Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月28日(2005.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも３２．２℃（９０°Ｆ）の最初のスラリー温度を与える条件下で、水硬性セメントと水に、凝結を速める量のアルカノールアミンを混合することを含む、高速凝結性スラリーの製造方法。
【請求項２】
前記スラリーが、３２．２℃〜５４．４℃（９０°Ｆ〜１３０°Ｆ）の範囲の初期温度を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記アルカノールアミンが、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、およびそれらの混合物からなる群から選択されるものであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記アルカノールアミンがトリエタノールアミンであり、前記凝結を速める量のトリエタノールアミンが、水硬性セメントの質量基準で約０．０３〜４．０質量％であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記水硬性セメントがポルトランドセメントであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記スラリーがさらに鉱物性添加物を含むことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記鉱物性添加物がクラスＣのフライアッシュであることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記鉱物性添加物が高炉スラグ微粉末であることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記スラリーがさらに高アルミナセメントと硫酸カルシウムを含むことを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記スラリーがさらに骨材を含むことを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
前記スラリーがさらに骨材を含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記スラリーがクエン酸ナトリウムを含む凝結遅延剤をさらに含有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ポルトランドセメント、前記高アルミナセメント、前記硫酸カルシウム、および前記フライアッシュの総量を基準として、前記ポルトランドセメントが４０〜８０質量％、前記高アルミナセメントが０より多く２０質量％まで、前記硫酸カルシウムが０より多く７質量％まで、前記フライアッシュが０より多く５５質量％までであることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
前記ポルトランドセメントと前記フライアッシュの総量を基準として、前記ポルトランドセメントが４０〜８０質量％、前記フライアッシュが２０〜６０質量％であることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１５】
前記アルカノールアミンがトリエタノールアミンであり、前記アルカノールアミンの量が、前記ポルトランドセメント、前記高アルミナセメント、前記硫酸カルシウム、および前記フライアッシュの総量を基準として、０．０５〜２．０質量％であることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記アルカノールアミンがトリエタノールアミンであり、前記アルカノールアミンの量が、前記ポルトランドセメントと前記フライアッシュの総量を基準として、０．０５〜１．０質量％であることを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
前記最初のスラリー温度が、前記スラリーの１またはそれ以上の成分を加熱することによって到達したものであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記スラリーが、炭酸ナトリウムから選ばれる無機凝結促進剤をさらに含んでいることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記スラリーが、さらに高性能可塑剤を含んでいることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
以下の（ａ）〜（ｅ）を含むセメントボードを作製するための組成物：
（ａ）ポルトランドセメント；
（ｂ）鉱物性添加物；
（ｃ）骨材；
（ｄ）（ａ）および（ｂ）成分の促進剤としてのアルカノールアミン；
（ｅ）下記スラリーを作製するのに十分な量の水；
前記組成物を作るために成分（ａ）〜（ｅ）を混合する時、少なくとも９０°Ｆの温度を有するスラリー。
【請求項２１】
前記アルカノールアミンが、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、およびそれらの混合物からなる群から選択されるものであることを特徴とする請求項２０に記載の組成物。
【請求項２２】
前記アルカノールアミンがトリエタノールアミンであり、前記凝結を速める量のトリエタノールアミンが、ポルトランドセメントの質量基準で０．０３〜４．０質量％であることを特徴とする請求項２１に記載の組成物。
【請求項２３】
前記鉱物性添加物が、フライアッシュおよび高炉スラグ微粉末から選ばれるものであることを特徴とする請求項２０に記載の組成物。
【請求項２４】
前記組成物がさらに高アルミナセメントと硫酸カルシウムを含んでいることを特徴とする請求項２３に記載の組成物。
【請求項２５】
前記組成物がクエン酸ナトリウムから選ばれる凝結遅延剤をさらに含んでいることを特徴とする請求項２０に記載の組成物。
【請求項２６】
前記ポルトランドセメント、前記高アルミナセメント、前記硫酸カルシウム、および前記フライアッシュの総量を基準として、前記ポルトランドセメントが４０〜８０質量％、前記高アルミナセメントが０より多く２０質量％まで、前記硫酸カルシウムが０より多く７質量％まで、前記フライアッシュが０より多く５５質量％までであることを特徴とする請求項２４に記載の組成物。
【請求項２７】
前記ポルトランドセメントと前記フライアッシュの総量を基準として、前記ポルトランドセメントが４０〜８０質量％、前記フライアッシュが２０〜６０質量％であることを特徴とする請求項２３に記載の組成物。
【請求項２８】
前記組成物が炭酸ナトリウムである無機凝結促進剤を含んでいることを特徴とする請求項２０に記載の組成物。
【請求項２９】
前記無機凝結促進剤が炭酸ナトリウムであることを特徴とする請求項２０に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月7日(2006.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記酸化物のモル百分率が、
