【手続補正書】
【提出日】平成18年8月11日(2006.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体の分配を可能にするためのシステムであって、
基板の第１の表面に形成される第１のポートおよび第２のポートと、前記第１のポートを前記第２のポートに流体的に接続する、前記基板に形成されかつ第１の方向に延在する第１の流体通路と、前記第１の方向とは異なる第２の方向に延在する、前記基板の第１の表面に形成されるチャネルとを有する基板を備え、前記チャネルは、それぞれマニホルドの第１および第２の表面に形成される第１および第２のポートを含むマニホルドを位置決めするように適合され、前記マニホルドは、前記マニホルドの第１のポートを前記マニホルドの第２のポートに流体的に接続する流体通路を有し、
前記基板の第１の表面に形成される前記チャネルは、前記基板の第１の表面と前記マニホルドの第１の表面とが共通の平面で整列するようにその中にマニホルドを受けるように構成されることを特徴とする、システム。
【請求項２】
前記基板の前記第１および第２のポートは前記チャネルの第１の側に配設される、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記基板は、前記基板の第１の表面に形成される複数の開口を含み、前記複数の開口は、前記チャネルの第１の側に配設される少なくとも１つの第１の開口と、前記チャネルの第２の側に配設される少なくとも１つの第２の開口とを含み、前記少なくとも１つの第１および第２の開口は、前記基板の前記第２のポートおよび前記マニホルドの前記第１のポートと封止係合して流体構成要素を装着するように配置される、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記少なくとも１つの第１および第２の開口は、前記基板の前記第２のポートおよび前記マニホルドの前記第１のポートと封止係合して２ポートバルブを装着するように配置される、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記チャネルは、前記第１のマニホルドポートと前記第２の基板ポートとを整列させるための手段を含む、請求項１から４のいずれかに記載のシステム。
【請求項６】
前記基板は、前記基板の前記第１の表面に形成され、かつ前記チャネルの第２の側に配設される第３のポートおよび第４のポートと、前記第３のポートを前記第４のポートに流体的に接続する、前記基板に形成され、かつ前記第１の方向に延在する第２の流体通路とをさらに含む、請求項２に記載のシステム。
【請求項７】
前記基板は、前記基板の第１の表面に形成される第１の複数の開口を含み、前記第１の複数の開口は、前記チャネルの第１の側に配設される少なくとも１つの第１の開口と、前記チャネルの第２の側に配設される少なくとも１つの第２の開口とを含み、前記第１の複数の開口は、前記基板の前記第２および第３のポートならびに前記マニホルドの前記第１のポートと封止係合して流体構成要素を装着するように配置される、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記複数の装着開口は４つ以下の装着開口を含み、前記４つの装着開口は、前記チャネルの第１の側に配設される２つの装着開口と、前記チャネルの第２の側に配設される２つの装着開口とを含む、請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記第１の複数の開口は、前記基板の前記第２および第３のポートならびに前記マニホルドの前記第１のポートと封止係合して３ポートバルブを装着するように配置される、請求項７または８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記基板は、前記基板の第１の表面に形成され、前記チャネルの第１の側に配設される第５のポートと、前記チャネルの第１の側に配設され、前記第１の表面を横断する前記基板の第２の表面に形成される第６のポートと、前記第１の方向に延在し、前記第５のポートを前記第６のポートに流体的に接続する第３の流体通路とをさらに含む、請求項７または８に記載のシステム。
【請求項１１】
