【手続補正書】
【提出日】平成17年8月26日(2005.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  試料の異常を検出するための光学システムであって、
第１の経路に沿った第１の放射ビームを試料表面上の第１のスポットに向けるための第１の手段と、
第２の経路に沿った第２の放射ビームを試料表面上の第２のスポットに向けるための第２の手段であって、前記第１および第２の経路は前記試料表面に対して異なる入射角のものである第２の手段と、
第１の検出器と、
第１のビームまたは第２のビームから発生し試料表面上の第１または第２のスポットから散乱放射を受け、散乱放射を前記第１の検出器に集束させる湾曲鏡面を含む手段であって、前記第１の検出器は前記湾曲鏡面により第１の検出器に集束される放射に応じて１つの出力値を提供する手段と、
からなる試料の異常を検出するための光学システム。
【請求項２】  前記鏡面は湾曲表面であり、第１の経路と実質的に同軸な対称軸を有するものであり、試料表面に最も近い位置に配置された入口穴を規定してそこを通る試料表面からの散乱放射を受ける請求項１記載のシステム。
【請求項３】  前記鏡面は放物面の鏡面であり、鏡面は入口穴を通る放射を反射し、前記受入れおよび集束手段はさらに鏡面により第１の検出器に反射された放射を集束するための手段を含む請求項２記載のシステム。
【請求項４】  前記鏡面は楕円面の鏡面であり、鏡面は入口穴を通る放射を反射し集束させる請求項２記載のシステム。
【請求項５】  前記第１の経路は、試料表面に対して垂直な方向から約１０°以下のものである請求項１記載のシステム。
【請求項６】  前記第１の経路は、試料表面に対して実質的に垂直である請求項５記載のシステム。
【請求項７】  前記第２の経路は、試料表面に対して垂直な方向に約４５〜８５°の範囲内の角度のものである請求項５記載のシステム。
【請求項８】  前記第１および第２のビームは試料表面上に第１および第２の照明されたスポットを発生し、前記第１および第２の照明されたスポットは実質的に一致するものである請求項１記載のシステム。
【請求項９】  前記第１および第２のビームは試料表面上に第１および第２の照明されたスポットを発生し、前記第１および第２の照明されたスポットはあるオフセットだけ離れているものである請求項１記載のシステム。
【請求項１０】  前記第１または第２のビームは空間的広がりを有する点拡散関数を有し、前記オフセットは少なくとも前記空間的広がりのものであるが、空間的広がりの３倍を超えるものではない請求項９記載のシステム。
【請求項１１】  前記第１および第２の手段は、
放射ビームを供給する供給源と、
供給源により供給された放射ビームを前記第１および第２のビームに変換するための手段と、
からなる請求項１記載のシステム。
【請求項１２】  前記供給源は少なくとも第１および第２の波長の放射を供給し、前記第１の検出器は第１の波長の放射を検出し、前記システムはさらに第２の波長の放射を検出するための第２の波長からなる請求項１１記載のシステム。
【請求項１３】  前記変換手段は、供給源からの放射ビームが試料表面に向かう２つの経路に沿って交互に伝送されるようにするスイッチを含む請求項１１記載のシステム。
【請求項１４】  前記システムはさらにあるデータ率で検出器からのデータを獲得するための手段からなり、前記スイッチはデータ率の少なくとも約３倍の周波数で動作する請求項１３記載のシステム。
【請求項１５】  前記システムはさらにあるデータ率で検出器からのデータを獲得するための手段からなり、前記スイッチはデータ率の少なくとも約５倍の周波数で動作する請求項１３記載のシステム。
【請求項１６】  前記スイッチは、電気光学変調器またはブラッグ変調器を含む請求項１３記載のシステム。
【請求項１７】  試料は平滑面を有し、ここで第２の経路は試料表面に対して傾斜角のものであり、第２のビームは試料表面に対してＰまたはＳ偏光されている請求項１記載のシステム。
【請求項１８】  試料は粗い面を有し、ここで第２の経路は試料表面に対して傾斜角のものであり、第２のビームは試料表面に対してＳ偏光されている請求項１記載のシステム。
【請求項１９】  第１のビームから発生する検出された散乱放射と第２のビームから発生する検出された散乱放射とを比較して粒子とＣＯＰとを区別する手段とからさらになる請求項１記載のシステム。
【請求項２０】  試料の異常を検出するための光学システムであって、
第１の経路に沿った第１の放射ビームを試料表面に向けるための第１の手段と、
第２の経路に沿った第２の放射ビームを試料表面に向けるための第２の手段であって、前記第１および第２のビームは試料表面上に第１および第２の照明されたスポットを発生し、前記第１および第２の照明されたスポットはあるオフセットだけ離れているものであり、前記第１および第２の経路は前記試料表面に対して異なる入射角のものである第２の手段と、
検出器と、
