(57)【要約】【課題】短時間でアウトガスの発生をばらつきなく低減した複数のピボット用軸受を製造する。【解決手段】同軸に配置された内輪と外輪との間の円環状空間に周方向に間隔を空けて転動体を配置し、円環状空間内にグリスを注入することにより軸受組立体を組み立てる軸受組立工程Ｓ１と、軸受組立工程Ｓ１において組み立てられた複数の軸受組立体の集合体を、真空状態で所定の目標温度よりも高い温度で加熱する加熱工程Ｓ２と、加熱工程Ｓ２において加熱された集合体を気体の対流により冷却する冷却工程Ｓ３とを含むピボット用軸受の製造方法を提供する。【選択図】図２
2017160962.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
同軸に配置された内輪と外輪との間の円環状空間に周方向に間隔を空けて転動体を配置し、前記円環状空間内にグリスを注入することにより軸受組立体を組み立てる軸受組立工程と、
該軸受組立工程において組み立てられた複数の前記軸受組立体の集合体を、真空状態で所定の目標温度よりも高い温度で加熱する加熱工程と、
該加熱工程において加熱された前記集合体を気体の対流により冷却する冷却工程とを含むピボット用軸受の製造方法。
【請求項２】
前記加熱工程と前記冷却工程とを交互に複数回繰り返す請求項１に記載のピボット用軸受の製造方法。
【請求項３】
前記冷却工程が窒素ガス、ヘリウムガスまたはアルゴンガスを対流させる請求項１または請求項２に記載のピボット用軸受の製造方法。
【請求項４】
前記冷却工程により冷却された前記集合体を所定温度で所定時間にわたって放置する放置工程を含む請求項１から請求項３のいずれかに記載のピボット用軸受の製造方法。
【請求項５】
前記放置工程後に、前記軸受組立体の前記円環状空間を閉塞部材により閉塞する閉塞部材配置工程を含む請求項４に記載のピボット用軸受の製造方法。
【請求項６】
同軸に配置された内輪と外輪との間の円環状空間に周方向に間隔を空けて転動体を配置し、前記円環状空間内にグリスを注入することにより軸受組立体を組み立てる軸受組立工程と、
前記軸受組立体の前記内輪にシャフトを嵌合させてピボット組立体を組み立てるピボット組立工程と、
前記軸受組立体により組み立てられた複数の前記軸受組立体の集合体または前記ピボット組立工程により組み立てられた複数の前記ピボット組立体の集合体を、真空状態で所定の目標温度よりも高い温度で加熱する加熱工程と、
該加熱工程において加熱された前記集合体を気体の対流により冷却する冷却工程とを含むピボットの製造方法。
【請求項７】
前記加熱工程と前記冷却工程とを交互に複数回繰り返す請求項６に記載のピボットの製造方法。
【請求項８】
前記冷却工程が窒素ガス、ヘリウムガスまたはアルゴンガスを対流させる請求項６または請求項７に記載のピボットの製造方法。
【請求項９】
前記冷却工程により冷却された前記集合体を所定温度で所定時間にわたって放置する放置工程を含む請求項６から請求項８のいずれかに記載のピボットの製造方法。
【請求項１０】
前記放置工程後に、前記軸受組立体の前記円環状空間を閉塞部材により閉塞する閉塞部材配置工程を含む請求項９に記載のピボットの製造方法。
【請求項１１】
複数個の転動体が周方向に間隔を空けて配置されている内輪と外輪との間の円環状空間内にグリスが注入された複数の軸受組立体または該軸受組立体の前記内輪にシャフトが嵌合された複数のピボット組立体を収納可能な筐体と、
前記筐体内を真空にする真空発生部と、
前記筐体内を熱放射により加熱する加熱部と、
前記筐体内に収容された前記軸受組立体または前記ピボット組立体の温度を検出する温度検出部と、
前記筐体に気体を注入可能な気体注入部と、
前記複数の軸受組立体または前記複数のピボット組立体が収容された前記筐体を前記真空発生部により真空にした状態で、前記加熱部により前記筐体内を加熱し、前記温度検出部により検出される前記軸受組立体または前記ピボット組立体の温度が所定の目標温度に達した場合に、前記気体注入部により前記筐体内に前記所定の目標温度よりも低い温度の気体を注入して前記筐体内で対流させる制御部とを備える製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ピボット用軸受の製造方法、ピボットの製造方法および製造装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ピボットにおいて発生するアウトガスが磁気ヘッドやディスクに付着することで、データの読み書きが困難になったりクラッシュしたりするという問題がある。特に、昨今のハードディスクによる記録の高密度化により、ピボットにはより一層の低アウトガス化が要求されている。このような要求に対し、アウトガスの発生を低減するピボット用軸受の製造方法およびピボットが知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
