【事件の表示】
　平成１１年特許願第２９７３９４号「薄膜の形成方法、及び形成装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　４月２４日出願公開、特開２００１−１１３２１４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１１年１０月１９日の出願であって、平成２１年５月１５日付けの拒絶理由通知に対して平成２１年７月１５日付けで意見書とともに手続補正書が提出され、平成２２年１月２９日付けの最後の拒絶理由通知に対して平成２２年４月１日付けで意見書とともに手続補正書が提出されたが、平成２２年１０月２０日付けで上記平成２２年４月１日付け手続補正書による補正が却下されるとともに同日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成２３年１月２４日に拒絶査定に対する審判請求がなされると同時に、同日付けの手続補正書によって明細書を補正する手続補正がなされたものである。
　
第２　平成２３年１月２４日付けの手続補正についての補正却下の決定
　
〔補正却下の決定の結論〕
　平成２３年１月２４日付けの手続補正を却下する。
　
〔理由〕 
１　本件補正について 
（１）本件補正の内容 
　平成２３年１月２４日付けの手続補正書による手続補正（以下、「本件補正」という。）は、明細書の特許請求の範囲に関して、本件補正により補正される前の（すなわち、平成２１年７月１５日付けの手続補正書により補正された）明細書の特許請求の範囲の下記（ａ）を、下記（ｂ）と補正するものである。
　　 
（ａ）本件補正前の明細書の特許請求の範囲
　「【請求項１】
　溶液の塗布対象である基板を所定の温度に加熱する加熱工程と、
　所定の温度に加熱された前記基板と、前記溶液を供給するダイの先端に供給された溶液とを接触させる接触工程と、
　前記基板を水平方向に所定の速度で移動させて、該基板上の所定の塗布領域に前記溶液を塗布する塗布工程と、
　前記塗布工程により前記溶液を前記基板上に塗布している間に、前記基板の表面と前記ダイの先端との距離を測定し、測定された前記距離の値に基づいて前記基板又は前記ダイの何れか一方を垂直方向に移動させて、前記基板と前記ダイとの間隔を調整して、前記塗布領域において前記間隔を所定の値に保つ位置調整工程と、
　を備えることを特徴とする薄膜の形成方法。
【請求項２】
　前記位置調整工程は、前記塗布領域が前記基板上に離間して複数配置されているときに、離間した前記各塗布領域の間の領域において前記間隔を大きくして、前記基板と前記ダイの先端に供給された前記溶液とを引き離して、前記溶液を、前記各塗布領域に応じて、前記基板上に断続して塗布する工程を備える、
　ことを特徴とする請求項１に記載の薄膜の形成方法。
【請求項３】
　前記塗布工程は、前記溶液として有機エレクトロルミネッセンス材を含む溶液を使用する工程を備える、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の薄膜の形成方法。
【請求項４】
　溶液の塗布対象である基板を所定の温度に加熱する加熱手段と、
　所定の温度に加熱された前記基板上に前記溶液を供給するダイと、
　前記基板を水平方向に所定の速度で移動させて、前記ダイによって供給された前記溶液を該基板上の所定の塗布領域に塗布する塗布手段と、
　前記基板の表面と前記ダイの先端との距離を測定する距離測定手段を有し、前記塗布手段による前記溶液の塗布を行っている間に、前記距離測定手段により測定された前記距離の値に基づいて前記基板又は前記ダイの何れか一方を垂直方向に移動させて、前記基板と前記ダイとの間隔を調整して、前記塗布領域において前記間隔を所定の値に保つ位置調整手段と、
　を備えることを特徴とする薄膜の形成装置。
【請求項５】
　前記塗布領域が前記基板上に離間して複数配置されているときに、前記位置調整手段は、離間した前記各塗布領域の間の領域において前記間隔を大きくして、前記基板と前記ダイの先端に供給された前記溶液とを引き離して、前記溶液を、前記各塗布領域に応じて、前記基板上に断続して塗布する、
　ことを特徴とする請求項４に記載の薄膜の形成装置。
【請求項６】
　前記ダイは、前記溶液を吐出するための複数の開口を有する、ことを特徴とする請求項４又は５に記載の薄膜の形成装置。
【請求項７】
　前記ダイは、毛細管現象を利用して前記溶液を前記基板上に供給する、ことを特徴とする請求項４乃至６の何れか１項に記載の薄膜の形成装置。
【請求項８】
　前記塗布手段は、前記溶液として有機エレクトロルミネッセンス材を含む溶液を使用する、ことを特徴とする請求項４乃至７の何れか１項に記載の薄膜の形成装置。」
　
（ｂ）本件補正後の明細書の特許請求の範囲
　「【請求項１】
　
一面に
塗布領域が設けられた
　
ダイの先端に設けられた、前記基板の前記一面との間の距離が前記基板の一の方向側で大きくなる段差を有して形成された少なくとも一つの開口を有するノズル部に前記溶液を供給し、前記ノズル部の前記開口から吐出される前記溶液と前記
　前記基板を
前記一の方向
の前記一面
塗布
前記ノズル部の前記開口から吐出された
　
前記ダイに設けられたセンサによって
前記一面
され
の前記一面
の前記先端
前記塗布工程において
前記溶液を塗布する間に
の最短距離
　を備えることを特徴とする薄膜の形成方法。
　　【請求項２】
　前記位置調整工程は、前記塗布領域が前記基板上に離間して複数配置されているときに、離間した前記各塗布領域の間の領域において前記間隔を大きくして、前記基板と前記ダイの先端に供給された前記溶液とを引き離して、前記溶液を、前記各塗布領域に応じて、前記基板上に断続して塗布する工程を備えることを特徴とする請求項１に記載の薄膜の形成方法。
　　【請求項３】
　前記塗布工程は、前記溶液として有機エレクトロルミネッセンス材を含む溶液を使用する工程を備える、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の薄膜の形成方法。
　　【請求項４】 
　
一面に
塗布領域が設けられた
が設置され、該基板
　
前記基板の前記一面との距離が該基板の一の方向側で大きくなる段差を有して形成された少なくとも一つの開口を有するノズル部を先端に有し、前記ノズル部に前記溶液が供給され、該ノズル部の前記開口から前記溶液を吐出する
