Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月26日(2005.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明のある化合物は、異なる異性体形(エナンチオマー、ジアステレオマー、幾何学的異性体または互変異性体のような)で存在できる。本発明は、このような全ての異性体および全ての比率のこれらの混合物をカバーする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
別の態様においてこのような状態の例は：
(１)(気道)慢性閉塞性肺疾患(ＣＯＰＤ)(非可逆性ＣＯＰＤのような)；喘息{気管支、アレルギー性、内因性、外因性または粉塵喘息、特に慢性または常習性喘息(例えば遅発性喘息または気道過敏応答)のような}；気管支炎{好中球性気管支炎のような}；乾酪性鼻炎(rhinitis caseosa)、肥大性鼻炎、化膿性鼻炎、乾燥症鼻炎または薬物性鼻炎を含む急性、アレルギー性、萎縮性鼻炎または慢性鼻炎；クループ性、フィブリン性または偽膜性鼻炎を含む膜形成性鼻炎または腺病性鼻炎；神経性鼻炎(枯草熱)または血管運動神経鼻炎を含む季節性鼻炎；サルコイドーシス；農夫肺および関連疾患；鼻ポリープ；肺線維症、特発性間質性肺炎、鎮咳活性、気道の炎症性状態に関連するまたは医原性誘導咳に関連する慢性咳の処置：を含む気道の閉塞性疾患；
(２)(骨および関節)リウマチ、感染性、自己免疫、血清反応陰性、脊椎関節症(強直性脊椎炎、乾癬性関節炎またはライター病)、ベーチェット病、シェーグレン症候群または全身性硬化症を含む関節炎；
(３)(皮膚および眼)乾癬性、アトピー性皮膚炎、接触性皮膚炎または他の湿疹様皮膚炎、脂漏性皮膚炎、扁平苔癬、天疱瘡、水疱性類天疱瘡、表皮水疱症、蕁麻疹、皮膚脈管炎(angiodermas)、血管炎紅斑、皮膚好酸球増加、ブドウ膜炎、円形脱毛症または春季カタル；
(４)(胃腸管)セリアック病、直腸炎、好酸球性胃腸炎、肥満細胞症、クローン病、潰瘍性大腸炎、過敏性腸病または腸から離れて影響する食物関連アレルギー(例えば片頭痛、鼻炎または湿疹)；
(５)(同種移植片拒絶反応)例えば、腎臓、心臓、肝臓、肺、骨髄、皮膚または角膜の移植後の急性および慢性；または慢性移植片対宿主病；および／または
(６)(他の組織または疾患)アルツハイマー病、多発性硬化症、アテローム性動脈硬化症、後天性免疫不全症候群(ＡＩＤＳ)、狼瘡疾患(紅斑性狼瘡または全身性狼瘡のような)、エリテマトーデス、橋本甲状腺炎、重症筋無力、I型糖尿病、ネフローゼ症候群、好酸球増加筋膜炎、過ＩｇＥ症候群、ハンセン病(らい腫型のような)、歯周病、セザリー症候群、特発性血小板減少性紫斑病または生理周期に関連する疾患：
である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月19日(2005.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
クエチアピンまたは医薬的に許容されるその塩およびゾルミトリプタンまたは医薬的に許容されるその塩からなる配合物。
【請求項２】
医薬として、同時に、順次または別個に使用される請求項１記載の配合物。
【請求項３】
偏頭痛または関連症状の処置のために同時に、順次または別個に使用される請求項１記載の配合物。
【請求項４】
偏頭痛の再発を減弱または消失させるために同時に、順次または別個に使用される請求項１記載の配合物。
【請求項５】
クエチアピンまたは医薬的に許容されるその塩は経口的に投与され、ゾルミトリプタンまたは医薬的に許容されるその塩は経口的にまたは経鼻的に投与される請求項１〜４のいずれかに記載の配合物。
【請求項６】
クエチアピンまたは医薬的に許容されるその塩は経口的に投与され、ゾルミトリプタンまたは医薬的に許容されるその塩は経口的に投与される請求項５に記載の配合物。
【請求項７】
クエチアピンまたは医薬的に許容されるその塩は錠剤として投与され、ゾルミトリプタンまたは医薬的に許容されるその塩は錠剤として投与される請求項６に記載の配合物。
【請求項８】
ゾルミトリプタンまたは医薬的に許容されるその塩は急速溶融処方として投与される請求項１〜７のいずれかに記載の配合物。
【請求項９】
クエチアピンまたは医薬的に許容されるその塩は制御、遅延または持続放出性剤形として投与される請求項１〜７のいずれかに記載の配合物。
【請求項１０】
ゾルミトリプタンまたは医薬的に許容されるその塩は、約０.５〜１５mgの単位用量で
投与され、クエチアピンまたは医薬的に許容されるその塩は約５〜５０mgの単位用量で投
与される請求項１〜９のいずれかに記載の配合物。
【請求項１１】
ゾルミトリプタンまたは医薬的に許容されるその塩は５mgの単位用量で投与され、クエチアピンまたは医薬的に許容されるその塩は２５mgの単位用量で投与される請求項１０記載の配合物。
【請求項１２】
クエチアピンの医薬的に許容される塩はクエチアピンフマル酸塩である請求項１〜１１のいずれかに記載の配合物。
【請求項１３】
ゾルミトリプタンおよびクエチアピンフマル酸塩からなる請求項１〜１２のいずれかに記載の配合物。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれかに記載の配合物および場合により医薬用担体または希釈剤からなる医薬組成物。
【請求項１５】
医薬として同時に、順次または別個に使用される請求項１４記載の医薬組成物。
【請求項１６】
偏頭痛または関連疾患の処置のために同時に、順次または別個に使用される請求項１５記載の医薬組成物。
【請求項１７】
クエチアピンまたは医薬的に許容されるその塩および場合により医薬用担体または希釈剤からなる第一の医薬組成物、およびゾルミトリプタンまたは医薬的に許容されるその塩および場合により医薬用担体または希釈剤からなる第二の医薬組成物。
【請求項１８】
偏頭痛または関連症状の処置のために、哺乳動物に同時に、順次または別個に投与される医薬の製造のための請求項１〜１７のいずれかに記載の配合物の使用。
【請求項１９】
偏頭痛の再発を減弱または消失させるために、哺乳動物に同時に、順次または別個に投与される医薬の製造のための請求項１〜１７のいずれかに記載の配合物の使用。
【請求項２０】
ゾルミトリプタンまたは医薬的に許容されるその塩の単位用量を低下させるために投与される請求項１〜１７のいずれかに記載の配合物。
【請求項２１】
偏頭痛発作の発現の頻度および／または重症度ならびにそれらの症状を低下させるために投与される請求項１〜１７のいずれかに記載の配合物。
【請求項２２】
偏頭痛の再発を減弱または消失させるために投与される請求項１〜１７のいずれかに記載の配合物。
【請求項２３】
ゾルミトリプタンまたは医薬的に許容されるその塩の効果を改善するために、クエチアピンまたは医薬的に許容されるその塩を使用する配合物。
【請求項２４】
哺乳動物に、ある量のクエチアピンまたは医薬的に許容されるその塩およびある量のゾルミトリプタンまたは医薬的に許容されるその塩を投与される、上記哺乳動物における偏頭痛または関連症状を処置するための配合物。
