【事件の表示】
　特願２００５−１１８７６２「逆Ｘ線光電子ホログラフィー装置及びその測定方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年１１月２日出願公開、特開２００６−３００５５８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯  
　本願は、平成１７年４月１５日にされた特許出願（２００５年特許願第１１８７６２号。以下「本件出願」という。）につき、平成２２年１２月１７日付けで拒絶査定（発送日：平成２３年１月５日）されたところ、拒絶査定不服審判が同年３月２８日に請求されたものである。 
 　　　　　　　　　　　 
 第２　本件出願に係る発明 
　本件出願の請求項１〜３に係る発明は、平成２２年６月３日付け手続補正書により補正された特許請求の範囲の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１〜３に記載された事項により特定されるとおりのものであって、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は次のとおりのものと認める。 
 　 
「【請求項１】
　エネルギー幅を数ｅＶ以下でビーム幅をナノメーターオーダーまで集束させる制御を行った電子線を測定試料に照射する手段と、該測定試料の電子線に対する姿勢を変えることにより電子線の入射角及び回転角を変化させる手段と、該測定試料が励起されて放出される特性Ｘ線の強度変化を特定元素の原子周りの原子分解能ホログラムとして記録する手段とを有することを特徴とする逆Ｘ線光電子ホログラフィー装置。」
　 　　　　　　　　　　　　 
第３　引用刊行物の記載 
（３Ａ）原査定の拒絶の理由に引用され、本件出願前に頒布された引用文献（J.C.H.Spence, 他,“Atomic String Holography”, PHYSICAL REVIEW LETTERS, Vol.86, No.24, 2001年6月11日, pp.5510-5513、以下、「引用刊行物Ａ」という。）には、次の事項が図面とともに記載されている。（下線は当審により付加されたものである。以下も同様である。） 
　　　
（３Ａ−１）「The purpose of this Letter is to describe a new(ｅ，γ）holographic diffraction method which uses high energy(300 kV) electrons traversing a thin crystalline slab to producelensless, three-dimensional imaging of the internalatomic structure of the film. Characteristic x rays are detectedas a function of the angle of a coherent electronbeam, which excites the x rays and is weakly refracted byatomic strings in the crystal. The x rays are not diffracteddue to the small film thickness.（当審訳：本レターの目的は、薄い
結晶板を通過する高エネルギー(300kV)電子を用いて
内部原子構造の3次元結像を生成する
ホログラフィ回析法を説明する
X線を励起し、結晶内の原子ストリングによって浅く屈折されるコヒーレントな電子ビームの角度の関数として、特性X線が検出される
　
(３Ａ−２)「Figure 1(a) shows our geometry.  A thin crystal, about 10 nm thick, is used, as for atomic-resolution TEM.  A high energy (e.g., 300 keV) collimated electron beam traverses the crystal slab, exciting x-ray fluorescence from the Cl atoms of the bcc CsCl structure shown.  The thickness is less than an extinction distance for Bragg scattering, so that electron standing waves do not build up inside the crystal to modulate fluorescence, as in the “Alchemi” technique used to locate foreign atoms in thin crystals [15].  The x-ray intensity emitted by atom D is proportional to the intensity ID of the diffracted electron intensity at D due to the external source S1 [16], if localization effects are negligible (x-ray energies above about 500 eV [17]).  Applying reciprocity to this arrangement, we see in Fig. 1(b) that  ID equals the intensity at infinity from a point source of 300 kV electrons within the sample at D.  This intensity variation with angle is an in-line hologram of atom C as formed by a point source at D with “defocus” (sourceto sample distance) DC, shown in Fig. 1(a).  There is one hologram for every atomic column or string along the optical path between source and detector.  Every string parallel to the one shown [e.g., at E in Fig. 1(a)] generates an identical hologram, whose intensity distributions must be added together, since the x-ray “detection” process is incoherent.  For sufficiently thin films the individual holograms from nonparallel atomic columns are spatially separated on the detector, since the angles between strings are relatively large.  Where a mixture of species occurs along such a path, a sum must be taken over all the reciprocal “sources” in Fig. 1(b) defined by the x-ray energy, and over the atoms imaged along the path.  Unlike low energy electron holography, the electron scattering process is highly forward-peaked, with a strong concentration of energy along atomic strings.  For thicknesses t small enough to avoid overlap of holograms, the atoms on a string act as phase objects, and the contrast at the detector arises from the “out-of-focus” propagation over the distance Δｚ＝ＤＣ.  This distance creates contrast in the image of the phase-object atom at C , which appears as a variation in x-ray emission with angle.  