(57)【要約】      （修正有）【課題】補償フィルムに適用可能な新規なモノマー、該モノマーに由来する部分を含む重合体、重合体を含む補償フィルム、補償フィルムを備える光学フィルム及び補償フィルム又は光学フィルムを備える表示装置の提供。【解決手段】下記一般式で代表されるモノマー、該モノマーに由来する部分を含む重合体、重合体を含む補償フィルム１２０、補償フィルム１２０を備える光学フィルム１００及び補償フィルム１２０又は光学フィルム１００を備える表示装置。2017043770.tif 000068【選択図】図１
2017043770.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式１−１で表されるモノマー：
【化１】
2017043770.tif 000054
前記一般式１−１において、
Ｚは、Ｏ、Ｃ＝Ｏ、（Ｃ＝Ｏ）Ｏ、Ｏ（Ｃ＝Ｏ）、ＣＨ２Ｏ、ＣＦ２Ｏ、ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ、Ｃ≡Ｃ、ＣＨ＝ＣＨ、ＣＦ＝ＣＦ、若しくはＣＯＮＲａであり、
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立して、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のオキシアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のオキシシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のオキシアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１〜Ｒ６及びＲａは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ及びｍは、それぞれ独立して、０又は１であり、
ｐは、１〜３の整数であり、
ａ〜ｆは、それぞれ独立して、０〜４の整数であり、ａ＋ｂ、ｃ＋ｄ及びｅ＋ｆは、それぞれ４以下の整数である。
【請求項２】
下記一般式１−１ａ又は１−１ｂで表される、請求項１に記載のモノマー：
【化２】
2017043770.tif 000055
前記一般式１−１ａ及び１−１ｂにおいて、
Ｚは、Ｏ、Ｃ＝Ｏ、（Ｃ＝Ｏ）Ｏ、Ｏ（Ｃ＝Ｏ）、ＣＨ２Ｏ、ＣＦ２Ｏ、ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ、Ｃ≡Ｃ、ＣＨ＝ＣＨ、ＣＦ＝ＣＦ、若しくはＣＯＮＲａであり、
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立して、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のオキシアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のオキシシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のオキシアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１〜Ｒ６及びＲａは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｐは、１〜３の整数であり、
ａ〜ｆは、それぞれ独立して、０〜４の整数であり、ａ＋ｂ、ｃ＋ｄ及びｅ＋ｆは、それぞれ４以下の整数である。
【請求項３】
下記一般式１ａ又は１ｂで表される、請求項１又は２に記載のモノマー。
【化３】
2017043770.tif 000056
【請求項４】
無水物及びジアミン化合物間の反応生成物であり、
請求項１から３のいずれか一項に記載のモノマーである第１のジアミン化合物に由来する部分を含む重合体。
【請求項５】
前記ジアミン化合物は、前記第１のジアミン化合物とは異なる第２のジアミン化合物を更に含み、
前記第２のジアミン化合物は、下記グループ１に示す化合物から選ばれた少なくとも一つを含む、請求項４に記載の重合体：
【化４】
2017043770.tif 000057
前記グループ１において、
Ｒ３２〜Ｒ４８は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のフルオロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のオキシシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のオキシアリール基、置換若しくは非置換のアミン基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキルアミン基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
Ｘ２〜Ｘ１０は、それぞれ独立して、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、ＳＯ２、Ｏ、ＣＯ、ＣＯＯ、下記グループ２に示す基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ３５〜ｎ３７及びｎ４０〜ｎ４９は、それぞれ独立して、０〜４の整数であり、
ｎ３８及びｎ３９は、それぞれ独立して、０〜３の整数である。
【化５】
2017043770.tif 000058
【請求項６】
前記第２のジアミン化合物は、下記グループ３に示す化合物から選ばれた少なくとも一つを含む、請求項５に記載の重合体。
【化６】
2017043770.tif 000059
【請求項７】
前記第１のジアミン化合物及び前記第２のジアミン化合物は、１：９〜５：５のモル比で含有される、請求項５又は６に記載の重合体。
【請求項８】
前記無水物は、下記一般式２又は３で表される、請求項４に記載の重合体：
【化７】
2017043770.tif 000060
前記一般式２又は３において、
Ｌ３は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、ＣＯ、ＣＯＯ、ＳＯ２若しくはＣＯＮＲｂ、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ７〜Ｒ１２及びＲｂは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせである。
【請求項９】
前記無水物は、２，３，３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，４’−オキシジフタル酸無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）、ビシクロ［２．２．２］オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物（ＢＴＤＡ）、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物（ＤＳＤＡ）、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸無水物（６ＦＤＡ）、４，４’−オキシジフタル酸無水物（ＯＤＰＡ）、ピロメリット酸二無水物（ＰＭＤＡ）、及び４−（（２，５−ジオキソテトラヒドロフラン−３−イル）−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−１，２−ジカルボン酸無水物（ＤＴＤＡ）、又はこれらの組み合わせを含む、請求項４に記載の重合体。
【請求項１０】
無水物及びジアミン化合物間の反応生成物である重合体を含み、
前記重合体は、少なくとも一つのアセチレン基を有する側鎖を含む補償フィルム。
【請求項１１】
前記ジアミン化合物は、下記一般式１−２で表される第１のジアミン化合物を含む、請求項１０に記載の補償フィルム：
【化８】
2017043770.tif 000061
前記一般式１−２において、
Ｚは、Ｏ、Ｃ＝Ｏ、（Ｃ＝Ｏ）Ｏ、Ｏ（Ｃ＝Ｏ）、ＣＨ２Ｏ、ＣＦ２Ｏ、ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ、Ｃ≡Ｃ、ＣＨ＝ＣＨ、ＣＦ＝ＣＦ、若しくはＣＯＮＲａであり、
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立して、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のオキシアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のオキシシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のオキシアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１〜Ｒ６及びＲａは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ及びｍは、それぞれ独立して、０又は１であり、
ｐは、０〜３の整数であり、
ａ〜ｆは、それぞれ独立して、０〜４の整数であり、ａ＋ｂ、ｃ＋ｄ及びｅ＋ｆは、それぞれ４以下の整数である。
【請求項１２】
前記第１のジアミン化合物は、下記一般式１−２ａ又は１−２ｂで表される、請求項１１に記載の補償フィルム：
【化９】
2017043770.tif 000062
前記一般式１−２ａ及び１−２ｂにおいて、
Ｚは、Ｏ、Ｃ＝Ｏ、（Ｃ＝Ｏ）Ｏ、Ｏ（Ｃ＝Ｏ）、ＣＨ２Ｏ、ＣＦ２Ｏ、ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ、Ｃ≡Ｃ、ＣＨ＝ＣＨ、ＣＦ＝ＣＦ、若しくはＣＯＮＲａであり、
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立して、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のオキシアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のオキシシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のオキシアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１〜Ｒ６及びＲａは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｐは、０〜３の整数であり、
ａ〜ｆは、それぞれ独立して、０〜４の整数であり、ａ＋ｂ、ｃ＋ｄ及びｅ＋ｆは、それぞれ４以下の整数である。
【請求項１３】
前記第１のジアミン化合物は、下記一般式１ａ〜１ｄのうちのいずれか一つで表される、請求項１１又は１２に記載の補償フィルム。
【化１０】
2017043770.tif 000063
【請求項１４】
前記ジアミン化合物は、前記第１のジアミン化合物とは異なる第２のジアミン化合物を更に含み、
前記第２のジアミン化合物は、下記グループ１に示す化合物から選ばれた少なくとも一つを含む、請求項１１から１３のいずれか一項に記載の補償フィルム：
【化１１】
2017043770.tif 000064
前記グループ１において、
Ｒ３２〜Ｒ４８は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のフルオロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のオキシシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のオキシアリール基、置換若しくは非置換のアミン基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキルアミン基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
Ｘ２〜Ｘ１０は、それぞれ独立して、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、ＳＯ２、Ｏ、ＣＯ、ＣＯＯ、下記グループ２に示す基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ３５〜ｎ３７及びｎ４０〜ｎ４９は、それぞれ独立して、０〜４の整数であり、
ｎ３８及びｎ３９は、それぞれ独立して、０〜３の整数である。
【化１２】
2017043770.tif 000065
【請求項１５】
前記第２のジアミン化合物は、下記グループ３に示す化合物から選ばれた少なくとも一つを含む、請求項１４に記載の補償フィルム。
【化１３】
2017043770.tif 000066
【請求項１６】
