【手続補正書】
【提出日】平成17年9月16日(2005.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学基板１００の表面をモデリングする方法であって、
座標系で第１のウィンドウ２１６を規定し、
第１のウィンドウ２１６内にマスター関数２１０を規定し、
第１のウィンドウ２１６内の第１の位置に第１のウィンドウ２１６のセグメントとして第２のウィンドウ２００を規定し、
第２のウィンドウ２００内の１組の点を選択し、
選択された組の点を相互に連結する変調経路２０６を規定し、
変調経路２０６に沿って表面関数を規定し、
変調経路２０６に沿って表面関数を変調し、
変調した表面関数をマスター関数２１０と合成することによって変調経路２０６範囲で三次元構造パターンを作成する
ことを含んでなる方法。
【請求項２】
第２のウィンドウ２００内の１組の点を選択することが、第２のウィンドウ２００内の１組の点をランダムに選択することを含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
変調経路２０６に沿って表面関数を変調することが、変調経路２０６に沿って表面関数をランダムに変調することを含む、請求項１記載の方法。
【請求項４】
第２のウィンドウ２００を第１のウィンドウ２１６内の新たな位置に移動することをさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項５】
第２のウィンドウ２００内の１組の点を選択し、
選択された組の点を相互に連結する変調経路２０６を規定し、
変調経路２０６に沿って表面関数を規定し、
変調経路２０６に沿って表面関数を変調し、
変調した表面関数をマスター関数２１０と合成することによって変調経路２０６範囲で三次元構造パターンを作成する
ことを、第２のウィンドウ２００が第１のウィンドウ２１６内の全ての点と同一の範囲になるまで繰り返すことをさらに含む、請求項４記載の方法。
【請求項６】
第２のウィンドウ２００を第１のウィンドウ２１６内の第１の位置に戻し、そして、
第２のウィンドウ２００内の１組の点を選択し、
選択された組の点を相互に連結する変調経路２０６を規定し、
変調経路２０６に沿って表面関数を規定し、
変調経路２０６に沿って表面関数を変調し、
変調した表面関数をマスター関数２１０と合成することによって第１のウィンドウ２１６範囲で三次元構造パターンを作成する
ことを、第２のウィンドウ２００が第１のウィンドウ２１６内の全ての点と同一の範囲になるまで繰り返すことをさらに含む、請求項５記載の方法。
【請求項７】
１組の形態学的演算子からマスク関数４４２を作成し、
マスク関数４４２を表面関数とコンボリューションし、
マスク関数４４２と変調関数のコンボリューションとマスター関数２１０のブール合成を実行する
ことをさらに含む、請求項６記載の方法。
【請求項８】
変調した表面関数をマスター関数２１０と合成することが、変調した表面関数とマスター関数２１０のブール合成を実行することからなる、請求項１記載の方法。
【請求項９】
第１のウィンドウ２１６の範囲で作成された複数の三次元構造パターンを互いに並べて配置して三次元構造パターンのアレイを形成することをさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか１項記載の方法で製造された光学基板１００。
【請求項１１】
座標系の第１の方向で三次元構造パターン内の第１の位置から所定の距離内で１／ｅの相関関数値を有する、請求項１０記載の光学基板１００。
【請求項１２】
相関関数が自己相関関数である、請求項１１記載の光学基板１００。
【請求項１３】
相関関数が相互相関関数である、請求項１１記載の光学基板１００。
【請求項１４】
モアレパターンが最小化されている、請求項１１記載の光学基板１００。
