【事件の表示】
　特願２００３−　７１７０１「有機電子材料の塗布装置およびそれを使用した有機電子素子の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年１１月２５日出願公開、特開２００４−３３５４９２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯
　本願は、特許法第４１条に基づく優先権主張を伴う平成１５年３月１７日（優先日、平成１５年３月７日）の特許出願であって、平成２０年８月２２日付けの拒絶理由通知に対し、同年１０月２７日付けで手続補正書が提出され、平成２１年１月１５日付けの最後の拒絶理由通知に対し、同年３月２３日付けで手続補正書が提出されたが、同年４月１５日付けで補正却下の決定がなされるととともに、同日付けで拒絶査定がなされた。
　これに対し、同年７月２１日に拒絶査定不服審判の請求がなされると同時に手続補正書が提出され、特許法第１６３条第２項に基づく審査官による同年１０月２１日付けの拒絶理由通知に対し、同年１２月２８日付けで手続補正書が提出され、当審における平成２３年６月３０日付けの拒絶理由通知に対し、同年９月５日付けで手続補正書が提出されたものである。
　
２　本願発明
　本願の請求項１ないし３に係る発明は、平成２３年９月５日付けの手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１ないし３に記載された事項により特定されるとおりのものであって、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、次のとおりである。
　なお、検討を行う便宜のために、当審で本願発明の特定事項を（Ａ）〜（Ｉ）に分説した。（Ａ）〜（Ｈ）の各特定事項を、以下、「特定事項Ａ」〜「特定事項Ｈ」ともいう。
　
 「【請求項１】
（Ａ）架台と、その架台上に設けられて有機電子材料を塗布する基板を固定する基板ステージ部と、その基板ステージ部に固定された基板に向けて有機電子材料を吐出する吐出部と、その基板ステージ部をスライド移動させるモーター部とを備え、
（Ｂ）前記モーター部は、前記架台上に固定されたステータ部と、該ステータ部に沿って往復スライド移動する可動部とからなるリニアサーボモーターであり、
（Ｃ）前記ステータ部は、前記可動部をスライド移動させるためのガイドとなる円筒状のスライド部を有し、
（Ｄ）前記スライド部は、隣接する磁石の極性が交互に異なると共に一方の端部の磁石が隣接する磁石方向に沿って押圧されて互いに隣接する磁石が密着されて配置される複数の筒状のＮｄ−Ｆｅ−Ｂ磁石を有し、該複数の筒状のＮｄ−Ｆｅ−Ｂ磁石の開口部に非磁性材製のセンター軸が挿入されており、
（Ｅ）前記基板ステージ部は、該基板ステージ部のスライド移動をガイドする一対のガイド部を有し、該基板ステージ部がスライド移動する移動方向に沿って延在する両側部近傍には、前記ガイド部を支持する一対のガイド支持部が設けられ、
（Ｆ）前記可動部は、移動磁界を生じさせる複数のコイルを有し、前記ステータ部にスライド可能に支持されてスライド移動し、
（Ｇ）前記吐出部は、移動機構を介して前記基板ステージ部がスライド移動する移動路の上方に、該基板ステージ部に固定された基板との距離が０．１μｍ〜５０μｍで配設され、
（Ｈ）前記基板のスライド移動速度と前記有機電子材料の吐出量が一定になるように、前記可動部のスライド移動速度と前記吐出部からの吐出量が制御される、有機電子材料の塗布装置を用いた有機電子素子の製造方法であって、
（Ｉ）前記塗布装置を用い、前記スライド移動速度を５ｍｍ／ｓｅｃ〜２００ｍｍ／ｓｅｃの範囲内且つ前記吐出量を４μＬ／ｓｅｃ〜３００ｍＬ／ｓｅｃの範囲内として有機電子材料を塗布し、厚さ５０ｎｍ〜２００ｎｍの有機層を膜厚誤差が２％以内、該有機層の凹凸が５ｎｍ以下で形成し、前記有機電子素子を製造することを特徴とする有機電子素子の製造方法。」
　
３　刊行物の記載事項
（１）当審において平成２３年６月３０日付けで通知した拒絶の理由に引用した、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００２−４５７５９号公報（以下「引用例１」という。）、特開平１０−３１３５６６号公報（以下「引用例２」という。）、特開２００２−３６１８５２号公報（以下「引用例３」という。）、特開２００２−３０５８９５号公報（以下「引用例４」という。）、特開平９−２５３５６３号公報（以下「引用例５」という。）、特開２００２−２３９４４５号公報（以下「引用例６」という。）、特開２００３−２２８９２号公報（以下「引用例７」という。）には、図面とともに以下の記載がある。
　
　ア　引用例１（特開２００２−４５７５９号公報）
　（１ａ）「【０００３】・・・例えば、塗布膜厚として数μｍ±３％程度の範囲が要求される場合には、スピン塗布方式により形成された塗膜をそのまま用いることが困難であり、・・・
【０００４】・・・ナイフ塗布方式およびロール塗布方式はいずれも、被塗布基板上に塗布用クリアランスを設け、その設定値によって塗布膜厚を決定して塗布面の平滑性を得る方式であるが、この方式では、被塗布基板の表面の平滑度（凹凸度）が塗布精度以上に低い（凹凸度が大きい）場合に均一な膜厚を得ることが困難であるという欠点である。
【０００５】そこで、上述したような各塗布方式の欠点を解消して、枚葉タイプの被塗布基板上に塗布液の物性等の影響を受けることなく安定した状態で均一な塗膜を形成することのできる方式として、ダイ塗布方式やエクストルージョン塗布方式、ビード塗布方式が提案されている（特願平０５−１４６７５７号参照）。
