【手続補正書】
【提出日】平成18年7月10日(2006.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
異なる経路に沿って方向付けられた二つのビームからなる干渉信号Ｓ（ｔ）を提供することであって、前記信号Ｓ（ｔ）は前記異なる経路の間の光学的経路差ｎＬ※（ｔ）の変化を示し、ここで、ｎは前記異なる経路に沿った平均屈折率であり、Ｌ※（ｔ）は前記異なる経路の間の全物理的経路差であり、かつｔは時間である、干渉信号Ｓ（ｔ）を提供することと、
前記信号Ｓ（ｔ）の、その形の理想的表現Ａ1ｃｏｓ（ωRｔ＋φ（ｔ）＋ζ1）からの変位をもたらす一つ若しくは複数の誤差を表す一つ若しくは複数の係数を提供することであって、ここでＡ1及びζ1は定数であり、ωRは前記二つのビーム間の角周波数差であり、かつφ（ｔ）＝ｎｋＬ※（ｔ），ｋ＝２π／λであり、λは前記ビームの波長に等しい、一つ若しくは複数の誤差を表す一つ若しくは複数の係数を提供することと、
前記信号Ｓ（ｔ）の事前の値の関数を計算することと、
前記係数、及び前記信号Ｓ（ｔ）の事前の値の関数から少なくとも部分的に導出された一つ若しくは複数の誤差基底関数により生成された誤差信号ＳΨ（ｔ）を使用することにより、Ｓ（ｔ）の前記理想的表現からの変位を低減することとを含んでいる、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、前記二つのビームを前記異なる経路に沿って方向付けること、かつ、前記干渉信号Ｓ（ｔ）を測定することをさらに含んでいる、方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法であって、前記ビームのうちの少なくとも一方は、前記干渉信号Ｓ（ｔ）を形成する前に、可動測定物体により反射されるように方向付けられている、方法
【請求項４】
請求項３に記載の方法であって、前記可動測定物体に接触するように方向付けられている前記ビームは、前記干渉信号Ｓ（ｔ）を形成する前に、前記測定物体により複数回反射される、方法。
【請求項５】
請求項３に記載の方法であって、前記ビームは、前記干渉信号Ｓ（ｔ）を形成する前に、前記可動測定物体の異なる位置により反射されるように方向付けられている、方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法であって、前記誤差はスプリアスビームの経路に対応している、方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法であって、前記変位は以下のように表現され、
【数１】
2005532554.tif 000001
ここで、ｐ＝１，２，３・・・，であり、ｍはｐとは異なる任意の整数であり、前記提供される係数は、Ａm,p及びζm,pの少なくとも一部に対応する情報を含んでいる、方法。
【請求項８】
請求項６７に記載の方法であって、ωRはゼロではない、方法。
【請求項９】
請求項８に記載の方法であって、
定数ＡR及びζRを有する基準信号ＳR（ｔ）＝ＡRｃｏｓ（ωRｔ＋ζR）を提供することと、
前記信号ＳR（ｔ）に基づいて直角位相基準信号Ｓ※R（ｔ）を計算することとをさらに含み、
前記誤差基底関数は、前記信号Ｓ（ｔ），Ｓ※（ｔ），ＳR（ｔ），及びＳ※R（ｔ）から導出される、方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の方法であって、前記二つのビームの共通のソースからの出力に基づいた前記基準信号Ｓ※R（ｔ）を測定することをさらに含んでいる、方法。
【請求項１１】
請求項６７に記載の方法であって、前記直角位相信号Ｓ※（ｔ）を計算することは、式、
【数２】
