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【手続補正書】
【提出日】平成17年10月13日(2005.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
この問題は下記のものを含む小滴付着装置を提供することによって取り組まれる：
インク溝を規定する複数の間隔を置いた壁を有するインクアクチュエータ（前記壁は対向する側部を有し、前記対向する側部は前記溝中のインクをそこから放出させるために前記壁を変形する電気信号を受けるように適応されている電極を与えられている）；
前記電気信号の波形を規定するための複数の電源を含む制御ユニット；
感知したアクチュエータ温度に反応して振幅制御信号を発生するための温度センサ；
駆動電圧を制御ユニットに与えるための電力供給（前記駆動電圧は電圧振幅を有し、電力供給は振幅制御信号に反応して駆動電圧の振幅を調整するための手段を有し、前記電力供給は前記制御ユニットから及び前記アクチュエータから間隔を置いて分離され、前記電気信号は制御された電流を含む）。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月13日(2005.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  溝を規定する複数の間隔を置いた圧電壁を有するアクチュエータ（１００）（前記壁は対向する側部を有し、前記対向する側部は前記溝中の液体をそこから放出させるために前記壁を変形する電気信号を受けるように適応されている電極を与えられ、前記信号は波形を有する）；及び
選択された電極（Ｅ１，Ｅ２）に波形の個々に適応された信号傾斜を与えるための手段（３２０，５１４，５００）を含む制御ユニット（１３０）
を含む小滴付着装置において、
信号傾斜制御手段（３２０，５１４，５００）が選択された電極（Ｅ１，Ｅ２）に波形の個々に適応された信号傾斜の条件を実現するように一つのアクチュエータ溝のために少なくとも二つの個々に活性化可能な電源（５１４：Ａ，５００：Ａ，５１４：Ｂ，５００：Ｂ）を有する複数の駆動信号源（３２０：１，３２０：２）を含むこと、及び制御ユニット（１３０）が制御された電圧レベルを受けるために電力供給入力（３８０）を含むことを特徴とする小滴付着装置。
【請求項２】  信号傾斜制御手段（３２０，５１４，５００）が個々の溝撓みのための波形の信号傾斜を適応するように補償データを設定するための手段（５１４：Ａ，５１４：Ｂ，５１４：Ｃ，５１４：Ｄ）を含む請求項１記載の小滴付着装置。
【請求項３】  放出された小滴の選択された均一小滴速度を設定するための手段（５３０，４９０，３５０，５００，５１４）を含む請求項１又は２記載の小滴付着装置。
【請求項４】  選択された均一小滴速度を設定するための前記手段（５３０，４９０，３５０，５００，５１４）が電力需要信号のための入力（３６０）及び前記制御された電圧レベルで駆動電圧を送出するための電力供給出力（３７０）を有する駆動電圧制御器（３５０）を含む電力供給回路（３３０）を含む請求項３記載の小滴付着装置。
【請求項５】  補償データを設定するための前記手段（５１４：Ａ，５１４：Ｂ，５１４：Ｃ，５１４：Ｄ）が個々の電源（５００：Ａ，５００：Ｂ，５００：Ｃ，５００：Ｄ）の活性化を制御するスイッチ（５１４：Ａ，５１４：Ｂ，５１４：Ｃ，５１４：Ｄ）を有するスイッチユニット（５１４）を含む請求項２，３又は４記載の小滴付着装置。
【請求項６】  溝を規定する複数の間隔を置いた圧電壁を有するアクチュエータ（１００）のための制御回路であって、前記壁が前記溝中の液体をそこから放出させるために前記壁を変形する電気信号を受けるように適応された電極（Ｅ１，Ｅ２）を有し、制御回路（１３０）が下記のものを有する複数の制御可能な駆動信号源（３２０）を含む制御回路：
制御された電圧レベル（Ｖｃｃ）を受けるための駆動電圧入力（４００）；
前記電極（Ｅ１，Ｅ２）の少なくとも一つに結合された駆動信号出力（４２０）；及び
電気信号電圧のスルーレートを制御するように駆動信号出力（４２０）に結合されかつ並列に接続された複数の個々に制御可能な集積回路出力電源（５００：Ａ，５００：Ｂ，５００：Ｃ，５００：Ｄ）。
【請求項７】  出力装置（５００：Ａ，５００：Ｂ，５００：Ｃ，５００：Ｄ）の幾何学的面積がそれが与えることができる電流に実質的に比例する請求項６記載の制御回路。
【請求項８】  一つの駆動信号出力（４２０）に接続された出力装置（５００：Ａ，５００：Ｂ，５００：Ｃ，５００：Ｄ）の電流容量が相互に異なる請求項６又は７記載の制御回路。
【請求項９】  放出ノズルを有する複数の溝を持つ小滴付着装置のための均一小滴放出スピードを得るための方法であって、下記工程を含む方法：
選択された溝に対応する多数のノズルから放出された小滴について小滴速度を測定する；
選択された溝に送出される電圧レベルを増加又は減少することによって平均小滴速度を調整する；
測定された速度に依存して各溝のために個々に適応された電流レベルを設定することによって個々の小滴速度を調整する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月2日(2005.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  繊維もしくはフィラメントのネットワークを粉体により静電充填するための方法で、特に、繊維もしくはフィラメントのネットワークが密に接触している剛性もしくは可撓性マトリックスを含む複合材を製造するために繊維もしくはフィラメントのネットワークを粉体により静電充填するための方法であって、
前記粉体、および、前記繊維もしくはフィラメントのネットワークを、２つの電極間に配置し、前記電極はＡＣ電圧静電ジェネレータのそれぞれのポールに接続され、それにより、前記電極間にある前記粉体および前記繊維もしくはフィラメントのネットワークをＡＣ電圧が少なくとも５ｋＶである静電場に少なくとも２秒間付すことを特徴とする、方法。
【請求項２】  前記静電場のＡＣ電圧が５〜２００ｋＶであることを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項３】  粉体の粒子サイズが４００μｍ未満であることを特徴とする、請求項１または２記載の方法。
【請求項４】  前記繊維もしくはフィラメントが、ヤング率が５０ＧＰａを越える材料からできていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】  前記繊維もしくはフィラメントのネットワークが不織布の形態であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】  前記繊維もしくはフィラメントのネットワークが織物の形態であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】  前記繊維もしくはフィラメントのネットワークが編物の形態であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】  前記フィラメントのネットワークがロービングの形態であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項記載の方法。
