【事件の表示】
　特願２００１−２９５６１８「光学シート及びこれを用いたバックライトユニット」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年　４月　９日出願公開，特開２００３−１０７２１２〕について，次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は，成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件出願（以下「本願」という。）は，平成１３年９月２７日に出願されたものであって，拒絶理由通知に応答して平成２３年２月２８日付けで手続補正がなされたが，平成２３年５月２４日付けで拒絶査定がなされ，これに対し，同年８月３０日に本件拒絶査定不服審判が請求されるとともに，同日付けで手続補正がなされたものである。
　
　
第２　平成２３年８月３０日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成２３年８月３０日付けの手続補正を却下する。
　
［理由］
１．補正の内容
　平成２３年８月３０日付け手続補正（以下「本件補正」という。）は，請求項１を次のとおりに補正するものである。（下線部は，補正箇所を示す。）
　
「　透明な基材層と，光学的機能を有する光学層とを備える光学シートであって，
　基材層の平均厚みが３５μｍ以上２５０μｍ以下であり，
　基材層の裏面に導電性を有する透明な金属酸化物膜が積層され，
　上記金属酸化物膜が，蒸着により
成膜され，この成膜後にレーザー光を照射して形成されており
　上記金属酸化物膜を構成する金属酸化物としてＩＴＯが用いられ，
　上記金属酸化物膜の表面抵抗が５Ω／□以上２５０Ω／□以下であり，
　上記基材層を基準にして光学層側と反対側に，バインダー中にビーズが分散するスティッキング防止層をさらに備えることを特徴とする光学シート。」
　
２．補正の適否
（１）補正の目的
　本件補正後の請求項１は，補正前の請求項１に記載された基材層について，その平均厚みが３５μｍ以上２５０μｍ以下であることを限定し，補正前の請求項１に記載された金属酸化物膜について，蒸着による成膜後に，レーザー光を照射して形成されたものであることを限定したものであるから，本件補正は，平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下「平成１８年改正前特許法」という。）第１７条の２第４項第２号に規定された特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　そこで，補正後の請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」という。）が，平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法１２６条第５項の規定（独立特許要件）に違反するか否かを以下で検討する。
　
（２）本願補正発明
　本願補正発明は，前記１．に記載したとおりのものである。
　
（３）引用例
　本願の出願前に頒布された実願平５−２０３５４号（実開平６−７８９３０号）のＣＤ−ＲＯＭ（原査定の拒絶の理由で「引用文献１」として引用された刊行物。以下「刊行物１」という。）には，次の記載がある。
　
記載事項１
「【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】液晶表示素子部と光源部とを備えた透過型液晶表示装置において，結晶化インジウム錫酸化物よりなる，膜厚１５〜４０ｎｍ，表面抵抗１００〜５００Ω／□，かつ波長５５０ｎｍの光の透過率８０％以上である透明導電性薄膜を，液晶表示素子部と光源部との間に備えたことを特徴とする液晶表示装置。」
　
記載事項２
「【０００１】
【産業上の利用分野】
　本考案は，光源から発生する電磁波を抑えることのできる透過型の液晶表示装置に関する。」
　
記載事項３
「【０００６】
【考案が解決しようとする課題】
　透過型液晶表示装置における前述の光源からは，障害電磁波が発生する。この障害電磁波は，液晶表示素子を透過して外部に放射され，液晶表示素子の駆動（ＴＦＴ等）回路の誤動作や，あるいは人体への悪影響を及ぼすという課題がある。
【０００７】