【請求項２５】
クエチアピンまたは医薬的に許容されるその塩およびゾルミトリプタンまたは医薬的に許容されるその塩は同時に、順次または別個に投与される請求項２４記載の配合物。
【請求項２６】
クエチアピンまたは医薬的に許容されるその塩は経口的に投与され、ゾルミトリプタン
または医薬的に許容されるその塩は経口的にまたは経鼻的に投与される請求項２０〜２４のいずれかに記載の配合物。
【請求項２７】
クエチアピンまたは医薬的に許容されるその塩は経口的に投与され、ゾルミトリプタンまたは医薬的に許容されるその塩は経口的に投与される請求項２６に記載の配合物。
【請求項２８】
クエチアピンまたは医薬的に許容されるその塩は錠剤として投与され、ゾルミトリプタンまたは医薬的に許容されるその塩は錠剤として投与される請求項２７記載の配合物。
【請求項２９】
ゾルミトリプタンまたは医薬的に許容されるその塩は急速溶融処方として投与される請求項２０〜２８のいずれかに記載の配合物。
【請求項３０】
クエチアピンまたは医薬的に許容されるその塩は、制御、遅延または持続放出性の剤形で投与される請求項２０〜２８のいずれかに記載の配合物。
【請求項３１】
ゾルミトリプタンまたは医薬的に許容されるその塩は約０.５〜１５mgの単位用量で投
与され、クエチアピンまたは医薬的に許容されるその塩は約５〜５０mgの単位用量で投与される請求項２０〜３０のいずれかに記載の配合物。
【請求項３２】
ゾルミトリプタンまたは医薬的に許容されるその塩は５mgの単位用量で投与され、クエチアピンまたは医薬的に許容されるその塩は２５mgの単位用量で投与される請求項３１記載の配合物。
【請求項３３】
クエチアピンまたは医薬的に許容されるその塩およびゾルミトリプタンまたは医薬的に許容されるその塩は同一の医薬組成物中に導入される請求項１〜１６のいずれかに記載の配合物の製造方法。
【請求項３４】
クエチアピンまたは医薬的に許容されるその塩およびゾルミトリプタンまたは医薬的に許容されるその塩は異なる医薬組成物中に存在させる請求項１〜１７のいずれかに記載の配合物の製造方法。
【請求項３５】
クエチアピンまたは医薬的に許容されるその塩およびゾルミトリプタンまたは医薬的に許容されるその塩、ならびに場合により使用のための指示書および／またはラベリングからなるキット。
【請求項３６】
クエチアピンまたは医薬的に許容されるその塩およびゾルミトリプタンまたは医薬的に許容されるその塩は同時にまたは同時期に投与される請求項３５記載のキット。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月13日(2005.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
石英ガラスを作成する方法において、
収集面の上方に配された複数のバーナー及び前記収集面の少なくとも一部を囲む耐火物表面を備える炉を提供する工程、
主表面及び側壁を有する、概ね平らな形状の石英ガラスブールを形成するために、前記収集面上にスート粒子を収集する工程、及び
前記ブールの形成中に、前記収集面上のスート粒子と前記バーナーとの間隔を実質的に一定に維持する工程、
を有してなり、
前記ブールが０．１０１ｐｐｍ／ｍｍ以下の軸方向屈折率勾配を有することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記収集面が概ね平坦であり、横壁を備えておらず、前記炉が前記収集面と同じ水準面に配置されているかまたは前記収集面より下方に配置されている排気ポートをさらに備えていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記耐火物表面の温度を前記収集面の温度より少なくとも３００℃低い温度に維持する工程をさらに含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法にしたがって作成された石英ガラス部材において、使用軸に対して実質的に垂直な方向での屈折率勾配が厚さ１００ｍｍに至るまで３ｐｐｍより小さく、１９３ｎｍにおける内部透過率が少なくとも９９.７５％/ｃｍであることを特徴とする石英ガラス部材。
【請求項５】
石英ガラスを作成する方法において、
収集面の上方に配された複数のバーナー及び前記収集面の少なくとも一部を囲む耐火物表面を備える炉を提供する工程、
上主表面及び側壁を有する、概ね平らな形状の石英ガラスブールを形成するために、前記収集面上にスート粒子を収集する工程、及び
前記耐火物表面の温度を、耐火物からの金属の気化を最小限に抑えるように、前記収集面の温度より少なくとも３００℃低い温度に維持する工程、
を有してなり、
前記ブールが０．１０１ｐｐｍ／ｍｍ以下の軸方向屈折率勾配を有することを特徴とする方法。
【請求項６】
前記ブールの形成中に、前記ブールの前記上主表面と前記バーナーとの間隔を実質的に一定に維持する工程をさらに含むことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記収集面が概ね平坦であり、横壁を備えておらず、前記炉が前記収集面と同じ水準面に配置されているかまたは前記収集面より下方に配置されている排気ポートをさらに備えていることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記石英ガラス内の水素濃度を３×１０１７分子/ｃｍ３より低い濃度に維持する工程をさらに含むことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項９】
前記収集面上に前記スート粒子を収集する前記工程の間、前記収集面の温度を少なくとも１８００℃に維持し、前記耐火物表面の温度を少なくとも１３５０℃に維持することを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項１０】
石英ガラスブールを作製するための炉において、
石英ガラス粒子を堆積させるための複数のバーナー、
前記堆積プロセス中に前記石英ガラス粒子を収集するために前記バーナーより下方に配され、上主表面及び側面を有するブールを支持する、概ね平坦な収集面であって、横壁を有していない収集面、
前記収集面と同じ水準面に配されているかまたは前記収集面より下方に配されているベント、
前記石英ガラスブールを囲んでいる耐火物、及び
前記耐火物の温度を前記収集面の温度より少なくとも３００℃低い温度に維持するための手段、
を備えることを特徴とする炉。
【請求項１１】
前記炉が、前記ブールの形成中に前記バーナーと前記ブールの前記上主表面との間隔を一定に維持するための手段をさらに備えることを特徴とする請求項１０に記載の炉。
【請求項１２】
