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【手続補正書】
【提出日】平成17年10月27日(2005.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶剤及び金属錯体触媒の存在下、反応温度Ｔｒｘｎで、酸素含有ガスを用いて一価フェノールを酸化的カップリングして、ポリ（アリーレンエーテル）樹脂を含む反応混合物を生成することを含むポリ（アリーレンエーテル）の製造方法であって、
反応混合物が曇り点Ｔｃｌｏｕｄを有しており、
ＴｒｘｎがＴｃｌｏｕｄよりも高い、方法。
【請求項２】
前記一価フェノールが次式の一価フェノールを含む、請求項１記載の方法。
【化１】
2005509071.tif 000001
式中、Ｑ１は各々独立に、ハロゲン、第一又は第二Ｃ１−Ｃ７アルキル、フェニル、Ｃ１−Ｃ７ハロアルキル、Ｃ１−Ｃ７アミノアルキル、Ｃ１−Ｃ７炭化水素オキシ、ハロゲン原子と酸素原子の間に２個以上の炭素原子が介在するＣ２−Ｃ７ハロゲン化炭化水素オキシからなる群から選択され、Ｑ２は各々独立に、水素、ハロゲン、第一又は第二Ｃ１−Ｃ７アルキル、フェニル、Ｃ１−Ｃ７ハロアルキル、Ｃ１−Ｃ７炭化水素オキシ、ハロゲン原子と酸素原子の間に２個以上の炭素原子が介在するＣ２−Ｃ７ハロゲン化炭化水素オキシからなる群から選択される。
【請求項３】
前記一価フェノールが２，６−ジメチルフェノール及び２，３，６−トリメチルフェノールを含む、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記溶剤がＣ６−Ｃ１８芳香族炭化水素を含む、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記金属錯体触媒が周期表のVIＢ族、VIIＢ族又はＩＢ族の金属イオンを含む、請求項１記載の方法。
【請求項６】
金属錯体触媒が、クロム、マンガン、コバルト、銅又はこれらの金属１種以上の組合せを含む、請求項１記載の方法。
【請求項７】
金属錯体触媒が以下の（ａ）〜（ｆ）のいずれかを含む、請求項１記載の方法。
（ａ）次式のアルキレンジアミン配位子
(Ｒｂ)２Ｎ−Ｒａ−Ｎ(Ｒｂ)２
（式中、Ｒａは２個又は３個の脂肪族炭素原子が２個のジアミン窒素原子の間に最短結合を形成する置換又は非置換の二価残基であり、Ｒｂは各々独立に水素又はＣ１−Ｃ８アルキルである。）、
（ｂ）Ｃ４−Ｃ１２第二モノアミン、
（ｃ）アミノ窒素とアルコール酸素の間に２個以上の炭素原子が介在するＣ４−Ｃ１２アミノアルコール、
（ｄ）次式のオキシン化合物
【化２】
2005509071.tif 000002
（式中、Ｒ１〜Ｒ６は各々独立に、水素、ハロゲン、ヒドロキシル、ニトロ、アミノ、Ｃ１−Ｃ６アルキル及びＣ１−Ｃ６アルコキシルからなる群から選択される。）、
（ｅ）構造(Ｒｅ)(Ｒｆ)(Ｒｇ)Ｎ（式中、Ｒｅ、Ｒｆ及びＲｇは各々独立に、Ｃ１−Ｃ１６アルキル基を示し、ただしＲｅ、Ｒｆ及びＲｇは全体で計４〜１８個の炭素原子を有する）で表される第三モノアミン、又は
（ｆ）Ｃ３−Ｃ１２第一アルキルアミン。
【請求項８】
トルエン及びジ―ｎ―ブチルアミン含有銅錯体触媒の存在下、反応温度Ｔｒｘｎで、酸素含有ガスを用いて２，６−ジメチルフェノールと２，３，６−トリメチルフェノールを酸化的カップリングして、ポリ（アリーレンエーテル）コポリマー樹脂を含む反応混合物を生成することを含むポリ（アリーレンエーテル）の製造方法であって、
２，６−ジメチルフェノール対２，３，６−トリメチルフェノールの重量比が３：１〜６：１であり、
反応混合物が曇り点Ｔｃｌｏｕｄを有しており、
ＴｒｘｎがＴｃｌｏｕｄよりも高い、方法。
【請求項９】
トルエン及びジ―ｎ―ブチルアミン含有銅錯体触媒の存在下、酸素含有ガスを用いて２，６−ジメチルフェノールと２，３，６−トリメチルフェノールを酸化的カップリングして、樹脂の全重量に基づいて０．４〜２重量％のアミン導入量を有するポリ（アリーレンエーテル）コポリマー樹脂を含む反応混合物を生成することを含むポリ（アリーレンエーテル）の製造方法であって、
２，６−ジメチルフェノール対２，３，６−トリメチルフェノールの重量比が３：１〜６：１であり、
酸化的カップリング反応が発熱段階と吸熱段階を含み、カップリング反応が吸熱段階の間、４５℃以上の温度に加熱することを含む、方法。
【請求項１０】
トルエン及び銅錯体触媒の存在下、反応温度Ｔｒｘｎで、酸素含有ガスを用いて２，６−ジメチルフェノールと２，３，６−トリメチルフェノールを酸化的カップリングして、ポリ（アリーレンエーテル）コポリマー樹脂を含む反応混合物を生成することを含むポリ（アリーレンエーテル）の製造方法であって、
Ｔｒｘｎが次の不等式を満足する、方法。
【数１】
2005509071.tif 000003
式中、Φｓはコポリマー濃度（重量％で表示）、ＩＶはクロロホルム中２５℃でのコポリマーの固有粘度（ｍＬ／ｇで表示）、ＴＭＰはコポリマーの２，３，６−トリメチルフェノール含量（重量％で表示）である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月20日(2005.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）１種類以上の芳香族ポリカーボネート、
（ii）ビニル芳香族モノマー、モノエチレン性不飽和ニトリルモノマー及びＣ１〜Ｃ１２アルキル（メタ）アクリレートモノマーからなる群から選択される１種以上のモノマーに由来する構造単位を有する１種類以上の第２のポリマー、
（iii）１種類以上のゴム変性グラフトコポリマー、
（iv）１種類以上のポリマー状又は非ポリマー状有機リン含有化学種、
（ｖ）１種類以上のドリップ防止剤、並びに
（vi）当該組成物全体の重量を基準にして０．０１〜０．２５重量％の範囲の量で存在する１種類以上のペルフルオロアルカンスルホン酸塩
を含んでなる難燃性樹脂組成物。
【請求項２】
芳香族ポリカーボネートが、６−ヒドロキシ−１−（４′−ヒドロキシフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン、４，４′−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシリデン）ジフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−エチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）プロパン、２，４′−ジヒドロキシジフェニルメタン、ビス（２−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−フェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−５−ニトロフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３−メトキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−２−クロロフェニル）エタン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルプロパン、３，５，３′，５′−テトラクロロ−４，４′−ジヒドロキシフェニル）プロパン、２，４′−ジヒドロキシフェニルスルホン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、６，６′−ジヒドロキシ−３，３，３′，３′−テトラメチル−１，１′−スピロビインダン、ヒドロキノン、レゾルシノール、Ｃ１−３アルキル置換レゾルシノール、３−（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，３−トリメチルインダン−５−オール及び１−（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン−５−オールからなる群から選択される１種類以上の二価フェノールに由来する構造単位を含んでなる、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
