Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月3日(2005.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャリヤーペーストと主ペーストの混合物からなる澱粉を基剤とした接着剤ペースト組成物であって、
キャリヤーペーストが、コーンスターチ、小麦澱粉、ライ麦澱粉、オート麦澱粉、大麦澱粉、ジャガイモ澱粉、タピオカ澱粉およびエンドウ澱粉であって、それぞれが天然澱粉または化学改質澱粉であり、またはそれらの任意の混合物からなる群から選択される澱粉、水、およびアルカリ塩基から構成される澱粉を基剤とするペーストであり、澱粉がキャリヤーペースト中の水の総量に対して5から16重量%の濃度で存在し、アルカリ塩基が水酸化ナトリウムとして計算され且つキャリヤーペースト中の澱粉の量(乾燥物質)に対して10から25重量%の量で存在し、
主ペーストが、(i) 12から20重量%のアミロース、約1重量%の他の化合物、および相補的な87重量%から79重量%のアミロペクチンを含む天然米澱粉または乾燥澱粉含量に対して0.25から2.5重量%のアセチル基を含む天然米澱粉のアセチル化誘導体、および(ii)コーンスターチ、小麦澱粉、ライ麦澱粉、オート麦澱粉、大麦澱粉、ジャガイモ澱粉、タピオカ澱粉およびエンドウ澱粉であって、それぞれが天然澱粉または化学改質澱粉であり、またはそれらの任意の混合物からなる群から選択される澱粉、水、およびホウ酸ナトリウムの混合物から構成される澱粉を基剤とするペーストであり、天然米澱粉またはそのアセチル化誘導体が主ペーストの総澱粉含量(乾燥物質)の10から30重量%の量で存在し、主ペースト中の澱粉の総量が主ペーストの総量に対して25から50重量%であり、ホウ酸ナトリウム(無水ホウ砂として計算)が主ペーストの澱粉(乾燥物質)の量に対して0.3から3重量%の量で存在し、重量比主ペースト:キャリヤーペーストが1:1から3:1の範囲である
接着剤ペースト組成物。
【請求項２】
キャリヤーペーストおよび主ペースト中の澱粉が、米澱粉は別として、天然または架橋小麦澱粉である、請求項1に記載の接着剤ペースト組成物。
【請求項３】
キャリヤーペーストおよび主ペースト中の澱粉が、米澱粉は別として、天然または架橋コーンスターチである、請求項1に記載の接着剤ペースト組成物。
【請求項４】
米澱粉が、16から18重量%のアミロース、約1重量%の他の化合物、および相補的な83から81重量%のアミロペクチンを含む天然米澱粉またはそのアセチル化誘導体である、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の接着剤ペースト組成物。
【請求項５】
米澱粉またはアセチル化米澱粉が主ペースト中に15から25重量%の量で存在する、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の接着剤ペースト組成物。
【請求項６】
キャリヤーペースト中のアルカリ塩基が水酸化ナトリウムであり、主ペースト中のホウ酸ナトリウムがホウ砂である、請求項1乃至5のいずれか一項に記載の接着剤ペースト組成物。
【請求項７】
重量比主ペースト:キャリヤーペーストが1.4:1から2:1の範囲である、請求項1乃至6のいずれか一項に記載の接着剤ペースト組成物。
【請求項８】
30℃から50℃の水に、コーンスターチ、小麦澱粉、ライ麦澱粉、オート麦澱粉、大麦澱粉、ジャガイモ澱粉、タピオカ澱粉およびエンドウ澱粉であって、それぞれが天然澱粉または化学改質澱粉であり、またはそれらの任意の混合物からなる群から選択される澱粉、水、およびアルカリ塩基を、キャリヤーペースト中の水の総量に対して5から16重量%の濃度で、アルカリ塩基が水酸化ナトリウムとして計算され且つキャリヤーペースト中の澱粉の量(乾燥物質)に対して10から25重量%の量で、攪拌混合することによってキャリヤー澱粉を基剤とするペーストを調製した後、澱粉が完全にゲル化して混合物の安定な粘度が得られるまで混合物を30から50℃で剪断しながら攪拌する工程と、
室温以下の水に、12から20重量%のアミロース、約1重量%の他の化合物、および相補的な87から79重量%のアミロペクチンを含む天然米澱粉、または乾燥澱粉含量に対して0.25から2.5重量%アセチル基を含む天然米澱粉のアセチル化誘導体、およびコーンスターチ、小麦澱粉、ライ麦澱粉、オート麦澱粉、大麦澱粉、ジャガイモ澱粉、タピオカ澱粉およびエンドウ澱粉であって、それぞれが天然澱粉または化学改質澱粉であり、またはそれらの任意の混合物からなる群から選択される澱粉、水、およびホウ酸ナトリウムを攪拌下にて混合することによって主澱粉を基剤とするペーストを調製し、米澱粉またはアセチル化米澱粉は主ペーストの総澱粉含量(乾燥物質)に対して10から30重量%の量で存在し、主ペースト中の澱粉の総量は主ペーストの総量に対して25から50重量%であり、ホウ酸ナトリウム(無水ホウ砂として計算)は主ペーストの澱粉(乾燥物質)の量に対して0.3から3重量%の量であり、次いで5から10分間攪拌して均質なペーストを得る工程と、
キャリヤーペーストと主ペーストを重量比主ペースト:キャリヤーペーストが1:1から3:1の範囲で混合する
工程とを含んでなる、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の接着剤ペースト組成物の製造方法。
【請求項９】
キャリヤーペーストと主ペーストを別個に調製した後、混合する、請求項8に記載の方法。
【請求項１０】
接着剤ペースト組成物をワンポット法によって調製し、第一のキャリヤーペーストを請求項8に定義した通りに調製し、次に、水、天然米澱粉またはそのアセチル化誘導体、およびコーンスターチ、小麦澱粉、ライ麦澱粉、オート麦澱粉、大麦澱粉、ジャガイモ澱粉、タピオカ澱粉およびエンドウ澱粉であって、それぞれが天然澱粉または化学改質澱粉であるもの、またはそれらの任意の混合物からなる群から選択される澱粉、およびホウ酸ナトリウムを、上記キャリヤーペーストに攪拌下にて室温以下で、請求項8に記載した主ペーストの調製に相当する量で且つ重量比主ペースト:キャリヤーペーストが1:1から3:1の範囲で加えることによって、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の均質な澱粉を基剤とする接着剤ペースト組成物を得る、請求項8に記載の方法。
【請求項１１】
積層段ボールの製造方法であって、(i)請求項1乃至7のいずれか一項に記載の澱粉を基剤とする接着剤ペースト組成物のフィルムを段ボール芯の一方の側または両側の段ボールの最上部に塗布する工程と、(ii)ライナーを、上記澱粉を基剤とする接着剤ペーストを支持する段ボール芯の最上部と圧力および熱を加えながら接触させ、ゲル化および接着剤組成物と接触している表面の初期接合を開始する工程と、(iii)熱を加えることによって段ボール芯の(複数の)ライナーへの接着を完了する工程とを含んでなる、上記方法。
【請求項１２】
請求項1乃至7のいずれか一項に記載の澱粉を基剤とする接着剤ペースト組成物のフィルムを段ボール芯の襞の最上部に4から7g/m2の範囲の量で加える、請求項11に記載の方法。
【請求項１３】
ライナーを、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の澱粉を基剤とする接着剤ペースト組成物によって段ボールのコルゲーションの最上部に接合した、積層段ボール。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月17日(2006.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２０】