請求項１０に記載の炉で作成された石英ガラス部材において、使用軸に対して実質的に垂直な方向での前記石英ガラス部材の屈折率勾配が厚さ１００ｍｍに至るまで３ｐｐｍより小さいことを特徴とする石英ガラス部材。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月13日(2005.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
最小化された空間分散量で＜200nm光を透過させるための金属フッ化物混晶において、前記金属フッ化物混晶がカルシウムカチオンおよび、バリウムカチオンとストロンチウムカチオンの一方または両方を含んでいることを特徴とする金属フッ化物混晶。
【請求項２】
４７重量％から６６重量％の範囲のフッ化カルシウムおよび３４重量％から５３重量％の範囲のフッ化バリウムから成ることを特徴とする請求項１記載の金属フッ化物混晶。
【請求項３】
６重量％から３５重量％の範囲のフッ化カルシウムと、２９重量％から４５重量％の範囲のフッ化バリウムと、３７重量％から４９重量％の範囲のフッ化ストロンチウムとから成ることを特徴とする請求項１記載の金属フッ化物混晶。
【請求項４】
組成式ＣａｘＳｒ（１−ｘ）Ｆ２で表され、ｘが０．１から０．９の範囲であることを特徴とする請求項１記載の金属フッ化物混晶。
【請求項５】
酸素汚染レベルが重量で５０ｐｐｍ未満であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載の金属フッ化物混晶。
【請求項６】
金属汚染レベルが重量で１０ｐｐｍであることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項記載の金属フッ化物混晶。
【請求項７】
結晶成長の方向に対して＜１００＞、＜１１０＞または＜１１１＞の結晶方位を有することを特徴とする請求項１から６のいずれか１項記載の金属フッ化物混晶。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項記載のフッ化物混晶を調製する方法であって、
結晶原材料混合物を提供する工程、
混晶成長チャンバを有する混晶成長るつぼを提供する工程、
上部高温溶融ゾーン及び下部低温アニールゾーンを有する混晶成長炉を提供する工程、
前記混晶原材料混合物を前記混晶成長るつぼに投入する工程、
前記混晶原材料混合物及び前記混晶成長るつぼを前記混晶成長炉に装填する工程、
前記混晶成長炉の上部高温ゾーンにおいて前記混晶成長るつぼ内部の前記混晶原材料混合物を溶融させる工程、
前記混晶成長るつぼを前記混晶成長炉の下部ゾーン内に連続移動させる工程、および
６３３ｎｍにおけるアニール済低応力複屈折が５ｎｍ／ｃｍより小さい結晶を提供するようにアニールする工程、
を有してなることを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項１または４記載のフッ化物混晶を調製する方法であって、
結晶原材料混合物を提供する工程、
混晶成長チャンバを有する混晶成長るつぼを提供する工程、
上部高温溶融ゾーン及び下部低温アニールゾーンを有する混晶成長炉を提供する工程、
前記混晶原材料混合物を前記混晶成長るつぼに投入する工程、
前記混晶原材料混合物及び前記混晶成長るつぼを前記混晶成長炉に装填する工程、
前記混晶成長炉の上部高温ゾーンにおいて前記混晶成長るつぼ内部の前記混晶原材料混合物を溶融させる工程、
前記混晶成長るつぼを前記混晶成長炉の下部ゾーン内に連続移動させる工程、および
６３３ｎｍにおけるアニール済低応力複屈折が５ｎｍ／ｃｍより小さい結晶を提供するようにアニールする工程、
を有してなる方法において、
前記結晶がフッ化カルシウム−フッ化ストロンチウム混晶であり、
850℃から20℃まで少なくとも480時間かけて冷却する工程をさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項１０】
＜２００ｎｍの光を使用するリソグラフィシステムで使用する光学素子を作るために請求項１から７のいずれか１項記載のフッ化物混晶を使用する、フッ化物混晶使用法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月16日(2005.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
疎水性物質の、哺乳類の真皮への投与用薬剤の製造のための使用であって、疎水性物質の投与で、ボーラス注射により皮下に疎水性物質を注射することで起こる吸収と比較して、全身への吸収の改善が起こる、前記使用。
【請求項２】
哺乳類に疎水性物質を投与するための機器であって、疎水性物質を真皮に投与して該疎水性物質の全身への吸収を得るように構成され、エレクトロポレーション注射方式であるか又はサーマルポレーション方式である、前記機器。
【請求項３】
哺乳類の真皮への投与のためのキットであって、疎水性物質を含み、疎水性物質の真皮への投与で、皮下に疎水性物質を注射することで起こる吸収と比較して全身への吸収の改善が起こる、前記キット。
【請求項４】
さらに哺乳類に疎水性物質を投与するための機器を含み、該機器が疎水性物質を真皮に投与して該疎水性物質の全身への吸収を得るように構成され、該機器がエレクトロポレーション注射方式であるか又はサーマルポレーション方式である、請求項３に記載のキット。
【請求項５】
投与がボーラス注射によるものである、請求項１〜４のいずれかに記載の使用、機器又はキット。
【請求項６】
哺乳類において少なくとも１つの薬物動態学的パラメータが改善され、薬物動態学的パラメータの改善が、疎水性物質のバイオアベイラビリティーの増加、Ｔｍａｘの減少、Ｃｍａｘの増加、及びＴｌａｇの減少からなる群から選択される、請求項１〜４のいずれかに記載の使用、機器又はキット。
【請求項７】
哺乳類に疎水性物質を投与することが、任意の固体の射出、起電力、熱エネルギーまたは気体の弾道により形成される皮膚の微小孔を通じて疎水性物質を送達することを含む、請求項１〜４のいずれかに記載の使用、機器又はキット。
【請求項８】
哺乳類に疎水性物質を投与することが、微小ニードルのアレイを通じて疎水性物質を送達することを含む、請求項１〜４のいずれかに記載の使用、機器又はキット。
【請求項９】
疎水性物質が、注入ポンプ、圧電ポンプ、起電力ポンプ、電磁ポンプ、さらばね、イオン導入、又は超音波導入によって送達される、請求項１〜４のいずれかに記載の使用、機器又はキット。
【請求項１０】
疎水性物質が１．５より大きいｌｏｇＰ値を有する、請求項１〜４のいずれかに記載の使用、機器又はキット。
【請求項１１】
疎水性物質が、（Ｒ）−５，６−ジヒドロ−５−（メチルアミノ）−４Ｈ−イミダゾ［４，５−ｉｊ］−キノリン−２（１Ｈ）−チオン、Ｎ−（３{（１Ｒ）−１−［（６Ｒ）−４−ヒドロキシ−２−オキソ−６−フェネチル−６−プロピル−５，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−３−イル］プロピル}フェニル）−５−（トリフルオロメチル）−２−ピリジンスルホンアミド、エピルビシン、バルデコキシブ、セレコキシブ、およびパレコキシブからなる群から選択される、請求項１〜４のいずれかに記載の使用、機器又はキット。
