Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月28日(2006.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式
Ｘ−［（Ａx−Ｂy）−Ｙ−Ｚ］m（Ｉ）
（式中、
Ｘは、ＡＴＲＰ（原子移動ラジカル重合）による制御されたラジカル重合を活性化することが可能な触媒の存在下において、ＡＴＲＰによるエチレン性不飽和モノマーの重合を開始することが可能な重合開始剤の断片を表わし、
Ａ及びＢは、エチレン性不飽和モノマーの繰返し単位からなるポリマーブロックを表わし、
ｘ及びｙの合計が少なくとも２であるという条件で、ｘ及びｙの一方は、互いに独立して、０、１又は１より大きい数を表わし、他方は、１又は１より大きい数を表わし、
Ｙは、直接結合又は２価の基を表わし、
Ｚは、滑剤又はポリマー添加剤の官能的に有効な基で構造的に変性された、ポリマー鎖の末端基を表わし、そして
ｍは１ないし６の数を表わす。）で表わされるポリマー状化合物。
【請求項２】
前記ポリマーブロックＡ及びＢが、本質的に、スチレン、アクリル酸及び炭素原子数１ないし４のアルキルアクリル酸−炭素原子数１ないし２４のアルキルエステル、アクリル酸及び炭素原子数１ないし４のアルキルアクリル酸−炭素原子数６ないし１１のアリール−炭素原子数１ないし４のアルキルエステル、アクリル酸及び炭素原子数１ないし４のアルキルアクリル酸−炭素原子数６ないし１１のアリールオキシ−炭素原子数１ないし４のアルキルエステル、アクリル酸及び炭素原子数１ないし４のアルキルアクリル酸−ヒドロキシ−炭素原子数２ないし６のアルキルエステル、アクリル酸及び炭素原子数１ないし４のアルキルアクリル酸−ポリヒドロキシ−炭素原子数３ないし６のアルキルエステル、アクリル酸及び炭素原子数１ないし４のアルキルアクリル酸−（炭素原子数１ないし４のアルキル）3シリルオキシ−炭素原子数２ないし４のアルキルエステル、アクリル酸及び炭素
原子数１ないし４のアルキルアクリル酸−（炭素原子数１ないし４のアルキル）3シリル
−炭素原子数１ないし４のアルキルエステル、アクリル酸及び炭素原子数１ないし４のアルキルアクリル酸−複素環式炭素原子数２ないし４のアルキルエステル、ポリ−炭素原子数２ないし４のアルキレングリコールエステル基を有するアクリル酸及び炭素原子数１な
いし４のアルキルアクリル酸エステル（エステル基は、炭素原子数１ないし２４のアルコキシ基で置換され得る。）、アクリル酸及びメタクリル酸アミド、アクリル酸及び炭素原子数１ないし４のアルキルアクリル酸−（炭素原子数１ないし４のアルキル）１ないし２アミド、アクリロニトリル、マレイン酸又はフマル酸のエステル、マレインイミド及びＮ−置換マレインイミドからなる群から選択される繰返し単位からなる、請求項１記載のブロックコポリマー。
【請求項３】
塩基性基で置換されたエチレン性不飽和モノマーが、４−アミノスチレン；４−ジメチルアミノスチレン；及び２−ジメチルアミノエチルアクリレート（ＤＭＡＥＡ）、２−ジメチルアミノエチルメタクリレート（ＤＭＡＥＭＡ）、２−ジエチルアミノエチルアクリレート（ＤＥＡＥＡ）、２−ジエチルアミノエチルメタクリレート（ＤＥＡＥＭＡ）、２−第三ブチルアミノエチルアクリレート（ｔ−ＢＡＥＡ）、２−第三ブチルアミノエチルメタクリレート（ｔ−ＢＡＥＭＡ）及び３−ジメチル−アミノプロピルメタクリルアミドからなる群から選択されるアミノアルキル（メタ）アクリレート；からなる群から選択されるアミノモノマー、及び、
４−ビニルピリジン、２−ビニルピリジン及び１−ビニルイミダゾールで代表される、請求項１記載のブロックコポリマー。
【請求項４】
Ｚが、抗酸化剤、金属奪活剤、耐摩耗及び極圧添加剤、及び腐蝕抑制剤からなる群から選択される滑剤又はポリマー添加剤の官能的に有効な基で構造的に変性された、ポリマー鎖の末端基を表わす、請求項１記載のブロックコポリマー。
【請求項５】
前記ポリマー鎖の末端基Ｚが、アルキル化モノフェノール、アルキルチオメチルフェノール、アルキリデンビスフェノール、β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）−プロピオン酸の、β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の、β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の又は３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸のエステル、ジフェニルアミン、ベンゾフラノン、ホスフィット、ホスホナイト及びチオ相乗剤からなる群から選択される抗酸化剤分子から誘導される請求項４記載のブロックコポリマー。
【請求項６】
Ｘが、炭素原子数１ないし８のアルキルハロゲン化物、炭素原子数６ないし１５のアラルキルハロゲン化物、炭素原子数２ないし８のハロアルキルエステル、アレーンスルホニルハロゲン化物、ハロアルカンニトリル、α−ハロアクリレート及びハロラクトンからなる群から選択される重合開始剤の断片を表わし、
Ａ及びＢが、スチレン、アクリル酸及び炭素原子数１ないし４のアルキルアクリル酸−炭素原子数１ないし２４のアルキルエステル、アクリル酸及び炭素原子数１ないし４のアルキルアクリル酸−炭素原子数６ないし１１のアリール−炭素原子数１ないし４のアルキルエステル、アクリル酸及び炭素原子数１ないし４のアルキルアクリル酸−炭素原子数６ないし１１のアリールオキシ−炭素原子数１ないし４のアルキルエステル、アクリル酸及び炭素原子数１ないし４のアルキルアクリル酸−ヒドロキシ−炭素原子数２ないし６のアルキルエステル、アクリル酸及び炭素原子数１ないし４のアルキルアクリル酸−ポリヒドロキシ−炭素原子数３ないし６のアルキルエステル、アクリル酸及び炭素原子数１ないし４のアルキルアクリル酸−（炭素原子数１ないし４のアルキル）3シリルオキシ−炭素原
子数２ないし４のアルキルエステル、アクリル酸及び炭素原子数１ないし４のアルキルアクリル酸−（炭素原子数１ないし４のアルキル）3シリル−炭素原子数１ないし４のアル
キルエステル、アクリル酸及び炭素原子数１ないし４のアルキルアクリル酸−複素環式炭素原子数２ないし４のアルキルエステル、ポリ−炭素原子数２ないし４のアルキレングリコールエステル基を有するアクリル酸及び炭素原子数１ないし４のアルキルアクリル酸エステル（エステル基は、炭素原子数１ないし２４のアルコキシ基で置換され得る。）、アクリル酸及びメタクリル酸アミド、アクリル酸及び炭素原子数１ないし４のアルキルアク
リル酸−（炭素原子数１ないし４のアルキル）１ないし２アミド、アクリロニトリル、マレイン酸又はフマル酸のエステル、マレインイミド及びＮ−置換マレインイミドからなる群から選択される、アクリル酸又はメタクリル酸エステルの繰返し単位からなり、
ｘ及びｙが、０より大きい数を表わし、かつ前記ポリマーブロックＡ及びＢにおけるモノマー単位の数を定義し、
Ｙが、２価の架橋基を表わし、
Ｚが、抗酸化剤又は、金属奪活剤、耐摩耗及び極圧添加剤、及び腐蝕抑制剤からなる群から選択される滑剤又はポリマー添加剤の官能的に有効な基で構造的に変性された、ポリマー鎖の末端基を表わす、
請求項１記載のポリマー状化合物（Ｉ）。
【請求項７】
ａ）Ｘ、Ａ、Ｂ、Ｙ、Ｚ、ｘ、ｙ及びｍが、前記請求項１で定義した通りである、ポリマー状化合物（Ｉ）、及び
ｂ）酸化、熱又は光誘発分解を受け易い材料の組成物、
