【事件の表示】
　特願２００６−１６６２８８「エッチング液組成物及びこれを利用した導電膜のパターニング方法並びにフラットパネルディスプレイの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１９年　２月２２日出願公開、特開２００７−　４９１２０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯  
　本件出願は、平成１８年６月１５日（パリ条約による優先権主張２００５年８月８日、大韓民国）の出願であって、平成２１年３月１３日付けで拒絶理由が通知され、同年６月１８日付けで意見書及び手続補正書が提出され、同年７月１３日付けで拒絶査定がなされ、同年１１月１３日付けで拒絶査定に対する審判請求がなされるととともに同時に明細書及び特許請求の範囲を補正する手続補正書が提出され、同年１２月２８日付けで審判請求書の請求の理由を変更する手続補正書（方式）が提出され、その後、当審において平成２２年１２月８日付けで審尋がなされ、平成２３年６月９日付けで回答書が提出されたものである。　　
　　　
第２　平成２１年１１月１３日付けの手続補正についての補正の却下の決定［補正の却下の決定の結論］  
　平成２１年１１月１３日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。 
　
［理由］  
１　本件補正の内容  
１−１　補正事項１
　本件出願の特許請求の範囲につき、本件補正により補正される前の（すなわち、平成２１年６月１８日付けで提出された手続補正書により補正された）下記（１）に示す特許請求の範囲の請求項１ないし６の記載を下記（２）に示す特許請求の範囲の請求項１ないし６の記載に補正する。  
　 
（１）本件補正前の特許請求の範囲の請求項１ないし６
　「【請求項１】
　リン酸、硝酸、酢酸、水、及び添加剤を含み、
　前記添加剤は、塩素系化合物、硝酸塩系化合物、硫酸塩系化合物、及び酸化調整剤を含むエッチング液組成物であり、
前記エッチング液組成物は、アルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム-ネオジウム合金（ＡｌＮｄ）、モリブデン（Ｍｏ）、及びＩＴＯからなる群より選択された断層膜又はこれらの積層膜をエッチングすることを特徴とするエッチング液組成物。
　　【請求項２】
　前記塩素系化合物は、ＫＣｌ、ＨＣｌ、ＬｉＣｌ、ＮａＣｌ、ＮＨ４Ｃｌ、ＣｕＣｌ２、ＦｅＣｌ３、ＦｅＣｌ２、ＣａＣｌ２、ＣｏＣｌ２、ＮｉＣｌ２、ＺｎＣｌ２、ＡｌＣｌ３、ＢａＣｌ２、ＢｅＣｌ２、ＢｉＣｌ３、ＣｄＣｌ２、ＣｅＣｌ２、ＣｓＣｌ２、ＣｒＣｌ３、及びＨ２ＰｔＣｌ３からなる群より選択された少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項１に記載のエッチング液組成物。
　　【請求項３】
　前記硝酸塩系化合物は、ＮＨ４ＮＯ３、ＫＮＯ３、ＬｉＮＯ３、Ｃａ（ＮＯ３）２、ＮａＮＯ３、Ｚｎ（ＮＯ３）２、ＣＯ（ＮＯ３）２、Ｎｉ（ＮＯ３）２、Ｆｅ（ＮＯ３）３、Ｃｕ（ＮＯ３）２、及びＢａ（ＮＯ３）２からなる群より選択された少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項１に記載のエッチング液組成物。
　　【請求項４】
　前記硫酸塩系化合物は、Ｈ２ＳＯ４、Ｎａ２ＳＯ４、Ｎａ２Ｓ２Ｏ８、Ｋ２ＳＯ４、Ｋ２Ｓ２Ｏ８、ＣａＳＯ４、（ＮＨ４）２ＳＯ４、及び（ＮＨ４）２Ｓ２Ｏ８からなる群より選択された少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項１に記載のエッチング液組成物。
　　【請求項５】
　前記酸化調整剤は、ＫＭｎＯ４、Ｋ２Ｃｒ２Ｏ７、ＮａＣｌＯ、ＮａＣｌＯ２、ＮａＣｌＯ２、ＮａＣｌＯ３、ＮａＣｌＯ４、ＨＣｌＯ４、及びＨＩＯ４からなる群より選択された少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項１に記載のエッチング液組成物。
　　【請求項６】
　前記エッチング液組成物は、４０〜７０重量％のリン酸、３〜１５重量％の硝酸、５〜３５重量％の酢酸、０．０２〜５重量％の塩素系化合物、０．０５〜５重量％の硝酸塩系化合物、０．０５〜５重量％の硫酸塩系化合物、１〜１０重量％の酸化調整剤、及び残量の水を含むことを特徴とする請求項１に記載のエッチング液組成物。」
　
（２）本件補正後の特許請求の範囲の請求項１ないし６
　「【請求項１】
　リン酸、硝酸、酢酸、水、及び添加剤を含み、
　前記添加剤は、塩素系化合物、硝酸塩系化合物、硫酸塩系化合物、及び酸化調整剤を含むエッチング液組成物であり、
　前記エッチング液組成物は、アルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム-ネオジウム合金（ＡｌＮｄ）、モリブデン（Ｍｏ）、及びＩＴＯからなる群より選択された断層膜又はこれらの積層膜をエッチングすることを特徴とするエッチング液組成物。
　　【請求項２】
　前記塩素系化合物は、ＫＣｌ
及び
である
　　【請求項３】
　前記硝酸塩系化合物は、ＮＨ４ＮＯ３
及び
である
　　【請求項４】
　前記硫酸塩系化合物は、Ｈ２ＳＯ４
及び
である
　　【請求項５】
　前記酸化調整剤は、ＮａＣｌＯ４
及び
である
　　【請求項６】
　前記エッチング液組成物は、４０〜７０重量％のリン酸、３〜１５重量％の硝酸、５〜３５重量％の酢酸、０．０２〜５重量％の塩素系化合物、０．０５〜５重量％の硝酸塩系化合物、０．０５〜５重量％の硫酸塩系化合物、１〜１０重量％の酸化調整剤、及び残量の水を含むことを特徴とする請求項１に記載のエッチング液組成物。」
（なお、下線は、補正箇所を示すためのものである。以下、同様。）
　
１−２　補正事項２
　本件出願の特許請求の範囲につき、本件補正により補正される前の（すなわち、平成２１年６月１８日付けで提出された手続補正書により補正された）下記（１）に示す特許請求の範囲の請求項７ないし１２の記載を下記（２）に示す特許請求の範囲の請求項７ないし１２の記載に補正する。
　
（１）本件補正前の特許請求の範囲の請求項７ないし１２
　「【請求項７】
　基板を提供するステップと、
　前記基板上に導電膜を形成するステップと、
　前記導電膜上に感光性膜を形成するステップと、
　前記感光性膜を露光してパターニングするステップと、
　前記パターニングされた感光性膜に対して、エッチング液組成物を用いて前記導電膜をエッチングするステップと
　を含み、
　前記導電膜は、アルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム-ネオジウム合金（ＡｌＮｄ）、モリブデン（Ｍｏ）、及びＩＴＯからなる群より選択された少なくとも一種を含む単一膜又は積層膜であり、
　前記エッチング液組成物は、リン酸、硝酸、酢酸、塩素系化合物、硝酸塩系化合物、硫酸塩系化合物、酸化調整剤、及び水を含むことを特徴とする導電膜のパターニング方法。
　　【請求項８】
　前記塩素系化合物は、ＫＣｌ、ＨＣｌ、ＬｉＣｌ、ＮａＣｌ、ＮＨ４Ｃｌ、ＣｕＣｌ２、ＦｅＣｌ３、ＦｅＣｌ２、ＣａＣｌ２、ＣｏＣｌ２、ＮｉＣｌ２、ＺｎＣｌ２、ＡｌＣｌ３、ＢａＣｌ２、ＢｅＣｌ２、ＢｉＣｌ３、ＣｄＣｌ２、ＣｅＣｌ２、ＣｓＣｌ２、ＣｒＣｌ３、及びＨ２ＰｔＣｌ３からなる群より選択された少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項７に記載の導電膜のパターニング方法。
　　【請求項９】
　前記硝酸塩系化合物は、ＮＨ４ＮＯ３、ＫＮＯ３、ＬｉＮＯ３、Ｃａ（ＮＯ３）２、ＮａＮＯ３、Ｚｎ（ＮＯ３）２、ＣＯ（ＮＯ３）２、Ｎｉ（ＮＯ３）２、Ｆｅ（ＮＯ３）３、Ｃｕ（ＮＯ３）２、及びＢａ（ＮＯ３）２からなる群より選択された少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項７に記載の導電膜のパターニング方法。
　　【請求項１０】
