(57)【要約】【課題】ケースの構成材料から、化学増幅型レジスト膜の感度を変化させるガスが発生することを抑制し、化学増幅型レジスト膜の感度を変化させることなくフォトマスクブランクスを保管、輸送することが可能なケース、およびこれを用いたフォトマスクブランクスの輸送方法を提供する。【解決手段】化学増幅型レジストを備えたフォトマスクブランクスを収容するケースであって、キャリアガスとして窒素を用いたガスクロマトグラフィー質量分析法により観測される揮発成分のうち、ガス成分の総量が１６００μｇ／ｇ以上である比較部材に対して、  前記ケースの内壁を構成するパーツの表面の一部または全部が、前記総量が１３．９％以下である部材から構成されることを特徴とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学増幅型レジストを備えたフォトマスクブランクスを収容するケースであって、
キャリアガスとして窒素を用いたガスクロマトグラフィー質量分析法により観測される揮発成分のうち、
ガス成分の総量が１６００μｇ／ｇ以上である比較部材に対して、
前記ケースの内壁を構成するパーツの表面の一部または全部が、前記総量が１３．９％以下である部材から構成されることを特徴とするケース。
【請求項２】
イオンクロマト分析法により観測される脱ガスのアンモニウムイオンの量が１．３μｇ／ｍ３以下であり、かつ陽イオンの総量が３．８８μｇ／ｍ３以下であることを特徴とする請求項１に記載のケース。
【請求項３】
前記パーツの肉厚方向の全域が、前記部材から構成されることを特徴とする請求項１または２に記載のケース。
【請求項４】
前記ケースを構成するパーツの一部または全部が、前記部材からなることを特徴とする請求項１または２に記載のケース。
【請求項５】
前記パーツは、蓋、本体、中子、押さえからなり、前記蓋がアクリロニトリルブタジエンスチレンを主成分とする樹脂から構成され、前記本体、前記中子、および前記押さえがポリプロピレンを主成分とする樹脂から構成されることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一項に記載のケース。
【請求項６】
請求項１ないし５いずれか一項記載のケースに前記フォトマスクブランクスを収容して、フォトマスクブランクスを輸送することを特徴とするフォトマスクブランクスの輸送方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、フォトマスクブランクスを収容するケース、およびフォトマスクブランクスの輸送方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイス製造等におけるフォトリソグラフィ工程で用いられるフォトマスクを形成するため、フォトマスクブランクスが利用されている。フォトマスクブランクスは、ガラス基板の一方の主面にレジスト膜を形成したものからなる。フォトマスクブランクスに形成されるレジスト膜として、化学増幅型レジスト膜が知られている。
【０００３】
化学増幅型レジスト膜は、一般的に、極性変換基を導入した高分子化合物と、光酸発生剤の混合物を用いる。例えば、露光部分がアルカリ水性現像液に溶解するように変化するポジ型レジストにおいては、アルカリ水溶性の高分子化合物の末端にある水酸基に酸分解性基を化学結合させ、光酸発生剤と混合してレジスト膜を形成する。
【０００４】
こうした化学増幅型レジスト膜を露光させることで酸を発生させ、加熱することで酸が拡散、反応し、導入した酸分解性基を分裂させて元の水酸基に変換する。そして、アルカリ水性現像液で現像することによって、ポジ型のレジストパターンを得る。レジスト中に発生した酸は、加熱することによって拡散し、多くの領域を可溶性に変質させる。このように、光に反応して自ら酸を発生させ、薬品への可溶性を増幅するよって、高感度なフォトリソグラフィを実現している。
【０００５】
しかし、化学増幅型レジスト膜は酸を触媒としてレジスト膜の溶解性を変化させるため、微量の塩基性物質の吸着によってパターン形状が大きく変化してしまう。また、酸性物質の混入によっても感度変化を起こす場合がある。このため、化学増幅型レジスト膜を備えたフォトマスクブランクスを保管、輸送するために、樹脂製のケースにフォトマスクブランクスを収容すると、ケースを構成する樹脂から発生する無機酸性ガスや有機ガスによって、化学増幅型レジスト膜が化学的に変質してしまう懸念があった。
【０００６】
