【事件の表示】
　特願２００５−３５８７３８「スクリーン印刷方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１９年　６月２８日出願公開、特開２００７−１６０６５９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯  
　本願は、平成１７年１２月１３日の出願であって、平成２２年１１月２５日付け拒絶理由通知に対して、平成２３年１月１３日に手続補正がなされたが、同年３月２３日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年６月１４日に拒絶査定不服審判が請求されると同時に手続補正がなされたものである。  
　  
第２　平成２３年６月１４日付け手続補正についての補正却下の決定  
［補正却下の決定の結論］  
　平成２３年６月１４日付け手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。  
　　　 　 
［理　由］ 　 
１　補正内容 　　 
（１）本件補正は、特許請求の範囲及び明細書についてするものであり、その特許請求の範囲の請求項１については、 　  
　本件補正前（平成２３年１月１３日付け手続補正後のもの）に、  
「【請求項１】
　所定のパターン孔が形成されたマスクに位置合わせされた被印刷体の表面にペーストをパターン印刷するスクリーン印刷方法であって、
　前記被印刷体の姿勢が前記マスクに対して平行な姿勢で、前記被印刷体を保持する保持手段を上昇させることにより、前記被印刷体の表面全体を前記マスクの裏面に当接させる工程と、
　前記被印刷体の表面にパターン印刷を行う工程と、
　前記被印刷体を前記マスクに対して傾斜した姿勢に変更させることにより、前記被印刷体の一部を前記マスクから離反させる工程と、
　前記被印刷体の姿勢変更が終了すると前記保持手段を下降させることにより、前記被印刷体と前記マスクを完全に離反させる工程とを含むことを特徴とするスクリーン印刷方法。」とあったものを、  
　　　　  
「【請求項１】
　所定のパターン孔が形成されたマスクに位置合わせされた被印刷体の表面にペーストをパターン印刷するスクリーン印刷方法であって、
　前記被印刷体の姿勢が前記マスクに対して平行な姿勢で、前記被印刷体を保持する保持手段を上昇させることにより、前記被印刷体の表面全体を前記マスクの裏面に当接させる工程と、
　前記被印刷体の表面にパターン印刷を行う工程と、
　前記被印刷体を前記マスクに対して傾斜した姿勢に変更させることにより、前記被印刷体の一部を前記マスクから離反させる工程と、
　前記被印刷体の姿勢変更が終了すると前記保持手段を下降させることにより、前記被印刷体と前記マスクを完全に離反させる工程とを含み、
　
前記保持手段の下降開始直後の速度は、前記保持手段の下降中の速度より遅い
　　　　　　 　      　
（２）本件補正後の請求項１に係る上記（１）の補正内容は、次の内容からなる。       　
　本件補正前の請求項１の「前記被印刷体の姿勢変更が終了すると前記保持手段を下降させることにより、前記被印刷体と前記マスクを完全に離反させる工程とを含む」を「前記被印刷体の姿勢変更が終了すると前記保持手段を下降させることにより、前記被印刷体と前記マスクを完全に離反させる工程とを含み、前記保持手段の下降開始直後の速度は、前記保持手段の下降中の速度より遅い」とする補正。  　
     　
２　補正目的  
（１）上記「１（２）」の補正内容は、本件補正前の請求項１に係る発明を特定するために必要な「前記被印刷体の姿勢変更が終了すると前記保持手段を下降させることにより、前記被印刷体と前記マスクを完全に離反させる工程」における下降速度について、「下降開始直後の速度は、前記保持手段の下降中の速度より遅い」と限定するものであるから「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものであると認められる。  　
　  
（２）よって、本件補正後の請求項１についての補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものであると認め得るものであることから、本件補正後の請求項１に係る発明（以下「本件補正発明」という。）について、これが特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）否かを、以下に検討する。  
