(57)【要約】【課題】測定光を導く光ファイバと参照光を導く光ファイバとの温度変化に伴って生じる測定光および参照光の偏光状態の差を低減すること。【解決手段】光干渉断層撮影装置は、測定光を照射した被検体からの戻り光と測定光に対応する参照光とを合波して得た合波光を検出する検出手段と、参照光の光路に配置されて参照光を導光する第一の光ファイバと、測定光および戻り光の光路に配置されて測定光および戻り光を導光する第二の光ファイバと、検出手段を収納する第一の収納手段と、第一の光ファイバおよび第二の光ファイバを収納する、第一の収納手段とは異なる第二の収納手段と、を配する。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定光を照射した被検体からの戻り光と前記測定光に対応する参照光とを合波して得た合波光を検出する検出手段と、
前記参照光の光路に配置されて前記参照光を導光する第一の光ファイバと、
前記測定光および前記戻り光の光路に配置されて前記測定光および前記戻り光を導光する第二の光ファイバと、
前記検出手段を収納する第一の収納手段と、
前記第一の光ファイバおよび前記第二の光ファイバを収納する、前記第一の収納手段とは異なる第二の収納手段と、を有することを特徴とする光干渉断層撮影装置。
【請求項２】
前記第二の収納手段は、前記第一の光ファイバおよび前記第二の光ファイバを略同一の空間に収納することを特徴とする請求項１に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項３】
前記第一の光ファイバおよび前記第二の光ファイバは、各々１０ｍ以上の長さを有すると共に、同一の部材に巻きつけた状態で前記第二の収納手段に収納されることを特徴とする請求項１又は２に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項４】
前記第一の光ファイバおよび前記第二の光ファイバは、各々１０ｍ以上の長さを有すると共に、各々異なる部材に巻きつけた状態で前記第二の収納手段に収納されることを特徴とする請求項１又は２に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項５】
前記第一の光ファイバおよび前記第二の光ファイバが各々巻き付けられた部材は、前記第一の光ファイバおよび前記第二の光ファイバが巻きつけられた状態で前記第二の収納手段から取り出し可能であることを特徴とする請求項４に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項６】
前記第二の収納手段は複数であり、前記第一の光ファイバおよび前記第二の光ファイバは、各々異なる前記第二の収納手段に収納されることを特徴とする請求項１に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項７】
各々異なる前記第二の収納手段は、前記第一の収納手段の内部に配置されることを特徴とする請求項６に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項８】
前記異なる第二の収納手段の各々に配置されて前記第二の収納手段の内部空間の内部温度を検出する温度検出手段と、
前記合波光を分割して得た互いに異なる偏光の光に基づいて生成された複数の断層画像の各々の相対位置のずれ量と前記検出された前記第二の収納手段の各々の内部の温度との対応関係を予め記憶した記憶手段と、
前記予め記憶された対応関係と、前記検出された内部の温度とに応じて、前記複数の断層画像の相対位置のずれ量を補正する画像補正手段と、を有することを特徴とする請求項６又は７に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項９】
前記第二の収納手段は、前記複数の第二の収納手段の内部の温度が同じになるように制御する温度制御手段を有することを特徴とする請求項６乃至８の何れか一項に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項１０】
測定光を照射した被検体からの戻り光と前記測定光に対応する参照光とを合波して得た合波光を検出する検出手段と、
前記参照光の光路に配置されて前記参照光を導光する第一の光ファイバと、
前記測定光および前記戻り光の光路に配置されて前記測定光および前記戻り光を導光する第二の光ファイバと、
前記検出手段を収納する収納手段と、を有し、
前記第一の光ファイバおよび前記第二の光ファイバは前記収納手段の内部の略同一の箇所に配置されることを特徴とする光干渉断層撮影装置。
【請求項１１】
前記収納手段に配置され、前記第一の光ファイバおよび前記第二の光ファイバを収納する第二の収納手段を有することを特徴とする請求項１０に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項１２】
前記第一の光ファイバおよび前記第二の光ファイバが共に巻き付けられる部材を有することを特徴とする請求項１０又は１１に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項１３】
前記第一の光ファイバおよび前記第二の光ファイバが各々巻き付けられる異なる部材を有することを特徴とする請求項１０又は１１に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項１４】
前記収納手段に配置されて、前記第一の光ファイバおよび前記第二の光ファイバを各々収納する２つの異なる第二の収納手段を有することを特徴とする請求項１０に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項１５】
測定光を照射した被検体からの戻り光と前記測定光に対応する参照光とを合波して得た合波光を分割して得た互いに異なる偏光の光を検出する検出手段と、
前記参照光の光路に配置されて前記参照光を導光する第一の光ファイバと、
前記測定光および前記戻り光の光路に配置されて前記測定光および前記戻り光を導光する第二の光ファイバと、
前記検出手段、前記第一の光ファイバおよび前記第二の光ファイバを収納する収納手段と、