【請求項１５】
１ｃｍ以下の相関長において初期値の３７パーセント未満の相関関数値で特徴付けられる表面を含む光学基板１００であって、該表面が第２の関数で変調した第１の表面構造関数５０，５２，５４で規定され、当該光学基板１００の該表面が第１の入射ビーム光から反射及び拡散光を生成する、光学基板１００。
【請求項１６】
第１の表面構造関数５０，５２，５４が基板の第１の端部から第２の端部までの長さに延在する、請求項１５記載の光学基板１００。
【請求項１７】
第１の表面構造関数５０，５２，５４が鋸歯又は三角形断面を有する、請求項１６記載の光学基板１００。
【請求項１８】
光学基板１００の表面が、光を屈曲・拡散させ各々０．１〜６０度の出力半値角を有する複数の拡散楕円を形成する形状を有する、請求項１５記載の光学基板１００。
【請求項１９】
第１の入射ビーム光が第１の入射角を有しており、光学基板１００の表面が、第１の入射ビーム光が光学基板１００を透過すると共に光学基板１００の表面によって第１の入射角と異なる射出角に屈曲させる形状をしている、請求項１８記載の光学基板１００。
【請求項２０】
反射成分の射出角が第１の表面構造関数５０，５２，５４によって決定される、請求項１９記載の光学基板１００。
【請求項２１】
相関長が２００ミクロン以下である、請求項１５記載の光学基板１００。
【請求項２２】
１ｃｍ以下の相関長で特徴付けられる表面を有する輝度向上フィルムであって、該表面が、入射光を屈曲・拡散させビューアーに対する軸上で３０パーセント以上輝度を増大させる形状を有しており、該表面が０．１〜６０度の出力半値角を有する拡散光成分を生成するフィルム。
【請求項２３】
２つの表面構造関数で規定される表面を有する光学基板１００であって、第１の表面構造関数５０，５２，５４が入射ビーム光から１以上の射出反射成分を生成する光学特性をもつ幾何形状を有しており、第２の表面構造関数１４４，１４６が第１の表面構造関数５０，５２，５４を変調する少なくとも疑似ランダム特性をもつ幾何形状を有しており、三次元表面が１ｃｍ以下の相関長で初期値の３７パーセント未満の相関関数値を有する光学基板１００。
【請求項２４】
第１の表面構造関数５０，５２，５４が一連の第１の表面構造関数５０，５２，５４で特徴付けられ、各々の第１の表面構造関数５０，５２，５４が長さ、幅及びピーク角を有する、請求項２３記載の光学基板１００。
【請求項２５】
第２の表面構造関数１４４，１４６の少なくとも疑似ランダム特性が第１の表面構造関数５０，５２，５４の周波数、位相及びピーク角の１以上を変調させる、請求項２４記載の光学基板１００。
【請求項２６】
周波数の変調が、１以上の第１の表面構造関数５０，５２，５４の幅をその第１の表面構造関数５０，５２，５４の長さに沿って変調することを含む、請求項２５記載の光学基板１００。
【請求項２７】
ピーク角の変調が、１以上の第１の表面構造関数５０，５２，５４のピーク角をその第１の表面構造関数５０，５２，５４の長さに沿って変調することを含む、請求項２５記載の光学基板１００。
【請求項２８】
光学フィルムの三次元表面をモデリングする方法であって、
複数の第１の表面構造関数５０，５２，５４を変調して、不規則な変調波形を生成し、
第１の組の複数の変調波形を間隔をおいて作業面上に配置して、第１の組の変調波形の各々を隣接する変調波形上に重ね合わせ、
第２の組の複数の変調波形を間隔をおいて作業面上に配置して、第２の組の変調波形を第１の組の変調波形上に重ね合わせる
ことを含んでなる方法。
【請求項２９】
１ｃｍ以下の相関長において初期値の３７パーセント未満の相関関数値で特徴付けられる表面を有する光学基板１００の製造方法であって、該表面が第２の関数で変調した第１の表面構造関数５０，５２，５４で規定され、光学基板１００の該表面が第１の入射ビーム光から反射及び拡散光を生成し、当該方法が、
