(57)【要約】【課題】逆浸透膜装置を用いてイオン状シリカ含有水からイオン状シリカを分離するに当り、濃縮水のｐＨ制御によらずに逆浸透膜装置でのシリカの析出を抑制する。【解決手段】イオン状シリカ含有水は、送水経路１０において添加装置３０から平均粒径が３０ｎｍ未満のコロイダルシリカを含む析出抑制剤が添加され、逆浸透膜装置２０へ送られる。逆浸透膜装置２０へ送られた原水は、処理水路２２０へ流れる、イオン状シリカが分離された透過水と、排水路２３０へ流れる濃縮水とに分離される。濃縮水の一部は、第２貯水槽２３４を有する回流経路２３１を通じて送水経路１０へ戻り、原水に合流することで循環する。濃縮水において過飽和状態のイオン状シリカは、添加されたコロイダルシリカを核として重合する。この結果、濃縮水のイオン状シリカ濃度が低下し、逆浸透膜装置２０においてスケールの生成やファウリングの原因となるシリカの析出が抑制される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
逆浸透膜装置を用いてイオン状シリカ含有水からイオン状シリカを分離するための処理方法であって、
前記イオン状シリカ含有水を前記逆浸透膜装置へ送って透過水と濃縮水とに分離し、前記逆浸透膜装置へ送る前記イオン状シリカ含有水に対して前記逆浸透膜装置からの前記濃縮水の一部を回流させて前記逆浸透膜装置へ循環させるとともに、前記逆浸透膜装置からの前記濃縮水の残部を廃棄する工程を含み、
平均粒径が３０ｎｍ未満のコロイダルシリカを前記濃縮水に添加するとともに、前記濃縮水の循環経路において前記濃縮水を滞留させながら循環させる、
イオン状シリカ含有水の処理方法。
【請求項２】
前記循環経路に貯水槽を設けることで、前記循環経路において前記濃縮水を滞留させる、請求項１に記載のイオン状シリカ含有水の処理方法。
【請求項３】
前記循環経路の長さおよび断面積のうちの少なくとも一つを調整して前記循環経路の保有水量を増加させることで、前記循環経路において前記濃縮水を滞留させる、請求項１に記載のイオン状シリカ含有水の処理方法。
【請求項４】
前記イオン状シリカ含有水のｐＨが６を上回る、請求項１から３のいずれかに記載のイオン状シリカ含有水の処理方法。
【請求項５】
イオン状シリカ含有水から前記イオン状シリカを分離するための処理装置であって、
前記イオン状シリカ含有水の送水経路と、
前記送水経路からの前記イオン状シリカ含有水を透過水と濃縮水とに分離するための逆浸透膜装置と、
前記逆浸透膜装置から前記濃縮水を排水するための排水路と、
前記排水路から前記濃縮水の一部を分流させて前記送水経路へ戻すための回流経路を有する、前記濃縮水の一部を前記イオン状シリカ含有水と合流させて前記逆浸透膜装置へ循環させるための循環経路と、
平均粒径が３０ｎｍ未満のコロイダルシリカを前記濃縮水に添加するための添加装置と、
を備え、
前記循環経路は、前記濃縮水を滞留させながら循環可能に設定されている、
イオン状シリカ含有水の処理装置。
【請求項６】
前記循環経路は、貯水槽を設けることで、前記濃縮水を滞留させながら循環可能に設定されている、請求項５に記載のイオン状シリカ含有水の処理装置。
【請求項７】
前記循環経路は、長さおよび断面積のうちの少なくとも一つを調整して保有水量を増加させることで、前記濃縮水を滞留させながら循環可能に設定されている、請求項５に記載のイオン状シリカ含有水の処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、イオン状シリカ含有水の処理方法、特に、逆浸透膜装置を用いてイオン状シリカ含有水からイオン状シリカを分離するための処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
イオン状シリカを溶解成分として含む天然水、例えば、湖沼水、河川水または地下水を取水原とする水道水や工業用水を給水用や循環用の用水として用いるボイラやクーリングタワーは、用水と触れる箇所においてイオン状シリカの析出によるシリカスケールが生成し、これが熱交換等の諸機能を低下させる原因となる。そこで、ボイラやクーリングタワーにおいては、逆浸透膜装置を用いて上記取水原からの原水を処理することでイオン状シリカなどの溶解成分をはじめとする夾雑成分が除去された透過水とイオン状シリカなどの夾雑成分を含む濃縮水とに分離し、その透過水を用水として用いることがある。
【０００３】
ところが、逆浸透膜装置を用いて原水を処理すると、濃縮水においてイオン状シリカ濃度が高まることからイオン状シリカがシリカとして析出し、それが逆浸透膜装置の膜面におけるシリカスケールの生成やファウリング発生の原因となって逆浸透膜装置の機能低下をもたらす。そこで、逆浸透膜装置は、通常、回収率、すなわち、原水に対して得られる透過水の割合を抑えることで濃縮水のイオン状シリカ濃度が溶解度未満になるよう制御し、それによってシリカの析出を抑制している。しかし、回収率の抑制は、濃縮水量の増加をもたらし、結果的にその廃棄量を増加させることになることから、原水の利用効率を損なう。
【０００４】
そこで、逆浸透膜離装置は、回収率を高めながらシリカの析出を抑制可能な運転方法が模索されており、特許文献１は、濃縮水のｐＨを６以下に保って逆浸透膜処理する方法を提案している。特許文献１によると、この方法は、回収率を高めることで濃縮水のイオン状シリカ濃度（シリカ濃度）がその溶解度を超えることがあってもシリカスケールの生成が抑制され、逆浸透膜装置の安定な運転が可能になる。
【０００５】
