【手続補正書】
【提出日】平成18年6月15日(2006.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放出源から放出される酸化窒素ガスを還元するための装置であって、
（ａ）放出源から下流の方に酸化窒素ガスを輸送するための排気ガス導管、
（ｂ）還元剤を導管の中に注入するためのインジェクター、および
（ｃ）インジェクターより上流側の導管内に位置させた１つもしくはそれ以上のガス分析計
を含んでなる装置。
【請求項２】
インジェクターより下流側の導管内に位置させた１つもしくはそれ以上のガス分析計をさらに含む請求項１に記載の装置。
【請求項３】
放出源が、固定式の燃焼源である請求項１に記載の装置。
【請求項４】
燃焼源が、発電プラント、燃焼炉、蒸気タービン、またはガスタービンである請求項３に記載の装置。
【請求項５】
放出源が、輸送用またはリクレーション用車両における燃焼源であるか、または建設、保守、または工業的操作のための機器における燃焼源である請求項１に記載の装置。
【請求項６】
放出源から放出され、酸化窒素を含み、ガス混合物中に還元剤を注入することによって酸化窒素が還元される多成分ガス混合物中で、未反応の還元剤の放出量を減少させる方法であって、
ガス混合物の組成含有率に関する情報を求める工程、および
ガス混合物の組成含有率に関する情報に関連させて還元剤の注入を制御する工程
を含んでなる方法。
【請求項７】
ガス混合物を触媒と接触させ、そして、ガス混合物の組成含有率に関する情報を、
（ａ）ガス混合物がいずれかの触媒と接触するより前に、
（ｂ）ガス混合物がいずれかの触媒と接触した後で、または（ｃ）ガス混合物がいずれかの触媒と接触する前と後の両方で、求める請求項６に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２０】
本発明の装置、その装置の使用、およびその装置の使用方法に関するさらなる記述は、米国仮出願第６０／３７０，４４５号明細書（出願日２００２年４月５日）および米国出願番号第１０／１１７，４７２号明細書（出願日２００２年４月５日）に見いだすことができるが、これらの出願それぞれのすべてを、すべての目的において本明細書の一部として援用するものとする。
本発明の好適な実施の態様は次のとおりである。
１．  放出源から放出される酸化窒素ガスを還元するための装置であって、
（ａ）放出源から下流の方に酸化窒素ガスを輸送するための排気ガス導管、
（ｂ）還元剤を導管の中に注入するためのインジェクター、および
（ｃ）インジェクターより上流側の導管内に位置させた１つもしくはそれ以上のガス分析計
を含んでなる装置。
２．  酸化窒素の還元に触媒作用を有する触媒をさらに含んでなる上記１に記載の装置。
３．  インジェクターより下流側、および触媒より下流側にあるガス分析計をさらに含んでなる上記２に記載の装置。
４．  第１のガス分析計を触媒よりも上流側に位置させ、第２のガス分析計を触媒よりも下流側に位置させる上記２に記載の装置。
５．  複数のガス分析計を触媒よりも上流側に位置させ、そして複数のガス分析計を触媒よりも下流側に位置させる、複数のガス分析計を含んでなる上記２に記載の装置。
６．  （ａ）第１の触媒、（ｂ）第１の触媒よりも下流側に位置させたガス分析計、および（ｃ）ガス分析計よりも下流側に位置させた第２の触媒を含んでなる上記２に記載の装置。
７．  第１および第２の触媒がそれぞれ、垂直に配置された触媒床である上記６に記載の装置。
８．  第１および第２の触媒の間に位置させた複数のガス分析計をさらに含んでなる上記６に記載の装置。
９．  第２の触媒よりも下流側に１つもしくはそれ以上のガス分析計をさらに含んでなる上記６に記載の装置。
１０．  すべての触媒よりも下流側に１つもしくはそれ以上のガス分析計をさらに含んでなる上記２に記載の装置。
１１．  還元剤がアンモニアである上記１または２に記載の装置。
１２．  還元剤が尿素である上記１または２に記載の装置。
１３．  放出源が固定式である上記１または２に記載の装置。
１４．  上記１または２に記載の酸化窒素ガスを還元するための装置を含んでなる、発電プラント。
１５．  上記１または２に記載の酸化窒素ガスを還元するための装置を含んでなる、燃焼炉。
１６．  上記１または２に記載の酸化窒素ガスを還元するための装置を含んでなる、蒸気タービン。
１７．  上記１または２に記載の酸化窒素ガスを還元するための装置を含んでなる、ガスタービン。
１８．  上記１または２に記載の酸化窒素ガスを還元するための装置を含んでなる、輸送用またはリクレーション用車両。
１９．  上記１または２に記載の酸化窒素ガスを還元するための装置を含んでなる、建設、保守、または工業的操作のための機器。
２０．  放出源から放出され、酸化窒素を含み、ガス混合物中に還元剤を注入することによって酸化窒素が還元される多成分ガス混合物中で、未反応の還元剤の量または放出を減少させる方法であって、
ガス混合物の組成含有率に関する情報を求める工程、および
ガス混合物の組成含有率に関する情報に関連させて還元剤の注入を制御する工程
を含んでなる方法。
２１．  ガス混合物を触媒と接触させるが、ガス混合物をいずれかの触媒と接触させるよりも前に、ガス混合物の組成含有率に関する情報を求める上記２０に記載の方法。
