【手続補正書】
【提出日】平成18年2月6日(2006.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者に流体を投与するための装置であって、
ａ）経皮的な患者アクセスツールと結合するようにした出口ポートアセンブリと、
ｂ）出口ポートアセンブリから伸延する流路と、
ｃ）流れ状況センサアセンブリにして、相対する第１表面及び第２表面を有し、第１表面が前記流路と接触して位置決めされる弾性のダイヤフラムと、ダイヤフラムの第２表面と接触して位置決めされ、該第２表面に隣り合うセンサチャンバを確定するチャンバ壁と、ダイヤフラムの第２表面が流路内に生じる少なくとも１つの所定の流体流れ状況に応答してチャンバ内に膨張する際に閾値信号を提供するように配列した少なくとも１つのセンサと、を含む流れ状況センサアセンブリと、
を含む装置。
【請求項２】
患者に流体を投与するための装置であって、
ａ）経皮的な患者アクセスツールと結合するようにした出口ポートアセンブリと、
ｂ）出口ポートアセンブリから伸延する流路と、
ｃ）流れ状況センサアセンブリにして、相対する第１表面及び第２表面を有し、第１表面が前記流路と接触して位置決めされる弾性のダイヤフラムと、ダイヤフラムの第２表面と接触して位置決めされ、該第２表面に隣り合うセンサチャンバを確定するチャンバ壁と、ダイヤフラムの第２表面が流路内に生じる少なくとも１つの所定の流体流れ状況に応答してチャンバ内に膨張する際に閾値信号を提供するように配列した少なくとも１つのセンサと、を含む流れ状況センサアセンブリと、
を含み、前記センサが、チャンバ内に位置決めしたスイッチにして、ダイヤフラムの第２表面が、流路内の所定の流体流れ状況に応じてチャンバ内に膨張すると該スイッチを閉じるようなスイッチを含む装置。
【請求項３】
所定の流体流れ状況が、流路の閉塞、流路内の不適正な流体流れ、流路内の適正な流体流れ、の何れか１つを含んでいる請求項２の装置。
【請求項４】
流路がリザーバを含み、流れ状況センサアセンブリが該リザーバの端部に位置決めされる請求項２の装置。
【請求項５】
流路がリザーバと、該リザーバと出口ポートアセンブリとの間の流体連通を提供する通路とを含み、流れ状況センサアセンブリが該通路と接触して位置決めされる請求項２の装置。
【請求項６】
センサが、チャンバ壁の、流路から最も遠い部分に位置決めされ、閉鎖状態のチャンバが所定の容積を有する請求項２の装置。
【請求項７】
センサが、ダイヤフラムの第２表面上に位置決めした導線と、チャンバ壁上に位置決めした導線とを有する回路を含み、前記導線が、ダイヤフラムの第２表面が所定の流体流れ状況に応じてチャンバ内に膨張すると相互に合わさり、前記回路を閉じるようにした請求項２の装置。
【請求項８】
センサが、チャンバ壁上に位置決めした導線と、ダイヤフラムの第２表面上に位置決めした導電性の層とを有する回路を含み、該導電性の層が、ダイヤフラムの第２表面が所定の流体流れ状況に応じてチャンバ内に膨張すると前記導線と接触して前記回路を閉じるようにした請求項２の装置。
【請求項９】
ダイヤフラムが、可撓性及び弾性を有する薄く且つへん平な材料片を含んでいる請求項２の装置。
【請求項１０】
センサチャンバが所定の容積を有する請求項２の装置。
【請求項１１】
流れ状況センサアセンブリが、センサに結合したアラームを含んでいる請求項２の装置。
【請求項１２】
アラームが可聴アラームを含んでいる請求項１１の装置。
【請求項１３】
アラームが可視アラームを含んでいる請求項１１の装置。
【請求項１４】
流れ状況センサアセンブリのセンサに結合したプロセッサを更に含む請求項２の装置。
【請求項１５】
プロセッサに結合したアラームを更に含む請求項１４の装置。
【請求項１６】
アラームが可聴アラームを含んでいる請求項１５の装置。
【請求項１７】
アラームが可視アラームを含んでいる請求項１５の装置。
【請求項１８】
