【手続補正書】
【提出日】平成18年8月8日(2006.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）１種以上の芳香族ポリカーボネート、（ii）１種以上のゴム変性グラフトコポリマー、（iii）１種以上のシリルボーレートエステル、（iv）１種以上の有機リン化合物及び（ｖ）１種以上のフルオロポリマー添加剤を含有する難燃性樹脂組成物。
【請求項２】
前記芳香族ポリカーボネートが構造：ＨＯ−Ｄ−ＯＨの１種以上のジヒドロキシ芳香族化合物から誘導された構造単位を含有し、ここでＤは式：
【化１】
2005535764.tif 000001
［式中のＡ1は芳香族基であり、Ｅは少なくとも１つのアルキレン、アルキリデンもしくは脂環式基、硫黄含有連結基、リン含有連結基、エーテル連結基、カルボニル基、三級窒素基又はケイ素含有連結基であり、Ｒ1は水素又は一価炭化水素基であり、Ｙ1は水素、一価炭化水素基、アルケニル、アリル、ハロゲン、臭素、塩素、ニトロ及びＯＲ2（Ｒ2は一価炭化水素基である）からなる群から選択され、ｍは０からＡ1上の置換可能な位置の数までの整数であり、ｐは０からＥ上の置換可能な位置の数までの整数であり、ｒは１以上の整数であり、ｓは０又は１であり、ｕは０を含む整数である］の構造を有する二価芳香族基である、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
前記芳香族ポリカーボネートが、４，４′−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシリデン）ジフェノール、４，４′−ビス（３，５−ジメチル）ジフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、２，４′−ジヒドロキシジフェニルメタン、ビス（２−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−５−ニトロフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３−メトキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−２−クロロフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−エチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、３，５，３′，５′−テトラクロロ−４，４′−ジヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシ−フェニル）シクロヘキシルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルプロパン、２，４′−ジヒドロキシフェニルスルホン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、ヒドロキノン、レゾルシノール、Ｃ1-3アルキル置換レゾルシノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、２−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（３，５−ジメチルフェニル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（３，５−ジメチルフェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（３，５−ジメチルフェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，４−ビス（３，５−ジメチルフェニル−４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、３，３−ビス（３，５−ジメチルフェニル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、１，１−ビス（３，５−ジメチルフェニル−４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（３，５−ジメチルフェニル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、ビス（３，５−ジメチルフェニル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、３−（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，３−トリメチルインダン−５−オール、１−（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン−５−オール、及び２，２，２′，２′−テトラヒドロ−３，３，３′，３′−テトラメチル−１，１′−スピロビ［１Ｈ−インデン］−６，６′−ジオールからなる群から選択される１種以上のジヒドロキシ芳香族化合物から誘導された構造単位を含有する、請求項１記載の組成物。
【請求項４】
前記ジヒドロキシ芳香族化合物がビスフェノールＡである、請求項３記載の組成物。
【請求項５】
前記芳香族ポリカーボネートが全組成物の重量に基づいて５５〜９８重量％の範囲の量存在する、請求項１記載の組成物。
【請求項６】
前記ゴム変性グラフトコポリマーは、連続な硬質熱可塑性相に不連続なゴム相が分散された構成で、硬質熱可塑性相の少なくとも一部がゴム相に化学的にグラフトされている、請求項１記載の組成物。
【請求項７】
前記シリルボーレートエステルは、１種以上のアルキルシラノール化合物と１種以上のホウ素含有化合物との反応生成物であり、ホウ素含有化合物対アルキルシラノールのモル比が約１：１である、請求項１記載の組成物。
【請求項８】
前記有機リン化合物が、リン酸エステル、チオリン酸エステル、ホスホン酸エステル、チオホスホン酸エステル、ホスフィン酸エステル、チオホスフィン酸エステル、ホスフィン、トリフェニルホスフィン、ホスフィンオキシド、トリフェニルホスフィンオキシド、トリス（２−シアノエチル）ホスフィンオキシド、チオホスフィンオキシド及びホスホニウム塩からなる群から選択される１種以上の重合体状又は非重合体状有機リン化合物である、請求項１記載の組成物。
【請求項９】
全組成物の重量に基づく割合で表示して、
（ｉ）９０〜９６重量％の範囲の量存在する１種以上のビスフェノールＡポリカーボネート、
（ii）２〜６重量％の範囲の量存在する、１種以上のゴム変性グラフトコポリマーであって、このゴム変性グラフトコポリマーは連続な硬質熱可塑性相に不連続なゴム相が分散された構成で、前記硬質熱可塑性相の少なくとも一部がゴム相に化学的にグラフトされており、前記ゴム相がポリブタジエンゴム、ポリ（スチレン−ブタジエン）ゴム、ポリ（ブチルアクリレート）ゴム、又はエチレン−プロピレンージエン変性ゴムを含有し、前記硬質熱可塑性相がスチレン−アクリロニトリルコポリマーを含有する、ゴム変性グラフトコポリマー、
（iii）０．５〜１５重量％の範囲の量存在する、１種以上のシリルボーレートエステルであって、１種以上の重合度１〜３０のシラノール末端ポリジメチルシロキサン化合物とホウ酸及び酸化ホウ素から選択される１種以上のホウ素含有化合物との反応生成物であり、ホウ素含有化合物対アルキルシラノールのモル比が約１：１である、シリルボーレートエステル、
（iv）１〜８重量％の範囲の量存在する、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、レゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）及びビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）からなる群から選択される１種以上の有機リン化合物及び
（ｖ）０．０１〜２重量％の範囲の量存在する、ポリテトラフルオロエチレン
を含有する難燃性樹脂組成物。
【請求項１０】
全組成物の重量に基づく割合で表示して、
（ｉ）９０〜９６重量％の範囲の量存在する１種以上のビスフェノールＡポリカーボネート、
（ii）２〜６重量％の範囲の量存在する、１種以上のゴム変性グラフトコポリマーであって、このゴム変性グラフトコポリマーは連続な硬質熱可塑性相に不連続なゴム相が分散された構成で、前記硬質熱可塑性相の少なくとも一部がゴム相に化学的にグラフトされており、前記ゴム相がポリブタジエンゴム、ポリ（スチレン−ブタジエン）ゴム、ポリ（ブチルアクリレート）ゴム、又はエチレン−プロピレンージエン変性ゴムを含有し、前記硬質熱可塑性相がスチレン−アクリロニトリルコポリマーを含有する、ゴム変性グラフトコポリマー、
（iii）０．５〜１５重量％の範囲の量存在する、１種以上のシリルボーレートエステルであって、１種以上の重合度１〜３０のシラノール末端ポリジメチルシロキサン化合物とホウ酸及び酸化ホウ素から選択される１種以上のホウ素含有化合物との反応生成物であり、ホウ素含有化合物対アルキルシラノールのモル比が約１：１である、シリルボーレートエステル、
（iv）１〜８重量％の範囲の量存在する、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、レゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）及びビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）からなる群から選択される１種以上の有機リン化合物及び
（ｖ）０．０１〜２重量％の範囲の量存在する、ポリテトラフルオロエチレン
を含有する難燃性樹脂組成物を製造するにあたり、
組成物の全成分をこれらの成分のブレンドを形成するのに適当な条件下で合わせ、混合し、所望に応じてこうして得られた組成物を微細化して粒子形態とする工程を含む、難燃性樹脂組成物の製造方法。