【手続補正書】
【提出日】平成17年7月14日(2005.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 以下から成っているインクジェット式のノズル設備：前記チャンバの１つの隔壁のインキ突出しポートを有するノズル・チャンバ、前記ノズル・チャンバに相互接続するインキ供給源、ａｎｄ前記インキ突出しポートを通して前記ノズル・チャンバからイジェクト・インキまで活性化される熱性アクチュエータ、通過すると、即座に、前記プレーナ間の電流が浮上するように、電気的に電気抵抗の原料から造られる上のプレーナ原料に相互接続する非常に伝導力のある原料から造られる下側の平面から成っている前記熱性アクチュエータ、アクチュエータが前記インキ突出しポートからこのことによりインキの突出しを引き起こすために前記インキ突出しポートの方へ曲げさせられる前記熱性。
【請求項２】 請求項１に記載のインクジェット式のノズル設備そこにおいて、前記アクチュエータは、基質に取り付けられて、以下を更に含む：それが基質に取り付けられる先端の近くで、前記アクチュエータの撓みの度を増やす固いへら一部。
【請求項３】 請求項２に記載のインクジェット式のノズル設備そこにおいて、前記固いへらは、窒化ケイ素の中で形づくられる。
【請求項４】 前記アクチュエータが以下を更に含む請求項１〜３のいずれに記載でものインクジェット式のノズル設備：前記上の平面の上に前記アクチュエータの撓みの総計を増やすために高熱膨張係数を有する膨張コーティング。
【請求項５】 請求項４に記載のインクジェット式のノズル設備そこにおいて、前記膨張コーティングは、本質的にポリ四ふっ化エチレンから成る。
【請求項６】 ２〜６がそこにおいて、前記上の平面および前記下側の平面の間で割れ目をそこで提供されるというクレームのいずれに記載でものインクジェット式のノズル設備、置かれて、前記割れ目を残すために離れてその後エッチングした犠牲の原料の使用による造る。
【請求項７】 請求項６に記載のインクジェット式のノズル設備そこにおいて、前記上の平面は、以下を含む：建設の間、前記犠牲の層のより急速なエッチングを許すために提供される複数のエッチ液ホール。
【請求項８】 前記上の平面が本質的にＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ（ＩＴＯ）から成る請求項１〜７のいずれに記載でものインクジェット式のノズル設備。
【請求項９】 前記下側の平面が本質的に金属層から成る請求項１〜８のいずれに記載でものインクジェット式のノズル設備。
【請求項１０】 前記界面が必要に応じてさらに受動態化原料でおおわれている請求項１〜９のいずれに記載でものインクジェット式のノズル設備。
【請求項１１】 前記インクジェット式のノズルがマイクロ・エレクトロ・メカニカルな構成技術を利用しているシリコン・ウェファに形づくられる請求項１〜１０のいずれに記載でものインクジェット式のノズル設備。
【請求項１２】 以下から成っているインクジェット式のノズル：前記チャンバの１つの隔壁のインキ突出しポートを有するノズル・チャンバ、前記ノズル・チャンバに相互接続するインキ供給源、前記インキ突出しポートを通して前記ノズル・チャンバからイジェクト・インキまで活性化される熱性アクチュエータ、高熱膨張係数を有するアクチュエーター材料の２つの層から成っている前記熱性アクチュエータ、本質的に不導体表面および導通する下端層、それに同じ系統を表面に拡大させるために電流に下端層を通過させることによって、活性化されている熱性アクチュエータ、それは、水ベースのインキにより冷却される。
【請求項１３】 前記下端層が導通する一部から成る請求項１２および電気回路が前記伝導力のあって不導体一部の干渉による下端層を加熱するために形づくられるように、不導体一部に記載のインクジェット式のノズル。
【請求項１４】 前記電気抵抗の電気回路がそれらの面積の前記アクチュエータの加熱の高準位を生産するために低電気回路断面積の面積を予め定めてつくられる請求項１３に記載のインクジェット式のノズル。
【請求項１５】 前記不導体一部が前記表面として同じ原料から形づくられる請求項１３または１４に記載のインクジェット式のノズル。
【請求項１６】 以下から成っているインクジェット式のノズル：前記チャンバの１つの隔壁のインキ突出しポートを有するノズル・チャンバ、前記ノズル・チャンバに相互接続するインキ供給源、前記インキ突出しポートを通して前記ノズル・チャンバからイジェクト・インキまで活性化される熱性アクチュエータ、それに同じ系統を表面に拡大させるために電流に下端層を通過させることによって、活性化されている熱性アクチュエータ。
