【事件の表示】
　特願２００３−３２６３１０「バリア性フィルム」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　４月　７日出願公開、特開２００５−　８８４３１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　出願の経緯 
　本願は、平成１５年９月１８日の出願であって、平成２１年９月１４日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年１２月１８日に拒絶査定を不服として審判請求がなされると同時に手続補正がなされたものである。 
　 
第２　本願発明 
　本願の請求項１ないし９に係る発明は、平成２１年１２月１８日付け手続補正により補正された特許請求の範囲、明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１ないし９に記載されたとおりのものであると認められるところ、請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、以下のとおりである。
　 
　「少なくとも、基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に設けたバリア性層とからなり、
更に、該バリア性層は、先に、物理気相成長法による金属酸化物層を設け、
更に、該金属酸化物層の上に、少なくとも２室以上の製膜室を使用し、
かつ、各室毎に、少なくとも、有機珪素化合物の１種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、および、不活性ガスを含有する製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比を変えて調製した、少なくとも、製膜用モノマ−ガス：酸素ガス：不活性ガス＝１：０〜５：１（単位：ｓｌｍ、スタンダ−ドリッタ−ミニットの略である。）のガス組成比からなる製膜用混合ガス組成物と、製膜用モノマ−ガス：酸素ガス：不活性ガス＝１：６〜１５：１（単位：ｓｌｍ、スタンダ−ドリッタ−ミニットの略である。）のガス組成比からなる製膜用混合ガス組成物との２以上の製膜用混合ガス組成物を使用し、
その各製膜用混合ガス組成物を使用して製膜した２層以上のプラズマ化学気相成長法による多層の珪素酸化物層を設けた構成からなり、
かつ、上記の各珪素酸化物層は、その膜中に炭素原子を含有し、かつ、各珪素酸化物層毎に炭素原子含有量が異なり、更に、その各膜中の炭素含有量が膜表面から深さ方向に向かって増加している構成からなること
を特徴とするバリア性フィルム。」 
　 
第３　引用発明 
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願日前に頒布された刊行物である特開２００３−２５７６１９号公報（以下、「引用例１」という。）、特開平１１−１０５１８９号公報（以下、「引用例２」という。）、特開２００２−３６１７７４号公報（以下、「引用例３」という。）及び特開２００３−２３６９７６号公報（以下、「引用例４」という。）には、それぞれ以下の事項が記載されている。 
　 
［引用例１］ 
（１）「【請求項１】 基材上の少なくとも一方に炭素含有率の異なる金属酸化物、金属酸窒化物もしくは金属窒化物を含有する膜を２層以上設けたことを特徴とする基板。」
　 
（２）「【００２８】・・・本発明において形成される金属酸化物、金属酸窒化物もしくは金属窒化物を含有する膜は、例えば、蒸着、スパッタリング，ＣＶＤ法（化学蒸着）、プラズマＣＶＤ、大気圧プラズマＣＶＤ等のドライプロセスで形成されるのが好ましい。なかでもＣＶＤが好ましく、プラズマＣＶＤがより好ましく、・・・。」 
　 
