(57)【要約】      （修正有）【課題】表面積の大きな不織布を備える積層体の提供。【解決手段】第１主面に塑性変形による第１凹凸を有する基材１を準備する準備工程２０１と、準備工程２０１の後、外力により前記第１主面を平滑化する平滑化工程２０７と、前記平滑化工程２０７の後、第１繊維２ａの原料液３２から第１繊維２ａを生成して、第１繊維２ａを平滑化された前記第１主面に堆積させる堆積工程２０３と、堆積工程２０３の後、基材１を加熱して、前記第１主面に前記第１凹凸を再現し、前記第１繊維２ａを前記第１凹凸に沿って移動させる凹凸再現工程２０４と、を具備する、積層体１０の製造方法。【選択図】図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１主面に塑性変形による第１凹凸を有する基材を準備する準備工程と、
前記準備工程の後、外力により前記第１主面を平滑化する平滑化工程と、
前記平滑化工程の後、第１繊維の原料液から前記第１繊維を生成して、前記第１繊維を平滑化された前記第１主面に堆積させる堆積工程と、
前記堆積工程の後、前記基材を加熱して、前記第１主面に前記第１凹凸を再現し、前記第１繊維を前記第１凹凸に沿って移動させる凹凸再現工程と、を具備する、積層体の製造方法。
【請求項２】
前記平滑化工程において、前記第１主面とは反対側の第２主面側に配置され、前記第１凹凸の凹部に対応する第１凸部を有する第１ローラと、前記第１主面側に配置される第１対向ローラとにより、前記基材を押圧する、請求項１に記載の積層体の製造方法。
【請求項３】
前記平滑化工程において、前記第１主面側に配置され、前記第１凹凸の凸部に対応する第２凸部を有する第２ローラと、前記第１主面とは反対側の第２主面側に配置され、平滑な表面を備える第２対向ローラと、により前記基材を押圧する、請求項１に記載の積層体の製造方法。
【請求項４】
前記凹凸再現工程において、前記第１主面側に配置された非接触式の加熱装置により前記基材を加熱する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項５】
前記凹凸再現工程において、前記第１主面とは反対側の第２主面側に配置され、加熱されたローラにより前記基材を加熱する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項６】
前記準備工程が、
前記第１主面に前記第１凹凸が形成される前の前記基材を準備する工程と、
前記基材を準備する工程の後、前記第１主面を加熱しながら、前記第１主面側に配置され、複数の第３凸部を有する第３ローラと、前記第１主面とは反対側の第２主面側に配置される第３対向ローラにより前記基材を押圧して、前記第１主面に前記第１凹凸を形成する凹凸形成工程と、を含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項７】
前記凹凸形成工程において、加熱された前記第３ローラを用いて、前記第１主面を加熱する、請求項６に記載の積層体の製造方法。
【請求項８】
前記第３対向ローラが、前記第３凸部に対応する複数の凹部を有しており、
前記凹凸形成工程において、前記第２主面に前記第１凹凸に対応する第２凹凸を形成する、請求項６または７に記載の積層体の製造方法。
【請求項９】
第１主面に塑性変形による第１凹凸を有する基材を、搬送ラインの上流に供給する基材供給部と、
前記基材供給部の下流に配置され、前記第１主面を外力により平滑化する平滑部と、
前記平滑部の下流に配置され、第１繊維の原料液から前記第１繊維を生成させて、前記第１繊維を平滑化された前記第１主面上に堆積させる堆積部と、
前記堆積部の下流に配置され、前記基材を加熱することにより前記第１主面に前記第１凹凸を再現し、前記第１繊維を前記第１凹凸に沿って移動させる凹凸再現部と、を具備する、積層体の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、不織布が積層された積層体の製造方法および製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基材に不織布が積層された積層体は、強度が高いため、様々な用途に用いられている。例えば、特許文献１は、基材である不織布と極細繊維を含む不織布とを備える積層体を、空気清浄機の濾材として使用することを提案している。このような積層体は、例えば、基材に、電界紡糸法により極細繊維を堆積させることにより得られる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１４−１２１６９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
極細繊維を用いることにより、形成される不織布の表面積が大きくなる。例えば、積層体を濾材として用いる場合、不織布の表面積が大きくなることにより集塵効率が向上する。しかし、極細繊維を基材に過度に堆積させると、極細繊維同士が密着するため、逆に形成される不織布の表面積が小さくなる。その結果、集塵効率が低下したり、圧力損失が増大する場合がある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の一局面は、第１主面に塑性変形による第１凹凸を有する基材を準備する準備工程と、前記準備工程の後、外力により前記第１主面を平滑化する平滑化工程と、前記平滑化工程の後、第１繊維の原料液から前記第１繊維を生成して、前記第１繊維を平滑化された前記第１主面に堆積させる堆積工程と、前記堆積工程の後、前記基材を加熱して、前記第１主面に前記第１凹凸を再現し、前記第１繊維を前記第１凹凸に沿って移動させる凹凸再現工程と、を具備する、積層体の製造方法に関する。
【０００６】
