【手続補正書】
【提出日】平成18年1月19日(2006.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式Ｉ：
【化１】
2005516056.tif 000001
（式中、各Ｘは、独立に、フッ素以外のハロゲン原子、水素原子又は有機基であり；そしてＺはフッ素以外のハロゲン原子である）
の１種又はそれ以上のα−ハロケトンを、遷移金属含有不均質触媒の存在下において、式ＩＩ：
【化２】
2005516056.tif 000002
（式中、各Ｘは、独立に、フッ素以外のハロゲン原子、水素原子又は有機基であり；そしてＺはフッ素以外のハロゲン原子である）
のα−ハロアルコールが形成されるような条件下で水素添加剤と反応せしめる工程を含んでなるα−ハロアルコールの製造方法。
【請求項２】
前記触媒が第ＶＩＩＩＡ族金属を含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記触媒が、イリジウム金属とルテニウム金属との混合物を、イリジウム金属対ルテニウム金属の原子比０．０２：１５で含む請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記触媒が第Ｉ族又は遷移金属促進剤イオンを含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記触媒が配位結合している配位子を更に含む請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記不均質触媒が反応器中において不均質触媒床の形態であり、且つ前記不均質触媒が、１時間当りに触媒床を通過するα−ハロアルコールの各モルに対して触媒金属０．０００１〜１００モルの比で反応混合物中に存在する請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記反応混合物が酸捕捉剤を更に含む請求項１に記載の方法。
【請求項８】
（ａ）一般式Ｉ：
【化３】
2005516056.tif 000003
（式中、各Ｘは、独立に、フッ素以外のハロゲン原子、水素原子又は有機基であり；そしてＺはフッ素以外のハロゲン原子である）
の１種又はそれ以上のα−ハロケトンを、遷移金属含有不均質触媒の存在下において、式ＩＩ：
【化４】
2005516056.tif 000004
（式中、各Ｘは、独立に、フッ素以外のハロゲン原子、水素原子又は有機基であり；そしてＺはフッ素以外のハロゲン原子である）
のα−ハロアルコールが形成されるような条件下で水素添加剤と反応せしめ、；そして
（ｂ）そのα−ハロアルコールを塩基と接触させて、エポキシドを形成せしめる
工程を含んでなるエポキシドの製造方法。
【請求項９】
（ａ）１，３−ジハロアセトンを、遷移金属含有不均質触媒の存在下に、還元して、１，３−ジハロ−２−プロパノールを形成せしめ；そして
（ｂ）前記１，３−ジハロ−２−プロパノールを塩基と接触させて、エピハロヒドリンを形成せしめる
工程を含んでなるエピハロヒドリンの製造方法。
【請求項１０】
（ａ）１−ハロアセトンを、遷移金属含有不均質触媒の存在下に、還元して、１−ハロ−２−プロパノールを形成せしめ；そして
（ｂ）前記１−ハロ−２−プロパノールを塩基と接触させて、プロピレンオキシドを形成せしめる
工程を含んでなるプロピレンオキシドの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
【表３】
2005516056.tif 000005
以下に本発明の態様を列挙する。
態様１
前記式Ｉの１種又はそれ以上のα−ハロケトンを、遷移金属含有不均質触媒の存在下において、前記式ＩＩのα−ハロアルコールが形成されるような条件下で水素添加剤と反応せしめる工程を含んでなるα−ハロアルコールの製造方法。
態様２
前記α−ハロケトンが１，３−ジクロロアセトン；１，３−ジブロモアセトン；１−ブロモ−３−クロロアセトン；１−クロロアセトン、１−ブロモアセトン又はそれらの混合物からなる群から選ばれる態様１に記載の方法。
態様３
前記α−ハロケトンが非置換の１，３−ジクロロアセトンであり、且つ形成されるα−ハロアルコールが１，３−ジクロロ−２−プロパノールである態様１に記載の方法。
態様４
前記α−ハロケトンが非置換の１−クロロアセトンであり、且つ形成されるα−ハロアルコールが１−クロロ−２−プロパノールである態様１に記載の方法。
態様５
前記水素添加剤が分子状水素である態様１に記載の方法。
態様６
分子状水素対α−ハロケトンの比が少なくとも０．７５：１である態様５に記載の方法。
態様７
分子状水素対α−ハロケトンの比が少なくとも０．６：１である態様５に記載の方法。
態様８
前記触媒が第ＶＩＩＩＡ族金属を含んでなる態様１に記載の方法。
態様９
前記触媒がイリジウム、ルテニウム及びそれらの混合物を含む態様８に記載の方法。
態様１０
前記触媒が、イリジウム金属とルテニウム金属との混合物を、イリジウム金属対ルテニウム金属の原子比０．０２：１５で含む態様９に記載の方法。
態様１１
ルテニウム金属に対するイリジウム金属の原子比が０．１５〜８である態様１０に記載の方法。
態様１２
ルテニウム金属に対するイリジウム金属の原子比が０．３〜２である態様１１に記載の方法。
態様１３
前記触媒が第Ｉ族又は遷移金属促進剤イオンを含む態様１に記載の方法。
