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【手続補正書】
【提出日】平成18年6月1日(2006.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
融点および／またはガラス転移点が約２５０℃以上である熱可塑性ポリマーまたは軟化点が約２５０℃以上である熱硬化性ポリマーと加熱有効量のマイクロ波サセプタとの混合物を含む組成物を含み、前記組成物が、前記組成物の平面貫通方向に測定した時に約０．７０Ｗ／ｍ°Ｋ以上の熱伝導率を有することを特徴とする耐熱食器。
【請求項２】
融点および／またはガラス転移点が約２５０℃以上である熱可塑性ポリマーまたは軟化点が約２５０℃以上である熱硬化性ポリマーと加熱有効量のマイクロ波サセプタとの混合物を含む組成物を含み、前記組成物の少なくとも一部がインサートの形態であることを特徴とする耐熱食器。
【請求項３】
融点および／またはガラス転移点が約２５０℃以上である熱可塑性ポリマーまたは軟化点が約２５０℃以上である熱硬化性ポリマーと加熱有効量のマイクロ波サセプタとの混合物を含む組成物であって、前記組成物の平面貫通方向に測定した時に約０．７０Ｗ／ｍ°Ｋ以上の熱伝導率を有する組成物と、調理される品目を接触させる工程と、
前記組成物と接触している食品をマイクロ波放射線に暴露する工程と
を含むことを特徴とする電子レンジでの調理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
（実施例７）
市販の薄い外皮の冷凍ピザを食品マーケットで買い、スライスに切り分けた。ピザを実施例６のディスクの上に置き、ターンテーブルを備えた、１．５４ｋｗの電力定格（入力）を有するパナソニックモデルＮＮ−６４７０Ａ電子レンジ内に配置した。オーブンを（出力全開で）１．５〜２５分間、電源投入し、ピザを調理してピザの下部（外皮）の褐変をもたらした。しかしながら、平滑な表面を有するディスクを用いるとき、下部外皮は概して、褐変が低減される傾向があった。水蒸気逃がし路を有するディスクを用いる（例えば孔を開けるか、あるいは「Ｖ」溝を機械加工した）とき、ピザの下部外皮表面は概してより多く褐変された。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
１．  融点および／またはガラス転移点が約２５０℃以上である熱可塑性ポリマーまたは軟化点が約２５０℃以上である熱硬化性ポリマーと加熱有効量のマイクロ波サセプタとの混合物を含む組成物を含み、前記組成物が、前記組成物の平面貫通方向に測定した時に約０．７０Ｗ／ｍ°Ｋ以上の熱伝導率を有することを特徴とする耐熱食器。
２．  前記耐熱食器中の前記組成物の少なくとも一部が約１００μｍ以上の厚さを有することを特徴とする１．に記載の耐熱食器。
３．  前記組成物を含む上蓋をも含むことを特徴とする１．に記載の耐熱食器。
４．  上蓋および底部を含むことを特徴とする１．に記載の耐熱食器。
５．  前記熱可塑性ポリマーが用いられていることを特徴とする１．に記載の耐熱食器。
６．前記熱可塑性ポリマーが液晶ポリマーであることを特徴とする６．に記載の耐熱食器。
７．  前記熱伝導率が約２．０Ｗ／ｍ°Ｋ以上であることを特徴とする１．に記載の耐熱食器。
８．  水蒸気逃がし路をさらに含むことを特徴とする１．に記載の耐熱食器。
９．  約２０Ｗ／ｍ°Ｋ以上の熱伝導率を有する充填剤をさらに含むことを特徴とする１．に記載の耐熱食器。
１０．  前記サセプタが黒鉛を含むことを特徴とする１．に記載の耐熱食器。
１１．  融点および／またはガラス転移点が約２５０℃以上である熱可塑性ポリマーまたは軟化点が約２５０℃以上である熱硬化性ポリマーと加熱有効量のマイクロ波サセプタとの混合物を含む組成物を含み、前記組成物の少なくとも一部がインサートの形態であることを特徴とする耐熱食器。
１２．  前記耐熱食器中の前記組成物の少なくとも一部が約１００μｍ以上の厚さを有することを特徴とする１１．に記載の耐熱食器。
１３．  前記組成物を含む上蓋をも含むことを特徴とする１１．に記載の耐熱食器。
１４．  上蓋であることを特徴とする１１．に記載の耐熱食器。
１５．  前記熱可塑性ポリマーが存在し、かつ液晶ポリマーであることを特徴とする１１．に記載の耐熱食器。
１６．  前記インサートが水蒸気逃がし路をさらに含むことを特徴とする１１．に記載の耐熱食器。
１７．  前記マイクロ波サセプタが黒鉛を含むことを特徴とする１１．に記載の耐熱食器。
１８．  融点および／またはガラス転移点が約２５０℃以上である熱可塑性ポリマーまたは軟化点が約２５０℃以上である熱硬化性ポリマーと加熱有効量のマイクロ波サセプタとの混合物を含む組成物であって、前記組成物の平面貫通方向に測定した時に約０．７０Ｗ／ｍ°Ｋ以上の熱伝導率を有する組成物と、調理される品目を接触させる工程と、
前記組成物と接触している食品をマイクロ波放射線に暴露する工程と
を含むことを特徴とする電子レンジでの調理方法。
１９．  前記耐熱食器中の前記組成物の少なくとも一部が約１００μｍ以上の厚さを有することを特徴とする１８．に記載の方法。
２０．  前記熱可塑性ポリマーが用いられていることを特徴とする１８．に記載の方法。
２１．  前記熱可塑性ポリマーが液晶ポリマーであることを特徴とする２０．に記載の方法。
２２．  前記熱伝導率が約２．０Ｗ／ｍ°Ｋ以上であることを特徴とする１８．に記載の方法。
２３．  前記組成物が水蒸気逃がし路をさらに含むことを特徴とする１８．に記載の方法。
２４．  前記マイクロ波サセプタが黒鉛を含むことを特徴とする１８．に記載の方法。
２５．  前記組成物を含む調理用具が再利用されることを特徴とする１８．に記載の方法。
２６．  方法を実施する間、ピザが調理および／または加熱されることを特徴とする１８．に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月2日(2006.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１．０ワット／ｍ°Ｋ以上の平面貫通方向の熱伝導率を有する熱可塑性ポリマー組成物を含むことを特徴とする耐熱食器品目。
【請求項２】
前記熱可塑性ポリマー組成物中の熱可塑性樹脂が、約２５０℃以上の融点およびガラス転移温度の一方または両方を有することを特徴とする請求項１に記載の耐熱食器品目。
【請求項３】
前記熱可塑性樹脂が液晶ポリマーであることを特徴とする請求項２に記載の耐熱食器品目。
【請求項４】
前記熱可塑性ポリマー組成物が、約５０ワット／ｍ°Ｋ以上の熱伝導率を有する充填剤を含むことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の耐熱食器品目。
【請求項５】
前記熱可塑性ポリマー組成物が、黒鉛、ＭｇＯ、ＢｅＯ、アルミナ、酸化亜鉛、ＭｇＯ．３．５Ａｌ２Ｏ３、ＣａＦ２、またはＳｉＣを含むことを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の耐熱食器品目。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
