Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月3日(2006.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒドロキシチロソール、３,４−ジヒドロキシフェニル酢酸もしくはそのエステル誘導体の還元における中間化合物としてのヒドロキシチロソール、オレウロペインおよびオレウロペインアグリコンから選択される化合物をアシル化剤と接触させることによっておこなわれる位置選択性エステル化反応による下記の一般式（Ｉ）で表されるヒドロキシチロソールエステルの製造方法において、
i）アシル化剤として有機酸または少なくとも１個のアシル基Ｒを有するエステルを使用し、
ii）上記のヒドロキシチロソールもしくはその類似化合物／アシル化剤の濃度比を１０：１〜１：１０００とし、
iii）上記反応を、０〜１５０℃で３０分間〜１ヶ月間の条件下において、アシル化剤が有機酸のときには酸性触媒の存在下でおこない、アシル化剤がエステルのときには酸性触媒または酵素触媒の存在下でおこなう
ことを特徴とする該ヒドロキシチロソールエステルの製造方法：
【化１】
2005531641.tif 000001
【請求項２】
アシル化剤としてのエステルを用いておこなわれるエステル化反応が少なくとも９５％の位置選択性を示す請求項１記載の方法。
【請求項３】
ＲがＨ、アルキル基、アルケニル基またはアリール基である請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
アルキル基が、炭素原子数が３１までの置換もしくは非置換の線状、分枝状または環状の炭素鎖構造を有するアルキル基である請求項１から３いずれかに記載の方法。
【請求項５】
アルケニル基が、炭素原子数が３１までの置換もしくは非置換の線状、分枝状または環状の炭素鎖構造を有するアルケニル基であって、該炭素鎖のいずれかの位置に１もしくは複数の不飽和結合を有するアルケニル基である請求項１から３いずれかに記載の方法。
【請求項６】
アリール基が、フェニル基またはその置換誘導体である請求項１から３いずれかに記載の方法。
【請求項７】
アシル化剤が油または脂肪に含まれるトリグリセリドである請求項１から６いずれかに記載の方法。
【請求項８】
反応を、所望により、エステル、エーテルおよびハロゲン化炭化水素から選択される溶剤の存在下でおこなう請求項１から７いずれかに記載の方法。
【請求項９】
触媒が鉱酸である請求項１から８いずれかに記載の方法。
【請求項１０】
触媒がリン酸である請求項９記載の方法。
【請求項１１】
触媒が有機スルホン酸である請求項１から８いずれかに記載の方法。
【請求項１２】
触媒がリパーゼである請求項１から８いずれかに記載の方法。
【請求項１３】
接触工程後、得られるヒドロキシチロソールエステルの単離と精製をおこなう工程を含む請求項１から１２いずれかに記載の方法。
【請求項１４】
請求項１から１３いずれかに記載の方法によって得られるヒドロキシチロソールエステルであって、アシル基が、炭素原子数が３〜６の炭素鎖を含む該エステル。
【請求項１５】
請求項１から１３いずれかに記載の方法によって得られるヒドロキシチロソールエステルであって、アシル基が、炭素原子数が７〜９の炭素鎖を含む該エステル。
【請求項１６】
請求項１から１３いずれかに記載の方法によって得られるヒドロキシチロソールエステルであって、アシル基が、炭素原子数が９よりも大きい炭素鎖を含む該エステル。
【請求項１７】
食品配合物用添加剤としての請求項１４から１６いずれかに記載のヒドロキシチロソールエステルの使用。
【請求項１８】
ヒドロキシチロソールエステルが請求項１から１３いずれかに記載の方法によって得られるエステルである請求項１７記載の使用。
【請求項１９】
食品配合物用添加剤としての請求項１５記載のヒドロキシチロソールエステルの使用。
【請求項２０】
該ヒドロキシチロソールエステルを、食品の無極相中の濃度が２００ｐｐｍを越えない濃度で単独添加するか、または他の天然のオルトジフェノール型もしくはジテルペン型の抗酸化剤と一緒に添加する請求項１７から１９いずれかに記載の使用。
【請求項２１】
請求項１から１２いずれかに記載の方法による反応において得られる触媒と溶剤の除去前の混合生成物の、食品配合物用添加剤としての使用。
【請求項２２】
化粧品用添加剤としての請求項１４から１６いずれかに記載のヒドロキシチロソールエステルの使用。
【請求項２３】
ヒドロキシチロソールエステルが、請求項１から１３いずれかに記載の方法によって得られるエステルである請求項２２記載の使用。
【請求項２４】
化粧品用添加剤としての請求項１５記載のヒドロキシチロソールエステルの使用。
【請求項２５】
請求項１から１２いずれかに記載の方法による反応において得られる触媒と溶剤の除去前の混合生成物の、化粧品用添加剤としての使用。
【請求項２６】
請求項１４から１６いずれかに記載のヒドロキシチロソールエステルの薬剤における使用。
【請求項２７】
請求項２６記載の薬剤用添加剤としてのヒドロキシチロソールエステルの使用であって、ヒドロキシチロソールエステルが請求項１から１３いずれかに記載の方法によって得られるエステルである該使用。
【請求項２８】
請求項１５記載のヒドロキシチロソールエステルの薬剤における使用。
【請求項２９】
請求項１から１２いずれかに記載の方法による反応において得られる触媒と溶剤の除去前の混合生成物の薬剤における使用。
【請求項３０】
請求項１４から１６いずれかに記載のヒドロキシチロソールエステルを添加剤として、単独でまたはオルトジフェノール型もしくはジテルペン型の天然の抗酸化剤と一緒に含有する食品配合物であって、食品の無極相中の該エステルの全濃度が２００ｐｐｍを越えない該食品配合物。
【請求項３１】
請求項１４から１６いずれかに記載のヒドロキシチロソールエステルを添加剤として含有する化粧品。
【請求項３２】
請求項１４から１６いずれかに記載のヒドロキシチロソールエステルを添加剤として含有する薬剤。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月29日(2006.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
実施例１８（比較、欧州特許出願公開第0 639 598号と類似）
ウレトジオン基を有し、１-イソシアナト-３,３,５-トリメチル-５-イソシアナトメチルシクロヘキサン（ＩＰＤＩ）をベースとし、１６.７％の遊離イソシアネート基含有量および２０.９％のウレトジオン基含有量（熱滴定により測定）を有するポリイソシアネート３５０.０ｇ（１.３９当量）を、乾燥窒素下でＤＢＴＬ触媒０.５ｇと混合し、８０℃に加熱した。その後に２０分にわたって、実施例９からのエステル基含有ジオールＣ１）１４９.３ｇ（１.１１当量）、１,４-ブタンジオール６.３ｇ（０.１４当量）および２-エチル-１-ヘキサノール１８.２ｇ（０.１４当量）の混合物を添加し、反応混合物を、最大１１０℃の反応温度で、約２０分後にそのＮＣＯ含有量が０.７％の数値に低下するまで撹拌した。溶融物を、冷却するために金属板上に注ぎ、本発明の重付加化合物を、以下の特性を有する淡黄色の固形樹脂として得た：