０．８≦Ｒ’Ｏ／Ａｌ2Ｏ3≦１．５、
ここで、Ｒ’ＯはＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＺｎＯを表すものである条件、
を満たすことを特徴とする請求項１または２記載のガラス材料。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
約６００〜７００℃の範囲の歪み点、約２５〜３０×１０-7／℃の範囲の熱膨張係数、約２．１９〜２．３０ｇ／ｃｍ3の範囲の密度、および損失重量で表して、約０．３ｍｇ／ｃｍ2未満のＢＨＦ中の耐久性を有することを特徴とする請求項１または２記載のガラス材料。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
約４００，０００ポアズより大きい液相線粘度を有することを特徴とする請求項１または２記載のガラス材料。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月21日(2006.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属酸化物の製造方法において、少なくとも１つの金属酸化物前駆物質を、溶剤全体の少なくとも６０％の量で酸基１個あたり少なくとも３個の炭素原子の平均炭素含量を有する少なくとも１つのカルボン酸を含む高エンタルピーカルボン酸溶剤中に溶解させて溶液を形成させ、ついで前記溶液を液滴に形成させ、火炎酸化させることを特徴とする、金属酸化物の製造方法。
【請求項２】
カルボン酸含量が少なくとも７５％、好ましくは少なくとも９０％、より好ましくは約１００％である、請求項１記載の方法。
【請求項３】
少なくとも１つのカルボン酸が、酸基１個あたり約４〜１０個、好ましくは約４〜８個の平均炭素含量を有する、請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
カルボン酸をＣ1〜Ｃ18モノカルボン酸及びその混合物から選択する、請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
カルボン酸が、特に１：１の比の、ギ酸及び／又は好ましくは酢酸と、少なくとも３個の炭素原子を有する少なくとも１つの別の酸との混合物、たいてい好ましくはラウリン酸及び酢酸の混合物である、請求項４記載の方法。
【請求項６】
少なくとも１つのカルボン酸が、二重結合及び／又は置換基、好ましくは極性置換基、特に１つ又はそれ以上の−ＯＨ及び／又は−ＮＨ２及び／又は−ＣＯＮＨ２基を含む、請求項１から５までのいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
溶剤が、少なくとも１５ｋＪ／ｇ、好ましくは少なくとも２０ｋＪ／ｇ、より好ましくは少なくとも２３ｋＪ／ｇ、例えば少なくとも約２３．７ｋＪ／ｇのエンタルピーを有する、請求項１から６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
金属酸化物前駆物質が、場合により水和物としての、塩又は塩前駆物質、好ましくは有機基を含む塩、特に純粋に有機の塩、殊に少なくとも１つのカルボン酸及び／又はアセチルアセトネートの塩である、請求項１から７までのいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
火炎が少なくとも１０００℃、通常少なくとも約１５００℃、好ましくは少なくとも約２０００℃、通常１６００〜２６００℃の温度を有する、請求項１から８までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
液滴が０．１〜１００μｍ、好ましくは１〜２０μｍの平均直径を有する、請求項１から９までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】
金属を、アルカリ金属族及び／又はアルカリ土類金属族及び／又は遷移金属族から、及び特にセリウム（Ｃｅ）及び／又はジルコニウム（Ｚｒ）から、殊に酢酸セリウム水和物及び／又はジルコニウムアセチルアセトネートから選択する、請求項１から１０までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】
請求項１から１１までのいずれか１項記載の方法により得られることができる、金属酸化物。
【請求項１３】
空気中９００℃で２時間の熱処理後に少なくとも３９ｍ２／ｇ、好ましくは５０ｍ２／ｇを上回る表面積を有している、特に請求項１２記載の、金属酸化物。
【請求項１４】
混合金属酸化物、特にセリア／ジルコニアである、特に請求項１２又は１３記載の、金属酸化物。
【請求項１５】
セリア／ジルコニアであり、その際にジルコニウムが、全金属原子の多くとも９０原子％、好ましくは多くとも８０原子％で存在している、請求項１４記載の金属酸化物。
【請求項１６】
空気中９００℃で２時間加熱する際に相安定である、特に請求項１４又は１５記載の、金属酸化物。
【請求項１７】
２つ又はそれ以上の金属が原子レベルで均質に混合されている、特に請求項１４から１６までのいずれか１項記載の、金属酸化物。
【請求項１８】
空気中７００℃で１６時間の熱処理後に触媒１ｋｇあたりＯ２少なくとも１．５ ｌの動的酸素貯蔵能力を有する、特に請求項１２から１７までのいずれか１項記載の、金属酸化物。
【請求項１９】
セリウム及び／又はイットリウム、好ましくはセリウム又はイットリウムで、特に金属含量全体の多くとも１０原子％のセリウム及び／又はイットリウムの量で、安定化されたジルコニウムである、特に請求項１２から１７までのいずれか１項記載の、金属酸化物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月4日(2006.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
ドイツ特許出願公開第１００５６６１７号明細書（Ａ１）から、Ｌａ、Ｃｅ、ＰｒまたはＮｄをＡ−位置に有しそしてＥｒ、Ｔｍ、ＹｂまたはＬｕをＢ−位置に有する希土類ペロブスカイトを断熱層材料として使用することが公知である。このものは、材料次第で１８００℃以上、それどころか特に２０００℃以上でさえある高い溶融温度に特徴がある。材料がそれの溶融温度を達成することによってこの範囲まで、かゝる材料は層転移を生じないし、それ故に相応する目的にとって、特に断熱層として使用することができる。この上述のペロブスカイトの別の性質は一般に８．５×１０-6Ｋ-1より高い熱膨張係数である。更に断熱層として使用するためには２．２Ｗ／ｍＫより小さい熱伝導性も有利である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月26日(2006.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持プレート１が標識位置２ａの印された下部側１ｂを画成し、少なくとも一の処理液により該支持プレート１上で組織薄切片２ｂを処理するための装置において、