前記第１のジアミン化合物及び前記第２のジアミン化合物は、１：９〜５：５のモル比で含有される、請求項１４又は１５に記載の補償フィルム。
【請求項１７】
前記無水物は、下記一般式２又は３で表される、請求項１０に記載の補償フィルム：
【化１４】
2017043770.tif 000067
前記一般式２又は３において、
Ｌ３は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、ＣＯ、ＣＯＯ、ＳＯ２若しくはＣＯＮＲｂ、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ７〜Ｒ１２及びＲｂは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせである。
【請求項１８】
前記無水物は、２，３，３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，４’−オキシジフタル酸無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）、ビシクロ［２．２．２］オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物（ＢＴＤＡ）、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物（ＤＳＤＡ）、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸無水物（６ＦＤＡ）、４，４’−オキシジフタル酸無水物（ＯＤＰＡ）、ピロメリット酸二無水物（ＰＭＤＡ）、及び４−（（２，５−ジオキソテトラヒドロフラン−３−イル）−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−１，２−ジカルボン酸無水物（ＤＴＤＡ）、又はこれらの組み合わせを含む、請求項１０に記載の補償フィルム。
【請求項１９】
前記補償フィルムは、一軸方向に延伸されている、請求項１０から１８のいずれか一項に記載の補償フィルム。
【請求項２０】
５５０ｎｍの波長に対する前記補償フィルムの位相差は、１１０ｎｍ〜１６０ｎｍである、請求項１０から１９のいずれか一項に記載の補償フィルム。
【請求項２１】
４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する前記補償フィルムの位相差（Ｒ）は、下記関係式１〜５のうちのいずれか一つを満たす、請求項１０から２０のいずれか一項に記載の補償フィルム。
Ｒ（４５０ｎｍ）≦Ｒ（５５０ｎｍ）＜Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式１
Ｒ（４５０ｎｍ）＜Ｒ（５５０ｎｍ）≦Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式２
Ｒ（４５０ｎｍ）≧Ｒ（５５０ｎｍ）＞Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式３
Ｒ（４５０ｎｍ）＞Ｒ（５５０ｎｍ）≧Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式４
Ｒ（４５０ｎｍ）＝Ｒ（５５０ｎｍ）＝Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式５
【請求項２２】
請求項１０から２１のいずれか一項に記載の補償フィルムと、
偏光フィルムと、
を備える光学フィルム。
【請求項２３】
前記偏光フィルムは、疎水性高分子樹脂及び二色性染料の溶融混合物である、請求項２２に記載の光学フィルム。
【請求項２４】
請求項１０から２１のいずれか一項に記載の補償フィルム又は請求項２２又は２３に記載の光学フィルムを備える表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、モノマー、重合体、補償フィルム、光学フィルム及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
フラットパネル表示装置は、自己発光する発光表示装置と、別途の光源を必要とする受光型表示装置と、に大別でき、これらの画質を改善するために補償フィルム又は光学フィルムが用いられる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、上記従来技術に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、補償フィルムに適用可能な新規なモノマーを提供することにある。
【０００４】
本発明の他の目的は、前記新規なモノマーより重合されて前記新規なモノマーに由来する部分を含む重合体を提供することにある。
【０００５】
本発明のさらに他の目的は、前記重合体を含む補償フィルムを提供することにある。
【０００６】
本発明のさらに他の目的は、前記補償フィルムを備える光学フィルムを提供することにある。
【０００７】
本発明のさらに他の目的は、前記補償フィルム又は前記光学フィルムを備える表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様によるモノマーは、下記一般式１−１で表される。
【０００９】
【化１】
2017043770.tif 000003
【００１０】
前記一般式１−１において、
Ｚは、Ｏ、Ｃ＝Ｏ、（Ｃ＝Ｏ）Ｏ、Ｏ（Ｃ＝Ｏ）、ＣＨ２Ｏ、ＣＦ２Ｏ、ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ、Ｃ≡Ｃ、ＣＨ＝ＣＨ、ＣＦ＝ＣＦ、若しくはＣＯＮＲａであり、
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立して、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のオキシアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のオキシシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のオキシアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１〜Ｒ６及びＲａは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ及びｍは、それぞれ独立して、０又は１であり、
ｐは、１〜３の整数であり、
ａ〜ｆは、それぞれ独立して、０〜４の整数であり、ａ＋ｂ、ｃ＋ｄ及びｅ＋ｆは、それぞれ４以下の整数である。
【００１１】
前記モノマーは、下記一般式１−１ａ又は１−１ｂで表され得る。
【００１２】
【化２】
2017043770.tif 000004
【００１３】
前記一般式１−１ａ及び１−１ｂにおいて、
Ｚは、Ｏ、Ｃ＝Ｏ、（Ｃ＝Ｏ）Ｏ、Ｏ（Ｃ＝Ｏ）、ＣＨ２Ｏ、ＣＦ２Ｏ、ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ、Ｃ≡Ｃ、ＣＨ＝ＣＨ、ＣＦ＝ＣＦ、若しくはＣＯＮＲａであり、
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立して、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のオキシアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のオキシシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のオキシアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１〜Ｒ６及びＲａは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｐは、１〜３の整数であり、
ａ〜ｆは、それぞれ独立して、０〜４の整数であり、ａ＋ｂ、ｃ＋ｄ及びｅ＋ｆは、それぞれ４以下の整数である。
【００１４】
前記モノマーは、下記一般式１ａ又は１ｂで表され得る。
【００１５】
【化３】
2017043770.tif 000005
【００１６】
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様による重合体は、無水物及びジアミン化合物間の反応生成物であり、本発明の一態様によるモノマーである第１のジアミン化合物に由来する部分を含む。
【００１７】
前記ジアミン化合物は、前記第１のジアミン化合物とは異なる第２のジアミン化合物を更に含み、前記第２のジアミン化合物は、下記グループ１に示す化合物から選ばれた少なくとも一つを含み得る。
【００１８】
【化４】
2017043770.tif 000006
【００１９】
前記グループ１において、
Ｒ３２〜Ｒ４８は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のフルオロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のオキシシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のオキシアリール基、置換若しくは非置換のアミン基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキルアミン基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
Ｘ２〜Ｘ１０は、それぞれ独立して、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、ＳＯ２、Ｏ、ＣＯ、ＣＯＯ、下記グループ２に示す基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ３５〜ｎ３７及びｎ４０〜ｎ４９は、それぞれ独立して、０〜４の整数であり、
ｎ３８及びｎ３９は、それぞれ独立して、０〜３の整数である。
【００２０】
【化５】
2017043770.tif 000007
【００２１】
前記第２のジアミン化合物は、下記グループ３に示す化合物から選ばれた少なくとも一つを含み得る。
【００２２】
【化６】
2017043770.tif 000008
【００２３】
前記第１のジアミン化合物及び前記第２のジアミン化合物は、１：９〜５：５のモル比で含有され得る。
【００２４】
前記無水物は、下記一般式２又は３で表され得る。
【００２５】
【化７】
2017043770.tif 000009
【００２６】
前記一般式２又は３において、
Ｌ３は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、ＣＯ、ＣＯＯ、ＳＯ２若しくはＣＯＮＲｂ、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ７〜Ｒ１２及びＲｂは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせである。
【００２７】
前記無水物は、２，３，３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，４’−オキシジフタル酸無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）、ビシクロ［２．２．２］オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物（ＢＴＤＡ）、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物（ＤＳＤＡ）、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸無水物（６ＦＤＡ）、４，４’−オキシジフタル酸無水物（ＯＤＰＡ）、ピロメリット酸二無水物（ＰＭＤＡ）、及び４−（（２，５−ジオキソテトラヒドロフラン−３−イル）−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−１，２−ジカルボン酸無水物（ＤＴＤＡ）、又はこれらの組み合わせを含み得る。
【００２８】
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様による補償フィルムは、無水物及びジアミン化合物間の反応生成物である重合体を含み、前記重合体は、少なくとも一つのアセチレン基を有する側鎖を含む。
【００２９】
前記ジアミン化合物は、下記一般式１−２で表される第１のジアミン化合物を含み得る。
【００３０】
【化８】
2017043770.tif 000010
【００３１】
前記一般式１−２において、