本発明の他の一局面は、第１主面に塑性変形による第１凹凸を有する基材を、搬送ラインの上流に供給する基材供給部と、前記基材供給部の下流に配置され、前記第１主面を外力により平滑化する平滑部と、前記平滑部の下流に配置され、第１繊維の原料液から前記第１繊維を生成させて、前記第１繊維を平滑化された前記第１主面上に堆積させる堆積部と、前記堆積部の下流に配置され、前記基材を加熱することにより前記第１主面に前記第１凹凸を再現し、前記第１繊維を前記第１凹凸に沿って移動させる凹凸再現部と、を具備する、積層体の製造装置に関する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明に係る製造方法および製造装置によって得られる積層体の不織布は、表面積が大きくなる。これにより、不織布を積層することによる利点が発揮され易くなる。例えば、積層体を濾材として使用する場合、圧力損失が小さくなるとともに、集塵効率が向上する。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明に係る第１実施形態の製造方法が具備する工程の一部を示す概略図である。
【図２】第１実施形態の各工程における基材および不織布を模式的に示す断面図である（（ａ）〜（ｄ））。
【図３】第１実施形態の平滑化工程において、第１ローラおよび第１対向ローラによって第１凹凸が平滑化される基材を示す側面図（ａ）、および、第１ローラの一部を拡大して示す側面図（ｂ）である。
【図４】第１実施形態の製造装置を示す概略図である。
【図５】本発明に係る第２実施形態の平滑化工程において、第２ローラおよび第２対向ローラによって第１凹凸が平滑化される基材を示す側面図（ａ）、および、第２ローラの一部を拡大して示す側面図（ｂ）である。
【図６】本発明に係る第３実施形態の製造方法が具備する工程の一部を示す概略図である。
【図７】第３実施形態の凹凸形成工程において、第３ローラおよび第３対向ローラによって第１凹凸が形成される基材を示す側面図（ａ）、第３ローラの一部を拡大して示す側面図（ｂ）、および、第３対向ローラの一部を拡大して示す側面図（ｃ）である。
【図８】第３実施形態の製造装置を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本実施形態では、不織布に凹凸を形成することにより、不織布の表面積を拡大する。第１繊維を堆積させる基材として、少なくとも一方の主面（第１主面）に凹凸を備える基材を用いる。この凹凸は、基材の第１主面を塑性変形して形成されている。
【００１０】
基材に積層される不織布は、例えば、電界紡糸法により、繊維（第１繊維）を基材上に堆積することにより形成される。電界紡糸法では、第１繊維の原料樹脂を溶媒に溶解させた原料液に高電圧を印加し、電荷をもった原料液をノズルから噴射することにより、第１繊維が生成する。このとき、第１繊維は溶媒をわずかに含んだ状態で基材上に堆積する。そのため、基材が凹凸を備える場合、堆積直後の第１繊維は、基材の凹凸に倣うように撓んだ状態で存在している。しかし、第１繊維の乾燥が進行するに従って第１繊維は収縮し、形成される不織布は凹凸の小さい平坦状になる。第１繊維が乾燥した後も不織布が凹凸を維持するためには、第１繊維の紡糸条件（例えば、堆積量）、原料液の組成等を制限する必要がある。
【００１１】
本実施形態では、第１繊維の堆積を、凹凸が外力により平滑化された第１主面に対して行う。平坦な第１主面に対して第１繊維が堆積されるため、基材と第１繊維との接着点が増加する。この状態で第１繊維が乾燥すると、基材と不織布との接着性が向上する。その後、基材の凹凸を再現すると、第１繊維は基材の変形とともに変形し、基材に再現された凹凸に沿った凹凸が不織布に形成される。つまり、この方法によれば、第１繊維の紡糸条件、原料液の組成等を制限することなく、凹凸を備える不織布を形成することができる。これにより、不織布の表面積が大きくなって、得られる積層体を濾材として用いる場合、圧力損失の増大の抑制と集塵効率の向上とが両立する。
【００１２】
以下、第１主面とは反対側の第２主面を凸部を有する第１ローラにより押圧して、第１主面を平滑化する第１実施形態、第１主面を凸部を有する第２ローラにより押圧して、第１主面を平滑化する第２実施形態、および、これらの変形例（第３実施形態）について説明する。
【００１３】
（第１実施形態）
本実施形態に係る積層体の製造方法は、第１主面に塑性変形による第１凹凸を有する基材を準備する準備工程と、準備工程の後、外力により第１主面を平滑化する平滑化工程と、平滑化工程の後、第１繊維の原料液から第１繊維を生成して、第１繊維を平滑化された第１主面に堆積させる堆積工程と、堆積工程の後、基材を加熱して、第１主面に第１凹凸を再現し、第１繊維を第１凹凸に沿って移動させる凹凸再現工程と、を具備する。平滑化工程では、第２主面側に配置され、第１凹凸の凹部に対応する第１凸部を有する第１ローラと、第１主面側に配置される第１対向ローラとにより、基材が押圧される。
【００１４】
以下、本実施形態に係る製造方法について、図１〜図３を参照しながら、詳細に説明する。図１は、本実施形態に係る製造方法が具備する工程の一部を示す概略図である。図２（ａ）〜（ｄ）は、本実施形態の各工程における基材および不織布を模式的に示す断面図である。図３（ａ）は、平滑化工程において、第１ローラおよび第１対向ローラによって第１凹凸が平滑化される基材を示す側面図であり、図３（ｂ）は、第１ローラの一部を拡大して示す側面図である。なお、基材１、不織布２等に関して、空気清浄機の濾材に適する形態を具体的に説明するが、積層体の用途は、濾材に限定されるものではない。
【００１５】
（１）準備工程
準備工程では、後の第１堆積工程において第１繊維２ａが堆積する主面（第１主面１Ｘ）に第１凹凸Ｃ１ｘを有する基材１を準備する。第１凹凸Ｃ１ｘは、基材１に形成された凹部および凸部である。基材１は、第２主面１Ｙに複数の凹凸（図示せず）を備えていてもよい。
【００１６】
（基材）
基材１は、例えば、製造される積層体１０を支持する支持体である。基材１の形態および材質は特に限定されず、用途に応じて適宜選択すればよい。基材１として、具体的には、繊維構造体（織物、編物、不織布等）の多孔質基材が例示できる。なかでも、積層体１０を濾材として使用する場合、圧力損失の観点から、基材１は不織布であることが好ましい。不織布は、例えば、スパンボンド法、乾式法（例えば、エアレイド法）、湿式法、メルトブロー法、ニードルパンチ法等により製造される。なかでも、基材１は、湿式法により製造された不織布であることが好ましい。
