(57)【要約】【課題】フィラメント寿命に影響を与えることなく、Ｘ線撮影スイッチを押してからＸ線出力までのタイムラグを短縮することが可能なＸ線発生装置を提供する。【解決手段】陰極１１と、陽極１５と、高電圧発生回路２０と、フィラメント加熱回路３０と、フィラメント電流制御部４３を有し、フィラメント電流制御部４３は、フィラメント１２の電流値及び電圧値に基づいて、フィラメント１２の電気抵抗を求め、前記電気抵抗がフィラメント１２の目標電気抵抗に到達した場合に陰極１１と陽極１５との間に管電圧を発生させることを特徴とする。【選択図】図１
2017027832.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陰極と陽極と前記陰極及び前記陽極を気密に収容する外容器とを有するＸ線管と、
前記陰極と前記陽極との間に管電圧を印加する高電圧発生回路と、
前記陰極が具備するフィラメントに対して電流を供給することでフィラメントを加熱するフィラメント加熱回路と、
前記フィラメント加熱回路を制御するフィラメント電流制御部と、
を有し、
前記フィラメント電流制御部は、前記フィラメントの電流値及び電圧値に基づいて、前記フィラメントの電気抵抗を求め、前記電気抵抗が前記フィラメントの目標電気抵抗に到達した場合に前記陰極と前記陽極との間に前記管電圧を発生させることを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項２】
請求項１に記載のＸ線発生装置において、
前記目標電気抵抗は、前記フィラメントの目標温度と前記フィラメントを構成する材質の比抵抗とに基づいて設定されることを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項３】
請求項２に記載のＸ線発生装置において、
前記フィラメント電流制御部は、前記電気抵抗が前記目標電気抵抗を超えないようにフィードバック制御を行うことを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項４】
請求項３に記載のＸ線発生装置において、
前記目標電気抵抗に対応する目標温度を操作者から受け付ける目標温度受付部を有することを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項５】
請求項１に記載のＸ線発生装置において、
前記フィラメント加熱回路は、
外部電源の交流を直流に変換する整流回路と、当該直流を高周波の交流に変換するインバータと、当該高周波の交流を変圧する変圧器と、前記フィラメントの電流値を検出するフィラメント電流検出回路と、前記フィラメントの電圧値を検出するフィラメント電圧検出回路と、を有することを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項６】
請求項５に記載のＸ線発生装置において、
前記フィラメント電流検出回路は、前記変圧器よりも前記フィラメントの側に設けられていることを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項７】
請求項１に記載のＸ線発生装置において、
前記フィラメントは、前記フィラメントの端部を支持するフィラメント支持部に対して、前記フィラメントと前記フィラメント支持部との間に介挿した中間部材を溶融することで固定されている
ことを特徴とするＸ線発生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｘ線発生装置に係り、特にＸ線発生のためのフィラメントの電流制御を行うＸ線発生装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線を使用して被検体を撮影する医療用Ｘ線装置などに使用されるＸ線発生装置は、陰極と陽極とを真空外囲器内に封入し、さらに、真空外囲器を絶縁油が封入されたＸ線管と、Ｘ線管内の制御を行う制御回路から構成される。
【０００３】
このようなＸ線発生装置にて透視画像を見ながらＸ線写真を撮影する場合、Ｘ線撮影スイッチを押した後にフィラメントの加熱が開始される。フィラメントが所定温度に上がると、フィラメント表面より熱電子が出射される。
【０００４】
