【手続補正書】
【提出日】平成18年10月10日(2006.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  重合条件下において、少なくとも１種又はそれ以上のオレフィンを、少なくとも１種の遷移金属を含む成分及び少なくとも１種の有機金属化合物を含む助触媒からなる少なくとも１種のチーグラー・ナッタ触媒並びに以下の化合物：
（ａ）ゲルマニウム、錫及び鉛の酸化物；
（ｂ）ジシアン（Ｃ2 Ｎ2 ）；
（ｃ）式ＣＥまたはＣ3 Ｅ2 （式中、Ｅ＝Ｏ及びＮＲであり；Ｒは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、５０個以下の非水素原子を含むアルコキシ基、５０個以下の非水素原子を含むアミノ基、５０個以下の非水素原子を含むチオラート基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基である）の炭素の酸化物またはイミド；
（ｄ）炭素、珪素、ゲルマニウム、錫及び鉛の硫黄、セレンまたはテルル含有カルコゲニド；
（ｅ）１種より多いカルコゲンを含む炭素、珪素、ゲルマニウム、錫及び鉛のカルコゲニド；
（ｆ）式Ｃ（Ｅ)(Ｘ)(式中、Ｅ＝Ｏ，Ｓ，Ｓｅ，ＴｅまたはＮＲであり；Ｘ＝ＮＲ’であり；Ｒ及び／またはＲ’は水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基である）を有する炭素、珪素、ゲルマニウム、錫及び鉛のカルコゲニドイミド；
（ｇ）式Ｃ（Ｅ）Ｘ2 （式中、Ｅ＝Ｏ，Ｓ，Ｓｅ，Ｔｅ及びＮＲであり、Ｒは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基であり；Ｘはハロゲンである）の炭素、珪素、ゲルマニウム、錫及び鉛のカルコゲニルハライドまたはイミドハライド；
（ｈ）元素の形態のリン、砒素、アンチモン及びビスマス；
（ｉ）窒素、リン、砒素、アンチモン及びビスマスの酸化物；
（ｊ）窒素オクソ酸またはそれらの陰イオンを含む塩；
（ｋ）式Ｅn Ｘm （式中、Ｅは窒素、リン、砒素、アンチモンまたはビスマスであり、Ｘはハロゲンまたはプソイドハロゲンであり、ｎ＝１〜１０であり、ｍ＝１〜２０である）のハロゲン化物；
（ｌ）一般式Ｅn Ｙm （式中、Ｅ＝Ｎ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ及びＢｉであり；Ｙ＝Ｓ，Ｓｅ，Ｔｅ及びＮＲであり；ｎ＝１〜１０であり；ｍ＝１〜４０であり、Ｒは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基である）の窒素、リン、砒素、アンチモン及びビスマスのカルコゲニドまたはイミド；
（ｍ）式Ｅn Ｙm Ｘq （式中、Ｅ＝Ｎ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ及びＢｉであり；Ｙ＝Ｏ，Ｓ，Ｓｅ，Ｔｅ及びＮＲであり；Ｘは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、５０個以下の非水素原子を含むアルコキシ基、５０個以下の非水素原子を含むアミノ基、５０個以下の非水素原子を含むチオラート基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基であり；ｎ＝１〜２０であり；ｍ＝１〜４０であり；ｑ＝１〜４０であり、Ｒは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、５０個以下の非水素原子を含むアルコキシ基、５０個以下の非水素原子を含むアミノ基、５０個以下の非水素原子を含むチオラート基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基である）を有する窒素、リン、砒素、アンチモン及びビスマスのカルコゲニルまたはイミド化合物；
（ｎ）インタープニクトゲン；
（ｏ）一般式（ＮＰＲ2)x （式中、Ｒ＝ハロゲンまたは５０個以下の非水素原子を含むアルキルもしくはアリール基であり、ｘは少なくとも２である）のホスファゼン；
