【事件の表示】
　特願２００３−３５６２８２「薄膜磁気ヘッド、これを用いた磁気記録装置及びその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年５月１２日出願公開、特開２００５−１２２８１８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　本願は、平成１５年１０月１６日の出願であって、平成２０年１０月２２日付けで通知した拒絶理由に対して平成２１年１月８日付けで手続補正がなされたが、同年３月２７日付けで拒絶すべきものである旨の査定がされ、これに対して、同年７月２７日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに、同日付けで特許請求の範囲について手続補正がなされた。
　その後、当審において平成２２年１１月３０日付けで前置報告書（特許法１６４条第３項）の内容を利用した審尋をしたところ、平成２３年２月１８日付けで回答書が提出されたものである。
　
第２　平成２１年７月２７日付け手続補正についての却下の決定 
　〔補正却下の決定の結論〕
　
　平成２１年７月２７日付け手続補正を却下する。
　
　〔理　由〕
　
１．補正の内容
　平成２１年７月２７日付け手続補正（以下「本件補正」という。）は、特許請求の範囲について、補正前（平成２１年１月１８日付で手続補正）に、
（ａ）「【請求項１】
　書き込み素子を含む薄膜磁気ヘッドであって、
　前記書き込み素子は、第１のヨーク部と、第１のポール部と、第２のポール部と、第２
のヨーク部と、ギャップ膜と、コイルとを含んでおり、
　前記第１のポール部は、媒体対向面側において、前記第１のヨーク部の前記一面上に突設され、上端が縮小された幅を有しており、
　前記第２のポール部は、前記第１のポール部の前記上端と、前記ギャップ膜を介して、同一幅で対向しており、
　前記第２のヨーク部は、前記媒体対向面側が前記第２のポール部に連続し、その反対側である後方側が、バックギャップ部により、前記第１のヨーク部と結合されており、
　前記コイルは、前記第１のヨーク部の前記一面上で、前記バックギャップ部の周りを、
渦巻き状に周回しており、
　さらに、前記第１のポール部は、複数のポール片を積層して構成され、そのうちの前記ギャップ膜と隣接するポール片は、幅方向の両側において、前記第２のポール部の幅に合わせてエッチングされ、エッチングによって生じた凹部の底部に残部が存在し、前記残部は、膜厚がポール片根元部に近づくにつれて増大するように、その表面が傾斜面となっている、
薄膜磁気ヘッド。
　【請求項２】
　請求項１に記載された薄膜磁気ヘッドであって、
　前記コイルは、第１のコイルと、第２のコイルとを含み、
　前記第１のコイル及び前記第２のコイルは、前記第１の磁性膜の前記一面上に形成された第１の絶縁膜の面上で、前記バックギャップ部の周りを、渦巻き状に周回し、一方が、
他方のコイルターン間のスペースに、第２の絶縁膜を介して嵌め込まれ、同一方向の磁束を生じるように接続されている薄膜磁気ヘッド。
　【請求項３】　請求項１又は２の何れかに記載された薄膜磁気ヘッドであって、
　前記コイルは、コイルターン間のスペースが、無機絶縁材料によって埋められており、
　前記コイル及び前記スペースを埋める前記無機絶縁材料は、無機絶縁材料でなる第３の絶縁膜によって覆われており、
　前記第３の絶縁膜は、表面が平坦化されており、
　前記第１のポール部は、第１のポール片と、第２のポール片と、第３のポール片とを含み、
　
前記第１のポール片は、前記第１のヨーク部の端によって構成されており、
　前記第２のポール片は、一面が前記第１のポール片に隣接しており、
　前記第３のポール片は、一面が前記第２のポール片の他面に隣接しており、
　前記第２のポール片は、前記他面が、前記第３の絶縁膜の平坦化された平面と、同一位置になるように平坦化されており、
　前記第３のポール片は、前記他面が、前記第３の絶縁膜の平坦化された平面に設けられた第４の絶縁膜の表面と同一位置になるように平坦化されており、
　前記ギャップ膜は、前記第３のポール片の他面に隣接している、
薄膜磁気ヘッド。
　（【請求項４】以下略）」
