Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月5日(2005.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  選択的に複数の流体を作用表面へ適用するための握り流体アプリケータと共に使用するための流体アプリケータチップであって、該アプリケータチップは、以下：
ａ）混合チャンバ；
ｂ）該混合チャンバから流体が分配され得る少なくとも１つのカニューレ；
ｃ）該混合チャンバへ吸引を提供するための吸引経路；
ｄ）該混合チャンバへ流体を提供するための１対の管；および
ｅ）操作可能な制御バルブであって、該制御バルブは、該混合チャンバへの該吸引経路の連結および該混合チャンバへの該一対の管の連結を制御するためであり、該制御バルブが、該制御バルブが第１位置にある場合に該混合チャンバへの該吸引経路を連結し、そして該制御バルブが、該制御バルブが第２位置にある場合に該混合チャンバへ該一対の管を連結し、該制御バルブが、手動アクチュエータにより遠隔操作可能である、制御バルブ
を備える、アプリケータチップ。
【請求項２】  請求項１に記載のアプリケータチップであって、前記制御バルブが、前記第１位置と前記第２位置に回転のために搭載されている回転可能搭載ディスクである、アプリケータチップ。
【請求項３】  請求項１に記載のアプリケータチップであって、該アプリケータチップが、流体を前記管から前記混合チャンバへ流すためのみに配置されている一対の一方向バルブをさらに備える、アプリケータチップ。
【請求項４】  請求項１に記載のアプリケータチップであって、該アプリケータチップが、作用表面へ吸引および流体を同時に適用するための個々のカニューレを備える、アプリケータチップ。
【請求項５】  請求項１に記載のアプリケータチップであって、前記混合チャンバから分配される前記流体が、少なくとも２種の別個のシーラント薬剤成分を含むシーラント薬剤であり、ここで、これらの成分が、前記一対の管によって前記混合領域へ供給される、アプリケータチップ。
【請求項６】  請求項１に記載のアプリケータチップであって、前記制御バルブが、バルブ開口部を有するシャトルバルブであり、そして該シャトルバルブが、該バルブ開口部を前記第１および第２位置へ滑動可能に配置するために、構成され、寸法にされ、かつ配置されている、アプリケータチップ。
【請求項７】  請求項１に記載のアプリケータチップであって、前記一対の管が、さらに可撓性膜を備え、該可撓性膜が、該一対の管の内壁および外壁を規定する、アプリケータチップ。
【請求項８】  請求項７に記載のアプリケータチップであって、前記制御バルブが、該制御バルブが前記第１位置にある場合に前記可撓性膜を押え付けて、該可撓性膜の内壁を前記一対の管へ共に近づかせかつ効果的に遮蔽する、アプリケータチップ。
【請求項９】  請求項１に記載のアプリケータチップであって、前記制御バルブが、前記第１および第２位置への移動のために搭載されているフラップバルブである、アプリケータチップ。
【請求項１０】  請求項８に記載のアプリケータチップであって、前記制御バルブが、該アプリケータチップから離れた位置から操作される、アプリケータチップ。
【請求項１１】  請求項９に記載のアプリケータチップであって、前記制御バルブが、前記管からの流体の流れを制御するために操作される、アプリケータチップ。
【請求項１２】  請求項１１に記載のアプリケータチップであって、前記制御バルブが、該アプリケータチップから離れた位置から操作される、アプリケータチップ。
【請求項１３】  請求項１に記載のアプリケーションチップであって、該アプリケーションチップが、流体アプリケータに連結し得る、アプリケーションチップ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月16日(2006.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  接着テープに付着している皮膚サンプルの単離を可能にする条件下で、被験体の皮膚に接着テープが適用されることにより得られた皮膚サンプルからのリボ核酸(RNA)の相対的発現量の定量方法であって、
(a) 皮膚サンプルからのRNAを検出すること、および
(b) 皮膚サンプル中のRNAのレベルをコントロールサンプルと比較し、RNAの相対的発現量を定量すること、
を含む前記方法。
【請求項２】  皮膚サンプルが、接着テープの適用と除去により得られた角質層細胞および角質層と結合した細胞を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  検出が、mRNAを検出することである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】  検出が、サイトカインをコードするRNAを検出することである、請求項１に記載の方法。
【請求項５】  検出が、インターロイキンをコードするRNAを検出することである、請求項１に記載の方法。
【請求項６】  検出が、インターロイキン-1(IL-1)、インターロイキン-2(IL-2)、インターロイキン-3(IL-3)、インターロイキン-4(IL-4)、インターロイキン-5(IL-5)、インターロイキン-6(IL-6)、インターロイキン-8(IL-8)、インターロイキン-10(IL-10)、インターロイキン-12(IL-12)、インターロイキン-13(IL-13)、顆粒球マクロファージコロニー刺激因子(GM-CSF)またはインターフェロン、あるいはこれらの任意の組み合わせをコードするRNAを検出することである、請求項１に記載の方法。
【請求項７】  検出が、炎症メディエーターをコードするmRNAを検出することである、請求項３に記載の方法。
【請求項８】  皮膚サンプルが、疾患、障害または炎症反応に冒された被験体から得られたものである、請求項１に記載の方法。
【請求項９】  被験体が皮膚炎に冒されている、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  被験体の皮膚が、皮膚に接着テープが適用されることにより皮膚サンプルが得られる前に、皮膚炎を引き起こす外因性作用物質と接触させられたものである、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】  皮膚サンプルが哺乳動物から得られたものである、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】  皮膚サンプルがヒトから得られたものである、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】  皮膚サンプルが非ヒトから得られたものである、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月4日(2006.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  
