【手続補正書】
【提出日】平成17年9月5日(2005.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理溶液を収容するように構成された電気反応セルと、前記電気反応セル内の仮想電極ユニットとを含み、前記仮想電極ユニットが仮想電極を形成する開口を有している反応槽と、
前記仮想電極ユニットと流体連通するよう前記電気反応セルに関連して配置され、第１の電極区画、第２の電極区画、及びインターフェース要素を含んでいる電極組立体と、
前記第１の電極区画内の第１の電極及び前記第２の電極区画内の第２の電極を含む、前記電極組立体内の複数の電極と、
を備える超小型電子ワークピースの電気化学処理のための処理チャンバであって、前記インターフェース要素は、前記電極と前記仮想電極ユニットとの間に存在することを特徴とする処理チャンバ。
【請求項２】
前記インターフェース要素は、複数のバスケットを備え、前記第１の電極及び前記第２の電極は、各々、前記バスケットのうち対応する１つの内部に収容された複数のペレットを備えることを特徴とする請求項１に記載の処理チャンバ。
【請求項３】
前記インターフェース要素は、各々がキャビティを有する複数のフィルタを備え、前記第１の電極及び前記第２の電極は、各々、前記キャビティのうち対応する１つの内部に固体棒及び／又は複数のペレットを備えることを特徴とする請求項１に記載の処理チャンバ。
【請求項４】
前記電極組立体は、前記電気反応セル内にあることを特徴とする請求項１に記載の処理チャンバ。
【請求項５】
前記第１の電極区画は、前記電気反応セルの外側に、第１の遠隔電極区画を備え、前記第２の電極区画は、前記電気反応セルの外側に、第２の遠隔電極区画を備え、
前記処理チャンバは、前記第１の遠隔電極区画と前記電気反応セルとの間に流体通路を更に備えることを特徴とする請求項１に記載の処理チャンバ。
【請求項６】
前記電気反応セル及び前記電極組立体が配置されているタンクと、
前記タンク内の前記電気反応セルから離れており、前記第１の電極区画を規定しており、その中に前記インターフェース要素及び前記第１の電極が配置されている、第１の遠隔電極区画と、
前記第１の遠隔電極区画と前記電気反応セルとの間の流体通路と、
を更に備えることを特徴とする請求項１に記載の処理チャンバ。
【請求項７】
前記電気反応セル及び前記電極組立体が配置されており、前記電極組立体が前記電気反応セルから離れている遠隔電極組立体になっているタンクと、
前記遠隔電極組立体と前記電気反応セルとの間の流体通路と、
を更に備えることを特徴とする請求項１に記載の処理チャンバ。
【請求項８】
前記第１の電極区画は第１の遠隔電極区画を備え、前記第２の電極区画は第２の遠隔電極区画を備え、
前記電気反応セルは、第１の仮想電極と第２の仮想電極とを含む複数の仮想電極を更に備え、
前記処理チャンバは、前記第１の遠隔電極区画と前記第１の仮想電極との間の第１の流体流路と、前記第２の遠隔電極区画と前記第２の仮想電極との間の第２の流体流路とを有する流れ制御システムを更に備え、
前記第１の電極は前記第１の遠隔電極区画内に存在し、前記第２の電極は前記第２の遠隔電極区画内に存在することを特徴とする請求項１に記載の処理チャンバ。
【請求項９】
前記電極組立体は、前記インターフェース要素及び前記電極が配置され、電気反応セルから離れた遠隔電極区画を備えることを特徴とする請求項１に記載の処理チャンバ。
【請求項１０】
前記第１の電極区画は、前記インターフェースが配置され、前記電気反応セルから離れた第１の遠隔電極区画を備え、前記第１の電極は、前記第１の電極区画内にバルク状電極を備えることを特徴とする請求項１に記載の処理チャンバ。
【請求項１１】
前記第１の電極区画は、前記インターフェース要素が配置され、前記電気反応セルから離れた第１の遠隔電極区画を備え、前記第１の電極は、前記インターフェース要素内に配置され、前記第１の遠隔電極区画は、前記インターフェース要素から間隔をあけて配置された外壁を備え、前記インターフェース要素の外側の前記第１の遠隔電極区画を通る処理溶液の主たる流れを通過させるために、前記インターフェース要素と前記外壁との間に主たる流路を形成することを特徴とする請求項１に記載の処理チャンバ。
