(57)【要約】      （修正有）【課題】タッチパネル用基材上に、充分な光学調整機能を有しながらも基材との密着性が充分である硬化膜を形成することができる硬化膜形成剤及び感光性エレメントをを提供すること。【解決手段】感光性エレメントは、支持フィルムと、支持フィルム上に設けられた、（Ａ）バインダポリマーと、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｆ１）トリアジン環を有する化合物と、（Ｆ２）フルオレン骨格を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物と、を含有する感光層と、を備える。【選択図】図１
2017111245.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた、（Ａ）バインダポリマーと、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｆ１）トリアジン環を有する化合物と、（Ｆ２）フルオレン骨格を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物と、を含有する感光層と、を備える、感光性エレメント。
【請求項２】
前記感光層の一部が、前記（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物と、前記（Ｆ１）トリアジン環を有する化合物と、前記（Ｆ２）フルオレン骨格を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物と、を含有する部分からなる、請求項１に記載の感光性エレメント。
【請求項３】
前記感光層が、前記（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物として、少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマー又はポリエステル構造を有する化合物を含有する、請求項１又は２に記載の感光性エレメント。
【請求項４】
前記感光層が、（Ｄ）トリアゾール化合物、チアジアゾール化合物及びテトラゾール化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を更に含有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の感光性エレメント。
【請求項５】
前記感光層が、前記（Ｃ）光重合開始剤として、オキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物を含有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の感光性エレメント。
【請求項６】
前記感光層の厚みが１５μｍ以下である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の感光性エレメント。
【請求項７】
（Ａ）バインダポリマーと、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｆ１）トリアジン環を有する化合物と、（Ｆ２）フルオレン骨格を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物と、を含有する、タッチパネル用基材の硬化膜形成に用いられる、硬化膜形成剤。
【請求項８】
前記（Ａ）バインダポリマー、前記（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物、及び前記（Ｃ）光重合開始剤を含有する第１の組成物と、
前記（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物、前記（Ｆ１）トリアジン環を有する化合物、及び前記（Ｆ２）フルオレン骨格を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物、を含有する第２の組成物と、から構成される２剤型である、請求項７に記載の硬化膜形成剤。
【請求項９】
（Ｄ）トリアゾール化合物、チアジアゾール化合物及びテトラゾール化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を更に含有する、請求項７に記載の硬化膜形成剤。
【請求項１０】
前記第１の組成物が、（Ｄ）トリアゾール化合物、チアジアゾール化合物及びテトラゾール化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を更に含有する、請求項８に記載の硬化膜形成剤。
【請求項１１】
前記（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物として、少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマー又はポリエステル構造を有する化合物を含有する、請求項７〜１０のいずれか一項に記載の硬化膜形成剤。
【請求項１２】
前記（Ｃ）光重合開始剤として、オキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物を含有する、請求項７〜１１のいずれか一項に記載の硬化膜形成剤。
【請求項１３】
タッチパネル用基材上に、（Ａ）バインダポリマーと、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｆ１）トリアジン環を有する化合物と、（Ｆ２）フルオレン骨格を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物と、を含有する感光層を設け、該感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に前記感光層の前記所定部分以外を除去し、前記基材の一部又は全部を被覆する前記感光層の硬化物からなる硬化膜を形成する、硬化膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
【請求項１４】
前記感光層の一部が、前記（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物と、前記（Ｆ１）トリアジン環を有する化合物と、前記（Ｆ２）フルオレン骨格を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物と、を含有する部分となるように前記感光層を設ける、請求項１３に記載の硬化膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
【請求項１５】
前記部分を、前記基材に隣接した厚さ５０〜４００ｎｍの層として形成する、請求項１４に記載の硬化膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
【請求項１６】
前記感光層が、前記（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物として、少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマー又はポリエステル構造を有する化合物を含有する、請求項１３〜１５のいずれか一項に記載の硬化膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
【請求項１７】
前記感光層が、（Ｄ）トリアゾール化合物、チアジアゾール化合物及びテトラゾール化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を更に含有する、請求項１３〜１６のいずれか一項に記載の硬化膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
【請求項１８】
前記感光層が、前記（Ｃ）光重合開始剤として、オキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物を含有する、請求項１３〜１７のいずれか一項に記載の硬化膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
【請求項１９】
請求項１３〜１８のいずれか一項に記載の方法により得られる硬化膜付きタッチパネル用基材を備える、タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、硬化膜付きタッチパネル用基材の製造方法、それに用いる硬化膜形成剤及び感光性エレメント、並びにタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
パソコンやテレビ等の大型電子機器、カーナビゲーション、携帯電話、電子辞書等の小型電子機器、ＯＡ・ＦＡ機器等の表示機器などには液晶表示素子やタッチパネル（タッチセンサー）が用いられている。これら液晶表示素子やタッチパネルには透明電極材料からなる電極が設けられている。透明電極材料としては、高い可視光透過率を示すことから、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ）、酸化インジュウムや酸化スズが主流になっている。
【０００３】
タッチパネルはすでに各種の方式が実用化されている。投影型静電容量方式のタッチパネルは、指先の多点検出が可能なため、複雑な指示を行うことができるという良好な操作性を備えている。そのため、携帯電話や携帯型音楽プレーヤ等の小型の表示装置を有する機器において、表示面上の入力装置として利用が進んでいる。
【０００４】
一般に、投影型静電容量方式のタッチパネルではＸ軸とＹ軸による２次元座標を表現するために、複数のＸ電極と、該Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが、２層構造パターンを形成している。これらの電極として、近年、Ａｇナノワイヤ、カーボンナノチューブ等に代表される導電性繊維の利用が検討されているが、ＩＴＯが未だに主流である。
【０００５】
ところで、タッチパネルの額縁領域はタッチ位置を検出できない領域であるから、その額縁領域の面積を狭くすることが製品価値を向上させるための重要な要素である。額縁領域には、タッチ位置の検出信号を伝えるために金属配線が必要となるが、額縁面積の狭小化を図るためには、金属配線の幅を狭くする必要がある。ＩＴＯの導電性は充分に高くないので、一般的に金属配線は銅により形成されている。
【０００６】
タッチパネルは指先に接触される際に水分や塩分等の腐食成分がセンシング領域から内部に侵入することがある。タッチパネルの内部に腐食成分が侵入すると、上記金属配線が腐食し、電極と駆動用回路間の電気抵抗の増加や、断線の恐れがある。
【０００７】
金属配線の腐食を防ぐために、金属上に絶縁層を形成した投影型静電容量方式のタッチパネルが開示されている（例えば、特許文献１）。このタッチパネルでは、二酸化ケイ素層をプラズマ化学気相成長法（プラズマＣＶＤ法）で金属上に形成し、金属の腐食を防いでいる。しかしながら、この手法は高温処理が必要となり基材が限定される、製造コストが高くなる等の問題があった。
