(57)【要約】【課題】波長変換効率の低下を抑制できる波長変換装置、照明装置及びプロジェクターを提供すること。【解決手段】回転装置と、回転装置により回転される基材と、を備え、基材は、基材の第１面に環状に配置される波長変換部と、波長変換部より内側に位置する第１領域と、波長変換部より外側に位置し、第１領域より表面積が大きい第２領域と、を有する波長変換装置。【選択図】図３
2017116630.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転装置と、
前記回転装置により回転される基材と、を備え、
前記基材は、
前記基材の第１面に環状に配置される波長変換部と、
前記波長変換部より内側に位置する第１領域と、
前記波長変換部より外側に位置し、前記第１領域より表面積が大きい第２領域と、を有することを特徴とする波長変換装置。
【請求項２】
請求項１に記載の波長変換装置において、
前記第２領域は、凸部及び凹部の少なくとも一方を有することを特徴とする波長変換装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の波長変換装置において、
前記第２領域は、前記基材を貫通する貫通孔を有することを特徴とする波長変換装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の波長変換装置において、
前記第２領域に位置し、かつ、前記基材において前記第１面とは反対側の第２面から突出する突出部を有することを特徴とする波長変換装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の波長変換装置と、
前記波長変換装置の前記波長変換部に入射される励起光を出射する光源と、を備え、
前記波長変換部は、入射される前記励起光を異なる波長の光に変換することを特徴とする照明装置。
【請求項６】
請求項５に記載の照明装置と、
前記照明装置から出射された光を変調する光変調装置と、
前記光変調装置によって変調された光を投射する投射光学装置と、を備えることを特徴とするプロジェクター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、波長変換装置、照明装置及びプロジェクターに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、固体光源から出射された励起光を波長変換し、蛍光として出射する光源装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
この特許文献１に記載の光源装置は、固体光源及び反射型蛍光回転体を備える。これらのうち、反射型蛍光体回転体は、蛍光体層と、当該蛍光体層が接合部材により固定される放熱部材とを備える。この蛍光体層は、固体光源から出射された励起光の一部を励起光とは異なる波長の光に変換して蛍光を生成する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−１２９３５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、蛍光体層の温度が上昇した場合に、固体光源から入射された光の波長変換効率が低下することが知られている。このため、特許文献１に記載の反射型蛍光回転体のような波長変換装置では、放熱部材を回転させ、当該放熱部材上に形成された蛍光体層を冷却している。
しかしながら、特許文献１に記載の波長変換装置では、放熱部材（基板）の光入射側の領域の略全領域に蛍光体層が形成されているので、当該放熱部材を回転させたとしても、当該蛍光体層の熱を放熱する放熱面積が不足していることから、蛍光体層の温度が上昇しやすく、かつ、当該放熱部材により当該蛍光体層の熱を確実に放熱できないことがある。すなわち、特許文献１に記載の波長変換装置では、波長変換効率の低下が生じない程度に蛍光体層を冷却することができないので、当該蛍光体層による波長変換効率が低下するという問題がある。
【０００５】
本発明は、上記課題の少なくとも１つを解決するものであり、波長変換効率の低下を抑制できる波長変換装置、照明装置及びプロジェクターを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１態様に係る波長変換装置は、回転装置と、前記回転装置により回転される基材と、を備え、前記基材は、前記基材の第１面に環状に配置される波長変換部と、前記波長変換部より内側に位置する第１領域と、前記波長変換部より外側に位置し、前記第１領域より表面積が大きい第２領域と、を有することを特徴とする。
【０００７】
なお、上記第１面に環状に配置される波長変換部は、例えば、波長変換部が環状に連続して形成されている場合の他、隙間を空けて配置される場合も含む。また、波長変換部は、蛍光体を含む波長変換層（蛍光体層）の他、入射された光の波長を異ならせるものを含む。更に、波長変換部より内側及び外側とは、当該波長変換部に入射される光の入射方向側から見た波長変換部より内側及び外側を意味する。
【０００８】
上記第１態様によれば、回転装置により回転する基材の第１面に波長変換部が環状に配置され、当該波長変換部より内側に位置する第１領域の表面積より、当該波長変換部より外側に位置する第２領域の表面積が大きい。
例えば、波長変換部に光が入射され、当該波長変換部の熱が上昇すると、第１領域は、表面積が限られているので、熱飽和する可能性が高い。これに対し、第２領域は、波長変換部より外側に位置するので、設計により第２領域の表面積を第１領域の表面積より拡大すれば、熱飽和を生じにくくできる。これによれば、波長変換部にて生じた熱を当該波長変換部より内側の第１領域及び外側の第２領域に伝導できるので、波長変換部を効率よく冷却できる。従って、波長変換装置の波長変換効率の低下を抑制できる。
【０００９】
上記第１態様では、前記第２領域は、凸部及び凹部の少なくとも一方を有することが好ましい。
上記第１態様によれば、第２領域が凸部及び凹部の少なくとも一方を有しているので、当該第２領域が平坦状である場合に比べて、当該第２領域の表面積、すなわち、波長変換部の放熱面積を拡大できる。従って、波長変換装置の波長変換効率の低下をより抑制できる。
【００１０】
上記第１態様では、前記第２領域は、前記基材を貫通する貫通孔を有することが好ましい。
