(57)【要約】      （修正有）【課題】バンクにより画成される区画内に有機層を形成する場合において、有機層の厚さの均一性が図れる、バンク付き基板を提供する。【解決手段】基板１２と、基板上に設けられており、基板上において予め設定される区画を画成する、単層構造のバンク１４と、を備え、バンクにおける基板側の底面１４ｃと反対側に位置する上面１４ｄにおけるアニソールの接触角が３５°以上であり、基板の板厚方向に直交する方向において、バンクにおける区画に臨む側面１４ｂと底面１４ｃとで規定されるバンク端部１４ａから、有機層ピニング位置までの距離をＤ１とし、バンクの厚さをＴ１としたとき、Ｄ１／Ｔ１が、０＜Ｄ１／Ｔ１≦２．０、を満たし、有機層ピニング位置は、上記区画内に有機層を一層形成した場合に有機層とバンクとの界面における上面寄りの端部の位置である、バンク付き基板１０。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に設けられており、前記基板上において予め設定される区画を画成する、単層構造のバンクと、
を備え、
前記バンクにおける前記基板側の底面と反対側に位置する上面におけるアニソールの接触角が３５°以上であり、
前記基板の厚さ方向に直交する方向において、前記バンクにおける前記区画に臨む側面と前記底面とで規定されるバンク端部から、有機層ピニング位置までの距離をＤ１とし、前記バンクの厚さをＴ１としたとき、
Ｄ１／Ｔ１が、０＜Ｄ１／Ｔ１≦２．０、を満たし、
前記有機層ピニング位置は、前記区画内に有機層を一層形成した場合に前記有機層と前記バンクとの界面における前記上面寄りの端部の位置である、
バンク付き基板。
【請求項２】
前記バンクの前記底面と前記側面とで規定される角度が９０°未満である、
請求項１に記載のバンク付き基板。
【請求項３】
前記バンクは、撥液剤を含む感光性樹脂組成物の硬化物である、
請求項１又は２に記載のバンク付き基板。
【請求項４】
前記撥液剤は、フッ素樹脂を含有する、
請求項３に記載のバンク付き基板。
【請求項５】
前記感光性樹脂組成物に含まれる固形分に対する前記撥液剤の組成割合が０．２質量％未満である、
請求項３又は４に記載のバンク付き基板。
【請求項６】
前記有機層ピニング位置は、前記有機層として正孔注入層を塗布法により形成した場合における前記界面における前記上面寄りの端部の位置である、
請求項１〜５の何れか一項に記載のバンク付き基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、バンク付き基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（Electro Luminescence）素子を光源とする発光装置がある。このような発光装置として、たとえば画素の光源に有機ＥＬ素子を用いた有機ＥＬディスプレイ（表示装置）がある。有機ＥＬディスプレイは、複数の有機ＥＬ素子を備えており、各有機ＥＬ素子は画素の光源として機能する。有機ＥＬディスプレイは、画素を規定する区画を画成するバンクが基板上に設けられたバンク付き基板を備える。このようなバンク付き基板としては、例えば、特許文献１記載の基板がある。
【０００３】
上記バンク付き基板を備えた有機ＥＬディスプレイでは、有機ＥＬ素子は、各区画において、第１の電極、有機層としての発光層、第２の電極をこの順で積層することにより形成される。第１の電極と発光層との間、又は、発光層と第２の電極との間には、更に他の有機層又は無機層が形成されてもよい。有機ＥＬ素子の第１の電極は、バンク付き基板の一部であってもよい。
【０００４】
上記の有機層は塗布法によって形成することができる。すなわち有機層は、有機層となる材料を含む塗布液を、所定の塗布法によって、所定の区画（バンクによって囲まれる領域）に供給し、これを乾燥、固化することによって形成される。塗布液を乾燥させた後に形成される有機層と、区画に臨むバンク側面との界面におけるバンク上面側の端部（最上端部）は、ピニング位置として知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−１７０２４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
バンク付き基板において、バンクにより画成される区画内に有機ＥＬ素子を形成する場合、有機ＥＬ素子の有機層の厚さの均一性が求められている。そこで、本発明は、バンクにより画成される区画内に有機層を形成する場合において、有機層の厚さの均一性が図れる、バンク付き基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本願発明者らは、バンクにより画成される区画内に有機層を形成する場合において、有機層の厚さの均一性を図るために鋭意研究を行った。その結果、バンクの厚さと、有機層ピニング位置とが所定の関係を満たすことで、有機層の厚さの均一性が図れることを見出して、本発明に至った。
【０００８】
すなわち、本発明の一側面に係るバンク付き基板は、基板と、基板上に設けられており、基板上において予め設定される区画を画成する、単層構造のバンクと、を備える。上記バンクにおいて上記基板側の底面と反対側に位置する上面におけるアニソールの接触角が３５°以上である。上記基板の厚さ方向に直交する方向において、バンクにおける上記区画に臨む側面と上記底面とで規定されるバンク端部から、有機層ピニング位置までの距離をＤ１とし、バンクの厚さをＴ１としたとき、Ｄ１／Ｔ１は、０＜Ｄ１／Ｔ１≦２．０、を満たす。上記有機層ピニング位置は、上記区画内に有機層を一層形成した場合に有機層とバンクとの界面における上記上面寄りの端部の位置である。
【０００９】
上記構成では、バンクの上面におけるアニソールの接触角が３５°以上であることにより、区画内に有機層を形成する際に、所望の厚さを確保可能である。また、Ｄ１／Ｔ１は、０＜Ｄ１／Ｔ１≦２．０、を満たすことで、バンクの高さを確保しながら、有機層の厚さの均一性が図れる。
【００１０】
上記バンクの上記底面と上記側面とで規定される角度が９０°未満であってもよい。この場合、側面が基板側に向けて先細りしたバンクが得られる。
【００１１】
上記バンクは、撥液剤を含む感光性樹脂組成物の硬化物であり得る。撥液剤を含むことで、バンクが撥液性を備える。また、感光性樹脂組成物を含むことで、バンクを例えば露光及び現像処理などにより形成できる。
【００１２】
上記撥液剤は、フッ素樹脂を含有してもよい。
【００１３】
上記感光性樹脂組成物に含まれる固形分に対する上記撥液剤の組成割合が０．２質量％未満であってもよい。これにより、バンクの上面におけるアニソールの接触角を３５°以上とし得ると共に、上記Ｄ１／Ｔ１が、０＜Ｄ１／Ｔ１≦２．０、をより確実に満たし易い。
【００１４】
有機層ピニング位置は、有機層として正孔注入層を塗布法により形成した場合の上記界面における上記上面寄りの端部の位置であり得る。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、バンクにより画成される区画内に有機層を形成する場合において、有機層の厚さの均一性が図れる、バンク付き基板を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１は、一実施形態に係るバンク付き基板の平面図である。
【図２】図２は、図１のＩＩ―ＩＩ線に沿った断面の一部拡大図である。
【図３】図３は、図１に示したバンク付き基板を使用した有機ＥＬディスプレイの構成を説明するための模式図である。
【図４】図４は、図１に示したバンク付き基板を使用した有機ＥＬディスプレイの画素配置例を示す模式図である。
【図５】図５は、図１に示したバンク付き基板のバンクが満たす条件を説明するための図面である。
【図６】図６は、図１に示したバンク付き基板の製造方法において、バンクとなる薄膜が形成された状態を示す図面である。
【図７】図７は、図１に示したバンク付き基板の製造方法における露光工程を説明するための図面である。
【図８】図８は、図１に示したバンク付き基板の製造工程において現像工程後の状態を説明するための図面である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。同一の要素には同一符号を付する。重複する説明は省略する。図面の寸法比率は、説明のものと必ずしも一致していない。
【００１８】
図１及び図２に示したバンク付き基板１０は、有機ＥＬディスプレイ（表示装置）といった有機ＥＬデバイスに適用される基板である。図１及び図２に示したように、バンク付き基板１０は、基板１２と、バンク１４とを備えている。バンク付き基板１０には、基板１２とバンク１４とにより規定された複数の凹部１６が形成されている。
【００１９】
基板１２は、基板本体１８と、複数の電極２０とを有する。基板本体１８は、可視光（波長４００ｎｍ〜８００ｎｍの光）に対して透光性を有する板状の透明部材である。基板本体１８は電極２０及びバンク１４を支持する支持体である。基板本体１８の厚さの例は、３０μｍ以上１１００μｍ以下である。基板本体１８は、例えばガラス基板及びシリコン基板などのリジッド基板であっても、プラスチック基板及び高分子フィルムなどの可撓性基板であってもよい。可撓性基板を用いることで、バンク付き基板１０を使用した有機ＥＬデバイスが可撓性を有し得る。
【００２０】
バンク付き基板１０が有機ＥＬデバイスに適用される場合には、基板本体１８には有機ＥＬデバイスが備える複数の有機ＥＬ素子を個別に駆動するための回路が予め形成されていてもよい。例えば、基板本体１８には、たとえばＴＦＴ（Thin Film Transistor）やキャパシタなどがあらかじめ形成されていてもよい。
【００２１】
複数の電極２０は、図１及び図２に示したように、基板本体１８上に離散的に設けられている。具体的には、電極２０は、基板本体１８の表面１８ａ上において、凹部１６に対応する領域に設けられている。電極２０の平面視形状（バンク付き基板１０の板厚方向から見た形状）は、例えば、図１に示したように矩形であるが、正方形でもよい。また、電極２０の平面視形状は円形又は楕円形でもよい。
【００２２】
各電極２０は、有機ＥＬ素子３０が有する一対の電極（陽極及び陰極）のうちの一方の電極として機能する。以下では、特に断らない限り、電極２０は、陽極に相当する。陽極である電極２０は、金属酸化物、金属硫化物及び金属などからなる薄膜を用いることができ、具体的には酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウム錫酸化物（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎ Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＺＯ）、金、白金、銀、及び銅などからなる薄膜が用いられる。バンク付き基板１０を備えた有機ＥＬデバイスがバンク付き基板１０側から光を出射するデバイスである場合、電極２０には光透過性を示す電極が用いられる。
【００２３】