2005532554.tif 000002
に基づいて前記直角位相信号Ｓ※（ｔ）を計算することを含み、ここで、τ＞０であり、ωMは前記干渉信号Ｓ（ｔ）の位相の瞬間的な変化率である、方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の方法であって、前記直角位相信号Ｓ※（ｔ）を計算することは、ωMをωM≒ωR＋ｄφ（ｔ）／ｄｔにより近似すること、をさらに含み、ここで、前記干渉信号Ｓ（ｔ）の理想的表現からの変位は無視することが可能であると仮定することにより、前記干渉信号Ｓ（ｔ）からωMの表現中のφ（ｔ）は決定される、方法。
【請求項１３】
請求項１１に記載の方法であって、前記直角位相信号Ｓ※（ｔ）を計算することは、ωMをωM≒ωRにより近似することをさらに含んでいる、方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の方法であって、前記直角位相信号Ｓ※（ｔ）を計算することは、簡単な式、
【数３】
2005532554.tif 000003
により前記直角位相信号Ｓ※（ｔ）を計算すること、を含み、ここで、Ｎは非負の整数である、方法。
【請求項１５】
請求項９に記載の方法であって、前記直角位相基準信号Ｓ※R（ｔ）を計算することは、式、
【数４】
2005532554.tif 000004
に基づいて前記直角位相基準信号Ｓ※R（ｔ）を計算することを含み、ここで、τ＞０である、方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の方法であって、前記直角位相基準信号Ｓ※R（ｔ）を計算することは、簡単な式、
【数５】
2005532554.tif 000005
により前記直角位相基準信号Ｓ※R（ｔ）を計算することを含み、ここで、Ｎは非負の整数である、方法。
【請求項１７】
請求項１に記載の方法であって、前記干渉信号Ｓ（ｔ）は、ωR／２πの整数倍のデータレートにより提供される、方法。
【請求項１８】
請求項１に記載の方法であって、前記誤差基底関数は、引数の時間依存性がωRｔ＋（ｍ／ｐ）φ（ｔ）の形を示す正弦関数及び余弦関数の一つ若しくは複数のペアに対応し、ここで、ｐは正の整数であり、ｍはｐとは異なる整数である、方法。
【請求項１９】
請求項１８に記載の方法であって、前記誤差基底関数は、前記正弦関数及び余弦関数の複数のペアに対応する、方法。
【請求項２０】
請求項１９に記載の方法であって、前記誤差基底関数は、｛（ｐ＝１，ｍ＝−１），（ｐ＝１，ｍ＝０），（ｐ＝１，ｍ＝２），（ｐ＝１，ｍ＝３），（ｐ＝２，ｍ＝１）｝の前記正弦関数及び余弦関数の族（ｆａｍｉｌｙ）からの前記正弦関数及び余弦関数の複数のペアを含んでいる、方法。
【請求項２１】
請求項６７に記載の方法であって、前記信号Ｓ（ｔ）及びＳ※（ｔ）から前記誤差基底関数を生成することをさらに含んでいる、方法。
【請求項２２】
請求項９に記載の方法であって、前記信号Ｓ（ｔ），Ｓ※（ｔ），ＳR（ｔ），及びＳ※R（ｔ）から前記誤差基底関数を生成することをさらに含んでいる、方法。
【請求項２３】
請求項２２に記載の方法であって、前記誤差基底関数は、前記信号Ｓ（ｔ），Ｓ※（ｔ），ＳR（ｔ），及びＳ※R（ｔ）の代数的組み合せにより生成される、方法。
【請求項２４】
請求項１に記載の方法であって、前記誤差信号ＳΨ（ｔ）を生成することをさらに含んでいる、方法。
【請求項２５】
請求項２４に記載の方法であって、前記誤差信号ＳΨ（ｔ）は、前記誤差を表す前記係数により重み付けられた前記誤差基底関数の重ね合わせにより生成される、方法。
【請求項２６】
請求項１に記載の方法であって、前記変位を低減することは、前記干渉信号Ｓ（ｔ）から前記誤差信号ＳΨ（ｔ）を差し引くことを含んでいる、方法。
