(57)【要約】      （修正有）【課題】式（Ｉ）Ｑ+Ａ-で表される化合物の高純度塩合成用新規製造方法の提供。（Ｑ+とＡ-はそれぞれ下記式で表わされる、2017222657.tif 0000102017222657.tif 000011（Ｒ1〜Ｒ7は夫々独立に１〜４個のＣのアルキル等）］【解決手段】前記化合物として１−エチル−３−メチルイミダゾリウムジエチルホスフェートを例とする。ａ）Ｎ−メチルイミダゾールとトリフェニルホスフェートを反応させ（Ｉ）の粗生成物を得、ｂ）水を添加し希釈、ｃ）特定温度Ｔ1のトリフェニルホスフェートの飽和蒸気圧より低圧力のｐ1で希釈された（Ｉ）を蒸留して前記添加水を希釈された（Ｉ）から少なくとも部分的に除去することにより（Ｉ）の高純度化合物を得る方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）Ｑ+Ａ-の高純度化合物の製造方法であって、
ここでＱ+は、
【化１】
2017222657.tif 000007
であり、Ａ-は、
【化２】
2017222657.tif 000008
であり、
前記製造方法は、
ａ）式（ＩＩ）の化合物を、式（ＩＩＩ）の化合物と反応させる工程、ここで、（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）は、
【化３】
2017222657.tif 000009
であり、これによって式（Ｉ）の化合物を含有する粗製生成物が得られ、
ｂ）工程ａ）からの式（Ｉ）の粗製生成物に水を添加する工程、これによって式（Ｉ）の化合物を含有する希釈された粗製生成物が得られ、
ｃ）３０〜１８０℃の範囲にある温度Ｔ1において、温度Ｔ1における化合物（ＩＩＩ）の飽和蒸気圧よりも低い圧力ｐ1で、前記希釈された粗製生成物を蒸留することによって、工程ｂ）で添加した水を、前記希釈された粗製生成物から、少なくとも部分的に除去する工程、これによって、式（Ｉ）の高純度化合物が得られる、
を含み、
前記式中、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3はそれぞれ独立して、水素であるか、又は１〜４個の炭素原子のアルキルであり、
Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7はそれぞれ独立して、１〜４個の炭素原子のアルキルである、
前記製造方法。
【請求項２】
前記式中、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝水素であり、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7はそれぞれ独立して、メチル又はエチルである、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記式中、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝水素であり、Ｒ5＝メチルであり、Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7はそれぞれ独立して、メチル又はエチルである、請求項２に記載の製造方法。
【請求項４】
工程ａ）を、溶媒の不在下で行う、請求項１から３までのいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項５】
工程ａ）を、溶媒の存在下で行う、請求項１から３までのいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６】
前記溶媒を、工程ａ）と、ｂ）との間で少なくとも部分的に除去する、請求項５に記載の製造方法。
【請求項７】
工程ｂ）において、工程ａ）で使用する化合物（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）の量に対して、少なくとも１質量％の量で水を添加する、請求項１から６までのいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項８】
工程ｃ）における「部分的な除去」が、工程ｂ）で添加された水の少なくとも５０％の除去を意味する、請求項１から７までのいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項９】
圧力ｐ1が、温度Ｔ1における化合物（ＩＩＩ）の飽和蒸気圧よりも低く、温度Ｔ1における（Ｉ）の飽和蒸気圧よりも高い、請求項１から８までのいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１０】
