【手続補正書】
【提出日】平成18年6月13日(2006.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （Ａ）分子中に少なくとも１個のカルボン酸を含む、オリゴマー又はポリマー；
（Ｂ）式（Ｉ）、（II）、（III）、（IV）、（Ｖ）又は（VI）：
【化１】
2002519732.tif 000001
（式中、
Ｒ1は、フェニル（これは、非置換又は１個以上の、Ｃ1−Ｃ6アルキル、フェニル、ハロゲン、ＯＲ8、ＳＲ9若しくはＮＲ10Ｒ11により置換されている）であるか、あるいはＲ1は、Ｃ1−Ｃ20アルキル、Ｃ2−Ｃ20アルケニル、Ｃ2−Ｃ20アルキニル又はＣ2−Ｃ20アルキル（場合により、１個以上の−Ｏ−により中断及び／又は場合により、１個以上のヒドロキシル基により置換されている）であるか、あるいはＲ1は、Ｃ2−Ｃ20アルカノイル又はベンゾイル（これは非置換又は１個以上の、Ｃ1−Ｃ6アルキル、フェニル、ＯＲ8、ＳＲ9若しくはＮＲ10Ｒ11で置換されている）であるか、あるいはＲ1は、Ｃ2−Ｃ12アルコキシカルボニル（場合により、１個以上の−Ｏ−により中断及び／又は場合により、１個以上のヒドロキシル基により置換されている）であるか、あるいはＲ1は、フェノキシカルボニル（これは、非置換又はＣ1−Ｃ6アルキル、ハロゲン、フェニル、ＯＲ8若しくはＮＲ10Ｒ11により置換されている）であるか、あるいはＲ1は、−ＣＯＮＲ10Ｒ11、ＣＮ、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ4ハロアルキル、Ｓ（Ｏ）mＣ1−Ｃ6アルキル、非置換若しくはＣ1−Ｃ12アルキル−置換Ｓ（Ｏ）m−Ｃ6−Ｃ12アリール、ＳＯ2Ｏ−Ｃ1−Ｃ6アルキル、ＳＯ2Ｏ−Ｃ6−Ｃ10アリール、又はジフェニル−ホスフィノイルであるか、あるいはＲ1とＲ3又はＲ1とＲ7は、一緒になって、１個以上のＣＯ−及び／又はオキシム−基を含む、５又は６員環を形成してもよく；
ｍは、１又は２であり；
Ｒ2は、Ｃ2−Ｃ12アルカノイル（これは、非置換又は１個以上の、ハロゲン若しくはＣＮで置換されている）であるか、あるいはＲ2は、Ｃ3−Ｃ12アルケノイル、又はベンゾイル（これは、非置換又は１個以上の、Ｃ1−Ｃ6アルキル、フェニル、ハロゲン、ＣＮ、ＯＲ8、ＳＲ9若しくはＮＲ10Ｒ11で置換されている）であるか、あるいはＲ2は、Ｃ2−Ｃ12アルコキシカルボニル又はフェノキシカルボニル（これは、非置換又はＣ1−Ｃ6アルキル若しくはハロゲンにより置換されている）であり；
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は、互いに独立して、水素、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ12アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル又はフェニル（これは、非置換又は１個以上の、ＯＲ8、ＳＲ9若しくはＮＲ10Ｒ11により置換されている）であるか、あるいはＲ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は、ベンジル、ベンゾイル、Ｃ2−Ｃ12アルカノイル、Ｃ2−Ｃ12アルコキシカルボニル（場合により、１個以上の−Ｏ−により中断及び／又は場合により、１個以上のヒドロキシル基により置換されている）であるか、あるいはＲ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は、フェノキシカルボニル又は基ＯＲ8、ＳＲ9、ＳＯＲ9、ＳＯ2Ｒ9、ＮＯ2，ＣＮ，ＣＯＮＲ10Ｒ11若しくはＮＲ10Ｒ11であり、ここで、置換基ＯＲ8、ＳＲ9及びＮＲ10Ｒ11 は、フェニル環上の別の置換基又はフェニル環上の炭素原子の一つと、基Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及び／又はＲ11を介して、５−〜６−員環を形成してもよく；