フィッシャー・トロプシュＧＴＬ工程からのＣＯ２放出物を減少する方法において、
ａ）  ＣＯ、Ｈ２、及びＣＯ２を含む合成ガスをフィッシャー・トロプシュ反応器へ導入し、
ｂ）  前記合成ガスに対しフィッシャー・トロプシュ処理を行い、フィッシャー・トロプシュ生成物を得、
ｃ）  前記フィッシャー・トロプシュ生成物を第一分離器へ導入し、前記フィッシャー・トロプシュ生成物を未反応ＣＯ、Ｈ２、及びＣＯ２、及びＣ５＋液体を含む炭化水素生成物へ分離し、
ｄ）  前記フィッシャー・トロプシュ生成物から分離された未反応ＣＯ、Ｈ２、及びＣＯ２の少なくとも一部分を、合成ガスを生成する合成ガス形成反応器へ送られる供給物流、又はフィッシャー・トロプシュ反応器へ供給される合成ガスの少なくとも一方へ送って戻し、
ｅ）  前記フィッシャー・トロプシュ生成物から分離された炭化水素生成物の少なくとも一部分を第二分離器へ送り、
ｆ）  前記第二分離器中で、前記第二分離器へ供給された炭化水素生成物から、少なくとも約２．０の水素対炭素比を有するＣ１〜Ｃ５生成物を分離し、そして約２．０の水素対炭素比を有するＣ１０＋生成物を分離し、
ｇ）  前記第二分離器中で、前記第二分離器へ供給された炭化水素生成物からナフサを分離し、
ｈ）  前記ナフサの少なくとも一部分をナフサ改質器へ供給し、
ｉ）  前記ナフサ改質器中でナフサを改質して約２．０より小さい水素対炭素比を有するＣ６〜Ｃ１０生成物を生成させることにより水素副生成物を生成させ、
ｊ）  ナフサ改質中に生成した水素副生成物の少なくとも一部分を、再循環して供給物流と混合し、フィッシャー・トロプシュ工程により放出されるか、さもなければ供給物流中に存在するＣＯ２の少なくとも一部分を、前記水素副生成物により燃料が与えられた水性ガスシフト逆反応により付加的ＣＯへ転化し、そして
ｋ）  前記付加的ＣＯをフィッシャー・トロプシュ反応器中で炭化水素へ転化する、
ことを含む減少法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
商業的実施では、部分的酸化改質器へ添加される水蒸気の量は、炭素の形成を制御することができる。同様に、或る量のＣＯ２は供給物中に許容することができる。従って、部分的酸化はフィッシャー・トロプシュ転化に好ましい反応ではあるが、酸化改質器中では、上記反応の全てが或る程度起きることがある。部分的酸化改質器のための低硫黄ガス供給原料も与えることも重要である。これは、典型的には、吸着又は吸収工程、又はそれらの組合せを用いることにより行うことができる。例えば、適当な吸収剤には、水、アミン、苛性化合物、それらの組合せ等が含まれる。適当な吸着剤は、例えば、ＺｎＯ、Ｃｕ、Ｎｉ、それらの組合せ等を含んでいてもよい。ＺｎＯが好ましい吸着剤である。なぜなら、それは、ＣＯ２を実質的に除去することなく、硫黄物質を選択的に除去するからである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
シンガス形成工程のために低硫黄ガス供給原料を与えることも重要である。典型的には、これは、吸着又は吸収法又はその組合せを用いることにより行うことができる。例えば、適当な吸収剤には、水、アミン、苛性化合物、それらの組合せ等が含まれる。例えば、適当な吸着剤には、ＺｎＯ、Ｃｕ、Ｎｉ、それらの組合せ等が含まれる。ＺｎＯが好ましい吸着剤である。なぜなら、それは、実質的にＣＯ２を除去することなく、硫黄物質を選択的に除去するからである。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月6日(2006.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
硫黄及び/又は窒素汚染物質を含む炭化水素供給原料の水素化プロセッシング法において、第一の酸性の担体上の少なくとも一つの第一の第VIII族金属触媒の存在下に炭化水素供給原料を水素とまず接触させ、ここで、該担体は、ゼオライト及びゼオライト含有担体の群から選ばれ、そしてその後、より弱い酸性の担体上の少なくとも一つの第二の第VIII族金属触媒の存在下に該供給原料を水素と接触させ、ここで、該担体は、シリカ‐アルミナ及び他の非ゼオライト担体の群から選ばれることを含むところの方法。
【請求項２】
該水素化プロセッシングが、溶剤、中質留分又は他の石油供給原料の水素化転化、水素化分解、水素化処理、水素添加、水素化仕上げ及び水素化異性化を含むところの請求項1記載の方法。
【請求項３】
該強く酸性の担体が、少なくとも5μmol/gの本明細書において定義された酸性度を有するところの請求項1又は2記載の方法。
【請求項４】
該より弱い酸性の担体が、最大10μmol/gの本明細書において定義された酸性度を有し、但し、該酸性度は、少なくとも一つの第一の触媒の担体の酸性度より低いところの請求項1〜3のいずれか一つに記載の方法。
【請求項５】
第一及び第二の触媒の両方の第VIII族金属が互いに独立して、Pt、Pd、Ir、Rh、Ru及びこれらの元素の二つ以上の組み合わせの群から選ばれるところの請求項1〜4のいずれか一つに記載の方法。
【請求項６】
第一及び第二の触媒中の、金属及び担体の合計量に基づいて計算された第VIII族金属の量が互いに独立して、0.001〜2.5重量%であるところの請求項1〜5のいずれか一つに記載の方法。
【請求項７】
少なくとも一つの第一の触媒の体積が、第一及び第二の触媒の合計体積の10〜50%であるところの請求項1〜6のいずれか一つに記載の方法。
【請求項８】
第一の触媒の入口における温度が100〜400℃であるところの請求項1〜7のいずれか一つに記載の方法。
【請求項９】
水素圧力が0.5〜300バールであるところの請求項1〜8のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１０】
第二の触媒床への供給原料中の有機硫黄濃度が500ppmより小さく、好ましくは50ppmより小さいところの請求項1〜9のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１１】
第二の触媒への供給原料中の有機窒素濃度が100ppmより小さく、好ましくは20ppmより小さいところの請求項10記載の方法。
【請求項１２】
該第一及び第二の触媒床が、一つの反応器又は異なる反応器中に存在するところの請求項1〜11のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１３】
該少なくとも一つの第一の触媒の最後からの流出物が、それを、より弱い酸性の担体上の該第二の触媒と接触させるに先立って、ストリッパーに通過されるところの請求項1〜12のいずれか一つに記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は従って、硫黄及び/又は窒素汚染物質を含む炭化水素供給原料の水素化プロセッシング法に関し、該方法は、酸性の担体上の少なくとも一つの第一の第VIII族金属触媒の存在下に炭化水素供給原料を水素とまず接触させ、ここで、該担体は、ゼオライト及びゼオライト含有担体の群から選ばれ、そしてその後、より弱い酸性の担体上の少なくとも一つの第二の第VIII族金属触媒の存在下に該炭化水素供給原料を水素と接触させ、ここで、該担体は、シリカ‐アルミナ及び他の非ゼオライト担体の群から選ばれることを含む。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月8日(2006.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バッキングであって、第１の主面および第２の主面を含むベース層と、少なくとも２つのレールとを含み、各レールは先端面を含み、前記レールは、前記ベース層の前記第２の主面から延在し、それらの間にマイクロチャネルを画定し、前記マイクロチャネルはチャネル面を含むバッキング、および
