Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月12日(2006.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  所定形状のセラミック鋳造シェルモールドであって、当該シェルモールドの壁厚及び形状を画定するセラミック材料の反復層を備えており、セラミック材料層の隣接する２層以上が当該シェルモールドを構造的に補強するウィスカを含有し、上記隣接する層のうち１層のウィスカが他の隣接層のウィスカと整列していない、セラミック鋳造シェルモールド。
【請求項２】  前記ウィスカが耐火材料からなる、請求項１記載のシェルモールド。
【請求項３】  前記ウィスカがアルミニウム基材料、アルミネート基材料、炭化珪素基材料及びこれらの混合物よりなる群から選ばれる材料からなる、請求項２記載のシェルモールド。
【請求項４】  前記ウィスカが当該モールドの壁圧の中心から外れた位置にあるセラミック材料層に含まれている、請求項１記載のシェルモールド。
【請求項５】  モールドキャビティに隣接する内壁と該内壁と反対側の外壁とを有し、内壁と外壁の距離が当該シェルモールドの合計厚さであり、前記ウィスカが当該モールドの内壁から厚さの１０％〜４０％以内に位置するスラリー層に含有されている、請求項４記載のシェルモールド。
【請求項６】  モールドキャビティに隣接する内壁と該内壁と反対側の外壁とを有し、内壁と外壁の距離が当該シェルモールドの合計厚さであり、前記ウィスカが当該モールドの外壁から厚さの１０％〜２５％以内に位置するスラリー層に含有されている、請求項４記載のシェルモールド。
【請求項７】  前記隣接する層のうち１層のウィスカが他の隣接層のウィスカに対し６０〜９０°の角度に配向している、請求項１記載のシェルモールド。
【請求項８】  ウィスカの平均直径が５〜２００μｍである、請求項１記載のシェルモールド。
【請求項９】  ウィスカのアスペクト比が１０〜２００である、請求項１記載のシェルモールド。
【請求項１０】  セラミック鋳造シェルモールドの製造方法であって、
（ｉ）セラミック層を順次積層して形成した部分的シェルモールドのセラミック層表面に、セラミック基ウィスカを含有するスラリーを塗工して、２層以上の隣接ウィスカ含有セラミック層を形成し、その際、上記隣接層のうち１層のウィスカが他の隣接層のウィスカと整列しないように配向せしめ、
（ｉｉ）ウィスカ含有セラミック層の上に追加のセラミック層を塗工することにより、所望の壁圧を有するシェルモールドを完成し、
（ｉｉｉ）シェルモールドを高温で焼成する
工程を含む、セラミック鋳造シェルモールドの製造方法。
【請求項１１】  前記ウィスカがアルミニウム基材料、アルミネート基材料、炭化珪素基材料及びこれらの混合物よりなる群から選ばれる材料からなる、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】  前記２層以上の隣接ウィスカ含有セラミック層がモールドの壁圧の中心から外れた位置に配置される、請求項１０記載の方法。
【請求項１３】  セラミック鋳造シェルモールドがモールドキャビティに隣接する内壁と内壁とは反対側の外壁とを有し、内壁と外壁の距離がシェルモールドの合計厚さであり、前記ウィスカ含有セラミック層がシェルモールドの内壁から厚さの１０％〜４０％以内に配置された、請求項１１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月4日(2006.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  切除ゾーンにわたって角膜組織または上皮組織を切除するためのシステムであって、
非環状のビーム形状を持つ切除光ビームを発生させるコヒーレントな光源と、
エッチング加工によって形成された回折パターンを持つ、透明な非吸収性・非反射性の媒質を備えた、少なくとも一つの回折光学素子であって、前記ビーム全体を前記素子内を通過させることによって、前記ビームを、前記非環状のビーム形状から環状の形状に変形して、前記切除ゾーンの少なくとも一部を切除するための環状のビーム・パターンを形成する前記素子と、を備えてなるシステム。
【請求項２】  前記走査する段階が、前記角膜組織を、複数の環状切除光パタ−ンにそれぞれ予め設定された時間、曝す段階を含み、前記パタ−ンが合わさって前記切除ゾ−ンをカバ−することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記パタ−ンが実質的に重複しないことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記少なくとも一つの回折光学素子が、複数の回折光学素子を備えてなり、前記システムが、前記ビームを、前記切除ゾーン全体をカバーすることができる一連の環状のビーム・パターンに変形するために、前記回折光学素子を、前記切除光ビーム内に選択的に置くポジショナをさらに備えてなる請求項１に記載のシステム。
【請求項５】  前記切除環状光ビームを受け取って、その直径を選択的に調節するビームエキスパンダをさらに備えてなる請求項１に記載のシステム。
【請求項６】  前記非環状のビーム形状が、長方形である請求項１に記載のシステム。
【請求項７】  前記環状のビーム・パターンが所望のサイズを持つように、前記環状の形状を持つ前記ビームを集光するための手段をさらに備えてなる請求項１に記載のシステム。
【請求項８】  前記集光手段が、前記ビームを集光して、複数の連続的な環状のビーム・パターンを形成することができ、各パターンが、相異なる所望のサイズを持つ請求項７に記載のシステム。
【請求項９】  各パターンが、その前のパターンの前記内径に等しい外径を持つ請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】  前記少なくとも一つの回折光学素子が、さらに、前記ビームを、前記ビームの前記環全体にわたって実質的に一定である空間強度分布を持つように変形する請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】  切除ゾーンにわたって角膜組織または上皮組織を切除するためのシステムであって、
切除光ビームを発生させるコヒーレントな光源と、
第一の切除光パターンを発生させるように前記ビームを回折的に変形するために前記ビーム全体を通過させる、エッチング加工によって形成された第一の回折パターンを持つ、第一の透明な非吸収性・非反射性の媒質を備えた第一の回折光学素子と、
第二の切除光パターンを発生させるために前記ビーム全体を通過させる、エッチング加工によって形成された、前記第一の回折パターンと異なる第二の回折パターンを持つ、第二の透明な非吸収性・非反射性の媒質を備えた第二の回折光学素子であって、前記第一および第二のパターンが、前記角膜組織中の切除ゾーンを処置するための一連の連続的な相異なるパターンを規定する第二の回折光学素子と、を備えてなるシステム。