(a)  少なくとも１つの表面を有し、基礎材料（１４）から構成されており、患者の体内に導入することができる構造体（１２）と、
(b)  前記１つの表面の少なくとも一部分の上に配置された第１の生物活性物質の少なくとも１つの層（１８）と
を有し、
前記第１の生物活性物質がパクリタキセルからなる
ことを特徴とする植込式医療装置（１０）。
【請求項２】  
前記パクリタキセルの濃度は、０．０６ｍｇ／ｍｍ２と６０ｍｇ／ｍｍ２の間である
ことを特徴とする請求項１に記載の装置（１０）。
【請求項３】  
前記パクリタキセルの濃度は、１．５ｍｇ／ｍｍ２と５ｍｇ／ｍｍ２の間である
ことを特徴とする請求項２に記載の装置（１０）。
【請求項４】  
前記パクリタキセルの濃度は、１．８ｍｇ／ｍｍ２である
ことを特徴とする請求項１に記載の装置（１０）。
【請求項５】  
前記パクリタキセルの量は、３５と４００μｇの間である
ことを特徴とする請求項１に記載の装置（１０）。
【請求項６】  
前記少なくとも１つの表面は、前記第１の生物活性物質の前記基礎材料への接着を増加させる表面エネルギー密度を有する
ことを特徴とする請求項１−５のいずれかに記載の装置（１０）。
【請求項７】  
前記構造体（１２）の１つの表面上に配置された少なくとも１つの接着促進層（３０）をさらに有し、
前記パクリタキセルは、前記少なくとも１つの接着促進層（３０）の少なくとも一部上に配置される
ことを特徴とする請求項１−６のいずれかに記載の装置（１０）。
【請求項８】  
少なくとも１つのコーティング層（１６）は、生物活性物質の相（１８）の下にある前記構造体（１２）の１つの表面上に配置され、
前記コーティング層は、前記第１の生物活性物質の前記コーティング層への接着を増加させる表面エネルギー密度を有し、
前記少なくとも１つのコーティング層は、前記少なくとも１つのコーティング層（１６）から前記生物活性物質を徐々に放出する
ことを特徴とする請求項１−５のいずれかに記載の装置（１０）。
【請求項９】  
前記コーティング層（１６）が、非孔質材料からなる
ことを特徴とする請求項８に記載の装置（１０）。
【請求項１０】  
前記少なくとも１つのコーティング層（１６）が、パリレン誘導体からなる
ことを特徴とする請求項８に記載の装置（１０）。
【請求項１１】  
前記少なくとも１つのコーティング層（１６）が、５０，０００から５００，０００オングストロームの範囲の厚さを有する
ことを特徴とする請求項１０に記載の装置（１０）。
【請求項１２】  
前記少なくとも１つのコーティング層（１６）が、１００，０００から５００，０００オングストロームの範囲の厚さを有する
ことを特徴とする請求項１０に記載の装置（１０）。
【請求項１３】  
少なくとも１つのコーティング層（１６）が、約２００，０００オングストロームの厚さを有する
ことを特徴とする請求項１０に記載の装置（１０）。
【請求項１４】  
前記非孔質材料が、吸着性物質および吸収性物質の少なくとも１つである
ことを特徴とする請求項８に記載の装置（１０）。
【請求項１５】  
前記吸着性物質の前記少なくとも１つのコーティング層（１６）が、約２３０，０００オングストロームの厚さを有する
ことを特徴とする請求項１４に記載の装置（１０）。
【請求項１６】  
前記生物活性物質層が、キメラ・モノクローン抗体を含む
ことを特徴とする請求項１−１５のいずれかに記載の装置（１０）。
【請求項１７】  
前記生物活性物質層（１８）上に配置された少なくとも１つの多孔質層（２０）を更に有し、
前記少なくとも１つの多孔質層（２０）が、ポリマーで構成され、
前記ポリマーが、前記少なくとも１つの多孔質層を通して前記生物活性物質を徐々に放出する
ことを特徴とする請求項１−１６のいずれかに記載の装置（１０）。
【請求項１８】  
ポリマーが、ポリアミド、パリレンまたはその誘導体のポリマー、ポリ（エチレン酸化物）、ポリ（エチレングリコール）、ポリ（プロピレン酸化物）、シリコン系ポリマー、メタンのポリマー、テトラフルオロエチレンまたはテトラメチルジシロキサンまたは光重合可能なモノマーから誘導したポリマーからなる群から選択される
ことを特徴とする請求項１７に記載の装置（１０）。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月8日(2006.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  一次導管と同一次体内導管と交差部を形成する二次体内導管との体液の流れをコントロールするのに使用するために適合した流れ遮断器であって、
基端端部と末端端部とを備えたフレキシブルな壁を有するスリーブを備え、スリーブは、一次導管内にて二次体内導管の交差部にわたると共に、一次体内導管の末端端部を一次体内導管内の流れの方向へ向けた、使用中の配置に適合され、  スリーブの基端部分のスリーブの第１部分は、体液のスリーブ内への流れを容易にする第１の開口を壁に形成し、
スリーブの末端部分のスリーブの第２部分は、体液のスリーブからの流れを容易にする第２の開口を壁に形成し、
スリーブの末端端部の第２の開口は、スリーブの基端端部の第１の開口よりも小さくて、スリーブ内の体液の圧力を増加させ、
スリーブのフレキシブルな壁はスリーブ内の体液の圧力の増加に応答して、一次導管にもたれかかるように壁を動かして、それにより、スリーブを通る体液の流れを容易にし、
一次導管と近接したスリーブは、二次体内導管への交差部を封鎖するのに役立って、一次導管と二次導管との間での体液の流れを禁止することを特徴とする流れ遮断器。
【請求項２】  スリーブは、遮断器の一次体内導管への導入を容易にする縮小輪郭状態と、体液で加圧されて一次体内導管へもたれかかるように動いた膨張輪郭状態とを有することを特徴とする請求項１に記載の流れ遮断器。
【請求項３】  スリーブの基端端部に配置され、縮小輪郭状態から膨張輪郭状態へと動くことができる拡張構造をさらに備え、
拡張構造はスリーブの第１部分を動かす特性を有していて、スリーブの導入を容易にすべく第１の開口を縮小輪郭状態へ縮め、及び、スリーブ内への体液の流れを容易にすべく第１の開口を膨張輪郭状態へと広げることを特徴とする請求項１に記載の流れ遮断器。
