【手続補正書】
【提出日】平成17年6月1日(2005.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）９０〜１００モル％のテレフタル酸残基及び０〜１０モル％のイソフタル酸残基から本質的になる二酸成分；並びに（２）１０〜７０モル％の１，４−シクロヘキサンジメタノール残基及び９０〜３０モル％のネオペンチルグリコール残基から本質的になるジオール成分を含んでなり、対称テトラクロロエタンとフェノールとの重量比２：３（前者対後者）の溶媒混合物中で２５℃において０．２５ｇ／ｄｌの濃度で測定したインヘレント粘度（ＩＶ）が少なくとも０．４ｄＬ／ｇである、１００モル％の二酸成分と１００モル％のジオール成分を含む非晶質コポリエステル。
【請求項２】
前記二酸成分が少なくとも９５モル％のテレフタル酸残基から本質的になる請求項１に記載の非晶質コポリエステル。
【請求項３】
前記二酸成分が１００モル％のテレフタル酸残基から本質的になる請求項１に記載の非晶質コポリエステル。
【請求項４】
前記ジオール成分が３０〜７０モル％の１，４−シクロヘキサンジメタノール残基及び７０〜３０モル％のネオペンチルグリコール残基から本質的になる請求項１に記載の非晶質コポリエステル。
【請求項５】
前記ジオール成分が３５〜６０モル％の１，４−シクロヘキサンジメタノール残基及び４０〜６５モル％のネオペンチルグリコール残基から本質的になる請求項１に記載の非晶質コポリエステル。
【請求項６】
（１）テレフタル酸残基から本質的になる二酸成分；並びに（２）３５〜６０モル％の１，４−シクロヘキサンジメタノール残基及び４０〜６５モル％のネオペンチルグリコール残基から本質的になるジオール成分を含んでなり、対称テトラクロロエタンとフェノールとの重量比２：３（前者対後者）の溶媒混合物中で２５℃において０．２５ｇ／ｄｌの濃度で測定したインヘレント粘度（ＩＶ）が０．６〜１．１ｄＬ／ｇである、１００モル％の二酸成分と１００モル％のジオール成分を含む非晶質コポリエステル。
【請求項７】
（１）９０〜１００モル％のテレフタル酸残基及び０〜１０モル％のイソフタル酸残基から本質的になる二酸成分；並びに（２）１０〜７０モル％の１，４−シクロヘキサンジメタノール残基及び９０〜３０モル％のネオペンチルグリコール残基から本質的になるジオール成分を含んでなり、対称テトラクロロエタンとフェノールとの重量比２：３（前者対後者）の溶媒混合物中で２５℃において０．２５ｇ／ｄｌの濃度で測定したインヘレント粘度（ＩＶ）が少なくとも０．４ｄＬ／ｇである、１００モル％の二酸成分と１００モル％のジオール成分を含む非晶質コポリエステルから二次加工された、脂質への暴露による劣化に対して改良された耐性を有する造形品。
【請求項８】
前記二酸成分が少なくとも９５モル％のテレフタル酸残基から本質的になる請求項７に記載の造形品。
【請求項９】
前記二酸成分が１００モル％のテレフタル酸残基から本質的になる請求項７に記載の造形品。
【請求項１０】
非晶質コポリエステルのジオール成分が３０〜７０モル％の１，４−シクロヘキサンジメタノール残基及び７０〜３０モル％のネオペンチルグリコール残基から本質的になる請求項７に記載の造形品。
【請求項１１】
非晶質コポリエステルのジオール成分が３５〜６０モル％の１，４−シクロヘキサンジメタノール残基及び４０〜６５モル％のネオペンチルグリコール残基から本質的になる請求項７に記載の造形品。
【請求項１２】
前記二酸成分が少なくとも９５モル％のテレフタル酸残基から本質的になる請求項１１に記載の造形品。
【請求項１３】
前記二酸成分が１００モル％のテレフタル酸残基から本質的になる請求項１１に記載の造形品。
【請求項１４】
透明な医療機器である請求項７に記載の造形品。
【請求項１５】
チューブの形状である請求項１４に記載の医療機器。
【請求項１６】
コネクターの形状である請求項１４に記載の医療機器。
【請求項１７】
ポンプハウジングの形状である請求項１４に記載の医療機器。
【請求項１８】
（１）９０〜１００モル％のテレフタル酸残基及び０〜１０モル％のイソフタル酸残基から本質的になる二酸成分；並びに（２）１０〜７０モル％の１，４−シクロヘキサンジメタノール残基及び９０〜３０モル％のネオペンチルグリコール残基から本質的になるジオール成分を含んでなり、対称テトラクロロエタンとフェノールとの重量比２：３（前者対後者）の溶媒混合物中で２５℃において０．２５ｇ／ｄｌの濃度で測定したインヘレント粘度（ＩＶ）が少なくとも０．４ｄＬ／ｇである、１００モル％の二酸成分と１００モル％のジオール成分を含む非晶質コポリエステルから二次加工された、脂質を含む溶液に接触する医療用品。
【請求項１９】
前記二酸成分が少なくとも９５モル％のテレフタル酸残基から本質的になる請求項１８に記載の医療用品。
【請求項２０】
前記二酸成分が１００モル％のテレフタル酸残基から本質的になる請求項１８に記載の医療用品。