ＮＣＯ含有量：０.７％
ウレトジオン基含有量（計算）：１４.０％
モノマーＩＰＤＩ：０.１７％
融解範囲：９４〜９８℃
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
［ｂ］  比較のために粉体塗料物質を、同様に２７.０質量部の Rucote(商標) 182 および２５.２質量部の Rucote(商標) 194 から、比較例１８に従い得られた重付加化合物１０.３質量部、市販の均展剤（Resiflow(商標) PV 88、Worlee Chemie GmbH、ハンブルク）１.５質量部、パルミチン酸スズ(II)触媒０.５質量部、ベンゾイン０.５質量部および白色顔料（Kronos 2160、Kronos Titan GmbH、レーフエルクーゼン）３５.０質量部で製造した。全ＮＣＯ対ＯＨの当量比は、また１：１であった。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月16日(2006.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光で触媒を生成する物質、および構造式Iの反復単位を有しノルボルネン型モノマーの付加重合により得られるポリマーを含むポリマー組成物であって、少なくとも当該モノマーのいくつかがグリシジルメチルエーテル側基を有し、当該モノマーの他のいくつかが酸ラビル側基を有し、反復単位が構造式I：
【化１】
2005531680.tif 000001
［式中、ＸはＯ、−ＣＨ２−、および−ＣＨ２−ＣＨ２−から選ばれ；ｍは０〜５の整数であり、そして存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の各々は、以下の基：
（ａ）Ｈ、Ｃ１〜Ｃ２５の直鎖状、分枝鎖状、および環状のアルキル、アリール、アラルキル、アルカリル、アルケニル、およびアルキニル；
（ｂ）Ｏ、Ｎ、およびＳｉから選ばれる１個またはそれ以上のヘテロ原子を含有する、Ｃ１〜Ｃ２５の直鎖状、分枝鎖状、および環状のアルキル、アリール、アラルキル、アルカリル、アルケニル、およびアルキニル；
（ｃ）構造式II：
【化２】
2005531680.tif 000002
のエポキシ含有基
（式中、ＡはＣ１〜Ｃ６の直鎖状、分枝鎖状、および環状のアルキレンから選ばれる連結基であり、そしてＲ２３およびＲ２４はＨ、メチルおよびエチルから独立して選ばれる）；
（ｄ）構造式III：
【化３】
2005531680.tif 000003
のエポキシ含有基
（式中、ｐは０〜６の整数であり、Ｒ２３およびＲ２４は上記で定義されたものと同じであり、存在するＲ２１およびＲ２２の各々はＨ、メチルおよびエチルから独立して選ばれる）；
（ｅ）−（ＣＨ２）ｎＣ（Ｏ）ＯＲ５、−（ＣＨ２）ｎＣ（Ｏ）ＯＲ６、−（ＣＨ２）ｎＯＲ６、−（ＣＨ２）ｎＯＣ（Ｏ）Ｒ６、−（ＣＨ２）ｎＣ（Ｏ）Ｒ６、および−（ＣＨ２）ｎＯＣ（Ｏ）ＯＲ６；ならびに
（ｆ）Ｃ１〜Ｃ２５の直鎖状、分枝鎖状、そして環状のアルキレンおよびアルキレンアリールから選ばれる連結基でいっしょに連結されるＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の中の２種の任意の組み合わせ、
の一つから独立して選ばれ：
ここで、ｎは１〜２５の整数であり、Ｒ５は酸ラビル基であり、Ｒ６はＨ、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖状、分枝鎖状、および環状のアルキル、および上記で定義されたものと同じである構造式IIのエポキシ含有基から選ばれる］
の構造を有する、前記組成物。
【請求項２】
光で触媒を生成する物質がフォトアシッドジェネレーターを含み；付加重合がニッケル化合物またはパラジウム化合物を使用して開始され；少なくとも別の反復単位がアラルキル側基を有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
感光性の誘電性組成物において使用される請求項１または２に記載のポリマー組成物。
【請求項４】
グリシジルメチルエーテル側基を有するノルボルネン型モノマーがポリマーの１５〜９５モル％を包含する、請求項１〜３のいずれかに記載の組成物。
【請求項５】
アラルキル側基を有する反復単位がポリマーの１０〜５０モル％を包含し、当該アラルキル側基がフェニルエチル基である、請求項２〜４のいずれかに記載の組成物。
【請求項６】
炭化水素溶媒、芳香族溶媒、脂環式環状エーテル、環状エーテル、アセテート、エステル、ラクトン、ケトン、アミド、脂肪族モノ−ビニルエーテル、脂肪族マルチ−ビニルエーテル、脂環式モノ−ビニルエーテル、脂環式マルチ−ビニルエーテル、芳香族モノ−ビニルエーテル、芳香族マルチ−ビニルエーテル、環状カーボネート、およびこれらの混合物、から成る群の反応性および非反応性化合物から選ばれる溶媒を更に含む、請求項１〜５のいずれかの組成物。
【請求項７】
感光性の誘電性組成物が１種またはそれ以上の増感剤成分を含み；１種またはそれ以上の定着剤を含んでいてもよく；請求項６の反応性および／または非反応性化合物から選択される溶媒を含んでいてもよい、請求項３〜６のいずれかの組成物。
【請求項８】
基板を用意すること；
請求項１〜７のいずれかに記載の組成物を含む溶液を前記基板の少なくとも一面に溶着することにより被膜を形成すること；
前記溶液中の任意の非反応性溶媒の本質的にすべてが除かれるようにすること；
を含み、
光子放射に少なくとも被膜の一部を露光させそこに触媒を形成し、当該露光部分内に架橋を生じさせ、非架橋部分を除去することを含んでもよく；そして
被膜を熱硬化し、被覆層を形成することを含む、基板上に層を形成する方法。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれかの組成物から形成された層を含む、電気または電子デバイス。
【請求項１０】
前記デバイスが、論理チップ、受動素子、メモリ用チップ、マイクロ電気機械システム（ＭＥＭＳ）チップ、マイクロオプト電気機械システム（ＭＯＥＭＳ）チップ、および特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）チップから選ばれる、請求項９に記載の電気または電子デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月1日(2006.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多孔質金属酸化物および多孔質ポリマーから選択される不活性多孔質支持体、Ｍｇ、Ｔｉ、ハロゲンおよび式（Ｉ）：
【化１】
2005531675.tif 000001
