Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月14日(2006.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
受信システムに印加されることを目的とする入力信号のレベルを決定する装置において、前記受信システムが、直列に配置された、ディスクリート利得増幅器のセットと、選択フィルタと、ミキサとを有し、前記受信システムが出力信号を供給することを目的とし、前記装置が、
所定の周波数チャネルにおける前記出力信号のレベルを測定する測定手段と、
前記所定の周波数チャネルにおける前記増幅器のセットの実利得を決定する手段と、
前記所定の周波数チャネルにおける前記選択フィルタの実利得を決定する手段と、
前記出力信号のレベル、前記増幅器のセットの実利得、及び前記選択フィルタの実利得から前記入力信号のレベルを得る計算手段と、
を有する装置。
【請求項２】
前記選択フィルタの実利得が、前記周波数チャネルに依存する係数のセットにより定められる方程式のセットにより与えられる、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記出力信号のレベルを平均する追加の手段を有する、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記入力信号のレベルを０．５刻みで丸める追加の手段を有する、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記増幅器のセットの実利得が、２つの入力を用いるルックアップテーブルにより与えられ、第１入力が前記所定の周波数チャネルに対応し、第２入力が前記増幅器の公称利得に対応する、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記測定手段が、直列に配置された、前記所定の周波数チャネルを選択する選択フィルタと、対数検出器と、前記所定の周波数チャネルにおける前記出力信号のレベルを供給するアナログ−デジタル変換器とを有する、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
受信システムに印加されることを目的とする入力信号のレベルを決定する方法において、前記受信システムが、直列に配置された、ディスクリート利得増幅器のセットと、選択フィルタと、ミキサとを有し、前記受信システムが出力信号を供給することを目的とし、前記方法が、
所定の周波数チャネルにおける前記出力信号のレベルを測定する測定ステップと、
前記所定の周波数チャネルにおける前記増幅器のセットの実利得を決定する処理ステップと、
前記所定の周波数チャネルにおける前記選択フィルタの実利得を決定する第１計算ステップと、
前記出力信号のレベル、前記増幅器のセットの実利得、及び前記選択フィルタの実利得から前記入力信号のレベルを得る第２計算ステップと、
を有する方法。
【請求項８】
請求項１ないし６の何れか一項に記載の装置を有する、マルチメディア信号に対する受信ボックス又はモデム。
【請求項９】
請求項７に記載の方法の１つ又は複数のステップを実行する命令コードを有するコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月14日(2006.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
入力電圧から発振信号を生成する電圧制御回路を有する周波数合成回路であって、ロックループモードにおいて、前記発振信号と基準信号との間の位相差を表わす誤差信号の制御のもとで動作するよう構成される周波数合成回路と、前記周波数合成回路が前記位相ロックループモードで動作することをディスエーブルにし、その後、各々の第１及び第２入力電圧値に応じて得られる前記発振信号の第１及び第２周波数を決定するよう構成され、更に、２つの前記周波数及び前記基準信号からデジタル制御信号を生成するよう構成されるデジタル処理装置と、前記デジタル制御信号に応じて前記入力電圧をプリセットするよう構成されるデジタル／アナログ変換器とを有する装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月10日(2006.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各ユーザ設備により、少なくとも部分的に秘密であるそれぞれ固有の量に基づくそれぞれ相補的なデータで相互に対称的な演算を実行することを通じて、第１のユーザ設備iと第２のユーザ設備jとの間で共通の秘密データアイテムを生成する方法であって、
前記演算の結果は、前記共通の秘密データアイテムとして前記ユーザ設備の双方で使用され、
前記方法は、Abelian  Varietyに定められるGAP  Diffie-Hellmann問題に属する前記相補的なデータを定めることに基づくことを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、
前記Abelian  Varietyは、楕円曲線を通じた１次元を有する方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法であって、
双一次特性と非縮退特性と計算可能特性とを特徴とするペアFを、前記Abelian  Varietyの２つの線形独立のポイントPとD(P)に適用することを有する方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法であって、
ユーザ設備iの前記演算は、Si=fT(ri)及びPi=g(ri)に従った一方向関数fとgに基づき、パラメータTは、信頼できるマスター設備から取得したマスター秘密であり、結果Sは秘密に保持され、共通の秘密データは、
Kij=F(Si,Pj)=F(Sj,Pi)=Kji
に従って計算される方法。
【請求項５】
請求項４に記載の方法であって、
前記演算は、データSi及びPiに基づき、
Si:Si1=T11+riT12;      (5’)
Si2=T21+riT22;      (6’)
Pi:Pi1=riP;            (7’)
Pi2=ri2P;          (8’)
である方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法であって、
ユーザ設備1は、データr1D(P),r12D(P)をユーザ設備2に送信し、
ユーザ設備2は、データr2D(P),r22D(P)をユーザ設備1に送信し、
それに続いて、トリプルr2D(P),r2D(P),r22D(P)がDiffie-Hellmannトリプルであるか否かをユーザ設備1が検査し、トリプルr1D(P),r1D(P),r12D(P)がDiffie-Hellmannトリプルであるか否かをユーザ設備2が検査し、
肯定的な場合に、
Πk=12e((tk1+r1tk2)P,v(r2)kD(P))=e(P,D(P))<v(r1),Tv(r2)>
に従ってユーザ設備1による共有鍵を計算し、ここで、t12=t21であり、v(r2)kはベクトルv(r2)の第k成分を意味する方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法であって、
