(57)【要約】      （修正有）【課題】所望の圧力分布でウェハを精度良く研磨するウェハ研磨装置を提供する。【解決手段】研磨ヘッドは、ゾーンエアーライン２２が形成されたキャリア２０と、キャリア２０との間にエア空間を形成し、圧縮空気の圧力に応じて下方に膨張可能な第１の弾性シート３０と、リム３２を嵌合してエア空間を複数のエア室に区画する溝と、ゾーンエアーライン２２とエア室とを連通する複数の連通孔とを備えたレイアウト部材４０と、圧縮空気が導入されたエア室の内外で圧力勾配を形成するラビリンス構造とを備えている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨ヘッドに装着されたウェハを圧縮空気によって研磨パッドに押圧して前記ウェハを研磨するウェハ研磨装置であって、
前記研磨ヘッドは、
前記圧縮空気を導入する圧縮空気供給ラインが形成されたベース部材と、
上面に立設されたリムを備え、前記ベース部材の下方に張設されて前記ベース部材との間にエア空間を形成し、前記圧縮空気の圧力に応じて下方に膨張可能な弾性シートと、
前記リムを嵌合して前記エア空間を複数のエア室に区画する溝と、前記圧縮空気供給ラインと前記エア室とを連通する複数の連通孔と、を備え、前記ベース部材と前記弾性シートとの間に介装されたレイアウト部材と、
前記圧縮空気供給ラインから供給される圧縮空気を所望の前記連通孔に導入させる規制部材と、
前記圧縮空気が導入された前記エア室の内外で圧力勾配を形成する圧力勾配形成手段と、
を備えていることを特徴とするウェハ研磨装置。
【請求項２】
前記圧力勾配形成手段は、前記リムと前記溝とを嵌合して成るラビリンス構造であることを特徴とする請求項１記載のウェハ研磨装置。
【請求項３】
前記圧力勾配形成手段は、前記溝と前記リムとの間のクリアランスを封止する封止部材であることを特徴とする請求項１記載のウェハ研磨装置。
【請求項４】
前記溝及び前記リムは、同心円状に配置されていることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項記載のウェハ研磨装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェハ研磨装置に関し、特に、ウェハにＣＭＰ加工を施すウェハ研磨装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造分野では、シリコンウェハ等の半導体ウェハ（以下、「ウェハ」という）を平坦化するウェハ研磨装置が知られている。
【０００３】
特許文献１記載の研磨装置は、化学的機械的研磨、いわゆるＣＭＰ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）技術を適用した研磨装置である。この研磨装置では、研磨ヘッドは、キャリアとリテーナリングに周縁を保持された弾性シートとの隙間に形成されたエア室のエア圧でウェハを研磨布に押し付けて研磨するものである。
【０００４】
また、特許文献２記載の研磨装置は、キャリアの下方に設けられた中央エアバッグと、中央エアバッグの外周に配置された外周エアバッグと、を備え、中央エアバッグと外周エアバッグとは、それぞれ圧縮空気が導入されてウェハを個別に押圧するものである。中央エアバッグ及び外周エアバッグは、周縁を押圧領域規制部材によって支持され、ウェハを押圧する範囲が規制される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第３６８３１４９号公報
【特許文献２】特許第３５２０９１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述したような特許文献１記載の研磨装置では、弾性シートがエア圧で膨張すると、ウェハを支持する支持面が均一に形成されないことがあった。すなわち、弾性シートの支持面は、径方向において水平に膨張するのが好ましいところ、弾性シートに径方向に作用する張力や弾性シートの厚みムラ等によって支持面が歪むことがあった。このような支持面でウェハを研磨すると、ウェハ全面を均一に押圧することが難しく、平坦な研磨面が得られない虞があった。
