(57)【要約】      （修正有）【課題】精度良く安定に生産できる調光フィルムを提供する。【解決手段】少なくとも配向層１５、１９を備えてなる第１及び第２の積層体９、８により液晶層１０を挟持し、第１及び又は第２の積層体９、８に設けられた透明電極１３、１８の駆動により液晶層１０に係る液晶の配向を制御して透過光を制御する調光フィルム１において、第１及び又は第２の積層体９、８は、基材６、５に、塗工膜による保持層１２、１７が接着剤層１２Ａ、１７Ａにより設けられ、保持層１２、１７を介して配向層１５、１９が基材６、５に保持される。【選択図】図１
2017062361.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも配向層を備えてなる第１及び第２の積層体により液晶層を挟持し、前記第１及び又は第２の積層体に設けられた透明電極の駆動により前記液晶層に係る液晶の配向を制御して透過光を制御する調光フィルムにおいて、
前記第１及び又は第２の積層体は、
基材に、塗工膜による保持層が接着剤層により設けられ、
前記保持層を介して前記配向層が前記基材に保持された
調光フィルム。
【請求項２】
前記第１及び第２の積層体の前記液晶層とは逆側面に、直線偏光板の光学的機能層を備える
請求項１に記載の調光フィルム。
【請求項３】
前記液晶層が、ゲストホスト液晶による液晶層である
請求項１に記載の調光フィルム。
【請求項４】
前記保持層は、
熱膨張係数が７０ｐｐｍ／℃以下である
請求項１、請求項２、請求項３の何れかに記載の調光フィルム。
【請求項５】
前記保持層は、
ポリイミド樹脂又はポリカーボネート樹脂により形成された
請求項１、請求項２、請求項３、請求項４の何れかに記載の調光フィルム。
【請求項６】
前記保持層は、
厚みが２０μｍ以下であり、透過率が８０％以上である
請求項１、請求項２、請求項３、請求項４、請求項５の何れかに記載の調光フィルム。
【請求項７】
前記保持層は、
面内位相差Ｒ０が１０ｎｍ以下であり、
厚み方向位相差Ｒｔｈが３０ｎｍ以下である
請求項１、請求項２、請求項３、請求項４、請求項５、請求項６の何れかに記載の調光フィルム。
【請求項８】
製造用基板に、塗工液を塗工して塗工膜による保持層を作製する保持層作製工程と、
前記保持層に配向層を作製して、前記製造用基板、前記保持層、前記配向層を備えた第１の積層体を作製する配向層作製工程と、
前記第１の積層体と、対応する第２の積層体とにより液晶層を挟持して一体化し、前記液晶層を間に挟んだ積層体を作製する作製する液晶層の積層工程と、
前記液晶層を間に挟んだ積層体から、前記製造用基板を剥離する剥離工程とを備え、
前記剥離工程で前記製造用基板を剥離した積層体から調光フィルムを作製する
調光フィルムの製造工程。
【請求項９】
製造用基板に、塗工液を塗工して塗工膜による保持層を作製する保持層作製工程と、
前記保持層に配向層を作製して、前記製造用基板、前記保持層、前記配向層を備えた第１の積層体を作製する配向層作製工程と、
前記第１の積層体から前記製造用基板を剥離する剥離工程と、
前記剥離工程で前記製造用基板を剥離した前記第１の積層体と、対応する第２の積層体とにより液晶層を挟持して一体化し、前記液晶層を間に挟んだ積層体を作製する作製する液晶層の積層工程とを備え、
前記液晶層を間に挟んだ積層体から調光フィルムを作製する
調光フィルムの製造工程。
【請求項１０】
前記剥離工程は、
前記保持層の前記製造用基板側面に集光したレーザー光の走査により前記製造用基板から前記保持層を剥離する
請求項８又は請求項９に記載の調光フィルムの製造工程。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば窓に貼り付けて外来光の透過を制御する電子ブラインド等に利用可能な調光フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば窓に貼り付けて外来光の透過を制御する調光フィルムに関する工夫が種々に提案されている（特許文献１、２）。このような調光フィルムの１つに、液晶を利用したものがある。この液晶を利用した調光フィルムは、透明電極を作製した透明フィルム材により液晶材料を挟持して液晶セルが作製され、この液晶セルを直線偏光板により挟持して作成される。これによりこの調光フィルムでは、液晶に印加する電界の可変により液晶の配向を可変して外来光を遮光したり透過したりし、さらには透過光量を可変したりし、これらにより外来光の透過を制御する。