第２のポリマーが、１種以上のビニル芳香族モノマーに由来する第１の構造単位と１種以上のモノエチレン性不飽和ニトリルモノマーに由来する第２の構造単位とを含む、請求項１記載の組成物。
【請求項４】
前記ゴム変性グラフトコポリマーが連続硬質熱可塑性樹脂相中に分散した不連続ゴム相を含んでなり、硬質熱可塑性樹脂相の少なくとも一部分がゴム相に化学的にグラフト結合している、請求項１記載の組成物。
【請求項５】
前記有機リン含有化学種が、リン酸エステル、チオリン酸エステル、ホスホン酸エステル、チオホスホン酸エステル、ホスフィン酸エステル、チオホスフィン酸エステル、ホスフィン、トリフェニルホスフィン、ホスフィンオキシド、トリフェニルホスフィンオキシド、トリス（２−シアノエチル）ホスフィンオキシド、チオホスフィンオキシド及びホスホニウム塩からなる群から選択される、請求項１記載の組成物。
【請求項６】
前記ドリップ防止剤が１種類以上のフルオロポリマーからなる、請求項１記載の組成物。
【請求項７】
さらに、ポリ（アルキルアクリレート）又はポリ（アルキルメタクリレート）シェルを含む１種類以上のコア−シェル型耐衝撃性改良剤を含む、請求項１記載の組成物。
【請求項８】
組成物全体の重量を基準にして、
（vii）８８〜９８重量％の範囲の量で存在するビスフェノールＡポリカーボネート、
（viii）０．２〜６重量％の範囲の量で存在するスチレン−アクリロニトリルコポリマー、
（ix）０．２〜６重量％の範囲の量で存在する、ポリブタジエン又はポリ（スチレン−ブタジエン）ゴムとスチレン−アクリロニトリルコポリマーからなるゴム変性グラフトコポリマー、
（ｘ）２〜６重量％の範囲の量で存在する、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、レゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）及びビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）からなる群から選択される芳香族リン酸エステル、
（xi）０．１〜１重量％の範囲の量で存在するポリテトラフルオロエチレン、並びに
（xii）０．０５〜０．２重量％の範囲の量で存在するペルフルオロブタンスルホン酸カリウム
を含んでなる難燃性樹脂組成物。
【請求項９】
（ｉ）１種類以上の芳香族ポリカーボネート、
（ii）ビニル芳香族モノマー、モノエチレン性不飽和ニトリルモノマー及びＣ１〜Ｃ１２アルキル（メタ）アクリレートモノマーからなる群から選択される１種以上のモノマーに由来する構造単位を有する１種類以上の第２のポリマー、
（iii）１種類以上のゴム変性グラフトコポリマー、
（iv）１種類以上のポリマー状又は非ポリマー状有機リン含有化学種、
（ｖ）１種類以上のドリップ防止剤、並びに
（vi）当該組成物全体の重量を基準にして０．０１〜０．２５重量％の範囲の量で存在する１種類以上のペルフルオロアルカンスルホン酸塩
を含んでなる難燃性樹脂組成物の製造方法であって、
成分のブレンドの形成に適する条件下で当該組成物の成分を一緒に混合し、適宜、得られた組成物を粒状形態にすることを含んでなる方法。
【請求項１０】
組成物全体の重量を基準にして、
（vii）８８〜９８重量％の範囲の量で存在するビスフェノールＡポリカーボネート、
（viii）０．２〜６重量％の範囲の量で存在するスチレン−アクリロニトリルコポリマー、
（ix）０．２〜６重量％の範囲の量で存在する、ポリブタジエン又はポリ（スチレン−ブタジエン）ゴムとスチレン−アクリロニトリルコポリマーを含んでなるゴム変性グラフトコポリマー、
（ｘ）２〜６重量％の範囲の量で存在する、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、レゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）及びビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）からなる群から選択される芳香族リン酸エステル、
（xi）０．１〜１重量％の範囲の量で存在するポリテトラフルオロエチレン、並びに
（xii）０．０５〜０．２重量％の範囲の量で存在するペルフルオロブタンスルホン酸カリウム
を含む難燃性樹脂組成物の製造方法であって、
成分のブレンドを形成するのに適した条件下で組成物の成分を一緒に混合し、適宜、得られた組成物をその後粒状形態に成形することを含んでなる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月28日(2005.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（i）１種以上の芳香族ポリカーボネート、
（ii）１種以上のシリコーン源、
（iii）１種以上のホウ素源、並びに
（iv）適宜、ドリップ防止剤、ポリカーボネート樹脂以外の第二の熱可塑性樹脂及びゴム改質グラフトコポリマーからなる群から選択される１種以上
を含んでなる難燃性樹脂組成物。
【請求項２】
前記シリコーン源が、シロキサン構造単位を第二の非ケイ素含有ポリマー由来の構造単位と共に含むコポリマー、ヒドロキシ末端ポリ（ジオルガノシロキサン）、及び１以上のケイ素原子と１以上の芳香族部分と１以上のヒドロキシ基とを含む分子量５００未満の非ポリマー分子からなる群から選択される１種以上からなる、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
前記ホウ素源が、ホウ酸、酸化ホウ素及びリン酸ホウ素からなる群から選択される１種以上である、請求項１記載の組成物。
【請求項４】
さらに、２以上のヒドロキシ基を有する１種以上の多官能性アルコールを含む、請求項１記載の組成物。
【請求項５】
さらに、リン酸エステル、チオリン酸エステル、ホスホン酸エステル、チオホスホン酸エステル、ホスフィン酸エステル、チオホスフィン酸エステル、ホスフィン類、トリフェニルホスフィン、ホスフィンオキシド、トリフェニルホスフィンオキシド、トリス（２−シアノエチル）ホスフィンオキシド、チオホスフィンオキシド及びホスホニウム塩からなる群から選択される１種以上のポリマー状又は非ポリマー状有機リン化学種を含む、請求項１記載の組成物。
