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【手続補正書】
【提出日】平成18年3月2日(2006.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  患者の身体内に入るために適応した遠方端と、
前記装置上に配置された切断要素とから構成され、前記切断要素は前記軸に関連して放射的収納位置と放射的延伸位置の間で移動可能であり、周辺組織から所望の組織試料を上記組織試料についての周辺マージンを形成することによって分離するために放射的な延伸位置に移動可能である、細長い軸を有する身体組織を取り出すためのバイオプシー装置。
【請求項２】  前記切断要素は、所望の組織試料を分離するために放射的延伸位置において前記軸の周りに回転可能である請求項１記載のバイオプシー装置。
【請求項３】  前記切断要素は、所望の組織試料を分離するために放射的転進位置において軸的に移動可である請求項１記載のバイオプシー装置。
【請求項４】  前記遠方端は、患者の身体中に前記装置を刺し前進させる組織切断用の電気外科学的切断要素を備えている請求項１記載のバイオプシー装置。
【請求項５】  さらに前記軸に沿って配置されるシャフトを備えている請求項２記載のバイオプシー装置。
【請求項６】  前記切断要素は電気外科学的切断要素である請求項５記載のバイオプシー装置。
【請求項７】  前記装置は活性電極を備える電気外科学的切断要素からなる単極性装置で構成されている請求項５記載のバイオプシー装置。
【請求項８】  前記装置は活性電極を備える電気外科学的切断要素からなる双極性装置で構成されている請求項５記載のバイオプシー装置。
【請求項９】  前記シャフトの部分は双極性装置の返還電極を構成している請求項８記載のバイオプシー装置。
【請求項１０】  さらに、切断要素を選択的に被覆及び非被覆するために遠方及び近位位置の間で軸的に移動可能なさやを備えている請求項５記載のバイオプシー装置。
【請求項１１】  さらに、前記切断要素の放射的な延伸及び収納を制御し、前記切断要素を軸の周囲で回転させる近位ドライバユニットを備えている請求項1０記載のバイオプシー装置。
【請求項１２】  近位ドライバユニットはさらに前記シャフトの軸的移動及び前記さやの軸的移動も制御する請求項1１記載のバイオプシー装置。
【請求項１３】  前記切断要素は、組織試料が周辺組織から分離された後、前記組織試料を分割するための操作をする請求項５記載のバイオプシー装置。
【請求項１４】  前記切断要素は、前記放射的延伸位置から前記放射的収納位置に収納されることによって前記組織試料を分割する請求項1３記載のバイオプシー装置。
【請求項１５】  前記放射的延伸位置は第１の放射的延伸位置を備え、前記切断要素はさらに複数の放射的延伸位置に移動可能であり、前記切断要素は前記組織試料を選択された周辺に分割するために前記それぞれの放射的切断位置において軸の周囲に回転可能である請求項1４記載のバイオプシー装置。
【請求項１６】  さらに患者の身体中の通路を準備し、分割された組織試料は患者の身体からカニューレを通って取りだし可能である内腔を有するカニューレを備える請求項1３記載のバイオプシー装置。
【請求項１７】  前記装置は、さらに前記組織試料を患者の身体から１つのユニットとして取り出すために、前記組織試料を被覆するための要素を供えている請求項５記載のバイオプシー装置。
【請求項１８】  前記被覆要素はシャフトに沿って配置されたバンドで構成され、前記バンドは放射的収納位置と放射的延伸位置との間で移動可能である請求項1７記載のバイオプシー装置。
【請求項１９】  前記被服要素はシャフトに沿って配置された複数のバンドで構成され、前記バンドのそれぞれは放射的収納位置と放射的延伸位置との間で移動可能である請求項1７記載のバイオプシー装置。
【請求項２０】  前記切断要素は一つの被覆要素を構成している請求項1９記載のバイオプシー装置。
【請求項２１】  患者の身体に挿入するのに適合した遠方端と、
患者の身体から１つのユニットとして組織試料を取り出すために組織試料を被覆するための要素とから構成される、細長い軸を有する身体組織を治療するための装置。
【請求項２２】  前記被覆要素は、軸に沿って配置されたバンドから構成され、前記バンドは放射的収納位置と放射的延伸位置との間で移動可能である請求項２１記載の装置。
【請求項２３】  前記被覆要素は軸に沿って配置された複数のバンドで構成され、前記バンドのそれぞれは放射的収納位置と放射的延伸位置との間で移動可能である請求項２１記載のバイオプシー装置。
【請求項２４】  前記装置は、前記組織試料を被覆するために前記バンドをひねる目的で軸の周りに回転可能な請求項２３記載のバイオプシー装置。
【請求項２５】  さらに、軸的に配置された切断要素を備え、前記切断要素は放射的収納位置と放射的延伸位置との間で移動可能であり、前記組織試料の周りに周辺マージンを形成することにより所望の組織試料を周辺組織から分離するために放射的延伸位置において軸の周りに回転可能である請求項２１記載のバイオプシー装置。
【請求項２６】  前記切断要素は、電気外科的な切断要素である請求項２５記載のバイオプシー装置。
【請求項２７】  さらに、被覆要素の被覆、非被覆を選択するために遠方及び近位位置の間で軸的に移動可能なさやを備えた請求項２１記載のバイオプシー装置。
【請求項２８】  さらに、被覆された無傷の組織試料を前記患者の身体から手前に引き出す装置として組織を切断するために移動可能な切断要素を備えた請求項２１記載のバイオプシー装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月13日(2006.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）物質の溶液又は懸濁液をビヒクル中で調製すること、
（ｂ）流体入口手段を経由させて、粒子形成容器に、前記溶液又は懸濁液を導入すること、及び
（ｃ）前記物質の反溶媒として作用することができる第１超臨界流体を、前記超臨界流体が前記溶液又は懸濁液から前記ビヒクルを抽出し、それによって前記物質の粒子を形成することができる条件で、前記粒子形成容器に導入すること、
を含み、前記ビヒクルを抽出する能力が前記第１超臨界流体のそれよりも小さい第２流体を、前記第１超臨界流体と前記溶液又は懸濁液とが接触する箇所の上流において前記第１超臨界流体に入れて、前記粒子形成容器に導入する、物質の粒子を形成する方法。
【請求項２】  前記第１超臨界流体と前記溶液又は懸濁液とを共に、同じ流体入口手段を経由させて、前記粒子形成容器に導入する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記第１超臨界流体が前記溶液又は懸濁液から前記ビヒクルを抽出するのと同時に、前記第１超臨界流体自身が前記溶液又は懸濁液を分散させるようにして、前記第１超臨界流体と前記溶液又は懸濁液とを共に前記粒子形成容器に導入する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】  前記溶液又は懸濁液と前記第１超臨界流体の両方を同じ箇所又は実質的に同じ箇所で前記粒子形成容器に導入する流体入口手段を通して、前記粒子形成容器にこれら両方の流体を同時に導入し、ここで、これら両方の流体を同時に導入する前記箇所が、これらの流体が出会う箇所とも同じ又は実質的に同じであり、且つこの箇所で、前記第１超臨界流体が前記溶液又は懸濁液を分散させるように作用する、請求項３に記載の方法。
