(57)【要約】【課題】パターンの形成において種々の特性（感度、パターン形状、解像性、残膜性等）の向上をより図れる感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】露光によって現像液に対する溶解性が変化する感光性樹脂組成物において、金属粒子（ａ１）とフェノール樹脂（ａ２）との複合体であって金属原子−酸素原子−炭素原子結合を有する金属樹脂複合材料（Ａ）を含有することを特徴とする。好ましくは、前記金属樹脂複合材料（Ａ）と感光材料（Ｂ）とを含有する感光性樹脂組成物、又は、前記金属樹脂複合材料（Ａ）と光酸発生剤（Ｃ）と架橋剤（Ｄ）とを含有する感光性樹脂組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光によって現像液に対する溶解性が変化する感光性樹脂組成物において、
金属粒子（ａ１）とフェノール樹脂（ａ２）との複合体であって金属原子−酸素原子−炭素原子結合を有する金属樹脂複合材料（Ａ）を含有する、感光性樹脂組成物。
【請求項２】
さらに、ポリヒドロキシベンゾフェノン化合物、ビス［（ポリ）ヒドロキシフェニル］アルカン化合物、トリス（ヒドロキシフェニル）メタン化合物及びナフトキノンジアジド化合物からなる群より選択される少なくとも１種の感光材料（Ｂ）を含有する、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】
さらに、光酸発生剤（Ｃ）と、架橋剤（Ｄ）と、を含有する、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項４】
前記金属粒子（ａ１）を構成する金属は、銀、銅、スズ、ニッケル、鉄、亜鉛、マンガン及びアルミニウムからなる群より選択される少なくとも１種である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項５】
前記（Ａ）成分に占める前記金属粒子（ａ１）の割合は、１〜８５質量％である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物を支持体上に塗布して、感光性樹脂膜を形成する工程と、
前記感光性樹脂膜を露光する工程と、
前記露光後の感光性樹脂膜を現像して感光性樹脂パターンを形成する工程と、
を有する、感光性樹脂パターンの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂組成物及び感光性樹脂パターンの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子や液晶ディスプレイパネル等の製造において、集積回路を製作する際にフォトリソグラフィ技術が利用されている。フォトリソグラフィ技術においては、基板上に所定形状のパターンを描くために感光性樹脂組成物が用いられている。
感光性樹脂組成物は、露光部が現像液に可溶な感光性樹脂膜を形成する場合にはポジ型に分類され、露光部が現像液に不溶な感光性樹脂膜を形成する場合にはネガ型に分類される。
例えば、ウェーハ上に、感光性樹脂組成物を用いて感光性樹脂膜を形成し、この感光性樹脂膜を、フォトマスクを介して露光装置により露光し、現像液で現像することによって、目的とするパターン形状の感光性樹脂膜（感光性樹脂パターン）が製造される。次いで、この感光性樹脂パターンをマスクとしてエッチングを施すことにより、ウェーハにおける不要な部分が除去される。その後、ウェーハ上に残存する感光性樹脂膜が除去され、パターン形状の回路が製作される。
【０００３】
感光性樹脂組成物としては、一般に、アルカリ可溶性樹脂と、感光材料と、を含有するものが用いられている。
例えば、メタクレゾール、パラクレゾール及び２，５−キシレノールを含むフェノール類及びアルデヒド類を、酸触媒の存在下、特定の温度条件下で反応させて得られるノボラック型フェノール樹脂と、ナフトキノンジアジド誘導体と、溶媒と、を含有する感光性樹脂組成物が提案されている（特許文献１参照）。
かかる特許文献１の発明においては、フェノール樹脂を合成する際のモノマー組成及びオルソ化率を制御することによって、種々の特性（感度、パターン形状、解像性、残膜性等）の改善が図られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−２５４１９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、半導体素子や液晶ディスプレイパネル等には、小型化、高機能化などがますます求められている。これに伴い、感光性樹脂組成物の種々の特性に対して要求される技術水準が従来に比べて高くなってきている。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、パターンの形成において種々の特性（感度、パターン形状、解像性、残膜性等）の向上をより図れる感光性樹脂組成物を提供すること、を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは鋭意検討した結果、上記課題を解決するために以下の手段を提供する。
すなわち、本発明の第１の態様の感光性樹脂組成物は、露光によって現像液に対する溶解性が変化する感光性樹脂組成物において、金属粒子（ａ１）とフェノール樹脂（ａ２）との複合体であって金属原子−酸素原子−炭素原子結合を有する金属樹脂複合材料（Ａ）を含有することを特徴とする。
【０００７】
好ましくは、前記金属樹脂複合材料（Ａ）に加えて、さらに、ポリヒドロキシベンゾフェノン化合物、ビス［（ポリ）ヒドロキシフェニル］アルカン化合物、トリス（ヒドロキシフェニル）メタン化合物及びナフトキノンジアジド化合物からなる群より選択される少なくとも１種の感光材料（Ｂ）を含有する感光性樹脂組成物が挙げられる。
【０００８】
好ましくは、前記金属樹脂複合材料（Ａ）に加えて、さらに、光酸発生剤（Ｃ）と、架橋剤（Ｄ）と、を含有する感光性樹脂組成物が挙げられる。
【０００９】
前記金属粒子（ａ１）を構成する金属は、銀、銅、スズ、ニッケル、鉄、亜鉛、マンガン及びアルミニウムからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
前記（Ａ）成分に占める前記金属粒子（ａ１）の割合は、１〜８５質量％であることが好ましい。
【００１０】
本発明の第２の態様の感光性樹脂パターンの製造方法は、前記第１の態様の感光性樹脂組成物を支持体上に塗布して、感光性樹脂膜を形成する工程と、前記感光性樹脂膜を露光する工程と、前記露光後の感光性樹脂膜を現像して感光性樹脂パターンを形成する工程と、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の感光性樹脂組成物によれば、パターンの形成において種々の特性（感度、パターン形状、解像性、残膜性等）の向上をより図れる。
本発明の感光性樹脂パターンの製造方法によれば、種々の特性がより向上したパターンを形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】金属樹脂複合材料（Ａ−１）について測定されたＡｇ３ｄナロースキャンスペクトルを示す図である。
【図２】Ａｇ箔をＡｒイオンでクリーニングした試料について測定されたＡｇ３ｄナロースキャンスペクトルを示す図である。
【図３】金属樹脂複合材料（Ａ−１）の表面を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により観察した像を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
（感光性樹脂組成物）
本実施形態の感光性樹脂組成物は、露光によって現像液に対する溶解性が変化するものである。
本実施形態の感光性樹脂組成物を用いて形成される感光性樹脂膜を露光すると、感光性樹脂膜の露光部は、現像液に対する溶解性が変化し、感光性樹脂膜の非露光部は、現像液に対する溶解性が変化しない。すなわち、感光性樹脂膜の露光部と非露光部との間で現像液に対する溶解性に差が生じる。これにより、露光後の感光性樹脂膜を現像すると、パターン形状の感光性樹脂膜（感光性樹脂パターン）が形成される。
ポジ型の感光性樹脂組成物であれば、感光性樹脂膜の露光部が現像液に溶解除去され、感光性樹脂膜の非露光部が残存して感光性樹脂パターンが形成される。
ネガ型の感光性樹脂組成物であれば、感光性樹脂膜の非露光部が現像液に溶解除去され、感光性樹脂膜の露光部が残存して感光性樹脂パターンが形成される。
【００１４】
本実施形態の感光性樹脂組成物は、金属粒子（ａ１）とフェノール樹脂（ａ２）との複合体であって金属原子−酸素原子−炭素原子結合を有する金属樹脂複合材料（Ａ）を含有する。以下、前記の金属樹脂複合材料（Ａ）を（Ａ）成分、金属粒子（ａ１）を（ａ１）成分、フェノール樹脂（ａ２）を（ａ２）成分ともいう。
感光性樹脂組成物においては、前記（Ａ）成分を含有するため、集積回路を製作する際に種々の特性（感度、パターン形状、解像性、残膜性等）の向上がより図られる。
