(57)【要約】【課題】リソグラフィ露光のための照明ユニットおよび装置を提供する。【解決手段】リソグラフィ露光のための照明ユニット（１０）が記載されており、この照明ユニットは、ビーム源（１）と、時間的に可変の２次元ビーム偏向を生成する電子制御可能なビーム偏向素子（３）と、コリメートレンズ（４）と、ビーム均質化素子（５）と、フーリエレンズ（６）と、フォトマスク（８）のテレセントリックな照明のための視野レンズ（７）とを含んでいる。さらに前記照明ユニット（１０）とフォトマスク（８）を有しているリソグラフィ露光のための装置（２０）が記載される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィ露光のための照明ユニット（１０）であって、
ビーム源（１）と、
時間的に可変の２次元ビーム偏向を生成する電子制御可能なビーム偏向素子（３）と、
コリメートレンズ（４）と、
ビーム均質化素子（５）と、
フーリエレンズ（６）と、
視野レンズ（７）と、
を含んでいることを特徴とする照明ユニット（１０）。
【請求項２】
前記ビーム偏向素子（３）は、２Ｄスキャンニングミラーである、
請求項１記載の照明ユニット（１０）。
【請求項３】
前記２Ｄスキャンニングミラーは、ガルバノスキャナーまたはＭＥＭＳスキャナーである、
請求項２記載の照明ユニット（１０）。
【請求項４】
前記ビーム偏向素子（３）は、ビーム偏向の角度分布が設定可能な電子制御ユニットを有している、
請求項１から３いずれか１項記載の照明ユニット（１０）。
【請求項５】
前記ビーム均質化素子（５）は、回折光学素子または屈折回折光学素子である、
請求項１から４いずれか１項記載の照明ユニット（１０）。
【請求項６】
前記ビーム均質化素子（５）は、可動である、
請求項１から５いずれか１項記載の照明ユニット（１０）。
【請求項７】
前記ビーム均質化素子（５）は、前記照明ユニット（１０）の運転中に前記ビーム均質化素子（５）を移動するように構成されている電子的な駆動制御部を有している、
請求項１から６いずれか１項記載の照明ユニット（１０）。
【請求項８】
前記ビーム均質化素子（５）は、前記照明ユニットの運転中に少なくとも１つの軸線周りの回転運動および／または少なくとも１つの方向への並進運動を実施するように構成されている、
請求項１から７いずれか１項記載の照明ユニット（１０）。
【請求項９】
前記ビーム均質化素子（５）は、複数の回折光学素子（５１）の配置構成を有している、
請求項１から８いずれか１項記載の照明ユニット（１０）。
【請求項１０】
前記ビーム源（１）は、レーザー光源である、
請求項１から９いずれか１項記載の照明ユニット（１０）。
【請求項１１】
前記ビーム源（１）と前記ビーム偏向素子（３）との間に、偏光光学素子（２）が配置されている、
請求項１から１０いずれか１項記載の照明ユニット（１０）。
【請求項１２】
リソグラフィ露光のための装置（２０）であって、
請求項１から１１いずれか１項記載の照明ユニット（１０）と、
フォトマスク（８）と、
を含んでいることを特徴とするリソグラフィ露光のための装置（２０）。
【請求項１３】
前記照明ユニット（１０）の視野レンズ（７）は、前記フォトマスク（８）のテレセントリックな照明のために構成されている、
請求項１２記載のリソグラフィ露光のための装置（２０）。
【請求項１４】
前記ビーム均質化素子（５）は、前記フォトマスク（８）に入射する照明光（９）の均質な角度分布を生成するために、前記フォトマスク（８）のフーリエ面に配置されている、
請求項１２または１３記載のリソグラフィ露光のための装置（２０）。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ露光のための照明ユニットおよびこの種の照明ユニットを備えたリソグラフィ露光のための装置に関している。
【０００２】
本出願は、独国特許出願第１０２０１５１１５０６４．６号明細書の優先権を主張するものであり、これによりその開示内容を本明細書に援用する。
【背景技術】
【０００３】