組織薄切片２ｂを有する小メタルネット２が標識位置２ａで位置決めされ、
支持プレート１は、各々マグネット３が挿入される複数の穴３ａが装備される上部側１ａを画成し、該支持プレート１に相対して試料支持体４が処理位置１４に配設されることを特徴とする装置。
【請求項２】
請求項１に記載の装置において、小メタルネット２のための位置２ａは、支持プレート１の下部側１ｂ上で突出として形成されることを特徴とする装置。
【請求項３】
請求項１記載の装置において、支持プレート１は、形状的に安定な材料、特にアルミニウム、真鍮、繊維強化プラスティックからなり、支持プレート１は小メタルネット２を装着する下部側１ｂ上で疎水性コーティングが施されることを特徴とする装置。
【請求項４】
請求項１に記載の装置において、支持プレート１は、ホルダヘッド２３のホルダ９によってモータ駆動による昇降機能を有する搬送装置２０に備えられることを特徴とする装置。
【請求項５】
請求項１記載の装置において、試料支持体４は液滴６を受け入れるために形成された複数のくぼみ５を有する上部側４ａを画成し、該上部側４ａ上で疎水性コーティングが施されることを特徴とする装置。
【請求項６】
請求項１記載の装置において、試料支持体４のくぼみ５の液量は５０μｌ以下又は５μｌとすることを特徴とする装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本課題は、本発明により請求項１に記載の特徴を有する装置によって解決される。
即ち、本発明の第１の視点によれば、支持プレートが標識位置の印された下部側を画成し、少なくとも一の処理液により該支持プレート上で組織薄切片を処理するための装置において、組織薄切片を有する小メタルネットが標識位置で位置決めされ、支持プレートは、各々マグネットが挿入される複数の穴が装備される上部側を画成し、該支持プレートに相対して試料支持体が処理位置に配設されることを特徴とする装置、が提供される。
さらに、本発明の他の視点における実施の形態は各従属請求項の対象であり、以下に記載する通りである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
即ち、本発明の第２の視点によれば、小メタルネットのための位置は、支持プレートの下部側上で突出として形成されることを特徴とする装置、が提供される。
また、本発明の第３の視点によれば、支持プレートは、形状的に安定な材料、特にアルミニウム、真鍮、繊維強化プラスティックからなり、支持プレートは小メタルネットを装着する下部側上で疎水性コーティングが施されることを特徴とする装置、が提供される。
また、本発明の第４の視点によれば、支持プレートは、ホルダヘッドのホルダによってモータ駆動による昇降機能を有する搬送装置に備えられることを特徴とする装置、が提供される。
また、本発明の第５の視点によれば、試料支持体は液敵を受け入れるために形成された複数のくぼみを有する上部側を画成し、該上部側上で疎水性コーティングが施されることを特徴とする装置、が提供される。
さらに、本発明の第６の視点によれば、試料支持体のくぼみの液量は５０μｌ以下又は５μｌとすることを特徴とする装置、が提供される。
なお、特許請求の範囲の各請求項に付記した図面参照符号は、専ら理解を助けるためのものであって、本発明を図示の態様に限定することを意図するものではない。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の第１の視点によれば、再現可能な質でほぼ自動的に短時間に多数の組織薄切片を同時に加工することが効果的にできる、組織薄切片の処理のための適切な装置が提供される。また、再現可能な質でほぼ自動的に短時間に多数の組織薄切片を同時に加工することが効果的にできる、免疫学上の標識技術の実施のための組織薄切片の処理方法が提供される。各従属項によって、夫々本文記載の付加的利点が得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月20日(2005.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
波長可変フィルタに基づき、本質的に偏光無依存である挙動を示し、偏光無依存が（ａ）偏光スプリッタ、（ｂ）パワースプリッタまたはスイッチからなる群から選択される装置および偏光子によって実現されることを特徴とする波長分割多重化（ＷＤＭ）光学性能監視装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
上記の設計すべてにおいて、入力、出力および基準は任意のチップのファセットにあってもよく、チップ形状は矩形以外の形状であってもよい。
本発明は、添付の特許請求の範囲に記載の発明を含めた以下の発明を包含する。
（１）  波長可変フィルタに基づき、本質的に偏光無依存である挙動を示し、偏光無依存が（ａ）偏光スプリッタ、（ｂ）パワースプリッタまたはスイッチからなる群から選択される装置および偏光子によって実現されることを特徴とする波長分割多重化（ＷＤＭ）光学性能監視装置。
（２）  前記波長可変フィルタが、ブラッグ格子に基づいていることを特徴とする（１）に記載の装置。
（３）  本質的に絶対的な波長確度を示すことを特徴とする（１）に記載の装置。
（４）  前記絶対波長確度が、絶対波長基準の利用によって実現されることを特徴とする（３）に記載の装置。
（５）  専用の光源が、前記絶対波長基準と共に用いられることを特徴とする（４）に記載の装置。
（６）  前記絶対波長基準が、反射フィルタを含むことを特徴とする（４）に記載の装置。
（７）  前記反射フィルタが、ファイバブラッグ格子であることを特徴とする（６）に記載の装置。
（８）  前記ファイバブラッグ格子が、温度無依存であることを特徴とする（７）に記載の装置。
（９）  前記絶対波長基準が、透過フィルタを含むことを特徴とする（４）に記載の装置。
（１０）  前記透過フィルタが、エタロンであることを特徴とする（９）に記載の装置。
（１１）  前記エタロンが、温度無依存であることを特徴とする（１０）に記載の装置。
（１２）  監視される入射光信号の以下の特性、すなわち波長チャネル当たりの光パワー、光信号対雑音比（ＯＳＮＲ）、チャネルの中心波長および偏光モード分散（ＰＭＤ）のうちの少なくとも１つが測定されることを特徴とする（１）に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月16日(2006.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
正面（４２）を備える電気的絶縁ハウジング（４０）であって、前記正面が前方面（４６）と後方面（４８）とを含む電気的絶縁ハウジング（４０）と、
ハウジング（４０）の正面（４２）の後方面（４８）に対して位置決めされる導電板（５０）と、
ハウジング（４０）の前方面（４６）から延在し、互いに電気的に分離される複数のプローブ（２４）と、
導電板（５０）の前面（５２）から延在し、互いに電気的に接触する複数のプローブ（２６、３０）と、を備え、