しかし、特許文献１の方法は、濃縮水のｐＨを６以下にすることから、原水に溶存している炭酸イオン（ＣＯ３２−）や重炭酸イオン（ＨＣＯ３−）が逆浸透膜を透過しやすい遊離炭酸（Ｈ２ＣＯ３）や溶解二酸化炭素（ＣＯ２．ａｑ）に変換され、透過水の水質低下を招く。また、ｐＨ調整のための酸の添加やｐＨの監視が必要となることが多いため、煩雑であって不経済になりやすい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第３１８７６２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、逆浸透膜装置を用いてイオン状シリカ含有水からイオン状シリカを分離するに当り、濃縮水のｐＨ制御によらずに逆浸透膜装置でのシリカの析出を抑制しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、逆浸透膜装置を用いてイオン状シリカ含有水からイオン状シリカを分離するための処理方法に関するものであり、この処理方法は、イオン状シリカ含有水を逆浸透膜装置へ送って透過水と濃縮水とに分離し、逆浸透膜装置へ送るイオン状シリカ含有水に対して逆浸透膜装置からの濃縮水の一部を回流させて逆浸透膜装置へ循環させるとともに、逆浸透膜装置からの濃縮水の残部を廃棄する工程を含み、平均粒径が３０ｎｍ未満のコロイダルシリカを濃縮水に添加するとともに、濃縮水の循環経路において濃縮水を滞留させながら循環させる。
【０００９】
この処理方法において、逆浸透膜装置へ送られたイオン状シリカ含有水は、イオン状シリカが分離された透過水と、イオン状シリカを含む濃縮水とに分離される。濃縮水に上記平均粒径のコロイダルシリカを添加すると、濃縮水においてイオン状シリカが過飽和状態になったとき、過飽和部分のイオン状シリカが濃縮水中においてコロイダルシリカを核として重合する。この結果、濃縮水のイオン状シリカ濃度が低下し、逆浸透膜装置でのシリカの析出が抑制される。
【００１０】
この処理方法において、コロイダルシリカは、例えば、逆浸透膜装置へ送られるイオン状シリカ含有水に対して供給することができる。この場合、逆浸透膜装置の濃縮水は、当該イオン状シリカ含有水が混入することでコロイダルシリカが添加される。或いは、コロイダルシリカは、例えば、回流する濃縮水に対して添加することもできる。この場合、逆浸透膜装置の濃縮水は、逆浸透膜装置へ送られるイオン状シリカ含有水に回流する濃縮水が混入し、それによってコロイダルシリカが添加される。
【００１１】
この処理方法において、循環経路において濃縮水を滞留させながら循環させるのは、濃縮水に添加されたコロイダルシリカを核とする過飽和部分のイオン状シリカの重合のための時間を確保し、それによって濃縮水のイオン状シリカ濃度が低下しやすいようにするためである。したがって、循環経路での濃縮水の滞留は、イオン状シリカの重合のための時間を確保することができるよう制御するのが好ましい。例えば、循環経路において、濃縮水の平均滞留時間が１０分以上、好ましくは２０分以上、より好ましくは３０分以上となるよう、循環経路の保有水量を確保するのが好ましい。ここで、濃縮水の平均滞留時間は、循環経路の保有水量を濃縮水の単位時間当りの廃棄量で除した値である。
【００１２】
本発明の処理方法の一形態では、循環経路に貯水槽を設けることで、循環経路において濃縮水を滞留させることができる。また、本発明の処理方法の他の一形態では、循環経路の長さおよび断面積のうちの少なくとも一つを調整して循環経路の保有水量を増加させることで、循環経路において濃縮水を滞留させることができる。
【００１３】
本発明の処理方法の対象となるイオン状シリカ含有水は、ｐＨが６を上回るものであってもよい。
【００１４】
他の観点に係る本発明は、イオン状シリカ含有水からイオン状シリカを分離するための処理装置に関するものであり、この処理装置は、イオン状シリカ含有水の送水経路と、送水経路からのイオン状シリカ含有水を透過水と濃縮水とに分離するための逆浸透膜装置と、逆浸透膜装置から濃縮水を排水するための排水路と、排水路から濃縮水の一部を分流させて送水経路へ戻すための回流経路を有する、濃縮水の一部をイオン状シリカ含有水と合流させて逆浸透膜装置へ循環させるための循環経路と、平均粒径が３０ｎｍ未満のコロイダルシリカを濃縮水に添加するための添加装置とを備えており、循環経路は、濃縮水を滞留させながら循環可能に設定されている。
【００１５】
この処理装置において、送水経路から逆浸透膜装置へ送られたイオン状シリカ含有水は、イオン状シリカが分離された透過水と、イオン状シリカを含む濃縮水とに分離される。濃縮水に対して添加装置から上記平均粒径のコロイダルシリカを添加すると、濃縮水においてイオン状シリカが過飽和状態になったとき、過飽和部分のイオン状シリカが濃縮水中においてコロイダルシリカを核として重合する。この結果、濃縮水のイオン状シリカ濃度が低下し、逆浸透膜装置でのシリカの析出が抑制される。
【００１６】
この処理装置において、コロイダルシリカの添加装置は、例えば、送水経路に設けることができる。この場合、送水経路から逆浸透膜装置へ送られるイオン状シリカ含有水に対してコロイダルシリカが供給され、逆浸透膜装置の濃縮水は、逆浸透膜装置において送水経路からの水が混入することでコロイダルシリカが添加される。或いは、コロイダルシリカの添加装置は、例えば、回流経路に設けることができる。この場合、回流経路を流れる濃縮水に対してコロイダルシリカが直接に添加されるが、回流経路の濃縮水に添加されたコロイダルシリカは、送水経路から逆浸透膜装置へ送られるイオン状シリカ含有水に混入し、それによって逆浸透膜装置の濃縮水に対しても添加される。
【００１７】
この処理装置において、循環経路が濃縮水を滞留させながら循環可能に設定されているのは、濃縮水に添加されたコロイダルシリカを核とする過飽和部分のイオン状シリカの重合のための時間を確保し、それによって濃縮水のイオン状シリカ濃度が低下しやすいようにするためである。したがって、循環経路は、循環する濃縮水においてイオン状シリカの重合のための時間を確保することができるよう設定するのが好ましい。例えば、循環経路において、濃縮水の平均滞留時間が１０分以上、好ましくは２０分以上、より好ましくは３０分以上となるよう、循環経路の保有水量を確保するのが好ましい。濃縮水の平均滞留時間については先述のとおりである。