（３）「【００３２】この炭素含有率は、主に電源の周波数と供給電力に依存し、電極に印加する電圧の高周波の周波数が高いほど、及び供給電力が大きくなるほど少なくなる傾向があることがわかった。又、混合ガス中に水素ガスを注入すると炭素原子が消費されやすくなり、膜中の含有量は減る。一方、基板温度を下げることで炭素含有率は大きくなる。また、混合ガス中のテトラアルコキシシランをモノアルキルトリアルコキシシラン、ジアルキルジアルコキシシランに置き換えた場合は後者の方が炭素含有率が大きくなる。」 
　 
（４）「【００３６】本発明において、樹脂基材の片面または両面に下引き層を有していてもよく、下引き層の具体例としてはゾル−ゲル法により形成されたシリカ層、ポリマーの塗布等により形成された有機層等があげられる。」
　
（５）「【００３８】金属酸化物・・・としては酸化珪素・・・等があげられる。」 
　 
（６）「【０１０５】本発明の好ましい態様において、樹脂基材上に基材側から炭素含有率が原子数濃度で１〜４０％の金属酸化物または窒化物を含有する柔軟性の高い層、炭素含有率が原子数濃度で１％未満の実質的に水の透過を防ぎ、水の封止性を付与する層を順次積層することで、水に対する封止性を付与する層と、柔軟性が高く樹脂基材と該水に対する封止性の高い層との接着（密着）性を向上させる層を有し、また、とくに最外層が炭素含有率の低い、それ故硬度が高い層をであることによって、摩擦や、ブラッシングに対する耐性に優れ、傷を受けにくいという優れた特性を併せもつ基板が得られる。 
【０１０６】図７に本発明に係わる基板の好ましい１例を示す。図７は、１００で表される基材、例えばポリエチレンテレフタレート等のプラスチックフィルムからなる基材１００上に前記炭素含有率が原子数濃度で１〜４０％の金属酸化物、金属酸窒化物もしくは金属窒化物を含有する柔軟性の高い層１０１、さらに該層上に炭素含有率が原子数濃度で１％未満の実質的に水の透過を防ぎ、水の封止性を付与する層１０２を積層した例を示している。」
　 
（７）「【０１０８】本発明に係わる基板は、樹脂基材の特徴である可撓性を維持しつつ、金属酸化物を含有する膜が有する水の封止性により、樹脂基材中の水分や樹脂基材を透過して浸透する水蒸気等の水分を封止できるため、例えば、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子自体をこれらの基板に形成し、且つ、水の透過性の低いフィルム等のやはり可撓性の材料、好ましくは同じ基板で封止して、フレキシブルな表示装置として形成することで、湿気に対し敏感な有機エレクトロルミネッセンス素子が封止材料や基板等に含有される水分により徐々に特性が劣化してしまうという問題を、封止された内部空間を低湿度に保つことにより回避でき、有機エレクトロルミネッセンス素子としての寿命を非常に高めることが出来る。」 
　 
（８）「【０１５４】実施例１
厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを基材として、基材上に酸化珪素膜を形成し、表１に示した各基板を、以下に示す方法により作製した。大気圧プラズマＣＶＤによる酸化珪素膜の形成は、・・・、各基板の作製において、炭素含有率が原子数濃度で３％の酸化珪素膜形成には、・・・（条件Ａ）で、又、炭素含有率が原子数濃度で０．０１％の酸化珪素膜の形成には、・・・（条件Ｂ）で形成した。
（中略）
【０１５９】（基板Ｄ）同じく、厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、前記条件Ａによって、酸化珪素の膜を２００ｎｍの厚みで形成したのち、今度は条件Ｂにより、同じく酸化珪素の膜をやはり２００ｎｍの厚みで形成した。更に、条件Ａにより、また条件Ｂによりそれぞれ酸化珪素の膜をこの順にそれぞれ２００ｎｍの厚みで積層して計４層の酸化珪素膜の積層膜を有するポリエチレンテレフタレートフィルムである基板Ｄを得た。」
　
　上記（８）における基板Ｄは、厚さ１００μｍのフィルム上に、総厚みが８００ｎｍの酸化ケイ素の膜を形成したものであるから、上記基板Ｄは「フィルム」であると認められる。
