【手続補正書】
【提出日】平成17年10月28日(2005.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 
（Ａ）（ｉ） 少なくとも１つのチオール基を有する非ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物を有する混合物と；
（Ｂ）その分子構造が（ｉ）少なくとも１つのチオール基を有する非ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物と、（ｉｉｉ）前記（Ｂ）（ｉ）のチオール含有錯化剤の少なくとも１つの硫黄原子を前記（Ｂ）（ｉｉ）のビスマスに結合させる配位結合を含む錯体と；
（Ｃ）前記（Ｂ）の錯体と、（ｉ）チオール含有錯化剤と（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる群から選択される少なくとも１種を有する組み合わせと、
からなる群から選択される抗細菌製剤を有する抗細菌剤を細菌増殖の抑制が所望される領域に供給する工程を有する細菌増殖の抑制方法であって、
前記抗細菌製剤におけるチオール含有錯化剤に対するビスマスのモル比が１：２と３：１の間であることを特徴とする細菌増殖の抑制方法。
【請求項２】  前記抗細菌製剤において、前記チオール含有錯化剤に対する前記ビスマスのモル比が１：１と３：１の間である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記抗細菌製剤において、前記チオール含有錯化剤に対する前記ビスマスのモル比が２：１と３：１の間である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記各（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）のチオール含有錯化剤が、その分子構造に、少なくとも２個のスルフヒドリル基を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】  一方のスルフヒドリル基が第一炭素原子に結合し、他方のスルフヒドリル基が第二炭素原子に結合し、前記第一炭素原子は０〜３個の介在原子により前記第二炭素原子から離間する、請求項４に記載の方法。
【請求項６】  前記第一炭素原子は０〜１個の介在原子により前記第二炭素原子から離間する、請求項５に記載の方法。
【請求項７】  前記ビスマス：チオール含有錯化剤の５：１０ｍＭ溶液が、４１０ｎｍの波長において少なくとも１．５の吸光度を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項８】  前記ビスマス：チオール含有錯化剤の５：１０ｍＭ溶液が、４１０ｎｍの波長において少なくとも１０の吸光度を有する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】  ２５℃において等容量の水とブタノール、ならびに、前記錯化剤に対する前記ビスマスの５：１０ｍＭ溶液をそれぞれ使用して分配した場合に、少なくとも１％の前記錯体が水からブタノールに分配される、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  ２５℃において等容量の水とブタノール、ならびに、前記錯化剤に対する前記ビスマスの５：１０ｍＭ溶液をそれぞれ使用して分配した場合に、少なくとも１０％の前記錯体が水からブタノールに分配される、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】  前記各（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）のチオール含有錯化剤が、３，４−ジメルカプトトルエン、トリチオシアヌル酸、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２，３−ジメルカプト−１−プロパノール、２−メルカプト−３−ブタノール、β−メルカプトエタノール、２−メルカプトエチルアミン、および１−モノチオグリセロール、エタンジチオール、２，３−ブタンジチオール、１，４−ブタンジチオール、１，４−ジメルカプト−２，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジチオール、１，３−プロパンジチオール、およびｐ−クロロチオフェノールからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】  前記チオール含有錯化剤が１，３−プロパンジチオールであり、前記抗細菌剤が５．０未満までのｐＨの溶液中に存在する、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】  前記チオール含有錯化剤が１，３−プロパンジチオールであり、前記抗細菌剤が３．０以下のｐＨの溶液中に存在する、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】  前記細菌がマイコバクテリアである、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】  細菌増殖の抑制を所望する前記領域に抗真菌剤を加えることをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】 
（Ａ）（ｉ）少なくとも１つのチオール基を有する非ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物を有する混合物と；
