(57)【要約】      （修正有）【課題】画像形成を繰り返した場合に前画像の履歴が残ることで生じる残像現象（ゴースト）の発生が抑制される電子写真感光体を提供する。【解決手段】導電性基体１と、導電性基体上に配置され、下記一般式（Ａ）で表される電子受容性化合物及び樹脂を含有する下引層２と、下引層上に配置された感光層３と、を有する電子写真感光体。一般式（Ａ）中、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に酸素原子又は＝Ｃ（ＣＮ）２を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を表し、Ｒ８は炭素数が４以上２０以下のアルキレン基を表す。2017062423.tif 000022【選択図】図１
2017062423.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体と、
前記導電性基体上に配置され、下記一般式（Ａ）で表される電子受容性化合物及び樹脂を含有する下引層と、
前記下引層上に配置された感光層と、
を有する電子写真感光体。
【化１】
2017062423.tif 000021
［一般式（Ａ）中、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に酸素原子又は＝Ｃ（ＣＮ）２を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を表し、Ｒ８は炭素数が４以上２０以下のアルキレン基を表す。］
【請求項２】
前記下引層が、金属酸化物粒子を含有し、前記金属酸化物粒子１００質量部に対して前記一般式（Ａ）で表される電子受容性化合物を１質量部以上５質量部以下含有する請求項１記載の電子写真感光体。
【請求項３】
前記感光層が、電荷発生層と電荷輸送層とを有し、電子写真感光体の最表面層が、フッ素樹脂を含有する請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【請求項５】
請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、導電性支持体上に中間層を介して感光層を有する電子写真感光体において、該中間層が特定の単位成分を有するポリアミド樹脂を含有することを特徴とする電子写真感光体が開示されている。
【０００３】
特許文献２には、感光体に形成されたトナー像を記録媒体に転写して画像を形成する画像形成装置において、前記感光体は、導電性基材と、前記導電性基材の周囲に形成された中間層と、前記中間層の周囲に形成された感光層と、を有し、前記中間層は、平均粒径が１００ｎｍ以下の金属酸化物微粒子をバインダ樹脂中に含有することを特徴とする画像形成装置が開示されている。
【０００４】
特許文献３には、導電性基体上に光導電層を設けた電子写真感光体において、導電性基体と光導電層との間に白色顔料と結着剤樹脂を主成分とし、かつ白色顔料と結着剤樹脂の使用割合が容量比で１／１〜３／１の範囲にある中間層を設けると共に、導電性基体と該中間層との間に結着剤樹脂による下引層を設けたことを特徴とする電子写真感光体が開示されている。
【０００５】
特許文献４には、導電性基体と、該基体上に形成された中間層と、該中間層上に形成された感光層とを備える電子写真感光体であって、前記中間層が、金属酸化物微粒子及び結着樹脂を含有し、２８℃、８５％ＲＨで１０6Ｖ／ｍの電場を印加したときの体積抵抗が１０8〜１０13Ω・ｃｍであり、且つ１５℃、１５％ＲＨで１０6Ｖ／ｍの電場を印加したときの体積抵抗が２８℃、８５％ＲＨで１０6Ｖ／ｍの電場を印加したときの体積抵抗の５００倍以下であることを特徴とする電子写真感光体が開示されている。
【０００６】
特許文献５には、電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を備え、前記電子写真感光体の外周面を所定方向に移動させながら帯電、露光、現像及び転写を行う画像形成装置であって、帯電から現像までに要する時間が可変となるように、前記電子写真感光体の外周面の移動速度を制御する制御手段を更に備え、前記電子写真感光体が少なくとも下引層と感光層を有し、前記下引層が少なくとも金属酸化物微粒子と該金属酸化物微粒子と反応可能な基を有するアクセプター性化合物とを含有することを特徴とする画像形成装置が開示されている。
【０００７】
特許文献６には、導電性支持体上に電荷発生層及び電荷移動層を有する感光層を設けてなる電子写真感光体において、該電荷移動層のバインダー樹脂として、特定の繰り返し構造単位を有する変性ポリカーボネート樹脂を主成分として含有することを特徴とする電子写真感光体が開示されている。
【０００８】
特許文献７には、導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体において、表面層がフッ素系ブロックポリマーを含有していることを特徴とする電子写真感光体が開示されている。
【０００９】
非特許文献１、非特許文献２には、高分子量の結着樹脂、電荷輸送材料、無機フィラー、その他添加剤を用いた感光体が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開平５−１１４８３号公報
【特許文献２】特開２００２−１２３０２８号公報
【特許文献３】特開平５−８０５７２号公報
【特許文献４】特開２００３−１８６２１９号公報
【特許文献５】特開２００６−３０６９８号公報
【特許文献６】特開昭６３−１４８２６３号公報
【特許文献７】特開昭６３−２４９１５２号公報
【非特許文献】
【００１１】
【非特許文献１】感光体・現像剤の高耐久化による環境負荷低減：コニカミノルタテクノロジーレポート  Ｖｏｌ．６  １７−２２頁  （２００９）
【非特許文献２】ＯＰＣ感光体の長寿命化技術：  日本画像学会誌  Ｖｏｌ．４７  １１７−１２３頁  （２００８）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、下引層が、電子受容性化合物として、後述する式（１−１）、（１−２）又は（１−１４）で表される電子受容性化合物のみを含む場合に比べ、画像形成を繰り返した場合に前画像の履歴が残ることで生じる残像現象（ゴースト）の発生が抑制される電子写真感光体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的を達成するため、以下の発明が提供される。
請求項１に係る発明は、
導電性基体と、
前記導電性基体上に配置され、下記一般式（Ａ）で表される電子受容性化合物及び樹脂を含有する下引層と、
前記下引層上に配置された感光層と、
を有する電子写真感光体。
【００１４】
【化１】
2017062423.tif 000003
【００１５】
一般式（Ａ）中、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に酸素原子又は＝Ｃ（ＣＮ）２を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を表し、Ｒ８は炭素数が４以上２０以下のアルキレン基を表す。
【００１６】
請求項２に係る発明は、
