【手続補正書】
【提出日】平成17年12月13日(2005.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  多数のアームを有する研磨ツールを制御する方法であって、
第１のウェハ１処理分に基づき各アームごとの第１の除去率を決定するステップと、
アームに対するプロセスモデルに基づき各アームごとの下向き力調整入力を決定するステップとを含み、プロセスモデルは、第１の除去率の各々を用いて所与のアームに対する除去率と、各アーム上の下向き力調整とを関連付け、さらに
各アームごとの下向き力調整入力を研磨ツールに与え後の１処理分を研磨するステップを含む、方法。
【請求項２】  下向き力調整入力を決定するステップは、プロセスモデルと後の１処理分に対する予測除去率とに基づく最適化方程式を最小化するステップとを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  最適化方程式を最小化するステップは、後の１処理分に対する予測除去率のばらつきを最小化するステップを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】  予測除去率のばらつきは、１つまたは２つ以上の制約を条件として最小化される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】  制約の１つは、各アームごとに、下界と上界の間の下向き力調整を束縛する、請求項４に記載の方法。
【請求項６】  制約の１つは、すべてのアームに対する下向き力調整の和が０であることを要求する、請求項４に記載の方法。
【請求項７】  各１処理分はウェハの１つまたは２つ以上のバッチを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】  各アームごとの第１の除去率を決定するステップは、ウェハの多数のバッチにわたって各アームごとの個々の除去率を平均するステップを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】  各アームごとの第１の除去率を決定するステップはさらに、
１処理分の各ウェハの層に関連のトポロジー因子を提供するステップと、
第１の除去率を決定するために各トポロジー因子を用いるステップとを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  プロセスモデルは
Ｒk+1＝Ｒk＋ＫΔＦkであり、
式中、Ｒk+1はｋ＋１の処理分に対する予測除去率を表わすベクトルであり、Ｒkはｋの
処理分での除去率を表わすベクトルであり、ΔＦkはｋの処理分に対する下向き力調整を表わすベクトルであり、Ｋはアームの除去率とアームの下向き力調整とを関連付ける係数の行列である、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】  多数のアームを有する研磨ツールを制御するためのコントローラであって、
第１のウェハ１処理分に基づき各アームごとの第１の除去率を決定するための手段と、
アームに対するプロセスモデルに基づき各アームごとに下向き力調整入力を決定する手段とを含み、プロセスモデルは、第１の除去率の各々を用いる所与のアームに対する除去率と、各アーム上の下向き力調整とを関連付け、さらに
各アームごとの下向き力調整入力を研磨ツールに与え、後の１処理分を研磨する手段を含む、コントローラ。
【請求項１２】  下向き力調整入力を決定する手段は、プロセスモデルと後の１処理分に対する予測除去率とに基づく最適化方程式を最小化する手段を含む、請求項１１に記載のコントローラ。
【請求項１３】  最適化方程式を最小化する手段は、後の１処理分に対する予測除去率のばらつきを最小化する手段を含む、請求項１２に記載のコントローラ。
【請求項１４】  各アームごとの第１の除去率を決定する手段は、ウェハの多数のバッチにわたって各アームごとの個々の除去率を平均する手段を含む、請求項１１に記載のコントローラ。
【請求項１５】  各アームごとの第１の除去率を決定する手段は、１処理分の各ウェハの層に関連のトポロジー因子を用いて、第１の除去率を決定する手段をさらに含む、請求項１１に記載のコントローラ。
