【事件の表示】
　特願２００７−１９４５５９「有機発光ディスプレイ装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２０年　７月　３日出願公開、特開２００８−１５３１９１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１９年（２００７年）年７月２６日（パリ条約による優先権主張　２００６年１２月１３日　大韓民国）の出願（特願２００７−１９４５５９号）であって、平成２２年２月１６日付けで拒絶理由が通知され、同年５月２４日付けで手続補正がなされ、同年６月１４日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年１０月２１日に拒絶査定不服審判の請求がなされ、同日付けで手続補正がなされたものである。
　その後、平成２３年５月３０日付けで審尋がなされ、同年８月３０日付けで回答書が提出された。
　
第２　平成２２年１０月２１日付けの手続補正についての補正の却下の決定について
　
［補正の却下の決定の結論］
　平成２２年１０月２１日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１　本件補正について
　本件補正により、平成２２年５月２４日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１を引用する請求項４に係る発明が補正され、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明である、
「複数の薄膜トランジスタ素子を含む基板と、
　前記基板上に形成されたディスプレイ領域と、を備え、
　前記ディスプレイ領域は、
　前記薄膜トランジスタ素子と電気的に連結された第１電極を備え、画素領域を定義する基本層と、
　前記基本層が形成された領域の上部に、該基本層が形成された領域と同一か、または若干広い大きさに蒸着される有機膜層と、
　前記基本層と前記有機膜層とを完全に覆う構造で形成された第２電極層と、を備え、
　前記基本層は、複数の前記第１電極の間に介在され、所定厚さに形成された画素定義膜をさらに備え、
　前記画素定義膜は第１電極の間に間隔を形成するように設けられ、
　前記第２電極層は前記画素定義膜及び有機膜層の全ての外郭をカバーするように設けられる有機発光ディスプレイ装置。」とされた。
　
　なお、平成２２年５月２４日付けの手続補正により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１及び請求項４は、それぞれ、次のとおりである。
「【請求項１】
　複数の薄膜トランジスタ素子を含む基板と、
　前記基板上に形成されたディスプレイ領域と、を備え、
　前記ディスプレイ領域は、
　前記薄膜トランジスタ素子と電気的に連結された第１電極を備え、画素領域を定義する基本層と、
　前記基本層が形成された領域の上部に、該基本層が形成された領域と同一か、または若干広い大きさに蒸着される有機膜層と、
　前記基本層と前記有機膜層とを完全に覆う構造で形成された第２電極層と、を備える有機発光ディスプレイ装置。」
「【請求項４】
　前記基本層は、複数の前記第１電極の間に介在され、所定厚さに形成された画素定義膜をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の有機発光ディスプレイ装置。」
　
　そして、この補正は、本件補正前の請求項１を引用する請求項４に係る発明に対して、「記画素定義膜」について「第１電極の間に間隔を形成するように設けられ」る補正事項、及び、「第２電極層」について「画素定義膜及び有機膜層の全ての外郭をカバーするように設けられる」ことを特定する補正事項からなる。これらの補正事項は、特許請求の範囲のいわゆる限定的減縮を目的とするものであるから、本件補正は、特許法第１７条の２第５項第２号に掲げる事項を目的とするものを含む。
　
２　独立特許要件違反についての検討
　そこで、次に、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第６項において準用する特許法第１２６条第５項の規定に適合するか）について検討する。
　
（１）本願補正発明
　本願補正発明は、平成２２年１０月２１日付けの手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載されている事項により特定されるものである。（上記の「１　本件補正について」の記載参照。）
　
（２）引用例
ア　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００４−６１３７号公報（以下「引用例１」という。）には、以下の事項が記載されている。（後述の「イ　引用例１に記載された発明の認定」において発明の認定に直接関係する記載に下線を付した。）
