【手続補正書】
【提出日】平成18年10月2日(2006.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザビームパルスを放出するように動作可能なレーザと、
前記レーザビームパルスを、エンコード特性を含んで整形するように動作可能なパルス整形器と、
前記パルスの複数の周波数を分離するように動作可能な結晶と、
前記結晶により分離された前記整形レーザビームパルスの前記特性を検出するように動作可能な検出機器と、
前記特性をデコードするように動作可能な前記検出機器に接続されたユニットと、
を備えるシステム。
【請求項２】
前記レーザビームパルスは、ルーティングアドレスを含んでエンコードされる、請求項１記載のシステム。
【請求項３】
前記レーザビームパルスは、複数のルーティングアドレスを含んでエンコードされ、第二の後続のレーザビームパルスは、前記レーザから放出され、同様に、前記パルス整形器によって、複数のルーティングアドレスを含んでエンコードされる、請求項２記載のシステム。
【請求項４】
前記レーザビームパルスに含まれる各ルーティングアドレスは、前記パルス整形器によってエンコードされ、二次高調波発生後に個別の周波数に対応する、請求項３記載のシステム。
【請求項５】
前記レーザビームパルスは、通信メッセージデータを含んでエンコードされる、請求項２記載のシステム。
【請求項６】
前記システムは、更に、
メイン送信コントローラと、
前記送信コントローラに接続された複数の遠隔の初期送信源とを備え、
前記メイン送信コントローラは、前記パルス整形器に、複数の連続するレーザビームパルスを能動的に異なる態様でエンコードさせるように動作可能である、請求項１記載のシステム。
【請求項７】
自己相関及び干渉法なしで非同期の態様で前記特性をデコードするために、前記結晶及び検出機器を含むレシーバに対してエンコード済み光信号を送信すべく、前記メイン送信コントローラとレーザとパルス整形器は、メイン通信トランスミッタとして機能する、請求項６記載のシステム。
【請求項８】
前記結晶は、前記パルス整形器と前記検出機器との間の経路に配置された二次高調波発生結晶である、請求項１記載のシステム。
【請求項９】
前記結晶は、厚結晶である、請求項１記載のシステム。
【請求項１０】
前記ユニットは、二次位相変調を決定するように動作可能である、請求項１記載のシステム。
【請求項１１】
前記システムは、更に、前記パルス整形器から前記レーザビームパルスを搬送する光ファイバケーブルを備える、請求項１記載のシステム。
【請求項１２】
前記パルス整形器は、基板に成形された固定波形を有する、請求項１記載のシステム。
【請求項１３】
前記レーザは、パルス持続時間約５０フェムト秒未満の単一レーザビームパルスを放出するように動作可能なフェムト秒レーザである、請求項１記載のシステム。
【請求項１４】
前記レーザは、持続時間１１フェムト秒未満のレーザビームパルスを送信するように動作可能である、請求項１記載のシステム。
【請求項１５】
前記パルス整形器は、前記レーザビームパルスの振幅及び位相を制御するように動作可能である、請求項１記載のシステム。
【請求項１６】
前記検出機器は、対応するファイバの下流に接続されている複数の前記ユニットを備えた光ファイバアレイを含む、請求項１記載のシステム。
【請求項１７】
レーザビームパルスと、
前記パルスを変化させるように動作可能なパルス整形器と、
前記パルス整形器によって整形された前記パルスを収束位相整合角度で受け取り、その後、前記パルスを、個々に分離された色周波数へ発散させるように動作可能な光学コンポーネントと、
を備えるシステム。
【請求項１８】
前記システムは、更に、送信制御ユニットと、前記送信制御ユニットに接続され、入力信号を送信する複数の通信源とを備え、前記送信制御ユニットは、前記通信源から受信した前記入力信号に従って複数の連続したレーザビームパルスをエンコードするために、前記パルス整形器の態様を変化させるように動作可能である、請求項１７記載のシステム。
【請求項１９】
前記システムは、更に、
前記レーザビームパルスを放出するように動作可能なレーザと前記パルス整形器とを含む通信トランスミッタアセンブリと、
前記光学コンポーネント及び検出器を含む通信レシーバアセンブリと、
を備え、
前記トランスミッタアセンブリは、エンコード済みレーザ信号を前記レシーバアセンブリに送信するように動作可能であり、前記レシーバアセンブリは、前記レーザ信号を所定の復号コードに基づいて非同期の態様でデコードするように動作可能である、請求項１７記載のシステム。
【請求項２０】
前記システムは、更に、前記パルス整形器から前記レーザビームパルスを搬送する光ファイバケーブルを備える、請求項１７記載のシステム。
【請求項２１】
レーザビームパルスを放出するように動作可能なレーザと、
