【手続補正書】
【提出日】平成17年10月26日(2005.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板上のコーティングを備え、該コーティングがフェノール樹脂を含むポジ型組成物を含む印刷版前駆体の製造方法であって、溶媒中の組成物の基板への塗布、該組成物の乾燥、及びこうしてコーティングされた基板の熱処理を含む製造方法。
【請求項２】  組成物の乾燥が、溶媒中の組成物を備えた基板を、熱処理のために選択した温度を超える温度の下に熱処理のために選択した期間よりも短期間おくことにより行われる請求項１に記載の方法。
【請求項３】  熱処理が、前記の熱処理を施した組成物の感受性低下が一年に渡って１５％を越えないものである請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】  該組成物が、その現像液への溶解度が偶発的なＵＶ光によって増大しないものである請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】  前記コーティングが、前記組成物の下に付加的な層を備え、該付加的な層が前記放射を吸収し、これを熱に変換する放射吸収化合物を含む請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】  組成物が、水性現像液に可溶なフェノール樹脂及び該フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物を含む請求項１から５のいずれか一項に記載の方法であって、該組成物の水性現像液溶解度が加熱に際して増大し、該組成物の水性現像液溶解度が偶発的なＵＶ光によって増大しないことを特徴とする方法。
【請求項７】  フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物が、少なくとも一の複素環に導入された四級化窒素原子を含む化合物である請求項６に記載の方法。
【請求項８】  フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物が、カルボニル官能基を含む請求項６に記載の方法。
【請求項９】  フェノール樹脂が官能基Ｑを有し、このため官能化フェノール樹脂が放射の送達前には現像液不溶性であって、その後には現像液可溶性となる特性を有し、官能基Ｑがジアジド基を有しない請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】  フェノール樹脂が官能基Ｑを有し、このため官能化フェノール樹脂が放射の送達前には現像液不溶性であって、その後には現像液可溶性となる特性を有し、官能基Ｑが前記放射を受けた際に化学的に分解されない請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】  フェノール樹脂が官能基Ｑを有し、このため官能化フェノール樹脂が放射の送達前には現像液不溶性であって、その後には現像液可溶性となる特性を有し、官能基Ｑが酸基もしくは酸生成基を含まず、それぞれの場合において前記放射を受けた際に除去される不安定な保護基によって保護されてなる請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】  フェノール樹脂が官能基Ｑを有し、このため官能化フェノール樹脂が放射の送達前には現像液不溶性であって、その後には現像液可溶性となる特性を有し、官能基Ｑがさらに前記放射の吸収に本質的には寄与しない請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】  フェノール樹脂が官能基Ｑを有し、このため官能化フェノール樹脂が放射の送達前には現像液不溶性であって、その後には現像液可溶性となる特性を有し、前記官能基Ｑと同一分子のもしくはポリマー物質の他の分子との間に水素結合が存在する請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】  官能化フェノール樹脂が、式Ｒ-（Ｑ）nによって定義され、式中、Ｒがフェノル樹脂のポリマー鎖を表し、（Ｑ）nがこれに結合した官能基を表し、ここでＱは式-Ｔ-Ｚの基を表し、Ｔが同一分子もしくは隣接分子のポリマー鎖Ｒに水素結合する部分を表し、Ｚが同一分子もしくは隣接分子のポリマー鎖Ｒに任意に水素結合する別の部分を表す請求項１から１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】  官能化フェノール樹脂中の官能基Ｑの、対応する非官能化フェノール樹脂中のヒドロキシ基に対する比率が、１：１００から１：２の範囲である請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】  