【００１５】
例えば、かかる（Ａ）成分を含有する感光性樹脂組成物としては、前記（Ａ）成分と、ポリヒドロキシベンゾフェノン化合物、ビス［（ポリ）ヒドロキシフェニル］アルカン化合物、トリス（ヒドロキシフェニル）メタン化合物及びナフトキノンジアジド化合物からなる群より選択される少なくとも１種の感光材料（Ｂ）と、を含有する感光性樹脂組成物（第１の実施形態）が好適に挙げられる。
また、かかる（Ａ）成分を含有する感光性樹脂組成物としては、前記（Ａ）成分と、光酸発生剤（Ｃ）と、架橋剤（Ｄ）と、を含有する感光性樹脂組成物（第２の実施形態）が好適に挙げられる。
【００１６】
＜第１の実施形態＞
第１の実施形態の感光性樹脂組成物は、前記金属樹脂複合材料（Ａ）と、ポリヒドロキシベンゾフェノン化合物、ビス［（ポリ）ヒドロキシフェニル］アルカン化合物、トリス（ヒドロキシフェニル）メタン化合物及びナフトキノンジアジド化合物からなる群より選択される少なくとも１種の感光材料（Ｂ）（以下「（Ｂ）成分」ともいう。）と、を含有する。
【００１７】
≪金属樹脂複合材料（Ａ）≫
第１の実施形態における（Ａ）成分は、金属粒子（ａ１）とフェノール樹脂（ａ２）との複合体であって金属原子−酸素原子−炭素原子結合を有する金属樹脂複合材料である。
【００１８】
・金属粒子（ａ１）について
（ａ１）成分の粒子群についての平均粒径の下限値は、エッチング耐性等がより高められやすいことから、１ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは３ｎｍ以上、さらに好ましくは５ｎｍ以上である。
（ａ１）成分の粒子群についての平均粒径の上限値は、（ａ２）成分への分散性が向上しやすいことから、１μｍ以下が好ましく、より好ましくは６００ｎｍ以下、さらに好ましくは３００ｎｍ以下である。
（ａ１）成分の粒子群についての平均粒径は、（Ａ）成分の表面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により観察し、任意に選んだ金属粒子１００個の粒径を測定してこれらの平均値を求めることにより決定される。
【００１９】
（ａ１）成分を構成する金属としては、例えば、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、スズ（Ｓｎ）、ニッケル（Ｎｉ）、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、クロム（Ｃｒ）、亜鉛（Ｚｎ）、マンガン（Ｍｎ）、アルミニウム（Ａｌ）、カルシウム（Ｃａ）、マグネシウム（Ｍｇ）、チタン（Ｔｉ）、スカンジウム（Ｓｃ）、バナジウム（Ｖ）、ガリウム（Ｇａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、イットリウム（Ｙ）、ニオブ（Ｎｂ）、モリブデン（Ｍｏ）、ルテニウム（Ｒｕ）、カドミウム（Ｃｄ）、バリウム（Ｂａ）、ランタン（Ｌａ）、セリウム（Ｃｅ）、プラセオジム（Ｐｒ）、ネオジム（Ｎｄ）、プロメチウム（Ｐｍ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユウロピウム（Ｅｕ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、テルビウム（Ｔｂ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ホルミウム（Ｈｏ）、エルビウム（Ｅｒ）、ツリウム（Ｔｍ）、イッテルビウム（Ｙｂ）、ルテチウム（Ｌｕ）、ハフニウム（Ｈｆ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、レニウム（Ｒｅ）、オスミウム（Ｏｓ）、イリジウム（Ｉｒ）が挙げられる。
これらの中でも、本発明の効果が得られやすいことから、金、白金、パラジウム、銀、銅、スズ、ニッケル、コバルト、鉄、クロム、亜鉛、マンガン、アルミニウムが好ましい。
（ａ１）成分を構成する金属は、１種単独でもよいし２種以上でもよい。
（ａ１）成分を構成する金属は、銀、銅、スズ、ニッケル、鉄、亜鉛、マンガン及びアルミニウムからなる群より選択される少なくとも１種であることがより好ましい。
【００２０】
（ａ１）成分を構成する金属は、通常、その大部分が「０価」の金属原子とされるが、カチオン性を帯びた金属イオンが混在していてもよい。この金属イオンと（ａ２）成分との相互作用によって、種々の特性（感度、パターン形状、解像性、残膜性等）がより高められる。
【００２１】
（Ａ）成分中、（ａ１）成分は、１種単独でもよいし２種以上でもよい。
（Ａ）成分に占める（ａ１）成分の割合は、（Ａ）成分全体の総量（１００質量％）に対して１〜８５質量％であることが好ましい。
（ａ１）成分の割合の下限値は、金属粒子に由来する効果がより高まることから、（Ａ）成分全体の総量（１００質量％）に対して１質量％以上が好ましく、より好ましくは３質量％以上、さらに好ましくは５質量％以上である。
（ａ１）成分の割合の上限値は、（Ａ）成分全体としての比重が抑えやすくなることから、（Ａ）成分全体の総量（１００質量％）に対して８５質量％以下が好ましく、より好ましくは７５質量％以下、さらに好ましくは６５質量％以下である。
【００２２】
・フェノール樹脂（ａ２）について
（ａ２）成分としては、例えば、ノボラック型フェノール樹脂、レゾール型フェノール樹脂、アリールアルキレン型フェノール樹脂等が挙げられる。
【００２３】
・・ノボラック型フェノール樹脂について
ノボラック型フェノール樹脂には、例えば、フェノール類とアルデヒド類とを酸性触媒下で反応させて得られるものが用いられる。
【００２４】
ノボラック型フェノール樹脂の製造に用いられるフェノール類としては、例えば、フェノール；ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール等のクレゾール類；２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、２，６−キシレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール等のキシレノール類；２，３，５−トリメチルフェノール、２，３，６−トリメチルフェノール等のトリメチルフェノール類；ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール等のエチルフェノール類；イソプロピルフェノール、ブチルフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール等のアルキルフェノール類；レゾルシン、カテコール、ハイドロキノン、ピロガロール、フロログルシン、アルキルレゾルシン、アルキルカテコール、アルキルハイドロキノン等のアルキル多価フェノール類（いずれのアルキル基も、好ましい炭素数は１〜４である。）；ｐ−フェニルフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−アミルフェノール、ｐ−オクチルフェノール、ｐ−ノニルフェノール、ｐ−クミルフェノール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、レゾルシノール、２−ヒドロキシべンズアルデヒド、３−ヒドロキシべンズアルデヒド、４−ヒドロキシべンズアルデヒド又はこれらの誘導体などが挙げられる。
フェノール類は、１種単独で用いてもよいし２種以上を併用してもよい。
【００２５】
ノボラック型フェノール樹脂の製造に用いられるアルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド；アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、ブチルアルデヒド等のアルキルアルデヒド；べンズアルデヒド、２−ヒドロキシべンズアルデヒド、３−ヒドロキシべンズアルデヒド、４−ヒドロキシべンズアルデヒド等の芳香族アルデヒド等が挙げられる。
ホルムアルデヒド源としては、ホルマリン（水溶液）、パラホルムアルデヒド、アルコール類とのへミホルマール、トリオキサン等が挙げられる。
アルデヒド類は、１種単独で用いてもよいし２種以上を併用してもよい。
【００２６】
酸性触媒としては、例えば、シュウ酸、酢酸等の有機カルボン酸；ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の有機スルホン酸；１−ヒドロキシエチリデン−１，１’−ジホスホン酸、２−ホスホノブタン−１，２，４−トリカルボン酸等の有機ホスホン酸；塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸が挙げられる。
酸性触媒は、１種単独で用いてもよいし２種以上を併用してもよい。
【００２７】