なお、上記貫通孔としては、当該貫通孔が基材に形成されることによる表面積の減少分より、当該貫通孔が形成されることによって露出される端縁の表面積の増加分が大きくなる程度の直径の貫通孔を例示できる。
上記第１態様によれば、第２領域に当該基材を貫通する貫通孔が形成されているので、当該第２領域が平坦状である場合に比べて、第２領域の上記放熱面積を拡大できる。従って波長変換装置の波長変換効率の低下を更に抑制できる。
【００１１】
上記第１態様では、前記第２領域に位置し、かつ、前記基材において前記第１面とは反対側の第２面から突出する突出部を有することが好ましい。
上記第１態様によれば、第２領域に第１面とは反対側の第２面から突出する突出部を有するので、当該第２領域に突出部が設けられていない場合に比べて、第２領域の上記放熱面積を拡大できる。従って、波長変換装置の波長変換効率の低下を確実に抑制できる。
【００１２】
本発明の第２態様に係る照明装置は、上記波長変換装置と、前記波長変換装置の前記波長変換部に入射される励起光を出射する光源と、を備え、前記波長変換部は、入射される前記励起光を異なる波長の光に変換することを特徴とする。
上記第２態様では、上記波長変換装置と同様の作用及び効果を奏することができる。また、波長変換装置の波長変換効率の低下を抑制できるので、波長変換部によって生じる蛍光光の光量の低下を抑制でき、光源からの光の利用効率を向上させることができる。従って、上記波長変換装置を備えた照明装置は、信頼性が高く、温度影響を受けない安定した拡散特性及び位相差特性を得ることができるので、当該照明装置の信頼性及び安定性を高くできる。
【００１３】
本発明の第３態様に係るプロジェクターは、上記照明装置と、前記照明装置から出射された光を変調する光変調装置と、前記光変調装置によって変調された光を投射する投射光学装置と、を備えることを特徴とする。
上記第３態様では、上記波長変換装置及び上記照明装置と同様の作用及び効果を奏することができる。また、上記波長変換装置を備えた照明装置は、信頼性が高く、温度影響を受けない安定した拡散特性及び位相差特性を得ることができるので、当該照明装置を備えたプロジェクターの信頼性及び安定性を高くできる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の第１実施形態に係るプロジェクターの概略図。
【図２】上記第１実施形態に係るプロジェクターの照明装置の概略図。
【図３】上記第１実施形態に係る照明装置の波長変換装置を当該波長変換装置に入射される光の入射側から見た平面図。
【図４】上記第１実施形態に係る波長変換装置の基材の外径サイズと波長変換層の温度との関係を示す図。
【図５】本発明の第２実施形態に係るプロジェクターの波長変換装置の断面図。
【図６】本発明の第２実施形態の変形例に係るプロジェクターの波長変換装置を当該波長変換装置に入射される光の入射側から見た図。
【図７】本発明の第３実施形態に係るプロジェクターの波長変換装置における基材の一部を光の入射側から見た平面図。
【図８】本発明の第４実施形態に係るプロジェクターの波長変換装置を当該波長変換装置に入射される光の入射側から見た斜視図。
【図９】本発明の第５実施形態に係るプロジェクターの波長変換装置を当該波長変換装置に入射される光の入射側とは反対方向側から見た断面図。
【図１０】上記第５実施形態に係るプロジェクターの波長変換装置の斜視図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
［第１実施形態］
以下、本発明の第１実施形態について、図面に基づいて説明する。
［プロジェクターの概略構成］
図１は、本実施形態に係るプロジェクター１の構成を示す模式図である。
プロジェクター１は、内部に設けられた光源から出射された光束を変調して画像情報に応じた画像を形成し、当該画像をスクリーンＳＣ１等の被投射面上に拡大投射する表示装置である。
このプロジェクター１は、図１に示すように、外装筐体２と、当該外装筐体２内に収納される光学ユニット３、当該プロジェクター１を制御する制御装置ＣＵの他、図示を省略するが、冷却対象を冷却する冷却装置、及び当該プロジェクター１を構成する電子部品に電力を供給する電源装置を備える。また、プロジェクター１は、色合成装置に入射される光の成分比率に応じて、投射光学装置から投射される画像の色域を変化させる機能を有する。
【００１６】
［光学ユニットの構成］
光学ユニット３は、照明装置３１、色分離装置３２、平行化レンズ３３、複数の光変調装置３４、色合成装置３５、及び投射光学装置３６を備える。
照明装置３１は、照明光ＷＬを出射する。なお、照明装置３１の構成については、後述する。
色分離装置３２は、照明装置３１から入射された照明光ＷＬを赤色光ＬＲ、緑色光ＬＧ及び青色光ＬＢの３つの色光に分離する。この色分離装置３２は、ダイクロイックミラー３２１，３２２、全反射ミラー３２３，３２４，３２５及びリレーレンズ３２６，３２７を備える。
【００１７】
ダイクロイックミラー３２１は、照明装置３１からの照明光ＷＬから青色光ＬＢ及びその他の色光（緑色光ＬＧ及び赤色光ＬＲ）を含む光を分離する。ダイクロイックミラー３２１は、青色光ＬＢを透過させるとともに、緑色光ＬＧ及び赤色光ＬＲを含む上記光を透過させる。
ダイクロイックミラー３２２は、ダイクロイックミラー３２１により分離された上記光から緑色光ＬＧ及び赤色光ＬＲを分離する。具体的に、ダイクロイックミラー３２２は、緑色光ＬＧを反射するとともに、赤色光ＬＲを透過させる。
【００１８】
全反射ミラー３２３は、青色光ＬＢの光路中に配置され、ダイクロイックミラー３２１にて透過された青色光ＬＢを光変調装置３４（３４Ｂ）に向けて反射させる。一方、全反射ミラー３２４，３２５は、赤色光ＬＲの光路中に配置され、ダイクロイックミラー３２２を透過した赤色光ＬＲを光変調装置３４（３４Ｒ）に向けて反射させる。また、緑色光ＬＧは、ダイクロイックミラー３２２にて、光変調装置３４（３４Ｇ）に向けて反射される。
リレーレンズ３２６，３２７は、赤色光ＬＲの光路の、ダイクロイックミラー３２２の下流に配置されている。これらリレーレンズ３２６，３２７は、赤色光ＬＲの光路長が青色光ＬＢや緑色光ＬＧの光路長よりも長くなることによる赤色光ＬＲの光損失を補償する機能を有する。
【００１９】
平行化レンズ３３は、後述する光変調装置３４に入射する光を平行化する。なお、赤、緑及び青の各色光用の平行化レンズを、それぞれ３３Ｒ，３３Ｇ，３３Ｂとする。また、赤、緑及び青の各色光用の光変調装置を、それぞれ３４Ｒ，３４Ｇ，３４Ｂとする。
