(57)【要約】      （修正有）【課題】隔壁で発生した劣化要因に起因して有機層が劣化しないようにした発光装置を提供する。【解決手段】基板１００と、基板上に形成され、第１電極１１０、第２電極１３０、及び第１電極と前記第２電極の間に位置する有機層１２０を有する発光部１４０と、発光部を画定する絶縁層１５６及び１５８と、絶縁層の上に位置する隔壁１７０と、発光部、絶縁層の少なくとも一部、及び隔壁の少なくとも一部を覆う被覆膜２００と、を備え、第２電極は、隔壁に沿って分断しており、さらに、絶縁層は、少なくとも隔壁と重なる部分に、屈折率が互いに異なる２つの層（第１層１５６及び第２層１５８）を有する多層部を備える発光装置１０。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に形成され、第１電極、第２電極、及び前記第１電極と前記第２電極の間に位置する有機層を有する発光部と、
前記発光部を画定する絶縁層と、
前記絶縁層の上に位置する隔壁と、
前記発光部、前記絶縁層の少なくとも一部、及び前記隔壁の少なくとも一部を覆う被覆膜と、
を備え、
前記第２電極は、前記隔壁に沿って分断しており、
さらに、前記絶縁層は、少なくとも前記隔壁と重なる部分に、屈折率が互いに異なる２つの層を有する多層部を備える発光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の発光装置において、
前記多層部は、可視光を透過して紫外域の光を透過しない発光装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の発光装置において、
前記第１電極は第１の方向に延在しており、
複数の前記第２電極が互いに並んで前記第１電極に交わる第２の方向に延在しており、
前記隔壁は前記第２の方向に延在しており、
前記発光部は前記第１電極と前記第２電極の交点のそれぞれに位置しており、
前記多層部は、少なくとも前記複数の発光部の間に位置している発光装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の発光装置において、
前記隔壁が延在する方向に対して垂直な断面において、前記隔壁の上面の幅は前記隔壁の下面の幅よりも広い発光装置。
【請求項５】
請求項４に記載の発光装置において、
前記隔壁の幅方向において、前記多層部の幅は前記隔壁の上面の幅よりも大きい発光装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の発光装置において、
前記多層部は酸化チタン層と酸化シリコン層とを少なくとも１層ずつ有している発光装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の発光装置において、
前記被覆膜は、前記隔壁の両側に位置する前記第２電極、並びに前記隔壁の側面及び上面を連続して覆っている発光装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の発光装置において、
前記被覆膜は酸化チタン層と酸化アルミニウム層とを少なくとも１層ずつ有している発光装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の発光装置において、
前記有機層の端部は前記隔壁の一方の側面に接触している発光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
照明装置や表示装置などの発光装置の光源の一つに、有機ＥＬ素子がある。有機ＥＬ素子は、第１電極と第２電極の間に有機層を配置した構成を有している。有機ＥＬ素子を有する発光装置において、有機ＥＬ素子の発光部を画定するために絶縁層が用いられることがある（例えば特許文献１）。
【０００３】
また、一つの基板の上に複数の発光部を設ける場合、これら複数の発光部の第２電極を分離するために、絶縁層の上に隔壁を形成することがある（例えば特許文献２）。特許文献２において、隔壁は第１電極の補助電極の上に形成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−２５０５２０号公報
【特許文献２】特開２０１２−２０４２５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者が検討した結果、隔壁に光（特に紫外線を含む光）が照射すると、有機層を劣化（例えば酸化）させる因子（以下、劣化因子と記載）が発生し得ることが判明した。中空構造の封止構造を採用した場合、この劣化因子は中空部分に拡散するため、問題は生じにくい。これに対して膜を用いて発光部を被覆した場合、隔壁で発生した劣化因子は、絶縁膜を介して有機層に到達し、発光部を構成する有機層を劣化させることがある。この場合、発光部の発光領域が狭くなってしまう。