　
「【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気光学装置およびその製造方法、ならびに電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
　従来、エレクトロルミネッセンス（以下、ＥＬと略記する）表示装置などの電気光学装置においては、基板上に複数の回路素子、陽極、ＥＬ物質などの電気光学物質、陰極などが積層され、それらを封止基板によって基板との間に挟んで封止した構成を具備しているものがある。具体的には、発光物質を含む発光層を陽極および陰極の電極層で挟んだ構成を具備しており、陽極側から注入された正孔と、陰極側から注入された電子とを蛍光能を有する発光層内で再結合し、励起状態から失括する際に発光する現象を利用している。
このような電気光学装置には、陰極を光透過性として、発光層から放射される光を、陰極を通して基板とは反対側に取り出すタイプの装置があった。このタイプの装置では、仕事関数が大きく陽極としての性能がよいＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などを用いているが、この材料は透明であるため、その基板側の下地層として銀（Ａｇ）あるいはアルミニウム（Ａｌ）などの反射性を有する金属層を設
けていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような従来の電気光学装置では、反射性の陽極を形成するために金属層を下地層として形成する必要があるので製造プロセスが複雑になっていた。その結果、製造効率が低下し、製造コストが高くつくという問題があった。
またこのような構成によれば、陽極の下方に光は透過させないが、良好な表示特性を備える反射性を陽極に付与するためには、陽極の平坦性が確保する必要があるので、陽極の下方のスペースが有効利用できないという問題があった。
【０００４】
本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであって、発光層から放射される光を基板と反対側の他方の電極側に反射する電気光学装置の表示性能を低コストで向上させることが可能となる電気光学装置およびその製造方法、ならびにそれを用いた電子機器を提供することを目的とする。」
　
「【００２５】
次に、本実施形態のＥＬ表示装置１の具体的な態様を図２〜４を参照して説明する。図２はＥＬ表示装置１の構成を模式的に示す平面図である。図３は図２のＡ−Ｂ線に沿う断面図、図４は図２のＣ−Ｄ線に沿う断面図である。
【００２６】
図２に示す本実施形態の
ＥＬ表示装置１は、電気絶縁性を備える基板２０と、図示略のスイッチング用ＴＦＴに接続された画素電極が基板２０上にマトリックス状に配置されてなる図示略の画素電極域と、画素電極域の周囲に配置されるとともに各画素電極に接続される電源線１０３…と、少なくとも画素電極域上に位置する平面視ほぼ矩形の画素部３（図中一点鎖線枠内）とを具備して構成されている。また画素部３は、中央部分の実表示領域４（図中二点鎖線枠内）と、実表示領域４の周囲に配置されたダミー領域５（一点鎖線および二点鎖線の間の領域）とに区画されている。
【００２７】
実表示領域４には、それぞれ画素電極を有し、赤、緑、青の三原色に対応する表示領域Ｒ、Ｇ、Ｂがマトリクス状に配置されている。Ａ−Ｂ方向には、表示領域Ｒ、Ｇ、Ｂが離間して反復配列され、Ｃ−Ｄ方向には、それぞれの同一色に対応する表示領域が離間して配列されている。
また、実表示領域４の図中両側には、走査線駆動回路８０、８０が配置されている。この走査線駆動回路８０、８０はダミー領域５の下側に位置して設けられている。
【００２８】
さらに実表示領域４の図中上側には、検査回路９０が配置されている。この検査回路９０はダミー領域５の下側に位置して設けられている。この検査回路９０は、ＥＬ表示装置１の作動状況を検査するための回路であって、例えば検査結果を外部に出力する不図示の検査情報出力手段を備え、製造途中や出荷時の表示装置の品質、欠陥の検査を行うことができるように構成されている。
【００２９】
走査線駆動回路８０および検査回路９０の駆動電圧は、所定の電源部から駆動電圧導通部３１０（図３参照）および駆動電圧導通部３４０（図４参照）を介して印加されている。また、これら走査線駆動回路８０および検査回路９０への駆動制御信号および駆動電圧は、このＥＬ表示装置１の作動制御を司る所定のメインドライバなどから駆動制御信号導通部３２０（図３参照）および駆動電圧導通部３５０（図４参照）を介して送信および印加されるようになっている。なお、この場合の駆動制御信号とは、走査線駆動回路８０および検査回路９０が信号を出力する際の制御に関連するメインドライバなどからの指令信号である。
