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【手続補正書】
【提出日】平成17年11月25日(2005.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機的に修飾されたエーロゲルの製造方法であって、
ａ）  四塩化ケイ素と水との直接反応によってヒドロゲルを得る工程、
ｂ）  工程ａ）において得られたヒドロゲルが表面修飾され、これにより表面がシリル化
されたヒドロゲルを得る工程、
ｃ）  工程ｂ）において得られた表面修飾されたゲルが乾燥される工程
からなることを特徴とするエーロゲルの製造方法。
【請求項２】
ゲル製造の前および／または最中に、乳白剤が添加されることを特徴とする請求項１に記載のエーロゲルの製造方法。
【請求項３】
ゲル製造の前および／または最中に、繊維が添加されることを特徴とする請求項１に記載のエーロゲルの製造方法。
【請求項４】
式Ｒ１４−ｎＳｉＣｌｎまたはＲ１４−ｎＳｉ（ＯＲ２）ｎ（式中、ｎ＝１〜４であり、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立しており、互いに同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子、非反応性の有機の直鎖状、分枝状、または環状で飽和または不飽和の基、芳香族基またはヘテロ芳香族基である。）で表される少なくとも一のシランがシリル化媒質として用いられることを特徴とする請求項１に記載のエーロゲルの製造方法。
【請求項５】
次式（Ｉ）で表されるジシロキサン
Ｒ３Ｓｉ−Ｏ−ＳｉＲ３              （Ｉ）
または次式（ＩＩ）で表されるジシラザン
Ｒ３Ｓｉ−Ｎ（Ｈ）−ＳｉＲ３        （ＩＩ）
（式中、各基はそれぞれ独立しており、互いに同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子、非反応性の有機の直鎖状、分枝状、または環状で飽和または不飽和の基、芳香族基またはヘテロ芳香族基である。）が、シリル化剤として用いられることを特徴とする請求項１に記載のエーロゲルの製造方法。
【請求項６】
ヒドロゲルの細孔内の水の一部が、表面修飾のために用いられる媒質と反応して、水に不溶の化合物を生成することを特徴とする請求項１に記載のエーロゲルの製造方法。
【請求項７】
工程ｃ）の前に、表面修飾されたゲルがシリル化剤によって洗浄されることを特徴とする請求項１に記載のエーロゲルの製造方法。
【請求項８】
工程ｃ）において、表面修飾されたゲルが亜臨界乾燥されることを特徴とする請求項１に記載のエーロゲルの製造方法。
【請求項９】
工程ａ）において得られたゲルが、シリル化の前に、縮合物を生成することができる式Ｒ１４−ｎＳｉ（ＯＲ２）ｎ（式中、ｎ＝２〜４であり、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立しており、水素原子、直鎖状または分枝状のＣ１〜Ｃ６アルキル基、シクロヘキシル基またはフェニル基である。）のオルトケイ酸塩溶液との反応または水性ケイ酸のエーロゲル溶液との反応に付されることを特徴とする請求項１に記載のエーロゲルの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月1日(2005.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  上部底部もしくは容器カバー内の少なくとも１つの充填及び取出し開口と、上側及び下側の周方向の積重ねリング（１２，１６）とを有する、熱可塑性プラスチックから成る再使用容器において、上側の積重ねリング（１２）が、下側の積重ねリング（１６）よりも多少大きな直径を有しており、上側の積重ねリング（１２）がその上側端縁で内側に、下側の積重ねリング（１６）の直径に適合した成形部を有しかつ外側に、上向きに突出するフランジリング（３８）を有していて、これにより、互いに積み重ねた場合に、上側の容器の下側の積重ねリング（１６）が上側の積重ねリング（１２）の成形部内に設置されかつ上向きに突出するフランジリング（３８）によって外部から形状結合式にセンタリングされるようになっており、容器ボディーと上側の積重ねリング（１２）との間の上向きの結合ウェブ（４４）が、多少斜めテーパ状に外向きに拡大されており、上側の積重ねリング（１２）の結合ウェブ（４４）の上端の上縁が、内実の折曲げ部（３２）の形状で構成されていて、前記折曲げ部から外側でフランジリング（３８）が軸方向上向きに突出しており、前記折曲げ部が下面側に、容器つかみ舌片の下側のクロー用のほぼ水平な又は僅かに傾斜した接触面（３４）を有していることを特徴とする、再使用容器。
【請求項２】  上側の積重ねリング（１２）の上向きの結合ウェブ（４４）内に、互いに向かい合って位置する２つのグリップ開口（１４）が形成されている、請求項１記載の再使用容器。
【請求項３】  容器ボデー（１０）が、中央で所定の区分に亘って完全円筒状に構成されていてかつ上下で上側の積重ねリング（１２）の結合個所に向けて及び下側の積重ねリング（１６）の結合個所に向けて多少湾曲しているかもしくはテーパ状に縮小されている、請求項１又は２記載の再使用容器。
【請求項４】  上側の積重ねリング（１２）もしくは下側の積重ねリング（１６）もしくはそれぞれの結合ウェブの結合個所から容器壁の完全円筒状の領域の始端までの容器壁の湾曲した縮小領域の高さ（＝軸方向長さ）が、ほぼ１１０ｍｍである、請求項１から３までのいずれか１項記載の再使用容器。
【請求項５】  上部底部（２０）が、ほぼフラットに又は多少外向きに湾曲して形成されていてかつフラットな縁部領域に気密に閉鎖可能な注口開口を備えた互いに向かい合って位置する突出した２つの注口管片（１８）を有している、請求項１から４までのいずれか１項記載の再使用容器。
【請求項６】  ほぼフラットな上部底部（２０）が、上側の積重ねリング（１２）の結合個所で斜めテーパ状にもしくは湾曲して構成されたリング片を介して、下側の容器壁のテーパ状に縮小された領域に接続されている、請求項３記載の再使用容器。
【請求項７】  注口管片（１８）の下側でポンプ漕（６５）としてのトラフ（凹部）が形成されるように、下側底部（６４）がサイドに向けて多少斜めに下り勾配で延びている、請求項１から６までのいずれか１項記載の再使用容器。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月27日(2005.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  一般式
【化１】
2001524477.tif 000001
