(57)【要約】      （修正有）【課題】第１基板及び第２基板の接着強度を向上することが可能な液晶表示装置を提供する。【解決手段】スイッチング素子と、表示領域ＤＡ及び周辺領域ＮＤＡに設けられたカラーフィルタＣＦと、カラーフィルタＣＦ上に設けられた絶縁層ＩＬと、を備える第１基板１００と、第１基板１００の上方に設けられた第２基板２００と、第１基板１００及び第２基板２００の間に設けられた液晶層ＬＣと、周辺領域ＮＤＡにおいて液晶層ＬＣの周囲に設けられたシール部ＳＥと、を備え、周辺領域ＮＤＡに位置する絶縁層ＩＬには凹部ＣＣが形成され、シール部ＳＥは、凹部ＣＣの上に位置している。【選択図】図４Ａ
2017116658.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スイッチング素子と、表示領域及び周辺領域に設けられたカラーフィルタと、前記カラーフィルタ上に設けられた絶縁層と、を備える第１基板と、
前記第１基板の上方に設けられた第２基板と、
前記第１基板及び前記第２基板の間に設けられた液晶層と、
前記周辺領域において前記液晶層の周囲に設けられたシール部と、を備え、
前記周辺領域に位置する前記絶縁層には凹部が形成され、
前記シール部は、前記凹部の上に位置している、液晶表示装置。
【請求項２】
前記凹部の下面は、平面視で前記カラーフィルタと異なる位置に設けられている、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記凹部は、平面視で前記カラーフィルタと重畳する位置に設けられている、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記シール部は、前記凹部に接触している、請求項２または３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記カラーフィルタは、複数重畳している、請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
複数重畳した前記カラーフィルタの最上面は、前記絶縁層の上面より上に設けられている、請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記シール部は、前記カラーフィルタに接触している、請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記周辺領域の前記カラーフィルタと、前記表示領域の前記カラーフィルタとは、同層に設けられている、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記周辺領域の前記カラーフィルタは、隙間をおいて並んだ複数本の帯状、または、複数個の島状に形成されている、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置において、狭額縁化や薄型化の要求に伴い、一対の基板を接着するためのシール部の塗布量が減少する傾向にあり、シール部による接着強度の低下が懸念されている。このような課題に対して、一例として、ＴＦＴ基板の絶縁層に凹部を形成し、この絶縁層とシール部とが凹部で直接接触しつつ、シール部によりＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とを接着する技術が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１３−１９０７１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本実施形態の目的は、第１基板及び第２基板の接着強度を向上することが可能な液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本実施形態によれば、