【０００８】
そこで、本発明者らは、透明基材上に特定の感光性樹脂組成物から形成される感光層を設け、この感光層を露光、現像することで透明基材上の金属配線を保護する方法を提案している（例えば、特許文献２）。
【０００９】
ところで、上述したように投影型静電容量方式のタッチパネルでは、基材上に透明電極材料による、複数のＸ電極と、該Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが、２層構造の透明電極パターンを形成しているが、透明電極パターンが形成された部分と、形成されていない部分とでの光学的な反射により色差が大きくなり、モジュール化した際に透明導電パターンが画面上に映りこむ、いわゆる「骨見え現象」の問題がある。また、基材と透明電極との間、又はモジュール化する際に使用するカバーガラスと透明電極パターンとを接着する視認性向上フィルム（ＯＣＡ：Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｌｅａｒ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ）と透明電極パターンとの間で、反射光強度が増加し画面の透過率を低下させるという問題もある。
【００１０】
骨見え現象を防ぐために、透明電極パターン上に光学調整層（ＩＭ層）を形成し、骨見え現象を防ぐことが可能な転写フィルムが開示されている（例えば特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２０１１−２８５９４号公報
【特許文献２】国際公開第２０１３／０８４８７３号
【特許文献３】国際公開第２０１４／０８４１１２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、特許文献３に記載の手法のように金属酸化物粒子によって光学調整を行うと、基材との密着性が低下し、金属配線を充分に保護することが難しい。また、特許文献３に記載の転写フィルムは３層以上の構成であるため、タッチパネルの薄型化に充分適さないという課題があった。
【００１３】
本発明は、タッチパネル用基材上に、充分な光学調整機能を有しながらも基材との密着性が充分である硬化膜を形成することができる硬化膜形成剤及び感光性エレメント、並びに、充分な光学調整機能を有しながら基材との密着性が充分である硬化膜を備える硬化膜付きタッチパネル用基材の製造方法及びタッチパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するために本発明者らは鋭意検討した結果、バインダポリマーと、特定の光重合性化合物と、光重合開始剤とが含まれる感光層において、特定の骨格を有する化合物を組み合わせて用いて光学調整部分を設けることにより、充分な光学調整機能を有しながらも基材との密着性が充分である硬化膜を形成することができることを見出し、この知見に基づき本発明を完成するに至った。
【００１５】
すなわち、本発明は、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた、（Ａ）バインダポリマーと、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｆ１）トリアジン環を有する化合物と、（Ｆ２）フルオレン骨格を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物と、を含有する感光層とを備える感光性エレメントを提供する。
【００１６】
上記感光層の一部が、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物と、（Ｆ１）トリアジン環を有する化合物と、（Ｆ２）フルオレン骨格を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物と、を含有する部分からなることが好ましい。係る部分は、薄膜の光学調整部分層として機能させることができる。このような感光層によれば、例えば、透明導電パターンを有するタッチパネル用基材上に転写され、硬化させたときに、色差が大きくなることによる画面の透過率低下は充分抑制されつつ、骨見え現象の防止によるタッチ画面の視認性向上と、透明電極及び金属配線への優れた密着性とを高水準で両立できる硬化膜を形成することができる。
【００１７】
上記感光層は、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物として、少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマー又はポリエステル構造を有する化合物を含有することが好ましい。
【００１８】
上記感光層は、硬化膜の防錆性をより向上させる観点から、（Ｄ）トリアゾール化合物、チアジアゾール化合物及びテトラゾール化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を更に含有することが好ましい。
【００１９】
上記感光層は、薄膜であっても充分な解像度で硬化膜パターンを形成できる点で、（Ｃ）光重合開始剤として、オキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物を含有することが好ましい。
【００２０】
上記感光層は、厚みが１５μｍ以下であることが好ましい。
【００２１】
本発明はまた、（Ａ）バインダポリマーと、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｆ１）トリアジン環を有する化合物と、（Ｆ２）フルオレン骨格を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物と、を含有する、タッチパネル用基材の硬化膜形成に用いられる、硬化膜形成剤を提供する。
【００２２】
本発明の硬化膜形成剤は、（Ａ）バインダポリマー、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する第１の組成物と、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物、（Ｆ１）トリアジン環を有する化合物、及び、（Ｆ２）フルオレン骨格を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物、を含有する第２の組成物と、から構成される２剤型であってもよい。このような硬化膜形成剤によれば、第１の組成物によって形成される第１層と、第２の組成物によって形成される第２層とを含む感光層を形成することができ、これを硬化させることで、第１層由来の保護部分層と、第２層由来の薄膜の光学調整部分層とを備える硬化膜を形成することができる。
【００２３】
本発明の硬化膜形成剤は、硬化膜の防錆性をより向上させる観点から、（Ｄ）トリアゾール化合物、チアジアゾール化合物及びテトラゾール化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を更に含有することができる。
【００２４】
本発明の硬化膜形成剤が上記２剤型の場合、上記第１の組成物が、（Ｄ）トリアゾール化合物、チアジアゾール化合物及びテトラゾール化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を更に含有することができる。
【００２５】
本発明の硬化膜形成剤は、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物として、少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマー又はポリエステル構造を有する化合物を含有することが好ましい。
【００２６】
本発明の硬化膜形成剤は、薄膜であっても充分な解像度で硬化膜パターンを形成できる点で、（Ｃ）光重合開始剤として、オキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物を含有することが好ましい。
【００２７】
本発明はまた、タッチパネル用基材上に、（Ａ）バインダポリマーと、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｆ１）トリアジン環を有する化合物と、（Ｆ２）フルオレン骨格を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物と、を含有する感光層を設け、該感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に感光層の所定部分以外を除去し、基材の一部又は全部を被覆する感光層の硬化物からなる硬化膜を形成する、硬化膜付きタッチパネル用基材の製造方法を提供する。
【００２８】
本発明の硬化膜付きタッチパネル用基材の製造方法において、上記感光層の一部が、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物と、（Ｆ１）トリアジン環を有する化合物と、（Ｆ２）フルオレン骨格を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物と、を含有する部分となるように感光層を設けることが好ましい。この場合、係る部分から薄膜の光学調整部分層を形成することができ、色差が大きくなることによる画面の透過率低下は充分抑制されつつ、骨見え現象の防止によるタッチ画面の視認性向上と、透明電極及び金属配線への優れた密着性とを高水準で両立できる硬化膜を備えるタッチパネル用基材を製造することができる。
【００２９】
上記部分は、基材に隣接した厚さ５０〜４００ｎｍの層として形成することが好ましい。
【００３０】
上記感光層は、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物として、少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマー又はポリエステル構造を有する化合物を含有することが好ましい。
【００３１】
上記感光層は、硬化膜の防錆性をより向上させる観点から、（Ｄ）トリアゾール化合物、チアジアゾール化合物及びテトラゾール化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を更に含有することが好ましい。
【００３２】
上記感光層は、薄膜であっても充分な解像度で硬化膜パターンを形成できる点で、（Ｃ）光重合開始剤として、オキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物を含有することが好ましい。
【００３３】
本発明はまた、上記本発明に係る硬化膜付きタッチパネル用基材の製造方法により得られる硬化膜付きタッチパネル用基材を備えるタッチパネルを提供する。
【発明の効果】
【００３４】