（ｐ）一般式Ａ（Ｅ）Ｘ3 （式中、Ａ＝Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ及びＢｉであり；Ｅ＝ＮＲまたはＣＲ2 であり、Ｒは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、５０個以下の非水素原子を含むアルコキシ基、５０個以下の非水素原子を含むアミノ基、５０個以下の非水素原子を含むチオラート基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基であり；Ｘは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、５０個以下の非水素原子を含むアルコキシ基、５０個以下の非水素原子を含むアミノ基、５０個以下の非水素原子を含むチオラート基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基である）の化合物；
（ｑ）プニクトゲン水素化物；
（ｒ）元素の形態の酸素、硫黄、セレン及びテルル；
（ｓ）インターカルコゲン；
（ｔ）式Ｅn Ｘm （式中、Ｅ＝Ｏ，Ｓ，Ｓｅ及びＴｅであり；Ｘは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、５０個以下の非水素原子を含むアルコキシ基、５０個以下の非水素原子を含むアミノ基、５０個以下の非水素原子を含むチオラート基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基であり、ｎ＝１〜１０であり、ｍ＝１〜２０である）の１種もしくはそれ以上のカルコゲン及び１種もしくはそれ以上のハロゲンを含む化合物；
（ｕ）一般式ＥＯＸ2 （式中、Ｅ＝Ｏ，Ｓ，Ｓｅ及びＴｅであり；Ｘは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、５０個以下の非水素原子を含むアルコキシ基、５０個以下の非水素原子を含むアミノ基、５０個以下の非水素原子を含むチオラート基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基である）の化合物；
（ｖ）一般式ＥＯＸ4 （式中、Ｅ＝Ｓ，Ｓｅ及びＴｅであり；Ｘは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、５０個以下の非水素原子を含むアルコキシ基、５０個以下の非水素原子を含むアミノ基、５０個以下の非水素原子を含むチオラート基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基である）の化合物；
（ｗ）一般式ＥＯ2 Ｘ2 （式中、Ｅ＝Ｓ，Ｓｅ及びＴｅであり；Ｘは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、５０個以下の非水素原子を含むアルコキシ基、５０個以下の非水素原子を含むアミノ基、５０個以下の非水素原子を含むチオラート基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基である）の化合物；
（ｘ）硫黄−窒素化合物；
（ｙ）式Ｓ（ＮＲ）n Ｘm （式中、ｎ＝１〜３であり；ｍ＝０〜６であり；Ｘは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、５０個以下の非水素原子を含むアルコキシ基、５０個以下の非水素原子を含むアミノ基、５０個以下の非水素原子を含むチオラート基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基であり；Ｒは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、５０個以下の非水素原子を含むアルコキシ基、５０個以下の非水素原子を含むアミノ基、５０個以下の非水素原子を含むチオラート基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基である）の化合物；
（ｚ）硫黄オクソ酸、ペルオクソ酸及びそれらの陰イオンを含む塩；
（aa）セレンオクソ酸、ペルオクソ酸及びそれらの陰イオンを含む塩；
（dd）テルルオクソ酸、ペルオクソ酸及びそれらの陰イオンを含む塩；
（cc）カルコゲン水素化物；
（dd）元素の形態のフッ素、塩素、臭素、ヨウ素及びアスタチン；
（ee）ハロゲン間化合物、それらの陽イオンを含む塩、及びそれらの陰イオンを含む塩；
（ff）ポリハライド陽イオン及び／または陰イオンを含む塩；
（gg）ホモレプチックまたはヘテロレプチック酸化ハロゲン、それらの陽イオンを含む塩、及びそれらの陰イオンを含む塩；
（hh）オクソ酸及びそれらの陰イオンを含む塩；
（ii）ハロゲン化水素；
（jj）ＮＨ4 Ｆ，ＳＦ4 ，ＳｂＦ3 ，ＡｇＦ2 ，ＫＨＦ2 ，ＺｎＦ2 ，ＡｓＦ3 及びＨＦ2 - 陰イオンを含む塩；
（kk）ハロゲン化水素酸；
（ll）Ｈｅ，Ｎｅ，Ａｒ，Ｋｒ，Ｘｅ及びＲｎ酸化物、それらの陽イオンを含む塩、及びそれらの陰イオンを含む塩；