【０００６】これらの塗布方式に基づく塗布装置としては、例えば、一定の塗布用クリアランスをとって被塗布基板上に塗布ノズルから塗布液を吐出し、これと同時に被塗布基板を一定速度でスライドさせることにより、被塗布基板上に塗膜を形成するものが知られている。このとき、塗布ノズルには、塗布液供給機構から連続して塗布液の供給が行われ、塗布ノズルから吐出される塗布液の吐出量が一定に保たれるようになっている。なお、被塗布基板上に塗膜が形成されるとき、塗布ノズルと被塗布基板との間には一定量のビードが形成され、そのうちの一定量が被塗布基板上に塗布される。」（【０００３】〜【０００６】）
　
　（１ｂ）「【００１６】図１に示すように、本実施の形態に係る塗布装置は、被塗布基板８上に塗布液を塗布するものであり、塗布液を吐出する塗布ノズル５を備えている。
【００１７】塗布ノズル５は、被塗布基板８が載置されるステージ３のスライド（移動）方向（図１の左右方向）と直交する方向（図１の紙面に直交する方向）に延びる帯状のスリット５ａを有し、塗布液供給機構（図示せず）から供給される塗布液をスリット５ａを介して下方に吐出することができるようになっている。
【００１８】また、塗布ノズル５は、被塗布基板８に対する塗布ノズル５の水平状態を調整することが可能なダイホルダ４に支持されている。ダイホルダ４は、昇降機構１５を介して支柱１６に取り付けられており、被塗布基板８に対する塗布ノズル５の高さを任意に調整することができるようになっている。なお、支柱１６は基台１上に固定されている。
【００１９】一方、被塗布基板８は、基板ホルダ６を介してステージ３上に載置されており、基板ホルダ６の上面にて真空吸着により保持されるようになっている。ステージ３上には、基板ホルダ６（被塗布基板８）に並列して塗布液吸収部７が配設されており、被塗布基板８上に塗布液を塗布するのに先立って、塗布ノズル５から吐出された塗布液を吸収することができるようになっている。なお、塗布液吸収部７は、調整台（調整機構）９を介してステージ３上に配設されており、被塗布基板８に対する塗布液吸収部７の相対位置（被塗布基板８との距離、高さおよび平行度）を調整することができるようになっている。
【００２０】ここで、ステージ３は、エアースライドリニアモータ（塗布用移動機構）２を介して基台１上にてスライド（移動）自在に設置されており、塗布ノズル５のスリット５ａを被塗布基板８に対向させた状態で塗布ノズル５と被塗布基板８とを相対的に移動させることができるようになっている。また、エアースライドリニアモータ２は、ステージ３の移動を適宜制御することにより、被塗布基板８上に塗布液を塗布するのに先立って、塗布ノズル５を塗布液吸収部７に対向させ、塗布ノズル５から吐出された塗布液を吸収することができるようになっている。」（【００１６】〜【００１７】）
　
　（１ｃ）「【００２４】また、被塗布基板８としては、ＬＣＤ用のカラーフィルターで用いられるガラス基板等の任意のものを用いることができる。また、塗布ノズル５から吐出される塗布液としては、カラーフィルター用の着色液等の任意のものを用いることができる。具体的には例えば、溶剤系感光性樹脂、水系感光性樹脂、またはこれらの感光性樹脂に顔料等の着色材を分散させた着色感光性樹脂、各種接着剤、保護膜等を形成するための樹脂、各種インキ等を用いることができる。」（【００２４】）
　
　（１ｄ）「【００３８】
【実施例】次に、図１および図２に示す塗布装置の具体的実施例について述べる。
【００３９】本実施例では、被塗布基板８として、ＬＣＤ用のカラーフィルターで用いられるガラス基板を用いた。ガラス基板の寸法は、幅方向（塗布方向）の長さが６７０ｍｍ、横方向の長さが５５０ｍｍである。また、塗布ノズル５から吐出される塗布液としては、カラーフィルター用の着色液として、富士フィルムオーリン（株）製カラーモザイクＣＲ−７００１を用いた。
【００４０】一方、エアスライドリニアモータ２の移動速度（塗布速度）は、５０ｍｍ／ｓｅｃとし、塗布ノズル５からの塗布液供給レートは、０．２ｍｌ／ｓｅｃとした。また、塗布ノズル５と被塗布基板８との間の塗布用クリアランスは７５μｍとした。」（【００３８】〜【００４０】）
　
　（１ｅ）「【００４３】以上のような条件で、被塗布基板８上に塗布液を塗布した結果、被塗布基板８上に形成される塗膜の膜厚は、図５に示すように、被塗布基板８の全面に亘って略均一（膜厚：１．５μｍ）となった。すなわち、ＬＣＤ用のカラーフィルターで用いられる大面積の基板であっても、被塗布基板８への塗膜形成開始直後から均一な塗膜を形成することができた。なお、図６に、予備塗布部７を用いることなく、上述した実施例と同一の条件で塗布液の塗布を行った比較例の結果を示す。
【００４４】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、被塗布基板上への塗膜形成開始時に形成される膜厚不良部分を減少させ、大型のガラス基板やプラスチック基板等の枚葉タイプの被塗布基板上に塗布液を均一かつ効率的に塗布することができる。」（【００４３】〜【００４４】）
　
　イ　引用例２（特開平１０−３１３５６６号公報　）
　（２ａ）「【請求項１】　複数の永久磁石を互いに反対の磁極が対向するように直列に組み合わせて成るステータ部を有するリニアモータにおいて、前記永久磁石を筒状の基本形状とし、これらに非磁性材料によるセンター軸を挿入して両側から締め付けることにより隣り合う永久磁石の間を密着させるようにして前記ステータ部を構成したことを特徴とするリニアモータ。」（【請求項１】）
