【手続補正書】
【提出日】平成18年4月6日(2006.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  マイクロプレート中に定められたマイクロプレートウェルの目標層に光学的に焦点合わせするための方法であって、前記ウェルはウェルの下に透明な領域を有し、前記方法は
ａ）  焦点スポットを有するビームからの鏡面反射を用いて、マイクロプレートの下側の特定化した場所における光学参照点を光学的に感知するステップと、
ｂ）  ビームの焦点スポットを、前記参照点からウェル中の目標層への固定された距離だけ、マイクロプレートウェルの底部よりも少なくとも部分的に上に移動させるステップと、
ｃ）  異なるマイクロプレートウェルに対応して、複数の場所に対してステップａ−ｂを繰返すステップとを含む、方法。
【請求項２】  ステップａは
ｉ）  マイクロプレートウェルのウェル底面にビームを方向付けるステップと、
ii）  ビームを焦点合わせすることによってそのビームが下面の近くに焦点スポットを有し、そこから鏡面反射を起こすようにするステップと、
iii）  前記焦点スポットからの前記鏡面反射を回収するステップと、
iv）  前記回収した鏡面反射の強度を検出するステップと、
ｖ）  前記ウェルの長手軸に沿ってマイクロプレートウェルのウェル底面を移動させるステップと、
vi）  ステップｉ−ivを繰返すステップと、
vii）  鏡面反射の最大強度が検出されたウェル底面の場所を定めることによって前記ウェル底面の場所を定めるステップと、
viii）  前記ウェル底面を前記光学参照点として用いるステップとを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  ステップａは
ｉ）  光のビームの焦点スポットを第１のマイクロプレートウェルの下側にあるウェル底面上に非直角に方向付けることによって、そのビームがウェル底面の近くに焦点スポットを有し、そこから鏡面反射を起こすようにするステップと、
ii）  位置検知型検出器を用いて、鏡面反射の位置検知型検出器上の感光長さにおける光の強度レベルおよび光の位置を検出するステップと、
iii）  ステップａ−ｂを繰返しながらウェルの長手軸に沿ってウェル底面を移動させるステップと、
iv）  鏡面反射の最大強度が検出されたウェル底面の場所を定めることによってウェル底面の場所を定めるステップとを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】  複数の目標層に焦点合わせするステップをさらに含み、複数の目標層の１つの各々は複数のマイクロプレートウェルの１つに含まれ、このステップは
ｖ）  光が最大強度測定値に達したときに感光長さに沿って光の位置を定めるステップと、
vi）  マイクロプレートウェル内の第１の目標層にビームを再焦点合わせするステップとを含み、前記第１の目標層は前記ウェル底面に対して定められた関係にあり、さらに
vii）  光のビームの焦点スポットを第２のマイクロプレートウェルのウェル底面上に非直角に方向付けることによって、そのビームが下面の近くに焦点スポットを有し、そこから鏡面反射を起こすようにするステップと、
viii）  位置検知型検出器を用いて、第２のマイクロプレートウェルのウェル底面からの鏡面反射の位置検知型検出器上の感光長さにおける別の光の強度レベルおよび光の位置を検出するステップと、
ix）  最大の光の強度が測定されたときに、第２のマイクロプレートウェルから測定された感光長さに沿った光の位置と、第１のマイクロプレートウェルから測定された感光長さに沿った光の位置とを比較するステップと、
ｘ）  この比較から第２のマイクロプレートウェルのウェル底面の場所を定めるステップと、
xi）  この焦点スポットを、ウェル底面に対して定められた関係にある第２の目標層に再置するステップと、
xii）  複数のマイクロプレートウェルに対してステップvii−ｘを繰返すステップとを含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】  ステップａは
ｉ）  マイクロプレート中に定められたマイクロプレートウェルのウェル底部の上面にビームを方向付けるステップと、
ii）  前記ビームを焦点合わせすることによってそのビームがウェル底部の上面の近くに焦点スポットを有し、そこから鏡面反射を起こすようにするステップと、
iii）  焦点スポットに対してウェルの長手軸に沿ってウェル底部の上面を移動させる際に鏡面反射光の強度を測定するステップと、
iv）  最大の鏡面反射が検出されたときにウェル底部の上面の位置の場所を定めることによってウェル底部の上面の場所を定めるステップと、
ｖ）  前記ウェル底部の上面を前記光学参照点として用いるステップとを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】  前記マイクロプレートのウェル底部の下面の反射率を変えることによってウェル底部の下面が減少した反射率を有するようにする最初のステップをさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】  前記マイクロプレートのウェル底部の上面の反射率を変えることによって前記ウェル底部の上面が増加した反射率を有するようにする最初のステップをさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項８】  参照点を用いてビームを再焦点合わせすることにより、焦点スポットが部分的にマイクロプレートウェルの底部内にあり、かつマイクロプレートウェルの底面における材料の層を部分的に照らすようにすることによってさらに定められる、請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項９】  目標層は３０−１５０ミクロンの範囲の厚みを有する、請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】  前記ビームはレーザビームである、請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】  前記ビームは少なくとも６３３ｎｍの波長を有するレーザビームである、請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】  マイクロプレートウェル中に含まれる液体の液面に焦点合わせするための方法であって、
