【手続補正書】
【提出日】平成18年3月31日(2006.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  α−フェニルアラニンエステルの鏡像異性体混合物を、ＰＬＥ（ブタ肝エステラーゼ）酵素以外のリパーゼ、プロテアーゼまたはエステラーゼに接触させることを特徴とする、式（Ｉ）及び（ＩＩ）：
【化１】
2002514436.tif 000001
〔式中、Ａｌｋは炭素原子数１〜６の直鎖状または分枝状アルキル基を表す〕で示される鏡像異性的に実質的に純粋なα−フェニルアラニンエステルの製造方法。
【請求項２】  “Ａｌｋ”がメチル基を表すことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  “Ａｌｋ”がエチル基を表すことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】  鏡像異性的に実質的に純粋なエステルがＳ配置を有しており、使用される酵素がプロテアーゼであることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】  プロテアーゼが、バイオフィード、プロザイム、ズブチリシン、ズブチリシンＡ、トリプシン、プロテアーゼＰＳ、Ｐ５１４７及びＰ４０３２から選択されることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】  プロテアーゼが、アスペルギルスのプロテアーゼ即ちプロザイムもしくはプロテアーゼＰ４０３２、またはズブチリシン、またはバイオフィードまたはトリプシンであることを特徴とする請求項４または５に記載の方法。
【請求項７】  プロテアーゼがプロザイムであることを特徴とする請求項４から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】  鏡像異性的に実質的に純粋なエステルがＲ配置であり、使用される酵素が、ＰＬＥ酵素（ブタ肝エステラーゼ）以外のリパーゼまたはエステラーゼであることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】  リパーゼまたはエステラーゼが、リゾープスのリパーゼＡ、リパーゼＣＥ、キラザイムＥ１、キラザイムＬ１、キラザイムＬ２、キラザイムＬ３、キラザイムＬ４、キラザイムＬ５、キラザイムＬ６、キラザイムＬ７、キラザイムＬ８、リパーゼＧＣ、Ｌ３００１、Ｌ３１２６及び膵リパーゼＬ１１５Ｐから選択されることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  リパーゼまたはエステラーゼが、キラザイムＬ２、Ｌ５、Ｌ７及びＥ１から選択されることを特徴とする請求項８または９に記載の方法。
【請求項１１】  実質的に純粋な鏡像異性体が８０％を上回る鏡像体過剰率で得られることを特徴とする請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】  鏡像体過剰率が９０％を上回る値であることを特徴とする請求項１から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】  使用される酵素が未精製であるかまたは部分精製もしくは完全精製されていることを特徴とする請求項１から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】  反応媒体が均質相であることを特徴とする請求項１から１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】  反応媒体が不均質相であることを特徴とする請求項１から１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】  酵素が反応媒体中で遊離していることを特徴とする請求項１から１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】  酵素が支持体に固定されていることを特徴とする請求項１から１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】  反応媒体が５〜１０の範囲のｐＨを有することを特徴とする請求項１から１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】  反応温度が４℃から７０℃の範囲であることを特徴とする請求項１から１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】  反応時間が１時間から１２０時間の範囲であることを特徴とする請求項１から１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】  反応時間が１０時間から６０時間の範囲であることを特徴とする請求項１から２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】  反応媒体が１種または複数の芳香族溶媒を含むことを特徴とする請求項１から２１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３】  溶媒がトルエンまたはモノクロロベンゼンであることを特徴とする請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】  請求項１に記載の式（Ｉ）のエステルのＳ形鏡像異性体を得るための完全精製または部分精製されたプロテアーゼ型酵素の使用。
【請求項２５】  請求項１に記載の式（Ｉ）のエステルのＳ形鏡像異性体を得るための、プロテアーゼであるプロザイムの使用。
【請求項２６】  反応スキーム：
【化２】
2002514436.tif 000002
によって示される式（Ｆ）の化合物の製造方法であって、
スキーム中の、
・Ｒ１はフェニル基を表し、Ｒ２はメチル基を表し；
・Ｗは酸素原子もしくはイオウ原子または基Ｓ＝Ｏを表し；
・Ｍは酸素原子もしくはイオウ原子または任意にハロゲン化されたＣＨ２基を表し；
・ｐは０または１の整数を表し；
・Ｒ３は：
−ｐが０または（Ｍ）ｐがＣＨ２基のときは、水素または任意にハロゲン化されたＣ１−Ｃ２アルキル基を表し；
−（Ｍ）ｐが酸素原子もしくはイオウ原子のときは、任意にハロゲン化されたＣ１−Ｃ２アルキル基を表し；
・Ｒ４は：
−水素原子；
−炭素原子数１〜６のアルキル基；