前記下引層が、金属酸化物粒子を含有し、前記金属酸化物粒子１００質量部に対して前記一般式（Ａ）で表される電子受容性化合物を１質量部以上５質量部以下含有する請求項１記載の電子写真感光体。
【００１７】
請求項３に係る発明は、
前記感光層が、電荷発生層と電荷輸送層とを有し、電子写真感光体の最表面層が、フッ素樹脂を含有する請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体。
【００１８】
請求項４に係る発明は、
請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【００１９】
請求項５に係る発明は、
請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の効果】
【００２０】
請求項１に係る発明によれば、電子受容性化合物として、後述する式（１−１）、（１−２）又は（１−１４）で表される電子受容性化合物のみを含む場合に比べ、画像形成を繰り返した場合にゴーストの発生が抑制される電子写真感光体が提供される。
【００２１】
請求項２に係る発明によれば、前記下引層が、金属酸化物粒子を含有し、前記金属酸化物粒子１００質量部に対して前記一般式（Ａ）で表される電子受容性化合物を１質量部未満で含有する場合に比べ、画像形成を繰り返した場合にゴーストの発生が抑制される電子写真感光体が提供される。
【００２２】
請求項３に係る発明によれば、前記感光層が、電荷発生層と電荷輸送層とを有し、電子写真感光体の最表面層が、フッ素樹脂を含有しない場合に比べ、長寿命の電子写真感光体が提供される。
【００２３】
請求項４又は請求項５に係る発明によれば、下引層が、電子受容性化合物として、後述する式（１−１）、（１−２）又は（１−１４）で表される電子受容性化合物のみを含む電子写真感光体を備える場合に比べ、画像形成を繰り返した場合にゴーストの発生が抑制されるプロセスカートリッジ又は画像形成装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の一例を示す概略図である。
【図２】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の例を示す概略図である。
【図３】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の例を示す概略図である。
【図４】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の例を示す概略図である。
【図５】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の例を示す概略図である。
【図６】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の例を示す概略図である。
【図７】本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
【図８】本実施形態に係る画像形成装置の他の例を示す概略構成図である。
【図９】実施例において、画質評価に用いたチャートを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、図面を参照しつつ、本実施形態に係る電子写真感光体について詳細に説明する。なお、符号は省略して説明する。
【００２６】
［電子写真感光体］
本実施形態に係る電子写真感光体（以下、「感光体」と称することがある）は、前記導電性基体上に配置され、下記一般式（Ａ）で表される電子受容性化合物及び樹脂を含有する下引層と、前記下引層上に配置された感光層と、を有する。
【００２７】
【化２】
2017062423.tif 000004
【００２８】
一般式（Ａ）中、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に酸素原子又は＝Ｃ（ＣＮ）２を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を表し、Ｒ８は炭素数が４以上２０以下のアルキレン基を表す。
【００２９】
本実施形態に係る電子写真感光体を用いることで、画像形成を繰り返した場合に前画像の履歴が残ることで生じる残像現象（ゴースト）の発生が抑制される。その理由は以下のように考えられる。
電子写真感光体は、繰り返し使用後、下引層の残留電位の上昇により、ゴーストやカブリ（トナーが非画像部に付着する現象）といった画質異常が生じることにより寿命を迎えることが多い。
従来の電子写真感光体では、下引層の残留電位の上昇を抑制すべく、例えば、アリザリン等のアントラキノン系の電子受容性化合物が用いられている。一方、一般式（Ａ）で表される電子受容性化合物はアントラキノン系の電子受容性化合物よりも電荷輸送能が高く、本実施形態に係る電子写真感光体は、下引層が一般式（Ａ）で表される電子受容性化合物を含むことで、残留電位の上昇が効果的に抑制され、画像形成を繰り返した場合でもゴーストの発生が抑制されると考えられる。
【００３０】
図１乃至図６は、本実施形態に係る感光体の層構成の例を示す概略図である。図１に示す感光体は、導電性基材１と、導電性基材１の上に形成された下引層２と、下引層２の上に形成された単層型（機能一体型）の感光層３と、から構成されている。単層型の感光層３は、例えば、樹脂と、電荷発生材料と、電荷輸送材料とを含んで構成されている。
また、図２に示すように、感光層３は電荷発生層３１と電荷輸送層３２とが積層された積層型（機能分離型）の感光層でもよい。電荷発生層３１は例えば樹脂と電荷発生材料とを含んで構成され、電荷輸送層３２は例えば樹脂と電荷輸送材料とを含んで構成されている。
【００３１】
さらに、本実施形態に係る電子写真感光体は、図３及び図４に示すように、感光層３上又は電荷輸送層３２上に保護層５を設けてもよい。また、図５及び図６に示すように、下引層２と感光層３との間又は下引層２と電荷発生層３１との間に中間層４を設けてもよい。
【００３２】
なお、中間層４は、下引層２と感光層３との間又は下引層２と電荷発生層３１との間に設けた態様を示しているが、導電性基材１と下引層２との間に設けてもよい。無論、中間層４を設けない態様であってもよい。
【００３３】
次に、本実施形態に係る電子写真感光体の各要素について説明する。なお、符号は省略して説明する。代表例として、積層型の感光層を備えた電子写真感光体について主に説明する。
【００３４】
（導電性基体）
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
【００３５】
導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。
【００３６】
粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。
【００３７】
粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。
【００３８】
陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。
【００３９】
陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。
