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【手続補正書】
【提出日】平成18年4月14日(2006.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  径が５０〜５００ミクロンの円形開放大孔および径が２０ミクロン未満の円形開放小孔から成る高度に相互連結された二様式分布を有する実質的に連続的なポリマー相を有することを特徴とする生体分解性および生体適合性多孔質足場であって、前記小孔が前記大孔の壁内に規則的に直線的に配列されている足場。
【請求項２】  有孔度が９０％を超えることをさらなる特徴とする請求項１に記載の足場。
【請求項３】  比孔表面積が１０ｍ2／ｇを超えることをさらなる特徴とする請求項１に記載の足場。
【請求項４】  前記ポリマーが水に不溶であるが、水混和性溶媒に可溶であることを特徴とする請求項１に記載の足場。
【請求項５】  前記ポリマーが、生体適合性および生体分解性のポリカーボネート類、ポリアリーレート類、ポリカーボネート類とポリ（アルキレンオキサイド）類とのブロック共重合体、ポリアリーレート類とポリ（アルキレンオキサイド）類とのブロック共重合体、α−ヒドロキシカルボン酸類、ポリ（カプロラクトン）類、ポリ（ヒドロキシブチレート）類、ポリ無水物類、ポリ（オルトエステル）類、ポリエステル類およびビスフェノール−Ａに基づくポリ（ホスホエステル）類からなる群から選択されることを特徴とする請求項４に記載の足場。
【請求項６】  前記ポリマーが、特定の各種細胞または組織内部成長を促進または防止する有効量の生理活性物質を含むことを特徴とする請求項１に記載の足場。
【請求項７】  前記ポリマーが有効量の医薬活性化合物を含むことを特徴とする請求項１に記載の足場。
【請求項８】  前記足場が、肝細胞、膵臓島細胞、線維芽細胞、軟骨細胞、骨芽細胞、外分泌細胞、腸起源の細胞、胆管細胞、上皮小体細胞、甲状腺細胞、副腎−視床下部−下垂体軸の細胞、心筋細胞、腎臓上皮細胞、腎臓尿細管細胞、腎臓基底膜細胞、神経細胞、血管細胞、骨および軟骨を形成する細胞、平滑筋細胞、筋骨格細胞、眼球細胞、外皮細胞、角質細胞および幹細胞からなる群から選択される細胞を含むことを特徴とする請求項１に記載の足場。
【請求項９】  前記細胞が培養組織細胞であることを特徴とする請求項８に記載の足場。
【請求項１０】  ポリマー基質上での細胞付着、移動および増殖方法であって、生き
た細胞、生きた組織または生きた細胞を含む生体液を請求項１に記載の足場と接触させることを特徴とする方法。
【請求項１１】  生体分解性および生体適合性多孔質ポリマー足場の製造方法であって、
０．５〜２５重量％の生体適合性ポリマーをそのポリマーが可溶である第１の溶媒とそのポリマーが不溶である第２の溶媒との混和性溶媒混合液に溶かす工程であって、前記第２の溶媒に対する前記第１の溶媒の比が、前記ポリマーが溶解して均一溶液を形成する範囲にあり、第１の溶媒が−４０℃〜２０℃の範囲の融点を有する工程；
前記ポリマー溶液を、有機溶媒に不溶であって５０〜５００ミクロンの径を有する水溶性で無毒性の粒子の入った型に入れる工程；
前記溶液を、前記第１および第２の溶媒の液−液脱混合開始前に前記第１の溶媒の結晶化を生じさせるのに効果的な速度で急冷する工程；
前記ポリマーを昇華して前記第１及び第２の溶媒を除去する工程；
前記粒子が可溶であり前記ポリマーが不溶である溶媒で前記ポリマーを浸出して、前記粒子を前記ポリマーから除去する工程；ならびに
前記ポリマーを乾燥する工程
から成ることを特徴とする方法。
【請求項１２】  前記溶媒全量に対する前記第１の溶媒の比が１体積％〜４０体積％であることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  前記第１の溶媒が１，４−ジオキサンであり、前記第２の溶媒が水であることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】  前記ポリマーが、生体適合性および生体分解性のポリカーボネート類、ポリアリーレート類、ポリカーボネート類とポリ（アルキレンオキサイド）類とのブロック共重合体、ポリアリーレート類とポリ（アルキレンオキサイド）類とのブロック共重合体、α−ヒドロキシカルボン酸類、ポリ（カプロラクトン）類、ポリ（ヒドロキシブチレート）類、ポリ無水物類、ポリ（オルトエステル）類、ポリエステル類およびビスフェノール−Ａに基づくポリ（ホスホエステル）類からなる群から選択されることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】  前記粒子が、アルカリ金属およびアルカリ土類金属ハロゲン化物、リン酸塩および硫酸塩、砂糖結晶、水溶液ポリマーミクロスフィア、並びにタンパク質ミクロスフィアからなる群から選択されることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】  前記粒子が塩化ナトリウム結晶であることを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】  前記急冷工程が、液体窒素中への前記溶液の浸漬を含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１８】  前記ポリマーを水で浸出することを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１９】  請求項１１の方法によって製造されるポリマー性組織足場。
【請求項２０】  前記ポリマーが、特定の種類の細胞組織内部成長を促進または防止する有効量の生理活性物質を含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項２１】  前記ポリマーが、有効量の医薬活性化合物を含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項２２】  ポリマー基質上での細胞付着、移動および増殖方法であって、生きた細胞、生きた組織または生きた細胞を含む生体液を請求項２０に記載の方法で製造された足場と接触させることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月18日(2006.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  オゾンを用いて患部を治療するための装置において、
オゾン／酸素混合気を導入するための吸気口（４）とオゾン／酸素混合気を排出するための排気口（５）とを有する、前記患部を受け入れるための治療室（３）と、
前記治療室（３）を気密密封するための密封手段（７、８）と、
前記治療室（３）の吸気口（４）に接続されているオゾン／酸素供給源と、
前記治療室（３）の排気口（５）に接続されている吸引ポンプ（１５）と、
前記治療室（３）から大気中へのオゾン漏れを防ぎ、密封状態の示度を提供するために、前記オゾン／酸素供給源と前記吸引ポンプ（１５）とを、前記治療室（３）内に負圧を作り出すように制御するための制御システムと、を有し、
