【事件の表示】
　特願２００５−１５８７６３「レジスト除去装置及び方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年１２月１４日出願公開、特開２００６−３３９２０９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件出願（以下「本願」という。）は、平成１７年５月３１日の出願であって、平成２１年１１月２６日付けで拒絶理由が通知され、これに対し平成２２年１月２９日付けで手続補正がなされ、その後同年４月３０日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年８月１０日付けで拒絶査定に対する審判請求がなされると同時に手続補正がなされたものである。その後当審より、平成２３年６月３０日付けで審尋がなされたが、これに対する回答書の提出はなかった。
　
２．平成２２年８月１０日付けの手続補正についての補正の却下の決定
〔補正の却下の決定の結論〕
　平成２２年８月１０日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
〔理由〕
（２−１）補正の内容
　本件補正は、特許請求の範囲及び明細書の段落【０００７】及び【０００８】を補正するものであって、その補正内容は、特許請求の範囲について、
「　【請求項１】
　基板の表面の周縁部に付着したレジストを除去するレジスト除去装置であって、
　前記レジストが生乾きの状態である前記基板が設置される噴頭部と、
　前記噴頭部に設けられてなるノズル部と
　を含み、
　前記ノズル部は、第１の吐出口を有する第１のノズルと、第２の吐出口を有する第２のノズルとを有し、近接する前記第１の吐出口と前記第２の吐出口とが共に前記基板の表面の周縁部に位置するように設けられており、前記第１の吐出口から溶剤を、前記第２の吐出口から前記レジストに対して低浸透性の液体である純水を同時に吐出することを特徴とするレジスト除去装置。
　　【請求項２】
　前記ノズル部は、第３の吐出口を有する第３のノズルを更に有し、前記第３の吐出口が前記レジストの存しない前記基板の裏面に位置するように設けられてなることを特徴とする請求項１に記載のレジスト除去装置。
　　【請求項３】
　前記ノズル部は、前記第１のノズルと前記第２のノズルとが接合一体化されてなるものであることを特徴とする請求項１又は２に記載のレジスト除去装置。
　　【請求項４】
　前記ノズル部は、前記第１のノズルと前記第２のノズルとが同軸の２重管構造に一体化されてなるものであることを特徴とする請求項１又は２に記載のレジスト除去装置。
　　【請求項５】
　基板の表面の周縁部に付着したレジストを除去するレジスト除去方法であって、
　第１の吐出口を有する第１のノズルと、第２の吐出口を有する第２のノズルとを有し、近接する前記第１の吐出口と前記第２の吐出口とが共に前記基板の表面の周縁部に位置するように設けられてなるノズル部を用いて、
　前記基板を、前記レジストが生乾きの状態で設置し、
　前記第１の吐出口から溶剤を、前記第２の吐出口から前記レジストに対して低浸透性の液体である純水を同時に前記レジストに吐出し、前記周縁部に付着した前記レジストを除去することを特徴とするレジスト除去方法。」
と補正するとともに、段落【０００７】及び【０００８】を上記特許請求の範囲の記載に対応して補正するものである。
　
（２−２）本件補正の目的
　本件補正は、請求項１乃至５に記載した発明を特定するために必要な事項である、「低浸透性の液体」を「純水」に限定するものであって、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号に規定された特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
（２−３）独立特許要件について
　本件補正後の上記請求項２に記載された発明（以下「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するか）について以下に検討する。