【００１８】
本発明の処理装置の一形態において、循環経路は、貯水槽を設けることで、濃縮水を滞留させながら循環可能に設定されている。また、本発明の処理装置の他の一形態において、循環経路は、長さおよび断面積のうちの少なくとも一つを調整して保有水量を増加させることで、濃縮水を滞留させながら循環可能に設定されている。
【発明の効果】
【００１９】
本発明に係るイオン状シリカ含有水の処理方法および処理装置は、濃縮水に所定のコロイダルシリカを添加することから、濃縮水のｐＨ制御によらずに逆浸透膜装置でのシリカの析出を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明に係る処理装置の一形態の概略図。
【図２】実験例１で用いた試験装置の概略図。
【図３】実験例１の結果を示すグラフ。
【図４】実験例３Ａの結果を示すグラフ。
【図５】実験例３Ｂ結果を示すグラフ。
【図６】実験例３Ｃの結果を示すグラフ。
【図７】実験例４Ａの結果を示すグラフ。
【図８】実験例４Ｂの結果を示すグラフ。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
図１を参照して、本発明に係るイオン状シリカ含有水の処理方法を実施可能な処理装置の一形態を説明する。図において、処理装置１は、湖沼水、河川水または地下水を取水原とする水道水や工業用水などの、溶存成分としてイオン状シリカを含む原水からイオン状シリカを分離し、ボイラへの給水や密閉式クーリングタワーの循環水として用いられる用水を調製するためのものであり、送水経路１０、逆浸透膜装置２０および添加装置３０を主に備えている。
【００２２】
送水経路１０は、原水の供給源（図示省略）からの原水を逆浸透膜装置２０に対して送るための経路であり、供給源側から順に、原水に含まれる塩素を吸着して除去するための活性炭ろ過装置１０１、原水に含まれる硬度（カルシウムイオンおよびマグネシウムイオン）、鉄イオンおよびアルミニウムイオン等の多価陽イオンを除去するための陽イオン交換装置１０２および原水に含まれる濁質を分離するためのプレフイルタ装置１０３、並びに、これらの装置により処理された原水を貯留するための第１貯水槽１０５を有している。
【００２３】
逆浸透膜装置２０は、送水経路１０からの原水を処理するためのものであり、逆浸透膜モジュール２１１とポンプ２１２とを備えている。逆浸透膜モジュール２１１は、単一または複数の逆浸透膜エレメント（図示省略）を備えたものであり、処理水路２２０および排水路２３０が連絡している。逆浸透膜エレメントを形成する逆浸透膜は、通常、孔径が０．５ｎｍ程度の微孔を全面に有しており、原水に含まれる分子量が数十程度の微細な夾雑成分の透過を阻止可能である。
【００２４】
ポンプ２１２は、送水経路１０からの原水を加圧して逆浸透膜モジュール２１１へ送るためのものである。送水経路１０からの原水は、このポンプ２１２により逆浸透膜での浸透圧以上に加圧された状態で逆浸透膜モジュール２１１へ送られることで処理され、一部が逆浸透膜エレメントを透過する。これにより、原水は、逆浸透膜エレメントにおいて、イオン状シリカ等の溶存成分をはじめとする夾雑成分が除去された透過水と、夾雑成分濃度が高まった濃縮水とに分離される。
【００２５】
処理水路２２０は、ボイラやクーリングタワーなどへの用水の供給部（図示省略）に対し、逆浸透膜モジュール２１１からの透過水を送るための経路である。排水路２３０は、逆浸透膜モジュール２１１において生成した濃縮水を当該モジュールから排出するための経路であり、逆浸透膜モジュール２１１側から回流経路２３１および排水制御弁２３２をこの順に備えている。
【００２６】
回流経路２３１は、逆浸透膜モジュール２１１から排水路２３０へ流れる濃縮水の一部を分流させて送水経路１０へ戻すためのものであり、排水路２３０から分岐するとともに調整弁２３３と第２貯水槽２３４とをこの順に有しており、ポンプ２１２の上流側において送水経路１０に連絡している。この結果、排水路２３０の一部、回流経路２３１および送水経路１０の一部は、排水路２３０へ流れた逆浸透膜モジュール２１１からの濃縮水の一部を逆浸透膜モジュール２１１へ循環するための循環経路を形成している。調整弁２３３は、濃縮水の循環流量や逆浸透膜モジュール２１１内の圧力を調整するためのものである。
【００２７】
排水制御弁２３２は、逆浸透膜モジュール２１１から排水路２３０を通じて廃棄される濃縮水の流量を制御するためのものである。
【００２８】
添加装置３０は、送水経路１０を通じて第１貯水槽１０５から逆浸透膜装置２０へ供給される原水に対し、シリカの析出抑制剤を添加するためのものである。ここで用いられる析出抑制剤は、ＢＥＴ法またはＮａＯＨ滴定法により測定した平均粒径が３０ｎｍ未満、好ましくは１５ｎｍ以下、特に好ましくは４〜６ｎｍのコロイダルシリカ、すなわち、ＢＥＴ法またはＮａＯＨ滴定法により測定した平均粒径が３０ｎｍ未満、好ましくは１５ｎｍ以下、特に好ましくは４〜６ｎｍのシリカ（ＳｉＯ２）粒子を水中に分散状態で含む分散液である。なお、平均粒径が１０ｎｍ以下のコロイダルシリカについては、測定精度の点でシアーズ法での測定値を参照するのが好ましい。コロイダルシリカにおいて、シリカの含有量は特に限定されるものではないが、通常はシリカ含有量が５〜５０重量％程度のものが好ましい。
【００２９】
コロイダルシリカとしては、市販のものを使用することができる。例えば、日産化学工業株式会社の商品名「スノーテックスＳＴ−ＸＳ」（シアーズ法により測定した平均粒径４〜６ｎｍ）、同社の商品名「スノーテックスＳＴ−３０」（ＢＥＴ法により測定した平均粒径１０〜１５ｎｍ）、日揮触媒化成株式会社の商品名「カタロイドＳＩ−５５０」（ＮａＯＨ滴定法により測定した平均粒径４〜６ｎｍ）、同社の商品名「カタロイドＳＩ−３０」（ＮａＯＨ滴定法により測定した平均粒径１０〜１４ｎｍ）、扶桑化学工業株式会社の商品名「クォートロンＰＬ−１」（ＢＥＴ法により測定した平均一次粒径１５ｎｍ）などを使用することができる。