【００１７】
基材１が不織布である場合、基材１を構成する基材繊維の材質は特に限定されず、例えば、ガラス繊維、セルロース、アクリル樹脂、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート）、ポリアミド（ＰＡ）、あるいはこれらの混合物等が挙げられる。なかでも、基材１として適する点で、基材繊維の材質はＰＥＴまたはセルロースが好ましい。特に、基材１は、ＰＥＴまたはセルロースを８０質量％以上の割合で含むことが好ましい。基材繊維の平均繊維径Ｄ１は特に限定されず、例えば、１μｍ以上、４０μｍ以下であっても良く、５μｍ以上、２０μｍ以下であってもよい。
【００１８】
平均繊維径Ｄ１とは、基材繊維の直径の平均値である。基材繊維の直径とは、基材繊維の長さ方向に対して垂直な断面の直径である。そのような断面が円形でない場合には、最大径を直径と見なしてよい。また、基材１を一方の主面の法線方向から見たときの、基材繊維の長さ方向に対して垂直な方向の幅を、基材繊維の直径と見なしてもよい。平均繊維径Ｄ１は、例えば、基材１に含まれる任意の１０本の基材繊維の任意の箇所の直径の平均値である。後述する平均繊維径Ｄ２およびＤ３についても同じである。
【００１９】
基材１の厚みＴ１は、特に限定されず、例えば、５０μｍ以上、５００μｍ以下であっても良く、１５０μｍ以上、４００μｍ以下であってもよい。不織布の厚みＴとは、例えば、不織布の任意の１０箇所の厚みの平均値である。厚みとは、不織布の２つの主面の間の距離である。基材１が不織布である場合、その厚みは、不織布の断面を写真に取り、不織布の一方の主面上にある任意の１地点から他方の主面まで、一方の表面に対して垂直な線を引いたとき、この線上にある繊維のうち、最も離れた位置にある２本の繊維の外側（外法）の距離として求められる。他の任意の複数地点（例えば、９地点）についても同様にして不織布の厚みを算出し、これらを平均化した数値を、不織布の厚みとする。上記厚みの算出に際しては、二値化処理された画像を用いてもよい。後述する厚みＴ２、Ｔ３についても同じである。
【００２０】
基材１の単位面積当たりの質量も特に限定されず、例えば、１０ｇ／ｍ２以上、８０ｇ／ｍ２以下であっても良く、３５ｇ／ｍ２以上、６０ｇ／ｍ２以下であってもよい。基材１の圧力損失は特に限定されない。なかでも、基材１の初期の圧力損失は、ＪＩＳＢ９９０８形式１の規格に準拠した測定機を用いて測定した場合、１Ｐａ以上、１０Ｐａ以下程度であることが好ましい。基材１の初期の圧力損失がこの範囲であれば、積層体１０全体の圧力損失も抑制される。
【００２１】
第１凹凸Ｃ１ｘの凸部の形状や分布状態は、特に制限されない。例えば、第１凹凸Ｃ１ｘの凸部が複数のポイント状であって、これらが規則的にあるいは不規則に並んでいてもよい。また、第１凹凸Ｃ１ｘの凸部が複数の線状または帯状であって、これらが等間隔に、ストライプ状やジグザグ状で並んでいてもよい。ポイント状の凸部は、例えば、角柱状であってもよく、円柱状や楕円柱状であってもよい。また、凸部は、格子状や網目状に形成されていてもよい。
【００２２】
第１主面１Ｘの表面積が大きくなる点で、隣接する凸部間のピッチＰｐｘは、０．１〜５ｍｍであることが好ましく、０．２〜２ｍｍであることがより好ましい。また、ピッチＰｐｘは基材１の平均繊維径Ｄ１の１０〜５００倍であることが好ましく、５０〜２００倍であることがより好ましい。ピッチＰｐｘは、隣接する凸部の中心間の距離である。ポイント状の凸部の中心は、凸部を第１主面１Ｘの法線方向から見てその外縁を定めたときの、外縁で囲まれる図形の中心である。凸部が帯状である場合、その中心は、凸部を囲む最小の幅を有する矩形の長手方向に沿った中心線であり、ピッチＰｐｘは中心線間の最短距離である。後述する第１凸部２１１ＡのピッチＰｆ１、第２凸部２２１ＡのピッチＰｆ２、第３凸部７１１ＡのピッチＰｐ３についても同様に求められる。なお、ピッチＰｆ１、ピッチＰｆ２、ピッチＰｐ３、ピッチＰｃ３を求める場合、ローラの周面の法線方向からみて、各凸部あるいは凹部の中心を求める。
【００２３】
第１主面１Ｘの表面積が広くなり易い点で、第１凹凸Ｃ１ｘの凸部の高さ（凹部と凸部との高低差）Ｈｐｘは、０．０２〜０．２ｍｍであることが好ましく、０．０４〜０．１ｍｍであることがより好ましい。
【００２４】
同様の観点から、第１凹凸Ｃ１ｘの隣接する凹部間のピッチＰｃｘは、０．１〜２ｍｍであることが好ましく、０．２〜１ｍｍであることがより好ましい。また、ピッチＰｃｘは基材１の平均繊維径Ｄ１の１０〜５００倍であることが好ましく、５０〜２００倍であることがより好ましい。ピッチＰｃｘは、隣接する凹部の中心間の距離である。ピッチＰｃｘおよび後述する凹部７１１ＢのピッチＰｃ３は、上記ピッチＰｐｘと同様にして（凸部を凹部に替えて）求められる。
【００２５】
（２）平滑化工程
本工程では、第１主面１Ｘに形成された凹部を第２主面１Ｙ側から押圧することにより、第１主面１Ｘを外力により平滑化する。平滑化とは、第１主面１Ｘを平坦にすることまでは要せず、第１凹凸Ｃ１ｘの高低差が低減されればよい。平滑化工程により、第１凹凸Ｃ１ｘの高低差（凸部の高さＨｐｘ）は、０．１ｍｍ以下になることが好ましく、０．０５ｍｍ以下になることがより好ましい。後の堆積工程において、第１繊維２ａが第１主面１Ｘに均一に堆積し易くなるためである。
【００２６】
凹部の押圧は、例えば図３（ａ）および（ｂ）に示すような、周面に複数の第１凸部２１１Ａを有する第１ローラ２１Ａと、これに対向する第１対向ローラ２１Ｂとによって行われる。第１凸部２１１Ａは、第１凹凸の凹部に対応するように配置されている。これにより、シンプルな構成で、第１主面１Ｘの全面を平滑化することができる。第１凸部２１１Ａと第１凹凸の凹部とが対応するとは、第１ローラ２１Ａを回転させると、第２主面１Ｙの第１凹凸Ｃ１ｘの凹部に対応する部分が、第１凸部２１１Ａによって押圧されることをいう。
