【事件の表示】
　特願２００６−２１３２５８「信号伝送時のＲＣ効果を軽減する表示パネル及び関連製作方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１９年　９月１３日出願公開、特開２００７−２３３３２８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
平成１８年　８月　４日：特許出願
（優先権　平成１８年３月２日　台湾）
平成２１年　２月２４日：拒絶理由
平成２１年　４月１３日：意見
平成２１年　４月１３日：手続補正
平成２１年　６月１２日：拒絶理由
平成２１年　７月２４日：意見
平成２１年　７月２４日：手続補正（以下「手続補正１」という。）
平成２１年　９月　７日：拒絶査定
平成２２年　１月１５日：審判請求
平成２２年　１月１５日：手続補正（以下「本件補正」という。）
平成２２年１２月２０日：審尋
（回答書は提出されなかった）
　
第２　補正の却下の決定
［補正の却下の決定の結論］
　本件補正を却下する。
　
［理由］
１　本件補正後発明
　本件補正後発明は，本件補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される下記のとおりのものである。
　
　　　　　　　　　　　　　　　　　記
　
　表示パネルであって，
　表示領域を有する基板と，
　前記基板の表示領域に設けられ，信号を伝送する複数の導線と，
　前記複数の導線に電気的に接続され，パネル操作時に所要の駆動信号を提供する駆動集積回路と，
　前記複数の導線のうち１本と駆動集積回路にそれぞれ電気的に接続する複数の接続導線と，
　を含み，
　前記複数の接続導線は第一接続導線を有し，ハーフトーンマスクにより前記第一接続導線の一部を薄くすることで形成される前記第一接続導線の第一区間と第二区間の厚さは実質的に異なり，
　前記複数の接続導線は更に，厚さが実質的に均一な第二接続導線を含み，
　前記第一接続導線の全長は前記第二接続導線より短い，
　ことを特徴とする表示パネル。
　
　なお，特許請求の範囲の記載からは「ハーフトーンマスクにより前記第一接続導線の一部を薄くすることで形成される」ものが「前記第一接続導線」なのか「前記第一接続導線の第一区間」なのかは必ずしも明らかではないが，発明の詳細な説明の段落０００８に「第一区間より実質的に薄い第二区間」と記載されているので，「ハーフトーンマスクにより前記第一接続導線の一部を薄くすることで形成される」ものは「前記第一接続導線」と認定する。
　
２　本件補正の目的
　本件補正は特許請求の範囲を補正するものであって，その請求項１についてする補正の目的は，請求項１の発明特定事項である「第一接続導線」を「ハーフトーンマスクにより前記第一接続導線の一部を薄くすることで形成される前記第一接続導線」と限定して減縮するものであるから，請求項１についてする補正は，平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２（以下単に「特許法第１７条の２」という。）第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とする補正である。
　
　そこで，本件補正後の請求項１に係る発明（以下「本件補正後発明」という。）が特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか，すなわち，特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否かについて，以下に検討する。
　
３　引用例
　原査定の拒絶の理由に引用され，本願の優先日よりも前に頒布された刊行物である特開２００１−１１８８４７号公報（拒絶理由通知の引用文献１，以下「引用例」という。）には，各図とともに以下の事項が記載されている。
　
記載事項ア　
