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　特願２００４−２６４９５５「物体の保護層、ならびに保護層を製造する方法および配置」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　４月　７日出願公開、特開２００５−　８８５８８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　本願は、平成１６年９月１３日（パリ条約による優先権主張　２００３年９月１３日　ドイツ）の出願であって、平成２１年３月１６日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年６月２２日に拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに、同年７月２２日に手続補正がなされたものである。 
　
第２　平成２１年７月２２日の手続補正（以下、「本件補正」という。）についての補正却下の決定 
［補正却下の決定の結論］
　本件補正を却下する。 
　
［理由］ 
１．目的要件
　本件補正は、平成２１年２月２５日に補正された特許請求の範囲を更に補正するものであり、補正前の請求項１に、
「金属酸化物、および／または金属窒化物、および／または金属炭化物、および／または金属酸窒化物、および／または金属炭窒化物、および／または金属酸炭窒化物から形成された少なくとも１つの硬い材料の層を含む物体の保護層であって、金属酸化物、および／または金属窒化物、および／または金属炭化物、および／または金属酸窒化物、および／または金属炭窒化物、および／または金属酸炭窒化物を含む少なくとも１つの硬い材料の層が、前記物体の表面に対して垂直に成長する、前記層の少なくとも５０％を形成する結晶性円柱構造として形成された形態学的に高密度の円柱構造を有する保護層。」
とあるのを、
「金属酸化物、および／または金属窒化物、および／または金属炭化物、および／または金属酸窒化物、および／または金属炭窒化物、および／または金属酸炭窒化物から形成された少なくとも１つの硬い材料の層を含む
ガラスセラミックプレート
　
前記保護層が、
を含み、
　前記少なくとも１つの硬い材料の層
プレート
側面から堅固に凝集し
結晶性円柱
とする補正を含むものである。 
　
　この補正により、補正前の「形態学的に高密度の円柱構造」という限定事項が省かれ、また、補正後は「側面から堅固に凝集し」との事項が付加されたが、「側面から堅固に凝集し」の意味は明確でない。このように、限定事項を省く補正や、明確でない事項を付加する補正は、請求項の削除、特許請求の範囲の減縮、誤記の訂正、明りょうでない記載の釈明の何れを目的とするものにも該当しない。
　よって、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項の規定に違反するものである。
　
２．独立特許要件
　補正前の「物体」を「ガラスセラミックプレート」とする補正に着目すれば、本件補正が平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当するとみる余地もある。そこで、念のため、本件補正後の請求項１に記載された発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
（１）本件補正後の特許請求の範囲および発明の詳細な説明の記載
　本件補正後の特許請求の範囲および発明の詳細な説明には、以下の記載がある。
「【請求項１】
　金属酸化物、および／または金属窒化物、および／または金属炭化物、および／または金属酸窒化物、および／または金属炭窒化物、および／または金属酸炭窒化物から形成された少なくとも１つの硬い材料の層を含むガラスセラミックプレートの保護層であって、
　前記保護層が、金属酸化物、および／または金属窒化物、および／または金属炭化物、および／または金属酸窒化物、および／または金属炭窒化物、および／または金属酸炭窒化物を含む少なくとも１つの硬い材料の層を含み、
　前記少なくとも１つの硬い材料の層が、前記プレートの表面に対して垂直に成長する側面から堅固に凝集し、前記層の少なくとも５０％を形成する結晶性円柱を有する保護層。」
　
「【発明が解決しようとする課題】
【００２０】
　本発明は、物体の保護層を、それが耐引っかき性および耐磨耗性であり、構造的安定性を持続し、熱負荷がかかる場合に視覚的に変化せず、恒久的に滑らかで視覚的に魅力的な表面を有するように形成するという目的に基づいている。」
　
「【課題を解決するための手段】
【００２１】
　この目的は、請求項１乃至１９に記載の保護層、請求項２０乃至３９に記載の方法および請求項４０乃至４６に記載の装置により成し遂げられる。
【００２２】
