【事件の表示】
　特願２００５−　　８０９６「粒子分析方法、粒子分析装置および粒子分析プログラム」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年　７月２７日出願公開、特開２００６−１９４７８８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯　
　
　本願は，平成１７年１月１４日に特許出願されたものであって，平成２３年２月２８日付けで拒絶査定がなされ，これに対し，同年６月７日に拒絶査定に対する不服の審判請求がなされるとともに，同日付けで手続補正（以下「本件補正」という）がなされたものである。さらに，同年９月２２日付けで審尋がなされ，回答書が同年１１月１１日付けで請求人より提出されたものである。　
　　
第２　本件補正についての補正却下の決定　
　
［補正却下の決定の結論］　
　
　　本件補正を却下する。　
　
［理由］　
　
１　補正後の請求項１に係る発明　
　
　本件補正により，補正前の特許請求の範囲の請求項１は，次のとおりに補正された。（下線は補正箇所を示す）　
　　
「【請求項１】　
　
溶媒に粉体
懸濁させて得られた粉体粒子
　
粉体粒子
　光が照射された
粉体粒子懸濁液
ことにより，粉体粒子懸濁液に含まれる複数の粉体粒子像を含み且つ複数の画素からなる多階調画像を取得する
　
前記
に
含まれる各粉体粒子像について
粉体
円形度を求める工程と，を有する粒子分析方法。」　
　　
　上記補正は，「粒子」を「粉体粒子」に限定するとともに，「多階調画像」に「複数の粉体粒子像」が含まれることを限定するものであるといえる。　
　　
　そうすると，前記補正は，平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前（以下「平成１８年法改正前」という）の特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。　
　　
　そこで，補正後の請求項１に係る記載された発明（以下「補正発明」という）が特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。　
　　
２　引用刊行物およびその記載事項　
　　
（１）本願出願前に頒布され，原査定の拒絶の理由に引用された刊行物である特開平８−１３６４３９号（以下「刊行物１」という）には，「粒子画像分析装置」に関して，図面とともに，次の事項が記載されている。　
　　
（１−ア）　
「【請求項１】  粒子懸濁液の流れをシース液で取り囲んだ流れに変換するシースフローセルと，変換された懸濁液流に対して光を照射する光照射手段と，照射された粒子を撮像する撮像手段と，撮像された粒子像を解析する画像解析手段と，表示手段とを備え，画像解析手段は，撮像された各粒子像の面積および周囲長についての粒子データを測定し，その粒子データから粒子の粒径と円形度を算出する算出手段と，粒径による粒度頻度データに基づいてヒストグラムを作成すると共に粒径と円形度とに対応する２つのパラメータによる２次元スキャッタグラムを作成して表示手段にそれぞれ表示する図表作成手段と，撮像された各粒子像を格納する記憶手段と，記憶手段に格納された各粒子像を表示手段に一括表示する粒子像呼出手段とからなることを特徴とする粒子画像分析装置。」
　
（１−イ）　
「【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は液中の粒子を撮像し，その粒子像を記憶，表示するとともに，粒子像を画像解析することによって，粒子の大きさや形状に関する情報を求める粒子画像分析装置に関する。
　
【０００２】
【従来の技術】ファインセラミックス粒子，顔料，化粧品用パウダー等の粉体の品質を管理する上で，粒子の粒径を測定，管理することは非常に重要である。その測定装置として，古くから液相沈降法，電気的検知帯法（クールター法）による測定装置があり，最近ではレーザ回析散乱法による測定装置が広く使用されている。」
