(57)【要約】      （修正有）【課題】光路変換ミラーの形成が容易で、形成時間の短縮、位置精度、深さの制御が達成され、多形状の光路変換ミラーが形成できる光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】下部クラッド層１、コアパターン２、上部クラッド層３を備え、コアパターン２に傾斜面からなる光路変換ミラー４を有する光導波路の製造方法であって、活性光線の露光により、コアパターン形状の露光部を形成するとともに、光路変換ミラー４の形成箇所に微小面積の未露光部を形成する工程、現像により、コアパターン２を形成するとともに、微小面積の未露光部に光路変換ミラー４となる傾斜面を有する凹部を形成する工程、を備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部クラッド層、コアパターン、上部クラッド層を備え、前記コアパターンに傾斜面からなる光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法であって、
活性光線の露光により、コアパターン形状の露光部を形成するとともに、光路変換ミラーの形成箇所に微小面積の未露光部を形成する工程、
現像により、コアパターンを形成するとともに、前記微小面積の未露光部に光路変換ミラーとなる傾斜面を有する凹部を形成する工程、
を備える、光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法。
【請求項２】
微小面積の未露光部が、コアパターンの長手方向に５〜１００μｍ幅である、請求項１に記載の光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法。
【請求項３】
前記光路変換ミラーとなる傾斜面を有する凹部の底が、前記コアパターンの下面まで達するように形成される、請求項１又は２に記載の光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法。
【請求項４】
前記光路変換ミラーとなる傾斜面を有する凹部の底が、前記コアパターンの下面より上方に設けられ、前記コアパターンを伝搬する光の一部が、前記光路変換ミラーによって光路変換され、残りの光の少なくとも一部が、前記光路変換ミラーと前記コアパターンの下面間を通過し、伝搬されるように形成される、請求項１又は２に記載の光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法。
【請求項５】
前記光路変換ミラーとなる傾斜面を有する凹部が、１つのコアパターンに２ヶ所以上設けられる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法。
【請求項６】
１つのコアパターンに設けられた２ヶ所以上の光路変換ミラーとなる傾斜面を有する凹部が、少なくとも２種類以上の深さの異なる凹部となるように形成される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法。
【請求項７】
前記光路変換ミラーを下部クラッド層法線方向から見たときの形状が、直線、円又は円弧のいずれか又は、それらから選ばれる一以上の組み合わせであるように形成される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
情報容量の増大に伴い、幹線やアクセス系といった通信分野のみならず、ルータやサーバ内の情報処理にも光信号を用いる光インターコネクション技術の開発が進められている。特に、ルータやサーバ装置内のボード間あるいはボード内の短距離信号伝送に光を用いるための光伝送路としては、光ファイバに比べ、配線の自由度が高く、かつ高密度化が可能な光導波路を用いることが望ましく、中でも、加工性や経済性に優れたポリマー材料を用いた光導波路が有望である。
【０００３】
光導波路を簡便かつ高精度に形成する方法の１つとして、露光・現像によりパターンを形成する方法が知られている。ここで、露光プロセスは光照射部の感光性樹脂を３次元架橋させて不溶化する工程であり、現像プロセスは未露光部、すなわち未反応部分の感光性樹脂を現像液に溶解させ除去する工程である。
【０００４】
光導波路の光路変換ミラーの形成方法は、特許文献１〜４に記載されているように、ダイシングソーやレーザーアブレーション等を用いて光導波路に対し、４５°の傾斜面を物理的な切削により形成している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１５−１２１７０３号公報
【特許文献２】特開２０１２−１５０２４２号公報
【特許文献３】特開２０１０−２３１０９０号公報
