【手続補正書】
【提出日】平成18年8月2日(2006.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）エチレン性不飽和炭素原子に共有結合された少なくとも１個のフッ素原子を有するエチレン性不飽和化合物から誘導される反復単位と、
（ｂ）構造
【化１】
2005536589.tif 000001
（式中、ｍは０、１または２であり、
Ｒ１〜Ｒ１２は、独立して、Ｈ、ハロゲン、カルボキシル、ＯＨまたはＯ２Ｃ−Ｒ１３であり、ここで、Ｒ１３はＣ１〜Ｃ２０炭化水素基であり、Ｒ１〜Ｒ１２の少なくとも１個はＯＨまたはＯ２Ｃ−Ｒ１３である）
のエチレン性不飽和環式化合物から誘導される反復単位と
を含むことを特徴とするフッ素含有コポリマー。
【請求項２】
Ｒ１〜Ｒ１１がそれぞれ水素であり、ｍは０であり、Ｒ１２がＯＨまたはＯ２Ｃ−Ｒ１３（式中、Ｒ１３はＣ１〜Ｃ２０炭化水素基である）であることを特徴とする請求項１に記載のフッ素含有コポリマー。
【請求項３】
ｔ−ブチルアクリレートまたはメチルアダマンチルアクリレートから誘導される反復単位を更に含むことを特徴とする請求項１に記載のフッ素含有コポリマー。
【請求項４】
ノルボルニルフルオロアルコールまたは保護されたノルボルニルフルオロアルコールである反復単位を更に含むことを特徴とする請求項１に記載のフッ素含有コポリマー。
【請求項５】
酸含有構造単位または保護された酸含有構造単位
【化２】
2005536589.tif 000002
（式中、Ｅ１はＨまたはＣ１〜Ｃ１２アルキルであり、Ｅ２はＣＯ２Ｅ３またはＳＯ３Ｅであり、ＥおよびＥ３は、Ｈあるいは非置換Ｃ１〜Ｃ１２アルキルまたはヘテロ原子置換Ｃ１〜Ｃ１２アルキルである）
を更に含むことを特徴とする請求項１に記載のフッ素含有コポリマー。
【請求項６】
（ａ）
（ｉ）エチレン性不飽和炭素原子に共有結合された少なくとも１個のフッ素原子を有するエチレン性不飽和化合物から誘導される反復単位と、
（ｉｉ）構造
【化３】
2005536589.tif 000003
（式中、ｍは０、１または２であり、
Ｒ１〜Ｒ１２は、独立して、Ｈ、ハロゲン、カルボキシル、ＯＨまたはＯ２Ｃ−Ｒ１３であり、ここで、Ｒ１３はＣ１〜Ｃ２０炭化水素基であり、Ｒ１〜Ｒ１２の少なくとも１個はＯＨまたはＯ２Ｃ−Ｒ１３である）
のエチレン性不飽和環式化合物から誘導される反復単位と
を含むフッ素含有コポリマー、および
（ｂ）光活性成分
を含むことを特徴とするフォトレジスト組成物。
【請求項７】
Ｒ１〜Ｒ１１がそれぞれ水素であり、ｍは０であり、Ｒ１２がＯＨまたはＯ２Ｃ−Ｒ１３（式中、Ｒ１３はＣ１〜Ｃ２０炭化水素基である）であることを特徴とする請求項６に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項８】
前記フッ素含有コポリマーが構造
−Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＨ
（式中、ＲｆおよびＲｆ’は１〜１０個の炭素原子を有する、同じかまたは異なるフルオロアルキル基であるか、あるいは合一して（ＣＦ２）ｎ（ｎは２〜１０である）である）を有するフルオロアルコール基を含有するエチレン性不飽和化合物から誘導されるフルオロアルコール基を更に含むことを特徴とする請求項６に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項９】
前記フッ素含有コポリマーが、酸含有構造単位または保護された酸含有構造単位
【化４】
2005536589.tif 000004
（式中、Ｅ１はＨまたはＣ１〜Ｃ１２アルキルであり、Ｅ２はＣＯ２Ｅ３またはＳＯ３Ｅであり、ＥおよびＥ３は、Ｈあるいは非置換Ｃ１〜Ｃ１２アルキルまたはヘテロ原子置換Ｃ１〜Ｃ１２アルキルである）
