(57)【要約】【課題】ロッドレンズアレイを構成する各レンズ素子の主走査方向を回転中心とした副走査方向傾きを精度良く検出できるようにする。【解決手段】レンズアレイ検査装置１は、副走査方向の位置に応じて主走査方向の幅が変化する第２スリットＳＬ２を通過した光の強度を第２光強度Ｔ２とし、これを規格化して規格化光強度Ｒを算出し、この規格化光強度Ｒと副走査方向位置との関係を予め特性関数として求め、記憶するようにした。レンズアレイ検査装置１は、ロッドレンズアレイ１０を検査する場合、検査対象のレンズ素子１３及び第２スリットＳＬ２を通過した光の強度を表す第２光強度Ｔ２を規格化して規格化光強度Ｒを算出し、これを特性関数に適用するだけで、副走査方向位置を精度良く算出することができる。【選択図】図４
2017020875.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方のレンズ面に入射された光を他方のレンズ面から出射して結像させるレンズ素子が主走査方向に沿って複数配置されそれぞれの前記レンズ面を揃えて光学面を形成したレンズアレイにおける、一方の前記光学面側に配置され、平行光でなる光を出射する発光部と、
前記レンズアレイにおける他方の前記光学面側に配置され、前記発光部により発光され前記レンズ素子を通過した前記光を受光して光強度を検出する受光部と、
他方の前記光学面と前記受光部との間に配置され、主走査方向と直交する副走査方向の位置に拘わらず、所定の度合で前記光を通過させる第１光制限部と、
他方の前記光学面と前記受光部との間に配置され、副走査方向に沿った位置に応じて前記光を通過させる度合が変化する第２光制限部と、
前記レンズ素子及び前記第２光制限部を通過し前記受光部により検出された前記光強度である第２光強度を、該レンズ素子及び前記第１光制限部を通過し前記受光部により検出された前記光強度である第１光強度により規格化した規格化光強度を基に、該レンズ素子の副走査方向に関する結像位置を算出する算出部と
を具えることを特徴とするレンズアレイ検査装置。
【請求項２】
前記規格化光強度と前記レンズ素子における副走査方向に関する結像位置との関係を表す光強度位置特性を予め記憶する記憶部
をさらに具え、
前記第２光制限部は、前記レンズ素子における副走査方向に関する結像位置に応じて前記規格化光強度が１対１に変化するよう、副走査方向に沿った位置に応じて前記光を通過させる度合を変化させ、
前記算出部は、前記規格化光強度を基に、前記記憶部から読み出した前記光強度位置特性を用いて、前記レンズ素子における副走査方向に関する結像位置を算出する
ことを特徴とする請求項１に記載のレンズアレイ検査装置。
【請求項３】
前記第２光制限部は、前記レンズ素子の前記結像位置における副走査方向に関する所定の基準位置からの距離に応じて、前記光を通過させる部分の主走査方向に関する幅を増加又は減少させたスリットである
ことを特徴とする請求項２に記載のレンズアレイ検査装置。
【請求項４】
前記光強度位置特性は、前記規格化光強度により前記結像位置を表した関数であり、
前記算出部は、前記関数に前記規格化光強度を代入することにより前記結像位置を算出する
ことを特徴とする請求項３に記載のレンズアレイ検査装置。
【請求項５】
他方の前記光学面と前記受光部との間に配置され、副走査方向に沿った位置に応じて、前記光を透過する度合が前記第２光制限部と異なる形態で変化する第３光制限部
をさらに具え、
前記算出部は、前記レンズ素子及び前記第３光制限部を通過し前記受光部により検出された前記光強度である第３光強度を前記第１光強度により規格化した第３規格化光強度と、前記規格化光強度とを基に、該レンズ素子における副走査方向に関する結像位置を算出する
ことを特徴とする請求項１に記載のレンズアレイ検査装置。
【請求項６】
前記第２光制限部は、前記レンズ素子における副走査方向に関する結像位置に応じて前記規格化光強度が正弦波を描いて変化するよう、副走査方向に沿った位置に応じて前記光を通過させる度合を変化させ、
前記第３光制限部は、前記レンズ素子における副走査方向に関する結像位置に応じて前記第３規格化光強度が余弦波を描いて変化するよう、副走査方向に沿った位置に応じて前記光を通過させる度合を変化させ、
前記算出部は、前記規格化光強度及び前記第３規格化光強度をそれぞれ正弦及び余弦とした場合の正接の逆関数を基に、前記レンズ素子における副走査方向に関する結像位置を算出する
ことを特徴とする請求項５に記載のレンズアレイ検査装置。
【請求項７】
前記レンズアレイは、前記レンズ素子が副走査方向に２列以上重ねられ、且つ各列の前記レンズ素子が稠密配置であり、
前記第１光制限部及び前記第２光制限部は、各列の前記レンズ素子を通過したそれぞれの前記光の一部を遮断すると共に残りを通過させる
ことを特徴とする請求項１に記載のレンズアレイ検査装置。
【請求項８】
一方のレンズ面に入射された光を他方のレンズ面から出射して結像させるレンズ素子が主走査方向に沿って複数配置されそれぞれの前記レンズ面を揃えて光学面を形成したレンズアレイにおける、一方の前記光学面側に配置された発光部から、平行光でなる光を出射する出射ステップと、
前記レンズアレイにおける他方の前記光学面側に配置され、主走査方向と直交する副走査方向の位置に拘わらず、所定の度合で前記光を通過させる第１光制限部により、前記光の一部を通過させる第１通過ステップと、
前記第１通過ステップにおいて前記第１光制限部を通過した前記光の強度である第１光強度を検出する第１光強度検出ステップと、
前記レンズアレイにおける他方の前記光学面側に配置され、副走査方向に沿った位置に応じて前記光を通過させる度合が変化する第２光制限部により、前記光の一部を通過させる第２通過ステップと、
前記第２通過ステップにおいて前記第２光制限部を通過した前記光の強度である第２光強度を検出する第２光強度検出ステップと、
前記第２光強度を前記第１光強度により規格化した規格化光強度を基に、該レンズ素子の副走査方向に関する結像位置を算出する算出ステップと
を具えることを特徴とするレンズアレイ検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はレンズアレイ検査装置及びレンズアレイ検査方法に関し、例えば複数の微小なレンズ素子が直線状に整列されてなるロッドレンズアレイを検査するレンズアレイ検査装置に適用して好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ロッドレンズアレイは、多数の微小なロッド（棒）状のレンズ素子を主走査方向に沿って１列又は２列以上に配列した構成となっている。このロッドレンズアレイは、各レンズ素子の位置や角度を揃えることにより、複数のレンズ素子に渡って連続した像を形成できる。
【０００３】
そこでロッドレンズアレイは、レンズアレイ検査装置により各レンズ素子の状態、例えば位置や角度等が検査される。このレンズアレイ検査装置として、例えば各レンズ素子の副走査方向（主走査方向と直交し、レンズの出射面と平行な方向）に沿った軸を回転中心とする主走査方向への傾き（以下これを主走査方向傾きと呼ぶ）を検出するものが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
このレンズアレイ検査装置は、ロッドレンズアレイの各レンズ素子における一方の面側に光源を配置し、反対の面側に副走査方向に沿ったスリット及び受光素子を配置している。これによりレンズアレイ検査装置は、主走査方向に沿ってロッドレンズアレイを走査した際に得られる光量の変化を基に、主走査方向傾きの大きさを検出できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−２６４２１０号公報（第１図）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、ロッドレンズアレイを構成する各レンズ素子は、主走査方向傾きの他にも、主走査方向に沿った軸を回転中心とした副走査方向への傾き（以下これを副走査方向傾きと呼ぶ）を有することがある。しかしながら、上述したレンズアレイ検査装置では、その原理上、主走査方向傾きを検出することはできない、という問題があった。
【０００７】
本発明は以上の点を考慮してなされたもので、ロッドレンズアレイを構成する各レンズ素子の主走査方向を回転中心とした副走査方向傾きを精度良く検出し得るレンズアレイ検査装置及びレンズアレイ検査方法を提案しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
かかる課題を解決するため本発明のレンズアレイ検査装置においては、一方のレンズ面に入射された光を他方のレンズ面から出射して結像させるレンズ素子が主走査方向に沿って複数配置されそれぞれのレンズ面を揃えて光学面を形成したレンズアレイにおける、一方の光学面側に配置され、平行光でなる光を出射する発光部と、レンズアレイにおける他方の光学面側に配置され、発光部により発光されレンズ素子を通過した光を受光して光強度を検出する受光部と、他方の光学面と受光部との間に配置され、主走査方向と直交する副走査方向の位置に拘わらず、所定の度合で光を通過させる第１光制限部と、他方の光学面と受光部との間に配置され、副走査方向に沿った位置に応じて光を通過させる度合が変化する第２光制限部と、レンズ素子及び第２光制限部を通過し受光部により検出された光強度である第２光強度を、該レンズ素子及び第１光制限部を通過し受光部により検出された光強度である第１光強度により規格化した規格化光強度を基に、該レンズ素子の副走査方向に関する結像位置を算出する算出部とを設けるようにした。
【０００９】