からなる組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月31日(2006.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１０〜２０００ｐｐｍのフリース含有量を有する溶融法ポリカーボネート樹脂を含む組成物を押し出すことを含んでなる、熱可塑性シートの製造方法。
【請求項２】
熱可塑性シートが多層熱可塑性シートである、請求項１記載の方法。
【請求項３】
溶融法ポリカーボネート樹脂が５０〜２０００ｐｐｍのフリース含有量を有する、請求項１記載の方法。
【請求項４】
溶融法ポリカーボネート樹脂が１００〜１８００ｐｐｍのフリース含有量を有する、請求項１記載の方法。
【請求項５】
組成物が８５重量％以上の溶融法ポリカーボネートを含む、請求項１記載の方法。
【請求項６】
多層熱可塑性シートが、単位面積当たりの質量について２％未満の相対標準偏差を有する複数のセクションを含む、請求項２記載の方法。
【請求項７】
請求項２記載の方法で製造した多層熱可塑性シート。
【請求項８】
単位面積当たりの質量について２％未満の最大相対偏差を有する複数のセクションを含む、請求項７記載の多層シート。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月17日(2006.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式：
【化１】
2005524716.tif 000001
（式中、ｎは１または２である）に相当するイソシアネート。
【請求項２】
以下の工程：
ａ）１，２，３，４−テトラヒドロナフタレンを硝酸と反応させ、ジニトロテトラリンを製造し、
ｂ）ジニトロテトラリンを接触水素化し、テトラリンジアミンを製造し、
ｃ）テトラリンジアミンをホスゲンで処理して生じる生成物を製造し、
ｄ）前記の生じる生成物を蒸留する
ことからなる、式：
【化２】
2005524716.tif 000002
（式中、ｎは１または２である）に相当するイソシアネートを製造する方法。
【請求項３】
式：
【化３】
2005524716.tif 000003
（式中、ｎは１または２である）に相当するイソシアネートを含有するポリウレタンフォーム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月13日(2006.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）二元触媒系の存在下、極性の非プロトン性有機溶剤中で、
ｉ）テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）、および
ｉｉ）フッ化スルフリル（ＳＯ2Ｆ2）
を反応させる工程であって、
前記二元触媒系が、金属フッ化物、およびクラウンエーテルを含む工程と、
ｂ）フッ化ペルフルオロエタンスルホニルまたはペルフルオロジエチルスルホンあるいはその混合物を回収するステップと、
を含む、フッ化ペルフルオロエタンスルホニルおよび／またはペルフルオロジエチルスルホンを調製するための触媒的方法。
【請求項２】
以下のａ）〜ｉ）の内の少なくとも一つを特徴とする、請求項１に記載の触媒的方法。
ａ）前記金属フッ化物がアルカリ金属フッ化物である；
ｂ）テトラフルオロエチレンのラジカル重合を防止するために十分な量のインヒビターが存在する；
ｃ）前記クラウンエーテルが、１８−クラウン−６、ジベンゾ−１８−クラウン−６、ジシクロヘキサノ−１８−クラウン−６、およびジベンゾ−２４−クラウン−８からなる群から選択される；
ｄ）前記極性の非プロトン性有機溶剤が、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、スルホラン、ジメチルスルホキシド、プロピレンカーボネート、１，３−ジメチルイミダゾリジン−２−オン、１，３−ジメチル−２−オキソヘキサヒドロピリミジン、γ−ブチロラクトン、ニトロメタン、１−メチル−２−ピロリジノン、ジメチルスルホン、およびヘキサメチルホスホロアミドからなる群から選択される；
ｅ）前記極性の非プロトン性有機溶剤が、室温で、２５より大きい誘電率を有する；
ｆ）前記二元触媒および溶剤の混合物が、多回再使用される；
ｇ）本質的に全ての水が排除されている；
ｈ）最高の反応器圧が３５０ｐｓｉａ（６２ｋＰａ）未満である；または、
ｉ）最高の反応器温度が１２０℃未満である：
【請求項３】
前記テトラフルオロエチレン消費率が８５％より大きく、また最終生成物中のペルフルオロジエチルスルホン対フッ化ペルフルオロエタンスルホニルのモル比が０．３５未満である、請求項１に記載の触媒的方法。
【請求項４】
以下のａ）〜ｅ）の内の少なくとも一つを特徴とする、請求項１に記載の触媒的方法。
ａ）前記テトラフルオロエチレンおよびＳＯ2Ｆ2が、反応器に連続的に投入される；
ｂ）前記ＳＯ2Ｆ2が、バッチ方式で前記反応器に予め投入され、前記テトラフルオロエチレンが前記反応器に連続的に給送される；
ｃ）前記ＳＯ2Ｆ2対テトラフルオロエチレンのモル比が１より大きい；
ｄ）余分のＳＯ2Ｆ2が回収され、リサイクルされる；または、
ｅ）前記ＳＯ2Ｆ2：テトラフルオロエチレンのモル比が１未満である：
【請求項５】
前記方法が、フッ素化された補助溶剤と前記極性の非プロトン性有機溶剤とを組み合せることを含み、前記フッ素化された補助溶剤と前記極性の非プロトン性有機溶剤が非混和性である、請求項１に記載の触媒的方法。
【請求項６】
ａ）二元触媒系の存在下、極性の非プロトン性有機溶剤中で、
ｉ）テトラフルオロエチレン、および
ｉｉ）フッ化フルオロアルカンスルホニル
を反応させるステップであって、
前記二元触媒系が、金属フッ化物およびクラウンエーテルを含むステップと、
ｂ）ペルフルオロエタンフルオロアルカンスルホンを回収するステップと
を含む、ペルフルオロエタンフルオロアルカンスルホンを調製するための触媒的方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月13日(2005.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１またはそれより多くの抗原に対する免疫応答を惹起させるための組成物であって、
配列番号１−６からなる群より選択される配列と少なくとも約８０％の配列の同一性を有するアミノ酸配列を含む、約１０から約９０アミノ酸からなる少なくとも１つのポリペプチド；および
少なくとも１つの抗原；
を含み、ここで当該ポリペプチドは当該抗原に対する免疫応答を惹起する、ただし当該ポリペプチドおよび当該抗原は異なる、前記組成物。
【請求項２】
少なくとも２つのポリペプチドを含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
アミノ酸配列が、配列番号１−６からなる群より選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
持続的放出のために処方される、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
医薬的に受容可能な担体をさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
医薬的に受容可能な担体がアジュバントである、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
