(57)【要約】      （修正有）【課題】初期粘着性、低温粘着性、繰り出し性、低粘着昂進性、及び特性バランスに優れた粘着性フィルムの提供。【解決手段】基材フィルム上に、水素化ブロック共重合体（ａ）を含む粘着層を具備し、（ａ）が、共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック（Ｃ）と、共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック（Ｂ）と、芳香族ビニル化合物を主体とする重合体ブロック（Ｓ）とを含み、（Ｂ）は、重合体ブロック（Ｂ１）及び（Ｂ２）を含み、（ａ）中、（Ｃ）の含有量が１〜２０質量％であり、（Ｂ）の含有量が７３〜９７質量％であり、（Ｓ）の含有量が１〜１５質量％であり、（Ｃ）の水素化前のビニル結合量が１〜２５ｍｏｌ％であり、（Ｂ１）の水素化前のビニル結合量が４０〜６０ｍｏｌ％であり、（Ｂ２）の水素化前のビニル結合量が６０超〜１００ｍｏｌ％であり、水素化率が８０ｍｏｌ％以上である粘着性フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルム上に、
水素化ブロック共重合体（ａ）を含む粘着層を具備する粘着性フィルムであって、
前記水素化ブロック共重合体（ａ）が、分子中に、
共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック（Ｃ）と、
共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック（Ｂ）と、
芳香族ビニル化合物を主体とする重合体ブロック（Ｓ）と、
を、含み、
前記重合体ブロック（Ｂ）は、重合体ブロック（Ｂ１）及び（Ｂ２）を含み、
前記水素化ブロック共重合体（ａ）中、前記重合体ブロック（Ｃ）の含有量が１〜２０質量％であり、前記重合体ブロック（Ｂ）の含有量が７３〜９７質量％であり、前記重合体ブロック（Ｓ）の含有量が１〜１５質量％であり、
前記重合体ブロック（Ｃ）の水素化前のビニル結合量が１〜２５ｍｏｌ％であり、前記重合体ブロック（Ｂ１）の水素化前のビニル結合量が４０ｍоｌ％以上６０ｍｏｌ％以下であり、前記重合体ブロック（Ｂ２）の水素化前のビニル結合量が６０ｍоｌ％超１００ｍｏｌ％以下であり、
水素化率が８０ｍｏｌ％以上である、
粘着性フィルム。
【請求項２】
前記水素化ブロック共重合体（ａ）１００質量％中における、前記重合体ブロック（Ｃ）と、前記重合体ブロック（Ｓ）の含有量の合計が３〜２７質量％である、
請求項１に記載の粘着性フィルム。
【請求項３】
前記重合体ブロック共重合体（ａ）１００質量％中における、前記重合体ブロック（Ｂ１）の含有量が１０〜６０質量％であり、前記重合体ブロック（Ｂ２）の含有量が３０〜８０質量％である、
請求項１又は２に記載の粘着性フィルム。
【請求項４】
基材フィルム上に、
水素化ブロック共重合体（ａ）を含む粘着層を具備する粘着性フィルムであって、
前記水素化ブロック共重合体（ａ）が、分子中に、芳香族ビニル化合物単位及び共役ジエン化合物単位を含み、
前記水素化ブロック共重合体（ａ）の芳香族ビニル化合物単位の含有量が、１〜１５質量％であり、
前記水素化ブロック共重合体（ａ）の水素化率が８０ｍｏｌ％以上であり、
前記水素化ブロック共重合体（ａ）中の共役ジエン化合物単位の合計１００ｍｏｌ％に対して、ブチレン量及び／又はプロピレン量が４２〜８０ｍｏｌ％であり、
前記水素化ブロック共重合体（ａ）が、−２０〜８０℃に結晶化のピークを有し、結晶化熱量が０．１〜１０Ｊ／ｇであり、
前記水素化ブロック共重合体（ａ）を、熱勾配相互作用クロマトグラフィー（ＴＧＩＣ）で測定した溶出量ピークが、０℃以上１５０℃以下の範囲にあり、
溶出ピークの半値幅が２０〜４０℃の範囲であり、
前記水素化ブロック共重合体（ａ）のショアＡ硬度が１５〜６０である、
粘着性フィルム。
【請求項５】
前記水素化ブロック共重合体（ａ）の固体粘弾性測定（１Ｈｚ）により得られる温度−損失正接（ｔａｎδ）曲線において観察される、前記水素化ブロック共重合体（ａ）のガラス転移を示すｔａｎδピーク（Ｔｇ１）が、−４５℃を超えて−３０℃以下の範囲にあり、かつ、前記水素化ブロック共重合体（ａ）をホモポリプロピレンに３０質量％添加した場合に観察されるｔａｎδピーク（Ｔｇ２）との差ΔＴｇ（Ｔｇ１−Ｔｇ２）が、３〜１２℃である、
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の粘着性フィルム。
【請求項６】
１３Ｃ−ＮＭＲで測定した２９．４〜３０．０ｐｐｍの積分値と、９．０〜１４．０ｐｐｍの積分値との比（２９．４〜３０．０ｐｐｍの積分値／９．０〜１４．０ｐｐｍの積分値）が、
下記式（１）で求められる積分値の比から下記式（２）で求められる積分値の範囲にあり、
ブチレン量が５０〜８０ｍｏｌ％である、
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の粘着性フィルム。
積分値の比＝((1.23+((100-ブチレン量×0.97-0.3)÷0.97)3÷10000×0.97)÷0.97)÷（ブチレン量÷４）・・・式（１）
積分値の比＝((12.28+((100-ブチレン量×0.97-0.3)÷0.97)3÷10000×0.97)÷0.97)÷（ブチレン量÷４）・・・式（２）
【請求項７】
前記粘着層が、水素化ブロック共重合体（ｂ）及び／又は水素化ブロック共重合体（ｃ）を、５〜９５質量％さらに含み、
前記水素化ブロック共重合体（ｂ）が、分子中に、
共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック（Ｂ−１）と、
ビニル芳香族化合物を主体とする重合体ブロック（Ｓ１）と、
を、含み、
前記水素化ブロック共重合体（ｂ）中、
前記共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック（Ｂ−１）の含有量が９５〜７０質量％であり、
前記ビニル芳香族化合物を主体とする重合体ブロック（Ｓ１）の含有量が５〜３０質量％であり、
前記共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック（Ｂ−１）の水素化前のビニル結合量が３０〜１００ｍｏｌ％であり、
前記水素化ブロック共重合体（ｂ）の水素化率が８０ｍｏｌ％以上であり、
前記水素化ブロック共重合体（ｃ）が、分子中に、
共役ジエン化合物とビニル芳香族化合物を含む重合体ブロック（Ｂ−２）と、
ビニル芳香族化合物を主体とする重合体ブロック（Ｓ２）と、
を、含み、
前記水素化ブロック共重合体（ｃ）中、
前記共役ジエン化合物とビニル芳香族化合物を含む重合体ブロック（Ｂ−２）の含有量が９５〜７０質量％であり、
前記ビニル芳香族化合物を主体とする重合体ブロック（Ｓ２）の含有量が５〜３０質量％であり、
前記水素化ブロック共重合体（ｃ）の水素化率が８０ｍｏｌ％以上である、
請求項１乃至６のいずれか一項に記載の粘着性フィルム。
【請求項８】
前記粘着層が、
粘着付与剤を０．５〜５０質量％含む、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の粘着性フィルム。
【請求項９】
前記粘着付与剤が、
水添テルペン樹脂、芳香族変性水添テルペン樹脂、水添テルペンフェノール樹脂、及びテルペンフェノール樹脂からなる群より選ばれる少なくともいずれかである、請求項８に記載の粘着性フィルム。
【請求項１０】
前記重合体ブロック（Ｂ）は、前記水素化ブロック共重合体（ａ）の末端に存在する重合体ブロック（Ｂ３）をさらに含み、
前記重合体ブロック（Ｂ３）の含有量が、前記水素化ブロック共重合体（ａ）中の１〜１０質量％である、
請求項１乃至９のいずれか一項に記載の粘着性フィルム。
【請求項１１】
水素化ブロック共重合体（ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）が１０万〜３０万である、
請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の粘着性フィルム。
【請求項１２】
水素化ブロック共重合体（ａ）のミクロ相分離構造が球構造（スフィアー構造）を形成している、請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の粘着性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、粘着性フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
表面保護フィルムは、偏光板、位相差フィルム、導光板、ＬＣＤ用光学フィルム、シート、タッチパネル基板フィルム、ＰＤＰ用反射防止フィルム、光学部材の表面保護に用いられる光学用プロテクトフィルム、自動車等の鋼板用保護フィルム、各種のプラスチックの保護フィルム等、多種多様の分野で使用されており、加工時や輸送運搬時等の表面の傷つきや汚れ防止の観点から、前記表面保護フィルムが貼り付けられ、加工後又は輸送運搬後に係る表面保護フィルムを剥がして使用することが一般的である。
よって、それらの用途に応じた適度な粘着特性が求められる。
【０００３】
例えば、粘着力が高すぎると剥がすときに大きな力が必要となり、作業性が劣り、繰り出し性が悪化するという問題が発生する場合がある。一方、粘着力が低すぎると、保管中に剥がれるという問題が発生する場合がある。従って、表面保護フィルムの用途に応じた粘着特性を有することが好ましい。
【０００４】
表面保護フィルムの粘着層に用いる粘着剤としては、従来から、アクリル系粘着剤や天然ゴム、ポリイソブチレン等のゴムを主体とするゴム系粘着剤が主として使用されている。
これらの粘着剤を所定の支持体フィルムに塗布する方法としては、粘着剤を溶剤に溶かした粘着剤溶液を、ロール、スプレー等を用いて塗布する方法が用いられている。これらの方法は、粘着剤層を均一に、かつ薄く塗工できるというメリットを有しているが、溶剤の使用は、大気汚染、火災、製造時の安全衛生性、経済性等の観点からは好ましくない。
【０００５】
一方、押出成形による製造が可能で、溶剤による製造時の火災の危険、公害等の心配がなく、製造工程が少なくて経済性がよく、また、成形加工性に優れ、被着体に対して適度な密着性を有し、かつ剥離性の良好な粘着積層体についての開発がなされている。
例えば、特許文献１には、基材層（イ）と、基材層の片面に粘着剤層（ロ）を有する粘着積層体であって、当該粘着剤層（ロ）が、少なくとも一種のビニル芳香族化合物重合体ブロック（Ａ）、ビニル芳香族化合物と共役ジエンとのランダム共重合体ブロック又は共役ジエン化合物重合体ブロック（Ｂ）、及び１，２−ビニル結合を有するポリブタジエンが３０重量％以下のポリブタジエンブロック（Ｃ）が、ブロック的に結合したジエン系共重合体の共役ジエン部分を水添した水添ジエン系共重合体（１）及びオレフィン系樹脂（２）からなる粘着積層体が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１０−１０２０１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、発明者らの鋭意検討の結果、特許文献１に記載されているような粘着積層体においては、表面保護フィルムとして、初期粘着性、低温粘着性、繰り出し性、低粘着昂進性、及びこれらの特性バランスに関し、改善の余地があることが分かった。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
そこで本発明においては、上述した従来技術が有する課題に鑑み、粘着層が、特定の構造を有する水素化ブロック共重合体（ａ）を含み、初期粘着性、低温粘着性、繰り出し性、低粘着昂進性、及びこれらの特性バランスに優れた粘着性フィルムを提供することを目的とする。
すなわち本発明は以下のとおりである。
【０００９】
〔１〕
基材フィルム上に、
水素化ブロック共重合体（ａ）を含む粘着層を具備する粘着性フィルムであって、
前記水素化ブロック共重合体（ａ）が、分子中に、
共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック（Ｃ）と、
共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック（Ｂ）と、
芳香族ビニル化合物を主体とする重合体ブロック（Ｓ）と、
を、含み、
前記重合体ブロック（Ｂ）は、重合体ブロック（Ｂ１）及び（Ｂ２）を含み、
前記水素化ブロック共重合体（ａ）中、前記重合体ブロック（Ｃ）の含有量が１〜２０質量％であり、前記重合体ブロック（Ｂ）の含有量が７３〜９７質量％であり、前記重合体ブロック（Ｓ）の含有量が１〜１５質量％であり、
前記重合体ブロック（Ｃ）の水素化前のビニル結合量が１〜２５ｍｏｌ％であり、前記重合体ブロック（Ｂ１）の水素化前のビニル結合量が４０ｍоｌ％以上６０ｍｏｌ％以下であり、前記重合体ブロック（Ｂ２）の水素化前のビニル結合量が６０ｍоｌ％超１００ｍｏｌ％以下であり、
水素化率が８０ｍｏｌ％以上である、
粘着性フィルム。
〔２〕
前記水素化ブロック共重合体（ａ）１００質量％中における、前記重合体ブロック（Ｃ）と、前記重合体ブロック（Ｓ）の含有量の合計が３〜２７質量％である、
前記〔１〕に記載の粘着性フィルム。
〔３〕
前記重合体ブロック共重合体（ａ）１００質量％中における、前記重合体ブロック（Ｂ１）の含有量が１０〜６０質量％であり、前記重合体ブロック（Ｂ２）の含有量が３０〜８０質量％である、
前記〔１〕又は〔２〕に記載の粘着性フィルム。
〔４〕
基材フィルム上に、
水素化ブロック共重合体（ａ）を含む粘着層を具備する粘着性フィルムであって、
前記水素化ブロック共重合体（ａ）が、分子中に、芳香族ビニル化合物単位及び共役ジエン化合物単位を含み、
前記水素化ブロック共重合体（ａ）の芳香族ビニル化合物単位の含有量が、１〜１５質量％であり、
前記水素化ブロック共重合体（ａ）の水素化率が８０ｍｏｌ％以上であり、
前記水素化ブロック共重合体（ａ）中の共役ジエン化合物単位の合計１００ｍｏｌ％に対して、ブチレン量及び／又はプロピレン量が４２〜８０ｍｏｌ％であり、
前記水素化ブロック共重合体（ａ）が、−２０〜８０℃に結晶化のピークを有し、結晶化熱量が０．１〜１０Ｊ／ｇであり、
前記水素化ブロック共重合体（ａ）を、熱勾配相互作用クロマトグラフィー（ＴＧＩＣ）で測定した溶出量ピークが、０℃以上１５０℃以下の範囲にあり、
溶出ピークの半値幅が２０〜４０℃の範囲であり、
前記水素化ブロック共重合体（ａ）のショアＡ硬度が１５〜６０である、
粘着性フィルム。
〔５〕
前記水素化ブロック共重合体（ａ）の固体粘弾性測定（１Ｈｚ）により得られる温度−損失正接（ｔａｎδ）曲線において観察される、前記水素化ブロック共重合体（ａ）のガラス転移を示すｔａｎδピーク（Ｔｇ１）が、−４５℃を超えて−３０℃以下の範囲にあり、かつ、前記水素化ブロック共重合体（ａ）をホモポリプロピレンに３０質量％添加した場合に観察されるｔａｎδピーク（Ｔｇ２）との差ΔＴｇ（Ｔｇ１−Ｔｇ２）が、３〜１２℃である、
前記〔１〕乃至〔４〕のいずれか一に記載の粘着性フィルム。
〔６〕
１３Ｃ−ＮＭＲで測定した２９．４〜３０．０ｐｐｍの積分値と、９．０〜１４．０ｐｐｍの積分値との比（２９．４〜３０．０ｐｐｍの積分値／９．０〜１４．０ｐｐｍの積分値）が、
下記式（１）で求められる積分値の比から下記式（２）で求められる積分値の範囲にあり、
ブチレン量が５０〜８０ｍｏｌ％である、