　前記硫酸塩系化合物は、Ｈ２ＳＯ４、Ｎａ２ＳＯ４、Ｎａ２Ｓ２Ｏ８、Ｋ２ＳＯ４、Ｋ２Ｓ２Ｏ８、ＣａＳＯ４、（ＮＨ４）２ＳＯ４、及び（ＮＨ４）２Ｓ２Ｏ８からなる群より選択された少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項７に記載の導電膜のパターニング方法。
　　【請求項１１】
　前記酸化調整剤は、ＫＭｎＯ４、Ｋ２Ｃｒ２Ｏ７、ＮａＣｌＯ、ＮａＣｌＯ２、ＮａＣｌＯ２、ＮａＣｌＯ３、ＮａＣｌＯ４、ＨＣｌＯ４、及びＨＩＯ４からなる群より選択された少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項７に記載の導電膜のパターニング方法。
　　【請求項１２】
　前記エッチング液組成物は、４０〜７０重量％のリン酸、３〜１５重量％の硝酸、５〜３５重量％の酢酸、０．０２〜５重量％の塩素系化合物、０．０５〜５重量％の硝酸塩系化合物、０．０５〜５重量％の硫酸塩系化合物、１〜１０重量％の酸化調整剤、及び残量の水を含むことを特徴とする請求項７に記載の導電膜のパターニング方法。」
　
（２）本件補正後の特許請求の範囲の請求項７ないし１２
　「【請求項７】
　基板を提供するステップと、
　前記基板上に導電膜を形成するステップと、
　前記導電膜上に感光性膜を形成するステップと、
　前記感光性膜を露光してパターニングするステップと、
　前記パターニングされた感光性膜に対して、エッチング液組成物を用いて前記導電膜をエッチングするステップと
　を含み、
　前記導電膜は、アルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム-ネオジウム合金（ＡｌＮｄ）、モリブデン（Ｍｏ）、及びＩＴＯからなる群より選択された少なくとも一種を含む単一膜又は積層膜であり、
　前記エッチング液組成物は、リン酸、硝酸、酢酸、塩素系化合物、硝酸塩系化合物、硫酸塩系化合物、酸化調整剤、及び水を含むことを特徴とする導電膜のパターニング方法。
　　【請求項８】
　前記塩素系化合物は、ＫＣｌ
及び
　　【請求項９】
　前記硝酸塩系化合物は、ＮＨ４ＮＯ３
及び
　　【請求項１０】
　前記硫酸塩系化合物は、Ｈ２ＳＯ４
及び
　　【請求項１１】
　前記酸化調整剤は、ＮａＣｌＯ４
及び
　　【請求項１２】
　前記エッチング液組成物は、４０〜７０重量％のリン酸、３〜１５重量％の硝酸、５〜３５重量％の酢酸、０．０２〜５重量％の塩素系化合物、０．０５〜５重量％の硝酸塩系化合物、０．０５〜５重量％の硫酸塩系化合物、１〜１０重量％の酸化調整剤、及び残量の水を含むことを特徴とする請求項７に記載の導電膜のパターニング方法。」
　
１−３　補正事項３
　本件出願の特許請求の範囲につき、本件補正により補正される前の（すなわち、平成２１年６月１８日付けで提出された手続補正書により補正された）下記（１）に示す特許請求の範囲の請求項１３ないし１９の記載を下記（２）に示す特許請求の範囲の請求項１３ないし１８の記載に補正する。
　
（１）本件補正前の特許請求の範囲の請求項１３ないし１９
　「【請求項１３】
　基板を提供するステップと、
　前記基板上に第１導電膜を形成した後にパターニングして、ゲート電極を形成するステップと、
　前記ゲート電極上にゲート絶縁膜を形成するステップと、
　前記ゲート電極と対応する前記ゲート絶縁膜上に半導体層を形成するステップと、
　前記半導体層上に第２導電膜を形成した後にパターニングして、ソース／ドレイン電極を形成するステップと、
　前記ソース／ドレイン電極を備える基板の全面にかけて位置し、前記ドレイン電極の一部分を露出するコンタクトホールを備える保護層を形成するステップと、
　前記保護層上に位置し、前記コンタクトホールを介して前記ドレイン電極と電気的に接続するように、第３導電膜を形成した後にパターニングして、画素電極を形成するステップと
　を含み、
　前記ゲート電極、ソース／ドレイン電極、及び画素電極は、同じエッチング液組成物からなるエッチング液でパターニングして形成することを特徴とし、
　前記エッチング液組成物は リン酸、窒酸、酢酸、水、及び添加剤を含み、
　前記添加剤は、塩素系化合物、硝酸塩系化合物、硫酸塩系化合物、及び酸化調整剤を含むことを特徴とするフラットパネルディスプレイの製造方法。
　　【請求項１４】
　前記エッチング液組成物は、４０〜７０重量％のリン酸、３〜１５重量％の硝酸、５〜３５重量％の酢酸、０．０２〜５重量％の塩素系化合物、０．０５〜５重量％の硝酸塩系化合物、０．０５〜５重量％の硫酸塩系化合物、１〜１０重量％の酸化調整剤、及び残量の水を含むことを特徴とする請求項１３に記載のフラットパネルディスプレイの製造方法。
　　【請求項１５】
　前記塩素系化合物は、ＫＣｌ、ＨＣｌ、ＬｉＣｌ、ＮａＣｌ、ＮＨ４Ｃｌ、ＣｕＣｌ２、ＦｅＣｌ３、ＦｅＣｌ２、ＣａＣｌ２、ＣｏＣｌ２、ＮｉＣｌ２、ＺｎＣｌ２、ＡｌＣｌ３、ＢａＣｌ２、ＢｅＣｌ２、ＢｉＣｌ３、ＣｄＣｌ２、ＣｅＣｌ２、ＣｓＣｌ２、ＣｒＣｌ３、及びＨ２ＰｔＣｌ３からなる群より選択された少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項１４に記載のフラットパネルディスプレイの製造方法。
　　【請求項１６】
　前記硝酸塩系化合物は、ＮＨ４ＮＯ３、ＫＮＯ３、ＬｉＮＯ３、Ｃａ（ＮＯ３）２、ＮａＮＯ３、Ｚｎ（ＮＯ３）２、ＣＯ（ＮＯ３）２、Ｎｉ（ＮＯ３）２、Ｆｅ（ＮＯ３）３、Ｃｕ（ＮＯ３）２、及びＢａ（ＮＯ３）２からなる群より選択された少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項１４に記載のフラットパネルディスプレイの製造方法。
　　【請求項１７】
　前記硫酸塩系化合物は、Ｈ２ＳＯ４、Ｎａ２ＳＯ４、Ｎａ２Ｓ２Ｏ８、Ｋ２ＳＯ４、Ｋ２Ｓ２Ｏ８、ＣａＳＯ４、（ＮＨ４）２ＳＯ４、及び（ＮＨ４）２Ｓ２Ｏ８からなる群より選択された少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項１４に記載のフラットパネルディスプレイの製造方法。
　　【請求項１８】
　前記酸化調整剤は、ＫＭｎＯ４、Ｋ２Ｃｒ２Ｏ７、ＮａＣｌＯ、ＮａＣｌＯ２、ＮａＣｌＯ２、ＮａＣｌＯ３、ＮａＣｌＯ４、ＨＣｌＯ４、及びＨＩＯ４からなる群より選択された少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項１４に記載のフラットパネルディスプレイの製造方法。
　　【請求項１９】
　前記フラットパネルディスプレイは、液晶ディスプレイ又は有機電界発光ディスプレイであることを特徴とする請求項１３に記載のフラットパネルディスプレイの製造方法。」
　
（２）本件補正後の特許請求の範囲の請求項１３ないし１８
　「【請求項１３】
　基板を提供するステップと、
　前記基板上に第１導電膜を形成した後にパターニングして、ゲート電極を形成するステップと、
　前記ゲート電極上にゲート絶縁膜を形成するステップと、
　前記ゲート電極と対応する前記ゲート絶縁膜上に半導体層を形成するステップと、
　前記半導体層上に第２導電膜を形成した後にパターニングして、ソース／ドレイン電極を形成するステップと、
　前記ソース／ドレイン電極を備える基板の全面にかけて位置し、前記ドレイン電極の一部分を露出するコンタクトホールを備える保護層を形成するステップと、
　前記保護層上に位置し、前記コンタクトホールを介して前記ドレイン電極と電気的に接続するように、第３導電膜を形成した後にパターニングして、画素電極を形成するステップと
　を含み、
　前記ゲート電極、ソース／ドレイン電極、及び画素電極は、同じエッチング液組成物からなるエッチング液でパターニングして形成することを特徴とし、
　前記エッチング液組成物は リン酸、窒酸、酢酸、水、及び添加剤を含み、
　前記添加剤は、塩素系化合物、硝酸塩系化合物、硫酸塩系化合物、及び酸化調整剤を含むことを特徴とするフラットパネルディスプレイの製造方法。
　　【請求項１４】
　前記エッチング液組成物は、４０〜７０重量％のリン酸、３〜１５重量％の硝酸、５〜３５重量％の酢酸、０．０２〜５重量％の塩素系化合物、０．０５〜５重量％の硝酸塩系化合物、０．０５〜５重量％の硫酸塩系化合物、１〜１０重量％の酸化調整剤、及び残量の水を含むことを特徴とする請求項１３に記載のフラットパネルディスプレイの製造方法。
　　【請求項１５】