エンコード済み通信データを含むように前記パルスの少なくとも一つの特性を変更するように動作可能な暗号化器と、
変更済みパルス特性を非同期の態様でデコードするように動作可能な遠隔配置された解読器と、
を備える通信システム。
【請求項２２】
前記パルスは、アドレスルーティング情報及び関連する通信情報を搬送するためにエンコードされる、請求項２１記載のシステム。
【請求項２３】
前記システムは、更に、エンコード済みパルスの自己分離を起こさせるように動作可能な前記解読器に関連する少なくとも一つの受動的光学コンポーネントを備える、請求項２１記載のシステム。
【請求項２４】
パルス内干渉（intrapulse interference）によって、エンコードされた個別アドレスルーティングデータに対応した、パルスの自己ルーティングプロセス及び個別の周波数が生ぜられる、請求項２３記載のシステム。
【請求項２５】
前記暗号化器は、通信トランスミッタ内に配置されたパルス整形器である、請求項２１記載のシステム。
【請求項２６】
レーザビームパルスを放出するように動作可能なレーザと、
前記レーザビームパルスの位相変調を発生させるように動作可能な光学素子と、
前記位相変調パルスを受信し、周波数領域における前記位相変調の（ａ）大きさ及び（ｂ）符号の少なくとも一方を決定するように動作可能なユニットと、
を備えるシステム。
【請求項２７】
後続のレーザビームパルスは、組織に対する光力学療法のために使用される、請求項２６記載のシステム。
【請求項２８】
後続のレーザビームパルスは、送信源から遠隔配置された受信源へデータを通信するために使用される、請求項２６記載のシステム。
【請求項２９】
レーザビームパルスを放出するように動作可能なレーザと、
前記レーザから放出された前記パルスの位相を修正するように動作可能な第一の機器と、
修正されたパルスにおいて搬送された通信データを解釈するように動作可能な第二の機器であって、少なくとも二次高調波発生分離特性を有する結晶を含む第二の機器と、
を備える通信システム。
【請求項３０】
前記第一の機器は、レーザビームパルス整形器を含む、請求項２９記載の通信システム。
【請求項３１】
レーザビームパルスと、
前記パルスの特性を変更するように動作可能なパルス整形器と、
前記パルスにおいて多光子パルス内干渉を生じさせるように動作可能な機器と、
を備えるレーザシステム。
【請求項３２】
前記機器は、前記パルスが非線形光学プロセスを受ける際に前記パルスが自己スイッチングを起こさせるようにする、請求項３１記載のシステム。
【請求項３３】
前記非線形光学プロセスは、二次高調波発生を含む、請求項３２記載のシステム。
【請求項３４】
前記非線形光学プロセスは、和周波数発生を含む、請求項３２記載のシステム。
【請求項３５】
前記非線形光学プロセスは、差周波数発生を含む、請求項３２記載のシステム。
【請求項３６】
前記非線形光学プロセスは、四波混合を含む、請求項３２記載のシステム。
【請求項３７】
二次位相歪みは、それが存在する場合には、感知され、自動的に最小化される、請求項３１記載のシステム。
【請求項３８】
光学コンポーネントによって引き起こされた位相変調が測定される、請求項３１記載のシステム。
【請求項３９】
前記システムは、更に、上記整形されたパルスを受信するように動作可能な検出器を備える、請求項３１記載のシステム。
【請求項４０】
前記検出器は、ＣＣＤカメラを含む、請求項３９記載のシステム。
【請求項４１】
前記検出器は、リモートコントローラに接続された光ファイバアレイを含む、請求項３９記載のシステム。
【請求項４２】
生体組織で使用するシステムであって、
高ピーク強度レーザビームパルスと、
多光子パルス内干渉の使用を介して、前記生体組織上へ前記パルスを放出する前に、前記パルスの特性を変更するように動作可能な機器と、
を備え、
各パルスによって引き起こされる非線形遷移が制御される、前記システム。
【請求項４３】
前記機器は、パルス整形器を使用し、前記組織における所望の励起物質は、二光子吸収を受ける、請求項４２記載のシステム。
【請求項４４】
前記パルスは、５１フェムト秒未満の持続時間を有する、請求項４２記載のシステム。
【請求項４５】
前記システムは、更に、前記組織を通過する整形されたパルスによって生じた光学断層撮影画像を生成する、請求項４２記載のシステム。
【請求項４６】
前記機器は、治療物質による二光子吸収を強化し、隣接する健康な組織の、三光子励起による損傷（three photon induced damage）を実質的に防止するパルス整形器である、請求項４２記載のシステム。
【請求項４７】
前記機器は、前記ビームを変調するように動作可能な位相変調マスクを含む、請求項４２記載のシステム。
【請求項４８】
前記パルスは、前記生体組織における特定の分子を改変又は破壊するために、目標とする多光子損傷を強化するように整形される、請求項４２記載のシステム。
