(57)【要約】【課題】長期間に亘って、高比重粒子の沈降を十分に抑制可能な高比重粒子分散用溶液の提供を目的とする。【解決手段】一分子中に水酸基を１つ以上含む極性溶媒、無機酸化物粒子、及びシロキサン骨格と、前記シロキサン骨格のＳｉ原子に結合した、水素原子、もしくは置換基を有してもよい炭素数が１〜７の炭化水素基からなる疎水性基と、前記Ｓｉ原子に結合した、親水性官能基を１つ以上含む親水性基と、を有する非硬化性シロキサン系化合物、を含み、前記非硬化性シロキサン系化合物の含有量が、０．５〜４０質量％である、高比重粒子分散用溶液、とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一分子中に水酸基を１つ以上含む極性溶媒、
無機酸化物粒子、及び
シロキサン骨格と、前記シロキサン骨格のＳｉ原子に結合した、水素原子、もしくは置換基を有してもよい炭素数が１〜７の炭化水素基からなる疎水性基と、前記Ｓｉ原子に結合した、親水性官能基を１つ以上含む親水性基と、を有する非硬化性シロキサン系化合物、
を含み、
前記非硬化性シロキサン系化合物の含有量が、０．５〜４０質量％である、高比重粒子分散用溶液。
【請求項２】
前記非硬化性シロキサン系化合物の前記親水性官能基が、水酸基を含む、請求項１に記載の高比重粒子分散用溶液。
【請求項３】
前記非硬化性シロキサン系化合物の前記親水性官能基が、ポリ（オキシアルキレン）基を含む、請求項１または２に記載の高比重粒子分散用溶液。
【請求項４】
前記極性溶媒が、一分子中に水酸基を２つ以上含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の高比重粒子分散用溶液。
【請求項５】
平板状粒子をさらに含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の高比重粒子分散用溶液。
【請求項６】
前記平板状粒子が、粘土鉱物である、請求項５に記載の高比重粒子分散用溶液。
【請求項７】
前記非硬化性シロキサン系化合物の含有量が１〜２０質量％である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の高比重粒子分散用溶液。
【請求項８】
前記非硬化性シロキサン系化合物の含有量をａ、前記無機酸化物粒子の含有量をｂ、としたときに、ａ／ｂが０．３〜５を満たす、請求項１〜７のいずれか一項に記載の高比重粒子分散用溶液。
【請求項９】
前記極性溶媒の含有量が、５０〜９９質量％である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の高比重粒子分散用溶液。
【請求項１０】
蛍光体粒子と、請求項１〜９のいずれか一項に記載の高比重粒子分散用溶液と、を含む蛍光体粒子分散液。
【請求項１１】
基板と、前記基板上に配置された発光素子と、前記発光素子を覆う波長変換層と、を有する発光装置の製造方法であって、
請求項１０に記載の蛍光体粒子分散液を塗布する工程を含む、発光装置の製造方法。
【請求項１２】
基板と、前記基板上に配置された発光素子と、前記発光素子を覆う波長変換層と、を有する発光装置であって、
前記波長変換層は、蛍光体粒子、無機酸化物粒子、及びシロキサン骨格と、前記シロキサン骨格のＳｉ原子に結合した、水素原子、もしくは置換基を有してもよい炭素数が１〜７の炭化水素基からなる疎水性基と、前記Ｓｉ原子に結合した、親水性官能基を１つ以上含む親水性基と、を有する非硬化性シロキサン系化合物を含む、発光装置。
【請求項１３】
前記波長変換層が含む前記非硬化性シロキサン系化合物の前記親水性官能基が水酸基を含む、請求項１２に記載の発光装置。
【請求項１４】
前記波長変換層が含む前記非硬化性シロキサン系化合物の前記親水性官能基がポリ（オキシアルキレン）基を含む、請求項１２または１３に記載の発光装置。
【請求項１５】
前記波長変換層が、平板状粒子をさらに含む、請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項１６】
前記平板状粒子が、粘土鉱物である、請求項１５に記載の発光装置。
【請求項１７】
前記波長変換層が含む非硬化性シロキサン系化合物の含有量をａ、前記無機酸化物粒子の含有量をｂ、としたときに、ａ／ｂが０．３〜５を満たす、請求項１２〜１６のいずれか一項に記載の発光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高比重粒子分散用溶液、及びこれを含む蛍光体粒子分散液、並びに発光装置、及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、金属粒子を含むスラリーや、蛍光体粒子を含む蛍光体粒子分散液等、各種高比重粒子を分散させた溶液（以下、「高比重粒子分散液」とも称する）では、高比重粒子が沈降しやすいとの課題があった。そこで、高比重粒子分散液に各種沈降防止剤を添加したり、使用前に溶液を攪拌等する等して、高比重粒子の沈降を抑制することが一般的であった。
【０００３】
一方、特許文献１では、各種粒子の沈降を抑制する分散剤として、炭化水素骨格にポリエーテル基が結合した化合物が提案されている。さらに、高比重粒子（蛍光体粒子）の沈降を抑制する手段として、平板状粒子や無機酸化物粒子を添加することも提案されている（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２００２／０１０２８１号
【特許文献２】国際公開第２０１２／１２４４２６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の分散剤は、主骨格に炭素−炭素結合を含むため、熱や光によって分解されやすく、当該分散剤では、長期間に亘って、高比重粒子の沈降を抑制することが難しかった。また、このような分散剤を含む溶液から得られる膜では、分散剤の分解により、膜に着色が生じること等があった。
【０００６】
一方、特許文献２に記載の方法では、平板状粒子や無機酸化物粒子によって溶液の粘度を高め、高比重粒子の沈降を抑制している。しかしながら、当該溶液を長期間保存すると、無機酸化物粒子等が沈降することがあり、高比重粒子の分散安定性を長期に亘って維持することは難しかった。
【０００７】
本発明は、このような課題を鑑みてなされたものである。すなわち、本発明の目的は、長期間に亘って、高比重粒子の沈降を十分に抑制可能な高比重粒子分散用溶液を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
すなわち、本発明の第一は、以下の高比重粒子分散用溶液、及びこれを含む蛍光体粒子分散液にある。
［１］一分子中に水酸基を１つ以上含む極性溶媒、無機酸化物粒子、及びシロキサン骨格と、前記シロキサン骨格のＳｉ原子に結合した、水素原子、もしくは置換基を有してもよい炭素数が１〜７の炭化水素基からなる疎水性基と、前記Ｓｉ原子に結合した、親水性官能基を１つ以上含む親水性基と、を有する非硬化性シロキサン系化合物、を含み、前記非硬化性シロキサン系化合物の含有量が、０．５〜４０質量％である、高比重粒子分散用溶液。
【０００９】
［２］前記非硬化性シロキサン系化合物の前記親水性官能基が、水酸基を含む、［１］に記載の高比重粒子分散用溶液。
［３］前記非硬化性シロキサン系化合物の前記親水性官能基が、ポリ（オキシアルキレン）基を含む、［１］または［２］に記載の高比重粒子分散用溶液。
［４］前記極性溶媒が、一分子中に水酸基を２つ以上含む、［１］〜［３］のいずれかに記載の高比重粒子分散用溶液。
【００１０】
［５］平板状粒子をさらに含む、［１］〜［４］のいずれかに記載の高比重粒子分散用溶液。
［６］前記平板状粒子が、粘土鉱物である、［５］に記載の高比重粒子分散用溶液。
［７］前記非硬化性シロキサン系化合物の含有量が１〜２０質量％である、［１］〜［６］のいずれかに記載の高比重粒子分散用溶液。
【００１１】
［８］前記非硬化性シロキサン系化合物の含有量をａ、前記無機酸化物粒子の含有量をｂ、としたときに、ａ／ｂが０．３〜５を満たす、［１］〜［７］のいずれかに記載の高比重粒子分散用溶液。
［９］前記極性溶媒の含有量が、５０〜９９質量％である、［１］〜［８］のいずれかに記載の高比重粒子分散用溶液。
［１０］蛍光体粒子と、前記［１］〜［９］のいずれかに記載の高比重粒子分散用溶液と、を含む蛍光体粒子分散液。
【００１２】
本発明の第二は、以下の発光装置及びその製造方法にある。
［１１］基板と、前記基板上に配置された発光素子と、前記発光素子を覆う波長変換層と、を有する発光装置の製造方法であって、［１０］に記載の蛍光体粒子分散液を塗布する工程を含む、発光装置の製造方法。