【０００７】
また、上述したような特許文献２記載の研磨装置では、中央エアバッグと外周エアバッグとの間の押圧領域規制部材の直下は、ウェハに作用する押圧力が弱くなる虞があり、必ずしも所望の圧力分布を得られないという問題があった。
【０００８】
そこで、所望の圧力分布でウェハを精度良く研磨するという解決すべき技術的課題が生じてくるのであり、本発明は、この課題を解決することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は上記目的を達成するために提案されたものであり、請求項１記載の発明は、研磨ヘッドに装着されたウェハを圧縮空気によって研磨パッドに押圧して前記ウェハを研磨するウェハ研磨装置であって、前記研磨ヘッドは、前記圧縮空気を導入する圧縮空気供給ラインが形成されたベース部材と、上面に立設されたリムを備え、前記ベース部材の下方に張設されて前記ベース部材との間にエア空間を形成し、前記圧縮空気の圧力に応じて下方に膨張可能な弾性シートと、前記リムを嵌合して前記エア空間を複数のエア室に区画する溝と、前記圧縮空気供給ラインと前記エア室とを連通する複数の連通孔と、を備え、前記ベース部材と前記弾性シートとの間に介装されたレイアウト部材と、前記圧縮空気供給ラインから供給される圧縮空気を所望の前記連通孔に導入させる規制部材と、前記圧縮空気が導入された前記エア室の内外で圧力勾配を形成する圧力勾配形成手段と、を備えているウェハ研磨装置を提供する。
【００１０】
この構成によれば、圧縮空気が所望のエア室に導入されると共に、リムが弾性シートの剛性を向上させることにより、所望の圧力分布でウェハを押圧可能なため、ウェハを精度良く研磨することができる。
【００１１】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明の構成に加えて、前記圧力勾配形成手段は、前記リムと前記溝とを嵌合して成るラビリンス構造であるウェハ研磨装置を提供する。
【００１２】
この構成によれば、請求項１記載の発明の効果に加えて、圧縮空気がラビリンス構造を通過する際に減圧されることにより、ラビリンス構造の内側と外側とで圧力勾配が生じるため、圧力が緩やかに変化する圧力分布でウェハを押圧することができる。
【００１３】
請求項３記載の発明は、請求項１又は２記載の発明の構成に加えて、前記圧力勾配形成手段は、前記溝と前記リムとの間のクリアランスを封止する封止部材であるウェハ研磨装置を提供する。
【００１４】
この構成によれば、請求項１又は２記載の発明の効果に加えて、溝とリムとの間隙が封止されていることにより、エア室内に導入された圧縮空気が隣り合うエア室に漏出することが抑制されるため、圧力の強弱が際立つ圧力分布でウェハを押圧することができる。
【００１５】
請求項４記載の発明は、請求項１乃至３の何れか１項記載の発明の構成に加えて、前記溝及び前記リムは、同心円状に配置されているウェハ研磨装置を提供する。
【００１６】
この構成によれば、請求項１乃至３の何れか１項記載の発明の効果に加えて、溝とリムとで区画される複数のエア室が同心円状に並設されていることにより、所望のエア室に圧縮空気を導入して圧力分布が研磨ヘッドの回転軸を中心に対称に形成されるため、研磨ヘッドの回転軸を中心に点対称な研磨面を有するウェハを得ることができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明は、エア室内毎に圧縮空気が導入されると共に、リムが弾性シートの剛性を向上させることにより、所望の圧力分布でウェハを押圧可能なため、ウェハを精度良く研磨することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の一実施例に係るウェハ研磨装置を示す斜視図。
【図２】図１に示す研磨ヘッドの要部縦断面図。
【図３】図２の部分拡大図。
【図４】ラビリンス構造の拡大図。
【図５】レイアウトベースを示す平面図。
