(57)【要約】      （修正有）【課題】補償フィルムに適用される新規な重合体、前記重合体を含む補償フィルム、前記補償フィルム及び偏光子を備える光学フィルム、並びに前記補償フィルム又は前記光学フィルムを備える表示装置を提供すること。【解決手段】式１で表わされる構造単位を含む重合体。2017115119.tif 000038（Ｌ１は単結合、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ又はＣ（＝Ｏ）ＮＲａ；Ｒ１〜Ｒ５及びＲａは夫々独立にＨ、アルキル、アルコキシ、シクロアルキル、アリール、ニトロ等；ｎ１は１〜５の整数）【選択図】図１
2017115119.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式１で表わされる第１の構造単位を含む重合体：
【化１】
2017115119.tif 000028
前記一般式１において、
Ｌ１は、単結合、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）ＮＲａであり、
Ｒ１〜Ｒ５及びＲａは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１は、１〜５である。
【請求項２】
前記第１の構造単位は、下記一般式１−１で表わされる、請求項１に記載の重合体：
【化２】
2017115119.tif 000029
前記一般式１−１において、
Ｒ１〜Ｒ５は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１は、１〜５である。
【請求項３】
下記一般式２で表わされる第２の構造単位を更に含む、請求項１又は２に記載の重合体：
【化３】
2017115119.tif 000030
前記一般式２において、
Ｌ２は、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、下記一般式Ａで表わされる基、又はこれらの組み合わせであり、
【化４】
2017115119.tif 000031
前記一般式Ａにおいて、
Ｌ３は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、ＳｉＲｂＲｃ、Ｓ、ＳＯ２、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ６、Ｒ７、Ｒｂ及びＲｃは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせである。
【請求項４】
前記第２の構造単位は、下記一般式２−１〜２−１０のうちのいずれか一つで表わされる、請求項３に記載の重合体：
【化５】
2017115119.tif 000032
前記一般式２−１〜２−１０において、
Ｒ６〜Ｒ１２及びＲ１４〜Ｒ１９は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１３は、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、又はこれらの組み合わせである。
【請求項５】
前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位は、１：９９〜９９：１のモル比にて含まれる、請求項３又は４に記載の重合体。
【請求項６】
前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位は、１：９９〜５０：５０のモル比にて含まれる、請求項３から５のいずれか一項に記載の重合体。
【請求項７】
下記一般式１で表わされる第１の構造単位を有する第１の重合体を含む補償フィルム：
【化６】
2017115119.tif 000033
前記一般式１において、
Ｌ１は、単結合、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）ＮＲａであり、
Ｒ１〜Ｒ５及びＲａは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１は、１〜５である。
【請求項８】
前記第１の構造単位は、下記一般式１−１で表わされる、請求項７に記載の補償フィルム：
【化７】
2017115119.tif 000034
前記一般式１−１において、
Ｒ１〜Ｒ５は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１は、１〜５である。
【請求項９】
前記第１の重合体は、下記一般式２で表わされる第２の構造単位を更に含む、請求項７又は８に記載の補償フィルム：
【化８】
2017115119.tif 000035
前記一般式２において、
Ｌ２は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、下記一般式Ａで表わされる基、又はこれらの組み合わせであり、
【化９】
2017115119.tif 000036
前記一般式Ａにおいて、
Ｌ３は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、ＳｉＲｂＲｃ、Ｓ、ＳＯ２、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ６、Ｒ７、Ｒｂ及びＲｃは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせである。
【請求項１０】
前記第２の構造単位は、下記一般式２−１〜２−１０のうちのいずれか一つで表わされる、請求項９に記載の補償フィルム：
【化１０】
2017115119.tif 000037
前記一般式２−１〜２−１０において、
Ｒ６〜Ｒ１２及びＲ１４〜Ｒ１９は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１３は、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、又はこれらの組み合わせである。
【請求項１１】
前記第１の重合体は、前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位を１：９９〜９９：１のモル比にて含む、請求項９又は１０に記載の補償フィルム。
【請求項１２】
前記第１の重合体は、前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位を１：９９〜５０：５０のモル比にて含む、請求項９から１１のいずれか一項に記載の補償フィルム。
【請求項１３】
前記第１の重合体とは異なる第２の重合体を更に含む、請求項７から１２のいずれか一項に記載の補償フィルム。
【請求項１４】
前記補償フィルムは、一軸又は二軸延伸されている、請求項７から１３のいずれか一項に記載の補償フィルム。
【請求項１５】
前記補償フィルムは、１．１倍〜５．０倍延伸されている、請求項１４に記載の補償フィルム。
【請求項１６】
５５０ｎｍの波長に対する前記補償フィルムの面内位相差は、１０ｎｍ〜３００ｎｍである、請求項７から１５のいずれか一項に記載の補償フィルム。
【請求項１７】
４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する前記補償フィルムの位相差は、下記関係式１〜５のうちのいずれか一つを満たす、請求項７から１６のいずれか一項に記載の補償フィルム：
Ｒ（４５０ｎｍ）≧Ｒ（５５０ｎｍ）＞Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式１
Ｒ（４５０ｎｍ）＞Ｒ（５５０ｎｍ）≧Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式２
Ｒ（４５０ｎｍ）＝Ｒ（５５０ｎｍ）＝Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式３
Ｒ（４５０ｎｍ）≦Ｒ（５５０ｎｍ）＜Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式４
Ｒ（４５０ｎｍ）＜Ｒ（５５０ｎｍ）≦Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式５
前記関係式１〜５において、
