【手続補正書】
【提出日】平成18年5月12日(2006.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス反応を実行するための装置であって、プラズマ室を有する、ガスの通過流を用いるプラズマ反応器を含むとともに、前記プラズマ室内にガス流を形成し、それによって前記ガス流内に少なくとも１つの、流れ低下した区域を形成するために、ガスの流れを形成するための流れ形成要素が、プラズマ反応器の以前および／または内部および／または以後に配置されている前記装置において、前記流れ形成要素が調節可能に配設されていることを特徴とする前記装置。
【請求項２】
ガス流内に配置された流れ形成要素が、コーン、ドロップ、環状間隙、ダイアフラム、グリッド、バッフル体、渦管、サイクロンまたはタービンとして構成されていることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
反応管が、反応器の後に軸上に配設されていることを特徴とする、請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
冷却室が、反応器の入口および／または出口、および／または反応管の壁の中および／または上に配設されていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の装置。
【請求項５】
送り要素が、冷却媒体、液体物質または開始材料の一部を導入するために設けられていることを特徴とする、請求項１から４のいずれかに記載の装置。
【請求項６】
送り要素が、流れ形成要素を形成することを特徴とする、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
触媒が、反応管内に配設されていることを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載の装置。
【請求項８】
成分を変換するために、ガスの流れまたはガス化可能物質の流れを、プラズマ反応器のプラズマ室内のマイクロ波励起プラズマを通過させることによって、ガス反応を実行するための方法であって、請求項１〜７のいずれかに記載の装置内でガス反応が行われ、調節可能な流れ形成要素を用いて、ガス流内に少なくとも１つの流れ低下区域を形成し、そのような区域内に安定なプラズマを生成することを特徴とする、前記方法。
【請求項９】
流れ形成要素を用いて、ガス流の回転を達成することを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
反応管内に一体化された熱交換器によって、熱を回収することを特徴とする、請求項８または９に記載の方法。
【請求項１１】
反応または再結合区域における温度を制御するために、ガスまたはエアロゾルを、ノズルを介して導入することを特徴とする、請求項８〜１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
プラズマを、マイクロ波発生器のパルス制御、および／または共振器中へのマイクロ波のパルス結合により、パルス動作させることを特徴とする、請求項８から１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
プラズマ室が円筒状プラズマ室であることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の装置。
【請求項１４】
区域がガス流の中央に形成されることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の装置。
【請求項１５】
送り要素が、ノズル、スロット、および管からなる群から選択されることを特徴とする、請求項５に記載の装置。
【請求項１６】
触媒が移動可能に配設されていることを特徴とする、請求項７に記載の装置。
【請求項１７】
触媒が移動可能なバスケットに入れるか、または移動可能な底部に置かれることを特徴とする、請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
触媒が不均一触媒、またはモノリスにした触媒であることを特徴とする、請求項７に記載の装置。
【請求項１９】
プラズマを１Ｈｚ〜５０ｋＨｚのパルス周波数でパルス動作させることを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
これに関係して、プラズマをパルス方式で、例えばパルス周波数１Ｈｚから５０ｋＨｚで動作させることもできる。パルスは、マイクロ波発生器のパルス制御によって生成するか、またはプラズマ反応器、特に共振器へのパルス結合によって生成することができる。この方法では、物質の変換率が改善され、エネルギー入力が増大する。
マイクロ波によるプラズマの生成は、非熱プラズマすなわち電子励起に関して高エネルギー部分を有するが、熱的加熱が少ないプラズマを生成することができる利点がある。この結果として、その他のプラズマ生成、例えばアークによるものと比較して高いエネルギー効率が得られる。必要とするエネルギーは、熱プラズマの生成におけるエネルギーの、約１０分の１から１００分の１である。
成分を変換するために、ガスの流れまたはガス化可能物質の流れを、プラズマ反応器のプラズマ室内のマイクロ波励起プラズマ、特に非平衡プラズマを通過させることによって、ガス反応を実行し、装置内でガス反応が行われ、調節可能な流れ形成要素を用いて、ガス流内に少なくとも１つの流れ低下区域を形成し、そのような区域内に安定なプラズマを生成することもできる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
廃棄ガスの清浄化を行うと、酸化によって、一酸化炭素、ダイオキシン、フラン類、フッ素塩素化炭化水素（fluorochlorinated hydrocarbons）、フッ化炭化水素、クロロ炭化水素、およびその他の炭素化合物などの不要で、有害または有毒の成分からの、多種多様な廃棄ガスの完全清浄化が行われる。本発明の装置は、ガス送り装置を通して、例えば、空気または酸素、あるいはアンモニア、水素または廃棄ガスとそれらの混合物などの還元性ガスの供給を可能とする。適当な温度を選択し、適当な添加物および効果的な触媒を選ぶことによって、変換の困難な、またはその変換が不完全になることの多い廃棄ガスの清浄化も可能となる。
反応管内に一体化された熱交換器によって、特に放射エネルギーを利用するための黒体交換表面を使用することによって、熱を回収することもできる。
特に反応または再結合区域における温度を制御するために、および送り装置（３）を用いてプラズマ以後のより効率的な活性化を達成するために、ガスまたはエアロゾル、特に水素を、ノズルを介して導入することもできる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
図２は、プラズマ室２、プラズマを送るリング形プラズマ共振器１４、および水晶製の受容器１５を備えるガス処理用装置の断面を示す。ガス入口１から入ってくるガスは、流れ形成要素１６によって誘導されて、乱流室のようにして、列をなして軸に接する方向に配置されたドリル穴２２を通過して、回転させられ（矢印で示す）、高速でプラズマ室２を通過して、有孔オリフィス板１７の方向に、２次反応のための反応管５中へと流れる。追加のガスまたは反応成分は、接続枝路１８を介して、反応管５を取り囲むジャケット空間中に誘導され、環状間隙１９を通過してガス出口１２の方向に、反応管５中へ誘導される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
図４は、図３と同様に装置の断面をしているが、この装置は、ガス入口１に移動可能環状間隙２１を備えるとともに、反応管につながる有孔オリフィス板１７を備えている。反応管およびプラズマ室は、連続した壁１５を有する。懸濁液および細粒の粒状体を、ガスと一緒に、プラズマ反応器２および反応管を通過して誘導し、出口で排出することができる。
図５は、可能な反応の例を示す。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2006501980.tif 000001
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2006501980.tif 000002