２２．  ガス混合物をいずれかの触媒と接触させた後で、ガス混合物の組成含有率に関する情報を求める工程をさらに含んでなる上記２１に記載の方法。
２３．  ガス混合物を触媒と接触させ、そして、ガス混合物の組成含有率に関する情報を、ガス混合物をいずれかの触媒と接触させた後に求める上記２０に記載の方法。
２４．  ガス混合物を第１および第２の触媒と接触させ、そしてガス混合物の組成含有率に関する情報を、ガス混合物を第１の触媒と接触させた後ではあるが、ガス混合物を第２の触媒と接触させるよりも前に求める上記２０に記載の方法。
２５．  ガス混合物を触媒と接触させ、そして、ガス混合物の組成含有率に関する情報を、ガス混合物をすべての触媒と接触させた後に求める上記２０に記載の方法。
２６．  ガス混合物の組成含有率に関する情報に関連させて、ガス混合物中に注入すべき還元剤の量を求める工程をさらに含んでなる上記２０、２１、２３または２５のいずれかに記載の方法。
２７．  ガス混合物の組成含有率に関する情報が、１つもしくはそれ以上のガス分析計からの出力である上記２０、２１、２３または２５のいずれかに記載の方法。
２８．  ガス混合物が排気ガス導管によって放出源より下流側に輸送され、ガス分析計が導管内に位置している上記２７に記載の方法。
２９．  ガス混合物の組成含有率に関する情報が、化学／電気活性材料のアレイから求められる上記２０、２１、２３または２５のいずれかに記載の方法。
３０．  ガス混合物の組成含有率に関する情報が、ガス混合物内の個々のガス成分の、ガス混合物内の個々の濃度に関連する上記２０、２１、２３または２５のいずれかに記載の方法。
３１．  ガス混合物の組成含有率に関する情報が、ガス混合物内の成分ガスのサブグループの、ガス混合物内の合計の濃度に関連する上記２０、２１、２３または２５のいずれかに記載の方法。
３２．  ガス混合物の組成含有率に関する情報が、ガス混合物内の個々のガス成分の、ガス混合物内の個々の濃度に関連し、そして、ガス混合物内の成分ガスのサブグループの、ガス混合物内の合計の濃度に関連する上記２０、２１、２３または２５のいずれかに記載の方法。
３３．  ガス混合物の組成含有率に関する情報が、意志決定ルーチンに入力される上記２０、２１、２３または２５のいずれかに記載の方法。
３４．  ガス混合物の組成含有率に関する情報が、マップに入力される上記２０、２１、２３または２５のいずれかに記載の方法。
３５．  ガス混合物の組成含有率に関する情報が、ガス混合物内の個々の酸化窒素成分の、ガス混合物内の個々の濃度に関連する上記２０、２１、２３または２５のいずれかに記載の方法。
３６．  ガス混合物の組成含有率に関する情報が、ガス混合物内のすべての酸化窒素成分の、ガス混合物内の合計の濃度に関連する上記２０、２１、２３または２５のいずれかに記載の方法。
３７．  ガス分析計が、化学／電気活性材料のアレイを含んでなる上記２７に記載の方法。
３８．  ガス分析計が、ガス混合物内の個々のガス成分の、ガス混合物内の個々の濃度に関連する、少なくとも１つの信号を出力する上記２７に記載の方法。
３９．  ガス分析計が、ガス混合物内のガス成分のサブグループの、ガス混合物内の合計の濃度に関連する、少なくとも１つの信号を出力する上記２７に記載の方法。
４０．  ガス分析計が、ガス混合物内の個々のガス成分の、ガス混合物内の個々の濃度に関連する、少なくとも１つの信号と、ガス混合物内のガス成分のサブグループの、ガス混合物内の合計の濃度に関連する、少なくとも１つの信号とを出力する上記２７に記載の方法。
４１．  ガス分析計が、意志決定ルーチンに信号を出力する上記２７に記載の方法。
４２．  すべての触媒より上流側にあるガス分析計と、すべての触媒より下流側にあるガス分析計の両方が、意志決定ルーチンに信号を出力する上記２７に記載の方法。
４３．  すべての触媒より上流側にあるガス分析計と、第１の触媒より下流側および第２の触媒より上流側にあるガス分析計と、すべての触媒より下流側にあるガス分析計がそれぞれ、意志決定ルーチンに信号を出力する上記２７に記載の方法。
４４．  ガス分析計がマップに信号を出力する上記２７に記載の方法。
４５．  ガス分析計が、還元剤の注入を制御する意志決定ルーチンに信号を出力する上記２７に記載の方法。
４６．  ガス分析計が、注入すべき還元剤の量を計算する意志決定ルーチンに信号を出力する上記２７に記載の方法。
４７．  ガス分析計が、ガス混合物内の個々の酸化窒素成分の、ガス混合物内の個々の濃度に関連する、少なくとも１つの信号を出力する上記２７に記載の方法。
４８．  ガス分析計が、ガス混合物内のすべての酸化窒素成分の、ガス混合物内の合計の濃度に関連する、少なくとも１つの信号を出力する上記２７に記載の方法。
４９．  ガス分析計が、ガス混合物内の１つもしくはそれ以上または全部の酸化窒素成分の、ガス混合物内の個々の濃度に関連する、少なくとも１つの信号を出力し、信号が注入すべき還元剤の量を計算する意志決定ルーチンに出力される上記２７に記載の方法。
５０．  放出源が固定式である上記２０、２１、２３または２５のいずれかに記載の方法。
５１．  放出源が、輸送用またはリクレーション用車両であるか、または建設、保守、または工業的操作のための機器である上記２０、２１、２３または２５のいずれかに記載の方法。