【０００３】
また画像表示パネルの１つのである液晶表示パネルは、透明電極、配向層を作製してなる１対のガラス板材により液晶を挟持して液晶セルが構成され、この液晶セルを直線偏光板により挟持して構成される。液晶表示パネルは、この透明電極のパターンニングにより、画素単位で、液晶に印加する電界を可変して所望の画像を表示する。
【０００４】
ところで液晶表示パネルは、生産設備、生産材が種々に提供されている。これにより例えばガラス基板等の製造用基板に透明フィルム材を保持して透明電極等を作製することにより、液晶表示パネルの設備、生産材を有効に利用して効率良く調光フィルムを生産できると考えられる。因みに、この種の透明フィルム材は、耐熱温度が１２０℃程度であるものの、このようにガラス基板に保持すれば、製造工程の温度管理により透明電極等を作製することができると考えられる。
【０００５】
しかしながらこのようにガラス基板等の製造用基板に透明フィルム材を保持して透明電極等を作製する場合には、作製時における熱膨張により、製造用基板に保持した透明フィルム材が製造用基板から浮き上がって、透明フィルム材が反ったり、透明フィルム材にシワが発生したりし、これにより精度良く安定に生産できない問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平０３−４７３９２号公報
【特許文献２】特開平０８−１８４２７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、調光フィルムに関して、精度良く安定に生産できるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、ガラス基板等の製造用基板に塗工液を塗工して保持層を作製し、この保持層に透明電極等を作製した後、製造用基板を剥離する、との着想に至り、本発明を完成するに至った。
【０００９】
具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。
【００１０】
（１）  少なくとも配向層を備えてなる第１及び第２の積層体により液晶層を挟持し、前記第１及び又は第２の積層体に設けられた透明電極の駆動により前記液晶層に係る液晶の配向を制御して透過光を制御する調光フィルムにおいて、
前記第１及び又は第２の積層体は、
基材に、塗工膜による保持層が接着剤層により設けられ、
前記保持層を介して前記配向層が前記基材に保持された調光フィルム。
【００１１】
（１）によれば、製造用基板に塗工膜を形成して作製された保持層に配向層を積層して第１及び又は第２の積層体を作製した後、液晶層と積層し、その後、製造用基板を剥離する等により作製することができることにより、例えば透明フィルム材を製造用基板に保持して透明電極等を作製する場合のような、反り、シワの発生を有効に回避することができ、これにより安定に生産することができる。またこの場合、保持層は、製造用基板に精度良く位置決め保持されていることにより、第１及び又は第２の積層体を精度良く作成することができる。これらにより高い精度により安定に調光フィルムを生産することができる。
【００１２】
（２）  （１）において、
前記第１及び第２の積層体の前記液晶層とは逆側面に、直線偏光板の光学的機能層を備える調光フィルム。
【００１３】
（２）によれば、液晶層による偏光面の制御により調光を図る構成に適用することができる。
【００１４】
（３）  （１）において、
前記液晶層が、ゲストホスト液晶による液晶層である調光フィルム。
【００１５】
（３）によれば、ゲストホスト液晶による液晶層を使用して調光を図る構成に適用することができる。
【００１６】
（４）  （１）、（２）、（３）の何れかにおいて、
前記保持層は、
熱膨張係数が７０ｐｐｍ／℃以下である調光フィルム。
【００１７】
（４）によれば、配向層作製時等の熱処理による伸縮を小さくすることができることにより、一段と精度を向上することができる。
【００１８】
（５）  （１）、（２）、（３）、（４）の何れかにおいて、
前記保持層は、
ポリイミド樹脂又はポリカーボネート樹脂により形成された調光フィルム。