（式中、基Ｒ1およびＲ2は、互いに同一または異なり、元素の周期表の１３〜１７族に属する異原子を任意に含有する、直鎖状もしくは分岐状、飽和もしくは不飽和のＣ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ3〜Ｃ20シクロアルキル、Ｃ6〜Ｃ20アリール、Ｃ7〜Ｃ20アルキルアリールまたはＣ7〜Ｃ20アリールアルキル基であり；基Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、互いに同一または異なり、水素または元素の周期表の１３〜１７族に属する異原子を任意に含有する、直鎖状もしくは分岐状、飽和もしくは不飽和のＣ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ3〜Ｃ20シクロアルキル、Ｃ6〜Ｃ20アリール、Ｃ7〜Ｃ20アルキルアリールまたはＣ7〜Ｃ20アリールアルキル基であり；かつ同一の炭素原子に結合する基Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、Ｃ3〜Ｃ8環を形成するために互いに結合することができる）
のスクシネート類から選択される電子供与体からなる、式ＣＨ2=ＣＨＲ（式中、Ｒは水素または１〜１２の炭素原子を有する炭化水素基である）のオレフィンの重合用固体触媒成分。
【請求項２】
不活性多孔質支持体が、Ｈｇ法で測定される０．３ｃｃ／ｇよりも大きな空隙率を有する請求項１による固体触媒成分。
【請求項３】
不活性多孔質支持体の表面積が、３０ｍ2／ｇ（ＢＥＴ）よりも大きい請求項１または２による固体触媒成分。
【請求項４】
（ａ）請求項１〜３のいずれか１つに記載のような、不活性多孔質支持体、Ｍｇ、Ｔｉおよびハロゲンおよび式（Ｉ）のスクシネート類から選択される電子供与体からなる固体触媒成分；
（ｂ）アルキルアルミニウム化合物、および任意に、
（ｃ）１以上の電子供与化合物（外部供与体）
の間の反応の生成物からなるオレフィンＣＨ2=ＣＨＲ（式中、Ｒは水素または１〜１２の炭素原子を有する炭化水素基である）の重合用触媒。
【請求項５】
請求項４の触媒系の存在下で、１以上のオレフィンＣＨ2=ＣＨＲを重合条件で接触することからなる、１以上のオレフィンＣＨ2=ＣＨＲ（式中、Ｒは水素または１〜１２の炭素原子を有する炭化水素基である）の重合方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の目的は、不活性多孔質支持体、Ｍｇ、Ｔｉ、ハロゲンおよび式（Ｉ）：
【化１】
2005531675.tif 000002
（式中、基Ｒ1およびＲ2は、互いに同一または異なり、元素の周期表の１３〜１７族に属する異原子を任意に含有する、直鎖状もしくは分岐状、飽和もしくは不飽和のＣ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ3〜Ｃ20シクロアルキル、Ｃ6〜Ｃ20アリール、Ｃ7〜Ｃ20アルキルアリールまたはＣ7〜Ｃ20アリールアルキル基であり；基Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、互いに同一または異なり、水素または元素の周期表の１３〜１７族に属する異原子を任意に含有する、直鎖状もしくは分岐状、飽和もしくは不飽和のＣ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ3〜Ｃ20シクロアルキル、Ｃ6〜Ｃ20アリール、Ｃ7〜Ｃ20アルキルアリールまたはＣ7〜Ｃ20アリールアルキル基であり；かつ同一の炭素原子に結合する基Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、Ｃ3〜Ｃ8環を形成するために互いに結合することができる）
のスクシネート類から選択される電子供与体からなる、オレフィンＣＨ2=ＣＨＲ（式中、Ｒは水素または１〜１２の炭素原子を有する炭化水素基である）の重合用固体触媒成分である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
Ｒ1およびＲ2は、好ましくは直鎖状もしくは分岐状、飽和もしくは不飽和のＣ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、Ｃ6〜Ｃ8アリール、Ｃ7〜Ｃ8アルキルアリールまたはＣ7〜Ｃ8アリールアルキル基である。特に、Ｒ1およびＲ2が第一Ｃ1〜Ｃ8アルキル基、特に分岐状の第一Ｃ1〜Ｃ8アルキル基から選択される化合物が好ましい。好適なＲ1およびＲ2基の例は、メチル、エチル、n-プロピル、n-ブチル、イソブチル、ネオペンチル、2-エチルヘキシルである。特に、エチル、イソブチルおよびネオペンチルが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
好適な化合物の特定の例は、ジエチル 2,3-ビス(トリメチルシリル)スクシネート、ジエチル 2,2-ジsec-ブチル-3-メチルスクシネート、ジエチル 2-(3,3,3-トリフルオロプロピル)-3-メチルスクシネート、ジエチル 2,3-ビス(2-エチルブチル)スクシネート、ジエチル 2,3-ジエチル-2-イソプロピルスクシネート、ジエチル 2,3-ジイソプロピル-2-メチルスクシネート、ジエチル 2,3-ジシクロヘキシル-2-メチルスクシネート、ジエチル 2,3-ジベンジルスクシネート、ジエチル 2,3-ジイソプロピルスクシネート、ジエチル 2,3-ビス(シクロヘキシルメチル)スクシネート、ジエチル 2,3-ジ-t-ブチルスクシネート、ジエチル 2,3-ジイソブチルスクシネート、ジエチル 2,3-ジネオペンチルスクシネート、ジエチル 2,3-ジイソペンチルスクシネート、ジエチル 2,3-(1,1,1-トリフルオロメチル-エチル)スクシネート、ジエチル 2,3-ジ(9-フルオレニル)スクシネート、ジエチル 2-イソプロピル-3-イソブチルスクシネート、ジエチル 2-t-ブチル-3-イソプロピルスクシネート、ジエチル 2-イソプロピル-3-シクロヘキシルスクシネート、ジエチル 2-イソペンチル-3-シクロヘキシルスクシネート、ジエチル 2-シクロヘキシル-3-シクロペンチルスクシネート、ジエチル 2,2,3,3-テトラメチルスクシネート、ジエチル 2,2,3,3-テトラエチルスクシネート、ジエチル 2,2,3,3-テトラプロピルスクシネート、ジエチル 2,3-ジエチル-2,3-ジイソプロピルスクシネート、
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
塩化マグネシウムを含浸させた不活性多孔質支持体を、まず式（Ｉ）のスクシネート、次いで四塩化チタンと反応させることもできる。