［式中、
Ｈａｌはフッ素又は塩素を示し、
Ｒ１はＣ１−Ｃ３−アルキル、ＦＣＨ２−ＣＨ２−、シクロプロピルを示すか、あるいはそれぞれ場合によってハロゲンにより単−ないし三置換されていることができるフェニル又はシクロプロピルを示し、
Ｒ３はＨ、ハロゲン、ＮＨ２、ＣＨ３を示し、
Ｒ’及びＲ”は連結窒素原子と一緒になって、場合により環部分全体においてさらなる窒素、酸素もしくは硫黄複素原子を含有することができ且つ場合により置換されていることができる単−もしくは二環式複素環を形成する］
の８−ハロゲノ−３−キノロンカルボン酸誘導体を、溶媒としての炭素数が４〜６の脂肪族もしくは環状脂肪族エーテル中で、Ｃ１−Ｃ３−アルカノール又はベンジルアルコールの存在下に、
【化２】
2001524477.tif 000002
［式中、
Ｍはナトリウム又はカリウムを示す］
と反応させることを特徴とする一般式
【化３】
2001524477.tif 000003
［式中、
Ｒ２はＣ１−Ｃ３−アルキル又はベンジルを示し、
Ｒ１、Ｒ３及び
【化４】
2001524477.tif 000004
はそれぞれ上記で定義した通りである］
の３−キノロンカルボン酸誘導体の製造法。
【請求項２】
【化５】
2001524477.tif 000005
を、溶媒としての炭素数が４〜６の脂肪族もしくは環状脂肪族エーテル中で、Ｃ１−Ｃ３−アルコール又はベンジルアルコールの存在下に、
【化６】
2001524477.tif 000006
［式中、
Ｍはナトリウム又はカリウムを示す］
と反応させることを特徴とする
【化７】
2001524477.tif 000007
［式中、
Ｒ２はＣ１−Ｃ３−アルキル又はベンジルを示す］
の製造法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月19日(2005.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つの電位（１０１，１０２）の間で切換え可能であり、かつ２つの端子（１００ａ，１００ｂ）を備えたアクチュエータ（１００）と、アクチュエータ（１００）のための回路装置とを有する電気的に制御可能なブレーキ倍力装置であって、
２つの電位（１０１，１０２）を端子（１００ａ，１００ｂ）に供給する第１と第２の導線（１０３，１０４）と、
第１の導線（１０４）において、第１の電位（１０２）とアクチュエータの第１の端子（１００ｂ）の間に設けられた、電子的に操作可能な第１のスイッチ（１０６，２０６）と、
特にパルス幅変調された第１の制御信号（Ｓ１）によって第１のスイッチ（１０６，２０６）を切換える制御装置（１１２，２３５〜２３７）とを備えた、
ブレーキ倍力装置において、
第２の導線（１０３）において、第２の電位（１０１）とアクチュエータの第２の端子（１００ａ）の間に設けられた、電子的に操作可能な第２のスイッチ（１０５，２０５）を備え、制御装置が第２の制御信号（Ｓ２）によって第２のスイッチを切換えることを特徴とする電気的に制御可能なブレーキ倍力装置。
【請求項２】
第１の制御信号（Ｓ１）のために、信号監視装置（２３６）に通じる第１の信号線（１０９）が設けられていることを特徴とする請求項１記載の電気的に制御可能なブレーキ倍力装置。
【請求項３】
第１のスイッチ（１０６，２０６）と第１の端子（１００ｂ）の間およびまたは第２のスイッチ（１０５，２０５）と第２の端子（１００ａ）の間に、信号監視装置（２３６）に通じる第２の信号線（１０７，１０８，２２１，２２２，２２４，２２５）が設けられていることを特徴とする請求項１または２記載の電気的に制御可能なブレーキ倍力装置。
【請求項４】
制御装置（１１２，２３５〜２３７）がパルス幅変調された第１の制御信号を発生し、かつ処理装置（２３５）を備え、この処理装置が入力信号に応じて、パルス幅変調のパルス占有率を示す第１の出力信号（Ｓ１′）を発生し、更に、第１の出力信号を受信しかつ第１の制御信号（Ｓ１）を出力する発生装置（２３７）を備えていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載の電気的に制御可能なブレーキ倍力装置。
【請求項５】
信号監視装置（２３６）が処理装置（２３５）と同じ構造を有しかつこの処理装置とデータを交換する電子回路であることを特徴とする請求項４記載の電気的に制御可能なブレーキ倍力装置。
【請求項６】
処理装置（２３５）が、回路装置とアクチュエータおよびまたはパルス幅変調された第１の制御信号（Ｓ１）を検査するための適当な第２の制御信号（Ｓ２）と適当な第１の出力信号（Ｓ１′）を発生するための試験装置を備えていることを特徴とする請求項４または５記載の電気的に制御可能なブレーキ倍力装置。
【請求項７】
信号監視装置（２３６）がパルス幅変調された第１の制御信号のレベル変化を監視およびまたは判断するための第１の検査装置（４０１〜４０６）を備えていることを特徴とする請求項２記載の電気的に制御可能なブレーキ倍力装置。
【請求項８】
信号監視装置（２３６）が第２の信号フィードバックの電気的な値を監視およびまたは判断するための第２の検査装置（４０７〜４０８）を備えていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一つに記載の電気的に制御可能なブレーキ倍力装置。
【請求項９】
第１の検査装置（４０１〜４０６）がデジタル信号の立ち上がりエッジと立ち下がりエッジのための各々１つのエッジ検出器（４０１，４０２）と、時間計測装置（４０３）を備えていることを特徴とする請求項７記載の電気的に制御可能なブレーキ倍力装置。
【請求項１０】
第１の検査装置（４０１〜４０６）が、検出されたエッジの時点が連続的に書き込まれるメモリ（４０４）と、レジスタ内の連続する少なくとも３つの入力を評価する評価装置（４０５）を備えていることを特徴とする請求項９記載の電気的に制御可能なブレーキ倍力装置。
【請求項１１】
２つの電位の間で切換え可能であり、かつ２つの端子を備えた電子制御式ブレーキ倍力装置のアクチュエータの回路装置と、アクチュエータ自体を検査するための方法であって、回路装置が２つの電位を第１の基準点から第２の基準点に供給する線と、第１の基準点とアクチュエータの第１の端子の間に設けられた第１のスイッチと、第２の基準点とアクチュエータの第２の端子の間に設けられた第２のスイッチと、特にパルス変調された第１の制御信号と第２の制御信号によって第１と第２のスイッチを切り換える制御装置とを備えている、方法において、両スイッチが開放しているときに、アクチュエータの少なくとも１つの端子で少なくとも１つの電位を検査するステップを有することを特徴とする方法。
【請求項１２】
