Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月13日(2006.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ワックスで被覆性された微粉状シリカ添加剤が、乾式混合により配合されている粉末被覆性組成物。
【請求項２】  シリカが沈降シリカ又はシリカゲルからなる、請求項１に記載の粉末被覆性組成物。
【請求項３】  ワックスが、動物ワックス、植物ワックス、石油ワックス、又は合成ワックスからなる、請求項１又は２に記載の粉末被覆性組成物。
【請求項４】  ワックスが微結晶ワックスからなる、請求項３に記載の粉末被覆性組成物。
【請求項５】  ワックスが、少なくとも１６個の炭素原子を有する脂肪族アルコールと、少なくとも１６個の炭素原子を有する脂肪酸とのエステル、又は、少なくとも１６個の炭素原子を有する脂肪酸の塩からなる、請求項１又は２に記載の粉末被覆性組成物。
【請求項６】  ワックスがステアリン酸アルミニウムからなる、請求項５に記載の粉末被覆性組成物。
【請求項７】  シリカに被覆性されたワックスの量が、２〜１０重量％の範囲にある、請求項１〜６のいずれか１項に記載の粉末被覆性組成物。
【請求項８】  ワックス被覆性シリカ添加剤の量が、添加剤を除いた組成物の全重量に基づき、０．００２〜２．０重量％の範囲にあり、有利には０．０２〜１．５重量％、好ましくは０．０４〜１．０重量％、一層特別には少なくとも０．２重量％、特に０．３〜０．７重量％の範囲にある、請求項１〜７のいずれか１項に記載の粉末被覆性組成物。
【請求項９】  添加剤（一種又は多種）として、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、又は酸化アルミニウムと水酸化アルミニウムが、乾式混合により配合され、乾式混合により配合された添加剤の全含有量が、添加剤を除いた組成物の全重量に基づき、０．１〜５重量％の範囲にあり、有利には０．１〜２重量％、好ましくは少なくとも０．２重量％、特に０．２〜１．５重量％、一層特別には０．３〜１重量％の範囲にある、請求項１〜７のいずれか１項に記載の粉末被覆性組成物。
【請求項１０】  ワックス被覆性シリカと、酸化アルミニウムを、９９：１〜１：９９、有利には８０：２０〜２０：８０、好ましくは７０：３０〜３０：７０の相対的比率で乾式混合により配合された、請求項９に記載の粉末被覆性組成物。
【請求項１１】  ワックス被覆性シリカと、水酸化アルミニウムを、９９：１〜３０：７０、有利には９０：１０〜４０：６０、好ましくは８０：２０〜５０：５０の相対的比率で乾式混合により配合された、請求項９に記載の粉末被覆性組成物。
【請求項１２】  ワックス被覆性シリカ、酸化アルミニウム、及び水酸化アルミニウムを、次の相対的重量比：
ＳｉＯ2    Ａｌ2Ｏ3    Ａｌ（ＯＨ）3
１〜９８％      １〜９８％      １〜７０％
有利には      ５〜５０％    １０〜９０％      １〜６０％
好ましくは  １０〜３０％    ２０〜８５％      １〜５５％
で乾式混合により配合された、請求項９に記載の粉末被覆性組成物。
【請求項１３】  一種類より多くの添加剤が乾式混合により配合され、それら添加剤が、組成物中に配合される前に予め混合される、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の粉末被覆性組成物。
【請求項１４】  乾式混合により配合される添加剤又はその各々の粒径が、１０μｍ以下であり、有利には５μｍ以下、好ましくは２μｍ以下、一層特別には１μｍ以下であり、そして、少なくとも０．１μｍである、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の粉末被覆性組成物。
【請求項１５】  基体上に被覆性を形成する方法において、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の組成物を、粉末被覆性法により基体に適用し、組成物の粒子を基体に付着させ、それら付着した粒子を前記基体の少なくとも一部分に亙って連続した被覆性に形成する、被覆性形成方法。
【請求項１６】  請求項１５に記載の方法により得られた被覆性基体。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月4日(2006.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  流動性組成物の液体フィラメントを水性媒体上に施用してフィラメントのマトリックス構造を形成することを含む、フィラメント状多孔性膜の製造方法であって、流動性組成物が、水性媒体または体液媒体に適度に溶解性であるものから完全に混和性であるものまでにわたる製薬上許容できる有機溶媒中に溶解または分散された製薬上許容できる生分解性の熱可塑生ポリマーを含み、このポリマーは水性媒体または体液媒体に不溶性である方法。
【請求項２】  熱可塑性ポリマーの濃度が、有機溶媒中で10〜50重量％である請求項１記載の方法。
【請求項３】  熱可塑性ポリマーが生物腐食性である請求項１記載の方法。
【請求項４】  熱可塑性ポリマーが、そのポリマー主鎖中に繰り返しの官能基単位を含み、この官能基単位は、ヒドロキシカルボン酸エステル、ポリカルボン酸とポリオールのエステル、アミノカルボン酸アミド、ポリカルボン酸とポリアミンのアミド、ウレタン、カーボネート、無水物、エステルアミド、ジオキサノン、アセタール、ケタール、ホスファゼンおよびそれらの任意の組合せから選択される請求項１記載の方法。
【請求項５】  熱可塑性ポリマーが、ラクチド、グリコライド、カプロラクトン、ヒドロキシブチレートおよび、シュウ酸、マロン酸およびコハク酸から選ばれるジカルボン酸とC2〜C6ジオールとのエステルからなる群より選択される少なくとも１つのモノマー単位、ならびに種々のモノマー単位のランダム、規則的またはブロックの分布を有するコポリマーまたはターポリマーとしてのそれらの任意の組合せから形成される請求項４記載の方法。
【請求項６】  熱可塑性ポリマーがポリ（DL-ラクチド-コ-グリコライド）である請求項５記載の方法。
【請求項７】  有機溶媒が、脂肪族および脂環式のアルコールおよびポリオール、脂肪族、脂環式および芳香族のエステル、脂肪族および脂環式のラクタム、脂肪族および脂環式のラクトン、脂肪族および脂環式のアミド、脂肪族および脂環式のカーボネート、脂肪族および脂環式の酸、脂肪族および脂環式のエーテル、脂肪族および脂環式のスルホキシドおよびスルホン、複素環式化合物ならびに脂肪族および脂環式のケトンからなる群より選択される請求項１記載の方法。
【請求項８】  有機溶媒がN-メチル-2-ピロリドンである請求項７記載の方法。
【請求項９】  流動性組成物が、液体フィラメントを有効に形成させる粘度を有する請求項１記載の方法。
【請求項１０】  流動性組成物が、1,000〜90,000センチポイズ（１〜90Pa.s）のブルックフィールド相対粘度を有する請求項９記載の方法。
