(57)【要約】【課題】粉砕対象物が比較的小さい粉粒状体である場合にも良好に粉砕を行え、さらに、粉砕に必要となるエネルギーを低く抑えることができる衝突粉砕方法及び衝突粉砕システムを得る。【解決手段】ジェットノズル１０ａから噴流ｊをターゲット１２０ｂに向けて噴射し、噴流ｊに随伴してターゲット１０ｂに導かれる粉粒状の粉砕対象物Ｘをターゲット１０ｂに衝突させて粉砕するに、粉砕対象物Ｘより質量が大きい粒状体Ｃの表面に粉砕対象物Ｘを付着させて、粉砕対象物付着粒状体Ｃｘを生成する予備工程と、この予備工程で生成された粉砕対象物付着粒状体Ｃｘを、ジェットノズル１０ａから噴流ｊに随伴させてターゲット１０ｂに導くとともに、ターゲット１０ｂに衝突させる粉砕工程とを実行する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
噴出部から噴流をターゲットに向けて噴射し、前記噴流に随伴して前記ターゲットに導かれる粉粒状の粉砕対象物を前記ターゲットに衝突させて粉砕する衝突粉砕方法であって、
前記粉砕対象物より質量が大きい粒状体の表面に前記粉砕対象物を付着させて、粉砕対象物付着粒状体を生成する予備工程と、
前記予備工程で生成された前記粉砕対象物付着粒状体を、前記噴出部から前記噴流に随伴させて前記ターゲットに導くとともに、前記ターゲットに衝突させる粉砕工程とを実行する衝突粉砕方法。
【請求項２】
前記予備工程に、
前記粒状体の表面に前記粉砕対象物を付着させる付着予備工程と、
前記付着予備工程を経て得られる粉砕対象物付着粒状体を、粒状体構成物質の固化点未満の温度に冷却する冷却予備工程を含む請求項１記載の衝突粉砕方法。
【請求項３】
前記予備工程において、前記粒状体の表面を溶解させて前記粉砕対象物を当該表面に付着させる請求項１又は２記載の衝突粉砕方法。
【請求項４】
前記予備工程において、前記粒状体の表面を加温・溶解させるとともに、当該溶解状態にある前記粒状体の表面に前記粉砕対象物を付着させる請求項１〜３の何れか一項記載の衝突粉砕方法。
【請求項５】
前記粒状体が昇華性を有する昇華性物質であり、
当該昇華性物質が昇華する物理条件環境下において、
前記昇華性物質を昇華させ、前記粉砕工程を経て得られる粉砕物から前記昇華性物質を昇華させて前記粉砕処理済みの粉砕対象物を得る請求項１〜４の何れか一項記載の衝突粉砕方法。
【請求項６】
前記昇華性物質が水もしくは二酸化炭素である請求項５記載の衝突粉砕方法。
【請求項７】
噴出部から噴流をターゲットに向けて噴射し、前記噴流に随伴して前記ターゲットに導かれる粉粒状の粉砕対象物を前記ターゲットに衝突させて粉砕する衝突粉砕システムであって、
前記粉砕対象物より質量が大きい粒状体の表面に前記粉砕対象物を付着させて、粉砕対象物付着粒状体を生成する予備処理部と、
前記予備処理部で生成された前記粉砕対象物付着粒状体を、前記噴出部から前記噴流に随伴させて前記ターゲットに導くとともに、前記ターゲットに衝突させる粉砕処理部とを備えた衝突粉砕システム。
【請求項８】
昇華性物質から成る昇華性粒状体の表面に、粉粒状の粉砕対象物を接触或は衝突させて、前記昇華性粒状体の表面に前記粉砕対象物が付着した粉砕対象物付着粒状体を得る付着予備処理部と、
前記付着予備処理部で得られた前記粉砕対象物付着粒状体を、前記昇華性物質の昇華点未満の温度に冷却する冷却予備処理部とを備える衝突粉砕システム用予備機。
【請求項９】
前記付着予備処理部において、前記昇華性粒状体の表面を加温溶解させる加温溶解機構と、前記粉砕対象物を、溶解状態にある前記昇華性粒状体の表面に付着させる付着機構とを備えた請求項８記載の衝突粉砕システム用予備機。
【請求項１０】