第１のスイッチを開放保持し、第２のスイッチを閉鎖するステップと、アクチュエータの少なくとも１つの端子の少なくとも１つの電位を検査するステップを有することを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
第２のスイッチを閉鎖し、第１のスイッチを短時間閉鎖するステップと、第１のスイッチが閉じている間、アクチュエータの少なくとも１つの端子の少なくとも１つの電位を検査するステップを有することを特徴とする請求項１１または１２記載の方法。
【請求項１４】
第１のスイッチが１ｍｓ以下、特に５００μｓ以下閉鎖保持されることを特徴とする請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
アクチュエータの両端子の電位を検査することを特徴とする請求項１１〜１４のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１６】
電位を検査する際に、この電位が閾値と比較されることを特徴とする請求項１１〜１５のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１７】
２つの電位の間で切換え可能であり、かつ２つの端子を備えた電子制御式ブレーキ倍力装置のアクチュエータのためのパルス変調された第１の制御信号を検査するための方法であって、アクチュエータの回路装置が２つの電位を第１の基準点から第２の基準点に供給する線と、第１の基準点とアクチュエータの第１の端子の間に設けられた第１のスイッチと、第２の基準点とアクチュエータの第２の端子の間に設けられた第２のスイッチと、パルス変調された第１の制御信号と第２の制御信号によって第１と第２のスイッチを切り換える制御装置とを備えている、方法において、２個のスイッチを開放保持し、所定のパルス占有率を有するパルス変調された第１の制御信号を発生し、発生した制御信号の複数のエッジの間の時間的な状態を検査し、目標状態が検出されないときに、エラー信号を出力することを特徴とする方法。
【請求項１８】
発生した第１の制御信号の連続する３つのエッジの間の時間的な状態が検査されることを特徴とする請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
先ず最初に、発生した第１の制御信号の第１のグループのエッジの間の時間的な状態が検査され、そして目標状態が検出されないときに、発生した第１の制御信号の少なくとも１つの第２のグループのエッジの間の時間的な状態が検査され、目標状態が検出されないときに、エラー信号が出力されることを特徴とする請求項１７または１８記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月5日(2006.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加工物に溝を形成するために用いられる工具であって、
取付構造と、
前記取付構造に取り付けられた、複数のチップを備えるマルチチップダイヤモンドとを含み、
前記マルチチップダイヤモンドの異なるチップが、前記被加工物にそれぞれ溝を形成するとともに、被加工物に形成される突起に対応する谷を隣接するチップ間に画定するように構成される、工具。
【請求項２】
前記マルチチップダイヤモンドの前記複数のチップが、前記被加工物に形成されるそれぞれの溝を形成するように集束イオンビームミリングされ、前記マルチチップダイヤモンドの２つのチップの内面が軸に沿って接して前記谷の底部を形成する、請求項１に記載の工具。
【請求項３】
前記谷が、凸状円弧形状面、凹状円弧形状面、および平坦面の群から選択された底面を画定する、請求項１に記載の工具。
【請求項４】
隣接するチップのピッチ間隔がおよそ１０ミクロン未満である、請求項１に記載の工具。
【請求項５】
前記谷が前記ダイヤモンドの厚さ方向に沿ってある距離延在する、請求項１に記載の工具。
【請求項６】
被加工物に溝を形成するために用いられるダイヤモンド工作機であって、
取付構造と、該取付構造内に取り付けられた、複数のチップを備えるマルチチップダイヤモンドとを含むダイヤモンド工具と、
前記ダイヤモンド工具を収容するとともに、前記被加工物に対する前記ダイヤモンド工具の位置付けを制御するための装置とを含み、
前記マルチチップダイヤモンドの複数のチップが、前記被加工物に複数の溝を形成するとともに、前記被加工物に形成される突起に対応する谷を隣接するチップ間に画定するように構成され、
前記ダイヤモンド工作機は、軸を中心に前記ダイヤモンド工具を回転させるフライカッティング機である、ダイヤモンド工作機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
谷１７が微細複製工具に形成される突起を画定できるため、谷１７を高精細に作製することは非常に重要であり得る。例えば谷１７は外部基準点に対して画定された半径を有する凹状または凸状円弧を画定し、または隣接表面１８Ａおよび１８Ｂの間の角度を画定し得る。谷１７の多様な他の形状も形成可能である。いずれの場合も微細複製工具内に作製された溝および突起は、微細複製工具が微細複製構造を形成する際に有効であるように精密な仕様と一致する必要がある。さらに多数のチップ１６を単一ダイヤモンド上に形成するため、単一工具内で別個のダイヤモンドを使用することに関連する位置合わせ問題が回避できる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月29日(2005.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微小電気機械システムの基板内に画定される微小電気機械素子であって、１つの対象領域を画定する質量素子と、前記質量素子が前記基板から離隔して配置されるように前記質量素子を支持する支持ビームとを含み、
該支持ビームは、
前記基板に接続される第１の固定端及び前記質量素子に接続される第１の遊端とによって画定される第１のビーム部材と、
前記基板に接続される第２の固定端及び前記質量素子に接続される第２の遊端とによって画定される第２のビーム部材であって、前記第１のビーム部材から離隔して配置される第２のビーム部材と、を含み、
各ビーム部材は上側縁部と下側縁部とによって画定され、
さらに、前記支持ビームは、両ビーム部材の上側縁部と下側縁部のうちの一方に近接して前記第１のビーム部材と前記第２のビーム部材とを接続する交差部材を含むことを特徴とする微小電気機械素子。
【請求項２】
質量素子を含む微小電気機械素子を形成する方法であって、
基板層を堆積すること、
前記基板層の少なくとも一部を除去することにより前記質量素子を形成することであって、結果として形成される前記質量素子が前記基板と接触しない対象領域を画定するように、質量素子を形成すること、