【請求項１２】
超小型電子ワークピースの電気化学処理のための処理チャンバであって、
ワークピースの少なくとも一部を処理溶液中に浸すために、処理位置で処理溶液を収容するように構成されている電気反応セルと、前記電気反応セル内の仮想電極とを含み、前記仮想電極ユニットが仮想電極を形成する前記処理位置と向かい合う開口を有するようになっている反応槽と、
前記電気反応セル外側の遠隔電極区画と、前記電極区画内のインターフェース部材とを有する電極組立体と、
前記電極区画と前記電気反応セルとの間の流体流路と、
前記電極区画内の電極と、
を備えることを特徴とする処理チャンバ。
【請求項１３】
前記反応槽は、前記電気反応セル及び前記遠隔電極区画が配置されるタンクを備えることを特徴とする請求項１２に記載の処理チャンバ。
【請求項１４】
前記電極組立体は、第１の遠隔電極区画と第２の遠隔電極区画とを含み、前記電気反応セルから離れた複数の遠隔電極区画を更に備え、
前記電気反応セルは、第１の仮想電極と第２の仮想電極とを含む複数の仮想電極を更に備え、
前記処理チャンバは、前記第１の遠隔電極区画と前記第１の仮想電極との間の第１の流体流路と、前記第２の遠隔電極区画と前記第２の仮想電極との間の第２の流体流路とを有する流れ制御システムを更に備え、
前記電極は、前記第１の遠隔電極区画内に第１の電極を備え、前記処理チャンバは、前記第２の遠隔電極区画内に第２の電極を更に備えることを特徴とする請求項１２に記載の処理チャンバ。
【請求項１５】
前記電極組立体は、前記インターフェース要素内に前記電極が配置されたバスケットを更に備え、前記電極は、前記バスケット内にバルク状電極を備えることを特徴とする請求項１２に記載の処理チャンバ。
【請求項１６】
前記遠隔電極区画は、前記インターフェース要素から間隔をあけて配置された外壁を備え、前記インターフェース要素の外側の電極区画を通る処理溶液の主たる流れを通過させるために、前記インターフェース要素と前記外壁との間に主たる流路を形成することを特徴とする請求項１２に記載の処理チャンバ。
【請求項１７】
超小型電子ワークピースの電気化学処理のための処理チャンバであって、
ワークピースの少なくとも一部を処理溶液中に浸すために、処理位置で処理溶液を収容するように構成されている電気反応セルと、前記電気反応セル内の仮想電極とを含み、前記仮想電極ユニットが仮想電極を形成する前記処理位置と向かい合う開口を有するようになっている反応槽と、
前記仮想電極ユニットと流体連通するよう前記電気反応セルに関連して配置され、前記電極区画内にインターフェース要素を更に含む電極組立体と、
複数のペレットを備える前記電極区画内の電極と、
を備えることを特徴とする処理チャンバ。
【請求項１８】
前記電気反応セル及び前記電極組立体が配置されたタンクと、
前記タンク内の前記電気反応セルから離れた遠隔電極区画であって、前記遠隔電極区画が前記電極組立体の前記電極区画を形成し、前記インターフェース要素が前記遠隔電極区画内に配置されている遠隔電極区画と、
前記遠隔電極区画と前記電気反応セルとの間の流体通路と、
を更に備えることを特徴とする請求項１７に記載の処理チャンバ。
【請求項１９】
前記電気反応セル及び前記電極区画が配置され、前記電極区画が前記電気反応セルから離れた遠隔電極区画になっているタンクと、
前記遠隔電極区画と前記電気反応セルとの間の流体通路と、
を更に備えることを特徴とする請求項１７に記載の処理チャンバ。
【請求項２０】
前記電極組立体は、第１の遠隔電極区画及び第２の遠隔電極区画を含み、前記電気反応セルから離れた複数の遠隔の電極区画を更に備え、
前記電気反応セルは、第１の仮想電極及び第２の仮想電極を含む複数の仮想電極を更に備え、
前記処理チャンバは、前記第１の遠隔電極区画と前記第１の仮想電極との間の第１の流体流路と、前記第２の遠隔電極区画と前記第２の仮想電極との間の第２の流体流路とを有する流れ制御システムを更に備え、