　
　（２ｂ）「【０００２】
【従来の技術】最近、ＯＡ機器の分野において、例えば印字ヘッドのように直線移動が要求される部位に、リニアモータを利用することが提案されている。・・・通常、リニアモータは、複数の永久磁石を互いに反対の磁極が対向するように直列に組み合わせて成るステータ部と、このステータ部の外側にこれを囲むように配置され、ステータ部の軸方向にスライド可能なコイルを含む可動部とを有している。永久磁石で発生される磁束と交叉するようにコイルに電流を流すことにより、この電流と磁界との相互作用に基づいてコイル部には軸方向に駆動力が発生し、その結果、可動部が移動する。」（【０００２】）
　
　（２ｃ）「【００１４】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の好ましい実施の形態について説明する。図２を参照して、本形態におけるリニアモータは、ステータ部１０と可動部２０とを有する。ステータ部１０は、後で詳しく説明するように、非磁性材料によるブラケット１１と多数の永久磁石を内蔵した非磁性材料によるパイプ１２とを有する。可動部２０は、図３（ａ）に示すように、複数のコイル２１（ここでは１２個）を有し、これら複数のコイル２１をパイプ１２が貫通する。可動部２０はパイプ１２に接触あるいは非接触状態でパイプ１２の軸方向にスライド可能になっている。なお、１２個のコイル２１には、３相の交流電源が接続され、各相Ｗ、Ｕ、Ｖには各コイル２１が図３（ｂ）に示すように接続される。
【００１５】図１を参照して、本形態の特徴であるステータ部１０について説明する。ステータ部１０は、ブラケット１１、パイプ１２に加えて、複数のリング状の永久磁石１３と、複数の永久磁石１３に挿入された非磁性材料によるセンター軸１４と、締め付け用のナット１５とを有する。センター軸１４の一端側にはおねじ１４−１が形成され、ブラケット１１に形成されためねじ部に螺入されている。センター軸１４の他端側にも所定の長さにわたるねじしろを持つおねじ１４−２が形成され、このおねじ１４−２にナット１５が螺合されてブラケット１１とナット１５との間で複数の永久磁石１３の間を密着させるようにしている。複数の永久磁石１３は、互いに反対の磁極が対向するように直列に組み合わされ、これら複数の永久磁石１３の外周側を断面円形のパイプ１２で覆うようにしている。なお、ブラケット１１には、ステータ部１０を、リニアモータが実装される機器に取り付けるためのねじ挿通用の孔１１−１が設けられている。」（【００１４】〜【００１５】）
　
　（２ｄ）「【００１９】本形態によるステータ部は、長さ約２ｍ程度まで実現できる。なお、永久磁石１３の形状は、リング状に限らず多角形状でも良く、この場合パイプ１２も同じ断面形状にされる。また、本形態によるリニアモータは、ＯＡ機器のような比較的小型のものに限らず、例えばフライス盤のような大型工作機械における移動テーブルのような大型産業機械において直線移動が要求される部位にも適用可能である。」（【００１９】）、
　「【００２３】複数の永久磁石間の位置ずれが生じないので、永久磁石を設計値通りに配置でき、その結果、可動部の位置決め精度を向上させることができる。」（【００２３】）
　
　ウ　引用例３（特開２００２−３６１８５２号公報）
　（３ａ）「【００１６】Ｙステージ３２は、上部に載置しているθステージ３３をＹ方向（図１中矢印参照）に移動させる移動ステージである。Ｙステージ３２の構造は、基本的には、Ｘステージ３１と同様である。すなわち、Ｙステージ３２は、下面に凹状のガイド部３２ｂを形成し、Ｘ軸レール３１ａに、このガイド部３２ｂが、はまって、Ｘ軸レール３１ａに沿って往復移動する。また、このガイド部３２ｂには、微小の空気孔が形成されており、その孔から吹き出る空気によって、Ｙステージ３２が浮上する。また、Ｙステージ３２は、下面に、シャフトモータ３１ｂのコイル３１ｄを取り付けている。また、Ｙステージ３２は、その上面に、２本のＹ軸レール３２ａを設置する。このＹ軸レール３２ａも石製である。さらに、Ｙステージ３２は、シャフトモータのステータを配置する。さらにまた、Ｙステージ３２は、側面にリニアスケールを配置する」（【００１６】）
　
　（３ｂ）「【００２０】図２は、移動ステージを示す断面図である。Ｙステージ３２の下面の凹状のガイド部３２ｂが、Ｘステージ３１のＸ軸レール３１ａに、はまっている。Ｙステージ３２がＸ軸レール３１ａ上を移動するときは、その抵抗を低減させるために、ガイド部３２ｂの空気孔から空気が吹き出て、Ｙステージ３２を浮上させる。このとき、ガイド部３２ｂとＸ軸レール３１ａとの隙間には、エア溜まりができる。ガイド部３２ｂ及びＸ軸レール３１ａは、石製であるので、表面に自然の凹凸があり、そこにエアが溜まりやすい。Ｙステージ３２を浮上させた状態で、シャフトモータ３１ｂが作動すると、Ｙステージ３２は、Ｘ軸レール３１ａ上を移動する。
【００２１】図３は、シャフトモータを示す断面図であり、図３（Ａ）は平面図、図３（Ｂ）は側面図である。シャフトモータ３１ｂは、Ｙステージ３２をＸ軸レール３１ａに沿って移動させるアクチュエータである。シャフトモータ３１ｂは、シャフト状のステータ３１ｃと、その周囲に設けられたコイル３１ｄを備える。ステータ３１ｃには、永久磁石が埋め込まれている。ステータ３１ｃは、Ｘステージ３１に取り付けられる。コイル３１ｄは、Ｙステージ３２に取り付けられる。このようなシャフトモータ３１ｂは、全面の磁束を利用可能であるので、小形であっても大きな力を得ることができる。また、ステータ３１ｃとコイル３１ｄとの間には、常に、全周に隙間ができ、ガタが発生する。このガタによって取り付け時のバラツキを吸収することができるので、取り付けが容易である。コイル３１ｄは、磁力によって反発し、隙間を保ったまま、ステータ３１ｃに沿って往復移動するので、移動時の真直度に悪影響を与えない。本実施形態では、移動ステージを移動させるアクチュエータとしてシャフトモータを用いることで、真直度を３μｍ以下、繰り返し位置決め精度を０．１μｍ以下に抑えることができるようになった。」（【００２０】〜【００２１】）