【００２０】
複数の光変調装置３４（３４Ｒ，３４Ｇ，３４Ｂ）は、ダイクロイックミラー３２１及びダイクロイックミラー３２２により分離され、それぞれ入射される各色光ＬＲ，ＬＧ，ＬＢを変調して、画像情報に応じた色画像を形成する。これら光変調装置３４は、入射される光を変調する液晶パネルにより構成される。なお、光変調装置３４Ｒ，３４Ｇ，３４Ｂの入射側及び出射側にはそれぞれ、入射側偏光板３４１（３４１Ｒ，３４１Ｇ，３４１Ｂ）及び出射側偏光板３４２（３４２Ｒ，３４２Ｇ，３４２Ｂ）が配置されている。
【００２１】
色合成装置３５には、各光変調装置３４Ｒ，３４Ｇ，３４Ｂからの画像光が入射される。この色合成装置３５は、各色光ＬＲ，ＬＧ，ＬＢに対応した画像光を合成し、この合成された画像光を投射光学装置３６に向けて出射させる。本実施形態では、色合成装置３５は、クロスダイクロイックプリズムにより構成される。
投射光学装置３６は、色合成装置３５にて合成された画像光をスクリーンＳＣ１等の被投射面に投射する。このような構成により、スクリーンＳＣ１に拡大された画像が投射される。
【００２２】
［照明装置の構成］
図２は、本実施形態のプロジェクター１における照明装置３１の構成を示す概略図である。
照明装置３１は、前述したように照明光ＷＬを色分離装置３２に向けて出射する。この照明装置３１は、図２に示すように、光源装置４及び均一化装置５を備える。この光源装置４は、均一化装置５に向けて青色光及び蛍光を出射させ、均一化装置５は、当該入射された青色光及び蛍光を均一化し、照明光ＷＬとして色分離装置３２に向けて出射させる。
【００２３】
［光源装置の構成］
光源装置４は、図２に示すように、光源部４１、アフォーカルレンズ４２、ホモジナイザー光学系４３、第１位相差板４４、偏光分離装置４５、第２位相差板４６、第３位相差板４７、蛍光反射装置６及び青色光反射装置８を備える。
光源部４１は、アレイ光源４１１及びコリメータ光学系４１２を備える。このアレイ光源４１１は、本発明の光源に相当する複数の半導体レーザー４１１１により構成される。具体的に、アレイ光源４１１は、当該アレイ光源４１１から出射される光束の照明光軸Ａｘ１に直交する一平面内に複数の半導体レーザー４１１１がアレイ状に配列されることにより形成される。なお、詳しくは後述するが、蛍光反射装置６にて反射された光束の照明光軸をＡｘ２としたとき、照明光軸Ａｘ１と照明光軸Ａｘ２とは同一平面内にあり、且つ互いに直交している。照明光軸Ａｘ１上においては、アレイ光源４１１と、コリメータ光学系４１２と、アフォーカルレンズ４２と、ホモジナイザー光学系４３と、第１位相差板４４と、偏光分離装置４５と、第２位相差板４６と、青色光反射装置８とが、この順に並んで配置されている。
一方、照明光軸Ａｘ２上においては、蛍光反射装置６（波長変換装置７及びピックアップ光学系６１）と、偏光分離装置４５と、均一化装置５（アフォーカル装置５１、第１レンズアレイ５２、第２レンズアレイ５３及び重畳レンズ５４）とが、この順に並んで配置されている。
【００２４】
アレイ光源４１１を構成する半導体レーザー４１１１は、例えば、４４５ｎｍの波長領域にピーク波長を有する励起光（青色光ＢＬ）を出射する。また、半導体レーザー４１１１から出射される青色光ＢＬは、ｓ偏光及びｐ偏光を含むランダムな直線偏光であり、アフォーカルレンズ４２に向けて出射される。そして、このアレイ光源４１１から出射された青色光ＢＬは、コリメータ光学系４１２に入射される。
【００２５】
コリメータ光学系４１２は、アレイ光源４１１から出射された青色光ＢＬを平行光に変換する。このコリメータ光学系４１２は、例えば各半導体レーザー４１１１に対応してアレイ状に配置された複数のコリメータレンズ４１２１を備える。このコリメータ光学系４１２を通過することにより平行光に変換された青色光ＢＬは、アフォーカルレンズ４２に入射される。
アフォーカルレンズ４２は、コリメータ光学系４１２から入射された青色光ＢＬの光束径を調整する。このアフォーカルレンズ４２は、レンズ４２１と、レンズ４２２とを備え、青色光ＢＬは、レンズ４２１により集光され、レンズ４２２により平行化されて、ホモジナイザー光学系４３に入射する。
【００２６】
ホモジナイザー光学系４３は、被照明領域における青色光ＢＬによる照度分布を均一化する。このホモジナイザー光学系４３は、一対のマルチレンズアレイ４３１，４３２を備える。このホモジナイザー光学系４３から出射された青色光ＢＬは、第１位相差板４４に入射される。
第１位相差板４４は、ホモジナイザー光学系４３と偏光分離装置４５との間に配置され、入射される青色光ＢＬの偏光方向を略９０°回転させる。本実施形態では、第１位相差板４４は、λ／２波長板により構成される。この第１位相差板４４に入射された青色光ＢＬは、偏光方向が略９０°回転され、ｐ偏光成分の青色光ＢＬｐ及びｓ偏光成分の青色光ＢＬｓに分離され、偏光分離装置４５に入射される。
【００２７】
［偏光分離装置の構成］
偏光分離装置４５は、いわゆるプリズム型の偏光ビームスプリッターであり、ｐ偏光及びｓ偏光のうち、一方の偏光光を通過させ、他方の偏光光を反射させる。この偏光分離装置４５は、プリズム４５１，４５２及び偏光分離層４５３を備える。これらプリズム４５１，４５２は、略三角柱形状に形成され、それぞれ照明光軸Ａｘ１に対して４５°の角度をなす傾斜面を有し、かつ、照明光軸Ａｘ２に対して４５°の角度をなしている。
【００２８】
偏光分離層４５３は、上記傾斜面に設けられ、当該偏光分離層４５３に入射した青色光ＢＬｐ，ＢＬｓをｐ偏光成分の青色光ＢＬｐとｓ偏光成分の青色光ＢＬｓとに分離する偏光分離機能を有する。この偏光分離層４５３は、ｓ偏光成分の青色光ＢＬｓを反射させ、ｐ偏光成分の青色光ＢＬｐを透過させる。また、偏光分離層４５３は、当該偏光分離層４５３に入射した光のうち、第１の波長帯（青色光ＢＬｓ，ＢＬｐの波長帯）とは異なる第２の波長帯（蛍光ＹＬ）の光を、その偏光状態にかかわらず透過させる色分離機能を有する。なお、偏光分離装置４５は、プリズム型のものに限らず、プレート型の偏光分離装置を用いてもよい。
そして、偏光分離層４５３に入射した青色光ＢＬｐ，ＢＬｓのうち、ｓ偏光成分の青色光ＢＬｓは、励起光ＢＬｓとして、蛍光反射装置６に向けて反射される。
【００２９】
［蛍光反射装置の構成］