【特許文献４】特開２０１５−１０８６４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記の方法では、位置精度、深さの制御が困難であり、形成に時間が要することに加え、傾斜面を光導波路に対し直線にしか形成することができない。そこで、光導波路の光路変換ミラー位置精度の向上、深さの制御の簡易化、形成時間短縮および光露変換ミラーの形状を多形状にすることが求められている。
【０００７】
本発明の光導波路の製造方法は、上記問題の解決を鑑みたものであり、光路変換ミラーの形成を簡略化することによって、形成時間の短縮、位置精度の向上、深さの制御の簡易化、及び多形状の光路変換ミラー形成を実現可能とすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは上記の課題を解決するために鋭意研究した結果、光硬化性樹脂を用いて、コアパターン形成時に、微小面積の未露光部（遮光部）を設け、露光時に厚さ方向に活性光線が回り込むことを利用し、微小面積の未露光部に対応するコアパターンの表面側（露光側）に未硬化部を、下部側（露光側の反対側）に硬化部を形成し、フォトリソ加工で未硬化部を除去することから得られる傾斜面からなる光路変換ミラーを有することで、上記課題を解決し得ることを見出した。本発明は、かかる知見にもとづいて完成したものである。
すなわち、本発明は、以下のものに関する。
（１）  下部クラッド層、コアパターン、上部クラッド層を備え、前記コアパターンに傾斜面からなる光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法であって、活性光線の露光により、コアパターン形状の露光部を形成するとともに、光路変換ミラーの形成箇所に微小面積の未露光部を形成する工程、現像により、コアパターンを形成するとともに、前記微小面積の未露光部に光路変換ミラーとなる傾斜面を有する凹部を形成する工程、を備える、光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法。
（２）  微小面積の未露光部が、コアパターンの長手方向に５〜１００μｍ幅の面積である、上記（１）に記載の光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法。
（３）  前記光路変換ミラーとなる傾斜面を有する凹部の底が、前記コアパターンの下面（下部クラッド層の上面）まで達するように形成される、上記（１）又は（２）に記載の光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法。
（４）  前記光路変換ミラーとなる傾斜面を有する凹部の底が、前記コアパターンの下面より上方に設けられ、前記コアパターンを伝搬する光の一部が、前記光路変換ミラーによって光路変換され、残りの光の少なくとも一部が、前記光路変換ミラーと前記コアパターンの下面間を通過し、伝搬されるように形成される、上記（１）又は（２）に記載の光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法。
（５）  前記光路変換ミラーとなる傾斜面を有する凹部が、１つのコアパターンに２ヶ所以上設けられる、上記（１）〜（４）のいずれか一項に記載の光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法。
（６）  １つのコアパターンに設けられた２ヶ所以上の光路変換ミラーとなる傾斜面を有する凹部が、少なくとも２種類以上の深さの異なる凹部となるように形成される、上記（１）〜（５）のいずれか一項に記載の光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法。
（７）  前記光路変換ミラーを下部クラッド層法線方向から見たときの形状が、直線、円又は円弧のいずれか又は、それらから選ばれる一以上の組み合わせであるように形成される、上記（１）〜（６）のいずれか一項に記載の光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法は、光導波路のコアパターン形成時の現像による光路変換ミラーの形成方法であり、コアパターン形成時の現像でコアパターンに光路変換ミラーとなる傾斜面を形成することができる。このため、追加の物理的なミラー加工工程が不要となり、形成時間の短縮、位置精度の向上、深さの制御の簡易化、及び多形状の光路変換ミラーの形成が容易となる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の一実施形態により製造された光路変換ミラーを有する光導波路を示す斜視図である。
【図２】本発明の一実施形態により製造された光路変換ミラーを有する光導波路の入出光を示す斜視図である。
