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【手続補正書】
【提出日】平成17年11月4日(2005.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属エッチングの後に半導体ウェーハを処理する方法であって、
（ａ）金属エッチングの後に、（ｉ）下層の酸化物層と、（ｉｉ）金属バリア層と、（ｉｉｉ）金属層と、（ｉｖ）フォトレジスト層と、（ｖ）前記金属バリア層と前記金属層との側壁に付着した複合体ポリマーとを有する半導体ウェーハをマイクロ波剥離チャンバー中に配置する工程と、
（ｂ）Ｏ２とフッ素含有ガスとＮ２とを主成分とするエッチングガス混合物を用いて前記半導体ウェーハを処理することにより、前記エッチングガス混合物が前記フォトレジスト層と前記複合体ポリマーとが除去されるまでマイクロ波放射を用いて分解され、添加された前記Ｎ２の量により、前記下層の酸化物層と前記金属バリア層とに比較して前記フォトレジスト層に対する選択性が増加し、一工程で、前記フォトレジスト層を除去する乾式エッチング工程と、
を有することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記半導体ウェーハは下層の酸化物層を有し、前記乾式エッチング工程では、前記下層の酸化物層がエッチングされるレートを低減するのに十分な量のＮ２を導入することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記乾式エッチング工程では、第１のレートで前記フォトレジストを除去し、第２のレートで前記下層の酸化物層を除去し、前記第１のレートに対する前記第２のレートの比が少なくとも８０：１に等しいことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記下層の酸化物層はＳｉＯ２を有し、前記比は約８０：１から約２００：１の範囲であることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記半導体ウェーハは、金属バリア層を有し、前記乾式エッチング工程では、前記金属バリア層がエッチングされるレートを低減するのに十分な量のＮ２を導入することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記乾式エッチング工程では、第１のレートで前記フォトレジストを除去し、第２のレートで前記金属バリア層を除去し、前記第１のレートに対する前記第２のレートの比が少なくとも２８０：１に等しいことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記金属バリア層は、Ｔｉ，ＴｉＮ，ＴｉＷ，およびそれらの混合物からなるグループから選択された材料を有し、前記比は約２８０：１から約３５０：１の範囲であることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記Ｏ２が前記エッチング用混合ガスの約４０〜９９容積％を有し、前記フッ素を含むガスが前記エッチング用混合ガスの約０．５〜３０容積％を有し、前記Ｎ２が前記エッチング用混合ガスの約０．５〜３０容積％を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記フッ素を含むガスがＣＦ４であることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記乾式エッチング工程では、前記フォトレジストを少なくとも２μｍ／分のレートでエッチングすることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
プラズマ反応する前記チャンバーは、約０．５〜６Ｔｏｒｒの圧力に維持されていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
金属エッチングの後に半導体ウェーハを処理する方法であって、
（ａ）金属エッチングの後に、（ｉ）下層の酸化物層と、（ｉｉ）金属バリア層と、（ｉｉｉ）金属層と、（ｉｖ）フォトレジスト層と、（ｖ）前記金属バリア層と前記金属層との側壁に付着した複合体ポリマーとを有する半導体ウェーハを、マイクロ波剥離チャンバー中に配置する工程と、
（ｂ）前記半導体ウェーハをＨ２Ｏ、または、Ｈ２ＯとＯ２との混合物にさらして前記半導体ウェーハから塩素残査を除去することによって、前記半導体ウェーハを不活性化処理する工程と、
（ｃ）Ｏ２とフッ素含有ガスとＮ２とを主成分とするエッチングガス混合物を用いて前記半導体ウェーハを処理することにより、前記エッチングガス混合物は、前記フォトレジスト層と前記複合体ポリマーとが除去されるまでマイクロ波放射を用いて分解され、添加された前記Ｎ２の量により、前記下層の酸化物層と前記金属バリア層とに比較して前記フォトレジスト層に対する選択性が増加し、一工程で、前記フォトレジスト層を除去する乾式エッチング工程と、
を有することを特徴とする方法。
【請求項１３】
前記半導体ウェーハは下層の酸化物層を有し、前記乾式エッチング工程では、前記下層の酸化物層がエッチングされるレートを低減するのに十分なＮ２量を導入することを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記乾式エッチング工程では、第１のレートで前記フォトレジストを除去し、第２のレートで前記下層の酸化物層を除去し、前記第１のレートに対する前記第２のレートの比が少なくとも８０：１に等しいことを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記下層の酸化物層はＳｉＯ２を有し、前記比は、約８０：１から約２００：１の範囲であることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項１６】
前記半導体ウェーハは金属バリア層を有し、前記乾式エッチング工程では、前記金属バリア層がエッチングされるレートを低減するのに十分な量のＮ２を導入することを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１７】