式（Ｉ）のスクシネートは、多孔質支持体の含浸の間に加えることができ、またチタン化合物との反応の後に反応させることもできる。この場合、ベンゼンおよびトルエンのような芳香族溶剤の存在下で反応を行うのが最もよい。多孔質支持体をマグネシウムハライド以外のマグネシウム化合物溶液と共に用いるとき、それらを、気体のＨＣｌ、ＳｉＣｌ4、Ａｌ−アルキルハライドおよびＣｌ3ＣｉＲ8（式中、Ｒ8はＲ1と同じ意味を有する）のようなハロゲン化剤と反応させることにより、前記の化合物をハライドに転化するのが最もよい。次いで、このように含浸させ、かつ処理した支持体を、上で示した次の方法でＴｉＣｌ4およびエーテル化合物と反応させる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月21日(2006.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属ナノ粉末を含む導電性インクを製造する方法であって、
（i）溶媒中で、金属ナノ粉末と、結合剤、界面活性剤、添加剤、重合体、緩衝剤、分散剤及び／又はカップリング剤、から成る群から選択される少なくとも１つと、を均質な混合物となるように混合するステップと、
（ii）前記均質化された混合物を、被覆すべき表面に塗布するステップと、
（iii）前記溶媒を、前記均質化された混合物から蒸発させるステップと、
（iv）０．００５Ω／スクエア乃至５Ω／スクエアの範囲にある抵抗値を有する導電性インクを前記表面上に生成すべく、被覆層を５０℃乃至２２０℃の範囲にある温度で焼結するステップと、
を備えてなることを特徴とする、金属ナノ粉末を含む導電性インクの製造方法。
【請求項２】
前記焼結するステップが、１００℃乃至２２０℃の範囲にある温度で行われることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記金属ナノ粉末の濃度が、前記均質化された混合物において１重量％乃至７０重量％であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記金属ナノ粉末の濃度が、前記均質化された混合物において２重量％乃至５０重量％であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記均質化された混合物が、有機溶媒又は有機溶媒混合物を含んでいることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記有機溶媒又は前記有機溶媒混合物の濃度が、２０重量％乃至８５重量％であることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記有機溶媒又は前記有機溶媒混合物の濃度が、４０重量％乃至８０重量％であることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記均質化された混合物が、水／油型（Ｗ／Ｏ型）乳濁液であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記被覆すべき表面が、ガラス、可撓性高分子フィルム類又はシート類、比較的可撓性でない高分子フィルム類又はシート類、ポリエチレン製品類、ポリプロピレン製品類、アクリル酸含有製品類、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、共重合体、およびこれらの組み合わせ、から成る群から選択されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記被覆すべき表面が、ポリエステル類、ポリアミド類、ポリカーボネート類、ポリエチレン、ポリプロピレン、これらの共重合体、およびこれらの組み合わせ、から成る群から選択される高分子フィルムであることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記金属ナノ粉末が、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、コバルト、銅、又はこれらの組み合わせ、から成る群から選択されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記金属ナノ粉末が、（ａ）アルミニウム及び金属を含む合金を生成するステップと、（ｂ）前記アルミニウムを除去するために前記合金を浸出剤で処理するステップと、を有するプロセスで調製されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記金属ナノ粉末のＤ９０粒径値が０．１μｍ未満であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記均質化された混合物が、金属コロイド、被還元性金属塩、有機金属錯体、分解して導電性材料を形成する有機金属化合物類、またはこれらの組み合わせを含んでいることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記均質化された混合物を、あらかじめ定められたパターンに従って前記表面に塗布することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
その場に自己組織化ネットワーク様パターンを生成すべく、前記溶媒を前記均質化された混合物から蒸発させることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
請求項１から１６までのいずれかに記載の方法により製造されることを特徴とする導電性インク。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月29日(2006.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
もっぱら第２級および／または第３級イソシアネート基を有する脂肪族および／または脂環式イソシアネートを二量化することにより得ることができ、ウレトジオン基およびイソシアヌレート基の合計を基準に１０％以下のモル割合のイソシアヌレート構造を有するウレトジオン基含有化合物。
【請求項２】
もっぱら第２級および／または第３級イソシアネート基を有する化合物を二量化する方法であって、もっぱら第２級および／または第３級イソシアネート基を有するＮＣＯ基含有出発化合物を、アニオンで１,２,３-および／または１,２,４-トリアゾレート構造を有する塩様のオリゴマー化触媒の存在下に二量化することを含む方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、ウレトジオン基を含む化合物、もっぱら第２級および／または第３級的に結合した（第２級および／または第３級）イソシアネート基を有する脂肪族および／または脂環式イソシアネートを二量化することによりそのような化合物を製造する方法に関する。もっぱら第２級および／または第３級イソシアネート基を有する脂肪族および／または脂環式イソシアネートからその方法により得ることができるウレトジオンポリイソシアネートは、ポリウレタン樹脂の製造のための出発成分として、特にウレトジオン粉体塗料架橋剤の製造におけるイソシアネート成分として使用することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の上記方法により、もっぱら第２級および／または第３級イソシアネート基を有するジイソシアネートから得ることができるウレトジオンポリイソシアネートはポリウレタン樹脂の製造のための出発成分として、特にウレトジオン粉体塗料架橋剤の製造におけるイソシアネート成分として使用することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月22日(2006.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学組成（質量％）が下記：
