Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月19日(2006.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）溶融石英を含む本体と
ｂ）本体の露出面に設けられた皮膜と
を備える溶融石英物品であって、上記皮膜が、各々原子価４未満の複数の金属陽イオンを含んでおり、上記複数の金属陽イオンがアルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属及びこれらの組合せの少なくとも１種の陽イオンを含み、複数の金属陽イオンが皮膜中に０．１原子％以上の濃度で存在し、本体中の溶融石英が１０００℃〜１６００℃の範囲内の温度でクリストバライト結晶構造への転移を起こす、溶融石英物品。
【請求項２】
当該溶融石英物品の溶融温度がクリストバライトの融点以上である、請求項１記載の溶融石英物品。
【請求項３】
前記皮膜の厚さが５０ｎｍ〜５μｍである、請求項１記載の溶融石英物品。
【請求項４】
前記複数の陽イオンがバリウム、カルシウム、ストロンチウム及びこれらの組合せの少なくとも１種の陽イオンを含む、請求項１記載の溶融石英物品。
【請求項５】
前記少なくとも１種の金属陽イオンが皮膜中に０．５原子％以上の濃度で存在する、請求項１記載の溶融石英物品。
【請求項６】
溶融石英物品用の外皮膜であって、上記外皮膜が複数の金属陽イオンを含み、上記複数の金属陽イオンがバリウム、カルシウム、ストロンチウム及びこれらの組合せの少なくとも１種の陽イオンを含み、複数の金属陽イオンが皮膜中に０．１原子％以上の濃度で存在し、複数の陽イオンが、溶融石英物品内の溶融石英の１０００℃〜１６００℃の範囲内の温度でのクリストバライト結晶構造への転移を触媒する、溶融石英物品用の外皮膜。
【請求項７】
当該外皮膜の厚さが５０ｎｍ〜５μｍである、請求項６記載の外皮膜。
【請求項８】
溶融石英物品の露出面にドープト皮膜を形成する方法であって、
上記溶融石英物品が溶融石英を含む本体と本体の露出面に設けられた皮膜とを備え、上記ドープト皮膜が、各々原子価４未満の複数の金属陽イオンを含んでおり、複数の金属陽イオンがアルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属及びこれらの組合せの少なくとも１種の陽イオンを含み、複数の金属陽イオンがドープト皮膜中に０．１原子％以上の濃度で存在し、当該方法が、
ａ）アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属及びこれらの組合せの少なくとも１種の陽イオンを含む複数の金属陽イオンをドープしたシリカスラリーを溶融石英物品の露出面に塗工する工程、及び
ｂ）露出面上のシリカスラリーを乾燥する工程
を含む方法。
【請求項９】
前記シリカスラリーが複数の金属陽イオンでドープされ、金属陽イオンがバリウムイオン、カルシウムイオン及びストロンチウムイオンからなる群から選択される、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記複数の金属陽イオンが、シリカスラリー中に１３ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍの濃度範囲で存在する、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
前記シリカスラリーを溶融石英物品の露出面に塗工する工程が、ａ）シリカスラリーを溶融石英物品の露出面にスプレーする工程、ｂ）シリカスラリーを溶融石英物品の露出面に塗布する工程又はｃ）溶融石英物品をシリカスラリー含有浴に浸漬する工程のいずれかを含む、請求項８記載の方法。
【請求項１２】
さらに、シリカスラリーを溶融石英物品の露出面に塗工する工程に先立って、溶融石英物品を５０℃〜７０℃の範囲内の温度に予熱する工程を含む、請求項８記載の方法。
【請求項１３】
前記ドープト皮膜の厚さが５０ｎｍ〜５μｍである、請求項８記載の方法。
【請求項１４】
溶融石英物品の耐クリープ性を改良する方法であって、
上記溶融石英物品が溶融石英を含む本体と本体の露出面に設けられた皮膜とを備え、上記皮膜が、各々原子価４未満の複数の金属陽イオンを含んでおり、複数の金属陽イオンがアルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属及びこれらの組合せの少なくとも１種の陽イオンを含み、複数の少なくとも１種の金属陽イオンが皮膜中に０．１原子％以上の濃度で存在し、本体が１０００℃〜１６００℃の範囲内の温度でクリストバライト結晶構造への転移を起こし、当該方法が、
ａ）アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属及びこれらの組合せの少なくとも１種の陽イオンを含む複数の金属陽イオンをドープしたシリカスラリーを溶融石英物品の露出面に塗工する工程、
ｂ）露出面上のシリカスラリーを乾燥する工程、
ｃ）露出面を火炎研磨する工程であって、乾燥後のシリカスラリーが露出面にドープト皮膜を形成する工程、及び
ｄ）溶融石英物品及びドープト皮膜を１０００℃〜１６００℃の範囲内の温度に加熱し、もって露出面にクリストバライト結晶の核を形成し、クリストバライト結晶によって溶融石英物品の耐クリープ性を高める工程
を含む方法。
【請求項１５】
前記シリカスラリーを複数の金属陽イオンでドープするに当たり、金属陽イオンがバリウムイオン、カルシウムイオン及びストロンチウムイオンからなる群から選択される、請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
前記シリカスラリーを溶融石英物品の露出面に塗工する工程が、ａ）シリカスラリーを溶融石英物品の露出面にスプレーする工程、ｂ）シリカスラリーを溶融石英物品の露出面に塗布する工程又はｃ）溶融石英物品をシリカスラリー含有浴に浸漬する工程のいずれかを含む、請求項１４記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
マッフル管やるつぼのような溶融石英物品は、高い操作温度で粘性クリープが起こるため、使用寿命が限られている。
【特許文献１】米国特許第４０７２４８９号明細書
【特許文献２】米国特許第４１０２６６６号明細書
【特許文献３】米国特許第５０５３３５９号明細書
【特許文献４】米国特許第５３８９５８２号明細書
【特許文献５】米国特許第５９７６２４７号明細書
【特許文献６】欧州特許出願公開第０７４８８８５号明細書
【特許文献７】欧州特許出願公開第０７５３６０５号明細書
【特許文献８】特開昭６３−２３６７２２号公報
【特許文献９】特開昭６３−２３６７２３号公報
【特許文献１０】特開２００２−０２９８９０号公報
【特許文献１１】国際公開第０２／０７０４１４号パンフレット号
