(57)【要約】【課題】良好な長期保存安定性を有し、例えば半導体製造用途等に好ましく使用できる環状シラン組成物を提供することを目的とする。【解決手段】シクロヘキサシランを含み、下記構造式（１）で表されるシラン化合物の含有量が、シクロヘキサシランに対し、１％以下である、環状シラン組成物である。【化１】2017160115.tif 000011【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
シクロヘキサシランを含み、下記構造式（１）で表されるシラン化合物の含有量が、シクロヘキサシランに対し、１％以下である、環状シラン組成物。
【化１】
2017160115.tif 000007
【請求項２】
シクロヘキサシランを含み、下記構造式（２−１）で表される化合物と下記構造式（２−２）で表される化合物の合計の含有量が、シクロヘキサシランに対し、１％以下である、請求項１に記載の環状シラン組成物。
【化２】
2017160115.tif 000008
【請求項３】
シクロヘキサシランを含み、、下記構造式（３）で表されるシラン化合物の含有量が、シクロヘキサシランに対し、２質量％以下である、請求項１または２に記載の環状シラン組成物。
【化３】
2017160115.tif 000009
【請求項４】
シクロヘキサシランを含み、下記構造式（７）で表されるシラン化合物の含有量が、シクロヘキサシランに対し、１質量％以下である、請求項１〜３のいずれかに記載の環状シラン組成物。
【化４】
2017160115.tif 000010
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、環状シラン組成物に関する。より詳しくは、シクロヘキサシランを含む環状シラン組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
水素化シラン化合物は、半導体製造分野などに用いられている。近年、従来のモノシラン化合物に代えて、シクロヘキサシラン等の環状シラン化合物を、半導体製造原料として使用することが提案されており（特許文献１）、例えば特許文献２には、シクロヘキサシランを化学気相蒸着により、エピタキシャルＳｉ含有薄膜を製造する方法が提案されている。またその他にも基板上にシクロペンタシランやシクロヘキサシランを溶質とする溶液層を形成し、光重合によりポリシランを作製する方法（特許文献３）などが報告されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開昭６０−２６６６４号公報
【特許文献２】特表２０１３−５３７７０５号公報
【特許文献３】特開２０１３−１８７２６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記のとおり、シクロヘキサシランは、高性能のＳｉ含有薄膜を製造することが可能であることから、次世代の半導体原料として有望であるものの、例えば重合反応を起こし微量であるがポリマー成分が生成する、極微量の酸素とも反応し酸化物が出来やすいなど必ずしも良好な安定性を有しているとは言い難かった。そのため、シクロヘキサシランを保存するなどする際に、不純物が発生するなどの問題が起こることがあった。
よって、本発明は、良好な保存安定性を有し、例えば半導体製造用途等に好ましく使用できる環状シラン組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は、上記目的を達成する為に種々検討を行ない、本発明に想到した。
すなわち環状シラン組成物は、シクロヘキサシランを含み、下記構造式（１）で表されるシラン化合物（シリル−シクロヘキサシラン）の含有量が、シクロヘキサシランに対し、１％以下である、環状シラン組成物である。
【０００６】
【化１】
2017160115.tif 000002
【０００７】
本発明の別の環状シラン組成物は、シクロヘキサシランを含み、上記構造式（１）で表されるシラン化合物の含有量がシクロヘキサシランに対し１％以下であり、下記構造式（２−１）で表される化合物（ヒドロキシシクロヘキサシラン）と下記構造式（２−２）で表される化合物（シクロヘキサシランの１酸化物）の合計の含有量が、シクロヘキサシランに対し、１％以下である、環状シラン組成物である。
【０００８】
【化２】
2017160115.tif 000003
【発明の効果】
【０００９】
本発明の環状シラン化合物は、良好な長期保存安定性を有する。よって、不純物が生成し難いため、製品のばらつきを抑制することが可能となる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明を詳細に説明する。
なお、以下において記載する本発明の個々の好ましい形態を２つ以上組み合わせたものもまた、本発明の好ましい形態である。
【００１１】
［本発明の環状シラン組成物］
＜本発明の環状シラン組成物＞
本発明の環状シラン組成物は、シクロヘキサシランを必須として含む。本発明の環状シラン組成物は、シクロヘキサシランを例えば６０質量％以上、９９．９９９９質量％以下含む。本発明の環状シラン組成物は、より好ましくはシクロヘキサシランを８０質量％以上、さらに好ましくは、シクロヘキサシランを９０質量％以上含む。また、本発明の環状シラン組成物は、より好ましくはシクロヘキサシランの含有量は９９．９９９質量％以下であり、さらに好ましくは、シクロヘキサシランの含有量は９９．９９質量％以下である。
【００１２】
本発明の環状シラン組成物は、上記構造式（１）で表されるシラン化合物の含有量が、シクロヘキサシランに対し、１％以下であることを特徴としている。好ましくは０．５％以下であり、より好ましくは０．１％以下である。また、上記構造式（１）で表されるシラン化合物の含有量は、シクロヘキサシランに対し、０．０００１％以上であることが好ましく、０．００１％以上であることがより好ましく、０．０１％以上であることがさらに好ましい。
上記範囲であれば、環状シラン組成物の長期保存安定性が向上する傾向にある。
【００１３】
なお、上記構造式（１）で表されるシラン化合物の含有量について、シクロヘキサシランに対する％は、ガスクロマトグラフィーにおける、記構造式（１）で表されるシラン化合物とシクロヘキサシランのピーク強度（面積）から算出することができる。すなわち、上記％は、面積％とも表記することができる。また、ガスクロマトグラフィーの測定条件は、後述するとおりである。
【００１４】
本発明の環状シラン組成物は、下記構造式（２−１）で表される化合物（ヒドロキシシクロヘキサシラン）と下記構造式（２−２）で表される化合物（シクロヘキサシランの１酸化物）の合計の含有量が、シクロヘキサシランに対し、１％以下であることが好ましい。より好ましくは０．５％以下であり、さらに好ましくは０．１％以下である。また、下記構造式（２−１）で表される化合物と下記構造式（２−２）で表される化合物の合計の含有量は、シクロヘキサシランに対し、０．０００１％以上であることがより好ましく、０．００１％以上であることがさらに好ましく、０．０１％以上であることがよりさらに好ましい。