前記乾式エッチング工程では、第１のレートで前記フォトレジストを除去し、第２のレートで前記金属バリア層を除去し、前記第１のレートに対する前記第２のレートの比が少なくとも２８０：１に等しいことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記金属バリア層は、Ｔｉ，ＴｉＮ，ＴｉＷ，およびそれらの混合物からなるグループから選択された材料を有し、前記比は約２８０：１から約３５０：１の範囲であることを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記Ｏ２が前記エッチング用混合ガスの約４０〜９９容積％を有し、前記フッ素を含むガスが前記エッチング用混合ガスの約０．５〜３０容積％を有し、前記Ｎ２が前記エッチング用混合ガスの約０．５〜３０容積％を有することを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項２０】
前記フッ素を含むガスがＣＦ４であることを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記乾式エッチング工程では、前記フォトレジストを少なくとも２μｍ／分のレートでエッチングすることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項２２】
プラズマ反応する前記チャンバーは、約０．５〜６Ｔｏｒｒの圧力に維持されていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月17日(2006.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  照明デバイスをモールドする方法において、
少なくとも一つのマイクロ構造機構をその上に含む内面を備えた溜めを有するオープン・モールドを提供する工程であって、前記少なくとも一つのマイクロ構造機構が少なくとも一つの光抽出構造の負性レプリカを規定する工程と；
硬化性材料を提供し、硬化したときに実質上光学的に透明な材料を形成する工程と；
モールドの溜めを硬化性材料で充填する工程と；
事前製造光ガイドを硬化性材料と接触させる工程と；
モールド内で硬化性材料を少なくとも部分的に硬化させ、これによって結合層を事前製造光ガイドに結合させて照明デバイスを形成する工程であって、前記結合層がモールドの内面の少なくとも一つのマイクロ構造機構のレプリカを含んでいる工程と；
照明デバイスをモールドから除去する工程と；
を含む照明デバイスをモールドする方法。
【請求項２】  硬化性材料がポリマー化材料である請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記事前製造光ガイドが光ファイバーである請求項１に記載の方法。
【請求項４】  ａ）ソースから光ガイドの連続セグメントを供給する工程と；
ｂ）互いに結合された複数のオープン・モールド・セグメントを含む回転オープン・モールドに光ガイドを通過させ、無端セグメント・モールド集合体を形成し、各オープン・モールド・セグメントがその中に配備された少なくとも一つのマイクロ構造機構を含んでいる工程と；
ｃ）無端セグメント・モールド集合体を、光ガイドの長さと直交する軸の回りを回転させる工程と；
ｄ）無端セグメント・モールド集合体の回転の一部中に、光ファイバーがソースから出た後、光ガイドと接触させる工程と；
ｅ）オープン・モールド・セグメントが光ガイドと接触するにつれて、各オープン・モールド・セグメントを硬化性材料で充填させる工程と；
ｆ）オープン・モールド・セグメントの光ガイドとの接触が残っている間に、硬化性材料を少なくとも部分的に硬化させる工程と；
を含む複数の光抽出構造を含む光ガイドを連続製造する方法。
【請求項５】  前記光抽出構造が、少なくとも一つの光学的平滑面を含んでいる請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月18日(2006.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  複数のライトガイドを含む光伝送装置であって、各ライトガイドが有する第１端部が、本質的に空隙がなく内部にクラッド材料を本質的に含まない表面に対して、本質的に変形を伴わずに組み合わせられている、光伝送装置。
【請求項２】  前記ライトガイドの少なくとも１本が、断面が本質的に円形ではない第１端部と、断面が本質的に円形である第２端部とを含む請求項１に記載の装置。
【請求項３】  前記ライトガイドの各々が、第１端部および第２端部を備え、第２端部のそれぞれが、本質的に円形の断面形状を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項４】  前記第１端部の各断面が、本質的に多角形である請求項１に記載の装置。
【請求項５】  Ｎを２以上の整数として、整列したＮ個のライトガイドを含む光伝送装置であって、
各ライトガイドは、実質的に平坦な終端面上に終結しており、
ｋを１〜Ｎとしてｋ番目の終端面が中心角度φｋの扇形Ｓｋを本質的に規定し、
【数１】
2002531867.tif 000001
の値が実質的に２πラジアンであり、
各ライトガイドの終端面が、実質的に空洞を含まない本質的に平坦な表面に配置されている、光伝送装置。
【請求項６】  Ｎを２以上の整数として、整列したＮ個のライトガイドを含む光伝送装置であって、
各ライトガイドは、実質的に平坦な終端面上に終結しており、
ｋを１〜Ｎとしてｋ番目の該終端面が本質的に矩形Ｒｋを規定し、
各ライトガイドの該端面が実質的に空洞を含まない矩形Ｒとして本質的に配置されている、光伝送装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月19日(2006.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）所望の光抽出構造体を備えた光ガイドに対応する所望の覆載物断面形状に整合する断面形状を有する内表面と、
ｂ）その内表面上に形成されていると共に、所望の光抽出構造体のレプリカである形状を有する少なくも一つの微細構造体と、
ｃ）硬化性材料を貯溜部に加えた際に硬化性材料が微細構造体を完全に浸漬すべく、光ガイドと硬化性材料との接触を可能にするに十分な容積の貯溜部と、
を備えることを特徴とする照明装置形成用開放金型。
【請求項２】
光ガイドに光抽出構造体を連続的に製造するシステムとの組合せにおいて、エンドレス金型を形成する少なくも一つの開放金型セグメントを備えるエンドレス金型であって、前記金型セグメントは、
ａ）所望の光抽出構造体に対応する所望の覆載物断面形状に整合する断面形状を有する金型セグメントと、
ｂ）その表面上に形成されていると共に、所望の光抽出構造体のレプリカである形状を有する少なくも一つの微細構造体と、
ｃ）硬化性材料を貯溜部に加えた際に硬化性材料が微細構造体を完全に浸漬すべく、光ガイドと硬化性材料との間の接触を可能にするに十分な容積の貯溜部と、
を備えることを特徴とする前記エンドレス金型。
【請求項３】
ａ）連続した長さの光ガイドを供給する供給源と、