前記冷却予備処理部に、前記昇華性物質が固化する物理条件下において液相を成す冷却処理液が貯えられた低温媒貯留槽を備え、当該低温媒貯留槽内に前記付着予備処理部で得られる粉砕対象物付着粒状体が沈降して冷却処理される請求項８又は９記載の衝突粉砕システム用予備機。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、噴出部から噴流をターゲットに向けて噴射し、前記噴流に随伴して前記ターゲットに導かれる粉粒状の粉砕対象物を前記ターゲットに衝突させて粉砕する衝突粉砕方法、及びこの衝突粉砕方法を使用する衝突粉砕システムに関するとともに、当該衝突粉砕システムでも使用できる衝突粉砕システム用予備機に関する。
【背景技術】
【０００２】
かかる衝突粉砕方法の従来例として、圧縮空気を、原料搬送用気体として、噴射ノズルから加速管に噴射させ、加速管に噴射した圧縮空気により原料（粉砕対象物に相当する）を吸引させ、原料を圧縮空気に随伴した状態で流動させて粉砕処理室の内部の衝突部（ターゲットに相当する）に衝突させるようにしたものがある（特許文献１）。
【０００３】
衝突粉砕方法の別の従来例として、窒素ガスを、原料搬送気体として、粉砕処理室の底部に設けた噴射ノズルから噴射させ、粉砕処理室の底部に供給する原料（粉砕対象物に相当する）を噴射ノズルから噴射される窒素ガスの流れに引き寄せるようにして、原料を窒素ガスに随伴した状態で流動させて粉砕処理室の内部の衝突部（ターゲットに相当する）に衝突させるようにしたものがある（特許文献２（段落〔００７７〕、図３））。
【０００４】
さらに、粉砕による発熱を効果的に除去して、より微細な粉末を製造できる樹脂微衝突粉砕方法として、液体二酸化炭素を噴射した雰囲気中に粗粒子末の樹脂（粉砕対象物に相当する）を投入し、樹脂と固化したドライアイスとを混合し、この混合物を粉砕して樹脂を微粉化する技術も提案されている（特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平１０−２９６１１５号公報
【特許文献２】特開２００１−３１４７７６号公報
【特許文献３】特開平７−３１３８９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記の各特許文献１、２に記載の発明は、強い噴流を利用することはできるが、粉砕対象物を噴流（粉砕対象物搬送流となる）に随伴させてターゲットに衝突させて粉砕（微粉化）するものであるため、以下のような問題が内在していることが判明した。
【０００７】
即ち、粉砕対象物が比較的大きい場合は、図３（ｃ）に示すように、粉砕対象物をターゲットに容易に衝突させて粉砕を行うことができるが、粉砕対象物が小さくなるに従って、その衝突機会が失われる。図３（ｂ）に示す状況のように、小さな粉砕対象物Ｘは、その運動量が小さいことから、ターゲット１０ｂの周部に拡がる粉砕対象物搬送流に押し戻され、ターゲット１０ｂまで到達できず、粉砕され難くなる。
【０００８】
一方、特許文献３に開示の技術では、単にドライアイスを冷却の目的に使用するものであるため、充分な衝突性能を得ることができず、微粉化に限界がある。
【０００９】
従って、このような状態では、粉砕対象物の微粉化にその粒径上の限界が生じるとともに、粉砕操作を長時間に渡って継続する必要が生じ、エネルギーコストの面で改良の余地がある。
【００１０】
この実情に鑑み、本発明の主たる課題は、粉砕対象物が比較的小さい粉粒状体である場合にも良好に粉砕を行え、さらに、粉砕に必要となるエネルギーを低く抑えることができる衝突粉砕方法及び衝突粉砕システムを得ることにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、衝突粉砕方法と、その衝突粉砕方法を使用する衝突粉砕システムとに関するとともに、このような衝突粉砕システムで、その予備機として使用できる衝突粉砕システム用予備機に関するため、以下に示す手段の説明では、衝突粉砕方法及びその方法を使用する衝突粉砕システムに関して先ず説明し、その後、衝突粉砕システム用予備機に関して説明する。