【図６】レイアウトベースを示す底面図。
【図７】研磨ヘッドの中心付近に圧縮空気を導入する様子を示す縦断面図。
【図８】図７の弾性シートに作用する圧力分布を示すグラフ。
【図９】キャリアと弾性シートとの間に圧縮空気を部分的に導入した状態を示す断面図。
【図１０】図９のレイアウトベースを示す平面図。
【図１１】図９のレイアウトベースを示す底面図。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明に係るウェハ研磨装置は、所望の圧力分布でウェハを精度良く研磨するという目的を達成するために、研磨ヘッドに装着されたウェハを圧縮空気によって研磨パッドに押圧してウェハを研磨するウェハ研磨装置であって、研磨ヘッドは、圧縮空気を導入する圧縮空気供給ラインが形成されたベース部材と、上面に立設されたリムを備え、ベース部材の下方に張設されてベース部材との間にエア空間を形成し、圧縮空気の圧力に応じて下方に膨張可能な弾性シートと、リムを嵌合してエア空間を複数のエア室に区画する溝と、圧縮空気供給ラインとエア室とを連通する複数の連通孔と、を備え、ベース部材と弾性シートとの間に介装されたレイアウト部材と、圧縮空気供給ラインから供給される圧縮空気を所望の連通孔に導入させる規制部材と、圧縮空気が導入されたエア室の内外で圧力勾配を形成する圧力勾配形成手段と、を備えていることにより実現する。
【実施例】
【００２０】
以下、本発明の一実施例に係るウェハ研磨装置１について、図面に基づいて説明する。なお、以下の実施例において、構成要素の数、数値、量、範囲等に言及する場合、特に明示した場合及び原理的に明らかに特定の数に限定される場合を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも構わない。
【００２１】
また、構成要素等の形状、位置関係に言及するときは、特に明示した場合及び原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似又は類似するもの等を含む。
【００２２】
また、図面は、特徴を分かり易くするために特徴的な部分を拡大する等して誇張する場合があり、構成要素の寸法比率等が実際と同じであるとは限らない。また、断面図では、構成要素の断面構造を分かり易くするために、一部の構成要素のハッチングを省略することがある。なお、本実施例において、「上」、「下」の語は、垂直方向における上方、下方に対応するものとする。
【００２３】
図１は、ウェハ研磨装置１の基本的構成を示す斜視図である。ウェハ研磨装置１は、ＣＭＰ研磨装置であり、ウェハＷを平坦に研磨する。ウェハ研磨装置１は、プラテン２と、研磨ヘッド１０と、を備えている。
【００２４】
プラテン２は、円盤状に形成されており、プラテン２の下方に配置された回転軸３に連結されている。回転軸３がモータ４の駆動によって回転することにより、プラテン２は図１中の矢印Ｄ１の方向に回転する。プラテン２の上面には、研磨パッド５が貼付されており、研磨パッド５上に図示しないノズルから研磨剤と化学薬品との混合物であるＣＭＰスラリーが供給される。
【００２５】
研磨ヘッド１０は、プラテン２より小径の円盤状に形成されており、研磨ヘッド１０の上方に配置された回転軸１０ａに連結されている。回転軸１０ａが図示しないモータの駆動によって回転することにより、研磨ヘッド１０は、図１中の矢印Ｄ２の方向に回転する。研磨ヘッド１０は、図示しない昇降装置によって垂直方向Ｖに昇降自在である。研磨ヘッド１０は、ウェハＷを研磨する際に下降して研磨パッド５にウェハＷを押圧する。
【００２６】
ウェハ研磨装置１の動作は、図示しない制御手段によって制御される。制御手段は、ウェハ研磨装置１を構成する構成要素をそれぞれ制御するものである。制御手段は、例えば、ＣＰＵ、メモリ等により構成される。なお、制御手段の機能は、ソフトウェハを用いて制御することにより実現されても良く、ハードウェアを用いて動作するものにより実現されても良い。
【００２７】