【表１】
2005533630.tif 000001
本明細書に記載の発明を以下に列記する。
１．  １．０ワット／ｍ°Ｋ以上の平面貫通方向の熱伝導率を有する熱可塑性ポリマー組成物を含むことを特徴とする耐熱食器品目。
２．  前記熱伝導率が約２ワット／ｍ°Ｋ以上であることを特徴とする前記１．に記載の耐熱食器品目。
３．  前記熱可塑性ポリマー組成物中の熱可塑性樹脂が、約２５０℃以上の融点およびガラス転移温度の一方または両方を有することを特徴とする前記１．あるいは２．に記載の耐熱食器品目。
４．  前記熱可塑性樹脂が液晶ポリマーであることを特徴とする前記３．に記載の耐熱食器品目。
５．  前記熱可塑性ポリマー組成物が、約５０ワット／ｍ°Ｋ以上の熱伝導率を有する充填剤を含むことを特徴とする前記１．から４．のいずれか一項に記載の耐熱食器品目。
６．  前記充填剤が黒鉛を含むことを特徴とする前記５．に記載の耐熱食器品目。
７．  前記熱可塑性ポリマー組成物が、黒鉛、ＭｇＯ、ＢｅＯ、アルミナ、酸化亜鉛、ＭｇＯ．３．５Ａｌ２Ｏ３、ＣａＦ２、またはＳｉＣを含むことを特徴とする前記１．から５．のいずれか一に記載の耐熱食器品目。
８．  調理中に食品を保持または支持する容器が、１．０ワット／ｍ°Ｋ以上の平面貫通方向の熱伝導率を有する熱可塑性ポリマー組成物を含むことを特徴とする食品の調理方法。
９．  前記熱伝導率が約２ワット／ｍ°Ｋ以上であることを特徴とする前記８．に記載の方法。
１０．  前記熱可塑性ポリマー組成物中の熱可塑性樹脂が、約２５０℃以上の融点およびガラス転移温度の一方または両方を有することを特徴とする前記８．あるいは９．に記載の方法。
１１．  前記熱可塑性樹脂が液晶ポリマーであることを特徴とする前記１０．に記載の方法。
１２．  前記熱可塑性ポリマー組成物が、約５０ワット／ｍ°Ｋ以上の熱伝導率を有する充填剤を含むことを特徴とする前記８．から１１．のいずれか一項に記載の方法。
１３．  前記充填剤が黒鉛を含むことを特徴とする前記１２．に記載の方法。
１４．  前記熱可塑性ポリマー組成物が、黒鉛、ＭｇＯ、ＢｅＯ、アルミナ、酸化亜鉛、ＭｇＯ．３．５Ａｌ２Ｏ３、ＣａＦ２、またはＳｉＣを含むことを特徴とする前記８．から１２．のいずれか一に記載の耐熱食器品目。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月13日(2006.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲーム要素によりゲームをプレイする方法であって、
前記ゲーム要素をゲームボードに対して第１の位置に置く段階と、
前記ゲームボードにより、前記ゲーム要素の第１の位置を決定する段階と、
前記ゲームボードにより、ゲームコンテンツを表わす第１の情報項目を決定し、前記第１の情報項目は前記位置及びプレイされている第１のゲームに依存する、段階と、
前記ゲームボードにより、前記第１の情報項目を前記ゲーム要素へ転送する段階と、
前記ゲーム要素上に前記第１の情報項目を受信し、提示する段階とを有する、方法。
【請求項２】
前記ゲーム要素の前記第１の位置を決定する段階は、
前記ゲーム要素上に配置された少なくとも１つの送信器により、前記ゲーム要素を識別する少なくとも１つの信号を送信する段階と、
前記ゲームボード上に配置された少なくとも１つのセンサにより、少なくとも１つの識別信号を受信する段階と、
前記ゲームボードにより、少なくとも１つの識別信号に基づいて前記第１の位置を決定する段階とを有することを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記ゲーム要素を前記第１の位置から動かす段階と、
前記ゲーム要素を前記ゲームボードに対して第２の位置に置く段階とを更に有することを特徴とする、請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
プレイされている第２のゲームを表わす第２の情報項目を受信する段階を更に有することを特徴とする、請求項１乃至３のうちいずれか一項記載の方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のうちいずれか一項記載の方法を実行するコンピュータシステム。
【請求項６】
請求項１乃至４のうちいずれか一項記載の方法をコンピュータ上で実行する、コンピュータ読み取り可能なコンピュータプログラム。
【請求項７】
ゲームをプレイするためのゲーム要素であって、
これをゲームボードに対して第１の位置に置く手段と、
前記ゲーム要素上に配置された少なくとも１つの送信器により、前記ゲーム要素を識別する少なくとも１つの信号を送信する手段と、
ゲームコンテンツを表わす第１の情報項目を受信する手段及び提示する手段とを有し、前記第１の情報項目は、前記第１の位置及びプレイされている第１のゲームに依存し、前記第１の情報はゲームボードから送信される、ゲーム要素。
【請求項８】
ゲームをプレイするためのゲームボードであって、
ゲーム要素の前記第１の位置を決定する手段と、
ゲームコンテンツを表わす第１の情報項目を決定し、前記第１の情報項目は、前記第１の位置及びプレイされている第１のゲームに依存する、手段と、
前記第１の情報項目を前記ゲーム要素へ転送する手段とを有する、ゲームボード。
【請求項９】
前記ゲーム要素の前記第１の位置を決定する手段は、
前記ゲームボード上に配置された少なくとも１つのセンサから、少なくとも１つの識別信号を受信する手段と、
少なくとも１つの識別信号に基づいて前記第１の位置を決定する手段とを有することを特徴とする、請求項８記載のゲームボード。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月7日(2006.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の主面を含む基材と、
前記基材の前記第１の主面から突出している少なくとも１つのマイクロニードルとを含むマイクロニードルデバイスであって、
前記少なくとも１つのマイクロニードルは前記基材の前記第１の主面近傍に基部を含み、前記少なくとも１つのマイクロニードルは前記基部から前記基部から遠位の平坦先端までテーパ加工されていて、前記少なくとも１つのマイクロニードルは円錐テーパ形を有しており、
前記基部と位置合せした平面で測定された前記平坦先端の表面積が、２０平方マイクロメートル以上かつ２５０平方マイクロメートル以下である、マイクロニードルデバイス。
【請求項２】
前記少なくとも１つのマイクロニードルが複数のマイクロニードルを含む、請求項１に記載のマイクロニードルデバイス。
【請求項３】
前記平坦先端の表面積が１００平方マイクロメートル以下である、請求項１又は２に記載のマイクロニードルデバイス。
【請求項４】