また本発明のレンズアレイ検査方法においては、一方のレンズ面に入射された光を他方のレンズ面から出射して結像させるレンズ素子が主走査方向に沿って複数配置されそれぞれのレンズ面を揃えて光学面を形成したレンズアレイにおける、一方の光学面側に配置された発光部から、平行光でなる光を出射する出射ステップと、レンズアレイにおける他方の光学面側に配置され、主走査方向と直交する副走査方向の位置に拘わらず、所定の度合で光を通過させる第１光制限部により、光の一部を通過させる第１通過ステップと、第１通過ステップにおいて第１光制限部を通過した光の強度である第１光強度を検出する第１光強度検出ステップと、レンズアレイにおける他方の光学面側に配置され、副走査方向に沿った位置に応じて光を通過させる度合が変化する第２光制限部により、光の一部を通過させる第２通過ステップと、第２通過ステップにおいて第２光制限部を通過した光の強度である第２光強度を検出する第２光強度検出ステップと、第２光強度を第１光強度により規格化した規格化光強度を基に、該レンズ素子の副走査方向に関する結像位置を算出する算出ステップとを設けるようにした。
【００１０】
本発明では、レンズ素子に主走査方向を回転中心とした副走査方向傾きが生じた場合、副走査方向傾きの大きさに応じて第２光強度が変化するため、この第２光強度を基に副走査方向の結像位置を算出でき、これを用いて副走査方向傾きを検出できる。また本発明では、この第２光強度を第１光強度で規格化した規格化光強度を用いるため、レンズ素子の透過率のばらつき等による影響を排除でき、副走査方向傾きの検出精度を高めることができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、ロッドレンズアレイを構成する各レンズ素子の主走査方向を回転中心とした副走査方向傾きを精度良く検出し得るレンズアレイ検査装置及びレンズアレイ検査方法を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】第１の実施の形態によるレンズアレイ検査装置の構成を示す略線図である。
【図２】ロッドレンズアレイの構成を示す略線図である。
【図３】点像の光強度分布を示す略線図である。
【図４】第１の実施の形態による光制限板の構成を示す略線図である。
【図５】第１の実施の形態による制御部の構成を示すブロック図である。
【図６】シミュレーションにおける各レンズ素子の副走査方向位置を示す略線図である。
【図７】第１の実施の形態における主走査方向の走査位置と光強度との関係を示す略線図である。
【図８】第１の実施の形態における規格化光強度と副走査方向位置との関係を示す略線図である。
【図９】第１の実施の形態における第１光学面を照射面とした場合の光強度、規格化光強度及び副走査方向位置を示す略線図である。
【図１０】第１の実施の形態における第２光学面を照射面とした場合の光強度、規格化光強度及び副走査方向位置を示す略線図である。
【図１１】第１の実施の形態による副走査方向レンズ光軸倒れ量を示す略線図である。
【図１２】第２の実施の形態によるレンズアレイ検査装置の構成を示す略線図である。
【図１３】第２の実施の形態による光制限板の構成を示す略線図である。
【図１４】第２の実施の形態による制御部の構成を示すブロック図である。
【図１５】第２の実施の形態における主走査方向の走査位置と光強度との関係を示す略線図である。
【図１６】第２の実施の形態における規格化光強度と副走査方向位置との関係を示す略線図である。
【図１７】第２の実施の形態における第１光学面を照射面とした場合の光強度、規格化光強度及び副走査方向位置を示す略線図である。
【図１８】第２の実施の形態における第２光学面を照射面とした場合の光強度、規格化光強度及び副走査方向位置を示す略線図である。
【図１９】第２の実施の形態による副走査方向レンズ光軸倒れ量を示す略線図である。
【図２０】他の実施の形態による光制限板の構成を示す略線図である。
【図２１】他の実施の形態による光制限板の構成を示す略線図である。
【図２２】他の実施の形態による光制限板の構成を示す略線図である。
【図２３】他の実施の形態における主走査方向の走査位置と光強度との関係を示す略線図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、発明を実施するための形態（以下実施の形態とする）について、図面を用いて説明する。
【００１４】
［１．第１の実施の形態］
［１−１．レンズアレイ検査装置の構成］
図１に示すように、第１の実施の形態によるレンズアレイ検査装置１は、大きく分けて制御部２、発光部３、保持部４及び受光部５により構成されており、検査対象であるロッドレンズアレイ１０を検査するようになっている。
【００１５】
ロッドレンズアレイ１０は、全体として主走査方向（Ｘ方向とも呼ぶ）に沿って長く、副走査方向（Ｙ方向とも呼ぶ）及び光照射方向（Ｚ方向とも呼ぶ）に沿って短い直方体状に構成されている。このロッドレンズアレイ１０は、副走査方向に関する両側、すなわち上側及び下側にそれぞれ配置された側板１１及び１２の間に多数のレンズ素子１３が配置され、その隙間が充填剤１４により充填されている。説明の都合上、以下ではロッドレンズアレイ１０及びレンズ素子１３における発光部３側（すなわち−Ｚ側）の面を照射面と呼ぶ。
【００１６】
側板１１及び１２は、主走査方向に沿って例えば１００〜３００［ｍｍ］程度のように十分に長く、光照射方向に沿って例えば２〜５［ｍｍ］程度のように比較的短く、且つ副走査方向に沿って例えば０．３〜０．５［ｍｍ］程度のように十分に薄く、全体として細長く薄い板状に構成されている。
【００１７】
レンズ素子１３は、中心軸を光照射方向に沿わせた長い円柱状若しくは棒（ロッド）状に形成され、一方のレンズ面に入射された光を他方のレンズ面から出射し、焦点位置に点像を結像させる。このレンズ素子１３は、直径が約３００［μｍ］のであり、光照射方向に沿った長さが側板１１及び１２とほぼ同等となっている。ロッドレンズアレイ１０は、図２に平面図を示すように、複数のレンズ素子１３を互いに隣接させるようにして、主走査方向に沿った列を副走査方向に２列重ねて、且つ稠密に、いわゆる俵積みとなるように配置している。説明の都合上、以下ではロッドレンズアレイ１０（図１）において各レンズ素子１３のレンズ面が露出した面を第１光学面１０Ａ及び第２光学面１０Ｂと呼ぶ。図１では、第１光学面１０Ａが発光部３側を向き、第２光学面１０Ｂが受光部５側を向いている。
【００１８】
またロッドレンズアレイ１０（図２）では、レンズ素子１３における中心軸を中心点１３Ｐとした場合、同列内での主走査方向に関する中心点１３Ｐ同士の間隔が３００［μｍ］となり、異なる列同士での主走査方向に関する中心点１３Ｐ同士の間隔がその半分の１５０［μｍ］となり、また副走査方向に関する中心点１３Ｐ同士の間隔が２６０［μｍ］となる。充填剤１４は、例えば黒色の樹脂であり、側板１１及び１２に対し各レンズ素子１３を固定しており、また光照射方向に光を透過しないようになっている。
【００１９】
発光部３は、第１発光器２１及び第２発光器２２により構成されている。第１発光器２１は、例えばレーザ光源、レンズ及びピンホール等（図示せず）を有しており、制御部２の制御に基づき、光照射方向に向けてコヒーレントな平行光でなる第１照射光Ｌ１を照射する。第１照射光Ｌ１は、例えばロッドレンズアレイ１０の照射面に照射された場合、何れの列においても、その光軸付近に位置するレンズ素子１３におけるレンズ面の全範囲に照射されるような、比較的広い範囲に渡って照射される。
【００２０】
また第１照射光Ｌ１は、仮にレンズ素子１３における照射面側のレンズ面に照射された場合、その反対のレンズ面側から出射されて当該レンズ素子１３の焦点近傍に集光され、点像を形成する。このとき形成される点像の光強度は、中心が最も高く、中心から離れるに連れて減衰していくような、いわゆるガウス分布となり、図３に示すようなガウス曲線状の強度分布特性Ｊ１となる。この強度分布特性Ｊ１は、半値幅、すなわち光強度が最大値の半分となる幅が約９［μｍ］であり、有効な最大幅が約３０［μｍ］である。
【００２１】
第２発光器２２は、第１発光器２１とほぼ同様に構成されており、光照射方向に向けて第１照射光Ｌ１とほぼ同様の第２照射光Ｌ２を照射する。この第２発光器２２は、第１発光器２１から主走査方向の反対方向へ所定間隔だけ離れた箇所に設置されている。説明の都合上、以下では、第１照射光Ｌ１及び第２照射光Ｌ２それぞれの光軸を延長した仮想的な直線を、第１光軸線ＬＸ１及び第２光軸線ＬＸ２と呼ぶ。
【００２２】
保持部４は、基台３１、保持板３２及び駆動部３３により構成されている。基台３１は、主走査方向に長い直方体状に形成されており、発光部３や受光部５と同様、レンズアレイ検査装置１に固定されている。保持板３２は、主走査方向に長く、副走査方向に短い板状に形成されており、基台３１の副走査方向側（すなわち上側）に隣接している。この保持板３２は、その副走査方向側の面（すなわち上面）にロッドレンズアレイ１０が載置されると、図示しない保持部材により保持できる。また保持板３２は、基台３１に対し、主走査方向に沿って移動し得るようになっている。駆動部３３は、図示しないモータ等により構成されており、制御部２の制御に基づいて駆動力を発生し、これを保持板３２に伝達することにより、当該保持板３２を主走査方向又はその反対方向へ移動させることができる。
【００２３】
受光部５は、第１光軸線ＬＸ１に沿って配置された第１光制限板４１及び第１受光素子４６と、第２光軸線ＬＸ２に沿って配置された第２光制限板４２及び第２受光素子４７とにより構成されている。
【００２４】
第１光制限板４１は、光照射方向に薄い板状に構成されており、その板面を第１光軸線ＬＸ１と直交させ、且つ保持部４に保持されたロッドレンズアレイ１０におけるレンズ素子１３の焦点とほぼ一致する位置に設置されている。このため、第１光制限板４１の照射面側には、図３に示した強度分布特性Ｊ１でなる点像が形成されることになる。
【００２５】