【００１２】
本発明の衝突粉砕方法の第１特徴構成は、
噴出部から噴流をターゲットに向けて噴射し、前記噴流に随伴して前記ターゲットに導かれる粉粒状の粉砕対象物を前記ターゲットに衝突させて粉砕する衝突粉砕方法であって、
前記粉砕対象物より質量が大きい粒状体の表面に前記粉砕対象物を付着させて、粉砕対象物付着粒状体を生成する予備工程と、
前記予備工程で生成された前記粉砕対象物付着粒状体を、前記噴出部から前記噴流に随伴させて前記ターゲットに導くとともに、前記ターゲットに衝突させる粉砕工程とを実行する点にある。
【００１３】
この構成では、予備工程において、粉粒状体である粉砕対象物を、粉砕対象物より質量が大きい粒状体の表面に付着させて粉砕対象物付着粒状体を準備する。
ここで、質量が大きいとは、一粒当りの粉砕対象物の質量をｍ、粒状体の質量をＭとして、０．０３≧ｍ／Ｍ≧０．００００１程度とすることを意味する。
このようにして準備される粉砕対象物付着粒状体は、全体として質量が大きく、その表面に粉砕対象物が付着・露出した状態とできる。この状態が図３（ａ）に示した状態である。
【００１４】
従って、粉砕工程において、この粉砕対象物付着粒状体は噴流に随伴した状態で大きな運動量を得て、ターゲットに衝突させることができる。結果、粉砕対象物、それ自体ではターゲットまで到達させて粉砕するのが比較的困難な粉砕対象物を効率的に粉砕できる。
【００１５】
本発明の衝突粉砕システムの第１特徴構成は、
噴出部から噴流をターゲットに向けて噴射し、前記噴流に随伴して前記ターゲットに導かれる粉粒状の粉砕対象物を前記ターゲットに衝突させて粉砕する衝突粉砕システムであって、
前記粉砕対象物より質量が大きい粒状体の表面に前記粉砕対象物を付着させて、粉砕対象物付着粒状体を生成する予備処理部と、
前記予備処理部で生成された前記粉砕対象物付着粒状体を、前記噴出部から前記噴流に随伴させて前記ターゲットに導くとともに、前記ターゲットに衝突させる粉砕処理部とを備えた点にある。
【００１６】
本構成によれば、予備処理部で先に説明した予備工程を実行し、粉砕処理部で粉砕工程を実行することで、粉砕対象物が比較的細かな粉粒状体である場合にも良好に粉砕を行え、さらに、粉砕に必要となるエネルギーを低く抑えることができる粉砕処理システムを得ることができた。
【００１７】
本発明の粉砕処理方法に係る第２特徴構成は、
前記予備工程に、
前記粒状体の表面に前記粉砕対象物を付着させる付着予備工程と、
前記付着予備工程を経て得られる粉砕対象物付着粒状体を、粒状体構成物質の固化点未満の温度に冷却する冷却予備工程を含む点にある。
【００１８】
本構成によれば、付着予備工程において粉砕対象物は粒状体の表面に付着されるが、粉砕対象物の粒状体表面での付着状態が、それほど強固なものとならない場合がある。
例えば、粉砕対象物を粒状体の表面に衝突させて付着させた場合、粒状体の表面が軟化等を起こし強固な付着状態が得られていない等の問題が生じる。
そこで、本構成では、付着予備工程の後に冷却予備工程を実行し、粒状体構成物質の固化点未満の温度に冷却する。このようにすることで、粒状体構成物質の表面に粉砕対象物が強固に固着された粉砕対象物付着粒状体を得ることができ、ターゲットへの衝突を確実に起こさせて、粉砕対象物の粉砕を効率よく、良好に行える。
【００１９】
本発明の衝突粉砕方法に係る第３特徴構成は、
前記予備工程において、前記粒状体の表面を溶解させて前記粉砕対象物を当該表面に付着させる点にある。
【００２０】
本構成を採用することにより、溶解した粒状体の表面に粉砕対象物を確実に侵入させて、粉砕工程での粉砕処理に進むことができる。
【００２１】
そして、本発明の衝突粉砕方法に係る第４特徴構成は、
前記予備工程において、前記粒状体の表面を加温・溶解させるとともに、当該溶解状態にある前記粒状体の表面に前記粉砕対象物を付着させる点にある。