前記〔１〕乃至〔５〕のいずれか一に記載の粘着性フィルム。
積分値の比＝((1.23+((100-ブチレン量×0.97-0.3)÷0.97)3÷10000×0.97)÷0.97)÷（ブチレン量÷４）・・・式（１）
積分値の比＝((12.28+((100-ブチレン量×0.97-0.3)÷0.97)3÷10000×0.97)÷0.97)÷（ブチレン量÷４）・・・式（２）
〔７〕
前記粘着層が、水素化ブロック共重合体（ｂ）及び／又は水素化ブロック共重合体（ｃ）を、５〜９５質量％さらに含み、
前記水素化ブロック共重合体（ｂ）が、分子中に、
共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック（Ｂ−１）と、
ビニル芳香族化合物を主体とする重合体ブロック（Ｓ１）と、
を、含み、
前記水素化ブロック共重合体（ｂ）中、
前記共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック（Ｂ−１）の含有量が９５〜７０質量％であり、
前記ビニル芳香族化合物を主体とする重合体ブロック（Ｓ１）の含有量が５〜３０質量％であり、
前記共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック（Ｂ−１）の水素化前のビニル結合量が３０〜１００ｍｏｌ％であり、
前記水素化ブロック共重合体（ｂ）の水素化率が８０ｍｏｌ％以上であり、
前記水素化ブロック共重合体（ｃ）が、分子中に、
共役ジエン化合物とビニル芳香族化合物を含む重合体ブロック（Ｂ−２）と、
ビニル芳香族化合物を主体とする重合体ブロック（Ｓ２）と、
を、含み、
前記水素化ブロック共重合体（ｃ）中、
前記共役ジエン化合物とビニル芳香族化合物を含む重合体ブロック（Ｂ−２）の含有量が９５〜７０質量％であり、
前記ビニル芳香族化合物を主体とする重合体ブロック（Ｓ２）の含有量が５〜３０質量％であり、
前記水素化ブロック共重合体（ｃ）の水素化率が８０ｍｏｌ％以上である、
前記〔１〕乃至〔６〕のいずれか一に記載の粘着性フィルム。
〔８〕
前記粘着層が、
粘着付与剤を０．５〜５０質量％含む、前記〔１〕乃至〔７〕のいずれか一に記載の粘着性フィルム。
〔９〕
前記粘着付与剤が、
水添テルペン樹脂、芳香族変性水添テルペン樹脂、水添テルペンフェノール樹脂、及びテルペンフェノール樹脂からなる群より選ばれる少なくともいずれかである、前記〔８〕に記載の粘着性フィルム。
〔１０〕
前記重合体ブロック（Ｂ）は、前記水素化ブロック共重合体（ａ）の末端に存在する重合体ブロック（Ｂ３）をさらに含み、
前記重合体ブロック（Ｂ３）の含有量が、前記水素化ブロック共重合体（ａ）中の１〜１０質量％である、
前記〔１〕乃至〔９〕のいずれか一に記載の粘着性フィルム。
〔１１〕
水素化ブロック共重合体（ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）が１０万〜３０万である、
前記〔１〕乃至〔１０〕のいずれか一に記載の粘着性フィルム。
〔１２〕
水素化ブロック共重合体（ａ）のミクロ相分離構造が球構造（スフィアー構造）を形成している、前記〔１〕乃至〔１１〕のいずれか一に記載の粘着性フィルム。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、初期粘着性、低温粘着性、繰り出し性、低粘着昂進性、及びこれらの特性バランスに優れた粘着性フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】水素化ブロック共重合体のブチレン量と２９．４〜３０．０ｐｐｍの積分値／９．０〜１４．０ｐｐｍの積分値で表される比との関係を示すグラフを示す。
【図２】水素化ブロック共重合体の一例の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）画像を示す。
【図３】水素化ブロック共重合体の他の一例の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）画像を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明を実施するための形態（以下、単に「本実施形態」という。）について詳細に説明する。
以下の本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。本発明は、その要旨の範囲内で適宜変形して実施できる。
【００１３】
〔粘着性フィルム〕
本実施形態の粘着性フィルムは、基材フィルム上に、後述する水素化ブロック共重合体（ａ）を含む粘着層を具備する粘着性フィルムである。
上記構成を有することにより、初期粘着性、低温粘着性、繰り出し性、低粘着昂進性、及びこれらの特性バランスに優れた粘着性フィルムが得られる。
【００１４】
（基材フィルム）
基材フィルムの材料としては、特に限定されず、非極性樹脂及び極性樹脂のいずれでも使用できる。
性能や価格面等から、非極性樹脂としては、ポリエチレン、ホモ又はブロックのポリプロピレンが好ましいものとして例示でき、極性樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体及びその加水分解物等が好ましいものとして例示できる。
【００１５】
基材フィルムの厚みは、１ｍｍ以下が好ましく、３００μｍ以下がより好ましく、１０〜２００μｍがさらに好ましい。
基材フィルムの厚みが１０μｍ以上であると、被着体の保護を十分に行うことができ、基材フィルムの厚みが１ｍｍ以下であると、実用上良好な弾性率が得られ、良好な凹凸追随性が得られ、浮きや剥がれを効果的に防止できる。
【００１６】
（粘着層）
本実施形態の粘着性フィルムは、前記基材フィルム上に、水素化ブロック共重合体（ａ）を含む粘着層を具備する。
本実施形態の粘着性フィルムを構成する粘着層は、厚みが３〜１００μｍであることが好ましい。粘着層の厚みは、５〜５０μｍであることがより好ましく、８〜２０μｍであることがさらに好ましい。
粘着層の厚みが１００μｍ以下であることにより取扱性により優れる傾向にあり、経済的にも好ましい。また、３μｍ以上であることにより密着性により優れ、均一な厚みが得られる傾向にある。
なお、一般的に、厚みが０．００５ｍｍ以上０．２ｍｍ未満であるシート状成形体をフィルムといい、厚みが０．２ｍｍ以上５０ｍｍ以下であるシート状成形体をシートというが、本明細書において「フィルム」は、上記フィルム、及びシートを包含する。
【００１７】
＜水素化ブロック共重合体（ａ）＞
本実施形態の粘着性フィルムの粘着層に含まれる水素化ブロック共重合体（ａ）は、分子中に、
共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック（Ｃ）と、
共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック（Ｂ）と、
芳香族ビニル化合物を主体とする重合体ブロック（Ｓ）と、
を、含み、
前記重合体ブロック（Ｂ）は、重合体ブロック（Ｂ１）及び（Ｂ２）を含み、
前記水素化ブロック共重合体（ａ）中、前記重合体ブロック（Ｃ）の含有量が１〜２０質量％であり、前記重合体ブロック（Ｂ）の含有量が７３〜９７質量％であり、前記重合体ブロック（Ｓ）の含有量が１〜１５質量％であり、
前記重合体ブロック（Ｃ）の水素化前のビニル結合量が１〜２５ｍｏｌ％であり、前記重合体ブロック（Ｂ１）の水素化前のビニル結合量が４０ｍоｌ％以上６０ｍｏｌ％以下であり、前記重合体ブロック（Ｂ２）の水素化前のビニル結合量が６０ｍоｌ％超１００ｍｏｌ％以下であり、
水素化率が８０ｍｏｌ％以上である。
【００１８】
前記水素化ブロック共重合体（ａ）を、熱勾配相互作用クロマトグラフィー（以下、「ＴＧＩＣ」という。）で測定した溶出量ピークが０℃以上１５０℃以下の範囲にあり、溶出ピークの半値幅が２０〜４０℃の範囲であることが好ましく、
前記水素化ブロック共重合体（ａ）のショアＡ硬度は１５〜６０であることが好ましい。
具体的には、水素化ブロック共重合体（ａ）又は本実施形態の粘着性フィルムのソックスレー抽出物乾燥試料を熱勾配相互作用クロマトグラフィー（ＴＧＩＣ）で測定した溶出量ピークが０℃以上１５０℃以下の範囲にあり、溶出量ピークの半値幅が２０〜４０℃の範囲である。
上記の挙動を有することにより、得られる粘着フィルムの初期粘着性、繰り出し性、及び低粘着昂進性の特性バランスを良好なものにすることができる。
同様の観点から、上記０℃以上１５０℃以下の範囲にある溶出ピークの半値幅は２１〜３７℃であることがより好ましく、さらに好ましくは２２〜３４℃である。
上記ＴＧＩＣ溶出量ピーク半値幅は、前記重合体ブロック（Ｃ）、（Ｂ１）、（Ｂ２）の比率を上述の範囲にすることにより制御することができ、上記ＴＧＩＣ溶出量は、後述する実施例に記載する方法により測定することができる。
なお、前記半値幅は、水素化ブロック共重合体（ａ）の構造に起因するものであり、測定条件が同じであれば、水素化ブロック共重合体（ａ）を測定試料に用いた場合と水素化ブロック共重合体を含むフィルムを測定試料に用いた場合で溶出量ピークの半値幅は変わらない。
【００１９】
また、上述した水素化ブロック共重合体（ａ）は、次のように特定することもできる。
すなわち、水素化ブロック共重合体（ａ）は、分子中に、芳香族ビニル化合物単位及び共役ジエン化合物単位を含み、前記芳香族ビニル化合物単位の含有量が、１〜１５質量％であり、前記水素化ブロック共重合体（ａ）の水素化率が８０ｍｏｌ％以上であり、前記共役ジエン化合物単位の合計１００ｍｏｌ％に対して、ブチレン量及び／又はプロピレン量が４２〜８０ｍｏｌ％であり、前記水素化ブロック共重合体（ａ）が−２０〜８０℃に結晶化のピークを有し、結晶化熱量が０．１〜１０Ｊ／ｇであり、
前記水素化ブロック共重合体（ａ）を、熱勾配相互作用クロマトグラフィー（以下、「ＴＧＩＣ」という。）で測定した溶出量ピークが０℃以上１５０℃以下の範囲にあり、溶出ピークの半値幅が２０〜４０℃の範囲であり、
前記水素化ブロック共重合体（ａ）のショアＡ硬度が１５〜６０である。
上記のように構成されているため、本実施形態の粘着性フィルムは、初期粘着性、低温粘着性、繰り出し性、低粘着昂進性、及びこれらの特性バランスに優れる。
【００２０】
本実施形態の粘着性フィルムの粘着層に含まれる水素化ブロック共重合体（ａ）は、分子中に、共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック（Ｃ）（以下、単に「重合体ブロック（Ｃ）」とも表記する。）と、共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック（Ｂ）（以下、単に「重合体ブロック（Ｂ）」とも表記する。）と、芳香族ビニル化合物を主体とする重合体ブロック（Ｓ）（以下、単に「重合体ブロック（Ｓ）」とも表記する。）と、を含む。
ここで、「主体とする」とは、対象の単量体単位を、対象の重合体ブロック中に、６０質量％以上含むことをいう。
得られる粘着性フィルムの初期粘着性、及び低温粘着性の観点から、共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック（Ｃ）及び重合体ブロック（Ｂ）における共役ジエン化合物の含有量は、それぞれ独立して、好ましくは７０質量％以上、より好ましくは８０質量％以上、さらに好ましくは９０質量％以上である。
また、得られる粘着性フィルムの繰り出し性、及び低粘着昂進性の観点から、ビニル芳香族化合物を主体とする重合体ブロック（Ｓ）におけるビニル芳香族化合物の含有量は、好ましくは７０質量％以上、より好ましくは８０質量％以上、さらに好ましくは９０質量％以上である。
共役ジエン化合物の含有量及びビニル芳香族化合物の含有量は、核磁気共鳴スペクトル解析（ＮＭＲ）によって測定できる。
なお、共役ジエン化合物単位とは、水素化ブロック共重合体（ａ）を構成する単位であって、共役ジエン化合物の単量体に由来する構成単位をいう。また、芳香族ビニル化合物単位とは、水素化ブロック共重合体（ａ）を構成する単位であって、芳香族ビニル化合物の単量体に由来する構成単位をいう。
【００２１】
重合体ブロック（Ｃ）、（Ｂ）における「水素化前のビニル結合量」とは、水素添加前の共役ジエンの１，２−結合、３，４−結合及び１，４−結合の結合様式で組み込まれているうちの、１，２−結合及び３，４−結合で組み込まれているものの割合（ｍｏｌ％）を意味する。
ビニル結合量は核磁気共鳴スペクトル解析（ＮＭＲ）によって測定できる。
【００２２】
本実施形態の粘着性フィルムにおいて、水素化ブロック共重合体（ａ）中の重合体ブロック（Ｃ）及び（Ｂ）に使用される共役ジエンは、１対の共役二重結合を有するジオレフィンである。
ジオレフィンとしては、以下に限定されないが、例えば、１，３−ブタジエン、２−メチル―１，３−ブタジエン（イソプレン）、２，３−ジメチル―１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエン、２−メチル−１，３−ペンタジエン、１，３−ヘキサジエン、及びファルネセンが挙げられる。
特に一般的なジオレフィンとしては、１，３−ブタジエン、及びイソプレンが挙げられる。これらは一種のみならず二種以上を使用してもよい。
なお、本実施形態の粘着性フィルムの初期粘着性、及び低温粘着性の観点から、重合体ブロック（Ｃ）がブタジエンからなり、前記重合体ブロック（Ｂ）がブタジエン又はイソプレンからなるものであることが好ましい。
【００２３】
本実施形態において、水素化ブロック共重合体（ａ）中の重合体ブロック（Ｓ）に使用される芳香族ビニル化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、１，１−ジフェニルエチレン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−アミノエチルスチレン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｐ−アミノエチルスチレン等の芳香族ビニル化合物が挙げられる。
これらの中でも、入手性及び生産性の観点から、スチレン、α−メチルスチレン、４−メチルスチレンが好ましく用いられる。特に好ましくはスチレンである。
重合体ブロック（Ｓ）は、１種の芳香族ビニル化合物単位で構成されていてもよいし、２種以上から構成されていてもよい。
【００２４】
水素化ブロック共重合体（ａ）中の、重合体ブロック（Ｃ）の含有量は、初期粘着性、低温粘着性、繰り出し性、及び低粘着昂進性の観点から、１〜２０質量％である。
同様の観点から、水素化ブロック共重合体（ａ）中の重合体ブロック（Ｃ）の含有量は、好ましくは２〜１５質量％であり、より好ましくは３〜１０質量％である。重合体ブロック（Ｃ）の含有量は、後述する実施例に記載する方法により測定することができる。
【００２５】
重合体ブロック（Ｃ）の水素化前のビニル結合量（以下、単に「ビニル量」ともいう。）は、本実施形態の粘着性フィルムの適度な初期粘着性、低温粘着性、繰り出し性、及び低粘着昂進性の観点から、１ｍоｌ％以上２５ｍоｌ以下％である。
同様の観点から、重合体ブロック（Ｃ）の水素化前のビニル結合量は、好ましくは３〜２２ｍｏｌ％であり、より好ましくは５〜２０ｍｏｌ％である。
前記共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック（Ｃ）の水素化前のビニル結合量は、具体的には、後述する実施例に記載する方法により測定することができる。
