【手続補正書】
【提出日】平成18年10月3日(2006.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アノードと、
カソードと、
液体要素をアノードに接近させ、アノードを冷却するよう構成されたヒートパイプとを備えた高密度プラズマ焦点放射線源であって、
該高密度プラズマ焦点放射線源がプラズマ放電を生じさせるようになっている放電回路を備え、該放射線源が、アノードとカソードとの間の放電チャンバ内でリチウム蒸気を使用し、１３.５ｎｍ近くの電磁波長で極短紫外（ＥＵＶ）放射線を発生するようになっている高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項２】
前記液体要素がリチウムと、ナトリウムと、リンから成る群から選択されたものである請求項１記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項３】
前記液体要素がリチウムであり、前記リチウムが高密度プラズマ焦点放射線源によって蒸気の形態で使用され、ＥＵＶ放射線を発生する請求項１記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項４】
前記ヒートパイプが該ヒートパイプの低温領域から毛細管作用によりヒートパイプの蒸発領域に液体要素を移動させるウィックを含む請求項１に記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項５】
前記ヒートパイプが該ヒートパイプの蒸発領域内に毛細孔を含み、液体要素を前記放電チャンバ内に蒸発できるようになっている請求項４記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項６】
前記カソードが前記アノードと同心状に配置されており、更に前記アノードを中心に少なくとも部分的に配置された第１電気絶縁体と、
前記カソードを中心として少なくとも部分的に配置された第２電気前記とを備えた請求項１に記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項７】
前記第１絶縁体が窒化アルミニウムを含む請求項６記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項８】
前記第２絶縁体が石英を含む請求項６記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項９】
前記第１電気絶縁体と前記第２電気絶縁体との間に配置され、前記第１電気絶縁体と前記第２電気絶縁体との間をリンクする中間電気絶縁体を更に含む、請求項６記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項１０】
前記中間電気絶縁体が真空を含む請求項９記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項１１】
前記第１電気絶縁体と前記第２電気絶縁体の各々が、それぞれの終端表面を備え、該終端表面が表面上トラッキングを防止するような形状となっている、請求項６記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項１２】
前記液体要素が蒸発する蒸発部分と、前記蒸気が前記液体要素に凝縮される凝縮領域とを前記ヒートパイプが含む、請求項１記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項１３】
前記アノード内に配置された、リチウムで含浸された多孔性電極と、前記リチウム含浸多孔性アノードからリチウムを駆動し、リチウム蒸気を前記放電チャンバに移動するようになっている無線周波数（ＲＦ）放電回路とを更に備えた、請求項１記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項１４】
前記ＲＦ放電回路が前記アノードおよびリチウム含浸多孔性電極にＲＦ電圧を印加し、リチウムが前記リチウム含浸多孔性電極から蒸発する温度まで前記リチウム含浸多孔性電極を加熱し、よって前記リチウム含浸多孔性電極からリチウムを駆動するようになっている、請求項１３記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項１５】
前記リチウム含浸多孔性電極のまわりに配置された貴ガスイオンを更に備え、前記ＲＦ放電回路が前記アノードおよび前記リチウム含浸多孔性電極にＲＦ電圧を印加し、前記リチウム含浸多孔性電極の近くに正に帯電したシースを形成するようになっており、前記正に帯電したシースが前記リチウム含浸多孔性電極に向けて前記貴ガスイオンを加速し、イオン抽出により前記リチウム含浸多孔性電極からリチウムを抽出するようになっている、請求項１３記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項１６】
前記高密度プラズマ焦点放射線源によって発生されるＥＵＶ放射線の少なくとも一部を受けるようになっている、前記アノードおよび前記カソードの上に配置された光学素子と、
前記光学素子と前記アノードとの間に配置された光学的に透過性のバリアとを更に備えた、請求項１に記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項１７】
前記光学的に透過性のバリアが前記アノードのプラズマピンチ焦点から放射線を透過するように実質的に整合した一連の開チャンネルを構成する耐火性金属要素の少なくとも１つのウェブを含む、請求項１６記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項１８】
前記耐火性金属要素がタングステンを含む、請求項１７記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項１９】
前記光学的に透過性のバリアが耐火性金属要素の第１ウェブと、耐火性金属要素の第２ウェブとを備え、前記第２ウェブが前記第１ウェブよりも上方に配置されており、前記第１および第２ウェブの各耐火性金属要素が前記プラズマピンチ焦点領域の長手方向軸線に実質的に整合している、請求項１７記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項２０】
前記光学的に透過性のバリアが、
第１速度および前記アノードよりも高い第１温度で流れ、リチウム蒸気を含む第１ガスストリームと、
第２速度および前記アノードよりも高い第２温度で流れ、貴ガスを含む第２ガスストリームとを備え、前記第１温度および速度と前記第２温度および速度とが実質的に同一である、請求項１６記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項２１】
前記第１ガスストリームと前記第２ガスストリームとが、これら第１ガスストリームと第２ガスストリームとの間に配置された拡散層を有するガスカーテンを含む、請求項２０記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項２２】
前記拡散層のかなりの部分を捕捉するように位置決めされ、サイズとされた第１回収ダクトを更に含む、請求項２１記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項２３】
前記第１ガスストリームの少なくとも一部を捕捉するように位置決めされ、サイズとされた第２回収ダクトを更に含む、請求項２２記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項２４】
前記第２回収ダクトにより前記第１ガスストリームから捕捉された前記リチウム蒸気の少なくとも一部を再使用し、前記第１ガスストリームを発生する、請求項２３記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項２５】
前記光学的に透過性のバリアが前記アノードよりも上に位置する軸対称の流れパターンを含むガスカーテンを備え、前記軸対称の流れパターンがアノードおよびリチウム蒸気を含むガスカーテンの長手方向軸線を中心に対称的となっている、請求項２４記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項２６】
前記放電チャンバのベースに位置する加熱機構を更に備え、前記加熱機構が前記ガスカーテンのリチウム蒸気の上方への流れを駆動するようになっており、前記加熱機構の強度が前記放電チャンバのベースにおける温度をほぼ一定に維持するように、前記放電チャンバが加熱されるにつれて前記加熱機構の強度が減少するようになっている、請求項２５記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項２７】
前記放電チャンバ内に位置する前記アノードの少なくとも一部をカバーする液体リチウムの層を更に含む、請求項２６記載の高密度プラズマ焦点放射線源。
【請求項２８】
前記放電チャンバ内に位置する前記カソードの少なくとも一部をカバーする液体リチウムの層を更に含む、請求項２７記載の高密度プラズマ焦点放射線源。