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月28日(2006.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ファイバユニットを粒子状物質でコーティングする装置であって、該装置はファイバユニットのための通路と、この通路の中へ粒子状物質とガスとの混合体を受け入れる入口とを含み、
粒子状物質とガスとの混合体の流れがこの入口から前記通路に入ると、該混合体は使用時にファイバユニットの長手軸に関してほぼ平行に導かれる。
【請求項２】
前記入口は、混合体が前記通路に入る領域で、粒子状物質とガスとの混合体をその中へ受け入れるように前記通路を取り囲み、かつ全域にわたって前記通路へ開口している空洞の形態を有している、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
ファイバユニットを粒子状物質でコーティングする装置であって、該装置はファイバユニットのための通路と、この通路の中へ粒子状物質とガスとの混合体を受け入れる入口とを含み、
前記入口は、混合体が前記通路に入る領域で、粒子状物質とガスとの混合体をその中へ受け入れるように前記通路を取り囲み、かつ全域にわたって前記通路へ開口している空洞の形態を有している。
【請求項４】
前記空洞は円筒状である、請求項２または請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記空洞の外壁は円錐台状である、請求項２または請求項３に記載の装置。
【請求項６】
前記入口は、空洞の上へほぼ半径方向に開口している２つの入口導管を更に含む、請求項２乃至請求項５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項７】
前記入口導管は半径位置からずれている、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記入口を通る粒子状物質とガスとの混合体の供給速度は調整することができる、請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の装置。
【請求項９】
コーティングチャンバの中に画定された通路にファイバユニットを供給する工程と、この通路の中に入口から粒子状物質とガスとの混合体を供給する工程とを含み、
使用時に、粒子状物質とガスとの混合体の流れが前記入口から前記通路に入ると、混合体の流れはファイバユニットの長手軸に関してほぼ平行に導かれる、
ファイバユニットを粒子状物質でコーティングする方法。
【請求項１０】
前記混合体が前記通路に入る領域において、前記入口は、前記通路を取り囲む空洞の形態に形成されている、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
コーティングチャンバの中に画定された通路にファイバユニットを供給する工程と、前記通路の中に入口から粒子状物質とガスとの混合体を供給する工程とを含むファイバユニットを粒子状物質でコーティングする方法において、
前記混合体は前記通路に入る領域において、前記入口は、前記通路を取り囲む空洞の形態に形成されている。
【請求項１２】
前記空洞は円筒状である、請求項１０または請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記空洞の外壁は円錐台状である、請求項１０または請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記粒子状物質とガスとの混合体を２つの入口導管から空洞の上へほぼ半径方向に供給することを更に含む、請求項１０乃至請求項１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記入口導管は半径位置からずれている、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記入口を通る粒子状物質とガスとの混合体の供給速度は調整することができる、請求項９乃至請求項１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
前記通路は前記通路の中央長さ部分を有し、前記通路の端部において粒子状物質の移動を偏倚させるためのガス流をもたらすために作動することができ、それによって粒子状物質が前記通路の端部で渋滞するのを実質的に防止する排除手段を更に含む、請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１８】
前記排除手段は、減少した断面積を有している前記通路の長さ部分の中への加圧ガス入口を含む、排除手段の物理的特性が、より大きい容積のガス流を前記入口から前記通路の中央領域へ向けて導くようなものである、請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記物理的特性は、より大きい断面積が前記入口から前記通路の中央部分へ向かって通り抜ける空気流によって実現されるように、通路の前記長さ部分に沿って差のある断面積をもたらすことを含む、請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
前記物理的特性は、前記入口から前記通路の中央部分へ向かって通り抜ける空気流によって、通路の前記長さ部分のより長い一部分が実現されるように、ガス入口を配置することを含む、請求項１８または請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
排除手段からのガスの噴流が前記通路の中央部分の中へ実質的に導かれる、請求項１８乃至請求項２０のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２２】
前記通路の両方端部において排除手段を含み、ガスの噴流が反対方向へ、共に実質的に前記通路の中央部分の中へ導かれる、請求項１８乃至請求項２１のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２３】
チャンバへ振動を供給するための手段を更に含む、請求項１８乃至請求項２２のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２４】
前記振動は前記チャンバの局限部分へ施される、請求項２３に記載の装置。
【請求項２５】
粒子状物質が前記通路の端部を通して漏れるのを実質的に防止するために、ファイバユニット通路の中において粒子状物質の移動を偏倚させるためのガス流をもたらす工程を含む請求項９乃至請求項１６のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月27日(2005.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
螺旋状外部ねじ山（７）と、
