(57)【要約】【課題】耐擦傷性に優れ、硬度が高い微細凹凸構造体等の成形品を形成することができる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、該活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を含むインプリント用原料、および成形品の提供。【解決手段】重合性成分と、光重合開始剤（Ｇ）とを含み、全ての重合性成分の総質量に対して、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタアクリレート、トリペンタエリスリトールオクタアクリレート、ポリペンタエリスリトールポリアクリレートからなる群より選ばれる１種以上である重合性成分（Ａ）を７５〜１００質量％、分子内にオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリレートである重合性成分（Ｄ）を９質量％以下含む、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
重合性成分と、光重合開始剤（Ｇ）とを含み、
全ての重合性成分の総質量に対して、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタアクリレート、トリペンタエリスリトールオクタアクリレート、ポリペンタエリスリトールポリアクリレートからなる群より選ばれる１種以上である重合性成分（Ａ）を７５〜１００質量％、分子内にオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリレートである重合性成分（Ｄ）を９質量％以下含む、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
【請求項２】
全ての重合性成分の総質量に対して、分子内に２つ以上のラジカル重合性の官能基を有する多官能（メタ）アクリレートであり、かつ前記重合性成分（Ａ）以外の重合性成分（Ｂ）を１〜２５質量％、シリコーン（メタ）アクリレートおよびアルキル（メタ）アクリレートの少なくとも一方である重合性成分（Ｃ）を０．１〜２５質量％含む、請求項１に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
【請求項３】
リン酸エステル化合物からなる内部離型剤（Ｆ）をさらに含む、請求項１または２に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を含む、インプリント用原料。
【請求項５】
微細凹凸構造形成用である、請求項４に記載のインプリント用原料。
【請求項６】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる、あるいは請求項１〜３のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化樹脂層を表面に有する、成形品。
【請求項７】
表面に複数の凸部からなる微細凹凸構造を有する、請求項６に記載の成形品。
【請求項８】
前記微細凹凸構造は、隣接する凸部の間隔が４００ｎｍ以下であり、凸部の高さ方向と直交する方向の凸部の断面積が、凸部の頂部から深さ方向に連続的に増加する形状である、請求項７に記載の成形品。
【請求項９】
ディスプレイ部材である、請求項７または８に記載の成形品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微細凹凸（特にナノ凹凸）構造体を形成するのに好適な活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、インプリント用原料、および成形品に関する。
【背景技術】
【０００２】
ナノサイズの微細な凹凸が規則的に配置された微細凹凸構造を表面に有する微細凹凸構造体は、連続的に屈折率を変化させることで、反射防止性能を発現することが知られている。このような微細凹凸構造は一般的にモスアイ構造と呼ばれる。また、モスアイ構造を表面に有する微細凹凸構造体は、微細な凹凸構造を備えたハスの葉が示す超撥水性能（ロータス効果）と同様の効果を発現することも知られている。
【０００３】
微細凹凸構造体の製造方法としては、例えば、下記方法が提案されている。
（ｉ）微細凹凸構造の反転構造を表面に有するスタンパを用い、熱可塑性樹脂を射出成形またはプレス成形して、熱可塑性樹脂成形体の表面に微細凹凸構造を転写する方法。
（ii）微細凹凸構造の反転構造を表面に有するスタンパと透明基材との間に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を充填し、活性エネルギー線の照射によって硬化させた後、スタンパを剥離して硬化物に微細凹凸構造を転写する方法。
（iii）前記スタンパと透明基材との間に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を充填した後、スタンパを剥離して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に微細凹凸構造を転写し、その後、活性エネルギー線の照射によって活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させる方法。
【０００４】
これらの中でも、微細凹凸構造の転写性、表面組成の自由度を考慮すると、（ii）の活性エネルギー線の照射により樹脂組成物を硬化させて、微細凹凸構造を転写する方法が好適である。この方法は、連続生産が可能なベルト状やロール状のスタンパを用いる場合に特に好適であり、生産性に優れた方法である。
【０００５】
ところで、微細凹凸構造が良好な反射防止性能を発現するのは、微細凹凸の隣り合う凸部または凹部の間隔が可視光の波長以下の場合である。
しかし、このような構造を有する微細凹凸構造体は、表面が平滑でありハードコートなどで耐摩耗性処理をした成形体に比べて耐擦傷性や硬度に劣り、使用中の耐久性に問題があった。また、微細凹凸構造体の製造に使用した樹脂組成物の硬化物が十分に堅牢でないと、スタンパから剥離する際や熱によって、凸部同士が寄り添う現象が起きやすくなる。
【０００６】
そこで、微細凹凸構造を維持した微細凹凸構造体や、微細凹凸構造を形成するための樹脂組成物が提案されている。
例えば、最密充填されたシリカゾルを鋳型として可視光の波長以下の凸部（凹部）間隔を有する微細凹凸構造を作製する方法が知られている（特許文献１参照）。
【０００７】
一方、微細凹凸構造を形成するのに好ましい樹脂組成物として、以下のものが知られている。
（１）トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の分子量当りの二重結合が極めて多い多官能（メタ）アクリレートと、光重合開始剤と、ポリエーテル変性シリコーンオイル等のレベリング剤とを含む紫外線硬化性樹脂組成物（特許文献１参照）。
（２）ウレタンアクリレート等のアクリレートオリゴマーと、離型剤とを含む光硬化性樹脂組成物（特許文献２参照）。
（３）エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートと、Ｎ−ビニルピロリドン等の反応性希釈剤と、光重合開始剤と、フッ素系界面活性剤とを含む光硬化性樹脂組成物（特許文献３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０００−７１２９０号公報
【特許文献２】特許第４１５６４１５号公報
【特許文献３】特開２００７−８４６２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１〜３に記載の樹脂組成物の硬化物は架橋密度が高く、高弾性率であるが、必ずしも耐擦傷性を満足するものではない。そのため、これら樹脂組成物を用いて製造した微細凹凸構造体は、凸部が折れたり曲がったりして反射防止性能が損なわれる場合があり、その使用用途が限定されることがあった。
【００１０】
本発明は、耐擦傷性に優れ、硬度が高い微細凹凸構造体等の成形品を形成することができる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、該活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を含むインプリント用原料、および成形品を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、特定の重合性成分を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる微細凹凸構造が、優れた耐擦傷性と高硬度を有することを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１２】
すなわち、本発明は以下の態様を有する。
［１］  重合性成分と、光重合開始剤（Ｇ）とを含み、全ての重合性成分の総質量に対して、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタアクリレート、トリペンタエリスリトールオクタアクリレート、ポリペンタエリスリトールポリアクリレートからなる群より選ばれる１種以上である重合性成分（Ａ）を７５〜１００質量％、分子内にオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリレートである重合性成分（Ｄ）を９質量％以下含む、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