ｂ）互いに結合してエンドレス・セグメント化金型アセンブリを形成する複数の開放金型セグメントを備える可動エンドレス・セグメント化金型アセンブリであって、前記複数の開放金型セグメントの各々は、光ガイドの長さに垂直な軸の周りで回転すると共に、光ガイドが供給源から出た後に回転の一部分の間に光ガイドに接触するのであり、前記複数の開放金型セグメントの各々は、
（ｉ）光ガイドの覆載物の所望の外表面断面形状の少なくも一部分に整合する断面形状を有する内表面と、
（ｉｉ）所望の光抽出構造体のレプリカである形状を有する少なくも一つの微細構造体と、
（ｉｉｉ）硬化性材料を貯溜部に加えた際に硬化性材料が微細構造体を完全に浸漬すべく、光ガイドと硬化性材料とを収容するに十分な容積を有する貯溜部と、を備えることを特徴とする前記アセンブリと、
ｃ）前記複数の開放金型セグメントの一つが光ガイドに接触する際に前記複数の開放金型セグメントの前記一つの貯溜部と連通する硬化性材料用容器と、
を備えることを特徴とする照明装置連続製造用システム。
【請求項４】
自身の上に形成された複数の光抽出構造体を設けた覆載物を有する光ガイドを備えた照明装置を製造するための開放金型であって、光ガイドは、これを通って通過し、前記開放金型は、
ａ）光ガイドに整合する形状を有する第１の内表面と、
ｂ）所望の光抽出構造体を備える光ガイドに対応する所望の覆載物断面形状に整合する断面形状を有する第２の内表面と、
ｃ）前記第２の内表面上に形成されていると共に、所望の光抽出構造体のレプリカである形状を有する少なくも一つの微細構造体と、
ｄ）硬化性材料を貯溜部に加えた際に硬化性材料が微細構造体を完全に浸漬すべく、光ガイドと硬化性材料とを収容するに十分な容積の貯溜部と、
を備えることを特徴とする前記開放金型。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月20日(2006.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  長手方向の軸と横断面形状を持つ光導波路を提供するステップであり、前記横断面形状は前記軸の少なくとも一部に沿って第一の非円形領域によって定義された前記軸に垂直な平面に沿うものであるステップと；
第二の領域によって定義される前記平面内に横断面形状を有する組成物を光導波路上に配置するステップとからなり、
前記第一及び第二の領域は互いに隣接しており、第三の基本的に円形の領域を定義し、また前記組成物は光導出部材を含むことを特徴とする照明装置の製造方法。
【請求項２】  請求項１の方法において、光導出部材が前記組成物の表面に合わせて成形されることを特徴とする方法。
【請求項３】  請求項１の方法において、光導出部材が無機物質の酸化物で構成されることを特徴とする方法。
【請求項４】  請求項１の方法において、前記組成物が連続相と分散相とからなることを特徴とする方法。
【請求項５】  請求項１の方法において、前記第二の領域が角度φに広がった扇形によって基本的に区切られ、φは４５°未満であることを特徴とする方法。
【請求項６】  請求項１の方法において、前記光導波路が光ファイバーであることを特徴とする方法。
【請求項７】  請求項６の方法において、前記第一の領域が基本的に多角形で区切られることを特徴とする方法。
【請求項８】  請求項７の方法において、前記多角形が台形であることを特徴とする方法。
【請求項９】  請求項７の方法において、前記多角形が三角形であることを特徴とする方法。
【請求項１０】  長手方向の軸と横断面形状を持つ非平面の光導波路を提供するステップであり、横断面は前記軸の少なくとも一部に沿って第一の非円形領域によって定義された前記軸に垂直な平面に沿うものであるステップと；
前記長手方向の軸の前記部分に沿って第二の領域によって定義される前記平面内に横断面形状を有する組成物を光導波路上に配置するステップとからなり、
前記第一及び第二の領域は互いに隣接しており前記軸の前記部分に沿って第三の領域を定義し、また前記組成物は光導出部材を含むことを特徴とする照明装置の製造方法。
【請求項１１】  請求項１０の方法において、前記第一の領域が基本的に多角形であることを特徴とする方法。
【請求項１２】  請求項１１の方法において、前記第一の領域が基本的に台形であることを特徴とする方法。
【請求項１３】  請求項１０の方法において、前記第一の領域が基本的に切断された円であることを特徴とする方法。
【請求項１４】  長手方向の軸と横断面形状を持つ非平面の光導波路を提供するステップであり、横断面形状は前記軸の少なくとも一部に沿って第一の領域によって定義された前記軸に垂直な平面に沿うものであるステップと；
前記長手方向の軸の前記部分に沿って第二の領域によって定義される前記平面内に横断面形状を有する成形可能な組成物を光導波路上に配置するステップと；
少なくとも１つの光導出部材を前記成形可能な組成物の表面上に成形するステップとからなり、
前記第一及び第二の領域は互いに隣接しており前記軸の前記部分に沿って第三の領域を定義したことを特徴とする照明装置の製造方法。
【請求項１５】  長手方向の軸と横断面形状を持つ非平面の光導波路であり、その横断面が前記軸の少なくとも一部に沿って第一の非円形領域によって定義された前記軸に垂直な平面に沿うものである光導波路と；
前記光導波路内に配置され、前記長手方向の軸の前記一部に沿って第二の領域によって定義される前記平面内に横断面形状を有する組成物であり、前記光導波路と光学的に連通している光導出部材を有する組成物とからなり、
前記第一及び第二の領域は互いに隣接しており、前記軸の前記部分に沿って第三の領域を定義することを特徴とする照明装置。
【請求項１６】  前記第二の領域が角度φに広がる扇形によって基本的に区切られており、φは約９０°未満である請求項１５の照明装置。
【請求項１７】  前記第二の領域が角度φに広がる扇形によって基本的に区切られており、φは約４５°未満である請求項１５の照明装置。
【請求項１８】  非円形コアを有する非平面光導波路と、前記コアと光学的に連通する光導出組成物と、からなる照明装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月25日(2006.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  裏材料基材と、その上にコーティングされた不連続接着剤層とを含み、該裏材料基材が繊維ウェブと吸収性粒子材料とを含み、さらに該接着剤がコーティングされた基材の濡れた皮膚に対する初期接着力が少なくとも２０ｇ／２．５ｃｍ（０．０８Ｎ／ｃｍ）である、接着剤がコーティングされた基材。