Ｒ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差である。
【請求項１８】
前記第１の重合体は、前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位を１０：９０〜２０：８０のモル比にて含み、
４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する前記補償フィルムの位相差は、下記関係式１〜３のうちのいずれか一つを満たす、請求項９から１７のいずれか一項に記載の補償フィルム：
Ｒ（４５０ｎｍ）≧Ｒ（５５０ｎｍ）＞Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式１
Ｒ（４５０ｎｍ）＞Ｒ（５５０ｎｍ）≧Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式２
Ｒ（４５０ｎｍ）＝Ｒ（５５０ｎｍ）＝Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式３
前記関係式１〜３において、
Ｒ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差である。
【請求項１９】
前記第１の重合体は、前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位を３０：７０〜４０：６０のモル比にて含み、
４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する前記補償フィルムの位相差は、下記関係式４又は５を満たす、請求項９から１７のいずれか一項に記載の補償フィルム：
Ｒ（４５０ｎｍ）≦Ｒ（５５０ｎｍ）＜Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式４
Ｒ（４５０ｎｍ）＜Ｒ（５５０ｎｍ）≦Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式５
前記関係式４及び５において、
Ｒ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差である。
【請求項２０】
請求項７から１９のいずれか一項に記載の補償フィルムと、
偏光子と、
を備える光学フィルム。
【請求項２１】
請求項７から１９のいずれか一項に記載の補償フィルム又は請求項２０に記載の光学フィルムを備える表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、重合体、補償フィルム、光学フィルム及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
フラットパネル表示装置は、自発光型発光表示装置と、別途の光源を必要とする受光型表示装置と、に大別でき、これらの画質を改善するために補償フィルム又は光学フィルムが用いられる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、上記従来技術に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、補償フィルムに適用される新規な重合体を提供することにある。
【０００４】
また、本発明の他の目的は、前記重合体を含む補償フィルムを提供することにある。
【０００５】
また、本発明の他の目的は、前記 前記補償フィルム及び偏光子を備える光学フィルムを提供することにある。
【０００６】
また、本発明の他の目的は、前記補償フィルム又は前記光学フィルムを備える表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様による重合体は、下記一般式１で表わされる第１の構造単位を含む。
【０００８】
【化１】
2017115119.tif 000003
【０００９】
前記一般式１において、
Ｌ１は、単結合、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）ＮＲａであり、
Ｒ１〜Ｒ５及びＲａは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１は、１〜５である。
【００１０】
好ましくは、前記第１の構造単位は、下記一般式１−１で表わされる。
【００１１】
【化２】
2017115119.tif 000004
【００１２】
前記一般式１−１において、
Ｒ１〜Ｒ５は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１は、１〜５である。
【００１３】
また、好ましくは、前記重合体は、下記一般式２で表わされる第２の構造単位を更に含む。
【００１４】
【化３】
2017115119.tif 000005
【００１５】
前記一般式２において、
Ｌ２は、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、下記一般式Ａで表わされる基、又はこれらの組み合わせであり、
【００１６】
【化４】
2017115119.tif 000006
【００１７】
前記一般式Ａにおいて、
Ｌ３は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、ＳｉＲｂＲｃ、Ｓ、ＳＯ２、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ６、Ｒ７、Ｒｂ及びＲｃは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせである。
【００１８】
更に、好ましくは、前記第２の構造単位は、下記一般式２−１〜２−１０のうちのいずれか一つで表わされる。
【００１９】
【化５】
2017115119.tif 000007
【００２０】
前記一般式２−１〜２−１０において、
Ｒ６〜Ｒ１２及びＲ１４〜Ｒ１９は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１３は、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、又はこれらの組み合わせである。
【００２１】
更にまた、好ましくは、前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位は、１：９９〜９９：１のモル比にて含まれる。
【００２２】
更にまた、好ましくは、前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位は、１：９９〜５０：５０のモル比にて含まれる。
【００２３】
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様による補償フィルムは、下記一般式１で表わされる第１の構造単位を有する第１の重合体を含む。
【００２４】
【化６】
2017115119.tif 000008
【００２５】
前記一般式１において、
Ｌ１は、単結合、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）ＮＲａであり、
Ｒ１〜Ｒ５及びＲａは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１は、１〜５である。
【００２６】
好ましくは、前記第１の構造単位は、下記一般式１−１で表わされる。
【００２７】
【化７】
2017115119.tif 000009
【００２８】
前記一般式１−１において、
Ｒ１〜Ｒ５は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１は、１〜５である。
【００２９】
また、好ましくは、前記第１の重合体は、下記一般式２で表わされる第２の構造単位を更に含む。
【００３０】
【化８】
2017115119.tif 000010
【００３１】
前記一般式２において、
Ｌ２は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、下記一般式Ａで表わされる基、又はこれらの組み合わせであり、
【００３２】
【化９】
2017115119.tif 000011
【００３３】
前記一般式Ａにおいて、
