(57)【要約】【課題】開口率の低下を招くことなく高精細化が可能な液晶表示装置を提供する。【解決手段】対向する第１基板及び第２基板の間に液晶層を保持した液晶表示装置であって、前記第２基板は、画像を表示する表示領域において、第１方向にそれぞれ延出し前記第１方向と交差する第２方向に離間して並んで配置された第１遮光部と、前記第２方向にそれぞれ延出し前記第１方向に離間して並んで配置された第２遮光部と、前記第１遮光部及び前記第２遮光部の間の中間層と、を備え、前記第１遮光部は前記中間層を介して前記第２遮光部と交差する、液晶表示装置。【選択図】図２
2017032812.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する第１基板及び第２基板の間に液晶層を保持した液晶表示装置であって、
前記第２基板は、画像を表示する表示領域において、
第１方向にそれぞれ延出し前記第１方向と交差する第２方向に離間して並んで配置された第１遮光部と、前記第２方向にそれぞれ延出し前記第１方向に離間して並んで配置された第２遮光部と、前記第１遮光部及び前記第２遮光部の間の中間層と、を備え、前記第１遮光部は前記中間層を介して前記第２遮光部と交差する、液晶表示装置。
【請求項２】
前記中間層は、第１カラーフィルタ及び第２カラーフィルタを有するカラーフィルタ層である、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第１カラーフィルタ及び第２カラーフィルタの境界部は、前記第２方向に延出し、前記第２遮光部と対向する、請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第１基板は、ゲート線及びソース線を備え、
前記第１遮光部は、前記ゲート線と対向し、前記第２遮光部は、前記ソース線と対向する、請求項１乃至３の何れか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記第１遮光部は第１幅を有し、前記第２遮光部は第２幅を有し、前記第１幅は前記第２幅より大きい請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第１遮光部は、前記表示領域を囲む周辺領域に延在する、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記第１遮光部及び前記第２遮光部は、互いに異なる光学濃度を有する、請求項１乃至６の何れか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記中間層は、樹脂層である、請求項１、４乃至７の何れか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記中間層は、カラーフィルタ層及び樹脂層である、請求項１、４乃至７の何れか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記第２遮光部は、前記第１遮光部より前記液晶層側に形成される請求項１乃至９の何れか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記第１基板は、前記第２遮光部と対向する第３遮光部を備える、請求項１乃至１０の何れか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記第１遮光部は、前記第２遮光部より前記液晶層側に形成される請求項１乃至９の何れか１項に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、表示装置として各種分野で利用されている。液晶表示装置は、例えば格子状に形成された遮光層を備えている。近年では、液晶表示装置に対して、更なる高精細化への要求が高まっている。高精細化に際しては、高開口率の維持が可能な遮光層の配置が課題となっている。
【０００３】
例えば、ストライプ状に形成された遮光層を備える第１基板と、第１基板上の遮光層の延出方向に対して垂直な方向のストライプ状に形成された遮光層を備える第２基板と、を用いて形成される液晶表示装置の技術が知られている（例えば、特許文献１）。  
また上記とは別の技術として、第１方向に延在するストライプ状の露光部を有するマスクと、第２方向に延在するストライプ状の露光部を有するマスクとを用いて格子状の遮光層を形成する技術が知られている（例えば、特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−５５３３４号公報
【特許文献２】特開２００９−２２３２６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本実施形態の目的は、開口率の低下を招くことなく高精細化が可能な液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本実施形態によれば、
対向する第１基板及び第２基板の間に液晶層を保持した液晶表示装置であって、前記第２基板は、画像を表示する表示領域において、第１方向にそれぞれ延出し前記第１方向と交差する第２方向に離間して並んで配置された第１遮光部と、前記第２方向にそれぞれ延出し前記第１方向に離間して並んで配置された第２遮光部と、前記第１遮光部及び前記第２遮光部の間の中間層と、を備え、前記第１遮光部は前記中間層を介して前記第２遮光部と交差する、液晶表示装置を提供する。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】図１は、本実施形態の液晶表示装置を構成する表示パネルＰＮＬの構成を概略的に示す図である。
【図２】図２は、本実施形態の第２基板ＳＵＢ２の一部の構成を示す平面図である。
【図３】図３は、第２基板ＳＵＢ２の一部の構成と、第１基板ＳＵＢ１に形成されたゲート線Ｇ及びソース線Ｓとの位置関係を示す平面図である。