前記収納手段の内部に保持された前記第一の光ファイバおよび前記第二の光ファイバの温度を制御する温度制御手段と、を有することを特徴とする光干渉断層撮影装置。
【請求項１６】
前記収納手段の内部において、前記第一の光ファイバおよび前記第二の光ファイバに接触して保持すると共に温度制御が可能な保持手段を有し、
前記温度制御手段は、前記保持手段の温度を制御することにより前記接触をする部分を介して前記第一の光ファイバおよび前記第二の光ファイバの温度を制御することを特徴とする請求項１５に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項１７】
前記検出手段は、前記合波光を分割して得た互いに異なる偏光の光を検出し、
前記検出された互いに異なる偏光の光に基づいて、前記被検体の断層画像を生成する画像生成手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至１６の何れか一項に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項１８】
測定光を照射した被検体からの戻り光と前記測定光に対応する参照光とを合波して得た合波光を分割して得た互いに異なる偏光の光を検出する検出手段と、
前記検出された互いに異なる偏光の光に基づいて、複数の断層画像を生成する画像生成手段と、
前記複数の断層画像を生成した際の、前記参照光の光路に配置されて前記参照光を導光する第一の光ファイバの温度と、前記測定光および前記戻り光の光路に配置されて前記測定光および前記戻り光を導光する第二の光ファイバの温度とを検出する温度検出手段と、
予め記憶された前記第一の光ファイバの温度、前記第二の光ファイバの温度、および前記複数の断層画像の各々の相対位置のずれ量の対応関係と、前記検出された前記第一の光ファイバの温度および前記検出された前記第二の光ファイバの温度とに基づいて、前記生成された断層画像の各々の相対位置のずれ量を補正する画像補正手段と、を有することを特徴とする光干渉断層撮影装置。
【請求項１９】
前記第一の光ファイバおよび前記第二の光ファイバは、偏波保持ファイバであることを特徴とする請求項１乃至１８の何れか一項に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項２０】
測定光を照射した被検体からの戻り光と前記測定光に対応する参照光とを合波して得た合波光を分割して得た互いに異なる偏光の光を検出手段により検出する工程と、
前記参照光の光路に配置されて前記参照光を導光する第一の光ファイバ、および、前記測定光および前記戻り光の光路に配置されて前記測定光および前記戻り光を導光する第二の光ファイバ、であって、前記検出手段と共に収納手段の内部に保持された前記第一の光ファイバおよび前記第二の光ファイバの温度を制御する工程と、
前記検出された互いに異なる偏光の光に基づいて複数の断層画像を生成する工程と、
を含むことを特徴とする光干渉断層撮影装置の作動方法。
【請求項２１】
測定光を照射した被検体からの戻り光と前記測定光に対応する参照光とを合波して得た合波光を分割して得た互いに異なる偏光の光を検出する工程と、
前記検出された互いに異なる偏光に基づいて複数の断層画像を生成する工程と、
前記複数の断層画像を生成した際の、前記参照光の光路に配置されて前記参照光を導光する第一の光ファイバの温度と、前記測定光および前記戻り光の光路に配置されて前記測定光および前記戻り光を導光する第二の光ファイバの温度と、を検出する工程と、
予め記憶された前記第一の光ファイバの温度、前記第二の光ファイバの温度、および前記複数の断層画像の各々の相対位置のずれ量の対応関係と、前記検出された前記第一の光ファイバの温度および前記検出された前記第二の光ファイバの温度とに基づいて、前記生成された断層画像の各々の相対位置のずれ量を補正する工程と、を有することを特徴とする光干渉断層撮影装置の作動方法。
【請求項２２】
請求項２０又は２１に記載の光干渉断層撮影装置の作動方法の各工程をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被検眼等、被検査物の断層画像を撮影する光干渉断層撮影装置および該光干渉断層撮影装置の作動方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
多波長光波干渉を利用した光干渉断層撮影装置（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｈｅｒｅｎｃｅ  Ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ：以下、ＯＣＴ）は、試料（特に眼底）の断層画像を高分解能に得ることができる。該ＯＣＴでは、光源からの光を測定光と参照光とに分割し、測定光が測定光学系において照射された試料からの戻り光と、光路長を調整する参照光学系を経た該参照光とを合波して得られた干渉光から断層画像を得ている。
【０００３】
近年、このＯＣＴを眼科用に適用したＯＣＴ装置において、眼底組織の形状をイメージングする通常のＯＣＴ画像に加えて、眼底組織の光学特性や動き等をイメージングする機能ＯＣＴによる画像の取得が試みられている。
【０００４】
機能ＯＣＴの一つである偏光ＯＣＴでは、眼底組織の光学特性の一つである偏光パラメータ（後述するリターデーションとオリエンテーション）を用いてイメージングを行っている。該偏光ＯＣＴを用いることにより、所謂偏光ＯＣＴ画像を構成し、眼底組織の区別やセグメンテーションを行うことができる。偏光ＯＣＴでは、試料を観察する測定光に円偏光に変調した光を用い、該測定光より得られる干渉光を２つの直交する直線偏光として分割してその各々を検出している。そして、得られた各々の偏光のパラメータ（偏光パラメータ）に基づいて、偏光ＯＣＴ画像を生成する（非特許文献１参照）。
【０００５】
偏光ＯＣＴは偏光パラメータを画像化して組織情報を得るため、装置に起因して測定光等の偏光が変わってしまうと所望の画像が得られない可能性がある。従って、このように装置に起因する偏光変化をできる限り小さくすることが必要である。