円周方向に拡大したプラグリム（４）と、
前記プラグリムの真下にある環状ガスケット台座（４３）と、
前記ガスケット台座（８、６４、７２）の下に、半径方向外側に延在するガスケット保持リップ（９、６１、６８）とを
有する円筒状側壁（３）を有して形成される閉鎖プラグであって、
ガスケット保持リップ（９、６１、６８）は、
ｉ）前記ガスケット台座（８、６４、７２）と前記側壁ねじ山（７）との間に介在して配置され
ｉｉ）一様で、連続した、上向き環状面（１１，６２）および
ｉｉｉ）前記側壁ねじ山（７）の頂の外側半径方向延在部（Ｄ２）に対して、軸方向に同一線上にあるか、あるいは、径が小さい、一定の半径方向延在部（Ｄ１）を有することを特徴とする、閉鎖プラグ。
【請求項２】
前記ガスケット保持リップ（９、６１、６８）は、前記プラグリム（４）の下面（４ａ）に平行な面にあることをさらに特徴とする、請求項１に記載の閉鎖プラグ。
【請求項３】
前記ガスケット保持台座（８）は、前記ねじ山の谷の径と軸方向にほぼ同一線上にあることをさらに特徴とする、請求項１または２に記載の閉鎖プラグ。
【請求項４】
前記側壁ねじ山（７）は、前記保持リップ（９）内の地点（１０）で途切れて終端しており、前記ねじ山の終端部の真上に一様の上向き環状面（１１）を残していることをさらに特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の閉鎖プラグ。
【請求項５】
前記ガスケット保持リップ（６１、６８）は、前記ねじ山の谷の径（Ｄ４）よりも小さい内側のつけ根（６３）の径（Ｄ３）を有することをさらに特徴とする、請求項１または２に記載の閉鎖プラグ。
【請求項６】
前記ガスケット台座（６４）は、前記リム（４）と当接するよう半径方向外側かつ上方向に広がっていることをさらに特徴とする、請求項５に記載の閉鎖プラグ。
【請求項７】
前記ガスケット台座（７２）は、前記ガスケット保持リップ（６８）のつけ根（６３）に周辺溝（７０）が設けられていることをさらに特徴とする、請求項５に記載の閉鎖プラグ。
【請求項８】
前記プラグ（１、６０、６６）は、金属から形成されるか、または成型合成プラスチック樹脂から形成されることをさらに特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の閉鎖プラグ。
【請求項９】
シーリングガスケット（１２）が前記ガスケット台座（８、６４、７２）に配置されることをさらに特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載の閉鎖プラグ。
【請求項１０】
前記シーリングガスケット（１２）は弾性があり、前記ガスケット台座（８、６４、７２）をしっかり保持するように前記プラグ（１、６０、６６）上で引き伸ばされることをさらに特徴とする、請求項９に記載の閉鎖プラグ。
【請求項１１】
前記シーリングガスケット（１２）は、前記ガスケット保持リップ（９）、前記ガスケット台座（８）、および前記プラグリム下面（４ａ）により形成される半径方向に開口した環状溝内に緩みなく嵌め込まれることをさらに特徴とする、請求項９または１０に記載の閉鎖プラグ。
【請求項１２】
前記シーリングガスケット（１２）は、フレア形の前記ガスケット台座（６４）の形状をとることをさらに特徴とする、請求項６または請求項１０に記載の閉鎖プラグ。
【請求項１３】
前記シーリングガスケット（１２）は、Ｅ．Ｐ．Ｄ．Ｍ、黒色ニトリル、またはＰ．Ｅからなることをさらに特徴とする、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の閉鎖プラグ。
【請求項１４】
請求項９〜１３のいずれか一項に記載の閉鎖プラグと、内部ねじ山付き部分（２８）およびねじ山なし部分（３０）を有する容器壁開口との組み合わせにおいて、
前記シーリングガスケット（１２）は、前記開口のねじ山なし部分と前記プラグガスケット台座（８、６４、７２）との間で圧縮され、前記内部ねじ山に近接した状態にあり、
半径方向外側に延在する、連続した円周状ガスケット保持リップ（９、６１、６８）が前記プラグガスケット台座（８、６４、７２）と前記側壁ねじ山（７）との間に介在して配置され、前記シーリングガスケット（１２）と前記内部ねじ山付き開口部分（２８）が相互にかみ合うのを防止するようにし、それにより、プラグ、及び擾乱しない装置としてのシーリングガスケットを、妨げなく緩めることができることを特徴とする、組み合せ。
【請求項１５】
前記容器壁のねじ山なし部分（３０）は、前記ガスケット保持リップ（９、６１、６６）から上方向にかつ半径方向外側に延在することをさらに特徴とする、請求項１４に記載の組み合わせ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月21日(2006.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印加された電磁界によって励起可能な電気式の共振回路（５）を有する銀行券からなる、異なった数値を有する銀行券のセットであって、異なった数値には、異なった共振周波数の共振回路（５）が割り当てられている銀行券のセット。
【請求項２】
前記共振回路（５）は、導電層によって形成された少なくとも２つの電極（７ａ，７ｂ）を有するコンデンサ（Ｃ）を具備し、これらの電極は、非導電層（１）によって分離されている、請求項１に記載の銀行券のセット。
【請求項３】
各銀行券は、紙又は可撓性のプラスチックからなる印刷された支持体（１）を有する、請求項１又は２に記載の銀行券のセット。
【請求項４】
前記電極（７ａ，７ｂ）は、前記支持体（１）の両面に設けられている、請求項２又は３に記載の銀行券のセット。
【請求項５】
前記共振回路（５）は、少なくとも部分的に、導電性の印刷可能な材料からなる、請求項１ないし４のいずれか１に記載の銀行券のセット。
【請求項６】
前記共振回路（５）の、少なくとも１部分が外から目に見える、請求項１ないし５のいずれか１に記載の銀行券のセット。
【請求項７】
各銀行券は、異なった共振周波数を有する複数の共振回路（５）を具備する、請求項１ないし６のいずれか１に記載の銀行券のセット。
【請求項８】
前記共振回路（５）の各々は、この銀行券を通って延びている貫通コンタクト（１０）を有する、請求項１ないし７のいずれか１に記載の銀行券のセット。
【請求項９】
前記共振回路は螺旋状のコイル（６）を有する、請求項１ないし８のいずれか１に記載の銀行券のセット。
【請求項１０】
前記共振回路（５）は支持層（１４）の裏面に設けられており、該支持層（１４）の前面には、光学式のセキュリティ・マークが設けられており、前記支持層はこの銀行券に取着されている、請求項１ないし９のいずれか１に記載の銀行券のセット。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月9日(2006.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成形物の製造方法であって、