　
前記ノズル部から吐出される前記溶液と前記所定の温度に加熱された前記基板の前記塗布領域とを接触させた後、
前記一の方向
ノズル部の前記開口から吐出された
の前記一面
前記
　
前記ダイに設けられて、
前記一面
前記
センサ
、
の前記一面
の前記先端
前記塗布手段により前記塗布領域に前記溶液を塗布する際に、
の最短距離
　を備えることを特徴とする薄膜の形成装置。
　　【請求項５】
　前記塗布領域が前記基板上に離間して複数配置されているときに、前記位置調整手段は、離間した前記各塗布領域の間の領域において前記間隔を大きくして、前記基板と前記ダイの先端に供給された前記溶液とを引き離して、前記溶液を、前記各塗布領域に応じて、前記基板上に断続して塗布する、ことを特徴とする請求項４に記載の薄膜の形成装置。
　　【請求項６】
　前記ダイは、
前記ノズル部に、
前記
複数
　　【請求項７】
　前記ダイは、毛細管現象を利用して
前記ノズル部の前記開口より
　　【請求項８】
　前記塗布手段は、前記溶液として有機エレクトロルミネッセンス材を含む溶液を使用する、ことを特徴とする請求項４乃至７の何れか１項に記載の薄膜の形成装置。」（なお、下線は審判請求人が補正箇所を明示するために付したものである。）
　
（２）本件補正の目的について
　明細書の特許請求の範囲の請求項４についての本件補正は、本件補正前の特許請求の範囲の請求項４における（ａ）「溶液の塗布対象である基板」を「
一面に
塗布領域が設けられた
前記基板の前記一面との距離が該基板の一の方向側で大きくなる段差を有して形成された少なくとも一つの開口を有するノズル部を先端に有し、前記ノズル部に前記溶液が供給され、該ノズル部の前記開口から前記溶液を吐出する
前記ダイに設けられて、
前記一面
前記
センサ
、
の前記一面
の前記先端
前記塗布手段により前記塗布領域に前記溶液を塗布する際に、
の最短距離
前記ノズル部から吐出される前記溶液と前記所定の温度に加熱された前記基板の前記塗布領域とを接触させた後、
前記一の方向
ノズル部の前記開口から吐出された
の前記一面
前記
　このうち、上記（ａ）ないし（ｄ）は、請求項４に係る発明を特定する事項を限定する補正であるが、上記（ｅ）は、前記基板を「水平方向に」移動させるという限定を削除する内容を含む補正であるから、本件補正は、全体として、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当しない。
　また、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第１号の請求項の削除、同第３号の誤記の訂正、同第４号の明りょうでない記載の釈明のいずれを目的とするものにも該当しない。
　したがって、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
２　独立特許要件についての検討
　本件補正は、上記のように、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項各号のいずれを目的とするものにも該当しないが、仮に、本件補正が、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当するとした場合に、本件補正後の請求項４に記載された事項により特定される発明（以下、「本願補正発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否かについて、以下に検討する。 
　
２−１　引用文献に記載された発明
　原査定の拒絶理由に引用された本件出願前に頒布された刊行物である特開平８−２２４５２８号公報（以下、「引用文献」という。）には、例えば、以下の記載がある。（なお、下線は、理解の一助のために当審で付したものである。）
　
（ａ）「【特許請求の範囲】
【請求項１】  
毛管状隙間（１３；１１３）を備えた部材（１２；１１２）によるサブストレートのコーティング又は被覆のための装置であって
ッカ又は被覆液（以下流体１１；１１１と呼ぶ）により充填された容器（１０；１１０）が設けられており
毛管状隙間（１３；１１３）が容器内の流体（１１；１１１）に接続されて流体が毛管状隙間（１３；１１３）に供給されるように前記部材（１２；１１２）が前記容器内に配置されており
毛管状隙間（１３；１１３）の出口（４０；１４０）を容器（１０；１１０）に対して相対的に高さ方向（１６，２８）で運動させるための手段
【請求項２】  毛管状隙間（１３；１１３）の出口（４０；１４０）が、高さ方向で行われる運動により完全に流体（１１；１１１）内に浸漬可能である請求項１記載の装置。
【請求項３】  
高さ方向で行われる運動により、毛管状隙間（１３；１１３）の出口（４０；１４０）がサブストレート（２９；１２９）の下側（５０）に接近可能であり、又はサブストレートの下側が出口に接近可能である
【請求項４】  
部材（１２；１１２）の運動がその鉛直方向の運動（１６）として構成されている
【請求項５】  容器（１０；１１０）がトラフ又は槽の形態で形成されている請求項１から４までのいずれか１項記載の装置。
【請求項６】  装置（１００）の非使用時に容器（１０；１１０）を外部に対して閉鎖するために容器（１０；１１０）のための閉鎖装置（１９；１１９）が設けられている請求項１から５までのいずれか１項記載の装置。
【請求項７】  閉鎖装置が、容器（１０；１１０）のための側方向に移動可能な上方の閉鎖部材（１９；１１９）を備えている請求項６記載の装置。
【請求項８】  容器（１０；１１０）内の流体（１１；１１１）のレベル（２４；１２４）をコンスタントに保つために、容器（１０；１１０）にオーバフロー管（３２；１３２）が対応して配置されている請求項１から７までのいずれか１項記載の装置。
【請求項９】  被覆により消費された流体（１１；１１１）を貯蔵容器（３３；１３３）から容器（１０；１１０）の中空室（１０ａ；１１０ａ）に供給するためにポンプ（３４；１３４）が設けられている請求項１から８までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１０】  容器（１０；１１０）内に存在する流体（１１；１１１）を循環中に濾過するためにフィルタ装置（３５；１３５）とポンプ（３４；１３４）とが設けられている請求項１から９までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１１】  被覆過程又はコーティング過程中に濾過が中断される請求項１０記載の装置。