【００３０】
コロイダルシリカの平均粒径が範囲を有するのは、測定値が当該範囲内に入ることを意味する。
【００３１】
次に、上述の処理装置１の動作を説明する。
処理装置１において、供給源の原水は、送水ポンプ（図示省略）により吸引され、送水経路１０へ供給される。送水経路１０において、原水は、活性炭ろ過装置１０１を通過することで塩素が除去された後、陽イオン交換装置１０２を通過することで硬度等の多価陽イオンが除去される。そして、塩素および多価陽イオンが除去された原水は、プレフイルタ装置１０３を通過することで濁質が除去された後、第１貯水槽１０５に貯留される。
【００３２】
第１貯水槽１０５に貯留された原水は、ポンプ２１２により吸引され、逆浸透膜の浸透圧以上に加圧された状態で逆浸透膜モジュール２１１へ供給される。逆浸透膜モジュール２１１に供給された原水は、逆浸透膜により処理され、イオン状シリカ等の夾雑成分が分離された透過水と、夾雑成分の濃度が高まった濃縮水とに分離される。ここで、逆浸透膜モジュール２１１は、塩素および濁質が除去された原水を処理することから、塩素を原因とする逆浸透膜の劣化および濁質を原因とするファウリングが抑えられる。
【００３３】
逆浸透膜モジュール２１１からの透過水は、処理水路２２０からボイラやクーリングタワーなどに対する用水の供給部へ送られる。他方、濃縮水は、逆浸透膜モジュール２１１へ供給される原水に圧されて排水路２３０へ流れる。排水路２３０へ流れた濃縮水は、一部が回流経路２３１へ分流し、送水経路１０を流れる原水に合流する。これにより、逆浸透膜モジュール２１１において生成した濃縮水の一部は、回流経路２３１を通じて循環する。また、排水路２３０へ流れた濃縮水の残部は、回流経路２３１へ回流せずに排水制御弁２３２を通じて排水され、廃棄される。
【００３４】
回流経路２３１へ流れた濃縮水は、第２貯水槽２３４を経由して送水経路１０を流れる原水に合流するため、第２貯水槽２３４を通過する際に滞留する。この結果、回流経路２３１へ流れた濃縮水は、第２貯水槽２３４において滞留しながら先述の循環経路を循環することになる。
【００３５】
上述のような処理装置１の動作では、排水制御弁２３２により濃縮水の廃棄量を制御するとともに、ポンプ２１２並びに排水制御弁２３２および調整弁２３３により逆浸透膜モジュール２１１内の圧力を制御することで透過水の流量（Ｆ２）を調整し、併せて回流経路２３１から送水経路１０に合流する濃縮水の流量を調整弁２３３により調整することで回収率を調節することができる。回収率とは、送水経路１０から逆浸透膜モジュール２１１へ供給される水量（Ｆ１）に対する透過水の流量（Ｆ２）の割合（％）（すなわち、Ｆ２／Ｆ１×１００）をいう。
【００３６】
回収率を高めると、それに従って透過水量が増加し、原水の利用効率を高めることができるが、同時に濃縮水において夾雑成分濃度の上昇が不可避であることから、濃縮水において原水に由来のイオン状シリカ濃度が過飽和状態になり得る。この場合、濃縮水においてシリカが析出し、それが逆浸透膜モジュール２１１の膜面でのスケール生成やファウリングの原因となり、逆浸透膜モジュール２１１では経時的に透過水量が減少する。したがって、逆浸透膜装置２０は、イオン状シリカ濃度が過飽和状態になるような高回収率を維持しながら長期間に亘って連続運転するのが困難である。
【００３７】
そこで、処理装置１の運転では、濃縮水のイオン状シリカ濃度が過飽和状態になり得る程に回収率を高めて逆浸透膜装置２０を運転する場合、第１貯水槽１０５から逆浸透膜装置２０へ供給される原水に対し、添加装置３０から析出抑制剤を供給する。供給された析出抑制剤は、原水とともに逆浸透膜モジュール２１１へ送られることから、濃縮水での濃度が高まる。この結果、濃縮水において過飽和部分のイオン状シリカは、析出抑制剤に含まれるコロイダルシリカを核として重合が進行する。また、濃縮水の一部は、第２貯水槽２３４において滞留しながら循環することから、循環経路において上記重合のための反応時間が確保され、上述の重合が促進される。
【００３８】
コロイダルシリカを核とするイオン状シリカの上述のような重合により、循環する濃縮水は、イオン状シリカ濃度が低下し、同濃度の過飽和状態が抑えられる。これにより、逆浸透膜装置２０は、逆浸透膜モジュール２１１でのシリカの析出が抑制されるとともにファウリングが抑えられ、結果的に逆浸透膜モジュール２１１からの透過水量が低下しにくくなることから、長期間に亘って安定的に連続運転することができる。
【００３９】
濃縮水においてコロイダルシリカを核とするイオン状シリカの重合のための十分な反応時間を確保する観点から、循環経路は、循環する濃縮水の平均滞留時間が少なくとも１０分になるよう設定するのが好ましい。ここで、濃縮水の平均滞留時間は、循環経路の保有水量（すなわち循環経路の容量）を濃縮水の単位時間当りの廃棄量（排水制御弁２３２からの濃縮水の単位時間当りの廃棄量）で除した値である。例えば、循環経路の保有水量が１００Ｌの場合、濃縮水の単位時間当りの廃棄量を１０Ｌ／分に設定すると、濃縮水の平均滞留時間は１０分となる。濃縮水の単位時間当りの廃棄量は回収率等の運転条件に基づいて設定される場合が多いことから、上記平均滞留時間は、通常、循環経路の保有水量を調整することで制御するのが好ましい。この実施の形態の処理装置１の場合、回流経路２３１の第２貯水槽２３４の容量を調整することで上記平均滞留時間を制御することができる。すなわち、濃縮水の単位時間当りの廃棄量を固定した場合、第２貯水槽２３４の容量を大きくするに従って循環経路の保有水量が増加することから上記平均滞留時間は長くなり、同容量を小さくするに従って循環経路の保有水量が減少することから上記平均滞留時間は短くなる。