【請求項４】  スリーブの壁は横壁であって、遮断器はさらに、
スリーブの末端端部に配置され、横壁の略放射方向内側へ延在してスリーブの末端端部に第２の開口を形成するような、端部壁を備えていることを特徴とする請求項１に記載の流れ遮断器。
【請求項５】  拡張構造は、スリーブの第１部分にてスリーブにそれぞれ接触する複数の指部を備え、指部は互いに間隔を隔てていて、第１の開口を通ってスリーブへ入る体液の流れを容易にし、
指部は縮小輪郭状態と膨張輪郭状態との間で動くことができることを特徴とする請求項３に記載の流れ遮断器。
【請求項６】  スリーブの第２部分は、端部壁の略中央に配置された単一孔である、第２の開口を形成していることを特徴とする請求項４に記載の流れ遮断器。
【請求項７】  スリーブの第２部分は、スリーブの端部壁の複数の孔である、第２の開口を形成していることを特徴とする請求項４に記載の流れ遮断器。
【請求項８】  複数の孔のうち少なくともひとつは楕円の形状を有していることを特徴とする請求項７に記載の流れ遮断器。
【請求項９】  拡張構造は、スリーブの基端端部の第１の開口の円周に配置されたチャンバを含んでいて、チャンバが膨らんで第１の開口を縮小輪郭状態から膨張輪郭状態へと広げることを特徴とする請求項１に記載の流れ遮断器。
【請求項１０】  スリーブの壁は、スリーブの長手方向に配置された複数の膨らむことができるチャンバから構成されていることを特徴とする請求項１に記載の流れ遮断器。
【請求項１１】  一次導管と二次導管との交差部に第３の開口を形成するような壁の第３部分を備え、第３の開口が一次導管と二次導管との間の体液の連絡を容易にする第１位置と、第３の開口が一次導管と二次導管との間の体液の連絡を禁止する第２位置との間で、第３部分が動くことができることを特徴とする請求項１に記載の流れ遮断器。
【請求項１２】  一次導管と交差部を形成する二次導管に関連して、一次導管内に導入するように適合されたカテーテルであって、
膨張輪郭状態と縮小輪郭状態とを有する流れ遮断器と、流れ遮断器を一次導管内の使用位置へ導入するために流れ遮断器に結合される閉塞具とを備え、
流れ遮断器に含まれる編まれた管状構造を備え、管状構造は自然に拡張できて膨張輪郭状態になると共に、長手方向に拡張できて縮小輪郭状態になり、
風船が流れ遮断器に含まれて、管状構造の外側における管状構造の近くの位置に配置され、風船は収縮できて縮小輪郭状態になると共に膨らむことができて膨張輪郭状態になり、
流れ遮断器は、縮小輪郭状態においては一次導管内へ導入するように適合され、膨張輪郭状態においては交差部を封鎖して二次導管の流れを禁止しつつ一次導管を通る流れは容易にするように適合される、
ことを特徴とするカテーテル。
【請求項１３】  流れ遮断器の風船は編まれた管状構造の周囲に配置されていることを特徴とする請求項１２に記載のカテーテル。
【請求項１４】  編まれた管状構造は風船と同軸的であることを特徴とする請求項１３に記載のカテーテル。
【請求項１５】  管状構造は、管状構造を通る中央チャンネルを形成する織り合わせられた多数の繊維と、中央の内腔と管状構造の側部に配置された領域との間での流体の連絡を提供する多数の隙間とから形成されていることを特徴とする請求項１２に記載のカテーテル。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月21日(2006.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  内視鏡の汚染した管腔を洗浄するための方法であって、
管腔の内壁を拭うために僅かな隙間を有して通過するように拭い取り部材を適合させて、通過後に残留する汚染物が管腔の内周壁全体に均一に薄膜のように分配されるように、管腔内で軸方向に拭い取り部材を引く又は押すステップと、
洗浄組成物で均一な膜を処理するステップと、
を含む方法。
【請求項２】  洗浄組成物は、１以上の酵素を含む請求項１記載の方法。
【請求項３】  薄膜は、半径方向及び長手方向の両方向について実質的に均一の厚さを有する請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】  膜厚は、拭い取り部材を管腔内で１回通過させて得られる請求項１〜３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】  拭い取り部材は、ポリマー製の可撓性ケーブルによって管腔内で引かれる請求項１〜４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】  内視鏡の洗浄における使用後拭い取り部材を配置する工程を更に含む請求項１〜５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】  請求項１〜６のいずれか１項記載の方法において使用する装置であって、通過後に残留する汚染物が管腔の内周壁全体に均一に薄膜のように分配されるように、管腔内で軸方向に通過するように適合される拭い取り部材、を含む装置。
【請求項８】  拭い取り部材は、管腔より小さな直径を有する請求項７記載の装置。
【請求項９】  拭い取り部材は、細長いシャフト又はケーブルに取り付け可能である請求項７又は８記載の装置。
【請求項１０】  拭い取り部材は、細長いシャフトに永続的に取り付けられる請求項７〜９のいずれか１項記載の装置。
【請求項１１】  シャフト又はケーブルは、可撓性を有する請求項７〜１０のいずれか１項記載の装置。
【請求項１２】  シャフト又はケーブルは、ポリマー材料から成る請求項７〜１１のいずれか１項記載の装置。
【請求項１３】  拭い取り部材は、拭い取り要素として少なくとも１つの半径方向に延びるフィンを含む請求項７〜１２のいずれか１項記載の装置。
【請求項１４】  拭い取り部材は、拭い取り要素として半径方向に延びる複数のフィンを含む請求項７〜１３のいずれか１項記載の装置。
【請求項１５】  拭い取り部材は、円盤状の拭い取り要素を含む請求項７〜１４のいずれか１項記載の装置。
【請求項１６】  拭い取り部材は、円筒状の拭い取り要素を含む請求項７〜１４のいずれか１項記載の装置。
【請求項１７】  拭い取り部材は、球状の拭い取り要素を含む請求項７〜１４のいずれか１項記載の装置。
【請求項１８】  拭い取り部材は、螺旋状の拭い取り要素を含む請求項７〜１４のいずれか１項記載の装置。
【請求項１９】  拭い取り部材は、円錐状又は円錐台状の拭い取り要素を含む請求項７〜１４のいずれか１項記載の装置。
【請求項２０】  拭い取り部材は、中空の芯を有する請求項７〜１９のいずれか１項記載の装置。