【００１９】
（５）によれば、より具体的構成により、高い精度により安定に調光フィルムを生産することができる。
【００２０】
（６）  （１）、（２）、（３）、（４）、（５）の何れかにおいて、
前記保持層は、
厚みが２０μｍ以下であり、透過率が８０％以上である調光フィルム。
【００２１】
（６）によれば、保持層による透過光量の低下を充分に抑圧することができる。
【００２２】
（７）  （１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（６）の何れかにおいて、
前記保持層は、
面内位相差Ｒ０が１０ｎｍ以下であり、
厚み方向位相差Ｒｔｈが３０ｎｍ以下である調光フィルム。
【００２３】
（７）によれば、保持層を設けることによる光学異方性の発現を充分に抑圧し、さらに視野角方向における特性の劣化を充分に抑圧することができる。
【００２４】
（８）  製造用基板に、塗工液を塗工して塗工膜による保持層を作製する保持層作製工程と、
前記保持層に配向層を作製して、前記製造用基板、前記保持層、前記配向層を備えた第１の積層体を作製する配向層作製工程と、
前記第１の積層体と、対応する第２の積層体とにより液晶層を挟持して一体化し、前記液晶層を間に挟んだ積層体を作製する作製する液晶層の積層工程と、
前記液晶層を間に挟んだ積層体から、前記製造用基板を剥離する剥離工程とを備え、
前記剥離工程で前記製造用基板を剥離した積層体から調光フィルムを作製する調光フィルムの製造工程。
【００２５】
（８）によれば、製造用基板に塗工膜を形成して作製された保持層に配向層を積層した後、対応する第２の積層体とにより液晶層と積層し、その後、製造用基板を剥離して作製することにより、例えば透明フィルム材を製造用基板に保持して透明電極等を作製する場合のような、反り、シワの発生を有効に回避することができ、これにより安定に生産することができる。またこの場合、保持層は、製造用基板に精度良く位置決め保持されていることにより、第１の積層体を精度良く作成することができる。これにより高い精度により安定に調光フィルムを生産することができる。
【００２６】
（９）  製造用基板に、塗工液を塗工して塗工膜による保持層を作製する保持層作製工程と、
前記保持層に配向層を作製して、前記製造用基板、前記保持層、前記配向層を備えた第１の積層体を作製する配向層作製工程と、
前記第１の積層体から前記製造用基板を剥離する剥離工程と、
前記剥離工程で前記製造用基板を剥離した前記第１の積層体と、対応する第２の積層体とにより液晶層を挟持して一体化し、前記液晶層を間に挟んだ積層体を作製する作製する液晶層の積層工程とを備え、
前記液晶層を間に挟んだ積層体から調光フィルムを作製する調光フィルムの製造工程。
【００２７】
（９）によれば、製造用基板に塗工膜を形成して作製された保持層に配向層を積層した後、製造用基板を剥離し、対応する第２の積層体とにより液晶層を挟持することにより、例えば透明フィルム材を製造用基板に保持して透明電極等を作製する場合のような、反り、シワの発生を有効に回避することができ、これにより安定に生産することができる。またこの場合、保持層は、製造用基板に精度良く位置決め保持されていることにより、第１の積層体を精度良く作成することができる。これにより高い精度により安定に調光フィルムを生産することができる。
【００２８】
（１０）  （８）又は（９）において、
前記剥離工程は、
前記保持層の前記製造用基板側面に集光したレーザー光の走査により前記製造用基板から前記保持層を剥離する調光フィルムの製造工程。
【００２９】
（１０）によれば、レーザー光の照射による熱膨張により局所的に製造用基板から保持層を剥離するようにして、このレーザー光を走査させることにより、製造用基板から保持層を広い面積で剥離させることができ、これにより製造用基板から保持層を簡易かつ確実に剥離することができる。
【発明の効果】
【００３０】
本発明によれば、調光フィルムに関して、精度良く安定に生産することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明の第１実施形態に係る調光フィルムを示す図である。
【図２】図１の調光フィルムの製造工程の説明に供する図である。
【図３】図２の続きの説明に供する図である。