【請求項５】  前記流体入口手段が、２又はそれよりも多くの共軸流路を有するノズルを具備している、請求項３又は４に記載の方法。
【請求項６】  前記第２流体の前記ビヒクルを抽出する能力が、前記第１超臨界流体のそれの３０％未満である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】  前記第２流体が超臨界流体である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】  前記第２流体が超臨界窒素である、請求項７に記載の方法。
【請求項９】  粒子形成が起こるときに、前記流体入口手段及び／又は前記流体入口手段に流体を供給するために使用する１又は複数の供給管路の閉塞を少なくとも実質的になくすのに十分な量で、前記第２流体を導入する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】  前記流体入口手段及び／又は前記流体入口手段に流体を供給するために使用する１又は複数の供給管路における圧力変動を減少させるのに十分な量で、前記第２流体を導入する、請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】  前記流体入口手段及び／又は前記流体入口手段に流体を供給するために使用する１又は複数の供給管路における圧力変動をなくす又は実質的になくすのに十分な量で、前記第２流体を導入する、請求項９又は１０に記載の方法。
【請求項１２】  前記第２流体を調節可能な流量で導入し、且つこの方法が、前記流体入口手段及び／又は１若しくは複数の流体供給管路における圧力を監視すること、並びに前記第２流体の流量を調節して圧力変動を減少させ又はなくすことを更に含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】  前記第１超臨界流体の流れと前記溶液又は懸濁液の流れとが互いに接触する箇所の上流において、これらの流れの両方に前記第２流体を導入する、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】  前記第２流体の流量が、前記第１及び第２流体流量の合計の、０．０５〜０．８モル分率である、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】  （ａ）物質の溶液又は懸濁液をビヒクル中で調製すること、
（ｂ）流体入口手段を経由させて、粒子形成容器に前記溶液又は懸濁液を導入すること、及び
（ｃ）前記物質の反溶媒として作用することができる第１超臨界流体を、前記超臨界流体が前記溶液又は懸濁液から前記ビヒクルを抽出し、それによって前記物質の粒子を形成することができる条件で、前記粒子形成容器に導入すること、
を含む、前記物質の粒子を形成する方法での、前記ビヒクルを抽出する能力が前記第１超臨界流体のそれよりも小さい第２流体の使用であって、粒子の形成が起こるときに、前記流体入口手段及び／又は前記流体入口手段に流体を供給するのに使用する１又は複数の供給管路の閉塞を、少なくとも実質的になくすために、前記第２流体を、前記第１超臨界流体と前記溶液又は懸濁液とが接触する箇所の上流において前記第１超臨界流体に入れて、前記粒子形成容器に導入する、前記第２流体の使用。
【請求項１６】  （ａ）物質の溶液又は懸濁液をビヒクル中で調製すること、
（ｂ）流体入口手段を経由させて、粒子形成容器に前記溶液又は懸濁液を導入すること、及び
（ｃ）前記物質の反溶媒として作用することができる第１超臨界流体を、前記超臨界流体が前記溶液又は懸濁液から前記ビヒクルを抽出し、それによって前記物質の粒子を形成することができる条件で、前記粒子形成容器に導入すること、
を含む、前記物質の粒子を形成する方法での、前記ビヒクルを抽出する能力が前記第１超臨界流体のそれよりも小さい第２流体の使用であって、前記流体入口手段及び／又は前記流体入口手段に流体を供給するのに使用する１又は複数の供給管路の圧力変動を減少させるために、前記第２流体を、前記第１超臨界流体と前記溶液又は懸濁液とが接触する箇所の上流において前記第１超臨界流体に入れて、前記粒子形成容器に導入する、前記第２流体の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月18日(2005.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
バイアル３は受け穴２のうちの１つに設置されている。バイアル３は概ね円筒形の本体部分７、先細りにした底部８、及びバイアルが受け穴の上端に安定して納まるように、幾分拡張させた頭部９を含む。頭部９を設けたので、バイアルを安定して嵌合させつつ、受け穴の深さを幾分変えることが可能となる。図示したバイアルの場合、頭部９は、クリンプ加工済みキャップをそこに嵌めることができるほど拡張されてはいない。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月17日(2006.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
多孔性保持体と上方域及び下方域の間に位置する中間域を有する連続微孔性膜とを包含する、補強された連続微孔性濾過膜において、該上方域及び該下方域が、該中間域を形成する物質の各面上に前記上方域及び前記下方域を形成するために物質を同時に塗布することにより付与され、ここで該保持体が、前記中間域内に埋め込まれ、前記中間域と前記上方域及び前記下方域とが、同時にクエンチされて、形成された膜が、幾何学的に対称的であると共に、前記中間域が、前記上方域及び前記下方域のうちの少なくとも一つの孔径より、少なくとも50パーセント大きい孔径を有する、補強された連続微孔性濾過膜。
【請求項2】
前記上方域及び前記下方域が、1μm以下の平均孔径を備える、請求項1に記載の補強された連続微孔性濾過膜。
【請求項3】前記上方域及び前記下方域が、0.01〜1μmの範囲の平均孔径を備える、請求項1に記載の補強された連続微孔性濾過膜。
【請求項4】前記上方域及び前記下方域が、0.2〜0.5μmの範囲の平均孔径を備える、請求項1に記載の補強された連続微孔性濾過膜。
【請求項5】
前記上方域及び前記下方域が、同一の平均孔径を備える、請求項1に記載の補強された連続微孔性濾過膜。
【請求項6】
前記中間域が、10μm以下の平均孔径を備える、請求項1に記載の補強された連続微孔性濾過膜。
【請求項7】
前記中間域が、0.5〜2μmの範囲の平均孔径を備える、請求項1に記載の補強された連続微孔性濾過膜。
【請求項8】前記中間域が、0.1〜1μmの範囲の平均孔径を備える、請求項1に記載の補強された連続微孔性濾過膜。