上記範囲であれば、環状シラン組成物の長期保存安定性が向上する傾向にある。
なお、下記構造式（２−１）で表される化合物と下記構造式（２−２）で表される化合物の合計の含有量について、シクロヘキサシランに対する％は、上記構造式（１）で表されるシラン化合物の含有量における％と同様にガスクロマトグラフィーのピーク強度（面積）から算出することができる。
【００１５】
本発明の環状シラン組成物は、下記構造式（３）で表されるシラン化合物の含有量が、シクロヘキサシランに対し、２％以下であることが好ましい。より好ましくは１％以下であり、さらに好ましくは０．５％以下である。また、上記構造式（３）で表されるシラン化合物の含有量は、シクロヘキサシランに対し、０．０００１％以上であることがより好ましく、０．００１％以上であることがさらに好ましく、０．０１％以上であることがよりさらに好ましい。
【００１６】
【化３】
2017160115.tif 000004
【００１７】
上記範囲であれば、環状シラン組成物の保存安定性が向上する傾向にある。
なお、上記構造式（３）で表されるシラン化合物の含有量について、シクロヘキサシランに対する％は、上記構造式（１）で表されるシラン化合物の含有量における％と同様にガスクロマトグラフィーのピーク強度（面積）から算出することができる。
【００１８】
本発明の環状シラン組成物は、下記構造式（７）で表されるシラン化合物（シリル−シクロペンタシラン）の含有量が、シクロヘキサシランに対し、１％以下であることが好ましい。より好ましくは０．５％以下であり、さらに好ましくは０．１％以下である。また、上記構造式（７）で表されるシラン化合物の含有量は、シクロヘキサシランに対し、０．０００１％以上であることがより好ましく、０．００１％以上であることがさらに好ましく、０．０１％以上であることがよりさらに好ましい。
【００１９】
【化４】
2017160115.tif 000005
【００２０】
上記範囲であれば、環状シラン組成物の保存安定性が向上する傾向にある。
なお、上記構造式（７）で表されるシラン化合物の含有量について、シクロヘキサシランに対する％は、上記構造式（１）で表されるシラン化合物の含有量における％と同様にガスクロマトグラフィーのピーク強度（面積）から算出することができる。
【００２１】
本発明の環状シラン組成物は、所望に応じて、上記構造式（１）〜（３）、（７）で表される化合物以外のシラン化合物を含むことも可能である。本発明の環状シラン組成物における上記構造式（１）〜（３）、（７）で表される化合物以外のシラン化合物の含有量は、シクロヘキサシランに対し、０質量％以上、２％以下であることが好ましく、０質量％以上、１％以下であることがより好ましく、０質量％以上、０．５％以下であることがさらに好ましい。
【００２２】
本発明の環状シラン組成物は、所望に応じて、有機溶媒等を含んでいても良い。有機溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒；アセトニトリル等の非プロトン性極性溶媒；ヘキサン、トルエン等の炭化水素系溶媒；等が例示される。本発明の環状シラン組成物における、有機溶剤の含有量は、シクロヘキサンの含有量が上記範囲である限り制限はない。
【００２３】
本発明の環状シラン組成物は、通常、窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性雰囲気下で保存されることから、これらの気体を溶解していてもよい。例えば、本発明の環状シラン組成物１ｍｌに対して、好ましくは０．０００１ｍｌ以上、より好ましくは０．００１ｍｌ以上溶解していることが好ましい（溶解量の上限は飽和量）。上記範囲であれば、環状シラン組成物の保存安定性が向上する傾向にある（特に濁り（不溶分）の発生が抑制される傾向にある）。
【００２４】
本発明の環状シラン組成物は、金属成分の含有量が極力低いことが好ましい。例えば、各金属を１ｐｐｍ以下とすることが好ましく、１００ｐｐｂ以下とすることがより好ましく、１０ｐｐｂ以下とすることがさらに好ましい。
【００２５】
本発明の環状シラン組成物は、濁り成分（不溶分）が極力少ないことが好ましい。具体的には、本発明の環状シラン組成物は、目視で濁りが確認できないことが好ましい。
また、本発明の環状シラン組成物は、貧溶媒で希釈した場合でも僅かに濁りが生じるが透明性が高いことが好ましく、貧溶媒で希釈した場合でも濁りが観察されないことがより好ましい。
また、本発明の環状シラン組成物は、ヘキサンに２質量％の濃度に溶解した場合の不溶分が０．１質量％以下であることも好ましい形態の一つである。より好ましくは０．０１質量％以下であり、さらに好ましくは０．００１質量％以下である。目視で濁りが確認できないことが特に好ましい。
【００２６】
＜本発明の環状シラン組成物の製造方法＞
本発明の環状シランは、特に限定されないが、（Ｉ）ハロシラン化合物を環化して環状ハロシラン化合物を製造する工程（環化工程）と、（ＩＩ）環状ハロシラン化合物を還元する工程（還元工程）とを必須として製造することが好ましい。また、（ＩＩＩ）環状シラン化合物を精製する工程（精製工程）を含むことがより好ましい。
【００２７】
上記環化工程におけるハロシラン化合物としては、例えば、トリクロロシラン、トリブロモシラン、トリヨードシラン、トリフルオロシラン等のトリハロゲン化シラン；ジクロロシラン、ジブロモシラン、ジヨードシラン、ジフルオロシラン等のジハロゲン化シラン；テトラクロロシラン、テトラブロモシラン、テトラヨードシラン、テトラフルオロシラン等のテトラハロゲン化シラン；等を用いることができ、これらの中でもトリハロゲン化シランが好ましく、特に好ましくはトリクロロシランである。
【００２８】
上記環化工程は、下記（ｉ）〜（ｉｖ）の配位化合物の存在下で反応を行うことが好ましい。（ｉ）第３級ポリアミン；（ｉｉ）第４級ホスホニウム塩若しくは第４級アンモニウム塩；（ｉｉｉ）ＸＲｎで表される化合物（ＸがＰまたはＰ＝Ｏのときはｎ＝３であり、Ｒは同一または異なって置換または無置換のアルキル基またはアリール基を表し、ＸがＳ、Ｓ＝Ｏ、Ｏのときはｎ＝２であり、Ｒは同一又は異なって置換または無置換のアルキル基またはアリール基を表し、ＸがＣＮのときはｎ＝１であり、Ｒは置換または無置換のアルキル基またはアリール基を表す。但し、ＸＲｎ中のアミノ基の数は０または１である。）；（ｉｖ）環中に非共有電子対を有するＮ、Ｏ、ＳまたはＰを含む置換または無置換の複素環化合物からなる群より選択される少なくとも１種の複素環化合物（但し、複素環化合物が有する置換基としての第３級アミノ基の数は０または１である。）。上記（ｉ）〜（ｉｖ）の配位化合物は、上記（ｉ）〜（ｉｖ）の配位化合物から選ばれる１種以上を使用してもよく、２種以上を使用しても良い。