第１光制限板４１には、図４（Ａ）に平面図を示すように、主走査方向（Ｘ方向）に関して第１光軸線ＬＸ１とほぼ一致する位置に、一部分のみ光を通過させ他の部分において光を遮断する第１スリットＳＬ１が形成されている。この第１スリットＳＬ１は、副走査方向（Ｙ方向）の位置に拘わらず、主走査方向の幅が一定の５［μｍ］でなるスリットとなっている。すなわち第１スリットＳＬ１における主走査方向の幅は、第１照射光Ｌ１がレンズ素子１３により集光されてなる点像の半値幅（図３）よりも十分に狭くなっている。
【００２６】
第２光制限板４２は、第１光制限板４１と同様、光照射方向に薄い板状に構成され、その板面を第２光軸線ＬＸ２と直交させ、且つ保持部４に保持されたロッドレンズアレイ１０におけるレンズ素子１３の焦点とほぼ一致する位置に設置されている。第２光制限板４２には、図４（Ａ）と対応する図４（Ｂ）に平面図を示すように、主走査方向に関して第２光軸線ＬＸ２とほぼ一致する位置に、第１スリットＳＬ１とは異なる形状の第２スリットＳＬ２が形成されている。
【００２７】
第２スリットＳＬ２は、光を透過する通過孔Ｈ２が副走査方向（Ｙ方向）に関して６０［μｍ］ごとに繰り返し出現する、周期的な通過パターンとなっている。この通過孔Ｈ２は、副走査方向に沿って１０［μｍ］ごとに５つの領域に区分されており、各領域における主走査方向（Ｘ方向）の幅がそれぞれ５［μｍ］、４［μｍ］、３［μｍ］、２［μｍ］及び１［μｍ］となっている。換言すれば、通過孔Ｈ２は、主走査方向の長さが５［μｍ］であり副走査方向の長さが５０［μｍ］である直角三角形を、１辺が１［μｍ］の格子により量子化したような形状となっている。
【００２８】
因みに第１光制限板４１及び第２光制限板４２は、何れも副走査方向の長さが例えば５００［μｍ］となっており、ロッドレンズアレイ１０（図３）における副走査方向に関する中心点１３Ｐ同士の間隔である２６０［μｍ］よりも十分に長くなっている。
【００２９】
第１受光素子４６は、第１光制限板４１の光照射方向側に近接して配置されており、当該第１光制限板４１を通過した光を受光し、その光強度を表す値である第１光強度Ｔ１を生成して、これを制御部２へ供給する。また第２受光素子４７は、第２光制限板４２の光照射方向側に近接して配置されており、当該第２光制限板４２を通過した光を受光し、その光強度を表す値である第２光強度Ｔ２を生成して、これを制御部２へ供給する。
【００３０】
制御部２は、図５に示すように、演算部５１、記憶部５２、表示部５３及び操作部５４により構成されている。演算部５１は、図示しないＣＰＵ（Central Processing Unit）を中心に構成されており、所定のプログラムを実行することにより、検査処理等の種々の演算処理を行う。記憶部５２は、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）、ハードディスクドライブやフラッシュメモリ等でなり、後述する特性関数等の種々の情報を予め記憶する他、検査処理において得られた種々の値や情報を一時的に記憶する。
【００３１】
例えば演算部５１は、検査処理を行う場合、所定の検査プログラムを読み出して実行することにより、その内部にピーク値検出部６１、規格化処理部６２、位置算出部６３及び駆動制御部６６といった複数の機能ブロックを形成する。これらの機能ブロックは、記憶部５２を適宜利用しながら信号や情報を受け渡すことにより連携し、検査処理を進めるようになっている（詳しくは後述する）。
【００３２】
表示部５３は、例えば液晶パネルでなり、検査処理における検査結果等を表示することにより作業者等に視認させる。操作部５４は、例えばキーボードやマウスでなり、作業者の操作指示を受け付ける。
【００３３】
このようにレンズアレイ検査装置１は、制御部２の制御に基づき、発光部３から第１照射光Ｌ１及び第２照射光Ｌ２を照射し、保持部４に保持したロッドレンズアレイ１０のレンズ素子１３により集光し、第１光制限板４１及び第２光制限板４２を介して第１受光素子４６及び第２受光素子４７によりそれぞれ光強度を検出するようになっている。
【００３４】
このレンズアレイ検査装置１は、第１スリットＳＬ１及び第２スリットＳＬ２に応じた特性関数を予め作成しておき、得られた第１光強度Ｔ１及び第２光強度Ｔ２と、この特性関数とを用いることにより、各レンズ素子１３により生成される点像の副走査方向に関する位置（以下これを副走査方向位置と呼ぶ）をそれぞれ検出するようになっている。
【００３５】
［１−２．基本原理及び特性関数の生成］
次に、レンズアレイ検査装置１により各レンズ素子１３の副走査方向位置を算出する基本原理を説明した上で、第１スリットＳＬ１及び第２スリットＳＬ２に応じた特性関数の生成について説明する。
【００３６】
［１−２−１．基本原理］
レンズアレイ検査装置１では、上述したように、第１光軸線ＬＸ１に沿って第１光制限板４１及び第１受光素子４６が配置され、また第２光軸線ＬＸ２に沿って第２光制限板４２及び第２受光素子４７が配置されている。
【００３７】
このため、仮にロッドレンズアレイ１０のレンズ素子１３が、その光軸を光照射方向に沿った軸（Ｚ軸）と平行に向けている場合、すなわちＸ軸回りに傾いていない場合、第１照射光Ｌ１がこのレンズ素子１３により集光されて第１光制限板４１の照射面に形成される点像は、第１光軸線ＬＸ１上に位置する。またこの場合、第２照射光Ｌ２がこのレンズ素子１３により集光されて第２光制限板４２の照射面に形成される点像は、第２光軸線ＬＸ２上に位置する。
【００３８】
しかしながら、仮にロッドレンズアレイ１０のレンズ素子１３が、その光軸をＸ軸回りに傾けていた場合、第１照射光Ｌ１がこのレンズ素子１３により集光されて第１光制限板４１の照射面に形成される点像の位置、すなわち副走査方向位置は、第１光軸線ＬＸ１に対し副走査方向（Ｙ方向）に変位する。またこの場合、第２照射光Ｌ２がこのレンズ素子１３により集光されて第２光制限板４２の照射面に形成される点像の位置（副走査方向位置）も、第２光軸線ＬＸ２に対し副走査方向に変位する。
【００３９】
ところで第２照射光Ｌ２は、第１照射光Ｌ１と同様、強度分布特性Ｊ１（図３）における半値幅が約９［μｍ］となっており、いわば直径約９［μｍ］の領域における光量が特に多い点像を照射面に形成する。これに対し第２光制限板４２の第２スリットＳＬ２（図４（Ｂ））は、上述したように、主走査方向の幅が最大でも５［μｍ］であり、且つ副走査方向の位置が１０［μｍ］変化するごとに、主走査方向の幅が１［μｍ］ずつ変化している。
【００４０】
このためレンズアレイ検査装置１では、例えば第２照射光Ｌ２による点像が、第２スリットＳＬ２における主走査方向の幅が５［μｍ］の部分に形成される場合、当該第２スリットＳＬ２を通過する光量が比較的多くなる。一方、この点像が第２スリットＳＬ２における主走査方向の幅が１［μｍ］の部分に形成される場合、当該第２スリットＳＬ２を通過する光量が比較的少なくなる。すなわちレンズアレイ検査装置１では、レンズ素子１３がＸ軸回りに傾く等して、第２照射光Ｌ２による副走査方向位置が第２光軸線ＬＸ２から副走査方向に変位した場合、この副走査方向位置に応じて、第２スリットＳＬ２を通過する光の光量が変化することになる。
【００４１】
そこでレンズアレイ検査装置１では、予め実験やシミュレーション等を基に、副走査方向位置と得られる光量との関係を表す特性関数を作成しておくことで、検出された光量から副走査方向位置を算出することが可能となる。
【００４２】
ところでロッドレンズアレイ１０のレンズ素子１３は、表面にゴミや埃等の異物が付着した場合や透過率のばらつきが生じていた場合、この異物や透過率のばらつき等により第１照射光Ｌ１及び第２照射光Ｌ２の一部が遮られる。このためレンズアレイ検査装置１では、副走査方向位置が第２光軸線ＬＸ２上にある場合と比較して、第２受光素子４７による受光量、すなわち第２光強度Ｔ２の値が減少したとしても、その原因が、点像が副走査方向に変位したこと（すなわち副走査方向位置が変化したこと）であるか、或いは異物や透過率のばらつき等によるものであるかの区別ができない。
【００４３】
一方、レンズアレイ検査装置１では、第１光制限板４１に形成された第１スリットＳＬ１（図４（Ａ））を、副走査方向の位置に拘わらず主走査方向の幅を一定としている。このため、第１スリットＳＬ１を通過した第１照射光Ｌ１の光量、すなわち第１受光素子４６により生成される第１光強度Ｔ１の値は、副走査方向位置によっては変化せず、レンズ素子１３に対する異物の付着や透過率のばらつき等により変化することになる。
【００４４】
そこでレンズアレイ検査装置１では、第２光強度Ｔ２を第１光強度Ｔ１により規格化した値（以下これを規格化光強度Ｒと呼ぶ）を算出し、この規格化光強度Ｒと副走査方向位置との関係を、予め特性関数として生成しておくようにした。
【００４５】
［１−２−２．特性関数の生成］
次に、特性関数の生成について説明する。ここでは、所定のシミュレーション装置により、レンズアレイ検査装置１の構成に対応したシミュレーション処理を実行し、ロッドレンズアレイ１０の各レンズ素子１３におけるＸ軸を回転中心として傾けることにより、副走査方向位置を様々に変化させ、それぞれの場合における第１光強度Ｔ１及び第２光強度Ｔ２を算出した。
【００４６】
このシミュレーションでは、ロッドレンズアレイ１０に６０個のレンズ素子１３が主走査方向（Ｘ方向）に沿って１列に整列され、且つ各レンズ素子１３におけるＸ軸を中心とした傾きが僅かずつ異なるものとした。すなわち、シミュレーションに用いる副走査方向位置として、図４（Ｂ）における位置Ｓ１から位置Ｓ２までの６０［μｍ］の範囲に、１［μｍ］ごとに６０箇所を設定した。
【００４７】
以下では、副走査方向位置が、位置Ｓ１を基準とした各点像までの距離［μｍ］を表すものとする。このため副走査方向位置は、「１」から「６０」までの値をとることになる。ここで、各レンズ素子１３における主走査方向の位置を横軸とし、副走査方向位置を縦軸とすると、図６に示すようなグラフとして表すことができる。