プロセッサが、センサから閾値信号を受けるとアラームを起動するようにプログラムされる請求項１５の装置。
【請求項１９】
プロセッサが、センサから所定時間を上回る時間において閾値信号を受けるとアラームを起動するようにプログラムされる請求項１５の装置。
【請求項２０】
プロセッサが、センサから所定時間未満の時間において閾値信号を受けるとアラームを起動するようにプログラムされる請求項１５の装置。
【請求項２１】
センサがアナログ信号を提供し、プロセッサが、該センサからのアナログ信号をデジタル信号に変換するためのアナログ−デジタル変換器を含んでいる請求項１４の装置。
【請求項２２】
プロセッサが、センサから閾値信号を受けると所望されざる流れ状況を表示する信号を提供するようにプログラムされる請求項１４の装置。
【請求項２３】
プロセッサが、所定時間を上回る時間においてセンサから閾値信号を受けると閉塞流れ状況を表示する信号を提供するようにプログラムされる請求項１４の装置。
【請求項２４】
プロセッサが、所定時間に満たない時間においてセンサから閾値信号を受けると流量減少流れ状況を表示する信号を提供するようにプログラムされる請求項１４の装置。
【請求項２５】
流路が、治療用の流体を収納するリザーバを含んでいる請求項２の装置。
【請求項２６】
治療用の流体がインシュリンである請求項２５の装置。
【請求項２７】
リザーバに結合した充填ポートを更に含む請求項２５の装置。
【請求項２８】
リザーバが加圧される請求項２５の装置。
【請求項２９】
出口ポートアセンブリが経皮的な患者アクセスツールを含む請求項２の装置。
【請求項３０】
経皮的な患者アクセスツールが針を含む請求項２９の装置。
【請求項３１】
出口ポートアセンブリと流路との合計容積が固定され且つ予め決定されている請求項２の装置。
【請求項３２】
出口ポートアセンブリと流路との合計容積の膨張可能な容積が、センサチャンバの容積と比較して比較的小さい請求項２の装置。
【請求項３３】
流体を流路を貫かせて出口ポートアセンブリに至らしめるためのディスペンサと、
該ディスペンサに結合され、流れ指令に基づき出口ポートアセンブリへの流体流れを生じさせるようにプログラムされたローカルプロセッサと、
該ローカルプロセッサに結合され、別個の遠隔制御装置からの流れ指令を受け、受けた流れ指令をローカルプロセッサに送る無線レシーバと、
流路と、出口ポートアセンブリと、ディスペンサと、ローカルプロセッサと、無線レシーバと、を収納するハウジングにして、ローカルプロセッサに流れ状況を提供するためのユーザー入力コンポーネントを持たないハウジングと、
を更に含む請求項２の装置。
【請求項３４】
流体投与装置から離間した遠隔制御装置を更に含み、該遠隔制御装置が、
リモートプロセッサと、
ユーザーが該リモートプロセッサに流れ指令を提供することができるようにリモートプロセッサに結合されたユーザーインターフェースコンポーネントと、
流体投与装置のレシーバに流れ指令を伝達するための、リモートプロセッサに結合したトランスミッタと、
を更に含む請求項３３の装置。
【請求項３５】
流体を流路を貫かせて出口ポートアセンブリに至らしめるためのディスペンサと、
該ディスペンサに結合され、流れ指令に基づき流体流れを出口ポートアセンブリへの流体流れを生じさせるようにプログラムされたローカルプロセッサと、
ローカルプロセッサからの流れ指令をこの、遠隔制御装置に伝達するための、ローカルプロセッサに結合された無線トランスミッタと、
流路と、出口ポートアセンブリと、ディスペンサと、ローカルプロセッサと、無線トランスミッタと、を収納するハウジングにして、ローカルプロセッサからの流れ指令をユーザーに提供するためのユーザー出力コンポーネントを持たないハウジングと、
を更に含む請求項２の装置。
【請求項３６】
流体投与装置とは別個の遠隔制御装置を更に含み、該遠隔制御装置が、
リモートプロセッサと、