ここで、通常のＯＣＴ装置において、温度や振動等の装置の保持環境の変化に起因する、測定光の光路および参照光の光路での偏光状態の変化を抑えることが、特許文献１に開示されている。具体的には、測定光および参照光の導光にシングルモード或いはマルチモードの光ファイバを用いた場合、保持環境の変化の影響によって干渉光を好適に生成することができなくなる。これは、保持環境の変化によって、干渉時において測定光と参照光の偏光軸方向が一致しなくなったことによる。これに対して、該特許文献１に開示する光画像計測装置では、温度等の環境変化が生じた場合であっても干渉光を得られるようにするために、測定光をおよび参照光を各々の光学系に導く光ファイバとして、偏波保持ファイバを使用している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００７−１７８４０９号公報
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】ＩＯＶＳ，Ｄｅｃｅｍｂｅｒ  ２００８，Ｖｏｌ．４９，Ｎｏ．１２，Ｃｈｒｉｓｔｏｐｈ  Ｋ．  Ｈｉｚｅｎｂｅｒｇｅｒ  ｅｔ  ａｌ．“Ａｎａｌｙｓｉｓ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｏｒｉｇｉｎ  ｏｆ  Ａｔｙｐｉｃａｌ  Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｌａｓｅｒ  Ｐｏｌａｒｉｍｅｔｒｙ  Ｐａｔｔｅｒｎｓ  ｂｙ  Ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ−Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｈｅｒｅｎｃｅ  Ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ”
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ここで、上述した測定光学系および参照光学系に光を導く光ファイバに偏波保持ファイバを用いた場合においても、温度変化によりその長さや複屈折性等が全く変わらないわけではない。このため、測定光学系のファイバの温度変化と参照光学系のファイバの温度変化とが異なると、測定光および参照光の偏光状態に差が生じてしまい、正確な干渉信号を得られなくなる可能性があった。
【０００９】
本発明の目的の一つは、このような状況に鑑みたものであって、測定光を導く光ファイバと参照光を導く光ファイバとの温度変化に伴って生じる測定光および参照光の偏光状態の差を低減することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の目的を達成するための、本発明の一様態に係る光干渉断層撮影装置は、
測定光を照射した被検体からの戻り光と前記測定光に対応する参照光とを合波して得た合波光を検出する検出手段と、
前記参照光の光路に配置されて前記参照光を導光する第一の光ファイバと、
前記測定光および前記戻り光の光路に配置されて前記測定光および前記戻り光を導光する第二の光ファイバと、
前記検出手段を収納する第一の収納手段と、
前記第一の光ファイバおよび前記第二の光ファイバを収納する、前記第一の収納手段とは異なる第二の収納手段と、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、装置内の温度が変化しても、測定光を導く光ファイバと参照光を導く光ファイバとの温度変化に伴って生じる測定光および参照光の偏光状態の差を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一実施形態に係る光干渉断層撮影装置の全体構成の概略を示す図である。
【図２】Ｐ波断層画像とＳ波断層画像の相対位置ずれを模式的に示した説明図である。
【図３】一実施形態に係る断層画像撮像装置の収納手段の例を示す図である。
【図４】一実施形態に係る断層画像撮像装置の収納手段の変形例を示す図である。
【図５】一実施形態に係る断層画像撮像装置の収納手段の別の変形例を示す図である。
【図６】一実施形態に係る断層画像撮像装置の収納手段の別の変形例を示す図である。
【図７】温度に対するＰ波断層画像とＳ波断層画像の相対位置ずれ量の関係を模式的に示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下に、本発明の実施形態について図面を用いて詳細に説明する。なお、以下の実施形態に例示される構成は特許請求の範囲に関わる本発明を限定するものではなく、また、本実施形態で説明されている特徴の組み合わせの全てが本発明の解決手段に必須のものとは限らない。
【００１４】
［装置の全体構成］
図１は、本発明の一実施形態における光干渉断層撮影装置の全体構成の概略を示す図である。本光干渉断層撮影装置は、偏光ＯＣＴ（Ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ  Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  ＯＣＴ；以下、ＰＳ−ＯＣＴ）部１００、および制御部２００から構成される。
【００１５】
＜ＰＳ−ＯＣＴ部１００の構成＞
ＰＳ−ＯＣＴ部１００の構成について、以下に説明する。
【００１６】
本ＰＳ−ＯＣＴ部１００では、光源１０１に、低コヒーレント光源であるＳＬＤ光源（Ｓｕｐｅｒ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ  Ｄｉｏｄｅ）を用いている。該ＳＬＤ光源は、例えば、中心波長が８５０ｎｍ、バンド幅が５０ｎｍの光を出射する。なお、ここでは光源１０１としてＳＬＤ光源を用いたが、ＡＳＥ光源（Ａｍｐｌｉｆｉｅｄ  Ｓｐｏｎｔａｎｅｏｕｓ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ）等、低コヒーレント光が出射できる光源であれば何れを用いても良い。
【００１７】
光源１０１から出射された光は、ＳＭ（Ｓｉｎｇｌｅ  Ｍｏｄｅ）ファイバ１３４、偏光コントローラ１０３、コネクタ１３５、偏波保持ファイバ１０２を介して、ファイバカップラ１０４に導かれる。該ファイバカップラ１０４は、偏光保持機能を有した光分割手段として機能する。該ファイバカップラ１０４に導かれた光は、該ファイバカップラ１０４により測定光（ＯＣＴ測定光とも言う）と参照光（ＯＣＴ測定光に対応する参照光とも言う）とに分割される。