第１および第２の照明されたスポットからの散乱放射を受け、散乱放射を前記検出器に集束させるための手段であって、前記検出器は検出器に集束される放射に応じて１つの出力値を提供する手段と、
からなる試料の異常を検出するための光学システム。
【請求項２１】  前記第１または第２のビームは空間的広がりを有する点拡散関数を有し、前記オフセットは少なくとも前記空間的広がりのものであるが、空間的広がりの３倍を越えるものではない請求項２０記載のシステム。
【請求項２２】  試料の異常を検出するための光学システムであって、
少なくとも第１および第２の波長で放射ビームを供給する供給源と、
供給源により供給された放射ビームを、試料表面上のスポットに向かう第１の経路に沿った第１の波長の第１のビームと第２の経路に沿った第２の波長の第２のビームとに変換するための手段であって、前記第１および第２の経路は前記試料表面に対して異なる入射角のものである変換手段と、
第１の波長で放射を検出する第１の検出器および第２の波長で放射を検出する第２の検出器と、
第１および第２のビームから発生し試料表面上のスポットから散乱放射を受け、散乱放射を前記検出器に集束させるための手段であって、前記検出器のそれぞれは検出器に集束される放射に応じて１つの出力値を提供する手段と、
からなる試料の異常を検出するための光学システム。
【請求項２３】  試料の異常を検出するための光学システムであって、
放射ビームを供給する供給源と、
供給源からの放射ビームが試料表面上のスポットに向かう第１および第２の経路に沿って交互に試料表面の方向に伝送されるようにするスイッチであって、前記第１および第２の経路は前記試料表面に対して異なる入射角のものであるスイッチと、
検出器と、
第１および第２の経路に沿ったビームから発生し試料表面上のスポットから散乱放射を受けるための手段であって、前記受入れ手段は散乱放射を前記検出器に集束させる湾曲鏡面を含み、前記検出器は前記湾曲鏡面により検出器に集束される放射に応じて１つの出力値を提供する手段と、
からなる試料の異常を検出するための光学システム。
【請求項２４】  前記システムはさらにあるデータ率で検出器からのデータを獲得するための手段からなり、前記スイッチはデータ率の少なくとも約３倍の周波数で動作する請求項２３記載のシステム。
【請求項２５】  前記スイッチは、電気光学変調器またはブラッグ変調器を含む請求項２３記載のシステム。
【請求項２６】  試料の異常を検出するための光学方法であって、
第１の経路に沿った第１の放射ビームを試料表面上の第１のスポットに向ける方向付けステップと、
第２の経路に沿った第２の放射ビームを試料表面上の第２のスポットに向ける方向付けステップであって、前記第１および第２の経路は前記試料表面に対して異なる入射角のものである方向付けステップと、
第１のビームまたは第２のビームから発生し試料表面上の第１または第２のスポットから散乱放射を受け、散乱放射を第１の検出器に集束させる湾曲鏡面を用いるステップと、
前記第１の検出器に前記湾曲鏡面により第１の検出器に集束される放射に応じて１つの出力値を提供するようにさせるステップと、
からなる試料の異常を検出するための光学方法。
【請求項２７】  前記第１の経路は、試料表面に対して垂直な方向から約１０°以下のものである請求項２６記載の方法。
【請求項２８】  前記第１の経路は、試料表面に対して実質的に垂直である請求項２６記載の方法。
【請求項２９】  前記第２の経路は、試料表面に対して垂直な方向に約４５〜８５°の範囲内の角度のものである請求項２６記載の方法。
【請求項３０】  前記第１および第２のビームは試料表面上に第１および第２の照明されたスポットを発生し、前記第１および第２の照明されたスポットは実質的に一致するものである請求項２６記載の方法。
【請求項３１】  前記第１および第２のビームは試料表面上に第１および第２の照明されたスポットを発生し、前記第１および第２の照明されたスポットはあるオフセットだけ離れているものである請求項２６記載の方法。
【請求項３２】  前記第１または第２のビームは空間的広がりを有する点拡散関数を有し、前記オフセットは少なくとも前記空間的広がりのものであるが、空間的広がりの３倍を越えるものではない請求項３１記載の方法。
【請求項３３】  前記第１および第２のビームの方向付けステップは、
放射ビームを供給する供給源を提供するステップと、
供給源により供給された放射ビームを前記第１および第２のビームに変換するステップと、
からなる請求項２６記載の方法。
【請求項３４】  前記供給源は少なくとも第１および第２の波長の放射を供給し、前記第１の検出器は第２の波長の放射を検出し、前記方法はさらに第２の検出器を用いて第２の波長の放射を検出するステップからなる請求項３３記載の方法。
【請求項３５】  前記変換するステップは、試料表面に向かう２つの経路間で供給源からの放射を交互に切り換えるステップを含む請求項３３記載の方法。
