Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月18日(2006.7.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ａ) 可溶性デンプンシンターゼIIIの機能をもつ蛋白質をコードする少なくとも１つのヌクレオチド配列または該ヌクレオチド配列のフラグメント、および
ｂ) 分枝酵素の機能を有する蛋白質をコードする１つ以上のヌクレオチド配列またはそのフラグメント、
が植物細胞のゲノムに同時にまたは連続的に組み込まれ、該ヌクレオチド配列が内因性可溶性デンプンシンターゼIIIおよび内因性分枝酵素の合成を阻害する、遺伝子導入植物細胞の製造方法。
【請求項２】  ａ）可溶性デンプンシンターゼIIIの機能をもつ蛋白質をコードする少なくとも１つのヌクレオチド配列または該ヌクレオチド配列のフラグメント、および
ｂ) 分枝酵素の機能を有する蛋白質をコードする１つ以上のヌクレオチド配列またはそのフラグメント、
を含み、該ヌクレオチド配列が内因性可溶性デンプンシンターゼIIIおよび内因性分枝酵素の合成を阻害する、遺伝子導入植物細胞。
【請求項３】  ａ) 可溶性デンプンシンターゼIIIの機能をもつ蛋白質をコードする少なくとも１つのヌクレオチド配列または該ヌクレオチド配列のフラグメント、および
ｂ) 分枝酵素の機能を有する蛋白質をコードする１つ以上のヌクレオチド配列またはそのフラグメント、
を含むリコンビナント核酸分子。
【請求項４】  分子がデオキシリボ核酸分子である請求項３に記載の核酸分子。
【請求項５】  分子がｃＤＮＡ分子である請求項４に記載の核酸分子。
【請求項６】  分子がリボ核酸分子である請求項３に記載の核酸分子。
【請求項７】  請求項３〜６のいずれかに記載の核酸分子を含むベクター。
【請求項８】  請求項３〜６のいずれかに記載の核酸分子を含むベクターであって、可溶性デンプンシンターゼの機能を有する蛋白質をコードするヌクレオチド配列またはそのフラグメントがセンス方向またはアンチセンス方向で存在するベクター。
【請求項９】  請求項３〜６のいずれかに記載の核酸分子を含むベクターであって、分枝酵素の機能を有する１つ以上の蛋白質をコードするヌクレオチド配列またはそのフラグメントがセンス方向またはアンチセンス方向で存在するベクター。
【請求項１０】  請求項３〜６のいずれかに記載の核酸分子を含むベクターであって
、該核酸分子が、真核細胞でのＲＮＡの転写および合成を確実にする１つ以上の調節エレメントに連結されるベクター。
【請求項１１】  請求項１に記載の方法であって、請求項３〜６のいずれかに記載の１つ以上の核酸分子、または請求項７〜１０のいずれかに記載の１つ以上のベクターが植物細胞ゲノムに組み込まれる方法。
【請求項１２】  請求項２に記載の遺伝子導入植物細胞であって、該植物細胞が、請求項３〜６のいずれかに記載の１つ以上の核酸分子、または請求項７〜１０のいずれかに記載の１つ以上のベクターを含む植物細胞。
【請求項１３】  改質デンプンを合成する遺伝子導入植物の作出方法であって、完全な植物が請求項２または１２に記載の植物細胞から再生される方法。
【請求項１４】  請求項２または１２に記載の１つ以上の細胞を含む植物。
【請求項１５】  植物がデンプン貯蔵性植物である請求項１４に記載の植物。
【請求項１６】  植物が、コムギ、トウモロコシまたはイネである請求項１５に記載の植物。
【請求項１７】  植物がジャガイモである請求項１４に記載の植物。
【請求項１８】  請求項１４〜１７のいずれかに記載の植物の増殖用材料。
【請求項１９】  請求項２または１２に記載の細胞、請求項１４〜１７のいずれかに記載の植物、または請求項１８に記載の増殖用材料からデンプンを得る、デンプンの製造方法。
【請求項２０】  請求項２または１２に記載の細胞、請求項１４〜１７のいずれかに記載の植物、または請求項１８に記載の増殖用材料から得られたデンプン。
【請求項２１】  非形質転換細胞または植物から得られたデンプンと比較して、その燐酸含有量が少なくとも３０％増加している、請求項２０に記載のデンプン。
【請求項２２】  工業、好ましくは食品、包装材料または使い捨て物品の製造工業における請求項２０または２１に記載のデンプンの使用。
【請求項２３】  請求項２または１２に記載の細胞、請求項１４〜１７のいずれかに記載の植物、または請求項１８に記載の増殖用材料のデンプン製造のための使用。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月3日(2006.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  真菌病原体によって引き起こされる疾患に対するＰｉ−ｔａ抵抗性遺伝子仲介防御応答を付与する単離核酸フラグメントであり、上記核酸フラグメントは配列番号：１もしくは６８に示すヌクレオチド配列またはその機能的に均等なサブフラグメントに実質的に相当する核酸フラグメント。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月30日(2006.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベース、エミッタとコレクタを含むバイポーラトランジスタを有する半導体基体を有する半導体デバイスを製造する方法であって、
当該ベースを、単結晶であってかつ前記トランジスタの前記ベースを構成する、第一半導体領域を形成する前記半導体基体の単結晶部分に局所的に接する、不純物が添加された半導電性層を前記半導体基体に設けることにより、形成し、そして
それが、単結晶ではなくかつ前記ベースの接続領域を構成する第二半導体領域を形成する前記半導体基体の非単結晶部分に、その半導電層が、当該ベースの外側で接し、
前記半導体基体の前記非単結晶部分が、前記半導体基体をマスクでおおい、かつこれのいずれかの側で、前記半導体基体の一部分を電気絶縁領域により置換し、そして前記半導電性層の形成前に、多結晶半導電性層を前記電気絶縁領域に設けることにより得られる、半導体デバイスを製造する方法において、
前記電気絶縁領域の形成に前記マスクを使用して、前記多結晶層を、前記電気絶縁領域に選択的に設けることを特徴とする半導体デバイスを製造する方法。
【請求項２】
前記多結晶半導電性層を、前記マスクおよび前記電気絶縁領域の上に設け、そして前記マスクが前記多結晶半導電性層に埋設された状態で、得られた前記構造を化学機械的研摩によって平坦化し、次いで、前記多結晶半導電性層を、前記マスクが再露出されるまで除去することを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項３】