【請求項６】
（v）８８〜９８ｗｔ％の範囲内の量で存在するビスフェノールＡポリカーボネート、
（vi）ポリジメチルシロキサン構造単位をビスフェノールＡポリカーボネート構造単位と共に含むコポリマー、及びヒドロキシ末端ポリ（ジメチルシロキサン）からなる群から選択され、０．４〜３ｗｔ％の範囲内の量で存在する１種以上のシリコーン源、並びに
（vii）ホウ酸、酸化ホウ素及びリン酸ホウ素からなる群から選択され、０．２〜２ｗｔ％の範囲内の量で存在する１種以上のホウ素源（すべての量は組成物全体の重量を基準にしている）
を含んでなる難燃性樹脂組成物。
【請求項７】
（viii）６５〜８４ｗｔ％の範囲内の量で存在するビスフェノールＡポリカーボネート、
（ix）１０〜１８ｗｔ％の範囲内の量で存在するスチレン−アクリロニトリルコポリマー、
（x）ポリジメチルシロキサン構造単位をビスフェノールＡポリカーボネート構造単位と共に含むコポリマー、及びヒドロキシ末端ポリ（ジメチルシロキサン）からなる群から選択され、０．４〜３ｗｔ％の範囲内の量で存在する１種以上のシリコーン源、並びに
（xi）ホウ酸、酸化ホウ素及びリン酸ホウ素からなる群から選択され、０．２〜２ｗｔ％の範囲内の量で存在する１種以上のホウ素源（すべての量は組成物全体の重量を基準にしている）
を含んでなる難燃性樹脂組成物。
【請求項８】
（xii）６５〜８４ｗｔ％の範囲内の量で存在するビスフェノールＡポリカーボネート、
（xiii）ポリブタジエン又はポリ（スチレン−ブタジエン）ゴムとスチレン−アクリロニトリルコポリマーとを含み、２〜１４ｗｔ％の範囲内の量で存在するゴム改質グラフトコポリマー、
（xiv）ポリジメチルシロキサン構造単位をビスフェノールＡポリカーボネート構造単位と共に含むコポリマー、及びヒドロキシ末端ポリ（ジメチルシロキサン）からなる群から選択され、０．４〜３ｗｔ％の範囲内の量で存在する１種以上のシリコーン源、並びに
（xv）ホウ酸、酸化ホウ素及びリン酸ホウ素からなる群から選択され、０．２〜２ｗｔ％の範囲内の量で存在する１種以上のホウ素源（すべての量は組成物全体の重量を基準にしている）
を含んでなる難燃性樹脂組成物。
【請求項９】
（xvi）６５〜８４ｗｔ％の範囲内の量で存在するビスフェノールＡポリカーボネート、
（xvii）１０〜１８ｗｔ％の範囲内の量で存在するスチレン−アクリロニトリルコポリマー、
（xviii）ポリブタジエン又はポリ（スチレン−ブタジエン）ゴムとスチレン−アクリロニトリルコポリマーとを含み、２〜１４ｗｔ％の範囲内の量で存在するゴム改質グラフトコポリマー、
（xix）ポリジメチルシロキサン構造単位をビスフェノールＡポリカーボネート構造単位と共に含むコポリマー、及びヒドロキシ末端ポリ（ジメチルシロキサン）からなる群から選択され、０．４〜３ｗｔ％の範囲内の量で存在する１種以上のシリコーン源、並びに
（xx）ホウ酸、酸化ホウ素及びリン酸ホウ素からなる群から選択され、０．２〜２ｗｔ％の範囲内の量で存在する１種以上のホウ素源（すべての量は組成物全体の重量を基準にしている）
を含んでなる難燃性樹脂組成物。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか１項記載の難燃性樹脂組成物の製造方法であって、成分のブレンドを形成するのに適した条件下で組成物の成分を配合して混合し、次いで適宜、こうして形成した組成物を粉粒体の状態にすることを含んでなる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月28日(2005.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａ）少なくとも１種の水性エマルションポリマー、
Ｂ）粉砕媒体としての１種またはそれ以上のポリマー分散液、
Ｃ）少なくとも１種の顔料、およびまた
Ｄ）所望により、中和剤、および
Ｅ）所望により、助剤および添加剤
を含む水性塗料物質。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
【表３】
2005509078.tif 000001
本発明の好ましい態様は以下を包含する。
〔１〕
Ａ）少なくとも１種の水性エマルションポリマー、
Ｂ）粉砕媒体としての１種またはそれ以上のポリマー分散液、
Ｃ）少なくとも１種の顔料、およびまた
Ｄ）所望により、中和剤、および
Ｅ）所望により、助剤および添加剤
を含む水性塗料物質。
〔２〕
（I）４８〜８８質量％の成分Ａ）、
（II）２〜２０質量％の成分Ｂ）、
（III）１０〜５０質量％の成分Ｃ）、
（IV）０〜１質量％の成分Ｄ）、
（V）０〜４質量％の成分Ｅ）
を含み、全ての数値は不揮発性画分を指し、成分合計が１００質量％である、〔１〕に記載の水性塗料物質。
〔３〕
エマルションポリマーＡ）のガラス転移温度が、０℃〜３５℃の間であることを特徴とする〔１〕または〔２〕に記載の水性塗料物質。
〔４〕
エマルションポリマーＢ）のガラス転移温度が、３５℃〜１０５℃の間であることを特徴とする〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の水性塗料物質。
〔５〕
成分Ｂ）が、樹脂固形分を基準に７〜７５ｍｇ ＫＯＨの酸価を有することを特徴とする〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載の水性塗料物質。
〔６〕
成分Ｅ）が、沈降防止剤、基材湿潤剤および増粘剤であることを特徴とする〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の水性塗料物質。
〔７〕
水性エマルションポリマーＡ）が、少なくとも３種の異なるオレフィン性不飽和モノマーを含むことを特徴とする〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の水性塗料物質。
〔８〕
水性エマルションポリマーＡ）が、アクリル酸エステル（ａ１）、メタクリル酸エステル（ａ２）およびカルボキシル含有重合性モノマー（ａ３）、およびまた所望により他の重合性不飽和モノマー（ａ４）を含むことを特徴とする〔６〕に記載の水性塗料物質。
〔９〕
水性エマルションポリマーＡ）が、少なくとも２００,０００ｇ／モルの重量平均分子量（Ｍｗ）を有することを特徴とする〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載の水性塗料物質。
〔１０〕
まず第１に粉砕ペーストを、成分Ｂ）、Ｃ）およびＤ）と成分Ｅ）の一部とを混合することにより製造し、次いで成分Ａ）および成分Ｅ）の残りの部分と、粉砕ペーストとを均一に混合することを特徴とする、〔１〕に記載の水性塗料物質の製造方法。
〔１１〕
表面の仮保護のための、〔１〕に記載の水性塗料物質を含む可剥性塗料。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月15日(2005.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結晶成分を含む樹脂系と、６０重量％より多い充填材系と、開始剤系とを含む組成物であって、第１の形状と、約１５℃から３８℃の温度で第２の形状へと形成されるために十分な展性（ｍａｌｌｅａｂｉｌｉｔｙ）とを有する硬化性自己支持形構造の形態であるが、ただし、充填材系が繊維を含む場合、組成物の全重量を基準として繊維が２０重量％未満の量で存在する組成物。