［２］  全ての重合性成分の総質量に対して、分子内に２つ以上のラジカル重合性の官能基を有する多官能（メタ）アクリレートであり、かつ前記重合性成分（Ａ）以外の重合性成分（Ｂ）を１〜２５質量％、シリコーン（メタ）アクリレートおよびアルキル（メタ）アクリレートの少なくとも一方である重合性成分（Ｃ）を０．１〜２５質量％含む、［１］に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
［３］  リン酸エステル化合物からなる内部離型剤（Ｆ）をさらに含む、［１］または［２］に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
［４］  ［１］〜［３］のいずれか１つに記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を含む、インプリント用原料。
［５］  微細凹凸構造形成用である、［４］に記載のインプリント用原料。
［６］  ［１］〜［３］のいずれか１つに記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる、あるいは請求項１〜３のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化樹脂層を表面に有する、成形品。
［７］  表面に複数の凸部からなる微細凹凸構造を有する、［６］に記載の成形品。
［８］  前記微細凹凸構造は、隣接する凸部の間隔が４００ｎｍ以下であり、凸部の高さ方向と直交する方向の凸部の断面積が、凸部の頂部から深さ方向に連続的に増加する形状である、［７］に記載の成形品。
［９］  ディスプレイ部材である、［７］または［８］に記載の成形品。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、耐擦傷性に優れ、硬度が高い微細凹凸構造体等の成形品を形成することができる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、該活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を含むインプリント用原料、および成形品を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の成形品の一例を示す断面図である。
【図２】本発明の成形品の他の例を示す断面図である。
【図３】成形品の製造装置の一例を示す構成図である。
【図４】成形品の製造に用いるスタンパの製造工程を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明を詳細に説明する。
なお、本明細書における「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの総称であり、「（メタ）アクリルアミド」は、アクリルアミドおよびメタクリルアミドの総称であり、「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基およびメタクリロイル基の総称である。
また、本明細書における「活性エネルギー線」とは、可視光線、紫外線、電子線、プラズマ、熱線（赤外線等）等を意味する。
図１においては、各層を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層ごとに縮尺を異ならせてある。
また、図２において、図１と同じ構成要素には同一の符号を付して、その説明を省略する場合がある。
【００１６】
「活性エネルギー線硬化性樹脂組成物」
本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物（Ｘ）（以下、単に「樹脂組成物（Ｘ）」ともいう。）は、活性エネルギー線を照射することにより、重合反応が進行し硬化するものである。樹脂組成物（Ｘ）は、後述する重合性成分（Ａ）と光重合開始剤（Ｇ）とを必須成分とし、後述する重合性成分（Ｄ）の含有量が少ない。また、樹脂組成物（Ｘ）は、必要に応じて、後述する重合性成分（Ｂ）、重合性成分（Ｃ）、重合性成分（Ｅ）、内部離型剤（Ｆ）、その他の成分（Ｈ）を含むものである。
【００１７】
樹脂組成物（Ｘ）の硬化物表面が微細凹凸構造を有する場合、樹脂組成物（Ｘ）に含まれる重合性成分の組成を調整して硬化物に十分高い硬度を与えることが肝要である。さらに、硬さのみを追求すると脆くなって耐擦傷性が低下しやすくなるため、使用する重合性成分を適切に選択して耐擦傷性と高硬度を両立させる必要がある。
以下、各成分について説明する。
【００１８】
＜重合性成分＞
樹脂組成物（Ｘ）は、重合性成分として後述する重合性成分（Ａ）を必須成分として含み、かつ重合性成分（Ｄ）の含有量が少ない。また、樹脂組成物（Ｘ）は、必要に応じて重合性成分（Ｂ）、重合性成分（Ｃ）、重合性成分（Ｅ）を含む。
【００１９】
（重合性成分（Ａ））
重合性成分（Ａ）は、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタアクリレート、トリペンタエリスリトールオクタアクリレート、およびこれら以外のポリペンタエリスリトールポリアクリレートからなる群より選ばれる１種以上の多官能アクリレート（ａ）である。
重合性成分（Ａ）は、樹脂組成物（Ｘ）の硬化物に対して、耐擦傷性向上、高硬度化、耐候性向上、基材密着性向上の効果がある。
【００２０】
多官能アクリレート（ａ）は、他の多官能アクリレートよりも耐擦傷性と高硬度の両立の点で優れており、一定以上の割合で用いることで、耐擦傷性と高硬度を両立させた硬化物を得ることができる。
多官能アクリレート（ａ）は、１種類を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２１】
重合性成分（Ａ）としては、樹脂組成物（Ｘ）の粘度を下げる観点では、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが好ましく、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートが特に好ましい。
【００２２】
重合性成分（Ａ）の含有量は、樹脂組成物（Ｘ）に含まれる全ての重合性成分の総質量に対して、７５〜１００質量％であり、８０〜９５質量％が好ましい。重合性成分（Ａ）の含有量が７５質量％以上であれば、優れた耐擦傷性、高硬度、耐候性、基材密着性、といった効果を発揮させることができる。
【００２３】
なお、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートのいずれかを原料とし、ヘキサメチレンジイソシアネートやイソホロンジイソシアネート等のジイソシアネート類と反応させて合成した多官能ウレタンアクリレートは、硬化物の物性面では優れるが、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の粘度が高くなりすぎる場合がある。そのため、使用量が限定される場合がある。
【００２４】
（重合性成分（Ｂ））
重合性成分（Ｂ）は、分子内に２つ以上のラジカル重合性の官能基を有する多官能（メタ）アクリレート（ｂ）であり、かつ前記重合性成分（Ａ）以外である。
重合性成分（Ｂ）は、樹脂組成物（Ｘ）の硬化物に対して、耐擦傷性付与や硬度調整の効果がある。
重合性成分（Ｂ）としては、分子内にオキシアルキレン基を有さないものが好ましい。
【００２５】
多官能（メタ）アクリレート（ｂ）としては、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５−ヘプタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、イソノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１２−ドデカンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジオキサングリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンジ（メタ）アクリレート、ポリカーボネートジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエステルジオールジ（メタ）アクリレート、ポリカプロラクトンジオールジ（メタ）アクリレート、直鎖アルカンジオールジ（メタ）アクリレート、分岐アルカンジオールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ビスおよびトリス−（２−アクリロキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ポリグリセリンポリ（メタ）アクリレート、２官能以上のウレタン（メタ）アクリレート、および上記の化合物のカプロラクトン変性体、エポキシ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらは、１種類を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２６】