（mm）Ｈｅ，Ｎｅ，Ａｒ，Ｋｒ，Ｘｅ及びＲｎハロゲン化物、それらの陽イオンを含む塩、及びそれらの陰イオンを含む塩；
（nn）Ｈｅ，Ｎｅ，Ａｒ，Ｋｒ，Ｘｅ及びＲｎカルコゲニルハライド、それらの陽イオンを含む塩、及びそれらの陰イオンを含む塩；
（oo）水、アルコール、硫化水素及びチオールからなる群から選ばれた材料と前記化合物及び対応する陰イオンを含むそれらの塩の任意のものとを反応させることによって得られる生成物；
（pp）有機過酸化物；
（qq）水；ならびに
（rr）それらの混合物
からなる群から選ばれる化合物であって、得られる重合生成物の分子量分布がそれらが存在しない時に得られる重合生成物の分子量分布よりも狭くするのに充分な量で存在する化合物と接触させることを含んでなる少なくとも１種又はそれ以上のオレフィンの重合方法。
【請求項２】  前記の少なくとも１種の遷移金属が元素の周期律表の第４，５，６，７，８，９及び１０族から選ばれる請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記の少なくとも１種の有機金属化合物の金属が元素の周期律表の第１，２，１１，１２，１３及び１４族から選ばれる請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記の少なくとも１種の有機金属化合物がトリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムハライド及びアルキルアルミニウムセスキハライドからなる群から選ばれる請求項３に記載の方法。
【請求項５】  前記化合物が一酸化窒素、二酸化窒素、一酸化二窒素、三酸化二窒素、四酸化二窒素及び五酸化二窒素からなる群から選ばれた酸化窒素である請求項１に記載の方法。
【請求項６】  前記酸化窒素が一酸化二窒素である請求項５に記載の方法。
【請求項７】  前記化合物がＣＯ，Ｃ3 Ｏ2 ，ＣＯＳ，ＳＯ2 及びＳＯ3 からなる群から選ばれる請求項１に記載の方法。
【請求項８】  前記化合物がジ酸素及びオゾンから選ばれる請求項１に記載の方法。
【請求項９】  少なくとも１種の電子供与体を更に存在させてなる請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  電子供与体の少なくとも１つがテトラヒドロフランである請求項９に記載の方法。
【請求項１１】  少なくとも１種のハロゲン化炭化水素を更に存在させてなる請求項１に記載の方法。
【請求項１２】  ハロゲン化炭化水素の少なくとも１つがクロロホルムである請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  少なくとも１種の電子供与体及び少なくとも１種のハロゲン化炭化水素を更に存在させてなる請求項２に記載の方法。
【請求項１４】  前記有機金属助触媒化合物がトリメチルアルミニウムであり、前記電子供与体がテトラヒドロフランであり、前記ハロゲン化炭化水素がクロロホルムであり且つ前記化合物が一酸化二窒素である請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】  前記遷移金属化合物の金属がチタンである請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】  前記化合物が重合媒体中に、該重合媒体の流体相中におけるモル比で１〜１０，０００ppm の範囲の量で存在する請求項１に記載の方法。
【請求項１７】  前記重合条件が気相である請求項１に記載の方法。
【請求項１８】  前記化合物が気相重合媒体中に１〜１０，０００容量ppm の範囲の量で存在する請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】  少なくとも１種又はそれ以上のオレフィンを含むポリマーの分子量分布を狭くする方法であって、重合条件下において、少なくとも１種又はそれ以上のオレフィンを、少なくとも１種の遷移金属を含む成分及び少なくとも１種の有機金属化合物を含む助触媒からなる少なくとも１種のチーグラー・ナッタ触媒、並びに以下の化合物：
（ａ）ゲルマニウム、錫及び鉛の酸化物；
（ｂ）ジシアン（Ｃ2 Ｎ2 ）；
（ｃ）式ＣＥまたはＣ3 Ｅ2 （式中、Ｅ＝Ｏ及びＮＲであり；Ｒは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、５０個以下の非水素原子を含むアルコキシ基、５０個以下の非水素原子を含むアミノ基、５０個以下の非水素原子を含むチオラート基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基である）の炭素の酸化物またはイミド；