【請求項１２】  容器内の流体のレベル（２４；１２４）を、特にコーティング過程又は被覆過程の終了時点で迅速に低下させる手段（２５，１２５）が設けられている請求項１から１１までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１３】  容器（１０；１１０）内に存在する流体（１１；１１１）内に、容積可変の部材（２５；１２５）が配置されている請求項１２記載の装置。
【請求項１４】  容積可変の部材がベロー（２５；１２５）として形成されている請求項１３記載の装置。
【請求項１５】  ベロー（２５；１２５）の容積が直線駆動装置（６０；１６０）により可変である請求項１４記載の装置。
【請求項１６】  部材（１２；１１２）の毛管状隙間（１３；１１３）の出口（４０；１４０）の領域が２つのナイフ状部分（４３，４４；１４３，１４４）により形成されており、これら両方のナイフ状部分の間に毛管状隙間（１３；１１３）が延びている請求項１から１５までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１７】  容器（１０；１１０）の上側に設けられた開口（１１９′）の寸法が、ナイフ状部分（１４３；１４４）をわずかな間隔で囲むようにナイフ状部分の寸法に適合している請求項１６記載の装置。
【請求項１８】  ナイフ状部分（４３，４４；１４３，１４４）がそれぞれ出口（４０；１４０）の領域内に水平な面（１７７もしくは１７８）を備えており、その幅（ｄ2もしくはｄ3）がそれぞれ０．１から０．５ｍｍの範囲内、有利にはほぼ０．２ｍｍである請求項１６又は１７記載の装置。
【請求項１９】  
毛管状隙間（１１３）を有する部材（１１２）によりサブストレート（１２９）をコーティング又は被覆するための装置
流体（１１１）により充填された容器（１１０）が設けられており
毛管状隙間（１１３）が容器内の流体（１１１）に接続されてこの流体が毛管状隙間（１１３）に供給されるように容器（１１０）内に部材（１１２）が配置されており
【請求項２０】  ナイフ状部分（１４３，１４４）がそれぞれ出口（１４０）の領域内に水平な面（１７７もしくは１７８）を備えており、その幅（ｄ2もしくはｄ3）がそれぞれ０．１から０．５ｍｍの範囲内、有利にはほぼ０．２ｍｍである請求項１９記載の装置。
【請求項２１】  流体によりサブストレートをコーティング又は被覆するための方法において、
流体を保有する容器から流体を毛管状隙間を介してサブストレートに供給し、コーティング又は被覆の終了時に、コーティング又は被覆の過程を中断するために、容器内の流体のレベルを迅速に降下せしめることを特徴とするサブストレートをコーティング又は被覆するための方法。
【請求項２２】  毛管状隙間を介して供給される流体によりサブストレートをコーティング又は被覆するための方法において、
ａ）  被覆過程又はコーティング過程の開始時に毛管状隙間の出口をサブストレートの下側へ接近せしめ、これにより、出口のところで流体をサブストレートの下側に接触せしめ、
ｂ）  次いで、この出口とサブストレートの下側との間隔をコーティング又は被覆のために充分な値まで増大せしめることを特徴とするサブストレートをコーティング又は被覆するための方法。
【請求項２３】  サブストレートを毛管状隙間の出口の上方へ案内するか又は出口をサブストレートの下方に案内する請求項２２記載の方法。」（【特許請求の範囲】）
　
（ｂ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は毛管状隙間によりサブストレートをコーティング又は被覆するための方法と装置に関する
　
（ｃ）「【０００２】
【従来の技術】
薄膜技術分野において、特にＬＣＤ図式位置指示器、半導体製造のためのマスク、半導体サブストレート又はセラミックサブストレートの製作時に
ラッカ又はその他のはじめは液状の媒体から成る均一な層、例えば色フィルタ、フォトラッカ又は特別な保護層を方形又は円形のディスクに備えるという課題がしばしば生じる
【０００３】方形又は円形のディスク状のサブストレート上でのラッカの厚さの均一性を得る困難はこの公知方法では特にサブストレートの縁の領域内において著しい。この公知方法によれば、ラッカの厚さが高くなっている縞、要するにラッカ隆起部が形成される。これにより、コーティングの均一性は著しく悪化する。
【０００４】サブストレートの縁を介して跳ね飛ばされたラッカを捕集するために、かつコーティングステーションを保護するために、この種のコーティング用の回転テーブルは一般的には一種のポット内に組込まれる。これについては例えばドイツ連邦共和国実用新案登録第９１０３４９４号明細書を参照されたい。コーティング中に跳ね返りがサブストレートの表面に達することがある。このことはサブストレートのその後の加工に不都合である。その上、この公知方法では、使用されるラッカの９０％より多い量がサブストレートの縁を介して跳ね飛ばされてしまう。このラッカ量の再使用のための費用は著しく高い。コーティング若しくは被覆できるディスクの大きさには上限がある。さらに、この種の装置の回転する部分に摩滅が生じて、その粒子が剥離してディスクの表面に堆積し、次のプロセスの障害となる。さらに、遠心処理の際にラッカがサブストレートの縁に達し、このことが次のプロセスで問題を生じる。その上、この種の回転テーブルの構造全体及び駆動装置は複雑かつ高価である。
【０００５】コーティング液もしくは被覆液（以下には流体と呼ぶ）を毛管状に狭くされた隙間を介して下方からサブストレートの下向きの表面にもたらす形式のディスクのコーティング及び被覆のための装置（ＰＣＴ／ドイツ連邦共和国９３／００７７７号明細書）により、コーティング過程及び被覆過程の改善が得られている。サブストレートは均一な速度で隙間上を通過させられる。隙間は毛管として作用してラッカを自動的にかつ特別均一な速度で補充するように形成されている。毛管作用は、隙間が例えば０．５ｍｍより小さい幅を有することにより得られる。この毛管作用により、流体は毛管状隙間内で自動的に一定速度で重力に逆らって上昇してその出口から流出する。隙間の上方でラッカの流れは狭い線状にサブストレートの被覆面上に衝突し、その間にサブストレートが出口に対して相対的に運動させられる際に、この被覆面上に均一な層として堆積する。