前記多結晶半導電性層をエッチングすることによって、前記マスクを再露出させることを特徴とする請求項2に記載の方法。
【請求項４】
前記電気絶縁領域を、前記マスクの何れかの側で前記半導体基体内に溝を作り、前記溝内および前記マスク上に電気絶縁層を設け、その後、電気絶縁層を前記溝および前記マスクに設けることにより形成し、そして前記マスクが前記電気絶縁層に埋設されている状態で、前記得られた構造を、化学機械的研摩によって平坦化し、次いで、前記電気絶縁層を、前記マスクが再露出されるまで除去し、その後、前記マスクを残したまま、前記得られた電気絶縁領域の一部を除去することを特徴とする請求項1、2または3に記載の方法。
【請求項5】
前記マスクを化学機械的研摩によって露出させ、そして前記マスクを残したまま、形成された前記電気絶縁領域の一部分をエッチングによって除去することを特徴とする請求項4に記載の方法。
【請求項６】
前記マスクを露出することと、形成された前記電気絶縁領域の一部分を前記マスクを残したまま除去することとの両方が、エッチングによって行われることを特徴とする請求項4に記載の方法。
【請求項７】
前記電気絶縁領域の形成後、かつ前記多結晶半導電性層の形成後、前記マスクを除去し、その後前記エミッタを、前記ベースの前記位置で、前記半導電性層の表面に形成することを特徴とする請求項１ないし６の何れか一項に記載の方法。
【請求項８】
二酸化けい素を前記電気絶縁領域の前記材料として使用し、そして窒化シリコンを前記マスクの前記材料として使用することを特徴とする請求項１ないし７の何れか一項に記載の方法。
【請求項９】
請求項１ないし８の何れか一項に記載の方法を使用して得られるバイポーラトランジスタを有する半導体デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月30日(2006.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  電気接点として構成される金属支持体、およびコンデンサー表面を構成し且つ支持体に取付けられる多孔性の焼結された物体よりなる、焼結された土酸金属粉末をベースとした電解コンデンサー用の陽極であって、支持物体が金属シートの形態に構成されることを特徴とする陽極。
【請求項２】  焼結された土酸金属粉末をベースとし且つ共通の電気接点を介して連結される電解コンデンサー用の複数の陽極であって、共通の電気接点が櫛のような構造の金属シートの形態に構成され、そしてコンデンサー電極表面を形成する焼結された物体が櫛の歯の上に焼結される陽極。
【請求項３】  ４０〜９２重量％の分離している相としての耐火性金属粉末、並びに炭素、酸素および水素だけから合成され、ここで酸素原子対炭素原子の数の比が少なくとも０.５である有機化合物より実質的になる連続的な相よりなり、そして場合により１５０℃より低い温度で蒸発する溶媒よりなる、焼結された耐火性金属層の製造のためのペースト。
【請求項４】  請求項３に記載のペーストを基質上に沈着させ、場合により存在する溶媒を溶媒の沸騰温度より低い温度において除去し、そして基質を引き続き高真空下で焼結温度に加熱し、ここで約２００〜約４００℃の温度範囲にわたる加熱を３Ｋ／分より低い加熱速度で行うことを特徴とする、焼結された耐火性金属層の製造方法。
【請求項５】  請求項３に記載のペーストを支持金属シート上に沈着させそして無圧焼結に付すことを特徴とする請求項１又は２に記載の陽極の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月19日(2006.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも１つの電極と放電媒体との間に誘電層を有する放電ランプ（Ｌ）のための作動方法であって、
電力供給された一次回路（Ｐ）と、放電ランプ（Ｌ）を有する二次回路（Ｓ）と並びに一次回路（Ｐ）を二次回路（Ｓ）に結合するトランス（Ｔ）とを有する前置回路装置を使用し、
二次回路（Ｓ）に、一次回路（Ｐ）からトランス（Ｔ）を介して電圧パルスが印加され、当該電圧パルスは、放電ランプ（Ｌ）に、点弧に作用する外部電圧（ＵＬ）を生じさせ、放電ランプ（Ｌ）内では内部反対極性を生じさせ、
前記外部電圧（ＵＬ）による点弧後に十分に早期な逆電圧パルスが一次回路（Ｐ）からトランス（Ｔ）を介して二次回路（Ｓ）へ印加されて、まだ放電ランプ（Ｌ）に印加されている前記外部電圧（ＵＬ）に作用する電荷が、放電ランプ（Ｌ）内の内部反対極性が逆点弧に導くまで除去される形式の作動方法において、
前記電圧パルスが阻止型変換器原理により一次回路（Ｐ）から二次回路（Ｓ）に印加され、前記逆電圧パルスが導通型変換器原理により一次回路（Ｐ）から二次回路（Ｓ）に印加される、
ことを特徴とする作動方法。
【請求項２】  前記内部反対極性による逆点弧後に、再び二次回路（Ｓ）へ電圧パルスを印加するまで、二次回路（Ｓ）から一次回路（Ｐ）への、逆点弧後に残留するエネルギーの逆流を可能にするために、一次回路側の電流の流れが、トランス（Ｔ）により更に許容される、請求項１記載の作動方法。
【請求項３】  前記逆電圧パルスは、外部電圧（ＵＬ）による点弧と逆点弧とが、パルス化された有効電力結合方法の統一された有効電力パルスとして作用するように早期に二次回路（Ｓ）へ印加される、請求項１および２のいずれか１項記載の作動方法。
【請求項４】  前記外部電圧（ＵＬ）による点弧と逆点弧との間の時間の間隔がパルス化された有効電力結合方法のデッドタイムとして作用するように、二次回路（Ｓ）の振動周波数を小さくし、逆電圧パルスは遅く二次回路（Ｓ）に印加される、請求項１乃至３のいずれか１項記載の作動方法。
【請求項５】  前記逆点弧により、前置回路装置のトランス（Ｔ）が減磁される、請求項１乃至４のいずれか１項記載の作動方法。
【請求項６】  電子的な前置回路装置は、前記一次回路（Ｐ）内のスイッチ（ＴＱ）によりクロックパルス制御される、請求項１乃至５のいずれか１項記載の作動方法。
【請求項７】  前記一次回路（Ｐ）はセラミック製の多層コンデンサ（ＣＱ）を有する電源から電力が供給される、請求項１乃至６のいずれか１項記載の作動方法。
【請求項８】  前記二次回路（Ｓ）内で、基準電位としてのトランス（Ｔ）の中央タップが使用されている、請求項１乃至７のいずれか１項記載の作動方法。
【請求項９】  前置回路装置は、放電ランプ（Ｌ）へ外部電圧（ＵＬ）を電圧パルスごとに交番する極性により印加するように構成されている、請求項１乃至８のいずれか１項記載の作動方法。