　本発明による物体のための保護層は、金属酸化物、および／または金属窒化物、および／または金属炭化物、および／または金属酸窒化物、および／または金属炭窒化物、および／または金属酸炭窒化物から形成された少なくとも１つの硬い材料の層を含み、これらの硬い材料の層の少なくとも１つが形態学的に高密度の円柱構造を有している。
【００２３】
　これに関連して、これらの高密度の円柱構造が、層の少なくとも５０％、好ましくは８０％を超えて、結晶性円柱構造として形成されている場合が有利である。この層の形態により、その層は、機械的および熱的負荷に対してとりわけ鈍感となる。
【００２４】
　金属酸化物、および／または金属窒化物、および／または金属炭化物、および／または金属酸窒化物、および／または金属炭窒化物、および／または金属酸炭窒化物から形成される硬い材料の層は、加工条件によって非常に広い範囲の層の形態および特性を有する。堅固な円柱構造の層の、円柱の、好ましくは円柱形結晶の成長を可能にする加工条件の設定により、これらの硬い材料の層が、高密度で平滑かつ視覚的に魅力的な表面を獲得し、同時に機械的および熱的負荷のもとで構造的に安定であることがもたらされる。
【００２５】
　結晶性のという用語は、一般に、固体が、その粒子が明白な長距離秩序をもつ三次元の空間格子で配列している状態を意味するものとして理解される。結晶性物体、すなわちこの場合、硬い材料の層は、多数の小さな不規則に支持されている結晶を含むか、または格子構造が、層全体にわたって続いていてもよい。層中に生成する円柱は、相互に密に隣接して位置する円柱構造であって、大部分は基体に対して垂直に形成される。その結晶は、大部分、円柱の成長中に外側に広がる傾向がほとんどない配向性を有する。」
　
「【発明を実施するための最良の形態】
【００５１】
　本発明を、以下の典型的な実施形態に基づいてより詳細に説明する。
　保護層、特に、透明で、視覚的に魅力的であり、構造的および熱的に安定な引っかき耐性のある、例えば、安定化した酸化ジルコニウムの層を、ガラスセラミックのホットプレートに図１に示すイオンビームスパッタリング装置およびイオンビーム補助の操作を用いて塗布することができる。
・・・・・・
【００５９】
　コーティング：
　第１のコーティング室（４．１）は、同様に真空室であり、第１の出発材料をコーティングするために使用する。そのコーティングが、異なる出発材料の複数の層を含むことが必要な場合、または複数の基体（８）のコーティングを平行して行うことが必要な場合は、さらなるコーティング室（４．ｎ）を追加することも可能である。
【００６０】
　第１のコーティング室（４．１）、および必要かもしれないさらなるコーティング室（４．ｎ）内には、それぞれに、層出発材料を備えたターゲット（１４）と、加熱エレメント（９）と、隔壁（１０）と、イオンビーム励起源（１３）と、補助イオンビーム源（１２）が存在する。
【００６１】
　基体（８）は、加熱エレメント（９）により、所望のプロセス温度に保持される。層出発材料は、ジルコニウムとイットリウムが９２：８の割合の金属であり、イオンビーム励起源（１３）からイオンエネルギーが１５００ｅＶのキセノンイオンとアルゴンイオンの混合物をあびせる。同時に、酸素をプロセスガス入り口弁（１５）から供給し、その結果、基体（８）上にジルコニウムとイットリウムの酸化物皮膜が形成される。隔壁（１０）は、幅が２０ｃｍの基体（８）全体の長さにわたるコーティング窓（基体の移動方向に対して直角）を仕切る。
【００６２】
　さらに、基体（８）は、補助イオンビーム源（１２）から１００ｅＶのイオンエネルギーを有するアルゴンイオンを照射する。その基体（８）は、次いでコーティング窓の上の適切な移動の結果として、２μｍの層の厚さで均一にコートされる。コーティング作業の後、基体（８）を後処理室（５）に移動する。
・・・・・・
【００６６】
　この方法で得られたコートしたＣＥＲＡＮ調理用プレートは、コートしてない調理用プレートと比較して、大幅に強まった耐引っかき性を有している。そのコーティングは、機械的負荷に耐えることができ、最高８００℃までの熱負荷のもとで安定であり、魅力的な光学意匠を有する。」
　
（２）特許法第３６条第４項第１号に規定する要件の充足性
　上記（１）のとおり、発明の詳細な説明には、請求項１に記載された構成に対応する技術的手段に関して、層の少なくとも５０％、好ましくは８０％を超えて結晶性円柱構造として形成されている形態により、その層は、機械的および熱的負荷に対してとりわけ鈍感となることが記載され（【００２３】）、円柱形結晶の成長を可能にする加工条件の設定により、硬い材料の層が、高密度で平滑かつ視覚的に魅力的な表面を獲得し、機械的および熱的負荷のもとで構造的に安定となることが記載されている（【００２４】）ものの、これらは客観的な裏付けの無い抽象的な記載にすぎない。