【図４】図４は、表示領域ＤＡ及び非表示領域ＮＤＡにおける第２基板ＳＵＢ２の一部の構成を示す平面図である。
【図５】図５は、遮光部ＢＭＡ、遮光部ＢＭＢ、中間層ＩＮの積層関係を模式的に示す斜視図である。
【図６】図６は、遮光部ＢＭＡ、遮光部ＢＭＢ、中間層ＩＮの積層関係を模式的に示す斜視図である。
【図７】図７は、遮光部ＢＭＡ、遮光部ＢＭＢ、中間層ＩＮの積層関係を模式的に示す斜視図である。
【図８】図８は、一実施例の第２基板ＳＵＢ２を示す平面図であり、上記の中間層に相当するカラーフィルタ層ＣＦ、第１遮光部ＢＭ１、第２遮光部ＢＭ２のレイアウトの一例を示す図である。
【図９】図９は、図８に示した第２基板ＳＵＢ２に対向する第１基板ＳＵＢ１の一部の構成を示す平面図である。
【図１０】図１０は、図９の線Ｉ−Ｉ‘に沿った表示パネルＰＮＬの断面図である。
【図１１】図１１は、図１０の表示パネルＰＮＬにおいて、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間に合わせずれが生じた際の構成を模式的に示す断面図である。
【図１２】図１２は、図９の線Ｉ−Ｉ‘に沿った表示パネルＰＮＬの他の実施例を示す断面図である。
【図１３】図１３は、図９の線Ｉ−Ｉ‘に沿った表示パネルＰＮＬの他の実施例を示す断面図である。
【図１４】図１４は、図９の線Ｉ−Ｉ‘に沿った表示パネルＰＮＬの他の実施例を示す断面図である。
【図１５】図１５は、図９の線Ｉ−Ｉ‘に沿った表示パネルＰＮＬの他の実施例を示す断面図である。
【図１６】図１６は、図９の線Ｉ−Ｉ‘に沿った表示パネルＰＮＬの他の実施例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。
【０００９】
図１は、本実施形態の液晶表示装置を構成する表示パネルＰＮＬの構成を概略的に示す図である。図１は、互いに交差する第１方向Ｘと第２方向Ｙとで規定されるＸ−Ｙ平面における表示パネルＰＮＬの平面図である。ここでは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙは、互いに直交しているが、９０°以外の角度で交差していてもよい。
【００１０】
すなわち、表示パネルＰＮＬは、アクティブマトリクスタイプの液晶表示パネルであり、第１基板ＳＵＢ１と、第１基板ＳＵＢ１に対向配置された第２基板ＳＵＢ２と、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間に保持された液晶層ＬＱと、を備えている。第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とは、これらの間に所定のセルギャップを形成した状態でシール材ＳＥによって貼り合わせられている。図示した例では、シール材ＳＥは矩形枠状の閉ループ形状をなすように形成されている。液晶層ＬＱは、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間のセルギャップにおいてシール材ＳＥによって囲まれた内側に保持されている。表示パネルＰＮＬは、シール材ＳＥによって囲まれた内側に、画像を表示する表示領域ＤＡを備えている。表示領域ＤＡは、例えば、略長方形状であり、マトリクス状に配置された複数の画素ＰＸによって構成されている。
【００１１】
第１基板ＳＵＢ１は、表示領域ＤＡにおいて、第１方向Ｘに延出するゲート線Ｇ、第２方向Ｙに延出するソース線Ｓ、各画素ＰＸにおいてゲート線Ｇ及びソース線Ｓと電気的に接続されたスイッチング素子ＳＷ、各画素ＰＸにおいてスイッチング素子ＳＷに接続された画素電極ＰＥなどを備えている。コモン電位の共通電極ＣＥは、第１基板ＳＵＢ１または第２基板ＳＵＢ２に備えられ、複数の画素電極ＰＥと対向する。なお、ゲート線Ｇは第１方向Ｘに平行な直線状に形成されていなくても良いし、ソース線Ｓは第２方向Ｙに平行な直線状に形成されていなくても良い。すなわち、ゲート線Ｇ及びソース線Ｓは、屈曲していてもよいし、一部が分岐していても良い。
【００１２】
駆動ＩＣチップ２及びフレキシブル・プリンテッド・サーキット（ＦＰＣ）基板３などの表示パネルＰＮＬの駆動に必要な信号供給源は、表示領域ＤＡよりも外側の非表示領域（周辺領域）ＮＤＡに位置している。図示した例では、駆動ＩＣチップ２及びＦＰＣ基板３は、第２基板ＳＵＢ２の基板端部ＣＴＥよりも外側に延出した第１基板ＳＵＢ１の実装部ＭＴに実装されている。非表示領域ＮＤＡは、表示領域ＤＡを囲むエリアであり、シール材ＳＥが配置されるエリアを含み、矩形枠状に形成されている。
【００１３】
なお、表示パネルＰＮＬの詳細な構成については説明を省略するが、基板主面あるいはＸ−Ｙ平面の法線に沿った縦電界を利用する表示モード、あるいは、基板主面の法線に対して斜め方向に傾斜した傾斜電界を利用する表示モードでは、画素電極ＰＥが第１基板ＳＵＢ１に備えられる一方で、共通電極ＣＥが第２基板ＳＵＢ２に備えられる。また、基板主面に沿った横電界を利用する表示モードでは、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの双方が第１基板ＳＵＢ１に備えられている。さらには、表示パネルＰＮＬは、上記の縦電界、横電界、及び、傾斜電界を適宜組み合わせて利用する表示モードに対応した構成を有していても良い。
【００１４】
また、表示パネルＰＮＬは、例えば、後述する照明装置（バックライトユニット）ＢＬからの光を選択的に透過させることで画像を表示する透過表示機能を備えた透過型であるが、これに限定されるものではない。すなわち、表示パネルＰＮＬは、外光や補助光といった表示面側からの光を選択的に反射させることで画像を表示する反射表示機能を備えた反射型であっても良い。また、表示パネルＰＮＬは、透過表示機能及び反射表示機能を備えた半透過型であっても良い。反射型の表示パネルＰＮＬが適用される場合、第１基板ＳＵＢ１と対向する側に位置する照明装置ＢＬは省略される。但し、反射型の表示パネルＰＮＬが適用される場合には、第２基板ＳＵＢ２と対向する側に照明装置（フロントライトユニット）が配置されても良い。