こうした化学増幅型レジスト膜を備えたフォトマスクブランクスを保管、輸送するためのケースから発生したガスによって、収容したフォトマスクブランクスの化学増幅型レジスト膜が変質することを防止するために、例えば特許文献１に記載されたフォトマスクブランクス収納容器では、有機ガス吸着剤や塩基性ガス吸着剤を固定可能な構成として、これら有機ガス吸着剤や塩基性ガス吸着剤によって、ケースから発生したガスを吸着可能にしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−１５４０１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１に記載されたフォトマスクブランクス収納容器では、化学増幅型レジスト膜に影響を与えるガスを吸着するための有機ガス吸着剤や塩基性ガス吸着剤をケースに設ける必要があり、構成が複雑になり、製造コストも高くなるという課題があった。また、有機ガス吸着剤や塩基性ガス吸着剤によるガスの吸着量には限界があるため、定期的にこれら吸着材を交換したり、再生する必要があり、ランニングコストもかかるといった課題がある。更に、有機ガス吸着剤や塩基性ガス吸着剤によって吸着されたガスの離脱（放出）といった懸念もある。
【０００９】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、ケースの構成材料から、化学増幅型レジスト膜の感度を変化させるガスが発生することを抑制し、化学増幅型レジスト膜の感度を変化させることなくフォトマスクブランクスを保管、輸送することが可能なケース、およびこれを用いたフォトマスクブランクスの輸送方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
すなわち、本発明のケースは、以下の構成を有する。
［１］化学増幅型レジストを備えたフォトマスクブランクスを収容するケースであって、  キャリアガスとして窒素を用いたガスクロマトグラフィー質量分析法により観測される揮発成分のうち、ガス成分の総量が１６００μｇ／ｇ以上である比較部材に対して、前記ケースの内壁を構成するパーツの表面の一部または全部が、前記総量が１３．９％以下である部材から構成されることを特徴とする。
【００１１】
こうしたケースによれば、フォトマスクブランクスに形成された化学増幅型レジストの感度低下をもたらすガス成分の発生が抑制されるので、化学増幅型レジストの感度低下を防止することができる。
【００１２】
［２］本発明では、イオンクロマト分析法により観測される脱ガスのアンモニウムイオンの量が１．３μｇ／ｍ３以下であり、かつ陽イオンの総量が３．８８μｇ／ｍ３以下であることを特徴とする。
【００１３】
［３］本発明では、前記パーツの肉厚方向の全域が、前記部材から構成されることを特徴とする。
【００１４】
［４］本発明では、前記ケースを構成するパーツの一部または全部が、前記部材からなることを特徴とする。
【００１５】
［５］本発明では、前記パーツは、蓋、本体、中子、押さえからなり、前記蓋がアクリロニトリルブタジエンスチレンを主成分とする樹脂から構成され、前記本体、前記中子、および前記押さえがポリプロピレンを主成分とする樹脂から構成されることを特徴とする。
【００１６】
本発明のフォトマスクブランクスの輸送方法は、以下の構成を有する。
［６］［１］ないし［５］いずれか一項記載のケースに前記フォトマスクブランクスを収容して、フォトマスクブランクスを輸送することを特徴とする。
【００１７】
本発明のフォトマスクブランクスの輸送方法によれば、フォトマスクブランクスを収容するケースのパーツに、化学増幅型レジストの感度低下をもたらす酢酸、蟻酸、塩素および二酸化窒素を含むガス成分の発生を抑制可能な材料を用いたので、化学増幅型レジストの感度低下をおこすことなくフォトマスクブランクスを輸送することができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明のケース、およびこれを用いたフォトマスクブランクスの輸送方法によれば、ケースの構成材料から、化学増幅型レジスト膜の感度を変化させるガスが発生することを抑制し、化学増幅型レジスト膜の感度を変化させることなくフォトマスクブランクスを保管、輸送することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明のケースの一例を示す分解斜視図である。