（ａ）複数の部品からなるＵＶ透過性石英又はガラス型の少なくとも一つの表面に、ポリ（オキシエチレン）−ポリ（オキシプロピレン）ブロックコポリマーの溶液を塗布する工程、
（ｂ）前記溶液を前記型の表面で乾燥させる工程、
（ｃ）架橋性基を有する水溶性プレポリマーを含む水溶液を前記型に入れる工程、
（ｄ）ＵＶ線の照射によって架橋を開始させる工程、
（ｅ）前記型から成形物を取り出す工程、及び
（ｆ）前記型を洗浄し、乾燥させる工程、を含み、
ここで、架橋性基を有する前記水溶性プレポリマーが、式
【化２】
2005525251.tif 000001
（式中、ＲはＣ1〜Ｃ8アルキレンであり、Ｒ1は、水素又はＣ1〜Ｃ7アルキルであり、Ｒ2は、好ましくは炭素原子２５個までを有するオレフィン性不飽和電子求引性共重合性基である）
の単位をポリビニルアルコールのヒドロキシル基の数に基づいて約０．５〜約８０％含む、少なくとも約２０００の分子量を有するポリビニルアルコールの誘導体である、方法。
【請求項２】
工程（ａ）〜（ｆ）をサイクルとして繰り返す、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記成形物が眼科用レンズ、特にコンタクトレンズ又は眼内レンズである、請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
前記ポリ（オキシエチレン）−ポリ（オキシプロピレン）ブロックコポリマーが、式
【化１】
2005525251.tif 000002
（式中、ｉ、ｊ、ｘ及びｙは、それぞれ２〜４００の値を有する）
のブロックコポリマーである、請求項１〜３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
前記ブロックコポリマーが、３，０００〜１５，０００の数平均分子量を有する式（Ｉ）のブロックコポリマーである、請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記ブロックコポリマーが、１０，０００〜３０，０００の数平均分子量を有する式（III）のブロックコポリマーである、請求項４記載の方法。
【請求項７】
前記溶液が、前記ブロックコポリマーを、前記溶液の全重量に基づいて０．０１〜３重量％、好ましくは０．１〜０．２５重量％含む、請求項１〜６のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
前記溶液が、Ｃ1〜Ｃ4アルカノール、Ｃ2〜Ｃ6ジアルキルエーテル又はＣ3〜Ｃ5ケトンを含む、請求項１〜７のいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
工程（ａ）で、前記界面活性剤の溶液を吹付け又はスタンピングによって塗布する、請求項１〜８のいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
工程（ａ）及び（ｂ）それぞれの処理が１０秒未満である、請求項１〜９のいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】
式（Ｖ）の前記単位において、Ｒがメチレンであり、Ｒ1が水素であり、Ｒ2がアクリロイルである、請求項１〜１０のいずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月15日(2006.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面および底面を有する流体制御層であって、前記上面は、その上にある流体の蒸発または流動を促進するために構成されている流体制御層と、
第１の主面および第２の主面を有する難燃性材料であって、前記第１の主面は、前記流体制御層の前記底面と結合しており、前記難燃性材料はポリマーを含む難燃性材料と、
前記難燃性材料の前記第２の主面と結合する接着剤層と、
を含む組立体。
【請求項２】
上面と底面とを有するキャップ層をさらに含み、前記キャップ層の前記底面は、前記流体制御層の前記上面と結合して、それらの間にチャネル構造を画定し、前記キャップ層、または前記流体制御層、または前記キャップ層と前記流体制御層との両方が難燃剤をさらに含み、前記流体制御層の前記上面が、その上にある流体の流動を促進する複数のチャネルを画定するほぼ平行の稜を含み、各チャネルは第１のチャネル末端と第２のチャネル末端とを有する、請求項１に記載の組立体。
【請求項３】
前記流体制御層の前記上面が、前記複数のチャネルの内部に微細構造表面をさらに含む、請求項２に記載の組立体。
【請求項４】
前記難燃性材料の前記ポリマーがアンチモン非含有難燃剤を含む発泡ポリマーフォーム材料であり、前記アンチモン非含有難燃剤が、酸源と、炭化性物質と、発泡剤とを含む泡沸性材料である、請求項１に記載の組立体。
【請求項５】
前記難燃性材料が、コア層を含むきれいに除去可能な多層テープを含み、前記接着剤層が、前記第１の主面の少なくとも一部と接着する第１の接着剤層と、前記第２の主面の少なくとも一部と接着する第２の接着剤層とを含む、請求項１に記載の組立体。
【請求項６】
前記コア層内部に分散する繊維状補強材料をさらに含み、前記繊維状補強材料が前記テープに伸張剥離性を付与する、請求項５に記載の組立体。
【請求項７】
請求項１に記載の組立体と結合する絶縁材料層を含む流体管理システム。
【請求項８】
航空機の内部区画の構成に使用するのに好適なパネルであって、
別の類似した構造のパネルに隣接させるように構成された縁端部を有する本体部材と、
前記本体部材に沿って配置される請求項１に記載の組立体と、
を含むパネル。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月28日(2006.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液状媒体および下記式（１）：
【化１】
2005525449.tif 000001
式中、Aは、2-スルホ-4-メトキシフェニルであり；
Bは、場合によっては置換されていてもよいフェニレンもしくはナフチレンであり；
nは、０もしくは１であり；そして
Dは、ピラゾロニル基である；
の化合物もしくはその塩を含む組成物であって、前記液状媒体が有機溶媒を含む組成物。
【請求項２】
Dが、少なくとも１つのカルボキシ、スルホもしくはホスファト基を有するピラゾロニル基である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
黒、マゼンタおよび黄色の着色剤およびこれらの組合せから選ばれるさらなる着色剤を含む、請求項１もしくは請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
Bが、スルホ、メチル、メトキシおよび2-ヒドロキシエトキシから選ばれる１つもしくは２つの置換基を有するフェニレンもしくはナフチレンであり；