【００２９】
上記（ｉ）の第３級ポリアミンは、１分子中に２つ以上の三級アミノ基を含む化合物であり、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ペンタエチルジエチレントリアミン（Ｐｅｄｅｔａ）や、Ｎ、Ｎ、Ｎ、Ｎ′、Ｎ′−テトラエチルエチレンジアミン（Ｔｅｅｄａ）等が例示される。上記（ｉ）の第３級ポリアミンの存在下でハロシラン化合物を環化した場合、ジアニオン錯体を生成する。例えばＰｅｄｅｔａ存在下でトリクロロシランを環化した場合、テトラデカロロシクロヘキサシラン・ジアニオン錯体である、〔Ｐｅｄｅｔａ・ＳｉＨ２Ｃｌ＋〕２〔Ｓｉ６Ｃｌ１４−２〕が生成する。
【００３０】
上記（ｉｉ）の第４級ホスホニウム塩としては、特に限定されないが、Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４Ｐ＋・Ｘ−（一般式（４）といい、Ｒ１〜Ｒ４は各々独立して、水素原子、アルキル基、アリール基を示し、Ｘ−は１価のアニオンを示す。）。
【００３１】
上記（ｉｉ）の第４級アンモニウム塩としては、特に限定されないが、Ｒ５Ｒ６Ｒ７Ｒ８Ｎ＋・Ｙ−（一般式（５）といい、Ｒ５〜Ｒ８は各々独立して、水素原子、アルキル基、アリール基を示し、Ｙ−は１価のアニオンを示す。）。
【００３２】
上記（ｉｉ）の配位化合物の存在下でハロシラン化合物を環化した場合、ジアニオン錯体を生成する。例えば第４級ホスホニウム塩存在下でトリクロロシランを環化した場合、テトラデカロロシクロヘキサシラン・ジアニオン錯体である、〔Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４Ｐ＋〕２〔Ｓｉ６Ｃｌ１４−２〕が生成し、第４級アンモニウム塩存在下でトリクロロシランを環化した場合、〔Ｒ５Ｒ６Ｒ７Ｒ８Ｎ＋〕２〔Ｓｉ６Ｃｌ１４−２〕が生成する。
【００３３】
上記一般式（４）におけるＲ１〜Ｒ４、上記一般式（５）におけるＲ５〜Ｒ８の例であるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、へキシル基、ヘプチル基、オクチル基、シクロへキシル基等の炭素数１〜１６のアルキル基が好ましく挙げられ、上記一般式（４）におけるＲ１〜Ｒ４、上記一般式（５）におけるＲ５〜Ｒ８の例であるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜１８程度のアリール基が好ましく挙げられる。これらの中でもＲ１〜Ｒ８としては、ブチル基、フェニル基が特に好ましい。また、Ｒ１〜Ｒ４、Ｒ５〜Ｒ８は各々異なっていてもよいが、それぞれ全て同じ基であることが好ましい。
【００３４】
上記一般式（４）においてＸ−、上記一般式（５）においてＹ−で示される１価のアニオンとしては、ハロゲン化物イオン（Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−等）、ボレートイオン(ＢＦ４−等)、リン系アニオン（ＰＦ６−等）等が挙げられる。これらの中でも、入手の容易さの観点からは、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−が好ましく、Ｃｌ−、Ｂｒ−が特に好ましい。なお、アンモニウム塩、第４級ホスホニウム塩はそれぞれ１種のみを使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３５】
上記（ｉｉｉ）のＸＲｎでは、Ｘが環状シランに配位して中性錯体を形成する。ＸがＰまたはＰ＝Ｏである場合、Ｘは３価であり、Ｒの数を示すｎは３である。Ｒは同一または異なって置換または無置換のアルキル基またはアリール基を表す。Ｒは置換または無置換のアリール基であることがより好ましい。Ｒがアルキル基の場合は、直鎖、分岐状または環状のアルキル基が挙げられ、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、へキシル基、ヘプチル基、オクチル基、シクロへキシル基等の炭素数１〜１６のアルキル基が好ましく挙げられる。また、Ｒがアリール基の場合は、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜１８程度のアリール基が好ましく挙げられる。
【００３６】
上記（ｉｉｉ）のＸＲｎにおいて、ＸがＮのとき（ただし、ＸＲｎ中のアミノ基の数は１である。）も、Ｘが環状シランに配位して中性錯体を形成し得る。ＸがＮである場合、Ｘは３価であり、Ｒの数を示すｎは３である。Ｒは同一または異なって置換または無置換のアルキル基またはアリール基を表す。Ｒは置換または無置換のアルキル基がより好ましい。Ｒがアルキル基の場合は、直鎖、分岐状または環状のアルキル基が挙げられ、炭素数１〜１６のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜３のアルキル基がさらに好ましいものとして挙げられる。また、Ｒがアリール基の場合は、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜１８程度のアリール基が好ましく挙げられる。
【００３７】
上記ＸがＰ、Ｐ＝Ｏのときや、ＸがＮのときのＸＲｎにおいて、上記アルキル基が有していてもよい置換基としては、アルコキシ基、アミノ基、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基等が挙げられ、アリール基が有していてもよい置換基としては、アルコキシ基、アミノ基、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基等が挙げられる。アミノ基としては、ジメチルアミノ基やジエチルアミノ基が挙げられるが、アミノ基の数はＸＲ３中、１つ以下である。第３級ポリアミンを除く趣旨である。なお、３個のＲは、同一であっても、異なっていてもよい。
【００３８】
上記ＸがＳ、Ｓ＝Ｏ、Ｏのとき、Ｘは２価であり、Ｒの数を示すｎは２である。Ｒは、ＸがＰ、Ｐ＝Ｏである場合のＲと同じ意味であり、置換または無置換のアルキル基またはアリール基である。Ｒは置換または無置換のアリール基であることがより好ましい。また、ＸがＣＮのとき、Ｘは１価であり、Ｒの数を示すｎは１である。この場合も、Ｒは、ＸがＰ、Ｐ＝Ｏである場合のＲと同じ意味であり、置換または無置換のアルキル基またはアリール基である。Ｒは置換または無置換のアリール基であることがより好ましい。
【００３９】
上記（ｉｉｉ）の化合物の具体例としては、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、トリフェニルホスフィンオキシド（Ｐｈ３Ｐ＝Ｏ）、トリス（４−メトキシフェニル）ホスフィン（Ｐ（ＭｅＯＰｈ）３）等のＸがＰまたはＰ＝Ｏの化合物；ジメチルスルホキシド等のＸがＳ＝Ｏの化合物；ｐ−トルニトリル（ｐ−メチルベンゾニトリルともいう）等のＸがＣＮの化合物等が挙げられる。
