【手続補正書】
【提出日】平成18年4月24日(2006.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被膜材の濾過方法であって、
少なくとも１つの濾過集成体の少なくとも１つの結果的としての濾過因子が、２５０，０００ｓ−１以下となるような、濾過温度、および、前記濾過集成体を通じて測定される圧力降下（ΔＰ）で、前記少なくとも１つの濾過集成体を備える濾過装置を通して、粘度を有する被膜材を濾過する工程を有し、
前記圧力降下（ΔＰ）が、約０から約８０ｐｓｉｇの間で、前記少なくとも１つの濾過集成体の少なくとも１つの濾材の孔寸法が、高くても約１２０°Ｆの温度で、大きくても１０μｍである被膜材の濾過方法。
【請求項２】
請求項１記載の濾過方法において、
前記濾過工程における圧力降下の最大値は、
【数１】
2005524871.tif 000001
または
【数２】
2005524871.tif 000002
から選択される式によって決定されることを特徴とする濾過方法。
ここで、ηは、操作される温度Ｔにおける前記被膜材の粘度で、γｍａｘは、最大の予め定められた濾過因子である。
【請求項３】
請求項１記載の濾過方法において、
前記濾過工程における最大温度は、以下の式によって決定されることを特徴とする濾過方法。
【数３】
2005524871.tif 000003
ここで、ΔＰは、各々の前記濾過集成体を通じた圧力降下で、ηは、濾過温度における前記被膜材の粘度で、γｍａｘは、最大の予め定められた濾過因子である。
【請求項４】
請求項１記載の濾過方法において、
前記濾過工程は、圧力降下（ΔＰ）が約８０ｐｓｉｇ以下で、温度が約５０°から１４０°Ｆの範囲で行われることを特徴とする濾過方法。
【請求項５】
請求項１記載の濾過方法において、
前記少なくとも１つの濾過集成体は、孔寸法が約０．１から３μｍである濾材を有することを特徴とする濾過方法。
【請求項６】
請求項１記載の濾過方法において、
前記濾過工程は、約６０°Ｆから約９５°Ｆの温度で行われることを特徴とする濾過方法。
【請求項７】
請求項１記載の濾過方法において、
前記濾過工程は、約７０°Ｆから約９０°Ｆの温度で行われることを特徴とする濾過方法。
【請求項８】
請求項１記載の濾過方法において、
前記濾過工程は、温度が約７０°Ｆから約８０°Ｆの温度で行われることを特徴とする濾過方法。
【請求項９】
請求項１記載の濾過方法において、
粘度に対する前記圧力降下の比は、前記少なくとも１つの濾過集成体の予め定められた濾過因子を、４３，０００ｓ−１以下に最小化することを特徴とする濾過方法。
【請求項１０】
請求項１記載の濾過方法において、
前記少なくとも１つの濾過集成体での前記濾過工程における前記圧力降下は、約３５から約５５ｐｓｉｇであることを特徴とする濾過方法。
【請求項１１】
請求項１記載の濾過方法において、
前記少なくとも１つの濾過集成体での前記濾過工程における前記圧力降下は、約４０から５０ｐｓｉｇであることを特徴とする濾過方法。
【請求項１２】
請求項１記載の濾過方法において、
前記少なくとも１つの濾過集成体は、孔寸法が約０．０５から約０．６μｍであるメンブランフィルターを有することを特徴とする濾過方法。
【請求項１３】
請求項１記載の濾過方法において、
前記少なくとも１つの濾過集成体は、孔寸法が約０．１から約０．４５μｍであるメンブランフィルターを有することを特徴とする濾過方法。
【請求項１４】
請求項１記載の濾過方法において、
前記少なくとも１つの濾過集成体は、孔寸法が約１から約４μｍである深層濾過材を有することを特徴とする濾過方法。
【請求項１５】
請求項１記載の濾過方法において、
前記少なくとも１つの濾過集成体は、孔寸法が約１から約３μｍである深層濾過材を有することを特徴とする濾過方法。
【請求項１６】
請求項１記載の濾過方法において、
前記少なくとも１つの濾過集成体は、約０．０５から約５μｍの孔寸法を有し、