【請求項２】  乾燥した皮膚に対する初期接着力が少なくとも約２０ｇ／２．５ｃｍ（０．０８Ｎ／ｃｍ）であり、前記濡れた皮膚に対する初期接着力が乾燥した皮膚に対する初期接着力の約６５％〜約１３５％である請求項１に記載の物品。
【請求項３】  前記吸収性粒子材料が、前記裏材料基材の前記繊維ウェブ全体に均一に分布し、長さと幅の比が約２０：１以下である請求項１に記載の物品。
【請求項４】  前記吸収性粒子材料が、前記裏材料基材の前記繊維ウェブの主面上に配置され、長さと幅の比が１００：１を超え、粒子径が約８００μｍ未満である請求項１に記載の物品。
【請求項５】  前記吸収性粒子材料がその質量の少なくとも約５０倍の水を吸収可能であり、前記裏材料基材が前記不連続接着剤層を形成する感圧接着性繊維を含み、前記濡れた皮膚に対する初期接着力が前記乾燥した皮膚に対する初期接着力の少なくとも６５％である請求項１に記載の物品。
【請求項６】  前記裏材料基材が、通気性で液体不浸透性のフィルムを含み、さらに粒子材料を含有しない繊維ウェブを含む積層体を含む請求項１に記載の物品。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月4日(2006.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  
(a)  遠位部分（２８）と近位端を有するスリーブ（１３）と、
(b)  管内に縦方向に延在する通路（１２）を有する管状フレーム（１１）と
を有し、
前記スリーブは、該スリーブ内を通って縦方向に延在し、前記遠位部分と近位端との間と連通する内腔（１５）を有し、
前記スリーブは、第１方向（１７）に第１圧力を加える流体（１６）に応答して、流体をその前記内腔に通し、
前記スリーブは、第２方向（１８）に第２圧力を加える流体に応答して、つぶれ、
前記スリーブの内腔は、前記フレームの通路と連通し、
前記スリーブは、前記管状フレームの周囲に配置され、該管状フレームに沿って少なくとも部分的に延在し、
前記スリーブの遠位部分は、前記フレームの端部（１４）から延在する
ことを特徴とする抗逆流性食道用プロテーゼ（１０）。
【請求項２】  
反転するように構成された前記スリーブの遠位部分が、前記管状フレームの前記通路を通って延在し、流体に応答して、前記第２の圧力より大きい第３の圧力を加える
ことを特徴とする請求項１に記載のプロテーゼ。
【請求項３】  
前記管状フレームが、前記管状フレームに沿って配置された複数のステント（１９）を含み、前記スリーブが前記ステントの少なくとも１つの周囲に配置される
ことを特徴とする請求項１に記載のプロテーゼ。
【請求項４】  
前記複数のステントが、前記フレームの前記端部の周囲に配置された第１の朝顔形ステント（２０）を含む
ことを特徴とする請求項３に記載のプロテーゼ。
【請求項５】  
前記複数のステントが、前記フレームの他方端（２２）の周囲に配置された第２の朝顔形ステント（２１）を含む
ことを特徴とする請求項４に記載のプロテーゼ。
【請求項６】  
前記複数のステントが、前記第１の朝顔形ステントと前記第２の朝顔形ステントとの間に配置された少なくとも１つの円筒形ステント（２３）を含む
ことを特徴とする請求項５に記載のプロテーゼ。
【請求項７】  
前記複数のステントが、自己拡張式ステント（２０、２１および２３）を含む
ことを特徴とする請求項３に記載のプロテーゼ。
【請求項８】  前記複数の自己拡張式ステントの少なくとも１つがジグザグ形ステントを含む、
ことを特徴とする請求項７に記載のプロテーゼ。
【請求項９】  
前記管状フレームが、前記複数の自己拡張式ステントの隣接する端部（２５、２６）を相互接続するフィラメント（２４）を含む
ことを特徴とする請求項８に記載のプロテーゼ。
【請求項１０】  
複数の自己拡張式ステントの少なくとも１つが、ジグザグ形ワイヤ・ステントを含む、
ことを特徴とする請求項７に記載のプロテーゼ。
【請求項１１】  前記スリーブが、前記管状フレームの全長（２７）に沿って縦方向に延在する
ことを特徴とする請求項１に記載のプロテーゼ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月27日(2006.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
長年にわたる特許法条約によれば、請求の範囲を含む本願において単数形は「１以上」を意味する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
ＤＣＦの形成は対照に比べ、０.５μＭケトコナゾールまたは１０μＭ  ＴＡＯの存在下では有意に低かった（二元配置ＡＮＯＶＡ、ｐ＞０.０５）。例えば、０.５μＭケトコナゾールまたは１０μＭ  ＴＡＯの存在下におけるＤＣＦの形成率はそれぞれ対照の２６％と３０％であった（図６）。ケトコナゾールおよびＴＡＯはＣＹＰ３Ａ４に媒介される代謝の特異的阻害剤であることが知られており、この酵素による基質の代謝を弱めると考えられる。ＤＣＦの形成もまたＣＹＰ３Ａ４に媒介されるテストステロンの酸化の際、ケトコナゾールおよびＴＡＯによって弱められるという事実は、ＤＣＦの形成がＣＹＰ３Ａ４に媒介される化合物の代謝のまさに典型であることを明らかに示している。これらの結果はまた、ＤＣＦの形成を用いてＣＹＰ３Ａ４に媒介される基質の代謝の阻害を評価することもできることを示している。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月20日(2006.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  管腔内移植片であって、以下：
生体適合性の柔軟なチューブ、および
少なくとも１つの環状ワイヤフォームを備える、該チューブに接続された支持足場であって、各ワイヤフォームが、中心軸を規定し、そして複数の曲線ワイヤフォームを有する形状のワイヤを備え、該ワイヤフォームが、複数の第１の同一面尖部および複数の第２の同一面尖部を有し、該第１の尖部および第２の尖部は、交互になっており、そして反対側の方向に延びており、そして複数の曲線セグメントが、該交互の第１の尖部と第２の尖部との間に延びて、該尖部を接続しており、該曲線セグメントの各々が、該中心軸の周りで、隣接する曲線セグメントと同じ回転配向の湾曲方向を有する、支持足場、
を備える、管腔内移植片。
【請求項２】  前記ワイヤフォームが、少なくとも部分的に、弾性材料から形成されており、そして半径方向に伸長した構成に付勢されており、その結果、該ワイヤフォームは、体温において拘束されていない場合に、該半径方向に伸長した構成に自己伸長する、請求項１に記載の移植片。