　　
（１−ウ）　
「【００１２】この発明の装置の分析対象は，ファインセラミックス，顔料，化粧品用パウダーのような無機物の粉体および食品添加物のような有機物の粉体を含むものであり，予め染料や標識試薬によって染色処理された粒子であってもよい。」
　　
（１−エ）　
「【００１７】
【作用】シースフローセルは，粒子懸濁液の流れをシース液で取り囲み，細いあるいは偏平な流れに変換し，光照射手段は，変換された懸濁液流に対して光を照射し，撮像手段は，光照射された粒子を撮像する。画像解析手段は，撮像された粒子像を解析して解析結果を粒子像と共に表示手段に表示する。
　
【００１８】つまり，画像解析手段においては，算出手段が，撮像された各粒子像の面積および周囲長についての粒子データを算出し，そのデータから粒径と円形度を算出し，図表作成手段が，粒径による粒度頻度データに基づいてヒストグラムを作成すると共に，粒径と円形度とに対応する２つのパラメータによる２次元スキャッタグラムを作成してそれらを表示手段に表示する。
　
【００１９】一方，記憶手段は，撮像された各粒子像を格納し，粒子像呼出手段は，記憶手段に格納された各粒子像を表示手段に一括表示する。つまり，この粒子分析装置では，撮像された各粒子像から粒子の大きさや周囲長を求め，また，実際の粒子の形態や凝集状態を一括表示される粒子像で確認することができる。
　
【００２０】具体的には，粒子懸濁液を透明なフローセルに導き，その懸濁液を細い又は偏平な流れにする。その流れに対して光照射することによって，流れの中の粒子をビデオカメラで撮像する。撮像された各粒子像の投影面積と周囲長を算出し，次に粒径と円形度を算出する。さらに，粒径による粒度ヒストグラムおよび粒径と円形度の２次元スキャッタグラムを作成する。この２次元スキャッタグラムと実際の粒子像を評価，確認することによって，粒子の円形度や凝集度合いに関する情報を得ることができる。」
　　
（１−オ）　
「【００２４】粒子を懸濁する溶媒は粒子特性（粒径や比重）に応じて最適なものを選べばよい。また，懸濁液の流れを確実に偏平にあるいは細く絞り込むため懸濁液の特性に応じて，例えば溶媒の粘度や比重に応じて，シース液の粘度や比重を変更するのが好ましい。図１には図示していないが，複数種類のシース液ボトルを設け，測定する試料に応じて使用するシース液の種類を容易に切り換えられるような機構を付加してもよい。
　
【００２５】懸濁液流の偏平な面をビデオカメラ１０で撮像すれば，ビデオカメラ１０の撮像エリア全体に渡って粒子像を捉えることができ，１回の撮像で多数の粒子を撮像できる。また，撮像される粒子の重心とビデオカメラ１０の撮像面との距離をほぼ一定にすることができるので，粒子の大きさに関わらず常にピントの合った粒子像が得られる。さらに，流体力学的な効果によって，偏平な粒子や細長い粒子の向きが揃いやすく，粒子像を解析して得られる特徴パラメータは，ばらつきが小さく再現性が良い。」
　　
（１−カ）
「【００２９】１／３０秒ごとの粒子撮像画面に対する画像処理の手順を図５に示す。画像信号は，画像処理装置１１に取り込まれてＡ／Ｄ変換され，画像データとして取り込まれる（ステップＳ１）。まず懸濁液流に対する照射光の強度むら（シェーディング）を補正するためのバックグランド補正が行われる（ステップＳ２）。
　
【００３０】具体的には，粒子がフローセル５を通過していない時に光照射して得られる画像データを，測定前にあらかじめ取り込んでおき，その画像データと実際の粒子撮像画面の画像データとを比較演算することであり，画像処理として一般的によく知られた処理である。次に，粒子像の輪郭を的確に抽出するための前処理として輪郭強調処理を行う（ステップＳ３）。具体的には，一般的によく知られたラプラシアン強調処理を行う。
　
【００３１】次に，画像データをある適当なスレシホールドレベルで２値化する（ステップＳ４）。次に，２値化された粒子像に対してエッジ点かどうかを判定するとともに，着目しているエッジ点に対して隣合うエッジ点がどの方向にあるかの情報，すなわちチェインコードを生成する（ステップＳ５）。次に，このチェインコードを参照しながら粒子像のエッジトレースを行い，各粒子像の総画素数，総エッジ数，斜めエッジ数を求める（ステップＳ６）。
