(57)【要約】      （修正有）【課題】タッチパネルを有する表示装置において、表示セルの外部の保護層に付着した異物を容易に除去する。【解決手段】タッチパネルを有する表示装置１０は、表示セルの一方の面に設けられた、タッチパネルを構成する検出電極２０１ａと、検出電極を覆う保護層２０３と、保護層に接着された光学フィルムとしての偏光板２０４と、を有する。保護層２０３の第１面である光学フィルム２０４側の面は、第２面である表示セル側に比べて水接触角が小さい。保護層２０３の第１面は、保護層の第２面に比べて１／２以下の水接触角を有することが好ましい。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示セルの一方の面に設けられた、タッチパネルを構成する検出電極と、
前記検出電極を覆う保護層と、
前記保護層に接着された光学フィルムと、
を有し、
前記光学フィルムに隣接する前記保護層の第１面は、前記表示セルに隣接する前記保護層の第２面に比べて水接触角が小さい、表示装置。
【請求項２】
前記保護層の第１面は、前記保護層の第２面に比べて１／２以下の水接触角を有する、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記保護層の第１面における水接触角は、４０°以下である、請求項１又は２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記保護層の第１面は、前記保護層の第２面に比べて２倍以上１０倍以下の表面粗さを有する、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項５】
前記保護層の第１面における表面粗さは、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下である、請求項４に記載の表示装置。
【請求項６】
表示セルの一方の面に設けられた、タッチパネルを構成する検出電極と、
前記検出電極を覆う保護層と、
前記保護層に接着された光学フィルムと、
を有し、
前記光学フィルムに隣接する前記保護層の第１面は、前記表示セルに隣接する前記保護層の第２面に比べて表面粗さが大きい、表示装置。
【請求項７】
前記保護層の第１面は、前記保護層の第２面に比べて２倍以上１０倍以下の表面粗さを有する、請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
表示セルの一方の面に設けられた、タッチパネルを構成する検出電極と、
前記検出電極を覆う保護層と、
前記保護層に接着された光学フィルムと、
を有し、
前記光学フィルムに隣接する前記保護層の第１面における表面粗さは、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下である、表示装置。
【請求項９】
表示セルの一方の面に、タッチパネルを構成する検出電極を形成し、
前記検出電極を覆う保護層を形成し、
前記保護層の表面にプラズマ処理を行い、
前記プラズマ処理の後、前記表示セルを切断することを含む、表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネルを有する表示装置に関する。特に、液晶セルとタッチパネルとを複合した液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶セルの前面にタッチパネルを設けた液晶表示装置が知られている。このような液晶表示装置は、液晶セルに表示されるＧＵＩ（グラフィカルユーザーインターフェース）画面に、入力センサとしてのタッチパネルを重ねて設けることにより、指やペンなどによる情報入力を可能としている。
【０００３】
液晶セルに対してタッチパネルを外付けするタイプの液晶表示装置は、タッチパネルの分だけ厚さや重量が増大してしまう。そこで、近年、表示セルの内部にタッチパネルを組み込むタイプの液晶表示装置が提案されている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−７００９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
表示セルの内部にタッチパネルを組み込むタイプの表示装置には、タッチパネルを構成する一方の電極を表示セルの内部に設け、他方の電極を表示セルの外部に設けるタイプもある。この場合、他方の電極を形成した後に表示セルの切断工程や偏光板の貼付け工程などを行うことになるため、他方の電極を保護層（オーバーコート層）で保護することが好ましい。
【０００６】