重合性成分（Ｂ）としては、硬化物の耐擦傷性や硬度、耐候性、基材密着性に優れることから、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、イソノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、直鎖アルカンジオールジ（メタ）アクリレート、分岐アルカンジオールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスおよびトリス−（２−アクリロキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが好ましく、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスおよびトリス−（２−アクリロキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートがより好ましく、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００２７】
重合性成分（Ｂ）の含有量は、樹脂組成物（Ｘ）に含まれる全ての重合性成分の総質量に対して、１〜２５質量％が好ましく、５〜２０質量％がより好ましい。重合性成分（Ｂ）の含有量が上記範囲内であれば、重合性成分（Ａ）の効果を損なうことなく、より優れた耐擦傷性、高硬度、耐候性、基材密着性、といった効果を発揮させることができる。
【００２８】
（重合性成分（Ｃ））
重合性成分（Ｃ）は、シリコーン（メタ）アクリレートおよびアルキル（メタ）アクリレートの少なくとも一方である。
重合性成分（Ｃ）は、樹脂組成物（Ｘ）の硬化物に対して、撥水性や防汚性の付与や耐擦傷性を向上する効果がある。
【００２９】
シリコーン（メタ）アクリレート：
シリコーン（メタ）アクリレートは、シリコーン骨格を有する（メタ）アクリレートである。
以下、シリコーン（メタ）アクリレートについていくつか例を挙げて具体的に説明する。
【００３０】
シリコーン（メタ）アクリレートとしては、例えば、下記一般式（１）で表わされる、両末端または片末端にプロピル（メタ）アクリレート構造を有するシリコーン（メタ）アクリレート、下記一般式（２）で表わされるシリコーンエポキシ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００３１】
【化１】
2017160295.tif 000002
【００３２】
【化２】
2017160295.tif 000003
【００３３】
上記一般式（１）中、Ｒ１は（メタ）アクリロイル基であり、Ｒ２は（メタ）アクリロイル基またはメチル基であり、ｐは０以上の整数である。
上記一般式（２）中、ｌは０以上の整数であり、ｍは１以上の整数であり、ｎは０以上の整数であり、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立して水素またはメチル基である。
【００３４】
上記一般式（１）で表わされるシリコーン（メタ）アクリレートは、分子量が大きすぎると他の重合性成分との相溶性が低下する。一方、分子量が小さすぎると撥水性や耐擦傷性向上の効果が得られにくくなる。そのため、上記一般式（１）で表されるシリコーン（メタ）アクリレートの質量平均分子量は５００〜２０００程度が好ましい。
このようなシリコーン（メタ）アクリレートの市販品としては、例えば、ＪＮＣ社製の「サイラプレーン（登録商標）」シリーズのＦＭ−０７１１、ＦＭ−０７２１、ＦＭ−０７２５、ＦＭ−７７１１、ＦＭ−７７２１、ＦＭ−７７２５；信越化学工業社製のＸ−２２−２４４５、Ｘ−２２−１７４ＡＳＸ、Ｘ−２２−１７４ＢＸ、Ｘ−２２−１７４ＤＸ、ＫＦ−２０１２、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−２４７５、Ｘ−２２−１６４、Ｘ−２２−１６４ＡＳ、Ｘ−２２−１６４Ａ、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ−２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２−１６４Ｅ；東レ・ダウコーニング社製のＢＹ１６−１５２Ｃなどが挙げられる。
【００３５】
上記一般式（２）で表わされるシリコーンエポキシ（メタ）アクリレートの市販品としては、例えば、エボニック・ジャパン社製の「Ｔｅｇｏ（登録商標）」シリーズのＲａｄ２０１１、Ｒａｄ２１００、Ｒａｄ２５００などが挙げられる。
【００３６】
シリコーン（メタ）アクリレートとしては、上述した以外にも、例えば、ポリジメチルシロキサンの両末端をエチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイドの少なくとも一方で変性した（メタ）アクリレートを用いてもよい。その市販品としては、例えば、信越化学工業社製のＸ−２２−１６０２；ビックケミー・ジャパン社製のＢＹＫ−ＵＶ３５００、ＢＹＫ−ＵＶ３５３０；エボニック・ジャパン社製の「Ｔｅｇｏ（登録商標）」シリーズのＲａｄ２２００Ｎ、Ｒａｄ２２５０、Ｒａｄ２３００；ダイセル・オルネクス社製のＥＢＥＣＲＹＬ  ３５０などが挙げられる。
【００３７】
また、シリコーン（メタ）アクリレートとしては、ウレタン（メタ）アクリレートおよびポリエステル（メタ）アクリレートの少なくとも一方であり、かつシリコーン骨格を有するものを用いてもよい。その市販品としては、例えば、ビックケミー・ジャパン社製のＢＹＫ−ＵＶ３５７０；Ｍｉｗｏｎ  Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製の「Ｍｉｒａｍｅｒ（登録商標）」シリーズのＳＩＵ１００，ＳＩＵ１０００、ＳＩＵ２４００、ＳＩＰ９００などが挙げられる。
【００３８】
また、上述した以外のシリコーン（メタ）アクリレートの市販品としては、例えば、ビックケミー・ジャパン社製のＢＹＫ−ＵＶ３５０５、３５３０、３５７５、３５７６；ダイセル・オルネクス社製のＥＢＥＣＲＹＬ  １３６０などが挙げられる。
【００３９】
シリコーン（メタ）アクリレートとしては、上述した中でも、撥水性、耐擦傷性、耐候性の観点から、上記一般式（１）で表わされるシリコーン（メタ）アクリレート、上記一般式（２）で表わされるシリコーンエポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレートおよびポリエステル（メタ）アクリレートの少なくとも一方であり、かつシリコーン骨格を有するもの（特に、ＢＹＫ−ＵＶ３５７０）が好ましい。特に、超撥水性を付与する場合、上記一般式（１）で表わされるシリコーン（メタ）アクリレートが好ましい。
なお、オキシアルキレン構造を有するものは相溶性が良好な反面、耐擦傷性や耐候性の点で劣る結果となる場合がある。
【００４０】
アルキル（メタ）アクリレート：
アルキル（メタ）アクリレートは、撥水性と耐擦傷性の向上を目的として使用される。そのため、アルキル（メタ）アクリレートとしては、アルキル基が比較的長いものが好ましい。具体的には、アルキル基の炭素数は８〜２２が好ましく、１２〜１８がより好ましい。アルキル基は直鎖でもよいし、分岐鎖でもよい。アルキル基の炭素数が２２を超えると、重合性成分（Ｃ）の結晶性が高まって液状での取り扱いが困難になる場合がある。一方、アルキル基の炭素数が８未満であると、重合性成分（Ｃ）の揮発性が問題になる場合がある。
【００４１】
アルキル（メタ）アクリレートの具体的な例としては、（イソ）オクチル（メタ）アクリレート、（イソ）デシル（メタ）アクリレート、（イソ）ラウリル（メタ）アクリレート、（イソ）セチル（メタ）アクリレート、（イソ）ステアリル（メタ）アクリレート、（イソ）ベヘニル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの中では、撥水性付与と取扱い性が容易な点で、イソステアリル（メタ）アクリレートが好ましい。
【００４２】
重合性成分（Ｃ）の含有量は、樹脂組成物（Ｘ）に含まれる全ての重合性成分の総質量に対して、２５質量％以下が好ましく、０．１〜２５質量％がより好ましく、１〜１５％が特に好ましい。重合性成分（Ｃ）の含有量が多すぎると、耐擦傷性がかえって低下するなど、硬化物の物性が低下する場合がある。
【００４３】
（重合性成分（Ｄ））
重合性成分（Ｄ）は、分子内にオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリレートである。
オキシアルキレン基としては、例えば、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、オキシブチレン基、オキシテトラメチレン基等が挙げられる。
【００４４】
重合性成分（Ｄ）としては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、アルコキシ化ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、アルコキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、アルコキシ化ペンタリスリトールトリ（テトラ）アクリレート、アルコキシ化ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルコキシ化ポリグリセリンポリアクリレートなどが挙げられる。
