【手続補正書】
【提出日】平成18年9月15日(2006.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプル中の材料の成分を検出するための分析器または分光光度計であって、
少なくとも前記サンプルに、可変の放射線を方向付けるようになっている放射線源と、
少なくとも前記サンプルにより影響される放射線を検出するための検出器であり、スペクトル応答を変えることができるとともに、入射してくる放射線および前記スペクトル応答によって出力が決まる前記検出器と、
前記出力を受けるとともに、前記サンプルに方向付けられた放射線の強度を変化させ、前記検出器のスペクトル応答を変化させ、前記変化に伴う前記出力に基づいて前記サンプルの成分の特性を決定するように構成されあるいはプログラムされたコントローラまたはプロセッサと、
を備える分析器または分光光度計。
【請求項２】
前記サンプルに方向付けられる放射線の強度が、前記放射線源に供給される電圧または電流を変化させることによって変えられる、請求項１に記載の分析器または分光光度計。
【請求項３】
前記サンプルに方向付けられる放射線の強度が、前記放射線源と前記サンプルとの間の伝送経路を変化させることによって変えられる、請求項１に記載の分析器または分光光度計。
【請求項４】
前記伝送経路が、前記サンプルに方向付けられる放射線が通り抜ける開口のサイズを変えることにより変化される、請求項３に記載の分析器または分光光度計。
【請求項５】
様々なサイズの複数の開口がホイールに設けられ、前記ホイールが回転している際に前記開口が前記伝送経路を通って移動するようになっている、請求項４に記載の分析器または分光光度計。
【請求項６】
前記放射線源がフィラメントランプであり、前記放射線源がオンに切換えられた後、前記サンプルに方向付けられる放射線の強度が、限られた時間中に変化するようになっている、すなわち、放射線の強度が前記放射線源のパルス発生により変えられるようになっている、請求項１または２に記載の分析器または分光光度計。
【請求項７】
前記サンプルにより影響される放射線がフォトダイオードによって検出され、前記フォトダイオード内の空乏領域の幅を変化させることにより前記検出器のスペクトル応答が変えられる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の分析器または分光光度計。
【請求項８】
前記フォトダイオード内の空乏領域の幅が、前記フォトダイオードの両端間に印加される逆電圧を変えることにより変化される、請求項７に記載の分析器または分光光度計。
【請求項９】
前記検出器からの前記出力信号が、前記コントローラに供給される前に増幅されてデジタル化される、請求項１〜８のいずれか一項に記載の分析器または分光光度計。
【請求項１０】
前記コントローラがマイクロプロセッサである、請求項１〜９のいずれか一項に記載の分析器または分光光度計。
【請求項１１】
前記放射線源が発光ダイオードである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の分析器または分光光度計。
【請求項１２】
前記放射線源がタングステンフィラメントランプである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の分析器または分光光度計。
【請求項１３】
前記放射線源がガス放電ランプである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の分析器または分光光度計。
【請求項１４】
前記放射線源から前記サンプルを経て前記検出器に放射線を方向付けるための、または、前記放射線源から直接前記検出器に放射線を方向付けるための可変伝送経路をさらに備えており、
前記コントローラまたはプロセッサが、前記出力を受けるとともに、前記可変伝送経路をコントロールするようになっており、
前記コントローラまたはプロセッサが、
前記サンプルにより影響される前記検出器での放射線を測定し、
前記放射線源から直接にくる前記検出器での放射線を測定し、
前記サンプルにより影響された、前記測定された放射線、および、前記放射線源から直接受けた、前記測定された放射線に基づき、前記サンプルの成分の特性を決定する
ように構成されあるいはプログラムされている、請求項１に記載の分析器または分光光度計。
【請求項１５】
前記可変伝送経路に設けられた、少なくとも３つのサイクルモードを有する遮断部材をさらに備えており、
前記３つのサイクルモードが、
前記放射線が前記放射線源から直接、前記検出器に通っている第１のモードと、
前記サンプルにより影響された前記放射線が前記検出器に通されている第２のモードと、
前記放射線が前記検出器に到達しないよう遮断されている第３のモードと
である、請求項１４に記載の分析器または分光光度計。
【請求項１６】