該リモートプロセッサに結合され、ユーザーが流れ指令を受けることができるようにするためのユーザー出力コンポーネントと、
リモートプロセッサに結合され、流体投与装置のトランスミッタからの流れ指令を受けるためのレシーバと、
を含んでいる請求項３５の装置。
【請求項３７】
遠隔制御装置が、リモートプロセッサに結合したアラームを含んでいる請求項３６の装置。
【請求項３８】
センサアセンブリが、ダイヤフラムの第２表面に接触して位置決めした多数のセンサチャンバを含んでいる請求項２の装置。
【請求項３９】
センサアセンブリが、各センサチャンバ内に少なくとも１つのセンサを含んでいる請求項３８の装置。
【請求項４０】
各センサチャンバが所定の容積を有する請求項３８の装置。
【請求項４１】
センサアセンブリが流路に接触して位置決めした第２ダイヤフラムを含んでいる請求項２の装置。
【請求項４２】
センサアセンブリが、第２ダイヤフラムに接触して位置決めした第２チャンバアセンブリを含んでいる請求項４１の装置。
【請求項４３】
センサアセンブリが、第２ダイヤフラムが第２チャンバ内に膨張した場合に閾値信号を提供するように配列した第２センサを含む請求項４２の装置。
【請求項４４】
患者に流体を投与するための装置であって、
経皮的な患者アクセスツールと結合するようにした出口ポートアセンブリと、
出口ポートアセンブリから伸延する流路と、
流れ状況センサアセンブリにして、相対する第１表面及び第２表面を有し、第１表面が前記流路と接触して位置決めされる弾性のダイヤフラムと、ダイヤフラムの第２表面と接触して位置決めされ、該第２表面に隣り合うセンサチャンバを確定するチャンバ壁と、ダイヤフラムの第２表面が流路内に生じる少なくとも１つの所定の流体流れ状況に応答してチャンバ内に膨張する際に閾値信号を提供するように配列した少なくとも１つのセンサと、を含む流れ状況センサアセンブリと、該流れ状況センサアセンブリに連結したプロセッサとを含み、該プロセッサが、装置がプライミングされているとセンサから信号を受けるようにプログラムされる装置。
【請求項４５】
プロセッサが、センサから閾値信号を受けると停止するようにプロ後ラムされる請求項４４の装置。
【請求項４６】
プロセッサが、所定時間以上の時間に渡りセンサから閾値信号を受けると停止するようにプログラムされる請求項４４の装置。
【請求項４７】
プロセッサが、所定時間に満たない時間に渡りセンサから閾値信号を受けると停止するようにプログラムされる請求項４４の装置。
【請求項４８】
センサが、センサチャンバを貫いて伸延する通路と、光学的なトランスミッタと、前記通路の対向する各端部に位置決めした光学的なレシーバと、を含を含む請求項４４の装置。
【請求項４９】
患者に流体を投与するための装置であって、
ａ）出口ポートアセンブリから伸延する流路と、
ｂ）流れ状況センサアセンブリにして、相対する第１表面及び第２表面を有し第１表面が前記流路に接触して位置決めされた弾性のダイヤフラムと、ダイヤフラムの第２表面に隣り合って位置決めされダイヤフラムの該第２表面に隣り合うセンサチャンバを確定するチャンバ壁と、ダイヤフラムの前記第２表面がチャンバ内に所定量膨張すると閾値信号を提供するように配列した少なくとも１つのセンサと、を含む流れ状況センサアセンブリと、
ｃ）センサに結合したプロセッサにして、所定の最大時間以上の時間においてあるいは所定の最大時間に満たない時間においてセンサから閾値信号を受けると所望されざる流れ状況を表示する信号を提供するようにプログラムされたプロセッサと、
を含む装置。
【請求項５０】
センサが、接触、光、磁気、歪み、密度、の何れか１つに応答するようにした請求項４９の装置。
【請求項５１】
患者に流体を投与するための装置であって、
ａ）出口ポートアセンブリから伸延する流路と、