決定性の微細構造を形成するためには、リソグラフィ法が頻繁に使用される。ここでは、感光性ポリマー層（レジスト）が、所定のビーム種の横方向に変化する線量分布で露光される。導入されたビーム線量は、ポリマー特性を次のように変化させる。すなわちそれに続く現像ステップにおいて、ポリマー層の照射（ポジティブレジスト）領域または未照射（ネガティブレジスト）領域が選択的に溶解し、それによって除去されるように変化させる。
【０００４】
マイクロエレクトロニクスやマイクロシステム技術に使用されるリソグラフィシステムは、多くの場合、いわゆるマスクアライナ（マスク位置決めデバイス）、つまりフォトマスクの正確な位置決めのための装置を使用している。そこでは可及的に短波長のビーム源、例えば高圧水銀ランプの光が、照明光学系を用いて集束され、事前に製造されたフォトマスクの照明のために使用される。このフォトマスクは、感光性のポリマー層内に、透明および非透明領域の形態の露光すべき構造部を含み、それらはマスク基板上の例えば薄いクロム層に挿入されている。透明領域内ではクロム層がそれに対して選択的に除去される。そのようなフォトマスクにより、照明光は、フォトマスクを通る透過の際に相応に変調される。露光すべきポリマー層は、基板上に存在し、この基板は、フォトマスクと直接接触状態にもたらされるか（いわゆる接触プリンティング）、またはフォトマスクと数μｍの僅かな距離におかれる（いわゆる近接プリンティング）。
【０００５】
近年では、特殊なマスクアライナをベースにしたリソグラフィ法が開発されており、そこでは構造部が、もはやマスクの単純な投影によってフォトレジストにコピーされるのではなく、特別に計算されたフォトマスク構造部における所期の回折効果のもとで、フォトレジスト露光の際の分解能向上のために使用される。そのような方法は、例えば刊行物「Ｏｐｔｉｃｓ  Ｅｘｐｒｅｓｓ２２（２０１４），１６３１０−１６３２１」のＴ．Ｗｅｉｃｈｅｌｔ、Ｕ．Ｖｏｇｌｅｒ、Ｌ．Ｓｔｕｅｒｚｅｎｂｅｃｈｅｒ、Ｒ．Ｖｏｅｌｋｅｌ、Ｕ．Ｄ．Ｚｅｉｔｎｅｒらによる記事「位相シフトフォトマスクを使用した高度なマスクアライナリソグラフィのための高分化能化」から公知である。そのような方法は、回折リソグラフィとも称される。
【０００６】
特に回折リソグラフィでは、高圧水銀ランプによる従来の照明が限界に直面している。この回折リソグラフィ法は、典型的には、照明角度の非常に僅かな残留発散を伴うマスク照明を必要とする。このことは、従来の照明のもとでは、照明光路内の非常に小さな開口部を有する開口絞りによってしか実現することができない。しかしながら小さな開口絞りによって得られる光出力は、結果として非現実的な長時間の露光時間となる位に大幅に低下する。この問題は、高圧水銀ランプの特性に基づき（ｍｍ３範囲の膨潤体積を伴う熱ビーム源）、ほとんど克服できない。
【０００７】
代替的に、ビーム源としてレーザーが使用可能であり、それにより、照明の著しく高いコリメーションレベルを達成することができる。但し、マスクアライナの従来の照明光路内のレーザーの高いコヒーレンスは、局所的に高周波な干渉パターン（いわゆるスペックル）の発生を誘発し、これはマスク照明の均質性を局所的に著しく悪化させ、使用不能な露光結果をもたらす。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
したがって本発明の解決すべき課題は、前述の欠点を克服し、所期のように設定可能な所定の照明角度分布を有する均質なマスク照明を可能にする、リソグラフィ露光のための照明ユニットおよび装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題は、独立請求項に記載のリソグラフィ露光のための照明ユニットとリソグラフィ露光のための装置によって解決される。本発明の好ましい実施形態および改善形態は、従属請求項の態様である。
【００１０】
少なくとも一つの実施形態によれば、リソグラフィ露光のための照明ユニットは、好ましくはレーザー光源であるビーム源、二次元ビーム偏向に適している電子的に駆動制御可能なビーム偏向素子、コリメートレンズ、ビーム均質化素子、フーリエレンズ、およびフォトマスクのテレセントリックな照明のために設けられている視野レンズを含んでいる。前述した素子は、好ましくは前述した順序で照明ユニットの光路内に配置されている。このことは、前述した素子間に１つ以上のさらなる素子が配置されてもよいことを排除するものではない。例えば、ビーム源とビーム偏向素子との間に偏光光学素子が配置されていてもよい。
