(57)【要約】【課題】本発明は、マイクロレンズの集光効果を向上可能な固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法は、複数の受光素子が形成された半導体基板１１上に、平坦化層１２、複数色のカラーフィルタ層１３、及びマイクロレンズ材料層１４がこの順に積層された積層体のマイクロレンズ材料層１４に対し、グレートーンマスク１６を用いて、露光光１５の焦点１８を露光光１５の出射方向と平行な方向に移動させて複数回の露光を行うことで、マイクロレンズ１９を形成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の受光素子が形成された半導体基板上に、平坦化層、複数色のカラーフィルタ層、及びマイクロレンズ材料層がこの順に積層された積層体の前記マイクロレンズ材料層に対し、予め定められたパターンを有するグレートーンマスクを用いて、露光光の焦点を該露光光の出射方向と平行な方向に移動させて複数回の露光を行うことで、マイクロレンズを形成することを特徴とする固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法。
【請求項２】
前記焦点の移動量ΔＺは、下記（１）式に従って設定することを特徴とする請求項１に記載の固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法。
ΔＺ＝ｍ・（λ／２ｎ・Ｎ）  ………（１）
ただし、λは露光波長、ｎはマイクロレンズ材料の屈折率、ｍは整数、Ｎは露光回数である。
【請求項３】
前記マイクロレンズ材料層のベース樹脂の質量平均分子量が１００００以上３００００以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
固体撮像素子は、光を吸収して電荷を発生するＣＭＯＳタイプもしくはＣＣＤタイプの光電変換素子が２次元的に配列され、光電変換素子で発生した電荷を外部へ電気信号として転送するものであり、テレビカメラ、デジタルスチルカメラ等に広く用いられている。
固体撮像素子上の光電変換素子が光電変換に寄与する領域（開口部）は、固体撮像素子のサイズや画素数に依存するが、固体撮像素子の全面積に対し２０〜４０％ 程度に限られてしまう。開口部が小さいことは、そのまま感度低下につながるので、これを補うため、光電変換素子上に集光用のマイクロレンズを形成することが一般的に行われている。
【０００３】
マイクロレンズの製造方法としては、熱リフロー法が知られている。すなわち、先ず、ポジ型感光性樹脂をパターン露光、現像を行う周知のフォトリソグラフィ法によって平面視略矩形状にパターン形成する。次いで、ホットプレート上で温度を上昇してパターンを溶融する。その際の樹脂表面の表面張力でレンズ形状を得る方法である。その後、樹脂は熱硬化する（例えば、特許文献１参照）。別の方法としては、上記熱リフロー法で得たパターンをレンズ母型とし、レンズ母型をレンズ母型の下部に位置するレンズ材料に対するエッチングマスクとして用い、ドライエッチング法によってレンズの下部に布設した透明樹脂層に、レンズ形状を削り移す転写法が開示されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００４】
このように、ドライエッチング法によってレンズ母型の形状を透明樹脂層に転写する方法は、３μｍ〜１０μｍの比較的大きめのマイクロレンズの形成に好適である。それゆえ、５μｍより大きなマイクロレンズであれば、レンズ表面荒れは少なく、実用上満足し得るレベルと言える。しかし、近年、固体撮像素子モジュールの小型化への要求が強く、２．５μｍ以下、あるいは１．５μｍ近傍の画素サイズのマイクロレンズが必要となっている。２μｍサイズ以下のマイクロレンズをドライエッチング法で転写により形成する場合には、レンズ表面が荒れる傾向にあり、集光効果の低下を招きやすいという問題がある。
【０００５】
また、熱リフロー法では、マイクロレンズアレイを得るために、複数のマイクロレンズを一度に同時形成するにあたり、隣接レンズ間のギャップを狭くした場合、感光性樹脂パターンの体積が膨張し、隣接するマイクロレンズ同士が接触する結果、マイクロレンズ同士の境界部分で形状崩れが発生する。この状態のまま硬化すると、冷却過程でレンズの体積収縮が生じる。そうなると、平面視略矩形状の画素の対角方向と画素の辺に平行な方向とでレンズ形状の曲率が異なるため、収差が生じ集光効率が低下するという問題がある。