【請求項9】
前記多孔性保持体が、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピリン、ポリアミド、ポリフッ化ビニリデンからなる群から選択される、請求項1に記載の補強された連続微孔性濾過膜。
【請求項10】
補強された、幾何学的に対称的な連続微孔性濾過膜の製造方法において：
第1面及び第2面を有する多孔性保持体を準備することと；
該多孔性保持体に第1キャスティング溶液を含浸させることと；
含浸された前記多孔性保持体の第1面上に第2キャスティング溶液を付与することと；
前記第2キャスティング溶液の付与と同時に、前記含浸された前記多孔性保持体の第2面上に第3キャスティング溶液を付与することと；
第1キャスティング溶液と第2キャスティング溶液と第3キャスティング溶液とから、上方域及び下方域の間に位置する中間域を有する連続微孔性膜を形成するために、付与されたキャスティング溶液を有する前記多孔性保持体を同時にクエンチすることと、前記多孔性保持体が、該中間域内に埋め込まれると共に前記中間域が、該上方域及び該下方域のうちの少なくとも一つの孔サイズより少なくとも50パーセント大きな孔径を有し、
を包含する、補強された、幾何学的に対称的な連続微孔性濾過膜の製造方法。
【請求項11】補強された、幾何学的に対称的な連続微孔性濾過膜の製造システムにおいて：
第1面及び第2面を有する多孔性保持体と；
前記多孔性保持体に第1キャスティング溶液を含浸させるために、前記多孔性保持体に対して作動可能に配置される手段と；
含浸された前記多孔性保持体の第1面上に第2キャスティング溶液を付与するために、前記多孔性保持体及び含浸手段に対して作動可能に配置される手段と；
含浸された前記多孔性保持体の第2面上に第3キャスティング溶液を付与するために、前記多孔性保持体と前記含浸手段と第2キャスティング溶液付与手段とに対して作動可能に配置される手段と；
3つのキャスティング溶液を同時にクエンチすることにより、前記第1キャスティング溶液と前記第2キャスティング溶液と前記第3キャスティング溶液とから上方域と下方域の間に位置する中間域を有する連続微孔性膜を形成するために、前記含浸手段と前記第2キャスティング溶液付与手段と前記第3キャスティング溶液付与手段に対して作動可能に配置される手段と、ここで、前記多孔性保持体が前記中間域内に埋め込まれ、前記中間域が前記上方域及び前記下方域のうち少なくとも一つの孔径より少なくとも50%大きな孔径を有し、
を包含する、補強された、幾何学的に対称的な連続微孔性濾過膜の製造システム。
【請求項12】
補強された連続微孔性膜において：
多孔性保持体と；
上方域と下方域の間に位置する中間域を有する連続微孔性膜と、ここで、前記上方域及び前記下方域が、前記中間域を形成する物質の各面上にクエンチされていない液状物質を同時に塗布することにより付与され、前記中間域と前記上方域及び前記下方域とが同時にクエンチされて形成された膜が幾何学的に対称的であり、ここで前記多孔性保持体が、前記中間域内に埋め込まれると共に前記中間域が、前記上方域及び前記下方域の少なくとも一つの孔径より少なくとも50%大きな孔サイズ有し、
を包含する、補強された連続微孔性膜。
【請求項13】
前記上方域及び前記下方域が、1μm以下の平均孔径を備える、請求項12に記載の補強された連続微孔性膜。
【請求項14】
前記上方域及び前記下方域が、0.01〜1μmの範囲の平均孔径を備える、請求項12に記載の補強された連続微孔性膜。
【請求項15】
前記上方域及び前記下方域が、0.2〜0.5μmの範囲の平均孔径を備える、請求項12に記載の補強された連続微孔性膜。
【請求項16】
前記上方域及び前記下方域が、同一の平均孔径を備える、請求項12に記載の補強された連続微孔性膜連続した膜。
【請求項17】
前記中間域が、0.1〜1μmの範囲にある平均孔径を備える、請求項1に記載の補強された連続微孔性膜。
【請求項18】
前記保持体が、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、及びポリフッ化ビニリデンからなる群から選択される、請求項12に記載の補強された連続微孔性膜。
【請求項19】
前記中間域が、10μm以下の平均孔径を備える、請求項12に記載の補強された連続微孔性膜。
【請求項20】
前記中間域が、0.5〜2μmの範囲にある平均孔径を備える、請求項12に記載の補強された連続微孔性膜。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月6日(2006.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  生物学的化合物をコードするヌクレオチド配列をスクリーニングするための方法であって、
a) 前記生物学的化合物を生成するために、発現システムにおいて前記ヌクレオチド配列を発現し、
b) 前記生物学的化合物と、その生物学的化合物と反応することができる蛍光物質とを接触せしめ、前記反応を生ぜしめ、
c) 前記蛍光物質の蛍光偏光を測定し、そして
d) 蛍光偏光の変化が生じた発現システムを選択することを含んで成る方法。
【請求項２】  前記発現システムが細胞発現システムであり、前記細胞が野生型細胞又は宿主細胞培養物であり、ここで形質転換体がヌクレオチド源に由来する遺伝子ライブラリーを含んで成る請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記生物学的化合物が、タンパク質、ポリペプチド及びペプチドから成る群から選択される請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】  前記生物学的化合物が、酵素である請求項３に記載の方法。
【請求項５】  前記蛍光物質が、蛍光マーカーによりラベルされた有機分子である請求項１〜４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】  前記蛍光マーカーが、BODIPY誘導体、フルオレセイン、ローダミン、ダンシル、シアニン色素及びテキサスレッドから成る群から選択される請求項５に記載の方法。
【請求項７】  新規生物学的化合物の産業的製造方法であって、
a) 前記生物学的化合物、及び請求項１〜６のいずれか１項記載の生物学的化合物をコードするヌクレオチド配列を同定し、
b) 前記同定されたヌクレオチド配列を含んで成る微生物を培養し、
c) 前記生物学的化合物を回収し、そして任意には、前記生物学的化合物を配合することを含んで成る方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月26日(2005.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  体管内において展開されるように構成された装置であって、
流体流を通過させるための複数の開口部を有するフィルタと、
