(57)【要約】【課題】ウェルドラインを生じることなく、シャフトの外周に層形成材料層を形成することができる塗布装置を提供する。【解決手段】シャフト１と同心環状の貫通孔１１が穿孔された底部１２と、底部１２からシャフト１の軸方向に沿って形成された、シャフト１の外周を囲繞する環状解放空間１３と、を有する環状塗布部材を備えてなり、環状解放空間１３が、第１の層形成材料収容部１４と第２の層形成材料収容部１５とを有し、貫通孔１１、第１の層形成材料収容部１４、第２の層形成材料収容部１５の順で連接されてなり、第１の層形成材料収容部１４と第２の層形成材料収容部１５との境界に材料供給孔１６を有し、シャフト１の軸方向に直交する向きにおける、貫通孔１１の断面積、第１の層形成材料収容部１４の断面積、第２の層形成材料収容部１５の断面積が、第２の層形成材料収容部１５から連続的または断続的に小さくなる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
シャフトの外周に層形成材料を塗布する塗布装置において、
前記シャフトと同心環状の貫通孔が穿孔された底部と、該底部から前記シャフトの軸方向に沿って形成された、前記シャフトの外周を囲繞する環状解放空間と、を有する環状塗布部材を備えてなり、
前記環状解放空間が、第１の層形成材料収容部と第２の層形成材料収容部とを有し、前記貫通孔、前記第１の層形成材料収容部、前記第２の層形成材料収容部の順で連接されてなり、
前記第１の層形成材料収容部と前記第２の層形成材料収容部との境界に材料供給孔を有し、
前記シャフトの軸方向に直交する向きにおける、前記貫通孔の断面積、前記第１の層形成材料収容部の断面積、および前記第２の層形成材料収容部の断面積が、前記第２の層形成材料収容部から連続的または断続的に小さくなることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記第１の層形成材料収容部の内壁が、前記シャフトの軸方向に対して平行である請求項１記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布装置に関し、詳しくは、ウェルドラインを生じることなく、シャフトの外周に層形成材料層を形成することができる塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、複写機やプリンタ、ファクシミリ等の電子写真方式を用いた画像形成装置においては、画像形成の各工程で、転写ローラや現像ローラ、トナー供給ローラ、帯電ローラ、クリーニングローラ、中間転写ローラ、ベルト駆動ローラ等の、導電性を付与した導電性ローラが用いられている。導電性ローラは、通常、シャフトとその外周に弾性層、中間層、表層を備えている。弾性層を設ける方法としては、ロールコート、ディップが知られており、表層を設ける方法として、ロールコート、ディップ、ダイコート、リングコートが知られている。中でもリングコートは、材料の無駄を削減することができる点で優れている。
【０００３】
今日、シャフトの外周に弾性層を設ける塗布装置として、リングコートを用いた塗布装置が提案されている。例えば、特許文献１では、シャフトを固定する固定部材と、シャフトとの間に同心環状の間隙を形成する貫通孔が穿孔された底部および底部から軸線に沿って形成されシャフトの周面を囲繞する環状開放空間を有する環状塗布部材とを備えて成る塗布装置が提案されている。この塗布装置では、環状塗布部材の一部に塗料を溜めて、シャフトと貫通孔の隙間から層形成材料を流出させることで塗工層を形成している。そのため、層形成材料の供給量が安定し、シャフトの外周面に均一な膜厚の弾性薄層を形成することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１２−１７６３７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載の塗布装置においては、層厚が０．５ｍｍ〜５ｍｍの弾性層を形成することは可能である。しかしながら、弾性層は表層よりも約１０００倍の厚さを有し、層厚が５ｍｍを超える場合もあり、このような場合、ウェルドラインが生じることなく、均一な弾性層を得ることは困難である。したがって、引用文献１に記載の発明では、ウェルドラインの抑制に関しては、必ずしも十分でない。
【０００６】
そこで、本発明の目的は、ウェルドラインを生じることなく、シャフトの外周に層形成材料層を形成することができる塗布装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を解消するために鋭意検討した結果、塗布装置の環状塗布部材の内部形状および環状塗布部材の底面に設けられた貫通孔の形状が、所定の条件を満足することで層形成材料の流れを制御することができ、その結果、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