医薬的に受容可能な担体が、水、オイル、生理食塩水、水性デキストロースおよびグリセロールからなる群より選択される、請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
ポリペプチドが、約１０から約８０アミノ酸からなる、請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
ポリペプチドが、約１０から約７０アミノ酸からなる、請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
ポリペプチドが、約１０から約６０アミノ酸からなる、請求項１に記載の組成物。
【請求項１１】
ポリペプチドが、約１０から約５０アミノ酸からなる、請求項１に記載の組成物。
【請求項１２】
ポリペプチドが、約１０から約４０アミノ酸からなる、請求項１に記載の組成物。
【請求項１３】
ポリペプチドが、約１０から約３０アミノ酸からなる、請求項１に記載の組成物。
【請求項１４】
１またはそれより多くの抗原に対する免疫応答を惹起させるための組成物であって、
配列番号１，３、４、５および６からなる群より選択される配列と少なくとも約８０％の配列の同一性を有するアミノ酸配列を含む、約１０から約９０アミノ酸からなる少なくとも１つの単離されたポリペプチド；および
少なくとも１つの抗原；
を含み、ここで当該ポリペプチドは当該抗原に対する免疫応答を惹起する、前記組成物。
【請求項１５】
ポリペプチドが、約１０から約６０アミノ酸からなる、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１６】
ポリペプチドが、約１０から約５０アミノ酸からなる、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１７】
ポリペプチドが、約１０から約４０アミノ酸からなる、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１８】
ポリペプチドが、約１０から約３０アミノ酸からなる、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１９】
配列番号７−１２および１４、またはそれらのフラグメントからなる群より選択される核酸配列と少なくとも８０％の配列同一性を有する少なくとも１つの配列を外因的に発現する細胞を含む組成物。
【請求項２０】
細胞が同種である、請求項１９に記載の組成物。
【請求項２１】
細胞が自己由来である、請求項１９に記載の組成物。
【請求項２２】
細胞が癌細胞である、請求項１９に記載の組成物。
【請求項２３】
癌細胞が癌細胞株由来である、請求項２２に記載の組成物。
【請求項２４】
癌細胞株がヒトの卵巣癌細胞株またはヒトの脳の細胞株である、請求項２３に記載の組成物。
【請求項２５】
腫瘍関連抗原をさらに含む、請求項１９ないし２４に記載の組成物。
【請求項２６】
腫瘍関連抗原が自己由来細胞から得られたものである、請求項２５に記載の組成物。
【請求項２７】
以下の物質：
少なくとも１つの腫瘍細胞；および
配列番号７−１２および１４、またはそれらのフラグメントからなる群より選択される核酸配列と少なくとも８０％の配列同一性を有する、少なくとも１つの配列を外因的に発現する少なくとも１つの細胞；
を含む、組成物。
【請求項２８】
腫瘍細胞が原発性腫瘍細胞である、請求項２７に記載の組成物。
【請求項２９】
腫瘍細胞が自己由来である、請求項２７に記載の組成物。
【請求項３０】
腫瘍細胞が、神経膠腫、神経膠芽腫、神経肉腫、星状細胞腫、黒色腫、乳癌細胞、または卵巣癌細胞である、請求項２７に記載の組成物。
【請求項３１】
腫瘍細胞が癌細胞である、請求項２７に記載の組成物。
【請求項３２】
ＳＨＡＡＧｔｉｄｅを外因的に発現する細胞が同種の細胞である、請求項２７に記載の組成物。
【請求項３３】
ポリヌクレオチドを外因的に発現する細胞が休止状態である、請求項２７に記載の組成物。
【請求項３４】
以下のもの：
配列番号１−６、またはそれらのフラグメントからなる群から選択されるアミノ酸配列と少なくとも８０％の配列の同一性を有する、少なくとも１つのポリペプチド、および
医薬的に受容可能な担体、
を含む医薬的組成物；ならびに
注射器；
を含むキット。
【請求項３５】
以下のもの：
配列番号７−１２および１４、またはそれらのフラグメントからなる群から選択される核酸配列と少なくとも８０％の配列の同一性を有する、少なくとも１つのポリヌクレオチド、および
医薬的に受容可能な担体、
を含む医薬的組成物；ならびに
注射器；
を含むキット。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月10日(2006.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＶＥＧＦ又はその変異体を含有する、骨形成の促進のための組成物。
【請求項２】
局所送達系によって投与される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
徐放製剤の形態である、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
親水性溶媒と疎水性溶媒と組み合わせてポリ乳酸を含有する、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
親水性溶媒がベンジルアルコールである、請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
疎水性溶媒が安息香酸ベンジルである、請求項４又は５に記載の組成物。
【請求項７】
ベンジルアルコールと安息香酸ベンジルと組み合わせてポリ乳酸を含有するＰＬＡＤである、請求項４に記載の組成物。
【請求項８】
請求項１ないし７の何れか１項に記載の組成物と他の骨形成剤とを、骨形成の促進のために連続して又は組み合わせて投与される薬剤として含む医薬。
【請求項９】
骨形成剤が、ＢＭＰｓ、ＦＧＦ、成長ホルモン、ＰＤＧＦ、ＴＧＦ-β、ＧＤＦ-５及びＯＰ-１からなる群から選択される、請求項８に記載の医薬。  
【請求項１０】
ＶＥＧＦ又はその変異体を含有する、骨欠陥の骨修復を促進するための組成物。
【請求項１１】
骨欠陥が骨損傷、後天性骨疾患又は遺伝性骨疾病に付随している、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
骨欠陥が非癒合である、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
骨欠陥が骨折の癒合遅延である、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１４】
骨欠陥が腱、靱帯、半月板又は軟骨の損傷である、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１５】
骨欠陥が椎体又は椎間板損傷に付随している、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１６】
骨欠陥が無血管性壊死に付随している、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１７】