【請求項１０】  一次回路側の電流（ＩＷ１）の方向は、トランス（Ｔ）内で、電圧パルスごとに交番する、請求項９記載の作動方法。
【請求項１１】  トランスは、２つの電流方向のそれぞれ１つに所属する２つの一次回路側の巻線（Ｗ１）を有している、請求項１０に記載の作動方法。
【請求項１２】  前記一次回路は、それぞれ電流を、２つの巻線（Ｗ１）のうちの１つによってクロック制御する２つのスイッチ（ＴＱ）を有している、請求項８と１０に記載の作動方法。
【請求項１３】  前記一次回路は、２つの蓄積コンデンサを半周期で交番して負荷する交流電源から供給され、この場合各蓄積コンデンサは２つの電流方向のそれぞれ１つに所属している、請求項１０乃至１２のいずれか１項記載の作動方法。
【請求項１４】  少なくとも１つの電極と放電媒体との間に誘電層を有する放電ランプ（Ｌ）のための前置回路装置であって、
電力供給された一次回路（Ｐ）と、放電ランプ（Ｌ）のための二次回路（Ｓ）と並びに一次回路（Ｐ）を二次回路（Ｓ）に結合するトランス（Ｔ）とを有している形式の前置回路装置であって、
前置回路装置は、阻止型変換器と導通型変換器との組合せであり、一次回路（Ｐ）内に切換装置（ＴＱ，ＳＥ）を有しており、切換装置（ＴＱ，ＳＥ）は、トランス（Ｔ）により一次回路側の電流（ＩＷ１）を中断し、放電ランプ（Ｌ）内で、点弧に作用する外部電圧（ＵＬ）と反対極性を生じるために、二次回路（Ｓ）に電圧パルスを印加し、逆電圧パルスにより、放電ランプ（Ｌ）における外部電圧（ＵＬ）に作用する電荷を放電ランプ（Ｌ）から取り出し、放電ランプ（Ｌ）における内部反対極性により逆点弧を生じるためにトランス（Ｔ）により一次回路側の電流（ＩＷ１）を再結合するように構成されている、
ことを特徴とする前置回路装置。
【請求項１５】  前記一次回路（Ｐ）はセラミック製の多層コンデンサ（ＣＱ）を有する電源（Q）から電力が供給される、請求項１４記載の前置回路装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月2日(2006.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】ピクセルを含んでいる発光デバイスであって、前記ピクセルが：
実質的に透明な陽極；
前記陽極を覆う正孔輸送層；
前記正孔輸送層を覆う発光層；
前記発光層を覆う障壁層；
前記障壁層を覆う電子輸送層；および
前記電子輸送層と電気的接触状態にある陰極
を含んで成る上記の発光デバイス。
【請求項２】障壁層が、発光層中に形成された励起子のエネルギー準位より大きいバンドギャップにより特徴付けられる、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】障壁層が実質的に障壁層を通しての正孔の拡散を防止する、請求項１または２に記載のデバイス。
【請求項４】障壁層がBCP、Alq3、CBPおよびNPDより成る群から選ばれる材料を含んで成る、請求項１〜３のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項５】障壁層がBCPを含んで成る、請求項１〜４のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項６】発光層がPtOEPでドープされたCBPを含んで成る、請求項１〜５のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項７】陽極がインジウムスズ酸化物を含んで成る、請求項１〜６のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項８】発光層が電子輸送層としても機能する、請求項１〜７のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項９】発光層が燐光によって発光する、請求項１〜８のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１０】発光層が有機ホスト材料中に燐光物質を含んでいる、請求項１〜９のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１１】燐光物質がPtOEPを含んで成り、そして有機ホスト材料（有機母材）がCBPを含んで成る、請求項９に記載のデバイス。
【請求項１２】発光層が蛍光によって発光する、請求項１〜１１のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１３】陽極の下に透明な基板をさらに含んでいる、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１４】基板がガラスを含む、請求項１３に記載のデバイス。
【請求項１５】陰極がアルミニウム、銀、金およびそれらの合金より成る群から選ばれる金属を含んで成る、請求項１〜１４のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１６】電子輸送層と陰極との間にコンタクト層をさらに含んでいる、請求項１〜１５のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１７】 請求項１〜１６のいずれか一項に記載のデバイスを組み込んでいる電子装置であって、前記電子装置がコンピューター；テレビジョン；壁、劇場またはスタジアム用の大面積スクリーン；ビルボード；標識；車両；プリンター；電気通信装置；および電話機より成る群から選ばれる電子装置。
【請求項１８】前記陽極の下に透明基板をさらに含む請求項１〜１７のいずれか一項に記載のデバイスであって、
前記陽極がインジウムスズ酸化物を含み；
前記正孔輸送層がＮＰＤを含み；
前記発光層がＣＢＰを含み、かつ燐光によって発光し；
前記障壁層がＢＣＰを含み；
前記電子輸送層がＡｌｑ３を含むデバイス。
【請求項１９】前記デバイスが複数のピクセルを含んでいる多色ディスプレーデバイスである、請求項１〜１８のいずれか一項に記載のデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月8日(2006.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  光源からの光線を配光する照明装置であって、
前記光源からの光線を伝搬するための中実の導波管を有し、前記導波管は、１より大きい第１の屈折率を有し、前記光線が出る光出力側と、前記中実の導波管と一体的に形成され、前記光出力側と反対の前記導波管側に配置された配光部とを有し、前記配光部は、前記光線が入り前記中実の導波管を通って伝搬する平均的な方向に平行ではない方向に向いている複数のレンズ状のプリズムを有する配光部アレイを有し、前記プリズムの各々は、前記照明装置からの光出力を制御するために約２５°以上の大きさの出力カットオフ角を規定する挟角を形成するように互いに対して配置された第１の配光面及び第２の配光面を有する照明装置。