を更に含むことを特徴とする請求項６に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１０】
前記光活性成分が光酸発生剤であることを特徴とする請求項６に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１１】
溶解抑制剤を更に含むことを特徴とする請求項６に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１２】
溶媒を更に含むことを特徴とする請求項６に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１３】
（ａ）基材および
（ｂ）（ｉ）
（ａ’）エチレン性不飽和炭素原子に共有結合された少なくとも１個のフッ素原子を有するエチレン性不飽和化合物から誘導される反復単位と、
（ｂ’）構造
【化５】
2005536589.tif 000005
（式中、ｍは０、１または２であり、
Ｒ１〜Ｒ１２は、独立して、Ｈ、ハロゲン、カルボキシル、ＯＨまたはＯ２Ｃ−Ｒ１３であり、ここで、Ｒ１３はＣ１〜Ｃ２０炭化水素基であり、Ｒ１〜Ｒ１２の少なくとも１個はＯＨまたはＯ２Ｃ−Ｒ１３である）
のエチレン性不飽和環式化合物から誘導される反復単位と
を含むフッ素含有コポリマーおよび
（ｉｉ）光活性成分
を含むフォトレジスト組成物
を含むことを特徴とする被覆された基材。
【請求項１４】
基材上にフォトレジスト画像を作製する方法であって、
（Ａ）
（１．）請求項１に記載のフッ素含有コポリマー
（２．）光活性成分および
（３．）溶媒
を含むフォトレジスト組成物を基材上に塗布する工程と、
（Ｂ）前記フォトレジスト組成物を乾燥させて前記溶媒を実質的に除去して、前記基材上にフォトレジスト層を形成する工程と、
（Ｃ）前記フォトレジスト層を像様露光して、画像形成領域と非画像形成領域を形成する工程と、
（Ｄ）前記画像形成領域と非画像形成領域を有する露光されたフォトレジスト層を現像して、前記基材上にレリーフ画像を形成する工程と
を順に含むことを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０２】
ｔ−ブチルリトコレートを添加したことを除き、この溶液を実施例１８のように処理し、２．２ｍＪ／ｃｍ２のクリアリング線量でポジティブ画像をもたらした。
本出願は、特許請求の範囲に記載の発明を含め、以下の発明を包含する。
（１）  （ａ）エチレン性不飽和炭素原子に共有結合された少なくとも１個のフッ素原子を有するエチレン性不飽和化合物から誘導される反復単位と、
（ｂ）構造
【化６】
2005536589.tif 000006
（式中、ｍは０、１または２であり、
Ｒ１〜Ｒ１２は、独立して、Ｈ、ハロゲン、カルボキシル、ＯＨまたはＯ２Ｃ−Ｒ１３であり、ここで、Ｒ１３はＣ１〜Ｃ２０炭化水素基であり、Ｒ１〜Ｒ１２の少なくとも１個はＯＨまたはＯ２Ｃ−Ｒ１３である）
のエチレン性不飽和環式化合物から誘導される反復単位と
を含むことを特徴とするフッ素含有コポリマー。
（２）  Ｒ１〜Ｒ１１がそれぞれ水素であり、ｍは０であり、Ｒ１２がＯＨまたはＯ２Ｃ−Ｒ１３（式中、Ｒ１３はＣ１〜Ｃ２０炭化水素基である）であることを特徴とする（１）に記載のフッ素含有コポリマー。
（３）  Ｒ１３が１〜１０個の炭素原子を有する直鎖または分枝アルキル基であることを特徴とする（２）に記載のフッ素含有コポリマー。
（４）  Ｒ１３がメチル、エチルまたはプロピルであることを特徴とする（３）に記載のフッ素含有コポリマー。
（５）  前記ハロゲンが塩素、フッ素または臭素であることを特徴とする（１）に記載のフッ素含有コポリマー。