【図４】図３の続きの説明に供する図である。
【図５】図４の続きの説明に供する図である。
【図６】図２〜図５の製造工程を示すフローチャートである。
【図７】図６の制御工程の他の例を示すフローチャートである。
【図８】本発明の第２実施形態に係る調光フィルムを示す図である。
【図９】本発明の第４実施形態に係る調光フィルムを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
〔第１実施形態〕
〔調光フィルム〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。この調光フィルム１は、建築物の窓ガラス、ショーケース、屋内の透明パーテーション等の調光を図る部位に、粘着剤層等により貼り付けて使用され、印加電圧の可変により透過光の光量を制御する。
【００３３】
この調光フィルム１は、液晶を利用して透過光を制御するフィルム材あり、直線偏光板２、３により調光フィルム用の液晶セル４を挟持して構成される。ここで直線偏光板２、３は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）にヨウ素等を含浸させた後、延伸して直線偏光板としての光学的機能を果たす光学機能層が形成され、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルム材による基材により光学機能層を挟持して作製される。直線偏光板２、３は、クロスニコル配置により、粘着剤層や紫外線硬化性樹脂等による接着剤層２Ａ、３Ａにより液晶セル４に配置される。
【００３４】
液晶セル４は、後述する透明電極への印加電圧により透過光の偏光面を制御する。これにより調光フィルム１は、透過光を制御して種々に調光を図ることができるように構成される。
【００３５】
液晶セル４は、フィルム形状による第１及び第２の積層体である上側積層体８及び下側積層体９により液晶層１０を挟持して構成される。下側積層体９は、基材６、保持層１２、透明電極１３、スペーサ１４、配向層１５を積層して形成される。上側積層体８は、基材５、保持層１７、透明電極１８、配向層１９を積層して形成される。ここで基材５、６は、この種のフィルム材に適用可能な種々の透明フィルム材を適用することができ、例えばポリカーボネートフィルム、ＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）フィルム、ＴＡＣフィルム等、光学異方性の小さなフィルム材を適用することができる。基材５、６は、粘着剤層や紫外線硬化性樹脂等による接着剤層１２Ａ、１７Ａにより保持層１２、１７と積層されて配置される。なお基材５を省略して、直接、直線偏光板２に保持層１７、透明電極１８、配向層１９を積層してもよい。また同様に、基材６を省略して、直接、直線偏光板３に保持層１２、透明電極１３、スペーサ１４、配向層１５を積層してもよい。
【００３６】
これによりこの図１の液晶セル４は、液晶材料を挟持する１対の対向電極により液晶の配向を制御することになるものの、例えばＩＰＳ（Ｉｎ−ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式により駆動してもよく、この場合には、上側積層体８又は下側積層体９の透明電極１８又は１３の何れか一方が省略され、他方の透明電極のパターンニングにより液晶材料に駆動用の電界を印加する。なおスペーサ１４は、上側積層体８側に設けるようにしてもよく、上側積層体８及び下側積層体９の双方に設けるようにしてもよい。またスペーサ１４は、配向層１５の上に作製するようにしてもよい。またスペーサ１４は、例えばビーズ形状によるスペーサを適用して上側積層体８及び下側積層体９の間に配置することにより、上側積層体８及び下側積層体９の双方から省略するようにしてもよい。
【００３７】
