【手続補正書】
【提出日】平成17年7月22日(2005.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  表面上の線を照明するために斜角の入射角で放射ビームを供給するステップであって、前記ビームおよびビームを通り表面に垂直な方向はビームの入射面を規定し、前記線はビームの入射面に実質的に存在するものである供給するステップと、
アレイにある各検出器が線の対応部分からの光を検出する検出器のアレイに前記線を像映するステップと、を含む表面の異常および／または特徴を検出するための方法であって、
前記供給するステップは、集束された放射ビームを供給することを特徴とする方法。
【請求項２】  前記供給するステップは、表面上に集束された線にビームを集束させるステップを含む請求項１記載の方法。
【請求項３】  前記供給するステップは、表面上の細い線にビームを集束させるステップを含む請求項１記載の方法。
【請求項４】  前記像映するステップは、前記アレイでの線の像がアレイよりも長いものである請求項１記載の方法。
【請求項５】  前記像映するステップは、線の中央部分を前記アレイに像映する請求項１記載の方法。
【請求項６】  前記供給するステップは、実質的に入射面に垂直な方向のみに放射ビームを集束させる請求項１記載の方法。
【請求項７】  前記供給するステップは、円柱レンズを通すかもしくは円柱ミラーに放射ビームを通過させる請求項４記載の方法。
【請求項８】  照明された線の長さを選択するために、放射ビームの断面寸法および前記斜角の入射角を制御するステップをさらに含む請求項１記載の方法。
【請求項９】  前記制御するステップは、ビームが拡大後に所望の直径を有するように放射ビームを拡大するステップを含む請求項８記載の方法。
【請求項１０】  前記像映するステップは、線に実質的に垂直な軸に沿って線を集束させる請求項１記載の方法。
【請求項１１】  前記像映するステップは可変の開口部を使用し、前記方法は表面の粗さに応じて可変の開口部の開口度を制御するステップをさらに含む請求項１記載の表面の異常および／または特徴を検出するための方法。
【請求項１２】  線が表面を走査して異常および／または表面の特徴を検出するように表面とビームとの間に相対運動を惹起させるステップを含む請求項１記載の方法。
【請求項１３】  前記惹起するステップは、表面を動かし、ビームとアレイを実質的に静止させた状態にする請求項１０記載の方法。
【請求項１４】  前記斜角は、表面に垂直な方向から約４５〜８５度の範囲にある請求項１記載の方法。
【請求項１５】  前記像映するステップは対物レンズを使用し、線は対物レンズの集束面に存在する請求項１記載の方法。
【請求項１６】  検出器のアレイで時間遅延積分を実行するステップをさらに含む請求項１記載の方法。
【請求項１７】  前記像映するステップは、入射面の外側にある検出器のアレイに前記線を像映する請求項１記載の方法。
【請求項１８】  前記アレイは前記像映するステップによって形成されたアレイでの線の像よりも短いものであり、前記像映するステップは線の中央部分を前記アレイに像映する請求項１記載の方法。
【請求項１９】  前記像映するステップは、表面の位置を変えるにもかかわらず、前記線の像を前記検出器のアレイに落射させる請求項１０記載の方法。
【請求項２０】  前記供給するステップは、表面に実質的に平行な主要面を有する円柱レンズを通して放射ビームを通過させるステップを含む請求項１記載の方法。
【請求項２１】  前記供給するステップは、実質的に直線の２つの縁部を有する円柱ミラーに放射ビームを通過させるステップを含み、前記２つの縁部で規定される面は表面に対して実質的に平行である請求項１記載の装置。
【請求項２２】  表面上の線を照明するために斜角の入射角で放射ビームを供給する光学系であって、前記ビームおよびビームを通り表面に垂直な方向はビームの入射面を規定し、前記線はビームの入射面に実質的に存在するものである光学系と、
少なくとも１つの検出器のアレイと、
少なくとも１つのアレイにある各検出器が線の対応部分からの光を検出する少なくとも１つの検出器のアレイに前記線を像映するシステムと、からなる表面の異常を検出するための装置であって、
前記光学系は、線にビームを集束させることを特徴とする装置。
【請求項２３】  前記光学系は、表面上に集束された線にビームを集束させる請求項２２記載の方法。
【請求項２４】  前記光学系は、表面上の細い線にビームを集束させる請求項２２記載の方法。
【請求項２５】  前記アレイでのシステムにより形成された線の像は、アレイよりも長いものである請求項２２記載の装置。
【請求項２６】  前記システムは、線の中央部分を前記アレイに像映する請求項２２記載の装置。
【請求項２７】  前記光学系は、実質的に入射面に垂直な方向のみにビームを集束させる請求項２２記載の装置。