【００４０】
導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
【００４１】
ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００４２】
（下引層）
本実施形態における下引層は、下記一般式（Ａ）で表される電子受容性化合物（以下、「第１電子受容性化合物」という場合がある。）及び樹脂を含有し、好ましくは、さらに金属酸化物粒子等の無機粒子、シリコーン樹脂粒子等の有機粒子等を含有する。
【００４３】
【化３】
2017062423.tif 000005
【００４４】
一般式（Ａ）中、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に酸素原子又は＝Ｃ（ＣＮ）２を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を表し、Ｒ８は炭素数が４以上２０以下のアルキレン基を表す。
【００４５】
一般式（Ａ）中、Ｘ１及びＸ２は電子輸送能の観点で  ＝Ｃ（ＣＮ）２であることが好ましい。
【００４６】
一般式（Ａ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。これらの中でもフッ素原子、又は塩素原子が好ましく、塩素原子がさらに好ましい。
【００４７】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７に置換する官能基は、樹脂との溶解性や、結晶の析出、電子輸送能等を考慮して選択すればよい。例えば、ハロゲン原子（塩素原子、フッ素原子など）を置換させると、電子輸送能が向上しやすくなる。また、例えば、アルキル基を置換させると、結晶析出を抑制しやすくなり、さらに、ポリカーボネート樹脂等の芳香環を持つ樹脂との溶解性が向上しやすくなる。
【００４８】
一般式（Ａ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７が示すアルキル基としては、例えば、直鎖状、又は分岐状で、炭素数１以上２０以下のアルキル基が挙げられる。直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。
分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基等が挙げられる。これらの中でも、アルキル基の炭素数は、１以上４以下がより好ましく、１以上３以下がさらに好ましい。
【００４９】
一般式（Ａ）中、Ｒ８が示す炭素数４以上２０以下のアルキレン基は、直鎖状、又は分岐状のアルキレン基が挙げられる。例えば、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基、ｎ−ヘキシレン、ｎ−ペプチレン、ｎ−オクチレン、ｎ−ノニレン基、ｎ−デシレン基、ｎ−ウンデシレン基、ｎ−ドデシレン基等が挙げられる。その他、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、オクタデシレン基、エイコシレン基等が挙げられる。これらの中でも、樹脂との溶解性の観点から、炭素数６以上１２以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基が好ましい。
【００５０】
一般式（Ａ）で表される電子受容性化合物（第１電子受容性化合物）について、以下に例示化合物を示すが、これらに限定されるわけではない。なお、以下の例示化合物番号は、例示化合物（Ａ−番号）と以下表記する。具体的には、例えば、（Ａ−１５）は「例示化合物（Ａ−１５）」と以下表記する。
【００５１】
【化４】
2017062423.tif 000006
【００５２】
【化５】
2017062423.tif 000007
【００５３】
【化６】
2017062423.tif 000008
【００５４】
上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。「Ｂｕ」はブチル基を、「ｔ−Ｂｕ」はｔｅｒｔ−ブチル基を、「Ｃｌ」は塩素原子を、「Ｍｅ」はメチル基をそれぞれ表す。
【００５５】
下引層における第１電子受容性化合物の含有量としては、ゴーストの発生を抑制する観点から、０．０１質量％以上が好ましく、０．１質量％以上がより好ましく、１質量％以上がさらに好ましい。一方、導電路形成の観点から、下引層における第１電子受容性化合物の含有量は、２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましい。
なお、下引層における第１電子受容性化合物は、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上が含まれていてもよい。第１電子受容性化合物が２種以上含まれている場合は、合計の含有量が上記範囲であることが好ましい。
【００５６】
本実施形態における下引層は、電子受容性化合物として少なくとも一般式（Ａ）で表される電子受容性化合物（第１電子受容性化合物）を含有するが、一般式（Ａ）で表される電子受容性化合物以外の電子受容性化合物（以下、「第２電子受容性化合物」と記す場合がある。）を含有してもよい。
【００５７】
第２電子受容性化合物としては、好ましくは酸性基を持つ電子受容性化合物が適用される。この酸性基としては、水酸基（フェノール水酸基）、カルボキシル基、スルホニル基等が挙げられる。
第２電子受容性化合物として具体的には、例えば、キノン系、アントラキノン系、クマリン系、フタロシアニン系、トリフェニルメタン系、アントシアニン系、フラボン系、フラーレン系、ルテニウム錯体、キサンテン系、ベンゾキサジン系、ポルフィリン系の化合物が挙げられる。
特に、第２電子受容性化合物としては、ハーフトーン画像の濃度ムラを抑制すると共に、材料の安全性、入手性、電子輸送能力を考慮すると、アントラキノン系の材料（アントラキノン誘導体）が望ましく、特に下記一般式（１）で表される化合物であるが望ましい。なお、アントラキノン誘導体とは、アントラキノン骨格を有する化合物を意味する。
これらの中でも、一般式（１）で表される化合物のうち、Ｒ１１及びＲ１２が各々独立に炭素数１以上１０以下のアルコキシ基を示す化合物がよい。
【００５８】
【化７】
2017062423.tif 000009
【００５９】
一般式（１）中、ｎ１及びｎ２は、各々独立に０以上３以下の整数を表す。但し、ｎ１及びｎ２の少なくとも一方は、各々独立に１以上３以下の整数を表す（つまり、ｎ１及びｎ２が同時に０を表さない）。ｍ１及びｍ２は、各々独立に０又は１の整数を示す。Ｒ１１及びＲ１２は、各々独立に炭素数１以上１０以下のアルキル基、又は炭素数１以上１０以下のアルコキシ基を表す。
【００６０】
また、第２電子受容性化合物としては、下記一般式（２）で表される化合物であってもよい。
【００６１】
【化８】
2017062423.tif 000010
【００６２】
一般式（２）中、ｎ１、ｎ２、ｎ３、及びｎ４は、各々独立に０以上３以下の整数を表す。ｍ１及びｍ２は、各々独立に０又は１の整数を示す。ｎ１及びｎ２の少なくとも一方は、各々独立に１以上３以下の整数を表す（つまり、ｎ１及びｎ２が同時に０を表さない）。ｎ３及びｎ４の少なくとも一方は、各々独立に１以上３以下の整数を表す（つまり、ｎ３及びｎ４が同時に０を表さない）。ｒは、２以上１０以下の整数を示す。Ｒ１１及びＲ１２は、各々独立に炭素数１以上１０以下のアルキル基、又は炭素数１以上１０以下のアルコキシ基を表す。