「【００３４】【課題を解決するための手段】本発明に係る配線構造は，上記の課題を解決するために，各信号配線と基板の端子とを接続する複数の接続配線の配線構造において，上記各接続配線は，複数の接続部からなり，上記複数の接続部は，その断面の厚み方向の構造が異なることにより，それぞれの抵抗値を異ならせており，上記各接続部は，上記各接続配線の全抵抗が略同じになるように設けられていることを特徴としている。
【００３５】上記の発明によれば，基板の各端子を介して入力される信号電圧が接続配線を介して所望の信号配線に印加される。
【００３６】一般に，基板の端子と信号配線との距離は端子毎にそれぞれ異なるので，各接続配線の抵抗も端子毎に異なる。このように生じた抵抗の差により，信号配線に印加される信号電圧にムラが生じて所望のものでなくなり，信頼性が低下することになる。これを克服するために，接続配線毎に配線の線幅を変化させて，各接続配線の抵抗を揃えることが考えられる。しかし，高集積化に伴って端子ピッチ（端子間の距離）が小さくなると，次のような問題点を招来する。即ち，各接続配線の全抵抗を略同じにするためには，接続配線の線幅を変化させることが必要であるが，接続配線が長い場合には線幅が大きくなるので隣り合う接続配線間で短絡が生じ易くなる一方，接続配線の長さが短い場合には線幅が小さくなるので断線が生じ易くなる。
【００３７】そこで，上記発明によれば，各接続部は，その断面の厚み方向の構造を変えている。つまり，断面の厚み方向の構造に応じて，各接続部毎に単位長さ当たりの抵抗値を変化させることが可能となる。このように，各接続部の抵抗値を変化させることによって，接続配線の全抵抗がそれぞれ略同じになるように調整可能となる。つまり，従来のように接続配線の線幅を変化させるのではなくて，断面の厚み方向の構造を変えることによって，各接続配線の線幅を適切な値に収めることができる。それゆえ，接続配線の線幅の変化に起因して生じていた従来の接続配線の短絡や断線を確実に防ぐことが可能となる。断面の厚み方向の構造は，例えば，導体層の膜厚を変えたり，２種類以上の導体を組み合わせて多層構造としたりすることによって変化する。」
　
記載事項イ　
「【００９５】【発明の実施の形態】〔実施の形態１〕本発明の実施の一形態について，図面に基づいて説明すれば，以下のとおりである。
【００９６】図１（ａ）〜（ｄ）は素子側基板１を形成する際の各工程をあらわす説明図である。また，図２は，図１（ｄ）のａ−ａ’線矢視断面図である。
【００９７】まず，図１（ａ）に示すように，ガラス基板上に信号配線３，下部電極３ａ，接続配線７および素子側端子８となる第１の導電体として，Ｔａをスパッタリング法により薄膜形成した後に，フォトリソグラフィー法により所定の形状にパターニングする。
【００９８】この時，接続配線７を，第１の区間７ａ（接続部）と第２の区間７ｂ（接続部）に分け，第１の区間７ａの長さが接続配線７の全長に比例するように形成する。すなわち，全長が最長である接続配線７においては，全区間が第１の区間７ａで占められ，全長が最短となる接続配線７においては，全区間が第２の区間７ｂで占められることになる。
【００９９】次に，薄い絶縁体９を第１の導電体の表面に形成するが，本実施の形態では，図１（ｂ）のように，素子側端子８のみでなく接続配線７の全てを保護樹脂で覆った状態で陽極酸化法をおこない，画素領域内に限定して絶縁体９を形成した。
【０１００】こうすることにより，第１の区間７ａの全区間において，Ｔａと後に形成する第２の導電体たるＴｉとを接続させることができる。この場合，積層配線１９が断線したとしても，少なくとも第１の区間７ａの一部においてはＴａとＴｉとが積層している部分を確保することができるので，第１の区間７ａの低抵抗化には十分に寄与できる。
【０１０１】次に，図１（ｃ）に示すように，上部電極５を形成するために，第２の導電体たるＴｉをスパッタリング法にて薄膜形成した後に，フォトリソグラフィー法により所定の形状にパターニングする。同時に，第１の区間７ａの表面に積層配線１９もパターニングしておく。
