(57)【要約】【課題】ディスコティック液晶以外の手段を用いて、少ない層構成にて位相差フィルムの視野角特性を充分に確保し、さらに簡易な工程により作製して充分な信頼性を確保できるようにする。【解決手段】基材上にコレステリック液晶層が形成されており、コレステリック液晶層を構成するコレステリック液晶の螺旋軸が前記基材の平面内の一方向と略平行であり、前記コレステリック液晶層の螺旋ピッチＰが５０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下である光学フィルムである。コレステリック液晶層は選択反射波長の中心波長が２００ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることが好ましい。基材は表面に垂直配向膜が形成されており、垂直配向膜の表面には平面内の一方向に向かう配向処理が施されていることが好ましい。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上にコレステリック液晶層が形成されており、
前記コレステリック液晶層を構成するコレステリック液晶の螺旋軸が前記基材の平面内の一方向と略平行であり、
前記コレステリック液晶の螺旋ピッチＰが５０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下である光学フィルム。
【請求項２】
前記コレステリック液晶は、
前記螺旋軸方向の入射光に対する選択反射波長が中心波長１００ｎｍ以上４００ｎｍ以下である請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記基材は、表面に垂直配向膜が形成されており、
前記垂直配向膜の表面には前記平面内の一方向に向かう配向処理が施されている、請求項１又は請求項２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記コレステリック液晶層は、
波長５５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅと波長５５０ｎｍにおける厚み位相差Ｒｔｈとを用いてＮＺ＝Ｒｔｈ／Ｒｅ＋０．５で表されるＮＺ係数ＮＺが、−０．３以上＋０．３以下である、請求項１から３のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載の光学フィルムと、
前記光学フィルムの螺旋軸方向とは異なる方向が遅相軸方向である第２の光学フィルムと、
直線偏光板と、が少なくともこの順に積層されており、
前記光学フィルムの波長５５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅが１００ｎｍ以上１７５ｎｍ以下であり、
前記第２の光学フィルムの波長５５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅが２００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下である積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム及びそれを用いた積層体に関し、さらに詳しくは、コレステリック液晶を用いた広帯域の位相差フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、広帯域対応の位相差フィルムとして、直線偏光板と、１／２波長位相差板と、１／４波長位相差板と、ポジティブＣ（＋Ｃ）プレートを積層した構成が知られている。しかしながら、この構成では、１／２波長位相差板と１／４波長位相差板と＋Ｃプレートという、最低３種類の位相差フィルムを積層する必要があるため、層構成をより簡略化した構成が検討されている。
【０００３】
例えば、下記の特許文献１には、１／４波長板にディスコティック液晶を用いることで、同時に広帯域化する構成が開示されており、これによれば、直線偏光板と、１／２波長位相差板と、ディスコティック液晶層という、２種類の位相差フィルムを使用して視野角特性を向上することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００―２８４１２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、ディスコティック液晶は、使用可能な液晶材料に制限があり汎用的でなく、また、配向制御なども困難である。また製造工程数が多くなり、その結果、欠陥が発生して信頼性を充分に確保することが困難になる。これらにより他の代替手段が必要とされている。