Ｌ３は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、ＳｉＲｂＲｃ、Ｓ、ＳＯ２、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ６、Ｒ７、Ｒｂ及びＲｃは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせである。
【００３４】
更に、好ましくは、前記第２の構造単位は、下記一般式２−１〜２−１０のうちのいずれか一つで表わされる。
【００３５】
【化１０】
2017115119.tif 000012
【００３６】
前記一般式２−１〜２−１０において、
Ｒ６〜Ｒ１２及びＲ１４〜Ｒ１９は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１３は、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、又はこれらの組み合わせである。
【００３７】
更にまた、好ましくは、前記第１の重合体は、前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位を１：９９〜９９：１のモル比にて含む。
【００３８】
更にまた、好ましくは、前記第１の重合体は、前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位を１：９９〜５０：５０のモル比にて含む。
【００３９】
更にまた、好ましくは、前記補償フィルムは、前記第１の重合体とは異なる第２の重合体を更に含む。
【００４０】
更にまた、好ましくは、前記補償フィルムは、一軸又は二軸延伸されている。
【００４１】
更にまた、好ましくは、前記補償フィルムは、１．１倍〜５．０倍延伸されている。
【００４２】
更にまた、好ましくは、５５０ｎｍの波長に対する前記補償フィルムの面内位相差は、１０ｎｍ〜３００ｎｍである。
【００４３】
更にまた、好ましくは、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する前記補償フィルムの位相差は、下記関係式１〜５のうちのいずれか一つを満たす。
【００４４】
Ｒ（４５０ｎｍ）≧Ｒ（５５０ｎｍ）＞Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式１
Ｒ（４５０ｎｍ）＞Ｒ（５５０ｎｍ）≧Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式２
Ｒ（４５０ｎｍ）＝Ｒ（５５０ｎｍ）＝Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式３
Ｒ（４５０ｎｍ）≦Ｒ（５５０ｎｍ）＜Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式４
Ｒ（４５０ｎｍ）＜Ｒ（５５０ｎｍ）≦Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式５
【００４５】
前記関係式１〜５において、
Ｒ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差である。
【００４６】
更にまた、好ましくは、前記第１の重合体は、前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位を１０：９０〜２０：８０のモル比にて含み、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する前記補償フィルムの位相差は、下記関係式１〜３のうちのいずれか一つを満たす。
【００４７】
Ｒ（４５０ｎｍ）≧Ｒ（５５０ｎｍ）＞Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式１
Ｒ（４５０ｎｍ）＞Ｒ（５５０ｎｍ）≧Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式２
Ｒ（４５０ｎｍ）＝Ｒ（５５０ｎｍ）＝Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式３
【００４８】
前記関係式１〜３において、
Ｒ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差である。
【００４９】
更にまた、好ましくは、前記第１の重合体は、前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位を３０：７０〜４０：６０のモル比にて含み、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する前記補償フィルムの位相差は、下記関係式４又は５を満たす。
【００５０】
Ｒ（４５０ｎｍ）≦Ｒ（５５０ｎｍ）＜Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式４
Ｒ（４５０ｎｍ）＜Ｒ（５５０ｎｍ）≦Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式５
【００５１】
前記関係式４及び５において、
Ｒ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差である。
【００５２】
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様による光学フィルムは、前記補償フィルムと、偏光子と、を備える。
【００５３】
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様による表示装置は、前記補償フィルム又は前記光学フィルムを備える。
【発明の効果】
【００５４】
本発明によれば、補償フィルムに有効に適用される新規な重合体を提供し、且つ、所望の位相差及び波長分散性を有する補償フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の一実施形態による光学フィルムの概略的な断面図である。
【図２】光学フィルムの外光反射防止原理を示す概略図である。
【図３】偏光フィルムの一例を示す概略図である。
【図４】本発明の一実施形態による有機発光表示装置を概略的に示す断面図である。
【図５】本発明の一実施形態による液晶表示装置を概略的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００５６】
以下、添付図面に基づき、本発明の好適な実施形態について本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者が実施できる程度に詳細に説明する。しかしながら、本発明は、ここで説明される実施形態に何ら限定されるものではなく、他の形態に具体化可能である。
【００５７】
図中、様々な層及び領域の厚さは、明確性を図るために、実際の厚さよりも厚く描かれていることもある。明細書全体に亘って同じ部分に対しては同じ図面符号を付する。なお、層、膜、領域、板などが他の部分の「上」にあるとしたとき、それは、他の部分の「真上」にある場合だけではなく、これらの間にさらに他の部分がある場合も含む。逆に、ある部分が他の部分の「真上」にあるとしたとき、これらの間に他の部分がないことを意味する。
【００５８】
本明細書において、別途に断わりのない限り、「置換」とは、化合物又は官能基中の少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アジド基、アミジノ基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、カルボニル基、カルバミル基、チオール基、エステル基、カルボキシル基とその塩、スルホン酸基とその塩、リン酸基とその塩、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル基、Ｃ２〜Ｃ２０のアルケニル基、Ｃ２〜Ｃ２０のアルキニル基、Ｃ６〜Ｃ３０のアリール基、Ｃ７〜Ｃ３０のアラルキル基、Ｃ１〜Ｃ３０のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２０のヘテロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ２０のヘテロアラルキル基、Ｃ３〜Ｃ３０のシクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ１５のシクロアルケニル基、Ｃ６〜Ｃ１５のシクロアルキニル基、Ｃ３〜Ｃ３０のヘテロシクロアルキル基、及びこれらの組み合わせから選ばれる置換基により置換されることを意味する。