また、マイクロレンズの形成時の露光には、ステッパー（縮小投影露光機）と呼ばれる単一波長の光を露光光源に用いた露光装置が用いられる。単一波長で露光を行った場合、定在波効果と呼ばれる現象が発生し、感光性樹脂に入射してくる露光光と基板表面からの反射光との干渉によって、現像後のマイクロレンズの形状は階段状となり、所望のなだらかな曲面のレンズ形状が得られないという問題がある。（例えば、特許文献３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１１−７２３５６号公報
【特許文献２】特開平１−１０６６６号公報
【特許文献３】特許第４２４９５８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、このような問題を解決するもので、マイクロレンズの集光効果を向上可能な固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明の一態様は、複数の受光素子が形成された半導体基板上に、平坦化層、複数色のカラーフィルタ層、及びマイクロレンズ材料層がこの順に積層された積層体のマイクロレンズ材料層に対し、グレートーンマスクを用いて、露光光の焦点を露光光の出射方向と平行な方向に移動させて複数回の露光を行うことで、マイクロレンズを形成する露光工程を行うことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の一態様によれば、グレートーンマスクを用いるため、滑らかな半球状のマイクロレンズを形成できる。また、露光光の焦点を露光光の出射方向と平行な方向に移動させて複数回の露光を行うことで、定在波効果を抑制できる。これにより、マイクロレンズの集光効果を向上可能な固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】実施形態に係る固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法を示す図である。
【図２】固体撮像素子用マイクロレンズの平面図である。
【図３】マイクロレンズの断面形状を表すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、図面を参照して、本発明に係る実施の形態を説明する。
図１（ａ）〜（ｆ）は、本発明の一実施形態に係る固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法を示す図である。先ず、図１（ａ）に示すように、複数の受光素子が形成された半導体基板１１上（受光素子は図示せず）に凸凹を低減して平滑性を改善するための平坦化層１２を形成し、その平坦化層１２上にカラーレジストを用い、複数回のフォトリソグラフィプロセスによりベイヤー配列に基づく所定の位置に各色のカラーフィルタを敷き詰めたカラーフィルタ層１３を積層する。カラーフィルタ層１３は、緑色、赤色、青色からなる原色系フィルタ、または黄色、シアン色、マゼンタ色からなる補色系フィルタとすることができる。カラーフィルタ層１３の各色のカーラフィルタの縦横の寸法は、例えば、１.０μｍ以上１０.０μｍ以下とし、好ましくは１．５μｍ以上２．５μｍ以下とする。
【００１２】
次に、図１（ｂ）に示すように、カラーフィルタ層１３上にマイクロレンズ材料層１４を積層する。マイクロレンズ材料層１４は、アクリル系樹脂をスピンコート法で塗布し、ホットプレート上で熱硬化して形成する。マイクロレンズ材料層１４の膜厚は、例えば、０．５μｍ以上５．０μｍ以下とし、好ましくは０．５μｍ以上２.０μｍ以下とする。
マイクロレンズ材料層１４の材料としては、熱フロー耐性を有する樹脂材料を採用できる。例えば、ガラス転移温度が高く、１００℃以上２２０℃以下の条件の熱処理によって硬化前に形状が崩れることがない熱可塑性の樹脂材料がある。具体的には、質量平均分子量（Ｍｗ：ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）のスチレン換算による測定値）が１００００以上３００００以下のベース樹脂を含有していることが好ましい。より好ましくは、ベース樹脂の質量平均分子量は、２００００以上３００００以下とする。ベース樹脂の質量平均分子量が１００００以上であることにより、耐熱性、熱フロー耐性を向上できる。また、ベース樹脂の質量平均分子量が３００００以下であることにより、現像時の残渣の発生を抑えることができる。このような樹脂を用いることで、マイクロレンズパターンの体積が膨張し、隣接するマイクロレンズ１９同士が接触することを回避でき、結果、隣接するマイクロレンズ１９同士の境界部分で形状崩れの発生を防止できる。