【０００６】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、ディスコティック液晶以外の手段を用いて、少ない層構成にて位相差フィルムの視野角特性を充分に確保し、さらに簡易な工程により作製して充分な信頼性を確保できるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、コレステリック液晶による反射層の配向を工夫することで、上記の課題が解決可能となることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。
【０００９】
（１）  基材上にコレステリック液晶層が形成されており、
前記コレステリック液晶層を構成するコレステリック液晶の螺旋軸が前記基材の平面内の一方向と略平行であり、
前記コレステリック液晶の螺旋ピッチＰが５０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下である光学フィルム。
【００１０】
（２）  前記コレステリック液晶は、
前記螺旋軸方向の入射光に対する選択反射波長が中心波長１００ｎｍ以上４００ｎｍ以下である請求項１に記載の光学フィルム。
【００１１】
（３）  前記基材は、表面に垂直配向膜が形成されており、
前記垂直配向膜の表面には前記平面内の一方向に向かう配向処理が施されている、（１）又は（２）に記載の光学フィルム。
【００１２】
（４）  前記コレステリック液晶層は、
波長５５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅと波長５５０ｎｍにおける厚み位相差Ｒｔｈとを用いてＮＺ＝Ｒｔｈ／Ｒｅ＋０．５で表されるＮＺ係数ＮＺが、−０．３以上＋０．３以下である、（１）から（３）のいずれかに記載の光学フィルム。
【００１３】
（５）  （１）から（４）のいずれかに記載の光学フィルムと、
前記光学フィルムの螺旋軸方向とは異なる方向が遅相軸方向である第２の光学フィルムと、
直線偏光板と、が少なくともこの順に積層されており、
前記光学フィルムの波長５５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅが１００ｎｍ以上１７５ｎｍ以下であり、
前記第２の光学フィルムの波長５５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅが２００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下である積層体。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、ディスコティック液晶以外の手段を用いて、少ない層構成にて位相差フィルムの視野角特性を充分に確保することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の光学フィルムを用いた画像表示装置の一実施形態を示す断面図である。
【図２】直線偏光板と、１／２波長位相差層（第２の光学フィルム）と、１／４波長位相差層（本発明の光学フィルム）との積層状態を示す概念図である。
【図３】１／２波長位相差層（第２の光学フィルム）と、１／４波長位相差層（本発明の光学フィルム）との積層状態を示す概念図である。
【図４】（Ａ）は１／２波長位相差層（第２の光学フィルム）を転写するための転写フィルムの断面図であり、（Ｂ）は１／４波長位相差層（本発明の光学フィルム）を転写するための転写フィルムの断面図である。
【図５】本発明の積層体の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【図６】本発明の光学フィルムの製造工程の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
〔第１実施形態〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る画像表示装置を示す断面図である。この画像表示装置１は、画像表示パネル２のパネル面（視聴者側面）に、感圧接着剤等による粘着層４により反射防止フィルム３が貼り付けられて保持される。ここで画像表示パネル２は、自発光素子による画像表示パネルであるものの、液晶表示パネル等、種々の構成を広く適用することができる。
【００１７】
〔反射防止フィルム３〕
反射防止フィルム３は、円偏光板の機能により外光の反射防止を図る反射防止フィルムであり、図示しないセパレータフィルムを剥離して感圧接着剤による粘着層４を露出させた後、この粘着層４により画像表示パネル２のパネル面に貼り付けられて保持される。なお感圧接着剤による粘着層４に代えて例えば紫外線硬化性樹脂等の各種の接着剤、粘着剤により反射防止フィルム３を配置してもよい。
【００１８】