また、前記ビニル結合量は、極性化合物等、ルイス塩基、エーテル、アミン等のビニル化剤の使用により制御することができる。
【００２６】
水素化ブロック共重合体（ａ）中の、重合体ブロック（Ｂ）の含有量は、得られる粘着性フィルムの初期粘着性、低温粘着性、繰り出し性、及び低粘着昂進性の観点から、７３〜９７質量％である。
同様の観点から、重合体ブロック（Ｂ）の含有量は、好ましくは７５〜９５質量％であり、より好ましくは８２〜９３質量％である。重合体ブロック（Ｂ）の含有量は、後述する実施例に記載する方法により測定することができる。
【００２７】
本実施形態において、重合体ブロック（Ｂ）の水素化前のビニル結合量としては、当該ブロックに含まれる重合体ブロック（Ｂ１）と重合体ブロック（Ｂ２）のそれぞれについて特定される。
すなわち、重合体ブロック（Ｂ１）の水素化前のビニル結合量は、本実施形態の粘着性フィルムの低温粘着性、繰り出し性、及び低粘着昂進性の観点から、４０ｍｏｌ％以上６０ｍоｌ％以下である。同様の観点から、重合体ブロック（Ｂ１）の水素化前のビニル結合量は、好ましくは４２〜５８ｍｏｌ％であり、より好ましくは４５〜５５ｍｏｌ％である。
また、重合体ブロック（Ｂ２）の水素化前のビニル結合量は、本実施形態の粘着性フィルムの初期粘着性の観点から、６０ｍｏｌ％超１００ｍоｌ％以下である。同様の観点から、重合体ブロック（Ｂ２）の水素化前のビニル結合量は、好ましくは６５〜９５ｍｏｌ％であり、より好ましくは７０〜９０ｍｏｌ％である。
前記共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック（Ｂ）の水素化前のビニル結合量は、具体的には、後述する実施例に記載する方法により測定することができる。
また、前記ビニル結合量は、極性化合物等、ルイス塩基、エーテル、アミン等のビニル化剤の使用により制御することができる。
【００２８】
上記のとおり、水素化ブロック共重合体（ａ）は、重合体ブロック（Ｃ）と重合体ブロック（Ｂ）とを有することにより、ビニル量が異なる重合体ブロックを少なくとも３つ含むものである。
すなわち、１〜２５ｍｏｌ％とビニル量が低く繰り出し性、及び低粘着昂進性に寄与する重合体ブロック（Ｃ）；４０ｍｏｌ％以上６０ｍｏｌ％以下とビニル量が中程度であり低温粘着性に寄与する重合体ブロック（Ｂ１）；並びに６０ｍｏｌ％超１００ｍｏｌ％以下とビニル量が高く初期粘着性に寄与する重合体ブロック（Ｂ２）を有することにより、各重合体ブロックの特性が相俟って、初期粘着性、低温粘着性、繰り出し性、及び低粘着昂進性のバランスに特に優れるものとなる。
すなわち、本実施形態の粘着性フィルムが水素化ブロック共重合体（ａ）を含有することにより、従来トレードオフの関係にあると考えられていた「初期粘着性」と「繰り出し性、及び低粘着昂進性」とのバランスを、とりわけ良好なものとし、かつ、低温下でも十分な粘着性を付与することができる。
【００２９】
本実施形態の粘着性フィルムにおいて、粘着性フィルムの初期粘着性、低温粘着性、繰り出し性、及び低粘着昂進性の各種特性バランスの観点から、水素化重合体ブロック共重合体（ａ）１００質量％中における重合体ブロック（Ｂ１）の含有量は、１０〜６０質量％であることが好ましく、前記重合体ブロック（Ｂ２）の含有量が３０〜８０質量％であることが好ましい。
同様の観点から、重合体ブロック（Ｂ１）の含有量は、１５〜５５質量％であることがより好ましく、前記重合体ブロック（Ｂ２）の含有量が４０〜７５質量％であることがより好ましい。また、重合体ブロック（Ｂ１）の含有量は、２０〜５０質量％であることがさらに好ましく、前記重合体ブロック（Ｂ２）の含有量が５０〜７０質量％であることがさらに好ましい。これらの含有量は、後述する実施例に記載する方法により測定することができる。
【００３０】
水素化ブロック共重合体（ａ）中の重合体ブロック（Ｓ）の含有量は、粘着性フィルムの適度な初期粘着性、繰り出し性、及び低粘着昂進性の観点から、１〜１５質量％である。
同様の観点から、重合体ブロック（Ｓ）の含有量は、好ましくは２〜１２質量％であり、より好ましくは３〜９質量％である。
水素化ブロック共重合体中の重合体ブロック（Ｓ）の含有量は、後述する実施例に記載する方法により測定することができる。
【００３１】
水素化ブロック共重合体（ａ）の芳香族ビニル化合物単位の含有量は、粘着性フィルムの適度な初期粘着性、繰り出し性、及び低粘着昂進性の観点から、１〜１５質量％であり、好ましくは２〜１２質量％であり、より好ましくは３〜９質量％である。
水素化ブロック共重合体（ａ）中の芳香族ビニル化合物単位の含有量は、後述する実施例に記載する方法により測定することができる。
水素化ブロック共重合体（ａ）において、共役ジエン化合物単位の合計１００ｍｏｌ％に対して、ブチレン量及び／又はプロピレン量は、粘着性フィルムの初期粘着性、低温粘着性、繰り出し性、及び低粘着昂進性の各種特性バランスの観点から、４２〜８０ｍｏｌ％であり、好ましくは４５〜８０ｍｏｌ％であり、より好ましくは５５〜７０ｍｏｌ％である。
上記のブチレン量及び／又はプロピレン量は、後述する実施例に記載する方法により測定することができる。
なお、上記のブチレン量及び／又はプロピレン量は、極性化合物等、ルイス塩基、エーテル、アミン等のビニル化剤の使用、及び、水素化率により制御することができる。
【００３２】
本実施形態の粘着性フィルムにおいて、初期粘着性、繰り出し性、及び低粘着昂進性の観点から、水素化ブロック共重合体（ａ）中の重合体ブロック（Ｃ）と重合体ブロック（Ｓ）の含有量の合計は、３〜２７質量％であることが好ましく、より好ましくは５〜２５質量％であり、さらに好ましくは７〜１８質量％である。
【００３３】
本実施形態の水素化ブロック共重合体（ａ）の構造は、特に限定されないが、例えば、下記式により表されるような構造を有するものが挙げられる。
（Ｃ−Ｂ）n−Ｓ
（Ｃ−Ｂ−Ｓ）n
（Ｃ−Ｂ−Ｓ）n−（Ｂ３）
（Ｃ−Ｂ−Ｓ−（Ｂ３））n
（Ｃ−Ｂ−Ｓ）m−Ｘ
（Ｃ−Ｂ−Ｓ−（Ｂ３））m−Ｘ
（上式において、Ｃ、Ｂ、Ｓ、Ｂ３はそれぞれ、重合体ブロック（Ｃ）、（Ｂ）、（Ｓ）及び後述する（Ｂ３）を表す。複数存在する場合は異なっていても同じでもよく、１つのＢは少なくとも１つの重合体ブロック（Ｂ１）か重合体ブロック（Ｂ２）であり、複数の重合体ブロック（Ｂ１）と重合体ブロック（Ｂ２）からなるものであってもよい。式中、Ｂが１つしか存在しない場合は、Ｂは少なくとも１つの重合体ブロック（Ｂ１）と少なくとも１つの重合体ブロック（Ｂ２）からなるものである。
ｎは１以上で、好ましくは１〜３の整数である。ｍは２以上を示し、好ましくは２〜６の整数である。Ｘはカップリング剤残基又は多官能開始剤残基を示す。）
特にＣ−Ｂ−Ｓ、Ｃ−Ｂ−Ｓ−（Ｂ３）の構造式で表される重合体であることが好ましい。
【００３４】
本実施形態の粘着性フィルムにおいては、初期粘着性の観点から、共役ジエンを主体とする重合体ブロック重合体ブロック（Ｂ）が前記水素化ブロック共重合体（ａ）の末端に存在する重合体ブロック（Ｂ３）をさらに含み、水素化ブロック共重合体（ａ）中、重合体ブロック（Ｂ３）の含有量が１〜１０質量％であることが好ましい。
同様の観点から、重合体ブロック（Ｂ３）の含有量は、水素化ブロック共重合体（ａ）中、１．５〜７質量％であることがより好ましく、２〜５質量％であることがさらに好ましい。
水素化ブロック共重合体（ａ）の末端に存在する重合体ブロック（Ｂ３）の含有量は、重合モノマーのフィード組成により制御することができる。
【００３５】
水素化ブロック共重合体（ａ）の水素化率、すなわち、水素化ブロック共重合体（ａ）中に含まれる全共役ジエン化合物単位の水素化率は、８０ｍｏｌ％以上であり、好ましくは８５ｍｏｌ％以上であり、より好ましくは９０ｍｏｌ％以上、さらに好ましくは９５ｍｏｌ％以上である。
水素化ブロック共重合体（ａ）の共役ジエン単量体単位中に含まれる全不飽和基単位の水素化率は、核磁気共鳴スペクトル解析（ＮＭＲ）により測定でき、具体的には、後述する実施例に記載する方法により測定することができる。
【００３６】
水素化率を８０ｍｏｌ％以上とすることで、重合体ブロック（Ｃ）の結晶化が高まり、水素化ブロック共重合体の耐ブロッキング性が良好なものになり、かつ本実施形態の粘着性フィルムの初期粘着性、繰り出し性、及び低粘着昂進性の特性バランスが良好となる。
【００３７】
水素化率は、例えば、水素添加時の触媒量によって制御することができ、水素添加速度は、例えば、水素添加時の触媒量、水素フィード量、圧力及び温度等によって制御することができる。
【００３８】
水素化ブロック共重合体（ａ）は、耐ブロッキング性、及び得られる粘着性フィルムの繰り出し性、及び低粘着昂進性の観点から、−２０〜８０℃に結晶化ピークを有し、結晶化熱量が０．１〜１０Ｊ／ｇである。
同様の観点から、上記結晶化ピークがある温度範囲は、−１０〜７０℃であることが好ましく、０〜６０℃であることがより好ましい。また、上記結晶化熱量は、１．０〜７．５Ｊ／ｇであることが好ましく、１．５〜５．０Ｊ／ｇであることがより好ましい。
結晶化ピークがある温度範囲、及び結晶化熱量は、後述する実施例に記載する方法により測定することができる。
水素化ブロック共重合体（ａ）の結晶化ピーク温度範囲、結晶化熱量は、重合体ブロック（Ｃ）の含有量、及び、極性化合物等、ルイス塩基、エーテル、アミン等のビニル化剤の使用、水素化率により制御することができる。
【００３９】
本実施形態の粘着性フィルムにおいては、繰り出し性及び、低粘着昂進性の観点から、粘着性フィルムの粘着層に含まれる水素化ブロック共重合体（ａ）のミクロ相分離構造が、サイズが５〜２０ｎｍの球構造（スフィアー構造）を含むものであることが好ましい。
スフィアー構造は、水素化ブロック共重合体（ａ）において、重合体ブロック（Ｓ）の含有量が所定の範囲内にある、また、片末端に存在する場合に観測される特有の構造であり、後述する実施例に記載の方法により確認することができる。
【００４０】
本実施形態において、前記水素化ブロック共重合体（ａ）のメルトフローレート（ＭＦＲ；ＩＳＯ  １１３３に準拠）は、本実施形態の粘着性フィルムの、加工性、初期粘着性、繰り出し性、及び低粘着昂進性等の観点から、０．１〜３０ｇ／１０分であることが好ましく、０．５〜１５ｇ／１０分以下であることがより好ましく、１〜１０ｇ／１０分以下であることがさらに好ましい。
メルトフローレートは、水素化ブロック共重合体（ａ）の分子量、ビニル芳香族単量体単位の含有量、共役ジエン部のビニル結合量、水素化率、水素化ブロック共重合体（ａ）のブロック構造等を調整することにより、制御することができる。
【００４１】
本実施形態において、得られる粘着性フィルムの低温粘着性の観点から、前記水素化ブロック共重合体（ａ）の固体粘弾性測定（１Ｈｚ）により得られる温度−損失正接（ｔａｎδ）曲線において観察される、前記水素化ブロック共重合体（ａ）のガラス転移を示すｔａｎδピーク（Ｔｇ１）は−４５℃を超えて−３０℃以下の範囲にあることが好ましく、かつ、前記水素化ブロック共重合体（ａ）を特定のホモポリプロピレン（プロピレン単位の含有量９９％以上かつＭＦＲ（２３０℃、ＩＳＯ１１３３に準拠）＝１〜１０ｇ／１０分）に３０質量％添加した場合に観察されるｔａｎδピーク（Ｔｇ２）との差ΔＴｇ（Ｔｇ１−Ｔｇ２）が３〜１２℃の範囲であることが好ましい。
同様の観点から、上記（Ｔｇ１−Ｔｇ２）は、４〜１０℃であることが好ましく、５〜９℃であることがより好ましい。
上記（Ｔｇ１）、（Ｔｇ２）、ΔＴｇは、後述する実施例に記載する方法により測定することができる。
また、上記ΔＴｇは、前記重合体ブロック（Ｂ１）、（Ｂ２）の比率により制御することができる。
【００４２】
水素化ブロック共重合体（ａ）のショアＡ硬度は１５〜６０の範囲であることが好ましい。ショアＡ硬度が１５〜６０であることにより、粘着性フィルムの初期粘着性の向上効果が得られる。
ショアＡ硬度の範囲は、２５〜５５であることがより好ましく、３０〜５０であることがさらに好ましい。
前記水素化ブロック共重合体（ａ）のショアＡ硬度は、水素化前のビニル結合量１〜２５ｍｏｌ％である共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロックとビニル芳香族化合物を主体とする重合体ブロックを有しているものとすること、これらの重合体ブロックの含有量を調整すること、さらには、極性化合物等、ルイス塩基、エーテル、アミン等のビニル化剤を使用することや、水素化率を調整することにより制御することができる。
ここで、ショアＡ硬度は、後述する実施例に記載の方法により測定することができる。
【００４３】
水素化ブロック共重合体（ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）（以下、「Ｍｗ」ともいう。）は、水素化ブロック共重合体（ａ）の低ブロッキング性、低ヒステリシスロス性の観点、本実施形態の粘着性フィルムの初期粘着性、繰り出し性、低粘着昂進性、及びこれらの物性バランスの観点から、１０万〜３０万であることが好ましく、１３万〜２７万であることがより好ましく、１５万〜２５万であることがさらに好ましい。
前記水素化ブロック共重合体（ａ）のＭｗは、重合開始剤量により制御することができる。
【００４４】
水素化ブロック共重合体（ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＧＰＣによる測定で得られるクロマトグラムのピークの分子量を、市販の標準ポリスチレンの測定から求めた検量線（標準ポリスチレンのピーク分子量を使用して作成）に基づいて求めた重量平均分子量（Ｍｗ）である。
具体的には、後述する実施例に記載する方法により測定することができる。
水素化ブロック共重合体の分子量分布も、同様にＧＰＣによる測定から求めることができ、分子量分布は重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比率である。
【００４５】
水素化ブロック共重合体（ａ）のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、「ＧＰＣ」ともいう。）で測定される単一ピークの分子量分布は１．３０以下であることが好ましく、より好ましくは１．２０以下、さらに好ましくは１．１５以下であり、よりさらに好ましくは１．１０以下である。
【００４６】
上述した水素化ブロック共重合体（ａ）又は本実施形態の粘着性フィルムのソックスレー抽出物乾燥試料を１３Ｃ−ＮＭＲで測定した場合、２９．４〜３０．０ｐｐｍの積分値と９．０〜１４．０ｐｐｍの積分値との比（２９．４〜３０．０ｐｐｍの積分値／９．０〜１４．０ｐｐｍの積分値）が、下記式（１）で求められる積分値の比から下記式（２）で求められる積分値の比の範囲にあり、ブチレン量が５０〜８０ｍｏｌ％であることが好ましい。
積分値の比＝((1.23+((100-ブチレン量×0.97-0.3)÷0.97) 3÷10000×0.97)÷0.97)÷（ブチレン量÷４）・・・式（１）
積分値の比＝((12.28+((100-ブチレン量×0.97-0.3)÷0.97) 3÷10000×0.97)÷0.97)÷（ブチレン量÷４）・・・式（２）
上記範囲にすることにより、得られる粘着フィルムの初期粘着性、繰り出し性及び低粘着昂進性の特性バランスを良好なものにすることができる。
同様の観点から、ブチレン量は５２〜７６ｍｏｌ％であることが好ましく、より好ましくは５５〜７０ｍｏｌ％である。
また、上記積分値の比を表す式において、下記式（３）から下記式（４）の範囲にあることが好ましく、下記式（５）から下記式（６）の範囲にあることがさらに好ましい。
