【事件の表示】
　特願２００５−３５９４０９「微細パターン形成装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年　９月２１日出願公開、特開２００６−２５３６４４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件特許出願（以下「本願」という）は、平成１７年１２月１３日（パリ条約による優先権主張　平成１７年３月７日　大韓民国）の出願であって、平成２１年８月１３日付けで拒絶理由が通知され、平成２２年３月３１日付けで拒絶査定がなされ、これに対して同年７月２２日に拒絶査定不服審判の請求がなされると同時に手続補正がなされ、これに対して、前置報告書の内容について、審判請求人の意見を求めるために平成２３年５月１１日付けで審尋がなされ、同年８月２日付けで当該審尋に対する回答書が提出され、その後、同年９月７日付けで拒絶理由が通知され、同年１１月８日付けで意見書が提出されたものである。
　
　
　
２．本願発明
　本願の請求項１乃至４に係る発明は、平成２２年７月２２日付け手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１乃至４に記載の事項により特定される以下のとおりのものと認められるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という）は、次のとおりのものである。
　
「　上面に透過窓が備えられ、一定の処理空間を有する真空チャンバー；
　前記真空チャンバーの内部に備えられたベースと結合されて流体を貯蔵する流体支持手段；
　前記流体支持手段によって感光性有機膜がコーティングされた基板（Ｇ）を支持するステージ；
　微細パターンが形成されたモールドと、前記モールドを固定するモールド固定用基板からなり、前記ステージと一定の距離だけ離隔して前記基板の有機膜側にエッチング及び非エッチング領域を区分するための前処理パターンをインプリントするためのテンプレート；
　前記真空チャンバーの上部に備えられ、透過窓及びテンプレートを経由して基板の感光性有機膜に光を照射する発光手段；
　前記ステージを前記テンプレートと接触するように駆動する駆動手段；
　前記ステージ上の基板を位置合わせさせ得る制御部；及び
　前記ステージ上の基板の位置を監視する監視手段；を含み、
　前記制御部は前記監視手段で取得された基板のローディング信号を入力し、前記ローディング信号に基づいて前記制御部が基板の位置を補正し、
　前記ステージは、その上面に形成された開口部側に板部材が流体上に浮かべられていることを特徴とする微細パターン形成装置。」
　
　
　
３．引用発明
３−１．刊行物の記載事項
　本願の優先日前に頒布され、当審による平成２３年９月７日付けの拒絶の理由に引用された刊行物である、特表２００３−５２７２４８号公報（以下「引用例」という）には、以下の技術事項が記載されている（後述の「３−２．引用発明の認定」において引用した記載に下線を付した）。
　
記載事項ａ．請求項１
「   【請求項１】 
  
スタンプ（１）から物体（２）へのパターン転写装置であって
前記スタンプ（１）のための受け面（１３）を有する第１の接触手段（１１）と、前記物体（２）のための受け面（２３）を有する第２の接触手段（２０）と、前記スタンプ（１）を前記物体（２）と接触させるために前記接触手段（１１，２０）の少なくとも一方を作動させるように構成された押圧手段（１０）とを具備した
  前記第１および第２の接触手段（１１，２０）のうちの一方はベース（２１）とホルダ（２２）とを備え、そのホルダ（２２）は、前記受け面の一方（２３）を画成する第１の端部と、第２の反対側の端部とを有し、この反対側の端部は、前記スタンプ（１）と前記物体（２）とが相互に接触する際に自動的に互いに平行な位置に置かれるよう、前記ベース（２１）に対して回動自在に連結されている、ことを特徴とする物体へのパターン転写装置。」
　
記載事項ｂ．請求項１６
「    【請求項１６】 
  
前記スタンプ（１）は、ミクロ構造ないしナノ構造のパターンを有している
　
記載事項ｃ．請求項１７
「【請求項１７】 
  
前記物体（２）は、基板（２ａ）と、この基板上に被着された高分子材料の層（２ｂ）とを備えている
　
記載事項ｄ．【００１８】乃至【００２０】