骨欠陥が頭蓋顔面欠損である、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１８】
骨疾患が骨粗鬆症、骨関節炎又は骨硬化症である、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１９】
局所送達系を通じて投与される、請求項１０ないし１８の何れか１項に記載の組成物。
【請求項２０】
徐放製剤である、請求項１９に記載の組成物。
【請求項２１】
親水性剤と疎水性剤と組み合わせてポリ乳酸を含有する、請求項２０に記載の組成物。
【請求項２２】
親水性剤がベンジルアルコールである、請求項２１に記載の組成物。
【請求項２３】
疎水性剤が安息香酸ベンジルである、請求項２１に記載の組成物。
【請求項２４】
ベンジルアルコールと安息香酸ベンジルと組み合わせてポリ乳酸を含有するＰＬＡＤである、請求項２１に記載の組成物。
【請求項２５】
請求項１０ないし２４の何れか１項に記載の組成物と欠損の修復を容易にする薬剤とを、骨欠陥の修復のために連続して又は組み合わせて投与される薬剤として含む医薬。
【請求項２６】
上記欠損の修復を容易にする薬剤が、ＢＭＰｓ、ＦＧＦ、成長ホルモン、ＰＤＧＦ、ＴＧＦ-β、ＧＤＦ-５及びＯＰ-１からなる群から選択される骨形成剤である、請求項２５に記載の医薬。
【請求項２７】
骨欠損の修復を容易にする手段が施される患者に対して使用される、請求項１０ないし２４の何れか１項に記載の組成物。
【請求項２８】
上記手段が、欠陥部位の機械的固定である、請求項２７に記載の組成物。
【請求項２９】
ａ）ポリ乳酸；ｂ）少なくとも１種の溶媒；及びｃ）ＶＥＧＦ又はその変異体を含有する、骨修復を促進するための徐放組成物。
【請求項３０】
溶媒が、エタノール、安息香酸ベンジル、ミグリオール、プロピレンカーボネート、ベンジルアルコール、乳酸エチル、グリコフロール、Ｎ-メチルピロリドン、ａ-ピロリドン、プロピレングリコール、アセトン、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、トリアセチン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、カプロラクタム、デシルメチルスルホキシド、オレイン酸、又は１-ドデシアザシクロヘプタン-２-オンである、請求項２９に記載の徐放組成物。
【請求項３１】
溶媒がベンジルアルコールと安息香酸ベンジルの組み合わせである、請求項２９に記載の徐放組成物。
【請求項３２】
ａ）容器とそこに含まれる請求項２９に記載の組成物；及びｂ）上記組成物を使用するための説明書を含んでなる製造物品。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月13日(2006.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カルボン酸および／またはその誘導体を、
（ａ）ルテニウム、ロジウム、鉄、オスミウムまたはパラジウム、および
（ｂ）有機ホスフィン
を含む触媒の存在下で、水素化する均一系プロセスであって、１重量％を超える水の存在下で、水素化を実施することを含むプロセス。
【請求項２】
カルボン酸および／またはその誘導体が、溶媒として存在する請求項１に記載の均一系プロセス。
【請求項３】
溶媒が存在し、および添加剤としてその中に水が存在する請求項１に記載の均一系プロセス。
【請求項４】
水が、１％を超えてから溶媒中の水の溶解限度までの量で存在する請求項３に記載の均一系プロセス。
【請求項５】
水が、溶媒中の水の溶解限度より多量に存在し、過剰の水が水相を形成する請求項３に記載の均一系プロセス。
【請求項６】
水を、その場で発生させる請求項１に記載の均一系プロセス。
【請求項７】
反応の生成物が、溶媒を形成する請求項２に記載の均一系プロセス。
【請求項８】
水が、反応に対する溶媒である請求項１に記載の均一系プロセス。
【請求項９】
触媒が、ルテニウム／ホスフィン触媒系である請求項１から８のいずれか一項に記載の均一系プロセス。
【請求項１０】
触媒系のホスフィン成分が三座ホスフィンである請求項９に記載の均一系プロセス。
【請求項１１】
触媒系のホスフィン成分がトリス−１，１，１−（ジフェニルホスフィノメチル）エタンである請求項１から１０のいずれか一項に記載の均一系プロセス。
【請求項１２】
助触媒なしに、反応を実施する請求項１から１１のいずれか一項に記載の均一系プロセス。
【請求項１３】
ハロゲン化物なしに、反応を実施する請求項１から１２のいずれか一項に記載の均一系プロセス。
【請求項１４】
反応温度が、１５０℃から３５０℃の範囲である請求項１から１３のいずれか一項に記載の均一系プロセス。
【請求項１５】
反応圧力が、２５０ｐｓｉｇから２０００ｐｓｉｇの範囲である請求項１から９のいずれか一項に記載の均一系プロセス。
【請求項１６】
圧力が、８００ｐｓｉｇから１２００ｐｓｉｇである請求項１０に記載の均一系プロセス。
【請求項１７】
触媒を水および水素の存在下で、再生する請求項１から１６のいずれか一項に記載の均一系プロセス。
【請求項１８】
（ａ）ルテニウム、ロジウム、鉄、オスミウムまたはパラジウム、および、
（ｂ）有機ホスフィン、
を含む触媒を再生する方法であって、水素および水の存在下で、再生を実施することを含む方法。
【請求項１９】
再生を１５０℃から３５０℃の温度で実施する請求項１８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月17日(2006.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つの単位を有する剤形であって、該単位がさらに
少なくとも一つの活性製薬成分を含むコア、および
該コアを囲むシェルであって、水に実質的に不溶であるが水以外の溶媒に室温で可溶性である放出抑制ポリマーおよび放出調節ポリマーをさらに含む、シェル
を含む、剤形。
【請求項２】
前記シェルが少なくとも１００ミクロンの厚さを有する、請求項１に記載の剤形。
【請求項３】
前記シェルが約８００ミクロンの厚さを有する、請求項１に記載の剤形。
【請求項４】
請求項１に記載の剤形であって、前記放出抑制ポリマーが、以下：
ポリビニルアセテート約８０％、ポリビニルピロリドン約１９％、ラウリル硫酸ナトリウムおよびシリカ約１％未満との混合物、その他のポリビニルアセテート、エチルセルロースおよびポリ（アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル）トリメチルアンモニオエチルメタクリル酸塩化物からなる群より選択される、剤形。
【請求項５】
前記放出調節ポリマーが、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、アクリレート−メタクリレート共重合体、ポリエチレングリコール、キサンタンガム、ゲランガム、ローカストビーンガム、グアーガム、トラガントおよびアルギン酸ナトリウムからなる群より選択される、請求項１に記載の剤形。
【請求項６】
前記剤形が三次元印刷によって作製され、三次元印刷された剤形が滴間距離、線間距離および粉体層厚さの寸法増分を有し、シェルが少なくとも滴間距離一つ、線間距離一つまたは粉体層厚さ一つ分の厚さを有する、請求項１に記載の剤形。
【請求項７】
コアがシェルに閉じ込められた放出抑制ポリマーおよび放出調節ポリマーを含む、請求項１に記載の剤形。
【請求項８】
