【手続補正書】
【提出日】平成17年5月13日(2005.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
供給源に１５０ナノメートル〜２６０ナノメートルの波長範囲の電磁放射線を放射させる工程と、
ターゲット表面を前記電磁放射線の少なくとも一部分の通路に、前記ターゲット表面の少なくとも一部分がそれによって照明されるように配置する工程と、
前記ターゲット表面と前記供給源との間の前記電磁放射線の少なくとも一部分の通路に、１５０〜２６０ｎｍの波長で＜１の吸光度／マイクロメータ、及び＜１Ｊ／ｇの融解熱を示すフルオロポリマーを含む造形物品を挿入する工程であって、前記フルオロポリマーが、Ａ群から選択されたホモポリマーまたはＢ、Ｃ、及びＤ群からのコポリマーである、工程とを含む方法であって、
Ａ群が、ＣＨ2＝ＣＦＣＦ3のホモポリマーからなり、
Ｂ群が、ＣＦ2＝ＣＨＯＲfから誘導されたモノマー単位＞２５モル％を、フッ化ビニリデンから誘導されたモノマー単位とともに含むコポリマーからなり、式中、Ｒfが、式ＣnＦ2n-y+1Ｈyを有する直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ６フルオロアルキル基（水素の数がフッ素の数以下であり、２個以下の隣接した炭素原子が水素に結合しており、エーテル酸素が炭素の１個以上を置換することができ、任意のエーテル酸素に隣接した炭素の少なくとも１個が過フッ素化される）であり、
Ｃ群が、ＣＨ2＝ＣＦＣＦ3、ＣＦ2＝ＣＨＯＲf、またはそれらの混合物から誘導されたモノマー単位＞１０モル％を、１，３ペルフルオロジオキソールから誘導されたモノマー単位とともに含むコポリマーからなり、
式中、Ｒfが、式ＣnＦ2n-ＣnＦ2n-y+1Ｈy基を有する直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ６フルオロアルキル基（水素の数がフッ素の数以下であり、２個以下の隣接した炭素原子が水素に結合しており、エーテル酸素が炭素の１個以上を置換することができ、任意の酸素に隣接した炭素の少なくとも１個が過フッ素化される）であり、前記１，３−ペルフルオロジオキソールが構造：
【化１】
2004536171.tif 000001
を有し、式中、Ｒa及びＲbが独立して、Ｆ、または、任意にエーテル酸素によって置換された、直鎖状−ＣnＦ2n+1（式中、ｎ＝１〜５）であり、
Ｄ群が、式：
【化２】
2004536171.tif 000002
によって表されるモノマーから誘導されたモノマー単位４０〜６０モル％を、
フッ化ビニリデン及びまたはフッ化ビニルから誘導されたモノマー単位とともに含むコポリマーからなり、式中、Ｇ及びＱが独立してＦ（両方がＦではない）、Ｈ、Ｒf、または−ＯＲfであり、Ｒfが、式ＣnＦ2n-y+1Ｈyを有する直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ５フルオロアルキル基（水素の数がフッ素の数以下であり、２個以下の隣接した炭素原子が水素に結合しており、エーテル酸素が炭素の１個以上を置換することができ、任意のエーテル酸素に隣接した炭素の少なくとも１個が過フッ素化される）である方法。
【請求項２】
１５０〜２６０ナノメートルの波長範囲の電磁放射線の作動可能供給源と、１５０〜２６０ｎｍの波長で＜１の吸光度／ミクロン、及び＜１Ｊ／ｇの融解熱を示すフルオロポリマーを含む造形物品とを含む装置であって、前記フルオロポリマーが、Ａ群から選択されたホモポリマーまたはＢ、Ｃ、及びＤ群から選択されたコポリマーであり、
Ａ群が、ＣＨ2＝ＣＦＣＦ3のホモポリマーからなり、
Ｂ群が、ＣＦ2＝ＣＨＯＲfから誘導されたモノマー単位＞２５モル％を、フッ化ビニリデンから誘導されたモノマー単位とともに含むコポリマーからなり、式中、Ｒfが、式ＣnＦ2n-y+1Ｈyを有する直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ６フルオロアルキル基（水素の数がフッ素の数以下であり、２個以下の隣接した炭素原子が水素に結合しており、エーテル酸素が炭素の１個以上を置換することができ、任意のエーテル酸素に隣接した炭素の少なくとも１個が過フッ素化される）であり、
