(57)【要約】【課題】立軸ポンプまたは横軸ポンプにおいて、簡単な構成で渦流の発生を抑制する。【解決手段】立軸ポンプまたは横軸ポンプの周囲において渦流の発生を抑制するための渦流抑制装置は、渦流の発生および位置を検知するように構成された渦流検知部と、検知された渦流の位置に応じて、流体を噴射する流体噴射部と、流体噴射部の動作を制御する制御部と、を備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
立軸ポンプまたは横軸ポンプの周囲において渦流の発生を抑制するための渦流抑制装置であって、
前記渦流の発生および位置を検知するように構成された渦流検知部と、
前記検知された渦流の位置に応じて、流体を噴射する流体噴射部と、
前記流体噴射部の動作を制御する制御部と
を備えた渦流抑制装置。
【請求項２】
請求項１に記載された渦流抑制装置であって、
前記流体噴射部は、噴射方向を可変に構成された
渦流抑制装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載された渦流抑制装置であって、
前記制御部は、前記渦流検知部によって検知された前記渦流の位置に向けて前記流体を噴射するように構成された
渦流抑制装置。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の渦流抑制装置であって、
前記制御部は、前記渦流検知部による検知結果に基づくフィードバック制御によって、前記渦流が小さくなるように前記流体噴射部を制御するように構成された
渦流抑制装置。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の渦流抑制装置であって、
前記制御部は、前記立軸ポンプまたは前記横軸ポンプの運転に関係する状態量に基づくフィードフォワード制御によって、前記渦流の発生が抑制されるように前記流体噴射部を制御するように構成された
渦流抑制装置。
【請求項６】
ポンプシステムであって、
請求項１ないし請求項５のいずれか一項に記載の渦流抑制装置と、
前記立軸ポンプまたは前記横軸ポンプと
を備えた
ポンプシステム。
【請求項７】
請求項６に記載のポンプシステムであって、
前記流体噴射部は、前記立軸ポンプまたは前記横軸ポンプの吐出側に接続される
ポンプシステム。
【請求項８】
ポンプ設備であって、
請求項７または請求項８に記載の渦流抑制装置と、
吸込水槽と
を備え、
前記流体噴射部は、前記吸込水槽の底部に形成された複数の噴射口である
ポンプ設備。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、立軸ポンプまたは横軸ポンプの周囲において渦流の発生を抑制する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
排水機場などで設置される立軸ポンプまたは横軸ポンプでは、吸込水槽の壁面側から吸込ベルマウスの吸込口に向かう水中渦や、水面から吸込ベルマウスの吸込口に向かう空気吸込渦が発生し、ポンプの性能を低下させたり、振動の要因となったりすることが知られている。このような渦流を防止するために、吸込ベルマウスに流れ込む流体の流れを変えるための部材を吸込ベルマウスの周囲に配置する技術が開発されている（例えば、下記の特許文献１，２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−１２０５７９号公報
【特許文献２】特開２００２−３７１９８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１の技術では、大掛かりな構造物を吸込水槽に構築する必要があり、コストの増大や、施設の建設工期の長期化を招く恐れがある。また、特許文献２の技術では、大きな重量物をポンプに装着する必要があり、それを支持するための強固な支持構造が必要となり、また、振動の発生の要因にもなり得る。このようなことから、簡単な構成で渦流の発生を抑制できることが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、例えば、以下の形態として実現することが可能である。
【０００６】
本発明の第１の形態によれば、立軸ポンプまたは横軸ポンプの周囲において渦流の発生を抑制するための渦流抑制装置が提供される。この渦流抑制装置は、渦流の発生および位置を検知するように構成された渦流検知部と、検知された渦流の位置に応じて、流体を噴射する流体噴射部と、流体噴射部の動作を制御する制御部と、を備える。