　前記塩素系化合物は、ＫＣｌ
及び
　　【請求項１６】
　前記硝酸塩系化合物は、ＮＨ４ＮＯ３
及び
　　【請求項１７】
　前記硫酸塩系化合物は、Ｈ２ＳＯ４
及び
　　【請求項１８】
　前記酸化調整剤は、ＮａＣｌＯ４
及び
　
２　本件補正の目的について  
２−１　補正事項１について
　補正事項１は、本件補正前の請求項１を引用する請求項２における「前記塩素系化合物は、ＫＣｌ、ＨＣｌ、ＬｉＣｌ、ＮａＣｌ、ＮＨ４Ｃｌ、ＣｕＣｌ２、ＦｅＣｌ３、ＦｅＣｌ２、ＣａＣｌ２、ＣｏＣｌ２、ＮｉＣｌ２、ＺｎＣｌ２、ＡｌＣｌ３、ＢａＣｌ２、ＢｅＣｌ２、ＢｉＣｌ３、ＣｄＣｌ２、ＣｅＣｌ２、ＣｓＣｌ２、ＣｒＣｌ３、及びＨ２ＰｔＣｌ３からなる群より選択された少なくとも一種を含む」を「前記塩素系化合物は、ＫＣｌ
及び
である
及び
である
及び
である
及び
である
　
２−２　補正事項２について
　補正事項２は、補正事項１と同様に、本件補正前の請求項７ないし１２に係る発明を全体としてみた場合の「塩素系化合物」、「硝酸塩系化合物」、「硫酸塩系化合物」、及び「酸化調整剤」の選択肢を減縮するものであるから、補正事項２は、特許法第１７条の２第４項第２号に規定される特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
２−３　補正事項３について
　補正事項３は、本件補正前の請求項１９を削除するとともに、補正事項１及び２と同様に、本件補正前の請求項１３ないし１８に係る発明を全体としてみた場合の「塩素系化合物」、「硝酸塩系化合物」、「硫酸塩系化合物」、及び「酸化調整剤」の選択肢を減縮するものであるから、補正事項３は、特許法第１７条の２第４項第１号に規定される請求項の削除及び同第２号に規定される特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
２−４　なお、本件補正により、本件出願の明細書の【００３９】ないし【００４２】において、化合物の選択肢に係る記載の一部が削除された。すなわち、【００３９】の「塩素系化合物」が「ＫＣｌ及びＨＣｌからなる群」、【００４０】の「硝酸塩系化合物」が「ＮＨ４ＮＯ３及びＬｉＮＯ３からなる群」、【００４１】の「硫酸塩系化合物」が「Ｈ２ＳＯ４及びＮａ２ＳＯ４からなる群」、【００４２】の「酸化調製剤」が「ＮａＣｌＯ４及びＨＣｌＯ４からなる群」からなる選択肢の範囲にそれぞれ減縮して補正された。
　
　そこで、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１ないし１８に係る発明（以下、「本件補正発明１」ないし「本件補正発明１８」といい、これらをまとめて「本件補正発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるかどうかについて、さらに検討する。  
　
３　本件補正発明１ないし６に関する独立特許要件について
３−１　拒絶理由及び拒絶査定の概要
（１）平成２１年３月１３日付けで通知した拒絶理由は、以下のとおりである。
　
　「　　　　　　　　　　　　　理　由
１．・・・（中略）・・・
２．この出願は、発明の詳細な説明の記載が下記の点で、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしていない。
３．・・・（中略）・・・
　　　　　　　　　　　　　　　　記
・・・（中略）・・・
（３）発明の詳細な説明に対して
・理由：２
　本願の発明の詳細な説明には、実施例１−３及び比較例１−７が示されているが、これらの例において用いられる各成分に関し、酸化調整剤、塩素系化合物、窒化塩系化合物（硝酸塩系化合物の誤記か？）、硫化塩系化合物（硫酸塩系化合物の誤記か？）といった抽象的な記載があるのみであって、具体的にどのような物質が用いられたのかについては、全く記載がない。そして、本願優先日時の技術常識を考慮しても、これらの具体的な物質が何であるのかを特定することはできないし、どのような酸化調整剤、塩素系化合物、硝酸塩系化合物、及び硫酸塩系化合物であってとしても、全く同様な作用を奏するものとは、到底認めることはできない。
　よって、この出願の発明の詳細な説明は、当業者が請求項１−１３，１５−１９に係る発明を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されたものではない。
・・・（後略）・・・」
　
（２）平成２１年７月１３日付け拒絶査定の概要は、以下のとおりである。
　
　「この出願については、平成２１年　３月１３日付け拒絶理由通知書に記載した理由２によって、拒絶をすべきものです。
　なお、意見書及び手続補正書の内容を検討しましたが、拒絶理由を覆すに足りる根拠が見いだせません。
　
備考
・発明の詳細な説明に対して
　出願人は意見書において、本願の実施例及び比較例については、［００３９］−［００４２］に記載されるエッチング組成物の各構成材料を用いるものであり、これら具体的に開示した各構成材料について同様な効果を達成できることは当業者にとって明らかである旨主張している。
　発明の詳細な説明において、塩素化合物、硝酸塩系化合物、硫酸塩系化合物及び酸化調整剤の有効性を示すのであれば、具体的な化合物を明らかにした組成物について、具体的データを少なくとも一つ示した上で、各成分がどこまでの範囲に拡張可能であるのかを技術常識等を考慮して議論されるべきと解される。しかし、本願においては、具体的に化合物を明らかにした実施例は１つもないのであるから、出願人の前記主張には全く根拠がない。
　また、本願優先日時の技術常識を勘案しても、列記された塩素化合物、硝酸塩系化合物、硫酸塩系化合物、酸化調整剤の具体的な物質をどのように選択するのかにより、得られる結果は大きく異なるものである。例えば、塩素系化合物に着目すると、発明の詳細な説明においては、ＫＣｌ、ＨＣｌ、ＬｉＣｌ、ＮａＣｌ、ＮＨ４Ｃｌ等の物質が列記されているが、少なくともＨＣｌは他の化合物に比してきわめて強い酸性を示すものであるため、そのエッチング特性も大きく異なることは自明である。したがって、例えば、実施例１において用いられた塩素化合物が、ＨＣｌであるのか、それともＮＨ４Ｃｌ等の他の物質であるのかにより、そのエッチング特性は大きく異なるものであり、列記された物質全てにおいて全く同じ結果が得られるものとは考えられない。硝酸塩系化合物、硫酸塩系化合物、酸化調整剤についても同様のことがいえる。
　よって、この出願の発明の詳細な説明は、依然として、当業者が請求項１−１９に係る発明を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されたものではない。」
　
３−２　当審の判断
　上記３−１の拒絶理由及び拒絶査定で指摘された特許法第３６条第４項第１号に規定する要件（以下、「実施可能要件」という。）について、本件出願が実施可能要件を充足するか否かを以下に検討する。
　
（１）発明の詳細な説明の記載事項
　本件補正後の本件出願の発明の詳細な説明には、塩素系化合物、硝酸塩系化合物、硫酸塩系化合物、及び酸化調整剤に関して、以下ａないしｈの記載事項（以下、「記載事項ａないしｈ」という。）が記載されている。
　
ａ　「【０００１】
　本発明は、エッチング液組成物及びこれを利用した導電膜のパターニング方法並びにフラットパネルディスプレイの製造方法に関し、さらに詳細には、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）及びＩＴＯを同時にエッチング可能なエッチング液組成物を提供し、前記エッチング液組成物を利用した導電膜のパターニング方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法を提供するためのものである。
【背景技術】
【０００２】
　一般に、フラットパネルディスプレイは、駆動方法に応じてパッシブマトリクス方式とアクティブマトリクス方式に分けられ、この内、アクティブマトリクス方式は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を使用する回路を有する。このような回路は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）及び有機電界発光ディスプレイ（ＯＥＬＤ）などのフラットパネルディスプレイにおいて代表的に用いられる。前記アクティブマトリクス方式のフラットパネルディスプレイは、解像度及び動画実現能力に優れているだけでなく、ディスプレイの大面積化により有利である。