【００２７】
第１凸部２１１Ａの形状や分布状態は、第１凹凸Ｃ１ｘの凹部に対応する限り、特に制限されない。第１凸部２１１Ａの形状は、第１凹凸Ｃ１ｘの凹部の形状と同じであってもよいし、異なっていてもよい。第１凸部２１１Ａによって、第２主面１Ｙの第１凹凸Ｃ１ｘの凹部に対応する部分の少なくとも一部が押圧できればよい。
【００２８】
例えば、隣接する第１凸部２１１Ａ間のピッチＰｆ１は、第１凹凸Ｃ１ｘの隣接する凹部間のピッチＰｃｘと同じであってもよい。具体的には、ピッチＰｆ１は、０．１〜５ｍｍであってもよく、０．２〜２ｍｍであってもよい。また、ピッチＰｆ１は基材１の平均繊維径Ｄ１の１０〜５００倍であってもよく、５０〜２００倍であってもよい。また、第１凸部２１１Ａの高さＨｆ１は、第１凹凸Ｃ１ｘの凸部の高さＨｐｘと同じであってもよい。具体的には、第１凸部２１１Ａの高さＨｆ１は、０．０２〜０．２ｍｍであってもよく、０．０４〜０．１ｍｍであってもよい。高さＨｆ１は、第１凸部２１１Ａの最も高い点に接触する面と、第１ローラ２１Ａの第１凸部２１１Ａ以外の部分との間の最短距離である。後述する第１凸部２１１Ａの高さＨｆ１、第２凸部２２１Ａの高さＨｆ２、第３凸部７１１Ａの高さＨｐ３についても同様に求められる。
【００２９】
第１対向ローラ２１Ｂは、平滑な表面を備えるローラであってもよいし、第１凸部２１１Ａに対応する凹部を有するローラであってもよい。なかでも、平滑な表面を備えるローラが好ましい。これにより、第１主面１Ｘに形成された第１凹凸Ｃ１ｘが平滑化され易くなるとともに、押圧された部分において基材１が圧縮され難いため、圧力損失の増大が抑制される。
【００３０】
第１ローラ２１Ａおよび第１対向ローラ２１Ｂの材質は、基材１の押圧に必要な硬度を有する限り特に制限されない。例えば、樹脂、金属、セラミックスなどの押圧部材として使用される公知の材質が挙げられる。なかでも、第１対向ローラ２１Ｂは、少なくとも第１主面１Ｘに接触する部分がゴム製であることが好ましい。
【００３１】
（３）堆積工程
本工程では、原料液から第１繊維２ａが生成される。原料液は、第１繊維２ａの原料となる原料樹脂（原料樹脂）および溶媒（第１溶媒）を含む。第１繊維２ａは、例えば、電界紡糸法により生成される。電界紡糸法では、原料液が放出体３３から放出されて、第１繊維２ａが生成される。生成された第１繊維２ａは、第１溶媒をわずかに含んだ状態で基材１の平滑化された第１主面１Ｘ上に堆積し、不織布２を形成する。そして、第１繊維２ａが乾燥することにより、不織布２と基材１とは点接着される。本工程において、基材１は、噴射される原料液のターゲットであり、生成する第１繊維２ａを収集するコレクタとして機能する。第１繊維２ａは、搬送コンベア３１により搬送されている基材１の第１主面１Ｘに対して、堆積される。
【００３２】
表面積が大きくなる点で、第１繊維２ａの平均繊維径Ｄ２は小さいほど好ましく、例えば、基材繊維１ａの平均繊維径Ｄ１よりも小さいことが好ましい。平均繊維径Ｄ２は、３μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以下であることがより好ましく、３００ｎｍ以下であることが特に好ましい。また、平均繊維径Ｄ２は３０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましい。平均繊維径Ｄ２がこの範囲であれば、圧力損失が抑制されるとともに集塵効率が高くなり易い。
【００３３】
不織布２の厚みＴ２は、圧力損失の観点から、０．５μｍ以上、１０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上、５μｍ以下であることがより好ましい。不織布２の初期の圧力損失は、上記と同様の条件で測定する場合、５Ｐａ以上、４０Ｐａ以下程度であることが好ましい。不織布２の単位面積当たりの質量は、圧力損失と集塵効率とのバランスの観点から、０．１ｇ／ｍ２以上、１．５ｇ／ｍ２以下であることが好ましく、０．２ｇ／ｍ２以上、０．５ｇ／ｍ２以下であることがより好ましく、０．２ｇ／ｍ２以上、０．８ｇ／ｍ２以下であることが特に好ましい。
【００３４】
（原料液）
原料液は、原料樹脂および溶媒（以下、第１溶媒と称す）を含む。原料樹脂は第１繊維２ａの原料である。第１溶媒は、原料樹脂を溶解させる。原料液から、原料樹脂および第１溶媒を含む第１繊維２ａが形成される。原料液における原料樹脂と第１溶媒との混合比率は、選定される原料樹脂の種類および第１溶媒の種類により異なる。原料液における第１溶媒の割合は、例えば、６０質量％から９５質量％である。原料液には、原料樹脂を溶解させる第１溶媒以外の溶媒や各種添加剤等が含まれていてもよい。
【００３５】
原料樹脂の種類は特に限定されず、例えば、ポリアミド（ＰＡ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリサルホン（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリアリレート（ＰＡＲ）、ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡｃ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリウレタン（ＰＵ）等のポリマーが挙げられる。これらは、単独あるいは２種以上を組み合わせて用いてもよい。原料樹脂が２種以上のポリマーを含む場合、ポリマーの１つは、主成分として、原料樹脂の８０質量％以上を占めることが好ましい。基材１上での第１繊維２ａの挙動（基材１との密着性や、基材１からの浮き）が一様になり易いためである。なかでも、電界紡糸法に適している点では、原料樹脂の主成分はＰＥＳが好ましい。また、第１繊維の平均繊維径Ｄ２が細くなり易い点では、原料樹脂の主成分はＰＶＤＦが好ましい。
【００３６】