　
【００３２】高性能のパイプライン処理可能な画像処理装置を使用すれば，以上の画像処理を，１／３０秒ごとに撮像される画面に対してリアルタイムに処理することができる。この装置では，ある倍率で撮像される複数の画面に対して上記画像処理を繰り返し行い，次に異なる撮像倍率に切り換えて撮像し，同様の画像処理を行う。また，撮像されたフレームから粒子像の切り出しを行い，切り出した粒子像を画像処理装置１１の画像メモリに格納する（ステップＳ７）。
　
【００３３】撮像が終了すると（ステップＳ８），各粒子像に対して求められた総画素数，総エッジ数，斜めエッジ数から，まず下記の式によって各粒子像の投影面積Ｓと周囲長Ｌを求める。
　
【００３４】図１０に示すように，２値画像の周囲のエッジの中心を結んでできる枠内の面積Ｓおよび枠の長さ（周期長Ｌ）は，１画素当たりの面積を１とした場合，
  面積Ｓ＝総画素数−（総エッジ数×０．５）−１……(1)
  周囲長Ｌ＝（総エッジ数−斜めエッジ数）＋（斜めエッジ数×√２）……(2）
　
【００３５】次に，上記面積Ｓと周囲長Ｌを用いて円相当径と円形度を求める（ステップＳ９）。厳密に言うと，縦横線と斜め４５°の線で粒子像の輪郭を表わすと，上式で求められる周囲長Ｌは丸い粒子像の場合，１．０５倍程度長くなり，円形度を求める際に少し補正が必要となる。円形当径とは，粒子像の投影面積と同じ面積を持つ円を想定し，その円の直径のことであり，式（３）で表される。円形度とは，例えば式（４）で定義される値であり，粒子像が円形の時に円形度は１になり，粒子像が細長くなればなるほど円形度は小さい値になる。
　
【００３６】
  円相当径＝（粒子投影像面積値／π）1/2×２……(3)
  円形度＝（粒子像と同じ投影面積値を持つ円の周囲長）／粒子投影像の周囲長）……(4)」
　
（１−キ）
「【００４１】粒度頻度データは，まずそれぞれの撮像倍率で撮像された粒子像に対して独立に求める。それぞれの撮像倍率での粒径測定範囲は異なり，例えば図６に示すように，高倍率撮像での粒径測定範囲を１〜３０μｍ，低倍率撮像での粒径測定範囲を１５〜３００μｍとしている。この例では，１５〜３０μｍの範囲をオーバーラップさせている。」
　
　上記記載事項（１−ア）〜（１−キ）ならびに図５および１０を総合すると，刊行物１には次の発明（以下「引用発明」という）が記載されていると認められる。　
　　
「無機物の粉体および食品添加物のような有機物の粉体を含む粒子を溶媒に懸濁させた粒子懸濁液を透明なフローセルに導き，その懸濁液を細い又は偏平な流れにし，その流れに対して光照射することによって，流れの中の多数の粒子を，低倍率及び高倍率でそれぞれ撮像し，撮像された各粒子像の投影面積と周囲長を算出し，次に円相当径と円形度を算出する粒子画像分析方法。」　
　　
（２）本願出願前に頒布された刊行物である特開２０００−１９３５９６号公報（以下「刊行物２」という）には，「検査方法」に関して，図面とともに，次の事項が記載されている。（なお，下線は当審にて記したものである。）　
　　
（２−ア）　
「【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は，フォトマスク又は半導体集積回路の製造過程における検査方法に関する。」　
　　
（２−イ）　
「【００３１】ここで，パターンの外形を算出するために，マスク１８上０．１μｍ刻みの強度データを補完して，分解能の高い，例えば０．０２μｍ刻みのデータにする機能を備えてもよい。但し，補完のための演算処理を行うことにより検査時間が増大するという弊害も生じる。」　
　
（２−ウ）
「【００７５】なお，本発明は，上記実施形態に限定されるものではない。例えば，ここで透過光あるいは反射光強度の測定にラインセンサを用いたが，これはＴＤＩ（TimeDelay Integration）タイプのＣＣＤセンサや通常のＣＣＤセンサがある。また，