【請求項９】  前記繊維もしくはフィラメントのネットワークが事前に脱サイズ剤操作を受けることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】  前記粉体が互いに付着しそして凝集する傾向を低減するための添加剤が前記粉体に添加されることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】  前記繊維もしくはフィラメントのネットワークが２つの粉体源の間に配置されることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】  前記繊維もしくはフィラメントのネットワークが５〜３０００ｇ／ｍ2 であることを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか１項記載の方法。
【請求項１３】  連続マトリックスが熱可塑性樹脂からできていることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか１項記載の方法。
【請求項１４】  予備成形体を形成することができる量の粉体化熱可塑性樹脂を取り込むことにより前記マトリックスを最初に取り込み、その後、前記マトリックスを形成するために必要な残りの量の粉体を取り込むために、前記粉体とともに前記予備成形体を静電場中に置くことを特徴とする、請求項１〜１３のいずれか１項記載の方法。
【請求項１５】  マトリックスの体積含有分が５〜９０％であることを特徴とする、請求項１〜１４のいずれか１項記載の方法により得られる複合材。
【請求項１６】  曲げ弾性率が１２ＧＰａを越え、そして曲げ強さが１２０ＭＰａを越えることを特徴とする、請求項１〜１４のいずれか１項記載の方法により得られる複合材。
【請求項１７】  ボイド含有分が３％未満であることを特徴とする、請求項１〜１４のいずれか１項記載の方法により得られる複合材。
【請求項１８】  請求項１４記載の方法により得られる熱可塑性樹脂マトリックスを含む複合材のための予備成形体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
この目的のために、本発明の主題は、繊維もしくはフィラメントのネットワーク、および、前記ネットワークが密に接触した剛性もしくは可撓性のマトリックスを含む複合材を製造するための方法であり、この方法において、請求項１に記載されるように、前記マトリックスは前記マトリックスを形成するように転化される前に粉体の形態で前記ネットワーク中に取り込まれる。すなわち、本発明の主題は、１つの態様において、繊維もしくはフィラメントのネットワークを粉体により静電充填するための方法で、特に、繊維もしくはフィラメントのネットワークが密に接触している剛性もしくは可撓性マトリックスを含む複合材を製造するために繊維もしくはフィラメントのネットワークを粉体により静電充填するための方法であって、
前記粉体、および、前記繊維もしくはフィラメントのネットワークを、２つの電極間に配置し、前記電極はＡＣ電圧静電ジェネレータのそれぞれのポールに接続され、それにより、前記電極間にある前記粉体および前記粉体もしくはフィラメントのネットワークをＡＣ電圧が少なくとも５ｋＶである静電場に少なくとも２秒間付すことを特徴とする、方法である。本発明の主題は、また、請求項１５に記載されるように得られる複合材であり、さらに、請求項１４の方法に記載されるように得られる熱可塑性樹脂マトリックスを有する複合材のための予備成形体である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月13日(2005.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ティッシュウェブを製造する方法であって、
ａ）ウエットウェブを形成するために、成形用布地の上に製紙用繊維の水性懸濁液を浸積し、
ｂ）ラッシュ搬送に適した濃度に前記ウエットウェブを脱水し、
ｃ）前記脱水ウェブを３次元形状をもつ第１の搬送用布地の上にラッシュ搬送し、
ｄ）前記ウェブを第２の搬送用布地の上に搬送し、
ｅ）前記ウェブをドラム乾燥器面に搬送し、および、
ｆ）前記ウェブを前記ドラム乾燥器面から取り外す
ステップを含む方法。
【請求項２】  ティッシュウェブを製造する方法であって、
ａ）ウエットウェブを形成するために、成形用布地の上に製紙用繊維の水性懸濁液を浸積し、
ｂ）約２０パーセントまたはそれ以上の濃度に前記ウエットウェブを脱水し、
ｃ）前記脱水ウェブを、成形用布地よりも大きな布地粗度の３次元形状をもつ第１の搬送用布地の上にラッシュ搬送し、
ｄ）前記ウェブを、前記第１の搬送用布地よりも小さな布地粗度をもつ第２の搬送用布地の上に搬送し、
ｅ）前記第２の搬送用布地からの前記ウェブを、該ウェブについて実質的に３次元形状を維持するのに適した圧着力でドラム乾燥器面に搬送し、
ｆ）前記ウェブを乾燥し、および、
ｇ）前記ウェブを前記ドラム乾燥器面から取り外す
ステップを含む方法。
【請求項３】  前記ウェブが、ラッシュ搬送の間に前記第１の搬送用布地に接し、その後前記ドラム乾燥器面に接する第１の表面をもっている、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】  さらに、付加的な布地に応じた偶数の付加的な搬送を含んでいる、請求項３に記載の方法。
【請求項５】  前記第１の搬送用布地が０．２ｍｍから０．５ｍｍの布地粗度をもっている、請求項１または２に記載の方法。
【請求項６】  前記第２の搬送用布地が前記第１の搬送用布地の布地粗度よりも小さい布地粗度をもっている、請求項１に記載の方法。
【請求項７】  前記第１の搬送用布地が、前記成形用布地の布地粗度よりも少なくとも３倍大きく、かつ前記第２の搬送用布地の布地粗度よりも少なくとも約１０パーセント大きい布地粗度をもっている、請求項１または２に記載の方法。
【請求項８】  前記ウェブがクレープ加工されないで前記ドラム乾燥器面から取り外される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項９】  さらに、前記ウェブが前記第１の搬送用布地に再配置されるように、前記第２の搬送用布地から前記第１の搬送用布地に戻すよう搬送される、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  前記ウェブが、ラッシュ搬送の間に前記第１の搬送用布地に接する第１の表面と、その後前記ドラム乾燥器面に接する反対側の第２の表面とをもっている、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】  前記ドラム乾燥器面に搬送される前に、前記ウェブが約２５パーセントまたはそれ以上の濃度まで脱水される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項１２】  前記ドラム乾燥器面と前記ウェブとの間の良好な熱的接触を保つために、布地による前記ドラム乾燥器の巻き付き部を含んでいる、請求項１または２に記載の方法。