フィラメント温度が所定温度以上に上昇してから、陰極と陽極間に高電圧（管電圧）を印加すると、陰極で発生した前記熱電子が陽極に向かって加速され、陰極と陽極との間に管電流が流れる。管電流をセンシングし、管電流が一定となるようフィラメントへの加熱量を制御することで、安定したＸ線量を出力することができ、安定したＸ線撮影をすることができる。
【０００５】
Ｘ線撮影スイッチを押してからＸ線が出力するまでの時間は、フィラメントが所定温度以上に上昇するになるまでにかかる時間が支配的である。このため、所定温度になるまでの時間が長いと、Ｘ線撮影スイッチを押してからＸ線の出力までにタイムラグが発生することとなり、意図した瞬間の写真を撮影することが困難となる。
【０００６】
そこで従来、フィラメントが所定温度になるまでの時間を短縮するため、Ｘ線撮影スイッチを押した直後のフィラメント加熱量を過剰にするものがあった。例えば特許文献１では、デジタル回路部に、曝射準備期間中にオーバーシュート電圧を発生させるためのオーバーシュート生成部をもたせている。これにより、曝射準備期間中に十分なフィラメント加熱を行うことができるようになり、曝射準備時間の短縮を図っている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平８−１９５２９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１のように、オーバーシュート生成部により過剰な電圧にてフィラメントにフィラメント電流を流す場合、管電流が流れフィラメント加熱量の制御が始まるまでは、フィラメントが必要以上の温度となる可能性がある。フィラメントを高温状態に保つと劣化するため、フィラメントを短寿命化するおそれがあった。一方、これを避けるために、Ｘ線撮影スイッチを押した直後のフィラメント加熱量を抑えると、Ｘ線撮影スイッチを押してからＸ線が出力するまでの時間が長くなってしまう。
【０００９】
本発明の目的は、フィラメント寿命に影響を与えることなく、Ｘ線撮影スイッチを押してからＸ線出力までのタイムラグを短縮することが可能なＸ線発生装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために本発明のＸ線発生装置は、陰極と陽極と前記陰極及び前記陽極を気密に収容する外容器とを有するＸ線管と、前記陰極と前記陽極との間に管電圧を印加する高電圧発生回路と、前記陰極が具備するフィラメントに対して電流を供給することでフィラメントを加熱するフィラメント加熱回路と、前記フィラメント加熱回路を制御するフィラメント電流制御部と、を有し、前記フィラメント電流制御部は、前記フィラメントの電流値及び電圧値に基づいて、前記フィラメントの電気抵抗を求め、前記電気抵抗が前記フィラメントの目標電気抵抗に到達した場合に前記陰極と前記陽極との間に前記管電圧を印加することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、フィラメント寿命に影響を与えることなく、Ｘ線撮影スイッチを押してからＸ線出力までのタイムラグを短縮することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本実施形態のＸ線発生装置の概略構成を示すブロック図。
【図２】（ａ）本実施形態の陰極の詳細構成を示す説明図、（ｂ）陰極の組み立て方法を示す説明図。
【図３】本実施形態のフィラメント電流制御部の詳細構成を示すブロック図。
【図４】本実施形態のフィラメント電流制御の動作を示すフローチャート。
【図５】（ａ）および（ｂ）Ｘ線発生装置をＸ線撮影装置に適用した場合における本実施形態と比較例の動作を示すグラフ。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本実施形態のＸ線発生装置１について図面を参照して説明する。
まず、Ｘ線発生装置１の概略構成を説明する。図１は、本実施形態のＸ線発生装置１の概略構成を示すブロック図である。
【００１４】
