Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月19日(2006.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種の溶菌酵素を含む組成物であって、該溶菌酵素は、以下：
（ａ）配列番号１のポリペプチドの単離されたアミノ酸配列、
（ｂ）配列番号１のポリペプチドと少なくとも８０％の相同性を有する単離されたアミノ酸配列、および
（ｃ）２５までのアミノ酸置換を有する配列番号１のポリペプチドの単離されたアミノ酸配列、
からなる群から選択される、単離されたポリペプチドを含む、組成物。
【請求項２】
前記単離されたポリペプチドが、配列番号１のアミノ酸配列である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
請求項１に記載の組成物であって、前記溶菌酵素が、配列番号１のポリペプチドと少なくとも８０％の相同性を有する単離されたアミノ酸配列を含み；そして、ここで、
（ａ）約１ｍＬの約１０８ＣＦＵの対数期ＲＳＶＦ１  Ｂ．ｃｅｒｅｕｓ細菌の６００ｎｍにおける細菌吸光度が、２Ｕの該溶菌酵素を該ＲＳＶＦ１  Ｂ．ｃｅｒｅｕｓに接触後１０分以内に、少なくとも５倍減少するか；または
（ｂ）約１ｍＬの約１０８ＣＦＵの対数期ＲＳＶＦ１  Ｂ．ｃｅｒｅｕｓ細菌含有物を、３７℃にて５分間２Ｕの該溶菌酵素に接触させることによって、サンプル中のＲＳＶＦ１  Ｂ．ｃｅｒｅｕｓの集団が少なくとも１０６ＣＦＵ減少する
、組成物。
【請求項４】
請求項１に記載の組成物であって、前記溶菌酵素が、２５までのアミノ酸置換を有する配列番号１のポリペプチドの単離されたアミノ酸配列であり；そして、ここで、
（ａ）約１ｍＬの約１０８ＣＦＵの対数期ＲＳＶＦ１  Ｂ．ｃｅｒｅｕｓ細菌の６００ｎｍにおける細菌吸光度が、２Ｕの該溶菌酵素を該ＲＳＶＦ１  Ｂ．ｃｅｒｅｕｓに接触後１０分以内に、少なくとも５倍減少するか；または
（ｂ）約１ｍＬの約１０８ＣＦＵの対数期ＲＳＶＦ１  Ｂ．ｃｅｒｅｕｓ細菌含有物を、３７℃にて５分間２Ｕの該溶菌酵素に接触させることによって、サンプル中のＲＳＶＦ１  Ｂ．ｃｅｒｅｕｓの集団が少なくとも１０６ＣＦＵ減少する
、組成物。
【請求項５】
前記組成物が改造溶菌酵素、キメラ溶菌酵素またはこれらの組合せを含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記溶菌酵素が、Ｂ．ａｎｔｈｒａｃｉｓおよびＲＳＶＦ１  Ｂ．ｃｅｒｅｕｓに特異的である、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記組成物が、Ｂ．ａｎｔｈｒａｃｉｓに特異的なホリンタンパク質をさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
前記組成物がキャリアをさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
前記組成物が、適切なビヒクルをさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
前記組成物がさらに抗生物質を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１１】
Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ａｎｔｈｒａｃｉｓおよびＲＳＶＦ１  Ｂ．ｃｅｒｅｕｓに特異的なバクテリオファージによって遺伝的にコードされる少なくとも１種の溶菌酵素を含む組成物であって、該溶菌酵素は、配列番号１のポリペプチドの単離されたアミノ酸配列、配列番号１のポリペプチドと少なくとも８０％の相同性を有する単離されたアミノ酸配列、および２５までのアミノ酸置換を有する配列番号１のポリペプチドの単離されたアミノ酸配列、からなる群から選択される単離されたポリペプチドを含み、ここで、
（ａ）約１ｍＬの約１０８ＣＦＵの対数期ＲＳＶＦ１  Ｂ．ｃｅｒｅｕｓ細菌の６００ｎｍにおける細菌吸光度が、２Ｕの該溶菌酵素を該ＲＳＶＦ１  Ｂ．ｃｅｒｅｕｓに接触後１０分以内に、少なくとも５倍減少するか；あるいは
（ｂ）約１ｍＬの約１０８ＣＦＵの対数期ＲＳＶＦ１  Ｂ．ｃｅｒｅｕｓ細菌含有物を、３７℃にて５分間２Ｕの該溶菌酵素に接触させることによって、サンプル中のＲＳＶＦ１  Ｂ．ｃｅｒｅｕｓの集団が少なくとも１０６ＣＦＵ減少する、
組成物。
【請求項１２】
前記組成物がさらに、キャリアおよびビヒクルをさらに含み、かつ、必要に応じてさらに抗生物質を含む、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
前記組成物がさらにホリンタンパク質を含む、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１４】
配列番号１のポリペプチドと少なくとも８０％の相同性を有するポリペプチドを含む組成物であって；ここで、
（ａ）約１ｍＬの約１０８ＣＦＵの対数期ＲＳＶＦ１  Ｂ．ｃｅｒｅｕｓ細菌の６００ｎｍにおける細菌吸光度が、２Ｕの該ポリペプチドを該ＲＳＶＦ１  Ｂ．ｃｅｒｅｕｓに接触後１０分以内に、少なくとも５倍減少するか；あるいは
（ｂ）約１ｍＬの約１０８ＣＦＵの対数期ＲＳＶＦ１  Ｂ．ｃｅｒｅｕｓ細菌含有物を、３７℃にて５分間２Ｕの該ポリペプチドに接触させることによって、サンプル中のＲＳＶＦ１  Ｂ．ｃｅｒｅｕｓの集団が少なくとも１０６ＣＦＵ減少する、
組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月30日(2006.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
各種の実施態様で、例えば、第二材料の容量は、材料の全容量の約３％〜４０％である。いくつかの用途では、上記結合剤マトリックスは、材料中における結合剤マトリックスの全重量の２５％を超える量のレニウムを含有している。その他の用途では、第二材料はＮｉベース超合金を含有している。上記Ｎｉベース超合金は、特定の用途の場合、Ｎｉ及び他の元素例えばＲｅを含有している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
対象の超硬合金の材料組成物は、各種の硬質粒子と各種の結合剤マトリックス材料を含有している。一般に、これらの硬質粒子は、元素周期表のＩＶＡ族の金属の炭化物（例えばＴｉＣ、ＺｒＣ、ＨｆＣ）、ＶＡ族の金属の炭化物（例えばＶＣ、ＮｂＣ、ＴａＣ）及びＶＩＡ族の金属の炭化物（例えばＣｒ３Ｃ２、Ｍｏ２Ｃ、ＷＣ）から製造することができる。さらに、元素周期表のＩＶＡ族の金属元素で製造される窒化物（例えばＴｉＮ、ＺｒＮ、ＨｆＮ）並びにＶＡ族の金属元素で製造される窒化物（例えばＶＮ、ＮｂＮ、ＴａＮ）も使用することができる。例えば、多くの超硬合金に広く使用されている、硬質粒子の一つの材料組成物は、炭化タングステン例えば一炭化タングステン（ＷＣ）である。各種の窒化物を、炭化物と混合して上記硬質粒子を製造することができる。上記の及びその他の炭化物及び窒化物を２種以上混合して、ＷＣベースの超硬合金又はＷＣを含有しない超硬合金を製造することができる。異なる炭化物の混合物の例としては、限定されないが、ＷＣとＴｉＣの混合物並びにＷＣ、ＴｉＣ及びＴａＣの混合物がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
