【手続補正書】
【提出日】平成17年10月31日(2005.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ケイ素系化合物及び375ｎｍ未満の波長の光を吸収する導入可能な有機吸収性化合物を含む吸収性スピンオングラス組成物であって、ケイ素系化合物又は導入可能な有機吸収性化合物の少なくとも１つがアルキル基、アルコキシ基、ケトン基、又はアゾ基を含む組成物。
【請求項２】
有機吸収性化合物が、２以上のベンゼン環、並びに、ヒドロキシル基、アミン基、カルボン酸基、及び、アルコキシ基及びハロゲン原子からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基に結合されたケイ素を有する置換シリル基からなる群から選ばれる反応性基を含を含む、請求項１の組成物。
【請求項３】
有機吸収性化合物が、アントラフラビックアシッド、9-アントラセンカルボン酸、9-アントラセンメタノール、アリザリン、キニザリン、プリムリン、2-ヒドロキシ-4(3-トリエトキシシリルプロポキシ)-ジフェニルケトン、ロゾール酸、トリエトキシシリルプロピル-1,8-ナフタルイミド、9-アントラセンカルボキシ-アルキルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、4-フェニルアゾフェノール、4-エトキシフェニルアゾベンゼン-4-カルボキシメチルトリエトキシシラン、4-メトキシフェニルアゾベンゼン-4-カルボキシ-メチルトリエトキシシラン、及びそれらの混合物からなる群から選ばれる吸収性化合物を含む、請求項１の組成物。
【請求項４】
ケイ素系化合物は、ハイドロジェンシロキサン、ハイドロジェンシルセスキオキサン、有機ヒドリドシロキサン、及び有機ヒドリドシルセスキオキサンポリマー；及びハイドロジェンシルセスキオキサン及びアルコキシヒドリドシロキサン又はヒドロキシヒドリドシロキサンのコポリマーを含む群から選ばれるポリマーである、請求項１の組成物。
【請求項５】
請求項１の吸収性スピンオングラス組成物及び溶媒又は溶媒混合物を含むコーティング溶液。
【請求項６】
アルコキシシラン及びハロシランを含む群から選ばれる少なくとも１つのシラン反応剤、少なくとも１つの導入可能な有機吸収性化合物、酸／水混合物、及び少なくとも１つの溶媒を混合して、反応混合物を形成し;そして
反応混合物を還流して、吸収性スピンオングラス組成物を形成する、ここで、吸収性スピンオングラス組成物は、アルキル基、アルコキシ基、ケトン基又はアゾ基の少なくとも１つを含む；
ことを含む、吸収性スピンオングラス組成物の製造方法。
【請求項７】
アルコキシシラン又はハロシランの少なくとも１つ、導入可能な有機吸収性化合物の少なくとも１つ、酸／水混合物、及び少なくとも１つの溶媒を混合して、反応混合物を形成し;そして
反応混合物を還流して、吸収性スピンオングラスポリマーを形成する、ここで、吸収性スピンオングラス組成物は、アルキル基、アルコキシ基、ケトン基又はアゾ基の少なくとも１つを含む；
ことを含む、吸収性スピンオングラスポリマーを含むコーティング溶液の製造方法。
【請求項８】
9-アントラセンカルボン酸、クロロプロピルトリエトキシシラン、トリエチルアミン、及び溶媒を混合して反応混合物を形成し;
反応混合物を還流し;
還流した反応混合物を冷却して析出物及び残留溶液を形成し;そして
残留溶液を濾過して液状9-アントラセンカルボキシ-プロピルトリエトキシシランを製造する
ことを含む、9-アントラセンカルボキシ-プロピルトリエトキシシランの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２３】
４−メトキシフェニルアゾベンゼン−４−カルボキシ−プロピルトリメトキシシランを含む吸収性ＳＯＧの合成
１リットルのフラスコで、２９７グラム（４．７９８モル）の２−プロパノール、１４８グラム（２．５５８モル）のアセトン、１２３グラム（０．５９３モル）のTEOS、７７グラム（０．４３２モル）のMTEOS、４４．５グラム（０．１３モル）の４−エトキシフェニルアゾベンゼン−４−カルボキシ−メチルトリエトキシシラン、０．６グラムの０．１M硝酸、及び７２グラム（３．７１６モル）の脱イオン水を混合する。このフラスコを４時間還流した。この溶液に、５７グラム（０．７６９モル）のブタノール、８８グラム（１．４２２モル）の２−プロパノール、４４グラム（０．７５８モル）のアセトン、５９グラム（１．２２７モル）のエタノール、９．５グラム（０．５２８モル）の脱イオン水を加えた。