工程ｂ）及びｃ）を少なくとも２回行い、ここで工程ｂ）を、直前の工程ｃ）で得られた式（Ｉ）の高純度化合物を用いて行う、請求項１から９までのいずれか１項に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高純度イミダゾリウム塩の製造方法に関する。
【０００２】
背景技術
建物又は乗用車の換気及び空気調整のための空調システムでは、空気は一般的に冷却するだけではなく、除湿しなければならない。冷却すべき空気は、所望の温度への冷却に際して、露点を下回るほど湿度が高いからである。このため慣用の空調システムにおいては、空気の除湿が、電力消費の大部分を占める。
【０００３】
建築物用空調システムの電力消費を低減するための１つの選択肢が、乾燥媒体を用いた水の吸着若しくは吸収による、及び水が再度脱着する温度に加熱することによって、水が負荷された乾燥媒体を再生することによる、空気の除湿である。固体吸着剤での吸収と比べて、液状吸収媒体における吸収の利点は、空気の乾燥をより単純な設備で、またより少ない乾燥媒体で行えること、及び水が負荷された乾燥媒体の再生を、太陽熱によって比較的容易に行えることである。
【０００４】
このために液状吸収媒体として市販の空調システムで用いられる臭化リチウム、塩化リチウム、又は塩化カルシウムの水溶液には、空調システムでよく用いられる建築構造の金属材料に対して腐蝕性であるという欠点があり、このため高価な特別の建築構造材料を使用する必要がある。更に、これらの水溶液は、吸収媒体から晶出する塩によって生じる問題を引き起こすことがある。
【０００５】
ジアルキルイミダゾリウムイオンを含有するイオン性液体（国際公開第２００４／０１６６３１号（WO 2004/016631 A1））は、類似の適用のための従来技術において、リチウム塩の代替物として記載されている。
【０００６】
Y. Luoらは、Appl. Thermal Eng. 31 (2011) 2772〜2777で、空気乾燥のために、臭化リチウム水溶液に代えて、イオン性液体の１−エチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレートを提案している。
【０００７】
Y. Luoらは、Solar Energy 86 (2012) 2718〜2724で、空気乾燥のために、イオン性液体の１，３−ジメチルイミダゾリウムアセテートを、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレートの代替物として提案している。
【０００８】
米国特許出願第２０１１／０２４７４９４号明細書（US 2011/0247494 A1）は段落［０１４５］で、トリメチルアンモニウムアセテート、又は１−エチル−３−メチルイミダゾリウムアセテートを、塩化リチウム水溶液の代わりに、液状乾燥剤として提案している。その実施例３は、一連のさらなるイオン性液体について、湿った空気からの水の吸収量を比較している。
【０００９】
しかしながら、ジアルキルイミダゾリウムイオンを含有するイオン性液体の問題は、これらがしばしば、臭いの強い物質又は健康に害を与える物質につながる不純物を含有することであり、これらの物質は、イオン性液体を用いて空気を除湿する際に除湿された空気に入り込む。さらに、塩基性アニオン、例えばカルボン酸イオンを含有するイオン性液体から水を脱着する間に、臭いの強い分解生成物が形成されることが判明しており、この生成物は、空気の除湿のためにイオン性液体を引き続き用いる場合、除湿された空気に入り込む。
【００１０】
よって、前述の不利な点を示さない、イミダゾリウムイオン含有イオン性液体に対する需要が存在する。よって本発明が解決すべき課題は、揮発性化合物の水準を最小限にする、ジアルキルイミダゾリウムイオン含有イオン性液体の製造方法を提供することである。
【００１１】
発明の詳細な説明
意外なことに上記問題は、本明細書に記載する方法によって解決される。
【００１２】
よって本発明は、式（Ｉ）：Ｑ+Ａ-の高純度化合物の製造方法をもたらし、
前記式中、Ｑ+は、
【化１】
2017222657.tif 000002
であり、Ａ-は、
【化２】
2017222657.tif 000003
であり、この製造方法は、
ａ）式（ＩＩ）の化合物を、式（ＩＩＩ）の化合物と反応させる工程、ここで（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）は、
【化３】
2017222657.tif 000004
であり、これによって式（Ｉ）の化合物を含有する粗製生成物が得られ、
ｂ）工程ａ）からの式（Ｉ）の粗製生成物に水を添加する工程、これによって式（Ｉ）の化合物を含有する希釈された粗製生成物が得られ、
ｃ）３０〜１８０℃の範囲にある温度Ｔ1において、温度Ｔ1における化合物（ＩＩＩ）の飽和蒸気圧よりも低い圧力ｐ1で、前記希釈された粗製生成物を蒸留することによって、工程ｂ）で添加した水を、前記希釈された粗製生成物から、少なくとも部分的に除去する工程、これによって、式（Ｉ）の高純度化合物が得られる、