　【０００３】
　かかるアクティブマトリクス方式のフラットパネルディスプレイは、互いに異なる導電物質からなるそれぞれの導電膜をパターニングして、ゲート電極、ソース／ドレイン電極を備える薄膜トランジスタ、複数の配線、及び画素電極を形成しなければならない。例えば、前記ゲート電極は、低抵抗体の導電物質であって、Ａｌ、Ｍｏ、Ｃｕ及びこれらの合金からなる。また、前記ソース／ドレイン電極は、Ｍｏ、Ｃｒ、Ａｌ及びこれらの合金からなり、前記画素電極は、ＩＴＯ又はＩＺＯの透明電極からなる。また、前記導電膜は、単一膜で形成されることもできるが、より良い特性を得るために、互いに異なる物質からなる多重膜で形成されることもできる。
　【０００４】
　この時、互いに異なる物質からなる導電膜は、エッチング速度の差のような特性が互いに異なるため、同じ組成を有するエッチング液でエッチング工程を行うのに難しさがあった。また、互いに異なる組成を有するエッチング液を利用しなければならないので、エッチング工程のための装備も異なる。これによって、前記薄膜トランジスタ及び複数の配線を形成するためのエッチング工程は、工程が複雑になり、製造費用及び時間が増大して、製品の生産性が低下することになる。
　【０００５】
　これを解決するために、互いに異なる物質からなる導電膜を同時にエッチングできるエッチング液に対する開発が盛んになってきている。
・・・（中略）・・・
　【０００７】
　しかしながら、現在までＡｌ、Ｍｏ及びＩＴＯを同時にエッチングできるエッチング液組成物は知られておらず、薄膜トランジスタ及び画素電極を、同じ組成を有するエッチング液を利用して形成することは不可能であった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
　【０００８】
　そこで、本発明は、上記の従来の問題を解決するためになされたものであって、その目的は、エッチング工程を単純化し、製造費用を最小化できるエッチング液組成物及びこれを利用した導電膜のパターニング方法並びにフラットパネルディスプレイの製造方法を提供することにある。」（【０００２】ないし【０００８】）
　
ｂ　「【０００９】
　上記の技術的課題を達成するために、本発明の一側面は、エッチング液組成物を提供する。前記エッチング液組成物は、リン酸、硝酸、酢酸、水、及び添加剤を含み、前記添加剤は、塩素系化合物、硝酸塩系化合物、硫酸塩系化合物、及び酸化調整剤を含む。
　【００１０】
　ここで、前記エッチング液組成物は、４０〜７０重量％のリン酸、３〜１５重量％の硝酸、５〜３５重量％の酢酸、０．０２〜５重量％の塩素系化合物、０．０５〜５重量％の硝酸塩系化合物、０．０５〜５重量％の硫酸塩系化合物、１〜１０重量％の酸化調整剤、及び残量の水を含むことが好ましい。
　【００１１】
　また、前記エッチング液組成物は、アルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム-ネオジウム合金（ＡｌＮｄ）、モリブデン（Ｍｏ）及びＩＴＯからなる群より選択された断層膜又はこれらの積層膜をエッチングすることに利用することができる。
・・・（中略）・・・
【発明の効果】
　【００１９】
　本発明によれば、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）及びＩＴＯを同時にエッチングできるエッチング液組成物が提供されることによって、ゲート電極、ソース／ドレイン電極及び画素電極を同じ組成を有するエッチング液を利用して形成可能であるため、工程管理が容易になる。
　また、エッチング工程を単純化させることができるため、製品の生産性向上及び生産費用を低減することができる。」（【０００９】ないし【００１９】）
　
ｃ　「【００２０】
　以下、本発明の第１の実施形態に係るエッチング液組成物をさらに詳細に説明する。
　本発明のエッチング組成物は、硝酸、リン酸、酢酸、水及び添加剤を含む。この時、前記エッチング組成物は、アルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム-ネオジウム合金（ＡｌＮｄ）、モリブデン（Ｍｏ）及びＩＴＯからなる群より選択された少なくとも１種の断層膜又はこれらの積層膜からなる導電膜をエッチングするのに利用されることができる。　
　【００２１】
　前記エッチング組成物について詳説すれば、前記硝酸は、アルミニウムと反応してアルミニウムオキサイド（Ａｌ２Ｏ３）を形成する役割を果たす。この時、前記エッチング組成物の中で前記硝酸の含有量は、前記導電膜がＭｏ／ＡｌＮｄからなる二重膜をエッチングするにおいて、エッチング選択比を效果的に調節できることを考慮して、３〜１５重量％であることが好ましい。ここで、前記硝酸の含有量が３重量％未満のエッチング液組成物に、前記Ｍｏ／ＡｌＮｄからなる二重膜をウェットエッチングする場合に、アンダーカット現象が生じる。
　【００２２】
　前記リン酸は、上述したように、硝酸とアルミニウムとが反応して発生したアルミニウムオキサイド（Ａｌ２Ｏ３）を適切に分解して、導電膜のエッチング速度を増加させることによって、生産性を向上させる役割を果たす。この時、前記エッチング組成物の中で前記リン酸の含有量は、４０〜７０重量％であることが好ましい。ここで、前記リン酸の含有量が７０重量％を超過すれば、生産性向上が期待されるが、エッチング液の粘度が増加して、すすぎの際に、前記エッチング液の除去時間が長くなるので、過度なエッチングをもたらす。これとは異なり、前記リン酸の含有量が４０重量％未満の場合に、導電膜のエッチング速度が減少して生産性が低下される。
　【００２３】
　前記酢酸は、反応速度を調節する緩衝剤の役割を果たす。ここで、前記エッチング組成物の中前記酢酸の含有量は、適切なエッチング速度の調節を考慮して、５〜３５重量％であることが好ましい。この時、前記酢酸の含有量が５重量％未満の場合、エッチングしようとする導電膜がＭｏ／ＡｌＮｄの場合に、アンダーカット現象が生じる。
　【００２４】
　前記エッチング液組成物は、残量の水を含む。前記水は、硝酸とアルミニウムとが反応して生成されたアルミニウムオキサイド（Ａｌ２Ｏ３）を分解するだけでなく、前記エッチング組成物を希釈する役割を果たす。ここで、前記水は、イオン交換樹脂を利用してろ過した純水を使用することが好ましい。さらに好ましくは、前記水は、１８ＭΩ以上の比抵抗を有する超純水であることが好ましい。
　【００２５】
　前記添加剤は、塩素系化合物、硝酸塩系化合物、硫酸塩系化合物及び酸化調整剤であり得る。
　【００２６】
　詳説すれば、前記塩素系化合物は、Ｃｌ−で解離できる化合物である。例えば、前記塩素系化合物は、ＫＣｌ、ＨＣｌ、ＬｉＣｌ、ＮａＣｌ、ＮＨ４Ｃｌ、ＣｕＣｌ２、ＦｅＣｌ３、ＦｅＣｌ２、ＣａＣｌ２、ＣｏＣｌ２、ＮｉＣｌ２、ＺｎＣｌ２、ＡｌＣｌ３、ＢａＣｌ２、ＢｅＣｌ２、ＢｉＣｌ３、ＣｄＣｌ２、ＣｅＣｌ２、ＣｓＣｌ２、ＣｒＣｌ３、及びＨ２ＰｔＣｌ３からなる群より選択された少なくとも１種である。
　ここで、前記塩素系化合物は、非晶質のＩＴＯ、Ｍｏ単一膜及びＭｏ／ＡｌＮｄの二重膜のエッチング速度を調節する役割を果たす。
　【００２７】
　この時、前記エッチング液組成物の中で前記塩素系化合物の含有量は、Ｍｏ／ＡｌＮｄ二重膜からなる導電膜において、前記ＡｌＮｄ層のアンダーカット現象を防止することができ、非晶質ＩＴＯとＭｏ単一膜の優れたプロファイルを形成するために、０．０２〜５重量％であることが好ましい。ここで、前記塩素系化合物が０．０２重量％未満である場合に、非晶質ＩＴＯのエッチング速度が遅くなるため、生産性が低下する恐れがある。これに対し、５重量％を超過する場合には、Ｍｏ／ＡｌＮｄ二重膜においてアンダーカット現象が発生する。
　【００２８】