【請求項１２】  前記連続的なパターンが、相異なるサイズを持つ請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】  前記パターンが、環状の形状を持ち、前記連続的なパターンが、サイズにおいて相異なる請求項１１または１２に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月11日(2006.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  a)骨格蛋白質の一次変異体配列のランク順リストを含む、一次ライブラリーを用意すること；
b)該一次ライブラリーにおける一次変異位置のリストを作成すること；
c)複数の該一次変異位置を組合せて、二次配列の二次ライブラリーを作成すること；
を含む、骨格蛋白質変異体の二次ライブラリーの生成方法。
【請求項２】  a)骨格蛋白質の一次変異体配列のランク順リストを含む、一次ライブラリーを用意すること；
b)複数の変異位置におけるアミノ酸残基の確率分布を作成すること；
c)複数の該アミノ酸残基を組合せて、二次配列の二次ライブラリーを作成すること；
を含む、骨格蛋白質変異体の二次ライブラリーの生成方法。
【請求項３】  さらに、複数の該二次配列を合成することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】  該合成をプールしたオリゴヌクレオチドを用いる複数ＰＣＲによって実施する、請求項２に記載の方法。
【請求項５】  該プールしたオリゴヌクレオチドを等モル量加える、請求項４に記載の方法。
【請求項６】  該プールしたオリゴヌクレオチドを、変異の回数に対応した量で加える、請求項４に記載の方法。
【請求項７】  二次ライブラリーのサブセットを含む、複数の二次変異体蛋白質を含む、組成物。
【請求項８】  二次ライブラリーのサブセットを含む複数の二次変異体蛋白質をコード化する、複数の核酸を含む、組成物。
【請求項９】  a)骨格蛋白質の一次変異体の第１ライブラリーのランク順リストを用意すること；
b)複数の変異位置におけるアミノ酸残基の確率分布を作成すること；
c)複数の該アミノ酸残基を含む骨格蛋白質の二次変異体を複数合成して、二次ライブラリーを形成させること；
但し、該二次変異体の少なくとも１つは該一次変異体と異なる、
を含む、骨格蛋白質変異体の二次ライブラリーの生成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年7月7日(2005.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ゲノムがラブドウイルス由来機能性糖タンパク質G遺伝子を欠損し、少なくとも1種の外来ポリペプチドが組換えラブドウイルスのウイルスエンベロープ中で発現されるよう、前記外来ポリペプチドをコードする、複製能のある前記組換えラブドウイルス。
【請求項２】  前記外来ポリペプチドが他のウイルスの細胞受容体であり、前記細胞受容体が、前記他のウイルスが感染した細胞を標的とするのに十分な様式で前記ラブドウイルス中で発現される、請求項１に記載の組換えラブドウイルス。
【請求項３】  前記外来ポリペプチドが病原性哺乳動物ウイルスの細胞受容体であり、水疱性口内炎ウイルスである、請求項１に記載の組換えラブドウイルス。
【請求項４】  前記病原性哺乳動物ウイルスがHIV-1またはHIV-2である、請求項３に記載の組換えラブドウイルス。
【請求項５】  前記病原性哺乳動物ウイルスがHIV-1である、請求項４に記載の組換えラブドウイルス。
【請求項６】  前記少なくとも１種の外来ポリペプチドが、少なくとも1種のHIV受容体、少なくとも1種のHIV共受容体、またはそれらの混合物である、請求項４に記載の組換えラブドウイルス。
【請求項７】  前記外来ポリペプチドがCD4である、請求項３に記載の組換えラブドウイルス。
【請求項８】  ゲノムが水疱性口内炎ウイルス由来の機能性糖タンパク質G遺伝子を欠損し、HIV受容体およびHIV共受容体が組換え水疱性口内炎ウイルスのウイルスエンベロープ中で発現されるよう、少なくとも１種のHIV受容体および少なくとも１種のHIV共受容体をコードする、複製能のある前記組換え水疱性口内炎ウイルス。
【請求項９】  ゲノムがさらにCXCR4をコードする、請求項７に記載の組換えラブドウイルス。
【請求項１０】  外来ポリペプチドが病原性哺乳動物ウイルスに感染した哺乳動物細胞に結合するものである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組換え水疱性口内炎ウイルスを含む、前記病原性哺乳動物ウイルスに感染した患者を治療するための医薬組成物。
【請求項１１】  外来ポリペプチドが病原性哺乳動物ウイルスによって認識される細胞受容体である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組換え水疱性口内炎ウイルスを含む、前記病原性哺乳動物ウイルスに感染した患者を治療するための医薬組成物。
【請求項１２】  請求項４〜９のいずれか１項に記載の組換え水疱性口内炎ウイルスを含む、HIV-1またはHIV-2に感染した患者を治療するための医薬組成物。
【請求項１３】  外来ポリペプチドが病原性哺乳動物ウイルスに感染した哺乳動物細胞に結合するものである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組換え水疱性口内炎ウイルスを含む、前記病原性哺乳動物ウイルスに感染した患者を治療するための医薬。
【請求項１４】  外来ポリペプチドが病原性哺乳動物ウイルスによって認識される細胞受容体である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組換え水疱性口内炎ウイルスを含む、前記病原性哺乳動物ウイルスに感染した患者を治療するための医薬。
【請求項１５】  請求項４〜９のいずれか１項に記載の組換え水疱性口内炎ウイルスを含む、HIV-1またはHIV-2に感染した患者を治療するための医薬。
【請求項１６】  病原性哺乳動物ウイルスに感染した患者を治療するための医薬の製造における、外来ポリペプチドが前記病原性哺乳動物ウイルスに感染した哺乳動物細胞に結合するものである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組換え水疱性口内炎ウイルスの使用。
【請求項１７】  病原性哺乳動物ウイルスに感染した患者を治療するための医薬の製造における、外来ポリペプチドが前記病原性哺乳動物ウイルスによって認識される細胞受容体である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組換え水疱性口内炎ウイルスの使用。
【請求項１８】  HIV-1またはHIV-2に感染した患者を治療するための医薬の製造における、請求項４〜９のいずれか１項に記載の組換え水疱性口内炎ウイルスの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月18日(2006.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エクスパンダーゼをコードする単離ＤＮＡフラグメントであって、ペニシリウム・クリソゲヌムホストで前記ＤＮＡフラグメントが発現された後、前記エクスパンダーゼが前記ホストのサイトゾルでもっぱら見出される前記単離ＤＮＡフラグメント。