複数のプローブ（２４、２６、３０）が、すべり嵌合され、リテーナ（９０）によって所定の位置に保持される、プローブブロック組立体（２０）。
【請求項２】
前記ハウジング（４０）の前記前方面（４６）から延在する前記複数のプローブ（２４）の各々が、対応するプローブレセプタクル（７２）によって前記ハウジング（４０）に着脱可能に固定される、請求項１に記載の組立体。
【請求項３】
前記ハウジング（４０）の前記前方面（４６）から延在する前記複数のプローブ（２４）の各々が、リテーナ（９０）によって前記ハウジング（４０）に着脱可能に固定される、請求項１又は２に記載の組立体。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月3日(2006.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
(ａ)本工程の間に、生物学的サンプルを、
(ｉ)(１)イオン界面活性剤および非イオン界面活性剤からなる群より選択される少なくとも１つの界面活性剤を含む緩衝液、グルコース含有緩衝液、スクロースベースの緩衝液およびPBS緩衝液からなる群より選択される緩衝液と、(２)任意成分として、１〜８μg/mlの間の最終濃度のプロテイナーゼＫ(PK)とを含む生物学的サンプルをホモジナイズするための緩衝液；および
(ii)少なくとも(１)イオン界面活性剤からなる群より選択される界面活性剤と、(２)任意成分として、１〜８μg/mlの間の最終濃度のプロテイナーゼＫとを含む捕捉緩衝液
からなる群より選択される緩衝液中でインキュベートする、生物学的サンプルを調製することからなる工程；
(ｂ)PKを含まない上記に規定した捕捉緩衝液の存在下で必ず実施し、工程(ａ)で得られた生物学的サンプルとプラスミノゲンを共有結合的に固定した固体支持体とのインキュベーションにより固体支持体に異常プリオンタンパク質(PrPres)を捕捉することからなる工程；
(ｃ)少なくとも１つのカオトロピック剤を含む変性緩衝液とPrPresとの周囲温度〜100℃の温度でのインキュベーションを含み、プラスミノゲンにより固体支持体に付着したPrPresの制御された変性からなる工程；および
(ｄ)固体支持体に付着した変性PrPresをPrPタンパク質特異的抗体で検出することからなる工程
を含むことを特徴とする、プラスミノゲンを固定した固体支持体を使用する生物学的サンプル中のPrPresを検出するための方法。
【請求項２】
生物学的サンプルをホモジナイズするための緩衝液が２〜４μg/mlの間の最終濃度のPKを含み、捕捉緩衝液が２〜４μg/mlの間の最終濃度のPKを含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
固相支持体がマイクロタイトレーションプレートまたは磁性ビーズである請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
工程(ａ)または工程(ｂ)で使用するイオン界面活性剤が
−  SDS(ドデシル硫酸ナトリウム)、サルコシル(ラウロイルサルコシン)、コール酸ナトリウム、デオキシコール酸ナトリウム(DOC)またはタウロコール酸ナトリウムのようなアニオン性界面活性剤；および
−  SB 3-10(デシルスルホベタイン)、SB 3-12(ドデシルスルホベタイン)、SB 3-14(テトラデシルスルホベタイン)、SB 3-16(ヘキサデシルスルホベタイン)、CHAPSまたはデオ
キシ-CHAPSのような両性イオン界面活性剤
からなる群より選択されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の方法。
【請求項５】
本発明に従う方法の工程(ａ)で使用する非イオン界面活性剤が、C12E8(ドデシルオクタエチレングリコール)、トリトンX100、トリトンX114、ツイーン20、ツイーン80、MEGA 9(ノナノイルメチルグルカミン)、オクチルグルコシド、LDAO(ドデシルジメチルアミンオキシド)またはNP40からなる群より選択されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の方法。
【請求項６】
工程(ａ)のインキュベーション時間が、37℃で５〜30分間であり、好ましくは37℃で10分間であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の方法。
【請求項７】
捕捉緩衝液が、好ましくは0.5％〜２％(w/v)の最終濃度の、なおより好ましくは１％(w/v)の最終濃度のサルコシルを含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載の方法。
【請求項８】
捕捉緩衝液がまた、塩、好ましくはアルカリ金属塩から選択される塩を含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１つに記載の方法。
【請求項９】
塩が0.15Ｍ〜0.5Ｍの濃度の塩化ナトリウムであることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
捕捉緩衝液がまた、タンパク質、なおより好ましくは0.2mg/mlの濃度のウシ血清アルブミンを含むことを特徴とする請求項１〜９のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１１】
工程(ｂ)のインキュベーション時間が周囲温度での１時間〜４時間であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１２】
工程(ｂ)がまた、必要であれば、インキュベーションの前に、タンパク質濃度の調整をするために、工程(ａ)で得られた生物学的サンプルの捕捉緩衝液での希釈を含むことを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１３】
制御された変性工程(ｃ)で使用するカオトロピック剤が、尿素、グアニジン塩(例えば塩酸グアニジンまたはチオシアン酸グアニジン)およびチオシアン酸ナトリウム、またはそれらの混合物からなる群より選択されることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１４】
工程(ｃ)のインキュベーション時間が、10〜60分間、好ましくはマイクロタイトレーションプレートで37℃にて30分間かまたは磁性ビーズで100℃にて10分間のいずれかであることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１５】
工程(ｄ)のトレーサ抗体が、SAF抗体および抗組換えPrP抗体からなる群より選択されることを特徴とする請求項１〜１４のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１６】
−  上記で規定したような少なくとも１つのホモジナイズ緩衝液
−  上記で規定したような少なくとも１つの捕捉緩衝液
−  上記で規定したような少なくとも１つの変性緩衝液
−  １〜８μg/mlの最終濃度、好ましくは２〜４μg/mlの最終濃度のプロテイナーゼＫ、および