Ｒ8は、水素、Ｃ1−Ｃ12アルキル又はＣ2−Ｃ6アルキル（これは、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＮ、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ、Ｃ3−Ｃ6アルケンオキシ、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＮ、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯ（Ｃ1−Ｃ4アルキル）、−ＯＣＯ−Ｃ1−Ｃ4アルキル、−ＯＣＯ−フェニル、ＣＯＯＨ又はＣＯＯ（Ｃ1−Ｃ4アルキル）により置換されている）であるか、あるいはＲ8は、Ｃ2−Ｃ6アルキル（これは、１個以上の−Ｏ−により中断されている）であるか、あるいはＲ8は、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）nＨ、Ｃ2−Ｃ8アルカノイル、Ｃ2−Ｃ12アルケニル、Ｃ3−Ｃ6アルケノイル、シクロヘキシル又はフェニル（これは、非置換又はハロゲン、Ｃ1−Ｃ12アルキル若しくはＣ1−Ｃ4アルコキシで置換されている）であるか、あるいはＲ8は、フェニル−Ｃ1−Ｃ3アルキル又はＳｉ（Ｃ1−Ｃ8アルキル）r（フェニル）3-rであるか、あるいはＲ8は、下記式：
【化２】
2002519732.tif 000002
の基であり；
ｎは、１〜２０であり；
ｒは、１、２又は３であり；
Ｒ9は、水素、Ｃ1−Ｃ12アルキル、Ｃ2−Ｃ12アルケニル、シクロヘキシル、Ｃ2−Ｃ6アルキル（これは、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＮ、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ、Ｃ3−Ｃ6アルケンオキシ、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＮ、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯ（Ｃ1−Ｃ4アルキル）、−ＯＣＯ−Ｃ1−Ｃ4アルキル、−ＯＣＯ−フェニル、ＣＯＯＨ又はＣＯＯ（Ｃ1−Ｃ4アルキル）で置換されている）であるか、あるいはＲ9は、Ｃ2−Ｃ12アルキル（これは、１個以上の、−Ｏ−又は−Ｓ−により中断されている）であるか、あるいはＲ9は、フェニル（これは、非置換又はハロゲン、Ｃ1−Ｃ12アルキル若しくはＣ1−Ｃ4アルコキシにより置換されている）であるか、あるいはＲ9は、フェニル−Ｃ1−Ｃ3アルキル又は下記式：
【化３】
2002519732.tif 000003
の基であり；
Ｒ10及びＲ11は、それぞれ他と独立して、水素、Ｃ1−Ｃ12アルキル、Ｃ2−Ｃ4ヒドロキシアルキル、Ｃ2−Ｃ10アルコキシアルキル、Ｃ2−Ｃ5アルケニル、Ｃ5−Ｃ12シクロアルキル、フェニル−Ｃ1−Ｃ3アルキル、フェニル（これは、非置換又はＣ1−Ｃ12アルキル若しくはＣ1−Ｃ4アルコキシにより置換されている）であるか、あるいはＲ10及びＲ11は、Ｃ2−Ｃ3アルカノイル、Ｃ3−Ｃ6アルケノイル又はベンゾイルであるか、あるいはＲ10とＲ11は、一緒になって、Ｃ2−Ｃ6アルキレン（場合により、−Ｏ−又は−ＮＲ8−により中断されている）であるか、あるいはＲ10とＲ11は、一緒になって、Ｃ2−Ｃ6アルキレン（これは、ヒドロキシル、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ、Ｃ2−Ｃ4アルカノイルオキシ又はベンゾイルオキシにより置換されていてもよい）であるか、あるいはＲ10が水素であるとき、Ｒ11は、下記式：
【化４】
2002519732.tif 000004
の基であってよく；
Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18及びＲ19は、互いに独立して、水素、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ12アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル又はフェニル（これは、非置換又は１個以上の、ＯＲ8、ＳＲ9若しくはＮＲ10Ｒ11により置換されている）であるか、あるいはＲ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18及びＲ19は、ベンジル、ベンゾイル、Ｃ2−Ｃ12アルカノイル、Ｃ2−Ｃ12アルコキシカルボニル（場合により、１個以上の−Ｏ−により中断及び／又は場合により１個以上のヒドロキシル基により置換されている）であるか、あるいはＲ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18及びＲ19は、フェノキシカルボニル又は基ＯＲ8、ＳＲ9、ＳＯＲ9、ＳＯ2Ｒ9、ＮＯ2、ＣＮ、ＣＯＮＲ10Ｒ11若しくはＮＲ10Ｒ11であり、ここで、置換基ＯＲ8、ＳＲ9及びＮＲ10Ｒ11は、フェニル環上の別の置換基又はフェニル環上の炭素原子の一つと、基Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及び／又はＲ11を介して、５−〜６−員環を形成してもよく、あるいはＭ4が直接結合であるとき、Ｒ15とＲ16は、一緒になって、エチレン又はエチニレンであり；