しかしながら、表示セルの切断工程の際に発生する細かいガラス片（カレットとも呼ばれる）が保護層に付着すると、保護層が疎水性を示すためガラス片と保護層との界面に洗浄液が入りづらく、洗浄では容易に除去できないという問題がある。また、保護層からガラス片を物理的に除去しようとすると、保護層に傷をつけてしまうおそれがあるという問題がある。
【０００７】
本発明の課題の１つは、タッチパネルを有する表示装置において、表示セルの外部の保護層に付着した異物を容易に除去することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一実施形態に係る表示装置は、表示セルの一方の面に設けられた、タッチパネルを構成する検出電極と、前記検出電極を覆う保護層と、前記保護層に接着された光学フィルムと、を有し、前記光学フィルムに隣接する前記保護層の第１面は、前記表示セルに隣接する前記保護層の第２面に比べて水接触角が小さい。
【０００９】
本発明の一実施形態に係る表示装置は、表示セルの一方の面に設けられた、タッチパネルを構成する検出電極と、前記検出電極を覆う保護層と、前記保護層に接着された光学フィルムと、を有し、前記光学フィルムに隣接する前記保護層の第１面は、前記表示セルに隣接する前記保護層の第２面に比べて表面粗さが大きい。
【００１０】
本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法は、表示セルの一方の面に、タッチパネルを構成する検出電極を形成し、前記検出電極を覆う保護層を形成し、前記保護層の表面にプラズマ処理を行い、前記プラズマ処理の後、前記表示セルを切断することを含む。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の第１実施形態における表示装置の構成を示す図である。
【図２】本発明の第１実施形態における表示装置を対向基板側から見た構成を説明するための図である。
【図３】本発明の第１実施形態における表示装置の模式的な断面を示す図である。
【図４】本発明の第１実施形態における保護層を模式的に表した図である。
【図５】本発明の第１実施形態における表示装置の製造工程を示す図である。
【図６】本発明の第１実施形態における表示装置の製造工程を示す図である。
【図７】本発明の第１実施形態における表示装置の製造工程を示す図である。
【図８】本発明の第２実施形態における表示装置の模式的な断面を示す図である。
【図９】本発明の第２実施形態における表示装置の製造工程を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の各実施の形態について、図面等を参照しつつ説明する。但し、本発明は、その要旨を逸脱しない範囲において様々な態様で実施することができ、以下に例示する実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、図面に関して、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて各部の幅、厚さ、形状等を模式的に表す場合があるが、それら模式的な図は一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。さらに、本明細書と各図において、既出の図に関して説明したものと同様の機能を備えた要素には、同一の符号を付して、重複する説明を省略することがある。
【００１３】
（第１実施形態）
＜表示装置の構成＞
以下、図面を参照して第１実施形態によるタッチパネルを有する表示装置１０について説明する。図１は、第１実施形態によるタッチパネルを有する表示装置１０の概略の構成を示す図である。表示装置１０は、アクティブマトリクス基板１００、対向基板２００及びカバー材３００を含む。アクティブマトリクス基板及び対向基板２００との間に液晶層が保持されることにより液晶セルが構成される。また、アクティブマトリクス基板１００には、タッチパネルの一方の電極を構成するスキャン電極１０１が並列に複数配置され、対向基板２００には、タッチパネルの他方の電極を構成する検出電極２０１が並列に複数配置される。そして、複数のスキャン電極１０１及び複数の検出電極２０１それぞれが互いに交差して複数のセンサ部を形成することにより、マトリクス状にセンサ部が配置されたタッチパネルが構成される。
【００１４】