すなわち、本発明の塗布装置は、シャフトの外周に層形成材料を塗布する塗布装置において、
前記シャフトと同心環状の貫通孔が穿孔された底部と、該底部から前記シャフトの軸方向に沿って形成された、前記シャフトの外周を囲繞する環状解放空間と、を有する環状塗布部材を備えてなり、
前記環状解放空間が、第１の層形成材料収容部と第２の層形成材料収容部とを有し、前記貫通孔、前記第１の層形成材料収容部、前記第２の層形成材料収容部の順で連接されてなり、
前記第１の層形成材料収容部と前記第２の層形成材料収容部との境界に材料供給孔を有し、
前記シャフトの軸方向に直交する向きにおける、前記貫通孔の断面積、前記第１の層形成材料収容部の断面積、および前記第２の層形成材料収容部の断面積が、前記第２の層形成材料収容部から連続的または断続的に小さくなることを特徴とするものである。
【０００９】
本発明の塗布装置においては、前記第１の層形成材料収容部の内壁が、前記シャフトの軸方向に対して平行であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、ウェルドラインを生じることなく、シャフトの外周に層形成材料層を形成することができる塗布装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一好適な実施の形態に係る塗布装置の概略側面図である。
【図２】本発明の一好適な実施の形態に係る塗布装置の環状塗布部材のシャフト軸方向に沿う概略断面図である。
【図３】本発明の他の好適な実施の形態に係る塗布装置の環状塗布部材のシャフト軸方向に沿う概略断面図である。
【図４】本発明のさらに他の好適な実施の形態に係る塗布装置の環状塗布部材のシャフト軸方向に沿う概略断面図である。
【図５】本発明のさらに他の好適な実施の形態に係る塗布装置の環状塗布部材のシャフト軸方向に沿う概略断面図である。
【図６】比較例で用いた環状塗布部材のシャフト方向に沿う概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態を図面を用いて詳細に説明する。
図１は、本発明の一好適な実施の形態に係る塗布装置の概略側面図である。本発明の塗布装置１００は、環状塗布部材１０にてシャフト１の外周に層形成材料２を塗布するものであり、環状塗布部材１０が、シャフト１の軸方向に移動可能に備えられており、環状塗布部材１０が上方に向かって移動する際に、シャフト１に層形成材料２を塗布する。図示例においては、基台３と、基台３上に設けられた支柱４と、支柱４の先端から略水平に延在する天板５と、基台３および天板５のそれぞれに略垂直に固定された、シャフト１を支持する一対の支持部材６ａ、６ｂと、支持部材６ａ、６ｂのそれぞれの端部に着脱自在に設けられた一対の装着部材７ａ、７ｂと、弾性層形成材料２を吐出する環状塗布部材１０をシャフト１の軸方向に移動させる移動手段８と、を備えている。
【００１３】
図２は、本発明の一好適な実施の形態に係る塗布装置の環状塗布部材のシャフト軸方向に沿う概略断面図である。本発明の塗布装置１００に係る環状塗布部材１０は、シャフト１と同心環状の貫通孔１１が穿孔された底部１２と、底部１２からシャフト１の軸方向に沿って形成された、シャフト１の外周を囲繞する環状解放空間と１３、を有する。本発明に係る環状塗布部材１０においては、環状解放空間１３が、第１の層形成材料収容部１４と第２の層形成材料収容部１５とを有し、第１の層形成材料収容部１４と第２の層形成材料収容部１５との境界には、層形成材料を供給する材料供給孔１６を有している。この材料供給孔１６は１つでもよいが、周方向に等間隔に複数個設けてもよい。
【００１４】
したがって、本発明に係る環状塗布部材１０においては、材料供給孔１６から供給された層形成材料は、第１の層形成材料収容部１４および第２の層形成材料収容部１５に順次収容され、加圧しなくても自重で貫通孔１１から流出し、シャフト１の外周面に層形成材料２を塗布することができる。貫通孔１１の孔径は、層形成材料２を塗布するシャフト１の径よりも大きくする必要があるが、層形成材料の吐出量、粘度等に応じて適宜に調整すればよい。
【００１５】
また、本発明に係る環状塗布部材１０においては、シャフト１の軸方向に直交する向きにおける、第２の層形成材料収容部１５の断面積、第１の層形成材料収容部１４の断面積および貫通孔１１の断面積が、第２の層形成材料収容部１５から順に、連続的または断続的に小さくなる。図２に示す例においては、第２の層形成材料収容部１５の断面積、第１の層形成材料収容部１４の断面積、および貫通孔１１の断面積は、断続的に小さくなっている。