【０１０２】次に，図１（ｄ）のように，画素電極６および素子側端子電極１０となる第３の導電体としてＩＴＯをスパッタリング法により薄膜形成した後に，フォトリソグラフィー法にて所定の形状にパターニングする。
【０１０３】上記の工程において，接続配線７は，全長が最長Ｌである接続配線７を１番目とし，全長が最短ｌである接続配線７をＮ番目とすると，ｎ番目の接続配線を構成する第１の区間７ａの長さｌa （ｎ）と第２の区間７ｂの長さｌb （ｎ）が以下のような関係になるように形成する。ｌa （ｎ）＝Ｌ×（Ｎ−ｎ）／（Ｎ−１）ｌb （ｎ）＝ｌ×（ｎ−１）／（Ｎ−１）つまり，接続配線７は第１の区間７ａと第２の区間７ｂからなるのであるが，接続配線７が最長となる部分（ｎ＝１）では全区間が第１の区間７ａとなり，接続配線７が最短となる部分（ｎ＝Ｎ）では全区間が第２の区間７ｂとなるものである。
【０１０４】ここで，第１の区間７ａの配線抵抗Ｒa （ｎ）は，以下の式であらわされる。
Ｒa （ｎ）＝Ｒa1（ｎ）×Ｒa2（ｎ）／（Ｒa1（ｎ）＋Ｒa2（ｎ））
Ｒa1（ｎ）＝ρ1 ×ｌa （ｎ）／（Ｗa1×Ｄ1 ）
Ｒa2（ｎ）＝ρ2 ×ｌa （ｎ）／（Ｗa2×Ｄ2 ）
また，第２の区間７ｂの配線抵抗Ｒb （ｎ）は，以下の式であらわされる。
Ｒb （ｎ）＝ρ1 ×ｌb （ｎ）／（Ｗb1×Ｄ1 ）
したがって，ｎ番目の接続配線７の配線抵抗Ｒ（ｎ）は，以下の式であらわされる。
Ｒ（ｎ）＝Ｒa （ｎ）＋Ｒb （ｎ）
なお，以上の式中に用いた記号の意義は以下の通りである。
Ｒa （ｎ）    ：ｎ番目の第１の区間７ａの配線抵抗
Ｒa1（ｎ）    ：ｎ番目の第１の区間７ａの第１の導電体の配線抵抗
Ｒa2（ｎ）    ：ｎ番目の第１の区間７ａの第２の導電体の配線抵抗
Ｒb （ｎ）    ：ｎ番目の第２の区間７ｂの配線抵抗
ρ1   ：第１の導電体の比抵抗
ρ2   ：第２の導電体の比抵抗
Ｗa1  ：第１の区間７ａにおける第１の導電体の線幅
Ｗa2  ：第１の区間７ａにおける第２の導電体の線幅
Ｗb1  ：第２の区間７ｂにおける第１の導電体の線幅
Ｄ1   ：第１の導電体の膜厚
Ｄ2   ：第２の導電体の膜厚
例えば，Ｌ＝３（ｍｍ），ｌ＝１（ｍｍ）の場合を考え，具体的数値として，ρ1 ＝１００（μΩ・ｃｍ），ρ2 ＝１２０（μΩ・ｃｍ），Ｗa1＝２０（μｍ），Ｗa2＝１２（μｍ），Ｗb1＝１１（μｍ），Ｄ1 ＝３０００（Å），Ｄ2 ＝４０００（Å）を代入してＲa （ｎ），Ｒb （ｎ）を計算すると，以下のようになる。
Ｒa （ｎ）＝３００×（Ｎ−ｎ）／（Ｎ−１）  （Ω）
Ｒb （ｎ）＝３０３×（ｎ−１）／（Ｎ−１）  （Ω）
すなわち，Ｒ（ｎ）は以下の式であらわせる。
Ｒ（ｎ）＝３００×（Ｎ−ｎ）／（Ｎ−１）＋３０３×（ｎ−１）／（Ｎ−１）（Ω）
以上から明らかなように，接続配線７が最長となる部分（ｎ＝１）では，全区間が第１の導電体と第２の導電体の２層構造からなる第１の区間７ａであり，抵抗は３００Ωになる。一方，最短となる部分（ｎ＝Ｎ）では全区間が第１の導電体の単層構造からなる第２の区間７ｂであり，抵抗は３０３Ωとなる。上式に従えば，Ｒ（ｎ）はｎの値によらず，ほぼ一定値となる。このようにして，接続配線７の全抵抗が略同じになるような断面構造を有している接続配線７を形成することができる。」
　
記載事項ウ　
「【０１０５】得られた液晶セルの外観を図１６に示す。接続配線７が，第１の導電体と第２の導電体の２層構造からなる第１の区間７ａと，第１の導電体の単層構造からなる第２の区間７ｂとからなっている構成が図示されている。図１６においては，素子側端子８上に第３の導電体層が設けられ素子側端子電極１０としているが，接続配線７及び素子側端子電極１０以外の構成は図１３と同様である。