【請求項２８】  前記光学系は、円柱レンズまたは円柱ミラーを含む請求項２７記載の装置。
【請求項２９】  前記光学系は、表面に実質的に平行な主要面を有する円柱レンズを含む請求項２８記載の装置。
【請求項３０】  前記光学系は前記光学系で方向付けされた入力放射ビームを集束させ、前記入力ビームは表面およびレンズに実質的に垂直であり、さらに前記光学系は斜角で表面に向けてレンズからの放射を表面に再度向けるための回折格子からなる請求項２９記載の装置。
【請求項３１】  前記光学系は前記光学系で方向付けされた入力放射ビームを集束させ、前記入力ビームは表面およびレンズの主要面に対して斜角の方向にある請求項２７記載の装置。
【請求項３２】  前記光学系は、実質的に直線の２つの縁部を有する円柱ミラーを含み、前記２つの縁部で規定される面は表面に対して実質的に平行である請求項２６記載の装置。
【請求項３３】  前記光学系により集束させる前に、放射ビームを拡大する拡大器からさらになる請求項２２記載の表面の異常を検出するための装置。
【請求項３４】  前記少なくとも１つの検出器のアレイは、入射面の外側にある請求項２２記載の表面の装置。
【請求項３５】  前記システムは、線に実質的に垂直な光軸を有する請求項２２記載の装置。
【請求項３６】  前記システムは、システムの収集角度を変更するための可変の開口部を含む請求項２２記載の装置。
【請求項３７】  線が表面を走査して異常および／または表面の特徴を検出するように表面とビームとの間に相対運動を惹起させる手段からさらになる請求項２２記載の装置。
【請求項３８】  表面とビームとの間に相対運動を惹起させるときに、前記少なくとも１つの検出器のアレイをビームに対して実質的に静止させた状態にする請求項３７記載の装置。
【請求項３９】  前記斜角は、表面に垂直な方向から約４５〜８５度の範囲にある請求項２２記載の装置。
【請求項４０】  前記少なくとも１つの検出器のアレイは、線に実質的に平行な線形アレイである請求項２２記載の装置。
【請求項４１】  前記システムはフーリエ平面を有するレンズ手段からなり、前記装置はフーリエ平面に実質的にあるフィルタおよび偏光子からさらになる請求項２２記載の装置。
【請求項４２】  前記少なくとも１つのアレイはシステムによって形成されたアレイでの線の像よりも短いものであり、前記システムは線の中央部分を前記アレイに像映する請求項２２記載の装置。
【請求項４３】  前記アレイおよび／または前記システムによる像映の寸法は、表面の位置を変えるにもかかわらず、前記線の像を前記検出器のアレイに落射させるようになっている請求項２２記載の装置。
【請求項４４】  線を横断する方向の前記アレイの寸法は、表面の位置を変えるにもかかわらず、前記線の像を前記検出器のアレイに落射するようなものである請求項４３記載の装置。
【請求項４５】  前記システムは、表面の位置を変えるにもかかわらず、前記線の像を前記検出器のアレイに落射させる請求項４３記載の装置。
【請求項４６】  第１の表面上の線を照明するために斜角の入射角で放射ビームを供給する光学系であって、前記ビームおよびビームを通り第１の表面に垂直な方向はビームの入射面を規定し、前記線はビームの入射面に実質的に存在するものである光学系と、
少なくとも１つの検出器のアレイと、
少なくとも１つのアレイにある各検出器が線の対応部分からの光を検出する少なくとも１つの検出器のアレイに前記線を像映するシステムと、
第２の表面の異常および／または表面の特徴を検出する第２の検出器と、からなる対象物の第１および第２の表面上にある異常および／または表面の特徴を検出するための装置であって、
前記光学系は、第１の表面上の集束された線にビームを集束させることを特徴とする装置。
【請求項４７】  前記第１および第２の表面は、対象物の反対側上にある請求項４６記載の装置。
【請求項４８】  前記検出器のアレイは、入射面の外側にある請求項４６記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上述したシステムで満足できる用途のものもあるが、それらが複雑かつ高価なものになる用途のものもある。したがって、幅広い用途で使用できる低価格かつ感度および特性を改良した改良形表面検査システムを提供することが望まれる。
米国特許第５，５８５，９１６号には、レーザダイオードからの平行化された光を使用する表面検査装置および方法が記載されている。特開平９−１５１６３（米国特許第５，７４８，３０５号に相当する）およびアーロン  ディー．ガラの「自動超小形回路およびウェーハ検査」、電子機器テスト、第４版、第５号、１９８１年、第６０，６２，６６，６８，７０頁は双方ともに表面検査装置を開示し、ここで線は円形レンズを用いて照明されるビームの入射面に垂直な表面上に集束されている。