【００２２】
本構成を採用することにより、粒状体に表面の溶解を加温溶解とすることで、粉砕対象物の表面を比較的簡便な方法で溶解させ、粉砕対象物をその表面に確実に侵入させて、粉砕工程での粉砕処理に進むことができる。
【００２３】
これまでの説明では、粒状体を構成する物質に関しては、特に述べなかったが、当該物質を昇華性物質とすることができる。
【００２４】
本発明の衝突粉砕方法の第５特徴構成は、
前記粒状体が昇華性を有する昇華性物質であり、
当該昇華性物質が昇華する物理条件環境下において、
前記昇華性物質を昇華させ、前記粉砕工程を経て得られる粉砕物から前記昇華性物質を昇華させて前記粉砕処理済みの粉砕対象物を得る点にある。
【００２５】
本発明の衝突粉砕方法を採用した場合、予備工程、粉砕工程を経て得られる粉砕物は、粉砕対象物付着粒状体の粉砕物となる。従って、粉砕対象物単体を得ようとすると、粒状体構成物質からの分離が必要となるが、この粒状物質として昇華性物質を使用することにより、この物質を固相から気相へと相変化（昇華）させることで、液相を経る操作（湿式操作）の様に、粉砕され微細化された粉砕対象物が凝集して粗大化する等の問題を起こすことはない。
従って、従来粉砕が困難と考えられてきた粉砕対象物の粉砕が可能となるとともに、微細化された粉砕対象物を目的とする所望の粉砕状態（微細化状態）で取り出すことができる。
【００２６】
本発明の衝突粉砕方法の第６特徴構成は、
前記昇華性物質が水もしくは二酸化炭素である。
【００２７】
本構成によれば、
昇華性物質として水を採用する場合は、粒状体を氷とすることで、安価且つ入手容易で、さらにその整形性が高い氷を本発明の粉砕に使用することができる。粒状体の硬度も比較的高い。また、後工程を実行する場合も昇華条件設定も常温・常圧の状態から過度に低温・高圧の条件とする必要はなく、比較的簡便な設備で本方法を実施でき、システムを構築できる。
【００２８】
昇華性物質として二酸化炭素を採用する場合は、粒状体をドライアイスとすることとなり、入手容易なドライアイスを本発明の粉砕に使用することができる。
この例の場合も、後工程を実行する場合も昇華条件設定も常温・常圧の状態から過度に低温・高圧の条件とする必要はなく、比較的簡便な設備で本方法を実施でき、システムを構築できる。
【００２９】
これまでの説明は衝突粉砕方法及び衝突粉砕システムの説明であるが、以下に、本発明に係る衝突粉砕システム用予備機について説明する。
【００３０】
本発明の衝突粉砕システム用予備機の第１特徴構成は、
昇華性物質から成る昇華性粒状体の表面に、粉粒状の粉砕対象物を接触或は衝突させて、前記昇華性粒状体の表面に前記粉砕対象物が付着した粉砕対象物付着粒状体を得る付着予備処理部と、
前記付着予備処理部で得られた前記粉砕対象物付着粒状体を、前記昇華性物質の昇華点未満の温度に冷却する冷却予備処理部とを備える点にある。
【００３１】
本発明の衝突粉砕システムでは、粉砕処理部で粉砕対象物付着粒状体を準備する必要が生じ、さらに、その付着状態が強固であることが好ましいが、本構成によれば、付着予備処理部で付着予備を実行した後、冷却予備処理部で冷却予備を実行し、粒状体構成物質の昇華点である固化点未満の温度に冷却する。このようにすることで、粒状体構成物質に粉砕対象物が強固に固着された粉砕対象物付着粒状体を得ることができ、ターゲットへの衝突を確実に起こさせて、粉砕対象物の粉砕を効率よく、良好に行える。
【００３２】
本発明の衝突粉砕システム用予備機に係る第２特徴構成は、
前記付着予備処理部において、前記昇華性粒状体の表面を加温溶解させる加温溶解機構と、前記粉砕対象物を、溶解状態にある前記昇華性粒状体の表面に付着させる付着機構とを備えた点にある。
【００３３】
