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【手続補正書】
【提出日】平成17年8月9日(2005.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理のため第１半導体ウェハ（１０５）を受け取るステップと、
処理のため第２半導体ウェハ（１０５）を受け取るステップと、
前記第１の半導体ウェハおよび前記第２の半導体ウェハ（１０５）に対してカスケード処理操作を実行するステップと、を有し、前記カスケード処理操作は、前記第１の半導体ウェハ（１０５）が処理されている期間の少なくとも一部の間に、前記第２の半導体ウェハ（１０５）に関連するプロセス前計測データを取得するステップを含む、
方法。
【請求項２】
前記第２の半導体ウェハが処理されている期間の少なくとも一部の間に、前記第１の半導体ウェハに関連するプロセス後計測データを取得するステップをさらに有する、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
プロセス前計測データに基づきフィードフォワードプロセスを実行するステップをさらに含む、
請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記フィードフォワードプロセスに基づき半導体ウェハの後続のプロセスを実行するステップをさらに含む、
請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記プロセス前計測データに基づきフィードフォワードプロセスを実行するステップは、ランツーランフィードフォワードループを実行するステップをさらに含む、
請求項４に記載の方法。
【請求項６】
ランツーランフィードフォワードループを実行するステップは、半導体ウェハの後続のランを処理するために少なくとも１つの制御入力パラメータを変更するステップをさらに含む、
請求項５に記載の方法。
【請求項７】
プロセス前計測データを取得するステップは、組み込み計測装置を使用してプロセス前計測データを取得するステップをさらに有する、
請求項６に記載の方法。
【請求項８】
プロセス後計測データを取得するステップは、組み込み計測装置を使用してプロセス後計測データを取得するステップをさらに有する、
請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記プロセス後計測データに基づくフィードバックプロセスを実行するステップをさらに有し、前記フィードバックプロセスを実行するステップは、ウェハ間のフィードバックループを実行するステップを有する、
請求項２に記載の方法。
【請求項１０】
前記ウェハ間のフィードバックループを実行するステップは、半導体ウェハの後続の処理に対する制御入力パラメータの少なくとも１つを変更するステップをさらに含む、
請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
処理のため第１半導体を受け取るステップは、複数の半導体ウェハのうちの第１セットを受け取るステップをさらに有する、
請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
処理のため第２半導体を受け取るステップは、複数の半導体ウェハのうちの第２セットを受け取るステップをさらに有する、
請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記第１の半導体ウェハおよび前記第２の半導体ウェハに対してカスケード処理操作を実行する前記ステップは、
前記第１の半導体ウェハに関連するプロセス前計測データを取得するステップと、
前記第１の半導体ウェハに関連する前記プロセス前計測データを取得した後に、前記第１の半導体ウェハを処理するステップと、
前記第１の半導体ウェハが処理されている期間の少なくとも一部の間に、前記第２の半導体ウェハに関連するプロセス前計測を取得するステップと、
前記第１の半導体ウェハの前記処理の後に、前記第１の半導体ウェハに関連するプロセス後計測データを取得するステップと、
前記第１の半導体ウェハに関連するプロセス後計測データを取得している期間の少なくとも一部の間に、前記第２の半導体ウェハを処理するステップと、
前記第２の半導体ウェハの前記処理の後に、前記第２の半導体ウェハの前記処理に応答してプロセス後計測データを取得するステップと、を有する、
請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
処理のため第１半導体ウェハを受け取るステップと、
処理のため第２半導体ウェハを受け取るステップと、
前記第１の半導体ウェハに関連するプロセス前計測データを取得するステップと、
前記第１の半導体ウェハに関連する前記プロセス前計測データを取得した後に、前記第１の半導体ウェハを処理するステップと、
前記第１の半導体ウェハが処理されている期間の少なくとも一部の間に、第２の半導体ウェハに関連するプロセス前計測データを取得するステップと、
前記第２の半導体ウェハに関連するプロセス前計測データを取得する前記第２の半導体ウェハを処理するステップと、
前記第２の半導体ウェハが処理されている期間の少なくとも一部の間に、前記第１の半導体ウェハに関連するプロセス後計測データを取得するステップと、
前記第２の半導体ウェハが前記処理後、前記第２の半導体ウェハに関連するプロセス後データを取得するステップとを含む、
方法。
【請求項１５】
前記プロセス前計測データに基づくフィードフォワードプロセスを実行するステップをさらに含む、
請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記フィードフォワードプロセスに基づく半導体ウェハの後続のプロセスを実行するステップをさらに含む、
請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記プロセス前計測データに基づくフィードフォワードプロセスを実行するステップは、ランツーランフィードフォワードループを実行するステップをさらに含む、
請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記ランツーランフィードフォワードループを実行するステップは、半導体ウェハの後続のランを処理するステップに対する制御入力パラメータの少なくとも１つを変更するステップをさらに含む、
請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
プロセス前計測データを取得するステップは、組み込み計測装置を使用してプロセス前計測データを取得するステップをさらに含む、
請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
プロセス前計測データを取得するステップは、組み込み計測装置を使用してプロセス後計測データを取得するステップをさらに含む、