特許文献１に記載のピボット用軸受の製造方法は、真空オーブンにより軸受（ベアリング）を真空状態で加熱して、グリス内に含有されているアウトガスを発生する成分を揮発させることで、ＨＤＤ（ハードディスクドライブ）にピボットを組み込む前に、ピボットにおける余分なアウトガスを除去している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１５−１６９３１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、真空状態では熱は放射により伝達されるため、真空オーブン内に軸受などのサンプルを複数投入して真空状態で加熱した場合に、ヒータに近いサンプルは温度が上昇し易いもののヒータから遠いサンプルは温度が上昇し難い傾向がある。また、サンプルの温度が高いほどアウトガスを効率的に除去することができ、サンプルの温度が低いとアウトガスを十分に除去することができない。
【０００６】
そのため、特許文献１に記載のピボット用軸受の製造方法では、温度が高いサンプルと温度が低いサンプルとが混在してしまい、サンプル間のアウトガスの除去量にばらつきが生じるという問題がある。特に、加熱時間を短縮するためにより大きなパワーで加熱した場合は、ヒータからサンプルまでの距離に応じてサンプル間の温度差が大きくなり、アウトガスの除去量のばらつきがより一層大きくなる。
【０００７】
本発明は上述した事情に鑑みてなされたものであって、短時間でアウトガスの発生をばらつきなく低減した複数のピボット用軸受または複数のピボットを製造することができるピボット用軸受の製造方法、ピボットの製造方法および製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明は以下の手段を提供する。
本発明は、同軸に配置された内輪と外輪との間の円環状空間に周方向に間隔を空けて転動体を配置し、前記円環状空間内にグリスを注入することにより軸受組立体を組み立てる軸受組立工程と、該軸受組立工程において組み立てられた複数の前記軸受組立体の集合体を、真空状態で所定の目標温度よりも高い温度で加熱する加熱工程と、該加熱工程において加熱された前記集合体を気体の対流により冷却する冷却工程とを含むピボット用軸受の製造方法を提供する。
【０００９】
本発明によれば、軸受組立工程により組み立てられた複数の軸受組立体の集合体を加熱工程により加熱することで、各軸受組立体のグリス内に含有されているアウトガスを発生する成分を揮発させて、アウトガスを発生する成分を放出させることができる。
【００１０】
この場合において、加熱工程にて真空状態で所定の目標温度よりも高い温度で集合体を加熱することで、放射熱により、主に集合体内の露出する外側の軸受組立体が所定の目標温度以上に加熱される。次いで、冷却工程にて気体を対流させることで、集合体内の加熱された外側の軸受組立体の温度が下がりつつ、その外側の軸受組立体からの伝熱により内側の軸受組立体の温度が上昇する。
【００１１】
これにより、複数の軸受組立体の集合体全体の温度を平均的に目標温度付近まで上昇させて、複数の軸受組立体間でのアウトガスの除去量のばらつきを低減することができる。
また、加熱工程において全ての軸受組立体の温度を所定の目標温度まで上昇させることに比べ、外側の軸受組立体の温度を一旦オーバーシュートさせて下降により目標温度まで近づける方が、全ての軸受組立体を短時間で目標温度に近づけることができる。
したがって、短時間でアウトガスの発生をばらつきなく低減した複数のピボット用軸受を製造することができる。
【００１２】
上記発明においては、前記加熱工程と前記冷却工程とを交互に複数回繰り返すこととしてもよい。
このように構成することで、１回ずつの加熱工程と冷却工程では、集合体内の温度が高い軸受組立体と温度が低い軸受組立体との温度差が所定の温度範囲内に入らない場合であっても、加熱工程と冷却工程とを交互に複数回繰り返す分だけ、これら軸受組立体の温度差を低減することができる。これにより、集合体全体のアウトガスの除去量のばらつきをより低減することができる。
【００１３】
上記発明においては、前記冷却工程が窒素ガス、ヘリウムガスまたはアルゴンガスを対流させることとしてもよい。
このように構成することで、グリスが酸化するのを防ぎ、グリスの潤滑性能の低下を防止することができる。
【００１４】
上記発明においては、前記冷却工程により冷却された前記集合体を所定温度で所定時間にわたって放置する放置工程を含むこととしてもよい。
このように構成することで、放置工程により、外側の軸受組立体から内側の軸受組立体への伝熱を進行させて、集合体全体の温度のばらつきをより低減することができる。また、集合体を真空状態に所定の時間放置することで、ばらつきなく、より一層のアウトガスを除去することができる。所定温度は、加熱工程の温度よりも低く冷却工程の温度よりも高いものとする。
【００１５】
上記発明においては、前記放置工程後に、前記軸受組立体の前記円環状空間を閉塞部材により閉塞する閉塞部材配置工程を含むこととしてもよい。
このように構成することで、放置工程において、軸受組立体の円環状空間を開放させた状態で、円環状空間内のグリスに含有されているアウトガスを発生する成分を揮発させることにより、この成分を効率的に放出させることができる。そして、放置工程後に、閉塞部材配置工程において閉塞部材によって軸受組立体の円環状空間を閉塞することにより、ピボットをハードディスク内で動作するときに、ミスト状になったグリスがピボットから放出されることを抑制した軸受を製造することができる。
【００１６】
