【事件の表示】
　特願２００４−２００３７５「薄型静電容量式タッチパネル及び液晶表示装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年　１月２６日出願公開、特開２００６−　２３９０４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１６年７月７日の出願であって、平成２１年９月３日付け拒絶理由通知に対する応答時、同年１１月９日付けで手続補正がなされ、平成２２年４月２０日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年７月２７日付けで拒絶査定不服審判請求及び手続補正がなされた。
　そして、平成２３年３月２２日付けで審尋がなされたが、請求人からは回答がなされなかった。
　その後、当審がした平成２４年３月１９日付け最後の拒絶理由通知に対する応答時、同年５月２８日付けで手続補正がなされたものである。
　
２．平成２４年５月２８日付けの手続補正についての補正却下の決定 
［補正却下の決定の結論］ 
　平成２４年５月２８日付けの手続補正を却下する。 
［理　由］ 
（１）補正後の本願発明 
　平成２４年５月２８日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）により、特許請求の範囲の請求項３は、 
「【請求項３】
　誘電体フィルム上に、透明導電膜と、前記誘電体フィルム上の接触部の位置座標を静電容量の変化により検知するための電極となる導電膜パターン層と、が積層された構造であり、
　前記誘電体フィルムの厚みは、５〜２５μｍであり、
　前記透明導電膜は、前記誘電体フィルムの全面に形成された、導電性を有する透明膜であり、
　前記導電膜パターン層は、前記透明導電膜上の四辺に配置され、
当該導電膜パターン層の四隅が電極となっており
　前記誘電体フィルムの前記透明導電膜が形成される面とは反対面上に、ハードコート層、反射防止膜、および防汚層が積層され、
　前記ハードコート層と前記反射防止膜との間に、密着層が形成され、
　前記密着層が、金属酸化物、または金属窒化物を含んでいることを特徴とする薄型静電容量式タッチパネル。」 
と補正された。 
　上記補正は、請求項３に記載された発明を特定するために必要な事項である「導電膜パターン層」について、「四隅が電極となっており」との限定を付加するものである。 
　よって、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。 
　
　そこで、本件補正後の上記請求項３に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たすか）否かについて以下に検討する。 
 　 
（２）引用例 
（２−１）引用例１
　当審が通知した拒絶の理由に引用された特開平６−１７５７７１号公報（以下、「引用例１」という。）には、図面とともに以下の各記載がある（なお、下線は当審で付与した。）。 
　ア．「【請求項１】　スタイラスペンが指示する位置を検出する位置検出装置において、
基板と、
前記基板上に設けられ、面方向に一様な抵抗値を有する導電膜と
前記導電膜上の所定の矩形領域を取り囲むように配置されている電極群と
前記矩形領域の頂点に接続され、それぞれの頂点を所定の電位に設定する電位設定手段と
前記電位設定主段を制御し、前記導電膜上の所定の前記矩形領域の中において、前記導電膜上で縦方向に電位分布を生じさせる縦方向電位分布発生手段と
前記電位設定主段を制御し、前記導電膜上の所定の前記矩形領域の中において、前記導電膜上で横方向に電位分布を生じさせる横方向電位分布発生手段と
前記導電膜上に設けられた絶縁膜と、
前記絶縁膜を介して、前記導電膜と静電結合する電極部材を先端に有するスタイラスペンとを備え、前記スタイラスペンの先端の電極部材に、前記導電膜上に分布する電位が誘導されることにより、前記スタイラスペンの先端の位置を検出することを特徴とする位置検出装置。」
　
　イ．「【００３３】
【実施例】
実施例１．図１は、本発明の一実施例である位置検出・表示装置の機能ブロック図である。本実施例の位置検出表示装置は、位置検出を行うタブレット部と、情報の表示を行うＬＣＤ部とから構成されている。
【００３４】タブレット部は、図２に示すようなタブレットと、アナログスイッチとしてトランジスタ２２０を含んでいる。トランジスタ２２０は、タブレットの４隅にそれぞれ対応して４個備えられている。タブレット駆動回路２２２は、前記４個のトランジスタ２２０を制御し、タブレットの縦、横方向の線形な電位分布を生じさせる。
【００３５】本実施例において特徴的なことは、このように、