とあったところを、
　
（ｂ）「【請求項１】
　書き込み素子を含む薄膜磁気ヘッドであって、
　前記書き込み素子は、第１のヨーク部と、第１のポール部と、第２のポール部と、第２のヨーク部と、ギャップ膜と、コイルとを含んでおり、
　前記第１のポール部は、媒体対向面側において、前記第１のヨーク部の前記一面上に突設され、上端が縮小された幅を有しており、
　前記第２のポール部は、前記第１のポール部の前記上端と、前記ギャップ膜を介して、同一幅で対向しており、
　前記第２のヨーク部は、平面状であって、前記媒体対向面側が前記第２のポール部に連続し、その反対側である後方側が、バックギャップ部により、前記第１のヨーク部と結合されており、
　前記コイルは、前記第１のヨーク部の前記一面上で、前記バックギャップ部の周りを、渦巻き状に周回しており、
　
前記第１のポール部は、第１のポール片と、第２のポール片と、第３のポール片とを含み、
　
前記第２のポール片は、一面が前記第１のポール片の一面に隣接しており、
　
前記第３のポール片は、一面が前記第２のポール片の他面に隣接しており、
　
前記第２のポール片は、前記他面が、回りを埋める絶縁膜の平坦化された平面と、同一位置になるように平坦化されており、
　
前記第３のポール片は、前記他面の一部が、前記絶縁膜の平坦化された平面に設けられた他の絶縁膜の表面と同一位置になるように平坦化され、かつ、平坦化された面の
　
前記ギャップ膜は、前記第３のポール片の前記平坦化された面に隣接している、
薄膜磁気ヘッド。
　【請求項２】
　請求項１に記載された薄膜磁気ヘッドであって、
　前記コイルは、第１のコイルと、第２のコイルとを含み、
　前記第１のコイル及び前記第２のコイルは、前記第１の磁性膜の前記一面上に形成された第１の絶縁膜の面上で、前記バックギャップ部の周りを、渦巻き状に周回し、一方が、
他方のコイルターン間のスペースに、第２の絶縁膜を介して嵌め込まれ、同一方向の磁束を生じるように接続されている薄膜磁気ヘッド。
　【請求項３】
　請求項１又は２の何れかに記載された薄膜磁気ヘッドであって、
　前記コイルは、コイルターン間のスペースが、無機絶縁材料によって埋められており、
　前記コイル及び前記スペースを埋める前記無機絶縁材料は、無機絶縁材料でなる第３の絶縁膜によって覆われており、
　前記第３の絶縁膜は、表面が平坦化されている、薄膜磁気ヘッド。
　（【請求項４】以下略）」
と補正することを含むものである。
　なお、請求項４ないし１７については、記載上変更がないので、摘記を省略した。
　
２．本件補正の適否
　本件補正は、概略、本件補正前の請求項３に記載された発明を特定するために必要な事項のうち、
「前記第１のポール部は、第１のポール片と、第２のポール片と、第３のポール片とを含み」の点、及び
「前記第２のポール片は、一面が前記第１のポール片に隣接しており、
　前記第３のポール片は、一面が前記第２のポール片の他面に隣接しており、
　前記第２のポール片は、前記他面が、前記第３の絶縁膜の平坦化された平面と、同一位置になるように平坦化されており、
　前記第３のポール片は、前記他面が、前記第３の絶縁膜の平坦化された平面に設けられた第４の絶縁膜の表面と同一位置になるように平坦化されており、
　前記ギャップ膜は、前記第３のポール片の他面に隣接している」の点を、一部文言の修正を加えて、請求項１に加入したものに相当し、したがって、請求項１、及び同請求項を引用する請求項２については、補正前の請求項にあった「第１のポール部」に限定を加えるものと解することができる。
　しかしながら、本件補正後の請求項３は、前記請求項１に加入された事項を記載上削るのみならず、
「
前記第１のポール片は、前記第１のヨーク部の端によって構成されており
との特定事項まで削除しているので、同請求項において引用する請求項１又は２に記載された特定事項を考慮しても、本件補正前の請求項３にあった特定事項を限定したものと認めることができない。
