(57)【要約】【課題】透過型の電気光学装置において、明るさとコントラストをより向上させる。【解決手段】液晶パネル１００は、マイクロレンズ１０２１を透過した光を出射する素子基板１０２と、素子基板１０２から入射した光を透過する液晶１０５と、液晶１０５から出射した光を透過する対向基板１０３と、素子基板１０２の光出射側に設けられた光学補償板２０１とを有する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロレンズを透過した光を出射する素子基板と、
前記素子基板から入射した光を透過する電気光学層と、
前記電気光学層から入射した光を透過する対向基板と、
前記素子基板の光出射側に設けられた光学補償板と
を有する電気光学装置。
【請求項２】
前記光学補償板が、前記対向基板の光出射側に設けられている
ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記光学補償板が、前記電気光学層の光出射側かつ前記対向基板の光入射側に設けられている
ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記素子基板の前記電気光学層側に設けられた画素電極を有し、
前記光学補償板が、前記画素電極の前記素子基板側に設けられている
ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記光学補償板が、無機材料により形成されている
ことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記光学補償板が、１軸性位相差板を含む
ことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記光学補償板は、Ｃプレートを含む
ことを特徴とする請求項６に記載の電気光学装置。
【請求項８】
前記光学補償板は、２軸性位相差板を含む
ことを特徴とする請求項１ないし７のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれか一項に記載の電気光学装置を有する電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は電気光学装置及び電気光学装置を組み込んだ電子機器に関し、特に、マイクロレンズアレイを備える電気光学装置及びこれを用いた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えばプロジェクターのライトバルブとして用いられる液晶パネルにおいて、基板上の配線による開口率の低下に起因するコントラスト低下を改善する技術が知られている。特許文献１には、液晶セルの光軸に対して傾斜および回転可能な光学補償板を有する液晶装置が記載されている。特許文献２には、対向基板側から光を入射する液晶表示装置において素子基板側にマイクロレンズを設ける技術が記載されている。特許文献３には、対向基板側から光を入射する液晶表示装置においてマイクロレンズによる回折の影響を２枚の位相差板を用いて補償する技術が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−１６４３７３号公報
【特許文献２】特開２００３−１４０１２７号公報
【特許文献３】特開２０１３−１７８５５６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１においては、光の利用効率が十分でないという問題があった。特許文献２および３においては、液晶層から出射した光が素子基板の素子等により回折され、マイクロレンズによる集光の効果が薄れてしまい、光利用効率が低下する、また、コントラストが低下するという問題があった。
【０００５】
これに対し本発明は、電気光学装置及び電子機器において、光の利用効率及びコントラストをより向上させる技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、マイクロレンズを透過した光を出射する素子基板と、前記素子基板から入射した光を透過する電気光学層と、前記電気光学層から入射した光を透過する対向基板と、前記素子基板の光出射側に設けられた光学補償板とを有する電気光学装置を提供する。