【００１６】
このように、環状塗布部材１０とシャフト１との間にできる環状開放空間１３を、第１、第２の層形成材料収容部１４、１５に区分けし、順次、断面積を狭くして層形成材料の流路を絞ることにより、層形成材料の流れを整えることができ、これにより、一定量の層形成材料を供給することが可能になる。その結果、層形成材料２の塗工層の表面にローラ周方向のスジであるウェルドラインの発生を抑制することができる。本発明の環状塗布部材１０の他の好適な実施の形態としては、図３〜５が挙げられる。
【００１７】
例えば、図３に示すように、第２の層形成材料収容部１５の断面積が連続的に小さくなり、第１の層形成材料収容部１４が一定の断面積を有している形状でもよく、また、図４および図５に示すように、第２の層形成材料収容部１５および第１の層形成材料収容部１４の断面積が連続的に小さくなる形状としてもよい。図４に示す例では、第１の層形成材料収容部１４の断面積は、第２の層形成材料収容部１５よりも緩やかに減少している。これに対して、図５に示す例では、第２の層形成材料収容部１５の断面積は、第１の層形成材料収容部１４よりも緩やかに減少している。特に好ましくは、図２および３に示すように、第１の層形成材料収容部１４の内壁１４ａがシャフトの軸方向対して平行な形状である。第１の層形成材料収容部１４の内壁１４ａが、シャフト軸方向に対して平行であれば、傾斜を有している場合と比較して層形成材料の収容量が多くなり、層形成材料を連続的に安定して供給できる。したがって、層形成材料の供給性に優れることになる。
【００１８】
本発明の塗布装置１００においては、貫通孔１１の内面とシャフト１との距離をｂ、第１の層形成材料収容部１４の深さをａ、としたとき、下記式（１）、
０．５≦ａ／ｂ≦５      （１）
で表される関係を満足することが好ましい。上記式（１）で表される関係を満足することで、層形成材料からなる塗工層の表面のウェルドラインの発生を、より効果的に抑制することができる。
【００１９】
本発明の塗布装置１００においては、環状塗布部材１０が上記関係を満たすことが重要であり、これにより、シャフト上にウェルドラインのない形成材料層を形成することができる。そのため、本発明の塗布装置１００は、例えば、画像形成装置の現像ローラ、帯電ローラ、トナー供給ローラ、転写ローラ、給紙ローラ、クリーニングローラ、定着用の加圧ローラ等のシャフトの外周への弾性層の形成に好適に用いることができる。本発明の塗布装置１００においては、環状塗布部材１０以外については、既知の構造を採用することができる。
【００２０】
例えば、基台３および天板５それぞれに略垂直に固定された一対の支持部材６ａ、６ｂは、それぞれは、シャフト１を支持できればよく、筒体、棒体等の形状とすることができる。また、装着部材７ａ、７ｂは、シャフト１の端部に装着され、一対の支持部材６ａ、６ｂと協働して、シャフト１を起立状態に支持するような構成であればよい。さらに、移動手段８としては、ガイドレール８ａと、環状塗布部材１０を端部に装着してガイドレール８ａを走行する装着アーム８ｂと、装着アーム８ｂを走行させる図示しない駆動手段とを挙げることができる。
【００２１】
本発明の塗布装置１００においては、層形成材料２を塗布するシャフト１についても特に制限はなく、既知のものを用いることができる。例えば、シャフト１としては、金属シャフト、金属シャフトの外側に高剛性の樹脂基材を配設したシャフト、高剛性の樹脂基材のみから構成されたシャフト、内部を中空にくりぬいた金属製のシャフトを挙げることができる。なお、シャフトに高剛性の樹脂を使用する場合、高剛性樹脂に導電剤を添加・分散させて、十分に導電性を確保することが好ましい。
【００２２】
シャフト１の材質としては、鉄、ステンレス、アルミニウム等が挙げられ、また、高剛性の樹脂基材としては、ポリアセタール、ポリアミド６、ポリアミド６・６、ポリアミド１２、ポリアミド４・６、ポリアミド６・１０、ポリアミド６・１２、ポリアミド１１、ポリアミドＭＸＤ６、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニレンオキサイド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレンテレフタレート、ポリアリレート、液晶ポリマー、ポリテトラフルオロエチレン、ポリプロピレン、ＡＢＳ樹脂、ポリスチレン、ポリエチレン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリアセタール、ポリアミド６・６、ポリアミドＭＸＤ６、ポリアミド６・１２、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンサルファイド、ポリカーボネートが好ましい。これら高剛性樹脂は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２３】