ノボラック型フェノール樹脂を合成する際、フェノール類とアルデヒド類との反応モル比率は、フェノール類１モルに対し、アルデヒド類が、好ましくは０．３〜１．７モルであり、より好ましくは０．５〜１．５モルである。
【００２８】
・・レゾール型フェノール樹脂について
レゾール型フェノール樹脂には、例えば、フェノール類とアルデヒド類とをアルカリ触媒下で反応させて得られるものが用いられる。
【００２９】
レゾール型フェノール樹脂の製造に用いられるフェノール類としては、例えば、フェノール；ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール等のクレゾール類；２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、２，６−キシレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール等のキシレノール類；２，３，５−トリメチルフェノール、２，３，６−トリメチルフェノール等のトリメチルフェノール類；ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール等のエチルフェノール類；イソプロピルフェノール、ブチルフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール等のアルキルフェノール類；ｐ−ｔｅｒｔ−アミルフェノール、ｐ−オクチルフェノール、ｐ−ノニルフェノール、ｐ−クミルフェノール等のアルキルフェノール類；フルオロフェノール、クロロフェノール、ブロモフェノール、ヨードフェノール等のハロゲン化フェノール類；ｐ−フェニルフェノール、アミノフェノール、ニトロフェノール、 ジニトロフェノール、トリニトロフェノール等の１価フェノール置換体；１−ナフトール、２−ナフトール等の１価のフェノール類；レゾルシン、アルキルレゾルシン、ピロガロール、カテコール、アルキルカテコール、ハイドロキノン、アルキルハイドロキノン、フロログルシン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、ジヒドロキシナフタリン等の多価フェノール類；２−ヒドロキシべンズアルデヒド、３−ヒドロキシべンズアルデヒド、４−ヒドロキシべンズアルデヒドなどのアルデヒド基を有するフェノール類；又はこれらの誘導体等が挙げられる。
フェノール類は、１種単独で用いてもよいし２種以上を併用してもよい。
【００３０】
レゾール型フェノール樹脂の製造に用いられるアルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、トリオキサン、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ポリオキシメチレン、クロラール、フルフラール、グリオキザール、ｎ−ブチルアルデヒド、カプロアルデヒド、アリルアルデヒド、べンズアルデヒド、クロトンアルデヒド、アクロレイン、フェニルアセトアルデヒド、ｏ−トルアルデヒド、２−ヒドロキシべンズアルデヒド、３−ヒドロキシべンズアルデヒド、４−ヒドロキシべンズアルデヒド等が挙げられる。
これらのアルデヒド類の中でも、反応性に優れ、安価であるという点から、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒドが好ましい。
アルデヒド類は、１種単独で用いてもよいし２種以上を併用してもよい。
【００３１】
アルカリ触媒としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物；カルシウム、マグネシウム、バリウムなどのアルカリ土類金属の酸化物若しくは水酸化物；炭酸ナトリウム、アンモニア水；トリエチルアミン、へキサメチレンテトラミンなどのアミン類；酢酸マグネシウム、酢酸亜鉛などの二価金属塩などが挙げられる。
アルカリ触媒は、１種単独で用いてもよいし２種以上を併用してもよい。
【００３２】
レゾール型フェノール樹脂を合成する際、フェノール類とアルデヒド類との反応モル比率は、フェノール類１モルに対し、アルデヒド類が、好ましくは０．８〜２．５モルであり、より好ましくは１．０〜２．３モルである。
【００３３】
・・アリールアルキレン型フェノール樹脂について
アリールアルキレン型フェノール樹脂とは、１つ以上のアリールアルキレン基を含む繰り返し単位、を有するフェノール樹脂をいう。
このようなアリールアルキレン型フェノール樹脂としては、例えば、キシリレン型フェノール樹脂、ビフェニルジメチレン型フェノール樹脂等が挙げられる。
アリールアルキレン型フェノール樹脂は、公知の製造方法によって製造される。
【００３４】
（Ａ）成分である金属樹脂複合材料は、金属原子−酸素原子−炭素原子結合を有するものである。
この結合を形成している酸素原子は、（ａ２）成分（フェノール樹脂）が有するフェノール性水酸基に限定されず、これ以外の官能基に由来する酸素原子であってもよい。このように種々の官能基に由来する酸素原子と、（ａ１）成分（金属粒子）と、が相互に作用することで、金属原子−酸素原子−炭素原子結合が形成されやすくなる。
【００３５】
（ａ２）成分の中でも、分子内に脂肪族アルコール基を有するフェノール樹脂、分子内にエーテル基を有するフェノール樹脂、分子内にケトン基を有するフェノール樹脂、分子内にホルミル基（−ＣＨＯ）を有するフェノール樹脂、分子内にカルボキシ基を有するフェノール樹脂、分子内にエステル基を有するフェノール樹脂、分子内にウレタン基を有するフェノール樹脂が好ましい。
これらの中でも、分子内にケトン基、アルデヒド基、カルボキシ基、エステル基、ウレタン基のようなカルボニル部位（カルボニル基）を有するフェノール樹脂がより好ましい。
かかる好ましいフェノール樹脂を用いることで、（ａ１）成分における金属原子は、（ａ２）成分中のフェノール性水酸基の酸素原子のみならず、部分的にカルボニル基の酸素原子にも結合することが可能となる。これにより、金属原子−酸素原子−炭素原子結合がより形成されやすくなる。
尚、前記のような、分子内にカルボニル基を有するフェノール樹脂は、原料として、対応する官能基を分子内に有するフェノール類を用いることで製造される。
【００３６】
分子内にアルデヒド基を有するフェノール樹脂を用いた場合には、（Ａ）成分である金属樹脂複合材料を容易に製造できる。
後述するように、（Ａ）成分を製造する際、金属塩の溶液とフェノール樹脂とを混合して、フェノール樹脂中の酸素原子と金属原子とを結合させる。原料として、分子内にアルデヒド基を有するフェノール樹脂を用いた場合、このアルデヒド基が、金属塩を構成する金属カチオンに対して還元作用をもたらす。加えて、この場合、金属原子とフェノール樹脂中の酸素原子とが結合しやすくなる。
【００３７】
このような、分子内にアルデヒド基を有するフェノール樹脂は、原料のフェノール類として、例えば２−ヒドロキシべンズアルデヒド、３−ヒドロキシべンズアルデヒド、４−ヒドロキシべンズアルデヒドなどのヒドロキシべンズアルデヒド又はその誘導体を用いることで製造される。
【００３８】
（ａ２）成分の数平均分子量（Ｍｎ）の下限値は、１５０以上が好ましく、より好ましくは２００以上、さらに好ましくは２５０以上である。
（ａ２）成分の数平均分子量（Ｍｎ）の上限値は、１５００以下が好ましく、より好ましくは１２００以下、さらに好ましくは１０００以下である。
（ａ２）成分のＭｎを、前記の好ましい範囲に設定することで、樹脂成分としての適度な柔軟性が発現されやすくなる。
【００３９】
（ａ２）成分の重量平均分子量（Ｍｗ）の下限値は、２００以上が好ましく、より好ましくは３００以上、さらに好ましくは４００以上である。
（ａ２）成分の重量平均分子量（Ｍｗ）の上限値は、２５００以下が好ましく、より好ましくは２０００以下、さらに好ましくは１８００以下である。
（ａ２）成分のＭｗを、前記の好ましい範囲に設定することで、樹脂成分としての適度な柔軟性が発現されやすくなる。
【００４０】
尚、本発明において、樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定されるポリスチレン換算の値を意味する。
【００４１】
（ａ２）成分における、数平均分子量に対する重量平均分子量の比（Ｍｗ／Ｍｎ）は、その上限値として２．５以下が好ましく、より好ましくは２．２以下、さらに好ましくは２．０以下である。
Ｍｗ／Ｍｎの下限値は、特に限定されず、例えば１．０５以上である。
（ａ２）成分のＭｗ／Ｍｎを、前記の好ましい範囲に設定することで、本発明の効果がより高められる。
【００４２】
尚、（Ａ）成分を製造する際、化学的な反応が行われるため、原料として用いたフェノール樹脂と、（Ａ）成分を構成している反応後のフェノール樹脂と、はその分子量等（Ｍｎ、Ｍｗ、Ｍｗ／Ｍｎ）が一致しないことがある。
（Ａ）成分を製造するに当たり、その製造条件を勘案し、（Ａ）成分を構成する反応後のフェノール樹脂が上記の分子量等の範囲となるように、原料として用いる（ａ２）成分の分子量を設定することが好ましい。
【００４３】
（Ａ）成分中、（ａ２）成分は、１種単独でもよいし２種以上でもよい。