【００４０】
上記（ｉｖ）の複素環化合物においては、環中に非共有電子対を有していることが必要であり、この非共有電子対が環状ハロシランに配位して環状ハロシラン中性錯体を形成する。このような複素環化合物としては、環中にローンペアを有するＮ，Ｏ，ＳまたはＰを含む置換または無置換の複素環化合物１種以上が挙げられる。複素環化合物が有していてもよい置換基は、上記Ｒがアリール基の場合に有していてもよい置換基と同じである。複素環化合物としては、ピリジン類、イミダゾール類、ピラゾール類、オキサゾール類、チアゾール類、イミダゾリン類、ピラジン類、チオフェン類、フラン類等が挙げられる。具体例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン、テトラヒドロチオフェン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
【００４１】
上記環化工程において、配位化合物は、（ｉ）または（ｉｉ）の配位化合物の場合、ハロシラン化合物に含まれるＳｉ原子１モルに対し、０．０１モル以上、０．５モル以下使用することが好ましく、０．０５モル以上、０．４モル以下使用することがより好ましく、０．０８モル以上、０．３モル以下使用することがさらに好ましく；（ｉｉｉ）または（ｉｖ）の配位化合物の場合、ハロシラン化合物に含まれるＳｉ原子１モルに対し、０．１モル以上、８モル以下使用することが好ましく、０．１モル以上４モル以下使用することがより好ましく、０．１モル以上１モル以下使用することがさらに好ましい。
【００４２】
上記環化工程は、第３級アミン（第３級ポリアミンを除く）の存在下で行うことが好ましい。生成するハロゲン化水素を中和することができるからである。上記環化工程において用いられる第３級アミンとしては、例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、トリイソブチルアミン、トリイソペンチルアミン、ジエチルメチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）、ジメチルブチルアミン、ジメチル−２−エチルヘキシルアミン、ジイソプロピル−２−エチルヘキシルアミン、メチルジオクチルアミン等が好ましく挙げられる。上記第３級アミンは２種以上を併用しても良い。上記環化工程において、第３級アミンは、ハロシラン化合物１モルに対して０．５〜４モル使用することが好ましい。より好ましくは０．８〜１．５モルである。
【００４３】
上記環化工程（特に配位化合物として（ｉ）および／または（ｉｉ）を使用する場合は、下記一般式（６）で示される化合物の存在下で行なってもよい。下記構造式（６）で示される化合物キレート型配位子としてハロシラン化合物の環化カップリング反応に寄与するものと推測される。
【００４４】
【化５】
2017160115.tif 000006
【００４５】
上記一般式（６）中、Ｚ１はＮ，Ｏ，ＰまたはＳを表し、Ｚ２はＯ，ＰまたはＳを表し、ＲおよびＲ”は各々独立して、炭素数が１〜２０であり、Ｏ，Ｐ，Ｓまたはハロゲン原子を含んでいてもよく、かつ直鎖構造、分岐構造、脂環構造または芳香環構造を有してもよい有機基を表し、Ｒ’は水素原子、または炭素数１〜６の直鎖構造、分岐構造または環構造を有していてもよい有機基を表し、Ｚ１がＮまたはＰのときにはｌ＝２、Ｚ１がＯまたはＳのときにはｌ＝１であり、Ｚ２がＰのときにはｍ＝２、Ｚ２がＯまたはＳのときにはｍ＝１であり、ｎは１〜５の整数であり、Ｒ、Ｒ’またはＲ”が各々複数存在する場合には、それぞれ同じであってもよいし異なっていてもよい。上記一般式（６）において、Ｚ１はＮ，Ｏ，ＰまたはＳであり、Ｚ２はＯ，ＰまたはＳであるが、Ｚ１はＯまたはＰであることが好ましく、Ｚ２はＯまたはＰであることが好ましい。より好ましくは、Ｚ１とＺ２は同一元素であるのがよい。
【００４６】
上記一般式（６）において、ｎは、１〜５の整数であればよいが、４以下が好ましく、より好ましくは３以下、さらに好ましくは２以下である。
【００４７】
上記一般式（６）において、Ｒ’は、水素原子または炭素数１〜６の有機基（炭化水素基など）であり、特に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、より好ましくは水素原子であるのがよい。特に、複数（２ｎ個）存在するＲ’のうち、水素原子の数が、好ましくは０．５ｎ個以上、より好ましくはｎ個以上、さらに好ましくは１．５ｎ個以上が水素原子であるのがよい。Ｒ’が有機基である場合の炭素数は、好ましくは炭素数１〜５、より好ましくは炭素数１〜４、さらに好ましくは炭素数１〜３である。なお、個々のＲ’もしくは同一の炭素原子に結合する２つのＲ’は、同じであってもよいし、異なっていてもよいのであるが、複数のＲ’、特に同一の炭素原子に結合する２つのＲ’は、同じであることが望ましい。上記一般式（６）中のＲ’で示される有機基は、直鎖構造、分岐構造または環構造を有してもよいが、さらには、２ｎ個のＲ’のうち２つのＲ’が直接結合して環を形成していてもよい（２つのＲ’が直接結合して環を形成した場合の例としては、１，１−ジメトキシシクロヘキサン等のジアルコキシシクロヘキサン類等が該当する）。上記一般式（６）において、Ｒ’で示される有機基の具体例としては、直鎖構造又は分岐構造を有するものとして、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基等が挙げられ、環構造を有するものとしてはシクロヘキシル基等が挙げられる。上記一般式（６）において、ＲおよびＲ”は各々独立して、炭素数が１〜２０（好ましくは炭素数１〜１５、より好ましくは炭素数１〜１０）のＯ，Ｐ，Ｓまたはハロゲン原子（好ましくはＣｌ，Ｂｒ、Ｉ等）を含んでいてもよい有機基であり、ＲとＲ”とは異なっていてもよいが、同じであることが好ましい。さらにＲまたはＲ”が各々複数存在する場合には、それぞれ同じであることが望ましい。
【００４８】
上記一般式（６）中のＲまたはＲ”で示される有機基は、直鎖構造、分岐構造、脂環構造または芳香環構造を有してもよいのであるが、さらには、１つのＲと１つのＲ”とが直接結合して環を形成していてもよい（１つのＲと１つのＲ”とが直接結合して環を形成した場合の例としては、ジオキサン、４−メチル−１，３−ジオキサン等の置換ジオキサン、ジオキソラン等が該当する）。上記一般式（６）において、ＲおよびＲ”で示される有機基の具体例としては、直鎖構造又は分岐構造を有するものとして、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基等のアルキル基等が挙げられ、脂環構造を有するものとして、シクロヘキシル基、アダマンチル基等が挙げられ、芳香環構造を有するものとして、フェニル、ベンジル、１−ナフチル、２−ナフチル等のアリール基等が挙げられる。
【００４９】