【０００６】
本発明が解決しようとする課題としては、発光部を被覆する膜を有する発光装置において、隔壁で発生した劣化因子に起因して有機層が劣化しないようにすることが一例として挙げられる。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、基板と、
前記基板上に形成され、第１電極、第２電極、及び前記第１電極と前記第２電極の間に位置する有機層を有する発光部と、
前記発光部を画定する絶縁層と、
前記絶縁層の上に位置する隔壁と、
前記発光部、前記絶縁層の少なくとも一部、及び前記隔壁の少なくとも一部を覆う被覆膜と、
を備え、
前記第２電極は、前記隔壁に沿って分断しており、
さらに、前記絶縁層は、少なくとも前記隔壁と重なる部分に、屈折率が互いに異なる２つの層を有する多層部を備える発光装置である。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】実施形態に係る発光装置の平面図である。
【図２】図１から被覆膜を取り除いた図である。
【図３】図２から隔壁、第２電極、有機層、及び絶縁層を取り除いた図である。
【図４】図２のＡ−Ａ断面図である。
【図５】図２のＢ−Ｂ断面図である。
【図６】図２のＣ−Ｃ断面図である。
【図７】変形例に係る発光装置の構成を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
【００１０】
（実施形態）
図１は、実施形態に係る発光装置１０の平面図である。図２は、図１から被覆膜２００を取り除いた図である。図３は、図２から隔壁１７０、第２電極１３０、有機層１２０、及び絶縁層１５０を取り除いた図である。図４は図２のＡ−Ａ断面図であり、図５は図２のＢ−Ｂ断面図であり、図６は図２のＣ−Ｃ断面図である。なお、図４〜図６において、説明のため被覆膜２００も示している。
【００１１】
実施形態に係る発光装置１０は、基板１００、発光部１４０、絶縁層１５０、隔壁１７０、及び被覆膜２００を備えている。発光部１４０は基板１００の上に形成されており、第１電極１１０、有機層１２０、及び第２電極１３０を有している。有機層１２０は第１電極１１０と第２電極１３０の間に位置している。絶縁層１５０は発光部１４０を画定している。隔壁１７０は絶縁層１５０の上に位置している。被覆膜２００は、発光部１４０、絶縁層１５０の少なくとも一部、及び隔壁１７０の少なくとも一部を覆っている。第２電極１３０は隔壁１７０に沿って分断している。そして、絶縁層１５０は、少なくとも隔壁１７０と重なる部分に多層部を有している。この多層部は、屈折率が互いに異なる２つの層（第１層１５６及び第２層１５８）を有している。図１〜図６に示す例において、絶縁層１５０の全体が多層部になっている。以下、発光装置１０について詳細に説明する。
【００１２】
図１〜図７に示す例において、発光装置１０はディスプレイであり、基板１００、第１電極１１０、発光部１４０、絶縁層１５０、複数の開口１５２、複数の開口１５４、複数の引出配線１１４、有機層１２０、第２電極１３０、複数の引出配線１３４、複数の隔壁１７０、及び被覆膜２００を有している。
【００１３】
発光装置１０は、ボトムエミッション型の発光装置及びトップエミッション型の発光装置のいずれであってもよい。発光装置１０がボトムエミッション型である場合、基板１００は、例えばガラスや透光性の樹脂などの透光性の材料で形成されており、基板１００のうち第１電極１１０とは逆側の面が発光装置１０の光取出面になっている。一方、発光装置１０がトップエミッション型である場合、基板１００は上述した透光性の材料で形成されていてもよいし、透光性を有さない材料で形成されていてもよい。基板１００は、例えば矩形などの多角形である。また、基板１００は可撓性を有していてもよい。基板１００が可撓性を有している場合、基板１００の厚さは、例えば１０μｍ以上１０００μｍ以下である。特に基板１００をガラス材料で可撓性を持たせる場合、基板１００の厚さは、例えば２００μｍ以下である。基板１００を樹脂材料で可撓性を持たせる場合は、基板１００の材料として、例えばＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＥＳ（ポリエーテルサルホン）、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）、又はポリイミドを含ませて形成されている。また、基板１００が樹脂材料を含む場合、水分が基板１００を透過することを抑制するために、基板１００の少なくとも発光面（好ましくは両面）に、ＳｉＮｘやＳｉＯＮなどの無機バリア膜が形成されている。
