【手続補正書】
【提出日】平成17年7月15日(2005.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エネルギー源；
少なくとも１個のブリード穴であって、前記ブリード穴が前記エネルギー源から粒子を巻き込んでその粒子の標的への移動を加速するための駆動チャンバへの加圧ガスの通過のための有効ブリード穴面積を有するもの；ならびに
前記駆動チャンバからの前記ガスを受け、少なくとも１個の消音器排気開口を通過して消音器の周囲に前記ガスを排気する消音器であって、前記排気開口が有効排気面積を有する消音器を有する無針注射器装置において、
前記有効ブリード穴面積および前記有効排気面積が、前記粒子送達装置使用時に、前記有効排気面積を通過するガスの質量流量が前記有効ブリード穴面積を通過するガスの質量流量と実質的に同等またはそれ以上であるようなものであることを特徴とする無針注射器装置。
【請求項２】
前記エネルギー源が加圧ガスの貯留部である請求項１に記載の無針注射器装置。
【請求項３】
前記有効ブリード穴面積および前記有効排気面積が下記式の関係のものである請求項２に記載の無針注射器装置。
【数１】
2004536675.tif 000001
［式中、γ１は貯留部におけるガスの比熱の比であり；Ｒ１は前記貯留部中のガスの気体定数であり、γ２は周囲におけるガスの比熱の比であり、Ｒ２は周囲におけるガスの気体定数であり、Ｐ０は前記消音器がガスを受けた後のエネルギー源における圧力であり、ＰＳは前記消音器がガスを受けた後の消音器における圧力である。］
【請求項４】
前記有効ブリード穴面積および前記有効排気面積が下記式の関係のものである請求項３に記載の無針注射器装置。
【数２】
2004536675.tif 000002
［式中、γ１は貯留部におけるガスの比熱の比であり；Ｒ１は前記貯留部中のガスの気体定数であり、γ２は周囲におけるガスの比熱の比であり、Ｒ２は周囲におけるガスの気体定数であり、Ｐ０は前記消音器がガスを受けた後のエネルギー源における圧力であり、ＰＳは前記消音器がガスを受けた後の消音器における圧力である。］
【請求項５】
前記有効ブリード穴面積および前記有効排気面積が下記式の関係のものである請求項３または４に記載の無針注射器装置。
【数３】
2004536675.tif 000003
［式中、γ１は貯留部におけるガスの比熱の比であり；Ｒ１は前記貯留部中のガスの気体定数であり、γ２は周囲におけるガスの比熱の比であり、Ｒ２は周囲におけるガスの気体定数であり、Ｐ０は前記消音器がガスを受けた後のエネルギー源における圧力であり、ＰＳは前記消音器がガスを受けた後の消音器における圧力である。］
【請求項６】
排気前に前記駆動チャンバから受けた前記ガスを収納するための所定容積を有するシュラウドを有する請求項１〜５のいずれかに記載の無針注射器装置。
【請求項７】
前記シュラウドが使用時に前記標的に対して押圧される粒子出口開口を有することで、前記粒子が前記開口を通って流れ、前記標的内に流れることができる請求項６に記載の無針注射器装置。
【請求項８】
前記消音器シュラウドおよび駆動チャンバがそれぞれ個々の容積を有し、前記粒子出口開口が使用時に当該装置にかかる持ち上げ力が20N未満となるような面積を有する請求項７に記載の無針注射器装置。
【請求項９】
前記消音器シュラウドおよび駆動チャンバがそれぞれ個々の容積を有し、前記粒子出口開口が使用時に当該装置にかかる持ち上げ力が15N未満となるような面積を有する請求項７に記載の無針注射器装置。
【請求項１０】
前記シュラウドが前記駆動チャンバの容積より少なくとも５倍、より好ましくは10倍または20倍の容積を有する請求項６に記載の無針注射器装置。
【請求項１１】
前記シュラウドが該シュラウドの断面積を制限して前記シュラウドを通過する衝撃波を減衰させる要素を有する請求項６〜１０のいずれかに記載の無針注射器装置。
【請求項１２】
前記シュラウドに前記少なくとも１個の消音器排気開口を形成する少なくとも１個の穴が設けられている請求項６〜１１のいずれかに記載の無針注射器装置。
【請求項１３】
前記少なくとも１個の穴が実質的に当該装置の上流端に配置されている請求項１２に記載の無針注射器装置。
【請求項１４】
前記シュラウドから周囲へガスが通過するための環状流路を形成するカバーをさらに有する請求項６〜１３のいずれかに記載の無針注射器装置。