Ｚは、Ｏ、Ｃ＝Ｏ、（Ｃ＝Ｏ）Ｏ、Ｏ（Ｃ＝Ｏ）、ＣＨ２Ｏ、ＣＦ２Ｏ、ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ、Ｃ≡Ｃ、ＣＨ＝ＣＨ、ＣＦ＝ＣＦ、若しくはＣＯＮＲａであり、
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立して、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のオキシアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のオキシシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のオキシアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１〜Ｒ６及びＲａは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ及びｍは、それぞれ独立して、０又は１であり、
ｐは、０〜３の整数であり、
ａ〜ｆは、それぞれ独立して、０〜４の整数であり、ａ＋ｂ、ｃ＋ｄ及びｅ＋ｆは、それぞれ４以下の整数である。
【００３２】
前記第１のジアミン化合物は、下記一般式１−２ａ又は１−２ｂで表され得る。
【００３３】
【化９】
2017043770.tif 000011
【００３４】
前記一般式１−２ａ及び１−２ｂにおいて、
Ｚは、Ｏ、Ｃ＝Ｏ、（Ｃ＝Ｏ）Ｏ、Ｏ（Ｃ＝Ｏ）、ＣＨ２Ｏ、ＣＦ２Ｏ、ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ、Ｃ≡Ｃ、ＣＨ＝ＣＨ、ＣＦ＝ＣＦ、若しくはＣＯＮＲａであり、
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立して、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のオキシアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のオキシシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のオキシアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１〜Ｒ６及びＲａは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｐは、０〜３の整数であり、
ａ〜ｆは、それぞれ独立して、０〜４の整数であり、ａ＋ｂ、ｃ＋ｄ及びｅ＋ｆは、それぞれ４以下の整数である。
【００３５】
前記第１のジアミン化合物は、下記一般式１ａ〜１ｄのうちのいずれか一つで表され得る。
【００３６】
【化１０】
2017043770.tif 000012
【００３７】
前記ジアミン化合物は、前記第１のジアミン化合物とは異なる第２のジアミン化合物を更に含み、
前記第２のジアミン化合物は、下記グループ１に示す化合物から選ばれた少なくとも一つを含み得る。
【００３８】
【化１１】
2017043770.tif 000013
【００３９】
前記グループ１において、
Ｒ３２〜Ｒ４８は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のフルオロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のオキシシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のオキシアリール基、置換若しくは非置換のアミン基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキルアミン基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
Ｘ２〜Ｘ１０は、それぞれ独立して、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、ＳＯ２、Ｏ、ＣＯ、ＣＯＯ、下記グループ２に示す基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ３５〜ｎ３７及びｎ４０〜ｎ４９は、それぞれ独立して、０〜４の整数であり、
ｎ３８及びｎ３９は、それぞれ独立して、０〜３の整数である。
【００４０】
【化１２】
2017043770.tif 000014
【００４１】
前記第２のジアミン化合物は、下記グループ３に示す化合物から選ばれた少なくとも一つを含み得る。
【００４２】
【化１３】
2017043770.tif 000015
【００４３】
前記第１のジアミン化合物及び前記第２のジアミン化合物は、１：９〜５：５のモル比で含有され得る。
【００４４】
前記無水物は、下記一般式２又は３で表され得る。
【００４５】
【化１４】
2017043770.tif 000016
【００４６】
前記一般式２又は３において、
Ｌ３は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、ＣＯ、ＣＯＯ、ＳＯ２若しくはＣＯＮＲｂ、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ７〜Ｒ１２及びＲｂは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせである。
【００４７】
前記無水物は、２，３，３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，４’−オキシジフタル酸無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）、ビシクロ［２．２．２］オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物（ＢＴＤＡ）、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物（ＤＳＤＡ）、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸無水物（６ＦＤＡ）、４，４’−オキシジフタル酸無水物（ＯＤＰＡ）、ピロメリット酸二無水物（ＰＭＤＡ）、及び４−（（２，５−ジオキソテトラヒドロフラン−３−イル）−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−１，２−ジカルボン酸無水物（ＤＴＤＡ）、又はこれらの組み合わせを含み得る。
【００４８】
前記補償フィルムは、一軸方向に延伸され得る。
【００４９】
５５０ｎｍの波長に対する前記補償フィルムの位相差は、１１０ｎｍ〜１６０ｎｍであり得る。
【００５０】
４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する前記補償フィルムの位相差（Ｒ）は、下記関係式１〜５のうちのいずれか一つを満たし得る。
【００５１】
Ｒ（４５０ｎｍ）≦Ｒ（５５０ｎｍ）＜Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式１
Ｒ（４５０ｎｍ）＜Ｒ（５５０ｎｍ）≦Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式２
Ｒ（４５０ｎｍ）≧Ｒ（５５０ｎｍ）＞Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式３
Ｒ（４５０ｎｍ）＞Ｒ（５５０ｎｍ）≧Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式４
Ｒ（４５０ｎｍ）＝Ｒ（５５０ｎｍ）＝Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式５
【００５２】
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様による光学フィルムは、前記補償フィルムと、偏光フィルムと、を備える。
【００５３】
前記偏光フィルムは、疎水性高分子樹脂及び二色性染料の溶融混合物であり得る。
【００５４】
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様による表示装置は、前記補償フィルム又は前記光学フィルムを備える。
【発明の効果】
【００５５】
本発明によれば、新規なモノマー及びこれから得られた重合体は、位相遅延特性を有する補償フィルムに効果的に適用される。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の一実施形態による光学フィルムの概略的な断面図である。
【図２】光学フィルムの外光反射防止原理を示す概略図である。
【図３】偏光フィルムの一例を示す概略図である。
【図４】本発明の一実施形態による有機発光表示装置を概略的に示す断面図である。
【図５】本発明の一実施形態による液晶表示装置を概略的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００５７】
以下、本発明を実施するための形態の具体例を、図面を参照しながら詳細に説明する。しかし、本発明は、ここで説明する実施形態に限定されるものではなく、他の形態に具現化可能である。
【００５８】
図中、様々な層及び領域の厚さは、明確性を図るために誇張されている。明細書全体に亘って同じ構成部分に対しては同じ図面符号を付する。なお、層、膜、領域、板などの構成部分が他の構成部分の「上」にあるとした場合、それは、他の構成部分の「真上」にある場合だけではなく、これらの間に更に他の構成部分がある場合も含む。逆に、ある構成部分が他の構成部分の「直上」にあるとした場合には、これらの間に他の構成部分がないことを意味する。
【００５９】
本明細書において、別途に断わりのない限り、「置換」とは、化合物中の水素原子がハロゲン原子（Ｆ、Ｂｒ、Ｃｌ、又はＩ）、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アジド基、アミジノ基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、カルボニル基、カルバモイル基、チオール基、エステル基、カルボキシル基とその塩、スルホン酸基とその塩、リン酸基とその塩、Ｃ１〜Ｃ２０ののアルキル基、Ｃ２〜Ｃ２０のアルケニル基、Ｃ２〜Ｃ２０のアルキニル基、Ｃ６〜Ｃ３０のアリール基、Ｃ７〜Ｃ３０のアラルキル基、Ｃ１〜Ｃ３０のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２０ののヘテロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ２０ののヘテロアラルキル基、Ｃ３〜Ｃ３０のシクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ１５のシクロアルケニル基、Ｃ６〜Ｃ１５のシクロアルキニル基、Ｃ３〜Ｃ３０のヘテロシクロアルキル基、及びこれらの組み合わせから選ばれる置換基により置換されることを意味する。
【００６０】
また、本明細書において、別途に断わりのない限り、「ヘテロ」とは、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ及びＰから選ばれるヘテロ原子を１つ〜３つ含むものを意味する。
【００６１】
更に、本明細書において、別途に断わりのない限り、「ヘテロ環式基」とは、環内にＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ及びＰから選ばれたヘテロ原子を１つ〜３つ含むＣ１〜Ｃ２０のヘテロアリーレン基、例えば、Ｃ２〜Ｃ８のヘテロアリーレン基又は環内にＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ及びＰから選ばれたヘテロ原子を１つ〜３つ含むＣ３〜Ｃ２０のヘテロシクロアルキレン基、例えば、Ｃ３〜Ｃ８ののヘテロシクロアルキレン基を意味する。
【００６２】
以下、本発明の一実施形態によるモノマーについて説明する。
【００６３】
本発明の一実施形態によるモノマーは、下記一般式１−１で表される。
【００６４】
【化１５】
2017043770.tif 000017
【００６５】
一般式１−１において、
Ｚは、Ｏ、Ｃ＝Ｏ、（Ｃ＝Ｏ）Ｏ、Ｏ（Ｃ＝Ｏ）、ＣＨ２Ｏ、ＣＦ２Ｏ、ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ、Ｃ≡Ｃ、ＣＨ＝ＣＨ、ＣＦ＝ＣＦ、若しくはＣＯＮＲａであり、