−  プラスミノゲンを共有結合的に付着させた固体支持体
を組み合わせて含むことを特徴とする請求項１〜１５のいずれか１つに記載の方法を実施するための診断キット。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月8日(2006.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エンティティの位置を決定するのに有効な信号のためにサーチを実行する方法において、
位置決定の試みの一部として前記エンティティの位置を決定するのに有効な信号のために第１のサーチを実行することであって、前記第１のサーチは第１のセット内の衛星のためにサーチすることを備えたことと、
次の検索結果から１つ以上の測定結果を導き出すことと、
前記測定結果が１つ以上の選択された出口基準を満足するかどうかを決定することと、
前記測定結果が前記１つ以上の選択された出口基準を満足するなら、前記位置決定の試み内でさらなるサーチを回避することと、
前記測定結果が前記１つ以上の選択された出口基準を満足しないなら、前記エンティティの位置を決定するのに有効な信号のための第２のサーチを実行することであって、所定の雑音閾値を満足する前記第１セット内のこれらの衛星が第２セットを形成し、第２閾値を満足する前記第１セット内のこれらの衛星が第３セットを形成し、前記第１セット内の衛星であって前記第３衛星を排除するこれらの衛星が第４セットを形成し、前記第３セット内の衛星の数が前記第１セット内の衛星の数に等しいなら前記第２のサーチは回避されることと、
を備えた方法。
【請求項２】
前記第２セット内の前記衛星からの前記測定結果は多角形を定義し、前記多角形の面積が所定の閾値に等しいかまたは所定の閾値を越えるなら、前記第２のサーチは回避される、請求項１の方法。
【請求項３】
前記第２セット内の衛星の数が所定の閾値に等しいかまたは所定の閾値を越えるなら、前記第２のサーチは回避される、請求項２の方法。
【請求項４】
エンティティの位置を決定するのに有効な信号のためのサーチを実行する方法において、
位置決定の試みの一部として前記エンティティの位置を決定するのに有効な信号のための第１のサーチを実行することであって、前記第１のサーチは第１のセット内の衛星をサーチすることを備えたことと、
次のサーチ結果から１つ以上の測定結果を導き出すことと、
前記測定結果が１つ以上の選択された出口基準を満足するかどうかを決定することと、
前記測定結果が前記１つ以上の選択された出口基準を満足するなら、前記位置決定の試み内でさらなるサーチを回避することと、
前記測定結果が前記１つ以上の選択された出口基準を満足しないなら、前記エンティティの位置を決定するのに有効な信号のための第２のサーチを実行することであって、所定の雑音閾値を満足する前記第１セット内のこれらの衛星は、第２セットを形成し、第２閾値を満足する前記第１セット内のこれらの衛星は第３セットを形成し、前記第１セット内の衛星であって、前記第３セットを除外するこれらの衛星は第４セットを形成し、前記第２セット内の前記測定結果の各々のためのピークキャリア信号対雑音比が合計され、前記合計が所定の閾値に等しいかまたは所定の閾値を越えるなら、前記第２のサーチが回避されることと、
を備えた方法。
【請求項５】
エンティティの位置を決定するのに有効な信号のためのサーチを実行する方法において、
位置決定の試みの一部として前記エンティティの位置を決定するのに有効な信号のための第１のサーチを実行することであって、前記第１のサーチは第１のセット内の衛星をサーチすることを備えたことと、
次のサーチ結果から１つ以上の測定結果を導き出すことと、
前記測定結果が１つ以上の選択された出口基準を満足するかどうか決定することと、
前記測定結果が前記１つ以上の選択された出口基準を満足するなら、前記位置決定の試み内でさらなるサーチを回避することと、
前記測定結果が前記１つ以上の選択された出口基準を満足しないなら、前記エンティティの位置を決定するのに有効な信号のための第２のサーチを実行することであって、所定の雑音閾値を満足する前記第１セット内のこれらの衛星は第２セットを形成し、第２閾値を満足する前記第１セット内のこれらの衛星は第３セットを形成し、前記第１セット内の衛星であって前記第３セットを除外するこれらの衛星は第４セットを形成し、前記第２のサーチは前記第４セット内のこれらの衛星に限定されることと、
を備えた方法。
【請求項６】
エンティティの位置を決定するのに有効な信号のためのサーチを実行するための方法を具現化する一連のソフトウエア命令を記憶するメモリにおいて、前記方法は、
位置決定の試みの一部として前記エンティティの位置を決定するのに有効な信号のための第１のサーチを実行することと、
次のサーチ結果から１つ以上の測定結果を導き出すことと、
前記測定結果が１つ以上の選択された出口基準を満足するかどうかを決定することと、
前記測定結果が前記１つ以上の選択された出口基準を満足するなら、前記位置決定の試み内でさらなるサーチを回避することと、
前記第１のサーチから前記測定結果が前記１つ以上の選択された出口基準を満足しないなら、前記エンティティの位置を決定するのに有効な信号のための第２のサーチを実行することであって、前記第１のサーチは第１のセット内の衛星をサーチすることを備え、所定の雑音閾値を満足する前記第１セット内のこれらの衛星は第２セットを形成し、第２閾値を満足する前記第１セット内のこれらの衛星は第３セットを形成し、前記第１セット内の衛星であって前記第３セットの衛星を除外するこれらの衛星は第４セットを形成し、前記第３セット内の衛星の数が前記第１セット内の衛星の数に等しいなら前記第２のサーチは回避されることとを備えた、メモリ。
【請求項７】
前記第２セット内の前記衛星の前記測定結果は多角形を定義し、前記多角形の面積が所定の閾値に等しいかまたは所定の閾値を越えるなら、前記第２のサーチは回避される、請求項６のメモリ。
【請求項８】
前記第２セット内の前記測定結果の数が所定の閾値に等しいかまたは所定の閾値を越えるなら、前記第２のサーチは回避される、請求項６のメモリ。
【請求項９】
前記第２セット内の前記測定結果の各々に対してピークキャリア信号対雑音比が合計され、前記合計が所定の閾値に等しいか、所定の閾値を越えるなら前記第２のサーチは回避される、請求項６のメモリ。
【請求項１０】
前記第２サーチは、前記第４セット内のこれらの衛星に限定される、請求項６のメモリ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月17日(2006.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
静圧軸受けであって、
軸受けレールと、
前記軸受けレール上での静圧支持運動のために装着されるように構築及び構成された軸受けキャリッジとを備え、前記軸受けキャリッジが、
前記軸受けレールに対向する表面に設けた１つ又は複数の軸受けパッドを含み、前記１つ又は複数の軸受けパッドが、加圧流体源と流体連絡するように構築及び構成され、さらに、
連続する側及び端部分を有する密封構造とを含み、さらに、