　本考案はかかる課題を解決し，光源で発生した障害電磁波が液晶表示装置の外部へ放射されることを防ぎ，駆動回路の誤動作や人体への悪影響を防ぐことのできる液晶表示装置を得ることを目的としている。」
　
記載事項４
「【０００８】
【課題を解決するための手段】
　本考案にかかる液晶表示素子部と光源部とを備えた透過型液晶表示装置は，結晶化インジウム錫酸化物よりなる，膜厚１５〜４０ｎｍ，表面抵抗１００〜５００Ω／□，かつ波長５５０ｎｍの光の透過率８０％以上である透明導電性薄膜を，液晶表示素子部と光源部との間に備える。」
　
記載事項５
「【００１１】
【実施例】
　図１は，本考案の一実施例を示す冷陰極管直下型の液晶表示装置の表示ユニット部である。図中，１０は冷陰極管によるエッジライト方式の光源，１１は反射板，１２は導光板。そして２０は，膜厚３０ｎｍの結晶化インジウム錫酸化物よりなる透明導電層２１と，ポリエステルフィルムよりなる基板２２と，光拡散層２３とで構成された光拡散シートである。さらに３０は，ＴＦＴ方式の表示素子部である。
【００１２】
　図１に示す液晶表示装置では，光拡散シート２０が電磁波シールド機能を有する。すなわち，光源１０から発生する障害電磁波は，液晶表示素子部３０の前段に設けられた光拡散シート２０によって吸収され，液晶表示素子部３０に組み込まれているＴＦＴ駆動回路に対してはもちろんのこと，人体に対しても，障害となる電磁波の放射を減衰させるととになる。」
　
記載事項６
「【００１４】
【考案の効果】
　本考案にかかる液晶表示装置は，以上詳述したとうり，光源で発生した障害電磁波が液晶表示装置の外部へ放射されることを防ぎ，駆動回路の誤動作や人体への悪影響を防ぐことのできる液晶表示装置を得ることができる。」
　
記載事項７
　図１は次のとおりである。
　
　
　前記記載事項１〜７を含む刊行物１の全記載からは，当該刊行物１に次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
　
「　ポリエステルフィルムよりなる基板２２と，
　前記基板２２の一方の面に設けられた光拡散層２３と，
　前記基板２２の他方の面に設けられ，結晶化インジウム錫酸化物よりなるとともに，膜厚１５〜４０ｎｍ，表面抵抗１００〜５００Ω／□，かつ波長５５０ｎｍの光の透過率８０％以上である透明導電層２１とで構成され，
　透過型液晶表示装置の液晶表示素子部３０と導光板１２との間に，光拡散層２３が液晶表示素子部３０側に，透明導電層２１が導光板１２側となるように設けられる，
　電磁波シールド機能を有する光拡散シート２０。」
　
　また，本願出願前に頒布された特開平４−１７２１２号公報（以下「刊行物２」という。）には，次の記載がある。
　
記載事項８
「（産業上の利用分野）
　本発明は，透明かつ低抵抗な透明プラスチック上の導電膜とその製造方法に関する。」（１頁右欄２〜４行）
　
記載事項９
「（従来の技術）
　ガラス或は，プラスチック基材，高分子フイルム上に透明かつ低抵抗な酸化物を付着させた透明導電膜は，その導電性を利用した用途，例えば，液晶ディスプレイ・・・（中略）・・・等の透明電極，・・・（中略）・・・或は，電磁シールド板・・・（中略）・・・等の電気，電子分野の用途に広く利用されている。・・・（中略）・・・
　これらの透明導電膜としては，通常，酸化すず（ＳｎＯ２），酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）或は酸化亜鉛（ＺｎＯ）を中心とした物が一般的であり，真空蒸着法，スパッター法，ＣＶＤ法，スプレー法等により作成できることが知られている。これらの酸化物膜は，厳密な作成条件とすることで，実用可能な特性（表面抵抗数Ω／□〜数ＭΩ／□，可視光透過率７０〜９５％）をもつ透明導電膜とできることが知られている。」（１頁右欄５行〜２頁左上欄６行）
　
記載事項１０
「（発明が解決しようとする課題）
　このような，透明性と導電性を兼ねそなえた材料を得ることは，どのような製作法であっても，作製条件の細かいコントロールが必要である。しかしながら，厳密にコントロールした場合でも，通常の温度で成膜すると充分に高い導電性が得られず，作製時に温度を上げるか，後工程で熱処理を施す必要があるのが現状である。この際の温度特性としては，２５０℃以上好ましくは，４００℃以上が必要である。また，このような方法は下地基板の温度も上昇させてしまうためガラス，セラミクスといった耐熱性の基板を用いる場合には，有効であるが，ＰＥＴ等のプラスチック基材，高分子フイルムといった材料には適用できない。そのため，プラスチック基材上の透明導電膜では，耐熱性基板上のものほど特性のよいものが得られず，その応用範囲も限られた物となっていた。」（２頁左上欄７行〜右上欄４行）