【請求項１１】  流動性組成物の液体フィラメントを施用する工程が、流動性組成物を噴霧、霧状化、シャワー化、霧雨のようにする、噴出、霧化またはエアロゾル化することを含む請求項１記載の方法。
【請求項１２】  流動性組成物の液体フィラメントを施用する工程が、流動性組成物をエアロゾル化することを含む請求項11記載の方法。
【請求項１３】  水性媒体がヒドロゲルである請求項１記載の方法。
【請求項１４】  ヒドロゲルが寒天である請求項13記載の方法。
【請求項１５】  フィラメントのマトリックス構造、フィラメント間空間および２つの表面を含むフィラメント状多孔性膜であって、フィラメント間空間が１つの表面から他の表面へと伸びる細孔を規定し、細孔は、１つの表面から他の表面へ変化しない断面寸法を有し、フィラメントは、水性流体または体液に不溶性である製薬上許容できる生分解性の熱可塑性ポリマーを含むフィラメント状多孔性膜。
【請求項１６】  熱可塑性ポリマーが、そのポリマー主鎖中に繰り返しの官能基単位を含み、この官能基単位は、ヒドロキシカルボン酸エステル、ポリカルボン酸とポリオールのエステル、アミノカルボン酸アミド、ポリカルボン酸とポリアミンのアミド、ウレタン、カーボネート、無水物、エステルアミド、ジオキサノン、アセタール、ケタール、ホスファゼンおよびそれらの任意の組合せから選択される請求項15記載のフィラメント状多孔性膜。
【請求項１７】  熱可塑性ポリマーが、ラクチド、グリコライド、カプロラクトン、ヒドロキシブチレートおよび、シュウ酸、マロン酸およびコハク酸から選ばれるジカルボン酸とC2〜C6ジオールとのエステルからなる群より選択される少なくとも１つのモノマー単位、ならびに種々のモノマー単位のランダム、規則的またはブロックの分布を有するコポリマーまたはターポリマーとしてのそれらの任意の組合せから形成される請求項16記載のフィラメント状多孔性膜。
【請求項１８】  熱可塑性ポリマーがポリ（DL-ラクチド-コ-グリコライド）である請求項17記載のフィラメント状多孔性膜。
【請求項１９】  フィラメントが0.01〜４μmの直径を有する請求項15記載のフィラメント状多孔性膜。
【請求項２０】  フィラメントが１〜240μmの長さを有する請求項15記載のフィラメント状多孔性膜。
【請求項２１】  フィラメント状多孔性膜が10〜100μmの厚さを有する請求項15記載のフィラメント状多孔性膜。
【請求項２２】  フィラメント状多孔性膜が20〜50μmの厚さを有する請求項21記載のフィラメント状多孔性膜。
【請求項２３】  細孔が５〜30μmの断面寸法を有する請求項15記載のフィラメント状多孔性膜。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月26日(2006.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】    （ａ）溶解形態のコルチコステロイド約５μｇ／ｍｌ〜約５ｍｇ／ｍｌ、
（ｂ）高ＨＬＢ界面活性剤成分において存在する界面活性剤のＨＬＢが約１０を超えていて、そして高ＨＬＢ界面活性剤成分が、ビタミンＥのエトキシル化誘導体少なくとも５０重量％を含有する、製薬学的に許容しうる高ＨＬＢ界面活性剤成分約０．１〜約２０重量％、および
（ｃ）水相少なくとも約７０重量％：
から本質的になる、治療用量のコルチコステロイドを呼吸器に投与するために適当な組成物。
【請求項２】  （ａ）溶解形態のコルチコステロイド約５μｇ／ｍｌ〜約５ｍｇ／ｍｌ、
（ｂ）高ＨＬＢ界面活性剤成分において存在する界面活性剤のＨＬＢが約１０を超えていて、そして高ＨＬＢ界面活性剤成分が、ビタミンＥのエトキシル化誘導体少なくとも５０重量％を含有する、高ＨＬＢ界面活性剤成分約０．１〜約２０重量％、および
（ｃ）水相少なくとも約７０重量％：
を含んでなる、治療用量のコルチコステロイドを呼吸器に投与するために適当な組成物。
【請求項３】  （ａ）（１）溶解形態のコルチコステロイド５μｇ／ｍｌ〜約５ｍｇ／ｍｌ、（２）高ＨＬＢ界面活性剤成分において存在する界面活性剤のＨＬＢが約１０を超えていて、そして高ＨＬＢ界面活性剤成分が、ビタミンＥのエトキシル化誘導体少なくとも５０重量％を含有する、高ＨＬＢ界面活性剤成分約０．１〜約２０重量％、および（３）水相少なくとも約７０重量％、を含んでなるコルチコステロイド組成物を提供すること；
（ｂ）コルチコステロイド組成物をエアゾル化すること；および
（ｃ）吸入によってコルチコステロイド組成物のエアゾルの治療に有効な用量を投与すること：
を含む、治療用量のコルチコステロイドを呼吸器に投与する方法。
【請求項４】  （ａ）（１）溶解形態のコルチコステロイド約５０μｇ／ｍｌ〜約１０ｍｇ／ｍｌ、（２）高ＨＬＢ界面活性剤成分において存在する界面活性剤のＨＬＢが約１０を超えていて、そして高ＨＬＢ界面活性剤成分が、ビタミンＥのエトキシル化誘導体少なくとも５０重量％を含有する、高ＨＬＢ界面活性剤成分約０．１〜約２０重量％、および（３）水相少なくとも約７０重量％、を含んでなるコルチコステロイド組成物を提供すること；
（ｂ）鼻吸入によってコルチコステロイド組成物の治療に有効な用量を投与すること：
を含む、治療用量のコルチコステロイドを鼻通路に投与する方法。
【請求項５】  （ａ）高ＨＬＢ界面活性剤成分において存在する界面活性剤のＨＬＢが約１０を超えていて、そして高ＨＬＢ界面活性剤成分が、ビタミンＥのエトキシル化誘導体少なくとも５０重量％を含有する、融解された製薬学的に許容しうる高ＨＬＢ界面活性剤成分中に、コルチコステロイド化合物を溶解すること；
（ｂ）続いて、溶解されたコルチコステロイドを含有する融解高ＨＬＢ界面活性剤成分を水相と混合すること：を含み、
この場合、水相が少なくとも約７０重量％量で存在し、そして高ＨＬＢ界面活性剤成分が、希釈コルチコステロイド組成物の約０．１〜約２０重量％量で存在する、
溶解形態のコルチコステロイドを含有する希釈コルチコステロイド組成物の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月30日(2006.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
歯とは異なり、義歯は洗浄のために取り外すことができる。義歯は又、歯と比べて、より粗い洗浄条件に耐え得るアクリルポリマーなどのような耐久性材料にて作製される。その結果、義歯は、歯と比べてより粗い洗浄条件に晒すことができ、又晒される。義歯は、一般に二つの方法のうち一方にて洗浄される。即ち、義歯はクレンジングバス（洗浄槽）にしばらく浸漬されるか、又は義歯は歯磨剤又は特別に処方されるクレンジングクリームを用いてブラッシングされる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月1日(2006.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  体外受精方法で雌哺乳動物の不妊を治療するため又は着床の頻度を向上させるための薬剤の製造におけるサイトカイン及びサイトカイン受容体の使用であって、
雌の子宮と胚を接触させるステップ、及び
該雌に組成物を投与するステップ、
を含み、