前記制御システムは、作動の静止モードを生成するための手段であることを特徴とする装置。
【請求項２】  前記オゾン／酸素供給源は、酸素源（１０）と、酸素を受け入れて酸素からオゾンを発生させるために前記酸素源（１０）に接続されているオゾン発生器（１２）と、前記オゾン発生器（１２）の排出口を前記治療室（３）の吸気口（４）に接続する接続管（１３）と、前記オゾン発生器（１２）を迂回し、前記酸素源（１０）を直接前記接続管（１３）に接続するバイパス管（１８）とを含んでおり、
前記制御システムは、前記酸素源（１０）からの酸素を、前記オゾン発生器（１２）への吸気口か、又は前記バイパス管（１８）を通って前記オゾン発生器（１２）からの排出口かの何れかへ選択的に送るように、コントローラー（２０）により制御されるバルブ（Ｖ1）を更に含み、
前記オゾン／酸素供給源は、前記接続管（１３）に接続され、前記治療室（３）を迂回する第２バイパス管（１９）を更に含み、
前記制御システムは、オゾン／酸素混合気を前記治療室（３）の吸気口（４）か、又は排気口（５）か何れかへ選択的に送るように、前記コントローラー（２０）により制御される第二バルブ（Ｖ2）を更に含んでいることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】  前記治療室（３）が、前記オゾン用の吸気口（４）及び排気口（５）と、治療すべき患部を前記治療室（３）へ導入するための開口部（６）とが設けられた、前記治療室（３）を画定するための中空構造の空気不透過性ハウジング（２）と、
一方の端部が前記開口部（６）に沿っており、反対側の端部が前記ハウジング内の治療室から外向きに伸びている、柔軟性のある空気不透過性スリーブ（９）と、前記柔軟性のあるスリーブ（９）の前記一方の端部を前記ハウジング（２）に締め付けるクランピングリング（８）と、を備え、
前記クランピングリング（８）は、円錐形であり、柔軟性のあるスリーブの一方の端部が前記円錐形リングと前記ハウジングの円錐形部分との間に挟まれるように、ハウジングの相補的円錐形部分に摩擦嵌合するようになっていることを特徴とする請求項１又は２に記載の装置。
【請求項４】  前記オゾン／酸素供給源を制御する制御システムが、前記治療室（３）から大気中へのオゾン漏れを防ぎ、密封状態の示度を提供するために、前記治療室（３）内に負圧を作り出す吸引ポンプ（１５）であり、
前記制御システムが、前記治療室（３）に導入される補給オゾンの量を測定するようにプログラムされているコントローラー（２０）を含んでいることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の装置。
【請求項５】  前記制御システムが、前記治療室（３）からの圧力を排気口（５）で感知し、それに応じて別の制御信号を前記コントローラー（２０）へ入力する圧力センサー（２１）を含むことを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の装置。
【請求項６】  前記制御システムが、前記治療室（３）の排気口（５）でオゾンを感知し、それに応じて別の制御信号を前記コントローラー（２０）へ入力するオゾンモニタ（１６）を更に含むことを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の装置。
【請求項７】  前記治療室（３）の吸入口（４）及び排気口（５）での圧力差を計算する圧力差メモリコンパレータ（２２）を含むことを特徴とする請求項５に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月8日(2006.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ＭＥＦ２の発現を減少させるか、またはＭＥＦ２に結合してＭＥＦ２を不活化するＭＥＦ２機能の阻害剤である第１物質を含んでなる心筋細胞肥大の治療の治療薬であって、
前記ＭＥＦ２の発現を減少させるＭＥＦ２機能の阻害剤が、ＭＥＦ２  ｍＲＮＡの一部に相補的なポリヌクレオチド分子、またはそれに対応するＤＮＡ、または対応リボザイムであり、
前記不活性ＭＥＦ２に結合してＭＥＦ２を不活化するＭＥＦ２機能の阻害剤が、ＭＥＦ２上の活性部位または結合部位をブロックする抗体、またはＭＥＦ２標的に立体的に類似することによってＭＥＦ２標的を模倣する分子である、心筋細胞肥大の治療薬。
【請求項２】  前記ポリヌクレオチド分子が、前記ｍＲＮＡ開始部位に相補的な領域を含む請求項１に記載の心筋細胞肥大の治療薬。
【請求項３】  前記ＭＥＦ２に結合してＭＥＦ２を不活性化させる抗体が、一本鎖抗体である請求項１に記載の心筋細胞肥大の治療薬。
【請求項４】  前記第１物質が、ＭＥＦ２によってアップレギュレーションされた遺伝子のアップレギュレーションを阻害する第２物質の投与のために処方され、前記第２物質が、ＭＥＦ２によってアップレギュレーションされた前記遺伝子に相補的なアンチセンス構築物である請求項１に記載の心筋細胞肥大の治療薬。
【請求項５】  前記ＭＥＦ２標的に立体的に類似し、該ＭＥＦ２標的を模倣する前記分子が、小分子阻害剤である請求項１に記載の心筋細胞肥大の治療薬。
【請求項６】  前記抗体が、モノクローナル抗体である請求項１に記載の心筋細胞肥大の治療薬。
【請求項７】  トランスジェニック非ヒト哺乳動物であって、その細胞が転写制御因子の調節下にある指標遺伝子を含み、前記転写制御因子が、ＭＥＦ２部位を含み、前記指標遺伝子が、（ａ）発生中の心筋細胞、骨格筋細胞および平滑筋細胞に胚形成の間に発現され、（ｂ）これらの細胞には出生後発現されず、（ｃ）肥大シグナルに応答して心臓組織に出生後発現される、トランスジェニック非ヒト哺乳動物。
【請求項８】  前記哺乳動物が、マウスである請求項７に記載のトランスジェニック哺乳動物。
【請求項９】  前記指標遺伝子が、ｌａｃＺ、緑色蛍光タンパク質をコードする遺伝子、およびルシフェラーゼをコードする遺伝子からなる群から選択される請求項７に記載のトランスジェニック哺乳動物。
【請求項１０】  前記転写制御因子が、ＭＥＦ２の３つのタンデムリピートである請求項７に記載のトランスジェニック哺乳動物。
【請求項１１】  ＭＥＦ２部位を含む転写制御因子の調節下にある指標遺伝子を含む心筋細胞を得るステップであって、前記指標遺伝子が、（ｉ）発生中の心筋細胞、骨格筋細胞および平滑筋細胞に胚形成の間に発現され、（ｉｉ）これらの細胞には出生後発現されず、（ｉｉｉ）肥大シグナルに応答して心臓組織に出生後発現される、心筋細胞を得るステップと、
前記細胞と候補活性調節因子とを接触させるステップと、
前記候補活性調節因子で処理していない細胞と比較して、前記指標遺伝子発現について前記細胞をモニタリングするステップと
を含む心肥大の活性調節因子をスクリーニングするためのインビトロ方法。