この電気光学装置によれば、入射光をマイクロレンズにより集光し、光を効率よく素子基板から電気光学層に入射させるとともに、電気光学層からの回折光が抑制された光が光学補償板により電気光学層等で生じる位相差(復等屈折効果)等を効果的に打ち消す（補償）ことができる。例えば、入射光である光源からの光を効率よく出射でき、さらに、電気光学層から出射した光を出射側の偏光板における光の漏れを生じさせないように出射できる。従って、電気光学装置の明るさ（光利用効果）を向上できるとともにコントラストを向上させることができる。
【０００７】
前記光学補償板が、前記対向基板の光出射側に設けられていてもよい。
この電気光学装置によれば、光学補償板を電気光学装置に容易に形成することができる。例えば、対向基板に有機膜または無機膜を形成することで光学補償板を形成できる。また、別体の有機膜または無機膜が形成された光学補償板（ガラス、フィルム）を対向基板に接着剤で張り付けることで形成できる。
【０００８】
前記光学補償板が、前記電気光学層の光出射側かつ前記対向基板の光入射側に設けられていてもよい。
この電気光学装置によれば、電気光学層からの出射光が、対向基板より前に光学補償板に入射し、回折光がより抑制され、電気光学層で生じる位相差をより効果的に補償できる。
【０００９】
前記素子基板の前記電気光学層側に設けられた画素電極を有し、前記光学補償板が、前記画素電極の素子基板側に設けられていてもよい。
この電気光学装置によれば、光が光学補償板に入射して電気光学層から出射し、回折光がより抑制され、電気光学層で生じる位相差をより効果的に補償できる。
【００１０】
前記光学補償板が、無機材料により形成されていてもよい。
この電気光学装置によれば、光学補償板の耐光性と耐熱性が向上した電気光学装置が形成できる。
【００１１】
前記光学補償板が、１軸性位相差板を含んでいてもよい。
この電気光学装置によれば、位相差を１軸補償することができる。
【００１２】
前記光学補償板は、Ｃプレートを含んでもよい。
この電気光学装置によれば、位相差を補償することができる。
【００１３】
前記光学補償板は、２軸位相差板を含んでいてもよい。
この電気光学装置によれば、位相差を２軸補償することができる。
【００１４】
また、本発明の一実施形態に係る電子機器は、上記の本発明に係る電気光学装置を備える。
この電子機器によれば、明るさとコントラストを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】一実施形態に係るプロジェクター２１００の構成を例示する図。
【図２】一実施形態に係る液晶パネル１００の電気的構成を例示する図。
【図３】画素１１１の等価回路を示す図。
【図４】一実施形態に係る液晶パネル１００の断面構造の概要を例示する図。
【図５】液晶パネル１００における光路を比較例と対比する図。
【図６】変形例１に係る液晶パネル１００の構造を例示する図。
【図７】変形例２に係る液晶パネル１００の構造を例示する図。
【図８】変形例３に係る液晶パネル１００の構造を例示する図。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
１．構成
図１は、一実施形態に係るプロジェクター２１００の構成を例示する図である。プロジェクター２１００は、映像信号に応じた映像をスクリーン２１２０に投写する表示装置である電子機器の一例である。プロジェクター２１００において、投写光は複数の色成分（この例では３原色）に分離され、色成分毎に個別のライトバルブ（光変調器）によって変調される。プロジェクター２１００は、ランプユニット２１０２、ミラー２１０６、ダイクロイックミラー２１０８、ライトバルブ２１５０Ｒ、ライトバルブ２１５０Ｇ、ライトバルブ２１５０Ｂ、ダイクロイックプリズム２１１２、投写レンズ群２１１４、およびリレーレンズ系２１２１を有する。
【００１７】
