【事件の表示】
　特願２００１−２４１４５７「研磨パッド」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年　２月１８日出願公開、特開２００３−　４８１５１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯・本願発明
　本願は、平成１３年８月８日の出願であって、その請求項１ないし２に係る発明は、当審での平成２３年９月１６日付けの拒絶の理由に対して提出された平成２３年１１月２８日付けの手続補正書の記載からみて、本願の特許請求の範囲の請求項１ないし２に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、その請求項１及び２に記載された発明は、次のとおりである（以下、「本願発明１」等という。）。
「【請求項１】 パッド本体と、該パッド本体の一部に形成された窓部材と、を有する研磨パッドであって、
　該窓部材の透過度が、分光光度計を用いて測定した場合に、波長４５０ｎｍ〜８５０ｎｍの領域に亘って３０％以上であり、
　前記パッド本体および窓部材が、それぞれウレタン樹脂にて形成され、該パッド本体と窓部材との研削性がほぼ同じか、または窓部材の研削性がパッド本体の研削性より大きい研磨パッド。
【請求項２】 ウレタン樹脂にて形成されるパッド本体と、該パッド本体の一部に形成されたウレタン樹脂にて形成される窓部材と、を有する研磨パッドの製造方法であって、
　前記窓部材が以下の工程を包含する方法によって作成される、研磨パッドの製造方法：
　ウレタンプレポリマーと硬化剤とを混合する工程、
　該混合物を冷却して固化又は増粘させる工程、および
　該固化物を昇温してウレタンプレポリマーと硬化剤との反応を完結させる工程。」
　
２　刊行物記載の発明
　これに対して、当審での平成２３年９月１６日付けの拒絶の理由に引用された、本願の出願の日前である平成１３年２月２２日に頒布された国際公開第０１／１２３８７号（以下、「刊行物」という。）には、以下の記載がある。なお、括弧内は、引用刊行物１の対応する日本語文献である特表２００３−５０７１９９号公報を参照した日本語翻訳文及び同公報における該当箇所である。なお、行数には空行を含まない。
ア　明細書第１ページ第３行〜第８行（第４ページ第３行〜第７行）
「Field of the Invention
　This invention relates to a polishing pad which is useful for creatintg a smooth, ultra-flat surface on such items as glass, semiconductors, dielectric/metal composites, and integrated circuits. More particularly, the invention relates to a molded polishing pad having a window which facilitates inspection of a workpiece and determination of a polishing endpoint by optical means.」
（〔本発明の分野〕
　本発明は、ガラス、半導体、誘電体／金属複合材、及び集積回路などの上に、滑らかで、超平坦性の表面を形成するのに有用な研磨パッドに関する。より詳しくは、本発明は、光学的手段により、被加工物の検査及び研磨終点の測定を容易にする窓を有する成形された研磨パッドに関する。）
イ　明細書第３ページ第４行〜第１３行（第６ページ第１３行〜第２３行）
「A method of making a polishing pad comprises:
　providing a mold having a mold cavity;
　delivering a flowable polymeric material into the mold cavity, wherein the flowable polymeric material is transparent;
　cooling the flowable polymeric material in a region of the mold cavity at a relatively rapid rate, wherein the polymeric material in the region hardens and remains transparent after hardening; and
　cooling the flowable polymeric material in an adjacent region of the mold cavity at a relatively slower rate, wherein the polymeric material in the adjacent region hardens and becomes relatively opaque.」
（研磨パッドの製造方法は、
　成形用キャビティを有する型を用意すること；
　該成形用キャビティの中に、流動性ポリマー材料を配すること（ここで、該流動性ポリマー材料は透明である）；
　該成形用キャビティの領域中の流動性ポリマー材料を、相対的に速い速度で冷却すること（ここで、該領域のポリマー材料は硬化し、そして硬化後は透明を維持する）；そして
　該成型用キャビティの隣接する領域中の流動性ポリマー材料を、相対的により遅い速度で冷却すること（ここで、該隣接する領域のポリマー材料は硬化し、そして相対的に不透明になる）
を含む。）
ウ　明細書第３ページ第１８行〜第４ページ第８行（第６ページ第２７行〜第７ページ第１８行）
「DETAILED DESCRIPTION OF A PREFERRED EMBODIMENT
　A polishing pad according to the invention as shown in Fig. 1 comprises a one-piece molded article 10 which is shaped as a substantially flat disk having opposite major surfaces. One of the major surfaces is a polishing surface that is applied to a workpiece during polishing, and the other major surface is a back surface that is contacted by a platen on which the polishing pad is mounted, either directly or through an intermediate base pad.