【請求項２１】  拭い取り部材は、中実の芯を有する請求項７〜１９のいずれか１項記載の装置。
【請求項２２】  拭い取り部材は、一連の直径が段階的な拭い取り要素を含む請求項７〜２１のいずれか１項記載の装置。
【請求項２３】  拭い取り部材は、外回りが不完全な少なくとも１つの拭い取り要素と、外回りが完全な１つの引きずり拭い取り要素とを含む請求項７〜２２のいずれか１項記載の装置。
【請求項２４】  拭い取り部材は、管腔の内径と同等若しくはそれ以上の大きさの直径を有するが、管腔内周に均一に分配される薄膜のように残留汚染物を分布させるために、周囲が充分に弾力性を有する請求項７〜２３のいずれか１項記載の装置。
【請求項２５】  拭い取り部材は、非吸収材料から成る請求項７〜２４のいずれか１項記載の装置。
【請求項２６】  拭い取り部材は、エラストマー材料から成る請求項７〜２５のいずれか１項記載の装置。
【請求項２７】  拭い取り部材に近接する丸い端部を更に含む請求項７〜２６のいずれか１項記載の装置。
【請求項２８】  シャフトは、ポリマー製であり、拭い取り部材は、シャフト又はケーブル上に型成形される請求項７〜２７のいずれか１項記載の装置。
【請求項２９】  装置が使い捨てである請求項７〜２８のいずれか１項記載の装置。
【請求項３０】  内視鏡の汚染した管腔を洗浄するのに使用する装置であって、
通過後に残留汚染物が管腔内に実質上均一に薄膜のように分配されるように、僅かな隙間を有して管腔内を軸方向に通過するように適合され且つケーブルに取付けられた外回りが完全な１つの拭い取り部材を含み、ポリマー素材から型形されて成る装置。
【請求項３１】  請求項７〜２９のいずれか１項記載の内視鏡洗浄装置の製造方法であって、
細長いポリマーシャフト又はケーブル上の所定位置に１以上の半径方向に向けられたフィンを含むように拭い取り部材を型成形するステップを含む方法。
【請求項３２】  ポリマーシャフト又はケーブルは、ナイロン又はポリプロピレンである請求項３１記載の方法。
【請求項３３】  拭い取り部材は、シャフト上に型成形される請求項３１又は３２記載の方法。
【請求項３４】  拭い取り部材は、シャフト上に射出成形される請求項３３記載の方法。
【請求項３５】  拭い取り部材及びシャフトは、相補的にかみ合うことができるスレッドを含む請求項３１に記載の方法。
【請求項３６】  拭い取り部材は、シャフト上にプレス成形される請求項３１記載の方法。
【請求項３７】  拭い取り部材は、２以上の構成要素から型成形される請求項３１〜３５のいずれか１項記載の方法。
【請求項３８】  拭い取り部材は、シャフトに融合される請求項３１〜３６のいずれか１項記載の方法。
【請求項３９】  請求項７〜３０のいずれか１項記載の装置と酵素洗浄組成物とを含むキットであって、酵素洗浄組成物は、内視鏡管腔内で残留物の所定厚さを提供するように選択され、所定時間内に該残留物の分解を提供するように選択される、キット。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月30日(2006.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】  請求項１に記載の装置において、前記シースはポリウレタンからなる装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月14日(2006.8.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】  ブロモブチルゴム物質が品質ＰＨ ４０２３／５０からなるか、またはそれに相当する、請求項１〜１３のいずれかに記載の一次パッケージ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月29日(2006.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
携帯できるコントローラを使用して一連の質問への患者の応答を促す工程と、
離れた健康管理施設に前記応答を送る工程と、
前記質問への応答を審査することにより運動プログラムでの患者の状態を評価する工程とを有する運動プログラムを評価する方法。
【請求項２】
前記質問は、患者により感じる痛みに関することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記質問は、痛みの程度、痛みの位置または痛みの変化に関することを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項４】
健康管理施設に前記応答を送る工程は、ウェブサイトを介して行われることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
キーパッドと、
ディスプレイと、
離れた健康管理施設と連絡している通信ポートと、
前記ディスプレイに質問を表示し、データ登録装置に答えを受け取り、前記離れた健康管理施設に通信経路を経て前記答えを送るようにプログラムされたコンピュータとを有する携帯コントローラ。
【請求項６】
前記通信ポートはモデムを有する請求項５に記載の携帯コントローラ。
【請求項７】
前記通信ポートは無線送信機を有する請求項５に記載の携帯コントローラ。
【請求項８】
前記コンピュータのプログラムは、前記ディスプレイに痛みに関する質問を表示する請求項５に記載の携帯コントローラ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月25日(2006.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  複数の中空球状体を制御可能に破砕する装置において、
ａ）閉鎖容器と、
ｂ）最小の中空球状体よりもメッシュ寸法がほぼ大きくない穴群を有する第１スクリーンであって、前記閉鎖容器の中または一端に設けられる第１スクリーンと、
ｃ）前記複数の中空球状体が破砕される間、前記第１スクリーンがそれら中空球状体を保持できるように前記第１スクリーンに対する十分な支持を提供する複数の空隙部分を有するスクリーン支持部であって、それら空隙部分が、破砕された該中空球状体から生じるクズを通過させるようになっているスクリーン支持部と、
ｄ）前記第１スクリーンに近接した羽根車であって、該羽根車が前記第１スクリーンに沿って移動するときに、前記第１スクリーン上にある前記複数の中空球状体を破砕させる形状を有する羽根車と、
を具備する装置。