固有のパラメータを各ユーザ設備に割り当てることを通じて、１つ以上の選択されたユーザ設備を排除する標準的な機構の上に、取消機構を更に有する方法。
【請求項８】
請求項１に記載の方法であって、
前記共有の秘密の生成が、識別又は認証手順の初期ステップとして使用される方法。
【請求項９】
請求項１に記載の方法であって、
Weil  Pairingは、真のプロトコルの実行の実質的に前にある時に求められる方法。
【請求項１０】
請求項１に記載の方法であって、
以前の秘密情報の漏洩に対して秘密情報を更新することを有する方法。
【請求項１１】
請求項１に記載の方法であって、
単一の統合した暗号化レベルのみを使用することを通じて実行される方法。
【請求項１２】
請求項１に記載の方法であって、
ランダム化機構が共通の秘密に適用される方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の方法であって、
前記ランダム化機構は、チャレンジ・レスポンス型機構に基づく方法。
【請求項１４】
第１のユーザ設備と第２のユーザ設備とを有し、請求項１に記載の方法に従って通信するように構成されたシステム。
【請求項１５】
請求項１４に記載のシステムの第１及び／又は第２のユーザ設備として動作するように構成された装置。
【請求項１６】
請求項１に記載の方法を実施するように１つ以上のデータ処理指向のハードウェアエンティティを制御する命令を有するコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月12日(2006.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
利用者が、アプリケーションを選択し実行するための少なくとも１つのユーザ・インタフェースの起動を制御する方法であって、
アプリケーションの性能に影響する少なくとも１つの状態をモニタするステップと、
前記モニタされた状態に合っているかどうか判定するステップと、
前記判定の結果、合っていれば、前記利用者が前記アプリケーションを選択する前に、前記１つのユーザ・インタフェース内のハイパーリンクを選択的に制御して前記利用者による前記アプリケーション選択を制御することによって、前記利用者が前記アプリケーションを起動する能力を制限するステップと、
からなる、前記方法。
【請求項２】
前記モニタするステップで、前記アプリケーションを取得するために前記利用者がアクセスする通信ネットワーク内で前記１つの状態をモニタする、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記モニタするステップで、前記利用者が、前記アプリケーションを取得する携帯端末において、前記１つの状態をモニタする、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記モニタするステップで、前記アプリケーションを取得するために前記利用者がアクセスする通信ネットワークの実際の帯域幅をモニタする、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記モニタするステップで、前記アプリケーションを取得するために前記利用者がアクセスする通信ネットワークにより課金されるアクセス料金をモニタする、請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記利用者が前記アプリケーションを起動する能力を制限するステップは、前記１つのユーザ・インタフェースを完全に制約して起動を不可能にするステップを有する、請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記利用者が前記アプリケーションを起動する能力を制限するステップは、起動を制限するために前記利用者を部分的に制約するステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記利用者が前記アプリケーションを起動する能力を制限するステップは、起動を遅延させるために前記利用者を部分的に制約するステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項９】
前記ユーザ・インタフェースの動作不能についてメッセージを表示するステップを更に含む、請求項６記載の方法。
【請求項１０】
前記ユーザ・インタフェースの制限についてメッセージを表示するステップを更に含む、請求項７記載の方法。
【請求項１１】
利用者がアプリケーションを選択し実行するための少なくとも１つのユーザ・インタフェースの起動を制御するシステムであって、
前記アプリケーションの性能に影響を及ぼす少なくとも１つの状態をモニタする手段と、
前記モニタされた状態が、対応する閾値の範囲外にあるかどうか判定する手段と、
前記１つのユーザ・インタフェース内のハイパーリンクを選択的に制御して前記利用者による前記アプリケーション選択を制御することによって、前記利用者が前記アプリケーションを起動する能力を制限する手段と、
からなる、前記システム。
【請求項１２】
前記アプリケーションを取得するために前記利用者がアクセスする通信ネットワークにおいて、前記モニタ手段が前記１つの状態をモニタする、請求項１１記載のシステム。
【請求項１３】
前記利用者が前記アプリケーションを取得する携帯端末を前記モニタ手段が含む、請求項１１記載のシステム。
【請求項１４】
前記アプリケーションを取得するために前記利用者がアクセスする通信ネットワークの実際の帯域幅を前記モニタ手段がモニタする、請求項１１記載のシステム。
【請求項１５】
前記アプリケーションを取得するために、前記利用者がアクセする通信ネットワークにより課金されるアクセス料金を前記モニタ手段がモニタする、請求項１１記載のシステム。
【請求項１６】
前記制限する手段が、起動を不可能にするために１つのユーザ・インタフェースを完全に制約する、請求項１１記載のシステム。
【請求項１７】
前記制限する手段が、起動を制限するためにユーザ・インタフェースを部分的に制約する、請求項１１記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月2日(2005.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１７】
前記炭化物は、ＳｉＣ、ＷＣ、及びＴｉコーティング済みｃＢＮからなる群から選択される１種である、請求項１６に記載のコーティング済み超研磨材粒子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２３】
前記セパレーターは、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、ＢＮ、Ａ１Ｎ、及びこれらの混合物からなる群から選択される１種である、請求項２２に記載の方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２５】
コーティングの工程を行う前に、前記超研磨材粒子の表面にＣｒ、Ｓｉ、Ｔｉ、及びＷからなる群から選択される材料の層を形成する工程を行う、請求項１８に記載の方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５９】