炭素        ：０．１以下、
窒素        ：０．１以下、
銅          ：０．５〜４、
クロム      ：１０〜１４、
モリブデン  ：０．５〜６、
ニッケル    ：７〜１１、
コバルト    ：０〜９、
タンタル    ：０．１以下、
ニオブ      ：０．１以下、
バナジウム  ：０．１以下、
タングステン：０．１以下、
アルミニウム：０．０５〜０．６、
チタン      ：０．４〜１．４、
シリコン    ：０．７以下、
マンガン    ：１．０以下、
鉄          ：残部、および
通常の製鋼添加物および不純物
であるステンレス鋼において、
硬さ１２００ＨＶ以上の、窒化処理による表面硬化層を備えていることを特徴とするステンレス鋼。
【請求項２】
請求項１において、析出硬化処理の生成物としてマルテンサイト組織中に擬結晶質粒子
を含むことを特徴とするステンレス鋼。
【請求項３】
請求項１または２記載のステンレス鋼であって、耐摩耗被膜の基材として用いることを特徴とするステンレス鋼。
【請求項４】
請求項１から３までのまでのいずれか１項記載の表面改質ステンレス鋼を製造する方法において、
請求項１記載の化学組成を有するステンレス鋼に、プラズマ窒化雰囲気中において４５０〜５８０℃で１〜４０時間の窒化処理を施すことを特徴とする表面改質ステンレス鋼の製造方法。
【請求項５】
請求項１から３までのいずれか１項記載のステンレス鋼の製品であって、上記ステンレ
ス鋼の製品形態が、ワイヤ、プレート、ストリップ、チューブ、パイプ等の形状であり、
特に高強度および／または高靭性と高耐摩耗性との組合せに対する要求水準が高い用途の
複雑形状物、例えば、エンジンの耐摩耗部品その他のエンジン部品、衝撃荷重部材例えば
安全装置、カムフォロワー、カムフォロワーパッド、バルブステム、バルブステムガイド
、ピストンピン、ピストンシャフト、油圧ピストン、排出ピン、安全保護プレート、ロッ
クシリンダー等のロッキング装置、ブロッキング部材、盗難予防設備などであって、寸法
変化が無い製品。
【請求項６】
請求項５記載の製品であって、上記ステンレス鋼が請求項４記載の窒化処理を施された表面改質ステンレス鋼であることを特徴とする製品。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月26日(2006.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビス−ヒドロキシフェニルメンタン（ＢＨＰＭ）残基及びジカルボン酸の残基を含んでなるＢＨＰＭポリエステルコポリマー。
【請求項２】
前記ＢＨＰＭ残基が１，３−ＢＨＰＭである、請求項１記載のコポリマー。
【請求項３】
前記ジカルボン酸がフタル酸である、請求項１又は請求項２記載のコポリマー。
【請求項４】
前記フタル酸残基がイソフタル酸残基又はテレフタル酸残基を含む、請求項３記載のコポリマー。
【請求項５】
前記フタル酸残基がすべてテレフタル酸残基である、請求項４記載のコポリマー。
【請求項６】
前記フタル酸残基の２５％以上がテレフタル酸残基である、請求項４記載のコポリマー。
【請求項７】
当該コポリマーがさらに末端封鎖基を含む、請求項６記載のコポリマー。
【請求項８】
前記末端封鎖基がｐ−クミルフェノール残基である、請求項７記載のコポリマー。
【請求項９】
当該コポリマーがさらにビスフェノールＡ残基を含む、請求項３記載のコポリマー。
【請求項１０】
ビス−ヒドロキシフェニルメンタン（ＢＨＰＭ）ポリエステルの製造方法であって、
（ａ）二酸又はその反応性誘導体及びＢＨＰＭを、ＢＨＰＭポリエステルを形成するエステル化に適した条件下で混合して反応混合物を形成し、
（ｂ）ＢＨＰＭポリエステルを回収する
段階を含んでなる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月27日(2006.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）半結晶ポリオールと、
（ｂ）分枝第一級水酸基を有するポリオール、第二級水酸基を有するポリオール、および前述したものの組み合わせからなる群より選択される実質的にアモルファスのポリオールと、
（ｃ）第二級アミノ官能基を含む第二級アミノシランエンドキャッパーと、
（ｄ）イソシアネートとを含み、
（ｅ）実質的に錫を含まない
反応成分の反応生成物を含む湿気硬化型ホットメルト組成物。
【請求項２】
前記半結晶ポリオールが、ポリヘキサメチレンセバケート、ポリヘキサメチレンアジペート、ポリブチレンアジペート、ポリヘキサメチレンドデカンジオエート、ポリ−イプシロン−カプロラクトンおよびこれらの組み合わせからなる群より選択される、ポリオールとポリ酸の反応生成物を含む、請求項１に記載の湿気硬化型ホットメルト接着剤および／またはシール剤組成物。
【請求項３】
前記実質的にアモルファスのポリオールが、分子量が約２２５０および水酸基価が４８．５〜５１．５の酸化プロピレンと酸化エチレンをベースとするコポリマージオールを含む、請求項１に記載の湿気硬化型ホットメルト接着剤および／またはシール剤組成物。
【請求項４】
前記第二級アミノシランエンドキャッパーが、式：
Ｒ0−ＮＲ1−Ｒ2−Ｓｉ（ＯＲ3）m（Ｒ4）n
（式中、Ｒ0は脂肪族であり、
Ｒ1は水素であり、
Ｒ2は直鎖、分枝鎖または環状脂肪族鎖であり、
Ｒ3およびＲ4はＣ1〜Ｃ6アルキルであり、
ｍ＝１〜３であり、
ｎ＝０〜２である）
を有する材料を含む、請求項１に記載の湿気硬化型ホットメルト接着剤および／またはシール剤組成物。
【請求項５】
（ａ）前記半結晶ポリオールがポリヘキサメチレンアジペートであり、（ｂ）前記アモルファスポリオールが第二級水酸基を含むポリオキシプロピレングリコールであり、（ｃ）前記第二級アミノシランエンドキャッパーがＮ−エチル−３−アミノ−プロピルトリメトキシシランであり、（ｄ）前記イソシアネートが４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネートである、請求項１に記載の湿気硬化型ホットメルト接着剤および／またはシール剤組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月16日(2006.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
有利な実施の態様：
以下において本発明の対象を図面および実施例によって更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