前記レールの前記先端面上の接着剤を含み、
前記チャネル面の少なくとも一部は接着剤を実質的に有さないフィルム。
【請求項２】
前記バッキングが多層である、請求項１に記載のフィルム。
【請求項３】
前記ベース層がポリプロピレンまたはそのコポリマーを含み、前記レールが熱可塑性エラストマーまたは熱可塑性ポリオレフィンを含む、請求項１に記載のフィルム。
【請求項４】
前記レールが８０℃未満で軟化するポリマー材料を含む、請求項１に記載のフィルム。
【請求項５】
保護テープを適用するために自動車表面を処理するステップと、
保護テープを前記自動車表面に適用するステップとを含む自動車を保護する方法であって、前記保護テープが、
バッキングであって、第１の主面および第２の主面を含むベース層と、少なくとも２つのレールとを含み、各レールは先端面を含み、前記レールは、前記ベース層の前記第２の主面から延在し、それらの間にマイクロチャネルを画定し、前記マイクロチャネルはチャネル面を含むバッキングと、
前記レールの前記先端面上の接着剤とを含む、自動車を保護する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月27日(2006.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主成分として
少なくとも第一の官能基を有するエチレン性不飽和の官能化化合物でグラフト化されたポリオレフィンポリマー、
該第一の官能基と反応し得る第二の官能基を有する反応性熱可塑性ポリマー、及び
ベースポリマー、
を少なくとも含むポリマー組成物の製造方法であって、
ベースポリマーはシングルサイト触媒で重合化された少なくとも５５重量％のポリオレフィンを含むこと、及びベースポリマー及び０．０５〜１．０ｍｇ当量／ｇの量においてエチレン性不飽和の官能化化合物でグラフト化されたポリオレフィンポリマーが溶融状態で互いに混合され、その後、得られる溶融混合物が融解状態で反応性熱可塑性ポリマーと混合される、ただしベースポリマーの割合は少なくとも５５重量％に達し、反応性熱可塑性ポリマーの割合は主成分の合計の少なくとも１０重量％に達し、反応性熱可塑性ポリマーの割合は反応性熱可塑性ポリマーとエチレン性不飽和の官能化化合物でグラフト化されたポリオレフィンポリマーとの合計の５０重量％超に達する、ことを特徴とする方法。
【請求項２】
主成分として
少なくとも第一の官能基を有するエチレン性不飽和の官能化化合物でグラフト化されたポリオレフィンポリマー、
該第一の官能基と反応し得る第二の官能基を有する反応性熱可塑性ポリマー、及び
シングルサイト触媒で重合化された少なくとも５５重量％のポリオレフィンを含むベースポリマー、
を含むポリマー組成物において、
ベースポリマーの割合が主成分の合計の少なくとも５５重量％に達し、かつ反応性熱可塑性ポリマーの割合が主成分の合計の少なくとも１０重量％に達し、及び反応性熱可塑性ポリマーの割合が反応性熱可塑性ポリマーとエチレン性不飽和の官能化化合物でグラフト化されたポリオレフィンポリマーとの合計の５０重量％超に達し、及びグラフト化されたポリオレフィンポリマー中のエチレン性不飽和の官能化化合物の量が0.05〜1.0ｍｇ当量／gであるところの、請求項１の方法に従って得られ得るポリマー組成物。
【請求項３】
ベースポリマーがポリエチレンであるところの、請求項２に記載のポリマー。
【請求項４】
ベースポリマーがプラストマーであるところの、請求項２又は３のいずれか１項に記載のポリマー組成物。
【請求項５】
反応性ポリマーがポリアミドであるところの、請求項１〜３のいずれか１項に記載のポリマー組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月7日(2006.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリ（ペルフルオロビニルエーテル）ホモポリマーおよび第２のフルオロポリマーを含む、二成分フルオロポリマー分散体。
【請求項２】
前記ポリ（ペルフルオロビニルエーテル）ホモポリマーが、次式：
【化１】
2005522541.tif 000001
（ここでＲfは、少なくとも２個の原子の鎖長を有し、少なくとも１個の炭素原子および１個の酸素原子を有するペルフルオロ化有機基を表す）
のモノマーの重合させた単位を含む、請求項１に記載の分散体。
【請求項３】
Ｒf基が、次式：
−Ｏ（Ｒ1fＯ）n（Ｒ2fＯ）mＲ3f
（ここでＲ1fとＲ2fはそれぞれ独立して、１〜６個の炭素原子を有する直鎖状または分岐状のペルフルオロアルキレン基を表し、Ｒ3fは、１〜６個の炭素原子を有する直鎖状、分岐状または環状のペルフルオロアルキル基を表し、そしてｎおよびｍはそれぞれ独立して０〜１０の整数を表す）
である、請求項１に記載の分散体。
【請求項４】
前記第２のフルオロポリマーが、テトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロペン、クロロトリフルオロエチレン、２−クロロペンタフルオロプロペン、１−ヒドロペンタフルオロプロペン、ジクロロジフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、ペルフルオロビニルエーテル、１，１−クロロフルオロエチレン、およびトリクロロエチレンの群から選択される、共重合させたモノマー単位を含む、請求項１に記載の分散体。
【請求項５】
前記第２のフルオロポリマーが、エチレンおよびプロピレンから選択される少なくとも１種の非フッ素化モノマーをさらに含む、請求項１に記載の分散体。
【請求項６】
前記フルオロポリマーが平均径５０〜２００ナノメートルの粒子を含む、請求項１に記載の分散体。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の二成分フルオロポリマー分散体を製造するための方法であって、
ａ）フルオロケミカル乳化剤の存在下で、ペルフルオロビニルエーテルモノマーの水性混合物を予備乳化させて、平均エマルション液滴径を１ミクロン以下とする工程、および
ｂ）前記ペルフルオロビニルエーテルを、フリーラジカル重合開始剤の存在下で、ポリ（ペルフルオロビニルエーテル）の粒子を生成させるのに充分な温度と時間をかけて重合させる工程、
ｃ）それに続けて、乳化剤を追加することなく、少なくとも１種の追加のフッ素化コモノマーを添加する工程、および
ｄ）得られた混合物をさらに重合させる工程、
を含む方法。
【請求項８】
前記フルオロポリマーが平均径５０〜２００ナノメートルの粒子を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記第１の重合工程における前記重合の転化率が、少なくとも１パーセントである、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記二成分粒子中の前記ポリ（ペルフルオロビニルエーテル）の量が１〜７５ｗｔ％である、請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