【０００６】これによりコーティング過程若しくは被覆過程は毛管効果と付着効果とを組合わせて利用することにより行われる。この装置によれば、特に方形のサブストレート上のラッカ層の厚さの均一性が改善され、かつラッカ消費量が軽減される。しかし、この場合の欠点とするところは、装置の運転に関して長期的には流体が個々のコーティング過程もしくは被覆過程の間に毛管状隙間の出口の領域で乾燥して出口に付着もしくは出口を塞いでしまうことにある。このことは後続のコーティング過程もしくは被覆過程に著しく不利に作用する。さらに不都合にも、コーティングすべきもしくは被覆すべきサブストレートの端縁のところの付着作用により、ラッカ又は被覆材料の不所望な隆起部が生じる。」（段落【０００２】ないし【０００６】）
　
（ｄ）「【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題とするところは、サブストレートのコーティング及び被覆のための新しい装置及び新しい方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この課題を解決した本発明装置の構成によれば、
毛管状隙間を備えた部材によるサブストレートのコーティング又は被覆のための装置であって
ラッカ又は被覆液（以下流体と呼ぶ）により充填された容器が設けられており
かつ、毛管状隙間が容器内の流体に接続されて流体が毛管状隙間に供給されるように前記部材が前記容器内に配置されており
毛管状隙間の出口を容器に対して相対的に高さ方向に運動させるための手段が設けられている
出口の運動性により、コーティング開始時に出口をサブストレートの特別近くまで接近させることができ、コーティング終了時に再びサブストレートから遠ざけることができる
　
（ｅ）「【００１８】図１は容器１０の断面を示し、容器の中空室１０ａは以下に「流体１１もしくは１１１」と呼ぶラッカ又は被覆媒体によりほぼ満杯に充填されている。長尺のトラフ又は長尺の槽の形状を有するこの容器１０内には長尺の部材１２が配置されており、この部材はコーティング過程に必要な毛管状隙間１３を備えている。この毛管状隙間１３は一般に０．１ないし０．８ｍｍの範囲内の幅を有し、かつ部材内で鉛直に延びているスリットにより形成されており、このスリットは、毛管状隙間１３へ流体１１が妨げなく供給されるように、下向きに拡張した拡張部１３ａを有している。
【００１９】この部材１２の上端では毛管状隙間１３が出口４０を有しており、この出口はノズルということもでき、図７にその詳細が示されている。被覆しようとするサブストレート２９（図２及び図３）の幅に応じて、この出口４０は例えば５０ないし７５ｃｍの範囲内の長さを有しているが、しかし、それより長い又はそれより短い寸法を有していてもよい。
【００２０】
部材１２はほぼ断面方形の基本形を有しており、この基本形は上方では２つの斜めに下がった屋根状の面４１，４２により制限されており、その中央には２つのナイフ状突出部４３，４４が上向きに突出しており、各突出部はノズル即ち出口４０の領域内ではほぼ０．１ないし０．５ｍｍの幅しか有していない
【００２１】部材１２はその下側ではロッド１５に結合されている。このロッド１５はたんに略示した装置４４Ａを介して矢印１６で示す方向で鉛直方向に移動させられる。これにより部材１２は鉛直方向に運動させられる。容器１０の中空室１０ａはロッド１５の貫通しているその底部のところで図示したようにベロー１７によりシールされている。このベロー１７はロッド１５の右と左に分割されて示されている。装置４４Ａとしては例えば液圧的又は空気力的な作動シリンダが適している。
【００２２】容器１０の中空室１０ａ（図１及び図２）は右上では定置の板１８により、左上では移動可能なアングルプロフィール材１９により閉鎖されている。板１８は容器１０の右側の側壁に直に固定されている。アングルプロフィール材１９はたんに略示された直線運動装置４６により矢印２０で示す方向で側方向に移動可能である（図１）。この移動の案内は例えば図示のように、容器１０の左側の側壁に固定されているガイドピン２１により行われる。
【００２３】中空室１０ａの閉鎖は２つのエラストマプロフィール２２，２３によりシールされる。エラストマプロフィール２２は板１８の端面に設けた適当な溝内に挿入されていて、アングルプロフィール材１９の端面により、図１に示すように圧着される。シールプロフィール、要するにエラストマプロフィール２３は容器１０の左側の側壁に設けた適当な溝内に挿入されていてアングルプロフィール材１９の鉛直方向に延びているフランジ１９′により圧着される。圧着力はアングルプロフィール材１９を推動する装置４６によりもたらされる。選択的に、板１８及びアングルプロフィール材１９は耐溶剤性の適当なプラスチックにより厚さ０．５ｍｍに被覆されていてもよい。その場合、閉鎖状態でこのプラスチックがシール機能を果す。
【００２４】部材１２はその毛管状隙間１３を含めて図１では完全に流体１１のレベル２４の下方に浸漬されて示されている。この状態は、コーティングが行われていない状態に対応しており、換言すれば部材１２の出口４０が流体１１のレベル２４より低く位置している。
【００２５】図２には図１に示す容器全体がコーティング過程中で断面して示されている。板１８及びアングルプロフィール材１９から成る、中空室１０ａの閉鎖部材は、アングルプロフィール材１９が図１の図示に対比して矢印２０の示す方向で左方へ移動させられることにより開放される。毛管状隙間１３を備えた部材１２は矢印２８で示す方向でのロッド１５の鉛直方向運動により上方へ運動させられている。これにより、ナイフ状突出部４３，４４が容器１０内の流体１１のレベル２４の上方へ突出し、板１８とアングルプロフィール材１９との間の狭い開口４８を貫通している。この状態は、コーティング過程中の状態に対応する。ナイフ状突出部４３，４４の形状が薄いことにより、この開口４８は極めて狭くてよく、このことにより、開口４８を介して流体１１内に汚れの侵入する危険が軽減される。さらに、このことにより、流体１１の蒸発が減少する。」（段落【００１８】ないし【００２５】）