積分値の比＝((1.84+((100-ブチレン量×0.97-0.3)÷0.97) 3÷10000×0.97)÷0.97)÷（ブチレン量÷４）・・・式（３）
積分値の比＝((11.05+((100-ブチレン量×0.97-0.3)÷0.97) 3÷10000×0.97)÷0.97)÷（ブチレン量÷４）・・・式（４）
積分値の比＝((2.46+((100-ブチレン量×0.97-0.3)÷0.97) 3÷10000×0.97)÷0.97)÷（ブチレン量÷４）・・・式（５）
積分値の比＝((9.21+((100-ブチレン量×0.97-0.3)÷0.97) 3÷10000×0.97)÷0.97)÷（ブチレン量÷４）・・・式（６）
また、上記積分値の比は、前記重合体ブロック（Ｃ）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｓ）の量、及びブチレン量を上述の範囲にすることにより制御することができる。
なお、上記積分値の比は、水素化ブロック共重合体（ａ）の構造に起因するものであり、測定条件が同じであれば、水素化ブロック共重合体（ａ）を測定試料に用いた場合と当該水素化ブロック共重合体（ａ）を含む粘着性フィルムを測定試料に用いた場合で積分値は変わらない。
水素化ブロック共重合体のブチレン量と、当該ブチレン量と上記の式（１）〜（６）から算出される積分値の比（２９．４〜３０．０ｐｐｍの積分値／９．０〜１４．０ｐｐｍの積分値）との関係を図１に示す。
【００４７】
＜水素化ブロック共重合体（ａ）の製造方法＞
水素化ブロック共重合体（ａ）の製造方法としては、特に限定されないが、例えば、有機溶媒中で、有機アルカリ金属化合物を重合開始剤として重合を行い、ブロック共重合体を得た後、水素化反応を行うことにより製造することができる。
重合の態様としては、バッチ重合であっても連続重合であっても、或いはそれらの組み合わせであってもよい。分子量分布が狭く、高い強度を有するブロック共重合体を得る観点からは、バッチ重合方法が好ましい。
【００４８】
重合温度は一般に０〜１５０℃であり、２０〜１２０℃であることが好ましく、４０〜１００℃であることがより好ましく、５５〜６５℃であることがさらに好ましい。
重合時間は目的とする重合体によって異なるが、通常は２４時間以内であり、０．１〜１０時間であることが好ましい。分子量分布が狭く、高い強度を有するブロック共重合体を得る観点からは、０．５〜３時間であることがより好ましい。
重合系の雰囲気は、窒素及び溶媒を液相に維持するのに十分な圧力の範囲であればよく、特に限定されるものではない。
重合系内に、重合開始剤及びリビングポリマーを不活性化させるような不純物、例えば水、酸素、炭酸ガスなどが存在しないことが好ましい。
【００４９】
有機溶媒としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ｎ−ブタン、イソブタン、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン等の脂肪族炭化水素類；シクロヘキサン、シクロへプタン、メチルシクロペンタン等の脂環式炭化水素類；ベンゼン、キシレン、トルエン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
【００５０】
重合開始剤である有機アルカリ金属化合物としては、有機リチウム化合物が好ましい。有機リチウム化合物としては、有機モノリチウム化合物、有機ジリチウム化合物、有機ポリリチウム化合物が用いられる。
有機リチウム化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、エチルリチウム、ｎ−プロピルリチウム、イソプロピルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、フェニルリチウム、ヘキサメチレンジリチウム、ブタジエニルリチウム、及びイソプロペニルジリチウムなどが挙げられる。
これらの中でも、重合活性の点でｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウムが好ましい。
【００５１】
重合開始剤である有機アルカリ金属化合物の使用量は、目的とするブロック共重合体の分子量によるが、一般的には０．０１〜０．５ｐｈｍ（単量体１００質量部当たりに対する質量部）の範囲であることが好ましく、０．０３〜０．３ｐｈｍの範囲であることがより好ましく、０．０５〜０．１５ｐｈｍの範囲であることがさらに好ましい。
【００５２】
水素化ブロック共重合体（ａ）に含まれている重合体ブロック（Ｂ１）、（Ｂ２）及び重合体部位ロック（Ｃ）のビニル結合量は、ルイス塩基、例えばエーテル、アミンなどの化合物をビニル化剤として使用することで調節できる。
ビニル化剤の使用量は、目的とするビニル結合量によって調整することができる。
また、ビニル化剤及び後述する金属アルコキシドを２以上の条件に分けて添加することにより、共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック中に、ビニル結合量の異なる重合体ブロックを製造することができる。
【００５３】
ビニル化剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、エーテル化合物、酸素原子を２個以上有するエーテル系化合物、及び第３級アミン系化合物等が挙げられる。
【００５４】
第３級アミン系化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ピリジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ´，Ｎ´−テトラメチルエチレンジアミン、トリブチルアミン、テトラメチルプロパンジアミン、１，２−ジピペリジノエタン、ビス［２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル］エーテル等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
これらは、一種のみを単独で用いてもよく、二種以上を併用してもよい。
第３級アミン化合物としては、アミンを２個有する化合物が好ましい。さらに、それらの中でも、分子内で対称性を示す構造を有するものがより好ましく、Ｎ，Ｎ，Ｎ´，Ｎ´−テトラメチルエチレンジアミンやビス［２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル］エーテルや１，２−ジピペリジノエタンがさらに好ましい。
【００５５】
本実施形態においては、上述したビニル化剤、有機リチウム化合物、及びアルカリ金属アルコキシドの共存下、水素化ブロック共重合体の共重合を行ってもよい。ここで、アルカリ金属アルコキシドとは、一般式ＭＯＲ（式中、Ｍはアルカリ金属、Ｒはアルキル基である）で表される化合物である。
【００５６】
アルカリ金属アルコキシドのアルカリ金属としては、高いビニル結合量、狭い分子量分布、高い重合速度、及び高いブロック率の観点から、ナトリウム又はカリウムであることが好ましい。
アルカリ金属アルコキシドとしては、以下に限定されるものではないが、好ましくは、炭素数２〜１２のアルキル基を有するナトリウムアルコキシド、リチウムアルコキシド、カリウムアルコキシドであり、より好ましくは、炭素数３〜６のアルキル基を有するナトリウムアルコキシドやカリウムアルコキシドであり、さらに好ましくは、ナトリウム−ｔ−ブトキシド、ナトリウム−ｔ−ペントキシド、カリウム−ｔ−ブトキシド、カリウム−ｔ−ペントキシドである。
これらの中でも、ナトリウムアルコキシドであるナトリウム−ｔ−ブトキシド、ナトリウム−ｔ−ペントキシドがよりさらに好ましい。
【００５７】
水素化ブロック共重合体（ａ）の重合工程において、ビニル化剤、有機リチウム化合物、及びアルカリ金属アルコキシドの共存下、重合を行う場合、ビニル化剤と有機リチウム化合物とのモル比（ビニル化剤／有機リチウム化合物）、及びアルカリ金属アルコキシドと有機リチウム化合物とのモル比（アルカリ金属アルコキシド／有機リチウム化合物）を、下記モル比で共存させることが好ましい。
ビニル化剤／有機リチウム化合物が０．２〜３．０
アルカリ金属アルコキシド／有機リチウム化合物が０．０１〜０．３
【００５８】
ビニル化剤／有機リチウム化合物のモル比は、高いビニル結合量、高い重合速度の観点から０．２以上とし、狭い分子量分布、かつ高い水素化活性を得る観点から３．０未満とすることが好ましい。また、アルカリ金属アルコキシド／有機リチウム化合物のモル比は、高いビニル結合量、高い重合速度、及び高いブロック率の観点から０．０１以上とし、狭い分子量分布、かつ高い水素化活性を得る観点から０．３以下とすることが好ましい。これにより、重合速度の向上が図られ、目的とする水素化ブロック共重合体のビニル結合量を高くできるとともに分子量分布を狭くでき、さらにはブロック率が向上する傾向にある。
【００５９】
重合工程における、ビニル化剤／有機リチウム化合物のモル比は、高いビニル結合量及び高い重合速度の観点から、０．８以上が好ましく、狭い分子量分布及び高い水素化活性の観点から、２．５以下が好ましく、１．０以上２．０以下の範囲がより好ましい。
【００６０】
また、アルカリ金属アルコキシド／有機リチウム化合物のモル比は、高いビニル結合量、高い重合速度及び高いブロック率の観点から０．０２以上が好ましく、狭い分子量分布や高い水素化活性の観点から０．２以下が好ましく、０．０３以上０．１以下がより好ましく、０．０３以上０．０８以下がさらに好ましい。
【００６１】
さらに、アルカリ金属アルコキシド／ビニル化剤のモル比は、高いビニル結合量、高い重合速度及び高いブロック率の観点から、０．０１０以上であることが好ましく、狭い分子量分布を実現し、かつ高い水素化活性を得る観点から０．１００以下が好ましく、０．０１２以上０．０８０以下がより好ましく、０．０１５以上０．０６以下がさらに好ましく、０．０１５以上０．０５以下がよりさらに好ましい。
【００６２】
共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック中のビニル結合量の異なるブロックを製造する手法として、ビニル化剤に対する失活剤を用いることもできる。
失活剤としては、アルキル金属化合物が挙げられ、一つのアルキル置換基あたり１〜２０個の炭素原子をもつアルキルアルミニウム、亜鉛及びマグネシウム、ならびにこれらの混合物から選択される。
【００６３】
水素化ブロック共重合体（ａ）を製造する際の水素化の方法は特に限定されないが、例えば、上記で得られたブロック共重合体に対し、水素化触媒の存在下に、水素を供給し、水素添加することにより、共役ジエン化合物単位の二重結合残基が水素添加された水素化ブロック共重合体を得ることができる。
水素化率は、例えば、水素添加時の触媒量によって制御することができ、水素添加速度は、例えば、水素添加時の触媒量、水素フィード量、圧力及び温度等によって制御することができる。
【００６４】
水素化ブロック共重合体（ａ）をペレット化することにより、水素化ブロック共重合体（ａ）のペレットを製造することができる。
ペレット化の方法としては、例えば、一軸又は二軸押出機から水素化ブロック共重合体をストランド状に押出して、ダイ部前面に設置された回転刃により、水中で切断する方法；一軸又は二軸押出機から水素化ブロック共重合体をストランド状に押出して、水冷又は空冷した後、ストランドカッターにより切断する方法；オープンロール、バンバリーミキサーにより溶融混合した後、ロールによりシート状に成型し、更に該シートを短冊状にカットした後に、ペレタイザーにより立方状ペレットに切断する方法などが挙げられる。
なお、水素化ブロック共重合体（ａ）のペレット成形体の大きさ、形状は特に限定されない。
【００６５】
水素化ブロック共重合体（ａ）は必要に応じて好ましくはそのペレットに、ペレットブロッキングの防止を目的としてペレットブロッキング防止剤を配合することができる。
ペレットブロッキング防止剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸亜鉛、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンビスステアリルアミド、タルク、アモルファスシリカ等が挙げられる。
本実施形態の粘着性フィルムの初期粘着性、繰り出し性、及び低粘着昂進性の観点から、ステアリン酸カルシウム、ポリエチレン、及びポリプロピレンが好ましい。
好ましい量としては、水素化ブロック共重合体（ａ）に対して５００〜６０００ｐｐｍである。より好ましい量としては、水素化ブロック共重合体（ａ）に対して１０００〜５０００ｐｐｍである。ペレットブロッキング防止剤は、ペレット表面に付着した状態で配合されていることが好ましいが、ペレット内部にある程度含むこともできる。
【００６６】
＜粘着付与剤＞
本実施形態の粘着性フィルムの粘着層には、粘着付与剤が含有されていてもよい。
粘着付与剤としては、粘着層に粘性を付与しうる樹脂であれば特に限定されるものではないが、例えば、水添テルペン樹脂、ロジン系テルペン系樹脂、水添ロジンテルペン系樹脂、芳香族変性水添テルペン樹脂、クマロン系樹脂、フェノール系樹脂、テルペンフェノール系樹脂、水添テルペンフェノール樹脂、芳香族炭化水素樹脂、脂肪族炭化水素樹脂等の公知の粘着付与樹脂が挙げられる。
特に、水添テルペン樹脂、芳香族変性水添テルペン樹脂、水添テルペンフェノール樹脂、及びテルペンフェノール樹脂が好ましい。
粘着付与剤は１種のみを単独で使用してもよく、２種類以上混合して使用してもよい。
粘着付与剤の具体例としては、「ゴム・プラスチック配合薬品」（ラバーダイジェスト社編）に記載されたものが使用できる。粘着付与剤を用いることにより、粘着力の改良が図られる。
粘着層中における粘着付与剤の含有量は、粘着層中に０．５〜５０質量％含有することが好ましく、５〜４５質量％がより好ましく、１０〜３０質量％がさらに好ましい。
粘着層中の粘着付与剤の含有量が５０質量％以下であれば、粘着昂進を効果的に防止でき、剥離の際の糊残り量をより低減できる傾向にあるため好ましい。０．５質量％以上であれば、適度な粘着力が得られる。
【００６７】
＜水素化ブロック共重合体（ｂ）、水素化ブロック共重合体（ｃ）＞
本実施形態の粘着性フィルムは、粘着層が、後述する水素化ブロック共重合体（ｂ）及び／又は水素化ブロック共重合体（ｃ）を５〜９５質量％、さらに含む構成とすることが好ましく、１０〜９０質量％含む構成とすることがより好ましく、１５〜８５質量％含む構成とすることがさらに好ましい。
上記構成を有することにより、より適度な初期粘着性、低温粘着性、繰り出し性、及び低粘着昂進性、及びその特性バランスに優れた粘着性フィルムが得られる。
【００６８】
前記水素化ブロック共重合体（ｂ）は、分子中に、
共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック（Ｂ−１）と、
ビニル芳香族化合物を主体とする重合体ブロック（Ｓ１）と、
を、含み、
前記水素化ブロック共重合体（ｂ）中、
前記共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック（Ｂ−１）の含有量が９５〜７０質量％であり、
前記ビニル芳香族化合物を主体とする重合体ブロック（Ｓ１）の含有量が５〜３０質量％であり、