【請求項１２】  前記細胞が、心筋細胞株由来である請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  前記細胞が、初代心筋細胞由来である請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】  前記細胞が、トランスジェニック非ヒト哺乳動物から由来される請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】  前記候補調節因子が、アンチセンス構築物である請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】  前記候補調節因子が、小分子ライブラリー由来である請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】  前記候補調節因子が、抗体である請求項１１に記載の方法。
【請求項１８】  前記抗体が、一本鎖抗体である請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】  心肥大の発症に関する遺伝子の識別方法であって、
ＭＥＦ２ノックアウト細胞を得るステップと、
前記細胞を、同型の非ノックアウト細胞において心肥大を引き起こす条件に供するステップと、
前記ＭＥＦ２ノックアウト細胞中の遺伝子発現と非ノックアウト細胞における遺伝子発現とを比較するステップと、
特異的に発現した遺伝子を識別するステップと
を含み、
前記特異的に発現した遺伝子が、心肥大を促進するのに関与するものとして識別されることを特徴とする識別方法。
【請求項２０】  前記特異的に発現した遺伝子と、前記心肥大を引き起こす条件の非存在下における非ノックアウト細胞によって発現された遺伝子とを比較するステップをさらに含む請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】  前記比較するステップが、サブトラクションハイブリッド形成を含む請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】  前記比較するステップが、ＰＣＲ媒介ディファレンシャルディスプレイを含む請求項１９に記載の方法。
【請求項２３】  活性転写因子の転写活性化ドメインに融合させたＭＥＦ２を含む転写活性ＭＥＦ２ポリペプチド。
【請求項２４】  前記活性転写因子が、ＶＰ１６である請求項２３に記載のポリペプチド。
【請求項２５】  （ａ）ＭＥＦ２と（ｂ）活性転写因子の転写活性ドメインとの融合体を含む、転写活性ＭＥＦ２分子をコードするポリヌクレオチド。
【請求項２６】  前記活性転写因子がＶＰ１６である請求項２５に記載のポリヌクレオチド。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
［ｂ．ＭＥＦ２のブロッキング機能］
もう１つの具体例においては、その発現を阻害するよりもむしろＭＥＦ２ポリペプチドの機能をブロックするのが望ましいであろう。これは、ＭＥＦ２の機能と干渉する有機化学組成物の使用によって、ＭＥＦ２上の活性部位または結合部位をブロックする抗体の使用によって、またはＭＥＦ２標的を模倣する分子の使用によって達成することができる。有機化学的な阻害剤に関しては、そのような化合物は標準的なスクリーニングアッセイで識別することができる。いったん識別されれば、そのような阻害剤は治療の意味でＭＥＦ２機能を阻害することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月31日(2006.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  コンピュータ符号がプリロードされたメモリ型のＩＣカードから、コンピュータ符号をロードする装置であって、
従来のＩＣカードと前記メモリ・カードとを識別することができるカード・インタフェースであって、前記カード・インタフェースは、第１の標準に従ってデータを伝送する第１のデータ・ポートと、第２の標準に従ってデータを伝送する第２のデータ・ポートとを有するコネクタを備える、前記カード・インタフェースと、
前記装置によって実行されるコンピュータ符号を記憶するメモリと、
前記カード・インタフェースと前記メモリに結合され、前記カードがメモリ・カードの場合は、前記メモリへの前記第２のデータ・ポートを経由して、前記メモリ・カードから前記コンピュータ符号を読み取り、それによって、前記メモリに記憶されているコンピュータ符号を更新し、前記装置の機能動作の変更を有効にする、マイクロコントローラと、
から成る、前記コンピュータ符号をロードする装置。
【請求項２】  コンピュータ制御装置内のコンピュータ符号をロードする方法であって、
第１の標準に従ってデータを伝送する第１のデータ・ポートと、第２の標準に従ってデータを伝送する第２のデータ・ポートとを有するコネクタを備える、スマート・カード・インタフェースに、スマート・カードを受容するステップと、
前記スマート・カードがプリロードされたコンピュータ符号とメモリ・コントローラを含むメモリ・カードか、従来のＩＣカードかを識別するステップと、
前記カードがメモリ・カードの場合は、前記メモリの前記第２のデータ・ポートを経由して、前記メモリ・カードの前記コンピュータ符号を前記コンピュータ制御装置に伝送し、前記伝送されたコンピュータ符号がメモリに記憶され、前記コンピュータ制御装置の機能の変更を有効にするステップと、
から成る、前記方法。
【請求項３】  前記識別するステップが更に、
第１の信号を前記メモリ・カードに印加するステップと、
前記第１の信号に応答して前記メモリ・カードで発生される第２の信号を分析して、前記スマート・カードがメモリ・カードであるかどうかを決定するステップと、を含む、請求項２記載の方法。
【請求項４】  前記有効にするステップが更に、ＮＲＳＳインタフェースを起動するステップを含む、請求項３記載の方法。
【請求項５】  前記コンピュータ符号のヘッダを分析して、前記コンピュータ符号の有効性を決定する、請求項４記載の方法。
【請求項６】  前記方法が更に、
リセット信号をトグルするステップと、
前記トグルされたリセット信号に応答して、クロック入力端子に生じる前記第１の信号をモニタするステップと、
を含む、請求項５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月4日(2006.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  光導波路コアを介して伝送される光信号の偏光を制御するための方法であって、
前記光導波路コアを平面構造内に埋め込むステップと、
複数の応力付加フィルムを、前記導波路コアに垂直な表面に対して非対称的な態様で前記構造の表面上に配置するステップと、
前記応力付加フィルムから発生する応力を可変に制御して、前記導波路コアを介して伝送される光信号の偏光状態の変換を制御するステップとを含む、方法。