前記サイトカインは、インターロイキン-６、インターロイキン-11、毛様体神経栄養因子、オンコスタチンＭ又はカルジオトロピン-1であり、又は
前記受容体は、インターロイキン-2、インターロイキン-3、インターロイキン-4、インターロイキン-5、インターロイキン-6、インターロイキン-7、インターロイキン-9、EPO、G-CSF又はGM-CSFの受容体である、
前記使用。
【請求項２】  体外受精方法で雌哺乳動物の不妊を治療するため又は着床の頻度を向上させるための薬剤の製造における白血病抑制因子及びその受容体の使用であって、
雌の子宮と胚を接触させるステップ、及び
該雌に前記組成物を投与するステップ、
を含み、
前記胚が着床して出産まで成長する、
前記使用。
【請求項３】  前記白血病抑制因子が、配列番号１、配列番号２、配列番号３、配列番号４又は配列番号５からなる配列を有する、請求項２に記載の使用。
【請求項４】  体外受精方法で雌哺乳動物の不妊を治療するため又は着床の頻度を向上させるための薬剤の製造における融合タンパク質の使用であって、
前記融合タンパク質は、インターロイキン-6ファミリーメンバーであるサイトカイン受容体と融合した前記サイトカインを含み、
前記サイトカインの受容体はgp130と結合し、及び
胚が着床して出産まで成長する、
前記使用。
【請求項５】  前記融合タンパク質が、可溶性IL-6リガンド／受容体融合タンパク質である、請求項４に記載の使用。
【請求項６】  前記融合タンパク質が、ヒトインターロイキン-6のアミノ酸残基29〜212、及びヒト可溶性インターロイキン-6受容体のアミノ酸残基113〜323を含む、請求項４に記載の使用。
【請求項７】  前記融合タンパク質が、ヒトインターロイキン-6のアミノ酸残基29〜212とヒト可溶性インターロイキン-6受容体のアミノ酸残基113〜323を連結するアミノ酸配列Arg-Gly-Gly-Gly-Gly-Ser-Gly-Gly-Gly-Gly-Ser-Val-Gluを更に含む、請求項６に記載の使用。
【請求項８】  前記融合タンパク質が、配列番号７を有する融合タンパク質である、請求項４に記載の使用。
【請求項９】  前記雌哺乳動物がヒトである、請求項１、２又は４のいずれか１項に記載の使用。
【請求項１０】  前記雌哺乳動物が外因性エストロゲンで処置されていない、請求項１、２又は４のいずれか１項に記載の使用。
【請求項１１】  前記薬剤が、前記雌哺乳動物に静脈注射で投与するように処方され、又は前記雌哺乳動物の子宮に直接投与するように処方される、請求項１、２又は４のいずれか１項に記載の使用。
【請求項１２】  インターロイキン-6の一部及び可溶性インターロイキン-6受容体の一部を含む、融合タンパク質。
【請求項１３】  前記インターロイキン-6及び可溶性インターロイキン-6受容体が、ヒトインターロイキン-6及びヒト可溶性インターロイキン-6受容体である、請求項１２に記載の融合タンパク質。
【請求項１４】  ヒトインターロイキン-6のアミノ酸残基29〜212、及びヒト可溶性インターロイキン-6受容体のアミノ酸残基113〜323を含む、請求項１２に記載の融合タンパク質。
【請求項１５】  前記ヒトインターロイキン-6のアミノ酸残基29〜212と前記ヒト可溶性インターロイキン-6受容体のアミノ酸残基113-323が、アミノ酸リンカー配列によって連結されている、請求項１４に記載の融合タンパク質。
【請求項１６】  前記アミノ酸リンカー配列が、アミノ酸配列Arg-Gly-Gly-Gly-Gly-Ser-Gly-Gly-Gly-Gly-Ser-Val-Gluを有する、請求項１５に記載の融合タンパク質。
【請求項１７】  請求項１２に記載の融合タンパク質及び製薬上許容できる担体を含む、医薬組成物。
【請求項１８】  薬剤的に有効量のサイトカイン及びサイトカイン受容体を含む医薬組成物であって、前記サイトカインが、インターロイキン-6、インターロイキン-11、毛様体神経栄養因子、オンコスタチンＭ又はカルジオトロピン-1であり、又は、前記受容体が、インターロイキン-2、インターロイキン-3、インターロイキン-4、インターロイキン-5、インターロイキン-6、インターロイキン-7、インターロイキン-9、EPO、G-CSF又はGM-CSFの受容体である、前記医薬組成物。
【請求項１９】  体外受精で雌哺乳動物の不妊を治療するのに又は着床の頻度を向上させるのに十分な量の白血病抑制因子及び受容体を含む、医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月31日(2006.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  次式の金属有機前駆体。
Ｓｒ[Ｍ(ＯＲ1)6-xＬx]2
（式中、ｘは１〜６であり；
ＭはＴａ又はＮｂであり；
Ｒ1は直鎖又は分岐鎖アルキル基であり；かつ
Ｌは次式のアルコキシド基である：
【化１】
2002519354.tif 000001
（式中、ｎは０又は１であり、
ＸはＮ又はＯであり、
Ｒ2及びＲ3は同一若しくは異なる直鎖若しくは分岐鎖アルキル基であり；かつ
Ｒ4はアミノ、アルキルアミノ又はアルコキシ基で置換されていてもよい直鎖又は分岐鎖のアルキル鎖である。））
【請求項２】  ｘが、１又は２である請求項１に記載の金属有機前駆体。
【請求項３】  アルコキシ基ＯＲ1が、エトキシ基、イソプロポキシ基及び三級ブトキシ基からなる群から選ばれる請求項１又は２に記載の金属有機前駆体。
【請求項４】  次式：Ｓｒ{Ｍ(ＯＲ1)5Ｌ}2 又は  Ｓｒ{Ｍ(ＯＲ1)4Ｌ2}2
で表される請求項１〜３のいずれか１項に記載の金属有機前駆体。
【請求項５】  Ｌが、ジメチルアミノアルコキシド基である請求項１〜４のいずれか１項に記載の金属有機前駆体。
【請求項６】  前記ジメチルアミノアルコキシド基が、ジメチルアミノエトキシド、ジメチルアミノプロポキシド又はビス−ジメチルアミノプロポキシドである請求項５に記載の金属有機前駆体。
【請求項７】  Ｌが、アルコキシアルコキシド基である請求項１〜６のいずれか１項に記載の金属有機前駆体。
【請求項８】  前記アルコキシアルコキシド基が、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ3、−ＯＣＨ(ＣＨ3)ＣＨ2ＯＣＨ3及び−ＯＣＨ(ＯＣＨ3)ＣＨ2ＯＣＨ3からなる群から選ばれる請求項７に記載の金属有機前駆体。
【請求項９】  前記金属有機前駆体が、Ｓｒ[Ｔａ(ＯＥｔ)5(ビス−ｄｍａｐ)]2であって、ビス−ｄｍａｐが、ビス−ジメチルアミノプロポキシドであるか、又は
前記金属有機前駆体が、Ｓｒ[Ｔａ(ＯＥｔ)5(ｄｍａｅ)]2であって、ｄｍａｅが、ジメチルアミノエトキシドである、
請求項１記載の金属有機前駆体。
【請求項１０】  ＭＯＣＶＤ（金属有機化学蒸着）法で金属有機前駆体を用いて、ストロンチウム金属酸化物の薄膜又は該酸化物を含有する薄膜を蒸着させる方法であって、前記ストロンチウム金属酸化物前駆体が、次式で表されることを特徴とする方法。
Ｓｒ[Ｍ(ＯＲ1)6-xＬx]2
（式中、ｘは１〜６であり；
ＭはＴａ又はＢｎであり；
Ｒ1は直鎖又は分岐鎖アルキル基であり；かつ
Ｌは次式のアルコキシド基である：