【００１３】
［１２］基板と、前記基板上に配置された発光素子と、前記発光素子を覆う波長変換層と、を有する発光装置であって、前記波長変換層は、蛍光体粒子、無機酸化物粒子、及びシロキサン骨格と、前記シロキサン骨格のＳｉ原子に結合した、水素原子、もしくは置換基を有してもよい炭素数が１〜７の炭化水素基からなる疎水性基と、前記Ｓｉ原子に結合した、親水性官能基を１つ以上含む親水性基と、を有する非硬化性シロキサン系化合物を含む、発光装置。
【００１４】
［１３］前記波長変換層が含む前記非硬化性シロキサン系化合物の前記親水性官能基が水酸基を含む、［１２］に記載の発光装置。
［１４］前記波長変換層が含む前記非硬化性シロキサン系化合物の前記親水性官能基がポリ（オキシアルキレン）基を含む、［１２］または［１３］に記載の発光装置。
［１５］前記波長変換層が、平板状粒子をさらに含む、［１２］〜［１４］のいずれかに記載の発光装置。
［１６］前記平板状粒子が、粘土鉱物である、［１５］に記載の発光装置。
［１７］前記波長変換層が含む非硬化性シロキサン系化合物の含有量をａ、前記無機酸化物粒子の含有量をｂ、としたときに、ａ／ｂが０．３〜５を満たす、［１２］〜［１６］のいずれかに記載の発光装置。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の高比重粒子分散用溶液によれば、蛍光体粒子や顔料、金属粒子等の各種高比重粒子を沈降させることなく、長期間に亘って安定に分散させることが可能である。またさらに、当該高比重粒子分散用溶液等から得られる層に着色等が生じ難い。したがって、種々の高比重粒子を分散させるための溶液として、非常に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の発光装置の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の発光装置の他の例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内であれば種々に変更して実施することができる。なお、本願において、数値範囲を表す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【００１８】
１．高比重粒子分散用溶液
本発明は、高い比重を有する粒子を、均一に分散させるための溶液に関する。本発明の高比重粒子分散用溶液には、極性溶媒と、無機酸化物粒子と、非硬化性シロキサン系化合物と、が少なくとも含まれる。ここで、本発明でいう「極性溶媒」とは、１分子中に少なくとも水酸基を１つ以上含む有機溶媒をいう。
【００１９】
前述のように、従来の高比重粒子分散液では、高比重粒子の分散安定性を高めるため、炭化水素骨格にポリエーテルが結合した添加剤を添加したり、平板状粒子や無機酸化物粒子を添加していた。しかしながら、添加剤の主骨格に炭素−炭素結合が含まれると、分散剤が熱や光によって分解されやすく、経時で高比重粒子が沈降する等の課題があった。また、このような高比重粒子分散液から得られる膜では、添加剤の分解等によって、着色が生じることもあった。
【００２０】
一方、平板状粒子や無機酸化物粒子を含む高比重粒子分散液では、長期間保存すると無機酸化物粒子や平板状粒子が沈降することがあり、高比重粒子の分散安定性を長期間維持することが難しかった。無機酸化物等の沈降は、無機酸化物粒子等と溶媒との親和性が十分でないために生じると推察される。例えば、無機酸化物粒子は通常、表面に水酸基を有する。そして、このような無機酸化物粒子を極性溶媒に分散させると、無機酸化物粒子表面の水酸基が、極性溶媒の極性基と親和して、均一に分散される。しかしながら、極性溶媒には、疎水性の部位（極性基以外の部分）も含まれており、無機酸化物粒子表面の水酸基は、当該疎水性の部位との親和性が低い。したがって、溶液を長期間保存した場合には、無機酸化物粒子が徐々に沈降すると推察される。また、無機酸化物粒子が、表面に疎水性基を有する場合、当該疎水性基は、極性溶媒の疎水性の部位と親和する。しかしながら、無機酸化物粒子の疎水性基は、極性溶媒の極性基との親和性が低い。したがって、溶液を長期間保存した場合、無機酸化物粒子が徐々に沈降すると推察される。
【００２１】
これに対し、本発明の高比重粒子分散用溶液には、無機酸化物粒子及び極性溶媒と共に、非硬化性シロキサン系化合物が含まれる。そして、非硬化性シロキサン系化合物は、疎水性基及び親水性基を有するため、極性溶媒の極性基及び疎水性の部位のいずれとも親和性が良好である。さらに、無機酸化物粒子が、表面に水酸基を有する場合、及び疎水性基を有する場合のいずれであっても、非硬化性シロキサン系化合物と無機酸化物粒子との親和性が高い。そのため、本発明の高比重粒子分散用溶液では、極性溶媒、無機酸化物粒子、及び非硬化性シロキサン系化合物の親和性が極めて良好であり、長期間保存したとしても、これらが相分離したり沈降したりし難い。さらに、非硬化性シロキサン系化合物は、光や熱にも比較的安定である。したがって、当該高比重粒子分散用溶液は、長期間に亘って変質し難く、各種高比重粒子を安定して分散させことができる。
【００２２】
ここで、本発明の高比重粒子分散用溶液には、非硬化性シロキサン系化合物、極性溶媒、無機酸化物粒子以外に、必要に応じて平板状粒子や、他の有機溶媒等が含まれてもよい。以下、本発明の高比重粒子分散用溶液に含まれる各成分やその物性について、説明する。
【００２３】
１−１．非硬化性シロキサン系化合物
非硬化性シロキサン系化合物は、シロキサン骨格と、当該シロキサン骨格のＳｉ原子に結合した疎水性基と、前記Ｓｉ原子に結合した親水性基と、を含む。ここで、「非硬化性」とは、熱や光によって重合反応しないことをいい、非硬化性シロキサン系化合物が、光重合性や熱重合性の官能基を含まないことを意味する。また、非硬化性シロキサン系化合物は、加水分解・重縮合反応（いわゆる、ゾルゲル反応）し難い構造を有する。
【００２４】
ここで、非硬化性シロキサン系化合物が含むシロキサン骨格は、シロキサン結合（−Ｓｉ−Ｏ−結合）からなる骨格であればよく、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれの構造を有していてもよい。
【００２５】
また、非硬化性シロキサン系化合物が含む「疎水性基」とは、水素原子、もしくは置換基を有してもよい炭素数が１〜７、好ましくは１〜５、より好ましくは１〜４の炭化水素基であり、当該疎水性基はシロキサン骨格のＳｉ原子に直接結合している。上記炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状、または環状のいずれの構造を有していてもよい。また、炭化水素基が有する置換基は、水酸基等の極性基と親和性の低い基であれば特に制限されず、置換基の例には、フッ素等のハロゲン原子等が含まれる。炭化水素基は、置換基を１つのみ有していてもよく、２つ以上有していてもよい。なお、置換基が炭素を含む場合には、上記炭化水素基及び置換基が含む炭素数の総数が７以下であることが好ましい。
【００２６】
疎水性基の具体例には、水素原子；メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；フェニル基、トリル基等のアリール基；ベンジル基；トリフルオロプロピル基等のフッ素置換アルキル基；等が含まれる。これらの中でも疎水性基は、メチル基、エチル基、プロピル基、またはブチル基であることが好ましい。
【００２７】
一方、非硬化性シロキサン系化合物が含む「親水性基」とは、親水性官能基を少なくとも１つ含む基であり、当該親水性基は、シロキサン骨格のＳｉ原子に直接結合している。親水性基が含む親水性官能基の数は特に制限されず、極性溶媒の種類や無機酸化物粒子の種類等に応じて適宜選択される。また、当該親水性官能基は、Ｓｉ原子に直接結合していてもよいが、連結基を介してＳｉ原子に結合していてもよい。
【００２８】
本発明でいう「親水性官能基」とは、極性を有する基であり、その例には、カルボキシレート基（−ＣＯＯＭ（Ｍは水素原子、金属原子、または炭化水素基等の１価の基））；硫酸エステル基（−ＯＳＯ３Ｍ（Ｍは水素原子、金属原子、または炭化水素基等の１価の基））；スルホネート基（−ＳＯ３Ｍ（Ｍは水素原子、金属原子、または炭化水素基等の１価の基））；アミノ基；第四級アンモニウム；ポリ（オキシアルキレン）基等のエーテル基；アミンオキシド基（−ＮＨ−ＣＯＲ（Ｒは炭化水素基等の１価の基））；水酸基（−ＯＨ）等が含まれる。
【００２９】