前記１つ又は複数の軸受けパッドと流体連絡する複数の排液溝を含む流体復帰システムを含み、前記複数の排液溝の少なくとも一つが、前記１つ又は複数の軸受けパッドと前記密封構造との間で位置決めされる静圧軸受け。
【請求項２】
前記軸受けキャリッジが、作動液ホースを受けるように構築及び構成された流体入口を含み、前記流体入口が、前記１つ又は複数の軸受けパッドと流体連絡し、そして作動液ホースを受けるように構築及び構成された流体出口を含み、前記流体出口が、前記複数の排液溝と流体連絡する、請求項１に記載の静圧軸受け。
【請求項３】
さらに、前記軸受けキャリッジの上表面に設けた１つ又は複数の締め付け穴を備え、前記締め付け穴が、機械の構成要素を前記軸受けキャリッジに着脱式に装着できるように構築及び構成される、請求項１に記載の静圧軸受け。
【請求項４】
請求項１に記載の１つ又は複数の静圧軸受けに装着する工作機械。
【請求項５】
軸受けキャリッジであって、
加圧流体源から流体を受けるように構築及び構成され、前記軸受けキャリッジと、前記軸受けキャリッジを運動するために装着した構造との間に支持流体層を生成するように、軸受け溝と抵抗ランド部との集まりに流体を選択的に流す１つ又は複数の軸受けパッドと、
流体が前記軸受けキャリッジと、前記軸受けキャリッジを運動するために装着した構造との間のスペースから流出するのを防止し、流体を経路指示して、加圧流体源に戻すように構築及び構成された流体復帰システムとを備え、前記流体復帰システムが、
連続する端及び側部分を有する密封構造を備え、前記端部分が、前記軸受けキャリッジの端部を密封するように構築及び構成され、前記側部分が、前記軸受けキャリッジの側部の少なくとも一部に沿って延在して、前記側部を密封するように構築及び構成され、前記端部分が、二重リップ付きシールを含み、前記二重リップ付きシールの第１リップは、前記軸受けキャリッジを運動するために装着する構造と係合し、前記二重リップ付きシールの第２リップは、前記軸受けキャリッジに破片が入るのを防止し、さらに、
前記軸受けキャリッジの一部によって画定され、前記密封構造によって密封された溜め構造と、
加圧流体を前記軸受けパッドから前記溜め構造へと案内するように構築及び構成された排液溝とを備える軸受けキャリッジ。
【請求項６】
前記排液溝が、前記軸受けパッドと前記密封構造の前記側部分との間にある、請求項５に記載の軸受けキャリッジ。
【請求項７】
前記密封構造の前記部分が、ほぼ上向きのＵ字形断面を有する、請求項１に記載の軸受けキャリッジ。
【請求項８】
前記軸受けキャリッジがさらに、前記複数の排液溝と連絡する１つ又は複数の溜めを備える、請求項１に記載の静圧軸受け。
【請求項９】
前記１つ又は複数の溜めが前記軸受けキャリッジの端部分に設けられる複数の溜めを有し、前記複数の溜めのいくつかは油圧ユニットに連通する流体出入口を含む請求項８に記載の静圧軸受け。
【請求項１０】
前記軸受けレールが直線形状を有する、請求項１に記載の静圧軸受け。
【請求項１１】
前記軸受けレールがＴ字形の断面区域を有する、請求項１０に記載の静圧軸受け。
【請求項１２】
前記１つ又は複数の軸受けパッドが自己補償型軸受けパッドである、請求項１に記載の静圧軸受け。
【請求項１３】
静圧軸受けパッドであって、
補償溝と、
前記静圧軸受けパッドが別の表面に対して負荷支持位置にある場合に、加圧流体の流れに抗するように構築及び構成された第１平面区域を、自身内に囲む隣接ポケット溝と、
前記補償溝と前記ポケット溝との間に挿入される第２平面区域と、前記平面区域は、前記軸受けパッドが他方の表面に対して負荷支持位置にある場合に、前記補償溝から前記隣接ポケット溝への前記加圧流体の流れに抗するように構築及び構成され、
前記補償溝の近傍の供給溝とを備え、前記供給溝と前記補償溝とが前記供給溝から前記補償溝へと加圧流体の流れに抗するように構築及び構成される第３平面区域によって分離され、前記供給溝が軸受けパッドの平面の表面に全体的に設けられる静圧軸受けパッド。
【請求項１４】
前記第２平面区域が前記補償溝と前記ポケット溝との間に溝を含まない、請求項１３に記載の静圧軸受けパッド。
【請求項１５】
前記軸受けキャリッジがさらに、中央部を備えると共に前記軸受けレールの一部と係合する取り外し可能に設けられたキーパ部分を備える、請求項１に記載の静圧軸受け。
【請求項１６】
前記密封構造の前記側部が前記キーパ部分のシール溝内に設けられている、請求項１５に記載の静圧軸受け。
【請求項１７】
前記複数の排液溝の少なくとも１つが前記軸受けキャリッジの長さに沿って延びている、請求項１に記載の静圧軸受け。
【請求項１８】
前記密封構造の端部分が二重リップ付きシールを含む、請求項１に記載の静圧軸受け。
【請求項１９】
前記１つ又は複数の軸受けパッドの一つが前記軸受レールに関連して荷受け位置にある時に加圧流体の流れに抵抗するように構成された第一平面域で前記１つ又は複数の軸受けパッドの前記一つがそこに入るポケット溝を含み、
前記複数の排液溝が前記ポケット溝を完全に囲む、請求項１に記載の静圧軸受け。
【請求項２０】
前記１つ又は複数の軸受けパッドの一つが前記軸受レールに関連して荷受け位置にある時に加圧流体の流れに抵抗するように構成された第二平面域を前記１つ又は複数の軸受けパッドの前記一つが含み、前記第二平面域が前記ポケット溝を連続的に囲み、前記複数の排液溝が前記第二平面域を完全に囲む、請求項1９に記載の静圧軸受け。
【請求項２１】
前記１つ又は複数の軸受けパッドの一つを完全に囲む、請求項１に記載の静圧軸受け。
【請求項２２】
軸受レール上に静圧支持運動するように構成された静圧軸受けキャリッジにおいて、軸受けキャリッジが、複数の自己補償軸受けパッドを有し、該複数の軸受けパッドが加圧流体源に流体連通するように構築及び構成され、前記各軸受けパッドが、
補償溝と、
前記複数の軸受けパッドのもう一つのものの補償溝に流体的に接続された供給溝と、該供給溝が前記複数の軸受けパッドのもう一つのものの前記補償溝から加圧流体を受けるように構築及び構成され、
前記溝を囲みそして前記軸受けパッド及び前記軸受レールの間にある支持流体層を生じるように構築及び構成される全体的に平面の抵抗ランドとを有する静圧軸受けキャリッジ。
【請求項２３】
前記抵抗ランドを完全に囲む少なくとも１つの排液溝を含む流体戻しシステムと、
前記少なくとも１つの排液溝を完全に囲む密封構造とを有する、請求項２２に記載の静圧軸受け。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月9日(2005.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】  前記２つの調整ねじ（１１）は、同期回転のためのチェーン（２１）または同様の構成により連動されることを特徴とする請求項１２に記載の電子制御式ディスクブレーキ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月31日(2006.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
実施例３
オリゴヌクレオチド誘導体化光ポリマーの製造および評価
（ａ）４−ベンゾイルベンゾイルクロリド（ＢＢＡ−Ｃ１）の製造