【０１０６】従来の方法では，接続配線７毎の抵抗のばらつきを線幅の調整のみにより揃えるため，最大の線幅を有する接続配線７と最小の線幅を有する接続配線７では，線幅に３倍もの違いを作らなければならないが，本実施の形態では最大の線幅を有する部分で２０μｍ，最小の線幅を有する部分で１１μｍと２倍程度の違いにまで線幅のばらつきを縮小できる。したがって，全ての接続配線７を，断線や短絡などの不良パターンの発生を抑えることのできる線幅である約１０μｍ〜約３０μｍ程度の範囲内の寸法に制限された線幅を有するものとしながら，接続配線７の抵抗を揃えることができる。
【０１０７】更に，本実施の形態では，接続配線７をＭＩＭ素子４の上部電極５を構成する第２の導電体たるＴｉで形成することとしているため，図１１で示した従来のＭＩＭ素子の製造工程になんら新しい工程を追加することなく，第２の導電体たるＴｉのパターニングに用いるフォトマスクの変更のみで本発明を実現できるので，製造コストは従来のＭＩＭ素子と変わらないという利点がある。
【０１０８】なお，積層配線１９を第３の導電体で形成することも可能である。しかし，一般に，画素電極６として採用されるＩＴＯは液晶セルの透過率を確保する目的で比較的薄く成膜されることから抵抗が高く，接続配線７の低抵抗化に対する寄与が小さい。したがって，このような場合は本実施の形態のように，第２の導電体で積層配線１９を形成することが望ましい。
【０１０９】なお，透過型ではなく反射型の液晶表示装置とするために，画素電極６に反射板の機能をもたせる目的で第３の導電体として，例えばＡｌを採用する場合がある。この場合は，Ａｌは比抵抗が小さく，透過率の確保のための薄膜化も必要ないから，Ａｌ層の抵抗は極めて小さい。したがって，このような場合は第３の導電体を積層配線１９の材料として用いることが効果的である。
【０１１０】つまり，積層配線１９の材料として第２の導電体，第３の導電体のいずれを用いるかは，配線の低抵抗化への寄与が大きいものを選択すればよく，いずれかに限定されるものではない。
【０１１１】この後，別途作成した対向側基板２と共に，配向膜の塗布とラビング処理をおこない，両者を貼り合わせ，液晶を注入する。そして光学フィルムと回路部材１１及び１５をとりつけ液晶表示装置が完成する。
【０１１２】以上のように，本実施の形態は，液晶セルの各信号配線３と，下部電極３ａ・絶縁体９・上部電極５からなる２端子非線形素子（ＭＩＭ素子４）を形成した素子側基板１の端子（素子側端子８）とを接続する接続配線７の配線構造において，上記各接続配線７は，所定の線幅を有する複数の接続部（第１の区間７ａおよび第２の区間７ｂ）を有し，上記複数の接続部は，上記各接続配線７で全抵抗が略同じになるように設けられている配線構造であることによって，短絡や断線を回避しつつ，接続配線７の抵抗の均一化を図ることのできるものである。」 
　
記載事項エ　
「【０１７８】以上，実施の形態１乃至５においては，ＭＩＭ素子４を用いた液晶セルを例として説明したが，本発明の適用はこれに限るものでない。例えば，ＴＦＤ素子，ＤＭ素子といった２端子非線形素子を用いた液晶セルにも適用できる。更には，ボトムゲート型のＴＦＴを用いた液晶セルでは，ゲート電極を信号配線３，ソース電極またはドレイン電極を上部電極５と置き換えて考えれば適用できる。
【０１７９】更に，単純マトリクス駆動タイプの液晶セルのように電極材料が１種類のみであっても適用できる。つまり，接続配線７上に他の導電体薄膜を積層したり，接続配線７を部分的に薄膜化する工程を増やす必要があるが，本発明にしたがって，接続配線７の厚み方向の構造を変えることによって接続配線７の抵抗を調整することが可能であるから，液晶セルの設計の自由度が増す効果は同等に得られるのである。
【０１８０】すなわち，一基板上に複数の配線材料を用いた平面表示装置であって複数の接続配線が形成されるものであれば，本発明の内容を適用可能であり，更には，一基板上に複数の配線材料を用いる配線構造一般において，本発明は適用可能である。