【００３０】
ＥＬ表示装置１は、図３および図４に示すように、基板２０と封止基板３０とが封止樹脂４０を介して貼り合わされている。基板２０、封止基板３０および封止樹脂４０とで囲まれた領域には、光透過性を有する乾燥剤４５が挿入されるとともに、例えば窒素ガスなどの不活性ガスが充填された不活性ガス充填層４６が形成されている。
【００３１】
基板２０は、その上にシリコン層などを設けて電子回路を形成することができる絶縁性の板状部材であればどのようなものでもよく、光透過性を有する必要はない。
封止基板３０は、例えばガラス、石英、プラスチックなどの光透過性と電気絶縁性を有する板状部材を採用することができる。
また封止樹脂４０は、例えば熱硬化樹脂あるいは紫外線硬化樹脂からなるものであり、特に熱硬化樹脂の一種であるエポキシ樹脂よりなることが好ましい。
【００３２】
また、
基板２０上には、陽極２３…を駆動するための駆動用ＴＦＴ１２３…などを含む積層構造を有する回路部１１（回路層）が形成され、回路部１１の上部には駆動用ＴＦＴ１２３…に接続されたそれぞれの陽極２３…が図２の表示領域Ｒ、Ｇ、Ｂの位置に対応して形成されている。実表示領域４内の各陽極２３の上層には機能層１１０が形成され、その上層には、電子注入を容易化するバッファ層２２２と、電子注入を行う陰極５０が形成されている。それぞれの陽極２３の間には、図２のＡ−Ｂ方向およびＣ−Ｄ方向に無機物バンク層２２１ａおよび有機物バンク層２２１ｂがそれぞれ基板２０側から積層されたバンク２２１が設けられ、機能層１１０を区画して、機能層１１０から放射される光を規制する長円形状の画素表示部２６を形成している。
なおダミー領域５では、各ダミー陽極２３ａ上を無機物バンク層２２１ａが覆うように形成され、その上層に機能層１１０が設けられている。ダミー電極２３ａは、回路部１１内の配線と接続されていない点を除いて陽極２３と同様の構成とされている。
【００３３】
ダミー領域５を実表示領域４の周囲に配置することにより、実表示領域４の機能層１１０の厚さを均一にすることができ、表示ムラを抑制することができる。即ち、ダミー領域５を配置することで、表示素子を、例えばインクジェット法によって形成する場合における吐出した組成物の乾燥条件を実表示領域４内で一定にすることができ、実表示領域４の周縁部で機能層１１０の厚さに偏りが生じるおそれがない。
【００３４】
また回路部１１には、走査線駆動回路８０、検査回路９０およびそれらを接続して駆動するための駆動電圧動通部３１０、３４０、３５０、駆動制御信号導通部３２０などが含まれている。
【００３５】
陽極２３は、印加された電圧によって、正孔を機能層１１０に注入する機能を備える。陽極２３には、仕事関数が高く良好な正孔注入性能を有するＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などが採用できる。
【００３６】
機能層１１０は、
正孔注入／輸送層７０（図５（ｂ）参照）および有機ＥＬ層６０（発光層、図５（ｂ）参照）を備えたものを採用できる。
【００３７】
正孔注入層を形成するための材料としては、例えばポリチオフェン誘導体、ポリピロール誘導体など、または、それらのドーピング体などが採用できる。
正孔輸送層を形成するための材料は
有機材料が種々知られている。
【００３８】
有機ＥＬ層６０を形成するための材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料を用いることができる。具体的には、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などが好適に用いられる。
また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料、あるいは、ルブレン、ペリレン、９，１０-ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドンなどの材料をドープして用いることができる。
【００３９】
次に、バンク２２１を形成する無機物バンク層２２１ａおよび有機物バンク層２２１ｂは、いずれも陽極２３の周縁部上に乗上げて形成されている。無機物バンク層２２１ａは、有機物バンク層２２１ｂに比べて陽極２３よりも中央側寄りに延ばされて形成されている。なお、バンク２２１は光を透過させない材料で構成されていてもよいし、無機物バンク層２２１ａと有機物バンク層２２１ｂとの間に遮光層を配置して光を規制するようにしてもよい。