「      【００１８】
  好適な実施形態の説明
  図２は、本発明の第１実施形態に係る装置の模式図である。この装置は、スタンプ１から物体２へパターンを転写することを意図されたものであり、プレス１０と、このプレスに接触する取付部２０とを備えている。プレス１０は、液圧作動式プレスのような従来技術の形式のものとすることができ、固定配置されたプレス本体１２に対して正しく定められた方向に往復移動可能なピストン要素１１を有している。このピストン要素１１は、その本体１２から離れた方に面する側に、スタンプ１を受けるための受け面１３を有している。
      【００１９】
  この装置は、固定配置されたベース２１と、ホルダ２２とを有する取付部２０をさらに備えている。ホルダ２２は、そのベース２１から離れた方に面する側に、物体２を受けるための受け面２３を有している。この受け面２３は、その上に受けられる物体２と本質的には同じ範囲にある。受け面２３には、物体２を締結するためのロック手段（図示せず）が配置されている。このロック手段は、任意の種類のものとすることができるが、自動化された製造のためには、物体の締結に部分真空を利用することが好ましい。以下に図３ａおよび図３ｂを参照してより詳細に説明するように、ホルダ２２はベース２１に対して回動自在となっている。
      【００２０】
  図３ａおよび図３ｂの実施形態において、
ベース２１は、垂直支持板２４と、突出部２５の形態の雌部分とを備えている
突出部２５は、スリーブの形状を有し、空洞２６を画成している
ホルダ２２は
突出した軸部２８の形態の雄部分を有している
軸部２８の先端は、空洞２６内に挿入され、この空洞と共に閉鎖隔室２９を形成している
隔室２９は、乗り物用のブレーキフルードのような低圧縮性の適当な圧媒液によって満たされている
　
記載事項ｅ．【００２４】
「      【００２４】
  圧力センサ３４が、支持板２４の貫通孔３５を通じて、隔室２９内の液体と直接、ないしは隔壁（図示せず）を介して接するように延びている。図２に示すように、圧力センサ３４は、コンピュータのような制御ユニット３６に対して接続されている。この制御ユニット３６は、プレス１０に対して接続され、圧力制御手段３７を介して、プレス１０によるスタンプ１の物体２に対する接触を制御する。その圧力制御手段３７は、例えばピストン要素１１に作用する液圧を制御するポンプやバルブである。」
　
記載事項ｆ．【００２８】
「     【００２８】
  図２および図３に示す装置によって、ミクロ構造およびナノ構造の製造における最も十分な結果が得られている。Ｓｉ／ＳｉＯ２の基板に、３００ｎｍの厚さの９５０Ｋ ＰＭＭＡ層が設けられた。この物体が、１８０℃で２４時間焼かれた。そして、この
物体が、装置内に取り付けられた後、ＰＭＭＡ層が約１７０℃まで加熱された
スタンプが物体に対して
押し付けられた
同時に、物体が約８０℃まで冷却された
物体は
パターンを有し
　
記載事項ｇ．【００３１】
「      【００３１】
  図５においては、
ホルダ２２の受け面２３が、（ベース２１の）開口部領域内にある雄部分２８の外周面と本質的に同じ直径を有している
　
記載事項ｈ．【００３３】
「    【００３３】
  しかし、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、添付した請求の範囲の範囲内においていくつもの変形が実現可能である、ということが強調されるべきである。例えば、
添付図面においてスタンプ１と物体２とを入れ換えることができる
　
記載事項ｉ．図２
「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
記載事項ｊ．図３ａ
「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
記載事項ｋ．図３ｂ
「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
記載事項ｌ．図５
「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
　
３−２．引用発明の認定
　記載事項ｄ（【００２０】）、記載事項ｉ（図２）及び記載事項ｌ（図５）から、引用例の「ベース２１」は、「隔室２９」に満たされた「圧媒液」によって、「ホルダ２２」を支持しているといえる。