本発明によれば、タッチパネル用基材上に、充分な光学調整機能を有しながらも基材との密着性が充分である硬化膜を形成することができる硬化膜形成剤及び感光性エレメント、並びに、充分な光学調整機能を有しながら基材との密着性が充分である硬化膜を備える硬化膜付きタッチパネル用基材の製造方法及びタッチパネルを提供することができる。
【００３５】
本発明の硬化膜形成剤及び感光性エレメントによれば、画面の透過率の低下が小さく、透明電極パターンの骨見え現象の防止によるタッチ画面の視認性向上と、センサー金属配線の保護性とを両立し、さらには透明電極及びセンサー金属配線との密着性にも優れた硬化膜を形成することできる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の一実施形態に係る感光性エレメントを示す模式断面図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る硬化膜付きタッチパネル用基材を示す模式断面図である。
【図３】本発明の一実施形態に係るタッチパネルを示す模式上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。なお、本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味する。「（ポリ）オキシエチレン鎖」はオキシエチレン基又はポリオキシエチレン基を意味する。「Ａ又はＢ」とは、ＡとＢのどちらか一方を含んでいればよく、両方とも含んでいてもよい。
【００３８】
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。また、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
【００３９】
本明細書において組成物又は剤中の各成分の含有量は、組成物又は剤中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物又は剤中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。また、例示材料は特に断らない限り単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４０】
本発明に係るタッチパネル用基材の硬化膜は、電極を有するセンシング領域、金属配線を有する額縁領域、又はその他の領域に設けることができる。タッチパネル用基材の硬化膜は、いずれかの領域のみに設けてもよく、複数の領域に設けてもよい。さらには、センシング領域に形成された電極の一部に設ける等、硬化膜を設ける位置及び範囲は、その使用の目的等に応じて適宜選択することが可能である。
【００４１】
図１は、本発明の一実施形態に係る感光性エレメントを示す模式断面図である。図１に示される感光性エレメント１は、支持フィルム１０と、支持フィルム上に設けられた感光層２０と、感光層２０の支持フィルム１０とは反対側に設けられた保護フィルム５０とを備える。保護フィルム５０は必ずしも必要ではないが、本実施形態のように設けられていることが好ましい。
【００４２】
感光層２０は、（Ａ）バインダポリマー（以下、（Ａ）成分ともいう）と、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物（以下、（Ｂ）成分ともいう）と、（Ｃ）光重合開始剤（以下、（Ｃ）成分ともいう）と、（Ｆ１）トリアジン環を有する化合物（以下、（Ｆ１）成分ともいう）と、（Ｆ２）フルオレン骨格を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物（以下、（Ｆ２）成分ともいう）と、を含有することができる。また、感光層２０は、必要に応じて、（Ｄ）トリアゾール化合物、チアジアゾール化合物及びテトラゾール化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物（以下、（Ｄ）成分ともいう）を更に含有することができる。更に、感光層２０は、（Ｅ）光重合性不飽和結合を含むリン酸エステル（以下、（Ｅ）成分ともいう）を更に含有することができる。
【００４３】
本実施形態の感光性エレメントによれば、タッチパネル用基材上に転写し、硬化させることにより、画面の透過率の低下が小さく、透明電極パターンの骨見え現象の防止によるタッチ画面の視認性向上と、センサー金属配線の保護性とを両立し、さらには透明電極及びセンサー金属配線との密着性にも優れた硬化膜を形成することできる。また、本実施形態の感光性エレメントによれば、タッチパネル用基材上に転写し、露光・現像を行うことにより、所望の部分に上記の特性を有する硬化膜を形成することができる。
【００４４】
本実施形態の感光層２０は、支持フィルム１０側から順に、（Ａ）バインダポリマーと、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、を含有する保護部分層３０となる部分と、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物と、（Ｆ１）トリアジン環を有する化合物と、（Ｆ２）フルオレン骨格を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物と、を含有する光学調整部分層４０となる部分を有している。
【００４５】
支持フィルム１０としては、重合体フィルムを用いることができる。重合体フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー等が挙げられる。
【００４６】
支持フィルム１０の厚さは、被覆性の確保と、支持フィルム１０を介して活性光線を照射する際の解像度の低下を抑制する観点から、５〜１００μｍであることが好ましく、１０〜７０μｍであることがより好ましく、１５〜４０μｍであることがさらに好ましく、１５〜３５μｍであることが特に好ましい。
【００４７】
保護部分層３０に含まれる（Ａ）成分としては、防錆性をより向上させる観点から、基本骨格にヒドロキシル基を有しないポリマーを用いることが好ましい。また、アルカリ現像によりパターニングを可能とする観点から、カルボキシル基を有するポリマーを用いることがより好ましい。
【００４８】
好適な（Ａ）成分としては、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位と、（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位とを含有する共重合体が挙げられる。
【００４９】
上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシルエチルエステル等が挙げられる。
【００５０】
上記共重合体は、（メタ）アクリル酸及び（メタ）アクリル酸アルキルエステルと共重合し得るその他のモノマーに由来する構成単位を更に含有していてもよい。その他のモノマーとしては、具体的には、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン等が挙げられる。
【００５１】
（Ａ）成分の重量平均分子量は、解像度の観点から、１０，０００〜２００，０００であることが好ましく、１５，０００〜１５０，０００であることがより好ましく、３０，０００〜１５０，０００であることがさらに好ましく、３０，０００〜１００，０００であることが特に好ましく、４０，０００〜１００，０００であることが極めて好ましい。なお、（Ａ）成分の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）によって以下の条件で測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出される。
＜ＧＰＣ条件＞
ポンプ：Ｌ−６０００（株式会社日立製作所製、製品名）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４２０、Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４３０、Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４４０（以上、日立化成株式会社製、製品名）
溶離液：テトラヒドロフラン
測定温度：４０℃
流量：２．０５ｍＬ／分
検出器：Ｌ−３３００（ＲＩ検出器、株式会社日立製作所製、製品名）
【００５２】
（Ａ）成分の酸価は、所望の形状を有する硬化膜をアルカリ現像で容易に形成する観点から、７５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上とすることが好ましい。また、硬化膜形状の制御容易性と硬化膜の防錆性との両立を図る観点から、７５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、７５〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、７５〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましい。なお、酸価は、以下の手順で求められる。
固形分のバインダポリマー１ｇを精秤した後、このポリマーにアセトンを３０ｇ添加し、これを均一に溶解する。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、０．１ＮのＫＯＨ水溶液を用いて滴定を行う。そして、次式により酸価を算出する。
酸価＝０．１×Ｖｆ×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ／１００）
式中、ＶｆはＫＯＨ水溶液の滴定量（ｍＬ）を示し、Ｗｐは測定した樹脂溶液の質量（ｇ）を示し、Ｉは測定した樹脂溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。
【００５３】
（Ａ）成分の水酸基価は、防錆性をより向上させる観点から、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。なお、水酸基価は、以下の手順で求められる。
固形分のバインダポリマー１ｇを精秤した後、ポリマーを三角フラスコに入れ、１０質量％の無水酢酸ピリジン溶液を１０ｍＬ加えてこれを均一に溶解し、１００℃で１時間加熱する。加熱後、水１０ｍＬとピリジン１０ｍＬを加えて１００℃で１０分間加熱後、自動滴定機（平沼産業株式会社製、製品名：ＣＯＭ−１７００）を用いて、０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムのエタノール溶液により中和滴定を行う。そして、次式により水酸基価を算出する。
水酸基価＝（Ａ−Ｂ）×ｆ×２８．０５／試料（ｇ）＋酸価
式中、Ａは空試験に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍＬ）を示し、Ｂは滴定に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍＬ）を示し、ｆはファクターを示す。
【００５４】