　
（ｆ）「【００２６】図２にはさらに、
コーティング過程中のコーティングすべきサブストレート２９
このサブストレート２９は矢印３０で示す方向に均一速度で毛管状隙間１３の出口４０の上方へ極めてわずかな間隔（例えば０．２ないし０．５ｍｍ）をおいて接近させられる
その際、毛管作用と付着作用とにより極めて一様なラッカ層３１がサブストレート２９の下側５０へ塗布される
【００２７】
図３には容器１０及び部材１２の一部がコーティング過程中で縦断面して示されている
部材１２は図２の図示と同様に、矢印２８で示す方向で上方へ移動させられている
コーティングしようとするサブストレート２９の下側５０には均一なラッカ層３１が塗布されている
【００２８】図３の部分縦断面は容器１０及び部材１２の左部分５２と、部材１２の鉛直方向の駆動に役立つロッド１５とを示している。これに対して鏡面対称的に容器１０の右部分にはロッド１５に対応する第２のロッドが設けられているが、このロッドは図３には示されていない。対称平面が記号５４で示されている。部材１２の全長はすでに説明したように、例えば５０ないし７５ｃｍであり、その場合、図３に示されているような外側の縁領域はコーティングのためには使用されない。
ロッド１５の平行な上下運動により、毛管状隙間１３の出口（ノズル）４０がいつでも所要の正確な水平位置に止まることができる
　
（ｇ）「【００３４】
コーティングすべきサブストレート２９がコーティング過程の開始のために位置決めされると直ちに、アングルプロフィール材１９を装置４６により左方へ移動させることにより、容器１０のカバーが開放される
次いで、部材１２のナイフ状突出部４３，４４が上向きに、コーティングされるべきサブストレート２９の前縁の下方へ例えば０．０５ｍｍの極めてわずかな間隔をおいた位置まで接近させられる
部材１２の運動により、毛管状隙間１３の出口４０を介して浸漬浴即ち容器内の流体により留められたわずかな流体量と、コーティングすべきサブストレート２９の前側の下縁との間の接触が生じる
この接触が生じた後、部材１２の出口４０とコーティングすべきもしくは被覆すべきサブストレート２９との間隔が再び例えばほぼ０．２ないし０．５ｍｍまで増大させられる
サブストレート２９が均一な速度で矢印３０で示す方向で水平方向に運動させられる
毛管状隙間１３を通ってサブストレート２９の下側に薄い流体層３１が塗付される
　
（ｈ）「【００３９】図４から図１０までは本発明装置１００の有利な１実施例を示す。図１から図３までと同じ部分は同じ数字に１００を加えた符号で、例えば１３の代わりに１１３で示されている。
【００４０】図４は装置１００の断面を示す斜視図である。この装置１００は長尺の槽状の容器１１０を有しており、その底部は符号１１０′で示されている。その中空室１１０ａは図８に示されているように、オーバフロー管１３２の高さの所まで流体１１１により充填されている。レベルが図８では符号１２４で示されている。容器１１０内には長尺の部材１１２が配置されており、この部材１１２は図５から判るように、１つの毛管状隙間１１３によって互いに分離された２つの対称的な半部１１２ａ，１１２ｂから構成されている。この毛管状隙間１１３は図７によれば、使用される流体１１１に応じて、ほぼ０．１ないし０．８ｍｍのギャップ幅ｄ１を有している。毛管状隙間１１３はその下方の領域で拡張されて横断面漏斗状の拡張部１１３ａを形成しており、この拡張部が図４．図５及び図６に示されている。この拡張部は毛管状隙間１１３への流体１１１の供給を容易にする。
【００４１】図４、図５、図６及び図８から特に判るように、対称的な半部１１２ａ，１１２ｂはその中央領域内で鉛直方向で幅広く形成されており、これにより、たわみが回避されている。半部はその両方の端部で若干上げ底にされており、かつその箇所で適当に、例えば（図示されていない）ねじにより取付け板１７０若しくは１７１に固定されており、これらの取付け板は円筒状のロッド１１５もしくは１１５′に固定されている。これらのロッドは容器１１０の底部１１０′を貫通していて、その下端で結合ビーム１７２により互いに結合されている。
これらのロッドは装置１４４Ａにより鉛直方向に移動可能であり、これにより、すでに図１及び図２で説明したように、部材１１２が昇降させられる
　
（ｉ）「【００４９】アングル板１１９の閉じた状態で（図示せず）容器１１０の上側を気密に閉鎖すると、ポンプ１３４が作動させられる。ポンプ１３４は流体１１１を貯蔵容器１３３から精密フィルタ１３５を介して容器１１０の中空室１１０ａ内へ吐出して中空室をオーバフロー管１３２の高さのところまで充填する（図８）。（コーティング過程では流体の消費量が少ないためレベル１２４はわずかにしか低下しない。）
次に図４から図１０までに示した実施例の作業形式を説明する。
【００５０】コーティングすべきサブストレート１２９がコーティング過程の開始のために位置決めされると直ちに、アングルプロフィール材１１９を両方の装置１４６，１４６′により開放方向に移動させることにより、容器１１０のカバーが開放される。
次いで、部材１１２のナイフ状突出部１４３，１４４が駆動装置１４４Ａにより上向きに、コーティングされるべきサブストレート１２９の前縁の下方へ例えば０．０５ｍｍの極めてわずかな間隔をおいた位置までもたらされる
サブストレート１２９が図２で説明したように均一な速度で水平方向に運動させられる
【００５１】コーティングすべきサブストレート１２９の（図示されていない）端縁が到達すると、ペロー１２５がすでに記載したように迅速に、例えば１秒以内で縮小される。これにより、中空室１１０ａ内のレベル１２４が迅速に低下する（その際、ポンプ１３４が停止される）。このようにして毛管状隙間１１３内には負圧が生じ、この負圧が毛管状隙間１１３内に保有されていた流体を下方へ吸込む。これにより、サブストレート１２９の下側での流体塗付が突然終了し、サブストレート１２９の図示されていない端縁のところの不所望な隆起部形成が確実に阻止される。ナイフ状突出部１４３，１４４の形状が出口１４０の領域内で極めて狭いことにより、サブストレート１２９の端縁のところにラッカ隆起部などが形成されない。」（段落【００４９】ないし【００５１】）