（ｄ）炭素、珪素、ゲルマニウム、錫及び鉛の硫黄、セレンまたはテルル含有カルコゲニド；
（ｅ）１種より多いカルコゲンを含む炭素、珪素、ゲルマニウム、錫及び鉛のカルコゲニド；
（ｆ）式Ｃ（Ｅ)(Ｘ)(式中、Ｅ＝Ｏ，Ｓ，Ｓｅ，ＴｅまたはＮＲであり；Ｘ＝ＮＲ’であり、Ｒ及び／またはＲ’は水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基である）を有する炭素、珪素、ゲルマニウム、錫及び鉛のカルコゲニドイミド；
（ｇ）式Ｃ（Ｅ）Ｘ2 （式中、Ｅ＝Ｏ，Ｓ，Ｓｅ，Ｔｅ及びＮＲであり、Ｒは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基であり；Ｘはハロゲンである）の炭素、珪素、ゲルマニウム、錫及び鉛のカルコゲニルハライドまたはイミドハライド；
（ｈ）元素の形態のリン、砒素、アンチモン及びビスマス；
（ｉ）窒素、リン、砒素、アンチモン及びビスマスの酸化物；
（ｊ）窒素オクソ酸またはそれらの陰イオンを含む塩；
（ｋ）式Ｅn Ｘm （式中、Ｅは窒素、リン、砒素、アンチモンまたはビスマスであり、Ｘはハロゲンまたはプソイドハロゲンであり、ｎ＝１〜１０であり、ｍ＝１〜２０である）のハロゲン化物；
（ｌ）一般式Ｅn Ｙm （式中、Ｅ＝Ｎ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ及びＢｉであり；Ｙ＝Ｓ，Ｓｅ，Ｔｅ及びＮＲであり；ｎ＝１〜１０であり；ｍ＝１〜４０であり、Ｒは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基である）の窒素、リン、砒素、アンチモン及びビスマスのカルコゲニドまたはイミド；
（ｍ）式Ｅn Ｙm Ｘq （式中、Ｅ＝Ｎ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ及びＢｉであり；Ｙ＝Ｏ，Ｓ，Ｓｅ，Ｔｅ及びＮＲであり；Ｘは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、５０個以下の非水素原子を含むアルコキシ基、５０個以下の非水素原子を含むアミノ基、５０個以下の非水素原子を含むチオラート基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基であり；ｎ＝１〜２０であり；ｍ＝１〜４０であり；ｑ＝１〜４０であり、Ｒは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、５０個以下の非水素原子を含むアルコキシ基、５０個以下の非水素原子を含むアミノ基、５０個以下の非水素原子を含むチオラート基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基である）を有する窒素、リン、砒素、アンチモン及びビスマスのカルコゲニルまたはイミド化合物；
（ｎ）インタープニクトゲン；
（ｏ）一般式（ＮＰＲ2)x （式中、Ｒ＝ハロゲンまたは５０個以下の非水素原子を含むアルキルもしくはアリール基であり、ｘは少なくとも２である）のホスファゼン；
（ｐ）一般式Ａ（Ｅ）Ｘ3 （式中、Ａ＝Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ及びＢｉであり；Ｅ＝ＮＲまたはＣＲ2 であり、Ｒは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、５０個以下の非水素原子を含むアルコキシ基、５０個以下の非水素原子を含むアミノ基、５０個以下の非水素原子を含むチオラート基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基であり；Ｘは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、５０個以下の非水素原子を含むアルコキシ基、５０個以下の非水素原子を含むアミノ基、５０個以下の非水素原子を含むチオラート基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基である）の化合物；
（ｑ）プニクトゲン水素化物；
（ｒ）元素の形態の酸素、硫黄、セレン及びテルル；
（ｓ）インターカルコゲン；
