【事件の表示】
　特願２００５−３４７６５２「リソグラフィ装置およびデバイス製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年６月２２日出願公開、特開２００６−１６５５５０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１７年１２月１日（パリ条約による優先権主張　平成１６年１２月２日　米国）の出願であって、平成２１年４月７日付けで手続補正がなされた後に通知された同年８月１２日付け拒絶理由（最後）に対し、平成２２年２月１２日付けで手続補正がなされたものの、同年８月１９日付けで、前記２月１２日付け手続補正についての補正の却下の決定がなされるとともに拒絶査定がなされた。
　本件は、前記拒絶査定を不服として平成２２年１２月２４日に請求された拒絶査定不服審判事件であって、当該請求と同時に手続補正がなされた。その後、当審において平成２３年９月６日付けで前置報告書の内容について意見を求めるための審尋を行ったところ、同年１２月５日付けで回答書が提出された。
　
第２　平成２２年１２月２４日付け手続補正についての補正の却下の決定
[補正の却下の決定の結論]
　平成２２年１２月２４日付け手続補正を却下する。
　
[理由]
１　補正の内容と目的
　平成２２年１２月２４日付け手続補正（以下「本件補正」という。）は、特許請求の範囲の記載を補正するものであって、その特許請求の範囲の請求項１についてする補正は、実質的に、本件補正前（平成２１年４月７日付け手続補正書により補正、以下同様。）の請求項１に記載された発明特定事項である「液体拘束構造」、「１または複数の電動機」が「フレームに対して回転させる」対象、ならびに、「液体供給システム」について、それぞれ、「Ｚ方向に移動させることができ」るものである、「液体拘束構造の前記入口」とし、ならびに、「前記液体供給システムには、露光視野から流出する可能性のある液体を除去するための第２出口（４２）が、前記露光視野の周囲に沿って設けられている」と限定して減縮することにより、
「放射線ビームを調整するように構成された照明システムと、
パターン化デバイスを保持するように構成された支持構造であって、前記パターン化デバイスが前記放射線ビームの断面にパターンを付与するように構成されている支持構造と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターン化されたビームを前記基板のターゲット部分に投射するように構成された投影システムと、
前記投影システムと前記基板の間の空間に液体を供給するように構成された入口、および前記液体の少なくとも一部を除去するように構成された出口を有する
液体拘束構造を備えた
（２６）
前記液体拘束構造
は、Ｚ方向に移動させることができ、かつ、
の前記入口
前記投影システムは、前記液体拘束構造を支持するフレームとは異なるフレームに接続されて
おり、
前記液体供給システムには、露光視野から流出する可能性のある液体を除去するための第２出口（４２）が、前記露光視野の周囲に沿って設けられている
　そこで、本件補正後の請求項１に係る発明（以下「本件補正発明」という。）が特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか、すなわち、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否かについて、以下に検討する。
　
２　本件補正発明
　本件補正発明は、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に記載された上記のとおりのものである。
　
３　引用例
（１）引用例１
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００４−３２００１７号公報（以下「引用例１」という。）には、図面とともに以下の技術的事項の記載がある。
（１ａ）「【請求項１】
　液浸リソグラフィシステムにおいて、
　投影レンズと、
　一対の液体供給口と液体回収口とが取り付けられ、前記投影レンズを囲むように配置されたリングとを備え、
　ウエハの移動方向が変わったときに、前記リングが回転する液浸リソグラフィシステム。」