Ｃ群が、ＣＨ2＝ＣＦＣＦ3、ＣＦ2＝ＣＨＯＲf、またはそれらの混合物から誘導されたモノマー単位＞１０モル％を、１，３ペルフルオロジオキソールから誘導されたモノマー単位とともに含むコポリマーからなり、式中、Ｒfが、式ＣnＦ2n-ＣnＦ2n-y+1Ｈyを有する直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ６フルオロアルキル基（水素の数がフッ素の数以下であり、２個以下の隣接した炭素原子が水素に結合しており、エーテル酸素が炭素の１個以上を置換することができ、任意のエーテル酸素に隣接した炭素の少なくとも１個が過フッ素化される）であり、前記１，３−ペルフルオロジオキソールが構造：
【化３】
2004536171.tif 000003
を有し、式中、Ｒa及びＲbが独立して、Ｆ、または、任意にエーテル酸素によって置換された、直鎖状−ＣnＦ2n+1（式中、ｎ＝１〜５）であり、
Ｄ群が、式：
【化４】
2004536171.tif 000004
によって表されるモノマーから誘導されたモノマー単位４０〜６０モル％を、フッ化ビニリデン及びまたはフッ化ビニルから誘導されたモノマー単位とともに含むコポリマーからなり、式中、Ｇ及びＱが独立してＦ（両方がＦではない）、Ｈ、Ｒf、または−ＯＲfであり、Ｒfが、式ＣnＦ2n-y+1Ｈyを有する直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ５フルオロアルキル基（水素の数がフッ素の数以下であり、２個以下の隣接した炭素原子が水素に結合しており、エーテル酸素が炭素の１個以上を置換することができ、任意のエーテル酸素に隣接した炭素の少なくとも１個が過フッ素化される）であり、
前記造形物品が、前記供給源が作動される時に前記供給源から放出された光の光路内にあるように配置される装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３４】
ポリマー８の屈折率対ナノメートル単位の波長ラムダ（λ）を図１６に示す。確認された１５７ｎｍの屈折率は１．４６である。確認された１９３ｎｍの屈折率は１．４１である。２４８ｎｍの屈折率は１．３８である。
本発明の好適な実施の態様は次のとおりである。
１．供給源に１５０ナノメートル〜２６０ナノメートルの波長範囲の電磁放射線を放射させる工程と、
ターゲット表面を前記電磁放射線の少なくとも一部分の通路に、前記ターゲット表面の少なくとも一部分がそれによって照明されるように配置する工程と、
前記ターゲット表面と前記供給源との間の前記電磁放射線の少なくとも一部分の通路に、１５０〜２６０ｎｍの波長で＜１の吸光度／マイクロメータ、及び＜１Ｊ／ｇの融解熱を示すフルオロポリマーを含む造形物品を挿入する工程であって、前記フルオロポリマーが、Ａ群から選択されたホモポリマーまたはＢ、Ｃ、及びＤ群からのコポリマーである、工程とを含む方法であって、
Ａ群が、ＣＨ2＝ＣＦＣＦ3のホモポリマーからなり、
Ｂ群が、ＣＦ2＝ＣＨＯＲfから誘導されたモノマー単位＞２５モル％を、フッ化ビニリデンから誘導されたモノマー単位とともに含むコポリマーからなり、式中、Ｒfが、式ＣnＦ2n-y+1Ｈyを有する直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ６フルオロアルキル基（水素の数がフッ素の数以下であり、２個以下の隣接した炭素原子が水素に結合しており、エーテル酸素が炭素の１個以上を置換することができ、任意のエーテル酸素に隣接した炭素の少なくとも１個が過フッ素化される）であり、
Ｃ群が、ＣＨ2＝ＣＦＣＦ3、ＣＦ2＝ＣＨＯＲf、またはそれらの混合物から誘導されたモノマー単位＞１０モル％を、１，３ペルフルオロジオキソールから誘導されたモノマー単位とともに含むコポリマーからなり、
式中、Ｒfが、式ＣnＦ2n-ＣnＦ2n-y+1Ｈy基を有する直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ６フルオロアルキル基（水素の数がフッ素の数以下であり、２個以下の隣接した炭素原子が水素に結合しており、エーテル酸素が炭素の１個以上を置換することができ、任意の酸素に隣接した炭素の少なくとも１個が過フッ素化される）であり、前記１，３−ペルフルオロジオキソールが構造：