請求項１８に記載の方法。  
【請求項２１】
前記プロセス後計測データに基づきフィードバックプロセスを実行するステップをさらに含み、
前記フィードバックプロセスを実行するステップは、ウェハ間フィードバックループを実行するステップを含む、
請求項１４に記載の方法。  
【請求項２２】
ウェハ間フィードバックループを実行するステップは、半導体ウェハの後続の処理のため制御入力パラメータの少なくとも１つを変更するステップをさらに含む、
請求項２１に記載の方法。  
【請求項２３】
処理のため第１の半導体ウェハを受け取るステップは、複数の半導体ウェハのうち第１セットを受け取るステップをさらに含む、
請求項１４に記載の方法。  
【請求項２４】
処理のため第２の半導体ウェハを受け取るステップは、複数の半導体ウェハのうち第２セットを受け取るステップをさらに含む、
請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月12日(2005.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射のビームを放つことが出来る変調された源；
該ビームの光路内の検出器；
該検出器と連絡している同期復調器；
患者によって携帯されて用いられるように、そして該源と該検出器を収納するように、大きさが作られ且つ構成された、ハウジング；
サンプル要素が容器中に置かれた時に該サンプル要素の少なくとも一部が光路中に置かれるように大きさが作られ且つ構成された、該サンプル要素を手動で受け入れるためにハイジング内に形成された容器；および
該ハウジングの該容器中で取りはずし可能に置かれており、且つ少なくとも一部は該放射が通過できる材料から作られている、使い捨てできるサンプル要素、ここで該サンプル要素は、
無視できないスペクトルバンドの吸収を有するサンプルセル壁；および
患者によって患者からのサンプルで少なくとも一部は満たされるように構成されたサンプルセル；
を含んで成り；
更に、放射の該スペクトルバンドを透過するよう構成されている、該ビームの該光路内のフィルタリングシステムを含んでおり；
ここで、該フィルタリングするシステムは以下の中心波長：約５．２５μｍ、約６．１２μｍ、約７．４μｍ、約８．０μｍ、約８．４５μｍ、約９．２５μｍ、約９．６５μｍ、１０．４μｍ、約１２．２μｍ、の少なくとも１つにおいて放射を透過するよう構成されている、
患者によって携帯して運ぶことができるように大きさが作られ且つ構成された、無試薬グルコース検出システム。
【請求項２】
フィルタリングシステムが、複数のスペクトルバンドおよび複数の波長から成る群から選択される一方を透過するように作られている、請求項１に記載の検出システム。
【請求項３】
フィルタリングシステムが軸線の周りを回転可能である、請求項１に記載の検出システム。
【請求項４】
サンプル要素が、更に開口部とサンプル供給通路を含んで成り、該サンプル供給通路が該開口部と該サンプルセルの間に延びている、請求項１に記載の検出システム。
【請求項５】
ハウジングが、患者の手のひらまたはポケットに収まるに十分小さいように大きさが作られ且つ構成された、請求項１に記載の検出システム。
【請求項６】
放射が通過できる材料が、ポリエチレンおよびポリプロピレンから成る群から選択される、請求項１に記載の検出システム。
【請求項７】
サンプルセルが変調された源から放たれた放射のビームの光路に置かれた時に、サンプル要素の少なくとも一部がハウジングから延びる、請求項１に記載の検出システム。
【請求項８】
変調された源が第一及び第二の放射のビームを放つことができ、サンプルセルが第一のビームの光路に置かれ、サンプル要素の第二の部分が第二のビームの光路に置かれている、請求項１に記載の検出システム。
【請求項９】
サンプル要素の第二の部分が、ポリエチレンおよびポリプロピレンから成る群から選択される材料から作られている校正部分である、請求項８に記載の検出システム。
【請求項１０】
（ｉ）中心波長を有するスペクトルバンドを含む放射の被検体ビーム、および（ｉｉ）放射の校正ビーム、を放つことができる変調された源；
被検体ビームの光路にある検出器；
検出器と連絡した同期非変調器；
被検体ビームと校正ビームに対応するシグナルを比較するように構成された、検出器と連絡したプロセッサー；
源および検出器を収容するように作られたハウジング；
サンプルで満たされるように作られ、
スペクトルバンドの放射の無視できない吸収を有するサンプルセル壁；および
サンプルセル；
を含む、被検体ビームの光路および校正ビームの光路に置かれた使い捨てできるサンプル要素；
および
以下の中心波長：約５．２５μｍ、約６．１２μｍ、約７．４μｍ、約８．０μｍ、約８．４５μｍ、約９．２５μｍ、約９．６５μｍ、約１０．４μｍ、約１２．２μｍ、の少なくとも１つの放射を透過するように構成された、被検体ビームの光路のフィルタリングシステム、
を含んで成る、患者近傍で展開され得る無試薬被検体検出システム。
【請求項１１】
フィルタリングシステムが、複数のスペクトルバンドおよび複数の波長から成る群から選択される一方を透過するように作られている、請求項１０に記載の無試薬被検体検出システム。
【請求項１２】
放射の被検体ビームの光路が、放射の校正ビームの光路から間隔をおいてある、請求項１０に記載の無試薬被検体検出システム。
【請求項１３】
サンプルセルが校正部分を含んでなり、校正部分が校正ビームの光路に沿って置かれる時にサンプルセルが被検体ビームの光路に沿って置かれるように大きさが作られ且つ構成されている、請求項１０に記載の無試薬被検体検出システム。
【請求項１４】
校正部分が第一の材料から作られた校正部分壁を含んでなり、そしてサンプルセル壁が第二の材料から作られている、請求項１３に記載の無試薬被検体検出システム。
【請求項１５】
校正部分壁の厚さとサンプルセル壁の厚さがほぼ同じであり、第一の材料と第二の材料がほぼ同じ透過特性を有する、請求項１４に記載の無試薬被検体検出システム。
【請求項１６】
校正部分が校正窓を含んでなり、サンプルセル壁が複数のサンプル窓をふくんでなる、請求項１４に記載の無試薬被検体検出システム。
【請求項１７】
サンプル要素が更にサンプルセルから延びる通路を含んでなり、該通路が流体をサンプルセルに運ぶのに適合されている、請求項１０に記載の無試薬被検体検出システム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月31日(2005.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータ・ネットワークを介して滅菌施設から滅菌工程情報を受信するステップと、
前記受信情報に基づいてレポートを生成するステップと、
ネットワーク・クライアントに前記コンピュータ・ネットワークを介して前記レポートへのアクセス権を与えるステップと、を含む方法。
【請求項２】