（Ｂ）成分としては、（メタ）アクリロイル基を１つ有する一官能ビニルモノマー、（メタ）アクリロイル基を２つ有する二官能ビニルモノマー、又は少なくとも３つの重合可能な（メタ）アクリロイル基を有する多官能ビニルモノマーを用いることができる。
【００５５】
上記一官能ビニルモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル等が挙げられる。（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシルエチルエステル等が挙げられる。
【００５６】
上記二官能ビニルモノマーとしては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシフェニル）プロパン、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５７】
上記多官能ビニルモノマーとしては、従来公知のものを特に制限無く用いることができる。金属配線や透明電極の腐食防止及び現像性の観点から、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等のトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート等のテトラメチロールメタン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等のペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等のジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；又はジグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を用いることが好ましい。
【００５８】
本実施形態においては、保護部分層が、（Ｂ）成分として、ペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物又はジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましく、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物又はジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含むことがより好ましく、ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含むことがさらに好ましい。
【００５９】
ここで、「〜由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物」について、ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を例にとり説明する。ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレートとは、ジトリメチロールプロパンと、（メタ）アクリル酸とのエステル化物を意味し、当該エステル化物には、アルキレンオキシ基で変性された化合物も包含される。上記エステル化物は、一分子中におけるエステル結合数が最大数の４であることが好ましいが、エステル結合の数が１〜３の化合物が混合していてもよい。
【００６０】
上記多官能ビニルモノマーと、上記一官能ビニルモノマー及び／又は上記二官能ビニルモノマーとを組み合わせて用いる場合、これらのモノマーの割合に特に制限は無いが、光硬化性及び電極腐食を防止する観点から、上記多官能ビニルモノマーの割合が、保護部分層に含まれる上記光重合性化合物の合計量１００質量部に対して、３０質量部以上であることが好ましく、５０質量部以上であることがより好ましく、７５質量部以上であることがさらに好ましい。
【００６１】
保護部分層における（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の含有量は、パターン形成性や硬化膜の透明性を維持する点では、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、（Ａ）成分が、３５質量部以上であることが好ましく、４０質量部以上であることがより好ましく、５０質量部以上であることがさらに好ましく、５５質量部以上であることが特に好ましい。（Ａ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、３５〜８５質量部であることが好ましく、４０〜８０質量部であることがより好ましく、５０〜７０質量部であることがさらに好ましく、５５〜６５質量部であることが特に好ましい。
【００６２】
（Ｃ）成分としては、透明性の高い光重合開始剤であれば、従来公知のものを特に制限無く用いることができる。基材上に厚みが１０μｍ以下の薄膜であっても充分な解像度で樹脂硬化膜パターンを形成する点では、オキシムエステル化合物を用いることが好ましい。
【００６３】
オキシムエステル化合物としては、下記式（１）で表される化合物、下記式（２）で表される化合物、又は下記式（３）で表される化合物であることが好ましい。
【００６４】
【化１】
2017111245.tif 000003
【００６５】
式（１）中、Ｒ１１及びＲ１２はそれぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基を示し、Ｒ１３は、−Ｈ、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−Ｏ（ＣＨ２）ＯＨ、−Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、−ＣＯＯ（ＣＨ２）ＯＨ又は−ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨを示す。
【００６６】
Ｒ１１及びＲ１２は、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数４〜６のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数４〜６のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基であることがより好ましく、メチル基、シクロペンチル基、フェニル基又はトリル基であることがさらに好ましい。Ｒ１３は、−Ｈ、−Ｏ（ＣＨ２）ＯＨ、−Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、−ＣＯＯ（ＣＨ２）ＯＨ、又は−ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨであることが好ましく、−Ｈ、−Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、又は−ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨであることがより好ましい。
【００６７】
【化２】
2017111245.tif 000004
【００６８】
式（２）中、Ｒ１４及びＲ１５はそれぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ１６は、ＮＯ２又はＡｒＣＯ（ここで、Ａｒはアリール基を示す。）を示し、Ｒ１７及びＲ１８はそれぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基、又はトリル基を示す。
【００６９】
Ｒ１４及びＲ１５は、プロピル基であることが好ましい。上記Ａｒとしては、トリル基が好ましい。Ｒ１７及びＲ１８は、メチル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましい。
【００７０】
【化３】
2017111245.tif 000005
【００７１】
式（３）中、Ｒ１９は、炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ２０はアセタール結合を有する有機基であり、Ｒ２１及びＲ２２はそれぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基又はトリル基を示す。
【００７２】
Ｒ１９は、エチル基であることが好ましい。Ｒ２０は、後述する式（３−１）に示す化合物が有するＲ２０に対応する置換基であることが好ましい。Ｒ２１及びＲ２２は、メチル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
【００７３】
上記式（１）で表される化合物としては、例えば、下記式（１−１）で表される化合物及び下記式（１−２）で表される化合物が挙げられる。下記式（１−１）で表される化合物はＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ−０１（ＢＡＳＦ株式会社製、製品名）として入手可能である。
【００７４】
【化４】
2017111245.tif 000006
【００７５】
上記式（２）で表される化合物としては、例えば、下記式（２−１）で表される化合物が挙げられる。下記式（２−１）で表される化合物は、ＤＦＩ−０９１（ダイトーケミックス株式会社製、製品名）として入手可能である。
【００７６】
【化５】
2017111245.tif 000007
【００７７】
上記式（３）で表される化合物としては、例えば、下記式（３−１）で表される化合物が挙げられる。下記式（３−１）で表される化合物は、アデカオプトマーＮ−１９１９（株式会社ＡＤＥＫＡ製、製品名）として入手可能である。
【００７８】
【化６】
2017111245.tif 000008
【００７９】
上記以外のオキシムエステル化合物としては、下記式（４）で表される化合物、及び下記式（５）で表される化合物が挙げられる。
【００８０】
【化７】
2017111245.tif 000009
【００８１】
【化８】
2017111245.tif 000010
【００８２】
保護部分層における（Ｃ）成分の含有量は、光感度及び解像度に優れる点では、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．１〜１０質量部であることが好ましく、１〜５質量部であることがより好ましく、１〜３質量部であることがさらに好ましく、１〜２質量部であることが特に好ましい。
【００８３】
本実施形態に係る保護部分層は、硬化膜の防錆性をより向上させる観点から、（Ｄ）トリアゾール化合物、チアジアゾール化合物及びテトラゾール化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を更に含有することが好ましい。トリアゾール化合物は、メルカプト基又はアミノ基を有することが好ましい。チアジアゾール化合物は、メルカプト基を有することが好ましい。テトラゾール化合物は、メルカプト基又はアミノ基を有することが好ましい。
【００８４】