【００４８】
シミュレーション装置は、まず第１発光器２１からロッドレンズアレイ１０へ第１照射光Ｌ１を照射し、各レンズ素子１３により集光させて点像を形成させ、第１スリットＳＬ１を通過した光を第１受光素子４６により受光させた場合に、当該第１受光素子４６により得られる第１光強度Ｔ１を算出するようにした。その上でシミュレーション装置は、保持部４によりロッドレンズアレイ１０を主走査方向に沿って移動させた場合、すなわち第１照射光Ｌ１により各レンズ素子１３を主走査方向に沿って順次走査した場合に得られる第１光強度Ｔ１を順次算出した。
【００４９】
ここで主走査方向の位置を横軸とし、算出された第１光強度Ｔ１を縦軸としたところ、図７（Ａ）に示すようなグラフが得られた。このグラフから、第１光強度Ｔ１は、第１光軸線ＬＸ１が各レンズ素子１３における主走査方向の中心位置に一致する位置で、それぞれピークを形成している。また第１光強度Ｔ１における各ピークの値（光強度）は、ほぼ同等となった。これは、第１スリットＳＬ１（図４（Ａ））が副走査方向の位置に拘わらず、主走査方向の幅を一定としていることと対応している。
【００５０】
次にシミュレーション装置は、第２発光器２２からロッドレンズアレイ１０へ第２照射光Ｌ２を照射し、各レンズ素子１３により集光させて点像を形成させ、第２スリットＳＬ２を通過した光を第２受光素子４７により受光させた場合に、当該第２受光素子４７により得られる第２光強度Ｔ２を算出するようにした。その上でシミュレーション装置は、同様に保持部４によりロッドレンズアレイ１０を主走査方向に沿って移動させた場合、すなわち第２照射光Ｌ２により各レンズ素子１３を主走査方向に沿って順次走査した場合に得られる第２光強度Ｔ２を順次算出した。
【００５１】
ここで第１光強度Ｔ１の場合と同様に、主走査方向の位置を横軸とし、算出された第２光強度Ｔ２を縦軸としたところ、図７（Ｂ）に示すようなグラフが得られた。このグラフから、第２光強度Ｔ２は、第２光軸線ＬＸ２が各レンズ素子１３における主走査方向の中心位置に一致する位置で、それぞれピークを形成している。また第２光強度Ｔ２における各ピークの値（光強度）は、第１光強度Ｔ１の場合とは異なり、順次変化した。これは、第２スリットＳＬ２（図４（Ｂ））が副走査方向（Ｙ方向）の位置に応じて、主走査方向（Ｘ方向）の幅を変化させていることと対応している。
【００５２】
次にシミュレーション装置は、第１光強度Ｔ１及び第２光強度Ｔ２の双方から各レンズ素子１３とそれぞれ対応するピークを抽出し、第２光強度Ｔ２における各ピーク値を第１光強度Ｔ１おける各ピーク値によってそれぞれ規格化、具体的には除算することにより、レンズ素子１３ごとの規格化光強度Ｒを算出する。
【００５３】
ここで、レンズ素子１３の序列を横軸に設定し、規格化強度Ｒの値を縦軸に設定することにより、図８（Ａ）に示すような特性曲線を描くことができる。この図８（Ａ）における横軸は、レンズ素子１３の序列を表す数字であるが、同時に副走査方向位置を表す数字でもある。すなわち図８（Ａ）の特性曲線は、点像の副走査方向位置と規格化光強度Ｒとの関係を表すものでもある。
【００５４】
この規格化光強度Ｒの特性曲線は、副走査方向位置が１１［μｍ］付近のときに極大値を取り、副走査方向位置が５５［μｍ］付近のときに極小値を取る、３次関数のような曲線となっている。ここで、特性曲線のうち、点像の副走査方向位置と規格化光強度Ｒとが１対１に対応している、いわゆる全単射となるのは、副走査方向位置が１１［μｍ］から５５［μｍ］となる範囲である。以下、この範囲を全単射範囲ＬＲとも呼ぶ。
【００５５】
そこでシミュレーション装置は、規格化光強度Ｒの特性曲線のうち全単射範囲ＬＲに含まれる範囲を抽出し、さらに縦軸と横軸とを入れ替えることにより、図８（Ｂ）の特性曲線を生成する。続いてシミュレーション装置は、この特性曲線を、規格化光強度Ｒの２次関数により副走査方向位置の値［μｍ］を表したものと見なし、所定の近似処理によって２次関数に近似したところ、次の（１）式が得られた。
【００５６】
【数１】
2017020875.tif 000003
【００５７】
ここで、検算の目的で、副走査方向位置が１１［μｍ］から５５［μｍ］となる範囲で、各レンズ素子１３について規格化光強度Ｒを算出し、この規格化光強度Ｒを（１）式に代入して副走査方向位置をそれぞれ算出した。その上で、元の副走査方向位置の値を横軸とし、規格化強度Ｒを用いて（１）式により算出された副走査方向位置の値を縦軸としてプロットしたところ、図８（Ｃ）のような結果が得られた。この図８（Ｃ）において直線性が十分に高いことから、（１）式に規格化強度Ｒを代入することにより副走査方向位置（Ｙ）を精度良く算出できていることが分かる。
【００５８】
このように、シミュレーション装置は、シミュレーションにより算出された第２光強度Ｔ２を第１光強度Ｔ１により規格化して規格化光強度Ｒを算出し、これと副走査方向位置との関係を基に、（１）式の２次関数を生成した。そこでレンズアレイ検査装置１の制御部２（図１）は、規格化光強度Ｒにより副走査方向位置の値を表した（１）式の２次関数を特性関数とし、記憶部５２（図５）に予め記憶させておくようにした。
【００５９】
［１−３．ロッドレンズアレイの検査］
次に、特性関数を記憶したレンズアレイ検査装置１による、ロッドレンズアレイ１０の検査について説明する。このレンズアレイ検査装置１は、ロッドレンズアレイ１０における第１光学面１０Ａを照射面とする場合と、その反対側の第２光学面１０Ｂを照射面とする場合との２通りについて、各レンズ素子１３による副走査方向位置をそれぞれ算出するようになっている（詳しくは後述する）。
【００６０】
レンズアレイ検査装置１（図１）は、まずロッドレンズアレイ１０の第１光学面１０Ａを照射面として、保持部４における保持板３２の副走査方向側（上側）に当該ロッドレンズアレイ１０を保持する。また発光部３は、制御部２の制御に基づき、第１発光器２１及び第２発光器２２からそれぞれ第１照射光Ｌ１及び第２照射光Ｌ２を照射させる。
【００６１】
この状態でレンズアレイ検査装置１は、制御部２における駆動制御部６６（図５）の制御に基づき、保持部４の保持板３２を主走査方向の反対方向へ移動させ、第１光軸線ＬＸ１及び第２光軸線ＬＸ２に各レンズ素子１３を順次走査させる。このとき第１受光素子４６及び第２受光素子４７は、検出した光強度に応じて第１光強度Ｔ１及び第２光強度Ｔ２をそれぞれ生成して制御部２へ供給する。ここで第２光強度Ｔ２は、例えば図９（Ａ）に示すような波形であったものとする。
【００６２】
因みに図９（Ａ）では、主走査方向へ進むに連れて、比較的大きなピークと比較的小さなピークとが、約１５０［μｍ］ごとに交互に出現している。これは、ロッドレンズアレイ１０（図２）における１列目のレンズ素子１３による点像と２列目のレンズ素子１３による点像とを交互に受光していることを意味する。このうち１列目のレンズ素子１３に相当するピークが比較的高いのは、点像が第２スリットＳＬ２（図４（Ｂ））の通過孔Ｈ２における主走査方向の幅が比較的広い部分に位置しているためである。また、２列目のレンズ素子１３に相当するピークが比較的低いのは、副走査方向に関する中心点１３Ｐ同士間隔が２６０［μｍ］であるところ、通過孔Ｈ２が副走査方向に６０［μｍ］周期で配置されており、点像が通過孔Ｈ２における主走査方向の幅が比較的狭い部分に位置しているためである。
【００６３】
制御部２の演算部５１は、まず第１光強度Ｔ１をピーク値検出部６１に供給することにより、第１光強度Ｔ１に多数出現するピーク値である第１光強度ピーク値ＰＴ１をそれぞれ検出し、これらをレンズ素子１３の主走査方向に関する序列（以下、単に序列と呼ぶ）とそれぞれ対応付けて規格化処理部６２に供給する。また演算部５１は、第２光強度Ｔ２をピーク値検出部６１に供給することにより、第２光強度Ｔ２に多数出現するピーク値である第２光強度ピーク値ＰＴ２をそれぞれ検出し、これらを序列とそれぞれ対応付けて規格化処理部６２に供給する。
【００６４】
規格化処理部６２は、各第２光強度ピーク値ＰＴ２を、同一の序列と対応付けられた第１光強度ピーク値ＰＴ１で除算することによりそれぞれ規格化し、これらを規格化光強度Ｒとする。ここで規格化光強度Ｒは、序列を横軸とした場合、図９（Ｂ）に示すようなグラフとして表すことができる。続いて規格化処理部６２は、算出した各規格化光強度Ｒを序列とそれぞれ対応付けて、位置算出部６３に供給する。
【００６５】
位置算出部６３は、記憶部５２から特性関数、すなわち上述した（１）式を読み出し、各規格化光強度Ｒをこの（１）式にそれぞれ代入することによりそれぞれの副走査方向位置を算出する。ここで副走査方向位置は、序列を横軸とした場合、図９（Ｃ）に示すようなグラフとして表すことができる。続いて位置算出部６３は、算出した各副走査方向位置を序列とそれぞれ対応付けて、比較処理部６４に供給する。
【００６６】
次にレンズアレイ検査装置１は、表示部５３（図５）に所定のメッセージを表示する等して、作業者により保持板３２（図１）に対するロッドレンズアレイ１０の載置方向を変更させる。具体的にロッドレンズアレイ１０は、Ｙ軸回りに半回転させ、それまでと反対の光学面、すなわち第２光学面１０Ｂを照射面とさせる。因みにレンズアレイ検査装置１は、以降の処理において、主走査方向に関するレンズ素子１３の序列をこれまでとは逆順とする。
【００６７】
この状態でレンズアレイ検査装置１は、第１光学面１０Ａを照射面として行った一連の処理と同様の処理を繰り返す。具体的に第１受光素子４６及び第２受光素子４７は、第１光強度Ｔ１及び第２光強度Ｔ２をそれぞれ生成してピーク値検出部６１に供給する。ここで第２光強度Ｔ２は、例えば図１０（Ａ）に示すような波形であったものとする。ピーク値検出部６１は、第１光強度ピーク値ＰＴ１及び第２光強度ピーク値ＰＴ２をそれぞれ検出して規格化処理部６２に供給する。
【００６８】
