【事件の表示】
　上記当事者間の特許第４１２０５０２号発明「集光光学系、光源ユニット、照明光学装置および露光装置」の特許無効審判事件について、次のとおり審決する。
【結　論】
　訂正を認める。
　本件審判の請求は、成り立たない。
　審判費用は、請求人の負担とする。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　
　本件特許第４１２０５０２号（請求項の数１０、以下「本件特許」等という。）は、平成１５年７月１４日に特許出願された特願２００３−１９６１９４号に係るものであって、その請求項１〜１０に係る発明（以下「本件特許発明１〜１０」という。）について、平成２０年５月９日に特許の設定登録がなされた。
　これに対して、平成２３年７月８日に、本件無効審判請求人（以下「請求人」という。）により本件無効審判〔無効２０１１−８００１２２号〕が請求され、本件無効審判被請求人（以下「被請求人」という。）により指定期間内の平成２３年１０月３日付けで訂正請求書及び審判事件答弁書が提出された。
　その後、請求人から平成２４年１月５日に審判事件弁駁書が提出され、同年３月２３日に請求人より、同年３月２７日に被請求人より、それぞれ、口頭審理陳述要領書が提出され、同年４月３日に口頭審理が行われた。
　
第２　訂正の請求について
　
１．訂正の請求の内容
　
　被請求人の平成２３年１０月３日付けの訂正請求は、本件の特許請求の範囲及び明細書を訂正請求書に添付した特許請求の範囲及び明細書（以下「訂正明細書」という。）のとおりに訂正すること（以下「本件訂正」という。）を求めるものであり、その内容は以下のとおりである。
　
訂正事項１
　本件の特許請求の範囲の請求項１の記載を
「ＥＵＶ光の光源ユニットであって、
ＥＵＶ光を放出するプラズマ光源と、
回転楕円面の反射面を有し、その第１の焦点に該プラズマ光源が置かれた集光ミラーと、
　　　球面の反射面を有し、前記プラズマ光源から出射されたＥＵＶ光の一部を前記集光ミラーに向けて反射し、該反射したＥＵＶ光が前記プラズマ光源のプラズマによって吸収されることを避けるよう、球心が該プラズマ光源の位置からずらされて配置された該補助集光ミラーとを備えることを特徴とする光源ユニット。」
と訂正する。
　
訂正事項２
　同、請求項３の記載を
「前記補助集光ミラーは、球心位置が異なる複数のミラーから構成されていることを特徴とする請求項２に記載の光源ユニット。」
と訂正する。
　
訂正事項３
　同、請求項５の記載を
「回転楕円面の反射面を有する集光ミラーと、該集光ミラーの第１の焦点に球心を有する球面からなる補助集光ミラーとを備え、プラズマ光源から出るＥＵＶのパルス光を集光する集光光学系において、
該補助集光ミラーの半径をＲとし、該プラズマ光源のパルス光の持続時間をｔとし、光速をｃとするとき、Ｒ＞（ｔ×ｃ）／２を満足することを特徴とする集光光学系。」
と訂正する。
　
訂正事項４
　本件特許明細書の段落【００１８】の記載を
「請求項１記載のＥＵＶ光の光源ユニットは、
ＥＵＶ光を放出するプラズマ光源と、
回転楕円面の反射面を有し、その第１の焦点（楕円の焦点）に該プラズマ光源が置かれた集光ミラーと、
球面の反射面を有し、前記プラズマ光源から出射されたＥＵＶ光の一部を前記集光ミラーに向けて反射し、該反射したＥＵＶ光が前記プラズマ光源のプラズマによって吸収されることを避けるよう、球心が該プラズマ光源の位置からずらされて配置された該補助集光ミラーとを備えることを特徴とする。」
と訂正する。
　
訂正事項５
　同、段落【００２４】の記載を
「また、請求項５記載の集光光学系は、回転楕円面の反射面を有する集光ミラーと、該集光ミラーの第１の焦点に球心を有する球面からなる補助集光ミラーとを備え、プラズマ光源から出るＥＵＶのパルス光を集光する集光光学系において、該補助集光ミラーの半径をＲとし、プラズマ光源のパルス光の持続時間をｔとし、光速をｃとするとき、Ｒ＞（ｔ×ｃ）／２を満足することを特徴とする。」
と訂正する。
　
２．訂正の適否
　
訂正事項１について
　訂正事項１は、訂正前の請求項１に記載された発明特定事項である「プラズマ光源の位置からずらされて配置された補助集光ミラーの球心」の位置について、「前記プラズマ光源から出射されたＥＵＶ光の一部を前記集光ミラーに向けて反射し、該反射したＥＵＶ光が前記プラズマ光源のプラズマによって吸収されることを避けるよう」な位置であるとの限定を付加するものである。当該訂正事項は、訂正前の請求項１に係る発明における、補助集光ミラーの球心の位置を限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。そして、当該訂正事項は、本件特許明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてするものであって本件特許明細書等のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において、新たな技術的事項を導入するものではない。
　
訂正事項２について
　訂正事項２は、訂正前の請求項３が請求項１又は請求項２を引用していたものを、請求項２のみを引用する発明に限定するものである。
　したがって、当該訂正事項は、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。そして、当該訂正事項は、本件特許明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてするものであって本件特許明細書等のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において、新たな技術的事項を導入するものではない。
　
訂正事項３について
　訂正事項３は、訂正前の請求項５に記載された発明特定事項である「プラズマ光源から出るパルス光」について、「ＥＵＶ光のパルス光」であるとの限定を付加するものである。当該訂正事項は、訂正前の請求項５に係る発明におけるパルス光の種類を限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。そして、当該訂正事項は、本件特許明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてするものであって本件特許明細書等のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において、新たな技術的事項を導入するものではない。
　
訂正事項４及び５について
　訂正事項４及び５は、訂正事項１及び３により請求項１及び５の記載が訂正されたのに伴って、本件特許明細書の記載を訂正後の特許請求の範囲の記載と整合させるためのものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とするものに該当する。そして、当該訂正事項は、本件特許明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてするものであって本件特許明細書等のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において、新たな技術的事項を導入するものではない。また、当該訂正事項が、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないのは明らかである。
　
３．むすび
　
　以上のとおりであるから、本件訂正は、特許法第１３４条の２第１項ただし書き、並びに、同条第５項において準用する同法第１２６条第３項及び第４項の規定に適合するので、結論のとおり訂正を認める。
　
第３　本件訂正発明
　
　上記のとおり本件訂正が認められたため、本件特許に係る発明は、訂正請求書に添付された特許請求の範囲の請求項１〜１０に記載された、以下のとおりのものと認める（以下「本件訂正発明１〜１０」という。）。
　
【請求項１】ＥＵＶ光の光源ユニットであって、
ＥＵＶ光を放出するプラズマ光源と、
回転楕円面の反射面を有し、その第１の焦点に該プラズマ光源が置かれた集光ミラーと、
　　　球面の反射面を有し、前記プラズマ光源から出射されたＥＵＶ光の一部を前記集光ミラーに向けて反射し、該反射したＥＵＶ光が前記プラズマ光源のプラズマによって吸収されることを避けるよう、球心が該プラズマ光源の位置からずらされて配置された該補助集光ミラーとを備えることを特徴とする光源ユニット。