【００４５】
重合性成分（Ｄ）の含有量は、樹脂組成物（Ｘ）に含まれる全ての重合性成分の総質量に対して、９質量％以下であり、５質量％以下が好ましい。重合性成分（Ｄ）の含有量が９質量％以下であれば、樹脂組成物（Ｘ）の硬化物の耐擦傷性、硬度を好適に維持することができる。また、耐候性の低下を抑制できる。
重合性成分（Ｄ）は、樹脂組成物（Ｘ）の硬化物の硬度や耐候性を低下させる懸念があることから、含有量は少ないほど好ましい。よって、樹脂組成物（Ｘ）は、重合性成分（Ｄ）を実質含まないことが特に好ましい。ここで、「実質含まない」とは、樹脂組成物（Ｘ）に含まれる全ての重合性成分の総質量に対して、０．０１質量％以下を意味する。
【００４６】
（重合性成分（Ｅ））
重合性成分（Ｅ）は、重合性成分（Ａ）、重合性成分（Ｂ）、重合性成分（Ｃ）、および重合性成分（Ｄ）との共重合性を有する重合性官能基を有し、かつ重合性成分（Ａ）、重合性成分（Ｂ）、重合性成分（Ｃ）、および重合性成分（Ｄ）のいずれにも属さないものである。
重合性成分（Ｅ）が有する重合性官能基としては、ラジカル重合性の官能基が好ましく、例えば、メタクリロイル基、アクリロイル基、アクリルアミド基、ビニルエーテル基、ビニル基などが挙げられる。
重合性成分（Ｅ）を用いることで付与することができる機能としては、例えば、基材密着性、希釈性、撥水性、親水性、帯電防止性、滑り性、レベリング性、耐擦傷性、耐候性、発光性、蛍光性、発色性、導電性、屈折率調整、酸化防止などが挙げられる。
【００４７】
重合性成分（Ｅ）としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート；イソボルニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート等の脂環構造を有する（メタ）アクリレート；ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート等のアミノ基を有する（メタ）アクリレート；ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリレート；（メタ）アクリロイルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド誘導体；２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルホルムアミド、酢酸ビニル等、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル＝（メタ）アクリレート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル（メタ）アクリレート、アクリル酸２−ターシャリーブチル−６−（３−ターシャリーブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニル、アクリル酸２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ターシャリーペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ターシャリーペンチルフェニル、３−（２Ｈ−１，２，３−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェネチル＝メタクリラート、３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチル（メタ）アクリレート等のフッ素を含有する（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００４８】
重合性成分（Ｅ）の含有量は、重合性成分（Ａ）、重合性成分（Ｂ）、重合性成分（Ｃ）、および重合性成分（Ｄ）の機能を阻害しない範囲であれば特に制限されるものではないが、例えば、樹脂組成物（Ｘ）に含まれる全ての重合性成分の総質量に対して、５０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましく、１０質量％以下が特に好ましい。
【００４９】
＜内部離型剤（Ｆ）＞
内部離型剤（Ｆ）としては、例えば、リン酸エステル化合物、フッ素含有化合物、シリコーン系化合物、長鎖アルキル基を有する化合物、ポリアルキレンワックス、アミドワックス、テフロンパウダー（テフロンは登録商標）などが挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。
これらの中でも、リン酸エステル化合物が好ましく、（ポリ）オキシアルキレンアルキルリン酸化合物を主成分とするもの；モノアルキルホスフェートおよびジアルキルホスフェートの少なくとも一方を主成分とするものが特に好ましい。
【００５０】
（ポリ）オキシアルキレンアルキルリン酸化合物としては、離型性の点から、下記一般式（３）で表わされる化合物が好ましい。
（ＨＯ）３−ｔ（Ｏ＝）Ｐ［−Ｏ−（Ｒ７Ｏ）ｓ−Ｒ６］ｔ    ・・・（３）
【００５１】
上記一般式（３）中、Ｒ６はアルキル基であり、Ｒ７はアルキレン基であり、ｓは１〜２０の整数であり、ｔは１〜３の整数である。
【００５２】
上記一般式（３）中、Ｒ６としては、炭素数１〜２０のアルキル基が好ましく、炭素数３〜１８のアルキル基がより好ましい。Ｒ７としては、炭素数１〜４のアルキレン基が好ましく、炭素数２〜３のアルキレン基がより好ましい。ｓは１〜１０の整数が好ましい。
上記一般式（３）で表わされる化合物は、モノエステル体（ｔ＝１）、ジエステル体（ｔ＝２）、トリエステル体（ｔ＝３）のいずれであってもよい。また、ジエステル体またはトリエステル体の場合、１分子中の複数の（ポリ）オキシアルキレンアルキル基はそれぞれ異なっていてもよい。
【００５３】
（ポリ）オキシアルキレンアルキルリン酸化合物の市販品としては、例えば、城北化学社製のＪＰ−５０６Ｈ；アクセル社製のモールドウイズＩＮＴ−１８５６；日光ケミカルズ社製のＴＤＰ−１０、ＴＤＰ−８、ＴＤＰ−６、ＴＤＰ−２、ＤＤＰ−１０、ＤＤＰ−８、ＤＤＰ−６、ＤＤＰ−４、ＤＤＰ−２、ＴＬＰ−４、ＴＣＰ−５、ＤＬＰ−１０などが挙げられる。
【００５４】
モノアルキルホスフェートおよびジアルキルホスフェートの少なくとも一方を主成分とするものの市販品としては、例えば、城北化学社製のＪＰ−５１３などが挙げられる。
【００５５】
上述したリン酸エステル化合物は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
なお、ここで挙げた内部離型剤（Ｆ）は、界面活性剤、レベリング剤、滑剤としての機能も発現する場合がある。
【００５６】
内部離型剤（Ｆ）の含有量は、樹脂組成物（Ｘ）に含まれる全ての重合性成分の合計１００質量部に対して、０．００１〜２．０質量部が好ましく、０．０２〜１．０質量部がより好ましく、０．０５〜０．５質量部が特に好ましい。内部離型剤（Ｆ）の含有量が少なすぎると、離型性が十分に得られない。一方、内部離型剤（Ｆ）の含有量が多すぎると、基材密着性が低下する場合がある。
【００５７】
＜光重合開始剤（Ｇ）＞
光重合開始剤（Ｇ）は、活性エネルギー線を照射することで開裂し、重合反応を開始させるラジカルを発生する化合物である。
活性エネルギー線としては、装置コストや生産性の点から、紫外線が好ましい。
【００５８】
紫外線によってラジカルを発生する光重合開始剤（Ｇ）としては、例えば、ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、４−フェニルベンゾフェノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、チオキサントン類（２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン等）、アセトフェノン類（ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等）、ベンゾインエーテル類（ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等）、アシルホスフィンオキシド類（２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド等）、メチルベンゾイルホルメート、１，７−ビスアクリジニルヘプタン、９−フェニルアクリジンなどが挙げられる。
【００５９】
光重合開始剤（Ｇ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。併用する場合は、吸収波長の異なる２種以上を併用することが好ましい。また、必要に応じて、過硫酸塩（過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等）、過酸化物（ベンゾイルパーオキシド等）、アゾ系開始剤等の熱重合開始剤を併用してもよい。
【００６０】