【００６３】
ここで、一般式（１）及び（２）中、Ｒ１１及びＲ１２が表す炭素数１以上１０以下のアルキル基としては、直鎖状、又は分枝状のいずれでもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。炭素数１以上１０以下のアルキル基としては、望ましくは１以上８以下のアルキル基、より望ましくは１以上６以下のアルキル基である。
Ｒ１１及びＲ１２が表す炭素数１以上１０以下のアルコキシ基（アルコキシル基）としては、直鎖状、又は分枝状のいずれでもよく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。炭素数１以上１０以下のアルコキシ基としては、望ましくは１以上８以下のアルコキシル基、より望ましくは１以上６以下のアルコキシル基である。
【００６４】
第２電子受容性化合物の具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。
【００６５】
【化９】
2017062423.tif 000011
【００６６】
【化１０】
2017062423.tif 000012
【００６７】
【化１１】
2017062423.tif 000013
【００６８】
無機粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ωｃｍ以上１０１１Ωｃｍ以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
【００６９】
無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ２／ｇ以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
【００７０】
無機粒子の含有量は、例えば、樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
【００７１】
無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。
【００７２】
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。
【００７３】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００７４】
シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００７５】
表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。
【００７６】
表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。
【００７７】
ここで、下引層は、無機粒子と共に前記電子受容性化合物（第１電子受容性化合物、必要に応じて第２電子受容性化合物）を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。
【００７８】
電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。
【００７９】
電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着させる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。
【００８０】
乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。
【００８１】
湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。
【００８２】
なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。
【００８３】
下引層が、金属酸化物粒子を含有する場合、電子受容性化合物の合計含有量（第１電子受容性化合物及び第２電子受容性化合物を含む場合はそれらの合計含有量）は、化学反応又は吸着する相手である金属酸化物粒子の表面積及び含有量と、各材料の電子輸送能力から決められるが、通常は０．０１質量％以上２０質量％以下の範囲がよく、より望ましくは０．１質量％以上１０質量％以下の範囲である。電子受容性化合物の含有量が０．１質量％以上であると電子受容性化合物の効果が発現し易い。また、電子受容性化合物の含有量が２０質量％以下であると金属酸化物粒子同士の凝集が抑制され、金属酸化物粒子が下引層内で分布が均等になり易く、良好な導電路を形成し易い。そのため、残留電位の上昇が抑制され、ゴーストの発生が効果的に抑制される。
【００８４】
また、ゴーストの発生をより効果的に抑制する観点から、金属酸化物粒子１００質量部に対して一般式（Ａ）で表される電子受容性化合物（第１電子受容性化合物）を１質量部以上５質量部以下含有することが好ましく、１．５質量部以上４．５質量部以下含有することがより好ましい。なお、下引層が２種以上の第１電子受容性化合物を含む場合は、金属酸化物粒子１００質量部に対する２種以上の第１電子受容性化合物の合計含有量が上記範囲にあることが好ましい。
【００８５】
下引層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
【００８６】
これらの中でも、下引層に用いる樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【００８７】
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
【００８８】
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００８９】
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００９０】
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００９１】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００９２】
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００９３】
下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／（４ｎ）（ｎは上層の屈折率）から（１／２）λまでに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
【００９４】
下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。
【００９５】
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
【００９６】