【請求項３】  前記ワイヤフォームは、少なくとも部分的に、可鍛性材料から形成され、該材料は、最初に、半径方向にコンパクトな構成に形成され、そして半径方向に伸長した構成まで可塑的に変形可能である、請求項１に記載の移植片。
【請求項４】  前記第１の尖部および第２の尖部が、曲線状であり、そして半径の中央に対応する湾曲半径を有する、請求項１に記載の移植片。
【請求項５】  各曲線セグメントが、前記隣接する第１の尖部および第２の尖部のそれぞれの湾曲半径に沿った接触点にて、該第１の尖部と第２の尖部とを接続する、請求項４に記載の移植片。
【請求項６】  複数の長手軸方向尖部軸の各々が、前記中心軸に対して平行に、そして前記第１の尖部および第２の尖部の半径の中央を通って延び、そしていずれか１つの曲線セグメントの反対側の端部における接触点の間に引かれる接線が、隣接する長手軸方向尖部の軸に対して、約３７．５度の内角を規定する、請求項５に記載の移植片。
【請求項７】  いずれか１つの曲線セグメントの反対側の端部における接触点が、対応する長手軸方向の尖部軸に対して約７０度の外角で、それぞれの曲線の第１の尖部および第２の尖部に沿って位置する、請求項６に記載の移植片。
【請求項８】  前記支持足場が、複数のワイヤフォームを備え、各ワイヤフォームが間隔を空けている、請求項１に記載の移植片。
【請求項９】  前記移植片が、直状であり、そして前記複数のワイヤフォームの中心軸が、同一線上にある、請求項８に記載の移植片。
【請求項１０】  前記複数のワイヤフォームの第１の尖部が、整列している、請求項８に記載の移植片。
【請求項１１】  前記支持足場のワイヤフォームが、前記柔軟なチューブの内部に実質的に位置している、請求項１に記載の移植片。
【請求項１２】  前記ワイヤフォームが、前記柔軟なチューブ内に提供された開口部を介して通されている、請求項１１に記載の移植片。
【請求項１３】  医療用ステントまたは移植片のためのワイヤフォームであって、以下：
リング形状のワイヤフォームであって、該ワイヤフォームは、中心軸を規定し、そして複数の曲線のワイヤフォームを備える形状のワイヤを備え、該ワイヤフォームは、複数の第１の同一面尖部および複数の第２の同一面尖部を有し、該第１の尖部および第２の尖部は、交互になっており、そして反対方向に延びており、そして複数の曲線セグメントが、該交互の第１の尖部と第２の尖部との間に延び、そして該尖部を接続しており、該曲線セグメントの各々は、中心軸の周りで、隣接する曲線セグメントと同じ回転配向で、湾曲の方向を有する、ワイヤフォーム、
を備える、ワイヤフォーム。
【請求項１４】  前記第１の尖部および第２の尖部が、曲線であり、そして湾曲半径および対応する半径の中央を有する、請求項１３に記載のワイヤフォーム。
【請求項１５】  各曲線セグメントが、前記隣接する第１の尖部および第２の尖部のそれぞれの湾曲半径に沿った接触点にて、該第１の尖部と第２の尖部とを接続している、請求項１４に記載のワイヤフォーム。
【請求項１６】  複数の長手軸方向尖部軸の各々が、前記中心軸に対して平行に、そして前記第１の尖部および第２の尖部の半径の中央を通って延びており、そしていずれか１つの曲線セグメントの反対側の端部の接触点の間に引かれる接線が、隣接する長手軸方向尖部軸に対して、約３７．５度の内角を規定する、請求項１５に記載のワイヤフォーム。
【請求項１７】  いずれか１つの曲線セグメントの反対側の端部の接触点が、それぞれの曲線の第１の尖部および第２の尖部に沿って、対応する長手軸方向尖部軸に対して、約７０度の外角で位置する、請求項１６に記載のワイヤフォーム。
【請求項１８】  非常にコンパクト化可能な管腔内移植片であって、以下：
生体適合性の柔軟なチューブ；および
複数の環状ワイヤフォームであって、各ワイヤフォームは、中心軸を規定し、そして半径方向に伸長した状態において、以下：
ジグザグ形状を有するワイヤであって、該ジグザグ形状において、複数の第１の尖部が、１つの軸方向に延びており、そして複数の第２の尖部が、反対側の軸方向に延びており、そして複数の湾曲セグメントが、交互の第１の尖部と第２の尖部との間に延びて、該尖部を接続しており、該曲線セグメントの各々が、中心軸の周りで、隣接する湾曲セグメントと同じ回転配向で、湾曲方向を有し、その結果、減少した直径の状態において、該湾曲したセグメントが、互いに入れ子になる、ワイヤ、
を有する、環状ワイヤフォーム、
を備える、管腔内移植片。
【請求項１９】  前記ワイヤフォームが、少なくとも部分的に弾性材料から形成され、そして前記半径方向に伸長した状態に付勢されており、その結果、該ワイヤフォームは、体温において拘束されていない場合に、前記半径方向に伸長した状態まで自己伸長する、請求項１８に記載の移植片。
【請求項２０】  前記ワイヤフォームが、少なくとも部分的に、可鍛性材料から形成されており、該材料は、最初に、前記減少した直径の状態に形成され、そして前記半径方向に伸長した状態まで可塑的変形し得る、請求項１８に記載の移植片。
【請求項２１】  前記第１の尖部が、同一面内にあり、そして前記第２の尖部が、同一面内にある、請求項１８に記載の移植片。
【請求項２２】  前記第１の尖部および第２の尖部が、曲線であり、そして湾曲半径および対応する半径の中央を有する、請求項１８に記載の移植片。
【請求項２３】  各曲線セグメントが、前記隣接する第１の尖部および第２の尖部のそれぞれの湾曲半径に沿った接触点にて、該第１の尖部と第２の尖部とを接続している、請求項２２に記載の移植片。
【請求項２４】  前記複数のワイヤフォームが、軸方向に間隔を空けており、そして前記柔軟なチューブに固定されている、請求項１８に記載の移植片。
【請求項２５】  前記ワイヤフォームが、実質的に、前記柔軟なチューブの内部に位置している、請求項１８に記載の移植片。
【請求項２６】  前記ワイヤフォームが、前記柔軟なチューブに提供された開口部を介して通されている、請求項１８に記載の移植片。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月3日(2005.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２２】
脂肪酸において2つの炭素間に二重結合を形成する方法であって、以下の段階を含む方法；
脂肪酸を、少なくとも1つの精製された請求項18記載の不飽和化酵素と接触させる段階；および
不飽和化酵素に2つの炭素間の二重結合を形成させる段階。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月7日(2006.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