【請求項１３】  前記巻き付いた布地は、前記ドラム乾燥器面のウェブを差動的に押し付ける３次元表面形状をもつ弾性製紙用布である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  製紙用繊維が少なくとも約１０パーセントの化学的に補強されたセルロース繊維を含んでいる、請求項１または２に記載の方法。
【請求項１５】  製紙用繊維が少なくとも約１０パーセントの再生繊維を含んでいる、請求項１または２に記載の方法。
【請求項１６】  製紙用繊維が少なくとも約２０パーセントの再生繊維を含んでいる、請求項１または２に記載の方法。
【請求項１７】  前記ウェブを乾燥するために回転しない通気乾燥器が用いられる請求項１，２または３に記載の方法。
【請求項１８】  さらに、前記第１の搬送の後で、さらに前記第1の搬送用布地に搬送され戻される前に、前記第1の搬送用布地にはく離剤を加えることを含む請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月21日(2005.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  顔料濃厚物製造用の添加剤としてのジオールアルコキシレートの使用であって、ジオールアルコキシレートは、炭素数が主に３６〜４４の二量体ジオールから誘導される、二量体ジオール１モル当たりエチレンオキシドおよび／またはプロピレンオキシド１〜２００モルを有する二量体ジオールアルコキシレートである使用。
【請求項２】  二量体ジオールアルコキシレートを、顔料濃厚物全体に対して０．１〜２０重量％の量で使用する請求項１記載の使用。
【請求項３】  顔料濃厚物全体に対して、
ａ）１種またはそれ以上の顔料１０〜８０重量％、
ｂ）炭素数が主に３６〜４４の二量体ジオールから誘導され、二量体ジオール１モル当たりエチレンオキシドおよび／またはプロピレンオキシド１〜２００モルを有する、１種またはそれ以上の二量体ジオールアルコキシレート０.１〜２０重量％、および
ｃ）液体担体媒体１５〜８５重量％
を含有する顔料濃厚物。
【請求項４】  液体担体媒体が水である請求項３記載の顔料濃厚物。
【請求項５】  必須成分ａ）、ｂ）およびｃ）に加えて、アルキルポリグリコシド、脂肪アルコールポリグリコールエーテル、およびスチリルフェノールポリグリコールエーテルから成る群から選択する１種またはそれ以上の界面活性剤ｄ）０.１〜３０重量％をも含有する請求項３または４記載の顔料濃厚物。
【請求項６】  必須成分ａ）、ｂ）およびｃ）に加えて、ポリエチレングリコールおよびポリグリコールエーテル（１,２−もしくは１,３−プロパンジオール、１,２−もしくは１,４−ブタンジオール、ヘキサンジオール、グリセロール、トリメチロールプロパンまたはペンタエリスリトールのエトキシル化により得られる）から成る群から選択する分子量２００〜１０００の１種またはそれ以上の補助添加剤ｅ）０.１〜３０重量％をも含有する請求項３〜５のいずれかに記載の顔料濃厚物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
本発明は、
ａ）１種またはそれ以上の顔料１０〜８０重量％、
ｂ）主に炭素数３６〜４４の二量体ジオールから誘導される１種またはそれ以上の二量体ジオールアルコキシレートであって、二量体ジオール１モル当たりエチレンオキシドおよび／またはプロピレンオキシド１〜２００モルを有するもの０.１〜２０重量％、および
ｃ）液体担体媒体１５〜８５重量％
を含有する顔料濃厚物にも関する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月25日(2005.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
励起に続いて起こる電磁スペクトルの所望する部分の光放射を得るために選択された平均直径を有する蛍光物質粒子を含むディスプレー装置であって、前記蛍光物質粒子が約１００ｎｍ以下の平均直径を有し、前記蛍光物質粒子が、粒子の少なくとも約９５パーセントが平均直径の約６０パーセント以上の直径及び平均直径の約１４０パーセント以下の直径を有するような直径分布を有する粒子の集合体を含み、そして前記蛍光物質粒子が金属酸化物を含む、ディスプレー装置。
【請求項２】
蛍光物質粒子及び硬化性ポリマーを含む写真製版による適用のための組成物であって、前記蛍光物質粒子が励起に続いて起こる電磁スペクトルの選択された部分の光放射を得るために選択される平均直径及び直径分布を有し、そして前記蛍光物質粒子が約１００ｎｍ以下の平均直径を有し、前記蛍光物質粒子が、粒子の少なくとも約９５パーセントが平均直径の約６０パーセント以上の直径及び平均直径の約１４０パーセント以下の直径を有するような直径分布を有する粒子の集合体を含み、そして前記蛍光物質粒子が金属酸化物を含む、組成物。
【請求項３】
前記蛍光物質粒子がＺｎＯ、ＴｉＯ2及びＹ2Ｏ3からなる群から選択される金属化合物を含む、請求項１記載のディスプレー装置。
【請求項４】
前記蛍光物質粒子が約５ｎｍから約５０ｎｍの範囲の平均直径を有する、請求項１記載のディスプレー装置。
【請求項５】
前記光放射が低速電子励起に続いて起こる、請求項１記載のディスプレー装置。
【請求項６】
酸化亜鉛粒子を製造する方法であって、亜鉛前駆物質、酸化剤及び放射線吸収ガスを含む分子流を反応室中で熱分解する工程を含み、前記熱分解がレーザービームから吸収した熱によって行われる、製造方法。
【請求項７】
前記酸化亜鉛粒子が約１５０ｎｍ以下の平均直径を有する、請求項６記載の方法。
【請求項８】
前記酸化亜鉛粒子が約５ｎｍから約５０ｎｍの範囲の平均直径を有する、請求項６記載の方法。
【請求項９】
前記レーザービームがＣＯ2レーザーによって発生される、請求項６記載の方法。
【請求項１０】
硫化亜鉛粒子を製造する方法であって、亜鉛前駆物質、硫黄源及び放射線吸収ガスを含む分子流を反応室中で熱分解する工程を含み、前記熱分解がレーザービームからの熱の吸収によって行われる、製造方法。
【請求項１１】
励起に続いて起こる電磁スペクトルの所望する部分の光放射を得るために選択された平均直径を有する蛍光物質粒子を含むディスプレー装置であって、前記蛍光物質粒子が約５０ｎｍから約１００ｎｍの範囲の平均直径を有し、前記蛍光物質粒子が、粒子の少なくとも約９５パーセントが平均直径の約６０パーセント以上の直径及び平均直径の約１４０パーセント以下の直径を有するような直径分布を有する粒子の集合体を含む、ディスプレー装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
