【手続補正書】
【提出日】平成18年4月20日(2006.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）加熱ガスハロゲン含有脂肪族炭化水素を含む供給ガス流をその内部に向かって少なくとも１つのガス用供給ラインが開いている反応器に導入し、
ｂ）解離促進剤の熱もしくは非熱分解により発生させた遊離基を含む加熱ガスを反応器に向かって開いている供給ライン（単数もしくは複数）を通して導入し、ここで、熱分解による遊離基発生の場合、加熱ガスは、少なくとも供給ラインが開いている箇所で広く行きわたっている反応器中の反応混合物の温度に対応する温度を有し、非熱分解による遊離基発生の場合、加熱ガスは、少なくとも供給ラインが反応器に向かって開いている箇所での反応混合物の露点の温度に対応する温度を有する、そして
ｃ）ハロゲン化水素およびエチレン不飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素がハロゲン含有脂肪族炭化水素の熱解離により生成されるような圧力および温度を反応器内部に設定する、ただし、熱分解による遊離基発生の場合、これは、不活性ガスで稀釈した解離促進剤を含むガスを加熱するか、もしくは解離促進剤を含むガスを表面が不活性ガスでフラッシされた熱ソース上を通すことにより達成される、
工程を含む、飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素の熱解離によりエチレン不飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素を調製するためのプロセス。
【請求項２】
ａ）加熱ガスハロゲン含有脂肪族炭化水素を含む供給ガス流をその内部に向かって少なくとも１つの解離促進剤を含む加熱ガス用供給ラインが開いている反応器に導入し、
ｄ）反応器の内部で所定容量内で適宜のデバイスにより解離促進剤から熱的もしくは非熱的に遊離基を発生させ、
ｅ）解離促進剤を含む加熱ガスを供給ラインを通して所定容量導入し、ここで、熱分解による遊離基発生の場合、加熱ガスは、少なくとも供給ラインが開いている箇所で広く行きわたっている反応器中の反応混合物の温度に対応する温度を有し、非熱分解による遊離基発生の場合、加熱ガスは、少なくとも供給ラインが反応器に向かって開いている箇所での反応混合物の露点の温度に対応する温度を有する、そして
ｃ）ハロゲン化水素およびエチレン不飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素がハロゲン含有脂肪族炭化水素の熱解離により生成されるような圧力および温度を反応器内部に設定する
工程を含む、飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素の熱解離によりエチレン不飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素を調製するためのプロセス。
【請求項３】
ａ）加熱ガスハロゲン含有脂肪族炭化水素を含む供給ガス流を反応器に導入し、
ｂ）ハロゲン化水素およびエチレン不飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素がハロゲン含有脂肪族炭化水素の熱解離により生成されるような圧力および温度を反応器内部に設定し、
ｆ）加熱ハロゲン含有脂肪族炭化水素、ハロゲン化水素およびエチレン不飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素を含む生成物のガス流を、反応器から反応器の下流に配置される断熱後反応器に導入し、ここで、前記後反応器中で、前記反応は、生成物のガスを冷却しながら生成物のガス流により供給される熱の助けを借りて継続され、その内部で、少なくとも１つの加熱ガス用供給ラインが開いている、そして
ｇ）解離促進剤の熱もしくは非熱分解により発生させた遊離基を含む加熱ガスを断熱後反応器に向かって開いている供給ライン（単数もしくは複数）を通して導入するか、もしくは断熱後反応器の内部で所定容量内で適宜のデバイスにより解離促進剤から熱的もしくは非熱的に遊離基を発生させる、ここで、熱分解による遊離基発生の場合、加熱ガスの温度は、少なくとも供給ラインが断熱後反応器に向かって開いている箇所で反応混合物中に広く行きわたっている温度であり、非熱分解による遊離基発生の場合、少なくとも供給ラインが断熱後反応器に向かって開いている箇所での反応混合物の露点に対応する温度である、ただし、熱分解による遊離基発生の場合、これは、不活性ガスで稀釈した解離促進剤を含むガスを加熱するか、もしくは解離促進剤を含むガスを表面が不活性ガスでフラッシされた熱ソース上を通すことにより達成される、
工程を含む、飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素の熱解離によりエチレン不飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素を調製するためのプロセス。