　The molded polishing pad is characterized by a region 12 wherein the polymeric material is transparent. By transparent it is meant that the region exhibits transmissivity on the order of 20% or more to an incident light beam having some wavelength in the range from infrared to ultra-violet, at least when the light beam is at an angle of incidence substantially normal to the surface of the polishing pad. It should be understood that the transparent region need not be totally transmissive, and that some scattering of incident light, particularly due to surface finish of the transparent region, is acceptable.
　A region 14 of the polishing pad which is adjacent to the transparent region 12 is substantially opaque. In a preferred embodiment the entire polishing pad is opaque except for the transparent region 12. However, the polishing pad may comprise two or more transparent regions, in which case each of the transparent regions stands in contrast to an adjacent opaque region. It should be understood that the opaque region 14 need not be completely opaque to incident light, particularly since the polishing pad is relatively thin, having a thickness dimension on the order of .050 to .080 inch. It is only required that the opaque region 14 be relatively less transmissive than the transparent region 12.」
（〔好ましい実施態様についての詳細な説明〕
　図１に示すように本発明の研磨パッドは、対向する主要な面を有する実質的に平坦なディスクとして成形された一体成形品１０を含む。主要な面の一つは、研磨中に被加工物に作用させる研磨面であり、他の面は、裏面であり、直接、又は中間のベースパッドを通して、研磨パッドが装着される定盤に接触させる。
　成形された研磨パッドは、ポリマー材料が透明である領域１２で特徴づけられる。透明とは、少なくとも光線が、研磨パッドの面に対して実質的に垂直な入射角である場合に、領域が、赤外から紫外線の波長の範囲の入射光に対して２０％以上のオーダーで透過性を示すことを意味する。透明な領域が、完全に透過性である必要はなく、特に透明な領域の表面仕上げに起因する入射光のいくらかの散乱は、許容されることを理解すべきである。
　透明な領域１２に隣接する研磨パッドの領域１４は、実質的に不透明である。好適な実施態様では、透明な領域１２を除いて、研磨パッド全体は不透明である。研磨パッドは、２つ以上の透明な領域を含むことができるが、この場合、透明な領域は、それぞれ隣接する不透明な領域とは対照をなす。不透明な領域１４は、特に研磨パッドが比較的薄く、０．０５０から０．０８０インチのオーダーの寸法の厚みを有することから、入射光に対して完全に不透明である必要はないことを理解すべきである。不透明な領域１４は、透明な領域１２よりも相対的に透過性が低いことを要求されるにすぎない。）
エ　明細書第４ページ第１９行〜第５ページ第７行（第８ページ第２行〜第２１行）
「One type of polymeric material suitable for making the pad comprises semi- crystalline thermoplastic polymers. These polymers are generally transparent when in liquid phase but become opaque after curing because they contain both crystalline and amorphous phases, and the crystalline phase causes light-scattering which makes the polymer opaque. Crystallization occurs at temperatures between the melting temperature (Tmelt) and the glass transition temperature (Tg) of the polymer, these being the upper and lower crystallization temperatures, respectively. If a semi-crystalline polymer is rapidly cooled from a temperature above Tmelt  to a temperature below Tg , crystallization can be minimized, and the polymer will remain amorphous and transparent. Alternatively, crystallization can be controlled by rapid cooling in order to keep the resulting crystallite to a size which is too small to scatter light, whereby the polymer will remain transparent.