【００１３】
また、マイクロレンズ材料層１４の材料としては、アクリル樹脂、フッ素系アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、スチレン樹脂、フェノール樹脂あるいはこれらの共重合体等を採用できる。特に、耐熱性の高いアクリル樹脂が好ましい。アクリル樹脂、スチレン樹脂等が一般的であり、その屈折率は、おおよそ１．５〜１．７の範囲とする。これらの樹脂は、単独で用いても、或いは２種類を混合して用いてもよい。マイクロレンズ材料層１４に用いる材料が高い屈折率を有すれば、入射した光をより大きく屈折させて受光素子に入射させることができ、マイクロレンズ１９の集光効果をより強め、延いては感度の向上を図ることができる。マイクロレンズ１９の高屈折率化の為に金属酸化物を含有させてもよい。金属酸化物の例としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素が挙げられる。特に、酸化チタンが好ましい。
また、マイクロレンズ材料層１４の材料には、必要に応じて他の添加剤を本発明の特性を損なわない程度に含有させることができる。他の添加剤としては、基板との密着性向上の為の密着助剤、塗布性向上の為の界面活性剤、レベリング剤、分散剤、硬化剤がある。
【００１４】
次に、マイクロレンズ１９の凸形状を露光法で制御するために、グレートーンマスク１６という特殊な露光用マスクを使用する。グレートーンマスク１６は、石英基板上に、作製したいレンズ要素の薄膜の部分に対応する部分に光透過率を高くした遮光膜を形成したものである。すなわち、遮光膜に濃淡のグラデュエーション（階調）が付いたマスクである。グレートーンマスク１６の階調の濃淡は、露光光１５では解像しない小さな径のドットの単位面積当たりの個数（粗密）の部分的な差によって達成される。グレートーンマスク１６を用いた露光法でマイクロレンズ１９を形成することで、レンズ表面の荒れを抑制でき、レンズ表面の光散乱を低減し、滑らかなマイクロレンズ１９を得ることができる。
【００１５】
また、マイクロレンズ材料層１４を露光する際は、一般的なステッパーと呼ばれる露光装置を用いる。露光波長は、紫外光が用いられ、３６５ｎｍが好適である。一般に、半導体基板１１の反射率は高く、マイクロレンズ材料層１４への入射光と、入射光が半導体基板１１で反射した反射光との干渉により定在波が生じる。そのため、良好な形状のマイクロレンズ１９を得ることが難しい。そこで、本実施形態では、マイクロレンズ材料層１４に対し、グレートーンマスク１６を用いて、露光光１５の焦点１８を露光光１５の出射方向と平行な方向に移動させて複数回の露光を行うことで、マイクロレンズ１９を形成するようにした。これにより、定在波効果を抑制でき、好ましいレンズ形状が得られることを見出した。
【００１６】
先ず、図１（ｃ）に示すように、露光光１５を予め定められた所定のパターンを有するグレートーンマスク１６に照射し透過光束を集光光学系１７により縮小して、マイクロレンズ材料層１４を縮小した透過光束（以下、「第１の光」とも呼ぶ）で露光する。なお、露光光の照射方向に平行な方向（以下、「Ｚ軸方向」とも呼ぶ）に関して、マイクロレンズ材料層１４の表面位置からの距離をΔＺとする。ΔＺは、マイクロレンズ材料層１４の表面位置よりも照射方向側を「−」、照射方向と反対側を「＋」とする。マイクロレンズ材料層１４の表面の位置に集光光学系１７の焦点１８が一致している場合、デフォーカス量のΔＺは「０」となる。本実施形態では、第１の光による露光時のデフォーカス量はΔＺ=０とする。
【００１７】
次に、図１（ｄ）、（ｅ）に示すように、露光光１５を予め定められた所定のパターンを有するグレートーンマスク１６に照射し透過光束を集光光学系１７により縮小して、マイクロレンズ材料層１４を縮小した透過光束（以下、「第２の光」とも呼ぶ）で露光する。その際、第１の光の焦点位置に対して、焦点１８が外れるように所謂デフォーカス（焦点ずらし）状態となるようにデフォーカス量を設定する。デフォーカス量は、露光機のオートフォーカス機能を用いて所望のフォーカスオフセット量を設定する。本実施形態では、第２の光による露光時のデフォーカス量はΔＺ=＋Δとする。これにより、本実施形態では、露光光１５の焦点１８を露光光１５の出射方向と平行な方向に移動させて２回目以降の露光を行う。
このように、本実施形態では、第１の光に対して、第２の光をデフォーカスしてマイクロレンズ材料層１４に２回目の露光を行う。そのため、半導体基板１１からの反射光の位相をデフォーカス量に応じてずらし、その反射光で入射光を打ち消すことができる。これにより、デフォーカス量を最適にすれば、定在波効果を効果的に抑制することができる。
【００１８】
また、デフォーカス量、つまり、焦点１８の移動量ΔＺは、例えば、下記（２）式に従って設定してもよい。これにより、定在波効果を効果的に抑制できる。なお、デフォーカス量ΔＺは下記（２）式に完全一致していなくても、定在波効果を抑制効果を得られる。
ΔＺ＝ｍ・（λ／２ｎ・Ｎ）  ………（２）
ただし、λは露光波長、ｎはマイクロレンズ材料の屈折率、ｍは整数、Ｎは露光回数である。例えば、露光光１５の波長が３６５ｎｍ、マイクロレンズ材料層１４の屈折率ｎが約１．６、露光回数が２である場合、上記（２）式のΔＺは約２２８ｎｍ（＝λ／２ｎ）とする。このΔＺをデフォーカス量とし、露光光１５の焦点位置を出射方向と平行な方向に移動することで、このデフォーカス量分が第１の光に対して第２の光の位相がずれることになる。これにより、定在波効果の影響を抑制でき、良好なレンズ形状が得られる。
【００１９】
次に、露光後の積層体（半導体基板１１、平坦層１２、カラーフィルタ層１３、マイクロレンズ層１４がこの順に積層された積層体）に対して、現像および加熱処理し、図１（ｆ）に示すように、カラーフィルタ層１３上に半球状のマイクロレンズ１９が形成される。図１（ｆ）は、図２のａ−ａ線で破断した場合の断面図である。図２は、本実施形態の製造方法で製造された固体撮像素子用マイクロレンズの平面図である。これにより、レンズ表面粗さ（Ｒａ）が５０ｎｍ以下の滑らかなマイクロレンズ１９を得ることができる。
【００２０】
（本実施形態の効果）
本実施形態に係る発明は、以下の効果を奏する。
（１）本実施形態に係る固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法は、複数の受光素子が形成された半導体基板１１上に、平坦化層１２、複数色のカラーフィルタ層１３、及びマイクロレンズ材料層１４がこの順に積層された積層体のマイクロレンズ材料層１４に対し、予め定められたパターンを有するグレートーンマスク１６を用いて、露光光１５の焦点１８を露光光１５の出射方向と平行な方向に移動させて複数回の露光を行うことで、マイクロレンズ１９を形成する。
このような構成によれば、グレートーンマスク１６を用いるため、滑らかな半球状のマイクロレンズ１９を形成できる。また、露光光１５の焦点１８を露光光１５の出射方向と平行な方向に移動させて複数回の露光を行うことで、定在波効果を抑制できる。これにより、マイクロレンズ１９の集光効果を向上可能な固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法を提供できる。
【００２１】
（２）本実施形態に係る固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法では、デフォーカス量ΔＺ（焦点１８の移動量ΔＺ）は、下記（３）式に従って設定する。
ΔＺ＝ｍ・（λ／２ｎ・Ｎ）  ………（３）
このような構成によれば、定在波効果の影響を効果的に抑制することができる。
【００２２】
（３）本実施形態に係る固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法では、マイクロレンズ材料層１４のベース樹脂の質量平均分子量が１００００以上３００００以下である。
このような構成によれば、マイクロレンズ１９の熱フロー耐性を向上できる。それゆえ、マイクロレンズ１９の体積が膨張し、隣接するマイクロレンズ１９同士が接触することを回避できる。これにより、マイクロレンズ１９の境界部分で形状崩れを防止できる。
【実施例１】
【００２３】