For thicker samples, progressing from two-dimensional to three-dimensional diffraction and associated momentum conservation laws, the holograms overlap and eventually form a Kikuchi pattern.  In thin samples the method generates the holograms of atomic strings which would be produced by a 300 kV internal point source of electrons, on a distant detector.  This energy is sufficiently high to ensure that there are no multiple-scattering artifacts.  The wide angular range of illumination directions possible under computer control in TEM provides projections from many angles, overcoming the limitation of off-axis electron holography to two-dimensional reconstruction [14]. (当審訳：図1(a)は、この方法の幾何学的配置を示している。原子分解能TEMと同様、およそ10nm厚の薄板結晶が使用される。高エネルギー(例えば300keV)コリメートされた
電子ビーム
300kVの電子の点線源
角度による強度の変化
ホログラムである
コントラストが発生し、X線放射の角度による変化として現れる
薄い試料の場合、この方法で、電子の300kV内部点線源による原子ストリングのホログラムが遠方の検出器に生成される
TEMのコンピュータ制御の下で可能となる照射方向の広範な角度範囲によって、多くの角度からの投影が実現し、軸外電子線ホログラフィの2次元再構成への制限が克服される
　
（３Ａ−３）「A simple interpretation of these holograms is possible if the approximation is made that the potential is zero between the emitter atom and the imaged atom. Then, for atoms spaced byΔＺ along the string, each atomic string hologram can be shown to be identical (apart from magnification) to that which would be produced on a screen placed a distance ΔＺ beyond an atom illuminated by a plane wave [18]. (This follows from the equivalence of the point-projection and plane-wave geometries.) In this sense the hologram is an image, out-of-focus by ΔＺ.　（当審訳：これらのホログラムは、エミッタの原子と画像化された原子の間では電位がゼロであるという近似が行われると、簡潔な解釈が可能となる。さらに、ストリングに沿ってΔzの間隔を有する複数の原子の場合、各原子ストリングホログラムは、平面波によって照射された原子から距離Δzを隔てて設置された画面上に生成されるホログラムと同一(拡大率を除いて)に見える可能性がある[18](これは、点投影と平面波の形状が等しいことに起因する)。その意味で、この
ホログラムはΔzの分だけ焦点がずれた画像である
　
（３Ａ−４）「Experimental observation of atomic string holograms requires the same TEM apparatus used for “Alchemi,” but thinner crystals. Using a 200 nm diameter electron beam (LaB6 source), with Δθ＝ 1.8 mRad, in samples 200 nm thick, Rossouw et al. [23] collected statistically significant standing-wave fluorescence (Alchemi) data on a 79 × 58　pixel array in 2 h (0.3 sterad x-ray detector, 30 mm2).  For the 10 nm thick films required for string holography, this time becomes 5 h using four of the new 60 mm2 detectors, or 13 min for one hologram.  Current TEM/STEM instruments are not optimized for these experiments and allow many improvements. （当審訳：原子ストリングホログラムの実験的観察には、“Alchemi”で使用されたのと同じTEM装置と、その場合よりも薄い結晶が必要である。200nm厚の試料において、200nm径の電子ビーム(LaB6線源)をΔθ=1.8mRadで用いて、Rossouwら[23]は、79×58画素アレイ上の統計的に有意な定在波蛍光(Alchemi)データを2時間収集した(0.3ステラジアンX線検出器、30mm2)。ストリングホログラフィに求められる10nm厚の膜の場合、この時間は5時間となり、新型の60mm2検出器で4時間、または1つのホログラムで13分を費やす。現行のTEM/STEM機器は、これらの実験のために最適化されておらず、多くの改善の余地がある。）」（５５１３頁左欄１１〜２２行）
　　　　
　上記引用刊行物Ａの摘記事項（３Ａ−１）〜（３Ａ−４）の記載を参照すると、上記引用刊行物Ａには、 
「電子ビームを試料に照射する点線源と、
　広範な角度範囲からの電子ビームを試料に照射可能に制御するＴＥＭのコンピュータとを有し、
　試料からの電子ビームの角度の関数として、励起される特性X線を検出して、ホログラムが生成され、内部原子構造の3次元結像を生成するホログラフィ回析装置。」
　の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているものと認める。
  
（３Ｂ）原査定の拒絶の理由に引用され、本件出願前に頒布された引用文献（特開２００３−２７９５０６号公報、以下、「引用刊行物Ｂ」という。）には、次の事項が図面とともに記載されている。
　
（３Ｂ−１）「【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、蛍光Ｘ線ホログラフィー装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｘ線による評価技術は、例えばＸ線の透過能を利用して人体や構造物等の物質内部の構造を非破壊で調べるレントゲン写真（ラジオグラフ）、回折現象を利用して原子構造を調べるＸ線回折、元素固有の蛍光Ｘ線を計測して化学組成を分析する蛍光Ｘ線化学（分光）分析等が広く知られている。
【０００３】なかでも、試料に高強度のＸ線を照射して励起させ、試料から放出される蛍光Ｘ線を検出して、物質の局所構造を解析する蛍光Ｘ線ホログラフィーが注目を浴びている。」
　
（３Ｂ−２）「【００１７】図１は、この発明の実施の形態が適用可能なＸ線ホログラフィー装置の一例を示す概略図である。
【００１８】Ｘ線ホログラフィー装置１は、連続した波長のＸ線および所定波長の特性Ｘ線を放射するＸ線源すなわち
Ｘ線発生装置３、測定対象である試料Ｏを保持し、所定の回転数で回転させる回転ステージ５および試料Ｏから出射されるＸ線（蛍光Ｘ線）の干渉（ホログラム）パターンを検出するＸ線検出器７を有している
Ｘ線検出器７の出力は、画像処理装置、例えばパーソナルコンピュータＰＣに図示しないインタフェースを介して記憶される