【０００７】
かかる渦流抑制装置によれば、渦流が発生した場合に、流体噴射部から噴射される流体を渦流にぶつけて渦流を破壊することによって、または、当該流体の噴射によって吸込水槽内の水の流れを変化させることによって、発生した渦流を低減することができる。しかも、装置構成も簡単である。
【０００８】
本発明の第２の形態によれば、第１の形態において、流体噴射部は、噴射方向を可変に構成される。かかる形態によれば、１つの流体噴射部で多方向に流体を噴射することができるので、広範囲に亘って渦流を低減することができる。あるいは、流体噴射部の設置数を低減することができる。
【０００９】
本発明の第３の形態によれば、第１または第２の形態において、制御部は、渦流検知部によって検知された渦流の位置に向けて流体を噴射するように構成される。かかる形態によれば、流体噴射部から噴射される流体を渦流にぶつけて渦流を破壊することによって、
発生した渦流を低減することができる。
【００１０】
本発明の第４の形態によれば、第１ないし第３のいずれかの形態において、制御部は、渦流検知部による検知結果に基づくフィードバック制御によって、渦流が小さくなるように流体噴射部を制御するように構成される。かかる形態によれば、発生した渦流をフィードバック制御によって、さらに効果的に低減することができる。
【００１１】
本発明の第５の形態によれば、第１ないし第４のいずれかの形態において、制御部は、立軸ポンプまたは横軸ポンプの運転に関係する状態量に基づくフィードフォワード制御によって、渦流の発生が抑制されるように流体噴射部を制御するように構成される。かかる形態によれば、渦流の発生をフィードフォワード制御によって事前に抑制することができるので、渦流の低減効果が高まる。
【００１２】
本発明の第６の形態によれば、ポンプシステムが提供される。このポンプシステムは、第１ないし第５のいずれかの形態の渦流抑制装置と、立軸ポンプまたは横軸ポンプと、を備える。かかるポンプシステムによれば、第１ないし第５のいずれかの形態と同様の効果を奏する。
【００１３】
本発明の第７の形態によれば、第６の形態において、流体噴射部は、立軸ポンプまたは横軸ポンプの吐出側に接続される。かかる形態によれば、吐出圧力を利用して、立軸ポンプまたは横軸ポンプの吐出流体を噴射することができるので、流体源や流体噴射用のポンプを個別に設ける必要がない。したがって、システム構成を簡略化できる。
【００１４】
本発明の第８の形態によれば、ポンプ設備が提供される。このポンプ設備は、第７または第８の形態の渦流抑制装置と、吸込水槽と、を備える。流体噴射部は、吸込水槽の底部に形成された複数の噴射口である。かかるポンプ設備によれば、噴射方向を制御する必要がないので、設備構成を簡略化できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の一実施例としてのポンプ設備の概略構成を示す図である。
【図２】渦流検知部の概略構成を模式的に示す平面図である。
【図３】渦流検知部の概略構成を模式的に示す正面図である。
【図４】第２実施例としての流体噴射部の概略構成を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
Ａ．第１実施例：
図１は、本発明の一実施例としてのポンプ設備２０の概略構成を示している。ポンプ設備２０は、ポンプシステム２５と吸込水槽９０とを備えている。ポンプシステム２５は、立軸ポンプ３０と原動機３９と渦流抑制装置４０とを備えている。立軸ポンプ３０は、吊下管３１と、ポンプボウル３２と、吸込ベルマウス３３と、シャフト３４と、外軸受３５と、水中軸受３６と、インペラ３７とを備えている。鉛直方向に延在するシャフト３４は、外軸受３５と水中軸受３６とによって支承されている。このシャフト３４の下端には、ポンプボウル３２の内部においてインペラ３７が設けられている。シャフト３４の上端には、原動機台３９ａに据え付けられた原動機３９が連結されている。
【００１７】
ポンプ据付床９１には、ポンプ据付床９１を貫通するポンプ据付孔９２が形成されており、その下方には、吸込水槽９０が配置されている。立軸ポンプ３０は、吊下管３１がポンプ据付孔９２から吸込水槽９０内に吊り下げられるように、ポンプ据付床９１上に据え付けられている。かかるポンプ設備２０では、原動機３９によって提供される駆動力によってシャフト３４が回転すると、同時にインペラ３７も回転し、吸込ベルマウス３３から
