【事件の表示】
　特願２０００−５６２３４０「単量体及び、それらから得られる網状高分子」拒絶査定不服審判事件〔平成１２年　２月１０日国際公開、ＷＯ００／０６５３３、平成１４年　７月１６日国内公表、特表２００２−５２１５２９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１．手続の経緯
　本願は、平成１１年７月２６日（パリ条約による優先権主張　１９９８年７月２５日　（ＧＢ）グレート・ブリテン及び北部アイルランド連合王国）を国際出願日とする出願であって、平成１３年１月２４日に特許協力条約第１９条補正の翻訳文提出書及び特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書が提出され、平成１８年７月１９日に手続補正書が提出され、平成２０年１１月２０日付けで拒絶理由が通知され、平成２１年５月２９日付けで意見書及び誤訳訂正書が提出されたが、同年９月８日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、平成２２年１月１４日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに手続補正書が提出され、同年２月１７日付けで前置報告がなされ、当審において平成２３年９月５日付けで審尋がなされたが、回答書の提出はなかったものである。
　　
　　
　　
第２．平成２２年１月１４日付けの手続補正についての補正の却下の決定
　　
　　　　[補正の却下の決定の結論]
　　平成２２年１月１４日付けの手続補正を却下する。
　　
　　　　[理由]
　　
（１）補正の内容
　平成２２年１月１４日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）は、平成２１年５月２９日付けの誤訳訂正書により補正された明細書における特許請求の範囲について、
「【請求項１】放射線又は電子ビームの影響下で重合可能であり、化学式（ＩＡ）：
　　【化１】
［式中、Ｒ１はＣＨであってＲ６が単結合、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−または−Ｓ（Ｏ）２−であるか、あるいは、Ｒ１とＲ６が一緒になって電子求引性基を形成しており、該電子吸引性基においてＲ１はＮ＋Ｒ１２（Ｚｍ−）１／ｍ、Ｓ（Ｏ）ｐＲ１３、ＢまたはＰ（Ｏ）ｑＲ１４であり、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４は水素またはヒドロカルビルから独立に選択され、Ｚは原子価がｍの陰イオンであり、ｐは０、１または２であり、ｑは０、１、２または３であり、Ｒ６は化学結合であるか、Ｒ１は窒素原子であり、Ｒ６はカルボニル基またはスルホニル基であり；
Ｒ２とＲ３は、（ＣＲ７Ｒ８）ｎ、あるいは、基ＣＲ９Ｒ１０、−（ＣＲ７Ｒ８ＣＲ９Ｒ１０）−、または−（ＣＲ９Ｒ１０ＣＲ７Ｒ８）−から独立に選択され（式中、ｎは０、１、または２であり、Ｒ７とＲ８は水素または２０までの炭素原子を含むアルキルから独立に選択され、そして、Ｒ９またはＲ１０のいずれか一方が水素であって他方がＣＯＣＨ３またはＣＯＣＨ２ＣＮから選択される電子求引性基であるか、あるいは、Ｒ９とＲ１０が一緒になってオキソ基を形成している）、そして
Ｒ４とＲ５はＣＨまたはＣＲ１１から独立に選択され（式中、Ｒ１１は電子求引性基である）；
Ｘ２、Ｘ３、Ｙ２、及びＹ３は、水素及びフッ素から独立に選択され；
Ｒ１６は、以下の前提：
（ｉ）Ｒ１がＣＨであり、Ｒ６が化学結合である場合（ａ）Ｒ２とＲ３、または（ｂ）Ｒ４とＲ５のうちの少なくとも１つが電子求引性基を含んでいること；
（ｉｉ）Ｒ２とＲ３が両方ともＣＨ２であり、Ｒ４とＲ５が両方ともＣＨであり、Ｒ１とＲ６が一緒になって電子吸引性基を形成し、該電子吸引性基においてＲ１がＮ＋Ｒ１２（Ｚｍ−）１／ｍであり、ＺがＢｒであり、Ｒ１２が水素であり、Ｒ６が化学結合である場合、ｒは２以外であるか、ｒが２である場合には、Ｒ１６は（ＣＨ２）ｘ以外の基であり、該基においてｘは７または８であるか、Ｒ１６は以下の基以外であること；
　　【化２】
（ｉｉｉ）Ｒ２とＲ３が両方ともＣＨ２であり、Ｒ４とＲ５が両方ともＣＨであり、Ｒ１とＲ６が一緒になって電子吸引性基を形成し、該電子吸引性基においてＲ１がＮ＋Ｒ１２（Ｚｍ−）１／ｍであり、ＺがＢｒまたはＣｌであり、Ｒ１２がアルキルまたはアリルであり、Ｒ６が化学結合である場合、ｒは２以外であるか、ｒが２である場合には、Ｒ１６は（ＣＨ２）ｘ以外の基であり、該基においてｘは２から１０の整数であること；
（ｉｖ）Ｒ２とＲ３が両方ともＣＨ２であり、Ｒ４とＲ５が両方ともＣＨであるかＲ４とＲ５の一つがＣＣｌから選択され、Ｒ１とＲ６が一緒になって電子吸引性基を形成し、該電子吸引性基においてＲ１が窒素原子であり、Ｒ６がカルボニル基である場合、ｒは２以外であるか、ｒが２である場合には、Ｒ１６はＮＨＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨ−、−ＣＨ２ＣＨＲｐ−以外の基であり、該基においてＲｐは塩素、臭素、ビスフェノール−Ｆ、１０，１１−ジオクチル−１，２０−シコシル又は以下の基であること；
　　【化３】
（ｖ）Ｒ２とＲ３が両方ともＣＨ２であり、Ｒ４とＲ５が両方ともＣＨであり、Ｒ１とＲ６が一緒になって電子吸引性基を形成し、該電子吸引性基においてＲ１がＣＨ基であり、Ｒ６が−ＯＣ（Ｏ）−であり、ここでＯ原子はＲ１基に直接結合する場合、ｒは２以外であるか、ｒが２である場合には、Ｒ１６は−ＣＨ＝ＣＨ−以外の基であること；
（ｖｉ）Ｒ１が窒素であり、Ｒ６がスルホニルである場合、Ｒ１６は−Ｐｈ−Ｏ−Ｐｈ基以外の基であること；
を条件として、原子価がｒの橋かけ基であって、ｒは２もしくはそれ以上の整数である］で表される化合物。
【請求項２】Ｒ１とＲ６が一緒になって電子吸引性基を形成し、該電子吸引性基においてＲ１はＮ＋Ｒ１２（Ｚｍ−）１／ｍ、Ｓ（Ｏ）ｐＲ１３、ＢまたはＰ（Ｏ）ｑＲ１４［式中、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４は水素またはヒドロカルビルから独立に選択され、Ｚは原子価がｍの陰イオンであり、ｐは０、１、または２であり、そして、ｑは０、１、２、または３である］であり、そして、Ｒ６が化学結合であることを特徴とする、請求項１による化合物。
【請求項３】式（ＩＡ）中、Ｒ２とＲ３は（ＣＲ７Ｒ８）ｎ基であり、Ｒ７、Ｒ８及びｎは請求項１で定義された通りのものであり、Ｒ４とＲ５はＣＨ基であることを特徴とする、請求項２による化合物。
【請求項４】Ｒ１がＮ＋Ｒ１２（Ｚｍ−）１／ｍ基［式中のＲ１２、Ｚ、及びｍは請求項１において定義された通りのものである］であることを特徴とする、請求項１から３のいずれか一項による化合物。
【請求項５】Ｚがハロゲンであることを特徴とする、請求項４による化合物。
【請求項６】Ｒ１が窒素であり、そして、Ｒ６がスルホニル基であることを特徴とする、請求項１による化合物。
【請求項７】ｒが２から６までの整数であることを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項による化合物。
【請求項８】Ｒ１６が、任意に官能基で置換または間入された、直鎖または分子鎖のアルキル基；またはシロキサン基を包含していることを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項による化合物。