【請求項２】  前記非対称的な態様は、可変複屈折導波路セグメントの各々の主軸の間に明確に角度がつけられるように前記応力付加フィルムを配置することを含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記応力付加フィルムは、下の構造のものとは異なった熱膨張係数を有する材料を含むことを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の方法。
【請求項４】  前記応力付加フィルムは、圧電材料を含むことを特徴とする、請求項１から請求項３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】  前記応力付加フィルムは、クロム接着層上に堆積された電気的抵抗を有する金層を含むことを特徴とする、請求項１から請求項３のいずれかに記載の方法。
【請求項６】  前記応力付加フィルムは、アモルファスシリコン層上の電気的抵抗を有する金属層を含むことを特徴とする、請求項１から請求項３のいずれかに記載の方法。
【請求項７】  前記フィルムは、各々が導波路複屈折を制御するための別々の要素を構成する群で配置されることを特徴とする、請求項１から請求項６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】  平面構造内に埋め込まれた光導波路コアを有する偏光コントローラを含む光学素子であって、
複数の応力付加フィルムが、前記導波路コアに垂直な表面に対して非対称的な態様で前記構造の表面上に配置され、
前記複数の応力付加フィルムのうちの少なくとも１つが、前記応力付加フィルムのうちの少なくとも１つに与えられる制御信号に応答して前記応力付加フィルムから発生する応力を可変に制御して、前記導波路コアを介して伝送される光信号の偏光状態の変換を制御するように適合される、光学素子。
【請求項９】  上にガラスのバッファ層が堆積される基板をさらに含み、
前記ガラス層はその頂部に、堆積−エッチングプロセスによって生成される埋め込み導波路コアを備えたガラスの頂部クラッディングを有し、
前記ガラスの頂部クラッディングはその頂部にいくつかの応力付加フィルムを有する、請求項８に記載の光学素子。
【請求項１０】  中に埋め込み導波路コアがイオン交換法によって生成される基板をさらに含み、
前記基板はその頂部にいくつかの応力付加フィルムを有する、請求項８に記載の光学素子。
【請求項１１】  上に積層ガラス構造が堆積される基板をさらに含み、前記基板内には埋め込み導波路コアが直接ＵＶ書込みによって生成され、
前記積層ガラス構造は頂部にいくつかの応力付加フィルムを有する、請求項８に記載の光学素子。
【請求項１２】  上にポリマー導波路構造が生成される基板をさらに含み、
前記ポリマー導波路構造はその頂部にいくつかの応力付加フィルムを有する、請求項８に記載の光学素子。
【請求項１３】  無視できる固有の導波路複屈折を備える導波路構造を含む、請求項８に記載の光学素子。
【請求項１４】  請求項１から請求項７のいずれかに記載の方法によって得られる偏光コントローラを含む、光学素子。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月11日(2006.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  埋め込み封入レンズ型ビーズ含有シート材料、カプセル封入レンズ型ビーズ含有シート材料、埋め込み封入レンズ型キューブコーナーシート材料、カプセル封入レンズ型キューブコーナーシート材料、およびこれらの組合せから成る群から選択される、第１表面および第２表面を有する封入レンズ型再帰反射シート材料であって、乾燥条件下で、前記シート材料が、擬似３０ｍ観察幾何学的形状においてＡＳＴＭ  Ｄ  ４０６１−９４により測定して約４０（ミリカンデラ毎平方メートル）／ルクス［（ｍｃｄ／ｍ2）／ｌｕｘ］の再帰反射輝度係数を示し、動的湿潤条件下で、前記シート材料が再帰反射輝度係数の増加を示す封入レンズ型反射シート材料と、
前記再帰反射シート材料の前記第１表面上に配置された光透過性結合層と、
前記結合層中に部分的に埋め込まれた複数の再帰反射素子であって、不透明ガラスコア中に部分的に埋め込まれたセラミック光学素子を含む再帰反射素子と、
を含み、
前記セラミック光学素子が、非晶性相、結晶性相およびこれらの組合せを含み、そして前記不透明ガラスが、約１．９〜約２．７の屈折率を有する不透明剤を含む、再帰反射物品。
【請求項２】  前記再帰反射素子の光学素子、結合層、前記埋め込み封入レンズ型ビーズ含有再帰反射シートのバインダー層、及び、前記埋め込み封入レンズ型ビーズ含有再帰反射シートのスペース層から成る群から選択される少なくとも１つの構成要素に光透過性着色剤をさらに含む、請求項１記載の物品。
【請求項３】  適合層、スクリム層および接着剤層の少なくとも１つを前記再帰反射シート材料の前記第２表面にさらに備える、請求項１記載の物品。
【請求項４】  前記再帰反射素子はコアを包囲する再帰反射複合体を含み、前記再帰反射複合体はセラミック光学素子、ガラス光学素子又はこれらの組合せからなる群より選ばれるビーズを含む、請求項１記載の物品。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月6日(2006.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  複数の面を有して、構造化表面に配設される幾何学的構造であって、前記複数の面の少なくとも１つが、機械加工部分と非機械加工部分とを具備する複合面である、幾何学的構造。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月23日(2006.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも１つのサイトカインに結合し、かつ単一のサイトカイン受容体を介してサイトカインシグナルを変換することができるサイトカイン結合ドメインまたはその部分であって、
前記ドメインは、サイトカイン受容体のβc鎖のドメイン４のＢ’−Ｃ’ループの部分またはその類似構造物からなる、サイトカイン結合ドメインまたはその部分。
【請求項２】  ドメイン４のＢ’−Ｃ’ループの部分およびＢ’−Ｃ’、Ｆ’−Ｇ’ループおよびドメイン４のＮ末端部によって画定される溝からなる、請求項１に記載のサイトカイン結合ドメイン。
【請求項３】  サイトカインの高アフィニティ結合を可能にするため、α鎖サブユニットまたはβc鎖サブユニットのドメイン３と相互作用することができるチロシン残基をさらに含む、請求項１または２に記載のサイトカイン結合ドメイン。
【請求項４】  前記チロシンは、Ｔｙｒ４２１または類似の共通シグナル発生構造の等価な残基である、請求項３に記載のサイトカイン結合ドメイン。
【請求項５】  前記ドメイン４のＢ’−Ｃ’ループは、タイプＩβ−ターンを形成する残基３６５〜３６８からなるか、または類似の共通シグナル発生構造における類似の構造物からなる、請求項１〜４のいずれか１項に記載のサイトカイン結合ドメイン。