前記共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック（Ｂ−１）の水素化前のビニル結合量が３０〜１００ｍｏｌ％であり、
前記水素化ブロック共重合体（ｂ）の水素化率が８０ｍｏｌ％以上である。
【００６９】
前記水素化ブロック共重合体（ｃ）は、分子中に、
共役ジエン化合物とビニル芳香族化合物を含む重合体ブロック（Ｂ−２）と、
ビニル芳香族化合物を主体とする重合体ブロック（Ｓ２）と、
を、含み、
前記水素化ブロック共重合体（ｃ）中、
前記共役ジエン化合物とビニル芳香族化合物を含む重合体ブロック（Ｂ−２）の含有量が９５〜７０質量％であり、
前記ビニル芳香族化合物を主体とする重合体ブロック（Ｓ２）の含有量が５〜３０質量％であり、
前記水素化ブロック共重合体（ｃ）の水素化率が８０ｍｏｌ％以上である。
【００７０】
なお、水素化ブロック共重合体（ｂ）、水素化ブロック共重合体（ｃ）において、「主体とする」の定義や、共役ジエン化合物、ビニル芳香族化合物の各材料、ビニル結合量、水素化率については、上述した水素化ブロック共重合体（ａ）と同様に定義でき、かつ制御することができる。
また、水素化ブロック共重合体（ｂ）及び水素化ブロック共重合体（ｃ）は、上述した水素化ブロック共重合体（ａ）の製造方法と同様の方法により製造することができる。
すなわち、同様の単量体を用い、同様の条件により各重合体ブロックの含有量、ビニル結合量、水素化率等を制御することができる。
【００７１】
＜水素化ブロック共重合体（ｂ）の構造例＞
上述した水素化ブロック共重合体（ｂ）としては、例えば、下記一般式により表されるような構造を有するものが挙げられる。
（Ｓ１−（Ｂ−１））n、
Ｓ１−（Ｂ−１）−Ｓ１）n、
（Ｂ−１）−（Ｓ１−（Ｂ−１））n、
［（（Ｂ−１）−Ｓ１）n］m−Ｚ、
［（Ｓ１−（Ｂ−１）n］m−Ｚ、
［（（Ｂ−１）−Ｓ１）n−（Ｂ−１）］m−Ｚ、
［（Ｓ１−（Ｂ−１））n−Ｓ１］m−Ｚ
【００７２】
上記一般式において、Ｓ１はビニル芳香族化合物を主体とする重合体ブロック（Ｓ１）であり、（Ｂ−１）は共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック（Ｂ−１）である。
重合体ブロック（Ｓ１）と重合体ブロック（Ｂ−１）との境界線は必ずしも明瞭に区別される必要はない。
また、ｎは１以上の整数、好ましくは１〜５の整数である。
ｍは２以上の整数、好ましくは２〜１１、より好ましくは２〜８の整数である。
Ｚはカップリング剤残基を表す。
ここで、カップリング残基とは、共役ジエン化合物単量体単位とビニル芳香族炭化水素化合物単量体単位との共重合体の複数を、重合体ブロック（Ｓ１）−重合体ブロック（Ｓ１）間、重合体ブロック（Ｂ−１）−重合体ブロック（Ｂ−１）間、又は重合体ブロック（Ｓ１）−重合体ブロック（Ｂ−１）間において結合させるために用いられるカップリング剤の結合後の残基を意味する。
カップリング剤としては、２官能カップリング剤や多官能カップリング剤が挙げられる。
２官能基カップリング剤として、以下に限定されるものではないが、例えば、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジブロモシラン等のジハロゲン化合物；安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸フェニル、フタル酸エステル類等の酸エステル類等が挙げられる。
３官能基以上の多官能カップリング剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、３価以上のポリアルコール類、エポキシ化大豆油、ジグリシジルビスフェノールＡ等の多価エポキシ化合物；式Ｒ１(4-n)ＳｉＸn（ここで、Ｒ１は炭素数１から２０の炭化水素基、Ｘはハロゲン、ｎは３又は４の整数を表す）で表されるハロゲン化珪素化合物、及びハロゲン化錫化合物が挙げられる。
ハロゲン化珪素化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、メチルシリルトリクロリド、ｔ−ブチルシリルトリクロリド、四塩化珪素、及びこれらの臭素化物等が挙げられる。
ハロゲン化錫化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、メチル錫トリクロリド、ｔ−ブチル錫トリクロリド、四塩化錫等の多価ハロゲン化合物等が挙げられる。また、炭酸ジメチルや炭酸ジエチル等も使用可能である。
上記一般式において、重合体ブロック（Ｓ１）及び重合体ブロック（Ｂ−１）中のビニル芳香族化合物単量体単位は均一に分布していても、テーパー状に分布していてもよい。また、重合体ブロック（Ｓ１）及び重合体ブロック（Ｂ−１）がビニル芳香族化合物単量体単位と共役ジエン化合物単量体単位の共重合体ブロックである場合には、該共重合体ブロック中のビニル芳香族化合物単量体単位は均一に分布している部分及び／又はテーパー状に分布している部分がそれぞれ複数個存在していてもよい。さらに、上記共重合体ブロック部分には、ビニル芳香族化合物単量体単位の含有量が異なる部分が複数個共存していてもよい。
【００７３】
＜水素化ブロック共重合体（ｃ）の構造例＞
上述した水素化ブロック共重合体（ｃ）としては、例えば、下記一般式により表されるような構造を有するものが挙げられる。
（Ｓ２−（Ｂ−２））n、
（Ｂ−２）−（Ｓ２−（Ｂ−２））n、
［（（Ｂ−２）−Ｓ２）n］m−Ｚ、
［（（Ｂ−２）−Ｓ２）n−（Ｂ−２）］m−Ｚ、
【００７４】
上記一般式において、（Ｂ−２）は共役ジエン化合物とビニル芳香族化合物を含む重合体ブロック（Ｂ−２）であり、Ｓ２はビニル芳香族化合物を主体とする重合体ブロック（Ｓ２）である。
重合体ブロック（Ｓ２）と重合体ブロック（Ｂ−２）との境界線は必ずしも明瞭に区別される必要はない。
また、ｎは１以上の整数、好ましくは１〜５の整数である。
ｍは２以上の整数、好ましくは２〜１１、より好ましくは２〜８の整数である。
Ｚはカップリング剤残基を表す。
ここで、カップリング残基とは、共役ジエン化合物単量体単位とビニル芳香族炭化水素化合物単量体単位との共重合体の複数を、重合体ブロック（Ｓ２）−重合体ブロック（Ｓ２）間、重合体ブロック（Ｂ−２）−重合体ブロック（Ｂ−２）間、又は重合体ブロック（Ｓ２）−重合体ブロック（Ｂ−２）間において結合させるために用いられるカップリング剤の結合後の残基を意味する。
カップリング剤としては、２官能カップリング剤や多官能カップリング剤が挙げられる。
２官能基カップリング剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジブロモシラン等のジハロゲン化合物；安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸フェニル、フタル酸エステル類等の酸エステル類等が挙げられる。
３官能基以上の多官能カップリング剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、３価以上のポリアルコール類、エポキシ化大豆油、ジグリシジルビスフェノールＡ等の多価エポキシ化合物；式Ｒ１(4-n)ＳｉＸn（ここで、Ｒ１は炭素数１から２０の炭化水素基、Ｘはハロゲン、ｎは３又は４の整数を表す）で表されるハロゲン化珪素化合物、及びハロゲン化錫化合物が挙げられる。
ハロゲン化珪素化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、メチルシリルトリクロリド、ｔ−ブチルシリルトリクロリド、四塩化珪素、及びこれらの臭素化物等が挙げられる。
ハロゲン化錫化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、メチル錫トリクロリド、ｔ−ブチル錫トリクロリド、四塩化錫等の多価ハロゲン化合物等が挙げられる。また、炭酸ジメチルや炭酸ジエチル等も使用可能である。
上記一般式において、重合体ブロック（Ｓ２）及び重合体ブロック（Ｂ−２）中のビニル芳香族化合物単量体単位は均一に分布していても、テーパー状に分布していてもよい。また、重合体ブロック（Ｓ２）及び重合体ブロック（Ｂ−２）がビニル芳香族化合物単量体単位と共役ジエン化合物単量体単位の共重合体ブロックである場合には、該共重合体ブロック中のビニル芳香族化合物単量体単位は均一に分布している部分及び／又はテーパー状に分布している部分がそれぞれ複数個存在していてもよい。さらに、上記共重合体ブロック部分には、ビニル芳香族化合物単量体単位の含有量が異なる部分が複数個共存していてもよい。
【００７５】
＜その他の材料＞
本実施形態の粘着性フィルムの粘着層は、上述した水素化ブロック共重合体（ａ）、（ｂ）、（ｃ）や、粘着付与剤以外の、後述する、水添スチレン系エラストマー、オレフィン系樹脂、オレフィン系エラストマー、アクリル系共重合体、軟化剤、酸化防止剤、光安定剤、顔料、ワックス類、熱可塑性樹脂、天然ゴム、合成ゴム、飽和脂肪酸ビスアミド等のその他の材料を含有してもよい。
【００７６】
［水添スチレン系エラストマー］
上記水添スチレン系エラストマーとしては、特に限定されないが、例えば、スチレンーブタジエンースチレン（ＳＢＳ）、スチレンーイソプレンースチレン（ＳＩＳ）、スチレン−ブタジエンランダムポリマー（ＳＢＲ）、ＳＢＳを水素添加により飽和させたスチレンーエチレンーブチレン−スチレン（ＳＥＢＳ）、スチレンーエチレンープロピレン−スチレン（ＳＥＰＳ）が代表的な水添スチレン系エラストマーとして挙げられるが、その他、スチレンーエチレンーブチレン（ＳＥＢ）、スチレンーエチレンープロピレン（ＳＥＰ）、スチレン・イソブチレン・スチレントリブロック共重合体（ＳＩＢＳ）、といった構造のエラストマーでもよい。
【００７７】
また、上記水添スチレン系エラストマーに、種々の官能基を付与した反応性エラストマーを使用してもよい。上記官能基としては、以下に限定されないが、例えば、水酸基、カルボキシル基、カルボニル基、チオカルボニル基、酸ハロゲン化物基、酸無水物基、チオカルボン酸基、アルデヒド基、チオアルデヒド基、カルボン酸エステル基、アミド基、スルホン酸基、スルホン酸エステル基、リン酸基、リン酸エステル基、アミノ基、イミノ基、ニトリル基、ピリジル基、キノリン基、エポキシ基、チオエポキシ基、スルフィド基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ハロゲン化ケイ素基、アルコキシケイ素基、ハロゲン化スズ基、ボロン酸基、ホウ素含有基、ボロン酸塩基、アルコキシスズ基、フェニルスズ基が挙げられる。
【００７８】
［オレフィン系樹脂、オレフィン系エラストマー］
オレフィン系樹脂、オレフィン系エラストマーとしては、炭素数２〜２０のα−オレフィン重合体又は共重合体、エチレンと不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸エステルとの共重合体が挙げられる。
例えば、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン・１−ブテン共重合体、エチレン・１−ヘキセン共重合体、エチレン・４−メチルペンテン共重合体、エチレン・１−オクテン共重合体、プロピレン単独重合体、プロピレン−エチレン共重合体、プロピレン・エチレン・１−ブテン共重合体、１−ブテン単独重合体、１−ブテン・エチレン共重合体、１−ブテン・プロピレン共重合体、４−メチルペンテン単独重合体、４−メチルペンテン・１−プロピレン共重合体、４−メチルペンテン・１−ブテン共重合体、４−メチルペンテン・１−プロピレン・１−ブテン共重合体、プロピレン・１−ブテン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸メチル共重合体等が挙げられる。
粘着力の経時安定性の観点から、好ましくは、プロピレン単独共重合体、プロピレン−エチレン共重合体、プロピレン・１−ブテン共重合体、プロピレン・エチレン・１−ブテン共重合体、ポリエチレンである。
【００７９】
［アクリル系共重合体］
本実施形態の粘着性フィルムの粘着層は、アクリル系共重合体をさらに含有してもよい。アクリル系共重合体は、特に限定されないが、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、アクリルニトリル等と、酢酸ビニル、塩化ビニル、スチレン等との共重合体が挙げられる。
【００８０】
［軟化剤］
本実施形態の粘着性フィルムの粘着層は、軟化剤をさらに含有してもよい。
軟化剤としては、特に限定されず、例えば、鉱物油系軟化剤及び合成樹脂系軟化剤のいずれも使用できる。鉱物油系軟化剤としては、一般的に、芳香族系炭化水素、ナフテン系炭化水素及びパラフィン系炭化水素の混合物が挙げられる。
なお、パラフィン系炭化水素の炭素原子数が全炭素原子中の５０％以上を占めるものがパラフィン系オイルと呼ばれ、ナフテン系炭化水素の炭素原子が３０〜４５％のものがナフテン系オイルと呼ばれ、また、芳香族系炭化水素の炭素原子が３５％以上のものが芳香族系オイルと呼ばれている。鉱物油系軟化剤としては、ゴム用軟化剤であるパラフィン系オイルが好ましく、合成樹脂系軟化剤としては、ポリブテン、低分子量ポリブタジエン等が好ましい。軟化剤を含有させることにより、本実施形態の粘着性フィルムにおいて、粘着性がより改善される傾向にある。
【００８１】
本実施形態の粘着性フィルムの粘着層中の軟化剤の含有量は、軟化剤のブリード抑制や、実用上十分な粘着力を確保する観点から、上述した水素化ブロック共重合体（ａ）、水水素化ブロック共重合体（ｂ）、水素化ブロック共重合体（ｃ）の質量の合計を１００質量部としたとき、０〜１００質量部であることが好ましく、より好ましくは０．１〜８０質量部である。
【００８２】
［酸化防止剤、光安定剤等］
本実施形態の粘着性フィルムの粘着層には、酸化防止剤、光安定剤等の安定剤を、さらに添加してもよい。
【００８３】
酸化防止剤としては、以下に限定されないが、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、ｎ−オクタデシル−３−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネート、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２，４−ジ−ｔ−アミル−６−［１−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）エチル］フェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル）］アクリレート等のヒンダードフェノール系酸化防止剤；ジラウリルチオジプロピオネート、ラウリルステアリルチオジプロピオネートペンタエリスリトール−テトラキス（β−ラウリルチオプロピオネート）等のイオウ系酸化防止剤；トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト等のリン系酸化防止剤が挙げられる。
【００８４】
光安定剤としては、以下に限定されないが、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤や２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤、あるいはヒンダードアミン系光安定剤が挙げられる。
【００８５】
［顔料、ワックス類、熱可塑性樹脂、天然ゴム、合成ゴム］
本実施形態の粘着性フィルムの粘着層は、上述した他にも、必要に応じて、種々の添加剤を含むことができる。