規格化処理部６２は、序列との対応付けを基に、第２光強度ピーク値ＰＴ２により第１光強度ピーク値ＰＴ１を除算することにより、図１０（Ｂ）に示すように規格化光強度Ｒを算出して、これを位置算出部６３に供給する。位置算出部６３は、規格化光強度Ｒを（１）式に代入することにより、図１０（Ｃ）に示すように副走査方向位置を算出して、これを比較処理部６４に供給する。
【００６９】
比較処理部６４は、序列ごとに、ロッドレンズアレイ１０の第１光学面１０Ａを照射面とした場合の副走査方向位置と、第２光学面１０Ｂを照射面とした場合の副走査方向位置とを比較する。具体的に比較処理部６４は、第２光学面１０Ｂを照射面とした場合の副走査方向位置から第１光学面１０Ａを照射面とした場合の副走査方向位置を減算することにより、副走査方向位置同士の差分値を算出する。
【００７０】
ここで差分値が「０」以外の値になった場合、このことはレンズ素子１３の光軸が、Ｚ軸と平行な方向に対し、Ｘ軸を回転中心として副走査方向へ傾いていることを意味する。そこで以下では、この差分値を副走査方向レンズ光軸倒れ量と呼ぶ。ここで序列を横軸に設定し、比較処理部６４により算出された副走査方向レンズ光軸倒れ量を縦軸に設定すると、図１１に示すようなグラフとなる。レンズアレイ検査装置１は、ロッドレンズアレイ１０の検査結果としてこの図１１に示したグラフを表示部５３（図５）に表示させて、一連の検査処理を終了する。
【００７１】
［１−４．効果等］
以上の構成において、第１の実施の形態によるレンズアレイ検査装置１は、第１光制限板４１に主走査方向の幅が一定の第１スリットＳＬ１（図４（Ａ））を設けると共に、第２光制限板４２に副走査方向の位置に応じて主走査方向の幅が変化する第２スリットＳＬ２（図４（Ｂ））を設けた。
【００７２】
レンズアレイ検査装置１は、ロッドレンズアレイ１０のレンズ素子１３がＸ軸回りに回転して傾きを有していた場合、形成される点像の副走査方向位置が変化し、これに応じて第２スリットＳＬ２を通過する光の量が変化するため、このレンズ素子１３の傾きを、第２受光素子４７により得られる光強度の変化として検出することができる。
【００７３】
特に第２スリットＳＬ２（図４（Ｂ））は、最小加工単位が１［μｍ］であり、比較的粗い形状に制限される条件下で製造されており、副走査方向へ１０［μｍ］進むごとに主走査方向の幅が１［μｍ］ずつ狭くなるような、階段状の通過孔Ｈ２とした。これに対し、第２照射光Ｌ２等がレンズ素子１３によって集光されてなる点像は、円形に形成され、半値幅が約９［μｍ］である。
【００７４】
このためレンズアレイ検査装置１では、通過孔Ｈ２における各部の大きさと点像の大きさや光強度分布との関係により、点像が副走査方向へ僅かに移動しただけでも、通過する光量に有意な変化を生じることができる。換言すれば、ロッドレンズアレイ１０では、第２スリットＳＬ２の加工精度をむやみに高める必要が無く、比較的粗い形状であっても、点像の副走査方向位置における僅かな変化に応じて、通過する光量を変化させることができる。
【００７５】
またレンズアレイ検査装置１は、第１スリットＳＬ１を通過した光の強度を表す第１光強度ピーク値ＰＴ１によって第２光強度ピーク値ＰＴ２を規格化することにより、規格化光強度Ｒを算出するようにした。このためレンズアレイ検査装置１では、仮にレンズ素子１３に異物が付着し、或いは透過率のばらつきが生じ、この異物や透過率のばらつき透過率のばらつき等により第２光強度ピーク値ＰＴ２の減少があったとしても、第１光強度ピーク値ＰＴ１にもこの異物や透過率のばらつき等による影響が同様に生じる。このためレンズアレイ検査装置１は、規格化によって異物や透過率のばらつき等の影響を排除できる。
【００７６】
さらにレンズアレイ検査装置１は、副走査方向位置と規格化光強度Ｒとの関係をシミュレーション等により算出し、特性関数を表す（１）式を得て予め記憶部５２（図５）に記憶させるようにした。このためレンズアレイ検査装置１は、得られた規格化光強度Ｒを（１）式に代入するといった比較的単純な演算処理を行うだけで、副走査方向位置を精度良く算出できる。
【００７７】
またレンズアレイ検査装置１では、副走査方向位置と規格化光強度Ｒとの関係を算出した際に、副走査方向位置を規格化光強度Ｒと１対１に対応する全単射範囲ＬＲに制限した（図８（Ａ）、図４（Ｂ））。このためレンズアレイ検査装置１では、規格化光強度Ｒから副走査方向位置を算出する際に複雑な演算処理を行う必要が無く、２次関数のような比較的単純な演算処理を行えば良い。またレンズアレイ検査装置１では、全単射範囲ＬＲを、６０［μｍ］のうち４４［μｍ］という十分に広い範囲に設定した。このためレンズアレイ検査装置１は、この４４［μｍ］の範囲で副走査方向位置を検出することができる。
【００７８】
さらにレンズアレイ検査装置１では、ロッドレンズアレイ１０における両方の光学面をそれぞれ照射面とした場合の副走査方向位置をそれぞれ検出し、その差分を基に副走査方向傾きを算出するようにした（図１１）。このためレンズアレイ検査装置１では、仮にレンズ素子１３が副走査方向に平行な位置ずれを生じていたとしても、双方の副走査方向位置が同等にずれるため、これを副走査方向傾きとして誤検出することがない。
【００７９】
実際上、ロッドレンズアレイ１０では、レンズ素子１３における副走査方向傾きによる像の歪み等が問題となることが多く、レンズ素子１３が平行に位置ずれを生じていたとしても、問題となる可能性が低い。このためレンズアレイ検査装置１は、レンズ素子１３の平行な位置ずれと区別して副走査方向傾きを検出できることで、対処が必要な状態であるか否かを作業者等に正しく通知することができる。
【００８０】
またレンズアレイ検査装置１では、最終的に副走査方向位置同士の差分を利用するため、各レンズ素子１３における副走査方向の絶対的な位置を正確に検出する必要が無く、例えば保持部４の保持板３２に対するロッドレンズアレイ１０の載置作業等においても、高い作業精度を必要とせずに済む。
【００８１】
他の観点から見れば、レンズアレイ検査装置１は、特許文献１に開示されている構成と比較して、第１発光器２１、保持部４、第１光制限板４１及び第１受光素子４６の構成がほぼ同等であり、これに加えて第２発光器２２、第２光制限板４２及び第２受光素子４７を設けた構成とした。このうち第２発光器２２及び第２受光素子４７は、それぞれ第１発光器２１及び第１受光素子４６と同等である。
【００８２】
このためレンズアレイ検査装置１は、特許文献１の構成と比較して、新たに第２光制限板４２を作成すれば良く、既存の第１発光器２１及び第１受光素子４６と同等の部品をそれぞれ第２発光器２２及び第２受光素子４７として利用できる。またレンズアレイ検査装置１は、第１受光素子４６から得られる第１光強度Ｔ１を利用することで、特許文献１と同様に、各レンズ素子１３のＹ軸回りの傾きを検出することもできる。
【００８３】
以上の構成によれば、第１の実施の形態によるレンズアレイ検査装置１は、副走査方向の位置に応じて主走査方向の幅が変化する第２スリットＳＬ２を通過した光の強度を第２光強度Ｔ２とし、これを規格化して規格化光強度Ｒを算出し、この規格化光強度Ｒと副走査方向位置との関係を予め特性関数として求め、記憶するようにした。レンズアレイ検査装置１は、ロッドレンズアレイ１０を検査する場合、検査対象のレンズ素子１３及び第２スリットＳＬ２を通過した光の強度を表す第２光強度Ｔ２を規格化して規格化光強度Ｒを算出し、これを特性関数に適用するだけで、副走査方向位置を精度良く算出することができる。
【００８４】
［２．第２の実施の形態］
［２−１．レンズアレイ検査装置の構成］
図１と対応する図１２に示すように、第２の実施の形態によるレンズアレイ検査装置１０１は、第１の実施の形態における制御部２、発光部３及び受光部５に代えて、制御部１０２、発光部１０３及び受光部１０５を有する点において相違するものの、保持部４については同様に構成されている。
【００８５】
発光部１０３は、第１の実施の形態による発光部３と比較して、第３発光器１２３が追加されている点において相違するものの、第１発光器２１及び第２発光器２２については同様に構成されている。第３発光器１２３は、第１発光器２１及び第２発光器２２と同様に構成されており、第２発光器２２から主走査方向の反対方向へ所定間隔だけ離れた箇所に設けられ、平行光でなる第３照射光Ｌ３を光照射方向に照射する。この第３照射光Ｌ３の光軸の延長線である第３光軸線ＬＸ３は、光照射方向に沿っており、第１光軸線ＬＸ１及び第２光軸線ＬＸ２と平行であり、且つ副走査方向の位置が同等となっている。
【００８６】
受光部１０５は、第１の実施の形態による受光部５と比較して、第２光制限板４２に変わる第２光制限板１４２を有することに加えて、第３光制限板１４３及び第３受光素子１４８を有する点において相違するものの、他の点については同様に構成されている。
【００８７】
第２光制限板１４２は、図４（Ｂ）と対応する図１３（Ａ）に示すように、主走査方向のほぼ中央に第２スリットＳＬ１２が形成されている。第２スリットＳＬ１２は、通過孔Ｈ２に代わる通過孔Ｈ１２が、副走査方向に関して６０［μｍ］ごとに繰り返し出現する、周期的な通過パターンにより構成されている。
【００８８】
この第２スリットＳＬ１２は、第１スリットＳＬ１（図４（Ａ））において、副走査方向に沿って、振幅が５［μｍ］であり周期が６０［μｍ］である正弦波を、１辺が１［μｍ］の格子により量子化し、この正弦波よりも主走査方向側（＋Ｘ側）の部分を閉塞してその反対側（−Ｘ側）の部分を通過孔Ｈ１２とした。各通過孔Ｈ１２は、副走査方向に関し中央の部分において、１７［μｍ］の長さに渡り、主走査方向の幅が最も長い５［μｍ］となっており、＋副走査方向及び−副走査方向（すなわち図の上方向及び下方向）へそれぞれ３［μｍ］又は４［μｍ］進むごとに、主走査方向の幅が１［μｍ］ずつ狭まっている。
【００８９】