無機物バンク層２２１ａは、例えば、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＳｉＮなどの無機材料を採用することができる。無機物バンク層２２１ａの膜厚は、５０〜２００ｎｍの範囲が好ましく、特に１５０ｎｍがよい。膜厚が５０ｎｍ未満では、無機物バンク層２２１ａが正孔注入／輸送層７０より薄くなり、正孔注入／輸送層７０の平坦性を確保できなくなるので好ましくない。また膜厚が２００ｎｍを越えると、無機物バンク層２２１ａによる段差が大きくなって、有機ＥＬ層６０の平坦性を確保できなくなるので好ましくない。
【００４０】
有機物バンク層２２１ｂは、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂などの通常のレジストから形成されている。この有機物バンク層２２１ｂの厚さは、０．１〜３．５μｍの範囲が好ましく、特に２μｍ程度がよい。厚さが０．１μｍ未満では、機能層１１０の厚さより有機物バンク層２２１ｂが薄くなるので好ましくない。また、厚さが３．５μｍを越えると、バンク２２１による段差が大きくなり、有機物バンク層２２１ｂ上に形成する陰極５０のステップガバレッジを確保できなくなるので好ましくない。また、有機物バンク層２２１ｂの厚さを２μｍ以上にすれば、陰極５０と陽極２３との絶縁を高めることができる点でより好ましい。
このようにして、機能層１１０は、バンク２２１より薄く形成されている。
【００４１】
また、バンク２２１の周辺には、親液性を示す領域と、撥液性を示す領域が形成されている。
親液性を示す領域は、無機物バンク層２２１ａおよび陽極２３であり、これらの領域には、酸素を反応ガスとするプラズマ処理によって水酸基などの親液基が導入されている。また、撥液性を示す領域は、有機物バンク層２２１ｂであり、４フッ化メタンを反応ガスとするプラズマ処理によってフッ素などの撥液基が導入されている。
なお、本実施形態における親液性制御層の「親液性」とは、少なくとも有機物バンク層２２１を構成するアクリル、ポリイミドなどの材料と比べて親液性が高いことを意味するものとする。
【００４２】
陰極５０は、図３または４に示すように、実表示領域４およびダミー領域５の総面積より広い面積を備え、それぞれを覆うように形成されている。陰極５０は、陽極２３の対向電極として、電子を機能層１１０に注入する機能を備える。また本実施形態では、機能層１１０から発光する光を陰極５０側から取り出すので、光透過性を備える必要がある。そのために光透過性であって、仕事関数が低い材料から構成される。
そのような材料として、例えばフッ化リチウムとカルシウムの積層体を機能層１１０側に設けて第１の陰極層とし、その上層に例えば、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ/Ａｇなどの積層体からなる第２の陰極層とした積層体を採用することができる。その際、光透過性は、それぞれの層厚を、光透過性を有するまでに薄くすることによって得ることができる。陰極５０のうち、第２の陰極層のみが画素部３の外側まで延出されている。
【００４３】
なお第２の陰極層は第１の陰極層を覆って、酸素や水分などとの化学反応から保護するとともに、陰極５０の導電性を高めるために設けられる。したがって、化学的に安定で仕事関数が低く、かつ光透過性が得られるならば、単層構造でもよく、また金属材料に限るものではない。さらに第２の陰極層上に、例えばＳｉＯ２、ＳｉＮなどからなる酸化防止用の保護層を設けてもよい。」
　
「【図３】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
イ　引用例１に記載された発明の認定
　上記の【００３６】、【００３７】には、機能層１１０における正孔注入／輸送層７０は、いずれも、有機の材料を用いることができることが記載されている。また、【図３】から、バッファ層２２２は、陽極２３及びバンク２２１からなる領域の上部に形成され、陽極２３及びバンク２２１からなる領域とほぼ同じ大きさに形成されていること、及び、陰極５０は、陽極２３及びバンク２２１からなる領域、機能層１１０、バッファ層２２２の全てを完全に覆っていること、が見て取れる。
　よって、上記記載（図面の記載も含む）を総合すれば、引用例１には、
「電気絶縁性を備える基板２０と、スイッチング用ＴＦＴに接続された画素電極が基板２０上にマトリックス状に配置されてなる画素電極域と、少なくとも画素電極域上に位置する平面視ほぼ矩形の画素部３とを具備して構成されるＥＬ表示装置１であって、
　画素部３は、中央部分の実表示領域４と、実表示領域４の周囲に配置されたダミー領域５とに区画され、
　基板２０上には、陽極２３を駆動するための駆動用ＴＦＴ１２３などを含む積層構造を有する回路部１１が形成され、回路部１１の上部には駆動用ＴＦＴ１２３に接続されたそれぞれの陽極２３が表示領域Ｒ、Ｇ、Ｂの位置に対応して形成され、