該フィルタに連結されるとともにガイドワイヤに動作連結され、基端方向に向かって先細に形成された折り畳み可能なフレームであって、該フレームは、フィルタに連結されるとともに拡張プロファイルと折り畳みプロファイルとの間で動作するように構成された拡張可能な口部と、反対側の第１及び第２の端部を有する長手方向リブとを含み、前記第１の端部はガイドワイヤに連結され、前記第２の端部は口部に連結され、前記リブは拡張位置において外方に傾斜して基端方向に先細に形成された折り畳み可能なフレームを構成するフレームとを備えることを特徴とする装置。
【請求項２】  前記口部は、拡張プロファイルに通常は付勢されていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】  前記口部は弾性を有するワイヤ材料から成ることを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項４】  前記口部およびリブは、網目状シート材料から一体的に形成されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項５】  フィルタはガイドワイヤに固定的に連結された末端部を有することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項６】  フィルタは略円錐形であることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項７】  口部はプリーツ付リングから成ることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項８】  リブはガイドワイヤに固定されていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項９】  ガイドワイヤ上に摺動可能に配設された鍔部をさらに有し、リブが該鍔部に連結され、ガイドワイヤは口部を介してフィルタの全長に沿って延びることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１０】  フレームは少なくとも４つのリブを含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１１】  プリーツ付フレームは少なくとも４つの折り目を含むことを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項１２】  口部およびリブは一体的に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１３】  身体の脈管内において展開されるように構成された装置であって、
流体流を通過させるための複数の開口部を有するフィルタであって、動作のためにワイヤに連結されるように構成されているフィルタと、
フィルタに連結されるとともに芯ワイヤに動作連結され、基端方向に向けて先細に形成された折り畳み可能なフレームであって、前記フレームは拡張プロファイルと折り畳みプロファイルとの間で動作するように構成された拡張可能な口部と、反対側の第１及び第２の端部を有する傾斜した長手方向リブとを含み、前記第１の端部はワイヤに連結され、前記第２の端部は口部に連結され、前記リブは拡張位置において外方に傾斜して基端方向に向けて先細になった折り畳み可能なフレームを構成するようなフレームと、
前記リブを覆って配されるような大きさの管状部材から成るシースであって、前記口部及びフィルタを前記折り畳みプロファイルに折り畳むシースとを備えることを特徴とする装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月3日(2006.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも２つの液体シーラント成分の混合出力を分配するための手動で作動させるシーラントアプリケーターであって、該シーラント成分は、一緒に混合されたときに、固体シーラント産物を生成し得、該アプリケーターは、以下：
ａ）該少なくとも２つの液体シーラント成分を混合するための混合容量；
ｂ）該混合容量に別個に該シーラント成分のそれぞれの流れを送達するための少なくとも２つの液体シーラント成分送達経路であって、各流れは、シーラント成分入力方向を有し、ここで、該シーラント成分入力方向は、少なくとも１２０°、必要に応じて少なくとも１５０°の夾角で配置され、該シーラント成分の流れが混合容量にて互いに衝突するように配置され、それによって、該液体シーラント成分の乱流が該成分の混合を増強させる、経路；および
ｃ）所望されない固体シーラント産物に作用し、該混合容量から該固体シーラント産物を除去するための除去力を提供し得る清浄化機構；
を備える、シーラントアプリケーター。
【請求項２】  前記シーラント流れ入力方向が、互いに正反対に対向している、請求項１に記載のシーラントアプリケーター。
【請求項３】  混合シーラント成分の分配、固体形成、および前記混合容量から該形成された固体を除去するための清浄化機構の操作を包含するサイクルにおいて繰り返し操作を可能とする請求項１に記載のシーラントアプリケーターであって、ここで、該シーラント成分は、該混合容量を清浄した後に、第一のサイクルに続く操作サイクルにおいて該混合容量を通じて再度分配される、シーラントアプリケーター。
【請求項４】  混合シーラント出力方向に前記混合容量からの混合された流体シーラントの流れを受けるため、および該混合容量から離れた位置に該混合された流れを分配するための、該混合容量と接続された分配チューブを備える、請求項１に記載のシーラントアプリケーター。
【請求項５】  各シーラント成分入力方向と、前記混合シーラント出力方向との間に、少なくとも６０°の角度を有する、請求項１に記載のシーラントアプリケーター。
【請求項６】  前記混合容量が、前記流体成分の混合を容易にするために、前記送達経路の近位において、該送達経路の断面積の合計よりも大きな断面積を有し、該断面積が、液体流の方向を横切って決定される、請求項１に記載のシーラントアプリケーター。
【請求項７】  前記シーラント送達経路を閉じるため、および清浄化の間に、前記混合容量への前記シーラント成分の流れを妨害するために、前記清浄化機構によって作動するシーラント成分流れ制御バルブを備える、請求項１に記載のシーラントアプリケーター。
【請求項８】  前記混合容量が、前記清浄化機構によって所望されない固体の除去のための除去ポートを備え、そして前記シーラント成分の流れ制御バルブが、シーラントが分配されるときには該除去ポートを閉じるように、そして該清浄化機構が作動性のときは該除去ポートを開くように、作動可能である、請求項７に記載のシーラントアプリケーター。
【請求項９】  混合シーラント出力方向に前記混合容量からの混合された液体シーラントの流れを受けるため、および該混合容量から離れた位置に該混合された流れを分配するために、該混合容量と接続された分配チューブを備える請求項１に記載のシーラントアプリケーターであって、ここで、前記シーラント流れ入力方向は、互いに正反対に対向し、該混合シーラント出力方向は、各シーラント流れ入力方向に対してほぼ垂直である、シーラントアプリケーター。