前記電極は、前記第１の遠隔電極区画内に第１の電極を備え、前記処理チャンバは、前記第２の遠隔電極区画内に第２の電極を更に備えることを特徴とする請求項１７に記載の処理チャンバ。
【請求項２１】
前記電極区画は、前記インターフェース要素及び前記電極が配置され、前記電気反応セルから離れた遠隔電極区画を備えることを特徴とする請求項１７に記載の処理チャンバ。
【請求項２２】
前記電極区画は、前記インターフェース要素が配置され、前記電気反応セルから離れた遠隔電極区画を備え、前記電極組立体は、前記インターフェース要素内に前記電極が配置されているバスケットを更に備え、前記電極は、前記バスケット内のバルク状電極を備えることを特徴とする請求項１７に記載の処理チャンバ。
【請求項２３】
前記電極区画は、前記インターフェース要素が配置され、前記インターフェース要素内に前記電極が配置されている、前記電気反応セルから離れた遠隔電極区画を備え、
前記遠隔電極区画は、前記インターフェース要素から間隔をあけて配置された外壁を備え、前記インターフェース要素の外側の電極区画を通る処理溶液の主たる流れを通過させるために、前記インターフェース要素と前記外壁との間に主たる流路を形成することを特徴とする請求項１７に記載の処理チャンバ。
【請求項２４】
超小型電子ワークピースを処理するための一体型ツールであって、
キャビネットと、
前記キャビネット内の反応器であって、前記反応器がワークピースを保持するように構成された処理ヘッドと処理チャンバとを有し、前記処理チャンバが、処理溶液を収容するように構成された電気反応セルと前記電気反応セル内の仮想電極ユニットを含む仮想電極ユニットとを含む反応槽と、前インターフェース要素を含み記仮想電極と流体連通するように前記電気反応セルに関連して配置された電極組立体と、前記電極組立体内の電極とを備えるようになった反応器と、
前記ワークピースを洗浄するように構成されている、前記キャビネット内のクリーニングステーションと、
前記反応器と前記クリーニングステーションとの間で前記ワークピースを搬送するためのロボットユニットを有する、前記キャビネット内に搬送装置と、
を備えることを特徴とするツール。
【請求項２５】
前記電極組立体は、前記電気反応セル内にあることを特徴とする請求項２４に記載のツール。
【請求項２６】
前記電気反応セル及び前記電極組立体が配置されたタンクと、
前記電気反応セルから離れ、前記電極組立体の構成部品であり、その中に前記インターフェース要素及び前記電極が配置されている、前記タンク内の遠隔電極区画と、
前記遠隔電極区画と前記電気反応セルとの間の流体通路と、
を更に備えることを特徴とする請求項２４に記載のツール。
【請求項２７】
前記電極組立体は、前記電気反応セルから離れており、第１の遠隔電極区画及び第２の遠隔電極区画を含む複数の遠隔電極区画を更に備え、
前記電気反応セルは、第１の仮想電極及び第２の仮想電極を含む複数の仮想電極を更に備え、
前記処理チャンバは、前記第１の遠隔電極区画と前記第１の仮想電極との間の第１の流体流路と、前記第２の遠隔電極区画と前記第２の仮想電極との間の第２の流体流路とを有する流れ制御システムを更に備え、
前記電極は、前記第１の遠隔電極区画内に第１の電極を備え、前記処理チャンバは、前記第２の遠隔電極区画内に第２の電極を更に備えることを特徴とする請求項２４に記載のツール。
【請求項２８】
前記電極組立体は、前記電気反応セルから離れており、前記インターフェース要素及び前記インターフェース要素内の前記電極が配置された遠隔電極区画を備え、前記遠隔電極区画は、前記インターフェース要素から間隔をあけて配置された外壁を備え、前記インターフェース要素の外側の電極区画を通る処理溶液の主たる流れを通過させるために、前記インターフェース要素と前記外壁との間に主たる流路を形成することを特徴とする請求項２４に記載のツール。
【請求項２９】
超小型電子ワークピースを処理するための反応器であって、