メルカプト基を有するトリアゾール化合物としては、例えば、３−メルカプト−トリアゾール（和光純薬株式会社製、製品名：３ＭＴ）が挙げられる。メルカプト基を有するチアジアゾール化合物としては、例えば、２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール（和光純薬株式会社製、製品名：ＡＴＴ）が挙げられる。
【００８５】
アミノ基を有するトリアゾール化合物としては、ベンゾトリアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−アセトニトリル、ベンゾトリアゾール−５−カルボン酸、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−メタノール、カルボキシベンゾトリアゾール等にアミノ基が置換した化合物、３−メルカプトトリアゾール、５−メルカプトトリアゾール等のメルカプト基を含むトリアゾール化合物にアミノ基が置換した化合物などが挙げられる。
【００８６】
アミノ基を有するテトラゾール化合物としては、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、１−メチル−５−アミノ−テトラゾール、１−メチル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、１−カルボキシメチル−５−アミノ−テトラゾール等が挙げられる。これらのテトラゾール化合物は、その水溶性塩であってもよい。具体例としては、１−メチル−５−アミノ−テトラゾールのナトリウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属塩などが挙げられる。
【００８７】
保護部分層が（Ｄ）成分を含有する場合、その含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．０５〜５．０質量部が好ましく、０．１〜２．０質量部がより好ましく、０．２〜１．０質量部がさらに好ましく、０．３〜０．８質量部が特に好ましい。
【００８８】
本実施形態に係る保護部分層は、ＩＴＯ電極に対する密着性と、現像残りの発生を防ぐ観点から、（Ｅ）光重合性不飽和結合を含むリン酸エステルを含有することが好ましい。
【００８９】
光重合性不飽和結合を含むリン酸エステルとしては、形成する硬化膜の防錆性を充分確保しつつ、ＩＴＯ電極に対する密着性と現像性とを高水準で両立する観点から、ユニケミカル株式会社製のＰｈｏｓｍｅｒシリーズ（Ｐｈｏｓｍｅｒ−Ｍ、Ｐｈｏｓｍｅｒ−ＣＬ、Ｐｈｏｓｍｅｒ−ＰＥ、Ｐｈｏｓｍｅｒ−ＭＨ、Ｐｈｏｓｍｅｒ−ＰＰ等）、又は日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＭＥＲシリーズ（ＰＭ２１、ＰＭ−２等）が好ましい。
【００９０】
光学調整部分層４０は、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物と、（Ｆ１）トリアジン環を有する化合物と、（Ｆ２）フルオレン骨格を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物と、を含有する。これにより、６３３ｎｍにおける屈折率を向上させることが可能となる。
【００９１】
光学調整部分層４０に含まれる（Ｂ）成分は、（メタ）アクリロイル基を有する化合物の二量体、又は（メタ）アクリロイル基とポリエステル構造とを有する化合物であることが好ましい。
【００９２】
トリアジン環を有する化合物は、トリアジン環を含有するハイパーブランチポリマーが好ましく、例えば、ＨＹＰＥＲＴＥＣＨ  ＵＲ−１０１（日産化学工業株式会社製、製品名）として商業的に入手可能である。
【００９３】
フルオレン骨格を有する化合物としては、９，９−ビス［４−２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン骨格を有する化合物が好ましい。上記化合物は（ポリ）オキシエチレン又は（ポリ）オキシプロピレンで変性されていてもよい。これらは、例えば、ＥＡ−２００（大阪ガスケミカル株式会社製、製品名）として商業的に入手可能である。
【００９４】
イソシアヌル酸骨格を有する化合物としては、イソシアヌル酸トリアリルが好ましい。
【００９５】
光学調整部分層は、６３３ｎｍにおける屈折率が１．５０〜１．９０であることが好ましく、１．５３〜１．８５であることがより好ましく、１．５５〜１．７５であることがさらに好ましい。光学調整部分層の６３３ｎｍにおける屈折率が１．５０〜１．９０であることにより、感光層２０をＩＴＯ等の透明電極パターン６０ａが設けられたタッチパネル用基材６０上に転写し、図２に示す硬化膜付きタッチパネル用基材１００とした場合、透明電極パターン６０ａと、感光層２０の上に設けられる各種部材（例えば、モジュール化する際に使用するカバーガラスと透明電極パターンとを接着するＯＣＡ）との屈折率の中間値となり、ＩＴＯ等の透明電極パターンが形成されている部分と形成されていない部分での光学的な反射による色差を小さくすることが可能となり、骨見え現象を防止できる。また、画面全体の反射光強度を低減することが可能となり、画面上の透過率低下を防止することが可能となる。
【００９６】
なお、光学調整部分層の屈折率は以下のようにして測定される。光学調整部分層を形成するための塗布液を厚さ０．７ｍｍのガラス基材上にスピンコーターで均一に塗布し、１００℃の熱風滞留式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、光学調整部分層を形成し、これを屈折率測定用試料とする。次いで、得られた屈折率測定用試料をＥＴＡ−ＴＣＭ（ＡｕｄｉｏＤｅｖＧｍｂＨ株式会社製、製品名）にて６３３ｎｍにおける屈折率を測定する。
【００９７】
感光性エレメントの形態では、光学調整部分層のみの屈折率を測定することは難しいため、光学調整部分層の支持フィルム側の最表面層の屈折率が上記範囲となることが好ましい。
【００９８】
本実施形態において、ＩＴＯ等の透明電極の屈折率は、１．８０〜２．１０であることが好ましく、１．８５〜２．０５であることがより好ましく、１．９０〜２．００であることがさらに好ましい。また、ＯＣＡ等の部材の屈折率は１．４５〜１．５５であることが好ましく、１．４７〜１．５３であることがより好ましく、１．４８〜１．５１であることがさらに好ましい。
【００９９】
光学調整部分層の膜厚は、５０〜４００ｎｍであることが好ましく、６０〜３５０ｎｍであることがより好ましく、７０〜３００ｎｍであることがさらに好ましく、８０〜２５０ｎｍであることが極めて好ましい。膜厚が、５０〜４００ｎｍであることにより、上述の画面全体の反射光強度をより低減することが可能となる。
【０１００】
光学調整部分層における（Ｆ１）成分及び（Ｆ２）成分の含有量は、光学調整部分層の６３３ｎｍにおける屈折率を１．５〜１．９の範囲に調整するため、以下の範囲が好ましい。
【０１０１】
光学調整部分層におけるトリアジン環を有する化合物の含有量は、光学調整部分層を構成する全成分の合計１００質量部に対し、１０〜１００質量部とすることができ、１０〜９０質量部であることが好ましく、２０〜９０質量部であることがより好ましく、３０〜８０質量部であることがさらに好ましく、３０〜７０質量部であることが特に好ましい。
【０１０２】
光学調整部分層がフルオレン骨格を有する化合物を含む場合、その含有量は、光学調整部分層を構成する全成分の合計１００質量部に対し、１０〜１００質量部とすることができ、１０〜９０質量部であることが好ましく、２０〜９０質量部であることがより好ましく、３０〜８０質量部であることがさらに好ましく、３０〜６０質量部であることが特に好ましい。
【０１０３】
光学調整部分層がイソシアヌル酸骨格を有する化合物を含む場合、その含有量は、光学調整部分層を構成する全成分の合計１００質量部に対し、１０〜９０質量部であることが好ましく、２０〜８０質量部であることがより好ましく、３０〜７０質量部であることがさらに好ましい。
【０１０４】
光学調整部分層が（メタ）アクリロイル基を有する化合物の二量体又は（メタ）アクリロイル基とポリエステル構造とを有する化合物を含む場合、これらの含有量は、光学調整部分層を構成する全成分の合計１００質量部に対し、１〜２０質量部であることが好ましく、３〜１５質量部であることがより好ましく、５〜１５質量部であることがさらに好ましい。
【０１０５】
感光層の厚みは、ラミネート時の追従性向上の観点から、５〜１５μｍであることが好ましく、５〜１２μｍであることがより好ましく、５〜１０μｍであることがさらに好ましい。
【０１０６】
感光層は、硬化後の４００〜７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が９０．００％以上であることが好ましく、９０．５０％以上であることがより好ましく、９０．７０％以上であることがさらに好ましい。一般的な可視光波長域である４００〜７００ｎｍにおける透過率が９０．００％以上であれば、タッチパネル（タッチセンサー）のセンシング領域の透明電極を保護する場合において、センシング領域での画像表示品質、色合い、輝度が低下することを充分抑制することができる。
【０１０７】
硬化後の感光層の可視光透過率及びヘーズは以下の手順で測定することができる。感光性エレメントの保護フィルムをはがしながら、厚さ０．７ｍｍのガラス基材上に、光学調整部分層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、製品名：ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基材送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基材を用いたため、このときの線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基材上に、光学調整部分層及び保護部分層を有する感光層と、支持フィルムとが積層された積層体を作製する。次いで、得られた積層体に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、保護部分層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２（波長３６５ｎｍにおける測定値）で、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、１４０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番：ＮＶ５０−ＣＡ）内に３０分間静置し、透過率測定用試料を得る。次いで、得られた透過率測定用試料をヘーズメーター（日本電色工業株式会社製、製品名：ＮＤＨ  ７０００）を使用して、測定波長域４００〜７００ｎｍで可視光線透過率、及びヘーズを測定する。
【０１０８】