　すなわち、本件補正前の請求項３に記載された「薄膜磁気ヘッド」は、前記第１のヨーク部の端によって構成された「第１のポール片」、「第２のポール片」、及びギャップ膜に隣接する「第３のポール片」の３つのポール片で構成されたヘッドに限定されることが明らかであるのに対し、本件補正後の請求項３は、単に「第１のポール片」、「第２のポール片」、及びギャップ膜に隣接する「第３のポール片」を有していればよいのであって、「第１のポール片」が「第１のヨーク部の端によって構成され」ているものに限定されるわけでもなく、また、第１ないし第３の各ポール片以外のポール片を有するものも含まれることが明らかであるからである。
　また、請求項３についての補正事項は、不明瞭な記載の釈明、又は誤記の訂正に当たらないことも明らかである。
　すると、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項各号に掲げる事項を目的とするものと認めることができない。
　
３．本件補正についてのむすび
　以上のとおりであるから、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
　
第３　本願発明について
１．本願発明
　平成２１年７月２７日付けの手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項１ないし１７に係る発明は、平成２０年１０月２２日付けで手続補正された特許請求の範囲の請求項１ないし１７に記載されたとおりのものと認められるところ、そのうち、請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、上記「第２［理由］１．補正の内容　（ａ）」に、本件補正前の【請求項１】として掲げたとおりのものである。
　
２．引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前に頒布された刊行物である特開２００３−２４２６１０号公報（平成１５年８月２９日公開、以下「引用例１」という。）には、エアーベアリング面を規定するように積層された誘導型薄膜磁気ヘッド素子を具える薄膜磁気ヘッドに関し、図面と共に、以下の記載がある。（なお、下線は当審で付与した。）
　
（ア）「【００３６】さらに本発明による薄膜磁気ヘッドは、
基板と、この基板によって支持され、エアーベアリング面を規定するように積層された誘導型薄膜磁気ヘッド素子を具える薄膜磁気ヘッドであって、前記誘導型薄膜磁気ヘッド素子が、
エアーベアリング面から内方に延在するように形成された磁性材料より成る下部ポールと、この下部ポールの一方の表面上に、前記エアーベアリング面からスロートハイト零の基準位置まで延在するように形成された磁性材料より成る下部トラックポールと、前記下部ポールの一方の表面上に、前記エアーベアリング面から離れた位置においてバックギャップを構成するように形成された磁性材料より成る橋絡部と、前記下部ポールの一方の表面上に、下部ポールとは反対側の表面が前記下部トラックポールの表面と同一面となるように形成された薄膜コイルと、前記下部トラックポールおよび薄膜コイルの平坦な表面の上に平坦に形成された非磁性材料より成るライトギャップ膜と、このライトギャップ膜の、前記下部トラックポールと接触する側とは反対側の表面に形成され、前記下部トラックポールと整列する上部トラックポールが一体的に形成されているとともに前記橋絡部と接触するように形成された磁性材料より成る上部ポールと、を具え
薄膜コイルが、所定の間隔を置いて形成されたコイル巻回体を有する第１の薄膜コイル半部と、この第１の薄膜コイル半部の順次のコイル巻回体の間に、第１の薄膜コイル半部のコイル巻回体と自己整合的に形成されたコイル巻回体を有する第２の薄膜コイル半部と、これら第１および第２の薄膜コイル半部の順次のコイル巻回体間のスペースを埋めるように形成された層間絶縁膜とを有し、
　
（イ）【００４０】さらに本発明による薄膜磁気ヘッドにおいては、前記下部トラックポールおよび上部トラックポールをＲＩＥ（Reactive Ion Etching）により自己整合的に形成し、前記第２の非磁性材料膜の、前記上部トラックポールの表面と同一面に平坦化された表面とは反対側の表面を、前記ライトギャップ膜を越えて前記第１のポール側へ延在させてトリム構造を形成するのが好適である。また、前記薄膜コイルは、前記上部トラックポールと第２の非磁性材料膜との同一面に平坦化された表面に形成するのが好適である。また、上部トラックポールは、FeN、FeCo、CoNiFe、FeAlNまたはFeZrNで形成し、下部トラックポールは、FeN、FeCo、CoNiFe、FeAlN、FeZrNまたはNiFeで形成するのが好適である。この場合、CoNiFe、FeCo、NiFeはメッキ膜として形成し、FeN、FeCo、FeAlNおよびFeZrNはスパッタ膜で形成することができる。