前記乳化剤が、
ａ）前記ペルフルオロアルキル鎖の中に４〜１１個の炭素原子を有する直鎖状または分岐状のペルフルオロアルキルカルボン酸およびスルホン酸の塩、
ｂ）次式のモノマー：
【化２】
2005522541.tif 000002
（ここでｓは０、１または２であり、ｔは２〜４の整数であり、そしてＧは、１種または複数のノニオン性、アニオン性またはカチオン性親水性基を含む部分である）
から誘導される繰り返し単位を含むペルフルオロポリマー、および
ｃ）Ｒfa−Ｏ−（ＣＦ2Ｏ）k（ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）p（ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2Ｏ）q−Ｑ1−ＣＯＯＭ、または
ＭＯＯＣ−Ｑ1−Ｏ−（ＣＦ2Ｏ）k（ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）p（ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2Ｏ）q−Ｑ2−ＣＯＯＺ
（ここでｋ、ｐおよびｑはそれぞれ０〜１５の数値を表し、ｋ、ｐおよびｑの合計は数平均分子量を少なくとも２００ｇ／モルとするような数値であり、Ｒfaは２〜４個の炭素原子のペルフルオロアルキル基を表し、ＭおよびＺはそれぞれ独立して、水素またはカチオンを表し、そしてＱ1およびＱ2はそれぞれ独立して−ＣＦ2−または−ＣＦ（ＣＦ3）−を表す）
から選択される、請求項７に記載の方法。
【請求項１２】
前記フッ素化コモノマーが、二重結合の炭素原子の上の少なくとも１個のフッ素原子置換基を含み、そしてハロゲン原子、水素、または低級フルオロアルキルラジカルでさらに置換されたエチレン性不飽和フルオロモノマーを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１３】
前記第２の重合工程が、エチレンおよびプロピレンから選択される少なくとも１種の非フッ素化モノマーをさらに含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１４】
前記重合開始剤が水溶性重合開始剤を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１５】
請求項１〜６のいずれか１項に記載のフルオロポリマー分散体、および前記フルオロポリマー分散体を用いて処理された繊維質基材の撥油性および／または撥水性をさらに改良することが可能な１種または複数の補助成分、または前記繊維質基材に改良された汚れ／しみ放出性を付与することが可能な補助成分を含む、フルオロケミカル組成物。
【請求項１６】
繊維質基材を、請求項１５に記載のフルオロケミカル組成物と接触させることを含む、繊維質基材を処理するための方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月17日(2006.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）（ｉ）ポリイソシアネート成分であって、ＭＤＩの立体障害異性体を少なくとも１０％含むポリイソシアネート成分、及び
（ｉｉ）ポリオール成分
を含む成分から誘導されたＮＣＯ−官能性樹脂を含む、水硬化性組成物を準備する工程、及び、
（ｂ）前記水硬化性組成物と実質的に化学量論的に過剰の水を含む硬化剤とを、前記組成物を内的硬化するのに有効な条件下で混合する工程、
を含む水硬化性組成物の使用方法。
【請求項２】
更に、前記組成物を水で硬化する場合に発泡の抑制を補助するのに有効な量の可塑剤を含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
更に、前記組成物を水で硬化する場合に発泡の抑制を補助するのに有効な量のＣＯ2掃
去剤を含む、請求項１記載の方法。
【請求項４】
請求項１ないし３のうちいずれか１項に記載の方法により製造された硬化組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月17日(2006.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくともジエンエラストマー、補強用充填剤および下記の一般式(I)のシロキサンポリスルフィドをベースとするタイヤ類の製造において有用なゴム組成物：
【化１】
2005522548.tif 000001
(式中、数xは、整数または分数であり得て、2以上であり；
基Zは、同一または異なるものであり得て、1〜18個の炭素原子を含む2価の結合基であり；
基Rは、同一または異なるものであり得て、1〜18個の炭素原子を含む炭化水素基である)。
【請求項２】
前記シロキサンポリスルフィドが下記の式(II)に相当する請求項１記載の組成物：
【化２】
2005522548.tif 000002
【請求項３】
Zがプロピレン基を示す、請求項２記載の組成物。
【請求項４】
前記ジエンエラストマーが、ポリブタジエン類、天然ゴム、合成ポリイソプレン類、ブタジエンコポリマー類、イソプレンコポリマー類およびこれらエラストマーの混合物からなる群から選ばれる、請求項１〜３のいずれか１項記載の組成物。
【請求項５】
前記ジエンエラストマーが、合成ポリイソプレンまたは天然ゴムである、請求項４記載の組成物。
【請求項６】
シロキサンポリスルフィドの量が、0.5 phrよりも多い、請求項１〜５のいずれか１項記載の組成物。
【請求項７】
シロキサンポリスルフィドの量が3〜12 phrである、請求項６記載の組成物。
【請求項８】
下記の各工程： 
・ジエンエラストマー中に、“非生産性”と称する第１段階において、少なくとも１種の補強用充填剤を、混合物全体を１以上の工程で110℃〜190℃の最高温度に達するまで熱機械的に混練することによって混入する工程；
・混合物全体を100℃未満の温度に冷却する工程；
・その後、“生産性”と称する第２段階において、架橋系を混入する工程；
・混合物全体を、110℃未満の最高温度に達するまで混練する工程；
を含む、ジエンエラストマー、補強用充填剤および架橋系をベースとし、タイヤの製造において有用で且つ改良された戻り抵抗性を有するゴム組成物の製造方法において、
前記架橋系が、下記の一般式(I)のシロキサンポリスルフィドを含むことを特徴とする前記製造方法：
【化３】
2005522548.tif 000003
(式中、数xは、整数または分数であり得て、2以上であり；
基Zは、同一または異なるものであり得て、1〜18個の炭素原子を含む2価の結合基であり；
基Rは、同一または異なるものであり得て、1〜18個の炭素原子を含む炭化水素基である)。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか１項記載の組成物を含む、自動車車両の懸垂装置用に意図する最終物品または半製品。
【請求項１０】
タイヤからなる、請求項９記載の最終物品。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月16日(2006.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