　
　以上の記載事項によると、引用例１には次の発明（以下、「引用発明１」という。）が記載されていると認められる。
　
　「フィルムからなる基材上に下引き層を設け、更にプラズマＣＶＤで形成された炭素含有率の異なる酸化珪素を含有する層を２層設けたフィルム。」
　 
［引用例２］ 
（１）「【請求項１】  ２軸延伸ナイロンフィルム基材の一方の面に、少なくとも２種以上の無機酸化物による第１の薄膜と第２の薄膜とを積層して設けたことを特徴とする透明バリア性ナイロンフィルム。
【請求項２】  第１の薄膜が、物理蒸着法による無機酸化物の蒸着膜であることを特徴とする上記の請求項１に記載する透明バリア性ナイロンフィルム。
【請求項３】  第２の薄膜が、プラズマ化学蒸着法による無機酸化物の蒸着膜であることを特徴とする上記の請求項１または２に記載する透明バリア性ナイロンフィルム。
【請求項４】  第１の薄膜が、第２の薄膜の第１の薄膜への密着性を向上させ、かつ、第２の薄膜を形成するプラズマ処理による２軸延伸ナイロンフィルムの黄変と劣化を防止する耐プラズマ保護層であることを特徴とする上記の請求項１、２または３に記載する透明バリア性ナイロンフィルム。
（中略）
【請求項６】  第２の薄膜が、第１の薄膜のプラズマ処理面に設けられた薄膜であり、かつ、該薄膜が、少なくとも珪素と酸素とを構成元素として有する珪素化合物からなり、更に、微量構成元素として、炭素または水素の一種以上の元素を含み、更にまた、その膜厚が、１００〜３００Åの範囲内であることを特徴とする上記の請求項１、２、３、４または５に記載する透明バリア性ナイロンフィルム。」 
　 
（２）「【００１４】・・・。本発明において、上記の第１の薄膜としては、具体的には、例えば、上記のような金属酸化物からなる無機酸化物、あるいは、金属等を使用し、必要ならば、酸素ガス等を供給しながら、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法等の物理気相成長法（物理蒸着法、Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＰＶＤ法）によって、無機酸化物の蒸着膜を形成し、これを第１の薄膜として使用することができる。
（中略）
【００１７】ところで、本発明において、上記の第２の薄膜としては、酸化ケイ素、ＳｉＯX （Ｘは、０〜２の数を表す）を主体とする連続層を使用することが望ましく、更に、透明性、バリア性等の点から、ＳｉＯX （Ｘは、１．７〜２．０の数を表す）を主体とする薄膜であることが好ましいものである。更に、上記の第２の薄膜としての酸化ケイ素を主体とする薄膜は、少なくとも珪素と酸素とを構成元素として有する珪素化合物からなり、更に、微量構成元素として、炭素または水素の一種以上の元素を含み、また、その膜厚が、１００〜３００Åの範囲内であることが好ましいものである。而して、本発明において、上記のような第２の薄膜としての酸化ケイ素の薄膜としては、有機珪素化合物を原料とし、低温プラズマ発生装置等を利用するプラズマ化学気相成長法を用いて形成した蒸着膜を使用することができる。」
　
（３）「【００１８】本発明にかかる透明バリア性ナイロンフィルムは、上記のように、２軸延伸ナイロンフィルム基材の一方の面に、少なくとも２種以上の無機酸化物による第１の薄膜と第２の薄膜とを積層し、而して、該第１の薄膜を、物理蒸着法による無機酸化物の蒸着膜で構成し、第２の薄膜を、プラズマ化学蒸着法による無機酸化物の蒸着膜で構成することにより、透明性と基材との密着性に優れたハイバリア性を有するナイロンフィルムを製造可能とするものである。すなわち、本発明にかかる透明バリア性ナイロンフィルムは、第１の薄膜としての物理蒸着法による無機酸化物の蒸着膜が、非結晶性であることから、基材としてのナイロンフィルムの熱収縮や吸水等による変化に対してもクラック等が発生せず、バリア層としての第２の薄膜としてのプラズマ化学蒸着法による無機酸化物の蒸着膜の保護機能を果たし、これにより、第２の薄膜としてのプラズマ化学蒸着法による無機酸化物の蒸着膜が有するバリア性等の機能を損なうことなく、これにより、透明性に優れ、更に、極めてハイバリア性を有する透明バリア性ナイロンフィルムを製造することができるものである。ちなみに、本発明にかかる透明バリア性ナイロンフィルムは、酸素透過度が、２ｃｃ／ｍ2 ／ｄａｙ（２３℃／９０％ＲＨ）以下である。」