【請求項１２】
疎水性物質がタンパク質を含む、請求項１〜４のいずれかに記載の使用、機器又はキット。
【請求項１３】
疎水性物質がＰＥＧ−タンパク質複合体およびｓＦｖ−タンパク質複合体からなる群から選択される、請求項１〜４のいずれかに記載の使用、機器又はキット。
【請求項１４】
物質がナノ粒子またはナノ結晶の形である、請求項１〜４のいずれかに記載の使用、機器又はキット。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月15日(2006.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
式２
【化２】
2005503385.tif 000001
［式中、
Ｒ3はｉ−プロピルまたはメチルであり；
Ｒ4aはメチルまたはＣｌであり；そして
Ｒ4bはＨ、ＣｌまたはＢｒであり；
ただし、
（ａ）Ｒ4aがメチルであり且つＲ4bがＨである場合、Ｒ3はｉ−プロピルではなく、
（ｂ）Ｒ4aがＣｌである場合、Ｒ4bはＢｒである］
の化合物、そのＮ−オキシドまたは塩。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月1日(2005.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒドロコルチゾンもしくはこれの機能的変異体および送達ビヒクルを含む、副腎機能不全の処置用医薬組成物であって、ここで該送達ビヒクルが、該ヒドロコルチゾンもしくはこれの機能的変異体の、遅らせかつ持続された放出をもたらすものである医薬組成物。
【請求項２】
前記機能的変異体が：ヒドロコルチゾール；コルチゾール；またはコルチゾンアセテートである、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
前記医薬組成物がヒドロコルチゾンを含む、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項４】
前記副腎機能不全が：１次または２次的な副腎疾患、先天性副腎肥大、後発した先天性副腎肥大、多嚢胞卵巣疾患、およびアジソン病からなる群から選択される病状により引き起こされる、請求項１〜３のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項５】
前記副腎機能不全が先天性副腎機能不全により引き起こされる、請求項４に記載の医薬組成物。
【請求項６】
前記副腎機能不全がアジソン病により引き起こされる、請求項４に記載の医薬組成物。
【請求項７】
副腎機能不全の治療における利用のための医薬品の製造に関しての、ヒドロコルチゾンもしくはこれの機能的変異体および送達ビヒクルを含む医薬組成物の使用であって、ここで該送達ビヒクルが、該ヒドロコルチゾンもしくはこれの機能的変異体の遅らせかつ持続された放出をもたらすものである使用。
【請求項８】
前記機能的変異体が：ヒドロコルチゾール；コルチゾール；またはコルチゾンアセテートである、請求項７に記載の使用。
【請求項９】
前記医薬組成物がヒドロコルチゾンを含む、請求項７に記載の使用。
【請求項１０】
前記副腎機能不全が：１次または２次的な副腎疾患、先天性副腎肥大、後発した先天性副腎肥大、多嚢胞卵巣疾患、およびアジソン病からなる群から選択される病状により引き起こされる、請求項７〜９のいずれか１項に記載の使用。
【請求項１１】
前記副腎機能不全が先天性副腎機能不全により引き起こされる、請求項１０に記載の使用。
【請求項１２】
前記副腎機能不全がアジソン病により引き起こされる、請求項１０に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月4日(2005.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
裏打ち層１つ、保護層１つ、および、活性化合物含有重合体マトリックス少なくとも１つを含む経皮治療システムであって、活性化合物がα−アドレナリン受容体作動薬、β−アドレナリン受容体作動薬、α−アドレナリン受容体ブロッカー、β−アドレナリン受容体ブロッカー、鎮痛剤（麻薬）、鎮痛剤（非麻薬）、男性ホルモン、麻酔剤、抗アレルギー剤、抗男性ホルモン剤、抗狭心症薬、抗不整脈剤、ペニシリン、抗糖尿病薬、抗ヒスタミン剤、抗偏頭痛剤、水素添加麦角アルカロイド、カルシウム拮抗剤、セロトニン拮抗剤、血小板凝集抑制剤、抗欝剤、気管支拡張剤、エストロゲン、ゲスターゲン、血管拡張剤、ニコチン、ホルモンまたはホルモンの組み合わせよりなる群から選択される医薬活性物質であり、そして重合体マトリックスの基礎重合体が接触接着性ポリアクリレートよりなり、これは、単独重合体、共重合体またはブロック共重合体であり、それは、下記成分：
ａ）別の官能基を伴わない直鎖、分岐鎖および／または環状の脂肪族Ｃ1−Ｃ12置換基
を担持するアクリルまたはメタクリル酸のエステルよりなる群から選択される単量体または単量体の混合物、
ｂ）アクリル酸、メタクリル酸、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレートおよび／または３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ただしこれらの単量体の含有量は総量で２質量％未満であるもの、
ｃ）含有量２０質量％未満の酢酸ビニル、
ｄ）含有量０.５質量％未満の架橋剤、
ｅ）含有量０.１質量％未満の抗酸化剤、安定化剤および／またはアルキルメルカプタ
ンよりなる群から選択される補助剤
よりなる単量体混合物の重合により調製することができる単独重合体、共重合体またはブロック共重合体である上記システム。
【請求項２】
単量体混合物の重合が、イオン、フリーラジカルまたは光誘導の手段により、乳化剤を含有することができる水中、または、反応媒体としての有機溶媒中において行なわれることを特徴とする請求項１に記載の経皮治療システム。
【請求項３】
単量体混合物が５質量％未満の含有量の酢酸ビニルを含有することを特徴とする請求項
１または２に記載の経皮治療システム。
【請求項４】
アルミニウムアセチルアセトネート、アリルグリシジルエーテルおよび／またはグリシジルメタクリレートを架橋剤として単量体混合物中に用いることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の経皮治療システム。
【請求項５】
別の官能基を伴わない直鎖、分岐鎖および／または環状の脂肪族Ｃ1−Ｃ12置換基を含
むアクリル酸またはメタクリル酸のエステルの群がｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、エチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、エチルメタクリレート、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、ｓ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレートおよびこれらの単量体の混合物よりなることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の経皮治療システム。