これらの中でも、親水性官能基は、ポリ（オキシアルキレン）基（−［ＯＣｎＨ２ｎ］ａ−）であることが好ましい。ポリ（オキシアルキレン）基におけるアルキレン基の炭素数（上記一般式中、ｎで表される数）は、通常２〜２０でありうる。また、オキシアルキレン基の繰返し単位数（上記一般式中、ａで表される数）によって、親水性基の親水性の度合いが調整される。繰返し単位数が多いほど、親水性が高まる。上記繰返し単位数は、２〜１５であることが好ましく、より好ましくは２〜１０である。
【００３０】
また、ポリ（オキシアルキレン）基は、特にポリ（オキシエチレン）基（−［ＯＣＨ２ＣＨ２］ｂ−）、またはポリ（オキシプロピレン）基（−［ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２］ｃ−）であることが好ましい。ここで、ポリ（オキシエチレン）基における、オキシエチレン基の繰返し単位の数（上記一般式中、ｂで表される数）は、好ましくは１〜１００であり、より好ましくは１〜５０であり、さらに好ましくは１〜３０である。一方、ポリ（オキシプロピレン）基における、オキシプロピレン基の繰返し単位の数（上記一般式中、ｃで表される数）は、好ましくは１〜１００であり、より好ましくは１〜５０であり、さらに好ましくは１〜３０である。
【００３１】
なお、親水性基の末端は、例えば炭化水素基や金属原子等であってもよいが、水酸基であることがより好ましい。親水性基の末端に水酸基が含まれると、非硬化性シロキサン系化合物と、極性溶媒や無機酸化物粒子との親和性が高まりやすくなる。したがって、親水性基は−［ＯＣＨ２ＣＨ２］ｂ−ＯＨで表される構造、または−［ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２］ｃ−ＯＨで表される構造を含むことが特に好ましい。これらの一般式における、ｂ及びｃは、上記ポリ（オキシエチレン）基、またはポリ（オキシプロピレン）基におけるｂ及びｃと同様である。
【００３２】
また、Ｓｉ原子と親水性官能基との間に連結基が含まれる場合の連結基の種類は特に制限されず、連結基は、例えば炭素数が１〜２０のアルケニレン基等でありうる。
【００３３】
ここで、非硬化性シロキサン系化合物の好ましい例には、下記一般式（１）または（２）で表される構造を有する化合物が含まれる。ただし、非硬化性シロキサン系化合物は、これらに限定されるものではなく、さらにＳｉ−Ｏ骨格が分岐している化合物等でもありうる。
【００３４】
【化１】
2017025215.tif 000002
上記一般式（１）中、Ｚ１はそれぞれ独立に、水素原子、または置換基を有してもよい炭素数が１〜７の炭化水素基からなる疎水性基；または親水性官能基を有する親水性基を表す。また、Ｘはそれぞれ独立に、水素原子、または置換基を有してもよい炭素数が１〜７の炭化水素基からなる疎水性基；親水性官能基を有する親水性基；もしくは下記一般式（２）で表される基；を表す。ｘは１〜２００を表し、１〜１５０であることがより好ましく、１〜１００であることがさらに好ましい。
【化２】
2017025215.tif 000003
上記一般式（２）において、Ｚ２はそれぞれ独立に、水素原子、または置換基を有してもよい炭素数が１〜７の炭化水素基からなる疎水性基；または親水性官能基を有する親水性基を表す。また、Ｙはそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよい炭素数が１〜７の炭化水素基からなる疎水性基；または親水性官能基を有する親水性基；を表す。ｙは０〜２００を表し、１〜１５０であることがより好ましく、１〜１００であることがさらに好ましい。
【００３５】
ただし、上記一般式（１）で表される分子内において、Ｘ及びＹのうち少なくとも１つは親水性基を表す。また、上記一般式（１）及び一般式（２）における、疎水性基及び親水性基についてはそれぞれ、上記の説明における疎水性基と親水性基と同様である。
【００３６】
ここで、上記非硬化性シロキサン系化合物は、分子量が３，０００〜２００，０００であることが好ましく、より好ましくは５，０００〜１００，０００であることが好ましい。分子量が３，０００以上であると、高比重粒子分散用溶液の粘度が高まりやすく、無機酸化物粒子の沈降がより抑制されやすくなる。一方、非硬化性シロキサン系化合物の分子量が２００，０００以下であると、非硬化性シロキサン系化合物が極性溶媒と親和しやすく、高比重粒子分散用溶液において、相分離等が生じ難くなる。
【００３７】
また、非硬化性シロキサン系化合物は、ＨＬＢ値が８〜１８であることが好ましく、１１〜１６であることがより好ましい。ＨＬＢ値は、非硬化性シロキサン系化合物の親水性及び親油性のバランスを示す値であり、ＨＬＢ値が小さいほど親油性が高く、ＨＬＢ値が大きいほど、親水性が高くなる。ここで、ＨＬＢ値は、川上法（以下の式）により求められる値である。
ＨＬＢ値＝７＋１１．７ｌｏｇ（親水部（親水性基）の化学式量の総和／親油部（疎水性基）の化学式量の総和）
そして、非硬化性シロキサン系化合物のＨＬＢ値が上記範囲であると、非硬化性シロキサン系化合物と極性溶媒や無機酸化物粒子との親和性が高まりやすく、相分離や無機酸化物粒子の沈降が生じ難くなる。
【００３８】
本発明の高比重粒子分散用溶液には、非硬化性シロキサン系化合物が０．５〜４０質量％含まれることが好ましく、１〜２０質量％含まれることがより好ましい。非硬化性シロキサン系化合物の量が０．５質量％以上であると、無機酸化物粒子が長期に亘って沈降し難くなる。一方、非硬化性シロキサン系化合物の量が過剰であると、高比重粒子分散用溶液等から得られる膜から、非硬化性シロキサン系化合物が滲み出しやすくなる。これは、非硬化性シロキサン系化合物が非硬化性であることに起因する。これに対し、非硬化性シロキサン系化合物の量が４０質量％以下であれば、得られる膜から非硬化性シロキサン系化合物が滲み出し難く、各種用途に適用しやすくなる。
【００３９】
なお、高比重粒子分散用溶液に含まれる非硬化性シロキサン系化合物の量は、高比重粒子分散用溶液を遠心分離して固形分（無機酸化物粒子や平板状粒子等）を除去し、さらに極性溶媒を揮発させた残渣に含まれる非硬化性シロキサン系化合物の量を分析することによって、特定することができる。
【００４０】
１−２．極性溶媒
高比重粒子分散用溶液に含まれる極性溶媒は、前述のように、一分子中に水酸基を１つ以上含む溶媒である。極性溶媒の種類は特に制限されず、極性溶媒の例には、メタノール、エタノール、１−プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノールなどの１価のアルコール；エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール等の２価以上の多価アルコールが含まれる。高比重粒子分散用溶液には、極性溶媒が一種のみ含まれてもよく、二種以上含まれてもよい。
【００４１】
ここで、極性溶媒には、水酸基を２つ以上含む溶媒が含まれることが好ましい。つまり、極性溶媒には多価アルコールが含まれることが好ましい。２つ以上の水酸基を有する極性溶媒は、前述の非硬化性シロキサン系化合物の親水性基と十分な量の水素結合を形成する。また、無機酸化物粒子が表面に水酸基を有する場合には当該水酸基と十分に水素結合する。その結果、高比重粒子分散用溶液の粘度が高まったり、高比重粒子分散用溶液内での相分離や無機酸化物粒子の沈降が抑制されて、高比重粒子分散用溶液の安定性が高まる。
【００４２】
また、極性溶媒の一分子中に含まれる炭素数は、１〜１１であることが好ましく、より好ましくは２〜８である。極性溶媒の一分子中に含まれる炭素数が過剰であると、極性溶媒と非硬化性シロキサン系化合物や無機酸化物粒子との親和性が低下することがあるが、上記範囲であれば、極性溶媒と非硬化性シロキサン系化合物や無機酸化物粒子との親和性が高まりやすい。
【００４３】
なお、極性溶媒の沸点は１５０℃以上であることが好ましく、２５０℃以下であることが好ましい。極性溶媒の沸点が１５０℃以上であると、高比重粒子分散用溶液の保存安定性が高まる。一方、極性溶媒の沸点が２５０℃以下であると、高比重粒子分散用溶液や、高比重粒子分散用溶液に高比重粒子を分散させた高比重粒子分散液を用いて各種層を形成する際に、溶媒を効率よく乾燥させることができる。
【００４４】
極性溶媒は、高比重粒子分散用溶液全量に対して、５０〜９９質量％含まれることが好ましく、より好ましくは６０〜９８質量％であり、さらに好ましくは７０〜９７質量％である。溶媒の量が上記範囲であると、高比重粒子分散用溶液の粘度が所望の範囲に収まりやすい。
【００４５】
１−３．無機酸化物粒子