蛍光反射装置６は、偏光分離装置４５から入射されたｓ偏光成分の青色光（励起光）ＢＬｓを蛍光ＹＬに変換し、当該偏光分離装置４５に向けて反射させる。この蛍光反射装置６は、ピックアップ光学系６１及び波長変換装置７を備える。これらのうち、ピックアップ光学系６１は、励起光ＢＬｓを波長変換装置７の波長変換層７２に向けて集光させる。このピックアップ光学系６１は、レンズ６１１、レンズ６１２及びレンズ６１３を備える。具体的に、ピックアップ光学系６１は、入射された複数の光束（励起光ＢＬｓ）を後述する波長変換層７２に向けて集光させるとともに、当該波長変換層７２上で互いに重畳させる。
この波長変換層７２により青色光ＢＬｓは、蛍光ＹＬに変換され、再度ピックアップ光学系６１に入射され、当該ピックアップ光学系６１を介して偏光分離装置４５に入射される。
なお、波長変換装置７の構成については、後述する。
【００３０】
一方、偏光分離層４５３に入射した青色光ＢＬｐ，ＢＬｓのうち、ｐ偏光成分の青色光ＢＬｐは、当該偏光分離層４５３を透過し、第２位相差板４６に入射される。
第２位相差板４６は、青色光反射装置８と偏光分離装置４５との間に配置され、入射されるｐ偏光成分の青色光ＢＬｐを円偏光に変換させる。本実施形態では、この第２位相差板４６は、λ／４波長板により構成される。そして、第２位相差板４６により円偏光に変換された青色光ＢＬｐは、青色光反射装置８に入射される。
【００３１】
［青色光反射装置の構成］
青色光反射装置８は、偏光分離装置４５から入射されたｐ偏光成分の青色光ＢＬｐを拡散させて、当該偏光分離装置４５に向けて反射させる。この青色光反射装置８は、ピックアップ光学系８１と、拡散反射装置８２とを備える。これらのうち、ピックアップ光学系８１は、励起光ＢＬｐを拡散反射装置８２の拡散反射層８２２に向けて集光させる。このピックアップ光学系８１は、レンズ８１１、レンズ８１２及びレンズ８１３を備える。具体的に、ピックアップ光学系８１は、入射された複数の光束（励起光ＢＬｐ）を後述する拡散反射層８２２に向けて集光させるとともに、当該拡散反射層８２２上で互いに重畳させる。
【００３２】
拡散反射装置８２は、入射された青色光ＢＬｐを拡散させて反射させる機能を有する。この拡散反射装置８２は、基材８２１、拡散反射層８２２及びモーター８２３を備える。基材８２１は、略円板状の基材により構成され、当該基材８２１のピックアップ光学系８１側の面には、拡散反射層８２２が形成されている。この拡散反射層８２２は、入射された光を散乱させて反射させる機能を有する。
モーター８２３は、基材８２１の上記拡散反射層８２２が設けられた側とは反対方向側に取り付けられ、当該モーター８２３の駆動により基材８２１が回転する。これにより、拡散反射層８２２が冷却される。
このような構成により、拡散反射装置８２に入射された青色光ＢＬｐは、拡散反射層８２２に入射され、当該拡散反射層８２２により拡散（散乱）され、ピックアップ光学系８１に向けて出射される。そして、上記青色光ＢＬｐは、ピックアップ光学系８１により集光されて、第２位相差板４６に再度入射される。これにより、青色光ＢＬｐは、拡散反射層８２２により回転方向が反転されて、第２位相差板４６に入射され、偏光方向が円偏光から直線偏光に変換される。このため、拡散反射層８２２により反射された青色光ＢＬｐは、ｓ偏光成分の青色光ＢＬｓとして出射される。そして、青色光ＢＬｓは、偏光分離装置４５に入射される。
【００３３】
拡散反射装置８２及びピックアップ光学系８１を介して偏光分離装置４５に入射された青色光ＢＬｓは、偏光分離層４５３に反射され、当該偏光分離装置４５のプリズム４５２側から出射され、第３位相差板４７に入射される。
一方、偏光分離装置４５に入射された蛍光ＹＬは、偏光分離層４５３を介して、当該偏光分離装置４５のプリズム４５２側から出射され、上記第３位相差板４７に入射される。
第３位相差板４７は、偏光分離装置４５と均一化装置５との間に配置され、入射される青色光ＢＬｓ及び蛍光ＹＬの偏光方向を略９０°回転させる。本実施形態では、第３位相差板４７は、λ／２波長板により構成される。この第３位相差板４７に入射された青色光ＢＬｓは、偏光方向が略９０°回転され、ｐ偏光成分の青色光ＢＬｐとして、均一化装置５に向けて出射される。また、蛍光ＹＬは、励起光ＢＬｓに基づく光であるため、ｓ偏光成分の光である。このため、第３位相差板４７に入射された蛍光ＹＬは、ｐ偏光成分の蛍光ＹＬとして、均一化装置５に向けて出射される。
【００３４】
［均一化装置の構成］
均一化装置５は、光源装置４から出射された青色光ＢＬ及び蛍光ＹＬを均一化する機能を有する。この均一化装置５は、図２に示すように、アフォーカル装置５１、第１レンズアレイ５２、第２レンズアレイ５３及び重畳レンズ５４を備える。
これらのうち、アフォーカル装置５１は、光源装置４から入射された蛍光ＹＬ及び青色光ＢＬのビーム系を拡大する機能を有する。具体的に、このアフォーカル装置５１は、光源装置４を介して入射された蛍光ＹＬ及び青色光ＢＬに基づいて、第２レンズアレイ５３の第２レンズ５３１上に表示される光源像の大きさを調整する。
このアフォーカル装置５１は、凹レンズ５１１及び凸レンズ５１２からなるアフォーカルレンズにより構成される。凹レンズ５１１は、入射された蛍光ＹＬ及び青色光ＢＬを拡散させ、凸レンズ５１２に向けて出射させる。凸レンズ５１２は、凹レンズ５１１から拡散されて入射された蛍光ＹＬ及び青色光ＢＬを平行化して第１レンズアレイ５２に向けて出射させる。
【００３５】
第１レンズアレイ５２は、アフォーカル装置５１から出射された光（光束）の中心軸（上記照明光軸Ａｘ２）に対する直交面内にアレイ状に配列された複数の第１レンズ５２１を有する。この第１レンズアレイ５２は、第１レンズアレイ５２の複数の第１レンズ５２１により、当該第１レンズアレイ５２に入射された光束を複数の部分光束に分割する。
第２レンズアレイ５３は、上記照明光軸Ａｘ１に対する直交面内にアレイ状に配列された第１レンズアレイ５２の複数の第１レンズ５２１に応じた複数の第２レンズ５３１を有する。この第２レンズアレイ５３は、複数の第２レンズ５３１により、第１レンズ５２１により分割された部分光束を被照明領域としての重畳レンズ５４に重畳させる。
【００３６】
重畳レンズ５４は、照明光ＷＬを被照明領域において重畳させることにより、被照明領域の照度分布を均一化する。このようにして、蛍光ＹＬ及び青色光ＢＬは、重畳レンズ５４により合成され、照度分布が均一化された照明光ＷＬとして、照明装置３１からダイクロイックミラー３２１に向けて出射される。