【請求項２７】
請求項１に記載の方法であって、前記変位を低減した後の前記干渉信号Ｓ（ｔ）から前記光学的経路差ｎＬ※（ｔ）の値を決定することをさらに含んでいる、方法
【請求項２８】
請求項６７に記載の方法であって、前記直角位相信号Ｓ※（ｔ）は、前記干渉信号Ｓ（ｔ）から、近似Ｓ（ｔ）≒Ｓ（ｔ−２πＮ／ωR）によりＳ（ｔ）の事前の値に基づき計算され、ここで、Ｎは正の整数である、方法。
【請求項２９】
請求項６７に記載の方法であって、前記誤差信号ＳΨ（ｔ）を生成するのに使用される前記誤差基底関数は、近似Ｓ（ｔ）≒Ｓ（ｔ−２πＮ／ωR）及びＳ※（ｔ）≒Ｓ※（ｔ−２πＭ／ωR）により前記信号Ｓ（ｔ）及びＳ※（ｔ）の事前の値から導出され、ここで、Ｎ及びＭは正の整数である、方法。
【請求項３０】
請求項１に記載の方法であって、ωR＞１００・ｄφ（ｔ）／ｄｔである、方法。
【請求項３１】
請求項１に記載の方法であって、ωR＞５００・ｄφ（ｔ）／ｄｔである、方法。
【請求項３２】
共通のソースから抽出され、かつ異なる経路に沿って方向付けられた二つのビームからなる干渉信号Ｓ（ｔ）を提供することであって、前記信号Ｓ（ｔ）は前記異なる経路の間の光学的経路差ｎＬ※（ｔ）の変化を示し、ここで、ｎは前記異なる経路に沿った平均屈折率であり、Ｌ※（ｔ）は前記異なる経路の間の全物理的経路差であり、かつｔは時間である、干渉信号Ｓ（ｔ）を提供することと、
前記信号Ｓ（ｔ）の、その形の理想的表現Ａ1ｃｏｓ（ωRｔ＋φ（ｔ）＋ζ1）からの変位をもたらす一つ若しくは複数の誤差を表す係数を計算することであって、ここでＡ1及びζ1は定数であり、ωRは前記二つのビーム間の角周波数差であり、かつφ（ｔ）＝ｎｋＬ※（ｔ），ｋ＝２π／λであり、λは前記ビームの波長に等しい、一つ若しくは複数の誤差を表す係数を提供することと、
正の整数Ｎに対し、近似Ｓ（ｔ）≒Ｓ（ｔ−２πＮ／ωR）によって、前記係数及びＳ（ｔ）の事前の値に基づき、前記干渉信号Ｓ（ｔ）から導出された誤差基底関数により生成された誤差信号ＳΨ（ｔ）を使用することにより、Ｓ（ｔ）の前記理想的な表現からの変位を低減することとを含んでいる、方法。
【請求項３３】
請求項３２に記載の方法であって、ωR＞１００・ｄφ（ｔ）／ｄｔである、方法。
【請求項３４】
請求項３２に記載の方法であって、ゼロでないωR、並びに、定数ＡR及びζRを有する基準信号ＳR（ｔ）＝ＡRｃｏｓ（ωRｔ＋ζR）を提供することをさらに含み、前記誤差基底関数は、前記信号Ｓ（ｔ）及びＳR（ｔ）から導出される、方法。
【請求項３５】
請求項３４に記載の方法であって、前記誤差基底関数の前記導出は、ＳR（ｔ）＝ＳR（ｔ−２πＭ／ωR）により、ＳR（ｔ）の事前の値に基づき成され、ここで、Ｍは正の整数である、方法。
【請求項３６】
共通のソースから抽出され、かつ異なる経路に沿って方向付けられた二つのビームからなる干渉信号Ｓ（ｔ）の、その形の理想的表現Ａ1ｃｏｓ（ωRｔ＋φ（ｔ）＋ζ1）からの変位をもたらす一つ若しくは複数の誤差を表す係数を推定するための方法であって、前記信号Ｓ（ｔ）は前記異なる経路の間の光学的経路差ｎＬ※（ｔ）の変化を示し、
ここで、ｎは前記異なる経路に沿った平均屈折率であり、Ｌ※（ｔ）は前記異なる経路の間の全物理的経路差であり、ｔは時間であり、Ａ1及びζ1は定数であり、ωRは前記二つのビーム間の角周波数差であり、かつφ（ｔ）＝ｎｋＬ※（ｔ），ｋ＝２π／λであり、λは前記ビームの波長に等しく、
前記信号Ｓ（ｔ）に基づいて直角位相信号Ｓ※（ｔ）を計算することと、
前記信号Ｓ（ｔ）及びＳ※（ｔ）に基づいて前記係数の推定値を計算することとを含んでいる、方法。
【請求項３７】
請求項３６に記載の方法であって、
ゼロでないωR、並びに、定数ＡR及びζRを有する基準信号ＳR（ｔ）＝ＡRｃｏｓ（ωRｔ＋ζR）を提供することと、