【０１８１】また，説明に使用した材料や寸法値は一例であってこれに限るものではない。例えば，実施の形態１乃至５においては，最長部の接続配線７が第１の区間７ａのみ，最短部の接続配線７が第２の区間７ｂのみからなる構成を説明したが，これは説明を簡単にするための措置であり，このような設計に限定されるものではなく，全ての接続配線７が第１の区間７ａと第２の区間７ｂから構成されていてもよい。
【０１８２】更に，実施の形態１乃至５においては，接続配線７の第１の区間７ａにおける線幅と第２の区間７ｂにおける線幅が異なるものとしたが，第１の区間７ａにおける線幅と第２の区間７ｂにおける線幅は同じであってもよく，かかる場合には，接続配線７を複雑な形状で引き回した場合にも，引き回しパターンに関係なく，接続配線７の全領域において，配線の短絡を防止することができる。
【０１８３】すなわち，本発明を実施する際には，接続配線を複数の接続部に分け，接続配線の最長部の抵抗と最短部の抵抗とが略同じになるように，それぞれの接続部において使用する配線材料や配線構造を任意に組み合わせればよい。」
　
記載事項オ　
　技術常識とともに記載事項イ及びウ並びに図１及び１６を参照すると，引用例には以下の事項が記載されているに等しい。
(1)　１本の信号配線（３）と１つの素子側端子（８）が１本の接続配線（７）を介して電気的に接続されたものが複数設けられている。なお，この点は図１からも見て取れる。
(2)　回路部材（１１）には表示用駆動信号を出力する駆動用集積回路素子が搭載され，駆動用集積回路素子の端子と素子側端子（８）とが１対１の関係で接続されている。
　
　これら記載事項及び各図を考慮して，引用例に記載された発明を分説して記載すると，下記のとおりとなる（以下，この発明を「引用発明」といい，また，分説された構成を「構成要件Ａ」などという。）。
　
　　　　　　　　　　　　　　　　　記
　
Ａ　ガラス基板上に信号配線（３），下部電極（３ａ），接続配線（７）および素子側端子（８）となる第１の導電体として，Ｔａをスパッタリング法により薄膜形成した後に，フォトリソグラフィー法により所定の形状にパターニングし，すなわち，１本の信号配線（３）と１つの素子側端子（８）が１本の接続配線（７）を介して電気的に接続されたものが複数設けられるようにし，
Ｂ　この時，接続配線（７）を，第１の区間（７ａ）と第２の区間（７ｂ）に分け，全長が最長Ｌである接続配線（７）を１番目とし，全長が最短ｌである接続配線（７）をＮ番目とすると，ｎ番目の接続配線を構成する第１の区間（７ａ）の長さｌa （ｎ）と第２の区間（７ｂ）の長さｌb （ｎ）が以下のような関係になるように形成し，
ｌa （ｎ）＝Ｌ×（Ｎ−ｎ）／（Ｎ−１）
ｌb （ｎ）＝ｌ×（ｎ−１）／（Ｎ−１）
つまり，接続配線（７）は第１の区間（７ａ）と第２の区間（７ｂ）からなるのであるが，接続配線（７）が最長となる部分（ｎ＝１）では全区間が第１の区間（７ａ）となり，接続配線（７）が最短となる部分（ｎ＝Ｎ）では全区間が第２の区間（７ｂ）となるものであり，
Ｃ　次に，素子側端子（８）のみでなく接続配線（７）の全てを保護樹脂で覆った状態で陽極酸化法をおこない，画素領域内に限定して絶縁体（９）を形成し，
Ｄ　次に，上部電極（５）を形成するために，第２の導電体たるＴｉをスパッタリング法にて薄膜形成した後に，フォトリソグラフィー法により所定の形状にパターニングし，同時に，第１の区間（７ａ）の表面に積層配線（１９）もパターニングしておき，
Ｅ　次に，画素電極（６）および素子側端子電極（１０）となる第３の導電体としてＩＴＯをスパッタリング法により薄膜形成した後に，フォトリソグラフィー法にて所定の形状にパターニングし，
Ｆ　接続配線（７）の全抵抗が略同じになるような断面構造を有している接続配線（７）を形成することができ，
Ｇ　この後，別途作成した対向側基板（２）と共に，配向膜の塗布とラビング処理をおこない，両者を貼り合わせ，液晶を注入し，そして光学フィルムと回路部材（１１）及び（１５）をとりつけ，回路部材（１１）には表示用駆動信号を出力する駆動用集積回路素子が搭載され，駆動用集積回路素子の端子と素子側端子（８）とが１対１の関係で接続されている，