ＴａＣとＮｂＣは、ある程度類似の特性を有しているので、いくつかの実施態様の超硬合金組成物において、互いに、部分的に又は完全に置換又は代替して使用することができる。また、ＨｆＣとＮｂＣのいずれか一方又は両方も、超硬合金設計時に、ＴａＣの一部又はすべてを置換又は代替するのに使用できる。ＷＣ、ＴｉＣ、ＴａＣは、混合物の形態で個々に製造でき、又は固溶体の形態で製造することができる。混合物を使用する場合、その混合物は、（１）ＷＣ、ＴｉＣ及びＴａＣの混合物、（２）ＷＣ、ＴｉＣ及びＮｂＣの混合物、（３）ＷＣ、ＴｉＣ及びＴａＣとＮｂＣのうちの少なくとも一方の混合物、並びに（４）ＷＣ、ＴｉＣ及びＨｆＣとＮｂＣのうちの少なくとも一方の混合物からなる群から少なくとも一つ選択される。多種類の炭化物の固溶体は、数種類の炭化物の混合物より優れた特性と性能を示す。したがって、硬質粒子は、（１）ＷＣ、ＴｉＣ及びＴａＣの固溶体、（２）ＷＣ、ＴｉＣ及びＮｂＣの固溶体、（３）ＷＣ、ＴｉＣ及びＴａＣとＮｂＣのうちの少なくとも一方の固溶体、並びに（４）ＷＣ、ＴｉＣ及びＨｆＣとＮｂＣのうちの少なくとも一方の固溶体からなる群から少なくとも一つ選択できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本願に記載されている超硬合金の組成物と製造方法の一つの有望な利点は、結合剤マトリックス中に、Ｒｅ又はＲｅと他の結合剤材料の混合物を含有する超硬合金を製造するためのより実用的な製造方法を提供するか又は可能にすることである。特に、本発明の２ステップ法によって、超硬合金中における結合剤マトリックスの全重量の２５％を超えるＲｅが生成する超硬合金を製造することが可能になる。２５％を超えるＲｅを含有するこのような超硬合金を使用して、高温において、高い材料硬度と材料強さを達成できる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
一般に、結合剤マトリックス中のレニウムの重量％は、超硬合金中の結合剤マトリックスの全重量の数％〜ほぼ１００％である。結合剤マトリックス中のレニウムの重量％は好ましくは５％か又は５％を超えている。特に、結合剤マトリックス中のレニウムの重量％は、結合剤マトリックスの１０％か又は１０％を超えてもよい。いくつかの実施態様で結合剤マトリックス中のレニウムの重量％は、生成する超硬合金中における結合剤マトリックスの全重量の２５％又は２５％を超えてもよい。このような高濃度のＲｅを含有する超硬合金は、本願に記載されている２ステップ法によって、比較的低い温度で製造することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
【表９】
2006513119.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月24日(2006.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
慢性疼痛をそうした治療が必要な患者において治療する方法であって、
５日以下である第一投与期間、第一のブプレノルフィン含有経皮剤形を患者に投与すること；
５日以下である第二投与期間、前記第一剤形と同じ用量のブプレノルフィン又は前記第一剤形より多い用量のブプレノルフィンを含む第二のブプレノルフィン含有経皮剤形をその患者に投与すること；及び
第三投与期間、前記第二剤形より多い用量のブプレノルフィンを含む第三のブプレノルフィン含有経皮剤形をその患者に投与すること
を含む、前記方法。
【請求項２】
前記第一剤形が、５ｍｇ以下のブプレノルフィンを含み、前記第一投与期間が、３日以下であり、前記第二剤形が、５ｍｇ以下のブプレノルフィンを含み、前記第二投与期間が、３日以下であり、前記第三剤形が、２０ｍｇ以下のブプレノルフィンを含み、前記第三投与期間が、少なくとも約７日である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ブプレノルフィンの第一、第二及び第三経皮剤形を患者に投与することを含む、慢性疼痛をそうした治療が必要な患者において治療する方法であって、
前記第三剤形は、前記第一及び第二剤形より高い用量のブプレノルフィンを含み、ならびに
前記第三剤形と同じ用量のブプレノルフィンを単に投与するのに比べ、悪心、嘔吐及び頭痛から選択される有害事象の発生率を上昇させない、
前記方法。
【請求項４】
前記第一剤形が、２０ｍｇ以下のブプレノルフィンを含み；前記第二剤形が、３０ｍｇ以下のブプレノルフィンを含み、３日間投与され；及び前記第三剤形が、４０ｍｇのブプレノルフィンを含み、少なくとも２日間投与される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
慢性疼痛をそうした治療が必要な患者において治療する方法であって、該方法は、
５日以下である第一投与期間、第一のブプレノルフィン含有経皮剤形を患者に投与すること；
第二投与期間、前記第一剤形と同じ用量のブプレノルフィン又は前記第一剤形より多い用量のブプレノルフィンを含む第二のブプレノルフィン含有経皮剤形を患者に投与すること；及び
第三投与期間、前記第二剤形より多い用量のブプレノルフィンを含む第三のブプレノルフィン含有経皮剤形を患者に投与すること
を含むものであり、
前記投与計画が、
（ａ）前記第一剤形の投与２４時間後の平均血漿中ブプレノルフィン濃度が、１０〜１００ｐｇ／ｍＬの間であり；
（ｂ）前記第一剤形の投与７２時間後の平均血漿中ブプレノルフィン濃度が、２５〜２００ｐｇ／ｍＬの間であり；
（ｃ）前記第一剤形の投与１４４時間後の平均血漿中ブプレノルフィン濃度が、１００〜２５０ｐｇ／ｍＬの間であり；及び
（ｄ）前記第一剤形の投与１６８時間後の平均血漿中ブプレノルフィン濃度が、４００〜１０００ｐｇ／ｍＬの間である
血漿中ブプレノルフィンプロフィールをもたらす、前記方法。
【請求項６】
（ａ）投与２４時間後の平均血漿中ブプレノルフィン濃度が、２０〜５０ｐｇ／ｍＬの間であり；
（ｂ）投与７２時間後の平均血漿中ブプレノルフィン濃度が、４０〜１００ｐｇ／ｍＬの間であり；
（ｃ）投与１４４時間後の平均血漿中ブプレノルフィン濃度が、１５０〜２００ｐｇ／ｍＬの間であり；及び
（ｄ）投与１６８時間後の平均血漿中ブプレノルフィン濃度が、少なくとも５００ｐｇ
／ｍＬである、
