(57)【要約】【課題】  ダイシングの加工精度のバラツキにより光透過面が傾いた場合でも、検査工程での波長特性測定に要する時間を短縮し得るエタロンフィルタ等を提供する。【解決手段】  エタロンフィルタ１０は、対向する二つの四角形状の光透過面１１，１２を有する直方体状である。そして、エタロンフィルタ１０には、光透過面１１の周囲の上辺１１１、右辺１１２、下辺１１３及び左辺１１４のうち上辺１１１を、他の右辺１１２、下辺１１３及び左辺１１４と区別する、切り欠き１７が設けられている。【選択図】  図１
2017116589.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する二つの四角形状の光透過面を有する直方体状のエタロンフィルタであって、
前記光透過面の周囲の四辺のうちの一辺を他の辺と区別する目印が設けられた、
ことを特徴とするエタロンフィルタ。
【請求項２】
前記目印は、前記一辺の全部又は一部に形成された切り欠きである、
請求項１記載のエタロンフィルタ。
【請求項３】
前記目印は、前記一辺の全部又は一部に面取り加工された面である、
請求項１記載のエタロンフィルタ。
【請求項４】
前記目印は、前記一辺から離れた位置に、前記一辺の全部又は一部に沿って形成された溝である、
請求項１記載のエタロンフィルタ。
【請求項５】
前記目印は、前記一辺の中央を避けて当該一辺の両端側の少なくとも一方に形成された、
請求項１記載のエタロンフィルタ。
【請求項６】
請求項１乃至５記載のエタロンフィルタを製造する方法であって、
円板状のダイシングブレードを用いて、表面及び裏面が前記二つの光透過面となるウェハを切り出すことにより、前記光透過面の周囲の四つの切断面を形成するダイシング工程を含み、
このダイシング工程では、前記ダイシングブレードを用いて前記目印も形成する、
ことを特徴とするエタロンフィルタの製造方法。
【請求項７】
前記ダイシングブレードは半径ｒ１の第一ブレードと半径ｒ２の第二ブレードとが同じ回転軸となるように重なった形状を呈し、
前記ウェハの厚みをｔとするとｒ１−ｒ２＞ｔが成り立ち、
前記ダイシング工程は、前記第一ブレード及び前記第二ブレードを用いて前記切断面と前記目印とを同時に形成する工程と、前記第一ブレードを用いて前記切断面のみを形成する工程とを含む、
請求項６記載のエタロンフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、二つの対向する反射面の多重干渉を利用した光学フィルタであるエタロンフィルタ、及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
エタロンフィルタは、例えば、大容量光伝送システムに必要不可欠な波長可変レーザモジュールにおいて、光波長が安定して発振されているか否かをモニタする部品として用いられる。図１０は関連技術１のエタロンフィルタ（特許文献１参照）を示し、図１０［Ａ］は正面図、図１０［Ｂ］は図１０［Ａ］におけるＸｂ−Ｘｂ線断面図である。以下、この図面に基づき説明する。
【０００３】
関連技術１のエタロンフィルタ１００は、対向する二つの四角形状の光透過面１１，１２を有する直方体状であり、水晶からなる第一基板２１及び第二基板２２と、第一基板２１と第二基板２２とを接合する接合部２３とを備えている。光透過面１１，１２の中央は、光透過領域２４になっており、レーザ光Ｌが透過する。接合部２３は、光透過領域２４の周囲の四つの金属層２３１〜２３４からなる。
【０００４】
