(57)【要約】【課題】液晶表示装置における気泡発生の要因となる液晶セル内で発生する一酸化炭素ガスを効果的或いは選択的に除去する。【解決手段】この発明の液晶表示装置においては、互いに対向して配置される第一の透明基板１２０と第二の透明基板１１０間に液晶材料１３０を挟持してなる液晶セル１０を備え、この液晶セル１０内において、少なくとも当該液晶表示装置の使用温度範囲内で一酸化炭素を吸着することが可能な吸着剤２２を備えるものである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向して配置される第一の透明基板と第二の透明基板の間に液晶材料を挟持してなる液晶セルを備えた液晶表示装置であって、
前記液晶セル内において、少なくとも当該液晶表示装置の使用温度範囲内で一酸化炭素を吸着することが可能な吸着剤を備えることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記吸着剤は、一酸化炭素を選択的に吸着する金属錯体よりなることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記一酸化炭素を選択的に吸着する金属錯体は、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｃｒの何れかよりなる２価のイオンにシリカ、アルミナが配位する金属錯体、或いは、前記２価のイオンと当該２価のイオンに配位可能な有機配位子とが繰り返し単位を構成する金属錯体よりなることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第一の透明基板は、前記第二の透明基板に対向する側の表面において樹脂製の遮光層を備え、前記吸着剤は、前記樹脂製の遮光層に含有されることを特徴とする請求項１から請求項３の何れか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記樹脂製の遮光層は、前記第二の透明基板に対向する側の表面に配置される黒色樹脂膜と、少なくとも一部の領域において前記黒色樹脂膜の下層に配置され前記吸着剤を含有した樹脂膜とを備えた積層膜よりなることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第一の透明基板は、前記第二の透明基板に対向する側の表面においてカラーフィルタ色材層を備え、前記一酸化炭素を選択的に吸着する金属錯体は、前記カラーフィルタ色材層に含有されることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置およびその製造に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、一般的にアレイ状に配置された薄膜トランジスタ(ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ)などのスイッチング素子と液晶に電圧を印加する画素電極を表面に備えるアレイ基板とカラー表示を行うためのカラーフィルタとして機能する対向基板（カラーフィルタ基板）との一対の基板間に液晶材料を挟持した液晶セル構造となっている。カラーフィルタ基板には、そのカラーフィルタを構成する画素ごとに設けられるＲＧＢ等のカラーフィルタ色材層とともに、その画素ごとに設けられる色材層の間或いは表示領域外側に配置される額縁領域に、余分な光が透過しないよう設けられる遮光層であるブラックマトリクス(Ｂｌａｃｋ  Ｍａｔｒｉｘ：ＢＭ)が設けられている。カラーフィルタ色材層の材料としては、Ｒ，Ｇ，Ｂそれぞれの色に対応した有機材料が使用される。また、ＢＭの材料としては、従来はクロム薄膜等の無機薄膜によりなる遮光層と黒色の顔料などを分散した樹脂製の遮光層の両者が適宜選択して用いられてきたが、近年はコスト面および環境への影響などを考慮して、後者の樹脂製の遮光層よりなるＢＭ（樹脂ＢＭとも呼ばれる）が用いられることが一般的になってきている。また、カラーフィルタ基板表面を平坦化する透明樹脂膜よりなるオーバーコート層が設けられることも一般的になってきている。加えて、アレイ基板においても、半透過型の液晶表示装置や、高開口率化タイプの液晶表示装置において、有機樹脂膜が用いられる場合も多くなってきている。
【０００３】
しかしながら、これらカラーフィルタ基板上に設けられるカラーフィルタ色材層、樹脂ＢＭ、オーバーコート層、或いは、アレイ基板上に設けられる有機樹脂膜などの有機材料が液晶セル内に用いられた液晶表示装置において、製品使用時において高温状態になった際に、或いは、外部より衝撃が印加された場合に、これら有機材料からなる構成部材から、製造途中において吸着された気体(一酸化炭素ガス：ＣＯガス)が放出され、液晶中に混入することで気泡を生じてしまう場合がある。
【０００４】
このような液晶中において発生する気泡、特にＣＯガスなどの気体を起因とする気泡の問題に関して、特許文献１および特許文献２においては、液晶中の気泡の成分としてＣＯガスに言及し、液晶中に溶解するＣＯガス量を所定量の濃度以下に減らすことで解決可能としている。例えば、特許文献１においては、そのＣＯガス量を減らす手段の具体例として、有機絶縁膜に対して紫外線を照射することで、脱気処理を行うことが記載される。また、特許文献２においては、ＣＯガス量、二酸化炭素ガス、窒素ガスを併せて減らすことを必要として、これらガス量を減らす手段の具体例として、カラーフィルタ基板のオーバーコート層の成膜条件を変更することを挙げている。
【０００５】
また、一般的な気泡の解決方法として、特許文献３においては、比較的、気体吸収能力が大きいシリカゲル、モレキュラーシーブスなどの多孔質固体や、ＮＭＰなどの液体よりなる一般的な気体吸収体を液晶セル内に設けて、発生ガスを除去し、気泡対策とした構成が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１０−１３９５３９号公報
【特許文献２】特開２００３−２７９９１８号公報
【特許文献３】特開２０００−１９３９５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に開示される方法においては、我々の検証によると、大気中での有機絶縁膜への紫外線の照射は、有機絶縁膜を構成する有機成分が不完全に分解された生成物となるＣＯガスの発生を助長し、構成部材中に吸着されたＣＯガス量の増加を招く結果となっている。つまり、ＣＯガス量を減らすために具体的な有効な方法を開示するものではない。また、特許文献２の方法においては、ＣＯガス量を減らすべき目安として、具体的な所定量の濃度を設定しているものの、ＣＯガス量を減らすための具体的な手段として挙げられるオーバーコート層の成膜条件を変更する方法については、形成されるオーバーコート層が有機樹脂膜である以上、顕著にＣＯガス量が減ると考えにくい。つまり、特許文献１および特許文献２においては、ＣＯガス量を減らすために現実的に有効な方法は開示されていない。