【請求項９】ｒが２であり、そして、Ｒ１６が副次化学式（ＩＩ）：
　−Ｚ１−（Ｑ１）ａ−（Ｚ２−Ｑ２）ｂ−Ｚ３−　（ＩＩ）
［式中、ａ及びｂは０、１、または２から独立に選択され、Ｚ１、Ｚ２、及びＺ３は、化学結合、任意に置換された線状または分枝型のアルキルまたはアルケン鎖から独立に選択され、ここで、任意に１つもしくはそれ以上の隣接していない炭素原子がヘテロ原子またはアミド基で置換されており、Ｑ１及びＱ２は、任意に橋かけアルキル基を包含する任意に置換された炭素環式またはヘテロ環式の環から独立に選択される］で表される基であることを特徴とする、請求項１から８のいずれか一項による化合物。
【請求項１０】Ｒ１６が四または八置換非線形光学単位であることを特徴とする、請求項１から８までのいずれか一項による化合物。
【請求項１１】Ｒ１６が任意に置換されたポルフィリンまたはフタロシアニンであることを特徴とする、請求項１０による化合物。
【請求項１２】化学式（ＶＩ）：
　　【化４】
［式中のＲ１７、Ｒ１８、Ｒ１９及びＲ２０は副次化学式（ＩＩ）：
　−Ｚ１−（Ｑ１）ａ−（Ｚ２−Ｑ２）ｂ−Ｚ３−　（ＩＩ）
［式中、ａ及びｂは０、１、または２から独立に選択され、Ｚ１、Ｚ２、及びＺ３は、化学結合、任意に置換された線状または分枝型のアルキルまたはアルケン鎖から独立に選択され、ここで、任意に１つもしくはそれ以上の隣接していない炭素原子がヘテロ原子またはアミド基で置換されており、Ｑ１及びＱ２は、任意に橋かけアルキル基を包含する任意に置換された炭素環式またはヘテロ環式の環から独立に選択される］の基から独立に選択され、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、及びＲ２４は以下の副次化学式（ＩＶ）の各基であり、
　　【化５】
［式中、Ｘ２、Ｘ３、Ｙ２、Ｙ３、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は請求項１において定義された通りのものである］、そして、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、及びＲ２８は、水素またはヒドロカルビル基からそれぞれ独立に選択され、大環状ヘテロ環式単位内に任意に金属イオンを包含する］；
または化学式（ＶＩＡ）：
　　【化６】
［式中、Ｒ５０からＲ６５までは、Ｒ５０からＲ６５までのうちの少なくとも２つがＲ２４−Ｒ２８基であることを条件として、ヒドロカルビル、基ＯＲ６８［式中のＲ６８はヒドロカルビルである］、ハロゲン、または基Ｒ２４−Ｒ２８［式中のＲ２４及びＲ２８は以上で定義された通りのものである］から独立に選択され、そして、Ｒ６６とＲ６７は水素であるか、あるいは、それらが一緒になって金属イオンを包含しているかのいずれかである］で表される、請求項１１による化合物。
【請求項１３】ナトリウムまたはカリウム、あるいは銅から選択される金属イオンを包含していることを特徴とする、請求項１２による化合物。
【請求項１４】Ｒ１６がポリシロキサン網状高分子であり、ここで、Ｒ１６が原子価ｒの線状または分枝型のシロキサン鎖、または環状ポリシロキサン単位、あるいはそれらのホウ素相当物を包含していることを特徴とする、請求項１から８までのいずれか一項による化合物。
【請求項１５】化学構造式（ＶＩＩ）：
　　【化７】
［式中のＲ１７及びＲ１８は副次化学式（ＩＩ）：
　−Ｚ１−（Ｑ１）ａ−（Ｚ２−Ｑ２）ｂ−Ｚ３−　（ＩＩ）
［式中、ａ及びｂは０、１、または２から独立に選択され、Ｚ１、Ｚ２、及びＺ３は、化学結合、任意に置換された線状または分枝型のアルキルまたはアルケン鎖から独立に選択され、ここで、任意に１つもしくはそれ以上の隣接していない炭素原子がヘテロ原子またはアミド基で置換されており、Ｑ１及びＱ２は、任意に橋かけアルキル基を包含する任意に置換された炭素環式またはヘテロ環式の環から独立に選択される］の基から独立に選択され、Ｒ２１及びＲ２２は以下の副次化学式（ＩＶ）の各基であり、
　　【化８】
［式中、Ｘ２、Ｘ３、Ｙ２、Ｙ３、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は請求項１において定義された通りのものである］、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０、及びＲ３１はヒドロカルビルから選択され、そして、Ｒ３２またはＲ３３の各基は、ヒドロカルビルまたは化学式Ｒ１９−Ｒ２３［式中のＲ１９は前記副次化学式（ＩＩ）の基から独立に選択され、Ｒ２３は前記副次化学式（ＩＶ）の基から選択される］で表される基から独立に選択され、そして、ｕは０、または、１もしくはそれ以上の整数である］で表される、請求項１４による化合物。
【請求項１６】化学構造式（ＶＩＩＩ）：
　　【化９】
［式中のＲ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、及びＲ２０は副次化学式（ＩＩ）：
　−Ｚ１−（Ｑ１）ａ−（Ｚ２−Ｑ２）ｂ−Ｚ３−　（ＩＩ）
［式中、ａ及びｂは０、１、または２から独立に選択され、Ｚ１、Ｚ２、及びＺ３は、化学結合、任意に置換された線状または分枝型のアルキルまたはアルケン鎖から独立に選択され、ここで、任意に１つもしくはそれ以上の隣接していない炭素原子がヘテロ原子またはアミド基で置換されており、Ｑ１及びＱ２は、任意に橋かけアルキル基を包含する任意に置換された炭素環式またはヘテロ環式の環から独立に選択される］の基から独立に選択され、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、及びＲ２４は以下の副次化学式（ＩＶ）の各基であり
　　【化１０】
［式中、Ｘ２、Ｘ３、Ｙ２、Ｙ３、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は請求項１において定義された通りのものである］；、そして、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０、及びＲ３１はヒドロカルビルから選択される］で表される、請求項１４による化合物。
【請求項１７】化学式（ＩＸ）：
　　【化１１】
［式中のＲ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、及びＲ２０は副次化学式（ＩＩ）：
　−Ｚ１−（Ｑ１）ａ−（Ｚ２−Ｑ２）ｂ−Ｚ３−　（ＩＩ）
［式中、ａ及びｂは０、１、または２から独立に選択され、Ｚ１、Ｚ２、及びＺ３は、化学結合、任意に置換された線状または分枝型のアルキルまたはアルケン鎖から独立に選択され、ここで、任意に１つもしくはそれ以上の隣接していない炭素原子がヘテロ原子またはアミド基で置換されており、Ｑ１及びＱ２は、任意に橋かけアルキル基を包含する任意に置換された炭素環式またはヘテロ環式の環から独立に選択される］の基から独立に選択され、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、及びＲ２４は以下の副次化学式（ＩＶ）の各基である
　　【化１２】
［式中、Ｘ２、Ｘ３、Ｙ２、Ｙ３、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は請求項１において定義された通りのものである］請求項１から８までのいずれか一項による化合物。
【請求項１８】請求項１から１７のいずれか一項による化合物を調製するための方法であって、該方法が、化学式（Ｘ）：
　　【化１３】