前記基板の少なくとも一部を除去することにより第１のビーム部材を形成することであって、結果として形成される前記第１のビーム部材が、前記基板に接続される第１の固定端と前記質量素子に接続される第１の遊端とによって画定されるように、第１のビーム部材を形成すること、
前記基板の少なくとも一部を除去することにより第２のビーム部材を形成することであって、結果として形成される前記第２のビーム部材が、前記基板に接続される第２の固定端と前記質量素子に接続される第２の遊端とによって画定され、前記第２のビーム部材が前記第１のビーム部材から離隔して配置されるように、第２のビーム部材を形成すること、および
前記基板の少なくとも一部を除去することにより交差部材を形成することであって、前記交差部材が前記第１のビーム部材と前記第２のビーム部材とを接続するように、交差部材を形成することを含み、
基板は複数の層として堆積され、交差部材は基板内のホウ素を拡散した領域を含むことを特徴とする、微小電気機械素子を形成する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月19日(2006.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の実施態様において、呼吸気調和装置は、未処理の呼吸気の吸気口と、処理済の呼吸気の排気口とを備えるハウジングを含み、前記ハウジングは、受動加湿手段と、能動加湿手段とを含み、前記能動加湿手段は、給水口と、供給された水の加熱装置と、実質的に非透水性および水蒸気透過性を有する膜と、熱交換要素とを含み、前記膜が、親水性膜と、水蒸気透過性かつ非透水性膜とに区分され、および前記熱交換要素が多孔金属板および／または発熱抵抗体を含む群から選択されることによって特徴づけられる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月29日(2006.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理されていない医療用ガス用の吸気口と処理された医療用ガス用の排気口とを備えた筐体を含み、前記筐体に、気化体と給水口と加熱装置とを含む調和手段が、前記医療用ガスを加湿及び加温するために備えられた医療用ガスの調和装置であって、
前記気化体と前記加熱装置とが同心状に配置されて両者の間に空間を形成し、水の薄層が加熱装置と気化体との間の前記空間に入り込むことができるように、前記給水口が筐体に接続され、
前記気化体が疎水性物を染み込ませた気孔を有するマイクロポーラス固定モノリス体を、又は、疎水性のマイクロポーラス固定モノリス体を有することを特徴とする装置。
【請求項２】
加熱装置と固定気化体との間の前記空間が筒状である請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記固定気化体が、実質的に水を通さず水蒸気を通す特性を有する請求項１から２の何れか１項に記載の装置。
【請求項４】
前記固定気化体がセラミック材料からなる請求項１から３の何れか１項に記載の装置。
【請求項５】
前記固定気化体がマイクロポーラスＰＴＦＥのモノリスからなる請求項１から３の何れか１項に記載の装置。
【請求項６】
前記固定気化体が０．０５ミクロンから１ミクロンの範囲のメッシュサイズを有する請求項１から５の何れか１項に記載の装置。
【請求項７】
前記固定気化体のメッシュサイズが０．２ミクロンである請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記調和手段が前記吸気口と前記排気口との間に配置される請求項１から７の何れか1項に記載の装置。
【請求項９】
前記固定気化体が前記加熱装置を囲んでいる請求項１から８の何れか1項に記載の装置。
【請求項１０】
前記筐体が、更に、付加された加熱装置に同心状に囲まれている請求項１から９の何れか1項に記載の装置。
【請求項１１】
前記加熱装置が前記固定気化体を囲んでいる請求項１から８の何れか1項に記載の装置。
【請求項１２】
前記筐体が底と、周辺壁と、蓋とを有することを特徴とする、請求項１から１１の何れか１項に記載の装置。
【請求項１３】
吸気口が前記筐体の底に位置し、排気口が前記筐体の蓋に位置する請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
吸気口が前記周辺壁の底に位置し、排気口が前記周辺壁の上部に位置する請求項１２に記載の装置。
【請求項１５】
前記加熱装置が金属エレメントにより囲まれた中央加熱機器を含む請求項１から１４の何れか１項に記載の装置。
【請求項１６】
前記筐体が底と、蓋とを有することを特徴とする、請求項１から１１の何れか１項に記載の装置。
【請求項１７】
排気口が固定気化体の上部に位置し、吸気口が前記固定気化体の底に位置する請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
固定気化体が加熱装置により同心状に囲まれて両者の間に空間を形成する請求項１６又は１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記加熱装置が金属エレメント筒を囲む加熱機器を含む請求項１６から１８の何れか１項に記載の装置。
【請求項２０】
給水口が加熱装置と固定気化体との間の空間に接続された請求項１から１９の何れか１項に記載の装置。
【請求項２１】
前記給水口が逆止弁を含む請求項１から２０の何れか１項に記載の装置。
【請求項２２】
前記給水口が水タンクに接続された請求項１から２１の何れか１項に記載の装置。
【請求項２３】
前記水タンクが高さにおいて７０から１２０ｃｍの範囲にある請求項２２に記載の装置。
【請求項２４】
前記加熱装置に温度センサが取り付けられている請求項１から２３の何れか１項に記載の装置。
【請求項２５】
前記吸気口と排気口とが接続管を有し、チューブを取り付けるようになっている請求項１から２４の何れか１項に記載の装置。
【請求項２６】
前記筐体が周辺壁の上部と底とを囲むフランジを有する請求項１から２５の何れか１項に記載の装置。
【請求項２７】
熱及び加湿交換器との組み合わせにおいて、請求項１から２６の何れか１項に記載の装置の使用。
【請求項２８】
医療用ガスの調和のための請求項１から２６の何れか１項に記載の装置の使用。
【請求項２９】
呼吸気装置における請求項１から２６の何れか１項に記載の装置の使用。
【請求項３０】
腹腔鏡手術における請求項１から２６の何れか１項に記載の装置の使用。
【請求項３１】
請求項１から２６の何れか１項に記載の装置をガス供給源へ接続する工程と、ガスを前記装置を通して流す工程と、を含む医療用ガスの調和方法。
【請求項３２】