上記一般式（６）で示される化合物（キレート型配位子）としては、良好なキレート能を発現させるうえで、特にＯまたはＰを二つ以上含む化合物が好ましい。好ましいキレート型配位子の具体例としては、例えば、Ｏを二つ含む化合物として、１，１−ジメトキシエタン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン、１，２−ジプロポキシエタン、１，２−ジイソプロポキシエタン、１，２−ジブトキシエタン、１，２−ジフェノキシエタン、１，３−ジメトキシプロパン、１，３−ジエトキシプロパン、１，３−ジプロポキシプロパン、１，３−ジイソプロポキシプロパン、１，３−ジブトキシプロパン、１，３−ジフェノキシプロパン、１，４−ジメトキシブタン、１，４−ジエトキシブタン、１，４−ジプロポキシブタン、１，４−ジイソプロポキシブタン、１，４−ジブトキシブタン、１，４−ジフェノキシブタン等のジアルコキシアルカン類が挙げられ、特に好ましくは１，２−ジメトキシエタンが挙げられる。また好ましいキレート型配位子の具体例としては、例えば、Ｐを二つ含む化合物として、１，２−ビス（ジメチルホスフィノ）エタン、１，２−ビス（ジエチルホスフィノ）エタン、１，２−ビス（ジプロピルホスフィノ）エタン、１，２−ビス（ジブチルホスフィノ）エタン、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、１，３−ビス（ジメチルホスフィノ）プロパン、１，３−ビス（ジエチルホスフィノ）プロパン、１，３−ビス（ジプロピルホスフィノ）プロパン、１，３−ビス（ジブチルホスフィノ）プロパン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、１，４−ビス（ジメチルホスフィノ）ブタン、１，４−ビス（ジエチルホスフィノ）ブタン、１，４−ビス（ジプロピルホスフィノ）ブタン、１，４−ビス（ジブチルホスフィノ）ブタン、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン等のビス（ジアルキルホスフィノ）アルカン類やビス（ジアリールホスフィノ）アルカン類が挙げられ、特に好ましくは１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタンが挙げられる。なお、一般式（ｉ）で示される化合物（キレート型配位子）は、１種のみを使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５０】
上記一般式（６）で示される化合物（キレート型配位子）の使用量（合計使用量）は、ハロシラン化合物１モルに対して、０．０１モル以上５０モル以下が好ましく、より好ましくは０．０５モル以上４０モル以下、さらに好ましくは０．１モル以上３０モル以下である。
【００５１】
上記環化工程は、必要に応じて有機溶媒中で実施できる。この有機溶媒としては、例えば、ハロゲン化炭化水素系溶媒（例えばクロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等）、エーテル系溶媒（例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルターシャリーブチルエーテル等）、炭化水素系溶媒（例えばヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン等）、アセトニトリル等の非プロトン性極性溶媒が好ましく挙げられる。これらの中でも、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等の塩素化炭化水素系溶媒が好ましく、特に１，２−ジクロロエタンが好ましい。なおこれら有機溶媒は、１種のみを使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。上記環化工程において、有機溶媒の使用量は、特に制限されないが、通常、ハロシラン化合物の濃度が０．５〜１０ｍｏｌ／Ｌとなるように調整することが好ましく、より好ましい濃度は０．８〜８ｍｏｌ／Ｌ、さらに好ましい濃度は１〜５ｍｏｌ／Ｌである。
【００５２】
上記環化工程において、反応温度は、反応性に応じて適宜設定でき、例えば０〜１２０℃程度、好ましくは１５〜７０℃程度である。また環化反応は、窒素等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
【００５３】
上記環化工程をバッチ反応で行う場合には、反応釜の容量が２０Ｌ以上のものを使用することが好ましい。上記範囲の反応釜を使用すると、環状シラン組成物における上記構造式（１）〜（３）、（７）で表される化合物の含有量が適切な範囲となる傾向にあり、環状シラン組成物の保存安定性が向上する傾向にある。上限は、例えば２０，０００Ｌ以下のものである。
【００５４】
上記環化工程で得られた環状ハロシラン化合物がジアニオン錯体である場合、例えばＪ．Ｔｉｌｌｍａｎｎ  ｅｔ ａｌ．， “Ｌｅｗｉｓ ａｃｉｄｉｔｙ ｏｆ Ｓｉ６Ｃｌ１２ ａｎｄ  ｉｔｓ ｒｏｌｅ Ａs  Ｃｏｎｖｅｎｉｅｎｔ  ＳｉＣｌ２ ｓｏｕｒｃｅ”，Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ， ｖｏｌ．５４， ｐ．９６１１（２０１５）に記載の方法などにより、環状ハロシランジアニオン錯体とルイス酸とを接触させることにより、脱配位子反応を行い、Ｓｉ６Ｘ１２（ＸはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）などを生成させても良い（脱配位子工程）。
【００５５】
上記脱配位子工程で使用するルイス酸の種類は特に限定されないが、金属ハロゲン化物を用いることが好ましい。金属ハロゲン化物としては、金属塩化物、金属臭化物、金属ヨウ化物等が挙げられるが、反応性や反応の制御の容易性の点から、金属塩化物を用いることが好ましい。金属ハロゲン化物を構成する金属元素としては、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム等の１３族元素、銅、銀、金等の１１族元素、チタン、ジルコニウム等の４族元素、鉄、亜鉛、カルシウム等が挙げられる。上記脱配位子工程で使用するルイス酸としては、具体的に、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素等のハロゲン化ホウ素；塩化アルミニウム、臭化アルミニウム等のハロゲン化アルミニウム；塩化ガリウム、臭化ガリウム等のハロゲン化ガリウム；塩化インジウム、臭化インジウム等のハロゲン化インジウム；塩化タリウム、臭化タリウム等のハロゲン化タリウム；塩化銅、臭化銅等のハロゲン化銅；塩化銀、臭化銀等のハロゲン化銀；塩化金、臭化金等のハロゲン化金；塩化チタン、臭化チタン等のハロゲン化チタン；塩化ジルコニウム、臭化ジルコニウムなどのハロゲン化ジルコニウム；塩化鉄、臭化鉄等のハロゲン化鉄；塩化亜鉛、臭化亜鉛などのハロゲン化亜鉛；塩化カルシウム、臭化カルシウム等のハロゲン化カルシウム；等が挙げられる。