本構成によれば、加温溶解機構により昇華性粒状体の表面を加温溶解させた状態で、付着機構により、粉砕対象物を溶解状態にある前記昇華性粒状体の表面に付着させることで、良好に粒状体表面に付着・保持させることができる。本発明にあっては、付着予備処理部での処理の後に、冷却予備処理部での冷却予備処理を伴うため、付着は、より強固なものとなる。
【００３４】
本発明の衝突粉砕システム用予備機に係る第３特徴構成は、
前記冷却予備処理部に、前記昇華性物質が固化する物理条件下において液相を成す冷却処理液が貯えられた低温媒貯留槽を備え、当該低温媒貯留槽内に前記付着予備処理部で得られる粉砕対象物付着粒状体が沈降して冷却処理される点にある。
【００３５】
本構成によれば、低温媒貯留槽内に、粉砕対象物付着粒状体を落下供給するだけで、冷却予備処理を完了できる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】第１実施形態に係る衝突粉砕システムの全体構成を示す図
【図２】第２実施形態に係る衝突粉砕システムの全体構成を示す図
【図３】衝突粉砕の状況を説明する説明図
【発明を実施するための形態】
【００３７】
本発明に係る衝突粉砕システム１００を以下、図面に基づいて説明する。
図１に、第１実施形態の全体構成を示した。
【００３８】
本発明に係る衝突粉砕システム１００は、通常、ジェットミルと呼ばれる、ジェットノズル１０ａ（噴出部を成す）から噴流ｊ（ジェットを成す）をターゲット１０ｂに向けて噴射し、この噴流ｊに随伴してターゲット１０ｂに導かれる粉粒状の粉砕対象物Ｘをターゲット１０ｂに衝突させて粉砕する衝突粉砕装置１０を主体とするシステムであり、図１に示すように、衝突粉砕装置１０の上流側に、予備処理装置２０、高圧ガスＧを得るための高圧ガス供給装置３０を備え、衝突粉砕装置１０の下流側に、衝突粉砕装置１０から送り出される粉砕対象物Ｘをその搬送流から分離する分離・捕集装置４０を備えて構成されている。この分離・捕集装置４０の気体放出側（ガス出口４０ａ側）に吸引ブロワ５０を備え、粉粒状体取出し側（下部取出し部４０ｂ側）に、後処理装置６０を備えている。
【００３９】
この衝突粉砕システム１００は、粒状体の一例である、昇華性物質から成る昇華性粒状体Ｃの表面に粉砕対象物Ｘが付着した粉砕対象物付着粒状体Ｃｘを、衝突粉砕に利用するシステムであり、本発明独特の予備処理装置２０及び後処理装置６０を備えて構成される。
【００４０】
ここで、予備処理装置２０は、昇華性物質から成る昇華性粒状体Ｃの表面に粉砕対象物Ｘを付着させて粉砕対象物付着粒状体Ｃｘを生成する予備処理部として働き、後処理装置６０は、粉砕処理後の粉砕対象物付着粒状体Ｃｘｏにおいて、所定の物理条件環境下において、粉砕対象物付着粒状体Ｃｘｏの核を構成し、粒状となっている昇華性物質を昇華させ、粉砕処理済みの粉砕対象物ｘを得る後処理部として働く。
【００４１】
以上のように、本発明では、予備処理装置２０に本発明の一つの特徴があるため、この予備処理装置２０を発明者らは独立した「衝突粉砕システム用予備機」とも呼んでいる。
【００４２】
予備処理装置（衝突粉砕システム用予備機）
予備処理装置２０の構成を図１左上に示した。
同図に示すように、予備処理装置２０は、昇華性物質から成る昇華性粒状体Ｃの表面に、粉粒状の粉砕対象物Ｘを接触或は衝突させて、昇華性粒状体の表面に粉砕対象物が付着した粉砕対象物付着粒状体Ｃｘを得る付着予備処理部２１と、この付着予備処理部２１で得られた粉砕対象物付着粒状体Ｃｘを、昇華性物質の昇華点未満の温度に冷却する冷却予備処理部２２とを備えて構成されている。
【００４３】
付着予備処理部
付着予備処理部２１は、粉粒状体である粉砕対象物Ｘを定量供給する原料定量供給機構２１ａと、粒状体である昇華性粒状体Ｃを定量供給する粒状体定量供給機構２１ｂとを備えて構成される。
【００４４】
粒状体定量供給機構２１ｂからは、昇華性粒状体Ｃが順次、粉砕対象物噴霧ゾーンＺの下部領域に設けられた下降面２１ｃに、供給される構成とされている。
