【事件の表示】
　特願２００３−１６４３２２「基板の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年１月６日出願公開、特開２００５−１０１８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件出願は、平成１５年６月９日の特許出願であって、同１９年１０月１１日付けで拒絶の理由が通知され、同年１２月１２日に意見書とともに手続補正書が提出され、平成２１年１月２９日付けで最後の拒絶の理由が通知され、同年４月２日に意見書が提出され、平成２２年２月１５日付けで２回目の最後の拒絶の理由が通知され、同年４月１５日に意見書が提出され、同年５月２４日付けで上記２回目の最後の拒絶の理由によって拒絶をすべき旨の査定がされた。
　これに対し、平成２２年８月１８日に本件審判の請求がされるとともに手続補正書が提出され、その後、当審の同２３年４月２８日付け審尋に対して同年６月２８日に回答書が提出され、同年８月３日付けで当審から拒絶の理由が通知され、同年９月２８日に意見書とともに手続補正書が提出された。
　
第２　本件出願の発明について
１．本件出願の発明
　本件出願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成２３年９月２８日付けの手続補正により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりであると認める。
　
「研磨材、酸化剤、酸及び／又はその塩、及び水を含有してなる研磨液組成物と、少なくともベース層と発泡した表面層とを有するスエードタイプであって、該表面層の材質がポリウレタンである、平均気孔径が１〜２５μｍの表面部材を有する研磨パッドを用いるメモリーハードディスク用基板の製造方法であって、前記酸はｐＫ１が２以下である無機酸又は有機ホスホン酸を含有し、研磨液組成物の酸価が、無機酸を含有する場合、０．２〜１．８ｍｇＫＯＨ／ｇ、有機ホスホン酸を含有する場合、０．２〜７ｍｇＫＯＨ／ｇである、メモリーハードディスク用基板の製造方法。」
　
２．刊行物の記載事項及び刊行物発明
　当審で通知した平成２３年８月３日付け拒絶理由で引用した、本件出願前に頒布された刊行物である特開２００３−１５５４７１号公報（以下、「刊行物１」という。）には、以下の事項が記載されている。
　
（ア）段落【０００１】及び【０００２】
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、研磨液組成物、該研磨液組成物を用いた微小スクラッチの低減方法及び前記研磨液組成物を用いた基板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年のメモリーハードディスクドライブには、高容量・小径化が求められ記録密度を上げるために磁気ヘッドの浮上量を低下させたり、単位記録面積を小さくすることが強いられている。それに伴い、磁気ディスク用基板の製造工程においても研磨後に要求される表面品質は年々厳しくなってきており、ヘッドの低浮上に対応して、表面粗さ、微小うねり、ロールオフ、突起の低減や単位記録面積の減少に対応して許容されるスクラッチ、ピットの大きさと深さがますます小さくなってきている。」
　
（イ）段落【０００７】
「【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の研磨液組成物は、前記のように、一次粒子の平均粒径が２００ｎｍ以下である研磨材、酸化剤、ｐＫ１が２以下の酸及び／又はその塩、及び水を含有してなる。」
　
（ウ）段落【００２７】及び【００２８】
「【００２７】本発明の研磨液組成物の酸価（Ｙ）は、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である。中でも、研磨液組成物中にｐＫ１が２以下の酸として有機ホスホン酸が含有されている場合、微小スクラッチを低減する観点から、酸価（Ｙ）としては、１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、７ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が特に好ましく、３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が最も好ましい。ｐＫ１が２以下の酸として無機酸が含有されている場合、微小スクラッチを低減する観点から、５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１．８ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が特に好ましく、１．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が最も好ましい。
【００２８】また、研磨速度を向上させる観点から、酸価（Ｙ）としては、０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、…（後略）」
　
（エ）段落【００５８】
「【００５８】（研磨条件）
研磨試験機：スピードファム社製  両面９Ｂ研磨機
研磨パッド：鐘紡  Ｂｅｌａｔｒｉｘ  Ｎ００５８
定盤回転数：３５ｒ／ｍｉｎ
スラリー供給量：４０ｍｌ／ｍｉｎ
研磨時間：４分
研磨荷重：７．８ｋＰａ
投入した基板の枚数：１０枚」
　
　摘記事項（エ）に記載された「鐘紡  Ｂｅｌａｔｒｉｘ  Ｎ００５８」は、少なくともベース層と発泡した表面層とを有するスエードタイプであって、該表面層の材質がポリウレタンである研磨パッドとして用いられる商品として知られたものである。