　記載事項ｌ（図５）から、引用例の「ホルダ２２」は、一方の面に「物体のための受け面２３」を有し、反対側の面が「隔室２９」に面しているといえる。
　上記各事項及び記載事項ａ乃至記載事項ｌ（詳細には、請求項１、請求項１６、請求項１７、【００２０】、【００２８】、【００３３】、図２、図３ａ、図５）から、引用例には、
　
「　スタンプ１から物体２へのパターン転写装置であって、前記スタンプ１のための受け面１３を有する第１の接触手段１１と、前記物体２のための受け面２３を有する第２の接触手段２０と、前記スタンプ１を前記物体２と接触させるために前記接触手段１１，２０の少なくとも一方を作動させるように構成された押圧手段１０とを具備し、
　物体２は、基板２ａと、この基板上に被着された高分子材料の層２ｂとを備え、
　前記スタンプ１は、ミクロ構造ないしナノ構造のパターンを有し、
　ベース２１は、垂直支持板２４と、突出部２５の形態の雌部分とを備え、突出部２５は、スリーブの形状を有し、空洞２６を画成し、ホルダ２２は突出した軸部２８の形態の雄部分を有し、軸部２８の先端は、空洞２６内に挿入され、この空洞と共に閉鎖隔室２９を形成し、隔室２９は、乗り物用のブレーキフルードのような低圧縮性の適当な圧媒液によって満たされ、ホルダ２２は一方の面に物体のための受け面２３を有し、かつ、反対側の面が隔室２９に面しており、
　ベース２１は、隔室２９に満たされた圧媒液によってホルダ２２を支持し、
　ホルダ２２の受け面２３が、ベース２１の開口部領域内にある雄部分２８の外周面と本質的に同じ直径を有し、
　物体が、装置内に取り付けられた後、ＰＭＭＡ層が約１７０℃まで加熱され、スタンプが物体に対して押し付けられ、同時に、物体が約８０℃まで冷却されることにより物体がパターンを有する、
　パターン転写装置。」
（以下「引用発明」という）が記載されていると認められる。
　
　
　
４．対比
　本願発明と引用発明とを対比する。
　
　引用発明の「基板と、この基板上に被着された高分子材料の層とを備え」た「物体」は、本願発明の「有機膜がコーティングされた基板（Ｇ）」に相当する。以下同様に、「圧媒液」は「流体」に、「ミクロ構造ないしナノ構造のパターン」は「微細パターン」に、「パターン転写装置」は「微細パターン形成装置」に、それぞれ相当する。
　引用発明は、「（突出部を備える）ベース」によって「空洞を画成し」、該「空洞」によって「隔室」が形成され、該「隔室」が「圧媒液によって満たされ」るものであるので、引用発明の「ベース」は、「圧媒液」を収容する（貯蔵する）ものであり、本願発明において、「流体支持」とは「流体を貯蔵する」ことであるから、引用発明の「ベース」と、本願発明の「前記真空チャンバーの内部に備えられたベースと結合されて流体を貯蔵する流体支持手段」とは、「流体を貯蔵する流体支持手段」である点で一致する。また、引用発明の「ベース」は「物体のための受け面」を有する「ホルダ」を（圧媒液によって）支持しており、結果として、「物体」は「ベース」によって支持されているといえるから、引用発明の「ベース」はさらに、本願請求項１に係る発明の「前記流体支持手段によって感光性有機膜がコーティングされた基板（Ｇ）を支持するステージ」と、「前記流体支持手段によって有機膜がコーティングされた基板（Ｇ）を支持するステージ」である点で一致する。
　引用発明は、「押圧手段」により「スタンプから物体へのパターン転写」を行うものであるから、引用発明の「ミクロ構造ないしナノ構造のパターンを有」する「スタンプ」は、「（物体のための）受け面を画成する」「ホルダ」と一定の距離だけ離隔して「物体」の「高分子材料の層（ＰＭＭＡ層）」側にパターンをインプリントするためのものであるといえる。よって、引用発明の「スタンプ」と、本願発明の「微細パターンが形成されたモールドと、前記モールドを固定するモールド固定用基板からなり、前記ステージと一定の距離だけ離隔して前記基板の有機膜側にエッチング及び非エッチング領域を区分するための前処理パターンをインプリントするためのテンプレート」とは、「微細パターンが形成され、前記ステージと一定の距離だけ離隔して前記基板の有機膜側にパターンをインプリントするためのテンプレート」である点で一致する。