【請求項１０】  前記混合容量が、前記流体成分の混合を容易にするために、前記送達経路の近位において、該送達経路の断面積の合計よりも大きな断面積を有し、該断面積が、液体流の方向を横切って決定される、請求項９に記載のシーラントアプリケーター。
【請求項１１】  請求項１０に記載のシーラントアプリケーターであって、前記シーラント送達経路を閉じるため、および清浄化の間に、前記混合容量への前記シーラント成分の流れを妨害するために、前記清浄化機構によって作動するシーラント成分の流れ制御バルブを備え、ここで、該混合容量が、該清浄化機構によって所望されない固体の除去のための除去ポートを備え、そして該シーラント成分の流れ制御バルブは、シーラントが分配されるときには該除去ポートを閉じるように、そして該清浄化機構が作動性のときは除去ポートを開くように、作動可能である、シーラントアプリケーター。
【請求項１２】  少なくとも２つのリザーバを備える請求項１に記載のシーラントアプリケーターであって、１つのリザーバは、各それぞれのシーラント成分のためのものであり、各シーラント成分送達通路は、そこからのシーラント成分を受けるために該リザーバのうちのそれぞれ１つと接続されている、シーラントアプリケーター。
【請求項１３】  少なくとも２つのリザーバのうちの１つは、フィブリノーゲンを含み、別のリザーバは、フィブリノーゲン活性化剤を含み、該フィブリノーゲン活性化剤は、必要に応じてトロンビンである、フィブリンシーラントを分配するための請求項１２に記載のシーラントアプリケーター。
【請求項１４】  前記清浄化機構が、所望されないシーラント成分に作用し、前記混合容量から該所望されないシーラント成分を除去するために逆行性吸引を適用するように作動する、請求項１に記載のシーラントアプリケーター。
【請求項１５】  前記混合チャンバからの前記混合出力を分配するための経路を備える請求項１に記載のシーラントアプリケーターであって、該経路は、テーパー状のチューブおよびノズルを備える、シーラントアプリケーター。
【請求項１６】  各送達経路が、そこを通る液体の流れを妨害するようにピンチで閉鎖され得る壁を有する弾力性のある可撓性のチューブを備える、請求項１に記載のシーラントアプリケーター。
【請求項１７】  ワンピースのマニホールドを備える、請求項１６に記載のシーラントアプリケーターであって、該マニホールドは、弾力性の材料から形成され、かつ前記混合チャンバおよび前記弾力性のある可撓性チューブを備える、シーラントアプリケーター。
【請求項１８】  各弾力性のある可撓性チューブが、一方の末端にカップ形状のフィッティングを有し、該フィッティングの各々が、前記流体シーラント成分の供給源を固定する、請求項１７に記載のシーラントアプリケーター。
【請求項１９】  前記カップ形状のフィッティングが、前記液体シーラント成分の各供給源への流体密な取り付けを提供する内部シールをさらに備える、請求項１８に記載のシーラントアプリケーター。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月11日(2005.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  装填物（２８）を器官の組織内に注射する電磁式経皮注射装置（１０）であって、
力発生機構を通って流れる電流に対応する電磁的反発によって少なくとも所定の方向に所定の力を発生する電磁力発生機構（１２）と、
一つまたはそれ以上の短い期間の高電流パルスを発生するように形成された電気動力供給源（１０８）と、
選択的に、電気的に電気動力供給源および前記電磁力発生機構を接続するスイッチ（１０６）とを有する前記電磁式注射装置において、
前記装填物が前記電磁力発生機構の一部に解放可能に取付けられ、もって、発生する前記所定の力により、前記装填物が前記電磁力発生機構の前記一部とともに組織内に前記装填物を注射するために必要な速度に加速され、かつ、前記装填物がその加速の後に前記電磁力発生機構の前記一部から離れ、その間、前記電磁力発生機構の前記加速部分は該電磁力発生機構から分離することのないようになっている電磁式経皮注射装置。
【請求項２】  前記電磁力発生機構が伝導性部材（２０）を含み、該伝導性部材（２０）が、動力供給源から発せられる短時間の大電流パルスに応答する所定方向の電磁的反発力を発生するように構成され、また、前記装填物が前記伝導性部材の一部に解放可能に取付けられ、もって、前記装填物が前記伝導性部材によって作り出される前記電磁的反発力により注射に必要な速度まで加速されるようになっている請求項１に記載された電磁式経皮注射装置。
【請求項３】  前記電磁力発生機構が、第１および第２部分を有する伝導性部材を含み、該第１および第２部分は、前記伝導性部材を通る電流が前記第１部分および第２部分中で事実上反平行的に流れ、それによって、前記第１部分と第２部分の間で反発力が生じるような相互関係で配置されている請求項１に記載された電磁式経皮注射装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月1日(2006.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  胚性または幹細胞様細胞を作製する方法であって、
(i)  所望の分化したヒト細胞または哺乳動物細胞または細胞核を、除核した動物卵母細胞へ挿入することであって、前記卵母細胞が核移植(NT)ユニットの形成に適した条件下でヒトまたは哺乳動物細胞と異なる種から誘導されたものであること；
(ii)  得られた核移植ユニットを活性化すること；
(iii)  前記活性化核移植ユニットを２細胞発生期よりも大きくなるまで培養すること；および、
(iv)  前記培養ＮＴユニットから得られた細胞を培養して胚性または幹細胞様細胞株を得ること、
を含む前記方法。
【請求項２】  除核した動物卵母細胞へ挿入される細胞がヒト細胞である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  ヒト細胞が成人細胞である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】  ヒト細胞が上皮細胞、ケラチン細胞、リンパ細胞または線維芽細胞である、請求項２に記載の方法。
【請求項５】  卵母細胞が哺乳動物から得たものである、請求項２に記載の方法。
【請求項６】  動物卵母細胞が有蹄類から得たものである、請求項５に記載の方法。
【請求項７】  有蹄類が、ウシ、ヒツジ、ブタ、ウマ、ヤギ、バッファローからなる群より選ばれる、請求項６に記載の方法。
【請求項８】  除核細胞が除核に先だって成熟させたものである、請求項１に記載の方法。