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立して、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のオキシアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のオキシシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のオキシアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１〜Ｒ６及びＲａは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０ののアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０ののアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０ののシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０ののアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０ののヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ及びｍは、それぞれ独立して、０又は１であり、
ｐは、１〜３の整数であり、
ａ〜ｆは、それぞれ独立して、０〜４の整数であり、ａ＋ｂ、ｃ＋ｄ及びｅ＋ｆは、それぞれ４以下の整数である。
【００６６】
例えば、Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立して、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ６のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ８のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ１２のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ８の２価のヘテロ環式基、又はこれらの組み合わせであってもよい。
【００６７】
モノマーは、アセチレン基を有するジアミン化合物であり、ポリイミド及び／又はポリアミック酸の反応物質として使用可能である。
【００６８】
モノマーは、例えば、下記一般式１−１ａ又は１−１ｂで表されてもよい。
【００６９】
【化１６】
2017043770.tif 000018
【００７０】
一般式１−１ａ及び１−１ｂにおいて、Ｚ、Ｌ１、Ｌ２、Ｒ１〜Ｒ６、ｐ及びａ〜ｆは、一般式１−１において定義した通りである。
【００７１】
モノマーは、例えば、下記一般式１ａ又は１ｂで表されてもよい。
【００７２】
【化１７】
2017043770.tif 000019
【００７３】
以下、一実施形態による重合体について説明する。
【００７４】
一実施形態による重合体は、無水物及びジアミン化合物間の反応生成物であり、重合体は、下記一般式１−１で表される第１のジアミン化合物に由来する部分を含んでいてもよい。
【００７５】
【化１８】
2017043770.tif 000020
【００７６】
一般式１−１において、
Ｚは、Ｏ、Ｃ＝Ｏ、（Ｃ＝Ｏ）Ｏ、Ｏ（Ｃ＝Ｏ）、ＣＨ２Ｏ、ＣＦ２Ｏ、ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ、Ｃ≡Ｃ、ＣＨ＝ＣＨ、ＣＦ＝ＣＦ、若しくはＣＯＮＲａであり、
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立して、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のオキシアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のオキシシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のオキシアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１〜Ｒ６及びＲａは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ及びｍは、それぞれ独立して、０又は１であり、
ｐは、１〜３の整数であり、
ａ〜ｆは、それぞれ独立して、０〜４の整数であり、ａ＋ｂ、ｃ＋ｄ及びｅ＋ｆは、それぞれ４以下の整数である。
【００７７】
重合体は、ポリイミド、ポリアミック酸又はこれらの組み合わせであってもよい。
【００７８】
重合体は、無水物及びジアミン化合物間の反応により得られたポリイミド、ポリアミック酸又はこれらの組み合わせからなる主鎖と、一般式１−１で表される第１のジアミン化合物に由来するアセチレン基を含む側鎖と、を含んでいてもよい。アセチレン基を含む側鎖は、主鎖に対して実質的に垂直方向に配置されて重合体に所定の光学的な特性を与えてもよい。
【００７９】
第１のジアミン化合物は、例えば、下記一般式１−１ａ又は１−１ｂで表されてもよい。
【００８０】
【化１９】
2017043770.tif 000021
【００８１】
一般式１−１ａ及び１−１ｂにおいて、Ｚ、Ｌ１、Ｌ２、Ｒ１〜Ｒ６、ｐ及びａ〜ｆは、一般式１−１において定義した通りである。
【００８２】
第１のジアミン化合物は、例えば、下記一般式１ａ又は１ｂで表されてもよい。
【００８３】
【化２０】
2017043770.tif 000022
【００８４】
ジアミン化合物は、第１のジアミン化合物に加えて、第１のジアミン化合物とは異なる第２のジアミン化合物を更に含んでいてもよい。第２のジアミン化合物は、１種又は２種以上であってもよい。
【００８５】
第２のジアミン化合物は、例えば、下記グループ１に示す化合物から選ばれた少なくとも一つを含んでいてもよい。
【００８６】
【化２１】
2017043770.tif 000023
【００８７】
グループ１において、
Ｒ３２〜Ｒ４８は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のフルオロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のオキシシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のオキシアリール基、置換若しくは非置換のアミン基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキルアミン基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
Ｘ２〜Ｘ１０は、それぞれ独立して、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、ＳＯ２、Ｏ、ＣＯ、ＣＯＯ、下記グループ２に示す基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ３５〜ｎ３７及びｎ４０〜ｎ４９は、それぞれ独立して、０〜４の整数であり、
ｎ３８及びｎ３９は、それぞれ独立して、０〜３の整数である。
【００８８】
【化２２】
2017043770.tif 000024
【００８９】
第２のジアミン化合物は、下記グループ３に示す化合物から選ばれた少なくとも一つを含んでいてもよいが、これに限定されない。
【００９０】
【化２３】
2017043770.tif 000025
【００９１】
第１のジアミン化合物及び第２のジアミン化合物は、例えば、約１：９〜９：１のモル比で含有されてもよく、上記範囲内において、例えば、約１：９〜５：５のモル比で含有されてもよい。
【００９２】
無水物は、例えば、下記一般式２又は３で表されてもよい。
【００９３】
【化２４】
2017043770.tif 000026
【００９４】
一般式２又は３において、
Ｌ３は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０ののアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０ののシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０ののアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のの２価のヘテロ環式基、Ｏ、ＣＯ、ＣＯＯ、ＳＯ２若しくはＣＯＮＲｂ、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ７〜Ｒ１２及びＲｂは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０ののアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０ののアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０ののシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０ののアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０ののヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせである。
【００９５】
無水物は、例えば、２，３，３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，４’−オキシジフタル酸無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）、ビシクロ［２．２．２］オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物（ＢＴＤＡ）、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物（ＤＳＤＡ）、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸無水物（６ＦＤＡ）、４，４’−オキシジフタル酸無水物（ＯＤＰＡ）、ピロメリット酸二無水物（ＰＭＤＡ）、及び４−（（２，５−ジオキソテトラヒドロフラン−３−イル）−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−１，２−ジカルボン酸無水物（ＤＴＤＡ）、又はこれらの組み合わせを含んでいてもよいが、これに限定されない。
【００９６】
無水物及びジアミン化合物は、例えば、約１：９〜９：１のモル比で含まれてもよく、上記範囲内において、例えば、約３：７〜７：３のモル比で含まれてもよく、上記範囲において、例えば、約５：５のモル比で含まれてもよい。
【００９７】
重合体は、例えば、薄膜状に準備されて重合体フィルムとして用いられてもよい。重合体フィルムは、例えば、透明であってもよく、透明性が求められるいかなる用途にも使用可能である。重合体フィルムは、例えば、基板、保護フィルム、光学フィルム、誘電層、絶縁層、接着層など様々な用途に使用可能である。
【００９８】
以下、一実施形態による補償フィルムを説明する。
【００９９】
一実施形態による補償フィルムは、無水物及びジアミン化合物間の反応生成物である重合体を含み、重合体は、少なくとも一つのアセチレン基を有する側鎖を含んでいてもよい。
【０１００】
重合体は、ポリイミド、ポリアミック酸又はこれらの組み合わせであってもよい。
【０１０１】
重合体は、無水物及びジアミン化合物間の反応により得られたポリイミド、ポリアミック酸又はこれらの組み合わせからなる主鎖と、少なくとも一つのアセチレン基を有する側鎖と、を含んでいてもよい。重合体の側鎖は、重合体の主鎖に対して実質的に垂直方向に配置されてもよく、側鎖に少なくとも一つのアセチレン基を有することにより、屈折率及び波長による吸光特性が変化されて位相遅延を有していてもよい。例えば、重合体は、主鎖方向の屈折率（ｎｅ）及び側鎖方向の屈折率（ｎｏ）を調節することにより、波長による複屈折率を制御してもよい。
【０１０２】
重合体の側鎖は、ジアミン化合物に由来してもよく、ジアミン化合物は、上述した少なくとも一つのアセチレン基とともに、少なくとも一つの置換若しくは非置換のアリーレン基を更に含んでいてもよい。
【０１０３】
ジアミン化合物は、１種又は２種以上を含んでいてもよく、ジアミン化合物は、例えば、下記一般式１−２で表される第１のジアミン化合物を含んでいてもよい。
【０１０４】
【化２５】
2017043770.tif 000027
【０１０５】
一般式１−２において、