(a)芳香族ポリカーボネート又は芳香族ポリカーボネートが連続相を形成するところの芳香族ポリカーボネートとポリエステルとのブレンド、並びに(b)離型剤を含む熱可塑性組成物において、
(b1)2〜6個のヒドロキシ基を有する脂肪族ポリオールと脂肪族のC10〜C36カルボン酸との脂肪酸エステル、及び
(b2)少なくとも一つのC6〜C18α‐オレフィンの飽和されたα‐オレフィンオリゴマー
を、1/9〜9/1の成分(b1)と(b2)との質量比で含むところの離型剤の0.01〜3質量%を含むことを特徴とする組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
成分(b2)が400〜800グラム/モルの分子質量を有するところの請求項1〜5のいずれか一つに記載の熱可塑性組成物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
離型剤(b)の量が0.25〜0.75質量%であるところの請求項1〜9のいずれか一つに記載の熱可塑性組成物。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、(a)芳香族ポリカーボネート又は芳香族ポリカーボネートが連続相を形成するところの芳香族ポリカーボネートとポリエステルとのブレンド、並びに(b)離型剤を含む熱可塑性組成物に関する。本発明は更に、物品を射出成形するために本発明に従う熱可塑性組成物を使用する方法、及びそのようにして得られた成形品に関する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明に従う熱可塑性組成物は、芳香族ポリカーボネート又は芳香族ポリカーボネートが連続相を形成するところの芳香族ポリカーボネートとポリエステルとのブレンドを含む。原則として、任意の公知の芳香族ポリカーボネートが使用され得る。この組成物において適切な芳香族ポリカーボネートは、例えば、界面重合法を使用することにより、少なくとも一つの二価フェノールとカーボネート前駆体とから作られたポリカーボネートである。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月27日(2006.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
９２質量％を超えるポリエステル、及び、
８質量％未満の、１種以上のポリオレフィンを含み、場合により追加の添加剤を含む、添加剤、
を含むひもであって、前記１種以上のポリオレフィンは前記ひもの３質量％未満を構成する、ひも。
【請求項２】
幅が約０．５〜３ｃｍでありかつ厚さが約０．０３〜０．２０ｃｍであり、ポリエステルと１種以上のポリオレフィンから本質的になる、ひも。
【請求項３】
幅が約０．５〜３ｃｍでありかつ厚さが約０．０３〜０．２０ｃｍであり、ポリエステルと、３質量％未満の１種以上のポリオレフィンを含む、ひも。
【請求項４】
長手方向に延伸することで１軸配向されており、幅が約０．５〜３ｃｍでありかつ厚さが約０．０３〜０．２０ｃｍであり、ポリエステルと線状低密度ポリエチレンを含む、ひも。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月1日(2006.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学システムにおけるイメージの点像分布をコントロールする方法であって、前記光学システムは、イメージ源と、ディフューザーと、基板と、少なくとも１つのスクリーンとを含んでおり、
ａ．前記ディフューザーと前記イメージ源との間の見かけの距離を変えることと、
ｂ．前記ディフューザーの特性と
を含む方法。
【請求項２】
前記基板が前記イメージ源と前記ディフューザーとの間に位置する、請求項１記載の、点像分布をコントロールする方法。
【請求項３】
前記ディフューザーと前記イメージ源との間の前記見かけの距離が前記基板の屈折率の関数である、請求項１記載の、点像分布をコントロールする方法。
【請求項４】
前記光学システムが、ディスプレイの一部をなし、前記ディスプレイは、積み重ね配置の複数のスクリーンを有する、請求項１〜３のいずれかに記載の、点像分布をコントロールする方法。
【請求項５】
前記イメージ源がディスプレイスクリーンである、請求項１〜４のいずれかに記載の、点像分布をコントロールする方法。
【請求項６】
前記ディスプレイスクリーンが、ＬＣＤ、プラズマ、ＯＬＥＤを含む群から選択される、請求項５記載の、点像分布をコントロールする方法。
【請求項７】
前記光学システムの点像分布関数が、式（ａ）によって定められるように、拡散特性と距離の関数であって、当該式において以下の通りである、請求項１〜６のいずれかに記載の点像分布をコントロールする方法。
2005522715.tif 000001
2005522715.tif 000002
【請求項８】
前記拡散特性が双方向透過分布関数によって定められる、請求項１記載の方法。
【請求項９】
前記式（ａ）が視覚システムに関する項又は条件（terms）を削除することで変更される、請求項１記載の方法。
【請求項１０】
モアレ干渉を含む／許容するように前記方法が変更可能である、前述のいずれかの請求項に記載の方法。
【請求項１１】
前記関係が以下の式によって定められ、
2005522715.tif 000003
当該式において以下の通りである、請求項１０記載の方法。
2005522715.tif 000004
【請求項１２】
モアレ干渉を減らし、ぼやけを最少化するために光学システム内でディフューザーの選択と位置を最適化する方法であって、当該方法が以下の式によって定められ、
2005522715.tif 000005
当該式において以下の通りである、方法。
2005522715.tif 000006
【請求項１３】
光学システム内でディフューザーの選択と位置を最適化することでイメージ品質を維持しながらモアレ干渉を最少化する方法であって、添付の記述に開示された式（１）、（２）そして（３）の結果を利用し、ここで、
ａ．ディフューザーと物体との間の距離と、
ｂ．物体レイヤーのピクセル構造と、
ｃ．利用できるディフューザーと、
ｄ．光学スタック内の屈折率と、が入力され、、
さらに、この方法は、
ｅ．上記のパラメーターにおける各組み合わせのための主観的イメージ品質の値と、
ｆ．レイヤーと空間フィルターとの間の距離の最適な設定と、を提供する。
【請求項１４】
光学システム内でディフューザーの選択と位置とを最適化するソフトプロトタイプ化システムであって、当該システムは、下記ステップを含むアルゴリズムを含む：
ａ．前記光学システムの特性を定義することでバーチャルディスプレイを構築；
ｂ．フィルターを構築；
ｃ．後面ディスプレイをぼやけさせ、モアレを作成するのに使用；
ｄ．見る距離とパネル間の距離とを定義；
ｅ．モアレの輝度を２次元でプロット；
ｆ．本来の輝度を減じたモアレ輝度をプロット；
ｇ．ＦＦＴの結果を見る；
ｈ．カットオフ周波数に対応する数値を計算。
【請求項１５】
前記ソフトプロトタイプ化システムがＭａｔＬａｂ（商標）でコード化されている、請求項１４記載のソフトプロトタイプ化システム。
【請求項１６】
ディスプレイの光学スタックで使用するためのディフューザーであって、前記ディスプレイは、積み重ね配置の複数のスクリーンを有し、前記ディフューザーは、複屈折のない物質で構成され、かつ、コントロール可能な分散プロファイルを有している。
【請求項１７】