前記少なくとも１つのマイクロニードルが前記第１の主面および最大基部寸法を超える高さを有し、前記高さと前記最大基部寸法とのアスペクト比が２：１以上である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のマイクロニードルデバイス。
【請求項５】
前記少なくとも１つのマイクロニードルが１種以上のポリマーから形成される、請求項１〜４のいずれか１項に記載のマイクロニードルデバイス。
【請求項６】
面を備えるピストン及び該面から突出する複数のマイクロニードルを有するマイクロニードルデバイスを、皮膚の送達部位に近接配置することと、
前記面を皮膚に向けて前記ピストンを加速することと、を含むマイクロニードルデバイスの送達方法であって、
前記ピストンが加速されている間の前記ピストンの最低速度は４メートル／秒以上でありかつ最高速度は１０メートル／秒以下である、方法。
【請求項７】
前記マイクロニードルデバイスが請求項１〜５のいずれか１項に記載のマイクロニードルデバイスを含む、請求項６に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
アクチュエータボタンを図１５に示すように内側に押して、ロータ２５２からリーフスプリング２５０が解放されて、リーフスプリング２５０がプランジャ２６０を駆動して、その表面２６２が筐体２４４内の開口部２４２に向く。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月13日(2006.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２組のモジュラー・ユニットによりチーム間で競技を行う方法であって、
モジュラー・ユニットの第１の組をモジュラー・ユニットの第２の組に接続し、各組は少なくとも１つのモジュラー・ユニットを有する、段階と、
前記第１の組のうちのどの第１のモジュラー・ユニットが前記第１の組のうちの１つ又は複数の第２のモジュラー・ユニットに接続されるかを決定する段階と、
前記第２の組のうちのどの第３のモジュラー・ユニットが前記第２の組のうちの１つ又は複数の第４のモジュラー・ユニットに接続されるかを決定する段階と、
一組の情報項目に対して少なくとも１つのモジュラー・ユニットを決定し、各情報項目は前記組のうちの特定のモジュラー・ユニットに個々に関連し、前記一組の情報項目は競技に関連する情報を表わし、前記一組の情報項目は、前記モジュラー・ユニットが互いに対してどのように配置されるか、及び／又は、各モジュラー・ユニットについての性質、及び／又は、どの第１の競技が行われるかに依存する、段階と、
前記一組の情報項目を対応するモジュラー・ユニットに分配する段階と、
前記一組の情報項目をモジュラー・ユニット上に提示する段階とを有する、方法。
【請求項２】
モジュラー・ユニットの性質を表わす第１の情報項目を受信する段階を更に有することを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項３】
第２の競技を表わす第２の情報項目を受信する段階を更に有することを特徴とする、請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
モジュラー・ユニットの第３の組を前記第１の組及び前記第２の組のモジュラー・ユニットから切り離し、前記第３の組は少なくとも１つのモジュラー・ユニットを有する、段階、又は、
モジュラー・ユニットの第４の組を前記第１の組及び前記第２の組のモジュラー・ユニットに接続し、前記第４の組は少なくとも１つのモジュラー・ユニットを有する、段階を更に有することを特徴とする、請求項１乃至３のうちいずれか一項記載の方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のうちいずれか一項記載の方法を実行するコンピュータシステム。
【請求項６】
請求項１乃至４のうちいずれか一項記載の方法をコンピュータ上で実行する、コンピュータ読み取り可能なコンピュータプログラム。
【請求項７】
少なくとも２組のモジュラー・ユニットによりチーム間で競技を行うモジュラー・ユニットであって、
モジュラー・ユニットの第１の組をモジュラー・ユニットの第２の組に接続し、各組は少なくとも１つのモジュラー・ユニットを有する、手段と、
前記第１の組のうちのどの第１のモジュラー・ユニットが前記第１の組のうちの１つ又は複数の第２のモジュラー・ユニットに接続されるかを決定する手段と、
前記第２の組のうちのどの第３のモジュラー・ユニットが前記第２の組のうちの１つ又は複数の第４のモジュラー・ユニットに接続されるかを決定する手段と、
一組の情報項目に対して少なくとも１つのモジュラー・ユニットを決定し、各情報項目は前記組のうちの特定のモジュラー・ユニットに個々に関連し、前記一組の情報項目は競技に関連する情報を表わし、前記一組の情報項目は、前記モジュラー・ユニットが互いに対してどのように配置されるか、及び／又は、各モジュラー・ユニットについての性質、及び／又は、どの第１の競技が行われるかに依存する、手段と、
前記一組の情報項目を対応するモジュラー・ユニットに分配する手段と、
前記一組の情報項目をモジュラー・ユニット上に提示する手段とを有する、モジュラー・ユニット。
【請求項８】
モジュラー・ユニットの性質を表わす第１の情報項目を受信する手段を更に有することを特徴とする、請求項７記載のモジュラー・ユニット。
【請求項９】
第２の競技を表わす第２の情報項目を受信する手段を更に有することを特徴とする、請求項７記載のモジュラー・ユニット。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月17日(2006.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体装置を製造する方法であって、
ナノ流体領域を基板上に形成する工程と、
マイクロ流体領域を前記基板上に形成する工程と、
前記ナノ流体領域と前記マイクロ流体領域間に、勾配インターフェース領域を形成する工程と、
を有する方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法において、前記勾配インターフェース領域を形成する工程と前記マイクロ流体領域を形成する工程とは次の工程により同時に形成されるものであって、この工程は、
フォトレジストを前記基板上にコーティングする工程と、
前記マイクロ流体領域および前記勾配インターフェース領域をパターニングするフォトマスクを、前記フォトレジスト上に提供する工程と、
前記ナノ流体領域上に施された前記フォトマスクの部分を覆って延長するように、前記フォトマスク上にブロックマスクを提供する工程と、
前記フォトマスクを露光する工程と、
を有するものである。
【請求項３】
請求項１記載の方法により形成される流体装置。
【請求項４】
マイクロ流体／ナノ流体装置を形成する方法であって、
ナノ流体領域を基板上に形成する工程と、
フォトレジストを前記基板上にコーティングする工程と、
前記フォトレジストの一部を覆って延長するよう、ブロックマスクを前記フォトレジスト上に提供する工程と、
