【手続補正書】
【提出日】平成18年4月3日(2006.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  次の一般構造式：
【化１】
2002510554.tif 000001
（式中、Ｂは、単環式または多環式基を表し、
Ｃ１、Ｃ２およびＣ３は、それぞれキラルな炭素原子を表し、
Ｘは、Ｏ、ＳまたはＮＨを表し、
Ｊは、水素結合ドナーとして働く少なくとも１つの官能基を含むリンカー基を表し、
Ｒ１０３は、水素結合ドナー、ルイス塩基性基または両方の性質を持った基を表し、
Ｒ１０４は、最大２０個まで（好ましくは２〜１０個）の炭素を含む立体的にかさ高い脂肪
族またはシクロ脂肪族置換基を表し、
Ｒ１０５は、不在か、またはアルキル、アルケニル、アルキニル、アシル、チオアシル、ア
ルキルチオ、イミン、アミド、ホスホリル、ホスホナート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、カルボキサミド、酸無水物、シリル、チオアルキル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、セレノアルキル、ケトン、アルデヒド、エステル、ヘテロアルキル、アミジン、アセタール、ケタール、アリール、ヘテロアリール、アジリジン、カルバメート、エポキシド、ヒドロキサム酸、イミド、オキシム、スルホンアミド、チオアミド、チオカルバメート、尿素、チオ尿素または−（ＣＨ２）ｍ−Ｒ８０から成る群から選択されるＢの１個または複数個の追加置換基を表し、そして
Ｒ１０６およびＲ１０７は、それぞれ独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アシル、チオアシル、アルキルチオ、イミン、アミド、ホスホリル、ホスホナート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、カルボキサミド、酸無水物、シリル、チオアルキル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、セレノアルキル、ケトン、アルデヒド、エステル、ヘテロアルキル、アミジン、アセタール、ケタール、アリール、ヘテロアリール、アジリジン、カルバメート、エポキシド、ヒドロキサム酸、イミド、オキシム、スルホンアミド、チオアミド、チオカルバメート、尿素、チオ尿素または−（ＣＨ２）ｍ−Ｒ８０を表すか、または
Ｒ１０６およびＲ１０７は、Ｃ２およびＣ３と一緒に取って環中に４ないし８個の原子を持つ環を形成し、
Ｒ１０８およびＲ１０９は、それぞれ独立にアルキルを表し、そしてＲ１０８と（Ｃ（Ｘ）Ｒ１０９）が同じでない場合は（この条件は、Ｃ１の前記キラリティを含意する）、アルキル、アルケニル、アルキニル、アシル、チオアシル、アルキルチオ、イミン、アミド、ホスホリル、ホスホナート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、カルボキサミド、酸無水物、シリル、チオアルキル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、セレノアルキル、ケトン、アルデヒド、エステル、ヘテロアルキル、アミジン、アセタール、ケタール、アリール、ヘテロアリール、アジリジン、カルバメート、エポキシド、ヒドロキサム酸、イミド、オキシム、スルホンアミド、チオアミド、チオカルバメート、尿素、チオ尿素または−（ ＣＨ２）ｍ−Ｒ８０を表し、
Ｒ８０は、置換されていないか、または置換されたアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロ環または多環を表し、そして
ｍは、０ないし８（含む）の範囲から選択される整数）によって表される触媒。
【請求項２】  Ｘが、Ｓまたは０であることを特徴とする請求項１記載の触媒。