【請求項４９】
前記多光子パルス内干渉は、所望の光力学療法の作用物質を所望の組織深度で活性化するように作用可能である、請求項４２記載のシステム。
【請求項５０】
レーザビームを使用する方法であって、
（ａ）レーザビームパルスを放出するステップと、
（ｂ）前記レーザビームパルスを、エンコードデータを含んで整形するステップと、
（ｃ）前記レーザビームパルスによって引き起こされた非線形光学プロセスを制御するステップと、
（ｄ）レシーバによって前記データを非同期の態様でデコードするステップと、
を備える方法。
【請求項５１】
更に、持続時間約５０フェムト秒未満であるパルスの大きさ及び符号を取得するステップを備える、請求項５０記載の方法。
【請求項５２】
レーザビームを使用する方法であって、
（ａ）レーザビームパルスを放出するステップと、
（ｂ）前記レーザビームパルスを整形するステップと、
（ｃ）結晶を介して前記整形されたパルスを送信するステップと、
（ｄ）前記整形されたパルスの特性を非同期の態様で測定するステップと、
を備える方法。
【請求項５３】
更に、前記パルスにおける位相変調の大きさ及び符号を取得するステップを備える、請求項５２記載の方法。
【請求項５４】
更に、持続時間約５０フェムト秒未満であるパルスの位相の大きさ及び符号を取得するステップを備える、請求項５２記載の方法。
【請求項５５】
更に、前記整形されたパルスの未知の位相を分析するために、前記整形パルスに公知の基準位相を導入するステップを備える、請求項５２記載の方法。
【請求項５６】
更に、非線形光学プロセスと分光計とを用いて、前記整形されたパルスの位相を分析するステップを備える、請求項５２記載の方法。
【請求項５７】
更に、厚結晶の助けにより、前記整形されたパルスの位相を分析するステップを備える、請求項５２記載の方法。
【請求項５８】
パルス整形方法であって、
（ａ）レーザビームパルスを放出するステップと、
（ｂ）前記パルスをパルス整形器に入射させるステップと、
（ｃ）多光子パルス内干渉位相走査を使用して、前記パルスの特性を抽出するステップと、
を備える方法。
【請求項５９】
前記パルスは、５１フェムト秒未満のパルス持続時間を有する請求項５８記載の方法。
【請求項６０】
自動的に望ましくないパルス特性を補正するステップを、更に備える請求項５８記載の方法。
【請求項６１】
レーザビームパルスを放出可能なレーザと、
コントローラと、
前記コントローラに接続され、自動的に前記パルスのスペクトル位相歪みを計測し補正する光学ユニットと、
を備えるシステム。
【請求項６２】
前記パルスは、５１フェムト秒未満のパルス持続時間を有する請求項６１記載のシステム。
【請求項６３】
選択的に三光子以上の励起を削減することを更に含む請求項６１記載のシステム。
【請求項６４】
前記光学ユニットはパルス整形器を含む請求項６１記載のシステム。
【請求項６５】
前記光学ユニットは変換限界パルスを生成する請求項６１記載のシステム。
【請求項６６】
前記光学ユニットは二次高調波生成結晶と前記パルスの二次高調波スペクトルを測定する分光計とを含む請求項６１記載のシステム。
【請求項６７】
前記光学ユニットは基準位相関数を前記パルスに導入して出力し、該出力は周波数が２倍にされ、二次高調波スペクトルが分光計によって検出され、前記コントローラは前記位相歪みを検出し、前記光学ユニットが次の位相関数を導入する場合は、前記パルスの位相歪みを補正するために前記位相歪みを引算する請求項６１記載のシステム。
【請求項６８】
５１フェムト秒未満のパルス持続時間を有するレーザビームパルスを放出可能なレーザと、
前記パルスのスペクトル位相を制御可能なパルス整形器と、
前記整形されたパルスのスペクトル的に分散された二次高調波を検出可能な検出器と、
該パルス整形器と該検出器とに接続され、該パルス整形器が多光子パルス内干渉を前記パルスに導入するよう制御可能なコントローラと、
を備えるシステム。
【請求項６９】
前記パルスは、１０フェムト秒未満のパルス持続時間を有する請求項６８記載のシステム。
【請求項７０】
選択的に三光子以上の励起を削減することを更に含む請求項６８記載のシステム。
【請求項７１】
前記パルス整形器において較正された基準スペクトル位相を使用して、後続のパルス内の未知のスペクトル位相を検出する請求項６８記載のシステム。
【請求項７２】
前記後続のパルスの検出された未知のスペクトル位相を、後続のパルスのスペクトル位相歪みをキャンセルする補正位相を計算するために使用する請求項６８記載のシステム。
【請求項７３】
前記パルス整形器と前記コントローラとを使用し、パルス制御の品質を向上するために後続のパルスに多光子パルス内干渉位相走査を繰返し実行する請求項６８記載のシステム。
【請求項７４】
レーザビームパルスを放出可能なレーザと、
前記パルス内に所望の多光子パルス内干渉を生成する手段と、
を備えるシステム。