上方に水が汲み上げられる。
【００１８】
渦流抑制装置４０は、流体噴射部４１と制御部４６と配管４２と渦流検知部５０とを備えている。本実施例では、流体噴射部４１は高圧噴射ノズルである。流体噴射部４１は、吸込水槽９０内に発生した渦流を低減するために流体を噴射する。渦流の低減は、流体を渦流にぶつけて渦流を破壊することによって、または、当該流体の噴射によって吸込水槽９０内の水の流れを変化させることによって、行われる。流体噴射部４１は、配管４２を介して、ポンプ（例えば、ウォータージェットポンプ）および水源（図示省略）に接続されている。図１では、１つのみの流体噴射部４１を示しているが、流体噴射部４１は、複数であってもよい。本実施例では、流体噴射部４１は、流体として水を噴射する。流体として水を使用すれば、流体噴射部４１からの噴射流体が立軸ポンプ３０の性能に影響を与えることがない。ただし、流体は、水に限らず、エアなどであってもよい。
【００１９】
また、本実施例では、流体噴射部４１は、アクチュエータ（図示省略）によって、流体の噴射方向を可変に構成されている。アクチュエータは、例えば、油圧装置であってもよいし、水圧サーボ機構であってもよい。流体噴射部４１は、この可変機構によって、１つの流体噴射部４１で多方向に流体を噴射することができる。つまり、広範囲の噴射対象領域をカバーできる。したがって、広範囲に亘って渦流を低減することができる。あるいは、流体噴射部４１の設置数を低減することができる。ただし、流体噴射部４１は、予め定められた１つの方向のみに流体を噴射するように構成されていてもよい。さらに、流体噴射部４１は、水平方向および／または鉛直方向に移動可能に構成されていてもよい。例えば、流体噴射部４１は、吸込水槽９０内に設置された走行レール上をアクチュエータによって水平方向および／または鉛直方向に移動可能に構成されていてもよい。
【００２０】
制御部４６は、流体噴射部４１と、後述する渦流検知部５０と、に接続されており、これらの動作を制御する。ただし、制御部４６は、流体噴射部４１の動作制御用、および、渦流検知部５０の動作制御用に、それぞれ個別に設けられてもよい。制御部４６は、ＣＰＵ、メモリなどを備えており、メモリに記憶されたプログラムを実行することによって、必要な制御を行う。制御部４６は、ソフトウェアに代えて、または、加えて、ハードウェア回路によって流体噴射部４１および渦流検知部５０の動作を制御してもよい。制御部４６における具体的な制御については、後述する。
【００２１】
渦流検知部５０は、立軸ポンプ３０の周囲における渦流の発生を検知する。本実施例では、渦流検知部５０は、渦流の発生の有無、ならびに、発生した渦流の位置および大きさを検知可能に構成されている。図２および図３は、渦流検知部５０の詳細を示している。図２は、渦流検知部の概略構成を模式的に示す平面図である。図３は、渦流検知部の概略構成を模式的に示す正面図である。図２に示すように、渦流検知部５０は、超音波発信器５１と超音波受信器５３とを備えている。超音波発信器５１および超音波受信器５３は、それぞれ概ね平板状のパネル状のケース５２，５４内に配置される。超音波発信器５１を備えるパネル状のケース５２、および、超音波受信器５３を備えるパネル状のケース５４は、それぞれ水流の向き（図中に矢印で示す）に平行な吸込水槽９０の両壁面に配置される。超音波発信器５１および超音波受信器５３は、図３に示すように、超音波が立軸ポンプ３０の吸込ベルマウス３３の周囲を通過するように、水中に沈められた状態で配置される。これらのパネル状ケース５２，５４は、吸込水槽９０の上方からケーブル等でポンプ据付床９１から吊り下げられる。超音波発信器５１および超音波受信器５３は、吸込水槽９０内で水中に沈められるので、パネル状ケース５２，５４の、送受信器５１，５３を含めた総体としての比重は、水より大きいことが望ましい。必要であれば、パネル状ケース５２，５４に重りが取り付けられてもよい。また、吸込水槽９０内の水流によってパネル状ケース５２，５４が動かないように、パネル状ケース５２，５４は、吸込水槽９０の底面および／または側面に任意の方法で固定されてもよい。
【００２２】