【００１５】
図２は、本実施形態の第２基板ＳＵＢ２の一部の構成を示す平面図である。ここで、第３方向Ｚは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに垂直な方向である。  
図示した例では、第２基板ＳＵＢ２は、第１遮光部ＢＭ１、第２遮光部ＢＭ２、及び、中間層ＩＮを備えている。中間層ＩＮは、第１遮光部ＢＭ１及び第２遮光部ＢＭ２の間に位置している。つまり、第１遮光部ＢＭ１、第２遮光部ＢＭ２、及び、中間層ＩＮは、それぞれ異なる層に形成され、第３方向Ｚに沿って重なっている。
【００１６】
ここでは、中間層ＩＮは、カラーフィルタ層ＣＦであるが、後述するように他の層であっても良い。カラーフィルタ層ＣＦは、カラーフィルタ（第１カラーフィルタ）ＣＦ１、カラーフィルタ（第２カラーフィルタ）ＣＦ２、カラーフィルタＣＦ３を有している。カラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３は、例えば、それぞれ異なる色のカラーフィルタである。
【００１７】
図示した例では、カラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３は、それぞれ第２方向Ｙに延出し、第１方向Ｘに並んでいる。カラーフィルタＣＦ１及びカラーフィルタＣＦ２の境界部Ｌ１と、カラーフィルタＣＦ２及びカラーフィルタＣＦ３の境界部Ｌ２とは、それぞれ第２方向Ｙに延出している。なお、カラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３は、直線的な帯状に形成される場合に限らず、蛇行した帯状に形成されても良いし、それぞれ各画素に対応してドット状に形成されても良い。
【００１８】
第１遮光部ＢＭ１は、ストライプ状に形成された遮光部ＢＭ１１及び遮光部ＢＭ１２を有している。遮光部ＢＭ１１及び遮光部ＢＭ１２は、第１方向Ｘにそれぞれ延出し、第２方向Ｙに離間して並んで形成されている。第２遮光部ＢＭ２は、ストライプ状に形成された遮光部ＢＭ２１及び遮光部ＢＭ２２を有している。遮光部ＢＭ２１及び遮光部ＢＭ２２は、第２方向Ｙにそれぞれ延出し、第１方向Ｘに離間して並んで形成されている。遮光部ＢＭ１１及び遮光部ＢＭ１２は、中間層ＩＮを介して、遮光部ＢＭ２１及び遮光部ＢＭ２２と交差している。遮光部ＢＭ１１及び遮光部ＢＭ１２の各々は、遮光部ＢＭ２１及び遮光部ＢＭ２２と交差する位置を含み、第２方向Ｙにほぼ一定の幅Ｗ１を有している。遮光部ＢＭ２１及び遮光部ＢＭ２２の各々は、遮光部ＢＭ１１及び遮光部ＢＭ１２と交差する位置を含み、第１方向Ｘにほぼ一定の幅Ｗ２を有している。一例では、遮光部ＢＭ２１は、境界部Ｌ１と対向している。遮光部ＢＭ２２は、境界部Ｌ２と対向している。
第１遮光部ＢＭ１の遮光部ＢＭ１１及びＢＭ１２と第２遮光部ＢＭ２の遮光部ＢＭ２１及びＢＭ２２とで囲まれた領域は、１つの開口部ＯＰに相当し、図中に斜線で示されている。図示した例では、開口部ＯＰは、矩形状に形成されている。開口部ＯＰの第１方向Ｘに沿った辺の長さＬｘは、第１方向Ｘに並ぶ遮光部ＢＭ２１と遮光部ＢＭ２２との間隔に相当する。開口部ＯＰの第２方向Ｙに沿った辺の長さＬｙは、第２方向Ｙに並ぶ遮光部ＢＭ１１と遮光部ＢＭ１２との間隔に相当する。開口部ＯＰの四方の角部は、遮光部ＢＭ１１及びＢＭ１２と遮光部ＢＭ２１及びＢＭ２２とが互いに交差することによって形成されており、各遮光部単体で形成されるものではない。
【００１９】
これらの第1遮光部ＢＭ１及び第２遮光部ＢＭ２は、例えば、黒色に着色された樹脂材料を成膜した後に、所望のパターンを有するマスクを介して露光し、現像し、焼成することによって形成される。勿論、第1遮光部ＢＭ１及び第２遮光部ＢＭ２は、別々の製造工程において形成される。適用される樹脂材料としては、光照射されることによって分解し現像液に溶解するポジ型レジストであっても良いし、光照射されることによって架橋し現像液に対して不溶化するネガ型レジストであっても良い。
【００２０】
なお、第１遮光部ＢＭ１及び第２遮光部ＢＭ２は、どちらが液晶層ＬＱ側に形成されていてもよい。また、第１遮光部ＢＭ１及び第２遮光部ＢＭ２の第３方向Ｚに沿った厚さは、それぞれ異なっていても良い。本実施形態においては、第１遮光部ＢＭ１及び第２遮光部ＢＭ２のうち、液晶層ＬＱ側に形成された方が、厚さが小さく形成されている。また、第１遮光部ＢＭ１及び第２遮光部ＢＭ２は、同一の材料によって形成されても良いし、異なる材料によって形成されても良い。また、第１遮光部ＢＭ１、第２遮光部ＢＭ２、及び、中間層ＩＮは、第１基板ＳＵＢ１に備えられても良い。
【００２１】
本実施形態によれば、第１遮光部ＢＭ１は第１方向Ｘに延出し、第２方向Ｙに離間して並んで形成された遮光部ＢＭ１１及びＢＭ１２を有しており、第２遮光部ＢＭ２は第２方向Ｙに延出し、第１方向Ｘに離間して並んで形成された遮光部ＢＭ２１及びＢＭ２２を有している。また、第１遮光部ＢＭ１及び第２遮光部ＢＭ２の間には中間層ＩＮが形成されている。つまり、第１遮光部ＢＭ１及び第２遮光部ＢＭ２は、それぞれ別の層に形成され、Ｘ−Ｙ平面を第３方向Ｚから見たときに格子状となっている。第１遮光部ＢＭ１及び第２遮光部ＢＭ２は、それぞれ別々にストライプ状のパターンを有するマスクを用いて露光することにより形成される。マスクがストライプ状のパターンを有することにより、その形状から光の回折による影響を受けにくく、所望の形状の第１遮光部ＢＭ１及び第２遮光部ＢＭ２を形成することができる。このようにして形成された第１遮光部ＢＭ１及び第２遮光部ＢＭ２は、互いに交差することによって開口部ＯＰを形成するため、開口部ＯＰの角部における丸まりを抑制することが可能となる。したがって、所望の形状の開口部ＯＰを得ることが可能となる。また、特に液晶表示装置が高精細化したときに、第２方向Ｙに並ぶ第１遮光部ＢＭ１のピッチ、及び、第１方向Ｘに並ぶ第２遮光部ＢＭ２のピッチが小さくなり、且つ、第１遮光部ＢＭ１及び第２遮光部ＢＭ２の幅は細く形成されるが、第１遮光部ＢＭ１及び第２遮光部ＢＭ２を形成する過程での露光時の光の回折による影響を受けにくくなる。このため、所望のサイズの開口部ＯＰが形成され、角部の丸まりなどによる開口率の低下を招くことなく高精細化が可能な液晶表示装置を提供することができる。