ランプユニット２１０２は、投写光を照射する。投写光は、３枚のミラー２１０６および２枚のダイクロイックミラー２１０８によってＲ（赤）色、Ｇ（緑）色、Ｂ（青）色の３原色に分離される。分離された投写光は、各原色に対応するライトバルブ２１５０Ｒ、２１５０Ｇ、および２１５０Ｂにそれぞれ導かれる。なお、Ｂ色の光は、他のＲ色やＧ色と比較すると光路が長いので、その損失を防ぐために、リレーレンズ系２１２１を介してライトバルブ２１５０Ｂに導かれる。リレーレンズ系２１２１は、入射レンズ２１２２、リレーレンズ２１２３、および出射レンズ２１２４を含む。
【００１８】
ライトバルブ２１５０Ｒ、２１５０Ｇ、および２１５０Ｂは、色成分毎の映像信号に応じて駆動される。ライトバルブ２１５０Ｒ、２１５０Ｇ、および２１５０Ｂによってそれぞれ変調された光は、ダイクロイックプリズム２１１２に３方向から入射する。そして、ダイクロイックプリズム２１１２において、Ｒ色およびＢ色の光は９０°に屈折し、Ｇ色の光は直進する。したがって、各原色の画像が合成された後、スクリーン２１２０には、投写レンズ群２１１４によってカラー画像が投写される。
【００１９】
なお、ライトバルブ２１５０Ｒ、２１５０Ｇ、および２１５０Ｂには、ダイクロイックミラー２１０８によって、Ｒ色、Ｇ色、Ｂ色のそれぞれに対応する光が入射するので、カラーフィルタを設ける必要はない。また、ライトバルブ２１５０Ｒ、２１５０Ｂの透過像は、ダイクロイックプリズム２１１２により反射した後に投写されるのに対し、ライトバルブ２１５０Ｇの透過像はそのまま投写される。したがって、ライトバルブ２１５０Ｒ、２１５０Ｂによる水平走査方向は、ライトバルブ２１５０Ｇによる水平走査方向と逆向きにして、左右を反転させた像を表示する構成となっている。
【００２０】
以下において、ライトバルブ２１５０Ｒ、２１５０Ｇ、および２１５０Ｂの各々を区別しないときは単にライトバルブ２１５０という。ライトバルブ２１５０は、電気光学装置の一例である液晶パネルを含む。
【００２１】
図２は、一実施形態に係る液晶パネル１００の電気的構成を例示する図である。液晶パネル１００は、制御回路１０から供給される信号に応じて画像を表示する装置である。制御回路１０は、走査制御回路２０および映像処理回路３０を含む。液晶パネル１００は、表示領域１０１、走査線駆動回路１３０、およびデータ線駆動回路１４０を有する。表示領域１０１は、ｍ行ｎ列のマトリクス状に配置された画素１１１を有する。走査制御回路２０は、同期信号Ｓｙｎｃに応じて制御信号Ｙｃｔｒおよび制御信号Ｘｃｔｒを生成する。制御信号Ｙｃｔｒは走査線駆動回路１３０を制御する信号である。制御信号Ｘｃｔｒはデータ線駆動回路１４０を制御する信号である。映像処理回路３０は、同期信号Ｓｙｎｃおよび入力映像信号Ｖｉｄ−ｉｎに応じてデータ信号Ｖｘを生成する。データ信号Ｖｘは、各画素１１１に印加される電圧を示す信号である。
【００２２】
画素１１１は、走査線駆動回路１３０およびデータ線駆動回路１４０から供給される信号に応じた光学状態を示す。液晶パネル１００は、表示領域１０１における複数の画素１１１の光学状態を制御することにより画像を表示する。
【００２３】
液晶パネル１００は、素子基板１０２、対向基板１０３、および液晶１０５を有する。素子基板１０２および対向基板１０３は、それぞれガラスまたは石英などの透光性を有する基板を有する。素子基板１０２と対向基板１０３とは、一定の間隙を保って貼り合わせられている。この間隙（ギャップ）に、液晶１０５が挟まれている。液晶１０５は、印加される電圧に応じて光学状態が変化する電気光学層の一例であり、例えば負の誘電率異方性を有するＶＡ（Vertical Alignment）型の液晶である。
【００２４】
素子基板１０２は、液晶１０５を挟む２枚の基板のうちスイッチング素子が形成された基板である。素子基板１０２は、対向基板１０３と対向する面において、ｍ本の走査線１１２およびｎ本のデータ線１１４を有する。走査線１１２は第１方向（図では横方向）に沿って、データ線１１４は第２方向（図では縦方向）に沿って、それぞれ設けられており、互いに絶縁されている。ここでは、走査線１１２が延びる方向をＸ方向といい、データ線１１４が延びる方向をＹ方向という。一の走査線１１２を他の走査線１１２と区別するときは、図において上から順に第１、第２、第３、…、第（ｍ−１）、および第ｍ行の走査線１１２という。同様に、一のデータ線１１４を他のデータ線１１４と区別するときは、図において左から順に第１、第２、第３、…、第（ｎ−１）、第ｎ列のデータ線１１４という。画素１１１は、Ｘ軸およびＹ軸に垂直な位置にある視点からみたときに、走査線１１２およびデータ線１１４の交差に対応して設けられている。複数の画素１１１は、それぞれ画素電極１１８を有する。