【請求項２】  前記挟角は、一般的に式：
９０＋ａｓｉｎ（１／ｎｌ）−ａｓｉｎ（ｓｉｎＣ／ｎ１）＜ｗ＜ａｓｉｎ（ｓｉｎＣ／ｎ１）＋９０
により決定され、ここで、ｗは前記挟角であり、ｎｌは、第１の屈折率であり、Ｃは前記照明装置からの前記光出力のカットオフ角である請求項１の照明装置。
【請求項３】  前記挟角は、１２０°と１４０°との間である請求項２に記載の照明装置。
【請求項４】  前記カットオフ角は、±６０°に等しい請求項３に記載の
照明装置。
【請求項５】  前記レンズ状のプリズムは、三角形、複数の面及び湾曲しているグループから選択される断面形状を有する請求項１に記載の照明装置。
【請求項６】  光源からの光線を配光する照明装置であって、
光源から光線を伝播し光線が出る光出力側を有し１より大きな第１屈折率を有する中実の導波管と、前記導波管の光出力側の反対の側面に位置し第３屈折率を有する配光構造と、配光構造をほぼ１００％接触で前記中実の導波管に結合するインターフェイスと、を有し、
配光構造は、その上に配置される配光特徴アレイを有し、且つ前記中実の導波管を通り光線が入り伝搬する平均の方向に実質的に平行でないように方向付けられた複数の概略レンズ状のプリズムを含み、該プリズムの各々は、第１及び第２の配光面を有し、第１及び第２の配光面は、それらの間に挟角を画成するように相互に関し配置され、照明装置からの出力光を第１の方向において制御するため照明装置から第１の方向へ約±２５°より大きな出力カットオフ角を画成し、
インターフェイスは、前記中実の導波管の第１の屈折率より小さい第２の屈折率を有し、照明装置からの出力光を前記第１の方向に対しほぼ垂直の第２の方向において制御する照明装置。
【請求項７】  前記第２の屈折率は少なくとも部分的に照明装置からの出力光のカットオフ角を決定し、前記第２の屈折率は、式：
ｎ２≦｛ｎｌ２−（ｃｏｓＣ）２｝１／２
により決定され、ここでｎ２は、第２の屈折率であり、ｎｌは、第１の屈折率であり、Ｃは、照明装置からの出力光のカットオフ角である請求項６の照明装置。
【請求項８】  前記挟角は、式：
１８０−ａｓｉｎ｛（ｎｌ２−１）１／２／ｎ３｝−ａｓｉｎ（ｓｉｎＣ／ｎ３）＜ｗ＜ａｓｉｎ（ｓｉｎＣ／ｎ３）＋１８０−ａｓｉｎ（ｎ２／ｎ３）
により決定され、ここでｗは挟角であり、ｎｌは第１の屈折率であり、Ｃは照明装置からの出力光のカットオフ角であり、ｎ２は第２の屈折率であり、ｎ３は第３の屈折率である請求項６の照明装置。
【請求項９】  前記挟角は約１２０°〜１４０°の間にある請求項８の照明装置。
【請求項１０】  前記カットオフ角は約±６０°の角度に等しい請求項８の照明装置。
【請求項１１】  前記インターフェイスはフッ素ポリマー、シリコーン又はアクリルに基づくものである請求項６の照明装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月12日(2006.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  取り外し可能な半透明の電気コネクタープラグにおいて電子デバイスのステータスを表示するための視覚表示装置であって、前記表示装置が、
前記電子デバイスによって駆動される光源と、
第１及び第２の端部を有する光導体と、
前記コネクタープラグを受容するための内部を有する電気ソケットと、
を有し、前記光源は照明されることによって前記電子デバイスのステータスを表示し、光導体はその第１の端部からその第２の端部へと照明を導くためのもので、その第１の端部において前記光源へ光学的に連結され、電気ソケットは、コネクタープラグがそのソケットに係合されたときに、一つ又は複数の電気信号を前記電子デバイスからコネクタープラグへ供給するためのものであり、
前記光導体の前記第２の端部は、コネクタープラグが前記ソケットに係合されたときに、前記光導体から前記半透明の電気コネクタープラグへ照明を供給するために、前記電気ソケットの前記内部を照明するように配置されている視覚表示装置。
【請求項２】  電子デバイスに電気的に接続して前記デバイスのステータス又はアクティビティを視覚表示するためのシステムであって、前記システムが、
取り外し可能な電気コネクタープラグと、
前記電子デバイスによって駆動される光源と、
第１及び第２の端部を有する光導体と、
電気ソケットと、
を有し、前記コネクタープラグは半透明の本体内に一つ又は複数の電気コンタクトを有し、前記光源は照明によって前記電子デバイスのステータス又はアクティビティを表示し、光導体はその第１の端部からその第２の端部へと照明を導き、前記光導体の第１の端部は前記光源へ光学的に連結され、電気ソケットは前記取り外し可能な電気コネクタープラグの前記半透明の本体を受容するための内部を有し、前記電気ソケットは、コネクタープラグの本体が前記ソケットの前記内部に配置されたときに、一つ又は複数の電気信号を前記電子デバイスと取り外し可能な電気コネクタープラグとの間へ供給するためのものであり、
前記光導体の前記第２の端部は、コネクタープラグが前記ソケットの前記内部に配置されたときに、前記光導体から前記電気コネクタープラグの前記半透明の本体へ照明を供給するために、前記電気ソケットの前記内部へ光学的に連結されているシステム。
【請求項３】  少なくとも一つのコンタクトを有する半透明のＲＪタイプの通信プラグへ接続されるように適合されたＰＣＭＣＩＡ通信カードであって、ＰＣＭＣＩＡ通信カードが、
ソケット部分と、
カードによって支持された光源と、
プラスチックの光導体と、
を有し、ソケット部分は半透明のＲＪタイプのプラグの一部を取り外し可能に受容するように形成された内部を有し、プラグを受容するソケット部分は、プラグが前記ソケット部分の内部に配置されたときに、ＲＪタイプのプラグの少なくとも一つのコンタクトへ係合するように適合された少なくとも一つのコンタクトワイヤを含み、光源は通信カードのステータス状態に応答して励起可能であり、光導体は、プラグがソケット部分の内部に配置されたときに、半透明のＲＪタイプのプラグを照明するために、光源をソケット部分の内部と光学的に連結しているＰＣＭＣＩＡ通信カード。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月6日(2006.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