フェノール樹脂が、一般式Ｒ（Ｑ）nの樹脂エステルであって、式中、Ｒがフェノール樹脂のポリマー鎖であり、Ｑが-Ｏ-Ｔ1-Ｚを表し、式中Ｔ1はカルボニル基、スルフィニル基もしくはスルホニル基、もしくは化学式-Ｏ-Ｘ（Ｚ）-Ｏ-においてＸが-Ｐ（Ｏ）-を表す基を表し；式中Ｚはアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、非芳香族複素環、アラルキルもしくはヘテロアラルキル基であって、これらの各基は任意に置換され；ここでアリール及びヘテロアリール基の、及びアラルキルもしくはヘテロアラルキル基のアリール及びヘテロアリール部分の任意の置換基は、ハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、チオール、アミノ、任意に置換されたモノ-Ｃ1-4アルキルアミノ、任意に置換されたジ-Ｃ1-4アルキルアミノ、アミド、任意に置換されたモノ-（Ｃ1-4アルキル）アミド、任意に置換されたジ-（Ｃ1-4アルキル）アミド、任意に置換されたＣ2-4アルケニル、任意に置換されたＣ1-4アルキル、任意に置換されたＣ1-4アルコキシ、（Ｃ1-4アルキル）カルボニルアミノ、-ＣＯＯＨ、任意に置換された（Ｃ1-4アルキル）カルボニル及び任意に置換された（Ｃ1-4アルコキシ）カルボニル基；及び式中、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル及び非芳香族複素環基の、及びアラルキル及びヘテロアラルキル基のアルキル部分の、及び前記アリールもしくはヘテロアリール部分を任意に置換するアルキル、アルコキシ、アルキルアミノ、アルキルアミド、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルアミノ及びアルケニル部分の任意の置換基は、ハロ、ニトロ、シアノ、カルボニル、ヒドロキシ、チオール、アミノ、モノ-Ｃ1-4アルキルアミノ、ジ-Ｃ1-4アルキルアミノ、アミド、モノ-（Ｃ1-4アルキル）アミド、ジ-（Ｃ1-4アルキル）アミド、Ｃ1-4アルコキシ、-ＣＯＯＨ、（Ｃ1-4アルキル）カルボニルアミノ、（Ｃ1-4アルキル）カルボニル及び（Ｃ1-4アルコキシ）カルボニル基から選択される請求項１から１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】  該組成物が、フェノール樹脂及び光分解可能なオニウム塩を含む請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】  該組成物が、水性現像液への溶解に対する感熱性組成物の非加熱部の抵抗を増大させるための手段（以下、“現像液レジスト手段”）を含み、前記現像液レジスト手段が、以下：
（Ａ）ポリ（アルキレンオキシド）単位を含む化合物；
（Ｂ）シロキサン；
（Ｃ）多価アルコールのエステル、エーテル及びアミド；
より選択される一以上の化合物を含む請求項１から１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】  請求項１から１８のいずれか一項に記載の方法によって製造されるポジ型平版印刷版前駆体自体。
【請求項２０】  請求項１９に記載の前駆体の組成物の選択された部分の有効な加熱の露光段階を含み、こうした部分を現像液可溶性とし、次いで水性現像液中での現像により前記の選択された部分が除去される印刷版の製造方法。
【請求項２１】  請求項２０に記載の方法によって製造される平版印刷版。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３１３】
以下、本発明の好ましい態様を列挙する。
（１）基板上のコーティングを備え、該コーティングがフェノール樹脂を含むポジ型組成物を含む印刷版前駆体の製造方法であって、溶媒中の組成物の基板への塗布、該組成物の乾燥、及びこうしてコーティングされた基板の熱処理を含む製造方法。
（２）熱処理が、４０から９０℃の温度で行われる（１）に記載の方法。
（３）熱処理が、４５から８５℃で行われる（２）に記載の方法。
（４）熱処理が、５０から６０℃で行われる（３）に記載の方法。
（５）熱処理が、少なくとも４時間行われる（１）から（４）のいずれか一項に記載の方法。
（６）熱処理が、少なくとも２４時間行われる（１）から（５）のいずれか一項に記載の方法。
（７）組成物の乾燥が、溶媒中の組成物を備えた基板を、熱処理のために選択した温度を超える温度の下に熱処理のために選択した期間よりも短期間おくことにより行われる（１）から（６）のいずれか一項に記載の方法。
（８）組成物の乾燥が、溶媒中の組成物を備えた基板を、７０℃を超える温度の下に少なくとも１５秒の（但し該組成物に自己支持性を与えるに十分な）間、但し６００秒未満の間おくことにより行われる（１）から（７）のいずれか一項に記載の方法。
（９）熱処理が、前記の熱処理を施した組成物の感受性低下が一年に渡って１５％を越えないものである（１）から（８）のいずれか一項に記載の方法。
（１０）前記低下が、１０％を越えない（９）に記載の方法。