【請求項１５】
前記環状流路に、前記シュラウドから出るガス流と相互作用する複数のバッフルをさらに有する請求項１４に記載の無針注射器装置。
【請求項１６】
前記装置を伝わる衝撃波を減弱させる抵抗材料をさらに有する請求項１〜１５のいずれかに記載の無針注射器装置。
【請求項１７】
前記駆動チャンバから流れる粒子含有ガスを膨張させるための前記駆動チャンバに連結されたノズルをさらに有する請求項１〜１６のいずれかに記載の無針注射器装置。
【請求項１８】
前記粒子出口開口が前記ノズルの出口面積より100％以下大きく、前記開口が前記ノズル出口から軸方向に隔たっている請求項７に従属した場合の請求項１７に記載の無針注射器装置。
【請求項１９】
駆動チャンバの下流端に第１および第２の膜をさらに有し、該第１および第２の膜が長手方向に分離していることで粒子保持チャンバが形成されている請求項１〜１８のいずれかに記載の無針注射器装置。
【請求項２０】
前記駆動チャンバから前記粒子保持チャンバに加圧ガスを供給するための移動ダクトをさらに有する請求項１９に記載の無針注射器装置。
【請求項２１】
前記移動ダクトの最小面積が、使用時に前記膜の上流側のものが破壊してから、前記膜の下流側のものが破壊するように選択される請求項２０に記載の無針注射器装置。
【請求項２２】
使用時にガスが前記移動ダクトを流れ始めてから2msより長い時間経過した後に前記下流側膜が破壊する請求項２１に記載の無針注射器装置。
【請求項２３】
粒子加速ガス流の消音方法において、
（ａ）第１の質量流量でブリード穴を通って加圧ガスを供給する段階；
（ｂ）粒子が標的に進入するだけの速度が得られるように供給される前記加圧ガスで前記粒子を加速する段階；
（ｃ）消音器に前記ガスを受け、第２の質量流量で少なくとも１個の消音器排気開口から周囲に前記受け入れガスを排気する段階
を有し；
前記第２の質量流量が前記第１の質量流量と実質的に同量以上であることを特徴とする方法。
【請求項２４】
前記段階（ａ）が駆動チャンバに加圧ガスを供給することで前記駆動チャンバでガス圧力を蓄積させる段階を有する請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
膜を破壊して、前記駆動チャンバの下流側のノズルにガスを供給する段階をさらに有する請求項２３または２４に記載の方法。
【請求項２６】
段階（ｂ）が前記加圧ガス中に前記膜に隣接して位置している粒子を巻き込み、該粒子含有ガスを前記ノズルで加速する段階を有する請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記消音器における絞りおよび／またはバッフルに通して、ガスにおける衝撃波を減衰させてから、そのガスを周囲に排気する段階をさらに有する請求項２３〜２６のいずれかに記載の方法。
【請求項２８】
エネルギー源；
少なくとも１個のブリード穴であって、前記エネルギー源から駆動チャンバへの加圧ガスの通路用の有効ブリード穴面積を有するブリード穴；
前記駆動チャンバの下流端にある第１の密閉部；
前記第１の密閉部の下流側に配置されている第２の密閉部であって、両密閉部間に粒子保持チャンバを形成する密閉部；ならびに前記駆動チャンバと前記粒子保持チャンバの間にガス流路を提供する少なくとも１個の移動ダクト
を有する無針注射器装置であって；
前記有効ブリード穴面積および前記移動ダクトの最小面積を選択して、使用時に前記第１の密閉部が前記第２の密閉部の前に開き、ガスの前記移動ダクトを通る流れが開始してから少なくとも2ms後に前記第２の密閉部が開くようになっていることを特徴とする無針注射器装置。
【請求項２９】
前記第１および第２の密閉部が破壊によって開放される破壊可能膜である請求項２８に記載の無針注射器装置。
【請求項３０】
前記第２の密閉部がガスが前記移動ダクトの通過を開始してから少なくとも3.5ms後に開放する請求項２８または２９に記載の無針注射器装置。
【請求項３１】
ガス流中で粒子を均一に加速する方法であって、
（ａ）加圧ガスを駆動チャンバに供給する段階；
（ｂ）前記駆動チャンバ中の前記加圧ガスの一部を前記駆動チャンバの下流側の粒子保持チャンバ中に供給することで、前記粒子を流動化させる段階；
（ｃ）前記粒子保持チャンバの上流側密閉部を開放する段階；
（ｄ）前記粒子保持チャンバの下流側密閉部を開放する段階
を有し、