前記ブロックマスクを露光する工程であって、前記フォトレジストが勾配インターフェース領域を形成する光回折領域に沿って未現像フォトレジストの勾配を有し、前記光回折領域がブロックマスクの縁部により生じる、前記ブロックマスクを露光する工程と
を有するものである。
【請求項５】
請求項４記載の方法により形成される流体装置。
【請求項６】
流体装置を製造するためのシステムであって、
ナノ流体領域を基板上に形成する手段と、
マイクロ流体領域を前記基板上に形成する手段と、
前記ナノ流体領域と前記マイクロ流体領域間に勾配インターフェース領域を形成する手段と、
を有するシステム。
【請求項７】
請求項６記載のシステムにおいて、前記勾配インターフェース領域を形成する手段は、
フォトレジストを前記基板上にコーティングする手段と、
フォトマスクを前記フォトレジスト上にコーティングする手段と、
前記ナノ流体領域の部分を覆って延長するように前記フォトマスク上にブロックマスクを提供する手段と、
前記フォトマスクを露光する手段と、
を有するものである。
【請求項８】
流体チップであって、
表面であって、前記表面の材料内に形成されるナノ流体領域を有する表面と、
前記表面上のマイクロ流体領域と、
前記ナノ流体領域と前記マイクロ流体領域間の勾配インターフェース領域と、
前記マイクロ流体領域と流体連通する、流体を受容できる少なくとも１つの試料リザーバと、
少なくとも１つの前記チャネルと流体連通し、流体を受容できる少なくとも１つの廃棄物リザーバと、
を有する流体チップ。
【請求項９】
少なくとも１つの巨大分子を分析する方法であって、
表面を提供する工程であって、前記表面の材料内に複数のチャネルから形成されるナノ流体領域を有する表面を提供する工程と、
前記表面上にマイクロ流体領域を提供する工程と、
前記ナノ流体領域と前記マイクロ流体領域間に勾配インターフェース領域を提供する工程と、
前記マイクロ流体領域と流体連通し、流体を受容できる少なくとも１つの試料リザーバを提供する工程と、
前記ナノ流体領域と流体連通し、流体を受容できる少なくとも１つの廃棄物リザーバを提供する工程と、
前記少なくとも１つの試料リザーバに少なくとも１つの流体を提供する工程であって、前記流体は少なくとも１つの巨大分子を有する、流体を提供する工程と、
少なくとも１つの巨大分子を引き伸ばすため、前記マイクロ流体領域と前記ナノ流体領域間で前記少なくとも１つの巨大分子を移送する工程と、
前記少なくとも１つの引き伸ばされた巨大分子から伝達された少なくとも１つの信号を検出する工程と、
検出された信号を、少なくとも１つの巨大分子の少なくとも１つの特性と相関させる工程と、
を有する方法。
【請求項１０】
少なくとも１つの流体チップを有するカートリッジであって、このカートリッジは巨大分子分析を実行するシステムに対し挿脱可能であり、この少なくとも１つの流体チップは少なくとも１つのナノチャネルアレイを有し、このナノチャネルアレイは、
表面であって、前記表面の材料内に形成されるナノ流体領域を有する表面と、
前記表面上のマイクロ流体領域と、
前記ナノ流体領域と前記マイクロ流体領域間の勾配インターフェース領域と、
前記マイクロ流体領域と流体連通し、流体を受容できる少なくとも１つの試料リザーバと、
少なくとも１つの前記チャネルと流体連通し、流体を受容できる少なくとも１つの廃棄物リザーバと
を有する少なくとも１つのナノチャネルのアレイを有する、カートリッジ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月10日(2006.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
供給流を少なくとも第１の流れと、第２の流れとに分離することができる膜を含み、
蛍光発生剤を用意する工程；
前記供給流に前記蛍光発生剤を添加する工程；
供給流、第１の流れ、および第２の流れのうち少なくとも１つに、前記蛍光発生剤の蛍光信号を検出する蛍光光度計を用意する工程；
前記蛍光発生剤と、膜分離システム内における少なくとも１つの微生物とを反応させる工程；
反応済み蛍光発生剤を形成する工程；
前記第１の流れおよび前記第２の流れの少なくとも１つ、および任意で供給流において、前記蛍光発生剤および前記反応済み蛍光発生剤の少なくとも１つの蛍光信号を測定するために蛍光光度計を用いる工程；および
測定された前記蛍光発生剤または前記反応済み蛍光発生剤の信号、またはそれら両方の信号の組み合わせの変化に基づいて膜分離システムにおける生物付着を監視する工程を含む膜分離システムにおける生物付着(biofouling)を監視する方法。
【請求項２】
前記膜分離システムが、直交流(cross-flow)膜分離システムおよび閉塞流(dead-end flow)膜分離システム、逆浸透法、ナノ濾過法、限外濾過法、精密濾過法、電気透析法、電気脱イオン化法、浸透気化法、膜抽出法、膜蒸留法、膜ストリッピング法、膜エアレーション法(aeration)、およびそれらの組み合わせからなる群から選択されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記蛍光発生剤が、ピレン３，６，８−トリスルホン酸の酢酸エステル；カルボキシフルオレスセインジアセテート；３−カルボキシウンベリフェリルβ−Ｄ−ガラクトピラノシド；３−カルボキシウンベリフェリルβ−Ｄ−グルクロニド；９Ｈ−（１，３−ジクロロ−９，０−ジメチルアクリジン−２−オン−７−イル）、Ｄ−グルクロニド；９Ｈ−（１，３−ジクロロ−９，９−ジメチルアクリジン−２−オン−７−イル）；レゾルフィンβ−Ｄ−ガラクトピラノシド；フルオレセインジ−β−Ｄ−ガラクトピラノシド；フルオレセインジ−β−Ｄ−グルクロニド；レゾルフィンβ−Ｄ−グルクロニド；フルオレセイン二リン酸塩；レザズリン；レザズリン、ナトリウム塩；４−メチルウンベリフェリルリン酸塩；４−メチルウンベリフェリルβ−Ｄ−グルクロニド；ピラニンリン酸塩；ピレン３，６，８−トリスルホン酸１−リン酸塩；およびそれらの組み合わせからなる群から選択されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記蛍光発生剤が、５ｐｐｂ〜５００ｐｐｍの量で前記供給流に添加されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
生物付着が、前記第１の流れおよび前記第２の流れの少なくとも１つにおける、蛍光発生剤の蛍光信号に対する反応済み蛍光発生剤の蛍光信号の比を調べることにより監視されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