　前記硝酸塩系化合物は、ＮＨ４ＮＯ３、ＫＮＯ３、ＬｉＮＯ３、Ｃａ（ＮＯ３）２、ＮａＮＯ３、Ｚｎ（ＮＯ３）２、ＣＯ（ＮＯ３）２、Ｎｉ（ＮＯ３）２、Ｆｅ（ＮＯ３）３、Ｃｕ（ＮＯ３）２、及びＢａ（ＮＯ３）２からなる群より選択された少なくとも１種であり得る。前記硝酸塩系化合物は、Ｍｏ単一膜からなる導電膜のエッチング速度及び優れたプロファイルを有するようにすることができる。
　【００２９】
　ここで、前記エッチング液組成物の中で、前記硝酸塩系化合物の含有量は、０．０５〜５重量％であることが好ましい。この時、前記硝酸塩系化合物の含有量が０．０５重量％未満であれば、Ｍｏ単一膜において逆テーパー及びショルダー（shoulder）現象が発生する。これに対し、５重量％超過の場合、Ｍｏ単一膜のエッチング速度が遅くなり、生産性が低下する。
　【００３０】
　前記硫酸塩系化合物は、Ｈ２ＳＯ４、Ｎａ２ＳＯ４、Ｎａ２Ｓ２Ｏ８、Ｋ２ＳＯ４、Ｋ２Ｓ２Ｏ８、ＣａＳＯ４、（ＮＨ４）２ＳＯ４、及び（ＮＨ４）２Ｓ２Ｏ８からなる群より選択された少なくとも１種であり得る。前記硫酸塩系化合物は、Ｍｏ単一膜のエッチング速度及びプロファイルを向上させる役割を果たす。この時、前記エッチング液組成物の中で、前記硫酸塩系化合物は、０．０５〜５重量％であることが好ましい。ここで、前記硫酸塩系化合物が０．０５重量％未満の場合に、Ｍｏ単一膜からなる導電膜をエッチングする場合に、両側の偏差（ＣＤ−Ｂｉａｓ）が大きく現れることができる。これに対し、前記硫酸塩系化合物が５重量％を超過すれば、Ｍｏ単一膜のエッチング速度が遅くなり生産性が低下する。
　【００３１】
　前記酸化調整剤は、ＫＭｎＯ４、Ｋ２Ｃｒ２Ｏ７、ＮａＣｌＯ、ＮａＣｌＯ２、ＮａＣｌＯ２、ＮａＣｌＯ３、ＮａＣｌＯ４、ＨＣｌＯ４、及びＨＩＯ４からなる群より選択された少なくとも１種であり得る。前記酸化調整剤は、Ｍｏ／ＡｌＮｄの均一な傾斜角を有するように誘導でき、アルミニウム金属膜の表面に部分的にパッシベーション酸化膜を形成して、エッチング速度を減少させる役割を果たす。これは、前記アルミニウムが、前記Ｍｏ単一膜よりエッチング速度が速いため、優れたプロファイルを有するためには、アルミニウムのエッチング速度を低減することが好ましいためである。
　【００３２】
　ここで、前記エッチング液組成物の中で、前記酸化調整剤の含有量は、１〜１０重量％であることが好ましい。この時、前記酸化調整剤の含有量が１重量％未満である場合に、Ｍｏ／ＡｌＮｄ二重膜においてアンダーカット現象が発生し、これに対し、１０重量％超過である場合には、Ｍｏ単一膜において逆テーパー形状が現れる。
　【００３３】
　これによって、前記エッチング液組成物を有するエッチング液を利用すれば、アルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム-ネオジウムの合金（ＡｌＮｄ）及びモリブデン（Ｍｏ）のうちのいずれかの物質からなる導電膜であっても、前記エッチング液組成物を利用してエッチングできる。」（【００２０】ないし【００３３】）
　
ｄ　「【００３４】
　図１Ａ〜図１Ｃは、本発明の第２の実施形態に係るエッチング液組成物を利用した導電膜のパターニング方法を説明するための断面図である。
・・・（中略）・・・
　【００３８】
　以後に、図１Ｃのように露出された導電膜をエッチング液を利用してエッチングして、導電膜パターン２０´を形成することができる。前記エッチング液組成物は、４０〜７０重量％のリン酸、３〜１５重量％の硝酸、５〜３５重量％の酢酸、０．０２〜５重量％の塩素系化合物、０．０５〜５重量％の硝酸塩系化合物、０．０５〜５重量％の硫酸塩系化合物、１〜１０重量％の酸化調整剤、及び残量の水を含む。
　【００３９】
　詳説すれば、前記塩素系化合物は、Ｃｌ−で解離できる化合物である。例えば、前記塩素系化合物は、ＫＣｌ及びＨＣｌからなる群より選択された少なくとも１種である。
　【００４０】
　例えば、前記硝酸塩系化合物は、ＮＨ４ＮＯ３及びＬｉＮＯ３からなる群より選択された少なくとも１種である。
　【００４１】
　例えば、前記硫酸塩系化合物は、Ｈ２ＳＯ４及びＮａ２ＳＯ４からなる群より選択された少なくとも１種である。
　【００４２】
　例えば、前記酸化調整剤は、ＮａＣｌＯ４及びＨＣｌＯ４からなる群より選択された少なくとも１種である。」（【００３４】ないし【００４２】）
　
ｅ　「【００４４】
　以下、実験例及び比較例を通じて、本発明の実施形態をさらに詳細に説明するが、下記の実験例は、本発明を説明するための例示に過ぎず、本発明がこれに限定されるものではない。
　【００４５】
＜実験例１＞
　基板上にＩＴＯを蒸着した。次に、前記ＩＴＯ膜上に感光性膜を形成した後に露光及び現像工程を行って、前記ＩＴＯ膜の一部分を露出する感光性膜パターンを形成した。以後に、下記［表１］に表すエッチング液組成物を有するエッチング液を使用して、露出された前記ＩＴＯ膜をエッチングした後、感光性膜パターンを除去することによって、ＩＴＯ膜パターンを形成した。ここで、前記ＩＴＯ膜をエッチングして、感光性膜パターンを除去する前後の断面をＳＥＭを測定して観察した。
　【００４６】
＜実験例２＞
　基板上にＭｏを蒸着してＭｏ単一膜を形成する場合を除いて、＜実験例１＞と同じ工程を行ってＭｏ単一膜パターンを形成した。
　【００４７】
＜実験例３＞
　基板上にＡｌＮｄ合金とＭｏとを順次蒸着して、Ｍｏ／ＡｌＮｄ二重膜を形成することを除いて、＜実験例１＞と同じ工程を行って、Ｍｏ／ＡｌＮｄ二重膜パターンを形成した。　　　
・・・（中略）・・・　
　【００５０】
　下記［表１］は、前記実験例と比較例で用いられたエッチング液組成物を表したものである。
　【表１】
・・・（中略）・・・
　【００５２】
　図２Ａ及び図２Ｂに示すように、前記［表１］に提示したエッチング液を利用してＩＴＯ膜をエッチングする場合に、３０〜６０゜のテーパー角を有する優れたプロファイルを有するＩＴＯ膜パターンを形成することを確認することができた。
・・・（中略）・・・
　【００５４】
　図３Ａ及び図３Ｂに示すように、前記［表１］に提示したエッチング液を利用してＭＯ単一膜をエッチングする場合に、４５〜７０゜のテーパー角を有する優れたプロファイルを有するＭｏ単一膜パターンを形成することを確認することができた。
・・・（中略）・・・
　【００５７】
　図４Ａ及び図４Ｂに示すように、前記［表１］で提示したエッチング液を利用してＭｏ／ＡｌＮｄ二重膜をエッチングする場合において、ＡｌＮｄのアンダーカット現象がない優れたプロファイルを有するＭｏ／ＡｌＮｄ二重膜パターンを形成することを確認することができた。
　【００５８】
　これによって、同じエッチング液組成物を有するすなわち、６０重量％のリン酸、６重量％の硝酸、１２重量％の酢酸、４重量％の酸化安定剤、０．１重量％の塩素系化合物、０．０５重量％の硝酸塩系化合物及び２重量％の硫酸塩系化合物からなるエッチング液により、互いに異なる物質からなる導電膜が優れたプロファイルを有しながらエッチングされることを確認することができた。」（【００４５】ないし【００５８】）
　　
ｆ　「【００７６】
　これによって、互いに異なる物質からなる導電膜すなわち、Ｍｏ単一膜、ＩＴＯ膜及びＭｏ／ＡｌＮｄ二重膜を同じエッチング液組成物を利用して優れたプロファイルを有するようにエッチングするためには、前記エッチング液組成物は、４０〜７０重量％のリン酸、３〜１５重量％の硝酸、５〜３５重量％の酢酸、０．０２〜５重量％の塩素系化合物、０．０５〜５重量％の硝酸塩系化合物、０．０５〜５重量％の硫酸塩系化合物、１〜１０重量％の酸化調整剤、及び残量の水を含むことが好ましい。」（【００７６】）
　
ｇ　「【００７７】
　図１２Ａ〜図１２Ｃは、本発明の第３実施形態に係るフラットパネルディスプレイの製造方法を説明するために示した断面図である。
・・・（中略）・・・
　【００８５】
　この時、前記ゲート電極１１０、前記ソース／ドレイン電極１４０ａ、１４０ｂ及び前記画素電極１６０をなす各導電膜は、同じエッチング液組成物からなるエッチング液でパターニングできる。ここで、前記エッチング液組成物は、４０〜７０重量％のリン酸、３〜１５重量％の硝酸、５〜３５重量％の酢酸、０．０２〜５重量％の塩素系化合物、０．０５〜５重量％の硝酸塩系化合物、０．０５〜５重量％の硫酸塩系化合物、１〜１０重量％の酸化調整剤、及び残量の水を含むことが好ましい。