　また、【発明を実施するための最良の形態】として、「典型的な実施形態」が記載されているものの、当該実施形態は、ジルコニウムとイットリウムが９２：８の金属を用い、特定条件のプロセスによりジルコニウムとイットリウムの酸化物被膜を形成した例が一つ示されているだけであり、請求項１に含まれる、他の金属を用いた各種金属化合物の場合等について実施できることを明らかにするものではない。
　しかも、上記「典型的な実施形態」は、保護層の結晶構造に言及する記載が無いことから、請求項１に記載された「前記少なくとも１つの硬い材料の層が、前記プレートの表面に対して垂直に成長する側面から堅固に凝集し、前記層の少なくとも５０％を形成する結晶性円柱を有する」との構成を備えていると確認することもできず、結局のところ、発明の詳細な説明には、請求項１に記載された発明の保護膜を具体的に実現したことの記載は無い。
　そうすると、出願時の技術常識を考慮しても、請求項１に記載された発明全体について、当業者が過度な試行錯誤なしにその具体化手段を理解できたとはいえない。
　よって、本願の発明の詳細な説明の記載は、当業者が請求項１に記載された発明の実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載したものでないから、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしていない。
　
（３）特許法第３６条第６項第１号に規定する要件の充足性
　上記（１）に示したとおり、発明の詳細な説明には、耐引っかき性および耐磨耗性を有し、構造的安定性を持続し、熱負荷がかかる場合に視覚的に変化せず、恒久的に滑らかで視覚的に魅力的な表面を有する保護層を形成するとの課題が記載されている（【００２０】）。
　そして、請求項１に記載の保護層により上記課題が解決できる旨が抽象的に記載され（【００２１】）、層の少なくとも５０％、好ましくは８０％を超えて結晶性円柱構造として形成されている形態により、その層は、機械的および熱的負荷に対してとりわけ鈍感となることが記載され（【００２３】）、円柱形結晶の成長を可能にする加工条件の設定により、硬い材料の層が、高密度で平滑かつ視覚的に魅力的な表面を獲得し、機械的および熱的負荷のもとで構造的に安定となることが記載されている（【００２４】）。しかし、これら記載に客観的な裏付けはなく、請求項１に記載された構成と上記課題との関係を明らかにするものではない。
　また、【発明を実施するための最良の形態】として、「典型的な実施形態」が記載されているものの、保護層の結晶構造に言及する記載が無いことから、当該実施形態は、請求項１に記載された「前記少なくとも１つの硬い材料の層が、前記プレートの表面に対して垂直に成長する側面から堅固に凝集し、前記層の少なくとも５０％を形成する結晶性円柱を有する」との構成を備えていると確認したものではない。よって、当該実施形態も、請求項１に記載された構成と上記課題との関係を明らかにするものではない。
　さらに、当該実施形態は、ジルコニウムとイットリウムが９２：８の金属を用い、特定条件のプロセスによりジルコニウムとイットリウムの酸化物被膜を形成した例が一つ示されているだけであり、請求項１に含まれる、他の金属を用いた各種金属化合物の場合等について、出願時の技術常識を併せて考慮したとしてもなお、上記課題が解決できると認識することはできない。
　そうすると、技術常識を考慮しても、請求項１に記載された発明は、発明の詳細な説明の記載において上記課題を解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲を超えるものである。
　よって、請求項１に記載された発明は、発明の詳細な説明に記載したものではないから、特許請求の範囲の記載は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない。
　
（４）特許法第３６条第６項第２号に規定する要件の充足性
　請求項１に「プレートの表面に対して垂直に成長する側面から堅固に凝集し、前記層の少なくとも５０％を形成する結晶性円柱を有する保護層」との記載があるが、「側面から堅固に凝集し」の意味が明確でなく、「層の少なくとも５０％を形成する結晶性円柱」が意味する結晶状態も明確でないから、保護層の構成が明確でない。
　よって、請求項１に記載された発明は明確でないから、特許請求の範囲の記載は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない。
　
（５）小括
　したがって、特許請求の範囲及び発明の詳細な説明の記載が、特許法第３６条第４項第１号、第６項第１号及び第２号に規定する要件を満たしていないから、本件補正後の請求項１に記載された発明は、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
