【手続補正書】
【提出日】平成18年6月5日(2006.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 スパッターターゲット材料の特性決定のための方法であって、
（ａ）スパッターターゲット材料の試験試料の表面上の複数の位置で、該試験試料に音響エネルギーを順次照射し、
（ｂ）前記音響エネルギーによって誘起されるエコーを検出し、
（ｃ）前記エコーの振幅を、少なくとも一つの検量値と比較して、欠陥データ点と無欠陥データ点とを検出し、
（ｄ）前記欠陥データ点をカウントして、欠陥カウント数ＣFを決定し、
（ｅ）前記欠陥カウント数と前記無欠陥データ点のカウント数との合計に等しいデータ点総数ＣDPを決定し、
（ｆ）清浄度ファクターＦC＝（ＣF／ＣDP）×１０6を計算する、
ステップから成ることを特徴とする方法。
【請求項２】 前記スパッターターゲット材料が金属から成ることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】 前記スパッターターゲット材料と実質的に同じ組成を有する基準試料に平底の盲孔を成形し、前記基準試料に、前記孔の長さ方向に実質的に平行に伝播する音響パルスを照射し、該音響パルスによって誘起されるエコーを検出して前記少なくとも一つの検量値を決定する、各追加ステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】 前記ステップ（ａ）が、前記試料を流体中に浸漬し、前記音響エネルギーを、前記試料のすぐそばの前記流体中で生成させることから成ることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】 前記表面が実質的に平坦であり、ステップ（ａ）が該表面に実質的に垂直に伝播する音響エネルギーを前記試料に照射することから成ることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】 前記ステップ（ｃ）が、背景組織による後方散乱ノイズを前記エコーから区別して修正振幅信号を得、該修正振幅信号を前記少なくとも一つの検量値と比較して、前記欠陥データ点および前記無欠陥データ点を検出することを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】 前記ステップ（ｅ）が、前記複数の位置をカウントして照射の総数ＣIを決定し、欠陥データ点も無欠陥データ点も検出されない、前記複数の位置のうちの各位置をカウントして、ノイズカウント数ＣNを決定し、データ点の前記総数ＣDP＝ＣI−ＣNを計算することから成ることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】 複数の振幅バンドを定め、前記修正振幅信号を測定して修正振幅信号の大きさを決定し、該修正振幅信号の大きさを前記複数の振幅バンドと比較して前記修正振幅信号の部分集合を定め、修正振幅信号の前記部分集合をカウントして複数の修正振幅信号カウント数を決定して、修正振幅信号の該複数のカウント数の各修正振幅信号カウント数を前記複数の振幅バンドのうち一つの前記振幅バンドに対応させ、前記修正信号カウント数を前記複数の振幅バンドに関係づけるヒストグラムを構成する各追加ステップを含むことを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項９】スパッターターゲット材料の特性決定のための方法であって、
（ａ）前記試験試料を該試料の一つの寸法方向に圧縮し、
（ｂ）前記スパッターターゲット材料の試験試料の表面上の複数の位置で、前記寸法を横断するように伝播する音響エネルギーを、前記試料に順次照射し、
（ｃ）前記音響エネルギーによって誘起されるエコーを検出し、
（ｄ）前記エコーの振幅を、少なくとも一つの検量値と比較して、欠陥データ点と無欠陥データ点とを検出し、
（ｅ）前記欠陥データ点をカウントして、欠陥カウント数ＣFを決定し、
（ｆ）前記欠陥カウント数と前記無欠陥データ点のカウント数との合計に等しいデータ点総数ＣDPを決定し、
（ｇ）清浄度ファクターＦC＝（ＣF／ＣDP）×１０6を計算する、
ステップから成ることを特徴とする方法。