請求項５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月25日(2006.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロチゴチン−塩基で過飽和のマトリックスポリマーを含有するロチゴチン［（−）−５,６,７,８−テトラヒドロ−６−［プロピル［２−（２−チエニル）エチル］アミノ］−１−ナフトール］の経皮投与用マトリックスにおいて、マトリックスポリマー中に溶けないロチゴチンの部分が最大３０μｍの平均直径を有する非晶質の粒子としてマトリックスポリマー中に分散されており、かつこのマトリックスは可溶化剤、結晶化阻止剤および分散剤を含有しないことを特徴とする経皮投与用マトリックス。
【請求項２】
（ａ）マトリックスポリマー、
（ｂ）マトリックスポリマーの溶解限度を上回る濃度でのロチゴチン−塩基、この際マトリックスポリマー中に溶けないロチゴチンの部分が最大３０μｍの平均直径を有する非晶質の粒子としてマトリックスポリマー中に分散されている、および
（ｃ）場合により１種以上の抗酸化剤
からなるロチゴチン［（−）−５,６,７,８−テトラヒドロ−６−［プロピル［２−（２−チエニル）エチル］アミノ］−１−ナフトール］の経皮投与用マトリックス。
【請求項３】
マトリックスポリマーがアミノ耐性シリコーンまたはアミノ耐性シリコーンの混合物である、請求項１または２記載の経皮投与用マトリックス。
【請求項４】
マトリックスが粘着性である請求項１から３までのいずれか１項記載の経皮投与用マトリックス。
【請求項５】
マトリックスが
（ａ）アミノ耐性シリコーンまたはアミノ耐性シリコーン混合物６０〜９５質量％および
（ｂ）シリコーン中に分散した非晶質ロチゴチン−塩基５〜４０質量％
からなる、請求項１から４までのいずれか１項記載の経皮投与用マトリックス。
【請求項６】
さらに
（ｃ）抗酸化剤２質量％まで
を含有する、請求項５記載のマトリックス。
【請求項７】
請求項１から６までのいずれか１項記載のマトリックスおよびロチゴチン不透過性支持層を有するロチゴチンの経皮投与平面状装置。
【請求項８】
ロチゴチンの負荷度が０.３〜６ｍｇ／ｃｍ2である、請求項７記載の経皮投与平面状装置。
【請求項９】
パーキンソン病またはレストレスレッグス症候群の治療のための薬剤を製造するための請求項１から８までのいずれか１項記載の装置またはマトリックスの使用。
【請求項１０】
うつ病の治療のための薬剤を製造するための請求項１から８までのいずれか１項記載の装置またはマトリックスの使用。
【請求項１１】
ロチゴチンの経皮投与のための薬学的マトリクスを製造する方法において、連続する工程：
（ａ）マトリックスポリマーの溶剤中への溶解、
（ｂ）（ａ）で使用したマトリックスポリマーの溶解限度を越える量での結晶の形のロチゴチン塩基の添加、
（ｃ）溶剤の除去および製造したマトリックスコンパウンドの少なくとも７４℃の温度への、ロチゴチンが溶融するまでの加熱、
（ｄ）マトリックスコンパウンドの冷却、
を特徴とする、ロチゴチンの経皮投与用薬学的マトリックスの製法。
【請求項１２】
工程ｂ）で生じた、ロチゴチン過飽和のポリマーコンパウンドをロチゴチン不透過性フィルム上に塗布し、次いで請求項１０の工程（ｃ）および（ｄ）で記載したように、更に処理する、請求項１１記載の製法。
【請求項１３】
マトリックスポリマーがロチゴチンに関する溶解性＜３質量％を有する、請求項１０または１２記載の製法。
【請求項１４】
マトリックスポリマーがアミノ耐性シリコーンである、請求項１１から１３までのいずれか１項記載の製法。
【請求項１５】
マトリックスポリマーがアミノ耐性シリコーン粘着剤または多くのアミノ耐性シリコーン粘着剤の混合物である、請求項１１から１４までのいずれか１項記載の製法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月16日(2006.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
リン脂質またはレシチンと、ポリオールまたは炭水化物の高濃度水溶液との組合せ物による、脂肪様物質のエマルション様水溶性濃縮物において、ポリオール溶液または炭水化物溶液の濃度が３０質量％〜９９質量％であり、レシチン：脂質の比が１：１〜１：１２であり、かつポリオール溶液または炭水化物溶液中のレシチン／脂質混合物の濃度が１０質量％〜９０質量％である、脂肪様物質のエマルション様水溶性濃縮物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月26日(2006.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フェンタニルを個体へ経皮投与するためのモノリシックパッチであって：
（ａ）  経皮投与されるフェンタニルに対して実質的に不浸透性の裏層；
（ｂ）  裏層の少なくとも一部と接触したフェンタニル含有粘着剤層、ここで、粘着剤層は、１種以上の溶媒和シリコーン系粘着剤に懸濁したフェンタニル粒子の混合物を含む製剤から成形される；及び
（ｃ）  粘着剤層に接触した、取り外し可能な解離性ライナー、
を含む、前記パッチ。
【請求項２】
１種以上の溶媒和シリコーン系粘着剤がヘプタン−溶媒和シリコーン系粘着剤である、請求項１に記載のパッチ。
【請求項３】
粘着剤層が約１％〜約１０％ｗ／ｗのフェンタニルを含む、請求項２に記載のパッチ。
【請求項４】
粘着剤層が約３％〜約７％ｗ／ｗのフェンタニルを含む、請求項３に記載のパッチ。
【請求項５】
粘着剤層が約４％ｗ／ｗのフェンタニルを含む、請求項４に記載のパッチ。
【請求項６】
粘着剤層が約５％〜約１５％ｗ／ｗのフェンタニルを含む、請求項２に記載のパッチ。
【請求項７】
粘着剤層が約８％〜約１２％ｗ／ｗのフェンタニルを含む、請求項６に記載のパッチ。
【請求項８】
粘着剤層が約９．５％ｗ／ｗのフェンタニルを含む、請求項７に記載のパッチ。
【請求項９】
粘着剤層が約９．１％ｗ／ｗのフェンタニルを含む、請求項８に記載のパッチ。
【請求項１０】
フェンタニルがフェンタニル遊離塩基である、請求項１に記載のパッチ。
【請求項１１】
裏層がポリオレフィンである、請求項１に記載のパッチ。
【請求項１２】
フェンタニルが小粒子として溶媒和シリコーン系粘着剤に均一に懸濁している、請求項１に記載のパッチ。
【請求項１３】
フェンタニル含有粘着剤層が、１種以上の溶媒和シリコーン系粘着剤と混合した、シリコーン溶液中のフェンタニルのスラリー混合物を含む製剤から成形される、請求項１に記載のパッチ。
【請求項１４】
フェンタニル含有層が約２５％ｗ／ｗ以下のシリコーン溶液を含む、請求項１３に記載のパッチ。
【請求項１５】
フェンタニル含有層が約２％〜約１０％ｗ／ｗのシリコーン溶液を含む、請求項１４に記載のパッチ。
【請求項１６】
フェンタニル含有層が約６．５％ｗ／ｗのシリコーン溶液を含む、請求項１５に記載のパッチ。
【請求項１７】
シリコーン溶液がポリジメチルシロキサンを含む、請求項１３に記載のパッチ。
【請求項１８】