反射防止フィルム３は、画像の視認側（図１の上方から）、直線偏光板５と、１／４波長板６と、が積層されて形成される。直線偏光板５は、透過軸方向と直交する方向の直線偏光成分を吸収するいわゆるシート・ポラライザー型の偏光子であり、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）にヨウ素等を含浸させた後、延伸して作製される直線偏光板としての光学的機能を担う光学的機能層が作製され、この光学機能層をＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルム材による基材により挟持して形成される。
【００１９】
１／４波長板６は、透過光に１／４波長の位相差を付与する層であり、直線偏光板５及び１／４波長板６を通過した外光は円偏光となる。この円偏光の外光は、画像表示パネル２で反射されて偏光面の回転方向が逆転し、その結果、１／４波長板６を透過して直線偏光板５で遮光される。これにより反射防止フィルム３は、円偏光板として機能して反射防止を図る。
【００２０】
１／４波長板６は、透過光に１／２波長の位相差を付与する１／２波長位相差層７と、透過光に１／４波長の位相差を付与する１／４波長位相差層８とを積層して形成される。図２示すように、１／２波長位相差層７は、直線偏光板５の吸収軸方向（矢印により示す）に対して、遅相軸（矢印により示す）が反時計方向に１５度の角度を成すように、また１／４波長位相差層８は遅相軸（矢印により示す）が反時計方向に７３度の角度を成すように形成される。なお１／２波長位相差層７の遅相軸と直線偏光板５の吸収軸との成す角度は、１０度以上２５度以下の角度であることが望ましく、好ましくは１２度以上２３度以下、より好ましくは１４度以上２０度以下に設定することが望ましい。また同様に、直線偏光板５の吸収軸と１／４波長位相差層８の遅相軸との成す角度は、６０度以上９０度以下、好ましくは６５度以上８５度以下、より好ましくは７０度以上８０度以下に設定することが望ましい。
【００２１】
また、１／４波長位相差層８は、波長５５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅが１００ｎｍ以上１７５ｎｍ以下により、好ましくは１１０以上１６０ｎｍにより、よりこの好ましくは１２０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下により形成される。また１／２波長位相差層７は、波長５５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅが２００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下により、好ましくは２２０ｎｍ以上３００ｎｍ以下により、より好ましくは２４０ｎｍ以上２８０ｎｍ以下により形成される。
【００２２】
これらにより光学フィルム１３は、カラー画像の表示に供する広い波長帯域で十分に外来光の反射を抑圧する。
【００２３】
１／４波長位相差層８、１／２波長位相差層７は、それぞれ対応する配向層と共に支持体の上に作製されていわゆる転写フィルムによる光学フィルムが作製された後、順次、転写法により配向層と一体に、又は配向層と分離されて直線偏光板５に積層して配置される。なおこれに代えて、転写法により１／４波長位相差層８、１／２波長位相差層７の積層体を作製した後、直線偏光板５に積層するようにしてもよい。また支持体と一体に、直線偏光板５に積層するようにしてもよい。
【００２４】
なお転写法は、例えば基材の上に所望の層を形成する場合に、この層を直接当該基材上に形成するのでは無く、一旦、離型性の支持体上に剥離可能に該層を積層形成して転写体（転写フィルム）を作製した後、工程、需要等に応じて、該支持体上に形成した層を、最終的に該層を積層すべき基材（被転写基材）上に接着、積層し、その後、該支持体を剥離除去することにより、該基材上に所望の層を形成する方法である。
【００２５】
〔１／２波長位相差層７〕
ここで、本発明の第２の光学フィルムに相当する１／２波長位相差層７には、面内方向で各種の光学異方性を発現して透過光に１／２波長分の面内位相差を付与する各種構成を広く適用することができ、例えば液晶材料、光学異方性を備えた透明フィルム材を適用することができる。液晶材料としては、例えば図３に示すように、Ａプレートに適用可能な棒状液晶７Ａを適用することができる。
【００２６】
ここでＡプレートに適用可能な重合性棒状液晶材料は、水平方向（配向層の面内方向である）の配向規制力により水平配向する液晶材料であって、分子内に重合性官能基を有する種々の棒状液晶化合物を適用することができる。またこの棒状液晶化合物は、屈折率異方性を有し、配向層の配向規制力により規則的に配列することにより、所望の位相差性を付与する機能を有する。棒状化合物として、例えば、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を示す材料が挙げられるが、他の液晶相を示す液晶化合物と比較して規則的に配列させることが容易である点で、ネマチック相を示す棒状化合物を用いることがより好ましい。
【００２７】