（Ａ）成分に占める（ａ２）成分の割合は、（Ａ）成分全体の総量（１００質量％）に対して１０〜９９質量％であることが好ましい。
（ａ２）成分の割合の下限値は、複合材料としての適度な可撓性を付与しやすく、感光性樹脂組成物の支持体への塗布性等の向上を図りやすいことから、（Ａ）成分全体の総量（１００質量％）に対して１０質量％以上が好ましく、より好ましくは１５質量％以上、さらに好ましくは２０質量％以上である。
（ａ２）成分の割合の上限値は、金属粒子に由来する効果がより高まることから、（Ａ）成分全体の総量（１００質量％）に対して９９質量％以下が好ましく、より好ましくは９５質量％以下、さらに好ましくは９０質量％以下である。
【００４４】
（Ａ）成分中、（ａ１）成分と（ａ２）成分との混合比率は、（ａ２）成分／（ａ１）成分で表される質量比（以下単に「（ａ２）／（ａ１）」とも表記する）で４〜９９が好ましく、より好ましくは６〜３２、さらに好ましくは９〜１９である。
かかる質量比の（ａ２）／（ａ１）が、前記範囲の好ましい下限値以上であれば、複合材料としての適度な可撓性を付与しやすく、感光性樹脂組成物の支持体への塗布性等の向上を図りやすくなり、前記範囲の好ましい上限値以下であれば、種々の特性（感度、パターン形状、解像性、残膜性等）がより高まる。
【００４５】
・その他成分（ａ３）について
（Ａ）成分は、必要に応じて（ａ１）成分及び（ａ２）成分以外の成分（以下「（ａ３）成分」ともいう）を含んでいてもよい。
（ａ３）成分としては、例えば、（ａ２）成分以外の樹脂；ステアリン酸、ステアリン酸カルシウムもしくはポリエチレンなどの離型剤；水酸化カルシウムなどの難燃剤；カーボンブラックなどの着色剤；カップリング剤；溶剤等が挙げられる。
【００４６】
（Ａ）成分の比重は、適宜設定すればよく、その比重の下限値としては、例えば１．２５ｇ／ｃｍ３以上が好ましく、より好ましくは１．２７ｇ／ｃｍ３以上、さらに好ましくは１．３０ｇ／ｃｍ３以上である。
（Ａ）成分の比重の上限値としては、例えば１６．６ｇ／ｃｍ３以下が好ましく、より好ましくは１６．０ｇ／ｃｍ３以下、さらに好ましくは１５．５ｇ／ｃｍ３以下である。
【００４７】
第１の実施形態における（Ａ）成分は、金属原子−酸素原子−炭素原子結合を有する。（Ａ）成分においては、（ａ１）成分である金属粒子表面の金属原子（Ｍ）と、（ａ２）成分であるフェノール樹脂中の酸素原子（Ｏ−Ｃ）と、が結合を形成し、（ａ２）成分のマトリックス中に（ａ１）成分が分散している。
前記の金属原子（Ｍ）と、Ｏ−ＣにおけるＯ（酸素原子）と、は化学的な結合（Ｍ−Ｏ）を形成している。これは、Ｘ線光電子分光法（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ ｆｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ：ＥＳＣＡ）により観察される（後述の図１、図２）。
このように、（Ａ）成分においては、（ａ１）成分が（ａ２）成分中の酸素原子と結合を形成しているため、（ａ２）成分のマトリックス中に（ａ１）成分が安定に分散し得る。かかる（Ａ）成分を感光性樹脂組成物に用いることで、パターンの形成において種々の特性（感度、パターン形状、解像性、残膜性等）向上の効果が発現される。
【００４８】
第１の実施形態の感光性樹脂組成物中、（Ａ）成分は、１種単独でもよいし２種以上でもよい。
第１の実施形態の感光性樹脂組成物における（Ａ）成分の含有割合は、組成物の固形分の総量（１００質量％）に対して４０〜９５質量％が好ましく、より好ましくは６０〜９０質量％である。
【００４９】
・（Ａ）成分の製造方法について
（Ａ）成分である金属樹脂複合材料は、例えば、金属塩の溶液とフェノール樹脂とを混合する工程を有する製造方法によって製造できる。
このフェノール樹脂には、上述した（ａ２）成分を適宜選択して用いればよい。
【００５０】
・・金属塩の溶液
金属塩の溶液は、上述した（ａ１）成分を構成する金属の塩を、溶媒に溶解することにより調製される。
かかる金属の塩には、上述した（ａ１）成分を構成する金属原子のカチオン（陽イオン）とアニオン（陰イオン）との組合せによって構成されるものが用いられる。
このアニオンとしては、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンなどのハロゲンイオン；酢酸イオン、シュウ酸イオン、フマル酸イオンなどのカルボキシレートイオン；ｐ−トルエンスルホネートイオン、メタンスルホネートイオン、ブタンスルホネートイオン、べンゼンスルホネートイオンなどのスルホネートイオン；硫酸イオン;過塩素酸イオン;炭酸イオン;硝酸イオン等が挙げられる。
例えば、金属として銀を選択する場合、溶媒への溶解性の高さから、硝酸イオンをアニオンとする硝酸銀を用いることが好ましい。
金属として銅を選択する場合、硫酸銅、硝酸銅を用いることが好ましい。
金属として亜鉛を選択する場合、塩化亜鉛、硫酸亜鉛、硝酸亜鉛を用いることが好ましい。 
金属としてカルシウムを選択する場合、塩化カルシウム、硝酸カルシウムを用いることが好ましい。
金属として鉄を選択する場合、塩化鉄、硫酸鉄、硝酸鉄を用いることが好ましい。
金属としてアルミニウムを選択する場合、硝酸アルミニウムを用いることが好ましい。
金属としてマグネシウムを選択する場合、塩化マグネシウム、硫酸マグネシウム、硝酸マグネシウムを用いることが好ましい。
尚、金属塩における金属の価数は、溶媒に対する溶解性や、還元のしやすさ等を勘案して適切なものを選択すればよい。
【００５１】
金属塩の溶液を調製する際の溶媒としては、金属塩の特性に応じて適宜選択すればよく、例えば水が挙げられる。
また、溶媒には、水以外も用いることができ、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、へキサノール、エチレングリコール等のアルコール系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒；ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のセロソルブ類；Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒；ジメチルカーボネートなどを用いることができる。
金属塩の溶液の溶媒は、１種単独でもよいし２種以上の混合溶媒でもよい。
好ましい混合溶媒としては、例えば、水とこれ以外の溶媒との組合せが挙げられる。
【００５２】
金属塩の溶液を調製する際、溶媒に対する金属塩の溶解性を向上させること等を目的として、溶液のｐＨを調整してもよい。
金属塩の溶液中、金属塩の含有割合の下限値は、溶液全体の質量（１００質量％）に対し、例えば１質量％以上であり、好ましくは３質量％以上、より好ましくは５質量％以上であり、金属塩の含有割合の上限値は、溶液全体の質量（１００質量％）に対し、例えば２０質量％以下であり、好ましくは１５質量％以下、より好ましくは１２質量％以下である。金属塩の含有割合を、前記の好ましい範囲に設定することで、安定的に金属塩から所望の金属粒子が生じる。
【００５３】
［金属塩の溶液とフェノール樹脂とを混合する工程］
本工程では、金属塩の溶液とフェノール樹脂とを混合することにより、（Ａ）成分である金属樹脂複合材料が得られる。
金属塩の溶液とフェノール樹脂とを混合した際、金属塩に対して還元反応が行われることにより、金属塩から金属粒子が生じる（すなわち、０価金属の粒子として析出する）。
この還元反応では、公知の還元剤を用いてもよいし、フェノール樹脂の構造に起因する還元性の官能基を活用してもよい。本実施形態では、（Ａ）成分中の（ａ２）成分であるフェノール樹脂が還元剤として機能し得る。
【００５４】
還元剤としては、公知のものを採用することができ、例えば、次亜リン酸ナトリウム、ジメチルアミンボラン、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、ホルムアルデヒド、ヒドラジン、アスコルビン酸などの無機若しくは有機の還元剤が挙げられる。
また、還元剤としては、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、アニリン樹脂、イソシアネート樹脂等の、窒素又は酸素を含有する極性基を有している樹脂も挙げられる。
【００５５】
還元反応において、フェノール樹脂の構造に起因する還元性の官能基を活用する場合には、フェノール樹脂として、分子内にアルデヒド基を有するフェノール樹脂を採用することができる。この場合、フェノール樹脂分子内のアルデヒド基が、金属塩を構成する金属カチオンに還元作用をもたらし、金属粒子が得られる。
かかる分子内にアルデヒド基を有するフェノール樹脂を用いる場合、金属塩の質量に対して、好ましくは０．１倍量以上の当該フェノール樹脂が用いられ、より好ましくは０．５倍量以上の当該フェノール樹脂が用いられ、さらに好ましくは２倍量以上の当該フェノール樹脂が用いられる。当該フェノール樹脂量の上限値は、特に限定されず、例えば１００倍量以下が用いられる。