【図３】本発明の一実施形態により製造された光路変換ミラーを有する導波路を示す斜視図である。
【図４】本発明の一実施形態により製造された光路変換ミラーを有する導波路の入出光を示す斜視図である。
【図５】本発明の一実施形態により製造された光路変換ミラーを有する導波路を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下に、本発明の光変換ミラーを有する光導波路の製造方法の一実施形態について詳細に説明する。
【００１２】
本実施の形態の光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法は、下部クラッド層、コアパターン、上部クラッド層を備え、前記コアパターンに傾斜面からなる光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法であって、活性光線の露光により、コアパターン形状の露光部を形成するとともに、光路変換ミラーの形成箇所に微小面積の未露光部を形成する工程（Ａ）、現像により、コアパターンを形成するとともに、前記微小面積の未露光部に光路変換ミラーとなる傾斜面を有する凹部を形成する工程（Ｂ）、を備える。本実施の形態では、さらに、上部クラッド層を積層し、前記コアパターンに形成された凹部が露出するように露光し現像する工程（Ｃ）を有している。
ここで、コアパターンの微小面積の未露光部とは、コアパターンのうち、フォトマスク等によって露光時の活性光線が遮光された領域に対応するコアパターンの厚さ方向全体をいい、コアパターン表面側の活性光線が照射されず硬化しなかった未硬化部と、コアパターンの厚さ方向の下部側の活性光線が回り込んで硬化した硬化部の両方を含む。
【００１３】
より詳細に説明すると、本実施の形態の光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法は、下部クラッド層、コアパターン、上部クラッド層を備え、光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法であって、前記光導波路のコアパターンを形成する際に、活性光線の露光により、コアパターン形状の露光部を形成するとともに、コアパターンの一部に微小面積の未露光部を形成する工程（Ａ）、現像により、コアパターンを形成するとともに、前記微小面積の未露光部の一部（表面側）を除去し、かつ前記微小面積の未露光部のほかの一部（下部側）を残存させ、前記残存させた前記微小面積の未露光部に、傾斜面を有する凹部により光路変換ミラーを形成する工程（Ｂ）、さらに、上部クラッド層を積層し、前記コアパターンに形成された凹部が露出するように露光、現像する工程（Ｃ）を備える、光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法である。
ここで、微小面積の未露光部は、例えば、フォトマスクの露光パターンの一部に遮光パターンを設ける等により、コアパターンの露光部と露光部の間に微小間隙部を設けることで形成することができる。後述するように、露光パターン、露光条件、現像条件等によっても変化するが、微小面積の未露光部となるコアパターンの微小間隙部は、表面側は活性光線が遮光されて未硬化部となるが、下部側は活性光線が回り込んで硬化部となる傾向がある。
【００１４】
［工程Ａ］
本実施の形態において、コアパターン形成の際は活性光線によって露光するが、その際にフォトマスクを使用して未硬化部及び硬化部を作製する。別の方法としてはレーザー等を用いて直接描画する方法も用いることができる。コアパターンを形成する材料としては、露光しない部分を遮光することにより、未硬化部となるネガ型の感光性樹脂や、露光した部分が未硬化部となるポジ型の感光性樹脂によって形成できる。作製後の耐湿性や耐熱性の観点からネガ型の感光性樹脂がより好適である。
【００１５】
ネガ型の感光性樹脂の場合、前記に示す、フォトマスクを介して露光する際に、コアパターンの露光部と露光部の間に微小間隙部を形成するための遮光パターンを有するフォトマスクを介して露光することによって微小面積の未露光部を形成できる。このときの微小間隙部を形成するための遮光パターンは、使用する材料によって適宜調整すればよいが、コアパターンの長手方向に５〜１００μｍ幅である遮光パターンを用いるのが好適である。これにより、コアパターンに、微小面積の未露光部が、コアパターンの長手方向に５〜１００μｍ幅である微小間隙部を形成できる。
【００１６】
微小間隙部（微小面積の未露光部）に対応するコアパターン表面は遮光により未硬化となるが、下部は周辺から露光による活性光線が回り込むため、硬化される。遮光パターンが、細ければ細いほど未硬化部は浅く、太くなるほど深くなる。ただし、コアパターンに対し太過ぎると下部まで未硬化部になり、微小間隙部が後の現像工程で完全に除去されてしまうため、凹部による光路変換ミラーを形成できない。材料や条件によって異なるが、コアパターン厚み５０μｍに対し、微小間隙部を形成するための遮光パターンが２０μｍ幅では深さ２〜３μｍ、７０μ幅では深さ２０〜３０μｍが未硬化部となる。