ラインセンサではなく二次元のＣＣＤセンサを用いて二次元の画像データとして測定してもよい。
　　
３　対比・判断　 
　
（１）対比　
　
ア　補正発明と引用発明とを対比するに，引用発明の「無機物の粉体および食品添加物のような有機物の粉体を含む粒子」は，補正発明の「粉体粒子」に相当することは明らかである。　
　　
イ　引用発明では，上記記載事項（１−カ）のとおり，「画像信号は，画像処理装置１１に取り込まれてＡ／Ｄ変換され，画像データとして取り込まれる」ものであり，ここで，Ａ／Ｄ変換された画像データが多階調画像であることは明らかである。また，引用発明では，上記記載事項（１−カ）のとおり，前記画像データに基づいて，各粒子像の円相当径及び円形度を求めているから，引用発明と補正発明とは，多階調画像に基づいて，各粒子像の円相当径及び円形度を求めている点で共通する。
　　
　そうすると，両者は，　
　
（一致点）　
「溶媒に粉体粒子を懸濁させて得られた粉体粒子懸濁液の流れを形成する工程と，
　粉体粒子懸濁液の流れに対して光を照射する工程と，
　光が照射された粉体粒子懸濁液を撮像することにより，粉体粒子懸濁液に含まれる複数の粉体粒子像を含み且つ複数の画素からなる多階調画像を取得する工程と，
　前記多階調画像に基づいて，各粉体粒子像について，粉体粒子の特徴を表す情報として円相当径及び円形度を求める工程と，を有する粒子分析方法。」　
　
である点で一致し，次の点で相違する。　
　　
（相違点）　
　
　補正発明は，多階調画像に対して「構成画素数を増やす補間処理」を行い，補間処理された補間画像に含まれる各粉体粒子像について，円相当径及び円形度を求めているのに対して，引用発明は，高倍率撮像を行っている点　
　　
（２）判断　
　
　上記相違点について検討する。
　
　引用発明では，上記記載事項（１−キ）のとおり，低倍率撮像と高倍率撮像の２種類の撮像を行っているため，測定時間の増大及び高コスト化を招いていることは自明である。
　
　しかしながら，測定・分析の分野では，測定時間の短縮及び低コスト化は当然の課題であって，例えば，本願出願日前に頒布された刊行物である特開平３−３９６０３号公報には，「ＣＣＤ等の固体撮像素子で読み取ったパターンの輪郭を画像処理を介して高精度に検出する方法，及びこの方法により高精度に検出されたパターンの輪郭情報から輪郭間の距離，例えば線幅や円の直径などの長さを精密にかつ自動ないし半自動で測定する測長装置」（公報２頁１０〜１５行）に関して，「より細かい絶対測定精度を得るために，固体撮像カメラにかかる上記問題は，（１）画素密度の大きい高解像の撮像素子を用いる，及び／または（２）カメラの光学系に高倍率のものを適用することにより一応技術的には解決できる。しかしながら，（１），（２）ともにコストの大幅な上昇を招く欠点があり，また（２）では像歪や収差の問題，さらに操作時の位置合わせ・見当合わせの困難さが倍加するなど克服すべき新たな技術的課題が生じてくる。」（公報２頁右下欄１８行〜３頁左上欄６行，当審注：丸数字は，（数字）で示した。）という課題が記載されている。
　
　したがって，引用発明において，低倍率撮像のみで測定を行うことには，測定時間の短縮及び低コスト化を図るという動機付けが十分に存在するといえる。
　
　そして，刊行物２には，パターンの外形を算出するために，マスク１８上０．１μｍ刻みの強度データを補完して，分解能の高い，例えば０．０２μｍ刻みのデータにすることが記載されている。
　
　刊行物２に記載された検査方法は，フォトマスク等のパターンの欠陥を検査するものであるが，画像処理一般の技術分野で，引用発明と共通する。
　
　したがって，低倍率撮像による低い分解能を補うために，刊行物２に記載された技術事項を引用発明に適用し，低倍率撮像により得られた画像を補間し，その補間画像に基づいて円相当径及び円形度を求めるよう為すことは，当業者であれば容易に想到し得る事項であるというべきである。
　