nが、０もしくは１であり；
Dが、式（２ａ）もしくは（２ｂ）：
【化２】
2005525449.tif 000002
のものであり；
R1が、H、メチルもしくはカルボキシであり；
R2およびR3が、それぞれ独立してフェニル、もしくはスルホおよびカルボキシから選ばれる１つもしくは２つの置換基を有するフェニルであり；そして
星印＊は、式（１）におけるアゾ結合への結合点を示す、請求項１〜３のいずれか１つに記載の組成物。
【請求項５】
請求項１に定義される式（１）の化合物。
【請求項６】
Bが、スルホ、メチル、メトキシおよび2-ヒドロキシエトキシから選ばれる１つもしくは２つの置換基を有するフェニレンもしくはナフチレンであり；
nが、０もしくは１であり；
Dが、式（２ａ）もしくは（２ｂ）：
【化３】
2005525449.tif 000003
のものであり；
R1が、H、メチルもしくはカルボキシであり；
R2およびR3が、それぞれ独立してフェニル、もしくはスルホおよびカルボキシから選ばれる１つもしくは２つの置換基を有するフェニルであり；そして
星印＊は、式（１）におけるアゾ結合への結合点を示す、請求項５に記載の化合物。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれか１つに記載の組成物をインクジェットプリンターにより基材に施すことを含む、像を基材に印刷するためのプロセス。
【請求項８】
請求項７に記載のプロセスによるか、または請求項１〜４のいずれか１つに記載の組成物または請求項５もしくは６に記載の化合物で印刷された、紙、オーバーヘッドプロジェクタスライド、または織物材料。
【請求項９】
場合によっては詰め替え可能な、１つ以上のチェンバーおよび１つの組成物を含むインクジェットプリンターカートリッジであって、前記組成物はチェンバーの少なくとも１つに存在し、前記組成物は請求項１に定義されるとおりである、カートリッジ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月11日(2006.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カルボン酸、および／またはベンジルアルコール；エタノール；プロパノール；イソプロパノール；ブタノール；ブタノールの構造異性体；ペンタノール；ペンタノールの構造異性体；ヘキサノール；ヘキサノールの構造異性体のうち１種類以上、および／または任意の前記酸またはアルコールの塩、を含む可塑剤を用いて可塑化処理されたヒドロキシプロピルメチルセルロースを含むヒドロキシプロピルメチルセルロースフィルム。
【請求項２】
前記可塑剤が、Ｃ１−Ｃ６の飽和または不飽和、直鎖状または分岐鎖状のカルボン酸であって、１個、２個、３個あるいは４個のカルボキシル基を有するもの；Ｃ１−Ｃ６のヒドロキシ酸であって、おのおの１個、２個、３個、４個のヒドロキシ基／カルボキシ基を任意の組み合わせで有するもの、環式の酸、および環式ヒドロキシ酸のうち１種類以上を含む、請求項１に記載のフィルム。
【請求項３】
前記可塑剤が、アジピン酸、フメリック・アシッド（fumeric acid）フマル酸、マレイン酸、プロピオン酸、エタン酸、プロパン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、アルファ−ヒドロキシ酪酸、マンデル酸、ガンマ−ブチロラクトン,
ガンマ−バレロラクトン、ベータ−プロプリオラクトン(propriolactone)のうち１種類以上を含む、請求項２に記載のフィルム。
【請求項４】
前記可塑剤が、マレイン酸、フマル酸、及びアジピン酸のうち１種類以上を含む、請求項３記載のフィルム。
【請求項５】
前記可塑剤がマレイン酸を含む、請求項３記載のフィルム。
【請求項６】
前記可塑剤がベンジルアルコールを含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載のフィルム。
【請求項７】
前記可塑剤が、フィルム総重量に対し、２−４０重量％の分量で存在する、請求項１〜６のいずれか一項に記載のフィルム。
【請求項８】
前記可塑剤が、フィルム総重量に対し、２３重量％の分量で存在する、請求項７記載のフィルム。
【請求項９】
可塑剤２３重量％と、ＨＰＭＣ（ヒドロキシプロピルメチルセルロース）を７７重量％とを含み、前記可塑剤がマレイン酸を含むフィルム。
【請求項１０】
前記フィルムが発泡、延伸またはガス化されている請求項１〜９のいずれか一項に記載のフィルム。
【請求項１１】
前記フィルムの厚みが５０マイクロメートル以上２００マイクロメートル以下である請求項１〜１０のいずれか一項に記載のフィルム。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載のフィルムを含む封入壁を有するデリバリーカプセル。
【請求項１３】
フィルムを操作してカプセルに成形する前および／または操作中に、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の酸および／またはアルコールによってＨＰＭＣ（ヒドロキシプロピルメチルセルロース）フィルムを処理することを含む、カプセルへの成形に好適な、請求項１〜１１のいずれか一項に記載のＨＰＭＣフィルムの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月6日(2006.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクリル酸ベースで臭気の少ないヒドロゲル形成性ポリマーの製造方法であって、次の工程：
ａ）水性重合媒体中でのアクリル酸少なくとも５０質量％を含有しているモノマー組成物のラジカル重合によりポリマーヒドロゲルを製造し、前記ヒドロゲルを粒状ヒドロゲルへか又はヒドロゲル形成性粉末へ変換する工程；及び
ｂ）前記粒状ヒドロゲル又は前記ヒドロゲル形成性粉末を、ポリマーのカルボキシル基に対して反応性の少なくとも２つの官能基を場合により潜伏形で有する架橋的に作用する物質で処理する工程；
を含むアクリル酸ベースの臭気の少ないヒドロゲル形成性ポリマーの製造方法において、
工程ａ）において使用されるアクリル酸が、酢酸及びプロピオン酸から選択される揮発性飽和カルボン酸４００ppm未満（アクリル酸に対する質量含分）を含有する
ことを特徴とする、アクリル酸ベースの臭気の少ないヒドロゲル形成性ポリマーの製造方法。
【請求項２】
工程ａ）において０．１〜５質量％の範囲内の酢酸及び／又はプロピオン酸含量を有する粗−アクリル酸の一段階又は多段階の結晶化により取得されたアクリル酸を使用する、請求項１記載の方法。
【請求項３】
工程ａ）において０〜１３℃の範囲内の温度での粗アクリル酸の一段階又は多段階の結晶化により得られたアクリル酸を使用する、請求項２記載の方法。
【請求項４】