【００１９】回転ステージ５とＸ線発生装置３との間の所定位置には、Ｘ線発生装置３から試料Ｏに向けられる連続した波長のＸ線のうちの所定の波長のＸ線すなわち特性Ｘ線を、試料Ｏの所定の領域（任意の一点）に集束させるＸ線集束素子９が設けられている。なお、Ｘ線集束素子９と試料Ｏ（回転ステージ５）との間に、試料（測定対象）Ｏに照射されるＸ線の強度をモニタするモニタ装置（Ｉ０モニタ）が設けられてもよい。また、回転テーブル５とＸ線検出器７を、詳述しないが２軸ステージまたはターンテーブル上に配置することで、以下に説明する
入射Ｘ線と試料Ｏとのなす角、すなわち試料Ｏに照射されるＸ線の角度（励起Ｘ線の照射角）を所定の範囲内で任意に設定可能である
【００２０】Ｘ線発生装置３は、例えば回転対陰極型のＸ線管である。図１に示した蛍光Ｘ線ホログラフィー装置では、マックサイエンス社製で、陽極ターゲットにＭｏを用いた定格出力が２１ｋＷのＸ線発生装置を利用している。もちろん、所定強度以上のＸ線を発生可能であれば、特に回転対陰極型のＸ線管に限定されないことはいうまでもない。また、Ｘ線発生装置３とＸ線集束素子９との間には、図示しないが、Ｘ線集束素子９に入射するＸ線束の断面形状を所定の形状に設定可能なストッパが設けられている。
【００２１】なお、Ｘ線発生装置３から放射される特性Ｘ線の波長は、ターゲットにＭｏを用いることで得られるＭｏＫα線の波長は、０．０７１ｎｍである。また、ターゲットがＭｏである場合は、ＭｏＫβ線も利用可能である。ＭｏＫβ線の波長は、０．０６３ｎｍである。なお、Ｋα線およびＫβ線の双方を用いることで、
試料Ｏに照射される２波長のＸ線でホログラムを記録することができ
　
（３Ｂ−３）「【００３８】パーソナルコンピュータＰＣに取り込まれた試料Ｏからの蛍光Ｘ線（干渉パターン）は、パーソナルコンピュータＰＣにより、例えば図３に示すような原子像として可視化される。また、容易に入手できる蛍光Ｘ線ホログラフィー向けのアルゴリズム（３次元フーリエ変換）により、図４に示すような３次元原子像が得られる（図４は、特許出願のために白黒を反転して表示した模式図である）。
【００３９】なお、上述した蛍光Ｘ線ホログラフィー装置を用いることで、従来２ヶ月程度必要だった蛍光Ｘ線ホログラムの測定が、１日程度で可能となる。」
　
（３Ｃ）原査定の拒絶の理由に引用され、本件出願前に頒布された引用文献（M.T.Otten, 他,“High-resolution imaging on a field emission TEM”, Ultramicroscopy, Vol.48, 1993年, pp.77-91、以下、「引用刊行物Ｃ」という。）には、次の事項が図面とともに記載されている。
　
（３Ｃ−１）「A field emission gun (FEG) on a TEM brings a strong improvement in the spatial and temporal coherence, thereby enhancing the contrast from small lattice spacings in the image in comparison with LaB6 instruments. Other parameters of importance for high-resolution imaging are the size of the isoplanatic patch (the coma-free area in the image), which is small with a cold FEG but sufficiently large with a Schottky FEG, and the method of aligning the objective lens, which should be coma-free alignment. The much improved contrast transfer has proven to hinder astigmatism correction, and as a consequence focusing and coma-free alignment, due to the continuous presence of high spatial frequencies. A practical solution is to converge the beam, thereby deteriorating the spatial coherence, and to defocus it again once all conditions are set correctly. The occurrence of Fourier images over a large range of focus conditions makes it necessary to use the thin specimen edge to set the focus. Delocalisation effects, where image details are displaced from their true locations, also occur in the images. These effects cannot be avoided altogether but are minimised within 50 to 100 nm of Scherzer focus. In order to make effective use of all the information contained in high-resolution images from a FEG TEM, image retrieval through holography or through-focus methods is expected to be most effective.（当審訳：
TEMにおける電界放出型電子銃(FEG)は、空間的および時間的コヒーレンスの大幅な改善をもたらし、結果的に画像内の微細な格子間隔からのコントラストをLaB6機器と比較して強化する
 
（３Ｃ−２）「2．Instrumentation
　There microscopes were used , a Philips CM20-TWIN,CM20 FEG and CM30-Super-TWIN．The CM20 FEG［18］, equipped with a schottky fieled emmiter, was used with the　TWIN（CS＝2.0mm, CC＝2.0mm, point resolution 0.27nm）as well as the SuperTWIN（CS＝1.2mm , CC＝1.2mm, point resolution 0.24nm）objective lenses. The CM20-TWIN and CM30-Super-TWIN were equipped with a LaB6　filament.　The CM30 was operated at 200kV, making it equivalent to the CM20-Super-TWIN,with lens parameters and point resolution as for the a CM20 FEG in Super-TWIN version. （当審訳：　2. 計測装置
　Philips CM20-TWlN、CM20 FEGおよびCM30-SuperTWINの3種類の顕微鏡が使用された。Schottky電界エミッタを装備したCM20 FEG[18]が、TWIN(CＳ=2.0mm、CＣ=2.0mm、点分解能0.27nm)およびSuperTWlN(CＳ=1.2mm、CＣ=1.2mm、点分解能0.24nm)対物レンズとともに使用された。CM20-TWlNおよびCM30-SuperTWlNは、LaB6フィラメントを装備していた。CM30は、CM30-SuperTWlNと同等の200kVで、SuperTWIN型のCM20 FEGと同様のレンズパラメータおよび点分解能で運用された。）」（７８頁左欄２３〜３６行）
　
（３Ｃ−３）「4.　HRTEM　paraeter
　For high-resolution imaging a number of parameters are important．Most are described by the contrast transfer theory, comprising the phase contrast transfer function （PCTF） and its envelope function．There are，however，a few additional factors involved，such as the size of the isoplanatic patch and the method of objective-lens alignment.