ＴＰＬ−２とｐ１０５との直接的または間接的相互作用を変調することができる請求項６から１４のいずれか１項に記載の方法によって同定可能な化合物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３１】
反応混合物が細胞を含まない混合物である請求項２５、２６、２７及び２８のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月26日(2006.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
天然または質量を変更されたＸ量体前駆体を含む混合物または部分混合物のセットであって、
前記Ｘ量体前駆体の最小の長さが、３ヌクレオチドであり、
前記混合物が、前記混合物中の別個のＸ量体前駆体の数で５６を割って得られる最小の混合物カバレージ複雑度または複合体混合物カバレージ複雑度を有しており、
前記混合物の質量数複雑度が、前記混合物の任意の天然の同等物の質量数複雑度よりも大きく、
前記Ｘ量体前駆体の長さが、各Ｘ量体前駆体について独立に選択され、
前記混合物中の前記Ｘ量体前駆体の各々が、独自の質量を有することを特徴とする混合物または部分混合物のセット。
【請求項２】
前記Ｘ量体前駆体が定義された同位体組成を有することを特徴とする請求項１に記載の混合物。
【請求項３】
前記混合物が、少なくとも１２８個の別個のＸ量体を含むとき、前記混合物または部分混合物のセットが少なくとも約１／２の混合物カバレージ複雑度を有し、前記混合物が少なくとも２５６個の別個のＸ量体を含むとき、前記混合物または部分混合物のセットが少なくとも約１／４の混合物カバレージ複雑度を有し、前記混合物が少なくとも５１２個の別個のＸ量体を含むとき、前記混合物または部分混合物のセットが少なくとも約１／８の混合物カバレージ複雑度を有する請求項１または２に記載の混合物。
【請求項４】
前記Ｘ量体前駆体が、イオン化タグを有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の混合物。
【請求項５】
前記混合物の組成が、既知である請求項１〜４のいずれか１項に記載の混合物。
【請求項６】
前記質量を変更されたＸ量体前駆体の少なくとも一部が、ヌクレオシド間結合、糖のバックボーン若しくはヌクレオシド塩基の少なくとも一の化学修飾、又は少なくとも一の質量タグを含む請求項１〜５のいずれか１項に記載の混合物。
【請求項７】
（１）天然および質量を変更されたＸ量体前駆体を含む混合物、または部分混合物のセットを標的核酸にハイブリッド形成するステップであって、
前記混合物が、前記混合物中の別個のＸ量体前駆体の数で５６を割って得られる最小の混合物カバレージ複雑度または複合体混合物カバレージ複雑度を有し、
前記長さが、各Ｘ量体前駆体について独立に選択され、
前記混合物中の前記Ｘ量体前駆体の各々が、独自の質量を有し、
前記Ｘ量体前駆体が、３'末端と５'末端とを含むことを特徴とするステップと、
（２）標的配列に媒介される反応における前記ハイブリッドの前記Ｘ量体前駆体部分の質量を変えるために、前記ハイブリッドをプロセシングするステップと、
（３）ステップ（２）の産物を質量スペクトルにより分析するステップと
を含む標的核酸配列を分析する方法。
【請求項８】
標的核酸配列が３’末端及び５’末端を有し、
（ａ）表面と、
（ｂ）（ｉ）前記表面に結合した切断可能なリンカーと、
（ｉｉ）３'末端および末端５'リン酸を有する核酸配列であって、前記核酸配列の前記３'末端が前記切断可能なリンカーに結合している核酸配列と
を含む多様な核酸プローブと
を含んでなるアレイ中の前記多様な核酸プローブにハイブリッド形成され、
プロセシングステップが、
前記末端５’リン酸に隣接して局在する前記ハイブリッド形成したＸ量体前駆体に、前記表面に結合したプローブを結合させ、そこに付着した前記標的核酸配列とともにハイブリッド形成した前駆体／プローブ複合体を形成するステップと、
前記複合体を前記切断可能なリンカーにおいて切断するステップと
を含むことを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
（１）ａ．請求項１の混合物と、
ｂ．ヌクレオチドポリメラーゼ活性を有する酵素と、
ｃ．天然の鎖終結三リン酸塩と質量を変更された鎖終結三リン酸塩とからなる群より選択される多様なヌクレオチドとを含むか、または、
（２）ｂ．ＤＮＡポリメラーゼ活性を有する酵素と、
ｃ．天然の鎖終結三リン酸塩と質量を変更された鎖終結三リン酸塩とからなる群より選択される多様なヌクレオチドと、
ｄ．多様な伸長ヌクレオチド三リン酸とを含むか、または、
（３）ｂ．ＤＮＡポリメラーゼ活性を有する酵素と、
ｃ．天然の鎖終結三リン酸塩と質量を変更された鎖終結三リン酸塩とからなる群より選択される多様なヌクレオチドと、
ｄ．ヌクレアーゼと、任意選択により、
ｅ．多様な伸長ヌクレオチド三リン酸とを含むか、または、
（４）ｂ．ＤＮＡポリメラーゼと、
ｃ．天然の鎖終結三リン酸塩と質量を変更された鎖終結三リン酸塩とからなる群より選択される多様なヌクレオチドと、
ｄ．５'エキソヌクレアーゼと、
ｅ．多様な伸長ヌクレオチド三リン酸および５'-(α)-ホスフォチオエート類似体とを含むか、または、
（５）ｂ．ＤＮＡリガーゼと、任意選択により、
ｃ．ヌクレアーゼとを含むか、または、
（６）ｂ．縮合剤を含む、
標的核酸配列の分析法を行なうためのキット。
【請求項１０】
（ａ）表面と、
（ｂ）（ｉ）前記表面に結合した切断可能なリンカーと、
（ｉｉ）３'末端および末端５'リン酸を有しており、前記核酸配列の前記３'末端が切断可能なリンカーに結合している核酸配列と
を含む多様な核酸配列プローブと
を含むアレイをさらに含んでなる請求項９に記載のキット。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月20日(2006.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５０】
（ｂ．抗体）