ｔは、０又は１であり；
Ｍは、Ｃ1−Ｃ12アルキレン、シクロヘキシレン、フェニレン、−ＣＯＯ−（Ｃ2−Ｃ12アルキレン）−ＯＯＣ−、−ＣＯＯ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n−ＯＣ−又は−ＣＯ−（Ｃ2−Ｃ12−アルキレン）−ＣＯ−であり；
Ｍ1は、直接結合又はＣ1−Ｃ12アルキレンオキシ（場合により、１〜５個の−Ｏ−、−Ｓ−及び／又は−ＮＲ10−により中断されている）であり；
Ｍ2は、直接結合又はＣ1−Ｃ12アルキレン−Ｓ−（場合により、１〜５個の−Ｏ−、−Ｓ−及び／又は−ＮＲ10−により中断されている）であり；
Ｍ3は、直接結合、ピペラジノ基又はＣ1−Ｃ12アルキレン−ＮＲ10−（場合により、１〜５個の−Ｏ−、−Ｓ−及び／又は−ＮＲ10−により中断されている）であり；
Ｍ4は、直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、−ＣＨ2−、−ＮＲ10−又は下記式：
【化５】
2002519732.tif 000005
の基であり；
Ａｒは、５−又は６−員の芳香族複素環（これは、非置換又は１個以上の、Ｃ1−Ｃ6アルキル、フェニル、ハロゲン、ＯＲ8、ＳＲ9、ＮＲ10Ｒ11、ＣＮ、Ｃ2−Ｃ6アルカノイル若しくはベンゾイルにより置換されている）であるが；ここで１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−ｏ−ベンゾイルオキシム及び１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−ｏ−エトキシカルボニルオキシムは除く）で示される化合物の少なくとも１種；
（Ｃ）光重合性の、反応性又は非反応性希釈剤；及び
（Ｄ）熱硬化成分として、分子中に少なくとも２個のエポキシ基を含むエポキシ化合物を含む、光感受性熱硬化液体組成物。
【請求項２】  式（Ｉ）及び（III）の化合物において、Ｒ1が、フェニル（これは、非置換又は１個以上の、Ｃ1−Ｃ6アルキル、フェニル、ハロゲン、ＯＲ8、ＳＲ9若しくはＮＲ10Ｒ11により置換されている）であるか、あるいはＲ1が、Ｃ6−Ｃ20アルキル又はＣ2−Ｃ20アルキル（場合により、１個以上の−Ｏ−により中断及び／又は場合により、１個以上のヒドロキシル基により置換されている）である、請求項１記載の組成物。
【請求項３】  オリゴマー又はポリマー（Ａ）が、少なくとも２個のエチレン性不飽和の重合性基を含む、請求項１記載の組成物。
【請求項４】  オリゴマー又はポリマー（Ａ）が、飽和又は不飽和の多塩基酸無水物と、エポキシ化合物と不飽和モノカルボン酸の反応生成物との反応により得ることができる樹脂であるか、又はカルボキシル基含有樹脂と、α、β−不飽和二重結合及びエポキシ基を有する不飽和化合物との付加生成物である、請求項１記載の組成物。
【請求項５】  成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）に加えて、少なくとも１種の光感受性化合物（Ｅ）を含む、請求項１記載の組成物。
【請求項６】  成分（Ａ）１００重量部、成分（Ｂ）０．０１５〜６０重量部、成分（Ｃ）５〜３００重量部及び成分（Ｄ）１０〜１５０重量部及び成分（Ｅ）０．０１５〜６０重量部を含む、請求項３記載の組成物。
【請求項７】  無機充填剤、着色剤、エポキシ硬化剤、熱重合阻害剤、増粘剤、消泡剤及び均一化剤よりなる群から選択される、更なる添加剤（Ｆ）、特に無機充填剤を含む、請求項１記載の組成物。
【請求項８】  請求項１記載の組成物を含む、はんだレジスト。
【請求項９】  エチレン性不飽和二重結合を含む化合物を光重合する方法であって、請求項１記載の組成物に、２００〜６００nmの範囲の光を照射することを特徴とする方法。
【請求項１０】  請求項１記載の組成物で少なくとも一つの表面を被覆した、被覆された基質。
【請求項１１】  レリーフ画像の写真製造の方法であって、請求項１０記載の被覆された基質を、画像様暴露に付し、次いで非暴露部分を溶媒で除去する方法。
【請求項１２】  はんだマスクを製造する方法であって、
（１）請求項１記載の組成物の成分を混合し；
（２）得られた組成物を基質に塗布し；
（３）溶媒を、もし存在するならば、蒸発させ；
（４）被覆された基質を、陰画マスクを通しての照射に暴露し；
（５）照射されたサンプルを、水性アルカリ溶液で洗浄することにより現像し；そして
（６）サンプルを、熱で硬化する方法。