を含み、
前記式中、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3はそれぞれ独立して、水素であるか、又は１〜４個の炭素原子のアルキルであり、
Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7はそれぞれ独立して、１〜４個の炭素原子のアルキルである。
【００１３】
本発明の好ましい実施形態において、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝水素であり、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7はそれぞれ独立して、メチル又はエチルである。
【００１４】
本発明のより好ましい実施形態において、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝水素であり、Ｒ5はメチルであり、Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7はそれぞれ独立して、メチル又はエチルである。
【００１５】
本発明のさらにより好ましい実施形態において、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝水素であり、Ｒ5はメチルであり、Ｒ4＝Ｒ6＝Ｒ7＝エチルである。
【００１６】
本発明による方法の工程ａ）では、式（ＩＩ）の化合物を、式（ＩＩＩ）の化合物と反応させて、式（Ｉ）の化合物を含有する粗製生成物を得る。当業者は、反応条件に精通しており、これは例えば国際公開第２００４／０１６６３１号（WO 2004/016631 A1）に記載されている。
【００１７】
特に、本発明による方法の工程ａ）は好ましくは、１３０〜２００℃の範囲、より好ましくは１４０〜１９０℃の範囲、さらにより好ましくは１５０〜１７５℃の範囲の温度で行う。
【００１８】
反応の圧力は重要ではなく、例えば大気圧で、好ましくは不活性雰囲気（例えば窒素）下で行うことができる。
【００１９】
この反応は発熱性のため、幾つかの場合では、添加速度を制御すること、及び／又は添加工程の間に外部冷却を適用することが望ましいこともあり得る。
【００２０】
一般的に、式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）の化合物は、化学量論で存在する。すなわち、化合物（ＩＩ）対化合物（ＩＩＩ）のモル比は、０．９：１から１．１：１の範囲、より好ましくは１：１である。幾つかの場合、イミダゾール化合物（ＩＩ）を、リン酸エステル（ＩＩＩ）に対してやや過剰で、例えば１．０１〜１．４モル当量の範囲、好ましくは１．０２〜１．４モル当量の範囲で使用することが有利であり得る。
【００２１】
反応時間は、特に制限されない。この反応は通常、化合物（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）の少なくとも９０％が反応して、化合物（Ｉ）になるまで続ける。反応の進行は、当業者に公知の方法、例えばＮＭＲによって有利に制御できる。
【００２２】
工程ａ）における反応は、溶媒の存在下、又は溶媒の不在下で行うことができ、溶媒の不在下で行うのが好ましい。
【００２３】
「溶媒」とは、水、又は当業者に公知の有機溶媒を意味し、好ましくは水を意味する。これらの有機溶媒は好ましくは、脂肪族溶媒、好ましくはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、シクロヘキサン、テトラメチルシラン、芳香族溶媒、好ましくはベンゼン、トルエン、キシレン、エーテル化合物、好ましくはジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ハロゲン化溶媒、好ましくはジクロロメタン、クロロホルム、テトラクロロメタン、アルコール、好ましくはメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、エステル、好ましくは酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、アセトンから成る群から選択される。特に好ましい有機溶媒は、エステル類、アルコール類から選択される。
【００２４】
「溶媒の不在下」とは特に、反応混合物中にある全ての溶媒の含分全体が、化合物（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）の合計質量に対して１０質量％未満、好ましくは合物（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）の合計質量に対して５質量％未満、より好ましくは合物（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）の合計質量に対して１質量％未満であることを意味する。