こうして、吸収性化合物を含むスピンオングラス材料を製造するための、組成物及び方法の特定の態様及び用途を開示した。しかし、既に記載されたものの他により多くの変更が本明細書における発明の概念から外れることなく可能であることが当業者に明らかである。それゆえに、本発明の実体的事項は添付の特許請求の範囲の精神以外には限定されない。さらに、明細書及び特許請求の範囲の両方を解釈する際に、全ての用語は、文脈に一致する最も広い可能な方法で解釈されるべきである。特に、「含む」という用語は、非−排他的方法で、要素、成分、又は工程に言及するものとして、即ち、参照される要素、成分、又は工程が、明確に参照されない要素、成分、又は工程と、存在してもよく、又は利用されてもよく、又は組合せてもよいことを示すものとして、解釈されるべきである。
以下に本発明の態様を記載する。
［１］ケイ素系化合物及び375ｎｍ未満の波長の光を吸収する導入可能な有機吸収性化合物を含む吸収性スピンオングラス組成物であって、ケイ素系化合物又は導入可能な有機吸収性化合物の少なくとも１つがアルキル基、アルコキシ基、ケトン基、又はアゾ基を含む組成物。
［２］範囲が約260ｎｍ未満の波長である、［１］の組成物。
［３］有機吸収性化合物が、少なくとも１つのベンゼン環、並びに、ヒドロキシル基、アミン基、カルボン酸基、及び、アルコキシ基及びハロゲン原子からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基に結合されたケイ素を有する置換シリル基からなる群から選ばれる反応性基を含む、［１］の組成物。
［４］有機吸収性化合物が２以上のベンゼン環を含む、［３］の組成物。
［５］２以上のベンゼン環が縮合している、［４］の組成物。
［６］有機吸収性化合物が、ケイ素アルコキシ、ケイ素ジアルコキシ、及びケイ素トリアルコキシからなる群から選ばれる反応性基を含む、［３］の組成物。
［７］ケイ素アルコキシ、ケイ素ジアルコキシ、及びケイ素トリアルコキシが、ケイ素エトキシ基、ケイ素ジエトキシ基、ケイ素トリエトキシ基、ケイ素メトキシ基、ケイ素ジメトキシ基、及びケイ素トリメトキシ基を含む、［６］の組成物。
［８］反応性基がベンゼン環に直接に結合されている、［３］の組成物。
［９］反応性基が炭化水素橋を介してベンゼン環に取付けられている、［３］の組成物。
［１０］有機吸収性化合物が、アントラフラビックアシッド、9-アントラセンカルボン酸、9-アントラセンメタノール、アリザリン、キニザリン、プリムリン、2-ヒドロキシ-4(3-トリエトキシシリルプロポキシ)-ジフェニルケトン、ロゾール酸、トリエトキシシリルプロピル-1,8-ナフタルイミド、9-アントラセンカルボキシ-アルキルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、4-フェニルアゾフェノール、4-エトキシフェニルアゾベンゼン-4-カルボキシメチルトリエトキシシラン、4-メトキシフェニルアゾベンゼン-4-カルボキシ-メチルトリエトキシシラン、及びそれらの混合物からなる群から選ばれる吸収性化合物を含む、［３］の組成物。
［１１］9-アントラセンカルボキシ-アルキルトリエトキシシランが、9-アントラセンカルボキシ-プロピルトリエトキシシランを含む、［１０］の組成物。
［１２］有機吸収性化合物がフェニルトリエトキシシランを含む、［１０］の組成物。
［１３］ケイ素系化合物が、メチルシロキサン、メチルシルセスキオキサン、フェニルシロキサン、フェニルシルセスキオキサン、メチルフェニルシロキサン、メチルフェニルシルセスキオキサン、シラザンポリマー、シリケートポリマー、及びそれらの混合物からなる群から選ばれるポリマーを含む、［１］の組成物。
［１４］ケイ素系化合物は、ハイドロジェンシロキサン、ハイドロジェンシルセスキオキサン、有機ヒドリドシロキサン、及び有機ヒドリドシルセスキオキサンポリマー；及びハイドロジェンシルセスキオキサン及びアルコキシヒドリドシロキサン又はヒドロキシヒドリドシロキサンのコポリマーを含む群から選ばれるポリマーである、［１］の組成物。
［１５］ポリマーが、(H0-1.0SiO1.5-2.0)X、ここで、xは約８より大きい、及び(H0-1.0SiO1.5-2.0)n(R0-1.0SiO1.5-2.0)m、ここで、mは０より大きく、n及びmの合計は約８〜約５０００であり、RはC1-C20アルキル基又はC6-C12アリール基である、を含む群から選ばれる一般式のものである、［１４］の組成物。
［１６］  ［１］の吸収性スピンオングラス組成物及び溶媒又は溶媒混合物を含むコーティング溶液。