これを達成するために、本発明にかかる装置および方法は、上記減速装置が少なくとも２つの連続する減速段を含み、これら２つの減速段のうちの第１の減速段が下流方向から見て上記イオンビームを減速し、上記イオンビームを偏向し、かつ、中間でのクロスオーバを形成するために配置され、第２の減速段が上記イオンビームをさらに減速し、かつ、上記イオンビームに収束効果を受けさせるために配置されることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明にかかる装置の他の実施態様においては、その方向が、上記第１の減速段によって上記ビームが偏向される面を横切って延在するさらなる選択ギャップが上記第２の減速段に続く。これは、上記第１の減速段において完全かつ不均一なビーム偏向が既に発生した領域で上記イオンビーム内のイオンの中性化が依然として発生するということが起こりうるからである。この領域で生成されたイオンは、上記中間のクロスオーバの直近に位置し、これにより、その非常に大きな部分が速度における重大な横断成分を有する。これは、上記ビームが上記中間のクロスオーバの近辺で強く発散するからである。これらの中性粒子は、次に上記選択ギャップを通過できるが、上記第２の減速段の収束効果の影響を受けない。これにより、この第２の段を越えると、このような好ましくない中性粒子は、上記さらなる選択ギャップによって上記イオンビームから分離される。上記第１の減速段におけると同様に、上記さらなる選択ギャップは、関係する減速段の最終電極に設けられると好都合である。これにより、機器の真空筐体内に分離素子を搭載する必要がまたなくなる。  
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
第１の減速段４は、第１の電極８と、第２の電極１０と、偏向系１２と、第３の電極１４とを含む。偏向系１２は、２つの偏向プレート１２−１および１２−２を有する。第３の電極１４もまた、第１の偏向段の最終電極を有する。第２の電極１０は、断面が長方形の管形状を有する。イオン源の直後における（正に帯電された）イオンの加速は、イオン源が周囲に対して＋３０ｋＶの電位を伝搬することにより実現される。次に、イオンの加速に用いられる加速電極とこれに続く粒子−光学素子は、周囲に対するグランド電位を伝搬する。この結果、ビーム内のイオンは、電極８に到達するときに３０ｋｅＶの運動エネルギを有する。第２の電極１０は、＋２２ｋＶの電位を伝搬し、これにより、イオンは、８ｋｅＶの運動エネルギにまで減速される。偏向系１２は、＋２２ｋｅＶの中間電位を伝搬し、偏向プレート１２−１は、上述の中間電位よりも８００Ｖだけ高い電位を伝搬し、この一方、偏向プレート１２−２は、上述の中間電位より８００Ｖだけ低い電位を伝搬する。こうしてこれら２つのプレートの間で１．６ｋＶに達する電位差が存在する。最後に、第３の電極１４は、２２ｋＶの電位をまた伝搬し、これにより、イオンは、８ｋｅＶの運動エネルギで第１の減速段を出る。第３の電極１４には、その縦方向が図の紙面に垂直に延在する選択ギャップ１６が設けられている。一方の側の第１の電極８と他方側の電極１０，１２および１４との間の減速静電界は、選択ギャップ１６の平面でイオンビームの焦点を合わせ、また、偏向プレート１２−１と１２−２との間の偏向領域はさらに、選択ギャップ１６に向けてイオンビームを偏向する。選択ギャップ１６は、このように、第１の減速段によってイオンビーム２が偏向される面に垂直に延在する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
基板２４内へのイオン注入を実現するために、基板に対してイオンビームを移動する必要がある。この移動は、図示しない静電装置または磁気装置を用いることにより、図の紙面に垂直な第１の方向へのビームにより実行される。この装置は、電極８の上流に配置することが好ましい。基板に対するビームの第１の方向に垂直な第２の方向への望ましい移動は、図１の垂直な方向に、例えば図の紙面の底部から上方へ基板を移動することにより実行される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月7日(2006.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  平均繊維長Ｌをもつ抄紙繊維を有するウェブを搬送する紙ウェブ接触面およびこの紙ウェブ接触面と反対側の抄紙機接触面を有する抄紙ベルトであって、前記抄紙ベルトが、
連続する組織領域および不連続な複数個の偏向通路からなる模様を付けた構成物を有する強化構造物を備え、前記偏向通路が前記連続する組織領域によって互いに分離しており、前記偏向通路が曲線で囲われる全体的に長円形の周辺部を有し、Ｌ＜Ｗ＜３Ｌの関係にある平均幅Ｗ、少なくとも約１．０から約２．０までの範囲にわたるアスペクト比および平均幅に対する最少半径の比が少なくとも約０．２９から約０．５０までの範囲にわたる最小半径を備えてなる抄紙ベルト。
【請求項２】  前記模様を付けた構成物が前記強化構造物から少なくとも約０．１２７ｍｍから約０．９９１ｍｍの範囲の距離を保って外方向に延びるようにした請求項１に記載の抄紙ベルト。
【請求項３】  前記偏向通路が約５度から約１０度の傾斜を付けてなる請求項１に記載の抄紙ベルト。
【請求項４】  前記偏向通路が六角形状に配置されるようにした請求項１に記載の抄紙ベルト。
【請求項５】  前記連続する組織領域が少なくとも約０．１７８ｍｍから約０．５０８ｍｍまでの範囲にわたる最小幅を有するナックル領域を備える請求項４に記載の抄紙ベルト。
【請求項６】  前記ナックル領域が前記抄紙ベルトの該ウェブ接触面の約２０％から約５０％までの範囲にわたるようにした請求項５に記載の抄紙ベルト。
【請求項７】  前記偏向通路が主軸を備え、前記抄紙ベルトがＸ−Ｙ面内で流れ方向を有し、前記主軸が前記流れ方向と平行に向けられてなる請求項１に記載の抄紙ベルト。
【請求項８】  前記偏向通路が主軸を備え、前記抄紙ベルトがＸ−Ｙ面内で流れ方向を有し、前記主軸が前記流れ方向に対して斜めに向けられてなる請求項１に記載の抄紙ベルト。
【請求項９】  前記偏向通路のアスペクト比が約１．３から約１．７までの範囲にわたるようにした請求項１に記載の抄紙ベルト。
【請求項１０】  平均繊維長Ｌをもつ抄紙繊維を有するウェブを搬送する紙ウェブ接触面およびこの紙ウェブ接触面と反対側の抄紙機接触面を有する抄紙ベルトであって、前記抄紙ベルトが、