ＴＧＦ−βファミリーメンバーへのＴＧＦ−β結合タンパク質の結合を阻害する抗体は、本明細書中に提供される開示を考慮して容易に調製され得る。本発明の状況内では、抗体は、モノクローナル抗体、ポリクローナル抗体、抗イディオタイプ抗体、抗体フラグメント（例えば、Ｆａｂ、およびＦ（ａｂ’）２、Ｆｖ可変領域、または相補決定領域）を含むことが理解される。上記で議論されるように、抗体は、１０７Ｍ−１以上、好ましくは１０８Ｍ−１以上、のＫａにて結合し、そして他のＴＧＦ−β結合タンパク質に結合しないか、または１０６Ｍ−１以下のＫａにて結合する場合に、ＴＧＦ−β結合タンパク質に対して、または特定のＴＧＦ−βファミリメンバーに対して特異的であることが理解される。さらに、本発明の抗体は、ＴＧＦ−βファミリーメンバーへのＴＧＦ−β結合タンパク質の結合をブロックするか、または阻害する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月20日(2006.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  岩盤にあけられる各孔の他の孔に対する長さおよび位置を三次元座標系内で定めた所定の鑿岩計画に従って岩盤に孔をあける鑿岩制御方法において、岩盤に対する現在位置を三次元座標系で指示する測定器を鑿岩された孔内に挿入しまたは降下させることにより、少なくとも岩盤に鑿岩された所定の孔の末端の少なくとも実際位置を測定し、前記鑿岩計画で定められた末端位置に対する前記測定された孔の末端位置の偏差を計算し、該計算された偏差に応じて前記鑿岩計画を変更することを特徴とする鑿岩制御方法。
【請求項２】  請求項１に記載の方法において、前記鑿岩計画にある未鑿岩の孔の位置を鑿岩前に変更することを特徴とする鑿岩制御方法。
【請求項３】  請求項１または２に記載の方法において、前記鑿岩計画に新しい孔を必要な数だけ追加することを特徴とする鑿岩制御方法。
【請求項４】  請求項１ないし３のいずれかに記載の方法において、鑿岩された孔の各々を測定し、各孔の測定後に必要に応じて鑿岩計画を変更することを特徴とする鑿岩制御方法。
【請求項５】  請求項１ないし４のいずれかに記載の方法において、孔の偏差を所定の間隔で該孔の全長にわたって測定することを特徴とする鑿岩制御方法。
【請求項６】  請求項１ないし４のいずれかに記載の方法において、孔の偏差を実質的に連続して測定することを特徴とする鑿岩制御方法。
【請求項７】  請求項１ないし６のいずれかに記載の方法において、前記測定を孔の鑿岩の実質的に直後に行うことを特徴とする鑿岩制御方法。
【請求項８】  請求項７に記載の方法において、測定器は、鑿岩された孔に、好ましくはホースである可撓性の細長い押し出し器によって挿入し、引き出すことを特徴とする鑿岩制御方法。
【請求項９】  請求項１ないし６のいずれかに記載の方法において、前記測定は、鑿岩作業中に行うことを特徴とする鑿岩制御方法。
【請求項１０】  請求項１ないし９のいずれかに記載の方法において、前記測定器は鑿岩機の制御手段に連続的に接続して配置し、該測定器の測定値は測定中に実質的に連続して前記鑿岩機の制御手段に伝送することを特徴とする鑿岩制御方法。
【請求項１１】  請求項１ないし９のいずれかに記載の方法において、前記測定器の測定値は、測定中に測定器のメモリに蓄積し、測定器を孔から引き出した後に前記鑿岩機の制御手段に伝送することを特徴とする鑿岩制御方法。
【請求項１２】  請求項１ないし11のいずれかに記載の方法において、前記測定器は慣性測定器であることを特徴とする鑿岩制御方法。
【請求項１３】  請求項１ないし12のいずれかに記載の方法において、発破に使用される発破剤の量および位置を、孔の測定に基づいて各孔ごとに決定することを特徴とする鑿岩制御方法。
【請求項１４】  岩盤に孔をあける鑿岩手段と、該鑿岩手段を鑿岩すべき孔の各々に位置決めしこれに対応して鑿岩計画に従って孔を自動的に鑿岩する制御手段とを含み、所定の鑿岩計画に従って岩盤に孔をあける鑿岩機において、該鑿岩機は、鑿岩された孔内に挿入または降下可能な測定器と、該測定器を鑿岩された孔内に挿入しまたは降下させ、孔から引き出す供給手段と、該測定器によって測定された測定値を制御手段に伝送する伝送手段とを含むことを特徴とする鑿岩機。
【請求項１５】  請求項14に記載の鑿岩機において、前記測定器を鑿岩された孔内に供給する手段は、先端に前記測定器が設置された細長い可撓性器具と、該可撓性器具を収納するリールと、該可撓性器具を鑿岩された孔内に挿入する供給手段と、鑿岩を行う鑿岩手段およびこれに対応して鑿岩された孔を測定する可撓性器具を鑿岩孔に位置決めする位置決め手段を有することを特徴とする鑿岩機。
【請求項１６】  請求項15に記載の鑿岩機において、前記可撓性器具はホースであることを特徴とする鑿岩機。
【請求項１７】  請求項16に記載の鑿岩機において、前記測定値を伝送する伝送手段は前記ホース内部を通るケーブルを含み、該ケーブルを介して前記測定器は制御手段に接続されていることを特徴とする鑿岩機。
【請求項１８】  請求項14ないし16のいずれかに記載の鑿岩機において、該鑿岩機は、前記測定器のメモリ内に蓄積されたメモリデータを無線方式で制御手段に伝送する伝送手段を含むことを特徴とする鑿岩機。
【請求項１９】  請求項14に記載の鑿岩機において、前記測定器は慣性測定器であることを特徴とする鑿岩機。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月2日(2005.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
輪郭形状の最適化は、それ自体、剥離流を有するノズルを連続的に動作させることを許容する必要条件に達するものではない。しかしながら、流れの剥離装置による前記の必要条件に達するための環境は改善される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月8日(2006.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも1個の同型の方向制御弁と協働するようになっており、最大作用圧力を検出する機能と、飽和防止機能と、前記作用圧力と独立した分配分流機能とを実行することができるバランス調整機構を備え、該バランス調整機構は、制御弁ボディにあけられ、内部をプランジャ（３１）が移動可能であるハウジング（１３）を有し、
前記ハウジング（１３）は、
油圧源から供給される加圧された作動油（Ｐ）を選択的に受けることのできる第１の端部（１２）と、最大作用圧力（ＬＳ）を伝える通路（８）に連通する第２の端部（１５）と、方向制御弁の作動用オリフィス（Ａ、Ｂ）に選択的に連通する横方向のオリフィス（２１）と、を備え、
前記プランジャ（３１）は、流量制限部によって生ずる圧力低下（Δｐ）分だけ低下した前記入口圧力（Ｐ）の、前記ハウジングの第２の端部に現れる最大作用圧力に対する超過によって決められる位置に前記プランジャ（３１）がある時に、一方が前記ハウジングの前記第１の端部（１２）に向かって開き、他方がハウジングの前記第２の端部（１５）に向けて横向きに開く前記流量制御部（２８）を備えた通路（３８）を有し、
前記プランジャ（３１）は、入口圧力と前記ハウジングの第２の端部に加わる最大作用圧力との圧力差（Δｐ）に比例して、前記ハウジングの横方向のオリフィス（２１）を開き、該横方向のオリフィスを前記ハウジングの前記第１の端部（１２）と連通させる油圧式方向制御弁において、