【請求項２】前記補助集光ミラーの球心位置が、該集光ミラーの第１の焦点を通り光軸に垂直な平面内にあって、光軸から該プラズマ光源の半径以上ずらされていることを特徴とする請求項１に記載の光源ユニット。
【請求項３】前記補助集光ミラーは、球心位置が異なる複数のミラーから構成されていることを特徴とする請求項２に記載の光源ユニット。
【請求項４】前記補助集光ミラーは、少なくとも４つのミラーから構成されていることを特徴とする請求項３に記載の光源ユニット。
【請求項５】回転楕円面の反射面を有する集光ミラーと、該集光ミラーの第１の焦点に球心を有する球面からなる補助集光ミラーとを備え、プラズマ光源から出るＥＵＶのパルス光を集光する集光光学系において、
該補助集光ミラーの半径をＲとし、該プラズマ光源のパルス光の持続時間をｔとし、光速をｃとするとき、Ｒ＞（ｔ×ｃ）／２を満足することを特徴とする集光光学系。
【請求項６】前記補助集光ミラーの半径が３０ｃｍ以上に設定されていることを特徴とする請求項５に記載の集光光学系。
【請求項７】請求項５又は請求項６記載の集光ミラーの前記第１の焦点に、ＥＵＶ光を放出する前記プラズマ光源が置かれたことを特徴とする光源ユニット。
【請求項８】前記集光ミラーは前記プラズマ光源に近い部分ミラーと遠い部分ミラーに分割されており、前記プラズマ光源に近い部分ミラーのみを取り外し交換できるように構成されていることを特徴とする請求項１乃至４又は請求項７のいずれか１項に記載の光源ユニット。
【請求項９】請求項１乃至４又は請求項７，８のいずれか１項に記載の光源ユニットと、該光源ユニットからのＥＵＶ光をマスクへ導くための照明光学系とを備えていることを特徴とする照明光学装置。
【請求項１０】所定のパターンが形成された反射型のマスクを照明するための照明光学装置と、
前記照明光学装置によって照明されるべき被照射面にマスクを保持するマスクステージと、
　ウエハを保持するウエハステージと、前記マスクに形成された所定パターンを前記感光性基板に所定の縮小比でもって投影する投影光学系と、
　前記マスクに形成された所定パターンを前記ウエハに投影する際に、前記投影光学系に対して前記マスクステージと前記ウエハステージとを前記縮小比に応じ
た速度で同期して相対的に移動させる駆動装置とを備える露光装置において、
　前記照明光学装置として、請求項９に記載の照明光学装置を有することを特徴とする露光装置。
　
第４　当事者の主張
　
１．請求人の主張、及び提出した証拠
　
　請求人の主張した無効理由及び提出した証拠は以下のとおりである。
　
無効理由１
　本件特許発明１及び９は、本件の特許出願の日前の他の特許出願であって本件特許出願後に出願公開された甲第１号証の願書に最初に添付された明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された発明と同一であるから、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができないものであり、本件特許は特許法第１２３条第１項第２号に該当し無効とされるべきである。
　 
無効理由２
　本件特許発明１及び９は、甲第２号証に記載された発明と同一であるから、特許法第２９条第１項第３号に規定された発明であり、本件特許は特許法第１２３条第１項第２号に該当し無効とされるべきである。
　
無効理由３
　本件特許発明１は、甲第２号証に記載の発明を出発点として、（１）甲第２号証及び甲第４号証に記載された発明、（２）甲第２号証及び甲第６号証に記載された発明又は（３）甲第２号証及び甲第７号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができないものであり、本件特許は特許法第１２３条第１項第２号に該当し無効とされるべきである。
（４）本件特許発明２〜４及び８〜１０は、甲第２号証及び甲第７号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができないものであり、本件特許は特許法第１２３条第１項第２号に該当し無効とされるべきである。
　
無効理由４
　本件特許は、特許法第３６条第６項第２号の規定に違反してなされたものであるから、特許法第１２３条第１項第４号に該当し無効とされるべきである。
　
無効理由５
　本件特許は、特許法第３６条第６項第１号の規定に違反してなされたものであるから、特許法第１２３条第１項第４号に該当し無効とされるべきである。
　
無効理由６
　本件特許は、特許法第３６条第４項第１号の規定に違反してなされたものであるから、特許法第１２３条第１項第４号に該当し無効とされるべきである。
　
　上記の無効理由は、本件訂正によっても解消されていない。
　
証拠方法
　甲第１号証：特願２００４−１２０８４号（特開２００４−３３３４７５号）の公開公報
　
　甲第２号証：米国特許第６，２８５，７４３号明細書（及びその抄訳）
　
　甲第３号証：Ｐａｎａｓｏｎｉｃ　プロジェクターカタログ　ＤＬＰ方式プロジェクター　ＴＨ−Ｄ９６１０Ｊ　ＴＨ−Ｄ９５１０Ｊ　ＴＨ−Ｄ８６００Ｊ　ＴＨ−Ｄ８５００Ｊ　２００３年７月
　
　甲第４号証：特開平６−１１８３７９号公報
　
　甲第５号証：特開２００３−１９８０１０号公報
　
　甲第６号証：米国特許第４，３０５，０９９号明細書（及びその抄訳）
　
　甲第７号証：米国特許第４，１５１，５８４号明細書（及びその抄訳）
　
　甲第８号証：特開平１１−３１２６３８号公報
　
　甲第９号証：特開２０００−８９０００号公報
　
２．被請求人の主張 
　
　これに対して、被請求人は、請求人の主張にはいずれも理由がない旨主張している。
　
第５　無効理由についての当審の判断
　
１．無効理由１について
　
（１）甲第１号証に記載された発明
　甲第１号証には、次の事項が記載されている。
　
（ａ１）「【請求項１０】
　極紫外（ＥＵＶ）光線を発生させる極紫外（ＥＵＶ）光線源において、
　標的領域に向けられる標的材料の流れを発生させる装置と、
　標的領域に向けられ、標的材料と相互作用してＥＵＶ光線を発生させるレーザビームを生じさせるレーザ源と、
　ＥＵＶ光線を集め且つ、ＥＵＶ光線を集光位置に向ける光学コレクタであって、主要反射器を有し、標的領域が該主要反射器の焦点であり、主要反射器の外端縁の周りに配置された環状反射器と、焦点と集光位置との間に配置された中央反射器とを有する前記光学コレクタと、を備え、
　標的領域にて発生されたＥＵＶ光線が主要反射器によって反射され且つ、集光位置に向けられ、
　環状反射器が、主要反射器によって反射されなかった光を標的領域から反射し、環状反射器によって反射された光が中央反射器から反射され且つ、集光領域に向けられるようにした、極紫外（ＥＵＶ）光線源。」
（ａ２）「【０００１】
　本発明は、全体として、光源用の光学コレクタ、より具体的には、発生されたレーザプラズマ極紫外線（ＥＵＶ）光線を高比率にて集めるＥＵＶ光線源用の高効率の光学コレクタに関する。
【背景技術】
【０００２】
　極小電子集積回路は、典型的に、当該技術分野の当業者に周知のフォトリソグラフィ工程によって基板上にパターン化され、この工程において、回路要素は、マスクを通って伝播する光ビームによって画成される。・・・フォトリソグラフィ光源の現在の傾向は、極紫外線（ＥＵＶ）すなわち軟らかいＸ線波長の光を発生させるシステムを開発することである。」
（ａ３）「【０００５】
　図１は、圧力下にて、キセノンのような適宜な標的材料を保存する標的材料の保存チャンバ１４を有するノズル１２を備える、上記に論じた型式のＥＵＶ光線源１０の平面図である。標的材料を液体状態に極低温冷却する熱交換器又は凝縮器がチャンバ１４内に設けられている。液体標的材料は、ノズル１２の狭小な喉部分又は毛管１６を通じて強制的に供給されて、圧力下にてフィラメント又は流れ１８として標的領域２０に向け真空プロセスチャンバ２６内に放出される。液体の標的材料は、真空環境内にて急速に凍結し標的材料が標的領域２０に向けて伝播するとき、標的材料の固体フィラメントを形成する。真空環境は、標的材料の蒸気圧力と組み合わさって、流れ１８が移動する距離及びその他の要因に依存して、凍結した標的材料が最終的に分解して凍結した標的の破片となるようにする。