電極２０は、基板本体１８の表面１８ａ上に設けられており、基板１２の一部を構成している。よって、電極２０において基板本体１８と反対側の面である表面２０ａは、基板１２の表面１２ａの一部を構成する。通常、表面２０ａは平坦な面である。基板本体１８の表面１８ａのうち電極２０が設けられていない領域も基板１２の表面１２ａの一部を構成する。一実施形態において、電極２０と基板本体１８との間には、絶縁層等で構成される層が設けられてもよい。この場合、絶縁膜等で構成される層のうち電極２０と接する表面が基板本体１８の表面１２ａに相当する。なお、絶縁層等の層も基板本体１８の一部とみなすこともできる。
【００２４】
バンク１４は、基板１２上に設けられている。バンク１４は、基板１２上において予め設定される区画を画成する隔壁である。バンク１４により画成される区画が凹部１６である。バンク１４は、基板１２上において、例えば、格子状又はストライプ状に形成される。一実施形態において、バンク１４と基板１２の間には、平坦化膜等で構成される層が設けられてもよい。
【００２５】
前述したように、基板本体１８上に設けられた電極２０は、基板本体１８の表面１８ａにおいて凹部１６に対応する領域に設けられる。この凹部１６は、バンク１４により画成されている。よって、バンク１４は、基板本体１８上に電極２０が設けられる領域を除く領域に設けられる。ただし、バンク１４の端部（バンク端部）１４ａが、電極２０に重なるように、電極２０の周縁部上にも形成される。
【００２６】
バンク１４は、その端部１４ａが、電極２０の全ての周縁部を覆うように形成する必要はない。たとえばいわゆるストライプ状のバンク１４を形成する場合には、電極２０の４辺のうちの対向する２辺を隔壁の端部が覆うように隔壁を形成してもよい。本実施形態ではバンク１４の端部１４ａは、電極２０の全ての周縁部を覆うように形成される。
【００２７】
上記端部１４ａは、バンク１４において凹部１６に臨む側面１４ｂと、バンク１４の底面１４ｃとで規定される端部であり、底面１４ｃは、バンク１４と基板１２の表面１２ａとの接触面である。
【００２８】
以下、説明の便宜のために、図１及び図２に示したように、基板１２の板厚方向をＺ方向と称し、Ｚ方向に直交する２つの方向をＸ方向及びＹ方向と称す。Ｘ方向及びＹ方向は互いに直交する。
【００２９】
また、特に断らない限り、本実施形態において、バンク１４は、図１に示したように、格子状に形成されている。この場合、基板１２の板厚方向（Ｚ方向）から見て、複数の凹部１６は、マトリクス状に配置されている。すなわち、凹部１６は、Ｘ方向（第１の軸方向）に所定の間隔をあけて配置されるとともに、Ｙ方向（第２の軸方向）に所定の間隔をあけて配置されている。図１に示したような、凹部１６の２次元配列状態に基づいて、Ｘ方向を行方向、Ｙ方向を列方向と称する場合もある。各凹部１６の平面視における形状は限定されない。例えば、凹部１６は、平面視で略矩形状や略楕円状に形成される。本実施形態では平面視で略矩形状の凹部１６が設けられている。
【００３０】
凹部１６は、バンク付き基板１０が有機ＥＬディスプレイに適用された際に、画素として機能する部分である。この点について説明する。図３は、バンク付き基板１０を利用した有機ＥＬディスプレイの断面構成の一例を示す図面である。
【００３１】
図３に示したように、有機ＥＬディスプレイ２２は、バンク１４により画成される区画としての凹部１６に配置された陽極に相当する電極２０、電極２０上に積層された正孔注入層２４、正孔注入層２４上に積層された発光層２６、及び、発光層２６上に積層された陰極に相当する電極２８とを含む有機ＥＬ素子３０を有する。本明細書では、層「上」に設けられるとは、下層に接して設けられる形態と、下層とは離間して設けられる形態をとりうる。
【００３２】
バンク付き基板１０には、複数の凹部１６がマトリクス状に形成されているため、有機ＥＬディスプレイ２２は、図４に示したように、凹部１６の数に対応した有機ＥＬ素子３０を有し、複数の有機ＥＬ素子３０は、複数の凹部１６と同様にマトリクス状に配置される。すなわち、有機ＥＬ素子３０は、基板本体１８上において、Ｘ方向に所定の間隔をあけて配置されるとともに、Ｙ方向に所定の間隔をあけて整列して設けられている。
【００３３】
有機ＥＬ素子３０は、有機ＥＬディスプレイ２２において、画素の光源として機能する。そして、有機ＥＬ素子３０は、凹部１６に対応して設けられている。よって、凹部１６は、画素として機能する部分である。
【００３４】
一実施形態において、有機ＥＬディスプレイ２２は、３種類の有機ＥＬ素子３０が設けられる。すなわち（１）赤色の光を出射する赤色有機ＥＬ素子３０Ｒ、（２）緑色の光を出射する緑色有機ＥＬ素子３０Ｇ、（３）青色の光を出射する青色有機ＥＬ素子３０Ｂが設けられる。これら３種類の有機ＥＬ素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂは、例えば、以下の（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）の行を、Ｙ方向にこの順で繰り返し配置することによって、それぞれ整列して配置される（図４参照）。
（ｉ）赤色有機ＥＬ素子３０ＲがＸ方向に所定の間隔をあけて配置される列。
（ｉｉ）緑色有機ＥＬ素子３０ＧがＸ方向に所定の間隔をあけて配置される列。
（ｉｉｉ）青色有機ＥＬ素子３０ＢがＸ方向に所定の間隔をあけて配置される列。
【００３５】
他の実施形態として、上記３種類の有機ＥＬ素子３０に加えて、たとえば白色の光を出射する有機ＥＬ素子３０がさらに設けられてもよい。また、１種類のみの有機ＥＬ素子３０を設けることによって、モノクロ表示装置を実現してもよい。
【００３６】
図３に戻って、有機ＥＬ素子３０の構成について説明する。電極２０については前述した通りであるため説明を省略する。
【００３７】
正孔注入層２４は、陽極としての電極２０から発光層２６への正孔注入効率を改善する機能を有する有機層である。この正孔注入層２４は、必要に応じて、有機ＥＬ素子３０の種類ごとにその材料または厚さを異ならせて設けられる。正孔注入層２４の形成工程の簡易さの観点から、同じ材料、同じ厚さで全ての正孔注入層２４を形成してもよい。さらには、マイクロキャビティ構造の有機ＥＬ素子３０を形成する場合、光共振が生じるように、発光波長に応じて正孔注入層２４の厚さを有機ＥＬ素子３０の種類ごとに調整してもよい。
【００３８】
正孔注入層２４の材料には、公知の正孔注入材料が用いられ得る。正孔注入層２４は、塗布法により形成され得る。すなわち、正孔注入層２４となる材料を含むインクをバンク１４に囲まれた領域（凹部１６）に供給する。インクを供給する方法は特に限定されないが、たとえばインクジェットプリント法、ノズルコート法、凸版印刷法、および凹版印刷法などによって供給される。その後、供給されたインクを固化することによって正孔注入層２４が形成される。
【００３９】
発光層２６は、凹部１６において正孔注入層２４上に設けられる。発光層２６は、所定の波長の光を発光する機能を有する有機層である。発光層２６は、通常、主として蛍光及び／又はりん光を発光する有機物、或いは、該有機物とこれを補助するドーパントとから形成される。ドーパントは、例えば発光効率の向上や、発光波長を変化させるために加えられる。発光層２６に含まれる有機物は、低分子化合物でも高分子化合物でもよい。発光層２６を構成する発光材料としては、例えば公知の色素系材料、金属錯体系材料、高分子系材料、ドーパント材料を挙げることができる。
【００４０】
発光層２６は有機ＥＬ素子３０の種類（例えば、赤色有機ＥＬ素子３０Ｒ、緑色有機ＥＬ素子３０Ｇ及び青色有機ＥＬ素子３０Ｂ）に応じて設けられる。赤色有機ＥＬ素子３０Ｒが設けられる凹部１６の正孔注入層２４上には、赤色を発光する発光層２６が設けられ、緑色有機ＥＬ素子３０Ｇが設けられる凹部１６の正孔注入層２４上には、緑色を発光する発光層２６が設けられ、青色有機ＥＬ素子３０Ｂが設けられる凹部１６の正孔注入層２４上には、青色を発光する発光層２６が設けられる。
【００４１】
発光層２６は、正孔注入層２４と同様に塗布法により形成され得る。この場合、発光層２６となる材料を含むインクを使用する点以外は、正孔注入層２４と同様にして発光層２６が形成され得る。
【００４２】
電極２８は、発光層２６上に設けられる。前述したように、本実施形態では、電極２０が陽極として機能しているため、電極２８は陰極として機能する。陰極である電極２８の材料としては、仕事関数が小さく、発光層２６への電子注入が容易で、電気伝導度の高い材料が好ましい。また、有機ＥＬディスプレイ２２が陽極側から光を取出すディスプレイでは、発光層２６から放射される光を陰極で陽極側に反射するために、陰極の材料としては可視光反射率の高い材料が好ましい。陰極には、例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属および周期表の１３族金属などを用いることができる。また、陰極に相当する電極２８としては導電性金属酸化物および導電性有機物などからなる透明導電性電極を用いることができる。
【００４３】
電極２８は、蒸着又は塗布法等により形成され得る。塗布法により電極２８を形成する場合は、電極２８となる材料を含むインクを使用する点以外は、正孔注入層２４と同様にして電極２８が形成され得る。
【００４４】
電極２８は発光層２６上に設けられるが、たとえば発光層２６と、この上に設けられる電極２８との間には、所定の無機層が設けられていてもよい。
【００４５】
本実施形態では電極２８は有機ＥＬ素子３０が設けられる表示領域において全面に形成される。すなわち、電極２８は、発光層２６上だけでなく、バンク１４上にも形成され、複数の有機ＥＬ素子３０にわたって連続して形成され、全ての有機ＥＬ素子３０に共通の電極２８として設けられる。
【００４６】
図３では図示を省略しているが、有機ＥＬディスプレイの電極２０上には、通常、有機ＥＬ素子３０を封止するための封止基板が設けられる。
【００４７】
次に、図５を更に利用して、バンク付き基板１０が有するバンク１４について更に詳細に説明する。図５では、バンク１４が満たす条件を説明するために、電極２０上に正孔注入層２４を形成した場合において、一つの凹部１６近傍の構成を模式的に示している。
【００４８】
バンク１４は単層構造を有する。すなわち、バンク１４は、複数の層が積層された積層構造を有するバンク１４とは異なる。
【００４９】
バンク１４の形状およびその配置は、画素数および解像度などの有機ＥＬディスプレイ２２の仕様や製造の容易さなどに応じて適宜設定される。たとえば表示領域におけるバンク１４のＸ方向（行方向）又はＹ方向（列方向）の幅は、５μｍ〜５０μｍ程度である。バンク１４の所定方向（Ｘ方向又はＹ方向）の幅とは、所定方向に直交するバンク１４の断面において、バンク１４の底面１４ｃの長さであり、具体的には、上記所定方向において隣接する凹部１６にそれぞれ臨むバンク１４の端部１４ａ間の距離である。バンク１４の高さは０．３μｍ〜５μｍ程度である。Ｘ方向又はＹ方向に隣り合うバンク１４間の間隔、すなわち凹部１６の行方向（Ｘ方向）または列方向（Ｙ方向）の幅は、１０μｍ〜３００μｍ程度である。凹部１６の所定方向（Ｘ方向又はＹ方向）の幅とは、所定方向（Ｘ方向又はＹ方向）における凹部１６の底面の長さである。凹部１６がこのような大きさの場合、電極２０の行方向または列方向の幅はそれぞれ１０μｍ〜３００μｍ程度である。前述したように、バンク１４の端部１４ａが電極２０の周縁部上に形成されている場合は、電極２０の行方向または列方向の幅は凹部１６の行方向または列方向の幅より大きくなる。