　 
　以上の記載事項によると、引用例２には次の発明（以下、「引用発明２」という。）が記載されていると認められる。
　 
「２軸延伸ナイロンフィルム基材の一方の面に、物理気相成長法による金属酸化物の蒸着膜である第１の薄膜と、酸化ケイ素を主体とし、更に、炭素からなる化合物を含有する、プラズマ化学蒸着法による第２の薄膜とを積層して設けた透明バリア性ナイロンフィルム。」
　 
［引用例３］ 
（１）「【請求項１】 基材の片面または両面に、プラズマＣＶＤ法によって形成された酸化珪素膜を有するガスバリアフィルムであって、
前記酸化珪素膜は、Ｓｉ原子数１００に対してＯ原子数１８０〜２００の範囲内の成分割合であり、かつＳｉ原子数１００に対してＣ原子数４０〜８０の成分割合からなり、さらに１０４５〜１０６０ｃｍ-1の間にＳｉ−Ｏ−Ｓｉ伸縮振動に基づくＩＲ吸収があり、かつ１２７４±４ｃｍ-1にＳｉ−ＣＨ3伸縮振動に基づくＩＲ吸収があることを特徴とするガスバリアフィルム。」
　 
（２）「【００２１】Ｓｉ、Ｏ、Ｃの各成分割合を、Ｓｉ原子数１００に対してＯ原子数１８０〜２００およびＣ原子数４０〜８０にするには、有機珪素化合物ガスと酸素ガスの流量比や有機珪素化合物ガスの単位流量当たりの投入電力の大きさ等を調節することにより、制御することができる。具体的には、以下の方法を挙げることができる。 
【００２２】酸素ガス／有珪素化合物ガスの比率を、０〜１０程度の範囲内に調整することにより、酸化珪素膜中に炭素を積極的に導入する方法。 
（中略） 
【００２４】この範囲の成分組成を有する酸化珪素膜は、Ｓｉ−Ｃ結合を適度に含むものであるので、極めて優れたガスバリア性を有すると共に優れた耐屈曲性および耐衝撃性を有するものとなる。」 
　 
（３）「【０１０１】（実施例１）・・・。 
【０１０３】（実施例２）有機珪素ガス（ＨＭＤＳＯ）の流量、酸素ガス流量、および投入電力を以下に示す表に記載したように変更した以外は、上記実施例１と同様にして実施例２のガスバリアフィルムを得た。 
【０１０４】（比較例１〜７）有機珪素ガス（ＨＭＤＳＯ）の流量、酸素ガス流量、および投入電力を以下に示す表に記載したように変更した以外は、上記実施例１と同様にして比較例１〜７までのガスバリアフィルムを得た。
【０１０５】（評価方法）上記実施例１〜２、および比較例１〜７のガスバリアフィルムを以下の評価方法により評価した。 
【０１０６】１．成分割合の測定 
・・・。得られた原子数比について、Ｓｉ原子数を１００とし、他の成分であるＯとＣの原子数を算出して成分割合として評価した。 
（中略） 
【０１１２】結果を以下の表にまとめる。表１は製膜条件を、表２は評価結果をまとめたものである。 
【０１１３】 
【表１】
【０１１４】 
【表２】
」 
　 
　上記（３）における、有機珪素ガス（ＨＭＤＳＯ）の流量、酸素ガス流量以外は同じ製膜条件で製造された実施例１〜２並びに比較例１〜２及び５について、「酸化珪素ガスと酸素の流量比」と「膜中の炭素含有量」を当審において計算したところ、以下の表のとおりとなった。
　したがって、上記（３）には、プラズマＣＶＤ法によって形成された酸化珪素膜中の炭素含有量は、有機珪素ガスと酸素ガスとの流量比によって制御し得ることが記載されていると認められる。 
　 
［引用例４］ 
（１）「【請求項１】 プラスチック基材上に形成されたケイ素酸化物被膜において、有機ケイ素化合物の化学蒸着により形成され、波数８４５〜８３３ｃｍ−１におけるＳｉＣＨ３の赤外特性吸収が実質上ゼロであり、且つＳｉＯＨ／ＳｉＯの赤外吸光度比（Ａ）が０．２５以下であることを特徴とするケイ素酸化物被膜。 