【００３７】
［波長変換装置の構成］
図３は、波長変換装置７を偏光分離装置４５側から見た平面図である。
波長変換装置７は、図２及び図３に示すように、基材７１及びモーター７５を備える。
基材７１は、略円板状に形成されている。この基材７１は、当該基材７１の偏光分離装置４５側（ピックアップ光学系６１）の第１面７１１と、当該第１面７１１に対向する第２面７１２と、を有する。また、基材７１の略中央部分には、開口部７１３が形成されている。この開口部７１３には、モーター７５の一部が嵌め込まれる。なお、上記基材７１は、アルミニウムにより構成され、当該基材７１の厚さ寸法は、略１ｍｍに設定されている。
また、上記第１面７１１及び第２面７１２のうち、ピックアップ光学系６１に対向する面である第１面７１１には、波長変換層７２が配置されている。
【００３８】
波長変換層７２は、本発明の波長変換部に相当し、上述したように基材７１の第１面７１１に配置される。具体的に、波長変換層７２は、例えば、マスク印刷法により環状に印刷され、基材７１の開口部７１３の外側に形成される。この波長変換層７２は、例えば、ＹＡＧ蛍光体を含む波長変換素子であり、当該波長変換層７２に入射された青色光ＢＬｓを蛍光ＹＬに変換する。
また、基材７１は、当該基材７１を光入射側から見た場合に、波長変換層７２より内側に位置する第１領域７３と、当該波長変換層７２より外側に位置する領域である第２領域７４を有する。これらのうち、第２領域７４の表面積は、第１領域７３の表面積より大きく設定されている。
なお、図２及び図３においては、図示を省略するが、当該波長変換層７２と基材７１との間には、反射層が形成されている。
【００３９】
［第１領域の面積と第２領域の面積］
ここで、開口部７１３の半径とは、例えば、図３における回転軸Ｐから開口部７１３の外周縁までの距離Ｌ１であり、基材７１の外径とは、例えば、図３における回転軸Ｐから基材７１の外周縁までの距離Ｌ２であり、波長変換層７２の内径とは、例えば、図３における回転軸Ｐから波長変換層７２の内周縁までの距離Ｌ３であり、波長変換層７２の外径とは、例えば、図３における回転軸Ｐから波長変換層７２の外周縁までの距離Ｌ４である。なお、回転軸Ｐは、基材７１の中心と一致している。
本実施形態では、上記距離Ｌ１は略１０ｍｍ、上記距離Ｌ２は略５５ｍｍ、上記距離Ｌ３は略２０ｍｍ、上記距離Ｌ４は略３１．５ｍｍに設定されている。このため、基材７１の第１面７１１において、第２領域７４の表面積は、第１領域７３の表面積より大きい。
【００４０】
本発明の回転装置は、モーター７５により構成され、回転軸Ｐを中心に基材７１を回転させる機能を有する。具体的に、モーター７５の一部は、基材７１の開口部７１３に嵌めこまれ、当該モーター７５の駆動により基材７１が回転する。これにより、ピックアップ光学系６１から出射された青色光ＢＬｓは、回転状態の基材７１における波長変換層７２に入射され、蛍光ＹＬに変換されて上記反射層により反射される。
【００４１】
［基材の外径と波長変換層の温度との関係］
図４は、基材の外径と波長変換層の温度との関係を示す図である。
なお、図４の説明においては、入射されるレーザー光の光量は一定であり、上記距離Ｌ１は略１０ｍｍであり、上記距離Ｌ３は略２０ｍｍであり、上記距離Ｌ４は略３１．５ｍｍであるものとする。また、基材の厚さ寸法は、略１ｍｍであり、当該基材は、アルミニウムにより構成されているものとし、上記基材の外径（距離Ｌ２）のみ変化した場合について説明する。
【００４２】
基材の外径が変化すると、蛍光体の温度は、図４に示す線Ｓ１に示すように変化する。すなわち、基材の外径（距離Ｌ２）が大きくなるに従い、蛍光体の温度が低くなる。具体的に、基材の外径（距離Ｌ２）が５０ｍｍの場合、図４に示すように、蛍光体の温度は、最大略３７０℃まで上昇する。これに対し、上記距離Ｌ２が８０ｍｍの場合、蛍光体の温度は、最大略２００℃まで上昇する。更に、上記距離Ｌ２が１２０ｍｍの場合、蛍光体の温度は、最大略１６０℃まで上昇する。すなわち、上記基材の外径（距離Ｌ２）が大きくなるにつれて、波長変換層７２の温度が上昇することを抑制できる。
【００４３】
すなわち、第１領域７３の表面積に対して、第２領域７４の表面積が大きくなるにつれて、蛍光体の温度が上昇することをより抑制できる。
【００４４】
［第１実施形態の効果］
本発明の第１実施形態に係るプロジェクター１によれば、以下の効果がある。
モーター７５により回転する基材７１の第１面７１１に波長変換層７２が環状に配置され、当該波長変換層７２より内側に位置する第１領域７３の表面積より、当該波長変換層７２より外側に位置する第２領域７４の表面積が大きい。このため、波長変換層７２に光が入射され、当該波長変換層７２の熱が上昇すると、第１領域７３は、表面積が限られているので、熱飽和する可能性が高い。これに対し、第２領域７４は、波長変換層７２より外側に位置するので、設計により第２領域７４の表面積を第１領域７３の表面積より拡大すれば、熱飽和を生じにくくできる。これによれば、波長変換層７２にて生じた熱を当該波長変換層７２より内側の第１領域７３及び外側の第２領域７４に伝導できるので、波長変換層７２を効率よく冷却できる。従って、波長変換装置７の波長変換効率の低下を抑制できる。
【００４５】
波長変換装置７の波長変換効率の低下を抑制できるので、波長変換層７２によって生じる蛍光光の光量の低下を抑制でき、光源部４１からの光の利用効率を向上させることができる。従って、上記波長変換装置７を備えた照明装置３１は、信頼性が高く、温度影響を受けない安定した拡散特性及び位相差特性を得ることができるので、当該照明装置３１、ひいてはプロジェクター１の信頼性及び安定性を高くできる。
【００４６】
［第２実施形態］
次に、本発明の第２実施形態について説明する。
本実施形態に係るプロジェクターは、上記第１実施形態に係るプロジェクター１と略同一の構成を備える他、上記プロジェクター１と波長変換装置の基材の形状が一部異なる。具体的に、上記プロジェクター１の波長変換装置７は、基材７１を備えるのに対し、本実施形態の波長変換装置は、複数の凸部を有する基材を備えている点で相違する。
なお、以下の説明では、既に説明した部分と同一又は略同一である部分については、同様の符号を付して説明を省略する。
【００４７】
図５は、本実施形態に係るプロジェクターの波長変換装置を示す断面図である。
波長変換装置７Ａは、図６に示すように、基材７１Ａ、波長変換層７２、及びモーター７５を備える。
