【手続補正書】
【提出日】平成18年10月13日(2006.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ’’
【化１】
2002527512.tif 000001

の化合物であって、
Ｘは、ＮＲａから選択され、
Ｒａは、ヒドリド、Ｃ１−Ｃ３−アルキル、（自由選択で置換されたフェニル）−Ｃ１−Ｃ３−アルキル、アシル、及びカルボキシ−Ｃ１−Ｃ６−アルキルから選択され、
Ｒは、カルボキシル、アミノカルボニル、Ｃ１−Ｃ６−アルキルスルホニルアミノカルボニル、及びＣ１−Ｃ６−アルコキシカルボニルから選択され、
Ｒ’’は、ヒドリド、フェニル、チエニル、Ｃ１−Ｃ６−アルキル及びＣ２−Ｃ６−アルケニルから選択され、
Ｒ１は、Ｃ１−Ｃ３−ペルフルオロアルキル、クロロ、Ｃ１−Ｃ６−アルキルチオ、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、ニトロ、シアノ、及びシアノ−Ｃ１−Ｃ３−アルキルから選択され、
Ｒ２は、ヒドリド、ハロ、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ２−Ｃ６−アルケニル、Ｃ２−Ｃ６−アルキニル、ハロ−Ｃ２−Ｃ６−アルキニル、アリール−Ｃ１−Ｃ３−アルキル、アリール−Ｃ２−Ｃ６−アルキニル、アリール−Ｃ２−Ｃ６−アルケニル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、メチレンジオキシ、Ｃ１−Ｃ６−アルキルチオ、Ｃ１−Ｃ６−アルキルスルフィニル、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルフィニル、ヘテロアリールオキシ、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ６−アルキル、アリール−Ｃ１−Ｃ６−アルキルオキシ、ヘテロアリール−Ｃ１−Ｃ６−アルキルオキシ、アリール−Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルコキシ、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキルチオ、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキルスルホニル、Ｃ１−Ｃ３−（ハロアルキル−Ｃ１−Ｃ３−ヒドロキシアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ヒドロキシアルキル、ヒドロキシイミノ−Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルキルアミノ、アリールアミノ、アリール−Ｃ１−Ｃ６−アルキルアミノ、ヘテロアリールアミノ、ヘテロアリール−Ｃ１−Ｃ６−アルキルアミノ、ニトロ、シアノ、アミノ、アミノスルホニル、Ｃ１−Ｃ６−アルキルアミノスルホニル、アリールアミノスルホニル、ヘテロアリールアミノスルホニル、アリール−Ｃ１−Ｃ６−アルキルアミノスルホニル、ヘテロアリール−Ｃ１−Ｃ６−アルキルアミノスルホニル、ヘテロシクリルスルホニル、Ｃ１−Ｃ６−アルキルスルホニル、アリール−Ｃ１−Ｃ６−アルキルスルホニル；低級アルキル、ヒドロキシ、ハロ、ハロアルキル、ニトロ、シアノ、アルコキシ、及び低級アルキルアミノから選択される１個から３個の置換基で置換されたアリール、アリール；低級アルキル、ヒドロキシ、オキソ、アミノ、及び低級アルキルアミノのような１個から３個の置換基で置換されたヘテロアリール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１−Ｃ６−アルキルカルボニル、ヘテロアリール−Ｃ１−Ｃ６−アルキルカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アリールカルボニル、アミノカルボニル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニル、ホルミル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキルカルボニル、及びＣ１−Ｃ６−アルキルカルボニルから独立に選択される１個以上のラジカルであり、且つ、