（Ｂ）その分子構造が（ｉ）少なくとも１つのチオール基を有する非ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物と、（ｉｉｉ）前記（Ｂ）（ｉ）のチオール含有錯化剤の少なくとも１つの硫黄原子を前記（Ｂ）（ｉｉ）のビスマスに結合させる配位結合を含む錯体と；
（Ｃ）前記（Ｂ）の錯体と、（ｉ）チオール含有錯化剤と（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる群から選択される少なくとも１種を有する組み合わせと、
からなる群から選択される抗細菌製剤を有する有効量の抗細菌剤を結核罹患の治療または抑制が必要な患者に投与する工程を有する結核罹患の治療または抑制方法であって、
前記抗細菌製剤におけるチオール含有錯化剤に対するビスマスのモル比が１：２と３：１の間であることを特徴とする結核罹患の治療または抑制方法。
【請求項１７】
（Ａ）（ｉ）少なくとも１つのチオール基を有する非ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物を有する混合物と；
（Ｂ）その分子構造が（ｉ）少なくとも１つのチオール基を有する非ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物と、（ｉｉｉ）前記（Ｂ）（ｉ）のチオール含有錯化剤の少なくとも１つの硫黄原子を前記（Ｂ）（ｉｉ）のビスマスに結合させる配位結合を含む錯体と；
（Ｃ）前記（Ｂ）の錯体と、（ｉ）チオール含有錯化剤と（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる群から選択される少なくとも１種を有する組み合わせと、
からなる群から選択される抗細菌製剤を有する抗細菌剤を消化性潰瘍疾病またはヘリコバクター・ピロリ感染罹患の治療または抑制が必要な患者に投与する工程を有する消化性潰瘍疾病またはヘリコバクター・ピロリ感染罹患の治療または抑制方法であって、
前記抗細菌製剤におけるチオール含有錯化剤に対するビスマスのモル比が１：２と３：１の間であることを特徴とする消化性潰瘍疾病またはヘリコバクター・ピロリ感染罹患の治療または抑制方法。
【請求項１８】
（Ａ）（ｉ）少なくとも１つのチオール基を有する非ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物を有する混合物と；
（Ｂ）その分子構造が（ｉ）少なくとも１つのチオール基を有する非ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物と、（ｉｉｉ）前記（Ｂ）（ｉ）のチオール含有錯化剤の少なくとも１つの硫黄原子を前記（Ｂ）（ｉｉ）のビスマスに結合させる配位結合を含む錯体と；
（Ｃ）前記（Ｂ）の錯体と、（ｉ）チオール含有錯化剤と（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる群から選択される少なくとも１種を有する組み合わせと、
からなる群から選択される抗細菌製剤を有する有効量の抗細菌剤をヘルペス罹患の治療または抑制が必要な患者に投与する工程を有することを特徴とするヘルペス罹患の治療または抑制方法。
【請求項１９】 
（Ａ）（ｉ）少なくとも１つのチオール基を有する錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物を有する混合物と；
（Ｂ）その分子構造が（ｉ）少なくとも１つのチオール基を有する錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物と、（ｉｉｉ）前記（Ｂ）（ｉ）のチオール含有錯化剤の少なくとも１つの硫黄原子を前記（Ｂ）（ｉｉ）のビスマスに結合させる配位結合を含む錯体と；
（Ｃ）前記（Ｂ）の錯体と、（ｉ）チオール含有錯化剤と（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる群から選択される少なくとも１種を有する組み合わせと、
からなる群から選択される抗微生物製剤を有する抗微生物剤にバイオフィルムを接触させる工程を有することを特徴とするバイオフィルムを減少させる方法。
【請求項２０】  前記バイオフィルムが細菌を含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】  前記少なくとも１つの錯化剤が、その分子構造に酸素を欠失する、請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】 
（Ａ）（ｉ）少なくとも１つのチオール基を有する錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物を有する混合物と；
（Ｂ）その分子構造が（ｉ）少なくとも１つのチオール基を有する錯化剤と、(ｉｉ)ビスマスまたはビスマス含有化合物と、（ｉｉｉ）前記（Ｂ）（ｉ）のチオール含有錯化剤の少なくとも１つの硫黄原子を前記（Ｂ）（ｉｉ）のビスマスに結合させる配位結合を含む錯体と；
（Ｃ）前記（Ｂ）の錯体と、（ｉ）チオール含有錯化剤と（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる群から選択される少なくとも１種を有する組み合わせと、
からなる群から選択される抗微生物製剤を有するバイオフィルム抑制剤を細菌に接触させる工程を有することを特徴とする細菌のバイオフィルムへの転換を防止する方法。
【請求項２３】  前記バイオフィルムが細菌を含む、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】  致死下量の前記抗微生物剤に前記細菌を接触させる、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】  前記少なくとも１つの錯化剤が、その分子構造に酸素を欠失する、請求項２２に記載の方法。