　
記載事項１１
「（課題を解決するための手段）
　本発明は前記従来方法における諸問題を解決すべく検討した結果到達したものである。すなわち本発明は，透明なプラスチック基材上に設けられた透明導電膜であって，該透明導電膜がレーザー照射処理されたものであることを特徴とする透明導電膜であり，・・・（中略）・・・
　本発明における透明導電膜としては，特に限定される物でなく，金属薄膜（Ａｕ等）タイプ，金属酸化物薄膜（ＩＴＯ，ＳｕＯ２，ＴｉＯ２等）タイプ，多層薄膜（Ａｇ／ＴｉＯ２等）が挙げられるが，透明性，導電性，機械的特性等から，金属酸化物薄膜タイプが好ましい。
　上記酸化物膜としては，酸化インジウム，酸化インジウムスズ（ＩＴＯ），酸化スズ，酸化亜鉛等がある。透明導電膜の作成法としては真空蒸着，スパッター，ＣＶＤ，スプレー法等が知られているが，本発明では，その作製法を限定するものではない。」（２頁右上欄１４行〜右下欄８行）
　
記載事項１２
「レーザーの出力の下限値としては，酸化物透明導電膜の導電，透過特性を改善，例えば，透過率８０％以上，表面抵抗を数百Ω／□以下にするのに必要なパワーであり，・・・（中略）・・・また上限値としては，プラスチック基材が熱的に損傷を受けない範囲が望ましい。・・・（中略）・・・
　レーザーの照射により，良好な導電特性と透明性を合わせもつ透明導電膜を作成でき，膜特性の改善が可能となる。更に，レーザー照射の場合，熱処理と異なり，基板の温度をほとんど上げずに材料（導電膜）のみの温度を上げることが可能である。そのため，プラスチック基材のような熱に弱い基板対しても，適用可能であり，ガラス基板等と同等以上の特性をもつ透明導電膜の作成が可能となる。」（３頁左上欄６行〜右上欄１１行）
　
記載事項１３
「（実施例）
＜実施例１＞
　反応性スパッターによって作製したポリアクリレートのシート（厚さ１ｍｍ）上のＩＴＯ膜（Ｓｎ５ｗｔ％）に対し，ＹＡＧレーザーを照射した。この時ＹＡＧレーザーの実効出力は４Ｗ，加工速度は０．３ｍ／ｍｉｎである。照射前は，表面抵抗数十ＭΩ／□以上，５５０ｎｍ波長光の透過率５８％の材料特性を持つものであったが，照射後には，表面抵抗２０Ω／□，比抵抗率２．１×１０−４Ωｃｍ，透過率９５％と導電性と透明性を合わせもつ層になった。」（３頁右上欄１２行〜左下欄３行）
　
記載事項１４
「＜実施例２＞
　ポリカーボネイト基板上に真空蒸着で作製したＳｎＯ２（Ｓｂ５ｗｔ％）に対し，ＹＡＧレーダー（審決注：「ＹＡＧレーザー」の誤記）を照射した。その結果，照射前数ＭΩ／□，光透過率５３％であったものが，表面抵抗で２００Ω／□，光透過率９３％と大幅に改善された。」（３頁左下欄１３〜１８行）
　
　前記記載事項８〜１４を含む刊行物２の全記載からは，当該刊行物２に，
「　透明電極や電磁シールド等の用途に利用される透明導電膜を，熱に弱い透明なプラスチック基材や高分子フイルム上に形成する際に，
　真空蒸着やスパッター等の作成方法によって，前記プラスチック基材や高分子フイルム上にＩＴＯ等の透明かつ低抵抗な金属酸化物の薄膜を形成した後，
　当該薄膜にレーザー照射処理を行うことによって，導電性と透明性が改善された透明導電膜とする技術。」
が，記載されていると認められる。
　
（４）対比
　本願補正発明と引用発明とを対比する。
　
　引用発明の「ポリエステルフィルムよりなる基板２２」，「光拡散層２３」，「基板２２の他方の面に設けられ」，「『結晶化インジウム錫酸化物』よりなる『透明導電層２１』」，「透明導電層２１の表面抵抗」及び「光拡散シート２０」は，本願補正発明の「透明な基材層」，「光学的機能を有する光学層」，「『基材層の裏面』に『積層され』」，「『金属酸化物としてＩＴＯ』が用いられる『導電性を有する透明な金属酸化物膜』」，「金属酸化物膜の表面抵抗」及び「光学シート」に，それぞれ相当する。 
　また，引用発明の「１００〜５００Ω／□」と本願補正発明の「５Ω／□以上２５０Ω／□以下」とは「１００〜２５０Ω／□」の範囲で一致する。　