ここで、光透過面１１の周囲の四辺を、それぞれ上辺１１１、右辺１１２、下辺１１３及び左辺１１４とする。エタロンフィルタ１００の検査工程では、図１０［Ｂ］に示すように、エタロンフィルタ１００を位置決めし、レーザ光Ｌを光透過領域２４に透過させ、波長特性（波長と透過率の関係）を測定する。このとき、光透過面１１，１２のどちらを入射面としても、通常は同じ測定結果になる。また、一部の例外を除き多くのタイプ（型式）では、上辺１１１、右辺１１２、下辺１１３及び左辺１１４のいずれを上にしても、通常は同じ測定結果になる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１５−１３２７８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
図１１は関連技術１のエタロンフィルタの課題を説明するための図であり、図１１［Ａ］は光透過面が傾いたエタロンフィルタを示す側面図、図１１［Ｂ］は図１１［Ａ］に示す傾きを位置決め冶具で調整する場合を示す側面図、図１１［Ｃ］は図１１［Ｂ］に示す調整が不首尾に終わる場合を示す側面図である。以下、図１０及び図１１に基づき説明する。
【０００７】
エタロンフィルタ１００は、二枚のウェハが金属層で接合された貼り合せウェハをダイシングすることにより、個片化される。このとき、ダイシングの加工精度のバラツキにより、光透過面１１，１２が例えば角度−θだけ傾いた平行六面体状のエタロンフィルタ１００（図１１［Ａ］）になることがある。この傾向は、一枚の貼り合せウェハから得られた全てのエタロンフィルタ１００に現れやすい。なお、角度は、反時計回りを＋、時計回りを−とする。
【０００８】
検査工程では、例えば下辺１１３側を位置決め冶具３１に載置し、光透過面１１を入射面とし、光透過面１２を出射面としてレーザ光Ｌを照射することにより、エタロンフィルタ１００の波長特性を測定する。光透過面１１が角度−θだけ傾いている場合は、位置決め冶具３１を基準面３０から角度＋θだけ傾けることにより、レーザ光Ｌ（光軸）と光透過面１１の垂線（平面に垂直な直線）とを一致させる（図１１［Ｂ］）。ここで、レーザ光Ｌと基準面３０とは平行である。
【０００９】
ところが、位置決め冶具３１を角度＋θだけ傾けた状態で、エタロンフィルタ１００の上下を逆にして上辺１１１側を位置決め冶具３１に載置すると、レーザ光Ｌと光透過面１１の垂線とのなす角度は＋２θとなる（図１１［Ｃ］）。＋２θとなる理由は、レーザ光Ｌと基準面３０とが平行であることにより、図１１［Ｃ］から容易に理解できる。
【００１０】
そして、この角度２θが測定可能範囲（例えば±０．２°）を越えると、測定エラーとなる。そのため、測定エラーが出るたびに、エタロンフィルタ１００の向きを変えて位置決め冶具３１に載置し、測定をやり直す必要があった。
【００１１】
そこで、本発明の目的は、ダイシングの加工精度のバラツキにより光透過面が傾いた場合でも、検査工程での波長特性測定に要する時間を短縮し得るエタロンフィルタ等を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者は、上記課題を解決すべく研究を重ねた結果、四角形状の光透過面を有するエタロンフィルタについて次の知見を得た。
【００１３】
光透過面周囲の四辺のどれが例えば上になっても、多くのタイプでは通常は同じ波長特性になるため、それらの四辺を特定するという発想がなかった。また、光透過面の周囲の四辺のうちの一辺を他の辺と区別できなかった。例えば、光透過面が正方形であれば、いずれか一辺を他の三辺と区別できない。光透過面が長方形であれば、長辺と短辺の区別はできても、二本の長辺（又は短辺の）のいずれかを特定できない。
【００１４】
本発明は、上記知見に基づきなされたものであり、
対向する二つの四角形状の光透過面を有する直方体状のエタロンフィルタであって、
前記光透過面の周囲の四辺のうちの一辺を他の辺と区別する目印が設けられた、
ことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明に係るエタロンフィルタによれば、光透過面の周囲の四辺のうちの一辺を他の辺と区別する目印を設けたことにより、波長特性を測定する際の位置決め冶具に常に特定の一辺側を載置できる。そのため、ダイシングの加工精度のバラツキにより光透過面が傾いた場合でも、一つのエタロンフィルタについて特定の一辺側を位置決め冶具に載置して傾き調整をすれば、他のエタロンフィルタについても目印に従って特定の一辺側をその位置決め冶具に載置することにより、エタロンフィルタの向きを変えて再測定する必要がなくなる。したがって、検査工程での波長特性測定に要する時間を短縮できる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】実施形態１のエタロンフィルタを示し、図１［Ａ］は正面図、図１［Ｂ］は図１［Ａ］におけるＩｂ−Ｉｂ線断面図である。
【図２】実施形態１における切り欠きを示す正面図であり、図２［Ａ］は一辺にのみ形成する例、図２［Ｂ］は隣接する二辺に形成する例、図２［Ｃ］は三辺に形成する例、図２［Ｄ］は対向する二辺に形成する例である。
【図３】実施形態１のエタロンフィルタの第三角法による投影図であり、図３［Ａ］は平面図、図３［Ｂ］は左側面図、図３［Ｃ］は正面図、図３［Ｄ］は右側面図、図３［Ｅ］は背面図、図３［Ｆ］は下面図である。
【図４】実施形態１の製造方法におけるダイシング工程を示す断面図であり、図４［Ａ］は切断面を形成する工程であり、図４［Ｂ］は切り欠きを形成する工程であり、図４［Ｃ］は切り欠きを形成した後である。
【図５】実施形態１のエタロンフィルタの効果を説明するための図であり、図５［Ａ］は光透過面が傾いたエタロンフィルタを示す側面図、図５［Ｂ］は図５［Ａ］に示す傾きを位置決め冶具で調整する場合を示す側面図、図５［Ｃ］は実施形態１のエタロンフィルタを実装面に固定した状態を示す断面図である。
【図６】図５［Ａ］に示すエタロンフィルタのダイシング工程を示す断面図であり、図６［Ａ］は切断面を形成する工程であり、図６［Ｂ］は切り欠きを形成する工程であり、図６［Ｃ］は切り欠きを形成した後である。
【図７】他の実施形態のエタロンフィルタを示し、図７［Ａ］は実施形態２を示す側面図、図７［Ｂ］は実施形態３を示す側面図、図７［Ｃ］は実施形態４を示す正面図である。
【図８】実施形態５の製造方法で使用するダイシングブレードを示し、図８［Ａ］は全体斜視図、図８［Ｂ］は分解斜視図、図８［Ｃ］は部分側面図、図８［Ｄ］は部分側面図（変形例１）、図８［Ｅ］は部分側面図（変形例２）である。
【図９】図９［Ａ］［Ｂ］は実施形態５の製造方法におけるダイシング工程を示す断面図であり、図９［Ａ］は切断面と切り欠きを同時に形成する工程であり、図９［Ｂ］は切断面のみを形成する工程である。図９［Ｃ］は実施形態１のエタロンフィルタの寸法例を示す側面図である。
【図１０】関連技術１のエタロンフィルタを示し、図１０［Ａ］は正面図、図１０［Ｂ］は図１０［Ａ］におけるＸｂ−Ｘｂ線断面図である。
【図１１】関連技術１のエタロンフィルタの課題を説明するための図であり、図１１［Ａ］は光透過面が傾いたエタロンフィルタを示す側面図、図１１［Ｂ］は図１１［Ａ］に示す傾きを位置決め冶具で調整する場合を示す側面図、図１１［Ｃ］は図１１［Ｂ］に示す調整が不首尾に終わる場合を示す側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、添付図面を参照しながら、本発明を実施するための形態（以下「実施形態」という。）について説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の構成要素については同一の符号を用いる。また、図面に描かれた形状は、当業者が理解しやすいように描かれているため、実際の寸法及び比率とは必ずしも一致していない。
【００１８】
図１［Ａ］は実施形態１のエタロンフィルタを示す正面図であり、図１［Ｂ］は図１［Ａ］におけるＩｂ−Ｉｂ線断面図である。図２は実施形態１における切り欠きを示す正面図であり、図２［Ａ］は一辺にのみ形成する例、図２［Ｂ］は隣接する二辺に形成する例、図２［Ｃ］は三辺に形成する例、図２［Ｄ］は対向する二辺に形成する例である。以下、これらの図面に基づき説明する。