（１ｂ）「【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
　複数の供給口と回収口の切替えは、浸液に一時的な外乱を与えることになる。また、ウエハステージ(ウエハ)がいろいろな方向に移動することができるにもかかわらず、液体の流れは、いくつか（２つ、又は４つなど）の方向に限られてしまう可能性がある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
　本発明においては、液浸リソグラフィシステムにおいて、投影レンズ（ＰＬ）と、　一対の液体供給口（１）と液体回収口（２）とが取り付けられ、投影レンズ（ＰＬ）を囲むように配置されたリング（３）とを備え、ウエハ（Ｗ）の移動方向が変わったときに、リング（３）が回転することを特徴とするものである。」
（１ｃ）「【０００６】
　図１は、本発明の実施形態を示し、図１は、投影レンズＰＬの先端付近を拡大した側面図であり、図２は、投影レンズＰＬとリング３との関係を示す平面図である。
　液体の供給を行なう供給口１と液体の回収を行なう回収口２が一つずつリング３に取り付けられている。リング３は投影レンズＰＬを取り囲むように配置されている。ウエハステージの移動方向が変わると、リング３は光軸周りに回転して、液体の流れを所望の方向に維持する。」
（１ｄ）【図１】　　　　　　　　　　　　　【図２】
　
　これら引用例１の記載および図面の図示内容からして、引用例１には以下の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているといえる。
「液浸リソグラフィシステムにおいて、
　投影レンズと、
　前記投影レンズを囲むように配置された、一対の液体供給口と液体回収口が取り付けられたリングを備え、
　ウエハの移動方向が変わったときに、前記リングが光軸周りに回転して、液体の流れを所望の方向に維持する液浸リソグラフィシステム。」
　
（２）引用例２
　同じく原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００４−２５９９６６号公報（以下「引用例２」という。）には、図面とともに以下の技術的事項の記載がある。
（２ａ）「【０００１】
　【発明の属する技術分野】
本発明は、投影光学系と基板との間に液浸領域を形成した状態で基板にパターンを露光する露光装置及びデバイス製造方法に関するものである。」
（２ｂ）「【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため、本発明は実施の形態に示す図１〜図１８に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明の露光装置（ＥＸ）は、投影光学系（ＰＬ）の投影領域（ＡＲ１）を含む基板（Ｐ）上の一部に液浸領域（ＡＲ２）を形成し、投影光学系（ＰＬ）と基板（Ｐ）との間の液体（１）及び投影光学系（ＰＬ）を介してパターン像を基板（Ｐ）上に投影し、基板（Ｐ）の複数のショット領域（Ｓ１〜Ｓ１２）を順次露光する露光装置において、液浸領域（ＡＲ２）を形成するために、投影光学系（ＰＬ）の少なくとも先端付近の側面（３）を伝って基板（Ｐ）上に液体（１）を供給する液体供給機構（１０）を備えたことを特徴とする。
【０００９】
本発明によれば、投影光学系の先端付近の側面を伝って基板上に液体を供給するようにしたので、液浸領域を小さくすることができる。…（以下略）」
（２ｃ）「【００２７】
図２は液体供給機構１０及び液体回収機構２０を示す概略構成図である。図２において、液体供給機構１０は液浸領域ＡＲ２を形成するために所定の液体１を基板Ｐ上に供給するものであって、液体１を供給可能な第１液体供給部１１及び第２液体供給部１２と、その一端部を第１液体供給部１１に接続した流路を有する供給管１１Ａと、その一端部を第２液体供給部１２に接続した流路を有する供給管１２Ａと、投影光学系ＰＬの先端部付近の一方（−Ｘ側）の側面３とガイド板４との間に形成され、液体１を流通可能な第１流路１３と、他方（＋Ｘ側）の側面３とガイド板４との間に形成され、液体１を流通可能な第２流路１４とを備えている。第１、第２流路１３、１４は、上端開口部である入口部１３Ａ、１４Ａ及び下端開口部である出口部１３Ｂ、１４Ｂをそれぞれ備えている。