図１：多軸プレス成形によっておよび冷間静水圧プレス成形によって製造される半製品の可能な実施態様を示している。
図２：ステンレス鋼１．４４０４（３１６Ｌ）から本発明の方法に従って製造された色々な金属製形状物を示している。
図３：プレイスホルダー材料（すなわちダミー材料）によって製造されたマクロポロシティー、および焼結段階で生じたミクロポロシテーを示している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
図２は、本発明に従っておよび以下に記載する方法段階でステンレス１．４４０４（３１６Ｌ）から製造される種々の金属形態を図示している。原料として水噴霧加工粉末（water-atomized powder)（粒度＜５０μｍ）を使用する。この鋼粉末をプレイスホルダーまたはダミー物質の重炭酸アンモニウム（粒子フラクション３５５〜５００μｍ）と一緒に４５：５５（容量％）の鋼粉末と重炭酸アンモニウムとの比で混合する。これは８０．５：１９．５（重量％）の鋼粉末と重炭酸アンモニウムとの比に相当する。この混合物を４２５ＭＰａの圧縮圧で一軸プレス加工して３０ｍｍの直径および２２ｍｍの長さを有する円筒状物とする。この円筒状物を旋盤および穿孔によりグリーンボディーの状態で機械加工する。穿孔の他に、この円筒状物は直角のおよび円形にされたショルダーをモデル形状物中に配備している。プレイスホルダーの重炭酸アンモニウムの除去は１０５℃の温度で空気雰囲気で行なう。プレイスホルダーまたはダミーの崩壊が既に６５℃で生じるが、分解生成物の水を気体状態で追い出すために、更に高い温度を選択する。焼結はアルゴン雰囲気で２時間にわたって１１２０℃で実施する。モデル成形体は約４％の収縮を示す。製造された加工品の最終ポロシティーは約６０％である。これはプレイスホルダー材料によって導入されるマクロポロシティーと焼結段階の間に生じるミクロポロシティーの両方で構成されている。ミクロポロシティーは金属粒子の不完全焼結に由来している。ミクロポロシティーを減少させるためには、更に細かい原料粉末を用いるかまたは更に高い温度で焼結することによって得ることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
【図１】図１は多軸プレス成形によっておよび冷間静水圧プレス成形によって製造される半製品の実施例を示している。
【図２】図２はステンレス１．４４０４（３１６Ｌ）から本発明の方法に従って製造された色々な金属製形状物を示している。
【図３】図３はプレイスホルダー材料またはダミー材料によって製造されたマクロポロシティー、および焼結段階で生じたミクロポロシテーを示している。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月27日(2006.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種のジエンエラストマー、少なくとも１種の補強用無機充填剤、少なくとも１種のこれら無機充填剤とエラストマー間の結合を与えるカップリング剤をベースとするゴム組成物において、
前記無機充填剤が、下記の特性を有する窒化ケイ素を含むことを特徴とする前記ゴム組成物：
(a) 20〜200 m2/gのBET比表面積；
(b) 10〜350 nmの平均粒度(質量による)、dw
【請求項２】
窒化ケイ素の量が50 phrよりも多い、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
前記無機充填剤が、前記窒化ケイ素以外に、補強用無機充填剤としてのシリカまたはアルミナを含む、請求項１又は２記載の組成物。
【請求項４】
前記組成物が、前記補強用無機充填剤以外に、補強用充填剤としてのカーボンブラックを含む、請求項１又は２記載の組成物。
【請求項５】
前記窒化ケイ素が下記の特性の少なくとも１つを満たす、請求項１〜４のいずれか１項記載の組成物：
‐そのBET表面積が50〜170 m2/gの範囲にあること；
‐その粒度dwが20〜250 nmの範囲にあること；
‐その速度αが4×10-3μm-1/分よりも大きいこと。
【請求項６】
少なくとも(i) １種のジエンエラストマー中に、少なくとも(ii) １種の補強用無機充填剤と少なくとも(iii) １種のこれら無機充填剤とエラストマー間の結合を与えるカップリング剤とを混入する、タイヤ製造において有用なゴム組成物を取得する方法において、
前記無機充填剤が、下記の特性： 
(a) 20〜200 m2/gのBET比表面積；
(b) 10〜350 nmの平均粒度(質量による)、dw
を有する窒化ケイ素を含み、且つ混合物全体を１以上の工程で110℃〜190℃の最高温度に達するまで熱機械的に混練することを特徴とする前記方法。
【請求項７】
特に、トレッド類、トレッド用の下地層、クラウンプライ類、側壁類、カーカスプライ類、ビーズ類、プロテクター類、内部チューブ類およびチューブレスタイヤ用の気密内部ゴム類からなる群から選ばれた、請求項１〜６のいずれか１項記載のゴム組成物を含むタイヤ用の半製品。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項記載のゴム組成物を含むタイヤ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月9日(2006.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２０】
ポリペプチドが抗微生物活性を有する、請求項19記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月19日(2006.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に第１の硬化性歯科用組成物を塗布するステップであって、前記第１の硬化性組成物が約３８０ｎｍ〜約５２０ｎｍの範囲内の放射線を吸収する第１の光開始剤を含むステップ、
前記表面上の前記第１の硬化性組成物に第２の硬化性歯科用組成物を塗布するステップであって、前記第２の硬化性組成物が約３８０ｎｍ〜約５２０ｎｍの範囲内の放射線を吸収する第２の光開始剤を含むステップ、
前記第２の硬化性組成物に約３８０ｎｍ〜約５２０ｎｍの範囲内の放射線を照射し、前記第２の組成物を選択的に硬化させるステップ、および
続いて、前記第１の硬化性組成物に約３８０ｎｍ〜約５２０ｎｍの範囲内の放射線を照射し、前記第１の組成物を硬化させ、前記第２の組成物を前記表面に接着させるステップ、
を含む、表面に接着される歯科材料を形成する方法であって、
前記第１の光開始剤と前記第２の光開始剤のどちらも約５２０ｎｍより長波長の放射線を吸収しない方法。
【請求項２】
表面に第１の硬化性歯科用組成物を塗布するステップであって、前記第１の硬化性組成物が約３８０ｎｍ〜約５２０ｎｍの範囲内の放射線を吸収するホスフィンオキシドを含むステップ、
前記表面上の前記第１の硬化性組成物に第２の硬化性歯科用組成物を塗布するステップであって、前記第２の硬化性組成物が約３８０ｎｍ〜約５２０ｎｍの範囲内の放射線を吸収する第２の光開始剤を含むステップ、