　引用発明の「前記スタンプを前記物体と接触させるために前記接触手段の少なくとも一方を作動させるように構成された押圧手段」は、本願発明の「前記ステージを前記テンプレートと接触するように駆動する駆動手段」に相当する。
　したがって、引用発明と本願発明とは、
　
「　流体を貯蔵する流体支持手段；
　前記流体支持手段によって有機膜がコーティングされた基板（Ｇ）を支持するステージ；
　微細パターンが形成され、前記ステージと一定の距離だけ離隔して前記基板の有機膜側にパターンをインプリントするためのテンプレート；
　前記ステージを前記テンプレートと接触するように駆動する駆動手段；を含む、
　微細パターン形成装置。」
　
である点で一致し、以下の点で相違する。
　
（相違点１）
　本願発明は、「一定の処理空間を有する真空チャンバー」の内部に備えられたものであるのに対し、引用発明では当該特定事項を有していない点。
　
（相違点２）
　本願発明の「流体支持手段」が「前記真空チャンバーの内部に備えられたベースと結合されて」いるものであるのに対し、引用発明の「ベース」について、引用発明では当該特定事項を有していない点。
　
（相違点３）
　本願発明の「有機膜」は「感光性」であり、「真空チャンバー」の「上面に透過窓が備えられ」、「前記真空チャンバーの上部に備えられ、透過窓及びテンプレートを経由して基板の感光性有機膜に光を照射する発光手段」を有しているのに対し、引用発明の「物体」の「基板上に被着された高分子材料の層（ＰＭＭＡ層）」は「約１７０℃にまで加熱され、スタンプが物体に対して押し付けられ、同時に、物体が約８０℃まで冷却されることにより物体がパターンを有する」ものである点。
　
（相違点４）
　本願発明の「テンプレート」は、「微細パターンが形成されたモールドと、前記モールドを固定するモールド固定用基板からな」り、「前記基板の有機膜側にエッチング及び非エッチング領域を区分するための前処理パターンをインプリントするための」ものであるのに対し、引用発明の「スタンプ」は、その具体的な機械的構成が特定されておらず、また、それにより形成された「パターン」をどのような処理に用いるのか特定されていない点。
　
（相違点５）
　本願発明は、「前記ステージ上の基板を位置合わせさせ得る制御部」及び「前記ステージ上の基板の位置を監視する監視手段」を含み、「前記制御部は前記監視手段で取得された基板のローディング信号を入力し、前記ローディング信号に基づいて前記制御部が基板の位置を補正」するものであるのに対し、引用発明では当該特定事項を有していない点。
　
（相違点６）
　本願発明では、「前記ステージは、その上面に形成された開口部側に板部材が流体上に浮かべられている」ものであるのに対し、引用発明では当該特定事項を有していない点。
　
　
　
５．判断
５−１．相違点１について
　ナノインプリントによるパターン転写を行う装置において、装置を真空チャンバー内に備えることは、本願の優先日前に周知である（例えば、国際公開２００５／０１９５０３号（以下「周知文献１」という）（第２０頁第２４行乃至第２１頁第７行参照）、特開２００４−２８８８０４号（【００１７】参照））（特に、周知文献１には、本願発明と同様に、気泡の発生を防止するためであるとの技術思想も記載されている）。
　よって、引用発明において、上記周知の構成を採用することにより、上記相違点１に係る本願発明の構成を得ることは、当業者が容易になし得ることである。
　
５−２．相違点２について
　本願明細書全体の記載を参酌しても、本願発明の「前記真空チャンバーの内部に備えられたベース」が、具体的にどのような構成を表すものであるのか明確でないが、「流体支持手段」に「結合される」ものである点等を考慮すると、「流体支持手段」を保持するために配置された、真空チャンバー内における何らかの基礎部分を指すと推認される。
　してみれば、引用発明の「ベース」も、装置内における何らかの基礎部分によって保持されていることは明らかであるので、上記相違点２については、前記何らかの基礎部分が真空チャンバー内に配置されたものであるか否かの点のみが相違することになるが、「５−１．相違点１について」で述べたように、装置を真空チャンバー内に備えることは本願の優先日前に周知であり、よって、当該周知の構成を採用することにより、上記相違点２に係る本願発明の構成を得ることは、当業者が容易になし得ることである。
　
５−３．相違点３について