裏層とフェンタニル含有粘着剤層とのあいだに、且つこれらに触して、少なくとも部分的にフェンタニル含有粘着剤層を越えて広がるフェンタニル不含粘着剤層を更に含む、請求項１に記載のパッチ。
【請求項１９】
フェンタニル含有粘着剤層が、１種以上の溶媒和シリコーン系粘着剤と混合した、シリコーン溶液中のフェンタニルのスラリー混合物を含む製剤から成形される、請求項１８に記載のパッチ。
【請求項２０】
フェンタニル含有層が約２５％ｗ／ｗ以下のシリコーン溶液を含む、請求項１９に記載のパッチ。
【請求項２１】
フェンタニルを経皮投与するためのモノリシックパッチを作製するのに有用な積層物の作製方法であって：
ａ）  シリコーン系粘着剤を実質的に又は完全に溶媒和でき、一方でフェンタニルを溶媒和粘着剤と混合する際に、溶媒和粘着剤にフェンタニルを懸濁させたままにできる溶媒を選択すること；
ｂ）  上記溶媒と溶媒和した１種以上のシリコーン系粘着剤とフェンタニル粒子とを混合し、フェンタニル粒子が溶媒和粘着剤に懸濁した混合製剤を形成すること；
ｃ）  混合製剤を支持材上に成形すること；及び
ｄ）  溶媒を除去して、支持材及びフェンタニル懸濁液含有粘着剤層を含有する積層物を製造すること、
を含む、前記方法。
【請求項２２】
支持材が裏層又は解離性ライナーである、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
混合製剤を成形工程前に処理してフェンタニルを製剤中に分散させ、製剤を高剪断コロイドミル、ホモジナイザー、又は他の混合装置に通すことにより粒子サイズを維持する、請求項２１に記載の方法。
【請求項２４】
溶媒がヘプタンである、請求項２１に記載の方法。
【請求項２５】
シリコーン系粘着剤が約２０％〜約５０％のヘプタンに溶媒和している、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
シリコーン系粘着剤が約３０％のヘプタンに溶媒和している、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
フェンタニルがフェンタニル遊離塩基である、請求項２１に記載の方法。
【請求項２８】
フェンタニル粒子が小粒子として溶媒和シリコーン系粘着剤中に均一に懸濁している、請求項２１に記載の方法。
【請求項２９】
フェンタニルを経皮投与するためのモノリシックパッチを作製するのに有用な積層物を作製する方法であって：
ａ）  シリコーン系粘着剤を実質的に又は完全に溶媒和でき、一方でフェンタニル粒子を溶媒和粘着剤と混合する際、溶媒和粘着剤にフェンタニル粒子を懸濁させたままにできる溶媒を選択すること；
ｂ）  溶媒にシリコーン系粘着剤を溶媒和すること；
ｃ）  シリコーン溶液中のフェンタニル粒子のスラリーを形成すること；
ｄ）  混合製剤を形成するように、工程ｃ）のスラリーを工程ｂ）の溶媒和シリコーン系粘着剤と混合すること、ここで、フェンタニル粒子は溶媒和粘着剤に懸濁している；
ｅ）  混合製剤を支持材上に成形すること；及び
ｆ）  溶媒を除去して、支持材及びフェンタニル懸濁液含有粘着剤層を含有する積層物を製造すること、
を含む、前記方法。
【請求項３０】
支持材が裏層又は解離性ライナーである、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
溶媒和シリコーン系粘着剤を第１部分と第２部分に分け、フェンタニル粒子のスラリーを溶媒和シリコーン系粘着剤の第１部分と混合し、得られる混合物を混合装置に通して懸濁液を形成し、得られる懸濁液を溶媒和シリコーン系粘着剤の第２部分と混合する、請求項２９に記載の方法。
【請求項３２】
溶媒がヘプタンである、請求項２９に記載の方法。
【請求項３３】
シリコーン系粘着剤が約２０％〜約５０％のヘプタンに溶媒和している、請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
フェンタニルがフェンタニル遊離塩基である、請求項２９に記載の方法。
【請求項３５】
フェンタニル粒子が小粒子として溶媒和シリコーン系粘着剤に均一に懸濁している、請求項２９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月9日(2006.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
治療剤を全身性送達するための方法であって、以下の工程：
治療剤とFcRn結合パートナーの抱合体の有効量のエアロゾルを肺に投与し、その結果中央部肺領域/末梢部肺領域沈着比（C/P比）が少なくとも0.7になるようにする
ことを含む、前記方法。
【請求項２】
治療剤を全身性送達するための方法であって、以下の工程：
治療剤とFcRn結合パートナーの抱合体の有効量のエアロゾルを肺に投与することを含み、ここでエアロゾル中の粒子が少なくとも3μmの空気動力学的粒径（MMAD）を有する、
前記方法。
【請求項３】
エアロゾル中の粒子が、少なくとも3μmのMMADを有する、治療剤とFcRn結合パートナーとの抱合体のエアロゾル。
【請求項４】
容器、容器に連結されたエアロゾル発生器、そして容器内部に配置された治療剤とFcRn結合パートナーとの抱合体を含む、エアロゾル送達系であって、ここで、エアロゾル発生器が、少なくとも3μmのMMADを有する粒子を有する抱合体のエアロゾルを発生させるように構築されそして配置される、前記エアロゾル送達系。
【請求項５】
請求項4のエアロゾル送達系を製造する方法であって、以下の工程：
容器を用意し；
容器に連結したエアロゾル発生器を用意し；そして
有効量の抱合体を容器中に配置する；
ことを含む、前記方法。
【請求項６】
被検体に対して抗体を全身性送達するための方法であって、以下の工程：
中央部肺領域/末梢部肺領域沈着比(C/P比）が少なくとも0.7であるエアロゾル中の被検抗体を、中央部気道に対して、被検体に対する抗体の全身性送達を達成するために有効な量で投与することを含む、
前記方法。
【請求項７】
被検体に受動免疫を付与するための方法であって、以下の工程：
抗原に対する受動免疫を必要としている被検体の中央部気道に対して、中央部肺領域/末梢部肺領域沈着比(C/P比）が少なくとも0.7であるエアロゾル中の抗原-特異的抗体を、被検体における抗原を中和するために有効な量で投与すること、
を含む、前記方法。
【請求項８】
被検体における深部肺疾患を治療するための方法であって、以下の工程：
深部肺疾患を治療するために抗体を必要としている被検体の中央部気道に対して、中央部肺領域/末梢部肺領域沈着比（C/P比）が少なくとも0.7であるエアロゾル中の抗体を、被検体の深部肺疾患を治療するために有効な量で投与すること、
を含む、前記方法。
【請求項９】
被検体における肺外疾患を治療するための方法であって、以下の工程：
肺外疾患を治療するために抗体を必要としている被検体の中央部気道に対して、中央部肺領域/末梢部肺領域沈着比（C/P比）が少なくとも0.7であるエアロゾル中の抗体を、被検体の肺外疾患を治療するために有効な量で投与すること、