ここで下側積層体９の保持層１２は、製造過程において、下側積層体９側に設けられる部材（透明電極１３、スペーサ１４、配向層１５）を後述する製造用基板に保持する部材であり、さらにこれら下側積層体９側に設けられる部材を基材６に保持する部材である。また上側積層体８側の保持層１７は、製造過程において、上側積層体８側に設けられる部材（透明電極１８、配向層１９）を後述する製造用基板に保持する部材であり、さらにこれら上側積層体８側に設けられる部材を基材５に保持する部材である。保持層１２及び１７は、製造用基板への塗工により作製される塗工膜であり、それぞれ接着剤層１２Ａ、１７Ａにより基材５、６に保持される。また保持層１２及び１７は、製造工程における熱処理に対して充分な耐熱性を備える塗膜により、より具体的にはガラス転位点温度Ｔｇが１７０℃以上の材料により形成される。また保持層１２及び１７は、製造用基板の熱膨張係数に対して熱膨張係数が大きく異ならない材料により、より具体的には熱膨張係数が７０ｐｐｍ／℃以下の材料により形成される。
【００３８】
これによりこの実施形態では、製造用基板に塗工膜を形成して作製された保持層１２、１７にそれぞれ透明電極１３、スペーサ１４、配向層１５及び透明電極１８、配向層１９を作製して下側積層体９及び上側積層体８を作製した後、液晶層１０と積層し、その後、製造用基板を剥離した後、基材５、６を配置して液晶セル４が作製される。また基材５、６を省略して直線偏光板２、３を直接配置する場合には、製造用基板を剥離した後、直線偏光板２、３が配置される。これにより調光フィルム１は、基材５、６又は直線偏光板２、３の基材に、塗工膜による保持層１２、１７が接着剤層１２Ａ、１７Ａにより配置され、この保持層１２、１７により配向層等がこれらの基材に掛る透明フィルム材に保持されることになる。
【００３９】
しかしてこのように製造用基板に塗工膜により保持層１２、１７を作製し、この保持層１２、１７上に透明電極１３等を作製することにより、例えば透明フィルム材を製造用基板に保持して透明電極等を作製する場合のような、反り、シワの発生を有効に回避することができ、これにより安定に生産することができる。またこの場合、保持層１２、１７は、製造用基板に精度良く位置決め保持されていることにより、透明電極１３、１８のパターニング、スペーサ１４等を精度良く作成することができる。これによりこの実施形態では、高い精度により安定に調光フィルム１を生産することができる。
【００４０】
また保持層１２、１７が、熱膨張係数が７０ｐｐｍ／℃以下の材料により形成されることにより、配向層作製時等の熱処理による伸縮を小さくすることができ、一段と精度を向上することができる。
【００４１】
またさらに保持層１２、１７は、厚み２０μｍ以下により、透過率が８０％以上になるように作製され、これにより保持層を設けたことによる透過光量の低下を充分に抑圧する。また保持層１２、１７は、光学異方性の小さな材料により形成され、より具体的には、面内位相差Ｒ０が１０ｎｍ以下、厚み方向位相差Ｒｔｈが３０ｎｍ以下により作製される。これにより保持層１２、１７は、液晶層１０で設定された透過光の位相差に大きな変化を与えないようにし、また視野角方向における特性の劣化を防止する。
【００４２】
より具体的に、保持層１２、１７は、例えばポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂により形成される。なおここでポリイミド樹脂は熱膨張係数が１０〜４０ｐｐｍ／℃であり、ポリカーボネート樹脂は熱膨張係数が６０ｐｐｍ／℃である。またポリイミド樹脂にあっては、光学異方性の小さな、面内位相差Ｒ０及び厚み方向位相差Ｒｔｈが上述した範囲に収まるポリイミド樹脂材が適用される。なお位相差Ｒ０、Ｒｔｈは、膜厚に比例することから、保持層１２、１７は、材料の選定に代えて、又は材料の選定に加えて、膜厚を必要に応じて薄くすることで、位相差Ｒ０、Ｒｔｈを低く抑えるようにしてもよい。
【００４３】
透明電極１３、１８は、この種のフィルム材に適用される各種の電極材料を適用することができ、この実施形態ではＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）による透明電極材により形成される。スペーサ１４は、各種の樹脂材料を広く適用することができるものの、この実施形態ではフォトレジストにより作製され、透明電極１３を作製してなる保持層１２の上に、フォトレジストを塗工して露光、現像することにより作製される。
【００４４】
配向層１５、１９は、透明電極１３、スペーサ１４を作製してなる保持層１２の上に、また透明電極１８を作製してなる保持層１７の上に、ポリイミド樹脂層を作製した後、ラビング処理して作製される。なお配向層１５、１９は、液晶層１０に係る液晶材料に対して配向規制力を発現可能な各種の構成を適用することができ、いわゆる光配向層により作製してもよく、ラビング処理、研磨処理による微細なライン状凹凸形状を賦型処理により作製して形成してもよい。スペーサ１４は、配向層１５の上に作製するようにしてもよい。