スイッチング素子と、表示領域及び周辺領域に設けられたカラーフィルタと、前記カラーフィルタ上に設けられた絶縁層と、を備える第１基板と、前記第１基板の上方に設けられた第２基板と、前記第１基板及び前記第２基板の間に設けられた液晶層と、前記周辺領域において前記液晶層の周囲に設けられたシール部と、を備え、前記周辺領域に位置する前記絶縁層には凹部が形成され、前記シール部は、前記凹部の上に位置している、液晶表示装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】図１は、本実施形態に係る表示装置の構成を示す図である。
【図２】図２は、本実施形態に係る表示装置の断面を示す図である。
【図３】図３は、図２に示した第１基板１００のより具体的な構造を示す断面図である。
【図４Ａ】図４Ａは、表示領域ＤＡ及び周辺領域ＮＤＡにおける表示パネルＰＮＬの構成例を示す断面図である。
【図４Ｂ】図４Ｂは、表示領域ＤＡ及び周辺領域ＮＤＡにおける表示パネルＰＮＬの他の構成例を示す断面図である。
【図５】図５は、表示領域ＤＡ及び周辺領域ＮＤＡにおける表示パネルＰＮＬの他の構成例を示す断面図である。
【図６Ａ】図６Ａは、表示領域ＤＡ及び周辺領域ＮＤＡにおける表示パネルＰＮＬの他の構成例を示す断面図である。
【図６Ｂ】図６Ｂは、表示領域ＤＡ及び周辺領域ＮＤＡにおける表示パネルＰＮＬの他の構成例を示す断面図である。
【図７Ａ】図７Ａは、表示領域ＤＡ及び周辺領域ＮＤＡにおける表示パネルＰＮＬの他の構成例を示す断面図である。
【図７Ｂ】図７Ｂは、表示領域ＤＡ及び周辺領域ＮＤＡにおける表示パネルＰＮＬの他の構成例を示す断面図である。
【図８】図８は、周辺領域ＮＤＡにおけるダミーカラーフィルタＣＦＤのレイアウト例を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。
【０００８】
図１は、本実施形態に係る表示装置の構成を示す図である。  
本実施形態において、第１方向Ｘは、例えば表示パネルＰＮＬの短辺方向である。第２方向Ｙは、第１方向Ｘと交差する方向であり、表示パネルＰＮＬの長辺方向である。第３方向Ｚは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙと交差する方向である。
【０００９】
表示装置ＤＳＰは、例えば、液晶表示装置であり、表示パネルＰＮＬ、駆動ＩＣチップＣＰ、フレキシブル回路基板ＦＬなどを備えている。  
表示パネルＰＮＬは、第１基板１００と、第１基板１００に対向配置された第２基板２００と、第１基板１００と第２基板２００との間に保持された液晶層ＬＣと、を備えている。第１基板１００と第２基板２００とは、これらの間に所定のセルギャップを形成した状態でシール部ＳＥによって接着されている。液晶層ＬＣは、第１基板１００と第２基板２００との間のセルギャップにおいてシール部ＳＥによって囲まれた内側に保持されている。表示パネルＰＮＬは、シール部ＳＥによって囲まれた内側に、画像を表示する表示領域ＤＡを備えている。表示領域ＤＡは、複数の画素ＰＸによって構成されている。図示した例では、表示領域ＤＡは、四角形状に形成されているが、他の多角形状に形成されても良いし、円形状あるいは楕円形状などの他の形状に形成されても良い。シール部ＳＥは、表示領域ＤＡよりも外側の周辺領域（非表示領域）ＮＤＡに位置している。
【００１０】
駆動ＩＣチップＣＰ及びフレキシブル回路基板ＦＬは、第２基板２００よりも外側に延出した第１基板１００の実装部ＭＴに実装されている。
【００１１】