下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。
【００９７】
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【００９８】
下引層の膜厚は、例えば、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。
【００９９】
（中間層）
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【０１００】
これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。
【０１０１】
中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【０１０２】
中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。
【０１０３】
（電荷発生層）
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と樹脂とを含む層である。また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。
【０１０４】
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等が挙げられる。
【０１０５】
これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン；特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン；特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン；特開平４−１８９８７３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより好ましい。
【０１０６】
一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；チオインジゴ系顔料；ポルフィラジン化合物；酸化亜鉛；三方晶系セレン；特開２００４−７８１４７号公報、特開２００５−１８１９９２号公報に開示されたビスアゾ顔料等が好ましい。
【０１０７】
４５０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下に発光の中心波長があるＬＥＤ，有機ＥＬイメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合にも、上記電荷発生材料を用いてもよいが、解像度の観点より、感光層を２０μｍ以下の薄膜で用いるときには、感光層中の電界強度が高くなり、基体からの電荷注入による帯電低下、いわゆる黒点と呼ばれる画像欠陥を生じやすくなる。これは、三方晶系セレン、フタロシアニン顔料等のｐ−型半導体で暗電流を生じやすい電荷発生材料を用いたときに顕著となる。
【０１０８】
これに対し、電荷発生材料として、縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、アゾ顔料等のｎ−型半導体を用いた場合、暗電流を生じ難く、薄膜にしても黒点と呼ばれる画像欠陥を抑制し得る。ｎ−型の電荷発生材料としては、例えば、特開２０１２−１５５２８２号公報の段落［０２８８］〜［０２９１］に記載された化合物（ＣＧ−１）〜（ＣＧ−２７）が挙げられるがこれに限られるものではない。
なお、ｎ−型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをｎ−型とする。
【０１０９】
電荷発生層に用いる樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、樹脂としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。
樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上であることをいう。
これらの樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
【０１１０】
なお、電荷発生材料と樹脂の配合比は、質量比で１０：１から１：１０までの範囲内であることが好ましい。
【０１１１】
電荷発生層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１１２】
電荷発生層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。なお、電荷発生層の形成は、電荷発生材料の蒸着により行ってもよい。電荷発生層の蒸着による形成は、特に、電荷発生材料として縮環芳香族顔料、ペリレン顔料を利用する場合に好適である。
【０１１３】
電荷発生層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等が挙げられる。これら溶剤は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いる。
【０１１４】
電荷発生層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式等が挙げられる。
なお、この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、更に好ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
【０１１５】
電荷発生層形成用塗布液を下引層上（又は中間層上）に塗布する方法としては、例えばブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１１６】
電荷発生層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、より好ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１１７】
（電荷輸送層）
電荷輸送層は、例えば、電荷輸送材料と樹脂とを含む層である。電荷輸送層は、高分子電荷輸送材料を含む層であってもよい。
【０１１８】
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物；キサントン系化合物；ベンゾフェノン系化合物；シアノビニル系化合物；エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。電荷輸送材料としては、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物も挙げられる。これらの電荷輸送材料は１種を単独で又は２種以上で用いられるが、これらに限定されるものではない。
【０１１９】
電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体が好ましい。
【０１２０】
【化１２】
2017062423.tif 000014
【０１２１】