【００１１】
照明ユニットでは、二次元ビーム偏向素子を用いて、好ましくは所定の角度分布が、光軸に対して垂直な方向、例えばｘ方向およびｙ方向に生成され、これらは相互に直交しており、かつそれぞれ光軸に対して垂直に延在する。特にこのようにして、所期のように設定された角度分布を有するビーム源の光が、ビーム偏向素子に後続するコリメートレンズへ配向される。例えばビーム偏向素子により、ｘ方向およびｙ方向において、それぞれ±２０°までの角度分布が生成可能である。
【００１２】
光路内でビーム偏向素子に後続するコリメートレンズによって、所定の角度分布を有する入射ビームはコリメートされ、すなわち入射ビームは光軸に対して平行に伝搬するように偏向される。コリメートされたビームは、その後ビーム均質化素子に入射し、このビーム均質化素子は、所定の角度分布を生成し、好ましくはビームを均質化する。ビーム均質化素子は、特にディフューザとして機能する。レーザー光源の場合には、ビーム均質化素子は、特にレーザー光源の局所的に高周波な干渉パターンを均質化可能である。このビーム均質化素子は、例えばｘ方向およびｙ方向において、約±９°の角度分布を生成し得る。
【００１３】
ビーム均質化素子を用いて生成された、所定の角度分布を有するビームからは、フーリエレンズおよび視野レンズを含むレンズ系を用いて、空間強度分布が視野レンズの平面内で生成される。視野レンズは、リソグラフィ装置内でフォトマスクをテレセントリックに照明する機能を有している。フーリエレンズおよび視野レンズからなるレンズ系によって、フォトマスクは、好ましくは完全に照明される。
【００１４】
ビーム偏向素子は、好ましくは２つの空間方向で時間的に変化するビーム偏向を生成する、電子的に駆動制御可能なビーム偏向素子である。この時間的に変化するビーム偏向は、ビーム源のビームをこのように１つの面積に、特にビーム源に後続するコリメートレンズに投影する。このビーム偏向素子は、特に、時間的に変化するビーム偏向により、ビーム源のビーム直径よりも大きい面積を照明する走査型ビーム偏向素子である。
【００１５】
２次元ビーム偏向のためのビーム偏向素子は、好ましくは、２Ｄスキャンニングミラー、すなわち２つの軸線方向でビーム偏向を生じさせ得るスキャンニングミラーである。そのようなスキャンニングミラーは、それ自体公知であり、例えば投影装置に使用される。スキャンニングミラーは、例えば駆動部によって回転可能な２つのミラーを含むことができ、この場合、１つのミラーは、ｘ方向のビーム偏向を生じさせ、第２のミラーは、ｙ方向にビーム偏向を生じさせる。この場合、ｘ方向およびｙ方向は、互いに垂直であり、特にそれぞれ光軸に対して垂直に延在する。
【００１６】
好ましくは、２Ｄスキャンニングミラーは、ガルバノメータスキャナーであり、あるいは単にガルボスキャナーとも称される。ガルバノメータスキャナーでは、２つのミラーは、好ましくは電気的駆動部によって移動される。ガルバノメータスキャナーは、高速で移動できることで優れている。例えばミラーは、１５ｍ／ｓまでの位置決め速度で移動可能である。ガルバノメータスキャナーに対して代替的に、他の２Ｄスキャンニングミラーも、例えばＭＥＭＳスキャンニングミラー（マイクロエレクトロメカニカルシステム）も使用可能である。
【００１７】
ビーム偏向素子は、好ましい実施形態によれば、特にビーム偏向の角度分布が設定可能である電子制御ユニットを有している。例えばビーム偏向素子は、コンピュータ制御部を有し得る。このビーム偏向素子の制御部は、例えば照明装置および／またはリソグラフィ装置のコンピュータ制御部に統合されていてもよい。
【００１８】
ビーム均質化素子は、ビームの所定の角度分布を生成するために好ましくは、回折構造部を有している。ビーム均質化素子は、少なくとも１つの実施形態によれば、回折光学素子（ＤＯＥ）である。この回折光学素子は、例えば少なくとも１つのコンピュータ生成ホログラム（ＣＧＨ）を有し得る。さらにビーム均質化素子は、屈折回折光学素子であってもよい。つまり回折特性と屈折作用する境界面とを同時に有するハイブリッド素子であってもよい。