【請求項２１】
（１）テレフタル酸残基から本質的になる二酸成分；並びに（２）３０〜７０モル％の１，４−シクロヘキサンジメタノール残基及び７０〜３０モル％のネオペンチルグリコール残基から本質的になるジオール成分を含んでなり、対称テトラクロロエタンとフェノールとの重量比２：３（前者対後者）の溶媒混合物中で２５℃において０．２５ｇ／ｄｌの濃度で測定したインヘレント粘度（ＩＶ）が少なくとも０．５〜１．１ｄＬ／ｇである、１００モル％の二酸成分と１００モル％のジオール成分を含む非晶質コポリエステルから二次加工された、脂質を含む溶液と接触する医療用品。
【請求項２２】
チューブ、コネクター又はポンプハウジングである請求項２１に記載の医療用品。
【請求項２３】
溶融加工前の含水量が０．０２重量％又はそれ以上である非晶質コポリエステルの溶融加工方法であって、（ａ）溶融加工前に、溶融加工前の含水量が０．０２重量％又はそれ以上であるような前記コポリエステルについて最低限の乾燥を行うか乾燥を全く行わず、そして（ｂ）前記コポリエステルを溶融加工する工程を含んでなり、前記コポリエステルが、１００モル％の酸成分と１００モル％のグリコール成分に基づき、テレフタル酸残基少なくとも９０モル％を含んでなる二酸成分並びに１，４−シクロヘキサンジメタノール残基３０〜７０モル％及びネオペンチルグリコール残基７０〜３０モル％から本質的になるジオール成分から本質的になる溶融加工方法。
【請求項２４】
前記ジオール成分が、３０〜７０モル％未満の１，４−シクロヘキサンジメタノール残基及び７０〜３０モル％のネオペンチルグリコール残基から本質的になる請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記酸成分が少なくとも９５モル％のテレフタル酸を含んでなる残基を含む請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】
前記酸成分が１００モル％のテレフタル酸を含んでなる残基を含む請求項２３に記載の方法。
【請求項２７】
溶融加工前に、常法によって６０〜１００℃において２時間未満、最低限の乾燥を行う請求項２３に記載の方法。
【請求項２８】
溶融加工前に、６０〜１００℃において強制除湿空気と乾燥剤層を併用して最低限の乾燥を行う請求項２３に記載の方法。
【請求項２９】
溶融加工前にコポリエステルの乾燥を行わない請求項２３に記載の方法。
【請求項３０】
請求項１に記載の非晶質コポリエステルを含んでなる、異形材押出によって製造された異形材。
【請求項３１】
請求項１に記載の非晶質コポリエステルを含んでなる射出成形品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
図１は、ＰＥＴＧ、ＰＲＯＶＩＳＴＡ（商標）及び例１０に記載した本発明の非晶質コポリエステルに関する、２６０℃における溶融粘度−剪断速度曲線を示す。図２は、ＰＥＴＧ、ＰＲＯＶＩＳＴＡ（商標）及び例８に記載した本発明の非晶質コポリエステルに関する、２６０℃における溶融粘度−剪断速度曲線を示す。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
添付図を参照すると、図１は、以下の数種のポリマーに関する２６０℃における溶融粘度−剪断速度曲線を示す：（１）１００モル％のテレフタル酸残基からなる二酸成分と６９モル％のエチレングリコール残基及び３１モル％のＣＨＤＭ残基からなるジオール成分を含んでなるＰＥＴＧコポリエステル（Ｅａｓｔｍａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  ＣｏｍｐａｎｙからＥＡＳＴＡＲ（商標）６７６３  Ｃｏｐｏｌｙｅｓｔｅｒとして市販）；（２）分岐剤の添加によって剪断減粘性を示すように特別に設計された、ＰＥＴＧと同様な組成を有するＰＲＯＶＩＳＴＡ（商標）コポリエステル（これもＥａｓｔｍａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能）；並びに（３）本発明の例１０のコポリエステル。意外なことに、実施例８は、ＰＲＯＶＩＳＴＡ（商標）コポリエステルに類似するがＰＥＴＧコポリエステルには類似しない剪断減粘性挙動を示す。同様に、図２は、ＰＲＯＶＩＳＴＡ（商標）コポリエステルに類似するがＰＥＴＧコポリエステルには類似しない剪断減粘性を示す例８のコポリエステルに関する、２６０℃における溶融粘度−剪断速度曲線を示す。図１及び２を構成する曲線に関しては、複素粘性率は、Ｒｈｅｏｎｍｅｔｒｉｃｓ  Ｄｙｎａｍｉｃ  Ａｎａｌｙｚｅｒ（ＲＤＡ  ＩＩ）によって、直径２５ｍｍ、間隙１ｍｍの平行板を用いて２６０℃における歪み１０％として測定した。サンプルは、周波数掃引試験の前に真空オーブン中で６０℃において２４時間乾燥させた。