【化２】
2002519354.tif 000002
（式中、ｎは０又は１であり、
ＸはＮ又はＯであり、
Ｒ2及びＲ3は同一若しくは異なる直鎖若しくは分岐鎖アルキル基であり；かつ
Ｒ4はアミノ、アルキルアミノ又はアルコキシ基で置換されていてもよい直鎖又は分岐鎖のアルキル鎖である。））
【請求項１１】  ｘが、１又は２である請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】  アルコキシ基ＯＲ1が、エトキシ基、イソプロポキシ基及び三級ブトキシ基からなる群から選ばれる請求項１０又は１１に記載の方法。
【請求項１３】  前記ストロンチウム金属酸化物前駆体が、次式： 
Ｓｒ{Ｍ(ＯＲ1)5Ｌ}2 又は  Ｓｒ{Ｍ(ＯＲ1)4Ｌ2}2
で表される、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】  Ｌが、ジメチルアミノアルコキシド基である請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】  前記ジメチルアミノアルコキシド基が、ジメチルアミノエトキシド、ジメチルアミノプロポキシド及びビス−ジメチルアミノプロポキシドからなる群から選ばれる請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】  Ｌが、アルコキシアルコキシド基である請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】  前記アルコキシアルコキシド基が、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ3、−ＯＣＨ(ＣＨ3)ＣＨ2ＯＣＨ3、又は−ＯＣＨ(ＯＣＨ3)ＣＨ2ＯＣＨ3である請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】  前記金属有機前駆体が、Ｓｒ[Ｔａ(ＯＥｔ)5(ビス−ｄｍａｐ)]2であって、ビス−ｄｍａｐが、ビス−ジメチルアミノプロポキシドであるか、又は
前記金属有機前駆体が、Ｓｒ[Ｔａ(ＯＥｔ)5(ｄｍａｅ)]2であって、ｄｍａｅが、ジメチルアミノエトキシドである、
請求項１０に記載の方法。
【請求項１９】  ビスマス金属有機前駆体を含めることによって、ストロンチウムビスマスタンタル金属酸化物又はストロンチウムビスマスニオブ金属酸化物を蒸着させるための請求項１０〜１８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２０】  前記ビスマス前駆体が、Ｂｉ(Ｃ6Ｈ5)3、Ｂｉ(ｔｈｄ)3（式中、ｔｈｄは、２,２,６,６−テトラメチル−３,５−ヘプタンジオネートを表す）、Ｂｉ(ＯＣＨ2ＣＨ2ＮＭｅ2)3及びＢｉ(ＯＣＭｅ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＭｅ)3からなる群から選択される請求項１９項に記載の方法。
【請求項２１】  前記ビスマス及びストロンチウム前駆体が、別個にエバポレートされる、請求項１９又は２０に記載の方法。
【請求項２２】  前記ビスマス及びストロンチウム前駆体が、ＭＯＣＶＤ用の単一溶液中で混合される、請求項１９又は２０に記載の方法。
【請求項２３】  前記ビスマス前駆体が、前記ストロンチウム前駆体と同一の配位子Ｌを有する請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】  前記前駆体溶液が、エーテル、環状エーテル及び炭化水素からなる群から選択される有機溶媒である、請求項２２又は２３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月26日(2006.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  被験体における疼痛の処置のための経皮組成物であって、以下：
（ａ）被験体における疼痛を処置するに有効な量の、二相性溶解度を有するアミン含有化合物；および
（ｂ）該アミン含有化合物の経皮的送達に適した、薬学的に受容可能なキャリア、
を含む、経皮組成物。
【請求項２】  前記二相性溶解度を有するアミン含有化合物の活性を増強する薬剤をさらに含む、請求項１に記載の経皮組成物。
【請求項３】  前記二相性溶解度を有するアミン含有化合物の活性を増強する前記薬剤が、筋弛緩薬である、請求項２に記載の経皮組成物。
【請求項４】  前記アミン含有化合物が、抗うつ作用化合物である、請求項１に記載の経皮組成物。
【請求項５】  前記抗うつ作用化合物が、三環系抗うつ作用化合物である、請求項４に記載の経皮組成物。
【請求項６】  前記アミン含有化合物がドキセピンである、請求項１に記載の経皮組成物。
【請求項７】  前記アミン含有化合物が、トリミプラミンである、請求項１に記載の経皮組成物。
【請求項８】  前記アミン含有化合物が、ナトリウムチャネルブロッカーである、請求項１に記載の経皮組成物。
【請求項９】  前記薬学的に受容可能なキャリアが、レシチン有機ゲルである、請求項１に記載の経皮組成物。
【請求項１０】  前記筋弛緩薬が、グアイフェネシン、クロルゾキサゾン、ダントロレンナトリウム、メタキサロン、カリソプロドール、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項３に記載の経皮組成物。
【請求項１１】  前記筋弛緩薬が、グアイフェネシンである、請求項１０に記載の経皮組成物。
【請求項１２】  前記筋弛緩薬が、ベンゾジアゼピンである、請求項３に記載の経皮組成物。
【請求項１３】  前記ベンゾジアゼピンが、クロザピンである、請求項１２に記載の経皮組成物。
【請求項１４】  前記ベンゾジアゼピンが、ジアゼパムである、請求項１２に記載の経皮組成物。
【請求項１５】  抗炎症性化合物をさらに含む、請求項１に記載の経皮組成物。
【請求項１６】  前記抗炎症性化合物が、非ステロイド性抗炎症性化合物である、請求項１５に記載の経皮組成物。
【請求項１７】  前記非ステロイド性抗炎症性化合物が、セレコキシブ、エトドラック、メフェナム酸、ナブメトン、サルサラート、ナプロキセン、ｖｉｏｘｘ（登録商標）、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項１６に記載の経皮組成物。
【請求項１８】  被験体における疼痛の処置のための経皮組成物であって、以下：
（ａ）被験体における疼痛を処置するに有効な量の、二相性溶解度を有するアミン含有化合物；
（ｂ）該二相性溶解度を有するアミン含有化合物の活性を増強するに有効な量の、筋弛緩薬；および
（ｃ）該アミン含有化合物および該筋弛緩薬の経皮的送達に適した、薬学的に受容可能なキャリア、
を含む、経皮組成物。
【請求項１９】  前記筋弛緩薬が、グアイフェネシン、クロルゾキサゾン、ダントロレンナトリウム、メタキサロン、カリソプロドール、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項１８に記載の経皮組成物。
【請求項２０】  前記筋弛緩薬が、グアイフェネシンである、請求項１８に記載の経皮組成物。