自由選択で置換されたフェニルは、フェニル、若しくは低級アルキル、ヒドロキシ、ハロ、ハロアルキル、ニトロ、シアノ、アルコキシ、及び低級アルキルアミノから選択される１個から３個の置換基で置換されたフェニルを含み、
環Ａの原子Ａ１、Ａ２、Ａ３、及びＡ４は、Ａ１、Ａ２、Ａ３、及びＡ４のうち少なくとも２個が炭素であるとの条件付きで炭素及び窒素から独立に選択され、若しくは
Ｒ２は、環Ａと一緒に、ナフチル、キノリル、イソキノリル、キノリジニル、キノキサリニル、及びジベンゾフリルから選択されるラジカルを形成する、化合物、又は、それの異性体若しくは薬学的に許容可能な塩。
【請求項２】
請求項１に記載の化合物であって、
Ｘは、ＮＲａから選択され、
Ｒａは、ヒドリド、Ｃ１−Ｃ３−アルキル、（自由選択で置換されたフェニル）―Ｃ１−Ｃ３−アルキル、アシル、及びカルボキシ−Ｃ１−Ｃ６−アルキルから選択され、
Ｒは、カルボキシル、アミノカルボニル、Ｃ１−Ｃ６−アルキルスルホニルアミノカルボニル、及びＣ１−Ｃ６−アルコキシカルボニルから選択され、
Ｒ’’は、ヒドリド、フェニル、チエニル、Ｃ１−Ｃ４−アルキル及びＣ２−Ｃ４−アルケニルから選択され、
Ｒ１は、Ｃ１−Ｃ３−ペルフルオロアルキル、クロロ、Ｃ１−Ｃ６−アルキルチオ、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、ニトロ、シアノ、及びシアノ−Ｃ１−Ｃ３−アルキルから選択され、
Ｒ２は、ヒドリド、ハロ、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ２−Ｃ６−アルケニル、Ｃ２−Ｃ６−アルキニル、ハロ−Ｃ２−Ｃ６−アルキニル、アリール−Ｃ１−Ｃ３−アルキル、アリール−Ｃ２−Ｃ６−アルキニル、アリール−Ｃ２−Ｃ６−アルケニル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、メチレンジオキシ、Ｃ１−Ｃ６−アルキルチオ、Ｃ１−Ｃ６−アルキルスルフィニル、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルフィニル、ヘテロアリールオキシ、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ６−アルキル、アリール−Ｃ１−Ｃ６−アルキルオキシ、ヘテロアリール−Ｃ１−Ｃ６−アルキルオキシ、アリール−Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルコキシ、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキルチオ、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキルスルホニル、Ｃ１−Ｃ３−（ハロアルキル−Ｃ１−Ｃ３−ヒドロキシアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ヒドロキシアルキル、ヒドロキシイミノ−Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルキルアミノ、アリールアミノ、アリール−Ｃ１−Ｃ６−アルキルアミノ、ヘテロアリールアミノ、ヘテロアリール−Ｃ１−Ｃ６−アルキルアミノ、ニトロ、シアノ、アミノ、アミノスルホニル、Ｃ１−Ｃ６−アルキルアミノスルホニル、アリールアミノスルホニル、ヘテロアリールアミノスルホニル、アリール