タブレットの４隅から導電膜２０２に電流を供給することにより、導電膜２０２上に線形に減衰する電位分布を形成したことである。そして、スタイラスペン２０５は、この電位分布が形成された導電膜２０２上の所定の位置を絶縁膜を介して容量結合により検出する
【００３６】このように、
本実施例においては、導電膜２０２の４隅の端子は一定の電圧に保持され、ある期間トランジスタスイッチにより接地される。ペンが指定する位置を表す信号はスタイラスペンからのパルス電圧レベルだけである。更に、導電膜上２０２上には線形な電位分布が形成されているため、スタイラスペン２０５が検出する電位と指定する位置との間には単純な線形の関係しかない。従って、簡単な線形演算をスタイラスペン２０６の検出電圧出力に施すことにより、極めて容易に指示位置の検出が行える
　 
　ウ．「【００４０】図３にタブレットの導電膜２０２と、スタイラスペン２０５とが容量結合する様子を表す１次元モデルが示されている。
図２に示されているように、導電膜２０２は、ガラスやフィルム等の絶縁体２０１を挟んでスタイラスペン２０５と容量結合している。更に、導電膜２０２上には、電極２０３によって電位分布が形成される。例えば、図において、右側の電極２０３を接地して左側の電極２０３から信号を印加すると、スタイラスペンに発生する電位は、例えば図４に示すようになる。図４にはスタイラスペン２０５の位置と、その時に発生する電位の関係を示すグラフが示さている。図４のグラフの横軸は、図３における横方向の位置をＸを、縦軸は、その位置におけるスタイラスペンの検出電圧ＶDET を示している。ここで注目すべきことは、導電膜２０２が均一な抵抗値を有しているため、図４に示したように、導電膜２０２上には線形な電位分布が形成されていることである。これによって、スタイラスペンが検出した電位がＶ
2 
であった場合、図４に示したように、スタイラスペン２０５の位置は、Ｘ
2
 であることが容易に検出できる
　
　エ．
導電膜２０２は、絶縁体２０１上の全面に形成された透明導電膜（ＩＴＯ）である
　
　上記記載事項及び図面を総合勘案すると、引用例１には、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。 
「スタイラスペンが指示する位置（座標）を検出するタブレットであって、　ガラスやフィルム等の絶縁体と、該絶縁体上の全面に形成され均一な抵抗値を有する透明導電膜（ＩＴＯ）と、該透明導電膜（ＩＴＯ）上の所定の矩形領域を取り囲むように配置された電極と、からなり、
　前記電極の４隅は所定の電位に設定する電位設定手段が接続される端子であり、
　前記電位設定手段を制御して、前記透明導電膜（ＩＴＯ）上の前記所定の矩形領域の中において所定の方向に線形な電位分布を形成し、前記透明導電膜（ＩＴＯ）とスタイラスペンとが前記絶縁体を挟んで容量結合することを利用してスタイラスペンが検出する電位より当該スタイラスペンの指示する位置（座標）を検出するようにしたタブレット。」
　
（２−１）引用例２
　同じく当審が通知した拒絶の理由に引用された特開２００４−２１５５０号公報（以下、「引用例２」という。）には、図面とともに以下の各記載がある（なお、下線は当審で付与した。）。
　ア．「【請求項１】　
光透過性の基材と、該基材とは所定の間隔をもって対向配置される光透過性のフィルム基材とを有し、上記
基材上及び上記フィルム基材の上記基材との対向面上に、光透過性の導電層が形成されて成るタッチパネルにあって
上記フィルム基材上に、少なくともハードコート層、密着層、反射防止層及び防汚層がこの順に積層されて成り
上記反射防止層は、所定の屈折率を有する屈折率層が少なくとも２層以上積層されて成ることを特徴とするタッチパネル。」 
　 
　イ．「【請求項９】
上記密着層が、金属酸化物又は金属窒化物より形成され
　 
　ウ．
フィルム基材上に積層されるハードコート層、密着層、反射防止層及び防汚層は、光透過性導電層が形成される面とは反対側の面上に形成される
　
（３）対比 
　そこで、本願補正発明と引用発明とを対比すると、 
　ア．引用発明における、ガラスやフィルム等の「絶縁体」は、フィルムであってもよいのであるから、本願補正発明における「誘電体フィルム」に相当し、
　また、引用発明における「透明導電膜（ＩＴＯ）」、所定の矩形領域を取り囲むように配置された「電極」は、それぞれ本願補正発明における「透明導電膜」、電極となる「導電膜パターン層」に相当し、
　引用発明における「ガラスやフィルム等の絶縁体と、該絶縁体上の全面に形成され均一な抵抗値を有する透明導電膜（ＩＴＯ）と、該透明導電膜（ＩＴＯ）上の所定の矩形領域を取り囲むように配置された電極と、からなり」によれば、本願補正発明と引用発明とは、「誘電体フィルム上に、透明導電膜と、前記誘電体フィルム上の接触部の位置座標を検知するための電極となる導電膜パターン層と、が積層された構造であり」の点で共通する。