滅菌施設に関連付けられていて、コンピュータ・ネットワークを介して滅菌工程情報を送信するクライアント・コンピュータと、
前記コンピュータ・ネットワークを介して前記クライアント・コンピュータから前記滅菌工程情報を受信し、前記受信した情報に基づいてレポートを生成し、ネットワーク・クライアントに対して前記コンピュータ・ネットワークを介して前記レポートへのアクセス権を与えるネットワーク・サーバと、を含むシステム。
【請求項３】
コンピュータ・ネットワークを介して滅菌施設から滅菌工程情報を受信するステップと、
前記滅菌工程情報に基づいて前記滅菌施設による滅菌資材の消費量を判定するステップと、
前記判定に基づいて前記滅菌施設へ追加の量の滅菌資材を配送する旨の注文を処理するステップと、を含む方法。
【請求項４】
コンピュータ・ネットワークを介して滅菌施設から滅菌工程情報を受信するステップと、
前記滅菌工程情報に基づいて前記滅菌施設による滅菌資材の消費量を判定するステップと、
前記判定に基づいて前記滅菌施設へ追加の量の滅菌資材を配送する旨の注文を処理するステップと、
前記滅菌工程情報に基づいて前記滅菌施設に関連付けられた滅菌設備の保守をスケジューリングするステップと、
前記滅菌工程情報に基づいて滅菌工程標準の遵守状況を示すレポートを生成するステップと、
査察者に対して前記コンピュータ・ネットワークを介して前記レポートへのアクセス権を与えるステップと、を含む方法。
【請求項５】
滅菌施設に関連付けられていて、コンピュータ・ネットワークを介して滅菌工程情報を送信するクライアント・コンピュータと、
前記滅菌工程情報に基づいて前記滅菌施設による滅菌資材の消費量を判定し、
前記判定に基づいて前記滅菌施設へ追加の量の滅菌資材を配送する旨の注文を処理し、
前記滅菌工程情報に基づいて前記滅菌施設に関連付けられた滅菌設備の保守をスケジューリングし、
前記滅菌工程情報に基づいて滅菌工程標準の遵守状況を示すレポートを生成し、
査察者に対して前記コンピュータ・ネットワークを介して前記レポートへのアクセス権を与えるネットワーク・サーバと、を含むシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月4日(2005.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
協働するケースを持ち、電子式支払機構に使用するカードにおいて、
前記カードは、上面及び下面と、これ等の面のうちの一方に沿って設けた磁気ストライプと、キー・チェーン・ループが貫通するのを許容するように形成した穴とを備え、
前記上面及び下面のそれぞれは、前記カードの互いに対向する向きの前面及び後面上の表面区域を画定し、前記上面及び下面に沿う中心線に対し形状を定められ、
前記磁気ストライプは、前記カードに関連する人による信用購入に関係する情報を含み、
前記穴は、前記カードの前記一方の面に沿う中心線から間隔を置いて位置させられ、
前記カードは、協働するケースの上方のカバー部分と下方のカバー部分との間に挿入され、
前記カードの上面区域の大部分を前記カバー部分により閉じ込める閉位置から前記カードの下面区域の大部分を前記カードにアクセスできるように前記カバー部分から露出する開位置まで、前記カードを、前記上方のカバー部分と前記下方のカバー部分との間で移動できるようにして成る、
カード。
【請求項２】
前記カードの上面及び下面のそれぞれは、前記面に沿う上下方向中心線に対して非対称形に形成された請求項１のカード。
【請求項３】
前記カードは、第１のカード半径で形成された少なくとも１つの弧状部分を持つ第１のカード端部を備えた請求項１のカード。
【請求項４】
前記カード又は前記ケースは、その中に埋め込んだマイクロプロセッサ・チップを備えた請求項１のカード。
【請求項５】
前記ケースの前記上方のカバー部分及び下方のカバー部分のうちの少なくとも１つが、前記カードに関連するバーコード情報を備えた請求項１のカード。
【請求項６】
前記カードが、枢動連結部において前記上方及び下方のカバー部分に枢動可能に連結された請求項１のカード。
【請求項７】
前記カードを、前記上方及び下方のカバー部分に対する前記枢動連結部から除去できるようにした請求項６のカード。
【請求項８】
前記カードが、前記上方及び下方のカバー部分に対する前記枢動連結部用の開放端部を持つ穴を備えた請求項６のカード。
【請求項９】
電子式支払機構に使用するカードにおいて、
前記カードは、上面及び下面と、これ等の面のうちの一方に沿って設けた磁気ストライプと、第１のカード半径で形成された少なくとも１つの弧状部分を持つ第１のカード端部と、キー・チェーン・ループが貫通するのを許容するように形成した穴とを備え、
前記上面及び下面のそれぞれは、前記カードの互いに対向する向きの前面及び後面上の表面区域上の表面区域を画定し、前記上面及び下面に沿う中心線に対し形状を定められ、
前記磁気ストライプは、前記カードに関連する人による信用購入に関係する情報を含み、
前記穴は、前記カードの前記一方の面に沿う中心線から間隔を置いて位置させられて成る、
カード。
【請求項１０】
前記カードは、第２のカード半径で形成された少なくとも１つの弧状部分を持つ第２のカード端部を備えた請求項９のカード。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月7日(2005.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パッケージ内に形成されたそれぞれの凹形空洞に装填される、少なくとも１つのコンタクトレンズを収容するブリスタ型パッケージであって、以下に列記する特徴： 
（ａ）前記または各空洞が概して円対称である、
（ｂ）前記または各空洞の内部表面における曲率半径が、１０ｍｍ未満、好ましくは８．５ｍｍ〜９．０ｍｍの範囲である、
（ｃ）前記または各空洞の内部表面における曲率半径が、−３．００Ｄコンタクトレンズに対して、その空洞に装填されたそれぞれのコンタクトレンズの前方光学ゾーン半径に等しいか、またはそれの±２００ミクロンの範囲にある、
（ｄ）前記または各空洞の内部半径と、その空洞に装填されたそれぞれのコンタクトレンズの後方光学ゾーン半径との比が、１．２未満、好ましくは１．１未満である、
の内の特徴（ａ）と、特徴（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）の少なくとも１つとを有し、
前記または各空洞が、１個のコンタクトレンズと、それぞれの量の保存液とを収納するとともに、前記または各空洞の内表面が、部分真球からの局所偏差を有する部分球形面として形成され、前記局所偏差が、前記内表面とレンズの間に液体が進入して、前記内表面とレンズとの間の毛細管引力を分断するように形成されている、前記パッケージ。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月28日(2005.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データシャッフル命令の実行に応答して、係数データ記憶装置内の係数構成に従って、目的データ記憶装置内の選択されたデータ部分を構成するステップと、