【請求項２】
Ｃ−末端のミクロボディー指向シグナルをコードするヌクレオチド配列が改変されている請求項１に記載のＤＮＡフラグメント。
【請求項３】
Ｃ−末端のトリペプチド配列Ｘ１−Ｘ２−Ｘ３をコードするヌクレオチド配列（式中Ｘ１はセリン、システインおよびアラニンから成る群から選ばれる１つのアミノ酸残基で、Ｘ２はリジン、ヒスチジンおよびアルギニンから成る群から選ばれる１つのアミノ酸残基で、さらにＸ３はロイシンまたはアラニンである）が、前記エクスパンダーゼがホスト細胞での発現時にホスト細胞のミクロボディーに局在するのを実質的に妨げるように改変されている請求項２に記載のフラグメント。
【請求項４】
前記ＤＮＡフラグメントがストレプトミセス・クラブリゲルスから得ることができる請求項３に記載のフラグメント。
【請求項５】
Ｃ−末端のトリペプチド配列セリン−リジン−アラニンをコードするヌクレオチド配列が、ホスト細胞での発現時に前記エクスパンダーゼがホスト細胞のミクロボディーに局在するのを実質的に妨げるように改変されている請求項４に記載のＤＮＡフラグメント。
【請求項６】
Ｃ−末端のトリペプチド配列セリン−リジン−アラニンをコードするヌクレオチド配列が、トリペプチド配列セリン−リジン−アスパラギン酸をコードするヌクレオチド配列に改変されている請求項５に記載のＤＮＡフラグメント。
【請求項７】
さらに前記ＤＮＡのホスト細胞における発現のための調節配列を含む、先行する請求項のいずれかに記載のＤＮＡフラグメント。
【請求項８】
前記ホスト細胞が微生物から選ばれる請求項７に記載のＤＮＡフラグメント。
【請求項９】
前記ホスト細胞がペニシリウム・クリソゲヌムである請求項８に記載のＤＮＡフラグメント。
【請求項１０】
発現可能な形態で請求項１から９のいずれかに記載のＤＮＡフラグメントを取り込んでいるホスト細胞。
【請求項１１】
微生物から選ばれる請求項１０に記載のホスト細胞。
【請求項１２】
前記ホストがペニシリウム・クリソゲヌムの株である請求項１１に記載のホスト細胞。
【請求項１３】
もっぱらサイトゾルに局在する機能的エクスパンダーゼを含む請求項１０から１２のいずれかに記載のホスト細胞。
【請求項１４】
請求項１０から１３のいずれかに記載の細胞を含む培養。
【請求項１５】
請求項１から９のいずれかに記載のＤＮＡと細胞を形質転換条件下で接触させ、さらに前記ＤＮＡを獲得した細胞を選別する工程を含む、請求項１０から１３のいずれかに記載のホスト細胞を製造する方法。
【請求項１６】
さらに、エクスパンダーゼがサイトゾルにもっぱら局在する細胞を選別することを含む請求項１５に記載のホスト細胞の製造方法。
【請求項１７】
前記ホスト細胞がペニシリウム・クリソゲヌム細胞である請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
ベータ−ラクタム化合物の５員環を拡張して６員環セフェム化合物を生成する方法であって、前記方法が、前記ベータ−ラクタム化合物の製造を促進する条件下で前記化合物を製造することができるホスト化合物を増殖させ、さらに、前記ベータ−ラクタム化合物の５員環を拡張することができる異種エクスパンダーゼをそれをコードするＤＮＡフラグメントから発現させ、それによって前記６員環セフェム化合物を生成する工程を含み、ホスト細胞のサイトゾルにもっぱら局在するエクスパンダーゼをコードするＤＮＡフラグメントから前記エクスパンダーゼが発現されることを特徴とする前記ベータ−ラクタム化合物の５員環拡張方法。
【請求項１９】
前記エクスパンダーゼが、それをコードするＤＮＡフラグメントの改変のためにサイトゾルにもっぱら局在し、したがってミクロボディー指向シグナルが改変されている請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記エクスパンダーゼをコードするＤＮＡフラグメントがストレプトミセス・クラブリゲルスから入手できる請求項１８または１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記ホストがペニシリウム・クリソゲヌムである請求項１８から２０のいずれかに記載の方法。
【請求項２２】
前記ベータ−ラクタム化合物が、フェニルアセチル−６−ＡＰＡ、フェノキシアセチル−６−ＡＰＡ、アルファ−アミノアジポイル−６−ＡＰＡ、アジポイル−６−ＡＰＡ、グルタリル−６−ＡＰＡ、スベリル−６−ＡＰＡ、ピメリル−６−ＡＰＡ、またはトランス−ｂ−ヒドロムコニル−６−ＡＰＡから成る群から選ばれる請求項１８から２２のいずれかに記載の方法。
【請求項２３】
請求項１８から２２のいずれかに記載の方法で前記ベータ−ラクタム化合物のペナム環を拡張し、さらにそのようにして生成されたセフェム化合物を回収する工程を含むセフェム化合物を製造する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月22日(2006.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入射光線（４０）を発生させ、前記入射光線が表面（Ｓ）に入射し正反射するように配置されている光源（２２）と、
少なくとも１つの基板と前記入射光線を移動させ、前記表面の第１の方向に沿って伸び第２の方向に沿って互いに間隔を介した複数の走査線に沿って前記入射光線を走査することができ、ここで前記入射光線は前記表面に入射し反射して正反射光線を発生させるものである、走査システム（３２、３６、３８、４２）と、
前記正反射光線を受け入れるように配置されているものであって、光検出器が前記正反射光線の第１の軸に沿った相対的な位置を示し前記正反射光線の第２の軸に沿った相対的な位置を示す信号を提供できるように配置されている複数の感光性セル（５０ａ、５０ｂ、５０ｃ、５０ｄ）を備え、ここで前記第１および第２の軸に沿った前記正反射光線の相対的な位置はそれぞれ前記第１および第２の方向に沿った前記表面の相対的な勾配を示すものである、光検出器（５０）と、
各前記入射光線の走査中に前記検出器から前記信号を受信し、前記信号をサンプリングおよび処理し、前記第１および第２の方向によって決まる格子に配置されている前記表面上の点の配列に対応する勾配に関するデータの複数の集合を作成することができ、ここで前記勾配に関するデータの各集合は、前記表面の各点について前記第１の方向に沿った相対的な勾配と、前記第２の方向に沿った相対的な勾配とを含んでいるものであり、これによりプロセッサが前記配列の各点について、その点における前記入射光線の同一の走査により前記第１および第２の方向の双方に沿った相対的な勾配を決定できる、プロセッサ（６６、６８、７２）と
を備える、基板（Ｗ）の表面（Ｓ）のトポグラフィーをマッピングする装置。
【請求項２】