第１溶媒は、原料樹脂を溶解できるものであれば特に限定されない。例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、テトラエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジベンジルアルコール、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチル−ｎ−ヘキシルケトン、メチル−ｎ−プロピルケトン、ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、アセトン、ヘキサフルオロアセトン、フェノール、ギ酸、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジプロピル、塩化メチル、塩化エチル、塩化メチレン、クロロホルム、ｏ−クロロトルエン、ｐ−クロロトルエン、四塩化炭素、１，１−ジクロロエタン、１，２−ジクロロエタン、トリクロロエタン、ジクロロプロパン、ジブロモエタン、ジブロモプロパン、臭化メチル、臭化エチル、臭化プロピル、酢酸、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、シクロペンタン、ｏ−キシレン、ｐ−キシレン、ｍ−キシレン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、ジメチルスルホオキシド、ピリジン、水等を用いることができる。これらは単独で用いてもよく、複数種を組み合わせて用いてもよい。なかでも、電界紡糸法に適している点、さらにはＰＥＳおよびＰＶＤＦを溶解し易い点で、ＤＭＡｃが好ましい。
【００３７】
（４）凹凸再現工程
本工程では、基材１を加熱することにより、第１主面１Ｘに第１凹凸Ｃ１ｘを再現する。平滑化工程において、第１凹凸Ｃ１ｘは外力により機械的に平滑化されている。つまり、基材１は内部に応力を有している。そのため、基材１を加熱することにより、塑性変形により形成された第１凹凸Ｃ１ｘが再び出現する。このとき、平滑化された第１主面１Ｘに堆積していた第１繊維２ａは、再現された第１凹凸に沿って移動し、不織布２には第１凹凸Ｃ１ｘに沿った凹凸Ｃ２が形成される。これにより、不織布２の表面積が大きくなって、積層体１０全体としての圧力損失が小さくなるとともに、集塵効率が向上する。さらに、積層体１０を長期間にわたり使用した場合にも、集塵効率が維持されるとともに、圧力損失の増大が抑制される。
【００３８】
ここで、「第１凹凸Ｃ１ｘに沿った凹凸Ｃ２が形成される」とは、凹凸Ｃ２が第１凹凸Ｃ１ｘに密着するように形成されていることに限定されず、凹凸Ｃ２が第１凹凸Ｃ１ｘに倣った凹凸であることを含む。すなわち、不織布２に形成される凹凸Ｃ２の高低差は、第１凹凸Ｃ１ｘの高低差と同じであってもよいし、小さくてもよい。
【００３９】
基材１を加熱する方法は特に限定されない。例えば、図１に示すように、第１主面１Ｘ側に配置された非接触式の加熱装置４２により、基材１を加熱してもよい。あるいは、第２主面１Ｙに配置され、かつ、加熱されたローラ（図示せず）により、基材１を加熱してもよい。このとき、上記ローラは、第２主面１Ｙに接触しており、基材１を搬送方向Ｄに搬送しながら加熱する。このようなローラとしては、ヒータを内蔵するローラや接続したヒータから加熱可能なローラなどが例示される。加熱温度は、基材１の軟化点等を考慮して、適宜設定すればよい。加熱温度は、例えば、基材１の表面が、例えば１００〜２００℃、好ましくは１２０〜１７０℃になるように調整すればよい。
【００４０】
［製造装置］
本実施形態に係る製造装置は、例えば、第１主面に塑性変形による第１凹凸を有する基材を、搬送ラインの上流に供給する基材供給部と、基材供給部の下流に配置され、第１主面を外力により平滑化する平滑部と、平滑部の下流に配置され、第１繊維の原料液から第１繊維を生成させて、第１繊維を平滑化された第１主面上に堆積させる堆積部と、堆積部の下流に配置され、基材を加熱することにより第１主面に第１凹凸を再現し、第１繊維を第１凹凸に沿って移動させる凹凸再現部と、を具備する。
【００４１】
以下、図４を参照しながら、本実施形態に係る製造装置２００Ａについて説明する。図４は、製造装置２００Ａの一例の構成を概略的に示す図である。製造装置２００Ａは、積層体１０を製造するための製造ラインを構成しており、上流から下流に搬送される基材１に対して、不織布２が積層される。なお、以下では、基材１が長尺体である場合について説明するが、基材１の形態はこれに限定されない。
【００４２】
（基材供給部）
基材供給部２０１は、製造装置２００Ａの最上流に配置されており、基材１をロール状に捲回する第１供給リール１２と第１供給リール１２を回転させるモータ１３とを備える。モータ１３によって、第１供給リール１２が回転し、基材１は搬送ローラ１１に供給される。
【００４３】
（平滑部）
平滑部２０２は、複数の第１凸部２１１Ａを有する第１ローラ２１Ａを備える。平滑部２０２は、さらに、第１ローラ２１Ａに対向する対向ローラとして、平滑な表面を備えるゴム製の第１対向ローラ２１Ｂを備える。平滑部２０２に搬送された基材１の第１凹凸Ｃ１ｘの凹部が、第２主面１Ｙ側から第１ローラ２１Ａの第１凸部２１１Ａにより押圧されて、第１凹凸Ｃ１ｘが外力により機械的に平滑化される。このとき、基材１は加熱されないことが好ましい。後の凹凸再現工程において、第１凹凸Ｃ１ｘが再現され易くなるためである。
【００４４】
（堆積部）
堆積部２０３は、電界紡糸ユニット（図示せず）を備える。電界紡糸ユニットが具備する電界紡糸機構は、電界紡糸ユニット内の上方に設置された原料液３２を放出するための放出体３３と、放出された原料液３２をプラスに帯電させる帯電手段（後述参照）と、放出体３３と対向するように配置された基材１を上流側から下流側に搬送する搬送コンベア３１と、を備えている。搬送コンベア３１は、基材１とともに第１繊維２ａを収集するコレクタ部として機能する。なお、電界紡糸ユニットの台数は、特に限定されるものではなく、１台でも２台以上でもよい。なお、搬送コンベア３１に替えて、ローラまたはベルトにより基材１を上流側から下流側に搬送してもよい。