【００１９】
好ましい実施形態によれば、ビーム均質化素子は可動である。特にビーム均質化素子は、照明装置の運転中にビーム均質化素子を移動できるように構成された電子的な駆動制御部を有している。この電子的な駆動制御部は、特に照明ユニットおよび／またはリソグラフィ装置のコンピュータ制御部に統合可能なコンピュータ制御部であってもよい。ビーム均質化素子は、照明ユニットの運転中に少なくとも１つの軸線周りの回転運動および／または少なくとも１つの方向の並進運動を実施するように構成されていてもよい。
【００２０】
特にビーム均質化素子は、照明装置の光軸に対して非共線に延在する回転軸線周りに回転可能であってもよく、むしろ回転軸線を光軸に対して平行に変位および/または傾斜させてもよい。換言すれば、ビーム均質化素子は偏心的に回転可能である。
【００２１】
照明ユニットの運転中のビーム均質化素子の並進運動および／または回転運動によって、好ましくはビーム均質化素子の時間的に変化する異なる領域、特にビーム均質化素子の回折構造部が、照明ビーム内に移動することが達成される。このようにして、特にレーザー光源を用いたコヒーレントな照明によって生じ得る、局所的に高周波な干渉パターンを最小化すること、そしてそのような照明ビームを均質化することが達成される。このようにして好ましくは、特に均質な角度分布が、ビーム均質化素子の後方で得られ、これはフーリエレンズおよび視野レンズからなる後続のレンズシステムによって、フォトマスクの照明面の均質な強度分布および角度分布に変換される。
【００２２】
ビーム均質化素子は、好ましい実施形態では、例えばホログラムなどの複数の回折光学素子で示され、これらは好ましくは２次元的配置構成で隣接して配置されている。ビーム均質化素子の移動により、好ましくは異なる回折素子が、照明ビームによって回転可能である。露光過程中のビーム均質化素子の連続的な移動によって、照明光のそのような均質化を得ることが可能になる。好ましくは、ビーム均質化素子の所定の領域の所期の照明により、照明光の所望の角度分布を生成することも可能である。
【００２３】
照明ユニットのビーム源は、好ましくはレーザー光源である。レーザー光源は、特に偏光子において光出力を失わせることなく、偏光照明を行うことができるという利点を有する。例えばＡｒＦレーザー若しくはＫｒＦレーザーなどのエキシマレーザかまたは例えばＮｄ：ＹＡＧレーザーなどの固体レーザーがビーム源として使用可能である。また代替的に、レーザーダイオード、ＬＥＤまたはスーパーコンティニウム光源を、ビーム源として使用することも考えられる。レーザー光源は、周波数変換によって特に倍加された周波数または三倍化された周波数で運転することも可能である。このことは特に、例えばＮｄ：ＹＡＧレーザーなどの固体レーザーにおいて、例えば１０６４ｎｍの比較的大きな出力波長を、５３２ｎｍ若しくは３３５ｎｍのより短い波長に変換するために有利である。短い波長の利用は、リソグラフィにおいて高分解能を達成するために有利である。
【００２４】
さらなる実施形態では、ビーム源とビーム偏向素子との間に、偏光光学素子が配置される。このことは特に、ビーム源自体が偏光されていない場合に有利となる。偏光光学素子は、例えばワイヤグリッド偏光板、λ／２板、λ／４板、ポッケルスセルまたは回折光学素子であってもよい。
【００２５】
さらに、上述の照明源とフォトマスクとを備えるリソグラフィ装置が示される。照明源のビーム均質化素子は、フォトマスクに入射する照明光の均質な角度分布を生成するために好ましくはフォトマスクのフーリエ面に配置されている。
【００２６】
フォトマスクは、特に、生成された照明光を用いて感光性のポリマー層（レジスト）内へ結像されるマスク構造を有している。感光性のポリマー層は、例えば光路内でフォトマスクの後方に位置決めされる基板上に配置されてもよい。
【００２７】
リソグラフィ装置のさらなる好ましい実施形態は、照明源の説明から明らかとなる。