連続する組織領域および不連続な複数個の偏向通路からなる模様を付けた構成物を上部に有する強化構造物を備え、前記偏向通路が前記連続する組織領域によって互いに分離しており、前記偏向通路が全体的に長円形を形成している側壁セグメントからなる、直線で囲われた周辺部を有し、Ｌ＜Ｗ＜３Ｌの関係にある平均幅Ｗ、少なくとも約１．０から約２．０までの範囲にわたるアスペクト比および少なくとも約１２０度の隣接する側壁セグメントのなす夾角を備えてなる抄紙ベルト。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
偏向通路は単位面積あたりの通路の密集を最大化する一方、同時に、連続する組織領域の面積を最小化するように、六角形状に配置されている。この連続する組織領域は少なくとも約０．１７８ｍｍ（０．０００７インチ）から約０．５０８ｍｍ（０．０２０インチ）までの範囲にわたる幅を有するナックル領域を備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
さらに、単位面積あたりの偏向通路３４の数はこれを効率よく配置し、無駄なく詰めることにより最大化することができる。偏向通路３４の好ましい配置は、図１１および図１２に示すように、六角形状に形成することである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９５】
図１５に示すように、単位面積あたりのドーム８４の数はドームを効率よく並ばせ、無駄なく配置することで果たす、隣接するドーム間の距離を最小に保つことにより最大化する。本発明の場合、ドーム８４間の好ましい最小距離８８は少なくとも約０．１７８ｍｍ（０．００７インチ）にであり、０．５０８ｍｍ（０．０２０インチ）よりも大きくない。この好ましいドーム８４の配置は六角形状に形成している配置である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】
図１は本発明に係る抄紙ベルトを使用する抄紙機の一実施例を示す図式的側面図である。
【図２】
図２は強化構造物と結合され、かつ長円形に形成される偏向通路の紙側面開口を有する樹脂構成物を表わす、本発明に係る抄紙ベルトの一部を示す平面図である。
【図３】
図３は図２の３−３線に沿う抄紙ベルトの一部を示す縦断面図である。
【図４】
図４は偏向通路に架橋する繊維を表わす、図３に示す抄紙ベルトの一部を示す縦断面図である。
【図５】
図５は偏向通路の底部に集まる繊維を表わす、図３に示す抄紙ベルトの一部を示す縦断面図である。
【図６】
図６は繊維偏向を示すために偏向通路の開口の上方で片持ちばりの状態にたわむ繊維を表わす、図３に示す抄紙ベルトの一部を示す縦断面図である。
【図７】
図７は繊維偏向を示すために偏向通路に架橋した繊維を表わす、図３に示す抄紙ベルトの一部を示す縦断面図である。
【図８ａ】
図８ａは繊維の架橋を生じ易い隙間のない半径または鋭角のコーナを有する通路形状を示す平面図である。
【図８ｂ】
図８ｂは繊維の架橋を生じ易い隙間のない半径または鋭角のコーナを有する通路形状を示す平面図である。
【図９】
図９は直線で囲われる周辺部を有する、長円形通路を示す図式的平面図である。
【図１０】
図１０は曲線で囲われる周辺部を有する、長円形通路を示す図式的平面図である。
【図１１】
図１１は抄紙ベルトの流れ方向と平行に向ける主軸を備えた六角形状に配置される偏向通路を示す図式的平面図である。
【図１２】
図１２は抄紙ベルトの流れ方向に対して斜めに向ける主軸を備えた六角形状に配置される偏向通路を示す図式的平面図である。
【図１３】
図１３は繊維の偏向通路への偏向を表わすと共に、通路幅、通路のＺ方向高さおよびウェブの伸び量についての関係を示す、図３に示す抄紙ベルトの一部を示す縦断面図である。
【図１４】
図１４は繊維の偏向通路への偏向を表わすと共に、ウェブ偏向角度およびナックル／通路開口界面を形成している角度の間の関係を示す、図３に示す抄紙ベルトの一部を示す縦断面図である。
【図１５】
図１５は六角形状に配置されるドームを有する、抄紙ウェブを示す図式的平面図である。
【図１６】
図１６は図１５の１６−１６線に沿う、抄紙ウェブの一部を示す縦断面図である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月2日(2006.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ポリエステル熱可塑性樹脂と暗色の背景着色を形成するのに十分な量のチャネルブラックカーボン顔料とを含んでなり、これにより、レーザ光が入射した区域において暗色の背景着色上に明色のマーキングが得られる、レーザマーキング特性を有する樹脂組成物。
【請求項２】  前記チャネルブラックが０．０１〜５重量％の量で存在する、請求項１記載のレーザマーキング特性を有する樹脂組成物。
【請求項３】  前記チャネルブラックが０．０３〜３重量％の量で存在する、請求項２記載のレーザマーキング特性を有する樹脂組成物。
【請求項４】  前記チャネルブラックが、粒径１０ｎｍ〜３０ｎｍの微細な非凝集粒子を有する、請求項１記載のレーザマーキング特性を有する樹脂組成物。
【請求項５】  前記チャネルブラックが、冷却表面に向かって燃焼した炭化水素ガスを衝突させることにより調製される、請求項１記載のレーザマーキング特性を有する樹脂組成物。
【請求項６】  当該組成物が、前記レーザ入射域に明色の着色を形成するのに十分な量の明色の顔料を含む、請求項１記載のレーザマーキング特性を有する樹脂組成物。
【請求項７】  前記ポリエステル組成物が次式の構造単位を含んでなる、請求項１記載のレーザマーキング特性を有する樹脂組成物。
【化１】
2002525410.tif 000001
（式中、各々のＲ1 は独立に二価の脂肪族、脂環式もしくは芳香族炭化水素基、又はポリオキシアルキレン基又はこれらの混合物であり、各々のＡ1 は独立に二価の脂肪族、脂環式もしくは芳香族基又はこれらの混合物である。）
【請求項８】  強化用ガラス繊維を追加で含む、請求項１記載のレーザマーキング特性を有する樹脂組成物。
【請求項９】  前記ガラス繊維が５〜４０重量％を占める、請求項８記載のレーザマーキング特性を有する樹脂組成物。
【請求項１０】  請求項１乃至請求項９のいずれか１項記載の樹脂組成物からなる、レーザ照射によりマーキングされた表面部分を有する成形品。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月14日(2006.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  I）