ことを含む、前記方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月18日(2006.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入射し射出する光（２２、２４）のための入射面（１３）および射出面（１５）を有する複屈折結晶プレート（１２）を伴うリターデーション・プレートであって、
前記結晶プレート（１２）が、アルカリ土類金属フッ化物からなり、その光軸（１１）が、＜１１０＞結晶軸もしくは実質的に等価な主結晶軸の方向と少なくとも概略で整列し、
前記入射面および／または前記射出面（１３、１５）に、形態複屈折層構造（１４、１６）が付加されてい
ことを特徴とするリターデーション・プレート。
【請求項２】
前記アルカリ土類金属フッ化物が蛍石であることを特徴とする、請求項１に記載のリターデーション・プレート。
【請求項３】
前記形態複屈折層構造（１４、１６）が、交番する屈折率を伴う少なくとも２つの誘電体層（１６１、１６２、．．．、１６６）の周期的なシーケンスとして構成されることを特徴とする、請求項１または２に記載のリターデーション・プレート。
【請求項４】
前記層（１６１、１６２、．．．、１６６）の厚さ（ｄ）が、前記リターデーション・プレートの設計波長より小さいことを特徴とする、請求項３に記載のリターデーション・プレート。
【請求項５】
前記層（１６１、１６２、．．．、１６６）の厚さ（ｄ）が、前記リターデーション・プレートの設計波長の１／５より小さいことを特徴とする、請求項４に記載のリターデーション・プレート。
【請求項６】
前記層（１６１、１６２、．．．、１６６）の厚さ（ｄ）が、前記リターデーション・プレートの設計波長の１／１０より小さいことを特徴とする、請求項５に記載のリターデーション・プレート。
【請求項７】
前記層（１６１、１６２、．．．、１６６）のすべてが同一の厚さ（ｄ）を有することを特徴とする、請求項１〜６の何れか１項に記載のリターデーション・プレート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
リターデーション・プレートまたは位相プレートという用語は、光学的な複屈折平行平面板を言い、通常、光学的な一軸結晶からなる。リターデーション・プレートの表面は、垂直入射波が、プレートの厚さに依存した位相差を伴って互いに直交して振動する２つの波に分離されるように、結晶の光学軸に平行である。リターデーション・プレートの後ろでは光が結合されてプレートの厚さに依存する偏光状態を形成する。たとえば、位相差が入射光の波長の４分の１に対応するように厚さが選択された場合には、リターデーション・プレートは四分の一波長板と呼ばれ、直線偏光を楕円もしくは円偏光に変換するか、その逆を行う。しかしながら、リターデーション・プレートによって偏光方向の間に導かれる位相差が半波長であれば、半波長板と呼ばれ、たとえば楕円もしくは円偏光の左右の反転に使用することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
たとえばリターデーション・プレートは、マイクロリソグラフ投影システムの反射屈折投影対物レンズに使用される。この種のシステムは、今日、短波紫外光で動作しており、すでに非常に多く複屈折結晶が、過剰な吸収に起因してリターデーション・プレート用の材料としての生命を失っている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
したがって、導入部分で述べた、マイクロリソグラフ投影システムにおける使用に適したタイプのリターデーション・プレートを提供することを本発明の目的とする。特にこのリターデーション・プレートには、紫外線範囲において高い透過性を有し、製造と扱いがシンプルであり、さらには広開口光学システムにおいてさえ使用可能であることが意図される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、一方においては非常に多くのアルカリ土類金属フッ化物、たとえば蛍石結晶（ＣａＦ2）あるいはフッ化バリウム結晶（ＢａＦ2）が、＜１１０＞結晶軸の方向におけるビーム伝播について真性複屈折を有するという事実を基礎としている。しかしながら、ほかの結晶軸に沿ったビーム伝播についての複屈折は小さい。これらの結晶が、紫外線波長範囲において高い透過性を有することから、これらは、特にマイクロリソグラフ投影システムの投影対物レンズにおける使用に適している。また、これらの結晶の複屈折は、＜１１０＞方向においても比較的小さく、そのためたとえばフッ化マグネシウムから作られたリターデーション・プレートほど薄くないゼロ次リターデーション・プレートを作ることが可能になる。したがって、プレートの厚さに関係する製造許容誤差に課せられる要件がそれほど厳格でない。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
したがって、この種のリターデーション・プレートは、投影システムにおける非常に広い開口の対物レンズにも適している。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
第２のビーム２４は、リターデーション・プレート１０の入射面１８に大きい角度で当たるように第１のビーム２２に対して傾けられる。この角度の入射の場合、上側層構造１４ならびに下側層構造１６の両方が強い複屈折効果を有するが、それらの間にある蛍石結晶プレート１２は、この角度の入射についてほとんど複屈折とならない。したがって、上側層構造１４によって導入される波面の分離は、蛍石結晶プレート１２を透過する間にわたって、すなわち下側層構造１６内において波面の分離がさらに進められるまで保持される。図１からわかるように、層構造１４および１６は、光軸１１に対して斜めに入射するビーム２４の場合の全体的な波面の分離、言い換えるとリターデーション・プレート１０によって導入される異なる偏光方向についての位相差が、光軸１１に対して平行に入射するビーム２２についてリターデーション・プレート１０によって導入される位相差と概略で一致するように構成される。このようにしてリターデーション・プレート１０は、広い範囲の入射角にわたる光ビームについて、概略で一定の位相差をもたらすことを可能にする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2006513443.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月28日(2006.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結合された試料室と装填されるスライド保持具を具備する遠心分離用具であり、顕微鏡スライドが装着され、試料室に細胞を含む液体生物試料を入れた後に遠心分離機の所定の位置に装填して使用されるものであり、前記遠心分離用具は、顕微鏡スライドが装着される台座を構成する一体成形の本体を具備し、台座の一方の面には液体試料のための室が区画され、前記室へ液体を導入する開口を有する構造であり、台座は開口と台座を覆って載置される顕微鏡スライドの面に対して開口の縁をシールするための手段、または液体を通過させて細胞の通過には障壁となるための手段を備え、前記遠心分離用具は、更に、一体化のヒンジと用具の残りと一体的に成形されるラッチ機構を介して台座の板に結合する背面板を具備し、そしてこれらの配列により、台座に装着された顕微鏡スライドの後ろから背面板を閉じると、スライドは台座とカバープレートの間に位置して、保持部材が破壊して一体成形の本体から離脱するまでこの閉じる位置にカバープレートを保持するものである。