粒子を一緒に冶金学的に結合する前に、各粒子は凝固済み溶融ブレーズ合金でコーティングされる、請求項５８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月22日(2006.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３６】
上記重合ステップ前には、反応器の内壁は反応器壁コーティングを有さない請求項３５の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
好ましくは、メタロセン化合物は、ビス（シクロペンタジエニル）金属ジハライド、ビス（シクロペンタジエニル）金属ヒドリドハライド、ビス（シクロペンタジエニル）金属モノアルキルモノハライド、ビス（シクロペンタジエニル）金属ジアルキル、又はビス（インデニル）金属ジハライドであり、上記金属はジルコニウム又はハフニウムであり、ハライド基は好ましくは塩素であり、アルキル基はＣ1〜Ｃ6アルキルである。例示であり、本発明を限定するものではないがこれらメタロセンの例として下記化合物が挙げられる：
ビス（インデニル）ジルコニウムジクロライド；
ビス（インデニル）ジルコニウムジブロマイド；
ビス（インデニル）ジルコニウムビス（ｐ−トルエンスルホネート）；
ビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロライド；
ビス（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド；
エチレン−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロライド；
エチレン−ビス（インデニル）ジルコニウムジブロマイド；
エチレン−ビス（インデニル）ジメチルジルコニウム；
エチレン−ビス（インデニル）ジフェニルジルコニウム；
エチレン−ビス（インデニル）メチルジルコニウムモノクロライド；
エチレン−ビス（インデニル）ジルコニウムビス（メタンスルホネート）；
エチレン−ビス（インデニル）ジルコニウムビス（ｐ−トルエンスルホネート）；
エチレン−ビス（インデニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホネート）；
エチレン−ビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロライド；
イソプロピリデン（シクロペンタジエニル−フルオレニル）ジルコニウムジクロライド；
イソプロピリデン（シクロペンタジエニル−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド；
ジメチルシリル−ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド；
ジメチルシリル−ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド；
ジメチルシリル−ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド；
ジメチルシリル−ビス（トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド；
ジメチルシリル−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロライド；
ジメチルシリル−ビス（インデニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホネート）；
ジメチルシリル−ビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロライド；
ジメチルシリル（シクロペンタジエニル−フルオレニル）ジルコニウムジクロライド；
ジフェニルシリル−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロライド；
メチルフェニルシリル−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロライド；
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド；
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジブロマイド；
ビス（シクロペンタジエニル）メチルジルコニウムモノクロライド；
ビス（シクロペンタジエニル）エチルジルコニウムモノクロライド；
ビス（シクロペンタジエニル）シクロヘキシルジルコニウムモノクロライド；
ビス（シクロペンタジエニル）フェニルジルコニウムモノクロライド；
ビス（シクロペンタジエニル）ベンジルジルコニウムモノクロライド；
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムモノクロライドモノハイドライド；
ビス（シクロペンタジエニル）メチルジルコニウムモノハイドライド；
ビス（シクロペンタジエニル）ジメチルジルコニウム；
ビス（シクロペンタジエニル）ジフェニルジルコニウム；
ビス（シクロペンタジエニル）ジベンジルジルコニウム；
ビス（シクロペンタジエニル）メトキシジルコニウムクロライド；
ビス（シクロペンタジエニル）エトキシジルコニウムクロライド；
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（メタンスルホネート）；
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（ｐ−トルエンスルホネート）；
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホネート）；
ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド；
ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド；
ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）エトキシジルコニウムクロライド；
ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホネート）；
ビス（エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド；
ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド；
ビス（プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド；
ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド；
ビス（ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド；
ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド；
ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（メタンスルホネート）；