　
（２−３−１）引用例
ア．原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願前である平成１０年９月２５日に頒布された「特開平１０−２５４１４７号公報 」（以下「引用刊行物１」という。）には、図面とともに、以下の技術事項が記載されている。
　
（ａ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、平板状の基板にレジスト等の流動性材料を塗布する装置における不要部分に塗布された上記レジスト等を除去するための装置に係り、特に液晶パネル用ガラス基板にカラーフィルタ等への薄層パターンを形成するために塗布したレジストの不要部分を除去するレジスト除去装置に関する。」
　
（ｂ）「【００２７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につき、実施例の図面を参照して詳細に説明する。
【００２８】図１は本発明によるレジスト除去装置の第１実施例を構成するノズルヘッドの要部説明図であって、（ａ）は側面図、（ｂ）は（ａ）のＣ−Ｃ線から見た下部ノズルブロックの内側平面図である。なお、上部ノズルブロックの内側平面も同様の形状であり、両者の内側を合わせることで吸引口と排気路が形成される。
【００２９】同図（ａ）において、１は基板、１ａはレジスト塗膜、９ａ，９ｂはノズルブロック、１０ａ，１０ｂは排気ブロック、１１ａ（１１ａ1,１１ａ2 ），１１ｂは吐出ノズル（以下、単にノズルと言う）、１２は吸引口、１２ａは排気路、１３は溶剤の流れ方向である。
【００３０】レジスト塗膜１ａを塗布した基板１は図示しない基板保持具に保持され、その基板１の平面周縁を上下から挟んで当該基板の平面と平行な方向に相対移動するノズルヘッド８が配置されている。
【００３１】ノズルヘッド８には内側の基板１の平面周縁の面に対し、有効領域側に角度θが９０°以下（θ＜９０°）で設置されてレジストを溶融する溶剤を吐出するノズル１１ａ，１１ｂが設置されている。この角度θの大きさは基板に形成される不要レジスト付着部分の大きさ、塗布されたレジスト塗膜の膜厚、その結着強度等の条件で決定される。
【００３２】なお、ノズル１１ａ，１１ｂは同図（ｂ）に示したように基板の移動方向（矢印で示す）に２個（１１ａ1 ，１１ａ2 ）設置されている。同（ｂ）では下側のノズルブロック１０ａの構成を示しているが、上側のノズルブロック１０ｂも同様である。
【００３３】吸引口１２は同図（ｂ）に示したように、ノズル１１ａ1 ，１１ａ2 から吐出される溶剤の流れ経路をカバーするような広がりを有し、その中心部分に排気路１２ａが形成されている。
【００３４】この構成により、溶剤はノズル１１ａ，１１ｂから基板の周縁平面に当たり、レジストを溶解して矢印１３のように流れて吸着口１２に吸い込まれ、排気路１２ａから排出され、有効領域への跳ね返りや基板の端縁への付着残留なしに不要な部分のレジストを確実に除去できる。」
　
（ｃ）「【図１】
 
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
（ｄ）【図１】より、「ノズル１１ａは、基板１の下面に向けて配置され、ノズル１１ｂは、基板１の上面に向けて配置されている」と読み取ることができる。
　
イ．上記引用刊行物１の記載事項及び図面を総合勘案すると、引用刊行物１には、次の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されていると認められる。
　
「平板状の基板１にレジスト等の流動性材料を塗布する装置における不要部分に塗布された上記レジスト等を除去するための装置において、
　レジスト塗膜１ａを塗布した基板１が基板保持具に保持され、その基板１の平面周縁を上下から挟んで当該基板の平面と平行な方向に相対移動するノズルヘッド８が配置され、
　ノズルヘッド８には内側の基板１の平面周縁の面に対し、有効領域側に角度θが９０°以下（θ＜９０°）で設置されてレジストを溶融する溶剤を吐出するノズル１１ａ，１１ｂが設置され、
