【手続補正書】
【提出日】平成18年9月19日(2006.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）  擬弾性特性を有する金属材料を含む微孔性金属薄膜被覆と、
（ｂ）  金属材料を含み、および少なくとも一対の円筒形要素と、隣接する円筒形要素を接合する連結部材とをさらに含むる、該微孔性金属薄膜被覆の下にある構造支持体要素と
を含み、
（ｃ）該微孔性金属薄膜被覆と該構造支持体要素との間の少なくとも１つの接触点によって、該構造支持体要素が該微孔性金属薄膜被覆に接着されている
ことを特徴とする移植可能な管腔内グラフト。
【請求項２】
前記少なくとも１つの接触点は、該微孔性金属薄膜被覆の近位端または遠位端のいずれか、および該構造支持体要素の対応する端の近傍に位置することを特徴とする請求項１に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項３】
前記少なくとも１つの接触点は、該微孔性金属薄膜被覆および該構造支持体要素の遠位端の近傍に位置することを特徴とする請求項１に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項４】
前記構造支持体要素は、該構造支持体要素の末端から縦軸方向に伸びる少なくとも１つの延長部材をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項５】
前記少なくとも１つの延長部材は、該微孔性金属薄膜被覆に接着されていることを特徴とする請求項４に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項６】
前記円筒形要素は、交互の峰部および谷部を有する正弦曲線パターンを採ることを特徴とする請求項１に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項７】
前記連結部材は、峰部−峰部または谷部−谷部のいずれかで、隣接する円筒形要素を接合することを特徴とする請求項６に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項８】
前記円筒形要素は、交互の峰部および谷部を有する正弦曲線パターンをとり、および前記少なくとも１つの延長部材は、該構造支持体要素の末端の少なくとも１つの谷部から縦軸方向に伸びることを特徴とする請求項４に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項９】
前記微孔性金属薄膜被覆は、該微孔性金属薄膜被覆の表面全体を通して均一なパターンの開口部を示すことを特徴とする請求項８に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項１０】
前記微孔性金属薄膜被覆および前記構造支持体要素は、ニチノールから製造されることを特徴とする請求項９に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項１１】
前記微孔性金属薄膜被覆は、室温から体温への温度変化を通してマルテンサイト結晶構造を維持し、および生体内でマルテンサイト的に挙動することを特徴とする請求項１０に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項１２】
前記構造支持体要素は、室温から体温への温度変化中にマルテンサイト結晶構造からオーステナイト結晶構造への相転移を起こし、および生体内でオーステナイト的に挙動することを特徴とする請求項１０に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項１３】
前記微孔性金属薄膜被覆は、室温から体温への温度変化を通してオーステナイト結晶構造を維持し、および生体内でオーステナイト的に挙動することを特徴とする請求項１０に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項１４】
前記微孔性金属薄膜被覆は、室温から体温への温度変化中にマルテンサイト結晶構造からオーステナイト結晶構造への相転移を起こし、および生体内でオーステナイト的に挙動することを特徴とする請求項１０に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの接触点は、末端において円筒形要素から近位端方向または遠位方向に突出する突出部をさらに含み、および該円筒形要素の谷部および連結部材と共に４点結合を形成することを特徴とする請求項１に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項１６】
前記円筒形要素の幅は、峰部および谷部の頂点において、該円筒形要素の他の部分よりも狭いことを特徴とする請求項１に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項１７】
それぞれの連結部材は、波状の円筒形要素の峰部または谷部のいずれかと接続され、および該連結部材の中間部分の幅よりも狭い幅を有する、対立する端を有することを特徴とする請求項１６に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項１８】