【００１４】
発光部１４０は、上記したように、第１電極１１０、第２電極１３０、及び有機層１２０を有している。
【００１５】
第１電極１１０及び第２電極１３０のうち少なくとも光が射出する側の電極は、光透過性を有する透明電極である。なお、第１電極１１０及び第２電極１３０の双方が透明電極であってもよい。
【００１６】
透明電極を構成する透明導電材料は、金属を含む材料、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、ＩＷＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｕｎｇｓｔｅｎ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、ＺｎＯ（Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）等の金属酸化物である。第１電極１１０の厚さは、例えば１０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である。第１電極１１０は、例えばスパッタリング法又は蒸着法を用いて形成される。なお、第１電極１１０は、カーボンナノチューブ、又はＰＥＤＯＴ／ＰＳＳなどの導電性有機材料であってもよいし、薄い金属電極であってもよい。
【００１７】
第１電極１１０及び第２電極１３０のうち透光性を有していない電極は、例えば、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｍｇ、Ｓｎ、Ｚｎ、及びＩｎからなる第１群の中から選択される金属、又はこの第１群から選択される金属の合金からなる金属層を含んでいる。この電極は、例えばスパッタリング法又は蒸着法を用いて形成される。また、この電極は、金属層と透明導電層をこの順に積層した構造であってもよい。
【００１８】
以下、第１電極１１０が透光性を有しており、第２電極１３０が透光性を有していないとして、説明を行う。この場合、第２電極１３０の厚さは、例えば６０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。
【００１９】
第１電極１１０は、第１方向（図３におけるＹ方向）にライン状に延在している。そして第１電極１１０の端部は、引出配線１１４に接続している。
【００２０】
引出配線１１４は、第１電極１１０を第１端子１１２に接続する配線である。本図に示す例では、引出配線１１４の一端側は第１電極１１０に接続しており、引出配線１１４の他端側は第１端子１１２となっている。本図に示す例において、第１電極１１０及び引出配線１１４は一体になっている。そして、第１端子１１２の上及び引出配線１１４の上には、導体層１８０が形成されている。導体層１８０は、第１電極１１０よりも抵抗の低い金属、例えばＡｌ又はＡｇを用いて形成されている。なお、引出配線１１４の一部は絶縁層１５０によって覆われている。なお、第１電極１１０の上にも導体層１８０が形成されていてもよい。この場合、導体層１８０は、第１電極１１０のうち発光部１４０として機能しない部分に形成されている。
【００２１】
有機層１２０は、例えば正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、及び電子注入層を有している。正孔注入層及び正孔輸送層は、正孔が移動する材料（正孔移動性の有機材料）を用いて形成されている。正孔注入層の厚さは、例えば５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。正孔輸送層は正孔注入層より薄く、その厚さは例えば２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。発光層は、電子と正孔の再結合に伴って発光する材料を用いて形成されている。発光層の発光色は何色であってもよい。このため、発光層の材料は発光性の有機材料であれば何であってもよい。電子輸送層は、電子が移動する材料（電子移動性の有機材料）を用いて形成されている。電子輸送層の厚さは、例えば５ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。電子注入層は、例えばＬｉＦなどのアルカリ金属化合物、酸化アルミニウムに代表される金属酸化物、又はリチウム８−ヒドロキシキノレート（Ｌｉｑ）等に代表される金属錯体を用いて形成される。電子注入層の厚さは、例えば０．１ｎｍ以上１０ｎｍ以下である。なお、有機層１２０全体の厚さは、例えば５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。