【０００６】
　レーザ源２４からのレーザビーム２２は、プロセスチャンバ２６内にて標的領域２０に向けられて標的材料フィラメントを蒸発させる。レーザビーム２２からの熱によって標的材料はＥＵＶ光線３２を放射するプラズマ３０を発生させる。ＥＵＶ光線３２は、光学コレクタ３４によって集められ且つ、パターン化される回路（図示せず）に向けられ又はＥＵＶ光線３２を使用するその他の装置に向けられる。光学コレクタ３４は、楕円形のような、光線３２を集め且つ導く目的に適した任意の形状を有するものとすることができる。この型式のものにおいて、レーザビーム２２は、図示するように、光学コレクタ３４の開口３６を通って伝播する。その他の型式のものはその他の形態を採用することができる。」
（ａ４）「【００１６】
　図３は、本発明の１つの実施の形態による、上記に論じたＥＵＶ光線源１０にて使用可能な光学コレクタ７０の断面平面図である。該光学コレクタ７０は、中央開口７４を有する楕円形の皿形反射器７２を有しており、該中央開口７４を通って上記に論じたように、レーザビームが標的領域７６に伝播する。ＥＵＶ光線７８は、上記に論じたように、標的領域７６にて発生され、皿形反射器７２の内面８０から反射され且つ集光位置８２に向けられる。この実施の形態において、標的領域７６は楕円形反射器７２の１つの焦点にあり、集光位置８２は楕円形反射器７２の他方の焦点にある。・・・
【００１７】
　上記に論じたように、反射器７２の外端縁８４から反射された光線７８の外側線８６、８８は、その円錐体の外側の光が使用不能である、円錐体の外面を画成する。皿形反射器７２をより大きく形成するならば、線８６、８８によって画成された円錐体は、線７８の一部分がＥＵＶ光線７８を使用してシステムの角度付き受け入れ部の外側となるより大型の円錐体を画成するであろう。本発明によれば、環状の線形切頭反射器のような、環状反射器９０は、さもなければ失われる可能性のあるＥＵＶ光線７８を集め且つ反射し得るよう反射器７２の外端縁８４に隣接する位置に設けられる。このため、反射器７２によって反射されないであろう光線７８の線９２は、環状反射器９０によって反射される。
【００１８】
　通常、反射器９０によって反射された線９２は、線８６、８８によって画成された円錐体の外側にある。しかし、本発明によれば、例えば、動力作動式アクシコン反射器のような、中央反射器９４が、標的領域７６と集光位置８２の間に設けられて反射器９０によって反射された線９２の方向を変更する。明らかであるように、環状反射器９０から反射された線９２は、反射器９４によって方向変更され、線８６、８８によって画成された円錐体内にあるようにする。この実施の形態において、反射器９０、９４は、２つの回転面であり、ここで、線９２は反射器９０の内面から反射され且つ、反射器９４の外面から反射される。
【００１９】
　反射器９０の内面及び反射器９４の外面は、ＥＵＶ光線源用の適宜な被覆材にて被覆される。１つの実施の形態において、反射器９０、９４上の被覆は、通常は、Ｓｉ／Ｍｏ多層である、反射器７２の内面８０の被覆と同一である。
【００２０】
　図４は、本発明の別の実施の形態による、光線源１０内で同様に使用されることができる、光学コレクタ７０と同様である光学コレクタ１０２の断面平面図であり、ここで、同様の要素は同一の参照番号で示してある。この実施の形態において、環状反射器９０は、図示するように、湾曲形態を有する環状反射器１０４と置換されている。また、中央反射器９４は、線形アクシコン反射器１０にて、又は、動力作動部を有する切頭反射器にて置換されている。この実施の形態において、通常、失われるであろう線は、反射器１０４、１０６によって集められ且つ方向変更される。」
（ａ５）図４には、標的領域７６からのＥＵＶ光線が環状反射器１０４によって標的領域７６とは異なる方向に反射されるようすが記載されている。
　
　上記甲第１号証の記載事項及び添付図面に記載された事項並びに当業者の技術常識を総合すると、甲第１号証には、次の発明が記載されているものと認められる。 
　「レーザ源からのレーザビームの熱で発生したプラズマによってＥＵＶ光線を放射するプラズマ光源と、
　ＥＵＶ光線が発生される標的領域が１つの焦点にあり、集光位置が他方の焦点にある楕円形反射器を有しており、
　標的領域からのＥＵＶ光線を標的領域とは異なる方向に反射する、湾曲形態を有する環状反射器を有する、極紫外（ＥＵＶ）光線源。」（以下、これを「甲１先願発明」という。）
　
（２）対比
　本件訂正発明１と甲１先願発明を比較する。
（あ）甲１先願発明の「レーザ源からのレーザビームの熱で発生したプラズマによってＥＵＶ光線を放射するプラズマ光源」、
「ＥＵＶ光線が発生される標的領域が１つの焦点にあり、集光位置が他方の焦点にある楕円形反射器」及び
「極紫外（ＥＵＶ）光線源」は、それぞれ、
本件訂正発明１の「ＥＵＶ光を放出するプラズマ光源」、
「回転楕円面の反射面を有し、その第１の焦点に該プラズマ光源が置かれた集光ミラー」及び
「光源ユニット」に相当する。
（い）また、甲１先願発明の「環状反射器」は、「標的領域からのＥＵＶ光線を標的領域とは異なる方向に反射する」ことから「反射したＥＵＶ光がプラズマ光源のプラズマによって吸収されることを避けるよう」な配置であることは明らかである。
　したがって甲１先願発明の「環状反射器」と、本件訂正発明１の「補助集光ミラー」は、ともに「曲面の反射面を有し、反射したＥＵＶ光が前記プラズマ光源のプラズマによって吸収されることを避ける位置に配置された補助集光ミラー」である点で一致する。
　
　してみれば、両者は、
　「ＥＵＶ光の光源ユニットであって、
ＥＵＶ光を放出するプラズマ光源と、
回転楕円面の反射面を有し、その第１の焦点に該プラズマ光源が置かれた集光ミラーと、
　　　曲面の反射面を有し、反射したＥＵＶ光が前記プラズマ光源のプラズマによって吸収されることを避ける位置に配置された該補助集光ミラーとを備える光源ユニット。」である点で一致し、次の点で相違する。
　
　相違点：補助集光ミラーが、本件訂正発明１では「球面の反射面を有し、前記プラズマ光源から出射されたＥＵＶ光の一部を前記集光ミラーに向けて反射し、該反射したＥＵＶ光が前記プラズマ光源のプラズマによって吸収されることを避けるよう、球心が該プラズマ光源の位置からずらされて配置された」のに対して、甲１先願発明では、反射面が曲面ではあるものの、球面かどうかは明らかでなく、プラズマ光源から出射されたＥＵＶ光の一部を前記集光ミラーに向けて反射する構成ではない点。
　
（３）相違点についての判断
　上記相違点について検討する。
　本件訂正発明１は、プラズマ光源から発散するＥＵＶ光の一部を補助集光ミラーで集光ミラーに向けて反射することを前提とし、その場合に反射された光がプラズマ光源を通過するとプラズマによって吸収されることを避けることを目的とするものである。（本件訂正明細書段落【０００７】〜【００１６】参照）。
　これに対して、甲１先願発明は、プラズマ光源から発散するＥＵＶ光を集光ミラーに向けて反射することは前提とせず、補助集光ミラーで反射した光は集光位置に導くことにより、高効率を達成するものである（上記摘記事項（ａ４）参照）。
　すなわち、両発明はその前提が異なり、解決しようとする課題も異なる。
　してみると、上記相違点を課題解決のための具体的手段における微差であるとすることは出来ない。
　したがって、本件訂正発明１と甲１先願発明は同一ではない。
　また、本件訂正発明９は、本件訂正発明１を直接又は間接に引用する発明であるから、同様の理由により甲１先願発明と同一ではない。
　
（４）小括
　よって、請求人の主張する無効理由１によっては、本件特許を無効とすることはできない。
　
２．無効理由２について
　
（１）甲第２号証に記載された発明
　本件の特許出願前に頒布された刊行物である甲第２号証には、次の事項が記載されている。なお、訳は請求人及び被請求人の提出したものによる。
　
（ｂ１）「The present invention relates to soft X-ray generation, and more particularly, to a method and apparatus for generating soft X-rays for semiconductor manufacturing.