Ａ）ゴム１０〜９５質量％（Ａを基準）および、１０℃未満のガラス転移点を有し、少なくとも部分的に架橋され、０．０５〜２０μｍの平均粒径（ｄ50）を有する粒子形状のゴムに、スチレン、α−メチルスチレン、環置換スチレン、メチルメタクリレート、（メタ）アクリロニトリル、無水マレイン酸、Ｎ-置換マレイミドまたはこれらの混合物をモノマーとしてグラフト共重合させたゴムとのグラフト共重合化モノマー９０〜５質量％（Ａを基準）の、１つまたはそれ以上のグラフト共重合体０〜１００質量％
および
Ｂ）モノマーがスチレン、α−メチルスチレン、環置換スチレン、メチルメタクリレート、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、無水マレイン酸、Ｎ−置換マレイミドまたはこれらの混合物の系から選ばれる、１つまたはそれ以上の熱可塑性ビニル重合体１００〜０質量％
からなるビニル芳香族化合物および任意に他のビニルモノマーの、任意にゴム変性された重合体９９．８〜９５質量部、並びに
II）５００〜１５,０００の間の分子量および２．５〜５．５のｐＨを有するポリアルキレンエーテル０．２〜５質量部
を含有する熱可塑性成形用組成物。
【請求項２】  I）
Ａ）ゴム１０〜９５質量％（Ａを基準）および、１０℃未満のガラス転移点を有し、少なくとも部分的に架橋され、０．０５〜２０μｍの平均粒径（ｄ50）を有する粒子形状のゴムに、スチレン、α−メチルスチレン、環置換スチレン、メチルメタクリレート、（メタ）アクリロニトリル、無水マレイン酸、Ｎ-置換マレイミドまたはこれらの混合物をモノマーとしてグラフト共重合させたゴムとのグラフト共重合化モノマー９０〜５質量％（Ａを基準）の、１つまたはそれ以上のグラフト共重合体０〜１００質量％
および
Ｂ）モノマーがスチレン、α−メチルスチレン、環置換スチレン、メチルメタクリレート、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、無水マレイン酸、Ｎ−置換マレイミドまたはこれらの混合物の系から選ばれる、１つまたはそれ以上の熱可塑性ビニル重合体１００〜０質量％
からなるビニル芳香族化合物および任意に他のビニルモノマーの、任意にゴム変性された重合体９９．５〜９６質量部、並びに
II）５００〜１５,０００の間の分子量および３．０〜５．０のｐＨを有し、ポリオールと１つまたはそれ以上のアルキレンオキシドとの反応生成物であり、少なくとも１つのカルボン酸または無水カルボン酸０．０２〜２質量％（ポリアルキレンエーテル量を基準）と混合され、２５〜９０℃で処理されたポリアルキレンエーテル０．５〜４質量部
を含有する請求項１に記載の熱可塑性成形用組成物。
【請求項３】  芳香族ポリカーボネート、芳香族ポリエステルカーボネート、ポリエステル、ポリアミドまたはこれらの混合物から選ばれる少なくとも１つの樹脂をさらに含有する、請求項１または２に記載の熱可塑性成形用組成物。
【請求項４】  請求項１〜３のいずれかに記載の成形用組成物から製造された成形品。
【請求項５】  ０．２〜５質量部のポリアルキレンエーテル II）を９９．８〜９５質量部の重合体 I）に添加することを特徴とする、請求項１に記載の、ビニル芳香族化合物、他のビニルモノマー、任意に他の樹脂および通例の添加剤を有する任意にゴム変性された重合体への帯電防止性付与方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月29日(2006.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 面平行フレークを製造するための装置であって、
大気圧よりも低い圧力が形成される蒸着チャンバと、
前記蒸着チャンバの少なくとも一部を通るエンドレス軌道上を可動な基材と、
前記基材の上に分離剤を適用するために前記蒸着チャンバ内に設けられる第１の蒸発手段と、
前記分離剤が適用された基材に少なくとも一つの層を適用するために、前記蒸着チャンバ内に設けられる第２の蒸発手段と、
前記蒸着チャンバ内よりも高い圧力と、大気圧よりも低い圧力とが形成されるストリッピングチャンバと、
前記適用された分離剤が溶解した状態で存在しまた前記少なくとも一つの層が面平行フレークの形で存在するサスペンジョンを形成するために、前記ストリッピングチャンバに設けられたストリッピング手段と、
を有する装置。
【請求項２】 前記基材が、ステンレススチール合金と、ニッケルと、別の金属の電気蒸着あるいは熱硬化性あるいは熱可塑性材料の有機保護コーティングを有する金属と、ポリアミドフィルムとから成るグループから選択される材料で形成される請求項１記載の装置。
【請求項３】 前記基材が20〜2000μmの厚みを有する請求項２記載の装置。
【請求項４】 前記蒸着チャンバと前記ストリッピングチャンバとの間に、動的にポンピングされるロックが設けられている請求項１記載の装置。
【請求項５】 面平行フレークを製造するための方法であって、
（ａ）大気圧よりも低い圧力でエンドレスな基材に分離剤を蒸着して、エンドレス基材に分離剤層を形成する段階と、  
（ｂ）大気圧よりも低い圧力で分離剤層の上に少なくとも一つの層を蒸着する段階と、
（ｃ）前記分離剤の層を溶剤中で溶解して、前記少なくとも一つの層が面平行フレークの形で存在するようなサスペンジョンを形成する段階と、
を有し、前記段階（ｃ）が、段階（ａ）及び（ｂ）における圧力よりも高くて大気圧よりも低い圧力で実行される方法。
【請求項６】 前記分離剤が第１の分離剤であり、前記分離剤層が第１の分離剤層であり、前記段階（ｂ）が、
（ｂ．１）前記第１の分離剤層の上に第１の層を蒸着する段階と、
（ｂ．２）この第１の層の上に第２の分離剤を蒸着して、第２の分離剤層を形成する段階と、
（ｂ．３）前記第２の分離剤層の上に第２の層を蒸着する段階と、
を有し、第１及び第２の層が前記段階（ｃ）で形成されたサスペンジョン中に存在する請求項５記載の方法。
【請求項７】 前記溶剤が水を含んでおり、前記分離剤が高真空中で分解せずに蒸発可能な水溶性の物質であり、前記少なくとも一つの層が金属及び別の蒸発可能な物質を有している請求項５記載の方法。
【請求項８】 前記基材が、ステンレススチール合金と、ニッケルと、別の金属の電気蒸着あるいは熱硬化性あるいは熱可塑性材料の有機保護コーティングを有する金属と、ポリアミドフィルムとから成るグループから選択された材料で形成される請求項５記載の方法。
【請求項９】 前記段階（ｂ）が、前記分離剤上に第１の層及び少なくとも第２の層を蒸着する段階を有しており、前記分離剤が前記第１の層と前記少なくとも第２の層との間に介在している請求項５の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月5日(2006.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  金属の製造に用いる電極用横コンベアにおいて、