　
（ウ）「【００５４】次に、再生用のＧＭＲヘッド素子と
記録用の誘導型薄膜磁気ヘッド素子
記録用ヘッド素子の下部ポール４０
　
（エ）「【００５８】次に、図１４Ａ，１４Ｂに示すように、フォトレジストマスク１４６を除去した後、NiFe膜１４７をマスクとしてイオンミリングを施し、シード層１４５の露出した部分を除去する。さらに、NiFe膜１４７をマスクとして、BCl2 ガス雰囲気中で、５０℃の温度でＲＩＥを施してアルミナ絶縁膜１４４を除去した後、BCl2 、Cl2 などの塩素系ガス雰囲気中で、２００℃の温度でＲＩＥを行い、磁性材料膜１４３を選択的に除去して上部トラックポール４３を形成する。さらにＲＩＥを続けて上部トラックポール４３の下側以外のライトギャップ膜４２を除去し、さらにその下側にある下部ポール４０を、その厚さの一部分に亘って選択的に除去してトリム構造を形成する。このＲＩＥによりアルミナ絶縁膜４１の表面が露出される。」
　
（オ）「【００９４】図４７〜６０は、本発明による複合型薄膜磁気ヘッドの第７の実施例の順次の工程を示す断面図および平面図である。本例は、
薄膜コイル
下部ポール
上部ポール
ライトギャップ膜の下側に、下部ポールと接触するように下部トラックポールを設け、２層の上部トラックポールと合わせて３層構造のトラックチップ部
【００９５】本例においても、上述した第１の実施例と同様に、読み出し用の磁気抵抗型薄膜磁気ヘッド素子を形成した後、図４７に示すように、上部シールド膜３８およびアルミナより成る分離膜３９を形成した後、
FeNより成る磁性材料膜４０を1.0から２．０μmの膜厚に形成
磁性材料膜２１２
磁性材料膜２１３
他の形成方法として磁性材料膜４０の上にフォトリソグラフィーで選択的に電解メッキ法を使ってCoNiFeより成る磁性材料膜２１３を１．５μｍの膜厚に形成し、さらにその上にCoFeより成る磁性材料膜２１２を１．０μmの膜厚に形成しても良い。
磁性材料膜２１３は下部トラックポールを構成する
磁性材料膜２１２は磁性材料膜４０と共に下部ポールを構成する
バックギャップにおける第１の橋絡部４４ａが形成され、磁性材料膜２１３を形成するのと同時に第２の橋絡部４４ｂが形成される
【００９６】次に、表面全体に
アルミナより成る絶縁膜２１４
第１の薄膜コイル半部２１５
【００９７】上述したように、Ｗ１、Ｗ２＞Ｗ３とする理由は以下の通りである。上述したように第１の薄膜コイル半部２１５を形成する際にはレジストマスクを使用するが、その位置がずれる可能性がある。例えば、レジストマスクがエアーベアリング面側にずれると、磁性材料膜２１２、２１３の端面と第１の薄膜コイル半部２１５の最外周のコイル巻回体との間のスペースの幅Ｗ１は狭くなり、レジストマスクがエアーベアリング面とは反対側にずれると、バックギャップを構成する橋絡部４４ａ、４４ｂの端面と第１の薄膜コイル半部２１５の最内周のコイル巻回体との間のスペースの幅Ｗ２が狭くなる。このようにスペースの幅Ｗ１あるいはＷ２がミスアライメント等で狭くなると、後に形成される第２の薄膜コイル半部のコイル巻回体の幅が狭くなり、抵抗値が所定の値よりも高くなってしまう。特に、最外周のコイル巻回体は、その長さが他のコイル巻回体に比べて長いので、その幅Ｗ１が狭くなると抵抗値が非常に高くなり、発熱する恐れがある。このようにエアーベアリング面に近い部分での発熱は、熱膨張によってポールチップが外側に膨らんで記録媒体と接触するポール突出（pole protrusion）の問題が起こる恐れがある。上述したように、Ｗ１、Ｗ２＞Ｗ３とすることによって、第１の薄膜コイル半部２１５を形成する際のレジストマスクの位置のずれがあっても、第１の薄膜コイル半部の最外周および最内周のコイル巻回体の幅が所定の幅よりも狭くなることがなくなり、上述したポール突出の問題を有効に解決することができる。さらに、第１の薄膜コイル半部２１５を形成する際に、その最外周および最内周のコイル巻回体と磁性材料膜２１３および橋絡部４４aとの間の距離が長くなると、フォトリソグラフィの露光時にこれらの磁性材料膜および橋絡部からの反射が少なくくなるので、フォトリソグラフィが容易かつ正確となるという利点もある。