【００５９】
また、本明細書において、別途に断わりのない限り、「ヘテロ」とは、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、及びＰから選ばれるヘテロ原子を１つ〜３つ含むものを意味する。
【００６０】
以下、本発明の一実施形態による重合体について説明する。
【００６１】
本発明の一実施形態による重合体は、一つ又は２以上の構造単位を含み、下記一般式１で表わされる第１の構造単位を含む。
【００６２】
【化１１】
2017115119.tif 000013
【００６３】
一般式１において、
Ｌ１は、単結合、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）ＮＲａであり、
Ｒ１〜Ｒ５及びＲａは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１は、１〜５である。
【００６４】
重合体は、カーボネート結合を有する主鎖及びフェニルアセチレン基を有する側鎖を備える。フェニルアセチレン基を有する側鎖は、主鎖に対して実質的に垂直方向に配置されて重合体に所定の光学的な特性を与える。例えば、重合体は、主鎖方向の屈折率及び側鎖方向の屈折率を調節して、波長による複屈折率を制御する。
【００６５】
第１の構造単位は、例えば、下記一般式１−１で表わされる。
【００６６】
【化１２】
2017115119.tif 000014
【００６７】
一般式１−１において、Ｒ１〜Ｒ５及びｎ１は、上述した通りである。
【００６８】
重合体は、下記一般式２で表わされる第２の構造単位を更に含む。
【００６９】
【化１３】
2017115119.tif 000015
【００７０】
一般式２において、
Ｌ２は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、下記一般式Ａで表わされる基、又はこれらの組み合わせであり、
【００７１】
【化１４】
2017115119.tif 000016
【００７２】
一般式Ａにおいて、
Ｌ３は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、ＳｉＲｂＲｃ、Ｓ、ＳＯ２、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ６、Ｒ７、Ｒｂ及びＲｃは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせである。
【００７３】
第２の構造単位は、例えば、下記一般式２−１〜２−１０のうちのいずれか一つで表わされるが、これらに何ら限定されない。
【００７４】
【化１５】
2017115119.tif 000017
【００７５】
一般式２−１〜２−１０において、
Ｒ６〜Ｒ１２及びＲ１４〜Ｒ１９は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１３は、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、又はこれらの組み合わせである。
【００７６】
重合体が第１の構造単位及び第２の構造単位を含む場合、第１の構造単位及び第２の構造単位は、約１：９９〜９９：１のモル比にて含まれる。前記範囲内において含まれることにより、所望の光学特性が得られながら、柔軟性が強化されてフィルムとして製造され易い。前記範囲内において、例えば、約１：９９〜５０：５０のモル比にて含まれる。
【００７７】
重合体は、非結晶質であり、例えば、約１２０〜２８０℃のガラス転移温度を有し、前記範囲内において約１８０〜２５０℃のガラス転移温度を有する。
【００７８】
重合体の重量平均分子量は、固有粘度で表わすときに約０．２〜２．０ｄｌ／ｇであり、前記範囲内において、例えば、約０．３〜１．０ｄｌ／ｇである。前記範囲を有することにより、フィルムの成形性及び生産性の側面からみてなお一層効果的である。
【００７９】
重合体は、公知の重合方法により合成され、例えば、ジヒドロ化合物及びトリホスゲンなどのホスゲン化合物を用いた合成法、ジヒドロ化合物及び炭酸エステルを用いた合成法、ジヒドロ化合物及び活性炭酸誘導体を用いた合成法などが使用可能であるが、これらに何ら限定されない。
【００８０】
重合体は、例えば、薄膜状に形成されて重合体薄膜として使用可能である。重合体フィルムは、例えば、溶融押出法又は溶液キャスティング法により製造可能であるが、これらに何ら限定されない。溶液キャスティング法により製造される場合、例えば、メチレンクロリド、テトラヒドロフラン、ジオキソラン、ジオキサン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド又はこれらの組み合わせが使用可能であるが、これらに何ら限定されない。重合体フィルムは、例えば、透明であり、透明性が求められるいかなる用途にも使用可能である。重合体フィルムは、例えば、基板、保護フィルム、補償フィルム、光学フィルム、誘電層、絶縁層、接着層など様々な用途に使用可能である。
【００８１】
以下、本発明の一実施形態による補償フィルムについて説明する。
【００８２】
本発明の一実施形態による補償フィルムは、１種又は２種以上の重合体を含む。
【００８３】
補償フィルムは、下記の第１の構造単位を有する第１の重合体を含む。
【００８４】
【化１６】
2017115119.tif 000018
【００８５】
一般式１において、
Ｌ１は、単結合、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）ＮＲａであり、
Ｒ１〜Ｒ５及びＲａは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１は、１〜５である。
【００８６】
第１の重合体は、カーボネート結合を有する主鎖及びフェニルアセチレン基を有する側鎖を備える。フェニルアセチレン基を有する側鎖は、主鎖に対して実質的に垂直方向に配置されて第１の重合体に所定の光学的な特性を与える。例えば、第１の重合体は、主鎖方向の屈折率及び側鎖方向の屈折率を調節して、波長による複屈折率を制御する。
【００８７】
第１の構造単位は、例えば、下記一般式１−１で表わされる。
【００８８】
【化１７】
2017115119.tif 000019
【００８９】
一般式１−１において、Ｒ１〜Ｒ５及びｎ１は、上述した通りである。
【００９０】
第１の重合体は、下記一般式２で表わされる第２の構造単位を更に含む。
【００９１】
【化１８】
2017115119.tif 000020
【００９２】
一般式２において、
Ｌ２は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、下記一般式Ａで表わされる基、又はこれらの組み合わせであり、
【００９３】
【化１９】
2017115119.tif 000021
【００９４】
一般式Ａにおいて、
Ｌ３は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、ＳｉＲｂＲｃ、Ｓ、ＳＯ２、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ６、Ｒ７、Ｒｂ及びＲｃは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせである。
【００９５】
第２の構造単位は、例えば、下記一般式２−１〜２−１０のうちのいずれか一つで表わされるが、これらに何ら限定されない。
【００９６】
【化２０】
2017115119.tif 000022
【００９７】
一般式２−１〜２−１０において、
Ｒ６〜Ｒ１２及びＲ１４〜Ｒ１９は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１３は、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、又はこれらの組み合わせである。