ａ）  液面にビームを方向付けるステップと、
ｂ）  ビームを焦点合わせすることによってそのビームが液面に方向付けられた焦点スポットを有し、そこから鏡面反射を起こすようにするステップと、
ｃ）  焦点スポットに対してウェルの長手軸に沿って液面を移動させる際に鏡面反射の強度を測定するステップと、
ｄ）  鏡面反射の最大強度が検出されたときに液面の位置の場所を定めることによって液面の場所を定めるステップとを含む、方法。
【請求項１３】  マイクロプレートウェルのウェル底部の上面の場所を光学的に検出するステップをさらに含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  マイクロプレートウェル中の液面の場所を用い、かつマイクロプレートウェルのウェル底部の上面の場所を用いて、マイクロプレートウェル中の液体の体積を算出するステップをさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】  光学システムを用いた目標層の分析のための容器であって、
前記容器上の硬く透明な表面と、
前記表面の定められた場所に位置する少なくとも１つのレジストレーション標識とを含み、前記少なくとも１つのレジストレーション標識は鏡面反射の検出によって光学的に検出可能であり、前記少なくとも１つのレジストレーション標識は容器内の前記目標層の位置を定めるための参照場所として用いるために適合可能である、容器。
【請求項１６】  前記少なくとも１つのレジストレーション標識は、表面に位置するパターン化された反射コーティングである、請求項１５に記載の容器。
【請求項１７】  前記少なくとも１つのレジストレーション標識は、表面に位置するより大きいおよびより小さい反射率の罫書き標識のパターンである、請求項１５に記載の容器。
【請求項１８】  前記少なくとも１つのレジストレーション標識は、表面に位置するバーコードの印である、請求項１５に記載の容器。
【請求項１９】  光学システムを用いて目標層の位置を検出するためのマイクロプレートであって、
複数の窪みを有するブロックを含み、この窪みは前記ブロック内の配列中のウェルを形成し、各ウェルは底部を有し、さらに
各ウェルの底部に対する公知の関係において前記ウェルの底面を形成する硬い透明な層と、
ウェルの底部に対する定められた関係において前記マイクロプレートの下側に位置し、かつマイクロプレートウェル内の前記目標層の位置を定めるための光学参照場所として用いるために適合可能な、少なくとも１つの光学的に検出可能なレジストレーション標識とを含む、マイクロプレート。
【請求項２０】  前記少なくとも１つのレジストレーション標識は、マイクロプレートの下側に位置するパターン化された反射コーティングである、請求項１９に記載のマイクロプレート。
【請求項２１】  前記少なくとも１つのレジストレーション標識は、マイクロプレートの下側に位置するより大きいおよびより小さい反射率の罫書き標識のパターンである、請求項１９に記載のマイクロプレート。
【請求項２２】  前記少なくとも１つのレジストレーション標識は、マイクロプレートの下側に位置するバーコードの印である、請求項１９に記載のマイクロプレート。
【請求項２３】  前記少なくとも１つのレジストレーション標識は少なくとも１つのウェル底部の下面に位置する、請求項１９に記載のマイクロプレート。
【請求項２４】  前記少なくとも１つのレジストレーション標識は少なくとも１つの
ウェル底部の上面に位置する、請求項１９に記載のマイクロプレート。
【請求項２５】  マイクロプレートウェルのウェル底面に対して定められた関係にある、マイクロプレートウェル内に含まれる薄い目標層を照明するための光学スキャナであって、前記スキャナは
公知の波長のビームを生成するレーザと、
鏡面反射するウェル底面の方向における焦点スポットにビームを焦点合わせするためにビームの経路に位置するレンズと、
前記鏡面反射光の経路に位置する光学検出光学部品とを含み、前記検出光学部品は前記反射光の強度を測定し、さらに
マイクロプレートの前記底面に対して前記ウェルの長手軸に沿って焦点スポットを移動させるための、マイクロプレートを保持するプラットホーム手段と、
前記強度プロファイルのピーク強度を検出することによって下面の場所を識別し、それによって薄い目標層の場所を定めるための手段とを含む、光学スキャナ。
【請求項２６】  光学検出光学部品は
鏡面反射光の経路に位置する位置検知型検出器を含み、前記位置検知型検出器は検出器の光活性領域上の光スポットの位置をモニタすると同時に光の強度をモニタし、さらに
光の強度によって位置データを分離することによって位置データを標準化するための回路を含む、請求項２５に記載の光学スキャナ。
【請求項２７】  位置検知型検出器の前の鏡面反射光の経路に位置する開口をさらに含む、請求項２６に記載の光学スキャナ。
【請求項２８】  鏡面反射の経路に位置する第２のレンズをさらに含み、前記レンズは鏡面反射光を焦点合わせする、請求項２６に記載の光学スキャナ。
【請求項２９】  前記光学検出光学部品は
鏡面反射ビームの経路に位置することによってその強度プロファイルを生じさせるための開口と、
前記開口の末端部に位置する光検出器とを含み、前記検出器は前記反射光の強度を測定する、請求項２５に記載の光学スキャナ。