−Ｃ１−Ｃ６−アルキルアミノスルホニル、ヘテロアリール−Ｃ１−Ｃ６−アルキルアミノスルホニル、ヘテロシクリルスルホニル、Ｃ１−Ｃ６−アルキルスルホニル、アリール−Ｃ１−Ｃ６−アルキルスルホニル；低級アルキル、ヒドロキシ、ハロ、ハロアルキル、ニトロ、シアノ、アルコキシ、及び低級アルキルアミノから選択される１個から３個の置換基で置換されたアリール、アリール；低級アルキル、ヒドロキシ、オキソ、アミノ、及び低級アルキルアミノのような１個から３個の置換基で置換されたヘテロアリール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１−Ｃ６−アルキルカルボニル、ヘテロアリール−Ｃ１−Ｃ６−アルキルカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アリールカルボニル、アミノカルボニル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニル、ホルミル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキルカルボニル、及びＣ１−Ｃ６−アルキルカルボニルから独立に選択される１個以上のラジカルであり、
自由選択で置換されたフェニルは、フェニル、若しくは低級アルキル、ヒドロキシ、ハロ、ハロアルキル、ニトロ、シアノ、アルコキシ、及び低級アルキルアミノから選択される１個から３個の置換基で置換ｓれたフェニルを含み、且つ、
環Ａの原子Ａ１、Ａ２、Ａ３、及びＡ４は、Ａ１、Ａ２、Ａ３、及びＡ４のうち少なくとも３個が炭素であるとの条件付きで炭素及び窒素から独立に選択され、若しくは
Ｒ２は、環Ａと一緒に、ナフチル若しくはキノリルラジカルを形成する、化合物、又はそれの異性体若しくは薬学的に許容可能な塩。
【請求項３】
請求項２に記載の化合物であって、
Ｘは、ＮＲａから選択され、
Ｒａは、ヒドリド、Ｃ１−Ｃ３−アルキル、及び（自由選択で置換されたフェニル）メチルから選択され、
Ｒは、カルボキシルであり、
Ｒ’’は、ヒドリド、Ｃ１−Ｃ３−アルキル及びＣ２−Ｃ３−アルケニルから選択され、
Ｒ１は、Ｃ１−Ｃ３−ペルフルオロアルキルから選択され、
Ｒ２は、ヒドリド、ハロ、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ２−Ｃ６−アルケニル、Ｃ２−Ｃ６−アルキニル、ハロ−Ｃ２−Ｃ６−アルキニル、自由選択で置換されたフェニル−Ｃ１−Ｃ６−アルキル、自由選択で置換されたフェニル−Ｃ２−Ｃ６−アルキニル、フェニル−Ｃ２−Ｃ６−アルケニル、Ｃ１−Ｃ３−アルコキシ、メチレンジオキシ、Ｃ１−Ｃ３−アルコキシ−（Ｃ１−Ｃ３−アルキル、Ｃ１−Ｃ３−アルキルチオ、Ｃ１−Ｃ３−アルキルスルフィニル、自由選択で置換されたフェニルオキシ、自由選択で置換されたフェニルチオ、自由選択で置換されたフェニルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ３−ハロアルキル−Ｃ１−Ｃ３−ヒドロキシアルキル、フェニル−Ｃ１−Ｃ３−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ３−アルキル、Ｃ１−Ｃ３−ハロアルキル、Ｃ１−Ｃ３−ハロアルコキシ、Ｃ１−Ｃ３−ハロアルキルチオ、Ｃ１−Ｃ３−ヒドロキシアルキル、Ｃ１−Ｃ３−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ３−アルキル、ヒドロキシイミノ−Ｃ１−Ｃ３−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルキルアミノ、ニトロ、シアノ、アミノ、アミノスルホニル、Ｎ−アルキルアミノスルホニル、Ｎ−アリールアミノスルホニル、Ｎ−ヘテロアリールアミノスルホニル、Ｎ−（フェニル−Ｃ１−Ｃ６−アルキル）アミノスルホニル、Ｎ−（ヘテロアリール−Ｃ１−Ｃ６−アルキル）アミノスルホニル、フェニル−Ｃ１−Ｃ３−アルキルスルホニル、５−から８−員環のヘテロシクリルスルホニル、Ｃ１−Ｃ６−アルキルスルホニル、自由選択で置換されたフェニル、自由選択で置換された５−から９−員環のヘテロアリール、フェニル−Ｃ１−Ｃ６−アルキルカルボニル、フェニルカルボニル、４−クロロフェニルカルボニル、４−ヒドロキシフェニルカルボニル、４−トリフルオロメチルフェニルカルボニル、４−メトキシフェニルカルボニル、アミノカルボニル、ホルミル、及びＣ１−Ｃ６−アルキルカルボニルから独立に選択される１個以上のラジカルであり、
環Ａの原子Ａ１、Ａ２、Ａ３、及びＡ４は、Ａ１、Ａ２、Ａ３、及びＡ４のうち少なくとも３個が炭素であるとの条件付きで炭素及び窒素から独立に選択され、且つ、
自由選択で置換されたフェニルは、フェニル、若しくは低級アルキル、ヒドロキシ、ハロ、ハロアルキル、ニトロ、シアノ、アルコキシ、及び低級アルキルアミノから選択される１個から３個の置換基で置換されたフェニルを含み、若しくは、
Ｒ２は、環Ａと一緒に、ナフチル、ベンゾフリルフェニル若しくはキノリルラジカルを形成する、化合物、又はそれの異性体若しくは薬学的に許容可能な塩。
【請求項４】
請求項３に記載の化合物であって、
Ｘは、ＮＲａから選択され、
Ｒａは、ヒドリド、メチル、エチル、（４−トリフルオロメチル）ベンジル、（４−クロロメチル）ベンジル、（４−メトキシ）ベンジル、及び（４−シアノ）ベンジル、（４−ニトロ）ベンジルから選択され、
Ｒは、カルボキシルであり、
Ｒ’’は、ヒドリド、エチル及びエテニルから選択され、
Ｒ１は、トリフルオロメチル及びペンタフルオロエチルから選択され、
Ｒ２は、ヒドリド、クロロ、ブロモ、フルオロ、ヨード、メチル、ｔｅｒｔ−ブチル、エテニル、エチニル、５−クロロ−１−ペンチニル、１−ペンチニル、３，３−ジメチル−１−ブチニル、ベンジル、フェニルエチル、フェニルエチニル、４−クロロフェニル−エチニル、４−メトキシフェニルエチニル、フェニルエテニル、メトキシ、メチルチオ、メチルスルフィニル、フェニルオキシ、フェニルチオ、フェニルスルフィニル、メチレンジオキシ、ベンジルオキシメチル、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ヒドロキシメチル、ヒドロキシトリフルオロエチル、メトキシメチル、ヒドロキシイミノメチル、Ｎ−メチルアミノ、ニトロ、シアノ、アミノ、アミノスルホニル、Ｎ−メチルアミノスルホニル、Ｎ−フェニルアミノスルホニル、Ｎ−フリルアミノスルホニル、Ｎ−（ベンジル）アミノスルホニル、Ｎ−（フリルメチル）アミノスルホニル、ベンジルスルホニル、フェニルエチルアミノスルホニル、フリルスルホニル、メチルスルホニル、フェニル；クロロ、フルオロ、ブロモ、メトキシ、メチルチオ、及びメチルスルホニルから選択される１個以上のラジカルで置換されたフェニル、ベンズイミダゾリル、チエニル、クロロで置換されたチエニル、フリル、クロロで置換されたフリル、ベンジルカルボニル、自由選択で置換されたフェニルカルボニル、アミノカルボニル、ホルミル、及びメチルカルボニルから独立に選択される１個以上のラジカルであり、
環Ａの原子Ａ１、Ａ２、Ａ３、及びＡ４は、Ａ１、Ａ２、Ａ３、及びＡ４のうち少なくとも３個が炭素であるとの条件付きで炭素及び窒素から独立に選択され、且つ、
自由選択で置換されたフェニルは、フェニル、若しくは低級アルキル、ヒドロキシ、ハロ、ハロアルキル、ニトロ、シアノ、アルコキシ、及び低級アルキルアミノから選択される１個から３個の置換基で置換されたフェニルを意味し、若しくは、
Ｒ２は、環Ａと一緒に、ナフチル若しくはキノリルラジカルを形成する、化合物、又はそれの異性体若しくは薬学的に許容可能な塩。
【請求項５】
請求項４に記載の化合物であって、