【００１８】
偏光コントローラ１０３は、光源１０１から出射された光の偏光の状態を調整するために用いられる。該偏光コントローラ１０３により、射出光は直線偏光光に調整される。
【００１９】
ファイバカップラ１０４により分割された測定光は、偏波保持ファイバ１０５を介してコリメータ１０６から平行光として出射される。出射された測定光は、Ｘスキャナ１０７、レンズ１０８、レンズ１０９、Ｙスキャナ１１０、ミラー１１１、レンズ１１２、およびλ／４偏光板１１３を経て被検眼１１５の眼底Ｅｒに導かれる。
【００２０】
Ｘスキャナ１０７は、眼底Ｅｒにおいて測定光を水平方向にスキャンするガルバノミラーから構成される。Ｙスキャナ１１０は、眼底Ｅｒにおいて測定光を垂直方向にスキャンするガルバノミラーから構成される。Ｘスキャナ１０７およびＹスキャナ１１０は、駆動制御部１８０により制御され、眼底Ｅｒの所望の範囲（断層画像の取得範囲、断層画像の取得位置、測定光の照射位置とも言う）で測定光を走査することができる。
【００２１】
ミラー１１１により反射された測定光は、レンズ１１２を介し、測定光の光軸に垂直な面内で４５°傾けて設置されたλ／４偏光板１１３（偏光調整部材の一例）を通過する。該λ／４偏光板１１３を通過することで測定光の位相が９０°ずれ、該測定光は円偏光の光に偏光制御される。なお、λ／４偏光板１１３は、例えば、偏光ビームスプリッタを内蔵したファイバカップラ１２３の偏光分割面の光軸からの傾きと対応した角度（配置状態の一例）で光軸に対して傾けて配置されることが好ましい。本実施形態では、該λ／４偏光板１１３は、測定光の光軸に垂直な面内で２２．５°だけＰ偏光からＳ偏光へ傾けて設置されている。
【００２２】
円偏光に偏光制御された測定光は、被検体である被検眼１１５の前眼部Ｅａを介し、眼底Ｅｒの網膜層にフォーカスされる。眼底Ｅｒを照射した測定光は各網膜層で反射或いは散乱し、戻り光として被検眼１１５から射出され、該戻り光を導光する偏波保持ファイバ１０５を含む上述の光学経路を経てファイバカップラ１０４に戻る。該測定光は、λ／４偏光板１１３を二度通過することで直線偏光の光となり、この状態でファイバカップラ１０４に戻ることになる。なお、該偏波保持ファイバ１０５は、本実施形態において、ファイバカップラ１０４から射出した測定光が戻り光として再びファイバカップラ１０４に入射する経路に配置されて測定光および戻り光を導光する第二の導光手段（第二の光ファイバ）を構成する。
【００２３】
ファイバカップラ１０４で分割された参照光は、該参照光を導光するための偏波保持ファイバ１１７を介してコリメータ１１８から平行光として出射される。出射された参照光は、測定光と同様に、参照光の光軸に垂直な面内で２２．５°だけＰ偏光からＳ偏光へ傾けて設置されたλ／４偏光板１１９で偏光制御される。参照光は、更に分散補償ガラス１２０を介し、コヒーレンスゲートステージ１２１上のミラー１２２で反射され、同一光路を逆に辿ってファイバカップラ１０４に戻る。該参照光は、λ／４偏光板１１９を二度通過することで直線偏光の光となり、この状態でファイバカップラ１０４に戻ることになる。なお、該偏波保持ファイバ１１７は、本実施形態において、ファイバカップラ１０４から射出した参照光が再びファイバカップラ１０４に入射する経路に配置されて該参照光を導光する第一の導光手段（第一の光ファイバ）を構成する。
【００２４】
なお、参照光の光路長は、被検者の眼軸長の相違等に対応して変更されることを要する。このため、コヒーレンスゲートステージ１２１は駆動制御部１８０によって参照光の光軸方向に移動するように制御され、参照光路上のミラー１２２の位置を駆動制御する。
【００２５】
ところで、偏波保持ファイバ、例えばＰＡＮＤＡ（Ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ−Ｍａｉｎｔａｉｎｉｎｇ  ＡＮＤ  Ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ−ｒｅｄｕｃｉｎｇ）ファイバはファイバ内に大きな複屈折率を与えることにより、外力等でファイバの屈折率変化が生じても偏波面を保持できるような構造をとっている。しかし、複屈折があるため、ｓｌｏｗ軸に沿った向きの偏光成分（以下、ｓｌｏｗ軸偏光）と、ｓｌｏｗ軸と直交したｆａｓｔ軸に沿った向きの偏光成分（以下、ｆａｓｔ軸偏光）との間で、ファイバ内の伝搬速度が異なる。
【００２６】
また、例えばＰＡＮＤＡファイバの入射端にｆａｓｔ軸偏光からなる光を入射させたとき、射出面ではｆａｓｔ軸偏光と、クロスカップリングによりｆａｓｔ軸偏光から漏洩したｓｌｏｗ軸偏光の両方の偏光成分が射出される。すなわち、ファイバ内に２つの速度の光が生じ、この光が例えばファイバ端等で反射した場合、互いに干渉して干渉光を生成する。この干渉光によって、各々の偏光光の光路長差に相当する位置に対応した干渉信号が発生し、その結果ＯＣＴの干渉信号にノイズが生じてしまう。これを回避する方法としては、直交する偏光成分のファイバ内での光路長差がＯＣＴの撮影深さ範囲よりも大きくなるように、ファイバ長さを選択する方法が考えられる。この方法の一例としてＯＣＴの撮影深さ範囲が２ｍｍである場合について以下に述べる。
【００２７】
一般的に、ファイバを伝搬するｓｌｏｗ軸偏光とｆａｓｔ軸偏光の位相差が一波長分（２π）となる長さを表すビート長が、偏波保持ファイバの仕様として謳われている。
【００２８】
ここで、ビート長：ＬＢ＝λ／Ｂ、λ：波長、およびＢ：複屈折である。
【００２９】
複屈折は、ｓｌｏｗ軸とｆａｓｔ軸の屈折率の差であるから、複屈折にファイバ長さを乗じたものがＯＣＴの撮影深さ範囲よりも大きくなれば、直交する偏光成分のファイバ内の光路長差がＯＣＴの撮影深さ範囲を超えることになる。従って、この条件下であれば、二つの偏光成分の干渉に起因するノイズは撮影範囲外にあらわれることになる。
【００３０】
よって、上述した干渉によるノイズの影響を避けるために必要なファイバ長さＬＦは、ＯＣＴの撮影深さ範囲（ｚ）が２ｍｍ、ビート長（ＬＢ）が３ｍｍ、使用波長（λ）が８５０ｎｍ、ファイバ屈折率（ｎｆ）が１．５であれば、
ＬＦ＝ｚ×ｎｆ×ＬＢ／λ