感光層の粘度は、感光性エレメントをロール状に保管した場合に、感光性エレメントの端面から感光層を構成する成分がしみ出すことを防止する観点及び感光性エレメントを切断する際に感光層の破片が基材に付着することを防止する観点から、３０℃において、１５〜１００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、２０〜９０ｍＰａ・ｓであることがより好ましく、２５〜８０ｍＰａ・ｓであることがさらに好ましい。
【０１０９】
本実施形態において、感光層は金属酸化物粒子を実質的に含まないことが好ましい。
【０１１０】
保護フィルム５０としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体とポリエチレンの積層フィルム等が挙げられる。
【０１１１】
保護フィルム５０の厚さは、５〜１００μｍが好ましいが、ロール状に巻いて保管する観点から、７０μｍ以下であることが好ましく、６０μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以下であることがさらに好ましく、４０μｍ以下であることが特に好ましい。
【０１１２】
本実施形態に係る感光性エレメントは、例えば、以下の方法で製造することができる。上述した保護部分層を構成する成分を含む保護部分層形成用塗布液を支持フィルム１０上に塗布し、乾燥することにより保護部分層を形成する。他方で、上述した光学調整部分層を構成する成分を含む光学調整部分層形成用塗布液を保護フィルム５０上に塗布し、乾燥することにより光学調整部分層を形成する。そして、これらを、保護部分層と光学調整部分層とが接するように貼り合わせる。
【０１１３】
塗布液は、上述した本実施形態に係る保護部分層及び光学調整部分層を構成する各成分を溶剤で溶解することにより得ることができる。
【０１１４】
塗布液に用いられる溶剤としては、特に制限は無く、公知のものが使用できる。具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチレングリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、クロロホルム、塩化メチレン等が挙げられる。
【０１１５】
塗布方法としては、ドクターブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。
【０１１６】
乾燥条件に特に制限は無いが、乾燥温度は、６０〜１３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、０．５〜３０分とすることが好ましい。
【０１１７】
本実施形態においては、（Ａ）バインダポリマーと、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｆ１）トリアジン環を有する化合物と、（Ｆ２）フルオレン骨格を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物と、を含有する、タッチパネル用基材の硬化膜形成に用いられる、硬化膜形成剤を提供することができる。
【０１１８】
本実施形態において、硬化膜形成剤は、（Ａ）バインダポリマー、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する第１の組成物と、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物、（Ｆ１）トリアジン環を有する化合物、及び、（Ｆ２）フルオレン骨格を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物、を含有する第２の組成物と、から構成される２剤型であってもよい。このような硬化膜形成剤によれば、第１の組成物によって形成される第１層と、第２の組成物によって形成される第２層とを含む感光層を形成することができ、これを硬化させることで、第１層由来の保護部分層と、第２層由来の薄膜の光学調整部分層とを備える硬化膜を形成することができる。
【０１１９】
図２は、本発明の一実施形態に係る硬化膜付きタッチパネル用基材を示す模式断面図である。図２に示される硬化膜付きタッチパネル用基材１００は、透明導電パターン６０ａを有するタッチパネル用基材６０と、タッチパネル用基材６０の透明導電パターン６０ａ上に設けられた硬化膜２０とを備える。硬化膜２０は、保護部分層３０及び光学調整部分層４０を有する本実施形態に係る感光層から形成されている。この硬化膜付きタッチパネル用基材の製造方法の一実施形態について説明する。
【０１２０】
本実施形態に係る硬化膜付きタッチパネル用基材の製造方法は、タッチパネル用基材上に、（Ａ）バインダポリマーと、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｆ１）トリアジン環を有する化合物と、（Ｆ２）フルオレン骨格を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物と、を含有する感光層を設け、該感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に感光層の所定部分以外を除去し、基材の一部又は全部を被覆する感光層の硬化物からなる硬化膜を形成する。
【０１２１】
本実施形態においては、上記感光層の一部が、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物と、（Ｆ１）トリアジン環を有する化合物と、（Ｆ２）フルオレン骨格を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物と、を含有する部分となるように感光層を設けることが好ましい。この場合、感光層の他の部分は、（Ｆ１）成分及び（Ｆ２）成分が含まれない部分とすることができる。
【０１２２】
タッチパネル用基材としては、例えばタッチパネル（タッチセンサー）に用いられる、ガラス板、プラスチック板、セラミック板等の基材が挙げられる。この基材上には、硬化膜を形成する対象となる電極が設けられる。電極としては、ＩＴＯ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｏ等の電極が挙げられる。また、基材上には、基材と電極との間に絶縁層が設けられていてもよい。図２に示されるタッチパネル用基材６０においてはＩＴＯ等からなる透明導電パターン６０ａが設けられている。
【０１２３】
上記の感光層は、上述した本実施形態の感光性エレメントを用いて設けることができる。例えば、感光性エレメント１から保護フィルム５０を除去し、光学調整部分層４０がタッチパネル用基材６０表面に接するように圧着することによりラミネート（転写）する。圧着手段としては、圧着ロールが挙げられる。圧着ロールは、加熱圧着できるように加熱手段を備えたものであってもよい。
【０１２４】
加熱圧着する場合の加熱温度は、光学調整部分層４０とタッチパネル用基材６０との密着性と、保護部分層や光学調整部分層の構成成分が熱硬化又は熱分解されにくいようにする観点から、１０〜１６０℃とすることが好ましく、２０〜１５０℃とすることがより好ましく、３０〜１５０℃とすることがさらに好ましい。
【０１２５】
また、加熱圧着時の圧着圧力は、光学調整部分層４０とタッチパネル用基材６０との密着性を充分確保しながら、タッチパネル用基材６０の変形を抑制する観点から、線圧で５０〜１×１０５Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５×１０２〜５×１０４Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５×１０２〜４×１０４Ｎ／ｍとすることがさらに好ましい。
【０１２６】
感光性エレメントを上記のように加熱圧着すれば、基材の予熱処理は必ずしも必要ではないが、光学調整部分層４０とタッチパネル用基材６０との密着性をさらに向上させる点から、タッチパネル用基材６０を予熱処理してもよい。このときの処理温度は、３０〜１５０℃とすることが好ましい。
【０１２７】
次に、転写後の感光層の所定部分に、フォトマスクを介して、活性光線をパターン状に照射する。活性光線を照射する際、感光層２０上の支持フィルム１０が透明の場合には、そのまま活性光線を照射することができ、不透明の場合には除去してから活性光線を照射する。活性光線の光源としては、公知の活性光源を用いることができる。
【０１２８】
活性光線の照射量は、１×１０２〜１×１０４Ｊ／ｍ２であり、照射の際に、加熱を伴うこともできる。この活性光線の照射量が、１×１０２Ｊ／ｍ２以上であれば、光硬化を充分に進行させることが可能となり、１×１０４Ｊ／ｍ２以下であれば感光層が変色することを抑制できる傾向がある。
【０１２９】
続いて、活性光線照射後の感光層の未露光部を現像液で除去して、透明電極の一部又は全部を被覆する硬化膜（保護パターン）を形成する。なお、活性光線の照射後、感光層に支持フィルム１０が積層されている場合にはそれを除去した後、現像工程が行われる。
【０１３０】
現像工程は、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶剤等の公知の現像液を用いて、スプレー、シャワー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知の方法により行うことができる。中でも、環境、安全性の観点からアルカリ水溶液を用いて、スプレー現像することが好ましい。なお、現像温度や時間は従来公知の範囲で調整することができる。
【０１３１】
本実施形態においては、本実施形態の感光性エレメントによってタッチパネル用基材上に硬化膜（保護パターン）を形成しているが、上述した硬化膜形成剤を用いて感光層２０を形成し、上記の露光、現像を行うことにより、タッチパネル用基材上に硬化膜（保護パターン）を形成することもできる。
【０１３２】
図３は、本発明の一実施形態に係るタッチパネルを示す模式上面図である。図３に示されるタッチパネルは、静電容量式のタッチパネルであり、透明基材１０１の片面にタッチ位置座標を検出するためのタッチ画面１０２があり、この領域の静電容量変化を検出するための透明電極１０３及び透明電極１０４が基材１０１上に設けられている。
【０１３３】
透明電極１０３及び透明電極１０４はそれぞれタッチ位置のＸ位置座標及びＹ位置座標を検出する。
【０１３４】
透明基材１０１上には、透明電極１０３及び透明電極１０４からタッチ位置の検出信号を外部回路に伝えるための引き出し配線１０５が設けられている。また、引き出し配線１０５と、透明電極１０３及び透明電極１０４とは、透明電極１０３及び透明電極１０４上に設けられた接続電極１０６により接続されている。また、引き出し配線１０５の透明電極１０３及び透明電極１０４との接続部と反対側の端部には、外部回路との接続端子１０７が設けられている。
【０１３５】
実施形態に係るタッチパネルにおいては、本実施形態の感光性エレメント又は硬化膜形成剤を用いて、透明電極パターンが形成された部分と、形成されていない部分にまたがって硬化膜（保護パターン）１２３が形成されている。この硬化膜によれば、透明電極１０３、透明電極１０４、引き出し配線１０５、接続電極１０６及び接続端子１０７を保護する機能と、透明電極パターンから形成されるセンシング領域（タッチ画面１０２）の骨見え現象防止機能とを同時に奏することができる。