　　　　　　　　　　　  
３　独立特許要件  
（１）本件補正発明  　
　本件補正発明を再掲すると、以下のとおりのものである。  
「【請求項１】
　所定のパターン孔が形成されたマスクに位置合わせされた被印刷体の表面にペーストをパターン印刷するスクリーン印刷方法であって、
　前記被印刷体の姿勢が前記マスクに対して平行な姿勢で、前記被印刷体を保持する保持手段を上昇させることにより、前記被印刷体の表面全体を前記マスクの裏面に当接させる工程と、
　前記被印刷体の表面にパターン印刷を行う工程と、
　前記被印刷体を前記マスクに対して傾斜した姿勢に変更させることにより、前記被印刷体の一部を前記マスクから離反させる工程と、
　前記被印刷体の姿勢変更が終了すると前記保持手段を下降させることにより、前記被印刷体と前記マスクを完全に離反させる工程とを含み、
　前記保持手段の下降開始直後の速度は、前記保持手段の下降中の速度より遅いことを特徴とするスクリーン印刷方法。」　
   　
（２）引用文献に記載の事項  
　原査定の拒絶の理由に引用された本願出願前に頒布された刊行物である特開平１１−４２７５９号公報（以下「引用文献１」という。）には図とともに以下の事項が記載されている。  
　 　  
　ア　「特許請求の範囲】  　
【請求項１】  
所定のパターンの開口部を有した版を被印刷体に当てがい、前記開口部に印刷ペーストを充填した後、版と被印刷体とを離して開口部内の印刷ペーストを被印刷体上に転移させて印刷を行う印刷方法において、前記版と被印刷体とを離して版の開口部に保持された印刷ペーストを被印刷体へ転移させることを、版の振動を制御または防止しながら行い、印刷することを特徴とする印刷工法
・・・（略）・・・
【請求項５】  版の振動の制御ないし防止は、
版と被印刷体とを、一方の端から順に離すことにより行う
    　
　イ　「【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記のような従来の印刷方法および装置では、図９の（Ｃ）に示すように、スクリーンマスクｄを回路基板ａから離すとき、クリームはんだｅの粘性によりスクリーンマスクｄが回路基板ａの側に引っ張られて張力を増していき、
ある時点でスクリーンマスクｄの張力がクリームはんだｅの粘着力に勝るためクリームはんだｅを引きちぎり、その時点からスクリーンマスクｄはフリーとなって振動を始める
  　　
　ウ　「【００１５】請求項５の発明の印刷方法、および請求項１３の発明の印刷装置の離接機構のように、
版と被印刷体とを、一方の端から順に離すようにすると、版の各部が被印刷体との間に版の全幅に亘る剥離境界を持ってこれが一端から他端に向かって移動する状態で、版をその被印刷体との剥離境界部で被印刷体側に支持しながら剥離が順次進行していくので、版が被印刷体から離れるときの振動をよく抑えられるし、版の剥離進行部の振動を十分に防止することができる
　
　エ　「【００１９】（実施の形態１）本実施の形態１は、図１の（Ｂ）、図２の（Ａ）に示すように所定のパターンの開口部１１ａを有した版であるスクリーンマスク１１を被印刷体であるプリント配線されるなどした回路基板１４に当てがって後、前記開口部１１ａに印刷ペーストとしてのクリームはんだ１２を、図１の（Ｂ）、図２の（Ａ）、（Ｂ）に示すようにスキージ１３等を利用して充填し、次いで、スクリーンマスク１１と回路基板１４とを図２の（Ｃ）に示すように離すことにより、開口部１１ａ内に保持しているクリームはんだ１２を回路基板１４上の例えばランド１５の上に転移させて印刷を行う場合の印刷方法および装置の一例である。しかし、本発明は、これに限定されることはなく各種の印刷ペーストを各種のパターンの開口部を有した各種の版により各種の被印刷体に印刷するどのような場合にも適用される。