　
　エ　引用例４（特開２００２−３０５８９５号公報）
　（４ａ）「【請求項２】　　前記移動体は、リニアモータによって駆動されていることを特徴とする請求項１に記載の移動体システム。」（【請求項２】）
　
　（４ｂ）「【００１９】次に、第１移動体機構３２の詳細について図２および図３を参照しながら説明する。図２に示すように、この移動体システムは、所定の軌道に沿って敷設された軌道レール構造体３０に沿って移動体２１が移動可能になされている。図３に示すように、軌道レール構造体３０は、側方が開放した断面コ字状の部材であり、その上下の内側面に沿って二次側コア２２が設けられている。また、軌道レール構造体３０の上下両端部２０ａには、それぞれリニアガイド２３が設けられており、このリニアガイド２３に移動体３１が摺動可能に支持されている。これにより、移動体３１は軌道レール構造体３０に沿って移動することができるようになっている。」（【００１９】）
　
　オ　引用例５（特開平９−２５３５６３号公報）
　（５ａ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、特にカラー液晶ディスプレイ用のカラーフィルタの製造に好適した塗布装置および塗布方法に関する。」（【０００１】）
　
　（５ｂ）「【０００４】・・・図１に示されているように塗膜の膜厚は、被塗布部材の移動速度と、塗布器からの塗布液の吐出流量とによって決定される。詳しくは、被塗布部材の移動速度を一定した場合、塗膜の膜厚は、塗布液の吐出流量が増加するに連れてたとえばＫ〜Ｍ（Ｋ＜Ｌ＜Ｍ）のように増加し、逆に、塗布液の吐出流量を一定とした場合には、塗膜の膜厚は被塗布部材の移動速度が増加するに連れてＭ〜Ｋのように減少する。それゆえ、塗膜の膜厚を一定に維持するため、塗布液の吐出流量および被塗布部材の移動速度はそれぞれ一定に保持される。」（【０００４】）
　
　（５ｃ）「【００１７】フィードスクリュー１４の両端部は軸受（図示しない）を介して回転自在に支持され、その一端にはＡＣサーボモータからなるステージモータ１８が連結されている。ステージモータ１８はフィードスクリュー１４を正逆回転させて、ステージ６を往復動させることができる。なお、ステージ６が往復動するとき、前述したコネクタ１６の一部はケーシング１２のスロット内を移動する。」（【００１７】）
　
　（５ｄ）「【００３８】ｔ０時点からｔ１時点間での期間は、応答吐出パターンの期間に相当し、この期間では、前述したようにスリットダイ４０の吐出口からは応答吐出パターンに従い、塗布液がガラス基板Ａ上に吐出される。すなわち、応答吐出パターンでは、ステージ６の移動速度の変化率に対し、塗布液における吐出流量の変化率を一致させる。したがって、塗布液の吐出流量はステージ６の移動速度の変化に同調しながら増加し、そして、最終的には、ステージ速度Ｖと塗膜の膜厚Ｔとにより決定された定常の吐出流量Ｑに到達する。この後、スリットダイ４０からの塗布液の吐出流量はその定常の吐出流量Ｑに維持される。ここで、ステージ６の移動速度がステージ速度Ｖに到達する時点と、塗布液の吐出流量が定常の流量Ｑに到達する時点とは図６から明らかなように一致している。」（【００３８】）
　
　（５ｅ）「【００４２】・・・ここで、たとえば定常状態でのステージ速度Ｖを３ｍ／ｍｉｎ、このステージ６の立ち上がり時定数５０ｍｓｅｃ、シリンジポンプ４４の吐出流量Ｑを０．３ｃｃ／ｓに設定したとき、シリンジポンプ４４の応答吐出パターンを最適化すると、その膜厚がＴの±５％を越える不良部分は３ｍｍ以下となり、最適化しないと、その不良部分は２０ｍｍに増加した。・・・」（【００４２】）
　
　カ　引用例６（特開２００２−２３９４４５号公報）
　（６ａ）「【請求項１０】　前記制御手段は、液供給系における前記液体の吐出量制御用サーボモータを制御して少なくとも前記塗布ヘッドから吐出される塗布液の吐出速度、吐出加速度および吐出量のいずれか１つ以上を制御するものであり、および／もしくは、前記基板と塗布ヘッドを相対移動させる移動手段制御用サーボモータを制御して該移動手段の移動速度および／または移動加速度を制御するものであることを特徴とする請求項１乃至９いずれか１項に記載の塗布装置。」（【請求項１０】）
　
　（６ｂ）「【００２８】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態について図面を用いて詳細に説明する。図１は、本発明の好ましい一実施形態に係る塗布装置を概略的に示す図である。図１に示す塗布装置は、ピストン型定量ポンプを用いた液供給装置（液供給系）、塗布ヘッドおよび平行移動可能な基板ステージ（塗布ヘッドと基板ステージは相対移動可能）と、それらを制御する制御装置からなる。液供給系は、塗布液１０５を保持するシリンダ１０２とピストン１０３およびピストン１０３の位置を制御する吐出量制御用サーボモータ１０４で構成（サーボモータ１０４とピストン１０３はボールネジ１１１等で接続）されている。