　ノズル１１ａは、基板１の下面に向けて配置され、ノズル１１ｂは、基板１の上面に向けて配置されており、
　この構成により、溶剤はノズル１１ａ，１１ｂから基板の周縁平面に当たり、レジストを溶解して矢印１３のように流れて吸着口１２に吸い込まれ、排気路１２ａから排出され、有効領域への跳ね返りや基板の端縁への付着残留なしに不要な部分のレジストを確実に除去できる、
　装置。」
　
ウ．また、原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願前である平成１４年１１月２９日に頒布された「特開２００２−３４３７０４号公報 」（以下「引用刊行物２」という。）には、図面とともに、以下の技術事項が記載されている。
　
（ａ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウェーハの表面上に、主として反射防止膜（ＡＲＣ：アンチリフレクションコーティング）である有機系塗付膜を形成する塗付膜形成方法およびその装置に関し、特に、ウェーハの表面上に有機系塗付膜材料を均一に広げ、乾燥して第１の塗付膜を形成した後、溶剤により第１の塗付膜のウェーハ周辺部を溶解して除去し、所定形状の第２の塗付膜を形成する際に、この第２の塗付膜の周辺部に形成される盛上り部分を単純な手段で除去できる塗付膜形成方法およびその装置に関する。」
　
（ｂ）「【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明による塗付膜形成方法は、ウェーハの表面上に有機系塗付膜材料を均一に広げ、乾燥して第１の塗付膜を形成した後、溶剤により前記第１の塗付膜のウェーハ周辺部を溶解して除去し、所定形状の第２の塗付膜を形成するものであって、前記第１の塗付膜を溶解する第１の溶剤を前記第１の塗付膜の除去部分に供給する一方で、前記第２の塗付膜の周辺部分に前記第１の塗付膜を残す第２の溶剤を更に供給して前記第２の塗付膜の周辺エッジを形成することを特徴としている。また、この具体的な装置は、前記第１の塗付膜を溶解する第１の溶剤を前記第１の塗付膜の除去部分に供給する第１の供給ノズルと、該第１の供給ノズルが前記第１の溶剤を噴出する際に前記第２の塗付膜の周辺部分に周辺エッジを形成する第２の溶剤を供給する第２の供給ノズルとを備えている。
【００１２】このように、一方で塗付膜を溶解し、他方で塗付膜を溶解しない二つの溶剤を塗付膜の周辺エッジ部分にほぼ同時に供給している。したがって、一方の第１の溶剤側では不要な塗付膜が除去され、他方の第２の溶剤側では、塗付膜は溶解しないので、表面張力による盛上りの造形を避けることができる。
【００１３】このためには、第１の溶剤と第２の溶剤とを、形成される第２の塗付膜の周辺エッジで接するように供給し、前記第２の溶剤が前記第１の塗付膜で表面の隆起を抑えること、更に、第２の溶剤は、回転する前記ウェーハの回転軸側で第１の溶剤の供給場所に隣接する場所に供給することが、好ましい。
【００１４】従って、装置では、第２の供給ノズルは、形成される第２の塗付膜の周辺エッジで前記第１の溶剤と接しかつ前記第１の塗付膜で表面の隆起を抑えるように前記第２の溶剤を供給し、第２の供給ノズルは、回転する前記ウェーハの回転軸側で前記第１の供給ノズルに隣接して備えることが望ましい。」
　
（ｃ）「【００１５】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
【００１６】図１および図２は本発明における方法手順および装置側面を、実施の一形態として示す模式図である。従って、各図は、本発明に関する部分の構成要素のみを示し、他の構成要素は省略されている。
【００１７】図１と図２とに示される塗付膜形成装置は、ウェーハ１、ウェーハ保持台２、塗付膜材料４を滴下する滴下ノズル３、エッジリンス用ノズル５、および塗付膜保存用ノズル６により構成されている。
【００１８】ウェーハ保持台２は、上面にウェーハ１を保持して回転する。