前記ディフューザーがホログラムディフューザーである、請求項１６記載のディフューザー。
【請求項１８】
前記分散プロファイルが非対称である、請求項１６および１７のいずれに記載のディフューザー。
【請求項１９】
前記分散プロファイルが楕円または長方形である、請求項１６または１８のいずれかに記載のディフューザー。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月31日(2006.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画面上に表示する画像にラベルを付ける方法であり、前記画像を取り出すステップと、回転させられた前記画像を表示するステップと、前記画像上に第１テキストラベル及び第２テキストラベルを表示するステップとを有する方法であって、各ラベルが、前記画像の一部又はフィーチャを識別し、前記第１テキストラベルが、１つのラベリング方式によって表示され、前記第２テキストラベルが、異なるラベリング方式によって表示される方法。
【請求項２】
前記ラベリング方式の１つが、前記画像と共に回転させられたテキストラベルを表示するステップから成る、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ラベリング方式の１つが、回転させられた前記画像に対する複数の可能な向きの１つに回転させられたテキストラベルを表示するステップから成る、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ラベリング方式の１つが、回転させられた前記画像に対する複数の可能な向きの１つに回転させられたテキストラベルの表示から成り、これらの可能な向きの間の角距離が一定である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記ラベリング方式の１つが、回転させられた前記画像に対する奇数の複数の可能な向きの１つに回転させられたテキストラベルを表示するステップから成る、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記ラベリング方式の１つが、ディスプレイ上に水平なテキストラベルを表示するステップから成る、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
回転させられた前記画像を表示する前に回転させられていない前記画像を表示するステップを更に有し、前記第１テキストラベル及び前記第２テキストラベルが、回転させられた前記画像に対して使用されたものと同じ対応する方式によって回転させられていない前記画像上に表示される、請求項１乃至６の何れか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記画像上に表示される各テキストラベルは、何れのラベリング方式によって前記テキストラベルが表示されるべきかを直接的又は間接的の何れかで示すデータベースから表示するために取り出される、請求項１乃至７の何れか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記第１テキストラベル及び前記第２テキストラベルが、それぞれテキストラベルの第１グループ及び第２グループの要素であり、同じグループ内のテキストラベルは、同じラベリング方式によって表示される、請求項１乃至８の何れか一項に記載の方法。
【請求項１０】
画面上に表示する画像にラベルを付ける方法であって、前記画像を取り出すステップと、回転させられた前記画像を表示するステップと、回転させられた前記画像に対する複数の可能な向きの１つに回転させられた前記画像上のテキストラベルを表示するステップとを有する方法。
【請求項１１】
これらの可能な向きの間の角距離が一定である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
これらの可能な向きの間の角距離が一定であり、回転させられた前記画像に対する可能な向きの数が奇数である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
請求項１乃至１２の何れか一項に記載の方法を実行する命令を有するコンピュータプログラム。
【請求項１４】
請求項１乃至１２の何れか一項に記載の方法を実行する命令を表すデータを記録されたコンピュータ読取可能な記憶媒体。
【請求項１５】
請求項１乃至１２の何れか一項に記載の方法を実行するように構成されたプロセッサ及びディスプレイを有する装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月31日(2006.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
最適化目標を達成するように実験を設計する方法において、
コンピュータ装置内のデータ駆動オプティマイザによって実験空間から少なくとも第１実験を選択するステップＡ）と、少なくとも１個のメタ層における第１実験の実験的に決定される実験データをコンピュータ装置に入力するステップＢ）と、少なくとも１個のメタ層を実験データの評価に使用するステップＣ）と、第１実験の実験的に決定される実験データをデータ駆動オプティマイザに入力するステップＤ）と、メタ層における評価の結果によってデータ駆動オプティマイザに影響すると共に、達成した目標を点検するステップＥ）と、データ駆動オプティマイザによって実験空間から少なくとも第２実験を選択するステップＦ）と、第２実験のデータに対してステップＢ）〜ステップＥ）を繰り返すステップＧ）と、目標を達成した時にヘキセーション（hexation）を停止するか、又は、目標が達成されるまで、少なくとも第３とその後の実験に対してステップＡ）〜Ｆ）を繰返すステップＨ）とを備える方法。
【請求項２】
実験を設計するコンピュータシステムにおいて、
実験空間（１）から少なくとも第１実験を選択するデータ駆動オプティマイザ（６）と、第１実験に対して実験的に決定される実験データを評価するための、データ駆動オプティマイザ用のメタ層（９）とを備え、又、メタ層は、ニューラルネットワーク及び／又はハイブリッドモデル及び／又は厳密なモデル及び／又はデータマイニング方法を含むと共に、データ駆動オプティマイザに影響するために、評価の結果に基づいて形成されるコンピュータシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月4日(2006.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスプレイ画面上のカーソルを制御するシステムであって、
前記ディスプレイ画面を有するディスプレイ装置、
固定位置に配置される４つのマイクロホンＭ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ４、
位置ベクトルＰ０に対応する位置Ｐ０に配置され且つ音響信号を生成して発散するように構成される音響源を有する無線ポインタ装置で、前記音響信号は前記マイクロホンＭｉ（ｉ＝１，２，３，４）で検知されるように構成され、前記マイクロホンＭｉで検知された音響信号は周期的電気信号Ｓｉ（ｉ＝１，２，３，４）に変換されるように構成されるような無線ポインタ装置、