光重合開始剤（Ｇ）の含有量は、樹脂組成物（Ｘ）に含まれる全ての重合性成分の合計１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部が好ましく、０．１〜５質量部がより好ましく、０．２〜３質量部が特に好ましい。光重合開始剤（Ｇ）の含有量が少なすぎると、樹脂組成物（Ｘ）の硬化が完結せず、微細凹凸構造を表面に有する成形品の機械物性が損なわれる場合がある。一方、光重合開始剤（Ｇ）の含有量が多すぎると、硬化物内に未反応の光重合開始剤（Ｇ）が残り、これが可塑剤として働いてしまい、硬化物の弾性率を低下させ、耐擦傷性を損なう場合もある。また、着色の原因となる場合もある。
【００６１】
＜その他の成分（Ｈ）＞
その他の成分（Ｈ）は必要に応じて添加される成分であり、上記の重合性成分、内部離型剤（Ｆ）、光重合開始剤（Ｇ）以外の成分である。
その他の成分（Ｈ）としては、例えば、重合禁止剤、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、難燃助剤、可塑剤、界面活性剤、帯電防止剤、充填剤、密着性付与剤、着色剤、強化剤、無機フィラー、耐衝撃性改質剤などが挙げられる。また、ラジカル重合性の官能基を有さないオリゴマーやポリマー、微量の有機溶媒等もその他の成分（Ｈ）に含まれる。
【００６２】
重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン（ＨＱ）、ハイドロキノンモノメチルエーテル（ＭＥＨＱ）等のヒドロキノン系重合禁止剤；２，２’−メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、カテコール、ピクリン酸、ターシャリーブチルカテコール、２，６−ジターシャリーブチル−ｐ−クレゾール（ＢＨＴ）、４，４’−チオビス［エチレン（オキシ）（カルボニル）（エチレン）］ビス［２，６−ビス（１，１−ジメチルエチル）フェノール］等のフェノール系重合禁止剤；フェノチアジン、ビス（α−メチルベンジル）フェノチアジン、３，７−ジオクチルフェノチアジン、ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェノチアジン等のフェノチアジン系重合禁止剤などが挙げられる。ここで挙げた重合禁止剤のうち、ＢＨＴなどのフェノール系重合禁止剤は、酸化防止剤としても使用することができる。
【００６３】
酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、ベンズイミダゾール系、リン系、イオウ系、ヒンダードアミン系などの酸化防止剤が挙げられる。市販品としては、ＢＡＳＦ社製の「ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）」シリーズなどが挙げられる。
【００６４】
光安定剤としては、例えば、ヒンダードアミン系の酸化防止剤が挙げられる。ヒンダードアミン系のラジカル補足剤である１次酸化防止剤としては、例えば、ＢＡＳＦ社製のＣｈｉｍａｓｓｏｒｂ  ２０２０ＦＤＬ，Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ  ９４４ＦＤＬ，Ｔｉｎｕｖｉｎ  ６２２ＳＦ，Ｕｖｉｎｕｌ  ５０５０Ｈ，Ｔｉｎｕｖｉｎ  １４４，Ｔｉｎｕｖｉｎ  ７６５，Ｔｉｎｕｖｉｎ  ７７０ＤＦ，Ｔｉｎｕｖｉｎ４０５０ＦＦなどが挙げられる。
【００６５】
紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ヒンダードアミン系、ベンゾエート系、トリアジン系などの紫外線吸収剤が挙げられる。市販品としては、ＢＡＳＦ社製のチヌビン４００、チヌビン４７９；共同薬品社製のＶｉｏｓｏｒｂ１１０などが挙げられる。
【００６６】
＜粘度＞
樹脂組成物（Ｘ）を用いてスタンパにより微細凹凸構造を形成して硬化させる場合、スタンパの表面の微細凹凸構造への流れ込みやすさの点から、樹脂組成物（Ｘ）は適度な粘度を有することが好ましい。具体的には、２５℃における回転式Ｂ型粘度計で測定した、樹脂組成物（Ｘ）の粘度は１００００ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、より好ましくは５０００ｍＰａ・ｓ以下であり、さらに好ましくは２０００ｍＰａ・ｓ以下である。また、２５℃における回転式Ｂ型粘度計で測定した、樹脂組成物（Ｘ）の粘度は、１０ｍＰａ・ｓ以上であれば、スタンパとの接触が可能であり、微細凹凸構造を表面に有する硬化物を成形するのに用いやすい。
なお、樹脂組成物（Ｘ）の２５℃における粘度が１００００ｍＰａ・ｓを超えても、加温により上記範囲の粘度とすることによりスタンパに接触可能であるならば、好適に用いることができる。この場合、樹脂組成物（Ｘ）の７０℃における回転式Ｂ型粘度計での粘度が、５０００ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、２０００ｍＰａ・ｓ以下であることがより好ましい。
【００６７】
樹脂組成物（Ｘ）の粘度は、含有させるモノマーの種類や含有量を選択したり、粘度調整剤を用いたりすることで調整できる。具体的には、水素結合等の分子間相互作用を有する官能基や化学構造を含むモノマーを多量に用いると、樹脂組成物の粘度は高くなる。また、分子間相互作用のない低分子量のモノマーを多量に用いると、樹脂組成物の粘度は低くなる。
【００６８】
＜作用効果＞
以上説明した本発明の樹脂組成物（Ｘ）は、特定の重合性成分を特定量含むので、粘度が比較的低いにもかかわらず、得られる硬化物は適度な硬度を有する。その結果、スタンパの剥離が良好な微細凹凸構造を形成でき、かつその微細凹凸構造が維持され、耐擦傷性に優れる。しかも、すぐれた撥水性を発揮する硬化物を形成することができる。
よって、本発明の樹脂組成物（Ｘ）によれば、耐擦傷性に優れ、硬度が高い微細凹凸構造体等の成形品を形成することができる。
【００６９】
本発明の樹脂組成物（Ｘ）は、微細凹凸構造をインプリント法によって形成するための原料（インプリント用原料）として特に好適である。また、樹脂組成物は、その他、種々の基材上に硬化被膜を形成する原料として使用することもでき、コーティング材として塗膜を形成し、活性エネルギー線を照射して硬化物を形成することもできる。
【００７０】
「インプリント用原料」
本発明のインプリント用原料は、本発明の樹脂組成物（Ｘ）を含む。
【００７１】
インプリント用原料は、スタンパを用いて、ＵＶ硬化または加熱硬化による硬化物の形成に使用することもできる。加熱などによって半硬化させた状態の樹脂組成物にスタンパを押し当て、形状転写した後にスタンパから剥がし、熱やＵＶによって完全に硬化させる、という方法を用いることもできる。
【００７２】
以上説明した本発明のインプリント用原料は、上述した本発明の樹脂組成物（Ｘ）を含むので、耐擦傷性に優れ、硬度が高い微細凹凸構造体等の成形品を形成することができる。
本発明のインプリント用原料は、微細凹凸構造形成用として特に好適である。
【００７３】
「成形品」
本発明の成形品は、上述した本発明の樹脂組成物（Ｘ）の硬化物からなる、あるいは本発明の樹脂組成物（Ｘ）の硬化樹脂層を表面に有する。
このような成形品の中でも、特に、複数の凸部からなる微細凹凸構造を表面に有するもの（以下、「微細凹凸構造体」ともいう。）は極めて有用である。微細凹凸構造体としては、例えば、基材と表面に微細凹凸構造を有する硬化樹脂層を有するものを挙げることができる。
以下、微細凹凸構造体の一例について、図１を参照しながら具体的に説明する。
【００７４】
＜微細凹凸構造体＞
図１は、微細凹凸構造体の一例を示す断面図である。
本実施形態の微細凹凸構造体１０は、基材１１上に本発明の樹脂組成物（Ｘ）を硬化させた硬化樹脂層（表層）１２が積層されたものである。
硬化樹脂層１２は樹脂組成物（Ｘ）の硬化物からなる膜であり、表面に微細凹凸構造を有する。微細凹凸構造としては、略円錐形状、角錐形状等の突起（凸部）が規則的に配列した構造が好ましい。
【００７５】
この例の微細凹凸構造は、複数の円錐状の凸部１３からなり、各凸部１３はほぼ等間隔ｗ１で形成されている。この例の凸部１３の形状は、凸部１３の高さ方向と直交する方向の凸部１３の断面積が、凸部１３の頂部１３ａから深さ方向に連続的に増加する形状である。このような形状により、硬化樹脂層１２における屈折率を凸部１３の頂部１３ａから基材１１側に連続的に増大させることができ、波長による反射率の変動（波長依存性）を抑制し、可視光の散乱を抑制して低反射率にすることができる。
【００７６】
凸部１３の間隔ｗ１は、可視光の波長（具体的には、４００〜７８０ｎｍ）以下が好ましい。凸部１３の間隔ｗ１が４００ｎｍ以下であれば、可視光の散乱を抑制でき、反射防止膜として光学用途に好適に使用できる。凸部１３の間隔ｗ１は２０〜２５０ｎｍがより好ましく、５０〜２５０ｎｍがさらに好ましく、８０〜２００ｎｍが特に好ましい。
【００７７】
凸部１３の高さ（凹部１４の深さ）ｄ１、すなわち、凹部１４の底部１４ａと凸部１３の頂部１３ａとの垂直距離は、波長により反射率が変動するのを抑制できる深さとすることが好ましい。具体的には、６０ｎｍ以上が好ましく、９０ｎｍ以上がより好ましく、１５０ｎｍ以上が更に好ましく、１８０ｎｍ以上が特に好ましい。凸部１３の高さｄ１が１５０ｎｍ近傍では、人が一番認識しやすい５５０ｎｍの波長域光の反射率を最も低くすることができ、凸部１３の高さｄ１が１５０ｎｍ以上になると、凸部１３の高さｄ１が高いほど、可視光域における最高反射率と最低反射率の差が小さくなる。このため、凸部１３の高さｄ１が１５０ｎｍ以上であれば、反射光の波長依存性が小さくなり、目視での色味の相違は認識されなくなる。