【００２２】
次に、本実施形態の構成例について説明する。
図３は、第２基板ＳＵＢ２の一部の構成と、第１基板ＳＵＢ１に形成されたゲート線Ｇ及びソース線Ｓとの位置関係を示す平面図である。図中において、ゲート線Ｇ及びソース線Ｓは、それぞれ破線で示している。
【００２３】
遮光部ＢＭ１１及びＢＭ１２は、それぞれゲート線Ｇと対向している。遮光部ＢＭ２１及びＢＭ２２は、それぞれソース線Ｓと対向している。第１遮光部ＢＭ１の遮光部ＢＭ１１及びＢＭ１２は、それぞれ第２方向Ｙに沿って第１幅Ｗ１を有している。第２遮光部ＢＭ２の遮光部ＢＭ２１及びＢＭ２２は、それぞれ第１方向Ｘに沿って第２幅Ｗ２を有している。図示した例では、第１幅Ｗ１は、第２幅Ｗ２より大きい。
【００２４】
第１幅Ｗ１は、例えばゲート線Ｇの幅と同等以上であり、第１遮光部ＢＭ１はＸ−Ｙ平面内においてゲート線Ｇの全体（場合によってはスイッチング素子の全体）と重なっていることが望ましい。また、第２幅Ｗ２は、例えばソース線Ｓの幅と同等以上であり、第２遮光部ＢＭ２はＸ−Ｙ平面内においてソース線Ｓの全体と重なっていることが望ましい。これにより、ゲート線Ｇ及びソース線Ｓでの外光の反射を抑制することができる。
【００２５】
図４は、表示領域ＤＡ及び非表示領域ＮＤＡにおける第２基板ＳＵＢ２の一部の構成を示す平面図である。  
第１遮光部ＢＭ１は、非表示領域ＮＤＡに延在して形成されている。非表示領域ＮＤＡは、図１に示した通り、表示領域ＤＡを囲む枠状の領域である。このため、第１遮光部ＢＭ１は、非表示領域ＮＤＡにおいて、表示領域ＤＡを囲む枠状に形成されている。
【００２６】
本実施形態においては、第１遮光部ＢＭ１及び第２遮光部ＢＭは、それぞれ別々の製造工程で形成されるため、それぞれの主目的に応じてそれぞれを形成するための材料を適宜変更しても良い。例えば、光学濃度に着目した場合、第１遮光部ＢＭ１及び第２遮光部ＢＭ２は、互いに異なる光学濃度を有する材料によって形成されても良い。  
一例では、図３に示した構成例においては、第１遮光部ＢＭ１は、ゲート線のみならずスイッチング素子とも対向するため比較的幅広に形成される一方で、第２遮光部ＢＭ２は細線化される傾向にある。このような構成例においては、第２遮光部ＢＭ２は、加工性の高い材料（例えば、露光時に光の回折の影響を受けにくく、マスクにおける微細なパターンを高精度に転写できる材料）を用いて形成することができる。光学濃度が低い樹脂材料については、露光時に照射された光が樹脂材料の深部まで到達しやすく、微細加工に適している。このため、第２遮光部ＢＭ２は、比較的低い光学濃度を有する樹脂材料（例えばアクリル系樹脂材料）を用いて形成可能である。  
また、図４に示した構成例においては、第１遮光部ＢＭ１は、表示領域ＤＡのみならず、非表示領域ＮＤＡにも延在している。後述するように、表示領域ＤＡには一対の偏光板がクロスニコルの位置関係になるように配置されているため、照明装置からの光の漏れは抑制される。しかしながら、このような一対の偏光板は、非表示領域ＮＤＡの全域に亘って延在しているとは限らない。このため、非表示領域ＮＤＡにおいて照明装置からの光漏れを抑制するためには、非表示領域ＮＤＡに配置された第１遮光部ＢＭ１は、高い遮光性能を有することが要求される。つまり、第１遮光部ＢＭ１は、比較的高い光学濃度を有する樹脂材料（例えばポリイミド系樹脂材料）を用いて形成可能である。
【００２７】
図５乃至図７は、遮光部ＢＭＡ、遮光部ＢＭＢ、中間層ＩＮの積層関係を模式的に示す斜視図である。図５乃至図７においては、遮光部ＢＭＡは、方向Ｄ１に沿って延出しており、遮光部ＢＭＢは、方向Ｄ２に沿って延出している。方向Ｄ１及び方向Ｄ２は互いに交差している。例えば、方向Ｄ１が第１方向Ｘに相当し方向Ｄ２が第２方向Ｙに相当する場合、遮光部ＢＭＡは第１遮光部ＢＭ１に相当し遮光部ＢＭＢは第２遮光部ＢＭ２に相当する。また、方向Ｄ２が第１方向Ｘに相当し方向Ｄ１が第２方向Ｙに相当する場合、遮光部ＢＭＡは第２遮光部ＢＭ２に相当し遮光部ＢＭＢは第１遮光部ＢＭ１に相当する。  
図５に図示した例では、カラーフィルタ層ＣＦが中間層ＩＮに相当する。カラーフィルタ層ＣＦは、遮光部ＢＭＡを覆っている。遮光部ＢＭＢは、カラーフィルタ層ＣＦの上に形成されている。オーバーコート層ＯＣは、遮光部ＢＭＢを覆い、カラーフィルタ層ＣＦの上にも形成されている。
【００２８】
図６に図示した例では、オーバーコート層ＯＣが中間層ＩＮに相当する。遮光部ＢＭＡは、カラーフィルタ層ＣＦの上に形成されている。オーバーコート層ＯＣは、遮光部ＢＭＡを覆い、カラーフィルタ層ＣＦの上にも形成されている。遮光部ＢＭＢは、オーバーコート層ＯＣの上に形成されている。
【００２９】
図７に図示した例では、カラーフィルタ層ＣＦ及びオーバーコート層ＯＣが中間層ＩＮに相当する。カラーフィルタ層ＣＦは、遮光部ＢＭＡを覆っている。オーバーコート層ＯＣは、カラーフィルタ層ＣＦの上に形成されている。遮光部ＢＭＢは、オーバーコート層ＯＣの上に形成されている。
【００３０】
図８は、一実施例の第２基板ＳＵＢ２を示す平面図であり、上記の中間層に相当するカラーフィルタ層ＣＦ、第１遮光部ＢＭ１、第２遮光部ＢＭ２のレイアウトの一例を示す図である。図８の実施例は、図２乃至図４に示した構成例を液晶表示装置のより具体的な構成に当てはめたものである。