第３光制限板１４３（図１２）は、第２光制限板１４２に対し主走査方向の反対方向へ所定距離だけ離れた箇所に設けられており、主走査方向に関し第３光軸線ＬＸ３と一致する位置に、図１３（Ａ）と対応する図１３（Ｂ）に示すように第３スリットＳＬ１３が形成されている。第３スリットＳＬ１３は、通過孔Ｈ１２に代わる通過孔Ｈ１３が、副走査方向に関して６０［μｍ］ごとに繰り返し出現する、周期的な通過パターンにより構成されている。
【００９０】
この第３スリットＳＬ１３は、第１スリットＳＬ１（図４（Ａ））において、副走査方向に沿って、振幅が５［μｍ］であり周期が６０［μｍ］である余弦波を、１辺が１［μｍ］の格子により量子化し、この余弦波よりも主走査方向側（＋Ｘ側）の部分を閉塞してその反対側（−Ｘ側）の部分を通過孔Ｈ１３とした。このため各通過孔Ｈ１３は、一般的な三角関数の性質により、各通過孔Ｈ１２と同一の形状であり、また副走査方向と反対方向に１５［μｍ］、すなわち１／４周期だけずれた位置に設けられている。
【００９１】
第３受光素子１４８は、第１受光素子４６及び第２受光素子４７と同様、第３光制限板１４３の光照射方向側に近接して配置されており、当該第３光制限板１４３を通過した光を受光し、その光強度を表す値である第３光強度Ｔ３を生成して、これを制御部１０２へ供給する。
【００９２】
制御部１０２は、図５と対応する図１４に示すように、第１の実施の形態と比較して、演算部５１及び記憶部５２に代わる演算部１５１及び記憶部１５２を有する点において相違するものの、他の点については同様に構成されている。演算部１５１は、演算部５１と比較して、ピーク値検出部６１、規格化処理部６２及び位置算出部６３に代わるピーク値検出部１６１、規格化処理部１６２及び位置算出部１６３（何れも詳しくは後述する）を有する点において相違するものの、比較処理部６４については同様に構成されている。
【００９３】
［２−２．基本原理］
次に、レンズアレイ検査装置１０１により各レンズ素子１３の副走査方向位置を算出する基本原理を説明する。レンズアレイ検査装置１０１では、第１の実施の形態と同様の理由により、レンズ素子１３がＸ軸回りに傾く等して、第２照射光Ｌ２による点像の副走査方向位置が第２光軸線ＬＸ２から副走査方向に変位した場合、この副走査方向位置に応じて、第２スリットＳＬ１２を通過する光の光量が変化する。また、第３照射光Ｌ３による点像の副走査方向位置が第３光軸線ＬＸ３から副走査方向に変位した場合にも、副走査方向位置に応じて、第３スリットＳＬ１３を通過する光の光量が変化する。
【００９４】
ここで、第１の実施の形態におけるシミュレーションと同様に、ロッドレンズアレイ１０に６０個のレンズ素子１３が主走査方向（Ｘ方向）に沿って１列に整列され、且つ各レンズ素子１３におけるＸ軸回りの傾きが僅かずつ相違し、点像の副走査方向位置が１［μｍ］ずつ異なる場合を想定する（図６）。
【００９５】
まず、第１照射光Ｌ１により各レンズ素子１３を主走査方向に沿って順次走査した場合、第１光強度Ｔ１は、第１の実施の形態と同様、各レンズ素子１３の位置ごとにピークを形成する（図７（Ａ））。第１光強度Ｔ１における各ピークの値は、何れもほぼ同等である。
【００９６】
次に、第２照射光Ｌ２により各レンズ素子１３を主走査方向に沿って順次走査した場合、第２光強度Ｔ２は、図７（Ｂ）と対応する図１５（Ａ）に示すように、各レンズ素子１３の位置ごとにピークを形成する。ただし第２の実施の形態では、第２スリットＳＬ１２が、副走査方向に沿った正弦波に基づいた形状であることから、第２光強度Ｔ２の各ピークも、主走査方向の位置に応じて、正弦波状に変化する。
【００９７】
さらに、第３照射光Ｌ３により各レンズ素子１３を主走査方向に沿って順次走査した場合、第３光強度Ｔ３は、図１５（Ａ）と対応する図１５（Ｂ）に示すように、各レンズ素子１３の位置ごとにピークを形成する。この第３光強度Ｔ３の場合、第３スリットＳＬ１３が副走査方向に沿った余弦波に基づいた形状であることから、各ピークも主走査方向の位置に応じて余弦波状に変化する。
【００９８】
続いて、第２光強度Ｔ２及び第３光強度Ｔ３の各ピーク値を、第１光強度Ｔ１の各ピーク値で規格化することにより第２規格化光強度Ｒ２及び第３規格化光強度Ｒ３とし、これらをレンズ素子１３の序列と対応付けてそれぞれプロットすると、図１６（Ａ）のようなグラフとなる。
【００９９】
ところで第２スリットＳＬ１２（図１３（Ａ））は、第１スリットＳＬ１（図４（Ａ））の幅に収まる正弦波に基づいた形状であるため、光を透過する面積の比率が、第１スリットＳＬ１の半分となっている。このため第１光強度Ｔ１の各ピーク値により規格化された第２光強度Ｔ２の各ピーク値は、値０．５を中心として０から１までの範囲内で変動する正弦波となる。これと同様に、第３光強度Ｔ３の各ピーク値は、値０．５を中心として０から１までの範囲内で変動する余弦波となる。実際上、図１６（Ａ）においても、第２規格化光強度Ｒ２がほぼ正弦波となり、また第３規格化光強度Ｒ３がほぼ余弦波となっていることが分かる。
【０１００】
ここで、図１６（Ａ）における横軸は、点像の序列であるが、第１の実施の形態と同様、図６に示した関係から、副走査方向位置を表す値ともなっている。そこで、図１６（Ａ）における横軸を表す変数をＹとすると、第２規格化光強度Ｒ２は、副走査方向位置（すなわちＹ）の関数として、次の（２）式のように表すことができる。
【０１０１】
【数２】
2017020875.tif 000004
【０１０２】
これと同様に、第３規格化光強度Ｒ３は、副走査方向位置の関数として、次の（３）式のように表すことができる。
【０１０３】
【数３】
2017020875.tif 000005
【０１０４】
ところで、図１６（Ａ）を再び参照すると、第２規格化光強度Ｒ２は、正弦の性質により、値「０」及び「１」の場合を除いて、２箇所の副走査方向位置において、同一の値となる。例えば第２規格化光強度Ｒ２の値が「０．５」となるのは、副走査方向位置がおよそ０及び３０の２箇所である。このため、第２規格化光強度Ｒ２の値が得られたとしても、この値のみから副走査方向位置（Ｙ）を一意に定めることはできない。余弦である第３規格化光強度Ｒ３についても同様である。
【０１０５】
しかしながら、三角関数の性質上、副走査方向位置を変数とした正弦及び余弦の値がそれぞれ定まると、正接の逆関数を利用することにより、そのときの角度若しくは位相、すなわち副走査方向位置（Ｙ）を一意に定めることができる。具体的には、まず（２）式及び（３）式をそれぞれ変形することにより、（４）式及び（５）式が得られる。
【０１０６】
【数４】
2017020875.tif 000006
【数５】
2017020875.tif 000007
【０１０７】
この（４）式及び（５）式から、正弦及び余弦と正接との関係を利用することにより、次の（６）式を得ることができる。
【０１０８】
【数６】
2017020875.tif 000008
【０１０９】
さらに、この（６）式の正接を逆関数とすることにより、次の（７）式が得られる。
【０１１０】
【数７】
2017020875.tif 000009
【０１１１】
最後に、この（７）式をＹについて整理すると、次の（８）式が得られる。
【０１１２】
【数８】
2017020875.tif 000010
【０１１３】
すなわち、第２規格化光強度Ｒ２及び第３規格化光強度Ｒ３の値が得られた場合、これらを（８）式に代入することにより、副走査方向位置（Ｙ）を一意に算出することができる。
【０１１４】
ここで、第１の実施の形態と同様に、検算の目的で、副走査方向位置が１［μｍ］から６０［μｍ］となる範囲で、各レンズ素子１３について第２規格化光強度Ｒ２及び第３規格化光強度Ｒ３をそれぞれ算出し、これらを（８）式に代入することにより副走査方向位置を算出した。その上で、元の副走査方向位置の値を横軸とし、（８）式により算出された副走査方向位置の値を縦軸としてプロットしたところ、図１６（Ｂ）のような結果が得られた。この図１６（Ｂ）から、副走査方向位置が１［μｍ］から６０［μｍ］となる全範囲において、副走査方向位置の値を精度良く算出できていることが分かる。
【０１１５】
そこでレンズアレイ検査装置１０１の制御部１０２（図１２）は、第２規格化光強度Ｒ２及び第３規格化光強度Ｒ３により副走査方向位置の値を表す（８）式を、記憶部１５２に予め記憶させておくようにした。
【０１１６】
［２−３．ロッドレンズアレイの検査］
次に、特性関数を記憶したレンズアレイ検査装置１０１による、ロッドレンズアレイ１０の検査について説明する。このレンズアレイ検査装置１０１は、第１の実施の形態と同様、ロッドレンズアレイ１０における第１光学面１０Ａを照射面とする場合と、第２光学面１０Ｂを照射面とする場合との２通りについて、各レンズ素子１３による副走査方向位置をそれぞれ算出する。
【０１１７】
レンズアレイ検査装置１０１（図１２）は、まずロッドレンズアレイ１０の第１光学面１０Ａを照射面として、保持部４における保持板３２の副走査方向側（上側）に当該ロッドレンズアレイ１０を保持する。また発光部１０３は、制御部１０２の制御に基づき、第１発光器２１、第２発光器２２及び第３発光器１２３からそれぞれ第１照射光Ｌ１、第２照射光Ｌ２及び第３照射光Ｌ３をそれぞれ照射させる。
【０１１８】
この状態でレンズアレイ検査装置１０１は、制御部１０２における駆動制御部６６の制御に基づき、保持部４の保持板３２を主走査方向の反対方向へ移動させ、第１光軸線ＬＸ１、第２光軸線ＬＸ２及び第３光軸線ＬＸ３に各レンズ素子１３を順次走査させる。このとき第１受光素子４６、第２受光素子４７及び第３受光素子１４８は、検出した光強度に応じて第１光強度Ｔ１、第２光強度Ｔ２及び第３光強度Ｔ３をそれぞれ生成して制御部１０２へ供給する。ここで第２光強度Ｔ２及び第３光強度Ｔ３は、例えば図１７（Ａ）及び（Ｂ）にそれぞれ示すような波形であったものとする。
【０１１９】