【００２２】
なお、正孔注入層及び正孔輸送層の一方は無くてもよい。また、電子輸送層及び電子注入層の一方はなくてもよい。
【００２３】
有機層１２０を構成する各層の少なくとも一つ（全てであってもよい）は、塗布材料を用いて形成されている。ここで用いられる成膜方法は、例えば、インクジェット法、印刷法、又はスプレー法などの塗布法である。例えば、有機層１２０のうち正孔注入層、正孔輸送層、及び発光層の少なくとも一つ（全てであってもよい）は、塗布材料を用いて形成されている。なお、有機層１２０の残りの層は、蒸着法を用いて形成されている。
【００２４】
発光装置１０は第２電極１３０を複数有している。複数の第２電極１３０は、図２、図４〜図６に示すように、第１方向と交わる第２方向（図２におけるＸ方向）に、互いに平行に延在している。本図に示す例では、第１電極１１０と第２電極１３０は互いに直交している。複数の第２電極１３０の間には、詳細を後述する隔壁１７０が延在している。そして、発光部１４０は、第１電極１１０と第２電極１３０の交点のそれぞれに配置されている。
【００２５】
発光部１４０は、絶縁層１５０によって画定されている。詳細には、絶縁層１５０は多層膜となっている。この多層膜は、少なくとも屈折率が互いに異なる２つの層（第１層１５６及び第２層１５８）を有している。第１層１５６は、例えば酸化シリコンなどの無機酸化物（酸化金属を含む）を用いて形成されている。第２層１５８は、例えば窒化チタンなどの酸化金属を用いて形成されている。第１層１５６及び第２層１５８は、いずれが下にあってもよい。また、第１層１５６及び第２層１５８の数は、互いに同じであってもよいし異なっていてもよい。本図に示す例では、絶縁層１５０は、第１層１５６及び第２層１５８をこの順に繰り返し積層することにより、形成されている。第１層１５６及び第２層１５８は、いずれも、ＣＶＤ法、スパッタリング法、又はＡＬＤ法を用いて形成されている。第１層１５６の形成方法と、第２層１５８の形成方法は、互いに同一であってもよいし、互いに異なっていてもよい。
【００２６】
絶縁層１５０は、所定の波長域の光をカットする光学フィルタ、例えば紫外域の光をカットして可視光を透過するフィルタとして機能する。この場合、絶縁層１５０は、さらに赤外域の光をカットしてもよい。第１層１５６の厚さ及び第２層１５８の厚さは、絶縁層１５０がカットすべき光の波長に基づいて定められている。例えば第１層１５６が酸化シリコン層であり、第２層１５８が酸化チタン層であり、絶縁層１５０が紫外域の光をカットして可視光を透過する場合、絶縁層１５０は、第１層１５６及び第２層１５８を３〜５回繰り返し重ねた構成を有している。そして、この時の第１層１５６の厚さは５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下である。また、第２層１５８の厚さは５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下である。
【００２７】
本実施形態において、絶縁層１５０のうち多層膜となっている領域（多層部）は絶縁層１５０の全体である。このため、発光部１４０の間には、この多層部が位置している。また、上記した多層部は、隔壁１７０のうち少なくとも有機層１２０に対向している部分と重なっており、また、隔壁１７０が延在する方向（図３のＸ方向）において、隔壁１７０と第１電極１１０が交わる部分に位置している。また、隔壁１７０の幅方向（図３のＹ方向）において、上記した多層部の幅は、隔壁１７０の幅よりも大きい。言い換えると隔壁１７０の幅方向において、隔壁１７０の全体は多層部によって覆われている。
【００２８】
絶縁層１５０は、図２、及び図４〜図６に示すように、複数の第１電極１１０上及びその間の領域に形成されている。絶縁層１５０のうち第１電極１１０と第２電極１３０の交点に位置する領域には、開口１５２が形成されている。複数の開口１５２はマトリクスを構成するように配置されている。
【００２９】
開口１５２内には、有機層１２０が形成されている。このため、絶縁層１５０の開口１５２において、第１電極１１０、有機層１２０、及び第２電極１３０が重なっており、この積層部によって有機ＥＬ素子すなわち発光部１４０が形成されている。