【００２５】
対向基板１０３は、液晶１０５を挟む２枚の基板のうち素子基板１０２とは別の基板である。対向基板１０３には、共通電極１０８が設けられている。共通電極１０８は、液晶１０５に電圧を印加するための電極であり、複数の画素１１１に共通である。液晶１０５には、画素電極１１８および共通電極１０８の電位差に相当する電圧が印加される。対向基板１０３は、光の回折の要因となる構造物は、表示領域において、ほとんど形成されず、光の回折は、素子基板１０２と比較して、生じないと言える。
【００２６】
図３は、画素１１１の等価回路を示す図である。画素１１１は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）１１６と、液晶素子１２０と、保持容量１２５とを有する。液晶素子１２０は、画素電極１１８と、液晶１０５と、共通電極１０８とを有する。画素電極１１８は、画素１１１毎に個別に設けられた電極である。共通電極１０８は、すべての画素１１１に共通の電極である。画素電極１１８は素子基板１０２に、共通電極１０８は対向基板１０３に、それぞれ設けられている。液晶１０５は、画素電極１１８および共通電極１０８に挟まれている。共通電極１０８には、コモン電圧ＬＣｃｏｍが印加される。図３に例示した要素のうち少なくともＴＦＴ１１６は、素子基板１０２上に形成されている。
【００２７】
ＴＦＴ１１６は、画素電極１１８への電圧の印加を制御するスイッチング素子の一例であり、この例では、ｎチャネル型の電界効果トランジスターである。ＴＦＴ１１６は、画素１１１毎に個別に設けられている。第ｉ行第ｊ列のＴＦＴ１１６のゲートは第ｉ行の走査線１１２に、ソースは第ｊ列のデータ線１１４に、ドレインは画素電極１１８に、それぞれ接続されている。保持容量１２５は、一端が画素電極１１８に、他端が容量線１１５に、それぞれ接続されている。容量線１１５には、時間的に一定の電圧が印加される。
【００２８】
第ｉ行の走査線１１２にＨ（High）レベルの電圧（以下「選択電圧」という）の信号が供給されると、第ｉ行ｊ列のＴＦＴ１１６はオン状態となり、ソースとドレインが導通する。このとき、第ｊ列のデータ線１１４に、第ｉ行第ｊ列の画素１１１の階調値（データ）に応じた電圧（以下「データ電圧」という）の信号が供給されると、データ電圧は、ＴＦＴ１１６を介して第ｉ行第ｊ列の画素電極１１８に印加される。
【００２９】
その後、第ｉ行の走査線１１２にＬ（Low）レベルの電圧（以下「非選択電圧」という）が印加されると、ＴＦＴ１１６はオフ状態になり、ソースとドレインは高インピーダンス状態となる。ＴＦＴ１１６がオン状態のとき画素電極１１８に印加された電圧は、液晶素子１２０の容量性および保持容量１２５によって、ＴＦＴ１１６がオフ状態になった後も保持される。
【００３０】
液晶素子１２０には、データ電圧とコモン電圧との電位差に相当する電圧が印加される。液晶１０５の分子配向状態は、液晶素子１２０に印加される電圧に応じて変化する。画素１１１の光学状態は、液晶１０５の分子配向状態に応じて変化する。例えば、液晶パネル１００が透過型のパネルである場合、変化する光学状態は透過率である。
【００３１】
再び図２を参照する。走査線駆動回路１３０は、ｍ本の走査線１１２の中から一の走査線１１２を順次排他的に選択する（すなわち走査線１１２を走査する）回路である。具体的には、走査線駆動回路１３０は、制御信号Ｙｃｔｒに従って、第ｉ行の走査線１１２に、走査信号Ｙｉを供給する。この例で、走査信号Ｙｉは、選択される走査線１１２に対しては選択電圧となり、選択されない走査線１１２に対しては非選択電圧となる信号である。
【００３２】
データ線駆動回路１４０は、ｎ本のデータ線１１４にデータ電圧を示す信号（以下「データ信号」という）を出力する回路である。具体的には、データ線駆動回路１４０は、映像処理回路３０から供給されるデータ信号Ｖｘを、制御信号Ｘｃｔｒに従ってサンプリングし、第１〜第ｎ列のデータ線１１４にデータ信号Ｘ１〜Ｘｎとして出力する。なお、本説明において電圧については、液晶素子１２０の印加電圧を除き、特に明記しない限り図示省略した接地電位を基準（ゼロＶ）として表す。