［式中のＸ２、Ｘ３、Ｙ２、Ｙ３、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５は請求項１において定義された通りのものであり、そして、Ｒ３５は水素またはヒドロキシである］の化合物を、化学式（ＸＩ）：
　Ｒ１６−［Ｒ６−Ｚ４］ｒ　（ＸＩ）
［式中のＲ６、Ｒ１６、及びｒは請求項１において定義された通りのものであり、そして、Ｚ４は脱離基である］の化合物と反応させることを包含する、調製方法。
【請求項１９】高分子材料を製造するための方法であって、該方法が、請求項１から１７のうちの一項で定義された通りの化学式（ＩＡ）の化合物を重合させることを包含する、製造方法。
【請求項２０】ポリマーの製造方法であって、該方法が、化学式（ＩＢ）：
　　【化１４】
［式中、Ｒ１”はＣＨであってＲ６”が化学結合、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−または−ＯＣ（Ｏ）−または−Ｓ（Ｏ）２であるか、あるいは、Ｒ１”とＲ６”が一緒になって電子求引性基を形成しており、該電子吸引性基においてＲ１”はＮ＋Ｒ１２（Ｚｍ−）１／ｍ、Ｓ（Ｏ）ｐＲ１３、ＢまたはＰ（Ｏ）ｑＲ１４であり、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４は水素またはヒドロカルビルから独立に選択され、Ｚは原子価がｍの陰イオンであり、ｐは０、１または２であり、ｑは０、１、２または３であり、Ｒ６”は化学結合であるか、Ｒ１”は窒素原子であり、Ｒ６”はカルボニル基またはスルホニル基であり；
Ｒ２”とＲ３”は、（ＣＲ７”Ｒ８”）ｎ”、あるいは、基ＣＲ９”Ｒ１０”、−（ＣＲ７”Ｒ８”ＣＲ９”Ｒ１０”）−、または−（ＣＲ９”Ｒ１０”ＣＲ７”Ｒ８”）−から独立に選択され（式中、ｎ”は０、１、または２であり、Ｒ７”とＲ８”は水素または２０までの炭素原子を含むアルキルから独立に選択され、そして、Ｒ９”またはＲ１０”のいずれか一方が水素であって他方が電子求引性基であるか、あるいは、Ｒ９”とＲ１０”が一緒になって電子求引性基を形成している）、そして
Ｒ４”及びＲ５”は、Ｃ、ＣＨまたはＣＲ１１”から独立に選択され、ここで、Ｒ１１”は電子求引性基であり；
点線は、化学結合が存在しているか、あるいは、存在していないことを示しており、そして、Ｘ１”は、Ｘ１”がそこに結合されている該点線の化学結合が存在していない場合には基ＣＸ２”Ｘ３”であって、Ｘ１”がそこに結合されている該点線の化学結合が存在している場合には基ＣＸ２”であり、Ｙ１”は、Ｙ１”がそこに結合されている該点線の化学結合が存在していない場合には基ＣＹ２”Ｙ３”であって、Ｙ１”がそこに結合されている該点線の化学結合が存在している場合には基ＣＹ２”であり、そして、Ｘ２”、Ｘ３”、Ｙ２”、及びＹ３”は、水素及びフッ素から独立に選択され；
Ｒ１６”は、
（ｉ）（ａ）Ｒ１”とＲ６”、または（ｂ）Ｒ２”とＲ３”、もしくは（ｃ）Ｒ４”とＲ５”のうちの少なくとも１つが電子求引性基を含んでいること；
（ｉｉ）Ｒ２”とＲ３”が両方ともＣＨ２であり、Ｒ４”とＲ５”が両方ともＣＨであり、Ｒ１”とＲ６”が一緒になって電子吸引性基を形成し、該電子吸引性基においてＲ１”がＮ＋Ｒ１２”（Ｚｍ−）１／ｍであり、ＺがＢｒであり、Ｒ１２”が水素であり、Ｒ６”が化学結合である場合、ｒは２以外であるか、ｒが２である場合には、Ｒ１６”は以下の基以外であること；
　　【化１５】
（ｉｉｉ）Ｒ１”とＲ６”が一緒になって電子吸引性基を形成し、該電子吸引性基においてＲ１”が窒素原子であり、Ｒ６”がカルボニル基である場合、ｒは２以外であるか、ｒが２である場合には、Ｒ１６”はＮＨＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨ−、−ＣＨ２ＣＨＲｐ−以外の基であり、該基においてＲｐは塩素、臭素、ビスフェノール−Ｆ、１０，１１−ジオクチル−１，２０−シコシル又は以下の基であること；
　　【化１６】
（ｉｖ）Ｒ２”とＲ３”が両方ともＣＨ２であり、Ｒ４”とＲ５”が両方ともＣＨであり、Ｒ１”とＲ６”が一緒になって電子吸引性基を形成し、該電子吸引性基においてＲ１”がＣＨ基であり、Ｒ６”が−ＯＣ（Ｏ）−であり、ここでＯ原子はＲ１”基に直接結合する場合、ｒは２以外であるか、ｒが２である場合には、Ｒ１６”は−ＣＨ＝ＣＨ−以外の基であること；
（ｖ）Ｒ１”が窒素であり、Ｒ６”がスルホニルである場合、Ｒ１６”は−Ｐｈ−Ｏ−Ｐｈ基を含まないこと；
を条件として、原子価がｒ”の橋かけ基であって、ｒ”は２もしくはそれ以上の整数である］で表される化合物を、化学式（ＩＢ）の化合物に重合をもたらす条件下において、放射線に晒すステップを包含する、ポリマーの製造方法。
【請求項２１】共重合体を形成するために、化学式（ＩＢ）の化合物を異なる単量体単位と重合させることを特徴とする、請求項２０による製造方法。
【請求項２２】ポリマー複合体を形成するために、化学式（ＩＢ）の化合物を化学式（ＩＢ）のさらなる単量体単位以外の化合物と重合させることを特徴とする、請求項２０による製造方法。
【請求項２３】該放射線が紫外線であることを特徴とする、請求項２０による製造方法。
【請求項２４】光開始剤の存在下において実施されることを特徴とする、請求項２３による製造方法。
【請求項２５】化学式（ＩＢ）の化合物が化学的な開始剤の存在下において硬化可能であり、そして、重合が、該化合物をそのような開始剤に接触させることにより実施されることを特徴とする、請求項２０による製造方法。
【請求項２６】該重合が連鎖停止剤の存在により制御されることを特徴とする、請求項２０から２５までのいずれか一項による製造方法。
【請求項２７】該連鎖停止剤が、化学式（ＸＩＩ）：
　　【化１７】
［式中のＲ１はＣＨであってＲ６が単結合、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−または−Ｓ（Ｏ）２−であるか、あるいは、Ｒ１とＲ６が一緒になって電子求引性基を形成しており、該電子吸引性基においてＲ１はＮ＋Ｒ１２（Ｚｍ−）１／ｍ、Ｓ（Ｏ）ｐＲ１３、ＢまたはＰ（Ｏ）ｑＲ１４であり、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４は水素またはヒドロカルビルから独立に選択され、Ｚは原子価がｍの陰イオンであり、ｐは０、１または２であり、ｑは０、１、２または３であり、Ｒ６は化学結合であるか、Ｒ１は窒素原子であり、Ｒ６はカルボニル基またはスルホニル基であり；
Ｒ２とＲ３は、（ＣＲ７Ｒ８）ｎ、あるいは、基ＣＲ９Ｒ１０、−（ＣＲ７Ｒ８ＣＲ９Ｒ１０）−、または−（ＣＲ９Ｒ１０ＣＲ７Ｒ８）−から独立に選択され（式中、ｎは０、１、または２であり、Ｒ７とＲ８は水素または２０までの炭素原子を含むアルキルから独立に選択され、そして、Ｒ９またはＲ１０のいずれか一方が水素であって他方がＣＯＣＨ３またはＣＯＣＨ２ＣＮから選択される電子求引性基であるか、あるいは、Ｒ９とＲ１０が一緒になってオキソ基を形成している）、そして
Ｒ４とＲ５はＣＨまたはＣＲ１１から独立に選択され（式中、Ｒ１１は電子求引性基である）；
Ｘ２、Ｘ３、Ｙ２、及びＹ３は、水素及びフッ素から独立に選択され；
Ｒ１６は原子価がｒの橋かけ基であって、ｒは２もしくはそれ以上の整数である］で表される化合物を包含することを特徴とする、請求項２６による製造方法。
【請求項２８】化学式（ＸＩＩＩ）：
　　【化１８】