　Thus, a polishing pad according to the invention may be produced by molding a semi-crystalline polymeric material in a mold having a mold cavity, wherein the mold has a means for rapidly cooling the polymeric material in a section of the mold cavity. The semi- crystalline polymeric material is delivered to the mold cavity in a liquid phase and is transparent. A means for rapidly cooling the material may comprise a passageway in the mold which permits circulation of a cooling medium such as chilled water or air, thereby removing heat from a region of the polymeric material proximate to the passageway. The polymeric material in this region is rapidly cooled from a temperature above Tmelt  to a temperature below Tg , thereby constraining the crystallization process as discussed above and retaining the transparency of the material in this region.」
（本パッドを作製するのに適当なポリマー材料の一つのタイプは、半結晶質の熱可塑性ポリマーを含む。これらのポリマーは、一般的に、液相では透明であるが、硬化後には、これらが結晶質相と非晶質相の両方を含有することから、不透明となリ、そして、この結晶質相が、ポリマーを不透明にさせる光散乱を生じさせる。結晶化は、ポリマーの融解温度（Tmelt）とガラス転移温度（Tg）の間の温度で起こり、これらは、それぞれ結晶化温度の上限と下限である。半結晶質ポリマーをTmelt超の温度からTg未満の温度に急速に冷却した場合、結晶化は最小となり、ポリマーは非晶質のままである。また、生成した微結晶を、光を散乱させるには小さすぎる大きさに保ち、それによってポリマーを透明に保持するために、急速な冷却により結晶化を制御することができる。
　このようにして、本発明による研磨パッドは、半結晶質のポリマー材料を、成形用キャビティを有する型内で成形することにより作製されるが、ここで、該型は、成形用キャビティの部分にあるポリマー材料を急速に冷却するための装置である。半結晶質ポリマー材料は、液相で成形用キャビティ内に配されるが、それは透明である。該材料を急速に冷却する装置は、冷却した水、又は空気といった冷却媒体の循環を可能にする型内の通路を含み、それによって通路に隣接するポリマー材料の領域から熱を除去する。この領域中のポリマー材料は、Tmelt超の温度からTg未満の温度に急速に冷却され、それによって上述の結晶化プロセスが強いられて、この領域中の材料の透明性が保持される。）
オ　明細書第５ページ第２２行〜第６ページ第１２行（第９ページ第８行〜第１０ページ第７行）
「The following example describes the formation of a polishing pad having a transparent window in which a polymeric material comprising a reactive thermosetting polymer forms phase separated domains during pad formation.
　Two liquid streams are mixed together and injected into a closed mold having a shape corresponding to a desired pad shape. The first stream comprises a mixture of a polymeric diol and a polymeric diamine, together with an amine catalyst. The ratio of diol to diamine is variable over a wide range (5% to 95%) and is determined by the required physical properties of the final pad. Likewise, the molecular weights of the diol and diamine are not critical to this invention, and these also may be determined by the required physical properties of the pad.
　The second stream comprises a diisocyanate, preferably diphenylmethanediisocyanate (MDI). The amount of diisocyanate used is such as to give a slight excess after complete reaction with the diol and diamine groups. This is standard practice to those skilled in the art of urethane manufacture.  The mixed streams are injected into a heated mold to form a phase separated polyurethane-urea polymeric material. Overall mold temperature is between 50℃ and 120℃. The mold is designed with an isolated temperature zone, on both sides of the mold, that has independent temperature control, corresponding to the shape and location of the desired transparent window. The temperature of this zone is initially 20℃ and 50℃ lower than the temperature of the surrounding mold.