【請求項２】 ケイ素酸化物被膜が、有機ケイ素化合物の重合体層を介して前記基材上に形成されていることを特徴とする請求項１に記載のケイ素酸化物被膜。 
【請求項３】 基材の表面側からケイ素酸化物被膜の外表面に向けて炭素量が連続的に減少していることを特徴とする請求項２に記載のケイ素酸化物被膜。」 
　 
（２）「【００２２】本発明によるケイ素酸化物被膜は、有機ケイ素化合物の重合体層を介して前記プラスチック基材上に形成されていることが好ましい。・・・。図５は、本発明の好適なケイ素酸化物被膜のＸ線光電子分光分析による炭素、酸素、ケイ素の原子割合の厚さ方向の分布を示している。基材の表面側からケイ素酸化物被膜の外表面に向けて炭素量が連続的に減少し、基材の表面側からケイ素酸化物被膜の外表面に向けてケイ素量及び酸素量が連続的に増加していることが確認されるが、ケイ素１５％以上及び炭素２０％以上を含む層の存在も確認される。・・・。この有機ケイ素化合物の重合体層を含むケイ素酸化物被膜はガス遮断性に特に優れているという利点を有する。」 
　 
第４　引用発明２との対比、判断
１　対比
　本願発明と引用発明２とを対比すると、引用発明２における「２軸延伸ナイロンフィルム基材」及び「物理気相成長法による金属酸化物の蒸着膜である第１の薄膜」は、それぞれ本願発明における「基材フィルム」及び「物理気相成長法による金属酸化物層」に相当する。
　また、引用発明２における「物理気相成長法による金属酸化物の蒸着膜である第１の薄膜と、酸化ケイ素を主体とし、更に、炭素からなる化合物を含有する、プラズマ化学蒸着法による第２の薄膜とを積層し」たものとは、上記「３［引用例２］（３）」のとおり、ガスバリア性を有する層であり、本願発明における「少なくとも２室以上の製膜室を使用し、かつ、各室毎に、少なくとも、有機珪素化合物の１種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、および、不活性ガスを含有する製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比を変えて調製した、少なくとも、製膜用モノマ−ガス：酸素ガス：不活性ガス＝１：０〜５：１（単位：ｓｌｍ、スタンダ−ドリッタ−ミニットの略である。）のガス組成比からなる製膜用混合ガス組成物と、製膜用モノマ−ガス：酸素ガス：不活性ガス＝１：６〜１５：１（単位：ｓｌｍ、スタンダ−ドリッタ−ミニットの略である。）のガス組成比からなる製膜用混合ガス組成物との２以上の製膜用混合ガス組成物を使用し、その各製膜用混合ガス組成物を使用して製膜した２層以上のプラズマ化学気相成長法による珪素酸化物層を設けた構成からなり、かつ、上記の各珪素酸化物層は、その膜中に炭素原子を含有し、かつ、各珪素酸化物層毎に炭素含有量が異なり、更に、その膜中の炭素含有量が膜表面から深さ方向に向かって増加している構成からなる」との記載は、製膜化する方法によって「バリア性層」を構成する「珪素酸化物層」を特定しようとする記載であると認められるが、上記「第３」の「［引用例１］（３）」及び「［引用例３］」の「（２）」〜「（３）」に記載されているように、異なる方法によっても同一の層を製膜化できると解されるから、本願発明における上記記載は最終的に得られた「２層以上のプラズマ化学気相成長法による多層の珪素酸化物層を設けた構成からなり、かつ、上記の該各珪素酸化物層は、その膜中に炭素原子を含有し、かつ、各珪素酸化物層毎に炭素含有量が異なり、更に、その膜中の炭素含有量が膜表面から深さ方向に向かって増加している構成からなる」もの自体を意味しているものと解すると、引用発明２における「物理気相成長法による金属酸化物の蒸着膜である第１の薄膜と、酸化ケイ素を主体とし、更に、炭素からなる化合物を含有する、プラズマ化学蒸着法による第２の薄膜を積層し」た層と、本願発明における「バリア性層」とは、「先に、物理気相成長法による金属酸化物層を設け、更に、該金属酸化物層の上に、プラズマ化学気相成長法による珪素酸化物層を設けた構成からなり、かつ、上記珪素酸化物層は、その膜中に炭素原子を含有する構成からなるバリア性層」である点で一致する。