前記カーソル及び前記電気信号Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４の各々と電気的に結合される演算システムで、前記電気信号Ｓ１とＳｊ（ｊ＝２，３，４）との間の位相シフト時間遅延と依存関係を有する三角測量方程式を解くことによって前記位置ベクトルＰ０の値を算出し、且つ前記位置ベクトルＰ０、スケールベクトルＡ、及び前記ディスプレイ画面の形状関数と依存関係を有する前記カーソルの位置ベクトルＰＣの値を算出するように構成される演算システム、及び
前記カーソルを前記位置ベクトルＰＣに対応する位置ＰＣに配置する手段を有することを特徴とするシステム。
【請求項２】
前記４つのマイクロホンＭ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ４の位置のうちの３つの位置が同一線上にないように前記４つのマイクロホンＭ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ４が固定位置に配置されることを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項３】
前記マイクロホンＭ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ４の４つの位置が同一平面上にないように前記４つのマイクロホンＭ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ４が固定位置に配置されることを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項４】
前記ディスプレイ画面は非平面形状であることを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項５】
前記音響信号は複数の周波数成分を有することを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項６】
各周波数成分は約２０ｋＨｚ以上の周波数を有することを特徴とする請求項５記載のシステム。
【請求項７】
前記電気信号Ｓｉ（ｉ＝１，２，３，４）から前記複数の周波数成分以外の周波数成分をすべて除去するためのフィルタを更に有することを特徴とする請求項５記載のシステム。
【請求項８】
ディスプレイ画面を有するディスプレイ装置を制御するための出力インタフェース、
固定位置に配置される４つのマイクロホンＭ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ４で、各々が位置ベクトルＰ０に対応する位置Ｐ０に配置される音響源を有する無線ポインタ装置からの音響信号を検知するように構成されるマイクロホンＭ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ４から周期的電気信号Ｓｉ（ｉ＝１，２，３，４）を受信するための入力インタフェース、及び
前記電気信号Ｓ１とＳｊ（ｊ＝２，３，４）との間の位相シフト時間遅延と依存関係を有する三角測量方程式を解くことによって前記ベクトルＰ０の値を算出し、前記位置ベクトルＰ０、スケールベクトルＡ、及び前記ディスプレイ画面の形状関数と依存関係を有するカーソルの位置ベクトルＰＣの値を算出し、且つ前記出力インタフェースを用いて前記カーソルを前記位置ベクトルＰＣに対応する位置ＰＣに配置するように構成される制御部を有することを特徴とする演算システム。
【請求項９】
無線であり、複数の周波数成分からなる音響信号を生成して発散するように構成される
音響源を有することを特徴とするポインタ装置。
【請求項１０】
ディスプレイ画面上のカーソルを制御する方法であって、
固定位置に配置される４つのマイクロホンＭ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ４において未だ算出されていない位置ベクトルＰ０に対応する位置Ｐ０に配置される音響源を有する無線ポインタ装置から発散される音響信号を検知し、
前記マイクロホンＭｉ（ｉ＝１，２，３，４）で検知された前記音響信号を周期的電気信号Ｓｉ（ｉ＝１，２，３，４）に変換し、
前記電気信号Ｓ１とＳｊ（ｊ＝２，３，４）との間の位相シフト時間遅延と依存関係を有する三角測量方程式を解くことによって前記位置ベクトルＰ０の値を算出し、
前記位置ベクトルＰ０、スケールベクトルＡ、及び前記ディスプレイ画面の形状関数と依存関係を有するカーソルの位置ベクトルＰＣの値を算出し、
前記カーソルを前記位置ベクトルＰＣに対応する位置ＰＣに配置する工程を有することを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項１０記載の方法をコンピュータに実行させるためのコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月6日(2005.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
映画またはテレビ番組の中で描かれた幻想的な構造を選択する措置と、
この映画またはテレビ番組の中の幻想的な構造の一部として描かれた複数の建築要素を特定する措置と、
これらの建築要素のそれぞれに優先値を付与する措置と、
これらの複数の建築要素を組み入れた居住可能な構造を設計する措置と、
これらの建築要素の中の整合しない建築要素間の矛盾を解消するように設計する措置の際に、これらの優先値を使用する措置と、
を特徴とする設計の方法。
【請求項２】
さらに、前記の優先値を付与する措置の際に用いられる経験的なデータを得るために、この幻想的な構造に精通するフォーカスグループの人々に投票させる措置を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
さらに、前記の建築要素の中の整合しない建築要素間の矛盾を解消するために、一つの建築要素の少なくとも一つの寸法を拡大、または縮小する措置を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
さらに、前記の居住可能な構造の寸法は、映画またはテレビ番組の内装の撮影のために使われた内装セットの寸法より、予め決められた百分率だけ大きくなるように設計するとの設計規則を設定する措置を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記の居住可能な構造は、映画またはテレビ番組の外観の撮影に使われた既存の映画スタジオバックロットの正面セット構造を組み入れるように設計する措置を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
さらに、コミュニティの全体計画と整合するように、前記の幻想的な構造を選択する措置、およびこの全体計画で認められた予め決められた区画に対して、前記の居住可能な構造を設計する措置を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
さらに、映画またはテレビ番組の当該の外観および内装の撮影の際に使われ、その映画またはテレビ番組で一緒に幻想的な構造として描かれた外観の正面セットおよびそれに対応する内装セットの中の少なくとも一つの寸法を決めることによって、前記の建築要素のそれぞれの寸法を特定する措置を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
映画またはテレビ番組の中で描かれた幻想的な構造をベースとする居住可能な構造であって、
その外観の建築要素が、この映画またはテレビ番組の外観の撮影に使われた外観の正面セットの当該の外観の建築要素に類似していること、