【請求項２１】  前記筋弛緩薬が、二相性溶解度を有する、請求項１８に記載の経皮組成物。
【請求項２２】  前記アミン含有化合物が、抗うつ作用化合物である、請求項１８に記載の経皮組成物。
【請求項２３】  前記抗うつ作用化合物が、三環系抗うつ作用化合物である、請求項２２に記載の経皮組成物。
【請求項２４】  前記抗うつ作用性化合物が、ドキセピン、トリミプラミン、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項２２に記載の経皮組成物。
【請求項２５】  前記アミン含有化合物が、ドキセピンである、請求項１８に記載の経皮組成物。
【請求項２６】  前記アミン含有化合物が、ナトリウムチャネルブロッカーである、請求項１８に記載の経皮組成物。
【請求項２７】  前記薬学的に受容可能なキャリアが、レシチン有機ゲルである、請求項１８に記載の経皮組成物。
【請求項２８】  抗炎症性化合物をさらに含む、請求項１８に記載の経皮組成物。
【請求項２９】  前記抗炎症性化合物が、非ステロイド性抗炎症性化合物である、請求項２８に記載の経皮組成物。
【請求項３０】  前記非ステロイド性抗炎症性化合物が、セレコキシブ、エトドラック、メフェナム酸、ナブメトン、サルサラート、ナプロキセン、ｖｉｏｘｘ（登録商標）、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項２９に記載の経皮組成物。
【請求項３１】  被験体における疼痛を処置するための経皮組成物であって、以下：
（ａ）被験体における疼痛を処置するに有効な量のドキセピン；
（ｂ）ドキセピンの活性を増強するに有効な量のグアイフェネシン；および
（ｃ）該ドキセピンおよび該グアイフェネシンの経皮的送達に適した薬学的に受容可能なキャリア、
を含む、経皮組成物。
【請求項３２】  前記薬学的に受容可能なキャリアが、レシチン有機ゲルである、請求項３１に記載の経皮組成物。
【請求項３３】  抗炎症性化合物をさらに含む、請求項３１に記載の経皮組成物。
【請求項３４】  前記抗うつ作用性化合物が、ドキセピン、トリミプラミン、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項４に記載の経皮組成物。
【請求項３５】  被験体における疼痛を処置するに適した化合物を選択するための方法であって、以下の工程：
（ａ）二相性溶解度を有するアミン含有化合物を被験体に経皮的に投与する工程；および
（ｂ）疼痛が該被験体において処置されるか否かを検出し、それにより、被験体における疼痛を処置するに適した化合物を選択する工程、
を包含する、方法。
【請求項３６】  被験体における疼痛の処置のための経皮組成物であって、以下：
（ａ）被験体における求心性ニューロン伝達をブロックするに有効な量の、求心性ニューロン伝達をブロックし得る化合物；および
（ｂ）該化合物の経皮的送達に適した、薬学的に受容可能なキャリア、
を含む、経皮組成物。
【請求項３７】  求心性ニューロン伝達をブロックするに適した前記化合物の活性を増強する薬剤をさらに含む、請求項３６に記載の経皮組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月29日(2006.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  害虫、例えば昆虫を罠で捕獲および/または殺す方法において、罠で捕獲または殺す害虫の少なくとも一部を、１種以上の農薬または行動変更化学薬品と組み合わせて、少なくとも１種の磁性材料を含むまたは該磁性材料から構成される粒子を含有する粒状組成物に暴露する方法。
【請求項２】  前記粒子が平均粒子径２〜１００μｍを有する請求項１記載の方法。
【請求項３】  前記磁性材料が強磁性酸化物である請求項１または２のいずれか１項記載の方法。
【請求項４】  前記粒子が害虫の存在する領域内の表面、好ましくは水平に対して傾斜した表面に適用される請求項１〜３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】  前記組成物が少なくとも１０重量％の磁性粒子を含有する請求項１〜４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】  前記農薬または行動変更化学薬品が前記磁性材料の粒子と混合される請求項１〜５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】  前記農薬または行動変更化学薬品が前記磁性材料の粒子上に被覆された請求項１〜５のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】  前記粒子が前記磁性材料を含浸および/または被覆した不活性基材のコアを含有する複合粒子である請求項１〜７のいずれか１項記載の方法。
【請求項９】  前記コアが二酸化珪素、珪酸マグネシウム、珪藻土、セルロース、あるいは天然または合成ポリマーを含む請求項８記載の方法。
【請求項１０】  前記不活性基材がそこに含浸または結合した農薬または行動変更化学薬品を有する請求項８または９のいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】  前記農薬が、殺虫剤、殺菌剤、ダニ殺し剤、昆虫生長調整剤または化学不妊剤である請求項１０記載の方法。
【請求項１２】  前記農薬がバクテリア、ウィルスまたは菌類である請求項１〜１０のいずれか１項記載の方法。
【請求項１３】  前記行動変更薬品がフェロモンである請求項１〜１０のいずれか１項記載の方法。
【請求項１４】  前記農薬または行動変更薬品が少なくとも０．１重量％の前記粒子のコアを含有する請求項６、７または１０〜１３のいずれか１項記載の方法。
【請求項１５】  含浸または結合した農薬または行動変更薬品を有する不活性物質のコアをそれぞれ含む複合粒子を含有し、該コアが磁性材料を含浸または被覆される粒状の農薬組成物。
【請求項１６】  前記コアが二酸化珪素、珪酸マグネシウム、珪藻土、セルロース、あるいは天然または合成ポリマーを含む請求項１５記載の農薬組成物。
【請求項１７】  農薬または行動変更薬品と混合した磁性材料を含有または磁性材料から成る粒子、或いは農薬または行動変更薬品を被覆した磁性材料粒子を含有する粒状の農薬組成物。
【請求項１８】  前記農薬が殺虫剤、殺菌剤、ダニ殺し剤、昆虫生長調整剤または化学不妊剤である請求項１５〜１７のいずれか１項記載の農薬組成物。
【請求項１９】  前記農薬がバクテリア、ウィルスまたは菌類である請求項１５〜１７のいずれか１項記載の農薬組成物。
【請求項２０】  前記行動変更薬品がフェロモンである請求項１５〜１７のいずれか１項記載の農薬組成物。
【請求項２１】  前記農薬または行動変更薬品が少なくとも０．１重量％の前記粒子のコアを含有する請求項１５〜２０のいずれか１項記載の農薬組成物。
【請求項２２】  前記磁性材料が強磁性酸化物である請求項１５〜２１のいずれか１項記載の農薬組成物。