【００９８】次に、図４９に示すように、表面全体に
アルミナ絶縁膜２１６
【００９９】次に、図５０に示すように、全体の上にアルミナ絶縁膜２１８を３〜４μmの膜厚に形成した後、コイル上のアルミナ絶縁膜２１８の凸部をＣＭＰすることでフォトレジスト膜２１７が露出するように研磨した様子を図５１に示す。図５１に示すように、バックギャップを構成する磁性材料より成る橋絡部４４ａ、４４ｂと第１の薄膜コイル半部２１５の最内周のコイル巻回体との間にアルミナ絶縁膜２１８を残してある。また、エアーベアリング面側にもアルミナ絶縁膜２１８が残っている。
【０１００】さらに、図５２に示すようにフォトレジスト膜２１７をウエットケミカルエッチングによって除去した後、図５３に示すようにCu-CVD膜２１９を１．５〜２．５μmの膜厚に形成する。次に、ＣＭＰを施して図５４に示すように、第１の薄膜コイル半部２１５、磁性材料膜２１４、第２の橋絡部４４ｂ、アルミナ絶縁膜２１８を露出させて平坦な表面とする。このＣＭＰによって、第１の薄膜コイル半部２１５の間にアルミナ-CVD絶縁膜２１６を介して
第２の薄膜コイル半部２２０
【０１０１】次に、図５５に示すように、第２橋絡部４４ｂと、第１および第２の薄膜コイル半部２１５および２２０の最内周のコイル巻回体の端部を覆うようにフォトレジストマスク２２１を選択的に形成した後、
ライトギャップ膜を構成するアルミナ絶縁膜２２２
【０１０２】次に、図５６に示すように、
上部トラックポールを構成するために、FeCoまたはFeNより成る磁性材料膜２２３
【０１０３】また磁性材料膜２２３，２２４を形成するのと同時に、第１の薄膜コイル半部２１５の最内周のコイル巻回体の端部と第２の薄膜コイル半部２２０の最外周のコイル巻回体の端部とを電気的に接続するための第１のジャンパ配線と、第２の薄膜コイル半部２２０の最内周のコイル巻回体の端部を、外部回路に接続するための接点パッドに接続するための第２のジャンパ配線とを、磁性材料膜２２３，２２４と同じ磁性材料で形成する。すなわち、
図５７に示すように、一端が第１の薄膜コイル半部２１５の最内周のコイル巻回体の端部２１５ａ
第２の薄膜コイル半部２２０の最外周のコイル巻回体２２０ａの端部２２０ｃ
第２の薄膜コイル半部２２０の最内周のコイル巻回体２２０ｂ
第１の薄膜コイル半部２１５の最外周のコイル巻回体の端部２１５ｃ
【０１０４】上述したように、第１および第２の接点パッドは、薄膜コイルの両端にそれぞれ接続されることになるが、第３および第４の接点パッドは、ＧＭＲ素子の電極膜３６に接続されることになる。また、上述したように、第１および第２のジャンパ配線２２６および２２７を、上部ポールを構成する磁性材料膜を形成するのと同時に形成しているので、バックギャップを構成する橋絡部４４ａ，４４ｂと第１および第２の薄膜コイル半部２１５および２２０の最内周のコイル巻回体の端部との間に、層間絶縁膜よりも膜厚の厚いアルミナ絶縁膜２１８を形成することにより、第１および第２のジャンパ配線２２６および２２７が橋絡部４４ａ，４４ｂに接触して電気的に短絡するのを有効に防止することができる。
【０１０５】その後、薄膜コイル形成領域を覆うようにフォトレジストパターンを形成するか、あるいはトラックポール部に開口を有するフォトレジストパターンを形成した後、イオンミリングでアルミナ絶縁膜２２２を
エッチングしてライトギャップ膜２２５を形成し、磁性材料膜２１３を選択的に除去して下部トラックポールを形成し、さらにその下側の磁性材料膜２１２を、その厚さの一部分に亘って選択的に除去してトリム構造を形成した様子を図５８および５９に示す
　
（カ）「【０１０８】さらに、ポールチップ部の上部トラックポールを第１および第２のトラックポールの積層構造で形成した実施例や、ポールチップ部を、