［式中、Ａは化学結合であるか、あるいはＣＨ２であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は請求項１の化学式（ＩＡ）において定義された通りのものであり、Ｒ１６’は化学式（ＩＡ）において定義された通りの化学式Ｒ１６の基であって、副次化学式（ＸＩＶ）：
　　【化１９】
で表される更なる基で置換されていてもよく、そして、ｙは１より多くの整数であり、Ａは以上で定義された通りのものである］で表される高分子化合物。
【請求項２９】ｙが５より多くの整数であることを特徴とする、請求項２８によるポリマー。
【請求項３０】ｙが５から３０の整数であることを特徴とする、請求項２８によるポリマー。
【請求項３１】物品にポリマーコーティングを形成する方法であって、該方法が、請求項２０において定義された通りの化学式（ＩＢ）の化合物を該物品に適用し、該化合物をｉｎ　ｓｉｔｕで重合させるステップを包含する、形成方法。」
との記載を
「【請求項１】ポリマーの製造方法であって、該方法が、化学式（ＩＢ’）：
　　【化１】
［式中、Ｒ１”は窒素原子であり、Ｒ６”はカルボニル基またはスルホニル基であり；
Ｒ２”とＲ３”は、（ＣＲ７”Ｒ８”）ｎ”（式中、ｎ”は０、１、または２であり、Ｒ７”とＲ８”は水素または２０までの炭素原子を含むアルキルから独立に選択される）であり、そして
Ｒ４”及びＲ５”は、ＣＨまたはＣＲ１１”から独立に選択され、ここで、Ｒ１１”は電子求引性基であり；
Ｘ１”は基ＣＸ２”Ｘ３”であり、Ｙ１”は基ＣＹ２”Ｙ３”であり、そして、Ｘ２”、Ｘ３”、Ｙ２”、及びＹ３”は、水素及びフッ素から独立に選択され；
Ｒ１６”は、原子価がｒ”の橋かけ基であって、ｒ”は２もしくはそれ以上の整数である］で表される化合物を、化学式（ＩＢ’）の化合物に環化重合をもたらす条件下において、紫外線に晒すステップを包含する、ポリマーの製造方法。
【請求項２】共重合体を形成するために、化学式（ＩＢ’）の化合物を異なる単量体単位と重合させることを特徴とする、請求項１による製造方法。
【請求項３】ポリマー複合体を形成するために、化学式（ＩＢ’）の化合物を化学式（ＩＢ’）のさらなる単量体単位以外の化合物と重合させることを特徴とする、請求項１による製造方法。
【請求項４】光開始剤の存在下において実施されることを特徴とする、請求項１による製造方法。
【請求項５】化学式（ＩＢ’）の化合物が化学的な開始剤の存在下において硬化可能であり、そして、重合が、該化合物をそのような開始剤に接触させることにより実施されることを特徴とする、請求項１による製造方法。
【請求項６】該重合が連鎖停止剤の存在により制御されることを特徴とする、請求項１から５までのいずれか一項による製造方法。
【請求項７】該連鎖停止剤が、化学式（ＸＩＩ）：
　　【化２】
［式中、Ｒ１は窒素原子であり、Ｒ６はカルボニル基またはスルホニル基であり；
Ｒ２とＲ３は、（ＣＲ７Ｒ８）ｎ（式中、ｎは０、１、または２であり、Ｒ７とＲ８は水素または２０までの炭素原子を含むアルキルから独立に選択される）であり、そして
Ｒ４とＲ５はＣＨまたはＣＲ１１から独立に選択され（式中、Ｒ１１は電子求引性基である）；
Ｘ２、Ｘ３、Ｙ２、及びＹ３は、水素及びフッ素から独立に選択され；
Ｒ１６は原子価がｒの橋かけ基であって、ｒは２もしくはそれ以上の整数である］で表される化合物を包含することを特徴とする、請求項６による製造方法。
【請求項８】化学式（ＸＩＩＩ）：
　　【化３】
［式中、Ａは化学結合であるか、あるいはＣＨ２であり、Ｒ１は窒素原子であり、Ｒ６はカルボニル基またはスルホニル基であり；Ｒ２とＲ３は、（ＣＲ７Ｒ８）ｎ（式中、ｎは０、１、または２であり、Ｒ７とＲ８は水素または２０までの炭素原子を含むアルキルから独立に選択される）であり、そしてＲ４とＲ５はＣＨまたはＣＲ１１から独立に選択され（式中、Ｒ１１は電子求引性基である）；Ｒ１６’は原子価がｒの橋かけ基であって、
副次化学式（ＸＩＶ）：
　　【化４】
で表される更なる基で置換されていてもよく、そして、ｙは１より多くの整数であり、Ａは以上で定義された通りのものであり、ｒは２もしくはそれ以上の整数である］で表される高分子化合物。
【請求項９】ｙが５より多くの整数であることを特徴とする、請求項８によるポリマー。
【請求項１０】ｙが５から３０の整数であることを特徴とする、請求項８によるポリマー。」
とする補正事項からなるものである。
　　
　　
（２）本件補正の目的の適否について
　本件補正は、以下の補正事項を含むものである。
（イ）補正前の請求項１〜１９，２３及び３１を削除するとともに、それに伴い請求項に付した番号を連続番号とするために繰上げる補正事項
（ロ）補正前の請求項２０における化学式（ＩＢ）（式省略）から、補正後の請求項１における化学式（ＩＢ’）（式省略）とする補正事項
（ハ）補正前の請求項２０における「Ｒ１”はＣＨであってＲ６”が化学結合、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−または−ＯＣ（Ｏ）−または−Ｓ（Ｏ）２であるか、あるいは、Ｒ１”とＲ６”が一緒になって電子求引性基を形成しており、該電子吸引性基においてＲ１”はＮ＋Ｒ１２（Ｚｍ−）１／ｍ、Ｓ（Ｏ）ｐＲ１３、ＢまたはＰ（Ｏ）ｑＲ１４であり、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４は水素またはヒドロカルビルから独立に選択され、Ｚは原子価がｍの陰イオンであり、ｐは０、１または２であり、ｑは０、１、２または３であり、Ｒ６”は化学結合であるか、Ｒ１”は窒素原子であり、Ｒ６”はカルボニル基またはスルホニル基であり」から、補正後の請求項１における「Ｒ１”は窒素原子であり、Ｒ６”はカルボニル基またはスルホニル基であり」とする補正事項
（ニ）補正前の請求項２０における「Ｒ２”とＲ３”は、（ＣＲ７”Ｒ８”）ｎ”、あるいは、基ＣＲ９”Ｒ１０”、−（ＣＲ７”Ｒ８”ＣＲ９”Ｒ１０”）−、または−（ＣＲ９”Ｒ１０”ＣＲ７”Ｒ８”）−から独立に選択され（式中、ｎ”は０、１、または２であり、Ｒ７”とＲ８”は水素または２０までの炭素原子を含むアルキルから独立に選択され、そして、Ｒ９”またはＲ１０”のいずれか一方が水素であって他方が電子求引性基であるか、あるいは、Ｒ９”とＲ１０”が一緒になって電子求引性基を形成している）」から、補正後の請求項１における「Ｒ２”とＲ３”は、（ＣＲ７”Ｒ８”）ｎ”（式中、ｎ”は０、１、または２であり、Ｒ７”とＲ８”は水素または２０までの炭素原子を含むアルキルから独立に選択される）であり」とする補正事項
（ホ）補正前の請求項２０における「Ｒ４”及びＲ５”は、Ｃ、ＣＨまたはＣＲ１１”から独立に選択され、ここで、Ｒ１１”は電子求引性基であり」から、補正後の請求項１における「Ｒ４”及びＲ５”は、ＣＨまたはＣＲ１１”から独立に選択され、ここで、Ｒ１１”は電子求引性基であり」とする補正事項
（ヘ）補正前の請求項２０における「点線は、化学結合が存在しているか、あるいは、存在していないことを示しており、そして、Ｘ１”は、Ｘ１”がそこに結合されている該点線の化学結合が存在していない場合には基ＣＸ２”Ｘ３”であって、Ｘ１”がそこに結合されている該点線の化学結合が存在している場合には基ＣＸ２”であり、Ｙ１”は、Ｙ１”がそこに結合されている該点線の化学結合が存在していない場合には基ＣＹ２”Ｙ３”であって、Ｙ１”がそこに結合されている該点線の化学結合が存在している場合には基ＣＹ２”であり、そして、Ｘ２”、Ｘ３”、Ｙ２”、及びＹ３”は、水素及びフッ素から独立に選択され」から、補正後の請求項１における「Ｘ１”は基ＣＸ２”Ｘ３”であり、Ｙ１”は基ＣＹ２”Ｙ３”であり、そして、Ｘ２”、Ｘ３”、Ｙ２”、及びＹ３”は、水素及びフッ素から独立に選択され」とする補正事項