【請求項６】  少なくとも１つのサイトカインに結合する前記βcの結合ドメインまたはその部分は、Ｌｙｓ３６２、Ｔｙｒ３６５、Ｈｉｓ３６７、Ｉｌｅ３６８、Ａｒｇ４１８、Ｇｌｙ４２０、Ａｓｎ４２２、Ｔｈｒ４１６、Ｉｌｅ３３８、Ｇｌｎ３３９、Ｍｅｔ３４０およびＭｅｔ３６１を含む残基の任意の１つまたはサイトカイン受容体の類似する共通シグナル発生構造における等価な残基によって区切られる領域によって画定される、請求項１〜５のいずれか１項に記載のサイトカイン結合ドメイン。
【請求項７】  前記ドメイン４のＢ’−Ｃ’ループは、Ｔｙｒ３６５、Ｉｌｅ３６８およびＨｉｓ３６７を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載のサイトカイン結合ドメイン。
【請求項８】  ＩＬ−３、ＩＬ−５およびＧＭ−ＣＳＦ、またはＩＬ−４およびＩＬ−１３を含む群から選択される少なくとも２つのサイトカインに結合するものである、請求項１〜７のいずれか１項に記載のサイトカイン結合ドメイン。
【請求項９】  前記共通βc鎖またはサイトカイン受容体の類似構造物は、ＧＭ−ＣＳＦ、ＩＬ−３およびＩＬ−５受容体、共通ＩＬ−２受容体γ鎖（ＩＬ−２、ＩＬ−４、
ＩＬ−７、ＩＬ−９およびＩＬ−１５受容体によって共有される）およびｇｐ１３０（ＩＬ−６、ＩＬ−１１、ＬＩＦ、毛様体神経栄養因子、オンコスタチンＭおよびカルジオトロフィン受容体によって共有される）の任意の１つから得られるものであるか、ＬＩＦＲ、ｇｐ１３０、ＩＬ−２Ｒβ、ＩＬ−４Ｒ／ＩＬ−１３Ｒ、ＩＬ−２Ｒγ、ＩＬ−３Ｒα、ＥＰＯＲ、ＴＰＯＲおよびＯＢＲよりなる群を含むサイトカインスーパーファミリー受容体の任意の１つから得られるか、または、成長ホルモン受容体（ＧＨＲ）、プロラクチン受容体（ＰＲＬＲ）、エリトロポエチン受容体（ＥＰＯＲ）、Ｇ−ＣＳＦ受容体（Ｇ−ＣＳＦＲ）およびｇｐ１３０を含む群から選択される関連する（クラス１）サイトカイン受容体構造から選択されるものである、請求項１〜８のいずれか１項に記載のサイトカイン結合ドメイン。
【請求項１０】  前記共通βc鎖は、ＩＬ−５、ＩＬ−３またはＧＭ−ＣＳＦ受容体から得られるものである、請求項９に記載のサイトカイン結合ドメイン。
【請求項１１】  前記Ｆ’−Ｇ’ループは、ドメイン４においてその先端にタイプＩＶβターンをとり、かつ残基Ａｒｇ４１８およびＴｙｒ４２１を含むものである、請求項２〜１０のいずれか１項に記載のサイトカイン結合ドメイン。
【請求項１２】  サイトカインアゴニスト活性またはサイトカインアンタゴニスト活性を有する化合物を識別する方法であって、
サイトカインアゴニストおよび／またはサイトカインアンタゴニストとして可能性のある化合物を、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のサイトカイン結合ドメインまたはその部分に供すること、および
前記化合物のサイトカイン活性に対するアゴニスト反応またはアンタゴニスト反応の存在を測定すること
を含む、方法。
【請求項１３】  サイトカインアンタゴニスト活性を有する化合物を識別する方法であって、
可能性のあるサイトカインアンタゴニストを、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のサイトカイン結合ドメインまたはその部分に供すること、および
前記サイトカイン結合ドメインに結合した化合物を同定すること（そこにおいて、前記化合物はサイトカインの活性に対してアンタゴニスト反応を有するものである）
を含む、方法。
【請求項１４】  前記サイトカインは、ＩＬ−３、ＩＬ−５およびＧＭ−ＣＳＦまたはＩＬ−４およびＩＬ−１３を含む群から選択されるものであり、アゴニストまたはアンタゴニストの存在は、ＩＬ−３、ＩＬ−５またはＧＭ−ＣＳＦ、ＩＬ−４、ＩＬ−１３反応を活性化するか阻害するアゴニストまたはアンタゴニストの能力によって測定される、請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】  前記サイトカインアゴニストまたはアンタゴニストは、Ｔｙｒ４２１またはサイトカイン受容体の共通シグナル発生ユニットの等価な残基にさらに結合する、請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】  請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の方法によって識別されるサイトカインアゴニストまたはアンタゴニスト。
【請求項１７】  請求項１〜１１のいずれか１項に記載のサイトカイン結合ドメインに対する抗体またはそのフラグメント。
【請求項１８】  Ｇｌｎ３４０、Ｉｌｅ３３８およびＭｅｔ３６１を含む群より選択される残基の任意の１つまたはサイトカイン受容体の共通シグナル発生ユニットの等価な残基に対して突然変異が誘導されている、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の突然変異サイトカイン結合ドメイン。
【請求項１９】  請求項１６または１７に記載の抗体、アゴニストまたはアンタゴニストの有効量を含む、サイトカイン関連疾患を予防または治療するための薬剤。
【請求項２０】  前記サイトカイン関連疾患が、好酸球の機能の残存または活性化、喘息、白血病、乳癌、前立腺癌、小細胞肺癌、大腸癌、慢性関節リウマチを含む慢性の炎
症、免疫抑制、アレルギー、リンパ腫、および悪液質を含む群から選択されるものであり、請求項１６または１７に記載のアンタゴニストまたは抗体を投与することを含む、請求項１９に記載の薬剤。
【請求項２１】  前記サイトカイン関連疾患は、アレルギー性炎症であり、かつ前記アンタゴニストは、ＩＬ−５、ＩＬ−３またはＧＭ−ＣＳＦのいずれか１つのＩＬ−５、ＩＬ−３またはＧＭ−ＣＳＦ受容体への結合を阻害するものである、請求項１９または２０に記載の薬剤。
【請求項２２】  前記アレルギー性炎症は喘息をもたらすものである、請求項２１に記載の薬剤。
【請求項２３】  前記サイトカイン関連疾患は、造血、免疫応答の促進、胚幹細胞分化の抑制、免疫刺激、抗腫瘍活性、初期造血細胞の増殖、貧血、血小板減少症の矯正を含む群から選択されるものであり、請求項１６に記載のアゴニストを含む、請求項１９に記載の薬剤。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月14日(2006.8.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも2つの独立した組成物を包含するスキン・トリートメント剤であって、上記組成物が以下の：
少なくとも約0.1％の抗菌活性な脂肪族のフェノール誘導体を包含する第1の洗浄剤；及び
アルコールを包含するリンス剤；
を含み、ここで上記第1の洗浄剤と上記リンス剤はスタフィロコッカス・アウレウスATCC6538、エッシェリシア・コリATCC11229、又はメチシリン耐性スタフィロコッカス・アウレウスHL121の少なくとも2種類に対して最低阻害濃度又は最低殺菌濃度に相乗的な低下をもたらす、上記スキン・トリートメント剤。
