【誤訳訂正書】
【提出日】平成17年5月31日(2005.5.31)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  改良された特性を有する高温基体であって、
120℃を超えるガラス転移点を有するポリマー基体と、
少なくとも１の第１バリア層及び少なくとも１の第１ポリマー層から本質的になる少なくとも１の第１バリアスタックと、を含み、
該少なくとも１の第１バリアスタックは該ポリマー基体に隣接しており、
該少なくとも１の第１のバリアスタックを通過する酸素透過速度は、23℃、相対湿度0％で、0.005cc/m2/dayよりも低いことを特徴とする高温基体。
【請求項２】  ポリマー基体は、ポリノルボルネン、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリカーボネート、及び高いガラス転移点を有する環式オレフィンポリマーから選択される請求項１に記載の高温基体。
【請求項３】  少なくとも１の第１バリア層は、実質的に透明である請求項１に記載の高温基体。
【請求項４】  少なくとも１の第１バリア層の少なくとも一つは、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物、金属オキシナイトライド、金属オキシボライド及びこれらの組合せから選択される物質を含む請求項１に記載の高温基体。
【請求項５】  金属酸化物は、シリコンオキサイド、アルミニウムオキサイド、チタニウムオキサイド、インジウムオキサイド、チンオキサイド、インジウムチンオキサイド、タンタルオキサイド、ジルコニウムオキサイド、ニオブオキサイド及びこれらの組合せから選択される請求項４に記載の高温基体。
【請求項６】  金属窒化物は、アルミニウムナイトライド、シリコンナイトライド、ボロンナイトライド及びこれらの組合せから選択される請求項４に記載の高温基体。
【請求項７】  金属オキシナイトライドは、アルミニウムオキシナイトライド、シリコンオキシナイトライド、ボロンオキシナイトライド及びこれらの組合せから選択される請求項４に記載の高温基体。
【請求項８】  少なくとも１の第１バリア層は、実質的に不透明である請求項１に記載の高温基体。
【請求項９】  少なくとも１の第１バリア層の少なくとも一つは、不透明金属、不透明ポリマー、不透明セラミック、及び不透明サーミットから選択される請求項１に記載の高温基体。
【請求項１０】  少なくとも１の第１ポリマー層の少なくとも一つは、アクリレート含有ポリマーを含む請求項１に記載の高温基体。
【請求項１１】  さらに、ポリマー基体に隣接するポリマー平滑層を含む請求項１に記載の高温基体。
【請求項１２】  少なくとも１の第１バリア層は、２層のバリア層を含む請求項１に記載の高温基体。
【請求項１３】  少なくとも１の第１バリアスタックを通過する酸素透過速度は、38℃、相対湿度90%で、0.005cc/m2/dayよりも小さい請求項１に記載の高温基体。
【請求項１４】  少なくとも１の第１バリアスタックを通過する水蒸気透過速度は、38℃、相対湿度100%で、0.005g/m2/dayよりも小さい請求項１に記載の高温基体。
【請求項１５】  さらに、少なくとも１の第１バリアスタックに隣接する環境感応性表示デバイスを含む請求項１に記載の高温基体。
【請求項１６】  さらに、少なくとも１の第２バリア層と少なくとも１の第２ポリマー層とを含む、環境感応性表示デバイスに隣接する少なくとも１の第２バリアスタックを含み、少なくとも１の第２バリアスタックが環境感応性表示デバイスを被包する請求項１５に記載の高温基体。
【請求項１７】  さらに、少なくとも１の第２バリアスタックに隣接する蓋を含む請求項１６に記載の高温基体。
【請求項１８】  ポリマー基体が、約150℃を超えるガラス転移点を有する請求項１に記載の高温基体。
【請求項１９】  ポリマー基体が、約200℃を超えるガラス転移点を有する請求項１に記載の高温基体。
【請求項２０】  120℃を超えるガラス転移点を有する基体を準備する工程と、
ポリマー基体に隣接させて、少なくとも１の第バリア層と少なくとも１の第１ポリマー層とから本質的になる少なくとも１の第１バリアスタックを置く工程と、を含み、
該少なくとも１の第１のバリアスタックを通過する酸素透過速度は、23℃、相対湿度0％で、0.005cc/m2/dayよりも低い、改良された特性を有する高温基体を製造する方法。
【請求項２１】  少なくとも１の第１バリアスタックをポリマー基体に隣接させて置く工程は、少なくとも１の第１バリアスタックをポリマー基体上にデポジットすることを含む請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】  少なくとも１の第１バリアスタックを真空蒸着する請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】  少なくとも１の第１バリア層を真空蒸着し、少なくとも１の第１ポリマー層をデポジットする請求項２１に記載の方法。