【００２０】本実施の形態１は特に、スクリーンマスク１１と回路基板１４とを図２の（Ｃ）のように離してスクリーンマスク１１の開口部１１ａに保持されたクリームはんだ１２を回路基板１４へ転移させることを、スクリーンマスク１１の振動を制御または防止しながら行い、印刷する。これにより、スクリーンマスク１１と回路基板１４とが離れてクリームはんだ１２が回路基板１４上に転移されるときの、スクリーンマスク１１の振動が一定の状態に制御され、または防止されるので、クリームはんだ１２はスクリーンマスク１１の一定の振動のもとに、または振動が防止された状態のもとに、スクリーンマスク１１と回路基板１４との間の所定位置で図２の（Ｃ）に示すように版離れ性よく、つまりスクリーンマスク１１からの離れ性よく安定して引きちぎられ、図２の（Ｃ）に示すように開口部１１ａの内周にほとんど残らず、また、図２の（Ｄ）に示すようにランド１５のまわりへ飛び散ることなく、ランド１５の上に過不足なく、かつ乱れなく、高精度に印刷することができ、従来のようにクリームはんだ１２の版離れ性が悪く引きちぎりの位置や状態が不安定で印刷不良を来し回路基板１４の特性を損なうようなことが解消する。」　
　
　オ　「【００２１】さらに具体的には、本実施の形態１は図１の（Ａ）に示すように、スクリーンマスク１１と回路基板１４との少なくとも一方を他方に対して斜めにして行くなどして、それら双方を一方の端１１ｂから順に離すようにして、スクリーンマスク１１と回路基板１４とが離れて開口１１ａ内のクリームはんだ１２が回路基板１４のランド１５の上に転移するときの、
スクリーンマスク１１の振動を制御または防止するようにしている
【００２２】このようにすると、
スクリーンマスク１１の各部が回路基板１４との間に
スクリーンマスク１１の全幅に亘る剥離境界Ａが一端１１ｂから他端１１ｃに向かって移動する
スクリーンマスク１１の剥離境界Ａ部を回路基板１４側に支持しながら剥離が順次進行していくので、スクリーンマスク１１が回路基板１４から離れるときの振動を一定の状態によく抑えることができる
    　
　カ　「【００２３】このように、スクリーンマスク１１と回路基板１４とを一方の端から離していくための離接機構の一例として、本実施の形態１では、図１の（Ａ）に示すように、従来通り枠１１ｄにより張設して支持されたスクリーンマスク１１に対し、回路基板１４を保持する基板サポート装置２２の
基板サポート台２２ａを、軸６９を中心に回動できるように支持する一方、基板サポート台２２ａの自由端側
基板サポート台２２ａを軸６９を中心に正逆方向に回動させる
図１の（Ａ）に示すスクリーンマスク１１から離れた下動位置と、スクリーンマスク１１の下面に回路基板１４を密着させる上動位置との間で傾き角度を変えながら昇降される
【００２４】図示する
基板サポート装置２２では、基板サポート台２２ａは回路基板１４をスクリーンマスク１１に密着させる上動位置では水平な姿勢にあり、回路基板１４をスクリーンマスク１１から離す下動位置に向け傾きを増していく。このように基板サポート台２２ａは傾きながら回路基板１４をスクリーンマスク１１から離していくことで、上記したように、スクリーンマスク１１と回路基板１４とはスクリーンマスク１１の一端１１ｂの側から他端１１ｃの側に向け、図１の（Ａ）に仮想線で示すようにスクリーンマスク１１の全幅に亘る剥離境界Ａを持ち、これが上記したように一端１１ｂから他端１１ｃに向かって移動する状態で、スクリーンマスク１１の剥離境界Ａ部を回路基板１４側に支持しながら剥離が順次進行していくようになる
【００２５】しかし、
このような剥離境界Ａ部を持ちこれの位置が一端から他端に向け順次に移動するような剥離状態が得られれば、具体的な離接構造はどのように構成されてもよい。例えば、スクリーンマスク１１の側が、回路基板１４に対し離接動作してもよいし、スクリーンマスク１１および回路基板１４の双方が離接動作してもよい
【００２６】このような離接機構を装備した印刷装置の全体構成の一例を、図３の外観図、および図４のブロック結線図で示している。これにつき説明すると、基板搬入・搬出装置２１、基板サポート装置２２、スクリーンマスク１１、スキージヘッド駆動装置２４、ＸＹθ位置補正手段２５と離接手段２６とを備えたステージ部２０、加熱部２８とタイマー２９とを備えたスクリーンマスク加熱装置２７が制御部３４の制御の基に駆動されるようにしている。また、制御部３４には、処理演算部３１と認識カメラ部３２とを備えた基板位置認識補正部３０からの基板位置認識補正情報が入力されるとともに、処理演算部３９と印刷状態探知手段４０と検査基準記憶部４１とを備えた印刷検査部３８からは、印刷検査情報が入力されるようになっている。また、処理演算部３６と良品印刷データベース３７とを備えたプロセスコントロール部３５と上記制御部３４との間ではプロセス情報を入出力するとともに、上記印刷検査部３８から印刷状態の情報を入力して、プロセスコントロールを行うようにしている。また、制御部３４は、必要に応じて、操作及び検査の結果、印刷されたクリーム半田の状態などの情報を表示部３３に表示するようにしている。