【００４５】
なお光配向層の材料は、光配向の手法を適用可能な各種の材料を適用することができるものの、例えば、一旦配向した後には、紫外線の照射によって配向が変化しない、例えば光２量化型の材料を使用することができる。この光２量化型の材料については、「Ｍ．Ｓｃｈａｄｔ，  Ｋ．Ｓｃｈｍｉｔｔ，  Ｖ．  Ｋｏｚｉｎｋｏｖ  ａｎｄ  Ｖ．  Ｃｈｉｇｒｉｎｏｖ  ：  Ｊｐｎ．  Ｊ．  Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，  ３１，  ２１５５  （１９９２）」、「Ｍ．  Ｓｃｈａｄｔ，  Ｈ．  Ｓｅｉｂｅｒｌｅ  ａｎｄ  Ａ．  Ｓｃｈｕｓｔｅｒ  ：  Ｎａｔｕｒｅ，  ３８１，  ２１２（１９９６）」等に開示されている。
【００４６】
液晶層１０は、この種の調光フィルムに適用可能な各種の液晶材料を広く適用することができる。
【００４７】
なお液晶セル４は、液晶層１０を形成する部位を囲む枠形状によりシール材が配置され、このシール材により液晶材料の漏出が防止され、さらには上側積層体８及び下側積層体９が貼り合わされて一体化される。ここでこのシール材は、液晶材料の漏出を防止すると共に、上側積層体８及び下側積層体９を一体に保持可能な種々の材料を適用することができるものの、この実施形態では、熱硬化性樹脂が適用され、より具体的には熱硬化性の紫外線硬化性樹脂剤、エポキシ樹脂剤等が適用される。
【００４８】
〔製造工程〕
図２〜図５は、調光フィルムの製造工程の説明に供する図であり、図６はこれら図２〜図５による製造工程を示すフローチャートである。この製造工程は、保持層作製工程ＳＰ１において、製造用基板２０、２１にそれぞれ保持層１２、１７の塗工液を塗工した後、乾燥、焼成し、これにより製造用基板２０、２１に塗工膜による保持層１２、１７を作製する（図２（ａ１）及び（ａ２））。ここで製造用基板２０、２１は、充分な平滑度を備え、かつ熱膨張係数の小さな材料により形成される。また製造過程において種々の光学検査を実行可能にするために、透明部材が適用される。これによりこの実施形態では、例えば無アルカリガラス等によるガラス基板が適用される。
【００４９】
続いてこの製造工程は、透明電極作製工程ＳＰ３において、フォトリソグラフィーの手法を適用して、保持層１２、１７の上に透明電極１３、１８をそれぞれ作成する（図２（ｂ１）及び（ｂ２））。さらに続いてスペーサ作製工程ＳＰ４において、製造用基板２０側にフォトレジスト膜を作製した後、露光、現像処理し、これによりスペーサ１４を作製する（図３（ｃ））。続いて製造工程は、配向層作製工程ＳＰ５において、スペーサ１４を作製してなる保持層１２の上に、また透明電極１８を作製してなる保持層１７の上に、ポリイミド樹脂層の塗工液を塗工した後、乾燥、加熱処理し、これによりポリイミド膜を作製する。またこのポリイミド膜をラビング処理し、これにより配向層１５、１９を作製する（図３（ｄ１）及び（ｄ２））。
【００５０】
また続いてこの製造工程は、液晶層の積層工程ＳＰ６において、配向層１５を作製してなる保持層１２に、ディスペンサーを使用して枠形状によりシール材を塗布した後、この枠形状により囲まれた所定位置に、ディスペンサーを使用して液晶層１０に係る液晶材料を滴下する（図４（ｅ））。その後、この製造工程は、配向層１８を作製してなる保持層１７を持ち来して積層した後、押圧して加熱し、これにより液晶層１０を挟持するようにして、製造用基板２０、２１をシール材により貼り合せて一体化する（図５（ｆ））。その後、この製造工程は、剥離工程ＳＰ７において、製造用基板２０、２１を剥離する（図５（ｇ））。
【００５１】