【化１】
2004536171.tif 000005
を有し、式中、Ｒa及びＲbが独立して、Ｆ、または、任意にエーテル酸素によって置換された、直鎖状−ＣnＦ2n+1（式中、ｎ＝１〜５）であり、
Ｄ群が、式：
【化２】
2004536171.tif 000006
によって表されるモノマーから誘導されたモノマー単位４０〜６０モル％を、
フッ化ビニリデン及びまたはフッ化ビニルから誘導されたモノマー単位とともに含むコポリマーからなり、式中、Ｇ及びＱが独立してＦ（両方がＦではない）、Ｈ、Ｒf、または−ＯＲfであり、Ｒfが、式ＣnＦ2n-y+1Ｈyを有する直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ５フルオロアルキル基（水素の数がフッ素の数以下であり、２個以下の隣接した炭素原子が水素に結合しており、エーテル酸素が炭素の１個以上を置換することができ、任意のエーテル酸素に隣接した炭素の少なくとも１個が過フッ素化される）である方法。
２．前記造形物品が、写真平版に使用するためのペリクルフィルムである、上記１に記載の方法。
３．前記供給源が、１５７ｎｍの電磁放射線を放射するレーザーである、上記１に記載の方法。
４．前記ターゲット表面が感光性ポリマーを含む、上記１に記載の方法。
５．前記造形物品がレンズであり、前記フルオロポリマーがその表面の上に配置されたコーティングである、上記１に記載の方法。
６．前記フルオロポリマーが接着剤組成物の成分である、上記１に記載の方法。
７．前記造形物品が、前記フルオロポリマーから形成されたレンズである、上記１に記載の方法。
８．前記フルオロポリマーが、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＦ3）ＣＦ2ＯＣＨ（ＣＦ3）2とフッ化ビニリデンとのコポリマーである、上記１に記載の方法。
９．前記フルオロポリマーが、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＦ3）ＣＦ2ＯＣＦ（ＣＦ3）2とフッ化ビニリデンとのコポリマーである、上記１に記載の方法。
１０．前記フルオロポリマーが、ＣＦ2＝ＣＨＯＣＦ2ＣＦ2Ｈとフッ化ビニリデンとのコポリマーである、上記１に記載の方法。
１１．前記フルオロポリマーが、ＣＦ2＝ＣＨＯＣＦ2ＣＦ2Ｈと４，５−ジフルオロ−２，２−ビス（トリフルオロメチル）−１，３−ジオキソールとのコポリマーである、上記１に記載の方法。
１２．前記フルオロポリマーが、ＣＦ2＝ＣＨＯＣＦ2ＣＦ3とフッ化ビニリデンとのコポリマーである、上記１に記載の方法。
１３．前記フルオロポリマーが、ＣＦ2＝ＣＨＯＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ3と４，５−ジフルオロ−２，２−ビス（トリフルオロメチル）−１，３−ジオキソールとのコポリマーである、上記１に記載の方法。
１４．前記フルオロポリマーが、ＣＨ2＝ＣＦＣＦ3のホモポリマーである、上記１に記載の方法。
１５．前記フルオロポリマーが、ＣＨ2＝ＣＦＣＦ3と４，５−ジフルオロ−２，２−ビス（トリフルオロメチル）−１，３−ジオキソールとのコポリマーである、上記１に記載の方法。
１６．１５０〜２６０ナノメートルの波長範囲の電磁放射線の作動可能供給源と、１５０〜２６０ｎｍの波長で＜１の吸光度／ミクロン、及び＜１Ｊ／ｇの融解熱を示すフルオロポリマーを含む造形物品とを含む装置であって、前記フルオロポリマーが、Ａ群から選択されたホモポリマーまたはＢ、Ｃ、及びＤ群から選択されたコポリマーであり、
Ａ群が、ＣＨ2＝ＣＦＣＦ3のホモポリマーからなり、
Ｂ群が、ＣＦ2＝ＣＨＯＲfから誘導されたモノマー単位＞２５モル％を、フッ化ビニリデンから誘導されたモノマー単位とともに含むコポリマーからなり、式中、Ｒfが、式ＣnＦ2n-y+1Ｈyを有する直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ６フルオロアルキル基（水素の数がフッ素の数以下であり、２個以下の隣接した炭素原子が水素に結合しており、エーテル酸素が炭素の１個以上を置換することができ、任意のエーテル酸素に隣接した炭素の少なくとも１個が過フッ素化される）であり、