ビス（トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド；
ビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド；
ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド；
ビス（ヘキシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド；
ビス（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド；
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド；
ビス（シクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド；
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル；
ビス（シクロペンタジエニル）ハフニウムジメチル；
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムヒドリドクロライド；
ビス（シクロペンタジエニル）ハフニウムヒドリドクロライド；
ビス（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド；
ビス（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド；
ビス（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル；
ビス（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジメチル；
ビス（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムヒドリドクロライド；
ビス（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）ハフニウムヒドリドクロライド；
ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド；
ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド；
ビス（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド；
シクロペンタジエニルジルコニウムトリクロライド；
ビス（インデニル）ジルコニウムジクロライド；
ビス（４，５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）ジルコニウムジクロライド；及び
エチレン−ビス（４，５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）ジルコニウムジクロライド。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月7日(2006.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコーンコポリマーの製造方法であって、
（ａ）入口と出口を有する１以上の多段羽根混合式プラグ流れ反応器を用意する段階と、
（ｂ）（ｉ）ハイドロジェンシロキサン、（ii）前記ハイドロジェンシロキサンと反応し得るオレフィン性置換ポリエーテル又はオレフィン、及び（iii）該反応用の触媒を多段羽根混合式プラグ流れ反応器の入口に連続的に供給する段階と、
（ｃ）前記ハイドロジェンシロキサン及び前記ポリエーテル又はオレフィンが多段羽根混合式プラグ流れ反応器内の反応温度で実質的に完全なヒドロシリル化を達成するのに十分な滞留時間を有することを条件にして、シリコーンコポリマーを含むと共に未反応ハイドロジェンシロキサンを実質的に含まない流れを多段羽根混合式プラグ流れ反応器の出口から連続的に抜き取る段階と
を含んでなる方法。
【請求項２】
ハイドロジェンシロキサンがケイ素原子当たり平均１〜３のＲ基を与えるのに十分なＲ含有シロキサン単位を含むと共に、ケイ素原子当たり０．０１〜１のケイ素結合水素原子及びケイ素原子当たり１．５〜３．０の（Ｒ基＋ケイ素結合水素原子）合計数を与えるのに十分なＨ含有シロキサン単位を含むことを条件にして、ハイドロジェンシロキサンがＲ3ＳｉＯ1/2、Ｒ2ＨＳｉＯ1/2、Ｒ2ＳｉＯ2/2、ＲＨＳｉＯ2/2、ＲＳｉＯ3/2及びＨＳｉＯ3/2（式中、各Ｒ基は独立に選択される炭化水素部分である。）からなる群から選択されるシロキサン単位の任意の組合せからなるオルガノハイドロジェンシロキサンである、請求項１記載の方法。
【請求項３】
炭化水素部分が、炭素原子数１〜１２のアルキル部分、炭素原子数５〜１２の脂環式部分、又は各々が１〜６の炭素原子を有する１〜６のアルキル基で任意に置換されたアリール部分である、請求項２記載の方法。
【請求項４】
すべてのＲ基が同一である、請求項３記載の方法。
【請求項５】
オレフィン反応体が、塩化アリル、塩化メタリル、１−オクテン、１−ヘキセン、アミレン、１−オクタデセン、アリルグリシジルエーテル、ビニルシクロヘキセンモノオキシド、アリル（メタ）アクリレート、ペルフルオロオクチルエチレン及び末端不飽和ポリ（アルキレンオキシド）からなる群から選択される、請求項１記載の方法。
【請求項６】
オレフィン反応体が、式Ｒ1(ＯＣＨ2ＣＨ2)v(ＯＣＨ2ＣＨ(ＣＨ3))w−ＯＲ2（式中、Ｒ1は炭素原子数２〜１０のアルケニル基であり、Ｒ2は水素、炭素原子数１〜５のアルキル、炭素原子数２〜５のアシル、ビニル、アリル、メタリル及びトリアルキルシリルからなる群から選択され、和（ｖ＋ｗ）が０より大きいことを条件にして、ｖは０〜５０の値を有し、ｗは０〜５０の値を有する。）の末端不飽和ポリ（アルキレンオキシド）である、請求項１記載の方法。
【請求項７】
触媒が貴金属含有触媒である、請求項１記載の方法。
【請求項８】
貴金属が白金、パラジウム及びロジウムからなる群から選択される、請求項７記載の方法。
【請求項９】
触媒がクロロ白金酸及び１，３−ジビニルテトラメチルジシロキサンの白金錯体からなる群から選択される、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
（ａ）入口及び出口を有する１以上の多段羽根混合式プラグ流れ反応器を用意する段階と、
（ｂ）（ｉ）ハイドロジェンシロキサン、（ii）前記ハイドロジェンシロキサンと反応し得るオレフィン性置換ポリエーテル又はオレフィン、及び（iii）該反応用の触媒を多段羽根混合式プラグ流れ反応器の入口に連続的に供給する段階と、
（ｃ）前記ハイドロジェンシロキサン及び前記ポリエーテル又はオレフィンが多段羽根混合式プラグ流れ反応器内の反応温度で実質的に完全なヒドロシリル化を達成するのに十分な滞留時間を有することを条件にして、シリコーンコポリマーを含むと共に未反応ハイドロジェンシロキサンを実質的に含まない流れを多段羽根混合式プラグ流れ反応器の出口から連続的に抜き取る段階と