【００４５】
電界紡糸ユニットおよび／または放出体３３が複数ある場合、電界紡糸ユニットごと、あるいは、放出体３３ごとに、形成される第１繊維２ａの平均繊維径Ｄ２を変化させてもよい。第１繊維２ａの平均繊維径Ｄ２は、原料液３２の吐出圧力、印加電圧、濃度、放出体３３と基材１との距離、温度、湿度などを調整することにより、変化させることができる。また、第１繊維２ａの堆積量（不織布２の厚み）は、原料液３２の吐出圧力、印加電圧、濃度、基材１の搬送速度などを調整することにより、制御される。
【００４６】
放出体３３の基材１の主面と対向する側には、原料液３２の放出口（図示せず）が複数箇所設けられている。放出体３３の放出口と、基材１との距離は、製造装置の規模や所望の繊維径にもよるが、例えば、１００〜６００ｍｍであればよい。放出体３３は、電界紡糸ユニットの上方に設置された、基材１の搬送方向と平行な第１支持体３４から下方に延びる第２支持体３５により、自身の長手方向が基材１の主面と平行になるように支持されている。第１支持体３４は、放出体３３を基材１の搬送方向とは垂直な方向に揺動させるように、可動であってもよい。
【００４７】
帯電手段は、放出体３３に電圧を印加する電圧印加装置３６と、搬送コンベア３１と平行に設置された対電極３７とで構成されている。対電極３７は接地（グランド）されている。これにより、放出体３３と対電極３７との間には、電圧印加装置３６により印加される電圧に応じた電位差（例えば２０〜２００ｋＶ）を設けることができる。なお、帯電手段の構成は、特に限定されない。例えば、対電極３７はマイナスに帯電されていてもよい。また、対電極３７を設ける代わりに、搬送コンベア３１のベルト部分を導体から構成してもよい。
【００４８】
放出体３３は導体で構成されており、長尺の形状を有し、その内部は中空になっている。中空部は原料液３２を収容する収容部となる。原料液３２は、放出体３３の中空部と連通するポンプ３８の圧力により、原料液タンク３９から放出体３３の中空に供給される。そして、原料液３２は、ポンプ３８の圧力により、放出口から基材１の主面に向かって放出される。放出された原料液３２は、帯電した状態で放出体３３と基材１との間の空間（生成空間）を移動中に静電爆発を起し、繊維状物（第１繊維２ａ）を生成する。生成した第１繊維２ａは、外力により平滑化された第１主面１Ｘに堆積し、不織布２を形成する。
【００４９】
第１繊維２ａを形成する電界紡糸機構は、上記の構成に限定されない。所定の第１繊維２ａの生成空間において、原料液３２から静電気力により第１繊維２ａを生成させ、生成した第１繊維２ａを基材１の主面に堆積させることができる機構であれば、特に限定なく用いることができる。例えば、放出体３３の長手方向に垂直な断面の形状は、上方から下方に向かって次第に小さくなる形状（Ｖ型ノズル）であってもよい。
【００５０】
（凹凸再現部）
凹凸再現部２０４は、非接触式の加熱装置４２あるいは加熱可能なローラ（図示せず）を備える。加熱効率の観点から、加熱装置４２は第１主面１Ｘ側に配置される。この場合、基材１は搬送ローラ４１により搬送される。図示しない加熱可能なローラは、加熱効率および不織布２の損傷を抑制する観点から、第２主面１Ｙに接触するように配置される。
【００５１】
（保護材供給部）
不織布２を保護するために、不織布２に保護材３を積層してもよい。保護材供給部２０５は、基材１の上方に保護材３が捲回された第２供給リール５２を備えており、保護材３は、第２供給リール５２から不織布２に供給される。第２供給リール５２は、モータ５３によって回転駆動する。基材１は、搬送ローラ５１により、保護材供給部２０５に搬送される。保護材３が積層されると、積層体１０は、積層体１０を挟んで配置された一対の加圧ローラ５４の間を経由して、回収部２０６に搬送される。
【００５２】
保護材３は、例えば、基材１に関して例示された方法により製造された不織布であってもよい。なかでも、積層体１０を濾材として使用する場合、繊維径の小さな不織布が形成され易い点で、保護材３は、メルトブロー法により製造された不織布であることが好ましい。さらに、集塵効果が期待できる点で、保護材３は、帯電処理等によって帯電（永久帯電）されていることが好ましい。永久帯電とは、外部電界が存在しない状態において半永久的に電気分極を保持し、周囲に対して電界を形成している状態である。
【００５３】
保護材３を構成する保護繊維の材質は特に限定されず、例えば、ガラス繊維、セルロース、アクリル樹脂、ＰＰ、ＰＥ、ＰＥＴ等のポリエステル、ＰＡ、あるいはこれらの混合物等が挙げられる。なかでも、帯電され易い点で、ＰＰが好ましい。保護繊維の平均繊維径も特に限定されず、例えば、０．５μｍ以上、２０μｍ以下であってもよく、５μｍ以上、２０μｍ以下であってもよい。
【００５４】
保護材３の厚みも特に限定されず、１００μｍ以上、５００μｍ以下であってもよく、１５０μｍ以上、４００μｍ以下であってもよい。保護材３の単位面積当たりの質量も特に限定されず、１０ｇ／ｍ２以上、５０ｇ／ｍ２以下であってもよく、１０ｇ／ｍ２以上、３０ｇ／ｍ２以下であってもよい。保護材３の初期の圧力損失は、上記と同様の条件で測定する場合、１０Ｐａ以上、５０Ｐａ以下程度であることが好ましい。保護材３の初期の圧力損失がこの範囲であれば、積層体１０全体の圧力損失も抑制される。
【００５５】
保護材３は、図示しない接着剤を介して不織布２に積層されてもよい。接着剤の種類は特に限定されず、例えば、熱可塑性樹脂を主成分とするホットメルト接着剤等が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ＰＵ、ＰＥＴ等のポリエステル、ウレタン変性共重合ポリエステル等の共重合ポリエステル、ＰＡ、ポリオレフィン（例えば、ＰＰ、ＰＥ）等が例示できる。ホットメルト接着剤は、例えば、加熱により溶融されながら、第２不織布２Ｂに付与される。接着剤の付与量は、接合強度および圧力損失の観点から、０．５ｇ／ｍ２以上、１５ｇ／ｍ２以下であることが好ましく、１ｇ／ｍ２以上、１０ｇ／ｍ２以下であることがより好ましく、２ｇ／ｍ２以上、６ｇ／ｍ２以下であることが特に好ましい。