【００２７】図３の具体的な装置構成において、回路基板１４は、基板搬入・搬出装置２１の搬入装置２１ａによりステージ部２０まで矢印で示す方向に搬入され、ステージ部２０で位置補正された後、スクリーンマスク１１下の印刷位置に移動され、該印刷位置で印刷された後は印刷位置から基板搬入・搬出装置２１の搬出装置２１ｂにより印刷装置外へ矢印で示す方向に搬出される。
【００２８】ステージ部２０では、まず、ステージ部２０に配置された基板サポート装置２２の上記した基板サポート台２２ａで位置保持される。位置保持のしかたは、例えば、
基板サポート台２２ａの表面に開口した多数の吸引孔で回路基板１４を真空吸引する方法
【００２９】この回路基板１４の位置保持状態で、基板位置認識補正部３０の認識カメラ部３２により回路基板１４の位置補正用マークを認識する。処理演算部３１により、上記認識された回路基板１４の位置とスクリーンマスク１１の位置との間の位置ズレを演算しかつこの位置ズレを補正するための回路基板１４の位置補正量を演算する。この演算結果をステージ部２０のＸＹθ位置補正手段２５で回路基板１４のスクリーンマスク１１に対する位置補正が行われる。すなわち、ＸＹθ位置補正手段２５により、上記位置補正情報に基づいて
スクリーンマスク１１に対して印刷装置の水平面沿いの直交するＸＹ２方向及びその水平面に垂直なＺ軸回りのθ方向において回路基板１４の位置補正が行われる。上記ＸＹθ位置補正手段２５は、図示していないが、Ｘ方向（回路基板１４の搬入・搬出方向）沿いに移動可能なＸ方向テーブルの上にＹ方向に移動可能なＹ方向テーブルを載置し、さらにその上にθ方向に回転可能なθ方向テーブルを載置して構成し
　
　キ　「【００３７】次に、上記印刷装置で実施される印刷方法を図５のフローチャートを基に説明する。なお、この一連の動作は制御部３４により制御されている。
【００３８】
ステップＳ１では、基板搬入・搬出装置２１の搬入装置２１ａにより回路基板１４をステージ部２０に搬入する
【００３９】次に、
ステップＳ２では、ステージ部２０に搬入された回路基板１４を基板サポート装置２２で保持する
【００４０】次に、
ステップＳ３では、基板位置認識補正部３０により、基板サポート装置２２で保持された回路基板１４の位置を認識するとともに、スクリーンマスク１１に対する回路基板１４の位置補正量を算出する
【００４１】次に、
ステップＳ４では、上記算出された位置補正量に基づき、ステージ部２０のＸＹθ位置補正手段２５によりスクリーンマスク１１に対する回路基板１４のＸＹθ方向の位置をそれぞれ補正する
【００４２】次に、
ステップＳ５では、ステージ部２０によりススリーンマスク（注：「スクリーンマスク」の誤記）１１の下方の印刷位置に回路基板１４を位置決めし、ステージ部２０により回路基板１４を上昇させてスクリーンマスク１１が回路基板１４の上面に接触するようにする
【００４３】次に、
ステップＳ６では、スキージ１３をスクリーンマスク１１上で移動させて、クリームはんだ１２をスクリーンマスク１１の開口部１１ａ内に充填させる
【００４４】そして、ステップＳ７では、スクリーンマスク１１と回路基板１４とを離す版離し動作を行う。すなわち、ステージ部２０における基板サポート台２２ａの駆動により、スクリーンマスク１１に対して回路基板１４を斜めにしながら下降させて、回路基板１４をスクリーンマスク１１と、上記したように一端１１ｂの側から、他端１１ｃの側に向かって順に分離して行く。これによって、クリームはんだ１２をスクリーンマスク１１の開口部１１ａ内から回路基板１４のランド１５上に上記の通り高精度に転写させ印刷する。
【００４５】次に、
ステップＳ８では、印刷検査部３８で回路基板１４上に形成されたクリームはんだ１２の層の形状や位置などを検査する
【００４６】次に、
ステップＳ９では、上記検査の結果、印刷状態が良好か否か判定する
【００４７】
印刷状態が良好であると判定された場合にはステップＳ１０に進み、ステップＳ１０で回路基板１４を搬出装置２１ｂにより上記印刷装置から搬出して一連の印刷動作を終了する
　  　
　ク　上記カ「【００２８】ステージ部２０では・・・基板サポート台２２ａの表面に開口した多数の吸引孔で回路基板１４を
真空吸引する方法
吸着により保持するものが好適
　　 
　ケ　上記カ及びキの記載から、