凸部１３の高さｄ１の上限値については特に制限されないが、５００ｎｍ以下が好ましく、４００ｎｍ以下がより好ましく、３００ｎｍ以下が特に好ましい。
【００７８】
ここで凸部１３の間隔ｗ１および高さｄ１は、電界放出形走査電子顕微鏡（ＪＳＭ−７４００Ｆ：日本電子社製）により加速電圧３．００ｋＶの画像における測定により得られる測定値を求め、５０点の測定値を算術平均して求めた値を採用する。
【００７９】
凸部１３のアスペクト比（凸部１３の高さｄ１／凸部１３の間隔ｗ１）は、０．３〜６が好ましく、０．５〜４がより好ましく、０．７〜２が特に好ましい。凸部のアスペクト比が０．３以上であれば、反射率が充分に低くなり、６以下であれば、凸部１３の耐擦傷性がより良好となる。
【００８０】
硬化樹脂層１２と基材１１は、その屈折率の差が０．２以内であることが好ましく、０．１以内がより好ましく、０．０５以内が特に好ましい。屈折率の差が０．２以内であれば、硬化樹脂層１２と基材１１との界面における反射を抑制することができる。
【００８１】
基材１１としては、微細凹凸構造を有する硬化樹脂層１２を支持可能なものであれば特に制限されないが、例えば、微細凹凸構造体をディスプレイ部材に適用する場合、基材１１としては透明な、すなわち光を透過するものが好ましい。透明な基材を構成する材料としては、例えば、アクリル樹脂（メチルメタクリレート（共）重合体等）、ポリカーボネート、スチレン系樹脂（スチレン（共）重合体、メチルメタクリレート−スチレン共重合体等）、セルロース系樹脂（セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート等）、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリ乳酸等）、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、脂環式ポリオレフィン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリウレタン、それら高分子の複合物（ポリメチルメタクリレートとポリ乳酸の複合物、ポリメチルメタクリレートとポリ塩化ビニルの複合物等）、ガラスなどが挙げられる。
【００８２】
基材１１の形状はシート状、フィルム状等いずれであってもよい。また、射出成形、押し出し成形、キャスト成形等、いずれの製法により製造されたものでも使用できる。さらに、密着性、帯電防止性、耐擦傷性、耐候性等の特性の改良を目的として、基材１１の表面に、コーティングやコロナ処理が施されていてもよい。
【００８３】
なお、微細凹凸構造体は、図１に示す実施形態に限定されるものではない。
例えば、硬化樹脂層１２は、基材１１の片面に形成されていてもよく、両面に形成されていてもよい。
また、微細凹凸構造は、硬化樹脂層１２の表面全体に形成されていてもよく、表面の一部（透明性や超撥水性の必要な個所）に形成されていてもよい。
【００８４】
また、凸部１３の形状は、図１に示す円錐状に限定されず、図２に示すような、凸部１３の頂部１３ｂが曲面である釣鐘状であってもよいし、角錐状や円錐台状であってもよい。また、凸部の高さ方向と直交する方向の凸部の断面の形状についても特に制限されないが、円形、三角形、台形などが好ましい。
【００８５】
また、図２に示すように、基材１１と硬化樹脂層１２との間に、耐擦傷性、接着性等の諸物性を向上させる目的で、中間層１５を設けてもよい。
中間層１５の材料としては、アクリル系樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、アクリルグラフトポリエステル、ポリエチレンイミン、ポリカーボネート、ポリブタジエン、スチレン系樹脂等が挙げられる。
【００８６】
（微細凹凸構造体の製造方法）
微細凹凸構造体の製造方法としては、例えば、（１）微細凹凸構造の反転構造が形成されたスタンパと基材との間に本発明の樹脂組成物（Ｘ）を配し、活性エネルギー線の照射により樹脂組成物を硬化して、スタンパの凹凸形状を転写し、その後スタンパを剥離する方法、（２）本発明の樹脂組成物（Ｘ）にスタンパの凹凸形状を転写してからスタンパを剥離し、その後活性エネルギー線を照射して樹脂組成物を硬化する方法などが挙げられる。これらの中でも、微細凹凸構造の転写性、表面組成の自由度の点から、（１）の方法が特に好ましい。この方法は、連続生産が可能なベルト状ロール状のスタンパを用いる場合に特に好適であり、生産性に優れた方法である。
【００８７】
スタンパと基材との間に樹脂組成物（Ｘ）を配置する方法としては、スタンパと基材との間に樹脂組成物（Ｘ）を配置した状態でスタンパと基材とを押圧することで、成型キャビティーへ樹脂組成物（Ｘ）を注入する方法などによることができる。
【００８８】
以下、微細凹凸構造体を連続生産する方法の一例について、図３を参照しながら具体的に説明する。
微細凹凸構造体は、例えば、図３に示す製造装置を用いて、連続的に製造することができる。
図３に示す製造装置には、表面に微細凹凸構造の反転構造（図示略）を有するロール状のスタンパ２０と、樹脂組成物（Ｘ）を収納するタンク２２とが設けられている。スタンパ２０の回転と共に、その表面に沿って移動する、透光性の帯状フィルムの基材１１との間に、タンク２２から樹脂組成物（Ｘ）が供給される。スタンパ２０と、空気圧シリンダ２４によってニップ圧が調整されたニップロール２６との間で、基材１１および樹脂組成物（Ｘ）がニップされ、樹脂組成物（Ｘ）は、基材１１とスタンパ２０との間で均一に行きわたると同時に、スタンパ２０の微細凹凸構造の凹部内に充填する。スタンパ２０の下方には活性エネルギー線照射装置２８が設置され、基材１１を通して樹脂組成物（Ｘ）に活性エネルギー線が照射され、樹脂組成物（Ｘ）は硬化するようになっている。これにより、スタンパ２０の表面の微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層１２が形成される。その後、剥離ロール３０により、表面に微細凹凸構造が形成された硬化樹脂層１２と基材１１が一体化された連続した微細凹凸構造体１０が剥離される。
【００８９】
活性エネルギー線照射装置２８としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、無電極ランプであるフュージョンランプ、ＵＶ−ＬＥＤなどが挙げられる。
紫外線の照射量は、重合開始剤の吸収波長や含有量に応じて決定すればよい。通常、その積算光量は、１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、４００〜４０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、４００〜２０００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２以上であれば、樹脂組成物（Ｘ）を十分硬化させて硬化不足に因る耐擦傷性低下を抑制することができる。また。積算光量が１００００ｍＪ／ｃｍ２以下であれば、硬化物の着色や基材の劣化を防止する点で意義が有る。照射強度も特に制限されないが、基材の劣化等を招かない程度の出力に抑えることが好ましい。
【００９０】
（作用効果）
このようにして得られる微細凹凸構造体は、その表面にスタンパの微細凹凸構造が鍵と鍵穴の関係で転写されている。
微細凹凸構造体は、優れた耐擦傷性と高硬度による高い耐傷付き性能を併せ持つ。加えて、表面に付着する汚染物と表面間への水の導入を促進させる親水性を有し汚染物の除去効果を発現できると共に、連続的な屈折率の変化によって優れた反射防止性能を発現でき、優れた撥水性能を有する。
【００９１】
微細凹凸構造体は、例えば、画像表示装置（液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、陰極管表示装置等）のディスプレイ部材として好適である。
また、微細凹凸構造体は、レンズ、ショーウィンドウ、眼鏡等の表面に設けられる反射防止膜、反射防止フィルム、反射防止シートとして用いることもできる。微細凹凸構造体を画像表示装置に用いる場合は、画像表示面に反射防止フィルムである微細凹凸構造体を直接貼り付けてもよく、画像表示面を構成する部材の表面に反射防止膜である微細凹凸構造体を直接形成してもよく、前面板に反射防止膜を形成してもよい。
上述した以外にも、微細凹凸構造体は、例えば、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、偏光分離素子などの光学用途や、細胞培養シートの用途にも適用できる。また、撥水性を活かしてミラーや窓などの建材、ドアミラーやウィンドウフィルムなどの車載用途、船底材料などに適用できる。撥水性を活かす場合、自動車用ドアミラーやウィンドウ類の着滴防止フィルム、あるいは着雪防止フィルムとして使用することができる。
また、微細凹凸構造体を太陽電池や建材用ガラスなどの屋外で使用する透明基材に使用することで、光透過率向上と撥水性による防汚性付与の効果を同時に利用できる。
【００９２】
（スタンパ）