　ここで，請求人は，平成２３年７月１３日付け手続補正書（方式）において，刊行物２について，「画素を補間する技術を採用することが検査時間の増大を招くことは引用文献３にも示唆されていることですから，引用文献３に接した当業者であれば，検査時間の増大を招くような発明の組み合わせを行うとは考えられません。」と主張している。
　
　しかしながら，高倍率撮像に要する時間より，補間処理に要する時間の方が短時間であることは，本願出願時点では技術常識であり，また，補間処理に要する時間は，画像処理装置の能力や処理の内容，処理対象の画像の量等に依存するものであって，当業者であればこれらの諸条件を勘案することは当然であるから，刊行物２の当該示唆のみをもって，引用発明と刊行物２に記載された技術事項との組み合わせを否定することはできず，請求人の主張は採用できない。
　
　また，本願明細書に記載された相違点により奏する作用・効果も，刊行物１及び２に記載された事項から予測し得る範囲のものであり，格別顕著なものとはいえない。　
　　
　ゆえに，補正発明は，引用発明，及び刊行物２記載の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるというべきであり，特許法第２９条第２項の規定により，独立して特許を受けることができないものである。　 
　　
４　まとめ　 
　
　以上のとおりであるから，本件補正は，平成１８年法改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので，特許法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により，却下すべきものである。　
　　
第３　本願発明について　
　
１　本願発明　
　
　本件補正は上記のとおり却下されることとなったので，本願の請求項１〜８に係る発明は，平成２２年１０月１４日付け手続補正書に補正された特許請求の範囲の請求項１〜８に記載された事項により特定されるものと認められ，その請求項１は次のとおりのものである。　
　　
「【請求項１】
　粒子を含む懸濁液の流れを形成する工程と，
　懸濁液の流れに対して光を照射する工程と，
　光が照射された粒子を撮像する工程と，
　粒子を撮像して得られた複数の画素からなる多階調画像に対して構成画素数を増やす補
間処理を行い，補間処理された補間画像に基づいて，粒子の特徴を表す情報として円相当
径及び／又は円形度を求める工程と，を有する粒子分析方法。」（以下「本願発明」という）
　　
２　引用刊行物の記載事項　 
　
　原査定の拒絶の理由に引用した刊行物１およびその記載事項は，前記「第２　２　引用刊行物およびその記載事項　（１）」に記載したとおりである。　
　　
３　判断　 
　
　本願発明は，補正発明において，「粒子」を「粉体粒子」に限定せず，また，「多階調画像」に「複数の粉体粒子像」が含まれるとの限定をしないものであるから，本願発明と引用発明とは，前記「第２　３　対比・判断　（１）対比」において述べた相違点でのみ相違する。　
　
　そして，前記相違点については，前記「第２　３　対比・判断　（２）判断」において検討したとおりである。
　
　ここで，刊行物２は，拒絶査定時に「文献３」として新たに提示された文献であるが，請求人は平成２３年７月１３日付け手続補正書（方式）にて本願発明と刊行物２に記載された事項との相違点について検討を行っており，請求人には，刊行物２について，十分に反論する機会があったものであり，また補正をする機会もあったものであるから，別途拒絶理由を通知するまでには至らない。
　
　したがって，本願発明は，引用発明，及び刊行物２記載の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるというべきである。　
　　
４　むすび　 
　
　以上のとおり，本願発明は，特許法第２９条第２項の規定により，特許を受けることができないから，その余の請求項に係る発明について言及するまでもなく，本願は拒絶されるべきものである。　
　
　よって，結論のとおり審決する。