【請求項２】  前記球状体がガスで満たされ、前記閉鎖容器がガス出口ポートをさらに具備し、前記閉鎖容器は、前記装置を流出するガスの大部分が該ガス出口ポートを介して流出するような、十分に低いガス透過度を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】  前記閉鎖容器は、前記複数の中空球状体を格納する第１格納部分と、前記破砕された中空球状体を格納する第２格納部分とを有し、前記第１スクリーン、前記スクリーン支持部および前記羽根車が、該第１格納部分と該第２格納部分との間に配置される、請求項１又は２に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月14日(2006.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  金属およびメタロイドの酸化物並びにそれらの組み合せの群から選択される少なくとも１種の構造的プロモーターを０．１〜５重量％、および９５〜９９．９重量％のニッケルを含み（重量％は、ニッケルおよび構造的プロモーターを合わせた重量に対して計算する）、かつ、少なくとも１０ｍ2／触媒ｇの本明細書で定義されるニッケル表面積および１０〜６０ｎｍの本明細書で定義される平均孔直径を有するニッケル触媒。
【請求項２】  構造的プロモーターがシリカ、シリカ−アルミナ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、マグネシアまたはセリアである、請求項１記載のニッケル触媒。
【請求項３】  構造的プロモーターがシリカまたはシリカ−アルミナである、請求項２記載のニッケル触媒。
【請求項４】  構造的プロモーターがアルミナである、請求項２記載のニッケル触媒。
【請求項５】  ニッケル表面積が１０〜６５ｍ2／触媒ｇである、請求項１〜４のいずれか１項記載のニッケル触媒。
【請求項６】  構造的プロモーターが粘土、メタシリケート、コロイド状シリカ、水ガラスまたは珪酸エーテルから誘導される、請求項２記載のニッケル触媒。
【請求項７】  ＢＥＴ表面積が少なくとも１５ｍ2／ｇである、請求項１〜６のいずれか１項記載のニッケル触媒。
【請求項８】  少なくとも８０％のニッケル原子が金属形で存在する、請求項１〜７のいずれか１項記載のニッケル触媒。
【請求項９】  構造的プロモーターが触媒に酸性またはアルカリ性を付与する、請求項１〜８のいずれか１項記載のニッケル触媒。
【請求項１０】  請求項１〜９のいずれか１項記載の触媒を選択的水素化反応のために使用する方法。
【請求項１１】  請求項１〜９のいずれか１項記載の触媒を脱硫反応のために使用する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
実施例３
構造的プロモーターを含むニッケル触媒を、実施例１に記載した工程Ａ〜Ｅに従って製造する。ただし、工程ＡおよびＣにおいては以下の変更がある。
Ａ．実施例１、工程Ａで言及した２つの溶液の他に、下記の溶液も調製する。
３０ｍｌのケイ酸ナトリウム溶液：９．４ｇの水ガラス（２７重量％のＳｉＯ2；ＳｉＯ2／Ｎａ2Ｏ重量比は３．３である）を脱イオン水によって希釈する。
Ｃ．エージング期間中の最後の１０分において、工程Ａで言及したケイ酸塩溶液をスラリーに添加する。
上記のようにして製造された物質の特性が表１に見出され得る。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月26日(2005.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  コネクタハウジング内に複数の接点を有するコネクタと、
該コネクタハウジングの外側に配列された複数の電気フィルタであって、各々が第１の電気接続点と第２の電気接続点とを有する電気フィルタと、
複数のケーブルを具備する第１のケーブルバンドルであって、該複数のケーブルの各々は第１の端と第２の端とを有し、該第１のケーブルバンドルの個別ケーブルの各々の該第１の端は前記コネクタの複数の接点のそれぞれで終端し、各個別ケーブルの該第２の端は前記複数のフィルタのそれぞれの第１の接続点に電気的に接続可能である第１のケーブルバンドルと、
複数のケーブルを具備する第２のケーブルバンドルであって、該複数のケーブルの各々は第１の端と第２の端とを有し、該第２のケーブルバンドルの該複数のケーブルの各々は、前記複数のフィルタのそれぞれの第２の接続点に電気的に接続可能である第２のケーブルバンドルと、
を具備するアセンブリ。
【請求項２】  前記電気フィルタはフィルタハウジングに配列される請求項１記載のアセンブリ。
【請求項３】  前記フィルタハウジングは、接地電位に電気的に接続される電気遮蔽を含む請求項２記載のアセンブリ。
【請求項４】  前記第１および第２のケーブルバンドルの前記複数のケーブルの各々は、一対の捻りワイヤから構成され、該ワイヤの１本は接地電位に電気的に接続される請求項１記載のアセンブリ。
【請求項５】  前記第１および第２のケーブルバンドルの前記複数のケーブルの各々は、接地ワイヤと信号ワイヤとから構成される請求項１記載のアセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月22日(2005.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  表面を準備し、
酸化剤と還元剤から構成される酸化還元カップルを準備し、
前記酸化剤と還元剤少なくとも１つを、重量で５％以下の粒子を含む第１の溶液中で可溶化し、
前記第１溶液で表面全体をコートするのでなく、マスクを使用しない印刷工程で決められる所望するパターンで前記第１溶液を表面に塗布して、第１層を形成し、
前記第１層内で酸化還元反応を開始し、
少なくとも１つの追加層を加えてコンポーネントを完成する、
ことを含む電子コンポーネントを印刷する方法。
【請求項２】  前記コンポーネントが電源を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記コンポーネントがバッテリを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記少なくとも１つの酸化剤と還元剤が金属を含有する化合物を含み、該金属は銅、鉄、コバルト、錫、金、銀、パラジウム、プラチナ、ニッケル、リチウム、アルミニウムおよびチタンからなる群より選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】  前記酸化還元カップルが、ギ酸塩、硝酸塩、アルコキシド硝酸塩、アルコキシド過塩素酸塩、アセテート硝酸塩、アクリレート硝酸塩からなる群より選択される材料を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】  塗布が、スタンプとジェットの少なくとも１つを使用して、前記第１溶液を堆積することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】  少なくとも１つの前記第１層または少なくとも１つの追加層が電解質を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】  前記酸化還元反応が基本的に金属から構成される前記第１層を生成する、請求項１に記載の方法。