【００３３】
図４は、一実施形態に係る液晶パネル１００の断面構造の概要を模式的に例示する図である。液晶パネル１００は、素子基板１０２、液晶１０５、および対向基板１０３に加え、光学補償板２０１を有する。この例で、光源からの光は素子基板１０２側から入射し、素子基板１０２、液晶１０５、対向基板１０３、および光学補償板２０１を介して出射する。また、液晶パネル１００は、光の入射側（光源側）と出射側に不図示の一対の偏向板を備える。
【００３４】
素子基板１０２において、光の経路上、スイッチング素子すなわちＴＦＴ１１６の上流(光入射側)に、マイクロレンズアレイ１０２２が設けられている。マイクロレンズアレイ１０２２は、複数のマイクロレンズ１０２１を有する。マイクロレンズ１０２１は、入射光を画素電極１１８に集光するためのレンズであり、画素１１１毎に設けられている。
【００３５】
マイクロレンズアレイ１０２２の形状は、例えばフォトリソグラフィー技術を用いたパターニングおよびエッチングによって形成される。すなわち、まず素子基板１０２本体の表面にマイクロレンズアレイ１０２２に相当するパターンのレジストが形成され、エッチングにより凹部が形成される。レジスト除去後、この凹部にレンズ材料が埋め込まれ、マイクロレンズアレイ１０２２が形成される。レンズ材料は、素子基板１０２本体よりも屈折率が高い材料が用いられる。例えば、素子基板１０２本体として石英が用いられる場合、レンズ材料としては、ＳｉＯＮまたはＡｌ2Ｏ3などの無機材料が用いられる。埋め込まれたレンズ材料の層は例えばＣＭＰ（Chemical Mechanical Polishing）処理により平坦化される。表面が平坦化されたレンズ材料はマイクロレンズアレイ１０２２として機能する。こうして、マイクロレンズアレイ１０２２を含む素子基板１０２が形成される。マイクロレンズアレイ１０２２は、画素電極１１８に集光できるレンズではあれば、形状および材料を限定するものでない。また、マイクロレンズアレイ１０２２と素子基板１０２を、別体で形成し、それを貼り合わせてもよい。
【００３６】
素子基板１０２の液晶１０５側の表面には、ＴＦＴ１１６、走査線１１２、およびデータ線１１４が形成されている。なお走査線１１２およびデータ線１１４は、図４においては図示を省略しており、液晶１０５側の表面に形成された構造物の代表としてＴＦＴ１６１のみ図示している。素子基板１０２における光の回折の主要因はＴＦＴ１６１の構造物である。ＴＦＴ１６１よりもさらに上部（光の経路における下流）には、画素電極１１８が形成されている。画素電極１１８は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透光性を有する導電層をパターニングしたものである。図４においては図面を簡単にするため画素電極１１８は一連の層として記載しているが、実際、画素電極１１８は画素毎に分離している。光路を調整するため、マイクロレンズアレイ１０２２と画素電極１１８との間には層間膜１０９が形成されている。層間膜１０９は、例えばＳｉＯ2など、絶縁性および透光性を有する材料により形成される。
【００３７】
対向基板１０３の液晶１０５側の表面には、共通電極１０８が形成されている。共通電極１０８は、ＩＴＯなどの透光性を有する導電層で形成されている。
【００３８】
素子基板１０２および対向基板１０３は、スペーサーを含むシール材（図示略）によって一定の間隙を保って、互いに電極形成面が対向するように貼り合わせられている。液晶１０５は、この間隙に封入されている。素子基板１０２および対向基板１０３の液晶１０５に面する側には、それぞれ配向膜（図示略）が形成されている。配向膜は、電圧印加時に液晶分子が傾く方向を揃えるため、所定の方向にラビングされている。所定の方向とは、例えば、素子基板１０２においては画素１１１の配置に対して右上から左下に向かう方向であり、対向基板１０３においては左下から右上に向かう方向である。配向膜により、ＶＡ型の液晶分子は、電圧が印加されていないときに、素子基板１０２および対向基板１０３の表面に対して垂直な状態から例えば２〜６°傾いた方向に配向する。電圧が印加されていない状態において液晶分子が基板面に対して傾いていることをプレチルトといい、このときの傾きをプレチルト角という。プレチルト角は例えば８８〜８４°である。また、配向膜はＳｉＯ2等を材料とした無機配向膜でもよく、無機配向膜は所定の方向から斜方蒸着によって形成され、プレチルトが付与される。