　
　イ．本願補正発明における、導電膜パターン層の四隅の「電極」は、結局のところ、電圧を印加するために外部からのリード線などが接続される部分といった意味にしか解し得ないことからして、引用発明における、所定の矩形領域を取り囲むように配置された電極の４隅の「端子」は、本願補正発明における「電極」に相当するといえ、
　引用発明における「該透明導電膜（ＩＴＯ）上の所定の矩形領域を取り囲むように配置された電極と、からなり、前記電極の４隅は所定の電位に設定する電位設定手段が接続される端子であり」によれば、電極は、所定の矩形領域を取り囲むように配置されることから、透明導電膜上の四辺に配置されるものであることも明らかであり、したがって本願補正発明と引用発明とは、「前記透明導電膜は、前記誘電体フィルムの全面に形成された、導電性を有する透明膜であり、前記導電膜パターン層は、前記透明導電膜上の四辺に配置され、当該導電膜パターン層の四隅が電極となって」いる点で一致する。
　
　ウ．そして、引用発明における「タブレット」も、フィルムの絶縁体上に透明導電膜や電極が積層された構造であることから、本願補正発明と引用発明とは、「薄型タッチパネル」である点で共通するといえる。
　
　よって、本願補正発明と引用発明とは、 
「誘電体フィルム上に、透明導電膜と、前記誘電体フィルム上の接触部の位置座標を検知するための電極となる導電膜パターン層と、が積層された構造であり、
　前記透明導電膜は、前記誘電体フィルムの全面に形成された、導電性を有する透明膜であり、
　前記導電膜パターン層は、前記透明導電膜上の四辺に配置され、当該導電膜パターン層の四隅が電極となっていることを特徴とする薄型タッチパネル。」 
である点で一致し、以下の点で相違する。 
［相違点１］　 
　誘電体フィルム上の接触部の位置座標を、本願発明では「静電容量の変化により」検知する「静電容量式」であるのに対し、引用発明では透明導電膜（ＩＴＯ）とスタイラスペンとが絶縁体を挟んで容量結合することを利用しているものの、「静電容量の変化により」検知する方式ではない点。
　
［相違点２］ 
　誘電体フィルムの厚みが、本願発明では「５〜２５μｍ」であると特定するのに対して、引用発明では厚みの特定がない点。
　
［相違点３］
　誘電体フィルムの透明導電膜が形成される面とは反対面上に、本願発明では「ハードコート層、反射防止膜、および防汚層が積層され、前記ハードコート層と前記反射防止膜との間に、密着層が形成され、前記密着層が、金属酸化物、または金属窒化物を含んでいる」ものであるのに対し、引用発明ではそのような各層を積層することの特定がない点。
　
（４）判断 
　上記相違点について検討する。 
［相違点１］について 
　例えば当審が通知した拒絶の理由に引用された特開平１１−３０４９４２号公報（特に段落【００２２】〜【００２４】、図１を参照）や、同じく当審が通知した拒絶の理由に引用された特開２００３−１６７６７７号公報（特に段落【００３２】〜【００３７】、図３を参照）に記載のように、入力手段（導電性ペンや指）による接触部の位置座標を静電容量の変化により検知する静電容量（結合）式（具体的には、透明導電膜上の四隅に配置された電極から同相同電位の交流電圧を印加して透明導電膜にはほぼ均一な電位を設定しておき、絶縁部材を介して入力手段である導電性ペンや指によって触れた場合に透明導電膜と静電容量結合することによって各電極に流れる電流の大きさを検出し、該検出値に基づいて位置座標を求める）も周知のものであり（なお、この方式であれば、引用発明のように特別なスタイラスペンを用いることなく指でも指示可能となる）、入力手段と透明導電膜とが絶縁部材を介して静電容量結合することを利用する方式である点で基本構造を同じくする引用発明においても、入力手段による接触部の位置座標を検知するための方式として、このような周知の静電容量の変化により検知する静電容量（結合）式を採用することは当業者であれば容易に想到し得ることである。
　
［相違点２］について 
　引用発明におけるフィルムからなる絶縁体にあってもその厚みは、余りに薄いと耐久性等の問題があり、余りに厚いと容量結合を利用しての位置検出に支障をきたす等の問題があり、適当な範囲があることは明らかなことである。そして、例えば当審が通知した拒絶の理由に引用された特開２００４−１３６９２号公報には、タッチパネル用の、透明導電膜が形成されるフィルム基材について、その厚みとして１０μｍ〜１０００μｍが好ましいことが記載（段落【００９９】）され、本願補正発明で特定する数値範囲も含んでいることや、一方で、本願補正発明においては誘電体フィルムの材質について、例えば有機材なのか、あるいは無機材なのかさえ特定されておらず、単に厚さについてのみ数値範囲を特定してもその上限値、下限値に格別の臨界的・技術的意義は見出せないこと、をも総合的に判断すると、引用発明においても、フィルムからなる絶縁体の厚みを、５〜２５μｍの範囲を満たすものとすることは当業者であれば容易になし得ることである。