前記遮断部材が中心軸を中心に回転できる、請求項１５に記載の分光光度計。
【請求項１７】
前記第１のモード中、前記放射線の強度が変えられる、請求項１５または１６に記載の分析器または分光光度計。
【請求項１８】
前記放射線源と前記サンプルとの間で環状経路を成す状態で前記遮断部材に様々なサイズの開口を貫通して設けることにより、前記遮断部材が回転する際、前記強度が変えられる、請求項１７に記載の分析器または分光光度計。
【請求項１９】
センサが前記遮断部材の回転位置を検出する、請求項１６〜１８のいずれか一項に記載の分析器または分光光度計。
【請求項２０】
サンプル中の材料の成分を検出するための方法であって、
前記サンプルに放射線を方向付けるステップと、
前記サンプルに方向付けられる放射線を変えるステップと、
検出器を用いて、少なくとも前記サンプルにより影響された放射線を検出するステップと、
前記影響された放射線を検出している間、前記検出器のスペクトル応答を変えるステップと、
前記検出された放射線を表わす可変スペクトル応答出力を供給するステップと、
前記変化に伴う前記出力に基づいて前記サンプルの成分の特性を決定するステップと、
を含む方法。
【請求項２１】
前記サンプルに方向付けられる放射線の強度が、前記放射線源に供給される電圧または電流を変化させることによって変えられる、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記サンプルに方向付けられる放射線の強度が、前記放射線源と前記サンプルとの間の伝送経路を変化させることによって変えられる、請求項２０に記載の方法。
【請求項２３】
前記伝送経路が、前記サンプルに方向付けられる放射線が通り抜ける開口のサイズを変えることにより変化される、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
様々なサイズの複数の開口がホイールに設けられ、前記ホイールが回転している際に前記開口が前記伝送経路を通って移動するようになっている、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記放射線源がフィラメントランプであり、前記放射線源がオンに切換えられた後、前記サンプルに方向付けられる放射線の強度が、限られた時間中に変化するようになっている、すなわち、放射線の強度が前記放射線源のパルス発生により変えられるようになっている、請求項２０または２１に記載の方法。
【請求項２６】
前記サンプルにより影響される放射線がフォトダイオードによって検出され、前記フォトダイオード内の空乏領域の幅を変化させることにより前記検出器のスペクトル応答が変えられる、請求項２０〜２５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２７】
前記フォトダイオード内の空乏領域の幅が、前記フォトダイオードの両端間に印加される逆電圧を変えることにより変化される、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記検出器からの前記出力信号が、前記コントローラに供給される前に増幅されてデジタル化される、請求項２０〜２７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２９】
前記放射線源から直接に来る放射線を検出するステップと、
前記直接来た放射線に関連する前記影響された放射線に基づき、前記サンプルの成分の特性を決定するステップと
をさらに含む、請求項２０に記載の方法。
【請求項３０】
可変伝送経路に設けられた、少なくとも３つのサイクルモードを有する遮断部材をさらに備えており、
前記３つのサイクルモードが、
前記放射線が前記放射線源から直接、前記検出器に通っている第１のモードと、
前記サンプルにより影響された前記放射線が前記検出器に通されている第２のモードと、
前記放射線が前記検出器に到達しないよう遮断されている第３のモードと
である、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
前記遮断部材が中心軸を中心に回転される、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
前記第１のモード中、前記放射線の強度が変えられる、請求項３０または３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記放射線源と前記サンプルとの間で環状経路を成す状態で前記遮断部材に様々なサイズの開口を貫通して設けることにより、前記遮断部材が回転する際、前記強度が変えられる、請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
前記遮断部材の回転位置を検出するステップをさらに含む、請求項３１〜３３のいずれか一項に記載の方法。