図１に示すように、Ｘ線発生装置１は、陰極１１及び陽極１５を具備するＸ線管１０と、陰極１１と陽極１５との間に管電圧を発生させ管電流を供給する高電圧発生回路２０と、陰極１１が具備するフィラメント１２に対して電流を供給することでフィラメントを加熱するフィラメント加熱回路３０と、高電圧発生回路２０及びフィラメント加熱回路３０を制御する制御部４０と、を有する。制御部４０には、操作者が各種の設定値を入力し又はＸ線の発生指令を出すなどの操作をする操作部５０に接続されている。高電圧発生回路２０及びフィラメント加熱回路３０には、外部電源６０から電流が供給される。また、フィラメント電流を制御する制御主体を切り替える制御切替回路７０を有する。次に、各部の詳細構成について述べる。
【００１５】
Ｘ線管１０は、中点接地型であって、陰極１１と陽極１５を具備し、陰極１１及び陽極１５は気密に満たされた外容器１８に収容される。外容器１８は、金属で形成された金属部を有し、この金属部は、接地されている。外容器１８内は、絶縁油で満たされる。Ｘ線管１０内において、陰極１１のフィラメント１２から発生した熱電子が陽極１５に設けたターゲットへ衝突することによりＸ線が発生する。
【００１６】
高電圧発生回路２０は、Ｘ線管１０の陰極１１と陽極１５との間に管電圧を印加する回路である。本実施形態では高電圧発生回路２０として中点接地型の回路を例示して説明する。
【００１７】
高電圧発生回路２０は、整流回路２１と、インバータ回路２２とを有する。また、陰極１１と接地された金属部との間に電圧を印加するための回路として、陰極側変圧器２３ａ、陰極側高電圧整流回路２４ａ、陰極側コンデンサ２５ａを有し、陽極１５と接地された金属部との間に電圧を印加するための回路として、陽極側変圧器２３ｂ、陽極側高電圧整流回路２４ｂ、陽極側コンデンサ２５ｂを有する。
【００１８】
この構成により、管電圧制御部４１の指令に応じて管電圧を印加する際には、商用の外部電源６０の交流を整流回路２１で一旦直流に変換し、当該直流の電流をインバータ回路２２によって、商用電源よりも高い周波数の交流電流に変換する。その後は陰極側と陽極側に分岐し、陰極側変圧器２３ａ及び陽極側変圧器２３ｂによって所定の管電圧が得られる電圧に昇圧して、これを陰極側高電圧整流回路２４ａ及び陽極側高電圧整流回路２４ｂによって直流の高電圧の管電圧に変換し、これを陰極側コンデンサ２５ａ及び陽極側コンデンサ２５ｂにて平滑させてから、陰極１１と金属部との間、及び、陽極１５と金属部との間に管電圧を印加する。
【００１９】
また、高電圧発生回路２０は、陽極１５に接続された抵抗Ｒ１、抵抗Ｒ１と接地点との間に接続された抵抗Ｒ２を有する電位検出回路２６を有する。電位検出回路２６には、管電圧制御部４１と、管電流制御部４２とが接続される。管電圧制御部４１は、インバータ回路２２を制御して管電圧の制御を行い、管電流制御部４２は制御切替回路７０を介して後述のインバータ３２を制御してフィラメント１２に流れる管電流を制御する。
【００２０】
この構成により、管電圧が印加された後、電位検出回路２６が陽極１５の電位および管電流を検出し、この検出結果を管電圧制御部４１及び管電流制御部４２に伝達する。これにより、高電圧発生回路２０における管電圧及び管電流の制御がなされる。
【００２１】
フィラメント加熱回路３０は、陰極１１のフィラメント１２を加熱するための電流を供給するための回路として、整流回路３１、インバータ３２、変圧器３３を有する。この構成により、外部電源６０の交流を整流回路３１にて直流に変換し、これをインバータ３２で高周波の交流に変換する。この交流を変圧器３３に入力し、変圧器３３からの出力をフィラメント１２に供給することでフィラメント１２に電流を供給してを加熱する。
【００２２】
また、フィラメント加熱回路３０は、陰極１１のフィラメント電流を検出するフィラメント電流検出回路３４と、フィラメント電圧を検出するフィラメント電圧検出回路３５を有する。フィラメント電圧検出回路３５は、陰極１１の一方の端子に接続される抵抗Ｒ３、抵抗Ｒ３と接地点との間に接続される抵抗Ｒ４、陰極１１の他方の端子に接続される抵抗Ｒ５、抵抗Ｒ５と接地点との間に接続される抵抗Ｒ６を有する。ここで、本実施形態のフィラメント電流検出回路３４は、変圧器３３よりもフィラメント１２の側に設けられている。ただし、必ずしもフィラメント電流検出回路３４の設置位置はこの位置に限らず、フィラメント電流検出回路３４を変圧器３３よりもインバータ３２側に設置する構成にすることも可能である。
【００２３】