前記濾過工程は、約１０５°Ｆ（４０℃）より低い温度、および、大きくても約８０ｐｓｉｇの少なくとも１つの前記濾過集成体の圧力降下で行われることを特徴とする濾過方法。
【請求項１７】
請求項１記載の濾過方法において、
前記圧力降下は、約３から約４０ｐｓｉｇであることを特徴とする濾過方法。
【請求項１８】
請求項１記載の濾過方法において、
前記濾材の孔寸法は、約０．４５から３μｍであることを特徴とする濾過方法。
【請求項１９】
請求項１記載の濾過方法において、
前記濾過温度は、約７０から約１０５°Ｆであることを特徴とする濾過方法。
【請求項２０】
基体の被膜方法であって、
被膜材を用意する工程と、
請求項１に記載の被膜材の濾過方法により、前記被膜材を濾過する工程と、
濾過後の前記被膜材を前記基体に供給する工程と、
を有し、
前記１つ以上の濾過集成体は、式Ｉの大きくても２５０，０００ｓ−１の濾過因子（γ）を有することを特徴とする基体の被膜方法。
【数４】
2005524871.tif 000004
ここで、ηは、それぞれの前記濾過集成体内部での前記被膜材の各温度における前記被膜材の粘度で、ΔＰは、前記１つ以上の濾過集成体を通じて測定される圧力降下であって、約０から約８０ｐｓｉｇで、前記１つ以上の濾過集成体のうちの少なくとも１つの濾材中の孔寸法は、大きくても１０μｍで、それぞれの前記濾過集成体内部での前記被膜材の各温度は、高くても約１２０°Ｆである。
【請求項２１】
請求項２０記載の基体の被膜方法において、
前記被膜材を濾過する工程として、請求項２、請求項３、請求項６乃至１３、請求項１５乃至１９のいずれか一項に記載の被膜材の濾過方法が適用されることを特徴とする基体の被膜方法。
【請求項２２】
請求項２０記載の基体の被膜方法において、
前記１つ以上の濾過集成体は、約５０，０００から約１９０，０００ｓ−１の間の濾過因子を有することを特徴とする基体の被膜方法。
【請求項２３】
請求項２０記載の基体の被膜方法において、
前記１つ以上の濾過集成体は、孔寸法が約０．５から約５μｍである深層濾過材を有することを特徴とする基体の被膜方法。
【請求項２４】
請求項２０記載の基体の被膜方法において、
前記基体は、光学繊維であることを特徴とする基体の被膜方法。
【請求項２５】
請求項２０記載の基体の被膜方法において、
前記被膜材は、前記光学繊維上への第２の被膜として供給され、
さらに、第１の被膜を前記光学繊維に被膜する工程を有し、
前記第２の被膜は、前記第１の被膜を覆うように供給されることを特徴とする基体の被膜方法。
【請求項２６】
請求項２５記載の基体の被膜方法において、
さらに、前記光学繊維上の前記第１の被膜を硬化させる工程と、その後、前記光学繊維上の前記第２の被膜を硬化させる工程とを有することを特徴とする基体の被膜方法。
【請求項２７】
請求項２５記載の基体の被膜方法において、
さらに、前記光学繊維上の前記第１の被膜を硬化させる工程と、前記光学繊維上の前記第２の被膜を硬化させる工程とを有し、
前記第１の被膜を硬化させる工程と、前記第２の被膜を硬化させる工程を同時に行うことを特徴とする基体の被膜方法。
【請求項２８】
請求項２０記載の基体の被膜方法において、
前記基体は、コンパクトディスクまたはＤＶＤであることを特徴とする基体の被膜方法。
【請求項２９】
請求項２０記載の基体の被膜方法において、
前記基体は、光学材料であることを特徴とする基体の被膜方法。
【請求項３０】
請求項２０記載の基体の被膜方法において、
前記基体は、歯科用成形材料であることを特徴とする基体の被膜方法。
【請求項３１】
請求項２０記載の基体の被膜方法において、
前記基体は、積層体の表面であることを特徴とする基体の被膜方法。
【請求項３２】
請求項２０記載の基体の被膜方法において、
前記濾過装置は、直列に配置された複数の濾過集成体を有することを特徴とする基体の被膜方法。
【請求項３３】
請求項２０記載の基体の被膜方法において、
前記濾過装置は、並列に配置された複数の濾過集成体を有することを特徴とする基体の被膜方法。
【請求項３４】
請求項２０記載の基体の被膜方法において、