【請求項９】  前記酸化還元反応が基本的に混合金属酸化物から構成される前記第１層を生成する、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  前記酸化還元反応を開始するステップが、マイクロ波放射で塗布した溶液を照射することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】  前記コンポーネントの完成が、
第２酸化剤と第２還元剤を含む第２酸化還元カップルを準備し、
第２酸化剤と第２還元剤の少なくとも１つを第２溶液中で可溶化し、
前記第２溶液を前記第１層上に堆積し、第２溶液中で酸化還元反応を開始する、
ステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】  前記コンポーネントがバッテリを備え、
前記塗布が、スタンプおよびジェットの少なくとも１つを使用して前記第１溶液を堆積することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】  第２酸化剤と第２還元剤を含む第２酸化還元カップルを準備し、
前記第２酸化剤と第２還元剤の少なくとも１つを第２溶液中で可溶化し、
前記第２溶液の連続層を堆積し、前記連続層中で酸化還元反応を開始して、相互に離れている前記コンポーネントの少なくとも２つの層を電気的に連結する固体導体を生成する、
ことをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】  請求項１の方法により、複数のコンポーネントを印刷し、
前記第１溶液を、前記複数のコンポーネントの少なくとも２つに接続する所望するパターンで表面に塗布し、酸化還元反応を開始して前記所望するパターンで少なくとも前記２つのコンポーネント間に導電トレースを生成する、
ことを含む、電子回路を印刷する方法。
【請求項１５】  前記パターンが、１０μｍ未満の横方向解像度を有する、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】  前記回路がトランジスタ、電源およびキャパシタを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】  前記還元剤および酸化剤がそれぞれ所望のパターンで表面に塗布される請求項１に記載の方法。
【請求項１８】  表面を準備し、
酸化剤と還元剤から構成される酸化還元カップルを準備し、
前記酸化剤と還元剤の少なくとも１つを、重量で５％以下の粒子を含む第１の溶液中で可溶化し、
マスクを使用しない印刷工程で決められるトレースのパターンで前記第１溶液を表面に塗布して、第１層を形成し、
表面全体にエネルギーを加え、
前記第１層内で酸化還元反応を開始し、
少なくとも１つの追加層を加えてコンポーネントを完成する、
ことを含む電子コンポーネントを印刷する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月23日(2006.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
同様に、ＩＤ送信機３は、高周波送信器１３と高周波受信器１４を有する送受信ユニット１２を含む。この高周波送信機１３は、固定ステーション２の高周波受信器６と同じ周波数で作動する；ＩＤ送信器３の高周波受信器１４は、この固定ステーション２の高周波送信器５と同じ周波数で作動する。したがって、固定ステーション２とＩＤ送信器３との間で適用される高周波区間は、デュプレックス（二重）に可能である。この高周波受信器１４は、受信した信号を評価するためにマイクロコントローラ１５に接続されている。マイクロコントローラ１５は、１本のデータ線１６と１本のキーイング線１７とを介して高周波送信器１３に接続されている。評価論理部１８が、ＩＤ送信機３内でマイクロコントローラ１５に対して並列に高周波受信器１４と高周波送信器１３との間に配置されている。固定ステーション２から送信されたコード信号がマイクロコントローラ１５によって評価されることなしに、かつ、高周波送信器１３が制御される必要なしに、この評価論理部１８は、この固定ステーション２から送信されたこのコード信号を認識して、この高周波送信器１３を直接制御するために使用される。或る特定のコード信号が評価論理部１８によって認識されるだけでよいので、その評価に必要な時間は、マイクロコントローラ１５で必要な計算時間とは対照的に一定である。評価論理部１８は、１本の制御線を介してこの評価論理部１８をオン／オフするマイクロコントローラ１５に接続されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
もう１つ別の無鍵式アクセス認可監視装置５８が、図８中にブロック回路図で概略的に示されている。この無鍵式アクセス認可監視装置５８の固定ステーションＢは、主に送受信ユニット５９，質問信号の搬送波を変調するために周波数を合成する変調ユニット６０及びその変調合成によって変調された応答区間の搬送波を適切に濾波する位相比較器６１から構成される。この送受信ユニット５９は、変調合成によって変調された搬送波を送信する高周波送信器６２，トランシーバ６４を有する。この場合、この送信器６２とこのトランシーバ６４は、コンバイナー回路６５を介して共通の送受信アンテナ６６に接続されている。さらに、基準６３が、送受信ユニット５９に割当てられている。さらに、復調器６７が、受信した応答信号を復調するためにコンバイナー回路６５に接続されている。この復調器６７は、その出力側で位相比較器６１に接続されている。プロセッサ６８が、トランシーバ６４と送信器６２の送受信過程の制御のために設けられている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