ここで、粒状体定量供給機構２１ｂは具体的には粒状体を定量供給する定量ホッパーである。
【００４５】
一方、原料定量供給機構２１ａは、粉粒状体である粉砕対象物Ｘを定量供給する定量ホッパー２１ｄと、この定量ホッパー２１ｄから供給される粉砕対象物Ｘを前記粉砕対象物噴霧ゾーンＺに噴霧する噴霧ノズル２１ｅを備えて構成されている。さらに、定量ホッパー２１ｄ内に貯留される粉砕対象物Ｘに温風を吹き掛け、当該粉砕対象物Ｘを所定の加温状態とする加温機構（図示省略）が設けられている。
従って、所定の温度まで加温された粉砕対象物Ｘを、その噴霧ゾーンＺに噴霧することとなる。
【００４６】
結果、粉砕処理対象物噴霧ゾーンＺの下部において、当該部位を降下する昇華性粒状体Ｃの表面に粉砕対象物Ｘを付着することとなる。
ここで、昇華性粒状体Ｃの質量Ｍは、粉砕対象物Ｘの質量ｍに対して、ｍ／Ｍを０．００００１以上、０．０３以下の範囲としている。
【００４７】
冷却予備処理部
冷却予備処理部２２は、前記付着予備処理部２２で得られた粉砕対象物付着粒状体Ｃｘを、所定の圧力下で昇華性物質の昇華点未満の温度（昇華性物質の固化点より低い温度）に冷却する。
【００４８】
図１からも判明するように、この冷却予備処理部２１には、昇華性物質が固化する物理条件下において液相を成す冷却処理液Ｌが貯えられた低温媒貯留槽２２ａを備え、この低温媒貯留槽２２ａ内に付着予備処理部２１で得られる粉砕対象物付着粒状体Ｃｘが投入、沈降されて冷却固化される。低温媒貯留槽２２ａの下部には、粉砕対象物付着粒状体Ｃｘ取出し用傾斜面２２ｂとされており、適宜、粉砕対象物付着粒状体Ｃｘを冷却処理液Ｌとともに取出すことが可能となっている。
【００４９】
結果、再冷却により、粉砕対象物付着粒状体Ｃｘを冷却硬化させ、この粉砕対象物付着粒状体Ｃｘの取出しは、低温媒貯留槽２２ａ内の冷却処理液Ｌが気化し、昇華性物質がその固相状態を維持する程度まで昇温することで、容易に行うことができる。
このようにして得られる粉砕対象物付着粒状体Ｃｘは、先に説明した衝突粉砕装置１０の原料受入側（原料供給部１０ｃ）に、ダブルストッパで構成する原料供給機構１５を介して定量供給している。
【００５０】
衝突粉砕装置
衝突粉砕装置１０は、先にも説明したように、ジェットノズル１０ａから噴流ｊをターゲット１０ｂに向けて噴射し、この噴流ｊに随伴してターゲット１０ｂに導かれる粉粒状の粉砕対象物Ｘをターゲット１０ｂに衝突させて粉砕する。
【００５１】
図示する例は、衝突粉砕装置１０は、概略円筒状を成すケーシング１０ｄの周部に、原料供給部１０ｃを備えるとともに、ケーシング１０ｄの内部にターゲット１０ｂを備えて構成されている。さらに、このターゲット１０ｂに向かって噴流ジェットｊを噴射するジェットノズル１０ａを備え、ケーシング１０ｄの中央部位に分級部１０ｅを備えている。
この分級部１０ｅの下流側はケーシング１０ｄの鉛直上方に搬送流れが吸引される構成とされており、先に説明した分離・捕集装置４０の下流側に備えられる吸引ブロワ５０に接続されている。
【００５２】
従って、この衝突粉砕装置１０は、ジェットノズル１０ａから噴射されるジェットｊと分級部１０ｅにおける吸引によりケーシング１０ｄ内に旋回流が形成される。
先に説明した原料供給部１０ｃは、概略、ケーシング１０ｄの内周壁に接する流入口ｉを備えて構成されていることからも判明するように、原料供給部１０ｃに供給されてくる原料（本発明における粉砕対象物付着粒状体Ｃｘ）は、ジェットノズル１０ａにより形成される旋回流に吸引されるとともに、ターゲット１０ｂに導かれ、衝突される。
本発明にあっては、この衝突機会を格段に増すことができる。図３（ａ）に示しているのがこの状況である。
そして、粉砕対象物ｘは粉砕対象物付着粒状体Ｃｘの粉砕物（粉砕対象物付着粒状体Ｃｘｏ）として分級部１０ｅに吸引され、分離・捕集装置４０に送られる。
【００５３】