　ナノインプリントによるパターン転写を行う装置において、感光性の有機膜を用い、テンプレート（モールド）を介して紫外線を照射することにより、前記感光性の有機膜を硬化させることは、本願の優先日前に周知である（例えば、周知文献１（第２頁第１行乃至第１２行参照）、特開２０００−１９４１４２号（以下「周知文献２」という）（【００１２】乃至【００１７】参照））。また、当該構成を採用するに際して、該発光手段の光を通過させるための透過窓を設ける構成とすることは、当業者が適宜設計するものと認められる。
　よって、引用発明において、高分子材料の層（ＰＭＭＡ層）を加熱及び冷却する構成に代えて、上記周知の構成を採用することにより、上記相違点３に係る本願発明の構成を得ることは、当業者が容易になし得ることである。
　なお、透過窓を真空チャンバーの“上面”に設けることや、発光手段を真空チャンバーの“上部”に設けることは、「５−６．相違点６について」において後述するように、引用発明に上記周知の構成を採用する際、必然的に生じる事項に過ぎない。
　
５−４．相違点４について
　ナノインプリントによるパターン転写を行う装置において、テンプレート（モールド）を、微細パターン部と該微細パターン部を固定する基板部とからなる構成とすることは、当業者が適宜設計するものと認められる（例えば、特開２０００−３２３４６１号（以下「周知文献３」という）（【０００９】、図１参照））。
　また、ナノインプリントによるパターン転写を行う装置において、エッチングを行うための前処理としてナノインプリントにより形成したパターンを用いることは、本願の優先日前に周知である（例えば、周知文献１（第２頁第１行乃至第６行、図２参照）、周知文献２（【００１２】乃至【００２０】、図１、図２参照））
　よって、引用発明の「スタンプ」を、「スタンプ」の「ミクロ構造ないしナノ構造のパターンを有」する部位と、該部位を固定する基板部とからなる構成とし、かつ、「スタンプ」により形成される凹凸パターンを、物体の有機膜側にエッチング及び非エッチング領域を区分するための前処理パターンとして用いる（例えば、凹凸パターンの凹部をエッチング領域、凸部を非エッチング領域としてエッチングを行う）ことにより、上記相違点４に係る本願発明の構成を得ることは、当業者が容易になし得ることである。
　
５−５．相違点５について
　ナノインプリントによるパターン転写を行う装置において、カメラ等の監視手段により、基板の位置を補正（アライメント）することは、本願の優先日前に周知である（周知文献３【００１３】、図２、国際公開２００４／０１３６９３号（以下「周知文献４」という）（【０１３５】参照））。
　よって、引用発明において、当該周知の構成を付加することにより、上記相違点５に係る本願発明の構成を得ることは、当業者が容易になし得ることである。
　
５−６．相違点６について
　本願明細書の段落【００２７】には、以下のように記載されている。
「【００２７】
  前記開口１５側には、前記空間に満たされた流体と基板が直接接触しないように、別途の板部材（図示せず）を流体に浮かべられた状態で提供することができる。」
　また、本願の図３に示されるものでは、基板（Ｇ）は流体に直接接触している。
　当該記載内容から、本願発明において、「前記ステージは、その上面に形成された開口部側に板部材が流体上に浮かべられている」とは、「流体」と「基板」が直接接触しないように、別部材である“板部材”を「流体」と「基板」との間に配置して、「流体」により「板部材」を介して間接的に「基板」を支持することを表すものと認められる。
　引用発明は、「ホルダは一方の面に物体のための受け面を有し、かつ、反対側の面が隔室に面して」おり、該「隔室」に「圧媒液」が満たされているのであるから、引用発明の「ホルダ」は、「圧媒液」と「物体」との間に配置され、両者が直接接触しないようにして、「圧媒液」により「ホルダ」を介して間接的に「物体」を支持するものであるといえる。また、“板部材”であるか否かについては、引用発明は、「ホルダ２２の受け面２３が、ベース２１の開口部領域内にある雄部分２８の外周面と本質的に同じ直径を有し」ていること、及び、「ホルダ」の形状は「圧媒液」を封止し得るものであれば足りることから、引用発明の「ホルダ」の形状を“板状”にすることも可能であることを考慮するに、引用発明の「ホルダ」を板状とすることは、当業者が適宜設計する事項であると認められる。