」（第１欄１４〜１６行）
（訳）「本発明は、軟Ｘ線の発生に関連するものであり、特に、半導体製造用の軟Ｘ線の発生方法及び装置に関するものである。」
（ｂ２）「In a conventional process, a pattern from a mask is reduced, projected and transferred onto a silicon wafer using visible or ultraviolet light during the manufacturing of semiconductor integrated circuits.」（第１欄１８〜２１行）
（訳）「従来法では、半導体集積回路の製造の際、マスクからのパターンを可視光又は紫外光を用いて、シリコンウエハ上に縮小投影して転写した。」
（ｂ３）「Thus, the use of soft X-rays with wavelengths shorter than the wavelengths of ultraviolet light, i.e., wavelengths of about 13 nm or about 11 nm, is becoming necessary to achieve required pattern resolution.」（第１欄２６〜２９行）
（訳）「かくして、紫外光よりもさらに波長の短い、すなわち波長約１３ｎｍあるいは約１１ｎｍの軟Ｘ線の使用が、要求されるパターン解像度を達成するのに必要となっている。」
（ｂ４）「A laser plasma X-ray source (LPX) may be used to produce soft X-rays with a wavelength of about 13 nm or about 11 nm.」（第１欄３０〜３２行）
（訳）「波長約１３ｎｍあるいは約１１ｎｍの軟Ｘ線を発生させるのに、レーザープラズマＸ線源（ＬＰＸ）を使用しうる。」
（ｂ５）「The position at which the plasma 533 is generated is located at a focal point of a parabolic mirror 534・・・」（第８欄１０〜１１行）
（訳）「プラズマ５３３が発生する位置は、放物面鏡５３４の焦点位置にある。」
（ｂ６）「FIG. 17 shows a soft X-ray generating apparatus of another embodiment of the present invention.」（第１２欄５４〜５５行）
（訳）「ＦＩＧ．１７は、本発明の他の実施形態による軟Ｘ線発生装置を示している。」
（ｂ７）「The recovery of the excess krypton gas using liquid nitrogen traps, and the reflection of the soft X-rays radiated from the plasma 1703 into parallel beams 1705 using a parabolic mirror 1704 that has a multi-layer reflecting film on its surface are the same as in the previous embodiment.」（第１２欄６３〜６７行）
（訳）「液体窒素トラップを用いて過剰のクリプトンガスを回収する点、及び、表面に多層反射膜を有する回転放物面鏡１７０４を用いて、プラズマ１７０３から輻射された軟Ｘ線を、平行光束１７０５として反射する点は、前出の実施形態と同様である。」
（ｂ８）「In this embodiment, a substantially hemispherical reflective mirror 1713 coated with a multi-layer reflective film is used in place of the soft X-ray filter 1510 of the previous embodiment. The center of the reflective mirror 1713 is located near the position of generation of plasma 1703.」（第１３欄１〜５行）
（訳）「本実施形態では、前出の実施形態における軟Ｘ線フィルタ１５１０に代えて、多層反射膜で被覆された略半球型の反射鏡１７１３が用いられる。反射鏡１７１３の中心は、プラズマ１７０３の発生位置付近に配置されている。」
（ｂ９）「 The reflective mirror 1713 also reflects the soft X-rays back to or near the position of plasma generation.」（第１３欄８〜１０行）
（訳）「この反射鏡１７１３はまた、該軟Ｘ線を、プラズマ発生位置又はその付近に反射する。」
（ｂ１０）「When the soft X-rays are reflected back to the point of plasma generation, the plasma 1703 is reheated. A higher temperature is maintained, resulting in an increase in the quantity of soft X-rays emitted from the plasma 1703.」（第１３欄１１〜１４行）
（訳）「軟Ｘ線がプラズマ発生の点に反射されると、プラズマ１７０３は再加熱される。高温が保たれ、プラズマ１７０３から出射される軟Ｘ線の量が増加する。」
（ｂ１１）「When the soft X-rays are reflected back to the point of plasma generation, a portion of the soft X-rays will travel in a direction such that they are subsequently reflected from the parabolic mirror 1704, thereby forming parallel beams 1705 of soft X-rays.」（第１３欄１５〜１９行）
（訳）「上記軟Ｘ線がプラズマ発生位置に反射されて戻ると、該軟Ｘ線の一部は次いで回転放物面鏡１７０４によって反射され、もって平行光束１７０５を形成するような方向に進行することになる。」
（ｂ１２）「In the above embodiments, a parabolic mirror is used to generate parallel beams, however, an ellipsoidal mirror may also be used to form converging or diverging soft X-ray beams.」（第１４欄８〜１１行）
（訳）「上記実施形態では、平行光束を発生させるために放物面鏡が使用されているが、回転楕円面の反射鏡を使用して軟Ｘ線を集光あるいは発散させてもよい。」
　
　上記甲第２号証の記載事項及び添付図面に記載された事項並びに当業者の技術常識を総合すると、甲第２号証には、次の発明が記載されているものと認められる。
　「波長約１３ｎｍあるいは約１１ｎｍの軟Ｘ線を発生させるのに、レーザープラズマＸ線源（ＬＰＸ）を使用しうる軟Ｘ線の発生装置であって、
　プラズマが発生する位置がその焦点位置にある回転楕円面の反射鏡と、
　その中心がプラズマの発生位置付近に配置されている略半球型の反射鏡を有し、
　略半球型の反射鏡は軟Ｘ線を、プラズマ発生位置又はその付近に反射し、
　軟Ｘ線がプラズマ発生の点に反射されると、プラズマは再加熱されて高温が保たれ、プラズマから出射される軟Ｘ線の量が増加し、
　軟Ｘ線がプラズマ発生位置に反射されて戻ると、軟Ｘ線の一部は次いで回転楕円面の反射鏡によって反射されて軟Ｘ線を集光させる、軟Ｘ線の発生装置。」（以下、これを「甲２発明」という。）
　
（２）甲２発明との対比
　本件訂正発明１と、甲２発明を対比する。
（あ）「波長約１３ｎｍあるいは約１１ｎｍの軟Ｘ線」はＥＵＶ光であるから、甲２発明の「レーザープラズマＸ線源（ＬＰＸ）」は、本件訂正発明１の「ＥＵＶ光を放出するプラズマ光源」に相当する。
（い）同様に、「プラズマが発生する位置がその焦点位置にある回転楕円面の反射鏡」は、「回転楕円面の反射面を有し、その第１の焦点に該プラズマ光源が置かれた集光ミラー」に相当する。
（う）甲２発明において「軟Ｘ線がプラズマ発生位置に反射されて戻ると、軟Ｘ線の一部は次いで回転楕円面の反射鏡によって反射され」ることは、本件訂正発明１において「プラズマ光源から出射されたＥＵＶ光の一部を前記集光ミラーに向けて反射」することに相当するから、甲２発明の「略半球型の反射鏡」と本件訂正発明１の「補助集光ミラー」は、ともに、「球面の反射面を有し、前記プラズマ光源から出射されたＥＵＶ光の一部を前記集光ミラーに向けて反射する補助集光ミラー」である点で一致する。
（え）また、甲２発明の「軟Ｘ線の発生装置」は、本件訂正発明１の「ＥＵＶ光の光源ユニット」に相当する。
　
　してみれば、両者は、
　「ＥＵＶ光の光源ユニットであって、
ＥＵＶ光を放出するプラズマ光源と、
回転楕円面の反射面を有し、その第１の焦点に該プラズマ光源が置かれた集光ミラーと、
　　　球面の反射面を有し、前記プラズマ光源から出射されたＥＵＶ光の一部を前記集光ミラーに向けて反射する補助集光ミラーとを備える光源ユニット。」である点で一致し、次の点で相違する。
　
　相違点：補助集光ミラーが、本件訂正発明１では「反射したＥＵＶ光がプラズマ光源のプラズマによって吸収されることを避けるよう、球心が該プラズマ光源の位置からずらされて配置された」のに対して、甲２発明では、軟Ｘ線の一部は回転楕円面の反射鏡によって反射されるものの、その球心をプラズマ光源の位置からずらして配置するかどうか不明な点。
　
（３）判断