【請求項４】
ｉ）前記反応器に向かって開いている飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素を含む供給ガス流用供給ライン、
ii）反応器の内部に向かって開いている加熱ガス用の少なくとも１つの供給ライン、
iii）供給ラインに接続した解離促進剤のソース、
iv）供給ラインに設置した解離促進剤から遊離基を非熱的に発生させるためのデバイス、
ｖ）適宜に、供給ラインでガスを加熱するための加熱デバイス、
vi）反応器中でガス流の温度を加熱および／または維持するための加熱デバイス、および
vii）反応器から導かれるエチレン不飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素を含む熱解離の生成物のガス流のための出口ライン
の要素を含む、請求項１に記載のプロセスを実施するための反応器。
【請求項５】
ｉ）反応器に向かって開いている飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素を含む供給ガス流用供給ライン、
ii）反応器の内部に向かって開いている加熱ガス用の少なくとも１つの供給ライン、
iii）供給ラインに接続した解離促進剤のソース、
viii）供給ラインの反応器端に設置した解離促進剤から遊離基を発生させるためのデバイス、
iv）適宜に、供給ラインでガスを加熱するための加熱デバイス、
vi）反応器中でガス流の温度を加熱および／または維持するための加熱デバイス、および
vii）反応器から導かれるエチレン不飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素を含む熱解離の生成物のガス流のための出口ライン
の要素を含む、請求項１に記載のプロセスを実施するための反応器。
【請求項６】
ｉ）前記反応器に向かって開いている飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素を含む供給ガス流用供給ライン、
ix）反応器の内部に設置され、反応器の内部で所定容量内で解離促進剤から遊離基を発生させるデバイス、
ｘ）反応器の内部で所定容量に向かって開いている解離促進剤を含む加熱ガス用の少なくとも１つの供給ライン、
iii）供給ラインに接続した解離促進剤のソース、
ｖ）供給ラインでガスを加熱するための加熱デバイス、
vi）反応器中でガス流の温度を加熱および／または維持するための加熱デバイス、および
vii）反応器から導かれるエチレン不飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素を含む熱解離の生成物のガス流のための出口ライン
の要素を含む、請求項２に記載のプロセスを実施するための反応器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４１】
本発明による反応器上で解離促進剤から遊離基を光分解発生させるためのデバイスの設置は、図３に示されるのと同じ方法で行うことができる。
本発明は以下の態様を含む。
［１］
ａ）加熱ガスハロゲン含有脂肪族炭化水素を含む供給ガス流をその内部に向かって少なくとも１つのガス用供給ラインが開いている反応器に導入し、
ｂ）解離促進剤の熱もしくは非熱分解により発生させた遊離基を含む加熱ガスを反応器に向かって開いている供給ライン（単数もしくは複数）を通して導入し（熱分解による遊離基発生の場合、加熱ガスは、少なくとも供給ラインが開いている箇所で広く行きわたっている反応器中の反応混合物の温度に対応する温度を有し、非熱分解による遊離基発生の場合、加熱ガスは、少なくとも供給ラインが反応器に向かって開いている箇所での反応混合物の露点の温度に対応する温度を有する）、そして
ｃ）ハロゲン化水素およびエチレン不飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素がハロゲン含有脂肪族炭化水素の熱解離により生成されるような圧力および温度を反応器内部に設定する（ただし、熱分解による遊離基発生の場合、これは、不活性ガスで稀釈した解離促進剤を含むガスを加熱するか、もしくは解離促進剤を含むガスを表面が不活性ガスでフラッシされた熱ソース上を通すことにより達成される）
工程を含む、飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素の熱解離によりエチレン不飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素を調製するためのプロセス。
［２］
ａ）加熱ガスハロゲン含有脂肪族炭化水素を含む供給ガス流をその内部に向かって少なくとも１つの解離促進剤を含む加熱ガス用供給ラインが開いている反応器に導入し、
