【手続補正書】
【提出日】平成18年2月8日(2006.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  任意の基板に任意の被膜を蒸着によって形成するときに、堆積量を制御するために使用される均しマスクであって、前記均しマスクが、少なくとも１個の可動遮蔽パネル（２２）を含み、前記均しマスクが、本文中で便宜的に偏側性遮蔽パネルと呼ばれる少なくとも２個の遮蔽パネル（２２）を含み、前記２個の遮蔽パネルが、実質的に共面性であること、及び、前記２個の遮蔽パネルが、双方のパネルに共通の制御装置（２３）の制御下で、相互間スペース（Ｅ）が最小になる接近位置と、相互間スペース（Ｅ）が逆に最大になる離間位置とから成る２つの極端位置の間で連続的に回転するように、第三の遮蔽パネルをなす固定ベース（２４）に対して回動自在に装着されていることを特徴とする均しマスク。
【請求項２】  ２つの偏側性遮蔽パネル（２２）に共通の制御装置（２３）が、自在継手（３２）を含み、前記自在継手は、ベース（２４）に可動的に装着されており、且つ、全体的に互いに斜行している複数のスロット（３４）をもつスロットジョイント（３３）によって前記偏側性遮蔽パネル（２２）に係合していることを特徴とする請求項１に記載の均しマスク。
【請求項３】  自在継手（３２）の中央部が、ベース（２４）に回転自在に装着されたねじロッド（３６）に係合しているねじナット（３５）に固定されていることを特徴とする請求項２に記載の均しマスク。
【請求項４】  ２個の偏側性遮蔽パネル（２２）の各々が、ベース（２４）に回動自在に装着された支持レバー（５４）に着脱自在に連結されており、前記２個のパネルに共通の制御装置（２３）は、前記支持レバーを介して作用することを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の均しマスク。
【請求項５】  自在継手（３２）と偏側性遮蔽パネル（２２）とを係合させるスロットジョイント（３３）のスロット（３４）は、偏側性遮蔽パネル（２２）が連結された支持レバー（５４）に局部的に開設されたスロットであり、これに対応して自在継手（３２）が、前記スロット（３４）に係合する柱脚（５５）を有していることを特徴とする請求項２から４のいずれか一項に記載の均しマスク。
【請求項６】  ２個の偏側性遮蔽パネル（２２）の各々の支持レバー（５４）が、ベース（２４）の第一の側の少なくとも一部に伸びており、対応する偏側性遮蔽パネル（２２）が、前記ベース（２４）の他方の側の少なくとも一部に伸びていることを特徴とする請求項４または５に記載の均しマスク。
【請求項７】  ２個の偏側性遮蔽パネル（２２）が、ベース（２４）に実質的に平行に伸びていることを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の均しマスク。
【請求項８】  接近位置では２個の偏側性遮蔽パネル（２２）が、少なくとも局部的に相互接触していることを特徴とする請求項７に記載の均しマスク。
【請求項９】  接近位置では２個の偏側性遮蔽パネル（２２）が、頂角ゾーン（６２）で互いに点接触しており、このときに相互間に形成されるスペース（Ｅ）は全体として三角形の平面輪郭を有することを特徴とする請求項８に記載の均しマスク。
【請求項１０】  対称面を有しており、２個の偏側性遮蔽パネル（２２）が、前記対称面に関して互いに反対方向に移動することを特徴とする請求項１から９のいずれか一項に記載の均しマスク。
【請求項１１】  基板に被膜を蒸着により堆積するための処理ボックスであって、各々が各１つの処理すべき基板（１０）を受容する複数の受座（１４）を有している回転自在に装着されたサポート（１２）と、堆積させるべき材料を蒸発させる蒸気放出源（１３）と、サポート（１２）と蒸気放出源（１３）との間に配置された均しマスク（１６）とを内蔵する処理ボックスにおいて、均しマスク（１６）が、請求項１から１０のいずれか一項に記載の均しマスクであることを特徴とする処理ボックス。
【請求項１２】  均しマスク（１６）が、サポート（１２）に実質的に平行に伸びていることを特徴とする請求項１１に記載の処理ボックス。
【請求項１３】  均しマスクが請求項２に記載の均しマスクであり、該マスクの偏側性遮蔽パネル（２２）の回動軸（Ｐ）は、２個のパネルに共通の制御装置（２３）がパネルに作用するゾーンよりもサポート（１２）の回転軸（Ａ）から離間していることを特徴とする請求項１２に記載の処理ボックス。