処理されていない医療用ガスを吸気口を通して供給する工程と、
水の微小層を加熱することによって、気化体の中で引き起こされる蒸発水の作用により、前記供給されたガスを加湿及び加温する工程と、
を含む前記ガスが加湿及び加温される医療用ガスの調和方法であって、
前記気化体が疎水性物を染み込ませた気孔を有するマイクロポーラス固定モノリス体を、又は、疎水性のマイクロポーラス固定モノリス体を有することを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
本発明の１つの実施形態では、前記固定気化体７は、セラミック材料からなる。好ましい実施形態では、前記固定気化体７は、ポーラスセラミック筒である。前記セラミック筒が水を通さず蒸気を通す特性を有するようにするため、前記筒の気孔には、好ましくは疎水性物質を染み込ませる。気孔に疎水性物質が染み込ませられた固定気化体７の使用により、水蒸気１５のみを装置へ入れ、装置を通過するガス流による水滴の飛沫同伴を防ぐ。前記気化体に染み込ませる疎水性物質は、公知となっている。この疎水性物質の例として、シラン、シリカ、壁を不透性にする公知の物がある。本発明の他の実施形態として、前記固定気化体７が、マイクロポーラスＰＴＦＥのモノリスからなるものがある。前記マイクロポーラスＰＴＦＥモノリスは、好ましくは１から１０ｍｍの範囲の壁厚を有する中空筒からなり、より好ましくは３から１０ｍｍ、最も好ましくは５から６ｍｍの壁厚を有する中空筒からなる。ＰＴＦＥの疎水性の性質により、水蒸気１５は通過するのにかかわらず、液体の水は気孔からはじかれる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月23日(2006.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アントラサイクリン、フルオロピリミジン、葉酸アンタゴニスト、ポドフィロトキシン、カンプトテシン、ヒドロキシ尿素、または白金錯体を放出する、医療用移植物。
【請求項２】
前記移植物が、アントラサイクリン、フルオロピリミジン、葉酸アンタゴニスト、ポドフィロトキシン、カンプトテシン、ヒドロキシ尿素、または白金錯体を含む組成物により全体的または部分的に覆われるかまたはコーティングされる、請求項１に記載の医療用移植物。
【請求項３】
前記アントラサイクリンが、ドキソルビシンまたはミトキサントロンである、請求項１または２に記載の医療用移植物。
【請求項４】
前記フルオロピリミジンが、５−フルオロウラシルである、請求項１または２に記載の医療用移植物。
【請求項５】
前記葉酸アンタゴニストが、メトトレキサートである、請求項１または２に記載の医療用移植物。
【請求項６】
前記ポドフィロトキシンが、エトポシドである、請求項１または２に記載の医療用移植物。
【請求項７】
前記組成物が、ポリマーをさらに含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の医療用移植物。
【請求項８】
前記ポリマーが、生分解性ポリマーまたは非生分解性ポリマーである、請求項７に記載の医療用移植物。
【請求項９】
前記ポリマーが、ポリウレタンまたはポリ（ラクチド−コ−グリコリド）である、請求項７に記載の医療用移植物。
【請求項１０】
前記医療用移植物が、脈管カテーテル、人工心臓弁、心臓用ペースメーカー、移植可能な電気除細動器、血管移植片、耳用移植物、鼻用移植物、または喉用移植物、泌尿器科用移植物、気管内挿入チューブまたは気管開口チューブ、透析用カテーテル、ＣＮＳシャント、整形外科用移植物、あるいは眼科用移植物である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の医療用移植物。
【請求項１１】
前記医療用移植物が、糸または縫合糸である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の医療用移植物。
【請求項１２】
ポリマーと、アントラサイクリン、フルオロピリミジン、葉酸アンタゴニスト、ポドフィロトキシン、カンプトテシン、ヒドロキシ尿素、または白金錯体とを含む組成物であって、該アントラサイクリン、フルオロピリミジン、葉酸アンタゴニスト、ポドフィロトキシン、カンプトテシン、ヒドロキシ尿素、または白金錯体が、１０−４Ｍ未満の濃度で該組成物に存在する、組成物。
【請求項１３】
前記アントラサイクリン、フルオロピリミジン、葉酸アンタゴニスト、ポドフィロトキシン、カンプトテシン、ヒドロキシ尿素、または白金錯体が、１０−５Ｍ、１０−６Ｍ、または１０−７Ｍのうちのいずれか１つ未満の濃度で前記組成物中に存在する、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
前記フルオロピリミジンが、５−フルオロウラシルである、請求項１２または１３に記載の組成物。
【請求項１５】
医療用移植物に伴う感染を減少させるかまたは阻止する方法に使用するための請求項１〜１４のいずれか１項に記載の医療用移植物。
【請求項１６】
医療用移植物に伴う感染を減少させるかまたは阻止するための医療用移植物の調製のための請求項１２〜１４に記載の組成物の使用。
【請求項１７】
前記ポリマーが、生分解性ポリマーまたは非生分解性ポリマーである、請求項１６に記載の使用。
【請求項１８】
前記ポリマーが、ポリウレタンまたはポリ（ラクチド−コ−グリコリド）である、請求項１６に記載の使用。
【請求項１９】
医療用移植物を作製する方法であって、該方法は、アントラサイクリン、フルオロピリミジン、葉酸アンタゴニスト、ポドフィロトキシン、カンプトテシン、ヒドロキシ尿素、または白金錯体により医療用移植物を覆うかまたはコーティングする工程を包含する、方法。
【請求項２０】
前記フルオロピリミジンが、５−フルオロウラシルである、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記医療用移植物が、浸漬または含浸により覆われるか、またはコーティングされる、請求項１９または２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記医療用移植物が、糸または縫合糸である、請求項１９〜２１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２３】
コーティングを備えるカテーテルであって、該コーティングが、フルオロピリミジンを含む、カテーテル。
【請求項２４】
前記フルオロピリミジンが、５−フルオロウラシルである、請求項２３に記載のカテーテル。
【請求項２５】
前記５−フルオロウラシルが、１０μｇ〜２５ｍｇの範囲である、請求項２３に記載のカテーテル。
【請求項２６】
