【手続補正書】
【提出日】平成18年3月24日(2006.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】腐食禁止の目的のための６−クロロ−５−メチルベンゾトリアゾール、４−クロロ−５−メチルベンゾトリアゾール又は５−クロロ−４−メチルベンゾトリアゾールの有効量を、ハロゲンで処理された水性系に加えることを含む、ハロゲンで処理された水性系と接触した金属表面の腐食を禁止する方法。
【請求項２】６−クロロ−５−メチル−ベンゾトリアゾールが、約０．２ｐｐｍ以上の濃度で該水性系に加えられる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】６−クロロ−５−メチル−ベンゾトリアゾールが、約０．２ｐｐｍ〜約１０ｐｐｍの濃度で該水性系に加えられる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】ハロゲンで処理された水性系と接触した金属表面上の腐食禁止層を形成する方法であって、腐食禁止層を形成する目的のための６−クロロ−５−メチルベンゾトリアゾール、４−クロロ−５−メチルベンゾトリアゾール又は５−クロロ−４−メチルベンゾトリアゾールの有効量をハロゲンで処理された該水性系に加えることを含む、前記の方法。
【請求項５】塩素要求を減じる目的のための６−クロロ−５−メチルベンゾトリアゾール、４−クロロ−５−メチルベンゾトリアゾール又は５−クロロ−４−メチルベンゾトリアゾールの有効量を該水性系に加えることを含む、微生物の生長を禁止するために、塩素で処理された水性系内の塩素要求を減じる方法。
【請求項６】銅を含む金属表面と接触した、ハロゲンで処理された水性系中の銅イオンの輸送を禁止する方法であって、該水性系に銅イオンの輸送を禁止する目的のための６−クロロ−５−メチルベンゾトリアゾール、４−クロロ−５−メチルベンゾトリアゾール又は５−クロロ−４−メチルベンゾトリアゾールの有効量を加えることを含む、前記の方法。
【請求項７】ハロゲンで処理された水性系と接触した金属表面の腐食を禁止する方法であって、ハロゲンで処理された該水性系に、腐食禁止の目的のための６−クロロ−５−メチルベンゾトリアゾール、４−クロロ−５−メチルベンゾトリアゾール又は５−クロロ−４−メチルベンゾトリアゾールの有効量を、少なくとも１種の他の水性系処理物質と組みあわせて加えることを含む、前記の方法。
【請求項８】該他の水性系処理物質が、腐食禁止処理剤、付着禁止処理剤、及びこれらの混合物を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】該腐食禁止処理剤、付着禁止処理剤及びこれらの混合物が、ホスフェート、ホスホネート、アクリルホモポリマー、アクリルコポリマー、キレート剤、オキシム、殺生物剤、及びこれらの混合物を含む、請求項７に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本発明をその特別の態様との関係で説明してきたが、本発明の多数の他の形態及び修正が本技術における当業者には自明である。特許請求の範囲及び本発明は一般に、本発明の真実の精神または範囲内であるそのような自明な形態及び修正を含むと考えられるべきである。
［本発明の態様］
［１］腐食禁止の目的のための６−クロロ−５−メチルベンゾトリアゾールの有効量を、ハロゲンで処理された水性系に加えることを含む、ハロゲンで処理された水性系と接触した金属表面の腐食を禁止する方法。
［２］６−クロロ−５−メチル−ベンゾトリアゾールが、約０．２ｐｐｍ以上の濃度で該水性系に加えられる、１に記載の方法。
［３］６−クロロ−５−メチル−ベンゾトリアゾールが、約０．２ｐｐｍ〜約１０ｐｐｍの濃度で該水性系に加えられる、１に記載の方法。
［４］ハロゲンで処理された水性系と接触した金属表面上の腐食禁止層を形成する方法であって、腐食禁止層を形成する目的のための６−クロロ−５−メチルベンゾトリアゾールの有効量をハロゲンで処理された該水性系に加えることを含む、前記の方法。
［５］６−クロロ−５−メチルベンゾトリアゾールの塩素要求を減じる目的のための有効量を該水性系に加えることを含む、微生物の生長を禁止するために、塩素で処理された水性系内の塩素要求を減じる方法。
［６］銅を含む金属表面と接触した、ハロゲンで処理された水性系中の銅イオンの輸送を禁止する方法であって、該水性系に銅イオンの輸送を禁止する目的のための６−クロロ−５−メチルベンゾトリアゾールの有効量を加えることを含む、前記の方法。