さらに、高剛性樹脂に分散させる導電剤としては、カーボンブラック粉末、グラファイト粉末、カーボンファイバー、アルミニウム、銅、ニッケル等の金属粉末、酸化スズ、酸化チタン、酸化亜鉛等の金属酸化物粉末、導電性ガラス粉末等の粉末状導電剤が好ましい。これら導電剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらの導電剤の配合量は、特に制限されるものではないが、高剛性樹脂の全体に対して５〜４０質量％の範囲が好ましく、５〜２０質量％の範囲がより好ましい。
【００２４】
さらにまた、シャフト１の外径としては、シャフトが金属シャフトまたは金属シャフトの外側に高剛性の樹脂基材を配設したシャフトである場合、金属シャフトの外径は、４．０〜８．０ｍｍの範囲が好ましい。また、シャフト１が、金属シャフトの外側に高剛性の樹脂基材を配設したシャフトである場合、樹脂基材の外径は、１０〜２５ｍｍの範囲が好ましい。なお、シャフトに高剛性樹脂を使用することで、シャフトの外径を大きくしても、シャフトの質量の増加を抑制することができるという利点を有している。
【００２５】
また、本発明の塗布装置１００に用いる層形成材料２としては、弾性層形成材料を好適に用いることができる。弾性層形成材料としては、ウレタンアクリレートオリゴマー（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）および導電剤（Ｃ）を含む弾性層形成材料が好ましく、シャフト外周に塗布された弾性層形成材料に紫外線を照射することで、弾性層を形成する。本発明の塗布装置１００を用いれば、例えば、弾性層形成材料の粘度が３，０００〜６０，０００ｃＰの範囲のものであれば、ウェルドラインを発生させることなくシャフト１に均一に層形成材料２を塗布することができる。
【００２６】
弾性層形成材料に用いるウレタンアクリレートオリゴマー（Ａ）としては、アクリロイルオキシ基（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ−）を１つ以上有し、ウレタン結合（−ＮＨＣＯＯ−）を複数有する化合物が挙げられる。ウレタンアクリレートオリゴマー（Ａ）の官能基数および分子量等には特に制限はない。ウレタンアクリレートオリゴマー（Ａ）は、例えば、ポリオールとポリイソシアネートとからウレタンプレポリマーを合成し、得られたウレタンプレポリマーに水酸基を有するアクリレートを付加させることによって製造することができる。
【００２７】
ウレタンプレポリマーの合成に用いるポリオールは、水酸基（ＯＨ基）を複数有する化合物であり、ポリオールとして、具体的には、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリテトラメチレングリコール、ポリブタジエンポリオール、アルキレンオキサイド変性ポリブタジエンポリオールおよびポリイソプレンポリオール等を挙げることができる。なお、ポリエーテルポリオールは、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコールに、エチレンオキシドやプロピレンオキシド等のアルキレンオキサイドを付加させて得られ、また、ポリエステルポリオールは、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、プロピレングリコール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン等の多価アルコールと、アジピン酸、グルタル酸、コハク酸、セバシン酸、ピメリン酸、スベリン酸等の多価カルボン酸とから得られる。これらポリオールは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２８】
ポリイソシアネートは、イソシアネート基（ＮＣＯ基）を複数有する化合物であって、具体的には、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、粗製ジフェニルメタンジイソシアネート（クルードＭＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート、水素添加トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）や、これらのイソシアヌレート変性物、カルボジイミド変性物、グリコール変性物等を挙げることができる。これらポリイソシアネートは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２９】