本発明は、同軸に配置された内輪と外輪との間の円環状空間に周方向に間隔を空けて転動体を配置し、前記円環状空間内にグリスを注入することにより軸受組立体を組み立てる軸受組立工程と、前記軸受組立体の前記内輪にシャフトを嵌合させてピボット組立体を組み立てるピボット組立工程と、前記軸受組立体により組み立てられた複数の前記軸受組立体の集合体または前記ピボット組立工程により組み立てられた複数の前記ピボット組立体の集合体を、真空状態で所定の目標温度よりも高い温度で加熱する加熱工程と、該加熱工程において加熱された前記集合体を気体の対流により冷却する冷却工程とを含むピボットの製造方法を提供する。
【００１７】
本発明によれば、軸受組立工程により組み立てられた複数の軸受組立体の集合体またはピボット組立工程により組み立てられた複数のピボット組立体の集合体を加熱工程により加熱することで、各軸受組立体のグリス内に含有されているアウトガスを発生する成分を揮発させて放出させることができる。
【００１８】
この場合において、加熱工程にて、放射熱により主に集合体内の露出する外側の軸受組立体またはピボット組立体が所定の目標温度以上に加熱され、冷却工程にて、集合体内の加熱された外側の軸受組立体またはピボット組立体の温度が下がりつつ、その外側の軸受組立体またはピボット組立体からの伝熱により内側の軸受組立体またはピボット組立体の温度が上昇する。
【００１９】
これにより、短時間で集合体全体の温度を平均的に目標温度付近まで上昇させて、複数のピボット組立体間でのアウトガスの除去量のばらつきを低減することができる。したがって、短時間でアウトガスの発生をばらつきなく低減した複数のピボットを製造することができる。
【００２０】
上記発明においては、前記加熱工程と前記冷却工程とを交互に複数回繰り返すこととしてもよい。
このように構成することで、集合体内の温度が高いピボット組立体と温度が低いピボット組立体との温度差を低減して、集合体全体のアウトガスの除去量のばらつきをより低減することができる。
【００２１】
上記発明においては、前記冷却工程が窒素ガス、ヘリウムガスまたはアルゴンガスを対流させることとしてもよい。
このように構成することで、グリスが酸化するのを防ぎ、グリスの潤滑性能の低下を防止することができる。
【００２２】
上記発明においては、前記冷却工程により冷却された前記集合体を所定温度で所定時間にわたって放置する放置工程を含むこととしてもよい。
このように構成することで、放置工程により、外側のピボット組立体から内側のピボット組立体への伝熱を進行させて、集合体全体の温度のばらつきをより低減し、アウトガスの除去量のばらつきを一層低減することができる。所定温度は、加熱工程の温度よりも低く冷却工程の温度よりも高いものとする。
【００２３】
上記発明においては、前記放置工程後に、前記軸受組立体の前記円環状空間を閉塞部材により閉塞する閉塞部材配置工程を含むこととしてもよい。
このように構成することで、放置工程において、ピボット組立体の円環状空間を開放させた状態で、アウトガスを発生する成分を効率的に放出させることができる。また、その後の閉塞部材配置工程において、閉塞部材によって円環状空間を閉塞することにより、ハードディスク内で動作するときに、ミスト状になったグリスがピボットから放出されるのを抑制したピボットを製造することができる。
【００２４】
本発明は、複数個の転動体が周方向に間隔を空けて配置されている内輪と外輪との間の円環状空間内にグリスが注入された複数の軸受組立体または該軸受組立体の前記内輪にシャフトが嵌合された複数のピボット組立体を収納可能な筐体と、前記筐体内を真空にする真空発生部と、前記筐体内を熱放射により加熱する加熱部と、前記筐体内に収容された前記軸受組立体または前記ピボット組立体の温度を検出する温度検出部と、前記筐体に気体を注入可能な気体注入部と、前記複数の軸受組立体または前記複数のピボット組立体が収容された前記筐体を前記真空発生部により真空にした状態で、前記加熱部により前記筐体内を加熱し、前記温度検出部により検出される前記軸受組立体または前記ピボット組立体の温度が所定の目標温度に達した場合に、前記気体注入部により前記筐体内に前記所定の目標温度よりも低い温度の気体を注入して前記筐体内で対流させる制御部とを備える製造装置を提供する。
【００２５】
本発明によれば、筐体内に複数の軸受組立体または複数のピボット組立体を収容して、真空発生部により筐体内を真空にした状態で加熱部により筐体内を熱放射によって加熱することで、放射熱により、軸受組立体の集合体またはピボット組立体の集合体の内、主に露出する外側の軸受組立体またはピボット組立体が加熱される。軸受組立体またはピボット組立体を加熱することで、各軸受組立体または各ピボット組立体のグリス内に含有されているアウトガスを発生する成分を揮発させて、アウトガスを発生する成分を放出させることができる。
【００２６】
この場合において、制御部により、温度検出部によって検出される軸受組立体またはピボット組立体の温度が所定の目標温度に達した場合に、気体注入部によって筐体内に所定の目標温度よりも低い温度の気体が注入されて筐体内でその気体が対流することで、加熱された外側の軸受組立体またはピボット組立体の温度が下がりつつ、その外側の軸受組立体またはピボット組立体からの放射熱により内側の軸受組立体またはピボット組立体の温度が上昇する。