乗加算命令の実行に応答して、前記目的データ記憶装置内のデータと前記係数データ記憶装置内の係数との複数の積和ペアを生成するステップと、
隣接加算命令の実行に応答して、１以上のデータ処理演算結果を構成するため、前記目的データ記憶装置内の隣接する積和ペアを加算するステップと、
前記１以上のデータ処理演算結果を格納するステップと、
から構成されることを特徴とする方法。
【請求項２】
データロード命令の実行に応答して、ソースデータ記憶装置及び補助データ記憶装置内の入力データストリームデータをロードするステップと、
データ処理演算に従って記憶装置内に構成されるように、係数データ記憶装置に係数をロードするステップと、
データシャッフル命令の実行に応答して、前記係数データ記憶装置内の係数の構成に従って目的データ記憶装置内の選択されたデータ部分を構成するステップと、
１以上のデータ処理演算結果を生成するため、前記データ処理演算に従って前記係数データ記憶装置内の係数を用いて前記目的データ記憶装置内のデータを処理するステップと、
から構成されることを特徴とする方法。
【請求項３】
プロセッサによる実行時に、コンピュータに指定された方法により機能するよう指示するプログラム命令を含むコンピュータ可読記憶媒体であって、
前記プログラム命令は、
データロード命令の実行に応答して、ソースデータ記憶装置及び補助データ記憶装置内の入力データストリームデータをロードするステップと、
データロード命令の実行に応答して、メモリ内に構成されたように、係数を係数データ記憶装置にロードするステップと、
データシャッフル命令の実行に応答して、前記係数データ記憶装置内の係数の構成に従って目的データ記憶装置内の選択されたデータ部分を構成するステップと、
１以上のデータ処理結果を生成するため、前記データ処理演算に従って前記ソースデータ記憶装置及び前記補助データ記憶装置内のデータを処理するステップと、
から構成されることを特徴とする媒体。
【請求項４】
命令を実行する回路を有するプロセッサと、
前記プロセッサに接続され、命令シーケンスが格納される記憶装置と、
から構成される装置であって、
前記命令シーケンスは、前記プロセッサによる実行時に、
データ処理演算に従って、記憶装置内に構成されるように、係数を係数データ記憶装置にロードするステップと、
データシャッフル命令の実行に応答して、前記係数データ記憶装置内の係数の構成に従って目的データ記憶装置内の選択されたデータ部分を構成するステップと、
１以上のデータ処理結果を生成するため、前記データ処理演算に従って、データ記憶装置による係数を利用して前記目的データ記憶装置内のデータを処理するステップと、
を前記プロセッサに実行させることを特徴とする装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月8日(2005.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光軸の周りに配置された導光ミクロ構造内に配置されたモードフィールドと、前記ミクロ構造を取り囲むジャケットとを備えた、ミクロ構造を有する光ファイバの端部と、
光軸の周りに配置されたモードフィールドを備え、該モードフィールドの直径が前記ミクロ構造を有する光ファイバの前記モードフィールドの直径にほぼ等しい光ファイバの端部と、
前記双方ファイバを接合する、前記端部の融着部とを含み、
該融着部における光学的損失が１dB 未満であることを特徴とする光学的継ぎ接合部。
【請求項２】
前記光学的損失が０．３０dB 未満であることを特徴とする光学的継ぎ接合部。
【請求項３】
シリカからなる前記融着部が少なくとも２１０ＭＰａ（３０Kpsi）の引っ張り強度を有することを特徴とする請求項１記載の光学的継ぎ接合部。
【請求項４】
前記ミクロ構造を有する光ファイバの前記ミクロ構造が、前記光軸と平行に配置された少なくとも１本の孔を備え、前記融着部の近傍における前記孔の断面の縮小度合が５０％未満であることを特徴とする請求項３記載の光学的継ぎ接合部。
【請求項５】
ジャケットによって取り囲まれた導光ミクロ構造を備えた、ミクロ構造を有する光ファイバの端部と、普通の光ファイバの端部との間に光学的継ぎ部を形成する方法であって、
前記双方の端部を対向関係に整列させ、
電気的に作動される融着接続機から約８ｍＡと１２ｍＡとの間の電流でアークを発生させ、 
前記双方の端部を０．２秒と０．４秒との間の期間前記アークに曝し、
前記対向する端部を接近させて接触させる、
諸ステップを含むことを特徴とする光学的継ぎ部の形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月28日(2005.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガリウムの原子分率が４９〜５５％の範囲にあり、見掛け密度が５．５〜６．１ｇ／ｃｍ３であり、ビッカース硬度が１ＧＰａを超える、多結晶窒化ガリウム（ＧａＮ）。
【請求項２】
０．２ｍｍ〜１ｍの厚さ又は最小寸法を有する、請求項１記載のＧａＮ。
【請求項３】
１ｍｍ〜１ｍの直径又は最大寸法を有する、請求項１記載のＧａＮ。
【請求項４】
平均粒度０．０１〜５０μｍの等軸結晶粒を含む、請求項１記載のＧａＮ。
【請求項５】
二乗平均平方根粗さ１００μｍ未満の実質的に平滑な表面を有する、請求項１記載のＧａＮ。
【請求項６】
（ａ）非金属容器に窒化ガリウム（ＧａＮ）を粉末又は冷間圧縮ピルのいずれか又は両方として装入、封止し、
（ｂ）容器を温度１１５０〜１３００℃の範囲、圧力１〜１０ｋｂａｒの範囲で熱間等圧加圧処理（ＨＩＰ処理）し、次いで
（ｃ）容器から多結晶ＧａＮを回収する
工程を含む、焼結多結晶ＧａＮの製造方法。
【請求項７】
封止する前に非金属容器内の空気を排気する、請求項６記載の方法。
【請求項８】
ＨＩＰ処理が２分〜２４時間実施される、請求項６記載の方法。
【請求項９】
回収工程が焼結多結晶ＧａＮから容器を研削除去する工程を含む、請求項６記載の方法。
【請求項１０】
（ａ）高圧／高温（ＨＰ／ＨＴ）反応セルに窒化ガリウム（ＧａＮ）を粉末又は冷間圧縮ピルのいずれか又は両方として入れ、
（ｂ）反応セルをＨＰ／ＨＴ装置に入れ、
（ｃ）容器に１２００〜１８００℃の範囲の温度及び５〜８０ｋｂａｒの範囲の圧力を加え、次いで
（ｄ）反応セルから多結晶ＧａＮを回収する
工程を含む、焼結多結晶ＧａＮの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月30日(2005.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
動物の疾患部位の潜在的な癒着に対する治療薬製造における治療有効量のフカンの使用。