【請求項２３】  ハウジング、該ハウジング領域、または磁性的に分極化した材料を含有する該ハウジング内の領域を含む昆虫罠であって、該領域が該磁性的に分極化された材料の極性と反対の極性を有する磁性材料を含有するかまたはそれから成る粒子を含む組成物で被覆されている昆虫罠。
【請求項２４】  前記磁性的に分極化した材料の領域が前記ハウジングの少なくとも１つの壁面の一部によって形成される請求項２３記載の昆虫罠。
【請求項２５】  前記磁性的に分極化した材料の領域が前記ハウジング内に配置された脱着可能なインサートを含む請求項２３または２４のいずれか１項記載の昆虫罠。
【請求項２６】  前記領域が水平に対して傾斜した表面を有する請求項２３または２４のいずれか１項記載の昆虫罠。
【請求項２７】  前記磁性材料が強磁性酸化物である請求項２３〜２６のいずれか１項記載の昆虫罠。
【請求項２８】  前記領域が、請求項１３〜２０のいずれか１項記載の農薬組成物の粒子で被覆されている請求項２３〜２７のいずれか１項記載の昆虫罠。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月29日(2006.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ウイルス感染とそれによって誘発される腫瘍との治療に用いる治療用薬剤の調製のための放射免疫複合体（ＲＩＣ）の使用であって、該ＲＩＣが免疫学的に有効な成分として、
（ａ）  それぞれが感染細胞の原形質膜上で発現されるウイルス構造タンパク質のエピトープに親和性を有するレセプタ分子およびその断片と、
（ｂ）  突然変異誘発により修飾される細胞レセプタの断片であって、感染細胞の原形質膜上で発現されるウイルス構造タンパク質のエピトープに親和性を有する該断片と
を含み、放射性成分として、
（ｃ）  アルファエミッタまたはベータエミッタ
を含むことを特徴とする放射免疫複合体（ＲＩＣ）の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月8日(2006.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ジアルキル芳香族化合物を粗芳香族ジカルボン酸に酸化し；
酸化工程の生成物を、パラジウム触媒の存在下に水素と接触させ；そして
水素化工程の間に、添加する水素及び一酸化炭素に基づいて１０００ppm又はそれ未満の量の一酸化炭素を導入する
工程を含んでなる芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項２】  パラジウム触媒を炭素基体上に付与する請求項１に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項３】  酸化工程の生成物を水素化工程に先立って溶媒に溶解する請求項１に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項４】  水を溶媒として使用する請求項３に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項５】  酸化工程の生成物を溶媒の標準沸点より高い高温でその溶媒に溶解する請求項３に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項６】  酸化工程が芳香族ジカルボン酸着色体及び芳香族カルボン酸アルデヒドを生成させる請求項１に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項７】  酸アルデヒドの消失を監視し、そしてその消失速度が所定の最小値より小さいとき、一酸化炭素の導入を減少させる工程を更に含んでなる請求項６に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項８】  水素化工程が芳香族カルボン酸アルデヒドを芳香族アルキルカルボン酸及び芳香族アルコールカルボン酸に水素化する請求項６に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項９】  水素化工程の間に一酸化炭素を断続的に導入する請求項１に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項１０】  芳香族ジカルボン酸を結晶化させる工程を、水素化工程の後に、更に含んでなる請求項１に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項１１】  添加する水素及び一酸化炭素に基づいて、一酸化炭素を１００〜５００ppm の濃度に維持する請求項１に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項１２】  添加する水素及び一酸化炭素に基づいて、一酸化炭素を１０〜１０００ppm の濃度に維持する請求項１に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項１３】  パラジウム触媒をＴｉＯ2 基体上に付与する請求項１に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項１４】  ｍ−キシレン又はｐ−キシレンを酸化して、それぞれ、粗イソフタル酸又は粗テレフタル酸を生成させ；
酸化工程の生成物を、パラジウム触媒の存在下に水素と接触させ；そして
この水素化工程の間に、添加する水素及び一酸化炭素に基づいて１０００ppm又はそれ未満の量の一酸化炭素を導入する
工程を含んでなる芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項１５】  パラジウム触媒を炭素基体上に付与する請求項１４に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項１６】  酸化工程の生成物を水素化工程に先立って溶媒に溶解する請求項１４に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項１７】  水を溶媒として使用する請求項１６に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項１８】  酸化工程の生成物を溶媒の標準沸点より高い温度でその溶媒に溶解する請求項１６に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項１９】  酸化工程が、ｍ−キシレンを酸化する場合にイソフタル酸、３−カルボキシベンズアルデヒド及びフルオレノン類を生成し、そしてｐ−キシレンを酸化する場合にはテレフタル酸、４−カルボキシベンズアルデヒド及びフルオレノン類を生成する請求項１４に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項２０】  ｍ−キシレンを酸化する場合には、３−カルボキシベンズアルデヒドの消失を監視し、そしてｐ−キシレンを酸化する場合には、４−カルボキシベンズアルデヒドの消失を監視し、そしてその消失速度が所定の最小値より小さいとき、一酸化炭素の量を減少させる工程を更に含んでなる請求項１９に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項２１】  