上記添加剤としては、以下に限定されないが、例えば、ベンガラ、二酸化チタン等の顔料；パラフィンワックス、マイクロクリスタンワックス、低分子量ポリエチレンワックス等のワックス類；無定形ポリオレフィン、エチレンーエチルアクリレート共重合体等のポリオレフィン系又は低分子量のビニル芳香族系熱可塑性樹脂；天然ゴム；ポリイソプレンゴム、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、エチレン−プロピレンゴム、クロロプレンゴム、アクリルゴム、イソプレン−イソブチレンゴム、ポリペンテナマーゴム等の合成ゴムが挙げられる。上記合成ゴムとしては、上記の他、「ゴム・プラスチック配合薬品」（ラバーダイジェスト社編）等に記載されたものが挙げられる。
【００８６】
［飽和脂肪酸ビスアミド］
本実施形態の粘着性フィルムの粘着層は、粘着昂進の抑制効果がある飽和脂肪酸ビスアミドを含むことができる。
飽和脂肪酸ビスアミドとしては、以下に限定されるものではないが、例えば、エチレンビスステアリン酸アミド（ＥＢＳＡ）、メチレンビスステアリン酸アミド、ヘキサメチレンビスステアリン酸アミド等の飽和脂肪酸脂肪族ビスアミド、ならびに、ｍ−キシリレンビスステアリン酸アミド、及びＮ，Ｎ’−ジステアリルイソフタル酸アミド等の飽和脂肪酸芳香族ビスアミドが挙げられる。
飽和脂肪酸脂肪族ビスアミドの中では、エチレンビスステアリン酸アミドがより好ましい。
また、飽和脂肪酸芳香族ビスアミドの中では、ｍ−キシリレンビスステアリン酸アミドがより好ましい。
これらの飽和脂肪酸ビスアミドは１種のみを単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
さらに、粘着昂進を抑制する効果のある、スチレン系ブロック相補強剤を配合してもよい。スチレン系ブロック相補強剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、モノマー単位として、スチレン及びα−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−クロロスチレン、クロロメチルスチレン、ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ジビニルベンゼン等のスチレン系化合物が挙げられる。これらは、１種のみを単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００８７】
（粘着性フィルムの粘着層を構成する樹脂材料の製造方法）
本実施形態の粘着性フィルムの粘着層を構成する樹脂材料は、例えば、水素化ブロック共重合体（ａ）、水素化ブロック共重合体（ｂ）、水素化ブロック共重合体（ｃ）、及び必要に応じて加えられる他の成分を、ドライブレンドする方法、通常の高分子物質の混合に供される装置によって調整する方法等によって製造することができる。
混合装置としては、特に限定されないが、例えば、バンバリーミキサー、ラボプラストミル、単軸押出機、２軸押出機等の混練装置が挙げられ、押出機を用いた溶融混合法により製造することが生産性、良混練性の観点から好ましい。
また、特に、粘着付与剤を配合する場合には、上記のドライブレンド法を用いてもよいが、粘着付与剤はベタツキ性が強く、フレーク状であるのでハンドリング性が悪いため、上記の水素化ブロック共重合体（ａ）や（ｂ）、又は（ｃ）に予め練り込んだマスターバッチを作製してもよい。混練時の溶融温度は、適宜設定することができるが、通常１３０〜３００℃の範囲内であり、１５０〜２５０℃の範囲であることが好ましい。
【００８８】
本実施形態の粘着層を構成する樹脂材料には、軽量化、柔軟化及び密着性の向上効果を図るため、発泡処理を施してもよい。
発泡方法としては、以下に限定されないが、例えば、化学的方法、物理的方法、熱膨張型のマイクロバルーンの利用等がある。各々、無機系発泡剤、有機系発泡剤等の化学的発泡剤、物理的発泡剤等の添加、熱熱膨張型のマイクロバルーンの添加等により材料内部に気泡を分布させることができる。また、中空フィラー（既膨張バルーン）を添加することにより、軽量化、柔軟化、密着性の向上を図ってもよい。
【００８９】
（粘着性フィルムの製造方法）
本実施形態の粘着性フィルムは、基材フィルム上に水素化ブロック共重合体（ａ）を含む粘着層を具備する。
本実施形態の粘着性フィルムの製造方法は、特に限定されないが、例えば、粘着層を構成する樹脂材料の溶液又は溶融物を基材フィルム上に塗工する方法、フィルム押出機を用いた方法等が挙げられる。
ここで、粘着層を構成する樹脂材料の溶液や溶融物を用いる場合は、組成物とした後に溶液や溶融物としてもよいし、水素化ブロック共重合体（ａ）、必要に応じて水素化ブロック共重合体（ｂ）、水素化ブロック共重合体（ｃ）を加えた溶液や溶融物とした後混合してもよい。
【００９０】
樹脂材料の溶液を塗工する方法においては、以下に限定されないが、例えば、これらを溶解可能な溶剤に溶かし、コーター等を用い、基材フィルム上に塗工し、溶剤を加熱乾燥すること等によって製造できる。
【００９１】
樹脂材料を溶融させ、塗工する方法においては、以下に限定されないが、例えば、ホットメルトコーター等を用い、基材フィルム上に溶融した樹脂材料を塗工すること等によって製造できる。この場合、塗工温度より高いガラス転移温度、融点又は軟化点を有する各種の基材フィルムを用いることが好ましい。
【００９２】
フィルム押出機による方法としては、以下に限定されないが、例えば、樹脂材料を含む粘着層の成分と、基材フィルムを構成しうる熱可塑性樹脂等の成分とを、溶融共押出機にて、二つの流れにして、すなわち、粘着層形成用流体と、基材体フィルム形成用流体とをダイス口内で合流させて単一流体を形成して押し出し、粘着層と樹脂フィルム層とを複合することによって製造することができる。
【００９３】
フィルム押出機による方法の場合、粘着層を形成する樹脂材料は、予め粘着層用の各成分をドライブレンドすることによっても製造できるため、生産性に優れた方法である。また、押出成型した場合、作製した表面保護フィルムの密着性、接着強度が特に優れる傾向にある。
【００９４】
本実施形態の粘着性フィルムは、導光板やプリズムシート等の光学系成形体、合成樹脂板、金属板、化粧合板、被覆塗装鋼板、各種銘板等の表面に仮着し、これら被着体の加工時や搬送、保管時の傷防止や汚れ防止用の保護フィルムとして利用できる。
【実施例】
【００９５】
以下、実施例によって本実施形態を具体的に説明するが、本実施形態はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００９６】
実施例及び比較例においては、以下に説明する方法によって水素化ブロック共重合体の調製を行い、フィルム性能の比較を行った。
その際、水素化ブロック共重合体の特性は、以下のように測定した。
【００９７】
〔水素化ブロック共重合体の評価方法〕
（（１）水素化ブロック共重合体を構成する各重合体ブロックの含有量）
水素化前のブロック共重合体の重合過程のステップ毎にサンプリングしたポリマー溶液を、内部標準としてｎ−プロビルベンゼン０．５０ｍＬと、約２０ｍＬのトルエンを密封した１００ｍＬのボトルに約２０ｍＬ注入して、サンプルを作製した。
アピエゾングリースを担持させたバックドカラムを装着したガスクロマトグラフィー（島津製作所製：ＧＣ−１４Ｂ）でこのサンプルを測定し、事前に得ていたブタジエンモノマーとスチレンモノマーの検量線からポリマー溶液中の残留モノマー量を求め、ブタジエンモノマー及びスチレンモノマーの重合率が１００％であることを確認し、下記式より、各重合体ブロックの含有量を計算した。
なお、ブタジエンの重合率は９０℃一定の条件で測定し、スチレンの重合率は９０℃（１０分ホールド）〜１５０℃昇温（１０℃／分）の条件で測定した。
各ブロックの含有量＝（各ステップでフィードしたモノマー合計量）／（全モノマー量）×１００質量％
【００９８】
（（２）水素化ブロック共重合体を構成する各重合体ブロックの水素化前のビニル結合量）
水素添加前のブロック共重合体の重合過程のステップ毎にサンプリングしたポリマーを、プロトン核磁気共鳴（1Ｈ−ＮＭＲ）法により測定した。
測定機器はＪＮＭ−ＬＡ４００（ＪＥＯＬ製）、溶媒に重水素化クロロホルムを用い、サンプル濃度は５０ｍｇ／ｍＬ、観測周波数は４００ＭＨｚ、化学シフト基準にテトラメチルシランを用い、パルスディレイ２．９０４秒、スキャン回数６４回、パルス幅４５°、及び測定温度２６℃で行った。
ビニル結合量は、１，４−結合及び１，２−結合に帰属されるシグナルの積分値から各結合様式の１Ｈあたりの積分値を算出した後、１，４−結合と１，２−結合との比率から算出した。
また、水素化前のブロック共重合体の重合過程のステップ毎にサンプリングしたポリマー毎にビニル結合量を算出することで、各ブロックのビニル結合量を算出した。
【００９９】
（（３）水素化ブロック共重合体の共役ジエン化合物単位に基づく不飽和結合の水素添加率）
水素添加後の水素化ブロック共重合体を用いて、プロトン核磁気共鳴（1Ｈ−ＮＭＲ）により測定した。
測定条件及び測定データの処理方法は上記（２）と同様とした。
水素添加率は、４．５〜５．５ｐｐｍの残存二重結合に由来するシグナル及び水素添加された共役ジエンに由来するシグナルの積分値を算出し、その比率を算出した。
【０１００】
（（４）水素化ブロック共重合体のビニル芳香族化合物単位の含有量（以下、「スチレン含有量」とも表記する。））
水素添加後の重合体を用いて、プロトン核磁気共鳴（1Ｈ−ＮＭＲ）法により測定した。
測定機器はＪＮＭ−ＬＡ４００（ＪＥＯＬ製）、溶媒に重水素化クロロホルムを用い、サンプル濃度は５０ｍｇ／ｍＬ、観測周波数は４００ＭＨｚ、化学シフト基準にテトラメチルシランを用い、パルスディレイ２．９０４秒、スキャン回数６４回、パルス幅４５°、及び測定温度２６℃で行った。
スチレン含有量は、スペクトルの６．２〜７．５ｐｐｍにおける総スチレン芳香族シグナルの積算値を用いて算出した。
また、水素化前のブロック共重合体の重合過程のステップ毎にサンプリングしたポリマー毎にビニル芳香族化合物単位の含有量を算出することで、全ビニル芳香族化合物の含有量を算出した。
【０１０１】
（（５）共役ジエン化合物単位の合計１００ｍｏｌ％に対する、ブチレン量及び／又はプロピレン量）
水素添加後の水素化ブロック共重合体を用いて、プロトン核磁気共鳴（1Ｈ−ＮＭＲ）により測定した。
測定条件及び測定データの処理方法は、上記（２）及び（３）と同様とした。
ブチレン含有量は、スペクトルの０〜２．０ｐｐｍにおけるブチレン（水素化された１，２−結合）に帰属されるシグナルの積分値を算出し、その比率から算出した。
【０１０２】
（（６）水素化ブロック共重合体のＴＧＩＣ測定溶出量ピーク半値幅）
水素添加後の水素化ブロック共重合体、及び実施例及び比較例で得られた粘着性フィルムをソックスレー抽出（クロロホルム溶媒９０℃×８ｈｒ）した抽出物乾燥試料をオルトジクロロベンゼンに溶解し、以下のように、その溶液試料をグラファイトカーボンカラムに注入し、その試料の溶出量（質量％）と、その時のカラム内温度（℃）を算出した。
その値より得られた溶出温度−溶出量曲線から、各温度での溶出量を求めた。
まず、充填剤を含有したカラムを９５℃に昇温し、水素化ブロック共重合体をオルトジクロロベンゼンに溶かした試料溶液０．２ｍＬを導入して、カラムの温度を、降温速度２℃／分で−２０℃まで降温した。
その後、カラムの温度を昇温速度２℃／分で１６５℃まで昇温し、移動相流量を０．５ｍＬ／分とし、各温度で溶出した試料の濃度を検出した。
そして、溶出温度−溶出量曲線を測定し、各温度での溶出量を求めた。
・装置：ハイスループット組成分析装置（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈａｒ社製）
・検出器：ＩＲ５型赤外分光光度計（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈａｒ社製）
・検出波長：濃度センサー  ＣＨ2  ｖ３．４２μｍ（２９２０ｃｍ-1）、メチルセンサー  ＣＨ3  ｖ３．３８μｍ（２９６０ｃｍ-1）
・カラム：多孔性グラファイトカーボンカラム、Ｈｙｐｅｒｃａｒｂ高温対応型（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈａｒ社製）、内径４．６ｍｍ、長さ１５０ｍｍ、粒子径５μｍ
・移動相：オルトジクロロベンゼン、ＢＨＴ添加
・試料濃度：８ｍｇ／８ｍＬ
・溶解条件：１５０℃、６０分間（窒素雰囲気下）
・注入量：０．２ｍＬ
・降温条件：９５℃から−２０℃（２℃／分）、流量０．０ｍＬ／分
・昇温条件：−２０℃から−１６５℃（２℃／分）、流量０．５ｍＬ／分
得られた溶出温度−溶出量曲線より、０℃以上１５０℃以下の範囲の溶出ピークの半値幅を求めた。
【０１０３】
（（７）ＤＳＣ測定）
アルミニウム製パンに水素化ブロック共重合体１０ｍｇをそれぞれ精秤し、示差走査熱量計（ＤＳＣ）（ティー・エイ・インスツルメント株式会社製、Ｑ２０００）を用いて、窒素雰囲気（流量は５０ｍＬ／分）にて、初期温度−５０℃、昇温速度１０℃／分で１５０℃まで昇温し、５分間１５０℃保持し、その後１０℃／分で−５０℃まで降温させ測定を行った。
描かれるＤＳＣ曲線の降温過程であらわれる結晶化ピークを結晶化温度（℃）とし、結晶化ピーク面積が示す熱量を結晶化熱量（Ｊ／ｇ）とした。
【０１０４】
（（８）水素化ブロック共重合体の固体粘弾性（１Ｈｚ）により得られる温度−損失正接（ｔａｎδ）測定）
固体粘弾性（１Ｈｚ）により得られる温度−損失正接（ｔａｎδ）スペクトルを下記の方法により測定し、ｔａｎδのピーク温度を得た。
装置ＡＲＥＳ（ティー・エイ・インスツルメント株式会社製、商品名）の捻りタイプのジオメトリーに測定用試料をセットし、実効測定長さは２５ｍｍ、ひずみ０．５％、周波数１Ｈｚ、測定範囲：−１００℃から１００℃まで、昇温速度３℃／分の条件により次の資料を測定した。
試料１：水素化ブロック共重合体（ａ）単体を厚さ２ｍｍのシートに成形した後に幅１０ｍｍ、長さ３５ｍｍのサイズにカットし、測定用試料とし、ガラス転移を示すｔａｎδピーク（Ｔｇ１）を求めた。
試料２：水素化ブロック共重合体（ａ）／ホモポリプロピレン（サンアロマー製、ＰＬ５００Ａ）＝３０／７０の組成物を厚さ２ｍｍのシートに成形した後に幅１０ｍｍ、長さ３５ｍｍのサイズにカットし、測定用試料とし、低温側のｔａｎδピーク（Ｔｇ２）を求めた。
上記試料１及び試料２からΔＴｇ（Ｔｇ１−Ｔｇ２）の値を求めた。
【０１０５】
（（９）水素化ブロック共重合体のショアＡ硬度）
水素化ブロック共重合体のショアＡ硬度（ＡＳＴＭ  Ｄ−２２４０準拠）を、当該水素化ブロック共重合体を圧縮成形し、厚み２ｍｍのシートを作製し、当該シートを４枚重ねて、デュロメータタイプＡで瞬間の値を測定した。
【０１０６】
（（１０）水素化ブロック共重合体の重量平均分子量）
水素化ブロック共重合体の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定（島津製作所製、ＬＣ−１０）、カラム：ＴＳＫｇｅｌＧＭＨＸＬ（４．６ｍｍＩＤ×３０ｃｍ、２本）、溶媒：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）により、市販の標準ポリスチレンによるポリスチレン換算分子量として求めた。
【０１０７】
（（１１）水素化ブロック共重合体のミクロ相分離構造）