段階（ｂ）が開始してから少なくとも2ms後に前記下流側密閉部を開放する方法。
【請求項３２】
前記ガスをブリード穴を介して段階（ａ）で前記駆動チャンバに供給する請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記加圧ガスを１以上の移動ダクトを介して段階（ｂ）で前記粒子保持チャンバに供給する請求項３１または３２に記載の方法。
【請求項３４】
前記１以上の移動ダクトが、前記駆動チャンバへの加圧ガスの供給時に開放する移動ダクト密閉部によって最初に閉鎖される請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】
各密閉部が破壊によって開放される破壊可能膜である請求項３１〜３４のいずれかに記載の方法。
【請求項３６】
前記下流側密閉部が前記供給段階（ｂ）が開始してから少なくとも3.5ms後に開放する請求項３１〜３５のいずれかに記載の方法。
【請求項３７】
上流側密閉部および下流側密閉部によって仕切られた粒子保持チャンバ；
前記チャンバ中へのガス流動路を提供する少なくとも１個のダクト
を有する粒子保持組立物であって、
前記ダクトが前記粒子保持チャンバ周囲の実質的に環状スペースから前記粒子保持チャンバへガスを供給する構造となっている粒子保持組立物。
【請求項３８】
上流側密閉部および下流側密閉部によって仕切られた粒子保持チャンバ；
前記チャンバへの第１のガス流動路を提供する第１のダクト
を有する粒子保持組立物であって；
使用時には、前記第１のダクトが前記粒子保持チャンバ中のガスの第１の渦が形成されるように配置されている粒子保持組立物。
【請求項３９】
前記チャンバへの第２のガス流動路を提供する第２のダクトをさらに有し、該第２のダクトが使用時には前記粒子保持チャンバで第２のガス渦を形成するよう配置されており、ここで前記第１および第２のダクトが、実質的に異なった方向に前記第１および第２の渦を向けるよう配置されている請求項３８に記載の粒子保持組立物。
【請求項４０】
前記第１および第２のダクトが、ガス流動方向で互いに位置ズレしている請求項３９に記載の粒子保持組立物。
【請求項４１】
前記第１および第２のダクトが、前記粒子保持チャンバ周囲の実質的に環状のスペースから前記粒子保持チャンバへガスを供給する構造を有する請求項３９または４０に記載の粒子保持組立物。
【請求項４２】
前記上流側密閉部の上流に前記粒子保持組立物の滅菌性を確保するための密閉部をさらに有する請求項３７〜４１のいずれかに記載の粒子保持組立物。
【請求項４３】
前記密閉部が破壊によって開放する膜によって提供される請求項３７〜４２のいずれかに記載の粒子保持組立物。
【請求項４４】
請求項３７〜４３のいずれかに記載の粒子保持手段を有する無針注射器装置。
【請求項４５】
粒子保持チャンバ中の粒子を流動化させる方法において、
加圧ガスを前記粒子保持チャンバ周囲の環状スペースに供給する段階；
少なくとも１個の移動ダクトを用いて前記チャンバに前記ガスを供給することで、前記粒子保持チャンバにある粒子を流動化させる段階
を有することを特徴とする方法。
【請求項４６】
粒子保持チャンバ中の粒子を流動化させる方法において、
前記粒子保持チャンバに流体連通している第１のダクトに加圧ガスを供給する段階；
前記粒子保持チャンバ中で第１のガス渦を発生させることで、前記粒子保持チャンバ中の粒子を流動化させる段階
を有することを特徴とする方法。
【請求項４７】
前記粒子保持チャンバに流体連通している第２のダクトに加圧ガスを供給する段階；
前記粒子保持チャンバ中で第２のガス渦を形成することで、該粒子保持チャンバに入っている粒子を流動化させる段階
をさらに有する請求項４６に記載の粒子流動化方法。
【請求項４８】
前記第１および第２の渦を実質的に異なる方向に向ける請求項４７に記載の粒子流動化方法。
【請求項４９】
無針注射器中のガス流動に１用量の粒子を同伴させる方法であって、
前記用量の粒子を請求項４５〜４８のいずれかに従って流動化させる段階；
上流側密閉部を開放させて、前記ガス流中に前記粒子を同伴させる段階；
下流側密閉部を開放させて、前記同伴粒子を前記装置から放出させる段階
を有する方法。
【請求項５０】
前記上流側密閉部の上流にあるさらなる密閉部をまず第１に開放させて、前記ガスを前記チャンバに供給する段階をさらに有する請求項４９に記載の方法。