（６）  反復単位（ａ）が、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、弗化ビニル、弗化ビニリデン、パーフルオロ−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、パーフルオロ−（２−メチレン−４−メチル−１，３−ジオキソラン）、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）ｔＣＦ＝ＣＦ２（式中、ｔは１または２である）またはＲｆＯＣＦ＝ＣＦ２（式中、Ｒｆは１〜１０個の炭素原子を有する飽和フルオロアルキル基である）から誘導されることを特徴とする（１）に記載のフッ素含有コポリマー。
（７）  反復単位（ａ）がテトラフルオロエチレンから誘導されることを特徴とする（６）に記載のフッ素含有コポリマー。
（８）  ｔ−ブチルアクリレートまたはメチルアダマンチルアクリレートから誘導される反復単位を更に含むことを特徴とする（１）に記載のフッ素含有コポリマー。
（９）  ノルボルニルフルオロアルコールまたは保護されたノルボルニルフルオロアルコールである反復単位を更に含むことを特徴とする（１）に記載のフッ素含有コポリマー。
（１０）  構造
−Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＨ
（式中、ＲｆおよびＲｆ’は１〜１０個の炭素原子を有する、同じかまたは異なるフルオロアルキル基であるか、あるいは合一して（ＣＦ２）ｎ（ｎは２〜１０である）である）を有するフルオロアルコール基を含有するエチレン性不飽和化合物から誘導されるフルオロアルコール基を更に含むことを特徴とする（１）に記載のフッ素含有コポリマー。
（１１）  酸含有構造単位または保護された酸含有構造単位
【化７】
2005536589.tif 000007
（式中、Ｅ１はＨまたはＣ１〜Ｃ１２アルキルであり、Ｅ２はＣＯ２Ｅ３またはＳＯ３Ｅであり、ＥおよびＥ３は、Ｈあるいは非置換Ｃ１〜Ｃ１２アルキルまたはヘテロ原子置換Ｃ１〜Ｃ１２アルキルである）
を更に含むことを特徴とする（１）に記載のフッ素含有コポリマー。
（１２）  前記ヘテロ原子がＳ、ＯまたはＮであることを特徴とする（１１）に記載のフッ素含有コポリマー。
（１３）  （ａ）
（ｉ）エチレン性不飽和炭素原子に共有結合された少なくとも１個のフッ素原子を有するエチレン性不飽和化合物から誘導される反復単位と、
（ｉｉ）構造
【化８】
2005536589.tif 000008
（式中、ｍは０、１または２であり、
Ｒ１〜Ｒ１２は、独立して、Ｈ、ハロゲン、カルボキシル、ＯＨまたはＯ２Ｃ−Ｒ１３であり、ここで、Ｒ１３はＣ１〜Ｃ２０炭化水素基であり、Ｒ１〜Ｒ１２の少なくとも１個はＯＨまたはＯ２Ｃ−Ｒ１３である）
のエチレン性不飽和環式化合物から誘導される反復単位と
を含むフッ素含有コポリマー、および
（ｂ）光活性成分
を含むことを特徴とするフォトレジスト組成物。
（１４）  Ｒ１〜Ｒ１１がそれぞれ水素であり、ｍは０であり、Ｒ１２がＯＨまたはＯ２Ｃ−Ｒ１３（式中、Ｒ１３はＣ１〜Ｃ２０炭化水素基である）であることを特徴とする（１３）に記載のフォトレジスト組成物。
（１５）  Ｒ１３が１〜１０個の炭素原子を有する直鎖または分枝アルキル基であることを特徴とする（１４）に記載のフォトレジスト組成物。
（１６）  Ｒ１３がメチル、エチルまたはプロピルであることを特徴とする（１５）に記載のフォトレジスト組成物。
（１７）  前記ハロゲンが塩素、フッ素または臭素であることを特徴とする（１３）に記載のフォトレジスト組成物。