【請求項２】
結晶成分を含む樹脂系と、７０重量％より多い充填材系と、開始剤系とを含む組成物であって、第１の形状を有しかつ第２の形状へと形成されるために十分な展性を有する硬化性自己支持形構造の形態であるが、ただし、充填材系が繊維を含む場合、組成物の全重量を基準として繊維が２０重量％未満の量で存在する組成物。
【請求項３】
樹脂系と、少なくとも一部分が、約５０ｎｍ以下の平均一次粒子径を有するナノスコピック粒子を含む無機材料である充填材系と、界面活性剤系と、開始剤系とを含む組成物であって、第１の形状を有しかつ第２の形状へと形成されるために十分な展性を有する硬化性自己支持形構造の形態である組成物。
【請求項４】
少なくとも１つのエチレン系不飽和成分および結晶成分を含む樹脂系と、
６０重量％より多い充填材系と、
開始剤系と、を含む組成物であって、
第１の形状を有しかつ約１５℃から３８℃の温度で第２の形状へと形成されるために十分な展性を有する硬化性自己支持形構造の形態である組成物。
【請求項５】
少なくとも１つのエチレン系不飽和成分を含む樹脂系と、
５０重量％より多い、少なくとも一部分が、約５０ｎｍ以下の平均一次粒子径を有するナノスコピック粒子を含む無機材料である充填材系と、
開始剤系と、
界面活性剤系と、を含む組成物であって、
第１の形状を有しかつ第２の形状へと形成されるために十分な展性を有する硬化性自己支持形構造の形態である組成物。
【請求項６】
請求項１，２又は３に記載の組成物を含む、歯科用製品。
【請求項７】
樹脂系と、充填材系と、開始剤系とを含む組成物であって、第１の形状を有しかつ第２の形状へと形成されるために十分な展性を有する硬化性自己支持形構造の形態である組成物を含む、予成形歯科用クラウン。
【請求項８】
樹脂系と、充填材系と、開始剤系とを含み、第１の形状を有しかつ約１５℃から３８℃の温度で第２の形状へと形成されるために十分な展性を有する硬化性自己支持形構造の形態である、予成形歯科用印象用トレー。
【請求項９】
充填材系が繊維を含む場合、組成物の全重量を基準として繊維が２０重量％未満の量で存在することを条件として、結晶成分を含む樹脂系と、６０重量％より多い充填材系と、開始剤系とを組み合わせて混合物を形成する工程と、
混合物を第１の形状を有する硬化性自己支持形構造へと形成する工程とを含み、
第１の形状を有する硬化性自己支持形構造は約１５℃から３８℃の温度で第２の形状へと形成されるために十分な展性を有する、組成物の調製方法。
【請求項１０】
組成物が、第１の半仕上げ形状を有する硬化性自己支持形展性構造の形態である、樹脂系と、充填材系と、開始剤系とを含む組成物を提供する工程と、
自己支持形展性構造を、約１５℃から３８℃の温度で第２の形状へと形成する工程と、
第２の形状を有する自己支持形構造を硬化して歯科用製品を形成する工程とを含む、歯科用製品の調製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月15日(2005.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の
（Ａ）モノエチレン性不飽和単位を有さないポリマーのグラフトベース及び
（Ｂ）それぞれ少なくとも１つの窒素含有複素環を有する２つの異なるモノエチレン性不飽和モノマー（Ｂ１）及び（Ｂ２）のコポリマーから形成されるポリマーの側鎖を含有し、
その際、全重合体中の側鎖（Ｂ）の割合が５５質量％より大きいグラフト重合体。
【請求項２】
側鎖（Ｂ）がモノマー（Ｂ１）として一般式Ｉ
【化１】
2005509065.tif 000001
［式中、置換基は以下の意味を有する：
ＲはＣ１〜Ｃ５−アルキルを意味し、
Ｒ１は水素又はＣ１〜Ｃ４−アルキルを意味する］の環式のＮ−ビニルアミドを重合導入されて含有する、請求項１記載のグラフト重合体。
【請求項３】
側鎖（Ｂ）がモノマー（Ｂ１）としてＮ−ビニルピロリドンを重合導入されて含有する、請求項１又は２記載のグラフト重合体。
【請求項４】
側鎖（Ｂ）が、ピロール、ピロリジン、ピリジン、キノリン、イソキノリン、プリン、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、テトラゾール、インドリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、インドール、イソインドール、オキサゾール、オキサゾリドン、オキサゾリジン、モルホリン、ピペラジン、ピペリジン、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、インドキシル、イサチン、ジオキシインドール及びヒダントイン及びそれらの誘導体、例えばバルビツル酸及びウラシル及びその誘導体の群から選択される窒素含有複素環を含有するモノエチレン性不飽和モノマー（Ｂ２）を重合導入されて含有する、請求項１から３までのいずれか１項記載のグラフト重合体。
【請求項５】
側鎖（Ｂ）が、Ｎ−ビニルイミダゾール、アルキルビニルイミダゾール、３−ビニルイミダゾール−Ｎ−オキシド、２−及び４−ビニルピリジン、２−及び４−ビニルピリジン−Ｎ−オキシド、Ｎ−ビニルカプロラクタム及びＮ−ビニルオキサゾリドン、これらのモノマーのベタイン性誘導体及び第四級化生成物からなる群から選択されるモノマー（Ｂ２）を重合導入されて含有する、請求項１から４までのいずれか１項記載のグラフト重合体。
【請求項６】
側鎖（Ｂ）がモノマー（Ｂ２）として一般式ＩＩａ又はＩＩｂのビニルイミダゾール又は一般式ＩＩｃ、ＩＩｄ、ＩＩｅ又はＩＩｆのビニルピリジン
【化２】
2005509065.tif 000002
［式中、置換基は以下の意味を有する：
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６は互いに無関係に、水素、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル又はフェニルを意味し、
Ｒ５はＣ１〜Ｃ２０−アルキレンを意味し、
Ｘ−は−ＳＯ３−、−ＯＳＯ３−、−ＣＯＯ−、−ＯＰＯ（ＯＨ）Ｏ−、−ＯＰＯ（ＯＲ′）Ｏ−又は−ＰＯ（ＯＨ）Ｏ−を意味し、
Ｒ′はＣ１〜Ｃ６−アルキルを意味する］を重合導入されて含有する、請求項１から５までのいずれか１項記載のグラフト重合体。
【請求項７】
モノマー（Ｂ１）及び（Ｂ２）の質量比が９９：１〜１：９９である、請求項１から６までのいずれか１項記載のグラフト重合体。
【請求項８】
グラフトベース（Ａ）として平均分子量Ｍｎが少なくとも３００の、一般式ＩＩＩａ又はＩＩＩｂ
【化３】
2005509065.tif 000003
［式中、置換基は互いに無関係に以下の意味を有する：Ｒ７はヒドロキシ、アミノ、Ｃ１〜Ｃ２４−アルコキシ、Ｒ１３−ＣＯＯ−、Ｒ１３−ＮＨ−ＣＯＯ−、ポリアルコール基を意味し、
Ｒ８〜Ｒ１０は同一又は異なり、かつそれぞれ−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ２−ＣＨ３）−、−ＣＨ２−ＣＨＯＲ１４−ＣＨ２−を意味し、