【０００８】
また、特許文献３に示されるような一般的な気体吸収体を液晶セル内に設けて、発生ガスを除去しようとする方法の場合、一般的な気体吸収体（或いはガス吸着剤）では、特にＣＯガスを吸収或いは吸着可能な気体吸収体（或いはガス吸着剤）では、大気中の主成分となる酸素、窒素、水蒸気などについても吸収或いは吸着してしまい、セル組み立てがされた状態において、吸収或いは吸着の能力が低下して有効に発揮されなくなってしまう。また、この点を防ぐためには、気体吸収体（或いはガス吸着剤）の形成からセル組み立てまでの工程について、すべて真空プロセスでの処理、或いは、不活性ガス雰囲気での処理などを用いる必要がある。従って、製造の高コスト化を招くことや、現実的に採用困難なプロセスとなって製造自体が困難となってしまう。
【０００９】
以上説明のとおり、従来においては、この液晶表示装置における有機材料からなる構成部材から放出されるＣＯガスを起因とする気泡発生を効果的に防止する方法は提案されていなかった。
【００１０】
本発明は、上記説明のような課題を解決するためになされたものであり、その目的は、液晶表示装置における気泡発生の要因となる液晶セル内で発生するＣＯガスを効果的或いは選択的に除去し、ＣＯガスを起因とする気泡発生を効果的に防止することを可能とする液晶表示装置およびその製造方法を得るものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の液晶表示装置においては、互いに対向して配置される第一の透明基板と第二の透明基板間に液晶材料を挟持してなる液晶セルを備え、この液晶セル内において、少なくとも当該液晶表示装置の使用温度範囲内で一酸化炭素を吸着することが可能な吸着剤を備えるものである。
【発明の効果】
【００１２】
液晶表示装置における気泡発生の要因となる液晶セル内で発生する一酸化炭素ガスを効果的或いは選択的に除去することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施の形態１の液晶表示装置における液晶パネルの平面図である。
【図２】本発明の実施の形態１の液晶表示装置における液晶パネルの断面図である。
【図３】本発明の実施の形態１の液晶パネルのカラーフィルタ基板の断面図である。
【図４】本発明の実施の形態１における液晶パネルの製造方法における組み立て工程を示すフローチャートである。
【図５】本発明の実施の形態２の液晶表示装置における液晶パネルの断面図である。
【図６】本発明の変形例の液晶表示装置におけるカラーフィルタ基板の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
実施の形態１．
本実施の形態１の液晶表示装置に用いられる液晶パネル１０の構成について図１〜図３の模式図を用いて説明する。図１および図２は、液晶パネル全体の構成の断面図と平面図をそれぞれ示しており、図１は、図２におけるＡ−Ｂ断面線における断面図に対応する。また、図３は、発明の主要部となる樹脂製の遮光層部分での拡大断面図を示したものである。なお、図は模式的なものであり、示された構成要素の正確な大きさなどを反映するものではない。特に、対向配置される基板間に配置される構成については、説明の便宜上、双方の基板の厚みに比べて、基板間の距離や基板面に垂直方向の長さなどを誇張して図示している。また、図面が煩雑とならないよう、発明の主要部以外の省略や構成の一部簡略化などを適宜行っている。以下の図においても同様とする。更に、以下の図においては、図中、既出の図において説明したものと同一の構成要素には同一の符号を付し、適宜その説明を省略する。
【００１５】
ここでは、一例として、液晶の動作モードがＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モードで、スイッチング素子に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）を用いた液晶パネルに本発明を適用した場合について説明する。
【００１６】
また、この液晶パネル１０は、ＴＦＴなどのスイッチング素子と画素電極がアレイ状に配列するアレイ基板であるＴＦＴアレイ基板（以下、アレイ基板）１１０と、このアレイ基板１１０と対向配置される対向基板であるカラーフィルタ基板（以下、ＣＦ基板）１２０と、画像を表示する表示領域１００に対応する領域を囲うように配置され、ＣＦ基板１２０とアレイ基板１１０との間の間隙を密封するシールパターン１３３を備えている。また、シールパターン１３３は、少なくとも表示領域１００に対応する領域を囲うように設けられることから、表示領域１００の周辺を額縁状に囲うように配置される額縁領域１０１に形成されることになる。
【００１７】
更に、このシールパターン１３３により密封され、ＣＦ基板１２０とアレイ基板１１０との間の間隙の少なくとも表示領域１００に対応する領域に液晶材料が挟持されることで液晶層１３０が形成されている。従って、液晶パネル１０は、このＣＦ基板１２０とアレイ基板１１０との間におけるシールパターン１３３により囲まれる空間内に液晶材料が封止される液晶セル構造を有していることになる。
【００１８】
また、アレイ基板１１０およびＣＦ基板１２０の外形は何れも矩形となっており、アレイ基板１１０の外形の方がＣＦ基板１２０の外形よりも大きく、ＣＦ基板１２０の外形端面よりアレイ基板１１０の外形が一部突出する突出部を有して、互いに重ね合わせ配置されている。
【００１９】
なお、図２の平面図では、ＣＦ基板１２０の下に配置されるアレイ基板１１０の構成を図示するために、図中左上の一部のみＣＦ基板１２０を図示し、それ以外の領域では、ＣＦ基板１２０の図示を省略してアレイ基板１１０の構成を図示している。実際の構成としては、ＣＦ基板１２０は、シールパターン１３３により囲まれる領域の外側の図中破線で示される領域まで設けられている。
【００２０】
また、図中では、画像を表示する表示領域１００となる矩形領域を点線で囲み、額縁領域１０１との境界としている。なお、ここで使用した額縁領域１０１については、液晶パネル１０のアレイ基板１１０上、ＣＦ基板１２０上、或いは両基板間に挟まれる領域において、表示領域１００外側に位置する表示領域１００を取り囲む額縁状の領域、即ち表示領域１００を除く全ての領域のことを意味し、表示領域１００についても、液晶パネル１０のアレイ基板１１０上、ＣＦ基板１２０上、或いは両基板間に挟まれる領域の全てにおいて使用することとし、本明細書中においては全て同様の意味にて使用する。