下部トラックポールと上部トラックポールの積層構造で形成した実施例においては、これらを構成する磁性材料膜は平坦な表面に平坦に形成されているので、エッチングにより正確に所定のパターンに形成できる
　
（キ）また、図４７ないし図６０を参照。図５７には、第１の薄膜コイル半部２１５の最内周の端部２１５ｂと最外周の端部２１５ｃと、第２の薄膜コイル半部２２０の最外周の端部２２０ｃが図示されている。
　
（ク）図５８Ｂ，図６０Ｂには、ライトギャップ膜２２５に隣接する磁性材料膜２１２の幅が、下部ポール４０に隣接する磁性材料膜２１３の幅より幅狭であることが図示されている。また、ライトギャップ膜２２５に隣接する磁性材料膜２１２の幅は、磁性材料膜２２３，２２４及びライトギャップ膜２２５の幅と同一であることが図示されている。
　
（ケ）上記明細書の摘記部分と図面とを突き合わせてみると、実施例７に関し、２１２及び２１３の番号が付されて表記される磁性材料膜部分について、【００９５】段落の、
（ｉ）「この上側の磁性材料膜の上にフォトリソグラフィによって金属またはアルミナより成るマスクを形成し、このマスクを使ってその下側の磁性材料膜をエッチングして帯状の
磁性材料膜２１２
磁性材料膜２１３
他の形成方法として磁性材料膜４０の上にフォトリソグラフィーで選択的に電解メッキ法を使ってCoNiFeより成る磁性材料膜２１３を１．５μｍの膜厚に形成し、さらにその上にCoFeより成る磁性材料膜２１２を１．０μmの膜厚に形成しても良い。
との記載は図４７ないし図６０の各図面に整合するが、同段落の
（ｉｉ）「後述するように、
磁性材料膜２１３は下部トラックポールを構成する
磁性材料膜２１２は磁性材料膜４０と共に下部ポールを構成する
バックギャップにおける第１の橋絡部４４ａが形成され、磁性材料膜２１３を形成するのと同時に第２の橋絡部４４ｂが形成される
との記載、及び【０１０５】段落の、
（ｉｉｉ）「磁性材料膜２１３を選択的に除去して下部トラックポールを形成し、さらにその下側の磁性材料膜２１２を、その厚さの一部分に亘って選択的に除去してトリム構造を形成した様子を図５８および５９に示す。」との記載は、２１２と２１３とが各図面とも整合せず（２１２と２１３が逆）、同様に前記（ｉ）の記載とも整合しない。
　各図面に付された番号が一貫していることを重視して、各図面及び前記（ｉ）の記載を正しいものとし、前記（ｉｉ）及び（ｉｉｉ）は、番号２１２と２１３が入れ替わった誤記と解する。
　
　上記（ケ）の点も考慮の上、上記摘記事項及び図面を総合勘案すると、引用例１には、特に図４７ないし図６０でその製造工程が示される実施例７として、薄膜磁気ヘッドについて次の発明（以下、「刊行物発明」という。）が記載されている。
「記録用の誘導型薄膜磁気ヘッド素子を具える薄膜磁気ヘッドであって、
　誘導型薄膜磁気ヘッド素子が、下部ポールと、下部トラックポールと、橋絡部と、薄膜コイルと、ライトギャップ膜と、上部トラックポールと、上部ポールと
　を具え、
　下部ポールは、エアーベアリング面から内方に延在するように形成され、
　下部トラックポールは、下部ポールの一方の表面上に、エアーベアリング面からスロートハイト零の基準位置まで延在するように形成され、
　橋絡部は、下部ポールの一方の表面上に、エアーベアリング面から離れた位置においてバックギャップを構成するように形成され、
　薄膜コイルは、下部ポールの一方の表面上に形成され、所定の間隔を置いて形成されたコイル巻回体を有する第１の薄膜コイル半部と、この第１の薄膜コイル半部の順次のコイル巻回体の間に、第１の薄膜コイル半部のコイル巻回体と自己整合的に形成されたコイル巻回体を有する第２の薄膜コイル半部と、これら第１および第２の薄膜コイル半部の順次のコイル巻回体間のスペースを埋めるように形成された層間絶縁膜とを有し、
　ライトギャップ膜は、下部トラックポールおよび薄膜コイルの平坦な表面の上に平坦に形成され、
　上部ポールは、ライトギャップ膜の、下部トラックポールと接触する側とは反対側の表面に形成され、下部トラックポールと整列する上部トラックポールが一体的に形成されているとともに橋絡部と接触するように形成され、