前記５−フルオロウラシルが、前記コーティングが存在する前記カテーテルの表面積の１ｍｍ２あたり０．１μｇ〜１ｍｇの範囲である、請求項２３に記載のカテーテル。
【請求項２７】
前記コーティングが、１種以上のポリマーをさらに含む、請求項２３に記載のカテーテル。
【請求項２８】
前記１種以上のポリマーが、ポリウレタンである、請求項２７に記載のカテーテル。
【請求項２９】
前記１種以上のポリマーが、ポリウレタンおよびニトロセルロースを含む、請求項２７に記載のカテーテル。
【請求項３０】
前記カテーテルが、中心静脈用カテーテルである、請求項２３〜２９のいずれか１項に記載のカテーテル。
【請求項３１】
前記カテーテルが、ポリウレタンから構成される、請求項３０に記載のカテーテル。
【請求項３２】
感染に抵抗するカテーテルを作製するための方法であって、該方法は、カテーテルを、フルオロピリミジンを含む組成物により覆うかまたはコーティングする工程を包含する、方法。
【請求項３３】
前記フルオロピリミジンが、５−フルオロウラシルである、請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
前記カテーテルが、中心静脈用カテーテルである、請求項３２または３３に記載の方法。
【請求項３５】
前記カテーテルが、ポリウレタンから構成される、請求項３２〜３４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３６】
前記組成物が、ポリウレタンおよびニトロセルロースをさらに含む、請求項３５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月8日(2005.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
本発明の研究は、国立衛生研究所（ｔｈｅ  Ｎａｔｉｏｎａｌ  Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅｓ  ｏｆ  Ｈｅａｌｔｈ）の補助金で資金提供された。米国政府は、本発明についてある権利を有する可能性がある。
本発明は、海軍省（Ｎａｖｙ）からの補助金で資金提供された。米国政府は、本発明についてある権利を有する可能性がある。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月22日(2005.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
ハンガーの下端部に形成された可撓タブ４４は、これらの開口部の一方にスナップ嵌めされることにより二つの延長位置のどちらかでハンガーをロックすることができる。ハンガーは、ハンガータワーから単に引き出されることによって延出され下方の開口部にロックされる。この位置で噴霧器２０は、シャワー壁を下向きにスプレーするために適当な高さで標準的シャワー噴出口から吊り下げられるであろう。この高さは、タブを内側に押し下げてハンガーを上下にスライドさせることによって調節できる。ハンガー自身は、ゴムストラップ４８を取り付けるためにその上端部に二つの耳４６を有している。これらの耳は、ストラップの接続を容易にするために先細り（テーパー）にされることができ、ストラップはシャワー噴出口などの周りにしっかり嵌め込まれるように調整目的の一連の孔をその一端に有することができる。ハンガータワーの背面は、背板５０によって閉塞されている。ハンガータワーは、その下端部で受入れ容器に連結されており、この下端部はポケット５２に嵌め込まれ、また受入れ容器の背面の二つのスロットにスナップ嵌めされる二つのラッチ５４（その一つが図示されている）を有している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２Ｂ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２Ｂ】
2005527362.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2005527362.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月8日(2006.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結晶物質の製造方法であって、該方法が物質の飽和溶液を製造し、溶液の温度を徐々に変化させてそれを過飽和とし、該溶液に強い強度の超音波を照射し、この場合該方法が以下の工程を含む、方法：
ａ）過飽和の程度が最小限となる温度であって超音波の短い照射によって該溶液から結晶が生成する温度を見出す工程、次いで
ｂ）この温度において、溶液が過飽和である間に該溶液に３秒を超えない短い間隔の間超音波を照射して結晶を生成させる工程、次いで
ｃ）該溶液の温度を連続して変化させることによって照射せずに溶液中で結晶を成長させる工程。
【請求項２】
周囲及び長手方向に伸びる配置で管の壁に取り付けられた複数の超音波振動子を使用して管の中で過飽和溶液に超音波を照射し、各振動子は信号発生器に結合して振動子が３Ｗ／ｃｍ2を越えない照射をし、振動子は相互に十分に近接し、かつ振動子の数は管内の動力損失が２５〜１５０Ｗ／リットルとなるように十分に多い、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
超音波の集中が生じないように超音波が照射される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
隣接する振動子の群に次から次へと動力を供給することによって集中を防止する、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
隣接する振動子又は隣接する群の振動子に異なった周波数で動力を供給することによって集中を防止する、請求項３又は４に記載の方法。
【請求項６】
結晶物質がアスパルテームである、先の請求項１ないし５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
結晶物質がアミノ酸である、請求項１ないし５のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