（ト）補正前の請求項２０における「化学式（ＩＢ）の化合物に重合をもたらす条件下において」から、補正後の請求項１における「化学式（ＩＢ’）の化合物に環化重合をもたらす条件下において」とする補正事項
（チ）補正前の請求項２０における「放射線に晒すステップを包含する」から、補正後の請求項１における「紫外線に晒すステップを包含する」とする補正事項
（リ）補正前の請求項２０において、「（ｉ）（ａ）Ｒ１”とＲ６”、または（ｂ）Ｒ２”とＲ３”、もしくは（ｃ）Ｒ４”とＲ５”のうちの少なくとも１つが電子求引性基を含んでいること；
（ｉｉ）Ｒ２”とＲ３”が両方ともＣＨ２であり、Ｒ４”とＲ５”が両方ともＣＨであり、Ｒ１”とＲ６”が一緒になって電子吸引性基を形成し、該電子吸引性基においてＲ１”がＮ＋Ｒ１２”（Ｚｍ−）１／ｍであり、ＺがＢｒであり、Ｒ１２”が水素であり、Ｒ６”が化学結合である場合、ｒは２以外であるか、ｒが２である場合には、Ｒ１６”は以下の基以外であること；
　　【化１５】
（式省略）
（ｉｉｉ）Ｒ１”とＲ６”が一緒になって電子吸引性基を形成し、該電子吸引性基においてＲ１”が窒素原子であり、Ｒ６”がカルボニル基である場合、ｒは２以外であるか、ｒが２である場合には、Ｒ１６”はＮＨＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨ−、−ＣＨ２ＣＨＲｐ−以外の基であり、該基においてＲｐは塩素、臭素、ビスフェノール−Ｆ、１０，１１−ジオクチル−１，２０−シコシル又は以下の基であること；
　　【化１６】
（式省略）
（ｉｖ）Ｒ２”とＲ３”が両方ともＣＨ２であり、Ｒ４”とＲ５”が両方ともＣＨであり、Ｒ１”とＲ６”が一緒になって電子吸引性基を形成し、該電子吸引性基においてＲ１”がＣＨ基であり、Ｒ６”が−ＯＣ（Ｏ）−であり、ここでＯ原子はＲ１”基に直接結合する場合、ｒは２以外であるか、ｒが２である場合には、Ｒ１６”は−ＣＨ＝ＣＨ−以外の基であること；
（ｖ）Ｒ１”が窒素であり、Ｒ６”がスルホニルである場合、Ｒ１６”は−Ｐｈ−Ｏ−Ｐｈ基を含まないこと；
を条件として」を削除し、補正後の請求項１とする補正事項
　　
　　
　補正事項（イ）は請求項を削除するものであるので、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下、単に「特許法」という。）第１７条の２第４項第１号に掲げる請求項の削除を目的とするものに該当する。
　　
　補正事項（ロ）、（ホ）及び（ヘ）は、化学式（ＩＢ）中の「化学結合が存在しているか、あるいは、存在していないことを示」すものである点線を削除し、それに伴って置換基の定義のうち「化学結合が存在している」場合についての部分を削除したものであって、択一的記載の一方を削除し化学結合が存在しない場合のみへと限定するものであるといえるから、特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　　
　補正事項（ハ）は、Ｒ１”及びＲ６”の定義につき「Ｒ１”はＣＨであってＲ６”が化学結合、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−または−ＯＣ（Ｏ）−または−Ｓ（Ｏ）２である」場合及び「Ｒ１”とＲ６”が一緒になって電子求引性基を形成しており、該電子吸引性基においてＲ１”はＮ＋Ｒ１２（Ｚｍ−）１／ｍ、Ｓ（Ｏ）ｐＲ１３、ＢまたはＰ（Ｏ）ｑＲ１４であり、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４は水素またはヒドロカルビルから独立に選択され、Ｚは原子価がｍの陰イオンであり、ｐは０、１または２であり、ｑは０、１、２または３であり、Ｒ６”は化学結合である」場合を削除したものであって、択一的記載の一部を削除し「Ｒ１”は窒素原子であり、Ｒ６”はカルボニル基またはスルホニル基であ」る場合のみへと限定するものであるといえるから、特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　　
　補正事項（ニ）は、Ｒ２”及びＲ３”の定義につき「基ＣＲ９”Ｒ１０”、−（ＣＲ７”Ｒ８”ＣＲ９”Ｒ１０”）−、または−（ＣＲ９”Ｒ１０”ＣＲ７”Ｒ８”）−」から独立に選択される場合を削除したものであって、択一的記載の一部を削除し「（ＣＲ７”Ｒ８”）ｎ”」のみへと限定するものであるといえるから、特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　　
　補正事項（ト）は、「重合」を「環化重合」に限定するものであり、特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　　
　補正事項（チ）は、「放射線」を「紫外線」に限定するものであり、特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　　
　補正事項（リ）は、Ｒ１６”の定義につき、他の置換基との関係において除かれる部分等が規定されていた条件（ｉ）〜（ｖ）を削除するものであり、これにより少なくともＲ１６”に含まれる置換基の範囲が拡張されていることは明らかであるといえ、補正前の請求項２０において発明を特定するために必要な事項（以下、「発明特定事項」という。）を限定するものではない。
　したがって、補正事項（リ）は、特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものであるとはいえず、さらに、補正事項（リ）は、請求項の削除、誤記の訂正、又は明りょうでない記載の釈明のいずれかを目的とするものにも該当しない。
　よって、補正事項（リ）は、特許法第１７条の２第４項各号に掲げるいずれの事項をも目的とするものではない。
　　
　　
（３）むすび
　以上のとおりであるから、補正事項（リ）を含む特許請求の範囲の補正は、請求項の削除を目的とする補正、特許請求の範囲の減縮を目的とする補正、誤記の訂正を目的とする補正、明りょうでない記載の釈明を目的とする補正、のいずれにも該当するものではないから、補正事項（リ）を含む本件補正は、特許法第１７条の２第４項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　　
　　
（４）独立特許要件について
　上記のとおり、補正事項（リ）を含む特許請求の範囲の補正は、請求項の削除を目的とする補正、特許請求の範囲の減縮を目的とする補正、誤記の訂正を目的とする補正、明りょうでない記載の釈明を目的とする補正、のいずれにも該当するものではないが、仮に、補正事項（リ）が特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とする補正に該当するとした場合に、本件補正後の発明が、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合する補正であるか否か（いわゆる独立特許要件）について、念のため以下に検討しておく。
　　
　　
（４）−１．本願補正発明
　本件補正後の請求項１に係る発明（以下、「本願補正発明」という。）は、平成２２年１月１４日付けの手続補正書により補正された明細書（以下、「本願補正明細書」という。）の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものであって、上記の（１）に記載したとおりのものである。