【００５０】
バンク１４は、順テーパ形状を有する。順テーパ形状のバンク１４とは、バンク１４において、凹部１６の内面に相当するバンク１４の側面１４ｂと底面１４ｃとの成す角度θ１が９０°未満であるバンク１４を意味する。すなわち、凹部１６に臨むバンク１４の端部１４ａの近傍は、図２及び図５に示したように、基板１２に近接するほど先細状に形成されている。角度θ１は、基板１２に対する側面１４ｂの傾斜角である。図２では、表面２０ａと側面１４ｂとの間の角度として図示しているが、表面１８ａに対する側面１４ｂでもよい。
【００５１】
バンク１４は、次の＜条件１＞及び＜条件２＞を満たす。
＜条件１＞
バンク１４の上面１４ｄにおけるアニソールの接触角は３５°以上である。
＜条件２＞
基板１２の厚さ方向に直交する方向において、バンク１４の端部１４ａから、有機層ピニング位置Ｐまでの距離をＤ１とし、バンク１４の厚さをＴ１としたとき、Ｄ１／Ｔ１が、０＜Ｄ１／Ｔ１≦２．０、を満たす。なお、Ｔ１は、例えば、０．３μｍ以上である。
【００５２】
＜条件１＞におけるアニソールの接触角は、上面１４ｄにアニソールを滴下した際のアニソールの接触角であり、協和界面科学株式会社製、ＬＣＤ−７００Ｓ自動液晶ガラス洗浄・処理検査装置にて、ソフト名ＦＡＭＡＳ内のθ／２法により、液滴サイズを１．０μｍとして計測して得られる値である。
【００５３】
＜条件２＞における上記有機層ピニング位置Ｐとは、図５に示したように、凹部１６に有機層を一層形成した際にその有機層とバンク１４との界面における上面１４ｄ側の端部（最上端部）の位置である。凹部１６に形成する有機層は限定されないが、塗布法により形成される有機層であり得る。塗布法で形成する有機層の例として、図５では、正孔注入層２４を図示している。上記Ｄ１／Ｔ１を満たせば、異なる凹部１６における有機層ピニング位置Ｐは、異なっていてもよい。
【００５４】
バンク１４は、撥液剤を含む感光性樹脂組成物の硬化物である。一実施形態において、撥液剤は、フッ素樹脂を含有し得る。一実施形態において、感光性樹脂組成物は、ラジカル重合開始剤を含む。
【００５５】
上記撥液剤の含有割合は、感光性樹脂組成物に含まれる固形分に対して０．２質量％未満である。例えば、上記＜条件１＞及び＜条件２＞は、感光性樹脂組成物における撥液剤の種類及び含有量を調整することにより実現できる。前述したように、上記撥液剤がフッ素樹脂を含有する場合、＜条件１＞及び＜条件２＞を満たし易い。また、上記撥液剤の組成割合が、感光性樹脂組成物に含まれる固形分に対して０．２質量％未満である場合に、＜条件１＞及び＜条件２＞を満たし易い。そして、上記撥液剤がフッ素樹脂を含有し、撥液剤の含有量が、感光性樹脂組成物に含まれる固形分に対して０．２質量％未満である場合に、＜条件１＞及び＜条件２＞をより一層満たし易い。
【００５６】
上記バンク付き基板１０は例えば次のようにして製造され得る。
【００５７】
まず、基板１２を用意する（基板を用意する工程）。この場合、あらかじめ電極２０が設けられた基板１２を用意してもよく、また、基板１２を用意する工程で、基板本体１８上に電極２０を形成してもよい。基板本体１８上に電極２０を、マトリクス状に形成する場合について説明する。
【００５８】
電極２０は、例えば、基板本体１８の表面１８ａに導電性薄膜を形成し、これをフォトリソグラフィー法によってマトリクス状にパターニングすることによりパターン形成することで、形成され得る。また、例えば、所定の部位に開口が形成されたマスクを基板本体１８上に配置し、このマスクを介して基板本体１８上の所定の部位に導電性材料を選択的に堆積することにより、マトリクス状に配置された電極２０を形成してもよい。
【００５９】
上記のように、基板１２を用意した後、基板１２上にバンク１４を形成する（バンクを形成する工程）。バンク１４の形成方法は限定されないが、ここでは、バンク１４が、撥液剤を含む感光性樹脂組成物の硬化物であり、撥液剤がフッ素樹脂を含む場合において、フォトリソグラフィー法を用いた形成方法について、図６〜図８を利用しながら説明する。
【００６０】
図６に示したように、まず撥液剤を含む感光性樹脂組成物を基板１２上に塗布し、撥液剤を含む感光性樹脂組成物からなる薄膜３２を形成する。感光性樹脂組成物の塗布方法としては、たとえばスピンコート法やスリットコート法などをあげることができる。
【００６１】
感光性樹脂組成物からなる薄膜３２を形成した後、溶媒除去を目的とした真空乾燥を実施してもよい。例えば、真空度５０Ｐａ〜１５０Ｐａまで真空引きすることにより溶媒を除去する。次に、プリベークを行う。例えば、７０℃〜１２０℃の温度で、５０秒〜１２０秒間、基板１２を加熱することによってプリベークを行い、真空乾燥で残存した溶媒の除去と、感光性樹脂組成物からなる薄膜３２を基板１２へ密着させる。
【００６２】
プリベーク処理が行われると、基板１２上に形成された薄膜３２中において、撥液剤は表層部に浮いてくる。
【００６３】
次に露光を行う。ネガ型の感光性樹脂組成物を用いた場合は、パターンを形成すべき部分に光を照射する。ポジ型の感光性樹脂組成物を用いた場合には、パターンを形成すべき部分を除く部分に光を照射する。本実施形態ではネガ型の感光性樹脂組成物を使用する形態について説明する。
【００６４】
図７に示したように、基板１２上に所定のパターンの光を遮光するフォトマスク３４を配置し、このフォトマスク３４を介して、薄膜３２に対して露光を行う。重合開始剤を含んだ感光性樹脂組成物では、露光を実施することで、プリベーク処理で表層部に浮いてきた撥液剤が固定化する。本実施形態では、薄膜３２のうちで主にバンク１４が形成されるべき部位に光を照射する。図７では、照射する光を、白抜きの矢印記号を用いて模式的に示している。
【００６５】
酸発生剤により重合を行う感光性樹脂組成物においては、露光後に熱処理を実施する。たとえば７０℃〜１２０℃の温度で、５０秒〜１２０秒間、基板１２を加熱することによって、重合が開始され、撥液剤が固定化する。
【００６６】
次に露光処理された基板１２に対して現像処理を行って未露光部分を除去することによって、図８に示したような、順テーパ形状の構造物３６を形成する。構造物３６は、順テーパ形状の一層のバンク１４となるべき構造物である。現像処理は、例えば、露光処理された基板１２を現像液に浸漬させて行い得る。この場合、現像に使用される現像液としては、たとえば塩化カリウム水溶液、水酸化テトラメチルアンモニウム（TMAH）水溶液などを挙げることができる。
【００６７】
構造物３６において、側面１４ｂとなるべき側面３６ａと構造物３６の底面３６ｂとのなす角度θ２（又は、基板１２の表面１２ａ(若しくは基板本体１８の表面１８ａ)に対する側面３６ａの傾斜角）は、後述するキュアベークを経て図２に示した角度θ１となるように調整しておく。この角度θ２は、露光量、現像時間、フォトマスク３４と基板１２との距離、及び、薄膜３２の厚さの少なくとも一つを調整することで調整され得る。
【００６８】
一般にネガ型の感光性樹脂組成物の場合、露光量が多いほど、構造物３６の側面３６ａの角度(傾斜角)θ２が小さくなる傾向にある。露光量は、角度θ２に応じて設定されるが、たとえば４０ｍＪ／ｍ２〜３００ｍＪ／ｍ２であり、５０ｍＪ／ｍ２〜２５０ｍＪ／ｍ２がさらに好ましい。一般にネガ型の感光性樹脂組成物の場合、現像時間を長くするほど角度θ２が大きくなる傾向にある。一般にネガ型の感光性樹脂組成物の場合、フォトマスク３４と基板１２との距離を短くするほど、角度θ２が９０°に近づく傾向にある。
【００６９】
上述したように、薄膜３２中において、撥液材料は表層部に固定化されているため、露光、現像後の一層のバンク１４となる構造物３６においても、撥液材料はその表層部に分布している。
【００７０】
現像後、キュアベークを行う。たとえば２００℃〜２３０℃の温度で、１５分〜６０分間、基板１２を加熱することによってキュアベークを行い、順テーパ形状のバンク１４を形成する。
【００７１】
ここで、感光性樹脂組成物の一例について具体的に説明する。バンク１４に使用される感光性樹脂組成物の一例は、下記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）及び（Ｅ）を含む。
（Ａ）不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種に由来する構成単位と、炭素数２〜４の環状エーテル構造を有する不飽和化合物に由来する構成単位とを含む共重合体（ただし、炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基を有する不飽和化合物に由来する構成単位は有さない。）（以下「樹脂Ａ」という場合がある）
（Ｂ）炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基を有する不飽和化合物に由来する構成単位を含む重合体（以下「樹脂Ｂ」という場合がある）
（Ｃ）重合性化合物
（Ｄ）重合開始剤
（Ｅ）溶剤
なお、上記の樹脂Ｂが、フッ素樹脂を含有する撥液剤に相当する。
【００７２】
さらに、感光性樹脂組成物は、樹脂Ａ及び樹脂Ｂとは異なる樹脂（以下「樹脂Ａ１」という場合がある）、重合開始助剤、多官能チオール化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。
【００７３】
本明細書においては、各成分として例示する化合物は、特に断りのない限り、単独で又は組み合わせて使用することができる。
【００７４】
樹脂Ａとしては、下記の樹脂Ａ−１、樹脂Ａ−２を挙げることができる。
樹脂Ａ−１：不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種（ａ）（以下「（ａ）」という場合がある）と炭素数２〜４の環状エーテル構造を有する不飽和化合物（ｂ）（以下「（ｂ）」という場合がある）とを重合してなる共重合体。
樹脂Ａ−２：（ａ）及び（ｂ）と共重合可能な単量体（ｃ）（ただし、炭素数２〜４の環状エーテル構造は有さない。）（以下「（ｃ）」という場合がある）と、（ａ）と、（ｂ）とを重合してなる共重合体。
ただし、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）は、炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基を有さない。
樹脂Ａとしては、樹脂Ａ−１が好ましい。
【００７５】
（ａ）としては、具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、ｏ−ビニル安息香酸、ｍ−ビニル安息香酸、ｐ−ビニル安息香酸等の不飽和モノカルボン酸；
マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、３‐ビニルフタル酸、４−ビニルフタル酸、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸、ジメチルテトラヒドロフタル酸、１、４−シクロヘキセンジカルボン酸等の不飽和ジカルボン酸；
メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸、５−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン等のカルボキシ基を含有するビシクロ不飽和化合物；
無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、３−ビニルフタル酸無水物、４−ビニルフタル酸無水物、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸無水物、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン無水物（ハイミック酸無水物）等の不飽和ジカルボン酸無水物；
こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕、フタル酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕等の２価以上の多価カルボン酸の不飽和モノ〔（メタ）アクリロイルオキシアルキル〕エステル；
α−（ヒドロキシメチル）アクリル酸のような、同一分子中にヒドロキシ基及びカルボキシ基を含有する不飽和アクリレート等が挙げられる。
【００７６】
これらのうち、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸等が共重合反応性の点やアルカリ溶解性の点から好ましく用いられる。
【００７７】
本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸及びメタクリル酸からなる群から選ばれる少なくとも１種を表す。「（メタ）アクリロイル」及び「（メタ）アクリレート」等の表記も同様の意味を有する。
【００７８】
（ｂ）は、炭素数２〜４の環状エーテル構造（例えば、オキシラン環、オキセタン環およびテトラヒドロフラン環からなる群から選ばれる少なくとも１種）を有する不飽和化合物であり、炭素数２〜４の環状エーテル構造とエチレン性不飽和二重結合とを有する単量体が好ましく、炭素数２〜４の環状エーテル構造と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体がより好ましい。
【００７９】
（ｂ）としては、例えば、オキシラニル基を有する不飽和化合物（ｂ１）（以下「（ｂ１）」という場合がある）、オキセタニル基を有する不飽和化合物（ｂ２）（以下「（ｂ２）」という場合がある）、テトラヒドロフリル基を有する不飽和化合物（ｂ３）（以下「（ｂ３）」という場合がある）などが挙げられる。
【００８０】
（ｂ１）としては、直鎖状又は分枝鎖状の不飽和脂肪族炭化水基がエポキシ化された構造を有する不飽和化合物（ｂ１−１）（以下「（ｂ１−１）」という場合がある）、不飽和脂環式炭化水素がエポキシ化された構造を有する不飽和化合物（ｂ１−２）（以下「（ｂ１−２）」という場合がある）が挙げられる。
【００８１】
（ｂ１）としては、オキシラニル基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体が好ましく、不飽和脂環式炭化水素がエポキシ化された構造と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体がより好ましい。これらの単量体であると、感光性樹脂組成物の保存安定性に優れる。
【００８２】
（ｂ１−１）としては、具体的には、グリシジル（メタ）アクリレート、β−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、β−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、２，３−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，４−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，５−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，６−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，４−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，５−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，６−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、３，４，５−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，４，６−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、特開平７−２４８６２５号公報に記載される化合物等が挙げられる。
【００８３】
（ｂ１−２）としては、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン（例えば、セロキサイド２０００；ダイセル化学工業（株）製）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート（例えば、サイクロマーＡ４００；ダイセル化学工業（株）製）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート（例えば、サイクロマーＭ１００；ダイセル化学工業（株）製）、式（Ｉ）で表される化合物、式（ＩＩ）で表される化合物等が挙げられる。
【化１】
2017054723.tif 000003
【００８４】
［式（Ｉ）及び式（ＩＩ）において、Ｒ１及びＲ２は、水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｘ１及びＸ２は、単結合、−Ｒ３−、＊−Ｒ３−Ｏ−、＊−Ｒ３−Ｓ−、＊−Ｒ３−ＮＨ−を表す。
Ｒ３は、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す。
＊は、Ｏとの結合手を表す。］
【００８５】
炭素数１〜４のアルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。
【００８６】
ヒドロキシ基で置換されているアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル基、２−ヒドロキシ−１−メチルエチル基、１−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基等が挙げられる。
【００８７】
Ｒ１及びＲ２としては、好ましくは水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基が挙げられ、より好ましくは水素原子、メチル基が挙げられる。
【００８８】
アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，２−ジイル基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基等が挙げられる。
【００８９】
Ｘ１及びＸ２としては、好ましくは単結合、メチレン基、エチレン基、＊−ＣＨ２−Ｏ−（＊はＯとの結合手を表す）基、＊−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−基が挙げられ、より好ましくは単結合、＊−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−基が挙げられる。
【００９０】
（ｂ２）としては、オキセタニル基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体が好ましい。（ｂ２）としては、例えば、３−メチル−３−（メタ）アクリロイルオキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロイルオキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロイルオキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロイルオキシエチルオキセタン等が挙げられる。
【００９１】
（ｂ３）としては、テトラヒドロフリル基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体が好ましい。（ｂ３）としては、具体的には、テトラヒドロフルフリルアクリレート（例えば、ビスコートＶ＃１５０、大阪有機化学工業（株）製）、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等が挙げられる。
【００９２】
（ｃ）としては、（メタ）アクリル酸エステル、Ｎ−置換マレイミド、不飽和ジカルボン酸ジエステル、脂環式不飽和化合物、スチレン、その他のビニル化合物等が挙げられる。なお（メタ）アクリル酸エステルはエチレン性不飽和基を有するものは除く。
【００９３】
樹脂Ａ−１において、各単量体に由来する構成単位の比率が、樹脂Ａ−１を構成する構成単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ａ）に由来する構成単位；５〜６０モル％（より好ましくは１０〜５０モル％）
（ｂ）に由来する構成単位；４０〜９５モル％（より好ましくは５０〜９０モル％）
【００９４】
樹脂Ａ−１の構成単位の比率が、上記の範囲にあると、感光性樹脂組成物の保存安定性、感光性樹脂組成物からパターンを形成する際の現像性、並びに、得られる塗膜及びパターンの耐溶剤性、耐熱性および機械強度が良好になる傾向がある。
【００９５】
樹脂Ａ−１としては、（ｂ）が（ｂ１）である樹脂（Ａ−１）が好ましく、（ｂ）が（ｂ１−２）である樹脂Ａ−１がより好ましい。
【００９６】
樹脂Ａ−１は、例えば、文献「高分子合成の実験法」（大津隆行著  発行所（株）化学同人  第１版第１刷  １９７２年３月１日発行）に記載された方法及び当該文献に記載された引用文献を参考にして製造することができる。
【００９７】
樹脂Ａ−２において、各単量体に由来する構成単位の比率が、樹脂Ａ−２を構成する全構成単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ａ）に由来する構成単位；２〜４０モル％（より好ましくは５〜３５モル％）