　さらに、下部トラックポールは、下部ポールに接触する磁性材料膜とライトギャップ膜に隣接する磁性材料膜で形成され、ライトギャップ膜に隣接する磁性材料膜は上部トラックポールと同一幅にエッチングされ、同一幅となっている
　誘導型薄膜磁気ヘッド素子を具える薄膜磁気ヘッド。」
　
３．対比
（１）本願発明と刊行物発明とは、「薄膜磁気ヘッド」に関する発明である点で共通する。
（２）刊行物発明の「記録用の誘導型薄膜磁気ヘッド素子」は、本願発明の「書き込み素子」に相当する。
（３）刊行物発明の「誘導型薄膜磁気ヘッド素子」に具えられる「下部ポール」、「下部トラックポール」、「上部トラックポール」、「上部ポール」、「ライトギャップ膜」、及び「薄膜コイル」は、それぞれ本願発明の「第１のヨーク部」、「第１のポール部」、「第２のポール部」、「第２のヨーク部」、「ギャップ膜」、及び「コイル」に相当する。
（４）刊行物発明の「エアーベアリング面」は、本願発明の「媒体対向面」に相当する。
（５）刊行物発明の「下部トラックポール」が、「下部ポールの一方の表面上に、エアーベアリング面からスロートハイト零の基準位置まで延在するように形成され」ていることは、本願発明の「第１のポール部」が「媒体対向面側において、第１のヨーク部の一面上に突設され」ていることに相当する。
（６）さらに刊行物発明の「下部トラックポール」が、「下部ポールに接触する磁性材料膜とライトギャップ膜に隣接する磁性材料膜で形成され」ている点は、本願発明の「第１のポール部」が「複数のポール片を積層して構成され」ていることに相当する。
（７）さらに刊行物発明の「下部トラックポール」が、「ライトギャップ膜に隣接する磁性材料膜は上部トラックポールと同一幅にエッチングされ、同一幅となっている」ことは、本願発明の「第１のポール部」が、「上端が縮小された幅を有しており」及び「そのうちの前記ギャップ膜と隣接するポール片は、幅方向の両側において、前記第２のポール部の幅に合わせてエッチングされ」ていることに相当するとともに、本願発明の「第２のポール部は、前記第１のポール部の前記上端と、前記ギャップ膜を介して、同一幅で対向しており」にも相当する。
（８）刊行物発明の「上部ポールは、ライトギャップ膜の、下部トラックポールと接触する側とは反対側の表面に形成され、下部トラックポールと整列する上部トラックポールが一体的に形成されているとともに橋絡部と接触するように形成され」の点は、本願発明の「第２のヨーク部は、前記媒体対向面側が前記第２のポール部に連続し、その反対側である後方側が、バックギャップ部により、前記第１のヨーク部と結合されており」の点に相当する。
（９）刊行物発明の「薄膜コイル」が「下部ポールの一方の表面上に形成され、所定の間隔を置いて形成されたコイル巻回体を有する第１の薄膜コイル半部と、この第１の薄膜コイル半部の順次のコイル巻回体の間に、第１の薄膜コイル半部のコイル巻回体と自己整合的に形成されたコイル巻回体を有する第２の薄膜コイル半部と、これら第１および第２の薄膜コイル半部の順次のコイル巻回体間のスペースを埋めるように形成された層間絶縁膜とを有し」と特定されるところ、コイル巻回体が「橋絡部」を最内周にして渦巻いている（図５７参照。）ことは明らかであるから、本願発明の「コイル」が「第１のヨーク部の一面上で、バックギャップ部の周りを、渦巻き状に周回して」いることに相当する。
　
　以上のことから、刊行物発明と本願発明の一致点及び相違点は、次のとおりである。
〈一致点〉
「書き込み素子を含む薄膜磁気ヘッドであって、
　前記書き込み素子は、第１のヨーク部と、第１のポール部と、第２のポール部と、第２のヨーク部と、ギャップ膜と、コイルとを含んでおり、
　前記第１のポール部は、媒体対向面側において、前記第１のヨーク部の前記一面上に突設され、上端が縮小された幅を有しており、
　前記第２のポール部は、前記第１のポール部の前記上端と、前記ギャップ膜を介して、同一幅で対向しており、
　前記第２のヨーク部は、前記媒体対向面側が前記第２のポール部に連続し、その反対側である後方側が、バックギャップ部により、前記第１のヨーク部と結合されており、
　前記コイルは、前記第１のヨーク部の前記一面上で、前記バックギャップ部の周りを、
渦巻き状に周回しており、