【００５６】
上記脱配位子工程で使用するルイス酸の使用量は、環状ハロシランジアニオン錯体とルイス酸との反応性に応じて適宜調整すればよいが、例えば、環状ハロシランジアニオン錯体１モルに対して０．５モル以上とすることが好ましく、１．５モル以上がより好ましく、また２０モル以下が好ましく、１０モル以下がより好ましい。
【００５７】
環状ハロシランジアニオン錯体とルイス酸との反応は溶媒または分散媒（これらを単に溶媒という）中で行うことが好ましい。反応において使用する溶媒（反応溶媒）としては、ヘキサン、トルエン等の炭化水素系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルターシャリーブチルエーテル等のエーテル系溶媒等が挙げられる。これらの有機溶媒は１種のみを用いてもよいし２種以上を併用してもよい。なお反応溶媒は、その中に含まれる水や溶存酸素を取り除くため、反応前に蒸留や脱水等の精製を施しておくことが好ましい。
【００５８】
環状ハロシランジアニオン錯体とルイス酸との反応を行う際の反応温度は、反応性に応じて適宜調整すればよいが、例えば、−８０℃以上が好ましく、−５０℃以上がより好ましく、−３０℃以上がさらに好ましく、また２００℃以下が好ましく、１５０℃以下がより好ましく、１００℃以下がさらに好ましい。
【００５９】
環状ハロシラン化合物（環化工程で得られた環状ハロシランアニオン錯体や環状ハロシラン中性錯体、環化工程後に脱配位子工程を経て得られた環状ハロシランなど）は、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタンやアセトニトリル等で洗浄しても良い（洗浄工程）。環化反応などを溶剤を使用して行った場合には、反応溶液を濃縮した後に、洗浄を行なってもよい。
【００６０】
上記還元工程では、環状ハロシラン化合物を還元して環状シラン化合物を製造する。上記還元工程において用いることのできる還元剤としては、特に制限されないが、アルミニウム系還元剤、ホウ素系還元剤からなる群より選ばれる１種以上を用いることが好ましい。アルミニウム系還元剤としては、水素化リチウムアルミニウム（ＬｉＡｌＨ４；ＬＡＨ）、水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ）、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム（「Ｒｅｄ−Ａｌ」（シグマアルドリッチ社の登録商標である））等の金属水素化物等が挙げられる。ホウ素系還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリエチルホウ素リチウム等の金属水素化物や、ジボラン等が挙げられる。なお還元剤は１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６１】
還元工程における還元剤の使用量は、適宜設定すればよく、例えば環状ハロシラン化合物のケイ素−ハロゲン結合１個に対する還元剤中のヒドリドの当量を、少なくとも０．９当量以上とすることが好ましい。より好ましくは０．９〜５０当量、さらに好ましくは０．９〜３０当量、特に好ましくは０．９〜１５当量であり、最も好ましくは０．９〜２当量である。還元剤の使用量が多すぎると、後処理に時間を要し生産性が低下する傾向があり、一方、少なすぎると、収率が低下する傾向がある。
【００６２】
上記還元工程は、還元助剤としてルイス酸触媒を上記還元剤と併用してもよい。ルイス酸触媒としては、塩化アルミニウム、塩化チタン、塩化亜鉛、塩化スズ、塩化鉄等の塩化物；臭化アルミニウム、臭化チタン、臭化亜鉛、臭化スズ、臭化鉄等の臭化物；ヨウ化アルミニウム、ヨウ化チタン、ヨウ化亜鉛、ヨウ化スズ、ヨウ化鉄等のヨウ化物；フッ化アルミニウム、フッ化チタン、フッ化亜鉛、フッ化スズ、フッ化鉄等のフッ化物；等のハロゲン化金属化合物が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６３】
還元工程における反応は、必要に応じて、有機溶媒の存在下で行うことができる。ここで用いることのできる有機溶媒としては、例えば、ヘキサン、トルエン等の炭化水素系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルターシャリーブチルエーテル等のエーテル系溶媒；等が挙げられる。これら有機溶媒は１種のみを用いてもよいし２種以上を併用してもよい。また、環状ハロシラン化合物を製造するときに得られた有機溶媒溶液を、そのまま還元工程における有機溶媒溶液として用いてもよいし、環状ハロシラン化合物を含む有機溶媒溶液から、有機溶媒を留去して、新たな有機溶媒を添加して還元工程を行ってもよい。なお、還元工程における反応に使用する有機溶媒は、その中に含まれる水や溶存酸素を取り除くため、反応前に蒸留や脱水等の精製を行っておくことが好ましい。
【００６４】
還元反応に用いる有機溶媒の使用量としては、環状ハロシラン化合物の濃度が０．０１〜１ｍｏｌ／Ｌとなるように調整することが好ましく、より好ましくは０．０２〜０．７ｍｏｌ／Ｌ、さらに好ましくは０．０３〜０．５ｍｏｌ／Ｌである。有機溶媒の使用量が少なすぎると、還元反応により生じた熱が充分に除熱されず、また反応物が溶解しにくいために反応速度が低下する等の問題が生じるおそれがある。一方、有機溶媒の使用量が多すぎると、還元反応後に有機溶媒と目的生成物とを分離する際に留去すべき溶媒量が多くなるため生産性が低下する傾向がある。
【００６５】
上記還元工程における還元反応は、環状ハロシラン化合物と還元剤とを接触させることにより行うことができる。環状ハロシラン化合物と還元剤との接触は、有機溶媒の存在下で接触させることが好ましい。有機溶媒の存在下で環状ハロシラン化合物と還元剤とを接触させるには、例えば、（１）環状ハロシラン化合物の溶液または分散液に、還元剤をそのまま加える、（２）環状ハロシラン化合物の溶液または分散液に、還元剤を溶媒に溶解または分散させた溶液または分散液を加える、（３）溶媒中に環状ハロシラン化合物と還元剤を同時にもしくは順次加える、などの混合手順を採用すればよい。これらの中で特に好ましいのは上記（２）の態様である。
【００６６】
環状ハロシラン化合物と還元剤の一方または両方を前記Ａ）〜Ｃ）の態様で滴下する場合、環状ハロシラン化合物の溶液または分散液の濃度は、０．０１ｍｏｌ／Ｌ以上が好ましく、より好ましくは０．０２ｍｏｌ／Ｌ以上、さらに好ましくは０．０４ｍｏｌ／Ｌ以上、特に好ましくは０．０５ｍｏｌ／Ｌ以上である。環状ハロシラン化合物の濃度が低すぎると、目的生成物を単離する際に留去しなければいけない溶媒量が増えるので、生産性が低下する傾向がある。一方、環状ハロシラン化合物の溶液または分散液の濃度の上限は１ｍｏｌ／Ｌ以下が好ましく、より好ましくは０．８ｍｏｌ／Ｌ以下、さらに好ましくは０．５ｍｏｌ／Ｌ以下である。