【実施例】
【０１３６】
以下、実施例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１３７】
［バインダポリマー溶液Ａ１の作製］
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表１に示す（１）の成分を仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表１に示す（２）の成分を４時間かけて均一に滴下した。（２）の成分の滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、重量平均分子量が６５，０００、酸価が７８ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価が２ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダポリマーの溶液Ａ１（固形分４５質量％）を得た。
【０１３８】
【表１】
2017111245.tif 000011
【０１３９】
なお、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出した。ＧＰＣの条件を以下に示す。
＜ＧＰＣ条件＞
ポンプ：Ｌ−６０００（株式会社日立製作所製、製品名）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４２０、Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４３０、Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４４０（以上、日立化成株式会社製、製品名）
溶離液：テトラヒドロフラン
測定温度：４０℃
流量：２．０５ｍＬ／分
検出器：Ｌ−３３００（ＲＩ検出器、株式会社日立製作所製、製品名）
【０１４０】
バインダポリマーの酸価及び水酸基価は以下の方法で測定した。
【０１４１】
［酸価の測定方法］
バインダポリマーの溶液を１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、上記固形分のポリマー１ｇを精秤した後、このポリマーにアセトンを３０ｇ添加し、これを均一に溶解した。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、０．１ＮのＫＯＨ水溶液を用いて滴定を行った。そして、次式により酸価を算出した。
酸価＝０．１×Ｖｆ×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ／１００）
式中、ＶｆはＫＯＨ水溶液の滴定量（ｍＬ）を示し、Ｗｐは測定した樹脂溶液の質量（ｇ）を示し、Ｉは測定した樹脂溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。
【０１４２】
［水酸基価の測定方法］
バインダポリマーの溶液を１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、上記固形分のポリマー１ｇを精秤した後、ポリマーを三角フラスコに入れ、１０質量％の無水酢酸ピリジン溶液を１０ｍＬ加えてこれを均一に溶解し、１００℃で１時間加熱した。加熱後、水１０ｍＬとピリジン１０ｍＬを加えて１００℃で１０分間加熱後、自動滴定機（平沼産業株式会社製、製品名：ＣＯＭ−１７００）を用いて、０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムのエタノール溶液により中和滴定を行った。そして、次式により水酸基価を算出した。
水酸基価＝（Ａ−Ｂ）×ｆ×２８．０５／試料（ｇ）＋酸価
式中、Ａは空試験に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍＬ）を示し、Ｂは滴定に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍＬ）を示し、ｆはファクターを示す。
【０１４３】
（実施例１〜１１）
［保護部分層形成用塗布液の作製］
表２に示す配合量（質量％）の各成分及び溶剤を、攪拌機を用いて１５分間混合し、保護部分層を形成するための塗布液Ａ及び塗布液Ｂを作製した。
【０１４４】
【表２】
2017111245.tif 000012
【０１４５】
表２中の成分の記号は以下の意味を示す。
（Ａ）成分
Ａ１：上記で得られたバインダポリマーの溶液Ａ１であり、モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル＝１２／５８／３０（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量６５，０００、酸価７８ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価２ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｔｇ６０℃。
【０１４６】
（Ｂ）成分
Ｔ−１４２０（Ｔ）：ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（日本化薬株式会社製、製品名）
【０１４７】
（Ｃ）成分
ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０１：１，２−オクタンジオン，１−［（４−フェニルチオ）フェニル−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦ株式会社製、製品名）
【０１４８】
（Ｄ）成分
ＨＡＴ：５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール（東洋紡績株式会社製、製品名）
【０１４９】
（Ｅ）成分
ＰＭ−２１：光重合性不飽和結合を含むリン酸エステル（日本化薬株式会社製、製品名）
【０１５０】
（その他）の成分
Ａｎｔａｇｅ  Ｗ−５００：２，２’−メチレン−ビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）（川口化学株式会社製、製品名）
ＳＨ−３０：オクタメチルシクロテトラシロキサン（東レ・ダウコーニング株式会社製、製品名）
メチルエチルケトン：東燃化学株式会社製
【０１５１】
［光学調整部分層形成用塗布液の作製］
表３の「光学調整部分層」に示す配合量（質量％）の各成分を、攪拌機を用いて１５分間混合し、光学調整部分層を形成するための塗布液を作製した。
【０１５２】
【表３】
2017111245.tif 000013
【０１５３】
表３中の成分の記号は以下の意味を示す。
（Ｆ１）成分
ＵＲ１０１：トリアジン骨格を有するポリマー（日産化学工業株式会社製、製品名：ＨＹＰＥＲＴＥＣＨ（商標名））
【０１５４】
（Ｆ２）成分
ＥＡ−２００：ポリオキシエチレン変性９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンジアクリレート（大阪ガスケミカル株式会社製、製品名）
ＥＡ−Ｆ５５０３：ポリオキシエチレン変性９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンジアクリレート／ベンジルアクリレート／９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン骨格化合物の混合物（大阪ガスケミカル株式会社製、製品名）
ＥＡ−ＨＣ９３１：ポリオキシエチレン変性９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンジアクリレートを含む混合物（大阪ガスケミカル株式会社製、製品名）
【０１５５】
（Ｂ）成分
Ｔ−１４２０（Ｔ）：ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（日本化薬株式会社製、製品名）
ＰＥ９０７９：ビス−Ａ−エピクロロヒドリンポリエステルアクリレート（ＢＡＳＦ株式会社、製品名）
【０１５６】
（その他）の成分
Ｌ−７００１：オクタメチルシクロテトラシロキサン（東レ・ダウコーニング株式会社製、製品名）
【０１５７】
［屈折率の測定］
上記で作製した光学調整部分層形成用塗布液を厚さ０．７ｍｍのガラス基材上にスピンコーターで均一に塗布し、１００℃の熱風滞留式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、光学調整部分層を形成した。
【０１５８】
次いで、得られた屈折率測定用試料をＥＴＡ−ＴＣＭ（ＡｕｄｉｏＤｅｖＧｍｂＨ株式会社製、製品名）にて６３３ｎｍにおける屈折率を測定した。
【０１５９】
［感光性エレメントの作製］
保護フィルムとして厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（王子エフテックス株式会社製、製品名：Ｅ−２０１Ｆ）を使用し、上記で作製した光学調整部分層形成用塗布液を保護フィルム上にダイコーターを用いて均一に塗布し、１００℃の熱風滞留式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、光学調整部分層を形成した。
【０１６０】
支持フィルムとして厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ株式会社製、製品名：ＦＢ４０）を使用し、上記で作製した保護部分層を形成する塗布液を支持フィルム上にコンマコーターを用いて均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、８μｍ厚の保護部分層を形成した。
【０１６１】
次いで、得られた光学調整部分層を有する保護フィルムと、保護部分層を有する支持フィルムとをラミネータ（日立化成株式会社製、製品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、２３℃で貼り合わせて感光性エレメントを作製した。
【０１６２】
［光学調整部分層と保護部分層の膜厚測定］
上記で作製した３０μｍポリプロピレン上に形成した光学調整部分層をＦ２０（ＦＩＬＭＥＴＲＩＣＳ株式会社製、製品名）で測定することにより光学調整部分層の膜厚を測定した。また、上記で作製した１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に形成した保護部分層を、デジタルシックネスゲージ（ニコン株式会社製、製品名：ＤＩＧＩＭＩＣＲＯＳＴＡＮＤ  ＭＳ−５Ｃ）で測定することにより保護部分層の膜厚を測定した。なお、表中には、光学調整部分層と保護部分層の合計膜厚を感光層の膜厚として示した。
【０１６３】
［硬化膜の透過率、ヘーズの測定］