高比重粒子分散用溶液に含まれる無機酸化物粒子の種類は特に制限されず、その例にはＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＺｒＯ等が含まれ、非硬化性シロキサン系化合物との親和性が特に高いとの観点から、特に好ましくはＳｉＯ２である。高比重粒子分散用溶液には、無機酸化物粒子が、一種のみ含まれてもよく、二種以上含まれてもよい。
【００４６】
ここで、無機酸化物粒子は、表面処理されたものであってもよく、表面処理されていないものであってもよい。一般的な無機酸化物粒子（無処理の無機酸化物粒子）の表面には水酸基が多数存在する。したがって、無機酸化物粒子が表面処理されていない場合、当該無機酸化物粒子は、極性溶媒の水酸基や、非硬化性シロキサン系化合物の親水性基と親和性が良好である。一方、無機酸化物粒子の表面が疎水化処理されている場合、当該無機酸化物粒子は、非硬化性シロキサン系化合物の疎水性基や、極性溶媒の炭化水素鎖等との親和性が良好である。
【００４７】
無機酸化物粒子を表面処理する方法は特に制限されないが、表面処理された無機酸化物粒子は、表面に炭素の数が１〜４５の炭化水素基を有することが好ましい。当該炭化水素基の炭素の数は、より好ましくは１〜３０であり、さらに好ましくは１〜１５である。無機酸化物粒子の表面に上記炭素数の炭化水素基が含まれると、極性溶媒の炭化水素基や非硬化性シロキサン系化合物の疎水性基との親和性が高まりやすくなる。
【００４８】
無機酸化物粒子の表面に、炭素数が１〜４５の炭化水素基を導入する方法は特に制限されない。例えば、モノメチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、モノエチルトリメトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン等のアルキルアルコキシシラン化合物、もしくはヘキサメチルジシラザン等の疎水性化合物にて、無機酸化物を処理する方法でありうる。
【００４９】
以下に、上記疎水性化合物を用いて、無機酸化物粒子の表面を疎水化処理する方法の一例を示すが、無機酸化物粒子の表面処理方法は、当該方法に限定されるものではない。
【００５０】
まず、無機酸化物粒子に疎水性化合物を塗布する。疎水性化合物の塗布方法は特に制限されないが、スプレー法で塗布すると、無機酸化物粒子表面に疎水性化合物が均一に付着しやすくなる。また、疎水性化合物の塗布時には、水やアルコールも併せてスプレー塗布することが好ましい。水やアルコールによって、上記疎水性化合物が加水分解されて、無機酸化物粒子表面の−ＯＨ基と反応しやすくなる。その後、疎水性化合物が表面に付着した無機酸化物粒子を、不活性ガス雰囲気下で加熱する。加熱温度は特に制限されないが、通常１５０〜２５０℃程度とすることができる。加熱により、疎水性化合物の加水分解物と無機微粒子表面の−ＯＨ基とが縮合反応し、無機酸化物粒子表面に疎水性の基が導入される。
【００５１】
なお、上記疎水性化合物による疎水化処理の前に、必要に応じて、無機酸化物粒子表面に、非反応性シリコーンオイルを塗布してもよい。無機酸化物粒子表面にシリコーンオイルを塗布すると、無機酸化物粒子の疎水性がさらに高まりやすくなる。
【００５２】
無機酸化物粒子の平均粒子径は、前述の極性溶媒に均一に分散可能な粒子径であれば特に制限されないが、０．０１〜１００μｍであることが好ましく、より好ましくは０．１〜５０μｍであり、さらに好ましくは０．１〜３０μｍである。平均粒子径は、コールターカウンター法により測定される。無機酸化物粒子の平均粒子径が３０μｍ以下であると、無機酸化物粒子の分散性が良好となり、高比重粒子分散用溶液内で沈降し難くなる。また、高比重粒子分散用溶液を各種用途に用いた際、無機酸化物粒子由来の着色や光の透過率低下が生じ難い。一方、無機酸化物粒子の平均粒子径が０．０１μｍ以上であると、高比重粒子分散用溶液に高比重粒子を分散させた際に、高比重粒子が沈降し難くなる。
【００５３】
高比重粒子分散用溶液に含まれる無機酸化物粒子の量は、０．１〜２０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．１〜１５質量％であり、さらに好ましくは０．１〜１０質量％である。無機酸化物粒子の量が２０質量％以下であると、相対的に極性溶媒や非硬化性シロキサン系化合物の量が十分となり、高比重粒子分散用溶液内で相分離が生じ難い。また、無機酸化物粒子の量が２０質量％以下であると、高比重粒子分散用溶液を各種用途に用いた際に、無機酸化物粒子由来の着色や光の透過率低下が生じ難い。一方、無機酸化物粒子の量が０．１質量％以上であると、高比重粒子分散用溶液に高比重粒子を分散させた際、高比重粒子の沈降が生じ難くなる。
【００５４】
また、高比重粒子分散用溶液に含まれる非硬化性シロキサン系化合物の量をａ、無機酸化物粒子の量をｂとした場合、これらの比（ａ／ｂ）は０．３〜５であることが好ましく、０．４〜４．５であることがより好ましく、０．４〜４であることがさらに好ましい。非硬化性シロキサン系化合物の量と無機酸化物粒子の量との比が、上記範囲であると、非硬化性シロキサン系化合物によって、無機酸化物粒子の沈降が抑制されやすくなり、ひいては高比重粒子の沈降が生じ難くなる。
【００５５】
１−４．その他
高比重粒子分散用溶液には、必要に応じて他の成分が含まれてもよい。他の成分の例には、平板状粒子や、極性溶媒以外の有機溶媒等が含まれる。高比重粒子分散用溶液に平板状粒子が含まれると、高比重粒子分散用溶液の粘度が高まり、さらに無機酸化物粒子が沈降し難くなる。
【００５６】
平板状粒子とは、形状が平板状である粒子をいい、その例には、層状の結晶構造を有する層状の粘土鉱物等が含まれる。また、層状の粘土鉱物の例には、層状ケイ酸塩鉱物等が含まれる。層状ケイ酸塩鉱物は、雲母構造、カオリナイト構造、スメクタイト構造などの構造を有する膨潤性粘土鉱物であることが好ましく、膨潤性に富むスメクタイト構造を有することがより好ましい。
【００５７】
層状ケイ酸塩鉱物等の平板状粒子は、高比重粒子分散用溶液中で、カードハウス構造を形成する。そのため、平板状粒子（層状ケイ酸塩鉱物）が少量含まれるだけで、高比重粒子分散用溶液の粘度が大幅に高まる。また、高比重粒子分散用溶液に平板状粒子が含まれると、当該高比重粒子分散用溶液、もしくは高比重粒子分散液から得られる膜の強度も高まる。
【００５８】
層状ケイ酸塩鉱物の例には、天然または合成の、ヘクトライト、サポナイト、スチブンサイト、ハイデライト、モンモリロナイト、ノントライト、ベントナイト等のスメクタイト族粘土鉱物や、Ｎａ型テトラシリシックフッ素雲母、Ｌｉ型テトラシリシックフッ素雲母、Ｎａ型フッ素テニオライト、Ｌｉ型フッ素テニオライト等の膨潤性雲母族粘土鉱物およびバーミキュラライトやカオリナイト、またはこれらの混合物が含まれる。
【００５９】
層状ケイ酸塩鉱物の市販品の例には、ラポナイトＸＬＧ（英国、ラポート社製合成ヘクトライト類似物質）、ラポナイトＲＤ（英国、ラポート社製合成ヘクトライト類似物質）、サーマビス（独国、ヘンケル社製合成ヘクトライト類似物質）、スメクトンＳＡ−１（クニミネ工業（株）製サポナイト類似物質）、ベンゲル（ホージュン（株）販売の天然ベントナイト）、クニピアＦ（クニミネ工業（株）販売の天然モンモリロナイト）、ビーガム（米国、バンダービルト社製の天然ヘクトライト）、ダイモナイト（トピー工業（株）製の合成膨潤性雲母）、ソマシフ（コープケミカル（株）製の合成膨潤性雲母）、ＳＷＮ（コープケミカル（株）製の合成スメクタイト）、ＳＷＦ（コープケミカル（株）製の合成スメクタイト）等が含まれる。
【００６０】
層状ケイ酸塩鉱物の表面は、アンモニウム塩等で修飾（表面処理）されていてもよい。層状ケイ酸塩鉱物が、表面処理されていると、高比重粒子分散用溶液中での層状ケイ酸塩鉱物の分散性が高まる。
【００６１】
高比重粒子分散用溶液に含まれる平板状粒子の量は、高比重粒子分散用溶液の全質量に対して０〜１０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．１〜５質量％である。平板状粒子の量が０．１質量％以上であると、高比重粒子分散用溶液の粘度が十分に高まり、無機酸化物粒子の沈降が抑制される。一方、平板状粒子の量が１０質量％以下であると、高比重粒子分散用溶液の粘度が過度に高まらず、各種用途に用いることが可能となる。
【００６２】
また、高比重粒子分散用溶液には、前述の極性溶媒以外の有機溶媒が含まれてもよい。その他の有機溶媒の例には、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレンなどの炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチルアセテートなどのエステル類；等が含まれる。
