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　特願２００５−２４５８７４「レーザシステム及びレーザ露光システム」拒絶査定不服審判事件〔平成１９年　３月　８日出願公開、特開２００７−　５９７８８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．本願発明
　本願は、平成１７年８月２６日の出願であって、その請求項に係る発明は、本願の願書に最初に添付された特許請求の範囲の請求項１ないし５に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、次のとおりである。
　
「レーザガスを封入するチャンバと、
　前記チャンバ内のレーザガスを励起する励起源と、
　レーザガスの励起に伴い前記チャンバから出力される光の一部は外部に出力し、残りは前記チャンバを介して共振させる光共振器と、
　前記励起源の励起強度と前記チャンバ内のガス組成またはガス圧とのうち少なくとも一つを制御して、前記光共振器から出力される光エネルギのパルスばらつきを予め設定された許容範囲内に収めるレーザ制御部と、
　前記光共振器から出力される光が透過するとともに、自身の透過率を変化させることによって透過する光のエネルギを増加減衰自在である光透過部と、
　前記光透過部における透過率を制御する透過率制御部と、
　を有するレーザシステム。」
　　
２．引用例
　これに対して、原査定の拒絶理由に引用され、本願の出願前に頒布された国際公開第０２／１０３７６６号（以下「引用例」という。）には、図とともに次の記載がある。（下線は、当審で付したものである。）
　
「図１には、一実施形態の走査型露光装置１０の概略構成が示されている。この走査型露光装置１０は、
露光用光源にパルス光源としてのエキシマレーザ光源を用いたステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置
　
この走査型露光装置１０は、パルス光源１６を含む照明系１２
を備えている
　
前記照明系１２は、パルス光源１６、ビーム整形光学系１８、減光装置としてのエネルギ粗調器２０
等を備えている。
　ここで、この照明系１２の上記構成各部について説明する。パルス光源１６としては、一例として、１パルス当たりのパルスエネルギＥをＥｍｉｎ（例えば８ｍＪ／ｐｕｌｓｅ）〜Ｅｍａｘ（例えば１０ｍＪ／ｐｕｌｓｅ）の範囲で変更可能であり、かつパルス発光の繰り返し周波数ｆをｆｍｉｎ（例えば６００Ｈｚ）〜ｆｍａｘ（例えば２０００Ｈｚ）の範囲内で変更可能なＫｒＦエキシマレーザ光源（発振波長２４８ｎｍ）が用いられているものとする。以下においては、
パルス光源１６を「エキシマレーザ光源１６」と呼ぶ
　なお、上記と同様のパルスエネルギと繰り返し周波数の変更機能を有するものであれば、このエキシマレーザ光源１６に代えて、ＡｒＦエキシマレーザ光源（発振波長１９３ｎｍ）やＦ２レーザ光源（発振波長１５７ｎｍ）は勿論、金属蒸気レーザ光源やＹＡＧレーザの高調波発生装置等のパルス光源を使用することも可能である。
　ビーム整形光学系１８は、
エキシマレーザ光源１６からパルス発光されたレーザビームＬＢ
　
エネルギ粗調器２０は、ビーム整形光学系１８後方のレーザビームＬＢの光路上に配置され、
入射するレーザビームＬＢに対する透過率を
主制御装置５０によって
調整できる
　
「図２には、図１の走査型露光装置１０の露光量制御に関連する構成部分が取り出されて示されている。この図２に示されるように、
エキシマレーザ光源１６の内部には、レーザ共振器１６ａ、ビームスプリッタ１６ｂ、エネルギモニタ１６ｃ、エネルギコントローラ１６ｄ及び高圧電源１６ｅ等が設けられている
　
前記レーザ共振器１６ａは、
放電電極を含むエキシマレーザチューブ（レーザチャンバ）
全反射ミラー（リアミラー）
低反射率ミラー（フロントミラー）
含んで構成
リアミラーとフロントミラーとによって、共振器が構成され
　なお、狭帯域化モジュールを、例えばプリズムと回折格子（グレーティング）とを組み合わせたものなどによって構成することも可能である。