前記走査システム（３２、３６、３８、４２）および前記プロセッサ（６６、６８、７２）は、協調し前記格子を直交格子として定義できるものである、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記プロセッサ（６６、６８、７２）は、前記第１および第２の方向に沿った相対的な勾配に基づいて前記配列の各点について相対的な表面高を算出し、各点と前記表面における複数の異なる各方向に隣接するその他の点との間の表面高の変化を求め、前記異なる方向における表面高の変化がある所定の閾値を超えた任意の点を欠陥領域として特定するものである、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記プロセッサ（６６、６８、７２）は、各点と前記第１の方向に隣接する別の点、前記第２の方向に隣接するさらに別の点、および前記第１および第２の方向とは別の方向にオフセットされているさらに２つの方向に隣接するさらに別の点との間の表面高の変化を算出できるものである、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記プロセッサ（６６、６８、７２）は、前記第１および第２の方向に沿った前記相対的な勾配の線積分に基づいて各点における相対的な表面高を算出できるものである、請求項２に記載の装置。
【請求項６】
前記走査システム（３２、３６、３８、４２）は、前記第１の方向に沿った前記入射光線を走査するための光学素子（３２、３６、３８）と、前記第１の方向と直交する前記第２の方向に前記基板を移動させることができる移動機構（４２）とを含んだものである、請求項２に記載の装置。
【請求項７】
前記走査システムの前記光学素子は回転ミラー（３２）を含んだものである、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
入射光線（４０）を基板の表面（Ｓ）の複数の点のそれぞれに入射させ、ここで前記点はある配列に配置されているものであり、前記入射光線は前記表面の各点において反射し正反射光線（４４）を形成するものである、ステップと、
前記正反射光線（４４）を各点から検出器（５０）の表面に導くステップと、
前記基板の表面（Ｓ）上の各点について、前記検出器の表面における第１の軸に沿った前記正反射光線（４４）の相対的な位置と、前記検出器の表面における第２の軸に沿った前記正反射光線の相対的な位置とを同時に決定し、ここで前記第１および第２の軸に沿った前記反射光線の前記相対的な位置は、それぞれ前記基板の表面（Ｓ）における第１および第２の方向に沿った前記基板の表面（Ｓ）の相対的な勾配を示すものである、ステップと、
前記基板の表面（Ｓ）における前記複数の点について前記第１および第２の方向における相対的な勾配を積分し、各点における相対的な表面高を決定し、これにより前記基板の表面（Ｓ）の高さマップを導くステップと
を含む、基板の表面のトポグラフィーをマッピングする方法。
【請求項９】
前記入射光線（４０）は前記基板の表面（Ｓ）の一面にわたって走査され、ある格子に配置されている点の配列を生成するものである、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記入射光線（４０）は、前記点が前記基板の表面（Ｓ）の一面にわたって実質的に一様に分布するように走査されるものである、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
各点と前記基板の表面（Ｓ）における複数の異なる方向にそれぞれ隣接するその他の点との間の表面高の変化を推定するステップと、
前記異なる方向における表面高の前記変化がある所定の閾値を超えた任意の点を欠陥領域として特定するステップとを
さらに含む請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
各点における表面高の前記変化は、前記第１の方向、前記第２の方向、および前記第１および第２の方向とは別の方向にオフセットされているさらに２つの方向に沿って算出できるものである、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記第１および第２の軸に沿って前記検出器の表面における前記正反射光線（４４）の相対的な位置を同時に決定するステップは、前記第１および第２の軸により決まる象限に配置されている４つのセル（５０ａ、５０ｂ、５０ｃ、５０ｄ）を有する検出器（５０）に前記正反射光線を導くことにより実行できるものである、請求項８に記載の方法。
【請求項１４】
前記入射光線（４０）は、前記第１の方向に平行に伸び前記第２の方向に沿って間隔を介した走査線に沿って前記基板の表面（Ｓ）の一面にわたり走査されるものである、請求項８に記載の方法。
【請求項１５】
前記基板（Ｗ）は前記第２の方向に沿って平行移動する一方、前記入射光線（４０）は前記第１の方向に沿って周期的に走査されるものである、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記基板の表面（Ｓ）における前記点は直交格子内に配置されるものであり、ここで前記点は前記第１および第２の各方向に約２００μｍを超えない程度の間隔を介しており、これにより欠陥領域は、空間分解能により前記表面（Ｓ）の平面において約２００μｍを超えない程度に分解されるものである、請求項８に記載の方法。
【請求項１７】
前記基板の表面（Ｓ）における前記点は直交格子内に配置されるものであり、前記第１および第２の方向とそれぞれ平行なＸ軸およびＹ軸に沿ってΔｘおよびΔｙの距離を置いて前記点が位置しており、ここで相対的な高さｚ（ｉ，ｊ）は、各点においてその点とＸ軸およびＹ軸の各軸に沿って隣接する複数の点との間の相対的な勾配の線積分の数値近似を用いて算出されるものである、請求項８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月27日(2006.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロータ、磁気ベアリング、及び該磁気ベアリング用の線形パラメータ修正式制御器を具備し、前記制御器が線形マトリックス不等式に応答することを特徴とするロータシステム。
【請求項２】
ロータ、磁気ベアリング、及び該磁気ベアリング用の線形パラメータ修正式制御器を具備し、偏倚電流が該磁気ベアリング内の飽和レベルの半分より小さいことを特徴とするロータシステム。
【請求項３】
ロータシステムのための磁気ベアリングシステム用制御器に於いて、前記制御器が線形パラメータ修正式制御器であり、線形マトリックス不等式に応答することを特徴とする制御器。
【請求項４】
ロータシステムのための磁気ベアリングシステム用制御器に於いて、前記制御器が線形パラメータ修正式制御器であり、偏倚電流が該磁気ベアリング内の飽和レベルの半分より小さいことを特徴とする制御器。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月14日(2006.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定のしきい値を越える回転速度において、駆動軸を従動部材に結合する遠心クラッチであって、
一端に拡大部を有し、第１の結合部分を有する遠心スライダと、