吐出量はシリンダ１０２の断面積とピストン１０３の移動量から計算でき、ピストン１０３の移動加速度、移動速度、移動量をサーボモータ１０４を使って本実施形態における制御手段である制御装置１１０で制御することにより、液供給系から配管されている塗布ヘッド１０１の先端から吐出される塗布液の吐出速度、吐出加速度、吐出量を制御することができる。液体を塗膜される基板１０７は、基板ステージ１０８上に吸着される。基板ステージ１０８自体は、基板ステージ制御用サーボモータ１０９を使って液供給系と共通の制御装置１１０で制御され、塗布液の吐出速度等に応じてその移動速度、加速度を制御することが可能である（図１の矢印は基板ステージ１０８を自在に移動することが可能な旨を示す）。また、シリンダ１０２と塗布ヘッド１０１をつなぐ配管中には、液圧力をモニタできる液圧力センサ１０６が取り付けられていて、その値は制御装置１１０に取り込まれ、基板ステージ１０８の移動に反映させることができる。液圧力センサ１０６の取り付け位置は塗布ヘッド１０１の近傍がよい。」（【００２８】）
　
　（６ｃ）「【００３４】その後、ピストン移動開始から０．１秒で吐出速度が０．１ｃｃ／秒になるように加速させ、０．１ｃｃ／秒の定速吐出を行い、０．１秒で速度０まで減速させた時の液圧力の変化をモニタした。基板ステージの定速度を５０ｍｍ／秒にし、測定した液圧力Ｐの時間変化に合わせてＰ／ＶがＰ（安定時）／５０になるように基板ステージの加速度を設定した。立ち下がり時も同様に設定した。基板には３００ｍｍ□、厚さ１．１ｍｍの青板ガラス（日本板硝子（株）製）を用意し、基板ステージに吸着固定した。塗布ヘッドのスリットは、３０μｍ、横幅は２００ｍｍのものを用いた。」（【００３４】）
　
　キ　引用例７（特開２００３−２２８９２号公報）
　（７ａ）「【請求項１】マトリクス状に配列する画素電極上層に、インクヘッドから発光性を有する有機化合物を含む組成物」（【請求項１】）、
　「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、発光体として有機化合物を用いる発光装置の製造方法に関し、特にインクジェット方式を用いる発光装置の製造方法に関する。」（【０００１】）
　
　（７ｂ）「【００１３】基板上の被形成面に吐出された組成物は、溶媒が揮発し固化することにより有機化合物層が形成される。しかし、表面張力により水玉状に組成物が付着すると均一な厚さの有機化合物層が得られないので、平滑化手段により平滑にする。平滑化手段としては、ノズルから気体を噴出して組成物を平滑にする。或いは、ヘラなどを用い、連速的に形成された組成物の表面をならして平滑化しても良い。」（【００１３】）
　
　（７ｃ）「【００３２】図２はインクジェット方式を用いた印刷装置の構成を示している。インクヘッド２０１から吐出される組成物は、基板上で連続した有機化合物のパターンが形成されるように、吐出する周期と基板の移動速度を調節する。インクヘッド２０１に隣接して、組成物（又は有機化合物）の平滑化手段として気体を噴出するノズル２０２が備えている。このノズルから噴出する気体により、基板上２１５上に吐出された組成物を平滑化するために用いている。また、吐出した組成物の着弾位置の精度を高めるために、インクヘッド２０１と基板２１５との間隔を１ｍｍ以下に近づける。これはインクヘッド２０１が上下に動く移動機構２０４とその制御手段２０３を設け、パターン形成時のみ基板２１５に近づけるようにする構成とする。」（【００３２】）
　
　（７ｄ）「【００５５】その後、加熱処理により水分を蒸発させ、インクジェット印刷装置１２０７により、組成物を塗布し、厚さ０．０５〜０．２μｍの第２有機化合物層としての発光層を形成する。組成物としては、アセトニトリル溶液に溶解させたπ共役系配位子を有する金属キレート錯体を用いる。例えば、９０μｍピッチの画素に対して、粘度１〜２０ｃｐ、約８０μｍ径の組成物を吐出する。この組成物は、インクジェット吐出後、８０〜１２０℃で加熱して溶媒を揮発させ、５０〜１５０ｎｍの発光層１２０８を形成する。この発光層１２０８は、実施の形態で説明した如く、吐出される組成物を重ね合わせ、線状又はストライプ状の層として形成する（図１２（Ｄ））。」（【００５５】）
　
　上記（１ａ）〜（７ｄ）の各記載事項を、以下、「摘記事項１ａ」〜「摘記事項７ｄ」という。
　
（２）本願の優先日前に頒布された刊行物である以下の周知例１〜３には、次の記載がある。
　ア　周知例１（特開平１１−１２２９０４号公報）
　・「【００２６】図１に示すように、当該リニアモータでは、複数個の永久磁石６が長手方向に相隣る磁極の極性が相互に異なるように配置されている。・・・そして、この永久磁石６とヨーク７により、可動子Ｂが図１中の矢印Ｘ方向に移動可能に構成される。
　【００２７】なお、永久磁石６には、日立金属株式会社製のＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系異方性焼結磁石：ＨＳ−３７ＢＨが用いられている。」（【００２６】〜【００２７】）
　
　イ　周知例２（特開２００３−５３２３７号公報）
　・「ペーストを吐出するノズルと、基板の面に垂直方向に該ノズルを移動させる駆動機構と、該ノズルからペーストを吐出するための圧力を加える正圧源と、該ノズルに対向するように該基板を保持し該基板を水平方向に回転もしくは移動させる基板保持機構と、該ノズルと該基板との間隔を所定量に保つために該間隔を測定する距離計と、記録装置に記録されたパターンデータに基づいて該基板上にペーストを塗布する制御を行なう制御装置とを備えたペースト塗布機において・・・」（【請求項２】）