図３に示すように、パネル状ケース５４の一方の壁面には、一定間隔ごとに超音波受信器５３が配置されている。例えば、図３に示されるように、Ｘ−Ｚ座標に沿って一定間隔で超音波受信器５３が配置される。パネル状ケース５４および超音波受信器５３の少なくとも一方は防水仕様とされる。また、超音波受信器５３の受信信号を送る信号線は、制御部４６（図１参照）に接続される。
【００２３】
超音波発信器５１は、パネル状ケース５２内での一方壁面に配置される。例えば、一例として、超音波発信器５１は、パネル状ケース５２の立軸ポンプ３０に向く面のほぼ中央に配置される。超音波発信器５１およびパネル状ケース５２の少なくとも一方は防水仕様とされる。超音波発信器５１へ信号を送る信号線（図示せず）は、制御部４６に接続される。制御部４６は、発生させる超音波の周波数、強度、タイミング等を制御する。
【００２４】
パネル状ケース５２の超音波発信器５１を備えた面と、パネル状ケース５４の超音波受信器５３を備えた面とは、立軸ポンプ３０を挟んで向かい合わせの状態で吸込水槽９０に配置される。立軸ポンプ３０を停止させた状態で超音波の受送信を行い、超音波の広がる角度と、超音波の強さと、が調整される。図３に示される超音波受信器５３の配置では、超音波発信器５１に直面する位置Ｘ２−Ｚ２の受信器５３において受信する超音波の強度が一番大きく、他の受信器５３では、位置Ｘ２−Ｚ２の受信器５３から遠ざかるほど、受信する超音波の強度は小さくなる。
【００２５】
また、超音波が障害物にぶつかると反射し散乱するので、受信する超音波の強度が小さくなる。図３に示される超音波受信器５３の配置において、位置Ｘ２−Ｚ１にある超音波受信器５３は、当該超音波受信器５３と超音波発信器５１との間に立軸ポンプ３０があるので、超音波が立軸ポンプ３０のところで反射・散乱し、他の超音波受信器５３が受信する強度よりも受信する超音波の強度が小さくなる。また、位置Ｘ２−Ｚ１にある超音波受信器５３は、いくつかの反射が繰り返された超音波を受信するので、発信から受信までの時間が大きくなる。
【００２６】
立軸ポンプ３０を運転すると吸込水槽９０内に水流が生じる。濁度が大きい流体の場合には、水中に大小の粒子が存在するので、超音波は、それらの粒子よる反射や散乱の影響を受けるので、全体として超音波受信器５３が受信する超音波の強度は小さくなる。また、水流の速度と向きとにより、超音波の伝搬速度は異なるので、全体として超音波受信器５３が受信する超音波の周波数が広がる。
【００２７】
そのような状況の中で、立軸ポンプ３０の運転中に吸込水槽９０内で水中渦が発生すると、水中渦の内部には低圧の気泡が発生しているので、超音波は渦中を伝搬透過しにくい。一例として、図３に示される例において、位置Ｘ２−Ｚ２および位置Ｘ２−Ｚ３の超音波受信器５３は、吸込水槽９０の底面側から吸込ベルマウス３３に向かう渦流によって超音波の透過が阻止されるので、他の受信器５３に比べて、受信する超音波の強度は著しく低下する。また、位置Ｘ１−Ｚ２の超音波受信器５３は、吸込水槽９０の側面側から吸込ベルマウス３３に向かう渦流によって超音波の透過が阻止されるので、他の受信器に比べて、受信する超音波の強度は著しく低下する。
【００２８】
このように、立軸ポンプ３０の稼働中に吸込水槽９０内で、超音波発信器５１と超音波受信器５３との間に渦流（すなわち、低圧の気泡）が発生した場合には、対応する超音波受信器５３では、他の受信器に比べて、受信する超音波の強度が大きく低下することになる。このようにして、渦流検知部５０によって、渦流の発生の有無、ならびに、Ｘ方向およびＺ方向における渦流の発生位置を検知することができる。なお、図２では、超音波発信器５１と超音波受信器５３とがＹ方向に対向するように配置されているが、他の超音波
発信器５１と超音波受信器５３とをＸ方向に対向するように設ければ、Ｙ方向における渦流の発生位置も検知することができる。また、超音波発信器５１および超音波受信器５３を高密度に多数設置することによって、渦流の大きさも検知することができる。
【００２９】
渦流検知部５０は、超音波を利用する構成に限らず、種々の構成とすることができる。例えば、渦流検知部５０は、光源とカメラとを備えていてもよい。光源およびカメラを複数台設置し、その撮像画像を認識処理することによって、渦流の発生、発生箇所、および、大きさを検知することができる。光源およびカメラは、それらの向きをアクチュエータによって変更可能に構成されていてもよい。また、光源およびカメラは、例えば、走行レール上を走行する構成によって、移動可能に構成されていてもよい。
【００３０】