【請求項９】  融合核移植ユニットがin vitroで活性化される、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  活性化核移植ユニットが培養フィーダー層上で培養される、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】  フィーダー層が線維芽細胞を含む，請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】  (iv)において16以上の細胞を有するNTユニットがフィーダー細胞層上で培養される、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】  フィーダー細胞層が線維芽細胞を含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  線維芽細胞がマウス胚線維芽細胞を含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】  得られた胚性または幹細胞様細胞が分化誘導される、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】  得られた胚性または鐶細胞様細胞が分化誘導される、請求項２に記載の方法。
【請求項１７】  融合がエレクトロフュージョンによって行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】  請求項１に記載の方法によって得られる胚性または幹細胞様細胞。
【請求項１９】  請求項２に記載の方法によって得られるヒト胚性または幹細胞様細胞。
【請求項２０】  請求項３に記載の方法によって得られるヒト胚性または幹細胞様細胞。
【請求項２１】  請求項４に記載の方法によって得られるヒト胚性または幹細胞様細胞。
【請求項２２】  請求項６に記載の方法によって得られるヒト胚性または幹細胞様細胞。
【請求項２３】  請求項７に記載の方法によって得られるヒト胚性または幹細胞様細胞。
【請求項２４】  請求項１６に記載の方法によって得られる分化ヒト細胞。
【請求項２５】  神経細胞、造血幹細胞、膵臓細胞、筋細胞、軟骨細胞、尿路細胞、肝細胞、生殖細胞、皮膚細胞、腸管細胞、胃細胞からなる群より選ばれる、請求項２４に記載の分化ヒト細胞。
【請求項２６】  挿入遺伝子を含み、かつ発現する、請求項２４に記載の分化ヒト細胞。
【請求項２７】  胚性若しくは幹細胞様細胞において、所望の遺伝子が挿入、除去または改変される、請求項１に記載の方法。
【請求項２８】  所望の遺伝子が治療酵素、成長因子またはサイトカインをコードする遺伝子である、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】  胚性または幹細胞様細胞がヒトの胚性または幹細胞様細胞である、請求項２７に記載の方法。
【請求項３０】  所望の遺伝子が相同組換えによって除去、改変または欠失される、請求項２７に記載の方法。
【請求項３１】  ドナー細胞が、内胚葉、中胚葉および外胚葉の少なくとも１つの発生を阻害するように遺伝的に改変されている、請求項１に記載の方法。
【請求項３２】  分化効率が上昇するようにドナー細胞が改変されている、請求項１に記載の方法。
【請求項３３】  培養核移植ユニットが少なくとも１種のカスパーゼ阻害剤を含む培地中で培養される、請求項３１に記載の方法。
【請求項３４】  ドナー細胞が特定のサイクリンの発現指標となる検出可能な標識を発現する、請求項１に記載の方法。
【請求項３５】  ドナー細胞が、SRF、MESP-1、HNF-4、ベータ-1、インテグリン、MSD、GATA-6、GATA-4、RNAヘリカーゼＡおよびHベータ５８からなる群より選ばれる遺伝子の発現を変化させるように改変されている、請求項３１に記載の方法。
【請求項３６】  ドナー細胞がQ7および／またはQ9の発現を与えるDNAを導入されて遺伝的に改変されている、請求項３２に記載の方法。
【請求項３７】  遺伝子が機能可能に制御可能なプロモーターに接続されている、請求項３６に記載の方法。
【請求項３８】  ドナー細胞がアポトーシスを阻害するように遺伝的に改変されている、請求項１に記載の方法。
【請求項３９】  アポトーシスの低下が、Bad、Bok、BH3、Bik、Blk、Hrk、BNIP3、GimL、Bid、BGL-1、Bcl-XL、Bcl-w、Mcl-1、A1、Nr-13、BHRF-1、LMW5-HL、ORF16、Ks-Bcl-2、E1B-19KおよびCED-9からなる群より選ばれる１以上の遺伝子の発現を変化させることによって与えられる、請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】  遺伝子が誘導可能なプロモーターに機能可能に接続されている、請求項３９に記載の方法。
【請求項４１】  検出可能なマーカーをコードするDNAを発現する哺乳動物体細胞であって、前記DNAの発現が特定のサイクリンとリンクしている前記細胞。
【請求項４２】  サイクリンが、サイクリンD1、D2、D3、B1、B2、E，AおよびHからなる群より選ばれる、請求項４１に記載の細胞。
【請求項４３】  検出可能なマーカーが蛍光ポリペプチドである、請求項４１に記載の細胞。
【請求項４４】  哺乳動物細胞が、ヒト細胞、霊長類細胞、げっ歯類細胞、有蹄類細胞、イヌ細胞、ネコ細胞からなる群より選ばれる、請求項４３に記載の細胞。
【請求項４５】  ヒト細胞、ウシ細胞、または霊長類細胞である、請求項４３に記載の細胞。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月30日(2005.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  核酸の検出方法であって、
レポーター基および消光基を含んでおり、配列Ａと配列Ｃとの間に位置する第３配列（Ｂ）またはその相補体（Ｂ’）に結合することができる結合配列Ｄを有するプローブの存在下に５’ヌクレアーゼ活性を有するポリメラーゼを使用して、一方が、前記核酸の一方の鎖の第１結合配列（Ａ）に結合することができる、かつもう一方が、Ａの３’方向に位置し、Ａと重複しない配列Ｃと本質的に相補的である第２結合配列（Ｃ’）に結合することができる、２つのプライマーの助けにより前記核酸の一部の多数の増幅物を作製する工程、並びに
レポーター基の解離により生ずるシグナルを測定することにより核酸を検出する工程、
を含み、
前記プライマーの助けにより形成される増幅物が、７５ヌクレオチド未満の長さを有するものである、核酸の検出方法。
【請求項２】  プローブの結合配列Ｄがプライマーの結合配列の１つと重複しないものである請求項１記載の方法。＿
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月23日(2006.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】第１の可撓性誘電体層に覆われ、両側に端部を備えた可撓性コアと、
前記端部の一方において前記第１の可撓性誘電体層を覆う可撓性導電体層と、
前記可撓性コアに埋め込まれ、前記両端部間に延在する導電体とを有するアンテナ。
【請求項２】前記可撓性導電体層を第２の可撓性誘電体層で覆った請求項１記載のアンテナ。
【請求項３】前記導電体が前記エラストマ・コア内で蛇行するように構成した請求項１記載のアンテナ。
【請求項４】前記可撓性コアがシリコーンを含む請求項１記載のアンテナ。
【請求項５】前記可撓性導電体が金属化織布を含む請求項１記載のアンテナ。