生物付着を監視するために、前記第１の流れおよび前記第２の流れの少なくとも１つにおける、蛍光発生剤の蛍光信号に対する前記反応済み蛍光発生剤の蛍光信号の比の変化速度を調べること、および測定された前記蛍光発生剤または前記反応済み蛍光発生剤の信号、またはそれら両方の信号の組み合わせの変化に基づいて、生物制御処理の最適な量を調べること；および膜分離システムに、生物制御処理の最適な量を適用することをさらに含むことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記生物制御処理が、殺生物剤、生物制御剤、生物制御法、およびそれらの組み合わせからなる群から選択され、前記殺生物剤が、酸化殺生物剤、非酸化殺生物剤、およびそれらの組み合わせからなる群から選択され；前記生物制御剤が、生物分散剤、生物洗浄剤、カオトロピック試薬、界面活性剤、キレート剤、酵素洗浄剤、およびそれらの組み合わせからなる群から選択され、および前記生物制御法が、超音波、電界、および空気逆流洗浄(air backwashes)からなる群から選択されることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記微生物が、浮遊性微生物(planktonic microorganisms)、付着性微生物(sessile microorganisms)、およびそれらの組み合わせからなる群から選択されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
不活性蛍光トレーサーを前記供給流に添加して、前記不活性蛍光トレーサーの信号に対する前記蛍光発生剤または前記反応済み蛍光発生剤の信号の変化に基づいて、膜分離システムにおける生物付着を監視することをさらに含む請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月7日(2006.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属成分元素を含みかつそうでなければ化学的欠陥の形成を生じやすい組成の金属物品（２０）を製造する方法であって、
前記金属成分元素を含む非金属前駆体化合物を準備する段階と、
前記非金属前駆体化合物を化学的に還元して、初期金属粒子（２２）を該初期金属粒子（２２）を融解せずに産生する段階と、
前記初期金属粒子（２２）を融解及び凝固させて、該初期金属粒子（２２）の機械的粉砕なしに金属物品（２０）を製造する段階と、
を含む方法。
【請求項２】
前記非金属前駆体化合物を準備する段階が、チタンを含む前記非金属前駆体化合物を準備する段階を含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記非金属前駆体化合物を準備する段階が、少なくとも２つの異なる非金属前駆体化合物の混合物を準備する段階を含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記化学的に還元する段階が、１２．７ｍｍよりも大きくない粒度を有する前記初期金属粒子（２２）を産生する段階を含む、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記化学的に還元する段階が、０．０２５ｍｍ〜１．７８ｍｍの粒度を有する前記初期金属粒子（２２）を産生する段階を含む、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の方法
【請求項６】
前記融解及び凝固させる段階が、前記初期金属粒子（２２）に対して何らの金属合金化元素も添加せずに該初期金属物品（２２）を融解及び凝固させて、金属物品（２０）を製造する段階を含む、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記融解及び凝固させる段階が、前記初期金属粒子（２２）が融解されている間に該初期金属粒子（２２）に対して金属合金化元素を添加する段階を含む、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記融解及び凝固させる段階が、前記金属物品（２０）を鋳造物品（２０）として凝固させる段階を含む、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
成分としてチタン及び少なくとも１つの合金化金属を含む金属物品（２０）を製造する方法であって、
互いに前記金属元素の成分を含む少なくとも２つの非金属前駆体化合物の混合物を準備する段階と、
前記非金属前駆体化合物の混合物を化学的に還元して、初期金属粒子（２２）を該初期金属粒子（２２）を融解せずに産生する段階と、
前記初期金属粒子（２２）を融解及び凝固させて鋳造インゴットを製造する段階と、
前記鋳造インゴットをビレットに転換処理する段階と、
を含む方法。
【請求項１０】
成分としてチタン及び少なくとも１つの合金化金属を含む金属ガスタービンエンジンディスク物品（２０）を製造する方法であって、
互いに前記金属元素の成分を含む少なくとも２つの非金属前駆体化合物の混合物を準備する段階と、
前記非金属前駆体化合物の混合物を化学的に還元して、１．７８ｍｍよりも大きくない粒度を有する初期金属粒子（２２）を該初期金属粒子（２２）を融解せずに産生する段階と、
前記初期金属粒子（２２）に対して何らの金属合金化元素もさらに添加せずに該初期金属粒子（２２）を融解及び凝固させて鋳造インゴットを製造する段階と、
前記鋳造インゴットをビレットに転換処理する段階と、
前記ビレットからガスタービンエンジンディスクを製作する段階と、
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月21日(2006.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）チタンテトラヒドロカルビルオキシド、（ｂ）ジルコニウムテトラヒドロカルビルオキシド、および（ｃ）水酸化テトラアルキルアンモニウム（ＴＡＡＨ）から調製され、Ｚｒ：Ｔｉのモル比が約０．０２：１〜約５：１であり、ＴＡＡＨ：（Ｔｉ＋Ｚｒ）のモル比が約０．０５：１〜約２：１であることを特徴とする触媒組成物。
【請求項２】
（ａ）有機酸、あるいは有機酸のエステルまたは塩と、（ｂ）アルコールとのエステル化またはエステル交換を行って中間反応生成物を生成する工程と、前記中間反応生成物の重縮合を行ってポリエステルを生成する工程とを含み、請求項１に記載の触媒組成物が、前記エステル化、エステル交換、または重縮合を触媒することを特徴とするポリエステルの生成方法。
【請求項３】
前記ポリエステルがポリ（トリメチレンテレフタレート）であることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１２】
以上の本発明の実施態様の開示は、例示および説明の目的で提供されている。網羅的なものを意図したものではなく、開示される厳密な形態に本発明を限定することを意図するものでもない。本発明の開示を考慮すれば、本明細書に記載される実施態様の多数の変形および修正が、当業者には明らかとなるであろう。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
［１］  （ａ）チタンテトラヒドロカルビルオキシド、（ｂ）ジルコニウムテトラヒドロカルビルオキシド、および（ｃ）水酸化テトラアルキルアンモニウム（ＴＡＡＨ）から調製され、Ｚｒ：Ｔｉのモル比が約０．０２：１〜約５：１であり、ＴＡＡＨ：（Ｔｉ＋Ｚｒ）のモル比が約０．０５：１〜約２：１であることを特徴とする触媒組成物。