ｄ）反応器の内部で所定容量内で適宜のデバイスにより解離促進剤から熱的もしくは非熱的に遊離基を発生させ、
ｅ）解離促進剤を含む加熱ガスを供給ラインを通して所定容量導入し（熱分解による遊離基発生の場合、加熱ガスは、少なくとも供給ラインが開いている箇所で広く行きわたっている反応器中の反応混合物の温度に対応する温度を有し、非熱分解による遊離基発生の場合、加熱ガスは、少なくとも供給ラインが反応器に向かって開いている箇所での反応混合物の露点の温度に対応する温度を有する）、そして
ｃ）ハロゲン化水素およびエチレン不飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素がハロゲン含有脂肪族炭化水素の熱解離により生成されるような圧力および温度を反応器内部に設定する
工程を含む、飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素の熱解離によりエチレン不飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素を調製するためのプロセス。
［３］
用いられる前記飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素が、塩化ビニルを熱解離により生成させる1,2-ジクロロエタンである、［１］もしくは［２］に記載のプロセス。
［４］
前記加熱ガスが、塩素含有化合物、好ましくは分子塩素、塩化ニトロシル、塩化トリクロロアセチル、クロラル、ヘキサクロロアセトン、ベンゾトリクロライド、モノクロロメタン、ジクロロメタン、トリクロロメタン、テトラクロロメタンもしくは塩化水素である解離促進剤から生成される、［１］もしくは［２］に記載のプロセス。
［５］
前記加熱ガスが、５００〜１５００℃の範囲で温度を有する、［１］もしくは［２］に記載のプロセス。
［６］
反応器に導入される前記加熱ガスの全量が、反応器への全マスフローに基づいて１０重量％以下である、［１］もしくは［２］に記載のプロセス。
［７］
解離促進剤からの遊離基の発生が、解離促進剤を含むガスのための供給ラインの端に設置した遊離基を発生させるためのデバイスにより実施される、［１］に記載のプロセス。
［８］
前記遊離基が、解離促進剤からスパーク、バリヤーもしくはコロナ放電により発生する、［１］もしくは［２］に記載のプロセス。
［９］
前記遊離基が、解離促進剤からマイクロ波放電もしくは高周波放電により発生する、［１］もしくは［２］に記載のプロセス。
［１０］
前記加熱ガスのための供給ラインが、少なくとも供給ガス流の反応器への入口付近で反応器に向かって開いている、［１］もしくは［２］に記載のプロセス。
［１１］
前記供給ガス流が、反応器を通過中、反応器に向かって開いている加熱ガスのための複数の供給ラインと接触する、［１０］に記載のプロセス。
［１２］
前記反応器の初めの三分の一に向かって開いている供給ラインの数が、二番目の三分の一および／または三番目の三分の一におけるそれよりも大きい、［１１］に記載のプロセス。
［１３］
ｆ）加熱ハロゲン含有脂肪族炭化水素、ハロゲン化水素およびエチレン不飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素を含む生成物のガス流を、反応器から断熱後反応器に導入し（前記断熱後反応器中で、前記反応は、生成物のガスを冷却しながら生成物のガス流により供給される熱の助けを借りて継続され、場合によってはその内部で、遊離基を含み、解離促進剤から生成させた加熱ガス用供給ラインが少なくとも１つ開いていてもよい）、そして
ｇ）適宜に、解離促進剤の熱もしくは非熱分解により発生させた遊離基を含む加熱ガスを断熱後反応器に向かって開いている供給ライン（単数もしくは複数）を通して導入するか、もしくは断熱後反応器の内部で所定容量内で適宜のデバイスにより解離促進剤から熱的もしくは非熱的に遊離基を発生させる（熱分解による遊離基発生の場合、加熱ガスの温度は、少なくとも供給ラインが断熱後反応器に向かって開いている箇所での反応混合物中に広く行きわたっている温度であり、非熱分解による遊離基発生の場合、少なくとも供給ラインが断熱後反応器に向かって開いている箇所での反応混合物の露点に対応する温度である）（ただし、熱分解による遊離基発生の場合、これは、不活性ガスで稀釈した解離促進剤を含むガスを加熱するか、もしくは解離促進剤を含むガスを表面が不活性ガスでフラッシされた熱ソース上を通すことにより達成される）
工程を含む、反応器の下流に設置した断熱後反応器における生成物のガスの熱解離のための［１］もしくは［２］に記載のプロセス。
［１４］
ａ）加熱ガスハロゲン含有脂肪族炭化水素を含む供給ガス流を反応器に導入し、
ｂ）ハロゲン化水素およびエチレン不飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素がハロゲン含有脂肪族炭化水素の熱解離により生成されるような圧力および温度を反応器内部に設定し、