なる関係式により１０．６ｍとなる。よって、本実施形態における第二の導光手段である偏波保持ファイバ１０５、および第一の導光手段である偏波保持ファイバ１１７それぞれの長さを、この必要なファイバ長さＬＦ＝１０．６ｍより長くする必要がある。即ち、偏波保持ファイバは、少なくとも１０ｍ以上の長さを有することが必要となる。
【００３１】
合波手段であるファイバカップラ１０４に戻った測定光（戻り光）と参照光とは、該ファイバカップラ１０４により合波されて合波光（干渉光）とされる。該合波光は、その後偏光ビームスプリッタを内蔵した偏光分割手段であるファイバカップラ１２３に導かれる。該合波光は、ファイバカップラ１２３によって、異なる偏光方向の光（本実施形態では、異なる偏光であるＰ偏光の光とＳ偏光の光、）に分割比５０：５０で分割される。
【００３２】
分割後のＰ偏光の光は、偏波保持ファイバ１２４、コリメータ１３０を介し、グレーティング１３１により分光され、更にレンズ１３２を介して検出手段であるラインカメラ１３３で受光される。同様に、分割後のＳ偏光の光は、偏波保持ファイバ１２５、およびコリメータ１２６を介し、グレーティング１２７により分光され、更にレンズ１２８を介して、検出手段であるラインカメラ１２９で受光される。なお、グレーティング１２７および１３１、およびラインカメラ１２９および１３３は、対応する各偏光の方向に合わせて配置されている。
【００３３】
ラインカメラ１２９および１３３でそれぞれ受光した光は、光の強度に応じた電気信号として出力され、当該電気信号は信号処理部１９０で受けられる。これらラインカメラは合波光を分割して得た互いに異なる偏光の光を検出する検出手段を構成する。
【００３４】
＜制御部２００＞
次に、本実施形態において本装置全体を制御するための制御部２００について説明する。
【００３５】
本実施形態において、制御部２００は、駆動制御部１８０、信号処理部１９０、表示制御部（不図示）、および表示部（不図示）から構成される。
駆動制御部１８０は、上述の通りＰＳ−ＯＣＴ部１００の各部を制御する。
【００３６】
信号処理部１９０は、画像生成手段である画像生成部１９１と画像解析手段である画像解析部１９２を有する。画像生成部１９１は、上述した異なる偏光に基づいて、各々の偏光の光に基づく断層画像、および後述する輝度画像、リターデーション画像、およびＤＯＰＵ画像といった複数の断層画像を生成する。画像解析部１９２は、得られた画像に基づいて網膜の各層の特定、血管の判別等の各種解析処理を行う。信号処理部１９０は、これら各部を用いて、ラインカメラ１２９および１３３等の各検出器から出力される信号に基づき、画像の生成、生成された画像の解析、および解析結果の可視化情報の生成を行う。なお、画像の生成、および解析等の詳細については後述する。
【００３７】
不図示の表示制御部は、信号処理部１９０より取得或いは生成した画像等を、例えば液晶等のディスプレイに例示される表示部の表示画面に表示させる。
【００３８】
［画像処理］
＜断層画像生成および眼底画像生成＞
上述した画像生成部１９１は、ラインカメラ１２９および１３３から出力されたそれぞれの干渉信号に対して、一般的なＳＤ−ＯＣＴ（Ｓｐｅｃｔｒａｌ  Ｄｏｍａｉｎ  ＯＣＴ）に用いられる再構成処理を行う。具体的には、画像生成部１９１は、干渉信号にフーリエ変換等の処理を施すことによって断層信号（偏光状態を示す断層信号とも言う）を生成する。この処理を２つの偏光成分の干渉信号の各々に対して行うことにより、２つの断層信号ＡＨ、ＡＶが生成される。本実施形態においては、これら断層信号ＡＨ、ＡＶに基づいて、Ｐ波断層画像とＳ波断層画像とがそれぞれ生成される。
【００３９】
＜輝度画像生成＞
画像生成部１９１は、上述した２つの断層信号から、更に上述した断層画像とは異なる輝度画像を生成する。
輝度画像は従来のＯＣＴにおける断層画像と基本的に同じもので、信号取得領域の各画素の画素値に基づいて生成される。しかし、その画素値ｒは、各ラインカメラ１２９、１３３から得られた断層信号ＡＨおよびＡＶから式１によって計算される。
【００４０】
【数１】
2017169863.tif 000003
【００４１】
＜リターデーション画像生成＞
画像生成部１９１は、更に、互いに直交する偏光成分の断層画像からリターデーション画像を生成する。
【００４２】
リターデーション画像の各画素の値δは、断層画像を構成する各画素の位置において、垂直偏光成分と水平偏光成分の間の位相差を数値化したものであり、各断層信号ＡＨおよびＡＶから式２によって計算される。
【００４３】
【数２】
2017169863.tif 000004
リターデーション画像を生成することにより、本実施形態では網膜層中における複屈折性のある層を把握することが可能となる。
【００４４】
＜ＤＯＰＵ画像生成＞
画像生成部１９１は、取得した断層信号ＡＨ、ＡＶとそれらの間の位相差ΔΦから、各画素毎にストークスベクトルＳを式３により計算する。
【００４５】
【数３】
2017169863.tif 000005
ただし、位相差ΔΦは２つの断層画像を計算する際に得られる各信号の位相ΦＨ、ΦＶからΔΦ＝ΦＶ−ΦＨとして計算する。
次に各Ｂスキャン画像を概ね測定光の主走査方向に７０μｍ、深度方向に１８μｍ程度の大きさのウィンドウを設定する。その後、各ウィンドウ内において式４で画素毎に計算されたストークスベクトルの各要素を平均し、当該ウィンドウ内の偏光の均一性ＤＯＰＵ（Ｄｅｇｒｅｅ  Ｏｆ  Ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ  Ｕｎｉｆｏｒｍｉｔｙ）を式４により計算する。
【００４６】
【数４】
2017169863.tif 000006
ただし、Ｑｍ、Ｕｍ、Ｖｍは各ウィンドウ内のストークスベクトルの要素Ｑ，Ｕ，Ｖを平均した値である。この処理をＢスキャン画像内の全てのウィンドウに対して行うことで、ＤＯＰＵ画像（偏光の均一度を示す断層画像とも言う）が生成される。
【００４７】
ＤＯＰＵは偏光の均一性を表す数値であり、偏光が保たれている個所においては１に近い数値となり、偏光が解消された保たれない箇所においては１よりも小さい数値となるものである。網膜内の構造においては、ＲＰＥが偏光状態を解消する性質があるため、ＤＯＰＵ画像においてＲＰＥに対応する部分は、他の領域に対してその値が小さくなる。