【００４０】
析出抑制剤に含まれるコロイダルシリカは、その平均粒径が逆浸透膜の孔径よりも十分に大きく、しかも、逆浸透膜面上を流れる濃縮水のせん断力を受けやすいことから、それ自体が、或いは、それを核としてイオン状シリカの重合が進行した場合においても、ファウリングの原因物質となりにくい。その一方、コロイダルシリカは、水中で負に帯電することから、多価陽イオンが共存する場合に安定性が損なわれることがあり、そのような場合はコロイダルシリカ自体が逆浸透膜モジュール２１１の膜面でのスケール生成やファウリングの原因となることがある。この実施の形態において、析出抑制剤を供給する原水は硬度等の多価陽イオンが除去されたものであるから、コロイダルシリカは濃縮水中で安定に存在し得、スケール生成やファウリングの原因となりにくい。
【００４１】
析出抑制剤は、添加装置３０から原水への供給量を多くするのに従ってシリカの析出抑制効果を高めることができるが、通常、逆浸透膜モジュール２１１の濃縮水において、シリカとしての濃度が５０〜５，０００ｍｇＳｉＯ２／Ｌ程度、特に、１００〜２，０００ｍｇＳｉＯ２／Ｌ程度になるように供給量を設定するのが好ましい。濃縮水での析出抑制剤のこのような濃度を達成可能であれば、析出抑制剤は、第１貯水槽１０５から逆浸透膜装置２０へ供給される原水に対して適宜供給することができる。すなわち、析出抑制剤は、逆浸透膜装置２０へ供給される原水に対し、添加装置３０から少しずつ連続的に供給されてもよいし、同装置から比較的多量の一定量ずつが断続的に供給されてもよい。また、逆浸透膜モジュール２１１において濃縮水のシリカ濃度を測定するためのセンサを設け、このセンサでのシリカ濃度の測定結果に基づいて添加装置３０から原水に対する析出抑制剤の供給を制御することもできる。
【００４２】
析出抑制剤は、平均粒径が小さなコロイダルシリカを用いた場合、特に、平均粒径が４〜６ｎｍのコロイダルシリカを用いた場合、原水に対する添加量を抑えて効果的にシリカの析出を抑制可能である。
【００４３】
処理装置１において、送水経路１０から逆浸透膜装置２０へ供給する原水および逆浸透膜装置２０での濃縮水は、ｐＨの制御が不要である。すなわち、処理装置１は、特許文献１に記載の先行技術と異なり、逆浸透膜装置２０での濃縮水のｐＨが６を上回るとき、例えば同ｐＨが６〜８程度の中性付近の場合であっても、濃縮水でのシリカの析出を効果的に抑制することができる。このため、濃縮水に溶存している炭酸イオンや重炭酸イオンは逆浸透膜を透過しやすい遊離炭酸や溶解二酸化炭素に変換されるのが抑えられ、処理装置１は透過水の水質を高めることができる。
【００４４】
また、処理装置１は、原水または濃縮水の温度調整が不要であり、原水および濃縮水が常温（５〜３８℃程度）のままで運転することができる。
【００４５】
処理装置１において、送水経路１０から逆浸透膜装置２０へ供給される原水は、例えば、硬度分によるスケールの抑制、菌類の繁殖抑制またはスライムの生成抑制などの目的のため、スケール抑制剤、殺菌剤またはスライム抑制剤などの他の薬剤を適宜供給することもできる。この場合、添加装置３０から原水に供給するシリカの析出抑制剤は他の薬剤と反応しにくいことから、同析出抑制剤および他の薬剤は、それぞれ安定に独立して機能し得る。シリカの析出抑制剤は、他の薬剤が混合された複合剤として原水に対して供給することもできる。
【００４６】
上述の実施の形態の処理装置１では、第１貯水槽１０５から逆浸透膜装置２０へ供給される原水に対して添加装置３０から析出抑制剤を供給しているが、原水に対する析出抑制剤の供給方法は変更可能である。例えば、添加装置３０を回流経路２３１の任意の位置に対して設け、回流経路２３１を循環する濃縮水へ析出抑制剤を供給するように変更することもできる。この場合、回流経路２３１の濃縮水に供給された析出抑制剤は、送水経路１０から逆浸透膜装置２０へ送られる原水に混入し、それによって逆浸透膜装置２０の濃縮水に添加される。
【００４７】
上述の実施の形態の処理装置１では、回流経路２３１に第２貯水槽２３４を設けることで濃縮水の一部を回流経路２３１において滞留させながら循環させているが、第２貯水槽２３４の位置は、循環経路の他の位置、例えば、送水経路１０において、回流経路２３１の連絡部とポンプ２１２との間に変更することができる。また、循環経路は、第２貯水槽２３４の容量調整によらずに長さおよび断面積のうちの少なくとも一つを調整することで保有水量を調整し、それによって濃縮水の滞留の制御、すなわち、濃縮水の平均滞留時間の制御をするよう変更することもできる。この場合、循環経路は、第２貯水槽２３４を取り除いてもよいし、維持していてもよい。
【００４８】
上述の実施の形態の処理装置１において、送水経路１０は、活性炭ろ過装置１０１、陽イオン交換装置１０２、プレフイルタ１０３および第１貯水槽１０５の全部または一部を取り除いたものであってもよい。
【００４９】
［実験例］
［実験例１］
図２に示す試験装置を用い、８種類のモデル原水（モデル原水Ａ〜Ｈの８種類）を個別に処理した。試験装置および各モデル原水の詳細および実験方法は次の通りである。
【００５０】
＜試験装置＞
試験装置は、図１に示す処理装置１において、送水経路１０の活性炭ろ過装置１０１、陽イオン交換装置１０２、プレフイルタ装置１０３および第１貯水槽１０５を省略するとともに、回流経路２３１から第２貯水槽２３４を除去したものに相当する構成のものであり、仕様は次の通りである。
【００５１】
逆浸透膜モジュール２１１として、東レ株式会社の逆浸透膜（商品名「ＴＭＧ１０」）を５．０ｃｍ×２．８ｃｍの大きさに切り取り、これをセルホルダに挟み込むことで作成したものを用いた。試験装置は、濃縮水の循環系（図２に示した逆浸透膜モジュール２１１の薄墨部分、逆浸透膜モジュール２１１から回流経路２３１の分岐部までの排水路２３０部分、回流経路２３１、および、回流経路２３１の連絡部から逆浸透膜モジュール２１１までの送水経路１０部分）の保有水量が約２５０ｍＬになるようセルホルダおよび各流路のサイズを設定した。また、ポンプ２１２としてダイアフラムポンプを用いた。