・・・（中略）・・・
　【００８７】
　以後に、図示していないが、通常の方法によりフラットパネルディスプレイを製造する。
・・・（中略）・・・
　【００８９】
　これによって、ゲート配線及びゲート電極、データ配線及びソース／ドレイン電極、画素電極が異なる導電物質からなる場合に、同じ組成を有するエッチング液を利用してパターニングして形成できるので、工程をさらに単純化してフラットパネルディスプレイを製造することができる。」（【００７７】ないし【００８９】）
　　
ｈ　「【００９０】
　上記したように、本発明によれば、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）及びＩＴＯを同時にエッチングできるエッチング液組成物が提供されることによって、ゲート電極、ソース／ドレイン電極及び画素電極を同じ組成を有するエッチング液を利用して形成できることから、工程管理が容易になる。
　また、エッチング工程を単純化させることができるので、製品の生産性向上及び生産費用を低減することができる。」（【００９０】）　
　
　以上によると、次のことが記載されている。
　記載事項ａには、互いに異なる物質からなる導電膜は、互いに異なる組成を有するエッチング液を利用しなければならず、エッチング工程が複雑になり、製造費用及び時間が増大すること（【０００４】）、Ａｌ、Ｍｏ及びＩＴＯを同時にエッチングできるエッチング液組成物は知られておらず、薄膜トランジスタ及び画素電極を、同じ組成を有するエッチング液を利用して形成することは不可能であったこと（【０００７】）、この問題を解決するためのエッチング組成物及びこれを利用した導電膜のパターニング方法並びにフラットパネルディスプレイの製造方法を提供すること（【０００８】）が記載されている。
　記載事項ｂには、従来の技術的課題を解決するためのエッチング液組成物が、リン酸、硝酸、酢酸、水、及び添加剤を含み、前記添加剤は、塩素系化合物、硝酸塩系化合物、硫酸塩系化合物、及び酸化調整剤を含むこと（【０００９】）、アルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム-ネオジウム合金（ＡｌＮｄ）、モリブデン（Ｍｏ）及びＩＴＯからなる群より選択された断層膜又はこれらの積層膜をエッチングすることに利用できること（【００１１】）が記載されている。
　記載事項ｃには、添加剤における塩素系化合物は、ＫＣｌ、ＨＣｌ、ＬｉＣｌ、ＮａＣｌ、ＮＨ４Ｃｌ、ＣｕＣｌ２、ＦｅＣｌ３、ＦｅＣｌ２、ＣａＣｌ２、ＣｏＣｌ２、ＮｉＣｌ２、ＺｎＣｌ２、ＡｌＣｌ３、ＢａＣｌ２、ＢｅＣｌ２、ＢｉＣｌ３、ＣｄＣｌ２、ＣｅＣｌ２、ＣｓＣｌ２、ＣｒＣｌ３、及びＨ２ＰｔＣｌ３からなる群より選択された少なくとも１種であること（【００２６】）、硝酸塩系化合物は、ＮＨ４ＮＯ３、ＫＮＯ３、ＬｉＮＯ３、Ｃａ（ＮＯ３）２、ＮａＮＯ３、Ｚｎ（ＮＯ３）２、ＣＯ（ＮＯ３）２、Ｎｉ（ＮＯ３）２、Ｆｅ（ＮＯ３）３、Ｃｕ（ＮＯ３）２、及びＢａ（ＮＯ３）２からなる群より選択された少なくとも１種であること（【００２８】）、硫酸塩系化合物は、Ｈ２ＳＯ４、Ｎａ２ＳＯ４、Ｎａ２Ｓ２Ｏ８、Ｋ２ＳＯ４、Ｋ２Ｓ２Ｏ８、ＣａＳＯ４、（ＮＨ４）２ＳＯ４、及び（ＮＨ４）２Ｓ２Ｏ８からなる群より選択された少なくとも１種であること（【００３０】）、及び酸化調整剤は、ＫＭｎＯ４、Ｋ２Ｃｒ２Ｏ７、ＮａＣｌＯ、ＮａＣｌＯ２、ＮａＣｌＯ２、ＮａＣｌＯ３、ＮａＣｌＯ４、ＨＣｌＯ４、及びＨＩＯ４からなる群より選択された少なくとも１種であること（【００３１】）、エッチング組成物に配合される各成分の好ましい含有量について、硝酸が３〜１５重量％（【００２１】）、リン酸が４０〜７０重量％（【００２２】）、酢酸が５〜３５重量％（【００２３】）、添加剤における塩素系化合物が０．０２〜５重量％（【００２６】）、硝酸塩系化合物が０．０５〜５重量％（【００２９】）、硫酸塩系化合物が０．０５〜５重量％（【００３０】）、酸化調整剤が１〜１０重量％（【００３１】）であることが記載されている。
　記載事項ｄには、塩素系化合物は、ＫＣｌ及びＨＣｌからなる群より選択された少なくとも１種であること（【００３９】）、硝酸塩系化合物は、ＮＨ４ＮＯ３及びＬｉＮＯ３からなる群より選択された少なくとも１種であること（【００４０】）、硫酸塩系化合物は、Ｈ２ＳＯ４及びＮａ２ＳＯ４からなる群より選択された少なくとも１種であること（【００４１】）、酸化調整剤は、ＮａＣｌＯ４及びＨＣｌＯ４からなる群より選択された少なくとも１種であること（【００４２】）が記載されている。
　記載事項ｅには、実験例１〜３のエッチング液組成物が、リン酸６０重量％、硝酸６重量％、酢酸１２重量％、酸化調整剤４重量％、塩素系化合物０．１重量％、硝酸塩系化合物０．０５重量％、硫酸塩系化合物２重量％、水１５．８５重量％からなることが記載されている（【００５０】）。
　記載事項ｆには、Ｍｏ単一膜、ＩＴＯ膜及びＭｏ／ＡｌＮｄ二重膜を同じエッチング液組成物を利用して優れたプロファイルを有するようにエッチングするために、エッチング液組成物は、４０〜７０重量％のリン酸、３〜１５重量％の硝酸、５〜３５重量％の酢酸、０．０２〜５重量％の塩素系化合物、０．０５〜５重量％の硝酸塩系化合物、０．０５〜５重量％の硫酸塩系化合物、１〜１０重量％の酸化調整剤、及び残量の水を含むことが好ましいことが記載されている（【００７６】）。
　記載事項ｇには、ゲート電極、ソース／ドレイン電極及び画素電極を同じ組成を有するエッチング液を利用して形成するために、エッチング液組成物は、４０〜７０重量％のリン酸、３〜１５重量％の硝酸、５〜３５重量％の酢酸、０．０２〜５重量％の塩素系化合物、０．０５〜５重量％の硝酸塩系化合物、０．０５〜５重量％の硫酸塩系化合物、１〜１０重量％の酸化調整剤、及び残量の水を含むことが好ましいことが記載されている（【００８５】）。
　記載事項ｂ及びｈには、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）及びＩＴＯを同時にエッチングできるエッチング液組成物が提供されることによって、ゲート電極、ソース／ドレイン電極及び画素電極を同じ組成を有するエッチング液を利用して形成できることから、工程管理が容易になり、また、製品の生産性向上及び生産費用を低減できることが記載されている（【００１９】及び【００９０】）。
　
（２）検討
　ア　特許法第３６条第４項第１号が規定する実施可能要件の趣旨については、次のように判示されている。
　「法３６条４項１号は，「発明の詳細な説明」の記載については，「発明が解決しようとする課題及びその解決手段その他のその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が発明の技術上の意義を理解するために必要な事項」（特許法施行規則２４条の２）により「その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載したものである」ことを，その要件として定めている。同規定の趣旨は，特許制度は，発明を公開した者に対して，技術を公開した代償として一定の期間の独占権を付与する制度であるが，仮に，特許を受けようとする者が，第三者に対して，発明が解決しようとする課題及びその解決手段その他の発明の技術上の意義を理解するために必要な事項を開示することなく，また，発明を実施するための明確でかつ十分な事項を開示することなく，独占権の付与を受けることになるのであれば，有用な技術的思想の創作である発明を公開した代償として独占権が与えられるという特許制度の目的を失わせることになりかねず，そのような趣旨から，特許明細書の「発明の詳細な説明」に，上記事項を記載するよう求めたものである。」（知財高裁平成２１年（行ケ）１００３３号判決）
　