　
　上記（ａ）ないし（ｉ）及び図面の記載を参酌すると、以下のことが分かる。
　
（ア）上記（ａ）ないし（ｉ）及び図面の記載から、引用文献には、サブストレート２９；１２９の下側に薄い流体層を塗付する塗付装置が記載されていることが分かる。
　
（イ）上記（ａ）ないし（ｉ）及び図面の記載から、引用文献に記載された塗付装置は、少なくとも一つの開口を有するノズル４０を先端に有し、前記ノズル４０に流体１１；１１１が供給され、該ノズル４０の開口から前記流体１１；１１１を吐出する部材１２；１１２と、前記ノズル４０から吐出される前記流体１１；１１１とサブストレート２９；１２９の塗付領域とを接触させた後、前記サブストレート２９；１２９を一の方向に所定の速度で移動させて、前記ノズル４０の前記開口から吐出された前記流体１１；１１１を該サブストレート２９；１２９の一面上の前記塗付領域に塗付する塗付手段と、を備えるものであることが分かる。
　
（ウ）上記（ａ）ないし（ｉ）及び図面の記載から、引用文献に記載された塗付装置は、前記サブストレート２９；１２９又は前記部材１２；１１２の何れか一方を垂直方向に移動させて、前記サブストレート２９；１２９の前記一面と前記部材１２；１１２の前記先端との間隔を調整する位置調整手段であるロッド１１５もしくは１１５′を備えるものであることが分かる。
　
　上記（ａ）ないし（ｉ）、（ア）ないし（ウ）及び図面の記載を参酌すると、引用文献には以下の発明が記載されているといえる。
　
　「少なくとも一つの開口を有するノズル４０を先端に有し、前記ノズル４０に流体１１；１１１が供給され、該ノズル４０の開口から前記流体１１；１１１を吐出する部材１２；１１２と、
　前記ノズル４０から吐出される前記流体１１；１１１とサブストレート２９；１２９の塗付領域とを接触させた後、前記サブストレート２９；１２９を一の方向に所定の速度で移動させて、前記ノズル４０の前記開口から吐出された前記流体１１；１１１を該サブストレート２９；１２９の一面上の前記塗付領域に塗付する塗付手段と、
　前記サブストレート２９；１２９又は前記部材１２；１１２の何れか一方を垂直方向に移動させて、前記サブストレート２９；１２９の前記一面と前記部材１２；１１２の前記先端との間隔を調整する位置調整手段と、
　を備える塗付装置。」（以下、「引用文献に記載された発明」という。）
　
２−２　対比 
　本願補正発明と引用文献に記載された発明とを対比すると、引用文献に記載された発明における「ノズル４０」は、その機能及び作用又は技術的意義からみて、本願補正発明における「ノズル部」に相当し、以下同様に、「流体１１；１１１」は「溶液」に、「部材１２；１１２」は「ダイ」に、「サブストレート２９；１２９」は「基板」に、「塗付」は「塗布」に、それぞれ相当する。
　また、引用文献に記載された発明における「塗付装置」は、基板に溶液を塗布することにより、基板の表面に薄膜を形成する装置であるから、本願補正発明における「薄膜の形成装置」に相当する。
　そうすると、本願補正発明と引用文献に記載された発明とは、 
「少なくとも一つの開口を有するノズル部を先端に有し、前記ノズル部に溶液が供給され、該ノズル部の開口から前記溶液を吐出するダイと、
　前記ノズル部から吐出される前記溶液と基板の塗布領域とを接触させた後、前記基板を一の方向に所定の速度で移動させて、前記ノズル部の前記開口から吐出された前記溶液を該基板の一面上の前記塗布領域に塗付する塗布手段と、
　前記基板又は前記ダイの何れか一方を垂直方向に移動させて、前記基板の前記一面と前記ダイの前記先端との間隔を調整する位置調整手段と、
　を備える薄膜の形成装置。」の点で一致し、以下の点で相違する。
　
＜相違点＞
（１）本願補正発明においては、「一面に溶液の塗布対象である塗布領域が設けられた基板が設置され、該基板を所定の温度に加熱する加熱手段」を備えるのに対し、引用文献に記載された発明においては、そのような加熱手段を備えているかどうか明らかでない点（以下、「相違点１」という。）。
（２）本願補正発明においては、ダイに「前記基板の前記一面との距離が該基板の一の方向側で大きくなる段差を有して形成された少なくとも一つの開口を有するノズル部を先端に有し」ているのに対し、引用文献に記載された発明においては、ダイの先端にそのような段差を有しているかどうか明らかでない点（以下、「相違点２」という。）。
（３）「位置調整手段」について、本願補正発明においては、「ダイに設けられて、基板の一面と前記ダイの先端との距離を測定するセンサを有し、測定された前記距離の値に基づいて、前記基板又は前記ダイの何れか一方を垂直方向に移動させて、前記基板の前記一面と前記ダイの前記先端との間隔を調整して、前記塗布手段により前記塗布領域に前記溶液を塗布する際に、前記基板上の塗布領域において前記間隔の最短距離を所定の値に保つ位置調整手段」を備えているのに対し、引用文献に記載された発明においては、本願補正発明における「前記基板又は前記ダイの何れか一方を垂直方向に移動させて、前記基板の前記一面と前記ダイの前記先端との間隔を調整する位置調整手段」に相当する「前記サブストレート２９；１２９又は前記部材１２；１１２の何れか一方を垂直方向に移動させて、前記サブストレート２９；１２９の前記一面と前記部材１２；１１２の前記先端との間隔を調整する位置調整手段」を備えているものの、該位置調整手段が、「ダイに設けられて、基板の一面と前記ダイの先端との距離を測定するセンサを有し、測定された前記距離の値に基づいて」、「前記塗布手段により前記塗布領域に前記溶液を塗布する際に、前記基板上の塗布領域において前記間隔の最短距離を所定の値に保つ位置調整手段」であるかどうか明らかでない点（以下、「相違点３」という。）。
　
２−３　判断
　相違点について検討する。
（１）相違点１について
　薄膜の形成装置において、「一面に溶液の塗布対象である塗布領域が設けられた基板が設置され、該基板を所定の温度に加熱する加熱手段」を備える点は、周知技術（以下、「周知技術１」という。例えば、平成２２年１月２９日付け拒絶理由通知書において引用された特開平１０−２７０１６９号公報の段落【００４７】及び図面、国際公開第９４／２７７３７号の明細書第１３ページ第１０ないし１２行及び図面、特開平１０−２８４３９７号公報の段落【００１０】ないし【００１３】及び図面、国際公開第９８／２０７２０号（翻訳文として特表２００１−５０４２７２号公報を参照。）の特許請求の範囲及び図面等の記載を参照。）にすぎない。