【請求項３６】  前記方法はさらにあるデータ率で第１の検出器からのデータを獲得するステップからなり、前記切り換えるステップはデータ率の少なくとも約３倍の周波数のものである請求項３５記載の方法。
【請求項３７】  前記方法はさらにあるデータ率で第１の検出器からのデータを獲得するステップからなり、前記切り換えるステップはデータ率の少なくとも約５倍の周波数のものである請求項３５記載の方法。
【請求項３８】  試料は平滑面を有し、ここで第２の経路は試料表面に対して傾斜角のものであり、前記方向付けステップは試料表面に対してＳまたはＰ偏光されている第２のビームを向ける請求項２６記載の方法。
【請求項３９】  試料は粗い表面を有し、ここで第２の経路は試料表面に対して傾斜角のものであり、前記方向付けステップは試料表面に対してＳ偏光されている第２のビームを向ける請求項２６記載の方法。
【請求項４０】  試料表面の同じ部分の全体にわたって第１および第２のビームで連続走査するステップとからさらになり、ここで第２のビーム以外の第１のビームをあるサイクルで走査しながら前記表面に向け、第１のビーム以外の第２のビームを次のサイクルで走査しながら前記表面に向ける請求項２６記載の方法。
【請求項４１】  第１のビームから発生する検出された散乱放射と第２のビームから発生する検出された散乱放射とを比較して粒子とＣＯＰとを区別する比較するステップとからさらになる請求項２６記載の方法。
【請求項４２】  試料の異常を検出するための光学方法であって、
第１の経路に沿って第１の放射ビームを試料表面に向ける方向付けステップと、
第２の経路に沿って第２の放射ビームを試料表面に向ける方向付けステップであって、前記第１および第２のビームは試料表面上に第１および第２の照明されたスポットを発生し、前記第１および第２の照明されたスポットはあるオフセットだけ離れているものであり、前記第１および第２の経路は前記試料表面に対して異なる入射角のものである方向付けステップと、
第１および第２の照明されたスポットからの散乱放射を受け、散乱放射を検出器に集束させるステップと、
前記検出器に検出器に集束される放射に応じて１つの出力値を提供するようにさせるステップと、
からなる試料の異常を検出するための光学方法。
【請求項４３】  前記第１または第２のビームは空間的広がりを有する点拡散関数を有し、前記オフセットは少なくとも前記空間的広がりのものであるが、空間的広がりの３倍を越えるものではない請求項４２記載の方法。
【請求項４４】  試料の異常を検出するための光学方法であって、
少なくとも第１および第２の波長で放射ビームを供給するステップと、
放射ビームを第１の経路に沿った第１の波長の第１のビームと第２の経路に沿った第２の波長の第２のビームとに変換するステップであって、前記２つのビームは試料表面上のスポットに向かう変換するステップと、
第１の検出器を用いて第１の波長で放射を検出し、第２の検出器を用いて第２の波長で放射を検出するステップと、
第１および第２のビームから発生し試料表面から散乱放射を受け、散乱放射を前記検出器に集束させるステップと、
前記検出器のそれぞれに検出器に集束される放射に応じて１つの出力値を提供するようにさせるステップと、
からなる試料の異常を検出するための光学方法。
【請求項４５】  試料の異常を検出するための光学方法であって、
放射ビームを供給するステップと、
試料表面上のスポットに向かう第１および第２の経路間で放射ビームを交互に切り換えるステップと、
第１および第２の経路に沿ったビームから発生し試料表面上のスポットから散乱放射を受け、散乱放射を検出器に湾曲鏡面を用いて集束させるステップと、
前記検出器に前記湾曲鏡面により検出器に集束される放射に応じて１つの出力値を提供するようにさせるステップと、
からなる試料の異常を検出するための光学方法。
【請求項４６】  前記方法はさらにあるデータ率で検出器からのデータを獲得するステップからなり、前記切り換えるステップはデータ率の少なくとも約３倍の周波数のものである請求項４５記載の方法。
【請求項４７】  前記湾曲鏡面は、散乱放射を第１の検出器のある点に実質的に集束させる請求項１記載のシステム。
【請求項４８】  前記受入れおよび集束手段は、散乱放射を検出器のある点に実質的に集束させる請求項２０記載のシステム。
【請求項４９】  前記受入れおよび集束手段は、散乱放射を検出器のある点に実質的に集束させる請求項２２記載のシステム。
【請求項５０】  前記湾曲鏡面は、散乱放射を検出器のある点に実質的に集束させる請求項２３記載のシステム。
【請求項５１】  前記集束させるステップは、散乱放射を第１の検出器のある点に実質的に集束させる請求項２６記載のシステム。
【請求項５２】  前記集束させるステップは、散乱放射を検出器のある点に実質的に集束させる請求項４２記載のシステム。
【請求項５３】  前記集束させるステップは、散乱放射を検出器のある点に実質的に集束させる請求項４４記載のシステム。
【請求項５４】  前記集束させるステップは、散乱放射を検出器のある点に実質的に集束させる請求項４５記載のシステム。