【請求項２】
前記疾患部位は、手術部位であること、及び、組成物として前記疾患部位へ直接送達されるためにフカンが製造される請求項１に記載の使用。
【請求項３】
動物の疾患部位の関節炎に対する治療薬製造における治療有効量のフカンの使用。
【請求項４】
前記関節炎は、慢性関節リウマチである請求項３に記載の使用。
【請求項５】
前記薬剤が経口投与用の剤形で製造される請求項１から４のいずれかに記載の使用。
【請求項６】
前記薬剤が注射用の剤形で製造される請求項１から４のいずれかに記載の使用。
【請求項７】
前記薬剤が眼内投与、皮下投与、腹腔内投与、筋肉内投与、関節内投与、病巣内投与、膣内投与、直腸投与又は局所投与用の剤形で製造される請求項１から４のいずれかに記載の使用。
【請求項８】
動物の疾患部位の乾癬に対する治療薬製造における治療有効量のフカンの使用。
【請求項９】
前記薬剤が局所投与用の剤形で製造される請求項８に記載の使用。
【請求項１０】
前記薬剤がパッチ（添付剤）の剤形で製造される請求項８又は９に記載の使用。
【請求項１１】
前記フカンは、フコイダンである請求項１〜１０のいずれかに記載の使用。
【請求項１２】
前記薬剤が徐放性の重合体剤形で製造される請求項１、３及び８のいずれかに記載の使用。
【請求項１３】
前記重合体剤形は、フィルム、パッチ、ペースト、ミクロスフェア、インプラント、ゲル、スプレー又はリキッドを含むこと
を特徴とする請求項１２に記載の使用。
【請求項１４】
前記薬剤がクリーム、ペースト、注射可能な賦形剤及びポリマのうちの少なくとも１つを含む医薬組成物の剤形である請求項１、３、又は８のいずれかに記載の使用。
【請求項１５】
前記薬剤が該フカンと少なくとも１つの治療有効量の他の薬剤とを含む医薬組成物であることを特徴とする請求項１〜１１の何れか一項に記載の使用。
【請求項１６】
前記他の薬物は、パクリタキセル、ドキソルビシン、カンプトセシン及びエトポシドからなる群から選択される請求項１５に記載の使用。
【請求項１７】
前記他の薬物は、ミトキサントロン、メトトレキセート、メナジオン、プラムバジン、ユグロン、β−ラパコン、シクロスポリン、スルファサラジン、ステロイド、ラパマイシン、レチノイド、ドセタキセル及びコルヒチンからなる群から選択される請求項１５に記載の使用。
【請求項１８】
前記他の薬剤は、アンチセンスオリゴヌクレオチド、リボザイム、及びオリゴヌクレオチドＲＮＡ阻害剤より成る群から選択される請求項１５に記載の使用。
【請求項１９】
前記治療有効量のフカンは、医薬組成物の一部として送達され、かつ、該フカンは、該医薬組成物中に凡そ０．１％〜３５％ｗ／ｖの濃度で含まれる請求項１〜１８の何れか一項に記載の使用。
【請求項２０】
前記治療有効量のフカンは、医薬組成物の一部として送達され、かつ、該フカンは、該医薬組成物中に凡そ８０％〜１００％ｗ／ｖの濃度で含まれる請求項１〜１８の何れか一項に記載の使用。
【請求項２１】
前記治療有効量のフカンは、医薬組成物の一部として送達され、かつ、該フカンが該医薬組成物中に凡そ５％〜５０％ｗ／ｖの濃度で含まれる請求項１〜１８の何れか一項に記載の使用。
【請求項２２】
前記フカンが、更に、少なくとも１つの医薬的に許容可能な賦形剤を含む医薬組成物の一部である、請求項１〜２１の何れか一項に記載の使用。
【請求項２３】
前記医薬的に許容可能な賦形剤は、プルロニック、セルロース、アルギナート、アクリレート、ヒアルロン酸、ポリエチレングリコール及びキトサンからなる群から選択される請求項２２に記載の使用。
【請求項２４】
前記疾患部位へ直接送達されるように前記フカンが製造される請求項１、３及び８の何れか一項に記載の使用。
【請求項２５】
前記動物は、人間である請求項１〜２４の何れか一項に記載の使用。
【請求項２６】
治療有効量のフカンと、プルロニック、セルロース、アルギナート、アクリレート、ヒアルロン酸、ポリエチレングリコール及びキトサンからなる群から選択される少なくとも１つの医薬的に許容可能な賦形剤とを含むフカンの重合体剤形を含むこと
を特徴とする医薬組成物。
【請求項２７】
前記重合体剤形は、フィルム、パッチ、ペースト、ミクロスフェア、インプラント、ゲル、スプレー又はリキッドを含むこと
を特徴とする請求項２６に記載の医薬組成物。
【請求項２８】
前記フカンは、フコイダンであること
を特徴とする請求項２６に記載の医薬組成物。
【請求項２９】
治療有効量のフカンと、治療有効量の少なくとも１つの他の薬剤とを含み、当該他の薬剤がアンチセンスオリゴヌクレオチド、リボザイム及びオリゴヌクレオチドＲＮＡ阻害剤のうちの少なくとも１つを含むこと
を特徴とする医薬組成物。
【請求項３０】
前記フカンは、フコイダンであること
を特徴とする請求項２９に記載の医薬組成物。
【請求項３１】
癒着の治療のための薬剤の製造に使用するための請求項２６〜３０の何れか一項に記載の医薬組成物。
【請求項３２】
前記癒着は、手術に起因する癒着であること
を特徴とする請求項３１に記載の医薬組成物。
【請求項３３】
関節炎の治療のための薬剤の製造に使用するための請求項２６〜３０の何れか一項に記載の医薬組成物。
【請求項３４】
乾癬の治療のための薬剤の製造に使用するための請求項２６〜３０の何れか一項に記載の医薬組成物。
【請求項３５】
治療有効量のフコイダンと、医薬的に許容可能な賦形剤又は緩衝剤とを混合することを含むこと
を特徴とする人間の患者における癒着、関節炎及び乾癬のうちの少なくとも１つと関連する症状を緩和可能な薬剤の製造方法。
【請求項３６】
前記症状は、手術に起因する癒着と関連すること
を特徴とする請求項３５に記載の製造方法。
【請求項３７】
前記症状は、関節炎と関連すること
を特徴とする請求項３５に記載の製造方法。
【請求項３８】
前記症状は、乾癬と関連すること
を特徴とする請求項３５に記載の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月5日(2005.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
出発材料が粗血漿プロテイン画分である、請求項１〜８のいずれかによる方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１９】
薬物、例えばパラセタモル中毒に対して使用するための、請求項１５〜１８のいずれかによる製剤。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２０】
ビタミンＤの欠乏または中毒に関する疾病に使用される、請求項１５〜１９のいずれかによる製剤。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月5日(2005.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シフト中のある介護者とある患者の間での病原菌の伝播制御方法であって、