　Soon after the mold is completely filled, the reactive polymer gels. After gelation, the relatively cooler isolated temperature zone is heated to approximately the same temperature as the rest of the mold to complete polymerization of the part. After the required polymerization time has elapsed, the part, in the form of a net-shaped pad, is subsequently demolded. The pad is generally opaque but has a transparent window region corresponding to the relatively cooler zone in the mold cavity.」
（以下の例は、透明な窓を有する研磨パッドの形成を述べるものであり、ここでは、ポリマー材料が反応性熱硬化性ポリマーを含み、パッド形成中に、相分離ドメインが形成される。
　２種の液流を混合し、所望のパッド形状に対応した形をもつ密閉した型に注入する。第１の液流は、アミン触媒とともに、ポリマー性ジオールとポリマー性ジアミンの混合物を含有する。ジアミンに対するジオールの割合は、広い範囲（５％〜９５％）にわたって変動させることができ、最終的な研磨パッドに要求される物性により決定される。同様に、ジオール及びジアミンの分子量は、本発明にとって厳密ではなく、やはり要求される研磨パッドの物性により決定することができる。
　第２の液流は、ジイソシアナート、好適にはジフェニルメタンジイソシアナート（ＭＤＩ）を含有する。使用するジイソシアナートの量は、ジオール及びジアミン基と完全に反応した後、わずかに過剰となるようにする。これは、ウレタンの製造分野の当業者にとって、標準的なやり方である。
　混合した液流を、加熱した型内へ注入し、相分離したポリウレタン−尿素ポリマー材料を形成する。型全体の温度は５０℃から１２０℃の間である。型は、型の両側に、所望の透明な窓の形状や位置に対応した、独立の温度制御を有する分離した温度ゾーンを備えるように設計されている。このゾーンの温度は、初期段階で、周囲の型の温度よりも２０℃から５０℃低い。
　型が完全に満たされると、すぐに、反応性ポリマーはゲル化する。ゲル化後、相対的により低い温度の分離された温度ゾーンを、型の残りの部分とほぼ同じ温度に加熱し、その部分の重合を完了させる。必要な重合時間の経過後、その部分を、次いで正味形状のパッドの形態で型出しをする。パッドは、概して不透明であるが、相対的により低い温度ゾーンに対応する成形用キャビティ内の透明な窓領域を有している。）
カ　明細書第６ページ第１７行−第２４行（第１０ぺージ第１４行−第２１行）
「A polishing pad according to the invention has a number of advantages. The pad is molded as a one-piece article with an integral, transparent window, thereby reducing manufacturing steps and associated costs. The possibility of slurry leakage around the window is eliminated. The window is coplanar with the polishing surface so that a surface of the window can participate in the polishing. Since the window is made from the same polymer formulation as the rest of the pad, the window has the same physical properties as the pad. Therefore, the window has the same conditioning and polishing characteristics and the same hydrolytic stability as the pad. Further, thermal expansion mismatch between the pad and the window is avoided.」
（本発明によるパッドは、多くの利点を有する。このパッドは、一体化した透明な窓を備えた一体成形品として成形され、それによって、製造工程及び関連するコストを低減する。窓周辺のスラリーの漏れのおそれは取り除かれる。窓は、窓の面も研磨に関係することができるように、研磨面と同一平面にある。窓は、パッドの他の部分と同じポリマー配合で作製されているため、窓は、パッドと同じ物性を有する。それゆえ、窓は、パッドと同様のコンディショニング及び研磨特性、並びに同様の加水分解安定性を有する。さらに、パッドと窓の間の熱膨張のミスマッチを防止できる。）