　甲２発明が「軟Ｘ線がプラズマ発生の点に反射されると、プラズマは再加熱されて高温が保たれ、プラズマから出射される軟Ｘ線の量が増加」するという構成を有することから、少なくとも、略半球型の反射鏡の中心がプラズマの発生位置に配置されることは甲２発明において必須の事項であり、甲２発明において「略半球型の反射鏡の中心がプラズマの発生位置付近に配置されている」ことの「プラズマの発生位置付近」とは、略半球型の反射鏡によって反射された軟Ｘ線は、一部はプラズマ発生の点に反射され、残りは回転楕円面の反射鏡に向かって反射されることに対応するものであることは明らかである。
　このことは、甲２発明は、略半球型の反射鏡の球心をプラズマ光源の位置からずらして配置することを排除するものである。
　してみると、本件訂正発明１と甲２発明は同一ではない。
　また、本件訂正発明９は、本件訂正発明１を直接又は間接に引用する発明であるから、同様の理由により甲１発明と同一ではない。
　なお、請求人は、甲第２号証には、ｉ）反射鏡がプラズマからの光をプラズマ発生位置に反射する場合、及び、ｉｉ）反射鏡がプラズマからの光をプラズマ発生位置の近傍に発射する場合の、異なる２つの態様が記載されている旨主張している（口頭審理陳述要領書参照）。しかしながら、イ）甲第２号証には、態様が異なることを直接的に記載又は示唆する記載が認められないこと、及び、ロ）甲２発明は単一の実施例から認定されるものであること、等を考慮すれば、請求人の上記主張は採用することができない。
　
（４）小括
　よって、請求人の主張する無効理由２によっては、本件特許を無効とすることはできない。
　
３．無効理由３について
　
その（１）
（イ）甲第４号証に記載された発明
　
　本件の特許出願前に頒布された刊行物である甲第４号証には、次の事項が記載されている。
（ｃ１）「【請求項１】光軸に沿って反射鏡、発光源および被投写体を配置し、前記発光源から出力した光を前記反射鏡で反射して前記被投写体に照射するようにした投写用光源装置において、前記反射鏡の開口端の外周側にほぼリング状の補助反射鏡を設け、この補助反射鏡は、前記発光源から前記被投写体側に出力して前記被投写体外を照射する光を、前記反射鏡を介して前記被投写体に照射する形状に形成され、前記発光源から出力した光が直接前記反射鏡で反射して前記被投写体に照射する第１の照射光と、前記発光源から出力した光が前記補助反射鏡を介してから前記反射鏡で反射して前記被投写体に照射する第２の照射光とのうち、一方が前記光軸と平行な光より若干内側に集光し、他方が前記光軸と平行になるか、または前記光軸と平行な光より若干外側に発散するかのいずれかとなるように、前記反射鏡および補助反射鏡を形成してなることを特徴とする投写用光源装置。
【請求項２】反射鏡を放物面鏡で形成し、補助反射鏡をリング状の球面鏡で形成し、前記反射鏡の焦点を発光源の発光中心から前記反射鏡側に若干ずれた位置に配置し、前記補助反射鏡の球面中心を、前記反射鏡の焦点と前記発光源の発光中心との中点の位置と、前記中点から前記反射鏡側に若干ずれた位置とのいずれか一方に配置してなる請求項１記載の投写用光源装置。」
（ｃ２）「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、発光源から出力した光を反射鏡で反射して被投写体（例えば液晶ライトバルブ）に照射することによって、被投写体の映像をスクリーンなどに投写する投写装置（例えば液晶プロジェクタ）に用いられる光源装置の改良に関する
ものである。」
（ｃ３）「【０００７】しかしながら、図６に示した提案例では、反射鏡５０の焦点を発光源１０の発光中心１１から反射鏡５０側に若干ずれた位置に配置するとともに、補助反射鏡５６の球面中心を発光源１０の発光中心１１の位置に一致させることによって、発光源１０から反射鏡５０側に出力した光が反射鏡５０で反射して液晶ライトバルブ２６に照射する光５１、５１の輝度分布（すなわち第１の照射光の輝度分布）と、発光源１０から液晶ライトバルブ２６側に出力した光が補助反射鏡５６で反射し、反射鏡５０で反射して液晶ライトバルブ２６に照射する斜線部５３の光の輝度分布（すなわち第２の照射光の輝度分布）とが一致していたので、液晶ライトバルブ２６の照射面の光量分布が図７に示したようになり、周辺光量比が低下するという若干の問題点があった、
【０００８】すなわち、中央部の輝度Ｋｃに対する周辺部の輝度Ｋｈの割合である周辺光量比（（Ｋｈ／Ｋｃ）×１００）が低くなる（例えば１０％以下になる）という問題点があった。周辺光量比が低下するとともに光の利用率の低下を招くという若干の問題点もあった。本発明は上述の問題点に鑑みなされたもので、光の利用率を向上させることができ、しかも、周辺光量比を改善させることのできる投写用光源装置を提供することを目的とするものである。」
（ｃ４）「【００１０】
【作用】発光源から反射鏡側に出力した光は、反射鏡で反射し第１の照射光として被投写体に照射する。発光源から被投写体側に出力した光のうち直接被投写体を照射しない光は、リング状の補助反射鏡で反射して一旦反射鏡側に戻り、ついで反射鏡で反射し第２の照射光として被投写体に照射する。このとき、第１、第２照射光の一方が光軸と平行な光より若干内側に集光し（収束し）、他方が光軸と平行な光か、または光軸と平行な光より若干外側に発散するように、反射鏡および補助反射鏡が形成されているので、第１、第２照射光が一致していた提案例に比べて、被投写体の照射面の中央部に照射する光の輝度が緩和され、かつ被投写体の照射面の周辺部に照射する光の輝度が強くなり、結果として周辺光量比が大きくなる。」
（ｃ５）「【００１９】前記実施例では、補助反射鏡の球面中心Ｏを、発光源の発光中心１１と反射鏡の焦点Ｆの中点Ｍより若干反射鏡側にずらした位置に配置して、第２照射光６３、６３を光軸１３と平行な光より若干外側に発散させるようにしたが、本発明はこれに限るものでなく、補助反射鏡の球面中心Ｏを、発光源の発光中心１１と反射鏡の焦点Ｆの中点Ｍの位置に配置して、第２照射光６３、６３を光軸１３と平行な光としてもよい。
【００２０】前記実施例では、発光源から出力した光が直接反射鏡で反射して被投写体に照射する第１照射光と、発光源から出力した光が補助反射鏡を介してから反射鏡で反射して被投写体に照射する第２照射光について、第１照射光を光軸と平行な光より若干内側に集光させ、第２照射光を光軸と平行にするか、または光軸と平行な光より若干外側に発散させるようにしたが、本発明はこれに限るものでなく、第１、第２照射光の一方を光軸と平行な光より若干内側に集光させ、他方を光軸と平行にさせるか、または光軸と平行な光より若干外側に発散させるものであればよい。
【００２１】例えば、図３に示すように、第１照射光を光軸と平行な光と平行または若干外側に発散させ、第２照射光を光軸と平行な光より若干内側に集光させるようにしてもよい。すなわち、放物面鏡で形成された反射鏡６０ａは、その焦点Ｆａを発光源１０ａの発光中心１１ａから液晶ライトバルブ２６側に若干ずれた位置に配置し、補助反射鏡６６ａの球面中心Ｏａを、反射鏡６０ａの焦点Ｆａと発光源１０ａの発光中心１１ａとの中点Ｍａから液晶ライトバルブ２６側に若干ずれた位置に配置して、実線矢印で示すように、第１照射光６１ａ、６１ａを光軸１３と平行な光より若干外側に発散させ、点線矢印で示すように、第２照射光６３ａ、６３ａを光軸１３と平行な光より若干内側に集光させるようにしてもよい。
【００２２】なお、図３において、反射鏡６０ａの焦点Ｆａを発光源１０ａの発光中心１１ａの位置に配置して第１照射光６１ａ、６１ａを光軸１３と平行な光としてもよい。この場合、補助反射鏡６６ａは、その球面中心Ｏａを発光源１０ａの発光中心１１ａより液晶ライトバルブ２６側に若干ずれた位置に配置して、第２照射光６３ａ、６３ａを光軸１３と平行な光より若干内側に集光させる。また、図３において、１５ａ、１５ａは発光源１０ａの電極を表わす。」
（ｃ６）「【００２３】前記実施例では、反射鏡を放物面鏡で形成し、補助反射鏡を球面鏡で形成したが、本発明はこれに限るものでなく、発光源から出力した光が直接反射鏡で反射して被投写体に照射する第１照射光と、発光源から出力した光が補助反射鏡を介してから反射鏡で反射して被投写体に照射する第２照射光とのうち、一方が光軸と平行な光より若干内側に集光し、他方が光軸と平行になるか、または光軸と平行な光より若干外側に発散するかのいずれかとなるように、形成されたものであればよい。
【００２４】例えば、反射鏡を楕円放物面鏡（反射面を光軸に垂直な平面で断面したときの端面形状が楕円となるもの）や光軸方向に離心率の大きい楕円面鏡で形成し、補助反射面をリング状の楕円面鏡で形成するようにしてもよい。つぎに、補助反射面をリング状の楕円面鏡で形成する場合について考察する。すなわち、図４に示すように、中心Ｏｂ、長軸Ａ、短軸Ｂ、第１、第２焦点Ｆ1、Ｆ2の楕円Ｄの長軸Ａを光軸１３に一致させるとともに、光軸１３の回りに回転させて回転楕円面を形成し、この回転楕円面の一部をリング状に切り取った形状の反射面をもつ補助反射鏡６６ｂを形成する。
【００２５】そして、第１焦点Ｆ1の位置に発光源の発光中心を一致させ、第２焦点Ｆ2の位置に放物面鏡に形成された反射鏡１０ｂの焦点を一致させて配置すると、発光源から出力した光７０は、実線矢印で示すように、補助反射鏡６６ｂで反射し、ついで第２焦点Ｆ2を通って反射鏡１０ｂに入力するので、反射鏡１０ｂで反射して被投写体側に照射する照射光７３は、光軸１３に平行な光となる。
【００２６】このため、第２焦点Ｆ2を反射鏡１０ｂの焦点より反射鏡１０ｂ側に若干ずらした位置に配置した場合には、照射光７３は光軸１３に平行な光より若干外側に発散し、逆に第２焦点Ｆ2を反射鏡１０ｂの焦点より被投写体側に若干ずらした位置に配置した場合には、照射光７３は光軸１３に平行な光より若干内側に集光する。このような性質を利用して第１、第２照射光の一方を光軸と平行な光より若干内側に集光させ、他方を光軸と平行にさせるか、または光軸と平行な光より若干外側に発散させるようにすればよい。」
　
　上記甲第４号証の記載事項及び添付図面に記載された事項並びに当業者の技術常識を総合すると、甲第４号証には、次の発明が記載されているものと認められる。
　「光軸に沿って反射鏡、発光源および被投写体を配置し、前記発光源から出力した光を前記反射鏡で反射して前記被投写体に照射するようにした投写用光源装置において、前記反射鏡の開口端の外周側にほぼリング状の補助反射鏡を設け、この補助反射鏡は、前記発光源から前記被投写体側に出力して前記被投写体外を照射する光を、前記反射鏡を介して前記被投写体に照射する形状に形成され、前記発光源から出力した光が直接前記反射鏡で反射して前記被投写体に照射する第１の照射光と、前記発光源から出力した光が前記補助反射鏡を介してから前記反射鏡で反射して前記被投写体に照射する第２の照射光とのうち、