Ｈ　液晶表示装置。
　
４　対比
　本件補正後発明と引用発明を対比すると，以下のとおりとなる。
　
(1)　基板
　構成要件ＡないしＨからみて，引用発明の「ガラス基板」は液晶表示装置の基板である。したがって，引用発明の「ガラス基板」と本件補正後発明の「基板」は，「表示領域を有する基板」の点で一致する。
　
(2)　導線
　(1)の対比結果及び構成要件Ａからみて，引用発明の「信号配線（３）」と本件補正後発明の「導線」は，「前記基板の表示領域に設けられ，信号を伝送する複数の導線」の点で一致する。
　
(3)　駆動集積回路
　構成要件Ａ及びＧからみて，引用発明の「駆動用集積回路素子」と本件補正後発明の「駆動集積回路」は，「前記複数の導線に電気的に接続され，パネル操作時に所要の駆動信号を提供する駆動集積回路」の点で一致する。
　
(4)　接続導線
　構成要件Ａ及びＧからみて，引用発明の「接続配線（７）」と本件補正後発明の「接続導線」は，「前記複数の導線のうち１本と駆動集積回路にそれぞれ電気的に接続する複数の接続導線」の点で一致する。
　
(5)　第一接続導線
　構成要件Ｂ及びＤからみて，引用発明の「接続配線（７）」のうち最長でも最短でもないもの（以下「中間長接続配線」という。）は，「第１の区間（７ａ）」の厚さと「第２の区間（７ｂ）」の厚さが「積層配線（１９）」の厚さの分だけ異なる。
　そうしてみると，引用発明の「接続配線（７）」と本件補正後発明の「接続導線」は，「前記複数の接続導線は第一接続導線を有し」という構成を備える点で一致する。また，引用発明の「中間長接続配線」と本件補正後発明の「第一接続導線」は，（後述の相違点を除いた）「前記第一接続導線の第一区間と第二区間の厚さは実質的に異なり」という構成を備える点で共通する。
　
(6)　第二接続導線
　構成要件Ｂからみて，引用発明の「全長が最長Ｌである接続配線（７）」（以下「最長接続配線」という。）は全区間が第１の区間（７ａ）となる。
　そうしてみると，引用発明の「接続配線（７）」と本件補正後発明の「接続導線」は，「前記複数の接続導線は更に，厚さが実質的に均一な第二接続導線を含み」という構成を備える点で一致する。また，構成要件Ｂからみて，引用発明の「中間長接続配線」及び「最長接続配線」と本件発明の「第一接続配線」及び「第二接続配線」は，「前記第一接続導線の全長は前記第二接続導線より短い」という構成を備える点で一致する。
　
(7)　表示パネル
　(1)ないし(6)の対比結果及び構成要件ＡないしＨからみて，引用発明の「液晶表示装置」は本件補正後発明の「表示パネル」に相当する。
　
　そうしてみると，本件補正後発明と引用発明は，
「　表示パネルであって，
　表示領域を有する基板と，
　前記基板の表示領域に設けられ，信号を伝送する複数の導線と，
　前記複数の導線に電気的に接続され，パネル操作時に所要の駆動信号を提供する駆動集積回路と，
　前記複数の導線のうち１本と駆動集積回路にそれぞれ電気的に接続する複数の接続導線と，
　を含み，
　前記複数の接続導線は第一接続導線を有し，前記第一接続導線の第一区間と第二区間の厚さは実質的に異なり，
　前記複数の接続導線は更に，厚さが実質的に均一な第二接続導線を含み，
　前記第一接続導線の全長は前記第二接続導線より短い，
　表示パネル。」
の点で一致し，以下の点で相違する。
　
（相違点）
　本件補正後発明の第一接続導線は「ハーフトーンマスクにより前記第一接続導線の一部を薄くすることで形成される」という構成を備えるのに対して，引用発明の中間長接続配線は，これとは構成が異なる点。
　
５　判断
　引用発明は，「接続配線（７）の全抵抗が略同じになるような断面構造を有している接続配線（７）を形成する」（構成要件Ｆ）ために「第１の区間（７ａ）の表面に積層配線（１９）もパターニングし」（構成要件Ｄ）という手段を採用したものであるところ，引用例には「断面の厚み方向の構造は，例えば，導体層の膜厚を変えたり・・・することによって変化する。」（記載事項アの段落００３４）と記載されている。