アクリル酸を工程ａ）において部分的に又は完全に中和されたアクリル酸水溶液の形で使用する、請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
工程ｂ）における架橋的に作用する物質が、ポリマーのカルボキシル基とエステル基を形成する化合物から選択されている、請求項１から４までのいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
工程ａ）において重合すべきモノマー混合物が、それらの全質量に対して
−  モノマーＡとしてのアクリル酸５０〜９９．９９質量％、
−  アクリル酸と共重合性の１つ又はそれ以上のモノエチレン系不飽和モノマーＢ ０〜４９．９９質量％及び
−  少なくとも１つの架橋的に作用する化合物Ｃ ０．０１〜３０質量％を含んでいる、請求項１から５までのいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
請求項１から６までのいずれか１項記載の方法により得ることができるヒドロゲル形成性ポリマー。
【請求項８】
衛生用品を製造するための請求項７記載のヒドロゲル形成性ポリマーの使用。
【請求項９】
請求項７記載の少なくとも１つのヒドロゲル形成性ポリマーを含有している吸収体を有する衛生用品。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月30日(2006.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次式（Ｉ）で表されるポリマー基板であって、光学ディスプレイ装置又は発光装置で使用されるポリマー基板。
【化１】
2005525443.tif 000001
（式中、（Ｉ）の３つの光学活性部位はＲ異性体、Ｓ異性体又はこれらの組合せであり、
Ｒ7及びＲ8はＣ1〜Ｃ6アルキル及び水素からなる群から独立に選択され、
ｍは約１〜約４の範囲内の整数であり、
ｑは１〜４の範囲内の整数である。）
【請求項２】
Ｒ7及びＲ8が水素であり、ｍが４であり、ｑが４である、請求項１記載のポリマー基板。
【請求項３】
２３５℃を超えるガラス転移温度を有する、請求項１記載のポリマー基板。
【請求項４】
４％未満の曇り度を有する、請求項１記載のポリマー基板。
【請求項５】
当該ポリマー基板が３％未満で変化する一様な厚さを有する、請求項１記載のポリマー基板。
【請求項６】
光学ディスプレイ装置が液晶ディスプレイであり、発光装置が有機エレクトロルミネセンス装置である、請求項１記載のポリマー基板。
【請求項７】
当該ポリマー基板が１以上のバリヤー層を含む、請求項１記載のポリマー基板。
【請求項８】
当該ポリマー基板が１以上の実質的に透明な導電層を含む、請求項１記載のポリマー基板。
【請求項９】
ａ）各ポリマー基板が次式（Ｉ）で表される、互いに実質的に平行な２つのポリマー基板、
【化２】
2005525443.tif 000002
（式中、（Ｉ）の３つの光学活性部位はＲ異性体、Ｓ異性体又はこれらの組合せであり、
Ｒ7及びＲ8はＣ1〜Ｃ6アルキル及び水素からなる群から独立に選択され、
ｍは１〜４の範囲内の整数であり、
ｑは１〜４の範囲内の整数である。）
ｂ）各々の前記ポリマー基板の表面上に配設された透明導電層、及び
ｃ）各々の前記ポリマー基板上の前記透明導電層に接触するようにして前記２つのポリマー基板の間に配設された液晶物質
を含んでなる液晶ディスプレイ。
【請求項１０】
（ａ）次式（Ｉ）で表されるポリマー基板、
【化３】
2005525443.tif 000003
（式中、（Ｉ）の３つの光学活性部位はＲ異性体、Ｓ異性体又はこれらの組合せであり、
Ｒ7及びＲ8はＣ1〜Ｃ6アルキル及び水素からなる群から独立に選択され、
ｍは１〜４の範囲内の整数であり、
ｑは１〜４の範囲内の整数である。）
及び
（ｂ）ポリマー基板上に配設された有機エレクトロルミネセンス層であって、２つの電極間に配設された有機エレクトロルミネセンス材料を含む有機エレクトロルミネセンス層を含んでなる有機エレクトロルミネセンス装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
通例、ＬＣＤ及びＯＥＬＤ上には複数の層が存在している。各種層の付着は、通例、付着させるべき材料、付着材料の密度、及び付着温度で決定される。例えば、付着方法は高温スパッタリング法であり得る。その結果、高温付着中にプラスチック基板の健全性を維持するため、高いガラス転移温度を有するプラスチック基板が必要となる。
【特許文献１】米国特許第６２２２００３号明細書
【特許文献２】米国特許第５８４７７８２号明細書
【特許文献３】米国特許第４６４０５８３号明細書
【特許文献４】米国特許第５２８１４８９号明細書
【特許文献５】米国特許第５０５９８６３号明細書
【特許文献６】米国特許第５８１７３８３号明細書
【特許文献７】米国特許第５４１４０６９号明細書
【特許文献８】米国特許第６２７０８６３号明細書
【特許文献９】特開２００２−０３０１６５号公報
【特許文献１０】特開平０９−２７２１４９号公報
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月2日(2006.5.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
変性顔料の調製方法であって、求電子基が結合している顔料と、少なくとも一つの−ＳＨ基及び少なくとも２つのイオン性又はイオン化性基を含むチオール試薬とを、任意の順序で組み合わせる工程を含んでなる方法。
【請求項２】
求電子基が結合している顔料が、顔料と、該求電子基を含むジアゾニウム塩との反応生成物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
変性顔料の調製方法であって、求電子基が結合している顔料と、少なくとも一つの−ＳＨ基及び少なくとも１つのイオン性又はイオン化性基を含むチオポリマーとを、任意の順序で組み合わせる工程を含んでなる方法。
【請求項４】
前記チオポリマーが、少なくとも一種の無水物を有するポリマーと、少なくとも一種の活性化カルボン酸か、又は少なくとも一種のカルボン酸若しくはその塩と、アミノアルカンチオール若しくは芳香族アミノチオールと、必要に応じて活性化剤との反応生成物を含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
アルキル化剤を添加する工程をさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記チオポリマーが、少なくとも一種の無水物を有するポリマーと、少なくとも一種の活性化カルボン酸か、又は少なくとも一種のカルボン酸若しくはその塩と、アミノアルカンチオール若しくは芳香族アミノチオールと、任意の活性化剤と、アルキルアミン、アリールアミン又はアルコールとの反応生成物を含む、請求項３に記載の方法。
【請求項７】