３．むすび
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項の規定に違反し、あるいは、同法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するから、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　原査定の理由
１．平成２０年８月１５日付け拒絶理由通知書に記載した理由１の内容
「この出願は、特許請求の範囲及び発明の詳細な説明の記載が下記の点で、特許法第３６条第４項（審決注：「第４項第１号」の誤記である。）、第６項第１号及び第２号に規定する要件を満たしていない。
　　　　　　　　　　　　　　　　　記
　請求項１、１６、２０、４０においては、金属酸化物および／または金属窒化物等の円柱構造を形成するための化合物について具体的に特定されていない。しかしながら、発明の詳細な説明に具体的に記載されているのは、ガラスセラミックのホットプレートに対してイオンビームスパッタリングによって、ジルコニウムとイットリウムが９２：８の金属を用いて、酸素を注入しながらジルコニウムとイットリウムの酸化物被膜を形成する方法のみであり、これ以外の金属酸化物等を用いたり、これ以外の方法を用いた場合については何ら具体的に記載されていない。そして、この唯一の実施例から請求項１乃至４６に係る発明の全体にまで拡張ないし一般化できるものではない。　また、一般に本願発明のようにナノレベルでの構造を形成するためには、種々の条件を精密に制御する必要があるため、発明の詳細な説明に具体的に開示されていない化合物や方法を用いて円柱構造を形成しようとする際には、当業者が過度の試行錯誤を必要とすることになる。
　請求項１には「実質的に」との記載があり、結果として発明の範囲が不明確となっている。
　請求項１には「高密度」との記載があるが、その基準や程度が明確に記載されていないため、どの程度の密度の数値範囲を意図しているのか理解することができない。
　　　　　　　　　（以下省略。）　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
２．平成２１年３月１６日付拒絶査定の内容
「この出願については、平成２０年８月１５日付け拒絶理由通知書に記載した理由１によって、拒絶をすべきものです。
　なお、意見書及び手続補正書の内容を検討しましたが、拒絶理由を覆すに足りる根拠が見いだせません。
備考
　請求項１には「前記層の少なくとも５０％を形成する結晶性円柱構造として形成された形態学的に高密度の円柱構造」との記載があるが、「結晶性」と「密度」の間にどのような相関関係があるのかも不明であり、依然として「高密度」について明確に把握することができない。
　　　　　　　　　（以下省略。）　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
第４　当審の判断
　本件補正は上記「第２」のとおり却下された。本件補正前の請求項１の記載は、次のとおりである。
「【請求項１】
　金属酸化物、および／または金属窒化物、および／または金属炭化物、および／または金属酸窒化物、および／または金属炭窒化物、および／または金属酸炭窒化物から形成された少なくとも１つの硬い材料の層を含む物体の保護層であって、金属酸化物、および／または金属窒化物、および／または金属炭化物、および／または金属酸窒化物、および／または金属炭窒化物、および／または金属酸炭窒化物を含む少なくとも１つの硬い材料の層が、前記物体の表面に対して垂直に成長する、前記層の少なくとも５０％を形成する結晶性円柱構造として形成された形態学的に高密度の円柱構造を有する保護層。」
　
　また、発明の詳細な説明の記載として、「第２　２．（１）」に摘記したとおりの記載がある。
　
　そこで、特許請求の範囲及び発明の詳細な説明の記載が、特許法第３６条第４項第１号、第６項第１号及び第２号に規定する要件を満たしていないという原査定の理由につき検討する。
　
１．特許法第３６条第４項第１号に規定する要件の充足性
　発明の詳細な説明には、請求項１に記載された構成に対応する技術的手段に関して、層の少なくとも５０％、好ましくは８０％を超えて結晶性円柱構造として形成されている形態により、その層は、機械的および熱的負荷に対してとりわけ鈍感となることが記載され（【００２３】）、円柱形結晶の成長を可能にする加工条件の設定により、硬い材料の層が、高密度で平滑かつ視覚的に魅力的な表面を獲得し、機械的および熱的負荷のもとで構造的に安定となることが記載されている（【００２４】）ものの、これらは客観的な裏付けの無い抽象的な記載にすぎない。