反応は、ポンプがもはやフィルター２５２の抵抗に対して反応室１０４の所望の圧力を維持できなくなるほど、フィルター２５２に充分な粒子が収集されるまで継続することができる。反応室１０４の圧力を所望の値に維持できなくなった時、反応を停止しそしてフィルター２５２を取り外す。この態様において、１回の実行で反応室の圧力を維持できなくなる前に、約３−７５グラムの粒子を収集することができる。１回の実行は、製造する粒子の型及び特定のフィルターにもよるが、一般的に約１０分ないし約３時間継続する。従って巨視的量の粒子、即ち、肉眼で見える量を製造することは簡単である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月31日(2005.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  次式を有する結合基を持つ粒子を含む変性粒子：
【化１】
2001521972.tif 000001
式中Ａは少なくとも１つの芳香族基、又は少なくとも１つのアルキル基を表し；Ｒ１は結合、アリーレン基、アルキレン基、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＯＲ４、−ＮＲ４−、
【化２】
2001521972.tif 000002
を表し（該式中Ｒ４はアルキルまたはアルキレン基、あるいはアリール又はアリーレン基であり）；Ｒ２及びＲ３は同一または別々に水素、アルキル基、アリール基、−ＯＲ５、−ＮＨＲ５、−ＮＲ５Ｒ５又は−ＳＲ５を表し（該Ｒ５は同一または別々にアルキル基、またはアリール基を表し）；及びＳＦＲは安定したフリーラジカルを表す。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月21日(2005.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  式（Ｉ）〜（III）：
【化１】
2001521978.tif 000001
【化２】
2001521978.tif 000002
【化３】
2001521978.tif 000003
［式中、
・Ｒ1およびＲ2はそれぞれ、炭素数１〜３６のアルキル基または水素であり、
・Ｒ3およびＲ5はそれぞれ、炭素数１〜３６のアルキル基または水素であり、
・Ｒ4は炭素数２〜１２の直鎖もしくは分枝状アルキレン基、または基(−ＣＨ2−ＣＨＲ6−Ｏ)z−であり、
・Ｒ6は水素またはメチル基であり、
・Ｒ7およびＲ8はそれぞれ、炭素数１〜３６のアルキル基または水素であり、
・指数ｘおよびｙはそれぞれ、１〜２００の範囲の数であり、
・指数ｚは１〜２０の範囲の数であり、
・指数ｎは２〜１２の範囲の数であり、
ただし、
・Ｒ1とＲ2とが両方同時に水素であってはならず、
・Ｒ1とＲ2との総炭素数は６〜３８の範囲にあり、
・Ｒ3とＲ5とが両方同時に水素であってはならず、
・Ｒ3とＲ5との総炭素数は６〜３８の範囲にあり、
・（ｘ＋ｙ）の総数は５〜２００の範囲にある。］
で示される化合物の群から選択するジオールアルコキシレートの、顔料濃厚物製造用の添加剤としての使用。
【請求項２】  化合物（Ｉ）〜（III）を、顔料濃厚物全体に対して０．１〜２０重量％の量で使用する請求項１記載の使用。
【請求項３】  顔料濃厚物全体に対して、
ａ）１種またはそれ以上の顔料１０〜８０重量％、
ｂ）式（Ｉ）〜（III）：
【化４】
2001521978.tif 000004
【化５】
2001521978.tif 000005
【化６】
2001521978.tif 000006
［式中、
・Ｒ1およびＲ2はそれぞれ、炭素数１〜３６のアルキル基または水素であり、
・Ｒ3およびＲ5はそれぞれ、炭素数１〜３６のアルキル基または水素であり、
・Ｒ4は炭素数２〜１２の直鎖もしくは分枝状アルキレン基、または基(−ＣＨ2−ＣＨＲ6−Ｏ)z−であり、
・Ｒ6は水素またはメチル基であり、
・Ｒ7およびＲ8はそれぞれ、炭素数１〜３６のアルキル基または水素であり、
・指数ｘおよびｙはそれぞれ、１〜２００の範囲の数であり、
・指数ｚは１〜２０の範囲の数であり、
・指数ｎは２〜１２の範囲の数であり、
ただし、
・Ｒ1とＲ2とが両方同時に水素であってはならず、
・Ｒ1とＲ2との総炭素数は６〜３８の範囲にあり、
・Ｒ3とＲ5とが両方同時に水素であってはならず、
・Ｒ3とＲ5との総炭素数は６〜３８の範囲にあり、
・（ｘ＋ｙ）の総数は５〜２００の範囲にある。］
で示される化合物の群から選択する１種またはそれ以上のジオールアルコキシレート０.１〜２０重量％、および
ｃ）液体担体媒体１５〜８５重量％
を含有する顔料濃厚物。
【請求項４】  液体担体媒体が水である請求項３記載の顔料濃厚物。
【請求項５】  必須成分ａ）、ｂ）およびｃ）に加えて、アルキルポリグリコシド、脂肪アルコールポリグリコールエーテル、およびスチリルフェノールポリグリコールエーテルから成る群から選択する１種またはそれ以上の界面活性剤ｄ）０.１〜３０重量％をも含有する請求項３または４記載の顔料濃厚物。
【請求項６】  必須成分ａ）、ｂ）およびｃ）に加えて、ポリエチレングリコールおよびポリグリコールエーテル（１,２−もしくは１,３−プロパンジオール、１,２−もしくは１,４−ブタンジオール、ヘキサンジオール、グリセロール、トリメチロールプロパンまたはペンタエリスリトールのエトキシル化により得られる）から成る群から選択する分子量２００〜１０００の１種またはそれ以上の補助添加剤ｅ）０.１〜３０重量％をも含有する請求項３〜５のいずれかに記載の顔料濃厚物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
本発明は、
ａ）１種またはそれ以上の顔料１０〜８０重量％、
ｂ）式（Ｉ）〜（III）：
【化１０】
2001521978.tif 000007
【化１１】
2001521978.tif 000008
【化１２】
2001521978.tif 000009
［式中、
・Ｒ1およびＲ2はそれぞれ、炭素数１〜３６のアルキル基または水素であり、
・Ｒ3およびＲ5はそれぞれ、炭素数１〜３６のアルキル基または水素であり、
・Ｒ4は炭素数２〜１２の直鎖もしくは分枝状アルキレン基、または基(−ＣＨ2−ＣＨＲ6−Ｏ)z−であり、
・Ｒ6は水素またはメチル基であり、
・Ｒ7およびＲ8はそれぞれ、炭素数１〜３６のアルキル基または水素であり、
・指数ｘおよびｙはそれぞれ、１〜２００の範囲の数であり、
・指数ｚは１〜２０の範囲の数であり、
・指数ｎは２〜１２の範囲の数であり、
ただし、
・Ｒ1とＲ2とが両方同時に水素であってはならず、
・Ｒ1とＲ2との総炭素数は６〜３８の範囲にあり、
・Ｒ3とＲ5とが両方同時に水素であってはならず、
・Ｒ3とＲ5との総炭素数は６〜３８の範囲にあり、
・（ｘ＋ｙ）の総数は５〜２００の範囲にある。］
で示される化合物の群から選択する１種またはそれ以上のジオールアルコキシレート０.１〜２０重量％、および
ｃ）液体担体媒体１５〜８５重量％