【００１９】滴下ノズル３は、薄膜形成工程の際に、保持されたウェーハ１の上空からその中心部分に塗付膜材料４を滴下する。塗付膜材料４は有機系であり、代表的には日産化学工業株式会社製の「ＤＵＶ３０」が用いられる。塗付膜材料４は、ウェーハ１の回転によりウェーハ１の上面に均一に広げられ、乾燥されて、第１の塗付膜４１となる。
【００２０】第１の供給ノズルであるエッジリンス用ノズル５は、有機系の塗付膜４１を溶解する第１の溶剤５ａを、第１の塗付膜４１の上面に向けて回転するウェーハ１の周辺部分で回転軸側から外側に向けて供給する。溶剤５ａとして、代表的にはＰＧＭＥＡ（ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ  ｇｌｙｃｏｌ  ｍｏｎｏａｌｋｙｌ  ｅｔｈｅｒ  ａｃｅｔａｔｅ）が用いられる。
【００２１】第２の供給ノズルである塗付膜保存用ノズル６は、有機系の塗付膜４１を溶解できない第２の溶剤６ａを、第１の塗付膜４１の上面に向けて回転するウェーハ１の周辺部分で、上記溶剤５ａの回転軸側に供給する。従って、塗付膜保存用ノズル６は、ウェーハ１の回転軸側にエッジリンス用ノズル５に隣接して配置されている。溶剤６ａとして、代表的にはキシレンが用いられる。
【００２２】まず、図１を参照して薄膜の形成について説明する。従来同様、回転するウェーハ１の中心部に滴下ノズル３から滴下された有機系塗付膜材料４は、ウェーハ１の上で均一に広げられる。次いで、広げられた有機系塗付膜材料４は、３０００ｒｐｍの回転数によりウェーハ１を回転させることによりスピン乾燥を受け、塗付膜４１に形成される。
【００２３】次いで、図２を参照して、エッジ部分の洗浄（エッジリンス）について説明する。
【００２４】エッジリンスの場合、ウェーハ１の回転数は１５００ｒｐｍに下げられる。この状態で、エッジリンス用ノズル５および塗付膜保存用ノズル６の両者からほぼ同時に、溶剤５ａ，６ａそれぞれが噴射される。噴射強度は、エッジリンス用ノズル５の方が塗付膜保存用ノズル６よりやや強めである。したがって、溶剤５ａはウェーハ１の外周側に向かって流れるが、溶剤６ａは溶剤５ａの流れにより外周側への流れが阻止され塗付膜４２上に留まる。
【００２５】しかし、溶剤６ａは、ウェーハ１の回転に従って、溶剤５ａにより溶解して除去された後に残った塗付膜４２の周辺エッジ表面を、溶剤５ａを追って流れることにより洗浄している。この結果、ノズルから噴射された溶剤５ａ，６ａの境界が、塗付膜４２の周辺エッジに形成される。」
　
（ｄ）「【図２】
　 
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
エ．上記引用刊行物２の記載事項及び図面を総合勘案すると、引用刊行物２には、次の技術（以下「引用刊行物２記載の技術」という。）が記載されていると認められる。
　
「ウェーハの表面上に有機系塗付膜材料を均一に広げ、乾燥して第１の塗付膜を形成した後、溶剤により第１の塗付膜のウェーハ周辺部を溶解して除去し、所定形状の第２の塗付膜を形成する際に、この第２の塗付膜の周辺部に形成される盛上り部分を単純な手段で除去できる塗付膜形成装置において、
　第１の供給ノズルであるエッジリンス用ノズル５は、有機系の塗付膜４１を溶解する第１の溶剤５ａを、第１の塗付膜４１の上面に向けて回転するウェーハ１の周辺部分で回転軸側から外側に向けて供給し、第２の供給ノズルである塗付膜保存用ノズル６は、有機系の塗付膜４１を溶解できない第２の溶剤６ａを、第１の塗付膜４１の上面に向けて回転するウェーハ１の周辺部分で、上記溶剤５ａの回転軸側に供給し、塗付膜保存用ノズル６は、ウェーハ１の回転軸側にエッジリンス用ノズル５に隣接して配置され、
　エッジリンス用ノズル５および塗付膜保存用ノズル６の両者からほぼ同時に、溶剤５ａ，６ａそれぞれが噴射され、したがって、溶剤５ａはウェーハ１の外周側に向かって流れるが、溶剤６ａは溶剤５ａの流れにより外周側への流れが阻止され塗付膜４２上に留まり、溶剤６ａは、ウェーハ１の回転に従って、溶剤５ａにより溶解して除去された後に残った塗付膜４２の周辺エッジ表面を、溶剤５ａを追って流れることにより洗浄する技術。」