【００２１】
更にＴＦＴ基板１１０とＣＦ基板１２０間には、基板間に所定の一定範囲の間隙を形成し保持する柱状スペーサ（図示省略）が表示領域１００内に多数配置される。なお、柱状スペーサに限られず、ＴＦＴ基板１１０とＣＦ基板１２０間に球状のスペーサ（球状スペーサ）を分散して配置しても良い。
【００２２】
また、柱状スペーサを用いる場合、異なる２種類の柱状スペーサを混在して備え、一部の柱状スペーサについては、例えば、相対的に高さの高いスペーサとすることで、通常時より対向する基板と当接し基板間を保持するスペーサ（メインスペーサと呼ばれる）とし、他の一部の柱状スペーサについては、相対的に高さの低いスペーサとすることで、通常時は対向する基板と当接せず基板間の保持に寄与せずに外力などにより基板間の距離が縮まった際にのみ対向する基板と当接し基板間を保持するスペーサ（サブスペーサと呼ばれる）とするデュアルスペーサ構造を用いても良い。また、基板間の距離を一定範囲の間隙を形成し保持する柱状スペーサは、額縁領域１０１においても設けると良く、その場合には、額縁領域１０１およびその近傍を所定の一定範囲の間隙に保持することができる。
【００２３】
上述のアレイ基板１１０は、透明基板であるガラス基板１１１の一方の面（図示されるとおり、ＣＦ基板１２０に対向する側の表面、すなわち、液晶セルにおける内側表面）に液晶分子を配向させる配向膜１１２、配向膜１１２の下部に設けられ液晶分子を駆動する電圧を印加する画素電極１１３、画素電極１１３に電圧を供給するスイッチング素子であるＴＦＴ１１４、ＴＦＴ１１４を覆う絶縁膜１１５、ＴＦＴ１１４に信号を供給する配線である複数のゲート配線１１６およびソース配線１１７、ＴＦＴ１１４に供給される信号を外部から受け入れる信号端子１１８、信号端子１１８から入力された信号をＣＦ基板１２０側へ伝達するためのトランスファ電極１１９、信号端子１１８から入力された信号をゲート配線１１６およびソース配線１１７やトランスファ電極１１９へ伝達する周辺配線（図示省略）などを有している。
【００２４】
ＴＦＴ１１４については、アレイ基板１１０上の表示領域１００において、それぞれ縦横に複数本配列して設けられるゲート配線１１６とソース配線１１７の各交差部近傍に設けられる。画素電極１１３については、ゲート配線１１６とソース配線１１７により囲まれる各画素領域内にマトリクス状に配列して形成される。また、信号端子１１８、トランスファ電極１１９、周辺配線については、額縁領域１０１に形成される。また、ガラス基板１１１の他方の面（図示されるとおり、液晶セルにおける外側表面）には偏光板１３１を有している。
【００２５】
一方、上述のＣＦ基板１２０は、透明基板である厚み０．７ｍｍ程度の一般的なガラスよりなるガラス基板１２１の一方の面（図示されるとおり、アレイ基板１１０に対向する側の表面、すなわち、液晶セルにおける内側表面）に液晶分子を配向させる配向膜１２２、配向膜１２２の下部に配置され、アレイ基板１１０上の画素電極１１３との間に電界を生じ液晶分子を駆動する共通電極１２３、共通電極１２３下部に設けられるカラーフィルタ色材層（以下、ＣＦ色材とも呼ぶ。ここでは、三原色である赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）として、それぞれ、１２４Ｒ、１２４Ｇ、１２４Ｂを付している）およびＣＦ色材層１２４Ｒ〜１２４Ｂ間を遮光するため、或いは表示領域１００に対応する領域外側に配置される額縁領域を遮光するために設けられる樹脂製の遮光層である樹脂ＢＭ２０などを有している。
【００２６】
更に、本実施の形態１のＣＦ基板１２０においては、図１或いは図３の断面図に示されるとおり、配向膜１２２および共通電極１２３より下層に、ＣＦ色材層１２４Ｒ〜１２４Ｂと樹脂ＢＭ２０を覆うように透明樹脂膜よりなるバーコート層１２５を設ける構成とする。また、ＣＦ基板１２０のガラス基板１２１の他方の面（図示されるとおり、液晶セルにおける外側表面）には偏光板１３２を有している。
【００２７】
ＣＦ色材層１２４Ｒ〜１２４Ｂとしては、樹脂中に顔料などを分散させた色材層が選択でき、赤、緑、青などの特定の波長範囲の光を選択的に透過するフィルタとして機能し、例えば、図２の平面図に示すように、これら異なる色の色材層が規則的に配列して構成される（図中では、赤（Ｒ）のＣＦ色材層１２４Ｒ、緑（Ｇ）のＣＦ色材層１２４Ｇ、青（Ｂ）のＣＦ色材層１２４Ｂに対応して、引き出し線で符号を付したもの以外も含め、それぞれ、Ｒ、Ｇ、Ｂの記号を付している。）。
【００２８】
また、樹脂ＢＭ２０の構成や、この樹脂ＢＭ２０を覆って設けられる配向膜１２２、共通電極１２３およびオーバーコート層１２５の形成領域などの構成については、特に本発明での特徴的構成となることから、図３の拡大断面図も参照しながら、より詳細に説明する。
【００２９】
先ず、樹脂ＢＭ２０の平面的な形成領域としては、図２の平面図と図１および図３の断面図に示されるとおり、表示領域１００においては各画素に対応して間隔を空けて分散して配列されるＣＦ色材層１２４Ｒ〜１２４Ｂ間を埋めるように配置される。つまり、樹脂ＢＭ２０は表示領域１００に配列される各画素の画素間の境界部領域に配置されることになる。なお、樹脂ＢＭ２０とＣＦ色材層１２４Ｒ〜１２４Ｂとの境界部では、通常は図３の拡大断面図に示されるとおり、樹脂ＢＭ２０とＣＦ色材層１２４Ｒ〜１２４Ｂは重なって配置される。これは、重ね合わせずれを考慮し、樹脂ＢＭ２０とＣＦ色材層１２４Ｒ〜１２４Ｂ間に隙間ができること、それにより無彩色の光が透過してしまうことを防止するためである。
【００３０】
また、額縁領域１０１においては、樹脂ＢＭ２０は、表示に不要な額縁領域１０１におけるＣＦ基板１２０中の光の透過を遮光するため、ＣＦ基板１２０における額縁領域１０１のほぼ全域に渡り配置されている。基本的には、ＣＦ基板１２０の基板端部まで全て樹脂ＢＭ２０を配置しても良いが、本実施の形態１では、図示されるとおり、ＣＦ基板１２０の基板端部近傍の表面では樹脂ＢＭ２０が除去されている。より具体的には、樹脂ＢＭ２０の外側端部がシールパターン１３３と平面視で重なる位置に配置されている。或いは、樹脂ＢＭ２０の外側端部は、シールパターン１３３の外側端面よりも内側となるように樹脂ＢＭ２０は配置される。
【００３１】