ここでは図示されないが、アクティブマトリクス基板１００には、マトリクス状に配置された複数の画素を含む表示部が、公知の半導体製造プロセスにより形成されている。例えば、各画素には、半導体薄膜を用いた薄膜トランジスタがスイッチング素子として設けられ、該スイッチング素子のオン／オフ動作を制御することにより、各画素に対応する液晶層の配向制御を行う構成となっている。また、各画素に入力する走査信号及びデータ信号は、駆動回路１０２から伝達される。また、駆動回路１０２に対する信号の入出力は、端子部１０３を介して行われる。端子部１０３には、公知のＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  Ｐｒｉｎｔ  Ｃｉｒｃｕｉｔ）を電気的に接続することにより、外部からの信号を駆動回路１０２に伝達することができる。
【００１５】
なお、本実施形態では、駆動回路１０２として外付けのＩＣチップを用いる例を示したが、表示部を形成する際に、薄膜トランジスタで構成される駆動回路をアクティブマトリクス基板１００上に形成することもできる。その場合、走査線駆動回路、データ線駆動回路またはそれら両方のいずれを形成してもよい。
【００１６】
また、本実施形態において、液晶セルの動作モードは、公知の如何なる動作モードとしてもよい。例えば、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｉｎ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードのいずれのモードで駆動する液晶セルを用いてもよい。
【００１７】
対向基板２００には、検出電極２０１のそれぞれから検出信号を取り出すための端子部２０２が設けられる。端子部２０２には、公知のＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  Ｐｒｉｎｔ  Ｃｉｒｃｕｉｔ）を電気的に接続することにより、外部に対して検出信号を出力することができる。なお、対向基板２００において、検出電極２０１の形成面とは反対の面には、必要に応じてカラーフィルタやブラックマスクを設けてもよい。
【００１８】
図２は、第１実施形態における表示装置１０を対向基板２００側から見た構成を示す図である。図２に示すように、検出電極２０１は、複数の金属電極２０１ａの集合体として構成される。また、複数の検出電極２０１にそれぞれ電気的に接続された複数の端子電極２０２ａが端子部２０２を構成する。また、各検出電極２０１は、保護層２０３及び光学フィルムとしての偏光板２０４に覆われている。ここで、保護層２０３は、検出電極２０１及び端子部２０２を保護するものであるが、詳細については後述する。
【００１９】
なお、検出電極２０１を複数の金属電極２０１ａを用いて構成することにより、検出電極２０１を単一の金属電極とする構成に比べて、液晶セルの光透過性を高くすることができる。つまり、検出電極２０１を単一の金属電極（幅の広い矩形状の電極）とした場合、光が透過する経路は、検出電極２０１と隣接する検出電極２０１との間しか確保されない。しかし、図２に示す構成とした場合、隣り合う金属電極２０１ａ間にも光の透過経路を確保できるため、全体として液晶セルの光透過性を高めることができる。
【００２０】
図３は、図２に示す表示装置１０をＡ−Ａで示される一点鎖線に沿って切断した断面を模式的に示す図である。図３に示すように、第１実施形態における表示装置１０は、アクティブマトリクス基板１００、液晶層１０５及び対向基板２００で液晶セル２０を構成する。本実施形態の表示装置１０は、タッチパネルを構成するスキャン電極１０１がアクティブマトリクス基板１００上に設けられるが、説明を簡単にするため、図３においては図示を省略している。また、液晶セル２０の一方の面には、複数の金属電極２０１ａが設けられる。本実施形態では、金属電極２０１ａとして、モリブデンを含む薄膜でアルミニウム合金を挟んだ積層構造の電極を用いるが、これに限らず、如何なる金属材料を用いてもよい。
【００２１】
金属電極２０１ａの上には、オーバーコート層として保護層２０３が設けられる。さらにその上には、偏光板２０４が接着され、該偏光板２０４の上には、接着剤２０５を介してカバー材３００が接着される。本実施形態では、カバー材３００の材料としてガラスを用いるが、偏光板２０４、接着剤２０５及びカバー材３００の材料としては、公知の材料を用いることができる。また、本実施形態では、対向基板２００とカバー材３００との間に光学フィルムとして偏光板２０４を設ける例を示したが、他にも位相差板など他の光学フィルムを設けてもよい。
【００２２】