【００６７】
上記還元工程において、滴下時の温度（詳しくは、滴下用の溶液または分散液の温度）は、環状ハロシラン化合物や還元剤の種類応じて適宜設定すればよく、通常、下限は、好ましくは−１９８℃以上、より好ましくは−１６０℃以上、さらに好ましくは−１００℃以上である。また、滴下時の温度の上限は、好ましくは＋１５０℃以下、より好ましくは＋１００℃以下、さらに好ましくは＋８０℃以下、特に好ましくは＋４０℃以下である。還元反応温度（反応溶液の温度）も、環状ハロシラン化合物や還元剤の種類に応じて適宜設定すればよく、通常、−１９８℃以上とすることが好ましく、−１６０℃以上がより好ましく、−１００℃以上がさらに好ましい。還元反応温度は、＋１５０℃以下であるのが好ましく、より好ましくは＋１００℃以下、さらに好ましくは＋８０℃以下、よりさらに好ましくは＋４０℃以下、特に好ましくは−１０℃以下、最も好ましくは−６０℃以下である。還元反応温度が低いと、中間生成物や目的物の分解や重合を抑制できるので、収量が向上する。反応時間は、反応の進行の程度に応じて適宜決定すればよいが、通常１０分以上、７２時間以下、好ましくは１時間以上、４８時間以下、より好ましくは２時間以上、２４時間以下である。
【００６８】
上記還元反応は、通常、例えば窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガスの雰囲気下で行うことが好ましい。
【００６９】
本発明の製造方法は、シクロヘキサシランを含む反応液（例えば上記還元工程で得られた反応液）を精製する工程を含むことが好ましい（精製工程）。
シクロヘキサシランを含む反応液は、例えば固液分離により、固体（副生した塩等の不純物）等を分離しても良い。固液分離の手法としては、ろ過が簡便である点で好ましく採用されるが、これに限定されるものではなく、例えば遠心分離やデカンテーションなど公知の固液分離の手法を適宜採用することができる。なお、上記の固液分離操作は、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
【００７０】
なお、上記還元反応後、反応液を一端５℃以上、より好ましくは１０℃以上、さらに好ましくは１５℃以上に昇温させた後、再度０℃以下、より好ましくは−５℃以下に冷却させ、ろ過などの固液分離を行うことが好ましい。上記工程を行うことにより、環状シラン組成物における上記構造式（１）〜（３）、（７）で表される化合物の含有量が適切な範囲となる傾向にあり、環状シラン組成物の保存安定性が向上する傾向にある。
【００７１】
シクロヘキサシランを含む反応液は、反応液と相溶しない溶剤で洗浄することにより、不純物を分離しても良く、反応液と相溶しない溶剤でシクロヘキサシランを抽出することにより、不純物と分離しても良い。上記の場合、反応液と、反応液と相溶しない溶剤とを撹拌して混合したり、循環させて混合しても良い。後者の場合には、経路にスタティックミキサー等のラインミキサーを含めても良い。
【００７２】
シクロヘキサシランを含む反応液は、吸着剤により、不純物を除去しても良い。吸着剤としては、例えばモレキュラーシーブ４Ａや５Ａ等が例示される。
【００７３】
シクロヘキサシランを含む反応液は、溶媒を留去させて、溶媒を分離させても良い。溶媒の留去は、減圧条件下で行うことが好ましい。薄膜蒸発器等を利用することにより、加熱時間を短時間に設定しても良い。
【００７４】
シクロヘキサシランを含む反応液は、蒸留を行うことにより精製することが好ましい。蒸留は減圧下で行うことが好ましく、例えば３ｋＰａ以下であり、２ｋＰａ以下で行うことが好ましく、１ｋＰａ以下で行うことがより好ましく、５００Ｐａ以下で行うことがさらに好ましく、３００Ｐａ以下で行うことがよりさらに好ましい。減圧度の下限は、例えば１Ｐａ以上であり、１０Ｐａ以上がより好ましい。
【００７５】
上記蒸留は、加熱条件下で行うことが好ましく、例えば、２５℃以上、好ましくは３０℃以上、より好ましくは３５℃以上、さらに好ましくは４０℃以上であり、例えば、１００℃以下、より好ましくは９０℃以下、さらに好ましくは、８５℃以下である。
【００７６】
上記蒸留工程を行う場合には、蒸留釜の容量が１００ｍＬ以上のものを使用することが好ましい。上記範囲の蒸留釜を使用すると、還流が起こりやすくなるため、環状シラン組成物における上記構造式（１）〜（３）、（７）で表される化合物の含有量が適切な範囲となる傾向にあり、環状シラン組成物の保存安定性が向上する傾向にある。
【００７７】
蒸留後のボトム残差をペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、シクロヘキセン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒；などの貧溶媒で洗浄し、抽出された成分を蒸留工程にリサイクルしても良い。上記工程を行うことにより、シクロヘキサシラン組成物を効率よく製造することが可能となり、また、環状シラン組成物における上記構造式（１）〜（３）、（７）で表される化合物の含有量が適切な範囲となる傾向にあり、環状シラン組成物の保存安定性が向上する傾向にある。
【００７８】
蒸留は、１回のみ行っても良いし、２回以上行っても良い。２回以上行う場合には、それぞれ蒸留条件・蒸留設備を変えても良いし、同じにしても良い。例えば、特開２０１４−１４１３９８、特開２０１５−７１５３０に記載の蒸留条件の一部または全部を上記方法に適用しても良い。
【００７９】
［本発明の環状シラン組成物］
本発明の環状シラン組成物は、そのままで半導体製造原料として使用しても良い。本発明の環状シラン組成物は、使用前にさらに精製を行い、不純物（例えば、上記構造式（１）〜（３）、（７）の化合物）を低減してから（例えばそれぞれを１ｐｐｂ未満）使用しても良い。
【実施例】
【００８０】
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００８１】
＜シクロヘキサシランの純度、上記構造式（１）〜（３）、（７）で表される化合物の含有量の評価＞
キャピラリーカラム（Ｊ＆Ｗ  ＳＣＩＥＮＴＩＦＩＣ社製「ＤＢ−１ＭＳ」；０．２５ｍｍ×５０ｍ）を装着したガスクロマトグラフ装置（島津製作所社製「ＧＣ２０１４）にて、Ｎ２をキャリアガスとし、試料注入量１μＬ、試料注入温度３００℃、カラム温度５０℃（保持５分）〜２０℃／分（昇温１０分）〜１０℃／分（昇温５分）〜３００℃（保持１０分）、検出器ＦＩＤ（３００℃）の条件でガスクロマトグラフィー分析を行うことにより求めた。上記構造式（１）〜（３）、（７）で表される化合物の含有量は、ガスクロマトグラフィーのピークの面積をシクロヘキサシランのピークの面積と比較することにより算出した。
【００８２】
＜環状ヘキサシラン組成物の評価＞
評価（Ｉ）：