【００２５】
「溶媒の存在下」とは、反応混合物中に存在する全ての溶媒の合計が、化合物（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）を合わせた質量に対して少なくとも１．０質量％であることを意味する。これはさらに好ましくは、反応混合物中に存在する全ての溶媒の合計が、化合物（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）を合わせた質量に対して少なくとも３．７質量％であることを意味する。これはさらに好ましくは、反応混合物中に存在する全ての溶媒の合計が、化合物（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）を合わせた質量に対して少なくとも７．４質量％であることを意味する。これはさらに好ましくは、反応混合物中に存在する全ての溶媒の合計が、化合物（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）を合わせた質量に対して少なくとも１０．０質量％であることを意味する。これはさらに好ましくは、反応混合物中に存在する全ての溶媒の合計が、化合物（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）を合わせた質量に対して少なくとも２０．０質量％であることを意味する。これはさらに好ましくは、反応混合物中に存在する全ての溶媒の合計が、化合物（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）を合わせた質量に対して少なくとも４０．０質量％であることを意味する。これはさらに好ましくは、反応混合物中に存在する全ての溶媒の合計が、化合物（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）を合わせた質量に対して少なくとも８０質量％であることを意味する。これはさらに好ましくは、反応混合物中に存在する全ての溶媒の合計が、化合物（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）を合わせた質量に対して少なくとも１００質量％であることを意味する。これはさらに好ましくは、反応混合物中に存在する全ての溶媒の合計が、化合物（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）を合わせた質量に対して少なくとも１５０質量％であることを意味する。
【００２６】
工程ａ）を溶媒の存在下で行う本発明の実施形態において、工程ａ）の後、工程ｂ）を行う前に、溶媒を少なくとも部分的に除去することが好ましい。このような少なくとも部分的な除去は、抽出、ストリッピング、蒸留、又は当業者に公知のあらゆる他の方法によって行うことができ、好ましくは抽出、ストリッピング、蒸留によって行う。
【００２７】
この文脈において、「部分的に除去」とは特に、工程ａ）で添加した溶媒の少なくとも５０％を除去することを意味し、好ましくは溶媒の少なくとも７０％、さらにより好ましくは少なくとも９０％、さらにより好ましくは９９％を除去することを意味する。
【００２８】
工程ａ）を水含有溶媒の存在下で行う場合、溶媒の部分的な除去は好ましくは、３０〜１８０℃の範囲、好ましくは３７〜１７８℃の範囲、さらにより好ましくは５０〜１５０℃の範囲、さらにより好ましくは６０〜１２０℃の範囲、さらにより好ましくは７０〜９９℃の範囲にある温度Ｔ2で、また温度Ｔ2における化合物（ＩＩＩ）の飽和蒸気圧よりも低い圧力ｐ2で、蒸留によって行うのが好ましい。
【００２９】
好ましい実施形態において、圧力ｐ2はまた、化合物（Ｉ）の飽和蒸気圧よりも高く、さらにより好ましくは、化合物（Ｉ）：水が９９：１、さらにより好ましくは９８：２、さらにより好ましくは９７：３である混合物の飽和蒸気圧よりも高い。
【００３０】
本発明による方法の工程ａ）の反応の結果物は、式（Ｉ）の化合物を含有する粗製生成物である。
【００３１】
本発明の範囲において、「粗製生成物」という用語は、反応が起こった後に得られる（本発明による方法の工程ａ））反応混合物を意味し、その後工程ｂ）に付される。前述のように、工程ａ）を溶媒の存在下で行う場合、このような溶媒は任意に、工程ａ）の後、工程ｂ）を行う前に、得られた粗製生成物から、少なくとも部分的に除去することができる。
【００３２】