【請求項２】
留めの配列が、背面板の自由端に隣接する背面板に装着される背面板止め爪からなり、それは作動に際しては、用具の閉じる位置では用具の本体に装着され、一体化の有効ヒンジを介して前記本体に接合する補完ラッチと連動するものであり、前記留めの配列はさらに遮蔽部材を備え、用具の使用前では、それは前記補完ラッチの一体化有効ヒンジから所定の距離で補完ラッチを覆って延びる位置で固定され、前記配列は閉じる位置では、遮蔽部材は依然として結合しており、背面板止め爪は遮蔽部材と補完ラッチの間に保持され、そして遮蔽部材は前記背面板止め爪のテンションの結果として補完ラッチにかかる曲げモーメントを打ち消すように働く配列であり、一方、遮蔽部材を用具本体に対する位置に保持する脆い保持部材が破壊される際には、遮蔽部材は前記補完ラッチから離脱することが可能となり、補完ラッチは背面板止め爪から遥動して離れ、背面止め爪の板から開放されて背面板は用具の本体から遥動して離れることが可能となり、かくして顕微鏡スライドの取り外しがなされる、請求項１に記載の遠心分離用具。
【請求項３】
前記補完ラッチは保持の腕を備え、それは背面板止め爪の面に係止してラッチの支持台面を横切って前記止め爪を突き動かし、この際、遮蔽部材が本体部に接続する接続部が破壊した後止め爪が開放される間ラッチは外方と後方へ傾き、かくして背面板止め爪がラッチから離脱することを確実とする請求項２に記載の遠心分離用具。
【請求項４】
前記遮蔽部材が遠心分離用具の前記本体に回動可能に接続する梃子の形をなし、前記一体化のヒンジで区画される前記本体について背面板の回転軸に一般的に垂直で、また前記止め爪の動きの方向に一般的に垂直な軸の周りを回転し、その際、梃子は前記補完ラッチに係止するものであり、そしてここで前記脆い保持部材は通常前記梃子を回動に対してこれを保持するが、しかし、一旦破壊されると、前記梃子は回動軸の周りを回転することが可能となって、前記ラッチに隣接する前記梃子の部分をそらせる請求項1に記載の遠心分離用具。
【請求項５】
前記梃子の前記本体への回動可能な接続が、有効一体化のヒンジにより備わる請求項４に記載の遠心分離具。
【請求項６】
前記回動可能な接続は前記梃子の中間で反対側の端にあり、前記脆い接続は前記梃子の前記端の一つにあり、そして前記ラッチは前記脆い接続と前記回動可能な接続の間に位置しており、そして前記梃子の前記端の他方はフリーであり、これにより、前記脆い接続は前記梃子の前記二つの端の他方を前記本体部へ向って押すことにより破壊され、前記一方の端と前記一方の端と前記回動可能な接続の間の梃子の領域を揺動させて、前記ラッチからそらせる、請求項４または５に記載の遠心分離具。
【請求項７】
結合された試料室と装填される試料保持具を備える遠心分離用具であり、顕微鏡スライドが装填され、遠心分離機中の所定の位置に装填され、試料室には細胞を含む液体生物試料を導入されてなるものであり、該遠心分離用具は、顕微鏡スライドを侠持する台座を攻勢する一体成形の本体を具備し、台座の一方の面には液体試料のための室が画定され、前記室へ液体を導入する開口が備わる構造をなし、台座には開口が開き、台座に装填される顕微鏡スライドの面に対して該開口の縁をシールするかまたは、液体は進入するがしかし、細胞の通過は阻止できる手段を備えるものであり、さらに遠心分離用具は一体化ヒンジと用具の残りと一体的に形成されたラッチ機構により台座板と接続する背面板を具備し、前記開口部の縁をシールする手段は、前記台座に装填される顕微鏡スライド（２６）を侠持するための前記台座（１４）に装着されそして前記開口（１８）を囲む弾性体ガスケットからなるものである請求項１に記載の遠心分離用具。
【請求項８】
前記弾性体が、射出成形された弾性体であり、そして成形時に本体と共にツーショット成形方法で成形され、前記本体と背面板がワン・ショット成形法で成形され、ガスケットは他の成形方法で成形される請求項７に記載の遠心分離用具。
【請求項９】
前記ガスケットの材料が油分を含み、それは、使用に際しては、ガスケットがスライドと接触する箇所で油膜を形成し、直ちにそれは、水性液に対して障壁として働き、かくして遠心分離用具を開放してスライドを取り外した後にガスケットに接触するスライドの領域を超えて該液体が漏れ出るのを防止するのに資するものである請求項７または８に記載の遠心分離用具。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月16日(2006.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
消費者向電子機器であって：
人間の知覚信号を生成することができる出力手段；
人間の非知覚信号を送信することができる送信器；及び
該出力手段を制御することができ、該人間の知覚信号の表現を作成することができ、かつ、該送信器に、該表現を備える人間の非知覚信号をブロードキャストするよう命令することができる制御装置；
を備えることを特徴とする消費者向電子機器。
【請求項２】
請求項1記載の消費者向電子機器であって、該出力手段が：
スピーカとヘッドフォンとのうちの少なくとも一方； 
を備えることを特徴とする消費者向電子機器。
【請求項３】
請求項1記載の消費者向電子機器であって、該出力手段が：
表示装置； 
を備えることを特徴とする消費者向電子機器。
【請求項４】
請求項1記載の消費者向電子機器であって：
該制御装置は、該送信器に、識別子を備える人間の知覚信号を送信するよう命令することができるものであり；
該識別子が、該人間の知覚信号を識別するものであることを特徴とする消費者向電子機器。
【請求項５】
請求項1記載の消費者向電子機器であって、更に：
別の人間の非知覚信号を受信することができる受信器；
を備え；
該制御装置は、該受信器を用いて、空き状態の時間スロットを伝送媒体において検知することができ；
該制御装置は、該送信器に、該人間の非知覚信号を該空き状態の時間スロットにおいて送信するよう命令することができることを特徴とする消費者向電子機器。
【請求項６】
請求項1記載の消費者向電子機器であって、更に：
別の人間の非知覚信号を受信することができる受信器；
を備え；
該制御装置は、該受信器を用いて、制御信号を受信することができ；
該制御装置は、自らの送信を該制御信号に従ってスケジュールすることができることを特徴とする消費者向電子機器。