（ｃ）に由来する構成単位；１〜６５モル％（より好ましくは１〜６０モル％）
（ｂ）に由来する構成単位；２〜９５モル％（より好ましくは５〜８０モル％）
【００９８】
樹脂Ａ−２の構成単位の比率が、上記の範囲にあると、感光性樹脂組成物の保存安定性、感光性樹脂組成物からパターンを形成する際の現像性、並びに、得られる塗膜及びパターンの耐溶剤性、耐熱性及び機械強度が良好になる傾向がある。
【００９９】
樹脂Ａ−２としては、（ｂ）が（ｂ１）である樹脂Ａ−２が好ましく、（ｂ）が（ｂ１−２）である樹脂（Ａ−２）がより好ましい。樹脂Ａ−２は、樹脂Ａ−１と同様の方法により製造することができる。
【０１００】
樹脂Ａのポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは３，０００〜１００，０００、より好ましくは５，０００〜５０，０００である。樹脂Ａの重量平均分子量が、前記の範囲にあると、塗布性に優れる傾向があり、また現像時に露光部の膜減りが生じにくく、さらに非露光部が現像で除去しやすい。
【０１０１】
樹脂Ａの分子量分布［重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）］は、好ましくは１．１〜６．０であり、より好ましくは１．２〜４．０である。分子量分布が、前記の範囲にあると、現像性に優れる傾向がある。
【０１０２】
樹脂Ａの酸価は、２０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、好ましくは４０〜１３５ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは５０〜１３５ｍｇＫＯＨ／ｇである。ここで酸価は樹脂１ｇを中和するに必要な水酸化カリウムの量（ｍｇ）として測定される値であり、水酸化カリウム水溶液を用いて滴定することにより求めることができる。
【０１０３】
樹脂Ａの含有量は、樹脂Ａ、樹脂Ａ１及び重合性化合物の合計量に対して、好ましくは５〜９５質量％、より好ましくは２０〜８０質量％であり、特に好ましくは４０〜６０質量％である。樹脂Ａの含有量が、前記の範囲にあると、感光性樹脂組成物の現像性、得られるパターンの密着性、耐溶剤性及び機械特性が良好になる傾向がある。
【０１０４】
樹脂Ｂとしては、炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基を有する不飽和化合物（ｄ）（以下「（ｄ）」という場合がある）に由来する構成単位を含む重合体が挙げられる。
【０１０５】
（ｄ）としては、例えば、式（ｄ−０）で表される化合物が挙げられる。
【化２】
2017054723.tif 000004
［式（ｄ−０）中、Ｒｆは、炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基を表す。
Ｒｄは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ベンジル基又は炭素数１〜２１のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
【０１０６】
Ｘｄは、単結合、炭素数１〜１０の２価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜１０の２価の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１２の２価の芳香族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲｅ−、−Ｓ−又は−ＳＯ２−で置き換わっていてもよい。］
【０１０７】
Ｒｆは、炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基であり、ペルフルオロブチル基及びペルフルオロヘキシル基が好ましい。
【０１０８】
Ｒｄにおける炭素数１〜２１のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等の直鎖状アルキル基；
イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、１−メチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、１−エチルペンチル基、２−エチルペンチル基、３−エチルペンチル基、１−プロピルブチル基、１−メチルヘプチル基、２−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、４−メチルヘプチル基、５−メチルヘプチル基、６−メチルヘプチル基、１−エチルヘキシル基、２−エチルヘキシル基、３−エチルヘキシル基、４−エチルヘキシル基、２−プロピルペンチル基、１−ブチルブチル基、１−ブチル−２−メチルブチル基、１−ブチル−３−メチルブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、１，１−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、１，１−ジメチルペンチル基、１，２−ジメチルペンチル基、１，３−ジメチルペンチル基、１，４−ジメチルペンチル基、２，２−ジメチルペンチル基、２，３−ジメチルペンチル基、２，４−ジメチルペンチル基、３，３−ジメチルペンチル基、３，４−ジメチルペンチル基、１−エチル−１−メチルブチル基、２−エチル−３−メチルブチル基等の分枝鎖状アルキル基等が挙げられる。
Ｒｄとしては、水素原子、ハロゲン原子及びメチル基が好ましい。
【０１０９】
Ｘｄにおける炭素数１〜１０の２価の脂肪族炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、プロパン−１，２−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ブタン−１，２−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基等のアルカンジイル基が挙げられる。
【０１１０】
Ｘｄにおける炭素数３〜１０の２価の脂環式炭化水素基としては、シクロプロパンジイル基、シクロブタンジイル基、シクロペンタンジイル基、シクロヘキサンジイル基、シクロヘプタンジイル基、シクロデカンジイル基等が挙げられる。
Ｘｄにおける炭素数６〜１２の２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフタレンジイル基等が挙げられる。
【０１１１】
−ＣＨ２−が−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲｅ−、−Ｓ−又は−ＳＯ２−で置き換わったＸｄとしては、例えば、式（ｘｄ−１）〜式（ｘｄ−１０）で表される基等が挙げられる。
【化３】
2017054723.tif 000005
【０１１２】
Ｘｄとしては、炭素数１〜６のアルカンジイル基が好ましく、エチレン基がより好ましい。
【０１１３】
樹脂Ｂとしては、（ｄ）に由来する構成単位と（ａ）に由来する構成単位とを含む樹脂であることが好ましく、（ｄ）に由来する構成単位と（ａ）に由来する構成単位と（ｂ）に由来する構成単位とを含む樹脂であることがより好ましい。樹脂Ｂが（ａ）に由来する構成単位を含むことにより、現像性に優れるため、残渣や現像に由来するムラが抑制される傾向がある。樹脂Ｂが（ｂ）に由来する構成単位を含むことにより、耐溶剤性に優れる傾向がある。また、樹脂Ｂは（ｃ）に由来する構成単位を含んでいてもよく（ｃ）に由来するエチレン性不飽和結合を有さない。（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）としては、上記と同じものが挙げられる。
【０１１４】
樹脂Ｂが、（ａ）と（ｄ）との共重合体である場合、各単量体に由来する構成単位の比率が、樹脂Ｂを構成する構成単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ａ）に由来する構成単位；５〜４０質量％（より好ましくは１０〜３０質量％）
（ｄ）に由来する構成単位；６０〜９５質量％（より好ましくは７０〜９０質量％）
【０１１５】
樹脂（Ｂ）が、（ａ）、（ｂ）及び（ｄ）の共重合体である場合、各単量体に由来する構成単位の比率が、樹脂（Ｂ）を構成する構成単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ａ）に由来する構成単位；５〜４０質量％（より好ましくは１０〜３０質量％）
（ｂ）に由来する構成単位；５〜８０質量％（より好ましくは１０〜７０質量％）
（ｄ）に由来する構成単位；１０〜８０質量％（より好ましくは２０〜７０質量％）
【０１１６】
樹脂Ｂが、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）の共重合体である場合、各単量体に由来する構成単位の比率が、樹脂（Ｂ）を構成する構成単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ａ）に由来する構成単位；５〜４０質量％（より好ましくは１０〜３０質量％）
（ｂ）に由来する構成単位；５〜７０質量％（より好ましくは１０〜６０質量％）
（ｃ）に由来する構成単位；１０〜５０質量％（より好ましくは２０〜４０質量％）
（ｄ）に由来する構成単位；１０〜８０質量％（より好ましくは２０〜７０質量％）
【０１１７】
各構成単位の比率が、上記の範囲にあると、撥液性、現像性に優れる傾向がある。
【０１１８】
樹脂Ｂのポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは３，０００〜２０，０００、より好ましくは５，０００〜１５，０００である。樹脂（Ａ）の重量平均分子量が、前記の範囲にあると、塗布性に優れる傾向があり、また現像時に露光部の膜減りが生じにくく、さらに非露光部が現像で除去しやすい。
【０１１９】
樹脂Ｂの酸価は、２０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであり、好ましくは４０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇである。
【０１２０】
樹脂Ｂの含有量は、樹脂Ａ、樹脂Ａ１及び重合性化合物の合計量１００質量部に対して、好ましくは０．００１〜１０質量部、より好ましくは０．０１〜５質量部である。樹脂Ｂの含有量が前記の範囲にあると、パターン形成の際に現像性に優れ、かつ得られるパターンは撥液性に優れる傾向がある。
【０１２１】
感光性樹脂組成物は、樹脂Ａ１を含んでいてもよい。樹脂Ａ１としては、
樹脂Ａ１−１：（ａ）と（ｃ）とを重合してなる共重合体、
樹脂Ａ１−２：（ａ）と（ｃ）とを重合してなる共重合体に（ｂ）を反応させて得られる樹脂、
樹脂Ａ１−３：（ｂ）と（ｃ）とを重合してなる共重合体に（ａ）を反応させて得られる樹脂等が挙げられる。