【００５６】
本工程においては、 還元反応を促進するために、還元補助剤を適宜用いることができる。例えば、分子内にアルデヒド基を有するフェノール樹脂と硝酸銀とを混合する場合、還元補助剤としては、ジメチルスルフィド、ジエチルスルフィド、ジプロピルスルフィド、ジブチルスルフィド、ジペンチルスルフィド、ジへキシルスルフィド、ジフェニルスルフィド、エチルフェニルスルフィド、チオジエタノール、チオジプロパノール、チオジブタノール、１−（２−ヒドロキシエチルチオ）−２−プロパノール、１−（２−ヒドロキシエチルチオ）−２−ブタノール、１−（２−ヒドロキシエチルチオ）−３−ブトキシ−１−プロパノール等を用いることができる。
また、還元補助剤としては、アミン化合物、アルコール類も用いることもできる。
このアミン化合物としては、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、トリプロピルアミン、イソプロピルジエチルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モルホリン、エチレンジアミン、ピリジン等が挙げられる。
このアルコール類としては、エトキシエタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール等が挙げられる。
【００５７】
本工程において、金属塩の溶液とフェノール樹脂との混合は、加熟しながら行ってもよい。
加熟を行う際の温度条件は、その下限値として、好ましくは３０℃以上であり、より好ましくは４０℃以上、さらに好ましくは４５℃以上であり、その上限値として、好ましくは１００℃以下であり、より好ましくは９０℃以下、さらに好ましくは８０℃以下である。
【００５８】
金属塩の溶液とフェノール樹脂とを混合する時間（反応時間）は、その下限値として、好ましくは１０分間以上であり、より好ましくは３０分間以上、さらに好ましくは１時間以上であり、その上限値として、好ましくは２４時間以下であり、より好ましくは１２時間以下、さらに好ましくは８時間以下である。
【００５９】
≪特定の感光材料（Ｂ）≫
第１の実施形態における（Ｂ）成分は、ポリヒドロキシベンゾフェノン化合物、ビス［（ポリ）ヒドロキシフェニル］アルカン化合物、トリス（ヒドロキシフェニル）メタン化合物及びナフトキノンジアジド化合物からなる群より選択される少なくとも１種の感光材料である。
【００６０】
ポリヒドロキシベンゾフェノン化合物としては、例えば、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，４’−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，６−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシ−２’−メチルベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３’，４，４’，６−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，３，４，４’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，３，４，５−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，３’，４，４’，５’，６−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、２，３，３’，４，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【００６１】
ビス［（ポリ）ヒドロキシフェニル］アルカン化合物としては、例えば、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−２−（２’，４’−ジヒドロキシフェニル）プロパン、２−（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）−２−（２’，３’，４’−トリヒドロキシフェニル）プロパン、４，４’−｛１−［４−〔２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル〕フェニル］エチリデン｝ビスフェノール、３，３’−ジメチル−｛１−［４−〔２−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル〕フェニル］エチリデン｝ビスフェノール等が挙げられる。
【００６２】
トリス（ヒドロキシフェニル）メタン化合物としては、例えば、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−３、５−ジメチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）−３，４−ジヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３，４−ジヒドロキシフェニルメタン又はこれらのメチル置換体などが挙げられる。
【００６３】
ナフトキノンジアジド化合物としては、例えば、ポリヒドロキシベンゾフェノン化合物又はビス（シクロヘキシルヒドロキシフェニル）−ヒドロキシフェニルメタン化合物もしくはそのメチル置換体と、キノンジアジド基含有スルホン酸と、の完全エステル化合物、部分エステル化合物、アミド化物又は部分アミド化物などが挙げられる。
ポリヒドロキシベンゾフェノン化合物としては、上記で例示したものと同様のものが挙げられる。
ビス（シクロヘキシルヒドロキシフェニル）−ヒドロキシフェニルメタン化合物もしくはそのメチル置換体としては、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）−３−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−２−ヒドロキシフェニル）−３−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）−３−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−２−ヒドロキシフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−２−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン等が挙げられる。
キノンジアジド基含有スルホン酸としては、ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸、ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸、オルトアントラキノンジアジドスルホン酸などが挙げられる。
【００６４】
第１の実施形態の感光性樹脂組成物中、（Ｂ）成分は、１種単独でもよいし２種以上でもよい。
（Ｂ）成分の中でも、本発明の効果が得られやすいことから、ナフトキノンジアジド化合物を含む感光材料、を用いることがより好ましい。
第１の実施形態の感光性樹脂組成物における（Ｂ）成分の含有割合は、（Ａ）成分１００質量部に対して１〜７０質量部が好ましく、より好ましくは５〜５０質量部、さらに好ましくは５〜４０質量部である。
（Ｂ）成分の含有割合が、前記範囲の好ましい下限値以上であると、フォトマスクパターンに忠実な画像が得られやすくなり、前記範囲の好ましい上限値以下であると、感度がより高まる。
【００６５】
≪その他成分≫
第１の実施形態の感光性樹脂組成物は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分以外の成分を必要に応じて含有していてもよい。
かかる（Ａ）成分及び（Ｂ）成分以外の成分としては、例えば、溶剤、界面活性剤、密着性向上剤、溶解促進剤などが挙げられる。
【００６６】
第１の実施形態の感光性樹脂組成物が含有してもよい溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールアルキルエーテル類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン等のケトン類；ジオキサン等の環式エーテル類；２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、オキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等のエステル類などが挙げられる。
溶剤は、１種単独で用いてもよいし２種以上を用いてもよい。
【００６７】
第１の実施形態の感光性樹脂組成物の固形分濃度は、好ましくは１０〜９０質量％である。感光性樹脂組成物の固形分濃度が前記の好ましい範囲内であれば、組成物の流動性がより良好となり、均一な膜厚の感光性樹脂膜が形成されやすくなる。