【００３９】
光の経路において対向基板１０３の下流側(光出射側)には、光学補償板２０１が設けられている。光学補償板２０１は、液晶１０５を透過した光の位相差を補償するための光学部品であり、例えば、いわゆるＣプレートである。Ｃプレートとは面内方向の屈折率（ｎｘ、ｘｙ）が厚み方向の屈折率（ｎｚ）と異なる光学部品をいい、特にｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚのものをネガティブＣプレートという。光学補償板２０１は、例えば、液晶１０５のプレチルトによって生じる位相差を補償するために用いられる。プレチルトによる位相差を補償するため、光学補償板２０１は、対向基板１０３の基板面に対して傾斜して配置されている。光学補償板２０１は、位相差を最適に補償する角度に傾斜角を調整するための角度調整機構を有してもよいし、液晶１０５のプレチルト角に応じて最適な傾斜角に設計されていてもよい。光学補償板２０１は、例えば無機材料で形成される。無機材料としては、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｔｉ、およびＺｒの少なくとも１つを含有する酸化物が用いられる。あるいは、光学補償板２０１は、樹脂等の無機材料で形成されてもよい。また、光学補償板２０１はＣプレートのみに限定されるものではなく、例えばＣプレートと少なくとも一枚以上のＯプレートを組み合わせたものでもよい。Ｃプレートと2枚のＯプレートを組み合わせた場合には、基板は傾ける必要がなく、Ｏプレート基板法線を回転軸として調整して補償することも可能である。
【００４０】
図５は、液晶パネル１００における光路を比較例と対比する図である。図５の（Ａ）が比較例に係る液晶パネルにおける光補償効果を模式的に示したものであり、図５の（Ｂ）が本実施形態に係る液晶パネル１００であり、図４において、光補償効果を模式的に示したものである。比較例においては、対向基板１０３にマイクロレンズアレイ１０３２が形成されており、光源からの光は対向基板１０３から入射して、素子基板１０２から出射する。光が液晶１０５を透過する方向と光学補償板２０１を透過する方向とが同一であることが理想であるが、比較例においては素子基板１０２上の構造物（ＴＦＴ１１６等）により光が回折し、液晶１０５を透過したある光の光路に対して、回折ピークすなわち光学補償板２０１を透過する光路が複数、発生する。光学補償板２０１は、液晶１０５を透過した光に対して、その光が液晶１０５において受けた光路変化(光学特性)を補償するように設計されている。したがって、液晶１０５を透過した光がその後で回折されると、回折光（図の点線の矢印）に対しては０次光（図の実線の矢印）ほどの補償効果が及ばない。光源から液晶パネルに入射する光は例えば１０°程度の角度分布を有しているため、各方向の光に対してこの現象が生じることとなる。そのため、光学補償板２０１による補償効果が十分に得られない場合がある。
【００４１】
素子基板１０２における回折現象は、小型化、高精細化に伴い、隣り合う画素１１１の間隔すなわち画素ピッチが狭くなるほど顕著になる。すなわち、画素ピッチが狭くなるほど、回折光の強度は強くなり、回折角は大きくなる。一例として、波長５５０ｎｍの光が入射角５°で入射した場合、ピッチが８．５μｍのときは１次回折光の回折角は１．３°および８．７°であり、ピッチが６μｍのときは１次回折光の回折角は−０．３°および１０．３°であり、ピッチが４μｍのときは１次回折光の回折角は−２．９°および１３．０°である。
【００４２】