樹脂Ａ１の含有量は、樹脂Ａ及び樹脂Ａ１の合計量に対して、好ましくは０〜８０質量％、より好ましくは０〜５０質量％である。樹脂Ａ１の含有量が、前記の範囲にあると、パターンを高感度で形成することができ、かつ現像性に優れる。
【０１２２】
感光性樹脂組成物は、重合性化合物を含む。
【０１２３】
重合性化合物は、重合開始剤から発生した活性ラジカルによって重合しうる化合物であって、例えば、エチレン性不飽和結合を有する化合物などであり、好ましくは（メタ）アクリル酸エステル化合物である。
【０１２４】
エチレン性不飽和結合を１つ有する重合性化合物としては、前記（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）として挙げた化合物と同じものが挙げられ、中でも、（メタ）アクリル酸エステルが好ましい。
【０１２５】
エチレン性不飽和結合を２つ有する重合性化合物としては、１，３―ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオール（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ビスフェノールＡのビス（アクリロイロキシエチル）エーテル、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０１２６】
エチレン性不飽和結合を３つ以上有する重合性化合物としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物等が挙げられる。中でも、３官能以上の光重合性化合物（Ｃ）が好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートがより好ましい。
【０１２７】
重合性化合物の含有量は、樹脂Ａ、樹脂Ａ１及び重合性化合物の合計量に対して、好ましくは５〜９５質量％、より好ましくは２０〜８０質量％である。重合性化合物の含有量が、前記の範囲にあると、感度や、得られるパターンの強度、平滑性、信頼性が良好になる傾向がある。
【０１２８】
感光性樹脂組成物は、重合開始剤を含む。重合開始剤としては、光又は熱の作用により重合を開始しうる化合物であれば限定されることなく、公知の重合開始剤を用いることができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましい。
【０１２９】
重合開始剤として、例えば、アルキルフェノン化合物、ビイミダゾール化合物、トリアジン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物及びオキシム化合物が挙げられる。また、特開２００８−１８１０８７号公報に記載された光及び／又は熱カチオン重合開始剤（例えば、オニウムカチオンとルイス酸由来のアニオンとから構成されているもの）を用いてもよい。中でも、ビイミダゾール化合物、アルキルフェノン化合物及びオキシムエステル化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、特にオキシムエステル化合物であることが好ましい。これらの化合物を含む重合開始剤であると、特に、高感度になる傾向があり好ましい。
【０１３０】
感光性樹脂組成物において、上述した重合開始剤とともに、重合開始助剤を用いることができる。重合開始助剤は、重合開始剤と組み合わせて用いられ、重合開始剤によって重合が開始された重合性化合物の重合を促進するために用いられる化合物、もしくは増感剤である。重合開始助剤としては、チオキサントン化合物、アミン化合物及びカルボン酸化合物等が挙げられる。
【０１３１】
重合開始剤と重合開始助剤との組み合わせとしては、例えば、アセトフェノン化合物とチオキサントン化合物、アセトフェノン化合物と芳香族アミン化合物が挙げられ、具体的には、２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）−２−メチルプロパン−１−オンと２，４−ジエチルチオキサントン、２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オンと２，４−ジエチルチオキサントン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オンと２，４−ジエチルチオキサントン、２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）−２−メチルプロパン−１−オンと２−イソプロピルチオキサントンと４−イソプロピルチオキサントン、２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）−２−メチルプロパン−１−オンと４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オンと４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オンと４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１３２】
重合開始剤の含有量は、樹脂Ａ、樹脂Ａ１及び重合性化合物の合計量１００質量部に対して、好ましくは０．５〜３０質量部、より好ましくは１〜２０質量部であり、さらに好ましくは１〜１０質量部である。重合開始剤の含有量が前記の範囲にあると、高感度でパターンを得ることができる。
【０１３３】
重合開始助剤の使用量は、樹脂Ａ、樹脂Ａ１及び重合性化合物の合計量１００質量部に対して、好ましくは０．１〜１０質量部、より好ましくは０．３〜７質量部である。重合開始助剤の量が前記の範囲にあると、高感度でパターンを得ることができ、得られるパターンは形状が良好である。
【０１３４】
感光性樹脂組成物は、溶剤を含む。
【０１３５】
溶剤としては、例えば、エステル溶剤（分子内に−ＣＯＯ−を含み、−Ｏ−を含まない溶剤）、エーテル溶剤（分子内に−Ｏ−を含み、−ＣＯＯ−を含まない溶剤）、エーテルエステル溶剤（分子内に−ＣＯＯ−と−Ｏ−とを含む溶剤）、ケトン溶剤（分子内に−ＣＯ−を含み、−ＣＯＯ−を含まない溶剤）、アルコール溶剤、芳香族炭化水素溶剤、アミド溶剤、ジメチルスルホキシド等の中から選択して用いることができる。
【０１３６】
感光性樹脂組成物における溶剤の含有量は、感光性樹脂組成物の総量に対して、好ましくは６０〜９５質量％であり、より好ましくは７０〜９０質量％である。言い換えると、感光性樹脂組成物の固形分の含有量は、好ましくは５〜４０質量％であり、より好ましくは１０〜３０質量％である。溶剤の含有量が前記の範囲にあると、感光性樹脂組成物を塗布した膜の平坦性が高い傾向がある。ここで、固形分とは、感光性樹脂組成物の成分のうち溶剤を除いた成分のことをいう。
【０１３７】
また、感光性樹脂組成物に含まれうる多官能チオール化合物とは、分子内に２個以上のスルファニル基（−ＳＨ）を有する化合物をいう。特に、脂肪族炭化水素基に由来する炭素原子と結合する２個以上のスルファニル基を有する化合物を用いると、感光性樹脂組成物の感度が高くなる傾向にある。
【０１３８】
多官能チオール化合物としては、具体的には、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４−ビス（メチルスルファニル）ベンゼン、ブタンジオールビス（３−スルファニルプロピオネート）、ブタンジオールビス（３−スルファニルアセテート）、エチレングリコールビス（３−スルファニルアセテート）、トリメチロールプロパントリス（３−スルファニルアセテート）、ブタンジオールビス（３−スルファニルプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（３−スルファニルプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（３−スルファニルアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−スルファニルプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−スルファニルアセテート）、トリスヒドロキシエチルトリス（３−スルファニルプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−スルファニルブチレート）、１，４−ビス（３−スルファニルブチルオキシ）ブタン等が挙げられる。
【０１３９】
多官能チオール化合物の含有量は、重合開始剤１００質量部に対して、好ましくは０．１〜１０質量部、より好ましくは０．５〜７質量部である。多官能チオール化合物の含有量が前記の範囲にあると、感光性樹脂組成物の感度が高くなり、また現像性が良好になる傾向があり好ましい。
【０１４０】
感光性樹脂組成物は、界面活性剤（ただし、樹脂Ｂとは異なる）を含有してもよい。界面活性剤としては、例えば、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、フッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤等が挙げられる。
【０１４１】
シリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合を有する界面活性剤が挙げられる。具体的には、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＳＨ７ＰＡ、同ＤＣ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、ポリエーテル変性シリコーンオイルＳＨ８４００（商品名：東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２２、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製）等が挙げられる。
【０１４２】
更に、感光性樹脂組成物は、密着力向上剤を含んでもよい。密着力向上剤の例は、シランカップリング剤である。
【０１４３】
以上説明したバンク付き基板１０では、バンク１４が＜条件１＞を満たしている。すなわち、バンク１４の上面１４ｄにおけるアニソールの接触角が３５°以上である。これにより、凹部１６内に有機層（例えば、正孔注入層２４及び発光層２６）を形成する際に、画素サイズ（凹部１６の大きさ）の影響を低減しながら、各層において所望の厚さを確保可能である。例えば、アニソールの接触角が３５°未満（より具体的には、３０°以下）では、厚い厚さが必要となる発光層２６等を塗布法で形成する際、発光層２６となるべき材料を含むインクが、形成すべき凹部１６内から流れでて、必要な厚さが得られない場合が生じ得る。これに対して、アニソールの接触角が３５°以上であれば、前述したように、所望の厚さを得ることが可能である。
【０１４４】
また、バンク付き基板１０が備えるバンク１４は、塗布法により有機層を形成することで、有機ＥＬ素子を作製した場合、有機層ピニング位置Ｐはバンク１４の側面１４ｂ上にある。そのため、凹部１６に有機ＥＬ素子を作製した場合、電流リークが起こりにくい。