を含有する顔料濃厚物にも関する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月21日(2006.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】強塩基及び錯体形成剤を含む除去剤により除去可能な保護コーティングであって、該保護コーティングが顔料及びバインダーを含み、該バインダーが10,000〜100,000の重量平均分子量及び40〜250の酸価を有するポリマーであるところの保護コーティング。
【請求項2】バインダーが15,000〜75,000の重量平均分子量を有するところの請求項1に従う保護コーティング。
【請求項3】バインダーが20,000〜50,000の重量平均分子量を有するところの請求項1〜2のいずれかひとつに従う保護コーティング。
【請求項4】バインダーの酸価が60〜160の間であるところの請求項1〜3のいずれかひとつに従う保護コーティング。
【請求項5】バインダーが2〜6の多分散度を有するところの請求項1〜4のいずれかひとつに従う保護コーティング。
【請求項6】バインダーのガラス転移温度が10〜60℃の間であるところの請求項1〜5のいずれかひとつに従う保護コーティング。
【請求項7】バインダーのガラス転移温度が20〜50℃の間であるところの請求項6に従う保護コーティング。
【請求項8】バインダーがビニルポリマーであるところの請求項1〜7のいずれかひとつに従う保護コーティング。
【請求項9】ビニルポリマーがメチルメタクリレート、ブチルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート、エチルアクリレート、スチレン、メタクリル酸及びアクリル酸の群から選ばれる1以上のモノマーを基礎とするところの請求項8に従う保護コーティング。
【請求項10】バインダーが、保護コーティングの重量を基礎として4〜60重量％の量で存在するところの請求項1〜9のいずれかひとつに従う保護コーティング。
【請求項11】顔料が炭酸カルシウム、酸化チタン、ケイ酸塩、石膏、バライト及びこれらの組合せの群から選ばれるところの請求項1〜10のいずれかひとつに従う保護コーティング。
【請求項12】顔料がマグネシウム又はアルミニウムシリケート及びこれらの組合せの群から選ばれるところの請求項1〜10のいずれかひとつに従う保護コーティング。
【請求項13】顔料が、保護コーティングの重量を基礎として30〜95重量％の量で存在するところの請求項1〜12のいずれかひとつに従う保護コーティング。
【請求項14】保護コーティングが接着促進剤をさらに含むところの請求項1〜13のいずれかひとつに従う保護コーティング。
【請求項15】接着促進剤がシランの群から選ばれるところの請求項14に従う保護コーティング。
【請求項16】保護コーティングが顔料分散剤をさらに含むところの請求項1〜15のいずれかひとつに従う保護コーティング。
【請求項17】保護コーティングがさらに増粘剤を含むところの請求項1〜16のいずれかひとつに従う保護コーティング。
【請求項18】顔料及び水に保持されたバインダーを含む保護剤であって、該バインダーが10,000〜100,000の重量平均分子量及び40〜250の酸価を有するポリマーであるところの、請求項1〜17のいずれかひとつに従う除去可能な保護コーティングを形成するための保護剤。
【請求項19】保護剤が、アンモニア、1〜8の炭素原子を含有するアルキル基を有するモノ-、ジ-及びトリアルキルアミンの群から選ばれる弱塩基をさらに含むところの請求項18に従う保護剤。
【請求項20】弱塩基が、保護剤の重量を基礎として0.2〜5重量％の量で存在するところの請求項19に従う保護剤。
【請求項21】強塩基及び錯体形成剤を含む除去剤で除去可能な保護コーティングを形成する方法において、請求項18〜20のいずれか1つに従う保護剤が実質的に透明な表面に施与され、該保護剤が乾燥後に保護コーティングを形成するところの方法。
【請求項22】実質的に透明な表面が温室の外壁表面であるところの請求項21に従う方法。
【請求項23】保護コーティングが、強塩基及び錯体形成剤を含む除去剤で処理され、強塩基が除去剤の重量を基礎として1〜10重量％の量で存在する、請求項1〜17のいずれか1つに従う保護コーティングを除去する方法。
【請求項24】錯体形成剤が、除去剤の重量を基礎として2〜10重量％の量で存在するところの請求項23に従う方法。
【請求項25】除去剤が有機溶剤をさらに含むところの請求項23〜24のいずれかひとつに従う方法。
【請求項26】有機溶剤がテトラヒドロフラン、ベンジルアルコール及び高級アルコールの群から選ばれるところの請求項25に従う方法。
【請求項27】除去剤が、除去剤の重量を基礎として10〜30重量％のベンジルアルコールを含むところの請求項26に従う方法。
【請求項28】請求項18〜20のいずれかひとつに従う保護剤、及び除去剤を含み、該除去剤が請求項23〜27のいずれか1つに従う方法における使用に好適であるところのキット。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月19日(2005.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
錠剤をコーティングするために有用なゲランガム水性組成物中のゲランガムの量は、ゲランガム水性組成物全量の重量で約0.1〜約10％であり、好ましくは約0.25％〜約５％であるが、望ましければこれより多いおよび少ない量のゲランガムを用いてもよい。最も好ましい範囲は約0.75％〜約３％である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲランガムが水性組成物の主成分である、ゲランガム約0.75重量％〜約３重量％を含む水性組成物を錠剤に噴霧することによって調製されたコーティング錠剤。
【請求項２】
水性組成物が、着色剤、可塑剤、および界面活性剤から選択される少なくとも１つをさらに含む、請求項１記載のコーティング錠剤。
【請求項３】
水性組成物が一次コーティングを形成する、請求項１記載のコーティング錠剤。
【請求項４】
ゲランガム以外のポリマーを含む組成物によって錠剤をコーティングすることをさらに含む、請求項１記載のコーティング錠剤。
【請求項５】
ゲランガム以外のポリマーを含む組成物が一次コーティングを形成する、請求項６記載のコーティング錠剤。
【請求項６】
ゲランガムを含むコーティングが唯一のコーティングである、請求項１記載のコーティング錠剤。
【請求項７】
光沢のレベルが、表面システムアナライザを用いて分析した場合に約200〜約400である、請求項１記載のコーティング錠剤。
【請求項８】
光沢のレベルが約250〜約350である、請求項９記載のコーティング錠剤。
【請求項９】
錠剤が活性薬を含む、請求項１記載のコーティング錠剤。
【請求項１０】
錠剤と乾燥コーティングとを含むコーティング錠剤であって、該乾燥コーティングが、錠剤の総重量の約0.025％〜約10％を含み、該コーティングされた錠剤が、ゲランガム約0.75重量％〜約３重量％を含む水性組成物を錠剤に噴霧し、乾燥させることによって調製されるコーティング錠剤。