キ　ここで、図面のＦＩＧ．１を参照すると、研磨パッドの領域１４の一部に透明な領域１２が形成された一体成形品１０を見て取れる。摘記事項オの「第１の液流は、アミン触媒とともに、ポリマー性ジオールとポリマー性ジアミンの混合物を含有する。」、及び「第２の液流は、ジイソシアナート、好適にはジフェニルメタンジイソシアナート（ＭＤＩ）を含有する。使用するジイソシアナートの量は、ジオール及びジアミン基と完全に反応した後、わずかに過剰となるようにする。これは、ウレタンの製造分野の当業者にとって、標準的なやり方である。」の記載から、研磨パッドの透明な領域１２がウレタンから構成されるものであることは明らかである。また、摘記事項カの「窓は、パッドの他の部分と同じポリマー配合で作製されている」の記載から、研磨パッドの領域１４も透明な領域１２と同様に、ウレタンから構成されているものであることも明らかである。
　以上、アないしカの記載事項、及びキの認定事項から、刊行物には、「研磨パッドの領域１４と、該研磨パッドの領域１４の一部に形成されたウレタンにて形成される透明な領域１２と、を有する一体成形品１０であって、
　前記透明な領域１２が、赤外から紫外線の波長の範囲の入射光に対して２０％以上のオーダーの透過性を示すものであり、
　前記研磨パッドの領域１４および透明な領域１２が、それぞれウレタンにて形成され、該研磨パッドの領域１４および透明な領域１２が、同じ物性を有する一体成形品１０。」の発明（以下、「引用発明１」という。）、及び、「ウレタンにて形成される研磨パッドの領域１４と、該研磨パッドの領域１４の一部に形成されたウレタンにて形成される透明な領域１２と、を有する一体成形品１０の製造方法であって、
　前記透明な領域１２が以下の工程を包含する方法によって作成される、一体成形品１０の製造方法：
　アミン触媒とともに、ポリマー性ジオールとポリマー性ジアミンの混合物を含有する第１の液流と、ジフェニルメタンジイソシアナートを含有する第２の液流とを混合する工程、
　該混合した液流を型の両側に独立の温度制御を有する分離した温度ゾーンを備え、このゾーンの温度が初期段階で周囲の温度よりも２０℃から５０℃低い加熱した型内へ注入し、反応性ポリマーをゲル化する工程、および
　該ゲル化後、相対的により低い温度の分離された温度ゾーンを、型の残りの部分とほぼ同じ温度に加熱し、その部分の重合を完了させる工程。」の発明（以下、「引用発明２」という。）が記載されていると認められる。
　
３　対比及び当審の判断
（１）本願発明１に対して
ア　対比
　本願発明１と引用発明１を対比すると、引用発明１の「研磨パッドの領域１４」、「透明な領域１２」、「一体成形品１０」は、それぞれ本願発明１の「パッド本体」、「窓部材」、「研磨パッド」に相当する。
　引用発明１の「透明な領域１２が、赤外から紫外線の波長の範囲の入射光に対して２０％以上のオーダーの透過性を示す」ことは、「所定の波長の領域に亘って２０％以上の透過度を有する」限りで、本願発明１の「透過度が、分光光度計を用いて測定した場合に、波長４５０ｎｍ〜８５０ｎｍの領域に亘って３０％以上である」ことと共通する。
　したがって、本願発明１と引用発明１とは、以下の一致点を有し、また、相違点を有している。
＜一致点＞
「パッド本体と、該パッド本体の一部に形成された窓部材と、を有する研磨パッドであって、
　前記窓部材が、所定の波長の領域に亘って２０％以上の透過度を有するものであり、
　前記パッド本体および窓部材が、それぞれウレタン樹脂にて形成される研磨パッド。」
＜相違点１＞
　窓部材の透過度に関して、本願発明１では、「分光光度計を用いて測定した場合に、波長４５０ｎｍ〜８５０ｎｍの領域に亘って３０％以上」であるのに対して、引用発明１では、赤外から紫外線の波長の範囲の入射光に対して２０％以上のオーダーの透過性を示すものである点。
＜相違点２＞
　パッド本体と窓部材の研削性に関して、本願発明１では、「パッド本体と窓部材との研削性がほぼ同じか、または窓部材の研削性がパッド本体の研削性より大きい」としているのに対して、引用発明１では、研磨パッドの領域１４および透明な領域１２が、同じ物性を有するものである点。
イ　相違点に対する当審の判断
（ア）　＜相違点１＞について
　可視光線の波長は一般に３８０〜７８０ｎｍの範囲を言うのであるから、引用発明１の「赤外から紫外線の波長の範囲」からすると、本願発明１と引用発明１とは、波長の範囲が大部分重複するものである。そして、波長ごとの光を測定するのに分光光度計を用いることも技術常識である。そうしてみると、本願発明１では、透過度を「３０％以上」と特定している点において、引用発明１の透過度が２０％以上のオーダーと相違しているのみである。