１，２−ジヒドロ−６−エチニル−２−(トリフルオロメチル)−３−キノリンカルボン酸及び１，２−ジヒドロ−６−フェニルエチニル−２−(トリフルオロメチル)−３−キノリンカルボン酸からなる群の化合物から選択される化合物、並びにそれらの異性体及び薬学的に許容可能な塩。
【請求項６】
式ＩＩｃ
【化２】
2002527512.tif 000002

の化合物であって、
Ｒａは、ヒドリド及び低級アラルキルから選択され、
Ｒ３は、ヒドリド、低級アルキル、低級ヒドロキシアルキル、低級アルコキシ及びハロから選択され、
Ｒ４は、ヒドリド、ハロ、低級アルキル、低級アルキルチオ、低級ハロアルキル、アミノ、アミノスルホニル、低級アルキルスルホニル、低級アルキルスルフィニル、低級アルコキシアルキル、低級アルキルカルボニル、ホルミル、シアノ、低級ハロアルキルチオ、置換された若しくは置換されてないフェニルカルボニル、低級ハロアルコキシ、低級アルコキシ、低級アルキニル、フェニル−低級アルキニル、低級アラルキルカルボニル、低級ジアルキルアミノスルホニル、低級アルキルアミノスルホニル、低級アラルキルアミノスルホニル、低級ヘテロアラルキルアミノスルホニル、５−若しくは６−員環のへテロアリール、低級ヒドロキシアルキル、自由選択で置換されたフェニル、及び５−若しくは６−員環の窒素を含有するへテロシクロスルホニルから選択され、
Ｒ５は、ヒドリド、低級アルキル、ハロ、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、及びフェニルから選択され、且つ、
Ｒ６は、ヒドリド、ハロ、シアノ、ヒドロキシイミノメチル、低級ヒドロキシアルキル、低級アルキニル、フェニルアルキニル、低級アルキル、低級アルコキシ、ホルミル及びフェニルから選択される、化合物、又はそれの異性体若しくは薬学的に許容可能な塩。
【請求項７】
請求項６に記載の化合物であって、
Ｒ４は、クロロ、メチル、ｔｅｒｔ−ブチル、メチルチオ、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、ペンタフルオロメチル、トリフルオロメチルチオ、トリフルオロメトキシ、エチニル、フェニルエチニル、置換された若しくは置換されてないフェニルカルボニル、及び置換された若しくは置換されてないフェニルから選択され、且つ、
Ｒ５は、ヒドリド、メチル、ｔｅｒｔ−ブチル、クロロから選択され、且つ、
Ｒ６は、ヒドリド、クロロ、チエニル、ヒドロキシイミノメチル、置換された若しくは置換されてないフェニルエチニル、及び置換された若しくは置換されてないフェニルから選択される、化合物、又はそれの異性体若しくは薬学的に許容可能な塩。
【請求項８】
請求項７に記載の化合物であって、
Ｒ３は、ヒドリド又はクロロであり、
Ｒ４は、エチニル及び自由選択で置換されたフェニルエチニルから選択される、化合物、又はそれの異性体若しくは薬学的に許容可能な塩。
【請求項９】
主体におけるシクロオキシゲナーゼ−２媒介の疾患を治療する方法であって、
該方法は、前記疾患を有する又は前記疾患に感染しやすい主体を、治療に有効な量の請求項１乃至６及び８のいずれかに記載の化合物又はそれの薬学的に許容可能な塩で治療することを含む、方法。
【請求項１０】
前記シクロオキシゲナーゼ−２媒介の疾患は、炎症である、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記シクロオキシゲナーゼ−２媒介の疾患は、関節炎である、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記シクロオキシゲナーゼ−２媒介の疾患は、痛みである、請求項１１に記載の治療方法。
【請求項１３】
前記シクロオキシゲナーゼ−２媒介の疾患は、癌である、請求項１１に記載の治療方法。
【請求項１４】
治療に有効な量の化合物を含む薬剤組成物であって、
前記化合物は、請求項１乃至６及び８のいずれかに記載の化合物の一群又はそれの薬学的に許容可能な塩から選択される、薬剤組成物。