［２］  （ａ）チタン酸テトラアルキル、（ｂ）ジルコン酸テトラアルキル、および（ｃ）水酸化テトラアルキルアンモニウム（ＴＡＡＨ）を混合して得られる生成物から実質的になり、Ｚｒ：Ｔｉのモル比が約０．０２：１〜約５：１であり、ＴＡＡＨ：（Ｔｉ＋Ｚｒ）のモル比が約０．０５：１〜約２：１であることを特徴とする［１］に記載の触媒組成物。
［３］  前記チタンテトラヒドロカルビルオキシドがチタン酸テトラアルキルであることを特徴とする［１］または［２］に記載の触媒組成物。
［４］  前記ジルコニウムテトラヒドロカルビルオキシドがジルコン酸テトラアルキルであることを特徴とする［１］から［３］のいずれかに記載の触媒組成物。
［５］  前記水酸化テトラアルキルアンモニウムが、同種でも異種でもよい１〜２０個の炭素原子を含有するアルキル基を有する水酸化テトラアルキルアンモニウム、およびその組み合わせよりなる群から選択されることを特徴とする［１］から［４］のいずれかに記載の触媒組成物。
［６］  前記Ｚｒ：Ｔｉのモル比が０．１：１〜３：１であることを特徴とする［１］から［５］のいずれかに記載の触媒組成物。
［７］  前記Ｚｒ：Ｔｉのモル比が０．１：１〜１：１であることを特徴とする［６］に記載の触媒組成物。
［８］  前記ＴＡＡＨ：（Ｔｉ＋Ｚｒ）のモル比が０．０５：１〜１：１であることを特徴とする［１］から［７］のいずれかに記載の触媒組成物。
［９］  前記ＴＡＡＨ：（Ｔｉ＋Ｚｒ）のモル比が０．１：１〜０．５：１であることを特徴とする［８］に記載の触媒組成物。
［１０］前記チタン酸テトラアルキルが一般式Ｔｉ（ＯＲ）４を有するものから選択され、式中、各Ｒは、１〜３０個の炭素原子を含有するアルキル基、シクロアルキル基、アラルキル炭化水素基、およびその組み合わせよりなる群から独立的に選択されることを特徴とする［３］から［９］のいずれかに記載の触媒組成物。
［１１］  前記ジルコン酸テトラアルキルが、一般式Ｚｒ（ＯＲ１）４を有するジルコン酸テトラアルキルから選択され、式中、各Ｒ１は、同種でも異種でもよく、基１つ当たり１〜約１０個の炭素原子を有するヒドロカルビル基、およびその組み合わせであることを特徴とする［４］から［１０］のいずれかに記載の触媒組成物。
［１２］  前記水酸化テトラアルキルアンモニウムが、１〜１０個の炭素原子を含有するアルキル基を有する水酸化テトラアルキルアンモニウム、およびその組み合わせよりなる群から選択されることを特徴とする［１］から［１１］のいずれかに記載の触媒組成物。
［１３］  前記水酸化テトラアルキルアンモニウムが、水酸化テトラメチル、エチル、プロピル、およびブチルアンモニウム、水酸化コリン、（水酸化トリメチル（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム）、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、ならびにその組み合わせよりなる群から選択されることを特徴とする［１］から［１２］のいずれかに記載の触媒組成物。
［１４］  リンおよびリン化合物を含有しないことを特徴とする［１］から［１３］のいずれかに記載の触媒組成物。
［１５］  ［１］から［１４］のいずれかに記載の触媒組成物とグリコールとを含むことを特徴とする触媒混合物。
［１６］  前記グリコールがＣ２〜Ｃ１２グリコールであることを特徴とする［１５］に記載の触媒混合物。
［１７］  前記グリコールが１，３−プロパンジオールであることを特徴とする［１５］に記載の触媒混合物。
［１８］  （ａ）有機酸、あるいは有機酸のエステルまたは塩と、（ｂ）アルコールとのエステル化またはエステル交換を行って中間反応生成物を生成する工程と、前記中間反応生成物の重縮合を行ってポリエステルを生成する工程とを含み、請求項１から１４のいずれか一項に記載の触媒組成物が、前記エステル化、エステル交換、または重縮合を触媒することを特徴とするポリエステルの生成方法。
［１９］  前記ポリエステルがポリ（トリメチレンテレフタレート）であることを特徴とする［１８］に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月15日(2006.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サーマルボンドされたステープルファイバーと、サーマルボンドされていない帯電したマイクロファイバーとを含有する多孔性成形ウェブを含むフィルタ要素であって、ファイバー交点で少なくとも部分的に前記ステープルファイバー間のボンドにより、前記多孔性成形ウェブが成形構造に保持されているフィルタ要素。
【請求項２】
前記多孔性成形ウェブが、約３０〜７０重量パーセントのサーマルボンド可能なステープルファイバーと、約３０〜７０重量パーセントのサーマルボンド不可能なマイクロファイバーとを含有する、請求項１に記載のフィルタ要素。
【請求項３】
前記多孔性成形ウェブが、重量基準でステープルファイバーよりマイクロファイバーを多く含有する、請求項１に記載のフィルタ要素。
【請求項４】
前記ステープルファイバーの長さが０．３ｍ未満である、請求項１に記載のフィルタ要素。
【請求項５】
サーマルボンド可能なステープルファイバーと帯電したサーマルボンドされていないマイクロファイバーとを含む予備成形繊維状ウェブを提供するステップと、
前記繊維状ウェブを目的の形状へとサーマルボンド可能なステープルファイバーが熱的にボンドされてファイバー交点でボンドを示すように成形するステップと、
を含むフィルタ要素の製造方法。
【請求項６】
前記予備成形ウェブのソリディティが約５〜３０パーセントである、請求項５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月20日(2006.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料を精製する方法であって、
複数のサイズ排除イオン交換粒子を提供する工程であって、粒子の各々はイオン交換のためのコアおよびサイズ排除のためのシェルを備えるものとする工程；
該試料が該粒子と接触し精製試料を形成する工程；および
該精製試料を該粒子から分離する工程
を包含する、
方法。
【請求項２】
前記精製試料は、分子サイズが１０ｎｔ以上のｓｓＤＮＡである物質を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記精製試料は、分子サイズが１００ｎｔ以上のｓｓＤＮＡである物質を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記接触は、向心力を使用して前記試料が前記複数の粒子を通過する工程を含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法であって、
前記複数のサイズ排除イオン交換粒子は、第１の体積を有し、