また、配向膜１２２、共通電極１２３およびオーバーコート層１２５の形成領域としては、図１或いは図３の断面図に示されるとおり、先ず、オーバーコート層１２５については、少なくとも表示領域１００において樹脂ＢＭ２０およびＣＦ色材層１２４Ｒ〜１２４Ｂの直上を覆って形成される。一方、額縁領域１０１では、オーバーコート層１２５の形成されない領域が存在しており、樹脂ＢＭ２０はオーバーコート層１２５により覆われていない。具体的には、額縁領域１０１の特にシールパターン１３３の近傍において、オーバーコート層１２５は形成されておらず、樹脂ＢＭ２０はオーバーコート層１２５により覆われていない。
【００３２】
また、共通電極１２３については、表示領域１００に加えて額縁領域１０１のシールパターン１３３の形成領域の概ね樹脂ＢＭ２０の形成領域と同じ範囲まで形成される。従って、上記の額縁領域１０１における樹脂ＢＭ２０のオーバーコート層１２５により覆われない領域においては、樹脂ＢＭ２０は共通電極１２３により直接覆われている。また、共通電極１２３上に形成される配向膜１２２についても、概ねオーバーコート層１２５の形成領域と同様に、少なくとも表示領域１００を覆い形成され、額縁領域１０１では形成されない領域が存在しており、当該領域では、樹脂ＢＭ２０は配向膜１２２にも覆われないことになる。
【００３３】
続いて、樹脂ＢＭ２０の厚み方向の構造について説明する。本実施の形態１の液晶パネル１０に用いられる樹脂ＢＭ２０は積層膜よりなる。この樹脂ＢＭ２０の積層膜を構成する液晶層１３０に近い側の表面（アレイ基板１１０に対向する側の表面）に配置される表面黒色樹脂膜２１は、一般的な樹脂ＢＭで汎用されるカーボンブラック（炭素系黒色顔料）やチタンブラック（チタン系黒色顔料）などの黒色粒子を感光性樹脂中に分散した黒色樹脂膜とする。また、この樹脂ＢＭ２０の積層膜を構成する表面黒色樹脂膜２１の下層（ガラス基板１２１に近い側）に一酸化炭素ガス（以下、ＣＯガスとも呼ぶ）を選択的に吸収するＣＯガス吸収層２２が設けられる。
【００３４】
このＣＯガス吸収層２２としては、大気の主要成分となる窒素や酸素に比べて一酸化炭素（ＣＯガス或いは一酸化炭素分子）を優先して吸着可能なＣＯ吸着剤２３を含有した層よりなり、また、当該ＣＯ吸着剤２３は、液晶パネル１０の使用温度範囲内で、一酸化炭素（ＣＯガス或いは一酸化炭素分子）を吸着可能なＣＯ吸着剤２３とする。より具体的には、このＣＯ吸着剤２３としては、例えば、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｃｒの何れかの２価のイオンにシリカ、アルミナが配位する金属錯体、或いは、前記イオンと前記イオンに配位可能な有機配位子とが繰り返し単位を構成する金属錯体（より具体的には、前記イオンが例えばＣｕイオンであれば、一般式〔Ｃｕ２＋（ＯＯＣ―Ｒ―ＣＯＯ）〕２、ここでＲはメタ位に２個のＣＯＯＨ基が付いた芳香族基）を用いることができ、以上のようなＣＯ吸着剤２３が樹脂膜中に混入されることで、ＣＯガス吸収層２２中および樹脂ＢＭ２０中にＣＯ吸着剤２３が含有された構成とすると良い。
【００３５】
なお、樹脂ＢＭ２０を構成するＣＯガス吸収層２２が金属錯体よりなるＣＯ吸着剤２３を含む場合には、樹脂ＢＭ２０は、全て樹脂より構成されるものでは無いが、一般的な黒色樹脂膜を構成する樹脂中に混入される黒色粒子がチタンなどの無機物を含む場合にも、慣用的には樹脂製の遮光層の範囲に分類されることから、本明細書中では、黒色樹脂膜と無機膜の積層膜や黒色樹脂膜と一部無機物の混入された樹脂膜の積層膜などの少なくとも黒色樹脂膜を含み構成される積層膜によりなる遮光層は樹脂製の遮光層の範囲内と拡大して解釈することとする。従って、ＣＯガス吸収層２２に含有されるＣＯ吸着剤２３は、樹脂製の遮光層となる樹脂ＢＭ２０に含有されることになる。
【００３６】
更に、この液晶パネル１０は、後述する製造フロー（製造方法）に関する説明部分において別途詳細に説明を行うが、この一対の基板であるアレイ基板１１０およびＣＦ基板１２０の何れか一方の基板表面に液晶が複数の液滴として配置された後に両方の基板間に挟まれることによりシールパターン１３３により囲まれる領域内に封止されて形成される滴下注入（ＯＤＦ：Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌｉｎｇ）方式により製造される構成について説明する。
【００３７】
従って、シールパターン１３３は閉ループ形状であって、真空注入方式で製造される液晶パネルのように液晶材料を注入するための開口部である注入口は形成されておらず、別途注入口を封止するための封止材も設けられていないといった構造的な特徴を備えている。また、シールパターン１３３の材質は、導電性粒子を混在させた光硬化型シール剤（光硬化型樹脂）によりなる。
【００３８】
更にトランスファ電極１１９と共通電極１２３は、シールパターン１３３中に混在される導電性粒子により電気的に接続されており、信号端子１１８から入力された信号が共通電極１２３に伝達される。導電性粒子としては、弾性変形可能なものが導通の安定の点で好ましく、例えば、表面に金メッキがされた球形の樹脂を用いると良い。この他に、液晶パネル１０は、駆動信号を発生する制御基板１３４、制御基板１３４を信号端子１１８に電気的に接続するＦＦＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  Ｆｌａｔ  Ｃａｂｌｅ）１３５などを備えている。
【００３９】
更に、液晶パネル１０の表示面の反対側には、光源となるバックライトユニット（図示せず）がアレイ基板１１０に対向して配置されており、更に、液晶パネル１０とバックライトユニット間には光の偏光状態や指向性などを制御する光学シートが配置されている。液晶パネル１０は、これら部材と共に表示面となる表示領域１００におけるＣＦ基板１２０の外側の部分が開放された筐体（図示せず）の中に収納され、本実施の形態１の液晶表示装置は構成される。
【００４０】
なお、この液晶表示装置に用いられる液晶パネル１０は一例であり他の構成でも良い。液晶パネル１０の動作モードは、ＴＮモードに限られず、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、強誘電性液晶モード等でも良く、駆動方法は、単純マトリックスやアクティブマトリックス等でも良い。また、画素電極１１３を透過電極とする透過型液晶パネルに限られず、画素電極１１３を反射電極とする反射型液晶パネルや、反射電極と透過電極の双方とする半透過型液晶パネルでも良い。更にＣＦ基板１２０に設けた共通電極１２３をアレイ基板１１０側に設置して、画素電極１１３との間に基板面に対して横方向に電界をかけ液晶層１３０における液晶分子を動作させる横電界方式を用いた液晶パネルでも良い。また、画素電極１１３に電圧を供給するスイッチング素子についても、ＴＦＴに限られずダイオードなどの素子であっても良く、単純マトリックス方式で駆動する場合には省略される。