【請求項１４】  均しマスク（１６）が、サポート（１２）の回転軸（Ａ）を包囲する固定ジョイント（２０）から外側に斜めに伸びていることを特徴とする請求項１１から１３のいずれか一項に記載の処理ボックス。
【請求項１５】  均しマスク（１６）の２個の偏側性遮蔽パネル（２２）に共通の制御装置（２３）が、外部からアクセス可能であることを特徴とする請求項１１から１４のいずれか一項に記載の処理ボックス。
【請求項１６】  一群の基板（１０）を真空蒸着によって処理するために均しマスク（１６）を内蔵する真空蒸着処理ボックス（１１）の内部に基板（１０）を配置する型の多層被膜の形成方法であって、使用される均しマスク（１６）が、請求項１から１０のいずれか一項に記載の可変表面積をもつ均しマスクであること、及び、堆積すべき各層に応じて均しマスクの表面積を変更し得ることを特徴とする多層被膜の形成方法。
【請求項１７】  被膜が複数の層を含んでおり、これによって達成される基板（１０）の処理が、眩しさ防止処理であることを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】  被膜が異なる材料から成る少なくとも２つの層を含むことを特徴とする請求項１６または１７に記載の方法。
【請求項１９】  被膜を堆積させる前に基板（１０）を加熱することを特徴とする請求項１６から１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】  被膜を堆積させる前に基板（１０）をイオン衝撃することを特徴とする請求項１６から１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】  均しマスク（１６）の表面積を変更することによってイオン衝撃の強度を調節することを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】  被膜の堆積をイオン衝撃によって補助することを特徴とする請求項１６から２１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３】  均しマスク（１６）が、少なくとも２個の遮蔽パネル（２２）を含むことを特徴とする請求項１６から２２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４】  ２個の遮蔽パネル（２２）が、可動的に装着されていることを特徴とする請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】  処理される基板（１０）が、眼鏡レンズであることを特徴とする請求項１６から２４のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
同様に、文献「Ｕｎｉｆｏｒｍｉｔｙ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ  Ｃｏｒｒｅｃｔｏｒ、１９７１年１０月」（ＩＢＭ  Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ  Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ  Ｂｕｌｌｅｔｉｎ、第１４巻、第５号、１９７１年１０月号、１５７２ページ、ＸＰ００２０８３８２０）の中で、可動遮蔽パネルを用いて、均しマスクを形成することが既に提案されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
しかしながら、先出のマスクと同様に、このような均しマスクを適応させる可能性は限られている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
より詳細には、本発明の第一の目的は、任意の基板に任意の被膜を蒸着によって形成するときに、堆積量を制御するために使用される均しマスクであって、均しマスクは、少なくとも１個の可動遮蔽パネルを含み、均しマスクは、以後の本文中で便宜的に偏側性遮蔽パネルと呼ばれる少なくとも２個の遮蔽パネルを含み、前記２個の遮蔽パネルが、実質的に共面性であること、及び、前記２個の遮蔽パネルは、双方のパネルに共通の制御装置の制御下で、相互間スペースが最小になる接近位置と、相互間スペースが逆に最大になる離間位置とから成る２つの極端位置の間で連続的に回転するように、第三の遮蔽パネルをなす固定ベースに対して回動自在に装着されていることを特徴とする均しマスクを提供することである。本発明の目的は、また、このような均しマスクを使用する任意の処理ボックス、及び対応する多層被膜の形成方法を提供することである。