【００５２】
＜モデル原水＞
モデル原水Ａ：
１５Ｌのイオン交換水にイオン状シリカ源としてのメタ珪酸ナトリウム九水和物５，６８４．０ｍｇと緩衝剤としての炭酸水素ナトリウム１，００８．１ｍｇとを添加して溶解し、イオン状シリカ含有水を調製した。このイオン状シリカ含有水におけるイオン状シリカ濃度は８０ｍｇＳｉＯ２／Ｌになる。得られたイオン状シリカ含有水に１０％塩酸を添加することでｐＨを７．３に調整し、モデル原水Ａとした。
モデル原水Ｂ：
モデル原水Ａの調製時に調製したイオン状シリカ含有水に平均粒径（シアーズ法）が４〜６ｎｍのコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社の商品名「スノーテックスＳＴ−ＸＳ」）をシリカ換算濃度が２０ｍｇＳｉＯ２／Ｌになるよう添加後、ｐＨ調整剤としての１０％塩酸を添加することでｐＨを６．３に調整したもの。
モデル原水Ｃ：
モデル原水Ａの調製時に調製したイオン状シリカ含有水に平均粒径（シアーズ法）が４〜６ｎｍのコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社の商品名「スノーテックスＳＴ−ＸＳ」）をシリカ換算濃度が２０ｍｇＳｉＯ２／Ｌになるよう添加後、ｐＨ調整剤としての１０％塩酸を添加することでｐＨを７．３に調整したもの。
モデル原水Ｄ：
モデル原水Ａの調製時に調製したイオン状シリカ含有水に平均粒径（ＢＥＴ法）が１０〜１５ｎｍのコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社の商品名「スノーテックスＳＴ−３０」）をシリカ換算濃度が２００ｍｇＳｉＯ２／Ｌになるよう添加後、ｐＨ調整剤としての１０％塩酸を添加することでｐＨを６．３に調整したもの。
モデル原水Ｅ：
モデル原水Ａの調製時に調製したイオン状シリカ含有水に平均粒径（ＢＥＴ法）が１０〜１５ｎｍのコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社の商品名「スノーテックスＳＴ−３０」）をシリカ換算濃度が２０ｍｇＳｉＯ２／Ｌになるよう添加後、ｐＨ調整剤としての１０％塩酸を添加することでｐＨを６．３に調整したもの。
モデル原水Ｆ：
モデル原水Ａの調製時に調製したイオン状シリカ含有水に平均粒径（ＢＥＴ法）が１０〜１５ｎｍのコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社の商品名「スノーテックスＳＴ−３０」）をシリカ換算濃度が２０ｍｇＳｉＯ２／Ｌになるよう添加後、ｐＨ調整剤としての１０％塩酸を添加することでｐＨを７．３に調整したもの。
モデル原水Ｇ：
モデル原水Ａの調製時に調製したイオン状シリカ含有水に平均粒径（ＢＥＴ法）が７０〜１００ｎｍのコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社の商品名「スノーテックスＳＴ−ＺＬ」）をシリカ換算濃度が２００ｍｇＳｉＯ２／Ｌになるよう添加後、ｐＨ調整剤としての１０％塩酸を添加することでｐＨを７．３に調整したもの。
モデル原水Ｈ：
モデル原水Ａの調製時に調製したイオン状シリカ含有水に平均粒径（ＢＥＴ法）が７０〜１００ｎｍのコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社の商品名「スノーテックスＳＴ−ＺＬ」）をシリカ換算濃度が２０ｍｇＳｉＯ２／Ｌになるよう添加後、ｐＨ調整剤としての１０％塩酸を添加することでｐＨを７．３に調整したもの。
【００５３】
＜実験方法＞
試験装置によるモデル原水の処理では、ポンプ２１２により平均０．７ＭＰａとなるようにモデル原水を吸引、昇圧し、モデル原水を約３００ｍＬ／分の流速で送水経路１０から逆浸透膜モジュール２１１に送った。また、排水制御弁２３２の制御により回収率を８０％（５倍濃縮）に設定した。この場合、モデル原水の供給量は約１．００ｍＬ／分であり、また、透過水の初期流量は約０．８０ｍＬ／分、濃縮水の初期排水流量は約０．２０ｍＬ／分となる。濃縮水の初期排水流量に照らすと、濃縮水の循環系における濃縮水の初期平均滞留時間は約１，２５０分になる。さらに、濃縮水のｐＨは、ｐＨを６．３に調製したモデル原水については７．３に、また、ｐＨを７．３に調製したモデル原水については８．３になる。モデル原水の処理は、濃縮水の温度が約３０℃になる環境で実行した。
【００５４】
＜実験結果＞
モデル原水の処理により得られる透過水の経時的な流量変化を調べた結果を図３に示す。上記実験条件では、モデル原水の濃縮倍率が５倍になることから、いずれのモデル原水を用いた場合でも濃縮水のイオン状シリカ濃度は理論上４００ｍｇＳｉＯ２／Ｌとなる。水温が３０℃の場合のイオン状シリカの溶解度は約１４０ｍｇＳｉＯ２／Ｌ（ｐＨ７．３）、或いは、約１８０ｍｇＳｉＯ２／Ｌ（ｐＨ８．３）であることから、いずれのモデル原水を用いた場合でも濃縮水の理論上のイオン状シリカ濃度は過飽和状態である。また、濃縮水のコロイダルシリカ濃度は、モデル原水Ｂ、Ｃ、Ｅ、ＦおよびＨを用いた場合において１００ｍｇＳｉＯ２／Ｌとなり、モデル原水ＤおよびＧを用いた場合において１，０００ｍｇＳｉＯ２／Ｌとなる。
【００５５】