前記第２の硬化性組成物に約３８０ｎｍ〜約５２０ｎｍの範囲内の放射線を照射し、前記第２の組成物を選択的に硬化させるステップ、および
続いて、前記第１の硬化性組成物に約３８０ｎｍ〜約５２０ｎｍの範囲内の放射線を照射し、前記第１の組成物を硬化させ、前記第２の組成物を前記表面に接着させるステップ、
を含む、表面に接着される歯科材料を形成する方法であって、
前記第１の光開始剤と前記第２の光開始剤のどちらも約５２０ｎｍより長波長の放射線を吸収しない方法。
【請求項３】
口腔表面に硬化性歯科用接着剤を塗布するステップであって、前記硬化性接着剤が約３８０ｎｍ〜約４５０ｎｍの範囲内の放射線を吸収する第１の光開始剤を含むステップ、
前記口腔表面上の前記硬化性歯科用接着剤に硬化性歯科用コンポジットを塗布するステップであって、前記硬化性歯科用コンポジットが約４５０ｎｍ〜約５２０ｎｍの範囲内の放射線を吸収する第２の光開始剤を含むステップ、
前記硬化性歯科用コンポジットに約４５０ｎｍ〜約５２０ｎｍの範囲内の放射線を照射し、前記硬化性歯科用コンポジットを選択的に硬化させるステップ、および
続いて、前記硬化性歯科用接着剤に約３８０ｎｍ〜約４５０ｎｍの範囲内の放射線を照射し、前記歯科用接着剤を硬化させ、前記歯科用コンポジットを前記口腔表面に接着させるステップ、
を含む、口腔表面に接着される歯科材料を形成する方法であって、
前記第１の光開始剤と前記第２の光開始剤のどちらも約５２０ｎｍより長波長の放射線を吸収しない方法。
【請求項４】
口腔表面に硬化性歯科用接着剤を塗布するステップであって、前記硬化性接着剤が約３８０ｎｍ〜約４５０ｎｍの範囲内の放射線を吸収するホスフィンオキシドを含むステップ、
前記口腔表面上の前記硬化性歯科用接着剤に硬化性歯科用コンポジットを塗布するステップであって、前記硬化性歯科用コンポジットが約４５０ｎｍ〜約５２０ｎｍの範囲内の放射線を吸収するジケトンを含むステップ、
前記硬化性歯科用コンポジットに約４５０ｎｍ〜約５２０ｎｍの範囲内の放射線を照射し、前記歯科用コンポジットを選択的に硬化させるステップ、および
続いて、前記硬化性歯科用接着剤に約３８０ｎｍ〜約４５０ｎｍの範囲内の放射線を照射し、前記歯科用コンポジットを前記口腔表面に接着させるステップ、
を含む、口腔表面に接着される歯科材料を形成する方法であって、
前記第１の光開始剤と前記第２の光開始剤のどちらも約５２０ｎｍより長波長の放射線を吸収しない方法。
【請求項５】
表面に第１の硬化性歯科用組成物を塗布するステップ、
前記表面上の前記第１の硬化性歯科用組成物に第２の硬化性歯科用組成物を塗布するステップ、および
前記第１の硬化性歯科用組成物と前記第２の硬化性歯科用組成物を硬化させ、前記表面に第２の組成物を接着させるステップであって、前記第２の硬化性組成物が前記第１の硬化性組成物の完全硬化の前に実質的に完全に硬化されるステップ、
を含む、表面に接着される歯科材料を形成する方法であって、
前記第１の硬化性組成物又は前記第２の硬化性組成物の少なくとも一方が化学硬化性である方法。
【請求項６】
前記第１の硬化性組成物が、約３８０ｎｍ〜約５２０ｎｍの範囲内の放射線を吸収する第１の光開始剤を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記第１の光開始剤が、アシルホスフィンオキシドおよびビスアシルホスフィンオキシドからなる群から選択されるホスフィンオキシドを含む、請求項１または６に記載の方法。
【請求項８】
前記ホスフィンオキシドが、一般式、
Ｒ1Ｐ（＝Ｏ）（Ｃ（＝Ｏ）Ｒ2）2
（式中、Ｒ1はヒドロカルビル基であり、各Ｒ2は独立してヒドロカルビル基、Ｓ−、Ｏ−、又はＮ−を含有する５員環又は６員環の複素環基である）のビスアシルホスフィンオキシドである、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
口腔表面に硬化性歯科用接着剤を塗布するステップ、
前記口腔表面上の前記硬化性歯科用接着剤に硬化性歯科用コンポジットを塗布するステップ、および
前記硬化性歯科用接着剤と前記硬化性歯科用コンポジットを硬化させ、前記表面に前記コンポジットを接着させるステップであって、前記硬化性歯科用コンポジットが前記硬化性歯科用接着剤の完全硬化の前に実質的に完全に硬化されるステップ、
を含む、口腔表面に接着される歯科材料を形成する方法であって、
前記硬化性接着剤又は硬化性コンポジットの少なくとも一方が化学硬化性である方法。
【請求項１０】
ハウジング、
前記ハウジング内に配置され、第１の波長範囲内の光を放射する第１の光源、
前記ハウジング内に配置され、第２の波長範囲内の光を放射する第２の光源、および
前記第１の光源と前記第２の光源に操作可能に接続される制御装置であって、前記第１の光源と前記第２の光源からの光の放射を制御する制御装置、
を備える、歯科用組成物を硬化させるライト。
【請求項１１】
ハウジング、
前記ハウジング内に配置され、第１の波長範囲内の光を放射する第１の光源、
前記ハウジング内に配置され、第２の波長範囲内の光を放射する第２の光源、および
前記第１の光源と前記第２の光源に操作可能に接続される制御装置であって、前記第１の光源と前記第２の光源からの光の放射を制御する制御装置、
を備えるライトからの放射線を当てるステップを含む、歯科用組成物を硬化させる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月24日(2006.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記受信手段が、ＨＴＴＰプロトコルによって伝送される前記送信信号を受信するように設計されていることを特徴とする、請求項１に記載の受信装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月20日(2006.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
揚水システム、少なくとも一つのカラム及び少なくとも一つの検出器を含むクロマトグラフィーシステムであって、前記少なくとも一つのカラムが、前記カラム壁の内面と接触した不連続点のない平滑壁をもつ透過可能なモノリシック・ポリマー・プラグを含むことを特徴とする、前記クロマトグラフィーシステム。
【請求項２】
前記少なくとも一つのカラムは複数のカラムを含み、そのそれぞれは同一特徴をもつ複数のサイズ補正型ポリマープラグの対応する一つを含み、これによって前記カラムは同様の方法でサンプルを分離することをさらに特徴とする、請求項１に記載のクロマトグラフィーシステム。
【請求項３】
前記透過可能なモノリシック・ポリマー・プラグがサイズ補正型ポリマープラグであることを特徴とする、請求項１または２に記載のクロマトグラフィーシステム。
【請求項４】
前記少なくとも一つのカラムがキャピラリーカラムであることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載のクロマトグラフィーシステム。