【００３０】
なお、絶縁層１５０のうち開口１５２の縁を画定する部分（側面）は傾斜していてもよい。この場合、この部分の上にも有機層１２０及び第２電極１３０が位置する。しかし有機層１２０は第１電極１１０に接していないため、この部分は発光部１４０を構成しない。
【００３１】
図４及び図５に示す例では、有機層１２０を構成する各層は、いずれも開口１５２の外側まではみ出している場合を示している。有機層１２０は、隔壁１７０が延在する方向において、隣り合う開口１５２の間にも連続して形成されていてもよいし、連続して形成していなくてもよい。ただし、図６に示すように、有機層１２０は、後述する開口１５４には形成されていない。
【００３２】
絶縁層１５０は、さらに開口１５４を有している。開口１５４は、平面視で複数の第２電極１３０のそれぞれの一端側と重なる領域に位置している。また開口１５４は、開口１５２が構成するマトリクスの一辺に沿って配置されている。そして、この一辺に沿う方向（例えば図２におけるＹ方向、すなわち第１電極１１０に沿う方向）で見た場合、開口１５４は、所定の間隔で配置されている。開口１５４からは、引出配線１３４の一部分が露出している。そして、引出配線１３４は、開口１５４を介して第２電極１３０に接続している。
【００３３】
引出配線１３４は、第２電極１３０を第２端子１３２に接続する配線であり、第１電極１１０と同一の材料からなる層を有している。引出配線１３４の一端側は開口１５４の下に位置しており、引出配線１３４の他端側は、絶縁層１５０の外部に引き出されている。そして本図に示す例では、引出配線１３４の他端側が第２端子１３２となっている。そして、第２端子１３２の上及び引出配線１３４の上にも、導体層１８０が形成されている。なお、引出配線１３４の一部は絶縁層１５０によって覆われている。
【００３４】
隣り合う第２電極１３０の間には、隔壁１７０が形成されている。隔壁１７０は、第２電極１３０と平行すなわち第２方向に延在している。隔壁１７０の下地は、例えば絶縁層１５０である。隔壁１７０は、例えばポリイミド系樹脂などの感光性の樹脂であり、露光及び現像されることによって、所望のパターンに形成されている。隔壁１７０を露光するときの光は、例えば紫外線を含んでいる。なお、隔壁１７０はポリイミド系樹脂以外の樹脂、例えばエポキシ系樹脂やアクリル系樹脂、二酸化珪素等の無機材料で構成されていても良い。
【００３５】
隔壁１７０が延在する方向に対して垂直な断面において、隔壁１７０は、台形の上下を逆にした形状（逆台形）になっている。すなわち隔壁１７０の上面の幅は、隔壁１７０の下面の幅よりも大きい。このため、隔壁１７０を第２電極１３０より前に形成しておくと、蒸着法やスパッタリング法を用いて、第２電極１３０を基板１００の一面側に形成することで、複数の第２電極１３０を一括で形成することができる。また、隔壁１７０は、有機層１２０を分断する機能も有している。
【００３６】
そして、発光装置１０は被覆膜２００を有している。被覆膜２００は、基板１００のうち、少なくとも発光部１４０が形成されている面に形成されており、発光部１４０を覆っている。詳細には、被覆膜２００は、第１電極１１０、有機層１２０、第２電極１３０、絶縁層１５０、並びに隔壁１７０の上面及び側面を連続して覆っている。また、被覆膜２００は、引出配線１１４の一部及び引出配線１３４の一部も覆っている。被覆膜２００は、例えば絶縁材料、さらに具体的には酸化アルミニウムや酸化チタンなどの金属酸化物によって形成されている。また、被覆膜２００の厚さは、好ましくは３００ｎｍ以下である。また被覆膜２００の厚さは、例えば５０ｎｍ以上である。
【００３７】
被覆膜２００は、例えばＡＬＤ（Atomic Layer Deposition）法を用いて形成されている。この場合、被覆膜２００の段差被覆性は高くなる。またこの場合、被覆膜２００は、複数の層を積層した多層構造を有していてもよい。この場合、第１の材料（例えば酸化アルミニウム）からなる第１封止層と、第２の材料（例えば酸化チタン）からなる第２封止層とを繰り返し積層した構造を有していてもよい。最下層は第１封止層及び第２封止層のいずれであってもよい。また、最上層も第１封止層及び第２封止層のいずれであってもよい。また、被覆膜２００は第１の材料と第２の材料の混在する単層であってもよい。
【００３８】
ただし、被覆膜２００は、他の成膜法、例えばＣＶＤ法やスパッタリング法を用いて形成されていてもよい。この場合、被覆膜２００は、ＳｉＯ２又はＳｉＮなど絶縁膜によって形成されており、その膜厚は、例えば１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下である。