【００９８】
第１の重合体が第１の構造単位及び第２の構造単位を含む場合、第１の構造単位及び第２の構造単位は、約１：９９〜９９：１のモル比にて含まれる。前記範囲内において含まれることにより、所望の光学特性が得られながらも、柔軟性が強化されてフィルムとして製造され易い。前記範囲内において、例えば、約１：９９〜５０：５０のモル比にて含まれ、前記範囲内において、例えば、約１０：９０〜５０：５０のモル比にて含まれる。
【００９９】
補償フィルムは、第１の重合体に加えて、少なくとも一つの第２の重合体を更に含む。補償フィルムは、第２の重合体を更に含むことにより、補償フィルムの光学的・物理的な特性を更に補強することができる。第２の重合体は、補償フィルムの機能を強化できるものであれば、特に制限されないが、例えば、置換若しくは非置換のアリーレン基及びカーボネート基を有する構造単位を含む。
【０１００】
補償フィルムは、例えば、一軸又は二軸方向に延伸されている。例えば、補償フィルムは、一軸延伸されている。
【０１０１】
補償フィルムは、上述したように、屈折率及び波長による吸光特性を変化させて所定の位相差を有する。
【０１０２】
補償フィルムの位相差（Ｒ）は、面内位相差（Ｒｏ）及び厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）で表わされる。補償フィルムの面内位相差（Ｒｏ）は、補償フィルムの面内方向に発生する位相差であり、Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）ｄで表わされる。補償フィルムの厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）は、補償フィルムの厚さ方向に発生する位相差であり、Ｒｔｈ＝｛［（ｎｘ＋ｎｙ）／２］−ｎｚ｝ｄで表わされる。ここで、ｎｘは、補償フィルムの面内屈折率が最も大きい方向（以下、「遅相軸」と称する）における屈折率であり、ｎｙは、補償フィルムの面内屈折率が最も小さい方向（以下、「進相軸」と称する）における屈折率であり、ｎｚは、補償フィルムの遅相軸及び進相軸に対する垂直方向の屈折率であり、ｄは、補償フィルムの厚さである。
【０１０３】
例えば、５５０ｎｍの波長に対する補償フィルムの面内位相差（Ｒｏ）は、約１０ｎｍ〜３００ｎｍである。補償フィルムは、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ及び／又は厚さ（ｄ）を変化させて所定の範囲の面内位相差及び厚さ方向の位相差を有するように調節する。
【０１０４】
補償フィルムの位相差は、波長に応じて同一又は異なる。
【０１０５】
例えば、補償フィルムは、短波長の光に対する位相差が長波長の光に対する位相差よりも大きい正波長分散位相遅延を有し、５５０ｎｍの波長を基準波長としたとき、例えば、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する補償フィルムの位相差（Ｒ）は、下記関係式１又は２を満たす。
【０１０６】
Ｒ（４５０ｎｍ）≧Ｒ（５５０ｎｍ）＞Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式１
Ｒ（４５０ｎｍ）＞Ｒ（５５０ｎｍ）≧Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式２
【０１０７】
例えば、補償フィルムは、長波長の光に対する位相差および短波長の光に対する位相差が実質的に等しいフラット分散位相遅延を有し、例えば、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する補償フィルムの位相差（Ｒ）は、下記関係式３を満たす。
【０１０８】
Ｒ（４５０ｎｍ）＝Ｒ（５５０ｎｍ）＝Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式３
【０１０９】
例えば、補償フィルムは、長波長の光に対する位相差が短波長の光に対する位相差よりも大きい逆波長分散位相遅延を有し、例えば、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する補償フィルムの位相差（Ｒ）は、下記関係式４又は５を満たす。
【０１１０】
Ｒ（４５０ｎｍ）≦Ｒ（５５０ｎｍ）＜Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式４
Ｒ（４５０ｎｍ）＜Ｒ（５５０ｎｍ）≦Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式５
【０１１１】
関係式１〜５において、
Ｒ（４５０ｎｍ）は４５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（５５０ｎｍ）は５５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（６５０ｎｍ）は６５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差である。
【０１１２】
補償フィルムは、波長に応じて所望の位相差を有するように調節する。
【０１１３】
補償フィルムは、高い複屈折率を有するので、比較的に薄い厚さを有する。補償フィルムは、例えば、約３μｍ〜２００μｍの厚さを有し、前記範囲内において、例えば、約５μｍ〜１５０μｍの厚さを有し、前記範囲内において、例えば、約５μｍ〜１００μｍの厚さを有する。
【０１１４】
補償フィルムは、実質的に透明な重合体を含むので、基板として使用可能であり、これにより、補償フィルムの下部の別途の基板が省略される。これにより、補償フィルムの厚さが更に薄くなる。これにより、折り畳み可能な表示装置又は折れ曲がり可能な表示装置などのフレキシブル表示装置にも有効に適用されて光学特性及び表示特性を改善する。
【０１１５】
補償フィルムは、例えば、モノマーを準備するステップと、前記モノマーを重合して重合体を準備するステップと、前記重合体をフィルムとして準備するステップと、前記フィルムを延伸するステップと、を含む方法により製造される。
【０１１６】
補償フィルムは、例えば、５０℃〜５００℃の温度において約１１０％〜１０００％の伸び率にて延伸される。ここで、伸び率とは、補償フィルムの延伸前の長さと延伸後の長さとの間の比率をいい、一軸延伸後に補償フィルムが伸びた度合いを意味する。
【０１１７】
補償フィルムは、単独にて用いられてもよく、他の補償フィルムと併用されてもよい。
【０１１８】
補償フィルムは、偏光子と併用されて表示装置の外部光の反射を防ぐ光学フィルムとして使用可能である。光学フィルムは、例えば、反射防止フィルムであるが、これに何ら限定されない。
【０１１９】
図１は、本発明の一実施形態による光学フィルムの概略的な断面図であり、図２は、光学フィルムの外光反射防止原理を示す概略図であり、図３は、偏光フィルムの一例を示す概略図である。
【０１２０】
図１を参照すると、本発明の一実施形態による光学フィルム１００は、偏光子１１０と、補償フィルム１２０と、を備える。補償フィルム１２０は、偏光子１１０を通過した光を円偏光させて位相差を発生させ、光の反射及び／又は吸収に影響を及ぼす。
【０１２１】
例えば、光学フィルム１００は、表示装置の片側又は両側に配設され、特に、表示装置の画面部側に配置されて外部から流入する光が反射されること（以下、「外光反射」と称する）を防ぐ。これにより、外光反射による視認性の低下が防がれる。
【０１２２】
図２は、光学フィルムの外光反射防止原理を示す概略図である。
【０１２３】
図２を参照すると、入射する非偏光の光は、偏光子１１０を通過しながら２つの偏光直交成分のうちの一つの偏光直交成分、すなわち、第１の偏光直交成分のみが透過され、偏光の光は、補償フィルム１２０を通過しながら円偏光に変換される。前記円偏光の光は、基板、電極などを含む表示パネル５０において反射されながら円偏光方向に変わり、前記円偏光の光が補償フィルム１２０を再び通過しながら２つの偏光直交成分のうちの残りの偏光直交成分、すなわち、第２の偏光直交成分のみが透過される。前記第２の偏光直交成分は、偏光子１１０を通過できずに外部に光が放出されないので、外光反射防止効果を有する。