【請求項１１】
乾燥コーティングが錠剤の総重量の約0.05％〜約５％を含む、請求項10記載のコーティング錠剤。
【請求項１２】
乾燥コーティングが錠剤の総重量の約0.075％〜約３％を含む、請求項11記載のコーティング錠剤。
【請求項１３】
水性組成物が着色剤、可塑剤、および界面活性剤から選択される少なくとも１つをさらに含む、請求項10記載のコーティング錠剤。
【請求項１４】
光沢のレベルが、表面システムアナライザを用いて分析した場合に約200〜約400である、請求項10記載のコーティング錠剤。
【請求項１５】
光沢のレベルが約250〜約350である、請求項14記載のコーティング錠剤。
【請求項１６】
錠剤が活性薬を含む、請求項10記載のコーティング錠剤。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月29日(2005.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  １以上の脂肪族アミンポリマーを含有してなる、蓚酸塩レベルの低下を必要とする患者において蓚酸塩レベルを低下させるための医薬組成物。
【請求項２】  ポリマーが、
【化１】
2001521902.tif 000001
【化２】
2001521902.tif 000002
【化３】
2001521902.tif 000003
からなる群より選ばれた式を有する繰り返し単位並びにその塩及びコポリマーによって特徴づけられ、式中、ｎは正の整数であり、ｘは０又は１〜約４の整数であり、ｙ及びｚは１以上の整数であり、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は独立してＨ、又は置換若しくは非置換の、アルキル、アルキルアミノ又はアリール基である請求項１記載の医薬組成物。
【請求項３】  前記ポリマーが多官能性架橋剤により架橋されており、前記剤がモノマー及び架橋剤の合計重量に対して約０．５〜２５重量％の量で存在する請求項２記載の医薬組成物。
【請求項４】  前記架橋剤がモノマー及び架橋剤の合計重量に対して約２．５〜２０重量％の量で存在する請求項３記載の医薬組成物。
【請求項５】  前記架橋剤がエピクロロヒドリンを含む請求項３記載の医薬組成物。
【請求項６】  ポリマーがホモポリマーである請求項３記載の医薬組成物。
【請求項７】  ポリマーがポリアリルアミンである請求項３記載の医薬組成物。
【請求項８】  ポリマーがポリジアリルアミンである請求項３記載の医薬組成物。
【請求項９】  ポリマーがポリビニルアミンである請求項５記載の医薬組成物。
【請求項１０】  各式において、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ4 の少なくとも１つが水素である請求項３記載の医薬組成物。
【請求項１１】  式：
【化４】
2001521902.tif 000004
（式中、ｎは正の整数であり、ｘは０又は１〜約４の整数である）
を有する繰り返し単位によって特徴づけられる１以上の架橋されたポリマー及び塩を含有してなる、蓚酸塩レベルの低下を必要とする患者において蓚酸塩レベルを低下させるための医薬組成物。
【請求項１２】  前記ポリマーが多官能性架橋剤により架橋されており、前記剤がモノマー及び架橋剤の合計重量に対して約０．５〜２５重量％の量で存在する請求項１１記載の医薬組成物。
【請求項１３】  前記架橋剤がモノマー及び架橋剤の合計重量に対して約２．５〜２０重量％の量で存在する請求項１２記載の医薬組成物。
【請求項１４】  前記架橋剤がエピクロロヒドリンを含む請求項１２記載の医薬組成物。
【請求項１５】  ポリマーがホモポリマーである請求項１１記載の医薬組成物。
【請求項１６】  ｘが１である請求項１１記載の医薬組成物。
【請求項１７】  ｘが０である請求項１１記載の医薬組成物。
【請求項１８】  架橋されたホモポリアリルアミンを含有してなる、患者における蓚酸塩レベルを低下させるための医薬組成物。
【請求項１９】  前記架橋されたホモポリアリルアミンが多官能性架橋剤により架橋されており、前記剤がモノマー及び架橋剤の合計重量に対して約１〜２５重量％の量で存在する請求項１８記載の医薬組成物。
【請求項２０】  前記架橋剤がモノマー及び架橋剤の合計重量に対して約２．５〜２０重量％の量で存在する請求項１９記載の医薬組成物。
【請求項２１】  前記架橋剤がエピクロロヒドリンを含む請求項２０記載の医薬組成物。
【請求項２２】  架橋されたホモポリビニルアミンを含有してなる、患者における蓚酸塩レベルを低下させるための医薬組成物。
【請求項２３】  前記架橋されたホモポリビニルアミンが多官能性架橋剤により架橋されており、前記剤がモノマー及び架橋剤の合計重量に対して約１〜２５重量％の量で存在する請求項２２記載の医薬組成物。
【請求項２４】  前記架橋剤がモノマー及び架橋剤の合計重量に対して約２．５〜２０重量％の量で存在する請求項２３記載の医薬組成物。
【請求項２５】  前記架橋剤がエピクロロヒドリンを含む請求項２４記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月17日(2005.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】  前記繁殖材料の、または前記繁殖材料のための栽培領域の処理を含む、植物繁殖材料の保護のための請求項６に従う方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月28日(2005.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  粗テレフタル酸を、未反応出発物質、溶媒、副反応の生成物及び／又はその他の望まれない物質から選ばれた不純物も含有しているその液状分散物から精製する方法であって、
前記分散物を濾過して粗テレフタル酸濾過ケークを生成し;
前記濾過ケークを選択晶析用溶媒の中に約５０℃〜約２５０℃の温度で溶解して溶液を生成し;
前記溶液から、その温度及び／又は圧力を低下させることによって、精製テレフタル酸を晶析させ;
前記の晶析された精製テレフタル酸を前記溶液から分離し;
前記の分離された精製テレフタル酸を選択晶析用溶媒の中に再溶解して第二溶液を生成し;
前記第二溶液の前記テレフタル酸から溶媒をフラッシュ蒸発させるのに十分に温度及び圧力を低下させることによって、しかし前記溶液を約５０℃未満に冷却することなく、前記第二溶液から第二段階精製テレフタル酸を晶析させ;
前記第二段階精製テレフタル酸を前記第二溶液から分離し;
前記の分離された第二段階精製テレフタル酸を水で洗浄し;
前記の洗浄され分離された第二段階精製テレフタル酸を水に約１５０℃〜約３００℃の温度で浸漬し; そして
前記の水に浸漬された第二段階精製テレフタル酸を濾過し乾燥する;
ことを含む、前記方法。
【請求項２】  前記第二溶液が、前記の温度低下の後にそして前記第二段階精製テレフタル酸をそれから分離する前に、約１５〜約６０分間保持される、請求項１の方法。