【請求項６】
単量体混合物がアクリル酸、メタクリル酸、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレートおよび／または３−ヒドロキシプロピルメタクリレートを含有しないことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の経皮治療システム。
【請求項７】
ホルモンが１７β−エストラジオール、エチニルエストラジオール、酢酸エストラジオール、レボノルゲストリル、ノルエチンドロン、酢酸ノルエチンドロンまたはテストステロンであることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の経皮治療システム。
【請求項８】
活性化合物含有重合体マトリックスが１５〜３０μｍの厚みを有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の経皮治療システム。
【請求項９】
性腺機能低下症の治療のため、ホルモン代替療法のため、または、避妊のための請求項１〜８のいずれか１項に記載の経皮治療システム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月16日(2005.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｔ４エンドヌクレアーゼＶ組成物におけるプロテアーゼ不純物を検出する方法であって、
（i）水性緩衝液、Ｔ４エンドヌクレアーゼＶ組成物の試料、及びＰｒｏ Ｌｅｕ Ｓｅｒ Ａｒｇ Ｔｈｒ Ｌｅｕ Ｓｅｒ Ｖａｌ Ａｌａ Ａｌａ Ｌｙｓ（配列番号１）のアミノ酸配列を有する標識化レポーターペプチドを含む試験溶液を調製する工程、
（ii）当該試験溶液を、２５℃で少なくとも７日間培養する工程、及び、
（iii）工程（ii）の後にレポーターペプチドの分解率を測定する工程、
を含む当該方法。
【請求項２】
前記試験溶液におけるＴ４エンドヌクレアーゼＶの濃度が０．０９５±０．０５ｍｇ／ｍｌである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
工程（ii）が、７日間実行され、及び、
工程（iii）が、試験溶液の少なくとも一部をペプチド分離手順で処理し、及びレポーターペプチドの前記分解率をデンシメトリーによって測定することによって、工程（iii）が実行される、請求項１又は２のいずれか１に記載の方法。
【請求項４】
Ｔ４エンドヌクレアーゼＶ組成物を調製する方法であって、
（Ａ）Ｔ４エンドヌクレアーゼＶを含有する水溶液を提供する工程、及び、
（Ｂ）当該水溶液を処理して、組成物のプロテアーゼ活性を減少させる工程、
を含み、
ここで、工程（Ｂ）の結果として、請求項３に記載の方法で測定された当該水溶液のレポーターペプチドの分解率が、１０パーセント未満である、当該方法。
【請求項５】
工程（Ｂ）において、前記水溶液が、固体支持体に接続された四級アンモニウム部位によって処理される、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
工程（Ｂ）において、前記水溶液がキレート剤によって処理される、請求項４に記載の方法。
【請求項７】
工程（Ｂ）において、前記水溶液が、固体支持体に接続された四級アンモニウム部位及びキレート剤によって処理される、請求項４に記載の方法。
【請求項８】
前記組成物を、冷蔵よりも高く３０℃よりも低い温度において６ヶ月間貯蔵する更なる工程を含む、請求項４に記載の方法。
【請求項９】
請求項４乃至７のいずれか１に記載の方法によって調製されるＴ４エンドヌクレアーゼＶの組成物。
【請求項１０】
Ｔ４エンドヌクレアーゼＶを含む組成物であって、
請求項３に記載の方法で測定された当該組成物のレポーターペプチドの分解率が、１０パーセント未満である、当該組成物。
【請求項１１】
前記組成物が、２５℃で４週間の貯蔵の後においてＴ４エンドヌクレアーゼＶの初期活性の少なくとも１０パーセントを保持する、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
Ｔ４エンドヌクレアーゼＶを含む組成物であって、当該組成物が、２５℃で４週間の貯蔵の後においてＴ４エンドヌクレアーゼＶの初期活性の少なくとも１０パーセントを保持する、当該組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月8日(2005.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
核酸の発現を誘導する方法であって、
ａ．目標とする配列を含み抑制可能なプロモーターに作動可能に結合する第一核酸を提供すること；および
ｂ．発現を制御する第二核酸またはリプレッサーをコードする第二核酸の核酸媒介サイレンシングを使用することによって該抑制可能なプロモーターに作用するリプレッサーのレベルを該第一核酸の発現を可能にするレベルまで低下させること；
を含む方法。
【請求項２】
第二核酸がリプレッサーの発現を制御する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
第二核酸がリプレッサーをコードする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
抑制可能なプロモーターが植物細胞内で機能的である請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
抑制可能なプロモーターが哺乳類細胞内で機能的である請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
核酸媒介遺伝子サイレンシングが細胞内で起き、該細胞にトランスジーンの付加的コピーを導入することによって媒介される請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
核酸媒介遺伝子サイレンシングが二重鎖リボ核酸により媒介される請求項１から６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
二重鎖リボ核酸が長さ少なくとも２０ヌクレオチドである請求項７に記載の方法。
【請求項９】
二重鎖リボ核酸が長さ少なくとも３００ヌクレオチドである請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