これにより、複数の軸受組立体またはピボット組立体の温度を平均的に所定の目標温度付近まで上昇させて、複数の軸受組立体間またはピボット組立体間でのアウトガスの除去量のばらつきを低減することができる。
【００２７】
また、加熱部の熱放射によって全ての軸受組立体またはピボット組立体の温度を所定の目標温度まで上昇させることに比べ、外側の軸受組立体またはピボット組立体の温度を一旦オーバーシュートさせて下降により目標温度まで近づける方が、全ての軸受組立体またはピボット組立体を短時間で目標温度に近づけることができる。
したがって、アウトガスの発生をばらつきなく低減した複数のピボット用軸受またはピボットを自動的に短時間で製造することができる。
【発明の効果】
【００２８】
本発明に係るピボット用軸受の製造方法、ピボットの製造方法および製造装置よれば、短時間でアウトガスの発生をばらつきなく低減した複数のピボット用軸受または複数のピボットを製造することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明の第１実施形態に係るピボットの一部を軸方向に破断した縦断面図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る軸受の製造方法およびピボットの製造方法を説明するフローチャートである。
【図３】加熱工程により、真空オーブンで複数の軸受組立体の集合体を加熱する様子を示す縦断面図である。
【図４】冷却工程により、加熱した複数の軸受組立体の集合体を空気の対流によって冷却する様子を示す縦断面図である。
【図５】本発明の第１実施形態に係る軸受の製造方法およびピボットの製造方法により軸受およびピボットを製造する場合の軸受組立体の集合体の温度と時間との関係の一例を示すグラフである。
【図６】本発明の比較例として、従来の軸受の製造方法およびピボットの製造方法により軸受およびピボットを製造する場合の軸受組立体の集合体の温度と時間との関係の一例を示すグラフである。
【図７】本発明の第２実施形態に係るピボットの製造方法を説明するフローチャートである。
【図８】本発明の各実施形態の第３変形例に係るピボットの一部を軸方向に破断した縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
〔第１実施形態〕
以下、本発明の第１実施形態に係るピボット用軸受（以下、単に軸受という。）の製造方法、ピボットの製造方法およびピボットについて、図面を参照して説明する。
本実施形態に係るピボット１は、図１に示されるように、２つの軸受３と、これら軸受３に嵌合されたシャフト５と、２つの軸受３間に軸方向に挟まれるスペーサ部材７とを備えている。
【００３１】
２つの軸受３は、それぞれ半径方向に隣接させて同軸に配置された円環状の内輪９および外輪１１と、これら内輪９と外輪１１との間の円環状空間１３に周方向に間隔を空けて配置される複数個の転動体１５とを備えている。また、円環状空間１３には、潤滑剤としてグリス１７が封入されている。製造過程中の軸受３にグリス１７が封入された状態を軸受組立体３´とし、２つの軸受組立体３´にシャフト５が嵌合された状態をピボット組立体１´とする。
【００３２】
内輪９は、外周面に形成されたレースウェイ（内輪軌道）を有し、外輪１１は、内周面に形成されたレースウェイ（外輪軌道）を有している。内輪９のレースウェイと外輪１１のレースウェイとの間でそれぞれ転動体１５が転動することにより、内輪９と外輪１１とがそれぞれ相対回転させられるようになっている。
【００３３】
転動体１５は、円環状空間１３において、リテーナ（図示略）により等間隔に配置された状態で回転可能に保持されている。
リテーナは、円環状の基部の円周方向に沿って軸方向に突出して設けられた複数の突起およびこれら突起間が連結して凹状に形成され、転動体１５を保持するポケットと、転動体１５間においてグリス１７を保持するグリスポケットとを有している。
【００３４】
グリス１７は、粘性を有する基油（例えば、鉱油、エステル系合成油、合成炭化水素油（ポリα−オレフィン（ＰＡＯ））など。）と、ウレア化合物（例えば、脂肪族ウレア化合物、脂肪脂環式ウレア化合物、芳香族ウレア化合物など）からなる増ちょう剤と、酸化防止剤と、防錆剤と、極圧剤等を含有している。
【００３５】
また、グリス１７は、内輪９のレースウェイ、外輪１１のレースウェイ、および各転動体１５の表面に付着して、ピボット１が良好なトルク特性および流動性を維持するようになっている。グリス１７における増ちょう剤の含有量は、１０〜２０質量％であることが好ましい。
【００３６】
スペーサ部材７は、中空のリング状に形成されている。また、スペーサ部材７は、内径が内輪９の外径寸法よりも大きい寸法で形成され、外径が外輪１１の寸法とほぼ等しい寸法で形成されている。このスペーサ部材７は２つの軸受３の外輪１１間に軸方向に挟まれており、これにより２つの軸受３の内輪９間に隙間が形成されるようになっている。
シャフト５は、軸方向の一端に全周に亘って半径方向外方に延びる鍔状のフランジ部５ａを備えている。
【００３７】
２つの軸受３の外輪１１間にスペーサ部材７を挟み、それぞれ内輪９内にシャフト５を嵌合させて一方の内輪９をシャフト５のフランジ部５ａの突き当てた状態において、内輪９どうしを軸方向に近接させる外力を加えることにより、２つの軸受３に予圧が掛けられた状態にすることができる。
【００３８】