本実施形態において用いられる棒状化合物の具体例としては、例えば、下記式（１）〜（１７）で表される化合物を例示でき、これらの化合物を単独で又は複数を混合し、重合させて使用することができる。
【００２８】
【化１】
2017219814.tif 000003
【化２】
2017219814.tif 000004
【００２９】
また１／２波長位相差層７に適用可能な透明フィルム材としては、ＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）フィルム等を適用することができる。
【００３０】
〔１／４波長位相差層８〕
ここで１／４波長位相差層８は、螺旋構造を備えた液晶化合物であるコレステリック液晶により形成され、このコレステリック液晶の螺旋構造に係る中心軸である螺旋軸が、１／４波長位相差層８の面内の遅相軸方向と垂直となるように形成される。なおこの螺旋軸に係るコレステリック液晶８Ａに係る構成を図３においては、模式的に示す。
【００３１】
またこの螺旋構造に係るピッチである螺旋ピッチＰが、可視光の波長に比して充分に短いピッチにより、より具体的には、５０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下により、好ましくは１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下により、より好ましくは１３０ｎｍ以上１７０ｎｍ以下により形成される。これによりこの実施形態において、１／４波長位相差層８は、ネガティブＡプレートとして機能し、反射防止フィルム３にあっては、Ｃプレートを設けない場合でも充分な視野角特性を確保できるように構成される。
【００３２】
すなわち螺旋構造に係るピッチを可視光の波長に比して充分に短いピッチによりコレステリック液晶層を作製するようにして、この螺旋軸を面内に平行に一定の方向に揃えるようにすると、あたかもディスコティック液晶を使用して中心軸を面内に平行に配置したと同様の光学特性を確保することができ、これによりネガティブＡプレートとして機能を発現させることができる。またこのとき螺旋構造に係るピッチを、可視光の波長に比して充分に短いピッチに設定すれば、１／４波長位相差層８における透過光の色味の変化も充分に防止することができる。これらにより反射防止フィルム３では、１／２波長位相差層７と１／４波長位相差層８とを積層して広帯域化して、充分な視野角特性を確保することができる。またこの場合、簡易な工程により作製することができ、その結果、欠陥の発生を充分に防止して信頼性を充分に確保することができる。なお、螺旋軸が基材の平面内の一方向と「略平行」とは、一方向からのズレの絶対値で３度以内であることを意味する。
【００３３】
ここで螺旋軸がコレステリック液晶層の厚み方向に保持されている場合、コレステリック液晶層に入射角０度で入射する入射光は、特定波長において１方の円偏光成分が選択的に反射される。この選択反射に供する中心波長λはｎ・ｐにより表される。なおｎは液晶（液晶固形成分）の平均屈折率である。これにより１／４波長位相差層８のように、１／４波長位相差層８の面内の遅相軸方向と螺旋軸とが直交するように設定されている場合、この遅相軸方向と平行な面により１／４波長位相差層８をスライスして試験片を作製し、この試験片を使用した試験により選択反射に供する中心波長（螺旋軸方向の入射光に対する選択反射波長の中心波長である）λを計測することにより、螺旋ピッチＰを求めることができる。
【００３４】
またこれにより１／４波長位相差層８は、このようにして計測される選択反射の中心波長λが、１００ｎｍ以上４００ｎｍ以下により、好ましくは１５０ｎｍ以上２３０ｎｍ以下により、より好ましくは１９０ｎｍ以上２３０ｎｍ以下により形成される。
【００３５】
また１／４波長位相差層８は、このように作製されることにより、波長５５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅと波長５５０ｎｍにおける厚み位相差Ｒｔｈとを用いてＮＺ＝Ｒｔｈ／Ｒｅ＋０．５で表されるＮＺ係数ＮＺが、ＮＺ≒０．０であるように、より具体的にはＮＺが−０．３以上＋０．３以下であるように作製される。これによりこの反射防止フィルム３では、１／４波長位相差層８に正Ｃプレートを積層したと同様の位相差を透過光に付与することができ、これにより充分な視野角特性を確保することができる。
【００３６】
１／４波長位相差層８の組成物は、ネマチック規則性を有するネマチック液晶と、このネマチック液晶に対して旋回性を有するカイラル剤とを含有する。またこの組成物は、レベリング剤、重合開始剤、添加剤等を含有してもよい。
【００３７】
（ネマチック液晶）