（１８）  反復単位（ｉ）が、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、弗化ビニル、弗化ビニリデン、パーフルオロ−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、パーフルオロ−（２−メチレン−４−メチル−１，３−ジオキソラン）、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）ｔＣＦ＝ＣＦ２（式中、ｔは１または２である）またはＲｆＯＣＦ＝ＣＦ２（式中、Ｒｆは１〜１０個の炭素原子を有する飽和フルオロアルキル基である）から誘導されることを特徴とする（１３）記載のフォトレジスト組成物。
（１９）  前記フッ素含有コポリマーが構造
−Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＨ
（式中、ＲｆおよびＲｆ’は１〜１０個の炭素原子を有する、同じかまたは異なるフルオロアルキル基であるか、あるいは合一して（ＣＦ２）ｎ（ｎは２〜１０である）である）を有するフルオロアルコール基を含有するエチレン性不飽和化合物から誘導されるフルオロアルコール基を更に含むことを特徴とする（１３）に記載のフォトレジスト組成物。
（２０）  前記フッ素含有コポリマーが、酸含有構造単位または保護された酸含有構造単位
【化９】
2005536589.tif 000009
（式中、Ｅ１はＨまたはＣ１〜Ｃ１２アルキルであり、Ｅ２はＣＯ２Ｅ３またはＳＯ３Ｅであり、ＥおよびＥ３は、Ｈあるいは非置換Ｃ１〜Ｃ１２アルキルまたはヘテロ原子置換Ｃ１〜Ｃ１２アルキルである）
を更に含むことを特徴とする（１３）に記載のフォトレジスト組成物。
（２１）  前記ヘテロ原子がＳ、ＯまたはＮであることを特徴とする（２０）に記載のフォトレジスト組成物。
（２２）  前記光活性成分が光酸発生剤であることを特徴とする（１３）に記載のフォトレジスト組成物。
（２３）  溶解抑制剤を更に含むことを特徴とする（１３）に記載のフォトレジスト組成物。
（２４）  溶媒を更に含むことを特徴とする（１３）に記載のフォトレジスト組成物。
（２５）  （ａ）基材および
（ｂ）（ｉ）
（ａ’）エチレン性不飽和炭素原子に共有結合された少なくとも１個のフッ素原子を有するエチレン性不飽和化合物から誘導される反復単位と、
（ｂ’）構造
【化１０】
2005536589.tif 000010
（式中、ｍは０、１または２であり、
Ｒ１〜Ｒ１２は、独立して、Ｈ、ハロゲン、カルボキシル、ＯＨまたはＯ２Ｃ−Ｒ１３であり、ここで、Ｒ１３はＣ１〜Ｃ２０炭化水素基であり、Ｒ１〜Ｒ１２の少なくとも１個はＯＨまたはＯ２Ｃ−Ｒ１３である）
のエチレン性不飽和環式化合物から誘導される反復単位と
を含むフッ素含有コポリマーおよび
（ｉｉ）光活性成分
を含むフォトレジスト組成物
を含むことを特徴とする被覆された基材。
（２６）  前記基材がＳｉＯＮを含むことを特徴とする（２５）に記載の被覆された基材。
（２７）  前記基材がケイ素を含むことを特徴とする（２５）に記載の被覆された基材。
（２８）  基材上にフォトレジスト画像を作製する方法であって、
（Ａ）
（１．）（１）に記載のフッ素含有コポリマー
（２．）光活性成分および
（３．）溶媒
を含むフォトレジスト組成物を基材上に塗布する工程と、
（Ｂ）前記フォトレジスト組成物を乾燥させて前記溶媒を実質的に除去して、前記基材上にフォトレジスト層を形成する工程と、
（Ｃ）前記フォトレジスト層を像様露光して、画像形成領域と非画像形成領域を形成する工程と、
（Ｄ）前記画像形成領域と非画像形成領域を有する露光されたフォトレジスト層を現像して、前記基材上にレリーフ画像を形成する工程と
を順に含むことを特徴とする方法。