　したがって，本願補正発明と，引用発明とは，
「　透明な基材層と，光学的機能を有する光学層とを備える光学シートであって，
　基材層の裏面に導電性を有する透明な金属酸化物膜が積層され，
　上記金属酸化物膜を構成する金属酸化物としてＩＴＯが用いられ，
　上記金属酸化物膜の表面抵抗が１００Ω／□以上２５０Ω／□以下である，
　光学シート。」
である点で一致し，次の点で相違する。
　
相違点１：基材層の平均厚みについて，本願補正発明では３５μｍ以上２５０μｍ以下であるのに対して，引用発明ではその数値が不明な点。
　
相違点２：金属酸化物膜について，本願補正発明では，蒸着により成膜され，この成膜後にレーザー光を照射して形成されているのに対して，引用発明では，どのようにして設けられたものであるのか不明な点。
　
相違点３：本願補正発明が，基材層を基準にして光学層側と反対側に，バインダー中にビーズが分散するスティッキング防止層を備えているのに対して，引用発明は，このようなスティッキング防止層を有していない点。
　
（５）相違点１についての判断
　光拡散シートにおいて，カールの発生しやすさや，輝度の低下の程度等を考慮して，基材層の平均厚みの値を設定することは，例えば，特開２００１−５９９０３号公報（前置報告書の内容を通知した審尋において「引用文献２」として引用された刊行物。以下「周知例１」という。【００１９】等を参照。），特開２００１−２０１６１２号公報（以下「周知例２」という。【００１７】等を参照。），特開平１０−３１９２４３号公報（以下「周知例３」という。【００２２】等を参照。）等にみられるように，本願出願前に周知の技術（以下「第１の周知技術」という。）であって，本願補正発明の「３５μｍ以上２５０μｍ以下」という数値範囲内の平均厚みも，前記周知例１〜３のほか，特開平８−３１３７０７号公報（以下「周知例４」という。【０００５】等を参照。），特開平６−２３０２３０号公報（以下「周知例５」という。【００１７】，【００３４】等を参照。）等にもみられるように，本願出願前において，光拡散シートの基材層の平均厚みとして，ごく普通に選択される値でしかない。
　したがって，引用発明において，ポリエステルフィルムよりなる基板２２として，３５μｍ以上２５０μｍ以下の平均厚みを有するものを用いること，すなわち，相違点１に係る本願補正発明の構成を採用することは，カールの発生しやすさや，輝度の低下の程度等を考慮して，当業者が適宜設定すれば足りる設計事項というほかない。
　
（６）相違点２についての判断
　「蒸着」という用語は，一般に，物理蒸着法（ＰＶＤ：Ｐｈｙｓｉｃａｌ　Ｖａｐｏｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）と化学蒸着法（ＣＶＤ：Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｖａｐｏｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）を包含する概念（以下「広義の「蒸着」」という。）を指す用語として用いられており，当該広義の「蒸着」には，スパッタリング法や真空蒸着法等が含まれるが，当該「蒸着」という用語が，真空蒸着法のみを指し，スパッタリング法を包含しない概念（以下「狭義の「蒸着」」という。）として用いられることもある。
　本件補正後の請求項１に記載された「蒸着」なる文言が，どちらの意味で用いられているのか，特許請求の範囲の記載のみからは明らかでないから，本願明細書の記載を参酌すると，【００３０】には「この蒸着には真空蒸着法やスパッタリング法などがある。」と記載されているから，本件補正後の請求項１に記載された「蒸着」は，広義の「蒸着」であると（少なくとも，真空蒸着法とスパッタリング法を包含する概念として用いられていると）解するのが相当である。
　したがって，相違点２については，基本的に当該解釈を前提として判断を行うこととする。
　
　刊行物２には，前記（３）で認定したとおりの技術が記載されていると認められるところ，引用発明の基板２２はポリエステルフィルムよりなるものであって，当該刊行物２記載の技術が前提とする「熱に弱い透明なプラスチック基材や高分子フイルム」に該当している。