（１）シフトの開始後で患者との接触の前に、第１の組成物で介護者の手を洗い、この第１の組成物は殺生物剤の殺菌能力を低減させる種類のアニオン性種を介護者の手から排除するのを助け、
（２）工程（１）の後、シフトの終了まで、アニオン性界面活性剤を含有する組成物が皮膚と接触しないことを確保する：
工程を含有する病原菌の伝播制御方法。
【請求項２】
シフト中の複数の介護者と１以上の患者の間での病原菌の伝播制御方法であって、
（１）シフトの開始後でいずれかの患者との接触の前に、第１の組成物で各介護者の手を洗い、この第１の組成物は殺生物剤の殺菌能力を低減させる種類のアニオン性種を介護者の手から排除するのを助け、
（２）工程（１）の後、シフトの終了まで、アニオン性界面活性剤を含有する組成物がいずれの介護者の皮膚とも接触しないことを確保する：
工程を含有する病原菌の伝播制御方法。
【請求項３】
前記シフト中、工程１の後で患者との顕著な接触の前に、１以上の洗剤と１以上の殺生物剤を含有する第２の組成物で前記手を洗う工程をさらに含み、前記第２の組成物はいずれのアニオン性界面活性剤をも含まないことを特徴とする請求項１または請求項２による方法。
【請求項４】
各継続的な患者との接触の前で汚染の疑いのある業務の後に、介護者の手を、１以上の洗剤と１以上の殺生物剤を含有する第２の組成物で洗浄し、前記第２の組成物はいずれのアニオン性界面活性剤も含まないことを特徴とする先の請求項のいずれか１つによる方法。
【請求項５】
第２の組成物が水性組成物である請求項４による方法。
【請求項６】
第２の組成物は、消毒性手洗い製剤、外科用スクラブまたは消毒手揉み製剤、消毒クリーム、保水性ローション、ハンドクリーム等からなる群から選択される請求項４または請求項５による方法。
【請求項７】
さらに、いずれのアニオン性界面活性剤も含まないバリアクリームまたはハンドクリームを、シフト中、工程（１）の後に介護者の手に塗布する工程を含有する先の請求項のいずれか１つによる方法。
【請求項８】
第１の組成物はアルキルポリグルコシド界面活性剤を含有し、アニオン性種を含有しない先の請求項のいずれか１つによる方法。
【請求項９】
第１の組成物はアルキルポリグルコシド界面活性剤と、殺生物活性に影響しない１以上の適合性のあるアニオン性種を含有する請求項１〜７のいずれか１つによる方法。
【請求項１０】
組成物はアルキルポリグルコシド界面活性剤をＥＤＴＡまたはクエン酸とともに含有する請求項９による方法。
【請求項１１】
（１）シフトの開始時でいずれかの患者との接触前に介護者の手からアニオン性種を除去し、（２）その後のシフト中には、手とアニオン性界面活性剤を含有する組成物との接触を回避する工程を含有する感染制御方法。
【請求項１２】
第２の組成物と組み合わせた第１の組成物を含有し、先の請求項のいずれか１つの方法において使用されるキットであって、前記両組成物は、第２の組成物が殺生物剤を含有し、第２の組成物の使用前の第１の組成物の使用が、第２の組成物の殺生物剤の非活性化に対して使用者の皮膚を調節するようにしたことを特徴とするキット。
【請求項１３】
さらに、適合性のあるハンドクリームを含有する請求項１２によるキット。
【請求項１４】
第１の組成物は、殺生物剤の殺菌効果を低減させる種類のいずれのアニオン性種も含まないアルキルポリグルコシド配合の手洗い製剤を含有する請求項１２または１３によるキット。
【請求項１５】
第１の組成物は、殺生物剤の殺菌効果を低減させる種類のいずれのアニオン性種も含まないアルキルポリグルコシド配合の手洗い製剤を含有する請求項１２または１３によるキット。
【請求項１６】
第１の組成物は、アルキルポリグルコシド界面活性剤を含有し、いずれのアニオン性種も含まない請求項１５によるキット。
【請求項１７】
介護者の手に吸収されたアニオン性種を除去するのに有効な第１の手洗い製剤と、その殺生物効果が前記第１の手洗い製剤での皮膚洗浄において低減されない適合性のある殺生物性手洗い製剤を含有する組み合わせ。
【請求項１８】
第１の手洗い製剤は殺生物活性を有さない請求項１７による組み合わせ。
【請求項１９】
組み合わせがさらに、適合性のあるハンドクリームを含有する請求項１７または１８による組み合わせ。
【請求項２０】
第１の組成物がいずれのアニオン性種も含まないアルキルポリグルコシド配合手洗い製剤を含有する請求項１７〜１８いずれか１つによる組み合わせ。
【請求項２１】
実質的にここで記載したような方法。
【請求項２２】
実施例のいずれか１つを参照して実質的にここで記載したような組成物。
【請求項２３】
実施例１とここで例示した１以上の他の組成物のいずれかとの組み合わせによる組成物を含有するキット。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月1日(2005.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内因性蛋白質の産生または機能の欠損、または生化学的経路の調節不全により特徴付けられる疾患の治療用の組成物の製造における、蛋白質またはその蛋白質の生物学的活性を保持しているそのフラグメントの使用であって、内因性蛋白質が、Ｘ１がＲまたはＫであり、Ｘ２およびＸ３がいずれかのアミノ酸であるアミノ酸配列Ｘ１Ｘ１Ｘ２Ｘ３Ｘ１を含み、組成物の製造に用いられる蛋白質がこのアミノ酸配列を保持していることを特徴とする使用。
【請求項２】
Ｘ２がＡまたはＶである請求項１記載の使用。
【請求項３】
Ｘ３がＲまたはＫである請求項１ 記載の使用。
【請求項４】
Ｘ３がＲまたはＫである請求項２記載の使用。
【請求項５】
アミノ酸配列がＫＫＡＫＫまたはＫＫＶＫＫである前記請求項いずれか１項記載の使用。
【請求項６】
ヒト由来の蛋白質である前記請求項いずれか１項記載の蛋白質の使用。
【請求項７】
蛋白質が表２に記載されているもののいずれかである請求項１記載の使用。
【請求項８】
蛋白質がＩＲＡＫ１、ＭＹＤ８８、転写因子Ｅ２Ａ、ＦａｎｃｏｎｉＡ遺伝子産物および細胞質チロシンキナーゼから成る群から選択される請求項１記載の使用。
【請求項９】
請求項１ないし５いずれか１項に記載のアミノ酸配列を含む内因性蛋白質の産生または機能の欠損により特徴付けられる疾患の治療方法であって、機能的蛋白質またはその特定のアミノ酸配列を含む機能的フラグメントを含む組成物を患者に投与することを含む方法。
【請求項１０】
請求項１ないし５いずれか１項記載のアミノ酸配列を含む蛋白質に対してアフィニティーを有する抗体。
【請求項１１】
蛋白質が表２に記載されているもののいずれかであるか、またはその変異体である請求項１０記載の抗体。
【請求項１２】
蛋白質が癌遺伝子の産物である請求項１０または請求項１１記載の抗体。
【請求項１３】
ヒトＡＰＣ遺伝子の蛋白質産物に対してアフィニティーを有する請求項９ないし１１いずれか１項記載の抗体。
【請求項１４】