【０１４５】
また、バンク１４は、＜条件２＞を満たす。すなわち、図５を用いて説明したように、Ｄ１／Ｔ１は、０＜Ｄ１／Ｔ１≦２．０、を満たす。これにより、バンク付き基板１０の凹部１６内に、塗布法により有機層を形成することで、有機ＥＬ素子を作製した場合、有機層ピニング位置Ｐがバンク１４の厚さ（高さ）に比べてバンク１４の端部１４ａから短い距離にある。そのため、バンク１４の高さに対して、有機層ピニング位置Ｐが相対的に低くなる。この場合、バンク１４の側面１４ｂで乾燥するインク中の固形分が減少することで、有機層の厚さが薄くなり、画素内の有機層の厚さの均一性が向上する。また、有機層ピニング位置Ｐがバンク１４の高さに対して相対的に低くなることから、画素（凹部１６）内へのインク充填量が少なくなり、素子作製に必要な厚さを得るための材料使用効率が向上する。更に、上記＜条件２＞を満たすことで、有機層の厚さの均一性を図りながら、バンク１４の高さを一定量確保できる。バンク１４の高さが低いと、撥液剤による撥液性が発現しにくい場合があるが、＜条件２＞を満たすことで、バンク１４の高さを一定量確保し得るので、バンク１４における所望の撥液性をより確実に発現でき、その結果、有機層を凹部１６内に塗布法により形成する際、有機層を形成するためのインクを凹部１６内により確実に保持可能である。
【０１４６】
有機層の厚さの均一性は、例えば、図５に示したように、凹部１６内の有機層の最薄部の厚さを基準厚さｄとして、（ｄ＋１０）ｎｍ以下の厚さとなっている面積をＡＬ１とし、凹部１６の開口面積をＡＬ２とし、均一性をαとしたとき、αを、下記式（１）で定義して、評価し得る。
α＝（ＡＬ１／ＡＬ２）×１００（％）・・・（１）
上記凹部１６の開口面積とは、基板１２の表面１２ａのうちバンク１４の端部１４ａで囲まれる領域の面積である。
【０１４７】
画素（凹部１６）内へのインク充填量は、例えば、一つの液滴のインク量をＱとし、液滴数をＮとし、充填量をβとしたとき、βを下記式（２）で定義し、評価し得る。
β＝（Ｑ×Ｎ）／ＡＬ２・・・（２）
式（２）中のＡＬ２は、前述した凹部１６の開口面積である。
【０１４８】
バンク１４は、＜条件１＞及び＜条件２＞を満たす様に形成されていればよいが、凹部１６に有機ＥＬ素子となる有機層を形成する場合において、有機層の厚膜部分（有機層ピニング位置Ｐ近傍の部分）を減少させる観点から、有機層ピニング位置Ｐは、より低くなっていることが好ましい。
【０１４９】
更に、凹部１６に有機ＥＬ素子となる有機層を形成する場合において、有機層となる有機材料を含むインク（塗布液）の充填量は少ない方が有機層の平坦性確保には好ましい。上記有機層の厚膜部分が減少するためである。
【０１５０】
また、バンク１４が順テーパ形状であることから、側面１４ｂと上面１４ｄとは鈍角を為す。そのため、バンク付き基板１０に有機ＥＬ素子を形成した場合に、電極２８が切れにくい。
【０１５１】
バンク１４が、撥液剤を含む感光性樹脂組成物の硬化物であり、撥液剤がフッ素樹脂を含む形態では、例示したような、フォトリソグラフィーを用いてバンク１４を作成し得る。この際、図６に示した薄膜３２をプリベークする工程で撥液剤が表層部に分布する。よって、薄膜３２からバンク１４を形成した場合に、バンク１４の上面１４ｄ側が撥液性を有しやすい。そのため、凹部１６内に有機層を塗布法で形成する際、インク(塗布液)を凹部１６内により確実に保持できる。また、撥液剤の組成割合を調整することで、バンク１４において撥液性を有する領域を調整できるので、有機層ピニング位置Ｐを調整可能である。よって、バンク１４が、撥液剤を含む感光性樹脂組成物の硬化物であり、撥液剤がフッ素樹脂を含む形態では、＜条件１＞及び＜条件２＞を満たすバンク１４を形成し易い。
【０１５２】
次に、＜条件１＞及び＜条件２＞を満たすことにより、バンク付き基板が有するバンクにより画成される区画内に有機層を形成する場合において、有機層の厚さの均一性が図れる点について実施例を参照して具体的に説明する。以下の説明において、バンク付き基板と、それが備える基板とを区別するために、これまでの説明の基板１２に対応する基板を、「支持基板」と称す。
【０１５３】
（合成例１）
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えたフラスコ内に、窒素を適量流すと共に窒素雰囲気に置換し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１６６質量部、メトキシプロパノール５２質量部を入れ撹拌しながら８５℃まで加熱した。次いで３，４−エポキシトリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８および９−イルアクリレートの混合物２３３質量部、ｐ−ビニル安息香酸７７質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１２５質量部、メトキシプロパノール１１５質量部の混合溶液を、上記フラスコ内に４時間かけて滴下した。一方、２，２−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）３２質量部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２１０質量部に溶解した混合溶液を５時間かけて、上記フラスコ内に滴下した。滴下終了後、３時間同温度で保持した後、室温まで冷却して、Ｂ型粘度（２３℃）４６ｍＰａ・ｓ、固形分３３．７質量％、溶液酸価８３ｍｇＫＯＨ／ｇの重合体（樹脂ＡI）溶液を得た。得られた樹脂ＡIの重量平均分子量Ｍｗは７．７×１０３、分子量分布［重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）］は１．９０であった。樹脂ＡIは、以下の構成単位を有する。
【化４】
2017054723.tif 000006
【０１５４】
（合成例２）
還流冷却管、窒素導入管、温度計及び撹拌装置を備えた四つ口フラスコ中にα−クロロアクリル酸３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシル７８質量部、メタクリル酸１９．５質量部、イソボルニルメタクリレート１９．５質量部、グリシジルメタクリレート１３質量部、ドデカンチオール１２．７質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２６６質量部を入れ、７０℃に加熱後、３０分間窒素気流下で撹拌した。これにアゾビスイソブチロニトリル１質量部を添加し、１８時間重合して、固形分３３質量％、酸価６８ｍｇＫＯＨ／ｇ（固形分換算）の重合体（樹脂Ｂａ）の溶液を得た。得られた樹脂Ｂａの重量平均分子量は７，５００であった。樹脂Ｂａは、以下の構成単位を有する。
【化５】
2017054723.tif 000007
【０１５５】
（実施例１）
実施例１で使用する感光性樹脂組成物について説明する。実施例１における樹脂Ａを樹脂ＡIと称す。実施例１では、樹脂ＡI、重合性化合物、重合開始剤、重合開始助剤、密着力向上剤及び撥液剤を含み、溶剤により固形分濃度が２１％になるように調整した感光性樹脂組成物Iを準備した。
【０１５６】
樹脂ＡIとして、合成例１で合成した樹脂を用いた。重合性化合物には、トリメチロールプロパントリアクリレート（Ａ−ＴＭＰＴ；新中村化学工業（株）製）を用いた。重合開始剤には、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン（イルガキュア（登録商標）９０７；ＢＡＳＦ社製）を用いた。重合開始助剤には、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン（ＥＡＢ−Ｆ；保土ヶ谷化学工業（株）製）を用いた。密着力向上剤には、シランカップリング剤ＫＢＭ−５７３（株式会社信越シリコーン製）を用いた。撥液剤には、合成例２で得られた樹脂を用いた。溶剤には、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを用いた。
【０１５７】
感光性樹脂組成物Ｉ中の各成分の含有量は次の通りであった。
樹脂ＡＩ：４４．４質量部
重合性化合物：４４．４質量部
重合開始剤：５．４質量部
重合開始助剤：５．４質量部
密着力向上剤：０．４質量部
撥液剤（樹脂Ｂａ）：固形分に対して０．１５質量％
なお、固形分とは、感光性樹脂組成物Ｉにおける溶剤以外の残部である。
【０１５８】
次に、実施例１で使用した支持基板について説明する。実施例１では、表面にＩＴＯ膜が蒸着された２インチ角のガラス基板（イーグルＸＧ、コーニング社製）を支持基板として使用した。ＩＴＯ膜が電極に対応し、ガラス基板が基板本体に対応する。実施例１で使用した支持基板では、電極としてのＩＴＯ膜はガラス基板の表面全体に形成した。
【０１５９】
上記支持基板及び感光性樹脂組成物Ｉを用いて、次のようにして、バンク付き基板を製造した。
【０１６０】
上記支持基板を、中性洗剤、水および２−プロパノールで順次洗浄してから乾燥した。この支持基板上に、感光性樹脂組成物Ｉを、スピンコートし、減圧乾燥機（マイクロテック（株）製）で減圧度（真空度）が６６ｋＰａになるまで減圧乾燥（真空乾燥）させた後、ホットプレートにて９０℃で１１０秒プリベークして乾燥させて薄膜（塗膜）を形成した。冷却後、この薄膜が形成された支持基板と石英ガラス製フォトマスクとの間隔を１００μｍとし、露光機（ＴＭＥ−１５０ＲＳＫ；トプコン（株）製、光源；超高圧水銀灯）を用いて、大気雰囲気下、露光量２００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ基準）の光を照射した。なお、フォトマスクとしては、パターン（遮光部の形状が、長軸方向３００μｍ、短軸方向１００μｍである長方形から四隅を円状にカットした形（長丸））が同一平面上に形成されたものを用いた。
【０１６１】
光照射後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（トクヤマ（株）製、トクソーＳＤ２５）を濃度が２．３８％となるように純水で希釈して調製した現像液に、上記薄膜を２３℃で６０秒間揺動しながら浸漬して現像し、水洗後、オーブン中、２３０℃で２０分間キュアベークを行い、フォトマスクのパターンに対応する凹部を有するバンクを形成することで、バンク付き基板を得た。
【０１６２】
上記バンク付き基板において、凹部以外のバンクの上面（基板と反対側の面）をバンク頂部と見なして、そのバンク上面にアニソールを滴下し、アニソールの接触角を測定した。測定は、協和界面科学株式会社製、ＬＣＤ−７００Ｓ自動液晶ガラス洗浄・処理検査装置にて、ソフト名ＦＡＭＡＳ内のθ／２法により、液滴サイズを１．０μｍとして計測を実施した。アニソールの接触角は、４０°であった。
【０１６３】
続いて、バンク付き基板が有するバンクで画成された凹部に、次のようにして有機層を形成した。
【０１６４】