工程ａ）で得られたこの粗製生成物を、さらに工程ｂ）で処理する。工程ｂ）では、工程ａ）からの式（Ｉ）の粗製生成物に水を添加し、好ましくは、工程ａ）で使用する化合物（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）の量に対して少なくとも１質量％の量で添加し、式（Ｉ）の化合物を含有する、希釈された粗製生成物が得られる。
【００３３】
好ましくは、工程ｂ）において、工程ａ）からの式（Ｉ）の粗製生成物に、工程ａ）で使用する化合物（ＩＩ）及び（ＩＩ）の量に対して１〜２００質量％の範囲の量、より好ましくは５〜１００質量％の範囲の量、さらにより好ましくは７〜７５質量％の範囲の量、さらにより好ましくは１０〜５０質量％の範囲の量、最も好ましくは１５〜２０質量％の範囲の量で、水を添加する。
【００３４】
本発明の範囲において、「希釈された粗製生成物」という用語は、工程ｂ）に従い水を添加した後に得られる混合物を意味し、その後、工程ｃ）に付される。
【００３５】
本方法の工程ｃ）において、工程ｂ）で添加された水はそれから、希釈された粗製生成物から少なくとも部分的に除去し、ここでは特別な温度及び圧力条件が適用される。つまり、３０〜１８０℃の範囲、好ましくは３７〜１７８℃の範囲、さらにより好ましくは５０〜１５０℃の範囲、さらにより好ましくは６０〜１２０℃の範囲、さらにより好ましくは７０〜９９℃の範囲にある温度Ｔ1で、また温度Ｔ1における化合物（ＩＩＩ）の飽和蒸気圧よりも低い圧力ｐ1で、蒸留によって水を除去することが、本発明にとって必要不可欠である。
【００３６】
本発明の文脈において、工程ｃ）との関連で「少なくとも部分的に除去」とは、工程ｂ）で添加した水の少なくとも５０％を除去することを意味し、好ましくは工程ｂ）で添加した水の少なくとも７０％、さらにより好ましくは少なくとも９０％、さらにより好ましくは９９％を除去することを意味する。
【００３７】
蒸留を行うために、当業者に公知のあらゆる装置（例えば、撹拌型反応器、流下薄膜式蒸発器、又は薄膜式蒸発器）を使用することができ、こうした装置はそれぞれの場合において適切な蒸留塔、又は蒸留のためのその他の適切な装置と組み合わせて使用できる。
【００３８】
蒸留を行う圧力ｐ1は、温度Ｔ1（ここでＴ1は、３０〜１８０℃の範囲にある）における化合物（ＩＩＩ）の飽和蒸気圧よりも低くなければならない、
好ましい実施形態において、圧力ｐ1はまた、化合物（Ｉ）の飽和蒸気圧よりも高く、さらにより好ましくは、化合物（Ｉ）：水が９９：１、さらにより好ましくは９８：２、さらにより好ましくは９７：３である混合物の飽和蒸気圧よりも高い。
【００３９】
特定の物質又は混合物の「飽和蒸気圧」とは、閉鎖系における所定の温度で、濃縮相（固体又は液体）との熱力学的平衡において、特定の物質又は混合物の蒸気により引き起こされる圧力であると規定される。
【００４０】
各温度における飽和蒸気圧は当業者により、この分野で公知の方法によって特定できる。例えば、また本発明によれば、特定の物質又は混合物の飽和蒸気圧は、OECD Guidelines for the Testing of Chemicals（化学物質の試験のためのガイドライン） (1981): Test No. 104, items 14〜19“Static Method”（２００６年３月２３日採用）に定められたように測定することができる。
【００４１】
本発明による方法の好ましい実施形態において、工程ｂ）及びｃ）は、少なくとも２回、さらにより好ましくは少なくとも３回行い、ここで工程ｂ）は工程ｃ）の直前で得られた式（Ｉ）の高純度化合物を用いて行われる。
【００４２】
意外なことに、本発明による方法に従って水添加工程のｂ）と、蒸留工程ｃ）との組み合わせを行う場合にのみ、工程ｃ）の終わりで得られる生成物は、臭いの強い物質及び臭気物質について、予想外に低い水準を示すことが判明した。このことは、当業者が工程ａ）の後に得られる粗製生成物（Ｉ）を水で処理しなかったと考えられるので（特に化合物（Ｉ）は実際に吸水性材料として使用されるので）、さらに意外である。
【００４３】
よって本発明の方法により、高純度のイミダゾリウム塩が生成物として得られる。
【００４４】
以下の実施例によって、本発明を説明する。
【００４５】
実施例
材料
以下の実施例において、Ｎ−メチルイミダゾール（CAS No.616-47-7）、及びトリエチルホスフェート（CAS No.: 78-40-0）は、Sigma Aldrich社から購入したものである。
【００４６】
手法
飽和蒸気圧は、OECD Guidelines for the Testing of Chemicals（化学物質の試験のためのガイドライン） (1981): Test No. 104, items 14〜19“Static Method”（２００６年３月２３日採用）に記載された方法に従って測定した。
【００４７】
この方法によりトリエチルホスフェートについて測定した飽和蒸気圧は、以下の式＜１＞に従っている：