【００４１】
＜液晶表示装置の製造フロー＞
本発明に係る実施の形態１の液晶表示装置の製造方法として、上記のような構成の液晶パネルを有する液晶表示装置の製造フローについて、図４に示すフローチャートを用いて説明する。通常、液晶パネルは最終形状よりも大きなマザー基板から、液晶パネルを１枚或いは複数枚切り出して（多面取りとも呼ばれる）製造される。図４におけるステップＳ１〜Ｓ９（Ｓ１０途中まで）のプロセスは、マザー基板の状態でのプロセスである。
【００４２】
先ず、基板準備工程において、互いに貼り合わされる前のＴＦＴ基板１１０を取り出すマザーＴＦＴ基板とＣＦ基板１２０を取り出すマザーＣＦ基板を準備する（Ｓ１）。液晶パネルの薄型化や軽量化のために厚み０．５ｍｍ以下程度までＴＦＴ基板１１０とＣＦ基板１２０を薄型化加工する場合もあるが、その場合にも、以降の工程の実施が容易となるように、途中までは、厚み０．５〜１．５ｍｍ程度のガラスにより構成されるマザーＴＦＴ基板とマザーＣＦ基板により製造される。本実施の形態１では、最終的なＴＦＴ基板１１０とＣＦ基板１２０の厚みは０．７ｍｍ程度としており薄型化加工も省略できることから、ここでは、マザーＴＦＴ基板とマザーＣＦ基板の両者ともに厚み０．７ｍｍのガラスにより構成される基板として準備される。
【００４３】
マザーＴＦＴ基板とマザーＣＦ基板の製造方法については、本発明の特徴的な構成となる樹脂ＢＭ２０の形成方法を除くと、ごく一般的な方法を用いて製造できるため、簡単に説明する。先ず、マザーＴＦＴ基板については、公知の製造方法を利用して、ガラス基板１１１の一方の面に、成膜、フォトリソグラフィー法によるパターンニング、エッチング等のパターン形成工程を繰り返し用いてＴＦＴ１１４や画素電極１１３、ゲート配線１１６やソース配線１１７などの配線層、更に信号端子１１８、トランスファ電極１１９を形成することにより製造される。
【００４４】
また、マザーＣＦ基板は、マザー基板状態のガラス基板１２１の一方の面に、ＣＯガス吸収層２２に加工されるＣＯ吸着剤２３を含有した樹脂膜を形成する。具体的には、オーバーコート層などに汎用される感光性樹脂材料中に、先に説明を行ったＣｕなどの２価イオンに配位子を有した金属錯体よりなるＣＯ吸着剤２３を混入して、一般的な感光性樹脂材料の塗布形成方法であるスピンコート法による塗布を転用して、樹脂膜中にＣＯ吸着剤２３が分散されたＣＯガスの吸着性を有した樹脂膜を得た。なお、混入されるＣＯ吸着剤２３に充分なＣＯガスの吸着性を発揮させるために、感光性樹脂材料に混入する前に、真空中で適宜加熱するなどの脱ガス処理を実施しておくと良い。但し、このＣＯ吸着剤２３は、ＣＯガスが存在すれば選択的に吸着吸収するが、大気中の主成分となる窒素、酸素、二酸化炭素、水蒸気などを殆ど吸着することがないので、上記の感光性樹脂材料の塗布形成を真空プロセスや不活性ガス雰囲気で行う必要はなく、一般的な液晶表示装置の製造フローと同様に大気中にて行えば良い。
【００４５】
続いて、一般的な公知の樹脂ＢＭの形成プロセスを利用して、このＣＯ吸着剤２３が混入された樹脂膜が形成されたマザー基板状態のガラス基板１２１上に、カーボンブラック（炭素系黒色顔料）やチタンブラック（チタン系黒色顔料）などの黒色粒子が混入された感光性樹脂を塗布形成する。続いて、写真製版技術を利用して、この黒色粒子が混入された感光性樹脂の露光パターンニング加工を行い、図２を用いて説明を行った所定の平面パターン形状に加工する。つまり、マザーＣＦ基板上での各ＣＦ基板１２０において、ＣＦ基板１２０の基板端部近傍の領域と、後に各画素の色材が配置される開口部を形成する領域において、黒色粒子が混入された感光性樹脂を除去する。これによって、樹脂ＢＭ２０を構成する表面黒色樹脂膜２１が形成される。
【００４６】
なお、上記説明したＣＯガス吸収層２２に加工されるＣＯ吸着剤２３を含有する樹脂膜についても、感光性樹脂材料中にＣＯ吸着剤２３を混入するとともに、表面黒色樹脂膜２１に加工される黒色粒子が混入された感光性樹脂と同様に、ＣＯ吸着剤２３に加えて黒色粒子を混入しても良い。そのようにすることで、ＣＯガス吸収層２２の遮光性や光反射特性を樹脂ＢＭの特性に近づけることも可能である。
【００４７】
更に、この加工された表面黒色樹脂膜２１と同じ平面パターン形状に、先に形成したＣＯ吸着剤２３を含有させた樹脂膜を加工し、樹脂ＢＭ２０を構成するＣＯガス吸収層２２とする必要があるが、ここでは、ＣＯ吸着剤２３を含有させた樹脂膜についても感光性を有した樹脂材料としていることから、表面黒色樹脂膜２１を露光パターンニング加工する際に、黒色粒子が混入された感光性樹脂の下層に形成されたＣＯ吸着剤２３を含有させた樹脂膜についても露光パターニング可能な露光量に調整することによって、表面黒色樹脂膜２１と同じ所定の平面パターン形状に加工することができる。以上のようにして、マザーＣＦ基板上に、各ＣＦ基板１２０に対応した樹脂ＢＭ２０（ＣＯガス吸収層２２と表面黒色樹脂膜２１の積層膜）を形成することができる。
【００４８】
以上の樹脂ＢＭ２０の形成方法によれば、別途レジストマスクなどを形成することなく、表面黒色樹脂膜２１とＣＯガス吸収層２２のパターニング加工を行うことができ、一般的な樹脂ＢＭの形成に比べて、製造コストを大きく上昇させることなく製造することができる。なお、選択するＣＯガス吸収層２２の材料が、感光性を有さない樹脂や、ＳＯＧ（Ｓｐｉｎ  ｏｎ  Ｇｌａｓｓ:塗布ガラス）膜材料などにＣＯ吸着剤２３が混入された層である場合には、パターニング加工された表面黒色樹脂膜２１をエッチングマスクとして、ＣＯ吸着剤２３が混入された樹脂膜をエッチング加工すると良い。また、エッチング加工の際に、表面黒色樹脂膜２１にダメージを与える場合もあることから、適宜、別途レジストマスクを形成して、表面黒色樹脂膜２１とＣＯガス吸収層２２のパターニング加工を行う方法を選択しても良い。
【００４９】
樹脂ＢＭ２０を形成した後は、公知の製造方法を利用して、成膜からパターンニング加工工程を繰り返し用いて、ＣＦ色材層１２４Ｒ〜１２４Ｂ、オーバーコート層１２５、共通電極１２３、および柱状スペーサを順次パターン形成することによりマザーＣＦ基板は製造することができる。
【００５０】