　「ステップＳ３ないしステップＳ５」では、ＸＹθ位置補正手段２５により回路基板１４の
ＸＹθ方向
　     　
　コ　図１、３より、以下のことが読み取れる。
　「基板サポート台２２ａ」は、
　軸６９を中心に回動できるように支持され、自由端側（図面の右側）をスクリーンマスク１１の下面に回路基板１４を密着させる上動位置からスクリーンマスク１１から離れた下動位置に向けて傾き角度を増すと、軸６９よりも左側に位置する端部（図面では最も左側の円弧状に描かれた箇所）が軸６９を中心とする回転により上方に持ち上がる構造であること。
  　                            　
　サ　上記記載から、引用文献１には次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。　　  
　  
「所定のパターンの開口部を有したスクリーンマスクを回路基板に当てがい、開口部にクリームはんだを充填した後、スクリーンマスクと回路基板とを離して開口部内のクリームはんだを回路基板上に転移させて印刷を行う印刷方法であって、
　搬入装置により水平な状態で回路基板をステージ部に搬入し、
　回路基板をステージ部の基板サポート台の表面に保持し、　
　基板位置認識補正部により、回路基板の位置を認識するとともに、スクリーンマスクに対する回路基板の位置補正量を算出し、
　算出された位置補正量に基づき、ＸＹθ位置補正手段によりスクリーンマスクに対する回路基板のＸＹθ方向の位置をそれぞれ補正し、
　スリーンマスクの下方の印刷位置に回路基板を位置決めし、ステージ部により回路基板をスクリーンマスクに対して平行な姿勢で上昇させてスクリーンマスクが回路基板の上面に接触するようにし、
　スキージをスクリーンマスク上で移動させて、クリームはんだをスクリーンマスクの開口部内に充填し、
　基板サポート台は、軸を中心に回動できるように支持され、自由端側をスクリーンマスクの下面に回路基板を密着させる上動位置からスクリーンマスクから離れた下動位置に向けて傾き角度を増すと、軸よりも左側に位置する端部が軸を中心とする回転により上方に持ち上がる構造であり、
　基板サポート台を水平な姿勢である上動位置から回路基板をスクリーンマスクから離す下動位置に向けて傾き角度を増すことにより、スクリーンマスクの全幅に亘る剥離境界Ａ部をスクリーンマスクの一端から他端に向かって移動する状態で、スクリーンマスクの剥離境界Ａ部を回路基板側に支持しながら剥離し、　 　 　
　印刷検査部で回路基板上に形成されたクリームはんだの層の形状や位置などを検査し、   　
　検査の結果、印刷状態が良好であると判定された場合に、回路基板を搬出装置により印刷装置から搬出して一連の印刷動作を終了するようにした、
　印刷方法。」　　
      　　　　  　
（３）対比  
　本件補正発明と引用発明とを対比する。  
　ア　引用発明の「開口部」は本件補正発明の「パターン孔」に相当し、同様に、  
　「スクリーンマスク」は「マスク」に、  
　「回路基板」は「被印刷体」に、  
　「クリームはんだ」は「ペースト」に、　
　「印刷方法」は「印刷方法」に、
　「基板サポート台」は「保持手段」に、
　「当てがい」及び「接触」は「当接」に、
　「剥離」は「離反」に、それぞれ、相当する。
            　
　イ　引用発明は「スクリーンマスク」を利用した印刷方法であるから「スクリーン印刷方法」であり、かつ、回路基板を位置決めした後にステージ部により回路基板をスクリーンマスクに対して平行な姿勢で上昇させている。
　してみれば、引用発明と本件補正発明とは、
「所定のパターン孔が形成されたマスクに位置合わせされた被印刷体の表面にペーストをパターン印刷するスクリーン印刷方法であって、
　前記被印刷体の姿勢が前記マスクに対して平行な姿勢で、前記被印刷体を保持する保持手段を上昇させることにより、前記被印刷体の表面全体を前記マスクの裏面に当接させる工程と、
　前記被印刷体の表面にパターン印刷を行う工程」を含む点で一致する。
     　   　
　ウ　本件補正発明の「被印刷体の一部をマスクから離反させる工程」に関連して、本願の当初明細書には以下の事項が記載されている。
（ア）「【００２３】
　パターン印刷が終了すると、保持部２０を下降させて被印刷体３をマスク２から離反させる。離反に際しては、図２（ｃ）に示すように、