　実表示領域４内の各陽極２３の上層には機能層１１０が形成され、その上層には、電子注入を容易化するバッファ層２２２と、電子注入を行う陰極５０が形成され、それぞれの陽極２３の間には、バンク２２１が設けられ、機能層１１０を区画して、機能層１１０から放射される光を規制する長円形状の画素表示部２６を形成し、
　機能層１１０は、有機の正孔注入／輸送層７０および有機ＥＬ層６０を備えたものであり、
　バッファ層２２２は、陽極２３及びバンク２２１からなる領域の上部に形成され、陽極２３及びバンク２２１からなる領域とほぼ同じ大きさに形成され
　陰極５０は、陽極２３及びバンク２２１からなる領域、機能層１１０、バッファ層２２２の全てを完全に覆っているＥＬ表示装置１。」
の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。
　
（３）本願補正発明と引用発明の対比
ア　対比
　本願補正発明と引用発明を対比する。
　
（ア）引用発明の「基板２０」であって、その上に「スイッチング用ＴＦＴ」や「駆動用ＴＦＴ１２３などを含む積層構造を有する回路部１１」が形成された「基板２０」が、本願補正発明の「複数の薄膜トランジスタ素子を含む基板」に相当する。
　
（イ）引用発明の「基板２０」上の「中央部分の実表示領域４と、実表示領域４の周囲に配置されたダミー領域５とに区画され」た「画素部３」が、本願補正発明の「前記基板上に形成されたディスプレイ領域」に相当する。
　
（ウ）引用発明の「駆動用ＴＦＴ１２３に接続されたそれぞれの陽極２３」が、本願補正発明の「前記薄膜トランジスタ素子と電気的に連結された第１電極」に相当する。そして、引用発明の上記「駆動用ＴＦＴ１２３に接続されたそれぞれの陽極２３」及び上記「陽極２３の間」に形成され「機能層１１０を区画」する「バンク２２１」からなる層が、本願補正発明の「前記薄膜トランジスタ素子と電気的に連結された第１電極を備え、画素領域を定義する基本層」に相当する。
　
（エ）引用発明の「機能層１１０」上に形成された「電子注入を容易化するバッファ層２２２」は、電子注入／輸送の機能を有する層であるといえるから、引用発明の「有機の正孔注入／輸送層７０および有機ＥＬ層６０を備えた」「機能層１１０」と、その上の上記「電子注入を容易化するバッファ層２２２」を合わせた部分（層）は、正孔注入／輸送・発光・電子注入／輸送の機能を有する機能層であるといえる。
　一方、本願補正発明の「有機膜層」は、本願明細書の発明の詳細な説明の【００４４】〜【００４６】の
「【００４４】
　前述した基本層２１０の上部には、少なくとも有機発光層２２３を備える有機膜層２２０が形成されている。この有機発光層２２３は、低分子または高分子有機物で備えられる。高分子有機物で形成される場合には、大慨、正孔輸送層（ＨＴＬ：Ｈｏｌｅ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ）及び発光層（ＥＭＬ：Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）が備えられた構造を有し、このとき、前記ＨＴＬにＰＥＤＯＴを使用し、ＥＭＬにＰＰＶ（Ｐｏｌｙ−Ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ Ｖｉｎｙｌｅｎｅ）系及びポリフルオレン系など高分子有機物質を使用する。
【００４５】
　低分子有機物で形成される場合、図３に示したように、ホール注入層（ＨＩＬ：Ｈｏｌｅ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）２２１、ホール輸送層（ＨＴＬ：Ｈｏｌｅ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ）２２２、発光層（ＥＭＬ：Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）２２３、電子輸送層（ＥＴＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ）２２４、電子注入層（ＥＩＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）２２５が単一あるいは複合の構造で積層されて形成されうる。このとき、使用可能な有機材料として銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、Ｎ,Ｎ−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ,Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＢ）、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３）などをはじめとして多様な物質が使われうる。
【００４６】