前記信号ＳR（ｔ）に基づいて直角位相基準信号Ｓ※R（ｔ）を計算することとをさらに含み、
前記係数の前記推定値は、前記信号Ｓ（ｔ），Ｓ※（ｔ），ＳR（ｔ），及びＳ※R（ｔ）に基づいている、方法。
【請求項３８】
請求項３６に記載の方法であって、前記係数の前記推定値を計算することは、前記信号Ｓ（ｔ）及びＳ※（ｔ）から導出された誤差基底関数を生成することを含んでいる、方法。
【請求項３９】
請求項３７に記載の方法であって、前記係数の前記推定値を計算することは、前記信号Ｓ（ｔ），Ｓ※（ｔ），ＳR（ｔ），及びＳ※R（ｔ）から導出された誤差基底関数を生成することを含んでいる、方法。
【請求項４０】
請求項３９に記載の方法であって、前記誤差基底関数は、引数の時間依存性がωRｔ＋（ｍ／ｐ）φ（ｔ）の形を示す正弦関数及び余弦関数の一つ若しくは複数のペアに対応し、ここで、ｐは正の整数であり、ｍはｐとは異なる整数である、方法。
【請求項４１】
請求項４０に記載の方法であって、前記誤差基底関数は、前記信号Ｓ（ｔ），Ｓ※（ｔ），ＳR（ｔ），及びＳ※R（ｔ）の代数的組み合せから生成される、方法。
【請求項４２】
請求項４０に記載の方法であって、前記誤差基底関数は、前記正弦関数及び余弦関数の複数のペアに対応している、方法。
【請求項４３】
請求項４２に記載の方法であって、前記誤差基底関数は、｛（ｐ＝１，ｍ＝−１），（ｐ＝１，ｍ＝０），（ｐ＝１，ｍ＝２），（ｐ＝１，ｍ＝３），（ｐ＝２，ｍ＝１）｝の前記正弦関数及び余弦関数の族からの前記正弦関数及び余弦関数の複数のペアを含んでいる、方法。
【請求項４４】
請求項３８に記載の方法であって、前記係数の前記推定値を計算することは、前記誤差基底関数、並びに前記信号Ｓ（ｔ）及びＳ※（ｔ）の代数的組み合せにローパス・フィルタをかけることを含んでいる、方法。
【請求項４５】
請求項３９に記載の方法であって、前記係数の前記推定値を計算することは、前記誤差基底関数、並びに前記信号Ｓ（ｔ）及びＳ※（ｔ）の代数的組み合せにローパス・フィルタをかけることを含んでいる、方法。
【請求項４６】
請求項４４に記載の方法であって、前記ローパス・フィルタをかけることは、ブッターワース・フィルタを使用することを含んでいる、方法。
【請求項４７】
請求項４５に記載の方法であって、前記ローパス・フィルタをかけることは、ブッターワース・フィルタを使用することを含んでいる、方法。
【請求項４８】
動作の間、プロセッサにより請求項１に記載の方法を実行させ、かつコンピュータにより判読可能な媒体を備えている、装置。
【請求項４９】
動作の間、プロセッサにより請求項３２に記載の方法を実行させ、かつコンピュータにより判読可能な媒体を備えている、装置。
【請求項５０】
動作の間、プロセッサにより請求項３６に記載の方法を実行させ、かつコンピュータにより判読可能な媒体を備えている、装置。
【請求項５１】
動作の間、二つのビームを異なる経路に沿って方向付け、かつ、前記二つのビームから干渉信号Ｓ（ｔ）を提供する干渉計システムであって、前記信号Ｓ（ｔ）は前記異なる経路の間の光学的経路差ｎＬ※（ｔ）の変化を示し、ここで、ｎは前記異なる経路に沿った平均屈折率であり、Ｌ※（ｔ）は前記異なる経路の間の全物理的経路差であり、かつｔは時間であり、
前記干渉計システムにおける不完全性は、前記信号Ｓ（ｔ）の、その形の理想的表現Ａ1ｃｏｓ（ωRｔ＋φ（ｔ）＋ζ1）からの変位をもたらす一つ若しくは複数の誤差を生成し、ここでＡ1及びζ1は定数であり、ωRは前記二つのビーム間の角周波数差であり、かつφ（ｔ）＝ｎｋＬ※（ｔ），ｋ＝２π／λであり、λは前記ビームの波長に等しい、干渉計システムと、