次に、本実施形態に係る軸受およびピボットの製造方法について以下に説明する。
本実施形態に係る軸受の製造方法は、図２のフローチャートに示すように、内輪９と外輪１１との間の円環状空間１３にグリス１７が封入されている軸受組立体３´を組み立てる軸受組立工程Ｓ１と、組み立てられた複数の軸受組立体３´を真空状態で加熱する加熱工程Ｓ２と、加熱された複数の軸受組立体３´を気体の対流により冷却する冷却工程Ｓ３（図４参照）と、冷却工程Ｓ３により冷却された複数の軸受組立体３´を所定温度（所定の目標温度）で放置する放置工程Ｓ４とを含んでいる。
【００３９】
また、本実施形態に係るピボットの製造方法は、軸受組立工程Ｓ１、加熱工程Ｓ２、冷却工程Ｓ３および放置工程Ｓ４に加え、放置工程Ｓ４により放置された２つの軸受組立体３´の各内輪９にシャフト５を嵌合させてピボット組立体１´を組み立てるピボット組立工程Ｓ５を含んでいる。
【００４０】
軸受組立工程Ｓ１は、内輪９とこれに対応する外輪１１とを同軸に配置し、これら内輪９と外輪１１との間の円環状空間１３に周方向に間隔を空けて複数個の転動体１５を配置するようになっている。そして、所望の潤滑性能を達成するのに必要な成分を選択して混合することにより生成されたグリス１７を、円環状空間１３内に配置されたリテーナのグリスポケットに注入して、図１に示すような軸受組立体３´を組み立てるようになっている。
【００４１】
加熱工程Ｓ２は、図３に示すように、軸受組立工程Ｓ１により組み立てられた複数の軸受組立体３´を集めて集合体とし、これら軸受組立体３´の集合体Ｐを真空オーブン２１により真空状態で所定の目標温度よりも高い温度で加熱するようになっている。
【００４２】
具体的には、加熱工程Ｓ２は、軸受組立体３´の集合体Ｐを軸受組立体３´どうしを互いに間隔を空けて真空オーブン２１の筐体２２内のほぼ中央付近に配置するようになっている。そして、真空オーブン２１の真空発生器（図示略）により筐体２２内を真空にするとともに、筐体２２の各壁部に設けられた複数のヒータ２３を作動させることにより、各ヒータ２３の熱を真空オーブン２１の壁面を介して放射により集合体Ｐに伝達させるようになっている。これにより、集合体Ｐ内で、放射により外側の軸受組立体３´から内側の軸受組立体３´に向かって順々に熱が伝わり、外側の軸受組立体３´からの放射熱によってその内側の軸受組立体３´が温まり、その軸受組立体３´からの放射熱によってまたその内側の軸受組立体３´が温まる。また、加熱工程Ｓ２は、例えば、集合体Ｐ全体の平均温度が所定の目標温度に達するまで行うようになっている。
【００４３】
集合体Ｐの所定の目標温度（Ｔａｒｇｅｔ）は、例えば６０℃とする。加熱工程Ｓ２では、真空オーブン２１の壁面の温度が、例えば１３０℃以下、より好ましくは１２０℃以下となるようにヒータ２３を作動させるようになっている。このようにすることで、グリス１７に含まれている極圧剤等の添加剤が温度の上昇により反応して劣化してしまうのを防ぎ、グリス１７の潤滑性能の低下を防止することができる。本実施形態においては、例えば、真空オーブン２１の壁面の温度が１００℃になるようにヒータ２３の温度を設定することとする。
【００４４】
冷却工程Ｓ３は、図４に示すように、真空オーブン２１内に常温の空気を注入して、加熱工程Ｓ２により加熱された軸受組立体３´の集合体Ｐを空気の対流により冷却するようになっている。
【００４５】
例えば、冷却工程Ｓ３は、真空オーブン２１の筐体２２の一壁部に設けられた吸入口２１ａから真空オーブン２１内に常温の空気を注入して槽内に空気を充填し、真空オーブン２１の内部を冷却するようになっている。真空オーブン２１内で温度が上がった空気は、その後、排出され、槽内は再び真空状態となる。冷却工程Ｓ３は、例えば、軸受組立体３´の集合体Ｐの温度が高い軸受組立体３´と温度が低い軸受組立体３´との温度差が、目標温度の６０℃に対して±５℃の温度範囲に近づくまで行うようになっている。
【００４６】
放置工程Ｓ４は、真空オーブン２１内で軸受組立体３´どうしを互いに間隔を空けて配置したままの状態で、真空オーブン２１を真空状態にして所定の目標温度、本実施形態では６０℃）で集合体Ｐを所定時間（例えば３時間半）にわたって保持するようになっている。
ピボット組立工程Ｓ５は、２つの軸受組立体３´の各内輪９とシャフト５とを圧入や接着剤により固定するようになっている。
【００４７】
このように構成された軸受の製造方法およびピボットの製造方法によれば、軸受組立工程Ｓ１により組み立てられた複数の軸受組立体３´の集合体Ｐが加熱工程Ｓ２により加熱されることで、各軸受組立体３´のグリス１７内に含有されているアウトガスを発生する成分（以下、アウトガス成分という。）が揮発して、アウトガス成分が放出される。
【００４８】
この場合において、加熱工程Ｓ２では、図３に示すように、複数の軸受組立体３´の集合体Ｐが真空オーブン２１内で真空状態で１００℃で加熱されることで、図５に示すように、放射熱により、主に集合体Ｐ内の露出する外側の軸受組立体３´の温度（Ｍａｘ）が目標温度の６０℃以上に加熱される。
【００４９】
加熱工程Ｓ２は、軸受組立体３´の集合体Ｐ全体の平均温度（Ａｖｅ）が目標温度の６０℃に達するまで行われるが、放射熱のため、集合体Ｐ内の内側にはヒータ２３の熱が伝わり難く、集合体Ｐ全体の平均温度が目標温度の６０℃に達した時点では、内側の軸受組立体３´は目標温度の６０℃に達していない。