次に、研磨ヘッド１０について説明する。図２は、研磨ヘッド１０の要部を示す縦断面図である。図３は、図２の部分拡大図である。図４は、ラビリンス構造５０の拡大図である。図５は、レイアウトベース４０の平面図である。図６は、レイアウトベース４０の底面図である。
【００２８】
研磨ヘッド１０は、ベース部材としてのキャリア２０と、第１の弾性シート３０と、レイアウト部材としてのレイアウトベース４０と、を備えている。
【００２９】
キャリア２０には、所定の径で穿孔された９本のエアーフロートライン２１及び１本のゾーンエアーライン２２が設けられている。エアーフロートライン２１は、図示しない圧縮空気供給源、給水源、真空源に接続されている。また、ゾーンエアーライン２２は、図示しない圧縮空気供給源に接続されている。キャリア２０は、例えば、ステンレス鋼製である。キャリア２０は、研磨ヘッド１０とキャリア２０との間に設けられた図示しないキャリア押圧手段によってキャリア２０に付与される研磨圧力が調整される。
【００３０】
キャリア２０は、リテーナリング２３内に収容されている。リテーナリング２３は、研磨ヘッド１０とリテーナリング２３との間に設けられた図示しないリテーナ押圧手段によって研磨パッド５に押し付けられる。リテーナリング２３は、リテーナ本体２３ａと交換部２３ｂとを図示しないボルト等で結合して構成されている。リテーナ本体２３ａ及び交換部２３ｂは、第２の弾性シート２４の周縁を挟持している。これにより、第１の弾性シート３０と第２の弾性シート２４との隙間にエア室２５が形成されている。第２の弾性シート２４は、ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）製、フッ素樹脂（ＰＦＡ）製又はポニフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）製である。ＰＦＡは、吸水率が低く適度に柔軟性があって伸びや変形に強い。ＰＰＳは、吸水率が低く、伸びや変形に強い上、ＰＦＡに比べて安価である。エアーフロートライン２１は、レイアウトベース３０及び後述する支持部３１の孔を介してエア室２５に連通されている。
【００３１】
第１の弾性シート３０は、支持部３１を介してキャリア２０に張設されている。具体的には、第１の弾性シート３０の周縁が、円環状の支持部３１とレイアウトベース４０に挟持されている。第１の弾性シート３０には、第１の弾性シート３０の上面には、同心円状に配置された５列のリム３２が設けられている。第１の弾性シート３０は、例えば、エチレン・プロピレン・ジエンゴム（ＥＰＤＭ）製である。
【００３２】
レイアウトベース４０は、キャリア２０と第１の弾性シート３０との間に介装されている。レイアウトベース４０は、エア空間Ａ１を上方エア空間Ａ２と下方エア空間Ａ２とに区画する。レイアウトベース４０は、図示しないボルトでキャリア２０に締結されている。エア空間Ａ１には、ゾーンエアーライン２２が連通されている。レイアウトベース４０は、上面に設けられた凹部４１と、下面に刻設された環状の溝４２と、垂直方向Ｖにレイアウトベース４０を貫通する連通孔４３と、を備えている。レイアウトベース４０は、例えば、ステンレス鋼製である。
【００３３】
凹部４１は、６つの連通孔４３の上部開口を囲繞するように、平面視で楕円形状に形成されている。凹部４１には、凹部４１の周縁に形成された第１のシール溝４４と、上部開口４３ａの周縁に形成された第２のシール溝４５と、が形成されている。第１のシール溝４４及び第２のシール溝４５には、後述するＯリングを収容することができる。
【００３４】
溝４２は、同心円状に５列設けられている。溝４２は、リム３２と対向する位置に配置されている。溝４２にリム３２を嵌合することにより、下方エア空間Ａ２は６つのエア室Ａ３に区画される。
【００３５】
レイアウトベース４０の中央に配置された連通孔４３は、研磨ヘッド１０の回転軸上に配置されており、レイアウトベース４０の径方向Ｒにおいて、溝４２と連通孔４３の下部開口とが交互に配置されている。連通孔４３は、上方エア空間Ａ２とエア室Ａ３とを連通する。
【００３６】