前記バランス調整機構は、前記ハウジング（１３）の内部を前記ハウジングと同軸に延びる固定された中央コア部（３０）を有し、
前記プランジャは、
前記コア部（３０）と前記ハウジング（１３）との間に、同軸で、自由に摺動できるように挿入された管状のプランジャ（３１）として形成され、前記プランジャの全長は前記コア部（３０）の全長よりも短く、前記ハウジングの横方向のオリフィス（２１）を、その位置に従って多く塞いだり開いたりするように外部が形成され、
前記コア部（３０）およびプランジャ（３１）は、それらの間に、前記プランジャ（３１）上に形成された半径方向に延びる環状の第１の面（３７）を有する環状のチャンバー（３５）を、一緒に形成するように構成され、
前記プランジャ（３１）上に位置し、前記第１の面（３７）とは反対側を向いており、かつ、入口の作動油の圧力（Ｐ）を受けることができる半径方向に延びる環状の第２の面（３６）を有し、、
前記中央通路（３８）は前記コア（３０）内に形成され、かつ内部が高い作動圧力（ＬＳ）となっている、ハウジング（１３）の前記第２の端部（１５）に開口している第１のオリフィス（３９）と、前記圧力（ＬＳ）が前記環状のチャンバー（３５）の前記環状の第１の面（３７）に作用するようにコア部とプランジャとの間の前記環状のチャンバー（３５）内に開口する第２の連絡路（４０）と、ハウジング（１３）の前記第１の端部（１２）と反対側にあり前記方向制御弁の作用圧力が最大作用圧力となるまで前記プランジャ（３１）によって閉じる第３の連絡路（４１）とを有していること特徴とする油圧式方向制御弁。
【請求項２】  前記コア部の通路（３８）の前記第２のオリフィス（４０）が、前記プランジャの動作が流体的に減衰するように絞りを備えている、請求項１に記載の油圧式方向制御弁。
【請求項３】  前記コア部（３０）は前記ハウジングの第２の端部の領域にある広いボディ（４２）と、前記ハウジングの第１の端部の領域にある狭い部分（４３）とを有しており、前記管状のプランジャ（３１）は、前記コア部の広いボディ（４２）を取り囲む直径の大きい部分（４４）と、前記コア部の前記狭い部分（４３）を取り囲む直径の小さい部分（４５）とを有し、前記コア部と前記プランジャとの間に前記環状のチャンバー（３５）を形成するように、前記コア部の直径の大きいボディ（４２）の長さは前記プランジャの前記直径の大きい部分（４４）の長さよりも短くなっている、請求項１または請求項２に記載の油圧式方向制御弁。
【請求項４】  前記バランス調整機構の前記流量制限部は前記コア部の通路（３８）の前記第３のオリフィス（４１）に設けられている、請求項１から３のいずれか１項に記載の油圧式方向制御弁。
【請求項５】  前記ハウジング（１３）は、前記方向制御弁のボディの１つの面に穿孔された穴により構成され、この穴は、前記ハウジング（１３）内のコア部（３０）の動きを止める、流体を漏らさないプラグ（３３）により閉じられている、請求項１から４のいずれか１項に記載の油圧式方向制御弁。
【請求項６】  中央の前記コア部（３０）は仕上げ加工の行われていない、鋳鉄または青銅で作られており、前記管状のプランジャ（３１）は、鋼で作られていると共に内面が精密に仕上げ加工されている、請求項１から５のいずれか１項に記載の油圧式方向制御弁。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月6日(2006.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ポンプ室とポンプ入り口とを有し、泡もしくは粘着力のある流体のポンピングをするための遠心式ポンプで使用されるのに適したポンプの羽根車であって、この羽根車は、前記ポンプ室内に設置されたときに、回転軸を中心として回転するように装着され、また、夫々自由前縁を備えた複数の主ポンプブレードまたはベインを有する主胴体部を具備する、羽根車において、
前記主ポンプブレードまたはベインの１つまたは複数は、これと関連した流れ誘導ブレードまたはベインを有し、前記流れ誘導ブレードまたはベインは、前記主ポンプブレードまたはベインの前記自由前縁に取着されるか一体的であり、前記回転軸の方向に、前記自由前縁を超えて延びており、また、前記流れ誘導ブレードまたはベインは、部分的に螺旋状をした表面を有し、設置された位置で、前記ポンプ入り口の中へ突出して、流れを発生させるためのすくいだしを形成していることを特徴とする羽根車。
【請求項２】  前記羽根車の主胴体部は、主ポンプブレードの一側面にシュラウドを有し、このシュラウドは、設置された位置にある時はポンプ入り口から離れている請求項１に記載の羽根車。
【請求項３】  前記主ポンプブレードまたはベインは、シュラウドから突出し、また、前記自由前縁は、設置された位置にある時には、前記ポンプ室のポンプ入り口側面に隣接する請求項２に記載の羽根車。
【請求項４】  各主ポンプブレードまたはベインは、これに対応した１つの流れ誘導ブレードまたはベインを有する請求項３に記載の羽根車。
【請求項５】  前記主胴体部は、間に主ポンプブレードまたはベインを挟み、相互に離間した２つシュラウドを有する請求項１に記載の羽根車。
【請求項６】  前記流れ誘導ブレードまたはベインは、前記ポンプ室のポンプ入り口側付近のシュラウドから突出し、入り口の中へ延びている請求項５に記載の羽根車。
【請求項７】  前記流れ誘導ブレードまたはベインは、前記主ポンプブレードまたはベインの１つの自由前縁の一部と一体的にかこれに装着された縁を有する請求項１乃至６のいずれか１に記載の羽根車。
【請求項８】  請求項１に係る羽根車と、ポンプ室と、ポンプ入り口とを具備し、前記羽根車は、の主胴体部から突出している１つまたはそれ以上の流れ誘導ブレードまたはベインを備えた主胴体部分を有する羽根車とを具備し、この羽根車は、前記ポンプ室内に前記回転軸を中心として回転するように装着されている遠心式ポンプ。
【請求項９】  前記羽根車は、主ポンプブレードまたはベインの一側面にシュラウドを有し、このシュラウドは設置された位置にある時はポンプ入り口から離れており、また、前記ポンプブレードまたはベインは、このシュラウドから突出しており、また、前記自由前端は、ポンプ室のポンプ入り口側に隣接しており、そして、前記流れ誘導ブレードまたはベインは、１つまたはそれ以上の主ポンプブレードまたはベインの自由前縁と一体的にかこれに装着され、前記入り口の中へ突出している、請求項８のポンプ。
【請求項１０】  前記主胴体部は、間に前記主ポンプブレードまたはベインを挟むように互いに離間した２つのシュラウドを有し、また、前記流れ誘導ブレードまたはベインは、ポンプ室のポンプ入り口側に近接したシュラウドから突出しかつ入り口の中へ延びている、請求項８のポンプ。