保持部２０の一端側を下降させることにより、被印刷体３の姿勢をマスク２に対して傾斜した姿勢に変更する
　
（イ）上記（ア）の記載からして、
　本件補正発明の「前記被印刷体を前記マスクに対して傾斜した姿勢に変更させることにより、前記被印刷体の一部を前記マスクから離反させる工程」には、「
保持手段の一端側を下降させる
　　
（ウ）一方、引用発明も「保持手段（基板サポート台）」を水平な姿勢である上動位置から下動位置に向けて傾き角度を増していることから、保持手段の一端側を下降させているといえる。　
　　　　　
（エ）してみれば、引用発明と本件補正発明とは、  　
「前記被印刷体を前記マスクに対して傾斜した姿勢に変更させる」点で共通する。　              　
　  　
　エ　引用発明の「保持手段（基板サポート台）」は、軸よりも左側に位置する端部が軸を中心とする回転により上方に持ち上がる構造であるため、被印刷体を印刷装置から搬出する際に、「軸よりも左側に位置する端部を含む保持手段及び被印刷体」とマスクとが擦れないようにする必要があり、引用発明は「ステージ部により回路基板をスクリーンマスクに対して平行な姿勢で上昇させて」いるものであるから、逆に下降させること、すなわち、引用発明において、保持手段を下降させていることは明らかである。
　  　
　オ　また、引用発明では「クリームはんだをスクリーンマスクの開口部内に充填し」た後に「前記被印刷体を前記マスクに対して傾斜した姿勢に変更させる」ことから、　
　「パターン印刷を行う工程」と被印刷体を印刷装置から搬出するまでの間に、
　被印刷体の一部をマスクから離反（剥離）させていること及び被印刷体をマスクから完全に離反（剥離）させていることは、当業者にとって明らかである。      　
　    　
　カ　してみれば、引用発明と本件補正発明とは、　    　
「前記保持手段を下降させること、  　
　前記被印刷体の一部を前記マスクから離反させること、
　前記被印刷体を前記マスクから完全に離反させること、を含む」点で共通する。                                            　
　                              　
　キ　以上のことから、本件補正発明と引用発明とは以下の点で一致する。
　＜一致点＞  　
「所定のパターン孔が形成されたマスクに位置合わせされた被印刷体の表面にペーストをパターン印刷するスクリーン印刷方法であって、
　前記被印刷体の姿勢が前記マスクに対して平行な姿勢で、前記被印刷体を保持する保持手段を上昇させることにより、前記被印刷体の表面全体を前記マスクの裏面に当接させる工程と、
　前記被印刷体の表面にパターン印刷を行う工程と、を含み、
　前記被印刷体を前記マスクに対して傾斜した姿勢に変更させること、　
　前記保持手段を下降させること、  　
　前記被印刷体の一部を前記マスクから離反させること、
　前記被印刷体を前記マスクから完全に離反させること、を含む、
　スクリーン印刷方法。」　
  　　　　　　　 　　 　  
　ク　一方で、本件補正発明と引用発明とは、以下の点で相違する。  
　＜相違点１＞
　被印刷体とマスクの離反に関し
　本件補正発明が「前記被印刷体を前記マスクに対して傾斜した姿勢に変更させることにより、前記被印刷体の
一部
　前記被印刷体の姿勢変更が終了すると前記保持手段を下降させることにより、前記被印刷体と前記マスクを
完全
　引用発明では、被印刷体の一部をマスクから離反させること及び被印刷体をマスクから完全に離反させることの、それぞれが、被印刷体をマスクに対して傾斜した姿勢に変更させることによりなされるのか、保持手段を下降させることによりなされるのか、不明である点。　
         　     　  　　
　＜相違点２＞
　保持手段の下降速度に関し
　本件補正発明が「保持手段の下降開始直後の速度は、前記保持手段の下降中の速度より遅い」と特定されるものであるのに対して、
　引用発明では、保持手段の下降速度が不明である点。
　　　　　　　  
（４）判断 　  
　ア　上記＜相違点１＞について検討する。  
（ア）引用発明は、
剥離境界Ａ部
　　                   　                     　
（イ）上記（ア）の「剥離境界Ａ部」は、
　保持手段が傾いて被印刷体の
一部
　保持手段を傾ける角度をパターン印刷に悪影響を及ぼさない程度の小さな角度に設定することで被印刷体の