　反射鏡の焦点を発光源の発光中心の位置に配置して第１照射光とし、補助反射鏡は、その球面中心を発光源の発光中心より前記被投写体側に若干ずれた位置に配置して、
　一方が前記光軸と平行な光より若干内側に集光し、他方が前記光軸と平行になるか、または前記光軸と平行な光より若干外側に発散するかのいずれかとなるように、前記反射鏡および補助反射鏡を形成してなる投写用光源装置。」（以下、これを「甲４発明」という。）
　
（ロ）対比・判断
　本件訂正発明１と甲２発明の一致点・相違点は、上記「２．無効理由２について」の「（２）」に記載したとおりである。
　
　請求人の主張する無効理由３は、いずれも、甲第２号証に記載の発明を出発点とした主張である（口頭審理調書参照）から、甲２発明に甲４発明を適用することにより、上記相違点に係る構成を充足できるか否かについて検討する。
　
　甲４発明は「一方が前記光軸と平行な光より若干内側に集光し、他方が前記光軸と平行になるか、または前記光軸と平行な光より若干外側に発散するかのいずれかとなるように」することを前提とし、そのために「反射鏡の焦点を発光源の発光中心の位置に配置して第１照射光とし、補助反射鏡は、その球面中心を発光源の発光中心より前記被投写体側に若干ずれた位置に配置し」たものである。
　すなわち、甲４発明において、「一方が前記光軸と平行な光より若干内側に集光し、他方が前記光軸と平行になるか、または前記光軸と平行な光より若干外側に発散するかのいずれかとなるように」することは必須のものであることがわかる。このことは、甲第４号証の各記載（上記摘記事項（Ｃ６）の段落【００２３】等参照）からも明らかである。
　これに対して、甲２発明は「プラズマ光源から出射されたＥＵＶ光を集光する」ことを前提とするものであって、略半球型の反射鏡（補助集光ミラー）によって反射されたＥＵＶ光も、回転楕円面の反射鏡（集光ミラー）を介して集光するものである。
　このことを考慮すれば、甲４発明の反射鏡と補助反射鏡をそのまま甲２発明に適用することはできず、結局上記相違点に係る構成を充足することはできない。
　くわえて、上記「２．無効理由２について」の「（３）」に記載したとおり、甲２発明は、略半球型の反射鏡の球心をプラズマ光源の位置からずらして配置することを排除するものであるから、たとえ甲４発明が「略半球型の反射鏡の球心をプラズマ光源の位置からずらして配置する」という構成を有するものであっても、甲２発明に甲４発明を適用することには、阻害要因があるといわざるを得ない。
　
（ハ）結論
　してみると、本件訂正発明１は甲第２号証及び甲第４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることは出来ない。
　
その（２）
（イ）甲第６号証に記載された発明
　
　本件の特許出願前に頒布された刊行物である甲第６号証には、次の事項が記載されている。なお、訳は請求人の提出したものによる。
　
（ｄ１）「This invention relates to improvements in light collection systems providing light beams for projectors, such as light valve projectors.」（第１欄５〜８行）
（訳）「本発明は、光弁プロジェクタなどのプロジェクタ用の光束を提供する集光システムの改良に関する。」
（ｄ２）「 Lamp 50 may typically be a high pressure xenon lamp with a 1,000 watt rating as provided by Conrad Hanovia or Optical Radiation Corp.」（第６欄１〜４行）
（訳）「ランプ５０は通常、コンラッド・ハノヴィア社あるいはオプティカル・ラディエーション社から供給されているような定格１，０００ワットの高圧キセノンランプである。」
（ｄ３）「With reference to FIGS. 3 and 4, it will be seen that ellipsoidal reflector 60 is formed as a full, uninterrupted surface of revolution and has a central opening 60a to slip over lamp 50.」（第６欄１６〜１９行）
（訳）「第３図及び４を参照して、楕円反射鏡６０は、完全で連続した回転楕円面として形成され、ランプ５０を覆うための中央開口部６０を有するものであることが理解される。」
（ｄ４）「The compound reflector also includes a spherical reflector 64. As seen in FIGS. 2, 5 and 6, reflector 64 is formed as a full, uninterrupeted surface of revolution and includes a spherical reflecting surface forward of the arc gap 53 and positioned to collect light not collected by ellipsoidal reflector 60 and reflect this light back through gap 53 to ellipsoidal reflector 60.」（第６欄３１〜３７行）
（訳）「複合反射器はまた、球面反射鏡６４を含む。図２、５及び６に示されているように、反射鏡６４は、完全で連続した回転面として形成され、アークギャップ５３の直前にある球面の反射面を含み、楕円面を有する反射鏡６０によって集光されなかった光を集光し、この光をギャップ５３を通過させて楕円反射鏡６０へ戻すように、配置されている。」
（ｄ５）「Referring to FIG. 11, which shows an enlarged schematic view of the gap 53 between anode 51 and cathode 52 of arc lamp 50, it will be seen that the plasma or hottest part 93 of the arc 92 is concentrated adjacent cathode 52; the gap is approximately 4 mm. long, and the hottest part of the arc 93 is located 0.5 mm. to 1 mm. from the cathode end of the gap. Because the lamp is most brilliant at the plasma 93 of arc 92, the adjacent focus 94 of the ellipsoidal reflector is centered here. 」（第７欄１〜９行）
（訳）「アークランプ５０のアノード５１とカソード５２との間にあるギャップ５３の拡大概略図を示す図１１を参照して、プラズマあるいはアーク９２の最も高温の部分９３は、カソード５２に隣接した位置に集中され、ギャップの長さは約４ｍｍであり、アーク９２の最も高温の部分９３はギャップのカソード末端から０．５ｍｍ〜１ｍｍの位置に配置されていると理解される。ランプはアーク９２のプラズマの位置において最も明るいことから、楕円反射鏡６０の隣接する焦点９４はここを中心とする。」
（ｄ６）「However, the inventors have observed that the plasma 93 of the arc is not fully transparent. When spherical reflector 64 is positioned to reflect light from arc 92 back through the plasma of the arc, there is an 80 percent transmission loss. This loss is avoided, according to the invention, by positioning spherical reflector 64 with its center of curvature 96 displaced from focus 94 within arc 92 to a position closer to anode 51 which is relatively free of the arc.」（第７欄１０〜１８行）
（訳）「しかしながら、本発明者らは、アークのプラズマ９３は完全に透過性ではないことを見出した。球面の反射面を有する反射鏡６４を、アーク９２からの光がアークのプラズマを通過して戻るように配置すると、８０％の透過損失が生じる。本発明によれば、球面の反射面を有する反射鏡６４を、その曲率９６の中心をアーク９２内の焦点９４からずらして、比較的アークの無いアノード５１付近に配置することにより、この損失が回避される。」
　
　上記甲第６号証の記載事項及び添付図面に記載された事項並びに当業者の技術常識を総合すると、甲第６号証には、次の発明が記載されているものと認められる。
　「プラズマを用いたアークランプと、
　アークランプの光を集光する楕円反射鏡と、
　楕円反射鏡によって集光されなかった光を集光し、この光をアークギャップを通過させて楕円反射鏡へ戻すように配置されている球面反射鏡を有し、
　球面反射鏡を、その曲率の中心をアーク内の焦点からずらして、比較的アークのないアノード付近に配置した、集光システム。」（以下、これを「甲６発明」という。）
　
（ロ）対比・判断
　本件訂正発明１と甲２発明の一致点・相違点は、上記「２．無効理由２について」の「（２）」に記載したとおりである。
　
　請求人の主張する無効理由３は、上記のとおり、いずれも、甲第２号証に記載の発明を出発点とした主張であるから、甲２発明に甲６発明を適用することにより、上記相違点に係る構成を充足できるか否かについて検討する。
　