［１７］溶液が、約0.5重量%〜約20重量%の吸収性スピンオングラス組成物である、［１６］のコーティング溶液。
［１８］溶媒が、エチルラクテート及びプロピレングリコールプロピルエーテルを含む群から選ばれる、［１７］のコーティング溶液。
［１９］アルコキシシラン及びハロシランを含む群から選ばれる少なくとも１つのシラン反応剤、少なくとも１つの導入可能な有機吸収性化合物、酸／水混合物、及び少なくとも１つの溶媒を混合して、反応混合物を形成し;そして
反応混合物を還流して、吸収性スピンオングラス組成物を形成する、ここで、吸収性スピンオングラス組成物は、アルキル基、アルコキシ基、ケトン基又はアゾ基の少なくとも１つを含む；
ことを含む、吸収性スピンオングラス組成物の製造方法。
［２０］少なくとも１つの有機吸収性化合物が、少なくとも１つのベンゼン環、並びに、ヒドロキシル基、アミン基、カルボン酸基、及び、アルコキシ基及びハロゲン原子を含む少なくとも１つの置換基に結合されたケイ素を有する置換シリル基を含む反応性基を含む、［１９］の方法。
［２１］１以上の有機吸収性化合物が、アントラフラビックアシッド、9-アントラセンカルボン酸、9-アントラセンメタノール、アリザリン、キニザリン、プリムリン、2-ヒドロキシ-4(3-トリエトキシシリルプロポキシ)-ジフェニルケトン、ロゾール酸、トリエトキシシリルプロピル-1,8-ナフタルイミド、9-アントラセンカルボキシ-アルキルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、4-フェニルアゾフェノール、4-エトキシフェニルアゾベンゼン-4-カルボキシメチルトリエトキシシラン、4-メトキシフェニルアゾベンゼン-4-カルボキシ-メチルトリエトキシシラン、及びそれらの混合物からなる群から選ばれる吸収性化合物を含む、［１９］の方法。
［２２］9-アントラセンカルボキシ-アルキルトリエトキシシランが、9-アントラセンカルボキシ-プロピルトリエトキシシランを含む、［２１］の方法。
［２３］少なくとも１つのシラン反応剤が、トリエトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、トリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、及びジフェニルジメトキシシラン、トリクロロシラン、メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、テトラクロロシラン、クロロトリエトキシシラン、クロロトリメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、クロロエチルトリエトキシシラン、クロロフェニルトリエトキシシラン、クロロメチルトリメトキシシラン、クロロエチルトリメトキシシラン、及びクロロフェニルトリメトキシシランを含む、［１９］の方法。
［２４］少なくとも１つのシラン反応剤が、テトラエトキシシラン及びメチルトリエトキシシランを含む、［２３］の方法。
［２５］酸／水混合物が硝酸／水混合物である、［１９］の方法。
［２６］アルコキシシラン又はハロシランの少なくとも１つ、導入可能な有機吸収性化合物の少なくとも１つ、酸／水混合物、及び少なくとも１つの溶媒を混合して、反応混合物を形成し;そして
反応混合物を還流して、吸収性スピンオングラスポリマーを形成する、ここで、吸収性スピンオングラス組成物は、アルキル基、アルコキシ基、ケトン基又はアゾ基の少なくとも１つを含む；
ことを含む、吸収性スピンオングラスポリマーを含むコーティング溶液の製造方法。
［２７］１以上の希釈用溶媒を吸収性スピンオングラス組成物に加えて、コーティング溶液を製造することを更に含む、［２６］の方法。
［２８］コーティング溶液が、約0.5%〜約20%の吸収性スピンオングラスポリマーである、［２６］の方法。
［２９］9-アントラセンカルボン酸、クロロプロピルトリエトキシシラン、トリエチルアミン、及び溶媒を混合して反応混合物を形成し;
反応混合物を還流し;
還流した反応混合物を冷却して析出物及び残留溶液を形成し;そして
残留溶液を濾過して液状9-アントラセンカルボキシ-プロピルトリエトキシシランを製造する
ことを含む、9-アントラセンカルボキシ-プロピルトリエトキシシランの製造方法。
［３０］残留溶液を濾過することが、
残留溶液を回転蒸留し；
回転蒸留した溶液をシリカゲルカラムを通過させ；そして
シリカゲルカラムを通過させた溶液を回転蒸留する
ことを含む、［２９］の製造方法。