前記活性製薬成分が、塩酸プソイドエフェドリン、メトプロロール、マレイン酸ｄ−クロルフェニラミン、マレイン酸クロルフェニラミン、塩酸ジフェンヒドラミン、カフェイン、マレイン酸ｄ−ブロムフェニラミン、マレイン酸ブロムフェニラミン、アミノフィリンおよびクエン酸オルフェナドリンからなる群からの少なくとも一つの物質を含む、請求項１に記載の剤形。
【請求項９】
前記コアが活性製薬成分を含む中心領域、および中心領域を囲む緩衝領域を含み、緩衝領域が少なくとも部分的に多孔性を有し非薬剤成分を含む、請求項１に記載の剤形。
【請求項１０】
剤形を作製する方法であって、
実質的に水に不溶であるが別の溶媒に可溶性である、放出抑制ポリマーの粒子および放出調節ポリマーの粒子を含む粉体の層を堆積させる工程；
選ばれた場所の粉体上に該放出抑制ポリマー用の溶媒を含むシェルバインダ液のパターンを堆積させる工程；
選ばれた場所の粉体上にＡＰＩ含有液のパターンを堆積させる工程；
所望の形状を製造するのに上記の工程を十分な回数反復する工程であって、該シェルバインダ液および該ＡＰＩ含有液が層によって異なる工程、
該剤形を乾燥させる工程、および
該剤形から非結合粉体を分離する工程
を包含する、方法。
【請求項１１】
前記ＡＰＩ含有液が塩酸プソイドエフェドリンおよび水である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記ＡＰＩ含有液が塩酸プソイドエフェドリン約５０重量％、ポリビニルピロリドン約５重量％、界面活性剤約０．０１重量％および水である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記ＡＰＩ含有液が塩酸プソイドエフェドリン、メトプロロール、マレイン酸ｄ−クロルフェニラミン、マレイン酸クロルフェニラミン、塩酸ジフェンヒドラミン、カフェイン、マレイン酸ｄ−ブロムフェニラミン、マレイン酸ブロムフェニラミン、アミノフィリンおよびクエン酸オルフェナドリンからなる群からの少なくとも一つの物質を含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記ＡＰＩ含有液を少なくとも部分的に乾いた状態まで乾燥させ、別の粉体層の作製前に粉体上にＡＰＩ含有液を再び堆積させる工程をさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
前記放出調節ポリマーがヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、カルボキシルメチルセルロース、ポリビニルアルコール、アクリレート−メタクリレート共重合体、ポリエチレングリコール、キサンタンガム、ゲランガム、ローカストビーンガム、グアーガム、トラガントおよびアルギン酸ナトリウムからなる群より選択される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１６】
前記放出抑制ポリマーがポリビニルアセテート約８０％、ポリビニルピロリドン約１９％およびラウリル硫酸ナトリウムおよび二酸化ケイ素約１％未満の混合物、その他のポリビニルアセテート、エチルセルロースおよびポリ（アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル）トリメチルアンモニオエチルメタクリル酸塩化物からなる群より選択される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１７】
前記放出抑制ポリマーがポリビニルアセテート約８０％、ポリビニルピロリドン約１９％およびラウリル硫酸ナトリウムおよび二酸化ケイ素約１％未満の混合物であり、放出調節ポリマーがヒドロキシプロピルメチルセルロースである、請求項１０に記載の方法。
【請求項１８】
前記剤形を圧縮する工程をさらに包含する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１９】
一つ以上の単位をカプセル中に封じ込める工程をさらに包含する、請求項１０に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月2日(2006.5.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマー変性顔料の調製方法において、少なくとも一つの求核基が結合している少なくとも一種の顔料と、少なくとも一つのカルボン酸基又はその塩を含む少なくとも一種のポリマーと、少なくとも一種のカップリング剤とを、任意の順序で組み合わせる工程を含んでなる方法。
【請求項２】
前記少なくとも一つの求核基が結合している顔料が、顔料と前記求核基又はその誘導体を含むジアゾニウム塩との反応生成物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記求核基が、少なくとも一つのアミン基又はその塩を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記求核基が、少なくとも一つのポリアミン基又はその塩を含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記求核基が、式Ｘ−Ｓｐ−［ＰＡ］（式中、前記顔料に直接結合しているＸは、アリーレン基、ヘテロアリーレン基又はアルキレン基を表し、Ｓｐは、スペーサー基を表し、ＰＡは、ポリアミン基、その塩又はそのアシル誘導体を表す）で表される基を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記少なくとも一つのカルボン酸基を含むポリマーが、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、又はアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸のホモポリマー若しくはコポリマー、又はその塩である、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記カップリング剤が、水溶性である、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記カップリング剤が、無水酢酸、ジフェニルホスホリルアジド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１，３−ジイソプロピルカルボジイミド、Ｎ，Ｎ−カルボニルジイミダゾール、イソブチルクロロホルメート、２−クロロ−４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリアジン、４−（４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリニウムクロリド、２−（４−ジメチルカルバモイル−ピリジノ）−エタン−１−スルホネート、２−（４−ジエチルカルバモイル−ピリジノ）−エタン−１−スルホネート、Ｏ−（Ｎ−スクシンイミジル）−１，１，３，３−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート、ベンゾトリアゾール−１−イル−オキシ−トリス−（ジメチルアミノ）−ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、ピバロイルクロリド、１−メチル−２−クロロピリジニウムヨージド、又は（４−ジメタカルバモイル−ピリジル）スルホネートの分子内塩である、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記少なくとも一個のカルボン酸基又はその塩を含むポリマーを前記カップリング剤と組み合わせて反応性ポリマーを形成し、且つ前記反応性ポリマーを、前記少なくとも一個の求核基が結合している顔料と組み合わせる、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