以上に説明したポンプ設備２０において、制御部４６は、渦流検知部５０による検知結果に基づいて、流体噴射部４１の動作を制御する。具体的には、渦流検知部５０によって渦流の発生が検知されると、制御部４６は、検知された渦流の位置に向けて予め定められた圧力で流体噴射部４１に流体を噴射させる。本実施例では、流体は、検知された渦流の上流端（起点）に向けて噴射される。一般的には、渦流の起点（例えば、吸込水槽９０の壁面付近から吸込ベルマウス３３に向かう渦流の場合には、壁面付近）で渦を破壊することが効果的である。そして、制御部４６は、流体噴射部４１からの流体の噴射によって生じる渦流の変化を判定する。その結果、渦流がなくなっていなければ、あるいは、渦流が予め定められた大きさまで小さくなっていなければ、制御部４６は、渦流がなくなるまで、あるいは、渦流が予め定められた大きさまで小さくなるまで、流体の噴射方向および／または噴射圧力を繰り返し変更する。つまり、制御部４６は、渦流検知部５０による検知結果に基づくフィードバック制御によって、渦流が小さくなるように流体噴射部４１を制御する。
【００３１】
流体噴射部４１の噴射方向および／または噴射圧力は、ランダムに設定されてもよい。ただし、噴射方向および噴射圧力の変更手順のパターン（以下、変更手順パターンとも呼ぶ）が、実験結果やシミュレーション結果に基づいて予め定められていてもよい。シミュレーションには、ＣＦＤ（数値流体力学）が利用されてもよい。変更手順パターンは、渦流の位置および／または大きさと対応付けて予め定められ、メモリに予め記憶されていてもよい。この場合、制御部４６は、メモリに予め記憶された変更手順パターンの中から、渦流検知部５０によって検知された渦流の位置および／または大きさに対応付けられた変更手順パターンを選択して、フィードバック制御を行ってもよい。このように実験結果やシミュレーション結果に基づいて変更手順パターンを予め決めておき、当該変更手順パターンに基づいて流体噴射部４１を制御することによって、流体噴射部４１の最適な噴射方向および／または噴射圧力を効率的に決定することができ、ひいては、渦流を迅速かつ効率的に低減することができる。
【００３２】
噴射方向は、必ずしも渦流の発生位置に向かう方向に設定されていなくてもよい。渦流の発生位置とは異なる方向に流体が噴射された場合であっても、流体の噴射によって吸込水槽９０内の水の流れを変化させることによって、発生した渦流を低減できる場合があるからである。
【００３３】
流体噴射部４１が複数設置される場合には、検知された渦流に最も近い流体噴射部４１から流体が噴射されてもよい。あるいは、流体噴射部４１が複数設置される場合には、検知された渦流に相対的に近い複数の流体噴射部４１から流体が同時に、または、連動して噴射されてもよい。この場合、同時または連動して動作する流体噴射部４１のグループが、渦流の発生位置に応じて予め定められていてもよい。また、変更手順パターンにおいても、特定のグループに属する流体噴射部４１の各々について、噴射方向および／または噴射圧力の変更手順がそれぞれ定められていてもよい。
【００３４】
以上説明したように、ポンプ設備２０によれば、渦流が発生した場合に、流体噴射部４１から噴射される流体を渦流にぶつけて渦流を破壊することによって、または、当該流体の噴射によって吸込水槽内の水の流れを変化させることによって、発生した渦流を低減することができる。しかも、装置構成も簡単である。さらに、ポンプ設備２０によれば、発生した渦流をフィードバック制御によって、さらに効果的に低減することができる。
【００３５】
Ｂ．第２実施例：
第２実施例としてのポンプ設備２０について、第１実施例と異なる点についてのみ説明する。第２実施例としてのポンプ設備２０は、渦流抑制装置４０に代えて、渦流抑制装置１４０を備えている。図４は、渦流抑制装置１４０の概略構成を示す平面図である。図示するように、渦流抑制装置１４０は、流体噴射部４１に代えて、複数の流体噴射部１４１を備えている。渦流抑制装置１４０は、上述の配管４２、制御部４６および渦流検知部５０も備えているが、図４では、それらの図示は省略している。
【００３６】