Ｃ群が、ＣＨ2＝ＣＦＣＦ3、ＣＦ2＝ＣＨＯＲf、またはそれらの混合物から誘導されたモノマー単位＞１０モル％を、１，３ペルフルオロジオキソールから誘導されたモノマー単位とともに含むコポリマーからなり、式中、Ｒfが、式ＣnＦ2n-ＣnＦ2n-y+1Ｈyを有する直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ６フルオロアルキル基（水素の数がフッ素の数以下であり、２個以下の隣接した炭素原子が水素に結合しており、エーテル酸素が炭素の１個以上を置換することができ、任意のエーテル酸素に隣接した炭素の少なくとも１個が過フッ素化される）であり、前記１，３−ペルフルオロジオキソールが構造：
【化３】
2004536171.tif 000007
を有し、式中、Ｒa及びＲbが独立して、Ｆ、または、任意にエーテル酸素によって置換された、直鎖状−ＣnＦ2n+1（式中、ｎ＝１〜５）であり、
Ｄ群が、式：
【化４】
2004536171.tif 000008
によって表されるモノマーから誘導されたモノマー単位４０〜６０モル％を、フッ化ビニリデン及びまたはフッ化ビニルから誘導されたモノマー単位とともに含むコポリマーからなり、式中、Ｇ及びＱが独立してＦ（両方がＦではない）、Ｈ、Ｒf、または−ＯＲfであり、Ｒfが、式ＣnＦ2n-y+1Ｈyを有する直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ５フルオロアルキル基（水素の数がフッ素の数以下であり、２個以下の隣接した炭素原子が水素に結合しており、エーテル酸素が炭素の１個以上を置換することができ、任意のエーテル酸素に隣接した炭素の少なくとも１個が過フッ素化される）であり、
前記造形物品が、前記供給源が作動される時に前記供給源から放出された光の光路内にあるように配置される装置。
１７．前記作動可能光源が、１５７ｎｍの電磁放射線を放射するレーザーである、上記１６に記載の装置。
１８．ターゲット表面を更に含む、上記１６に記載の装置。
１９．前記ターゲット表面が感光性ポリマーを含む、上記１８に記載の装置。
２０．前記造形物品がレンズであり、前記フルオロポリマーがその表面の上に配置されたコーティングである、上記１６に記載の装置。
２１．前記フルオロポリマーが接着剤組成物の成分である、上記１６に記載の装置。
２２．前記造形物品が、前記フルオロポリマーから形成されたレンズである、上記１６に記載の装置。
２３．前記造形物品が、写真平版に使用するためのペリクルフィルムである、上記１６に記載の装置。
２４．前記フルオロポリマーが、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＦ3）ＣＦ2ＯＣＨ（ＣＦ3）2とフッ化ビニリデンとのコポリマーである、上記１６に記載の装置。
２５．前記フルオロポリマーが、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＦ3）ＣＦ2ＯＣＦ（ＣＦ3）2とフッ化ビニリデンとのコポリマーである、上記１６に記載の装置。
２６．前記フルオロポリマーが、ＣＦ2＝ＣＨＯＣＦ2ＣＦ2Ｈとフッ化ビニリデンとのコポリマーである、上記１６に記載の装置。
２７．前記フルオロポリマーが、ＣＦ2＝ＣＨＯＣＦ2ＣＦ2Ｈと４，５−ジフルオロ−２，２−ビス（トリフルオロメチル）−１，３−ジオキソールとのコポリマーである、上記１６に記載の装置。
２８．前記フルオロポリマーが、ＣＦ2＝ＣＨＯＣＦ2ＣＦ3とフッ化ビニリデンとのコポリマーである、上記１６に記載の装置。
２９．前記フルオロポリマーが、ＣＦ2＝ＣＨＯＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ3と４，５−ジフルオロ−２，２−ビス（トリフルオロメチル）−１，３−ジオキソールとのコポリマーである上記１６に記載の装置。
３０．前記フルオロポリマーが、ＣＨ2＝ＣＦＣＦ3のホモポリマーである、上記１６に記載の装置。
３１．前記フルオロポリマーが、ＣＨ2＝ＣＦＣＦ3と４，５−ジフルオロ−２，２−ビス（トリフルオロメチル）−１，３−ジオキソールとのコポリマーである、上記１６に記載の装置。