搬送波が、例えば 433MHz の高周波区間でこの合成された変調周波数によって変調され、そして送受信ユニット６６によって送信される。ＩＤ送信機ＩＤが自動車に対して所定の距離に存在すると、この信号が受信され、そして復調器７１によって復調される。このＩＤ送信機ＩＤの返送される応答信号が、例えば 868MHz の搬送波をトランシーバ７０中でその復調された質問信号によって、すなわちこの質問信号を変調するために最初に使用したその合成された周波数によって生成される。この応答信号は、ＩＤ送信機側で送信され、そして送受信ユニット５９によって受信され復調され、引続き位相比較器６１中で濾波される。ダイオード検波器６１が、復調器６７として設けられている。この位相比較器６１中に組込まれているフィルタの遮断周波数は、基準周波数とその他の周波数成分に一致する。それぞれの同一の周波数成分の位相を比較することによって、ＩＤ送信機ＩＤと固定ステーションＢとの間の距離が算出され得る。質問信号と応答信号とが進んだ無線通信区間を直接逆推理することが可能なその確認された距離に依存して、その応答信号がＩＤ送信機ＩＤによって直接送信されたのか、又は、応答信号の受信がアクセス権のない区間延長の相互接続の下で実行されているのかをつきとめることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
図１２中には、線形に周波数変調された搬送波が（直線状に示された変調曲線で）グラフ中に質問信号として示されている。この場合、時間軸がｘ軸に対応し、周波数がｙ軸に対応している。この周波数曲線の最大値（ f0+ fHUBmax）と最少値（ f0- fHUBmax）が、この搬送波（ｆ0 ）を変調するために利用される周波数偏移を示す。ＩＤ送信機から返送され、そして送受信ユニット７４によって受信されて復調された応答信号が、その通過された無線通信区間を示すそれに応じた時間的なずれを伴って破線でプロットされている。時点ｔ0 での質問信号の搬送周波数曲線の関数値と応答信号の搬送周波数曲線の関数値とを、これらの両関数値の絶対値の差によって比較することができ、又はこれらの両関数値の２乗の差によっても比較することができる。このような比較ステップは、ハードウェア的に僅かな経費で実現することができ、又はソフトウェア的にプロセッサ７５によっても実現することができる。こうして算出された差動周波数（Δｆ）が所定の目安を越えた場合、このことは、その通過された無線通信区間（送受信ユニット７４−ＩＤ送信機−送受信ユニット７４）が、例えばこの送受信ユニット７４の周囲５〜10メートルと取り決められた予め設定された無線通信範囲よりも長いことを示す。それ故に、このＩＤ送信機は、自動車の近くに存在しない；明らかに、その無線通信区間が欺いて延長されている。この場合には、アクセス認可がおりない。差動周波数（Δｆ）が許容された間隔内に存在する場合は、ＩＤ送信機が機能領域内に存在するとみなされ、それに応じて所望の動作が引き起こされる−自動車のドアが開錠される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
通過された無線通信区間に関するこの方法の分解能は、変調周波数を選択することによってか又は周波数偏移によって決定される。測定値が規則的な間隔（全て360 °）で繰返し生成されることがその変調周波数を変更することによって阻止され得る。この場合、最も低い周波数が、測定すべき最大距離に対する目安とみなすことができる；合成された周波数中の最も高い周波数が、このシステムの分解能を決定する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月12日(2006.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  プロセス設備の関連するプロセスを制御する制御システムと共に使用される処理システムであって、
（ｉ）少なくとも一つの前記関連するプロセスの入力および出力の間の関係を定義する数学的表現で、前記少なくとも一つの前記関連するプロセスを数学的に表現し、（ｉｉ）定義された前記関係と関連する不確実性係数を表現するように動作する記憶装置であって、前記不確実性係数は、前記少なくとも一つの前記関連するプロセスが動作するダイナミックレンジと前記数学的表現における誤差との少なくとも１つを定義するものである、記憶装置と、
前記少なくとも一つの前記関連するプロセスを制御するために、前記数学的表現および前記不確実性係数に応答して、前記制御システムにより使用されるチューニングパラメータを決定し、それにより前記プロセス設備を最適化する協力を行うプロセッサと
を備える処理システム。
【請求項２】  前記記憶装置が、プロセススループット、供給ストック品質、季節温度、及び装置状態の変化を含むグループから、工場で発生した共通のことを表すよう動作する、請求項１に記載の処理システム。
【請求項３】  前記プロセッサが、前記工場で発生した共通のことに応答して、前記チューニングパラメータを決定する、請求項２に記載の処理システム。
【請求項４】  前記不確実性係数が目的関数Ｊと関連付けされ、ここにおいて、Ｊ＝ｆ（ｋｃ，τｉ，τｄ，τｆ，Ｍｏｄｅｌ（ｐ））である、請求項１に記載の処理システム。
【請求項５】  前記Ｍｏｄｅｌ（ｐ）が、ラプラス、ＡＲＸ、ＦＩＲ、ステップレスポンスを含むグループから選択される、請求項４に記載の処理システム。
【請求項６】  前記不確実性係数が、比例定数、積分定数、微分定数、及びフィルタ定数の少なくとも一つと関連付けられる、請求項１に記載の処理システム。
【請求項７】  前記不確実性係数が目的関数Ｊと関連付けられ、ここにおいて、Ｊ＝ｆ（ｋｃ，τｉ，τｄ，τｆ，Ｍｏｄｅｌ（ｐ））である、請求項１に記載の処理システム。
【請求項８】  プロセス設備の関連するプロセスを制御する制御システムと共に使用される処理システムを動作させる方法であって、
記憶装置において、（ｉ）少なくとも一つの前記関連するプロセスの入力および出力の間の関係を定義する数学的表現で、前記少なくとも一つの前記関連するプロセスを数学的に表現し、（ｉｉ）定義された前記関係と関連する不確実性係数を表現するステップであって、前記不確実性係数は、前記少なくとも一つの前記関連するプロセスが動作するダイナミックレンジと前記数学的表現における誤差との少なくとも１つを定義するものである、ステップと、
前記少なくとも一つの前記関連するプロセスを制御するために、前記数学的表現および前記不確実性係数に応答して、前記制御システムにより使用されるチューニングパラメータを、プロセッサを用いて決定するステップであって、それにより前記プロセス設備を最適化する協力を行う、ステップと
を備える方法。
