【誤訳訂正書】
【提出日】平成18年3月17日(2006.3.17)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも以下：
ａ）アクリル酸もしくはメタクリル酸、またはアクリル酸もしくはメタクリル酸の混合物と
ｂ）置換もしくは非置換フェノール、Ｃ1〜Ｃ8ヒドロキシアルキルベンゼンまたはＣ1〜Ｃ8ヒドロキシアルコキシベンゼンの（メタ）アクリル酸エステル、およびメチル（メタ）アクリラートとを、
モル比が５：９５〜１００：０の範囲内で含み、該アクリル酸またはメタクリル酸単位の５〜９５％は、グリシジルビニル化合物と反応させてある反応生成物。
【請求項２】
成分（ａ）が、メタクリル酸である、請求項１記載の反応生成物。
【請求項３】
成分（ｂ）の（メタ）アクリル酸エステルが、ベンジルメタクリラートである、請求項１記載の反応生成物。
【請求項４】
グリシジルビニル化合物が、グリシジルメタクリラートである、請求項１記載の反応生成物。
【請求項５】
成分ａ）の成分ｂ）に対するモル比が、８５：１５〜１５：８５である、請求項１記載の反応生成物。
【請求項６】
反応生成物の分子量が、１０，０００〜１２０，０００g/molである、請求項１記載の反応生成物。
【請求項７】
反応生成物の分子量が、２０，０００〜９０，０００g/molである、請求項１記載の反応生成物。
【請求項８】
反応生成物が、酸価０．４〜５．０mol/kgを有する、請求項１記載の反応生成物。
【請求項９】
実質的に以下：
ｉ）請求項１記載の反応生成物、
ii）少なくとも２個のエチレン性不飽和末端基を有する、モノマー性またはオリゴマー性アクリラート、
iii）フリーラジカル、カチオン、またはアニオンを生成し、そして化学線照射による活性化が可能な、重合開始剤または重合開始剤系、および
iv）所望ならば、有機または無機充填剤
を含む、光重合性組成物。
【請求項１０】
実質的に以下：
ｉ）請求項１記載の反応生成物、
ii）所望ならば、少なくとも２個のエチレン性不飽和末端基を有する、モノマー性またはオリゴマー性アクリラート、
iii）フリーラジカル、カチオンまたはアニオンを生成し、そして化学線照射による活性化が可能な、重合開始剤または重合開始剤系、
iv）所望ならば、有機または無機充填剤、
ｖ）熱重合インヒビター、および
vi）溶媒または溶媒系
を含む、光重合性組成物。
【請求項１１】
実質的に以下：
ｉ）請求項１記載の反応生成物  １５〜７０重量％、
ii）少なくとも２個のエチレン性不飽和末端基を有する、モノマー性またはオリゴマー性アクリラート  ０〜３０重量％、
iii）フリーラジカル、カチオンまたはアニオンを生成し、そして化学線照射による活性化が可能な、重合開始剤または重合開始剤系  ０．１〜１５重量％、
iv）有機または無機充填剤  ０〜６０重量％、
ｖ）熱重合インヒビター  ０．０１〜０．５重量％、および
vi）溶媒または溶媒系  ２０〜８０重量％；
（ここで、成分のパーセント数は、重量の合計に基づいており、条件として重量パーセントの合計が１００である）
を含む、光重合性組成物。
【請求項１２】
以下の処理工程：
Ｉ．請求項１０記載の光重合性組成物の基材への適用；
II．基材上への光重合性組成物のフィルムの形成を伴う、適用された組成物からの溶媒の除去；
III．所望ならば、被覆された基材の化学線照射への暴露；
IV．所望ならば、基材の露出を伴う、アルカリ性水媒体または有機溶媒を用いる被覆の非露光部分の除去；そして
Ｖ．所望ならば、基材上に残留している被覆の熱硬化、および所望ならば、ＵＶ硬化
を含む、エッチングレジスト像またはソルダーレジスト像の製造方法。
【請求項１３】
暴露（III）を、レーザーによって、ホトマスクを介するか、または直接実施する、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
以下の処理工程：
Ｉ．インクジェット法を用いる、請求項１０記載の光重合性組成物の基材への適用；
II．基材上に乾燥された光重合性組成物の形成を伴う、適用された組成物から溶媒の除去；
III．所望ならば、被覆または構造付けされた基材の、化学線照射への均一な暴露；そして
IV．所望ならば、熱硬化、および所望ならば、基材上に残留している被覆のＵＶ硬化
を含む、エッチングレジスト像またはソルダーレジスト像の製造方法。
【請求項１５】
実質的に以下：
Ａ）請求項１記載の反応生成物  ２５〜８５重量％、
Ｂ）少なくとも２個のエチレン性不飽和末端基を有する、モノマー性またはオリゴマー性アクリラート  ５〜４０重量％、
Ｃ）フリーラジカル、カチオンまたはアニオンを生成し、そして化学線照射による活性化が可能な、付加重合開始剤または付加重合開始剤系  １〜２５重量％、
Ｄ）有機または無機充填剤  ０〜６０重量％、および