そして、供給管１１Ａの他端部が第１流路１３の入口部１３Ａに接続され、供給管１２Ａの他端部が第２流路１４の入口部１４Ａに接続されている。また、第１、第２流路１３、１４それぞれの出口部１３Ｂ、１４Ｂは基板Ｐの表面に近接して配置されている。第１、第２流路１３、１４は、第１、第２液体供給部１１、１２のそれぞれから送出され、供給管１１Ａ、１２Ａを通過した液体１を入口部１３Ａ、１４Ｂより入れ、出口部１３Ｂ、１４Ｂから出すことで、液体１を基板Ｐ上に供給する。すなわち、液体供給機構１０は、投影光学系ＰＬの先端部の側面３を伝って基板Ｐ上に液体１を供給し、更に具体的には、側面３、３とガイド板４、４との間に形成された第１、第２流路１３、１４に液体１を流して、基板Ｐ上に液体１を供給する。ここで、第１、第２流路１３、１４それぞれの出口部１３Ｂ、１４Ｂは基板Ｐの面方向において互いに異なる位置に設けられている。具体的には、出口部１３Ｂは投影領域ＡＲ１に対して走査方向一方側（−Ｘ側）に設けられ、出口部１４Ｂは他方側（＋Ｘ側）に設けられている。液体供給機構１０は、第１、第２液体供給部１１、１２を駆動することにより、第１、第２流路１３、１４の出口部１３Ｂ、１４Ｂを介して、走査方向と平行な方向であるＸ軸方向に関して、投影領域ＡＲ１の両側で液体１の供給を同時に行うことができるようになっている。」
（２ｄ）「【００３７】
図２及び図３に示すように、基板Ｐ上の液体１を回収する液体回収機構２０は、第１〜第４液体回収部２１〜２４（但し、図２には第４液体回収部は図示されていない）と、これら液体回収部２１〜２４のそれぞれに流路を有する回収管２１Ａ〜２４Ａを介して接続され、基板Ｐの表面に近接して配置された第１〜第４液体回収部材３１〜３４とを備えている。第１〜第４液体回収部材３１〜３４のそれぞれは基板Ｐ側に向いた第１〜第４液体回収口３１Ａ〜３４Ａを有している。液体回収部２１〜２４は例えば真空ポンプ等の吸引装置、及び回収した液体１を収容するタンク等を備えており、基板Ｐ上の液体１を液体回収部材３１〜３４及び回収管２１Ａ〜２４Ａを介して回収する。第１〜第４液体回収部２１〜２４の液体回収動作は制御装置ＣＯＮＴによりそれぞれ独立して制御され、制御装置ＣＯＮＴは第１〜第４液体回収部２１〜２４による単位時間あたりの液体回収量をそれぞれ独立して制御可能である。」
（２ｅ）「【００７８】
なお、液体供給部１１、１２や、液体回収部２１、２２は、投影光学系ＰＬ及びこの投影光学系ＰＬを支持する支持部材以外の支持部材で支持されることが好ましい。これにより、液体の供給や回収に伴うポンプ等の動作によって発生した振動が投影光学系ＰＬに伝達することを防ぐことができる。」
（２ｆ）【図１】　　　　　　　　　　　【図２】
　
（３）引用例３
　原審における平成２２年８月１９日付けの補正の却下の決定において引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である欧州特許出願公開第１４７７８５６号明細書（以下「引用例３」という。）には、図面とともに以下の技術的事項の記載（当審注：対応する日本国公開公報である特開２００４−３４３１１４号公報の記載を邦訳として記載した。）がある。
（３ａ）［０００１］〜［０００８］
「［０００１］　本発明はリソグラフィ投影装置およびデバイス製造方法に関する。
　…（中略）…
［０００３］　投影システムの最終構成要素と基板との間のスペースを充填するよう、リソグラフィ投影装置において基板を例えば水といったような比較的高い屈折率を有する液体に浸すことが提案されている。…（中略）…
［０００５］　提案されている解決方法の１つに、液体供給システムにおいて、液体閉込めシステムを用い、基板の局所的領域だけに、かつ投影システムの最終構成要素と基板間に液体を供給するというものがある。…（中略）…　図２はこの構成を図示したものであり、ここで液体はインレットＩＮにより供給され、この構成要素の他方サイドにて低圧力源ソースに連結したアウトレットＯＵＴにより取り出される。図２においては、最終構成要素に対する基板の動作方向に沿って液体が供給されているが、これに限定される必要はない。最終構成要素の周りに配設されるインレットおよびアウトレットの位置およびその数はさまざまであり、その一例を図３に示している。ここで、両サイドにアウトレットを配設した４セットのインレットが最終構成要素のまわりに規則正しく配設されている。