式−Ｓ−［ＰＩ］（式中、ＰＩは、少なくとも２つのイオン性又はイオン化性基で置換された有機基を表すか、ＰＩは、少なくとも１つのイオン性又はイオン化性基を含む高分子基を表す）で表される基が結合されている顔料を含んでなる変性顔料。
【請求項８】
式−Ｘ−Ｓｐ−Ｓ−［ＰＩ］（式中、Ｘは、アリーレン基、ヘテロアリーレン基又はアルキレン基であり、Ｓｐは、スペーサー基であり、ＰＩは、少なくとも２個のイオン性又はイオン化性基で置換された有機基を表すか、ＰＩは、少なくとも１個のイオン性又はイオン化性基を含む高分子基を表す）で表される基が結合されている顔料を含んでなる変性顔料。
【請求項９】
ａ）液状ビヒクル及びｂ）請求項７に記載の変性顔料を含むインク組成物。
【請求項１０】
ａ）液状ビヒクル及びｂ）請求項８に記載の変性顔料を含むインク組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月12日(2006.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水性バインダー、エーロゲル粒子及び中空の非多孔性粒子を含んで成るエーロゲル−中空粒子バインダー組成物。
【請求項２】
前記エーロゲル−中空粒子バインダー組成物が、疎水性エーロゲル粒子と中空の非多孔性粒子とを約５〜９９容量％の合計量で含んで成ることを特徴とする請求項１に記載のエーロゲル−中空粒子バインダー組成物。
【請求項３】
前記組成物が霧化可能なものであることを特徴とする請求項１〜２のいずれか一項に記載のエーロゲル−中空粒子バインダー組成物。
【請求項４】
前記エーロゲル−中空粒子バインダー組成物が、乾燥後に約４５ｍＷ／（ｍ・Ｋ）以下の熱伝導度を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のエーロゲル−中空粒子バインダー組成物。
【請求項５】
前記エーロゲル−中空粒子バインダー組成物が、乾燥後に約０．５ｇ／ｃｍ3 以下の密度を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のエーロゲル−中空粒子バインダー組成物。
【請求項６】
（ａ）請求項１〜５のいずれか一項に記載のエーロゲル−中空粒子バインダー組成物を含んで成る絶縁ベースコートと
（ｂ）保護バインダーを含んで成る保護層、
とを含んで成る絶縁複合材料。
【請求項７】
前記保護層が疎水性エーロゲル粒子を実質的に含まないものであることを特徴とする請求項６に記載の絶縁複合材料。
【請求項８】
請求項１〜５のいずれか一項に記載のエーロゲル−中空粒子バインダー組成物を含んで成る基材。
【請求項９】
請求項６〜７のいずれか一項に記載の絶縁複合材料を含んで成る基材。
【請求項１０】
前記基材が、原動機付きの乗り物又は装置の部品であることを特徴とする請求項８又は９に記載の基材。
【請求項１１】
前記基材が、原動機付きの乗り物又はその一部の底部であることを特徴とする請求項１０に記載の基材。
【請求項１２】
（ａ）水性バインダー及び発泡剤を含んで成るバインダー組成物を用意し、
（ｂ）前記バインダー組成物を攪拌して発泡したバインダー組成物を用意し、
（ｃ）前記発泡したバインダー組成物を疎水性エーロゲル粒子及び中空の非多孔性粒子と組み合わせてエーロゲル−中空粒子バインダー組成物を提供すること、
を含む、エーロゲル−中空粒子バインダー組成物の製造方法。
【請求項１３】
（ａ）水性バインダーを含んで成るバインダー組成物を用意し、
（ｂ）疎水性エーロゲル粒子及び中空の非多孔性粒子を用意し、
（ｃ）前記バインダー組成物、疎水性エーロゲル粒子及び中空の非多孔性粒子を基材に同時に適用し、それにより前記バインダー組成物を前記疎水性エーロゲル粒子及び中空の非多孔性粒子と混合してエーロゲル−中空粒子バインダー組成物を提供すること、
を含む、エーロゲル−中空粒子バインダー組成物の製造方法。
【請求項１４】
（ａ）請求項１〜５のいずれか一項に記載のエーロゲル−中空粒子バインダー組成物を含んで成る絶縁ベース層を基材上に供給し、
（ｂ）前記絶縁ベース層の表面に、保護バインダーを含んで成る保護層を適用すること、
を含む絶縁複合材料の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月19日(2005.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の成分：
Ａ）ポリエステル１種以上        ５５〜９３．９９質量％
Ｂ）メラミンシアヌレート          ３〜１５質量％
Ｃ）燐含有防炎剤少なくとも１種    ３〜１５質量％
Ｄ）Ｃ−原子１０〜４０を有する飽和又は不飽和の脂肪族カルボン酸とＣ−原子２〜４０を有する脂肪族飽和アルコール又はアミンとのエステル又はアミド少なくとも１種
０．０１〜５質量％
Ｅ）安定剤、酸化抑制剤、熱分解及び紫外線による分解を妨げる薬剤、滑剤、離型剤、ゴム弾性ポリマー（耐衝撃性改良剤とも称される）、着色剤、有利に染料及び顔料、成核剤、可塑剤の群から選択される加工助剤      ０〜１０質量％
（ここで、成分Ａ〜Ｅの質量百分率の合計は１００％である）
から成る、熱可塑性成形材料。
【請求項２】
防炎剤Ｃ）として、一般式：
【化１】
2005525459.tif 000001
［式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は同一又は異なるもので、Ｃ−原子８〜４０を有するアルキル−、アリール−、アルキルアリール−又はシクロアルキル基を表す］のホスフィンオキシド少なくとも１種を含有する、請求項１に記載の熱可塑性成形材料。
【請求項３】
防炎剤Ｃ）として、一般式：
【化２】
2005525459.tif 000002
［式中、Ｒ１〜Ｒ２０は、相互に無関係に、水素、Ｃ−原子６までを有する直鎖又は分枝鎖のアルキル基を表し、ｎは０．５〜５０の平均値であり、
Ｂは、それぞれ、Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル、有利にメチル又はハロゲン、有利に塩素又は臭素を表し、ｑはそれぞれ相互に無関係に０、１又は２であり、
Ｘは、単結合、Ｃ＝Ｏ、Ｓ、Ｏ、ＳＯ２、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ１〜Ｃ５−アルキレン、Ｃ２〜Ｃ５−アルキリデン、Ｃ５〜Ｃ６−シクロアルキリデン、Ｃ６〜Ｃ１２−アリーレン（これに更に、ヘテロ原子を含有していてよい芳香環が縮合されていてもよい）又は式（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）：
【化３】
2005525459.tif 000003
（ここで、Ｙは、炭素であり、Ｒ２１及びＲ２２は、それぞれのＹに対して独立して選択可能であり、相互に無関係に水素又はＣ１〜Ｃ６−アルキル、有利に水素、メチル又はエチルであり、ｍは４〜７の整数、有利に４又は５であり、ここで、少なくとも１個の原子Ｙ上のＲ２１とＲ２２は、同時にアルキルであることを前提とする）の基を表す］の化合物少なくとも１種を含有する、請求項１に記載の熱可塑性成形材料。