【００１７】
別の方法としては、微小間隙部（微小面積の未露光部）のコアパターンの表面から下部までの全体を未硬化部とし、現像工程で、この未硬化部を除去しきらない条件で現像することによっても凹部による光路変換ミラーを形成できる。微小間隙部は現像液の液回り性が悪いため、現像条件を調整することにより、微小間隙部以外の未硬化部の樹脂は除去されるが、微小間隙部では未硬化部の樹脂が残存するようにすることができる。
【００１８】
［工程Ｂ］
本実施の形態において、フォトマスクを介した活性光線の露光により硬化部と未硬化部を形成した後、未硬化部を除去する現像を行う。それにより、未硬化部が除去され、硬化部のみがコアパターンとして形成される。
微小間隙部のコアパターン表面側の未硬化部は除去されるが、コアパターンの下部の活性光線が回り込んだ硬化部は完全には除去されないか、又は現像されない条件で現像するのが好ましい。これによって微小間隙部に光路変換ミラーが形成される。
【００１９】
現像後のコアパターン（微小間隙部の光路変換ミラーも含む）は、後硬化のために、これを加熱し、さらに活性光線を多めに照射し露光させるのが好ましい。
【００２０】
本実施の形態により、工程Ａ及び工程Ｂによって、図１に示す傾斜面からなる光路変換ミラー４を形成することができるため、ダイシングソーでの形成が不要になる。また、コアパターン形成時の露光パターンに、光路変換ミラー用の微小間隙部を形成するための遮光パターンを設け、同時露光することにより、位置や深さの制御精度が良く、多様な形状に形成することができる。
【００２１】
また、微小間隙部を形成するための遮光パターンの幅を広げることにより、現像によって、光路変換ミラーとなる傾斜面を有する凹部の底が、コアパターン下面（下部クラッド層の上面）まで達するように形成することができ、直進伝搬しない全反射型の光路変換ミラーが形成できる。
【００２２】
これにより、光路変換ミラー位置を、微小間隙部を形成するための遮光パターンを有する露光パターンにより設定できるため、図３のように、１つのコアパターン毎に光路変換ミラー位置を設定することもできる。これにより、送信側ミラーと受信側ミラーの位置を別位置にし、受送信素子の設置位置を変えることができる。
【００２３】
微小間隙部を形成するための遮光パターンを有する露光パターンにより、図２に示すように、光路変換ミラー４となる傾斜面を有する凹部の底が、コアパターンの下面より上方に設けられ、前記コアパターンを伝搬する光の一部が、前記光路変換ミラーによって光路変換され、残りの光の少なくとも一部が、前記光路変換ミラーと前記コアパターンの下面間を通過し、二方向に伝搬されるように形成される光導波路が簡易に形成できる。
【００２４】
また、光路変換ミラーとなる傾斜面を有する凹部が、１つのコアパターンに２ヶ所以上設けられる光導波路を簡易に形成できる。これにより、受信側ミラーを多数設けることができ、より多く受光することが可能となる。これは、位置合わせ確認用ミラーへの受光側ミラーとして適用することにより、位置合わせ確認用ミラーが高発色し、確認しやすくなる。
【００２５】
また、微小間隙部を形成するための遮光パターンの幅を変えて、１つのコアパターンに２か所以上の微小面積の未露光部を設けることにより、図４に示すように、深さの異なる２ヶ所以上の傾斜面を有する光路変換ミラー４を得ることができる。つまり、１つのコアパターン２に設けられた２ヶ所以上の光路変換ミラー４となる傾斜面を有する凹部が、少なくとも２種類以上の深さの異なる凹部となるように形成される、光導波路が簡易に形成できる。これにより、角度の違う光も受光することができる。
【００２６】
また、前記光路変換ミラーを下部クラッド層の法線方向から見たときの形状が、直線、円又は円弧のいずれか又は、それらから選ばれる一以上の組み合わせであるように形成さることで、多様な形状のミラー付き光導波路とすることができる。
微細露光パターンを、円・円弧・直線による「＋」（十字）等の様々な形状にすることにより、パターンに合わせた光路変換ミラーが形成できる。これにより、光路を変換させたい方向へ合わせて光路変換ミラーの形状をつくることができる。例えば、図５のように、円形の光路変換ミラー５にすることにより、光路を四方に分けて送信することも可能である。
【００２７】
本実施の形態の光路変換ミラーを有する光導波路の製造方法により製造される光路変換ミラーを有する光導波路の一例を、図１〜５を用いて説明する。
【００２８】