ここでこの実施形態においては、保持層１２の製造用基板２０側面、保持層１７の製造用基板２１側面にそれぞれレーザー光を、製造用基板２０、２１を介して集光することにより、局所的に、製造用基板２０及び２１から保持層１２、１７をレーザー光によって熱膨張させて剥離させるようにして、このレーザー光を面内方向に走査させることにより、製造用基板２０、２１から保持層１２、１７を剥離する。これによりこの実施形態では、製造用基板２０、２１の損傷等を有効に回避して確実に製造用基板２０、２１から保持層１２、１７を剥離する。ここでレーザー光には、例えば保持層がポリイミド樹脂の場合、この保持層が効率良く光を吸収する波長３０８ｎｍのエキシマレーザーを適用することができる。なおこのようなレーザー光の照射による剥離を促進する剥離促進層を、製造用基板２０、２１と保持層１２、１７との間に設けるようにしてもよい。なおこのような剥離促進層としては、例えば照射に供するレーザー光を選択的に吸収して熱膨張する樹脂材等を適用することができる。
【００５２】
この製造工程は、続く基材積層工程ＳＰ８において、紫外線硬化性樹脂層等の接着剤層により基材５、６を配置した後、続く直線偏光板積層工程ＳＰ９において、同様の紫外線硬化性樹脂層等の接着剤層により直線偏光板２、３が配置される（図１）。
【００５３】
なお図６との対比により図７に示すように、製造用基板２０、２１を剥離する剥離工程ＳＰ６１を液晶層の積層工程ＳＰ７１の前に設けるようにしてもよい。また製造用基板２０、２１の一方の剥離工程を液晶層の積層工程の前に設けるようにし、残りの製造用基板の剥離工程を液晶層の積層工程の後に設けるようにしてもよい。
【００５４】
またこのようにして製造用基板２０、２１の双方を剥離した後、基材５、６を積層する代わりに、又は直線偏光板２、３を積層する代わりに、製造用基板２０、２１の一方のみを剥離した状態で、この剥離した側に基材５又は６を積層した後、若しくは直線偏光板２又は３を積層した後、残りの製造用基板２０又は２１を剥離して残りの基材を配置するようにしてもよい。また基材、直線偏光板の積層にあっては、一方の側には透明フィルム材による基材を積層し、他方の側には直線偏光板を配置するようにしてもよい。
【００５５】
この実施形態によれば、製造用基板への塗工により保持層を作製し、この保持層に透明電極等を作製した後、製造用基板を剥離して調光フィルムを作製することにより、透明フィルム材を製造用基板に保持して作製する場合のようなシワ、反りの発生を有効に回避して安定に調光フィルムを生産することができる。また製造用基板に高い精度により保持層を位置決め保持して透明電極等を作製できることにより、高い精度により調光フィルムを生産することができる。
【００５６】
〔第２実施形態〕
図８は、本発明の第２実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。この調光フィルム３１は、液晶セル４に代えて液晶セル３４が適用される点を除いて、第１実施形態の調光フィルム１と同一に構成される。また液晶セル３４は、上側積層体３８と下側積層体９とにより液晶層１０を挟持して形成される。なおこの図８の構成において、第１実施形態に係る調光フィルム１と同一の構成は対応する符号を付して示し、重複した説明は省略する。
【００５７】
ここでこの調光フィルム３１は、ＩＰＳ方式により液晶層１０を駆動するように構成され、これにより上側積層体３８は、透明フィルム材による基材４５に、配向層４９を作製して形成される。これによりこの調光フィルム３１は、液晶層１０を挟持する１対の部材のうちの、一方の積層体３９にのみ透明電極１３を作製するようにして、この透明電極１３を作製する下側積層体３９のみ保持層１２を適用して透明電極１３、配向層１５等を作製し、他方の積層体３８については透明フィルム材による基材４５に配向層４９を作製する。
【００５８】
またこのようにして他方の積層体３８については透明フィルム材による基材４５に配向層４９を作製するようにして、製造用基板に粘着剤層により剥離可能な状態で基材４５を保持して塗工等の処理を実行し、配向層４９の作成時における熱処理時には、製造用基板から基材４５を一時的に剥離して熱処理する。なおＩＰＳ方式以外の駆動方式を適用する場合には、この他方の積層体４９側に透明電極を設けるようにしてもよい。なおこの場合、透明電極を作製する際の熱処理工程においても、基材４５を製造用基板から一時的に剥離して熱処理してもよいし、透明電極が製膜されたフィルムを用いてもよい。
【００５９】
この実施の形態のように、液晶層を挟持する１対の積層体のうちの一方の積層体にのみ保持層を設けて配向層等を作製するようにしても、第１実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００６０】