各画素ＰＸは、スイッチング素子ＳＷ、画素電極ＰＥ、共通電極ＣＥ、液晶層ＬＣなどを備えている。スイッチング素子ＳＷは、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）によって構成されている。スイッチング素子ＳＷは、走査線Ｇ及び信号線Ｓと電気的に接続されている。一例では、走査線Ｇは第１方向Ｘに延出し、信号線Ｓは第２方向Ｙに延出している。なお、走査線Ｇ及び信号線Ｓは、直線状に形成されていてもよいし、それぞれの少なくとも一部が屈曲していてもよい。画素電極ＰＥは、スイッチング素子ＳＷと電気的に接続されている。液晶層ＬＱは、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に生じる電界によって駆動される。
【００１２】
なお、表示パネルＰＮＬは、一例では、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙによって規定されるＸ−Ｙ平面（以下、基板主面と称する場合もある）に平行な横電界を利用する表示モードに対応した構成を有している。この場合、表示パネルＰＮＬの第１基板１００は、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの双方を備えている。ただし、表示パネルＰＮＬは、特に表示モードを制限される訳ではなく、基板主面に対して垂直な縦電界や、基板主面に対して斜め方向に傾斜した斜め電界、或いは、それらを組み合わせて利用する表示モードに対応した構成を有していてもよい。縦電界や斜め電界を利用する表示モードでは、例えば第１基板１００が画素電極ＰＥを備え、第２基板２００が共通電極ＣＥを備えた構成が適用可能である。
【００１３】
このような構成の表示装置ＤＳＰは、表示パネルＰＮＬの第１基板１００側から入射する光を各画素ＰＸで選択的に透過することによって画像を表示する透過表示機能を備えた、いわゆる透過型の液晶表示装置に相当する。但し、表示装置ＤＳＰは、表示パネルＰＮＬの第２基板２００側から入射する外光を各画素ＰＸで選択的に反射することによって画像を表示する反射表示機能を備えた、いわゆる反射型の液晶表示装置であっても良いし、透過表示機能及び反射表示機能を備えた、いわゆる半透過型の液晶表示装置であっても良い。透過型については、照明装置として、第１基板１００と対向する位置にバックライトユニットが配置される。反射型あるいは半透過型については、第２基板２００と対向する位置にフロントライトユニットが配置されても良い。以下では、透過型の液晶表示装置を例に説明する。
【００１４】
図２は、本実施形態に係る表示装置の断面を示す図である。図中の第３方向Ｚは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙと直交する方向である。図３は、表示パネルＰＮＬの画素ＰＸ１，ＰＸ２，ＰＸ３における断面の構成を模式的に示している。以下、第１基板１００、第２基板２００、液晶層ＬＱ、および光学素子ＯＤ１，ＯＤ２の主要な構成について順に説明する。なお、以下の説明において、上（上方）とは、例えば、第３方向Ｚの第１基板１００側から第２基板２００側へ向かう方向であるものとし、下（下方）とは、例えば、第３方向Ｚの第２基板２００側から第１基板１００側へ向かう方向であるものとする。
【００１５】
第１基板１００は、主として、絶縁基板１０、スイッチング素子ＳＷ、カラーフィルタＣＦ、配向膜ＡＬ１、等を備えている。  
絶縁基板１０は、例えばガラスや樹脂などの光透過性を有する絶縁材料を用いて形成されている。スイッチング素子ＳＷは、絶縁基板１０の上方に配置されている。カラーフィルタＣＦは、絶縁基板１０およびスイッチング素子ＳＷの上方に配置されている。配向膜ＡＬ１は、カラーフィルタＣＦの上方に配置されている。
【００１６】