　…（中略）…
［０００７］　提案されているように基板が液体に浸される場合、投影システムによる基板の露光後に、液体が基板表面にいくらか残溜する。この液体が基板の後続する処理に問題を生じさせることがある。
［０００８］　本発明は、投影システムによる露光後に基板表面に残溜する液体を減じることを目的とする。」
（３ｂ）［００３６］〜［００３８］
「［００３６］　図４は、投影システムと基板ステージ間の液体リザーバ１０を示しており、詳細は欧州特許申請番号第０３２５２９５５．４号を参照されたい。液体リザーバ１０には、インレット／アウトレットダクト１３を介して供給された、例えば水といったような比較的高い屈折率を有する液体１１が充填されている。…（中略）…
［００３７］　リザーバ１０は、投影システムのイメージフィールドの周りで基板への非接触シールを形成し、それにより液体が閉じ込められ、基板表面と投影システムの最終構成要素間のスペースが充填される。リザーバは、投影システムＰＬの最終構成要素の下で、これを囲んで配置されたシール部材１２によって形成されている。液体は投影システムの下、シール部材１２内のスペースに込められる。…（中略）…
［００３８］　液体は、シール部材１２の底面と基板Ｗの表面間のガスシール１６によりリザーバに閉じ込められている。ガスシールは例えば空気もしくは合成エアーのようなガスにより、しかし望ましくはＮ２あるいは他の不活性ガスにより形成されており、加圧下でインレット１５を介してシール部材１２と基板間のギャップに供給され、第一アウトレット１４を介して抜き出される。ガスインレット１５の過圧、第一アウトレット１４の真空レベル、およびギャップのジオメトリは、液体を閉じ込める内側への高速の空気流をもたらすように調整される。これを図５においてより詳細に示している。」
（３ｃ）［００４６］
「［００４６］　ガスシール１６はシール部材１２を支持するのに十分に大きい力を作り出すことが出来る。実際に、シール部材１２により支持される有効重量を上げるために、シール部材１２を基板方向にバイアスする必要がある。シール部材１２は、投影システムに対して、かつ、この下で、いかなる場合もＸＹ面（光軸に垂直）においてほぼ静止位置に保持されるが、投影システムとは切り離される。シール部材１２はＺ方向に自由可動であり、ゆえに、基板表面の高さの変化に対応するために動作することが出来る。」
（３ｄ）図３
（３ｅ）図４　　　　　　　　　　　　図５
　
（４）引用例４
　原審審査官の前置報告書において引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である国際公開第２００４／０５３９５５号（以下「引用例４」という。）には、図面とともに以下の技術的事項の記載がある。
（４ａ）書誌的事項及び要約の頁の「(57)要約」の欄
「供給機構（７２）にレンズ（４２）の一側の供給口（３６）を介してレンズ（４２）とステージ上のウエハ（Ｗ）との間に液体が供給され、レンズ（４２）の他側の回収管（５２）を介して回収機構（７４）によりその液体が回収される。この液体の供給と回収とが並行して行われるとき、レンズ（４２）とステージ上の基板（Ｗ）との間には、所定量の液体（常時入れ替わっている）が保持される。従って、この状態で露光（パターンの基板上への転写）を行うことにより、液浸法が適用されて精度良く基板上にパターンが転写される。また、周壁の下端（３２ｇ）の下方から液体が漏出した場合に、スリット（３２ｈ３又は３２ｈ４）を介して補助回収機構（７６）によりその回収できなかった液体が回収される。これにより、基板上に液体が残留することがなくなる。」
（４ｂ）明細書頁番号３５第４行〜頁番号３９第下から３行目
「次に、液体給排ユニット３２について、図３及び図４に基づいて説明する。図３には、液体給排ユニット３２が、鏡筒４０の下端部及び配管系とともに断面図で示されている。また、図４には、図３のＢ−Ｂ線断面図が示されている。…（中略）…
　前記液体給排ユニット３２は、正面（及び側面）から見て段付き円筒状の形状を有しており、その中央部には、鏡筒４０の小径部４０ａを上方から挿入可能な断面円形の開口３２ａが上下方向に形成されている。…（中略）…