【図２】図１に示すケースの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明を適用した一実施形態であるケース、およびこれを用いたフォトマスクブランクスの輸送方法について、図面を参照して説明する。なお、以下に示す実施形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。また、以下の説明で用いる図面は、本発明の特徴をわかりやすくするために、便宜上、要部となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
【００２１】
図１は、本発明のケースの一例を示す分解斜視図である。また、図２は、図１に示すケースの断面図である。
ケース１０は、本体部（本体）１１と、下フタ１２（押さえ）と、上フタ（蓋）１３と、ブランクス支持体（中子）１４と、を含むパーツを備えている。本体部１１は、例えば矩形の筒状体であり、一方の開放端側に下フタ１２が係合され、また、他方の開放端側に上フタ１３が係合される。本体部１１に下フタ１２と上フタ１３とを係合させることで、内部に気密な空間Ｅが形成される。
【００２２】
ブランクス支持体１４は、ケース１０の空間Ｅ内に収容される。ブランクス支持体１４は、例えば矩形の筒状体であり、一対の内面に、それぞれ複数の挿入溝１５，１５…が形成されている。この挿入溝１５は、上フタ１３から下フタ１２に向けて延び、上フタ１３側では断面方向が開いており、下フタ１２側では断面方向が閉じられている。
【００２３】
こうした向かい合う一対の挿入溝１５，１５の間に、フォトマスクブランクス２０を収容することができる。即ち、ケース１０の空間Ｅ内に収容されるブランクス支持体１４は、複数枚のフォトマスクブランクス２０を支持することができる。
【００２４】
フォトマスクブランクス２０は、ガラス基板２１の一面に化学増幅型レジスト層２２を形成したものからなる。こうしたフォトマスクブランクス２０を運搬する際には、ブランクス支持体１４の向かい合う一対の挿入溝１５，１５の間に１枚づつ挿入し、更にブランクス支持体１４をケース１０の空間Ｅ内に収容して、ケース１０ごと運搬する。
なお、ケース１０を構成するパーツとして、更に、本体部１１、下フタ１２、および上フタ１３を互いに係着して一体化させる係止具などを備えていてもよい。
【００２５】
図２に示すように、ケース１０を構成する本体部１１、下フタ１２、上フタ１３のうち、空間Ｅに臨む内壁１６、および空間Ｅに収容されるブランクス支持体１４の少なくとも表面１７は、低ガス揮発性部材（部材）１８によって構成されている。
【００２６】
低ガス揮発性部材（部材）１８は、キャリアガスとして窒素を用いたガスクロマトグラフィー質量分析法により観測される揮発成分のうち、酢酸、蟻酸、塩素および二酸化窒素からなるガス成分の総量が１６００μｇ／ｇ以上である比較部材に対して、ガス成分の総量が１３．９％以下といった低ガス揮発性の部材である。
【００２７】
これら酢酸、蟻酸、塩素および二酸化窒素からなるガス成分は、ブランクス支持体１４に収容したフォトマスクブランクス２０の化学増幅型レジスト層２２に作用して、化学増幅型レジスト層２２の感度を低下させるものである。よって、これらのガス成分の発生の少ない低ガス揮発性部材（部材）１８を、フォトマスクブランクス２０に対して露出する、本体部１１、下フタ１２、上フタ１３のうち空間Ｅに臨む内壁１６、および空間Ｅに収容されるブランクス支持体１４の少なくとも表面１７に形成することで、フォトマスクブランクス２に形成された化学増幅型レジスト層２２の感度低下を抑制できる。
【００２８】
こうした低ガス揮発性部材（部材）１８の具体例としては、例えば、上フタ（蓋）１３がアクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）を主成分とする樹脂から構成され、本体部（本体）１１と、下フタ１２（押さえ）と、ブランクス支持体（中子）１４とがポリプロピレン（ＰＰ）を主成分とする樹脂から構成される。また、これらＡＢＳ，ＰＰなどの樹脂を本体部１１、下フタ１２、上フタ１３のうち空間Ｅに臨む内壁１６、および空間Ｅに収容されるブランクス支持体１４の少なくとも表面１７に形成することで、化学増幅型レジスト層２２の感度低下を防止できる。
【００２９】
なお、ケース１０を構成するパーツ、即ち本体部１１、下フタ１２、上フタ１３、ブランクス支持体１４のそれぞれの肉厚方向の全域、つまり、これらパーツ全体を低ガス揮発性部材（部材）１８によって形成することもできる。
【００３０】
また、ケース１０を構成するパーツ、即ち本体部１１、下フタ１２、上フタ１３、ブランクス支持体１４のうち、任意のパーツだけを選択的に、低ガス揮発性部材（部材）１８で形成することもできる。
【００３１】