【００６３】
高比重粒子分散用溶液には、その他の有機溶媒が７０質量％以下含まれることが好ましく、より好ましくは５０質量％以下であり、さらに好ましくは４０質量％以下である。その他の有機溶媒の量が、７０質量％以下であると、高比重粒子分散用溶液内における、非硬化性シロキサン系化合物、極性溶媒、及び無機酸化物粒子の親和性のバランスが崩れにくく、高比重粒子分散用溶液に相分離等が生じ難い。
【００６４】
１−５．高比重粒子分散用溶液の物性
高比重粒子分散用溶液の粘度は、１０〜１０００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、より好ましくは３０〜８００ｍＰａ・ｓであり、さらに好ましくは５０〜５００ｍＰａ・ｓである。高比重粒子分散用溶液の粘度が上記範囲であると、高比重粒子を分散させた際に、高比重粒子が沈降し難くなる。高比重粒子分散用溶液の粘度は、非硬化性シロキサン系化合物の分子量、極性溶媒の量、無機酸化物粒子の量、平板状粒子の含有量等によって、調整可能である。
【００６５】
１−６．高比重粒子分散用溶液の調製方法
上述の高比重粒子分散用溶液の調製方法は特に制限されない。例えば、非硬化性シロキサン系化合物や、極性溶媒、無機酸化物粒子等を一度に混合し、分散させる方法であってもよい。また、極性溶媒に無機酸化物粒子や平板状粒子等を先に分散させ、後から非硬化性シロキサン系化合物を添加する方法等であってもよい。
【００６６】
上記無機酸化物粒子や、非硬化性シロキサン系化合物、平板状粒子等の極性溶媒への分散は、撹拌ミル、ブレード混練撹拌装置、薄膜旋回型分散機、高圧衝撃式分散装置、自転公転ミキサー等で行うことができる。
【００６７】
上記装置の具体例には、公知のウルトラタラックス（ＩＫＡジャパン社製）、ＴＫホモミクサー（プライミクス社製）、ＴＫパイプラインホモミクサー（プライミクス社製）、ＴＫフィルミックス（プライミクス社製）、クレアミックス（エム・テクニック社製）、クレアＳＳ５（エム・テクニック社製）、キャビトロン（ユーロテック社製）、ファインフローミル（太平洋機工社製）のようなメディアレス撹拌機、ビスコミル（アイメックス製）、アペックスミル（寿工業社製）、スターミル（アシザワ、ファインテック社製）、ＤＭＰＡ・Ｓスーパーフロー（日本アイリッヒ社製）、エムピーミル（井上製作所社製）、スパイクミル（井上製作所社製）、マイティーミル（井上製作所社製）、ＳＣミル（三井鉱山社製）などのメディア攪拌機等やアルティマイザー（スギノマシン社製）、ナノマイザー（吉田機械社製）、ＮＡＮＯ３０００（美粒社製）などの高圧衝撃式分散装置等が含まれる。また、あわとり練太郎（シンキー社製）などの自転公転式ミキサーや超音波分散装置も高比重粒子分散用溶液の調製に好適である。
【００６８】
１−７．用途
本発明の高比重粒子分散用溶液は、高比重粒子を添加したときに、高比重粒子が沈降し難く、長期間に亘って安定である。したがって、種々の高比重粒子を分散させる溶液として、好適である。高比重粒子分散用溶液の使用方法は特に制限されず、例えば高比重粒子分散用溶液に高比重粒子（例えば顔料、蛍光体粒子、金属粒子等）を分散させた後、当該分散液をそのままインクや蛍光体粒子分散液、研磨用スラリー、金属配線形成用組成物等として使用してもよい。一方、高比重粒子分散用溶液に高比重粒子を分散させた後、当該分散液を、樹脂やセラミック前駆体等とさらに混合して、各種用途に用いてもよい。
【００６９】
高比重粒子分散用溶液に高比重粒子を分散させる方法は特に制限されず、例えば、撹拌ミル、ブレード混練撹拌装置、薄膜旋回型分散機、高圧衝撃式分散装置、自転公転ミキサー等で行うことができる。
【００７０】
また、高比重粒子分散用溶液に分散させる高比重粒子の種類は特に制限されず、顔料、蛍光体粒子、金属粒子等、各種粒子でありうるが、好ましくは比重が１．５〜１１の粒子であることが好ましい。
【００７１】
また、高比重粒子の平均粒子径は特に制限されないが、０．０１〜１００μｍ程度の粒子であることが好ましく、より好ましくは５〜５０μｍである。高比重粒子の平均粒子径が上記範囲であると、高比重粒子分散用溶液によって、高比重粒子を均一に分散させることができる。平均粒子径は、コールターカウンター法により測定される。
【００７２】
さらに、高比重粒子分散用溶液１００質量部に対して、添加する高比重粒子の量は７０質量部以下であることが好ましく、より好ましくは５０質量部以下である。高比重粒子の量が過剰であると、高比重粒子分散用溶液によって、全ての高比重粒子を均一に分散させることが難しいことがあるが、５０質量部以下であれば、均一に分散させることができる。
【００７３】
２．蛍光体粒子分散液
前述のように、高比重粒子分散用溶液は、蛍光体粒子を分散させさせるための溶液として用いることができる。蛍光体粒子分散液は、発光装置の波長変換層等を形成するための組成物である。
【００７４】
本発明の高比重粒子分散用溶液に蛍光体粒子を分散させた蛍光体粒子分散液では、長時間に亘って、蛍光体粒子が沈降し難く、安定に保存することができる。また、蛍光体粒子が沈降しやすい場合、当該蛍光体粒子分散液を用いて複数の波長変換層を形成した際に、各波長変換層に含まれる蛍光体粒子の濃度が不均一となりやすい。これに対し、本発明の蛍光体粒子分散液では、蛍光体粒子が沈降し難いため、当該蛍光体粒子分散液から得られる波長変換層内の蛍光体粒子の濃度にばらつきが生じ難い。
【００７５】
ここで、蛍光体粒子は、発光装置の光源から出射する光により励起されて、光源からの光とは異なる波長の蛍光を発するものであればよい。例えば、黄色の蛍光を発する蛍光体粒子の例には、ＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）蛍光体等がある。ＹＡＧ蛍光体は、青色ＬＥＤ素子から出射される青色光（波長４２０ｎｍ〜４８５ｎｍ）を受けて、黄色の蛍光（波長５５０ｎｍ〜６５０ｎｍ）を発する。
【００７６】
蛍光体粒子は、例えば１）所定の組成を有する混合原料に、フラックス（フッ化アンモニウム等のフッ化物）を適量混合して加圧し、これを成形体とする。２）得られた成形体を坩堝に詰め、空気中で１３５０〜１４５０℃の温度範囲で、２〜５時間焼成し、焼結体とすることで得られる。
【００７７】
所定の組成を有する混合原料は、Ｙ、Ｇｄ、Ｃｅ、Ｓｍ、Ａｌ、Ｌａ、Ｇａ等の酸化物、または高温で容易に酸化物となる化合物を、化学量論比で十分に混合して得られる。また、所定の組成を有する混合原料は、１）Ｙ、Ｇｄ、Ｃｅ、Ｓｍの希土類元素を化学両論比で酸に溶解した溶液と、シュウ酸とを混合し、共沈酸化物を得る。２）この共沈酸化物と、酸化アルミニウム、または酸化ガリウムとを混合しても得られる。
【００７８】
蛍光体の種類は、ＹＡＧ蛍光体に限定されるものではなく、例えばＣｅを含まない非ガーネット系蛍光体等、他の蛍光体であってもよい。
【００７９】
蛍光体粒子の平均粒子径は１μｍ〜５０μｍであることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましい。蛍光体粒子の平均粒子径が大きいほど発光効率（波長変換効率）が高くなる。一方、蛍光体粒子の平均粒子径が大きすぎると、蛍光体粒子分散液を長期保存した際に、蛍光体粒子が沈降しやすくなる。蛍光体粒子の平均粒子径は、レーザー回折式粒度分布計で測定されるＤ５０の値（メディアン径）をいう。レーザー回折式粒度分布測定装置の例には、島津製作所製のレーザー回折式粒度分布測定装置等がある。
【００８０】
蛍光体粒子分散液における、蛍光体粒子の含有量は、高比重粒子分散用溶液１００質量部に対して、７０質量部以下であることが好ましく、より好ましくは５０質量部以下である。蛍光体粒子の量が過剰であると、高比重粒子分散用溶液によって、蛍光体粒子を均一に分散させることが難しいことがあるが、５０質量部以下であれば、均一に分散させることができる。
【００８１】
３．発光装置
本発明の発光装置の一例を図１及び図２に示す。本発明の発光装置１００には、基板１と、当該基板１上に配置された発光素子２と、当該発光素子２を覆う波長変換層３とが含まれる。なお、波長変換層３は、発光素子２から出射する特定の波長の光を、他の波長の光に変換可能であれば、その形成位置は特に制限されない。例えば図１に示されるように、発光素子２と接するように形成されていてもよい。一方、図２に示されるように、発光素子２と間隙をあけて形成されていてもよい。図２の発光装置１００では、波長変換層３は、発光素子２と対向する対向基板４の一方の面に形成されている。
【００８２】