カラーフィルタＣＦは、画素ＰＸ１乃至ＰＸ３のそれぞれに対応する領域に設けられたカラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３を備えている。例えば、カラーフィルタＣＦ１は赤色（Ｒ）カラーフィルタであり、カラーフィルタＣＦ２は緑色（Ｇ）カラーフィルタであり、カラーフィルタＣＦ３は青色（Ｂ）カラーフィルタである。カラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３は、例えば、それぞれ赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、または青色（Ｂ）に着色された樹脂で形成されている。樹脂を着色するための色材は、特に限定されるものではなく、例えば顔料が適用されてもよく、染料が適用されてもよい。色材として顔料を利用した場合、耐久性の良好なカラーフィルタＣＦを得ることができる。また、色材として染料を用いた場合、光透過率の高いカラーフィルタＣＦを得ることができ、画素ＰＸの輝度を向上させることができる。なお、カラーフィルタＣＦの色は、特に限定されるものではなく、白色（無着色）などの他の色のカラーフィルタを有していてもよい。
【００１７】
第２基板２００は、第１基板１００の上方に設けられている。第２基板２００は、絶縁基板２０、遮光層ＳＨ、オーバーコート層ＯＣ、スペーサＳＰ、配向膜ＡＬ２等を備えている。  
絶縁基板２０は、例えばガラスや樹脂などの光透過性を有する絶縁材料を用いて形成されている。遮光層ＳＨは、第２絶縁基板２０の下面側に配置され、画素ＰＸ１乃至ＰＸ３をそれぞれ区画している。オーバーコート層ＯＣは、絶縁基板２０の下面側に配置され、遮光層ＳＨを覆っている。スペーサＳＰは、オーバーコート層ＯＣの下面側に配置され、第１基板１００に向かって突出している。スペーサＳＰは、例えば、遮光層ＳＨと対向する領域に配置されている。スペーサＳＰは、第１基板１００と第２基板２００との間にセルギャップを形成している。配向膜ＡＬ２は、オーバーコート層ＯＣの下側に配置されている。配向膜ＡＬ１，ＡＬ２は、液晶表示装置の表示モードに合わせて、水平配向膜または垂直配向膜が適宜適用される。
【００１８】
液晶層ＬＱは、第１基板１００と第２基板２００との間に保持されている。液晶層ＬＱに含まれる液晶分子ＬＭは、例えば、液晶層ＬＱに電界が形成されていない状態では、配向膜ＡＬ１及び配向膜ＡＬ２から配向規制力を受けて初期配向する。
【００１９】
光学素子ＯＤ１は、液晶層ＬＱと照明装置ＢＬとの間に配置されている。光学素子ＯＤ２は、第２基板２００の上に配置されている。光学素子ＯＤ１は第１偏光板ＰＬ１を備え、第２光学素子ＯＤ２は第２偏光板ＰＬ２を備えている。第１偏光板ＰＬ１及び第２偏光板ＰＬ２は、例えば、それぞれの吸収軸が互いに直交するように配置されている。なお、第１光学素子ＯＤ１及び第２光学素子ＯＤ２は、位相差板や表面処理層などの他の機能層を備えていてもよい。
【００２０】
図３は、図２に示した第１基板１００のより具体的な構造を示す断面図である。  
第１基板１００は、絶縁基板１０の上方に、絶縁層１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８、スイッチング素子ＳＷ、カラーフィルタＣＦ、共通電極ＣＥ、画素電極ＰＥ、配向膜ＡＬ１などを備えている。スイッチング素子ＳＷは、半導体層ＳＣ、ゲート電極ＷＧ、ソース電極ＷＳ、及び、ドレイン電極ＷＤを備えている。なお、図示した例では、スイッチング素子ＳＷは、シングルゲート構造のトップゲート型の薄膜トランジスタであるが、ダブルゲート構造であっても良いし、ボトムゲート型の薄膜トランジスタであっても良い。
【００２１】