【００３１】
カラーフィルタＣＦ１、カラーフィルタＣＦ２、及び、カラーフィルタＣＦ３は、この順に第１方向Ｘに沿って並んでいる。これらのカラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３は、いずれも概ね第２方向Ｙに沿って延在し、帯状に形成されている。カラーフィルタＣＦ１は、緑色（Ｇ）のカラーフィルタである。カラーフィルタＣＦ２は、青色（Ｂ）のカラーフィルタである。カラーフィルタＣＦ３は、赤色（Ｒ）のカラーフィルタである。なお、カラーフィルタ層ＣＦとして、他の色のカラーフィルタを含んでいても良い。
【００３２】
第１遮光部ＢＭ１は、表示領域ＤＡにおいて、第１方向Ｘに沿って延出し、第２方向Ｙに沿って第１幅Ｗ１を有し、カラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３と交差している。第１遮光部ＢＭ１は、非表示領域ＮＤＡにも延在している。第２遮光部ＢＭ２は、概ね第２方向Ｙに沿って延出し、第１方向Ｘに沿って第２幅Ｗ２を有し、カラーフィルタ層ＣＦを介して第１遮光部ＢＭ１と交差している。カラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３のそれぞれの端部は、第２遮光部ＢＭ２に重なっている。図中のカラーフィルタＣＦ１とカラーフィルタＣＦ２との境界部Ｌ１、及び、カラーフィルタＣＦ２とカラーフィルタＣＦ３との境界部Ｌ２は、それぞれ第２遮光部ＢＭ２と対向している。第１遮光部ＢＭ１の第１幅Ｗ１は、例えば第２遮光部ＢＭ２の第２幅Ｗ２より大きい。また、第１遮光部ＢＭ１及び第２遮光部ＢＭ２は、例えばそれぞれ異なる材料によって形成されており、第１遮光部ＢＭ１に用いられる材料の光学濃度は、第２遮光部ＢＭ２に用いられる材料の光学濃度より大きい。
【００３３】
図９は、図８に示した第２基板ＳＵＢ２に対向する第１基板ＳＵＢ１の一部の構成を示す平面図である。なお、ここでは、横電界を利用する表示モードであるＦＦＳモードを適用した第１基板ＳＵＢ１の構成を例に説明するが、図中には説明に必要な主要部のみを図示している。
【００３４】
第１基板ＳＵＢ１は、ゲート線Ｇ１乃至Ｇ３、ソース線Ｓ１乃至Ｓ４、スイッチング素子ＳＷ１乃至ＳＷ６、共通電極ＣＥ、画素電極ＰＥ１乃至ＰＥ６、第１配向膜ＡＬ１などを備えている。
【００３５】
ゲート線Ｇ１乃至Ｇ３は、第１方向Ｘに沿ってそれぞれ延出している。ソース線Ｓ１乃至Ｓ４は、概ね第２方向Ｙに沿ってそれぞれ延出し、ゲート線Ｇ１乃至Ｇ３と交差している。これらのゲート線及びソース線は、画素ＰＸ１乃至ＰＸ６を区画している。
【００３６】
第１方向Ｘに並んだ画素ＰＸ１乃至ＰＸ３は互いに異なる色の色画素であり、また、画素ＰＸ４乃至ＰＸ６も互いに異なる色の色画素である。第２方向Ｙに並んだ画素ＰＸ１及びＰＸ４は同一色の画素であり、例えば緑色（Ｇ）画素である。第２方向Ｙに並んだ画素ＰＸ２及びＰＸ５は同一色の画素であり、例えば青色（Ｂ）画素である。第２方向Ｙに並んだ画素ＰＸ３及びＰＸ６は同一色の画素であり、例えば赤色（Ｒ）画素である。
【００３７】
画素ＰＸ１はゲート線Ｇ１及びゲート線Ｇ２とソース線Ｓ１及びソース線Ｓ２とで規定され、画素ＰＸ２はゲート線Ｇ１及びゲート線Ｇ２とソース線Ｓ２及びソース線Ｓ３とで規定され、画素ＰＸ３はゲート線Ｇ１及びゲート線Ｇ２とソース線Ｓ３及びソース線Ｓ４とで規定されている。これらの画素ＰＸ１乃至ＰＸ３は、第２方向Ｙに対して時計回りに鋭角に交差する第１延出方向Ａ１に延出している。各画素ＰＸ１乃至ＰＸ３の両側に位置するソース線Ｓ１乃至Ｓ４は第１延出方向Ａ１に延出している。
【００３８】
画素ＰＸ４はゲート線Ｇ２及びゲート線Ｇ３とソース線Ｓ１及びソース線Ｓ２とで規定され、画素ＰＸ５はゲート線Ｇ２及びゲート線Ｇ３とソース線Ｓ２及びソース線Ｓ３とで規定され、画素ＰＸ６はゲート線Ｇ２及びゲート線Ｇ３とソース線Ｓ３及びソース線Ｓ４とで規定されている。これらの画素ＰＸ４乃至ＰＸ６は、第２方向Ｙに対して反時計回りに鋭角に交差する第２延出方向Ａ２に延出している。各画素ＰＸ４乃至ＰＸ６の両側に位置するソース線Ｓ１乃至Ｓ４は第２延出方向Ａ２に延出している。なお、第２方向Ｙと第１延出方向Ａ１とのなす角度θ１は、第２方向Ｙと第２延出方向Ａ２とのなす角度θ２とほぼ同一であり、例えば５°〜１５°程度である。
【００３９】
共通電極ＣＥは、第１基板の略全域に亘って延在し、画素ＰＸ１乃至ＰＸ６に共通に形成されている。すなわち、共通電極ＣＥは、ゲート線Ｇ１乃至Ｇ３の上方を跨いで第２方向Ｙに延在するとともに、ソース線Ｓ１乃至Ｓ４の上方を跨いで第１方向Ｘに延在し、画素ＰＸ１乃至ＰＸ６のそれぞれに配置されている。なお、共通電極ＣＥには、各画素において、詳述しないが画素電極とスイッチング素子とを電気的に接続するための開口部が形成されている。
【００４０】
画素ＰＸ１には、スイッチング素子ＳＷ１及び画素電極ＰＥ１が配置されている。スイッチング素子ＳＷ１は、ゲート線Ｇ２及びソース線Ｓ１と電気的に接続されている。画素電極ＰＥ１は、ソース線Ｓ１とソース線Ｓ２との間に位置し、スイッチング素子ＳＷ１に接続されている。
【００４１】
画素ＰＸ２には、スイッチング素子ＳＷ２及び画素電極ＰＥ２が配置されている。スイッチング素子ＳＷ２は、ゲート線Ｇ２及びソース線Ｓ２と電気的に接続されている。画素電極ＰＥ２は、ソース線Ｓ２とソース線Ｓ３との間に位置し、スイッチング素子ＳＷ２に接続されている。
【００４２】
画素ＰＸ３には、スイッチング素子ＳＷ３及び画素電極ＰＥ３が配置されている。スイッチング素子ＳＷ３は、ゲート線Ｇ２及びソース線Ｓ３と電気的に接続されている。画素電極ＰＥ３は、ソース線Ｓ３とソース線Ｓ４との間に位置し、スイッチング素子ＳＷ３に接続されている。
【００４３】