Ｚは、Ｏ、Ｃ＝Ｏ、（Ｃ＝Ｏ）Ｏ、Ｏ（Ｃ＝Ｏ）、ＣＨ２Ｏ、ＣＦ２Ｏ、ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ、Ｃ≡Ｃ、ＣＨ＝ＣＨ、ＣＦ＝ＣＦ、若しくはＣＯＮＲａであり、
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立して、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のオキシアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のオキシシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のオキシアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１〜Ｒ６及びＲａは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ及びｍは、それぞれ独立して、０又は１であり、
ｐは、０〜３の整数であり、
ａ〜ｆは、それぞれ独立して、０〜４の整数であり、ａ＋ｂ、ｃ＋ｄ及びｅ＋ｆは、それぞれ４以下の整数である。
【０１０６】
第１のジアミン誘導体は、例えば、下記一般式１−２ａ又は１−２ｂで表されてもよい。
【０１０７】
【化２６】
2017043770.tif 000028
【０１０８】
一般式１−２ａ及び１−２ｂにおいて、Ｚ、Ｌ１、Ｌ２、Ｒ１〜Ｒ６、ｎ、ｍ、ｐ及びａ〜ｆは、一般式１−２において定義した通りである。
【０１０９】
第１のジアミン化合物は、例えば、下記一般式１ａ〜１ｄのうちのいずれか一つで表されてもよいが、これに限定されない。
【０１１０】
【化２７】
2017043770.tif 000029
【０１１１】
ジアミン化合物は、第１のジアミン化合物に加えて、第１のジアミン化合物とは異なる第２のジアミン化合物を更に含んでいてもよい。第２のジアミン化合物は、１種又は２種以上であってもよい。
【０１１２】
第２のジアミン化合物は、例えば、下記グループ１に示す化合物から選ばれた少なくとも一つを含んでいてもよい。
【０１１３】
【化２８】
2017043770.tif 000030
【０１１４】
グループ１において、
Ｒ３２〜Ｒ４８は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のフルオロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のオキシシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のオキシアリール基、置換若しくは非置換のアミン基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキルアミン基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
Ｘ２〜Ｘ１０は、それぞれ独立して、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、ＳＯ２、Ｏ、ＣＯ、ＣＯＯ、下記グループ２に示す基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ３５〜ｎ３７及びｎ４０〜ｎ４９は、それぞれ独立して、０〜４の整数であり、
ｎ３８及びｎ３９は、それぞれ独立して、０〜３の整数である。
【０１１５】
【化２９】
2017043770.tif 000031
【０１１６】
第２のジアミン化合物は、下記グループ３に示す化合物から選ばれた少なくとも一つを含んでいてもよいが、これに限定されない。
【０１１７】
【化３０】
2017043770.tif 000032
【０１１８】
第１のジアミン化合物及び第２のジアミン化合物は、例えば、約１：９〜９：１のモル比で含まれてもよく、上記範囲内において、例えば、約１：９〜５：５のモル比で含まれてもよい。
【０１１９】
無水物は、例えば、下記一般式２又は３で表されてもよい。
【０１２０】
【化３１】
2017043770.tif 000033
【０１２１】
一般式２又は３において、
Ｌ３は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、ＣＯ、ＣＯＯ、ＳＯ２若しくはＣＯＮＲｂ又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ７〜Ｒ１２及びＲｂは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせである。
【０１２２】
無水物は、例えば、２，３，３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，４’−オキシジフタル酸無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）、ビシクロ［２．２．２］オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物（ＢＴＤＡ）、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物（ＤＳＤＡ）、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸無水物（６ＦＤＡ）、４，４’−オキシジフタル酸無水物（ＯＤＰＡ）、ピロメリット酸二無水物（ＰＭＤＡ）、及び４−（（２，５−ジオキソテトラヒドロフラン−３−イル）−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−１，２−ジカルボン酸無水物（ＤＴＤＡ）、又はこれらの組み合わせを含んでいてもよいが、これに限定されない。
【０１２３】
無水物及びジアミン化合物は、例えば、約１：９〜９：１のモル比で含まれてもよく、上記範囲内において、例えば、約３：７〜７：３のモル比で含まれてもよく、上記範囲内において、例えば、約５：５のモル比で含まれてもよい。
【０１２４】
補償フィルムは、例えば、一軸方向に延伸されていてもよい。
【０１２５】
補償フィルムは、上述したように、重合体の側鎖にアセチレン基を有することにより、屈折率及び波長による吸光特性が変化されてもよく、これにより、アセチレン基の数及び側鎖の長さなどを調節して所望の位相遅延特性を有する補償フィルムとして準備されてもよい。
【０１２６】
例えば、５５０ｎｍの波長（以下、「基準波長」と称する）に対する補償フィルムの位相差は、例えば、約１１０ｎｍ〜１６０ｎｍであってもよい。ここで、位相差は、面内位相差であってもよく、厚さ方向の位相差であってもよい。５５０ｎｍの波長に対する補償フィルムの位相差は、上記範囲内において、例えば、約１２０ｎｍ〜１５０ｎｍであってもよい。
【０１２７】
波長による補償フィルムの位相差は、等しくてもよく、異なっていてもよい。
【０１２８】
例えば、補償フィルムは、長波長の光に対する位相差が短波長の光に対する位相差よりも更に大きい逆波長分散位相遅延を有していてもよく、例えば、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する補償フィルムの位相差（Ｒ）は、下記関係式１又は２を満たしてもよい。
【０１２９】
Ｒ（４５０ｎｍ）≦Ｒ（５５０ｎｍ）＜Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式１
Ｒ（４５０ｎｍ）＜Ｒ（５５０ｎｍ）≦Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式２
【０１３０】
例えば、補償フィルムは、長波長の光に対する位相差が短波長の光に対する位相差よりも小さい正波長分散位相遅延を有していてもよく、例えば、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する補償フィルムの位相差（Ｒ）は、下記関係式３又は４を満たしてもよい。
【０１３１】
Ｒ（４５０ｎｍ）≧Ｒ（５５０ｎｍ）＞Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式３
Ｒ（４５０ｎｍ）＞Ｒ（５５０ｎｍ）≧Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式４
【０１３２】
例えば、補償フィルムは、長波長の光に対する位相差及び短波長の光に対する位相差が実質的に等しいフラット分散位相遅延を有し、例えば、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する補償フィルムの位相差（Ｒ）は、下記関係式５を満たす。
【０１３３】
Ｒ（４５０ｎｍ）＝Ｒ（５５０ｎｍ）＝Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式５
【０１３４】
補償フィルムは、高い複屈折率を有していてもよいため、比較的に薄い厚さを有していてもよい。補償フィルムは、例えば、約３μｍ〜１００μｍの厚さを有していてもよく、上記範囲内において、例えば、約５μｍ〜７０μｍの厚さを有していてもよく、上記範囲内において、例えば、約５μｍ〜３０μｍの厚さを有していてもよい。
【０１３５】
補償フィルムは、実質的に透明な重合体を含むため、基板として使用可能であり、これにより、補償フィルムの下部への別途の基板の取り付けが省略されてもよい。したがって、補償フィルムのさらなる薄肉化が図れる。これにより、折り畳み可能な表示装置又は折り曲げ可能な表示装置などのフレキシブル表示装置にも効果的に適用されて光学特性及び表示特性を改善することができる。
【０１３６】
補償フィルムは、例えば、組成物を準備するステップ、前記組成物を薄膜形態に準備するステップ、前記薄膜を硬化させるステップにより製造されてもよい。
【０１３７】
組成物は、無水物、ジアミン化合物及び溶媒を含んでいてもよい。無水物及びジアミン化合物は、上述した通りである。溶媒は、例えば、非プロトン性極性溶媒であってもよく、例えば、ジメチルスルホキシド及びジエチルスルホキシドなどのスルホキシド含有溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド及びＮ，Ｎ−ジエチルホルムアミドなどのホルムアミド含有溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメトキシアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド含有溶媒、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ−アセチル−２−ピロリドン、及びＮ−ビニル−２−ピロリドンなどのピロリドン含有溶媒、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール、及びカテコールなどのフェノール含有溶媒、ヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクトン、テトラヒドロチオフェンジオキシド、Ｎ−メチル−δ−カプロラクタム、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウレア、又はこれらの混合物を含んでいてもよいが、これに限定されない。
【０１３８】
無水物及びジアミン化合物は、例えば、約１：９〜９：１のモル比で含まれてもよく、上記範囲内において、例えば、約３：７〜７：３のモル比で含まれてもよく、上記範囲内において、例えば、約５：５のモル比で含まれてもよい。
【０１３９】
無水物及びジアミン化合物は、組成物の総含量に対して約１０〜８０重量％で含まれてもよく、上記範囲内において、約３０〜６０重量％で含まれてもよい。溶媒は、組成物中の無水物及びジアミン化合物を除く残量で含まれてもよい。
【０１４０】
組成物を薄膜として準備するステップにおいては、例えば、スピンコート、スリットコート、インクジェットコート、ディップコートなどが使用可能であるが、これに限定されない。
【０１４１】
硬化は、例えば、約５０〜１２０℃で行われてもよく、上記範囲内において、例えば、約７０〜１００℃で行われてもよい。
【０１４２】
補償フィルムは、一軸方向に延伸するステップを更に含んでいてもよい。補償フィルムは、例えば、５０℃〜５００℃の温度において約２００％〜１０００％の伸び率で延伸される。ここで、伸び率とは、補償フィルムの延伸前の長さ及び延伸後の長さ間の比率のことをいい、一軸延伸後に補償フィルムが伸びた度合いを意味する。
【０１４３】
上述した補償フィルムは、単独で用いられてもよく、他の補償フィルムと併用されてもよい。
【０１４４】
補償フィルムは、偏光フィルムと一緒に用いられて表示装置の外部光の反射を防ぐ光学フィルムとして用いられる。光学フィルムは、例えば、反射防止フィルムであるが、これに限定されない。