絶縁層１１は、絶縁基板１０の上に位置している。絶縁層１２は、絶縁層１１の上に位置している。半導体層ＳＣは、絶縁層１２の上に位置している。絶縁層１３は、絶縁層１２及び半導体層ＳＣの上に位置している。ゲート電極ＷＧは、絶縁層１３の上に位置している。絶縁層１４は、絶縁層１３及びゲート電極ＷＧの上に位置している。絶縁層１５は、絶縁層１４の上に位置している。ソース電極ＷＳ及びドレイン電極ＷＤは、絶縁層１５の上に位置し、それぞれ絶縁層１３乃至１５を貫通するコンタクトホールＣＨ１及びＣＨ２を介して半導体層ＳＣに接続されている。絶縁層１６は、絶縁層１５、ソース電極ＷＳ及びドレイン電極ＷＤの上に位置している。カラーフィルタＣＦは、絶縁層１６の上に位置している。絶縁層１７は、カラーフィルタＣＦの上に位置している。共通電極ＣＥは、絶縁層１７の上に位置している。絶縁層１８は、絶縁層１７及び共通電極ＣＥの上に位置している。画素電極ＰＥは、絶縁層１８の上に位置している。画素電極ＰＥは、絶縁層１６、カラーフィルタＣＦ、絶縁層１７，１８をそれぞれ貫通するコンタクトホールＣＨ３を介してドレイン電極ＷＤに接続されている。画素電極ＰＥは、共通電極ＣＥの上方に位置するスリットＳＬを備えている。配向膜ＡＬ１は、絶縁層１８及び画素電極ＰＥの上に位置している。
【００２２】
絶縁層１１乃至１６、１８は、例えばシリコン窒化物やシリコン酸化物などの無機絶縁材料製である。絶縁層１７は、例えばアクリル樹脂などの有機絶縁材料製である。共通電極ＣＥ及び画素電極ＰＥは、例えば、インジウムチンオキサイド（ＩＴＯ）やインジウムジンクオキサイド（ＩＺＯ）などの透明な導電材料製である。
【００２３】
図４は、表示領域ＤＡ及び周辺領域ＮＤＡにおける表示パネルＰＮＬの構成例を示す断面図である。なお、ここでは、主要部のみを図示し、各々説明している。
【００２４】
まず、図４（Ａ）を参照して、表示パネルＰＮＬの構成を説明する。第１基板１００において、表示領域ＤＡには、カラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３がそれぞれ設けられている。また、周辺領域ＮＤＡには、ダミーカラーフィルタＣＦＤが設けられている。ダミーカラーフィルタＣＦＤは、カラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３のいずれかと同一材料製である。ダミーカラーフィルタＣＦＤは、カラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３と同層に設けられている。隣り合うダミーカラーフィルタＣＦＤの間には、隙間ＧＰが形成されている。カラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３、ダミーカラーフィルタＣＦＤの上には、絶縁層ＩＬが設けられている。絶縁層ＩＬは、隙間ＧＰにも設けられている。この絶縁層ＩＬは、図３に示した絶縁層１７及び１８などを含むものである。但し、配向膜ＡＬ１は、表示領域ＤＡにおいては、絶縁層ＩＬの上面ＩＬＴつまり液晶層ＬＣと接触する面は、ほぼ平坦である。一方、周辺領域ＮＤＡに位置する絶縁層ＩＬには、凹部ＣＣが形成されている。凹部ＣＣの下面ＣＣＢは、絶縁層ＩＬの上面ＩＬＴよりも下方に位置し、上面ＩＬＴとの間に段差を形成している。凹部ＣＣの下面ＣＣＢは、平面視でダミーカラーフィルタＣＦＤと異なる位置に設けられ、隙間ＧＰと重畳している。
【００２５】
シール部ＳＥは、周辺領域ＮＤＡにおいて、凹部ＣＣを含む絶縁層ＩＬの上に位置している。図示した例では、シール部ＳＥは、上面ＩＬＴに接触するとともに凹部ＣＣに接触している。配向膜ＡＬ１は、平面視で液晶層ＬＣと重なる位置のみに形成されている。シール部ＳＥは、配向膜ＡＬ１を介さずに、例えば、図３に示した絶縁層１７及び１８に直接接触している。
【００２６】
次に、図４（Ｂ）に示した例は、図４（Ａ）に示した構成比較して、配向膜ＡＬ１が配置される位置が相違している。図４（Ｂ）に示した例では、絶縁層ＩＬは、配向膜ＡＬ１を含んでいる。配向膜ＡＬ１は、第１基板１００の基板端部まで形成されている。なお、配向膜ＡＬ１は、第１基板１００の基板端部まで形成されずに、シール部ＳＥと重なる領域で途切れていても良い。