これに対し本実施形態においては、図５（Ｂ）のように、素子基板１０２において回折された回折光（図の点線の矢印）を含む光が、液晶１０５に入射し、液晶１０５から出射した光は回折されずそのまま光学補償板２０１に入射する。すなわち、液晶１０５を透過したそれぞれの光に対して、液晶１０５を透過する角度と光学補償板２０１を透過する角度とを整合させることができ、光の補償効果を高めることができる。図５（Ｂ）
【００４３】
２．変形例
本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、種々の変形実施が可能である。以下、変形例をいくつか説明する。以下の変形例のうち２つ以上のものが組み合わせて用いられてもよい。
【００４４】
図６は、変形例１に係る液晶パネル１００の構造を例示する図である。この例で、液晶パネル１００においては、光学補償板２０１の詳細が図４の構成と異なっている。光学補償板２０１は、いわゆるＯプレートを２層とＣプレートとを積層したものである。Ｏプレートとは、屈折率楕円体が面内方向および厚み方向から見て傾斜している光学部材をいう。１軸性位相差板の場合は、例えば、次元方向の屈折率の関係が基板法線をｚ方向として、基板面内のｘ方向とｙ方向の屈折率関係がnx＞ny＝nzであるが、この楕円体の自体が厚み方向から見て傾斜していることになる。また２軸性位相差板の場合には、３次元方向の屈折率がすべて異なり、この３次元楕円体が基板法線に対して傾斜していることになる。Ｏプレートは、１軸性位相差板であってもよいし、２軸性位相差板であってもよい。Ｏプレートは無機材料を斜方蒸着することにより、またＣプレートは無機材料をスパッタリングすることにより、それぞれ形成されている。
【００４５】
また、この例で、光学補償板２０１は防塵ガラスを兼ねており、対向基板１０３に接着されている。図４の構成と比較すると、光学補償板２０１の配置スペースを減らすこと、すなわち省スペース化することができる。防塵カラスは、電気光学装置を電子機器であるプロジェクター２１００等の投射装置に組み込んだ場合、液晶パネル１００に塵が付着しても表示品質を低下させないものである。
【００４６】
なお、光学補償板２０１は、Ｏプレートを２層とＣプレートとを積層したものに限定されない。１軸性位相差板であるＯプレートまたは２軸性位相差板であるＯプレートを１層と、Ｃプレートとを積層させたものであってもよい。
【００４７】
図７は、変形例２に係る液晶パネル１００の構造を例示する図である。この例で、光学補償板２０１は、対向基板１０３と共通電極１０８の間に形成されている。
【００４８】
図８は、変形例３に係る液晶パネル１００の構造を例示する図である。この例で、光学補償板２０１は、素子基板１０２および液晶１０５（より詳細には画素電極１１８）の間に形成されている。図７および図８で例示したように、素子基板１０２よりも光路の下流に光学補償板２０１が位置するのであれば、液晶パネル１００はどのような構造を有していてもよい。
【００４９】
液晶はＶＡモードのものに限定されない。ＴＮ液晶など、他のモードの液晶が用いられてもよい。あるいは、液晶以外の電気光学層が用いられてもよい。また、液晶パネル１００はプロジェクターのライトバルブに用いられるものに限定されない。液晶パネル１００は、直視の表示装置に用いられるものであってもよい。
【符号の説明】
【００５０】
１０…制御回路、２０…走査制御回路、３０…映像処理回路、１００…液晶パネル、１０１…表示領域、１０２…素子基板、１０３…対向基板、１０５…液晶、１０８…共通電極、１０９…層間膜、１１１…画素、１１２…走査線、１１４…データ線、１１５…容量線、１１６…ＴＦＴ、１１８…画素電極、１２０…液晶素子、１３０…走査線駆動回路、１４０…データ線駆動回路、２０１…光学補償板、１０２１…マイクロレンズ、１０２２…マイクロレンズアレイ、２１００…プロジェクター、２１０２…ランプユニット、２１０６…ミラー、２１０８…ダイクロイックミラー、２１１２…ダイクロイックプリズム、２１１４…投写レンズ群、２１２０…スクリーン、２１２１…リレーレンズ系、２１２２…入射レンズ、２１２３…リレーレンズ、２１２４…出射レンズ、２１５０…ライトバルブ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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