基材７１Ａは、略円板状に形成され、当該基材７１Ａにおける第１面７１１Ａの波長変換層７２より外側の領域には、直線状に延びる複数の凸部７１Ａ１が形成されている。この複数の凸部７１Ａ１は、波長変換層７２より外側に位置する第２領域７４Ａに一定間隔を持って配置される。このため、基材７１Ａにおける第２領域７４Ａには、複数の凹凸が形成される。なお、複数の凸部７１Ａ１は、例えば、基材７１Ａに対してプレス加工を行うことにより形成される。
【００４８】
また、本実施形態においても、上記距離Ｌ１〜Ｌ４は、上記第１実施形態と同一であるため、第２領域７４Ａの表面積は、上記凹凸が形成されることにより、第１実施形態の第２領域７４の表面積より大きくなる。従って、基材７１Ａの第１面７１１Ａにおいて、第２領域７４Ａの面積は、第１領域７３Ａの面積より確実に大きくなる。
【００４９】
［第２実施形態の効果］
本実施形態に係るプロジェクターは、上記第１実施形態に係るプロジェクター１と同様の効果を奏する他、以下の効果を奏する。
基材７１Ａの第１面７１１Ａにおける波長変換層７２より外側の領域（第２領域７４Ａ）が複数の凹凸を有しているので、当該第２領域が平坦状である場合に比べて、当該第２領域７４Ａの表面積、すなわち、波長変換層７２の熱を放熱する放熱面積を拡大できる。従って、波長変換装置７Ａの波長変換効率の低下をより抑制できる。
【００５０】
［第２実施形態の変形例］
上記第２実施形態の波長変換装置７Ａは、基材７１Ａを備え、当該基材７１Ａの第１面７１１Ａの波長変換層７２より外側の第２領域７４Ａには、複数の凸部７１Ａ１が形成されていることとした。しかしながら、本発明は、これに限らない。
【００５１】
図６は、本実施形態の変形例に係る波長変換装置７Ｂの基材７１Ｂの斜視図である。
波長変換装置７Ｂは、基材７１Ａに代えて基材７１Ｂを備える。この基材７１Ｂの第１面７１１Ｂにおける波長変換層７２より外側に位置する第２領域７４Ｂには、複数の凹部７１Ｂ１と複数の凸部７１Ｂ２がそれぞれ形成されている。これら複数の凹部７１Ｂ１及び複数の凸部７１Ｂ２は、それぞれ凹部７１Ｂ１と凸部７１Ｂ２とが隣り合うように、第１面７１１Ｂに形成される。なお、複数の凹部７１Ｂ１及び凸部７１Ｂ２は、基材７１Ｂに対して、例えば、プレス加工を行うことにより形成される。
【００５２】
また、本変形例においても、上記距離Ｌ１〜Ｌ４は、上記第２実施形態と同一であるため、第２領域７４Ｂの表面積は、複数の凹部７１Ｂ１及び複数の凸部７１Ｂ２が形成されることにより、上記第１実施形態の第２領域７４の表面積より大きくなる。従って、基材７１Ｂの第１面７１１Ｂにおいて、第２領域７４Ｂの面積は、第１領域７３Ｂの面積より確実に大きくなる。従って、上記第２実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
また、本変形例では、第２領域７４Ｂに複数の凹部７１Ｂ１及び複数の凸部７１Ｂ２が形成されているので、モーター７５の駆動により基材７１Ｂが回転すると、冷却気体が回転軸Ｐから当該波長変換層７２の外側に流通する際に、複数の凹部７１Ｂ１及び複数の凸部７１Ｂ２により気流が乱され、乱流や渦流が発生する。これにより、基材７１Ｂの第２領域７４Ｂを冷却気体により効率よく冷却できる。従って、波長変換装置７Ｂの波長変換効率の低下をより抑制できる。
【００５３】
［第３実施形態］
次に、本発明の第３実施形態について説明する。
本実施形態に係るプロジェクターは、上記第１実施形態に係るプロジェクター１と略同一の構成を備える他、上記プロジェクター１と波長変換装置の基材の形状が一部異なる。具体的に、上記プロジェクター１の波長変換装置７は、基材７１を備えるのに対し、本実施形態の波長変換装置は、貫通孔が形成された基材を備えている点で相違する。
なお、以下の説明では、既に説明した部分と同一又は略同一である部分については、同様の符号を付して説明を省略する。
【００５４】
図７は、本実施形態に係るプロジェクターの波長変換装置７Ｃを示す平面図である。
波長変換装置７Ｃは、図８に示すように、基材７１Ｃ、波長変換層７２、及びモーター７５を備える。
基材７１Ｃは、略円板状に形成され、当該基材７１Ｃにおける第１面７１１Ｃの波長変換層７２の外側に位置する第２領域７４Ｃには、複数の貫通孔７１Ｃ１が形成されている。この複数の貫通孔７１Ｃ１は、波長変換層７２の外側に位置する第２領域７４Ｃに一定間隔を持って放射状に配置される。なお、複数の貫通孔７１Ｃ１は、基材７１Ｃに対して、例えば、プレス加工を行うことにより形成される。
【００５５】
また、本実施形態においても、上記距離Ｌ１〜Ｌ４は、上記第１実施形態と同一であるため、第２領域７４Ｃの表面積は、上記複数の貫通孔７１Ｃ１が形成されることにより、第１実施形態の第２領域７４の表面積より大きくなる。従って、基材７１Ｃの第１面７１１Ｃにおいて、第２領域７４Ｃの面積は、第１領域７３Ｃの面積より確実に大きくなる。
更に、本実施形態では、第２領域７４Ｃに複数の貫通孔７１Ｃ１が形成されているので、モーター７５の駆動により基材７１Ｃが回転すると、冷却気体が回転軸Ｐから当該波長変換層７２の外側に流通する際に、複数の貫通孔７１Ｃ１を流通する。
【００５６】
［第３実施形態の効果］
本実施形態に係るプロジェクターは、上記第１実施形態に係るプロジェクター１と同様の効果を奏する他、以下の効果を奏する。
基材７１Ｃにおける波長変換層７２より外側に位置する第２領域７４Ｃに当該基材７１Ｃを貫通する複数の貫通孔７１Ｃ１が複数形成されているので、当該第２領域が平坦状である場合に比べて、第２領域Ｃ１の上記放熱面積を拡大できる。従って波長変換装置７Ｃの波長変換効率の低下を更に抑制できる。
【００５７】
［第４実施形態］
次に、本発明の第４実施形態について説明する。
本実施形態に係るプロジェクターは、上記第１実施形態に係るプロジェクター１と略同一の構成を備える他、上記プロジェクター１と波長変換装置の基材の形状が一部異なる。具体的に、上記プロジェクター１の波長変換装置７は、基材７１を備えるのに対し、本実施形態の波長変換装置は、複数の突出部を備えた基材を備えている点で相違する。
なお、以下の説明では、既に説明した部分と同一又は略同一である部分については、同様の符号を付して説明を省略する。
【００５８】
図８は、本実施形態に係るプロジェクターの波長変換装置７Ｄを光の入射方向とは反対方向側から見た斜視図であり、図９は、本実施形態に係る波長変換装置７Ｄの断面図である。なお、図８では、モーター７５の図示を省略している。