　
［相違点３］について 
　前記「（２−１）」に記載のとおり引用例２には、タッチパネルの光透過性の導電層が形成されてなるフィルム基材における、当該光透過性の導電層が形成された面とは反対面（すなわち、タッチされる側の面）上に、ハードコート層、密着層、反射防止膜、および防汚層をこの順に積層形成することや、密着層を金属酸化物、または金属窒化物より形成することが記載されており、これら各層を設けることに関して、タッチパネルのタイプ（例えば抵抗式か静電容量式か）に拘わらず適用可能であることは当業者にとって自明というべきことであるから、引用発明においても、フィルムからなる絶縁体の透明導電膜が形成される面とは反対面上に、ハードコート層、反射防止膜、および防汚層を積層し、さらに前記ハードコート層と前記反射防止膜との間に密着層を形成し、当該密着層が金属酸化物、または金属窒化物を含んでいるものとすることは当業者が容易になし得ることである。
　
　そして、上記各相違点を総合的に判断しても本願補正発明が奏する効果は、引用発明、引用例２に記載の技術事項、及び周知の技術事項から、当業者が十分に予測できたものであって、格別顕著なものがあるとはいえない。 
　 
（５）むすび 
　以上のとおり、本願補正発明は、引用発明、引用例２に記載の技術事項、及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。 
　したがって、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであるから、同法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 
　
３．本願発明について 
　平成２４年５月２８日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項３に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成２２年７月２７日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項３に記載された、次のとおりのものである。 
「【請求項３】
　誘電体フィルム上に、透明導電膜と、前記誘電体フィルム上の接触部の位置座標を静電容量の変化により検知するための電極となる導電膜パターン層と、が積層された構造であり、
　前記誘電体フィルムの厚みは、５〜２５μｍであり、
　前記透明導電膜は、前記誘電体フィルムの全面に形成された、導電性を有する透明膜であり、
　前記導電膜パターン層は、前記透明導電膜上の四辺に配置され、
　前記誘電体フィルムの前記透明導電膜が形成される面とは反対面上に、ハードコート層、反射防止膜、および防汚層が積層され、
　前記ハードコート層と前記反射防止膜との間に、密着層が形成され、
　前記密着層が、金属酸化物、または金属窒化物を含んでいることを特徴とする薄型静電容量式タッチパネル。」
　
（１）引用例 
　当審が通知した拒絶の理由で引用された引用例及びその記載事項は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。 
　
（２）対比・判断 
　本願発明は、前記「２．」で検討した本願補正発明の発明特定事項である「導電膜パターン層」について、「四隅が電極となっており」との限定を省いたものに相当する。 
　そうすると、本願発明の発明特定事項を全て含み、更に他の限定事項を付加したものに相当する本願補正発明が前記「２．（４）」に記載したとおり、引用発明、引用例２に記載の技術事項、及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用発明、引用例２に記載の技術事項、及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（３）むすび 
　以上のとおり、本願の請求項３に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、その余の請求項について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。 
　
　よって、結論のとおり審決する。