　前記環状側壁３２ｃと鏡筒４０の小径部４０ａとの間には、図３及び図４から分かるように、平面視（上方又は下方から見て）環状の空隙が形成されている。この空隙内に、全周に渡ってほぼ等間隔で複数本の回収管５２の一端が上下方向に挿入されている。
　液体給排ユニット３２の前述の凹部３２ｂ内部の底面（上面）には、環状側壁３２ｃのＸ軸方向の両側及びＹ軸方向の両側の位置に、それぞれ上下方向の貫通孔３４が形成され、各貫通孔３４に排気管５４の一端がそれぞれ挿入されている（図３では、Ｘ軸方向一側と他側の排気管５４は不図示、図４参照）。また、液体給排ユニット３２の凹部３２ｂ内部の底面（上面）には、複数箇所に丸孔が形成され、各丸孔を介して全回収用ノズル５６の下端部が挿入されている。
　更に、液体給排ユニット３２の下端面には、前記凹部３２ｂの外側に、下方から見て環状の凹溝３２ｄが形成されている。この場合、凹溝３２ｄと凹部３２ｂとの間には、所定肉厚の環状側壁３２ｅが形成されている。この環状側壁３２ｅの下端面は、前述のレンズ４２の下面（鏡筒４０の最下端面）と同一面となっている。環状側壁３２ｅの内周面の直径は上端から下端まで一定であるが、外周面の直径は、上端部から下端部近傍までは一定で、それより下の部分では下方に行くにつれて小さくなるようなテーパ状とされている。
　凹溝３２ｄの深さは、凹部３２ｂに比べて幾分（所定距離）浅くされており、液体給排ユニット３２の凹溝３２ｄ内部の底面（上面）には、複数の段付きの貫通孔が所定間隔で形成されており、各貫通孔内に供給管５８の一端が上方から挿入され、各貫通孔の下端の小径部は供給口３６とされている。…（中略）…
　周壁３２ｆの突出部３２ｇの外側の環状領域には、Ｘ軸方向の一側と他側、及びＹ軸方向の一側と他側に、２対の所定深さの円弧状のスリット３２ｈ１，３２ｈ２、及び３２ｈ３，３２ｈ４が形成されている。各スリットの幅は、実際には、凹溝３２ｄの幅寸法に比べて相当小さく、その内部で毛細管現象が生じる程度とされている。これらのスリット３２ｈ１，３２ｈ２、及び３２ｈ３，３２ｈ４にそれぞれ連通する該各スリットの幅よりも僅かに大きな直径の丸孔から成る吸気孔が、各スリットに対応して少なくとも各１つ液体給排ユニット３２の上面に形成され、各吸気孔に補助回収管６０の一端がそれぞれ挿入されている。…（中略）…
　前記各排気管５４の他端は、バルブ６２ｄをそれぞれ介して一端が真空ポンプを内蔵する吸引機構としての真空排気装置７６に接続された真空配管系６９の他端にそれぞれ接続されている。真空排気装置７６は、主制御装置２０によって制御される。…（中略）…
　また、この真空配管系６９には、共通のバルブ６２ｅを介して前述の補助回収管６０１〜６０４がそれぞれ接続されている。この場合、全てのバルブ６２ｄが開状態で、かつ真空排気装置７６が作動状態であるとき、ウエハＷ（又は前述した補助プレート２２ａ〜２２ｄ）上でレンズ４２の下端面より上の位置まで水が満たされる（図８参照）と、凹部３２ｂ内の上部空間が負圧となり、その水が持ち上げられる。
　また、バルブ６２ｅが開状態のとき、真空排気装置７６が作動状態であると、例えば、前述の周壁３２ｆの外部に水が漏れた（流出した）場合にその水が、スリット（３２ｈ１〜３２ｈ４のいずれか）内に毛細管現象で吸い上げられるとともに、真空排気装置７６の真空吸引力によって吸い上げられ外部に排出される。」
（４ｃ）Fig.3　　　　　　　　　　　　　Fig.4
　
４　本件補正発明と引用発明の対比
　本件補正発明と引用発明を対比すると、以下のとおりである。
（１）リソグラフィシステムが、光源となる照明機構、露光パターンを形成するためのフォトマスク等の支持機構、被露光体であるウェハ等の基板の支持機構、照明機構からの光を被露光体に投写するための光学機構を具備することは当業者の技術常識に属する事項であることに照らすと、引用発明の「リソグラフィシステム」が、本件補正発明の「放射線ビームを調整するように構成された照明システムと、パターン化デバイスを保持するように構成された支持構造であって、前記パターン化デバイスが前記放射線ビームの断面にパターンを付与するように構成されている支持構造と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、前記パターン化されたビームを前記基板のターゲット部分に投射するように構成された投影システム」「とを具備するリソグラフィ装置」に相当することは明らかである。