上記で作製した感光性エレメントの保護フィルムをはがしながら、厚さ０．７ｍｍのガラス基材上に、光学調整部分層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、製品名：ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基材送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基材を用いたため、このときの線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基材上に、光学調整部分層、保護部分層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
【０１６４】
次いで、得られた積層体に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、保護部分層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２（波長３６５ｎｍにおける測定値）で、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、１４０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番：ＮＶ５０−ＣＡ）内に３０分間静置し、透過率測定用試料を得た。
【０１６５】
次いで、得られた透過率測定用試料をヘーズメーター（日本電色工業株式会社製、製品名：ＮＤＨ  ７０００）を使用して、測定波長域４００〜７００ｎｍで可視光線透過率、ヘーズを測定した。
【０１６６】
［硬化膜の塩水噴霧試験］
得られた感光性エレメントの保護フィルムをはがしながら、スパッタ銅付きポリイミドフィルム（東レフィルム加工株式会社製）上に、光学調整部分層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、製品名：ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基材送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基材を用いたため、この時の線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、スパッタ銅上に、光学調整部分層、保護部分層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
【０１６７】
次いで、得られた積層体に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、製品名：ＥＸＭ１２０１）を使用して、保護部分層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２（波長３６５ｎｍにおける測定値）で、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、さらに保護部分層側上方より露光量１×１０４Ｊ／ｍ２（波長３６５ｎｍにおける測定値）で紫外線を照射し、１４０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番：ＮＶ５０−ＣＡ）内に３０分間静置した。これにより、塩水噴霧試験評価用試料を得た。
【０１６８】
次いで、ＪＩＳ規格（Ｚ  ２３７１）を参考に、塩水噴霧試験機（スガ試験機株式会社製、製品名：ＳＴＰ−９０Ｖ２）を用いて、試験槽内に前述の試料を載置し、濃度５０ｇ／Ｌの塩水（ｐＨ＝６．７）を試験槽温度３５℃、噴霧量１．５ｍＬ／ｈで４８時間噴霧した。噴霧終了後、塩水を拭き取って、評価用試料の表面状態を観察し、以下の評点に従って評価した。
Ａ：表面に全く変化なし。
Ｂ：表面にごくわずかな痕跡が見えるが、銅は変化なし。
Ｃ：表面に痕跡が見えるが、銅は変化なし。
Ｄ：表面に痕跡があり、かつ銅が変色する。
【０１６９】
［色相（反射Ｒ）の測定］
得られた感光性エレメントの保護フィルムをはがしながら、透明導電性フィルム（東洋紡株式会社製、製品名：３００Ｒ）上に、光学調整部分層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、製品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基材送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基材を用いたため、このときの線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基材上に、光学調整部分層、保護部分層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
【０１７０】
次いで、得られた積層体に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、製品名：ＥＸＭ１２０１）を使用して、保護部分層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２（波長３６５ｎｍにおける測定値）で、紫外線を照射した後、支持フィムを除去し、硬化膜を有する色相（反射Ｒ）測定用試料を得た。
【０１７１】
次いで、得られた色相（反射Ｒ）測定用試料を分光測色計（コニカミノルタ株式会社製、製品名ＣＭ−５）を使用してＹ値（これを反射率Ｒとする）を測定した。
【０１７２】
［タッチパネル電極保護用硬化膜のクロスカット密着性試験］
得られた感光性エレメントの保護フィルムをはがしながら、スパッタ銅付きポリイミドフィルム（東レフィルム加工（株）製）、及びスパッタＩＴＯ付きＰＥＴフィルム（東洋紡績製）上に、光学調整部分層が接するようにラミネータ（日立化成工業（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、この時の線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、スパッタ銅上、及びスパッタＩＴＯ上に、光学調整部分層、保護部分層及び支持フィルムが積層された基板を作製した。
【０１７３】
次いで、得られた積層体に、平行光線露光機（オーク製作所（株）製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、保護部分層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、さらに保護部分層側上方より露光量１×１０４Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）紫外線を照射し、クロスカット密着性試験用試料を得た。
【０１７４】
次いで、ＪＩＳ規格（Ｋ５４００）を参考に、１００マスのクロスカット試験を実施した。試験面にカッターナイフを用いて、１×１ｍｍ四方の碁盤目の切り傷を入れ、碁盤目部分にメンディングテープ＃８１０（スリーエム（株）製）を強く圧着させ、テープの端をほぼ０°の角度でゆっくりと引き剥がした後、碁盤目の状態を観察し、以下の評点に従ってクロスカット密着性を評価した。
◎    ：全面積のほぼ１００％が密着している。
○    ：全面積のうち９５％以上が密着し残っている。
○〜△：全面積のうち８５％以上９５％未満が密着し残っている。
△    ：全面積のうち６５％以上８５％未満が密着し残っている。
△〜×：全面積のうち３５％以上６５％未満が密着し残っている。
×    ：全面積のうち０％以上３５％未満が密着し残っている。
【０１７５】
上記の結果を表５にまとめて示す。
【０１７６】
（比較例１〜８）
表４の「感光層」に示す配合量（質量％）の各成分を、攪拌機を用いて１５分間混合し、感光層を形成するための塗布液を作製した。
【表４】
2017111245.tif 000014
【０１７７】
表４中の成分の記号は上記と同義及び以下の意味を示す。
（Ｄ）成分
３ＭＴ：３−メルカプト−トリアゾール（和光純薬株式会社製、製品名）
【０１７８】
金属酸化物
ＯＺ−Ｓ４０Ｋ−ＡＣ：ジルコニア分散液（日産化学工業株式会社製、製品名：ナノユースＯＺ−Ｓ４０Ｋ−ＡＣ）
ＯＺ−Ｓ３０Ｋ：ジルコニア分散液（日産化学工業株式会社製、製品名：ナノユースＯＺ−Ｓ３０Ｋ）
【０１７９】
［屈折率の測定］
上記で作製した塗布液を、厚さ０．７ｍｍのガラス基材上にスピンコーターで均一に塗布し、１００℃の熱風滞留式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、感光層を形成した。
【０１８０】
次いで、得られた屈折率測定用試料をＥＴＡ−ＴＣＭ（ＡｕｄｉｏＤｅｖＧｍｂＨ株式会社製、製品名）にて６３３ｎｍにおける屈折率を測定した。
【０１８１】
［感光性エレメントの作製］
支持フィルムとして厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ株式会社製、製品名：ＦＢ４０）を使用し、上記で作製した塗布液を支持フィルム上にコンマコーターを用いて均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、８μｍ厚の感光層を形成した。
【０１８２】
次いで、感光層上に、保護フィルムとして厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（王子エフテックス株式会社製、製品名：Ｅ−２０１Ｆ）を、ラミネータ（日立化成株式会社製、製品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、２３℃で貼り合わせて感光性エレメントを作製した。
【０１８３】
作製した感光性エレメントについて、上記と同様にして、硬化膜の透過率、ヘーズの測定、硬化膜の塩水噴霧試験、色相（反射Ｒ）の測定、タッチパネル電極保護用硬化膜のクロスカット密着性試験を行った。結果を表６に示す。
【０１８４】
【表５】
2017111245.tif 000015
【０１８５】
【表６】
2017111245.tif 000016
【０１８６】
表５に示すように、光学調整部分層を有する本発明に係る感光層を備える感光性エレメントを用いた実施例１〜１１では密着性が良好であるとともに、塩水噴霧試験に対する耐性も充分であった。一方、表６に示すように、光学調整部分層を有しておらず、金属酸化物を含む感光層を備える感光性エレメントを用いた比較例１〜８では密着性が充分に得られず、塩水噴霧試験に対する耐性も劣る結果となった。
【符号の説明】
【０１８７】
１…感光性エレメント、１０…支持フィルム、２０…感光層、３０…保護部分層、４０…光学調整部分層、５０…保護フィルム、６０…タッチパネル用基材、６０ａ…透明導電パターン、１００…硬化膜付きタッチパネル用基材、１０１…透明基材、１０２…センシング領域、１０３，１０４…透明電極、１０５…引き出し配線、１０６…接続電極、１０７…接続端子、１２３…硬化膜（保護パターン）。
【図１】
2017111245.tif 000017
【図２】
2017111245.tif 000018
【図３】
2017111245.tif 000019