（ｔ）式Ｅn Ｘm （式中、Ｅ＝Ｏ，Ｓ，Ｓｅ及びＴｅであり；Ｘは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、５０個以下の非水素原子を含むアルコキシ基、５０個以下の非水素原子を含むアミノ基、５０個以下の非水素原子を含むチオラート基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基であり、ｎ＝１〜１０であり、ｍ＝１〜２０である）の１種もしくはそれ以上のカルコゲン及び１種もしくはそれ以上のハロゲンを含む化合物；
（ｕ）一般式ＥＯＸ2 （式中、Ｅ＝Ｏ，Ｓ，Ｓｅ及びＴｅであり；Ｘは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、５０個以下の非水素原子を含むアルコキシ基、５０個以下の非水素原子を含むアミノ基、５０個以下の非水素原子を含むチオラート基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基である）の化合物；
（ｖ）一般式ＥＯＸ4 （式中、Ｅ＝Ｓ，Ｓｅ及びＴｅであり；Ｘは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、５０個以下の非水素原子を含むアルコキシ基、５０個以下の非水素原子を含むアミノ基、５０個以下の非水素原子を含むチオラート基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基である）の化合物；
（ｗ）一般式ＥＯ2 Ｘ2 （式中、Ｅ＝Ｓ，Ｓｅ及びＴｅであり；Ｘは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、５０個以下の非水素原子を含むアルコキシ基、５０個以下の非水素原子を含むアミノ基、５０個以下の非水素原子を含むチオラート基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基である）の化合物；
（ｘ）硫黄−窒素化合物；
（ｙ）式Ｓ（ＮＲ）n Ｘm （式中、ｎ＝１〜３であり；ｍ＝０〜６であり；Ｘは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、５０個以下の非水素原子を含むアルコキシ基、５０個以下の非水素原子を含むアミノ基、５０個以下の非水素原子を含むチオラート基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基であり；Ｒは水素、ハロゲン、５０個以下の非水素原子を含むアルキル基、５０個以下の非水素原子を含むアリール基、５０個以下の非水素原子を含むシリル基、５０個以下の非水素原子を含むアルコキシ基、５０個以下の非水素原子を含むアミノ基、５０個以下の非水素原子を含むチオラート基、または５０個以下の非水素原子を含むボリル基である）の化合物；
（ｚ）硫黄オクソ酸、ペルオクソ酸及びそれらの陰イオンを含む塩；
（aa）セレンオクソ酸、ペルオクソ酸及びそれらの陰イオンを含む塩；
（dd）テルルオクソ酸、ペルオクソ酸及びそれらの陰イオンを含む塩；
（cc）カルコゲン水素化物；
（dd）元素の形態のフッ素、塩素、臭素、ヨウ素及びアスタチン；
（ee）ハロゲン間化合物、それらの陽イオンを含む塩、及びそれらの陰イオンを含む塩；
（ff）ポリハライド陽イオン及び／または陰イオンを含む塩；
（gg）ホモレプチックまたはヘテロレプチック酸化ハロゲン、それらの陽イオンを含む塩、及びそれらの陰イオンを含む塩；
（hh）オクソ酸及びそれらの陰イオンを含む塩；
（ii）ハロゲン化水素；
（jj）ＮＨ4 Ｆ，ＳＦ4 ，ＳｂＦ3 ，ＡｇＦ2 ，ＫＨＦ2 ，ＺｎＦ2 ，ＡｓＦ3 及びＨＦ2 - 陰イオンを含む塩；
（kk）ハロゲン化水素酸；
（ll）Ｈｅ，Ｎｅ，Ａｒ，Ｋｒ，Ｘｅ及びＲｎ酸化物、それらの陽イオンを含む塩、及びそれらの陰イオンを含む塩；
（mm）Ｈｅ，Ｎｅ，Ａｒ，Ｋｒ，Ｘｅ及びＲｎハロゲン化物、それらの陽イオンを含む塩、及びそれらの陰イオンを含む塩；
（nn）Ｈｅ，Ｎｅ，Ａｒ，Ｋｒ，Ｘｅ及びＲｎカルコゲニルハライド、それらの陽イオンを含む塩、及びそれらの陰イオンを含む塩；
（oo）水、アルコール、硫化水素及びチオールからなる群から選ばれた材料と前記化合物及び対応する陰イオンを含むそれらの塩の任意のものとを反応させることによって得られる生成物；
（pp）有機過酸化物；
（qq）水；ならびに
（rr）それらの混合物
からなる群から選ばれる化合物であって、得られる重合生成物の分子量分布がそれらが存在しない時に得られる重合生成物の分子量分布よりも狭くするのに充分な量で存在する化合物と接触させることを含んでなる方法。