なお、本明細書において、上述した第一および第二の偏光に対応する断層画像、リターデーション画像、およびＤＯＰＵ画像等を、偏光状態を示す断層画像とも言う。
【００４８】
さて、前述した通り、ＰＳ−ＯＣＴでは直交する二つの偏光光であるＰ波とＳ波それぞれの断層画像を取得或いは生成することで偏光パラメータを画像化している。そのため、Ｐ波の断層画像（Ｐ波断層画像）とＳ波の断層画像（Ｓ波断層画像）の位置が略一致していることが必要となる。
【００４９】
一方、偏波保持ファイバのクロスカップリング起因のノイズがＯＣＴ撮影範囲内に生じることを回避するためには、本実施形態の光干渉断層撮像装置では偏波保持ファイバの長さは少なくとも１０ｍ程度の長さが必要となることはすでに述べた。
【００５０】
上述したＰＳ−ＯＣＴ部１００は、外装部と呼ばれる筐体によってその主たる光学系が収納されて、装置が構成されている。なお、外装部は上述した光学系等の構成要素を全て収納する必要はなく、本実施形態では少なくともファイバカップラ１０４、これを含む参照光の光路に配置される構成および測定光の光路に配置される構成の一部が収納されればよい。従って、該外装部は、第一の収納手段としても把握できる。
【００５１】
ここで、装置内、即ち外装部の内部に這いまわした第二の導光手段としての偏波保持ファイバ１０５と第一の導光手段としての偏波保持ファイバ１１７とを、それぞれ周囲の雰囲気の温度が異なる装置内の場所に配置した場合を考える。この場合、それぞれの配置における温度差分だけ、偏波保持ファイバ１０５と偏波保持ファイバ１１７にファイバ長さの相互差が生じる。例えば、ファイバ長さ１０ｍ、石英ガラスの線膨張係数が０．５×１０−６としたとき、温度差が１０度とするとファイバ長さは５０μｍの差が生じる。偏波保持ファイバはｓｌｏｗ軸とｆａｓｔ軸で屈折率が異なる複屈折性を有している。温度による複屈折の変化によるｓｌｏｗ軸とｆａｓｔ軸の光路長変化が仮にファイバ長さの３０％とすると、ｓｌｏｗ軸とｆａｓｔ軸の光路差が１５μｍ生じることとなり、ＰＳ−ＯＣＴのＰ波断層画像とＳ波断層画像の相対位置も同じだけずれる。
【００５２】
図２は、Ｐ波断層画像とＳ波断層画像の相対位置ずれを模式的に示している。横軸は断層画像の深さ方向（ｚ）の距離、縦軸は断層信号の強度である。図２では、Ｐ波断層画像とＳ波断層画像は深さ方向に相対的に△Ｚだけずれている。
【００５３】
リターデーション画像の各画素の値δは、断層画像を構成する各画素の位置において、垂直偏光成分と水平偏光成分の間の位相差を数値化したもので、強度比を角度に換算したものである。よって、Ｐ波断層画像とＳ波断層画像の相対位置ずれはリターデーション画像の劣化を生じさせることとなる。
【００５４】
このようなリターデーション画像の劣化を防ぐためには、装置内の温度変化により生じる、偏波保持ファイバ１０５と偏波保持ファイバ１１７とにおける各々のファイバ長さの変化の差はできる限り小さい方が望ましい。そのためには、偏波保持ファイバ１０５と偏波保持ファイバ１１７とは、外装部以外の部材にて覆われ、外装部内の空間とは分離された略閉鎖空間を形成する収納手段（外装部を第一の収納手段とした場合には第二の収納手段と称する。）に収納されていることが望ましい。該収納手段の内部空間の温度を制御することにより偏波保持ファイバ１０５と偏波保持ファイバ１１７とが置かれる空間での温度差を抑制できる。これにより、これらファイバにおける温度変化の差に起因するファイバ長さの差を小さくすることができる。なお、本実施形態では、第二の収納手段は光分割手段や合波手段に対応するファイバカップラ１０４を収納しない場合について例示しているが、該第二の収容手段はファイバカップラ１０４を収納する形態とすることも可能である。
【００５５】
図３は、本実施形態における収納手段の一例を示している。偏波保持ファイバ１０５および偏波保持ファイバ１１７は同一のファイバ保持部材３０１に巻きつけられている。なお、ファイバを固定、或いは保持する方法は図３のように部材に巻きつける様式に限らず、円上に配置して別の部材で押さえつけて保持する様式でも、その他の保持様式でも良い。本実施形態では、更に、巻き付けた偏波保持ファイバを略閉鎖空間に収納する密閉部材３００が配置される。該密閉部材３００は、偏波保持ファイバ１０５および偏波保持ファイバ１１７の外側を覆うような同一且つ単一の収納手段として配置される。
即ち、密閉部材３００は、偏波保持ファイバ１０５および偏波保持ファイバ１１７を、同一の空間に収容する。ここで、本例では両ファイバは同一空間内に収容されることとしたが、内部の気体の温度が均一に保持可能であれば、部分的に連通する二つの空間の各々にこれらファイバを分けて配置してもよい。この場合、密閉部材３００の形成する空間は略同一の空間と称する。ファイバをなお、密閉部材３００には、偏波保持ファイバを該略密閉空間内に引き込むための入口開口および引き出すための出口開口が設けられている。これら開口はファイバを傷めないため、或いは曲げ等を可能とするためにファイバ径よりも大きく設定されている場合がある。しかし、この開口で生じるファイバと密閉部材開口周囲との隙間は、空間内の温度に対する影響が無視できる大きさであることから、本発明では当該空間を閉鎖空間と称呼することとする。
【００５６】
本実施形態によれば、偏波保持ファイバを閉鎖空間に収納することで偏波保持ファイバが収納される空間の温度が略均一化される。また、その際、これら偏波保持ファイバを略閉鎖空間に収納する収納手段は、外部空間との熱の伝達を遮断する機能を有する熱伝導性の低い部材より構成することが好ましい。更には、該収納手段に対しては、該閉鎖空間の内部温度を検出する温度検出手段と、検出された温度に応じて冷却或いは加熱を行って内部温度を制御する温度制御手段を配することが好ましい。
【００５７】
更に、収納手段である密閉部材３００内の温度を調整するために、密閉部材３００の壁面に温度制御手段であるファン（不図示）を配置してもよい。この場合、工場での調整時の温度を光干渉断層撮影装置内、或いは制御装置におけるメモリ等の記憶手段に記憶させておく。このとき、想定される実際の使用環境の温度から、閉鎖空間の内部温度を工場の調整時の温度に設定してもよい。温度の設定は、例えば槽の温度を変えられるような恒温槽内に密閉部材３００等を配置した状態で行うことができる。そして、実際に病院等に装置を設置して被検眼を撮影する際には、密閉部材３００内の温度を温度センサで検知して、温度が装置内に記憶された所望の温度になるようにファン等の温度制御手段を駆動させる。なお、温度制御の観点からは収納手段は密閉された空間内に偏波保持ファイバを収納することが好ましいが、該偏波保持ファイバの温度管理が可能であれば、密閉されることを要さない。