波長変換装置７Ｄは、図８及び図９に示すように、基材７１Ｄ、波長変換層７２、及びモーター７５を備える。
基材７１Ｄは、略円板状に形成され、第１面７１１Ｄ及び第１面７１１Ｄに対向する第２面７１２Ｄを有する。これらのうち、基材７１Ｄの第２面７１２Ｄには、当該第２面７１２Ｄの法線方向に延びる第１突出部７１Ｄ１及び第２突出部７１Ｄ２を備える。
第１突出部７１Ｄ１は、環状に形成され、第２面７１２Ｄにおいて、第１面７１１Ｄ側の波長変換層７２に対向する位置に配置される。また、第２突出部７１Ｄ２は、第１突出部７１Ｄ１と同様に環状に形成され、第１突出部７１Ｄ１の外側に配置される。また、これら第１突出部７１Ｄ１及び第２突出部７１Ｄ２の第２面７１２Ｄから突出する高さは略同一に設定されている。
【００５９】
本実施形態においても、上記距離Ｌ１〜Ｌ４は、上記第１実施形態と同一であるため、第２領域７４Ｄの表面積は、上記第２突出部７１Ｄ２が形成されることにより、第１実施形態の第２領域７４の表面積より大きくなる。従って、第２領域７４Ｄの表面積は、第１領域７３Ｄの面積より確実に大きくなる。
更に、本実施形態では、第１突出部７１Ｄ１及び第２突出部７１Ｄ２が形成されているので、モーター７５の駆動により基材７１Ｄが回転すると、冷却気体が回転軸Ｐから当該波長変換層７２の外側に流通する際に、第１突出部７１Ｄ１及び第２突出部７１Ｄ２に流通する。
【００６０】
［第４実施形態の効果］
本実施形態に係るプロジェクターは、上記第１実施形態に係るプロジェクター１と同様の効果を奏する他、以下の効果を奏する。
基材７１Ｄの第２面７１２Ｄから当該第２面７１２Ｄの法線方向に突出する第１突出部７１Ｄ１及び第２突出部７１Ｄ２を有するので、当該第２領域に突出部を設けられていない場合に比べて、第２領域７４Ｄの上記放熱面積を拡大できる。従って、波長変換装置７Ｄの波長変換効率の低下を確実に抑制できる。
【００６１】
また、第２面７１２Ｄにおける波長変換層７２に対向する位置に第１突出部７１Ｄ１が形成されているので、第１突出部７１Ｄ１に波長変換層７２からの熱が伝導され、当該第１突出部７１Ｄ１に冷却気体が流通することで、波長変換層７２をより効率よく冷却できる。
【００６２】
［第５実施形態］
次に、本発明の第５実施形態について説明する。
本実施形態に係るプロジェクターは、上記第１実施形態に係るプロジェクター１と略同一の構成を備える他、上記プロジェクター１と波長変換装置の基材の形状が一部異なる。具体的に、上記プロジェクター１の波長変換装置７は、円板状の基材７１を備えるのに対し、本実施形態の波長変換装置は、円筒状の基材を備えている点で相違する。
なお、以下の説明では、既に説明した部分と同一又は略同一である部分については、同様の符号を付して説明を省略する。
【００６３】
図１０は、本実施形態に係るプロジェクターの波長変換装置７Ｅを示す斜視図である。なお、図１０では、モーター７５の図示を省略している。
波長変換装置７Ｅの基材７１Ｅは、略円筒状に形成され、略円板状の平板部７１Ｅ１と、当該平板部７１Ｅ１の外周縁から第２面７１２Ｅの法線方向に延びる円環部７１Ｅ２を備える。これらのうち、平板部７１Ｅ１は、第１面７１１Ｅ及び第１面７１１Ｅに対向する第２面７１２Ｅを有する。また、平板部７１Ｅ１の略中央には、上記開口部７１３が形成され、第１面７１１Ｅにおける当該開口部７１３を囲む位置に、波長変換層７２が形成されている。
また、円環部７１Ｅ２は、本発明の突出部に相当し、第２面７１２Ｅにおける平板部７１Ｅ１の外周縁から、当該第２面７１２Ｅの法線方向に延びる円環状に形成されている。この円環部７１Ｅ２の厚さ寸法（距離Ｌ５）は、略５ｍｍに設定されている。更に、円環部７１Ｅ２の高さ寸法（距離Ｌ６）は、略３５ｍｍに設定されている。すなわち、回転軸Ｐから波長変換層７２の外縁までの距離Ｌ３と上記距離Ｌ５及び上記距離Ｌ６の和が上記距離Ｌ２より略５ｍｍ大きく設定されている。
なお、本実施形態では、円環部７１Ｅ２と、第１面７１１Ｅにおける第１領域７３Ｅ及び波長変換層７２以外の領域（波長変換層７２より外側の領域）と、が本実施形態における第２領域７４Ｅとなる。
【００６４】
本実施形態においても、上記距離Ｌ１，Ｌ３，Ｌ４は、上記第１実施形態と同一であり、回転軸Ｐから波長変換層７２の外縁までの距離Ｌ３と上記距離Ｌ５及び上記距離Ｌ６の和が上記距離Ｌ２より大きくに設定されているので、第２領域７４Ｅの表面積は、上記円環部７１Ｅ２が形成されることにより、第１実施形態の第２領域７４の表面積より大きくなる。従って、基材７１Ｅにおいて、第２領域７４Ｅの面積は、第１領域７３Ｅの面積より確実に大きくなる。
また、本実施形態では、円環部７１Ｅ２が形成されているので、モーター７５の駆動により基材７１Ｅが回転すると、冷却気体が回転軸Ｐから当該波長変換層７２の外側に流通する際に、円環部７１Ｅ２に流通する。
更に、本実施形態では、平板部７１Ｅ１の半径（上記距離Ｌ３と上記Ｌ５との和）が第１実施形態の基材７１の半径（上記距離Ｌ２）より小さくなる。
【００６５】
［第５実施形態の効果］
本実施形態に係るプロジェクターは、上記第４実施形態に係るプロジェクター１と同様の効果を奏する他、以下の効果を奏する。
平板部７１Ｅ１の半径（上記距離Ｌ３と上記Ｌ５との和）が第１実施形態の基材７１の半径（上記距離Ｌ２）より小さくできるので、波長変換装置７Ｅを小型化できる。また、波長変換装置７Ｅを小型化できることから、当該波長変換装置７Ｅを備える照明装置、ひいてはプロジェクターを小型化できる。
【００６６】
［実施形態の変形］
本発明は、上記各実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
上記各実施形態では、基材７１，７１Ａ〜７１Ｅは、アルミニウムにより構成されていることとした。しかしながら、本発明は、これに限らない。例えば、透過型の波長変換装置であれば、当該基材は、ガラス等の透光性部材により構成されることとすればよい。
上記第１〜第４実施形態では、上記距離Ｌ１は略１０ｍｍであり、上記距離Ｌ２は略５５ｍｍであり、上記距離Ｌ３は略２０ｍｍであり、上記距離Ｌ４は略３１．５ｍｍであることとした。しかしながら、本発明は、これに限らない。すなわち、第１領域７３，７３Ａ〜７３Ｅの表面積より第２領域７４，７４Ａ〜７４Ｅの表面積が大きくなれば、上記距離Ｌ１〜Ｌ４は、如何なる値に設定されてもよい。