　
　ここで、請求人は平成２３年１１月８日付け意見書において、引用発明は水平方向に加圧を行うものであるから、液状樹脂を使用する方式に適用することはできないこと、及び、本願発明は基板が浮力によって支持されている構成により「微細パターン形成時の安定性を確保できる」という利点を有するが、引用発明は水平方向に圧力をかけるものであるから、ホルダが圧媒液上で浮力によって支持されるものではない旨を主張している。また、引用発明が水平方向に加圧を行うものであるとする根拠として、引用発明の部材２４が「垂直支持体」という名称であることを挙げている。
　しかしながら、引用発明が、「ミクロ構造ないしナノ構造のパターン」を転写するものであること、「高分子材料の層（ＰＭＭＡ層）」を加熱して軟化させた状態でパターンの転写を行うものであり、その際重力の影響を受けること、物体に対してスタンプを押し付ける際の圧力分布がスタンプの全面にわたって均一になるようにすることを目的としているところ（引用例の段落【００２３】等参照）、仮に加圧方向が水平方向であると、「物体」表面上の位置に応じて圧媒液の圧力が変化する（下側ほど圧力が大きくなる）ことになり、圧力分布が均一とならないこと等を考慮するに、「スタンプ」による「物体」へのパターンの転写は、本願発明と同様、鉛直方向に押し付けることにより行われるものである蓋然性が高い（図面において加圧方向が横方向となっているのは、単なる図面表記上のものに過ぎないと認められる）。また、引用例の【０００２】に背景技術を示す文献として挙げられている米国特許第５７７２９０５号に記載された発明においても、加圧方向は鉛直方向である（第６頁第３１行乃至第６０行、図９参照）。一方で、引用発明の加圧方向に関わらず、上記理由により、垂直方向に加圧を行うほうが有利であることは当業者に周知であり、垂直方向に加圧を行う構成とすることに対する阻害要件も存在しないので、引用発明において加圧方向を垂直方向にすることは、当業者であれば容易に想到し得ることである。また、引用発明において、部材２４の名称が「垂直支持板」であるという事項のみからでは、引用発明のパターン転写装置が水平方向に加圧を行うものであるとはいえない。すなわち、“垂直支持板”という名称は、支持板の支持平面が垂直方向に配置されることを表している以外にも、支持板による支持方向が垂直方向であることを表していると解することもできる。よって、当該名称のみからでは、上記どちらの意味を表しているのかを特定することはできない。
　加えて、本願発明の「板部材が流体上に浮かべられている」という発明特定事項により、特に浮力との関係において、具体的にどのようなメカニズムにより、「微細パターン形成時の安定性を確保できる」ことができるのかについては、何ら本願の明細書及び図面に記載されていない。よって、「板部材が流体上に浮かべられている」という発明特定事項は、上記のように、「流体」と「基板」が直接接触しないように、別部材である“板部材”を「流体」と「基板」との間に配置して、「流体」により「板部材」を介して間接的に「基板」を支持することを表しているに過ぎないと解さざるを得ない。
　そして、上記のように、引用発明のパターン転写装置の加圧方向は垂直方向である、もしくは、垂直方向に加圧を行う構成とすることは当業者であれば容易になし得るものであるから、引用発明の「ホルダ」は“圧媒液に浮かべられている”ものである、もしくは、そのようにすることは当業者であれば容易になし得るものと認められ、そのように構成した場合には、相違点３について検討した透過窓や発光手段が真空チャンバーの“上面”や“上部”に設けられることは明らかである。
　以上の事項から、請求人の上記主張は採用できない。
　
　よって、引用発明の「ベース」によって支持されている「ホルダ」を板状とすることにより、上記相違点６に係る本願発明の構成を得ることは、当業者であれば容易に想到し得ることである。
　
　
６．効果について
　
　本願発明による効果は、引用発明及び周知技術に基いて、当業者が予測し得る範囲内のものに過ぎず、格別なものとは言えない。
　
　
７．むすび
　
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。
　
　したがって、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。