ｆ）加熱ハロゲン含有脂肪族炭化水素、ハロゲン化水素およびエチレン不飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素を含む生成物のガス流を、反応器から反応器の下流に配置される断熱後反応器に導入し（前記後反応器中で、前記反応は、生成物のガスを冷却しながら生成物のガス流により供給される熱の助けを借りて継続され、その内部で、１つの加熱ガス用供給ラインが開いている）、そして
ｇ）解離促進剤の熱もしくは非熱分解により発生させた遊離基を含む加熱ガスを断熱後反応器に向かって開いている供給ライン（単数もしくは複数）を通して導入するか、もしくは断熱後反応器の内部で所定容量内で適宜のデバイスにより解離促進剤から熱的もしくは非熱的に遊離基を発生させる（熱分解による遊離基発生の場合、加熱ガスの温度は、少なくとも供給ラインが断熱後反応器に向かって開いている箇所で反応混合物中に広く行きわたっている温度であり、非熱分解による遊離基発生の場合、少なくとも供給ラインが断熱後反応器に向かって開いている箇所での反応混合物の露点に対応する温度である）（ただし、熱分解による遊離基発生の場合、これは、不活性ガスで稀釈した解離促進剤を含むガスを加熱するか、もしくは解離促進剤を含むガスを表面が不活性ガスでフラッシされた熱ソース上を通すことにより達成される）
工程を含む、飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素の熱解離によりエチレン不飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素を調製するためのプロセス。
［１５］
ｉ）前記反応器に向かって開いている飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素を含む供給ガス流用供給ライン、
ii）反応器の内部に向かって開いている加熱ガス用の少なくとも１つの供給ライン、
iii）供給ラインに接続した解離促進剤のソース、
iv）供給ラインに設置した解離促進剤から遊離基を非熱的に発生させるためのデバイス、
ｖ）適宜に、供給ラインでガスを加熱するための加熱デバイス、
vi）反応器中でガス流の温度を加熱および／または維持するための加熱デバイス、および
vii）反応器から導かれるエチレン不飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素を含む熱解離の生成物のガス流のための出口ライン
の要素を含む、［１］に記載のプロセスを実施するための反応器。
［１６］
ｉ）反応器に向かって開いている飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素を含む供給ガス流用供給ライン、
ii）反応器の内部に向かって開いている加熱ガス用の少なくとも１つの供給ライン、
iii）供給ラインに接続した解離促進剤のソース、
viii）供給ラインの端に設置した解離促進剤から遊離基を発生させるためのデバイス、
iv）適宜に、供給ラインでガスを加熱するための加熱デバイス、
vi）反応器中でガス流の温度を加熱および／または維持するための加熱デバイス、および
vii）反応器から導かれるエチレン不飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素を含む熱解離の生成物のガス流のための出口ライン
の要素を含む、［１］に記載のプロセスを実施するための反応器。
［１７］
ｉ）前記反応器に向かって開いている飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素を含む供給ガス流用供給ライン、
ix）反応器の内部に設置され、反応器の内部で所定容量内で解離促進剤から遊離基を発生させるデバイス、
ｘ）反応器の内部で所定容量に向かって開いている解離促進剤を含む加熱ガス用の少なくとも１つの供給ライン、
iii）供給ラインに接続した解離促進剤のソース、
ｖ）供給ラインでガスを加熱するための加熱デバイス、
vi）反応器中でガス流の温度を加熱および／または維持するための加熱デバイス、および
vii）反応器から導かれるエチレン不飽和ハロゲン含有脂肪族炭化水素を含む熱解離の生成物のガス流のための出口ライン
の要素を含む、［２］に記載のプロセスを実施するための反応器。
［１８］
前記反応器が、チューブ反応器である、［１５］、［１６］および［１７］のいずれかに記載の反応器。
［１９］
前記反応器への供給ラインに接続される熱プラズマ用発生器を含み、前記供給ラインが、不活性ガス用のさらなる供給ラインおよび解離促進剤用のさらなる供給ラインに接続されている、［１５］、［１６］および［１７］のいずれかに記載の反応器。
［２０］
前記反応器への供給ラインに接続される、放電、好ましくはスパーク、バリヤーもしくはコロナ放電を発生させるためのデバイスを含む、［１５］、［１６］および［１７］のいずれかに記載の反応器。