【００１９】
本実施形態１のエタロンフィルタ１０は、対向する二つの四角形状の光透過面１１，１２を有する直方体状である。ここで言う直方体には、立方体はもちろんのこと、実質的に直方体として扱える平行六面体なども含まれる。そして、エタロンフィルタ１０には、光透過面１１の周囲の四辺（上辺１１１、右辺１１２、下辺１１３及び左辺１１４）のうちの一辺を他の辺と区別する目印が設けられている。本実施形態１では、上辺１１１を他の右辺１１２、下辺１１３及び左辺１１４と区別する目印として、切り欠き１７が設けられている。
【００２０】
切り欠き１７は、上辺１１１の全部に直線状に形成されているが、上辺１１１の一部にのみ設けてもよいし、光透過面１２側に設けてもよい。また、切り欠き１７は、上辺１１１を他の辺と区別できれば、上辺１１１に代えて他の辺に設けてもよいし、上辺１１１と他の辺とに設けてもよい。例えば、上辺１１１に切り欠き１７を設けずに、他の辺の全てに切り欠きを設けることにより、上辺１１１を他の辺と区別できるようにしてもよい。
【００２１】
つまり、切り欠き１７は、図２［Ａ］に示すように四辺のいずれか一辺に形成する場合（四通り）、図２［Ｂ］に示すように隣接する二辺に形成する場合（四通り）、及び、図２［Ｃ］に示すように三辺に形成する場合（四通り）に、目印として有効となる。ただし、図２［Ｄ］に示すように対向する二辺に切り欠き１７を形成する場合（二通り）は、正面図において１８０°回転させると回転前後で同じ形状になってしまうので、目印として不適である。図２［Ｄ］の上側の例で説明すると、正面図において１８０°回転させると上辺１１１と下辺１１３の区別がつかなくなる。また、切り欠き１７の形成には、後述するダイシングの他に、例えばレーザ加工なども用いることができる。
【００２２】
次に、エタロンフィルタ１０の構成について、更に詳細に説明する。
【００２３】
エタロンフィルタ１０は、水晶からなる第一基板２１及び第二基板２２と、第一基板２１と第二基板２２とを接合する接合部２３とを備えている。正方形の光透過面１１，１２の中央は、円形の光透過領域２４になっており、レーザ光Ｌが透過する。接合部２３は、光透過領域２４の周囲の四つの金属層２３１〜２３４からなる。金属層２３１〜２３４の各境界は、金属層２３１〜２３４の成膜時に用いたメタルマスクの保持跡である。
【００２４】
金属層２３１〜２３４は、光透過領域２４の空間層が特定の波長のレーザ光Ｌを透過させ得るように、所定の厚さに予め設定されている。また、金属層２３１〜２３４は、第一基板２１の接合領域にスパッタリング等により付された金属膜と、第二基板２２の接合領域にスパッタリング等により付された金属膜とが、重ね合わされて生成されたものである。この接合に際しては、薄い金属膜でも充分な接合強度が得られる原子拡散接合法が用いられている。これにより、薄膜であるにもかかわらず充分な接合強度を備えた金属層２３１〜２３４が形成され維持されるようになっている。
【００２５】
次に、エタロンフィルタ１０の製造方法（実施形態１の製造方法）について説明する。図３は実施形態１のエタロンフィルタの第三角法による投影図であり、図３［Ａ］は平面図、図３［Ｂ］は左側面図、図３［Ｃ］は正面図、図３［Ｄ］は右側面図、図３［Ｅ］は背面図、図３［Ｆ］は下面図である。図４は実施形態１の製造方法におけるダイシング工程を示す断面図であり、図４［Ａ］は切断面を形成する工程であり、図４［Ｂ］は切り欠きを形成する工程であり、図４［Ｃ］は切り欠きを形成した後である。以下、図１、図３及び図４に基づき説明する。
【００２６】