リプレッサーがテトラサイクリンリプレッサー、ｌａｃＩ−リプレッサー、Catharanthus roseusのＧボックス結合因子１、Catharanthus roseusのＧボックス結合因子２、Groucho、Kruepple、ＫＡＰ−１、ＮｃｏＲ、ＳＭＲＴ、網膜芽腫プロテインおよびＫＲＡＢドメインプロテインから構成される群から選択される請求項１から９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
第一核酸がワクシースターチ、除草剤に対する耐容性、細菌、真菌またはウイルス病に対する耐性、昆虫に対する耐性、栄養的品質強化、工業過程でのパフォーマンス向上、たとえば雄性避妊または雄性妊性のような繁殖能変更、収穫安定性および収穫増加に関連するポリペプチドをコードする請求項１から４または請求項６から１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
第一核酸が植物から得られるかまたは該植物から誘導されるヌクレオチド配列で定義される、請求項１から４または請求項６から１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
第一核酸が標的細胞の内在性ヌクレオチド配列をコードする請求項１から１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
第一核酸が治療剤である請求項１から３または請求項５から１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
第一核酸がマーカーである請求項１から１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
方法がさらに
細胞内に第一核酸を提供すること；
細胞内にリプレッサーのコード配列に作動可能に結合する誘導可能なプロモーターを提供すること；
細胞内に該リプレッサーのコード配列に作動可能に結合する下方制御可能なプロモーターを提供すること；および
リプレッサーの発現を可能にするために有効な量のインデューサーを与えること；
を含む、請求項１から１５のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】
インデューサーが化学物質である請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
インデューサー感染性病原体である請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
細胞が植物細胞であり、インデューサーが熱、光、冷却ストレス、紫外線光およびオゾンから構成される群から選択される請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
さらに下方制御可能なプロモーターを下方制御する阻害剤を与えることを含む請求項１６から１９のいずれかに記載の方法。
【請求項２１】
β−グルクロニダーゼ遺伝子に作動可能結合するＴＥＴＲ抑制可能プロモーターを含む植物細胞。
【請求項２２】
請求項２１に記載の植物細胞を含む植物、またはその子孫または種子。
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月24日(2005.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組織にアブレーション技術を使用する手術中に壊死領域を制御するための機器であって、一定の容量の組織が、アブレーション用のエレクトロカテーテルを使用する熱作用によって前記一定の容量の組織に作用することによってアブレーションされ、前記組織で検出された脱水にしたがって変動する信号を発信するための手段（１、２、３）および受信し合成するための手段（４、５、６）が設けられた、関連測定回路に接続され且つ前記一定の容量の組織の周辺ゾーンに対応して配置するのに適切であるようなやり方で設計された、１つ以上のセンサ（５６）から構成されるという事実を特徴とする機器。
【請求項２】
前記１つ以上のセンサは、前記発信手段（１、２、３）および前記受信合成手段（４、５、６）に接続された一対の電極（５６）から構成される請求項１に記載の機器。
【請求項３】
前記電極の１つは、前記アブレーション用エレクトロカテーテル（４４）の電極から構成される請求項２に記載の機器。
【請求項４】
前記信号発信手段は、自由オシレータ（１）と、電流増幅器（２）と、フィルタ（３）と、から構成される請求項１に記載の機器。
【請求項５】
前記信号受信手段は、受動構成要素の回路（４）と、能動測定回路（５）と、位置決め装置（６）と、信号を合成するための手段（８）に接続される出口回路（７）と、から構成される請求項１に記載の機器。
【請求項６】
前記信号合成手段は、ＡＤＣ装置と、関連ソフトウェアが設けられたパーソナルコンピュータと、から構成される請求項１に記載の機器。
【請求項７】
前記信号は、前記組織に存在するその瞬間の電気伝導率に相関し、関連回路（１、２、３）によって発せられた予め設定された信号の、前記一定の容量の組織に配置された、一対の電極（５６）にわたる通過によって得られた信号の合成から派生する請求項１〜６のいずれか１に記載の機器。
【請求項８】
前記信号は、前記組織によって呈されたその瞬間のインピーダンスに相関し、関連回路（１、２、３）によって発せられた予め設定された信号の、前記一定の容量の組織に配置された、一対の電極（５６）にわたる通過から得られた信号の合成から派生する請求項１〜６のいずれか１に記載の機器。
【請求項９】
前記信号は、前記組織によって呈されたその瞬間の電荷に相関し、関連回路（１、２、３）によって発せられた予め設定された信号の、前記一定の容量の組織に配置された、一対の電極（５６）にわたる通過によって得られた信号の合成から派生する請求項１〜６のいずれか１に記載の機器。
【請求項１０】
組織にアブレーション技術を使用する手術中に壊死領域を制御するための方法であって、一定の容量の組織がアブレーション用のエレクトロカテーテルを使用する熱作用によってアブレーションされ、治療されるべき前記組織容量の周辺ゾーンに対応して位置する少なくとも１つのセンサを使用して前記組織の脱水に基づいて電気パラメータを測定する工程を含む方法。
【請求項１１】
前記電気パラメータは、その瞬間に前記組織によって明らかにされる電気伝導率に相関し、関連回路（１、２、３）によって発せられた予め設定された信号の、前記一定の容量の組織に位置する、一対の電極（５６）にわたる通過から得られた信号の合成から派生することを特徴とする、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記電気パラメータは、その瞬間に前記組織によって明らかにされるインダクタンスに相関し、関連回路（１、２、３）によって発せられた予め設定された信号の、前記一定の容量の組織に位置する、一対の電極（５６）にわたる通過から得られた信号の合成から派生することを特徴とする、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記電気パラメータは、前記組織に存在するその瞬間の電荷に相関し、関連回路（１、２、３）によって発せられた予め設定された信号の、前記一定の容量の組織に位置する、一対の電極（５６）にわたる通過から得られた信号の合成から派生することを特徴とする、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記一定の容量の組織に対応して、関連測定回路に接続された少なくとも１つの測定電極（５６）と、前記アブレーションカテーテル（４４）によって呈される参照電極と、を設定するという事実を特徴とする、請求項１１〜１３のいずれか１に記載の方法。