【００２８】
以下では本発明を、図１および図２に関連する実施形態に基づいて詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本実施形態に係る照明ユニットを備えたリソグラフィ露光のための装置の概略図
【図２】本実施形態におけるビーム均質化素子の概略図
【発明を実施するための形態】
【００３０】
図中に示されている複数の構成部品、並びにこれらの構成部品相互間のサイズ比は、縮尺通りにみなすべきではない。
【００３１】
図１に示されている、リソグラフィ露光のための装置２０は、照明ユニット１０を含んでおり、この照明ユニット１０は、フォトマスク８を照明光９で照明するために設けられている。
【００３２】
照明ユニット１０は、好ましくはレーザー光源であるビーム源１を含んでいる。本実施形態では、例えば三倍化された周波数によって生成されたλ＝３５５ｎｍの波長を有するＮｄ：ＹＶＯ４固体レーザーが用いられる。ビーム源１は、例えば約１．５Ｗ〜４Ｗの出力と約１ｍｍのビーム直径とを有し得る。
【００３３】
ビーム源１としてレーザー光源を利用する場合には、好ましくは偏光子において光強度が失われることなく偏光された照明光９が放射される。
【００３４】
代替的に、非偏光ビーム源１を使用することも可能である。また光路内に、ビーム源１から放射されたビーム９を偏光するかまたは偏光状態を変化させる偏光光学素子２を配置することも可能である。この偏光光学素子２は、例えば、ワイヤグリッド偏光板、λ／２板、λ／４板、ポッケルスセルまたは回折光学素子であってもよい。
【００３５】
ビーム源１には、光路内でビーム偏向素子３が後続する。このビーム偏向素子３は、好ましくは２Ｄスキャンニングミラーであり、この２Ｄスキャンニングミラーは好ましくは互いに垂直な関係にある２つの軸線方向でビーム偏向を可能にする２つの可動ミラーを含んでいる。図１に示されている側面図においては、２つのミラー３１の一方のみが可視であり、これは例えばｙ方向へのビーム偏向を生じさせる。図１中では見ることができないさらなるミラーは、図平面に対して垂直な関係のｘ方向への付加的なビーム偏向を生じさせる。２Ｄスキャンニングミラーは、例えばミラー３１が電気的に駆動されるガルバノメータスキャナーであってもよい。ビーム偏向素子３は、例えばｘ方向およびｙ方向において、それぞれ±２０°の最大ビーム偏向を可能にし得る。
【００３６】
ビーム偏向素子３は、好ましくは電子的に、特にコンピュータ制御部によって駆動制御可能である。この電子的に駆動制御可能なビーム偏向素子３は、特に、ビーム源１のビームを、ビーム偏向の急速な時間変化によって、照明すべき面積に亘って走査させること、並びにこのようにして当該面積を照明することを可能にする。ビーム偏向のコンピュータ制御部により、好ましくは照明される面の形態を任意に定めることが可能となり、この場合の境界は、実質的にｘ方向およびｙ方向の最大限可能なビーム偏向によってのみ設定される。ビーム偏向素子３を用いてビームが走査する照明面積は、例えば円形若しくは矩形の形態を有することができる。また代替的に、任意の他の幾何学的形態若しくはパターン、特に符号、文字または数字も可能である。
【００３７】
ビーム偏向素子３には、光路内でコリメートレンズ４が後続しており、この場合、コリメートレンズ４の光入射面は、時間的に可変のビーム偏向によって照明される。コリメートレンズ４を通って入射する発散ビームはコリメートされ、すなわち平行に配向される。良好なコリメーションを特にコリメートレンズ４の縁部領域においても得るために、好ましくは非球面コリメートレンズ４が挿入される。例えばビーム偏向素子３に面するコリメートレンズ４の光入射面は円柱状に構成され、反対側の光出射面は非球面に構成されている。
【００３８】