　イ　本件補正発明の課題は、記載事項ａのとおり、互いに異なる物質からなる導電膜に対しては互いに異なる組成を有するエッチング液を利用しなければならず、工程が複雑になり、製造費用及び時間が増大して、生産性が低下するという問題があるところ（【０００４】）、互いに異なる物質からなる導電膜、例えばＡｌ、Ｍｏ及びＩＴＯを同時にエッチングできるエッチング液組成物を提供し、当該エッチング液組成物を利用した導電膜のパターニング方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法を提供すること（【０００８】）にある。その課題を解決するためのエッチング液組成物は、本件補正発明１のとおり、リン酸、硝酸、酢酸、水、及び添加物を含み、当該「添加剤」として、「塩素系化合物、硝酸塩系化合物、硫酸塩系化合物、及び酸化調整剤」の４種類の化合物（以下、４種類併せて「本件添加剤化合物」という。）を含むものである。本件添加剤化合物の具体的な化合物としては、記載事項ｃのとおり、選択できる化合物が多数列挙されており、「塩素系化合物」は２１個、「硝酸塩系化合物」は１１個、「硫酸塩系化合物」は８個、「酸化調整剤」は９個の化合物が記載され、「少なくとも１種であり得る」と記載されている。
　本件出願の明細書の発明の詳細な説明においては、本件補正発明１を当業者が実施できる程度に明確かつ十分に記載する必要があるところ、本件補正発明１は、エッチング液組成物に係る発明であるから、そのエッチング液組成物がどのような成分を配合したものであって、どのような方法で作製し、それが所期の目的のとおりの作用効果を有するものであることを具体的に示す必要がある。
　しかるに、本件出願の明細書には、記載事項ｅ及び記載事項ｇにおいてエッチング液組成物に関する実験例が記載されているが、その実験例によると、リン酸、硝酸、酢酸、水、及び本件添加剤化合物を含むエッチング液組成物が記載されているものの、本件添加剤化合物として使用された具体的な化合物名が記載されていない。
　すなわち、記載事項ｅによると、「実験例１」ないし「実験例３」において使用したエッチング組成物は、６０重量％のリン酸、６重量％の硝酸、１２重量％の酢酸、４重量％の酸化調整剤、０．１重量％の塩素系化合物、０．０５重量％の硝酸塩系化合物及び２重量％の硫酸塩系化合物からなるエッチング液（【００５０】）であって、このエッチング液を、「ＩＴＯ膜」（実験例１）、「Ｍｏ単一膜」（実験例２）、「Ｍｏ／ＡｌＮｄ二重膜」（実験例３）に適用したことによって、「互いに異なる物質からなる導電膜が優れたプロファイルを有しながらエッチングされることを確認することができた」（【００５８】）としているものの、このエッチング液に配合された「添加剤」については、上記のとおり、「酸化調整剤」、「塩素系化合物」、「硝酸塩系化合物」、及び「硫酸塩系化合物」という表記がなされているだけであり、それが具体的にいかなる化合物であるのかを説明した記載はない。
　記載事項ｇによると、フラットパネルディスプレイの製造方法に関しては、ゲート電極、ソース／ドレイン電極、及び画素電極を構成する各導電膜に対して、「同じエッチング液組成物からなるエッチング液でパターニングできる」としているものの、当該エッチング液組成物については、「４０〜７０重量％のリン酸、３〜１５重量％の硝酸、５〜３５重量％の酢酸、０．０２〜５重量％の塩素系化合物、０．０５〜５重量％の硝酸塩系化合物、０．０５〜５重量％の硫酸塩系化合物、１〜１０重量％の酸化調整剤、及び残量の水を含むことが好ましい。」（【００８５】）と記載されるだけであって、本件添加剤化合物の具体的な化合物名は明らかでない。
　このように、本件出願の明細書には、エッチング液組成物に配合される本件添加剤化合物について、具体的にどのような化合物を選択することにより、アルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム-ネオジウム合金（ＡｌＮｄ）、モリブデン（Ｍｏ）、及びＩＴＯからなる群より選択された断層膜又はこれらの積層膜を同時にエッチングして、「優れたプロファイルを有しながらエッチングされる」（【００５８】）という効果を有するエッチング液組成物が得られることが具体的に示されていない。
　そして、本件補正発明１のエッチング液組成物によって従来のエッチング液の課題を解決するのであるから、実験例１ないし３において化合物名の記載がない添加剤につき、いかなる化合物名のものを用いたかは、本願出願時の技術常識を考慮しても理解できない。
　ここで、本件添加剤化合物の種類に関しては、記載事項ｄによると、「本発明の第２の実施形態に係るエッチング組成物を利用した導電膜のパターニング方法を説明する」（【００３４】）との記載に続いて、本件出願の明細書の【００３９】ないし【００４２】において、「塩素系化合物」、「硝酸塩系化合物」、「硫酸塩系化合物」、「酸化調整剤」のそれぞれにつき２個の具体的な化合物から少なくとも１種を選択できる旨記載されている。しかし、これらの２個の化合物は、記載事項ｃのとおり、「本発明の第１の実施形態に係るエッチング組成物をさらに詳細な説明する」（【００２０】）として、【００２６】、【００２８】、【００３０】、及び【００３１】において多数列挙された化合物の中から２個を「例えば」として例示したにすぎない。この点は、本件補正前の【００３９】ないし【００４２】において、【００２６】等に記載されていたものと同様の多数の化合物が記載されていたことからも明らかである。また、【００３９】ないし【００４２】の記載に続いて、実験例１ないし３が記載されているが、「以下、実験例及び比較例を通じて、本発明の実施形態をさらに詳細に説明するが、下記の実験例は、本発明を説明するための例示に過ぎず、本発明がこれに限定されるものではない」（【００４４】）としているように、実験例１ないし３に記載されたエッチング液組成物は、【００３９】ないし【００４２】に例示された「本発明の第２の実施形態」の添加剤の化合物に限定されない。
　よって、【００３９】ないし【００４２】における２種類の化合物の記載は、上記の実験例１ないし３の添加剤を具体的に特定できる根拠にはならない。
　
ウ　本件補正後の特許請求の範囲の請求項２ないし５には、使用する添加剤について、塩素系化合物、硝酸塩系化合物、硫酸塩系化合物、及び酸化調整剤のそれぞれで、２個の具体的な化合物が記載されている。しかし、それら２個の化合物は本件補正発明１の１つの実施態様にすぎない。本件補正後の特許請求の範囲の請求項１には、本件添加剤化合物につき具体的な化合物名が特定されていないから、本件補正発明１の実施において、エッチング液組成物に配合される具体的な化合物を選択する場合、それら化合物の組み合わせは多大なものとなる。
　そして、塩素系化合物、硝酸塩系化合物、硫酸塩系化合物、及び酸化調整剤の個々のグループに属する化合物の性質は、必ずしも同じではなく、化合物によって化学的作用に差がある。例えば、塩素系化合物の場合、本件出願の明細書の【００２６】によると「Ｃｌ−で解離できる化合物」であって、「非晶質のＩＴＯ、Ｍｏ単一膜及びＭｏ／ＡｌＮｄの二重膜のエッチング速度を調節する役割を果たす」ものであるとして、「ＫＣｌ、ＨＣｌ、ＬｉＣｌ、ＮａＣｌ、ＮＨ４Ｃｌ・・・」等の多数の塩素系化合物が列挙されている。この中には、強酸の「ＨＣｌ」が含まれており、解離の程度でみると、ＨＣｌは他の化合物と比べて同じとはいえない。これら列挙された化合物が、「非晶質のＩＴＯ、Ｍｏ単一膜及びＭｏ／ＡｌＮｄの二重膜」に対するエッチング速度を調節する機能を果たすことを裏付ける具体的な記載がないことは上記イで述べたとおりである。この点は、硝酸塩系化合物、硫酸塩系化合物、酸化調整剤についても同様である。
　してみると、塩素系化合物、硝酸塩系化合物、硫酸塩系化合物、及び酸化調整剤からなる添加剤を含むエッチング液組成物について、アルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム-ネオジウム合金（ＡｌＮｄ）、モリブデン（Ｍｏ）、及びＩＴＯからなる群より選択された断層膜又はこれらの積層膜という互いに異なる物質からなる導電膜に対して、同時にエッチングできるエッチング液組成物として、最適の成分の組み合わせを選び出すことは、当業者に過度の試行錯誤を強いるものというべきである。
　
エ　したがって、本件出願の明細書の発明の詳細な説明は、当業者が本件補正発明１及びそれを引用する本件補正発明２ないし６を実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されているとはいえず、本件出願は、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしていない。　