　そして、引用文献に記載された発明と、上記周知技術１とは、いずれも、薄膜の形成装置という共通の技術分野において、均一な薄膜を得るという共通の課題を解決するためのものである。
　してみれば、引用文献に記載された発明において、上記周知技術１を適用し、もって上記相違点１に係る本願補正発明の発明特定事項とすることは、当業者が容易に想到できたことである。
　
（２）相違点２について
　薄膜の形成装置において、ダイとして「前記基板の前記一面との距離が該基板の一の方向側で大きくなる段差を有して形成された少なくとも一つの開口を有するノズル部を先端に有」するダイを備える点は、周知技術（以下、「周知技術２」という。例えば、平成２３年９月１２日付け当審における審尋において引用された特開平８−１５５３６５号公報の段落【００５０】及び図面、特開平９−３８５６０号公報の段落【００３７】ないし【００３９】及び図面、特開平９−２７６７７０号公報の段落【００２３】及び図面等の記載を参照。）にすぎない。
　そして、引用文献に記載された発明と、上記周知技術２とは、いずれも、薄膜の形成装置という共通の技術分野において、均一な薄膜を得るという共通の課題を解決するためのものである。
　してみれば、引用文献に記載された発明において、上記周知技術２を適用し、もって上記相違点２に係る本願補正発明の発明特定事項とすることは、当業者が容易に想到できたことである。
　
（３）相違点３について
　薄膜の形成装置において、「ダイに設けられて、基板の一面と前記ダイの先端との距離を測定するセンサを有し、測定された前記距離の値に基づいて、前記基板又は前記ダイの何れか一方を垂直方向に移動させて、前記基板の前記一面と前記ダイの前記先端との間隔を調整して、前記塗布手段により前記塗布領域に前記溶液を塗布する際に、前記基板上の塗布領域において前記間隔の最短距離を所定の値に保つ位置調整手段」を備える点は、周知技術（以下、「周知技術３」という。例えば、平成２３年９月１２日付け当審における審尋において引用された特開平８−１５５３６５号公報の段落【００２５】及び図面、平成２２年１月２９日付け拒絶理由通知書において引用された特開平１０−４２１号公報の段落【０００４】ないし【０００７】、【００２１】ないし【００２６】及び図面、同じく特開平１１−１６５１１１号公報の【特許請求の範囲】、段落【０００８】ないし【００１１】、【００１４】、【００１５】ないし【００１８】、【００２０】ないし【００２４】及び図面、同じく実願平５−３４４８０号（実開平７−３１１６８号）のＣＤ−ＲＯＭの段落【００１１】ないし【００１５】、【００２０】、【００２１】、【００２７】ないし【００３０】及び図面、特開平１０−２８４３９７号公報の段落【００１０】ないし【００１３】並びに図面、等の記載を参照。）にすぎない。
　そして、引用文献に記載された発明と、上記周知技術３とは、いずれも、薄膜の形成装置という共通の技術分野において、均一な薄膜を得るという共通の課題を解決するためのものである。
　してみれば、引用文献に記載された発明において、上記周知技術３を適用し、もって上記相違点３に係る本願補正発明の発明特定事項とすることは、当業者が容易に想到できたことである。
　
　そして、本願補正発明を全体としてみても、その奏する効果は、引用文献に記載された発明及び周知技術１ないし３から当業者が予測できた範囲内のものであり、格別に顕著な効果ではない。
　
　以上のように、本件補正が、仮に平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当するとしても、本願補正発明は、引用文献に記載された発明及び周知技術１ないし３に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
３　むすび
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 
　また、本件補正は、仮に平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当するとしても、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項の規定により読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。 
　よって、結論のとおり決定する。 
　 　 
第３　本願発明について 
１　手続の経緯及び本願発明 
　平成２３年１月２４日付けの手続補正は前述したとおり却下されたので、本件出願の請求項１ないし８に係る発明は、平成２１年７月１５日付けの手続補正書により補正された明細書及び願書に最初に添付された図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１ないし８に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項４に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、前記第２の〔理由〕１（１）の（ａ）の請求項４に記載したとおりのものである。 
　 
２　引用文献
　原査定の拒絶理由に引用された引用文献（特開平８−２２４５２８号公報）の記載は、前記第２の〔理由〕２−１のとおりである。
　そして、引用文献には、次の発明（以下、「引用文献に記載された発明２」という。）も記載されているといえる。
　
　「サブストレート２９；１２９上に流体１１；１１１を供給する部材１２；１１２と、
　前記サブストレートを水平方向に所定の速度で移動させて、前記部材１２；１１２によって供給された流体１１；１１１を該サブストレート２９；１２９上の所定の塗付領域に塗付する塗付手段と、
　前記サブストレート２９；１２９又は前記部材１２；１１２の何れか一方を垂直方向に移動させて、前記サブストレート２９；１２９と前記部材１２；１１２との間隔を調整する位置調整手段と、
　を備える塗付装置。」
　
３　対比