【０１４５】
図１は、本発明の一実施形態による光学フィルムの概略的な断面図であり、図２は、光学フィルムの外光反射防止原理を示す概略図であり、図３は、偏光フィルムの一例を示す概略図である。
【０１４６】
図１を参照すると、本発明の一実施形態による光学フィルム１００は、偏光フィルム１１０及び補償フィルム１２０を備える。補償フィルム１２０は、偏光フィルム１１０を通過した光を円偏光させて位相差を発生させ、光の反射及び／又は吸収に影響を与える。
【０１４７】
例えば、光学フィルム１００は、表示装置の片側又は両側に配備され、特に、表示装置の画面部側に配置されて外部から入射する光が反射されること（以下、「外光反射」と称する。）を防ぐ。これにより、外光反射による視認性の低下が防がれる。
【０１４８】
図２は、光学フィルムの外光反射防止原理を示す概略図である。
【０１４９】
図２を参照すると、入射する非偏光の光は、偏光フィルム１１０を通過しながら２つの偏光直交成分のうちの一つの偏光直交成分、すなわち、第１の偏光直交成分のみが透過され、偏光された光は、補償フィルム１２０を通過しながら円偏光に変わる。円偏光した光は、基板、電極などを有する表示パネル５０において反射されながら円偏光の方向が変わり、円偏光した光が補償フィルム１２０を再び通過しながら２つの偏光直交成分のうち残りの偏光直交成分、すなわち、第２の偏光直交成分のみが透過される。第２の偏光直交成分は、偏光フィルム１１０を通過できず、外部に光が放出されないので、外光反射防止効果を有する。
【０１５０】
図３を参照すると、偏光フィルム１１０は、高分子樹脂７１及び二色性染料７２の溶融混合物により製造された一体型構造を有していてもよい。
【０１５１】
高分子樹脂７１は、例えば、疎水性高分子樹脂であり、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）及びこれらの共重合体などのポリオレフィン；ナイロン及び芳香族ポリアミドなどのポリアミド；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などのポリエステル；ポリメチル（メタ）アクリレートなどのポリアクリル；ポリスチレン（ＰＳ）及びアクリロニトリル−スチレン共重合体などのポリスチレン；ポリカーボネート；塩化ビニル系樹脂；ポリイミド；スルホン樹脂；ポリエーテルスルホン；ポリエーテル−エーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド；ビニルアルコール樹脂；ビニリデンクロリド樹脂；ビニルブチラール樹脂；アリレート樹脂；ポリオキシメチレン；エポキシ、これらの共重合体又はこれらの組み合わせである。
【０１５２】
中でも、高分子樹脂７１は、例えば、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、これらの共重合体又はこれらの組み合わせであり、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ナイロン、これらの共重合体又はこれらの組み合わせである。
【０１５３】
中でも、高分子樹脂７１は、ポリオレフィンである。ポリオレフィンは、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン及びポリプロピレンの共重合体（ＰＥ−ＰＰ）から選ばれた少なくとも２つの混合物であり、例えば、ポリプロピレン（ＰＰ）及びポリエチレン−ポリプロピレン共重合体（ＰＥ−ＰＰ）の混合物である。
【０１５４】
高分子樹脂７１は、約４００〜７８０ｎｍの波長領域において透過度が約８５％以上である。高分子樹脂７１は、一軸方向に延伸されている。一軸方向は、後述する二色性染料７２の長手方向に等しい。
【０１５５】
二色性染料７２は、高分子樹脂７１に分散されており、高分子樹脂７１の延伸方向に沿って一方向に配列されている。二色性染料７２は、所定の波長領域に対して２つの偏光直交成分のうちの一つの偏光直交成分のみを透過させる。
【０１５６】
二色性染料７２は、高分子樹脂７１の１００重量部に対して約０．０１〜５重量部で含まれる。前記範囲で含まれることにより、偏光フィルムとして形成するときに、透過度を低下させずに十分な偏光特性を示す。前記範囲内において高分子樹脂７１の１００重量部に対して約０．０５〜１重量部で含まれる。
【０１５７】
偏光フィルム１１０は、約１００μｍ以下と比較的に薄肉であり、例えば、約３０μｍ〜約９５μｍの厚さを有する。前記範囲の厚さを有することにより、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などの保護層が求められる偏光板に比べて、薄肉化が図れ、これにより、薄形表示装置を実現することができる。
【０１５８】
補償フィルム１２０は、上述した通りである。
【０１５９】
光学フィルム１００は、補償フィルム１２０の片面に配設される補正層（図示せず）をさらに備える。補正層は、例えば、色変異防止層であるが、これに限定されない。
【０１６０】
光学フィルム１００は、周縁に沿って伸びている遮光層（図示せず）をさらに備える。遮光層は、光学フィルム１００の周りに沿って帯状に形成され、例えば、偏光フィルム１１０と補償フィルム１２０との間に配設される。遮光層は、不透明な物質、例えば、黒色の物質を含む。例えば、遮光層は、黒色インクにより製作される。
【０１６１】
光学フィルム１００は、様々な表示装置に適用可能である。
【０１６２】
本発明の一実施形態による表示装置は、表示パネル及び表示パネルの片面に配設される光学フィルムを備える。表示パネルは、液晶表示パネル又は有機発光表示パネルであるが、これに限定されない。
【０１６３】
以下、表示装置の一例である有機発光表示装置について説明する。
【０１６４】
図４は、本発明の一実施形態による有機発光表示装置を概略的に示す断面図である。
【０１６５】
図４を参照すると、本発明の一実施形態による有機発光表示装置は、有機発光パネル４００及び有機発光パネル４００の片面に配設される光学フィルム１００を備える。
【０１６６】
有機発光パネル４００は、ベース基板４１０、下部電極４２０、有機発光層４３０、上部電極４４０及び封止基板４５０を備える。
【０１６７】
ベース基板４１０は、ガラス製又はプラスチック製である。
【０１６８】
下部電極４２０及び上部電極４４０のうちのいずれか一方はアノードであり、他方はカソードである。アノードは、正孔が注入される電極であり、仕事関数が高く、発光された光が外部に出射される透明導電物質により製作され、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）又はインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）である。カソードは、電子が注入される電極であり、仕事関数が低く、有機物質に影響を与えない導電物質により製作され、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、カルシウム（Ｃａ）及びバリウム（Ｂａ）から選ばれる。
【０１６９】
有機発光層４３０は、下部電極４２０及び上部電極４４０に電圧が印加されたときに光を出射させる有機物質を含む。
【０１７０】
下部電極４２０と有機発光層４３０との間及び上部電極４４０と有機発光層４３０との間には、付帯層（図示せず）がさらに配設される。付帯層は、電子と正孔との間のバランスを取るための正孔輸送層、正孔注入層、電子注入層及び電子輸送層を備える。
【０１７１】
封止基板４５０は、ガラス製、金属製又は高分子製であり、下部電極４２０、有機発光層４３０及び上部電極４４０を封止して外部から水分及び／又は酸素が流入することを防ぐ。
【０１７２】
光学フィルム１００は、光が出射される側に配置される。例えば、ベース基板４１０側に光が出射される背面発光構造である場合、ベース基板４１０の外側に配置され、封止基板４５０側に光が出射される前面発光構造である場合、封止基板４５０の外側に配置される。
【０１７３】
光学フィルム１００は、上述した一体型の偏光フィルム１１０及び一体型の補償フィルム１２０を備える。偏光フィルム１１０及び補償フィルム１２０はそれぞれ上述した通りであり、偏光フィルム１１０を通過した光が有機発光パネル４００の電極などの金属により反射されて表示装置の外側に出射されることを防いで外部から入射する光による視認性の低下を防ぐ。したがって、有機発光表示装置の表示特性を改善することができる。
【０１７４】
以下、表示装置の一例である液晶表示装置について説明する。
【０１７５】
図５は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を概略的に示す断面図である。
【０１７６】
図５を参照すると、本発明の一実施形態による液晶表示装置は、液晶表示パネル５００及び液晶表示パネル５００の片面又は両面に配設される光学フィルム１００を備える。
【０１７７】
液晶表示パネル５００は、ツイストネマチック（ｔｗｉｓｔ ｎｅｍａｔｉｃ；ＴＮ）モード、垂直方向の配置のパターン（ｐａｔｔｅｒｎｅｄ ｖｅｒｔｉｃａｌ ａｌｉｇｎｍｅｎｔ；ＰＶＡ）モード、平面内でのスイッチング（ｉｎｐｌａｎｅ ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ；ＩＰＳ）モード、光学補償ベンド（ＯＣＢ：ｏｐｔｉｃａｌｌｙ ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ ｂｅｎｄ）モードなどである。
【０１７８】
液晶表示パネル５００は、第１の表示板５１０、第２の表示板５２０及び第１の表示板５１０と第２の表示板５２０との間に介在する液晶層５３０を備える。
【０１７９】
第１の表示板５１０は、例えば、基板（図示せず）の上に形成される薄膜トランジスター（図示せず）及びこれに接続される第１の電場生成電極（図示せず）を備え、第２の表示板５２０は、例えば、基板（図示せず）の上に形成されるカラーフィルター（図示せず）及び第２の電場生成電極（図示せず）を備える。しかしながら、本発明はこれに何ら限定されるものではなく、カラーフィルターが第１の表示板５１０に組み込まれてもよく、第１の電場生成電極及び第２の電場生成電極が第１の表示板５１０に並設されてもよい。液晶層５３０は、複数の液晶分子を含む。
【０１８０】
液晶分子は、正又は負の誘電率異方性を有する。液晶分子が正の誘電率異方性を有する場合、電場がない状態でその長軸が第１の表示板５１０及び第２の表示板５２０の表面に対して略平行になるように配向され、電場が印加された状態でその長軸が第１の表示板５１０及び第２の表示板５２０の表面に対して略垂直になるように配向される。これとは逆に、液晶分子が負の誘電率異方性を有する場合、電場がない状態でその長軸が第１の表示板５１０及び第２の表示板５２０の表面に対して略垂直に配向され、電場が印加された状態でその長軸が第１の表示板５１０及び第２の表示板５２０の表面に対して略平行に配向される。
【０１８１】
光学フィルム１００は、液晶表示パネル５００の外側に配設され、図面には、液晶表示パネル５００の下部及び上部にそれぞれ形成されたと示したが、本発明はこれに何ら限定されるものではなく、液晶表示パネル５００の下部及び上部のうちのいずれか一方にのみ形成されてもよい。
【０１８２】
光学フィルム１００は、上述した一体型の偏光フィルム１１０及び一体型の補償フィルム１２０を備え、上述した通りである。
【実施例】
【０１８３】
以下、実施例を挙げて本発明の実施形態について詳細に説明する。但し、下記の実施例は単に本発明の実施形態を説明するための例示に過ぎず、これらにより本発明の範囲が制限されることはない。
【０１８４】
≪モノマーの合成≫
＜合成例１：化合物１の合成＞
【０１８５】
中間体Ｉ−１の合成
【０１８６】
【化３２】
2017043770.tif 000034
【０１８７】