【請求項１６】  プロセスモデルは
Ｒk+1＝Ｒk＋ＫΔＦkであり、
式中、Ｒk+1はｋ＋１の処理分に対する予測除去率を表わすベクトルであり、Ｒkはｋの処理分での除去率を表わすベクトルであり、ΔＦkはｋの処理分に対する下向き力調整を表わすベクトルであり、Ｋはアームの除去率とアームの下向き力調整とを関連付ける係数の行列である、請求項１１に記載のコントローラ。
【請求項１７】  多数のアームを有する研磨ツールを制御するためのコントローラであって、
アームに対するプロセスモデルに基づき各アームごとに下向き力調整入力を決定するオプティマイザを含み、プロセスモデルは、アームに対する除去率の各々を用いて所与のアームごとの除去率と各アーム上の下向き力調整とを関連付け、さらに
各アームごとの下向き力調整入力を研磨ツールに与え、ウェハの１処理分を研磨するインターフェイスを含む、コントローラ。
【請求項１８】  オプティマイザは、プロセスモデルと後の１処理分に対する予測除去率とに基づく最適化方程式を最小化することにより下向き力調整入力を決定する、請求項１７に記載のコントローラ。
【請求項１９】  オプティマイザは、後の１処理分に対する予測除去率のばらつきを最小化することにより最適化方程式を最小化する、請求項１８に記載のコントローラ。
【請求項２０】  オプティマイザは、ウェハの多数のバッチにわたって各アームごとの個々の除去率を平均することにより各アームごとの第１の除去率を決定する、請求項１７に記載のコントローラ。
【請求項２１】  オプティマイザは、１処理分の各ウェハの層に関連のトポロジー因子を用いて各アームごとの第１の除去率を決定する、請求項１７に記載のコントローラ。
【請求項２２】  プロセスモデルは
Ｒk+1＝Ｒk＋ＫΔＦkであり、
式中、Ｒk+1はｋ＋１の処理分に対する予測除去率を表わすベクトルであり、Ｒkはｋの処理分での除去率を表わすベクトルであり、ΔＦkはｋの処理分に対する下向き力調整を表わすベクトルであり、Ｋはアームの除去率とアームの下向き力調整とを関連付ける係数
の行列である、請求項１７に記載のコントローラ。
【請求項２３】  研磨システムであって、
多数のアームを有する研磨ツールと、
研磨ツールに接続され、ウェハ上の層の研磨前および研磨後の厚みを測定するための１つまたは２つ以上の計測ツールと、
研磨ツールおよび１つまたは２つ以上の計測ツールに結合されるコントローラとをさらに含み、コントローラは、
第１のウェハ１処理分のウェハの測定された研磨前の厚みおよび研磨後の厚みを受取り、測定された研磨前および研磨後の厚みを用いて各アームごとの除去率を決定し、さらに
アームに対するプロセスモデルに基づき各アームごとの下向き力調整入力を決定し、プロセスモデルは、第１の除去率の各々を用いて所与のアームに対する除去率と各アーム上の下向き力調整とを関連付け、
研磨ツールに各アームごとの下向き力調整を与え、後の１処理分を研磨するために構成される、研磨システム。
【請求項２４】  コントローラは、プロセスモデルと後の１処理分に対する予測除去率とに基づく最適化方程式を最小化することにより下向き力調整入力を決定する、請求項２３に記載の研磨システム。
【請求項２５】  コントローラは、後の１処理分に対する予測除去率のばらつきを最小化することにより最適化方程式を最小化する、請求項２３に記載の研磨システム。
【請求項２６】  コントローラは、ウェハの多数のバッチにわたって各アームごとの個々の除去率を平均することにより、各アームごとの第１の除去率を決定する、請求項２３に記載の研磨システム。
【請求項２７】  コントローラは、１つの１処理分の各ウェハの層に関連するトポロジー因子をさらに用いて、各アームごとの第１の除去率を決定する、請求項２３に記載の研磨システム。
【請求項２８】  プロセスモデルは
Ｒk+1＝Ｒk＋ＫΔＦkであり、
式中、Ｒk+1はｋ＋１の処理分に対する予測除去率を表わすベクトルであり、Ｒkはｋの処理分での除去率を表わすベクトルであり、ΔＦkはｋの処理分に対する下向き力調整を表わすベクトルであり、Ｋはアームの除去率とアームの下向き力調整とを関連付ける係数の行列である、請求項２３に記載の研磨システム。