【０１２４】
偏光子１１０は、例えば、偏光板又は偏光フィルムである。
【０１２５】
図３を参照すると、偏光子１１０は、例えば、高分子樹脂７１及び二色性染料７２の溶融混合物により製造された一体型構造の偏光フィルムである。
【０１２６】
高分子樹脂７１は、例えば、疎水性高分子樹脂であり、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）及びこれらの共重合体などのポリオレフィン；ナイロン及び芳香族ポリアミドなどのポリアミド；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などのポリエステル；ポリメチル（メタ）アクリレートなどのポリアクリル；ポリスチレン（ＰＳ）及びアクリトニトリル−スチレン共重合体などのポリスチレン；ポリカーボネート；塩化ビニル系樹脂；ポリイミド；スルホン樹脂；ポリエーテルスルホン；ポリエーテル−エーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド；ビニルアルコール樹脂；ビニリデンクロリド樹脂；ビニルブチラール樹脂；アリレート樹脂；ポリオキシメチレン；エポキシ、これらの共重合体又はこれらの組み合わせである。
【０１２７】
中でも、高分子樹脂７１は、例えば、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、これらの共重合体又はこれらの組み合わせであり、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ナイロン、これらの共重合体又はこれらの組み合わせである。
【０１２８】
中でも、高分子樹脂７１は、ポリオレフィンである。ポリオレフィンは、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン及びポリプロピレンの共重合体（ＰＥ−ＰＰ）から選ばれる少なくとも２つの混合物であり、例えば、ポリプロピレン（ＰＰ）及びポリエチレン−ポリプロピレン共重合体（ＰＥ−ＰＰ）の混合物である。
【０１２９】
高分子樹脂７１は、約４００〜７８０ｎｍの波長領域における透過度が約８５％以上である。高分子樹脂７１は、一軸方向に延伸されている。前記一軸方向は、後述する二色性染料７２の長手方向に等しい。
【０１３０】
二色性染料７２は、高分子樹脂７１に分散されており、高分子樹脂７１の延伸方向に沿って一方向に配列されている。二色性染料７２は、所定の波長領域に対して２つの偏光直交成分のうちの一つの偏光直交成分のみを透過させる。
【０１３１】
二色性染料７２は、。高分子樹脂７１１００重量部に対して約０．０１〜５重量部にて含まれる。前記範囲内に含まれることにより、偏光フィルムとして形成するときに透過度を低下させないつつも十分な偏光特性を示す。前記範囲内において、高分子樹脂７１の１００重量部に対して約０．０５〜１重量部にて含まれる。
【０１３２】
偏光子１１０は、約１００μｍ以下の比較的に薄い厚さを有し、例えば、約３０μｍ〜約９５μｍの厚さを有する。前記範囲の厚さを有することにより、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などの保護層が求められる偏光板と比較して、厚さを大幅に減らすことができ、これにより、薄型表示装置が得られる。
【０１３３】
補償フィルム１２０は、上述した通りである。
【０１３４】
光学フィルム１００は、補償フィルム１２０の片面に配設される補正層（図示せず）を更に備える。補正層は、例えば、色変移防止層であるが、これに何ら限定されない。
【０１３５】
光学フィルム１００は、周縁に沿って伸びている遮光層（図示せず）を更に備える。遮光層は、光学フィルム１００の周縁に沿って帯状に形成され、例えば、偏光子１１０と補償フィルム１２０との間に配設される。遮光層は、不透明な物質、例えば、黒色の物質を含む。例えば、遮光層は、黒色のインキにより製造される。
【０１３６】
光学フィルム１００は、様々な表示装置に適用される。
【０１３７】
本発明の一実施形態による表示装置は、表示パネルと、表示パネルの片面に配設される光学フィルムと、を備える。表示パネルは、液晶表示パネル又は有機発光表示パネルであるが、これに何ら限定されない。
【０１３８】
以下、表示装置の一例としての有機発光表示装置について説明する。
【０１３９】
図４は、本発明の一実施形態による有機発光表示装置を概略的に示す断面図である。
【０１４０】
図４を参照すると、本発明の一実施形態による有機発光表示装置は、有機発光表示パネル４００と、有機発光表示パネル４００の片面に配設される光学フィルム１００と、を備える。
【０１４１】
有機発光表示パネル４００は、ベース基板４１０と、下部電極４２０と、有機発光層４３０と、上部電極４４０及び封止基板４５０を備える。
【０１４２】
ベース基板４１０は、ガラス製又はプラスチック製である。
【０１４３】
下部電極４２０及び上部電極４４０のうちの一つはアノードであり、残りの一つはカソードである。アノードは、正孔が注入される電極であり、仕事関数が高く、発光された光が外部に出射される透明導電物質により製造され、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）又は酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）である。カソードは、電子が注入される電極であり、仕事関数が低く、有機物質に影響を及ぼさない導電物質により製造され、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、カルシウム（Ｃａ）及びバリウム（Ｂａ）から選ばれる。
【０１４４】
有機発光層４３０は、下部電極４２０及び上部電極４４０に電圧が印加されたときに光を発する有機物質を含む。
【０１４５】
下部電極４２０と有機発光層４３０との間及び上部電極４４０と有機発光層４３０との間には付帯層（図示せず）が更に配設される。付帯層は、電子及び正孔間のバランスを取るための正孔伝達層、正孔注入層、電子注入層及び電子伝達層を備える。
【０１４６】
封止基板４５０は、ガラス製、金属製又は高分子製であり、下部電極４２０と、有機発光層４３０及び上部電極４４０を封止して外部から水分及び／又は酸素が流入することを防ぐ。
【０１４７】
光学フィルム１００は、光が出射される側に配置される。例えば、ベース基板４１０側に光が出射される背面発光構造である場合にベース基板４１０の外側に配置され、封止基板４５０側に光が出射される前面発光構造である場合に封止基板４５０の外側に配置される。
【０１４８】
光学フィルム１００は、上述した一体型の偏光子１１０と、一体型の補償フィルム１２０と、を備える。偏光子１１０及び補償フィルム１２０はそれぞれ上述した通りであり、偏光子１１０を通過した光が有機発光表示パネル４００の電極などの金属により反射されて表示装置の外側に出射されることを防いで外部から流入する光による視認性の低下を防ぐ。したがって、有機発光表示装置の表示特性が改善される。
【０１４９】
以下、表示装置の一例としての液晶表示装置について説明する。
【０１５０】
図５は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を概略的に示す断面図である。
【０１５１】
図５を参照すると、本発明の一実施形態による液晶表示装置は、液晶表示パネル５００と、液晶表示パネル５００の片面又は両面に配設される光学フィルム１００と、を備える。
【０１５２】
液晶表示パネル５００は、ねじれネマティック（ｔｗｉｓｔ  ｎｅｍａｔｉｃ：ＴＮ）モード、パターン垂直配向（ｐａｔｔｅｒｎｅｄ  ｖｅｒｔｉｃａｌ  ａｌｉｇｎｍｅｎｔ：ＰＶＡ）モード、面内スイッチング（ｉｎ  ｐｌａｎｅ  ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ：ＩＰＳ）モード、光学補償ベンド（ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  ｂｅｎｄ：ＯＣＢ）モードなどである。
【０１５３】
液晶表示パネル５００は、第１の表示板５１０と、第２の表示板５２０と、第１の表示板５１０と第２の表示板５２０との間に介在されている液晶層５３０と、を備える。