　
前記エキシマレーザチューブ内には、
レーザガス
が充填され
　上記各バルブは、主制御装置５０によって開閉制御される。
主制御装置５０は
エキシマレーザチューブ内のレーザガスが所定の混合比及び圧力になるように調整する
主制御装置５０は
エキシマレーザ光源１６の印加電圧（又は充電電圧）とエキシマレーザチューブ内のガス状態とをそれぞれ制御ファクタとして独立に制御する
ガス状態は少なくとも１つのレーザガス（Ｋｒ、Ｆ２、Ｈｅなど）のガス圧である
　図２において、レーザ共振器１６ａからパルス的に放出されたレーザビームは、透過率が高く僅かな反射率を有するビームスプリッタ１６ｂに入射し、ビームスプリッタ１６ｂを透過したレーザビームＬＢが外部に射出される。また、ビームスプリッタ１６ｂで反射されたレーザビームが光電変換素子より成るエネルギモニタ１６ｃに入射し、エネルギモニタ１６ｃからの光電変換信号が不図示のピークホールド回路を介して出力ＥＳとしてエネルギコントローラ１６ｄに供給されている。エネルギモニタ１６ｃの出力ＥＳに対応するエネルギの制御量の単位は（ｍＪ／ｐｕｌｓｅ）である。通常の発光時には、エネルギコントローラ１６ｄは、エネルギモニタ１６ｃの出力ＥＳが、主制御装置５０より供給された制御情報ＴＳ中の１パルス当たりのエネルギの目標値に対応した値となるように、
高圧電源１６ｅでの電源電圧（前述の印加電圧又は充電電圧に対応）をフィードバック制御する
レーザ共振器１６ａに供給されるエネルギを高圧電源１６ｅを介して制御する
　
　上記記載によれば、引用例には、
「露光用光源にパルス光源としてのエキシマレーザ光源を用いたステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置に用いられる照明系１２であって、
　前記照明系１２は、パルス光源としてのエキシマレーザ光源１６、減光装置としてのエネルギ粗調器２０等を備え、
　前記エネルギ粗調器２０は、エキシマレーザ光源１６からパルス発光されたレーザビームＬＢの光路上に配置され、入射するレーザビームＬＢに対する透過率を主制御装置５０により調整できる減光装置であり、
　前記エキシマレーザ光源１６の内部には、レーザ共振器１６ａ、ビームスプリッタ１６ｂ、エネルギモニタ１６ｃ、エネルギコントローラ１６ｄ及び高圧電源１６ｅ等が設けられており、
　前記レーザ共振器１６ａは、放電電極を含むエキシマレーザチューブ（レーザチャンバ）、全反射ミラー（リアミラー）、低反射率ミラー（フロントミラー）を含んで構成され、リアミラーとフロントミラーとによって共振器が構成されており、
　前記エキシマレーザチューブ内にはレーザガスが充填され、その混合比及び圧力は主制御装置５０により調整され、
　前記高圧電源１６ｅは、その電源電圧がエキシマレーザ光源１６の印加電圧（又は充電電圧）となって、レーザ共振器１６ａにエネルギを供給するものであり、
　エキシマレーザ光源１６の印加電圧（又は充電電圧）とエキシマレーザチューブ内のガス状態は、それぞれ制御ファクタとして独立に主制御装置５０により制御され、ここで前記ガス状態は少なくとも１つのレーザガスのガス圧である
　照明系１２。」の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
３．対比
　本願発明と引用発明を対比する。
　引用発明の「エキシマレーザチューブ（レーザチャンバ）」は、「レーザガスが充填されており」、本願発明の「レーザガスを封入するチャンバ」に相当する。
　引用発明の「高圧電源１６ｅ」は、その電源電圧がエキシマレーザ光源１６の印加電圧（又は充電電圧）となって、レーザ共振器１６ａにエネルギを供給するものであり、エキシマレーザチューブ（レーザチャンバ）の放電電極に電圧を印加するものと認められるから、本願発明の「チャンバ内のレーザガスを励起する励起源」に相当する。
　引用発明の「（レーザ共振器１６ａの）共振器」は、「（全反射ミラーである）リアミラーと（低反射率ミラーである）フロントミラー」とによって構成されており、本願発明の「レーザガスの励起に伴い前記チャンバから出力される光の一部は外部に出力し、残りは前記チャンバを介して共振させる光共振器」に相当する。