制御部１０２の演算部１５１は、第１光強度Ｔ１をピーク値検出部１６１に供給することにより、第１光強度Ｔ１に多数出現するピーク値である第１光強度ピーク値ＰＴ１をそれぞれ検出し、これらをレンズ素子１３の主走査方向に関する序列とそれぞれ対応付けて規格化処理部１６２に供給する。また演算部１５１は、第２光強度Ｔ２及び第３光強度Ｔ３をそれぞれピーク値検出部１６１に供給することにより、第２光強度Ｔ２及び第３光強度Ｔ３にそれぞれ多数出現するピーク値である第２光強度ピーク値ＰＴ２及び第３光強度ピーク値ＰＴ３をそれぞれ検出し、これらを序列とそれぞれ対応付けて規格化処理部１６２に供給する。
【０１２０】
規格化処理部１６２は、各第２光強度ピーク値ＰＴ２及び各第３光強度ピーク値ＰＴ３を、同一の序列と対応付けられた第１光強度ピーク値ＰＴ１でそれぞれ除算することによりそれぞれ規格化し、これらを第２規格化光強度Ｒ２及び第３規格化光強度Ｒ３とする。ここで第２規格化光強度Ｒ２及び第３規格化光強度Ｒ３は、序列を横軸とした場合、図１７（Ｃ）に示すようなグラフとして表すことができる。続いて規格化処理部１６２は、算出した各第２規格化光強度Ｒ２及び各第３規格化光強度Ｒ３を序列とそれぞれ対応付けて、位置算出部１６３に供給する。
【０１２１】
位置算出部１６３は、記憶部１５２から（８）式を読み出し、各第２規格化光強度Ｒ２及び各第３規格化光強度Ｒ３をこの（８）式にそれぞれ代入することによりそれぞれの副走査方向位置を算出する。ここで副走査方向位置は、序列を横軸とした場合、図１７（Ｄ）に示すようなグラフとして表すことができる。続いて位置算出部１６３は、算出した各副走査方向位置を序列とそれぞれ対応付けて、比較処理部６４に供給する。
【０１２２】
次にレンズアレイ検査装置１０１は、第１の実施の形態と同様、作業者によりロッドレンズアレイ１０をＹ軸回りに半回転させ、それまでと反対の光学面、すなわち第２光学面１０Ｂを照射面とさせる。この状態でレンズアレイ検査装置１０１は、第１光学面１０Ａを照射面として行った一連の処理と同様の処理を繰り返す。
【０１２３】
これによりレンズアレイ検査装置１０１は、例えば図１８（Ａ）及び（Ｂ）に示すような第２光強度Ｔ２及び第３光強度Ｔ３をそれぞれピーク値検出部１６１に供給し、図１８（Ｃ）に示すような第２規格化光強度Ｒ２及び第３規格化光強度Ｒ３をそれぞれ算出する。さらにレンズアレイ検査装置１０１は、第２規格化光強度Ｒ２及び第３規格化光強度Ｒ３を（８）式にそれぞれ代入して、図１８（Ｄ）に示すような副走査方向位置をそれぞれ算出し、これを比較処理部６４に供給する。
【０１２４】
比較処理部６４は、第１の実施の形態と同様、序列ごとに、第２光学面１０Ｂを照射面とした場合の副走査方向位置から第１光学面１０Ａを照射面とした場合の副走査方向位置を減算することにより、副走査方向位置同士の差分値をそれぞれ算出し、副走査方向レンズ光軸倒れ量とする。最後にレンズアレイ検査装置１０１は、ロッドレンズアレイ１０の検査結果として図１９に示す副走査方向レンズ光軸倒れ量のグラフを表示部５３（図１４）に表示させて、一連の検査処理を終了する。
【０１２５】
［２−４．効果等］
以上の構成において、第２の実施の形態によるレンズアレイ検査装置１０１は、第２光制限板１４２に副走査方向（Ｙ方向）の位置に応じて主走査方向（Ｘ方向）の幅が正弦波状に変化する第２スリットＳＬ１２を設けた。またレンズアレイ検査装置１０１は、第３光制限板１４３に副走査方向の位置に応じて主走査方向の幅が余弦波状に変化する第３スリットＳＬ１３を設けた（図１３（Ａ）及び（Ｂ））。
【０１２６】
レンズアレイ検査装置１０１では、ロッドレンズアレイ１０のレンズ素子１３がＸ軸回りに回転して傾きを有していた場合、形成される点像の副走査方向位置が変化し、これに応じて第２スリットＳＬ１２及び第３スリットＳＬ１３をそれぞれ通過する光の量が変化する。このためレンズアレイ検査装置１０１は、このレンズ素子１３の傾きを、第２受光素子４７及び第３受光素子１４８により得られる光強度の変化としてそれぞれ検出することができる。
【０１２７】
特にレンズアレイ検査装置１０１では、第２スリットＳＬ１２を副走査方向に沿った正弦波に基づいた形状とし、且つ第３スリットＳＬ１３を副走査方向に沿った余弦波に基づいた形状、すなわち第２スリットＳＬ１２と１／４周期だけ副走査方向にずれた形状とした。このためレンズアレイ検査装置１０１では、副走査方向ずれ量に応じて、第２規格化光強度Ｒ２及び第３規格化光強度Ｒ３がそれぞれ正弦波及び余弦波のように変化する（図１６（Ａ））。これを踏まえてレンズアレイ検査装置１０１は、正接の逆関数を利用した（８）式に従った演算を行うことにより、第２規格化光強度Ｒ２及び第３規格化光強度Ｒ３から一意の副走査方向位置を算出することができる。
【０１２８】
他の観点から見ると、レンズアレイ検査装置１０１では、２個の変数（第２規格化光強度Ｒ２及び第３規格化光強度Ｒ３）を基に正接の逆関数を用いることにより、副走査方向位置を算出するようにした。このためレンズアレイ検査装置１０１では、第１の実施の形態のように、事前に（１）式のような規格化光強度Ｒと副走査方向の位置との関係を表す特性関数を用意する必要が無い。
【０１２９】
またレンズアレイ検査装置１０１では、三角関数の性質により、１周期の間であれば、正弦の値及び余弦の値から角度若しくは位相（すなわち副走査方向位置）を一意に定めることができる。このためレンズアレイ検査装置１０１では、第１の実施の形態のように全単射範囲ＬＲ（図８（Ａ））に制限すること無く、１周期である６０［μｍ］の全範囲において、第２規格化光強度Ｒ２及び第３規格化光強度Ｒ３から副走査方向位置を算出できる。
【０１３０】
その他の点においても、レンズアレイ検査装置１０１は、第１の実施の形態によるレンズアレイ検査装置１と同様の作用効果を奏し得る。
【０１３１】
以上の構成によれば、第２の実施の形態によるレンズアレイ検査装置１０１は、第２スリットＳＬ１２及び第３スリットＳＬ１３において、副走査方向の位置に応じて主走査方向の幅を正弦波状及び余弦波状にそれぞれ変化させるようにした。レンズアレイ検査装置１０１は、第２スリットＳＬ１２及び第３スリットＳＬ１３をそれぞれ通過した光の強度をそれぞれ第２光強度Ｔ２及び第３光強度Ｔ３とし、これらを規格化して第２規格化光強度Ｒ２及び第３規格化光強度Ｒ３を算出する。そしてレンズアレイ検査装置１０１は、第２規格化光強度Ｒ２及び第３規格化光強度Ｒ３をそれぞれ正弦及び余弦と見なした正接の逆関数を算出することで、事前に特性関数を求める必要なく、副走査方向位置を精度良く算出できる。
【０１３２】
［３．他の実施の形態］
なお上述した第１の実施の形態においては、第２光制限板４２（図４（Ｂ））において、第２スリットＳＬ２における副走査方向（Ｙ方向）の位置に応じて主走査方向（Ｘ方向）の幅を変化させる場合について述べた。しかしながら本発明はこれに限らず、例えば副走査方向の位置に応じて微小な点や線等の集合密度を変化させても良く、或いは色の濃度を変化させても良い。或いは、例えば図２０に示すように、副走査方向に沿って大きさの異なる複数の通過孔を設けても良い。要は、副走査方向の位置に応じて光の通過量を変化させることができれば良い。第２の実施の形態についても同様である。
【０１３３】
また上述した第１の実施の形態においては、第２スリットＳＬ２（図４（Ｂ））における主走査方向の幅を、副走査方向に１０［μｍ］移動するごとに１［μｍ］ずつ変化させる場合について述べた。しかしながら本発明はこれに限らず、スリットの加工精度等に応じて、第２スリットＳＬ２において、副走査方向に任意の距離だけ進むごとに主走査方向の幅を任意の間隔ずつ変化させても良い。この場合、点像の光強度分布（図３）における半値幅（例えば約９「μｍ」）に応じて、この点像が副走査方向に変位したときに第２スリットＳＬ２を通過する光の光量が有意に変化するもの、すなわち第２光強度Ｔ２の値の変化として検出し得るものであれば良い。第２の実施の形態についても同様である。
【０１３４】
さらに上述した第１の実施の形態においては、第２スリットＳＬ２における主走査方向の幅を、副走査方向に１０［μｍ］移動するごとに１［μｍ］ずつ狭める場合、すなわち副走査方向の位置に応じて線形に変化させ、特性関数を規格化光強度Ｒの２次関数とする場合について述べた。しかしながら本発明はこれに限らず、例えば第２スリットＳＬ２における主走査方向の幅を、副走査方向の位置に応じて非線形に変化させることにより、特性関数を規格化光強度Ｒの１次関数や３次以上の関数としても良い。特に１次関数とした場合には、副走査方向位置の算出に要する処理負荷を大幅に軽減できる。
【０１３５】
さらに上述した第１の実施の形態においては、第１スリットＳＬ１を形成した第１光制限板４１とは別に、第２スリットＳＬ２を形成した第２光制限板４２を設ける場合について述べた。しかしながら本発明はこれに限らず、例えば図４と対応する図２１に示すように、１枚の光制限板３４１における主走査方向に離れた箇所に、第１スリットＳＬ１及び第２スリットＳＬ２をそれぞれ形成しても良い。この場合、主走査方向の間隔は、点像（図３）の有効な直径である約３０［μｍ］よりも十分に大きく、且つロッドレンズアレイ１０（図２）における異なる列同士での主走査方向に関する中心点１３Ｐ同士の間隔である１５０［μｍ］よりも十分に小さい値であれば良く、例えば４０［μｍ］とすることができる。第２の実施の形態においても、例えば図１３と対応する図２２のように、１枚の光制限板４４１における主走査方向に互いに離れた箇所に、第１スリットＳＬ１、第２スリットＳＬ１２及び第３スリットＳＬ１３をそれぞれ形成しても良い。
【０１３６】