（１１）該組成物が、その現像液への溶解度が偶発的なＵＶ光によって増大しないものである（１）から（１０）のいずれか一項に記載の方法。
（１２）該組成物が、ジアジド部分を含まない（１）から（１１）のいずれか一項に記載の方法。
（１３）前記組成物が、直接の熱によって、もしくはいずれの場合もコーティングによって熱に変換される荷電粒子放射または電磁気放射によって、パターン状に露光可能である（１）から（１２）のいずれか一項に記載の方法。
（１４）該組成物が、完全にもしくは主に４５０nmを越える波長の光に対して感受性である（１３）に記載の組成物。
（１５）該組成物が、完全にもしくは主に５００nmを越える波長の光に対して感受性である（１４）に記載の組成物。
（１６）該組成物が、完全にもしくは主に６００から１４００nmの範囲の電磁放射線に対して感受性である（１５）に記載の組成物。
（１７）レーザーによって供給される放射によりパターン状に露光可能である（１３）から（１６）のいずれか一項に記載の方法。
（１８）該コーティングが、放射にパターン状に露光させた際、前記放射を熱に変換するものである（１３）から（１７）のいずれか一項に記載の方法。
（１９）該組成物が、放射に画像状に露光させた際、前記組成物自体が前記放射を吸収し、前記放射を熱に変換する（１３）から（１７）のいずれか一項に記載の方法。
（２０）前記組成物が、前記放射を吸収し、これを熱に変換する放射吸収化合物を含む（１９）に記載の方法。
（２１）前記コーティングが、前記組成物の下に付加的な層を備え、該付加的な層が前記放射を吸収し、これを熱に変換する放射吸収化合物を含む（１８）に記載の方法。
（２２）放射吸収化合物が、顔料である（２０）または（２１）に記載の方法。
（２３）放射吸収化合物が、カーボンブラックである（２０）から（２２）のいずれか一項に記載の方法。
（２４）顔料が、有機顔料である（２２）に記載の方法。
（２５）顔料が、フタロシアニン顔料である（２４）に記載の方法。
（２６）顔料が、無機顔料である（２２）に記載の方法。
（２７）顔料が、プルシアンブルー（藍色顔料）、ヘリオゲングリーン（Heliogen Green）またはニグロシンより選択される（２６）に記載の方法。
（２８）放射吸収化合物が、下記の種類のうちの一つ、スクアリーリウム（squarylium）、メロシアニン（merocyanine）、シアニン、インドリジン、ピリリウム（pyrylium）または金属ジチオリンから選択される染料である（２０）または（２１）に記載の方法。
（２９）別個の放射吸収層が、染料もしくは顔料の薄層である（２１）に記載の方法。
（３０）別個の放射吸収層が、金属もしくは金属酸化物の薄層である（２１）に記載の方法。
（３１）組成物が、水性現像液に可溶なフェノール樹脂及び該フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物を含む（１）から（３０）のいずれか一項に記載の方法であって、該組成物の水性現像液溶解度が加熱に際して増大し、該組成物の水性現像液溶解度が偶発的なＵＶ光によって増大しないことを特徴とする方法。
（３２）フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる前記化合物が、少なくとも一の四級化された窒素原子を含む化合物である（３１）に記載の方法。
（３３）フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物が、少なくとも一の複素環に導入された窒素原子を含む化合物である（３１）に記載の方法。
（３４）フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物が、キノリン及びトリアゾールから選択される（３３）に記載の方法。
（３５）フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物が、少なくとも一の複素環に導入された四級化窒素原子を含む化合物である（３１）に記載の方法。
（３６）フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物が、イミダゾリン化合物、キノリニウム化合物、ベンゾチアゾリウム化合物及びピリジニウム化合物より選択される（３５）に記載の方法。
（３７）キノリニウム化合物がシアニン染料である（３６）に記載の方法。
（３８）ベンゾチアゾリウム化合物がシアニン染料である（３６）に記載の方法。
（３９）フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物が、トリアリールメタン化合物である（３１）に記載の方法。
（４０）フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物が、カルボニル官能基を含む（３１）に記載の方法。
（４１）フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物が、フラボン化合物より選択される（４０）に記載の方法。