本発明の発光装置１００の波長変換層３には、蛍光体粒子と、無機酸化物粒子と、非硬化性シロキサン系化合物とが含まれる。蛍光体粒子、無機酸化物粒子、及び非硬化性シロキサン系化合物は、前述の蛍光体分散液に含まれる各成分と同様である。
【００８３】
前述のように、従来の分散剤を含む波長変換層では、分散剤の分解等に起因して、波長変換層が経時で変色すること等があった。これに対し、本発明の発光装置の波長変換層に含まれる非硬化性シロキサン系化合物は、熱や光によって分解され難く、波長変換層に変色が生じ難い。また、非硬化性シロキサン系化合物を含む組成物によって波長変換層が形成されると、前述のように蛍光体粒子が沈降し難く、波長変換層内に均一な量の蛍光体粒子が含まれやすくなる。つまり、非硬化性シロキサン系化合物を含む波長変換層では、層内に所望の量の蛍光体粒子が含まれやすくなり、発光装置が発する光の色度が所望の範囲に収まりやすくなる。
【００８４】
ここで、本発明の発光装置に含まれる発光素子の種類は特に制限されず、半導体レーザー素子や、発光ダイオード（ＬＥＤ）素子等でありうる。以下、本発明の発光装置について、図１及び図２に示す装置（発光素子２がＬＥＤ素子である場合）を例に説明をするが、本発明の発光装置１００は発光素子２がＬＥＤ素子である装置に限定されない。
【００８５】
３−１．基板
基板１は、ＬＥＤ素子２を支持するための部材である。図１及び図２に示されるように、基板１には、通常、金属からなる電極１１が形成されている。当該電極１１は、基板１の外部に配置される電源（図示せず）から、ＬＥＤ素子２に電気を供給する機能を有する。また、電極１１は、ＬＥＤ素子２が発する光を、発光装置１００の光取り出し面側に反射する反射板として機能することもある。電極１１の形状は特に制限されず、発光装置１００の種類や用途等に合わせて適宜選択される。
【００８６】
基板１は、平板状であってもよく、図１や図２に示されるようにキャビティ（凹部）を有してもよい。基板１がキャビティを有する場合、キャビティの形状は特に制限されない。例えば円錐台状であってもよく、角錐台状や、円柱状、角柱状等であってもよい。
【００８７】
基板１は、絶縁性及び耐熱性を有することが好ましく、セラミック樹脂や耐熱性樹脂からなることが好ましい。耐熱性樹脂の例には、液晶ポリマー、ポリフェニレンスルフィド、芳香族ナイロン、エポキシ樹脂、硬質シリコーンレジン、ポリフタル酸アミド等が含まれる。
【００８８】
また、基板１には、無機フィラーが含まれていてもよい。無機フィラーは、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、シリカ、チタン酸バリウム、リン酸カルシウム、炭酸カルシウム、ホワイトカーボン、タルク、炭酸マグネシウム、窒化ホウ素、グラスファイバー等でありうる。
【００８９】
電極１１を有する基板１の作製方法は特に制限されず、一般的には、所望の形状のリードフレームと、樹脂とを一体成型して得られる。
【００９０】
３−２．ＬＥＤ素子
ＬＥＤ素子２は、基板１に形成された電極１１と電気的に接続されて、特定の波長の光を発する素子である。ＬＥＤ素子２が出射する光の波長は特に制限されない。ＬＥＤ素子２は、例えば青色光（４２０ｎｍ〜４８５ｎｍ程度の光）を発する素子であってもよく、紫外光を発する素子であってもよい。またさらに、緑色光や赤色光等を発する素子であってもよい。
【００９１】
ＬＥＤ素子２の構成は、特に制限されない。ＬＥＤ素子２が、青色光を発する素子である場合、ＬＥＤ素子２は、ｎ−ＧａＮ系化合物半導体層（クラッド層）と、ＩｎＧａＮ系化合物半導体層（発光層）と、ｐ−ＧａＮ系化合物半導体層（クラッド層）と、透明電極層との積層体等でありうる。
【００９２】
また、ＬＥＤ素子２の形状は特に制限されず、例えば２００〜３００μｍ×２００〜３００μｍの発光面を有するものでありうる。またＬＥＤ素子２の高さは、通常５０〜２００μｍ程度である。ＬＥＤ素子２は、上面だけでなく、側面や底面からも光が取り出されるものであってもよい。なお、図１及び図２に示される発光装置１００には、基板１に１つのＬＥＤ素子２のみが配置されているが、基板１に複数のＬＥＤ素子２が配置されてもよい。
【００９３】
ＬＥＤ素子２と前述の電極１１との接続方法は特に制限されない。例えばＬＥＤ素子２と電極１１とが、図１に示されるように、金属ワイヤ１２を介して接続されてもよい。また、ＬＥＤ素子２と電極１１とが、突起電極（図示せず）を介して接続されてもよい。ＬＥＤ素子２と電極１１とが、金属ワイヤ１２を介して接続される態様をワイヤボンディング型という。一方、ＬＥＤ素子２と電極１１とが突起電極を介して接続される態様をフリップチップボンディング型という。
【００９４】
フリップチップボンディング型の発光装置１００では、ＬＥＤ素子２と基板１との隙間にアンダーフィル材（図示せず）が充填されてもよい。アンダーフィル材は、シリコーン樹脂や、エポキシ樹脂等からなる部材でありうる。
【００９５】
３−３．波長変換層
波長変換層３は、ＬＥＤ素子２が出射した特定波長の光を、他の特定波長の光に変換する層であり、蛍光体粒子と、無機酸化物粒子と、非硬化性シロキサン系化合物とが少なくとも含まれる層である。波長変換層３は、前述のように、ＬＥＤ素子２と接するように形成されていてもよく、ＬＥＤ素子２と間隙をおいて形成されていてもよい。また、図１に示されるように、波長変換層３は、ＬＥＤ素子２や電極１１だけでなく、ＬＥＤ素子２が配置された側の基板１を全て被覆するように形成されていてもよい。
【００９６】
また、波長変換層３には、必要に応じて、無機酸化物粒子や蛍光体粒子等を結着するためのバインダ等が含まれていてもよい。なお、波長変換層３に含まれ得る平板状粒子については、前述の高比重粒子分散用溶液に含まれる平板状粒子と同様である。
【００９７】
また、波長変換層３に含まれうるバインダの例には、エポキシ樹脂やシリコーン樹脂等の透明樹脂、公知のアルコキシシランモノマーまたはそのオリゴマー等の硬化物からなる透光性セラミック等が含まれる。
【００９８】
また、図２に示されるように、波長変換層３が、対向基板４と積層されている場合の対向基板４は、可視光に対して透明な基板であれば特に制限されず、ガラス基板や、樹脂製の透明基板でありうる。当該基板の厚みは、通常７００〜２０００μｍであり、好ましくは８００〜１２００μｍである。なお、対向基板４と波長変換層３とが積層された態様では、蛍光体粒子や無機酸化物粒子等を対向基板４と結着するとの観点から、波長変換層３にバインダが含まれることが好ましい。また、図２では、波長変換層３が、対向基板４よりＬＥＤ素子２側に形成されているが、対向基板４が波長変換層３よりＬＥＤ素子側となるように、波長変換層３が積層されていてもよい。
【００９９】
ここで、いずれの態様においても、波長変換層３の厚みは、１００μｍ以上３０００μｍ以下であり、好ましくは２００μｍ以上２８００μｍ以下であり、さらに好ましくは５００μｍ以上２５００μｍ以下である。波長変換層３の厚みが１００μｍ以上であると、発光素子２からの光を十分に変換することが可能となる。
【０１００】
波長変換層３の形成方法は特に制限されず、波長変換層３に含まれる成分や、波長変換層３を形成する部材等に応じて適宜選択される。波長変換層３の形成方法の例を以下に示すが、これに限定されない。
【０１０１】
前述の蛍光体粒子分散液を、ディスペンサや、スプレー装置、インクジェット装置等にて、ＬＥＤ素子２上、もしくは対向基板４上に塗布する。その後、蛍光体粒子分散液に含まれる溶媒を乾燥させる。
【０１０２】
また、溶媒の乾燥後、必要に応じて、蛍光体粒子等を結着させるためのバインダやその前駆体を塗布し、硬化させてもよい。具体的には、蛍光体や無機酸化物粒子、非硬化性シロキサン系化合物を含む層上に、バインダ成分と、溶媒とを含むバインダ形成用組成物を塗布し、これを硬化させる。バインダ成分は、前述のシリコーン樹脂やエポキシ樹脂、もしくはその前駆体、公知のアルコキシシランモノマーまたはそのオリゴマー等でありうる。アルコキシシランモノマーやオリゴマーは加水分解・重縮合されてポリシロキサンとなるものであれば特に制限されない。
【０１０３】
また、バインダ形成用組成物に含まれる溶媒は、バインダ成分の種類に応じて適宜選択され、例えば、トルエン、キシレンなどの炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチルアセテートなどのエステル類；１価のアルコール；２価以上の多価アルコール；エステル系溶媒等でありうる。
【０１０４】
バインダ形成用組成物の塗布方法は、バインダ成分の種類等により適宜選択され、例えばディスペンサーやスプレー装置、インクジェット装置等で塗布することができる。また、バインダ形成用組成物の塗布後、必要に応じて、バインダ形成用組成物を硬化させる。バインダ形成用組成物の硬化方法や硬化条件は、樹脂の種類により適宜選択される。硬化方法の一例として、加熱硬化が挙げられる。