　引用発明において、「エキシマレーザ光源１６の印加電圧（又は充電電圧）とエキシマレーザチューブ内のガス状態は、それぞれ制御ファクタとして独立に主制御装置５０により制御され、ここで前記ガス状態は少なくとも１つのレーザガスのガス圧である」から、引用発明と本願発明は、ともに「前記励起源の励起強度と前記チャンバ内のガス組成またはガス圧とのうち少なくとも一つを制御するレーザ制御部」を有するものといえる。
　引用発明の「エネルギ粗調器２０」は、「エキシマレーザ光源１６からパルス発光されたレーザビームＬＢの光路上に配置され、入射するレーザビームＬＢに対する透過率を主制御装置５０により調整できる減光装置」であるから、引用発明は、本願発明と同様に「前記光共振器から出力される光が透過するとともに、自身の透過率を変化させることによって透過する光のエネルギを増加減衰自在である光透過部と、前記光透過部における透過率を制御する透過率制御部と、を有する」ものといえる。
　そして、引用発明の「照明系１２」が「レーザシステム」であることは明らかである。
　
　以上のことから、両者は、
「レーザガスを封入するチャンバと、
　前記チャンバ内のレーザガスを励起する励起源と、
　レーザガスの励起に伴い前記チャンバから出力される光の一部は外部に出力し、残りは前記チャンバを介して共振させる光共振器と、
　前記励起源の励起強度と前記チャンバ内のガス組成またはガス圧とのうち少なくとも一つを制御するレーザ制御部と、
　前記光共振器から出力される光が透過するとともに、自身の透過率を変化させることによって透過する光のエネルギを増加減衰自在である光透過部と、
　前記光透過部における透過率を制御する透過率制御部と、
　を有するレーザシステム。」の点で一致し、次の点で相違する。
　
　本願発明は、レーザ制御部が「光共振器から出力される光エネルギのパルスばらつきを予め設定された許容範囲内に収める」ものであるのに対し、引用発明がこのようなものであるか不明な点。　
　
４．相違点についての検討
　上記相違点について検討するに、本願明細書の【００１４】〜【００１７】に記載されているように、ステップ・アンド・スキャン方式においては、ステッパー方式で簡易な制御とされていた露光量制御を高精度に行う必要があり、そのためには、毎パルスのレーザエネルギを一定にするか、露光量Ｓ1、Ｓ2、…Ｓiを一定にするよう毎パルスのレーザのエネルギを制御する必要があり、また、本願明細書の【００１８】に記載されているように、特許文献１（特開平９−２４８６８２号公報）には、毎パルスのレーザエネルギを均一にして露光量を一定にするために、充電電圧を制御する方法が開示され、また、特許文献２（特開平１０−１５４８４２号公報）には、特許文献１と同じく毎パルスのレーザエネルギを均一にして露光量を一定にするために、ハロゲンガスの組成比を制御する方法が開示されているところである。
　ここで、引用発明は、「ステップ・アンド・スキャン方式」の走査型露光装置に用いられるものであり、また、印加電圧（又は充電電圧）を制御する手段及びレーザガスの混合比及びガス圧を調整する手段を有するものであることに照らせば、引用発明において、上記相違点に係る本願発明の発明特定事項とすることは、当業者が容易に想到し得たものと認められる。
　また、引用発明は、エネルギ粗調器２０を有しており、これによりレーザ源からのレーザビームを減光して、露光に必要なエネルギを調整できるものであるから、露光用のエネルギを変更するにあたって印加電圧（又は充電電圧）等の放電パラメータを大きく変更する必要はないものであり、請求人の主張する「本願発明では、エネルギを制御するために充電電圧等の放電パラメータを大きく制御する必要がなくなり、エネルギばらつきを悪化させることなくエネルギを制御することができる」という作用効果についても格別のものとはいえない。
　
５．むすび
　以上のとおりであり、本願発明は、引用発明に基づいて当該技術分野における通常の知識を有する者が容易に発明できたものと認められるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。