【請求項６】シリコーンエラストマを用いて前記第１の可撓性誘電体層に前記金属化織布を積層した請求項５記載のアンテナ。
【請求項７】前記第１、第２の可撓性誘電体層の比誘電率を約１．８〜２．２とした請求項２記載のアンテナ。
【請求項８】比誘電率が約１．８〜２．２の材料で前記可撓性コアを形成した請求項１記載のアンテナ。
【請求項９】前記第１、第２の可撓性誘電体層がポリエーテルイミドフィルムを含む請求項２記載のアンテナ。
【請求項１０】前記エラストマ・コアに埋め込まれた前記導電体に電気的に接続され、前記可撓性コアから外側に延在する一体的な可撓性信号給電部を、更に有する請求項１記載のアンテナ。
【請求項１１】前記信号給電部を覆う可撓性材料層と、
前記可撓性材料層を覆う第１の可撓性誘電体層と、
前記第１の可撓性誘電体層を覆う可撓性導電体層と、
前記可撓性導電体層を覆う第２の可撓性誘電体層と、を更に有する請求項１０記載のアンテナ。
【請求項１２】導電体で選択的に金属化された部分を含む第１の可撓性誘電体層に覆われ、両側に端部を備えたエラストマ・コアと、
前記エラストマ・コアに埋め込まれ、前記両端部間に延在する導電体とを有する可撓性ダイバーシチアンテナアンテナ。
【請求項１３】前記第１の誘電体層の前記金属化部分を覆う第２の誘電体層を、更に含む請求項１２記載の可撓性ダイバーシチアンテナアンテナ。
【請求項１４】前記導電体が前記エラストマ・コア内で蛇行するように構成した請求項１２記載の可撓性ダイバーシチアンテナアンテナ。
【請求項１５】前記エラストマ・コアをシリコーンで形成した請求項１２記載の可撓性ダイバーシチアンテナアンテナ。
【請求項１６】前記エラストマ・コアに埋め込まれた前記導電体に電気的に接続され、前記可撓性コアから外側に延在する信号給電部を、更に有する請求項１２記載の可撓性ダイバーシチアンテナ。
【請求項１７】前記信号給電部を覆うエラストマ層と、
前記エラストマ層を覆う第１の誘電体層と、
前記第１の誘電体層を覆う導電体と、
前記導電体を覆う第２の誘電体層と、を更に有する請求項１２記載の可撓性ダイバーシチアンテナ。
【請求項１８】無線電話機ハウジングと、前記ハウジング内に配置された回路基板と、前記ハウジング内に配置された可撓性ダイバーシチアンテナとを有する無線電話機であって、前記可撓性ダイバーシチアンテナが、第１の可撓性誘電体層に覆われ、両側に端部を備えたエラストマ・コアと、前記端部の一方を覆う導電体層と、前記エラストマ・コアに埋め込まれ、前記両端部間に延在する導電体とを有する無線電話機において、
前記ダイバーシチアンテナから外側に延在し、前記エラストマ・コアに埋め込まれた前記導電体を前記回路基板に電気的に接続する信号給電部を有する無線電話機。
【請求項１９】前記導電体層を第２の誘電体層で覆った請求項１８記載の無線電話機。
【請求項２０】前記導電体が前記エラストマ・コア内で蛇行するように構成した請求項１８記載の無線電話機。
【請求項２１】前記エラストマ・コアがシリコーンを含む請求項１８記載の無線電話機。
【請求項２２】前記導電体層が金属化織布を含む請求項１８記載の無線電話機。
【請求項２３】シリコーンエラストマを用いて前記第１の誘電体層に前記金属化織布を積層した請求項２２記載の無線電話機。
【請求項２４】前記信号給電部を覆うエラストマ層と、 
前記エラストマ層を覆う第１の誘電体層と、
前記第１の誘電体層を覆う導電体と、
前記導電体を覆う第２の誘電体層と、を更に有する請求項１８記載の無線電話機。
【請求項２５】所定のインピーダンスをもつ可撓性ダイバーシチアンテナを製造する方法であって、
エラストマ・コアに埋め込まれた導電体と、前記エラストマ・コアを覆う第１の誘電体層と、導電体で覆われた第１の誘電体層の一部分と、前記導電体を覆う第２の誘電体層とを有する平板アンテナを形成するステップと、
電子装置への組み込み形状に前記平板アンテナを折り曲げるステップとを含む方法。
【請求項２６】前記平板アンテナを形成する前記ステップにおいて、
前記導電体を蛇行状態にして前記エラストマ・コアに埋め込む請求項２５記載の方法。
【請求項２７】前記平板アンテナを形成する前記ステップにおいて、
前記エラストマ・コアから外側に延在するシールド信号給電部を一体形成し、該給電部を前記エラストマ・コアに埋め込まれた導電体に電気的に接続する請求項２５記載の方法。
【請求項２８】電子装置への組み込み形状に前記平板アンテナを折り曲げる前記ステップに先立って前記エラストマ・コアを硬化するステップを、更に含む請求項２５記載の方法。
【請求項２９】 前記平板アンテナを形成する前記ステップにおいて、
シリコーンエラストマで前記エラストマ・コアを形成する請求項２５記載の方法。
【請求項３０】前記導電体を金属化織布とした請求項２５記載の方法。
【請求項３１】前記シリコーンエラストマを用いて金属化織布を前記第１の誘電体層に積層する請求項２５記載の方法。
【請求項３２】前記エラストマ・コアを硬化する前記ステップにおいて、
前記第２の誘電体層に表面構造を形成する請求項２８記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月20日(2006.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】  
【請求項１】 ガラス基板上に多結晶シリコン層を形成する方法であって, ガラス基板を予熱するステップと、 前記基板上に非結晶シリコン先駆層を一次温度で堆積させるステップと、 熱処理チャンバ内で前記基板を一次温度よりも十分高い二次温度でアニーリングして、前記先駆層における水素濃度を実質的に減少させるステップと、前記先駆層をレーザアニーリングによって多結晶シリコン層に変換するステップと、を備える方法。
【請求項２】 前記一次温度が約３８０〜４００℃である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】 前記二次温度が約４００〜４７０℃である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】 前記アニーリングステップが窒素を含む大気中で行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項５】 前記大気が水素を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】 前記予熱ステップとアニーリングステップが同じ熱処理チャンバで行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項７】 更に、前記先駆層を多結晶シリコンに変換する前に前記基板を処理温度まで冷却するステップと、を備える、請求項１に記載の方法。
【請求項８】 ガラス基板上に薄膜を形成する方法であって、 熱処理チャンバ内でガラス基板を一次温度まで予熱するステップと、 前記基板上に薄膜を化学気相堆積によって一次温度以下の二次温度で堆積させるステップと、 前記基板を前記熱処理チャンバ内において一次温度でアニーリングするステップと、を備える方法。