Ｒ１１は水素、アミノ−Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、Ｃ１〜Ｃ２４−アルキル、Ｒ１３−ＣＯ−、Ｒ１３−ＮＨ−ＣＯ−を意味し、
Ｒ１２は炭素鎖が１〜１０個の酸素原子によってエーテル官能で中断されていてよいＣ１〜Ｃ２０−アルキレンを意味し、
Ｒ１３はＣ１〜Ｃ２４−アルキルを意味し、
Ｒ１４は水素、Ｃ１〜Ｃ２４−アルキル、Ｒ１３−ＣＯ−を意味し、
Ａは−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｂ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−Ｂ−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−を意味し、
Ｂは−（ＣＨ２）ｔ−、置換されていてよいアリーレンを意味し、
ｎは１を意味し、又はＲ７がポリアルコール基を意味する場合には１〜８を意味し、
ｓは０〜５００を意味し、
ｔは１〜１２を意味し、
ｕは同一又は異なり、それぞれ１〜５０００を意味し、
ｖは同一又は異なり、それぞれ０〜５０００を意味し、
ｗは同一又は異なり、それぞれ０〜５０００を意味する］のポリエーテルを含有する、請求項１から７までのいずれか１項記載のグラフト重合体。
【請求項９】
グラフトベース（Ａ）としてポリアルキレンオキシド、片側で末端封鎖されたポリアルキレンオキシド及び／又は両側で末端封鎖されたポリアルキレンオキシドを含有する、請求項１から８までのいずれか１項記載のグラフト重合体。
【請求項１０】
モノマー（Ｂ１）及び（Ｂ２）をグラフトベース（Ａ）の存在下にラジカル重合させる、請求項１から９までのいずれか１項記載のグラフト重合体の製造方法。
【請求項１１】
洗浄剤における色移り防止剤としての、請求項１から９までのいずれか１項記載のグラフト重合体の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月31日(2005.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
多孔質触媒粒子の固定配列含有床を有する反応帯において、上向き流のガスと降下する液体とを確実に向流接触させるため、超大気処理条件下、高温で主として液相の重質炭化水素供給原料を、下向き流で触媒床上に分配して触媒粒子と接触させると共に、反応帯中の水素含有ガスを触媒床の下に導入させる条件下で、供給原料を水素含有ガスと接触させ、触媒床下の処理した液体を取り出すと共に触媒床上の水素枯渇流体を取り出すことにより、重質炭化水素供給原料を水素化処理する方法であって、該触媒床の空隙比率が０．５未満であり、かつ向流気液接触は、液体のペクレ数が０〜１０の範囲になるような条件下で行われる該方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記上向きに流れる水素含有ガスの少なくとも一部が、更なる触媒粒子含有床を有する反応帯の底部に導入され、該方法から取り出す前に処理液体が該触媒床に通される請求項５に記載の方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
したがって、本発明は、多孔質触媒粒子の固定配列含有床を有する反応帯において、上向き流のガスと降下する液体とを確実に向流接触させるため、超大気処理条件下、高温で主として液相の重質炭化水素供給原料を、下向き流で触媒床上に分配して触媒粒子と接触させると共に、反応帯中の水素含有ガスを触媒床の下に導入させる条件下で、供給原料を水素含有ガスと接触させ、触媒床下の処理した液体を取り出すと共に触媒床上の水素枯渇流体を取り出すことにより、重質炭化水素供給原料を水素化処理する方法であって、該触媒床の空隙比率が０．５未満であり、かつ向流気液接触は、液体のペクレ数が０〜１０の範囲になるような条件下で行われる該方法に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月23日(2005.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３２】
請求項１において、上記バルク凝固アモルファス合金は過冷却液体領域ΔＴＳＣが３０℃以上であることを特徴とする電子機器用金属フレーム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３３】
請求項１において、上記バルク凝固アモルファス合金は過冷却液体領域ΔＴＳＣが６０℃以上であることを特徴とする電子機器用金属フレーム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３４】
電子機器用金属フレームであって、
収容器を少なくとも１つ構成する壁部を有する構造体を備え、
上記収容器は少なくとも一部が少なくとも１つの電子部品を収納するようになっており、
上記構造体の少なくとも一部が、弾性限界約１．５％以上、過冷却液体領域ΔＴＳＣ３０℃以上のバルク凝固アモルファス合金で形成されており、
上記バルク凝固アモルファス合金は、約２．０ＧＰａ以上の降伏強度、約４．５ＧＰａ以上の硬さ、約１０ksi√in以上の破壊靭性、約６．５g/cc以下の密度から成る群から選択された少なくとも２つの物理特性を備えていることを特徴とする電子機器用金属フレーム。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３５】
電子機器用金属フレームであって、
収容器を少なくとも１つ構成する壁部を有する構成体を備え、
上記収容器は少なくとも一部が少なくとも１つの電子部品を収納するようになっており、
上記構造体の少なくとも一部が、弾性限界約１．５％以上、過冷却液体領域ΔＴＳＣ３０℃以上のバルク凝固アモルファス合金で形成されており、
上記バルク凝固アモルファス合金は２．０ＧＰａ以上の降伏強度、約５．５ＧＰａ以上の硬さ、約２０ksi√in以上の破壊靭性、約６．５g/cc以下の密度から成る群から選択された少なくとも２つの物理特性を備えていることを特徴とする電子機器用金属フレーム。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３６】
電子機器用金属フレームの製造方法であって、
弾性限界１．５％以上、過冷却液体領域ΔＴＳＣ３０℃以上のバルク凝固アモルファス合金からなる素材を準備する工程、
上記素材を上記バルク凝固アモルファス合金のガラス転移温度付近に加熱する工程、
上記素材を型成形することにより、少なくとも１つの電子部品を収納する電子機器用金属フレームの少なくとも一部を形成する工程
を含むことを特徴とする製造方法。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５４】
請求項３６において、上記バルク凝固アモルファス合金は過冷却液体領域ΔＴＳＣが６０℃以上であることを特徴とする製造方法。
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５５】
電子機器用金属フレームの製造方法であって、