　本願発明と引用文献に記載された発明２とを対比すると、引用文献に記載された発明２における「サブストレート２９；１２９」は、その機能及び作用又は技術的意義からみて、本願発明における「基板」に相当し、以下同様に、「流体１１；１１１」は「溶液」に、「部材１２；１１２」は「ダイ」に、「塗付」は「塗布」に、それぞれ相当する。
　また、引用文献に記載された発明２における「塗付装置」は、基板に溶液を塗布することにより、基板の表面に薄膜を形成する装置であるから、本願補正発明における「薄膜の形成装置」に相当する。
　そうすると、本願発明と引用文献に記載された発明２とは、 
「少なくとも一つの開口を有するノズル部を先端に有し、前記ノズル部に溶液が供給され、該ノズル部の開口から前記溶液を吐出するダイと、
　前記ノズル部から吐出される前記溶液と基板の塗布領域とを接触させた後、前記基板を一の方向に所定の速度で移動させて、前記ノズル部の前記開口から吐出された前記溶液を該基板の一面上の前記塗布領域に塗付する塗布手段と、
　前記基板又は前記ダイの何れか一方を垂直方向に移動させて、前記基板と前記ダイの前記先端との間隔を調整する位置調整手段と、
　を備える薄膜の形成装置。」の点で一致し、以下の点で相違する。
　
＜相違点＞
（１）本願発明においては、「溶液の塗布対象である基板を所定の温度に加熱する加熱手段」を備えるのに対し、引用文献に記載された発明２においては、そのような加熱手段を備えているかどうか明らかでない点（以下、「相違点１’」という。）。
（２）「位置調整手段」について、本願発明においては、「基板の表面とダイの先端との距離を測定する距離測定手段を有し、塗布手段による前記溶液の塗布を行っている間に、前記距離測定手段により測定された前記距離の値に基づいて前記基板又は前記ダイの何れか一方を垂直方向に移動させて、前記基板と前記ダイとの間隔を調整して、前記塗布領域において前記間隔を所定の値に保つ位置調整手段」を備えているのに対し、引用文献に記載された発明２においては、本願発明における「前記基板又は前記ダイの何れか一方を垂直方向に移動させて、前記基板と前記ダイとの間隔を調整して、前記塗布領域において前記間隔を所定の値に保つ位置調整手段」に相当する「前記サブストレート２９；１２９又は前記部材１２；１１２の何れか一方を垂直方向に移動させて、前記サブストレート２９；１２９と前記部材１２；１１２との間隔を調整して、前記塗布領域において前記間隔を所定の値に保つ位置調整手段」を備えているものの、該位置調整手段が、「前記基板の表面と前記ダイの先端との距離を測定する距離測定手段を有し、前記塗布手段による前記溶液の塗布を行っている間に、前記距離測定手段により測定された前記距離の値に基づいて」前記基板又は前記ダイの何れか一方を垂直方向に移動させて、前記基板と前記ダイとの間隔を調整して、前記塗布領域において前記間隔を所定の値に保つ位置調整手段であるかどうか明らかでない点（以下、「相違点２’」という。）。
　
４　判断 
　相違点について検討する。
（１）相違点１’について
　薄膜の形成装置において、「溶液の塗布対象である基板を所定の温度に加熱する加熱手段」を備える点は、周知技術（以下、「周知技術１’」という。例えば、平成２２年１月２９日付け拒絶理由通知書において引用された特開平１０−２７０１６９号公報の段落【００４７】及び図面、国際公開第９４／２７７３７号の明細書第１３ページ第１０ないし１２行及び図面、特開平１０−２８４３９７号公報の段落【００１０】ないし【００１３】及び図面、国際公開第９８／２０７２０号（翻訳文として、特表２００１−５０４２７２号公報を参照。）の特許請求の範囲及び図面等の記載を参照。）にすぎない。
　そして、引用文献に記載された発明２と、上記周知技術１’とは、いずれも、薄膜の形成装置という共通の技術分野において、均一な薄膜を得るという共通の課題を解決するためのものである。
　してみれば、引用文献に記載された発明２において、上記周知技術１’を適用し、もって上記相違点１’に係る本願発明の発明特定事項とすることは、当業者が容易に想到できたことである。
　
（２）相違点２’について
　薄膜の形成装置において、位置調整手段として、「前記基板の表面と前記ダイの先端との距離を測定する距離測定手段を有し、前記塗布手段による前記溶液の塗布を行っている間に、前記距離測定手段により測定された前記距離の値に基づいて前記基板又は前記ダイの何れか一方を垂直方向に移動させて、前記基板と前記ダイとの間隔を調整して、前記塗布領域において前記間隔を所定の値に保つ位置調整手段」を備える点は、周知技術（以下、「周知技術３’」という。例えば、平成２２年１月２９日付け拒絶理由通知書において引用された特開平１０−４２１号公報の段落【０００４】ないし【０００７】、【００２１】ないし【００２６】及び図面、特開平１１−１６５１１１号公報の【特許請求の範囲】、段落【０００８】ないし【００１１】、【００１４】、【００１５】ないし【００１８】、【００２０】ないし【００２４】及び図面、実願平５−３４４８０号（実開平７−３１１６８号）のＣＤ−ＲＯＭの段落【００１１】ないし【００１５】、【００２０】、【００２１】、【００２７】ないし【００３０】及び図面、特開平１０−２８４３９７号公報の段落【００１０】ないし【００１３】並びに図面、等の記載を参照。）にすぎない。
　そして、引用文献に記載された発明２と、上記周知技術３’とは、いずれも、薄膜の形成装置という共通の技術分野において、均一な薄膜を得るという共通の課題を解決するためのものである。
　してみれば、引用文献に記載された発明２において、上記周知技術３’を適用し、もって上記相違点２’に係る本願発明の発明特定事項とすることは、当業者が容易に想到できたことである。
　
　そして、本願発明を全体としてみても、その奏する効果は、引用文献に記載された発明２並びに周知技術１’及び３’から当業者が予測できた範囲内のものであり、格別に顕著な効果ではない。　
　
　したがって、本願発明は、引用文献に記載された発明２並びに周知技術１’及び３’に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５　むすび 
　以上のとおり、本願発明は、引用文献に記載された発明２並びに周知技術１’及び３’に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。