【手続補正書】
【提出日】平成17年10月21日(2005.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  一般式（Ｉ）を有する2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール：
2001521936.tif 000001
[式中、
Ｘは、水素原子；塩素及び臭素から選択されたハロゲン原子；線状又は分枝状Ｃ1-18アルキル基；線状又は分枝状Ｃ1-18アルコキシル基；シアノ基を表し、
Ｒは、塩素及び臭素から選択されたハロゲン原子；線状又は分枝状Ｃ1-18アルキル基；線状又は分枝状Ｃ2-18アルケニル基；線状又は分枝状Ｃ2-18アルキニル基；任意に置換されていてもよいＣ5-18シクロアルキル基；Ｃ7-15アリールアルキル又はアルキルアリール基；任意に置換されていてもよいＣ6-14アリール基；線状又は分枝状Ｃ1-18アルコキシル基；酸素、窒素及び硫黄から選択されたヘテロ原子を少なくとも１種含有し、原子を５又は６個有し、任意に置換されていてもよいヘテロ環基；−Ｃ（Ｏ）Ｈの式を有する基；−ＣＯＲ4基又は−ＮＲ5Ｒ6基（式中、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、同一であっても異なっていてもよく、線状又は分枝状Ｃ1-18アルキル基；線状又は分枝状Ｃ2-18アルケニル基；線状又は分枝状Ｃ2-18アルキニル基；任意に置換されていてもよいＣ5-18シクロアルキル基；Ｃ7-15アリールアルキル又はアルキルアリール基；任意に置換されていてもよいＣ6-14アリール基；酸素、窒素及び硫黄から選択されたヘテロ原子を少なくとも１種含有し、原子を５又は６個有し、任意に置換されていてもよいヘテロ環基を表す）を表し、
又はＲは、一般式（II）、（III）又は（IV）を有するエステル基：
2001521936.tif 000002
2001521936.tif 000003
2001521936.tif 000004
又は一般式（Ｖ）を有するアミド基；
2001521936.tif 000005
（式中、Ｒ’は、線状又は分枝状Ｃ1-18アルキル基；線状又は分枝状Ｃ2-18アルケニル基；線状又は分枝状Ｃ2-18アルキニル基；任意に置換されていてもよいＣ5-18シクロアルキル基；Ｃ7-15アリールアルキル又はアルキルアリール基；任意に置換されていてもよいＣ6-14アリール基；線状又は分枝状Ｃ1-18アルコキシル基；酸素、窒素及び硫黄から選択されたヘテロ原子を少なくとも１種含有し、原子を５又は６個有し、任意に置換されていてもよいヘテロ環基を表す）を表し、  又はＲは、一般式（VI）を有する4,4'-エチリデンビスフェノール基：
2001521936.tif 000006
を表し、
Ｒ1は、水素原子；線状又は分枝状Ｃ1-18アルキル基；線状又は分枝状Ｃ2-18アルケニル基；線状又は分枝状Ｃ2-18アルキニル基；任意に置換されていてもよいＣ5-18シクロアルキル基；Ｃ7-15アリールアルキル又はアルキルアリール基；任意に置換されていてもよいＣ6-14アリール基；酸素、窒素及び硫黄から選択されたヘテロ原子を少なくとも１種含有し、原子を５又は６個有し、任意に置換されていてもよいヘテロ環基；一般式（VII）のアシル基：
2001521936.tif 000007
又は一般式（VIII）のエステル基：
2001521936.tif 000008
（式中Ｒ’は上述した通りである）を表し、
Ｒ2及びＲ3は、同一であっても異なっていてもよく、水素原子；線状又は分枝状Ｃ1-18アルキル基；フェニル基；酸素、窒素及び硫黄から選択されたヘテロ原子を少なくとも１種含有し、原子を５又は６個有し、任意に置換されていてもよいヘテロ環基を表す。]
であって、Ｃ5-18シクロアルキル基、Ｃ6-14アリール基及び５又は６個の原子を有するヘテロ環基が、塩素及び臭素から選択されたハロゲン原子、線状又は分枝状Ｃ1-18アルキル基、線状又は分枝状Ｃ2-18アルケニル基、線状又は分枝状Ｃ2-18アルキニル基、ＯＨ基、ＮＨ基又はＳＨ基により置換されている該2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール。
【請求項２】  請求項１の一般式（Ｉ）を有する2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾールであって、Ｃ1-18アルキル基が、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、sec−ブチル、ｔ−ブチル、ｔ−アミル、２−エチルヘキシル、ｎ−オクチル、1,1,3,3-テトラメチルブチル、ｎ−ドデシル、1,1,7,7-テトラメチルオクチル又はｎ−オクタデシルである該2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール。
【請求項３】  請求項１の一般式（Ｉ）を有する2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾールであって、Ｃ2-18アルケニル基が、ビニル、プロピレン、ブチレン、ペンチレン又はヘキシレンである該2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール。
【請求項４】  請求項１の一般式（Ｉ）を有する2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾールであって、Ｃ2-18アルキニル基が、アセチレン、プロピン、ブチン又は２−ブチンである該2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール。
【請求項５】  請求項１の一般式（Ｉ）を有する2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾールであって、任意に置換されていてもよいＣ5-18シクロアルキル基が、シクロヘキシル、シクロペンチル又はメチルシクロヘキシルである該2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール。
【請求項６】  請求項１の一般式（Ｉ）を有する2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾールであって、Ｃ7-15アリールアルキル又はアルキルアリール基が、ベンジル、２−フェニルエチル又は4-t-ブチルベンジルである該2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール。
【請求項７】  請求項１の一般式（Ｉ）を有する2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾールであって、任意に置換されていてもよいＣ6-14アリール基が、フェニル、ナフチル、アントラセニル又は２−ヒドロキシフェニルである該2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール。