−炭素原子数２〜６のアルコキシアルキル、アルキルチオアルキル、ハロアルキル、シアノアルキル、チオシアナトアルキル、アルケニルまたはアルキニル基；
−炭素原子数３〜６のジアルキルアミノアルキル、アルコキシカルボニルアルキルまたはＮ−アルキルカルバモイルアルキル；
−炭素原子数４〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルアルキル基；
−フェニル、ナフチル、チエニル、フリル、ピリジル、ピリミジル、ピリダジニル、ピラジニル、ベンゾチエニル、ベンゾフリル、キノリニル、イソキノリニルまたはメチレンジオキシフェニルを含むアリール基であって、これらはＲ６から選択された１−３個の基で置換されていてもよく；
−アリールアルキル、アリールオキシアルキル、アリールチオアルキルまたはアリールスルホニルアルキルを表し、ここにアリール及びアルキルなる用語は前記の定義と同義であり；
・Ｒ５は：
−水素、または、炭素原子数１〜６のアルキル、ハロアルキル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニル基；
−炭素原子数２〜６のアルコキシアルキル、アルキルチオアルキル、アシル、アルケニル、アルキニル、ハロアシル、アルコキシカルボニル、ハロアルコキシカルボニル、アルコキシアルキルスルホニル、シアノアルキルスルホニル基；
−炭素原子数３〜６のアルコキシアルコキシカルボニル、アルキルチオアルコキシカルボニル、シアノアルコキシカルボニル基；
−ホルミル基、または、炭素原子数３−６のシクロアルキル、アルコキシアシル、アルキルチオアシル、シアノアシル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル基；
−炭素原子数４〜８のシクロアルキルカルボニル基；
−Ｒ６から選択された１〜３個の基で置換されていてもよいフェニル；アリールアルキルカルボニル基特にフェニルアセチル及びフェニルプロピオニル、アリールカルボニル特にベンゾイル、チエニルカルボニル、フリルカルボニル、ピリジルカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、フルフリルオキシカルボニル、テトラヒドロフルフリルオキシカルボニル、チエニルメトキシカルボニル、ピリジルメトキシカルボニル、フェニル基がＲ６から選択された１−３個の基で置換されていてもよいフェノキシカルボニル若しくはフェニルチオールカルボニル、アルキルチオールカルボニル、ハロアルキルチオールカルボニル、アルコキシアルキルチオールカルボニル、シアノアルキルチオールカルボニル、ベンジルチオールカルボニル、フルフリルチオールカルボニル、テトラヒドロフルフリルチオールカルボニル、チエニルメチルチオールカルボニル、ピリジルメチルチオールカルボニルまたはアリールスルホニル；
−以下の置換基によってモノまたはジ置換されていてもよいカルバモイル基：
−炭素原子数１〜６のアルキルまたはハロアルキル基；
−炭素原子数３〜６のシクロアルキル、アルケニルまたはアルキニル基；
−炭素原子数２〜６のアルコキシアルキル、アルキルチオアルキルまたはシアノアルキル基；または
−１〜３個の基Ｒ６によって置換されていてもよいフェニル；
−以下の置換基によってモノまたはジ置換されていてもよいスルファモイル基：
−炭素原子数１〜６のアルキルまたはハロアルキル基；
−炭素原子数３〜６のシクロアルキル、アルケニルまたはアルキニル基；
−炭素原子数２〜６のアルコキシアルキル、アルキルチオアルキルまたはシアノアルキル基；または、
−１〜３個の基Ｒ６によって置換されていてもよいフェニル；
−炭素原子数３〜８のアルキルチオアルキルスルホニル基または炭素原子数３〜７のシクロアルキルスルホニル基を表すか；または、
−Ｒ４とＲ５とが結合窒素原子と共に、炭素原子数１〜３のアルキル基で置換されていてもよいピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノまたはピペラジノ基を形成しており；
・Ｒ６は：
−ハロゲン原子；
−炭素原子数１〜６のアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ハロアルキルチオまたはアルキルスルホニル基；
−炭素原子数３〜６のシクロアルキル、ハロシクロアルキル、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルケニルチオ、アルキニルチオ基；
−ニトロまたはシアノ基；
−炭素原子数１〜６のアルキルもしくはアシル基または炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基でモノ置換またはジ置換されていてもよいアミノ基；または、
−Ｒ７から選択された同じまたは異なる１〜３個の基で置換されていてもよいフェニル、フェノキシまたピリジルオキシ基を表し；
・Ｒ７は：
−フッ素、塩素、臭素、ヨウ素から選択されたハロゲン原子；
−炭素原子数１〜６のアルキル基；
−炭素原子数１〜６のアルコキシまたはアルキルチオ基；
−炭素原子数１〜６のハロアルコキシまたハロアルキルチオ基；または、
−ニトリルまたはニトロ基を表し；
・Ｒは、ヒドロキシ基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、ベンジルオキシ基、アミノ、アルキルアミノもしくはジアルキルアミノ基、または、炭素原子数１〜６のアルキルアミノ基を表し；
・Ｘは、塩素、臭素及びヨウ素から選択されたハロゲン原子、または、スルフェート、アルキルスルホニルオキシもしくはアリールスルホニルオキシ基のような離脱基を表し；
・Ａｌｋは請求項１と同義であり、
スキーム中の、
−段階（ｉ）は請求項１から２５のいずれか一項に記載の式（Ｉ）及び（ＩＩ）の鏡像異性的に実質的に純粋なα−フェニルアラニンエステルの製造方法であり；
−段階（ａ）は従来の鹸化段階であり；
−段階（ｂ）は従来のエステル化反応であり、
−段階（ｃ）は塩基性媒体中で二硫化炭素を添加する当業者に公知の環化反応であり、
−段階（ｄ）は触媒の存在下で式Ｎ（Ｒ４Ｒ５）−ＮＨ２のアミンを添加する段階であり、
−最終段階（ｅ）は、式Ｒ３−Ｘの化合物の添加によって対応する−Ｓ−Ｒ３を含む化合物を生成し、次いで任意に従来技術によって酸化してイオウ原子を種々の酸化度に酸化させるかまたは式Ｒ３−ＯＨの化合物で処理して対応する−Ｏ−Ｒ３を含む化合物を得る段階を表すことを特徴とする方法。