（ａ）  ３７℃より高いオーステナイト相転移開始温度を有する形状記憶合金を含む微孔性金属薄膜被覆と、
（ｂ）  少なくとも一対の円筒形要素と、隣接する円筒形要素を該円筒形要素の周囲に沿った同一の角度点で接合する連結部材とを含む、該微孔性金属薄膜被覆の下にある構造支持体要素であって、該構造支持体要素は、０℃未満のオーステナイト相転移開始温度を有する形状記憶合金をさらに含む構造支持体要素と
を含み、
（ｃ）該微孔性金属薄膜被覆と該構造支持体要素との間の少なくとも１つの接触点によって、該構造支持体要素が該微孔性金属薄膜被覆に接着されている
ことを特徴とする移植可能な管腔内グラフト。
【請求項１９】
前記形状記憶合金はニチノールであることを特徴とする請求項１８に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項２０】
前記微孔性金属薄膜被覆は、室温から体温への温度変化を通してマルテンサイト結晶構造を維持することを特徴とする請求項１８に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項２１】
前記構造支持体要素は、室温から体温への温度変化中に、マルテンサイト結晶構造からオーステナイト結晶構造への相転移を起こすことを特徴とする請求項１８に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項２２】
前記少なくとも１つの接触点は、該微孔性金属薄膜被覆の近位端または遠位端のいずれか、および該構造支持体要素の対応する端の近傍に位置することを特徴とする請求項１８に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項２３】
前記少なくとも１つの接触点は、該微孔性金属薄膜被覆および該構造支持体要素の遠位端の近傍に位置することを特徴とする請求項１８に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項２４】
前記円筒形要素は、交互の峰部および谷部を有する正弦曲線パターンを採ることを特徴とする請求項１８に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項２５】
前記連結部材は、峰部−峰部または谷部−谷部のいずれかで隣接する円筒形要素を接合することを特徴とする請求項２４に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項２６】
前記微孔性金属薄膜被覆は、該微孔性金属薄膜被覆の表面全体を通して均一なパターンの開口部を示すことを特徴とする請求項１８に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項２７】
前記少なくとも１つの接触点は、末端連結部材の末端上にあることを特徴とする請求項１８に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項２８】
前記円筒形要素の幅は、頂点においておよび頂点の近傍において、該円筒形要素の他の部分よりも狭いことを特徴とする請求項１８に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項２９】
（ａ）  ニチノールを含む微孔性金属薄膜被覆；および
（ｂ）  複数の峰部および谷部を有する少なくとも一対の波状の円筒形要素と、該峰部または該谷部のいずれかにおいて隣接する円筒形要素を接合し、および末端の円筒形要素の谷部から縦軸方向に伸びる少なくとも１つの突出部を有する連結部材とを含む、該微孔性被覆の下にある構造支持体要素であって、ニチノールを含む構造支持体要素と
を含み、
（ｃ）該構造支持体要素は、該少なくとも１つの突出部において該微孔性金属薄膜被覆と接合されている
ことを特徴とする移植可能な管腔内グラフト。
【請求項３０】
室温から体温への温度変化を通して、前記微孔性金属薄膜被覆はマルテンサイト結晶構造を維持することを特徴とする請求項２９に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項３１】
前記構造支持体要素は、室温から体温への温度変化中に、マルテンサイト結晶構造からオーステナイト結晶構造への相転移を起こすことを特徴とする請求項２９に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項３２】
前記微孔性金属薄膜被覆は、室温から体温への温度変化を通してオーステナイト結晶構造を維持し、生体内でオーステナイト的に挙動することを特徴とする請求項２７に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項３３】
前記微孔性金属薄膜被覆は、室温から体温への温度変化中に、マルテンサイト結晶構造からオーステナイト結晶構造への相転移を起こし、生体内でオーステナイト的に挙動することを特徴とする請求項２７に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項３４】