  
 4.1 Phase　contrast　transfer　function
 The PCTF describes the relation between image contrast，objective-lens parameters and focus．The basic function depends on the electron wave-length λ,  The spherical CS of the　objective lens and the defocus Δf．At Scherzer focus (here　taken as　1.2(CSλ)1/2 ) the PCTF (fig.1a) has a single pass band stretching from spatial frequency 0 down to the　point resolution of the microscope（taken as 0.65CS1/4λ3/4）. Beyond the point resolution the function is osillating with increasing frequency.　The oscillation are damped by the　envelope function for the temporal coherence (the electron energy spread, electronic instabilities and the objective-lens chromatic aberration) and the spatial coherence (the Incidence angle of the electron beam)(figs．1b and 1c),　which reduce the contrast at higher spatial frequencies.　Typical values for the relevant parameters are listed in table 1.(当審訳：4. HRTEMパラメータ
高分解能イメージングの場合、いくつものパラメータが重要となる。その多くは、位相コントラスト伝達関数(PCTF)およびその包絡関数を含む、コントラスト伝達理論によって説明される。しかしながら、アイソプラナティックパッチおよび対物レンズ軸合わせの方法など、関係するいくつかの付加的な要素も存在する。
　
4.1. 位相コントラスト伝達関数
　PCTFは、画像コントラスト、対物レンズパラメータおよび焦点の間の関係を示す。基本的な関数は、電子波長λ、対物レンズの球面収差CＳおよびデフォーカスΔfによって決まる。シェルツァフォーカス(ここでは１．２(CＳλ)１／２とする)において、PCTF(図1a)は、空間周波数0から顕微鏡の点分解能(０．６５CＳ１／４λ３／４とする)に及ぶ単一の帯域を有する。点分解能を超えると、関数は周波数の増大とともに周期変動する。この周期変動は、高空間周波数におけるコントラストを低下させる、時間的コヒーレンス(電子エネルギの拡散、電子的不安定性および対物レンズの色収差)および空間的コヒーレンス(電子ビームの入射角)の包絡関数(図1bおよび1c)によって減衰される。関連するパラメータの標準的な数値が表1に記載されている。」（７８頁右欄下から３行〜７９頁左欄２６行）
　
（３Ｃ−４）「4.2　Brightness
　The strong improvement in contrast transfer by the FEG is to a large extent due to the much smaller α,　a parameter that describes the range of incidence angle seen by the specimen．Ideal spatial coherence with a obtained with infinite extent（α＝0） would be obtained with a point source for the electrons.　FEGs come much closer to this ideal situation than LaB6」filaments.（当審訳：4.2. 輝度
　FEGによるコントラスト伝達の大幅な改善は、試料からの入射角の範囲を表すパラメータである入射角αが非常に小さいため、程度の大きなものとなる。無限の範囲(α=0)を有する理想の空間的コヒーレンスは、電子の点源で得ることができると考えられる。FEGは、LaB6フィラメントよりも、この理想の状況にはるかに近づいている。）」（７９頁左欄下から４行〜右欄４行）
　
（３Ｃ−５）「In the case of LaB6　instrument，the beam is converged on the interest in order to provide sufficient intensity for observing and recording the high-resolution image.　（当審訳：LaB6機器の場合、高分解能画像の観察及び記録に十分な輝度を生じさせるため、ビームは関心領域において収束される。)」(８０頁左欄１〜４行）
　
（３Ｃ−６）７９頁右欄の表１には、典型的なＨＲＴＥＭ（ＣＭ２０−ＳｕｐｅｒＴＷＩＮ）の電子ビームに関するパラメータとして、ΔＥ（ｅＶ）が、ＬａＢ６にでは１．８、ＦＥＢでは０．８であることが記載されている。
　　　　　　　　　　　　　　　
 第４　対比・判断  
（４−１ａ）本願発明と引用発明とを対比する。
  
（i）引用発明の「電子ビームを試料に照射する点線源」と本願発明の「エネルギー幅を数eV以下でビーム幅をナノメーターオーダーまで集束させる制御を行った電子線を測定試料に照射する手段」とは、「電子線を測定試料に照射する手段」である点で共通する。　
　