また、フィラメント加熱回路３０は、フィラメント電流を制御しフィラメント１２を加熱するフィラメント電流制御部４３を有する。この構成により、フィラメント電流制御部４３は、フィラメント電流検出回路３４及びフィラメント電圧検出回路３５から検出した陰極１１側の電流値及び電圧値に基づいて、フィラメント電流を制御し、フィラメント１２の加熱を行う。
【００２４】
制御部４０は、操作部５０によって操作者が設定した値を読み込み、管電圧制御部４１、管電流制御部４２、フィラメント電流制御部４３及び制御切替回路７０の動作制御を行う。制御部４０、管電圧制御部４１、管電流制御部４２、フィラメント電流制御部４３は、いずれもＣＰＵとメモリを有し、予めメモリに格納されたプログラムをＣＰＵが読み込んで実行することにより、ソフトウエアによりその動作を実現することも可能であるし、アナログ回路やＡＳＩＣ等のハードウエア構成により実現することも可能である。
【００２５】
操作部５０は、操作者がＸ線発生に必要な情報、例えば、検査日時、Ｘ線発生条件などの入力、および、Ｘ線撮影開始の指示をするための装置である。Ｘ線発生装置が、Ｘ線透視撮影装置に搭載される場合、操作部５０は、具体的にはキーボードやポインティングデバイスや、透視開始を指示するスイッチや、撮影開示を指示する曝射スイッチを含む。操作部５０に入力された情報は、制御部４０のメモリのみならず、必要に応じて、管電圧制御部４１、管電流制御部４２又はフィラメント電流制御部４３のメモリにも伝達される。
【００２６】
例えば、フィラメント１２の目標温度ＴＡを操作者が操作部５０に入力すると、制御部４０は目標温度ＴＡの情報をフィラメント電流制御部４３のメモリに格納する。このため、操作部５０は目標温度受付部として機能する。
【００２７】
制御切替回路７０は、２つのスイッチＳＷ１，ＳＷ２を有し、選択的に切替可能な回路である。スイッチＳＷ１を選択した場合には、フィラメント電流制御部４３からの制御信号がインバータ３２に伝達され、スイッチＳＷ２を選択した場合には、フィラメント電流制御部４３からの制御信号がインバータ３２に伝達される。
【００２８】
次に、本実施形態の特徴的な構成及び動作を説明する。まず、陰極１１が具備するフィラメント１２の具体的な支持構造を図２を用いて説明する。図２は、本実施形態の陰極１１の詳細構成を示す説明図であり、（ａ）が陰極１１の概略構成図、（ｂ）が図２（ａ）におけるＡ部の組立時の拡大斜視図である。図２（ａ）に示すように、陰極１１は、タングステンにより構成され熱電子を発生させるコイル状に巻いたフィラメント１２の線状の両端部をフィラメント支持部１３に対して固定することで構成される。
【００２９】
フィラメント１２の両端部をフィラメント支持部１３に対して組み付ける場合、図２（ｂ）に示すように、フィラメント１２とフィラメント支持部１３との間に、タングステンより融点の低い溶融しやすい金属により構成される中間部材１４を介挿する。そして、中間部材１４を高温で溶融させることにより、中間部材１４がフィラメント１２及びフィラメント支持部１３に対して一体となる。こうして、フィラメント１２とフィラメント支持部１３が導通状態で固定される。
【００３０】
次に、フィラメント電流制御部４３の詳細構成を説明する。図３は、本実施形態のフィラメント電流制御部４３の詳細構成を示すブロック図である。ここでは、フィラメント電流制御部４３は、ソフトウエアにより動作を実現するため、ＣＰＵ４３ａと、メモリ４３ｂとを有する。
【００３１】
また、フィラメント電流制御部４３は、フィラメント電流検出回路３４からの電流を検出する電流計４３ｃと、電流計４３ｃからのアナログ信号をデジタル変換するＡ／Ｄ変換器４３ｄとを有し、フィラメント電流検出回路３４からの電流値をＣＰＵ４３ａに伝達する。また、フィラメント電圧検出回路３５からの電圧を検出する電圧計４３ｅと、電圧計４３ｅからのアナログ信号をデジタル変換するＡ／Ｄ変換器４３ｆとを有し、フィラメント電圧検出回路３５からの電圧値をＣＰＵ４３ａに伝達する。ＣＰＵ４３ａは、Ａ／Ｄ変換器４３ｄ及びＡ／Ｄ変換器４３ｆによりデジタル変換された電流信号及び電圧信号に基づいて制御信号を発生し、Ｄ／Ａ変換器４３ｇによってアナログ信号に変換してから制御切替回路７０へ信号を伝達する。
【００３２】