微細凹凸構造体等の成形品の製造に用いるスタンパは、微細凹凸構造体の表面に形成する微細凹凸構造の反転構造を表面に有するものである。スタンパの材料としては、金属（表面に酸化皮膜が形成されたものを含む。）、石英、ガラス、樹脂、セラミックス等が挙げられる。
スタンパの形状としては、ロール状、円管状、平板状、シート状等が挙げられる。特に、スタンパの形状をロール状やベルト状にすれば、連続的に微細凹凸構造を転写でき、生産性をより高めることができる。
【００９３】
スタンパに微細凹凸構造の反転構造を形成する方法は特に限定されず、その具体例としては、電子ビームリソグラフィー法、レーザー光干渉法が挙げられる。例えば、適当な支持基板上に適当なフォトレジスト膜を塗布し、紫外線レーザー、電子線、Ｘ線等の光で露光し、現像することによって微細凹凸構造を形成した型を得て、この型をそのままスタンパとして使用することもできる。また、フォトレジスト層を介して支持基板をドライエッチングにより選択的にエッチングして、レジスト層を除去することで支持基板そのものに直接微細凹凸構造を形成することも可能である。
【００９４】
また、陽極酸化ポーラスアルミナを、スタンパとして利用することも可能である。例えば、アルミニウムをシュウ酸、硫酸、リン酸等を電解液として所定の電圧にて陽極酸化することにより形成される２０〜２００ｎｍの細孔構造をスタンパとして利用してもよい。この方法によれば、高純度アルミニウムを定電圧で長時間陽極酸化した後、一旦酸化皮膜を除去し、再び陽極酸化することで非常に高規則性の細孔が自己組織化的に形成できる。さらに、二回目に陽極酸化する工程で、陽極酸化処理と孔径拡大処理を組み合わせることで、断面が矩形でなく三角形や釣鐘型である微細凹凸構造も形成可能となる。また、陽極酸化処理と孔径拡大処理の時間や条件を適宜調節することで、細孔最奥部の角度を鋭くすることも可能である。
【００９５】
さらに、微細凹凸構造を有する原型から電鋳法等で複製型を作製し、これをスタンパとして使用してもよい。
【００９６】
上述した中でも、スタンパとしては陽極酸化ポーラスアルミナで作製されたものが微細凹凸形成に有用である。ここで、アルミニウム基板の表面に所定形状の複数の微細細孔を陽極酸化にて形成し、本発明に有用なスタンパを製造する方法の一例について、図４を参照しながら具体的に説明する。
本実施形態のスタンパの製造方法は、以下に示す工程（ａ）、工程（ｂ）、工程（ｃ）、工程（ｄ）、工程（ｅ）および工程（ｆ）を有する。
【００９７】
工程（ａ）
工程（ａ）は、アルミニウム基材４０を、定電圧下、電解液中で陽極酸化してアルミニウム基材４０の表面に酸化皮膜４２を形成する工程である。
アルミニウム基材４０は、純度９９％以上のアルミニウムを用いることが好ましく、より好ましくは純度９９．５％以上、更に好ましくは純度９９．８％以上である。アルミニウムの純度が高いと、陽極酸化したとき、不純物の偏析による可視光を散乱する大きさの凹凸構造が形成され難く、また、陽極酸化で形成される細孔が規則的に形成される。
アルミニウム基材４０の形状は、ロール状、円管状、平板状、シート状等の所望の形状でよく、微細凹凸構造体を連続的なフィルムやシートとして得る場合はロール状とすることが好ましい。
【００９８】
アルミニウム基材４０は、所定の形状に加工する際に用いた油が付着していることがあるため、予め脱脂処理をし、電解研磨処理（エッチング処理）により、表面を平滑にしておくことが好ましい。
【００９９】
このような表面処理されたアルミニウム基材４０を陽極酸化すると、細孔４１を有する酸化皮膜４２が形成される。
【０１００】
電解液として、硫酸、シュウ酸、リン酸等を用いる。電解液としてシュウ酸を用いる場合、シュウ酸の濃度が０．７Ｍ以下であると、電流値を低く抑え、緻密な組織の酸化皮膜を形成できる。また、化成電圧が３０〜６０Ｖであると、周期１００ｎｍ程度の規則性で細孔が形成された陽極酸化ポーラスアルミナ層が形成される。化成電圧がこの範囲より高くても低くても形成される細孔の規則性が低下する傾向がある。電解液の温度は、６０℃以下が好ましく、４５℃以下がより好ましい。電解液の温度が６０℃以下であれば、いわゆる「ヤケ」の発生を抑制し、細孔が壊れたり、表面が溶けて不規則な細孔が形成されたりするのが抑制される。
【０１０１】
また、電解液が硫酸である場合、硫酸の濃度は０．７Ｍ以下であると、電流値を低く抑え緻密な組織の酸化皮膜を形成できる。化成電圧を２５〜３０Ｖであると、周期が６３ｎｍ程度の規則性で細孔が形成された陽極酸化ポーラスアルミナ層が形成される。化成電圧がこの範囲より高くても低くても形成される細孔の規則性が低下する傾向がある。電解液の温度は、３０℃以下が好ましく、２０℃以下がより好ましい。電解液の温度が３０℃以下であれば、いわゆる「ヤケ」の発生を抑制し、細孔が壊れたり、表面が溶けて不規則な細孔が形成されたりするのが抑制される。
【０１０２】
工程（ｂ）
工程（ｂ）は、酸化皮膜４２を除去して、工程（ａ）において酸化皮膜４２に形成された細孔４１部分のアルミニウム基材４０の表面に陽極酸化の細孔発生点を形成する工程である。
すなわち、工程（ａ）で形成された酸化皮膜４２を除去すると、細孔４１部分のアルミニウム基材４０に凹部４３が形成されている。この凹部４３を陽極酸化の細孔発生点にすることにより規則的に配列した細孔を発生させることができる。
酸化皮膜４２の除去には、アルミニウムを溶解せず、酸化皮膜を選択的に溶解する溶液を用いる。このような溶液としては、例えば、クロム酸／リン酸混合液等がある。
【０１０３】
工程（ｃ）
工程（ｃ）は、アルミニウム基材４０を再度陽極酸化し、細孔発生点に酸化皮膜４５を形成することにより、細孔４４を形成する工程である。
工程（ｂ）において酸化皮膜４２を除去したアルミニウム基材４０を再度陽極酸化して、円柱状の細孔４４を有する酸化皮膜４５を形成する。
陽極酸化は、工程（ａ）と同様の条件で行うことができる。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。
【０１０４】
工程（ｄ）
工程（ｄ）は、細孔４４の径を拡大させる工程である。
細孔４４の径を拡大させる処理（以下、「細孔径拡大処理」という）は、酸化皮膜４５を溶解する溶液に浸漬して陽極酸化で形成された細孔の径を拡大させる。このような溶液として、例えば、５質量％程度のリン酸水溶液等を用いることができる。細孔径拡大処理の時間を長くするほど、細孔径を拡大することができるので、目的とする形状に応じて、処理時間を設定する。
【０１０５】
工程（ｅ）
工程（ｅ）は、細孔径拡大処理後のアルミニウム基材４０を再び陽極酸化する工程である。
アルミニウム基材４０を再び陽極酸化すると、酸化皮膜４５が厚くなるのに伴い、細孔４４の深さが伸張される。なお、陽極酸化は工程（ａ）（工程（ｃ））と同様の条件で行うことができる。陽極酸化の時間を長くするほど細孔が深くなる。
【０１０６】
工程（ｆ）
工程（ｆ）は、工程（ｄ）と工程（ｅ）を繰り返し行い、細孔４４の径拡大と伸張を反復する工程である。この工程により、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔４４を有する酸化皮膜４５が形成され、陽極酸化アルミナの凸部がアルミニウム基材４０の表面に形成されたスタンパ２０を得ることができる。
【０１０７】
繰り返し回数は、合計で３回以上が好ましく、５回以上がより好ましい。繰り返し回数が３回以上であれば、連続的に直径が変化する細孔を形成することができ、このようなスタンパにより、反射率を低減させ得るモスアイ構造の表面を有する硬化物を形成することができる。最後は工程（ｄ）で終わることが好ましい。
【０１０８】
細孔４４の形状としては、物品の表面に形成する微細凹凸形状の反転構造であって、具体的には、略円錐形状、角錐形状、円柱形状などが挙げられ、円錐形状、角錐形状等のように、深さ方向と直交する方向の細孔断面積が最表面から深さ方向に連続的に減少する形状が好ましい。
【０１０９】
細孔４４の間隔（細孔４４の中心から隣接する細孔４４の中心までの距離）は、可視光の波長以下、すなわち４００ｎｍ以下であることが好ましく、２０〜２５０ｎｍがより好ましく、５０〜２５０ｎｍがさらに好ましく、８０〜２００ｎｍが特に好ましい。
【０１１０】
細孔４４の深さは、６０ｎｍ以上が好ましい。特に、細孔４４の間隔が１００ｎｍの場合、細孔４４の深さは、８０〜５００ｎｍが好ましく、１２０〜４００ｎｍがより好ましく、１５０〜３００ｎｍが更に好ましい。
【０１１１】
ここで細孔４４の間隔および深さは、電界放出形走査電子顕微鏡（ＪＳＭ−７４００Ｆ：日本電子社製）により加速電圧３．００ｋＶの画像における測定により得られる測定値を求め、５０点の測定値を算術平均して求めた値を採用する。
【０１１２】
細孔４４のアスペクト比（細孔４４の深さ／細孔４４の間隔）は、０．３〜６が好ましく、０．５〜４がより好ましく、０．７〜２が特に好ましい。
【０１１３】
スタンパの微細凹凸構造が形成された側の表面を離型剤で処理してもよい。
離型剤としては、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、フッ素化合物、リン酸エステル等が挙げられ、リン酸エステルが特に好ましい。リン酸エステルとしては、（ポリ）オキシアルキレンアルキルリン酸化合物が好ましく、市販品としては、城北化学社製のＪＰ−５０６Ｈ；アクセル社製のモールドウイズＩＮＴ−１８５６；日光ケミカルズ社製のＴＤＰ−１０、ＴＤＰ−８、ＴＤＰ−６、ＴＤＰ−２、ＤＤＰ−１０、ＤＤＰ−８、ＤＤＰ−６、ＤＤＰ−４、ＤＤＰ−２、ＴＬＰ−４、ＴＣＰ−５、ＤＬＰ−１０などが挙げられる。