を含んでなる、シリコーンコポリマーの製造方法で製造されるシリコーンコポリマー。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月24日(2006.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）少なくとも１つの均一分枝ポリエチレンおよび少なくとも１つの不均一分枝ポリエチレンの混合物を、６０から８０重量パーセント含み、該混合物（Ａ）は、均一分枝ポリエチレンを４０から７５重量パーセント、不均一分枝ポリエチレンを２５から６０重量パーセント含み、ならびに、
（Ｂ）最低でも前記混合物（Ａ）の２倍の溶融強度を有する少なくとも１つのポリマーを、２０から４０重量パーセント含む、ポリマー組成物。
【請求項２】
前記均一分枝ポリエチレンが、エチレンと、少なくとも１つのＣ3〜Ｃ20のα−オレフィンとのインターポリマーである、請求項１の組成物。
【請求項３】
前記不均一分枝ポリエチレンが、３から６の分子量分布、Ｍｗ／Ｍｎを有する、請求項１の組成物。
【請求項４】
前記混合物（Ａ）が１０グラム／１０分から３０グラム／１０分のメルトインデックス、Ｉ2（ＡＳＴＭ  Ｄ−１２３８  条件１９０℃／２．１６Ｋｇ）を有する、請求項１の組成物。
【請求項５】
前記混合物（Ａ）が０．８８グラム／立方センチメートルから０．９２グラム／立方センチメートルの密度（ＡＳＴＭ  Ｄ−７９２）を有する、請求項１の組成物。
【請求項６】
前記混合物（Ａ）が、示差走査熱量測定曲線上に少なくとも３つの溶融ピークを有する、請求項１の組成物。
【請求項７】
前記均一分枝ポリエチレンが１．５から３の分子量分布、Ｍｗ／Ｍｎを有する、請求項１の組成物。
【請求項８】
前記混合物（Ａ）が５０から６０重量パーセントの均一分枝ポリエチレン、および、４０から５０重量パーセントの不均一分枝ポリエチレンを含む、請求項１の組成物。
【請求項９】
（Ｂ）が、低密度ポリエチレン、エチレン／カルボン酸コポリマー類、エチレン／カルボン酸コポリマー類のアイオノマー類、エチレン酢酸ビニルコポリマー類、高溶融強度ポリプロピレンホモポリマー、および、高溶融強度ポリプロピレンコポリマーからなる群より選択される、請求項１の組成物。
【請求項１０】
ポリマー組成物から製造されたフィルム層であり、前記組成物は、
（Ａ）少なくとも１つの均一分枝ポリエチレンおよび少なくとも１つの不均一分枝ポリエチレンの混合物を、６０から８０重量パーセント含み、該混合物（Ａ）は、均一分枝ポリエチレンを４０から７５重量パーセント、不均一分枝ポリエチレンを２５から６０重量パーセント含み、ならびに、
（Ｂ）最低でも前記混合物（Ａ）の２倍の溶融強度を有する少なくとも１つのポリマーを、２０から４０重量パーセント含む、フィルム層。
【請求項１１】
前記均一分枝ポリエチレンが、エチレンと少なくとも１つのＣ3〜Ｃ20のα−オレフィンとのインターポリマーである、請求項１０のフィルム層。
【請求項１２】
前記不均一分枝ポリエチレンが、３から６の分子量分布、Ｍｗ／Ｍｎを有する、請求項１０のフィルム層。
【請求項１３】
前記混合物（Ａ）が１０グラム／１０分から３０グラム／１０分のメルトインデックス、Ｉ2（ＡＳＴＭ  Ｄ−１２３８  条件１９０℃／２．１６Ｋｇ）を有する、請求項１０のフィルム層。
【請求項１４】
前記混合物（Ａ）が０．８８グラム／立方センチメートルから０．９２グラム／立方センチメートルの密度（ＡＳＴＭ  Ｄ−７９２）を有する、請求項１０のフィルム層。
【請求項１５】
前記混合物（Ａ）が、示差走査熱量測定曲線上に少なくとも３つの溶融ピークを有する、請求項１０のフィルム層。
【請求項１６】
前記均一分枝ポリエチレンが１．５から３の分子量分布、Ｍｗ／Ｍｎを有する、請求項１０のフィルム層。
【請求項１７】
前記混合物（Ａ）が５０から６０重量パーセントの均一分枝ポリエチレン、および、４０から５０重量パーセントの不均一分枝ポリエチレンを含む、請求項１０のフィルム層。
【請求項１８】
請求項１０のフィルム層を含む、加工品。
【請求項１９】
成分（Ｂ）が、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、これらのブレンド、ポリプロピレンホモポリマー、ポリプロピレンランダムコポリマー、スチレン／ブタジエンコポリマー、ポリスチレン、エチレン−酢酸ビニルコポリマー、および、環状オレフィンコポリマーからなる群より選択される少なくとも１つのポリマーを含む、請求項１の組成物。
【請求項２０】
少なくとも１つの他の層をさらに含む、請求項１０のフィルム層。
【請求項２１】
（Ｂ）が、低密度ポリエチレン、エチレン／カルボン酸コポリマー類、エチレン／カルボン酸コポリマー類のアイオノマー類、エチレン酢酸ビニルコポリマー類、高溶融強度ポリプロピレンホモポリマー、および、高溶融強度ポリプロピレンコポリマーからなる群より選択される、請求項１０のフィルム層。
【請求項２２】
１つの層がポリマー組成物から製造され、前記組成物は、
（Ａ）少なくとも１つの均一分枝ポリエチレンおよび少なくとも１つの不均一分枝ポリエチレンの混合物を含み、該混合物（Ａ）は、均一分枝ポリエチレンを４０から７５重量パーセント、不均一分枝ポリエチレンを２５から６０重量パーセント含み、ならびに、他の１つの層が、
（Ｂ）最低でも前記（Ａ）の混合物の２倍の溶融強度を有する少なくとも１つの他のポリマーを含む、少なくとも２つの層を含むフィルム。
【請求項２３】
（Ａ）少なくとも３つの溶融ピークを有するエチレン系ポリマーを６０から８０重量パーセント、および、
（Ｂ）最低でも（Ａ）の２倍の溶融強度を有する少なくとも１つのポリマーを２０から４０重量パーセント含む、ポリマー組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月4日(2006.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）６０〜９０％の有機顔料、
（ｂ）１〜１０％の超分散剤、
（ｃ）１〜１０％の相乗添加剤、
（ｄ）１〜１０％の溶剤、及び
（ｅ）０〜４０％のロジン又は変性ロジン
を含む、顔料組成物。
【請求項２】
有機顔料（ａ）が、ジスアゾ顔料、金属錯体顔料又はナフトール顔料である、請求項１記載の顔料組成物。
【請求項３】
超分散剤（ｂ）が、遊離カルボン酸基を有するポリエステルとポリ（低級アルキレン）イミンとの、少なくとも二つのポリエステル鎖がそれぞれポリ（低級アルキレン）イミンに結合した反応生成物である、請求項１記載の顔料組成物。
【請求項４】
超分散剤（ｂ）が、式ＨＯ−Ｘ−ＣＯＯＨ（式中、Ｘは、少なくとも８個の炭素原子を有する２価の飽和又は不飽和脂肪族の基である）で示され、カルボキシル基とヒドロキシル基との間に少なくとも４個の炭素原子が存在するヒドロキシカルボン酸から誘導されるポリエステルと、５００〜１００，０００の分子量範囲のポリエチレンイミンとの反応生成物である、請求項３記載の顔料組成物。
【請求項５】
相乗添加剤（ｃ）が、アゾ基を介して二つの１価末端基に結合された、イオン性置換基のない２価基を中心に含む不斉ジスアゾ化合物であって、第１の末端基は、いかなるイオン性の基も含まず、第２の末端基は、一置換されたアンモニウム塩の基である、請求項１記載の顔料組成物。
【請求項６】
溶剤（ｄ）が、脂肪族若しくは芳香族炭化水素の１００〜３５０℃の範囲の沸点を有する蒸留留分である、請求項１記載の顔料組成物。
【請求項７】
溶剤（ｄ）が、脂肪酸部分が１２〜２４個の炭素原子の鎖長を有するトリグリセリド植物油である、請求項１記載の顔料組成物。
【請求項８】