　甲６発明は「アークのプラズマが完全に透過性でないことにより、光がアークのプラズマを通過すると透過損失を生じる」という知見（上記摘記事項（ｄ６）参照）に基き、楕円反射鏡によって集光されなかった光を楕円反射鏡へ戻す際に、その光がアークのプラズマを通過しないように、球面反射鏡の曲率の中心をアーク内の焦点からずらしたものである。
　つまり、甲６発明はプラズマ光源として、所定のギャップを有する電極間にアーク放電を発生させる（上記摘記事項（ｄ５）参照）ものを前提としたものである。
　これに対して、甲２発明のプラズマ光源は、ＥＵＶ光を放出するプラズマ光源を前提としたものであって、そのような光源はよく知られたとおり（訂正明細書段落【００４６】参照）レーザー光をターゲットに集光させる等の方法によりプラズマを発生させるものである。
　すなわち、甲２発明と甲６発明のプラズマ光源は、その発生原理が異なり、それに伴って、両者のプラズマ光源の有する技術的意味が異なる。
　そうであるから、甲６発明のアークのプラズマに関する技術をそのまま甲２発明に用いることは出来ない。
　また、甲２発明には、甲６発明が前提とする上記のような知見に基づく課題は存在せず、甲６発明の楕円反射鏡と球面反射鏡を甲２発明に適用する動機付けが存在しない。
　したがって、甲６発明によって上記相違点に係る構成を充足することは出来ない。
　くわえて、上記「２．無効理由２について」の「（３）」に記載したとおり、甲２発明は、略半球型の反射鏡の球心をプラズマ光源の位置からずらして配置することを排除するものであるから、たとえ甲６発明が「球面反射鏡を、その曲率の中心をアーク内の焦点からずらして配置した」という構成を有するものであっても、甲２発明に甲６発明を適用することには、阻害要因があるといわざるを得ない。
　
（ハ）結論
　してみると、本件訂正発明１は甲第２号証及び甲第６号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることは出来ない。
　
その（３）
（イ）甲第７号証に記載された発明
　
　本件の特許出願前に頒布された刊行物である甲第７号証には、次の事項が記載されている。なお、訳は請求人の提出したものによる。
　
（ｅ１）「The invention is in the field of light collecting reflectors for use with sources of light, the reflectors being adapted to direct light from a light source as a directional light beam.」（第１欄６〜９行）
（訳）「本発明は、光源とともに使用するための集光反射器、光源からの光を指向性光束として方向付けするように構成された反射器の技術分野に属する。」
（ｅ２）「The most common reflectors in use today, particularly in the stage lighting and projection fields, utilize a reflecting surface which is a portion of an ellipse.」（第１欄１３〜１５行）
（訳）「今日最も一般的に、特にステージライトやプロジェクタ分野で使用される反射器は、楕円形の一部である反射表面を利用している。」
（ｅ３）「It was a principal objective of the invention to provide a light collecting reflector which produces an improved, substantially uniform, light distribution over the cross-section of a projected light beam, to provide a light collecting reflector with improved light collection efficiency, and to achieve these objectives with a reflector economical enough to replace the standard ellipsoidal reflector in a majority of applications..」（第１欄４５〜５２行）
（訳）「本発明の主たる目的は、改善された、実質的に均一な光分布を、投写される光束の断面に渡って生成する集光反射器を提供し、集光効率の改善された集光反射器を提供し、主要な用途において標準的な楕円反射器を代替するに十分な経済性を備える反射器をもって、これらの目的を達成することにあった。」
（ｅ４）「FIG. 1 is a schematic representation of a section of a preferred stage spotlight incorporating the light-collecting reflector of the invention and showing the light source and its associated supporting socket in elevation.」（第２欄２２〜２５行）
（訳）「図１は、本発明による集光反射器を導入した好ましいステージ用スポットライトの断面概略図であって、光源と、上昇した状態での関連するその支持ソケットとを示している。」
（ｅ５）「The main reflector 12 has a central reflecting surface 12a which is parabolic in shape and an outer reflecting surface 12b peripherally surrounding the central reflecting surface and ellipsoidal in shape.」（第２欄６０〜６３行）
（訳）「主反射鏡１２は、放物線状の中央反射面１２ａと、この中央反射面の周囲を取り囲む楕円形状の外側反射面１２ｂとを備えている。」
（ｅ６）「The ideal light source for a system of this type is a point source located at the focus of the ellipse.」（第４欄１〜２行）
（訳）「この種のシステムに理想的な光源は、楕円の焦点に置かれた点光源である。」
（ｅ７）「While the pure ellipsoidal reflector tends to produce a light beam which is much brighter at its center than at other parts thereof, the reflector of the present invention gives a fairly uniform distribution of light intensity over the entire light beam.」（第４欄５５〜５９行）
（訳）「純粋な楕円形の反射器は、他の部分に比べてその中心においてはるかに明るい光束を生成する傾向があるが、本発明による反射器は、光束の全体に渡って比較的均一な光の強度分布を与える。」
（ｅ８）「The secondary reflector 13 has a composite arcuate reflecting surface 13a, in that it is made up of an infinite number of arcs, as at 13b and 13c, each having a radius emanating from a center, as at 13b' and 13c', located on a circle having its center on the central axis of the main reflector 12. Thus, the arcs 13b and 13c have radii 31 and 32, respectively.」（第４欄６７行〜第５欄５行）
（訳）「二次反射鏡１３は、複合弧状反射面１３ａを有し、その中心が主反射鏡１２の中心軸上にある円上に配置された中心１３ｂ’、１３ｃ’などから各々半径３１、３２を有する弧１３ｂ、１３ｃなど無数の弧からなる。かくして、弧１３ｂ及び１３ｃは、それぞれ半径３１及び３２を有する。」
（ｅ９）「It is preferred that the reflected light not pass through the foci, or through a point on the central axis along the length of the filament as would happen if the secondary reflector were a portion of a sphere with its center being on the central axis along the length of the filament, because such light, when reflected, returns to the filament of the light source and tends to cause localized heating of parts of the filament, shortening filament life. With the center for each arc being away from the foci and away from the central axis, the additional heating of the filament is minimized while still maintaining a high degree of collection efficiency.」（第５欄８〜２０行）