電子プロセッサであって、動作の間、前記干渉計システムから前記干渉信号Ｓ（ｔ）を受信し、前記一つ若しくは複数の誤差を表す一つ若しくは複数の係数を受信し、前記信号Ｓ（ｔ）の事前の値の関数を計算し、かつ、前記係数、及び前記信号Ｓ（ｔ）の事前の値の関数から少なくとも部分的に導出された一つ若しくは複数の誤差基底関数により生成された誤差信号ＳΨ（ｔ）を使用することにより、Ｓ（ｔ）の、前記理想的表現からの前記変位を低減する、電子プロセッサとを備える、装置。
【請求項５２】
動作の間、共通のソースから抽出された二つのビームを異なる経路に沿って方向付け、かつ、前記二つのビームから干渉信号Ｓ（ｔ）を提供する干渉計システムであって、前記信号Ｓ（ｔ）は前記異なる経路の間の光学的経路差ｎＬ※（ｔ）の変化を示し、ここで、ｎは前記異なる経路に沿った平均屈折率であり、Ｌ※（ｔ）は前記異なる経路の間の全物理的経路差であり、かつｔは時間であり、
前記干渉計システムにおける不完全性は、前記信号Ｓ（ｔ）の、その形の理想的表現Ａ1ｃｏｓ（ωRｔ＋φ（ｔ）＋ζ1）からの変位をもたらす一つ若しくは複数の誤差を生成し、ここでＡ1及びζ1は定数であり、ωRは前記二つのビーム間の角周波数差であり、かつφ（ｔ）＝ｎｋＬ※（ｔ），ｋ＝２π／λであり、λは前記ビームの波長に等しい、干渉計システムと、
電子プロセッサであって、動作の間、前記干渉計システムから前記干渉信号Ｓ（ｔ）を受信し、前記一つ若しくは複数の誤差を表す係数を受信し、かつ、前記係数、及び正の整数Ｎに対して、近似Ｓ（ｔ）≒Ｓ（ｔ−２πＮ／ωR）によって、Ｓ（ｔ）の事前の値に基づき、前記干渉信号Ｓ（ｔ）から導出された誤差基底関数により生成された誤差信号ＳΨ（ｔ）を使用することにより、Ｓ（ｔ）の前記理想的な表現からの前記変位を低減する、電子プロセッサとを備える、装置。
【請求項５３】
動作の間、共通のソースから抽出された二つのビームを異なる経路に沿って方向付け、かつ、前記二つのビームから干渉信号Ｓ（ｔ）を提供する干渉計システムであって、前記信号Ｓ（ｔ）は前記異なる経路の間の光学的経路差ｎＬ※（ｔ）の変化を示し、ここで、ｎは前記異なる経路に沿った平均屈折率であり、Ｌ※（ｔ）は前記異なる経路の間の全物理的経路差であり、かつｔは時間であり、
前記干渉計システムにおける不完全性は、前記信号Ｓ（ｔ）の、その形の理想的表現Ａ1ｃｏｓ（ωRｔ＋φ（ｔ）＋ζ1）からの変位をもたらす一つ若しくは複数の誤差を生成し、ここでＡ1及びζ1は定数であり、ωRは前記二つのビーム間の角周波数差であり、かつφ（ｔ）＝ｎｋＬ※（ｔ），ｋ＝２π／λであり、λは前記ビームの波長に等しい、干渉計システムと、
電子プロセッサであって、動作の間、前記干渉計システムから前記干渉信号Ｓ（ｔ）を受信し、前記信号Ｓ（ｔ）に基づいて直角位相信号Ｓ※（ｔ）を計算し、かつ、前記信号Ｓ（ｔ）及びＳ※（ｔ）に基づいて、前記一つ若しくは複数の誤差を表す係数の推定値を計算する、電子プロセッサとを備える、装置。
【請求項５４】
ウェハ上に集積回路を製造する際に使用するリソグラフィ・システムであって、
前記ウェハを支持するためのステージと、
空間的にパターン化された放射線を前記ウェハ上に結像するための照射システムと、
前記結像された放射線に対する前記ステージの位置を調整するための位置決めシステムと、
前記結像された放射線に対する前記ウェハの位置を監視するための請求項５１，５２，又は５３に記載の装置とを備えている、リソグラフィ・システム。
【請求項５５】
ウェハ上に集積回路を製造する際に使用するリソグラフィ・システムであって、
前記ウェハを支持するためのステージと、
放射線ソース、マスク、位置決めシステム、レンズ組立部品、及び請求項５１，５２，又は５３に記載の装置を含む照射システムとを備え、