図３において、縦軸の対初期流量比は、透過水の初期流量（約０．８ｍＬ／分）に対する測定時点での透過水の流量の比である。図３において、各モデル原水の対初期流量比が経時的に低下しているのは、シリカの析出により逆浸透膜モジュール２１１の逆浸透膜にスケールまたはファウリングが生じたことによるものである。平均粒径が４〜１５ｎｍのコロイダルシリカを添加したモデル原水Ｂ〜Ｆは、濃縮水のｐＨが６を超えているにもかかわらず、コロイダルシリカを添加していないモデル原水Ａおよび平均粒径が大きなコロイダルシリカを添加したモデル原水Ｇ、Ｈに比べて対初期流量比の低下が抑えられていることから、シリカの析出が抑えられていることがわかる。特に、モデル原水Ｂ、Ｃの結果によると、平均粒径が４〜６ｎｍのコロイダルシリカは、原水に対する少量の添加で濃縮水でのシリカの析出を効果的に抑制可能である。
【００５６】
［実験例２］
実験例１において調製したモデル原水Ａ〜Ｈの８種類について、常温（２５℃：同温度でのイオン状シリカの溶解度は約１４０ｍｇＳｉＯ２／Ｌ（ｐＨ６．３）、或いは、約１３０ｍｇＳｉＯ２／Ｌ（ｐＨ７．３）である。）下での調製直後および調製から常温下で１週間経過時のイオン状シリカ濃度および全シリカ濃度を測定した。イオン状シリカ濃度は、ＪＩＳ  Ｋ  ０１０１  （１９９８）「工業用水試験方法」に規定されたモリブデン黄吸光光度法に従って測定した。また、全シリカ濃度は、ＩＣＰ発光分析装置（株式会社日立ハイテクサイエンスの商品名「ＳＰＳ７８００」）を用いて測定した。結果を表１に示す。
【００５７】
【表１】
2017148746.tif 000003
【００５８】
表１において、各モデル原水についての全シリカ濃度とイオン状シリカ濃度との差（全シリカ濃度−イオン状シリカ濃度）は、各モデル原水に含まれるコロイダルシリカ濃度に略相当している。表１によると、各モデル原水は、イオン状シリカ濃度および全シリカ濃度のいずれもが、調製直後と１週間後とで実質的に変動していない。モデル原水Ｂ〜Ｈは、イオン状シリカ濃度が飽和濃度に達していないことから、イオン状シリカとコロイダルシリカとが反応していないことがわかる。
【００５９】
［実験例３］
（実験例３Ａ）
メタ珪酸ナトリウム九水和物５３２．９ｍｇと、緩衝成分としての炭酸水素ナトリウム４２０ｍｇとをイオン交換水２５０ｍＬに添加して完全に溶解し、イオン状シリカ濃度が４５０ｍｇＳｉＯ２/Ｌの水溶液（イオン状シリカの過飽和水溶液）を調製した。そして、この水溶液６０ｍＬをポリプロピレン製の容器に量り取ってスターラーで攪拌し、最終ｐＨが約８．３となるように１０％塩酸０．３５ｍＬを添加した。１０％塩酸の添加完了後、平均粒径（シアーズ法）が４〜６ｎｍのコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社の商品名「スノーテックスＳＴ−ＸＳ」：２０重量％水溶液）の所定量（シリカ量（ｍｇＳｉＯ２／Ｌ）換算）を即座に添加し、水溶液のイオン状シリカ濃度を実験例２と同じくモリブデン黄吸光光度法により経時的に測定した。また、コロイダルシリカを添加していない水溶液について、同様にイオン状シリカ濃度を経時的に測定した。測定の間、水溶液の温度は２５℃に維持した。結果を図４に示す。図４において、横軸の反応時間（分）は、調製した水溶液に対して１０％塩酸の添加が完了した時点を０としている。
【００６０】
（実験例３Ｂ）
メタ珪酸ナトリウム九水和物５３２．９ｍｇと、緩衝成分としてのクエン酸三ナトリウム二水和物５００ｍｇとをイオン交換水２５０ｍＬに添加して完全に溶解し、イオン状シリカ濃度が４５０ｍｇＳｉＯ２/Ｌの水溶液（イオン状シリカの過飽和水溶液）を調製した。そして、この水溶液６０ｍＬをポリプロピレン製の容器に量り取ってスターラーで攪拌し、最終ｐＨが約６．５となるように１０％塩酸０．３５ｍＬを添加した。１０％塩酸の添加完了後、実験例３Ａで用いたものと同じコロイダルシリカを実験例３Ａと同様に添加し、実験例３Ａと同様に水溶液のイオン状シリカ濃度を経時的に測定した。また、コロイダルシリカを添加していない水溶液について、同様にイオン状シリカ濃度を経時的に測定した。測定の間、水溶液の温度は２５℃に維持した。結果を図５に示す。図５において、横軸の反応時間（分）は、調製した水溶液に対して１０％塩酸の添加が完了した時点を０としている。
【００６１】
（実験例３Ｃ）
メタ珪酸ナトリウム九水和物５９２．１ｍｇと、緩衝成分としての炭酸水素ナトリウム８４０．１ｍｇとをイオン交換水５００ｍＬに添加して完全に溶解し、イオン状シリカ濃度が２５０ｍｇＳｉＯ２/Ｌの水溶液（イオン状シリカの過飽和水溶液）を調製した。そして、この水溶液６０ｍＬをポリプロピレン製の容器に量り取ってスターラーで攪拌し、最終ｐＨが約８．３となるように１０％塩酸０．２０ｍＬを添加した。１０％塩酸の添加完了後、実験例３Ａで用いたものと同じコロイダルシリカを実験例３Ａと同様に添加し、実験例３Ａと同様に水溶液のイオン状シリカ濃度を経時的に測定した。また、コロイダルシリカを添加していない水溶液について、同様にイオン状シリカ濃度を経時的に測定した。測定の間、水溶液の温度は２５℃に維持した。結果を図６に示す。図６において、横軸の反応時間（分）は、調製した水溶液に対して１０％塩酸の添加が完了した時点を０としている。
【００６２】
（実験例３の評価）
図４から図６によると、実験例３Ａから３Ｃは、いずれも、コロイダルシリカを添加することでイオン状シリカ濃度が経時的に低下し、また、同濃度はコロイダルシリカの添加量が多くなるほど経時的な低下量が大きくなることから、水溶液中のイオン状シリカはコロイダルシリカと反応しているものと考えられる。この反応は、水溶液のイオン状シリカ濃度が高い程、また、水溶液のｐＨが高い程、高速で進行していることが分かる。
【００６３】
さらに、実験例３Ａから３Ｃのいずれにおいてもイオン状シリカ濃度の低下はイオン状シリカの溶解度に向かって漸近していることから、水溶液中の過飽和部分のイオン状シリカのみが添加したコロイダルシリカと反応しているものと推察される。なお、コロイダルシリカを添加していない水溶液についてもイオン状シリカ濃度が徐々に低下しているが、これは過飽和部分のイオン状シリカ間の反応（重合）によるものと考えられる。
【００６４】
［実験例４］
（実験例４Ａ）