【００５０】
次いで、冷却工程Ｓ３により、図４に示すように、真空オーブン２１内に常温の空気が充填され、集合体Ｐの加熱された外側の軸受組立体３´の温度が下がる一方、その外側の軸受組立体３´からの放射熱により内側の軸受組立体３´の温度が上昇する。これにより、図５に示すように、集合体Ｐの外側の軸受組立体３´の温度（Ｍａｘ）と内側の軸受組立体３´の温度（Ｍｉｎ）との温度差が小さくなる。
【００５１】
次いで、放置工程Ｓ４により、真空オーブン２１内で軸受組立体３´の集合体Ｐが６０℃で３時間半放置されることで、集合体Ｐ全体の平均温度が目標温度の６０℃を維持されてグリス１７のアウトガス成分が放出されつつ、外側の軸受組立体３´から内側の軸受組立体３´への伝熱が進行する。これにより、外側の軸受組立体３´と内側の軸受組立体３´との温度差がより小さくなって集合体Ｐ全体の温度のばらつきが低減し、集合体Ｐの複数の軸受組立体３´間におけるアウトガス成分の除去量のばらつきが低減する。
【００５２】
次いで、ピボット組立工程Ｓ５により、放置工程Ｓ４により放置された２つの軸受３の各内輪９にシャフト５が嵌合されて、ピボット組立体１´が組み立てられる。具体的には、内面に接着剤を塗布した一方の軸受３の内輪９にシャフト５を嵌合させて、その内輪９の一方の端面をシャフト５のフランジ部５ａに突き当てる。そして、外輪１１間に挟まれるようにスペーサ部材７を配置した状態で、内面に接着剤を塗布した他方の軸受３の内輪９にシャフト５を嵌合させる。そして、２つの軸受３の内輪９どうしが近接する方向に外力を加えて適正な予圧を付与した状態で、各内輪９の接着剤を硬化させる。これにより、ピボット１が完成する。なお、各内輪９とシャフト５は、接着剤により固定する他、圧入により固定したり、溶接により固定したりすることとしてもよい。
【００５３】
以上説明したように、本実施形態に係る軸受の製造方法およびピボットの製造方法によれば、加熱工程Ｓ２、冷却工程Ｓ３および放置工程Ｓ４を経て、各軸受組立体３´のグリス１７に含有されているアウトガス成分が除去されることで、最終的にはアウトガス成分の濃度をばらつきなく十分に低減したグリス１７が封入された複数の軸受３およびピボット１を製造することができる。
【００５４】
また、従来のように、加熱工程Ｓ２により全ての軸受組立体３´の温度を所定の目標温度まで上昇させることに比べ、外側の軸受組立体３´の温度を一旦オーバーシュートさせた後に下降により目標温度まで近づけることにより、全ての軸受組立体３´を短時間で目標温度に近づけることができる。
【００５５】
例えば、本実施形態に係る軸受の製造方法およびピボットの製造方法の対比例として、複数の軸受組立体３´の集合体Ｐを集合体全体の温度が平均的に目標温度付近まで到達するまで真空状態で６０℃で加熱し続けた場合の一例を図６に示す。図６のグラフの例では、加熱を開始してから集合体Ｐ全体の温度が平均的に目標温度付近まで到達するまでに、４時間以上要している。
【００５６】
これに対し、本実施形態に係る軸受の製造方法およびピボットの製造方法によれば、図５のグラフに示すように、加熱を開始してから、複数の軸受組立体３´の集合体Ｐ全体の温度が平均的に目標温度付近まで到達するまでの時間を大幅に短縮することができる。さらに、本実施形態においては、冷却工程Ｓ３により冷却した軸受組立体３´の集合体Ｐを所定の目標温度（６０℃）で所定時間放置することにより、集合体Ｐの軸受組立体３´間の温度差をより小さくして、アウトガスのばらつきおよびアウトガスの除去量のばらつきを一層低減することができる。
したがって、本実施形態によれば、短時間でアウトガスの発生をばらつきなく低減した複数の軸受３およびピボット１を製造することができる。
【００５７】
また、本実施形態に係るピボット１によれば、アウトガス成分の濃度を十分に低減したグリス１７が封入されている軸受３を用いるので、使用時におけるアウトガスの発生を低減することができる。
【００５８】
〔第２実施形態〕
次に、本発明の第２実施形態に係るピボットの製造方法について説明する。
本実施形態に係るピボットの製造方法は、複数の軸受組立体３´の集合体Ｐに加熱工程Ｓ２、冷却工程Ｓ３および放置工程Ｓ４を施すことに代えて、複数のピボット組立体１´の集合体に加熱工程Ｓ２、冷却工程Ｓ３および放置工程Ｓ４を施す点で第１実施形態と異なる。
以下、第１実施形態に係る軸受の製造方法、ピボットの製造方法およびピボット１と構成を共通する箇所には、同一符号を付して説明を省略する。
【００５９】
本実施形態に係るピボットの製造方法は、図７のフローチャートに示すように、軸受組立工程Ｓ１により組み立てられた複数の軸受組立体３´に対して、加熱工程Ｓ２、冷却工程Ｓ３および放置工程Ｓ４を施す前にピボット組立工程Ｓ５を施すようになっている。そして、ピボット組立工程Ｓ５により組み立てられた複数のピボット組立体１´の集合体に加熱工程Ｓ２、冷却工程Ｓ３および放置工程Ｓ４を施すようになっている。
【００６０】
本実施形態に係るピボットの製造方法によれば、加熱工程Ｓ２において、放射熱により、主にピボット組立体１´の集合体内の露出する外側のピボット組立体１´が所定の目標温度以上に加熱される。そして、冷却工程Ｓ３において、ピボット組立体１´の集合体内の加熱された外側のピボット組立体１´の温度が下がりつつ、その外側のピボット組立体１´からの放射熱により内側のピボット組立体１´の温度が上昇する。