【請求項１７】 前記アクチュエータの底が疎水性界面を有する請求項１２〜１６のいずれに記載でものインクジェット式のノズル、そして、そこにおいて、前記疎水性界面が気泡に前記熱性アクチュエータの下に形づくらせる運営の間。
【請求項１８】 前記アクチュエータの底面がインキを前記ノズル・チャンバから放出することを必要とする作動エネルギーを減らすために排気される空気である請求項１２〜１７のいずれに記載でものインクジェット式のノズル。
【請求項１９】 前記空気ガス抜きが以下から成る請求項１８に記載のインクジェット式のノズル：空気に相互接続している前記ホールが前記アクチュエータの後部に空気の供給のためのチャネルに供給するアクチュエータの下の小さいホールの系列。
【請求項２０】 前記アクチュエータの底面のまわりの面積が疎水性原料から造られる請求項１２〜１９のいずれに記載でものインクジェット式のノズル。
【請求項２１】 前記ホールが同じ大きさである請求項１９に記載のインクジェット式のノズル、運営の間、いかなる液も、前記ノズル・チャンバの範囲内で保持される。
【請求項２２】 前記アクチュエータが前記ノズル・チャンバおよび前記ホールに一端で取り付けられる１１９が前記付加端の近くに位置するというクレームに記載のインクジェット式のノズル。
【請求項２３】 前記アクチュエータがポリ四ふっ化エチレンから造られる請求項１２〜２２のいずれに記載でものインクジェット式のノズル。
【請求項２４】 前記アクチュエータが導電材料を形づくるために一部において、処理される下端層を有する請求項２３に記載のインクジェット式のノズル。
【請求項２５】 以下から成っているノズル・チャンバからのインキの突出しのためのインクジェット式のノズル設備：インキ供給に、そして、それの１つの隔壁のインキ突出しポートを有する相互接続するノズル・チャンバ、前記インキ突出しポートからのインキの突出しのための突出しへら、ａｎｄインキの突出しを引き起こしている前記突出しへらの作動のための突出しへらに取り付けられる熱性アクチュエータ機構、そこにおいて、アクチュエータが前記突出しへらにインキを前記インキ突出しポートから放出させこのことによりることを加熱して、撓み運動を生産する高ヤング係数を有する原料から成る前記熱性。
【請求項２６】 前記熱性アクチュエータが前記熱性アクチュエータの作動に前記突出しへらの動程の度を増やすために枢軸上に置かれる請求項２５に記載のインクジェット式のノズル設備。
【請求項２７】 前記アクチュエータ機構が馬蹄の中である２５〜２６が形を形づくって、中央値のまわりで本質的に枢支したというクレームのいずれに記載でものインクジェット式のノズル設備。
【請求項２８】 前記枢軸点が前記チャンバの隔壁に造られる請求項２５〜２７のいずれに記載でものインクジェット式のノズル設備。
【請求項２９】 前記隔壁が以下から成る請求項２８に記載のインクジェット式のノズル設備：細くなる膜。
【請求項３０】 前記熱性アクチュエータが雰囲気において、動く請求項２５〜２９のいずれに記載でものインクジェット式のノズル設備。
【請求項３１】 ノズル・チャンバがシリコン・ウェファおよび前記インキに造られる請求項２５〜３０のいずれに記載でもの設備が前記シリコン・ウェファにより供給されるインクジェット式のノズル。
【請求項３２】 前記熱性アクチュエータが薄い伝導力のある切断から造られる請求項２５〜３１のいずれに記載でものインクジェット式のノズル設備、そして、本質的により厚い不導体一部。
【請求項３３】 前記薄い伝導力のある一部が本質的に二ホウ化チタンから成る請求項３２に記載のインクジェット式のノズル設備。
【請求項３４】 前記より厚い一部が本質的にガラスから成る請求項３２に記載のインクジェット式のノズル設備。
【請求項３５】 前記ノズル・チャンバ隔壁が以下を含む請求項２５〜３４のいずれに記載でものインクジェット式のノズル設備：前記設備の建設に用いられる多くの小さい犠牲のエッチ液ホール、そこからインキの突出しを防ぐために十分に小さい直径の中である前記ホール。
【請求項３６】 前記設備が犠牲のエッチングを含んでいるミクロのエレクトロ・メカニカル・システム技巧を使用して造られる請求項２５〜３５および前記突出しへらのいずれに記載でものインクジェット式のノズル設備は、プレ過熱位置において、ある前記犠牲のエッチングにおいて、開放される。