構造式（ａ−１）中、ＡｒＴ１、ＡｒＴ２、及びＡｒＴ３は、各々独立に置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＲＴ４）＝Ｃ（ＲＴ５）（ＲＴ６）、又は−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）を示す。ＲＴ４、ＲＴ５、ＲＴ６、ＲＴ７、及びＲＴ８は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
【０１２２】
【化１３】
2017062423.tif 000015
【０１２３】
構造式（ａ−２）中、ＲＴ９１及びＲＴ９２は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、又は炭素数１以上５以下のアルコキシ基を示す。ＲＴ１０１、ＲＴ１０２、ＲＴ１１１及びＲＴ１１２は各々独立に、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ（ＲＴ１２）＝Ｃ（ＲＴ１３）（ＲＴ１４）、又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）を示し、ＲＴ１２、ＲＴ１３、ＲＴ１４、ＲＴ１５及びＲＴ１６は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。Ｔｍ１、Ｔｍ２、Ｔｎ１及びＴｎ２は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
【０１２４】
ここで、構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び前記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度の観点で好ましい。
【０１２５】
高分子電荷輸送材料としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報等に開示されているポリエステル系の高分子電荷輸送材は特に好ましい。なお、高分子電荷輸送材料は、単独で使用してよいが、樹脂と併用してもよい。
【０１２６】
電荷輸送層に用いる樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの中でも、樹脂としては、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂が好適である。これらの樹脂は１種を単独で又は２種以上で用いる。
なお、電荷輸送材料と樹脂との配合比は、質量比で１０：１から１：５までが好ましい。
【０１２７】
電荷輸送層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１２８】
電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
【０１２９】
電荷輸送層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類；テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状又は直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
【０１３０】
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１３１】
電荷輸送層の膜厚は、例えば、好ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１３２】
（保護層）
保護層は、必要に応じて感光層上に設けられる。保護層は、例えば、帯電時の感光層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善する目的で設けられる。
そのため、保護層は、硬化膜（架橋膜）で構成された層を適用することがよい。これら層としては、例えば、下記１）又は２）に示す層が挙げられる。
【０１３３】
１）反応性基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に有する反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり当該反応性基含有電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む層）
２）非反応性の電荷輸送材料と、電荷輸送性骨格を有さず、反応性基を有する反応性基含有非電荷輸送材料と、を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり、非反応性の電荷輸送材料と、当該反応性基含有非電荷輸送材料の重合体又は架橋体と、を含む層）
【０１３４】
反応性基含有電荷輸送材料の反応性基としては、連鎖重合性基、エポキシ基、−ＯＨ、−ＯＲ［但し、Ｒはアルキル基を示す］、−ＮＨ２、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳｉＲＱ１３−Ｑｎ（ＯＲＱ２）Ｑｎ［但し、ＲＱ１は水素原子、アルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表し、ＲＱ２は水素原子、アルキル基、トリアルキルシリル基を表す。Ｑｎは１〜３の整数を表す］等の周知の反応性基が挙げられる。
【０１３５】
連鎖重合性基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、ビニルフェニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基等が挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、連鎖重合性基としては、ビニル基、ビニルフェニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基であることが好ましい。
【０１３６】
反応性基含有電荷輸送材料の電荷輸送性骨格としては、電子写真感光体における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が好ましい。
【０１３７】
これら反応性基及び電荷輸送性骨格を有する反応性基含有電荷輸送材料、非反応性の電荷輸送材料、反応性基含有非電荷輸送材料は、周知の材料から選択すればよい。
【０１３８】
保護層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１３９】
保護層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた保護層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱等の硬化処理することで行う。
【０１４０】
保護層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル等のセロソルブ系溶剤；イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
なお、保護層形成用塗布液は、無溶剤の塗布液であってもよい。
【０１４１】