　
（２−３−２）対比
　本願補正発明と、引用発明１を対比する。
　引用発明１における「平板状の基板１にレジスト等の流動性材料を塗布する装置における不要部分に塗布された上記レジスト等を除去するための装置」は、「基板１の平面周縁の面に対し」「レジストを溶融する溶剤を吐出する」構成を備えていることから、基板の平面周縁のレジストを溶融して除去する装置であることは明らかであるから、本願補正発明における「基板の表面の周縁部に付着したレジストを除去するレジスト除去装置」に相当する。
　引用発明１における「レジスト塗膜１ａを塗布した基板１」は、本願補正発明における「レジストが生乾きの状態である」「基板」に相当する。
　引用発明１における「ノズルヘッド８」は、「レジスト塗膜１ａを塗布した」「基板１の平面周縁を上下から挟」むものであり、かつ「ノズル１１ａ，１１ｂが設置さ」れるものであるから、本願補正発明における「前記レジストが生乾きの状態である前記基板が設置される噴頭部」及び「噴頭部に設けられてなるノズル部」に相当する。
　引用発明１における「溶剤を吐出するノズル１１ｂ」は、「基板１の上面に向けて配置されて」いることから、本願補正発明における「第１の吐出口から溶剤を」「吐出する」「第１の吐出口を有する第１のノズル」に相当する。
　引用発明１における「溶剤を吐出するノズル」「１１ａ」は、「基板１の下面に向けて配置されて」いることから、本願補正発明における「レジストの存しない」「基板の裏面に位置するように設けられてなる」「第３の吐出口から溶剤を」「吐出する」「第３の吐出口を有する第３のノズル」に相当する。
　
　すると、本願補正発明と、引用発明１とは、次の点で一致する。
＜一致点＞
「基板の表面の周縁部に付着したレジストを除去するレジスト除去装置であって、
　前記レジストが生乾きの状態である前記基板が設置される噴頭部と、
　前記噴頭部に設けられてなるノズル部と
　を含み、
　前記ノズル部は、第１の吐出口を有する第１のノズルを有し、前記第１の吐出口が前記基板の表面の周縁部に位置するように設けられており、前記第１の吐出口から溶剤を吐出し、
　前記ノズル部は、第３の吐出口を有する第３のノズルを更に有し、前記第３の吐出口が前記レジストの存しない前記基板の裏面に位置するように設けられてなる、
　レジスト除去装置。」
　
　一方で、両者は、次の各点で相違する。
＜相違点１＞
　本願補正発明は、ノズル部が「第２の吐出口を有する第２のノズルとを有し」、「近接する前記第１の吐出口と前記第２の吐出口とが共に前記基板の表面の周縁部に位置するように設けられており」、「前記第２の吐出口から前記レジストに対して低浸透性の液体」を「前記第１の吐出口から溶剤」と「同時に吐出する」ものであるのに対し、引用発明１は上記特定事項を備えていない点。
＜相違点２＞
　本願補正発明では、「低侵透性の液体」が「純水」であるのに対し、引用発明１は、上記特定事項を備えていない点。
　
（２−３−３）判断
　上記各相違点について判断する。
＜相違点１について＞
　基板の周縁部のレジストを除去する装置という引用発明１と同一の技術分野に属する引用刊行物２には、２つのノズルからそれぞれ異なる溶剤をほぼ同時に基板周縁部に噴射して基板周縁部の塗布膜を除去する引用刊行物２記載の技術が開示されている（上記「（２−３−１）エ．」参照。）。上記引用刊行物２記載の技術における「塗布膜保存用ノズル６」は、そのノズルから塗付膜４１を溶解できない第２の溶剤６ａを、エッジリンス用ノズル５からの有機系の塗付膜４１を溶解する第１の溶剤５ａとほぼ同時に噴射し、かつウェーハ１の回転軸側にエッジリンス用ノズル５に隣接して配置されたものであるとともに、前記「塗布膜保存用ノズル６」から噴射される「塗付膜４１を溶解できない第２の溶剤６ａ」は有機系の塗布膜４１、すなわちレジストを溶解できないことからして、レジストに対する浸透性が低いことは明らかである。そうすると前記「塗布膜保存用ノズル６」は、本願補正発明における「近接する前記第１の吐出口と前記第２の吐出口とが共に前記基板の表面の周縁部に位置するように設けられており」、「前記第２の吐出口から前記レジストに対して低浸透性の液体」を「前記第１の吐出口から溶剤」と「同時に吐出する」「第２の吐出口を有する第２のノズル」に相当するものである。