保護層２０３は、絶縁体で構成される。例えば、本実施形態における保護層２０３としては、絶縁体として、アクリル系樹脂、又はポリイミド系樹脂を用いることができる。そして、本実施形態の特徴として、保護層２０３の表面に対してプラズマ処理が施され、意図的に親水化及び粗面化がなされている。具体的には、保護層２０３として用いる樹脂層を形成した後、樹脂層の表面に対してプラズマ処理を施すことにより、樹脂層の表面の水接触角を小さくする（親水化）とともに、表面粗さを大きくする（粗面化）改質がなされている。
【００２３】
図４は、図３の保護層２０３に注目した模式図である。本実施形態では、保護層２０３のうち、光学フィルム（本実施形態では偏光板２０４）に隣接する面を「第１面」と呼び、液晶セル２０の一方の面に隣接する面を「第２面」と呼ぶ。つまり、保護層２０３は、光学フィルムに隣接する第１面２０３ａ及び液晶セルに隣接する第２面２０３ｂを有する。そして、前述のとおり、保護層２０３の第１面２０３ａが意図的に親水化及び粗面化されている。
【００２４】
本実施形態の表示装置１０は、保護層２０３の第１面２０３ａが親水化及び粗面化されているため、後の工程において切断された液晶セルから発生したガラス片（カレット）が保護層２０３の第１面２０３ａに付着しても、純水を用いた超音波洗浄等により容易に除去することができる。
【００２５】
樹脂層の表面に対してプラズマ処理が施されると、樹脂層の表面における水酸基の量が増え、プラズマ処理を行わない場合に比べて水接触角が小さくなる。例えば、水接触角が９５°のアクリル系樹脂層に対してプラズマ処理を行うことにより、アクリル系樹脂層の表面における水接触角を、４０°以下（代表的には、５°以上２０°以下）にすることができる。本実施形態の表示装置１０を例にすると、保護層２０３の第１面２０３ａは、プラズマ処理が施されていない第２面２０３ｂに比べて水接触角が小さく、第２面２０３ｂの１／２以下の水接触角にすることができる。
【００２６】
保護層２０３の第１面２０３ａの水接触角が小さくなることにより、後の表示セルの切断プロセスで異物（カレット）が付着したとしても、純水による洗浄効果を高めることができ、容易に異物の除去が可能となる。
【００２７】
また、樹脂層の表面に対してプラズマ処理が施されると、樹脂層の表面に起伏が形成され、プラズマ処理を行わない場合に比べて表面粗さが大きくなる。例えば、表面粗さとして十点平均粗さ（Ｒｚ）を用いた場合、表面粗さが約３ｎｍのアクリル系樹脂層に対してプラズマ処理を行うことにより、アクリル系樹脂層の表面における表面粗さを、５ｎｍ以上（代表的には、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下）にすることができる。本実施形態の表示装置１０を例にすると、保護層２０３の第１面２０３ａは、プラズマ処理が施されていない第２面２０３ｂに比べて表面粗さが大きく、第２面２０３ｂの２倍以上（好ましくは３倍以上）１０倍以下（好ましくは５倍以下）の表面粗さにすることができる。
【００２８】
保護層２０３の第１面２０３ａの表面粗さが大きくなることにより、後の表示セルの切断プロセスで異物（カレット）が付着しにくくなるとともに、たとえ付着したとしても純水による洗浄効果を高めることができ、容易に異物の除去が可能となる。さらに、保護層２０３と異物との接触面積が減るため、帯電量を低減できるという効果も奏する。
【００２９】
なお、上述の例は、プラズマ処理が施された面である第１面２０３ａとプラズマ処理が施されていない面である第２面２０３ｂとの比較で説明したが、これはあくまで一例であり、プラズマ処理が施された樹脂層の表面とプラズマ処理が施されていない樹脂層の表面の違いを説明したものである。したがって、表示装置の液晶セル外部に設けられた保護層の表面（光学フィルム側の面）における水接触角（又は表面粗さ）と、その保護層と同一材料で構成され、何らプラズマ処理が施されていない樹脂層の表面における水接触角（又は表面粗さ）とを比較し、前者の水接触角が小さい（又は表面粗さが大きい）ことが判明すれば、本実施形態のように、表面にプラズマ処理が施された保護層を使用していることが分かる。
【００３０】
以上説明したように、第１実施形態における表示装置１０は、オーバーコート層としての保護層２０３の表面に対してプラズマ処理が施されるため、プラズマ処理が施されない場合に比べて、保護層２０３の表面（第１面２０３ａ）における水接触角が小さく、表面粗さが大きくなる。これにより、後の工程において切断された液晶セルから発生したガラス片（カレット）が保護層２０３の第１面２０３ａに付着しても、純水を用いた超音波洗浄等により容易に除去することができる。
【００３１】
＜表示装置の製造方法＞