【０１５４】
第１の表示板５１０は、例えば、基板（図示せず）の上に形成されている薄膜トランジスタ（図示せず）及びここに接続されている第１の電場生成電極（図示せず）を備え、第２の表示板５２０は、例えば、基板（図示せず）の上に形成されているカラーフィルタ（図示せず）及び第２の電場生成電極（図示せず）を備える。しかしながら、これに何ら限定されるものではなく、カラーフィルタが第１の表示板（５１０）に組み込まれてもよく、第１の電場生成電極及び第２の電場生成電極が第１の表示板５１０に並置されてもよい。
【０１５５】
液晶層５３０は、複数の液晶分子を含む。液晶分子は、正又は負の誘電率異方性を有する。液晶分子が正の誘電率異方性を有する場合、電場がない状態でその長軸が第１の表示板５１０及び第２の表示板５２０の表面に対して略平行をなすように配向され、電場が印加された状態でその長軸が第１の表示板５１０及び第２の表示板５２０の表面に対して略垂直をなすように配向される。これとは逆に、液晶分子が負の誘電率異方性を有する場合、電場がない状態でその長軸が第１の表示板５１０及び第２の表示板５２０の表面に対して略垂直に配向され、電場が印加された状態でその長軸が第１の表示板５１０及び第２の表示板５２０の表面に対して略平行に配向される。
【０１５６】
光学フィルム１００は液晶表示パネル５００の外側に配設され、図面には、液晶表示パネル５００の下部及び上部にそれぞれ形成されていると示されているが、これに何ら限定されるものではなく、液晶表示パネル５００の下部及び上部のうちのいずれか一方にのみ形成されてもよい。
【実施例】
【０１５７】
以下、実施例を挙げて上述した実施形態についてより詳細に説明する。但し、下記の実施例は単に説明のためのものであり、本発明の範囲を制限するものではない。
【０１５８】
重合体の合成
合成例１
【０１５９】
（１）ステップ１
【化２１】
2017115119.tif 000023
【０１６０】
２Ｌのフラスコに１−ブロモ−４−ヨードベンゼン１４１ｇ、フェニルアセチレン５０．９ｇ、トリエチルアミン７００ｍｌ及びテトラヒドロフラン７００ｍｌを入れて窒素置換を行う。次いで、塩化パラジウム（ＩＩ）（ＰｂＣｌ２）０．８８２ｇ、ヨウ化銅（Ｉ）（ＣｕＩ）１．９１ｇ及びトリフェニルホスゲン（ＰＰｈ３）５．２１ｇを入れて窒素雰囲気及び室温において８時間攪拌する。次いで、６０℃で１２時間攪拌し、２−メチル−３−ブチン−２−オール５０．６ｇ、塩化パラジウム（ＩＩ）０．４３５ｇ、ヨード化銅（Ｉ）０．９５６ｇ及びトリフェニルホスフィン２．６６ｇを入れて４８時間還流する。次いで、不溶物をろ別し、溶媒を減圧蒸留して酢酸エチルで再結晶化させて２−メチル−４−（フェニルエチニル）フェニル）ブタ−３−イン−２−オール１０４ｇを得る。
【０１６１】
次いで、２Ｌのフラスコに２−メチル−４−（フェニルエチニル）ブタ−３−イン−２−オール６１．８ｇ、水酸化テトラメチルアンモニウム（１０％のメタノール溶液）７４．１ｍｌ及びトルエン１１６０ｍｌを入れ、７５℃及び０．３気圧で１時間攪拌する。次いで、反応溶液を水で洗浄して溶媒を減圧蒸留し、カラムクロマトグラフィで精製して１−エチニル−４−（フェニルエチニル）ベンゼン４７．０ｇを得る。
【０１６２】
（２）ステップ２
【化２２】
2017115119.tif 000024
【０１６３】
１Ｌのフラスコに１−エチニル−４−（フェニルエチニル）ベンゼン１４．９ｇ、５−ブロモ−１，３−フェニレンジアセチレート２０．１ｇ及びトリエチルアミン３５０ｍｌを入れて窒素置換する。次いで、塩化パラジウム（ＩＩ）０．１３０ｇ、ヨウ化銅（Ｉ）０．２７４ｇ及びトリフェニルホスフィン０．７６６ｇを入れて窒素雰囲気で４８時間還流し、攪拌する。次いで、室温まで冷却させて不溶物をろ別する。次いで、溶媒を減圧蒸留し、カラムクロマトグラフィで精製して５−（（４−フェニルエチニル）フェニル）エチニル）１，３−フェニレンジアセテート２８．０ｇを得る。
【０１６４】
次いで、２Ｌのフラスコに５−（（４−フェニルエチニル）フェニル）エチニル）１，３−フェニレンジアセテート２８．０ｇ、水酸化カリウム１５．９ｇ、メタノール１１２０ｍｌ及び水２８ｍｌを入れて１時間攪拌し、還流する。次いで、室温まで冷却させて１Ｎ−ＨＣｌで中和する。次いで、溶媒の量が約１／３になるまで減圧蒸留して析出された固体をろ別する。得られた固体を水で洗浄し、６０℃で真空乾燥して生成物を得る。次いで、得られた生成物をカラムクロマトグラフィで精製して５−（（４−（フェニルエチニル）フェニル）エチニル）ベンゼン−１，３−ジオール５．６６ｇを得る。
【０１６５】
（３）ステップ３
【化２３】
2017115119.tif 000025
【０１６６】
機械的攪拌器付き２００ｍＬのフラスコに水酸化ナトリウム１．９４ｇ、水２９ｍＬ、５−（（４−（フェニルエチニル）フェニル）エチニル）ベンゼン−１，３−ジオール０．３０２ｇ、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン２．００ｇを入れる。次いで、ジクロロメタン３２ｍｌに溶解させたトリホスゲン１．４４ｇを添加して１５分間攪拌する。次いで、トリエチルアミン９ｍｇを添加して室温で９０分間攪拌する。次いで、ジクロロメタンで希釈し、１％の塩酸及び水で洗浄し、メタノールを用いて再沈殿させた後、６０℃で１２時間真空乾燥させてポリカーボネート２．１０ｇを得る。
【０１６７】
反応式３において、ｘ：ｙは約９：１である。
【０１６８】
合成例２
ステップ１及び２は、合成例１と同様である。
【０１６９】
ステップ３
機械的攪拌器付き２００ｍＬのフラスコに水酸化ナトリウム１．６４ｇ、水２４ｍＬ、５−（（４−（フェニルエチニル）フェニル）エチニル）ベンゼン−１，３−ジオール０．５０９ｇ及び２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１．５０ｇを入れる。次いで、ジクロロメタン２７ｍｌに溶解させたトリホスゲン０．８６６ｇを添加して１５分間攪拌する。次いで、トリエチルアミン６ｍｇを添加して室温で９０分間攪拌する。次いで、ジクロロメタンで希釈し、１％の塩酸及び水で洗浄し、メタノールを用いて再沈殿させた後、６０℃で１２時間真空乾燥させてポリカーボネートを得る。
【０１７０】
反応式３において、ｘ：ｙは約８：２である。
【０１７１】
合成例３
ステップ１及び２は、合成例１と同様である。
【０１７２】
ステップ３
機械的攪拌器付き２００ｍＬのフラスコに水酸化ナトリウム１．５０ｇ、水２２ｍＬ、５−（（４−（フェニルエチニル）フェニル）エチニル）ベンゼン−１，３−ジオール０．６９９ｇ及び２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１．２０ｇを入れる。次いで、ジクロロメタン４８ｍｌに溶解させたトリホスゲン１．１１ｇを添加して１５分間攪拌する。次いで、トリエチルアミン７ｍｇを添加して室温で９０分間攪拌する。次いで、ジクロロメタンで希釈し、１％の塩酸及び水で洗浄し、メタノールを用いて再沈殿させた後、６０℃で１２時間真空乾燥させてポリカーボネートを得る。
【０１７３】
反応式３において、ｘ：ｙは約７：３である。
【０１７４】
合成例４
ステップ１及び２は、合成例１と同様である。
【０１７５】
ステップ３
機械的攪拌器付き２００ｍＬのフラスコに水酸化ナトリウム１．６１ｇ、水２４ｍＬ、５−（（４−（フェニルエチニル）フェニル）エチニル）ベンゼン−１，３−ジオール０．９９７ｇ及び２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１．１０ｇを入れる。次いで、ジクロロメタン５２ｍｌに溶解させたトリホスゲン０．９７５ｇを添加して１５分間攪拌する。次いで、トリエチルアミン６ｍｇを添加して室温で９０分間攪拌する。次いで、ジクロロメタンで希釈し、１％の塩酸及び水で洗浄し、メタノールを用いて再沈殿させた後、６０℃で１２時間真空乾燥させてポリカーボネートを得る。
【０１７６】
反応式３において、ｘ：ｙは約６：４である。
【０１７７】
フィルムの製造
合成例１〜４において得られたポリカーボネートをテトラヒドロフラン及びジオキサンの混合溶媒（１／１，ｖ／ｖ）に溶解させて２０ｗｔ％のポリカーボネート溶液を製造する。次いで、ガラス基板の上に前記ポリカーボネート溶液を塗布して４０℃で１時間、次いで、８０℃で１時間乾燥して薄膜を形成する。次いで、ガラス基板から前記薄膜を引き離して厚さ１００μｍのポリカーボネートフィルムを製造する。