流体噴射部１４１は、吸込水槽９０の底面に形成された噴射口（つまり、単なる開口）である。流体噴射部１４１の各々には、吸込水槽９０の底面よりも下層において配管４２が接続される。配管４２は、共通の配管であってもよいし、複数の流体噴射部１４１の各々に対して個別に設けられていてもよい。ただし、配管４２は、複数の流体噴射部１４１の各々からの流体の噴射を個別に制御できるように構成されている。例えば、配管４２が共通の配管である場合には、１本の配管が流体噴射部１４１の各々に向けて分岐する分岐点と、流体噴射部１４１の各々と、との間に仕切り弁が設けられてもよい。図４に示す例では、流体噴射部１４１は、一定の間隔を隔てて、直交する２つの方向のそれぞれにおいて配列されている。流体噴射部１４１の数および配置は、想定される渦流の発生場所やシミュレーションの結果に基づいて、適宜設定することができる。
【００３７】
かかる渦流抑制装置１４０では、渦流検知部５０によって渦流の発生が検知されると、複数の流体噴射部１４１のうちの少なくとも１つから流体が噴射され、発生した渦流が低減される。いずれの流体噴射部１４１から流体を噴射するかは、第１実施例において複数の流体噴射部４１のうちのいずれの流体噴射部４１から流体を噴射するかを決定するのと同様にして決定することができる。かかる渦流抑制装置１４０は、特に、流体の噴射によって吸込水槽９０内の水の流れを変化させることによって、渦流を低減する場合に適している。かかる渦流抑制装置１４０によれば、高圧噴射ノズルが必要ないので、ポンプ設備２０の構成を簡略化できる。
【００３８】
Ｃ．変形例：
Ｃ−１．変形例１：
制御部４６は、上述したように、渦流の発生が渦流検知部５０によって検知された後に流体噴射部４１から流体を噴射する処理に加えて、または、代えて、フィードフォワード制御によって流体噴射部４１を制御してもよい。すなわち、制御部４６は、渦流が発生する前の時点から、流体噴射部４１から流体を継続的または断続的に噴射することによって、渦流の発生を事前に抑制してもよい。具体的には、制御部４６は、立軸ポンプ３０の運転に関係する状態量の検知結果に基づいて、流体噴射部４１をフィードフォワード制御してもよい。この状態量は、ポンプ設備２０が備える状態量検知部によって検知される。状態量検知部は、例えば、ポンプの流量を検知する流量計や、吸込水槽９０の水位を検知する水位計などであってもよい。流体噴射部４１の噴射方向および／または噴射圧力は、想定される状態量ごとに、実験またはシミュレーションによって予め定められ、メモリに記憶されていてもよい。制御部４６は、検知された状態量に応じて噴射方向および／または噴射圧力の変更手順パターンを選択し、選択された手順パターンに基づいて流体噴射部４１の位置を制御してもよい。
【００３９】
Ｃ−２．変形例２：
流体噴射部４１，１４１から噴射する流体には、立軸ポンプ３０によって加圧された水が使用されてもよい。すなわち、流体噴射部４１，１４１は、弁および配管４２を介して立軸ポンプ３０の吐出側に接続されてもよい。換言すれば、立軸ポンプ３０の吐出管が分岐され、その分岐配管が流体噴射部４１，１４１に接続されてもよい。かかる構成とすれば、立軸ポンプ３０の吐出水を噴射することができるので、流体源や流体噴射用のポンプを個別に設ける必要がない。したがって、ポンプシステム２５の構成を簡略化できる。
【００４０】
Ｃ−３．変形例３：
上述の実施形態は、立軸ポンプに限らず、横軸ポンプにも同様に適用可能である。
【００４１】
以上、本発明の実施形態について説明してきたが、上記した発明の実施形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明にはその等価物が含まれることはもちろんである。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、特許請求の範囲および明細書に記載された各構成要素の組み合わせ、または、省略が可能である。
【符号の説明】
【００４２】
２０…ポンプ設備
２５…ポンプシステム
３０…立軸ポンプ
３１…吊下管
３２…ポンプボウル
３３…吸込ベルマウス
３４…シャフト
３５…外軸受
３６…水中軸受
３７…インペラ
３９…原動機
３９ａ…原動機台
４０，１４０…渦流抑制装置
４１，１４１…流体噴射部
４２…配管
４６…制御部
５０…渦流検知部
５１…超音波発信器
５２…パネル状ケース
５３…超音波受信器
５４…パネル状ケース
９０…吸込水槽
９１…ポンプ据付床
９２…ポンプ据付孔
【図１】
2017031948.tif 000003
【図２】
2017031948.tif 000004
【図３】
2017031948.tif 000005
【図４】
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