【手続補正書】
【提出日】平成17年6月29日(2005.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多孔性誘電体、低κまたは高κの誘電体、および銅金属被覆の少なくとも１つを有するマイクロエレクトロニクス基板を洗浄するための洗浄組成物であって：
重量で約０.０５ないし２０％の、１種またはそれ以上の非アンモニウム産生、非ＨＦ産生フッ化物塩；
重量で約５ないし約９９．９５％の、水、有機溶媒または水と有機溶媒の両方；
重量で約０ないし約８０％の金属腐食阻害溶媒；
重量で約０ないし４０％の立体障害アミンまたはアルカノールアミン；
重量で約０ないし４０％の有機または無機酸；
重量で約０ないし４０％の他の金属腐食阻害剤化合物；
重量で約０ないし５％の界面活性剤；
重量で約０ないし１０％の金属イオン不含珪酸塩化合物；および
重量で約０ないし５％の金属キレート剤； 
を含む、洗浄組成物。
【請求項２】
フッ化物塩がテトラアルキルアンモニウムフッ化物である、請求項１に記載の洗浄組成物。
【請求項３】
テトラアルキルアンモニウムフッ化物塩が、式
（Ｒ）４Ｎ＋Ｆ−
式中、各Ｒは独立して置換または非置換アルキル基である、の化合物である、請求項２に記載の洗浄組成物。
【請求項４】
Ｒが炭素数１ないし２２のアルキル基である、請求項３に記載の洗浄組成物。
【請求項５】
Ｒが炭素数１ないし６のアルキル基である、請求項４に記載の洗浄組成物。
【請求項６】
フッ化物塩がテトラブチルアンモニウムフッ化物を含む、請求項５に記載の洗浄組成物。
【請求項７】
腐食阻害溶媒が、式
Ｗ−（ＣＲ１Ｒ２）ｎ１−Ｘ−［（ＣＲ１Ｒ２）ｎ２−Ｙ］ｚ
または
Ｔ−［（ＣＲ３Ｒ４）ｍ−Ｚ］ｙ
式中、ＷおよびＹは、＝Ｏ、−ＯＲ、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ、−Ｓ、−Ｓ（Ｏ）−Ｒ、−ＳＲ、−Ｓ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ、−Ｓ（Ｏ）２、−Ｎ、−ＮＨ−Ｒ、−ＮＲ１Ｒ２、−Ｎ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ、−ＮＲ１−Ｃ（Ｏ）−Ｒ２、−Ｐ（Ｏ）、−Ｐ（Ｏ）−ＯＲおよび−Ｐ（Ｏ）−（ＯＲ）２からなる群から各々独立して選択され；Ｘは、アルキレン、シクロアルキレンまたはＯ、Ｓ、ＮおよびＰ原子から選択される１つまたはそれ以上のヘテロ原子を含有するシクロアルキレン、アリーレンまたはＯ、Ｓ、ＮおよびＰ原子から選択される１つまたはそれ以上のヘテロ原子を含有するアリーレンからなる群から選択され；各Ｒ、Ｒ１およびＲ２は、水素、アルキル、シクロアルキルまたはＯ、Ｓ、ＮおよびＰ原子から選択される１つまたはそれ以上のヘテロ原子を含有するシクロアルキル、およびアリールまたはＯ、Ｓ、ＮおよびＰ原子から選択される１つまたはそれ以上のヘテロ原子を含有するアリールからなる群から各々独立して選択され；ｎ１およびｎ２の各々は、独立して０ないし６の整数であり；そして、Ｘがアルキレン、シクロアルキレンまたはアリーレンであるとき、ｚは１ないし６の整数であり；ＸがＯ、Ｓ、ＮおよびＰ原子から選択される１つまたはそれ以上のヘテロ原子を含有するシクロアルキレンまたはＯ、Ｓ、ＮおよびＰ原子から選択される１つまたはそれ以上のヘテロ原子を含有するアリーレンであるとき、ｚは０ないし５の整数であり；Ｔは、−Ｏ、−Ｓ、−Ｎおよび−Ｐからなる群から選択され；Ｚは、水素、−ＯＲ５、−Ｎ（Ｒ５）２および−ＳＲ５からなる群から選択され；Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の各々は、水素、アルキル、シクロアルキルまたはＯ、Ｓ、ＮおよびＰ原子から選択される１つまたはそれ以上のヘテロ原子を含有するシクロアルキル、およびアリールまたはＯ、Ｓ、ＮおよびＰ原子から選択される１つまたはそれ以上のヘテロ原子を含有するアリールからなる群から各々独立して選択され；ｍは０ないし６の整数であり、そしてｙは１ないし６の整数である、
から選択される化合物を含む、請求項１に記載の洗浄組成物。
【請求項８】
ＲないしＲ５の定義において、アルキル基が炭素数１ないし６であり、アリール基が炭素数３ないし１４である、請求項７に記載の洗浄組成物。