【００６１】
これにより、短時間でピボット組立体１´の集合体全体の温度を平均的に目標温度付近まで上昇させて、複数のピボット組立体１´間でのアウトガスの除去量のばらつきを低減することができる。したがって、短時間でアウトガスの発生をばらつきなく低減した複数のピボット１を製造することができる。
【００６２】
上記各実施形態は以下のように変形することができる。
上記各実施形態においては、加熱工程Ｓ２と冷却工程Ｓ３をそれぞれ１回のみ実施することとしたが、第１変形例としては、加熱工程Ｓ２と冷却工程Ｓ３とを交互に複数回繰り返すこととしてもよい。この場合、例えば、集合体の外側の軸受組立体３´またはピボット組立体１´と内側の軸受組立体３´またはピボット組立体１´との温度差が目標温度の６０℃に対して±５℃の温度範囲内に入るまで、加熱工程Ｓ２と冷却工程Ｓ３とを交互に繰り返すこととすればよい。
【００６３】
このようにすることで、１回ずつの加熱工程Ｓ２と冷却工程Ｓ３では、集合体の温度が高い外側の軸受組立体３´またはピボット組立体１´と温度が低い内側の軸受組立体３´またはピボット組立体１´との温度差が所定の温度範囲内に入らない場合であっても、加熱工程Ｓ２と冷却工程Ｓ３とを交互に複数回繰り返す分だけ、より短時間でこれら軸受組立体３´またはピボット組立体１´の温度差を低減することができる。これにより、軸受組立体３´またはピボット組立体１´の集合体全体のアウトガスの除去量のばらつきをより低減することができる。
【００６４】
また、上記各実施形態では、冷却工程Ｓ３において空気を対流させることとしたが、第２変形例としては、例えば、窒素ガス、ヘリウムガスまたはアルゴンガス等を対流させることとしてもよい。
このようにすることで、グリスが酸化してしまうのを防ぎ、グリス１７の潤滑性能の低下を防止することができる。また、第２実施形態に係るピボットの製造方法では、冷却工程Ｓ３において、ピボット組立体１´の周囲に空気に代えて窒素ガスを対流させれば、内輪９とシャフト５とを固定する接着剤の硬化を促進することができるという利点がある。
【００６５】
第３変形例としては、図８に示すように、ピボット１が、一方の軸受組立体３´における円環状空間１３の軸方向の一端を閉塞する位置に配置されたシールド２５およびハブキャップ２７（いずれも閉塞部材）を備えることとしてもよい。
【００６６】
シールド２５は、例えば、金属製やプラスチック製の円環形状の板状部材であり、内径が内輪９の外径寸法よりも大きい寸法で形成されており、外径が外輪１１の内径寸法よりも大きい寸法で形成されている。このシールド２５は、外縁部が一方の軸受３における外輪１１の内壁面に固定されて、内外輪間を塞ぐように配置されている。
【００６７】
ハブキャップ２７は、例えば、金属製やプラスチック製の円環形状の板状部材であり、内径がシャフト５の外径とほぼ等しい寸法で形成されており、外径が外輪１１の外径寸法とほぼ等しい寸法で形成されている。このハブキャップ２７は、シャフト５のフランジ部５ａ側とは反対側の端部に嵌合状態に配置され、フランジ部５ａから遠い方の軸受３の円環状空間１３を塞ぐようになっている。
【００６８】
ピボット組立体１´は、シールド２５を備えない軸受組立体３´、スペーサ部材７、シールド２５を備える軸受組立体３´の順にシャフト５が挿入されるようになっている。つまり、シャフト５のフランジ部５ａから遠い方にシールド２５を備える軸受組立体３´が配されるようになっている。また、シールド２５を備える軸受組立体３´は、他方の軸受組立体３´から遠い方にシールド２５が配される向きでシャフト５を嵌合するようになっている。そして、シールド２５を備える軸受組立体３´のシールド２５側に、軸方向に隣接してハブキャップ２７が配置されるようになっている。
【００６９】
本変形例においては、軸受およびピボットの製造方法が、放置工程Ｓ４後に、軸受組立体３´の外輪１１に半径方向に沿って円環状のシールド２５を配置するシールド配置工程（閉塞部材配置工程）と、ピボット組立体１´の軸方向の端部にハブキャップ２７を配置するハブキャップ配置工程（閉塞部材配置工程）とを含むこととすればよい。
【００７０】
このようにすることで、放置工程Ｓ４において、軸受組立体３´の円環状空間１３を開放させている状態で、円環状空間１３内のグリス１７に含有されているアウトガス成分を揮発させることにより、アウトガス成分を効率的に放出させることができる。そして放置工程Ｓ４後に、シールド配置工程およびハブキャップ配置工程により、軸受組立体３´の円環状空間１３をシールド２５およびハブキャップ２７で閉塞することで、グリス１７が外部に漏出することを抑制した軸受３およびピボット１を製造することができる。
【００７１】
本変形例は、第１実施形態に係る軸受の製造方法およびピボットの製造方法に対しては、放置工程Ｓ４の後、ピボット組立工程Ｓ５によりピボット組立体１´を組み立てる前に、一方の軸受組立体３´にシールド配置工程を施し、ピボット組立工程Ｓ５によりピボット組立体１´を組み立てた後にピボット組立体１´にハブキャップ配置工程を施すことが好ましい。一方、第２実施形態に係るピボットの製造方法に対しては、放置工程Ｓ４の後に、ピボット組立体１´における一方の軸受組立体３´にシールド配置工程およびハブキャップ配置工程を施すこととすればよい。