【請求項２】  上記抗菌活性な脂肪族のフェノール誘導体がトリクロサン、p-クロロキシレノール、又はトリクロカーボンを包含する、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】  上記第1の洗浄剤が0.2％又は1％のトリクロサンを包含する、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】  上記アルコールが1〜4つの炭素原子を含む、請求項３に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月1日(2005.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インターフェロンポリペプチドおよびスルホアルキルエーテルシクロデキストリン誘導体を含有する安定化組成物。
【請求項２】
インターフェロンポリペプチドが非ポリペプチド部分によって誘導体化されている、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
インターフェロンポリペプチドがグリコシル化および／またはPEG化されている、請求項２記載の組成物。
【請求項４】
インターフェロンポリペプチドが野生型ヒトインターフェロンベータである、請求項１から３のいずれか記載の組成物。
【請求項５】
インターフェロンポリペプチドが、グリコシル化部位が少なくとも一つ導入されている点でアミノ酸配列が野生型ヒトインターフェロンベータのものと相違するインターフェロンベータポリペプチドを含み、さらに導入されているグリコシル化部位に連結した糖部分を少なくとも一つ含む結合体である、請求項２または３記載の組成物。
【請求項６】
導入グリコシル化部位の少なくとも一つが以下より選択される位置におけるN-グリコシル化部位である、請求項５記載の組成物：
S2N+N4S/T、L6S/T、L5N+G7S/T、F8N+Q10S/T、L9N+R11S/T、R11N、R11N+S13T、S12N+N14S/T、F15N+C17S/T、Q16N+Q18S/T、Q18N+L20S/T、K19N+L21S/T、W22N+L24S/T、Q23N+H25S/T、G26N+L28S/T、R27N+E29S/T、L28S+Y30S/T、Y30N+L32S/T、L32N+D34S/T、K33N+R35S/T、R35N+N37S/T、M36N+F38S/T、D39S/T、D39N+P41S/T、E42N+I44S/T、Q43N+K45S/T、K45N+L47S/T、Q46N+Q48S/T、L47N+Q49T/S、Q48N+F50S/T、Q49N+Q51S/T、Q51N+E53S/T、K52N+D54S/T、L57N+I59S/T、Q64N+I66S/T、A68N+F70S/T、R71N+D73S/T、Q72N、Q72N+S74T、D73N、D73N+S75T、S75N+T77S、S75N、S76N+G78S/T、E81N+I83S/T、T82N+V84S/T、 E85N+L87S/T、L88S/T、A89N+V91S/T、Y92S/T、Y92N+Q94S/T、H93N+I95S/T、L98S/T、H97N+K99S/T、K99N+V101S/T、T100N+L102S/T、E103N+K105S/T、E104N+L106S/T、K105N+E107S/T、E107N+E109S/T、K108N+D110S/T、E109N+F111S/T、D110N+T112S、D110N、F111N+R113S/T、R113N+K115S/T、G114N+L116S/T、K115N+M117S/T、L116N、L116N+S118T、S119N+H212S/T、L120N+L122S/T、H121N+K123S/T、K123N+Y125S/T、R124N+Y126S/T、G127N+I129S/T、R128N+L130S/T、L130N+Y132S/T、 H131N+L133S/T、K134N+K136S/T、A135N+E137S/T、K136N+Y138S/T、E137N、Y138N+H140S/T、H140N+A142S/T、V148N+I150S/T、R152N+F154S/T、Y155N+I157S/T、L160S/T、R159N+T161S、R159N、G162N+L164S/T、および Y163N+R165S/T（ここに、置換は配列番号：１に示される野生型ヒトインターフェロンベータのアミノ酸配列に対して示す）。
【請求項７】
インターフェロンポリペプチドが、配列番号：１に示される野生型ヒトインターフェロンベータのアミノ酸配列に対して示された置換、C17S突然変異をさらに含有するインターフェロンベータポリペプチドである、請求項１から６のいずれか記載の組成物。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成18年8月3日(2006.8.3)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００３】
したがって、本発明の目的は、液密な弁胴を提供することであり、より詳しくは、バルブハウジング内で弁胴がその閉鎖位置および／またはその少し手前にあるときには弁胴の部品が完全にシールされ、同時に、弁が閉鎖位置ではないところで作動しているときにはガスケットに生じる摩耗を可能な限り小さくする、完全なバルブパッケージからなる液密な平衡型弁胴を提供することである。本発明の特徴は、特許請求の範囲に記載される。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
図１から、さらに詳細に表されるように、第一の態様に従うと、バルブ２に備えられたバルブハウジング３内に嵌込することを意図された本発明による弁胴１が示される。バルブ２内で、前記弁胴１は、バルブハウジング３、または、バルブハウジング内の適宜の位置に配置されたケージ５との協働により液密性を確実にするために、少なくとも一つのガスケット４を有し、スピンドル６によって、バルブ２の中にある弁座７に対して同軸に往復動可能である。図１に示された態様による弁胴１は、前記のとおり、バルブ２中のスピンドル６により動かされ、かつバルブコーン８を囲繞し、そして圧力部材９’としての役割を有するスリーブ９を備えるバルブコーン８により構成される。そしてスリーブ９は、凹陥部１０(recess)に着脱可能に装着され、この態様において、凹陥部は、弁座７と協働するために、バルブコーン８の自由端１１に近い位置まで延在する。バルブコーン８の反対端１２において、スリーブ９は、溝１３に設けられた固定部材１４により、凹陥部１０に保持される。該固定部材１４とスリーブ９にある接触後部１５との間にガスケット４が配置され、前記ガスケット４は、バルブコーン８の外周面を囲繞するように延在する。例示されるように、固定部材１４が分割リングにより構成される場合に形成されることのある隙間にガスケット４が入り込んでしまうのを防止するために、ガスケット４と固定部材１４との間に平板ガスケット２５が配置される。スリーブ９とバルブコーン８との間での回転を防止するために、回転ピン２６がある。バルブコーン８上のスリーブ９の機能は、弁胴１がその閉鎖位置および／またその少し手前にあるときに起こる、スリーブ９のガスケット４の方向への移動に際して、ガスケット４を圧縮することである。この圧縮によって、ガスケット４は、スリーブ９、場合によっては平板ガスケット２５を備える固定部材１４、バルブコーン８およびバルブハウジング壁により定義される領域内で拡張する。結果的に、ガスケット４は、それを取り囲む面全体に強力な表面圧力を発生する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