　これらの有機膜層２２０は、常に何れも備えられねばならないものではなく、これらの有機膜層２２０のうち、必要に応じて選択的に備えられる。また、図３には示されていないが、正孔阻止層（ＨＢＬ：Ｈｏｌｅ Ｂｌｏｃｋｉｎｇ Ｌａｙｅｒ）が発光層２２３と電子輸送層２２４との間にさらに介在されることもあるなど、必要に応じて多様な有機膜がさらに備えられることもある。また、第１電極２１１がカソード電極の役割を行い、第２電極２３０がアノード電極の役割を行う場合には、前述した有機膜層２２０の配列順序が変わることもある。」
の記載から、ホール注入層／ホール輸送層、及び、電子輸送層／電子注入層のいずれか１層又は複数の層を含みうる、発光層を備えた層であるといえる。
　したがって、引用発明の「有機の正孔注入／輸送層７０および有機ＥＬ層６０を備えた」「機能層１１０」と、その上の上記「電子注入を容易化するバッファ層２２２」を合わせた部分（層）と、本願補正発明の「有機膜層２２０」は、「正孔注入／正孔輸送、及び、電子注入／電子輸送の機能の層を含みうる、発光層を備えた層」（以下「発光層を備えた機能層」という。）である点で一致しているといえる。
　よって、引用発明の「有機の正孔注入／輸送層７０および有機ＥＬ層６０を備えた」「機能層１１０」と「陽極２３及びバンク２２１からなる領域の上部に形成され、陽極２３及びバンク２２１からなる領域とほぼ同じ大きさに形成され」る「電子注入を容易化するバッファ層２２２」からなる層と、本願補正発明の「前記基本層が形成された領域の上部に、該基本層が形成された領域と同一か、または若干広い大きさに蒸着される有機膜層」とは、「前記基本層が形成された領域の上部に、該基本層が形成された領域と同程度の大きさに形成される『発光層を備えた機能層』」である点で一致する。
　
（オ）引用発明の「陽極２３及びバンク２２１からなる領域、機能層１１０、バッファ層２２２の全てを完全に覆っている」「陰極５０」が、本願補正発明の「前記基本層と前記有機膜層とを完全に覆う構造で形成された第２電極層」に相当する。
　
（カ）引用発明の「バンク２２１」が、本願補正発明の「画素定義膜」に相当するから、引用発明の「陽極２３の間には、バンク２２１が設けられ、機能層１１０を区画して、機能層１１０から放射される光を規制する長円形状の画素表示部２６を形成」することが、本願補正発明の「前記基本層は、複数の前記第１電極の間に介在され、所定厚さに形成された画素定義膜をさらに備え」ること、及び、「前記画素定義膜は第１電極の間に間隔を形成するように設けられ」ることに相当する。
　
（キ）引用発明の「陰極５０は、陽極２３及びバンク２２１からなる領域、機能層１１０、バッファ層２２２の全てを完全に覆っている」ことが、本願補正発明の「前記第２電極層は前記画素定義膜及び有機膜層の全ての外郭をカバーするように設けられる」ことに相当する。
　
（ク）引用発明の「ＥＬ表示装置１」が、本願補正発明の「有機発光ディスプレイ装置」に相当する。
　
イ　一致点
　よって、本願補正発明と引用発明は、
「複数の薄膜トランジスタ素子を含む基板と、
　前記基板上に形成されたディスプレイ領域と、を備え、
　前記ディスプレイ領域は、
　前記薄膜トランジスタ素子と電気的に連結された第１電極を備え、画素領域を定義する基本層と、
　前記基本層が形成された領域の上部に、該基本層が形成された領域と同程度の大きさに形成される発光層を備えた機能層と、
　前記基本層と前記有機膜層とを完全に覆う構造で形成された第２電極層と、を備え、
　前記基本層は、複数の前記第１電極の間に介在され、所定厚さに形成された画素定義膜をさらに備え、
　前記画素定義膜は第１電極の間に間隔を形成するように設けられ、
　前記第２電極層は前記画素定義膜及び有機膜層の全ての外郭をカバーするように設けられる有機発光ディスプレイ装置。」の発明である点で一致し、次の各点で相違する。
　
ウ　相違点
（ア）相違点１
　発光層を備えた機能層に関して、本願補正発明においては、発光層を備えた機能層が「有機膜層」であるのに対して、引用発明においては、発光層を備えた機能層を形成している機能層１１０とバッファ層２２２における機能層１１０（発光層と正孔注入層／輸送層）は有機層であるといえるものの、バッファ層２２２（電子注入／輸送層）については有機層であるか否かは明確でない点。
　
（イ）相違点２
　発光層を備えた機能層の形成に関して、本願補正発明においては「基本層が形成された領域と同一か、または若干広い大きさに蒸着」されて形成されるのに対して、引用発明の発光層を備えた機能層を形成している機能層１１０とバッファ層２２２については、陽極２３及びバンク２２１からなる領域（本願補正発明の「基本層」に相当）とほぼ同じ大きさに形成されるものの「同一か、または若干広い大きさ」という限定はなく、また、形成方法についての特定がない点。
　
（４）当審の判断