少なくとも一種のメディエータ化合物を前記反応性ポリマーに添加する工程をさらに含む、請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月25日(2006.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（a）C4〜C12 脂肪酸メチルエステルを、水により、酵素の存在下、メタノールを連続除去しながら、一段階で完全にまたは部分的に加水分解し、
（b）その水解物を、有機層及び水／アルコール層に分離し、
（c）脂肪酸及び（部分加水分解の場合は）脂肪酸メチルエステルを含む有機層を、未反応脂肪酸メチルエステルから分離する、
C4〜C12 脂肪酸の製造方法。
【請求項２】
加水分解を 20〜80 ℃の温度で行う請求項１に記載の方法。
【請求項３】
使用される酵素が遊離または固定形状のリパーゼ及び／またはエステラーゼである請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
使用されるリパーゼ及び／またはエステラーゼが、Alcaligenes、Aspergillus niger、Candida antarctica A、Candida antarctica B、Candida cylindracea、Chromobacterium viscosum、Rhizomucor miehei、Penicilium camenberti、Penicilium roqueforti、Porcine pancreas、Pseudomonas cepacia、Pseudomonas fluorescens、Rhizopus javanicus、Rhizopus oryzae、Thermomyces lanugenosus からなる微生物の群から選ばれる微生物のリパーゼ及び／またはエステラーゼである請求項１〜３に記載の方法。
【請求項５】
加水分解を 60〜99 重量％の分解率で行う請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
加水分解の間、反応器内で水分量が 30〜70 重量％の範囲で一定に保たれている請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
反応器内で加水分解の間、0〜20 重量％の範囲で水分量が設定されている請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
しかしながら、得られた誘導体は、不純原料に帰因して、質が悪い。従って代替法として、脂肪酸メチルエステルをまず分解し、その後、放出された脂肪酸をエステル化する。化学加水分解は、酸触媒、例えば WO 94/14743 に開示されているようなアルキルベンゼンスルホン酸の存在下行われる。従ってこの方法では、プラント内で著しい腐食を生じるスルホン酸が形成され、生成物は高含量の金属含有物によって汚染される。加えてこれらの方法の収率は、いまだ最適ではない。更なる問題は、環境に影響を及ぼさないような、触媒の処理である。
従って本発明の目的は、メチルエステルから短鎖脂肪酸を製造する改善された方法を提供することであり、この方法は、確実に前記した従来技術の不利益を回避する。特に、脂肪酸は高純度及び高収率で得られるべきであり、この方法は、穏やかな条件で行われるべきである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、水を連続供給し、メタノール／水を連続除去するバッチ処理を実施する加水分解法も好ましい。通常、この処理における反応器内の水分量は低い（0〜20 重量％）。反応は通常、50〜70 ℃の温度で、100 mbar より低い圧力、好ましくは50〜70 mbar で行われる（実施例７及び８）。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
メタノール除去が加水分解反応から空間的に及び／または時間的に分離された方法は、うまく実施できない。このように不利な方法は、JP05317063 に開示されている。
あまり好ましくない方法の例は、別個の反応容器内でのメタノール除去（実施例９）及び分縮器または例えば流下薄膜型蒸発缶によるメタノール除去（実施例１０）であり、これらの方法では、有機層及び水層が加水分解反応器に連続的に循環される。時間的なメタノール除去及び加水分解の分離の一例は、実施例１１及び１２に示す。このプランに従った多段法では、短鎖脂肪酸の収率は低くなる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月30日(2006.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の成分からなるかまたは以下の成分を含む粒状物質の混合物を含む顔料組成物：、
（ａ）主にアラレ石型若しくは菱面体粒子形状から成る沈降炭酸カルシウム、及び
（ｂ）約25以上のシェープファクター及び約20以上の峻度を有する加工粒状含水カオリン粘土。
【請求項２】
沈降炭酸カルシウムが主に菱面体粒子形状から成る、請求項１記載の顔料組成物。
【請求項３】
沈降炭酸カルシウムが主にアラレ石型から成る、請求項１記載の顔料組成物。
【請求項４】
沈降炭酸カルシウムが約0.8μm未満のｄ50を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の顔料組成物。
【請求項５】
沈降炭酸カルシウムが約0.7μm未満のｄ50を有する、請求項４に記載の顔料組成物。
【請求項６】
沈降炭酸カルシウムが少なくとも約0.2μmのｄ50を有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の顔料組成物。
【請求項７】
沈降炭酸カルシウムが約0.25μm〜約0.45μmの範囲のｄ50を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の顔料組成物。
【請求項８】
沈降炭酸カルシウムが以下の粒度分布を有する請求項２記載の顔料組成物：
少なくとも93質量％の粒子が2μｍ未満の等価粒経を有し、少なくとも86質量％の粒子が1μｍ未満の等価粒経を有し、少なくとも22質量％の粒子が0.5μｍ未満の等価粒経を有し、5〜25質量％の粒子が0.25μｍ未満の等価粒径を有する。
【請求項９】
沈降炭酸カルシウムのメジアン等価粒径が、約0.4μｍ〜約0.6μmである請求項８記載の顔料組成物。
【請求項１０】
沈降炭酸カルシウムが以下の粒度分布を有する請求項３記載の顔料組成物：
少なくとも90質量％の粒子が2μｍ未満の等価粒経を有し、少なくとも75質量％の粒子が1μｍ未満の等価粒経を有し、少なくとも60質量％の粒子が0.5μｍ未満の等価粒経を有し、15〜40質量％の粒子が0.25μｍ未満の等価粒径を有する。
【請求項１１】
沈降炭酸カルシウムが以下の粒度分布を有する請求項３記載の顔料組成物：