【請求項１５】
前記一定の容量の組織に対応して一対の測定電極（５６）を配置し、前記測定電極は関連測定回路に接続されるという事実を特徴とする、請求項１１〜１３のいずれか１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月22日(2005.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
緊密に嵌合された補綴物を係留するインプラント（１）であって、挿入工具を用いて骨内にねじ込まれる雄ネジ（６）付きインプラント本体（２）を備え、前記本体（２）は第１端（３）と第２端である頂端（４）を有し、前記第１端は片側が開口した内部軸穴を有し、前記頂端の直径が前記第１端の直径よりも小さくなるようなテーパで傾斜しているようなインプラントにおいて、
前記テーパは２°以下であり、漸増的切削面を備えており、
前記インプラント本体（２）は、少なくとも１つの漸増的切削面（８）を備えていることを特徴とするインプラント。
【請求項２】
ねじ切り部材として作用する環状アンダーカット領域を備えていることを特徴とする請求項１に記載のインプラント。
【請求項３】
複数のアンダーカット領域（７）を備えていることを特徴とする請求項２に記載のインプラント。
【請求項４】
３つのアンダーカット領域（７）を備えていることを特徴とする請求項３に記載のインプラント。
【請求項５】
前記漸増的切削面（８）の頂端は、前記インプラント本体（２）の頂端（４）に隣接していることを特徴とする請求項１に記載のインプラント。
【請求項６】
前記漸増的切削面（８）の頂端（４）は、前記アンダーカット領域（７）に重なっていることを特徴とする請求項５に記載のインプラント。
【請求項７】
前記漸増的切削面（８）は、縦方向切削溝（９）の形状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載のインプラント。
【請求項８】
前記縦方向切削溝（９）の断面は、その長さ方向に沿って変化していることを特徴とする請求項７に記載のインプラント。
【請求項９】
その頂端において３つの隆起領域と３つの谷部を備えていることを特徴とする請求項４に記載のインプラント。
【請求項１０】
前記漸増的切削面は、前記各隆起領域内に配置されていることを特徴とする請求項６に記載のインプラント。
【請求項１１】
歯科用インプラントであることを特徴とする請求項１に記載のインプラント。
【請求項１２】
整形外科用インプラントであることを特徴とする請求項１に記載のインプラント。
【請求項１３】
チタンインプラントであることを特徴とする請求項１に記載のインプラント。
【請求項１４】
硬質骨および軟質骨への挿入に適していることを特徴とする請求項１に記載のインプラント。
【請求項１５】
軟質組織または硬質組織内にネジ付きインプラントを係留するための装置であって、前記インプラントは挿入工具を用いて骨内にねじ込まれる雄ネジ（６）付きインプラント本体（２）を備え、前記本体は第１端（３）と第２端である頂端（４）を有し、前記第１端は片側が開口した内部軸穴を備え、前記インプラントは前記頂端の直径が前記第１端の直径よりも小さくなるようなテーパで傾斜しているような装置において、
前記テーパは２°以下であり、前記インプラントは漸増的切削面（８）を備えていることを特徴とする装置。
【請求項１６】
前記インプラントは、多重ネジパターンを有していることを特徴とする請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記漸増的切削面は、前記頂端の近傍から前記第１端におけるフランジまで延長されていることを特徴とする請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記各アンダーカット領域は、長軸と直交する面において３つの側線を有していることを特徴とする請求項１５に記載の装置。
【請求項１９】
後工程における前記インプラントとスペーサ要素との間の嵌合中に力が付加されたとき、前記インプラントと骨の嵌合を離脱させるような捩れを防ぐ手段をさらに備えていることを特徴とする請求項１５に記載の装置。
【請求項２０】
硬質骨および軟質骨に用いるのに適していることを特徴とする請求項１５に記載の装置。
【請求項２１】
組織に予め作成された略円筒状の穴にインプラントを取り付ける方法であって、
（ｉ）軟質または硬質の組織に円筒状の穴を作成する段階と、
（ｉｉ）請求項１に記載のテーパの付いたインプラントを挿入する段階と
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２２】
前記インプラントは前記作成された円筒状の穴に挿入され、同一設計のインプラントが硬質骨または軟質骨のいずれに対しても用いられ、前記インプラントは硬質骨には低挿入トルクでねじ込まれ、軟質骨には高挿入トルクでねじ込まれることを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記穴は円筒状の穴であることを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２４】
前記骨は硬質骨であり、前記骨は低挿入トルクを受けることを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２５】
前記骨は軟質骨であり、前記骨は高挿入トルクを受けることを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２６】
前記骨は顎骨であることを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２７】
請求項１に記載のインプラントと、前記インプラントを支持して挿入する工具と、円筒状の穴を形成するドリルとを備えているインプラントキット。
【請求項２８】
歯科用インプラントキットであることを特徴とする請求項２７に記載のインプラントキット。
【請求項２９】
実質的に添付の図面に記載されているインプラントまたは装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
米国特許第６，０９９，３１２号は、縦方向に延在する略円筒形状を有する歯科用インプラントについて記載している。このインプラントは、全長にわたって、二重溝、好ましくは、等距離に離間した二重溝を有している。