【０１０５】
なお、上述の蛍光体粒子分散液と、バインダ形成用組成物とを混合し、これらの混合物をＬＥＤ素子２上や対向基板４上に塗布して、上記波長変換層を形成することも可能である。
【０１０６】
３−４．発光装置の用途
前述の発光装置には、さらに他の光学部品（レンズなど）が設けられて各種光学部材とされてもよい。本発明の発光装置では、波長変換層に変色等が生じ難い。したがって、長期間に亘って安定して使用可能であり、各種照明装置として、非常に有用である。
【実施例】
【０１０７】
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明する。しかしながら、本発明の範囲はこれによって何ら制限されない。
【０１０８】
各実施例及び比較例の高比重粒子分散用溶液に用いた材料は、それぞれ以下の通りである。
＜無機酸化物粒子＞
・無処理ＳｉＯ２（Ａ）：サイリシア４７０（冨士シリシア製）、平均粒子径６．７μｍ
・無処理ＳｉＯ２（Ｂ）：２００Ｖ（アエロジル社製）、平均粒子径１２ｎｍ
・メチル化処理ＳｉＯ２：後述の方法による調製品、平均粒子径６．８μｍ
・プロピル化処理ＳｉＯ２：後述の方法による調製品、平均粒子径６．８μｍ
・無処理ＺｒＯ２：ＫＺ−０Ｙ（共立マテリアル社製）、平均粒子径１７μｍ
・メチル化処理ＺｒＯ２：後述の方法による調製品、平均粒子径１７．１μｍ
・ＴｉＯ２  ＨＴ０２１０（東邦チタニウム社製）、平均粒子径２．５μｍ
・メチル化処理ＴｉＯ２：後述の方法による調製品、平均粒子径２．６μｍ
【０１０９】
＜溶媒＞
・１，３−ブタンジオール（以下、「ＢＤ」とも称する）
・プロピレングリコール（以下、「ＰＧ」とも称する）
・イソプロピルアルコール（以下、「ＩＰＡ」とも称する）
・メチルエチルケトン（以下、「ＭＥＫ」とも称する）
【０１１０】
＜平板状粒子＞
・マイカ  ＭＫ−１００  コープケミカル社製  平均粒子径４μｍ
【０１１１】
＜その他の成分＞
・ポリエチレングリコール（９）（括弧内の数字は、オキシエチレン基の繰返し単位の数を表す）（以下、「ＰＥＧ９」とも称する）
【０１１２】
＜非硬化性シロキサン系化合物＞
・非硬化性シロキサン系化合物１：後述の方法による調製品
・非硬化性シロキサン系化合物２：後述の方法による調製品
・非硬化性シロキサン系化合物３：後述の方法による調製品
・非硬化性シロキサン系化合物４：後述の方法による調製品
・非硬化性シロキサン系化合物５：後述の方法による調製品
・非硬化性シロキサン系化合物６：後述の方法による調製品
【０１１３】
（メチル化処理ＳｉＯ２の調製方法）
親水性シリカのサイリシア４７０（冨士シリシア製）を原料とした。当該親水性シリカ粉末１００質量部を反応容器に入れ、窒素雰囲気下、攪拌により粉末を流動状態とした。この状態で、ヘキサメチルジシラザンと水とをそれぞれ５質量部ずつ噴霧し、２００℃で３０分間加熱処理して、メチル化処理ＳｉＯ２粒子を得た。
【０１１４】
（プロピル化処理ＳｉＯ２の調製方法）
ヘキサメチルジシラザンの代わりに、プロピルトリメトキシシランを用いた以外は、メチル化処理ＳｉＯ２の調製方法と同様にして、プロピル化処理ＳｉＯ２粒子を得た。
【０１１５】
（メチル化処理ＺｒＯ２の調製方法）
親水性シリカの代わりに、ＺｒＯ２粒子（ＫＺ−０Ｙ（共立マテリアル社製））を用いた以外は、メチル化処理ＳｉＯ２の調製方法と同様にして、メチル化処理ＺｒＯ２粒子を得た。
【０１１６】
（メチル化処理ＴｉＯ２の調製方法）
親水性シリカの代わりに、ＴｉＯ２粒子（ＨＴ０２１０（東邦チタニウム社製））を用いた以外は、メチル化処理ＳｉＯ２の調製方法と同様にして、メチル化処理ＴｉＯ２粒子を得た。
【０１１７】
（非硬化性シロキサン系化合物１の調製方法）
・１，１，３，５，７，７，７−オクタメチル−３，５−ジヒドロキシテトラシロキサンの調製
反応器に水５０ｇおよび５％−Ｐｄ／Ｃ（活性炭（Ｃ）にＰｄを担持させたもの）２．５ｇを仕込んだ。反応溶液を５０℃に加熱して１，１，１，３，５，７，７，７−オクタメチルテトラシロキサン７１ｇを滴下した。６０℃で５時間熟成した後冷却して濾過を行った。濾液の油層を分離した後無水硫酸ナトリウムで乾燥し、目的の１，１，１，３，５，７，７，７−オクタメチル−３，５−ジヒドロキシテトラシロキサン６３ｇを得た。
【０１１８】
・シリコーン分岐型メチルハイドロジェンポリシロキサンの調製
上記で得られた１，１，１，３，５，７，７，７−オクタメチル−３，５−ジヒドロキシテトラシロキサン８ｇ、１，１，１，３，５，７，７，７−オクタメチルテトラシロキサン８８ｇ、テトラメチルシクロテトラシロキサン４．５ｇ、及びパーメチルドデカシロキサン２４．５ｇを反応器に仕込み、室温にて酸性触媒として９７％硫酸を０．４ｇ加え、１時間攪拌した後、さらに９７％硫酸３．３ｇ加え、室温にて４時間攪拌した。その後、水１．９ｇ加え、室温にて１時間攪拌した後廃酸を分離し、次いで水洗した。ｐＨ試験紙で中性を確認した後加圧濾過し、これを減圧留去することによってシリコーン分岐型メチルハイドロジェンポリシロキサンを得た。
【０１１９】
・シリコーン分岐型ポリエーテル変性ポリシロキサンオイル（非硬化性シロキサン系化合物１）の調製
上記で得られたシリコーン分岐型メチルハイドロジェンポリシロキサンを９４ｇ、ポリエチレングリコール（９）アリルエーテル（括弧内の数字はオキシエチレン基の繰返し単位を表す）３０ｇ、及びイソプロピルアルコール８０ｇを反応器に仕込み、さらに水２０ｇを加えて８０℃にて５時間反応を行った。反応液をオートクレーブに移した後、室温下で３時間反応を行った。
これにより非硬化性シロキサン系化合物１（分岐型ポリエーテル変性ポリシロキサンオイル）１４０ｇを得た。当該非硬化性シロキサン系化合物１の分子量及びＨＬＢ値を表１に示す。
【０１２０】
（非硬化性シロキサン系化合物２の調製方法）
シリコーン分岐型メチルハイドロジェンポリシロキサン調製時の反応時間（攪拌時間）を１０時間とし、シリコーン分岐型ポリエーテル変性ポリシロキサン調製時に使用するポリエチレングリコール（９）アリルエーテルを、ポリエチレングリコール（８）アリルエーテルに変更した以外は、非硬化性シロキサン系化合物１と同様に合成を行い、非硬化性シロキサン系化合物２を得た。当該非硬化性シロキサン系化合物２の分子量及びＨＬＢ値を表１に示す。
【０１２１】
（非硬化性シロキサン系化合物３の調製方法）
シリコーン分岐型ポリエーテル変性ポリシロキサン調製時に使用するポリエチレングリコール（９）アリルエーテルを、ポリエチレングリコール（１２）アリルエーテルに変更した以外は、非硬化性シロキサン系化合物１と同様に合成を行い、非硬化性シロキサン系化合物３を得た。当該非硬化性シロキサン系化合物３の分子量及びＨＬＢ値を表１に示す。
【０１２２】
（非硬化性シロキサン系化合物４の調製方法）
シリコーン分岐型ポリエーテル変性ポリシロキサン調製時に使用するポリエチレングリコール（９）アリルエーテルを、ｐ−スチレンスルホン酸ナトリウム１４ｇに変更し、反応液に水を添加しなかった以外は、非硬化性シロキサン系化合物１と同様に合成を行い、非硬化性シロキサン系化合物４を得た。当該非硬化性シロキサン系化合物４の分子量及びＨＬＢ値を表１に示す。
【０１２３】
（非硬化性シロキサン系化合物５の調製方法）
シリコーン分岐型ポリエーテル変性ポリシロキサン調製時に使用するポリエチレングリコール（９）アリルエーテルを、デカノールに変更した以外は、非硬化性シロキサン系化合物１と同様に合成を行い、非硬化性シロキサン系化合物５を得た。当該非硬化性シロキサン系化合物５の分子量を表１に示す。当該化合物は親水基を含まないため、ＨＬＢ値を記載しない。
【０１２４】
（非硬化性シロキサン系化合物６の調製方法）
シリコーン分岐型ポリエーテル変性ポリシロキサン調製時に使用するポリエチレングリコール（９）アリルエーテルを、エタノールに変更した以外は、非硬化性シロキサン系化合物１と同様に合成を行い、非硬化性シロキサン系化合物６を得た。当該非硬化性シロキサン系化合物６の分子量を表１に示す。当該化合物は親水基を含まないため、ＨＬＢ値を記載しない。
【０１２５】
【表１】
2017025215.tif 000004
【０１２６】
［実施例１］
１，３−ブタンジオール９０質量％と、親水性シリカ（サイリシア７７０（冨士シリシア社製））５質量％と、非硬化性シロキサン系化合物１（分岐型ポリエーテル（ＰＥＧ９）変性ポリシロキサンオイル）５質量％と、を混合し、これらをホモジナイザー（英弘精機社製）で１０分間分散させて、高比重粒子分散用溶液を調製した。