４−ベンゾイル安息香酸（ＢＢＡ）１．０ｋｇ（４．４２モル）を還流冷却器および吊り攪拌器（overhead stirrer）を備えた乾燥５リットルモルトンフラスコに加え、続けて塩化チオニル６４５ｍｌ（８．８４モル）およびトルエン７２５ｍｌを加えた。次いで、ジメチルホルムアミド３．５ｍｌを加え、４時間加熱還流した。冷却後、溶媒を減圧下で除去し、残存塩化チオニルをトルエン３×５００ｍｌを用いて３度の蒸発により除去する。生成物をトルエン／ヘキサン（１／４）から再結晶化し、真空オーブン中での乾燥後、９８８ｇ（収率９１％）を得た。生成物の融点は、９２〜９４℃であった。８０ＭＨｚ（1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3））での核磁気共鳴（ＮＭＲ）分析は、所望の生成物と一致した：芳香族プロトン７．２０−８．２５（ｍ、９Ｈ）。化学シフト値はすべて、テトラメチルシラン内部標準から低磁場側のｐｐｍである。例えば実施例３（ｃ）に記載される光活性可能なポリマーの合成に用いられるモノマーの製造における使用のため、または例えば実施例１（ａ）に記載されるヘテロ二官能性化合物のため、最終化合物を保存した。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月9日(2006.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種の薬剤、噴霧剤および、界面活性剤としてのレシチンを有する、制御された投薬エーロゾルであって、前記薬剤が、懸濁液の形態で存在し、前記噴霧剤が、圧力により液化したイソブタンであることを特徴とする、制御された投薬エーロゾル。
【請求項２】
薬剤が、糖質コルチコイドであることを特徴とする、請求項１に記載の制御された投薬エーロゾル。
【請求項３】
糖質コルチコイドが、コルチゾール、プレドニゾン、プレドニゾロン、メチルプレドニゾロン、トリアムシノロン、プレドニリデン、フルオコルトロン、パラメサゾン、デキサメサゾン、ベタメタゾン、フルニソリド、フルチカゾン、ベクロメタゾン、ブデソニドおよび／またはこれらの抗喘息活性誘導体および／またはこれらの混合物からなる群から選択されていることを特徴とする、請求項２に記載の制御された投薬エーロゾル。
【請求項４】
以下の処方
糖質コルチコイド  ０．１％      〜    ０．２％
レシチン          ０．０５％    〜    ０．４％
イソブタン        ９９．８５％  〜  ９９．４％
に相当することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の制御された投薬エーロゾル。
【請求項５】
以下の処方
糖質コルチコイド  ０．５％      〜    １．０％
レシチン          ０．２５％    〜    ４．０％
イソブタン        ９９．２５％  〜  ９５．０％
に相当することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の制御された投薬エーロゾル。
【請求項６】
レシチンが、大豆レシチンであることを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の制御された投薬エーロゾル。
【請求項７】
以下の処方
ベクロメタゾン  ０．１％    〜  ２．５％
大豆レシチン    ０．０５％  〜  ５．０％
イソブタン    ９９．８５％  〜  ９２．５％
に相当することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の制御された投薬エーロゾル。
【請求項８】
以下の処方
ブデソニド      ０．１％    〜  ２．５％
大豆レシチン    ０．０５％  〜  ５．０％
イソブタン    ９９．８５％  〜  ９２．５％
に相当することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の制御された投薬エーロゾル。
【請求項９】
糖質コルチコイドと大豆レシチンとの比率が、１：２〜１：０．５であることを特徴とする、請求項１〜８のいずれかに記載の制御された投薬エーロゾル。
【請求項１０】
ヒトおよび動物におけるアレルギー疾患を処置するための、請求項１〜９のいずれかに記載の制御された投薬エーロゾル。
【請求項１１】
気道のアレルギー疾患の吸入処置のための、請求項１０に記載の制御された投薬エーロゾル。
【請求項１２】
喘息またはアレルギー性鼻炎を処置するための、請求項１〜９のいずれかに記載の制御された投薬エーロゾル。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれかに記載の制御された投薬エーロゾルの製造方法であって、液体形態での噴霧剤としてのイソブタンおよび液体形態での界面活性剤としてのレシチンおよび、固体物質としての少なくとも１種の薬剤を、互いに混合し、液体懸濁液を、加圧の下で、これに設けられたスプレースズ製容器中に充填することを特徴とする、前記方法。
【請求項１４】
懸濁液において充填した後に、温度が、−１０〜＋１０℃であることを特徴とする、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
懸濁液において充填した後に、スプレースズ製容器のバルブを、該スズ製容器を噴霧剤で充填することにより洗浄することを特徴とする、請求項１３または１４に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
さらなる試験において、以下の処方が、特に有利であることが明らかになった：
処方１：糖質コルチコイド  ０．１％      〜    ０．２％
レシチン          ０．０５％    〜    ０．４％
イソブタン        ９９．８５％  〜  ９９．４％
処方２：糖質コルチコイド  ０．５％      〜    １．０％
レシチン          ０．２５％    〜    ４．０％
イソブタン        ９９．２５％  〜  ９５．０％
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月30日(2006.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式1:
【化１】
2006517195.tif 000001
の化合物、ならびにその製薬上許容される塩、プロドラッグ、互変異性体および溶媒和物。
【請求項２】
化合物が、(4S)-MeHex-D-Val-L-Thr-L-Val-D-Val-D-Pro-L-Orn-D-allo-Ile-cyclo(D-allo-Thr-D-allo-Ile-D-Val-L-Phe-Z-Dhb-L-Val)である請求項1に記載の化合物、ならびにその製薬上許容される塩、プロドラッグ、互変異性体および溶媒和物。
【請求項３】
化合物が、(4S)-MeHex-D-Val-L-Thr-L-Val-D-Val-D-Pro-L-Orn-D-allo-Ile-cyclo(D-allo-Thr-D-allo-Ile-D-Val-L-Phe-Z-Dhb-L-Val)である請求項1に記載の化合物、ならびにその製薬上許容される塩。