米国特許第５，３３８，１９７号は、人工の歯または歯科補綴物を患者の骨へと固定するためのテーパ付きの固定ピンについて記載している。この固定ピンは、複数の切り込み用の溝を頂部の周囲を巡りながら配置して有している。しかしながら、この従来技術のピンでは、面取り作業の問題の解決のみを目的としてテーパが設けられている。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月20日(2005.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
切断装置(4)を備え、この切断装置(4)はケーシング(9)と、このケーシング(9)の上方に配置されかつ上向きの各軸線(8a, 8b, 8c, 8d, 8e)を中心に回動可能な状態で上記ケーシング(9)に連結された少なくとも３つの切断部材(7a,7b,7c,7d,7e)と、各切断部材(7a,7b,7c,7d,7e)を軸線(8a, 8b, 8c, 8d, 8e)を中心に回転駆動する伝達要素とを有し、上記切断部材(7a,7b,7c,7d,7e)は切断要素(11a, 11b, 11c, 11d, 11e)を有し、各切断部材(7a,7b,7c,7d,7e)は作業時に回転軸線(8a, 8b, 8c, 8d, 8e)を中心とした円(18a, 18b, 18c, 18d, 18e)を描き、全ての円(18a, 18b, 18c, 18d, 18e)が同じ直径を有し、切断部材(7a,7b,7c,7d,7e)の中で互いに隣接した少なくとも２つの切断部材(7b,7c；7d,7e)は互いに反対方向かつ前方から収束する方向（10b,10c;10d,10e）に回転する、農業機械において、
互いに反対方向でかつ前方から収束する方向（10b,10c;10d,10e）に回転する互いに隣接した２つの切断部材(7b,7c；7d,7e)の回転軸線(8b,8c；8d,8e)の間の距離(12)が、前方から収束しない方向(10a,10b;10c,10d)に回転する互いに隣接した２つの切断部材(7a,7b;7c,7d)の回転軸線(8a,8b；8c,8d)の間の距離(13,22)より大きいことを特徴とする農業機械。
【請求項２】
互いに反対方向でかつ前方から収束する方向（10b,10c;10d,10e）に回転する互いに隣接した２つの切断部材(7b,7c；7d,7e)の回転軸線(8b,8c；8d,8e)の間の距離(12)が下記を満足する請求項１に記載の農業機械：
(１)  互いに反対方向でかつ前方から拡大する方向(10c,10d)に回転する互いに隣接した２つの切断部材(7c,7d)の回転軸線(8c,8d)の間の距離(13)より大きく、
(２)  同一方向(10a,10b)に回転する互いに隣接する２つの切断部材（7a,7b）の回転軸線(8a,8b)の間の距離(22)に等しい。
【請求項３】
互いに反対方向でかつ前方から収束する方向（10b,10c;10d,10e）に回転する互いに隣接した２つの切断部材(7b,7c；7d,7e)の回転軸線(8b,8c；8d,8e)の間の距離(12)が下記を満足する請求項１に記載の農業機械：
(１)  同一方向(10a,10b)に回転する互いに隣接する２つの切断部材（7a,7b）の回転軸線(8a,8b)の間の距離(22)より大きく、
(２)  互いに反対方向でかつ前方から拡大する方向(10c,10d)に回転する互いに隣接した２つの切断部材(7c,7d)の回転軸線(8c,8d)の間の距離(13)に等しい。
【請求項４】
互いに反対方向でかつ前方から拡大する方向(10c,10d)に回転する互いに隣接した２つの切断部材(7c,7d)の回転軸線(8c,8d)の間の距離(13)が、同一方向(10a,10b)に回転する互いに隣接する２つの切断部材（7a,7b）の回転軸線(8a,8b)の間の距離(22)に等しい請求項１に記載の農業機械。
【請求項５】
互いに反対方向でかつ前方から収束する方向（10b,10c;10d,10e）に回転する互いに隣接した２つの切断部材(7b,7c；7d,7e)の回転軸線(8b,8c；8d,8e)の間の距離(12)の値が、
互いに反対方向でかつ前方から収束する方向（10b,10c;10d,10e）に回転する互いに隣接した２つの切断部材(7b,7c；7d,7e)の全てで同一である請求項１〜４のいずれか一項に記載の農業機械。
【請求項６】
互いに反対方向でかつ前方から拡大する方向(10c,10d)に回転する互いに隣接した２つの切断部材(7c,7d)の回転軸線(8c,8d)の間の距離(13)の値が、互いに反対方向でかつ前方から拡大する方向(10c,10d)に回転する互いに隣接した２つの切断部材(7c,7d)の)全てで同一である請求項１〜５のいずれか一項に記載の農業機械。
【請求項７】
同一方向(10a,10b)に回転する互いに隣接する２つの切断部材（7a,7b）の回転軸線(8a,8b)の間の距離(22)が、同一回転方向(10a,10b)を有する互いに隣接する切断部材（7a,7b）の全てで同一である請求項１〜６のいずれか一項に記載の農業機械。
【請求項８】
切断部材(7a,7b,7c,7d,7e)が一直線上に並んでいる請求項１〜７のいずれか一項に記載の農業機械。
【請求項９】
切断部材(7a,7b,7c,7d,7e)が同一の延長面内に配置されている請求項１〜８のいずれか一項に記載の農業機械。
【請求項１０】
互いに隣接した２つの切断部材(7a,7b,7c,7d,7e)の切断要素(11a, 11b, 11c, 11d, 11e)の軌道が交点（19）で交差する請求項１〜９のいずれか一項に記載の農業機械。
【請求項１１】
ケーシング(9)の内部に伝達要素が配置されている請求項１〜１０のいずれか一項に記載の農業機械。
【請求項１２】
農業機械が草刈り機である請求項１〜１１のいずれか一項に記載の農業機械。
【請求項１３】
農業機械が草刈り機−コンディショナである請求項１〜１２のいずれか一項に記載の農業機械。
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月29日(2005.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
前記第１の環状部材と前記第２の環状部材と前記第３の環状部材（３、４３、４２）が
円形形状でありかつ同軸上に配設され、
前記第１の環状部材と前記第３の環状部材とが複数のまっすぐな連結棒部材（８２、８
３、８４）によって互いに接続され、
前記第２の環状部材（４３）が前記第１の環状部材（３）と前記第３の環状部材（４２
）との間に配設され、側方棒部材（８５、８６、８７）によってまっすぐな連結棒部材に
接続され、
複数のネット（２５、２６、２７、２８、２９、３０）は少なくとも一つの環状部材の
面に実質的に垂直な面となるように前記第１の環状部材と前記第２の環状部材の間に配設
され、
ネット（６４）が前記第２の環状部材と前記第３の環状部材の周囲の間において配設さ
れ、
バスケットとして形成されるネット（７９）が前記第３の環状部材に取り付けられるこ
とを特徴とする請求項１１に記載の練習装置。