ネマチック液晶は、ネマチック液晶構造を形成し得る液晶材料であれば特に限定されるものではないが、硬化後に光学的に安定した液晶層を確保する点で、分子の片末端又は両末端に重合性の官能基を有する液晶材料が好ましい。両末端に重合性の官能基を有する液晶材料は加熱時の信頼性が良好になる点で優れているが、コーティングして溶媒を蒸発させて硬化（架橋）させる前の液晶相の温度範囲を広げられる点で、片末端に重合性の官能基を有する液晶材料と両末端に重合性の官能基を有する液晶材料の混合材料とすることが量産性を考慮すると好ましい。
【００３８】
このような液晶材料として、例えば、下記の一般式（１）で表わされる化合物のほか、下記の式（２−ｉ）〜（２−ｘｉｉ）で表される化合物を挙げることができる。また、これらの化合物を単独で、もしくは混合して用いることができる。
【化３】
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【化４】
2017219814.tif 000006
【００３９】
上記一般式（１）において、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ水素又はメチル基を示すが、液晶相を示す温度範囲の広さからＲ１及びＲ２はともに水素であることが好ましい。Ｘは水素、塩素、臭素、ヨウ素、炭素数１〜４のアルキル基、メトキシ基、シアノ基、ニトロ基のいずれであっても差し支えないが、塩素又はメチル基であることが好ましい。また、上記一般式（１）において、分子鎖両端の（メタ）アクリロイロキシ基と芳香環とのスペーサーであるアルキレン基の鎖長を示すａ及びｂは、それぞれ個別に２〜１２の範囲で任意の整数をとり得るが、４〜１０の範囲であることが好ましく、６〜９の範囲であることがさらに好ましい。ａ＝ｂ＝０である場合、安定性に乏しく、加水分解を受けやすい上に、化合物自体の結晶性が高いため、液晶相を示す温度範囲が狭い点で好ましくない。また、ａ又はｂのいずれかが１３以上である場合、アイソトロピック転移温度（ＴＩ）が低いため、液晶相を示す温度範囲が狭い点で好ましくない。
【００４０】
（カイラル剤）
カイラル剤は、光学活性な部位を有する低分子化合物であり、主として分子量１５００以下の化合物である。カイラル剤は主として、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料が発現する正の一軸ネマチック規則性に螺旋構造を誘起させる目的で用いられる。この目的が達成される限り、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料との間で溶液状態あるいは溶融状態において相溶し、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料の液晶性を損なうことなく、これに所望の螺旋構造を誘起できるものであれば、カイラル剤としての低分子化合物の種類は特に限定されない。
【００４１】
なお、このようにして液晶に螺旋構造を誘起させるために用いられるカイラル剤は、少なくとも分子中に何らかのキラリティーを有していることが必要である。従って、ここで用いられるカイラル剤としては、例えば１つあるいは２つ以上の不斉炭素を有する化合物、キラルなアミンやキラルなスルフォキシド等のようにヘテロ原子上に不斉点がある化合物、あるいはクムレンやビナフトール等の軸不斉を持つ光学活性な部位を有する化合物が挙げられる。
【００４２】
しかしながら、選択されたカイラル剤の性質によっては、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料が形成するネマチック規則性の破壊、配向性の低下、あるいはカイラル剤が非重合性の場合には、液晶材料の硬化性の低下や、硬化後のフィルムの信頼性の低下を招くおそれがある。さらに、光学活性な部位を有するカイラル剤の多量な使用は、液晶材料のコストアップを招く。従って、短い螺旋ピッチ長のコレステリック規則性を有する選択反射層を形成する場合には、液晶材料に含有させる光学活性な部位を有するカイラル剤としては、螺旋構造を誘起させる効果の大きなカイラル剤を選択することが好ましく、具体的には下記の一般式（３）、（４）、（５）、（６）、（７）又は（８）で表されるような、分子内に軸不斉を有する低分子化合物を用いることが好ましい。
【化５】
2017219814.tif 000007
【化６】
2017219814.tif 000008
【００４３】
上記一般式（３）又は（４）において、Ｒ４は水素又はメチル基を示す。Ｙは下記に示す式（ｉ）〜（ｘｘｉｖ）の任意の一つであるが、中でも、式（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）、（ｖ）及び（ｖｉｉ）のいずれか一つであることが好ましい。また、アルキレン基の鎖長を示すｃ及びｄは、それぞれ個別に２〜１２の範囲で任意の整数をとり得るが、４〜１０の範囲であることが好ましく、６〜９の範囲であることがさらに好ましい。ｃ又はｄの値が０又は１である場合、安定性に欠け、加水分解を受けやすく、結晶性も高いため、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料との間の相溶性が低下し、濃度によっては相分離する可能性がある点で、好ましくない。一方、ｃ又はｄの値が１３以上である場合、融点（Ｔｍ）が低いため、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料との間の相溶性が低下し、濃度によっては相分離する可能性がある点で、好ましくない。