本実施形態１の製造方法では、ダイシング工程を含んでいる。このダイシング工程は、次の二つの工程を含む。図４［Ａ］に示すように、円板状のダイシングブレード３２を用いて、表面４１及び裏面４２が二つの光透過面１１，１２となる貼り合せウェハ４０を切り出すことにより、光透過面１１，１２の周囲の四つの切断面１３〜１６（図３［Ａ］［Ｆ］［Ｂ］［Ｄ］）を形成する工程。図４［Ｂ］に示すように、同じダイシングブレード３２を用いて切り欠き１７を形成する工程。
【００２７】
貼り合せウェハ４０は、第一基板２１となる第一ウェハ５１と、第二基板２２となる第二ウェハ５２とが、金属層で接合されたものである。例えば、第一ウェハ５１は水晶ウェハであり、第二ウェハ５２はＳＴＯ（チタン酸ストロンチウム）ウェハである。光透過面１１，１２の周囲の四つの切断面１３〜１６とは、直方体の六面から光透過面１１，１２を除いた残りの四面であり、すなわち光透過面１１の周囲の四辺（上辺１１１、右辺１１２、下辺１１３及び左辺１１４）をそれぞれ含む四面（上辺１１１を含む切断面１３、右辺１１２を含む切断面１６、下辺１１３を含む切断面１４、及び、左辺１１４を含む切断面１５）である。ダイシングブレード３２は、例えば人造ダイヤモンド粉と合成樹脂との混合物を円板状に固めたものである。ダイシング工程によって、一枚の貼り合せウェハ４０から多数のエタロンフィルタ１０が得られる。
【００２８】
本実施形態１におけるダイシング工程について更に詳しく説明する。ダイシング工程は、図４［Ａ］→［Ｂ］→［Ｃ］の順に進行する。まず、貼り合せウェハ４０をガラス基板５３に接着剤などで貼り付ける。続いて、貼り合せウェハ４０が貼り付けられたガラス基板５３をダイサーに装着し、ダイシングブレード３２を縦横に進ませて貼り合せウェハ４０を切断する。このとき、光透過面１１，１２の周囲の四つの切断面１３〜１６を形成するときは、ダイシングブレード３２がガラス基板５３に到達するように、貼り合せウェハ４０が分離するまで深く切る（フルカット）。切り欠き１７を形成するときは、貼り合せウェハ４０の一部のみを浅く切る（ハーフカット）。例えば、切断面１３，１４形成→切欠き１７形成→切断面１５，１６（図３［Ｂ］［Ｄ］）形成という順になる。切断が完了した貼り合せウェハ４０をガラス基板５３から剥がすことにより、エタロンフィルタ１０が完成する。なお、本実施形態１では、切断面１３，１４を先に形成し（図４［Ａ］）、切り欠き１７を後に形成しているが（図４［Ｂ］）、これらを逆にしてもよい。
【００２９】
次に、エタロンフィルタ１０及びその製造方法の作用及び効果について説明する。図５は本実施形態１のエタロンフィルタの効果を説明するための図であり、図５［Ａ］は光透過面が傾いたエタロンフィルタを示す側面図、図５［Ｂ］は図５［Ａ］に示す傾きを位置決め冶具で調整する場合を示す側面図、図５［Ｃ］は実施形態１のエタロンフィルタを実装面に固定した状態を示す断面図である。図６は図５［Ａ］に示すエタロンフィルタのダイシング工程を示す断面図であり、図６［Ａ］は切断面を形成する工程であり、図６［Ｂ］は切り欠きを形成する工程であり、図６［Ｃ］は切り欠きを形成した後である。以下、図１乃至図６に基づき説明する。
【００３０】
（１）エタロンフィルタ１０によれば、光透過面１１の周囲の上辺１１１を右辺１１２、下辺１１３及び左辺１１４と区別する切り欠き１７を設けたことにより、切り欠き１７が上辺１１１を示す目印となるので、波長特性を測定する際の位置決め冶具３１に常に下辺１１３側を載置できる。そのため、ダイシングの加工精度のバラツキにより光透過面１１，１２が傾いた場合でも（図５［Ａ］）、一つのエタロンフィルタ１０について下辺１１３側を位置決め冶具３１に載置して傾き調整をすれば（図５［Ｂ］）、他のエタロンフィルタ１０についても切り欠き１７に従って下辺１１３側を位置決め冶具３１に載置することにより、エタロンフィルタ１０の向きを変えて再測定する必要がなくなる。したがって、検査工程での波長特性測定時の調整に要する時間を短縮できる。
【００３１】