　　
　　
（４）−２．引用刊行物記載の事項
＜引用刊行物＞
　刊行物Ａ：特開昭５０−１５９５８１号公報
　（平成２２年２月１７日付け前置報告書における引用文献１）
　　
Ａ１．「分子中にＮ，Ｎ−ジアリルアミド基を２〜６個有する化合物の少なくとも一種又はそれと他のラジカル重合性不飽和結合を有する化合物との混合物をラジカル重合せしめることを特徴とする熱硬化性ポリアミド樹脂の製造法。」（特許請求の範囲）
　　
Ａ２．「一方、同一原子にアリル基が２個結合しているジアリル化合物の該アリル基はラジカル開始剤の存在下で重合を行うと、通常のアリル化合物の如き重合を起さず、下記に示す如き環化重合を起すことが知られている。
　本発明者は、この環化重合性をラジカル硬化樹脂の製造に応用すべく鋭意研究の結果、本発明に到達したものである。」（第１頁左下欄下から３行−右下欄下から９行）
　　
Ａ３．「本発明において用いられるＮ，Ｎ−ジアリルアミド基含有化合物は、該Ｎ，Ｎ−ジアリルアミド基を２〜６個有するものである。即ち、一般式
で表わされる化合物である。
　前記一般式（Ｉ）中のＲは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基等のいずれの基でも良く、得られるポリアミド樹脂の用途、成型性、相溶性、耐熱性等を勘案して選択すれば良い。好適に用いられるＮ，Ｎ−ジアリルアミド基含有化合物のＲとしては、例えば
｜　　　｜　　｜　　｜
ＣＨ２−ＣＨ−ＣＨ−ＣＨ２等が好適に挙げられる。」（第２頁右上欄６行−左下欄下から６行）
　　
Ａ４．「また、特別にラジカル開始剤を使用しなくても、加熱、或は紫外線、γ−線等の高エネルギーの電磁波、電子線等の照射によつてラジカルを反応系内に発生させる事によつて、重合を進行せしめる事も出来る。」（第３頁右上欄５−９行）
　　
Ａ５．「実施例１
　　Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラアリルイソフタルアミド（沸点１８５℃／２ｍｍＨｇ）１ｇとジクミルパーオキシド２０ｍｇを試験管に秤量し、徐々に加熱し、続いて２００℃で１時間加熱を続けると淡黄色の硬化樹脂が得られた。このものの赤外吸収スペクトルには、……が観測される。このことから環化重合が進行していることが解る。
　　
実施例２
　　Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラアリルテレフタルアミド（融点１０４℃）１ｇとジクミルパーオキシド２０ｍｇを試験管に秤量し、徐々に加熱し、更に１６０℃で５時間加熱を続けると淡黄色の硬化樹脂を得た。……
　　
実施例３
　　Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ヘキサアリルトリメシンアミド（融点８９℃、ワツクス状）１ｇと２０ｍｇのジクミルパーオキシドを秤量し、徐々に加熱し更に２００℃で２時間加熱すると淡黄色の硬化樹脂が得られた。……
　　
実施例４
　　Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ヘキサアリルトリメリトアミド（油状）１ｇと２０ｍｇのジクミルパーオキシドを秤量し、徐々に加熱し、更に１６０℃で４時間加熱すると丈夫な淡黄色の硬化樹脂を得た。……
……
実施例６
　　Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラアリルセバカミド（油状物質）１ｇ及びアゾビスイソブチロニトリル５０ｍｇを試験管に加えて徐々に加熱し、その後１００℃で５時間、１５０℃で１時間加熱すると系は硬まり、……利用することが出来る。」（第４頁右下欄下から２行−第６頁左上欄９行）
　　
　　
（４）−３．引用発明
　刊行物Ａには、Ｎ，Ｎ−ジアリルアミド基含有化合物として一般式（Ｉ）で表わされる化合物が記載されており（摘示事項Ａ３）、重合に関し、「紫外線」等の照射によって進行させることができること（摘示事項Ａ４）、重合が「環化重合」であること（摘示事項Ａ２及びＡ５）が記載されているから、刊行物Ａには、摘示事項Ａ１〜Ａ５からみて、
「一般式（Ｉ）
で表わされる化合物の少なくとも一種を、紫外線の照射によつてラジカルを反応系内に発生させる事によつて環化重合せしめる熱硬化性ポリアミド樹脂の製造法」の発明（以下、「刊行物Ａ発明」という。）が記載されているものと認められる。
　　
　　
　（４）−４．対比・判断
　刊行物Ａ発明における「熱硬化性ポリアミド樹脂の製造法」、「紫外線の照射によつてラジカルを反応系内に発生させる事によつて環化重合せしめる」が、それぞれ本願補正発明における「ポリマーの製造方法」、「環化重合をもたらす条件下において、紫外線に晒すステップを包含する」に相当するものであることは明らかである。
　また、刊行物Ａ発明における一般式（Ｉ）で表わされる化合物が、本願補正発明における化学式（ＩＢ’）において、Ｒ１”が窒素原子であり、Ｒ６”がカルボニル基であり、Ｒ２”とＲ３”が（ＣＲ７”Ｒ８”）ｎ”（式中、ｎ”＝１、Ｒ７”とＲ８”が水素）であり、Ｒ４”及びＲ５”がＣＨであり、Ｘ１”が基ＣＸ２”Ｘ３”であり、Ｙ１”が基ＣＹ２”Ｙ３”であり、Ｘ２”、Ｘ３”、Ｙ２”、及びＹ３”が水素でありＲ１６”が原子価２〜６の橋かけ基であり、ｒ”が２〜６であるものに相当することは明らかである。
　　
　以上の点を踏まえた上で、本願補正発明と刊行物Ａ発明とを対比すると、両者は、
「ポリマーの製造方法であって、該方法が、化学式（ＩＢ’）：
　　【化１】
［式中、Ｒ１”は窒素原子であり、Ｒ６”はカルボニル基またはスルホニル基であり；
Ｒ２”とＲ３”は、（ＣＲ７”Ｒ８”）ｎ”（式中、ｎ”は０、１、または２であり、Ｒ７”とＲ８”は水素または２０までの炭素原子を含むアルキルから独立に選択される）であり、そして
Ｒ４”及びＲ５”は、ＣＨまたはＣＲ１１”から独立に選択され、ここで、Ｒ１１”は電子求引性基であり；
Ｘ１”は基ＣＸ２”Ｘ３”であり、Ｙ１”は基ＣＹ２”Ｙ３”であり、そして、Ｘ２”、Ｘ３”、Ｙ２”、及びＹ３”は、水素及びフッ素から独立に選択され；
Ｒ１６”は、原子価がｒ”の橋かけ基であって、ｒ”は２もしくはそれ以上の整数である］で表される化合物を、化学式（ＩＢ’）の化合物に環化重合をもたらす条件下において、紫外線に晒すステップを包含する、ポリマーの製造方法」の点で一致し、相違する点はない。
　　
　よって、本願補正発明は、刊行物Ａに記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。
　　
　　
　（４）−５．まとめ
　以上のとおり、本件補正は、補正事項（リ）が特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とする補正に該当すると仮定した場合であっても、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　　
　　
　　
第３．本件審判請求について
（１）本願発明
　平成２２年１月１４日付けの手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願請求項１〜３１に係る発明は、平成２１年５月２９日付けの誤訳訂正書により補正された明細書の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜３１に記載された事項により特定されるとおりのものであり、そのうち、請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は次のとおりのものである。
