【手続補正書】
【提出日】平成17年6月3日(2005.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料に形成された形体の特性を分析する装置であって、
反射させるために前記形体に向けられた探査用光線と、波長又は入射角のどちらか一方から選択したあらかじめ定めた変数の関数として当該探査用光線の振幅又は位相のどちらか一方の変化を計測しこれらに対応する出力信号を発生する検出モジュールとを含む計測システムと、
マスタープロセッサーとデータを並列に処理するよう用意された複数のスレーブプロセッサーとを有するプロセッサーシステムであって、前記プロセッサーシステムは、前記計測システムから発生した出力信号を用いて実時間ベースで前記形体の特性を明らかにするものであり、前記プロセッサーシステムは、前記形体のモデルを有し、前記形体の特性についての初期推定に基づく前記あらかじめ定めた変数についての複数の値に対応する理論データを計算し、当該理論データを前記出力信号から導き出された正規化されたデータと比較し、その後、比較結果に基づき試料の特性についての初期推定を修正して新たな理論データを再計算し、前記計算された理論データと前記正規化されたデータとの差が最小になるまで前記比較と前記再計算とを繰り返すアルゴリズムを用いるものであり、理論データの前記計算は、前記マスタープロセッサーにより前記スレーブプロセッサーに配分され、各スレーブプロセッサーは、求める結果に到達するまでの時間が最小になるよう、前記あらかじめ定めた変数から選択した相異なる値における計算を並列して行うことを特徴とする、プロセッサーシステムと、
を具備する装置。
【請求項２】
計算に必要な時間が最小になるような方法で、前記あらかじめ定めた変数における前記相異なる値の計算が前記プロセッサーに分配されることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記マスタープロセッサーが前記比較を行うことを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記マスタープロセッサーが理論的なモデルの特性を修正することを特徴とする、請求項２に記載の装置。
【請求項５】
前記計測システムは分光反射率計であることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記計測システムは分光エリプソメータであることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記計測システムは複数の入射角の計測値を同時に得ることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
試料に形成された形体の特性を分析する装置であって、
反射させるために前記形体に向けられた探査用光線と、波長又は入射角のどちらか一方から選択したあらかじめ定めた変数の関数として当該探査用光線の振幅又は位相のどちらか一方の変化を計測しこれらに対応する出力信号を発生する検出モジュールとを含む計測システムと、
前記計測システムから発生した出力信号に基づき、前記形体の特性を評価するプロセッサーシステムであって、前記プロセッサーシステムは、あらかじめ定めた変数から選択した複数の値における放射に対する理論的な試料の応答に基づく理論データを計算するものであり、前記プロセッサーシステムは、複数のプロセッサーモジュールを有し、並列して計算するために前記プロセッサーモジュールに分配された、前記あらかじめ定めた変数から選択した相異なる値における理論データの計算をおこない、前記理論データの計算結果は前記計測システムの前記出力信号から導き出された正規化されたデータと比較され、前記理論モデルの前記特性は、前記計算されたデータと前記正規化されたデータとの差が最小となるよう反復して修正されることを特徴とするプロセッサーシステムと、
を具備する装置。
【請求項９】
計算に必要な時間が最小になるような方法で、前記あらかじめ定めた変数における前記相異なる値の計算が前記各プロセッサーモジュールに分配されることを特徴とする、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記プロセッサーの内の１つが比較ステップを行うことを特徴とする、請求項８に記載の装置。
【請求項１１】
前記プロセッサーの内の１つが理論的な試料の特性を修正することを特徴とする、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記計測システムは分光反射率計であることを特徴とする、請求項８に記載の装置。
【請求項１３】
前記計測システムは分光エリプソメータであることを特徴とする、請求項８に記載の装置。
【請求項１４】
前記計測システムは複数の入射角の計測値を同時に得ることを特徴とする、請求項８に記載の装置。
【請求項１５】
波長又は入射角のどちらか一方から選択したあらかじめ定めた変数に対応し、分光計測により発生した出力信号に基づいて試料に形成された形体の特性を分析する方法であって、前記方法は、複数のプロセッサーを有するプロセッサーシステムを用い、