分離・捕集装置
図示する例では、分離・捕集装置４０として、遠心式の捕集装置を採用し、粉砕済みの粉砕対象物付着粒状体Ｃｘｏを搬送してきた搬送流は、分離・捕集装置ケーシング４０ｃ内で旋回流を形成し、粉粒状体は下降沈積されて、下部取出し部４０ｂから取り出されるとともに、ガスは、ガス出口４０ａから吸引ブロワ５０側に送られる。
この分離・捕集装置４０で捕集される粒状体Ｃｘｏは、これまで説明してきた昇華性物質の粒状体Ｃに微粉化された粉砕対象物ｘが付着した状態にあり、後処理装置６０に送られて粉砕対象物ｘのみに分離される。
【００５４】
後処理装置
後処理装置６０は環境室６０ａとして構成されており、この環境室６０ａは、その内部圧及び温度を維持する環境条件維持機構６０ｂを設け、昇華性物質が昇華する（固相から気相に相変化する）物理条件環境下において、昇華性物質を昇華させ、粉砕処理済みの粉砕対象物ｘが固体として分離できる構成としている。
【００５５】
従って、環境室６０ａ内には、分離・捕集装置４０で捕集された捕集物が落下される傾斜路６０ｃが設けられるとともに、この傾斜路６０ｃの下手に粉砕済み粉砕対象物ｘの集積部６０ｄが設けられている。
このように、この後処理装置６０では、粉砕対象物付着粒状体Ｃｘｏの核を成す昇華性物質が液相を介することなく変化するため、粉砕済みの粉砕対象物ｘが凝集することなく集積され、以降の工程に送ることができる。
ここでの昇華性物質の変化は、対象とする物質の三重点Ｔから低温・低圧側である下側に伸びる線であり、当該物質が固相から気相へ直接相変化（昇華）する状態変化としている。
【００５６】
従って、この衝突粉砕システム１００では、
予備処理部としての予備処理装置２０において、
昇華性物質から成る昇華性粒状体Ｃの表面に前記粉砕対象物Ｘを付着させて、粉砕対象物付着粒状体Ｃｘを生成する予備工程を実行し、
衝突粉砕装置１０において、予備工程で生成された粉砕対象物付着粒状体Ｃｘを、ジェットノズル１０ａから噴流ｊに随伴させてターゲット１０ｂに導くとともに、ターゲット１０ｂに衝突させる粉砕工程とを実行する。
【００５７】
また予備工程には、付着予備処理部２１で実行する、昇華性粒状体Ｃの表面に粉砕対象物Ｘを付着させる付着予備工程と、冷却予備処理部２２で実行する、付着予備工程を経て得られる粉砕対象物付着粒状体Ｃｘを、昇華性物質の昇華点未満の温度に冷却する冷却予備工程とが含まれる。
【００５８】
さらに、予備工程においては、昇華性粒状体Ｃの表面を加温・溶解させるとともに、当該溶解状態にある前記昇華性粒状体Ｃの表面に前記粉砕対象物Ｘを付着させている。
【００５９】
衝突粉砕装置１０により粉砕対象物Ｘの粉砕を行うに際しては、高圧ガス供給装置３０から、高圧ガスＧを連続してジェットノズル１０ａに送り込む。このような高圧ガスＧとしては、窒素や炭酸ガス等の様々な不活性ガスを用いることも可能であるが、高圧ガスＧとして圧搾空気を使用することが一般的である。なお、高圧ガスＧの供給源としては、ボンベに蓄えた圧搾空気を放出させるようにしても良いし、或いはコンプレッサ等のガス圧縮装置を用いて圧搾空気を連続供給させるようにしても良い。
【００６０】
高圧ガスＧの圧力（単位はＭＰａ：メガパスカル）の値については、特に限定されるものではないが通常は、
１．２ＭＰａ  ≧  Ｐ  ≧  ０．６ＭＰａ
程度の値を用いる。
上記の昇華性物質としては水を採用し粒状体は氷とした。温風は常温から６０℃程度とした。
また冷却予備工程では、冷却処理液Ｌとして液体窒素を使用した。
後処理装置６０では、昇華性物質である氷を０．０１℃、６００Ｐａ以下の昇華条件下に昇華させた。
粉砕処理物Ｘとしては、樹脂を対象とした。
【００６１】
第２実施形態
図２に、本発明に係る衝突粉砕システム１０１の第２実施形態を示している。
上述の第１実施形態と同様な機器に関しては、同じ符号を記した。