ｂ）流れ状況センサアセンブリにして、相対する第１表面及び第２表面を有し、第１表面が前記流路と接触して位置決めされる弾性のダイヤフラムと、ダイヤフラムの第２表面と接触して位置決めされ、該第２表面に隣り合うセンサチャンバを確定するチャンバ壁と、ダイヤフラムの第２表面がチャンバ内に所定量膨張する際に閾値信号を提供するように配列した少なくとも１つのセンサと、を含み、前記センサが、チャンバ内に位置決めされたスイッチを含み、ダイヤフラムの第２表面が所定量においてチャンバ内に膨張すると該第２表面が前記スイッチを閉じるようにされる流れ状況センサアセンブリと、
ｃ）所定の最大時間以上の時間においてあるいは所定の最大時間に満たない時間においてセンサから閾値信号を受けると所望されざる流れ状況を表示する信号を提供するようにプログラムされたプロセッサと、
を含む装置。
【請求項５２】
プロセッサに結合され、所望されざる流れ状況を表示する信号を提供すると起動するようにしたアラームを更に含む請求項５１の装置。
【請求項５３】
プロセッサに接続され、該プロセッサが所望されざる流れ状況を表示する信号を提供すると起動するようになっているアラームを更に含む請求項５２の装置。
【請求項５４】
アラームが可視アラームを含んでいる請求項５２の装置。
【請求項５５】
センサがアナログ信号を提供し、プロセッサが、前記アナログ信号をデジタル信号に変換するためのアナログ−デジタル変換器を含んでいる請求項５１の装置。
【請求項５６】
流路がリザーバを含み、流れ状況センサアセンブリが該リザーバの端部に位置決めされる請求項５１の装置。
【請求項５７】
流路がリザーバを含み、通路が、該リザーバと出口ポートアセンブリとの間の流体連通を提供し、流れ状況センサアセンブリが通路に接触して位置決めされる請求項５１の装置。
【請求項５８】
センサが、チャンバ壁の、流路から最も遠い位置に位置決めされ、閉鎖状態のチャンバが所定の容積を有している請求項５１の装置。
【請求項５９】
ダイヤフラムが、可撓性及び弾性を有する薄く且つへん平な材料片を含んでいる請求項５１の装置。
【請求項６０】
センサチャンバが所定の容積を有する請求項５１の装置。
【請求項６１】
流路が、治療用の流体を収納するリザーバを含んでいる請求項５１の装置。
【請求項６２】
治療用の流体がインシュリンである請求項６１の装置。
【請求項６３】
リザーバが加圧される請求項６１の装置。
【請求項６４】
流路が、経皮的な患者アクセスツールを含む出口ポートアセンブリを含んでいる請求項５１の装置。
【請求項６５】
経皮的な患者アクセスツールが針を含む請求項６４の装置。
【請求項６６】
出口ポートアセンブリと流路との流路の合計容積が実質的に固定され且つ予め決定される請求項５１の装置。
【請求項６７】
流体をして流路を貫いて流動せしめるためのディスペンサと、
該ディスペンサに結合され、流れ指令に基づき流体をして流路を貫いて流動せしめるようにプログラムされたローカルプロセッサと、
別個の遠隔制御装置からの流れ指令を受け、受けた流れ指令をローカルプロセッサに送るための、ローカルプロセッサに結合した無線レシーバと、
流路と、ディスペンサと、ローカルプロセッサと、無線レシーバとを収納するハウジングにして、ローカルプロセッサに流れ指令を提供するためのユーザー入力コンポーネントを持たないハウジングと、
を更に含む請求項５１の装置。
【請求項６８】
流体投与装置とは別個の遠隔制御装置を更に含み、該遠隔制御装置が、
リモートプロセッサと、
該リモートプロセッサに結合され、ユーザーをしてリモートプロセッサに流れ指令を提供させ得るようにするためのユーザーインターフェースコンポーネントと、
リモートプロセッサに結合され、流体投与装置のレシーバに流れ指令を伝達するためのトランスミッタと、
を含む請求項６７の装置。
【請求項６９】
流体をして流路を貫いて流動せしめるためのディスペンサと、
該ディスペンサに結合され、流れ指令に基づき流体を流路を通して流動せしめるようプログラムされ、更に、流れ指令を提供するようにプログラムされるローカルプロセッサと、