【００３９】
被覆膜２００の上には、被覆膜２００を保護するための樹脂層が設けられていてもよい。この樹脂層は、エポキシ系又はアクリル系などの樹脂を用いて形成される。
【００４０】
図４及び図６に示すように、隔壁１７０に交わる方向の断面において、有機層１２０及び第２電極１３０は、いずれも絶縁層１５０の上で分断している。詳細には、有機層１２０の端部は絶縁層１５０の上に位置している。言い換えると、有機層１２０の端部は絶縁層１５０と重なっている。また、第２電極１３０の端部は有機層１２０の上に位置している。そして、有機層１２０の端部は、第２電極１３０の端部よりも隔壁１７０の近くに位置している。このため、上記した被覆膜２００は有機層１２０の端部に接している。また、これら分断している有機層１２０の２つの端部の間に、隔壁１７０が位置している。言い換えると、有機層１２０は隔壁１７０に沿って分断しており、第２電極１３０も隔壁１７０に沿って分断している。
【００４１】
有機層１２０の端部は、隔壁１７０の一方の側面に接触している場合もあれば、隔壁１７０に接触していない場合もある。有機層１２０と隔壁１７０が接触していない場合、隔壁１７０が含む水分などの劣化要因が有機層１２０に侵入することを抑制できる。
【００４２】
次に、発光装置１０の製造方法を説明する。まず、基板１００上に第１電極１１０、引出配線１１４，１３４を形成する。次いで、引出配線１１４の上、第１端子１１２の上、引出配線１３４の上、及び第２端子１３２の上に、導体層１８０を形成する。
【００４３】
次いで、絶縁層１５０を形成する。この際、例えば、成膜時にマスクを用いることにより、開口１５２，１５４が形成されてもよい。また、絶縁層１５０を選択的に除去（例えばレジストパターンを用いたエッチング）することにより、開口１５２，１５４が形成されてもよい。
【００４４】
さらに隔壁１７０及び有機層１２０をこの順に形成する。次いで、第２電極１３０を、例えば蒸着法又はスパッタリング法を用いて形成する。この際、隔壁１７０の上面がマスクとなり、第２電極１３０は分断される。次いで、被覆膜２００を、例えばＡＬＤ法を用いて形成する。
【００４５】
本実施形態において、隔壁１７０に特定の波長の光（例えば紫外域の光）が照射されると、隔壁１７０から有機層１２０を劣化させる因子が発生する可能性がある。この可能性は、隔壁１７０が感光性の材料を用いて形成されている場合、特に大きくなる。
【００４６】
これに対して本実施形態に係る発光装置１０において、隔壁１７０のうち少なくとも有機層１２０に対向する部分は、絶縁層１５０の多層部によって覆われている。この多層部は、光フィルタとして機能する。ここで、多層部がカットする光の波長域に、隔壁１７０から劣化因子を発生させる波長が含まれるようにすると、隔壁１７０から有機層１２０の劣化因子が発生することを抑制できる。従って、発光装置１０の寿命は長くなる。
【００４７】
（変形例）
図７は、変形例に係る発光装置１０の構成を示す平面図であり、実施形態における図２に対応している。本変形例に係る発光装置１０は、絶縁層１５０のうち隔壁１７０と重なる部分が多層部１５９となっており、絶縁層１５０の残りの部分が、感光性の樹脂からなる点を除いて、実施形態に係る発光装置１０と同様の構成である。多層部１５９の構成は、実施形態における絶縁層１５０の構成と同様である。
【００４８】
本変形例によっても、隔壁１７０のうち有機層１２０に対向する部分は、絶縁層１５０の多層部１５９によって覆われている。このため、多層部１５９がカットする光の波長域に、隔壁１７０から劣化因子を発生させる波長が含まれるようにすると、隔壁１７０から有機層１２０の劣化因子が発生することを抑制できる。従って、発光装置１０の寿命は長くなる。
【００４９】
以上、図面を参照して実施形態及び実施例について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
【符号の説明】
【００５０】
１０  発光装置
１００  基板
１１０  第１電極
１２０  有機層
１３０  第２電極
１４０  発光部
１５０  絶縁層
１５６  第１層
１５８  第２層
１５９  多層部
１７０  隔壁
２００  被覆膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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