　よって、引用発明１に上記引用刊行物２記載の技術を適用して上記相違点１に係る発明特定事項を得ることは、当業者にとって容易になし得たことである。
＜相違点２について＞
　基板の周縁部のレジストを除去する装置という引用発明１の技術分野において、基板の一面の皮膜を、その皮膜を損なわない液体である純水で皮膜の表面を保護することは、当業者にとって本願出願前において周知である（必要ならば特開平２−１６０２４５号公報を参照のこと。）。つまり、基板の一面の被膜を損なわない液体として純水は、本願出願前において周知である。
　よって、引用発明１において、同一の技術分野に属する上記引用刊行物２記載の技術を適用する際に塗布膜４１を溶解できない第２の溶剤６ａとして上記周知の純水を採用して、上記相違点２に係る発明特定事項を得ることは、当業者ならば容易になし得たことである。
　
　そして、本願補正発明の作用効果は、引用発明１、引用刊行物２記載の技術及び周知技術から当業者が予測しうる程度のものに過ぎない。
　
　したがって、本願補正発明は、引用発明１、引用刊行物２記載の技術及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（２−４）むすび
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
３．本願発明について
　平成２２年８月１０日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項２に係る発明は、平成２２年１月２９日付け手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりのものであるところ、請求項２に係る発明（以下「本願発明」という。）は、次のとおりのものである。
　
「　【請求項１】
　基板の表面の周縁部に付着したレジストを除去するレジスト除去装置であって、
　前記レジストが生乾きの状態である前記基板が設置される噴頭部と、
　前記噴頭部に設けられてなるノズル部と
　を含み、
　前記ノズル部は、第１の吐出口を有する第１のノズルと、第２の吐出口を有する第２のノズルとを有し、近接する前記第１の吐出口と前記第２の吐出口とが共に前記基板の表面の周縁部に位置するように設けられており、前記第１の吐出口から溶剤を、前記第２の吐出口から前記レジストに対して低浸透性の液体を同時に吐出することを特徴とするレジスト除去装置。
　　【請求項２】
　前記ノズル部は、第３の吐出口を有する第３のノズルを更に有し、前記第３の吐出口が前記レジストの存しない前記基板の裏面に位置するように設けられてなることを特徴とする請求項１に記載のレジスト除去装置。」
　
４．引用刊行物記載の発明
　原査定の拒絶の理由で引用された引用刊行物並びにその記載事項は、上記「２．（２−３−１）」に記載したとおりである。
　
５．対比・判断
　本願発明は、上記「２．（２−３）」で検討した本願補正発明から、「低浸透性の液体」について「純水」に限定した事項を削除して拡張した構成としたものであるから、本願発明と引用発明１とは、上記「２．（２−３−２）」における「＜相違点１＞」の事項で相違するに過ぎない。そして、上記「＜相違点１＞」に係る発明特定事項を得ることは、上記「２．（２−３−３）」で検討したとおり引用発明１に引用刊行物２記載の技術を適用することにより当業者が容易になし得たことである。
　ゆえに、本願発明は、引用発明１及び引用刊行物２記載の技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
６．むすび
　以上のとおり、本願の請求項２に係る発明は、引用刊行物１に記載された発明及び引用刊行物２に記載された技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。