ア　上記各相違点について検討する。
（ア）相違点１について
　発光層を備えた機能層において、「電子注入／輸送層」を有機材料で形成することは、例えば、特開平８−２４５９５４号公報（【０００６】）、特開２０００−１０６２７５号公報（【００３７】）、特開２００４−１７１９５１号公報(【００４６】【００４７】)にも記載されているように周知の技術である。
　引用発明において、電子注入／輸送層としての機能を有するバッファ層の材料としてどのような材料を選択するかは当業者が適宜設定し得るところ、上記の周知技術を適用してバッファ層についても有機層とすることは当業者が容易に想到し得たことである。
　
（イ）相違点２について
　まず、基本層の広さの違いについては、「同一か、または若干広い大きさ」とするか「ほぼ同じ大きさ」とするかによって、作用効果に違いが生じるものではなく（仮に、これによって何らかの作用効果が生じたとしても、それは、明細書に記載された作用効果ではない。）この点の相違に技術上の観点における実質的な意義は認められないから、広さの違いに関しては実質的な相違点とはいえない。
　次に、形成方法上の違いについては、発光層を備えた機能層の形成として、「蒸着」は周知の技術であり、引用発明においても、上記周知技術を採用して、「蒸着」により形成するとすることは当業者が容易に想到し得たことである。
　
イ　本願補正発明の奏する作用効果
　そして、本願補正発明によってもたらされる効果は、引用発明及び周知技術から当業者が予測し得る程度のものである。
　
ウ　まとめ
　以上のとおり、本願補正発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
３　むすび
　したがって、本願補正発明は特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるということができないから、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
 第３　本願発明について
１　本願発明
　平成２２年１０月２１日付けの手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項４に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２２年５月２４日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１及び請求項４に記載された事項により特定されるとおりのものである。（上記「第２　平成２２年１０月２１日付けの手続補正についての補正の却下の決定について」の「１　本件補正について」の記載参照。）
　
２　引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例の記載事項及び引用発明については、上記「第２　平成２２年１０月２１日付けの手続補正についての補正の却下の決定について」の「２　独立特許要件違反についての検討」の「（２）引用例」に記載したとおりである。
　
３　本願発明と引用発明の対比
（１）対比
　本願発明と引用発明を対比する。
　
ア　引用発明の「基板２０」であって、その上に「スイッチング用ＴＦＴ」や「駆動用ＴＦＴ１２３などを含む積層構造を有する回路部１１」が形成された「基板２０」が、本願発明の「複数の薄膜トランジスタ素子を含む基板」に相当する。
　
イ　引用発明の「基板２０」上の「中央部分の実表示領域４と、実表示領域４の周囲に配置されたダミー領域５とに区画され」た「画素部３」が、本願発明の「前記基板上に形成されたディスプレイ領域」に相当する。
　
ウ　引用発明の「駆動用ＴＦＴ１２３に接続されたそれぞれの陽極２３」が、本願発明の「前記薄膜トランジスタ素子と電気的に連結された第１電極」に相当し、そして、引用発明の「それぞれの陽極２３の間」に設けられる「バンク２２１」が、本願発明の「複数の前記第１電極の間に介在され、所定厚さに形成された画素定義膜」に相当する。よって、引用発明の上記「駆動用ＴＦＴ１２３に接続されたそれぞれの陽極２３」及び上記「陽極２３の間」に形成され「機能層１１０を区画」する「バンク２２１」からなる層が、本願発明の「前記薄膜トランジスタ素子と電気的に連結された第１電極を備え、画素領域を定義する基本層」であって、「複数の前記第１電極の間に介在され、所定厚さに形成された画素定義膜をさらに備える」「基本層」に相当する。
　
エ　引用発明の「実表示領域４内の各陽極２３の上層」に形成された「有機の正孔注入／輸送層７０および有機ＥＬ層６０を備えた」「機能層１１０」と、本願発明の「前記基本層が形成された領域の上部に、該基本層が形成された領域と同一か、または若干広い大きさに蒸着される有機膜層」とは、「前記基本層が形成された領域の上部に、形成される有機膜層」である点で一致する。