【請求項３】  溶媒をフラッシュ蒸発させるための前記の温度及び圧力の低下が２〜６段階で段階的に行われる、請求項１の方法。
【請求項４】  第一蒸発段階でフラッシュ蒸発される溶媒の割合は最終結晶サイズを増大させるように制限される、請求項３の方法。
【請求項５】  粗テレフタル酸を、未反応出発物質、溶媒、副反応の生成物及び／又はその他の望まれない物質から選ばれた不純物も含有しているその液状分散物から精製する方法であって、
前記粗テレフタル酸から第一段階精製テレフタル酸を調製し;
前記の第一段階精製テレフタル酸を選択晶析用溶媒の中に再溶解して溶液を生成し;
前記第二溶液の前記テレフタル酸から溶媒をフラッシュ蒸発させるのに十分に温度及び圧力を低下させることによって、しかし前記溶液を約５０℃未満には冷却することなく、前記第二溶液から第二段階精製テレフタル酸を晶析させ;
前記第二段階精製テレフタル酸を前記第二溶液から分離し;
前記の分離された第二段階精製テレフタル酸を水で洗浄し;
前記の洗浄され分離された第二段階精製テレフタル酸を水に約１５０℃〜約３００℃の温度で浸漬し; そして
前記の水に浸漬された第二段階精製テレフタル酸を濾過し乾燥する;
ことを含む、前記方法。
【請求項６】  前記第二溶液が、前記の温度低下の後にそして前記第二段階精製テレフタル酸をそれから分離する前に、約１５〜約６０分間保持される、請求項５の方法。
【請求項７】  溶媒をフラッシュ蒸発させるための前記の温度及び圧力の低下が２〜６段階で段階的に行われる、請求項５の方法。
【請求項８】  第一蒸発段階でフラッシュ蒸発される溶媒の割合は最終結晶サイズを増大させるように制限される、請求項７の方法。
【請求項９】  粗テレフタル酸を、未反応出発物質、溶媒、副反応の生成物及び／又はその他の望まれない物質から選ばれた不純物も含有しているその液状分散物から精製する方法であって、
前記分散物を濾過して粗テレフタル酸濾過ケークを生成し;
前記濾過ケークを選択晶析用溶媒の中に約５０℃〜約２５０℃の温度で溶解して溶液を生成し;
前記溶液の温度及び／又は圧力を低下させることによって、しかし約５０℃以上で、前記溶液から精製テレフタル酸を晶析させ;
前記の晶析された精製テレフタル酸を前記溶液から分離し; そして
前記の分離された精製テレフタル酸を水で洗浄する;
ことを含む、前記方法。
【請求項１０】  前記第二溶液が、前記の温度低下の後にそして前記第二段階精製テレフタル酸をそれから分離する前に、約１５〜約６０分間保持される、請求項９の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月17日(2005.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  リアクタ（反応装置）の電力レベル、リアクタへのガス流量、リアクタ内の真空圧力およびシロキサンとフッ素化芳香族ポリマーの混合物の内、少なくとも一つを調整することによってシロキサンとフッ素化芳香族ポリマーの蒸着を最適化する方法。
【請求項２】  接着層を、低誘電率を有する材料の層によって上敷きされた基板上に接着層を提供するために、基板上の蒸着の発生にともなって、シロキサンの濃度が低下し、芳香族炭化水素の濃度が増大する請求項１に記載の方法。
【請求項３】  リアクタがプラズマ高揚、高密度プラズマ高揚、および置換重合または化学蒸着の光子アシスト・プロセスの一つである請求項１に記載の方法。
【請求項４】  シロキサンとフッ素化芳香族ポリマーの蒸着を、シロキサンとフッ素化芳香族ポリマーの混合物を調整することによって最適化する方法。
【請求項５】  シロキサンとフッ素化芳香族前駆物質との比を変えることで混合物を導入したシロキサンとフッ素化芳香族混合物とのコポリマーを蒸着することによって薄膜誘電体を蒸着する方法。
【請求項６】  シロキサンとフッ素化芳香族前駆物質との混合物を調整してシロキサンとフッ素化芳香族ポリマーの薄膜を蒸着することからなる炭化水素薄膜誘電体を蒸着する方法。
【請求項７】  ポリシリコン、アルミニウム、銅、この種の材料の混合物で、W、Ta，Ti，PtおよびAgを含むグループから選択された耐火材の組み込みを含める相互連結を使用する（銅）集積回路をハーメチック・シールするための薄膜誘電体を蒸着する請求項６に記載の方法。
【請求項８】  前駆物質から作られた半導体薄膜であって、前記前駆物質が次の構造式を有し、
【化１】
2001521061.tif 000001
ここに、R'とR"が、フッ素化アルキル基、芳香族モノ-、ジ-、トリ-またはテトラ-ラジカルおよび芳香族モノ-、ジ-、トリ-またはテトラ-ラジカルのフッ素化誘導体とは無関係に選択され、またnが約2から約7の整数、好ましくは約4から約5であり、また、前記前駆物質が置換重合と化学蒸着の少なくとも一つで処理されることを特徴とする半導体薄膜。
【請求項９】  前記前駆物質のR'とR"グループが、-H、-CH3、-CF3、-（CH2）n-CF3、
-C2H5、
-C6H5、
-C6（CF3）H4、
-C6FnH(6-n)，ここにnは0から6の整数、
-CF3-C6F5、
-CF3-C6F4-CF3、
-CF3-C6F4-C6F5、
-CF3-C6F4-C6F4-CF3、
-C10F3、
-CF2-C6H4CF2、
-C10H(6-n)Fn-、ここにnは0から6の範囲の整数、
-C12H(8-n)Fn-、ここにnは0から8の範囲の整数、
-C13H(7-n)Fn-、ここにnは0から7の範囲の整数、
-C14H(8-n)Fn-、ここにnは0から8の範囲の整数、
-C16H(10-n)Fn-、ここにnは0から10の範囲の整数、
-C10H(8-n)Fn-、ここにnは0から8の整数、
-C16H(8-n)Fn-、ここにnは0から8の整数、
-C16H(10-n)Fn-、ここにnは0から10の整数、
-(C6H4-nFn)-(C10H6-mFm)-、ここにnは1から4の整数、また、mは1から6の整数、-(C14H(8-n)Fn)-(C16H(8-n)Fn)、ここにnとmは1から8の独立した整数、を含むグループから独立して選ばれた請求項８に記載の薄膜。
【請求項１０】  式Y-Ar-（Y'）2を有する前駆物質で作られた半導体薄膜であって、ここにYおよびY'が脱離基であり、zが1から約6の範囲の整数であり、またArが、sp2C-sp2C二重ボンド、sp2C-Hボンドおよびsp2C-Fボンドの少なくとも一つを有する芳香族化合物であり、またフィルムがバリア層と接着層の一つとして使用されることを特徴とする半導体薄膜。
【請求項１１】  YおよびY'が、-H、-Cl、-Br、-NR、-SR、SiR3、-NR2および-SO2Rを含むグループから独立して選択され、ここにRが-H、アルキル基および芳香族モノ-ラジカルを含むグループから独立して選択され、またArが、
-C6FnH(6-n)，ここにnは0から6の整数、
-CF3-C6F5、
-CF3-C6F4-CF3、
-CF3-C6F4-C6F5、
-CF3-C6F4-C6F4-CF3、
-C10F8、
-CF2-C6H4-CF2、