同様に、画素ＰＸ４には、ゲート線Ｇ３及びソース線Ｓ１と電気的に接続されたスイッチング素子ＳＷ４、及び、スイッチング素子ＳＷ４に接続された画素電極ＰＥ４が配置されている。画素ＰＸ５には、ゲート線Ｇ３及びソース線Ｓ２と電気的に接続されたスイッチング素子ＳＷ５、及び、スイッチング素子ＳＷ５に接続された画素電極ＰＥ５が配置されている。画素ＰＸ６には、ゲート線Ｇ３及びソース線Ｓ３と電気的に接続されたスイッチング素子ＳＷ６、及び、スイッチング素子ＳＷ６に接続された画素電極ＰＥ６が配置されている。
【００４４】
スイッチング素子ＳＷ１乃至ＳＷ６は、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）である。これらのゲート線Ｇ１乃至Ｇ３、及び、スイッチング素子ＳＷ１乃至ＳＷ６は、図８に示した第１遮光部ＢＭ１と対向する。また、ソース線Ｓ１乃至Ｓ４は、図８に示した第２遮光部ＢＭ２と対向する。
【００４５】
画素電極ＰＥ１乃至ＰＥ６は、それぞれ共通電極ＣＥの上方に位置している。画素電極ＰＥ１乃至ＰＥ３は、それぞれ第１延出方向Ａ１に延出した画素形状に対応した島状に形成されている。また、画素電極ＰＥ１乃至ＰＥ３は、それぞれ第１延出方向Ａ１に延出したスリットＳＬＡを有している。画素電極ＰＥ４乃至ＰＥ６は、それぞれ第２延出方向Ａ２に延出した画素形状に対応した島状に形成されている。また、画素電極ＰＥ４乃至ＰＥ６は、それぞれ第２延出方向Ａ２に延出したスリットＳＬＢを有している。各スリットＳＬＡ及びＳＬＢは、いずれも共通電極ＣＥと向かい合っている。
【００４６】
第１配向膜ＡＬ１の配向処理方向Ｒ１は、例えば、第１方向Ｘに平行な方向である。また、図８に示した第２基板ＳＵＢ２に備えられる第２配向膜ＡＬ２の配向処理方向Ｒ２は、例えば、第１方向Ｘに平行な方向であり、配向処理方向Ｒ１とは逆向きの方向である。第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２に対する配向処理方法の一例としては、ラビング処理や光配向処理などが挙げられる。
【００４７】
図１０は、図９の線Ｉ−Ｉ‘に沿った表示パネルＰＮＬの断面図である。なお、図１０では、表示領域ＤＡのみならず非表示領域ＮＤＡにおける断面も併せて図示している。  
第１基板ＳＵＢ１は、ガラス基板や樹脂基板などの透明な第１絶縁基板１０を用いて形成されている。第１基板ＳＵＢ１は、第１絶縁基板１０の第２基板ＳＵＢ２に対向する側に、図示しないスイッチング素子、共通電極ＣＥ、画素電極ＰＥ１乃至ＰＥ３、第１絶縁膜１１、第２絶縁膜１２、第１配向膜ＡＬ１などを備えている。
【００４８】
共通電極ＣＥは、第１絶縁膜１１の上に形成されている。共通電極ＣＥは、透明な導電材料、例えば、インジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）やインジウム・ジンク・オキサイド（ＩＺＯ）などによって形成されている。共通電極ＣＥは、第２絶縁膜１２によって覆われている。なお、図示しないゲート線やソース線、スイッチング素子などは、第１絶縁基板１０と第１絶縁膜１１との間に形成されている。
【００４９】
画素電極ＰＥ１乃至ＰＥ３は、第２絶縁膜１２の上に形成され、共通電極ＣＥと向かい合っている。画素電極ＰＥ１乃至ＰＥ３には、それぞれスリットＳＬＡが形成されている。画素電極ＰＥ１乃至ＰＥ３は、透明な導電材料、例えば、ＩＴＯやＩＺＯなどによって形成されている。画素電極ＰＥ１乃至ＰＥ３は、第１配向膜ＡＬ１によって覆われている。第１配向膜ＡＬ１は、第２絶縁膜１２も覆っている。第１配向膜ＡＬ１は、例えば水平配向性を示す材料によって形成され、第１基板ＳＵＢ１の液晶層ＬＱに接する面に配置されている。
【００５０】
一方、第２基板ＳＵＢ２は、ガラス基板や樹脂基板などの透明な第２絶縁基板２０を用いて形成されている。第２基板ＳＵＢ２は、第２絶縁基板２０の第１基板ＳＵＢ１に対向する側に、第１遮光部ＢＭ１、カラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３、第２遮光部ＢＭ２、オーバーコート層ＯＣ、第２配向膜ＡＬ２などを備えている。
【００５１】
第１遮光部ＢＭ１は、第２絶縁基板２０の第１基板ＳＵＢ１と対向する内面２０Ａに形成されている。第１遮光部ＢＭ１は、非表示領域ＮＤＡの内面２０Ａにも形成されている。カラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３のそれぞれは、第１遮光部ＢＭ１を覆っている。なお、カラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３のそれぞれは、表示領域ＤＡにおいて第１遮光部ＢＭ１が存在しない領域では内面２０Ａに形成されている。カラーフィルタＣＦ１は、緑色に着色された樹脂材料によって形成されている。カラーフィルタＣＦ２は、青色に着色された樹脂材料によって形成されている。カラーフィルタＣＦ３は、赤色に着色された樹脂材料によって形成されている。
【００５２】
第２遮光部ＢＭ２は、カラーフィルタ層ＣＦの第１基板ＳＵＢ１と対向する側に形成されている。第２遮光部ＢＭ２は、各カラーフィルタの境界部Ｌと対向して形成されている。なお、図示した例では、第２遮光部ＢＭ２は、異なる色のカラーフィルタに跨って配置される。つまり、隣接するカラーフィルタの端部は、第２遮光部ＢＭ２の下地を形成する。このため、隣接するカラーフィルタの端部は、過度に重なり合うことなく、できるだけ平坦に形成されることが望ましい。図示した例は、第２遮光部ＢＭ２は、第１遮光部ＢＭ１より液晶層ＬＱ側に形成された例に相当する。なお、図示した例では、カラーフィルタ層ＣＦは、非表示領域ＮＤＡには形成されていないが、第１遮光部ＢＭ１と部分的に積層しても良い。
【００５３】