【請求項７】
請求項1記載の消費者向電子機器であって、更に：
別の人間の非知覚信号を受信することができる受信器；
を備え；
該制御装置は、該受信器を用いて、伝送媒体の占有度を検知することができ；
該制御装置は、該送信器に、該送信器の送信電力を該占有度に応じて適合させるよう命令することができることを特徴とする消費者向電子機器。
【請求項８】
請求項1記載の消費者向電子機器であって：
該制御装置は、該送信器に、該送信器の送信電力を備える人間の非知覚信号を送信するよう命令することを特徴とする消費者向電子機器。
【請求項９】
電子機器であって：
人間の知覚信号を生成する出力手段；
人間の非知覚信号を受信することができる受信器；及び
該受信器を用いて、複数の別の人間の知覚信号の表現を備える複数の人間の非知覚信号を受信することができ、かつ、該出力手段に、該人間の知覚信号を該表現から生成するよう命令することができる制御装置；
を備えることを特徴とする電子機器。
【請求項１０】
請求項9記載の電子機器であって、更に：
ユーザが該表現のうちの少なくとも１つを選択することを可能にする入力手段；
を備え；
該制御装置は、該出力手段に、該人間知覚信号を、該表現のうちの該少なくとも１つから生成するよう命令することができることを特徴とする電子機器。
【請求項１１】
請求項10記載の電子機器であって、更に：
ユーザ間の通信を確立する通信手段； 
を備え；
該制御装置は、該通信手段を用いて、該電子機器のユーザと、該少なくとも１つの表現を備える人間の非知覚信号を送信した同様な電子機器のユーザとの間の通信を確立することができることを特徴とする電子機器。
【請求項１２】
請求項9記載の電子機器であって：
該制御装置は、該出力手段に、別の人間の知覚信号を該人間の知覚信号において、該別の人間の知覚信号が近接する別の電子機器用で生成される場合にはより目立たせるようにする一方で、該信号が遠隔の別の電子機器用で生成される場合にはより目立たせないようにすることを特徴とする電子機器。
【請求項１３】
請求項9記載の電子機器であって：
該制御装置は、該受信器を用いて、音響信号の表現を備える複数の人間の非知覚信号を受信することができることを特徴とする電子機器。
【請求項１４】
請求項9記載の電子機器であって：
該制御装置は、該受信器を用いて、視覚信号の表現を備える複数の人間の非知覚信号を受信することができることを特徴とする電子機器。
【請求項１５】
請求項9記載の電子機器であって：
該制御装置は、該受信器を用いて別の人間の知覚信号を識別する識別子を備える人間の非知覚信号を受信することができ、かつ、表示装置に、該識別子を表示させるよう命令することができることを特徴とする電子機器。
【請求項１６】
請求項9記載の電子機器であって：
該制御装置は、記憶手段を用いて、別の人間の知覚信号を識別する識別子と、該別の人間の知覚信号の該表現のうちの少なくとも一部分とのうちの少なくとも１つを記憶させることができることを特徴とする電子機器。
【請求項１７】
請求項9記載の電子機器であって：
該受信器は、別の人間の知覚信号の表現を備える人間の非知覚信号を送信する別の電子機器の地理的位置を備える人間の非知覚信号を受信することができることを特徴とする電子機器。
【請求項１８】
請求項9記載の電子機器であって：
該制御装置は、該受信器を用いて、別の人間の知覚信号を識別する識別子を備える人間の非知覚信号を受信することができ；
更に、ユーザが追加情報を要求することを可能にする入力装置；及び
人間の非知覚信号を送信することができる送信器；
を備え；
該制御装置は、該送信器に、情報要求と該識別子とを備える人間の非知覚信号を送信するよう命令することができ；かつ
該制御装置は、該受信器を用いて、追加情報を備える人間の非知覚信号を受信することができることを特徴とする電子機器。
【請求項１９】
コンテンツを利用可能にさせる方法であって：
消費者向電子機器によって生成される人間の知覚信号の表現を作成する工程；及び
該表現をブロードキャストする工程；
を備えることを特徴とする方法。
【請求項２０】
新たなコンテンツをアクセスする方法であって：
複数の別の人間の知覚信号の表現を受信する工程；及び
人間の知覚信号を該表現から生成する工程；
を備えることを特徴とする方法。
【請求項２１】
人間の知覚信号を共有するシステムであって：
第１の人間の知覚信号の第１の表現を作成してブロードキャストすることができる構成部分；
第２の人間の知覚信号の第２の表現を作成してブロードキャストすることができる構成部分；及び
該第１の表現と該第２の表現とを受信することができ、かつ第３の人間の知覚信号を該第１の表現及び該第２の表現から生成することができる構成部分；
を備えることを特徴とするシステム。
【請求項２２】
新たなコンテンツをアクセスするコンピュータ・プログラムであって：
複数の別の人間の知覚信号の表現を受信する機能；及び
人間の知覚信号を該表現から生成する機能；
を備えることを特徴とするコンピュータ・プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月22日(2006.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
本発明の多機能製品マーカーは、（ｉ）一次ポリマー繊維を、好ましくは確定した数の回転分だけ、巻き芯又は円筒のような、好適な枠の周りに巻取り、（ｉｉ）繊維が巻き取られる前、間又は後に、一次ポリマー繊維を好適な材料で被覆又は好適な材料に埋め込み、及び（ｉｉｉ）一次ポリマー繊維及び好適な材料を一次ポリマー繊維の縦軸にほぼ直角を成す軸に沿って切断し、ほぼ平行な第１の面と第２の面及び第２の面及び／又は第２の面にほぼ直角を成し、ポリマー繊維の軸にほぼ平行な少なくとも１つの追加面を有し、各切断面は、少なくとも１つの光学的に読み取り可能な識別子及び第１の面と第２の面を区別する、製品マーカーの第１の面及び第２の面の両面で光学的に読み取り可能である、少なくとも１つの光学的に読み取り可能な配向子を含む、一次ポリマー繊維の切断面を作り出すことにより用意されることが好ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
本発明のある好ましい実施態様によれば、本発明の１以上の製品マーカーを使用することは、その情報保持能力を実質的に増大させ得る。再度図１を参照すると、上述した発明の特に好ましいとして示された実施態様の各製品マーカーは、７つの対称的な溝３（識別子）に２７すなわち１２８ビットの情報を保持している。８番目の非対称的な溝は、読み取り枠（配向子）を配向する。本発明の製品マーカーの２つが使用され、識別子用溝の１つが、製品マーカーが最初に読み取られることを指示するのに使用される場合、２１２（４０９６）ビットの情報が保持され得る。４つのマーカーが使用され、識別子用溝の２つが、製品マーカーが読み取られる順序を指示するのに使用される場合、２２０（１，０４８，５７６）ビットの情報が保持され得る。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月11日(2006.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体電解質を参照材料の存在下で実質的に化学的に安定とするためにその酸素含量および／または空間分配があらかじめ決められる、内蔵型のシールされた金属／水素参照基準と併せた、またはそれと接触するプロトン伝導性固体電解質を含む、水素濃度を測定するための装置。
