【手続補正書】
【提出日】平成17年7月5日(2005.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオンビーム加速器入口と第１加速モジュール入口との間のビーム経路に沿ってイオンを集めるためのイオン集群器であって、
前記ビーム経路に沿って配置され、集群器のエネルギー源と関連して作動しかつ前記ビーム経路の一部分に沿って調整電界を作り出し、前記ビーム経路に沿って加速モジュールに集群されたイオンを供給するための集群電極と、
第１、第２接地電極とを含み、
第１接地電極は、前記ビーム経路に沿って前記集群電極から前記イオンビーム加速器入口に向かって、その間に第１ギャップを形成するように間隔を置き、かつ第２接地電極は、前記ビーム経路に沿って前記集群電極から前記加速モジュールに向かって、その間に第２ギャップを形成するように間隔を置き、前記第１、第２ギャップは、異なる長さを有する
ことを特徴とするイオン集群器。
【請求項２】
第２ギャップは、第１ギャップよりも大きいことを特徴とする請求項１記載のイオン集群器。
【請求項３】
イオンビーム加速器入口と第１加速モジュール入口との間のビーム経路に沿ってイオンを集めるためのイオン集群器であって、
前記ビーム経路に沿って配置され、集群器のエネルギー源と関連して作動しかつ前記ビーム経路の一部分に沿って調整電界を作り出し、前記ビーム経路に沿って加速モジュールに集群されたイオンを供給するための集群電極と、
第１、第２接地電極とを含み、
第１接地電極は、前記ビーム経路に沿って前記集群電極から前記イオンビーム加速器入口に向かって、その間に第１ギャップを形成するように間隔を置き、かつ第２接地電極は、前記ビーム経路に沿って前記集群電極から前記加速モジュールに向かって、その間に第２ギャップを形成するように間隔を置き、前記第１、第２ギャップは、異なる長さを有し、
前記第１、第２ギャップの一方は、十分小さい距離からなり、その小さいギャップ間をイオンが移動する時間の間、このギャップ内の調整電界がほぼ均一となるように、前記第１、第２ギャップが選択されていることを特徴とするイオン集群器。
【請求項４】
第１、第２ギャップの他方は、一方のギャップよりも大きな距離を有し、その大きいギャップ間をイオンが移動する時間の間、このギャップ内の調整電界が非均一であることを特徴とする請求項３記載のイオン集群器。
【請求項５】
集群器のエネルギー源が、前記ビーム経路の一部分における調整電界に関連した周波数及び電界の強さの少なくとも１つを変化させるために独立して調整可能であることを特徴とする請求項２記載のイオン集群器。
【請求項６】
イオンビーム加速器入口と第１加速モジュール入口との間のビーム経路に沿ってイオンを集めるためのイオン集群器であって、
前記ビーム経路に沿って配置され、集群器のエネルギー源と関連して作動しかつ前記ビーム経路の一部分に沿って調整電界を作り出し、前記ビーム経路に沿って加速モジュールに集群されたイオンを供給するための集群電極と、
第１、第２接地電極とを含み、
第１接地電極は、前記ビーム経路に沿って前記集群電極から前記イオンビーム加速器入口に向かって、その間に第１ギャップを形成するように間隔を置き、かつ第２接地電極は、前記ビーム経路に沿って前記集群電極から前記加速モジュールに向かって、その間に第２ギャップを形成するように間隔を置き、前記第１、第２ギャップは、異なる長さを有し、
前記第１、第２ギャップの一方が、調整可能であることを特徴とするイオン集群器。
【請求項７】
集群器のエネルギー源が、前記ビーム経路の一部分における調整電界に関連した周波数及び電界の強さの少なくとも１つを変化させるために独立して調整可能であることを特徴とする請求項１記載のイオン集群器。
【請求項８】
ビーム経路に沿って入口端部から出口端部に移動するイオンを加速するためのリニア加速器システムであって、
加速器のエネルギー源に関連して作動しかつ加速する交流電界を形成してイオンを第２エネルギーに加速するための少なくとも１つの励起可能な電極を有する、少なくとも１つの加速モジュールと、
前記入口端部と少なくとも１つの加速モジュールとの間で、ビーム経路に沿ってイオンを集めるためのイオン集群器とを備え、
このイオン集群器は、
ビーム経路に沿って配置され、集群器のエネルギー源と関連して作動しかつビーム経路の一部分に沿って調整電界を作り出し、前記ビーム経路に沿って集群したイオンを少なくとも１つの加速モジュールに供給する集群電極と、
第１、第２接地電極とを含み、
第１接地電極は、前記ビーム経路に沿って前記集群電極から前記入口端部に向かって、その間に第１ギャップを形成するように間隔を置き、かつ第２接地電極は、前記ビーム経路に沿って前記集群電極から少なくとも１つの前記加速モジュールに向かって、その間に第２ギャップを形成するように間隔を置き、前記第１、第２ギャップは、異なる長さを有することを特徴とするリニア加速器システム。