変性ロジン（ｅ）が、ロジン（酸）金属樹脂酸塩、ロジンエステル、植物油を基剤とするロジンエステル、水素化ロジン、不均化ロジン、又は二量化されたか、重合されたか、若しくは部分重合されたロジン、あるいはそれらの混合物である、請求項１記載の顔料組成物。
【請求項９】
ロジンエステルが、マレイン酸化されたロジン、ペンタエリトリトールロジン、又はロジンで変性されたフェノール樹脂である、請求項８記載の顔料組成物。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の顔料組成物を着色剤として含有する、平版印刷用の油を基剤とする印刷インキ。
【請求項１１】
５〜５０％の顔料組成物を着色剤として、かつ場合により慣用の更なる添加剤を含有する、請求項１０記載の印刷インキ。
【請求項１２】
請求項１０又は１１に記載の印刷インキを製造する方法であって、平版印刷インキ系に顔料組成物を分散させる工程を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月4日(2006.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遷移金属又はより低い酸化状態の遷移金属塩、及び、場合により、該遷移金属又は遷移金属塩と錯体形成することができる配位子の存在下で、
ａ）式（Ａ）（Ｘ−Ｌｎ−ＮＯ・（Ａ））のモノニトロキシドを反応する工程；又は
ｂ）式（Ｂ）（・ＯＮ−Ｌｎ−ＮＯ・（Ｂ））のビスニトロキシドを式（Ｃ）（Ｘ−Ｌｈ−Ｘ（Ｃ））の二官能化合物と反応する工程；又は
ｃ）式（Ｄ）（Ｌｎ−［ＮＯ・］ｎ（Ｄ））のポリニトロキシドを式（Ｅ）（Ｌｈ−［Ｘ］ｎ（Ｅ））の多官能性化合物と反応させる工程
（上記式中、Ｘは、ハロゲン又は−ＳＣＮであり；
Ｌｎは、前記ニトロキシド基を前記Ｘ基又はその他のニトロキシド基と結合するｎ価のスペーサー基であり；
Ｌｈは、前記Ｘ基を結合するｎ価のスペーサー基であり、ｎは、３〜６の数である）
を含む、原子移動ラジカル付加重合（ＡＴＲＡ）による高分子アルコキシアミンの製造方法。
【請求項２】
前記配位子が、式III
【化１】
2006500436.tif 000001
（式中、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１３及びＲ１４は、独立して、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ５〜Ｃ１２シクロアルキル又はアリールであり；
Ｒ１２は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ５〜Ｃ１２シクロアルキル若しくはアリール、又は−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ１０Ｒ１１基であり；
ｍ、ｐ及びｑは、１〜４の数であり；
ｎは、０〜４の数である）
で表されるか；あるいは前記配位子が二環式又は多環式のヘテロ脂肪族環である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ａ）前記式（Ａ）のモノニトロキシドが式（Ｉａ）、式（Ｉｂ）又は式（Ｉｃ）
【化２】
2006500436.tif 000002
で表され、ｂ）前記式（Ｂ）のジニトロキシドが式（IIａ）、式（IIｂ）、式（IIｃ）又は式（IIｄ）
【化３】
2006500436.tif 000003
で表され、
前記式（Ｃ）の化合物が式（III）
【化４】
2006500436.tif 000004
で表され、
ｃ）前記式Ｄのポリニトロキシドが式（IVａ）、式（IVｂ）又は式（IVｃ）
【化５】
2006500436.tif 000005
で表され、
前記式（Ｅ）の化合物が式（Ｖ）、
【化６】
2006500436.tif 000006
で表され、
上記式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、メチル又はエチルであり；あるいは
Ｒ１及びＲ２並びに／又はＲ３及びＲ４は、それらが結合している炭素原子と一緒に、Ｃ５〜Ｃ８シクロアルキル環を形成し：
Ｒ５は、Ｈ又はメチルであり；
Ｒ６及びＲ７は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ８アルキル又はアリールであり；
Ｒ８は、Ｈ又はメチルであり；
Ｘは、ハロゲン又は−ＳＣＮであり；
Ａは、Ｏ又はＮＲ９（ここで、Ｒ９は、Ｈ、又はＣ１〜Ｃ１８アルキル、Ｃ５〜Ｃ１２シクロアルキル若しくはアリールであり）であり；
Ａ１は、−ＮＲ９−（ＣＨ２）ａ−ＮＲ９−基（ここで、ａは、２〜１２の数である）又は基
【化７】
2006500436.tif 000007
であり；
Ｄは、直接結合、又はＣ１〜Ｃ１２アルキレン、Ｃ５〜Ｃ１２シクロアルキレン若しくはアリーレンであり、ここで、前記アルキレン及びシクロアルキレンは、１つ以上のＯ原子、Ｓ原子又はＮ原子により中断されてもよく；
Ｅは、直接結合、Ｏ又はＮＲ９であり；
Ｇは、Ｃ１〜Ｃ１２アルキレン、Ｃ５〜Ｃ１２シクロアルキレン又はアリーレンであり、ここで、前記アルキレン及びシクロアルキレンは、１つ以上のＯ原子、Ｓ原子又はＮ原子により中断されてもよく；
ｎは、３又は４であり；
Ｑは、三価又は四価のカルボン酸のアシル残基であり；
Ｐは、三価又は四価のアルコールの残基である
、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
請求項１の記載の方法により得られるポリマー。
【請求項５】
式（Ｉａ）、式（Ｉｂ）又は式（Ｉｃ）
【化１１】
2006500436.tif 000008
（上記式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、メチル又はエチルであり；あるいはＲ１及びＲ２並びに／又はＲ３及びＲ４は、それらが結合している炭素原子と一緒に、Ｃ５〜Ｃ８シクロアルキル環を形成し：Ｒ５は、Ｈ又はメチルであり；Ｒ６及びＲ７は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ８アルキル又はアリールであり；Ｒ８は、Ｈ又はメチルであり；Ｘは、ハロゲン又は−ＳＣＮであり；Ａは、Ｏ又はＮＲ９であり、ここで、Ｒ９は、Ｈ又はＣ１〜Ｃ１８アルキル、Ｃ５〜Ｃ１２シクロアルキル若しくはアリールである）
の化合物。
【請求項６】
（ａ）熱、光又は酸素による分解を受ける有機材料、及び請求項１に記載の方法により得られる化合物を含有する、安定化された組成物。
【請求項７】
天然又は合成ポリマー用の安定剤として、請求項１に記載の方法により得られるポリマーの使用。
【請求項８】
天然又は合成ポリマー中の難燃添加剤として、請求項１に記載の方法により得られるポリマーの使用。
【請求項９】
制御されたラジカル重合反応での重合開始剤／調節剤として、請求項１に記載の方法により得られるポリマーの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月24日(2006.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
共役ジエンとビニル芳香族化合物とを用い不活性反応溶媒中のアニオン重合によってポリメリセートを生成する方法であって、
−少なくとも１つのリチウム有機化合物と、