　さらに、前記第１のポール部は、複数のポール片を積層して構成され、そのうちの前記ギャップ膜と隣接するポール片は、幅方向の両側において、前記第２のポール部の幅に合わせてエッチングされている、
薄膜磁気ヘッド。」
　
〈相違点〉
　第１のポール部のギャップ膜と隣接するポール片を、本願発明は「エッチングによって生じた凹部の底部に残部が存在し、残部は、膜厚がポール片根元部に近づくにつれて増大するように、その表面が傾斜面となっている」と特定するのに対して、刊行物発明は「上部トラックポールと同一幅にエッチングされ、同一幅となっている」点。
　
４．当審の判断
　相違点について検討する。
　引用例１の段落【００５８】には、第１の実施例に関して、ライトギャップ膜の下部ポールが、その厚さの一部分に亘って選択的に除去したことが記載されている。同様の構造は、図２４にも示されている。同図において、下部ポール４０は、上部ポール４３及びライトギャップ膜４２と同じ幅に所定の厚さまで選択的にエッチングされた様子が示されている。
　記録用の薄膜磁気ヘッドにおいて、ギャップ膜と隣接する層が、エッチング処理されて、エッチングによって生じた凹部の底部に残部が存在し、膜厚が根本部に近づくにつれて増大するような磁極部の形状とすることは、例えば、特開２００１−６０３０７号公報【００５３】段落の「下部磁極層８の第２の部分８ｂを選択的に０．３μｍ程度エッチングして、図５（ｂ）に示したようなトリム構造とする。」、特開２００２−３６７１１４号公報【０００３】段落の「図１に示すように、第２の磁性層３をマスクとしたドライエッチングにより、第１の磁性層１の、第２の磁性層３と対向する部分１Ａを矢印Ｄ方向に掘り下げて、第２の磁性層３と、第１の磁性層１の、第２の磁性層３と対向する部分１Ａの幅とを等しくすることにより、書き込み磁極部１０をトリム状に形成する深さ方向のミリング工程とを含む。そして、同じくドライエッチングにより、このような書き込み磁極部１０の幅を図２に示すように全体的に矢印Ｗ方向に削減して、書き込み磁極部１０の幅を規定する幅方向のミリング工程とを含む。」、及び特開２００３−３６５０６号公報【００４６】段落の「本発明の薄膜磁気ヘッドにおいては、図５（ａ）に示した下部磁極先端部の形状のように、下部磁極先端部の上端面２８にテーパー角αを付与することも出来る。図１５にテーパー角αによる磁界強度の変化を示す。下部磁極先端部高さＬｐ２ｈは１．４μｍとした。その他の形状は図１１の場合と同じである。下部磁極先端部の上端面にテーパー角を付与した場合には上部磁極先端層から下部磁極先端部端部への漏洩磁束が減少するため磁界強度が増加する。」等にて周知の技術事項にすぎない。
　本願発明においては、「第１のポール部」について、単に「複数のポール片を積層して構成され」と特定されるにすぎす、前記複数のポール片それぞれの特性、機能等特段の技術事項が特定がされているわけでもなく、一方で、刊行物発明の誘導型薄膜磁気ヘッド素子の、下部ポールに接触する磁性材料膜とライトギャップ膜に隣接する磁性材料膜で形成された下部トラックポールにおいて、ライトギャップ膜に隣接する磁性材料膜をエッチングする際に、エッチングによって生じた凹部の底部に残部が存在してはならない特段の理由もないことからすると、当該残部を、膜厚が上の磁性膜根元部に近づくにつれて増大するように、その表面が傾斜面となっている形状とすることは、引用例１の段落【００５８】、図２４等複数の実施例において記載される構造、及び周知技術を参照することにより、当業者が容易に想到しうることである。
　
　そして、上記相違点によって本願発明が奏する効果についても、刊行物発明及び周知技術から、当業者が十分に予測できたものであって、格別なものとはいえない。
　
　以上のことからすると、本願発明は、引用例１に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５．むすび
　以上のとおりであるから、本願の請求項１に係る発明については、特許法２９条２項の規定により特許を受けることができないものである。
　したがって、その余の請求項について論及するまでもなく、本願は、拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。