【００５８】
ここで、温度検出手段である温度センサとしては、例えば熱電対等を用いることができる。また、温度制御手段としては、ファン以外にも、例えばヒータ、ペルチェ素子等を用いることができる。また、密閉部材３００内の空間の温度を制御する態様ではなく、偏波保持ファイバが巻き付けられて密着している保持手段たるファイバ保持部材３０１の温度を制御する態様としてもよい。この場合、温度センサはファイバ保持部材３０１の温度を測定する態様としてもよい。また、該ファイバ保持部材３０１はファイバが巻き付けられるリール形状を有するが、ファイバに密着して一定の形態で該ファイバを保持することが可能であればこのリール形状に限定されない。例えば、温度制御手段は、ファイバ保持部材がファイバに密着或いは接触してこれを保持し、その接触する部分を介して状態でファイバの温度を直接管理するように、ファイバ保持部材に設けてもよい。
【００５９】
次に、本実施形態における変形例を図４に示す。本例では、偏波保持ファイバ１０５と偏波保持ファイバ１１７の各々が、リール形状を有して近接して配置される異なるファイバ保持部材３０３およびファイバ保持部材３０４に巻きつけられている。巻きつけられた偏波保持ファイバ１０５および偏波保持ファイバ１１７に対しては、更にその外側を覆うように同一の収納手段である密閉部材３０２が配置されている。更に、密閉部材３０２には、壁面の一部が開閉可能に構成された取り出し部（不図示）が配置されており、リールに巻きつけた状態で偏波保持ファイバを密閉部材３０２から取り出し可能に構成されている。これにより、ファイバの損傷等による部品の交換を容易に行うことができる。
【００６０】
次に、本実施形態における別の変形例を図５に示す。本例において、偏波保持ファイバ１０５はファイバ保持部材３０６に巻きつけられ、その外側を覆うように収納手段である密閉部材３０５が配置されている（図５（ａ））。また、偏波保持ファイバ１１７はファイバ保持部材３０８に巻きつけられ、その外側を覆うように密閉部材３０５とは異なる収納手段である密閉部材３０７が配置されている（図５（ｂ））。各偏波保持ファイバを各々異なる密閉部材に収納することにより、温度変化に起因するファイバ長さの差を小さく抑えることができる。
【００６１】
ここで、密閉部材３０５と密閉部材３０７は、図６に示すように重ねてほぼ近接した状態で配置してもよい。ほぼ近接して配置させることにより、別々の密閉部材内の温度の差を小さく抑えることができる。なお、本実施形態では、外装部の内部に閉鎖空間を構成する収納手段を配してこの収納手段内部に偏波保持ファイバを配置している。しかし、外装部の内部空間の内部温度、或いは偏波保持ファイバを配置する空間の温度が管理可能であれば、収納手段が閉鎖空間を構成しなくともよい。即ち、偏波保持ファイバを温度的に安定した空間に保持可能であり、且つ温度変化の激しい領域と該空間との気流の流れを遮断することが可能であれば、収納手段としての機能を果たし得る。なお、このような収納手段の内部に両偏波保持ファイバが配置される場合、これらファイバ間での温度差の発生を抑制するために、これらファイバは該収納手段中において同一の箇所に配置されることが好ましい。この場合、二つのファイバを同一箇所に配置することは原理的に不可能であり、ここで述べる同一箇所とは、ファイバ周囲の温度を同一に維持し易い場所を意味し、略同一箇所として把握されることが好ましい。
【００６２】
また、密閉部材３０５および密閉部材３０７の何れか一方、又は、両方に、温度検出手段である温度センサ（不図示）や温度制御手段であるファン（不図示）等を配置してもよい。前述のように密閉部材内の温度を制御することにより、別々の密閉部材内の温度の差を小さく抑えることができる。
【００６３】
次に、偏波保持ファイバ１０５と偏波保持ファイバ１１７の温度に起因する長さの変化分を補正することで装置内の温度変化による影響を小さくする手法を挙げる。
【００６４】
まず、偏波保持ファイバ１０５と偏波保持ファイバ１１７は上述した図３に示した例のように、本実施形態では密閉部材３００により略閉鎖空間に収納されている。ここでは、密閉部材３００の内部の温度を検出するために、温度検出手段である温度センサ（不図示）を配置する。該温度センサは、偏波保持ファイバが置かれる空間内の温度を測定するように配置されることが好ましいが、これに代えて密閉部材３００の温度や部材３０１の温度を測定することで偏波保持ファイバの温度を推定する態様でもよい。このような構成を付加することにより、温度センサにより密閉部材内部の空間の温度がリアルタイムで検出できる。
【００６５】
以上では、ファイバの温度を管理して好適な断層画像を得る方法について述べた。次に、画像生成の際にファイバの温度変化の影響を考慮して、実際に温度センサを用いて補正する手法について述べる。
光干渉断層撮影装置を工場で組立てる際には、検査前の最終工程として該光干渉断層撮影装置の補正工程を設けて駆動動作についての装置補正等を行うことが多い。本実施形態の場合、この補正工程において、温度センサを使って偏波保持ファイバの収納環境の補正を、装置補正と合わせて行う。実際の補正工程では、被検眼の位置に反射ミラーを設置して、Ｐ波断層画像とＳ波断層画像とを取得或いは生成する。組立工程で正しく調整された装置であれば、取得したＰ波断層画像とＳ波断層画像の位置は一致している。しかし、上述した通り、装置内の温度、より詳細には偏波保持ファイバの収納環境での温度が組立工程の調整時から変化すると、断層画像の相対位置がずれる場合がある。
【００６６】
この対策として、断層画像の相対的ずれ量と収納環境より得た温度センサの値との相関として、その対応関係を予め取得しておく。取得方法としては、例えば、上述した恒温槽の中に装置を入れて、恒温槽内の温度を変えながら温度センサの値とＰ波断層画像とＳ波断層画像の相対位置ずれ量の関係を装置内に記憶させる。図７は、温度に対するＰ波断層画像とＳ波断層画像の相対位置ずれ量の関係の一例を模式的に示している。同図において、横軸は温度、縦軸は相対位置のずれ量である。組立工程の調整時の温度をＴ０としており、このとき相対位置ずれ量△Ｚが小さくなるように装置は調整されている。