（ii）引用発明の「広範な角度範囲からの電子ビームを試料に照射可能に制御するＴＥＭのコンピュータ」と本願発明の「該測定試料の電子線に対する姿勢を変えることにより電子線の入射角及び回転角を変化させる手段と」とは、「電子線の入射角及び回転角を変化させる手段と」である点で共通する。
　
（iii）上記引用刊行物Ａの摘記事項（３Ａ−３）に、
「
角度による強度の変化
Dの点線源によって形成される、
ホログラムである
　と記載されていることから、引用発明の「試料からの電子ビームの角度の関数として、励起される特性X線を検出」する際には、試料からの電子ビームの角度に応じて、励起される特性Ｘ線の強度変化を検出してホログラムが生成していることは明らかである。
　そして、得られたホログラムは、内部原子構造の3次元結像を生成していることから、得られたホログラムが内部原子の分解能の程度を示していることも明らかである。
　さらに、上記引用刊行物Ａの摘記事項（３Ａ−２）に、
「各原子
ストリングホログラム
画面上に生成されるホログラムと同一
に見える可能性がある
　と記載されていることから、引用発明のホログラムが画面上に表示されるものの、記録されているかどうかが不明である。
　そうすると、引用発明の「試料から電子ビームの角度の関数として、励起される特性X線を検出して、ホログラムが生成され、内部原子構造の3次元結像を生成する」ことと、本願発明の「該測定試料が励起されて放出される特性Ｘ線の強度変化を特定元素の原子周りの原子分解能ホログラムとして記録する手段」とは、「該測定試料が励起されて放出される特性Ｘ線の強度変化を特定元素の原子周りの原子分解能ホログラムとして生成する手段」である点で共通する。
　
（iv）本件出願の明細書に
「【０００３】
　次に、上述した
Ｘ線光電子ホログラフィー技術について説明する。この技術は、単色Ｘ線を測定試料に照射した際、放出される光電子の角度強度分布パターンを取得し解析する技術である
・・・
【００１１】
  以上のとおり、従来の装置では、
Ｘ線を励起源として用いているため、エネルギー制御や収束が困難でコントラスの良いホログラムが得られなかった
【００１２】
  本発明は上述した従来技術の欠点を除去するためになされたものであり、エネルギー制御や収束が容易で、コントラスの良いホログラムが得られる逆Ｘ線光電子ホログラフィー装置及びその測定方法を提供することを課題とする。
【００１３】
  本発明は、上記の課題を解決するために、
本発明に係る逆Ｘ線光電子ホログラフィーにおいては、Ｘ線ではなく電子線を用いた
　と記載されており、引用発明の「ホログラフィ回析装置」は、電子ビームを試料に照射し、試料からの電子ビームの角度の関数として、励起される特性X線を検出して、ホログラムを生成していることから、本願発明の「逆Ｘ線光電子ホログラフィー装置」に相当する。
　
　そうすると、本願発明と引用発明とは、 
「電子線を測定試料に照射する手段と、
　電子線の入射角及び回転角を変化させる手段と、
　該測定試料が励起されて放出される特性Ｘ線の強度変化を特定元素の原子周りの原子分解能ホログラムとして生成する手段とを有することを特徴とする逆Ｘ線光電子ホログラフィー装置。」
　である点で一致し、次の相違点（あ）〜相違点（う）でにおいて相違している。
　　　　　　　　
・相違点（あ）
　電子線が、本願発明では、「エネルギー幅を数ｅＶ以下でビーム幅をナノメーターオーダーまで集束させる制御を行った電子線」であるのに対して、引用発明では、そうような構成を備えていない点。
　
・相違点（い）
　電子線の入射角及び回転角を変化させる手段が、本願発明では、「該測定試料の電子線に対する姿勢を変えることにより」電子線の入射角及び回転角を変化させているのに対して、引用発明では、電子ビームを変化させて、広範な角度範囲からの電子ビームを試料に照射可能にしている点。
　
・相違点（う）
　該測定試料が励起されて放出される特性Ｘ線の強度変化を特定元素の原子周りの原子分解能ホログラムとして生成する手段が、本願発明では、該測定試料が励起されて放出される特性Ｘ線の強度変化を特定元素の原子周りの原子分解能ホログラムとして記録する手段」であるのに対して、引用発明では、画面上に表示する点。
　　　　　　　　　　　　　　　　
（４−２ａ）当審の判断 
　上記相違点（あ）〜相違点（う）について判断する。
・相違点（あ）について
（あ−１）放射線、例えば、Ｘ線、を試料に照射して、試料から発生する別の放射線、例えば、光電子を検出して、試料の分析を行う際に、照射する放射線のエネルギ幅を狭くして試料の分析を精度良く行うことは、例えば、特開２００１−１２４７１４号公報に、
「【０００７】ただ、非単色化Ｘ線を用いたＸＰＳ測定では、連続Ｘ線成分も照射されるため、
光電子ピーク幅が広くなり、微小なピークはノイズに隠れてしまい、元素の化学結合状態、微量不純物の検出等の微妙な測定は困難である
【０００８】一方、
単色化Ｘ線は、X線のエネルギー幅が狭いこと、
より、光電子の運動エネルギーの微小な変化量（ケミカルシフト）を検出することができ、そのため、試料の化学状態を精密に測定することができる
　と記載されているように、試料を分析する際の技術常識であるから、引用発明のように、放射線、例えば、電子ビーム、を試料に照射して、試料から発生する別の放射線、例えば、特性Ｘ線を検出してホログラムを生成し、試料の内部原子構造の分析する際にも、試料の内部原子構造の分析を精度良く行うために試料に照射する電子ビームのエネルギー幅を狭くする必要があり、そのエネルギー幅をどの程度にするかは当業者が適宜成しうる設計的事項にすぎないものである。
　
（あ−２）ところで、上記引用刊行物Ｃの摘記事項（３Ｃ−１）及び（３Ｃ−６）には、それぞれ、
「
TEMにおける電界放出型電子銃(FEG)は、
LaB6機器と比較して強化する
　こと、及び、
「表１には、典型的なＨＲＴＥＭ（ＣＭ２０−ＳｕｐｅｒＴＷＩＮ）の電子ビームに関するパラメータとして、ΔＥ（ｅＶ）が、ＬａＢ６にでは１．８、ＦＥＢでは０．８である」
　ことが記載されており、上記記載における「ｅＶ」が、電子のエネルギーを意味することは、物理学的にみて、自明な事項であり、さらに、ΔＥが、電子ビームのエネルギー幅を意味することは、例えば、特開２００３−２０２２１７号公報に、