【００５６】
（回収部）
回収部２０６は、例えば、積層体１０を捲き取る回収リール６２を内蔵している。回収リール６２はモータ６３により回転駆動される。積層体１０は、搬送ローラ６１を経由して、回収リール６２に捲き取られる。
【００５７】
（第２実施形態）
本実施形態は、平滑化工程において、図５（ａ）および（ｂ）に示すように、第１主面１Ｘ側に配置され、第１凹凸Ｃ１ｘの凸部に対応する第２凸部２２１Ａを有する第２ローラ２２Ａと、第２主面１Ｙ側に配置され、平滑な表面を備える第２対向ローラ２２Ｂと、により基材１を押圧すること以外、第１実施形態の製造方法と同様である。これにより、第１主面１Ｘに形成された凸部が第２凸部２２１Ａにより内部に押し込まれて、第１主面１Ｘが外力により機械的に平滑化される。図５（ａ）は、平滑化工程において、第２ローラ２２Ａおよび第２対向ローラ２２Ｂによって第１凹凸が平滑化される基材１を示す側面図であり、図５（ｂ）は、第２ローラ２２Ａの一部を拡大して示す側面図である。
【００５８】
第２凸部２２１Ａは、第１凹凸の凸部に対応するように配置されている。これにより、シンプルな構成で、第１主面１Ｘの全面を平滑化することができる。第２凸部２２１Ａと第１凹凸の凸部とが対応するとは、第２ローラ２２Ａを回転させると、第１凹凸Ｃ１ｘの凸部の少なくとも一部が、第２凸部２２１Ａによって押圧されることをいう。
【００５９】
第２凸部２２１Ａの形状や分布状態は、第１凹凸Ｃ１ｘの凸部に対応する限り、特に制限されない。第２凸部２２１Ａの形状は、第１凹凸Ｃ１ｘの凸部の形状と同じであってもよいし、異なっていてもよい。第２凸部２２１Ａによって、第１凹凸Ｃ１ｘの凸部の少なくとも一部が押圧できればよい。例えば、隣接する第２凸部２２１Ａ間のピッチＰｆ２は、第１凹凸Ｃ１ｘの隣接する凸部間のピッチＰｐｘと同じであってもよい。具体的には、ピッチＰｆ２は、０．１〜５ｍｍであってもよく、０．２〜２ｍｍであってもよい。また、ピッチＰｆ２は基材１の平均繊維径Ｄ１の１０〜５００倍であってもよく、５０〜２００倍であってもよい。また、第２凸部２２１Ａの高さＨｆ２は、第１凹凸Ｃ１ｘの凸部の高さＨｐｘと同じであってもよい。具体的には、高さＨｆ２は、０．０２〜０．２ｍｍであってもよく、０．０４〜０．１ｍｍであってもよい。
【００６０】
第２対向ローラ２２Ｂは平滑な表面を備える。これにより、第１主面１Ｘに形成された第１凹凸Ｃ１ｘが平滑化され易くなるとともに、押圧された部分において基材１が圧縮され難いため、圧力損失の増大が抑制される。
【００６１】
第２ローラ２２Ａおよび第２対向ローラ２２Ｂの材質は、基材１の押圧に必要な硬度を有する限り特に制限されない。例えば、樹脂、金属、セラミックスなどの押圧部材として使用される公知の材質が挙げられる。なかでも、第２対向ローラ２２Ｂは、少なくとも第２主面１Ｙに接触する部分がゴム製であることが好ましい。
【００６２】
（第３実施形態）
本実施形態は、準備工程が、第１主面１Ｘに第１凹凸Ｃ１ｘが形成される前の基材を準備する工程と、第１主面１Ｘを加熱しながら、第１主面側に配置され、複数の第３凸部を有する第３ローラと、第２主面側に配置される第３対向ローラにより基材を押圧して、第１主面１Ｘに第１凹凸Ｃ１ｘを形成する凹凸形成工程と、を含むこと以外、第１実施形態または第２実施形態の製造方法と同様である。
【００６３】
以下、本実施形態について、図６および図７を参照しながら、詳細に説明する。図６は、本実施形態に係る製造方法が具備する工程の一部を示す概略図である。図７（ａ）は、凹凸形成工程において、第３ローラおよび第３対向ローラによって第１凹凸Ｃ１ｘが形成される基材１を示す側面図であり、図７（ｂ）は、第３ローラの一部を拡大して示す側面図であり、図７（ｃ）は、第３対向ローラの一部を拡大して示す側面図である。図６では、平滑化工程が第１ローラ２１Ａおよび第１対向ローラ２１Ｂを用いて行われているが、これに限定されない。平滑化工程は、第２ローラ２２Ａおよび第２対向ローラ２２Ｂにより行われてもよい。
【００６４】
（１−１）基材を準備する工程
本工程では、第１主面１Ｘに第１凹凸Ｃ１ｘを有さない基材１を準備する。準備される基材１の第１主面１Ｘは、平坦であってもよいし、第１凹凸Ｃ１ｘとは異なる凹凸を有していてもよい。
【００６５】
（１−２）凹凸形成工程
本工程では、準備された基材１の第１主面１Ｘに、第１凹凸Ｃ１ｘを形成する。第１凹凸Ｃ１ｘは、第１主面１Ｘを部分的に押圧して塑性変形させることにより形成される。第１主面１Ｘの部分的な押圧は、例えば、図７（ａ）および（ｂ）に示すような、周面に複数の第３凸部７１１Ａを有する第３ローラ７１Ａと、これに対向する第３対向ローラ７１Ｂとによって行われる。これにより、シンプルな構成で、第１主面１Ｘの全面に、第３凸部７１１Ａに対応する第１凹凸Ｃ１ｘを形成することができる。
【００６６】
第３凸部７１１Ａの形状や分布状態は、所望の第１凹凸Ｃ１ｘを形成できる限り、特に制限されない。例えば、隣接する第３凸部７１１Ａ間のピッチＰｐ３は、第１凹凸Ｃ１ｘの隣接する凸部間のピッチＰｐｘと同じであってもよい。具体的には、ピッチＰｐ３は０．１〜５ｍｍであることが好ましく、０．２〜２ｍｍであることがより好ましい。また、第１主面１Ｘに凹凸が形成され易くなる点で、ピッチＰｐ３は基材１の平均繊維径Ｄ１の１０〜５００倍であることが好ましく、５０〜２００倍であることがより好ましい。第１主面１Ｘの表面積が広くなり易い点で、第３凸部７１１Ａの高さＨｐ３は、０．０２〜０．２ｍｍであることが好ましく、０．０４〜０．１ｍｍであることがより好ましい。
【００６７】