　したがって、両者は
　 
「少なくとも、基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に設けたバリア性層とからなり、
更に、該バリア性層は、先に、物理気相成長法による金属酸化物層を設け、更に、該金属酸化物層の上に、プラズマ化学気相成長法による珪素酸化物層を設けた構成からなり、
かつ、上記珪素酸化物層は、その膜中に炭素原子を含有している構成からなるバリア性フィルム」 
　 
である点で一致し、以下の点で相違する。 
　 
［相違点２］
　本願発明では、２層以上のプラズマ化学気相成長法による多層の珪素酸化物層を設けた構成からなり、かつ上記の各珪素酸化物層毎に炭素含有量が異なり、更に、その各膜中の炭素含有量が膜表面から深さ方向に向かって増加している構成からなる点。
　 
２　判断 
　上記相違点２について検討する。 
　引用発明２に係る「第２の薄膜」とは、上記「第３［引用例２］」の（３）のとおり、バリア層として設けられたものである。
　そして、引用例１には、上記「第３［引用例１］」の「（２）」、「（６）」及び「（７）」のとおり、プラズマＣＶＤ等により形成される炭素含有率の異なる酸化珪素の蒸着膜を２層以上設けることにより、基板の水蒸気等の水分の透過を防ぐことが記載されている。 
　また、引用例４には、上記「第３［引用例４］（２）」のとおり、ケイ素酸化物被膜中の炭素量が基材の表面側からケイ素酸化物被膜の外表面に向けて連続的に減少しているケイ素酸化物被膜が、ガス遮断性に優れていることが記載されている。 
　したがって、引用発明２に係る透明バリア性ナイロンフィルムのバリア性を高めるために、引用発明２における「第２の薄膜」を、引用例１に記載されているように、各膜ごとに炭素含有量が異なる酸化珪素の蒸着膜を２層以上設けたものとし、また、上記の各酸化珪素の蒸着膜を、引用例４に記載されているように、炭素量が、膜の表面から深さ方向に向かって連続的に増加するように形成することは、当業者であれば容易に想到し得たことであり、その効果も当業者が予測できる範囲のものである。
　
第５　引用発明１との対比、判断
１　対比
　本願発明と引用発明１とを対比すると、引用発明１における「フィルムからなる基材」は、本願発明における「基材フィルム」に相当し、
引用発明１における「プラズマＣＶＤで形成」することは、本願発明における「プラズマ化学気相成長法による」ことに相当し、
引用発明１における「下引き層」と本願発明における「物理気相成長法による金属酸化物層」とは、基材フィルムとプラズマ化学気相成長法による珪素酸化物層との間に設けられた「中間層」であることで一致し、
引用発明１における「プラズマＣＶＤで形成された炭素含有率の異なる酸化珪素を含有する層を２層設け」ることとは、上記「第３［引用例１］」の「（６）」及び「（７）」のとおり、水蒸気等の水分の透過を防ぐための層を設けることであるから、引用発明１における「下引き層を設け、更にプラズマＣＶＤで形成された炭素含有率の異なる酸化珪素を含有する層を２層設けた」ことと、本願発明における「ガスバリア性層は、先に、物理気相成長法による金属酸化物層を設け、更に、該金属酸化物層の上に、少なくとも２室以上の製膜室を使用し、かつ、各室毎に、少なくとも、有機珪素化合物の１種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、および、不活性ガスを含有する製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比を変えて調製した、少なくとも、製膜用モノマ−ガス：酸素ガス：不活性ガス＝１：０〜５：１（単位：ｓｌｍ、スタンダ−ドリッタ−ミニットの略である。）