伸張半径位置と後退半径位置との間での前記遠心スライダのスライド運動を拘束する複数の部分に前記遠心スライダを保持し、前記遠心スライダによって駆動される前記駆動軸に固定されるように嵌合するように形成され、前記スライド運動の軸に対して直角な軸をもつフレームと、
前記駆動軸に回転自在に装着され、使用中に前記従動部材と駆動させながら噛み合わせるために形成され、前記遠心スライダがその伸張位置にあるときのみ駆動的に前記第１の結合部分に接続する第２の結合部分と共に形成された出力駆動部材と、
前記遠心スライダの凹部内に全体的に配置され、前記遠心スライダをその後退位置に向けてバイアスするバイアス手段とを有し、
前記遠心スライダと前記フレームの回転は、前記拡大部に前記遠心スライダをその後退半径位置からその伸張半径位置へ引き、前記第１および第２の結合部分を相互に噛み合わせて、前記駆動軸から前記従動部材への回転駆動を伝達させ、前記バイアス手段は前記回転が終了したときに係合が解かれて、前記従動部材から前記駆動軸の結合を解く、
遠心クラッチ。
【請求項２】
前記第１の結合部分は、前記一端から離れた前記遠心スライダの他端にある
請求項１に記載の遠心クラッチ。
【請求項３】
前記バイアス手段は、前記遠心スライダをその後退位置までバイアスするように、前記遠心スライダに作用し、使用中に前記駆動軸を直接支える復帰スプリングである、
請求項１または２に記載の遠心クラッチ。
【請求項４】
前記スプリングは平坦である
請求項３に記載の遠心クラッチ。
【請求項５】
前記スプリングはジグザグ形状を有する
請求項４に記載の遠心クラッチ。
【請求項６】
前記フレームは、プラスチック射出成型物である、
請求項１〜５のいずれかに記載の遠心クラッチ。
【請求項７】
前記出力駆動部材はプラスチック射出成型物である、
請求項１〜６のいずれかに記載の遠心クラッチ。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の遠心クラッチのフレームに駆動的に結合された駆動軸を具備する駆動装置であって、前記駆動軸が前記フレームおよび前記スライダを通して突出している、
駆動装置。
【請求項９】
電気モータを具備するモータ駆動装置であって、前記モータの出力軸が、請求項１〜７のいずれかに記載の遠心クラッチに接続されている、
モータ駆動装置。
【請求項１０】
請求項１〜７のいずれかに記載の遠心クラッチをプリアセンブリングし、前記プリアセンブルされたクラッチを駆動軸に装着して押し込みばめを生じさせる工程を有する駆動装置の組立方法であって、
前記プリアセンブルされたクラッチは、軸方向の開口を有し、この開口は前記スライダと前記フレームを通して延び、前記出力駆動部材の軸方向に延びており、前記駆動軸を受容する
駆動装置の組立方法。
【請求項１１】
前記駆動軸は、モータの駆動軸である
請求項１０に記載の組立方法。
【請求項１２】
所定のしきい値を越える回転速度において、駆動軸を従動部材に結合する遠心クラッチのフレームと結合された駆動軸を有する駆動アセンブリであって、
一端に拡大部を有し、第１の結合部分を有する遠心スライダと、
伸張半径位置と後退半径位置との間で前記遠心スライダのスライド運動を拘束する複数の部分に前記遠心スライダを保持し、前記遠心スライダによって駆動される前記駆動軸に固定されるように嵌合するように形成され、前記スライド運動の軸に対して直角な軸をもつフレームと、
前記駆動軸に回転自在に装着され、使用中に前記従動部材と駆動させながら噛み合わせるために形成され、前記遠心スライダがその伸張位置にあるときのみ駆動的に前記第１の結合部分に接続する第２の結合部分と共に形成された出力駆動部材と、
前記遠心スライダをその後退位置に向けてバイアスするバイアス手段と
を有し、
前記遠心スライダおよび前記フレームの回転は、前記拡大部に前記遠心スライダをその後退半径位置からその伸張半径位置へ引き、前記第１および第２の結合部分を相互に噛み合わせて、前記駆動軸から従動部材へ回転駆動を伝達させ、前記バイアス手段は前記回転が終了したときに係合を解き、前記従動部材から前記駆動軸の結合を解き、
前記駆動軸は、前記フレームおよび前記スライダから突き出している
駆動アセンブリ。
【請求項１３】
前記フレームは、プラスチック射出成型物である、
請求項１２に記載の駆動アセンブリ。
【請求項１４】
前記出力駆動部材はプラスチック射出成型物である、
請求項１２または１３に記載の駆動アセンブリ。
【請求項１５】
請求項１２〜１３のいずれかに記載の遠心クラッチのフレームに駆動的に結合された駆動軸を具備する駆動装置。
【請求項１６】
遠心クラッチをプリアセンブリングし、前記プリアセンブルされたクラッチを駆動軸に装着して押し込みばめを生じさせる工程を有する駆動装置の組立方法であって、
前記クラッチは、フレームによって保持された遠心スライダと、使用中に前記スライダから外部の従動部材へ回転駆動力を伝達す歯車と、前記歯車と噛み合っていないときに前記スライダを半径方向の位置へ向けてバイアスするスプリングとを有し、前記スライダは、前記クラッチが回転するときに、遠心作用の下で前記歯車に駆動しながら噛み合わせるスプリングバイアスに対してスライドするように形成されており、
前記プリアセンブルされたクラッチは、軸方向の開口を有し、この開口は前記スライダと前記フレームを通して延び、前記歯車の軸方向に延びており、前記駆動軸を受容する、
駆動装置の組立方法。
【請求項１７】
前記スプリングは、前記駆動軸に接触している、
請求項１６に記載の組立方法。
【請求項１８】
前記駆動軸は、モータの駆動軸である、
請求項１６または１７に記載の組立方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月9日(2006.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】  請求項１６の吸収組成物であって、
−キサンタンガムが１％のＫＣｌを含有する水中に１％の濃度で１４００〜１６５０ｍＰａ・ｓ（ｃｐｓ）の範囲の粘度を、１％のＫＣｌを含有する水中に０．２％の濃度で１３０〜１８０ｍＰａ・ｓ（ｃｐｓ）の範囲の粘度を有し、低ピッチプロペラ型攪拌機を用いて８００ｒｐｍで撹拌しながら３．０ｇの生成物および３．０ｇの塩化カリウムの乾燥配合物を４００ｍｌビーカー中の２５０ｍｌの蒸留水に徐々に加え、更に４４ｍｌの蒸留水を加え、ビーカーの壁をすすぎ、および８００ｒｐｍで２時間連続撹拌し、この期間の終了時に垂直運動で手で激しく撹拌することにより２５℃に温度を調整して任意のチキソトロピー作用または層化を排除することにより生成物の１％塩溶液を調製し、第３番スピンドルで６０ｒｐｍでＬＶモデルのブロックフィールド粘度計を用いて直ぐに粘度を測定することにより粘度が測定され、
グアーガムが２４時間後に少なくとも３５００ｍＰａ・ｓ（ｃｐｓ）の、３０分後に２８００ｍＰａ・ｓ（ｃｐｓ）の粘度を有し、低ピッチプロペラ型攪拌機を用いて８００ｒｐｍで撹拌しながら３．０ｇの生成物および３．０ｇの塩化カリウムの乾燥配合物を４００ｍｌビーカー中の２５０ｍｌの蒸留水に徐々に加え、更に４４ｍｌの蒸留水を加え、ビーカーの壁をすすぎ、および８００ｒｐｍで２時間連続撹拌し、この期間の終了時に垂直運動で手で激しく撹拌することにより２５℃に温度を調整して任意のチキソトロピー作用または層化を排除することにより生成物の１％塩溶液を調製し、第３番スピンドルで６０ｒｐｍでＬＶモデルのブロックフィールド粘度計を用いて直ぐに粘度を測定することにより粘度が測定される吸収組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