以上のような本発明のケース１０によれば、酢酸、蟻酸、塩素および二酸化窒素からなるガス成分の発生の少ない低ガス揮発性部材（部材）１８を、本体部１１、下フタ１２、上フタ１３のうち空間Ｅに臨む内壁１６、および空間Ｅに収容されるブランクス支持体１４の少なくとも表面１７に形成することによって、フォトマスクブランクス２０に形成された化学増幅型レジスト層２２の感度低下を抑制することができる。
【００３２】
そして、本発明のケース１０をフォトマスクブランクス２０の輸送に用いれば、ケース１０のパーツから生じる酢酸、蟻酸、塩素および二酸化窒素からなるガス成分の発生が抑制されるので、輸送中にフォトマスクブランクス２０に形成された化学増幅型レジスト層２２の感度低下を防止でき、フォトマスクブランクス２０を劣化させずに輸送することができる。
【００３３】
以上、本発明の実施形態を図面を参照して説明したが、これらの各実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら各実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、追加、ないし変更を行うことができる。これら実施形態やその変形例は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
【実施例】
【００３４】
本発明の効果を検証した。
検証１：本発明のケースを構成する樹脂試料（本発明例）と、従来のケースを構成する樹脂試料（比較例）をそれぞれ用意し、ParkinElmer製のガスクロマトグラフィー質量分析Clarus 500、加熱脱着装置：Turbo Matrix ATDを用いて、それぞれの試料から揮発するガスを採取し、ガスの組成を検出するとともに、それぞれの成分の濃度を測定した。キャリアガスは窒素ガスを用いた。
【００３５】
また、上述した樹脂試料（本発明例１，２）からなるケースを構成する全てのパーツ（本体部、下フタ、上フタ、ブランクス支持体）から生じる酢酸、蟻酸、塩素および二酸化窒素などを含むガスの総量と、樹脂試料（比較例１，２）からなるケースを構成する全てのパーツ（本体部、下フタ、上フタ、ブランクス支持体）から生じる酢酸、蟻酸、塩素および二酸化窒素などを含むガスの総量を、ガスクロマトグラフィー質量分析装置を用いて測定した。
これらの測定結果を表１に示す。
【００３６】
【表１】
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【００３７】
表１に示す結果によれば、本発明のケースは、従来のケースと比較して、発生したガスの総量が１３．９％以下と大幅に軽減されており、化学増幅型レジスト層の感度を低下させる原因となる酢酸、蟻酸、塩素および二酸化窒素などを含むガスの発生を大幅に低減させて、化学増幅型レジスト層の感度を維持したまま、フォトマスクブランクス２０の収納、輸送が可能であることが確認された。
【００３８】
検証２：本発明のケースを構成する樹脂試料（本発明例）と、従来のケースを構成する樹脂試料（比較例）をそれぞれ用意し、イオンクロマト分析装置：Ｍｅｔｒｏｈｍ社製ＩＣ７６１を用いて、それぞれの試料から生じる脱ガスを採取し、脱ガスの組成を検出するとともに、それぞれの成分の濃度を測定した。キャリアガスは窒素ガスを用いた。
【００３９】
また、上述した樹脂試料（本発明例１，２）からなるケースを構成する全てのパーツ（本体部、下フタ、上フタ、ブランクス支持体）から生じる脱ガスと、樹脂試料（比較例１，２）からなるケースを構成する全てのパーツ（本体部、下フタ、上フタ、ブランクス支持体）から生じる脱ガスとをイオンクロマト分析装置を用いて測定した。
これらの測定結果を表２に示す。
【００４０】
【表２】
2017097242.tif 000004
【００４１】
表２に示す結果によれば、本発明のケースは、従来のケースと比較して、イオンクロマト分析において脱ガスに含まれるアンモニウムイオン及び陽イオンの発生量が低減されており、化学増幅型レジスト層の感度を維持したまま、フォトマスクブランクス２０の収納、輸送が可能であることが確認された。
【符号の説明】
【００４２】
１０  ケース
１１  本体部
１２  下フタ
１３  上フタ
１４  ブランクス支持体
２０  フォトマスクブランクス
２１  ガラス基板
２２  化学増幅型レジスト層
【図１】
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【図２】
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