図１に示す形態の処理装置１を用い、水処理試験を実施した。ここでは、原水として愛媛県松山市の市水（イオン状シリカ濃度：約２０ｍｇＳｉＯ２／Ｌ）を送水経路１０に供給するとともに、第１貯水槽１０５に対して珪酸ナトリウム溶液および塩酸を添加することで、第１貯水槽１０５においてイオン状シリカ濃度４０ｍｇＳｉＯ２／Ｌ、ｐＨ８．３の試験原水を調製し、この試験原水を第１貯水槽１０５から逆浸透膜装置２０に対して連続供給した。この際、逆浸透膜装置２０へ供給される試験原水に対し、平均粒径（シアーズ法）が４〜６ｎｍのコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社の商品名「スノーテックスＳＴ−ＸＳ」）をシリカ換算濃度が１２０ｍｇＳｉＯ２／Ｌになるよう添加装置３０から添加した。
【００６５】
処理装置１は、逆浸透膜装置２０において東レ株式会社の逆浸透膜（商品名「ＴＭＧ１０」：４インチ）によるスパイラル膜を備えた逆浸透膜モジュール２１１を用いるとともに、回流経路２３１の第２貯水槽２３４として内容積が約３２０Ｌのものを用いることで循環経路の保有水量（容量）を３２５Ｌに設定し、運転条件を次のように設定した。
【００６６】
・第１貯水槽１０５から逆浸透膜装置２０へ供給する試験原水の流量：２２２Ｌ／時
・逆浸透膜モジュール２１１から排水路２３０へ流れる濃縮水の流量：１，０００Ｌ／時
・逆浸透膜モジュール２１１から処理水路２２０へ流れる透過水の流量：２００Ｌ／時
・排水制御弁２３２からの濃縮水の排水流量：２２．２Ｌ／時
・回流経路２３１における濃縮水の循環流量：９７８Ｌ／時
・逆浸透膜モジュール２１１での回収率：９０％
・濃縮水の温度：２３℃
・第２貯水槽２３４での濃縮水の平均滞留時間：約２０分
・循環経路内での濃縮水の平均滞留時間：８７８分
【００６７】
この運転条件では、試験原水の濃縮倍率が１０倍になることから、濃縮水のイオン状シリカ濃度は理論上４００ｍｇＳｉＯ２／Ｌとなる。ｐＨが８．３で水温が２３℃の場合のイオン状シリカの溶解度は約１６０ｍｇＳｉＯ２／Ｌであることから、濃縮水の理論上のイオン状シリカ濃度は過飽和状態である。また、濃縮水のコロイダルシリカ濃度は、１，２００ｍｇＳｉＯ２／Ｌとなる。
【００６８】
処理装置１の運転開始時からの透過水の流量変化および濃縮水のイオン状シリカ濃度を経時的に調べた結果を図７に示す。濃縮水のイオン状シリカ濃度は、実験例２と同じくモリブデン黄吸光光度法により測定した。
【００６９】
（実験例４Ｂ）
実験例４Ａで用いた処理装置１の回流経路２３１から第２貯水槽２３４を除去した形態の実験装置を作成し、この実験装置を用いて水処理試験を実施した。ここでは、原水として愛媛県北条市の市水（イオン状シリカ濃度：約２０ｍｇＳｉＯ２／Ｌ）を送水経路１０に供給するとともに、第１貯水槽１０５に対して珪酸ナトリウム溶液および塩酸を添加することで、第１貯水槽１０５においてイオン状シリカ濃度８０ｍｇＳｉＯ２／Ｌ、ｐＨ７．７の試験原水を調製し、この試験原水を第１貯水槽１０５から逆浸透膜装置２０に対して連続供給した。なお、実験例４Ａと異なり、試験原水に対してコロイダルシリカは添加しなかった。
【００７０】
実験装置は、実験例４Ａと同じ逆浸透膜モジュール２１１を用い、運転条件を次のように設定した。
【００７１】
・第１貯水槽１０５から逆浸透膜装置２０へ供給する試験原水の流量：２５０Ｌ／時
・逆浸透膜モジュール２１１から排水路２３０へ流れる濃縮水の流量：１，０００Ｌ／時
・逆浸透膜モジュール２１１から処理水路２２０へ流れる透過水の流量：２００Ｌ／時
・排水制御弁２３２からの濃縮水の排水流量：５０Ｌ／時
・回流経路２３１における濃縮水の循環流量：９５０Ｌ／時
・逆浸透膜モジュール２１１での回収率：８０％
・濃縮水の温度：１３℃
【００７２】
この運転条件では、試験原水の濃縮倍率が５倍になることから、濃縮水のイオン状シリカ濃度は、理論上、４００ｍｇＳｉＯ２／Ｌとなる。ｐＨが７．７で水温が１３℃の場合のイオン状シリカの溶解度は約１０５ｍｇＳｉＯ２／Ｌであることから、濃縮水のイオン状シリカは過飽和状態である。
【００７３】
実験装置の運転開始時からの透過水の流量変化および濃縮水のイオン状シリカ濃度を経時的に調べた結果を図８に示す。濃縮水のイオン状シリカ濃度の測定方法は実験例４Ａと同じである。
【００７４】
（実験例４の評価）
図７、８において、縦軸の対初期透過流束比は、透過水の初期の透過流束に対する測定時点での透過水の透過流束の比である。実験例４Ａは、試験原水に対してコロイダルシリカを添加していることから、処理装置１の運転中において、濃縮水のイオン状シリカは、図７において矢印で示すように、その濃度がその溶解度より若干高い程度に維持されている。このため、実験例４Ａでは、逆浸透膜装置２０においてシリカの析出によるファウリングが生じにくく、透過水の流量が比較的長期間低下しにくいものと考えられる。これに対し、実験例４Ｂは、試験原水に対してコロイダルシリカを添加していないことから、試験装置の運転中において、濃縮水のイオン状シリカは、図８において矢印で示すように、その濃度がその溶解度よりも大幅に高く、上記理論濃度付近に維持されている。このため、実験例４Ｂでは、逆浸透膜装置２０においてシリカの析出によるファウリングが生じ、透過水の流量が短期間のうちに低下してしまうものと考えられる。
【符号の説明】
【００７５】
１          処理装置
１０        送水経路
２０        逆浸透膜装置
３０        添加装置
２３０      排水路
２３１      回流経路
２３４      第２貯水槽
【図１】
2017148746.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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