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、
試料
表面状態を検査する方法および装置に関する
・・・
【００２５】（実施例１）図１に、本発明の動作原理を説明するために必要な最低限の構成要素を示したものである。
電子源１より放出された電子ビームは、コンデンサレンズ２により収束されビームセパレータ３の周辺で、かつ対物レンズの前焦点面にクロスオーバを形成す
・・・
【００３４】ウェハ表面の電界により引き戻された電子ビームの密度を計算したのが、図４である。図中「構造」欄に示すように３×３に並んだ部分が導電物であり、中央の電位のみを周囲から１Ｖ異なる電位とした。下図は、この場合に
電子ビームのエネルギー幅（ΔＥ）を２ｅＶとして
　と記載され、また、特開２０００−２４１３６９号公報に、
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、
フラーレン並びにその化合物（Fullerenes）の特性を評価する方法に関する
・・・
【００３７】また、本発明における電子線とは、電子銃あるいはこれら電子線偏向器を付加させたものから放出される電子線を意味しており、前記電子銃としては電界放射型電子銃が好ましい。この場合、該電子線の単色化のための機構は、特に必要としない。また、熱電子放出型電子銃を用いることも可能であり、この場合、該電子銃からの
電子線のエネルギー半値幅ΔＥは０．４ｅＶ以下が望ましい
放出電子を収束する静電レンズまたは電磁レンズが内蔵された電子銃が好ましい
　と記載されているように技術常識である。
　そして、この電子ビームのエネルギー幅は、上記引用刊行物Ｃでは、１．８ｅＶ、０．８ｅＶ、上記周知例の特開２００４−１４４８５号公報では、２ｅＶ、上記周知例の特開２０００−２４１３６９号公報では、０．４ｅＶ以下であることが記載されていることを考慮すると、試料に電子ビームを照射して、試料を分析する際に用いる電子ビームのエネルギー幅を数ｅＶ以下にすることは技術常識であるといえる。
　そうすると、上記（あ−１）において検討したように、引用発明において、電子ビームを試料に照射して、試料から発生する特性Ｘ線を検出してホログラムを生成し、試料の内部原子構造の分析する際には、試料の内部原子構造の分析を精度良く行うために試料に照射する電子ビームのエネルギー幅を狭くする必要があり、さらに、電子ビームを試料に照射して発生する放射線を検出して試料を分析する際に用いる電子ビームのエネルギー幅を数ｅＶ以下にすることは技術常識といえるから、引用発明において、電子ビームを試料に照射する点線源から電子ビームを試料に照射する電子ビームのエネルギー幅を数ｅＶ以下にして、本願発明のごとく、電子線が、「エネルギー幅を数ｅＶ以下」でビーム幅をナノメーターオーダーまで集束させる」「制御を行った電子線」とすることは当業者が当然成すべき設計的事項にすぎないものである。
　
（あ−３）上記引用刊行物Ａの摘記事項（３Ａ−４）に、
「原子ストリングホログラムの実験的観察には、“Alchemi”で使用されたのと同じTEM装置と、その場合よりも薄い結晶が必要である。200nm厚の試料において、200nm径の電子ビーム(LaB6線源)をΔθ=1.8mRadで用いて、Rossouwら[23]は、79×58画素アレイ上の統計的に有意な定在波蛍光(Alchemi)データを2時間収集した(0.3ステラジアンX線検出器、30mm2)。ストリングホログラフィに求められる10nm厚の膜の場合、この時間は5時間となり、新型の60mm2検出器で4時間、または1つのホログラムで13分を費やす。現行のTEM/STEM機器は、これらの実験のために最適化されておらず、多くの改善の余地がある。」
　と記載されていることから、原子ストリングホログラムの実験的観察には、使用した試料の厚みは１０ｎｍと２００ｎｍとの違いがあるものの、「Alchemi」で使用されたものと同じTEM装置、すなわち、200nm径の電子ビーム(LaB6線源)が使用されていることは明らかである。
　そうすると、引用発明において、電子ビームを試料に照射する点線源から試料に照射される際の電子ビームの径は２００ｎｍ、すなわち、ナノメータオーダーであることは明らかである。
　さらに、引用発明では電子ビームが収束されているかどうか明確ではないが、上記引用刊行物Ｂの摘記事項（３Ｂ−２）に
「【００１９】回転ステージ５とＸ線発生装置３との間の所定位置には、
Ｘ線発生装置３から試料Ｏに向けられる連続した波長のＸ線のうちの所定の波長のＸ線すなわち特性Ｘ線を、試料Ｏの所定の領域（任意の一点）に集束させるＸ線集束素子９が設けられている
　と記載されており、さらに、上記引用刊行物Ｃの摘記事項（３Ｃ−５）に、
「
LaB6機器の場合
ビームは関心領域において収束される
　と記載され、また、上記周知例の特開２０００−２４１３６９号公報に、
「【００３７】また、本発明における電子線とは、電子銃あるいはこれら電子線偏向器を付加させたものから放出される電子線を意味しており、前記電子銃としては電界放射型電子銃が好ましい。この場合、該電子線の単色化のための機構は、特に必要としない。また、熱電子放出型電子銃を用いることも可能であり、この場合、該電子銃からの電子線のエネルギー半値幅ΔＥは０．４ｅＶ以下が望ましい。ただし、このエネルギー半値幅が実現できない場合は、単色化機構を組み合わせてもよい。電界放射型電子銃等のいずれの電子銃を用いるにしても、放出電流の安定したものが好ましい。また該電子銃としては市販のものが利用でき、通常、
放出電子を収束する静電レンズまたは電磁レンズが内蔵された電子銃が好ましい
　と記載されているように、放射線を試料に照射して、試料から発生する別の放射線を検出して試料を分析する際に、放射線を集束させて、試料に照射することは周知の技術事項である。