のガス組成比からなる製膜用混合ガス組成物と、製膜用モノマ−ガス：酸素ガス：不活性ガス＝１：６〜１５：１（単位：ｓｌｍ、スタンダ−ドリッタ−ミニットの略である。）のガス組成比からなる製膜用混合ガス組成物との２以上の製膜用混合ガス組成物を使用し、その各製膜用混合ガス組成物を使用して製膜した２層以上のプラズマ化学気相成長法による多層の珪素酸化物層を設けた構成からなり、かつ、上記の各珪素酸化物層は、その膜中に炭素原子を含有し、かつ、各珪素酸化物層毎に炭素原子含有量が異なり、更に、その各膜中の炭素含有量が膜表面から深さ方向に向かって増加している構成からなる」こととは、本願発明に係る上記事項を、上記「第４」の「１」と同様に解すると、「ガスバリア性層は、２層以上のプラズマ化学気相成長法による多層の珪素酸化物層を設けた構成からなり、かつ、上記の各珪素酸化物層は、その膜中に炭素原子を含有し、かつ、各珪素酸化物層毎に炭素原子含有量が異なる」点で一致する。
　したがって、両者は
　
「少なくとも、基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に設けたバリア性層とからなり、
更に、該バリア性層は、先に中間層を設け、
更に、該中間層の上に、２層以上のプラズマ化学気相成長法による多層の珪素酸化物層を設けた構成からなり、
かつ、上記の各珪素酸化物層は、その膜中に炭素原子を含有し、かつ、各珪素酸化物層毎に炭素原子含有量が異なる構成からなるバリア性フィルム」
　
である点で一致し、以下の点で相違する。
　
［相違点１−１］
　本願発明では、中間層が物理気相成長法による金属酸化物層であるのに対し、引用発明１では下引き層である点。
　
［相違点１−２］
　本願発明では、各珪素酸化物層の膜中の炭素含有量が膜表面から深さ方向に向かって増加している構成からなる点。
　
２　判断
　上記相違点１−１及び１−２について検討する。
［相違点１−１］
　引用発明１における「下引き層」は、少なくとも「基材」と「プラズマＣＶＤ」で形成された「酸化珪素を含有する層」との密接着性のために設けられた層であることは、引用例１に記載されている事項から本願出願時における技術常識を参酌することにより導き出せることである。
　そして、引用例２には、上記「第３［引用例２］」の「（１）」及び「（３）」のとおり、基材フィルムとプラズマ化学蒸着法による酸化ケイ素を主体とする薄膜との密接着性等のために、基材フィルムと第２の薄膜としてのプラズマ化学気相成長法による酸ケイ素を主体とする薄膜の間に物理蒸着法による無機酸化物の蒸着膜を第１の薄膜として設けることが記載されている。
　したがって、引用発明１における「下引き層」に代えて、引用例２に記載された「物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜」を採用することは、当業者であれば容易に想到し得たことであり、その効果も当業者が予測できる範囲のものである。
　
［相違点１−２］
　引用例４には、上記「第３［引用例４］（２）」のとおり、ケイ素酸化物被膜中の炭素量が基材の表面側からケイ素酸化物被膜の外表面に向けて連続的に減少しているケイ素酸化物被膜が、ガス遮断性に優れていることが記載されている。
　したがって、引用発明１における２層設けた「炭素含有率の異なる酸化珪素を含有する層」の各層について、引用例４に記載されているように、炭素量が、膜の表面から深さ方向に向かって連続的に増加するように形成することは、当業者であれば容易に想到し得たことであり、その効果も当業者が予測できる範囲のものである。
　
第６　むすび
　したがって、本願発明は、引用例１〜４に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、本願は、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、拒絶をすべきものである。 
　よって、原査定は妥当であり、結論のとおり審決する。