２Ｌの丸底フラスコにおいて、トリエチルアミン及びテトラヒドロフラン（１．１ｖ／ｖ）の混合溶媒１．５Ｌに１−ブロモ−４−ヨードベンゼン（Ｍｗ＝２８２．９１ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．５ｍｏｌ，ｍ＝１４１．４６ｇｒ）を溶かして溶液を準備する。次いで、溶液を乾燥窒素ガスと共に１時間かけてパージする。次いで、溶液にフェニルアセチレン（Ｍｗ＝１０２．１４ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．５ｍｏｌ，ｍ＝５１．１ｇｒ）、塩化パラジウム（ＩＩ）（ＰｄＣｌ２）（Ｍｗ＝１７７．３３ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．００５ｍｏｌ，ｍ＝０．８９ｇｒ）、ヨウ化銅（Ｉ）（ＣｕＩ）（Ｍｗ＝１９０．４５ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．０１ｍｏｌ，ｍ＝１．９ｇｒ）及びトリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）（Ｍｗ＝２６２．４５ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．０２ｍｏｌ，ｍ＝５．２５ｇｒ）をこの順に添加する。次いで、窒素雰囲気下で混合物を２５℃で８時間かけて、且つ、６０℃で１２時間かけて攪拌する。次いで、２−メチル−３−ブチン−２−オール（Ｍｗ＝８４．１２ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．６ｍｏｌ，ｍ＝５０．５ｇｒ）、塩化パラジウム（ＩＩ）（ＰｄＣｌ２）（Ｍｗ＝１７７．３３ｍｏｌ，ｖ＝０．００２５ｍｏｌ，ｍ＝０．４５ｇｒ）、ヨウ化銅（Ｉ）（ＣｕＩ）（Ｍｗ＝１９０．４５ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．００５ｍｏｌ，ｍ＝０．９５ｇｒ）及びトリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）（Ｍｗ＝２６２．４５ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．０１ｍｏｌ，ｍ＝２．６３ｇｒ）をこの順に添加し、窒素雰囲気下で１００℃の温度で４８時間かけて攪拌する。反応が終わった後、懸濁液をろ過して沈殿させた後、熱い少量のエチルアセテートを用いて数回洗浄する。減圧下で母液から溶媒を除去して残った固体をエチルアセテートから結晶化させる。結晶化された後の母液を濃縮させ、真空下で且つ６０℃で乾燥させて中間体Ｉ−１を得る。歩留まり率は、８８．３％である。
【０１８８】
中間体Ｉ−２の合成
【０１８９】
【化３３】
2017043770.tif 000035
【０１９０】
１Ｌの丸底フラスコにおいて、０．５Ｌのトルエンに中間体Ｉ−１（Ｍｗ＝２６０．３４ｍｏｌ，ｖ＝０．１ｍｏｌ，ｍ＝２６．３ｇｒ）を溶かし、ここにＢｕ４ＮＯＨ（１０ｗｔ％ ｉｎ ＭｅＯＨ；０．１ｅｑ．；ｄ＝０．８２ｇ／ｃｍ３）３２ｍｌを入れる。反応が終わった後、混合物を酢酸で中性化させ、減圧下で溶媒を除去する。得られた黄色い固体を水で洗浄し、真空下で且つ６０℃で乾燥させて黄色い固体の中間体Ｉ−２を得る。歩留まり率は、９５％である。
【０１９１】
中間体Ｉ−３の合成
【０１９２】
【化３４】
2017043770.tif 000036
【０１９３】
１Ｌの丸底フラスコにおいて、１，３−ジニトロベンゼン（Ｍｗ＝１６８．１１ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．６ｍｏｌ，ｍ＝１００．９ｇｒ）を入れ、８０℃で２２０ｍｌのＨ２ＳＯ４（９８ｗｔ％）で攪拌して溶かす。次いで、ここにＮ−ブロモスクシンイミド（Ｍｗ＝１７７．９８ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．９ｍｏｌ，ｍ＝１６０．１８ｇｒ）を３回に分けて添加する。最初には、Ｎ−ブロモスクシンイミド０．６ｍｏｌを添加して２４時間かけて攪拌し、２回目には、Ｎ−ブロモスクシンイミド０．１８ｍｏｌを添加して２４時間かけて攪拌し、３回目には０．１２ｍｏｌを添加して７２時間かけて攪拌する。反応が終わった後、反応物を１ｋｇの氷内に注いで黄色い固体を形成する。次いで、黄色い固体をろ過させ、水で洗浄する。得られた生成物を少量のイソプロパノールから４回の連続的な結晶化により緑色を帯びた結晶性固体である中間体Ｉ−３を得る。歩留まり率は、５２．１％である。
【０１９４】
中間体Ｉ−４の合成
【０１９５】
【化３５】
2017043770.tif 000037
【０１９６】
１Ｌの丸底フラスコにおいて、６００ｍｌのトリエチルアミンに中間体Ｉ−２（Ｍｗ＝２０２．２６ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．１２３ｍｏｌ，ｍ＝２４．８８ｇｒ）及び中間体Ｉ−３（Ｍｗ＝２４７．０１ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．１２３ｍｏｌ，ｍ＝３０．３８ｇｒ）を溶かして溶液を製造する。次いで、溶液を乾燥窒素ガスとともに１時間かけてパージする。次いで、溶液に塩化パラジウム（ＩＩ）（ＰｄＣｌ２）（Ｍｗ＝１７７．３３ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．００１２３ｍｏｌ，ｍ＝０．２２ｇｒ）、ヨウ化銅（Ｉ）（ＣｕＩ）（Ｍｗ＝１９０．４５ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．００２４６ｍｏｌ，ｍ＝０．４７ｇｒ）及びトリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）（Ｍｗ＝２６２．４５ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．００４９２ｍｏｌ，ｍ＝１．２９ｇｒ）をこの順に添加し、窒素雰囲気下で１００℃の温度で２４時間かけて還流させる。反応が終わった後、減圧下でトリエチルアミンを除去して残った固体を水で洗浄する。得られた生成物を熱いイソプロパノールで懸濁させ、冷却させながらろ過させることを２回繰り返し行う。得られた生成物を真空下で且つ８０℃の温度で乾燥させて薄い黄色いの結晶性固体である中間体Ｉ−４を得る。歩留まり率は、９８．２％である。
【０１９７】
最終化合物（化合物１）の合成
【０１９８】
【化３６】
2017043770.tif 000038
【０１９９】
５Ｌのビーカーにおいて、酢酸１８０ｍｌ及びメタノール３Ｌの沸騰する混合溶媒に中間体Ｉ−４（Ｍｗ＝３６８．３５ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．１１９ｍｏｌ，ｍ＝４４ｇｒ）を懸濁させる。次いで、懸濁液に鉄粉（Ｍｗ＝５５．８５ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．９５２ｍｏｌ，ｍ＝５３．２ｇｒ）を添加し、水１００ｍｌを添加する。次いで、混合物を６時間かけて還流させ、混合物に水２００ｍｌを更に入れる。反応が終わった後、水１Ｌを更に入れ、混合物を冷却させた後、得られた固体をろ過させる。次いで、得られたろ過物を沸騰するメタノール３００ｍｌで懸濁し、冷却させながらろ過させることを３回繰り返し行う。得られた生成物を３００ｍｌのジメチルアセトアミドに溶かした後にろ過させ、２Ｌの水に再沈殿させる。次いで、沈殿物をろ過させ、イソプロパノールで懸濁させて水を除去する。次いで、得られた生成物をろ過させた後、ろ過物を６００ｍｌの沸騰するメタノールで懸濁し、冷却させながらろ過させる。得られた生成物を真空下で且つ７０℃の温度で乾燥させて化合物１を得る。歩留まり率は、６７．１％である。
【０２００】
１Ｈ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６）  ３００  ＭＨｚ，δ，  ｐｐｍ：  ４．９２  （ｓ，  ４Ｈ，  ＮＨ２），  ５．８８  （ｄｄ，  １Ｈ，  Ｊ１３＝１．８  Ｈｚ），  ６．００  （ｄ，  ２Ｈ，  Ｊ１３＝１．８  Ｈｚ），  ７．４５−７．５８  （ｍ，  ９Ｈ）．
【０２０１】
＜合成例２：化合物２の合成＞
【０２０２】
中間体Ｉ−５の合成
【０２０３】
【化３７】
2017043770.tif 000039
【０２０４】
３００ｍｌのトルエンにおいて、３．５−ジニトロ安息香酸（Ｍｗ＝２１２．１２ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．２ｍｏｌ，ｍ＝４２．４２ｇｒ）、五塩化リン（ＰＣｌ５）（Ｍｗ＝２０８．２４ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．２ｍｏｌ，ｍ＝４１．６５ｇｒ）及び１滴のピリジンを入れ、１２時間かけて攪拌させ且つ還流させる。次いで、トルエン及びＰＯＣｌ３を減圧下で除去し、残余物を１Ｌのジクロロメタンに溶かす。次いで、ここに１−［２−（４−ヒドロキシフェニル）エチニル−４−（２−フェニルエチニル）ベンゼン（Ｍｗ＝１９４．２４ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．２ｍｏｌ，ｍ＝５８．８ｇｒ）及びトリエチルアミン（Ｅｔ３Ｎ）（Ｍｗ＝１０１．２４ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．２５ｍｏｌ，ｍ＝４８．５６ｇｒ）を攪拌させながらこの順に添加する。次いで、混合物を３０分間還流させ、ジクロロメタンを減圧下で除去する。得られた褐色を帯びた固体をジクロロメタン−エタノール混合溶媒から結晶化させて中間体Ｉ−５を得る。歩留まり率は、９３％である。
【０２０５】
最終化合物（化合物２）の合成
【０２０６】
【化３８】
2017043770.tif 000040
【０２０７】
５Ｌのビーカーにおいて、酢酸１８０ｍｌ及びメタノール３Ｌの沸騰する混合溶媒に中間体Ｉ−５（Ｍｗ＝４８８．４６ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．１ｍｏｌ，ｍ＝４８．５ｇｒ）を懸濁させる。次いで、懸濁液に少量の鉄粉（Ｍｗ＝５５．８５ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．８ｍｏｌ，ｍ＝４４．６８ｇｒ）を添加し、水１００ｍｌを添加する。次いで、混合物を５時間かけて還流させ、混合物に水５００ｍｌを更に入れる。反応が終わった後、水１Ｌを更に入れ、混合物を冷却させた後、得られた固体をろ過させる。次いで、得られたろ過物を沸騰するイソプロパノール４００ｍｌで懸濁させ、冷却させながらろ過させることを３回繰り返し行う。得られた生成物を３００ｍｌのジメチルアセトアミドに溶かした後にろ過させ、２Ｌの水に再沈殿させる。次いで、沈殿物をろ過させ、イソプロパノールで懸濁させて水を除去する。次いで、得られた生成物をろ過させた後、ろ過物を６００ｍｌの沸騰するメタノールで懸濁させ、冷却させながらろ過させる。得られた生成物を真空下で、且つ、７０℃の温度で乾燥させて化合物２を得る。歩留まり率は、６５．４％である。
【０２０８】
１Ｈ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６）  ３００  ＭＨｚ，δ，  ｐｐｍ：  ４．９２  （ｂｒ．  ｓ，  ４Ｈ，  ＮＨ２），  ５．８８  （ｄｄ，  １Ｈ，  Ｊ１３＝１．８  Ｈｚ），  ６．００  （ｄ，  ２Ｈ，  Ｊ１３＝１．８  Ｈｚ），  ７．４２−７．６０  （ｍ，  １３Ｈ）
【０２０９】
＜合成例３：化合物３の合成＞
【０２１０】
中間体Ｉ−６の合成
【０２１１】
【化３９】
2017043770.tif 000041
【０２１２】
３００ｍｌのトルエンにおいて、３．５−ジニトロ安息香酸（Ｍｗ＝２１２．１２ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．２ｍｏｌ，ｍ＝４２．４２ｇｒ）、五塩化リン（ＰＣｌ５）（Ｍｗ＝２０８．２４ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．２ｍｏｌ，ｍ＝４１．６５ｇｒ）及び１滴のピリジンを入れ、１２時間かけて攪拌させ且つ還流させる。次いで、トルエン及びＰＯＣｌ３を減圧下で除去し、残余物を１Ｌのジクロロメタンに溶かす。次いで、ここに４−ヒドロキシフェニルアセチレン（Ｍｗ＝１９４．２４ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．２ｍｏｌ，ｍ＝３８．８５ｇｒ）及びトリエチルアミン（Ｅｔ３Ｎ）（Ｍｗ＝１０１．２４ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．２５ｍｏｌ，ｍ＝４８．５６ｇｒ）を攪拌させながらこの順に添加する。次いで、混合物を３０分間還流させ、ジクロロメタンを減圧下で除去する。得られた褐色を帯びた固体をジクロロメタン−エタノールの混合溶媒から結晶化させて中間体Ｉ−６を得る。歩留まり率は、９５％である。
【０２１３】
最終化合物（化合物３）の合成
【０２１４】
【化４０】
2017043770.tif 000042
【０２１５】