前記流体構成要素は第１の流体構成要素であり、前記基板は、前記基板の第１の表面に形成され、前記第１および第５のポートの付近に配設される第２の複数の開口をさらに含み、前記第２の複数の開口は、前記基板の前記第１および第５のポートと封止係合して第２の流体構成要素を装着するように配置される、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記第１の流体構成要素は、前記第１および第５の基板ポートに流体的に接続される２ポートバルブを備える、請求項１０または１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記第２の流体構成要素は、前記第２および第３の基板ポートならびに前記第１のマニホルドポートに流体的に接続される３ポートバルブを備える、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記第２の方向は前記第１の方向に垂直である、請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記第１の複数の開口は、前記基板の前記第２および第３のポートならびに前記マニホルドの前記第１のポートと封止係合して３ポートバルブを装着するように配置され、前記第２の複数の開口は、前記基板の前記第１および第５のポートと封止係合して２ポートバルブを装着するように配置される、請求項１１から１４のいずれかに記載のシステム。
【請求項１６】
前記基板は、前記基板の第１の表面に形成され、前記第４のポートの付近に配設される第３の複数の開口をさらに含み、前記第３の複数の開口は、前記第４のポートに第３の流体構成要素を装着するように配置される、請求項１１から１５のいずれかに記載のシステム。
【請求項１７】
前記第１の複数の開口は、前記基板の前記第２および第３のポートならびに前記マニホルドの前記第１のポートと封止係合して３ポートバルブを装着するように配置され、前記第２の複数の開口は、前記基板の前記第１および第５のポートと封止係合して２ポートバルブを装着するように配置され、前記第３の複数の開口は、マスフローコントローラの入口側および出口側のうち１つを前記第４のポートに装着するように配置される、請求項１６に記載のシステム。
【請求項１８】
前記チャネルは、前記マニホルドの前記第１のポートと前記基板の前記第２および第３のポートとを整列させるための手段を含む、請求項６から１７のいずれかに記載のシステム。
【請求項１９】
前記チャネルは１対の側壁およびベースを含み、前記チャネルの前記ベースは、前記マニホルドを前記チャネルから取り外すために剛性部材を挿入可能な開口を含む、請求項１から１８のいずれかに記載のシステム。
【請求項２０】
前記開口はねじ切りされ、前記マニホルドを前記チャネルから取り外すため、ねじ切りされた剛性部材を受けるように適合される、請求項１９に記載のシステム。
【請求項２１】
前記基板は第１の基板であり、前記システムは第２の基板をさらに備え、前記第２の基板は、第２の基板の第１の表面に形成される第１の基板ポートおよび第２の基板ポートと、第１の方向に延在し、かつ前記第２の基板の前記第１および第２の基板ポートを流体的に接続する第１の流体通路とを有し、
前記第２の基板は、その第１の表面に形成され、第２の方向に延在し、かつ前記第２の基板の第１の表面と前記マニホルドの第１の表面とが共通の平面で整列するようにその中で前記マニホルドを受けるように適合されるチャネルをさらに含む、請求項１から２０のいずれかに記載のシステム。
【請求項２２】
前記第１の基板の前記チャネルは第２の方向に沿って前記第２の基板のチャネルと整列される、請求項２１に記載のシステム。
【請求項２３】
第１および第２のポートならびに第１および第２の表面をそれぞれ有するマニホルドを含み、前記第２の表面は前記第１の表面を横断し、前記マニホルドはさらに、前記第１および第２のマニホルドポートを流体的に接続する流体通路を有する、請求項１から２２のいずれかに記載のシステム。
【請求項２４】
前記マニホルドは、エッジで終端する、前記マニホルドの第１の表面に形成される少なくとも１つの第１の凹部を含み、前記チャネルは１対の側壁およびベースを含み、前記１対の側壁のうち少なくとも１つの側壁は、前記ベースの中へ延在し、かつ第１のエッジを有する少なくとも１つの第１の凹部を含み、前記第１のエッジは前記少なくとも１つの第１の凹部と相補である、請求項２３に記載のシステム。
【請求項２５】
前記基板は第１の基板であり、前記マニホルドは第１のマニホルドであり、
前記システムはさらに第２の基板と第２のマニホルドとを備え、前記第２の基板は、前記第２の基板の第１の表面に形成された第１の基板ポートおよび第２の基板ポートと、第１の方向に延在し、かつ前記第２の基板の前記第１および第２の基板ポートを流体的に接続する第１の流体通路とを有し、前記第２のマニホルドは、前記第２のマニホルドの第１の表面に形成される第１のマニホルドポートと、前記第２のマニホルドの前記第１の表面を横断する前記第２のマニホルドの第２の表面に形成される第２のマニホルドポートと、前記第２のマニホルドの前記第１および第２のマニホルドポートを流体的に接続する流体通路とを含み、