バルク凝固アモルファス合金からなる素材を準備する工程、
上記素材を上記バルク凝固アモルファス合金のガラス転移温度付近に加熱する工程、
上記素材を型成形することにより、少なくとも１つの電子部品を収納する電子機器用金属フレームの少なくとも一部を形成する工程、
を含み、
上記バルク凝固アモルファス合金は、弾性限界が約１．５％以上、過冷却液体領域ΔＴＳＣが３０℃以上であり、かつ、約２．０ＧＰａ以上の降伏強度、約４．０ＧＰａ以上の硬さ、約１０ksi√in以上の破壊靭性、約６．５ｇ/cc以下の密度から成る群から選択された少なくとも２つの物理特性を備えていることを特徴とする製造方法。
【手続補正８】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５６】
電子機器用金属フレームの製造方法であって、
バルク凝固アモルファス合金から成る素材を準備する工程、
上記素材を上記バルク凝固アモルファス合金のガラス転移温度付近に加熱する工程、
上記素材を型成形することにより、少なくとも１つの電子部品を収納する少なくとも１つの、電子機器用金属フレームの部分を形成する工程、
を含み、
上記バルク凝固アモルファス合金は、弾性限界が約２．０％以上、過冷却液体領域ΔＴＳＣが６０℃以上であり、かつ、約２．０ＧＰａ以上の降伏強度、約５．５ＧＰａ以上の硬さ、約２０ksi√in以上の破壊靭性、約６．５g/cc以下の密度から成る群から選択された少なくとも２つの物理特性を備えていることを特徴とする製造方法。
【手続補正９】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５７】
電子機器用金属フレームの製造方法であって、
溶融温度以上の温度の合金溶湯としての素材を準備する工程、
上記素材を鋳造することにより、弾性限界が１．５％以上、過冷却液体領域ΔＴＳＣが３０℃以上のバルク凝固アモルファス合金から成り、かつ、少なくとも１つの電子部品収納する形態を有する電子機器用金属フレームの一部を形成する工程
を含むことを特徴とする製造方法。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７５】
請求項５７において、上記バルク凝固アモルファス合金は過冷却液体領域ΔＴＳＣが６０℃以上であることを特徴とする製造方法。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７６】
電子機器用金属フレームの製造方法であって、
溶融温度以上の温度の合金溶湯としての素材を準備する工程、
上記素材を鋳造することにより、少なくとも１つの電子部品収納する形態を有する電子機器用金属フレームの一部を形成する工程、
を含み、
上記バルク凝固アモルファス合金は、弾性限界が約１．５％以上、過冷却液体領域ΔＴＳＣが３０℃以上であり、かつ、約２．０ＧＰａ以上の降伏強度、約４．０ＧＰａ以上の硬さ、約１０ksi√in以上の破壊靭性、約６．５g/cc以下の密度から成る群から選択された２つ以上の物理特性を備えていることを特徴とする製造方法。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７７】
電子機器用金属フレームの製造方法であって、
溶融温度以上の温度の合金溶湯としての素材を準備する工程、
上記素材を鋳造することにより、弾性限界が約２．０％以上、過冷却液体領域ΔＴＳＣが６０℃以上であり、かつ、約２．０ＧＰａ以上の降伏強度、約５．５ＧＰａ以上の硬さ、約２０ksi√in以上の破壊靭性、約６．５g/cc以下の密度から成る群から選択された少なくとも２つの物理特性を備えていることを特徴とする製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月21日(2005.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報信号に埋め込まれるべき補足データ信号を調整する方法であって、
所定のサイズの領域にわたって平均される前記情報信号の第１特性関数及び前記領域にわたって平均される前記補足データ信号の第２特性関数の相対的な大きさを決定するステップ、及び
前記決定された相対的な大きさに応じて前記補足データ信号を調整するステップを有する方法。
【請求項２】
前記第１特性関数は、前記情報信号の局所エネルギ関数であり、前記第２特性関数は、前記補足データ信号の局所エネルギ関数であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１特性関数は、前記情報信号の局所的な大きさであり、前記第２特性関数は、前記補足データ信号の局所的な大きさであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記決定された相対的な大きさに応じて前記補足データ信号を調整するステップはさらに、前記決定された相対的な大きさを正規化するステップを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記正規化するステップは、前記相対的な大きさの振幅を所定の最大値に制限するステップを有することを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記正規化するステップは、ローパスフィルタを前記決定された相対的な大きさに適用するステップを有することを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項７】
前記決定された相対的な大きさに応じて前記補足データ信号を調整するステップは、
前記補足データ信号を所定の遅延だけ遅延させるステップ、及び
前記決定された相対的な大きさに応じて前記遅延された補足データ信号を調整するステップを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記所定の遅延は前記領域のサイズに対応することを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記決定された相対的な大きさに応じて前記補足データ信号を調整するステップは、
前記補足データ信号を前記領域のサイズに対応する遅延だけ遅延させ、遅延された信号をもたらすステップ、
前記決定された相対的な大きさに応じて前記遅延された信号を調整し、第１の遅延され調整された信号をもたらすステップ、
前記決定された相対的な大きさに応じて前記補足データ信号を調整し、調整された信号をもたらすステップ、
前記調整された信号を前記領域のサイズに対応する遅延だけ遅延させ、第２の遅延され調整された信号をもたらすステップ、及び
前記第１及び第２の遅延され調整された信号を組み合わせるステップを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記相対的な大きさを決定するステップはさらに、
第３特性関数を演算するステップ、
遅延された特性関数を得るために前記第３特性関数を遅延させるステップ、及び
前記第２特性関数を得るために前記第３特性関数と前記遅延された特性関数とを組み合わせるステップを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記情報信号はデジタルオーディオ信号を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