５Ｌのビーカーにおいて、酢酸１８０ｍｌ及びメタノール２Ｌの沸騰する混合溶媒に中間体Ｉ−６（Ｍｗ＝３８８．３４ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．１ｍｏｌ，ｍ＝３８．８ｇｒ）を懸濁させる。次いで、懸濁液に少量の鉄粉（Ｍｗ＝５５．８５ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．８ｍｏｌ，ｍ＝４４．６８ｇｒ）を添加し、水１００ｍｌを添加する。次いで、混合物を３時間かけて還流させ、混合物に水５００ｍｌを更に入れる。反応が終わった後、水１Ｌを更に入れ、混合物を冷却させた後、エチルアセテート６００ｍｌで３回抽出する。抽出液を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下で濃縮させ、白い固体を得る。沈殿物をろ過させ、少量の冷たいエチルアセテートで洗浄して化合物３を得る。歩留まり率は、６０％である。
【０２１６】
１Ｈ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６）  ３００  ＭＨｚ，δ，  ｐｐｍ：  ４．９２  （ｂｒ．  ｓ，  ４Ｈ，  ＮＨ２），  ５．８８  （ｄｄ，  １Ｈ，  Ｊ１３＝１．８  Ｈｚ），  ６．００  （ｄ，  ２Ｈ，  Ｊ１３＝１．８  Ｈｚ），  ７．４４−７．５９  （ｍ，  １３Ｈ）
【０２１７】
＜合成例４：化合物４の合成＞
【０２１８】
中間体Ｉ−７の合成
【０２１９】
【化４１】
2017043770.tif 000043
【０２２０】
１Ｌの丸底フラスコにおいて、３００ｍｌのトリエチルアミン及び１００ｍｌのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）の混合溶媒にフェニルアセチレン（Ｍｗ＝１０２．１４ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．１９７ｍｏｌ，ｍ＝２０．１ｇｒ）及び３, ５-ジニトロブロモベンゼン（Ｍｗ＝２４７．０１ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．１６４ｍｏｌ，ｍ＝４０．５ｇｒ）を溶かして溶液を製造する。次いで、溶液を乾燥窒素ガスとともに１時間かけてパージする。次いで、溶液に塩化パラジウム（ＩＩ）（ＰｄＣｌ２）（Ｍｗ＝１７７．３３ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．００１６４ｍｏｌ，ｍ＝０．２９ｇｒ）、ヨウ化銅（Ｉ）（ＣｕＩ）（Ｍｗ＝１９０．４５ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．００３２８ｍｏｌ，ｍ＝０．６２ｇｒ）及びトリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）（Ｍｗ＝２６２．４５ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．００６５６ｍｏｌ，ｍ＝１．７２ｇｒ）をこの順に添加し、窒素雰囲気下で１００℃の温度で２４時間かけて還流する。反応が終わった後、減圧下でトリエチルアミンを除去して残った固体を水で洗浄する。得られた生成物を沸騰するエチルアセテートで懸濁させ、冷却させながらろ過させることを２回繰り返し行う。得られた生成物を真空下で、且つ、８０℃の温度で乾燥させて黄色い結晶性固体である中間体Ｉ−７を得る。歩留まり率は、７５％である。
【０２２１】
最終化合物（化合物４）の合成
【０２２２】
【化４２】
2017043770.tif 000044
【０２２３】
５Ｌのビーカーにおいて、酢酸１８０ｍｌ及びメタノール２Ｌの沸騰する混合溶媒に中間体Ｉ−７（Ｍｗ＝２６８．２５ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．１１２ｍｏｌ，ｍ＝３０ｇｒ）を懸濁させる。次いで、懸濁液に少量の鉄粉（Ｍｗ＝５５．８５ｇ／ｍｏｌ，ｖ＝０．８９６ｍｏｌ，ｍ＝５０ｇｒ）を添加し、水１００ｍｌを添加する。次いで、混合物を３時間かけて還流させ、混合物に水５００ｍｌを更に入れる。反応が終わった後、水１Ｌを更に入れ、混合物を冷却させた後、エチルアセテート６００ｍｌで３回抽出する。抽出液を水で洗浄し、溶媒を減圧下で除去する。得られた生成物に２当量の濃縮塩酸を添加して沈殿させる。沈殿物を沸騰するアセトンで懸濁させ、且つろ過させる。得られた固体を１Ｌの熱い水に溶かし、溶液をチャコールで処理してろ過させる。次いで、アンモニウムヒドロキシド水溶液を添加して白い沈殿物を得る。次いで、沈殿物をろ過させ、水で洗浄し、減圧下で且つ７０℃の温度で２４時間かけて乾燥させて化合物４を得る。
【０２２４】
１Ｈ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６）  ３００  ＭＨｚ，δ，  ｐｐｍ：  ４．９０  （ｂｒ．  ｓ，  ４Ｈ，  ＮＨ２），  ５．８７  （ｄｄ，  １Ｈ，  Ｊ１３＝１．８  Ｈｚ），  ５．９９  （ｄ，  ２Ｈ，  Ｊ１３＝１．８  Ｈｚ），  ７．３７−７．５０  （ｍ，  ５Ｈ）．
【０２２５】
重合体の合成
【０２２６】
合成例５
合成例１において得られた化合物１及び下記一般式Ａ−１で表される化合物５（２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル、東京化成工業株式会社製）を５：５のモル比でジメチルアセトアミドに溶かして溶液を準備する。溶液に下記一般式Ｂ−１で表される化合物６（４，４’−オキシジフタル酸無水物、東京化成工業株式会社製）を添加し、４８時間かけて常温で且つ窒素雰囲気下で反応させて組成物を準備する。組成物は、化合物１、化合物５及び化合物６を５：５：１０のモル比で含む。反応が終わった後、５×５ｃｍ２のガラス板に組成物を１０００ｒｐｍにて１分間スピンコートし、２時間かけて８０℃のオーブンで乾燥させて１５μｍの厚さの重合体フィルムを製造する。
【０２２７】
重合体の構造単位は、一般式Ｃ−１の通りであり、重量平均分子量は、２６０，０００ｇ／ｍｏｌである。
【０２２８】
【化４３】
2017043770.tif 000045
【０２２９】
合成例６
化合物１、化合物５及び化合物６を１：９：１０のモル比で含める以外は、５の方法と同様にして重合体フィルムを準備する。重合体の構造単位は、一般式Ｃ−２の通りであり、重量平均分子量は、２８０，０００ｇ／ｍｏｌである。
【０２３０】
【化４４】
2017043770.tif 000046
【０２３１】
合成例７
化合物１、化合物５及び化合物６を２：８：１０のモル比で含める以外は、合成例５の方法と同様にして重合体フィルムを準備する。重合体の構造単位は、一般式Ｃ−３の通りであり、重量平均分子量は、２７０，０００ｇ／ｍｏｌである。
【０２３２】
【化４５】
2017043770.tif 000047
【０２３３】
合成例８
化合物１、化合物５及び化合物６を３：７：１０のモル比で含める以外は、合成例５の方法と同様にして重合体フィルムを準備する。重合体の構造単位は、一般式Ｃ−４の通りであり、重量平均分子量は、２５０，０００ｇ／ｍｏｌである。
【０２３４】
【化４６】
2017043770.tif 000048
【０２３５】
合成例９
化合物１、化合物５及び化合物６を４：６：１０のモル比で含める以外は、合成例５の方法と同様にして重合体フィルムを準備する。重合体の構造単位は、一般式Ｃ−５の通りであり、重量平均分子量は、２７０，０００ｇ／ｍｏｌである。
【０２３６】
【化４７】
2017043770.tif 000049
【０２３７】
合成例１０
合成例３において得られた化合物３及び下記一般式Ａ−２で表される化合物７（４，４’−オキシジアニリン、シグマアルドリッチ社製）を１：９のモル比でジメチルアセトアミドに溶かして溶液を準備する。溶液に下記一般式Ｂ−２で表される化合物８（ベンゼン−１，２，４，５−テトラカルボン酸無水物、シグマアルドリッチ社製）を添加し、４８時間かけて常温で且つ窒素雰囲気下で反応させて組成物を準備する。組成物は、化合物３、化合物７及び化合物８を１：９：１０のモル比で含む。反応が終わった後、５×５ｃｍ２のガラス板に組成物を１０００ｒｐｍにて１分間スピンコートし、２時間かけて８０℃のオーブンで乾燥させて１５μｍの厚さの重合体フィルムを製造する。
【０２３８】
重合体の構造単位は、一般式Ｄ−１の通りであり、重量平均分子量は、２４０，０００ｇ／ｍｏｌである。
【０２３９】
【化４８】
2017043770.tif 000050
【０２４０】
合成例１１
化合物３、化合物７及び化合物８を２：８：１０のモル比で含める以外は、合成例１０の方法と同様にして重合体フィルムを準備する。重合体の構造単位は、一般式Ｄ−２の通りであり、重量平均分子量は、２６０，０００ｇ／ｍｏｌである。
【０２４１】
【化４９】
2017043770.tif 000051
【０２４２】
補償フィルムの準備
【０２４３】
実施例１
合成例５において得られた重合体フィルムをガラス板から引き剥がして１５×４５ｍｍ２に切ってサンプルを準備し、サンプルの長い側を金属フレームに固定し、窒素雰囲気のオーブンに放置し、１０℃／分の速度で１時間かけて３００℃まで温度を上げて約１２μｍの平均厚さの延伸補償フィルムを製造する。
【０２４４】
実施例２
合成例５において得られた重合体フィルムの代わりに、合成例６において得られた重合体フィルムを用いる以外は、実施例１の方法と同様にして延伸補償フィルムを製造する。
【０２４５】
実施例３
合成例５において得られた重合体フィルムの代わりに、合成例７において得られた重合体フィルムを用いる以外は、実施例１の方法と同様にして延伸補償フィルムを製造する。
【０２４６】
実施例４
合成例５において得られた重合体フィルムの代わりに、合成例８において得られた重合体フィルムを用いる以外は、実施例１の方法と同様にして延伸補償フィルムを製造する。
【０２４７】
実施例５
合成例５において得られた重合体フィルムの代わりに、合成例９において得られた重合体フィルムを用いる以外は、実施例１の方法と同様にして延伸補償フィルムを製造する。
【０２４８】
実施例６
合成例５において得られた重合体フィルムの代わりに、合成例１０において得られた重合体フィルムを用いる以外は、実施例１の方法と同様にして延伸補償フィルムを製造する。
【０２４９】
実施例７
合成例５において得られた重合体フィルムの代わりに、合成例１１において得られた重合体フィルムを用いる以外は、実施例１の方法と同様にして延伸補償フィルムを製造する。
【０２５０】
評価
【０２５１】
評価１
実施例１〜７による補償フィルムの位相差を測定する。
【０２５２】
位相差は、５５０ｎｍの波長を基準としたものであり、アクソスキャン装備（アクソメトリックス社製）を用いて測定する。
【０２５３】
その結果を下記表１に示す。
【０２５４】
【表１】
2017043770.tif 000052
【０２５５】
上記表１を参照すると、実施例１〜７による補償フィルムは、約１１０〜１６０ｎｍの面内位相差を有することから、λ／４位相遅延層として使用可能であることが確認できる。
【０２５６】
評価２
実施例１〜７による補償フィルムの波長分散性を評価する。
【０２５７】
波長分散性は、アクソスキャン装備（アクソメトリックス社製）を用いて測定する。
【０２５８】
その結果を下記表２に示す。
【０２５９】
【表２】
2017043770.tif 000053
【０２６０】
上記表２を参照すると、実施例１〜７による補償フィルムは、波長に応じて位相差が異なることが確認でき、具体的に、実施例１及び実施例７による補償フィルムは、長波長の光に対する位相差が短波長の光に対する位相差よりも大きい逆波長分散位相遅延を有することが確認でき、実施例２〜６による補償フィルムは、長波長の光に対する位相差が短波長の光に対する位相差よりも小さい正波長分散位相遅延を有することが確認できる。
【０２６１】
以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はこれらに何ら限定されるものではなく、特許請求の範囲及び発明の詳細な説明並びに添付図面の範囲内において種々に変形して実施することが可能であり、これもまた本発明の範囲に属するということはいうまでもない。
【符号の説明】
【０２６２】
１００：光学フィルム
１１０：偏光フィルム
１２０：補償フィルム
５０：表示パネル
４００：有機発光表示パネル
４１０：ベース基板
４２０：下部電極
４３０：有機発光層
４４０：上部電極
４５０：封止基板
５００：液晶表示パネル
５１０：第１の表示板
５２０：第２の表示板
５３０：液晶層
【図１】
2017043770.tif 000069
【図２】
2017043770.tif 000070
【図３】
2017043770.tif 000071
【図４】
2017043770.tif 000072
【図５】
2017043770.tif 000073