【請求項３】  Ｒ１０３が、−ＮＨ２、−ＯＨまたは−ＳＨ、またはそれらによって置換された低級アルキルであることを特徴とする請求項１記載の触媒。
【請求項４】  Ｒ１０４が、Ｒ１０３に対してオルト位、Ｂ上のイミン置換基に対してメタ位の位置でＢに結合していることを特徴とする請求項１記載の触媒。
【請求項５】  Ｒ１０４が、低級アルキル基またはアルコキシル基であることを特徴とする請求項１記載の触媒。
【請求項６】  Ｒ１０６およびＲ１０７が、Ｃ３−Ｃ８アルキル基であるか、またはＣ２およびＣ３と一緒に、環中に４ないし８個の原子を有する環を形成することを特徴とする請求項１記載の触媒。
【請求項７】  Ｊが、−ＮＨ−Ｙ−ＮＨ−によって表され、
Ｙが、
【化２】
2002510554.tif 000002
から成る群から選択され、
Ｑ１が、ＳまたはＯを表し、そして
Ｒ４６が、水素、低級アルキルまたはアリール
を表すことを特徴とする請求項１記載の触媒。
【請求項８】  Ｙが、−Ｃ（＝Ｑ1）−であり、Ｑ1が、ＯまたはＳであることを特徴とする請求項７記載の触媒。
【請求項９】  Ｒ１０８が、アルキル、ヘテロアルキル、アリールまたはヘテロアリール基を表すことを特徴とする請求項１記載の触媒。
【請求項１０】  Ｒ１０８が、天然に存在するα−アミノ酸またはそのアナローグの側鎖を表すことを特徴とする請求項１、７または８記載の触媒。
【請求項１１】  Ｒ１０８が、アミノ基であることを特徴とする請求項１０記載の触媒。
【請求項１２】  次の一般構造式：
【化３】
2002510554.tif 000003
（式中、Ａは、単環式または多環式基を表し、
Ｂは、単環式または多環式基を表し、
Ｃ１は、キラルな炭素原子を表し、
Ｘは、Ｏ、ＳまたはＮＨを表し、
Ｒ１０３は、水素結合ドナー、ルイス塩基性基または両方の性質を持った基を表し、
Ｒ１０４は、最大２０個までの炭素を含む立体的にかさ高い脂肪族またはシクロ脂肪族置換
基を表し、
Ｒ１０５は、不在か、またはアルキル、アルケニル、アルキニル、アシル、チオアシル、ア
ルキルチオ、イミン、アミド、ホスホリル、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、カルボキサミド、酸無水物、シリル、チオアルキル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、セレノアルキル、ケトン、アルデヒド、エステル、ヘテロアルキル、アミジン、アセタール、ケタール、アリール、ヘテロアリール、アジリジン、カルバメート、エポキシド、ヒドロキサム酸、イミド、オキシム、スルホンアミド、チオアミド、チオカルバメート、尿素、チオ尿素または−（ＣＨ２）ｍ−Ｒ８０から成る群から選択されるＢの１個または複数個の追加置換基を表し、そして
Ｒ１０８およびＲ１０９は、それぞれ独立にアルキルを表し、そしてＲ１０８と（Ｃ（Ｘ）Ｒ１０９）が同じでない場合は（この条件は、Ｃ１の前記キラリティを含意する）、アルキル、アルケニル、アルキニル、アシル、チオアシル、アルキルチオ、イミン、アミド、ホスホリル、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、カルボキサミド、酸無水物、シリル、チオアルキル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、セレノアルキル、ケトン、アルデヒド、エステル、ヘテロアルキル、アミジン、アセタール、ケタール、アリール、ヘテロアリール、アジリジン、カルバメート、エポキシド、ヒドロキサム酸、イミド、オキシム、スルホンアミド、チオアミド、チオカルバメート、尿素、チオ尿素または−（ＣＨ２）ｍ−Ｒ８０を表し、