フォトリソグラフィーでフォトレジスト、グレイスケールマスク又はハーフトーンマスクに光学基板１００の表面をマスタリングし、
原盤から熱間エンボス加工、冷間カレンダー加工、紫外線硬化又は熱硬化によって光学基板１００の表面のモールドを形成する
ことを含んでなる方法。
【請求項３０】
前記原盤を金属コーティングと共に電鋳して親の電鋳品を形成し、
親の電鋳品を電鋳して子の電鋳品を形成する
ことをさらに含む、請求項２９記載の方法。
【請求項３１】
親及び子の電鋳品の電鋳が、ニッケルを電着することを含む、請求項３０記載の方法。
【請求項３２】
前記基板が、懸濁した拡散、複屈折又は屈折率改質粒子を含む光学的に透明な有機、無機又は混成材料からなる、請求項２９記載の方法。
【請求項３３】
前記原盤が光学基板１００のネガ型である、請求項２９記載の方法。
【請求項３４】
前記原盤がガラス、結晶性金属又はプラスチックからなる、請求項２９記載の方法。
【請求項３５】
１ｃｍ以下の相関長において初期値の３７パーセント未満の相関関数値で特徴付けられる表面を有する光学基板１００の製造方法であって、該表面が第２の関数で変調した第１の表面構造関数５０，５２，５４で規定され、光学基板１００の表面が第１の入射ビーム光の反射及び拡散光を生成し、当該方法が、
光学基板１００の表面の原盤を硬質工具で製造し、
原盤から熱間エンボス加工、冷間カレンダー加工、紫外線硬化又は熱硬化によって光学基板１００の表面のモールドを形成する
ことを含んでなる方法。
【請求項３６】
光を放出する光源５０２と、
光を導くための導光板５０６であって、該導光板５０６から光を反射する反射面５０８を含む導光板５０６と、
反射面５０８からの光を受容する１以上の光学基板５１０と
を含んでなるバックライト型ディスプレイ装置５００であって、
光学基板５１０が、２つの表面構造関数によって規定される三次元表面を有しており、第１の表面構造関数５０，５２，５４がある長さ、幅及びピーク角を有していて、その光学特性が入射ビーム光から１以上の射出反射成分を生成し、第２の表面構造関数１４４，１４６が、第１の表面構造関数５０，５２，５４の長さに沿って周波数、位相及びピーク角の１以上の点で第１の表面構造関数５０，５２，５４を変調する少なくとも疑似ランダム特性をもつ幾何形状を有しており、三次元表面が１ｃｍ以下の相関長で初期値の３７パーセント未満の相関関数値を有する、バックライト型ディスプレイ装置５００。
【請求項３７】
光学基板１００が、モールドの形成にフォトリソグラフィー、グレイスケールリソグラフィー、マイクロリソグラフィー、放電加工又は硬質工具を用いた微細機械加工によって製造されたものである、請求項１０記載の光学基板１００。
【請求項３８】
光学基板１００が、１００ｍｍ〜１ｎｍの特徴的な寸法を有する表面を含む、請求項３７記載の光学基板１００。
【請求項３９】
表面関数が幅約４０μｍ、高さ１〜２００μｍの三角形である、請求項１０記載の光学基板１００。
【請求項４０】
表面関数が、４０対１〜１対１０の底辺対高さ比を有する三角形である、請求項１０記載の光学基板１００。
【請求項４１】
表面関数が、約４０対１８の底辺対高さ比を有する三角形である、請求項１０記載の光学基板１００。
【請求項４２】
光学基板１００の表面が１．１〜３．０の屈折率を有する光学的に透明な材料で形成されている、請求項１０記載の光学基板１００。
【請求項４３】
第２の表面が光学的に平滑又は平面である、請求項１０記載の光学基板１００。
【請求項４４】
第２の表面が艶消し又は拡散仕上げを有する、請求項１０記載の光学基板１００。
【請求項４５】
第２の表面が、アナモルフィック又は異方性の拡散特性を有する、請求項４４記載の光学基板１００。
【請求項４６】
第２の表面が、基板内に形成又は接着剤で接着された所定パターンの突起を含み、光学的に平滑又は平面である、請求項１０記載の光学基板１００。