-C10H(6-n)Fn-、ここにnは0から6の範囲の整数、
-C12H(8-n)Fn-、ここにnは0から8の範囲の整数、
-C13H(7-n)Fn-、ここにnは0から7の範囲の整数、
-C14H(8-n)Fn-、ここにnは0から8の範囲の整数、
-C16H(10-n)Fn-、ここにnは0から10の範囲の整数、
-C10H(8-n)Fn-、ここにnは0から8の整数、
-C16H(8-n)Fn-、ここにnは0から8の整数、
-C16H(10-n)Fn-、ここにnは0から10の整数、
-(C6H4-nFn)-(C10H6-mFm)-、ここにnは1から4の整数、また、mは1から6の整数、-(C14H(8-n)Fn)-(C16H(8-n)Fn)-、ここにnとmは1から8の独立した整数、からなるグループから選択されたイソマーであることを特徴とする請求項10に記載の半導体薄膜。
【請求項１２】  芳香族部分の端から端までの長さが、少なくとも4Åである請求項10に記載の半導体薄膜。
【請求項１３】  前記前駆物質が置換重合プロセスまたは化学蒸着プロセスの一つを使用して処理される請求項８または10に記載の薄膜。
【請求項１４】  段階的傾斜薄膜を製造する方法であって、
（a）第1前駆物質を選択する工程と、
（b）第2前駆物質を選択する工程と、
（c）前記第1前駆物質を、置換重合と化学蒸着システムの少なくとも一つで処理し、前記第1前駆物質を分離する工程と、
（d）前記分離第1前駆物質からなるポリマーの薄膜を蒸着する工程と、
（e）前記第2前駆物質を、置換重合と化学蒸着システムの少なくとも一つで処理し、前記第2前駆物質を分離する工程と、
（f）前記分離第2前駆物質からなるポリマーの薄膜を蒸着する工程と、
を含む段階的傾斜薄膜を製造する方法。
【請求項１５】  請求項14の工程によって製造された半導体薄膜。
【請求項１６】  連続傾斜薄膜を製造する方法であって、
（a）第1前駆物質の第1量を選択する工程と、
（b）第2前駆物質の第1量を選択する工程と、
（c）前記第1と第2前駆物質を混合する工程と、
（d）前記混合物を分解（分離）する工程と、
（e）前記分解混合物を蒸着する工程と、
（f）前記混合物中の前記第1前駆物質と前記第2前駆物質の相対的比を徐々に変化させる工程と、
（g）前記混合物を、置換重合と化学蒸着システムの少なくとも一つで処理し、第1および第2前駆物質の前記混合物を分離する工程と、
（h）分離前駆物質の前記混合物を蒸着して、半導体薄膜の傾斜を形成する工程と、
を含む連続傾斜薄膜を製造する方法。
【請求項１７】  請求項16の処理によって製造された半導体薄膜。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月25日(2005.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  正イオンを非グラファイトのターゲットから生成する陰極アーク源であって、（ａ）前記ターゲットを受け止める陰極ステーションと、（ｂ）第１の方向を有する第１の磁界を発生する手段と、（ｃ）前記第１の方向とは反対の方向を有する第２の磁界を発生する手段とを有し、前記ターゲットの上方で前記ターゲットに対して垂直な合成磁界が、磁界の強さがゼロの点を有し、かつ前記ターゲットの表面に強い横方向磁界が存在する陰極アーク源。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】  （１）前記ターゲットの前面の所で、磁界の横方向の強さが相対的に強く、かつ前記前面に対して垂直な磁界の方向が前記前面に向かっており、
（２）前記前面に対して垂直な磁界の強さが、前記ターゲットからの距離が前記前面に垂直な磁界の強さがゼロである点に向かって増大するにつれて減少し、
（３）前記垂直な磁界の強さがゼロである点から、前記ターゲットからの距離が増大するにつれて、磁界方向が前記ターゲットの前面から離れる方向になる、請求項１または２に記載の陰極アーク源。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】  （ａ）前記ターゲットの下方に第１の磁界を発生する、永久磁石のような第１の磁石または第１の電磁石と、
（ｂ）前記ターゲットと遠方の基板との間に第２の磁界を発生する、永久磁石のような第２の磁石または第２の電磁石とを含み、
前記第２の磁界が、プラズマを前記基板に向かって案内するものであり、前記第１の磁界と前記第２の磁界との組み合わせが、前記ターゲットと前記基板との間のゼロ点と、前記ターゲットの表面とその直ぐ上方の強い横方向磁界とを有する合成磁界を生成する、請求項４に記載の陰極アーク源。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】  前記垂直な磁界の強さがゼロである点に、１２Ｇから３５Ｇの強さを有する横方向の磁界が存在する、請求項１から６のいずれかに記載の陰極アーク源。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】  前記陰極アーク源の内側に、かつ前記陽極の外面に接してぴったり嵌るライナを形成するように互いに組合い、かつ前記陰極アーク源から取り外すために分離可能な２つまたは３つ以上の部品から構成されているライナを有する、請求項１から８のいずれかに記載の陰極アーク源。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】  前記ライナがグラファイトから作られている、またはグラファイトを含んでいる、請求項９から１１のいずれかに記載の陰極アーク源。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】  前記ライナがステンレス鋼、モリブデン、またはニッケルから作られている、または含んでいる、請求項９から１１のいずれかに記載の陰極アーク源。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１７】  陰極アーク源と、前記陰極アーク源によって生成されたプラズマを基板上へ案内する、第１の方向の磁界をターゲットと前記基板との間に発生する第１の磁界発生手段と、反対方向の磁界を前記ターゲットに、またはその周りに発生する第２の磁界発生手段とを有し、それによって前記第１の磁界の強さを変えることが可能であり、または前記第２の磁界の強さまたは位置を変えることが可能である、請求項１４から１６のいずれかに記載の方法を実施する装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月25日(2005.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】  前記液体塩が、塩化マグネシウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、酸塩化アルミニウム、弗化マグネシウム、弗化ナトリウム、弗化カリウム、弗化アルミニウム、塩化カルシウムおよび弗化カルシウムからなる群から選ばれる、請求項１２に記載の方法。