以上のとおり、マザーアレイ基板およびマザーＣＦ基板を準備した後、続いて、ステップＳ２の基板洗浄工程において、以上のように準備されたマザーアレイ基板およびマザーＣＦ基板に対して、基板を洗浄する基板洗浄工程を行う。次に、ステップＳ３の配向膜材料塗布工程において、マザーアレイ基板およびマザーＣＦ基板の片側表面に、配向膜材料の塗布形成を行う。この工程ではマザーアレイ基板およびマザーＣＦ基板の互いに向かい合う主面に、例えば、フレキソ印刷法により有機材料で構成される配向膜材料を転写塗布し、ホットプレートなどにより焼成処理し乾燥させる工程を含んでいる。
【００５１】
次に、ステップＳ４の配向処理工程において、配向膜材料に対して、例えば、ラビング処理を行い、配向膜材料表面を配向処理して配向膜１１２および配向膜１２２を形成する。
【００５２】
次に、ステップＳ５のシール剤塗布工程において、シールディスペンサ装置を用いて、マザーアレイ基板或いはマザーＣＦ基板の主面に、シール剤をペーストとしてディスペンサノズルより吐出して塗布する。シール剤は、液晶パネルの表示領域を囲うように塗布され、シールパターン１３３を形成する。次に、ステップＳ６の液晶滴下工程において、シールパターン１３３が形成された方の基板のシールパターン１３３で囲まれた領域内に液晶材料を滴下する。この液晶材料の滴下量は、基板準備工程以降において、マザーＣＦ基板の表面に形成される柱状スペーサの高さについて、液晶滴下工程に先立って、測定しておいて、その測定された柱状スペーサの高さに基づいて決定すると良い。特に液晶の滴下量は、液晶パネルとなった状態で、柱状スペーサが所定範囲に圧縮されるために必要な滴下量が、シールパターン１３３で囲まれた領域の面積と柱状スペーサの高さを考慮して設定される。
【００５３】
なお、本発明のＣＯガス吸収層２２を構成するＣｕなどの２価イオンに配位子を有した金属錯体よりなるＣＯ吸着剤２３は、ＣＯが存在すれば選択的に吸着吸収するが、大気中の主成分となる窒素、酸素、二酸化炭素、水蒸気などを殆ど吸着することがないので、上記のステップＳ１の基板準備工程からステップ６の液晶滴下工程まで、特に真空プロセスや不活性ガス雰囲気で行う必要はなく、一般的な液晶表示装置の製造フローと同様に大気中にて行えば良い。
【００５４】
次に、ステップＳ７の真空貼り合わせ工程において、マザーアレイ基板とマザーＣＦ基板とを真空状態で貼り合わせてマザーセル基板を形成する。次に、ステップＳ８のＵＶ（紫外線）照射工程でマザーセル基板に紫外線を照射し、シール剤を仮硬化させる。その後、ステップＳ９において加熱によりアフターキュア工程を行い、シール剤を完全に硬化させて、硬化したシールパターン１３３を得る。
【００５５】
次に、ステップＳ１０のセル分断工程において、マザーセル基板をスクライブラインに沿って切断し、個々の液晶セルに分断する。以上のように分断された個々の液晶セルに対して、ステップＳ１１の偏光板貼り付け工程、ステップＳ１２の制御基板実装工程などを実行し、一連の製造工程が完了し、図１および図２のとおり、液晶パネル１０が完成する。
【００５６】
更に、液晶パネル１０の反視認側となるアレイ基板１１０の裏面側に位相差板などの光学フィルムを介して、バックライトユニットを配設し、樹脂や金属などよりなるフレーム（筐体）内に、液晶パネル１０およびこれら周辺部材を適宜収納し、本発明を適用した液晶表示装置が完成する。
【００５７】
以上のように製造される液晶表示装置は次のように動作する。例えば、外部回路である制御基板１３４から画像信号や制御信号などの電気信号が入力されると、画素電極１１３および共通電極１２３に駆動電圧が加わり、駆動電圧に合わせて液晶層１３０における液晶分子の方向が変わる。その結果、各画素の光透過率が制御される。そして、バックライトユニットの発する光がアレイ基板１１０、液晶層１３０およびＣＦ基板１２０を介することで、外部へ各画素の光透過率に応じて透過或いは遮断されることにより、液晶パネル１０の表示領域１００にカラー画像などが表示される。
【００５８】
本実施の形態１の液晶表示装置および液晶パネル１０は、以上説明の構成を備えることにより、液晶パネル１０の液晶セル内における有機材料からなる構成部材、特に樹脂製の遮光層、つまり樹脂ＢＭから放出されるＣＯガスを起因とする気泡を発生することなく、或いは、少なくとも従来に比べて気泡発生を低減して製造することができ、高い歩留まりで製造できる。その結果として、液晶セル内に有機材料からなる構成部材を備えた液晶表示装置を低コストで製造することができる。
【００５９】
また、本実施の形態１の液晶表示装置は、製造途中における気泡発生を防止することのみならず、経時変化も含めて、液晶パネル１０内での気泡発生を低減する効果も得られる。従って、本実施の形態１の液晶表示装置では、液晶セル内に有機材料からなる構成部材を備えた液晶表示装置における信頼性を向上することができる。
【００６０】
また、樹脂ＢＭ２０の下層側に配置されるＣＯガス吸収層２２は、本実施の形態１においては、樹脂ＢＭ２０の形成領域と同じ平面視での領域に配置され、比較的、液晶パネル１０内の広範囲の面積に設けられることとなることから、黒色樹脂膜よりなる表面黒色樹脂膜２１を介した下層に配置されるものの、液晶パネル１０内に発生するＣＯガス或いは液晶パネル１０内に存在するＣＯガスに対して高いＣＯガスの吸収作用が得られる。特にＣＯ吸着剤２３が含まれる樹脂ＢＭ２０の形成領域は、ＣＦ色材層１２４Ｒ〜１２４Ｂ間にも配置されるなど表示領域１００も含め液晶セル内において平面的に全体に渡って設けられることから、既に液晶セル内の何れかの位置に発生してしまった気泡に対して有効に除去可能である点において優れている。
【００６１】
また、ＣＯガスの発生は、有機材料からなる構成部材のうち、特に黒色樹脂膜、つまり樹脂ＢＭ２０からの発生が顕著であること、更に、オーバーコート層１２５が表示領域１００を覆って設けられる構成においては、このオーバーコート層１２５に覆われない領域における樹脂ＢＭ２０から液晶層１３０内にＣＯガスが混入され、当該ＣＯガスを起因とする気泡発生が顕著となることも判ってきている。それに対して、本実施の形態１において設けられるＣＯガス吸収層２２は、特に額縁領域１０１のほぼ全面に渡る広い面積で配置されることとなるから、液晶パネル１０の周辺部に発生する場合の多いＣＯガスを起因とする気泡の防止に対して効果的に作用する。
【００６２】
また、実施の形態１の構成においては、ＣＯガス吸収層２２が液晶材料とは直接接しておらず液晶材料がＣＯガス吸収層２２中の金属イオンなどにより汚染されることがないこと、更に、黒色樹脂膜よりなる表面黒色樹脂膜２１が、言わばフィルタ層として作用して、ＣＯガス吸収層２２から液晶材料への汚染を防ぎながら、液晶材料或いは表面黒色樹脂膜２１中からＣＯガス吸収層２２へのＣＯガスの移動は妨げないことなどの効果についても得ることができる。