【００６８】
第１の実施形態の感光性樹脂組成物の調製方法は、特に限定されず、例えば分散装置（ディゾルバー、ホモジナイザー、３本ロールミル等）を用いて、（Ａ）成分と（Ｂ）成分と必要に応じてその他成分とを分散又は混合する方法が挙げられる。また、前記方法で得られた分散液又は混合液を、必要に応じて、さらにメッシュフィルター、メンブレンフィルター等を用いて濾過してもよい。
【００６９】
上述した第１の実施形態の感光性樹脂組成物を用いて形成される感光性樹脂膜を、フォトマスクを介して露光すると、感光性樹脂膜の露光部においては、（Ｂ）成分に構造変化が生じて、現像液に対する溶解性が変化する。例えば、アルカリ現像液で現像すると、感光性樹脂膜の露光部のアルカリ現像液に対する溶解性が高くなる。一方、感光性樹脂膜の非露光部において構造は変化せず、現像液に対する溶解性は変化しない。例えば、アルカリ現像液で現像すると、感光性樹脂膜の非露光部のアルカリ現像液に対する低い溶解性（難溶性）が維持される。
このように現像液に対する溶解性の差が生じることによって、感光性樹脂パターンが形成される。アルカリ現像液で現像した場合には、感光性樹脂膜の露光部がアルカリ現像液に溶解除去され、感光性樹脂膜の非露光部が残存して感光性樹脂パターンが形成される。
かかる第１の実施形態の感光性樹脂組成物によれば、（Ａ）成分が採用されているため、集積回路等を製作する際のパターン形成において種々の特性（感度、パターン形状、解像性、残膜性等）の向上をより図ることができる。
【００７０】
＜第２の実施形態＞
第２の実施形態の感光性樹脂組成物は、前記金属樹脂複合材料（Ａ）と、光酸発生剤（Ｃ）（以下「（Ｃ）成分」ともいう。）と、架橋剤（Ｄ）（以下「（Ｄ）成分」ともいう。）と、を含有する。
【００７１】
≪金属樹脂複合材料（Ａ）≫
第２の実施形態における（Ａ）成分には、第１の実施形態における（Ａ）成分と同様のものを用いることができる。
第２の実施形態の感光性樹脂組成物中、（Ａ）成分は、１種単独でもよいし２種以上でもよい。
第２の実施形態の感光性樹脂組成物における（Ａ）成分の含有割合は、組成物の固形分の総量（１００質量％）に対して４０〜９５質量％が好ましく、より好ましくは６０〜９０質量％である。
【００７２】
≪光酸発生剤（Ｃ）≫
第２の実施形態における（Ｃ）成分には、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤もしくはマイクロレジスト等に使用されている公知の光により酸を発生する化合物、又はこれらの混合物を用いることができる。
例えば、（Ｃ）成分としては、特開平５−３０３１９６号公報、特開平５−８０５１３号公報等に開示されているものが挙げられる。
【００７３】
第２の実施形態の感光性樹脂組成物中、（Ｃ）成分は、１種単独でもよいし２種以上でもよい。
第２の実施形態の感光性樹脂組成物における（Ｃ）成分の含有割合は、（Ａ）成分１００質量部に対して０．２〜２５質量部が好ましく、より好ましくは０．３〜１５質量部、さらに好ましくは１〜５質量部である。
（Ｃ）成分の含有割合が、前記範囲の好ましい下限値以上であると、高感度化が図られやすくなり、また、画像の膜減りが抑制されて、良好な形状のパターンが得られやすくなる。前記範囲の好ましい上限値以下であると、現像残りが抑制される、又は、画像の断面形状が逆台形になりにくくなる。
【００７４】
≪架橋剤（Ｄ）≫
第２の実施形態における（Ｄ）成分としては、露光により（Ｃ）成分から発生する酸の作用で、（Ａ）成分同士をつなぐ架橋構造を形成して、感光性樹脂膜の現像液に対する溶解性を変化させ得る化合物が挙げられる。
このような（Ｄ）成分には、例えば、ホルムアルデヒドプレカーサーとしてのメチロール基もしくは置換されたメチロール基を有する化合物、又はアルコキシメチル化メラミンを用いることができる。
アルコキシメチル化メラミンとしては、例えば、メトキシメチル化メラミン、エトキシメチル化メラミン、プロポキシメチル化メラミン、ブトキシメチル化メラミン等が挙げられる。
【００７５】
第２の実施形態の感光性樹脂組成物中、（Ｄ）成分は、１種単独でもよいし２種以上でもよい。
第２の実施形態の感光性樹脂組成物における（Ｄ）成分の含有割合は、（Ａ）成分１００質量部に対して１〜５０質量部が好ましく、より好ましくは４〜４５質量部、さらに好ましくは１０〜３０質量部である。
（Ｄ）成分の含有割合が、前記範囲の好ましい下限値以上であれば、感光性樹脂膜の露光部に充分な架橋構造を形成できる。前記範囲の好ましい上限値以下であると、溶剤に溶解した際、均一な溶液が得られやすくなる。
【００７６】
第２の実施形態の感光性樹脂組成物中、（Ｃ）成分と（Ｄ）成分との混合比率は、各成分の種類等に応じて適宜設定され、例えば（Ｄ）成分／（Ｃ）成分で表される質量比（以下「Ｄ／Ｃ比」とも表記する。）で、０．０４〜２５０であることが好ましく、より好ましくは０．１〜１００、さらに好ましくは１〜５０である。
かかるＤ／Ｃ比が、前記範囲の好ましい下限値以上であれば、解像度が高められ、矩形性の高い形状の感光性樹脂パターンが形成されやすくなる。前記範囲の好ましい上限値以下であれば、高感度化が図られやすくなり、また、画像の膜減りが抑制されて、良好な形状のパターンが得られやすくなる。
【００７７】
≪その他成分≫
第２の実施形態の感光性樹脂組成物は、（Ａ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分以外の成分を必要に応じて含有していてもよい。
かかる（Ａ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分以外の成分としては、例えば、溶剤、増感剤、界面活性剤、密着性向上剤、溶解促進剤などが挙げられる。
第２の実施形態の感光性樹脂組成物が含有してもよい溶剤としては、第１の実施形態における溶剤と同様のものが挙げられる。
【００７８】
第２の実施形態の感光性樹脂組成物の固形分濃度は、好ましくは２０〜９５質量％である。感光性樹脂組成物の固形分濃度が前記の好ましい範囲内であれば、組成物の流動性がより良好となり、均一な膜厚の感光性樹脂膜が形成されやすくなる。
【００７９】
第２の実施形態の感光性樹脂組成物の調製方法は、特に限定されず、例えば分散装置（ディゾルバー、ホモジナイザー、３本ロールミル等）を用いて、（Ａ）成分と（Ｂ）成分と必要に応じてその他成分とを分散、混合する方法が挙げられる。また、前記方法で得られた分散液又は混合液を、必要に応じて、さらにメッシュフィルター、メンブレンフィルター等を用いて濾過してもよい。
【００８０】
上述した第２の実施形態の感光性樹脂組成物を用いて形成される感光性樹脂膜を、フォトマスクを介して露光すると、感光性樹脂膜の露光部においては、構造変化が生じて架橋構造が形成され、現像液に対する溶解性が変化する。例えば、アルカリ現像液で現像すると、感光性樹脂膜の露光部のアルカリ現像液に対する溶解性が低くなる。一方、感光性樹脂膜の非露光部において構造は変化せず、現像液に対する溶解性は変化しない。例えば、アルカリ現像液で現像すると、感光性樹脂膜の非露光部のアルカリ現像液に対する可溶性が維持される。
このように現像液に対する溶解性の差が生じることによって、感光性樹脂パターンが形成される。アルカリ現像液で現像した場合には、感光性樹脂膜の非露光部がアルカリ現像液に溶解除去され、感光性樹脂膜の露光部が残存して感光性樹脂パターンが形成される。
かかる第２の実施形態の感光性樹脂組成物によれば、（Ａ）成分が採用されているため、集積回路等を製作する際のパターンの形成において種々の特性（感度、パターン形状、解像性、残膜性等）の向上をより図ることができる。
【００８１】
＜その他実施形態＞
上述した第１の実施形態の感光性樹脂組成物では、感光材料として（Ｂ）成分、すなわち、ポリヒドロキシベンゾフェノン化合物、ビス［（ポリ）ヒドロキシフェニル］アルカン化合物、トリス（ヒドロキシフェニル）メタン化合物及びナフトキノンジアジド化合物からなる群より選択される少なくとも１種の感光材料が用いられているが、本発明に係る感光性樹脂組成物における感光材料はこれに限定されず、露光によって感光性樹脂膜の現像液に対する溶解性を変化させ得るものであれば用いることができる。
感光材料として（Ｂ）成分（特定の感光材料）を採用し、この（Ｂ）成分を（Ａ）成分と組み合わせて用いることで、本発明の効果がより確実に得られる。
【００８２】
本実施形態の感光性樹脂組成物には、上述した第１の実施形態のもの、及び第２の実施形態のものに限定されず、少なくとも（Ａ）成分を含有し、露光によって現像液に対する溶解性が変化する組成物が包含される。
【００８３】
（感光性樹脂パターンの製造方法）
本実施形態の感光性樹脂パターンの製造方法は、上述した実施形態の感光性樹脂組成物を支持体上に塗布して、感光性樹脂膜を形成する工程と、前記感光性樹脂膜を露光する工程と、前記露光後の感光性樹脂膜を現像して感光性樹脂パターンを形成する工程（現像工程）と、を有する方法である。