次に、本実施形態における表示装置１０の製造方法について、図５〜図７を用いて説明する。図５〜図７は、第１実施形態における表示装置１０の製造工程を示す図である。なお、説明の便宜上、１つの液晶セルに着目して図示するが、実際の製造プロセスでは、大型ガラス基板を用いて複数の液晶セル２０が一度に形成される。
【００３２】
まず、図５（Ａ）に示すように、液晶セル２０を準備する。液晶セル２０の形成には、公知の液晶セルの製造プロセスを用いることができる。本実施形態では、アクティブマトリクス基板１００及び対向基板２００を形成し、両者の間に公知のシール材を用いて液晶層１０５を封入することにより、液晶セル２０を完成する。
【００３３】
次に、図５（Ｂ）に示すように、液晶セル２０の一方の面（表示装置１０の表示面となる面）に金属電極２０１ａを形成する。本実施形態では、モリブデンを含む薄膜でアルミニウム合金を挟んだ積層構造の金属層をスパッタ法により形成し、フォトリソグラフィによるパターニングを施して金属電極２０１ａを形成する。
【００３４】
また、金属電極２０１ａの表面には、反射防止層を設けてもよい。例えば、屈折率の異なる三層の積層膜を金属電極２０１ａの表面に形成することにより、金属電極２０１ａの表面における反射を低減することができ、表示装置１０の視認性を向上させることができる。
【００３５】
次に、図６（Ａ）に示すように、金属電極２０１ａを覆うように樹脂層２１０を形成する。本実施形態では、樹脂層２１０として、アクリル系樹脂で構成される層を形成する。勿論、樹脂層２１０としてポリイミド系樹脂を用いてもよい。
【００３６】
樹脂層２１０を形成したら、図６（Ｂ）に示すように、樹脂層２１０の表面に対してプラズマ処理を施す。プラズマ処理は、真空下または大気圧下において、不活性ガス（典型的には、アルゴンガスまたは窒素ガス）を流しながら、処理基板を置いた一対の電極間にプラズマを発生させることにより行われる。このため、プラズマ処理を施した後に得られる保護層２０３の第１面２０３ａは、保護層２０３の第２面２０３ｂに比べて不活性ガスの原子濃度が高くなる。
【００３７】
樹脂層２１０に対してプラズマ処理を施すことにより、樹脂層２１０の表面が改質され、保護層２０３が形成される。図６（Ｂ）に示す保護層２０３において、液晶セル２０に隣接する面が、図３に示した第２面２０３ｂに対応し、プラズマ処理が施された面が図３に示した第２面２０３ｂに対応する。
【００３８】
次に、図７に示すように、保護層２０３に対して偏光板２０４を接着し、さらに接着剤２０５を介してカバー材３００としてカバーガラスを接着する。こうして、図３を用いて説明した表示装置１０が完成する。
【００３９】
なお、本実施形態では、表示セルとして液晶セルを用いた表示装置について例示したが、表示セルとして、有機ＥＬ素子または発光ダイオードを用いた表示セルを用いることも可能である。
【００４０】
（変形例１）
上述した第１実施形態では、樹脂層の表面にプラズマ処理を施すことにより、保護層２０３の第１面２０３ａを親水化及び粗面化する例を示したが、これに限らず、第１面２０３ａは少なくとも親水化が施されていればよい。つまり、樹脂層の表面にプラズマ処理を施すことにより、保護層２０３の第１面２０３ａが親水化されていれば、例え表面粗さにあまり変化がなくても第１実施形態と同様の効果を奏することができる。即ち、保護層２０３の第１面２０３ａは、保護層の内部よりも、親水性官能基の濃度が高い。
【００４１】
（変形例２）
上述した第１実施形態では、樹脂層の表面にプラズマ処理を施すことにより、保護層２０３の第１面２０３ａを親水化及び粗面化する例を示したが、プラズマ処理に代えて又は加えて、ＵＶ（紫外光）処理を行ってもよい。樹脂層の表面にＵＶ処理を施すことにより、保護層２０３の第１面２０３ａが親水化されるため、例え表面粗さにあまり変化がなくても、ある程度は異物の洗浄硬化を高めることができる。
【００４２】
（第２実施形態）
＜表示装置の構成＞
以下、図面を参照して第２実施形態によるタッチパネルを有する表示装置３０について説明する。なお、第２実施形態による表示装置３０と前述の第１実施形態による表示装置１０との違いは、第２実施形態の表示装置３０は、保護層の構成材料としてネガタイプの感光性樹脂材料を用いた点である。したがって、本実施形態では、相違する点に着目して説明を行い、第１実施形態の表示装置１０と同一の部分については、同一の符号を付して説明を省略する場合がある。
【００４３】
図８は、第２実施形態の表示装置３０の一部の断面を模式的に示す図である。図８に示すように、本実施形態では、金属電極２０１ａを覆うように、ネガタイプの感光性樹脂材料で構成される保護層２２０を設けている。ネガタイプの感光性樹脂材料は、紫外光等の光照射により重合反応を起こし、光照射された部分を選択的に硬化させることができるという性質を有する。このような性質を利用し、通常は、光照射により硬化させた部分以外を現像液により除去して、所望のパターンを形成する用途に用いられている。