【００６３】
また、本実施の形態１において用いられるＣＯガス吸収層２２は、当該ＣＯガス吸収層２２が含有するＣＯ吸着剤２３について、特に、Ｃｕなどの２価イオンに配位子を有した金属錯体よりなるＣＯ吸着剤２３を選択し、大気の主要成分となる窒素や酸素に比べてＣＯガスを優先して吸着可能なＣＯ吸着剤２３を用いていることから、液晶パネル１０の製造時、すなわち、本実施の形態１の液晶表示装置に製造時において、具体的には、先に説明したとおり、基板準備工程から液晶滴下工程まで、特に真空プロセスや不活性ガス雰囲気で行う必要はなく、一般的な液晶表示装置の製造フローと同様に大気中にて行うことができ、比較的容易に、或いは、製造コストの上昇を招くことなく、実施の形態１の液晶表示装置を製造すること、すなわち、実施の形態１の液晶表示装置を得ることが可能である。
【００６４】
実施の形態２． 
続いて、先に説明を行った実施の形態１の液晶表示装置より、ＣＦ基板１２０を構成するＣＯガスを選択的に吸収するＣＯガス吸収層２２を備えた樹脂ＢＭ２０に関して、ＣＯガス吸収層２２の形成領域のみ変更を行った実施の形態２の液晶表示装置について説明を行う。以下、実施の形態１との変更部を重点的に説明することとする。まず、実施の形態２の液晶表示装置の構造の構成について、図５を用いて説明する。ここで、図５は、実施の形態２の液晶表示装における液晶パネル１０Ｄの全体の構成の断面図であり、実施の形態１の図１に相当する。以下、実施の形態１との変更部分となるＣＦ基板１２０Ｄの構成に関して重点的に説明することとする。
【００６５】
実施の形態１の液晶パネル１０からの主な変更点は、図５に示すとおり、液晶パネル１０Ｄを構成するＣＦ基板１２０Ｄおよび樹脂ＢＭ２０Ｄについて、液晶層１３０に近い側の表面が黒色樹脂膜よりなる表面黒色樹脂膜２１Ｄにより構成され、その表面黒色樹脂膜２１Ｄの下層にＣＯガスを選択的に吸収するＣＯガス吸収層２２Ｄが配置され、そのＣＯガス吸収層２２Ｄは大気の主要成分となる窒素や酸素に比べてＣＯガスを優先して吸着可能なＣＯ吸着剤２３（図示省略）を含有した層よりなる点と、樹脂ＢＭ２０Ｄの平面的な形成領域については、実施の形態１における樹脂ＢＭ２０と変わらないが、下層に配置されるＣＯガス吸収層２２Ｄの平面的な形成領域が、額縁領域１０１内のみである点が実施の形態１における樹脂ＢＭ２０と異なっている。つまり、表示領域１００内においては、樹脂ＢＭ２０Ｄは、黒色樹脂膜よりなる表面黒色樹脂膜２１Ｄの単層よりなり、額縁領域１０１内のみにおいて、樹脂ＢＭ２０Ｄは、実施の形態１における樹脂ＢＭ２０と同様の表面黒色樹脂膜２１ＤとＣＯガス吸収層２２Ｄの積層膜よりなることになる。
【００６６】
上記の相違点を除くと、本実施の形態２の液晶パネル１０Ｄは、実施の形態１の液晶パネル１０と基本的には同様の構成となる。なお、図５の断面図において示されるとおり、樹脂ＢＭ２０Ｄにおいて、ＣＯガス吸収層２２Ｄが形成される積層膜よりなる領域と表面黒色樹脂膜２１Ｄの単層膜よりなる領域の境界では、このＣＯガス吸収層２２Ｄの形成の有無によって、その表面において段差が形成される。但し、実施の形態１のＣＦ基板１２０と同様に、ＣＦ色材層１２４Ｒ〜１２４Ｂと樹脂ＢＭ２０を覆うようにオーバーコート層１２５を設けた構成とされており、そのオーバーコート層１２５は、表面黒色樹脂膜２１Ｄの単層膜よりなる領域からＣＯガス吸収層２２Ｄが形成される積層膜よりなる領域に至るまで形成されている。従って、このＣＯガス吸収層２２Ｄの形成の有無によって生ずる段差については、オーバーコート層１２５の形成時における表面の平坦化作用によって平坦化されている。つまり、樹脂ＢＭ２０Ｄを覆い形成される配向膜１２２の表面には段差が形成されないことになる。
【００６７】
また、本実施の形態２の液晶表示装置および液晶パネル１０Ｄの製造方法については、樹脂ＢＭ２０Ｄの形成工程が異なるのみである。具体的には、実施の形態１においては、ＣＯガス吸収層２２Ｄと表面黒色樹脂膜２１Ｄは基本的には同じ平面パターン形状であることから、ＣＯガス吸収層２２Ｄと表面黒色樹脂膜２１Ｄにそれぞれ加工されるＣＯ吸着剤２３を含有した樹脂膜と黒色樹脂膜を順次形成後にそれぞれのパターン形状に順次加工する方法を用いた。それに対して、本実施の形態２の樹脂ＢＭ２０Ｄにおいては、ＣＯガス吸収層２２Ｄと表面黒色樹脂膜２１Ｄとは異なる平面パターン形状であることから、若干工程順が変更される。つまり、先ずＣＯガス吸収層２２Ｄに加工されるＣＯ吸着剤２３を含有した樹脂膜の形成後に、そのＣＯ吸着剤２３を含有させた樹脂膜をＣＯガス吸収層２２Ｄのパターン形状に加工し、続いて、表面黒色樹脂膜２１Ｄに加工される黒色樹脂膜の形成後に、その黒色樹脂膜を表面黒色樹脂膜２１Ｄのパターン形状に加工し、樹脂ＢＭ２０Ｄが形成されることになる。
【００６８】
以上説明のように、本実施の形態２の液晶表示装置においても、樹脂ＢＭ２０Ｄについて、液晶層１３０に近い側の表面が黒色樹脂膜よりなる表面黒色樹脂膜２１Ｄにより構成され、下層にＣＯガスを選択的に吸収するＣＯガス吸収層２２Ｄが配置される点と、樹脂ＢＭ２０Ｄの平面的な形成領域については、実施の形態１における樹脂ＢＭ２０と変わらない。従って、特に、ＣＯガス吸収層２２Ｄが、実施の形態１の液晶表示装置の場合と同様に、特に額縁領域１０１のほぼ全面に渡る広い面積で配置されることとなるから、液晶パネル１０Ｄの周辺部に発生する場合の多いＣＯガスを起因とする気泡の防止に対して効果的に作用する。
【００６９】
また、実施の形態２の構成においても、実施の形態１の構成と同様に、ＣＯガス吸収層２２Ｄが液晶材料とは直接接しておらず液晶材料がＣＯガス吸収層２２Ｄ中の金属イオンなどにより汚染されることがないこと、更に、黒色樹脂膜よりなる表面黒色樹脂膜２１Ｄが、言わばフィルタ層として作用して、ＣＯガス吸収層２２Ｄから液晶材料への汚染を防ぎながら、液晶材料或いは表面黒色樹脂膜２１Ｄ中からＣＯガス吸収層２２ＤへのＣＯガスの移動は妨げないことなどの効果についても、共通して得ることができる。なお、これらの効果については、樹脂ＢＭ２０Ｄについて、液晶層１３０に近い側の表面が黒色樹脂膜よりなる表面黒色樹脂膜２１Ｄにより構成され、下層にＣＯガスを選択的に吸収するＣＯガス吸収層２２Ｄが少なくとも一部の領域において配置されていれば得られることから、ＣＯガス吸収層２２Ｄの平面的な形成領域が実施の形態２と異なっている場合にも同様に得ることができる。
【００７０】