【請求項８】  請求項１の一般式（Ｉ）を有する2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾールであって、Ｃ1-18アルコキシル基が、メトキシル、エトキシル、プロポキシル又はｎ−ブトキシルである該2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール。
【請求項９】  請求項１の一般式（Ｉ）を有する2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾールであって、原子を５又は６個有し、任意に置換されていてもよいヘテロ環基が、ピペリジン、モルホリン、ピペラジン、トリアゾール、テトラメチルピペリジン、ペンタメチルピペリジン、テトラメチルモルホリン、ペンタメチルモルホリン又は４−ヒドロキシ−テトラメチルピペリジンである該2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール。
【請求項１０】  以下の式を有する請求項１記載の2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール。
2001521936.tif 000009
【請求項１１】  以下の式を有する請求項１記載の2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール。
2001521936.tif 000010
【請求項１２】  請求項１〜１１のいずれか１項記載の一般式（Ｉ）を有する2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾールの製造方法であって、以下の工程を含む該方法：
（ａ）一般式（IX）を有する2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール：
2001521936.tif 000011
（式中、Ｘ及びＲは、上述した通りである）を、一般式（Ｘ）を有する第二アミン：
2001521936.tif 000012
（式中、Ｒ7及びＲ8は、同一であっても異なっていてもよいが、好ましくは同一であり、３又はそれより多くの炭素原子を有する線状アルキル基を表す）と、ホルムアルデヒド又はパラ−ホルムアルデヒド及び不活性有機溶媒の存在下で、９５〜１００℃の温度で、４０〜６０時間反応させて、一般式（XI）を有するマンニッヒ塩基を得る工程：
2001521936.tif 000013
（式中、Ｒ、Ｒ7及びＲ8は、上述した通りである）；及び
（ｂ）工程（ａ）で得られた一般式（XI）を有するマンニッヒ塩基を、一般式（XII）を有する2,4-イミダゾリジンジオン：
2001521936.tif 000014
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、上述した通りである）と、アルカリ触媒及び沸点１６０℃の不活性有機溶媒の存在下で、２０〜２００℃の温度で２０〜３０時間反応させて、室温への冷却、ろ過による触媒の除去及び蒸発による溶媒の除去の後に所望の化合物が、アルコール、モノアルキルエーテル、線状又は環状脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素及び塩素化芳香族溶媒から選択された不活性有機溶媒の存在下での結晶化により単離される溶液を得る工程。
【請求項１３】  工程（ａ）をパラ−ホルムアルデヒド及びｎ−ブタノールの存在下で行う請求項１２記載の方法。
【請求項１４】  工程（ｂ）で使用する触媒が、ナトリウムメトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又は水酸化リチウムである請求項１２記載の方法。
【請求項１５】  工程（ｂ）で使用する１６０℃の沸点を有する不活性有機溶媒が、1,2,4-トリメチルベンゼン又は4-イソプロピルベンゼンである請求項１２記載の方法。
【請求項１６】  工程（ｂ）を４０〜1７０℃の温度で行う請求項１２記載の方法。
【請求項１７】  工程（ｂ）で使用する結晶化溶媒が、メタノール、２−メトキシエタノール、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、トルエン又はクロロベンゼンである請求項１２記載の方法。
【請求項１８】  有機ポリマー、及び有効量の、請求項１〜１１のいずれか１項記載の一般式（Ｉ）を有する2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール１種又はそれ以上を含むポリマー組成物。
【請求項１９】  一般式（Ｉ）を有する2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾールを他の安定化剤と組み合せた請求項１８記載のポリマー組成物。
【請求項２０】  有機ポリマーがポリカーボネートから選択されたものである請求項１８又は１９記載のポリマー組成物。
【請求項２１】  請求項１〜１１のいずれか１項記載の一般式（Ｉ）を有する2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾールの、有機ポリマー用光安定化剤としての使用。
【請求項２２】  請求項１８又は１９記載のポリマー組成物の、多層システムの製造のための使用であって、１０〜１００μｍの厚さを有する上層が、該組成物を含み、内層が、請求項１〜１１のいずれか１項記載の一般式（Ｉ）を有する化合物を少量含むか含まない該使用。
【請求項２３】  請求項１８又は１９記載のポリマー組成物の、コーティング又はペインティング組成物としての使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
任意に置換されていてもよいＣ5-18シクロアルキル基の例は、シクロヘキシル、シクロペンチル及びメチルシクロヘキシル等である。
Ｃ7-15アリールアルキル又はアルキルアリール基の例は、ベンジル、２−フェニルエチル及び4-t-ブチルベンジル等である。
任意に置換されていてもよいＣ6-14アリール基の例は、フェニル、ナフチル、アントラセニル及び２−ヒドロキシフェニル等である。
Ｃ1-18アルコキシル基の例は、メトキシル、エトキシル、プロポキシル及びｎ−ブトキシル等である。
任意に置換されていてもよい、５又は６個の原子を有するヘテロ環基の例は、ピペリジン、モルホリン、ピペラジン、トリアゾール、テトラメチルピペリジン、ペンタメチルピペリジン、テトラメチルモルホリン、ペンタメチルモルホリン及び４−ヒドロキシ−テトラメチルピペリジン等である。
一般式（Ｉ）を有する化合物の具体例を以下に挙げる。