図１、図２に示すように、本実施の形態により製造される光路変換ミラー４を有する光導波路は、下部クラッド層１と、下部クラッド層１に積層されたコアパターン２と、コアパターン２の光路上に形成された光路変換ミラー４と、コアパターン２を覆うように下部クラッド層１に積層され、開口部３０１を有する上部クラッド層３を備える。開口部３０１内に光路変換ミラー４が具備される。
【００２９】
図１、図２において、光路変換ミラー４を有する光導波路のコアパターン２の数は１つとして説明するが、２つであってもよく、また、３つ以上であってもよい。
【００３０】
下部クラッド層、コアパターン、上部クラッド層は、特許文献１〜４に示される公知の形成用樹脂等を使用して形成することができる。
【００３１】
下部クラッド層、上部クラッド層の形成方法は、特許文献１〜４に示される公知の形成工程等を用いることができる。
【００３２】
以下、本実施の形態で製造される光路変換ミラーに用いられる各部材について詳細に説明する。
【００３３】
［光導波路］
光導波路は、下部クラッド層と、下部クラッド層に積層されたコアパターンと、コアパターンを覆うように下部クラッド層に積層される上部クラッド層を備える。
【００３４】
［コアパターン］
コアパターンは、光が伝搬する部位である。伝搬する光は、コアパターンの壁面によって反射し、光出射部から出射される。上記の観点から、上記壁面は、金属反射面であるか、又は、コアパターンが周囲よりも高屈折率に設計され、コアパターンと周囲との屈折率差を利用した全反射面であると好ましい。反射による損失が小さい点から後者であるとより好ましい。コアパターンを周囲よりも屈折率の高い透明な材質で形成すると形状の加工が容易に行えるためさらに好ましい。透明な材質は、伝搬する光の波長に対して所定の出射光の光強度が確保可能な透明性を有していれば特に限定はなく、ガラスや樹脂等が好適に用いられる。特に形状の加工性の観点から樹脂を用いるのが好ましい。
本実施の形態はコアパターンをフォトリソ加工によって形成するため、樹脂の種類は光硬化性樹脂がより好適である。
コアパターンは、形成された下部クラッド層上にコア層形成用樹脂層を積層し、露光現像することで形成することができる。コア層形成用樹脂は、下部クラッド層及び上部クラッド層より高屈折率であり、活性光線によりパターン化し得るものを用いることが好ましい。
【００３５】
［光路変換ミラー］
本実施の形態で製造される光導波路に設けられる光路変換ミラーは、外部からの光をコアパターンに光学的に結合するように光路変換可能な部位であればよく、傾斜面からなる屈折率差を利用した空気反射型ミラーや、傾斜面に反射金属層を設けた金属反射型ミラー等が好適に用いられる。金属反射型ミラーとするには、さらに、金属層、クラッド層を設ける工程を追加する。
【００３６】
［下部クラッド層］
本実施の形態で製造される光導波路の下部クラッド層は、光導波路が形成される土台となる部分であって、光導波路の下面を保護する部位でもある。光導波路のコアパターンの屈折率より低屈折率に調整され、コアパターンを伝搬する光に支障のない範囲で透明性を有している。
光導波路の保護、及び光の伝搬に悪影響を生じさせない観点から、下部クラッド層は、５〜２００μｍの厚みであるのが好ましく、厚みの制御の観点から１０〜１００μｍであるとより好ましく、低背化の観点から１０〜５０μｍであるとさらに好ましい。
【００３７】
［上部クラッド層］
本実施の形態で製造される光導波路の上部クラッド層は、光導波路のコアパターンの上面及び側面を覆う部分であって、光導波路の上面及び側面を保護する部位である。光導波路のコアパターンの屈折率より低屈折率に調整され、コアパターンを伝搬する光に支障のない範囲で透明性を有している。本実施の形態では、上部クラッド層は、コアパターンに凹部が形成された箇所が露出し、好ましくは下部クラッド層が露出するように、光硬化性樹脂（感光性樹脂）を用いてホトリソグラフにより露光、現像して形成することができる。図１に示すように、露出した下部クラッド層表面１０１、露出したコアパターン上面２０１、露出したコアパターン側面２０２が露出するようにすると好ましい。
【実施例】
【００３８】
以下、本発明を実施例により、さらに具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されない。
【００３９】
（実施例１）
［下部クラッド層の形成］
基板として縦１５０ｍｍ、横１５０ｍｍのポリイミドフィルム（ポリイミド；ユーピレックスＲＮ（宇部興産株式会社製）、厚み；２５μｍ、「ユーピレックス」は登録商標。）を用い、その一方の面上に、１５μｍ厚みの下部クラッド層形成用樹脂フィルムのカバーフィルムを剥離した後に、真空加圧式ラミネータ（株式会社名機製作所製、ＭＶＬＰ−５００）を用い、５００Ｐａ以下に真空引きした後、圧力０．４ＭＰａ、温度１１０℃、加圧時間３０秒の条件にて加熱圧着して、ラミネートした。続いて、紫外線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ−１１７２）を用いて、下部クラッド層形成用樹脂フィルムのキャリアフィルム側から紫外線（波長３６５ｎｍ）を３．０Ｊ／ｃｍ２で照射し、キャリアフィルムを剥離後、１７０℃で１時間加熱及び硬化し、下部クラッド層１を形成した。