【００８４】
支持体としては、特に限定されず、例えば、シリコンウェーハ、金属製基板、ガラス基板、又はこれらの基板に表面処理が施されたもの等が挙げられる。
支持体上に感光性樹脂膜を形成する際の温度条件は、好ましくは５０〜１５０℃とされ、好ましい加熱時間は３０〜１８０秒間とされる。
支持体上に形成する感光性樹脂膜の膜厚は、用途等を勘案して適宜設定され、例えば１００〜１０００００ｎｍである。
【００８５】
露光波長は、特に限定されるものではなく、例えば、ｇ線、ｈ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ２エキシマレーザー、真空紫外線（ＶＵＶ）、極端紫外線（ＥＵＶ）又は電子線（ＥＢ）を選択することができる。
【００８６】
現像は、現像液を用いて行われる。
現像液としては、目的に応じて選択され、例えばアルカリ現像液が用いられてもよいし、有機溶剤が用いられてもよい。
アルカリ現像液には、通常、２．３８質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液が用いられる。
現像液に用いられる有機溶剤としては、例えば、エステル、アルコール、エーテル、炭化水素などが挙げられる。
【００８７】
第１の実施形態の感光性樹脂組成物を用い、現像液としてアルカリ現像液を用いた場合、感光性樹脂膜の露光部がアルカリ現像液に溶解除去され、感光性樹脂膜の非露光部が残存して感光性樹脂パターンが形成される。
第１の実施形態の感光性樹脂組成物を用い、現像液として有機溶剤を用いた場合、感光性樹脂膜の非露光部が有機溶剤に溶解除去され、感光性樹脂膜の露光部が残存して感光性樹脂パターンが形成される。
【００８８】
第２の実施形態の感光性樹脂組成物を用い、現像液としてアルカリ現像液を用いた場合、感光性樹脂膜の非露光部がアルカリ現像液に溶解除去され、感光性樹脂膜の露光部が残存して感光性樹脂パターンが形成される。
第２の実施形態の感光性樹脂組成物を用い、現像液として有機溶剤を用いた場合、感光性樹脂膜の露光部が有機溶剤に溶解除去され、感光性樹脂膜の非露光部が残存して感光性樹脂パターンが形成される。
【００８９】
上述した実施形態の感光性樹脂パターンの製造方法によれば、本発明に係る感光性樹脂組成物が用いられているため、種々の特性（感度、パターン形状、解像性、残膜性等）がより向上したパターンを形成することができる。
【００９０】
また、本実施形態の感光性樹脂パターンの製造方法における現像工程の後、形成された感光性樹脂パターンをマスクとして用い、支持体のエッチングを行うことができる。本実施形態の製造方法によって形成された感光性樹脂パターンは、エッチング耐性に優れる。
エッチングの方法には、公知の方法（ドライエッチング、ウェットエッチング）が利用できる。
【実施例】
【００９１】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。
【００９２】
＜感光性樹脂組成物の調製＞
（実施例１〜８、比較例１〜８）
ポジ型感光性樹脂組成物、及びネガ型感光性樹脂組成物を、それぞれ以下のようにして調製した。
【００９３】
≪ノボラック型フェノール樹脂（ａ２−１）の製造≫
撹拌羽根、温度計、滴下漏斗及びコンデンサーを備えた４つ口の１Ｌフラスコを用意し、このフラスコ内に、フェノール１０００ｇと、シュウ酸１０ｇと、を仕込み、還流条件下で、３７質量％ホルムアルデヒド水溶液６９０ｇを逐次添加し、常圧で脱水しつつ反応させた。この後、ガスクロマトグラフによる遊離フェノール含有量が１質量％以下になるまで、減圧下で脱水及び脱フェノール化を行い、ノボラック型フェノール樹脂（ａ２−１）１０６０ｇを得た。
【００９４】
≪ノボラック型フェノール樹脂（ａ２−２）の製造≫
前記のノボラック型フェノール樹脂（ａ２−１）の製造において、フェノール１０００ｇの代わりに、メタクレゾール６８９ｇ及びパラクレゾール４６０ｇ（モル比：メタクレゾール／パラクレゾール＝６０／４０）を用い、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）による測定にてＭｗが５０００になるまで、ノボラック型フェノール樹脂（ａ２−１）の製造と同様にして反応等を行うことにより、ノボラック型フェノール樹脂（ａ２−２）１２０９ｇを得た。
【００９５】
≪ノボラック型フェノール樹脂（ａ２−３）の製造≫
前記のノボラック型フェノール樹脂（ａ２−１）の製造において、フェノール１０００ｇの代わりに、メタクレゾール４６０ｇ及びパラクレゾール６８９ｇ（モル比：メタクレゾール／パラクレゾール＝４０／６０）を用い、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）による測定にてＭｗが５０００になるまで、ノボラック型フェノール樹脂（ａ２−１）の製造と同様にして反応等を行うことにより、ノボラック型フェノール樹脂（ａ２−３）１２０９ｇを得た。
【００９６】
≪ノボラック型フェノール樹脂（ａ２−４）の製造≫
前記のノボラック型フェノール樹脂（ａ２−１）の製造において、フェノール１０００ｇの代わりに、メタクレゾール５７４ｇ、パラクレゾール３４５ｇ及び３，５−キシレノール２６０ｇ（モル比：メタクレゾール／パラクレゾール／３，５−キシレノール＝５０／３０／２０）を用い、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）による測定にてＭｗが５０００になるまで、ノボラック型フェノール樹脂（ａ２−１）の製造と同様にして反応等を行うことにより、ノボラック型フェノール樹脂（ａ２−４）１２３９ｇを得た。
【００９７】
≪金属樹脂複合材料（Ａ−１）の製造≫
撹拌羽根、温度計、滴下漏斗及びコンデンサーを備えた４つ口の１Ｌフラスコを用意し、このフラスコ内に、上記で得られたノボラック型フェノール樹脂（ａ２−１）３０．０ｇと、水３００ｇに対して水酸化ナトリウム４．６ｇ（０．１１モル）を溶解させた水酸化ナトリウム水溶液と、チオジエタノール６．０ｇ（０．０５モル）と、１Ｎ硝酸銀３１．６ｇ（０．０３モル）とを装入した。次いで、撹拌を行い、これらを均一に溶解させた。次いで、内温が５０℃になるまで昇温し、内温が５０℃になった時点からその温度を保ちつつ２時間反応を行った。
反応後、フラスコの内温が３０℃以下まで低下したことを確認し、滴下漏斗から酢酸０．５ｇを滴下して、反応系を、中性からｐＨ＝５を限界とする弱酸性に調整することにより、金属樹脂複合材料（Ａ−１）を析出させた。
最後に、フラスコ内に析出したものを回収し、乾燥を行い、金属樹脂複合材料（Ａ−１）３３ｇを得た。
【００９８】
得られた金属樹脂複合材料（Ａ−１）をテトラヒドロフランに加え、金属樹脂複合材料（Ａ−１）のテトラヒドロフランに可溶である部分について、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）により分子量の測定を行い、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、Ｍｗ／Ｍｎを求めた。その結果を以下に示した。
数平均分子量（Ｍｎ）１０００、重量平均分子量（Ｍｗ）３０００、Ｍｗ／Ｍｎ３．０
【００９９】
金属樹脂複合材料（Ａ−１）について、Ｘ線光電子分光分析装置（Ｅｓｃａｌａｂ−２２０ｉＸＬ、サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社製）によりスペクトル測定を行った。この際の測定条件を以下のように設定した。
・照射Ｘ線：モノクロＡｌＫα
・検出深さ：約５ｎｍ
・Ｘ線スポット径：約１ｍｍ
【０１００】
図１は、金属樹脂複合材料（Ａ−１）について測定されたＡｇ３ｄナロースキャンスペクトルを示す図である。
図２は、Ａｇ箔をＡｒイオンでクリーニングした試料について測定されたＡｇ３ｄナロースキャンスペクトルを示す図である。
図１に示されるスペクトルにおいては、Ａｇ３ｄ５のピーク位置が３６８．９ｅＶであった。一方、図２に示されるスペクトルにおいては、Ａｇ３ｄ５のピーク位置が３６８．３ｅＶであり、両者の間でピーク位置に０．６ｅＶの差が観察された。
通常、Ａｇ単体のピークは、３６８．１〜３６８．３ｅＶに現れるのに対し、例えば酢酸銀のようなＡｇ原子とＯ原子とが相互作用している化合物においては、このピークが３６８．３〜３６８．９ｅＶに現れることが知られている（出典：Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆＸ−ｒａｙ  Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ））。
このことから、金属樹脂複合材料（Ａ−１）においては、その構造中にＡｇ−Ｏ−Ｃ結合を有していることが確認できる。
【０１０１】
図３は、金属樹脂複合材料（Ａ−１）の表面を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により観察した像を示す図である。