水素化工程が、ｍ−キシレンを酸化する場合に、３−カルボキシベンズアルデヒドを水素化してｍ−トルイル酸及び３−ヒドロキシメチル安息香酸にし、そしてｐ−キシレンを酸化する場合には、４−カルボキシベンズアルデヒドを水素化してｐ−トルイル酸及び４−ヒドロキシメチル安息香酸にする請求項１９に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項２２】  水素化工程の間に一酸化炭素を断続的に導入する請求項１４に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項２３】  水素化工程の後に、イソフタル酸又はテレフタル酸を結晶化させる工程を更に含んでなる請求項１４に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項２４】  一酸化炭素を、添加する水素及び一酸化炭素に基づいて１００〜５００ppm の濃度に維持する請求項１４に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項２５】  一酸化炭素を、添加する水素及び一酸化炭素に基づいて１０〜１０００ppm の濃度に維持する請求項１４に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項２６】  パラジウム触媒がＴｉＯ2 基体上に付与されている請求項１４に記載の芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項２７】  ジアルキル芳香族化合物を粗芳香族ジカルボン酸に酸化して芳香族ジカルボン酸着色体及び芳香族カルボン酸アルデヒドを生成させ；
酸化工程の生成物を、パラジウム触媒の存在下に水素と接触させ；そして
水素化工程の間に、添加する水素重量の１／９９９又はそれ未満の量の一酸化炭素を導入する
工程を含んでなる芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項２８】  ジアルキル芳香族化合物を、不純物を含む粗芳香族ジカルボン酸に酸化し；
酸化工程の生成物を、パラジウム触媒の存在下に水素と接触させて不純物を水素化し；そして
水素化工程の間に添加する水素及び一酸化炭素に基づいて１０００ppm又はそれ未満の量の一酸化炭素を導入する
工程を含んでなる芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【請求項２９】  ジアルキル芳香族化合物を、不純物を含む粗芳香族ジカルボン酸に酸化し；
酸化工程の生成物を、パラジウム触媒の存在下に水素と接触させて不純物を水素化させ；そして
水素化工程の間に、添加する水素重量の１／９９９又はそれ未満の量の一酸化炭素を導入する
工程を含んでなる芳香族ジカルボン酸の精製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月11日(2006.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  金属含有供給材料から金属を生成するための直接製錬方法において、
（ａ）冶金用容器中に金属層及びその金属層の上のスラグ層を有する溶融浴を形成し、
（ｂ）複数のランス／羽口を経て、金属含有供給材料及び固体炭素質材料を前記金属層中へ注入し、次いで、前記溶融浴の名目上静止した表面より上の頂部空間中へ溶融材料を、はねかかった飛沫、液滴及び流れとして放出させて、遷移領域を形成し、
（ｃ）前記金属層中で金属含有材料を製錬して金属にし、
（ｄ）一つ以上のランス／羽口を経て前記容器中へ酸素含有ガスを注入し、前記溶融浴から放出された反応ガスを後燃焼し、それによって前記遷移領域中で上昇してから下降する溶融材料のはねかかった飛沫、液滴及び流れが前記溶融浴への熱移動を促進し、それによって前記遷移領域が、その遷移領域と接触している側壁を通る容器からの熱損失を最小にする、
諸工程を有し、然も、大きなスラグ存在量を維持することにより上記方法を制御する工程を含む、上記直接製錬方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】  （ａ）前記酸素含有ガスをスラグ層に向かって注入し、そして、遷移領域へ侵入させ、また、
（ｂ）前記酸素含有ガスの流れが前記一つ以上のランス／羽口の下方部分の周りの溶融材料のはねかかった飛沫、液滴及び流れをそらせ、前記一つ以上のランス／羽口の先端の周りにガス連続空間が形成される、
ように
酸素含有ガスのための一つ以上のランス／羽口を配置する工程と、
酸素含有ガスを一定流速で注入する工程と、
を含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月24日(2006.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  トップ表面平面とそれと背中合わせの裏面とを有する製紙ベルトにおいて、前記ベルトが、
複数の相互織り糸を有するファブリックと、
複数のパイルとからなり、前記各パイルが基部端から末端にかけて延在しており、前記末端が前記裏面と前記トップ表面平面との中間にあり、前記パイルが糸を横切っており、これにより前記パイルが片寄るのを抑制して前記糸を支持するベルト。
【請求項２】  前記各パイルが糸を横切っており、前記パイルが前記ベルトの前記トップ表面平面内で、または前記ベルトの前記トップ表面平面に対して垂直方向に片寄るのを抑制して前記糸を支持する請求項１記載のベルト。
【請求項３】  前記各パイルが分離している請求項１および２のいずれか１項に記載のベルト。
【請求項４】  前記ファブリックが長いナックルを与える、あるパターンで織られた縦糸と横糸とを有し、前記長いナックルが縦糸または横糸からなり、かつ、それぞれ２本の縦糸または２本の横糸を横切って延びるのに十分な長さを有し、好ましくは前記パイルが前記長いパイルと重なり合っている請求項１、２および３のいずれか１項に記載のベルト。
【請求項５】  前記基部端部が前記ベルトの前記裏面と並置される請求項１、２、３および４のいずれか１項に記載のベルト。
【請求項６】  トップ表面平面とそれと背中合わせの裏面と有する多層製紙ベルトにおいて、前記ベルトが、
前記トップ表面平面を定める第１層を形成するように織られた複数の第１糸と、
前記裏面を定める第２層を形成するように織られた複数の第２糸と、ここで、前記第１層と前記第２層とは互いの面が対面するように接合されており、複数のパイルとを備え、前記パイルが基部端から末端にかけて延在しており、前記末端が前記裏面と前記トップ表面平面との中間にあり、これにより前記パイルが前記第１層の糸を支持するベルト。
【請求項７】  前記パイルの前記基部端が前記第２層の前記糸を横切る請求項６記載のベルト。
【請求項８】  前記パイルの前記基部端が前記ベルトの前記裏面と並置される請求項６記載のベルト。