【請求項５】
カラムケーシングをもつクロマトグラフィーカラムにサンプルを適用し、次いで溶媒を前記クロマトグラフィーカラムに供給する段階を含み、これによってサンプルをクロマトグラフィーカラム内でその成分に分離するクロマトグラフ分析法を実施する方法であって、溶媒を前記クロマトグラフィーカラムに適用する段階が、カラム内のサイズ補正型ポリマー・モノリシック・パッキングに前記溶媒を供給する段階を含むことを特徴とする、前記方法。
【請求項６】
重合の間に重合混合物を含むように適合された温度制御された反応チャンバを含むクロマトグラフィーカラムの製造用装置であって、前記温度制御した反応チャンバ内の前記重合混合物に圧力を適用する手段を特徴とする、前記装置。
【請求項７】
剛性、容量及び分離効率的開口部の分布が、架橋剤、モノマー及び圧力の量によって制御されることを特徴とする、前記重合混合物がポリマー、架橋剤、架橋性モノマー及びポロゲンを含む、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
圧力を適用するための前記手段が、移動可能な部材によって圧力を適用するための手段であることを特徴とする、請求項６または７に記載の装置。
【請求項９】
前記移動可能な部材が、重合の間に圧力を適用するにつれて前記重合混合物と接触するように配置された平滑面をもつことを特徴とする、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記プラグに水溶液を適用するための水性プロセス手段をさらに特徴とする、請求項６〜９のいずれかに記載の装置。
【請求項１１】
重合混合物を製造し、前記重合を加圧下で実施する各段階を含むモノリシック・クロマトグラフィー・カラムの製造法であって、これによって十分な圧力を適用して、重合の間の収縮による真空によりボイドが形成しないようにすることを特徴とする、前記製造法。
【請求項１２】
モノマーとポロゲンとを含む重合混合物を製造し、ここで前記ポロゲンはアルコールの混合物を含む各段階を含む、サンプルの成分を分離するためのモノリシック透過可能なデバイスの製造法。
【請求項１３】
ジビニルベンゼン、ベンゼン、スチレン及び開始剤を、混合物が均質溶液となるまで混合し、ポロゲンを添加し、次いで均質になるまで振盪し、次いで重合する各段階を含むカラムの製造方法であって、前記ジビニルベンゼン、ベンゼン及び開始剤を、ジビニルベンゼン３〜５部：スチレン１部の割合で混合し、ポロゲンは１３〜１７部であり、重合の間にプラグに圧力を適用することによってプラグを圧縮することを特徴とする、前記製造法。
【請求項１４】
サンプルバイアルでグリシジルメタクリレート、エチレンジメタクリレート及び開始剤を混合する段階を含む、カラムの製造法であって、グリシジルメタクリレート１．５〜４部：エチレンジメタクリレート１〜２部の割合でグリシジルメタクリレート、エチレンジメタクリレート及び開始剤を混合し、ポロゲンを均質溶液中に混合し、重合溶液でカラムを充填し、ここで前記カラムは重合溶液に圧力を適用する手段を含み、前記カラムを封止し、次いで加圧下で前記カラム中で重合溶液を重合させてプラグを形成させる段階を特徴とする、前記カラムの製造法。
【請求項１５】
ポロゲンを含む重合混合物を確立し、次いで重合速度を制御する各段階を含む多孔質媒体の制御重合法であって、前記重合速度は、放射線照射と、放射線照射によって生じる重合に影響を与える少なくとも一つの物質によって制御されることを特徴とする、前記制御重合法。
【請求項１６】
放射線照射によって影響を受ける前記少なくとも一つの物質の少なくとも一つを活性化して、さらに放射線を放出させることを特徴とする、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
放射線照射によってさらに重合を開始することを特徴とする、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記少なくとも一つの物質の少なくとも一つが、第二の物質を活性化させて放射線を放射させる放射線を放射することを特徴とする、請求項１５〜１７のいずれかに記載の方法。
【請求項１９】
放射線に応答して重合に影響を与える少なくとも一つの物質を特徴とする、少なくとも一種のモノマー及び少なくとも一種のポロゲンまたは溶媒を含む重合混合物。
【請求項２０】
少なくとも一種の放射線感受性物質が、光開始剤、X-線増感剤及びシンチレーターからなる群から選択される一種以上の物質に含まれることを特徴とする少なくとも一種のモノマー及びポロゲンまたは溶媒を含む重合混合物を製造し、次いで前記重合混合物に放射線照射する各段階を含む、サンプルの成分を分離するためのモノリシック透過可能なデバイスの製造法。
【請求項２１】
前記重合混合物に放射線照射する前記段階が、X-線を細長くした混合物に軸方向に適用する段階を含むことを特徴とする、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
プラグに放射線を適用するための放射線照射手段と、前記放射線照射を制御するための制御手段とを特徴とする、重合の間に重合混合物を含むように適合された温度制御された反応チャンバを含むクロマトグラフィーカラムを重合してプラグを形成するための装置。
【請求項２３】
プラグ内のボイドを減少させるために前記プラグに圧力を適用するための手段をさらに特徴とする、請求項２２に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月19日(2006.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
第１のセンサケーシング部３は、第１の面３３と、これに対して平行の、外側空間に向いた第２の面３２と、ねじ回し工具の当接に適した、有利には六角形に形成された周壁３４とを備えたプレート状のベース部分３７として形成されている。接続管片４は、ベース部分３７の第２の面３２から下向きに突出している。図１の実施例において打抜曲げ成形部６として形成された結合部は、有利には円形リング状の区分６３で、第１のセンサケーシング部３の、外側の面３２とは反対側の面３３に載設されていて、かつ円形リング状の区分６３において第１のセンサケーシング部３に溶接されている。結合部６の、半径方向内向きに延びる区分は、プリント基板７を載設するための台部６７を成しており、プリント基板７は、図示していないボンディングワイヤを介して圧力センサ１０と電気的に接続されている。打抜曲げ成形部に載設されたプリント基板の、導体路７２と電子素子とを備えた表面は、実質的に圧力センサ１０の表面と一平面上に配置されている。図２から判るように、圧力センサ１０の配置された支持部５は、プリント基板に設けられた開口７１と、結合部６に設けられた同心的な開口６８とを貫通している。結合部６は、拡径された開口６８を備えた台部６７なしに形成することもできる。この場合プリント基板７は、たとえば中間部材を在してセンサケーシング部３の内側の面３３に載設することができる。