【請求項９】
ビーム経路に沿って入口端部から出口端部に移動するイオンを加速するためのリニア加速器システムであって、
加速器のエネルギー源に関連して作動しかつ加速する交流電界を形成してイオンを第２エネルギーに加速するための少なくとも１つの励起可能な電極を有する、少なくとも１つの加速モジュールと、
前記入口端部と少なくとも１つの加速モジュールとの間で、ビーム経路に沿ってイオンを集めるためのイオン集群器とを備え、
このイオン集群器は、
ビーム経路に沿って配置され、集群器のエネルギー源と関連して作動しかつビーム経路の一部分に沿って調整電界を作り出し、前記ビーム経路に沿って集群したイオンを少なくとも１つの加速モジュールに供給する集群電極と、
第１、第２接地電極とを含み、
第１接地電極は、前記ビーム経路に沿って前記集群電極から前記入口端部に向かって、その間に第１ギャップを形成するように間隔を置き、かつ第２接地電極は、前記ビーム経路に沿って前記集群電極から少なくとも１つの前記加速モジュールに向かって、その間に第２ギャップを形成するように間隔を置き、前記第１、第２ギャップは、異なる長さを有し、
前記第１、第２ギャップの一方は、十分小さい距離からなり、その小さいギャップ間をイオンが移動する時間の間、このギャップ内の調整電界がほぼ均一となるように、前記第１、第２ギャップが選択されていることを特徴とするリニア加速器システム。
【請求項１０】
第１、第２ギャップの他方は、一方のギャップよりも大きな距離を有し、その大きいギャップ間をイオンが移動する時間の間、このギャップ内の調整電界が非均一であることを特徴とする請求項９記載のリニア加速器システム。
【請求項１１】
初期エネルギーを有する荷電されたイオンをビーム経路に沿って導くためのイオン源と、リニア加速器とを含む、イオン注入機であって、
前記リニア加速器が、
加速器のエネルギー源と関連して作動しかつ加速する交流電界を形成して前記イオンを第２エネルギーに加速するための少なくとも１つの加速電極を有する少なくとも１つの加速モジュールと、
前記リニア加速器の入口と少なくとも１つの前記加速モジュールとの間に配置されるイオン集群器と、さらに、
前記ビーム経路に沿って配置され、集群器のエネルギー源と関連して作動しかつ前記ビーム経路の一部分に沿って調整電界を作り出し、前記ビーム経路に沿って集群されたイオンを少なくとも１つの前記加速モジュールに供給するための集群電極と、
第１、第２接地電極と、
前記第２エネルギーに加速された荷電イオンが加工物に衝突するように前記加工物を配置するためのエンドステーションと、
前記エネルギー源に結合され、前記リニア加速器内の電界の相対的な振幅および位相を制御するコントローラとを含み、
前記第１接地電極は、前記ビーム経路に沿って前記集群電極から前記入口端部に向かって、その間に第１ギャップを形成するように間隔を置き、かつ第２接地電極は、前記ビーム経路に沿って前記集群電極から少なくとも１つの前記加速モジュールに向かって、その間に第２ギャップを形成するように間隔を置き、前記第１、第２ギャップは、異なる長さを有することを特徴とするイオン注入機。
【請求項１２】
第２ギャップは、第１ギャップよりも大きいことを特徴とする請求項１１記載のリニア加速器システム。
【請求項１３】
初期エネルギーを有する荷電されたイオンをビーム経路に沿って導くためのイオン源と、リニア加速器とを含む、イオン注入機であって、
前記リニア加速器が、
加速器のエネルギー源と関連して作動しかつ加速する交流電界を形成して前記イオンを第２エネルギーに加速するための少なくとも１つの加速電極を有する少なくとも１つの加速モジュールと、
前記リニア加速器の入口と少なくとも１つの前記加速モジュールとの間に配置されるイオン集群器と、さらに、
前記ビーム経路に沿って配置され、集群器のエネルギー源と関連して作動しかつ前記ビーム経路の一部分に沿って調整電界を作り出し、前記ビーム経路に沿って集群されたイオンを少なくとも１つの前記加速モジュールに供給するための集群電極と、
第１、第２接地電極と、
前記第２エネルギーに加速された荷電イオンが加工物に衝突するように前記加工物を配置するためのエンドステーションと、
前記エネルギー源に結合され、前記リニア加速器内の電界の相対的な振幅および位相を制御するコントローラとを含み、
前記第１接地電極は、前記ビーム経路に沿って前記集群電極から前記入口端部に向かって、その間に第１ギャップを形成するように間隔を置き、かつ第２接地電極は、前記ビーム経路に沿って前記集群電極から少なくとも１つの前記加速モジュールに向かって、その間に第２ギャップを形成するように間隔を置き、前記第１、第２ギャップは、異なる長さを有し、