以下、本発明に係る固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法の実施例を説明する。
（実施例１）
図１（ｆ）に示すように、実施例１の固体撮像素子用マイクロレンズは、半導体基板３１上に、平坦化層３２、カラーフィルタ層３３、及びマイクロレンズ３９がこの順に積層されたものである。図１（ｆ）は、図２のａ−ａ線で破断した場合の断面図である。
図１（ａ）に示すように、先ず、半導体基板３１上に、スピンコート法によって熱硬化型のアクリル樹脂溶液を塗布し、ホットプレート上で２００℃、５分の熱処理を施して、０．１μｍの厚さの平坦化層３２を形成した。次に、形成した平坦化層３２上に、スピンコート法によりアクリル系の感光性緑色着色レジストを塗布し、ホットプート上で８０℃、１分間のプリベーク処理を行った。次に、感光性緑色着色レジスト上に、ｉ線ステッパー（株式会社ニコン製ＮＳＲ−ＴＦＨｉ１２、露光波長３６５ｎｍ）を用いてパターン露光した後、有機アルカリ現像液（ＴＭＡＨ濃度０．０５％）で１分間の現像処理を行い、さらに十分に純水でリンスし水切り乾燥を行った。その後、２２０℃、６分間のポストベークを行い、Ｇ（緑）画素パターン（カラーフィルタパターン）を形成した。Ｒ（赤）画素パターン、Ｂ（青）画素パターンについてもＧ（緑）画素パターン（カラーフィルタパターン）と同様にフォトリソグラフィ法を用いてベイヤー配列に基づく所定の位置に形成し、画素サイズが２．０μｍのカラーフィルタ層３３を得た。Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）カラーフィルタパターンを測定したところ、膜厚は各々１．０μｍであった。
【００２４】
ここで、カラーフィルタ層３３では、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）カラーフィルタの形成に、それぞれ赤色用顔料：C.I. Pigment Red 254（ＢＡＳＦジャパン株式会社製「イルガーフォーレッド  Ｂ−ＣＦ」）およびC.I.Pigment Red 177（ＢＡＳＦジャパン株式会社製「クロモフタールレッド  Ａ２Ｂ」）、緑色用顔料：C.I. Pigment Green 36（トーヨーカラー株式会社製「リオノールグリーン  ６ＹＫ」）およびC.I. Pigment Yellow 150（バイエル社製「ファンチョンファーストイエロー  Ｙ−５６８８」）、青色用顔料：C.I.Pigment Blue 15（トーヨーカラー株式会社製「リオノールブルーＥＳ」）C.I.Pigment Violet 23（ＢＡＳＦジャパン株式会社製「パリオゲンバイオレット  ５８９０」）を、アクリル系樹脂、シクロヘキサノン溶剤とともに調製したアクリル系の感光性着色レジストを用いた。色材の添加量は、それぞれレジスト中の固形分比で約５０％とした。
【００２５】
次に、図１（ｂ）に示すように、カラーフィルタ層３３上に、質量平均分子量３００００のベース樹脂を含有するポジ型フォトレジスト（屈折率１．６）をスピンコート法によって塗布し、ポジ型フォトレジストに、ホットプレート上で９０℃、１分間のプリベーク処理を行った。これにより、厚さ０．８μｍのマイクロレンズ材料層３４を形成した。
次に、図１（ｃ）に示すように、ｉ線ステッパー（株式会社ニコン製ＮＳＲ−ＴＦＨｉ１２、露光波長３６５ｎｍ）を用いて、露光光３５を予め定められた所定のパターンを有するグレートーンマスク３６に照射し透過光束を集光光学系３７により１／４に縮小して、マイクロレンズ材料層３４で所定時間露光した。これが第１露光となる。なお、露光の際のデフォーカス量のΔＺは「０」とし、焦点３８のフォーカスオフセット量は「０」とした。
【００２６】
次に、図１（ｄ）に示すように、ｉ線ステッパー（株式会社ニコン製ＮＳＲ−ＴＦＨｉ１２、露光波長３６５ｎｍ）を用いて、露光光３５を予め定められた所定のパターンを有するグレートーンマスク３６に照射し透過光束を集光光学系３７により１／４に縮小して、マイクロレンズ材料層３４で所定時間露光した。これが第２露光となる。なお、露光の際のデフォーカス量のΔＺは「＋０．２２８」とし、焦点３８のフォーカスオフセット量は「＋０．２」とした。フォーカスオフセット量は、少数点第１位までを有効数字とした。ΔＺは上記（２）式に従って算出した。ここでλ＝３６５ｎｍ、ｎ＝１．６、ｍ＝１、Ｎ＝２とした。