　また，引用発明の透明導電層２１は，電磁波シールド手段として機能するものであって，導電性が高いほど電磁波シールド効果が高いのだから，当該透明導電層２１が，前記刊行物２記載の技術における透明導電膜と同様に，導電性が高いほうが望ましいことは明らかである。さらに，引用発明の透明導電層２１は，透過型液晶表示装置の液晶表示素子部３０と導光板１２との間に設けられており，透過型液晶表示装置は，当該透明導電層２１を通過した光を用いて表示画像を表現するものであって，透明度が低いと表示画像の輝度が低下してしまうのだから，当該透明導電層２１が，前記刊行物２記載の技術における透明導電膜と同様に，透明性が高いほうが望ましいこともまた明らかである。
　しかも，刊行物２には，電磁シールドの用途に用いられる透明導電膜に適用することの開示があるのだから（記載事項９），引用発明の透明導電層２１の導電性と透明性を改善することを意図して，その形成方法として前記刊行物２記載の技術を採用して，真空蒸着法やスパッタリング法といった蒸着により金属酸化物膜を成膜した後にレーザー光を照射して，透明導電層２１を形成すること，すなわち，相違点２に係る本願補正発明の構成を採用することは，当該刊行物２に接した当業者が容易に想到し得たことというほかない。
　
　なお，刊行物２の記載事項１３，１４によれば，刊行物２に記載の技術を採用することによって得られる透明導電膜の表面抵抗は，２０あるいは２００Ω／□程度の値であって，依然として，本件補正後の請求項１に規定された表面抵抗の数値範囲内の値であると認められるから，刊行物２に記載の技術を採用することによって改善された引用発明の透明導電層２１の表面抵抗値が，新たな相違点になることはない。
　また，そもそも，透明導電層２１の表面抵抗値をどの程度にするのかは，引用発明の適用装置として想定されている透過型液晶表示装置において，どの程度の強さの電磁波が発生し，どの程度の電磁波シールド効果が必要とされているのかに応じて，適宜決定すれば足りる設計事項というべきである。そして，刊行物２に記載の技術を採用した引用発明においては，当該決定した表面抵抗値に応じて，レーザー出力を調節すれば，所望の表面抵抗値を有する透明導電層２１を得られるのである（記載事項１２）。したがって，刊行物２に記載の技術を採用することによって改善された引用発明の透明導電層２１の表面抵抗値を新たな相違点として検討したとしても，レーザー照射後の透明導電層２１の表面抵抗値として，「５Ω／□以上２５０Ω／□以下」という数値範囲内の適宜値を選択し，当該値を実現するために適宜レーザー出力を調節することは，当業者が容易に想到し得たことというほかないのであって，当該新たな相違点に進歩性は認められない。
　
　なお，請求人は，審判請求書において，刊行物１に記載された発明に対する本願補正発明の進歩性に関して，「ＩＴＯを用いて金属酸化物を形成する場合において，当業者は形成手段としてスパッタリングを用いるのが通常であると考えられる。そのため，「蒸着」を用いることは当業者が容易に想到し得るものではない。」などと主張しており，当該主張は，「蒸着」がスパッタリング法を包含しない概念であることを前提としたものと考えられるが，前述したとおり，本願明細書の記載からは，請求項１に記載された「蒸着」は，スパッタリング法を包含する広義の「蒸着」と解するのが相当であるから，当該請求人の主張を採用することはできない。
　また，仮に，本件補正後の請求項１に記載された「蒸着」を，真空蒸着法のみを意味する狭義の「蒸着」と解した場合であっても，刊行物２に記載された技術は，透明導電膜の成膜方法として，スパッタリング法ばかりでなく真空蒸着法を用いることができることも開示しているから（記載事項１１，１４等），いずれにしても，引用発明において，相違点２に係る本願補正発明の構成を採用することは，刊行物２に記載された技術に基づいて，当業者が容易に想到し得たことである。
　
（７）相違点３についての判断
　光拡散シートにおいて，導光板等との接触によるスティッキングを防止するために，光拡散シートの導光板等と接触する側の表層に，バインダー中にビーズが分散するスティッキング防止層を塗布法等により形成する技術は，例えば，特開２００１−２１８８５号公報（原査定の拒絶の理由で周知例である「引用文献３」として例示された刊行物。以下「周知例６」という。【００２５】等を参照。），前記周知例２（【００１５】，【００２７】等を参照。），前記周知例３（【００１４】，【００１７】〜【００１８】等を参照。），前記周知例４（【０００７】，【００１１】等を参照。），前記周知例５（【０００８】，【００２３】〜【００２８】，【００３２】等を参照。）等にみられるように，本願出願前に周知の技術（以下「第２の周知技術」という。）である。