［２１］
前記反応器への供給ラインに接続される、マイクロ波放電もしくは高周波放電を発生させるためのデバイスを含む、［１５］、［１６］および［１７］のいずれかに記載の反応器。
［２２］
前記反応器への供給ラインに配置される、もしくはその放射線が反応器への供給ラインに導入される放射線のソースを含む、［１５］、［１６］および［１７］のいずれかに記載の反応器。
［２３］
設けられた前記デバイスviii）もしくはix）が、ガス入口（４３）、少なくとも２つの電極（３３、３４）を有するプラズマ発生領域（３２）および反応スペース（４６）に向かって開いているガス出口（２８）を含む非熱プラズマを発生および導入するための少なくとも１つのデバイスであり、前記反応スペース（４６）およびプラズマ発生領域（３２）が、物理的に互いから離れている、［１６］もしくは［１７］に記載の反応器。
［２４］
前記デバイスviii）もしくはix）が、後端（２１）および前端（２２）を有する本質的に円筒形のハウジング（２０）を有し、前記ハウジング（２０）には、その外部の少なくとも一部にコーン（２２）および反応器中に広く行きわたっている条件下で安定である導体から作られたねじ山（２５）が設けられている、［２３］に記載の反応器。
［２５］
ねじ山（５０）および肩（５１）を有するホルダー（４９）が溶接されている反応チューブ（４８）を含み、前記デバイスviii）もしくはix）がこのホルダー（４９）内にねじ締めされている、［２３］に記載の反応器。
［２６］
オーブンおよびオーブン中でルーピング風に走行する反応チューブを含み、前記オーブンは、放射帯（１６）、対流帯（１７）、および反応チューブのループが放射もしくは対流帯（１６、１７）を往復する少なくとも２つの未加熱区画（１８）を有し、少なくとも１つのデバイスviii）もしくはix）が、少なくとも１つの区画（１８）に配置され、前記反応チューブが、供給ガス流が遊離基を含む加熱ガスとこれらの個所で接触できるように設置される、［２３］に記載の反応器。
［２７］
［２３に定義される少なくとも１つのデバイスviii）又はix）を含む断熱後反応器が、それの下流に配置される、［１５］、［１６］および［１７］のいずれかに記載の反応器。
［２８］
設けられた前記デバイスviii）もしくはix）が、遊離基を含むガスを発生および導入するための少なくとも１つのデバイスであり、実際の反応スペースから分離されるが少なくとも１つの開口部を通してこれに接続され、遊離基が区画内で光分解的に発生し、開口部（単数もしくは複数）を通って反応スペースに走行するように、解離促進剤を含むガスを導入するデバイスおよびこのガスを放射するためのデバイスを有する区画を含む、［１６］もしくは［１７］に記載の反応器。
［２９］
前記デバイスviii）もしくはix）が、光学窓および／または別の区画への導光器を有する、［２８］に記載の反応器。
［３０］
前記光学窓および／または別の導光器の透明な端が、水素化触媒として好適な金属を含む光学的に半透明な層で被覆されている、［２９］に記載の反応器デバイス。
［３１］
前記デバイスviii）もしくはix）が、少なくとも１つのガス供給ラインに設けられる中間スペース（６７）がシェル（５４）と（５７）との間に形成されるように設置される２つの円錐シェル（５４、５７）を形成し、反応スペース（６８）および外部スペース（６９）から分離される区画が形成され、反応器からもっとも遠くに配置されるシェル（５７）が光学的に透明な窓（５８）および／または別の導光器を含む、［２８］に記載の反応器。
［３２］
前記区画全体および隣接する反応スペースが照射されることを可能とする照射デバイスが設けられている、［２８］に記載の反応器。
［３３］
前記中間スペース（６７）が、光学窓および／または別の導光器の表面近くの区画に延び、光学窓および／または別の導光器ならびにその周囲が不活性ガスもしくは不活性ガスと水素とでフラッシされることを可能とするさらなるガス入口（７２）を有する、［３１］に記載の反応器。
［３４］
ねじ山（５２）および肩を有するホルダー（５３）が溶接されている反応チューブを含み、前記デバイスviii）もしくはix）がこのホルダー（５３）にねじ締めされている、［２８］に記載の反応器。
［３５］
オーブンおよびオーブン中でルーピング風に走行する反応チューブを含み、前記オーブンは、放射帯（１６）、対流帯（１７）、および反応チューブのループが放射もしくは対流帯（１６、１７）を往復する少なくとも１つの未加熱区画（１８）を有し、少なくとも１つのデバイスviii）もしくはix）が、少なくとも１つの区画（１８）に配置され、前記反応チューブが、供給ガス流が遊離基を含む加熱ガスとこれらの個所で接触できるように設置される、［２８］に記載の反応器。
［３６］
［２８］に定義される少なくとも１つのデバイスviii）又はix）を含む断熱後反応器が、それの下流に配置される、［１５］、［１６］および［１７］のいずれかに記載の反応器。