まず、固形分濃度が１．０質量％、粘度が８ｃｐ（８ｍＰａ・ｓ）、表面張力が３４．７ｍＮ／ｍとなるように有機溶媒と正孔注入材料とを混合してインクを調製した。このインクを、インクジェット装置（ULVAC社製  Litlex142P）を用いて各凹部内に塗布した。
【０１６５】
各凹部に塗布されたインクは、バンクの上面によって弾かれるため、凹部からインクが溢れ出ることが防がれ、凹部内に収容された。
【０１６６】
次に、ドライポンプが接続された真空乾燥室内においてバンク付き基板を温調ステージに載置し、当該温調ステージの温度を１０℃に設定して、約２．０×１０−１Ｐａまで減圧し、真空乾燥した。次に、温調ステージの温度を２３０℃に設定し、大気圧環境にて１５分間焼成を行い、均一な厚さの正孔注入層としての有機層（厚さ４５ｎｍ）を形成した。ここでの厚さとは凹部の中心の厚さであり最薄部を意味する。
【０１６７】
上記のようにして正孔注入層として有機層を形成したバンク付き基板を、凹部を含むように、ＦＩＢ装置（セイコーインスツルメンツ製、XVision 20DB）にて薄膜加工し、ＳＥＭ観察し、Ｄ１／Ｔ１を算出した。算出されたＤ１／Ｔ１は、０．３３であった。また、凹部内の有機層の充填量は、０．２７Ｌ／ｃｍ２であった。更に、凹部内に形成された有機層の厚さの均一性は、８０％であった。均一性は、前述した式（１）で表されるαで定義した。充填量は、前述した式（２）で表されるβで定義した。
【０１６８】
（合成例３）
ポリｐ−ビニルフェノール（重量平均分子量６，０００）８０質量部と、ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾールとを７０／３０（質量比）の仕込み比でホルムアルデヒドと脱水縮合して得たノボラック樹脂（重量平均分子量４，０００）２０質量部とからなるアルカリ可溶性樹脂ＡIIを得た。
【０１６９】
次に、比較例１，２について説明する。
（比較例１）
比較例１で使用した感光性樹脂組成物について説明する。比較例１における樹脂Ａを樹脂ＡＩＩと称す。比較例１では、樹脂ＡIＩ、架橋剤、酸発生剤、重合開始助剤、及び撥液剤を含み、溶剤により固形分濃度が１８％になるように調整した感光性樹脂組成物Iを準備した。
【０１７０】
樹脂ＡＩＩとして、合成例３で合成したアルカリ可溶性樹脂を用いた。架橋剤には、メラミン系樹脂架橋剤（三井サイテックス社製、サイメル３００）を用いた。酸発生剤には、トリアジン系酸発生剤（みどり化学社製、ＴＡＺ１０６）を用いた。重合開始助剤、撥液剤及び溶剤に、実施例１と同様のものを用いた。
【０１７１】
感光性樹脂組成物ＩＩ中において、樹脂ＡＩＩ、架橋剤、酸発生剤及び重合開始助剤の合計を１００質量部とした場合の各成分の組成割合（質量％）は次の通りであった。
樹脂ＡＩＩ：８２質量％
架橋剤：１６．５質量％
酸発生剤：１．０質量％
重合開始助剤：０．５質量％
撥液剤：０．２質量％
【０１７２】
比較例１では、実施例１と同様の基板を用いて、感光性樹脂組成物Ｉの代わりに感光性樹脂組成物ＩＩを使用した点以外は、実施例１と同様にして、バンク付き基板を製造した。
【０１７３】
バンク上面のアニソール接触角は、実施例１と同様にして測定した結果、３７°であった。
【０１７４】
その後、実施例１と同様にして、バンク付き基板において、バンクによる画成される区画である凹部内に正孔注入層としての有機層を形成した。この際、平面視した際（支持基板の厚さ方向からみた場合）に凹部における中央部での有機層の厚さが実施例１と同様となるように液滴の滴下数（式（２）中のＮ）を調整した。この有機層を有する、バンク付き基板を実施例１と同様にしてＳＥＭ観察して、Ｄ１／Ｔ１を算出した。また、凹部内の有機層の充填量を算出すると共に、均一性を算出した。その結果、Ｄ１／Ｔ１は、１６．９８であり、充填量は０．３５Ｌ／ｃｍ２であり、均一性は４２％であった。
【０１７５】
（合成例４）
ポリｐ−ビニルフェノール（重量平均分子量６，０００）７０質量部と、ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾールとを７０／３０（質量比）の仕込み比でホルムアルデヒドと脱水縮合して得たノボラック樹脂（重量平均分子量４，０００）３０質量部とからなるアルカリ可溶性樹脂を得た。
【０１７６】
（比較例２）
比較例２で使用した感光性樹脂組成物について説明する。比較例２における樹脂Ａを樹脂ＡＩＩＩと称す。比較例２では、樹脂ＡＩＩＩ、架橋剤、酸発生剤、重合開始助剤、及び撥液剤を含み、溶剤により固形分濃度が１８％になるように調整した感光性樹脂組成物ＩＩＩを準備した。
【０１７７】
樹脂ＡＩＩＩとして、合成例４で合成したアルカリ可溶性樹脂を用いた。架橋剤、酸発生剤、重合開始助剤、撥液剤及び溶剤に、比較例１と同様のものを用いた。
【０１７８】
感光性樹脂組成物ＩＩＩ中において、樹脂ＡＩＩＩ、架橋剤、酸発生剤及び重合開始助剤の合計を１００質量部とした場合の各成分の組成割合（質量％）は次の通りであった。
樹脂ＡＩＩＩ：７８．８質量％
架橋剤：１９．７質量％
酸発生剤：１．１質量％
重合開始助剤：０．４質量％
撥液剤：０．２質量％
【０１７９】
比較例２では、実施例１と同様の基板を用いて、感光性樹脂組成物Ｉの代わりに感光性樹脂組成物ＩＩＩを使用した点以外は、実施例１と同様にして、バンク付き基板を製造した。
【０１８０】
バンク上面のアニソール接触角は、実施例１と同様にして測定した結果、４５°であった。
【０１８１】
その後、実施例１と同様にして、バンク付き基板において、バンクによる画成される区画である凹部内に正孔注入層としての有機層を形成した。この際、平面視した際（支持基板の厚さ方向からみた場合）に凹部における中央部での有機層の厚さが実施例１と同様となるように液滴の滴下数（式（２）中のＮ）を調整した。この有機層を有する、バンク付き基板を実施例１と同様にしてＳＥＭ観察して、Ｄ１／Ｔ１を算出した。また、凹部内の有機層の充填量を算出すると共に、均一性を算出した。その結果、Ｄ１／Ｔ１は、４．５４であり、充填量は０．４５Ｌ／ｃｍ２であり、均一性は５５％であった。
【０１８２】
（効果の比較）
実施例１及び比較例１，２におけるアニソール接触角、Ｄ１／Ｔ１、充填量及び均一性に対する結果を表１に示す。
【表１】
2017054723.tif 000008
【０１８３】
表１に示すように、実施例１では、比較例１，２より、充填量が低減している。よって、有機層を形成する際の材料使用効率が向上している。また、実施例１では、比較例１，２に比べて有機層の厚さの均一性が向上している。
【０１８４】
したがって、バンクが＜条件１＞及び＜条件２＞を満たすことにより、バンク付き基板が有するバンクにより画成される区画内に有機層を形成する場合において、その有機層の材料使用効率の向上が図れると共に、有機層の厚さの均一性が図れる。
【０１８５】
以上、本発明の種々の実施形態及び実施例を説明したが、本発明は、上記実施形態及び実施例に限定されない。
【０１８６】
バンク１４は、＜条件１＞及び＜条件２＞を満たし、予め設定された区画（凹部１６）を形成可能に形成されていればよい。バンク１４の材料も＜条件１＞及び＜条件２＞を満たし得る材料であればよい。
【０１８７】
また、バンク１４として順テーパ形状のバンクを例示したが、バンクは、凹部（区画）に臨むバンクの側面とバンクの底面とのなす角度θ１が直角である形状のバンクでもよいし、角度θ１が鈍角である形状（逆テーパ形状）のバンクでもよい。
【０１８８】
図３を利用して、有機ＥＬ素子の構成例の一例について説明したが、有機ＥＬ素子の構成は、図３に示した形態に限定されない。有機ＥＬ素子は、一対の電極である第１の電極及び第２の電極と、それらの間に配置される有機層としての発光層を有していればよい。一対の電極の間には、発光層の他、例えば、例示した正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層、正孔ブロック層、電子輸送層、および電子注入層などを有してもよい。電子ブロック層は、電子の輸送を堰き止める機能を有する層であり、正孔ブロック層は、正孔の輸送を堰き止める機能を有する層である。正孔輸送層、電子輸送層及び電子注入層については後述する。
【０１８９】
本実施形態の有機ＥＬ素子のとりうる層構成の一例を以下に示す。
ａ）陽極／発光層／陰極
ｂ）陽極／正孔注入層／発光層／陰極
ｃ）陽極／正孔注入層／発光層／電子注入層／陰極
ｄ）陽極／正孔注入層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ｅ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／陰極
ｆ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
ｇ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ｈ）陽極／発光層／電子注入層／陰極
ｉ）陽極／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
（ここで、記号「／」は、記号「／」を挟む各層が隣接して積層されていることを示す。
以下同じ。）
【０１９０】
上記構成の有機ＥＬ素子は、陽極から順に各層を積層して最後に陰極を形成する形態と、逆に、陰極から順に各層を積層して最後に陽極を形成する形態とをとりうる。上記構成のうち構成ｂ）が図３に示した構成に対応する。上記構成のうち陽極及び陰極、正孔注入層及び発光層は既に説明したので説明を省略し、正孔輸送層、電子輸送層及び電子注入層について簡単に説明する。
【０１９１】
正孔輸送層は、陽極、正孔注入層または陽極により近い正孔輸送層から発光層への正孔注入を改善する機能を有する層である。正孔輸送層には公知の正孔輸送材料を用いることができる。正孔輸送層は、正孔注入層と同様に、塗布法によって形成され得る。正孔注入層および／または正孔輸送層が電子の輸送を堰き止める機能を有する場合には、これらの層が電子ブロック層を兼ねることがある。
【０１９２】
電子輸送層は、陰極、電子注入層または陰極により近い電子輸送層からの電子注入を改善する機能を有する層である。電子輸送層には公知の電子輸送材料を用いることができる。電子注入層は、陰極から発光層への電子注入効率を改善する機能を有する層である。電子注入層には公知の電子注入材料を用いることができる。電子輸送層及び電子注入層も正孔注入層と同様に、塗布法により形成され得る。電子注入層および／または電子輸送層が正孔の輸送を堰き止める機能を有する場合には、これらの層が正孔ブロック層を兼ねることがある。
【符号の説明】
【０１９３】
１０…バンク付き基板、１２…基板、１２ａ…表面(基板の表面)、１４…バンク、１４ａ…端部（バンク端部）、１４ｂ…側面、１４ｃ…底面、１４ｄ…上面、１６…凹部(区画)、２０…電極、２４…正孔注入層（有機層）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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