　
オ　引用発明の「陽極２３及びバンク２２１からなる領域、機能層１１０、バッファ層２２２の全てを完全に覆っている」「陰極５０」が、本願発明の「前記基本層と前記有機膜層とを完全に覆う構造で形成された第２電極層」に相当する。
　
カ　引用発明の「ＥＬ表示装置１」が、本願発明の「有機発光ディスプレイ装置」に相当する。
　
（２）一致点
　したがって、本願発明と引用発明とは、
「複数の薄膜トランジスタ素子を含む基板と、
　前記基板上に形成されたディスプレイ領域と、を備え、
　前記ディスプレイ領域は、
　前記薄膜トランジスタ素子と電気的に連結された第１電極を備え、画素領域を定義する基本層と、
　前記基本層が形成された領域の上部に、形成される有機膜層と、
　前記基本層と前記有機膜層とを完全に覆う構造で形成された第２電極層と、を備え、
　前記基本層は、複数の前記第１電極の間に介在され、所定厚さに形成された画素定義膜をさらに備える有機発光ディスプレイ装置。」の発明である点で一致し、次の各点で相違する。
　
（３）相違点
ア　相違点１
　有機膜層に関して、本願発明においては、「基本層が形成された領域と同一か、または若干広い大きさ」であるのに対して、引用発明の有機膜層である機能層１１０は、陽極２３（第１電極）の上層に形成され、「基本層が形成された領域と同一か、または若干広い大きさ」とはなっていない点。
　
イ　相違点２
　有機膜層の形成に関して、本願発明においては「蒸着」によって形成されるのに対して、引用発明の有機膜層である機能層１１０については、その点の特定がない点。
　
４　当審の判断
（１）上記各相違点について検討する。
ア　相違点１について
　有機ＥＬ表示装置において、発光層を備えた有機膜層を第１電極上の部分にのみ形成することも、第１電極及び画素定義膜を含めた領域全体に渡って形成することも周知である。この点、発光層を備えた有機膜層を「第１電極及び画素定義膜を含めた領域全体（基本層）」に渡って形成することについては、例えば、特開２００２−１５１２５３号公報（【００４１】〜【００４４】及び【図１４】）の記載を参照のこと。
　引用発明において、発光層を備えた有機膜層をどのように形成するかは当業者が必要に応じて適宜選択し得ることであるから、上記周知技術を参酌して、「第１電極及び画素定義膜を含めた領域全体（基本層）」に渡って形成することを採用することに格別の困難性はない。そして、その領域の大きさを「基本層が形成された領域と同一か、または若干広い大きさ」とすることは単なる設計的事項に過ぎにない。
　
　なお、この点、請求人は、平成２３年８月３０日付けで提出された回答書において、
「審査官殿は、本願発明の構成Ａ（当審注；上記相違点１に関する構成）について、引用例（特開２００２−１５１２５３号公報）の図１４を参照して“発光層１４１４（本願発明の有機膜層に相当）は、画素部１４０３によって規定された領域の上部に、当該領域と同一か、または若干広い大きさに形成されていることが読み取れる”とは述べていますが、実際には、引用例の図１４に示される発光層１４１４は画素定義膜１４１８の右端部を露出させるように位置し、該画素定義膜１４１８を完全に覆う構成とはなっていない、すなわち、この引用例には、本願発明の構成Ａに相当する構成は示されていません。」
と主張する。
　しかしながら、本願発明の元来の主旨は、第２電極が有機膜層を覆って、有機膜層が露出しないようにすることによって水分及び酸素の侵入を防止することにあるのであり（本願明細書の【００２９】、【００３０】【００４９】〜【００５４】、【００５６】等参照）、上記相違点１のように、有機膜層が「基本層が形成された領域と同一か、または若干広い大きさ」となる、すなわち、基本層を覆うことに何らの作用効果も生じない。（仮に、これによって何らかの作用効果が生じたとしても、それは、明細書に記載された作用効果ではない。）この点を踏まえれば、有機膜層の領域の大きさを「基本層が形成された領域と同一か、または若干広い大きさ」とすることが単なる設計的事項であることに誤りはなく、したがって、請求人の上記主張は採用することができない。
　
イ　相違点２について
　有機膜層の形成として、「蒸着」は周知の技術であり、引用発明においても、上記周知技術を採用して、上記相違点２に係る本願発明の発明特定事項を得ることは当業者が容易に想到し得たことである。
　
（２）本願発明の奏する作用効果
　そして、本願発明によってもたらされる効果は、引用発明及び周知技術から当業者が予測し得る程度のものである。
　
ウ　まとめ
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願の請求項４に係る発明は、引用発明及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。