選択された値における理論データの計算を、並列的に行うためプロセッサーモジュールに分配し、前記あらかじめ定めた変数から選択した複数の値における探査用光線に対する理論的なサンプルの応答に対応する理論データを計算するステップと、
計算結果得られた前記理論データを前記出力信号から導き出された正規化されたデータと比較するステップと、
前記周期構造の特性を評価するために、前記計算されたデータと前記正規化されたデータとの差が最小となるよう理論的な試料を反復して修正するステップと,
を具備する方法。
【請求項１６】
光学的に計測されたデータに基づいて形体の外形を特徴づける方法であって、前記形体は水平軸で変化する垂直高さと幅を持つ要素を有し、
光学的に計測したデータと最も一致する形体における要素の理論的な高さと幅を持つ方形モデルを決定するステップと、
決定された前記方形モデルを用いてもう１つモデルを導き出すステップであって、前記もう１つのモデルは上底の幅と下底の幅とが異なる少なくとも２つの層を持ち、光学的に計測したデータと最も一致するモデルを決定するために少なくとも２つの層のおのおのの高さと幅を反復して修正することを特徴とする、ステップと、
一致の程度があらかじめ定めた程度に至るまで繰り返し一致処理を行った前記もう１つのモデルに付加的で中間的な理論的幅の層を加えるステップと、
を具備する方法。
【請求項１７】
前記もう１つのモデルがスプラインアルゴリズムにより構築されることを特徴とする、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記もう１つのモデルが立方スプラインにより構築されることを特徴とする、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
スプラインポイントがシグモイド関数を用いて割り付けされることを特徴とする、請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
前記データは分光エリプソメータ又は分光反射率計の内の１つを用いて計測した分光データであることを特徴とする、請求項１６に記載の方法。
【請求項２１】
光学的に計測されたデータに基づいて形体の外形を特徴づける方法であって、前記形体は水平軸で変化する垂直高さと幅を有し、
理論的な第１のモデルを決定するステップであって、２個を超えない相異なる幅と、少なくとも１つの層を持ち、前記形体の要素について光学的に計測したデータに最も一致するよう理論的なモデルを修正することを特徴とするステップと、
理論的な層の数を増やした次のモデルを導くステップであって、最適化演算の手法を用いて、前記次の理論的なモデルがあらかじめ定めた一致レベルにまで前記形体の構成に近似した構造を規定するまで、前記理論的な層の各々の高さと幅とを繰り返し調整することを特徴とするステップと、
を具備する方法。
【請求項２２】
理論的な前記次のモデルがスプラインアルゴリズムにより構築されることを特徴とする、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
理論的な次のモデルが立方スプラインにより構築されることを特徴とする、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
スプラインポイントがシグモイド関数を用いて割り付けされることを特徴とする、請求項２２に記載の方法。
【請求項２５】
前記データは分光エリプソメータ又は分光反射率計の内の1つを用いて計測した分光データであることを特徴とする、請求項２１に記載の方法。
【請求項２６】
光学的に計測されたデータに基づいて形体の外形を特徴づける方法であって、前記形体は水平軸で変化する垂直高さと幅を持つ要素を有し、
（ａ）前記形体の要素について理論的な幅と高さを持つ理論的な第１のモデルを定義し、該モデルからの光学的応答を計算し、この応答を光学的に計測したデータと比較するステップと、
（ｂ）一致の程度があらかじめ定めたレベルに達するまで、反復して理論的な第１のモデルの幅と高さを修正し、該修正された理論的な第１のモデルからの光学的応答を計算し、この応答を光学的に計測したデータと比較するステップと、
（ｃ）ステップ（ｂ）により得られた前記修正された理論的な第１のモデルから導き出される２以上の幅と２以上の層を持つ理論的な第２のモデルを定義し、該理論的な第２のモデルからの光学的応答を計算し、この応答を光学的に計測したデータと比較するステップと、
（ｄ）一致の程度があらかじめ定めたレベルに達するまで、反復して理論的な第２のモデルの幅、層の厚さ及び層の位置を修正し、該修正された理論的な第２のモデルからの光学的応答を計算し、この応答を光学的に計測したデータと比較するステップと、
（ｅ）一致の程度があらかじめ定めたレベルに達するまで、前記理論的な第２のモデルに幅と層を付加することにより、ステップ（ｃ）とステップ（ｄ）とを繰り返すステップと、
を具備する方法。
【請求項２７】
前記修正された理論的な第２のモデルにおける層の数は、Ｙを幅の数としたとき、少なくとも２Ｙ−１であって２Ｙ＋１を超えない、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記修正された理論的な第２のモデルにおける各層は形状が方形である、請求項２６に記載の方法。