　また、【発明を実施するための最良の形態】として、「典型的な実施形態」が記載されているものの、当該実施形態は、ジルコニウムとイットリウムが９２：８の金属を用い、特定条件のプロセスによりジルコニウムとイットリウムの酸化物被膜を形成した例が一つ示されているだけであり、請求項１に含まれる、他の金属を用いた各種金属化合物の場合等について実施できることを明らかにするものではない。
　しかも、上記「典型的な実施形態」は、保護層の結晶構造に言及する記載が無いことから、請求項１に記載された「少なくとも１つの硬い材料の層が、前記物体の表面に対して垂直に成長する、前記層の少なくとも５０％を形成する結晶性円柱構造として形成された形態学的に高密度の円柱構造を有する」との構成を備えていると確認することもできず、結局のところ、発明の詳細な説明には、請求項１に記載された発明の保護膜を具体的に実現したことの記載は無い。
　そうすると、出願時の技術常識を考慮しても、請求項１に記載された発明全体について、当業者が過度な試行錯誤なしにその具体化手段を理解できたとはいえない。
　よって、本願の発明の詳細な説明の記載は、当業者が請求項１に記載された発明の実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載したものでないから、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしていない。
　
２．特許法第３６条第６項第１号に規定する要件の充足性
　発明の詳細な説明には、耐引っかき性および耐磨耗性を有し、構造的安定性を持続し、熱負荷がかかる場合に視覚的に変化せず、恒久的に滑らかで視覚的に魅力的な表面を有する保護層を形成するとの課題が記載されている（【００２０】）。
　そして、請求項１に記載の保護層により上記課題が解決できる旨が抽象的に記載され（【００２１】）、層の少なくとも５０％、好ましくは８０％を超えて結晶性円柱構造として形成されている形態により、その層は、機械的および熱的負荷に対してとりわけ鈍感となることが記載され（【００２３】）、円柱形結晶の成長を可能にする加工条件の設定により、硬い材料の層が、高密度で平滑かつ視覚的に魅力的な表面を獲得し、機械的および熱的負荷のもとで構造的に安定となることが記載されている（【００２４】）。しかし、これら記載に客観的な裏付けはなく、請求項１に記載された構成と上記課題との関係を明らかにするものではない。
　また、【発明を実施するための最良の形態】として、「典型的な実施形態」が記載されているものの、保護層の結晶構造に言及する記載が無いことから、当該実施形態は、請求項１に記載された「少なくとも１つの硬い材料の層が、前記物体の表面に対して垂直に成長する、前記層の少なくとも５０％を形成する結晶性円柱構造として形成された形態学的に高密度の円柱構造を有する」との構成を備えていると確認したものではない。よって、当該実施形態も、請求項１に記載された構成と上記課題との関係を明らかにするものではない。
　さらに、当該実施形態は、ジルコニウムとイットリウムが９２：８の金属を用い、特定条件のプロセスによりジルコニウムとイットリウムの酸化物被膜を形成した例が一つ示されているだけであり、請求項１に含まれる、他の金属を用いた各種金属化合物の場合等について、出願時の技術常識を併せて考慮したとしてもなお、上記課題が解決できると認識することはできない。
　そうすると、技術常識を考慮しても、請求項１に記載された発明は、発明の詳細な説明の記載において上記課題を解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲を超えるものである。
　よって、請求項１に記載された発明は、発明の詳細な説明に記載したものではないから、特許請求の範囲の記載は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない。
　
３．特許法第３６条第６項第２号に規定する要件の充足性
　請求項１に「層の少なくとも５０％を形成する結晶性円柱構造として形成された形態学的に高密度の円柱構造を有する保護層」との記載があるが、「層の少なくとも５０％を形成する結晶性円柱構造」が意味する結晶状態が明確でなく、「高密度」の程度が明確でないため「高密度の円柱構造」の意味するところも明確でないから、保護層の構成が明確でない。
　よって、請求項１に記載された発明は明確でないから、特許請求の範囲の記載は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない。
　
第５　むすび
　以上のとおり、本願は、特許請求の範囲及び発明の詳細な説明の記載が、特許法第３６条第４項第１号、第６項第１号及び第２号に規定する要件を満たしていないから、原査定の理由により拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。