　・「ここでの所定位置とは、図４に示すように、ノズル１３の高さ、即ち、ノズル１３の先端のペースト吐出口と基板７の表面との間のギャップＧ１が所望値（例えば、０．００５ｍｍ）となる位置である。なお、このギャップＧ１は、制御装置１４の外部記憶装置１７に各パターンデータ毎に記憶されている値を用いてもよい。」（【００３１】）
　
　ウ　周知例３（特開平１１−１３５００６号公報）
　・「スリット先端部と基材との間隔を１〜２０００μｍに維持しながらスリット先端部または基材を相対的に水平移動させ塗布することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用無機ペースト層の形成方法。」（【請求項２】）
　・「前記スリット先端部分と基材の間隔が１μｍ未満では塗布された無機ペーストがスリット先端部に再付着し均一な膜厚を形成できず、２０００μｍを超えると基材と無機ペースト層との間に気泡が巻き込まれることがあり好ましくない。」（【００１８】）
　
４　引用例１に記載された発明
（１）引用例１には、「一定の塗布用クリアランスをとって被塗布基板上に塗布ノズルから塗布液を吐出し、これと同時に被塗布基板を一定速度でスライドさせることにより、被塗布基板上に塗膜を形成する・・・塗布ノズルには、塗布液供給機構から連続して塗布液の供給が行われ、塗布ノズルから吐出される塗布液の吐出量が一定に保たれるようになっている」（摘記事項１ａ、【０００６】）との塗布方式を前提とした塗布装置及び塗布方法に関して、以下の事項が記載されている。
　・塗布装置が「基台１」、「被塗布基板８」、「ステージ３」、「塗布ノズル５」、「エアースライドリニアモータ２」を備えていること（摘記事項１ｂ）
　・ステージ３は、エアースライドリニアモータ２を介して基台１上にてスライド（移動）すること（摘記事項１ｂ、【００２０】）
　・ＬＣＤ用のカラーフィルターで用いられるガラス基板に対して、カラーフィルター用着色液を塗布すること（摘記事項１ｃ）
　・塗布液には樹脂のような有機材料を用いることができること（摘記事項１ｃ）
　・エアースライドリニアモータ２の移動速度（塗布速度）が５０ｍｍ／ｓｅｃ、塗布ノズル５からの塗布液供給レートが０．２ｍｌ／ｓｅｃ、塗布ノズル５と被塗布基板８との間の塗布用クリアランスが７５μｍであること（摘記事項１ｄ）
　・被塗布基板８の全面に亘って膜厚１．５μｍの均一の塗膜が形成されること（摘記事項１ｅ、【００４３】）
　
（２）よって、引用例１には、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。
　「基台１と、その基台１上に設けられてカラーフィルター用着色液等の有機材料を塗布する被塗布基板８を固定するステージ３と、そのステージ３に固定された被塗布基板８に向けてカラーフィルター用着色液等の有機材料を吐出する塗布ノズル５と、そのステージ３をスライド移動させるエアースライドリニアモータ２とを備え、
　前記塗布ノズル５は、ステージ３に固定された被塗布基板８との距離が７５μｍで配設され、
　前記ステージ３の移動速度と前記有機材料の吐出量が一定になるように、前記ステージ３の移動速度と前記塗布ノズル５からの吐出量が制御される、有機材料の塗布装置を用いたＬＣＤ用カラーフィルター等の有機素子の製造方法であって、
　前記塗布装置を用い、前記ステージ３の移動速度を５０ｍｍ／ｓｅｃ、前記吐出量を０．２ｍｌ／ｓｅｃで有機材料を塗布し、厚さ１．５μｍの有機層を形成し、前記有機素子を製造する製造方法。」
　
５　対比
（１）本願発明と引用発明とを対比する。
　引用発明の「基台１」、「被塗布基板８」、「ステージ３」、「塗布ノズル５」、「エアースライドリニアモータ２」、「ステージ３の移動速度」は、本願発明の「架台」、「基板」、「基板ステージ部」、「吐出部」、「モーター部」、「スライド移動速度」に相当する。
　引用発明におけるステージ３の移動速度の「５０ｍｍ／ｓｅｃ」及び塗布ノズル５の吐出量の「０．２ｍｌ／ｓｅｃ」は、本願発明における「前記スライド移動速度を５ｍｍ／ｓｅｃ〜２００ｍｍ／ｓｅｃの範囲内且つ前記吐出量を４μＬ／ｓｅｃ〜３００ｍＬ／ｓｅｃの範囲内」に含まれる数値である。
　
（２）よって、両者の発明は、次の点で一致する。
「（Ａ’）架台と、その架台上に設けられて有機材料を塗布する基板を固定する基板ステージ部と、その基板ステージ部に固定された基板に向けて有機材料を吐出する吐出部と、その基板ステージ部をスライド移動させるモーター部とを備え、
　（Ｈ’）前記基板のスライド移動速度と前記有機材料の吐出量が一定になるように、前記スライド移動速度と前記吐出部からの吐出量が制御される、有機材料の塗布装置を用いた有機素子の製造方法であって、
　（Ｉ’）前記塗布装置を用い、前記スライド移動速度を５ｍｍ／ｓｅｃ〜２００ｍｍ／ｓｅｃの範囲内且つ前記吐出量を４μＬ／ｓｅｃ〜３００ｍＬ／ｓｅｃの範囲内として有機材料を塗布し、有機層を形成し、前記有機素子を製造する製造方法。」
　
（３）そして、両者の発明は、次の点で相違する。
　（相違点１）
　本願発明は、モーター部について、「（Ｂ）前記モーター部は、前記架台上に固定されたステータ部と、該ステータ部に沿って往復スライド移動する可動部とからなるリニアサーボモーターであり、（Ｃ）前記ステータ部は、前記可動部をスライド移動させるためのガイドとなる円筒状のスライド部を有し、（Ｄ）前記スライド部は、隣接する磁石の極性が交互に異なると共に一方の端部の磁石が隣接する磁石方向に沿って押圧されて互いに隣接する磁石が密着されて配置される複数の筒状のＮｄ−Ｆｅ−Ｂ磁石を有し、該複数の筒状のＮｄ−Ｆｅ−Ｂ磁石の開口部に非磁性材製のセンター軸が挿入されており、」及び「（Ｆ）前記可動部は、移動磁界を生じさせる複数のコイルを有し、前記ステータ部にスライド可能に支持されてスライド移動し、」であるのに対し、引用発明は、エアースライドリニアモータ２において、そのようなモーター部に関する特定がないこと。