実施例及び比較例で得られた水素化ブロック共重合体のペレットを、２００℃で熱プレス成型した厚さ２ｍｍのシートを液体窒素で凍結後、ＭＤ方向と垂直方向にミクロトームで超薄肉片を切り出し、オスミウム酸で重合体ブロック（Ｓ）相を染色、水洗、乾燥した後、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で５万倍に拡大して観察した。
画像解析ソフト（旭化成エンジニアリング社製、Ａ像くん）を使用して、ＴＥＭ画像中に存在する黒色に染色されたブロック共重合体（Ｓ）のミクロ相分離構造の形態と、長径および短径の平均値を算出し、長径と短径の平均値として平均粒子径を算出した。
○：重合体ブロック（Ｓ）がミクロ相分離を形成し、その平均粒子径が５〜２０ｎｍの球構造（スフィア構造）である。
×：重合体ブロック（Ｓ）が、上記「○」以外のミクロ相分離構造を形成している。もしくは、ミクロ相分離構造を形成しない。
図２に前記評価「○」である場合のＴＥＭ画像を示し、図３に前記評価「×」である場合のＴＥＭ画像を示す。
【０１０８】
（（１２）１３Ｃ−ＮＭＲの測定、２９．４〜３０．０ｐｐｍの積分値と９．０〜１４．０ｐｐｍの積分値との比の算出）
水素化ブロック共重合体、及び実施例及び比較例で得られた粘着性フィルムをソックスレー抽出（クロロホルム溶媒９０℃×８ｈｒ）した抽出物乾燥試料を重水素化クロロホルムに、濃度１０ｗｔ／ｖｏｌ％となるよう溶解し、以下の条件で、溶液試料の１３Ｃ−ＮＭＲを測定し、２９．４〜３０．０ｐｐｍの積分値と９．０〜１４．０ｐｐｍの積分値の比（２９．４〜３０．０ｐｐｍの積分値／９．０〜１４．０ｐｐｍの積分値）を算出した。
・装置：Ｂｒｕｋｅｒ  Ｂｉｏｓｐｉｎ  Ａｖａｎｃｅ６００
・サンプル管：５ｍｍΦ
・０ｐｐｍの化学シフト基準：ＴＭＳ
・観測核：１３Ｃ
・観測周波数：１５０．９１ＭＨｚ
・パルスプログラム：ｚｇｉｇ３０（定量測定法）
・パルス幅：３０°
・待ち時間：１０ｓｅｃ
・積算回数：５０００回
また、下記式（１）、（２）により、各々の積分値の比を算出した。
積分値の比＝((1.23+((100-ブチレン量×0.97-0.3)÷0.97)3÷10000×0.97)÷0.97)÷（ブチレン量÷４）・・・式（１）
積分値の比＝((12.28+((100-ブチレン量×0.97-0.3)÷0.97)3÷10000×0.97)÷0.97)÷（ブチレン量÷４）・・・式（２）
【０１０９】
〔フィルムの粘着特性〕
（（１）初期粘着（２３℃））
実施例及び比較例で得られた粘着性フィルムの粘着性強度の測定装置として、万能引張圧縮試験機「テクノグラフＴＧＥ−５００Ｎ：（株）ミネベア製」を用いた。
温度２３℃×５０％相対湿度中で、粘着性フィルムを２５ｍｍ幅に切り出したものをＰＭＭＡ板（表面の算術平均粗さ：０．１μｍ）に貼り付け、重さ２ｋｇのゴムロール（直径１０ｃｍ）転がして貼り付け、３０分間放置し、その後、引き剥がし速度３００ｍｍ／分として剥離強度を測定した。
評価は、温度２３℃×５０％相対湿度中で１８０度引き剥がし試験を行った。初期粘着性については初期の粘着強度を用いて、下記の基準により評価した。
○：２００ｇ／２５ｍｍ以上の粘着強度
△：１００ｇ／２５ｍｍ以上〜２００ｇ／２５ｍｍ未満の粘着強度
×：１００ｇ／２５ｍｍ未満の粘着強度
【０１１０】
（（２）低温タック）
実施例及び比較例で得られた粘着性フィルムの粘着性強度の測定装置として、万能引張圧縮試験機「テクノグラフＴＧＥ−５００Ｎ：（株）ミネベア製」を用いた。
温度２３℃×５０％相対湿度中で、粘着性フィルムを２５ｍｍ幅に切り出したものをＰＭＭＡ板（表面の算術平均粗さ：０．１μｍ）に貼り付け、重さ２ｋｇのゴムロール（直径１０ｃｍ）転がして貼り付けた。
２３℃、及び４℃にそれぞれ２４時間放置し、その後、２３℃、及び４℃それぞれの環境下において引き剥がし速度３００ｍｍ／分として、１８０度引き剥がし試験を行い、剥離強度を測定した。
低温粘着性については２３℃と４℃の粘着強度を用いて、下記の基準により評価した。
○：粘着強度（４℃）が、粘着強度（２３℃）の８０％以上である
△：粘着強度（４℃）が、粘着強度（２３℃）の５０％以上〜８０％未満である
×：粘着強度（４℃）が、粘着強度（２３℃）の５０％未満である
【０１１１】
（（３）繰り出し性）
実施例及び比較例で得られた粘着性フィルムを３インチの紙管に外層（紙管）と粘着層（粘着性フィルム）が接した形で巻き取り、繰り出し機に取り付け５ｍ／分で繰り出した際にシワ、たるみ等入らずに滑らかに繰り出せるかを目視で確認した。下記基準により評価した。
○：滑らかに繰り出せる
△：ややシワ、たるみ等が入るものの、滑らかに繰り出せる
×：滑らかに繰り出せない
【０１１２】
（（４）粘着昂進性）
実施例及び比較例で得られた粘着性フィルムの粘着性強度の測定装置として、万能引張圧縮試験機「テクノグラフＴＧＥ−５００Ｎ：（株）ミネベア製」を用いた。
温度２３℃×５０％相対湿度中で、粘着性フィルムを２５ｍｍ幅に切り出し、これをＰＭＭＡ板（表面の算術平均粗さ：０．１μｍ）に貼り付け、重さ２ｋｇのゴムロール（直径１０ｃｍ）転がして貼り付け、３０分間放置した。
その後、引き剥がし速度３００ｍｍ／分として、１８０度引き剥がし試験を行い、剥離強度（初期粘着強度）を測定した。
一方で、作製した粘着性フィルムを上記方法でＰＭＭＡ板に貼り付けた後、ギアーオーブン内で８０℃×１時間加熱して粘着促進し、３０分測定環境に放置した。その後、粘着強度（加熱促進後粘着強度）を測定した。
粘着昂進性は、加熱前後における粘着性フィルムの粘着強度の経時変化を、それぞれ下記の基準により評価した。
○：初期粘着強度に対して２．０倍以内の加熱促進後粘着強度
△：初期粘着強度に対して２．５倍以内の加熱促進後粘着強度
×：初期粘着強度に対して２．５倍より高い加熱促進後粘着強度
【０１１３】
〔使用原料〕
実施例及び比較例で用いた水素化ブロック共重合体は次のとおりとした。
（製造例１〜７、比較製造例１〜１０）
＜水素化触媒の調製＞
水素化ブロック共重合体の水添反応に用いた水添触媒は、下記の方法で調製した。
窒素置換した反応容器に、乾燥及び精製したシクロヘキサン１Ｌを仕込み、ビス（η５−シクロペンタジエニル）チタニウムジクロリド１００ミリモルを添加し、十分に攪拌しながらトリメチルアルミニウム２００ミリモルを含むｎ−ヘキサン溶液を添加して、室温にて約３日間反応させた。
【０１１４】
（水素化ブロック共重合体（ａ））
＜製造例１：水素化ブロック共重合体（ａ−１）＞
内容積１０Ｌの攪拌装置及びジャケット付き槽型反応器を使用して、バッチ重合を行った。反応器内に１Ｌのシクロヘキサンを入れ、その後ｎ−ブチルリチウム（以下「Ｂｕ−Ｌｉ」ともいう。）を全モノマー１００質量部に対して０．０４５質量部と、ビニル化剤としてのＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン（以下、「ＴＭＥＤＡ」ともいう。）をＢｕ−Ｌｉ１モルに対して０．０５モル添加した。
第１ステップとして、ブタジエン１０質量部を含むシクロヘキサン溶液（ブタジエン濃度２０質量％）を１０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合した。第１ステップの重合中、温度は６５℃にコントロールした。
第２ステップにおいて、ＴＭＥＤＡをＢｕ−Ｌｉ１モルに対して０．４５モル添加し、ブタジエン３４質量部を含むシクロヘキサン溶液（ブタジエン濃度２０質量％）を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合した。第２ステップの重合中、温度は６５℃にコントロールした。
第３ステップとして、ＴＭＥＤＡをＢｕ−Ｌｉ１モルに対して１．１０モルと、ナトリウムｔ−ペントキシド（以下、「ＮａＯＡｍ」ともいう。）をＢｕ−Ｌｉ１モルに対して０．０５モル添加し、ブタジエン５１質量部を含むシクロヘキサン溶液（ブタジエン濃度２０質量％）を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合した。第３ステップの重合中、温度は６０℃にコントロールした。
第４ステップとして、スチレン５質量部を含むシクロヘキサン溶液（スチレン濃度２０質量％）を１０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合した。第４ステップの重合中、温度は６５℃にコントロールした。
ブロック共重合体の重合過程におけるステップ毎にポリマーをサンプリングした。
得られたブロック共重合体に、上記水添触媒を、ブロック共重合体１００質量部当たりにチタン換算濃度１００ｐｐｍとなるように添加し、水素圧０．７ＭＰａ、温度７０℃で水添化反応を行った。その後メタノールを添加し、次に安定剤としてのオクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートを、ブロック共重合体に対して０．２５質量部添加した。
得られた水素化ブロック共重合体（ａ−１）の水添率は９９％、ＭＦＲは２．５ｇ／１０分、重量均分子量（Ｍｗ）２６０，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）１．０８であった。
【０１１５】
＜製造例２：水素化ブロック共重合体（ａ−２）＞
第２ステップにおいて、ブタジエン３２質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第３ステップにおいて、ブタジエン４８質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第４ステップとして、スチレン７質量部を１０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第５ステップとして、ブタジエン３質量部を５分間かけて投入し、その後更に１０分間重合したこと以外は、（ａ−１）と同様にして、水素化ブロック共重合体（ａ−２）を製造した。
得られた水素化ブロック共重合体（ａ−２）は、水添率９９％、ＭＦＲ３．５ｇ／１０分、重量均分子量（Ｍｗ）２６４，０００、分子量分布１．０９であった。
【０１１６】
＜製造例３：水素化ブロック共重合体（ａ−３）＞
第１ステップとして、ブタジエン１５質量部を１０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第２ステップにおいて、ブタジエン３１質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第３ステップにおいて、ブタジエン４７質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第４ステップとして、スチレン７質量部を１０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合したこと以外は、（ａ−１）と同様にして、水素化ブロック共重合体（ａ−３）を製造した。
得られた水素化ブロック共重合体（ａ−３）は、水添率９９％、ＭＦＲ２．３ｇ／１０分、重量均分子量（Ｍｗ）２６１，０００、分子量分布１．０８であった。
【０１１７】
＜製造例４：水素化ブロック共重合体（ａ−４）＞
第１ステップ前にＢｕ−Ｌｉを全モノマー１００質量部に対して０．０７１質量部添加し、第１ステップとして、ブタジエン３質量部を１０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第２ステップにおいて、ブタジエン４２．５質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第３ステップにおいて、ブタジエン４２．５質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第４ステップとして、スチレン１２質量部を１０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合したこと以外は、（ａ−１）と同様にして、水素化ブロック共重合体（ａ−４）を製造した。
得られた水素化ブロック共重合体（ａ−４）は、水添率９９％、ＭＦＲ２．３ｇ／１０分、重量均分子量（Ｍｗ）１６７，０００、分子量分布１．０９であった。
【０１１８】
＜製造例５：水素化ブロック共重合体（ａ−５）＞
第１ステップとして、ブタジエン５質量部を１０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第２ステップにおいて、ブタジエン１３．５質量部を１５分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第３ステップにおいて、ＴＭＥＤＡをＢｕ−Ｌｉ１モルに対して０．９０モル添加し、ブタジエン７６．５質量部を４５分間かけて投入し、その後更に１０分間重合したこと以外は、（ａ−１）と同様にして、水素化ブロック共重合体（ａ−５）を製造した。
得られた水素化ブロック共重合体（ａ−５）は、水添率９９％、ＭＦＲ４．３ｇ／１０分、重量均分子量（Ｍｗ）２６５，０００、分子量分布１．０９であった。
【０１１９】
＜製造例６：水素化ブロック共重合体（ａ−６）＞
第１ステップ前にＢｕ−Ｌｉを全モノマー１００質量部に対して０．０４７質量部添加し、第１ステップとして、ブタジエン５質量部を１０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第２ステップにおいて、ＴＭＥＤＡをＢｕ−Ｌｉ１モルに対して０．５５モル添加し、ブタジエン５５質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第３ステップにおいて、ＴＭＥＤＡをＢｕ−Ｌｉ１モルに対して１．００モル添加し、ブタジエン３７質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第４ステップとして、スチレン３質量部を１０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合したこと以外は、（ａ−１）と同様にして、水素化ブロック共重合体（ａ−６）を製造した。
得られた水素化ブロック共重合体（ａ−６）は、水添率９９％、ＭＦＲ２．８ｇ／１０分、重量均分子量（Ｍｗ）２５０，０００、分子量分布１．０７であった。
【０１２０】
＜製造例７：水素化ブロック共重合体（ａ−７）＞
第１ステップとして、ブタジエン５質量部を１０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第２ステップにおいて、ＴＭＥＤＡをＢｕ−Ｌｉ１モルに対して０．４０モル添加し、ブタジエン４５質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第３ステップにおいて、ブタジエン４５質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合したこと以外は、（ａ−１）と同様にして、水素化ブロック共重合体（ａ−７）を製造した。
得られた水素化ブロック共重合体（ａ−７）は、水添率９９％、ＭＦＲ１．８ｇ／１０分、重量均分子量（Ｍｗ）２６２，０００、分子量分布１．０７であった。
【０１２１】
＜比較製造例１：水素化ブロック共重合体（ａ−８）＞
第１ステップを行わず、第２ステップにおいて、ブタジエン３８質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第３ステップにおいて、ブタジエン５７質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合したこと以外は、（ａ−１）と同様にして、水素化ブロック共重合体（ａ−８）を製造した。
