【手続補正書】
【提出日】平成17年12月2日(2005.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線を生成するアノードを有するＸ線管と、
前記アノードによって生成されるＸ線を収集する光学機器とを備え、
前記アセンブリは、Ｘ線が前記光学機器によって放出される元である前記Ｘ線管および前記光学機器を閉鎖し、さらに、
前記光学機器のＸ線出力強度を制御する制御システムを備え、前記制御システムは、前記Ｘ線ソースアセンブリの少なくとも１つの動作条件の変化にもかかわらず、Ｘ線出力強度を維持することができる
ことを特徴とするＸ線ソースアセンブリ。
【請求項２】
前記制御システムは、前記光学機器のＸ線出力強度を監視するセンサ、および監視Ｘ線出力強度を使用して前記アノードおよび前記光学機器の少なくとも一方の位置を制御する制御装置をさらに含む
ことを特徴とする請求項１に記載のＸ線ソースアセンブリ。
【請求項３】
前記制御システムは、少なくとも１つのアクチュエータを備え、前記少なくとも１つのアクチュエータは、前記光学機器に対する前記アノードの位置の調節および前記光学機器からのＸ線出力強度の制御を実施する少なくとも１つの温度アクチュエータまたはメカニカルアクチユエータを備えた
ことを特徴とする請求項２に記載のＸ線ソースアセンブリ。
【請求項４】
前記光学機器は、ポリキャピラリ光学機器、または集束結晶の形態の集束光学機器および視準光学機器の一方を備えた
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のＸ線ソースアセンブリ。
【請求項５】
前記少なくとも１つの動作条件は、アノードの電力レベル、前記Ｘ線ソースアセンブリの周囲温度、および／または前記線ソースアセンブリのハウジングの温度を備えた
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のＸ線ソースアセンブリ。
【請求項６】
前記制御システムは、前記光学機器のＸ線出力強度を制御する自動制御システムを備え、前記制御システムは、フィードバックまたは予測に基づく
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のＸ線ソースアセンブリ。
【請求項７】
前記制御システムは、
アノードの電力レベルを得る手段と、
アノードの温度、前記アノードを囲むハウジングの温度、および前記Ｘ線ソースアセンブリの周囲温度の少なくとも１つを得る手段と、
前記得られたアノードの電力レベルについて基準温度を決定する手段と、
前記基準温度、および前記アノードの温度および前記ハウジングの温度の少なくとも一方を使用して、前記光学機器に対するアノードソーススポットの位置を制御する手段とをさらに含む
ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載のＸ線ソースアセンブリ。
【請求項８】
前記Ｘ線管を少なくとも部分的に閉鎖するハウジングと、
前記ハウジングにおいて前記Ｘ線管を取り付ける調節可能取付け手段とをさらに備え、
前記調節可能取付け手段により、前記Ｘ線管からのＸ線の透過を最適にするように、前記ハウジングにおいて前記Ｘ線管の位置を調整することが可能になる
ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載のＸ線ソースアセンブリ。
【請求項９】
前記調節可能取付け手段は、複数のねじ込み固定具を備えた
ことを特徴とする請求項８に記載のＸ線ソースアセンブリ。
【請求項１０】
前記Ｘ線管を前記ハウジングに対して位置合わせする基準点をさらに備えた
ことを特徴とする請求項８に記載のＸ線ソースアセンブリ。
【請求項１１】
Ｘ線を使用して試料を分析する装置と組み合わされた請求項１乃至１０のいずれかに記載のＸ線ソースアセンブリであって、前記装置は、
前記流体の少なくとも１つの成分にＸ線蛍光を発生させるために、前記試料をＸ線に曝露させる手段と、
前記流体の少なくとも１つの特性を決定するために、前記試料からの前記Ｘ線蛍光を分析する手段とを備えた
ことを特徴とするＸ線ソースアセンブリ。
【請求項１２】
前記Ｘ線管によって生成される熱を除去するために、前記Ｘ線管に熱的に結合された熱伝導性誘電材料
をさらに備えたことを特徴とする請求項１乃至１１のいずれかに記載のＸ線ソースアセンブリ。
【請求項１３】
電子が上に当たるソーススポットを有するアノードを含むＸ線管と、
Ｘ線ソースアセンブリの出力構造と、
アセンブリの前記出力構造に対する前記アノードソーススポットの位置を制御する制御すステムとを備え、
前記制御システムは、前記Ｘ線ソースアセンブリの少なくとも１つの動作条件の変化にもかかわらず、前記出力構造に対する前記アノードソーススポットの位置を維持することができる
ことを特徴とするＸ線ソースアセンブリ。
【請求項１４】
前記制御システムは、前記アノードの加熱および冷却の少なくとも一方を実施し、それにより、前記出力構造に対する前記アノードソーススポットの位置の調節を実施する温度アクチュエータ、および前記アノードソーススポットおよび前記出力構造の少なくとも一方の位置を調節する少なくとも１つのメカニカルアクチユエータを含む
ことを特徴とする請求項１３に記載のＸ線ソースアセンブリ。
【請求項１５】
前記制御システムは、前記出力構造に対する前記アノードソーススポットの位置に関するフィードバックを提供する少なくとも１つのセンサをさらに含み、前記少なくとも１つのセンサは、アノードの電力レベルを監視し、アノードの温度を直接または間接に監視し、前記Ｘ線ソースアセンブリの周囲温度を測定し、および／または前記ハウジングの温度を測定する少なくとも１つのセンサを備える