図３に示される像から、金属樹脂複合材料１０においては、ノボラック型フェノール樹脂のマトリックス２に、数十ｎｍオーダーの銀粒子１が均一に分散していることが確認できる。
【０１０２】
≪金属樹脂複合材料（Ａ−２）の製造≫
前記の金属樹脂複合材料（Ａ−１）の製造において、ノボラック型フェノール樹脂（ａ２−１）の代わりに、ノボラック型フェノール樹脂（ａ２−２）を用いた以外は、金属樹脂複合材料（Ａ−１）の製造と同様にして反応等を行うことにより、金属樹脂複合材料（Ａ−２）を得た。
【０１０３】
≪金属樹脂複合材料（Ａ−３）の製造≫
前記の金属樹脂複合材料（Ａ−１）の製造において、ノボラック型フェノール樹脂（ａ２−１）の代わりに、ノボラック型フェノール樹脂（ａ２−３）を用いた以外は、金属樹脂複合材料（Ａ−１）の製造と同様にして反応等を行うことにより、金属樹脂複合材料（Ａ−３）を得た。
【０１０４】
≪金属樹脂複合材料（Ａ−４）の製造≫
前記の金属樹脂複合材料（Ａ−１）の製造において、ノボラック型フェノール樹脂（ａ２−１）の代わりに、ノボラック型フェノール樹脂（ａ２−４）を用いた以外は、金属樹脂複合材料（Ａ−１）の製造と同様にして反応等を行うことにより、金属樹脂複合材料（Ａ−４）を得た。
【０１０５】
（実施例１〜４、比較例１〜４：ポジ型感光性樹脂組成物の調製）
金属樹脂複合材料（Ａ−１）〜（Ａ−４）又はノボラック型フェノール樹脂（ａ２−１）〜（ａ２−４）のいずれか１００質量部と、ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸の２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンエステル２０質量部と、を混合して混合物を得た。
次いで、この混合物を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３００質量部に溶解して溶液（ｐ）を得た。
その後、この溶液（ｐ）を、孔径１．０μｍのメンブレンフィルターを用いて濾過して、各例のポジ型感光性樹脂組成物をそれぞれ調製した。
【０１０６】
（実施例５〜８、比較例５〜８：ネガ型感光性樹脂組成物の調製）
特開平５−８０５１３号公報に記載の調製方法に準じて調製した。
金属樹脂複合材料（Ａ−１）〜（Ａ−４）又はノボラック型フェノール樹脂（ａ２−１）〜（ａ２−４）のいずれか１００質量部と、光酸発生剤としてジフェニルヨードニウム・ＰＦ６塩を３質量部と、架橋剤として、メチロール化メラミンを主成分とするニカラック（登録商標；三和ケミカル社製、ＭＷ−３０）２５質量部と、増感剤としてアントラセン０．３質量部と、をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３３０質量部に溶解して溶液（ｎ）を得た。
その後、この溶液（ｎ）を、孔径１．０μｍのメンブレンフィルターを用いて濾過して、各例のネガ型感光性樹脂組成物をそれぞれ調製した。
【０１０７】
＜感光性樹脂組成物についての評価＞
各例の感光性樹脂組成物に対し、感度、解像性、残膜性、エッチング耐性をそれぞれ以下のようにして評価した。
【０１０８】
≪感光性樹脂パターンの製造（１）≫
各例の感光性樹脂組成物をそれぞれ、ヘキサメチルジシラザン処理したシリコンウェーハ上に、乾燥時の膜厚が１．５μｍになるようにスピンコーターで塗布し、ホットプレート上で、１１０℃で１００秒間乾燥させて、感光性樹脂膜を形成した。
次いで、感光性樹脂膜が形成されたシリコンウェーハにテストチャートマスクを重ね、紫外線を、照射量を２０ｍＪ／ｃｍ２、４０ｍＪ／ｃｍ２、６０ｍＪ／ｃｍ２と変えてそれぞれ照射した。
次いで、紫外線照射後の感光性樹脂膜を、現像液（２．３８質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）を用いて６０秒間現像し、ラインアンドスペース形状の感光性樹脂パターンを形成した。
【０１０９】
［感度の評価］
前記の感光性樹脂パターンの製造（１）で得られた、感光性樹脂パターンの形状を、走査型電子顕微鏡により観察し、感度について以下の評価基準で評価した。その結果を表１，２に示した。
評価基準
○：紫外線の照射量が２０ｍＪ／ｃｍ２未満で、画像（感光性樹脂パターン）が形成できる。
△：紫外線の照射量が２０ｍＪ／ｃｍ２以上４０ｍＪ／ｃｍ２未満で、画像（感光性樹脂パターン）が形成できる。
×：紫外線の照射量が４０ｍＪ／ｃｍ２以上でも、画像（感光性樹脂パターン）が形成できない。
感光性樹脂組成物の感度は、感光性樹脂パターンの製造上、評価が○又は△であることが好ましく、×になると感度が遅すぎてパターン形成が困難になる。
【０１１０】
［解像性の評価］
前記の感光性樹脂パターンの製造（１）で形成された、ラインアンドスペース形状の感光性樹脂パターンにおける矩形度を、以下のようにして測定した。
解像された幅が最小のレジストラインの断面を電子顕微鏡により観察し、レジストラインの最下部の幅（ａ）と、レジストラインの最上部の幅（ｂ）と、の比（ｂ／ａ）を求めて、これを感光性樹脂パターンの矩形度とした。その結果を表１，２に示した。
比（ｂ／ａ）が１に近いほど、矩形度が高く、解像性が良好であることを意味する。
【０１１１】
［残膜性の評価］
各例の感光性樹脂組成物をそれぞれ、ヘキサメチルジシラザン処理したシリコンウェーハ上に、乾燥時の膜厚が１．５μｍになるようにスピンコーターで塗布し、ホットプレート上で、１１０℃で１００秒間乾燥させて、感光性樹脂膜（膜厚１．５μｍ）を形成した。
次いで、感光性樹脂膜が形成されたシリコンウェーハを、現像液（２．３８質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）に６０秒間浸漬した後、水で洗浄し、ホットプレート上で、１１０℃で１００秒間乾燥させた。この現像・洗浄・乾燥後における感光性樹脂膜の膜厚を測定した。
そして、下式より、残膜率を算出した。その結果を表１，２に示した。
残膜率（％）＝現像・洗浄・乾燥後における感光性樹脂膜の膜厚／現像前の感光性樹脂膜の膜厚（１．５μｍ）×１００
残膜率が大きいほど、残膜性が良好であることを意味する。
【０１１２】
［エッチング耐性の評価］
感光性樹脂パターンを形成した後、以下に示す方法により、ドライエッチング及びウェットエッチングをそれぞれ施し、エッチング耐性について評価した。
【０１１３】
≪感光性樹脂パターンの製造（２）≫
各例の感光性樹脂組成物をそれぞれ、ヘキサメチルジシラザン処理したシリコンウェーハ上に、乾燥時の膜厚が１．５μｍになるようにスピンコーターで塗布し、ホットプレート上で、１１０℃で１００秒間乾燥させて、感光性樹脂膜を形成した。
次いで、縮小投影露光装置を用い、形成された感光性樹脂膜を、テストチャートマスクを介して露光した。
次いで、露光後の感光性樹脂膜を、現像液（２．３８質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）を用いて６０秒間現像して感光性樹脂パターンを得た。
【０１１４】
・ドライエッチング処理
得られた感光性樹脂パターンに対して、反応性イオンエッチング装置を用い、ガス組成をＣ２Ｆ６：ＣＨＦ３：Ｈｅ＝１５：２５：１００（体積比）とし、８０Ｗ、１００Ｗ、１２０Ｗでそれぞれ３分間の条件でドライエッチングを行った。
そして、ドライエッチング後の感光性樹脂パターン表面を観察し、ドライエッチング耐性について以下の評価基準で評価した。その結果を表１，２に示した。
評価基準
○：感光性樹脂パターン表面に変化なし。
△：感光性樹脂パターン表面の一部が白濁していた。
×：感光性樹脂パターン表面の全体が白濁していた。
【０１１５】
・ウェットエッチング処理
感光性樹脂パターンが形成されたシリコンウェーハを、ウェットエッチング液であるＢＨＦ溶液（ＮＨ４Ｆ／ＨＦ／Ｈ２Ｏ）に６０秒間浸漬した。
そして、シリコンウェーハからのパターンの剥がれ具合を電子顕微鏡で観察し、ウェットエッチング耐性について以下の評価基準で評価した。その結果を表１，２に示した。
評価基準
○：シリコンウェーハからパターンの剥がれは認められない。
△：シリコンウェーハからパターンの一部が剥がれていた。
×：シリコンウェーハにパターンが残っていなかった（パターンの全部が剥がれていた）。
【０１１６】
【表１】
2017097060.tif 000002
【０１１７】
【表２】
2017097060.tif 000003
【０１１８】
表１，２に示す結果から、本発明を適用した実施例１〜８の感光性樹脂組成物は、それぞれ対応する比較例１〜８の感光性樹脂組成物に比べて、パターンの形成において種々の特性（感度、パターン形状、解像性、残膜性等）の向上が図れていること、が確認できる。
【符号の説明】
【０１１９】
１  銀粒子、
２  マトリックス、
１０  金属樹脂複合材料
【図１】
2017097060.tif 000004
【図２】
2017097060.tif 000005
【図３】
2017097060.tif 000006