【００６７】
上記各実施形態では、波長変換層７２は、円環状に形成されることとした。しかしながら、本発明は、これに限らない。例えば、円弧状の波長変換層が一定の間隔を持って円環状に配置される構成であってもよい。すなわち、波長変換層の内側である第１領域７３，７３Ａ〜７３Ｅ、及び波長変換層の外側である第２領域７４，７４Ａ〜７４Ｅを区画できる形状であればよい。
【００６８】
上記第１実施形態では、波長変換層７２は、マスク印刷法により基材７１に形成されることとした。しかしながら、本発明は、これに限らない。例えば、予め成形された波長変換層７２を基材７１に接着することとしてもよい。
上記第２〜第４実施形態では、複数の凸部７１Ａ１、複数の凹部７１Ｂ１及び凸部７１Ｂ２、複数の貫通孔７１Ｃ１は、基材７１Ａ，７１Ｂ，７１Ｃに対してプレス加工を行うことにより形成されることとした。しかしながら、本発明は、これに限らない。例えば、複数の凸部７１Ａ１、複数の凹部７１Ｂ１及び凸部７１Ｂ２、複数の貫通孔７１Ｃ１は、基材７１Ａ〜７１Ｃに対してブラスト加工やエッジングにより形成されることとしてもよい。
【００６９】
上記第２実施形態では、複数の凸部７１Ａ１を第２領域７４Ａの第１面７１１Ａに設けることとした。しかしながら、本発明は、これに限らない。例えば、複数の凸部７１Ａ１を第２面７１２Ａに更に設けることとしてもよいし、第２面７１２Ａにのみ設けることとしてもよい。この場合であっても、上記第２実施形態と同様の効果を奏することができる。また、上記第２実施形態の変形例においても同様である。
【００７０】
上記第３実施形態では、複数の貫通孔７１Ｃ１は、波長変換層７２より外側に位置する第２領域７４Ｃに一定間隔を持って放射状に配置されることとした。しかしながら、本発明は、これに限らない。例えば、波長変換層７２より外側に位置する第２領域７４Ｃの全領域に一定の間隔を持って配置されるようにしてもよいし、円弧状の貫通孔を複数放射状に配置されるようにしてもよい。すなわち、基材７１Ｃの第２領域７４Ｃに複数の貫通孔が形成されていればよい。
【００７１】
上記第４実施形態では、第１突出部７１Ｄ１及び第２突出部７１Ｄ２の第２面７１２Ｄから突出する高さは略同一に設定されることとしたが、これに限られず、第１突出部７１Ｄ１及び第２突出部７１Ｄ２のいずれかの突出部が他方の突出より更に突出していてもよい。また、第１突出部７１Ｄ１及び第２突出部７１Ｄ２を備えることとしたが、いずれか１つの突出部のみを設けるようにしてもよいし、第１突出部７１Ｄ１の内側及び第２突出部７１Ｄ２の外側の少なくとも一方に環状の突出部を更に設けるようにしてもよい。すなわち、基材７１Ｄの第２面７１２Ｄに突出部が形成されていればよい。
【００７２】
また、上記第４実施形態では、第１突出部７１Ｄ１及び第２突出部７１Ｄ２は、基材７１Ｄの第２面７１２Ｄに形成されていた。しかしながら、本発明は、これに限らない。例えば、第１突出部７１Ｄ１及び第２突出部７１Ｄ２が第１面７１１Ｄに形成されていてもよいし、第１突出部７１Ｄ１及び第２突出部７１Ｄ２の一方が第１面７１１Ｄに形成され、他方が第２面７１２Ｄに形成されていてもよい。
【００７３】
上記第５実施形態では、円環部７１Ｅ２は、第２面７１２Ｅの法線方向に突出する形状であることとした。しかしながら、本発明は、これに限らない。例えば、円環部７１Ｅ２は、第２面７１２Ｅから上記法線に対して傾斜する方向に突出することとしてもよいし、第１面７１１Ｅの法線方向に突出することとしてもよい。この場合であっても、上記第５実施形態と同様の効果を奏することができる。
【００７４】
上記第２〜第５実施形態では、複数の凸部７１Ａ１、複数の凹部７１Ｂ１及び凸部７１Ｂ２、複数の貫通孔７１Ｃ１、第１突出部７１Ｄ１及び第２突出部７１Ｄ２、並びに、円環部７１Ｅ２をそれぞれ備えることとした。しかしながら、本発明は、これに限らない。例えば、基材７１に複数の凸部７１Ａ１及び複数の貫通孔７１Ｃ１を備えることとしてもよいし、複数の貫通孔７１Ｃ１、第１突出部７１Ｄ１及び第２突出部７１Ｄ２を備えることとしてもよいし、複数の凸部７１Ａ１及び円環部７１Ｅ２を備えることとしてもよい。すなわち、これら複数の凸部７１Ａ１、複数の凹部７１Ｂ１及び凸部７１Ｂ２、複数の貫通孔７１Ｃ１、第１突出部７１Ｄ１及び第２突出部７１Ｄ２、並びに、円環部７１Ｅ２をどのように組み合わせて基材に形成してもよい。換言すると、第１領域７３の表面積より、第２領域７４の表面積が大きければ、基材はどのような形状であってもよい。
【００７５】
上記各実施形態では、光変調装置として透過型の光変調装置を用いることとした。しかしながら、本発明は、これに限らない。例えば、光変調装置として反射型の光変調装置を用いてもよい。この場合、色分離装置３２を設けることなく、当該色合成装置３５により、色分離及び色合成を実行するようにしてもよい。
【００７６】
上記各実施形態では、プロジェクター１は、３つの光変調装置３４（３４Ｒ，３４Ｇ，３４Ｂ）を備えるとしたが、本発明はこれに限らない。例えば、光変調装置は、１つでもよいし、２つでもよいし、４つ以上でもよい。
また、光変調装置として、デジタルマイクロミラーデバイス等、液晶パネル以外の光変調装置を用いてもよい。
【符号の説明】
【００７７】
１…プロジェクター、３１…照明装置、３４…光変調装置、３６…投射光学装置、４１１１…半導体レーザー（光源）、７，７Ａ，７Ｂ，７Ｃ，７Ｄ，７Ｅ…波長変換装置、７１，７１Ａ，７１Ｂ，７１Ｃ，７１Ｄ，７１Ｅ…基材、７１１，７１１Ａ，７１１Ｂ，７１１Ｃ，７１１Ｄ，７１１Ｅ…第１面、７１２，７１２Ａ，７１２Ｄ，７１２Ｅ…第２面、７１３…開口部、７１Ａ１…凸部、７１Ｂ１…凹部、７１Ｂ２…凸部、７１Ｃ１…貫通孔、７１Ｄ１…第１突出部（突出部）、７１Ｄ２…第２突出部（突出部）、７１Ｅ２…円環部（突出部）、７２…波長変換層（波長変換部）、７５…モーター（回転装置）、７３，７３Ａ，７３Ｂ，７３Ｃ，７３Ｄ，７３Ｅ…第１領域、７４，７４Ａ，７４Ｂ，７４Ｃ，７４Ｄ，７４Ｅ…第２領域、Ｌ１…距離、Ｌ２…距離、Ｌ３…距離、Ｌ４…距離。
【図１】
2017116630.tif 000003
【図２】
2017116630.tif 000004
【図３】
2017116630.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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