【請求項２】
プロトン伝導体がペロブスカイトである、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
プロトン伝導体がドープされたカルシウム・ジルコネートまたはドープされたストロンチウム・セレートである、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
金属／水素参照基準がチタン、ジルコニウムまたはハフニウムを含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】
金属／水素参照基準が、金属／水素溶液の２相が存在するような金属対水素原子比を伴う金属を有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項６】
２相分野が、α−チタン／β−チタン、α−ジルコニウム／β−ジルコニウム、β−ジルコニウム／δ−ジルコニウム、またはα−ハフニウム／δ−ハフニウムのそれである、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
金属／水素混合物が固体電解質と参照材料間の反応を防止するために十分高いバルク酸素含量を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
金属／水素混合物が固体であり、固体電解質と参照材料間の反応を防止する酸素濃厚層により囲まれるか、またはその表面で酸素濃厚層を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
固体参照材料上の酸素濃厚層が、金属の製造工程から生じるか、または化学反応によって続いて生成されるかのいずれかである、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
固体参照材料粒子上の酸素濃厚層を生成するための化学反応が、金属酸化物の存在下で参照系の金属または金属／水素参照混合物を加熱することに存する、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
固体電解質が電極との接触点で触媒により被覆される、請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
触媒皮膜が白金である、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
シール材料が高温での水素含有ガス中において化学的に安定である、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
シール材料が、アルミニウム、バリウム、ホウ素、カルシウムおよび／またはマグネシウムの酸化物の１以上を含み、任意に１２００℃未満の融点を有するシリコンなしの酸化物ガラスである、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
不活性充填材料が参照とシール材料間の分離体として用いられる、請求項１に記載の装置。
【請求項１６】
不活性充填材料がカルシウム・ジルコネートまたはイットリウム酸化物である、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
第１に、金属を参照区画室中に密閉シールし、第２に、水素を電気化学的に固体電解質に通過させて金属／水素参照を形成することによる２段階において参照が造りだされる、請求項１に記載の装置。
【請求項１８】
水素含有ガスの存在下で金属を加熱しながら、同時に参照区画室を密閉するためにシールを形成することにより１段階で金属／水素参照が生成される、請求項１に記載の装置。
【請求項１９】
センサーが、製造後および使用前に、高温での低水素含量の加湿ガスによりプリコンディショニングを受ける、請求項１〜１８のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２０】
プリコンディショニングが、７００℃以上で１５分間以上にわたりアルゴン中１％以下の水素の加湿混合物中において行われる、請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
電解質が中で参照基準の存在下実質的に安定である、シールされたまたは内蔵型の水素参照基準と併せた、プロトン伝導性固体電解質を含むプローブを提供し；電解質を測定しようとする水素濃度と接触させ；および水素濃度と参照基準間の電解質を横断して発生する電圧を測定する段階を含む水素濃度を測定するための方法。
【請求項２２】
参照基準を参照区画室中にシールし；水素を電気化学的に固体電解質に通過させて参照基準を形成する段階を含む、プロトン伝導性固体電解質と併せて参照基準を含む装置用に金属／水素参照基準を製造するための方法。
【請求項２３】
参照基準を参照区画室中にシールする一方で、水素含有ガスの存在下で金属を加熱する段階を含む、プロトン伝導性固体電解質と併せて参照基準を含む装置用に金属／水素参照基準を製造するための方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月13日(2006.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
向かい合う辺を有する方形配列のマクロブロックの隠蔽順を構築する方法であって：
前記配列の大きいほうの前記辺の１つの方向に進行して少なくとも１つの欠落又は被破壊ピクセル値を有する前記マクロブロックを隠蔽するステップ、
を有することを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
ＮがＭより大きいＮ行Ｍ列の方形配列のマクロブロックの隠蔽を行う方法であって：
トップダウンおよびボトムアップのうちの少なくとも１つの方向に行毎に水平に進行して少なくとも１つの欠落又は被破壊ピクセル値を有するマクロブロックを隠蔽するステップ、
を有することを特徴とする方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
隠蔽の開始に先立って少なくとも１つの欠落又は被破壊ピクセル値を有する非方形配列のマクロブロックを少なくとも２つの方形サブ配列のマクロブロックに整えるステップと、
サブ配列のそれぞれを独立に隠蔽するステップと、
をさらに有することを特徴とする特徴とする請求項３に記載の方法。