（４２）フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物が、フラボン、キサントン、ベンゾフェノン、Ｎ-（４-ブロモブチル）フタルイミド、２，３-ジフェニル-１-インデネオン及びフェナントレンキノンより選択される（４０）に記載の方法。
（４３）フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物が、一般式：
Ｑ1-Ｓ（Ｏ）n-Ｑ2
において、Ｑ1が任意に置換されたフェニルもしくはアルキル基を表し、ｎが０、１もしくは２を表し、Ｑ2がハロゲン原子もしくはアルコキシ基を表す化合物である（３１）に記載の方法。
（４４）フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物が、エチル-ｐ-トルエンスルホナート及びｐ-トルエンスルホニルクロライドより選択される（３１）に記載の方法。
（４５）フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物が、アクリジンオレンジベース（ＣＩ溶媒オレンジ１５）である（３１）に記載の方法。
（４６）フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物が、フェロセニウム化合物である（３１）に記載の方法。
（４７）フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物が、放射吸収化合物でもあり、前記放射を吸収し、熱に転化させることが可能な（２０）に記載の方法。
（４８）フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させ、放射吸収化合物でもある化合物が、キノリニウム部分を含むシアニン染料である（４７）に記載の方法。
（４９）フェノール樹脂が官能基Ｑを有し、このため官能化フェノール樹脂が放射の送達前には現像液不溶性であって、その後には現像液可溶性となる特性を有し、官能基Ｑがナフトキノンジアジドもしくはベンゾキノンジアジド基を有しない（１）から（３０）のいずれか一項に記載の方法。
（５０）フェノール樹脂が官能基Ｑを有し、このため官能化フェノール樹脂が放射の送達前には現像液不溶性であって、その後には現像液可溶性となる特性を有し、官能基Ｑがジアジド基を有しない（１）から（３０）のいずれか一項に記載の方法。
（５１）フェノール樹脂が官能基Ｑを有し、このため官能化フェノール樹脂が放射の送達前には現像液不溶性であって、その後には現像液可溶性となる特性を有し、官能基Ｑが前記放射を受けた際に化学的に分解されない（１）から（３０）のいずれか一項に記載の方法。
（５２）フェノール樹脂が官能基Ｑを有し、このため官能化フェノール樹脂が放射の送達前には現像液不溶性であって、その後には現像液可溶性となる特性を有し、官能基Ｑが酸基もしくは酸生成基を含まず、それぞれの場合において前記放射を受けた際に除去される不安定な保護基によって保護されてなる（１）から（３０）のいずれか一項に記載の方法。
（５３）フェノール樹脂が官能基Ｑを有し、このため官能化フェノール樹脂が放射の送達前には現像液不溶性であって、その後には現像液可溶性となる特性を有し、官能基Ｑがさらに前記放射の吸収に本質的には寄与しない（１）から（３０）のいずれか一項に記載の方法。
（５４）フェノール樹脂が官能基Ｑを有し、このため官能化フェノール樹脂が放射の送達前には現像液不溶性であって、その後には現像液可溶性となる特性を有し、前記官能基Ｑと同一分子のもしくはポリマー物質の他の分子との間に水素結合が存在する（１）から（３０）のいずれか一項に記載の方法。
（５５）官能基Ｑが、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アミド、モノアルキルアミド、ジアルキルアミド、クロロ、フルオロ、カルボニル、スルフィニルもしくはスルホニル部分を含む群から選択される（４９）から（５４）のいずれか一項に記載の方法。
（５６）官能化フェノール樹脂が、式Ｒ-（Ｑ）nによって定義され、式中、Ｒがフェノル樹脂のポリマー鎖を表し、（Ｑ）nがこれに結合した官能基を表し、ここでＱは式-Ｔ-Ｚの基を表し、Ｔが同一分子もしくは隣接分子のポリマー鎖Ｒに水素結合する部分を表し、Ｚが同一分子もしくは隣接分子のポリマー鎖Ｒに任意に水素結合する別の部分を表す（４９）から（５５）のいずれか一項に記載の方法。
（５７）Ｔが、カルボニル基、スルフィニル基もしくはスルホニル基を表す（５６）に記載の方法。
（５８）Ｔが、式-Ｏ-Ｘ（Ｚ）-Ｏ-を表し、式中Ｘが結合部分を表し、Ｚが同一分子もしくは隣接分子のポリマー鎖Ｒに任意に水素結合する部分である（５６）または（５７）に記載の方法。
（５９）Ｚが任意に置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環、アラルキルもしくはヘテロアラルキル基を表す（５６），（５７）もしくは（５８）に記載の方法。