【請求項９】
腐食阻害溶媒が、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセロール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ,Ｎ−ジメチルエタノールアミン、１−（２−ヒドロキシエチル）−２−ピロリジノン、４−（２−ヒドロキシエチル）モルホリン、２−（メチルアミノ）エタノール、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール、１−アミノ−２−プロパノール、２−（２−アミノエトキシ）−エタノール、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アセトアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）スクシンイミドおよび３−（ジエチルアミノ）−１,２−プロパンジオールからなる群から選択される、請求項７に記載の洗浄組成物。
【請求項１０】
水または、ジメチルスルホキシド、スルホランおよびジメチルピペリドンからなる群から選択される有機溶媒を含む、請求項１に記載の洗浄組成物。
【請求項１１】
テトラブチルアンモニウムフッ化物および１−（２−ヒドロキシエチル）−２−ピロリジノンの無水組成物を含む、請求項１に記載の洗浄組成物。
【請求項１２】
テトラブチルアンモニウムフッ化物、ジメチルスルホキシド、１−（２−ヒドロキシエチル）−２−ピロリジノン、水、トリエタノールアミンおよびベンゾトリアゾールを含む、請求項１に記載の洗浄組成物。
【請求項１３】
多孔性誘電体、低κまたは高κの誘電体および銅金属被覆の少なくとも１つを有するマイクロエレクトロニクス基板からフォトレジストまたはプラズマエッチングもしくは灰化の残渣を洗浄する方法であって、該方法が、基板からフォトレジストおよびプラズマ灰化残渣を洗浄するのに十分な時間、基板を洗浄組成物と接触させることを含み、洗浄組成物が、
重量で約０.０５ないし２０％の、１種またはそれ以上の非アンモニウム産生、非ＨＦ産生フッ化物塩；
重量で約５ないし約９９．９５％の、水、有機溶媒または水と有機溶媒の両方；
重量で約０ないし約８０％の金属腐食阻害溶媒；
重量で約０ないし４０％の立体障害アミンまたはアルカノールアミン；
重量で約０ないし４０％の有機または無機酸；
重量で約０ないし４０％の他の金属腐食阻害剤化合物；
重量で約０ないし５％の界面活性剤；
重量で約０ないし１０％の金属イオン不含珪酸塩化合物；および
重量で約０ないし５％の金属キレート剤；
を含むものである、方法。
【請求項１４】
フッ化物塩がテトラアルキルアンモニウムフッ化物である、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
テトラアルキルアンモニウムフッ化物塩が、式
（Ｒ）４Ｎ＋Ｆ−
式中、各Ｒは独立して置換または非置換アルキル基である、の化合物である、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
Ｒが炭素数１ないし２２のアルキル基である、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
Ｒが炭素数１ないし６のアルキル基である、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
フッ化物塩がテトラブチルアンモニウムフッ化物を含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
腐食阻害溶媒が、式
Ｗ−（ＣＲ１Ｒ２）ｎ１−Ｘ−［（ＣＲ１Ｒ２）ｎ２−Ｙ］ｚ
または
Ｔ−［（ＣＲ３Ｒ４）ｍ−Ｚ］ｙ