（２）また、引用発明の「液浸（リソグラフィシステム）」が、本件補正発明の「投影システムと前記基板の間の空間に液体を供給するように構成された」リソグラフィ装置を意味することも、当業者の技術常識に照らして、明らかである。
　そうすると、引用発明の「投影レンズを囲むように配置された、一対の液体供給口と液体回収口が取り付けられたリングを備え」という事項は、本件補正発明の「投影システムと前記基板の間の空間に液体を供給するように構成された入口、および前記液体の少なくとも一部を除去するように構成された出口」「を備え」という事項に相当する。
（３）さらに、引用発明の「ウエハの移動方向が変わったときに、前記リングが光軸周りに回転して、液体の流れを所望の方向に維持する」という事項からして、引用発明の「液体供給口と液体回収口が取り付けられたリング」は、光軸周りに回転することが明らかであるといえるから、引用発明の前記事項は、本件補正発明の「前記入口、前記出口（２６）の両方を、前記基板の露光平面に対して実質的に直角な軸線の周りで回転させるように構成」されている、という事項に相当するといえる。
（４）そうすると、本件補正発明と引用発明は、
「放射線ビームを調整するように構成された照明システムと、
パターン化デバイスを保持するように構成された支持構造であって、前記パターン化デバイスが前記放射線ビームの断面にパターンを付与するように構成されている支持構造と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターン化されたビームを前記基板のターゲット部分に投射するように構成された投影システムと、
前記投影システムと前記基板の間の空間に液体を供給するように構成された入口、および前記液体の少なくとも一部を除去するように構成された出口を備え、
前記入口、前記出口（２６）の両方を、基板の露光平面に対して実質的に直角な軸線の周りで回転させるように構成された、リソグラフィ装置。」の点で一致し、次の点で相違する。
　
〈相違点１〉
　投影システムと前記基板の間の空間に液体を供給するように構成された入口、および前記液体の少なくとも一部を除去するように構成された出口が、
本件補正発明は、「液体拘束構造を備えた液体供給システム」であるのに対し、引用発明は液体拘束構造ならびに液体供給システムについて明示がなく、また、前記本件補正発明の「液体拘束構造」は、「装置のベースまたはグランドに接続されたフレームによって支持され、前記液体供給システムが、前記液体拘束構造の前記入口を前記フレームに対して回転させるように構成された１または複数の電動機を有しており、前記投影システムは、前記液体拘束構造を支持するフレームとは異なるフレームに接続されて」いるのに対し、引用発明は、フレームによる支持態様及び回転機構について特定がない点。
〈相違点２〉
　本件補正発明は「液体拘束構造は、Ｚ方向に移動させることができ」るのに対し、引用発明は当該構成を特定していない点。
〈相違点３〉
　本件補正発明は「液体供給システムには、露光視野から流出する可能性のある液体を除去するための第２出口（４２）が、前記露光視野の周囲に沿って設けられている」のに対し、引用発明は当該構成を具備していない点。
　
５　相違点についての検討、判断
（１）相違点１について
　引用発明の「リング」は、引用例１の図１に図示のごときものであって、液体供給口と液体回収口とが取り付けられて、液体の流れを所望の方向に維持するためのものであることからして、供給される液体を拘束するものであることは明らかである。また、液浸リソグラフィシステムにおいて、投影レンズとウエハの間に供給する液体を保持する機構を、液体供給システムとして構成することは、引用例２に記載あるいは図示（上記「３」の（２ｂ）〜（２ｄ）、（２ｆ）参照）されているように当業者に慣用されている周知の事項である。さらに、前記投影レンズとウエハの間に供給する液体を保持する機構を、投影光学系の支持部材以外の部材で支持して、当該機構の動作振動が投影光学系へ伝達することを防止することも、引用例２に記載されている（上記「３」の（２ｅ）参照）から、当該機構を、投影システムと異なるフレームに接続せしめ、その接続先として、装置のベースまたはグランドに接続されたフレームとすることは、当業者が適宜なし得る事項である。そして、そのように構成した場合、引用発明の「リング」に取り付けられた「液体供給口」が、フレームに対して回転することは、明らかである。