−少なくとも１つのジアルキルエーテルを有する以下の化合式であって、
【化１】
2006500435.tif 000001
ここで、
Ｒ１及びＲ２は、異なる数の炭素原子を有する互いに独立したアルキル残基であり、これはメチル−、エチル−、ｎ−、イソ−プロピル、及びｎ−、イソ−、ｓｅｃ‐、ｔｅｒｔ−ブチルから成る群から選択されるものであり、２つのアルキル残基Ｒ１及びＲ２の炭素原子総数は５〜７であり、
Ｒ３は水素またはメチルまたはエチル基である、ジアルキルエーテルと、
−少なくとも１つのアルカリ有機化合物であって、前記アルカリ有機化合物が前記リチウム有機化合物中に１モルのリチウムにつき０．５モルを越す量で用いられる、アルカリ有機化合物と、
−前記アルカリ有機化合物は化学式Ｍ−ＯＲのアルカリ金属アルコラートであって、Ｒは１〜１０の炭素原子を有するアルキル基を表し、Ｍはナトリウムである、
存在下で行われる方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前述の請求項のいずれか１つの方法であって、
Ｒは３〜５の炭素原子を有することを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月14日(2006.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多孔質膜の少なくとも１つの特性を改変する方法において、
１０μ以下の平均孔径を有し、膜を貫通する互いに接続する複数の孔を有する膜を提供する工程と；
前記膜を超臨界条件の流体にさらす工程と；
前記膜が前記超臨界条件の流体にさらされている間に、前記膜の前記孔を規定する面の上に変性剤を付着させることにより、前記膜の少なくとも１つの特性を改変する工程と；
前記膜が、前記孔を規定する表面上に残留する付着変性剤により改変された特性を保持するように、前記流体の条件を変化させる工程とから成る方法。
【請求項２】
前記さらす工程は、前記流体として二酸化炭素（ＣＯ２）を提供する工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項３】
疎油性、親水性、導電率、イオン伝導率及び色より成る群から選択される、発泡ポリテトラフルオロエチレン（ｅＰＴＦＥ）膜の少なくとも１つの特性を改変する方法において、
膜を貫通し、互いに接続する孔を有するｅＰＴＦＥ膜を提供する工程と；
処理材料を提供する工程と；
前記処理材料を超臨界条件の流体に溶解させる工程と；
所定の長さの時間にわたり、所定の温度及び所定の圧力で、前記溶解された処理材料及び前記超臨界条件の流体に前記ｅＰＴＦＥ膜をさらす工程と；
前記溶解された処理材料及び前記超臨界条件の流体に前記膜がさらされている間に、前記ｅＰＴＦＥ膜の少なくとも１つの特性を改変させる工程と；
前記ｅＰＴＦＥ膜の孔を規定するｅＰＴＦＥ膜表面に前記処理材料を析出させ、それにより、前記ｅＰＴＦＥ膜の特性の改変を実現するために、前記流体の条件を変化させる工程とから成る方法。
【請求項４】
無定形部分及び結晶部分を有する発泡ポリテトラフルオロエチレン（ｅＰＴＦＥ）膜を処理する方法において、
ｅＰＴＦＥ膜を提供する工程と；
前記ｅＰＴＦＥ膜の一部を初期サイズから膨張させるために、前記ｅＰＴＦＥ膜を超臨界条件の下にある流体にさらす工程と；
前記ｅＰＴＦＥ膜の膨張した部分を更に無定形にするために、膨張によって、前記ｅＰＴＦＥ膜の前記結晶部分の結合を破壊する工程と；
前記ｅＰＴＦＥ膜の膨張した部分が初期サイズに戻り且つ前記ｅＰＴＦＥ膜のその部分において結晶結合が破壊されたままであるように、前記超臨界条件の下にある流体を前記ｅＰＴＦＥ膜から除去する工程とから成る方法。
【請求項５】
多孔質膜の少なくとも１つの特性を改変する方法において、
膜を貫通し、互いに接続する複数の孔を有する膜を提供する工程と；
処理材料を提供する工程と；
５．０ダイン（ｄｙｎ）／ｃｍ未満の表面張力を有する流体に前記処理材料を溶解させる工程と；
前記膜が前記溶解された処理材料及び前記流体にさらされている間に、前記膜の少なくとも１つの特性を改変する工程と；
前記膜が改変後の特性を保持するように、前記流体の状態を変化させる工程とから成る方法。
【請求項６】
防水性であり、水蒸気を透過し且つ通気性を有するシート材料において、
膜の主面の間で、膜を貫通し、互いに接続する平均孔径を有する複数の孔を規定する面を含む開放孔構造を有し、油及び汚染剤を吸収しやすい材料から製造された膜と；
前記膜の孔を規定する前記節及び微小繊維の表面の少なくとも複数の部分の上に、弗素化ポリマー材料により形成された一様な析出被覆膜とを具備し、
前記析出材料は、ＡＡＴＣＣ１１８試験による少なくとも数６の耐油性及び汚染剤耐性を提供し、且つ前記シート材料は、ＡＳＴＭＤ７３７試験による少なくとも０．２０ＣＦＭ／平方フィートの通気性を有するシート材料。
【請求項７】
シート材料の主面の間で、シート材料を貫通する複数の孔を規定する構造を有するシート材料と；
前記シート材料の孔を完全に閉塞することなく、前記シート材料の表面に付着され、弗素化ポリマー材料を含む被覆膜材料を含み、前記シート材料の疎油性を改変するための、ほぼ一様な被覆膜とを具備し、
前記被覆膜が、前記シート材料の孔に侵入可能な表面張力の低い溶液から塗布され；
前記被覆膜が溶媒中で不溶性になるとき、前記被覆膜が、前記微小繊維の表面に析出する、装置。
【請求項８】
微小繊維を有する膜であって、前記微小繊維の表面は、前記膜の主面の間で、前記膜を貫通する互いに接続する複数の孔の少なくとも一部を規定し、前記膜は、水蒸気を透過し、通気性を有し、防風性及び液体の浸透に対する耐性を有し、油及び汚染剤を吸収しやすい材料から製造される膜と；
前記膜の前記節及び微小繊維の表面に付着され、前記膜の孔を完全に閉塞することなく、前記膜に耐油性及び汚染剤に対する耐性を与える材料とを具備し、
前記材料は、前記膜の孔に侵入可能な表面張力の低い溶液から塗布され、前記材料は、溶媒中で不溶性になるとき、前記節及び微小繊維の表面に析出する改質膜。
【請求項９】
発泡ポリテトラフルオロエチレン（ｅＰＴＦＥ）から形成され、微小繊維により接続された節から成る構造を有する多孔質膜であって、前記節及び微小繊維の表面が、前記膜の主面の間で、前記膜を貫通する互いに接続する複数の孔を規定し、
前記膜の材料が、複数の互いに離間した部分を有する多孔質膜と、
前記膜の孔を完全に閉塞することなく、前記孔を規定する前記節及び微小繊維の表面の複数の部分の上に析出される析出材料であって、
前記膜の前記表面上の前記析出材料が、前記膜の少なくとも１つの特性に変化をもたらし、
前記析出材料の一部が、前記ｅＰＴＦＥ膜のＰＴＦＥ材料の一部により吸収される前記析出材料とから成るシート材料。
【請求項１０】
改質膜であって、
前記改質膜の主面の間で前記改質膜を貫通する互いに接続する複数の孔の少なくとも一部を規定する表面を備える前記微小繊維の構造と、
前記膜の前記微小繊維の表面に付着された材料と、を具備し、
前記材料は、前記膜の孔に侵入可能な表面張力の低い溶液から塗布され、前記材料は、溶媒中で不溶性になるとき、前記節及び微小繊維の表面に析出する、改質膜。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月28日(2006.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高い機械的強度を持つ接着剤において、Ｃ２−Ｃ６アルデヒド及びＣ１−Ｃ１２アルコールから調製されることができる、直鎖状または環状のジアセタールを含むことを特徴とする接着剤。