　
　（相違点２）
　本願発明は、基板ステージ部について、「（Ｅ）前記基板ステージ部は、該基板ステージ部のスライド移動をガイドする一対のガイド部を有し、該基板ステージ部がスライド移動する移動方向に沿って延在する両側部近傍には、前記ガイド部を支持する一対のガイド支持部が設けられ、」であるのに対し、引用発明は、ステージ３において、そのようなガイド手段に関する特定がないこと。
　
　（相違点３）
　本願発明は、吐出部について、「（Ｇ）前記吐出部は、移動機構を介して前記基板ステージ部がスライド移動する移動路の上方に、該基板ステージ部に固定された基板との距離が０．１μｍ〜５０μｍで配設され、」であるのに対し、引用発明は、塗布ノズル５と被塗布基板８との距離が７５μｍであること。
　
　（相違点４）
　本願発明は、特定事項（Ｉ）において、「厚さ５０ｎｍ〜２００ｎｍの有機層を膜厚誤差が２％以内、該有機層の凹凸が５ｎｍ以下で形成し、」であるのに対し、引用発明は、塗布された有機層が厚さ１．５μｍであり、膜厚誤差及び凹凸に関する特定がないこと。
　
　（相違点５）
　本願発明は、塗布材料及び製造対象に関して、「有機電子材料を塗布し」、「有機電子素子を製造する」、「有機電子素子の製造方法」であるのに対し、引用発明は、ＬＣＤ用のカラーフィルター用着色液等の有機材料を塗布し、ＬＣＤ用カラーフィルター等の有機素子を製造する製造方法であること。
　
６　相違点についての判断
（１）相違点１（モーター部の構成）について
　ア　引用例２（特開平１０−３１３５６６号公報）には、ステータ部１０と可動部２０を有するリニアモータに関して、次の事項が記載されている（摘記事項２ａ、２ｃ）。
　・当該ステータ部１０は、ブラケット１１、パイプ１２、複数のリング状の永久磁石１３、永久磁石１３に挿入された非磁性材料によるセンター軸１４、締め付け用のナット１５を有していること
　・パイプ１２内には隣接する極性の異なる複数の永久磁石を密着させて配置させていること
　・当該可動部２０は、複数のコイルを２１を有しており、これらコイル２１をパイプ１２が貫通し、可動部２０がパイプ１２の軸方向にスライド可能になっていること
　
　すなわち、引用例２には、リニアモータのモータ部について、「（Ｂ）前記モーター部は、前記架台上に固定されたステータ部と、該ステータ部に沿って往復スライド移動する可動部とからなる」、「（Ｃ）前記ステータ部は、前記可動部をスライド移動させるためのガイドとなる円筒状のスライド部を有し、」、「（Ｄ）前記スライド部は、隣接する磁石の極性が交互に異なると共に一方の端部の磁石が隣接する磁石方向に沿って押圧されて互いに隣接する磁石が密着されて配置される複数の筒状の磁石を有し、該複数の筒状の磁石の開口部に非磁性材製のセンター軸が挿入されており、」という構成が開示されている。
　そして、引用例２記載の当該リニアモータによる効果に関して、可動部の位置決め精度を向上させること（摘記事項２ｄ、【００２３】）が記載され、用途として、印字ヘッド（摘記事項２ｂ、【０００２】）、移動テーブルのような直線移動を要求される部位（摘記事項２ｄ、【００１９】）が例示されている。
　よって、引用発明における塗布装置のリニアモータによる移動手段として、精密な移動制御を可能とするために、引用例２記載の上記のモータ部構成を適用することは、当業者が容易に想到し得たものである。
　
　イ　また、本願発明におけるリニアモーターが具備する、（ａ）特定事項Ｂのサーボ機構、（ｂ）特定事項ＤのＮｄ−Ｆｅ−Ｂ磁石については、いずれもモータの機能向上のため用いられる周知の技術的手段であり、当業者が適宜なし得た設計事項にすぎない。
　例えば、（ａ）のサーボ機構なる制御手段を備えたサーボモータは、引用例５（特開平９−２５３５６３号公報、摘示事項５ｃ）及び引用例６（特開２００２−２３９４４５号公報、摘示事項６ｂ）に記載されている。（ｂ）のＮｄ−Ｆｅ−Ｂ磁石は、強い磁力を有する周知の永久磁石であり、モータ等の駆動部分において広く利用されている。リニアモータに適用したものは、周知例１（特開平１１−１２２９０４号公報）に記載されている（前記３（２）ア参照）。
　
　ウ　以上のことから、引用発明における塗布装置のリニアモータのモータ部につき、相違点１に係る構成とすることは、引用例１及び引用例２に記載された発明、並びに引用例５、引用例６及び周知例１に記載された周知事項に基づいて当業者が容易になし得たものである。
　
（２）相違点２（基板ステージ部の構成）について
　引用例３（特開２００２−３６１８５２号公報）には、土台部２０、移動部３０、載置部４０、インキ塗布部５０を備えたパターン形成装置が記載されている。移動部３０を構成するＹステージ３２には、シャフト式リニアモータ３１ｂのコイル部３１ｄが取り付けられており、Ｘステージ３１に取り付けられたステータ部３１ｃとの間でＹステージ３２をＸ軸レール３１ａに沿って移動可能としたものである（摘記事項３ａ、【００１６】、【００２１】、図２、図３）。Ｙステージ３２の下面には、凹状のガイド部３２ｂが設けられ、Ｘ軸レール３１ａに嵌合された案内機構が記載されている（摘記事項３ｂ、【００２０】、図２）。 
　引用例４（特開２００２−３０５８９５号公報）には、リニアモータによる移動手段（摘記事項４ａ）が記載されており、軌道レール構造体３０のリニアガイド２３に沿って移動体３１を移動させる機構（摘記事項４ｂ、【００１９】、図２、図３）が記載されている。