　引用発明の光拡散シート２０は，「透過型液晶表示装置の液晶表示素子部３０と導光板１２との間に，光拡散層２３が液晶表示素子部３０側に，透明導電層２１が導光板１２側となるように設けられる」ものであるところ，当該引用発明においても，光拡散シート２０と導光板１２との接触によるスティッキングが発生する可能性があることは明らかであるから，引用発明において，導光板１２と接触する透明導電層２１の表層に，バインダー中にビーズが分散するスティッキング防止層を形成すること，すなわち，相違点３に係る本願補正発明の構成を採用することは，前記第２の周知技術を熟知する当業者が容易に想到し得たことである。
　
（８）本願補正発明の効果について
　本願補正発明の効果は，当業者が容易に予測できる程度のものにすぎない。
　
（９）補正の適否についてのまとめ
　以上のとおり，本願補正発明は，引用発明に，刊行物２に記載された技術及び各周知技術を適用することによって，当業者が容易に発明をすることができたものであり，特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　よって，本件補正は，平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので，同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
　
第３　本願発明について
１．本願発明
　平成２３年８月３０日付けの手続補正は，前記のとおり却下されたので，本願の請求項１〜４に係る発明は，平成２３年２月２８日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１〜４に記載された事項により特定されるものであるところ，その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は，次のとおりのものである。
　
「　透明な基材層と，光学的機能を有する光学層とを備える光学シートであって，
　基材層の裏面に導電性を有する透明な金属酸化物膜が積層され，
　上記金属酸化物膜が蒸着により積層され，
　上記金属酸化物膜を構成する金属酸化物としてＩＴＯが用いられ，
　上記金属酸化物膜の表面抵抗が５Ω／□以上２５０Ω／□以下であり，
　上記基材層を基準にして光学層側と反対側に，バインダー中にビーズが分散するスティッキング防止層をさらに備えることを特徴とする光学シート。」
　
２．原査定の拒絶の理由の概要
　原査定の拒絶の理由は，本願発明は，引用文献１に記載された発明に，引用文献３等に示されるような周知技術を適用することによって，当業者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないというものである。
　
３．原査定の引用例
　原査定で引用された引用文献１は，前記第２　で引用した刊行物１であって，その記載事項，及び，当該刊行物１に記載された発明については，前記第２　２．（３）で摘記し，引用発明として認定したとおりである。
　また，原査定で周知例として例示された引用文献３は，前記第２　２．（７）で周知例として例示した周知例６であって，当該周知例６等に示される周知技術については，前記第２　２．（７）で第２の周知技術として認定したとおりである。
　
４．対比
　本願発明と引用発明とを対比する。
　
　引用発明の「ポリエステルフィルムよりなる基板２２」，「光拡散層２３」，「基板２２の他方の面に設けられ」，「『結晶化インジウム錫酸化物』よりなる『透明導電層２１』」，「透明導電層２１の表面抵抗」及び「光拡散シート２０」は，本願発明の「透明な基材層」，「光学的機能を有する光学層」，「『基材層の裏面』に『積層され』」，「『金属酸化物としてＩＴＯ』が用いられる『導電性を有する透明な金属酸化物膜』」，「金属酸化物膜の表面抵抗」及び「光学シート」に，それぞれ相当する。 
　また，引用発明の「１００〜５００Ω／□」と本願発明の「５Ω／□以上２５０Ω／□以下」とは「１００〜２５０Ω／□」の範囲で一致する。