本実施形態のフィラメント電流制御部４３による制御は、操作者が操作部５０により設定したフィラメント１２の目標温度ＴＡに、短時間で且つ過剰な昇温がないように達するようにフィードバック制御する。具体的には、操作者が設定したフィラメント１２の目標温度ＴＡがメモリ４３ｂに格納されると、ＣＰＵ４３ａは、目標温度ＴＡに対応するフィラメント１２の電気抵抗ＲＴを、下記の式１を用いて求め、メモリ４３ｂに格納する。なお、目標温度ＴＡは、少なくとも、フィラメント１２から熱電子が出射される温度であることが必要である。
【００３３】
ρ＝１．７７（Ｔ／１０００）２＋２６．５２（Ｔ／１０００）−３．４４  ［×１０−８Ωｍ］
ＲＴ＝ρ・Ｌ／Ｓ                        …（式１）
なお、式１において、ρは、フィラメント１２の材質であるタングステンの比抵抗、Ｌは、フィラメントの長さ、Ｓは、フィラメント１２の断面積である。
【００３４】
また、設定可能な目標温度ＴＡごとに、対応する電気抵抗ＲＴを予め求めてテーブル等としてメモリ４３ｂに予め格納しておき、ＣＰＵ４３ａが操作者が設定したフィラメント１２の目標温度ＴＡに対応する電気抵抗ＲＴをテーブルから選択する構成にすることも可能である。
【００３５】
本実施形態のＣＰＵ４３ａは、フィラメント電流検出回路３４から得られた電流値と、フィラメント電圧検出回路３５から得られた電圧値からフィラメント１２の電気抵抗Ｒを求める。そして、測定した電気抵抗Ｒが目標電気抵抗ＲＴに到達したか否かで、フィラメント１２が目標温度ＴＡに達したか否かを判定する。
【００３６】
以下、図４を用いて、本実施形態のフィラメント電流制御の動作を具体的に説明する。
【００３７】
操作部５０の曝射スイッチが操作者によってＯＮにされ、Ｘ線発生が指示されると、制御部４０からフィラメント電流制御部４３に制御信号が伝達され、フィラメント電流制御部４３がフィラメント電流の供給を開始する（ステップＳ１）。フィラメント１２に電流が流れることにより、フィラメント１２の加熱が開始する。
【００３８】
フィラメント１２を通過したフィラメント電流は、フィラメント電流検出回路３４および電流系４３ｃによって検出される。また、フィラメント電圧検出回路３５および電圧計４３ｅは、フィラメント１２の電圧値を検出する。これらの電流値及び電圧値は、フィラメント電流制御部４３のメモリ４３ｂに格納される。フィラメント電流制御部４３は、前記電流値及び当該電圧値からフィラメント抵抗値Ｒを算出する（ステップＳ２）。
【００３９】
次に、フィラメント電流制御部４３は、測定した電気抵抗Ｒと目標電気抵抗ＲＴとを比較する。そして、電気抵抗Ｒが目標電気抵抗ＲＴに到達しているか否かを判定する（ステップＳ４）。
【００４０】
電気抵抗Ｒが目標電気抵抗ＲＴに到達していない場合、フィラメント電流制御部４３は、目標電気抵抗ＲＴに到達するまでフィードバック制御を行う（ステップＳ５）。なお、フィードバック制御は、比例制御であっても、または比例制御に積分制御を加えたものであってもよい。
【００４１】
電気抵抗Ｒが目標電気抵抗ＲＴに到達した場合、フィラメント電流制御部４３は、制御部４０にその旨を出力する。この旨を受けた制御部４０は、管電圧制御部４１に対して管電圧を印加するように指令を出す（ステップＳ６）。同時に、制御部４０は、制御切替回路７０をスイッチＳＷ１からスイッチＳＷ２に切替える。これにより、フィラメント電流制御部４３によるフィラメント電流制御が、管電流制御部４２による管電流制御に切り替わる（ステップＳ７）。
【００４２】
その後、管電圧制御部４１による管電圧制御及び管電流制御部４２による管電流制御が行われる（ステップＳ８）。すなわち、フィラメント１２への電流制御は、フィラメント電流制御部４３で行わず、管電流制御部４２により行われる。これは、管電圧制御部４１が制御部４０から電圧の印加を終了する指令を受取るまで行われる（ステップＳ９）。管電圧の印加を終了する指令を管電圧制御部４１が制御部４０から受取ると、Ｘ線発生の制御は終了する。
【００４３】
以上のような構成、及び動作により、本実施形態のＸ線発生装置１には、以下の効果が認められる。まず、フィラメント電流制御部４３は、フィラメント１２の電流値及び電圧値に基づいてフィラメント１２の電気抵抗Ｒを求め、求められた電気抵抗Ｒが、フィラメント１２の目標電気抵抗ＲＴに到達した場合に陰極１１と陽極１５との間に管電圧を発生させる制御を行っている。ここで、目標電気抵抗ＲＴは、フィラメント１２の目標温度ＴＡに対応しているため、実質的に目標温度ＴＡに達しているか否かを判断することができる。