　しかしながら、研磨パッドにおける窓部材として光の透過度が高ければそれだけ研磨の終点検知における検出精度が向上することは自明の事項であることからすれば、窓部材の光の透過度を向上させるための工夫であればともかく、光の透過度を「３０％以上」との特定だけをもって、特別な技術的特徴であるとすることはできない。
　したがって、引用発明１において、光の透過度を３０％以上であると特定することは、当業者が容易になし得たものと考えざるを得ない。
（イ）　＜相違点２＞について
　一般に研磨パッドにおいて、窓部材の研削性がパッド本体の研削性と同じであることが望ましいことは従来知られているところ、引用発明１は、研磨パッドの領域１４および透明な領域１２が、同じ物性を有するものであるから、研磨パッドの領域１４および透明な領域１２が同じ研削性を有することは十分考えられる。
　してみると、引用発明１において、透明な領域１２の研削性を研磨パッドの領域１４の研削性より大きくするのであればともかく、研磨パッドの領域１４および透明な領域１２の研削性をほぼ同じものとすることは、当業者が容易になし得たものであると考えざるをえない。
（ウ）　本願発明１に対するまとめ
　本願発明１によってもたらされる作用ないし効果についても、引用発明１及び従来周知の事項から予測しうるものでしかないことからすれば、本願発明１は、引用発明１から当業者が容易になし得たものである。
（２）本願発明２に対して
ア　対比
　本願発明２と引用発明２を対比すると、引用発明２の「研磨パッドの領域１４」、「透明な領域１２」、「一体成形品１０」は、それぞれ本願発明２の「パッド本体」、「窓部材」、「研磨パッド」に相当する。
　引用発明２の「ウレタン」は、本願発明２の「ウレタン樹脂」に相当する。
　引用発明２の「アミン触媒とともに、ポリマー性ジオールとポリマー性ジアミンの混合物を含有する第１の液流と、ジフェニルメタンジイソシアナートを含有する第２の液流」は、「ウレタン樹脂の材料」という限りで、本願発明２の「ウレタンプレポリマーと硬化剤」と共通する。
　引用発明２の「混合した液流を型の両側に独立の温度制御を有する分離した温度ゾーンを備え、このゾーンの温度が初期段階で周囲の温度よりも２０℃から５０℃低い加熱した型内へ注入」することは、本願発明２の「混合物を冷却」することに相当する。
　引用発明２の「ゲル化」は、本願発明２の「固化又は増粘」に相当する。
　ゲル化するのは、本願発明２の「ウレタンプレポリマーと硬化剤」と共通する「アミン触媒とともに、ポリマー性ジオールとポリマー性ジアミンの混合物を含有する第１の液流と、ジフェニルメタンジイソシアナートを含有する第２の液流」の混合物であるから、結局、引用発明２の「相対的により低い温度の分離された温度ゾーンを、型の残りの部分とほぼ同じ温度に加熱し、その部分の重合を完了させる」ことは、本願発明２の「固化物を昇温して反応を完結させる」ことに相当する。
　したがって、本願発明２と引用発明２とは、以下の一致点を有し、また、相違点を有している。
＜一致点＞
「ウレタン樹脂にて形成されるパッド本体と、該パッド本体の一部に形成されたウレタン樹脂にて形成される窓部材と、を有する研磨パッドの製造方法であって、
　前記窓部材が以下の工程を包含する方法によって作成される、研磨パッドの製造方法：
　ウレタン樹脂の材料を混合する工程、
　該混合物を冷却して固化又は増粘させる工程、および
　該固化物を昇温してウレタン樹脂の材料の反応を完結させる工程。」
＜相違点３＞
　本願発明２では、ウレタン樹脂の材料として、「ウレタンプレポリマーと硬化剤」を用いているのに対して、引用発明２では、アミン触媒とともに、ポリマー性ジオールとポリマー性ジアミンの混合物を含有する第１の液流と、ジフェニルメタンジイソシアナートを含有する第２の液流を用いている点。
イ　相違点に対する当審の判断
（ア）　＜相違点３＞について
　ウレタン樹脂の材料として、ウレタンプレポリマーと硬化剤を用いることは、例示するまでもなく、従来周知の事項であることに鑑みれば、引用発明２において、ウレタン樹脂の材料として、引用発明２に用いられているアミン触媒とともに、ポリマー性ジオールとポリマー性ジアミンの混合物を含有する第１の液流と、ジフェニルメタンジイソシアナートを含有する第２の液流に代えて、ウレタンプレポリマーと硬化剤を用いるようにすることは、当業者が容易になし得たものである。
（イ）　本願発明２に対するまとめ
　本願発明２によってもたらされる作用ないし効果についても、引用発明２及び従来周知の事項から予測しうるものでしかないことからすれば、本願発明２は、引用発明２から当業者が容易になし得たものである。
　
４　むすび
　したがって、本願発明１は引用発明１に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、本願発明２は引用発明２に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができず、本願は拒絶されるべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。