前記微孔性金属薄膜被覆は、該微孔性金属薄膜被覆の表面全体を通して規則的なパターンの開口部を示すことを特徴とする請求項２８に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項３５】
マグネトロン、カソード、該カソードと熱的に結合される冷却装置、および大気から選択的に隔離することができる堆積チャンバを有する真空スパッタ堆積装置中で、請求項１から３４のいずれかに記載の金属薄膜を製造するための方法であって、該方法が：
（ａ）  ニッケル、チタン、およびニッケル−チタン合金からなる群から選択される少なくとも１つのターゲットを、堆積チャンバ中に配置する工程と；
（ｂ）  堆積チャンバ中に、ターゲットと空間的に離隔された基材を配置する工程と；
（ｃ）  選択される作動気体を堆積チャンバに供給する工程と；
（ｄ）  スパッタされる粒子の平均自由行程が、ターゲットと基材との間の距離の約半分より大きい条件下で、前記少なくとも１つのターゲットから、材料をスパッタ堆積する工程と；
（ｅ）  基材から、堆積された材料を取り外す工程と
を含むことを特徴とする方法。
【請求項３６】
工程（ａ）が、少なくとも１つのニッケルターゲットと、少なくとも１つのチタンターゲットとを提供する工程をさらに含むことを特徴とする請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】
前記カソードと前記ターゲットとは、少なくとも部分的に熱的に絶縁されていることを特徴とする請求項３５に記載の方法。
【請求項３８】
前記スパッタ堆積装置が、ターゲットとカソードとの間の絶縁性接触における断熱性セラミック材料をさらに含むことを特徴とする請求項３７に記載の方法。
【請求項３９】
前記基材の少なくとも１部は、約５０ｎｍ未満のＲａ値の表面粗さを有することを特徴とする請求項３５に記載の方法。
【請求項４０】
工程（ｃ）における作動気体が、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、ＫｒおよびＸｅからなる群から選択されることを特徴とする請求項３５に記載の方法。
【請求項４１】
工程（ｄ）に先だって、前記基材を、約４００℃〜５５０℃の間の温度に加熱することを特徴とする請求項３５に記載の方法。
【請求項４２】
工程（ｂ）が、前記基材に対してバイアス電圧を供給する工程をさらに含むことを特徴とする請求項３２に記載の方法。
【請求項４３】
前記バイアス電圧は負の電圧であることを特徴とする請求項４２に記載の方法。
【請求項４４】
前記バイアス電圧は、約−１２０Ｖ以下であることを特徴とする請求項４３に記載の方法。
【請求項４５】
工程（ｃ）が、真空堆積システム中に、約０．１〜約３０ミリトールの圧力までのＡｒガスを導入する工程をさらに含むことを特徴とする請求項３５に記載の方法。
【請求項４６】
工程（ｄ）が、堆積基板とターゲットとの間の照射距離が約２５ｍｍ未満になるように、堆積基板とターゲットとを配置する工程をさらに含むことを特徴とする請求項３５に記載の方法。
【請求項４７】
前記基材が、円筒形基材であることを特徴とする請求項３５に記載の方法。
【請求項４８】
工程（ｄ）が、堆積される膜が管形状であるように、前記基材を回転させる工程をさらに含むことを特徴とする請求項４７に記載の方法。
【請求項４９】
工程（ｄ）が、スパッタ装置内部で、堆積されたニチノール膜を急冷する工程をさらに含むことを特徴とする請求項３５に記載の方法。
【請求項５０】
堆積されたニチノール膜を視覚的に検査し、および堆積されたニチノール膜の光沢に基づいて堆積されたニチノール膜の表面粗さを定性的に決定する工程をさらに含むことを特徴とする請求項３５に記載の方法。
【請求項５１】
前記金属薄膜が、少なくとも１０００ＭＰａの極限強度を有するニチノール膜から本質的に構成されていることを特徴とする請求項１から５０のいずれかに記載の微孔性金属薄膜。
【請求項５２】
前記ニチノール膜が、少なくとも約１０％の最大歪みを有することを特徴とする請求項５１のニチノール膜。
【請求項５３】
前記金属薄膜が、何らの堆積後加工なしに、実質的に非柱状の微細構造を有するニチノール膜から本質的に構成されていることを特徴とする請求項１から５２のいずれかに記載の微孔性金属薄膜。
【請求項５４】
前記ニチノール膜が、約５００ＭＰａより大きい極限強度を有することを特徴とする請求項５３に記載のニチノール膜。
【請求項５５】
前記ニチノール膜が、約８％より大きい最大歪みを有することを特徴とする請求項５４に記載のニチノール膜。
【請求項５６】
前記ニチノール膜が、ニッケルおよびチタンから本質的に構成されていることを特徴とする請求項５３に記載のニチノール膜。
【請求項５７】
前記ニチノール膜が、析出物を実質的に持たないことを特徴とする請求項５６に記載のニチノール膜。
【請求項５８】
約１２５０ＭＰａよりも大きい極限強度を有することを特徴とする請求項５６に記載のニチノール膜。
【請求項５９】
約１２％より大きい最大歪みを有することを特徴とする請求項５８に記載のニチノール膜。
【請求項６０】
前記ニチノール膜が、約−２０℃と−６０℃との間の転移温度Ａｐを有することを特徴とする請求項５６に記載のニチノール膜。
【請求項６１】