コリメートレンズ４後方の光路内には、ビーム均質化素子５が配置されており、このビーム均質化素子には、コリメートレンズ４によってコリメートされた光が好ましくは垂直に入射する。ビーム均質化素子５は、例えば約７５ｍｍの直径を有し得る。ビーム均質化素子５は、好ましく静的光学素子ではなく、好ましくは電気的に駆動制御可能な可動素子である。ビーム均質化素子５は、リソグラフィ装置の運転中に、特に露光過程において、好ましくは連続的に移動する。ビーム均質化素子５の移動は、好ましくは少なくとも１つの回転軸線周りの回転運動であり、この回転軸線は照明ユニットの光軸と同じではない。むしろビーム均質化素子５の回転軸線は、光軸に対して平行にシフトおよび／または傾斜する。またビーム均質化素子５の回転軸線は、位置固定されるのではなく、時間的に変化するように設けてもよい。ビーム均質化素子５は、例えば複数の回転運動の重畳を実施してもよい。このことは特に遊星ギアによって実現することが可能である。
【００３９】
付加的若しくは代替的に、ビーム均質化素子５は、並進運動、好ましくは光軸に対して垂直に延在する平面内で並進運動を実施し得る。それにより、光軸上のビーム均質化素子５の、残りの光学部品との相対的な位置は移動中に変化しない。
【００４０】
ビーム均質化素子５の移動により、好ましくは露光過程中にビーム均質化素子５の異なる領域に、照明ビームが入射することが達成される。このようにして、例えばコヒーレントなビーム源１に基づいて生じ得るスペックルのような不所望な干渉作用が低減される。
【００４１】
ビーム均質化素子５は、好ましくは、例えば少なくとも１つのコンピュータ生成ホログラムを有する回折光学素子である。好ましい実施形態では、ビーム均質化素子５は、複数の回折光学素子５１を有する。そのようなビーム均質化素子５に対する一例が図２に示されている。複数の回折光学素子５１は、例えば２次元アレイに統合されてもよい。ビーム均質化素子５は、例えば約７５ｍｍの直径を有する。ビーム均質化素子の表面に、例えばそれぞれコンピュータ生成ホログラムである複数の回折素子５１が配置される。個々の回折素子の大きさは、好ましくはビーム源１のほぼビーム直径内で例えばほぼ１ｍｍ２に相当する。複数の回折光学素子５１は、好ましくは同じ機能、特に所定の角度分布を生成するための機能を有している。しかしながらこの機能は、様々な回折素子５１の場合には様々な干渉パターンによって生じる。図示の実施形態では、ビーム均質化素子によって、例えば±９°の角度分布が生成される。
【００４２】
ビーム均質化素子５には、光路内で、フーリエレンズ６と視野レンズ７からなるレンズ系が後続する。フーリエレンズ６と視野レンズ７との間の距離は、本実施形態では約６６８ｍｍである。この距離は、ビーム均質化素子５によって生成された±９°の角度分布に関連して、直径２２０ｍｍの照明を生成する。ビーム均質化素子５によって生成された例えば±９°の均質な角度分布が、フーリエレンズ６により、視野レンズ７の平面内で均質な強度分布に変換される。視野レンズ７は、例えば約２２０ｍｍの直径を有している。特に縁部領域における光学的収差を回避するために、フーリエレンズ６および視野レンズ７に対して好ましくはそれぞれ非球面レンズが使用される。視野レンズ７は、好ましくは光路内で後続するフォトマスク８のテレセントリックな照明を生じさせる。視野レンズ７後方のフォトマスク８に入射した照明光９は、例えば±３°の均質な角度分布を有している。
【００４３】
好ましい実施形態では、フォトマスク８に入射する照明光９の角度分布は、ビーム偏向素子３によって生成される角度分布によって設定可能である。ビーム偏向素子３のコンピュータ制御部によって、そのような露光過程に対して、フォトマスクの領域における照明光９の所望の角度分布を所期のように選択することができる。
【００４４】
本発明は、前記実施形態に基づく説明によって限定されるものではない。むしろ本発明は、たとえそれらの特徴若しくはそれらの組み合せ自体が特許請求の範囲若しくは実施形態に明示的に示されていなかったとしても、あらゆる新規な特徴並びにこれらの特徴のあらゆる組み合わせを、特に特許請求の範囲における特徴のあらゆる組み合わせを含めて包含する。
【図１】
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【図２】
2017054123.tif 000004
【外国語明細書】
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