Ｅ）熱重合インヒビター  ０．０２５〜１．重量％；
（ここで、成分のパーセント数は、重量の合計に基づいており、条件として重量パーセントの合計は１００であり）を含み、
厚さ０．１〜４００μmを有する、光重合性層を保持している基材を含む、光重合性要素。
【請求項１６】
光重合性層の厚さが３〜５０μmである、請求項１５記載の光重合性要素。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
光重合性組成物をホトレジストとして使用するには、特に感光性、表面硬度、可剥性、コールドフロー挙動、および被覆され、乾燥された基材の積み重ね性における改良が望ましい。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３４】
本発明はさらに、実質的に以下：
ｉ）前述のような、本発明の反応生成物、
ii）所望ならば、少なくとも２個のエチレン性不飽和末端基を有する、モノマー性またはオリゴマー性アクリラート、
iii）フリーラジカル、カチオンまたはアニオンを生成し、化学線照射による活性化が可能であり、そして追加的に１種類以上の増感剤を含有してもよい重合開始剤系、および
iv）所望ならば、有機または無機充填剤
を含む光重合性組成物を提供する。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５０】
したがって本発明は、さらに、実質的に以下：
ｉ）前述した反応生成物、
ii）所望ならば、少なくとも２個のエチレン性不飽和末端基を有する、モノマー性またはオリゴマー性アクリラート、
iii）フリーラジカル、カチオンまたはアニオンを生成し、そして化学線照射による活性化が可能な、重合開始剤または重合開始剤系、
iv）所望ならば、有機または無機充填剤、
ｖ）熱重合インヒビター、および
vi）溶媒または溶媒系
を含む光重合性組成物を提供する。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５１】
本発明は、さらに、実質的に以下：
ｉ）前述した反応生成物  １５〜７０重量％、
ii）少なくとも２個のエチレン性不飽和末端基を有する、モノマー性またはオリゴマー性アクリラート  ０〜３０重量％、
iii）フリーラジカル、カチオンまたはアニオンを生成し、そして化学線照射による活性化が可能な、重合開始剤または重合開始剤系  ０．１〜１５重量％、
iv）有機または無機充填剤  ０〜６０重量％、
ｖ）熱重合インヒビター  ０．０１〜０．５重量％、および
vi）溶媒または溶媒系  ２０〜８０重量％、
（ここで、成分のパーセント数は、重量の合計に基づいており、条件として重量パーセントの合計が１００である）
を含む光重合性組成物を提供する。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５２】
本発明の光重合性組成物は、たとえば、各成分を、所望ならば、約６０℃までの温度において撹拌して混合することによるか、または、たとえばインクジェット印刷法を用いて、基材表面上におけるその場での混合によるか、のいずれかで調製される。本発明の光重合性組成物は、とりわけ金属表面の構造化および永久被覆に役立つホトレジスト系として特に用いられる。本発明の組成物は、たとえば、回路基板の製造のための一次レジストとして、またはソルダーマスクとして役立ちうる。この被覆は、基材に対して、特に、一般には銅張りの、清浄化された積層板に対して、光開始剤系の吸収波長を有する光を排除しながら、既知方法のいずれかにより適用することができる。この種の被覆方法の例は、スピンコーティング、スクリーン印刷、刷毛塗り、スプレー付け、たとえば静電スプレー、ローラーコーティング、浸漬被覆およびナイフコーティング、インクジェット印刷およびカーテンコーティング法である。適用量は用途に依存する。複数の被覆方法の組み合わせは、要求される層厚および被覆の均一性を得るために必要となる場合もある。本発明の組成物は、０．１〜数百μmの範囲で適用することができる。その後、この被覆は、常温空気中で１〜６０分間、ついで６０〜１２０℃で約３〜３０分間乾燥させる。被覆は、空気乾燥なしに、直接炉の中で、またはＩＲ線により乾燥させることもできる。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５５】