図３において、本発明における弁胴１の他の態様が示され、その態様においては、スリーブ９の前部分２０は、弁胴の前端１１を囲い、そして弁胴１の前部自由端１１の中央部から突き出るピン２１の軸方向に軸承(journalled)される。この例において、スリーブ９は、前記態様のように、バルブコーン８の自由端１１のわずかに手前で終端する代わりに、キャップ状（a hat）に通常、設計される。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
最後に、図４において、本発明における弁胴１のさらなる態様が示され、その態様においては、通常、バルブコーン８全体は、軸方向に移動可能な圧力部材として設計され、そしてスピンドル６に固定されると共にフランジを備えたスリーブ２２内の所定位置に変位可能に取り付けられる。そしてスリーブ２２は、ガスケット４用の周縁肩部２３を形成し、ガスケット４は、この不動な肩部(this stationary shoulder)２３と圧力部材９’にある可動肩部(a movable shoulder)２４との間に配置され、その間で、ガスケット４は、半径方向に膨脹するために圧縮可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月10日(2005.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】少なくとも部分的にキャビティを画成するハウジング（１１０）と、
前記キャビティ内に設けたセンサ要素（１０５）と、
前記キャビティ上方にして少なくともハウジングの一部分の上方に配置され、かつキャビティ上方に孔を有する支持部材（３４０）と、
前記支持部材の上方にして該支持部材の前記孔の上方に配置したフィルタ（３４５）とを備え、
前記ハウジングは、支持部材をキャビティの上方に支持するリム（１２０）を更に備え、前記リムは、表面（１２１）と、該表面から延びる複数の突起（１２２）とを備え、
前記複数の突起（１２２）は前記支持部材を前記リムの前記表面上に支持する、
構成部品。
【請求項２】少なくとも部分的にキャビティを画成するハウジング（１１０）と、
前記キャビティ内に設けたセンサ要素（１０５）と、
前記キャビティ上方にして少なくともハウジングの一部分の上方に配置され、かつキャビティ上方に孔を有する支持部材（３４０）と、
前記支持部材の上方にして該支持部材の前記孔の上方に配置したフィルタ（３４５）と、
前記支持部材をリムに接着する接着剤（１３５）とを備え、
前記接着剤は支持部材とハウジングとの間を連続的にシールし、
前記ハウジングはリム（１２０）を備え、前記リムは、表面（１２１）と、該表面から延びる複数の突起（１２２）とを備え、
前記支持部材は、前記キャビティに指向する第１面部（３４２）と、前記フィルタに指向する第２面部（３４３）と、前記第１面部及び第２面部を相互に連結する端縁部（３４４）とを有し、
前記複数の突起は支持部材の第１面部をリムの前記表面上方に支持し、
前記接着剤は少なくともリムの前記表面と支持部材の第１面部との間の領域に配置され、
前記接着剤は支持部材の端縁部をハウジングに接着するとともに、支持部材の第１面部の周囲部をリムに接着する、
構成部品。
【請求項３】外部の環境と連通するキャビティを有する構成部品であって、
凹所と、該凹所の周囲部に配置されたリム（１２０）と、凹所内に配置されたキャビテ
ィとを備えたハウジング（１１０）と、
前記キャビティ内に配置されたセンサ要素（１０５）と、
前記凹所内に配置され前記リムにより前記キャビティ上方に支持され、前記キャビティ上方に第１孔を有する第１支持部材（３４０）と、
前記凹所内に設けられ、前記第１支持部材によりキャビティ上方に支持されるとともに第１支持部材の第１孔の上方に配置されたフィルタ（３４５）と、
前記凹所内に設けられ、前記フィルタによりキャビティ上方に支持されるとともに、前記フィルタ上方にして、前記第１支持部材に第１孔の上方で、更には前記キャビティの上方において第２孔を有する第２支持部材（５５０）と
を備え、
前記リムは、
前記キャビティから離間する方向に指向する表面（１２１）と、
前記表面において、前記キャビティから離間する方向に延びる複数の突起（１２２）とを備え、
前記複数の突起は第１支持部材をリムの前記表面上方に支持する、
構成部品。
【請求項４】少なくとも部分的にキャビティを画成するハウジング（１１０）を配備する工程と、前記ハウジング（１２０）はリム（１２０）を備え、前記リムは、表面（１２１）と、該表面から延びる複数の突起（１２２）とを備えていることと、
前記キャビティ内にセンサ要素（１０５）を配設する工程と、
前記ハウジングの一部分上に接着剤（１３５）を配設する工程と、
前記接着剤上方、前記キャビティ上方、且つ、少なくともハウジングの一部分の上方においてキャビティ上方に孔を有する支持部材及びフィルタを配設する工程と、前記フィルタは支持部材の上方かつ該支持部材における孔の上方に配置され、前記突起は支持部材に対する支持を提供することと、
前記接着剤を硬化する工程とよりなる構成部品の製造方法。
【請求項５】少なくとも部分的にキャビティを画成するハウジング（１１０）と、前記ハウジングは表面（１２１）を備えたリム（１２０）を有することと、
前記キャビティ内に設けたセンサ要素（１０５）と、
フィルタ（３４５）と、
前記リムの前記表面の上方に配置された部分を有する支持部材（３４０）であって、該支持部材の少なくとも一部は前記キャビティ上方に前記フィルタを支持すべくフィルタの下方に配置されると共にキャビティ上方に孔を画成する、支持部材（３４０）と、
リムの前記表面とリムの前記表面の上方に配置された前記支持部材の前記部分とを離間させる複数の突起（１２２）と、
少なくともリムの前記表面とリムの前記表面の上方に配置された前記支持部材の前記部分との間に配置された接着剤（１３５）と、
を備えた構成部品。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月26日(2005.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
波長λが２００ｎｍ未満である光を透過させるためのλ＜２００ｎｍ光透過光学フッ化物結晶を作成する方法において、