該横コンベアは、前記電極を持ち上げるために用いられるリフタと、搬送装置とから形成され、搬送すべき電極の下に配置され、該搬送装置は水平面上を前後に移動することを特徴とする電極用横コンベア。
【請求項２】  請求項１に記載の横コンベアにおいて、前記搬送装置は、フレームと、該フレーム上を移動する搬送バーとから形成され、該搬送バーは、該搬送バーの移動の全段階において前記フレームを覆うことを特徴とする横コンベア。
【請求項３】  請求項２に記載の横コンベアにおいて、前記搬送バーの長さは、前記フレームと搬送距離とを組み合わせた長さであることを特徴とする横コンベア。
【請求項４】  請求項２に記載の横コンベアにおいて、前記搬送バーの長さは、実質的に前記フレームの長さであり、該フレームを保護するために両端にベローズを有することを特徴とする横コンベア。
【請求項５】  請求項２に記載の横コンベアにおいて、前記搬送バーは、ローラ支持を用いて前記フレーム上に支持されることを特徴とする横コンベア。
【請求項６】  請求項２に記載の横コンベアにおいて、前記搬送バーは、スライドレール支持を用いて前記フレーム上に支持されることを特徴とする横コンベア。
【請求項７】  請求項１に記載の横コンベアにおいて、液圧シリンダが前記搬送バーのアクチュエータとして用いられることを特徴とする横コンベア。
【請求項８】  請求項１に記載の横コンベアにおいて、ラック歯車ピニオン駆動が前記搬送バーのアクチュエータとして用いられることを特徴とする横コンベア。
【請求項９】  請求項１に記載の横コンベアにおいて、前記電極の供給ライン、中間ステーションおよび放出ラインに、垂直移動用リフタもしくはフィーダを設けることを特徴とする横コンベア。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月25日(2006.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１７】  ブロックＢが５００ｕ〜６００００ｕの分子量を有する請求項１３〜１６の何れか一つに記載の微小エマルジョン。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】  ブロックＡがポリエチレンオキシドである請求項１３〜１７のいずれか一つに記載の微小エマルジョン。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月12日(2006.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】  
【請求項１】  デッドポリマー、反応性可塑剤および開始剤の混合物を含む重合可能な組成物であって、ここで、該重合可能組成物が、硬化する前は半固体である、組成物。        【請求項２】  請求項１に記載の重合可能な組成物であって、前記デッドポリマーが、熱可塑性エラストマーであり、好ましくは、スチレン−ブチレン−スチレンコポリマー、スチレン−イソプレン−スチレンコポリマー、またはスチレン−エチレン−ブダジエン−スチレンコポリマーである、組成物。
【請求項３】  反応性可塑剤および開始剤の混合物を含む重合可能な組成物であって、ここで、該重合可能な組成物が、硬化する前は半固体である、組成物。
【請求項４】  請求項１、２または３に記載の重合可能な組成物であって、ここで前記反応性可塑剤が、アクリレート、メタクリレート、ビニルエーテル、およびジエンから選択される、組成物。
【請求項５】  周囲温度または高温で透明である、請求項１、２、３または４に記載の重合可能な組成物。
【請求項６】  デットポリマー内に反応性可塑剤の架橋ポリマー網目構造を含む硬化樹脂。
【請求項７】  硬化の際に低い収縮度を示す、請求項６に記載の硬化樹脂。
【請求項８】  請求項７に記載の硬化樹脂であって、形作られた物品の形態を有し、該形作られた物品が、光学的レンズ、コンタクトレンズ、他のレンズ、光データ記憶ディスク、または透明なシートである、硬化樹脂。
【請求項９】  物品を形成する方法であって、該方法が、以下の工程：
ａ）反応性可塑剤、開始剤、および必要に応じてデッドポリマーおよび他の添加剤を共に混合して、半固体の重合可能な組成物を形成する工程；
ｂ）該半固体組成物を所望の形状に形作る工程；および
ｃ）該半固体組成物を重合エネルギー源に暴露し、生じる物品を得る工程；
を包含する、方法。
【請求項１０】  請求項９に記載の方法であって、該方法において工程ｂ）が、以下の工程：
（ｉ） 前記半固体組成物をプリフォームに形成する工程；
（ｉｉ）所望の形状に対応する鋳型を提供する工程；
（ｉｉｉ）該プリフォームを該鋳型内に配置する工程；および
（ｉｖ）必要に応じて加熱した状態で、該鋳型を圧縮し、その結果、該半固体組成物が、該鋳型の内部キャビティの形状となる工程；
を包含する、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月4日(2006.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
【化１７】
2002525376.tif 000001
の化合物に連結する工程を包含し、
ここで、この環は、必要に応じて、窒素、酸素、および硫黄からなる群から選択される１つ以上のヘテロ原子を包含し；
この環は、５〜７個の原子からなり；
この環は、ＸＨ、Ｚ、およびＹによってそれぞれ置換される３個の炭素原子を含み；
この環は、この化合物が５員環である場合、基Ｒ3およびＲ4によってさらに置換されるか、またはこの化合物が６員環である場合、基Ｒ3、Ｒ4およびＲ5によってさらに置換されるか、またはこの化合物が７員環である場合、基Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6によってさらに置換され；
ここで、
Ｘは、酸素、硫黄、ＣＨ2Ｏ−、またはＣＨ2Ｓ−であり；
Ｙは、電子求引性基であり；
Ｚは、炭素−窒素共有結合の形成を可能にする任意の基であり；
Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、それぞれ独立して、水素、アルキル、置換アルキル、アリール、置換アリール、アリールアルキル、置換アリールアルキル、ヘテロアリール、置換ヘテロアリール、アルコキシ、アリールオキシ、ＸＨもしくはＹ、または固体支持体に対する共有結合であり、
ここで、Ｒ3およびＲ4、またはＲ4およびＲ5は、必要に応じて、この環とともに、５−、６−、または７−員環を形成し得る。