研磨ヘッド１０は、リム３２と溝４２とを嵌合して成る圧力勾配形成手段としてのラビリンス構造５０を備えている。リム３２と溝４２との間には僅かなクリアランスが確保されており、例えば、第１の弾性シート３０とレイアウトベース４０とを１ｍｍだけ離間して配置する場合には、径方向ＲのクリアランスＣ１を０．５ｍｍ、垂直方向ＶのクリアランスＣ２を０．１ｍｍに設定することが考えられる。
【００３７】
以下、径方向Ｒに並設されたリム３２、溝４２、第２のシール溝４５、及びラビリンス構造５０をそれぞれ区別する場合には、符号の末尾にａ〜ｅを径方向の内側から順に付すこととする。また、径方向Ｒに並設された挿通孔４３およびエア室Ａ３をそれぞれ区別する場合には、符号の末尾にａ〜ｆを径方向の内側から順に付すこととする。
【００３８】
次に、研磨ヘッド１０の作用について、中心から径方向Ｒの外側に向かって徐々に減圧するように圧縮空気を導入する場合を例に説明する。図７は、研磨ヘッド１０の中心付近に圧縮空気を導入する様子を示す縦断面図である。図８は、図７の第１の弾性シート３０に作用する圧力分布を示すグラフである。
【００３９】
第１のシール溝４４には、上方エア空間Ａ２を内側に形成する第１のＯリング４６が嵌入されている。また、第２のシール溝４５ｂ〜ｅには、挿通孔４３ｂ〜ｆへの圧縮空気の導入を抑制し、挿通孔４３ａに圧縮空気を導入させる規制部材としての第２のＯリング４７が嵌入されている。すなわち、ゾーンエアーライン２２から上方エア空間Ａ２に供給された圧縮空気は、挿通孔４３ａのみに導入される。第１のＯリング４６及び第２のＯリング４７は、例えば、エチレンポロピレンゴム製である。
【００４０】
挿通孔４３ａからエア室Ａ３ａに導入された圧縮空気が、エア室Ａ３ａ内に充填される。その後、圧縮空気は、ラビリンス構造５０ａ内を迂回して通過する際に減圧される。
【００４１】
ラビリンス構造５０ａを通過した圧縮空気は、エア室Ａ３ｂ内に充填された後に、ラビリンス構造５０ｂ内を迂回して減圧しながら通過する。以下、圧縮空気は、エア室Ａ３ｃ〜ｅ及びラビリンス構造５０ｃ〜ｅを交互に通過した後にエア室Ａ３ｆに至る。このようにして得られる圧縮空気の圧力分布を図８に示す。図８中の従来例１とは、第１の弾性シート３０の全面を圧縮空気で一様に加圧し、ウェハＷを３ｐｓｉで押圧する従来のウェハ研磨装置である。従来例２とは、特許文献２記載のウェハ研磨装置に中央絵バッグ及び外周エアバッグに４ｐｓｉの圧縮空気をそれぞれ導入したものである。本発明とは、上述したように４ｐｓｉの圧縮空気をエア室Ａ３ａに導入したものである。また、図８中の「ウェハ押圧領域」とは、実際にウェハＷに押圧力が作用する範囲であり、第１の弾性シート３０が支持部３１に支持されている周縁の内側領域に対応する。
【００４２】
図８に示すように、従来例１では、局所的な圧力勾配は形成しない。また、従来例２では、中央エアバッグの直下及び外周エアバッグの直下では目標圧力に達しているものの、中央エアバッグと外周エアバッグとの間、すなわち、押圧領域規制部材の直下では減圧しがちである。一方、研磨ヘッド１０では、第１の弾性シート３０の中心から外周に向かって緩やかに減圧されている。これは、圧縮空気が、ラビリンス構造５０内を減圧されながら通過すると共に、リム３２が第１の弾性シート３０の剛性を高めることで、第１の弾性シート３０の局所的な屈曲が抑制されるためである。
【００４３】
なお、第１の弾性シート３０及びレイアウトベース４０を交換することにより、ウェハＷの研磨形状に応じて、リム３２及び溝４５の形状を適宜変更することができる。例えば、ウェハＷの中央に平面視で矩形状の凹部を形成する場合には、平面視で矩形状に配置されたリム３２を有する第１の弾性シート３０及び平面視で矩形状に配置された溝４５を有するレイアウトベース４０を用意し、最内側のエア室Ａ３に圧縮空気を導入すると共に、ウェハＷを図示しない接着部材で第２の弾性シート２４に貼着させてウェハＷを非回転で研磨することにより、平面視で中央に矩形状の凹部が形成されたウェハＷを得ることができる。
【００４４】