本発明の更に好ましい実施態様によれば、
−キサンタンガムが１％のＫＣｌを含有する水中に１％の濃度で１４００〜１６５０ｍＰａ・ｓ（ｃｐｓ）の範囲の粘度を、１％のＫＣｌを含有する水中に０．２％の濃度で１３０〜１８０ｍＰａ・ｓ（ｃｐｓ）の範囲の粘度を有し、低ピッチプロペラ型攪拌機を用いて８００ｒｐｍで撹拌しながら３．０ｇの生成物および３．０ｇの塩化カリウムの乾燥配合物を４００ｍｌビーカー中の２５０ｍｌの蒸留水に徐々に加え、更に４４ｍｌの蒸留水を加え、ビーカーの壁をすすぎ、および８００ｒｐｍで２時間連続撹拌し、この期間の終了時に垂直運動で手で激しく撹拌することにより２５℃に温度を調整して任意のチキソトロピー作用または層化を排除することにより生成物の１％塩溶液を調製し、第３番スピンドルで６０ｒｐｍでＬＶモデルのブロックフィールド粘度計を用いて直ぐに粘度を測定することにより粘度が測定され、
グアーガムが２４時間後に少なくとも３５００ｍＰａ・ｓ（ｃｐｓ）の、３０分後に２８００ｍＰａ・ｓ（ｃｐｓ）の粘度を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月18日(2005.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  気液混合装置において、
ａ）気体入口と、液体入口と、気液混合物出口とを有するケーシングと、
ｂ）前記ケーシング内の微孔性膜であって、
ｉ）一般的に０．０１μｍ〜５μｍの範囲内の気体／液体接触細孔通路の有効直径と、
ｉｉ）混合されるべき液体を撥ね返す側面とを有し、前記ケーシング内部を、前記液体を撥ね返す側面における前記液体入口と前記気液混合物出口との間の液体通路と、前記気体入口からの気体チャンバとに分割している、前記ケーシング内の微孔性膜と、
ｃ）前記ケーシングに連結されている流体圧力調整手段であって、
ｉ）気体圧力が液体圧力を超えないように、かつ、
ｉｉ）加圧された液体が前記膜の細孔を通過しないように
前記ケーシング内の気体／液体圧力関係を調整する流体圧力調整手段と、
ｄ）前記気液混合物出口に連結されている、液体の乱流を発生させることが少ない気液混合物搬送および配送装置とを有する、気液混合装置。
【請求項２】  前記気体出口が前記ケーシングから設けられており、前記微孔性膜が、前記ケーシング内の一体状に束ねられた複数の互いに類似した微孔性の中空繊維のうちの１つの繊維であり、第１の支持手段が前記繊維束の一方の端部に位置して、前記繊維束のその端部を封止し、前記繊維束のその端部の前記繊維の開口端部が前記気体入口と連通し、第２の支持手段が前記繊維束の他方の端部に位置して、前記繊維束のその端部を封止し、前記繊維束のその端部の前記繊維の開口端部が前記気体出口と連通し、前記気体入口と前記気液混合物出口とが、液体が前記繊維の外側表面のほぼ全体にわたって流れるように前記ケーシングの反対側に位置している請求項１に記載の装置。
【請求項３】  前記繊維束は織られた目の粗いメッシュ構造の縦糸を備え、中実の撥水性繊維が横糸を形成しており、前記目の粗いメッシュ構造が巻かれて前記繊維束を形成している請求項２に記載の装置。
【請求項４】  タンクと、液体を前記液体入口に配送するために連結されているポンプとをさらに備え、前記液体の乱流を発生させることが少ない気液混合物搬送および配送装置は、気液混合物を前記タンクに穏やかに配送するように前記タンクに連結されている請求項１に記載の装置。
【請求項５】  前記膜は少なくとも１０％の多孔度を有する請求項１に記載の装置。
【請求項６】  気体を液体と混合する方法において、
ａ）ケーシング内で、０．０１μｍ〜５μｍの範囲内の有効細孔通路直径を有する微孔性膜の混合液体を撥ね返す側面に混合液体を接触させる段階と、
ｂ）前記ケーシング内で、前記液体が接触する前記側面とは反対側の前記微孔性膜の側面に気体を接触させる段階と、
ｃ）ｉ）気体圧力が液体圧力を超えないように、かつ、
ｉｉ）液体が前記膜の細孔を通過しないように、前記ケーシング内の気体／液体圧力関係を調整して、それによって前記気体の離散した微視的部分を前記液体と接触させる段階と、
ｄ）このようにして乱流を発生させることが少なく生じせしめられた気液混合物を、前記膜から、前記混合物を収容するための容器に搬送する段階とを備えた方法。
【請求項７】  前記微孔性膜は複数の互いに類似した中空繊維のうちの１つの繊維であり、前記気体は前記中空の繊維を通過させられ、一方、前記液体は前記中空の繊維の前記液体を撥ね返す外側表面上を通過させられる請求項６に記載の方法。
【請求項８】  前記膜は少なくとも１０％の多孔度を有する請求項６に記載の方法。
【請求項９】  前記液体中における前記気体の離散した微視的部分の保持時間を増加させるために、前記収容容器内の気液混合物が凍結させられる請求項６に記載の方法。
【請求項１０】  前記気体圧力は、前記液体の圧力よりも少なくとも６．８ｋＰａ（０．０７ｋｇ／ｃｍ2）低い請求項６に記載の方法。
【請求項１１】  前記気体は酸素であり、前記液体は水である請求項６に記載の方法。
【請求項１２】  前記気体は二酸化炭素であり、前記液体は水である請求項６に記載の方法。
【請求項１３】  前記気体は二酸化硫黄であり、前記液体は水である請求項６に記載の方法。
【請求項１４】  前記第１および第２の支持手段はエポキシ樹脂のブロックの形である請求項２に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
気体圧力が、液体圧力よりも少なくとも６．８ｋＰａ（０．０７ｋｇ／ｃｍ2）低いことが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
中空の微孔性繊維２７（図２および図３）の各々は釣り糸の直径にほぼ等しい外径を有し、および、両方とも撥水性であるポリエチレンまたはポリプロピレンで作られていた。細孔のサイズの範囲は、中空の微孔性繊維の壁を通して予め決められた有効通路直径を生じさせるように、微孔性繊維製造プロセスで調整された。気体が微孔性膜を通り抜けて液体の中へと入る圧力は２．８ｋｇ／ｃｍ2だった。中空微孔性繊維の束の比表面積は、体積１立方メートル当たり約３，０００平方メートルだった。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月7日(2006.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも２本のケーブルを接続する少なくとも１つのコネクタによって形成されるケーブルスプライス用のエンクロージャであって、
それぞれが２つの長手方向の側面と２つの端壁を有し、前記ケーブルがカバー部材の端壁のうちの少なくとも１つから突出するように互いに係合し、かつ前記ケーブルスプライスを密封するためのキャビティを形成するように構成され、前記キャビティがケーブルスプライスを絶縁して環境から前記スプライスを保護するためのシーラント材料で満たされた第１カバー部材及び第２カバー部材と、