ウレタンプレポリマーの合成においては、ウレタン化反応用の触媒を用いることが好ましい。ウレタン化反応用触媒としては、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズチオカルボキシレート、ジブチルスズジマレエート、ジオクチルスズチオカルボキシレート、オクテン酸スズ、モノブチルスズオキシド等の有機スズ化合物；塩化第一スズ等の無機スズ化合物；オクテン酸鉛等の有機鉛化合物；トリエチルアミン，ジメチルシクロヘキシルアミン等のモノアミン類；テトラメチルエチレンジアミン、テトラメチルプロパンジアミン、テトラメチルヘキサンジアミン等のジアミン類；ペンタメチルジエチレントリアミン、ペンタメチルジプロピレントリアミン、テトラメチルグアニジン等のトリアミン類；トリエチレンジアミン、ジメチルピペラジン、メチルエチルピペラジン、メチルモルホリン、ジメチルアミノエチルモルホリン、ジメチルイミダゾール、ピリジン等の環状アミン類；ジメチルアミノエタノール、ジメチルアミノエトキシエタノール、トリメチルアミノエチルエタノールアミン、メチルヒドロキシエチルピペラジン、ヒドロキシエチルモルホリン等のアルコールアミン類；ビス（ジメチルアミノエチル）エーテル、エチレングリコールビス（ジメチル）アミノプロピルエーテル等のエーテルアミン類；ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、フルオロ硫酸等の有機スルホン酸；硫酸、リン酸、過塩素酸等の無機酸；ナトリウムアルコラート、水酸化リチウム、アルミニウムアルコラート、水酸化ナトリウム等の塩基類；テトラブチルチタネート、テトラエチルチタネート、テトライソプロピルチタネート等のチタン化合物；ビスマス化合物；四級アンモニウム塩等を挙げることができる。これら触媒の中でも、有機スズ化合物が好ましい。これら触媒は、一種単独で用いてもよく、二種以上を併用してもよい。触媒の使用量は、ポリオール１００質量部に対して０．００１〜２．０質量部の範囲が好ましい。
【００３０】
また、ウレタンプレポリマーに付加させる水酸基を有するアクリレートは、水酸基を１つ以上有し、アクリロイルオキシ基（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ−）を１つ以上有する化合物である。水酸基を有するアクリレートは、ウレタンプレポリマーのイソシアネート基に付加することができる。水酸基を有するアクリレートとしては、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等が挙げられる。これら水酸基を有するアクリレートは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３１】
弾性層形成材料に用いる光重合開始剤（Ｂ）は、紫外線を照射されることによって、ウレタンアクリレートオリゴマー（Ａ）、さらには後述するアクリレートモノマー（Ｄ）の重合を開始させる作用を有する。光重合開始剤（Ｂ）としては、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸エステル、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、アセトフェノンジエチルケタール、アルコキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフェノンおよび３，３−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、４，４−ジメトキシベンゾフェノン、４，４−ジアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、ベンゾイル安息香酸アルキル、ビス（４−ジアルキルアミノフェニル）ケトン、ベンジルおよびベンジルメチルケタール等のベンジル誘導体、ベンゾインおよびベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン誘導体、ベンゾインイソプロピルエーテル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、キサントン、チオキサントンおよびチオキサントン誘導体、フルオレン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１，２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（モルホリノフェニル）−ブタノン−１等を挙げることができる。これら光重合開始剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３２】