　
　したがって，本願発明と，引用発明とは，
「　透明な基材層と，光学的機能を有する光学層とを備える光学シートであって，
　基材層の裏面に導電性を有する透明な金属酸化物膜が積層され，
　上記金属酸化物膜を構成する金属酸化物としてＩＴＯが用いられ，
　上記金属酸化物膜の表面抵抗が１００Ω／□以上２５０Ω／□以下である，
　光学シート。」
である点で一致し，次の点で相違する。
　
相違点４：金属酸化物膜について，本願発明では，蒸着により積層されているのに対して，引用発明では，どのようにして設けられたものであるのか不明な点。
　
相違点５：本願発明が，基材層を基準にして光学層側と反対側に，バインダー中にビーズが分散するスティッキング防止層を備えているのに対して，引用発明は，このようなスティッキング防止層を有していない点。
　
５．判断
（１）相違点４についての判断
　光学シートの技術分野において，ＩＴＯ等の金属酸化物からなり，電磁波シールド手段として機能する透明導電層を，基材上に，真空蒸着法やスパッタリング法等の蒸着により形成する技術は，例えば，特開２０００−９８１３２号公報（以下「周知例７」という。【０００９】〜【００１２】，【００３１】，【００３３】，【００４６】等を参照。），特開２０００−１９３２５号公報（以下「周知例８」という。【００４１】〜【００４４】等を参照。），特開平７−２９７５９１号公報（以下「周知例９」という。３頁左欄２７〜４５行等を参照。），特開平６−３３４９４１号公報（以下「周知例１０」という。【００１７】等を参照。）等にみられるように，本願出願前に周知の技術（以下「第３の周知技術」という。）である。
　刊行物１には，透明導電層２１をどのようにして形成するのかについて明記されてはいないところ，その形成方法として前記第３の周知技術を採用して，引用発明１の透明導電層２１を，真空蒸着法やスパッタリング法等の蒸着により基板２２上に積層して形成すること，すなわち，相違点４に係る本願発明の構成を採用することは，当該第３の周知技術を熟知する当業者にとって，適宜なし得た設計事項というほかない。
　
　なお，仮に，請求項１に記載された「蒸着」を，真空蒸着法のみを意味する狭義の「蒸着」と解した場合であっても，周知例７〜１０はいずれも透明導電層を真空蒸着法で形成することを開示しているから，引用発明において相違点４に係る本願発明の構成を採用することは，やはり，これら周知例に示される周知技術を熟知する当業者にとって，適宜なし得た設計事項というほかない。
　
（２）相違点５についての判断
　前記第２　２．（７）で述べたのと同じ理由で，引用発明において，導光板１２と接触する透明導電層２１の表層に，バインダー中にビーズが分散するスティッキング防止層を形成すること，すなわち，相違点５に係る本願発明の構成を採用することは，前記第２の周知技術を熟知する当業者が容易に想到し得たことである。
　
（３）本願発明の効果について
　本願発明の効果は，当業者が容易に予測できる程度のものにすぎない。
　
６．原査定の拒絶の理由について
　拒絶査定の備考欄には，相違点４に関連して，「「蒸着により積層」された「金属酸化物膜」と，蒸着以外の方法により積層された「金属酸化物膜」とは物として相違しない」との付記がなされているところ，蒸着により成膜された金属酸化物膜と，蒸着以外の例えば塗布法によって得られた金属酸化物膜とは，その緻密性等において差異が存在すると考えられるから，当該付記で示されている判断は妥当なものとはいえない。
　しかしながら，原査定の備考欄には，当該付記に引き続いて，「スパッタリングも蒸着も金属酸化物膜を形成する際の周知・慣用技術であって，両者の手法はいずれも適宜採用し得る手法に過ぎない。」という，前記５．（１）における当審の判断と同旨の，相違点４を認めた上での該相違点４についての判断も示されているから，原査定の拒絶の理由は，実質的に，当審の判断における拒絶の理由と同一のものと認められる。
　よって，改めて拒絶の理由を通知することはしない。
　
７．むすび
　以上のとおり，本願の請求項１に係る発明は，引用発明及び各周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないとした原査定の拒絶の理由に誤りはない。
　よって，結論のとおり審決する。