図５［Ａ］に示す傾きの原因の一例として、図６［Ａ］［Ｂ］に示すように貼り合せウェハ４０の表面４１の垂線に対してダイシングブレード３２の刃面が、双方の位置決め誤差などにより、角度＋θだけ傾くことが挙げられる。その場合、一枚の貼り合せウェハ４０から得られた多数のエタロンフィルタ１０のうち一つが図５［Ａ］に示す状態であれば、残りも同じ状態になる。したがって、エタロンフィルタ１０のうち一つに対して図５［Ｂ］に示す調整をすれば、切り欠き１７を目印にして下辺１１３側を位置決め冶具３１に載置することにより、残りのエタロンフィルタ１０の調整が不要又は短時間で可能になる。
【００３２】
（２）図５［Ｃ］に示す副次的な効果について説明する。光モジュールなどの製品の実装面５４に接着剤５５を介してエタロンフィルタ１０を固定する場合、余剰な接着剤５５が切り欠き１７に収容されることにより、接着剤５５の不要な這い上がりを抑制できる。なお、仮想線（二点鎖線）で示すように接着剤５５が光透過領域２４にまで這い上がると、レーザ光の透過が妨害されるので、エタロンフィルタ１０は不良品になってしまう。
【００３３】
その他の副次的な効果は、次のとおりである。多数のエタロンフィルタ１０を容器に納めて出荷する場合に、切り欠き１７を目印にすることにより、エタロンフィルタ１０の向きを揃えて並べることができる。また、光モジュールなどの製品の実装面５４に接着剤５５を介してエタロンフィルタ１０を固定する場合、切り欠き１７を目印にすることにより、エタロンフィルタ１０の向きを特定して固定できる。このとき、多数のエタロンフィルタ１０が向きを揃えて容器に収められていれば、エタロンフィルタ１０の向きを容易に特定できる。
【００３４】
（３）図４に示すように、本実施形態１の製造方法によれば、光透過面１１，１２の周囲の四つの切断面１３〜１６を形成するダイシングブレード３２を用いて切り欠き１７も形成することにより、既存の設備を用いて既存のダイシング工程で切り欠き１７を形成できるので、新たな設備及び工程を必要とすることなく、エタロンフィルタ１０を製造できる。
【００３５】
次に、他の実施形態のエタロンフィルタについて説明する。図７は他の実施形態のエタロンフィルタを示し、図７［Ａ］は実施形態２を示す側面図、図７［Ｂ］は実施形態３を示す側面図、図７［Ｃ］は実施形態４を示す正面図である。以下、この図面に基づき説明する。
【００３６】
図７［Ａ］に示すように、本実施形態２のエタロンフィルタ１０ａでは、目印が面取り加工面１７ａになっている。面取り加工面１７ａは、上辺１１１の全部に面取り加工された面である。「面取り」とは、工業製品の角部を削り、角面や丸面などの形状に加工する工法である。また、面取り加工面１７ａは、例えば切断用のダイシングブレードを斜めにして用いたり（図４［Ｂ］で言えば、貼り合せウェハ４０の表面４１に垂直な面から、ダイシングブレード３２を傾ける。）、又は面取り用のダイシングブレードを用いたりして、ダイシング工程で形成できる。なお、面取り加工面１７ａは、本実施形態２では上辺１１１の全部に形成された角面であるが、上辺１１１の一部にのみ形成してもよいし、丸面などに形成してもよい。
【００３７】
本実施形態２における面取り加工面１７ａは、実施形態１における切り欠き１７の直角の部分（図１［Ｂ］）が鈍角になっているので、実施形態１における切り欠き１７に比べて欠けにくい。したがって、エタロンフィルタ１０ａによれば、目印を面取り加工面１７ａとしたことにより、欠けやチッピングの発生を低減できる。
【００３８】
図７［Ｂ］に示すように、本実施形態３のエタロンフィルタ１０ｂでは、目印が溝１７ｂになっている。溝１７ｂは、上辺１１１から離れた位置に、上辺１１１の全部に沿って形成されている。また、溝１７ｂは、例えば切断用のダイシングブレードを用いてダイシング工程で形成できる。なお、溝１７ｂは、本実施形態３では上辺１１１の全部に形成されたＵ字溝であるが、上辺１１１の一部にのみ形成してもよいし、Ｖ字溝などに形成してもよい。