式中、ＷおよびＹは、＝Ｏ、−ＯＲ、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ、−Ｓ、−Ｓ（Ｏ）−Ｒ、−ＳＲ、−Ｓ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ、−Ｓ（Ｏ）２、−Ｎ、−ＮＨ−Ｒ、−ＮＲ１Ｒ２、−Ｎ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ、−ＮＲ１−Ｃ（Ｏ）−Ｒ２、−Ｐ（Ｏ）、−Ｐ（Ｏ）−ＯＲおよび−Ｐ（Ｏ）−（ＯＲ）２からなる群から各々独立して選択され；Ｘは、アルキレン、シクロアルキレンまたはＯ、Ｓ、ＮおよびＰ原子から選択される１つまたはそれ以上のヘテロ原子を含有するシクロアルキレン、アリーレンまたはＯ、Ｓ、ＮおよびＰ原子から選択される１つまたはそれ以上のヘテロ原子を含有するアリーレンからなる群から選択され；各Ｒ、Ｒ１およびＲ２は、水素、アルキル、シクロアルキルまたはＯ、Ｓ、ＮおよびＰ原子から選択される１つまたはそれ以上のヘテロ原子を含有するシクロアルキル、およびアリールまたはＯ、Ｓ、ＮおよびＰ原子から選択される１つまたはそれ以上のヘテロ原子を含有するアリールからなる群から各々独立して選択され；ｎ１およびｎ２の各々は、独立して０ないし６の整数であり；そして、Ｘがアルキレン、シクロアルキレンまたはアリーレンであるとき、ｚは１ないし６の整数であり；ＸがＯ、Ｓ、ＮおよびＰ原子から選択される１つまたはそれ以上のヘテロ原子を含有するシクロアルキレンまたはＯ、Ｓ、ＮおよびＰ原子から選択される１つまたはそれ以上のヘテロ原子を含有するアリーレンであるとき、ｚは０ないし５の整数であり；Ｔは、−Ｏ、−Ｓ、−Ｎおよび−Ｐからなる群から選択され；Ｚは、水素、−ＯＲ５、−Ｎ（Ｒ５）２および−ＳＲ５からなる群から選択され；Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の各々は、水素、アルキル、シクロアルキルまたはＯ、Ｓ、ＮおよびＰ原子から選択される１つまたはそれ以上のヘテロ原子を含有するシクロアルキル、およびアリールまたはＯ、Ｓ、ＮおよびＰ原子から選択される１つまたはそれ以上のヘテロ原子を含有するアリールからなる群から各々独立して選択され；ｍは０ないし６の整数であり、そしてｙは１ないし６の整数である、
から選択される化合物を含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２０】
ＲないしＲ５の定義において、アルキル基が炭素数１ないし６であり、アリール基が炭素数３ないし１４である、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
腐食阻害溶媒が、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセロール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ,Ｎ−ジメチルエタノールアミン、１−（２−ヒドロキシエチル）−２−ピロリジノン、４−（２−ヒドロキシエチル）モルホリン、２−（メチルアミノ）エタノール、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール、１−アミノ−２−プロパノール、２−（２−アミノエトキシ）−エタノール、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アセトアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）スクシンイミドおよび３−（ジエチルアミノ）−１,２−プロパンジオールからなる群から選択される、請求項１８に記載の方法。
【請求項２２】
溶媒が、水または、ジメチルスルホキシド、スルホランおよびジメチルピペリドンからなる群から選択される有機溶媒を含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２３】
洗浄組成物が、テトラブチルアンモニウムフッ化物および１−（２−ヒドロキシエチル）−２−ピロリジノンの無水組成物を含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２４】
洗浄組成物が、テトラブチルアンモニウムフッ化物、ジメチルスルホキシド、１−（２−ヒドロキシエチル）−２−ピロリジノン、水、トリエタノールアミンおよびベンゾトリアゾールを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２５】
銅金属被覆が、基板の本質的に純粋な銅金属被覆を含む、請求項１３に記載の方法。