【０１７８】
評価１
ポリカーボネートフィルムの黄色度及び透光度を測定する。
【０１７９】
黄色度及び透光度は、分光測色計ＭＣ−３６００ｄ（コニカミノルタ社製）を用いてＡＳＴＭＤ１９２５に準拠して透過光で測定し、透光度は、ＭＣ−３６００ｄ（コニカミノルタ社製）を用いて複数回測定し、その平均値を用いる。
【０１８０】
その結果は、下記表１の通りである。
【０１８１】
【表１】
2017115119.tif 000026
【０１８２】
表１を参照すると、合成例１〜４によるポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムは、良好な黄色度及び透光度を有することが確認できる。
【０１８３】
補償フィルムの製造
実施例１
合成例１において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを１８０℃で２４０％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ４６μｍの補償フィルムを製造する。
【０１８４】
実施例２
合成例１において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを２３０℃で１８０％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ５６μｍの補償フィルムを製造する。
【０１８５】
実施例３
合成例２において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを１８０℃で１８０％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ５６μｍの補償フィルムを製造する。
【０１８６】
実施例４
合成例２において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを１８０℃で２００％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ５２μｍの補償フィルムを製造する。
【０１８７】
実施例５
合成例２において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを１８０℃で２４０％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ４５μｍの補償フィルムを製造する。
【０１８８】
実施例６
合成例２において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを２１０℃で１８０％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ５４μｍの補償フィルムを製造する。
【０１８９】
実施例７
合成例２において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを２３０℃で１８０％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ５４μｍの補償フィルムを製造する。
【０１９０】
実施例８
合成例３において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを１８０℃で１８０％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ５１μｍの補償フィルムを製造する。
【０１９１】
実施例９
合成例３において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを１８０℃で２００％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ４６μｍの補償フィルムを製造する。
【０１９２】
実施例１０
合成例３において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを１８０℃で２４０％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ４０μｍの補償フィルムを製造する。
【０１９３】
実施例１１
合成例３において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを２１０℃で１８０％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ４９μｍの補償フィルムを製造する。
【０１９４】
実施例１２
合成例３において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを２３０℃で１８０％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ５１μｍの補償フィルムを製造する。
【０１９５】
実施例１３
合成例４において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを１８０℃で２００％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ４８μｍの補償フィルムを製造する。
【０１９６】
実施例１４
合成例４において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを１８０℃で２４０％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ４６μｍの補償フィルムを製造する。
【０１９７】
実施例１５
合成例４において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを２３０℃で２００％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ５１μｍの補償フィルムを製造する。
【０１９８】
評価２
実施例１〜１５による補償フィルムの面内位相差、厚さ方向の位相差及び波長分散性を評価する。
【０１９９】
面内位相差及び厚さ方向の位相差は、Ａｘｏｓｃａｎ装備（アクソメトリクス社製）を用いて測定する。
【０２００】
面内位相差及び面内位相差の波長分散性は、表２の通りである。
【０２０１】
【表２】
2017115119.tif 000027
【０２０２】
表２を参照すると、実施例１〜１５による補償フィルムは、短波長の光に対する位相差が長波長の光に対する位相差よりも大きい正波長分散位相遅延を有し、又は長波長の光に対する位相差が短波長の光に対する位相差よりも大きい逆波長分散位相遅延を有することが確認できる。具体的に、実施例１〜７による補償フィルムは正波長分散位相遅延を有し、実施例８〜１５による補償フィルムは逆波長分散位相遅延を有することが確認できる。これにより、重合体の含有比、フィルムの延伸温度及び伸び率など様々な要因を調節することにより、所望の位相差及び波長分散性を有する補償フィルムが得られるということが確認できる。
【０２０３】
以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はこれらに何ら限定されるものではなく、特許請求の範囲及び発明の詳細な説明並びに添付図面の範囲内において種々に変形して実施することが可能であり、これもまた本発明の範囲に属するということはいうまでもない。
【符号の説明】
【０２０４】
１００：光学フィルム
１１０：偏光子
１２０：補償フィルム
５０：表示パネル
４００：有機発光表示パネル
４１０：ベース基板
４２０：下部電極
４３０：有機発光層
４４０：上部電極
４５０：封止基板
５００：液晶表示パネル
５１０：第１の表示板
５２０：第２の表示板
５３０：液晶層
【図１】
2017115119.tif 000039
【図２】
2017115119.tif 000040
【図３】
2017115119.tif 000041
【図４】
2017115119.tif 000042
【図５】
2017115119.tif 000043