「【請求項１】放射線又は電子ビームの影響下で重合可能であり、化学式（ＩＡ）：
　　【化１】
［式中、Ｒ１はＣＨであってＲ６が単結合、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−または−Ｓ（Ｏ）２−であるか、あるいは、Ｒ１とＲ６が一緒になって電子求引性基を形成しており、該電子吸引性基においてＲ１はＮ＋Ｒ１２（Ｚｍ−）１／ｍ、Ｓ（Ｏ）ｐＲ１３、ＢまたはＰ（Ｏ）ｑＲ１４であり、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４は水素またはヒドロカルビルから独立に選択され、Ｚは原子価がｍの陰イオンであり、ｐは０、１または２であり、ｑは０、１、２または３であり、Ｒ６は化学結合であるか、Ｒ１は窒素原子であり、Ｒ６はカルボニル基またはスルホニル基であり；
Ｒ２とＲ３は、（ＣＲ７Ｒ８）ｎ、あるいは、基ＣＲ９Ｒ１０、−（ＣＲ７Ｒ８ＣＲ９Ｒ１０）−、または−（ＣＲ９Ｒ１０ＣＲ７Ｒ８）−から独立に選択され（式中、ｎは０、１、または２であり、Ｒ７とＲ８は水素または２０までの炭素原子を含むアルキルから独立に選択され、そして、Ｒ９またはＲ１０のいずれか一方が水素であって他方がＣＯＣＨ３またはＣＯＣＨ２ＣＮから選択される電子求引性基であるか、あるいは、Ｒ９とＲ１０が一緒になってオキソ基を形成している）、そして
Ｒ４とＲ５はＣＨまたはＣＲ１１から独立に選択され（式中、Ｒ１１は電子求引性基である）；
Ｘ２、Ｘ３、Ｙ２、及びＹ３は、水素及びフッ素から独立に選択され；
Ｒ１６は、以下の前提：
（ｉ）Ｒ１がＣＨであり、Ｒ６が化学結合である場合（ａ）Ｒ２とＲ３、または（ｂ）Ｒ４とＲ５のうちの少なくとも１つが電子求引性基を含んでいること；
（ｉｉ）Ｒ２とＲ３が両方ともＣＨ２であり、Ｒ４とＲ５が両方ともＣＨであり、Ｒ１とＲ６が一緒になって電子吸引性基を形成し、該電子吸引性基においてＲ１がＮ＋Ｒ１２（Ｚｍ−）１／ｍであり、ＺがＢｒであり、Ｒ１２が水素であり、Ｒ６が化学結合である場合、ｒは２以外であるか、ｒが２である場合には、Ｒ１６は（ＣＨ２）ｘ以外の基であり、該基においてｘは７または８であるか、Ｒ１６は以下の基以外であること；
　　【化２】
（ｉｉｉ）Ｒ２とＲ３が両方ともＣＨ２であり、Ｒ４とＲ５が両方ともＣＨであり、Ｒ１とＲ６が一緒になって電子吸引性基を形成し、該電子吸引性基においてＲ１がＮ＋Ｒ１２（Ｚｍ−）１／ｍであり、ＺがＢｒまたはＣｌであり、Ｒ１２がアルキルまたはアリルであり、Ｒ６が化学結合である場合、ｒは２以外であるか、ｒが２である場合には、Ｒ１６は（ＣＨ２）ｘ以外の基であり、該基においてｘは２から１０の整数であること；
（ｉｖ）Ｒ２とＲ３が両方ともＣＨ２であり、Ｒ４とＲ５が両方ともＣＨであるかＲ４とＲ５の一つがＣＣｌから選択され、Ｒ１とＲ６が一緒になって電子吸引性基を形成し、該電子吸引性基においてＲ１が窒素原子であり、Ｒ６がカルボニル基である場合、ｒは２以外であるか、ｒが２である場合には、Ｒ１６はＮＨＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨ−、−ＣＨ２ＣＨＲｐ−以外の基であり、該基においてＲｐは塩素、臭素、ビスフェノール−Ｆ、１０，１１−ジオクチル−１，２０−シコシル又は以下の基であること；
　　【化３】
（ｖ）Ｒ２とＲ３が両方ともＣＨ２であり、Ｒ４とＲ５が両方ともＣＨであり、Ｒ１とＲ６が一緒になって電子吸引性基を形成し、該電子吸引性基においてＲ１がＣＨ基であり、Ｒ６が−ＯＣ（Ｏ）−であり、ここでＯ原子はＲ１基に直接結合する場合、ｒは２以外であるか、ｒが２である場合には、Ｒ１６は−ＣＨ＝ＣＨ−以外の基であること；
（ｖｉ）Ｒ１が窒素であり、Ｒ６がスルホニルである場合、Ｒ１６は−Ｐｈ−Ｏ−Ｐｈ基以外の基であること；
を条件として、原子価がｒの橋かけ基であって、ｒは２もしくはそれ以上の整数である］で表される化合物。」
　　
　　
（２）原査定における拒絶の理由の概要
　原査定の拒絶の理由とされた、平成２０年１１月２０日付け拒絶理由通知書に記載した理由２は、以下のとおりである。
「２．この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前日本国内または外国において頒布された下記の刊行物に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。
……
　　　　　 記　　　（引用文献等については引用文献等一覧参照）
……
（理由２、３について）
（１）
・請求項　１〜９、１６〜１９、３３、３５、４０、４３、４４
・引用文献　１
・備考
　　
　引用文献１の特許請求の範囲、第３頁右上欄第４行〜左下欄第７行、実施例１０を特に参照。
　引用文献１には、少なく２個のアリル基を含むアリルアミンの強酸塩、及び、該アリルアミンの強酸塩をラジカル開始剤存在下、重合することが記載されている。
……
　　
　　　　　　　　　　　引　用　文　献　等　一　覧
　　
　１．特開昭５０−０３５２７９号公報
（以下省略）」
　　
　　
（３）原査定における拒絶の理由の妥当性
（３−１）引用刊行物記載の事項
　　本件優先日前に頒布されたことが明らかな、引用文献１（特開昭５０−３５２７９号公報）には、以下の事項が記載されている。 
　　
　　１ａ．「少くとも２個のアリル基を含むアリルアミンの強酸塩を含んでなる組成物の重合方法であつて、前記組成物を非荷電断片のみを与える遊離ラジカル開始剤の存在で、−２０と８０℃の間の温度でかつ０と５の間のｐＨで、酸素が存在しない状態で反応させることを含んでなることを特徴とする重合方法。」（特許請求の範囲）
　　
　　１ｂ．「ジアリルモノマー及びトリアリルモノマーのようなアリル化合物の遊離ラジカル重合は、網状組織のほかに、分子内重合により環式構造を与える。」（第１頁右下欄５−７行）
　　
　　１ｃ．「〔実施例１０〕
　本実施例は攪拌系で三塩化チタンと過酸化水素を用いるビスジアリルアミノ−１，６−ヘキサンの重合を説明するものである。
　ビス−ジアリルアミノ−１，６−ヘキサン塩酸塩の５０％溶液１０ｇと三塩化チタンの６％溶液１．７ｇの混合物を、Ｎ−１００エチルセルロース０．５ｇを含有する５０ｍｌのベンゼン中に分散した。容器を窒素で浄化し、分散液を激しく攪拌しながら、８０％過酸化水素溶液０．１８ｇを徐々に加えた。
　４時間後、ろ過（審決注：さんずいに戸の略字体を表記できないため「ろ過」と表記した。）してポリマーを単離し、実施例１の場合と同様に十分に洗浄した。
　ポリマーの収率は７５％、膨潤比は１．１、陰イオン交換容量は５．９ｍｅｑ／ｇであつた。ｐＨ滴定曲線から、半中和におけるｐＨは７．２であつた。また、１０％中和から６０％中和へのｐＨ変化は零であつた。」（第７頁左上欄６行〜右上欄３行）
 　  
（３−２）刊行物に記載された発明の認定
　引用文献１の摘示事項１ｃの実施例１０においては、「ビス−ジアリルアミノ−１，６−ヘキサン塩酸塩」を重合させポリマーを製造したことが記載されており、原料として用いられた化合物である「ビス−ジアリルアミノ−１，６−ヘキサン塩酸塩」自体についても具体的に記載されているといえるから、引用文献１には、摘示事項１ｃからみて、
「ビス−ジアリルアミノ−１，６−ヘキサン塩酸塩」に係る発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
　　
　　