（訳）「補助反射鏡１３が球面の一部であって、その球心が光源のフィラメントの長さ方向の中心軸上にある場合に起きうるように、補助反射鏡１３で反射された光は焦点あるいはフィラメントの長さ方向の中心軸を通過することになるようにしないのが好ましく、その理由は、光が、そのように反射されると、光源のフィラメントへ戻り、フィラメントの当該部分が局所的に加熱される原因となる傾向があり、フィラメントの寿命を縮めてしまうからである。上記弧の中心が焦点及び中心軸からずらされていれば、フィラメントのさらなる加熱を最小限にする一方、高い集光効率を維持することができる。」
　
　上記甲第７号証の記載事項及び添付図面に記載された事項並びに当業者の技術常識を総合すると、甲第７号証には、次の発明が記載されているものと認められる。
　「フィラメントを有する光源と、
　放物線状の中央反射面とこの中央反射面の周囲を取り囲む楕円形状の外側反射面とを備えている主反射鏡と、
　球面の一部である補助反射鏡を有し、
　補助反射鏡の球心が、補助反射鏡で反射された光が焦点あるいはフィラメントの長さ方向の中心軸を通過しないように、焦点及び中心軸からずらされている、ライト。」（以下、これを「甲７発明」という。）
　
（ロ）対比・判断
　本件訂正発明１と甲２発明の一致点・相違点は、上記「２．無効理由２について」の「（２）」に記載したとおりである。
　
　請求人の主張する無効理由３は、上記のとおり、いずれも、甲第２号証に記載の発明を出発点とした主張であるから、甲２発明に甲７発明を適用することにより、上記相違点に係る構成を充足できるか否かについて検討する。
　
　甲７発明は「補助反射鏡で反射された光が焦点あるいはフィラメントの長さ方向の中心軸を通過するように反射されると、フィラメントの当該部分が局所的に加熱され、フィラメントの寿命を縮めてしまう」という知見（上記摘記事項（ｅ９）参照）に基き、補助反射鏡の球心を、焦点及び中心軸からずらして配置するものである。
　すなわち、甲７発明は光源としフィラメントを有する光源を用いることを前提とした発明である。
　これに対して、甲２発明は、ＥＵＶ光を放出するプラズマ光源を前提としたものであるから、フィラメントを有する光源を前提とする甲７発明をそのまま甲２発明に適用することはできない。
　さらに、甲２発明には、甲７発明が前提とする上記のような知見に基づく課題は存在せず、甲７発明を甲２発明に適用する動機付けが存在しない。
　したがって、甲７発明によって上記相違点に係る構成を充足することはできない。
　くわえて、上記「２．無効理由２について」の「（３）」に記載したとおり、甲２発明光源の加熱を促進するためのものであるのに対して、甲７発明は光源の加熱を避けるためのものであるから、甲２発明に甲７発明を適用することには、阻害要因があるといわざるを得ない。
　
（ハ）結論
　してみると、本件訂正発明１は甲第２号証及び甲第７号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることは出来ない。
　
その（４）本件訂正発明２〜４及び８〜１０について
　本件訂正発明２〜４及び８〜１０は、いずれも本件訂正発明１を直接又は間接に引用する発明である。
　そして、上記のとおり、本件訂正発明１は甲第２号証及び甲第７号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではないから、本件訂正発明２〜４及び８〜１０も、同様の理由により、甲第２号証及び甲第７号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることは出来ない。
　
小括
　以上のとおりであるから、請求人の主張する無効理由３によっては、本件特許を無効とすることはできない。
　
４．無効理由４について
　請求人の主張する無効理由４は、要するに、訂正後の請求項１の「該反射したＥＵＶ光が前記プラズマ光源のプラズマによって吸収されることを避けるよう、球心が該プラズマ光源の位置からずらされて配置された」の記載に関連して、補助集光ミラーの球心が、プラズマ光源の位置からどの程度ずらされているかについて、その程度が不明確であるから、本件訂正発明１は明確でない、というものである（審判事件弁駁書参照）。
　これについて検討する。
　本件訂正発明１は、「プラズマから発生した光は、そのプラズマによる吸収が大きい」（訂正明細書段落【００１３】参照）という知見に基き、補助集光ミラーで反射されたＥＵＶ光がプラズマに吸収されないように（同【００１６】）、補助集光ミラーの球心の位置をずらしたものである。
　装置の構造や大きさ等の条件によってその大きさが異なるとしても、プラズマ光源が所定の大きさを有することは当業者にとって自明の事項である。そして、本件訂正発明１において、補助集光ミラーで反射されたＥＵＶ光が、その所定の大きさを有するプラズマ光源領域を避ける構成であることは、上記知見及び本件訂正発明１の目的に鑑みて明らかである。
　訂正後の請求項１の「該反射したＥＵＶ光が前記プラズマ光源のプラズマによって吸収されることを避けるよう、球心が該プラズマ光源の位置からずらされて配置された」の記載は、まさにその構成を記載したものであって、プラズマ光源の大きさは、具体的な装置の構造や大きさ等の条件に基いて当業者が装置ごとに特定できるものであるから、当業者であれば、補助集光ミラーの球心を、プラズマ光源の位置からどの程度ずらすかは、明確に特定できる。
　してみると、本件訂正発明１は明確である。
　よって、請求人の主張する無効理由４によっては、本件特許を無効とすることはできない。
　
５．無効理由５について
　請求人の主張する無効理由５は、要するに、訂正後の請求項５の「Ｒ＞（ｔ×ｃ）／２」について、ｔがどのような長さであっても、Ｒがどのような大きさになったとしても上記式を満足する場合には必ず課題を解決しうるのか、本件出願時の技術常識に照らしても明らかでないから、本件訂正発明５は、訂正明細書の発明の詳細な説明に記載したものではない、というものである（審判請求書参照）。
　これについて検討する。
　訂正明細書の段落【００２５】には、以下の記載がある。
「【００２５】
請求項５記載の集光光学系によれば、前記第１の焦点の位置にプラズマ光源を置くと、該プラズマ光源から該補助集光ミラーまでの往復距離が、該プラズマ光源のパルス光の持続時間（ｔ）と光速（ｃ）の積からなる距離（ｔ×ｃ）よりも長くなるので該補助集光ミラー２で反射したEUV光が該プラズマ光源の位置へ戻ってきたときには、既にプラズマは消滅して、EUV光がプラズマによって吸収されることはない。」
　当該記載は、本件出願時の技術常識に照らして妥当な程度のものであれば、ｔがどのような長さであっても、またＲがどのような大きさでも、上記式を満足する場合には補助集光ミラーで反射したEUV光がプラズマ光源の位置へ戻ってきたときには、既にプラズマは消滅していることとなり、EUV光がプラズマによって吸収されることはないことを示している。
　すなわち、ｔがどのような長さであっても、Ｒがどのような大きさになったとしても上記式を満足する場合には必ず課題を解決しうることが、訂正明細書の発明の詳細な説明に記載されている。
　してみると、本件訂正発明５は、訂正明細書の発明の詳細な説明に記載したものである。
　よって、請求人の主張する無効理由５によっては、本件特許を無効とすることはできない。
　
６．無効理由６について
　請求人の主張する無効理由６は、要するに、
（１）本件訂正発明１の「反射したＥＵＶ光が前記プラズマ光源のプラズマによって吸収されることを避けるよう、球心が該プラズマ光源の位置からずらされて配置された該補助集光ミラー」に関して、訂正明細書には、ＥＵＶ光がプラズマによって吸収されることを避けることができたか否かの判断手法も、基準も記載されていないから、訂正明細書の発明の詳細な説明の記載は、当業者が本件訂正発明１の実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載したものではない（審判事件弁駁書参照）。
（２）本件訂正発明５の「該プラズマ光源のパルス光の持続時間をｔとし」に関して、訂正明細書の発明の詳細な説明の記載は、当業者が本件訂正発明５の実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載したものではない（口頭審理調書参照）。
というものである。
　これらについて検討する。
（１）プラズマ光源が所定の大きさを有することは、当業者にとって自明の事項であることは、上記「４．無効理由４について」で述べたとおりである。そして、当業者であれば、プラズマ光源の大きさを特定できることも上記のとおりである。してみれば、当業者であれば、「反射したＥＵＶ光が前記プラズマ光源のプラズマによって吸収されることを避ける」ために補助集光ミラーの球心を、プラズマ光源の位置からどの程度ずらすかを容易に見いだすことができる。
　くわえて、訂正明細書の発明の詳細な説明（段落【００３４】〜【００３６】参照）には、本件訂正発明１に対応する実施例１として「プラズマ光源のサイズ（直径）約５００μm」のものに対して「補助集光ミラーの球心をプラズマ光源の位置よりも光軸に対して垂直方向に±０．２５mmだけ各々ずれるよう傾けて配置」したものが開示されている。
　これらのことから、訂正明細書の発明の詳細な説明の記載は、当業者が本件訂正発明１の実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載したものであるといえる。
（２）上記「５．無効理由５について」で述べたとおり、本件出願時の技術常識に照らして妥当な程度のものであれば、ｔがどのような長さであっても、またＲがどのような大きさでも、本件訂正発明５は実施可能である。
　くわえて、訂正明細書の発明の詳細な説明段落【００４２参照）には、本件訂正発明５に対応する実施例２として「プラズマ光源のパルス光の持続時間ｔを２nsとした」ものが開示されている。
　これらのことから、訂正明細書の発明の詳細な説明の記載は、当業者が本件訂正発明５の実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載したものであるといえる。
　よって、請求人の主張する無効理由６によっては、本件特許を無効とすることはできない。
　
第６　むすび
　
　以上のとおり、請求人の主張した無効理由及び証拠方法によっては、本件特許を無効とすることができない。 
　 
　審判に関する費用については、特許法第１６９条第２項の規定において準用する民事訴訟法第６１条の規定により、請求人が負担すべきものとする。
　
　
　よって、結論のとおり審決する。