前記第２の基板は、前記第２の基板の第１の表面に形成され、第２の方向に延在し、かつ前記第２の基板の第１の表面と前記第２のマニホルドの第１の表面とが共通の平面で整列するように前記第２のマニホルドを位置決めするように適合されるチャネルをさらに含む、請求項２３に従属した場合に請求項１から２０のいずれかに記載のシステム。
【請求項２６】
前記第１の基板の前記第１の流体通路は第１の方向に前記第２の基板の前記第１の流体通路と整列される、請求項２５に記載のシステム。
【請求項２７】
第３の基板をさらに備え、前記第３の基板は、前記第３の基板の第１の表面に形成された第１の基板ポートおよび第２の基板ポートと、第１の方向に延在し、かつ前記第３の基板の前記第１および第２の基板ポートを流体的に接続する第１の流体通路とを含み、
前記第３の基板は、前記第３の基板の第１の表面に形成され、第２の方向に延在し、かつ前記第３の基板の前記第１の表面と前記第１のマニホルドの前記第１の表面とが共通の平面で整列するように前記第１のマニホルドを位置決めするように適合されるチャネルをさらに含む、請求項２５または２６に記載のシステム。
【請求項２８】
第４の基板をさらに備え、前記第４の基板は、前記第４の基板の第１の表面に形成された第１の基板ポートおよび第２の基板ポートと、第１の方向に延在し、かつ前記第４の基板の前記第１および第２の基板ポートを流体的に接続する第１の流体通路とを含み、
前記第４の基板は、前記第４の基板の第１の表面に形成され、第２の方向に延在し、かつ前記第４の基板の前記第１の表面と前記第２のマニホルドの前記第１の表面とが共通の平面で整列するように前記第２のマニホルドを位置決めするように適合されるチャネルをさらに含む、請求項２７に記載のシステム。
【請求項２９】
前記第２の方向は前記第１の方向に垂直である、請求項２８に記載のシステム。
【請求項３０】
前記チャネルおよび前記マニホルドのうち少なくとも１つは、前記第１のマニホルドポートと前記第２の基板ポートとを整列させるための手段を含む、請求項２３に記載のシステム。
【請求項３１】
前記チャネルは１対の側壁およびベースを含み、前記１対の側壁のうち少なくとも１つの側壁は少なくとも１つの第１の溝を含み、前記マニホルドは少なくとも１つの第２の溝を含み、前記システムはさらに、前記第１のマニホルドポートが前記第２の基板ポートと整列されるように前記第１および第２の溝を整列させる少なくとも１つのピンを備える、請求項２３に記載のシステム。
【請求項３２】
前記少なくとも１つのピンは、前記第１および第２の溝に挿入された際に前記共通の平面よりも上に延在しない長さを有する、請求項３１に記載のシステム。
【請求項３３】
前記第１および第２の基板ポートのうち少なくとも１つは、漏れのないシールが達成されているか否かを検出するための手段を含む、請求項２３に記載のシステム。
【請求項３４】
前記チャネルは１対の側壁およびベースを含み、前記１対の側壁のうち少なくとも１つの側壁は、前記ベースの中へ延在し、かつ第１のエッジを有する少なくとも１つの第１の凹部を含み、前記マニホルドは、前記少なくとも１つの第１の凹部と相補である、第２のエッジで終端する少なくとも１つの第２の凹部を含み、前記システムはさらに、前記第１および第２のエッジと係合する少なくとも１つの固定具を備える、請求項２３に記載のシステム。
【請求項３５】
前記固定具は、前記第１および第２のエッジと係合した際に前記共通の平面よりも上に
延在しない、請求項３４に記載のシステム。
【請求項３６】
前記マニホルドおよび前記チャネルのうち一方は、ある形状を有する整列開口の対を含み、前記マニホルドおよび前記チャネルのうち他方は、前記整列開口の対と相補の形状を有する整列柱の対を含み、それぞれの開口の深さはそれぞれの整列柱の高さよりも大きい、請求項２３に記載のシステム。
【請求項３７】
前記整列開口の対および前記整列柱の対は、嵌め合わされると、前記第１のマニホルドポートが前記第２の基板ポートと第１の方向で整列するように構成されかつ配置される、請求項３６に記載のシステム。
【請求項３８】
前記少なくとも１つの第１のマニホルドポートは、前記マニホルドの第１の表面に形成される複数の第１のマニホルドポートを含み、前記複数の第１のマニホルドポートの各々は前記マニホルド流体通路に流体的に接続される、請求項２３に記載のシステム。
【請求項３９】
前記マニホルドの第１の表面を横断し、前記マニホルドの第２の表面に平行な前記マニホルドの第３の表面に形成される第３のマニホルドポートをさらに備え、前記第３のマニホルドポートは前記マニホルド流体通路に流体的に接続される、請求項３８に記載のシステム。