【請求項２０】  前記の少なくとも１種の遷移金属が元素の周期律表の第４，５，６，７，８，９及び１０族から選ばれる請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】  前記の少なくとも１種の有機金属化合物の金属が元素の周期律表の第１，２，１１，１２，１３及び１４族から選ばれる請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】  前記の少なくとも１種の有機金属化合物がトリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムハライド及びアルキルアルミニウムセスキハライドからなる群から選ばれる請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】  前記化合物が一酸化窒素、二酸化窒素、一酸化二窒素、三酸化二窒素、四酸化二窒素及び五酸化二窒素からなる群から選ばれた酸化窒素である請求項１９に記載の方法。
【請求項２４】  前記酸化窒素が一酸化二窒素である請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】  前記化合物がＣＯ，Ｃ3 Ｏ2 ，ＣＯＳ，ＳＯ2 及びＳＯ3 からなる群から選ばれる請求項１９に記載の方法。
【請求項２６】  前記化合物がジ酸素及びオゾンから選ばれる請求項１９に記載の方法。
【請求項２７】  少なくとも１種の電子供与体を更に存在させてなる請求項１９に記載の方法。
【請求項２８】  電子供与体の少なくとも１つがテトラヒドロフランである請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】  少なくとも１種のハロゲン化炭化水素を更に存在させてなる請求項１９に記載の方法。
【請求項３０】  ハロゲン化炭化水素の少なくとも１つがクロロホルムである請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】  少なくとも１種の電子供与体及び少なくとも１種のハロゲン化炭化水素を更に存在させてなる請求項２０に記載の方法。
【請求項３２】  前記有機金属助触媒化合物がトリメチルアルミニウムであり、前記電子供与体がテトラヒドロフランであり、前記ハロゲン化炭化水素がクロロホルムであり且つ前記化合物が一酸化二窒素である請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】  前記遷移金属化合物の金属がチタンである請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】  前記化合物が重合媒体中に、該重合媒体の流体相中におけるモル比で１〜１０，０００ppm の範囲の量で存在する請求項１９に記載の方法。
【請求項３５】  前記重合条件が気相である請求項１９に記載の方法。
【請求項３６】  前記化合物が気相重合媒体中に１〜１０，０００容量ppm の範囲の量で存在する請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】  前記重合条件が溶液相である請求項１に記載の方法。
【請求項３８】  前記重合条件がスラリー相である請求項１に記載の方法。
【請求項３９】  少なくとも１種のオレフィンがエチレンである請求項１に記載の方法。
【請求項４０】  ＤＳＣ溶融転移温度が１１６〜１２３℃、密度が０．８８０〜０．９３０ｇ／cc、ｎ−ヘキサン抽出分が０〜６重量％及びメルトフロー比が２６〜３４であることを特徴とし、エチレンがコポリマーの少なくとも５０重量％を含む、エチレンと１−ヘキセンとのコポリマー。
【請求項４１】  ＤＳＣ溶融転移温度が１１９〜１２１℃、密度が０．９０５〜０．９２０ｇ／cc、ｎ−ヘキサン抽出分が０〜３重量％及びメルトフロー比が２６〜３２である請求項４０に記載のコポリマー。
【請求項４２】  メルトフロー比が２２〜２６であり且つエチレンがコポリマーの少なくとも９９重量％を含む、エチレンと炭素数３〜１６のオレフィンとのコポリマー。
【請求項４３】  ＤＳＣ溶融転移温度が１１６〜１２３℃、密度が０．８８０〜０．９３０ｇ／cc、ｎ−ヘキサン抽出分が０〜６重量％及びメルトフロー比が２６〜３４であることを特徴とし、エチレンがコポリマーの少なくとも５０重量％を含む、エチレンと炭素数５〜１６の少なくとも１種又はそれ以上のオレフィンとのコポリマー。
【請求項４４】  請求項４０に記載のコポリマーから製造されたフィルム。
【請求項４５】  請求項４３に記載のコポリマーから製造されたフィルム。
【請求項４６】  請求項４０に記載のコポリマーから製造された物品。
【請求項４７】  請求項４３に記載のコポリマーから製造された物品。