【０１２７】
［実施例２〜２６、及び比較例１〜８］
表２〜４に示される組成比で、各成分を混合した以外は、実施例１と同様に高比重粒子分散用溶液を調製した。
【０１２８】
［評価１］
実施例１〜２６、及び比較例１〜８で調製した高比重粒子分散用溶液について、高比重粒子分散用溶液の保存安定性（上澄み厚さ）、高比重粒子分散時の分散安定性、液流れ性、及び高比重粒子分散用溶液から得られる塗布膜の光透過性について、それぞれ以下のように評価した。結果を表２〜４に示す。
【０１２９】
＜上澄み厚さ＞
作製直後の高比重粒子分散用溶液を直径２ｃｍ、容積５ｍＬの円筒状のガラス瓶に投入し、２５℃にて３０日間静置した。３０日間静置後の上澄みの厚さを計測し、下記の基準で評価した。
◎：上澄みが出ていない
○：上澄みの厚さが０ｍｍを超え、１ｍｍ以下である
×：上澄みの厚さが１ｍｍを超える
【０１３０】
＜高比重粒子分散時の分散安定性＞
高比重粒子分散用溶液を２５℃にて３０日間静置した。その後、当該高比重粒子分散用溶液に、以下の３つの高比重粒子を分散させて、高比重粒子の分散安定性を評価した。評価用サンプル溶液は、以下の高比重粒子（粒子径５μｍ）５ｇを高比重粒子分散用溶液１０ｇに添加した溶液３種とした。なお、溶液は、高比重粒子添加後、ホモジナイザー（英弘精機社製）で１０分間分散させた。
（高比重粒子）
・マグネシウム  比重：１．７
・ＹＡＧ蛍光体  比重：４．６
・銀            比重：１０．５
得られた評価用サンプル溶液を直径２ｃｍ、容積５ｍＬの円筒状のガラス瓶に投入し、２５℃にて２４時間静置した際の上澄みの厚さを計測し、下記の基準で沈降耐性を評価した。
◎：銀（比重１０．５）を分散させた評価用サンプル溶液にて上澄みが出ない
○：チタン（比重４．５）を分散させた評価用サンプル溶液では上澄みが出ないが、銀（比重１０．５）を分散させた評価用サンプル溶液では上澄みが出る
△：マグネシウム（比重１．７）を分散させた評価用サンプル溶液では上澄みが出ないが、チタン（比重４．５）を分散させた評価用サンプル溶液では上澄みが出る
×：マグネシウム（比重１．７）を分散させた評価用サンプル溶液にて上澄みが出る
【０１３１】
＜液流れ性＞
高比重粒子分散用溶液５０重量部に酸化チタンを５０重量部加え、十分に分散させた。その後、ガラス基板上に加熱前の厚みが５０μｍになるように当該溶液をスキージで塗布した。塗布面積は１０×１０ｍｍとした。その後、１５０℃１時間加熱して乾燥させた。塗膜乾燥後のガラス基板を４５°の傾斜に立て掛けて、塗布範囲外への液流れを下記の基準で評価した。
◎：液流れなし
○：液流れの距離が０．５ｍｍ未満
×：液流れの距離が０．５ｍｍ以上
【０１３２】
＜透過率＞
高比重粒子分散用溶液を厚みが１０μｍになるようにガラス基板上にスプレー塗布し、１５０℃にて１時間かけて乾燥させた。その後、メチルシリコーン（東レダウ製ＯＥ６３７０ＨＦ）のＭＥＫ希釈溶液をドライ膜厚５μｍとなるように更にスプレー塗布し、１５０℃１時間で熱硬化させてサンプルとした。
作成した塗布サンプルの透過率を、分光光度計（日立社製Ｕ−４１００）にて計測し、以下の基準で評価した。
◎：４７０ｎｍの透過率が９８％以上
○：４７０ｎｍの透過率が９５％以上９８％未満
×：４７０ｎｍの透過率が９５％未満
【０１３３】
【表２】
2017025215.tif 000005
【０１３４】
【表３】
2017025215.tif 000006
【０１３５】
【表４】
2017025215.tif 000007
【０１３６】
上記表２〜４に示されるように、疎水性基及び親水性基を有する非硬化性シロキサン系化合物と、極性溶媒と、無機酸化物粒子と、を所定量含む高比重粒子分散用溶液では、３０日間保存した後にも、上澄みが生じ難く、当該高比重粒子分散用溶液から得られる塗膜の透過率が良好であった（実施例１〜２６）。非硬化性シロキサン系化合物の存在によって、高比重粒子分散用溶液内で、無機酸化物粒子と極性溶媒との親和性が高まり、無機酸化物粒子の分散性が良好になったと推察される。そして、無機酸化物粒子の分散性が良好であるため、高比重粒子分散用溶液に高比重粒子を分散させたときの分散性が良好になりやすく、さらにこのような分散液では液だれが生じ難かった。
【０１３７】
一方、高比重粒子分散用溶液に非硬化性シロキサン系化合物が含まれない場合や、その量が０．５質量％を下回る場合（比較例１、２、及び４）には、上澄みが生じやすかった。無機酸化物粒子と極性溶媒との親和性が十分ではなく、経時で無機酸化物粒子が沈降しやすかったと推察される。また、このような高比重粒子分散用溶液に高比重粒子を分散させた場合には、高比重粒子が沈降しやすかった。
【０１３８】
また、非硬化性シロキサン系化合物の量が４０質量％を超える場合、上澄みが生じ難く、高比重粒子の分散安定性が高まったものの、透過率が低くなり、さらに液流れ性も低下した（比較例３）。非硬化性シロキサン系化合物の量が多くなったため、高比重粒子分散用溶液に着色が生じやすくなったと推察される。さらに非硬化性シロキサン系化合物は硬化しないため、高比重粒子分散用溶液から得られる膜から滲み出やすかったと推察される。
【０１３９】
さらに、高比重粒子分散用溶液に非硬化性シロキサン系化合物ではなく、ポリエチレングリコール（９）が含まれる場合、上澄みが生じやすかった（比較例５）。ポリエチレングリコールは疎水性基を有さないため、極性溶媒の疎水性の部位と十分に親和し難かったと推察される。またさらに、親水性基を有さない非硬化性シロキサン系化合物を用いた場合には、上澄みが生じやすく、分散安定性が低かった（比較例６及び７）。またこの場合、液流れ性の評価も低かった。また、溶媒として、水酸基を有さないＭＥＫを用いた場合には、上澄みが生じやすく、分散安定性が低かった（比較例８）。溶媒と無機酸化物粒子との親和性が十分に高まらなかったと推察される。
【０１４０】
［評価２］
上記実施例１及び比較例１の高比重粒子分散用溶液について、以下のように保存後に蛍光体粒子分散液を作製し、当該蛍光体粒子分散液の吐出量ばらつきを評価した。結果を表５に示す。
【０１４１】
＜吐出量ばらつき＞
実施例及び比較例１の高比重粒子分散用溶液を２５℃にて３０日間静置した。その後、当該高比重粒子分散用溶液１０ｇに、ＹＡＧ蛍光体（比重４．６）を５ｇ添加し、ホモジナイザー（英弘精機社製）で１０分間分散させた。作製した蛍光体粒子分散液をディスペンサシリンジに充填し、蛍光体粒子分散液をサンプル瓶に０．５秒間吐出した。当該サンプル瓶を、１５０℃にて１時間加熱し、加熱後の固形分の質量を測定した。これらを５回繰り返して、加熱後の固形分の質量の平均値（ＷＡ）を算出した。
さらに、上記蛍光体粒子分散液をディスペンサシリンジ内で８時間静置し、上記と同様にサンプル瓶に蛍光体粒子分散液を吐出し、加熱した。そして、加熱後のサンプル瓶の質量の平均値（ＷＢ）を算出した。そして、以下の式から吐出量の変化を確認した。
吐出量変化（％）＝ＷＢ／ＷＡ×１００
【０１４２】
【表５】
2017025215.tif 000008
【０１４３】
上記表５に示されるように、実施例１の高比重粒子分散用溶液を用いた蛍光体粒子分散液では、吐出量変化が殆どなかった。これは、非硬化性シロキサン系化合物が含まれるため、高比重粒子分散用溶液内で、無機酸化物粒子が沈降し難く、時間が経過しても、蛍光体粒子が均一に分散されやすかったと推察される。一方、比較例１の高比重粒子分散用溶液を用いた蛍光体粒子分散液では、吐出量変化が生じた。これは、ディスペンサシリンジ内で蛍光体粒子が沈降し、ディスペンサシリンジ下方に位置する蛍光体粒子分散液中の蛍光体粒子の濃度が高まったためであると推察される。
【０１４４】
上記結果を鑑みると、比較例１の高比重粒子分散用溶液を用いて蛍光体分散液を調製し、複数の波長変換層を形成した場合には、各波長変換層に含まれる蛍光体粒子の量にばらつきが生じやすい。一方、実施例１の高比重粒子分散用溶液を用いて蛍光体分散液を調製し、複数の波長変換層を形成した場合には、各波長変換層に、一定量ずつ蛍光体粒子が含まれる。つまり、このような波長変換層を有する発光装置では、発する光の色度にばらつきが生じ難くなる。
【産業上の利用可能性】
【０１４５】
本発明の高比重粒子分散用溶液では、相分離が生じ難く、高比重粒子を安定して分散させることが可能である。したがって、各種インクや、蛍光体層形成用の分散液、スラリー調製用の溶液として、非常に有用である。
【符号の説明】
【０１４６】
１  基板
２  ＬＥＤ素子
３  波長変換層
４  対向基板
１１  電極
１２  金属ワイヤ
１００  発光装置
【図１】
2017025215.tif 000009
【図２】
2017025215.tif 000010