【化７】
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【化８】
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【００４４】
このようなカイラル剤は、特に重合性を有する必要はない。しかしながら、カイラル剤が重合性を有している場合、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料と重合され、コレステリック規則性が安定的に固定化されるので、熱安定性等の点で好ましい。特に、分子の両末端に重合性の官能基があることが、耐熱性の良好な選択反射層を得る上で好ましい。
【００４５】
螺旋ピッチＰの調整は、ネマチック液晶に対するカイラル剤の量で調整することができる。例えば、ネマチック液晶としてＢＡＳＦ社製パリオカラーＬＣ２４２を用いることができ、これにカイラル剤として、例えばパリオカラーＬＣ７５６を、ネマチック液晶１００質量部に対して５質量部から１０質量部加え、これをメチルエチルケトンなどにより固形分１０％から４０％に溶解し、さらに各溶液に、イルガキュア９０７などの開始剤を２質量部から１０質量部加えて再度溶解させ、これを基材上に塗工後、例えば４０℃から１２０℃のオーブンにて乾燥し、その後にＵＶ硬化により製造することができる。このようにして、螺旋ピッチＰ＝５０ｎｍから２５０ｎｍのコレステリック液晶層を形成することができる。
【００４６】
（レベリング剤）
レベリング剤は、液晶材料のコレステリック構造の形成を促すために用いられる。レベリング剤は、拡散反射層において液晶材料のコレステリック配列を促進できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、シリコン系化合物、フッ素系化合物、アクリル系化合物等を挙げることができる。レベリング剤の市販品としては、ビックケミー・ジャパン社製のＢＹＫ−３６１Ｎ、ＡＧＣセイケミカル社製のＳ−２４１等を用いることができる。なお、レベリング剤は、１種類であってもよいし、２種類以上であってもよい。
【００４７】
レベリング剤の含有量は、液晶材料のコレステリック構造を所望の規則性で形成できる範囲内であれば特に限定されるものではないが、組成物１００質量部に対して０．０１質量部以上５．０質量部以下であることが好ましく、０．０３質量部以上１．０質量部以下であることがより好ましい。０．０１質量部未満であると、コレステリック構造を所望の規則性で得られないため、好ましくない。５．０質量部を超えると、コレステリック構造が所望の規則性で得られないために、好ましくない。
【００４８】
（重合開始剤）
重合開始剤は、カイラル剤及びレベリング剤の作用によりコレステリック構造を形成した液晶材料を、当該コレステリック構造を維持したまま架橋し、コレステリック構造が乱されにくくするために用いられる。重合開始剤は、液晶材料の重合反応を促進できるものであれば特に限定されるものではなく、照射するエネルギーの種類に応じて適宜選択すればよい。重合開始剤として、光重合開始剤及び熱重合開始剤等を挙げることができる。また重合開始剤を含有させる場合、重合開始剤の量は、所望の重合反応が生じる程度であれば特に限定されるものではなく、適宜決定すればよい。
【００４９】
（溶媒）
また、液晶材料、カイラル剤、レベリング剤、重合開始剤を分散させるため、通常、組成物は溶媒に分散されている。溶媒は、上記の成分を分散できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、シクロヘキサノン等を挙げることができるが、乾燥速度を向上させるためにトルエン、ＭＥＫ、ＭＩＢＫ等の溶媒を適宜混合させてもよい。
【００５０】
〔転写フィルム〕
図４（Ａ）及び（Ｂ）は、それぞれ１／２波長位相差層７、１／４波長位相差層８の転写に供する光学フィルムである転写フィルム１０、２０を示す断面図である。転写フィルム１０は、透明フィルム材による支持体である基材１１に、１／２波長位相差層７に係る配向層１２、１／２波長位相差層７が順次積層される。
【００５１】
基材１１は、例えばＰＥＴフィルム、ＴＡＣフィルム等による透明フィルム材が適用される。配向層１２は、Ａプレートに係る位相差層の作成に適用可能な各種の配向層２を広く適用することができる。具体的に、光配向層、ラビング処理による配向層、賦型処理により微細なライン状凹凸形状を作製して形成された配向層等を広く適用することができる。
