剥離組成物。
【請求項３２】
調合物Ｄを含む、請求項２８に記載の湿式剥離組成物。
【請求項３３】
調合物Ｅを含む、請求項２８に記載の湿式剥離組成物。
【請求項３４】
調合物Ｆを含む、請求項２８に記載の湿式剥離組成物。
【請求項３５】
調合物Ｇを含む、請求項２８に記載の湿式剥離組成物。
【請求項３６】
調合物Ｈを含む、請求項２８に記載の湿式剥離組成物。
【請求項３７】
調合物Ｉを含む、請求項２８に記載の湿式剥離組成物。
【請求項３８】
調合物Ｊを含む、請求項２８に記載の湿式剥離組成物。
【請求項３９】
調合物Ｋを含む、請求項２８に記載の湿式剥離組成物。
【請求項４０】
ＳＡＲＣとＩＬＤ材料との間のエッチング速度選択性を前記組成物に与える、半水性溶剤、フッ化アンモニウムおよびα−アミノ酸を含む、請求項１に記載の湿式剥離組成物。
【請求項４１】
アミノ酸がイミノジ酢酸を含む、請求項４０に記載の湿式剥離組成物。
【請求項４２】
前記組成物が、シリケート材料に対してエッチングで有効である範囲に組成物のｐＨを安定化する互いの相対比率でアミンおよびカルボン酸を含むアミン／カルボン酸緩衝剤をさらに含む、請求項４０に記載の湿式剥離組成物。
【請求項４３】
前記シリケート材料は、染色ケイ酸塩ガラス材料を含む、請求項４２に記載の湿式剥離組成物。
【請求項４４】
アミンおよびカルボン酸の相対比率が、前記組成物のＳＡＲＣとＩＬＤ材料との間のエッチング速度選択性を高める、請求項４２に記載の湿式剥離組成物。
【請求項４５】
犠牲的シリケート材料を、それを含む場所からエッチングで除去する方法であって、
含窒素ヒドロフルオリドと、
脱イオン水と、
有機溶剤と、
キレート剤と、
場合により
アミン／カルボン酸緩衝剤と
を含むエッチング剤組成物に、前記場所から犠牲的シリケートを少なくとも部分的にエッチングで除去するのに十分な時間、前記犠牲的シリケート材料を暴露することを含む方法。
【請求項４６】
前記エッチング剤組成物は、
０．１〜４０．０重量％のフッ化アンモニウム（ＮＨ４Ｆ）または他のアミンヒドロフルオリド塩と、
２０〜７５重量％の脱イオン水（ＤＩＷ）と、
２５〜７９重量％の有機溶剤と、
０．４〜１０重量％のキレート剤と、
０〜２０重量％のアミン／カルボン酸緩衝剤と、
を含み、
重量百分率は組成物の総重量基準であり、かつ、合計重量百分率は１００重量％を超えない、請求項４５に記載の方法。
【請求項４７】
前記合計重量百分率が１００重量％に等しい、請求項４６に記載の方法。
【請求項４８】
前記エッチング剤組成物が調合物Ａ〜Ｋからなる群から選択され、
調合物Ａ
０．５％のＩＤＡ
１．０％のＮＨ４Ｆ
９８．５％のプロピレングリコール：水の３：１の混合物
調合物Ｂ
１．５％のＩＤＡ
１．０％のＮＨ４Ｆ
９７．５％のプロピレングリコール：水の３：１の混合物
調合物Ｃ
０．５％のＩＤＡ
４．０％のＮＨ４Ｆ
９５．５％のプロピレングリコール：水の３：１の混合物
調合物Ｄ
１．５％のＩＤＡ
４．０％のＮＨ４Ｆ
９４．５％のプロピレングリコール：水の３：１の混合物
調合物Ｅ
０．５％のＩＤＡ
１．０％のＮＨ４Ｆ
２５％の水
７３．５％のジエチレングリコール
調合物Ｆ
０．５％のＩＤＡ
１．０％のＮＨ４Ｆ
２５％の水
７３．５％のプロピレングリコールメチルエーテル
調合物Ｇ
０．５％のＩＤＡ
１．０％のＮＨ４Ｆ
２５％の水
７３．５％のジエチレングリコールメチルエーテル
調合物Ｈ
０．５％のＩＤＡ
１．０％のＮＨ４Ｆ
２５％の水
７３．５％のトリエチレングリコールメチルエーテル
調合物Ｉ
０．５％のフッ化アンモニウム
２．２５％のメチルジエタノールアミン
２．７５％のマロン酸
２５％の水
６９．５％のジエチレングリコール
調合物Ｊ
１０％のＮ，Ｎ−ジメチルジグリコールアミンヒドロフルオリド塩
２５％の水
６５％のジエチレングリコール
調合物Ｋ
４０％のＮ，Ｎ−ジメチルジグリコールアミンヒドロフルオリド塩
２５％の水
３５％のジエチレングリコール、
であって、
前記調合物中の成分の百分率は調合物の総重量を基準とした重量である、請求項４５に記載の方法。
【請求項４９】
前記場所は、半導体デバイス構造体を含む、請求項４５に記載の方法。
【請求項５０】
前記半導体デバイス構造体は、ＩＬＤ材料を含む、請求項４９に記載の方法。
【請求項５１】
犠牲的シリケート材料が犠牲的反射防止膜を含む、請求項４５に記載の方法。
【請求項５２】
前記犠牲的反射防止膜は、染色ケイ酸塩ガラス材料を含む、請求項５１に記載の方法。
【請求項５３】
前記染色ケイ酸塩ガラス材料は、半導体デバイス構造体上でのフォトリソグラフィック・パターン化中の反射率変化を最小限にするために半導体デバイス構造体に被着された、請求項５２に記載の方法。