【００２７】
本実施形態によれば、周辺領域ＮＤＡに位置する絶縁層ＩＬには凹部ＣＣが形成されており、シール部ＳＥは、絶縁層ＩＬの上面ＩＬＴのみならず凹部ＣＣに接触している。このため、シール部ＳＥと第１基板１００との接触面積を拡大することができる。したがって、シール部ＳＥによる第１基板１００と第２基板２００との接着強度を向上することが可能となる。
【００２８】
また、絶縁層ＩＬの凹部ＣＣは、ダミーカラーフィルタＣＦＤの間に隙間ＧＰを形成することにより、隙間ＧＰと重畳する位置に形成することができる。すなわち、予め、隙間ＧＰを設けてダミーカラーフィルタＣＦＤを形成した後に、ダミーカラーフィルタＣＦＤ及び隙間ＧＰを覆う絶縁層ＩＬを形成することにより、ダミーカラーフィルタＣＦＤの上に位置する部分と、隙間ＧＰに位置する部分とで段差が生じ、凹部ＣＣを形成することができる。このため、絶縁層ＩＬを形成する際に、部分的に透過率の異なるフォトマスクを用意する必要がなく、また、フォトレジストをパターニングして絶縁層ＩＬを部分的にエッチングするなどの工程も不要である。したがって、製造プロセスを簡素化することが可能となるとともに、製造コストを削減することが可能となる。
【００２９】
また、ダミーカラーフィルタＣＦＤは、カラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３と同層に設けられ、また、カラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３のいずれかと同一材料製であるため、カラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３を形成する工程で同時に形成することができる。このため、ダミーカラーフィルタＣＦＤを形成するための別途の工程が不要である。
【００３０】
次に、他の構成例について説明する。なお、上記の構成例と同一要素については同一の参照符号を付して詳細な説明を省略する。
【００３１】
図５は、表示領域ＤＡ及び周辺領域ＮＤＡにおける表示パネルＰＮＬの他の構成例を示す断面図である。
【００３２】
図５に示した構成例は、図４に示した構成例と比較して、凹部ＣＣが平面視でダミーカラーフィルタＣＦＤと重畳する位置に設けられている点で相違している。図示した例では、凹部ＣＣは、ダミーカラーフィルタＣＦＤまで貫通している。つまり、凹部ＣＣの下面ＣＣＢは、ダミーカラーフィルタＣＦＤの上面の位置にある。このような構成例では、シール部ＳＥは、上面ＩＬＴ、凹部ＣＣ、ダミーカラーフィルタＣＦＤに接触している。但し、凹部ＣＣは、必ずしもダミーカラーフィルタＣＦＤまで貫通していなくても良い。このような凹部ＣＣを形成する工程は、例えば、図３に示したコンタクトホールＣＨ３を形成する工程と同時に行われるため、工程数を増やさずに、凹部ＣＣを形成することが可能である。  
このような構成例においても、上記の構成例と同様の効果が得られる。
【００３３】
図６は、表示領域ＤＡ及び周辺領域ＮＤＡにおける表示パネルＰＮＬの他の構成例を示す断面図である。  
図６に示した構成例は、図５に示した構成例と比較して、複数のダミーカラーフィルタＣＦＤが重畳している点で相違している。
【００３４】
図６Ａに示した例では、２つのダミーカラーフィルタＣＦＤ１及びＣＦＤ２が重畳し、積層体ＳＴを構成している。これらのダミーカラーフィルタＣＦＤ１及びＣＦＤ２は、いずれもカラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３のいずれかと同一材料製である。一例では、ダミーカラーフィルタＣＦＤ１及びＣＦＤ２は、それぞれカラーフィルタＣＦ１及びＣＦ２と同一材料製である。また、図示した例では、ダミーカラーフィルタＣＦＤ２は、ダミーカラーフィルタＣＦＤ１よりも小さいサイズを有しており、その全体がダミーカラーフィルタＣＦＤ１の上面Ｔ１の上に位置している。絶縁層ＩＬの凹部ＣＣは、平面視でダミーカラーフィルタＣＦＤ２と重畳している。