一部
完全
　　                                    　
（ウ）上記（イ）のようにした引用発明は、
　「被印刷体を前記マスクに対して傾斜した姿勢に変更させることにより、前記被印刷体の
一部
完全
　　
（エ）以上のことから、引用発明において、上記＜相違点１＞に係る本件補正発明の構成を採用することは、当業者が容易になし得たことである。
　
　イ　上記＜相違点２＞について検討する。
（ア）被印刷体を保持する保持手段を下降させる際に、下降開始直後の速度を保持手段の下降中の速度より遅くすることは、本願出願前に周知である（例えば、
・特開２００５−２３１２３０号公報の【００２２】及び図４を参照。
　【００２２】には、第２の版離れ速度を第１の版離れ速度よりも高速に設定する旨記載されている。
・特開２００２−３６４９５号公報の【０００７】を参照。
　【０００７】には、基板の下降速度を２段階に分ける旨記載されている。
・特開２００１−２６０３１６号公報の【００１４】を参照。
　【００１４】には、加速度を加えながら下降させる旨記載されている。
・特開平８−２４４２０３号公報の【００２７】を参照。
　【００２７】には、低速度で下降させ後に高速で下降させる旨記載されている。
・特開平５−２８６１１３号公報の【０００６】を参照。
　【０００６】には、回路基板の下降速度を２段階に分ける旨記載されている。
　以下「周知技術」という。）。　
　
（イ）してみれば、引用発明の「保持手段（基板サポート台）」を下降させる際に、下降開始直後の速度を保持手段の下降中の速度より遅くすることは、上記周知技術に基づいて当業者が適宜なし得た設計事項である。
　
（ウ）以上のことから、引用発明において、上記＜相違点２＞に係る本件補正発明の構成を採用することは、当業者が上記周知技術に基づいて容易になし得たことである。 　  
　　　　　　　　　  
　ウ　また、本件補正発明の奏する効果も、当業者が引用発明の奏する効果及び周知技術の奏する効果から予測し得る範囲内のものである。　　  
　　　　　　　　　　  
（５）独立特許要件についてのまとめ 　  
　本件補正発明は、当業者が引用発明及び周知技術に基づいて容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。　　　　　 　 　  
　  
４　補正却下の決定のむすび 　  
　上記「３」のとおり、本件補正発明は特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるから、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反する。  
　したがって、本件補正は、同法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 　  
　  
第３　本願発明  
１　本願発明  
　本件補正は上記のとおり却下されたため、本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、前記「第２　１（１）」にて本件補正前の請求項１として記載したとおりのものである。  
　　　 　  
２　引用文献  
　当審の拒絶の理由で引用された引用文献及びその記載事項は、前記「第２　３（２）」に記載したとおりである。  
　　　　　　　　　　  
３　対比・判断  
　本願発明は、本件補正発明の「前記被印刷体の姿勢変更が終了すると前記保持手段を下降させることにより、前記被印刷体と前記マスクを完全に離反させる工程」における下降速度についての限定を省いたものに相当する。
　そうすると、本願発明の構成要件を全て含み、さらに限定を付加したものに相当する本件補正発明が前記「第２　３」で検討したとおり、当業者が引用発明及び周知技術に基づいて容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も同様の理由により、当業者が引用発明及び周知技術に基づいて容易に発明をすることができたものである。  
　　　　 　  
４　むすび  
　以上のとおり、本願発明は、当業者が引用文献１に記載された発明及び周知技術に基づいて容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。              　
　よって、結論のとおり審決する。