ペプチドが、Ｘ１がＲまたはＫであり、Ｘ２およびＸ３がいずれかのアミノ酸であるアミノ酸配列Ｘ１Ｘ１Ｘ２Ｘ３Ｘ１を含む、細胞膜を横断する転座能を有するペプチドおよび治療剤または診断剤のコンジュゲート。
【請求項１５】
Ｘ１がＫである請求項１４記載のコンジュゲート。
【請求項１６】
Ｘ２がＡまたはＶである請求項１４または請求項１５記載のコンジュゲート。
【請求項１７】
Ｘ３がＲまたはＫである請求項１４または請求項１５記載のコンジュゲート。
【請求項１８】
Ｘ３がＲまたはＫである請求項１６記載のコンジュゲート。
【請求項１９】
ペプチドが配列ＫＫＡＫＫまたはＫＫＡＲＫを含まない請求項１４ないし１８いずれか１項記載のコンジュゲート。
【請求項２０】
ペプチドがアミノ酸配列ＫＫＶＫＫを含む請求項１４ないし１９いずれか１項記載のコンジュゲート。
【請求項２１】
薬剤が治療用蛋白質である請求項１４ないし２０いずれか１項記載のコンジュゲート。
【請求項２２】
薬剤が抗体である請求項１４ないし２１いずれか１項記載のコンジュゲート。
【請求項２３】
抗体が請求項１ないし５いずれか１項記載の配列を含む蛋白質に対してアフィニティーを有する請求項２２に記載のコンジュゲート。
【請求項２４】
薬剤が細胞内においてその活性部位を有する請求項１４ないし２３いずれか１項記載のコンジュゲート。
【請求項２５】
薬剤がポリヌクレオチド分子である請求項１４ないし２０いずれか１項記載のコンジュゲート。
【請求項２６】
薬剤が造影剤である請求項１４ないし２０いずれか１項記載のコンジュゲート。
【請求項２７】
融合蛋白質である請求項１４ないし２３いずれか１項記載のコンジュゲート。
【請求項２８】
薬剤が化学リンカー分子を介してペプチドにコンジュゲートされる請求項１４ないし２６いずれか１項記載のコンジュゲート。
【請求項２９】
ペプチドが少なくとも２０個のアミノ酸を含む前記請求項いずれか１項記載のコンジュゲート。
【請求項３０】
治療または診断に用いるための前記請求項いずれか１項記載のコンジュゲート。
【請求項３１】
請求項２７に記載の融合蛋白質をコードする発現ベクター。
【請求項３２】
請求項３１に記載の発現ベクターを含む組換え細胞系。
【請求項３３】
細胞膜を横断してデリバリーされうる治療剤または診断剤の製造方法であって、薬剤を請求項１ないし５いずれか１項記載のアミノ酸配列を含むペプチドに共有結合させることを含む方法。
【請求項３４】
疾患を治療するための組成物の製造における、請求項１ないし５いずれか１項記載のアミノ酸配列を含むペプチドにコンジュゲートされる、細胞内で治療効果を与える治療剤の使用。
【請求項３５】
疾患を治療または診断するための組成物の製造における、請求項１ないし５いずれか１項記載のアミノ酸配列を含む、細胞膜を横断する転座能を有するペプチドおよび治療剤または診断剤のコンジュゲートの使用。
【請求項３６】
腫瘍の治療用の医薬の製造における、癌遺伝子の蛋白質産物に対してアフィニティーを有し、請求項１ないし５いずれか１項記載のアミノ酸配列を含む抗体の使用。
【請求項３７】
コンジュゲートが請求項１４ないし２９いずれか１項に記載されているものである請求項３４ないし３６いずれか１項記載の使用。
【請求項３８】
請求項１ないし７いずれか１項記載の蛋白質および医薬上許容される担体を含む、治療的に用いるための組成物。
【請求項３９】
蛋白質が、細胞膜を横断する転座能を有し、組成物が蛋白質のデリバリーを促進するいずれのさらなる転座因子も含まない、請求項２ないし８いずれか１項記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月19日(2004.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
梱包される商品を保護するための長形隅柱（２０、４０、６０）において、前記隅柱は、マンドレルの周りに巻き付けて、接着剤によって接着された複数の隣接する完全に連続した層に形成した紙で構成され、前記隅柱の長さにより所定の軸線が形成され、前記隅柱は、前記軸方向に可変断面形状を有しており、前記断面形状が１つの断面形状から別の断面形状に連続的に移行する隅柱。
【請求項２】
前記移行の領域は、一定の断面形状を有する部分（３２及び３４、５２及び５４、７２及び７４）の間に挟まれている、請求項１に記載の隅柱。
【請求項３】
前記隅柱は、互いに略垂直に配置された２つの脚部（２１及び２２、４１及び４２、６１及び６２）を備え、前記脚部は夫々、垂直端部（２３及び２４、４３及び４４、６３及び６４）で終端しており、前記脚部は、互いに概ね平行で離間して配置された関係にあり各端部で結合され前記脚部の前記垂直端部を形成している外壁（２６、４６、６６）と内壁（２５、４５、６５）とにより画定されており、前記内壁は前記梱包される商品に面している、請求項１に記載の隅柱。
【請求項４】
前記外壁（２６、４６、６６）は、一定の断面形状を有しており、前記内壁（２５、４５、６５）は、可変断面形状を有している、請求項３に記載の隅柱。
【請求項５】
前記隅柱は一定の水平方向の周長を有している、請求項１に記載の隅柱。
【請求項６】
前記隅柱（２０、６０）は、前記２つの脚部（２１及び２２、６１及び６２）を分割する垂直面を中心に対称である、請求項３に記載の隅柱。
【請求項７】
前記隅柱（４０）は、前記２つの脚部（４１及び４２）を分割する面を中心に非対称である、請求項３に記載の隅柱。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図９から図１４は、本発明の可変形状隅柱の第２の実施形態を示している。先行技術による隅柱１０並びに第１の実施形態２０と同じように、第２の実施形態４０は、互いに実質的に垂直で、一体的に形成された端部４３、４４で終端する２つの脚部４１、４２を備えている。脚部４１、４２は、互いに概ね離間して配置された関係にある内壁４５と外壁４６で画定されている。随意的に、内側に向けられたビード４７、４８が、各脚部４１、４２に沿って外壁４６に形成され、隅柱４０の軸方向全長に亘って伸びている。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月25日(2005.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
精製糖タンパク質であって、
（ａ）およそ１３０ｋＤの分子量を有し、
（ｂ）配列番号６に示されるアミノ酸配列またはそのペプチドを含み、
（ｃ）ネズミ抗体５８／４７−６９（ＩｇＭ）に特異的に結合し、該ネズミ抗体が配列番号２及び配列番号４の配列を含む、
糖タンパク質。
【請求項２】
該糖タンパク質が、ヒト腺癌細胞株２３１３２によって発現される糖タンパク質である、請求項１記載の精製糖タンパク質。
【請求項３】
該糖タンパク質上の炭水化物残基が、該ネズミ抗体に特異的に結合する、請求項１記載の精製糖タンパク質。
【請求項４】
請求項１記載の糖タンパク質を含む医薬。
【請求項５】
請求項１記載の糖タンパク質を含む、哺乳動物において腫瘍特異的抗体の形成を誘導するための医薬。