前記第１及び第２カバー部材により形成されるキャビティの中へ固定部材と取り付け対象のケーブルスプライスを挿入できるように構成された、前記ケーブルスプライスに取り付けるためのケーブル固定部材と、
を備えていて、
前記固定部材が、前記キャビティ内に挿入される際に、前記第１及び第２カバー部材の端壁に隣接して配置される横方向に延在するバーを含むエンクロージャ。
【請求項２】  前記固定部材の横方向に延在するバーにケーブルタイを収容するための開口部が設けられ、前記ケーブルスプライスのケーブルがケーブルタイにより前記固定部材に取り付けられている、請求項１に記載のエンクロージャ。
【請求項３】  前記ケーブルスプライスのケーブルが、少なくとも１つのクランプによって前記固定部材の横方向に延在するバーに取り付けられている、請求項１または２に記載のエンクロージャ。
【請求項４】  前記固定部材の横方向に延在するバーが、前記ケーブルを捕らえるための歯を更に備える、請求項１〜３のいずれか１つに記載のエンクロージャ。
【請求項５】  前記固定部材がキャビティ内に挿入される際に前記シーラントがケーブルスプライスの周りに回り込むように、前期固定部材が前記第１または第２カバー部材のうち少なくとも１つの長手方向の側面に隣接して配置されるように構成された少なくとも１つの長手方向のバーを含む、請求項１〜４のいずれか１つに記載のエンクロージャ。
【請求項６】  前記シーラントと前記カバー部材との間のより良い固着を実現するために前記キャビティの内面にひだが設けられている、請求項１〜５のいずれか１つに記載のエンクロージャ。
【請求項７】  係合した前記第１及び第２カバー部材が、前記カバー部材の前記シーラント充填キャビティとそれの嵌め合いとなる端壁との間に、前記キャビティから漏れるシーラントを溜めてそれによってシーラントが前記エンクロージャから漏れ出るのを防ぐよう構成されたリザーバをさらに含む、請求項１〜６のいずれか１つに記載のエンクロージャ。
【請求項８】  前記第１及び第２カバー部材の端壁が前記エンクロージャから突出するケーブルに押し付けられるときに破断するか、もしくは曲がるように構成されている、請求項１〜７のいずれか１つに記載のエンクロージャ。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月8日(2005.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  サンプル中のヌクレオシドジホスフェートの存在を検出する方法であって、アミノ酸残基と結合している標識を有するヌクレオシドジホスフェートキナーゼ（NDPK）のリン酸化酵素形態の脱リン酸化を、そのリン酸化形態と脱リン酸化形態とで異なるNDPKの特性の変化を検出することによって、検出する工程を含む前記検出方法。
【請求項２】  サンプル中のヌクレオシドトリホスフェートの存在を検出する方法であって、アミノ酸残基と結合している標識を有するヌクレオシドジホスフェートキナーゼ（NDPK）のリン酸化酵素形態へのリン酸化を、そのリン酸化形態と脱リン酸化形態とで異なるNDPKの特性の変化を検出することによって、検出する工程を含む前記検出方法。
【請求項３】  酵素がリン酸化される場合と非リン酸化される場合とで異なる検出可能なシグナルを与える標識を有するようにNDPKを改変する請求の範囲第１項又は第２項記載の方法。
【請求項４】  NDPKが蛍光性標識を有する請求項３記載の方法。
【請求項５】  蛍光性標識がシステイン残基によってNDPKと結合している請求項４記載の方法。
【請求項６】  蛍光性標識がIDCC（N-[2-(ヨードアセトアミド)エチル]-7-ジエチルアミノクマリン-3-カルボキサミド）である請求項４又は５記載の方法。
【請求項７】  ヌクレオシドジホスフェートがADP又はGDPである請求項１記載の方法。
【請求項８】  ヌクレオシドトリホスフェートがATP又はGTPである請求項２記載の方法。
【請求項９】  定量的方法である請求項１〜８のいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】  NDPKが、Asp112→Cys突然変異を有し、この突然変異した残基にIDCC標識を有するMyxococcus xanthusのNDPKである請求項１〜９のいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】  NDPKのアミノ酸残基と結合し、かつ、酵素がリン酸化される場合と非リン酸化される場合とで異なる検出可能なシグナルを与える標識を有するように修飾されたNDPK。
【請求項１２】  修飾されたNDPKの標識が蛍光性標識である請求項１１記載のNDPK。
【請求項１３】  蛍光性標識がシステイン残基によってNDPKと結合している請求項１２項記載のNDPK。
【請求項１４】  蛍光性標識がIDCCである請求項１２又は１３記載のNDPK。
【請求項１５】  Asp112→Cys突然変異を有するMyxococcus xanthusのNDPKであり、この突然変異した残基にIDCC標識を有する請求項１４記載のNDPK。
【請求項１６】  それに固定化された請求項１１〜１５のいずれか１項記載のNDPKを有する基質。
【請求項１７】  in vivo又はin vitro診断試薬として使用するための請求項１１〜１５のいずれか1項記載のNDPK。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月16日(2006.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】 次に示す可能性、即ち：
色座標の調整。
輝度調整。
コントラストの調整。
表示単位体４の温度、及び／又は、使用経年の関数としての補正的な調整。
伝達関数ＲＧＢ（赤、緑、青）の調整。
水平、及び／又は、垂直方向における入来ビデオ信号の拡大。
の中の１つ又は幾つかに関係する１つ又は幾つかの個別調整が前記個別処理単位体（５）において実施されることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
分散信号処理を実施するために、個別処理用単位体５においても１つ又は幾つかの個別調整が実施される。詳細には、これらの調整は次に示す可能性の１つ又は幾つかに関係する。即ち、
色座標の調整。
輝度調整。
コントラストの調整。
表示単位体４の温度、及び／又は、使用経年の関数としての補正的な調整。
伝達関数ＲＧＢ（赤、緑、青）の調整。
水平、及び／又は、垂直方向における入来ビデオ信号の拡大。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月11日(2006.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２２】
前記解く段階は、ｗについて解くために固有空間手法を利用する段階からなることを特徴とする請求項２１記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２３】