情報信号に埋め込まれるべき補足データ信号を調整するための装置であって、
所定のサイズの領域にわたって平均される前記情報信号の第１特性関数及び前記領域にわたって平均される前記補足データ信号の第２特性関数の相対的な大きさを決定するための手段、及び
前記決定された相対的な大きさに応じて前記補足データ信号を調整するための手段を有する装置。
【請求項１３】
情報信号に補足データ信号を埋め込むための装置であって、前記装置は、前記情報信号に埋め込まれるべき前記補足データ信号を調整するための装置を有し、前記補足データ信号を調整するための装置は、
所定のサイズの領域にわたって平均される前記情報信号の第１特性関数及び前記領域にわたって平均される前記補足データ信号の第２特性関数の相対的な大きさを決定するための手段、及び
前記決定された相対的な大きさに応じて前記補足データ信号を調整するための手段を有する装置。
【請求項１４】
補足データ信号が埋め込まれた情報信号が記録されている記憶媒体であって、
前記補足データ信号は、
所定のサイズの領域にわたって平均される前記情報信号の第１特性関数及び前記領域にわたって平均される前記補足データ信号の第２特性関数の相対的な大きさを決定するステップ、及び
前記決定された相対的な大きさに応じて前記補足データ信号を調整するステップを有する方法によって調整されている、記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月18日(2004.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のディスプレイタイル（１０）を含むディスプレイであって、
ディスプレイタイル（１０）のそれぞれは、第１の部分（１２）と、第２の部分（１７）とを含んでおり、第１の部分（１２）は、個別にアドレス指定できる複数のピクセル素子に有機発光デバイス（ＯＬＥＤ）材を組み込んだ表示領域を支持し、第２の部分（１７）は、別のディスプレイタイルの一部分の下に位置し、
１つのディスプレイタイルに含まれる第１の部分及び第２の部分は、同一平面には位置せず、当該ディスプレイタイルは、ディスプレイタイルをタイル張りするための複合角を有する、
ディスプレイ。
【請求項２】
請求項１に記載されたディスプレイであって、
１つのディスプレイタイル（１０）に含まれる第１の部分（１２）及び第２の部分（１７）は、実質上平行な平面に位置している、
ディスプレイ。
【請求項３】
請求項１または２に記載されたディスプレイであって、
１つのディスプレイタイル（１０）に含まれる第１及び第２の部分（１２，１７）は、段差関係にある、
ディスプレイ。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れかに記載されたディスプレイであって、
１つのディスプレイタイル（１０）に含まれる第１及び第２の部分（１２，１７）は、おおむねＵ字形状となるように構成されている、
ディスプレイ。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れかに記載されたディスプレイであって、
第２の部分（１７）は、配線による、及び／または、電気的な接続を備えている、
ディスプレイ。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れかに記載されたディスプレイであって、
第１の部分（１２）は、ＯＬＥＤ材のガラスパネルを支持する支持体（１１）を含んでいる、
ディスプレイ。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れかに記載されたディスプレイであって、
第１の部分（１２）は、プラスチック材料でなる成形支持体（１１）を含んでいる、
ディスプレイ。
【請求項８】
請求項１乃至７の何れかに記載されたディスプレイであって、駆動電子機器に対するディスプレイの高度な統合接続性を確保するための断熱手段を含むディスプレイ。
【請求項９】
請求項１乃至８の何れかに記載されたディスプレイであって、
ピクセル素子は、発光手段を一体的に備えている、
ディスプレイ。
【請求項１０】
請求項１乃至９の何れかに記載されたディスプレイであって、複数のピクセル素子にバックライト照明をもたらすための手段を含むディスプレイ。
【請求項１１】
請求項１乃至１０の何れかに記載されたディスプレイであって、複数のディスプレイタイルを含んでおり、
ディスプレイタイルのそれぞれは、有機発光デバイス（ＯＬＥＤ）材を含み、
ディスプレイタイルのそれぞれは、個別にアドレス指定できる複数のピクセル素子を含み、
１つ以上の表示領域が、それに隣り合う１つ以上の表示領域を部分的に覆っている、
ディスプレイ。
【請求項１２】
請求項１乃至１１の何れかに記載されたディスプレイであって、
１つ以上の更なる表示領域が、前記第１のディスプレイタイル（１０）を部分的に覆っている、
ディスプレイ。
【請求項１３】
請求項１乃至１２の何れかに記載されたディスプレイであって、
ディスプレイタイル（１０）の一部分であって他のディスプレイタイルの真下に位置する部分（１７）は、配線の、及び／または、電気的な接続手段を備える、
ディスプレイ。
【請求項１４】
請求項１乃至１３の何れかに記載されたディスプレイであって、
横方向及び／または直交方向に隣り合うディスプレイタイルの表示領域に部分的に重なる複数のディスプレイタイル（１０）を含んでいる
ディスプレイ。
【請求項１５】
請求項１乃至１４の何れかに記載されたディスプレイであって、
ディスプレイタイル（１０）は、配列されたディスプレイタイル上で実質的に連続する表示面を構成する、
ディスプレイ。
【請求項１６】
請求項１乃至１５の何れかに記載されたディスプレイのためのディスプレイタイル（１０）であって、第１の部分（１２）と、第２の部分（１７）とを含んでおり、
第１の部分（１２）は、個別にアドレス指定できる複数のピクセル素子に有機発光デバイス（ＯＬＥＤ）材を組み込んだ表示領域、または、ＯＬＥＤバックライトを支持し、
ディスプレイタイルは、タイル張りのための複合角を有し、
第２の部分（１７）は、別のディスプレイタイルの一部分の下に位置する、
ディスプレイタイル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ディスプレイ
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明は、請求項１に記載されたディスプレイを提供する。
このディスプレイは、従属請求項２乃至１６のうち何れか１つ以上の請求項に記載された特徴を有していてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月11日(2005.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