ローカルプロセッサに結合され、該ローカルプロセッサからの流れ指令を別個の遠隔制御装置に伝達するための無線トランスミッタと、
流路と、ディスペンサと、ローカルプロセッサと、無線トランスミッタと、を収納するハウジングにして、ローカルプロセッサからの流れ指令をユーザーに提供するためのユーザー出力コンポーネントを持たないハウジングと、
を更に含む請求項５１の装置。
【請求項７０】
流体投与装置とは別個の遠隔制御装置を更に含み、該遠隔制御装置が、
リモートプロセッサと、
該リモートプロセッサに結合され、ユーザーをして流れ指令を受信可能とするためのユーザー出力コンポーネントと、
リモートプロセッサに結合され、流体投与装置のトランスミッタからの流れ指令を受けるためのトランスミッタと、
該ローカルプロセッサに結合され、別個の遠隔制御装置からの流れ指令を受け、受けた流れ指令をローカルプロセッサに送る無線レシーバと、
を更に含む請求項６９の装置。
【請求項７１】
センサアセンブリが、ダイヤフラムの第２表面に接触して位置決めした多数のセンサチャンバを含む請求項５１の装置。
【請求項７２】
センサアセンブリが、各センサチャンバ内のセンサの少なくとも１つを有する請求項７１の装置。
【請求項７３】
センサアセンブリの各センサチャンバが所定の容積を有する請求項７１の装置。
【請求項７４】
センサアセンブリが、流路に接触して位置決めした第２ダイヤフラムを含んでいる請求項５１の装置。
【請求項７５】
センサアセンブリが、第２ダイヤフラムに接触して位置決めした第２チャンバを含む請求項７４の装置。
【請求項７６】
センサアセンブリが、第２ダイヤフラムが第２チャンバ内に膨張した場合に閾値信号を提供するように配列した第２センサを含んでいる請求項７５の装置。
【請求項７７】
患者に流体を投与するための装置であって、
ａ）出口ポートアセンブリから伸延する流路と、
ｂ）流れ状況センサアセンブリにして、相対する第１表面及び第２表面を有し、第１表面が前記流路と接触して位置決めされる弾性のダイヤフラムと、ダイヤフラムの第２表面と接触して位置決めされ、該第２表面に隣り合うセンサチャンバを確定するチャンバ壁と、ダイヤフラムの第２表面がチャンバ内に所定量膨張する際に閾値信号を提供するように配列した少なくとも１つのセンサと、を含み、該センサが、ダイヤフラムの第２表面上に位置決めした導線と、チャンバ壁上に導線が位置決めした導線とを有する回路を含み、前記第２表面上の導線と該チャンバ壁上の導線とが、ダイヤフラムの第２表面が所定量においてチャンバ内に膨張すると相互に合わさり、回路を閉じるようにした流れ状況センサアセンブリと、
ｃ）所定の最大時間以上の時間においてあるいは所定の最大時間に満たない時間においてセンサから閾値信号を受けると所望されざる流れ状況を表示する信号を提供するようにプログラムされたプロセッサと、
を含む装置。
【請求項７８】
患者に流体を投与するための装置であって、
ａ）出口ポートアセンブリから伸延する流路と、
ｂ）流れ状況センサアセンブリにして、相対する第１表面及び第２表面を有し、第１表面が前記流路と接触して位置決めされる弾性のダイヤフラムと、ダイヤフラムの第２表面と接触して位置決めされ、該第２表面に隣り合うセンサチャンバを確定するチャンバ壁と、ダイヤフラムの第２表面がチャンバ内に所定量膨張する際に閾値信号を提供するように配列した少なくとも１つのセンサと、を含み、該センサが、チャンバ壁上に位置決めした導線と、ダイヤフラムの第２表面上に位置決めした導電性層とを有する回路を含み、第２表面が所定の流体流れ状況に応じてチャンバ内に膨張すると導電性層が前記チャンバ壁上の導線と接触して回路を閉じるようにした流れ状況センサアセンブリと、
ｃ）所定の最大時間以上の時間においてあるいは所定の最大時間に満たない時間においてセンサから閾値信号を受けると所望されざる流れ状況を表示する信号を提供するようにプログラムされたプロセッサと、