【請求項６】
請求項１記載の糖タンパク質を含む、腫瘍の予防的または療法的治療のための医薬。
【請求項７】
該腫瘍が、食道、胃、腸、直腸、肝臓、胆嚢、膵臓、肺、気管支、乳房、頚部、前立腺、心臓、バレット、卵巣、および／または子宮の腫瘍から選択される、請求項５または６記載の医薬。
【請求項８】
請求項１記載の糖タンパク質を含む医薬であって、
以下の腫瘍前駆症：
胃腫瘍の前駆症：
−胃粘膜の形成異常（ｄｙｓｐｌａｓｉａ）
−胃の腸化生（ｍｅｔａｐｌａｓｉａ）
−ヘリコバクター・ピロリ（Ｈｅｌｉｃｏｂａｃｔｅｒ  ｐｙｌｏｒｉ）関連胃炎
−胃の管状腺腫および管状絨毛腺腫
大腸腫瘍の前駆症：
−結腸の管状腺腫
−結腸の絨毛腺腫
−潰瘍性大腸炎における形成異常
食道における前駆症：
−食道のバレット形成異常
−食道のバレット化生
頚部腫瘍の前駆症：
−頚部上皮内新形成（ｎｅｏｐｌａｓｉａ）Ｉ
−頚部上皮内新形成ＩＩ
−頚部上皮内新形成ＩＩＩ
肺腫瘍の前駆症：
−気管支の扁平上皮化生
−気管支の扁平上皮形成異常
の治療のための医薬。
【請求項９】
精製抗腫瘍剤であって、該抗腫瘍剤が請求項１記載の精製糖タンパク質に特異的に結合し、該剤がヒト抗体１０３／５１ではない、抗腫瘍剤。
【請求項１０】
該抗腫瘍剤がヒト若しくはキメラ抗体またはその断片、マウス抗体またはその断片、ヒト化抗体またはその断片、一本鎖抗体、四量体抗体、二量体抗体または二特異性抗体である、請求項９記載の抗腫瘍剤。
【請求項１１】
ヒト、マウス、キメラまたはヒト化抗体断片が、Ｆａｂ、Ｆ（ａｂ）２またはＦａｂ’断片である、請求項１０記載の抗腫瘍剤。
【請求項１２】
請求項１記載の糖タンパク質に特異的に結合する、抗体またはその断片を含み、該抗体がヒト抗体１０３／５１ではない、診断剤。
【請求項１３】
腫瘍を同定する方法であって、請求項１記載の糖タンパク質に特異的に結合するポリペプチドの使用を含み、該ポリペプチドの組織への特異的な結合が腫瘍の存在を示し、該ポリペプチドがヒト抗体１０３／５１ではない、方法。
【請求項１４】
配列番号２の配列またはその断片を含む精製ポリペプチドであって、該ポリペプチドがヒト腺癌細胞株２３１３２に特異的に結合する、ポリペプチド。
【請求項１５】
該ポリペプチドが配列番号４の配列またはその断片をさらに含む、請求項１４記載の精製ポリペプチド。
【請求項１６】
配列番号１の配列を含む単離核酸配列。
【請求項１７】
配列番号３の配列を含む単離核酸配列。
【請求項１８】
抗腫瘍剤を同定する方法であって、請求項１記載の糖タンパク質を潜在的抗腫瘍活性を有する化合物と接触させ、該化合物が請求項１記載の糖タンパク質と特異的に結合するかどうかを決定することを含む、方法。
【請求項１９】
該化合物がヒト若しくはキメラ抗体またはその断片、マウス抗体またはその断片、ヒト化抗体またはその断片、一本鎖抗体、四量体抗体、二量体抗体または二特異性抗体である、請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
ヒト、マウス、キメラまたはヒト化抗体断片が、Ｆａｂ、Ｆ（ａｂ）２またはＦａｂ’断片である、請求項１９記載の方法。
【請求項２１】
抗腫瘍剤を産生する方法であって、該方法が（ａ）請求項１記載の精製糖タンパク質を哺乳動物に投与すること、（ｂ）該哺乳動物から該糖タンパク質に特異的に結合する化合物を単離することを含み、該化合物は候補抗腫瘍剤である、方法。
【請求項２２】
該哺乳動物から工程（ｂ）の該化合物を産生する細胞を単離することをさらに含む、請求項２１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月16日(2006.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体装置の製造方法であって、
絶縁体層に開口部を形成する処理と、
前記開口部を充填するためにタングステン（Ｗ）をデポジションする処理と、
前記デポジションされたＷをレーザー・サーマル・アニールして、前記開口部内の前記Wを溶解し、リフローさせる処理とを含む製造方法。
【請求項２】
前記開口部を充填するデポジションされたＷに、約0.78から約1.10ジュール／平方センチメーターの放射フルエンスで、パルスレーザー光ビームを照射することにより、レーザー・サーマル・アニールする処理を含む、請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
前記開口部を充填するデポジションされたＷを摂氏約３０００度から約３６００度の温度まで加熱して、それによって前記開口部内のＷをリフローさせる、レーザー・サーマル・アニール処理を含む、請求項２記載の製造方法。
【請求項４】
窒素中でレーザー・サーマル・アニールする処理を含む、請求項１記載の製造方法。
【請求項５】
約２００から約２０００sccmの流量の窒素を用いるレーザー・サーマル・アニール処理を含む、請求項４記載の製造方法。
【請求項６】
前記Wのデポジションの前に、前記開口部をライニングするバリア層をデポジションする処理を含む、請求項１記載の製造方法。
【請求項７】
前記バリア層は、前記絶縁体層上のチタン層と、前記チタン層上の窒化チタン層を含む複合物である、請求項６記載の製造方法。
【請求項８】
レーザー・サーマル・アニールの後で、化学機械研磨（CMP）を実行して、前記開口部内の前記Wの上面と前記絶縁体層の上面とが実質的にともに平坦になるようにする処理を含む、請求項１記載の製造方法。
【請求項９】
レーザー・サーマル・アニールの前に、化学機械研磨（CMP）を実行して、前記Wの上面と前記絶縁体層の上面とが実質的にともに平坦になるようにする処理を含む、請求項１記載の製造方法。
【請求項１０】
前記開口部を充填するデポジションされたＷに、約0.78から約1.10ジュール／平方センチメーターの放射フルエンスで、パルスレーザー光ビームを照射することにより、レーザー・サーマル・アニールする処理を含む、請求項４記載の製造方法。
【請求項１１】
前記開口部を充填するデポジションされたＷを摂氏約３０００度から約３６００度の温度まで加熱して、それによって前記開口部内のＷをリフローさせる、レーザー・サーマル・アニール処理を含む、請求項１０記載の製造方法。
【請求項１２】
前記絶縁体層は酸素を含む、請求項１記載の製造方法。
【請求項１３】
前記絶縁体層はホウ素および／またはリンでドープされた珪酸塩ガラスを含む、請求項１記載の製造方法。
【請求項１４】
コンタクト用開口部として機能する開口部を形成するステップと、コンタクトを形成するために当該開口部をＷで充填するステップとを含む、請求項１記載の製造方法。
【請求項１５】
ビア用開口部を形成するステップと、ビアを形成するために当該開口部をＷで充填するステップとを含む、請求項１記載の製造方法。
【請求項１６】
少なくとも４：１のアスペクト比（深さ／直径）を持つ開口部を形成するステップを含む、請求項１記載の製造方法。