好ましくは超音波を例えば２秒又は３の間秒照射する。最も好ましくは超音波を短い間隔、例えば３秒より短い間隔で照射し、次いで結晶が生成されたかどうか溶液を検査し、結晶が全く生成していない場合は超音波を短い間隔で再度照射し、再び溶液を検査することができる。これを結晶が出現するまで繰り返し、その後は超音波を照射しないことができる。超音波の照射に引き続いてさらに溶液を徐々に冷却し、超音波の照射（insonation）によって生じた結晶の成長が生じる。従って、本方法によって大きな結晶の成長が可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月23日(2006.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
切除光エネルギーのビームを生成するレーザと、
コンピュータ可読媒体を有する少なくとも一つのプロセッサで、前記コンピュータ可読媒体が前記眼の治療期間中に前記レーザビームの幅寸法を変え、該ビームの幅寸法に相関させて前記治療中に前記レーザビームの発射レートを変えるよう適合させたコンピュータ・プログラムを有する前記少なくとも一つのプロセッサとを備える、レーザビームで眼を治療するシステム。
【請求項２】
前記コンピュータ可読媒体の前記コンピュータ・プログラムは、前記ビームの幅寸法と前記レーザの発射レートを変えて、前記治療の少なくとも一部期間中は前記眼に当てる前記ビームのパワーをほぼ一定レベルに維持する構成とした、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記コンピュータ可読媒体の前記コンピュータ・プログラムは、前記ビームの幅寸法を第１のサイズと第２のサイズの間で変化させ、前記第２のサイズのレーザビームの第２のパルスで眼に当てるエネルギー量よりも低い前記第１のサイズの前記レーザビームの前記第１のパルスでもって前記眼に所定量のエネルギーを当てる構成としてあり、前記コンピュータ可読媒体の前記コンピュータプログラムは前記レーザビームが前記第１のサイズであるときの第１の発射率と前記レーザビームが前記第２のサイズであるときの第２の発射率との間で前記発射率を変え、該第１の発射率を前記第２の発射率よりも高速とした、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記コンピュータ可読媒体の前記コンピュータ・プログラムは、前記ビームの幅寸法を第１のサイズと第２のサイズの間で変化させ、前記第２のサイズのレーザビームの第２のパルスで眼に当てるエネルギー量よりも高い前記第１のサイズの前記レーザビームの前記第２のパルスでもって前記眼に所定量のエネルギーを当てる構成としてあり、前記コンピュータプログラムは前記レーザビームが前記第１のサイズであるときの第１の発射率と前記レーザビームが前記第２のサイズであるときの第２の発射率との間で前記発射率を変え、該第１の発射率を前記第２の発射率よりも低速とした、請求項に１記載のシステム。
【請求項５】
前記コンピュータ可読媒体の前記コンピュータプログラムはさらに前記レーザビームを治療域上で走査するよう適合させた、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記ビームの幅寸法を前記切除治療中に少なくとも０．５ｍｍは変える、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記ビームの幅寸法を前記切除治療中に少なくとも３ｍｍは変える、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記レーザの発射レートを前記治療中に少なくとも２Ｈｚは変える、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記レーザの発射レートを前記治療中に少なくとも１０Ｈｚは変える、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記レーザはパルス駆動レーザとし、前記レーザビームはパルス幅を有するパルス駆動レーザビームとした、請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
前記プロセッサは前記パルス駆動レーザビームの順次パルス間の所定遅延を掲載した治療表をさらに含む、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
眼の治療用に一連のレーザ・パルスを生成するレーザと、
前記パルスのサイズを第１のパルス・サイズから該第１のサイズよりも小さい第２のパルス・サイズへ変える伝送光学系と、
前記レーザの発射レートを前記パルス・サイズに呼応して少なくとも一部変化させ、前記発射レートを第２のパルス・サイズ期間中よりも高速とするコンピュータ可読媒体を有するコントローラとを備える、眼を治療するためのレーザ眼科手術システム。
【請求項１３】
眼の治療用に一連のレーザ・パルスを生成するレーザと、
前記パルスのサイズを第１のパルス・サイズから該第１のサイズよりも大きい第２のパルス・サイズへ変える伝送光学系と、
前記レーザの発射レートを少なくとも一部前記パルス・サイズに呼応して変化させ、第２のパルス・サイズ期間中は前記発射レートをより低速とするコンピュータ可読媒体を有するコントローラとを備える、眼を治療するためのレーザ眼科手術システム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月23日(2006.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
角膜屈折措置の立案に使用するシステムで、該措置が切除レーザ・エネルギー・パルスのパターンを角膜へ案内して角膜組織を除去することを含む前記システムであって、
前記組織除去切除レーザエネルギーの前記パターンを受容する少なくとも一つの入力端を有するモジュールで、前記パターンが可変パルス特性を含み、前記モジュールが
前記角膜に関する温度限界と、
前記パルス特性と前記角膜の温度上昇との間の関係とに基づき、
前記パターンの一連のパルス間の複数の異なる時間遅延を規定する、ことを特徴とするシステム。
【請求項２】
前記モジュールが、前記パターンの一連のパルスの給送間の異なる時間遅延を規定する複数の異なるパルス反復率を決定する構成とした、請求項１記載のシステム。
【請求項３】
前記モジュールが決定した前記パルス反復率の少なくとも一つが複数のパルスを包含する一定の時間期間に亙る第１の位置での有効なパルス反復率を含み、前記時間期間が定常状態温度時間に殆ど満たず、前記パルス特性が前記角膜を横切るパルスの位置を含み、前記有効なパルス反復率が前記時間期間中の前記角膜組織の関連する第１の位置と前記角膜組織の第２の関連する位置との間の前記レーザの走査を反映させ、前記時間期間に亙る前記第１の位置での前記有効反復率が前記レーザの総ファイアリング率未満となるようにした、請求項２記載のシステム。
【請求項４】
前記温度変化限界が、前記組織の第１の温度と最大の所望温度との間の角膜組織温度における許容可能な変化を含む、請求項２記載のシステム。