本発明の組成物の被覆は、一般には化学線照射を用いて達成するか、またはインクジェットプリンターを用いて適用する場合には、所望ならば、完全に省略することができる。それ自体既知の光源（照射線源）、たとえば高圧水銀ランプまたはＵＶ／ＶＩＳレーザーは、すべて照射に用いることができる。これらは、一般に、好ましくは波長約２２０〜５５０nm、特に２２０〜４５０nmを有するＵＶおよび／またはＶＩＳ線を発生する。プロセスパラメーター、たとえば照射継続時間および線源から感光層までの距離は、感光性組成物のタイプおよび被覆の希望特性に依存し、そして当業者は予備実験によって決定することができる。画像様の露光は、たとえばホトマスクを通すか、または感光層上にレーザービームで直接描画することによって、達成することができる。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５６】
本発明の組成物は、インクジェット法によって基材に適用することも可能であるが、より詳細には、たとえばＵＳ５，７３８，９１６、ＵＳ６，０４０，００２およびＷＯ０２／０１９２９に記述されているとおりである。ここでは、所望ならば、各成分の予備混合を省くことができ、そして個々の成分または成分の組み合わせを、それぞれ別々の加圧チャンネルを通して基材に適用することができる。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５８】
本発明は、以下の処理工程：
Ｉ．本発明の光重合性組成物の、基材への適用；
II．基材上への光重合性組成物のフィルムの形成を伴う、適用された組成物からの溶媒の除去；
III.所望ならば、被覆された基材の、化学線照射への暴露；
IV．所望ならば、基材の露出を伴う、アルカリ性水媒体または有機溶媒を用いる被覆の非露光部分の除去、；そして
Ｖ．所望ならば、基材上に残留している被覆の熱硬化、および所望ならば、ＵＶ硬化
を含む、エッチングレジスト像またはソルダーレジスト像を生成させるための方法を提供する。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５９】
以下の処理工程：
Ｉ．インクジェット法を用いる、本発明の光重合性組成物を基材への適用；
II．基材上への乾燥された光重合性組成物の形成を伴う、適用された組成物からの溶媒の除去；
III．所望ならば、被覆または構造付けされた基材の、化学線照射への均一な暴露；そして
IV．所望ならば、熱硬化、および所望ならば、基材上に残留している被覆のＵＶ硬化
を含む、エッチングレジスト像またはソルダーレジスト像を生成させるための方法もまた好ましい。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６１】
本発明は、さらに、実質的に以下：
Ａ）前述した本発明の反応生成物  ２５〜８５重量％、
Ｂ）少なくとも２個のエチレン性不飽和末端基を有する、モノマー性またはオリゴマー性アクリラート  ５〜４０重量％、
Ｃ）フリーラジカル、カチオンまたはアニオンを生成し、そして化学線照射により活性化が可能な、付加重合開始剤または付加重合開始剤系  １〜２５重量％、
Ｄ）有機または無機充填剤  ０〜６０重量％、および
Ｅ）熱重合インヒビター  ０．０２５〜１．重量％；
ここで、成分のパーセント数は、重量の合計に基づいており、条件として重量パーセントの合計は１００であり、
厚さ０．１〜４００μmを有する
光重合性層を保持する基材を含む光重合性要素を提供する。
層の厚さは３〜５０μmが好ましい。
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１０１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１０１】
使用例３（ＬＤＩ−ソルダーマスク）
調合品を、スクリーン印刷法によってガラス繊維強化エポキシ銅張積層板（積層板厚１mm、０．２mm径で削孔、銅厚４０μm）に適用した。８０℃で４０分間乾燥した後、ＬＤＩ装置（Etek）を用い、露光エネルギー５０mJで露光を実施した。その後、使用例２（従来のソルダーマスク塗布）の記載と同様にして、積層板のさらなる処理加工を実施した。
【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１０３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１０３】
使用例４（インクジェット−エッチングレジスト）
調合品を、インクジェット印刷装置（Stork, Muehlheim製；ピエゾプリントヘッド、径４８μmのノズル２５６個、Spectra）を用いて適用した。適用は、３５℃、ファイアパルス周波数２〜８kHzで、予備洗浄したガラス繊維強化エポキシ銅張積層板（１．２mm厚、３５μm銅厚）の上に実施した。その後、被覆された積層板を８０℃で２分間乾燥して冷却し、ついで均一に露光し（水銀ランプ、２５〜３０mJ/cm2）、そして使用例１（従来のエッチングレジスト）の記載と同様にしてエッチングを実施した。使用例１の表８に記載したものに匹敵する結果を得た。