【請求項４０】
前記マニホルドは第１のマニホルドであり、前記第１のマニホルドの前記第２のマニホルドポートは第２のマニホルドのマニホルドポートと嵌り合うように適合され、前記第１のマニホルドの前記第３のマニホルドポートは第３のマニホルドのマニホルドポートと嵌り合うように適合され、前記第１、第２および第３のマニホルドは共通のマニホルドを形成する、請求項３９に記載のシステム。
【請求項４１】
前記マニホルドの前記第１、第２および第３の表面を横断する前記マニホルドの少なくとも１つの側面は、前記複数の第１のマニホルドポートの各々とそれぞれの基板のそれぞれのポートとを整列させるための手段を含む、請求項４０に記載のシステム。
【請求項４２】
前記マニホルドは第１のマニホルドであり、前記第１のマニホルドの前記第２のマニホルドポートは第２のマニホルドのマニホルドポートと嵌り合って共通のマニホルドを形成するように適合される、請求項２３に記載のシステム。
【請求項４３】
前記第２のマニホルドポートは、処理流体供給源に流体的に接続されるフランジと嵌り合うように適合される、請求項２３に記載のシステム。
【請求項４４】
前記マニホルドの前記第１および第２の表面を横断する前記マニホルドの少なくとも１つの側面は、前記少なくとも１つの第１のマニホルドポートと前記第１および第２の基板ポートのうち１つとを整列させるための手段を含む、請求項２３に記載のマニホルド。
【請求項４５】
前記マニホルドの前記第１および第２の表面を横断する前記マニホルドの少なくとも１つの側面は、前記少なくとも１つの第１のマニホルドポートと前記第１および第２の基板ポートのうち１つとを整列させるためのピンを受けるように適合される少なくとも１つの溝を含む、請求項２３に記載のマニホルド。
【請求項４６】
前記第１の表面に平行で、かつ前記第２の表面を横断する前記マニホルドの第３の表面に形成される整列開口および整列柱のうち少なくとも１つをさらに備える、請求項２３に記載のマニホルド。
【請求項４７】
前記マニホルドの第１の表面に形成されたエッジで終端する少なくとも１つの凹部をさらに備える、請求項２３に記載のマニホルド。
【請求項４８】
装着アセンブリであって、
本体を有する第１の部材を備え、前記第１の部材の前記本体は、その両面に、第１の方向に面する第１の表面と、第１の方向とは反対の第２の方向に面する第２の表面とを含み、前記第２の表面は、周に隣接して配設された溝を含む外側部分と、前記外側部分から第２の方向に延在する中央部分とを有し、さらに
本体を有する第２の部材を備え、前記第２の部材の前記本体は、その両面に、第１の方向に面する第１の表面と、第１の方向とは反対の第２の方向に面する第２の表面とを含み、前記第２の表面は、中央部分と、前記中央部分から延在し、かつ周に隣接して配設された溝を含む外側部分とを有し、前記第２の部材の前記本体は、第１の表面から本体を通り、第２の表面の中央部分を通って延在する通し孔をさらに含み、さらに
前記第２の部材の前記本体の通し孔内で受けられ、かつ前記本体第１の部材の第２の表面の中央部分と係合するように寸法決めされるねじ切りされたシャンクを有する第１の固定具を備える、装着アセンブリを含む、請求項１から４７のいずれかに記載のシステム。
【請求項４９】
前記第１の部材の前記本体の第２の表面の前記外側部分の溝内に少なくとも部分的に嵌合するように寸法決めされる第１の弾力部材と、前記第２の部材の前記本体の第２の表面の前記外側部分の溝内に少なくとも部分的に嵌合するように寸法決めされる第２の弾力部材とをさらに備える、請求項４８に記載のシステム。
【請求項５０】
前記第１の部材の前記本体は、前記第２の表面の前記中央部分の雌ねじを切られた孔をさらに含み、前記第１の固定具の前記ねじ切りされたシャンクは、雄ねじを切られ、かつ前記第１の部材の前記本体の第２の表面の前記中央部分の雌ねじを切られた通し孔内で受けられるように寸法決めされる、請求項４９に記載のシステム。
【請求項５１】
前記第１および第２の部材はほぼ円形の形状である、請求項５０に記載のシステム。
【請求項５２】
前記第１の部材の前記本体の第２の表面の前記中央部分は、１対の対向する平坦な側を備えたほぼ円筒形の形状である、請求項５１に記載のシステム。
【請求項５３】
前記第１の部材の前記本体の第２の表面の前記中央部分の前記雌ねじを切られた孔は、前記第１の部材の前記本体を通って前記第１の表面から、前記第１の部材の前記本体の前記第２の表面の前記中央部分を通って延在する、請求項５２に記載のシステム。
【請求項５４】
前記第１および第２の弾力部材はエラストマ材料から形成される、請求項４９に記載のシステム。