【００７２】
〔第３実施形態〕
次に、本発明の第３実施形態に係る真空オーブン（製造装置）について説明する。
本実施形態に係る真空オーブンは、第１実施形態および第２実施形態の真空オーブン２１の構成に加えて、筐体２２内に収容された軸受組立体３´またはピボット組立体１´の温度を検出する温度センサ（温度検出部、図示略）と、真空発生器（真空発生部）、ヒータ（加熱部）２３、温度センサおよび吸入口（気体注入部）２１ａを制御するプログラムを有するＰＣ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｃｏｍｐｕｔｅｒ）のような制御装置（図示略）とを備えている。
以下、第１実施形態または第２実施形態に係る軸受の製造方法、ピボットの製造方法およびピボット１と構成を共通する箇所には、同一符号を付して説明を省略する。
【００７３】
制御装置は、プログラムの実行により、真空発生部を作動させて、複数の軸受組立体３´または複数のピボット組立体１´が互いに間隔を空けて収容された筐体２２を真空にするとともに、ヒータ２３を作動させて筐体２２内を熱放射により例えば１００℃に加熱するようになっている。これにより、放射熱によって、外側の軸受組立体３´から内側の軸受組立体３´にまたは外側のピボット立体１´から内側のピボット立体１´に順々に熱が伝えられて、主に外側の軸受組立体３´またはピボット組立体１´が所定の目標温度以上に加熱される。
【００７４】
また、制御装置は、温度センサによって検出される軸受組立体３´の集合体Ｐまたはピボット組立体１の集合体の平均温度が所定の目標温度（例えば、６０℃）に達すると、プログラムの実行により、吸入口２１ａを開放して筐体２２内に常温の空気を注入し、筐体２２内で空気を対流させるようになっている。これにより、加熱された外側の軸受組立体３´またはピボット組立体１´の温度が下がる一方、その外側の軸受組立体３´またはピボット組立体１´からの放射熱により内側の軸受組立体３´またはピボット組立体１´の温度が上昇し、複数の軸受組立体３´間または複数のピボット組立体１´間の温度差が小さくなる。
【００７５】
本変形例によれば、制御装置の制御により、複数の軸受組立体３´または複数のピボット組立体１´の温度を平均的に所定の目標温度付近まで短時間で上昇させて、複数の軸受組立体３´間またはピボット組立体１´間でのアウトガスの除去量のばらつきを低減することができる。したがって、アウトガスの発生をばらつきなく低減した複数のピボット用軸受３またはピボット２を自動的に短時間で製造することができる。
【００７６】
本変形例においては、筐体２２内に常温の空気を注入してから所定の時間が経過するか、あるいは、筐体２２内に常温の空気を注入してから温度センサにより検出される軸受組立体３´の集合体Ｐの温度が高い軸受組立体３´と温度が低い軸受組立体３´との温度差あるいはピボット組立体１´の集合体の温度が高いピボット組立体１´と温度が低いピボット組立体１´との温度差が目標温度の６０℃に対して±５℃の温度範囲に近づいたら、制御装置が、プログラムの実行により、吸入口２１ａを閉鎖して真空発生部により真空オーブン２１を再度真空状態にするとともにヒータ２３により筐体２２内を所定の目標温度（例えば、６０℃）に維持することとしてもよい。
【００７７】
この状態で、軸受組立体３´の集合体Ｐまたはピボット組立体１´の集合体を例えば所定時間（例えば３時間半）放置すれば、外側の軸受組立体３´から内側の軸受組立体３´への放射熱による伝熱または外側のピボット立体１´から内側のピボット立体１´への放射熱による伝熱が進行する。したがって、軸受組立体３´の集合体全体またはピボット組立体１´の集合体全体の温度のばらつきを低減して、これら複数の軸受組立体３´間または複数のピボット組立体１´間におけるアウトガス成分の除去量のばらつきをより低減することができる。
【００７８】
以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。例えば、本発明を上記の実施形態および変形例に適用したものに限定されることなく、これらの実施形態および変形例を適宜組み合わせた実施形態に適用してもよく、特に限定されるものではない。
【符号の説明】
【００７９】
１  ピボット
１´  ピボット組立体
３  軸受（ピボット用軸受）
３´  軸受組立体
５  シャフト
９  内輪
１１  外輪
１３  円環状空間
１５  転動体
１７  グリス
２１  真空オーブン（製造装置）
２１ａ  吸入口（気体注入部）
２２  筐体
２５  シールド（閉塞部材）
２７  ハブキャップ（閉塞部材）
Ｓ１  軸受組立工程
Ｓ２  加熱工程
Ｓ３  冷却工程
Ｓ４  放置工程
Ｓ５  ピボット組立工程
【図１】
2017160962.tif 000003
【図２】
2017160962.tif 000004
【図３】
2017160962.tif 000005
【図４】
2017160962.tif 000006
【図５】
2017160962.tif 000007
【図６】
2017160962.tif 000008
【図７】
2017160962.tif 000009
【図８】
2017160962.tif 000010