　加えて、回転機構の回転を電動機を用いて行うことは、分野を問わず周知の事項にすぎない。
　してみると、上記相違点１は、当業者に周知の事項ならびに引用例２に記載された事項に基いて、当業者が容易に想到し得る事項である。
　
（２）相違点２について
　液浸リソグラフィ装置に用いる液体閉込めのためのシール部材を、投影システムと切り離し、Ｚ方向に自由可動とすることは、引用例３に記載されており（上記「３」の（３）、特に（３ｃ）参照）、当該記載事項を引用発明に適用することに格別の困難性を見出すことはできない。
　
（３）相違点３について
　引用発明と同様な、レンズとステージ上のウエハとの間に、前記レンズの一側の供給口を介して液体が供給され、前記レンズの他側の回収管を介して、回収機構によりその液体が回収される液浸リソグラフィ装置において、回収できなかった液体を回収して、ウエハ上に液体が残留することを防止するため、前記回収管の外側の、前記レンズ周囲の環状領域に複数のスリットを設け、前記スリットを介して、補助回収機構により、前記回収できなかった液体を回収することは、引用例４に記載されている（上記「３」の（４）参照）。
　してみると、引用発明に相違点３に係る構成を付加せしめ、回収できなかった液体の回収を図ることは、引用例４に記載された技術的事項に基いて、当業者が容易に想到し得る事項である。
　なお、請求人は、上記回答書において、上記引用例４について、拒絶理由が通知され、反論の機会が与えられないならば、出願人の防禦権行使の機会奪い、出願人に保障された利益保護に欠けることになる旨、主張する。しかしながら、上記相違点３に係る発明特定事項は、補正前の請求項１に係る発明を限定して減縮するため、本件補正によって初めて導入された発明特定事項であって、特許法第１５９条第２項で読み替えて準用する同法第５０条に、「第５３条第１項の規定により却下の決定をするときは、この限りでない。」と規定されているとおり、意見書の提出機会を与えるために、拒絶理由を改めて通知することが義務づけられていないことは明らかである。
　
　以上検討したとおりであるから、本件補正発明は、本願の出願前に頒布された刊行物である引用例１ないし４に記載された発明、及び、当業者に周知の事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
６　本件補正についての結び
　以上のとおり、本件補正のうち特許請求の範囲の請求項１に係る補正は、特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とする補正であって、本件補正後の請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるから、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たさないものである。
　したがって、本件補正は、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　平成２２年１２月２４日付け手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の特許請求の範囲に記載された発明は、本件補正前の特許請求の範囲の請求項１ないし３０に記載されたとおりのものであるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、次のとおりのものである。
「放射線ビームを調整するように構成された照明システムと、
パターン化デバイスを保持するように構成された支持構造であって、前記パターン化デバイスが前記放射線ビームの断面にパターンを付与するように構成されている支持構造と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターン化されたビームを前記基板のターゲット部分に投射するように構成された投影システムと、
前記投影システムと前記基板の間の空間に液体を供給するように構成された入口、および前記液体の少なくとも一部を除去するように構成された出口を有する液体供給システムであって、前記入口、前記出口もしくはその両方を、前記基板の露光平面に対して実質的に直角な軸線の周りで回転させるように構成された液体供給システムとを具備するリソグラフィ装置であって、