少なくとも95質量％の粒子が2μｍ未満の等価粒経を有し、少なくとも82質量％の粒子が1μｍ未満の等価粒経を有し、少なくとも66質量％の粒子が0.5μｍ未満の等価粒経を有し、23〜33質量％の粒子が0.25μｍ未満の等価粒径を有する。
【請求項１２】
沈降炭酸カルシウムが少なくとも90のＧＥ粉末明度を有する、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の顔料組成物。
【請求項１３】
沈降炭酸カルシウムが少なくとも92のＧＥ粉末明度を有する、請求項１２に記載の顔料組成物。
【請求項１４】
カオリン粘土のシェープファクターが約25より大きい、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の顔料組成物。
【請求項１５】
カオリン粘土のシェープファクターが約30より大きい、請求項１４記載の顔料組成物。
【請求項１６】
カオリン粘土のシェープファクターが約35より大きい、請求項１５記載の顔料組成物。
【請求項１７】
カオリン粘土のシェープファクターが約45より大きい、請求項１６記載の顔料組成物。
【請求項１８】
カオリン粘土が約0.5μm未満のｄ50を有する、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の顔料組成物。
【請求項１９】
カオリン粘土が約0.1μm〜約0.5μmの範囲内のｄ50を有する、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の顔料組成物。
【請求項２０】
カオリン粘土が約0.5μm以上のｄ50を有する、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の顔料組成物。
【請求項２１】
カオリン粘土が約0.5μm〜約1.5μmの範囲内のｄ50を有する、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の顔料組成物。
【請求項２２】
カオリン粘土の峻度が約25〜約45である、請求項１〜２１のいずれか一項に記載の顔料組成物。
【請求項２３】
カオリン粘土の峻度が約35〜約45である、請求項２２に記載の顔料組成物。
【請求項２４】
カオリン粘土が少なくとも50質量％のカオリナイトを含有する、請求項１〜２３のいずれか一項に記載の顔料組成物。
【請求項２５】
カオリン粘土が少なくとも75質量％のカオリナイトを含有する、請求項２４記載の顔料組成物。
【請求項２６】
カオリン粘土が少なくとも90質量％のカオリナイトを含有する、請求項２５記載の顔料組成物。
【請求項２７】
カオリン粘土成分が少なくとも85のＧＥ粉末明度を有する、請求項１〜２６のいずれか一項に記載の顔料組成物。
【請求項２８】
カオリン粘土成分が少なくとも90のＧＥ粉末明度を有する、請求項２７に記載の顔料組成物。
【請求項２９】
紙及び他の基材用コーティング組成物であって、該組成物は、バインダーと共に粒状顔料の水性懸濁液を含み、該粒状顔料が以下の成分を含む、コーティング組成物：
（ａ）主にアラレ石型若しくは菱面体粒子形状から成る沈降炭酸カルシウム、及び
（ｂ）約25以上のシェープファクター及び約20以上の峻度を有する加工粒状含水カオリン粘土。
【請求項３０】
前記バインダーが、変性デンプンを含む、請求項２９記載のコーティング組成物。
【請求項３１】
さらに以下の成分を含む、請求項２９又は３０記載のコーティング組成物：
１種以上の架橋剤；１種以上の水保持助剤；１種以上の粘度調節剤及び／又は増粘剤；１種以上の潤滑／カレンダー加工助剤；１種以上の分散剤；１種以上の消泡剤／泡制止剤；１種以上の乾燥又は湿潤ピック改善添加剤；１種以上の乾燥又は湿潤摩擦改善及び／又は耐摩擦性添加剤；１種以上の光沢インク保持添加剤；１種以上の光学増白剤(ＯＢＡ)及び／又は蛍光白化剤(ＦＷＡ)；１種以上の染料；１種以上の殺生剤／腐敗抑制剤；１種以上のレベリング／平滑化助剤；１種以上のグリース及び耐油性添加剤；１種以上の耐水性添加剤；１種以上の追加顔料；又はこれらのいずれかの組合せ。
【請求項３２】
本質的に、前記粒状顔料と、前記バインダーと、他成分の約10質量％未満の請求項３１で定義した成分から選択される任意的な添加成分との水性懸濁液から成る、請求項２９記載のコーティング組成物。
【請求項３３】
請求項２９記載のコーティング組成物の製造方法であって、前記粒状顔料と前記バインダーを水性液状媒体中に混合し、該水性液状媒体中の固形成分の懸濁液を調製する工程を含む方法。
【請求項３４】
請求項２９〜３２のいずれか１項記載の組成物を紙に適用して該紙をコートする工程、及び前記紙をカレンダー加工して該紙上に光沢コーティングを形成する工程を含む、コート光沢紙の製造方法。
【請求項３５】
請求項２９〜３２のいずれか１項記載の組成物の乾燥残留物である光沢コーティングでコートされた紙。
【請求項３６】
コートされた機械紙である、請求項３５記載の紙。
【請求項３７】
コートされた軽量コート紙（ＬＷＣ）である、請求項３５記載の紙。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月21日(2005.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リードイン領域、データ領域、リードアウト領域を含み、
前記リードイン領域は所定の記録区間にウォーブル形状で形成された複数のプリピット列を含むことを特徴とする記録媒体。
【請求項２】
前記複数のビット列はバイフェーズ変調を基礎にして高周波変調された（ＨＦＭ）グルーブと同様の記録パターンを有することを特徴とする請求項１に記載の記録媒体。
【請求項３】
前記記録パターンは前記リードイン領域のサブ領域上に形成され、前記サブ領域には主要情報が記録および記憶されていることを特徴とする請求項２に記載の記録媒体。
【請求項４】
複数のプリピット列は複数の記録区間を決め、各記録区間は３６Ｔ長さを有し、Ｔはチャネルビットの長さに対応することを特徴とする請求項３に記載の記録媒体。
【請求項５】
３６Ｔ長さを有する前記各記録区間は、プリピットが同一トラック線上に形成される時第１データ値を表し、プリピットが異なるトラック線上に形成される時第２データ値を表すことを特徴とする請求項４に記載の記録媒体。
【請求項６】
３６Ｔ長さを有する前記各記録区間は記録サブ区間内に次々と反復形成された所定長さのスペース−マーク組合せを含むことを特徴とする請求項５に記載の記録媒体。
【請求項７】
前記データ領域は直線状プリピットで形成されることを特徴とする請求項１に記載の記録媒体。
【請求項８】
前記複数のプリピットは、バイフェーズ変調を基礎にしたＨＦＭ（高周波変調された）グルーブと同様の前記記録パターンでハイからローへまたはローからハイへの各遷移点の前にはマークを、そして前記各遷移点の後にはスペースを有することを特徴とする請求項４に記載の記録媒体。
【請求項９】
前記複数のプリピットは、バイフェーズ変調を基礎にしたＨＦＭ（高周波変調された）グルーブと同様の前記記録パターンでハイからローへまたはローからハイへの各遷移点の前にはスペースを、そして前記各遷移点の後にはマークを有することを特徴とする請求項４に記載の記録媒体。
【請求項１０】
前記複数のプリピットは、バイフェーズ変調を基礎にするＨＦＭ（高周波変調された）グルーブと同様の前記記録パターンで、ハイからローへ各遷移点の前にはマークを、そしてローからハイへの各遷移点の前にはスペースを有することを特徴とする請求項４に記載の記録媒体。