〔第３実施形態〕
この実施形態では、第１実施形態又は第２実施形態の構成において、レーザー光の照射に代えて、機械的に製造用基板から保持層を引き剥がして剥離する。ここで製造用基板に対して保持層の密着強度が余りに大きいと、製造用基板から保持層を安定に剥離することが困難になる。しかしながら密着強度が余りに小さい場合には、製造工程で製造用基板から保持層が剥離し、生産に支障を来すことになる。これによりこの実施形態では、製造用基板に対する保持層の密着強度を１５Ｎ以下／２５ｍｍ、０．１以上／２５ｍｍ幅に設定する。なおこの密着強度はＪＩＳ  Ｋ６８５４−２に規定の１８０度剥離試験による剥離力である。なおこれによりこの実施形態では、製造用基板の表面に剥離力を低減するための例えばフッ素系樹脂による剥離層等を設けるようにしてもよい。
【００６１】
なおこのような機械的な剥離を、上側積層体又は下側積層体の何れかにのみ適用するようにしても良い。具体的に、液晶層を上側積層体及び下側積層体により挟持した状態で製造用基板を剥離する場合には、始めに第１実施形態について上述したレーザー光の走査により一方の側で製造用基板を剥離した後、残りの側で製造用基板を機械的に引き剥がして剥離することにより、簡易かつ確実に製造用基板を剥離することができる。
【００６２】
なおこのような機械的な剥離を促進する観点より、レーザー光の照射により剥離の開始する箇所を部分的に剥離させておくようにし、これにより機械的な剥離の処理を確実に実行できるようにしてもよい。
【００６３】
〔第４実施形態〕
図９は、本発明の第４実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。この調光フィルム５１は、ゲストホスト型液晶による液晶層６０を上側積層体８及び下側積層体９により、又は上側積層体３８及び下側積層体３９により挟持して形成される。なおこの図９の構成において、上述した調光フィルム１、３１と同一の構成は対応する符号を付して示し、重複した説明は省略する。
【００６４】
このようにゲストホスト型液晶を使用して直線偏光板を省略して構成する場合でも、上述の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００６５】
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に組み合わせ、さらには変更することができる。
【００６６】
すなわち上述の実施形態では、保持層と透明フィルム材による基材とを積層する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、曲面形状によるガラス板等の透明基材と保持層とを積層する場合にも広く適用することができる。なおこの場合、始めに平板形状による透明基材と積層した後、加熱した状態で金型により押圧して全体を曲面形状としても良く、曲面形状による透明基材に直接積層しても良く、さらには曲面形状による透明基材に積層した後、さらに形状を変化させても良い。
【００６７】
また上述の実施形態では、保持層に保持した透明電極、配向層を保持層と一体に、透明フィルム材による透明基材に接着剤層により配置し、その後、直線偏光板と積層する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、上述したように、保持層に保持した透明電極、配向層を保持層と一体に直線偏光板に直接配置するようにして、直線偏光板を基材として使用して透明フィルム材による基材を省略してもよい。このようにすれば、全体の厚みを薄くし、工程を簡略化するようにしても良い。
【符号の説明】
【００６８】
１、３１、５１  調光フィルム
２、３  直線偏光板
２Ａ、３Ａ  接着剤層
４、３４  液晶セル
５、６  基材
８、９、３８、３９  積層体
１０  液晶層
１２、１７  保持層
１３、１８  透明電極
１４  スペーサ
１５、１９  配向層
２０、２１  製造用基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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