（３−３）対比・判断
　（３−３−１）本願発明と引用発明との対比
　本願発明と引用発明とを対比する。
　引用発明の「ビス−ジアリルアミノ−１，６−ヘキサン塩酸塩」（以下、「引用発明化合物」ともいう。）が、本願発明における化学式（ＩＡ）において、Ｒ１とＲ６が一緒になって電子求引性基を形成しており、該電子吸引性基においてＲ１がＮ＋Ｒ１２（Ｚｍ−）１／ｍであり、Ｒ１２が水素であり、Ｚが原子価が１の陰イオンである塩素イオンであり、Ｒ６が化学結合であり、Ｒ２とＲ３が、（ＣＲ７Ｒ８）ｎ（式中、ｎ＝１、Ｒ７とＲ８が水素）であり、Ｒ４とＲ５がＣＨであり、Ｘ２、Ｘ３、Ｙ２、及びＹ３が水素であり、Ｒ１６が原子価２の橋かけ基であり、ｒが２であるものに相当することは明らかである。
　次に、引用発明化合物が、本願発明における条件（ｉ）〜（ｖｉ）を満たすものであるか否かにつき検討する。まず、引用発明化合物において、本願発明のＲ１に相当する部位はＮ＋Ｒ１２（Ｚｍ−）１／ｍに相当する構造を有するものであって、かつ、本願発明のＲ６に相当する部位は化学結合であるから、Ｒ１がＣＨである場合についてのものである条件（ｉ）及び（ｖ）によっては何ら排除されないことが明らかであり、同様に、Ｒ１が窒素原子であってＲ６がカルボニル基又はスルホニルである場合についてのものである条件（ｉｖ）及び（ｖｉ）によっても何ら排除されないことが明らかであるから、引用発明化合物がこれら条件（ｉ）、（ｉｖ）、（ｖ）及び（ｖｉ）を満たすことは明らかである。また、引用発明化合物において、本願発明のＺに相当する部位は塩素イオンであるから、ＺがＢｒである場合についてのものである条件（ｉｉ）によっては何ら排除されないことが明らかであり、更に、引用発明化合物において、本願発明のＲ１２に相当する部位は水素であるから、Ｒ１２がアルキル又はアリルである場合についてのものである条件（ｉｉｉ）によっても何ら排除されないことが明らかであるから、引用発明化合物がこれら条件（ｉｉ）及び（ｉｉｉ）をも満たすことは明らかである。
　　
　以上の点を踏まえた上で、本願発明と引用発明とを対比すると、両者は、
「化学式（ＩＡ）：
　　【化１】
［式中、Ｒ１はＣＨであってＲ６が単結合、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−または−Ｓ（Ｏ）２−であるか、あるいは、Ｒ１とＲ６が一緒になって電子求引性基を形成しており、該電子吸引性基においてＲ１はＮ＋Ｒ１２（Ｚｍ−）１／ｍ、Ｓ（Ｏ）ｐＲ１３、ＢまたはＰ（Ｏ）ｑＲ１４であり、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４は水素またはヒドロカルビルから独立に選択され、Ｚは原子価がｍの陰イオンであり、ｐは０、１または２であり、ｑは０、１、２または３であり、Ｒ６は化学結合であるか、Ｒ１は窒素原子であり、Ｒ６はカルボニル基またはスルホニル基であり；
Ｒ２とＲ３は、（ＣＲ７Ｒ８）ｎ、あるいは、基ＣＲ９Ｒ１０、−（ＣＲ７Ｒ８ＣＲ９Ｒ１０）−、または−（ＣＲ９Ｒ１０ＣＲ７Ｒ８）−から独立に選択され（式中、ｎは０、１、または２であり、Ｒ７とＲ８は水素または２０までの炭素原子を含むアルキルから独立に選択され、そして、Ｒ９またはＲ１０のいずれか一方が水素であって他方がＣＯＣＨ３またはＣＯＣＨ２ＣＮから選択される電子求引性基であるか、あるいは、Ｒ９とＲ１０が一緒になってオキソ基を形成している）、そして
Ｒ４とＲ５はＣＨまたはＣＲ１１から独立に選択され（式中、Ｒ１１は電子求引性基である）；
Ｘ２、Ｘ３、Ｙ２、及びＹ３は、水素及びフッ素から独立に選択され；
Ｒ１６は、以下の前提：
（ｉ）Ｒ１がＣＨであり、Ｒ６が化学結合である場合（ａ）Ｒ２とＲ３、または（ｂ）Ｒ４とＲ５のうちの少なくとも１つが電子求引性基を含んでいること；
（ｉｉ）Ｒ２とＲ３が両方ともＣＨ２であり、Ｒ４とＲ５が両方ともＣＨであり、Ｒ１とＲ６が一緒になって電子吸引性基を形成し、該電子吸引性基においてＲ１がＮ＋Ｒ１２（Ｚｍ−）１／ｍであり、ＺがＢｒであり、Ｒ１２が水素であり、Ｒ６が化学結合である場合、ｒは２以外であるか、ｒが２である場合には、Ｒ１６は（ＣＨ２）ｘ以外の基であり、該基においてｘは７または８であるか、Ｒ１６は以下の基以外であること；
　　【化２】
（ｉｉｉ）Ｒ２とＲ３が両方ともＣＨ２であり、Ｒ４とＲ５が両方ともＣＨであり、Ｒ１とＲ６が一緒になって電子吸引性基を形成し、該電子吸引性基においてＲ１がＮ＋Ｒ１２（Ｚｍ−）１／ｍであり、ＺがＢｒまたはＣｌであり、Ｒ１２がアルキルまたはアリルであり、Ｒ６が化学結合である場合、ｒは２以外であるか、ｒが２である場合には、Ｒ１６は（ＣＨ２）ｘ以外の基であり、該基においてｘは２から１０の整数であること；
（ｉｖ）Ｒ２とＲ３が両方ともＣＨ２であり、Ｒ４とＲ５が両方ともＣＨであるかＲ４とＲ５の一つがＣＣｌから選択され、Ｒ１とＲ６が一緒になって電子吸引性基を形成し、該電子吸引性基においてＲ１が窒素原子であり、Ｒ６がカルボニル基である場合、ｒは２以外であるか、ｒが２である場合には、Ｒ１６はＮＨＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨ−、−ＣＨ２ＣＨＲｐ−以外の基であり、該基においてＲｐは塩素、臭素、ビスフェノール−Ｆ、１０，１１−ジオクチル−１，２０−シコシル又は以下の基であること；
　　【化３】
（ｖ）Ｒ２とＲ３が両方ともＣＨ２であり、Ｒ４とＲ５が両方ともＣＨであり、Ｒ１とＲ６が一緒になって電子吸引性基を形成し、該電子吸引性基においてＲ１がＣＨ基であり、Ｒ６が−ＯＣ（Ｏ）−であり、ここでＯ原子はＲ１基に直接結合する場合、ｒは２以外であるか、ｒが２である場合には、Ｒ１６は−ＣＨ＝ＣＨ−以外の基であること；
（ｖｉ）Ｒ１が窒素であり、Ｒ６がスルホニルである場合、Ｒ１６は−Ｐｈ−Ｏ−Ｐｈ基以外の基であること；
を条件として、原子価がｒの橋かけ基であって、ｒは２もしくはそれ以上の整数である］で表される化合物。」の点で一致しているが、以下の相違点１において一応相違している。
　　
［相違点１］
　本願発明では、化合物が「放射線又は電子ビームの影響下で重合可能であり」と規定されているのに対し、引用発明ではこのような規定がなされていない点。
　　
　（３−３−２）相違点についての検討
　［相違点１］について
　引用発明化合物は上記（３−３−１）で述べたとおり、その化学構造において本願発明の化合物と一致するものであるから、その化学的性質についても当然に本願発明の化合物と同一であると認められる。
　したがって、引用発明化合物は「放射線又は電子ビームの影響下で重合可能であり」なる規定を満たすものと認められる。
　よって、相違点１は実質的な相違点ではない。
（なお、この点につき付言しておくと、引用発明化合物のようなジアリルアミン塩構造を有する化合物が放射線照射により重合しうることは例えば特開昭５１−１３６７７４号公報（平成２０年１１月２０日付け拒絶理由通知書における引用文献２）に記載されているように周知である。）
　　
（４）まとめ
　よって、本願発明は、引用文献１に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。
　　
　　
　　
第４．むすび
　以上のとおりであるから、本願の請求項１に係る発明についての原査定の拒絶の理由２は妥当なものであり、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願はこの理由により拒絶すべきものである。
　　
　よって、結論のとおり審決する。