動作の間、前記ソースは放射線を配向して、前記マスクを介して空間的にパターン化された放射線を生成し、前記位置決めシステムは、前記ソースからの前記放射線に対する前記マスクの位置を調整し、前記レンズ組立部品は、前記空間的にパターン化された放射線を前記ウェハ上に結像し、かつ、前記装置は、前記ソースからの前記放射線に対する前記マスクの位置が監視する、リソグラフィ・システム。
【請求項５６】
リソグラフィ・マスクを製造する際に使用するビーム書き込みシステムであって、
基板にパターンを書き込むための書き込みビームを提供するソースと、
前記基板を支持するステージと、
前記基板に前記書き込みビームを移送するためのビーム配向組立部品と、
前記ステージ及びビーム配向組立部品を相対的に位置決めするための位置決めシステムと、
前記ビーム配向組立部品に対する前記ステージの位置を監視するための請求項５１，５２，又は５３に記載の装置とを備えている、ビーム書き込みシステム。
【請求項５７】
ウェハ上に集積回路を製造する際に使用するリソグラフィの方法であって、
可動ステージ上で前記ウェハを支持することと、
前記ウェハ上に空間的にパターン化された放射線を結像することと、
前記ステージの位置を調整することと、
請求項１，３２，又は３６に記載の方法を使用して前記ステージの位置を監視することとを含んでいる、リソグラフィの方法。
【請求項５８】
集積回路を製造する際に使用するリソグラフィの方法であって、
マスクを介して空間的にパターン化された放射線を生成するために、入力放射線を方向付けることと、
前記入力放射線に対して前記マスクを位置決めすることと、
請求項１，３２，又は３６に記載の方法を使用して前記入力放射線に対する前記マスクの位置を監視することと、
前記空間的にパターン化された放射線をウェハ上に結像することとを含んでいる、リソグラフィの方法。
【請求項５９】
ウェハ上に集積回路を製造するためのリソグラフィの方法であって、
前記ウェハに空間的にパターン化された放射線を照射するため、リソグラフィ・システムの第一部品を、リソグラフィ・システムの第二部品に対して位置決めすることと、
請求項１，３２，又は３６に記載の方法を使用して前記第二部品に対する前記第一部品の位置を監視することとを含んでいる、リソグラフィの方法。
【請求項６０】
集積回路を製造するための方法であって、請求項５７に記載のリソグラフィの方法を含んでいる、集積回路を製造するための方法。
【請求項６１】
集積回路を製造するための方法であって、請求項５８に記載のリソグラフィの方法を含んでいる、集積回路を製造するための方法。
【請求項６２】
集積回路を製造するための方法であって、請求項５９に記載のリソグラフィの方法を含んでいる、集積回路を製造するための方法。
【請求項６３】
集積回路を製造するための方法であって、請求項５４に記載のリソグラフィ・システムを使用することを含んでいる、集積回路を製造するための方法。
【請求項６４】
集積回路を製造するための方法であって、請求項５５に記載のリソグラフィ・システムを使用することを含んでいる、集積回路を製造するための方法。
【請求項６５】
リソグラフィのマスクを製造するための方法であって、
基板にパターンを書き込むために、書き込みビームを基板に向き付けることと、
前記書き込みビームに対して前記基板を位置決めすることと、
請求項１，３２，又は３６に記載の干渉計の方法を使用することにより、前記書き込みビームに対する前記基板の位置を監視することとを含んでいる、リソグラフィのマスクを製造するための方法。
【請求項６６】
請求項１に記載の方法であって、前記信号Ｓ（ｔ）の事前の値の関数を計算することは、前記信号Ｓ（ｔ）に基づいて、直角位相信号Ｓ※（ｔ）を計算することを含む、方法。
【請求項６７】
請求項６６に記載の方法であって、前記誤差基底関数は、前記信号Ｓ（ｔ）及びＳ※（ｔ）から導出される、方法。