前記解く段階は、ＢＣＲ(Batch Covariance Relaxation)手法を利用して、ｗについて解く段階からなることを特徴とする請求項２１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月26日(2006.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ディスプレー装置であって、
第１表面を有する光変調層と、
前記光変調層に光を与える光キャビティと、
前記光キャビティから光を受けて、該光を前記光変調層の前記第１表面に対して低角度で出力するように配置されるライトガイドと、
前記ライトガイドから出力された前記低角度の光を受けて、該光を前記光変調層に向けて再方向付けするように配置される回転レンズと、
前記回転レンズと前記光変調層との間に配置され、前記再方向付けされた光を受けて、第１偏光を有する該再方向付けされた光の第１成分を前記光変調層に向けて透過するとともに、該第１偏光とは異なる第２偏光を有する該再方向付けされた光の第２成分を拡散反射するための拡散反射偏光子と、
を備えるディスプレー装置。
【請求項２】  照明システムであって、
光を発生するための光源と、
前記光源の近くに配置された拡散反射偏光子および該光源から遠くに配置された鏡面反射体を含む反射体とを備え、
第１偏光を有する前記光の第１成分が、前記拡散反射偏光子により透過され、前記鏡面反射体により鏡面反射され、該拡散反射偏光子を通って再透過されて、第１分布を有する該第１偏光の鏡面反射光を生成し、
前記第１偏光とは異なる第２偏光を有する前記光の第２成分が、前記拡散反射偏光子により拡散反射されて、前記第１分布とは異なる第２分布を有する拡散反射光を生成する、
照明システム。
【請求項３】  ディスプレー装置であって、
光変調層と、
前記光変調層に光を与えるように構成される光キャビティであって、入射光の第１減偏光度で該入射光を反射する光キャビティと、
前記光変調層と前記光キャビティとの間に配置され、前記光キャビティにより与えられた前記光の、第１偏光を有する第１成分を、観察のために透過するとともに、前記光キャビティから受けた前記光の、第２偏光を有する第２成分を、拡散反射する拡散反射偏光子であって、前記第１減偏光度よりも大きい第２減偏光度で該第２偏光の光を拡散反射して該第１偏光の拡散反射光を生成する拡散反射偏光子とを備え、
前記第１偏光の前記拡散反射光の少なくとも一部が、前記拡散反射偏光子に向けて減偏光することなく、前記光キャビティにより反射されて、該拡散反射偏光子を透過する、
ディスプレー装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月9日(2006.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１平面に設けられて各々が第１軸にほぼ整合した複数の第１の二軸式逆反射エレメントを（８２２）有する第１側面（８２０）であって、更に前記第１平面に平行に配向された複数の平坦な透過性第１表面（８２６）を具えた第１側面（８２０）と、
それに入射する光の一部を反射し、一部を透過させる第２側面（８３０）と、
を具えた光学的映像形成装置。
【請求項２】  第１平面に設けられて各々が第１軸にほぼ整合した複数の第１の二軸式逆反射エレメント（８２２）を有する第１側面（８２０）であって、更に前記第１平面に平行に配向された複数の平坦な透過性第１表面（８２６）を具えた第１側面（８２０）と、
複数の反射性及び透過性領域を具えた第２側面（８３０）であって、前記反射性領域が平坦で且つ前記第１平面に平行に配向され、それに入射する実質的にすべての光を反射し、更に、前記透過性領域がそれに入射する光の少なくとも一部を透過させる第２側面（８３０）と、
を具えた光学的映像形成装置。
【請求項３】  第１平面に設けられて各々が第１軸にほぼ整合した複数の第１の二軸式逆反射エレメント（２２２）を有する第１側面（２２０）であって、更に前記第１平面に平行に配向された複数の平坦な透過性第１表面（２２６）を具えた第１側面（２２０）と、
第２平面に設けられて第２軸に整合した複数の第２の二軸式逆反射エレメントを（２３２）有する第２側面（２３０）であって、更に前記第２平面に平行に配向された複数の平坦な反射性表面を具え、前記第２の二軸式逆反射エレメントは前記第１側面と間隔を置いて設けられていて、前記第１及び第２軸は互いにほぼ直交している、第２側面（２３０）と、
を具えた光学的映像形成装置。
【請求項４】  第１平面に設けられて各々が第１軸（８１４）にほぼ整合した複数の第１の二軸式逆反射エレメント（８２２）を有する第１側面（８２０）であって、更に前記第１平面に平行に配向された複数の平坦な第１表面（８２６）を具えた第１側面（８２０）と、
第２平面に設けられて第２軸（９１６）に整合した複数の第２の二軸式逆反射エレメント（９３２）を有する第２側面（８３０）であって、更に前記第２平面に平行に配向された複数の平坦な第２表面（９３６）を具え、前記第２の二軸式逆反射エレメントは前記第１側面と間隔を置いて設けられていて、前記第１及び第２軸は互いにほぼ直交している、第２側面（８３０）と、
を具えた光学的映像形成装置。
【請求項５】  第１平面に設けられて各々が第１軸にほぼ整合した複数の第１の二軸式逆反射エレメント（４２２）を有する第１側面（４２０）であって、更に前記第１平面に平行に配向された複数の平坦な反射性第１表面（４２６）を具えた第１側面（４２０）と、
第２平面に設けられて第２軸に整合した複数の第２の二軸式逆反射エレメント（４３２，４３２′）を有する、前記第１側面（４２０）に対向して設けられていて、前記第２平面は前記第１平面に平行であり、かつ前記第１及び第２軸は互いにほぼ直交している、第２側面（４３０）と、
前記第１及び第２側面（４２０，４３０）の間に設けられ、入射された光の少なくとも一部を透過させ、その光を前記第１及び第２側面の一方の方に屈折させる第１の光窓と、
を備えた舗道マーク。
【請求項６】  第１平面に設けられて第１軸（５１６′）にほぼ整合し、且つ第２軸（５１６″）にほぼ垂直な複数の第１の二軸式逆反射エレメントを有する第１光学的表面（５２０′）と、
第２平面に設けられて第３軸（５３６′）にほぼ整合し且つ第４軸（５３６″）にほぼ垂直な複数の第２の二軸式逆反射エレメントを有する第２光学的表面（５３０′）と、を備えた映像形成装置において、
前記第２軸（５１６″）は前記第３軸（５３６′）にほぼ平行な平面内に存在し、前記第４軸（５３６″）は前記第１軸（５１６′）にほぼ平行な平面内に存在し、更に、前記第１平面は前記第２平面と交差していて、
そのことにより、前記第１光学的表面（５２０′）を目指して第１の方向を向いて物体（５６０′）から到来する光の一部を前記第１二軸式逆反射エレメントによって前記第２光学的表面（５３０′）の方に反射し、そこで光は前記第２二軸式逆反射エレメントによって第２の方向に反射されて物体の映像（５６２′）を形成する、
映像形成装置。
【請求項７】  ａ）請求項１−６のいずれか一項に記載の光学的映像形成装置を準備する段階と、
ｂ）前記光学的映像形成装置に物体からの光を向ける段階と、
ｃ）前記物体の逆反射映像を観察する段階と、
を含む映像形成を行う方法。