【請求項２４】  少なくとも１の第１バリアスタックをポリマー基体に隣接させて置く工程は、ポリマー基体上に少なくとも１の第１バリアスタックを積層させる請求項２０に記載の方法。
【請求項２５】  少なくとも１の第１バリアスタックを接着剤を用いて積層させる請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】  少なくとも１の第１バリアスタックを熱を用いて積層させる請求項２４に記載の方法。
【請求項２７】  少なくとも１の第１バリアスタックをはんだを用いて積層させる請求項２４に記載の方法。
【請求項２８】  少なくとも１の第１バリアスタックを超音波溶接を用いて積層させる請求項２４に記載の方法。
【請求項２９】  少なくとも１の第１バリアスタックを圧力を用いて積層させる請求項２４に記載の方法。
【請求項３０】  さらに、環境感応性表示デバイスを少なくとも１の第１バリアスタック上に置くことを含む請求項２０に記載の方法。
【請求項３１】  環境感応性表示デバイスを基体上に置く工程は、環境感応性表示デバイスを少なくとも１の第１バリアスタック上にデポジットすることを含む請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】  環境感応性表示デバイスを真空蒸着する請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】  環境感応性表示デバイスを基体上に置く工程は、環境感応性表示デバイスを基体上に積層させることを含む請求項３０に記載の方法。
【請求項３４】  さらに、少なくとも１の第２バリア層と少なくとも１の第２ポリマー層とを含む第２バリアスタックを、基体上の環境感応性表示デバイスの上方に置いて、環境感応性表示デバイスを被包する工程を含む請求項３０に記載の方法。
【請求項３５】  環境感応性表示デバイスの上に少なくとも１の第２バリアスタックを置く工程は、少なくとも１の第２バリアスタックを環境感応性表示デバイス上にデポジットすることを含む請求項３４に記載の方法。
【請求項３６】  少なくとも１の第２バリアスタックを真空蒸着する請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】  少なくとも１の第１バリア層を真空蒸着し、少なくとも１の第１ポリマー層をデポジットする請求項３５に記載の方法。
【請求項３８】  ポリマー基体は、約150℃を越えるガラス転移点を有する請求項２０に記載の方法。
【請求項３９】  ポリマー基体は、約200℃を越えるガラス転移点を有する請求項２０に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００４】
高いガラス転移点を有する可撓性プラスチック材料は、ディスプレイに用いるに非常に有望である。本明細書において、高いガラス転移点を有するプラスチック材料とは、ガラス転移点が約120℃以上、好ましくは約150℃以上、最も好ましくは約200℃以上のものをいう。このようなポリマーの例としては、ポリノルボルネン（Tg:320℃）、ポリイミド（Tg:270〜388℃）、ポリエーテルスルホン（Tg:184〜230℃）、ポリエーテルイミド（Tg:204〜299℃）、ポリアリーレート（Tg:148〜245℃）、ポリカーボネート（Tg:150℃）、及び高いガラス転移点を有する環式オレフィンポリマー（Tg:171℃、Lofo High Tech Film, GMBH（Weil am Rhein, Germany）から商標Transphan（登録商標）で販売されている）を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの材料の温度安定性及び高いガラス転移点ゆえに、これらの材料は、ポリエチレンテレフタレート（Tg:78℃）やポリエチレンナフタネート（Tg:120℃）などの現存する商品ポリマーの温度限界を解消するに有望である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
基体105は、約120℃を超えるガラス転移点、好ましくは約150℃を超えるガラス転移点、より好ましくは約200℃を超えるガラス転移点を有するポリマーから作られている。このようなポリマーの例としては、ポリノルボルネン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリアリーレート、ポリカーボネート、及び高いガラス転移点を有する環式オレフィンポリマーなどを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。