【請求項１０】前記スパッターターゲット材料が金属から成ることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】前記ステップ（ａ）が前記試験試料の圧延を含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１２】前記ステップ（ａ）が前記試験試料の鍛造を含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１３】前記スパッターターゲット材料と実質的に同じ組成を有する基準試料に平底の盲孔を成形し、前記基準試料に、前記孔の長さ方向に実質的に平行に伝播する音響パルスを照射し、該音響パルスによって誘起されるエコーを検出して前記少なくとも一つの検量値を決定する、各追加ステップを含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１４】前記ステップ（ｂ）が、前記試料を流体中に浸漬し、前記音響エネルギーを、前記試料のすぐそばの前記流体中で生成させることから成ることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１５】前記表面が実質的に平坦であり、ステップ（ｂ）が該表面に実質的に垂直に伝播する音響エネルギーを前記試料に照射することから成ることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１６】前記ステップ（ｄ）が、背景組織による後方散乱ノイズを前記エコーから区別して修正振幅信号を得、該修正振幅信号を前記少なくとも一つの検量値と比較して、前記欠陥データ点および前記無欠陥データ点を検出することを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１７】前記ステップ（ｆ）が、前記複数の位置をカウントして照射の総数ＣIを決定し、欠陥データ点も無欠陥データ点も検出されない、前記複数の位置のうちの各位置をカウントして、ノイズカウント数ＣNを決定し、データ点の前記総数ＣDP＝ＣI−ＣNを計算することから成ることを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】複数の振幅バンドを定め、前記修正振幅信号を測定して修正振幅信号の大きさを決定し、該修正振幅信号の大きさを前記複数の振幅バンドと比較して前記修正振幅信号の部分集合を定め、修正振幅信号の前記部分集合をカウントして複数の修正振幅信号カウント数を決定して、修正振幅信号の該複数のカウント数の各修正振幅信号カウント数を前記複数の振幅バンドのうちの一つの前記振幅バンドに対応させ、前記修正信号カウント数を前記複数の振幅バンドに関係づけるヒストグラムを構成する各追加ステップを含むことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】スパッターターゲットの製造のための方法であって、
（ａ）スパッターターゲットブランクの表面上の複数の位置で、音響エネルギーを、前記スパッターターゲットブランクに順次照射し、
（ｂ）前記音響エネルギーによって誘起されるエコーを検出し、
（ｃ）前記エコーの振幅を、少なくとも一つの検量値と比較して、欠陥データ点と無欠陥データ点とを検出し、
（ｄ）前記欠陥データ点をカウントして、欠陥カウント数ＣFを決定し、
（ｅ）前記欠陥カウント数と前記無欠陥データ点のカウント数との合計に等しいデータ点総数ＣDPを決定し、
（ｆ）清浄度ファクターＦC＝（ＣF／ＣDP）×１０6を計算し、
（ｇ）前記清浄度ファクターが前記基準清浄度ファクターよりも小さいとき、前記スパッターターゲットブランクを成形してスパッターターゲットを作り、
（ｈ）前記清浄度ファクターが前記基準清浄度ファクターよりも大きいとき、前記スパッターターゲットブランクを不合格とする、
ステップから成ることを特徴とする方法。
【請求項２０】前記スパッターターゲットブランクが金属から成ることを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】前記スパッターターゲットブランクを該スパッターターゲットブランクの一つの寸法方向に圧縮する追加ステップを含み、また前記ステップ（ａ）が、前記寸法を横断するように伝播する音響エネルギーを前記スパッターターゲットブランクに照射することを含むことを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】前記スパッターターゲットブランクを圧縮する前記追加ステップが、前記スパッターターゲットブランクの圧延を含むことを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】前記スパッターターゲットブランクを圧縮する前記追加ステップが、前記スパッターターゲット試験ブランクの鍛造を含むことを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２４】前記スパッターターゲット材料と実質的に同じ組成を有する基準試料に平底の盲孔を成形し、前記基準試料に、前記孔の長さ方向に実質的に平行に伝播する音響パルスを照射し、該音響パルスによって誘起されるエコーを検出して前記少なくとも一つの検量値を決定する、各追加ステップを含むことを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２５】前記ステップ（ｃ）が、背景組織による後方散乱ノイズを前記エコーから区別して修正振幅信号を得、該修正振幅信号を前記少なくとも一つの検量値と比較して、前記欠陥データ点および前記無欠陥データ点を検出することを含むことを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２６】前記ステップ（ｅ）が、前記複数の位置をカウントして照射の総数ＣIを決定し、欠陥データ点も無欠陥データ点も検出されない、前記複数の位置のうちの各位置をカウントして、ノイズカウント数ＣNを決定し、データ点の前記総数ＣDP＝ＣＩ−ＣNを計算することから成ることを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２７】スパッターターゲットの製造のための方法であって、