【００３５】
重畳した複数のダミーカラーフィルタＣＦＤ１及びＣＦＤ２のうちの最上面は、絶縁層ＩＬの上面ＩＬＴより上に設けられている。図示した例では、最上面は、ダミーカラーフィルタＣＦＤ２の上面Ｔ２である。上面Ｔ２は、上面ＩＬＴよりも上、つまり第２基板２００に近接する側に位置している。換言すると、ダミーカラーフィルタＣＦＤ２は、絶縁層ＩＬよりも突出しており、上面Ｔ２と上面ＩＬＴとの間に段差を形成している。
【００３６】
このような構成例では、シール部ＳＥは、上面ＩＬＴ及びダミーカラーフィルタＣＦＤ２に接触している。
【００３７】
図６Ｂに示した例では、３つのダミーカラーフィルタＣＦＤ１乃至ＣＦＤ３が重畳し、積層体ＳＴを構成している。これらのダミーカラーフィルタＣＦＤ１乃至ＣＦＤ３は、いずれもカラーフィルタＣＦ１乃至Ｃ３のいずれかと同一材料製である。一例では、カラーフィルタＣＦ１、ＣＦ２、ＣＦ３がこの順に形成され、積層体ＳＴにおいてはダミーカラーフィルタＣＦＤ１、ＣＦＤ２、ＣＦＤ３がこの順に積層されている。この場合、ダミーカラーフィルタＣＦＤ１乃至ＣＦＤ３は、それぞれカラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３と同一材料製である。また、図示した例では、ダミーカラーフィルタＣＦＤ３は、ダミーカラーフィルタＣＦＤ２よりも小さいサイズを有しており、その全体がダミーカラーフィルタＣＦＤ２の上面Ｔ２の上に位置している。
【００３８】
重畳した複数のダミーカラーフィルタＣＦＤ１乃至ＣＦＤ３のうちの最上面は、ダミーカラーフィルタＣＦＤ３の上面Ｔ３である。上面Ｔ３は、上面ＩＬＴよりも上に位置している。図示した例では、ダミーカラーフィルタＣＦＤ２の上部及びダミーカラーフィルタＣＦＤ３の全体は、絶縁層ＩＬよりも突出しており、上面Ｔ２及びＴ３と、上面ＩＬＴとの間に段差を形成している。
【００３９】
このような構成例では、シール部ＳＥは、上面ＩＬＴ、ダミーカラーフィルタＣＦＤ２及びＣＦＤ３に接触している。
【００４０】
なお、図６Ａ及び図６Ｂに示した各構成例において、複数の積層体ＳＴは、シール部ＳＥと重なる位置に設けられているが、それぞれの積層体ＳＴについて、下層に位置するダミーカラーフィルタＣＦＤ１は繋がっていても良い。但し、積層体ＳＴのそれぞれは、ダミーカラーフィルタＣＦＤ２及びＣＦＤ３の間に隙間が形成されるように配置されている。
【００４１】
図６に示した構成例においても、シール部ＳＥと第１基板１００との接触面積を拡大することができ、シール部ＳＥによる第１基板１００と第２基板２００との接着強度を向上することが可能となる。
【００４２】
また、積層体ＳＴは、カラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３のいずれかと同一材料製であるため、カラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３を形成する工程で同時に形成することができる。このため、積層体ＳＴを形成するための別途の工程が不要である。
【００４３】
図７は、表示領域ＤＡ及び周辺領域ＮＤＡにおける表示パネルＰＮＬの他の構成例を示す断面図である。  
図７Ａに示した構成例は、図６Ａに示した構成例と比較して、周辺領域ＮＤＡに位置する絶縁層ＩＬに、凹部ＣＣの他に凹部ＣＣ２が形成されている点で相違している。
【００４４】