（６０）Ｚが、任意に置換されたアリール基、任意に置換されたヘテロアリール基もしくは任意に置換されたアルキル基を表す（５９）に記載の方法。
（６１）官能化フェノール樹脂中の官能基Ｑの、対応する非官能化フェノール樹脂中のヒドロキシ基に対する比率が、１：１００から１：２の範囲である（５６）から（６０）のいずれか一項に記載の方法。
（６２）前記比率が、１：５０から１：３の範囲である（６１）に記載の方法。
（６３）前記比率が、１：２０から１：６の範囲である（６２）に記載の方法。
（６４）フェノール樹脂が、一般式Ｒ（Ｑ）nの樹脂エステルであって、式中、Ｒがフェノール樹脂のポリマー鎖であり、Ｑが-Ｏ-Ｔ1-Ｚを表し、式中Ｔ1はカルボニル基、スルフィニル基もしくはスルホニル基、もしくは化学式-Ｏ-Ｘ（Ｚ）-Ｏ-においてＸが-Ｐ（Ｏ）-を表す基を表し；式中Ｚはアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、非芳香族複素環、アラルキルもしくはヘテロアラルキル基であって、これらの各基は任意に置換され；ここでアリール及びヘテロアリール基の、及びアラルキルもしくはヘテロアラルキル基のアリール及びヘテロアリール部分の任意の置換基は、ハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、チオール、アミノ、任意に置換されたモノ-Ｃ1-4アルキルアミノ、任意に置換されたジ-Ｃ1-4アルキルアミノ、アミド、任意に置換されたモノ-（Ｃ1-4アルキル）アミド、任意に置換されたジ-（Ｃ1-4アルキル）アミド、任意に置換されたＣ2-4アルケニル、任意に置換されたＣ1-4アルキル、任意に置換されたＣ1-4アルコキシ、（Ｃ1-4アルキル）カルボニルアミノ、-ＣＯＯＨ、任意に置換された（Ｃ1-4アルキル）カルボニル及び任意に置換された（Ｃ1-4アルコキシ）カルボニル基；及び式中、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル及び非芳香族複素環基の、及びアラルキル及びヘテロアラルキル基のアルキル部分の、及び前記アリールもしくはヘテロアリール部分を任意に置換するアルキル、アルコキシ、アルキルアミノ、アルキルアミド、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルアミノ及びアルケニル部分の任意の置換基は、ハロ、ニトロ、シアノ、カルボニル、ヒドロキシ、チオール、アミノ、モノ-Ｃ1-4アルキルアミノ、ジ-Ｃ1-4アルキルアミノ、アミド、モノ-（Ｃ1-4アルキル）アミド、ジ-（Ｃ1-4アルキル）アミド、Ｃ1-4アルコキシ、-ＣＯＯＨ、（Ｃ1-4アルキル）カルボニルアミノ、（Ｃ1-4アルキル）カルボニル及び（Ｃ1-4アルコキシ）カルボニル基から選択される（４９）から（５５）のいずれか一項に記載の方法。
（６５）Ｔ1が、スルホニルもしくはカルボニル基を表し、Ｚがジアルキルアミノもしくはアルキル基で任意に置換されたフェニルもしくはナフチル基を表し；または、Ｚがチエニル基もしくはＣ2-8アルキル基を表す（６４）に記載の方法。
（６６）該組成物が、レゾール樹脂、ノボラック樹脂、潜在的ブレンステッド酸及び赤外吸収化合物を含む（１）から（３０）のいずれか一項に記載の方法。
（６７）該組成物が、ノボラック樹脂、放射感受性潜在的酸発生化合物、ノボラック樹脂用の縮合剤及び赤外吸収化合物を含む（１）から（３０）のいずれか一項に記載の方法。
（６８）縮合剤が、任意に置換されたポリビニルフェノール化合物もしくはビス-ヒドロキシアルキル化合物である（６７）に記載の方法。
（６９）該組成物が、フェノール樹脂及び光分解可能なオニウム塩を含む（１）から（３０）のいずれか一項に記載の方法。
（７０）該組成物が、オニウム塩用のスペクトル増感剤を含む（６９）に記載の方法。
（７１）該組成物が、水性現像液への溶解に対する感熱性組成物の非加熱部の抵抗を増大させるための手段（以下、“現像液レジスト手段”）を含み、前記現像液レジスト手段が、以下：
（Ａ）ポリ（アルキレンオキシド）単位を含む化合物；
（Ｂ）シロキサン；
（Ｃ）多価アルコールのエステル、エーテル及びアミド；
より選択される一以上の化合物を含む（１）から（７０）のいずれか一項に記載の方法。
（７２）該組成物が、フェノール樹脂及びジアジド部分を含む（１）から（１０）のいずれか一項に記載の方法。
（７３）（１）から（７２）のいずれか一項に記載の方法によって製造されるポジ型平版印刷版前駆体自体。
（７４）（７３）に記載の前駆体の組成物の選択された部分の有効な加熱の露光段階を含み、こうした部分を現像液可溶性とし、次いで水性現像液中での現像により前記の選択された部分が除去される印刷版の製造方法。
（７５）（７４）に記載の方法によって製造される平版印刷版。
（７６）それぞれ個別に、本質的に実施例について記載された通りの印刷版前駆体の製造方法、もしくは印刷版前駆体自体、もしくは印刷版の製造方法もしくは印刷版自体。