（ａ）スパッターターゲットブランクの表面上の複数の位置で、音響エネルギーを、前記スパッターターゲットブランクに順次照射し、
（ｂ）前記音響エネルギーによって誘起されるエコーを検出し、
（ｃ）背景組織による後方散乱ノイズを前記エコーから区別して、修正振幅信号を得、
（ｄ）前記修正振幅信号を、少なくとも一つの検量値と比較して、欠陥データ点と無欠陥データ点とを検出し、
（ｅ）複数の振幅バンドを定め、
（ｆ）前記修正振幅信号を測定して、修正振幅信号の大きさを決定し、
（ｇ）前記修正振幅信号の大きさを前記複数の振幅バンドと比較して、前記修正振幅信号の部分集合を定め、
（ｈ）修正振幅信号の前記部分集合をカウントして複数の修正振幅信号カウント数を決定して、修正振幅信号の該複数のカウント数の各修正振幅信号カウント数を前記複数の振幅バンドのうちの一つの前記振幅バンドに対応させ、
（ｉ）前記複数の振幅信号カウント数の振幅カウント数を、基準振幅信号カウント数と比較し、
（ｊ）前記複数の振幅信号カウント数の前記振幅信号カウント数が、前記基準振幅信号カウント数よりも小さいとき、前記スパッターターゲットブランクを成形してスパッターターゲットを作り、
（ｋ）前記複数の振幅信号カウント数の前記振幅信号カウント数の一つが、対応する前記基準振幅信号カウント数の一つよりも大きいとき、前記スパッターターゲットブランクを不合格とする、
ステップから成ることを特徴とする方法。
【請求項２８】前記スパッターターゲットブランクが金属から成ることを特徴とする請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】前記スパッターターゲットブランクを該スパッターターゲットブランクの一つの寸法方向に圧縮する追加ステップを含み、また前記ステップ（ａ）が、前記寸法を横断するように伝播する音響エネルギーを前記スパッターターゲットブランクに照射することを含むことを特徴とする請求項２７に記載の方法。
【請求項３０】前記スパッターターゲットブランクを圧縮する前記追加ステップが、前記スパッターターゲット試験ブランクの圧延を含むことを特徴とする請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】前記スパッターターゲットブランクを圧縮する前記追加ステップが、前記スパッターターゲットブランクの鍛造を含むことを特徴とする請求項２９に記載の方法。
【請求項３２】前記スパッターターゲット材料と実質的に同じ組成を有する基準試料に平底の盲孔を成形し、前記基準試料に、前記孔の長さ方向に実質的に平行に伝播する音響パルスを照射し、該音響パルスによって誘起されるエコーを検出して前記少なくとも一つの検量値を決定する、各追加ステップを含むことを特徴とする請求項２７に記載の方法。
【請求項３３】前記修正信号カウント数を前記複数の振幅バンドに関係づけるヒストグラムを構成する追加ステップを含むことを特徴とする請求項２７に記載の方法。
【請求項３４】スパッターターゲット材料の特性決定のための装置であって、
スパッターターゲット材料の試験試料に音響エネルギーを順次照射し、該音響エネルギーによって誘起されるエコーを検出するトランスジューサー、
前記トランスジューサーを試験試料の表面に沿って動かすために前記トランスジューサーを取りつけるスキャナー、
前記エコーの振幅を少なくとも一つの検量値と比較し、欠陥データ点と無欠陥データ点とを検出して、前記欠陥データ点をカウントして欠陥カウント数ＣFを決定し、またデータ点の総数ＣDPを決定し、さらに清浄度ファクターＦC＝（ＣF／ＣDP）×１０6を計算するためにプログラムされる制御器、
から成ることを特徴とする装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
図４のヒストグラムの横軸１１２は、０．１ｍｍの平底盲孔を有する基準試料に誘起されるエコー振幅に対する百分率として規格化された振幅を示す。図４の縦軸１１０は、各振幅における修正信号カウント数を、対数目盛りで示す。この欠陥カウントにおけるエコー振幅しきい値は４８％に設定した。実験で確認したところでは、すべての試験アルミニウム合金において、背景組織によるエコー振幅は４５％を越えなかったからである。図５のヒストグラムの横軸１１６と縦軸１１４も同様に目盛ってある。