【請求項９】 前記二次温度が約３８０〜４００℃である、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】 前記一次温度が約４００〜４７０℃である、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】 前記薄膜が非結晶シリコン層である、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】 前記薄膜が、テトラエチルオルトシリコンの先駆体から調製される酸化シリコン層である、請求項８に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
薄膜トランジスタはモニタ、平型パネル表示装置、太陽電池等に使用する大きなガラス基板又はプレート上に製作される。該トランジスタは非結晶シリコン（ドーピング処理したものと、真性のものとの双方）、酸化シリコン及び窒化シリコンを含む各種の薄膜を逐次堆積させることによって製作する。これらの薄膜はプラズマ増強型化学気相堆積（ＰＥＣＶＤ）によって堆積させることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
ＰＥＣＶＤプロセスでは基板が約２８０〜４００℃の温度に耐えることが必要とされることがある。ＣＶＤ処理はシリコン・ウエーハ内に集積回路を製造する際に広く適用されることが知られている。シリコンは導電材料であり、ウエーハに破断や反りを生じさせることなく、かなり急速に加熱・冷却可能である。しかしながら、ガラスは非常に脆く、急速に冷却、加熱し過ぎると反りや、ひび割れが生じやすい誘電材料である。そのため、熱応力と、その結果生じる損傷を避けるため、大領域のガラス基板の加熱又は冷却速度の調整には十分な注意を払わねばならない。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
典型的には、ＰＥＣＶＤプロセスの実施では、基板が加熱チャンバの内部で堆積温度近くまで予熱される。基板が一度、目標温度に達すると、その基板は膜の堆積に備え処理チャンバの内部に搬送される。次いで、基板は冷却チャンバに搬送され、例えば室温まで冷却される。汚染の危険を軽減するため、基板が真空環境から取り出されることなくチャンバ相互間に搬送されるよう、加熱、堆積及び冷却の各チャンバを単一のツールの内部に収容する。このようなツール、例えば参照用に本出願書に援用されている米国特許第４，９５１，６０１号に記載の装置には各種の処理チャンバに接続した中央ロボット機構チャンバを含めてもよい。プロセスの均一性と制御性を改善するため、各処理チャンバに基板一枚のみを保持させてもよい。しかしながら、ガラス基板温度の加熱と冷却に要する時間が長いので（例えば、大領域ガラス基板を４００℃近くまで加熱し、冷却して室温に戻すにはそれぞれ約５分間）、基板への損傷や反りを避けるため、またそれと同時に装置のスループットを改善するため、加熱、冷却の各チャンバには同時に数枚のガラス基板を保持させてもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
薄膜トランジスタ製造の一ステップは多結晶シリコン層を形成することである。多結晶シリコン層を形成する一プロセスは、ＣＶＤによって基板上に非結晶シリコン先駆層を堆積することで始まる。堆積ステップに次いで、基板がＣＶＤツールから取り出され、炉に搬送され、例えば約３５０〜４００℃の温度でアニーリングされる。アニーリング温度は堆積温度よりも低い場合がある。その後、非結晶シリコンはレーザアニーリングによって多結晶シリコンに変換可能である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の実装には以下を含める。薄膜は非結晶シリコン層又は酸化シリコン層とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
ガラス基板は冷却／ロードロックチャンバ４４から加熱チャンバ４２に搬送される。ガラス基板は堆積温度以上の温度まで加熱可能である。ガラス基板が一度加熱されてしまうと、非結晶シリコン先駆層を基板上に堆積させるため真空ロボット４６はその基板を処理チャンバ５２、５４、５６又は５８の内の一つに搬送する。ＰＥＣＤＶプロセスは比較的“低”温で、例えば約３８０〜４００℃で行われることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
高温アニーリングステップでは非結晶シリコン先駆層の水素含有量が減らされ、そのため、レーザアニーリングステップの間に脹れの発生が減少し、歩留りが増大する。特に、約３８０〜４００℃でＰＥＣＶＤによって堆積した先駆層の水素含有量はほぼ１０〜１５％（原子百分率）であるが、約４５０〜４７０℃で基板をアニーリングことによって先駆層の水素含有量は約２〜４％、例えば約３％に減少する。堆積温度より高いが、約４５０〜４７０℃より低いアニーリング温度では、対応する水素含有量の減少が少ない。アニーリング温度は水素含有量を約７％以下、例えば約５％以下まで減少させるように選択可能である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
基板の予熱とアニーリングの双方に同じチャンバを使用することは、酸化シリコン・ゲート層の製造においても有利になろう。特に、ガラス基板が加熱チャンバ内で予熱され、テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）先駆層がＰＥＣＶＤによって堆積され、基板が加熱チャンバに戻してアニールされることが可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月1日(2006.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  相補型金属酸化物半導体（ＣＭＯＳ）センサ画像アレイ、アナログ・デジタル(Ａ／Ｄ) コンバータ、少なくとも１つのアナログ信号記憶回路、及び前記画像センサと前記少なくとも１つのアナログ信号記憶回路とからの前記Ａ／Ｄ コンバータへの入力信号を多重化する制御回路を備えたことを特徴とするＣＭＯＳ集積回路。
【請求項２】  オーディオデータ信号を含む信号ストリームと、画像データ信号を含む信号ストリームとを、単一集積回路(ＩＣ)チップ上でインタリーブする方法であって、その方法は
前記ＩＣ上で、アナログ画像データ信号を含む信号ストリームを、デジタル画像データ信号を含む信号ストリームに変換する段階、
前記ＩＣ上で、前記画像データ信号を含む信号ストリームが変換されている間、アナログオーディオデータ信号を含む信号ストリームの信号サンプルを記憶する段階、及び
前記ＩＣ上で、前記アナログ画像データ信号がデジタル画像データ信号に変換された後、前記記憶された信号サンプルを、デジタルオーディオデータ信号を含む信号ストリームに変換する段階を
含むことを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2002505538.tif 000001
【図２】
2002505538.tif 000002