【００６７】
図７に模式的に示したように、温度ＴがＴ０からＴ１に低下したり、又は、Ｔ０からＴ２に上昇したりすると相対位置のずれ量△Ｚが変化する。想定される使用環境の所定の温度範囲において、各温度における△Ｚの値を該光干渉断層撮影装置に記憶させる。信号処理部１９０では装置内に記憶したそれぞれの値から温度と相対位置のずれ量の関係式を生成し、記憶した後、補正工程を終了させる。ここで、関係式は、例えば最小二乗法による多項式フィッティング等で求めることができる。
【００６８】
一方、実際に病院等に装置を設置して被検眼を撮影する際には、その時の偏波保持ファイバが収納された密閉部材３００内の温度を温度センサで検知する。信号処理部１９０は、工場の補正工程で生成した温度と相対位置ずれ量の関係式から相対位置ずれ量を算出し、装置に記憶する。その後、被検眼を撮影しＰ波断層画像とＳ波断層画像を取得する際に、記憶しておいた相対位置ずれ量分だけ互いの画像の表示位置、即ち断層画像を補正する。これらの補正により装置内に温度変化が生じた場合でもＰ波断層画像とＳ波断層画像の相対位置が正しくなり、所望の断層画像が取得できる。
【００６９】
次に、変形例として、図５に示したように偏波保持ファイバ１０５と偏波保持ファイバ１１７とが別々の密閉部材３０５および密閉部材３０７に配置されている場合の画像補正の方法について述べる。密閉部材３０５および密閉部材３０７は、それぞれ内部の温度を検出するために温度検出手段である温度センサ（不図示）が配置されている。該温度センサにより密閉部材３０５内部の空間の温度と密閉部材３０７内部の空間の温度とがそれぞれリアルタイムで検出できる。ここで先の例と同様に、例えば、恒温槽の中に光干渉断層撮影装置を入れて、恒温槽内の温度を変えながら各温度センサの値とＰ波断層画像とＳ波断層画像との相対位置のずれ量との関係を予め光干渉断層撮影装置に記憶させておく。このとき、別々の密閉部材３０５および密閉部材３０７の内部の温度を個別に変化させ、各温度差に対する相対位置ずれ量の値を該光干渉断層撮影装置に記憶させておくことが好ましい。
【００７０】
信号処理部１９０では記憶したそれぞれの値から温度差と相対位置のずれ量との関係式を生成し、記憶させる。実際に病院等に装置を設置して被検眼を撮影する際には、その時の各偏波保持ファイバが収納された密閉部材３０５および密閉部材３０７のそれぞれの温度を温度センサで検知する。信号処理部１９０は、工場の補正工程で生成した温度差と相対位置のずれ量との関係式から相対位置ずれ量を算出し、これを光干渉断層撮影装置に記憶する。その後、被検眼を撮影しＰ波断層画像とＳ波断層画像を取得する際に、記憶しておいた相対位置ずれ量分だけ画像を補正する。
【００７１】
ここで、前述の補正工程において、別々の密閉部材３０５および密閉部材３０７の内部の温度を個別に変化させ、各温度の組み合わせに対する相対位置ずれ量の値をテーブルとして装置内に記憶させてもよい。この場合、実際に病院等に光干渉断層撮影装置を設置して被検眼を撮影する際には、密閉部材３０５と密閉部材３０７の内部の温度を前述の温度センサで検知し、導出手段である信号処理部（不図示）は、各温度の組み合わせと相対位置ずれ量のテーブルから相対位置ずれ量を算出し、該光干渉断層撮影装置に記憶する。その後、被検眼を撮影しＰ波断層画像とＳ波断層画像を取得する際に、記憶しておいた相対位置ずれ量分だけ互いの画像の表示位置を補正する。この画像の表示位置等の画像補正は、画像解析部１９２が画像補正手段として機能することにより実行される。
【００７２】
これにより、装置内に温度変化が生じた場合でも、各偏波保持ファイバの温度差の影響を小さく抑えることにより、Ｐ波断層画像とＳ波断層画像の相対的な表示位置のずれ量を小さく抑えることができる。
【００７３】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことは言うまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。例えば、本実施形態ではマイケルソン干渉計方式を用いて干渉信号を得ているが、マッハツェンダ干渉計方式を用いた場合でも、同様の効果が得られる。
【００７４】
また、本実施形態では、偏光保持機能を有した光分割手段としてファイバカップラを使用したファイバ光学系を用いている。しかし、これに代えて、コリメータレンズと偏光ビームスプリッタを使用した空間光学系を光分割手段として用いてもよい。
【００７５】
また、本実施形態では、低コヒーレント光源とグレーティングを使用したＳＤ−ＯＣＴ方式の光干渉意断層撮影装置を用いた例を示しているが、波長掃引光源を使用したＳＳ−ＯＣＴ方式を用いてもよい。
【００７６】
（その他の実施形態）
また、本発明は、上述した実施形態に示した構成を有する光干渉断層撮影装置において、装置設置時、或いは装置可動時において上述した補正操作を行うための当該装置の作動方法もその一態様に含んでいる。本発明は、この制御方法において定義される各工程を実現するプログラムを、ネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける１つ以上のプロセッサーがプログラムを読出し実行する処理としても実施可能である。また、１以上の機能を実現する回路（例えば、ＡＳＩＣ）によっても実施可能である。
【００７７】
また、本発明は、上述した実施形態では、被検体が眼の場合について述べているが、眼以外の皮膚や臓器等の被検体に本発明を適用することも可能である。この場合、本発明は眼科装置以外の、例えば内視鏡等の医療機器としての態様を有する。従って、本発明は眼科装置に例示される光干渉断層撮影装置として把握され、被検眼は被検体の一態様として把握されることが望ましい。
【図１】
2017169863.tif 000007
【図２】
2017169863.tif 000008
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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