なお、ラビリンス構造５０は、断面Ｉ字状のリム３２を溝４２に嵌合させるものに限定されず、例えば、リム３２及び溝４２を断面Ｔ字状に形成しても構わない。また、圧縮空気を導入するエア室Ａ３は、第２のＯリング４７の配置を変更することにより、任意に選択可能である。
【００４５】
さらに、圧力勾配形成手段は、上述したラビリンス構造５０に限定されず、リム３３と溝４３との間のクリアランスを封止する封止部材であっても構わない。このような研磨ヘッド１０について、図面に基づいて説明する。図９は、キャリア２０と第１の弾性シート３０との間に圧縮空気を部分的に導入した状態を示す断面図である。図１０は、図９のレイアウトベース４０を示す平面図である。図１１は、図９のレイアウトベース４０を示す底面図である。なお、図９では、圧縮空気が充填される領域を明確に示すために、部材のハッチングを省略している。
【００４６】
第１のシール溝４４に第１のＯリング４６が嵌入し、第２のシール溝４５ａ，ｂ，ｆに第２のＯリング４７を嵌入する。図９、１０に示すように、上方エア空間Ａ２に供給された圧縮空気は、連通孔４３ｃ，ｄ，ｅにのみ導入される。
【００４７】
また、図９、１１に示すように、リム３２ｂと溝４２ｂとの間、及びリム３２ｅ及び溝４２ｅの間には、封止部材としてのシール用ゴム６０が接着されている。シール用ゴム６０は、例えば、ＥＰＤＭ製であり、２液性エポキシ樹脂接着剤で接着されている。これにより、リム３２ｂと溝４２ｂとの間のクリアランス、及びリム３２ｅと溝４２ｅとの間のクリアランスが閉塞されている。すなわち、連通孔４３ｃ，ｄ，ｅに導入された圧縮空気は、エア室Ａ３ｃ、ｄ、ｅ内に充填される。
【００４８】
これにより、図９〜１１の斜線部に示すように、圧縮空気は、エア室Ａ３ａ，ｂ，ｆに導入されず、エア室Ａ３ｃ、ｄ、ｅに充填される。したがって、圧縮空気が導入されないエア室Ａ３ａ，ｂ，ｆでは押圧力が生じず、圧縮空気が導入されたエア室Ａ３ｃ、ｄ、ｅでのみ押圧力が生じるため、圧力の強弱が際立つ圧力分布を形成することができる。なお、リム３２と溝４２との間を封止する封止部材は、シール用ゴム６０の他に、リム３２を溝４２に接合するボルト等であっても構わない。
【００４９】
このようにして、上述したウェハ研磨装置１は、エア室Ａ３毎に圧縮空気が導入可能であり、リム３２が第１の弾性シート３０の剛性を向上させることにより、所望の圧力分布でウェハＷを押圧可能なため、ウェハＷを精度良く研磨することができる。
【００５０】
なお、本発明は、本発明の精神を逸脱しない限り種々の改変をなすことができ、そして、本発明が該改変されたものにも及ぶことは当然である。
【符号の説明】
【００５１】
１  ・・・  ウェハ研磨装置
２  ・・・  プラテン
３  ・・・  回転軸
４  ・・・  モータ
５  ・・・  研磨パッド
１０・・・  研磨パッド
２０・・・  キャリア（ベース部材）
２１・・・  エアーフロートライン
２２・・・  ゾーンエアーライン（圧縮空気供給ライン）
２３・・・  リテーナリング
２３ａ・・・リテーナ本体
２３ｂ・・・交換部
２４・・・  第２の弾性シート
２５・・・  エア室
３０・・・  第１の弾性シート
３１・・・  支持部
３２・・・  リム
４０・・・  レイアウトベース（レイアウト部材）
４１・・・  凹部
４２・・・  溝
４３・・・  連通孔
４４・・・  第１のシール溝
４５・・・  第２のシール溝
４６・・・  第１のＯリング
４７・・・  第２のＯリング（規制部材）
５０・・・  ラビリンス構造
６０・・・  封止部材
Ａ  ・・・  エア空間
Ａ３・・・  エア室
Ｒ  ・・・  径方向
Ｖ  ・・・  垂直方向
Ｗ  ・・・  ウェハ
【図１】
2017152615.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2017152615.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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