この光制限板３４１（図２１）を用いる場合、レンズアレイ検査装置１は、発光部３の第２発光器２２及び受光部５の第２受光素子４７をそれぞれ省略できる。また、受光素子により得られる光強度Ｔには、図２３（Ａ）に示すように、１個のレンズ素子１３と対応して、第１スリットＳＬ１に起因したピークと第２スリットＳＬ２に起因したピークとが連続的に出現する。このため制御部２のピーク値検出部６１（図５）では、これらのピーク値を順次検出すると共に、その出現順序や大きさ等を基に、それぞれ第１光強度ピーク値ＰＴ１及び第２光強度ピーク値ＰＴ２として検出すれば良い。光制限板４４１（図２２）を用いる場合には、図２３（Ｂ）に示すように、１個のレンズ素子１３と対応して３個のピークが順次出現するため、これらを順次検出すれば良い。
【０１３７】
さらに上述した第１の実施の形態においては、第１スリットＳＬ１における主走査方向の幅と、第２スリットＳＬ２における主走査方向の最大幅とを５［μｍ］に揃える場合について述べた。しかしながら本発明はこれに限らず、両者を相違させても良い。第２の実施の形態における第１スリットＳＬ１、第２スリットＳＬ１２及び第３スリットＳＬ１３についても同様である。ただし、第２スリットＳＬ１２及び第３スリットＳＬ１３については、計算の都合上、互いの主走査方向の最大幅を揃えることが望ましい。
【０１３８】
さらに上述した第１の実施の形態においては、第２スリットＳＬ２における副走査方向の周期を６０［μｍ］とする場合について述べた。しかしながら本発明はこれに限らず、副走査方向の周期を任意の値としても良い。この場合、この周期に応じて、副走査方向位置の検出可能な長さが定まるため、必要な範囲内で長く設定すれば良い。第２の実施の形態についても同様である。
【０１３９】
さらに上述した第１の実施の形態においては、第１光制限板４１における副走査方向の全範囲に渡って第１スリットＳＬ１を形成し、また第２光制限板４２における副走査方向の全範囲に渡って、通過孔Ｈ２が周期的に繰り返し出現する第２スリットＳＬ２を形成する場合について述べた。しかしながら本発明はこれに限らず、例えばロッドレンズアレイ１０の各列におけるレンズ素子１３の中心点１３Ｐと対応する範囲、すなわち形成される点像がレンズ素子１３の傾きに応じて副走査方向へ変位する範囲にのみ、第１スリットＳＬ１及び第２スリットＳＬ２をそれぞれ形成しても良い。或いは、１列分のレンズ素子１３に対応する範囲にのみ第１スリットＳＬ１及び第２スリットＳＬ２をそれぞれ形成し、検査処理を１列ずつに分けて行っても良い。第２の実施の形態についても同様である。
【０１４０】
さらに上述した第１の実施の形態においては、ロッドレンズアレイ１０（図２）において、レンズ素子１３を副走査方向に２列重ねた構成とする場合について述べた。しかしながら本発明はこれに限らず、レンズ素子１３を副走査方向に１列のみとし、又は３列重ねた構成としても良い。ただし３列以上の場合、稠密積みの性質上、１列おきにレンズ素子１３の主走査方向に関する位置が重複するため、第１スリットＳＬ１及び第２スリットＳＬ２を形成する範囲を、２列分以下に制限することが好ましい。第２の実施の形態についても同様である。
【０１４１】
さらに上述した第１の実施の形態においては、ロッドレンズアレイ１０の第１光学面１０Ａ及び第２光学面１０Ｂをそれぞれ照射面とした場合について、規格化光強度Ｒを用いて副走査方向位置を算出した後、副走査方向レンズ光軸倒れ量を算出する場合について述べた（図９、図１０及び図１１）。しかしながら本発明はこれに限らず、例えば一方の光学面を照射面とした場合についてのみ、規格化光強度Ｒを用いて副走査方向位置を算出し、この副走査方向位置を検査結果として表示部５３（図５）に表示しても良い。この場合、この検査結果を基に、副走査方向位置の絶対値や、主走査方向に沿った複数のレンズ素子１３における副走査方向位置の変動等を確認することができる。或いは、第１の実施の形態において、副走査方向レンズ光軸倒れ量（図１１）と併せて、各光学面を照射面とした場合の各副走査方向位置（図９（Ｃ）及び図１０（Ｃ））を表示部５３に表示しても良い。第２の実施の形態についても同様である。
【０１４２】
さらに上述した第１の実施の形態においては、制御部２（図５）において所定の検査プログラムを実行することにより、演算部５１内にピーク値検出部６１等の機能ブロックを形成する場合について述べた。しかしながら本発明はこれに限らず、例えばハードウェアによりピーク値検出部６１等を構成しても良く、或いは両者を混在させても良い。第２の実施の形態についても同様である。
【０１４３】
さらに上述した第１の実施の形態においては、保持部４によりロッドレンズアレイ１０を主走査方向に沿って移動させることにより、第１照射光Ｌ１及び第２照射光Ｌ２によって複数のレンズ素子１３を順次走査する場合について述べた。しかしながら本発明はこれに限らず、例えば保持部４によりロッドレンズアレイ１０を固定しておき、発光部３及び受光部５を一体として主走査方向へ移動させることにより、第１照射光Ｌ１及び第２照射光Ｌ２によって複数のレンズ素子１３を順次走査するようにしても良い。第２の実施の形態についても同様である。
【０１４４】
さらに上述した第１の実施の形態においては、ロッドレンズアレイ１０の第１光学面１０Ａを照射面として副走査方向位置を算出した後、作業者等の作業により当該ロッドレンズアレイ１０をＹ軸回りに半回転させて、第２光学面１０Ｂを照射面として副走査方向位置を算出する場合について述べた。しかしながら本発明はこれに限らず、例えば保持部４に保持板３２を半回転させる機能を持たせることにより、当該保持板３２と一体にロッドレンズアレイ１０をＹ軸回りに半回転させても良い。第２の実施の形態についても同様である。
【０１４５】
さらに上述した第１の実施の形態においては、シミュレーションにより得られた第１光強度Ｔ１及び第２光強度Ｔ２（図７）を利用することにより（１）式を生成する場合について述べた。しかしながら本発明はこれに限らず、例えばレンズ素子１３による点像の副走査方向位置が図６に示したように１［μｍ］ずつ異なる検査用のロッドレンズアレイを用意し、これを用いて得られた第１光強度Ｔ１及び第２光強度Ｔ２（図７）を利用することにより（１）式を生成しても良い。
【０１４６】
さらに本発明は、上述した各実施の形態及び他の実施の形態に限定されるものではない。すなわち本発明は、上述した各実施の形態と上述した他の実施の形態の一部又は全部を任意に組み合わせた実施の形態や、一部を抽出した実施の形態にもその適用範囲が及ぶものである。
【０１４７】
さらに上述した実施の形態においては、発光部としての発光部３と、受光部としての第１受光素子４６及び第２受光素子４７と、第１光制限部としての第１光制限板４１と、第２光制限部としての第２光制限板４２と、算出部としての制御部２とによってレンズアレイ検査装置としてのレンズアレイ検査装置１を構成する場合について述べた。しかしながら本発明はこれに限らず、その他種々の構成でなる発光部と、受光部と、第１光制限部と、第２光制限部と、算出部とによってレンズアレイ検査装置を構成しても良い。
【産業上の利用可能性】
【０１４８】
本発明は、例えばＬＥＤ（Light Emitting Diode）方式の画像形成装置に搭載されるロッドレンズアレイを検査するレンズアレイ検査装置に利用できる。
【符号の説明】
【０１４９】
１、１０１……レンズアレイ検査装置、２、１０２……制御部、３、１０３……発光部、４……保持部、５、１０５……受光部、１０……ロッドレンズアレイ、１０Ａ……第１光学面、１０Ｂ……第２光学面、１３……レンズ素子、１３Ｐ……中心点、２１……第１発光器、２２……第２発光器、３２……保持板、４１……第１光制限板、４２……第２光制限板、４６……第１受光素子、４７……第２受光素子、５１、１５１……演算部、５２、１５２……記憶部、６１、１６１……ピーク値検出部、６２、１６２……規格化処理部、６３、１６３……位置算出部、６４……比較処理部、１２３……第３発光器、１４２……第２光制限板、１４３……第３光制限板、１４８……第３受光素子、Ｈ２、Ｈ１２、Ｈ１３……通過孔、Ｌ１……第１照射光、Ｌ２……第２照射光、Ｌ３……第３照射光、ＬＲ……全単射範囲、ＳＬ１……第１スリット、ＳＬ２……第２スリット、ＳＬ１２……第２スリット、ＳＬ１３……第３スリット、Ｔ１……第１光強度、Ｔ２……第２光強度、Ｔ３……第３光強度。
【図１】
2017020875.tif 000011
【図２】
2017020875.tif 000012
【図３】
2017020875.tif 000013
【図４】
2017020875.tif 000014
【図５】
2017020875.tif 000015
【図６】
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【図７】
2017020875.tif 000017
【図８】
2017020875.tif 000018
【図９】
2017020875.tif 000019
【図１０】
2017020875.tif 000020
【図１１】
2017020875.tif 000021
【図１２】
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【図１３】
2017020875.tif 000023
【図１４】
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【図１５】
2017020875.tif 000025
【図１６】
2017020875.tif 000026
【図１７】
2017020875.tif 000027
【図１８】
2017020875.tif 000028
【図１９】
2017020875.tif 000029
【図２０】
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【図２１】
2017020875.tif 000031
【図２２】
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【図２３】
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