【００４４】
このようなネガタイプの感光性樹脂材料関して、光照射による重合反応の際に、表面近傍の酸素と接する部分において、酸素により重合反応が阻害され、表面近傍が硬化しないという現象が知られている。本実施形態では、通常であれば欠点とも言える上述した現象を利用し、保護層２２０の第１面２２０ａ（偏光板２０４に隣接する面）の表面粗さを、第２面２２０ｂに比べて大きくしている。つまり、保護層２２０の構成材料としてネガタイプの感光性樹脂材料を用いることにより表面近傍を硬化させずに現像液で除去し、意図的に表面に起伏を形成している。
【００４５】
例えば、表面粗さとして十点平均粗さ（Ｒｚ）を用いた場合、ネガタイプの感光性樹脂を用いることにより、感光性樹脂層の表面粗さを、１０ｎｍ以上（代表的には、１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下）にすることができる。本実施形態の表示装置３０を例にすると、保護層２２０の第１面２２０ａは、第２面２２０ｂに比べて表面粗さが大きく、第２面２２０ｂの２倍以上（好ましくは３倍以上）の表面粗さにすることができる。
【００４６】
ここで、図９は、本実施形態の表示装置３０の製造工程を示す図である。具体的には、保護層２２０の形成に関する部分を示している。まず、図９（Ａ）に示すように、金属電極２０１ａを覆うようにネガタイプの感光性樹脂材料２１５をインクジェット法、印刷法、又はスピンコーティング法により塗布する。ネガタイプの感光性樹脂材料としては、例えば、アクリル系モノマーを用いることができる。
【００４７】
感光性樹脂材料２１５を塗布したら、図９（Ｂ）に示すように、全面に紫外光を照射して感光性樹脂材料を硬化させた後、現像液で未硬化部分を除去する。このような過程を経て、金属電極２０１ａを覆うように保護層２２０を形成する。このとき、前述したように、保護層２２０の表面の表面粗さは、１０ｎｍ以上（代表的には、１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下）になる。
【００４８】
以上説明したように、第２実施形態における表示装置３０は、ネガタイプの感光性樹脂材料で構成される保護層２２０を用いるため、保護層２２０の表面（第１面２０３ａ）における表面粗さを大きくすることができる。これにより、後の工程において切断された表示セルから発生したガラス片（カレット）が保護層２２０の第１面２２０ａに付着しても、純水を用いた超音波洗浄等により容易に除去することができる。
【００４９】
本発明の実施形態として説明した表示装置を基にして、当業者が適宜構成要素の追加、削除もしくは設計変更を行ったもの、又は、工程の追加、省略もしくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。
【００５０】
また、上述した実施形態の態様によりもたらされる作用効果とは異なる他の作用効果であっても、本明細書の記載から明らかなもの、又は、当業者において容易に予測し得るものについては、当然に本発明によりもたらされるものと解される。
【符号の説明】
【００５１】
１０  表示装置
２０  液晶セル
３０  表示装置
１００  アクティブマトリクス基板
１０１  スキャン電極
１０２  駆動回路
１０３  端子部
１０５  液晶層
２００  対向基板
２０１  検出電極
２０１ａ  金属電極
２０２  端子部
２０２ａ  端子電極
２０３  保護層
２０３ａ  第１面
２０３ｂ  第２面
２０４  偏光板
２０５  接着剤
２１０  樹脂層
２１５  感光性樹脂材料
２２０  保護層
２２０ａ  第１面
２２０ｂ  第２面
３００  カバー材
【図１】
2017097551.tif 000003
【図２】
2017097551.tif 000004
【図３】
2017097551.tif 000005
【図４】
2017097551.tif 000006
【図５】
2017097551.tif 000007
【図６】
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【図７】
2017097551.tif 000009
【図８】
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【図９】
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