【実施例】
【０１１４】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
各種測定および評価方法、スタンパの製造方法、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に含まれる各成分は以下の通りである。
【０１１５】
「測定・評価」
＜スタンパの細孔の測定＞
陽極酸化ポーラスアルミナからなるスタンパの一部の縦断面を１分間Ｐｔ蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡（日本電子社製、「ＪＳＭ−７４００Ｆ」）により加速電圧３．００ｋＶで３００００倍に拡大して観察し、隣り合う細孔の間隔（周期）及び細孔の深さを測定した。それぞれ５０点ずつ測定し、その平均値を測定値とした。
【０１１６】
＜微細凹凸構造の凸部の測定＞
成形品の縦断面を１０分間Ｐｔ蒸着し、スタンパの場合と同じ装置および条件にて、隣接する凸部間の間隔および凸部の高さを測定した。それぞれ５０点ずつ測定し、その平均値を測定値とした。
【０１１７】
＜耐擦傷性の評価＞
磨耗試験機（新東科学社製、「ＨＥｉＤＯＮ ＴＲＩＢＯＧＥＡＲ ＴＹＰＥ−３０Ｓ」）を用い、成形品の表面（微細凹凸構造面）に置かれた２ｃｍ角にカットしたスチールウール（日本スチールウール社製、「ボンスター＃００００」）に１００ｇ（２５ｇｆ／ｃｍ２）の荷重をかけ、往復距離：３０ｍｍ、ヘッドスピード：平均１００ｍｍ／秒にて１０回往復させ、成形品の表面の外観を評価した。外観評価に際しては、２．０ｍｍ厚の黒色アクリル板（三菱レイヨン社製、「アクリライトＥＸ＃５０２」）の片面に成形品を貼り付け、屋内で蛍光灯にかざして目視で評価した。評価は以下の基準で行った。
Ａ：擦傷部分の反射防止性能が十分維持されている。
Ｂ：擦傷部分の反射防止性能がほぼ失われている。
【０１１８】
＜押込み弾性率の測定＞
大型スライドガラス（松浪硝子工業社製、「大型スライドグラス、品番：Ｓ９２１３」、７６ｍｍ×５２ｍｍサイズ）を基材として用いた。該基材上に、塗膜の厚さが約２５０μｍとなるように活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布し、これに高圧水銀灯を用いて約１０００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線を照射し、基材上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物が形成された試験片を作製した。これを押込み弾性率の測定用の試験片として用いた。
ビッカース圧子（四面ダイアモンド錐体）と、微小硬度計（フィッシャーインストルメンツ社製、「フィッシャースコープＨＭ２０００ＸＹｐ」）を用いて、［押し込み（１００ｍＮ／１０秒）］→［クリープ（１００ｍＮ、１０秒）］→［徐荷（１００ｍＮ／１０秒）］の評価プログラムで試験片の硬化物の物性を測定した。測定は恒温室（温度２３℃、湿度５０％）内で行った。
得られた測定結果から、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物の押込み弾性率を解析ソフト（フィッシャーインストルメンツ社製、「ＷＩＮＨＣＵ」）により算出した。
【０１１９】
＜耐傷付き性能の総合判定＞
耐擦傷性及び押込み弾性率の測定結果から、下記の基準で耐傷付き性能の総合判定を行った。
○：耐擦傷性試験の判定がＡまたはＢであり、かつ押込み弾性率が３．７ＧＰａ以上である。
△：耐擦傷性試験の判定がＡまたはＢであり、かつ押込み弾性率が２．９ＧＰａ以上３．７ＧＰａ未満である。
×：耐擦傷性試験の判定がＡまたはＢであり、かつ押込み弾性率が２．９ＧＰａ未満である。あるいは、耐擦傷性試験の判定がＣである。
【０１２０】
「スタンパの製造」
純度９９．９９質量％、電解研磨した厚さ２ｍｍのφ６５ｍｍアルミニウム円盤をアルミニウム基材として用いた。
工程（ａ）：
アルミニウム円盤について、０．３Ｍシュウ酸水溶液中で、直流４０Ｖ、温度１６℃の条件で６時間陽極酸化を行った。
工程（ｂ）：
酸化皮膜が形成されたアルミニウム円盤を、６質量％リン酸／１．８質量％クロム酸混合水溶液に３時間浸漬して、酸化皮膜を除去した。
工程（ｃ）：
該アルミニウム円盤について、０．３Ｍシュウ酸水溶液中、直流４０Ｖ、温度１６℃の条件で３０秒間陽極酸化を行った。
工程（ｄ）：
酸化皮膜が形成されたアルミニウム円盤を、３２℃の５質量％リン酸水溶液に８分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。
工程（ｅ）：
該アルミニウム円盤について、０．３Ｍシュウ酸水溶液中、直流４０Ｖ、温度１６℃の条件で３０秒間陽極酸化を行った。
工程（ｆ）：
前記工程（ｄ）および工程（ｅ）を合計で５回繰り返し、細孔の平均間隔（周期）：１００ｎｍ、深さ：２００ｎｍの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化アルミナが表面に形成されたスタンパを得た。
得られたスタンパを、ＴＤＰ−８（日光ケミカルズ社製）の０．１質量％水溶液に１０分間浸漬し、引き上げて一晩風乾することにより離型処理を施した。
【０１２１】
「活性エネルギー線硬化性樹脂組成物」
実施例および比較例で用いた活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に含まれる重合性成分（Ａ）、重合性成分（Ｂ）、重合性成分（Ｃ）、重合性成分（Ｄ）、重合性成分（Ｅ）、光内部離型剤（Ｆ）、および光重合開始剤（Ｇ）は、下記の表１の通りである。
【０１２２】
【表１】
2017160295.tif 000004
【０１２３】
「実施例１〜８、比較例１、２」
表２、３に示す配合組成に従って各成分を混合し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を調製した。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をスタンパの表面に数滴垂らし、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ社製、「ルミラー（低干渉タイプの易接着グレード）」、厚さ５０μｍ）で押し広げながら被覆した後、フィルム側から無電極タイプのＵＶランプ（ヘレウス社製の無電極ＵＶランプ、Ｄバルブ）を用いて３６５ｎｍの波長で測定した積算光量が１０００ｍＪ／ｃｍ２になるように紫外線を照射して硬化させた。フィルムからスタンパを離型して、凸部の平均間隔：１００ｎｍ、高さ：２００ｎｍの微細凹凸構造を表面に有する成形品を得た。得られた成形品について、耐擦傷性を評価した。
また、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いて押込み弾性率測定用の試験片を作製し、押込み弾性率を測定した。
耐擦傷性の評価結果、押込み弾性率の測定結果、および耐傷付き性能の総合判定の結果を表２、３に示す。
【０１２４】
【表２】
2017160295.tif 000005
【０１２５】
【表３】
2017160295.tif 000006
【０１２６】
表２、３の結果から明らかなように、各実施例で用いた活性エネルギー線硬化性樹脂組成物からは、優れた耐スチールウール擦傷性と高い押込み弾性率（高硬度）を有する成形品を製造できた。
一方、比較例１で用いた活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は重合性成分（Ａ）の含有量が少ないため、押込み弾性率が低い結果となった。
比較例２で用いた活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は重合性成分（Ｄ）の含有量が多すぎたため、耐擦傷性が劣る結果となった。
【産業上の利用可能性】
【０１２７】
本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いて得られる、表面に微細凹凸構造を有する成形品は、反射防止物品（反射防止フィルム、反射防止膜等）、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、偏光分離素子等の光学物品、細胞培養シートとしての用途展開が期待でき、特に反射防止物品としての用途に適している。
【符号の説明】
【０１２８】
１０  微細凹凸構造体
１１  基材
１２  硬化樹脂層（表層）
１３  凸部
１３ａ、１３ｂ  凸部の頂部
１４  凹部
１４ａ  凹部の底部
１５  中間層
ｗ１  隣り合う凸部の間隔
ｄ１  凹部の底部から凸部の頂部までの垂直距離
２０  スタンパ
２２  タンク
２４  空気圧シリンダ
２６  ニップロール
２８  活性エネルギー線照射装置
３０  剥離ロール
４０  アルミニウム基材
４１、４４  細孔
４２、４５  酸化皮膜
４３  凹部
【図１】
2017160295.tif 000007
【図２】
2017160295.tif 000008
【図３】
2017160295.tif 000009
【図４】
2017160295.tif 000010