【請求項１１】
前記複数のプリピットは、バイフェーズ変調を基礎にしたＨＦＭ（高周波変調された）グルーブと同様の前記記録パターンでハイからローへまたはローからハイへの各遷移点に及ぶスペースを有することを特徴とする請求項４に記載の記録媒体。
【請求項１２】
各遷移点に及ぶ前記スペースは所定の長さを有し、前記複数のプリピット列はピットの深さがλ／４より浅い第１ピットグループとピット深さがλ／４より深い第２ピットグループとを有することを特徴とする請求項１１に記載の記録媒体。
【請求項１３】
前記形成されたスペースおよびマーカのうち少なくとも１つ以上は最小ピット長さであることを特徴とする請求項８に記載の記録媒体。
【請求項１４】
前記マークおよびスペースは、デジタル合計成分（ＤＳＶ）が零または最小値となるように、前記パイフェーズ変調を基礎にするＨＦＭグルーブと同様の同一レベル記録区間内に所定のピット長さで形成されることを特徴とする請求項８に記載の記録媒体。
【請求項１５】
前記マークおよびスペースは、ＤＳＶが零または最小値となるように、前記パイフェーズ変調を基礎にするＨＦＭグルーブと同様の同一レベル記録区間内に所定のピット長さで反復形成されることを特徴とする請求項８に記載の記録媒体。
【請求項１６】
リードイン領域、データ領域、リードアウト領域を含み、
前記リードイン領域は前記パイフェーズ変調を基礎にするＨＦＭ（高周波変調された）グルーブと同様の記録パターンを有するマークおよびスペースのピット列が形成された特定領域を含み、
前記記録パターンは前記スペースの中央を基準にして形成されたレベル遷移点を有する
ことを特徴とする記録媒体。
【請求項１７】
同一の長さを有する少なくとも１つ以上のマークが前記バイフェーズ変調を基礎にするＨＦＭグルーブと同様のレベル遷移点の左右にそれぞれ形成されることを特徴とする請求項１６に記載の記録媒体。
【請求項１８】
前記パイフェーズ変調を基礎にするＨＦＭグルーブと同様の同一記録区間に形成されたマークおよびスペースは、ＤＳＶ（デジタル合計成分）が零または最小値となるように任意のピット長さで組み合わされて形成されることを特徴とする請求項１７に記載の記録媒体。
【請求項１９】
レベル遷移と関連したスペースの長さと、前記レベル遷移のスペースに対して左右対称であるマークの長さの合計はレーザビームスポットの有効直径より大きいことを特徴とする請求項１７に記載の記録媒体。
【請求項２０】
前記レベル遷移スペースの左右に対称で形成されたマークの長さは同じであることを特徴とする請求項１７に記載の記録媒体。
【請求項２１】
リードイン領域、データ領域、およびリードアウト領域を有する記録媒体を読み取る方法であって、
前記リードイン領域に記録されたデータを所定の記録区間にウォーブル形状で形成されたプリピット列から読み取るステップを含む
ことを特徴とする方法。
【請求項２２】
リードイン領域、データ領域、リードアウト領域を有する記録媒体を読み取る装置であって、
所定の記録区間にウォーブル形状で形成されたプリピット列を含むディスクの前記リードイン領域を読み取る手段を備える
ことを特徴とする装置。
【請求項２３】
リードイン領域、データ領域、およびリードアウト領域を有する記録媒体を読み取る方法であって、
バイフェーズ変調を基礎とするウォーブルパターン有するピット列として前記リードイン領域に記録された主要情報を読み取るステップを含む
ことを特徴とする記録方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
ＰＩＣ領域は、永久的に保存されるべきディスク情報が格納される領域であって、そのディスク情報はユーザーデータを記録するために必要な、又はデータ領域から再生するために必要な基礎的なデータである。そのＰＩＶ領域には、高周波変調（ＨＦＭ：Ｈｉｇｈ  Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ  Ｍｏｄｕｌａｔｅｄ）グルーブが形成される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月24日(2006.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）電子放出物質と、（ｂ）体積が少なくとも約１．０３倍だけ膨張可能である膨張材料とを含んでなる組成物。
【請求項２】
（ａ）電子放出物質と、（ｂ）膨張材料とを含んでなる電子放出フィルムであって、前記膨張材料の膨張によって破断されている電子放出フィルム。
【請求項３】
請求項２に記載の電子放出フィルムを含んでなる、電界放出三極管、電界放出ディスプレイ、照明デバイス、または真空電子デバイス。
【請求項４】
（ａ）（ｉ）電子放出物質と、（ｉｉ）体積が少なくとも約１．０３倍だけ膨張可能である膨張材料とを含んでなる組成物から、電子放出フィルムを形成し、
（ｂ）前記膨張材料を膨張させることを含んでなる、電子放出フィルムを製造する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
この電子電界エミッタを明細書中で説明されたような電界放出についてテストした。図５は電子電界エミッタの放出結果を示し、放出電流は、印加電界の関数としてプロットされている。結果が実施例１と同様であり、すなわち、良好な放出であることに留意されたい。
本発明の好適な実施の態様は次のとおりである。
１．  （ａ）電子放出物質と、（ｂ）体積が少なくとも約１．０３倍だけ膨張可能である膨張材料とを含んでなる組成物。
２．  前記膨張材料が、黒鉛、粘土、またはバーミキュライトである上記１に記載の組成物。
３．  前記電子放出物質がカーボンナノチューブである上記１に記載の組成物。
４．  導電性金属、光開始剤、現像可能なバインダー、および光硬化性モノマーのうちの１つもしくはそれ以上をさらに含んでなる上記１に記載の組成物。
５．  印刷可能なペーストまたは電子放出フィルムの形態の上記１に記載の組成物。
６．  （ａ）電子放出物質と、（ｂ）膨張材料とを含んでなる電子放出フィルムであって、前記膨張材料の膨張によって破断されている電子放出フィルム。
７．  前記電子放出物質が単壁カーボンナノチューブである上記６に記載の電子放出フィルム。
８．  前記膨張材料が、挿入された黒鉛、粘土、またはバーミキュライトである上記６に記載の電子放出フィルム。
９．  導電性金属、光開始剤、現像可能なバインダー、および光硬化性モノマーのうちの１つもしくはそれ以上をさらに含んでなる上記６に記載の電子放出フィルム。
１０．  上記６に記載の電子放出フィルムを含んでなる、電界放出三極管、電界放出ディスプレイ、照明デバイス、または真空電子デバイス。
１１．  （ａ）（ｉ）電子放出物質と、（ｉｉ）体積が少なくとも約１．０３倍だけ膨張可能である膨張材料とを含んでなる組成物から、電子放出フィルムを形成し、
（ｂ）前記膨張材料を膨張させることを含んでなる、電子放出フィルムを製造する方法。
１２．  前記膨張材料が、加熱によって膨張される上記１１に記載の方法。
１３．  前記膨張材料を膨張させる工程が、前記フィルムを破断する工程を含んでなる上記１１に記載の方法。
１４．  前記電子放出物質がカーボンナノチューブである上記１１に記載の方法。
１５．  前記膨張材料が、黒鉛、粘土、またはバーミキュライトである上記１１に記載の方法。