【請求項２】
Ｃ２−Ｃ４アルデヒド及びＣ１−Ｃ８アルコールから調製されたジアセタールを含むことを特徴とする請求項１に記載の接着剤。
【請求項３】
Ｃ２−Ｃ３アルデヒド及びＣ１−Ｃ３アルコールから調製されたジアセタールを含むことを特徴とする請求項１または２に記載の接着剤。
【請求項４】
１，１，２，２−テトラメトキシエタン、１，１，２，２−テトラエトキシエタン、１，１，２，２−テトラプロポキシエタン、１，１，３，３−テトラメトキシプロパン、または１，１，３，３−テトラエトキシプロパンを含むことを特徴とする請求項１から３の一つに記載の接着剤。
【請求項５】
１，１，２，２−テトラメトキシエタンを含むことを特徴とする請求項１から４の一つに記載の接着剤。
【請求項６】
二種または三種のジアセタール類のいずれかの組合せを含むことを特徴とする請求項１から５の一つに記載の接着剤。
【請求項７】
アミノ樹脂接着剤、特にメラミン−尿素−ホルムアルデヒドタイプのアミノ樹脂接着剤であることを特徴とする請求項１から６の一つに記載の接着剤。
【請求項８】
フェノール樹脂接着剤、特にフェノール−ホルムアルデヒドタイプのフェノール樹脂接着剤であることを特徴とする請求項１から６の一つに記載の接着剤。
【請求項９】
ホルムアルデヒドを含むまたは含まない、アミノ樹脂、フェノール樹脂またはレゾルシノール接着剤であることを特徴とする請求項１から６の一つに記載の接着剤。
【請求項１０】
１／０．２から３の割合の窒素化合物／ホルムアルデヒド混合物に基づいていることを特徴とする請求項７に記載の接着剤。
【請求項１１】
１／０．７から２．８の割合のフェノール／ホルムアルデヒド混合物に基づいていることを特徴とする請求項８に記載の接着剤。
【請求項１２】
アセタール（単数または複数）が接着剤の全成分の１．７から２５重量％で存在することを特徴とする請求項１から１１の一つに記載の接着剤。
【請求項１３】
請求項１から１２の一つに規定された接着剤を含むかまたはかかる接着剤を用いて調製された、繊維板、パーティクルボード、配向ストランドボード（すなわちＯＳＢ）、中及び高密度繊維板（すなわちＭＤＦ）、及び他のタイプの同様なボード及び合板のような農業廃棄物または木材組成物。
【請求項１４】
請求項１から１２の一つに規定された樹脂または接着剤を含むかまたはかかる樹脂または接着剤を用いて調製された、紙またはラミネートボード、またはかかる紙またはラミネートボードを用いて調製された製品。
【請求項１５】
繊維が請求項１から１２の一つに規定された樹脂または接着剤を用いて接着されることを特徴とする繊維の接着方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月30日(2006.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
合成複合フィラメントを含む布地であって、前記布地が、少なくとも１面のカレンダー加工した表面を含み、および低通気性を有し、
前記布地が、約２０％の伸縮織物の有効伸長率を有し、ここで前記伸縮織物の有効伸長率は、前記布地を３００ミリメートル／分の速度で延伸させる際に、０〜３０ニュートンの間の所定荷重によってもたらされる前記布地の長さの変化率であり、前記通気性が、１０ミリメートル水柱の静圧で測定した場合に、１秒あたり１平方センチメートルあたり６立方センチメートル（６ｃｍ３／ｃｍ２／秒）未満であることを特徴とする布地。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
この実施例は、説明することだけを目的としたものである。各種その他の実施態様が、添付の特許請求項の範囲内に包含されるということは、当業者には明らかであろう。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
１．  合成複合フィラメントを含む布地であって、前記布地が、少なくとも１面のカレンダー加工した表面を含み、および低通気性を有し、
前記布地が、約２０％の伸縮織物の有効伸長率を有し、ここで前記伸縮織物の有効伸長率は、前記布地を３００ミリメートル／分の速度で延伸させながら、０〜３０ニュートンの間の所定荷重によってもたらされる、前記布地の長さの変化率であり、前記通気性が、水柱１０ミリメートルの静圧で測定した場合に、１秒あたり１平方センチメートルあたり６立方センチメートル（６ｃｍ３／ｃｍ２／秒）未満であることを特徴とする布地。
２．  前記布地が、２０〜４００グラム／ｍ２の重量を有することを特徴とする１．に記載の布地。
３．  前記合成複合フィラメントが、ポリエステルフィラメント、ポリアミドフィラメントおよびそれらの混合物からなる群より選択されることを特徴とする１．に記載の布地。
４．  前記合成複合フィラメントが、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレートおよびポリテトラブチレンテレフタレートからなる群より選択されるポリマーを含むことを特徴とする１．に記載の布地。
５．  前記合成複合フィラメントが、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン４６、ナイロン７、ナイロン１０、ナイロン１１、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１２ならびにそれらの混合物およびそれらのコポリアミドからなる群より選択されるポリマーを含むことを特徴とする１．に記載の布地。
６．  前記合成フィラメントの少なくとも一部が、ＵＶ吸収添加剤を含むことを特徴とする１．に記載の布地。
７．  前記ＵＶ吸収添加剤が、二酸化チタン粒子を、０．１〜４重量％の重量濃度で含むことを特徴とする６．に記載の布地。
８．  前記布地が、少なくとも単層からなる領域を含むことを特徴とする１．に記載の布地。
９．  １．に記載の布地を含む物品。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月26日(2004.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
（Ａ）エチレン-2,6-ナフタレ-ト単位を８５モル％を超えて含み、固有粘度０．８０〜１．２の範囲のポリマーを２９０〜３３０℃の温度で押出する工程と、
（Ｂ）この溶融放出糸を遅延冷却区域を通過させた後、急冷固化させる工程と、（Ｃ）未延伸糸が０．３ｇ／ｄの初期応力に置かれた時１０％未満伸張し、１０〜５０ｇ／ｄの初期モジュラスを有し、又、前記初期応力よりは大きくて１．０ｇ／ｄ未満の応力に置かれた時、さらに少なくとも２００％伸張する力−変形曲線を有し、複屈折率が０．００１〜０．０１５になるようにする紡糸速度で糸を巻き取る工程と、
（Ｄ）巻き取られた糸を４．０倍以上の総延伸比で多段延伸させる工程とを含む方法によって製造される、下記の物性を有するポリエチレンナフタレート繊維。
（１）０．６〜０．９の固有粘度、（２）８．５ｇ／ｄ以上の強度、（３）６％以上の伸度、（４）０．３５以上の複屈折率、（５）１．３５５〜１．３７５の密度、（６）１〜４％の収縮率。