前記液体供給システムが空間に液体を拘束する液体拘束構造を有しており、
前記液体拘束構造が、前記装置のベースまたはグランドに接続されたフレームによって支持され、前記液体供給システムが、前記液体拘束構造を前記フレームに対して回転させるように構成された１または複数の電動機を有しており、
前記投影システムは、前記液体拘束構造を支持するフレームとは異なるフレームに接続されているリソグラフィ装置。」
　
２　刊行物
　原査定の拒絶の理由に引用された本願の優先日前に頒布された刊行物およびその記載事項、ならびに引用発明は、前記「第２　[理由]３」の「（１）」及び「（２）」に記載したとおりである。
　
３　本願発明と引用発明の対比、検討
　本願発明は、上記「第２　[理由]１」で検討したとおり、実質的に、本件補正発明の、「液体拘束構造」ついて限定する「Ｚ方向に移動させることができ」るという事項、「１または複数の電動機」が「フレームに対して回転させる」対象について限定する「液体拘束構造の前記入口」という事項、ならびに、「液体供給システム」について限定する「前記液体供給システムには、露光視野から流出する可能性のある液体を除去するための第２出口（４２）が、前記露光視野の周囲に沿って設けられている」という事項を除いたものに相当する。
　そうすると、本願発明と引用発明は、上記「第２　〔理由〕４」で検討したとおり、
「放射線ビームを調整するように構成された照明システムと、
パターン化デバイスを保持するように構成された支持構造であって、前記パターン化デバイスが前記放射線ビームの断面にパターンを付与するように構成されている支持構造と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターン化されたビームを前記基板のターゲット部分に投射するように構成された投影システムと、
前記投影システムと前記基板の間の空間に液体を供給するように構成された入口、および前記液体の少なくとも一部を除去するように構成された出口を備え、
前記入口、前記出口（２６）の両方を、基板の露光平面に対して実質的に直角な軸線の周りで回転させるように構成された、リソグラフィ装置。」の点で一致する。
　そして、次の点で相違する。
〈相違点４〉
　投影システムと前記基板の間の空間に液体を供給するように構成された入口、および前記液体の少なくとも一部を除去するように構成された出口が、
本願発明は、「液体拘束構造を備えた液体供給システム」であるのに対し、引用発明は液体拘束構造ならびに液体供給システムについて明示がなく、また、前記本願発明の「液体拘束構造」は、「装置のベースまたはグランドに接続されたフレームによって支持され、前記液体供給システムが、前記液体拘束構造を前記フレームに対して回転させるように構成された１または複数の電動機を有しており、
前記投影システムは、前記液体拘束構造を支持するフレームとは異なるフレームに接続されて」いるのに対し、引用発明は、フレームによる支持態様及び回転機構について特定がない点。
　
４　相違点についての判断
　上記相違点４は、既に検討した相違点１（上記「第２　〔理由〕５（１）」参照）と、「前記液体拘束構造の前記入口を前記フレームに対して回転させる」点が、「前記液体拘束構造を前記フレームに対して回転させる」という点で相違するにすぎず、その点は、「引用発明の「リング」に取り付けられた「液体供給口」が、フレームに対して回転することが明らか」であると同様、液体拘束構造が、フレームに対して回転することは明らかであるといえる。
　してみると、上記相違点４は、既に検討した相違点１同様、当業者に周知の事項ならびに引用例２に記載された事項に基いて、当業者が容易に想到し得る事項である。
　したがって、本願発明も、引用例１、２に記載された発明、及び、当業者に周知の事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５　むすび
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、本願の優先日前に頒布された刊行物である引用例１、２に記載された発明、及び、当業者に周知の事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。