前記濾過集成体は、いずれも２５０，０００ｓ−１以下の濾過因子を有することを特徴とする基体の被膜方法。
【請求項３５】
請求項２０記載の基体の被膜方法によって製造された製造物であって、
前記被膜される基体は、光学繊維で、当該製造物は、１ｋｍ当たり約１０箇所より少ない突起状の塊を有することを特徴とする製造物。
【請求項３６】
請求項２０記載の基体の被膜方法によって製造された製造物であって、
前記被膜される基体は、光学繊維で、当該製造物は、１ｋｍ当たり約５箇所より少ない突起状の塊を有することを特徴とする製造物。
【請求項３７】
請求項２０記載の基体の被膜方法によって製造された製造物であって、
前記被膜される基体は、光学繊維で、当該製造物は、突起状の塊を有しないことを特徴とする製造物。
【請求項３８】
請求項２０記載の基体の被膜方法において、
前記少なくとも１つの濾過集成体のうちの少なくとも１つの濾材は、孔寸法が約０．０５から約５μｍであり、前記濾過は、約１０５°Ｆ（４０℃）より低い温度、および、少なくとも１つの前記濾過集成体での圧力降下が大きくても約８０ｐｓｉｇで行われることを特徴とする基体の被膜方法。
【請求項３９】
被膜材を用意する工程と、
請求項１６に記載の濾過方法によって被膜材を濾過する工程と、
濾過された被膜材を基体に被膜する工程と、
を備え、
前記基体が光学繊維であることを特徴とする基体の被膜方法。
【請求項４０】
請求項３９記載の基体の被膜方法において、
前記基体は、光学材料であることを特徴とする基体の被膜方法。
【請求項４１】
請求項３９記載の基体の被膜方法において、
前記基体は、歯科用成形材料であることを特徴とする基体の被膜方法。
【請求項４２】
請求項３９記載の基体の被膜方法において、
前記基体は、積層体の表面であることを特徴とする基体の被膜方法。
【請求項４３】
被膜された光学繊維の作製方法であって、
１２ヶ月の期間で５０トン以上の被膜材を供給する工程と、
前記被膜材を濾過する工程と、
別々の光学繊維に前記被膜材を被膜して数ｋｍの被膜された光学繊維を造る工程と、
を有し
前記被膜された光学繊維の少なくとも９８％は、１ｋｍ当たりの突起状の塊が約１０個より少ないことを特徴とする光学繊維の作製方法。
【請求項４４】
請求項４３記載の光学繊維の作製方法において、
前記被膜材を供給する工程は、５００トン以上の被膜材を供給する工程を有することを特徴とする光学繊維の作製方法。
【請求項４５】
請求項４３記載の光学繊維の作製方法において、
前記被膜材を供給する工程は、１０００トン以上の被膜材を供給する工程を有することを特徴とする光学繊維の作製方法。
【請求項４６】
請求項４３記載の光学繊維の作製方法において、
前記被膜された光学繊維の少なくとも９８％は、１ｋｍ当たりの突起状の塊が約５個より少ないことを特徴とする光学繊維の作製方法。
【請求項４７】
請求項４３記載の光学繊維の作製方法において、
前記被膜された光学繊維の少なくとも９８％は、１ｋｍ当たりの突起状の塊が約２個より少ないことを特徴とする光学繊維の作製方法。
【請求項４８】
請求項４３記載の光学繊維の作製方法において、
前記被膜された光学繊維の少なくとも９８％は、１ｋｍ当たりの突起状の塊が約０個であることを特徴とする光学繊維の作製方法。
【請求項４９】
請求項４３記載の光学繊維の作製方法において、
前記被膜された光学繊維の少なくとも９９％は、１ｋｍ当たりの突起状の塊が約１０個より少ないことを特徴とする光学繊維の作製方法。
【請求項５０】
請求項４３記載の光学繊維の作製方法において、
前記被膜された光学繊維の少なくとも９９．７５％は、１ｋｍ当たりの突起状の塊が約１０個より少ないことを特徴とする光学繊維の作製方法。
【請求項５１】
請求項４３記載の光学繊維の作製方法において、
前記被膜された光学繊維の１００％は、１ｋｍ当たりの突起状の塊が約１０個より少ないことを特徴とする光学繊維の作製方法。
【請求項５２】
前記被膜材を５０トン以上含む請求項４３記載の光学繊維の作製方法によって作製された光学繊維を有することを特徴とする生産物。