第３対向ローラ７１Ｂは、図７（ａ）および（ｃ）に示すように、上記の第３凸部７１１Ａに対応する凹部７１１Ｂを有していてもよいし、平滑な表面を有していてもよい。なかでも、第３対向ローラ７１Ｂは、凹部７１１Ｂを備えることが好ましい。第３ローラ７１Ａおよび凹部７１１Ｂを備える第３対向ローラ７１Ｂで基材１を押圧することにより、第２主面１Ｙには凹部７１１Ｂ（すなわち、第１凹凸Ｃ１ｘ）に対応する第２凹凸Ｃ１ｙが形成される。よって、押圧による基材１の圧縮が抑制される。第１凹凸Ｃ１ｘと第２凹凸Ｃ１ｙとは、基材１に表裏一体に形成されている。第３凸部７１１Ａと凹部７１１Ｂとが対応するとは、第３ローラ７１Ａおよび第３対向ローラ７１Ｂを回転させたときに、第３凸部７１１Ａと凹部７１１Ｂとが係合することをいう。
【００６８】
隣接する凹部７１１Ｂ間のピッチＰｃ３は、第３凸部７１１Ａ間のピッチＰｐ３と同じであることが好ましい。具体的には、ピッチＰｃ３は０．１〜５ｍｍであることが好ましく、０．２〜２ｍｍであることがより好ましい。また、第１主面１Ｘに凹凸が形成され易くなる点で、ピッチＰｃ３は基材１の平均繊維径Ｄ１の１０〜５００倍であることが好ましく、５０〜２００倍であることがより好ましい。凹部７１１Ｂの深さＤｃ３は、第３凸部７１１Ａの高さＨｐ３と同じであってもよいし、異なっていてもよい。深さＤｃ３は、具体的には０．０２〜０．２ｍｍであることが好ましく、０．０４〜０．１ｍｍであることがより好ましい。深さＤｃ３は、凹部７１１Ｂの最も低い点に接触する面と、第３対向ローラ７１Ｂの凹部７１１Ｂ以外の部分との間の最短距離である。
【００６９】
第３ローラ７１Ａおよび第３対向ローラ７１Ｂの材質は、基材１の押圧に必要な硬度を有する限り特に制限されない。例えば、樹脂、金属、セラミックスなどの押圧部材として使用される公知の材質が挙げられる。
【００７０】
第１凹凸Ｃ１ｘの形成は、基材１を加熱しながら行うことが好ましい。基材１が塑性変形し易くなるためである。この場合、第３ローラ７１Ａおよび第３対向ローラ７１Ｂの少なくとも一方に、加熱可能なローラを用いることが好ましい。なかでも、第１主面１Ｘに接触するローラ（この場合、第３ローラ７１Ａ）として、加熱可能なローラを用いることが好ましい。加熱下で第１凹凸Ｃ１ｘの形成を行う場合、加熱温度は、基材１の表面が、例えば１００〜２００℃、好ましくは１２０〜１７０℃になるように調整することが好ましい。加熱可能なローラとしては、ヒータを内蔵するローラや接続したヒータから加熱可能なローラなどが例示される。
【００７１】
なお、図７（ａ）では、基材１の第１主面１Ｘを、第３凸部７１１Ａを有する第３ローラ７１Ａで押圧しているが、第１主面１Ｘに第１凹凸Ｃ１ｘを形成する方法は、これに限定されない。例えば、第２主面１Ｙを第３ローラ７１Ａで押圧してもよい。このとき、対向ローラとして、上記したような凹部７１１Ｂを備えるローラを用いるか、あるいは、平滑な表面を備えるローラを用いることが好ましい。
【００７２】
［製造装置］
凹凸形成工程を実施する製造装置２００Ｂは、図８に示すように、平滑部２０２の上流に凹凸形成部２０７を備えること以外、製造装置２００Ａと同様である。凹凸形成部２０７では、基材１の第１主面１Ｘに第１凹凸Ｃ１ｘが形成される。
【００７３】
以下、図８を参照しながら、製造装置２００Ｂについて説明する。図８は、製造装置２００Ｂの一例の構成を概略的に示す図であり、同じ機能を備える部材には、同じ符号を付している。製造装置２００Ｂは、積層体１０を製造するための製造ラインを構成している。図８では、平滑部が第１ローラ２１Ａおよび第１ローラ２１Ｂを備えているが、これに限定されない。平滑部は、第２ローラ２２Ａおよび第２対向ローラ２２Ｂを備えていてもよい。また、図８では、凹凸再現部２０４が非接触式の加熱装置４２を備えているが、これに限定されない。凹凸再現部２０４は、加熱可能なローラを備えていてもよい。
【００７４】
（凹凸形成部）
凹凸形成部２０７は、複数の第３凸部７１１Ａを有する第３ローラ７１Ａを備える。凹凸形成部２０７は、さらに、第３ローラ７１Ａに対向する対向ローラとして、第３凸部７１１Ａに対応する凹部７１１Ｂを有する第３対向ローラ７１Ｂを備える。凹凸形成部２０７に搬送された基材１は、第３ローラ７１Ａおよび第３対向ローラ７１Ｂにより押圧され、その両方の主面には、それぞれ第１凹凸Ｃ１ｘおよび第２凹凸Ｃ１ｙが形成される。このとき、第３ローラ７１Ａとして加熱可能なローラを用いて、基材１を加熱することが好ましい。
【産業上の利用可能性】
【００７５】
本発明により得られる積層体は、不織布の表面積が大きいため、空気清浄機、あるいは空調機の濾材、電池用の分離不織布、燃料電池用のメンブレン、妊娠検査不織布等の体外検査不織布、細胞培養用等の医療用不織布、防塵マスク等の防塵布や防塵服、化粧用不織布、塵を拭き取る拭取不織布等として、好適である。
【符号の説明】
【００７６】
１０：積層体
１：基材
２：不織布
２ａ：第１繊維
３：保護材
２００Ａ、２００Ｂ：製造装置
２０１：基材供給部
１１：搬送ローラ
１２：第１供給リール
１３：モータ
２０２：平滑部
２１Ａ：第１ローラ
２１１Ａ：第１凸部
２１Ｂ：第１対向ローラ
２２Ａ：第２ローラ
２２１Ａ：第２凸部
２２Ｂ：第２対向ローラ
２０３：堆積部
３１：搬送コンベア
３２：原料液
３３：放出体
３４：第１支持体
３５：第２支持体
３６：電圧印加装置
３７：対電極
３８：ポンプ
３９：原料液タンク
２０４：凹凸再現部
４１：搬送ローラ
４２：加熱装置
２０５：保護材供給部
５１：搬送ローラ
５２：第２供給リール
５３：モータ
５４：加圧ローラ
２０６：回収部
６１：搬送ローラ
６２：回収リール
６３：モータ
２０７：凹凸形成部
７１Ａ：第３ローラ
７１１Ａ：第３凸部
７１Ｂ：第３対向ローラ
７１１Ｂ：凹部
【図１】
2017197875.tif 000003
【図２】
2017197875.tif 000004
【図３】
2017197875.tif 000005
【図４】
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【図５】
2017197875.tif 000007
【図６】
2017197875.tif 000008
【図７】
2017197875.tif 000009
【図８】
2017197875.tif 000010