保護層形成用塗布液を感光層（例えば電荷輸送層）上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１４２】
保護層の膜厚は、例えば、好ましくは１μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上１０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１４３】
なお、保護層の有無に関わらず、表面の摩耗を抑制して長寿命とする観点から、最表面層がフッ素樹脂を含有することが好ましい。
最表面層に含み得るフッ素樹脂としては、例えば、４フッ化エチレン樹脂、３フッ化塩化エチレン樹脂、２フッ化２塩化エチレン樹脂、６フッ化エチレンプロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、及びこれらの共重合体が挙げられる。これらのフッ素含有樹脂粒子を１種類単独で用いてもよいし、２種類以上混合して用いてもよい。
【０１４４】
フッ素含有樹脂粒子の粒径は平均１次粒径が１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることが望ましく、フッ素含有樹脂粒子の含有量は最表面層に対して５質量％以上１５質量％以下であることが望ましい。フッ素含有樹脂粒子の平均１次粒径は、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）により観察し測定される値であり、無作為に選んだ２５個のフッ素含有樹脂粒子について測定した平均値である。
【０１４５】
（単層型感光層）
単層型感光層（電荷発生／電荷輸送層）は、例えば、電荷発生材料と電荷輸送材料と、必要に応じて、樹脂、及びその他周知の添加剤と、を含む層である。なお、これら材料は、電荷発生層及び電荷輸送層で説明した材料と同様である。
そして、単層型感光層中、電荷発生材料の含有量は、全固形分に対して１０質量％以上８５質量％以下がよく、好ましくは２０質量％以上５０質量％以下である。また、単層型感光層中、電荷輸送材料の含有量は、全固形分に対して５質量％以上５０質量％以下がよい。
単層型感光層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。
単層型感光層の膜厚は、例えば、５μｍ以上５０μｍ以下がよく、好ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下である。
【０１４６】
［画像形成装置（及びプロセスカートリッジ）］
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記本実施形態に係る電子写真感光体が適用される。
【０１４７】
本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー像の転写後、帯電前の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置；トナー像の転写後、帯電前に電子写真感光体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。
【０１４８】
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。
【０１４９】
本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。
【０１５０】
なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して脱着されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。
【０１５１】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。
【０１５２】
図７は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図７に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。
【０１５３】
図７におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード１３１と併用してもよい。
【０１５４】
なお、図７には、画像形成装置として、潤滑材１４を電子写真感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。
【０１５５】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。
【０１５６】
−帯電装置−
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
【０１５７】
−露光装置−
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
【０１５８】
−現像装置−
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
【０１５９】
現像装置１１に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。
【０１６０】
−クリーニング装置−
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
【０１６１】
−転写装置−
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０１６２】
−中間転写体−
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
【０１６３】
図８は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図８に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【実施例】
【０１６４】
以下、実施例により本実施形態を詳細に説明するが、本実施形態は、これら実施例に何ら限定されるものではない。なお、以下の説明において、特に断りのない限り、「部」及び「％」はすべて質量基準である。
【０１６５】
［表面処理例１］
酸化亜鉛（商品名：ＭＺ−３００  テイカ株式会社製）１００質量部、シランカップリング剤として３−アミノプロピルトリエトキシシランの１０重量％のトルエン溶液を１０質量部、トルエン２００質量部を混合、攪拌を行い、２時間還流を行った。その後１０ｍｍＨｇにてトルエンを減圧留去し、１３５℃で２時間焼き付け処理を行った。
【０１６６】
［実施例１］
＜電子写真感光体の作製＞
（下引層の形成）
表面処理例１で表面処理した酸化亜鉛：３３質量部、ブロック化イソシアネート（スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）：６質量部、第１電子受容性化合物として下記式（Ａ−Ｉ）で表される電子受容性化合物（前記例示化合物（Ａ−７）に相当）：０．７質量部、メチルエチルケトン：２５質量部を３０分間混合した。
【０１６７】
【化１４】