【請求項５】
前記第１の温度は前記措置開始前の前記角膜の初期平衡温度からなる、請求項４記載のシステム。
【請求項６】
前記第１の温度は約３０乃至約３５℃の範囲にある、請求項５記載のシステム。
【請求項７】
前記第１の温度は約３３℃である、請求項６記載のシステム。
【請求項８】
前記第１の温度は角膜組織の測定温度または推定温度である、請求項５記載のシステム。
【請求項９】
前記最大所望温度は約４７℃未満である、請求項４記載のシステム。
【請求項１０】
前記最大所望温度は約４４℃未満である、請求項４記載のシステム。
【請求項１１】
前記温度変化限界は約１２℃未満である、請求項１記載のシステム。
【請求項１２】
前記関係は反復率と前記角膜に入射する前記レーザビームスポット・サイズのうちの少なくとも一方と温度変化との間の相関からなる、請求項１記載のシステム。
【請求項１３】
前記関係は前記反復率の変化と所与のスポット・サイズに関する温度変化との間のほぼ線形な関係を示す、請求項１２記載のシステム。
【請求項１４】
前記パルス特性は前記レーザビームのスポット・サイズを含み、前記スポット・サイズの減少を示す前記関係は温度変化生成時の反復率の増加に対応する、請求項１２記載のシステム。
【請求項１５】
前記関係は、半径ｒの反復率ｒｅｐ＿ｒａｔｅを有するスポット・サイズに関する温度変化ΔＴが、
ΔＴ＝（０．０５３３ｒ２＋０．４０７ｒ）ｒｅｐ＿ｒａｔｅ
であることを示す、請求項１記載のシステム。
【請求項１６】
レーザ屈折措置を立案するシステムで、該措置が切除レーザ・エネルギー・パルスのパターンを眼の角膜へ案内して角膜組織を除去することを含む前記システムであって、
組織除去切除レーザエネルギーの前記パターンを記憶するメモリと、
角膜加熱モデルと、
前記角膜加熱モデルに基づき前記パターンの一連のパルス間の複数の異なる時間遅延を決定するモジュールと、
前記角膜切除用の時間遅延を通信する出力端とを備える、ことを特徴とするシステム。
【請求項１７】
レーザ屈折措置を立案するシステムで、該措置が切除レーザ・エネルギー・パルスのパターンを眼の角膜へ案内して角膜組織を除去することを含む前記システムであって、
第１順位の組織除去切除レーザエネルギーの前記パターンを記憶し、第１のパターンを規定するメモリと、
前記メモリに結合させた角膜加熱モデルと、
前記角膜加熱モデルに基づき前記第１のパターンのパルスを再順位付けすることで前記第１のパターンから第２のパターンを導出するモジュールとを備える、ことを特徴とするシステム。
【請求項１８】
前記モジュールは前記パルスに対する少なくとも一つの初期熱安全レーザ・ファイアリング反復率を識別し、パルス間の前記時間遅延を反復的に低減し、前記低減された時間遅延を用いて角膜熱応答が安全を維持することを検証することで前記時間遅延を決定する構成とした、請求項１７記載のシステム。
【請求項１９】
前記関連パルスを不明確に反復するならば、前記少なくとも一つの初期反復率が安全定常状態角膜組織温度を生ずる筈である、請求項１８記載のシステム。
【請求項２０】
前記パターンの各パルスが関連するレーザ・スポット・サイズを有し、該パルスの前記スポット・サイズが前記パターンに従って変化し、一連の初期温度安全レーザ・ファイアリング反復率を前記スポット・サイズに呼応して識別する、請求項１９記載のシステム。
【請求項２１】
前記モジュールは、第１の位置を包含するレーザスポットを有する時間ウィンドウ内で複数の先行パルスを積分することで前記パルスの少なくとも一部の角膜熱応答を検証する構成とした、請求項１８記載のシステム。
【請求項２２】
前記第１の位置は中央瞳孔位置であり、前記モジュールは処置域内から延びる複数の位置にて少なくとも一部のパルスの角膜熱応答を検証する構成ともした、請求項２１記載の方法。
【請求項２３】
前記第１の位置の前記時間ウィンドウ内の前記パルスは異なる関連スポット・サイズを有し、前記異なるスポット・サイズは関連する許容可能な定常状態時間遅延を有し、前記モジュールが前記異なるスポット・サイズのパルスに対する前記許容可能な時間遅延を合計時間へ複合し該合計時間を前記時間ウィンドウと比較することで、前記時間ウィンドウ内で前記角膜の熱応答を検証する構成とした、請求項２１記載のシステム。
【請求項２４】
前記時間ウィンドウ内の前記パルスは前記角膜全体に走査し、前記第１の位置は前記走査パルスの前記レーザスポットの少なくとも一部の外側にあり、前記モジュールは前記時間ウィンドウ期間中に前記第１の位置を包含するレーザスポットを有する幾つかのパルスに対応する平均パルスを用いて前記熱応答を検証する構成とした、請求項２１記載のシステム。
【請求項２５】
前記パターンは前記角膜全体の一連のレーザスポット位置を含み、前記第１のパターンに第１の順位を割り当て、前記モジュールは前記パターンを前記第１の順位から前記第２の順位へ再順位付けし、該第２の順位の前記パルスのパターンが前記第１の順位の前記パターンよりも低い推定角膜温度または前記第１の順位の前記パターンよりも低い角膜処置時間を生成するようにした、請求項１７記載のシステム。
【請求項２６】
前記第１の順位の前記入力パターンが第１の処置表を規定し、前記第２の順位の前記修正パターンが第２の処置表を規定し、前記レーザスポット位置と前記第１の表の関連数のレーザパルスを前記第１と第２の処置表について同一とした、請求項２５記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月23日(2005.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
汚水を清浄化するためのろ過モジュールであって、複数のろ過メンブレンバッグが設けられており、該ろ過メンブレンバッグがその都度少なくとも１つの開口（２１）を、ろ過メンブレンバッグの内室を排水するために有しており、ろ過メンブレンバッグが垂直、平行かつ有利には互いに等間隔で、剛性的な直方体のホルダに配置されており、それにより、隣接するフィルタメンブレンバッグの間に位置する中間室が集中的に液体により通流可能であるようになっている形式のものにおいて、フィルタメンブレンバッグが実質的に平らにかつフレキシブルに形成されており、直方体のホルダの、互いに対向して位置する閉鎖した面（１２）で全長にわたって固くホルダに結合されており、該ホルダが少なくとも１つの吸出管路（２０）を、フィルタメンブレンバッグの開口（２１）を介して吸い出される液体を導出するために有しており、かつフィルタメンブレンバッグが単数のフレキシブルで液体透過性のコア（１６）および／または複数のフレキシブルで液体透過性のコアエレメント（１７，１８，１９）を有していることを特徴とする、プレート状のろ過モジュール。