【請求項２６】 
（Ａ）（ｉ） 少なくとも１つのチオール基を有する錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物を有する混合物と；
（Ｂ）その分子構造が（ｉ）少なくとも１つのチオール基を有する錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物と、（ｉｉｉ）前記（Ｂ）（ｉ）のチオール含有錯化剤の少なくとも１つの硫黄原子を前記（Ｂ）（ｉｉ）のビスマスに結合させる配位結合を含む錯体と；
（Ｃ）前記（Ｂ）の錯体と、（ｉ）チオール含有錯化剤と（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる群から選択される少なくとも１種を有する組み合わせと、
からなる群から選択される抗微生物製剤を有する抗微生物剤をエキソポリサッカライドの細菌分泌を減少させることが所望される細菌に接触させる工程を有することを特徴とするエキソポリサッカライドの細菌分泌を減少させる方法。
【請求項２７】  前記少なくとも１つの錯化剤が、その分子構造に酸素を欠失する、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】 
（Ａ）（ｉ）少なくとも１つのチオール基を有する錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物を有する混合物と；
（Ｂ）その分子構造が（ｉ）少なくとも１つのチオール基を有する錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物と、（ｉｉｉ）前記（Ｂ）（ｉ）のチオール含有錯化剤の少なくとも１つの硫黄原子を前記（Ｂ）（ｉｉ）のビスマスに結合させる配位結合を含む錯体と；
（Ｃ）前記（Ｂ）の錯体と、（ｉ）チオール含有錯化剤と（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる群から選択される少なくとも１種を有する組み合わせと、
からなる群から選択される抗微生物製剤を有する有効量の抗微生物剤を損傷を防止することが所望される生成物上に加える工程を有することを特徴とする損傷を防止する方法。
【請求項２９】 
（Ａ）（ｉ） 少なくとも１つのチオール基を有する非ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物を有する混合物と；
（Ｂ）その分子構造が（ｉ）少なくとも１つのチオール基を有する非ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物と、（ｉｉｉ）前記（Ｂ）（ｉ）のチオール含有錯化剤の少なくとも１つの硫黄原子を前記（Ｂ）（ｉｉ）のビスマスに結合させる配位結合を含む錯体と；
（Ｃ）前記（Ｂ）の錯体と、（ｉ）チオール含有錯化剤と（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる群から選択される少なくとも１種を有する組み合わせと、
からなる群から選択される抗ウイルス製剤を有する有効量の医薬組成物をそれを必要とする患者に投与する工程を有することを特徴とするヘルペスウイルス感染を防止または阻止する方法。
【請求項３０】 
（Ａ）（ｉ）ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる混合物と；
（Ｂ）その分子構造が（ｉ）ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物と、（ｉｉｉ）前記（Ｂ）（ｉ）のピリチオン錯化剤を前記（Ｂ）（ｉｉ）のビスマスに結合させる少なくとも１つの配位結合を含む錯体と；
（Ｃ）前記（Ｂ）の錯体と、（ｉ）ピリチオン錯化剤と（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる群から選択される少なくとも１種からなる組み合わせと、
からなる群から選択される製剤を有する致死下量のバイオフィルム防止剤を細菌に接触させる工程を有することを特徴とする細菌を根絶することなく細菌のバイオフィルムへの転換を抑制する方法。
【請求項３１】  前記バイオフィルムが細菌を含む、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】  前記細菌のバイオフィルムへの転換の抑制を所望する領域に、抗真菌剤を加えることをさらに含む、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】 
（Ａ）（ｉ）ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる混合物と；
（Ｂ）その分子構造が（ｉ）ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物と、（ｉｉｉ）前記（Ｂ）（ｉ）のピリチオン錯化剤を前記（Ｂ）（ｉｉ）のビスマスに結合させる少なくとも１つの配位結合を含む錯体と；
（Ｃ）前記（Ｂ）の錯体と、（ｉ）ピリチオン錯化剤と（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる群から選択される少なくとも１種からなる組み合わせと、
からなる群から選択される抗微生物製剤を有する抗微生物剤をバイオフィルムに接触させる工程を有することを特徴とするバイオフィルムを減少させる方法。