オーバーコート層ＯＣは、第２遮光部ＢＭ２と、カラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３とを覆っている。非表示領域ＮＤＡにおいては、オーバーコート層ＯＣは、第１遮光部ＢＭ１を覆っている。オーバーコート層ＯＣは、透明な樹脂材料によって形成されている。オーバーコート層ＯＣは、第２配向膜ＡＬ２によって覆われている。第２配向膜ＡＬ２は、例えば水平配向性を示す材料によって形成され、第２基板ＳＵＢ２の液晶層ＬＱに接する面に配置されている。
【００５４】
上述したような第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とは、第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２が向かい合うように配置されている。第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とは、セルギャップが形成された状態でシール材によって貼り合わせられている。液晶層ＬＱは、第１基板ＳＵＢ１の第１配向膜ＡＬ１と第２基板ＳＵＢ２の第２配向膜ＡＬ２との間に形成されたセルギャップに封入された液晶分子ＬＭを含む液晶組成物によって構成されている。一例では、液晶層ＬＱは、ネガ型であるが、ポジ型を適用しても良い。
【００５５】
このような構成の表示パネルＰＮＬに対して、その背面側には、照明装置ＢＬが配置されている。照明装置ＢＬとしては、種々の形態が適用可能であるが、詳細な構造については説明を省略する。
【００５６】
第１絶縁基板１０の外面には、第１偏光板ＰＬ１を含む第１光学素子ＯＤ１が配置されている。第２絶縁基板２０の外面には、第２偏光板ＰＬ２を含む第２光学素子ＯＤ２が配置されている。例えば、第１偏光板ＰＬ１の第１吸収軸及び第２偏光板ＰＬ２の第２吸収軸は、Ｘ−Ｙ平面内で直交している。また、第１吸収軸及び第２吸収軸のいずれか一方は、液晶分子ＬＭの初期配向方向と平行である。
【００５７】
以下に、上記構成の液晶表示装置における動作について説明する。
液晶層ＬＱに電圧が印加されていないＯＦＦ時には、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に電界が形成されていない。このため、液晶層ＬＱに含まれる液晶分子ＬＭは、図９に実線で示したように、第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２の配向規制力によりＸ−Ｙ平面内において第１方向Ｘに初期配向している。つまり、液晶分子ＬＭの初期配向方向は第１方向Ｘに平行である。
【００５８】
ＯＦＦ時には、照明装置ＢＬからの光の一部は、第１偏光板ＰＬ１を透過し、表示パネルＰＮＬに入射する。表示パネルＰＮＬに入射した光は、例えば第１偏光板ＰＬ１の第１吸収軸と直交する直線偏光である。このような直線偏光の偏光状態は、ＯＦＦ時の表示パネルＰＮＬを通過した際にほとんど変化しない。このため、表示パネルＰＮＬを透過した直線偏光のほとんどが、第２偏光板ＰＬ２によって吸収される（黒表示）。第１光学素子ＯＤ１及び第２光学素子ＯＤ２は、非表示領域ＮＤＡの全体に配置されていないが、照明装置ＢＬからの光は、比較的高い光学濃度を有する第１遮光部ＢＭ１によって遮光される。
【００５９】
一方、液晶層ＬＱに電圧が印加されたＯＮ時には、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間にフリンジ電界が形成される。このため、液晶分子ＬＭは、図９に破線で示したように、Ｘ−Ｙ平面内において、初期配向方向とは異なる方位に配向する。ネガ型の液晶材料においては、例えば画素ＰＸ３の液晶分子ＬＭは、Ｘ−Ｙ平面内において、フリンジ電界と略平行な方向に配向するように反時計回りに回転し、画素ＰＸ６の液晶分子ＬＭは、Ｘ−Ｙ平面内において、フリンジ電界と略平行な方向に配向するように時計回りに回転する。このとき、液晶分子ＬＭは、電界の大きさに応じた方向に配向する。
【００６０】
ＯＮ時には、第１偏光板ＰＬ１の第１吸収軸と直交する直線偏光は、表示パネルＰＮＬに入射し、その偏光状態は、液晶層ＬＱを通過する際に液晶分子ＬＭの配向状態に応じて変化する。このため、ＯＮ時においては、液晶層ＬＱを通過した少なくとも一部の光は、第２偏光板ＰＬ２を透過する（白表示）。  
このような構成により、ノーマリーブラックモードが実現される。
【００６１】
図１１は、図１０の表示パネルＰＮＬにおいて、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間に合わせずれが生じた際の構成を模式的に示す断面図である。ここでは、第２基板ＳＵＢ２が、第１基板ＳＵＢ１に対して、第１方向Ｘに平行な方向に距離ｄ１だけずれて貼り合わせられた場合を示している。なお、図中には、説明に必要な構成のみを図示している。
【００６２】
ここで、第１基板ＳＵＢ１は、共通電極ＣＥの上に金属層Ｍを備えている。金属層Ｍは、第２遮光部ＢＭ２と対向し、第２遮光部ＢＭ２と略平行に延出している。金属層Ｍは、遮光性を有する金属材料によって形成され、第３遮光部として機能する。
【００６３】
ところで、画素ＰＸの高精細化を図ると、画素ＰＸのピッチが小さくなる。ピッチの縮小に伴う開口率の低下を抑制するために、画素ＰＸを区画する第１遮光部ＢＭ１及び第２遮光部ＢＭ２を細線化することが望ましい。しかし、異なる色を表示する画素間に位置する第２遮光部ＢＭ２を細線化した場合、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間に合わせずれが生じることにより、表示品位に悪影響を及ぼすという懸念がある。シミュレーションによれば、画素ＰＸのピッチを１０μｍとし、第２遮光部ＢＭ２の幅を５μｍとし、２．５μｍの合せずれが発生した場合に、画面の法線に対して４０°傾いた方向から観察すると、ほぼすべての光が第２遮光部ＢＭ２によって遮光され、透過率が著しく低下することが確認された。しかも、４０°より大きな角度の方向から観察すると、隣接する画素のカラーフィルタを透過した光が混ざり、いわゆる混色現象が発生することが確認された。このような混色現象を防止するためには、第２遮光部ＢＭ２を拡幅したり、画素境界付近の液晶層の変調率を低下させたりすることが検討されたが、いずれの手法も一画素あたりの透過率の低下を招くため、画素サイズが縮小する高精細化には不向きである。