【００３９】
本実施形態３における溝１７ｂは、対向する二つの壁面に囲まれた構造であるため、実施形態１における切り欠き１７（図１［Ｂ］）や実施形態２における面取り加工面１７ａ（図７［Ａ］）に比べて、照明の光に対して影を生じやすい。つまり、溝１７ｂは、エタロンフィルタ１０ｂの他の明るい部分との明暗差が大きいので、認識しやすいことになる。したがって、エタロンフィルタ１０ｂによれば、目印を溝１７ｂとしたことにより、目印の視認性を向上できる。
【００４０】
図７［Ｃ］に示すように、本実施形態４のエタロンフィルタ１０ｃでは、目印が切り欠き１７ｃになっている。切り欠き１７ｃは、上辺１１１の一部にのみ形成されており、詳しく言えば、上辺１１１の中央を避けて上辺１１１の両端側にのみ形成されている。また、切り欠き１７ｃは、実施形態１と同様に、切断用のダイシングブレードを用いてダイシング工程で形成できる。なお、切り欠き１７ｃに代えて、上辺１１１の一部にのみ形成された面取り加工面１７ａ（図７［Ａ］）としてもよいし、上辺１１１から離れた位置に上辺１１１の一部にのみ沿って形成された溝１７ｂ（図７［Ｂ］）としてもよい。また、切り欠き１７ｃは、上辺１１１の両端側のいずれか一方にのみ形成してもよい。
【００４１】
本実施形態４における切り欠き１７ｃは、上辺１１１の中央を避けて上辺１１１の両端側に形成されているので、上辺１１１の中央付近を光透過領域２４ｃとして利用できる。したがって、エタロンフィルタ１０ｃによれば、目印を切り欠き１７ｃとしたことにより、光透過領域２４ｃを拡大できる。
【００４２】
本実施形態２〜４のその他の構成、作用及び効果は、実施形態１のそれらと同様である。
【００４３】
次に、実施形態１のエタロンフィルタを製造する他の方法（実施形態５の製造方法）について説明する。図８は実施形態５の製造方法で使用するダイシングブレードを示し、図８［Ａ］は全体斜視図、図８［Ｂ］は分解斜視図、図８［Ｃ］は部分側面図、図８［Ｄ］は部分側面図（変形例１）、図８［Ｅ］は部分側面図（変形例２）である。図９［Ａ］［Ｂ］は実施形態５の製造方法におけるダイシング工程を示す断面図であり、図９［Ａ］は切断面と切り欠きを同時に形成する工程であり、図９［Ｂ］は切断面のみを形成する工程である。以下、図１乃至図３、及び、図７乃至図９に基づき説明する。
【００４４】
図８［Ａ］［Ｂ］に示すダイシングブレード３３は、半径ｒ１の第一ブレード３３１と半径ｒ２の第二ブレード３３２とが同じ回転軸３４となるように重なった形状を呈する。第一ブレード３３１と第二ブレード３３２とは、異なる二枚のブレードを接着剤などで貼り合せてもよいし、始めから一体物として形成してもよい。そして、図９［Ａ］［Ｂ］に示す貼り合せウェハ４０の厚みをｔとすると、ｒ１−ｒ２＞ｔが成り立つ。
【００４５】
ダイシング工程では、ｒ１−ｒ２＞ｔが成り立つことにより、次の二つの工程が実現される。図９［Ａ］に示すように、第一ブレード３３１及び第二ブレード３３２を用いて、切断面１３，１４と切り欠き１７とを同時に形成する工程。図９［Ｂ］に示すように、第一ブレード３３１を用いて、切断面１５，１６のみを形成する工程。なお、ｒ１−ｒ２＜ｔとなると、切断面１５，１６のみを形成できなくなる。つまり、切断面１５，１６を形成すると、同時に切り欠き１７も形成されてしまう。
【００４６】
本実施形態５の製造方法によれば、光透過面１１，１２の周囲の四つの切断面１３〜１６を形成する過程で切り欠き１７も同時に形成できるので、実施形態１の製造方法に比べてダイシング工程に要する時間を短縮できる。本実施形態５の製造方法の他の構成、作用及び効果は、実施形態１の製造方法のそれらと同様である。
【００４７】