弾性層形成材料に用いる導電剤（Ｃ）としては、紫外線を透過できるものが好ましく、イオン導電剤や透明な電子導電剤を用いることが好ましく、イオン導電剤を用いることが特に好ましい。イオン導電剤は、ウレタンアクリレートオリゴマー（Ａ）に溶解する上、透明性を有するため、導電剤（Ｃ）としてイオン導電剤を用いた場合、シャフト部材上に弾性層形成材料を厚く塗布しても、紫外線が十分に塗膜内部まで到達し、弾性層用原料を十分に硬化させることができる。ここで、イオン導電剤としては、テトラエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、ドデシルトリメチルアンモニウム、ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウム、変性脂肪酸ジメチルエチルアンモニウム等の過塩素酸塩、塩素酸塩、塩酸塩、臭素酸塩、ヨウ素酸塩、ホウフッ化水素酸塩、硫酸塩、エチル硫酸塩、カルボン酸塩、スルホン酸塩等のアンモニウム塩；リチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ金属、アルカリ土類金属の過塩素酸塩、塩素酸塩、塩酸塩、臭素酸塩、ヨウ素酸塩、ホウフッ化水素酸塩、硫酸塩、トリフルオロメチル硫酸塩、スルホン酸塩等が挙げられる。また、透明な電子導電剤としては、ＩＴＯ、酸化スズ、酸化チタン、酸化亜鉛等の金属酸化物の微粒子；ニッケル、銅、銀、ゲルマニウム等の金属の微粒子：導電性酸化チタンウィスカー、導電性チタン酸バリウムウィスカー等の導電性ウィスカー等が挙げられる。これら導電剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３３】
弾性層形成材料には、さらにアクリレートモノマー（Ｄ）を含めることができる。アクリレートモノマー（Ｄ）は、アクリロイルオキシ基（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ−）を１つ以上有するモノマーであり、反応性希釈剤として作用し、即ち、紫外線で硬化する上、弾性層形成材料の粘度を低下させることが可能である。アクリレートモノマー（Ｄ）は、官能基数が１．０〜１０であることが好ましく、１．０〜３．５であることがさらに好ましい。アクリレートモノマー（Ｄ）は、分子量が１００〜２，０００であることが好ましく、１００〜１，０００であることがさらに好ましい。
【００３４】
アクリレートモノマー（Ｄ）としては、イソミリスチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、エチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソアミルアクリレート、グリシジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等が挙げられる。これらアクリレートモノマーは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３５】
弾性層形成材料において、ウレタンアクリレートオリゴマー（Ａ）とアクリレートモノマー（Ｄ）との質量比（Ａ／Ｄ）は、１００／０〜１０／９０の範囲にあることが好ましい。ウレタンアクリレートオリゴマー（Ａ）とアクリレートモノマー（Ｄ）との総量に占めるウレタンアクリレートオリゴマー（Ａ）の割合を１０質量％以上とすることで（すなわち、アクリレートモノマー（Ｄ）の割合を９０質量％以下とすることで）、導電性弾性ローラに適した低硬度で低圧縮残留歪の弾性層を得ることが可能である。
【００３６】
また、弾性層形成材料における、光重合開始剤（Ｂ）の配合量は、ウレタンアクリレートオリゴマー（Ａ）とアクリレートモノマー（Ｄ）との合計１００質量部に対して、０．２〜５．０質量部の範囲が好ましい。光重合開始剤（Ｂ）の配合量が０．２質量部以下では、弾性層形成材料の紫外線硬化を開始させる効果が小さく、一方、５．０質量部を超えると、紫外線硬化を開始させる効果が飽和する一方、圧縮残留歪等の物性が低下し、弾性層形成材料のコストが高くなる。
【００３７】