平行で平坦な第１及び第２の初期仕上光透過面を有する光学フッ化物結晶プリフォームを提供する工程であって、前記初期仕上面が、空間波長１〜１０００μｍである初期仕上中間空間周波数粗さ及び空間波長１μｍ未満である初期仕上高空間周波数粗さをもつ、５０オングストロームＲＭＳ以下の表面粗さを有し、前記初期仕上プリフォームが初期仕上低λ＜２００ｎｍ光透過率ＬＴ（％/ｃｍ）を有する工程、
前記仕上面の最終研磨用の研磨剤コロイド状粒子溶液を提供する工程であって、前記溶液が９〜１３の範囲のｐＨ及び平均粒度が２０から３００ｎｍの範囲にある複数のコロイド状非脆性球形研磨剤粒子を有するものである工程、及び
前記初期仕上面を前記粒子溶液で最終研磨光透過面に最終研磨する工程であって、前記粒子溶液が、空間波長１〜１０００μｍである前記初期仕上中間空間周波数粗さ及び空間波長１μｍ未満である前記初期仕上高空間周波数粗さを除去して、ＨＴ＞ＬＴである、最終仕上高λ＜２００ｎｍ光透過率ＨＴ（％/ｃｍ）をもつ最終仕上研磨高光透過率面を有する最終仕上光学フッ化物結晶を提供するものである工程、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記最終研磨工程が最終研磨用の中間空間周波数及び高空間周波数除去シリカ粒子溶液による研磨工程であり、
シリカ粒子が、溶融シリカスート粒子、ヒュームドシリカ粒子および沈殿シリカ粒子からなる群より選択されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記最終研磨工程が最終研磨用の中間空間周波数及び高空間周波数除去酸化アルミニウム粒子溶液による研磨工程であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記最終研磨工程が、表面積が１０ｍ２/ｇから２００ｍ２/ｇの範囲にある複数の粒子を含む最終表面処理用の中間空間周波数及び高空間周波数除去粒子溶液による研磨工程であることを特徴とする請求項１から３いずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記最終研磨工程が、表面積が２０ｍ２/ｇから１１０ｍ２/ｇの範囲にある複数の粒子を有する研磨剤コロイド状粒子溶液による研磨工程であることを特徴とする請求項１から３いずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記研磨剤コロイド状粒子溶液のｐＨが１０から１１の範囲にあることを特徴とする請求項１から５いずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記最終研磨工程が、水酸化カリウム、水酸化アンモニウムおよび水酸化ナトリウムからなる群より選択される水酸化物を含有する研磨剤コロイド状粒子溶液による研磨工程であることを特徴とする請求項１から６いずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記最終仕上光学フッ化物結晶からλ＜２００ｎｍ光レーザ部品またはλ＜２００ｎｍ光リソグラフィ素子を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１から７いずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
２００ｎｍ未満の波長λでの使用に品質保証された紫外光透過光学フッ化物結晶を作成する方法において、
波長１９３ｎｍにおいてＬＴ＞９０％/ｃｍである初期仕上低１９３ｎｍ光透過率ＬＴをもつフッ化カルシウム結晶プリフォーム、フッ化マグネシウム結晶プリフォーム、フッ化バリウム結晶プリフォームおよびフッ化リチウム結晶プリフォームからなる群より選択される光学フッ化物結晶プリフォームを提供する工程であって、前記プリフォームが第１の初期仕上平光透過面を有し、前記初期仕上面が、空間波長１〜１０００μｍである初期仕上中間空間周波数粗さ及び空間波長１μｍ未満である初期仕上高空間周波数粗さをもつ、５０オングストロームＲＭＳ以下の表面粗さを有し、前記初期仕上プリフォームが初期仕上低λ＜２００ｎｍ光透過率ＬＴ（％/ｃｍ）を有する工程、
ｐＨが９から１３の範囲にある最終研磨用の球形ＳｉＯ２粒子研磨剤溶液を提供する工程であって、前記溶液が、平均粒度が２０から３００ｎｍの範囲にある複数のコロイド状ＳｉＯ２粒子を有するものである工程、
前記初期仕上面を前記研磨剤溶液で最終研磨して、空間波長１〜１０００μｍである前記初期仕上中間空間周波数粗さ及び空間波長１μｍ未満である前記初期仕上高空間周波数粗さを除去し、それによって、ＨＴ＞ＬＴである、最終仕上高λ＜２００ｎｍ光透過率ＨＴ（％/ｃｍ）をもつ最終仕上研磨高光透過率面を有する最終仕上光学フッ化物結晶を提供するものである工程、及び
前記波長λ＜２００ｎｍの光に対する品質評価光透過率測定を提供するために、フルーエンスが２０Ｊ/ｃｍ２未満である最終使用λ＜２００ｎｍ光ビームに前記最終仕上高光透過率面を透過させる工程、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１０】
前記最終研磨工程が最終研磨用の中間空間周波数及び高空間周波数除去シリカ粒子溶液による研磨工程であり、
シリカ粒子が、溶融シリカスート粒子、ヒュームドシリカ粒子および沈殿シリカ粒子からなる群より選択されることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記最終研磨工程が最終研磨用の中間空間周波数及び高空間周波数除去酸化アルミニウム粒子溶液による研磨工程であることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記最終研磨工程が、表面積が１０ｍ２/ｇから２００ｍ２/ｇの範囲にある複数の粒子を含む最終表面処理用の中間空間周波数及び高空間周波数除去粒子溶液による研磨工程であることを特徴とする請求項９から１１いずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記最終研磨工程が、表面積が２０ｍ２/ｇから１１０ｍ２/ｇの範囲にある複数の粒子を有する研磨剤コロイド状粒子溶液による研磨工程であることを特徴とする請求項９から１１いずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記研磨剤コロイド状粒子溶液のｐＨが１０から１１の範囲にあることを特徴とする請求項９から１３いずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記最終研磨工程が、水酸化カリウム、水酸化アンモニウムおよび水酸化ナトリウムからなる群より選択される水酸化物を含有する研磨剤コロイド状粒子溶液による研磨工程であることを特徴とする請求項９から１４いずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
前記最終仕上光学フッ化物結晶からλ＜２００ｎｍ光レーザ部品またはλ＜２００ｎｍ光リソグラフィ素子を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項９から１５いずれか１項に記載の方法。