【請求項９】  プロセススループット、供給ストック品質、季節温度、及び装置状態の変化を含むグループから、工場で発生した共通のことを前記記憶装置において表すステップを更に備える請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  前記工場で発生した共通のことに応答して、前記チューニングパラメータを前記プロセッサを用いて決定するステップを更に備える請求項９に記載の方法。
【請求項１１】  前記不確実性係数が目的関数Ｊと関連付けられ、ここにおいて、Ｊ＝ｆ（Ｋｃ，τｉ，τｄ，τｆ，Ｍｏｄｅｌ（ｐ））である、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】  前記Ｍｏｄｅｌ（ｐ）が、ラプラス、ＡＲＸ、ＦＩＲ、ステップレスポンスを含むグループから選択される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  前記不確実性係数が、比例定数、積分定数、微分定数、及びフィルタ定数の少なくとも一つと関連付けられる、請求項８に記載の方法。
【請求項１４】  前記不確実性係数が、目的関数Ｊと関連付けられ、ここにおいて、Ｊ＝ｆ（ｋｃ，τｉ，τｄ，τｆ，Ｍｏｄｅｌ（ｐ））である、請求項８に記載の処理システムの作動方法。
【請求項１５】  プロセス設備の関連するプロセスを制御する制御システムと共に使用される処理システムであって、
（ｉ）少なくとも一つの前記関連するプロセスの入力および出力の間の関係を定義する数学的表現で、前記少なくとも一つの前記関連するプロセスを数学的に表現し、（ｉｉ）定義された前記関係と関連する不確実性係数を表現するように動作する記憶装置であって、前記不確実性係数は、前記少なくとも一つの前記関連するプロセスが動作するダイナミックレンジと前記数学的表現における誤差との少なくとも１つを定義するものであり、前記不確実性係数は、比例定数、積分定数、微分定数、及びフィルタ定数の少なくとも一つと関連付けられるものである、記憶装置と、
前記少なくとも一つの前記関連するプロセスを制御するために、前記数学的表現および前記不確実性係数に応答して、前記制御システムにより使用されるチューニングパラメータを決定し、それにより前記プロセス設備を最適化する協力を行うプロセッサと
を備える処理システム。
【請求項１６】  前記記憶装置が、プロセススループット、供給ストック品質、季節温度、及び装置状態の変化を含むグループから、工場で発生した共通のことを表すよう動作する、請求項１５に記載の処理システム。
【請求項１７】  前記プロセッサが、前記工場で発生した共通のことに応答して、前記チューニングパラメータを決定する、請求項１６に記載の処理システム。
【請求項１８】  前記不確実性係数が目的関数Ｊと関連付けされ、ここにおいて、Ｊ＝ｆ（ｋｃ，τｉ，τｄ，τｆ，Ｍｏｄｅｌ（ｐ））である、請求項１５に記載の処理システム。
【請求項１９】  前記Ｍｏｄｅｌ（ｐ）が、ラプラス、ＡＲＸ、ＦＩＲ、ステップレスポンスを含むグループから選択される、請求項１８に記載の処理システム。
【請求項２０】  前記不確実性係数が目的関数Ｊと関連付けられ、ここにおいて、Ｊ＝ｆ（，Ｍｏｄｅｌ（ｐ））である、請求項１５に記載の処理システム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月2日(2006.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）式
【化１】
Ｒ−［Ｑ−Ｘ−（ＣＮ）ｎ］ｙ  ｙ／ｍＭｍ＋
（式中、ｙは１または２であり、ＸはＣまたはＮであり、ここでＸがＣである時、ｎは２であり、ＸがＮである時、ｎは１であり、Ｒは、弗素原子、炭化水素または弗素化炭化水素基であり、Ｑは連結基であり、Ｍｍ＋は、ｍの原子価を有する陽イオンである）
の少なくとも一種の塩と、
（ｂ）マトリックス材料と、
を含む電解質。
【請求項２】  Ｒが炭素原子数１〜１８の一価または二価非弗素化または弗素化直鎖または分岐飽和または不飽和脂肪族基、炭素原子数３〜１２の脂環式基、前記脂肪族基が１〜４個の炭素原子を有し、脂肪族基または脂環式基の炭素鎖がヘテロ原子によって割り込まれていないか、あるいは割り込まれており、脂肪族基または脂環式基がハロゲン原子または反応性基によって置換されていないか、あるいは置換されている脂環式−脂肪族基、アリール基または前記脂肪族基が１〜４個の炭素原子を有するアリール脂肪族基、あるいは反応性基である、請求項１に記載の電解質。
【請求項３】  前記塩が式
【化２】
2002523879.tif 000001
または式
【化３】
2002523879.tif 000002
（式中、Ｒｆが炭素原子数１〜１２のパーフルオロアルキル基である）
の塩である、請求項１に記載の電解質。
【請求項４】  請求項１に記載の電解質とアノードとカソードとを備える電気化学電解セル。
【請求項５】  式
【化４】
Ｒ−［ＳＯ２−Ｃ−（ＣＮ）２］ｙ  ｙ／ｍＭｍ＋
（式中、ｙは１または２であり、Ｒは、弗素原子または過弗素化炭化水素基であり、Ｍｍ＋は、ｍの原子価を有する陽イオンである）
の化合物。
【請求項６】  Ｒが炭素原子数１〜１８の一価または二価過弗素化直鎖または分岐飽和または不飽和脂肪族基、炭素原子数３〜１２の過弗素化脂環式基、前記脂肪族基が１〜４個の炭素原子を有し、前記脂肪族基または脂環式基の炭素鎖がヘテロ原子によって割り込まれていないか、あるいは割り込まれており、前記脂肪族基または脂環式基がハロゲン原子または反応性基によって置換されていないか、あるいは置換されている過弗素化脂環式−脂肪族基、過弗素化アリール基または前記脂肪族基が１〜４個の炭素原子を有する過弗素化アリール脂肪族基である、請求項５に記載の化合物。
【請求項７】  請求項５の化合物および式
【化５】
2002523879.tif 000003
【化６】
2002523879.tif 000004
の化合物。
【請求項８】  式
【化７】
Ｒ−［Ｑ−Ｎ−ＣＮ］ｙ  ｙ／ｍＭｍ＋
（式中、ｙは１または２であり、Ｒは、弗素原子または過弗素化炭化水素基であり、Ｑは連結基であり、Ｍｍ＋は、ｍの原子価を有する陽イオンである）
の化合物。
【請求項９】  式
【化８】
Ｒ−［Ｑ−Ｃ−（ＣＮ）２］ｙ  ｙ／ｍＭｍ＋
（式中、ｙは１または２であり、Ｒは、ハロゲン化または非ハロゲン化重合性基であり、Ｑは連結基であり、Ｍｍ＋は、ｍの原子価を有する陽イオンである）
の化合物または該化合物から生じる対応するポリマー。
【請求項１０】  式
【化９】
Ｒ−［ＳＯ２−Ｎ−−ＣＮ］ｙ  ｙ／ｍＭｍ＋
（式中、ｙは１または２であり、Ｒは、ハロゲン化または非ハロゲン化重合性基であり、Ｍｍ＋は、ｍの原子価を有する陽イオンである）
の化合物または該化合物から生じる対応するポリマー。