また、実施の形態２の構成においても、実施の形態１の構成と同様に、樹脂ＢＭ２０Ｄを構成するＣＯガス吸収層２２Ｄに、大気の主要成分となる窒素や酸素に比べてＣＯガスを優先して吸着可能なＣＯ吸着剤２３を含有した層が用いられることから、液晶表示装置に製造時において、例えば、基板準備工程から液晶滴下工程まで、特に真空プロセスや不活性ガス雰囲気で行う必要はなく、一般的な液晶表示装置の製造フローと同様に大気中にて行うことができ、比較的容易に、或いは、製造コストの上昇を招くことなく、液晶表示装置を製造すること、つまり、液晶表示装置を得ることが可能である効果についても、共通して得ることができる。
【００７１】
なお、上記説明を行った実施の形態１或いは実施の形態２の液晶表示装置においては、樹脂ＢＭ内に設けられる（樹脂ＢＭに含有される）ＣＯ吸着剤２３について、樹脂ＢＭ２０或いは樹脂ＢＭ２０Ｄを２層構造として、下層に配置されるＣＯガス吸収層２２或いはＣＯガス吸収層２２Ｄ中に当該ＣＯ吸着剤２３が混入されることで樹脂ＢＭに含有された例について説明を行った。また、ＣＯガス吸収層２２として、適宜、ＣＯ吸着剤２３に加えて黒色粒子を混入することで、遮光性や光反射特性について樹脂ＢＭの特性に近づける変更を示唆する説明も行った。前記の変更を行う場合と同様に、ＣＯガス吸収層２２やＣＯガス吸収層２２Ｄにも遮光性を持たせるのであれば、樹脂ＢＭを単層として、その樹脂ＢＭ中の全体にＣＯ吸着剤２３を分散して混入し、樹脂ＢＭの全体について、遮光性とＣＯガス吸収性を兼ね備えたＣＯガス吸収層（或いは、ＣＯガス吸収性を備えた樹脂ＢＭ）とすることにより、当該ＣＯ吸着剤２３が樹脂ＢＭに含有された構成としても良いことになる。
【００７２】
以下では、実施の形態１或いは実施の形態２におけるＣＯ吸着剤２３が内部に設けられる樹脂ＢＭ２０或いは樹脂ＢＭ２０Ｄについて、上記説明のとおり、単層の樹脂ＢＭ中の全体にＣＯ吸着剤２３が分散して混入されてなる構成とする変更を行った変形例について説明を行う。図６に当該変更を行った変形例の液晶表示装置におけるＣＦ基板１２０Ｅの断面図を示す。この断面図は実施の形態１のＣＦ基板１２０を説明する図３の拡大断面図に対応する。
【００７３】
この変形例のＣＦ基板１２０Ｅでは、図６に示されるとおり、樹脂ＢＭ２０Ｅは、一般的な樹脂ＢＭと同様に黒色粒子を感光性樹脂中に分散した黒色樹脂膜中に、更にＣＯ吸着剤２３が分散して混入された単層の遮光性とＣＯガス吸収性を兼ね備えたＣＯガス吸収層よりなっている。その他の構成については、特に実施の形態１のＣＦ基板１２０と同様であることから、図中に同一の符号を付して説明を省略する。また、ＣＦ基板１２０Ｅ以外の液晶パネルの構成は実施の形態１の液晶パネル１０と同様であることから、その説明を省略する。以上のような変形例の液晶表示装置の構成とした場合には、実施の形態１で得られる効果については同様に得ることができるとともに、更に、ＣＯ吸着剤２３を含有した樹脂ＢＭ２０を均一な単層膜により形成することが可能となり、その製造工程をより簡略化すること、低コストで製造することが可能となる。
【００７４】
また、上記説明を行った実施の形態１、実施の形態２および変形例の液晶表示装置においては、ＣＯ吸着剤２３について、樹脂ＢＭ内に設けられる（樹脂ＢＭに含有される）構成を例示して説明を行った。しかしながら、ＣＯ吸着剤２３は、液晶表示装置における液晶セル内の構成に設けられれば、液晶セル内のＣＯガスを優先的に吸収することにより得られる本発明の基本的な効果を得ることができる。従って、本発明が適用可能な構成としては、樹脂ＢＭ内に設けられる構成のみに限られず、液晶セル内の別の構成、例えば、液晶パネル１０を構成するシールパターン１３３やスペーサ材（柱状スペーサや球状スペーサ）、ＣＦ色材層１２４Ｒ〜１２４Ｂやオーバーコート層１２５などの構成部材中に混在されることで液晶セル内に設けられるようにしても良い。或いは、液晶層１３０中にＣＯ吸着剤２３を分散させる形で液晶セル内に設けても良い。
【００７５】
なお、スペーサ材（柱状スペーサや球状スペーサ）、ＣＦ色材層１２４Ｒ〜１２４Ｂやオーバーコート層１２５、或いは液晶層１３０などの液晶セル内において平面的に全体に渡って設けられる構成にＣＯ吸着剤２３が含有される場合には、既に液晶セル内の何れかの位置に発生してしまった気泡に対して有効に除去可能である点において優れており、逆に、シールパターン１３３などのように、額縁領域１０１に設けられる構成にＣＯ吸着剤２３が含有される場合には、樹脂ＢＭ内に設けた実施の形態１或いは実施の形態２の場合と同様に、液晶パネルの周辺部に設けられる樹脂ＢＭより発生するＣＯガスに対し、気泡を発生する前に有効に除去可能である点において優れていることになる。
【００７６】
また、ＣＦ色材層１２４Ｒ〜１２４Ｂの何れかにＣＯ吸着剤２３が含有された構成とする際には、このＣＯ吸着剤２３として、例えば、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｃｒの何れかの２価のイオンに有機配位子が配位された金属錯体より適当なものを選択し、金属錯体の発色特性を利用することで特定の波長範囲の光を選択的に透過するカラーフィルタの色材層として機能させても良い。より具体的には、例えば、Ｃｕの２価のイオンに有機配位子が配位された金属錯体の場合、緑の発色特性を有するものがあることから、ＣＯ吸着剤２３として機能するとともに緑の発色特性を有するものを選択し、緑の顔料の代わりに含有させることでＣＦ色材層１２４Ｇを構成する色材層として用いることができる。以上のようにした場合には、色材層の材料変更のみにより本発明の構成を得ることができ、製造工程をより簡略化することができ、低コストで製造することが可能となる。
【符号の説明】
【００７７】
１０，１０Ｄ  液晶パネル、
１００  表示領域、１０１  額縁領域、
１１０  ＴＦＴ基板、１２０，１２０Ｄ，１２０Ｅ  ＣＦ基板、
１１１，１２１  ガラス基板、
１１２，１２２  配向膜、１１３  画素電極、１１４  ＴＦＴ、１１５  絶縁膜、
１１６  ゲート配線、１１７  ソース配線、
１１８  信号端子、１１９  トランスファ電極、
１２３  共通電極、１２４Ｒ, １２４Ｇ, １２４Ｂ  カラーフィルタ、
１２５  オーバーコート層、
１３０  液晶層、１３１，１３２  偏光板、１３３  シールパターン、
１３４  制御基板、１３５  ＦＦＣ、
２０，２０Ｄ，２０Ｅ  樹脂ＢＭ、２１，２１Ｄ  表面黒色樹脂膜、
２２，２２Ｄ  ＣＯガス吸収層、２３  ＣＯ吸着剤。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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