【００４０】
［コアパターンの形成］
次いで、上記で形成した下部クラッド層形成面側から、５０μｍ厚さのコア層形成用樹脂フィルムを、カバーフィルムを剥離した後に、ロールラミネータ（日立化成テクノプラント株式会社製、ＨＬＭ−１５００）を用い、圧力０．４ＭＰａ、温度５０℃、ラミネート速度０．２ｍ／ｍｉｎの条件をラミネートし、次いで上記の真空加圧式ラミネータ（株式会社名機製作所製、ＭＶＬＰ−５００）を用い、５００Ｐａ以下に真空引きした後、圧力０．４ＭＰａ、温度７０℃、加圧時間３０秒の条件にて加熱圧着した。
【００４１】
続いて、ネガ型フォトマスクを用い、そのコアパターンに対応する開口部（長さ５ｍｍ、幅５０μｍ、２０本、スペース２００μｍ）に、光路変換ミラー位置のコアパターンの長さ方向に幅７０μｍの遮光パターンを有するネガ型フォトマスクを介し、キャリアフィルム側から上記紫外線露光機を用いて、紫外線（波長３６５ｎｍ）を０．８Ｊ／ｃｍ２で照射し、次いで８０℃で５分間露光後加熱（露光後に行う加熱処理）を行った。その後、キャリアフィルムであるＰＥＴフィルムを剥離し、現像液（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド＝８／２、質量比）を用いてエッチング（現像）した。続いて、洗浄液（イソプロパノール）を用いて洗浄し、１００℃で１０分間加熱乾燥し、コアパターンと光路変換ミラーを形成した。
【００４２】
［上部クラッド層の形成］
上記で形成したコアパターン形成面側から、６５μｍ厚さの上部クラッド層形成用樹脂フィルムを、カバーフィルムを剥離した後に、真空加圧式ラミネータ（株式会社名機製作所製、ＭＶＬＰ−５００）を用い、５００Ｐａ以下に真空引きした後、圧力０．４ＭＰａ、温度１１０℃、加圧時間３０秒の条件にて加熱圧着して、ラミネートした。
続いて、空気反射型の光路変換ミラーにするため、光路変換ミラーの形成個所を遮光したネガ型フォトマスクを介し、上部クラッド層形成用樹脂フィルムのキャリアフィルム側から紫外線（波長３６５ｎｍ）を３５０ｍＪ／ｃｍ２で照射した。その後、キャリアフィルムを剥離し、現像液（１質量％炭酸カリウム水溶液）を用いて、上部クラッド層形成用樹脂を除去して、水洗浄を行った。さらに上記紫外線露光機を用いて３．０Ｊ／ｃｍ２で照射し、１７０℃で１時間加熱し、後硬化（アフターべーク）作業を行った。これにより光路変換ミラーを有する光導波路の上部クラッド層を形成した。
【００４３】
[光路変換ミラーの確認]
上記で作製した光導波路を断面切断し、光路変換ミラーの形状の確認を行ったところ、コア上面からの深さ２０μｍ、角度２５°の光路変換ミラーを得ることができた。
【００４４】
（実施例２）
実施例１において、コアパターン形成時に使用するネガ型フォトマスクの光路変換ミラー位置に設ける遮光パターンの幅を、実施例１と同様の７０μｍの他に、それぞれ２０μｍ、５０μｍ、１００μｍとした以外は、同様の方法で光導波路を作製した。
【００４５】
これにより、深さの異なる光路変換ミラー４ヶ所を得ることができた。
【００４６】
（実施例３）
実施例１において、コアパターン形成時に使用するネガ型フォトマスクの光路変換ミラー位置に設ける遮光パターンを、直径２０μｍ、５０μｍ、７０μｍ、１００μｍの円形とした以外は、同様の方法で光導波路を作製した。
【００４７】
これにより、深さの異なる円形の光路変換ミラーを得ることができた。
【産業上の利用可能性】
【００４８】
本発明の光導波路のコアパターン形成時のフォトリソ加工による光路変換ミラーの形成方法は、光導波路の光路変換ミラーの形成の他に、フォトリソ加工の過剰及び不足の確認パターンや、実装時の位置確認用パターンへの入射側ミラーでの使用が有効であるなどの幅広い分野に適用可能である。
【符号の説明】
【００４９】
１．下部クラッド層
１０１．露出した下部クラッド層表面
２．コアパターン
２０１．露出したコアパターン上面
２０２．露出したコアパターン側面
３．上部クラッド層
３０１．開口部（上部クラッド層除去部）
４．光路変換ミラー
５．円形光路変換ミラー
【図１】
2017146528.tif 000003
【図２】
2017146528.tif 000004
【図３】
2017146528.tif 000005
【図４】
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【図５】
2017146528.tif 000007