【請求項９】  複数の第１パイルと複数の第２パイルとを有し、前記第１パイルは前記第１パイルの前記末端が前記ベルトの前記裏面を越えない第１高さを保って配置され、前記第２パイルが前記ベルトの前記裏面を越えない、前記第１高さと異なる、第２高さを保って配置される末端を有する請求項６、７および８のいずれか１項に記載のベルト。
【請求項１０】  トップ表面平面とそれと背中合わせの裏面とを有する製紙ベルトにおいて、前記ベルトが、
第１層を形成している複数の第１糸と、第２層を形成している複数の第２糸と、前記トップ表面平面を越えて外方に延在しない、複数のパイルとを有する多層ファブリックを備え、前記パイルは前記複数の第１糸の一部が互いに重なり合うように、前記複数の第１糸の一部と結ばれており、前記ベルトが、好ましくは紙の表面に第１圧痕形成密度および第２圧痕形成密度の異なる２つの圧痕形成密度を用いて圧痕を形成しており、ここで、前記第１圧痕形成密度が前記第２圧痕形成密度よりも大きいベルト。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【発明の概要】
本発明は製紙ベルトよりなる。製紙ベルトはトップ表面平面とそれと背中合わせの裏面とを備える。ベルトは複数の相互織り糸を有するファブリックを備える。ベルトはさらに複数のパイルを備え、各パイルは基端部から末端にかけて延在する。基端部はベルトの裏面に一致し、またはベルトの裏面を越えない、ある高さを保って並置される。末端はベルトの裏面とトップ表面平面との中間にある。パイルは糸を横切っており、これによりパイルがベルトのトップ表面平面に対して垂直方向に、および／または平面内で片寄るのを抑制して糸を支持する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
製紙ベルトは多層製紙ベルトでもよい。多層ベルトでは、複数の第１糸が第１層を形成し、複数の第２糸が第２層を形成する。パイルは、ベルトの裏面に並置される基端部から末端にかけて延在する。パイルの末端は、糸からなる第１層、糸からなる第２層、他の適当な高さに、またはそれらを組み合わせた位置に並置される。同様に、パイルの基端部は、ベルトの裏面、糸からなる第１層または第２層、他の適当な高さに、またはそれらを組み合わせた位置に並置される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月10日(2006.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 
光変調器に於いて、
入力光フアイバと、
該入力光フアイバからの入射光を該変調器内の別々の通路に沿う２つの偏波成分にセパレートする偏波用セパレータとを具備しており、該通路はセパレーション平面を規定しており、該変調器は又、
該通路を横切る電界を提供する電極を有する固体電気光学的位相リターダを具備しており、前記位相リターダ内の前記電界は該セパレータからの該２つの偏波成分に関し相対的位相遅れを発生させており、該変調器は更に、
変調された光信号を形成するために該リターダからの該偏波成分を組み合わせる偏波用リコンビナーと、そして
該リコンビナーに光学的にカップルされ該変調された光信号を受信する出力フアイバとを具備することを特徴とする光変調器。
【請求項２】 
光信号を変調する方法に於いて、
入力光フアイバからの光を、該光を複数の偏波成分にセパレートするために、偏波セパレータへカップルする過程と、
該成分間の相対的位相遅れを提供するために固体電気光学的位相リターダで該偏波成分の光路を横切る方向に電界を印加する過程と、
変調された出力信号を形成するために該偏波成分を組み合わせる過程とを具備することを特徴とする光信号を変調する方法。
【請求項３】 
光変調器に於いて、
入力光フアイバと、
該入力光フアイバからの入射光を該変調器内の別々の通路に沿う２つの偏波成分にセパレートする偏波セパレータと、
該通路を横切る電界を提供する電極を有する固体電気光学的位相リターダとを具備しており、前記位相リターダ内の前記電界は該セパレータからの該２つの偏波成分に関し相対的位相遅れを作り、該変調器は又、
変調された光信号を形成するために該リターダからの該偏波成分を組み合わせる偏波リコンビナーと、
該リコンビナーに光学的にカップルされ該変調された光信号を受信する出力フアイバと、そして
光学的センサーであるが該センサーが該変調された光信号の少なくとも１部分を受信するように光学的にカップルされている該光学的センサーとを具備しており、該センサーが該変調器を制御するフイードバック信号を提供することを特徴とする光変調器。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月28日(2006.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  レーザー光の所定部分を光路に沿って加工物に角度的に操縦する少なくとも１つの走査鏡を含む調節可能な焦点距離を有する改良全反射ハイパワーレーザー光走査装置であって、
レーザー光の光路にあり、レーザー光を第１焦点に焦点合わせさせるのに十分湾曲した第１鏡と、
前記第１焦点から間隔を隔てられ、レーザー光を第２焦点に焦点合わせさせるのに十分湾曲し、前記第２焦点での前記レーザー光の焦点を調節するのに十分所定方向に並進可能な第２鏡と、
前記第１鏡と第２鏡との間にあり、前記レーザー光を前記第２鏡に通すための孔を前記第１焦点に有する第３鏡と、を有し、
該第３鏡は、前記第２鏡に通された実質的に全ての前記レーザー光を前記第２焦点に反射させる、改良全反射ハイパワーレーザー光走査装置。
【請求項２】  前記第１鏡が軸外れ放物面鏡である、請求項１に記載の改良全反射ハイパワーレーザー光走査装置。
【請求項３】  前記第２鏡が実質的に軸上楕円鏡である、請求項１に記載の改良全反射ハイパワーレーザー光走査装置。
【請求項４】  前記第３鏡がレーザー光を加工物に操縦するように移動できる、請求項１に記載の改良全反射ハイパワーレーザー光走査装置。
【請求項５】  レーザー光の所定部分を光路に沿って加工物に角度的に操縦する少なくとも１つの走査鏡を含む調節可能な焦点距離を有する改良全反射ハイパワーレーザー光走査装置であって、
レーザー光の光路にあり、レーザー光を第１焦点に焦点合わせさせるのに十分湾曲した第１鏡と、
前記第１焦点から間隔を隔てられ、レーザー光を第２焦点に焦点合わせさせるのに十分湾曲し、前記第２焦点での前記レーザー光の焦点を調節するのに十分所定方向に並進可能な第２鏡と、
前記第１鏡と第２鏡との間にあり、前記レーザー光を前記第２鏡に通すための孔を、前記第１焦点で反射面の面に有する第３鏡と、を有し、
該第３鏡は、前記第２鏡に通された実質的に全ての前記レーザー光を前記第２焦点に反射させる、改良全反射ハイパワーレーザー光走査装置。
【請求項６】  前記孔が直径ｄを有し、レーザー光は、投射直径ＤとＤ＞４．５ｄの相互関係を有し、該レーザー光は、前記第３鏡の反射面によって受けられたレーザー光のおよそ９５％以上を前記第３鏡から前記第２焦点に反射する、請求項５に記載の改良全反射ハイパワーレーザー光走査装置。
【請求項７】  前記第３鏡がレーザー光を加工物に操縦するように移動できる、請求項６に記載の改良全反射ハイパワーレーザー光走査装置。