前記第１、第２ギャップの一方は、十分小さい距離からなり、その小さいギャップ間をイオンが移動する時間の間、このギャップ内の調整電界がほぼ均一となるように、前記第１、第２ギャップが選択されていることを特徴とするイオン注入機。
【請求項１４】
第１、第２ギャップの他方は、一方のギャップよりも大きな距離を有し、その大きいギャップ間をイオンが移動する時間の間、このギャップ内の調整電界が非均一であることを特徴とする請求項１３記載のリニア加速器システム。
【請求項１５】
第２ギャップは、第１ギャップよりも大きいことを特徴とする請求項３記載のイオン集群器。
【請求項１６】
第１、第２ギャップの一方は、調整可能であることを特徴とする請求項３記載のイオン集群器。
【請求項１７】
集群器のエネルギー源が、前記ビーム経路の一部分における調整電界に関連した周波数及び電界の強さの少なくとも１つを変化させるために独立して調整可能であることを特徴とする請求項３記載のイオン集群器。
【請求項１８】
第２ギャップは、第１ギャップよりも大きいことを特徴とする請求項４記載のイオン集群器。
【請求項１９】
第１、第２ギャップの一方は、調整可能であることを特徴とする請求項４記載のイオン集群器。
【請求項２０】
集群器のエネルギー源が、前記ビーム経路の一部分における調整電界に関連した周波数及び電界の強さの少なくとも１つを変化させるために独立して調整可能であることを特徴とする請求項４記載のイオン集群器。
【請求項２１】
第２ギャップは、第１ギャップよりも大きいことを特徴とする請求項６記載のイオン集群器。
【請求項２２】
集群器のエネルギー源が、前記ビーム経路の一部分における調整電界に関連した周波数及び電界の強さの少なくとも１つを変化させるために独立して調整可能であることを特徴とする請求項６記載のイオン集群器。
【請求項２３】
第２ギャップは、第１ギャップよりも大きいことを特徴とする請求項９記載のイオン集群器
【請求項２４】
第１、第２ギャップの一方は、調整可能であることを特徴とする請求項９記載のイオン集群器。
【請求項２５】
集群器のエネルギー源が、前記ビーム経路の一部分における調整電界に関連した周波数及び電界の強さの少なくとも１つを変化させるために独立して調整可能であることを特徴とする請求項９記載のイオン集群器。
【請求項２６】
第２ギャップは、第１ギャップよりも大きいことを特徴とする請求項１０記載のイオン集群器
【請求項２７】
第１、第２ギャップの一方は、調整可能であることを特徴とする請求項１０記載のイオン集群器。
【請求項２８】
集群器のエネルギー源が、前記ビーム経路の一部分における調整電界に関連した周波数及び電界の強さの少なくとも１つを変化させるために独立して調整可能であることを特徴とする請求項１０記載のイオン集群器。
【請求項２９】
第２ギャップは、第１ギャップよりも大きいことを特徴とする請求項１３記載のイオン集群器
【請求項３０】
第１、第２ギャップの一方は、調整可能であることを特徴とする請求項１３記載のイオン集群器。
【請求項３１】
集群器のエネルギー源が、前記ビーム経路の一部分における調整電界に関連した周波数及び電界の強さの少なくとも１つを変化させるために独立して調整可能であることを特徴とする請求項１３記載のイオン集群器。
【請求項３２】
第２ギャップは、第１ギャップよりも大きいことを特徴とする請求項１４記載のイオン集群器
【請求項３３】
第１、第２ギャップの一方は、調整可能であることを特徴とする請求項１４記載のイオン集群器。
【請求項３４】
集群器のエネルギー源が、前記ビーム経路の一部分における調整電界に関連した周波数及び電界の強さの少なくとも１つを変化させるために独立して調整可能であることを特徴とする請求項１４記載のイオン集群器。
【請求項３５】
第１、第２ギャップの一方は、前記他方のギャップよりも１０倍大きいことを特徴とする請求項１記載のイオン集群器。
【請求項３６】
第１、第２ギャップの一方は、前記他方のギャップよりも１０倍大きいことを特徴とする請求項３記載のイオン集群器。
【請求項３７】
第１、第２ギャップの一方は、前記他方のギャップよりも１０倍大きいことを特徴とする請求項６記載のイオン集群器。
【請求項３８】
第１、第２ギャップの一方は、前記他方のギャップよりも１０倍大きいことを特徴とする請求項８記載のイオン集群器。
【請求項３９】
第１、第２ギャップの一方は、前記他方のギャップよりも１０倍大きいことを特徴とする請求項９記載のイオン集群器。
【請求項４０】
第１、第２ギャップの一方は、前記他方のギャップよりも１０倍大きいことを特徴とする請求項１１記載のイオン集群器。
【請求項４１】
第１、第２ギャップの一方は、前記他方のギャップよりも１０倍大きいことを特徴とする請求項１３記載のイオン集群器。