前記生体試料は、第２の体積を有し、
第１の体積は、第２の体積以下である、
方法。
【請求項６】
前記精製試料は５０μＭ以下の塩濃度を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法であって、
前記複数のサイズ排除イオン交換粒子は、
化学量論的に等価な量のサイズ排除陰イオン交換粒子および
サイズ排除陽イオン交換粒子
を含む、方法。
【請求項８】
生体試料を精製するための方法であって、
複数の粒子を提供する工程であって、該複数の粒子の少なくともいくつかは、イオン交換部分およびサイズ排除部分を備える、工程；
該生体試料と該粒子を接触させて精製試料を形成する工程であって、該精製試料は、（ａ）および（ｂ）つまり、
（ａ）分子サイズが１０ｎｔ以上のｓｓＤＮＡである核酸：および
（ｂ）５０μＭ以下の濃度を有する塩
を含む、工程；ならびに
該核酸を該粒子から分離する工程
を包含する、方法。
【請求項９】
前記粒子から前記精製試料を分離する工程をさらに包含する、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記核酸が、１００ｎｔ以上のｓｓＤＮＡの分子サイズを有している、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記精製試料中の核酸を検出する工程をさらに包含する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記イオン交換部分が、前記いくつかの粒子の内面である、請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
前記サイズ排除部分が、前記いくつかの粒子の外面である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記粒子が、陰イオン交換粒子を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１５】
前記接触させる工程が、
前記粒子を前記生体試料に添加する工程または
前記粒子を含むカラムに前記生体試料を通す工程
を包含する、請求項８に記載の方法。
【請求項１６】
請求項８に記載の方法であって、
前記精製試料中の核酸を分離する工程
をさらに包含する、方法。
【請求項１７】
生体試料を精製する方法であって、
生体試料を提供する工程であって、該生体試料が配列決定反応生成物を提供する工程；
複数の粒子を提供する工程であって、該複数の粒子の少なくともいくつかは、イオン交換特性およびサイズ排除特性を備える、工程；
該生体試料が該粒子と接触し精製試料を形成する工程；
該精製試料を該粒子から分離する工程；および
しみを伴わない、該精製サンプルを配列決定する工程
を包含する、方法。
【請求項１８】
前記精製試料が、分子サイズが１０ｎｔ以上のｓｓＤＮＡである核酸：および
５０μＭ以下の濃度を有する塩を含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記粒子が、陰イオン交換粒子を含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
接触させる工程が、前記粒子を含むカラムに前記生体試料を通す工程を包含する、請求項１７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月22日(2006.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デジタル・メディア・シーケンスをデジタル・メディア・キャリア上に記録することが可能なデジタル・メディア・レコーダを制御する方法であって、
−入力メディア・シーケンスからメディア・サブシーケンスを抽出するステップと、
−前記メディア・サブシーケンスからサブシーケンス・デジタル指紋を計算するステップと、
−前記サブシーケンス指紋を少なくとも１つの第１参照指紋と比較するステップであって、前記第１参照指紋が、１次指紋データベースから取り出され、第１比較値を生成するステップと、
−前記第１比較値に応じて、前記メディア・キャリア上への前記入力メディア・シーケンスの記録を許可及び妨害するステップと、
−前記サブシーケンス指紋を少なくとも１つの第２参照指紋と比較するステップであって、前記第２参照指紋が、２次指紋データベースから取り出され、第２比較値を生成するステップと、
−前記第２比較値に応じて、前記指紋を前記２次データベースに記録するステップと、
−少なくとも前記第１比較値に応じて、前記１次データベースを前記デジタル・メディア・シーケンスが前記メディア・キャリア上に記録されたという前記２次データベースからの情報で更新するステップと、
を有する方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、前記１次指紋データベースは、リスト中の指紋と関連する複製カウント数及び複製制限数を備え、前記サブシーケンス指紋を前記第１参照指紋と比較するステップは、前記複製カウント数と前記複製制限数とを比較するステップを含み、前記１次データベースを更新するステップは、前記指紋と関連する前記複製カウント数を更新するステップを含む方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の方法であって、前記１次データベースのサイズを既定の数に制限するために、新しい方のエントリを選んで古い方のエントリを前記１次データベースから取り除くステップを更に有する方法。
【請求項４】
請求項１ないし３の何れかの一項に記載の方法であって、前記１次データベースの前記更新ステップが、前記少なくとも１つのメディア・シーケンスの前記記録ステップが完了されるか否かに依存する方法。
【請求項５】
請求項１ないし４の何れかの一項に記載の方法であって、前記記録の前記妨害ステップが、前記記録ステップを中断させる、前記記録の品質を低下させる及び前記妨害ステップを使用者に知らせるアクションの少なくとも１つを含む方法。
【請求項６】
請求項１ないし５の何れかの一項に記載の方法であって、前記サブシーケンスの前記抽出ステップは、既定の時間間隔において抽出するステップを含み、前記時間間隔は、少なくとも部分的に前記メディア・シーケンスの形式によって決定される長さを有する方法。
【請求項７】
デジタル・メディア・シーケンスをデジタル・メディア・キャリア上に記録することが可能なデジタル・メディア・レコーダであって、
−前記サブシーケンス指紋を少なくとも１つの第２参照指紋と比較するための手段であって、前記第２参照指紋が、２次指紋データベースから取り出され、第２比較値を生成するための手段と、
−前記指紋を前記第２データベースに記憶するための手段と、
−入力メディア・シーケンスからメディア・サブシーケンスを抽出するための手段と、
−前記メディア・サブシーケンスからサブシーケンス・デジタル指紋を計算するための手段と、