【請求項４】
成分Ｃ）は、トリフェニルホスフィンオキシド、トリフェニルホスフィンスルフィド、燐酸トリフェニル、レゾルシノール−ビス（ジフェニルホスフェート）、トリフェニルホスフィン又は全く特別有利にビスフェノール−Ａ−ジホスフェート又はこれらの混合物から構成されている、請求項１から３までのいずれか１項に記載の熱可塑性成形材料。
【請求項５】
成分Ｄ）は、ペンタエリスリットテトラステアレート又はエチレングリコールビスモンタノエートである、請求項１から４までのいずれか１項に記載の熱可塑性成形材料。
【請求項６】
成分Ａ）は、ポリブチレンテレフタレートから成っている、請求項１から５までのいずれか１項に記載の熱可塑性成形材料。
【請求項７】
成分Ａ）は、ポリエチレンテレフタレートとポリブチレンテレフタレートとの混合物から成っている、請求項１から６までのいずれか１項に記載の熱可塑性成形材料。
【請求項８】
混合物中のポリエチレンテレフタレートの割合は１０〜３０質量％である、請求項１から７までのいずれか１項に記載の熱可塑性成形材料。
【請求項９】
繊維、シート及び成形体を製造するための、請求項１から８までのいずれか１項に記載の熱可塑性成形材料の使用。
【請求項１０】
請求項１から８までのいずれか１項に記載の熱可塑性成形材料から得られる成形体、繊維及びシート。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月9日(2006.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
構造式（I）：
【化１】
2005525427.tif 000001
（式中、R1およびR2はそれぞれ独立して-H、置換もしくは非置換アルキル基、または置換もしくは非置換アリール基である）
で表される置換ベンゾニトリルを調製する方法であって、
ａ．）構造式（II）：
【化２】
2005525427.tif 000002
（式中、R1およびR2は上で規定したとおりである）
で表される置換安息香酸を、該置換安息香酸と活性化剤および構造式（III）：
【化３】
2005525427.tif 000003
（式中、R3、R4、R5、およびR6はそれぞれ-Hまたは置換もしくは非置換アルキル基である）
で表されるα，β-アミノアルコールとを反応させることによりアミド化し、それにより構造式（IV）：
【化４】
2005525427.tif 000004
で表される置換2-フェニルオキサゾリンを形成する工程；ならびに
ｂ．）置換2-フェニルオキサゾリンとオキシ塩化リンとを反応させ、それにより構造式（I）で表される置換ベンゾニトリルを形成する工程
を含む、方法。
【請求項２】
R3およびR4がそれぞれ独立して非置換アルキル基であり、R5およびR6がそれぞれ-Hである、請求項１記載の方法。
【請求項３】
R1およびR2がそれぞれベンジルである、請求項２記載の方法。
【請求項４】
R3およびR4がそれぞれメチルである、請求項３記載の方法。
【請求項５】
2,4-ジヒドロキシ安息香酸およびハロゲン化ベンジルまたはトシル酸ベンジルから置換安息香酸を調製する工程をさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項６】
R1およびR2がそれぞれ-Hである、請求項２記載の方法。
【請求項７】
R3およびR4がそれぞれメチルである、請求項６記載の方法。
【請求項８】
構造式（V）：
【化５】
2005525427.tif 000005
（式中、R7およびR8はそれぞれ-Hまたは置換もしくは非置換アリール基である）
で表される置換ベンゾニトリルを調製する方法であって、
ａ．）2,4-ジヒドロキシ安息香酸のヒドロキシル基を１つ以上の置換もしくは非置換アリールアルキル保護基で保護し、それにより保護2,4-ジヒドロキシ安息香酸を形成する工程；
ｂ．）保護2,4-ジヒドロキシ安息香酸を、該保護2,4-ジヒドロキシ安息香酸と活性化剤および構造式（VI）：
【化６】
2005525427.tif 000006
（式中、R9、R10、R11、およびR12はそれぞれ-Hまたは置換もしくは非置換アルキル基である）
で表されるα，β-アミノアルコールとを反応させることによりアミド化し、それにより構造式（VII）：
【化７】
2005525427.tif 000007
で表される置換2-フェニルオキサゾリンを形成する工程；ならびに
ｃ．）置換2-フェニルオキサゾリンとオキシ塩化リンとを反応させ、それにより構造式（V）で表される置換ベンゾニトリルを形成する工程
を含む、方法。
【請求項９】
R9およびR10がそれぞれ独立して非置換アルキル基であり、R11およびR12がそれぞれ-Hである、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
R9およびR10がそれぞれメチルである、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
保護基がベンジル基である、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
工程（ｃ．）の産物から保護基を切断し、2,4-ジヒドロキシベンゾニトリルを形成する工程をさらに含む、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
構造式（VIII）：
【化８】
2005525427.tif 000008
で表される化合物を調製する方法であって、
ａ．）構造式（II）：
【化９】
2005525427.tif 000009
（式中、R1およびR2はそれぞれ独立して-H、置換もしくは非置換アルキル基、または置換もしくは非置換アリール基である）
で表される置換安息香酸を、該置換安息香酸と活性化剤および構造式（III）：
【化１０】
2005525427.tif 000010
（式中、R3、R4、R5、およびR6はそれぞれ-Hまたは置換もしくは非置換アルキル基である）
で表されるα，β-アミノアルコールとを反応させることによりアミド化し、それにより構造式（IV）：
【化１１】
2005525427.tif 000011
で表される置換2-フェニルオキサゾリンを形成する工程；ならびに
ｂ．）置換2-フェニルオキサゾリンとオキシ塩化リンとを反応させ、それにより置換ベンゾニトリルを形成する工程；
ｃ．）R1およびR2がいずれも-Hでない場合、工程（ｂ．）の産物中のエーテル基を切断し、それにより2,4-ジヒドロキシベンゾニトリルを形成する工程；ならびに
ｄ．）(S)-2-メチルシステインと2,4-ジヒドロキシベンゾニトリルとをカップリングし、それにより構造式（VIII）で表される化合物を形成する工程
を含む、方法。＿