【００２７】
次に、有機アルカリ現像液（ＴＭＡＨ濃度１．１９％）で１分間の現像処理を行った。次に、十分に純水でリンスし、水切り乾燥を行った。その後、２００℃、６分間のポストベークを行った。次に、露光装置を用いて３００ｍＪの条件でブリーチングを行い、図１（ｆ）に示すように、マイクロレンズ材料層３４をマイクロレンズ３９とし、カラーフィルタ層３３上にマイクロレンズ３９を形成した。なお、マイクロレンズ３９は、レンズ高さ０．８μｍのスムースな半球状レンズであり、定在波の影響は見られなかった。図３に、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）を使用して得たマイクロレンズ３９表層の形状を示した。
【００２８】
（実施例２）
実施例２では、マイクロレンズ材料層３４に用いたポジ型フォトレジストのベース樹脂の質量平均分子量を１００００に変更した。それ以外は、実施例１と同様の構成とした。
（実施例３）
実施例３では、マイクロレンズ材料層３４に用いたポジ型フォトレジストのベース樹脂の質量平均分子量を１８０００に変更した。それ以外は、実施例１と同様の構成とした。
（実施例４）
実施例４では、第２の光で露光を行う際のデフォーカス量をΔ＝＋０．５（ｍ＝３）に変更した。それ以外は、実施例１と同様の構成とした（図１（ｄ）参照）。
【００２９】
（実施例５）
実施例５では、第２の光で露光を行う際のデフォーカス量をΔ＝＋０．９（ｍ＝４）に変更した。それ以外は、実施例１と同様の構成とした（図１（ｄ）参照）。
（実施例６）
実施例６では、第２の光で露光を行う際のデフォーカス量をΔ＝−０．５（ｍ＝−３）に変更した。それ以外は、実施例１と同様の構成とした（図１（ｅ）参照）。
（実施例７）
実施例７では、第２の光で露光を行う際のデフォーカス量をΔ＝−０．９（ｍ＝−４）に変更した。それ以外は、実施例１と同様の構成とした（図１（ｅ）参照）。
（実施例８）
実施例８では、マイクロレンズ材料層３４に用いたポジ型フォトレジストのベース樹脂の屈折率を１．５に変更した。それ以外は、実施例１と同様の構成とした。
【００３０】
（比較例１）
比較例１では、マイクロレンズ材料層３４の露光を複数回に分けず第１の光のみで露光するように変更した。それ以外は、実施例１と同様の構成とした。
（比較例２）
比較例２では、マイクロレンズ材料層３４に用いたポジ型フォトレジストのベース樹脂の質量平均分子量を８００に変更した。それ以外は、実施例１と同様の構成とした。
（比較例３）
比較例３では、マイクロレンズ材料層３４に用いたポジ型フォトレジストのベース樹脂の質量平均分子量を４００００に変更した。それ以外は、実施例１と同様の構成とした。
【００３１】
次に、実施例１〜８、比較例１〜３の製造方法で形成したマイクロレンズ３９の形状、レンズ高さ、表面粗さを評価した。
〔マイクロレンズ３９の形状〕
マイクロレンズ３９の形状を測長ＳＥＭ（ケーエルエー・テンコール株式会社製ｅＣＤ２−ＸＰ）で観察した。そして、マイクロレンズ３９の形状が半球状となった場合を合格「○」、半球状とならなかった場合を不合格「×」として評価した。
〔マイクロレンズ３９のレンズ高さ、表面粗さ〕
マイクロレンズ３９のレンズ高さ、表面粗さをＡＦＭ（原子間力顕微鏡）株式会社東陽テクニカ製（ｉ−ｎａｎｏ）で測定した。
評価結果を表１に示す。
【００３２】
【表１】
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【００３３】
表１から明らかなように、実施例１〜８の製造方法では、定在波の影響がなく、且つ表面が滑らかな半球状のマイクロレンズ３９が得られた。
また、比較例１〜３の製造方法では、所望のレンズ形状を形成できなかった。
【符号の説明】
【００３４】
１１、３１・・・  半導体基板
１２、３２・・・  平坦化層
１３、３３・・・  カラーフィルタ層
１４、３４・・・  マイクロレンズ材料層
１５、３５・・・  露光光
１６、３６・・・  グレートーンマスク
１７、３７・・・集光光学系
１８、３８・・・焦点
１９、３９・・・マイクロレンズ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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