　
４　本件補正発明７ないし１２及び本件補正発明１３ないし１８に関する独立特許要件について
　本件補正発明７は、「導電膜のパターニング方法」に関するものであり、本件補正発明１３は、「フラットパネルディスプレイの製造方法」に関するものである。
　本件出願の明細書の【０００１】、【００１９】、【００９０】等に記載されるように、これらの各補正発明はいずれも、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）及びＩＴＯを同時にエッチングできる本件補正発明１の「エッチング液組成物」を利用するものである。本件補正発明７は、上記エッチング液組成物を「アルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム-ネオジウム合金（ＡｌＮｄ）、モリブデン（Ｍｏ）、及びＩＴＯからなる群より選択された少なくとも一種を含む単一膜又は積層膜」からなる導電膜のエッチングに利用する点に特徴があり、また、本件補正発明１３は、上記エッチング液組成物を「ゲート電極、ソース／ドレイン電極及び画素電極」のエッチングに利用する点に特徴がある。そして、各補正発明で用いるエッチング液組成物の組成は、本件補正発明１の「エッチング液組成物」の組成と同様に、「リン酸、硝酸、酢酸、塩素系化合物、硝酸塩系化合物、硫酸塩系化合物、酸化調整剤、及び水を含む」（本件補正発明７）、「リン酸、窒酸、酢酸、水、及び添加剤を含み、前記添加剤は、塩素系化合物、硝酸塩系化合物、硫酸塩系化合物、及び酸化調整剤を含む」（本件補正発明１３）と特定されている。
　そうすると、本件補正発明１のエッチング液組成物に係る発明が実施可能要件を充足しないことは、上記３で述べたとおりであるから、本件補正発明１と同様のエッチング液組成物を用いる本件補正発明７、本件補正発明１３、及びそれらを引用する他の請求項に係る発明についても、実施可能要件を充足するものであるとはいえない。
　
５　審判請求人の主張について
　なお、審判請求人は、平成２１年１２月２８日付け手続補正書（方式）において、次の主張をする。
　「平成２１年３月１３日付け拒絶理由通知、理由２を解消するため、エッチング組成物の各添加剤の、塩素系化合物、硝酸塩系化合物、硫酸塩系化合物、酸化調整剤のそれぞれについて、発明の詳細な説明及び特許請求の範囲において以下のように類似の特性をもつ物質に限定した。
　
塩素系化合物：ＫＣｌ及びＨＣｌ　
硝酸塩系化合物：ＮＨ４ＮＯ３及びＬｉＮＯ３　　
硫酸塩系化合物：Ｈ２ＳＯ４及びＮａ２ＳＯ４　　　
酸化調整剤：ＮａＣｌ４及びＨＣｌＯ４　　　　
　
　上記構成物質は、それぞれ類似の特性を有することは明らかであり、これにより発明の詳細な説明において当業者が発明を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されるものとなった。」（「３．本件発明が特許されるべき理由」）
　
　しかし、本件補正発明１、７、１３については、エッチング液組成物の各添加剤は、上記のように限定されていない。
　また、たとえ、上記の「ＫＣｌ及びＨＣｌ」、「ＮＨ４ＮＯ３及びＬｉＮＯ３」、「Ｈ２ＳＯ４及びＮａ２ＳＯ４」、及び「ＮａＣｌ４及びＨＣｌＯ４」が、それぞれ類似の性質を持つものであるとしても、本件出願の明細書には、「添加剤」として配合される「塩素系化合物」、「硝酸塩系化合物」、「硫酸塩系化合物」、及び「酸化調整剤」として、どのような化合物を用いて所期の目的とするエッチング効果をもたらすものであるのか具体的に開示した実施例が記載されておらず、本件補正発明を当業者が実施できる程度に明確かつ十分に記載したものではないことは、上記「３」「３−２」のとおりである。
　よって、審判請求人の上記主張は、上記３、４の判断を左右するものではなく、採用できない。
　
６　むすび
　以上のとおり、本件出願は、特許法第３６条第４第１号に規定する要件を満たしていないので、本件補正発明は、特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるから、補正事項１ないし補正事項３を含む本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであるので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について  
　以上のとおり、本件補正は却下されたので、本件補正前の本件出願について、上記「第２［理由］３　３−１」で指摘された特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしていない点について、以下に検討する。
　
　１　本件発明
　本件補正前の特許請求の範囲の請求項１ないし１８に係る発明（以下、「本願発明１」ないし「本願発明１８」といい、まとめて「本願発明」という。）は、上記「第２」の「１−１」（１）、「１−２」（１）及び「１−３」（１）に記載されたとおりのものである。
　なお、本願の請求項１、７、１３については、本件補正により補正がなされていないので、本願発明１、７、１３は、本件補正発明１、７、１３のそれぞれと同じものである。
　
　２　検討
（１）本件補正前の本件出願の明細書の発明の詳細な説明には、エッチング液組成物に関して、明細書の【００３９】ないし【００４２】の記載を除いて、上記「第２［理由］３　３−２」のａないしｈと同じ記載がある。そして、上記【００３９】ないし【００４２】に代えて、以下のとおり記載されている。
　　
　「【００３９】
　詳説すれば、前記塩素系化合物は、Ｃｌ−で解離できる化合物である。例えば、前記塩素系化合物は、ＫＣｌ、ＨＣｌ、ＬｉＣｌ、ＮａＣｌ、ＮＨ４Ｃｌ、ＣｕＣｌ２、ＦｅＣｌ３、ＦｅＣｌ２、ＣａＣｌ２、ＣｏＣｌ２、ＮｉＣｌ２、ＺｎＣｌ２、ＡｌＣｌ３、ＢａＣｌ２、ＢｅＣｌ２、ＢｉＣｌ３、ＣｄＣｌ２、ＣｅＣｌ２、ＣｓＣｌ２、ＣｒＣｌ３、及びＨ２ＰｔＣｌ３からなる群より選択された少なくとも１種である。
　【００４０】
　例えば、前記硝酸塩系化合物は、ＮＨ４ＮＯ３、ＫＮＯ３、ＬｉＮＯ３、Ｃａ（ＮＯ３）２、ＮａＮＯ３、Ｚｎ（ＮＯ３）２、ＣＯ（ＮＯ３）２、Ｎｉ（ＮＯ３）２、Ｆｅ（ＮＯ３）３、Ｃｕ（ＮＯ３）２、及びＢａ（ＮＯ３）２からなる群より選択された少なくとも１種である。
　【００４１】
　例えば、前記硫酸塩系化合物は、Ｈ２ＳＯ４、Ｎａ２ＳＯ４、Ｎａ２Ｓ２Ｏ８、Ｋ２ＳＯ４、Ｋ２Ｓ２Ｏ８、ＣａＳＯ４、（ＮＨ４）２ＳＯ４、及び（ＮＨ４）２Ｓ２Ｏ８からなる群より選択された少なくとも１種である。
　【００４２】
　例えば、前記酸化調整剤は、ＫＭｎＯ４、Ｋ２Ｃｒ２Ｏ７、ＮａＣｌＯ、ＮａＣｌＯ２、ＮａＣｌＯ２、ＮａＣｌＯ３、ＮａＣｌＯ４、ＨＣｌＯ４、及びＨｌＯ４からなる群より選択された少なくとも１種である。」
　
（２）本件補正後の本件補正発明１、７、１３がいずれも実施可能要件を充足するものであるとはいえないことは、上記「第２」の「３」、「４」で述べたとおりである。
　本願発明１、７、１３は、上記１のとおり、本件補正発明１、７、１３と実質同じものであり、また、本件出願の発明の詳細な説明の記載は、上記（１）のとおり、本願発明に係るエッチング液組成物を具体的に実施した記載において、本件補正後のものと変わらないものである。
　そうすると、上記「第２」の「３」、「４」の理由に照らせば、本件補正前の本件出願の発明の詳細な説明の記載によっては、本願発明１、７、１３が実施可能要件を充足するといえないことは明らかである。また、本願発明１、７、１３を引用する他の請求項に係る発明についても同様に実施可能要件を充足するものとはいえない。
　
　３　むすび
　したがって、本件補正前の本件出願の明細書の発明の詳細な説明には、当業者が本願発明を実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されているとはいえず、本件出願は、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしていないから、拒絶をすべきものである。
　　
　よって、結論のとおり審決する。