ワークピースを保持するように構成された処理ヘッドと、
処理チャンバと、
を備え、
前記処理チャンバは、処理溶液を収容するように構成された電気反応セルと前記電気反応セル内の仮想電極ユニットを含む仮想電極ユニットとを含む反応槽と、前記仮想電極と流体連通するように前記電気反応セルに関連して配置されたインターフェース要素を含む電極組立体と、前記電極組立体内の電極とを備えることを特徴とする反応器。
【請求項３０】
前記電極組立体は、前記電気反応セル内にあることを特徴とする請求項２９に記載の反応器。
【請求項３１】
前記電気反応セル及び前記電極組立体が配置されたタンクと、
前記電気反応セルから離れ、前記電極組立体の構成部品であり、その中に前記インターフェース要素及び前記電極が配置されている、前記タンク内の遠隔電極区画と、
前記遠隔電極区画と前記電気反応セルとの間の流体通路と、
を更に備えたことを特徴とする請求項２９に記載の反応器。
【請求項３２】
前記電極組立体は、第１の遠隔電極区画及び第２の遠隔電極区画を含み、前記電気反応セルから離れた複数の遠隔の電極区画を更に備え、
前記電気反応セルは、第１の仮想電極及び第２の仮想電極を含む複数の仮想電極を更に備え、
前記処理チャンバは、前記第１の遠隔電極区画と前記第１の仮想電極との間の第１の流体流路と、前記第２の遠隔電極区画と前記第２の仮想電極との間の第２の流体流路とを有する流れ制御システムを更に備え、
前記電極は、前記第１の遠隔電極区画内に第１の電極を備え、前記処理チャンバは、前記第２の遠隔電極区画内に第２の電極を更に備えることを特徴とする請求項２９に記載の反応器。
【請求項３３】
前記電極組立体は、前記電気反応セルから離れており、前記インターフェース要素及び前記インターフェース要素内の前記電極が配置された遠隔電極区画を備え、前記遠隔電極区画は、前記インターフェース要素から間隔をあけて配置された外壁を備え、前記インターフェース要素の外側の電極区画を通る処理溶液の主たる流れを通過させるために、前記インターフェース要素と前記外壁との間に主たる流路を形成することを特徴とする請求項２９に記載の反応器。
【請求項３４】
電気反応セル内の仮想電極ユニットの仮想電極に向かい合って配置されているワークピースの表面を処理チャンバの前記電気反応セル内の処理溶液と接触させる段階と、
前記ワークピースに電圧を印加する段階と、
電子が遠隔電極区画内の電極から前記処理溶液を通って前記電気反応セル内の前記仮想電極へ移動するように、前記電気反応セルの外側の前記遠隔電極区画内の電極を使用して、前記処理溶液に電位を印可する段階と、
を含むことを特徴とする超小型電子ワークピースを処理するための方法。
【請求項３５】
前記電極は、インターフェース要素内に収納され、前記インターフェース要素は、前記遠隔電極区画の壁内に収納され、前記電子は、前記電極から前記インターフェース要素を通って前記処理溶液まで移動することを特徴とする請求項３４に記載の方法。
【請求項３６】
主たる流れが前記電極を横切って流れないように、前記処理溶液の主たる流れを、前記電極区画の前記壁と前記インターフェース要素との間を、前記遠隔電極区画から前記仮想電極ユニットまで移動させる段階を更に含むことを特徴とする請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】
主たる流れを、前記電極を横切って、前記インターフェース要素を通って、前記仮想電極ユニットの前記仮想電極まで移動させることによって、前記処理溶液の主たる流れを、前記遠隔電極区画から前記仮想電極まで移動させる段階を更に含むことを特徴とする請求項３５に記載の方法。
【請求項３８】
前記電気反応セルにアクセスすることなく、前記電極区画を開放することによって前記電極を交換する段階を更に含むことを特徴とする請求項３４に記載の方法。
【請求項３９】
前記仮想電極ユニットを前記電気反応セルから取り除くことなく、前記電極区画を開放することによって前記電極を交換する段階を更に含むことを特徴とする請求項３４に記載の方法。