前記微孔性金属薄膜および前記構造支持体要素の少なくとも１つが、マグネトロン、ターゲット、基材、該カソードと熱的に結合された冷却装置および大気から選択的に隔離することが可能な堆積チャンバを有する真空システム中でニチノールをスパッタ堆積する工程を含む方法によって製造され、
ターゲットから放出される粒子のエネルギーを、放出された粒子の平均自由行程がターゲットと基材との間の照射距離の約半分より大きいように制御することを特徴とする請求項１から３４のいずれかに記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項６２】
前記方法が、スパッタ堆積装置内部のカソードからターゲットを熱的に脱結合する工程をさらに含むことを特徴とする請求項６１に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項６３】
前記方法が、スパッタ堆積実施中にターゲットを等温的に加熱する工程をさらに含むことを特徴とする請求項６１に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項６４】
前記方法が、ターゲット材料のスパッタ堆積中、ターゲットを実質的に一定の温度に加熱する工程をさらに含むことを特徴とする請求項６１に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項６５】
前記微孔性金属薄膜および前記構造支持体要素の少なくとも１つが、実質的に非柱状の結晶粒構造を有することによって特徴づけられる請求項６１に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項６６】
前記微孔性金属薄膜および前記構造支持体要素の少なくとも１つが、５００ＭＰａより大きい極限強度を有することによって特徴づけられる請求項６１に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項６７】
前記微孔性金属薄膜および前記構造支持体要素の少なくとも１つが、合金化されたニッケルおよびチタンから本質的に構成されることを特徴とする請求項６１に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【請求項６８】
前記微孔性金属薄膜および前記構造支持体要素の少なくとも１つが、ニチノール膜内部に実質的に析出物を持たないことによって特徴づけられる請求項６７に記載の移植可能な管腔内グラフト。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
（表面自由エネルギー試験の結果）
３１６Ｌステンレス鋼、電解研磨（ｅｐ）ニチノール、電解研磨および熱処理された（ｅｐｈｔ）ニチノール、金、タンタルおよびチタンの全表面エネルギーは、ｅｐニチノールの３２．８ダイン／ｃｍから３１６Ｌステンレス鋼の６４．６ダイン／ｃｍまでの範囲におよび、その平均は４３．９±４．８ダイン／ｃｍであった。それぞれの金属に関する全表面エネルギーの極性成分および分散性（すなわち非極性）成分の中で、非極性成分が０．２１±０．０７の平均極性／非極性比を有して最大であった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
検討した全ての金属表面に関して、タンパク質結合は比較的均一であることが見いだされた。試験された３種のタンパク質の中で、アルブミンの吸着は、全ての金属上でフィブロネクチンよりも少なく、および同様に金およびチタン上への吸着を除いてフィブリノゲンよりも少なかった。金およびチタンを除く全ての金属表面において、アルブミンに関して溶離後に除去されるタンパク質の割合は、フィブリノゲンまたはフィブロネクチンのいずれよりも高かった。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
（静電力試験の結果）
力−体積画像の色レベルの試験において、ニチノールの画像に比較して、金およびステンレス鋼の体積画像の色が比較的均質であることが注目された。加えて、金およびステンレス鋼は、記載されるより暗い（すなわち、より低い）測定値における平均化後のニチノール画像について得られるレベルよりも平均的に高い、同等の静電力レベルを有するように見える。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
ＡＦＭが負に帯電した窒化ケイ素チップを用いたので、チップが負に帯電した表面に接近させられる際に、二重層力がチップを表面から遠ざけるように曲げ、そして、表面に対する降下の直線状パターンから逸脱する。逸脱は反発力として測定される。一方、表面がチップに比較して正電荷を示す場所においては、引力が存在して、チップを表面方向に曲げ、そして同様に表面への直線状降下から逸脱する。したがって、力−体積画像は、ステンレス鋼および金の両方が正味で反発力を示し、一方、ニチノールの曲線が選択されるピクセルに関してわずかな吸引力を示す。ニチノールの曲線上の十字線は、力−体積曲線上の暗ピクセルを表す。力−体積画像において淡色のピクセルの選択は反発的曲線をもたらし、電解研磨されたニチノールの表面の不均質性を示す。