【数１】
2017222657.tif 000005
【００４８】
式＜１＞において、ｐは圧力（ｈＰａ）であり、Ｔは、温度（℃）であり、「ｌｏｇ10」は、常用対数である。
【００４９】
トリエチルホスフェートの飽和蒸気圧は、１５０℃で２２２６８ｈＰａ、１４０℃では１１３６３ｈＰａ、１２０℃では２６６９．９ｈＰａ、９９℃では４９３．５ｈＰａ、８５℃では１４３．５ｈＰａ、７０℃では３４．１ｈＰａ、６０℃では１２．２ｈＰａ、５０℃では４．１ｈＰａである。
【００５０】
１−エチル−３−メチルイミダゾリウムジエチルホスフェート（ＥＭＩＭ  ＤＥＰ）９９部と、水１部と混合物の飽和蒸気圧は、以下の通りである：１５０℃では３８０ｈＰａ、１４０℃では２５４ｈＰａ、８５℃では１８．６ｈＰａ、６０℃では４．２ｈＰａである。
【００５１】
各試料における残留物は、嗅覚分析によって特定した。
【００５２】
さらに、Ｖ１〜Ｖ４、及びＥ１〜Ｅ３で得られた試料における残留物は、ヘッドスペース型ＧＣ／ＭＳ分析により以下のように測定した：試料０．１ｇを２０分間、７０℃で、試料採取器内でインキュベートした。気相の組成を、ガスクロマトグラフィー（「ＧＣ」）、及び質量分析法（「ＭＳ」）によって直接分析した。ＧＣは、Hewlett Packard社の装置（「HP 6890」、試料採取器：Turbomatrix 40、Perkin Elmer社製）で行う。ＭＳは、Hewlett Packard社の装置（「HP 5973」）で行う。
【００５３】
残留物の量は、クロマトグラムで観察されたピーク高さに基づいて特定する。
【００５４】
本発明による例Ｅ１〜Ｅ８、及び比較例Ｖ１〜Ｖ８のための共通手順：
トリフェニルホスフェート（９２９ｇ、５．０ｍｏｌ）を、Ｎ−メチルイミダゾール（４１１ｇ、５．０ｍｏｌ）を有する反応槽に滴加した。その後、反応混合物を最大１５０℃に加熱し、還流下で１４時間、撹拌した。それからこの混合物を、（出発材料のトリエチルホスフェートと、Ｎ−メチルイミダゾールの合計質量に対して）２０質量％の水で希釈し、以下の表にまとめたように、様々な圧力で水を留去した。
【００５５】
比較例Ｖ１では、水による処理を省略し、混合物を単にロータリーエバポレータに移した。
【００５６】
Ｖ１以外の全ての例では、水を９３．８ｇ（＝共通手順で使用したトリエチルホスフェートの質量と、Ｎ−メチルイミダゾールの質量とを合わせたものに対して７質量％）添加した。例Ｖ２〜Ｖ４では、水を６０℃、圧力２０ｈＰａで除去し、この圧力は各温度におけるトリエチルホスフェートの飽和蒸気圧（１２．２ｈＰａ）を上回っている。
【００５７】
例Ｖ５では、水を５０℃、圧力５ｈＰａで除去し、この圧力は各温度におけるトリエチルホスフェートの飽和蒸気圧（４．１ｈＰａ）を上回っている。
【００５８】
例Ｖ６では、水を６０℃、圧力１４ｈＰａで除去し、この圧力は各温度におけるトリエチルホスフェートの飽和蒸気圧（１２．２ｈＰａ）を上回っている。
【００５９】
例Ｖ７では、水を７０℃、圧力３７ｈＰａで除去し、この圧力は各温度におけるトリエチルホスフェートの飽和蒸気圧（３４．１４ｈＰａ）を上回っている。
【００６０】
例Ｖ８では、水を９９℃、圧力５４０ｈＰａで除去し、この圧力は各温度におけるトリエチルホスフェートの飽和蒸気圧（４９３．５ｈＰａ）を上回っている。
【００６１】
本発明による例Ｅ１〜Ｅ３では水を添加し、この水を６０℃（Ｅ１、Ｅ２）、又は８５℃（Ｅ３）で、それぞれ５ｈＰａ及び２０ｈＰａの圧力で除去し、この圧力は、各温度におけるトリエチルホスフェートの飽和蒸気圧を下回っている（６０℃では１２．２ｈＰａ、８５℃では１４３．５ｈＰａ）。
【００６２】
例Ｅ４では、水を５０℃、圧力３ｈＰａで除去し、この圧力は各温度におけるトリエチルホスフェートの飽和蒸気圧（４．１ｈＰａ）を下回っている。
【００６３】
例Ｅ５では、水を６０℃、圧力１０ｈＰａで除去し、この圧力は各温度におけるトリエチルホスフェートの飽和蒸気圧（１２．２ｈＰａ）を下回っている。
【００６４】
例Ｅ６では、水を７０℃、圧力３１ｈＰａで除去し、この圧力は各温度におけるトリエチルホスフェートの飽和蒸気圧（３４．１ｈＰａ）を下回っている。
【００６５】
例Ｅ７では、水を９９℃、圧力４４０ｈＰａで除去し、この圧力は各温度におけるトリエチルホスフェートの飽和蒸気圧（４９３．５ｈＰａ）を下回っている。
【００６６】
例Ｅ８では、水を１２０℃、圧力１０００ｈＰａで除去し、この圧力は各温度におけるトリエチルホスフェートの飽和蒸気圧（２６６９．９ｈＰａ）を下回っている。
【表１】
2017222657.tif 000006
【００６７】
上にまとめた結果は、水添加工程ｂ）と、除去工程ｃ）とを組み合わせた場合にのみ、本発明による蒸留条件で実施した場合にのみ、高純度のイミダゾリウム塩につながることを示している。