補足すると、図９［Ｂ］においてダイシングブレード３３を更に押し込んで切断面１６にも切り欠き１７を形成してもよい。この場合は、図１［Ａ］で言えば右辺１１２にも切り欠き１７が形成されるため、図２［Ｂ］の一番上の例に相当し、これにより上辺１１１を特定できることになる。また、前述の「ｒ１−ｒ２＜ｔ」とした場合も、図９［Ｂ］において切断面１６にも切り欠き１７が形成されるので、同様に上辺１１１を特定できることになる。
【００４８】
次に、本実施形態５の製造方法で使用するダイシングブレードの変形例を説明する。図８［Ｄ］に示す変形例１のダイシングブレード３５は、実施形態２のエタロンフィルタ１０ａ（図７［Ａ］）に対応しており、半径ｒ１の第一ブレード３５１と半径ｒ２の第二ブレード３５２とが同じ回転軸となるように重なった形状を呈する。第二ブレード３５２は面取り用である。図８［Ｅ］に示す変形例２のダイシングブレード３６は、実施形態３のエタロンフィルタ１０ｂ（図７［Ｂ］）に対応しており、半径ｒ１の第一ブレード３６１と半径ｒ２の第二ブレード３６２とが同じ回転軸となるように重なった形状を呈する。ただし、第一ブレード３６１と第二ブレード３６２との間には、これらを一定距離に保つスペーサ３６３が設けられている。
【００４９】
最後に、実施形態１のエタロンフィルタの寸法例を述べる。図９［Ｃ］に示すように、第一基板２１の厚みをａ、第二基板２２の厚みをｂ、光透過領域２４の直径をｄ、エタロンフィルタ１０の高さから光透過領域２４の直径ｄを差し引いた部分（接合領域）をｃ，ｅ、切り欠き１７の深さをｆ、切り欠き１７の幅をｇとする。このとき、単位をｍｍとすると、ａ＝１．５、ｂ＝０．２８、ｃ＝０．２、ｄ＝０．８、ｅ＝０．２、ｆ＝０．１５、ｇ＝０．１５である。また、光透過面１１，１２は一辺が１．２ｍｍの正方形である。
【００５０】
以上、上記各実施形態を参照して本発明を説明したが、本発明は上記各実施形態に限定されるものではない。本発明の構成や詳細については、当業者が理解し得るさまざまな変更を加えることができる。また、本発明には、上記各実施形態の構成の一部又は全部を相互に適宜組み合わせたものも含まれる。
【産業上の利用可能性】
【００５１】
本発明は、ソリッド型やエアギャップ型のエタロンフィルタや、水晶以外の透明部材かからなるエタロンフィルタなど、どのような種類のエタロンフィルタにも利用可能である。
【符号の説明】
【００５２】
１０，１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１００  エタロンフィルタ
１１，１２  光透過面
１１１  上辺
１１２  右辺
１１３  下辺
１１４  左辺
１３〜１６  切断面
１７，１７ｃ  切り欠き（目印）
１７ａ  面取り加工面（目印）
１７ｂ  溝（目印）
２１  第一基板
２２  第二基板
２３  接合部
２３１〜２３４  金属層
２４，２４ｃ  光透過領域
３０  基準面
３１  位置決め冶具
３２，３３，３５，３６  ダイシングブレード
３３１，３５１，３６１  第一ブレード
３３２，３５２，３６２  第二ブレード
３６３  スペーサ
３４  回転軸
４０  貼り合せウェハ
４１  表面
４２  裏面
５１  第一ウェハ
５２  第二ウェハ
５３  ガラス基板
５４  実装面
５５  接着剤
Ｌ  レーザ光（光軸）
【図１】
2017116589.tif 000003
【図２】
2017116589.tif 000004
【図３】
2017116589.tif 000005
【図４】
2017116589.tif 000006
【図５】
2017116589.tif 000007
【図６】
2017116589.tif 000008
【図７】
2017116589.tif 000009
【図８】
2017116589.tif 000010
【図９】
2017116589.tif 000011
【図１０】
2017116589.tif 000012
【図１１】
2017116589.tif 000013