得られた水素化ブロック共重合体（ａ−８）は、水添率９９％、ＭＦＲ１８．６ｇ／１０分、重量均分子量（Ｍｗ）２５３，０００、分子量分布１．０７であった。
【０１２２】
＜比較製造例２：水素化ブロック共重合体（ａ−９）＞
第１ステップ前にＢｕ−Ｌｉを全モノマー１００質量部に対して０．０５４質量部添加し、第１ステップとして、ブタジエン２５質量部を１０分間かけて投入し、その後更に５分間重合し、第２ステップにおいて、ブタジエン３５質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第３ステップにおいて、ブタジエン３５質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合したこと以外は、（ａ−１）と同様にして、水素化ブロック共重合体（ａ−９）を製造した。
得られた水素化ブロック共重合体（ａ−９）は、水添率９９％、ＭＦＲ１．１ｇ／１０分、重量均分子量（Ｍｗ）２２６，０００、分子量分布１．０８であった。
【０１２３】
＜比較製造例３：水素化ブロック共重合体（ａ−１０）＞
第１ステップ前にＢｕ−Ｌｉを全モノマー１００質量部に対して０．１０５質量部添加し、第１ステップとして、ブタジエン１５質量部を１０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第２ステップにおいて、ブタジエン３０質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第３ステップにおいて、ブタジエン３０質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第４ステップとして、スチレン２５質量部を１５分間かけて投入し、その後更に１０分間重合したこと以外は、（ａ−１）と同様にして、水素化ブロック共重合体（ａ−１０）を製造した。
得られた水素化ブロック共重合体（ａ−１０）は、水添率９９％、ＭＦＲ３．１ｇ／１０分、重量均分子量（Ｍｗ）１００，０００、分子量分布１．０９であった。
【０１２４】
＜比較製造例４：水素化ブロック共重合体（ａ−１１）＞
第１ステップ前にＢｕ−Ｌｉを全モノマー１００質量部に対して０．０４０質量部添加し、第１ステップとして、ブタジエン１５質量部を１０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第２ステップにおいて、ブタジエン３４質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第３ステップにおいて、ブタジエン５０．５質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第４ステップとして、スチレン０．５質量部を５分間かけて投入し、その後更に５分間重合したこと以外は、（ａ−１）と同様にして、水素化ブロック共重合体（ａ−１１）を製造した。
得られた水素化ブロック共重合体（ａ−１１）は、水添率９９％、ＭＦＲ２５．５ｇ／１０分、重量均分子量（Ｍｗ）３０８，０００、分子量分布１．０７であった。
【０１２５】
＜比較製造例５：水素化ブロック共重合体（ａ−１２）＞
第１ステップ前にＢｕ−Ｌｉを全モノマー１００質量部に対して０．０５０質量部添加し、第１ステップとして、ブタジエン５質量部を１０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第２ステップを行わずに、第３ステップにおいて、ＴＭＥＤＡをＢｕ−Ｌｉ１モルに対して１．６０モル添加し、ブタジエン９０質量部を６０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第４ステップとして、スチレン５質量部を１０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合したこと以外は、（ａ−１）と同様にして、水素化ブロック共重合体（ａ−１２）を製造した。  得られた水素化ブロック共重合体（ａ−１２）は、水添率９９％、ＭＦＲ３．２ｇ／１０分、重量均分子量（Ｍｗ）２４１，０００、分子量分布１．０６であった。
【０１２６】
＜比較製造例６：水素化ブロック共重合体（ａ−１３）＞
第１ステップ前にＢｕ−Ｌｉを全モノマー１００質量部に対して０．０６４質量部添加し、第１ステップとして、ブタジエン１７質量部を１０分間かけて投入し、その後更に５分間重合し、第２ステップにおいて、ＴＭＥＤＡをＢｕ−Ｌｉ１モルに対して０．３０モル添加し、ブタジエン６２質量部を４５分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第３ステップにおいて、ＴＭＥＤＡをＢｕ−Ｌｉ１モルに対して１．２５モル添加し、ブタジエン１６質量部を１５分間かけて投入し、その後更に１０分間重合したこと以外は、（ａ−１）と同様にして、水素化ブロック共重合体（ａ−１３）を製造した。
得られた水素化ブロック共重合体（ａ−１３）は、水添率９９％、ＭＦＲ１．２ｇ／１０分、重量均分子量（Ｍｗ）１８９，０００、分子量分布１．０８であった。
【０１２７】
＜比較製造例７：水素化ブロック共重合体（ａ−１４）＞
第１ステップとして、ＴＭＥＤＡをＢｕ−Ｌｉ１モルに対して０．３５モル添加し、第２ステップにおいて、ＴＭＥＤＡをＢｕ−Ｌｉ１モルに対して０．１５モル添加し、ブタジエン４２．５質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第３ステップにおいて、ブタジエン４２．５質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合したこと以外は、（ａ−１）と同様にして、水素化ブロック共重合体（ａ−１４）を製造した。
得られた水素化ブロック共重合体（ａ−１４）は、水添率９９％、ＭＦＲ１１．８ｇ／１０分、重量均分子量（Ｍｗ）２５８，０００、分子量分布１．０６であった。
【０１２８】
＜比較製造例８：水素化ブロック共重合体（ａ−１５）＞
第１ステップとして、ブタジエン１５質量部を１０分間かけて投入し、その後更に５分間重合し、第２ステップにおいて、ＴＭＥＤＡをＢｕ−Ｌｉ１モルに対して０．６０モル添加し、ブタジエン５０質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第３ステップにおいて、ＴＭＥＤＡをＢｕ−Ｌｉ１モルに対して０．７５モル添加し、ブタジエン３０質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合したこと以外は、（ａ−１）と同様にして、水素化ブロック共重合体（ａ−１５）を製造した。
得られ水素化ブロック共重合体（ａ−１５）は、水添率９９％、ＭＦＲ３．２ｇ／１０分、重量均分子量（Ｍｗ）２６２，０００、分子量分布１．０９であった。
【０１２９】
＜比較製造例９：水素化ブロック共重合体（ａ−１６）＞
第１ステップ前にＢｕ−Ｌｉを全モノマー１００質量部に対して０．０６４質量部添加し、第２ステップにおいて、ＴＭＥＤＡをＢｕ−Ｌｉ１モルに対して０．４０モル添加し、ブタジエン４２．５質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第３ステップにおいて、ＴＭＥＤＡをＢｕ−Ｌｉ１モルに対して０．１５モル添加し、ブタジエン４２．５質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合したこと以外は、（ａ−１）と同様にして、水素化ブロック共重合体（ａ−１６）を製造した。
得られた水素化ブロック共重合体（ａ−１６）は、水添率９９％、ＭＦＲ２．０ｇ／１０分、重量均分子量（Ｍｗ）１８４，０００、分子量分布１．０５であった。
【０１３０】
＜比較製造例１０：水素化ブロック共重合体（ａ−１７）＞
第２ステップにおいて、ブタジエン４２．５質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、第３ステップにおいて、ブタジエン４２．５質量部を３０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合し、その後の水素添加反応を途中で中断したこと以外は、（ａ−１）と同様にして、水素化ブロック共重合体（ａ−１７）を製造した。
得られた水素化ブロック共重合体（ａ−１７）は、水添率６０％、ＭＦＲ３８．８ｇ／１０分、重量均分子量（Ｍｗ）２６５，０００、分子量分布１．０５であった。
【０１３１】
（水素化ブロック共重合体（ｂ））
＜製造例８：水素化ブロック共重合体（ｂ）＞
第１ステップ前に、Ｂｕ−Ｌｉを全モノマー１００質量部に対して０．０７０質量部、ＴＭＥＤＡをＢｕ−Ｌｉ１モルに対して１．８モル添加し、第１ステップにおいて、ブタジエン４．５質量部を５分間かけて投入し、その後更に１０分間重合（重合中、温度は７０℃にコントロールした）し、第２ステップにおいて、スチレン８．３質量部を１０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合（重合中、温度は７０℃にコントロールした）し、第３ステップにおいて、ブタジエン８０．５質量部を６０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合（重合中、温度は７０℃にコントロールした）し、第４ステップにおいて、スチレン６．７質量部を１０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合した（重合中、温度は７０℃にコントロールした）こと以外は、製造例１と同様にして、製造例８の水素化ブロック共重合体（ｂ）を製造した。
得られた製造例８の水素化ブロック共重合体（ｂ）は、水添率９８％、ＭＦＲ７．２ｇ／１０分、重量均分子量（Ｍｗ）１６７，０００、分子量分布１．０８であった。
【０１３２】
（水素化ブロック共重合体（ｃ））
＜製造例９：水素化ブロック共重合体（ｃ−１）＞
第１ステップ前に、Ｂｕ−Ｌｉを全モノマー１００質量部に対して０．０５０質量部、ＴＭＥＤＡをＢｕ−Ｌｉ１モルに対して０．４モル添加し、第１ステップにおいて、スチレン５質量部を１０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合（重合中、温度は７０℃にコントロールした）し、第２ステップにおいて、スチレン４２質量部とブタジエン４８質量部を６０分間かけて一定速度で連続的に投入し、その後更に１０分間重合（重合中、温度は７０℃にコントロールした）し、第３ステップにおいて、スチレン５質量部を１０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合（重合中、温度は７０℃にコントロールした）したこと以外は、製造例１と同様にして、製造例９の水素化ブロック共重合体（ｃ−１）を製造した。
得られた製造例９の水素化ブロック共重合体（ｃ−１）は、水添率９８％、ＭＦＲ４．８ｇ／１０分、重量均分子量（Ｍｗ）１６３，０００、分子量分布１．０８であった。
【０１３３】
＜製造例１０：水素化ブロック共重合体（ｃ−２）＞
第１ステップ前に、Ｂｕ−Ｌｉを全モノマー１００質量部に対して０．０８５質量部、ＴＭＥＤＡをＢｕ−Ｌｉ１モルに対して０．７モル添加し、第１ステップにおいて、スチレン１０質量部を１０分間かけて投入し、その後更に１０分間重合（重合中、温度は７０℃にコントロールした）し、第２ステップにおいて、スチレン５７質量部とブタジエン３３質量部を６０分間かけて一定速度で連続的に投入し、その後更に１０分間重合（重合中、温度は７０℃にコントロールした）し、その後、安息香酸エチルをＢｕ−Ｌｉ１モルに対して０．５モル添加し、１０分間反応させ、カップリング反応を行った（反応温度は７０℃にコントロールした）こと以外は、製造例１と同様にして、製造例１０の水素化ブロック共重合体（ｃ−２）を製造した。
得られた製造例１０の水素化ブロック共重合体（ｃ−２）は、水添率９８％、ＭＦＲ６．１ｇ／１０分、カップリング前後の重合体の比率は、重量均分子量（Ｍｗ）９５，０００の重合体が４７質量％、重量均分子量（Ｍｗ）１９０，０００の重合体が５３質量％であった。
【０１３４】
【表１】
2017197609.tif 000002
【０１３５】
【表２】
2017197609.tif 000003
【０１３６】
〔実施例１〜７〕、〔比較例１〜１０〕
＜粘着性フィルム状成形体＞
粘着剤層を構成する上記水素化ブロック共重合体と、基材層を構成するポリプロピレン（サンアロマー社製、商品名「ＰＣ６８４Ｓ」、ＭＦＲ（２３０℃、２．１６ｋｇ荷重）＝７．５ｇ／１０分）とを押出機に供給し、Ｔダイ方式共押出法によって両層を一体化して共押出し、基材層の厚さ４０μｍ、粘着層の厚さ１０μｍの、粘着性フィルムを作製した。
実施例１〜７及び比較例１〜１０で得られた、水素化ブロック共重合体（ａ−１）〜（ａ−１７）よりなる粘着層を具備する粘着性フィルムを用いて、上述した初期粘着性、低温粘着性、繰り出し性、及び粘着昂進性の評価を行った。
【０１３７】
【表３】
2017197609.tif 000004
【０１３８】
表３の結果より、実施例１〜７で得られた粘着性フィルム状成形体は、低温タック、初期粘着性、繰り出し性、及び粘着昂進性のいずれにおいても実用上良好であり、特性バランスが良好であることが分かった。
【０１３９】
〔実施例８〜１８〕、〔比較例１１、１２〕
＜粘着性フィルム状成形体＞
粘着層を構成する上記水素化ブロック共重合体、下記粘着付与剤を、下記表４に示す割合でドライブレンドし、二軸押出機（Ｌ／Ｄ＝４２、３２ｍｍΦ）で１８０℃、７５〜１５０ｒｐｍの条件で溶融混練して、粘着層に使用するペレットを製造した。
これと、基材層を構成するポリプロピレン（サンアロマー社製、商品名「ＰＣ６８４Ｓ」、ＭＦＲ（２３０℃、２．１６ｋｇ荷重）＝７．５ｇ／１０分）とを押出機に供給し、Ｔダイ方式共押出法によって両層を一体化して共押出し、基材層の厚さ４０μｍ、粘着層の厚さ１０μｍの、粘着性フィルムを製造した。
実施例８〜１８及び比較例１１〜１２で得られた粘着層を具備する粘着性フィルムを用いて、上述した初期粘着性、低温粘着性、繰り出し性、及び粘着昂進性の評価を行った。
【０１４０】
粘着付与剤−１:クリアロンＰ１２５（水添テルペン樹脂／ヤスハラケミカル株式会社製）
粘着付与剤−２：ＹＳポリスターＧ１５０（テルペンフェノール樹脂／ヤスハラケミカル株式会社製）
粘着付与剤−３：クリアロンＭ（芳香族変性テルペン樹脂／ヤスハラケミカル株式会社製）
粘着付与剤−４：ＹＳポリスターＵＨ（水添テルペンフェノール樹脂／ヤスハラケミカル株式会社製）
【０１４１】
【表４】
2017197609.tif 000005
【０１４２】
表４の結果より、実施例８〜１８で得られた粘着性フィルム状成形体は、低温タック、初期粘着性、繰り出し性、及び粘着昂進のいずれにおいても実用上良好であり、特性バランスが良好であることが分かった。
【産業上の利用可能性】
【０１４３】
本実施形態の粘着性フィルムは、導光板やプリズムシート等の光学系成形体、合成樹脂板、金属板、化粧合板、被覆塗装鋼板、各種銘板等の表面に仮着し、これら被着体の加工時や搬送、保管時の傷防止や汚れ防止用の保護フィルムとして、産業上の利用可能性を有している。
【図１】
2017197609.tif 000006
【図２】
2017197609.tif 000007
【図３】
2017197609.tif 000008