【請求項３４】  前記バイオフィルムが細菌を含む、請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】 
（Ａ）（ｉ）ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる混合物と；
（Ｂ）その分子構造が（ｉ）ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物と、（ｉｉｉ）前記（Ｂ）（ｉ）のピリチオン錯化剤を前記（Ｂ）（ｉｉ）のビスマスに結合させる少なくとも１つの配位結合を含む錯体と；
（Ｃ）前記（Ｂ）の錯体と、（ｉ）ピリチオン錯化剤と（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる群から選択される少なくとも１種からなる組み合わせと、
からなる群から選択される抗微生物製剤を有する治療的に有効な量の抗微生物剤を鵞口瘡罹患の治療または抑制を必要とする患者の口に接触させる工程を有することを特徴とする鵞口瘡罹患を治療または抑制する方法。
【請求項３６】 
（Ａ）（ｉ）ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる混合物と；
（Ｂ）その分子構造が（ｉ）ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物と、（ｉｉｉ）前記（Ｂ）（ｉ）のピリチオン錯化剤を前記（Ｂ）（ｉｉ）のビスマスに結合させる少なくとも１つの配位結合を含む錯体と；
（Ｃ）前記（Ｂ）の錯体と、（ｉ）ピリチオン錯化剤と（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる群から選択される少なくとも１種からなる組み合わせと、
からなる群から選択される抗微生物製剤を有する治療的に有効な量の抗微生物剤を乾癬罹患の治療または抑制を必要とする患者に投与する工程を有することを特徴とする乾癬罹患を治療または抑制する方法。
【請求項３７】
（Ａ）（ｉ）ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる混合物と；
（Ｂ）その分子構造が（ｉ）ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物と、（ｉｉｉ）前記（Ｂ）（ｉ）のピリチオン錯化剤を前記（Ｂ）（ｉｉ）のビスマスに結合させる少なくとも１つの配位結合を含む錯体と；
（Ｃ）前記（Ｂ）の錯体と、（ｉ）ピリチオン錯化剤と（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる群から選択される少なくとも１種からなる組み合わせと、
からなる群から選択される抗微生物製剤を有する治療的に有効な量の抗微生物剤を真菌感染罹患の治療または抑制を必要とする患者に投与する工程を有することを特徴とする真菌感染罹患を治療または抑制する方法。
【請求項３８】
（Ａ）（ｉ）ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる混合物と；
（Ｂ）その分子構造が（ｉ）ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物と、（ｉｉｉ）前記（Ｂ）（ｉ）のピリチオン錯化剤を前記（Ｂ）（ｉｉ）のビスマスに結合させる少なくとも１つの配位結合を含む錯体と；
（Ｃ）前記（Ｂ）の錯体と、（ｉ）ピリチオン錯化剤と（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる群から選択される少なくとも１種からなる組み合わせと、
からなる群から選択される抗微生物製剤を有する治療的に有効な量の抗微生物剤を酵母菌感染罹患の治療または抑制を必要とする患者に投与する工程を有することを特徴とする酵母菌感染罹患を治療または抑制する方法。
【請求項３９】
（Ａ）（ｉ）ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる混合物と；
（Ｂ）その分子構造が（ｉ）ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物と、（ｉｉｉ）前記（Ｂ）（ｉ）のピリチオン錯化剤を前記（Ｂ）（ｉｉ）のビスマスに結合させる少なくとも１つの配位結合を含む錯体と；
（Ｃ）前記（Ｂ）の錯体と、（ｉ）ピリチオン錯化剤と（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる群から選択される少なくとも１種からなる組み合わせと、
からなる群から選択される抗微生物製剤を有する治療的に有効な量の抗微生物剤をカンジダ感染罹患の治療または抑制を必要とする患者に投与する工程を有することを特徴とするカンジダ感染罹患を治療または抑制する方法。
【請求項４０】
（Ａ）（ｉ）ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる混合物と；
（Ｂ）その分子構造が（ｉ）ピリチオン錯化剤と、（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物と、（ｉｉｉ）前記（Ｂ）（ｉ）のピリチオン錯化剤を前記（Ｂ）（ｉｉ）のビスマスに結合させる少なくとも１つの配位結合を含む錯体と；
（Ｃ）前記（Ｂ）の錯体と、（ｉ）ピリチオン錯化剤と（ｉｉ）ビスマスまたはビスマス含有化合物からなる群から選択される少なくとも１種からなる組み合わせと、
からなる群から選択される抗微生物製剤を有する治療的に有効な量の抗微生物剤をクリプトコックス感染罹患の治療または抑制を必要とする患者に投与する工程を有することを特徴とするクリプトコックス感染罹患を治療または抑制する方法。