　
　以上の摘記事項を本願発明の記載に沿って整理すると、刊行物１には次の発明（以下、「刊行物１発明」という。）が開示されていると認める。
　
「研磨材、酸化剤、酸及び／又はその塩、及び水を含有してなる研磨液組成物と、少なくともベース層と発泡した表面層とを有するスエードタイプであって、該表面層の材質がポリウレタンである研磨パッドを用いるメモリーハードディスク用基板の製造方法であって、前記酸はｐＫ１が２以下である無機酸又は有機ホスホン酸を含有し、研磨液組成物の酸価が、無機酸を含有する場合、０．２〜１．８ｍｇＫＯＨ／ｇ、有機ホスホン酸を含有する場合、０．２〜７ｍｇＫＯＨ／ｇである、メモリーハードディスク用基板の製造方法。」
　
３．対比
　本願発明と刊行物１発明とを対比すると、本願発明と刊行物１発明との一致点及び相違点は、以下のとおりである。
　
［一致点］研磨材、酸化剤、酸及び／又はその塩、及び水を含有してなる研磨液組成物と、少なくともベース層と発泡した表面層とを有するスエードタイプであって、該表面層の材質がポリウレタンである研磨パッドを用いるメモリーハードディスク用基板の製造方法であって、前記酸はｐＫ１が２以下である無機酸又は有機ホスホン酸を含有し、研磨液組成物の酸価が、無機酸を含有する場合、０．２〜１．８ｍｇＫＯＨ／ｇ、有機ホスホン酸を含有する場合、０．２〜７ｍｇＫＯＨ／ｇである、メモリーハードディスク用基板の製造方法。
　
［相違点］本願発明においては、研磨パッドが、平均気孔径が１〜２５μｍの表面部材を有するのに対し、刊行物１発明においては、そのような寸法の平均気孔径ではない点。
　
４．相違点についての検討及び判断
（ア）相違点について
　ハードディスク基板の研磨工程でスクラッチを低減するために、研磨パッドの孔径をより小さくすることは、例えば、平成２３年８月３日付け拒絶理由で例示した特開２００３−３１５６号公報（段落【０００２】を参照）に記載されているように周知の事項であるから、スクラッチの低減を目的とする刊行物１発明の研磨パッドの孔径をより小さくしようと試みることは、当業者にとって当然である。
　また、ポリウレタンの研磨パッドにおいて、平均気孔径が１５．２μｍ（０．００６”）の表面部材を有するものが知られている（例えば、市販されていたことが明らかな、「Ｐｏｌｉｔｅｘ（登録商標）　Ｓｕｐｒｅｍｅ」という商品。〈ＵＲＬ：ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｅｍｉｎｅｓｓ．ｃｏｍ／ｄｏｃｕｍｅｎｔｓ／ＰｏｌｉｔｅｘＳＰＭ３１００ＯＰＣ６３５０．ｐｄｆ〉の「ＴＹＰＩＣＡＬ　ＰＡＤ　ＰＲＯＰＥＲＴＩＥＳ」の表中「Ｐｏｌｉｔｅｘ　Ｓｕｐｒｅｍｅ　Ｈｉｇｈ　Ｎａｐ」及び「Ｐｏｌｉｔｅｘ　Ｓｕｐｒｅｍｅ　Ｒｅｇｕｌａｒ　Ｎａｐ」の「Ｍｉｃｒｏｐｏｒｏｕｓ」欄を参照すると、平均気孔径が０．００６”である。）ことから、刊行物１発明における研磨パッドとして、スクラッチを低減するために、上記「Ｐｏｌｉｔｅｘ（登録商標）　Ｓｕｐｒｅｍｅ」のような孔径がより小さいものを用いることは、本願の出願時の一般的な技術水準を超えるものではない。
　そして、研磨パッドの平均気孔径が２５μｍ以下の表面部材を有するものとすることによる有利な効果は、スクラッチ及び／又は微小うねり低減であって（本願明細書段落【００１２】）、刊行物１発明の有利な効果と同質である（２．摘記事項（ア））ところ、平均気孔径を２５μｍ以下と特定した点に臨界的意義もない。また、研磨パッドの平均気孔径が１μｍ以上の表面部材を有するものとすることによる有利な効果は、気孔で研磨液を保持し液切れを起こさないようにすることであるが（本願明細書段落【００１２】）、気孔で研磨液を保持するためにある寸法以上の平均気孔径が必要なことは、例えば、平成２３年８月３日付け拒絶理由で例示した特開２００２−８６３４３号公報（段落【００２７】）、特開２００２−２７０５５０号公報（段落【００３４】）に記載されているようにスポンジ状の研磨パッドにおいて周知の課題であるところ、平均気孔径を１μｍ以上と特定した点に臨界的意義もない。
　したがって、刊行物１発明において、研磨パッドを、平均気孔径が１〜２５μｍの表面部材を有するものとすることは、当業者が適宜設計し得たことにすぎない。
　
（イ）本願発明の作用ないし効果について
　請求人は、平成２３年９月２８日付け意見書において、研磨液組成物の酸価を、無機酸を含有する場合、０．２〜１．８ｍｇＫＯＨ／ｇ、有機ホスホン酸を含有する場合、０．２〜７ｍｇＫＯＨ／ｇとすることによって、幅広スクラッチを低減する効果が得られた点について、拒絶理由で引用した刊行物から予測できない旨を主張している。
　しかしながら、刊行物１における微小スクラッチは、請求人が平成２３年６月２９日付け回答書で認めるとおり、本件の幅広スクラッチに相当するものであるところ、刊行物１発明における研磨液組成物の酸価の特定は、微小スクラッチを低減するためのものである（２．摘記事項（ウ））から、刊行物１発明においても幅広スクラッチを低減する効果が得られることは予測できるものである。
　よって、本願発明によってもたらされる作用ないし効果も、刊行物１発明及び周知の事項から予測できる作用ないし効果以上の顕著なものではない。
　
（ウ）まとめ
　以上のとおりであるので、本願発明は、刊行物１発明及び周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５．むすび
　したがって、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、本件出願の請求項２ないし１１に係る発明について検討するまでもなく、本件出願は拒絶されるべきであるから、結論のとおり審決する。