　移動手段として可動部を移動路に沿って移動させることは、一般的な機構であり、リニアモータを用いた移動手段についても、ガイド部とガイド支持部に相当する構成が上記のとおり引用例３、４に開示されているから、引用発明の塗布装置において、基板ステージ部の案内手段に関して、相違点２に係るガイド部及びガイド支持部を設けることは、当業者が容易になし得た事項である。
　
（３）相違点３（吐出部と基板との距離）について
　引用発明において、基板移動速度と塗布液吐出量を一定に制御するのは、均一な膜厚とするためであり、このような一定制御は、引用例５（摘記事項５ｂ、５ｄ）及び引用例６（摘記事項６ａ、６ｂ）にも記載されるように周知技術である。その場合、吐出部と基板との距離について所定の範囲に維持しながら塗布を行うことは、均一な膜厚にする上で通常の手段であって、当該距離の設定は、使用する塗布材料、形成する膜厚などによって適宜選択される事項である。
　そして、当該距離の範囲につき、周知例２（特開２００３−５３２３７号公報）に「０．００５ｍｍ」（上記３（２）イ【００３１】参照）、周知例３（特開平１１−１３５００６号公報）に「１〜２０００μｍ」（上記３（２）ウ参照）とする記載がある。
　また、本願明細書には、膜厚１００ｎｍ（０．１μｍ）の有機層を形成する具体例において、当該距離を「０．１μｍ〜５０μｍ」で実施した記載はあるものの、この数値範囲に限定した技術的理由は記載されていない。厚さ０．１μｍの塗膜を形成するために、膜厚を下回らない距離である０．１μｍ以上５０μｍ以下の範囲で塗布を行ったものと理解できるに留まる。
　そうすると、引用発明において、相違点３の「０．１μｍ〜５０μｍ」の距離で塗布することは、当業者が適宜なし得た設計事項である。
　
（４）相違点４（膜厚、膜厚誤差、凹凸の数値限定）について
　ア　引用例７（特開２００３−２２８９２号公報）には、インクジェット方式により、発光性を有する有機化合物を含む組成物を吐出して、基板上に有機化合物層を形成する方法（摘記事項７ａ、【請求項１】、【０００１】）が記載され、塗布された有機化合物層の厚さとして、「０．０５〜０．２μｍ」（摘記事項７ｄ、【００５５】）という「５０ｎｍ〜２００ｎｍ」の数値範囲が例示されている。
　そうすると、引用発明において、有機層の膜厚を「５０ｎｍ〜２００ｎｍ」とすることは、塗布する有機材料や製造する素子の種類に応じて、当業者が適宜に選択できる設計事項である。
　さらに、膜厚誤差及び凹凸についても、引用例１の従来技術に関して、「塗布膜厚として数μｍ±３％程度の範囲が要求される場合」、「被塗布基板の表面の平滑度（凹凸度）が塗布精度以上に低い（凹凸度が大きい）場合に均一な膜厚を得ることが困難である」（摘記事項１ａ）と記載され、引用例７に、吐出されて基板上に形成された組成物の表面を平滑にすること（摘記事項７ｂ、【００１３】、摘記事項７ｃ、【００３２】）が記載されるように、均一な塗膜を形成する上で当然に考慮される事項であって、膜厚誤差及び凹凸が小さいほど好ましいから、これらの点も当業者が適宜に選択する設計事項である。
  　したがって、引用発明において、相違点４に係る構成とすることは、当業者が適宜になし得る事項である。
　
　イ　なお、膜厚、膜厚誤差及び凹凸の数値限定に加えて、本願発明は、（ａ）スライド移動速度「５ｍｍ／ｓｅｃ〜２００ｍｍ／ｓｅｃ」、（ｂ）吐出量「４μＬ／ｓｅｃ〜３００ｍＬ／ｓｅｃ」を特定しているが、上記で述べたように、スライド移動速度及び吐出量の数値範囲に含まれるものは、引用例１に開示されている。
　引用例１以外にも、引用例５に「３ｍ／分（＝５０ｍｍ／秒）」のステージ移動速度、「０．３ｃｃ／秒（＝０．３ｍＬ／秒）」の吐出量（摘記事項５ｅ、【００４２】）、引用例６に「０．１ｃｃ／秒（＝０．１ｍＬ／秒）」の吐出速度、「５０ｍｍ／秒」基板移動速度（摘記事項６ｃ、【００３４】）のように、本願発明の特定事項Ｉの数値範囲に含まれるスライド移動速度及び吐出量が例示されるように、これら数値範囲も格別のものではない。
　
（５）相違点５（有機電子材料の塗布）について
   引用例７には、上記（４）で述べたように、発光性を有する有機化合物を含む組成物を塗布して、発光層を形成する手段が記載されており（摘記事項７ａ）、当該組成物は、有機電子材料に該当し、当該発光層を含む素子は有機電子素子に該当する。
　このように、相違点５に係る有機電子材料の塗布によって有機電子素子を製造することは周知の手段であるから、引用発明における塗布装置を用いて有機電子材料を塗布することは、当業者が適宜なし得た事項である。
　
（６）まとめ
　そして、本願発明による均一な膜厚の有機層を形成するとの作用効果は、引用発明、引用例２〜７に記載された事項及び周知事項からみて、予測を超える格別のものとは認められない。
　以上のことから、本願発明は、引用発明、引用例２〜７に記載された事項及び周知事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
７　むすび
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、引用発明、引用例２〜７に記載された事項及び周知事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、他の請求項について検討するまでもなく、本願は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。