　そして、引用発明も上記周知のものも、ともに、放射線を試料に照射し、試料から発生する別の放射線を検出して試料を分析する点で共通することから、引用発明において、電子ビームを試料に照射する点線源から試料に照射される際の電子ビーム径を２００ｎｍにする際に、周知の技術事項を採用して電子ビームを集束させて、本願発明のごとく、電子線が、「ビーム幅をナノメーターオーダーまで集束させる制御を行った電子線」となるように構成することは、当業者が容易なし得るものである。
　
（あ−４）また、仮に、上記（あ−３）において検討したように、原子ストリングホログラムの実験的観察の、電子ビーム(LaB6線源)の径が２００ｎｍでないとしても、電子ビームを試料に照射し、試料から発生する特性Ｘ線を検出する際に、電子ビームをナノメータオーダに集束することは周知である。
　例えば、特開平６−３４９９１１号公報に、
「【０００３】異物分析評価に用いられる装置のうち、ＥＰＭＡ（Electron Probe Micro An-alysis  又は、ＸＭＡ：X-ray Micro Analysis）装置は、比較的早くから開発改良され、半導体のプロセス評価に広く使われている。ＥＰＭＡ装置はＸ線分光装置の一種で、
試料上に直径１０ｎｍ程度の細い電子線を集束し、被照射部分から放出される特性Ｘ線の波長をＸ線分光手段によって分析し、被照射部分の元素分析を行なう装置である
　と記載され、また、特開昭５６−６５４４５号公報に、
「第１図はエネルギー分散形Ｘ線分析装置（ＥＤＸ）付ＳＥＭの概略説明図である。電子銃１から発射した電子は陰極２により加速され、
電子線３を形成する。この線源は
数１０Åから数１００Å程度に細く絞るため、第１集束レンズ４および第２集束レンズ５ならびに対物レンズ７を使用する
　そして、引用発明も上記周知のものも、ともに、放射線を試料に照射し、試料から発生する別の放射線を検出して試料を分析する点で共通することから、引用発明において、電子ビームを試料に照射する点線源から試料に照射される際の電子ビーム径を形成する際に、周知の技術事項を採用して電子ビームをナノメートルオーダーまで集束させて、本願発明のごとく、電子線が、「ビーム幅をナノメーターオーダーまで集束させる制御を行った電子線」になるよう構成することは、当業者が容易なし得るものである。
　
・相違点（い）について
　上記引用刊行物Ｂの摘記事項（３Ｂ−２）には、Ｘ線を試料に照射して、発生する蛍光Ｘ線を検出してホログラムを生成する際に、試料を回転および傾斜させて、Ｘ線の入射角回転角を変化させることが記載されている。
　そして、引用発明と上記引用刊行物Ｂに記載された発明とは、試料に放射線を照射し、試料から発生するＸ線を検出してホログラムを生成する点で共通することから、引用発明において、電子ビームを変化させて、広範な角度範囲からの電子ビームを試料に照射可能にする代わり、上記引用刊行物Ｂに記載された発明のごとく、電子ビームが照射される試料の電子ビームに対する入射角及び回転角を変化させる構成を採用し、本願発明のごとく、電子線の入射角及び回転角を変化させる手段が、「該測定試料の電子線に対する姿勢を変えることにより」電子線の入射角及び回転角を変化させるようにすることは当業者が容易になし得るものである。
　
・相違点（う）について　
　引用発明のホログラムは画像として表示するものあるが、ホログラムを画像として表示する際に、ホログラムを記録することは周知である。
　たとえば、上記引用刊行物Ｂの摘記事項（３Ｂ−２）及び（３Ｂ−３）に、
「【００１８】Ｘ線ホログラフィー装置１は、連続した波長のＸ線および所定波長の特性Ｘ線を放射するＸ線源すなわち
Ｘ線発生装置３、測定対象である試料Ｏを保持し、所定の回転数で回転させる回転ステージ５および試料Ｏから出射されるＸ線（蛍光Ｘ線）の干渉（ホログラム）パターンを検出するＸ線検出器７を有している
Ｘ線検出器７の出力は、画像処理装置、例えばパーソナルコンピュータＰＣに図示しないインタフェースを介して記憶される
・・・
【００２１】なお、Ｘ線発生装置３から放射される特性Ｘ線の波長は、ターゲットにＭｏを用いることで得られるＭｏＫα線の波長は、０．０７１ｎｍである。また、ターゲットがＭｏである場合は、ＭｏＫβ線も利用可能である。ＭｏＫβ線の波長は、０．０６３ｎｍである。なお、Ｋα線およびＫβ線の双方を用いることで、
試料Ｏに照射される２波長のＸ線でホログラムを記録することができ
　こと、及び
「パーソナルコンピュータＰＣに取り込まれた試料Ｏからの
蛍光Ｘ線（干渉パターン）は
パーソナルコンピュータＰＣにより、例えば図３に示すような原子像として可視化される
　と記載されている。
　また、特表２００２−５２２９１３号公報には、
「【０００６】
  ・・・ＴＥＭ内の平坦な電子波１が、ＣＭＯＳトランジスタ２の pn 接合の横方向に薄く切った試料を通過する際に位相のポテンシャル分布によって変調される。対物レンズ５によって拡大させて変調された画像波３が、電子複プリズム４を使用することによって平坦な基準波６と重ね合わされる。
生成された電子ホログラム７が、デジタルＣＣＤカメラを用いて記録される
　と記載されている。
　さらに、特開平２−２２８６８７号公報に、
「こうして
フィルム６５上に
光学像としてのホログラム８１が作成される
　
表示部８では
ホログラム８１がこの平行光により照射されることにより、被検者２の立体像が再生され、立体視することができる
　と記載されている。
　そうすると、引用発明と上記周知のものとはともに、ホログラムを画像化する点で共通することから、引用発明のホログラフィ回析装置において、生成したホログラムを記録して画像化することは当業者が容易になし得るものである。
　
　そして、本願発明によってもたらされる効果は、引用発明、引用刊行物Ｂに記載された発明及び周知の技術事項から予測される範囲内のものであって、格別のものではない。
　
　なお、請求人は、審判請求理由において、
（ａ）「（２）引用文献１、２と本願発明１〜３との対比 
　引用文献１、２と本願発明１〜３とを対比すると、引用文献１、２には、本願発明１〜３が必須の構成要件とする、逆Ｘ線光電子ホログラフィー装置あるいは逆Ｘ線光電子ホログラフィー測定方法に際し、「エネルギー幅を数eV以下でビーム幅をナノメーターオーダーまで集束させる制御を行った電子線」を使用する点について記載されていない。 