図７Ａに示した例では、凹部ＣＣ２は、隣り合う積層体ＳＴの間に形成されている。凹部ＣＣ２の下面ＣＣＢ２は、絶縁層ＩＬの上面ＩＬＴよりも下方に位置し、上面ＩＬＴとの間に段差を形成している。凹部ＣＣ２の下面ＣＣＢ２は、平面視で積層体ＳＴと異なる位置に設けられている。
【００４５】
このような構成例では、シール部ＳＥは、上面ＩＬＴ、凹部ＣＣ２、ダミーカラーフィルターＣＦＤ２に接触している。
【００４６】
図７Ｂに示した構成例は、図６Ｂに示した構成例と比較して、周辺領域ＮＤＡに位置する絶縁層ＩＬに、凹部ＣＣの他に凹部ＣＣ２が形成されている点で相違している。  
図７Ｂに示した例では、凹部ＣＣ２は、隣り合う積層体ＳＴの間に形成されている。凹部ＣＣ２の下面ＣＣＢ２は、絶縁層ＩＬの上面ＩＬＴよりも下方に位置し、上面ＩＬＴとの間に段差を形成している。凹部ＣＣ２の下面ＣＣＢ２は、平面視で積層体ＳＴと異なる位置に設けられている。
【００４７】
このような構成例では、シール部ＳＥは、上面ＩＬＴ、凹部ＣＣ２、ダミーカラーフィルターＣＦＤ２及びＣＦＤ３に接触している。
【００４８】
なお、図７Ａ及び図７Ｂに示した各構成例において、複数の積層体ＳＴは、シール部ＳＥと重なる位置に設けられているが、それぞれの積層体ＳＴについて、下層に位置するダミーカラーフィルタＣＦＤ１は繋がっていても良い。但し、積層体ＳＴのそれぞれは、ダミーカラーフィルタＣＦＤ２及びＣＦＤ３の間に隙間が形成されるように配置されている。
【００４９】
図７に示した構成例においては、図６に示した構成例に加えて、シール部ＳＥはさらに、凹部ＣＣ２と接触している。このため、シール部ＳＥと第１基板１００との接触面積を拡大することができ、シール部ＳＥによる第１基板１００と第２基板２００との接着強度を向上することが可能となる。
【００５０】
なお、図６に示した絶縁層ＩＬは周辺領域ＮＤＡにおいて平坦に形成され、図７に示した絶縁層ＩＬは、周辺領域ＮＤＡにおいて凹部ＣＣ２が形成されているが、この両者の違いは、例えば、絶縁層ＩＬを形成する材料の熱に対する収縮率の違いによって生じるものである。
【００５１】
図８は、周辺領域ＮＤＡにおけるダミーカラーフィルタＣＦＤのレイアウト例を示す平面図である。  
図８（ａ）に示した例では、ダミーカラーフィルタＣＦＤの各々は、直線状に延びた帯状に形成され、隙間ＧＰをおいて並んでいる。図８（ｂ）に示した例では、ダミーカラーフィルタＣＦＤの各々は、波線状に延びた帯状に形成され、隙間ＧＰをおいて並んでいる。
【００５２】
図８（ｃ）に示した例では、ダミーカラーフィルタＣＦＤの各々は、島状に形成され、格子状の隙間ＧＰを形成するように並んでいる。図８（ｄ）に示した例では、ダミーカラーフィルタＣＦＤの各々は、島状に形成され、チェッカーパターンの隙間ＧＰを形成するように並んでいる。
【００５３】
これらのダミーカラーフィルタＣＦＤのレイアウトにおいて、図４に示した構成例では隙間ＧＰと重畳する位置に凹部ＣＣが形成され、図５に示した構成例ではダミーカラーフィルタＣＦＤと重畳する位置に凹部ＣＣが形成され、図６及び図７に示した構成例ではダミーカラーフィルタＣＦＤと重畳する位置に積層体ＳＴが形成される。
【００５４】
以上説明したように、本実施形態によれば、第１基板及び第２基板の接着強度を向上することが可能な液晶表示装置を提供することができる。
【００５５】
なお、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００５６】
ＤＳＰ…表示装置  ＰＮＬ…表示パネル
１００…第１基板  ２００…第２基板  ＬＣ…液晶層  ＳＥ…シール部
ＩＬ…絶縁層  ＣＣ…凹部
ＣＦ…カラーフィルタ  ＣＦＤ…ダミーカラーフィルタ  ＧＰ…隙間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図８】
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