さらに、弾性層形成材料における、導電剤（Ｃ）の配合量は、ウレタンアクリレートオリゴマー（Ａ）とアクリレートモノマー（Ｄ）との合計１００質量部に対して、０．１〜５．０質量部の範囲が好ましい。導電剤（Ｃ）の配合量が０．１質量部未満では、弾性層の導電性が低く、導電性弾性ローラに所望の導電性を付与できないことがあり、一方、５．０質量部を超えると、弾性層の導電性が高くならず、圧縮残留歪等の物性が低下し、良好な画像が得られなくなることがある。
【００３８】
また、弾性層形成材料には、さらに重合禁止剤をウレタンアクリレートオリゴマー（Ａ）とアクリレートモノマー（Ｄ）との合計１００質量部に対して０．００１〜０．２質量部添加してもよい。重合禁止剤を添加することで、紫外線照射前の熱重合を防止することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエ−テル、ｐ−メトキシフェノール、２，４−ジメチル−６−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチルヒドロキシアニソール、３−ヒドロキシチオフェノール、α−ニトロソ−β−ナフトール、ｐ−ベンゾキノン、２，５−ジヒドロキシ−ｐ−キノン等が挙げられる。
【実施例】
【００３９】
以下、本発明を、実施例を用いてより詳細に説明する。
＜実施例１〜４＞
図２〜５に示す断面形状を有する環状塗布部材を用いて、シャフト上に弾性層を形成した。環状塗布部材の寸法は下記表１のとおりである。シャフトとしては、外径６．０ｍｍの金属シャフトの外周に、外径１７．０ｍｍとなるようにポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）樹脂を配設したものを用いた。また、弾性層形成材料としては、下記の紫外線（ＵＶ）硬化型のものを用いた。形成したＵＶ硬化樹脂製弾性層付ローラを、さらに窒素雰囲気下で回転させながらＵＶ照射強度７００ｍＷ／ｃｍ２で５秒間ＵＶ照射し、弾性ローラを作製した。
【００４０】
＜比較例＞
図６に示す断面形状を有する環状塗布部材を用いたこと以外は、実施例１〜４と同様の手法により、弾性ローラを作製した。なお、比較例で用いた環状塗布部材は、環状開放空間が区画されておらず、第１の層形成材料収容部と、第２の層形成材料収容部とが一体となった形状である。
【００４１】
＜評価＞
作製した実施例１〜４および比較例の各弾性層につき、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に準拠して、算術平均うねりＷａを算出した。算術平均うねりＷａが０．３ｍｍ以下の場合を○、０．３ｍｍよりも大きい場合を×とした。結果を表１に併記する。
【００４２】
＜弾性層形成材料＞
ウレタンアクリレートオリゴマー（ＵＡ−３４０Ｐ：新中村化学工業（株）製）８０．０質量部、アクリレートモノマー（ライトアクリレートＭＴＧ−Ａ：共栄社化学（株）製）２０．０質量部、光重合開始剤（イルガキュアー１８４Ｄ：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．５質量部、イオン導電剤（サンコノール（登録商標）ＰＥＯ−２０Ｒ（ポリアルキレンオキシドポリオール８０質量％とＬｉ（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ  ２０質量％との混合物）：三光化学工業（株）製）２．０質量部を撹拌機にて、液温７０℃、６０回転／分で１時間撹拌混合し、混合液を濾過して弾性層形成材料を得た。なお、弾性層形成材料の粘度は１０，０００ｃＰであった。
【００４３】
【表１】
2017176941.tif 000003
【００４４】
上記表１より、本発明の塗布装置を用いれば、シャフト上にウェルドラインが発生せず、均一な層を形成することができることがわかる。
【符号の説明】
【００４５】
１  シャフト
２  層形成材料
３  基台
４  支柱
５  天板
６  支持部材
７  装着部材
８  移動手段
１０  環状塗布部材
１１  貫通孔
１２  底部
１３  環状開放空間
１４  第１の層形成材料収容部
１５  第２の層形成材料収容部
１６  材料供給孔
１００  塗布装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
2017176941.tif 000007
【図５】
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【図６】
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