【請求項４】
請求項1から3のいずれか一項に記載の化合物と、製薬上許容される担体、ビヒクルまたは希釈剤とを含む医薬組成物。
【請求項５】
癌または乾癬に罹患している哺乳動物、好ましくはヒトを治療する方法であって、前記罹患個体に治療上有効な量の請求項1から3のいずれか一項に記載の化合物を投与することを含む方法。
【請求項６】
哺乳動物がヒトであり、かつ癌に罹患している、請求項5に記載の方法。
【請求項７】
患者が、他の治療に好反応しない難治性癌に罹患している、請求項6に記載の方法。
【請求項８】
癌が、前立腺癌、乳癌、肝細胞癌、黒色腫、結腸直腸癌、腎臓癌、卵巣癌、NSCL癌、上皮癌、膵臓癌、およびHer2/neu発癌遺伝子を過剰発現する腫瘍から選択される、請求項6に記載の方法。
【請求項９】
薬剤の製造における請求項1から3のいずれか一項に記載の化合物の使用。
【請求項１０】
癌、乾癬、ウイルス感染または真菌感染の治療用薬剤の製造における請求項1から3の何れか一項に記載の化合物の使用。
【請求項１１】
請求項1から3のいずれか一項に記載の化合物を含む医薬組成物を含有する容器と、これとは別の再溶解剤を含有する容器とを含むキット。
【請求項１２】
請求項1から3のいずれか一項に記載の化合物の調製方法。
【請求項１３】
出発原料として4-メチルヘキサン酸を用いることを特徴とする、請求項12に記載の方法。
【請求項１４】
(4S)-メチルヘキサン酸を用いることを特徴とする、請求項12に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月28日(2006.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カロチノイド誘導体又は下式の構造をもつ類似体である化学化合物。
2006517197.tif 000001
ここで、それぞれのＲ3は独立して、水素もしくはメチルであり；Ｒ1とＲ2は独立して、少なくとも一つの置換基−OWを有する脂環式アルケン、もしくは少なくとも一つの置換基を有するサイクル環であり、サイクル環は下式の一般構造を有する。
2006517197.tif 000002
ここでｎは４から１０の炭素原子数であり；Ｗは置換基であり、炭素からなる一つもしくはそれ以上の基からなり、Ｒ1及び／もしくはＲ2におけるWは一つもしくはそれ以上のアニオン基及び一つもしくはそれ以上のカチオン基からなる。
【請求項２】
カロチノイド誘導体又は下式の構造をもつ類似体である化学化合物。
2006517197.tif 000003
ここで、それぞれのＲ3は独立して、水素もしくはメチルであり；Ｒ1とＲ2は独立して、少なくとも一つの置換基−OWを有する脂環式アルケン、もしくは少なくとも一つの置換基を有するサイクル環であり、サイクル環は下式の一般構造を有する。
2006517197.tif 000004
ここでｎは４から１０の炭素原子数であり；Ｗは置換基であり、リンからなる一つもしくはそれ以上の基からなり、Ｒ1及び／もしくはＲ2におけるWは一つもしくはそれ以上のアニオン基及び一つもしくはそれ以上のカチオン基からなる。
【請求項３】
カロチノイド誘導体又は下式の構造をもつ類似体である化学化合物。
2006517197.tif 000005
ここで、それぞれのＲ3は独立して、水素もしくはメチルであり；Ｒ1とＲ2は独立して、少なくとも一つの置換基−OWを有する脂環式アルケン、もしくは少なくとも一つの置換基を有するサイクル環であり、サイクル環は下式の一般構造を有する。
2006517197.tif 000006
ここでｎは４から１０の炭素原子数であり；Ｗは置換基であり、硫黄からなる一つもしくはそれ以上の基からなり、Ｒ1及び／もしくはＲ2におけるWは一つもしくはそれ以上のアニオン基及び一つもしくはそれ以上のカチオン基からなる。
【請求項４】
少なくとも一つの置換基が独立して
2006517197.tif 000007
である請求項１〜３のいずれか記載の化合物。
ここで、それぞれのＲは独立して−アルキル−ＮＲ13＋，−芳香族−ＮＲ13＋，−アルキル−ＣＯ２−，−芳香族−ＣＯ２−，アミノ酸−ＮＨ３＋，−燐酸エステル化アミノ酸−ＮＨ３＋，ポリエチレングリコール、デクストラン，Ｈ，アルキル，もしくはアリルである。
【請求項５】
化合物が下式の構造を有する請求項１〜４のいずれか記載の化合物。
2006517197.tif 000008
【請求項６】
化合物が下式の構造を有する請求項１〜４のいずれか記載の化合物。
2006517197.tif 000009
【請求項７】
化合物が下式の構造を有する請求項１〜４のいずれか記載の化合物。
2006517197.tif 000010
【請求項８】
化合物が下式の構造を有する請求項１〜４のいずれか記載の化合物。
2006517197.tif 000011
【請求項９】
化合物が下式の構造を有する請求項１〜４のいずれか記載の化合物。
2006517197.tif 000012
【請求項１０】
化合物が下式の構造を有する請求項１〜４のいずれか記載の化合物。
2006517197.tif 000013
【請求項１１】
それぞれのサイクル環が独立して
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である請求項１〜１０のいずれか記載の化合物。
【請求項１２】
Ｒ1及び／もしくはＲ2におけるWがアルカリ金属塩からなるものである請求項１〜１１のいずれか記載の化合物。
【請求項１３】
Ｒ1及び／もしくはＲ2におけるWが共抗酸化剤からなるものである請求項１〜１２のいずれか記載の化合物。
【請求項１４】
Ｒ1及び／もしくはＲ2におけるWがエステル基からなる請求項１〜１３のいずれか記載の化合物。
【請求項１５】
Ｒ1及び／もしくはＲ2におけるWがエーテル基からなる請求項１〜１４のいずれか記載の化合物。
【請求項１６】
Ｒ1及び／もしくはＲ2におけるWがホスフェート基からなる請求項１〜１５のいずれか記載の化合物。
【請求項１７】
Ｒ1及び／もしくはＲ2におけるWがスルフォネート基からなる請求項１〜１６のいずれか記載の化合物。
【請求項１８】
請求項１〜１７のいずれか記載の化合物からなる薬剤組成物。
【請求項１９】
虚血再灌流障害を治療するための薬剤の製造における請求項１〜１７のいずれか記載の化学化合物の使用。
【請求項２０】
人間における病気を治療するための薬剤の製造における請求項１〜１７のいずれか記載の化学化合物の使用。
【請求項２１】
反応性酸素種を発生する病気を治療するための薬剤の製造における請求項１〜１７のいずれか記載の化学化合物の使用。
【請求項２２】
病気が癌細胞及び前癌細胞である請求項２０又は２１記載の使用。
【請求項２３】
病気を治療することがコネクシン４３発現を増加することからなる請求項２０
又は２１記載の使用。
【請求項２４】
病気を治療することがC反応性蛋白を減少することからなる請求項２０又は２１記載の使用。
【請求項２５】
病気を治療することが、少なくとも２種類のカロチノイド誘導体もしくは類似体を投与することからなる請求項１９〜２４のいずれか記載の使用。