【００６４】
そこで、本実施形態においては、第２遮光部ＢＭ２は、第１遮光部ＢＭ１よりも液晶層側に形成されている。光路ａ乃至ｄは、画素ＰＸ１において第１基板ＳＵＢ１に入射した光の光路に相当する。光路ａ及びｂを通る光は、画素ＰＸ１においてカラーフィルタＣＦ１を介して第２基板ＳＵＢ２を透過している。光路ａ及びｂよりも画素ＰＸ２に近い光路ｃを通る光は、第２基板ＳＵＢ２の第２遮光部ＢＭ２によって遮光され、第２画素ＰＸ２のカラーフィルタＣＦ２から出射するのを妨げられる。光路ｃよりも画素ＰＸ２に近い光路ｄを通る光は、画素ＰＸ１において第１基板ＳＵＢの金属層Ｍによって遮光され、第２画素ＰＸ２から出射するのを妨げられる。
【００６５】
このように、第２遮光部ＢＭ２を挟んで隣り合う画素ＰＸ１がオン状態であり、画素ＰＸ２がオフ状態であったとしても、光路ｃ及びｄに示されるように、第２遮光部ＢＭ２によって画素ＰＸ１に入射した光が画素ＰＸ２から透過するのを抑制することができる。このため、第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２の合わせずれが生じた際に、表示パネルＰＮＬを斜め方向から観察した場合であっても、混色による表示品位の劣化を抑制することができる。また、混色防止のために遮光部ＢＭの幅を拡大する必要がなくなるため、一画素あたりの表示に寄与する面積の縮小を抑制し、透過率の低下を抑制することが可能となる。
【００６６】
図１２は、図９の線Ｉ−Ｉ‘に沿った表示パネルＰＮＬの他の実施例を示す断面図である。図１２に示される表示パネルＰＮＬの構成は、図１０と比較して、第２遮光部ＢＭ２が形成される位置が異なっている。
【００６７】
オーバーコート層ＯＣは、カラーフィルタ層ＣＦを覆っている。第２遮光部ＢＭ２は、オーバーコート層ＯＣの上に形成されている。第２配向膜ＡＬ２は、第２遮光部ＢＭ２を覆い、オーバーコート層ＯＣも覆っている。図１２に示した例では、第２遮光部ＢＭ２は、第１遮光部ＢＭ１より液晶層ＬＱ側に形成されている。また、ここでは、カラーフィルタ層ＣＦ及びオーバーコート層ＯＣが中間層ＩＮに相当する。
【００６８】
図１３は、図９の線Ｉ−Ｉ‘に沿った表示パネルＰＮＬの他の実施例を示す断面図である。図１３に示される表示パネルＰＮＬの構成は、図１２と比較して、第１遮光部ＢＭ１が形成される位置が異なっている。
【００６９】
第１遮光部ＢＭ１は、カラーフィルタ層ＣＦの上に形成されている。オーバーコート層ＯＣは、第１遮光部ＢＭ１を覆っている。図１３に示した例では、第２遮光部ＢＭ２は、第１遮光部ＢＭ１より液晶層ＬＱ側に形成されている。また、ここでは、オーバーコート層ＯＣが中間層ＩＮに相当する。
【００７０】
図１４は、図９の線Ｉ−Ｉ‘に沿った表示パネルＰＮＬの他の実施例を示す断面図である。図１４に示される表示パネルＰＮＬの構成は、図１３と比較して、第２遮光部ＢＭ２が形成される位置が異なっている。
【００７１】
第２遮光部ＢＭ２は、第２絶縁基板２０の上に形成されている。カラーフィルタ層ＣＦは、第２遮光部ＢＭ２を覆っている。図１４に示した例では、第１遮光部ＢＭ１は、第２遮光部ＢＭ２より液晶層ＬＱ側に形成されている。また、ここでは、カラーフィルタ層ＣＦが中間層ＩＮに相当する。
【００７２】
図１５は、図９の線Ｉ−Ｉ‘に沿った表示パネルＰＮＬの他の実施例を示す断面図である。図１５に示される表示パネルＰＮＬの構成は、図１４と比較して、第１遮光部ＢＭ１が形成される位置が異なっている。
【００７３】
第１遮光部ＢＭ１は、オーバーコート層ＯＣの上に形成されている。また、非表示領域ＮＤＡにおいても、第１遮光部ＢＭ１は、オーバーコート層ＯＣの上に形成されている。図１５に示した例では、第１遮光部ＢＭ１は、第２遮光部ＢＭ２より液晶層ＬＱ側に形成されている。また、ここでは、カラーフィルタ層ＣＦ及びオーバーコート層ＯＣが中間層ＩＮに相当する。
【００７４】
図１６は、図９の線Ｉ−Ｉ‘に沿った表示パネルＰＮＬの他の実施例を示す断面図である。図１６に示される表示パネルＰＮＬの構成は、図１５と比較して、第２遮光部ＢＭ２が形成される位置が異なっている。
【００７５】
第２遮光部ＢＭ２は、カラーフィルタ層ＣＦの上に形成されている。図１６に示した例では、第１遮光部ＢＭ１は、第２遮光部ＢＭ２より液晶層ＬＱ側に形成されている。また、ここでは、オーバーコート層ＯＣが中間層ＩＮに相当する。
【００７６】
このような実施例においても、上記したのと同様の効果が得られる。
以上説明したように、本実施形態によれば、開口率の低下を抑制することが可能な液晶表示装置を提供することができる。
【００７７】
なお、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００７８】
ＤＡ…表示領域  Ｄ１…第１方向  Ｄ２…第２方向
ＢＭ１…第１遮光部  ＢＭ２…第２遮光部  ＩＮ…中間層
ＳＵＢ１…第１基板  ＳＵＢ２…第２基板  ＬＱ…液晶層
ＣＦ…カラーフィルタ層
ＣＦ１…カラーフィルタ  ＣＦ２…カラーフィルタ
ＣＦ３…カラーフィルタ
Ｌ１、Ｌ２…境界部  Ｇ…ゲート線  Ｓ…ソース線
Ｗ１…第１幅  Ｗ２…第２幅  ＮＤＡ…非表示領域
ＯＣ…オーバーコート層  Ｍ…金属層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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