−前記サブシーケンス指紋を少なくとも１つの第１参照指紋と比較するための手段であって、前記第１参照指紋が、１次指紋データベースから取り出され、第１比較値を生成するための手段と、
−前記第１比較値を分析するための手段と、
−前記入力メディア・シーケンスを前記メディア・キャリア上に記録するための手段と、
−前記第１比較値に応じて、前記メディア・キャリア上への前記入力メディア・シーケンスの記録を妨害するための手段と、
−前記１次データベースを前記デジタル・メディア・シーケンスが前記メディア・キャリア上に記録されたという前記第２データベースからの情報で更新するための手段と、
を有するデジタル・メディア・レコーダ。
【請求項８】
請求項７に記載のレコーダであって、前記１次指紋データベースは、リスト中の指紋と関連する複製カウント数及び複製制限数を備え、前記サブシーケンス指紋を前記第１参照指紋と比較するための前記手段は、前記複製カウント数と前記複製制限数とを比較するための手段を含み、前記１次データベースを更新するための前記手段は、前記指紋と関連する前記複製カウント数を更新するための手段を含むレコーダ。
【請求項９】
請求項７又は８に記載のレコーダであって、前記１次データベースのサイズを既定の数に制限するために、新しい方のエントリを選んで古い方のエントリを前記１次データベースから取り除くように構成されるレコーダ。
【請求項１０】
請求項７ないし９の何れかの一項に記載のレコーダであって、前記１次データベースを更新するための前記手段が、前記少なくとも１つのメディア・シーケンスの前記記録が完了されるか否かを確定することが可能な手段に基づいて動作するように構成されるレコーダ。
【請求項１１】
請求項７ないし１０の何れかの一項に記載のレコーダであって、前記妨害手段は、前記記録ステップを中断させる、前記記録の品質を低下させる及び前記妨害ステップを使用者に知らせるアクションの少なくとも１つを行うことが可能である妨害する手段を備えるレコーダ。
【請求項１２】
請求項７ないし１１の何れかの一項に記載のレコーダであって、前記サブシーケンスを抽出するための手段は、既定の時間間隔において抽出をするための手段を含み、前記時間間隔は、少なくとも部分的に前記メディア・シーケンスの形式によって決定される長さを有するレコーダ。
【請求項１３】
請求項７ないし１２の何れか一項に記載のレコーダを備える計算機。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月13日(2006.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ注入システムであって、
プラズマ注入チェンバー内で、イオンをワークピースに注入することができる少なくとも一つの注入位置と、イオンをワークピースに注入することができない少なくとの一つの他の位置との間で、複数のワークピースのそれぞれを移動させるワークピース支持体と、
ワークピースの少なくとも一部にイオンを注入するために、注入位置にあるワークピースの表面またはその近くにプラズマを発生させるように構成されるプラズマ発生装置と、
少なくとも一つの注入位置と少なくとも一つの他の位置との間で、複数のワークピースをプラズマ注入チェンバー内で移動させる制御器と、
を含み、
制御器は、注入処理の間、プラズマ発生装置に、ワークピースが注入位置にきたとき各ワークピースにプラズマを発生させ、イオンを注入させる、ところのプラズマ注入システム。
【請求項２】
制御器は、プラズマ注入チェンバーで、ワークピース支持体の少なくとも一部を移動させるワークピース駆動制御器を含む、請求項１に記載のプラズマ注入システム。
【請求項３】
制御器は、処理ガスの導入を制御し、プラズマ注入チェンバーでの注入プラズマの発生を制御するプラズマ注入制御器を含む、請求項１または２に記載のプラズマ注入システム。
【請求項４】
ワークピース支持体は、プラズマ注入チェンバー内で回転のために取り付けられる、複数のワークピースを支持するように構成されるディスクを含む、請求項１ないし３のいずれかに記載のプラズマ注入システム。
【請求項５】
ディスクは複数のワークピースを、ディスクの上に円形に配列して支持する、請求項４に記載のプラズマ注入システム。
【請求項６】
ワークピース支持体は、プラズマ発生装置がプラズマを発生させる領域に関して、弧状の軌道にそって、ワークピースを移動させる、請求項４に記載のプラズマ注入システム。
【請求項７】
ワークピース支持体は、ディスクの回転に関して、放射方向に複数のワークピースを移動せるように構成される、請求項４ないし６のいずれかに記載のプラズマ注入システム。
【請求項８】
プラズマ発生装置は、注入位置にあるワークピースの一部のみに、イオンを注入するのに適したプラズマを発生させるように構成される、請求項１ないし７のいずれかに記載のプラズマ注入システム。
【請求項９】
ワークピース支持体は、各ワークピースを注入のためのプラズマに周期的に配置させるように構成され、プラズマ発生装置は、プラズマのイオンを加速し、ワークピースに衝突させるために、パルスをプラズマに適用するよう構成され、プラズマに適用されるパルスのレートが、ワークピース支持体が、各ワークピースを注入のためのプラズマに配置させるためのレートよりも高い、請求項１ないし８のいずれかに記載のプラズマ注入システム。
【請求項１０】
複数のワークピースは、複数のワークピースにプラズマからのイオンを注入するために、プラズマが発生する領域に連続して配置される、請求項１ないし９のいずれかに記載のプラズマ注入システム。
【請求項１１】
イオンをワークピースに注入する注入方法であって、
複数のワークピースをプラズマ注入チェンバーに供給する工程と、
複数のワークピースをプラズマ注入チェンバー内で移動させる工程と、
複数のワークピースの少なくともひとつをプラズマ注入チェンバーで移動させる間、複数のワークピースの少なくともひとつの表面、またはその近くにあるプラズマからのイオンを、複数のワークピースの少なくともひとつに注入する工程と、
を含む、注入方法。
【請求項１２】
複数のワークピースを移動させる工程は、プラズマ注入チェンバで複数のワークピースを円形経路にそって移動させる工程を含む、請求項１１に記載の注入方法。
【請求項１３】
回転の軸線が複数のワークピースのどのひとつにも通過しない、請求項１２に記載の注入方法。
【請求項１４】
イオン注入工程は、イオンが注入されるワークピースのそれぞれの粒子注入領域よりも小さいプラズマ放電領域に、プラズマを発生させる工程を含む、請求項１１に記載の注入方法。
【請求項１５】
複数のワークピースを移動せる工程は、複数のワークピースのそれぞれを、粒子注入のためのプラズマに周期的に位置させる工程を含み、イオン注入工程は、複数のワークピースのそれぞれが粒子注入のためのプラズマに位置するレートを超えるレートをもつ電場で、プラズマをパルス化する工程を含む、請求項１１に記載の注入方法。
【請求項１６】
複数のワークピースを移動させる工程は、複数のワークピースに与えられるドーズ量の一様性または全ドーズ量における変化を調節するために、複数のワークピースの速度を調節する工程を含む、請求項１１に記載の注入方法。