その内装の建築要素が、この外観の正面セットに対応した、この映画またはテレビ番組の内装の撮影に使われた内装セットの当該の内装の建築要素に類似していること、
その際、この居住可能な構造の建築要素の中の少なくとも一つは、これらの建築要素の中の整合しない建築要素間の矛盾を解消するように、外観の正面セットまたは内装セットの当該の建築要素から、変更されたものであることを特徴とする居住可能な構造。
【請求項９】
さらに、前記の外観の正面セットが、映画またはテレビ番組の撮影に実際に使われた映画スタジオバックロットの正面セット構造を組み入れていることを特徴とする請求項８に記載の居住可能な構造。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月6日(2006.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表側から露出されると画像を形成する能力を有し、かつ裏側から露出されると画像を形成する能力を有するように構築かつ配設された放射線記録プレートであって、露出後に画像内で検出可能であるとともに、プレートが表側と裏側のいずれから露出されるかを示し、かつ露出後のプレートから回復された画像に行われた鏡像変換を表示する、マークを生成するマーカーを露出前に含む、前記プレート。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月4日(2006.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
低ｋ誘電材料表面を処理する方法であって、
ａ．該低ｋ誘電材料表面に超臨界シリル化剤を与えて、不動態化された低ｋ誘電材料表面を形成すること；
ｂ．該低ｋ誘電材料表面に該シリル化剤を与えた後、該超臨界シリル化剤を取り除くこと；
ｃ．該不動態化された低ｋ誘電材料表面に超臨界溶媒の溶液を与えること；及び
ｄ．該不動態化された低ｋ誘電材料表面に該超臨界溶媒の溶液を与えた後、該超臨界溶媒の溶液を取り除くこと；
を含んで成る、低ｋ誘電材料表面を処理する方法。
【請求項２】
前記超臨界シリル化剤が、超臨界ＣＯ2と、有機基を含む或る量のシリル化剤とを含んで成る、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記有機基が５個以下の炭素原子を含んで成る、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記超臨界溶媒の溶液が、超臨界ＣＯ2と、酸及びフッ化物の混合物とを含んで成る、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記酸が有機酸を含んで成る、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記酸が無機酸を含んで成る、請求項４に記載の方法。
【請求項７】
前記超臨界シリル化剤が、構造(Ｒ1),(Ｒ2),(Ｒ3)ＳｉＮＨ(Ｒ4)を有するシランを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記超臨界シリル化剤がキャリヤー溶媒をさらに含んで成る、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記キャリヤー溶媒が、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、γ−ブチロラクトン（ＢＬＯ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、炭酸エチレン（ＥＣ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルピペリドン、炭酸プロピレン及びアルコールから成る群より選択された、請求項５に記載の方法。
【請求項１０】
前記低ｋ誘電材料表面が、２５〜２００℃の範囲の温度で維持される、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記低ｋ誘電材料表面に超臨界シリル化剤を与えることが、該低ｋ誘電材料表面全体に該超臨界シリル化剤を循環させることを含んで成る、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記低ｋ誘電材料表面に超臨界溶媒の溶液を与えることが、該低ｋ誘電材料表面全体に該超臨界溶媒の溶液を循環させることを含んで成る、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記超臨界シリル化剤が、７００〜９，０００ｐｓｉの範囲の圧力で維持される、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記低ｋ誘電材料表面に超臨界シリル化剤を与える前に、該低ｋ誘電材料表面を乾燥させることをさらに含んで成る、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記低ｋ誘電材料表面の乾燥が、該低ｋ誘電材料表面に超臨界二酸化炭素を含む超臨界乾燥溶液を与えることを含んで成る、請求項１０に記載の方法。
【請求項１６】
前記低ｋ誘電材料表面が酸化ケイ素を含んで成る、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
前記低ｋ誘電材料表面が、炭素をドープした酸化物（ＣＯＤ）、スピンオンガラス（ＳＯＧ）及びフッ化シリコンガラス（ＦＳＧ）から成る群より選択された材料を含んで成る、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
誘電体表面を処理する方法であって、
ａ．第１超臨界洗浄溶液を用いて該誘電体表面からエッチ後残留物を除去すること；
ｂ．該誘電体表面を第２超臨界洗浄溶液中にあるシリル化剤で処理して、不動態化された誘電体表面を形成すること；及び
ｃ．該不動態化された誘電体表面を第３超臨界洗浄溶液中にある溶媒で処理すること；
を含んで成る、誘電体表面を処理する方法。
【請求項１９】
前記エッチ後残留物がポリマーを含んで成る、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記ポリマーがフォトレジストポリマーである、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記フォトレジストポリマーが反射防止染料を含んで成る、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記誘電体表面が酸化ケイ素を含んで成る、請求項１８に記載の方法。
【請求項２３】
前記誘電体表面が低ｋ誘電材料を含んで成る、請求項１８に記載の方法。
【請求項２４】
前記誘電体表面が、炭素をドープした酸化物（ＣＯＤ）、スピンオンガラス（ＳＯＧ）及びフッ化シリコンガラス（ＦＳＧ）から成る群より選択された材料を含んで成る、請求項１８に記載の方法。
【請求項２５】
前記エッチ後残留物が反射防止コーティングを含んで成る、請求項１８に記載の方法。
【請求項２６】
前記シリル化剤が有機ケイ素化合物を含んで成る、請求項１８に記載の方法。
【請求項２７】
前記溶媒が、超臨界ＣＯ2と、酸及びフッ化物の混合物とを含んで成る、請求項１８に記載の方法。
【請求項２８】
前記有機ケイ素化合物が、構造(Ｒ1),(Ｒ2),(Ｒ3)ＳｉＮＨ(Ｒ4)を有するシランである、請求項２６に記載の方法。