環状シラン組成物を窒素雰囲気下２０℃で３週間保管し、保管後の環状シラン組成物を２９Ｓｉ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ：Ｃ６Ｄ６）で分析する。重合体に由来するピークがみられるものは、安定性無し、と判断した。
評価（ＩＩ）：
環状シラン組成物を窒素雰囲気下２０℃で３週間保管し、保管後のシクロヘキサシランを脱水ヘキサンに２質量％になるように溶解して、目視で観察し、下記のとおり評価した。白濁が生じるものは、何らかの不純物が生成したと考えられるため、安定性が劣ると判断した。
◎  ⇒  濁りが観察されない
○  ⇒  僅かに濁りが生じるが、透明性が高い
×  ⇒  かすかに白濁する。
【００８３】
＜実施例１＞
（実施例１−１）
温度計、コンデンサー、滴下ロートおよび攪拌装置を備えた２０Ｌの４つ口フラスコ内を窒素ガスで置換した後、ホスフィンとしてトリフェニルホスフィン１２４８ｇ（４．７６ｍｏｌ）と、塩基性化合物としてジイソプロピルエチルアミン３６７２ｇ（２８．４１ｍｏｌ）と、溶媒として１，２−ジクロロエタン１４．３Ｋｇを添加した。続いてフラスコ内の溶液を攪拌しながら、２５℃条件下において滴下ロートより、ハロシラン化合物としてトリクロロシラン３８６４ｇ（２８．５３ｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、そのまま２時間攪拌し、引き続き６０℃で８時間加熱攪拌することにより反応させた。得られた反応液を濃縮・洗浄して、非イオン性のドデカクロロシクロヘキサシラン含有化合物（［Ｐｈ３Ｐ］２［Ｓｉ６Ｃｌ１２］）を白色固体として１４４０ｇ得た。
【００８４】
（実施例１−２）
滴下ロートおよび攪拌装置を備えた２０Ｌの４つ口フラスコに、実施例１−１で得られた白色固体１３３７ｇ（ドデカクロロシクロヘキサシラン含有化合物１．２ｍｏｌ）を入れて減圧乾燥させた。次いでフラスコ内をアルゴンガスで置換した後、溶媒としてシクロペンチルメチルエーテル７７５５ｇを加えた。続いてフラスコ内の懸濁液を攪拌しながら、−７０℃条件下において滴下ロートより、還元剤として水素化リチウムアルミニウムのジエチルエーテル溶液（濃度：約１．０ｍｏｌ／Ｌ）３４００ｍＬを徐々に滴下し、次いで−７０℃で５時間攪拌することにより反応させた。反応後１５℃まで昇温させた後、再度−１０℃まで冷却し、反応液を窒素ガス雰囲気下において濾過し、生成した塩を取り除いた。得られた濾液から減圧下で溶媒を留去して、粗シクロヘキサシランを含むスラリーを得た。得られたスラリーを濾過し、ろ液を減圧下でさらに溶剤を留去する事を繰り返し、１１５ｇの無色透明液体の粗シクロヘキサシランを得た。
【００８５】
（実施例１−３）
実施例１−２で得られた粗シクロヘキサシランを含むスラリー１１５ｇを、ボトムサイズ２００ｍｌの一般的なガラス製の減圧蒸留装置（釜、分留管、冷却管、受器）を用いて、絶対圧力３００Ｐａ、蒸発面の温度（釜内の粗シクロヘキサシランの温度）を７５℃、凝縮面の温度（コンデンサーの設定温度）を１０℃として蒸留し、精製シクロヘキサシラン（本発明の環状シラン組成物）を得た。
【００８６】
得られた精製シクロヘキサシランをガスクロマトグラフィーにて分析したところ、シクロヘキサシランが９８．７面積％、ヘキサシランが０．４面積％、シリルシクロペンタシランが０．０２面積％、シリルシクロヘキサシランが０．８面積％、シクロヘキサンシランが酸化された化合物が合計０．００１面積％検出された。
また、得られた精製シクロヘキサンシランを窒素雰囲気下２０℃で３週間保管した。保管後のシクロヘキサシランを２９Ｓｉ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ：Ｃ６Ｄ６）で分析した結果、重合体成分は認められなかった。また、上記評価（ＩＩ）を行った結果、濁りは観察されなかった。
【００８７】
＜比較例１＞
（比較例１−１）
温度計、コンデンサー、滴下ロートおよび攪拌装置を備えた５００ｍＬ四つ口フラスコ内を窒素ガスで置換した後、ホスフィンとしてトリフェニルホスフィン１１．６２ｇ（０．０４４ｍｏｌ）と、塩基性化合物としてジイソプロピルエチルアミン３４．４ｇ（０．２６６ｍｏｌ）と、溶媒として１，２−ジクロロエタン２００ｍＬとを入れた。続いてフラスコ内の溶液を攪拌しながら、２５℃条件下において滴下ロートより、ハロシラン化合物としてトリクロロシラン３６．０ｇ（０．２６６ｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、そのまま２時間攪拌し、引き続き６０℃で８時間加熱攪拌することにより反応させた。得られた反応液を濃縮・洗浄して、非イオン性のドデカクロロシクロヘキサシラン含有化合物（［Ｐｈ３Ｐ］２［Ｓｉ６Ｃｌ１２］）を白色固体として１２．５ｇ得た。
【００８８】
（比較例１−２）
滴下ロートおよび攪拌装置を備えた１００ｍＬ二つ口フラスコに、比較例１−１で得られた白色固体２．４４ｇ（ドデカクロロシクロヘキサシラン含有化合物２．１８ｍｍｏｌ）を入れて減圧乾燥させた。次いでフラスコ内をアルゴンガスで置換した後、溶媒としてジエチルエーテル３０ｍＬを加えた。続いてフラスコ内の懸濁液を攪拌しながら、−７０℃条件下において滴下ロートより、還元剤として水素化リチウムアルミニウムのジエチルエーテル溶液（濃度：約１．０ｍｏｌ／Ｌ）１０ｍＬを徐々に滴下し、次いで−７０℃で５時間攪拌することにより反応させた。反応後、反応液を窒素ガス雰囲気下において濾過し、生成した塩を取り除いた。得られた濾液から減圧下で溶媒を留去した結果、一部固体は析出するが、無色透明液体の粗シクロヘキサシランを得た。
【００８９】
（比較例１−３）
比較１−２を数回繰り返し合成して得た１．０ｇ粗シクロヘキサシランを、ボトムサイズ５ｍｌの小型減圧蒸留装置（ボトム、冷却管、受器）を用いて、絶対圧力３００Ｐａ、外温７５℃（ボトムの粗シクロヘキサシランの温度が７５℃相当）で蒸留し、精製シクロヘキサシランを得た。
【００９０】
得られた精製シクロヘキサシランをガスクロマトグラフィーにて分析したところ、シクロヘキサシランが９７．５面積％、ヘキサシランが０．２面積％、シリルシクロペンタシランが０．０６面積％、シリルシクロヘキサシランが２．１面積％の割合で検出され、シクロヘキサンシランが酸化された化合物は検出されなかった。
また、得られた精製シクロヘキサンシラン窒素雰囲気下２０℃で３週間保管した。保管後のシクロヘキサシランを２９Ｓｉ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ：Ｃ６Ｄ６）で分析した結果、重合体成分が確認できた。なお、精製直後のシクロヘキサシランも２９Ｓｉ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ：Ｃ６Ｄ６）で分析したが、重合体成分が確認できなかった。
【００９１】
以上の結果から、本発明の環状ヘキサシラン組成物は、良好な保存安定性を有していることが明らかとなった。