 （引用文献１は、Alchemi測定の実地例を示したもので、ホログラム測定に要求されるパラメーターを示したものではない。また２００nmのビーム幅は、一般的にTEMで実現できるもので、引用文献１ではそのとき使用したパラメーターをただ書いているに過ぎない。また、ホログラム測定に対し、試料さえ大きければビーム幅はいくらでもよく、ビーム幅の制限は測定実現のパラメーターにはならない。 
　本願発明では、ナノメーターオーダーの収束ビームを用いているが、これは、従来のホログラフィー技術では困難であったナノメータースケールの試料を測定するためである。 
　さらに、引用文献１では角度分解能Δθ=1.8mradに関しても触れているが、これは電子ビームのエネルギーに大きく依存する。本願発明で用いた6kVのビームと、引用文献１におけるシミュレーションの300kVのビームでは、波長が5倍以上異なり、当然、角度分解能は5倍以上悪くてもよい。） 
　そして本願発明１〜３では、電子ビームのエネルギー幅を数ｅＶの狭い範囲に抑えることで、波長の幅も狭くなり、得られるホログラムパターンが鮮明になるとともに得られる原子像の分解能が向上する。 
　さらに、本願発明１〜３は、この点により『市販の走査型電子顕微鏡や透過型電子顕微鏡に本発明を適用し、数ミクロン以下の大きさまで電子線を収束させることで、測定対象となる試料が数ミクロンサイズ以下の微結晶、材料等の測定が可能となる。』、という明細書の段落００１８記載の効果を奏するものである。」 
（ｂ）「（３)引用文献３と本願発明１〜３との対比 
　引用文献３は、電子線源を使用した透過型電子顕微鏡の電子線のエネルギー幅と分解能に関するもので、２００ＫＶの電圧時にエネルギー幅が２ｅＶ程度の電子線源について議論しています。２／２０００００＝０．００００１の非常に小さい幅である。 
　これに対して本願発明１〜３は、数ｅＶ、例えば６ｅＶ／６ＫＶ＝０．００１であり、引用文献３における透過型電子顕微鏡とは１００倍異なる技術に関するものである。 
 　したがって、引用文献３のp.79 Table1に、電子ビームのエネルギー幅を１．８eVとしたことが記載されていることのみを以って、これを本願発明１〜３に適用し、電子ビームのエネルギー幅を数eV以下とすることは周知であり、当業者にとって格別のものでないとすることはできない。 」
　旨の主張をしている。
　（ａ’）しかしながら、上記（あ−３）において検討したように、上記引用刊行物Ａの摘記事項（３Ａ−４）には、原子ストリングホログラムの実験的観察には、「Alchemi」で使用されたのと同じTEM装置、すなわち、200nm径の電子ビーム(LaB6線源)が使用されたことは明らかであり、さらに、放射線を試料に照射して、試料から発生する別の放射線を検出して試料を分析する際に、放射線を集束させて、試料に照射することは周知慣用された技術事項であることから、引用発明において、電子ビームを試料に照射する点線源から試料に照射される際の電子ビーム径を２００ｎｍにする際に、周知の技術事項を採用して電子ビームを集束させてることは、当業者が容易なし得るものである。
　また、仮に、原子ストリングホログラムの実験的観察の、電子ビーム(LaB6線源)の径が２００ｎｍでないとしても、上記（あ−４）において検討したように、電子ビームを試料に照射し、試料から発生する特性Ｘ線を検出する際に、電子ビームをナノメータオーダに集束することは周知であることから、引用発明において、電子ビームを試料に照射する点線源から試料に照射される際の電子ビーム径を形成する際に、周知の技術事項を採用して電子ビームをナノメートルオーダーまで集束させることは、当業者が容易なし得るものである。
（ｂ’）さらに、上記（あ−１）及び（あ−２）において検討したように、引用発明において、電子ビームを試料に照射して、試料から発生する特性Ｘ線を検出してホログラムを生成しする際に、試料の内部原子構造の分析を精度良く行うために、すなわち、分解能をたかくする試料に照射する電子ビームのエネルギー幅を狭くする必要があり、さらに、電子ビームを試料に照射して発生する放射線を検出して試料を分析する際に用いる電子ビームのエネルギー幅を数ｅＶ以下にすることは技術常識といえるから、引用発明において、電子ビームを試料に照射する点線源から電子ビームを試料に照射する電子ビームのエネルギー幅を数ｅＶ以下にすることは当業者が当然なすべき設計的事項にすぎないものであり、請求人の主張は採用できない。
　なお、請求人は、上記主張において
「本願発明で用いた6kVのビームと、引用文献１におけるシミュレーションの300kVのビームでは、波長が5倍以上異なり、当然、角度分解能は5倍以上悪くてもよい。」
　こと、及び、
「引用文献３は、電子線源を使用した透過型電子顕微鏡の電子線のエネルギー幅と分解能に関するもので、２００ＫＶの電圧時にエネルギー幅が２ｅＶ程度の電子線源について議論しています。２／２０００００＝０．００００１の非常に小さい幅である。 
　これに対して本願発明１〜３は、数ｅＶ、例えば６ｅＶ／６ＫＶ＝０．００１であり、引用文献３における透過型電子顕微鏡とは１００倍異なる技術に関するものである。 」
　ことを主張しているが、本願発明には、６ＫＶを用いることが記載されていないので、上記主張は本願発明の構成に基づかない主張であり、採用できないものである。
　
　したがって、本願発明は、引用発明、引用刊行物Ｂに記載された発明及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　  　　　　　　　　　　　　 
 第５　むすび  
　以上のとおり、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、その余の請求項を検討するまでもなく、本件出願は、拒絶をすべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。