　そうしてみると，引用発明において，ハーフトーンマスクによる膜厚制御の周知技術（例えば，特開２００２−１０７７６２号公報，特開２００２−１９０５９８号公報には，液晶表示装置用の基板に所望の膜厚の導体層を形成するにあたって，ハーフトーンマスクを用いた露光及び現像により，導体層がエッチングされる量を制御し，異なる膜厚の導体層を作る技術が開示されている。）を採用して導体層の膜厚を変えるようにし，引用発明の第一接続導線を「ハーフトーンマスクにより前記第一接続導線の一部を薄くすることで形成される」ものとすることは，当業者が容易にできることである。
　また，本件補正後発明の効果は，引用発明及び周知技術から予測できる範囲内のものである。あるいは，引用例には導体層の膜厚を変えることについて明示的な言及があるところ，ハーフトーンマスクにより導体膜の膜厚を変えても，あるいは，他の手段により導体層の膜厚を変えても，物の発明としての「表示パネル」の性能に特段の相違が生ずるものではないことは明らかであるから，物としての効果に実質的な差違は存在しない。
　
６　備考（「３　引用例」の「記載事項オ」の(2)について）
　引用例に記載された液晶表示装置はマトリクス駆動を行うものであるから，引用例に記載された液晶表示装置が，例えば，引用例の図９，特開２０００−１３３９０４号公報，特開平１０−９０６６８号公報，特開２００４−６９９５号公報，特開２０００−３２１５９６号公報に記載されているような構成を備えていることは明らかである。
　
７　小括
　以上のとおり，本件補正後発明は，引用例に記載された発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　したがって，本件補正は特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであるから，同法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
第３　本願発明
１　本願発明
　本件補正は却下されたので，本願の請求項１に係る発明は，手続補正１により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりの下記のものである（以下「本願発明」という。）。
　
　　　　　　　　　　　　　　　　　記
　
　表示パネルであって，
　表示領域を有する基板と，
　前記基板の表示領域に設けられ，信号を伝送する複数の導線と，
　前記複数の導線に電気的に接続され，パネル操作時に所要の駆動信号を提供する駆動集積回路と，
　前記複数の導線のうち１本と駆動集積回路にそれぞれ電気的に接続する複数の接続導線と，
　を含み，
　前記複数の接続導線は第一接続導線を有し，前記第一接続導線の第一区間と第二区間の厚さは実質的に異なり，
　前記複数の接続導線は更に，厚さが実質的に均一な第二接続導線を含み，
　前記第一接続導線の全長は前記第二接続導線より短い，
　ことを特徴とする表示パネル。
　
２　引用例
　原査定の拒絶の理由で引用された引用例及びその記載事項は「第２　補正の却下の決定」の「３　引用例」に記載したとおりである。
　
３　対比及び判断
　本願発明は，本件補正後発明の「第一接続導線」について，「ハーフトーンマスクにより前記第一接続導線の一部を薄くすることで形成される」という構成を省いたものである。そして，この省かれた構成は本件補正後発明と引用発明の相違点に係る構成である。
　そうしてみると，本願発明と引用発明は「第２　補正の却下の決定」の「４　対比」で述べた一致点で一致し，相違点は存在しないこととなるから，本願発明は引用例に記載された発明と同一である。
　
４　小括
　以上のとおり，本願発明は引用例に記載された発明であるから，特許法第２９条第１項第３号の規定に違反するものであるから特許を受けることができない。
　
第４　総括
　したがって，本願は拒絶すべきものである。
　よって，結論のとおり審決する。