を含む装置。
【請求項７９】
患者に流体を投与するための装置であって、
ａ）出口ポートアセンブリから伸延する流路と、
ｂ）流れ状況センサアセンブリにして、相対する第１表面及び第２表面を有し、第１表面が前記流路と接触して位置決めされる弾性のダイヤフラムと、ダイヤフラムの第２表面と接触して位置決めされ、該第２表面に隣り合うセンサチャンバを確定するチャンバ壁と、積層された少なくとも２つの層にして、前記弾性のダイヤフラムが該積層された２つの層間に位置決めされる積層された少なくとも２つの層と、ダイヤフラムの第２表面がチャンバ内に所定量膨張する際に閾値信号を提供するように配列した少なくとも１つのセンサと、を含む流れ状況センサアセンブリと、
ｃ）所定の最大時間以上の時間においてあるいは所定の最大時間に満たない時間においてセンサから閾値信号を受けると所望されざる流れ状況を表示する信号を提供するようにプログラムされたプロセッサと、
を含む装置。
【請求項８０】
積層された少なくとも２つの層が、
第１層と、
該第１層に受けられた第２層にして、該第２層と第１層とが流路の通路を確定する少なくとも１つの溝と、前記通路と流体連通する開口とを有し、弾性のダイヤフラムが該開口を覆って該第２層に受けられる第２層と、
第２層上でダイヤフラムを覆って受けられる第３層にして、ダイヤフラムを覆うチャンバを確定するチャンバ壁を含み且つ第２層の開口と整列する第３層と、
を含んでいる請求項７９の装置。
【請求項８１】
第２層及び第３層の一方がダイヤフラムを受ける凹所を確定し、該凹所が、ダイヤフラムが第２層と第３層との間に実質的に液密態様下に固定されるよう、ダイヤフラムの厚さと概略等しい深さを有している請求項８０の装置。
【請求項８２】
凹所の長さ及び幅が、ダイヤフラムの長さ及び幅よりも夫々大きい請求項８１の装置。
【請求項８３】
センサが、センサチャンバを貫いて伸延する通路と、光学的なトランスミッタと、前記通路の対向する各端部に位置決めした光学的なレシーバと、を含んでいる請求項７９の装置。
【請求項８４】
患者に流体を投与するための装置であって、
ａ）経皮的な患者アクセスツールと結合するようにした出口ポートアセンブリと、
ｂ）出口ポートアセンブリから伸延する流路と、
ｃ）流れ状況センサアセンブリにして、相対する第１表面及び第２表面を有し、第１表面が前記流路と接触して位置決めされる弾性のダイヤフラムと、ダイヤフラムの第２表面と接触して位置決めされ、該第２表面に隣り合うセンサチャンバを確定するチャンバ壁と、ダイヤフラムの第２表面が流路内に生じる少なくとも１つの所定の流体流れ状況に応答してチャンバ内に膨張する際に閾値信号を提供するように配列した少なくとも１つのセンサと、を含む流れ状況センサアセンブリと、
を含み、
流れ状況センサアセンブリが、積層された少なくとも２つの層を含み、ダイヤフラムが該２つの層の間に位置決めされる装置。
【請求項８５】
センサが、接触、圧力、光、磁気、歪み、密度の何れか１つに応答する請求項８４の装置。
【請求項８６】
流れ状況センサアセンブリの、積層された少なくとも２つの層が、
第１層と、
該第１層に受けられた第２層にして、該第２層と第１層とが流路の通路を確定する少なくとも１つの溝と、前記通路と流体連通する開口とを有し、弾性のダイヤフラムが該開口を覆って該第２層に受けられる第２層と、
第２層上でダイヤフラムを覆って受けられる第３層にして、ダイヤフラムを覆うチャンバを確定するチャンバ壁を含み且つ第２層の開口と整列する第３層と、
を含む請求項８４の装置。
【請求項８７】
第２層及び第３層の一方がダイヤフラムを受ける凹所を確定し、該凹所が、ダイヤフラムが第２層と第３層との間に実質的に液密態様下に固定されるよう、ダイヤフラムの厚さと概略等しい深さを有している請求項８６の装置。
【請求項８８】
凹所の長さ及び幅が、ダイヤフラムの長さ及び幅よりも夫々大きい請求項８７の装置。