第２実施形態の第１実施形態との相違部は、粉砕対象物付着粒状体Ｃｘの形成過程において、第１実施形態においては定量ホッパー２１ｄ内の粉砕対象物Ｘに温風を当てて、これを加温したのに対して、第２実施形態においては、定量ホッパーである粒状体定量供給機構２１ｂから下降する昇華性粒状体Ｃの表面に温風を当てて、その表面を加温・溶解している点にある。
このようにしても、本発明にいう粉砕対象物付着粒状体Ｃｘを形成することもできる。
【００６２】
〔別実施形態〕
（１）上記の実施の形態にあっては、昇華性物質が水（粒状体となっている場合氷）である例を示したが、昇華性物質として二酸化炭素（粒状体となっている場合ドライアイス）等も使用できる。
【００６３】
（２）上記の実施形態にあっては、粉砕装置としてケーシング内に旋回流を形成してターゲットに粉砕対象物付着粒状体を衝突させる構成としたが、粉砕装置に形成される噴流を搬送流として粉砕対象物付着粒状体をターゲットに衝突させることができればよく、例えば方形を成す粉砕装置室の一方の壁面にターゲットを設け対向部位に噴出部を備える構成であってもよい。
【００６４】
（３）上記の実施形態にあっては、粉砕対象物付着粒状体の形成に際して、粉砕対象物噴霧ゾーンに噴霧される加温状態にある粉砕対象物を昇華性物質の粒状体に接触させて付着させる構成としたが、粉砕対象物を強力に昇華性物質の粒状体に衝突させて付着させてもよい。さらに、予備処理装置２０内を充分低温の環境に置いておき、粉砕対象物を液相状態にある昇華性物質（例えば、粒状体が氷である場合の水）と混合した状態で、昇華性物質の粒状体表面に噴霧して、固着させてもよい。
【００６５】
（４）上記の実施形態にあっては、衝突粉砕装置１０の上流側に、予備処理装置２０、高圧ガス供給装置３０を備え、衝突粉砕装置１０の下流側に、分離・捕集装置４０、吸引ブロワ５０、後処理装置６０を独立に備える構成について説明したが、各装置をシステムの機能部位とすることもできる。
【符号の説明】
【００６６】
１０                    衝突粉砕装置（ジェットミル）
１０ａ                  噴出部（噴出部）
１０ｂ                  ターゲット
２０                    予備処理装置（衝突粉砕システム用予備機）
２１                    付着予備処理部
２１ａ                  原料定量供給機構
２１ｂ                  粒状体定量供給機構
２２                    冷却予備処理部
３０                    高圧ガス供給装置
４０                    分離・捕集装置（分離・捕集部）
５０                    吸引ブロワ
６０                    後処理装置（後処理部）
１００                  衝突粉砕システム（第１実施形態）
１０１                  衝突粉砕システム（第２実施形態）
ｊ                      噴流（ジェット）
ｉ                      入口
ｘ                      粉砕処理済みの粉砕対象物
Ｃ                      昇華性粒状体（粒状体）
Ｃｘ                    粉砕対象物付着粒状体
Ｃｘｏ                  粉砕処理後の粉砕対象物付着粒状体
Ｇ                      高圧ガス
Ｘ                      粉砕対象物
Ｚ                      粉砕処理対象物噴霧ゾーン
【図１】
2017176914.tif 000003
【図２】
2017176914.tif 000004
【図３】
2017176914.tif 000005