態様１４
前記促進剤イオンが、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ、Ｍｏ、Ｗ、Ｖ、Ｒｅ、Ｍｎ及びそれらの混合物から本質的になる群から選ばれる態様１３に記載の方法。
態様１５
前記触媒が配位結合している配位子を更に含む態様１に記載の方法。
態様１６
前記配位子がホスフィン、１，５−シクロオクタジエン（ＣＯＤ）、アルシン、スチビン、一酸化炭素、エ−テル、シクロペンタジエニル、スルホキシド、芳香族アミン及びそれらの混合物から本質的になる群から選ばれる態様１５に記載の方法。
態様１７
前記配位子がホスフィンである態様１６に記載の方法。
態様１８
前記不均質触媒担体が炭素、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、架橋ポリスチレン及びそれらの組合せから本質的になる群から選ばれる態様１に記載の方法。
態様１９
前記不均質触媒が反応器中において不均質触媒床の形態であり、且つ前記不均質触媒が、１時間当りに触媒床を通過するα−ハロアルコールの各モルに対して触媒金属０．０００１〜１００モルの比で反応混合物中に存在する態様１に記載の方法。
態様２０
０〜２００℃の温度で実施する態様１に記載の方法。
態様２１
少なくとも１４ｐｓｉａの分子水素分圧で実施する態様１に記載の方法。
態様２２
前記反応混合物が溶媒を更に含む態様１に記載の方法。
態様２３
前記溶媒が芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、塩素化炭化水素、エーテル、グリム、グリコールエーテル、エステル、アルコール、アミド、水及びそれらの混合物から本質的になる群から選ばれる態様２２に記載の方法。
態様２４
前記溶媒が反応混合物中に０〜９９．９９重量％の量で存在する態様２２に記載の方法。
態様２５
前記反応混合物が酸捕捉剤を更に含んでなる態様１に記載の方法。
態様２６
前記酸捕捉剤がアルカリ金属炭酸塩；アルカリ金属炭酸水素塩；アルカリ金属カルボン酸塩；カルボン酸アンモニウム及びホスホニウム、炭酸水素アンモニウム及びホスホニウム並びに炭酸アンモニウム及びホスホニウム；エポキシド；更にそれらの混合物から本質的になる群から選ばれる態様２５に記載の方法。
態様２７
前記酸捕捉剤がエピクロロヒドリンである態様２５に記載の方法。
態様２８
ルテニウム含有触媒、イリジウム含有触媒又は混合イリジウム・ルテニウム含有触媒及び溶媒の存在下においてα−ハロケトンと少なくとも化学量論量の分子状水素とを接触させる工程を含む態様１に記載の方法。
態様２９
（ａ）前記式Ｉの１種又はそれ以上のα−ハロケトンを、遷移金属含有不均質触媒の存在下において、前記式ＩＩのα−ハロアルコールが形成されるような条件下で水素添加剤と反応せしめ、；そして
（ｂ）そのα−ハロアルコールを塩基と接触させて、エポキシドを形成せしめる
工程を含んでなるエポキシドの製造方法。
態様３０
（ａ）ケトンをα−ハロゲン化して、α−ハロケトンを生成せしめ；
（ｂ）前記α−ハロケトンを、遷移金属含有不均質触媒の存在下に、還元して、α−ハロアルコールを形成せしめ；そして
（ｃ）前記α−ハロアルコールを塩基と接触させて、エポキシドを形成せしめる
工程を含んでなるエポキシドの製造方法。
態様３１
前記α−ハロケトンが１種又はそれ以上のα−ハロケトンの混合物であり、且つ前記α−ハロアルコールが１種又はそれ以上のα−ハロアルコールの混合物である態様２９又は３０に記載の方法。
態様３２
（ａ）１，３−ジハロアセトンを、遷移金属含有不均質触媒の存在下に、還元して、１，３−ジハロ−２−プロパノールを形成せしめ；そして
（ｂ）前記１，３−ジハロ−２−プロパノールを塩基と接触させて、エピハロヒドリンを形成せしめる
工程を含んでなるエピハロヒドリンの製造方法。
態様３３
（ａ）アセトンをα−ハロゲン化して、１，３−ジハロアセトンを生成せしめ；
（ｂ）前記１，３−ジハロアセトンを、遷移金属含有不均質触媒の存在下に、還元して、１，３−ジハロ−２−プロパノールを形成せしめ；そして
（ｃ）前記１，３−ジハロ−２−プロパノールを塩基と接触させて、エピハロヒドリンを形成せしめる
工程を含んでなるエピハロヒドリンの製造方法。
態様３４
前記１，３−ジハロアセトンが他のケトンとの混合物であり；前記混合物が主として１，３−ジハロアセトンを含み；且つ形成される生成物が主としてエピハロヒドリンである態様３２又は３３に記載の方法。
態様３５
（ａ）１−ハロアセトンを、遷移金属含有不均質触媒の存在下に、還元して、１−ハロ−２−プロパノールを形成せしめ；そして
（ｂ）前記１−ハロ−２−プロパノールを塩基と接触させて、プロピレンオキシドを形成せしめる
工程を含んでなるプロピレンオキシドの製造方法。
態様３６
（ａ）アセトンをα−ハロゲン化して、１−ハロアセトンを生成せしめ；
（ｂ）前記１−ハロアセトンを、遷移金属含有不均質触媒の存在下に、還元して、１−ハロ−２−プロパノールを形成せしめ；そして
（ｃ）前記１−ハロ−２−プロパノールを塩基と接触させて、プロピレンオキシドを形成せしめる
工程を含んでなるプロピレンオキシドの製造方法。
態様３７
前記１−ハロアセトンが他のケトンとの混合物であり；前記混合物が主として１−ハロアセトンを含み；且つ形成される生成物が主としてプロピレンオキシドである態様３５又は３６に記載の方法。