2017062423.tif 000016
【０１６８】
その後、ブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１、積水化学工業社製）：５質量部、シリコーン樹脂粒子（トスパール１２０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）：３質量部、レベリング剤（シリコーンオイルＳＨ２９ＰＡ、東レダウコーニングシリコーン社製）：０．０１質量部を添加し、サンドミルにて２時間の分散を行い、分散液を得た。
さらに、この分散液を浸漬塗布法にてアルミニウム基材１上に塗布し、１８０℃、３０分の乾燥硬化を行い、厚さ２０μｍの下引層を得た。
【０１６９】
（電荷発生層の形成）
次に、電荷発生材料として、ヒドロキシガリウムフタロシアニンを用い、その１５質量部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイト社製）１０質量部、及びｎ−ブチルアルコール３００質量部からなる混合物をサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液を、上記下引層上に浸漬塗布し、１００℃、１０分乾燥して、膜厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０１７０】
（電荷輸送層の形成）
さらに、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１、１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン  ２００質量部とビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（分子量４万）２８０質量部とをテトラヒドロフラン２０００質量部を加えて溶解した後、４フッ化エチレン樹脂（ダイキン工業社製：ルブロンＬ５  平均粒径３００ｎｍ）５０質量部、シリカ粒子（日本アエロジル社製：Ｒ１０４）１５質量部、及びフッ素系くし形ポリマー（東亜合成社製：ＧＦ４００）１質量部を加え、ホモジナイザー（ＩＫＡ社製：ウルトラタラックス）を用いて５０００ｒｐｍで３時間分散して塗布液を作製した。得られた塗布液を電荷発生層上に塗布し、１３０℃、３０分の乾燥を行うことにより膜厚２５μｍの電荷輸送層を形成した。
これにより、実施例１の感光体１を得た。
【０１７１】
［評価］
以上のようにして得られた感光体を富士ゼロックス社製複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅＣ５５７０に搭載し、図９に示す３５％濃度のハーフトーン画像を形成してゴースト及びカブリの発生について評価した。なお、画像はそれぞれ１００万枚出力し、初期（１枚目）と１００万枚目の画像についてそれぞれ評価した。
【０１７２】
−ゴースト評価−
１０℃、湿度１５％の条件下にて、ゴースト評価用の画像として図９に示すハーフトーン画像を形成した後、次のサイクルで全面ハーフトーン画像を印字し、ハーフトーン画像上に浮き出たゴースト画像を以下の基準に基づいて評価した。結果を表１に示す。
Ｇ１：発生なし
Ｇ２：極軽微に発生
Ｇ３：軽微に発生。実使用上問題なし
Ｇ４：軽微に発生。実使用上問題あり
Ｇ５：発生
【０１７３】
−カブリ評価−
温度２０℃、湿度２５％の条件下にて画像を出力し、カブリの程度を目視により以下の基準にて評価した。結果を表１に示す。
Ｇ１：発生なし
Ｇ２：極軽微に発生
Ｇ３：軽微に発生。実使用上問題なし
Ｇ４：軽微に発生。実使用上問題あり
Ｇ５：発生
【０１７４】
［実施例２乃至３]
実施例１における下引層の形成において、式（Ａ−Ｉ）で表される電子受容性化合物０．７質量部に代えて、表１に示す添加量で式（Ａ−Ｉ）で表される電子受容性化合物及び第２電子受容性化合物を用いたこと以外は実施例１と同様にして感光体を作製し、評価を行った。
【０１７５】
［実施例４乃至６]
実施例１における下引層の形成において、第１電子受容性化合物として式（Ａ−Ｉ）で表される電子受容性化合物０．７質量部に代えて、表１に示す添加量で下記式（Ａ−ＩＩ）で表される電子受容性化合物（前記例示化合物（Ａ−３）に相当）及び第２電子受容性化合物を用いたこと以外は実施例１と同様にして感光体を作製し、評価を行った。
【０１７６】
【化１５】
2017062423.tif 000017
【０１７７】
［比較例１乃至３］
実施例１における下引層の形成において、式（Ａ−Ｉ）で表される電子受容性化合物に代えて、表１に示す電子受容性化合物を用いたこと以外は実施例１と同様にして感光体を作製し、評価を行った。
【０１７８】
［実施例７乃至８］
実施例１における下引層の形成において、式（Ａ−Ｉ）で表される電子受容性化合物０．７質量部に代えて、表１に示す添加量で下記式（Ａ−III）で表される電子受容性化合物（前記例示化合物（Ａ−３１）に相当）及び第２電子受容性化合物を用いたこと以外は実施例１と同様にして感光体を作製し、評価を行った。
【０１７９】
【化１６】
2017062423.tif 000018
【０１８０】
［実施例９乃至１０］
実施例１における下引層の形成において、式（Ａ−Ｉ）で表される電子受容性化合物０．７質量部に代えて、表１に示す添加量で下記式（Ａ−ＩＶ）で表される電子受容性化合物（前記例示化合物（Ａ−１２）に相当）及び第２電子受容性化合物を用いたこと以外は実施例１と同様にして感光体を作製し、評価を行った。
【０１８１】
【化１７】
2017062423.tif 000019
【０１８２】
【表１】
2017062423.tif 000020
【０１８３】
上記結果から、下引層が一般式（Ａ）で表される電子受容性化合物（第１電子受容性化合物）を含む電子写真感光体を用いた場合、画像形成を繰り返した場合のゴーストの発生が抑制され、特に金属酸化物粒子１００質量部に対して第１電子受容性化合物を１質量部以上５質量部以下の範囲で含有する電子写真感光体（実施例１、２、４、５、７、９）ではゴーストの発生が顕著に抑制されることがわかる。
また、実施例３と実施例６では、実施例６よりも実施例３の方が１００万枚印刷後のカブリの発生が抑制されている。これは、第１電子受容性化合物の電子吸引性基が相違するためと考えられる。
【符号の説明】
【０１８４】
１  導電性基材、２  下引層、３  感光層、４  中間層、５  保護層、７  電子写真感光体、８  帯電装置、９  露光装置、１１  現像装置、１３  クリーニング装置、１４  潤滑材、３１  電荷発生層、３２  電荷輸送層、４０  転写装置、５０  中間転写体、１００  画像形成装置、１２０  画像形成装置、３００  プロセスカートリッジ
【図１】
2017062423.tif 000023
【図２】
2017062423.tif 000024
【図３】
2017062423.tif 000025
【図４】
2017062423.tif 000026
【図５】
2017062423.tif 000027
【図６】
2017062423.tif 000028
【図７】
2017062423.tif 000029
【図８】
2017062423.tif 000030
【図９】
2017062423.tif 000031