【００５２】
転写フィルム２０は、透明フィルム材による支持体である基材２１に、１／４波長位相差層８に係る配向層２２、１／４波長位相差層８が順次積層される。
【００５３】
基材２１は、例えばＰＥＴフィルム、ＴＡＣフィルム等による透明フィルム材が適用される。配向層２２は、コレステリック液晶の螺旋構造を形成することができ、かつこの螺旋軸が基材の面内方向の一方向（遅相軸方法）略平行であるように配向規制力を発現可能な種々の構成を広く適用することができる。
【００５４】
より具体的にこの実施形態では、光配向層により垂直配向層を作製した後、この垂直配向層をラビング処理により配向処理して遅相軸方向に延長する微細なライン状凹凸形状を表面に形成して作製される。光配向層には、光配向の手法を適用可能な各種の材料を広く適用することができるものの、例えば光２量化型の材料を適用することができる。この光２量化型の材料については、「Ｍ．Ｓｃｈａｄｔ，  Ｋ．Ｓｃｈｍｉｔｔ，  Ｖ．  Ｋｏｚｉｎｋｏｖ  ａｎｄ  Ｖ．  Ｃｈｉｇｒｉｎｏｖ  ：  Ｊｐｎ．  Ｊ．  Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，  ３１，  ２１５５  （１９９２）」、「Ｍ．  Ｓｃｈａｄｔ，  Ｈ．  Ｓｅｉｂｅｒｌｅ  ａｎｄ  Ａ．  Ｓｃｈｕｓｔｅｒ  ：  Ｎａｔｕｒｅ，  ３８１，  ２１２（１９９６）」等に開示されている。ラビング処理は、水平配向規制力の設定に供するラビングクロスを使用して実行することができるものの、研磨処理により実行してもよい。
【００５５】
〔製造工程〕
図５は、反射防止フィルム３の製造工程を示すフローチャートである。反射防止フィルム３は、第１の転写フィルム製造工程ＳＰ２において、１／４波長位相差層８に係る転写フィルム２０が作製される。また第２の転写フィルム製造工程ＳＰ３において、１／２波長位相差層７に係る転写フィルム１０が作製される。
【００５６】
この製造工程は、直線偏光板５と１／２波長位相差層７の積層工程ＳＰ４において、紫外線硬化性樹脂等の接着剤層により直線偏光板５と１／２波長位相差層７とが積層されて貼り合わされた後、基材１１が剥離される。なおこのとき配向層１２を基材１１と一体に剥離するようにしてもよい。これによりこの製造工程は、転写法により直線偏光板５と１／２波長位相差層７とを積層する。
【００５７】
続いてこの政治工程は、直線偏光板５、１／２波長位相差層７の積層体と、１／４波長位相差層８との積層工程ＳＰ５において、紫外線硬化性樹脂等の接着剤層により直線偏光板５、１／２波長位相差層７の積層体に１／４波長位相差層８は積層されて貼り合わされた後、基材２１が剥離される。なおこのとき配向層２２を基材２１と一体に剥離するようにしてもよい。これによりこの製造工程は、反射防止フィルム３が作製される。
【００５８】
図６は、第１の転写フィルム製造工程（ＳＰ２）を詳細に示すフローチャートである。この製造工程は、配向層形成工程ＳＰ１２の塗工工程ＳＰ１２−１において、基材２１に配向層２２の塗工液を塗工した後、乾燥する。また続く硬化工程ＳＰ１２−２において、無偏光の紫外線の照射により硬化させ、これにより垂直配向層を作製する。この工程は、続くラビング工程ＮＩＳＰ１２−３において、ラビングクロスを使用してラビング処理し、これにより配向層２２を作製する。
【００５９】
この製造工程は、続く液晶層形成工程ＳＰ１３の塗工工程ＳＰ１３−１において、１／４波長位相差層８に係る塗工液を塗工した後、乾燥させ、続く硬化工程ＳＰ１３−２において紫外線の照射により硬化させ、これにより１／４波長位相差層８を作製して転写フィルム２０を作製する。
【００６０】
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に組み合わせたり、上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
【００６１】
すなわち上述の実施形態では、円偏光板により反射防止フィルムに本発明を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、Ａプレートとして機能する各種の光学フィルムに広く適用することができる。
【符号の説明】
【００６２】
１    画像表示装置
２    画像表示パネル
３    反射防止フィルム
４    粘着剤層
５    直線偏光板
６    １／４波長板
７    １／２波長位相差層（第２の光学フィルム）
７Ａ  棒状液晶
８    １／４波長位相差層（光学フィルム）
８Ａ  コレステリック液晶
１０、２０    転写フィルム
１１、２１    基材
１２、２２    配向層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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