その上に複数のデータ項目を表示するためのデジタル表示手段を含む電子装置であって、一つ以上の前記データ項目のスクロール、強調および／または選択を行う機械的入力手段と、一つ以上の部品または要素のグラフィック描写を生成、表示し、前記グラフィック描写が、前記機械的入力手段の少なくとも一部、またはその仮想的部分、要素または部品を描写する手段と、前記入力手段の機械的操作に従って前記グラフィック描写を動画表示する手段を有し、前記入力手段と前記グラフィック描写の間の接続性を少なくとも錯覚させる電子装置。
【請求項２】
機械的入力手段が、一つ以上の回転ホイール、一つ以上のスライダ（画面の平面に対して、任意の方向、直線的またはその他に移動）、光学的、電界または他の近接検出（このような検出は理論的に、画面の平面に対して任意の方向に可能）である機械的入力手段がアナログ入力手段である請求項１記載の電子装置。
【請求項３】
前記アナログ入力手段が、一つ以上の回転ホイールを有し、その一つ以上の回転軸が、前記表示画面に対して同一線上および／または垂直方向および／または任意の他の軸にある請求項２記載の電子装置。
【請求項４】
前記機械的入力手段が、前記表示画面に対して任意の方向に、チルトおよび／または傾斜の検出手段を有する請求項１記載の電子装置。
【請求項５】
前記入力手段のグラフィック描写が、その入力手段の単に目に見えない、または覆い隠された部分の描写である前記請求項のいずれか一つに記載の電子装置。
【請求項６】
入力手段のグラフィック描写が、前記入力手段の目に見える部分の全てまたは一部の描写を含む請求項１から４のいずれか一つに記載の電子装置。
【請求項７】
入力手段のグラフィック描写が、入力手段のグラフィック描写上またはそれと関連した別のグラフィック要素を含み、他の仮想的要素または部品に対して機械的にリンクしている印象を与え、物理的に存在しているが覆い隠されている機械的要素、または物理的に存在していない要素を描写でき、前記グラフィック要素によってそれらの存在を暗示する前記請求項のいずれか一つに記載の電子装置。
【請求項８】
一つ以上のデジタル表示手段を含み、各々が一つ以上の入力手段とそのグラフィック描写を含む前記請求項のいずれか一つに記載の電子装置。
【請求項９】
機械的入力手段が、表示画面の平面から位置的にズレており、入力手段の目に見える任意の部分と、対応するグラフィック描写が、装置の操作の垂直方向に同一線上にあるように見える前記請求項のいずれか一つに記載の電子装置。
【請求項１０】
画面上に表示された入力手段のグラフィック描写が、遠近感および／または三次元的特徴を含み、それらを誇張して、実在するように錯覚させ、および／またはグラフィック環境の美観に寄与できる前記請求項のいずれか一つに記載の電子装置。
【請求項１１】
入力手段のグラフィック描写が、典型的な動作または検出されるパラメータである動作の形態で、その操作を描写できる前記請求項のいずれか一つに記載の電子装置。
【請求項１２】
入力手段の真の位置を決定し、表示画面上のグラフィック描写を変更するための手段へ、このような位置情報を等しく提供する計算手段を含む前記請求項のいずれか一つに記載の電子装置。
【請求項１３】
その上に複数のデータ項目を表示するためのデジタル表示手段を含む装置であって、一つ以上の前記データ項目のスクロール、強調および／または選択を行う機械的入力手段を含み、前記装置の外から見て、前記機械的手段の少なくとも一部を隠蔽または覆い隠し、使用中、前記機械的手段および／またはその機械的操作の前記隠蔽または覆い隠された部分の、前記表示手段上へのグラフィック描写および／または表示が行われる電子装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月29日(2005.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
コンピュータ上で実行されたときに、請求項１乃至１０のうちいずれか一項の方法を実行するコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月18日(2005.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
[前記コンピュータ・モデルにおける少なくとも１つの個体の生物過程に対する前記細胞成分の生物活性に関する実験情報を得る工程；
前記コンピュータ・モデルに前記実験的情報を加える工程；
集合体F0の前記機能のそれぞれに対し、SX値を再評価する工程；そして
前記再評価されたSX値を用い、必要であれば前記生物状態に影響を与えることのできるための細胞成分の機能に関する科学的実験の優先性を再配列する工程]、
をさらに含む請求項１記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
集合体F0の前記１つの機能としての情報を加えることは、前記複数の個体の生物過程の少なくとも1つに、前記１つの細胞成分の貢献を部分化して割り付けることを含む請求項１記載の方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
集合体F0の前記１つの機能としての情報を前記加えることは、前記複数の個体の生物過程の少なくとも1つへ、前記１つの細胞成分の貢献を部分化して割り付けることを含む請求項７記載の方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
前記機能としての情報を前記加えることは、前記複数の個体の生物過程の少なくとも1つへ、前記１つの細胞成分の貢献を部分化して割り付けることを含む請求項１4記載の方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２１】
生物状態Sに影響を与えるための細胞成分の潜在的生物活性を予測するための方法において、その方法が、前記生物状態と関連した複数の個体の生物過程を表すコンピュータ・モデルを用い、前記コンピュータ・モデルが、前記生物状態に及ぼす前記個体の生物過程の影響を評価するために構成される：
[(a)前記細胞成分に機能の集合体F0を割り付ける工程にて、集合体F0の各機能は、前記生物状態Sの少なくとも１つの生物過程を変更し；
(b)集合体F0からの各機能に対し以下のことを実施する工程において、
(i)  集合体F0の残っている機能として情報が加えられることなく、特定バージョンのコンピュータ・モデルへ、集合体F0の１つの機能としての情報を加える工程において、前記複数の個体の生物過程の少なくとも１つが、集合体F0の加えられた前記１つの機能により変更される過程であり；そして
(ii)  集合体F0の加えられた前記１つの機能により前記コンピュータ・モデルを実行し、集合体F0の加えられた前記１つの機能の存在下、前記生物状態としてのSX値を作成する工程；
(c)  S0値に対し集合体F0の機能としての前記SX値の全と比較する工程において、集合体F0の機能のいずれかが、前記コンピュータ・モデル内に組み入れられることなく、前記S0値が、前記コンピュータ・モデルを実行することにより作成される；
(d)  前記生物状態に影響を与えるための前記細胞成分の潜在的生物活性をより高く有するとして、S0に対しそれと関連するSX値との差を有する集合体F0の機能を同定し、そして前記生物状態に影響を与えるための潜在的生物活性を有意に低いものとして、S0に対しSx値との差を実質的に有しない集合体F0の機能を同定する工程]、
を含む方法。