Ｒ１１０は、不在か、またはアルキル、アルケニル、アルキニル、アシル、チオアシル、アルキルチオ、イミン、アミド、ホスホリル、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、カルボキサミド、酸無水物、シリル、チオアルキル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、セレノアルキル、ケトン、アルデヒド、エステル、ヘテロアルキル、アミジン、アセタール、ケタール、アリール、ヘテロアリール、アジリジン、カルバメート、エポキシド、ヒドロキサム酸、イミド、オキシム、スルホンアミド、チオアミド、チオカルバメート、尿素、チオ尿素または−（ＣＨ２）ｍ−Ｒ８０から成る群から選択されるＡの１個または複数個の追加置換基を表し、そして
Ｒ８０は、置換されていないか、または置換されたアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロ環または多環を表し、そして
ｍは、０ないし８（含む）の範囲から選択される整数）によって表される触媒。
【請求項１３】  Ａが、環構造中に５、６または７個の炭素を有するシクロアルキルであることを特徴とする請求項１２記載の触媒。
【請求項１４】  次の一般式：
【化４】
2002510554.tif 000004
（式中、Ｘは、各出現に対してそれぞれ独立に、Ｏ、ＳまたはＮＲを表し、
Ｒ，Ｒ１，Ｒ２およびＲ３は、各出現に対してそれぞれ独立に、水素、アルキル、アリール、ヘテロアルキルまたはヘテロアリール、
Ｒ４は、水素、アルキル、ヘテロアルキル、アリール、ヘテロアリール、ホルミルまたは
アシル、
Ｒ２は、不在か、存在しても４回以上出現せず、そして
ｎは、０ないし２（含む）の範囲から選択される整数）
によって表される触媒。
【請求項１５】  Ｘは、各出現に対して、それぞれ独立にＯまたはＳを表し、
Ｒ， Ｒ１，Ｒ２およびＲ３は、各出現に対してそれぞれ独立に、水素、アルキル、アリール、ヘテロアルキルまたはヘテロアリール、
Ｒ４は、アルキル、ヘテロアルキル、アリールまたはヘテロアリール、
Ｒ２は、不在、そして
ｎは、０ないし２（含む）の範囲から選択される整数）
であることを特徴とする請求項１４記載の触媒。
【請求項１６】  Ｘは、各出現に対してそれぞれ独立に、ＯまたはＳを表し、
Ｒ， Ｒ１，Ｒ２およびＲ３は、各出現に対してそれぞれ独立に、水素、アルキル、アリール、ヘテロアルキルまたはヘテロアリール、
Ｒ４は、ホルミルまたはアシル、
Ｒ２は、不在、そして
ｎは、０ないし２（含む）の範囲から選択される整数）
であることを特徴とする請求項１５記載の触媒。
【請求項１７】  前記触媒が、エナンチオ選択的またはジアステレオ選択的な変換反応を触媒し、それぞれ少なくとも７５％のエナンチオマーまたはジアステレオマー過剰の生成物をもたらすことを特徴とする請求項１、１２または１４記載の触媒。
【請求項１８】  前記触媒が、エナンチオ選択的またはジアステレオ選択的な変換反応を触媒し、それぞれ少なくとも８０％のエナンチオマーまたはジアステレオマー過剰の生成物をもたらすことを特徴とする請求項１、１２または１４記載の触媒。
【請求項１９】  前記触媒が、エナンチオ選択的またはジアステレオ選択的な変換反応を触媒し、それぞれ少なくとも８５％のエナンチオマーまたはジアステレオマー過剰の生成物をもたらすことを特徴とする請求項１、１２または１４記載の触媒。
【請求項２０】  前記触媒が、エナンチオ選択的またはジアステレオ選択的な変換反応を触媒し、それぞれ少なくとも９０％のエナンチオマーまたはジアステレオマー過剰の生成物をもたらすことを特徴とする請求項１、１２または１４記載の触媒。
【請求項２１】  前記触媒が、エナンチオ選択的またはジアステレオ選択的な変換反応を触媒し、それぞれ少なくとも９５％のエナンチオマーまたはジアステレオマー過剰の生成物をもたらすことを特徴とする請求項１、１２または１４記載の触媒。
【請求項２２】  前記触媒が、エナンチオ選択的またはジアステレオ選択的な変換反応を触媒し、それぞれ少なくとも９８％のエナンチオマーまたはジアステレオマー過剰の生成物をもたらすことを特徴とする請求項１、１２または１４記載の触媒。