ことを特徴とする請求項１３に記載のＸ線ソースアセンブリ。
【請求項１６】
前記出力構造は、前記アノードによって生成されるＸ線を視準する光学機器を備えた
ことを特徴とする請求項１３に記載のＸ線ソースアセンブリ。
【請求項１７】
前記光学機器は、ポリキャピラリ光学機器、または集束結晶の形態の集束光学機器および視準光学機器の少なくとも一方を備えた
ことを特徴とする請求項１６に記載のＸ線ソースアセンブリ。
【請求項１８】
前記少なくとも１つの動作条件は、アノードの電力レベル、前記Ｘ線ソースアセンブリの周囲温度、および／または前記Ｘ線ソースアセンブリのハウジングの温度を備えた
ことを特徴とする請求項１３から１７のいずれかに記載のＸ線ソースアセンブリ。
【請求項１９】
前記制御システムは、
アノードの電力レベルを得る手段と、
アノードの温度、前記アノードを囲むハウジングの温度、および前記Ｘ線ソースアセンブリの周囲温度の少なくとも１つを得る手段と、
前記得られたアノードの電力レベルについて基準温度を決定する手段と、
前記基準温度ならびに前記アノードの温度および前記ハウジングの温度の少なくとも一方を使用して、前記出力構造に対するアノードソーススポットの位置を制御する手段とをさらに含む
ことを特徴とする請求項１３から１８のいずれかに記載のＸ線ソースアセンブリ。
【請求項２０】
前記アノードを含むＸ線管を少なくとも部分的に閉鎖するハウジングと、
前記Ｘ線管を前記ハウジングに取り付ける調節可能取付け手段とをさらに備え、
前記調節可能手段により、前記Ｘ線管からのＸ線の透過を最適にするために、前記ハウジングにおいて前記Ｘ線管の位置を調節することが可能になる
ことを特徴とする請求項１３から１９のいずれかに記載のＸ線ソースアセンブリ。
【請求項２１】
前記Ｘ線管を前記ハウジングに対して位置合わせするデータ点をさらに備えた
ことを特徴とする請求項２０に記載のＸ線ソースアセンブリ。
【請求項２２】
Ｘ線を提供する方法であって、
電子が上に当たるソーススポットを備えるアノードを含むＸ線管を有するＸ線ソースアセンブリを提供するステップであって、該Ｘ線ソースアセンブリはまた出力構造を含むステップと、
アセンブリの前記出力構造に対する前記アノードソーススポットの位置を制御するステップとを備え、
前記制御するステップは、前記Ｘ線ソースアセンブリの少なくとも１つの動作条件の変化にもかかわらず、前記出力構造に対する前記アノードソーススポットの位置を維持することを含む
ことを特徴とする方法。
【請求項２３】
前記制御するステップは、前記Ｘ線ソースアセンブリの少なくとも１つの動作条件の変化にもかかわらず、前記出力構造に対する前記アノードソーススポットの位置を維持するために、前記アノードソーススポットおよび前記出力構造の少なくとも一方の位置を自動的に制御することを含む
ことを特徴とする請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記出力構造は、前記アノードによって生成されるＸ線を収集する光学機器を備えた
ことを特徴とする請求項２２に記載の方法。
【請求項２５】
前記光学機器は、ポリキャピラリ光学機器、または集束結晶の形態の集束光学機器および視準光学機器の少なくとも１つを備えた
ことを特徴とする請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
前記少なくとも１つの動作条件は、アノードの電力レベル、前記Ｘ線ソースアセンブリの周囲温度、または前記Ｘ線ソースアセンブリのハウジングの温度を含む
ことを特徴とする請求項２２に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
図４、５、および６は、本発明の他の態様による、Ｘ線ソースおよびＸ線集束装置アセンブリ８０ならびにＸ線ソースアセンブリ８２を示す。Ｘ線ソースおよびＸ線集束装置アセンブリ８０は、Ｘ線ソースアセンブリ８２およびＸ線集束装置８４を備える。図４に示したＸ線集束装置８４は、上記で参照した米国特許において開示されているポリキャピラリＸ線光学機器であるが、装置８４は、上記で解説したＸ線集束結晶およびキャピラリ型光学機器など、あらゆるタイプのＸ線集束装置とすることが可能である。本発明の一態様では、Ｘ線ソースアセンブリ８２は、図３において記述し、かつ示した熱伝導性誘電材料７０を有する少なくとも１つのＸ線管６４を備える。Ｘ線ソースアセンブリ８２は、図４では矩形円筒として示されているが、アセンブリ８２は、円計円筒または球を含めて、あらゆる好都合な幾何学的形状を取ることが可能である。アセンブリ８２は、電気接続８６、８７を介して電力を受け取る。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
図５は、図４に示したＸ線ソースおよびＸ線集束装置の破断図を示す。図５に示したように、アセンブリ８０は、Ｘ線ソースアセンブリ８２およびＸ線集束装置８４を含む。Ｘ線ソースアセンブリ８２は、ハウジング８８、Ｘ線管６４（図３に示す）、およびＸ線バフルアセンブリ９０を含む。本発明のこの態様によれば、ハウジング８８は、円筒または矩形の円筒の形状など、円筒の形状であり、たとえば鉛、鉛張り材料、タングステン、劣化ウラン、またはその組合せである、Ｘ線遮蔽材料から製作される。ハウジング８８は、Ｘ線管３４’によって生成されるＸ線を放出する少なくとも１つの送り孔（図示せず）、およびＸ線光学機器８４を取り付ける手段を含む。図５に示した本発明の態様では、取付け手段８９は、ハウジングの貫通口の回りに位置するボルト締めフランジ接続を備え、Ｘ線管３４’によって生成されるＸ線が、その接続を通って光学機器８４に移動する。