【００４４】
これによって制御された場合の管電圧、管電流、フィラメント温度、フィラメント電流の相関関係について具体的にグラフを用いて説明する。図５は、Ｘ線発生装置をＸ線撮影装置に適用した場合における本実施形態と比較例の比較結果を示すグラフである。（ａ）が本実施形態の結果を示すグラフ、（ｂ）が比較例の結果を示すグラフである。図において、上図は管電圧と管電流との関係を示す図であり、下図はフィラメント電流とフィラメント温度との関係を示している。上図と下図とは時間的に相関関係がある。
【００４５】
図５（ａ）に示すように、本実施形態のフィラメント電流制御部４３は、フィラメント１２の温度が目標温度ＴＡに達したことを電気抵抗Ｒにより検出した直後に管電圧を印加し、管電流を流すことができる。このため、フィラメントが充分な熱電子を出射する所定温度に操作者が目標温度ＴＡを設定していれば、所定温度に到達した直後に管電流が流れ、フィラメントの負担が少ない。よって、フィラメントの高温状態が継続することを防止でき、フィラメントを長寿命化することができる。一方、比較例は、管電圧をかける前に、フィラメントが目標温度以上に十分に加熱されるように過剰な電流を供給する。このため、図５（ｂ）に示すように、管電流が流れる前に、フィラメント温度が過剰に昇温し、フィラメントに負担がかかる。
【００４６】
また、本実施形態では、目標電気抵抗ＲＴに達した直後に、管電圧を発生させるように制御を行うことができるため、所定温度に達してから管電圧を印加するまでの時間のロスがなく、Ｘ線撮影スイッチを押してからＸ線出力までのタイムラグを短縮することができる。
【００４７】
また、目標温度ＴＡを操作者から受け付ける操作部５０を有することで、所望の目標温度ＴＡを操作者が自由に設定することができ、フィラメント１２を所望の温度にまで加熱できる。
【００４８】
また、フィラメント加熱回路３０は、整流回路３１と、インバータ３２と、変圧器３３と、フィラメント１２の電流値を検出するフィラメント電流検出回路３４と、フィラメント１２の電圧値を検出するフィラメント電圧検出回路３５と、を有する。このように、フィラメント電流検出回路３４とフィラメント電圧検出回路３５があることで、フィラメント１２の抵抗値を求め、当該抵抗値からフィラメント１２の材質であるタングステンの電気抵抗値特性から、フィラメント１２の温度を求めることができる。
【００４９】
また、フィラメント電流検出回路３４は、変圧器３３よりもフィラメント１２の側に設けられている。変圧器３３よりもフィラメント１２側にフィラメント電流検出回路３４があることで、フィラメント１２の電流値を直接計測することができ、正確な電流値を測ることができる。
【００５０】
また、フィラメント１２は、フィラメント１２の端部を支持するフィラメント支持部１３に対して、フィラメント１２とフィラメント支持部１３との間に介挿した中間部材１４を溶融することで固定される。このように、中間部材１４を介挿してこれを高温で溶融させることにより、中間部材１４をフィラメント１２及びフィラメント支持部１３に対して一体とすると、フィラメント１２とフィラメント支持部１３との導通が確実になるため、組立時の抵抗値のばらつきを抑制することができる。このため、フィラメント温度を正確にフィラメント加熱回路３０に伝達することができる。
【００５１】
なお、本実施形態のＸ線発生装置１は、Ｘ線透視撮影装置に限らず、Ｘ線を用いる他の装置、例えば、Ｘ線ＣＴ装置やＸ線撮影装置等に用いることももちろん可能である。
【符号の説明】
【００５２】
１…Ｘ線発生装置、１０…Ｘ線管、１１…陰極、１２…フィラメント、１３…フィラメント支持部、１４…中間部材、１５…陽極、２０…高電圧発生回路、３０…フィラメント加熱回路、３１…整流回路、３２…インバータ、３３…変圧器、３４…フィラメント電流検出回路、３５…フィラメント電圧検出回路、４０…制御部、４１…管電圧制御部、４２…管電流制御部、４３…フィラメント電流制御部、７０…制御切替回路
【図１】
2017027832.tif 000003
【図２】
2017027832.tif 000004
【図３】
2017027832.tif 000005
【図４】
2017027832.tif 000006
【図５】
2017027832.tif 000007