［７］ハロゲンで処理された水性系と接触した金属表面の腐食を禁止する方法であって、ハロゲンで処理された該水性系に、腐食禁止の目的のための６−クロロ−５−メチルベンゾトリアゾールの有効量を、少なくとも１種の他の水性系処理物質と組みあわせて加えることを含む、前記の方法。
［８］該水性系処理物質が、腐食禁止処理剤、付着禁止処理剤、及びこれらの混合物を含む、７に記載の方法。
［９］該腐食禁止処理剤、付着禁止処理剤及びこれらの混合物が、ホスフェート、ホスホネート、アクリルホモポリマー、アクリルコポリマー、キレート剤、オキシム、殺生物剤、及びこれらの混合物を含む、７に記載の方法。
［１０］ハロゲンで処理された水性系と接触した金属表面の腐食を禁止する方法であって、ハロゲンで処理された該水性系に、腐食禁止の目的のための有効量の４−クロロ−５−メチルベンゾトリアゾールを加えることを含む、前記の方法。
［１１］４−クロロ−５−メチル−ベンゾトリアゾールが、約０．２ｐｐｍ以上の濃度で該水性系に加えられる、１０に記載の方法。
［１２］４−クロロ−５−メチル−ベンゾトリアゾールが、約０．２ｐｐｍ〜約１０ｐｐｍの濃度で該水系に加えられる、１０に記載の方法。
［１３］ハロゲンで処理された水性系と接触した金属表面上の腐食禁止層を形成する方法であって、腐食禁止のための４−クロロ−５−メチルベンゾトリアゾールの有効量をハロゲンで処理された水性系に加えることを含む、前記の方法。
［１４］４−クロロ−５−メチルベンゾトリアゾールの塩素要求を減じる目的のための有効量を水性系に加えることを含む、微生物の生長を禁止するために、塩素で処理された水性系内の塩素要求を減じる方法。
［１５］銅を含む金属表面と接触した、ハロゲンで処理された水性系中の銅イオンの輸送を禁止する方法であって、該水性系に該目的のための４−クロロ−５−メチルベンゾトリアゾールの有効量を加えることを含む、前記の方法。
［１６］ハロゲンで処理された水性系と接触した金属表面の腐食を禁止する方法であって、該ハロゲンで処理された水性系に、腐食禁止のための４−クロロ−５−メチルベンゾトリアゾールの有効量を、少なくとも１種の他の水性系処理物質と組みあわせて加えることを含む、前記の方法。
［１７］該水性系処理材料が、腐食禁止処理剤、付着禁止処理剤、及びこれらの混合物を含む、１６に記載の方法。
［１８］該腐食禁止処理剤、付着禁止処理剤及びこれらの混合物が、ホスフェート、ホスホネート、アクリルホモポリマー、アクリルコポリマー、キレート剤、オキシム、殺生物剤、及びこれらの混合物を含む、１６に記載の方法。
［１９］ハロゲンで処理された水性系と接触した金属表面の腐食を禁止する方法であって、ハロゲンで処理された水性系に、腐食禁止の目的のための有効量の５−クロロ−４−メチルベンゾトリアゾールを加えることを含む、前記の方法。
［２０］５−クロロ−４−メチル−ベンゾトリアゾールが、約０．２ｐｐｍ以上の濃度で該水性系に加えられる、１９に記載の方法。
［２１］５−クロロ−４−メチル−ベンゾトリアゾールが、約０．２ｐｐｍ〜約１０ｐｐｍの濃度で該水系に加えられる、１９に記載の方法。
［２２］ハロゲンで処理された水性系と接触した金属表面上の腐食禁止層を形成する方法であって、腐食禁止の目的ための５−クロロ−４−メチルベンゾトリアゾールの有効量をハロゲンで処理された水性系に加えることを含む、前記の方法。
［２３］５−クロロ−４−メチルベンゾトリアゾールの塩素要求を減じる目的のための有効量を水性系に加えることを含む、微生物の生長を禁止するために、塩素で処理された水性系内の塩素要求を減じる方法。
［２４］銅を含む金属表面と接触した、ハロゲンで処理された水性系中の銅イオンの輸送を禁止する方法であって、該水性系に該目的のための５−クロロ−４−メチルベンゾトリアゾールの有効量を加えることを含む、前記の方法。
［２５］ハロゲンで処理された水性系と接触した金属表面の腐食を禁止する方法であって、該ハロゲンで処理された水性系に、腐食禁止の目的のための５−クロロ−４−メチルベンゾトリアゾールの有効量を、少なくとも１種の他の水性系処理物質と組みあわせて加えることを含む、前記の方法。
［２６］該水性系処理材料が、腐食禁止処理剤、付着禁止処理剤、及びこれらの混合物を含む、２５に記載の方法。
［２７］該腐食禁止処理剤、付着禁止処理剤及びこれらの混合物が、ホスフェート、ホスホネート、アクリルホモポリマー、アクリルコポリマー、キレート剤、オキシム、殺生物剤、及びこれらの混合物を含む、２５に記載の方法。