(57)【要約】【課題】均一塗膜が十分に安定的に得られる塗布装置を提供する。【解決手段】スリットダイを備えた塗布装置であって、該スリットダイ（１０）は、少なくとも１つの塗布液吐出用スリット（１３）、最上流側リップ（１１）、最下流側リップ（１２）を有し、前記最下流側リップ（１２）の先端面（１２ａ）と外側面（１２ｂ）とのなす角度（θ１）が９０度未満であり、かつ、外側面（１２ｂ）が撥水性膜で被覆されていることを特徴とする、塗布装置。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
スリットダイを備えた塗布装置であって、該スリットダイ（１０）は、少なくとも１つの塗布液吐出用スリット（１３）、最上流側リップ（１１）、最下流側リップ（１２）を有し、前記最下流側リップ（１２）の先端面（１２ａ）と外側面（１２ｂ）とのなす角度（θ１）が９０度未満であり、かつ、外側面（１２ｂ）が撥水性膜で被覆されていることを特徴とする、塗布装置。
【請求項２】
前記最上流側リップ（１１）の外側面（１１ｂ）が撥水性膜で被覆されている、請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記撥水性膜が炭素膜である、請求項１または２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記炭素膜がＤＬＣ膜である、請求項３に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記ＤＬＣ膜がフッ素化ＤＬＣ膜である、請求項４に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記最上流側リップ（１１）の先端面（１１ａ）と外側面（１１ｂ）とのなす角度（θ２）が９０度未満である、請求項１〜５のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項７】
前記最上流側リップ（１１）の先端面（１１ａ）が親水性膜で被覆されている、請求項１〜６のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項８】
前記親水性膜が親水性ＤＬＣ膜である、請求項７に記載の塗布装置。
【請求項９】
前記スリットダイの上流側に減圧ユニットを有する、請求項１〜８のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の塗布装置を用いて、水系塗布液を基材に塗布する、塗布方法。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれかに記載の塗布装置を用いて、２３℃での粘度が３０ｍＰａ・ｓ以下である塗布液を、ウェット膜厚が３０μｍ以下で基材に塗布する、塗布方法。
【請求項１２】
請求項１〜９のいずれかに記載の塗布装置を用いて、塗布液を基材に塗布して積層フィルムを得る、積層フィルムの製造方法。
【請求項１３】
請求項１０または１１に記載の塗布方法を用いて、塗布液を基材に塗布し、積層フィルムを得る、積層フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スリットダイを備えた塗布装置、塗布方法、及びそれを用いた積層フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
スリットダイを備えた塗布装置は、通常、供給口から供給された塗布液をマニホールドで横方向に広げ、マニホールドから押し出された塗布液を吐出用スリットから吐出することによって、基材の表面に塗布膜が形成される。吐出用スリットの先端両側にはそれぞれリップがあり、リップと所定の間隙（クリアランス）で相対搬送する基材に塗布液が塗布される。
【０００３】
スリットダイを備えた塗布装置は、クリアランスに形成されるビード（液溜り）の安定性によって塗布性や塗膜均一性が影響されやすいという問題がある。例えば、図７は従来の塗布装置の模式断面図であるが、図７に示すように、下流側のリップ（１２）の外側面（１２ｂ）にビード（４０）の一部が濡れ広がる（乗り上げる）と、塗布スジや塗布ムラを引き起こすことがある。
【０００４】
上記問題を抑制するために、リップの外側面の塗布液接触角をリップの先端面の塗布液接触角より大きくすること（特許文献１、２）、下流側リップ先端部の水接触角を上流側リップ先端部の水接触角より大きくすること（特許文献３）、リップ側面に撥水性処理層を設けること（特許文献４）が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平８−１７３８７８号公報
【特許文献２】特開２００４−５００２５号公報
【特許文献３】特開２００２−２４８３９９号公報
【特許文献４】特開２００７−３３０９００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記したような従来技術では、均一塗膜を十分に安定的に得られるまでには至っていない。例えば、薄膜塗布、高速塗布、あるいは塗布液の種類や物性（粘度や表面張力など）によっては、安定的に均一塗膜が得られないことがある。
【０００７】
従って、本発明の目的は、均一塗膜が十分に安定的に得られる塗布装置および塗布方法を提供することにある。また、本発明の塗布装置および塗布方法を用いた積層フィルムの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の上記目的は、以下の発明によって達成された。
［１］スリットダイを備えた塗布装置であって、該スリットダイ（１０）は、少なくとも１つの塗布液吐出用スリット（１３）、最上流側リップ（１１）、最下流側リップ（１２）を有し、前記最下流側リップ（１２）の先端面（１２ａ）と外側面（１２ｂ）とのなす角度（θ１）が９０度未満であり、かつ、外側面（１２ｂ）が撥水性膜で被覆されていることを特徴とする、塗布装置。
［２］前記最上流側リップ（１１）の外側面（１１ｂ）が撥水性膜で被覆されている、［１］に記載の塗布装置。
［３］前記撥水性膜が炭素膜である、［１］または［２］に記載の塗布装置。
［４］前記炭素膜がＤＬＣ膜である、［３］に記載の塗布装置。
［５］前記ＤＬＣ膜がフッ素化ＤＬＣ膜である、［４］に記載の塗布装置。
［６］前記最上流側リップ（１１）の先端面（１１ａ）と外側面（１１ｂ）とのなす角度（θ２）が９０度未満である、［１］〜［５］のいずれかに記載の塗布装置。
［７］前記最上流側リップ（１１）の先端面（１１ａ）が親水性膜で被覆されている、［１］〜［６］のいずれかに記載の塗布装置。
［８］前記親水性膜が親水性ＤＬＣ膜である、［７］に記載の塗布装置。
［９］前記スリットダイの上流側に減圧ユニットを有する、［１］〜［８］のいずれかに記載の塗布装置。
［１０］［１］〜［９］のいずれかに記載の塗布装置を用いて、水系塗布液を基材に塗布する、塗布方法。
［１１］［１］〜［９］のいずれかに記載の塗布装置を用いて、２３℃での粘度が３０ｍＰａ・ｓ以下である塗布液を、ウェット膜厚が３０μｍ以下で基材に塗布する、塗布方法。
［１２］［１］〜［９］のいずれかに記載の塗布装置を用いて、塗布液を基材に塗布して積層フィルムを得る、積層フィルムの製造方法。
［１３］［１０］または［１１］に記載の塗布方法を用いて、塗布液を基材に塗布し、積層フィルムを得る、積層フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、均一塗膜が十分に安定的に得られる塗布装置、塗布方法およびそれを用いた積層フィルムの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は本発明の塗布装置に用いられるスリットダイの一実施態様の要部を模式的に示した断面図である。
【図２】図２は図１のＡで示した部分の拡大断面図である。
【図３】図３は本発明の塗布装置に用いられるスリットダイの一実施態様の要部を模式的に示した断面図である。
【図４】図４は図２のＢで示した部分の拡大断面図である。
【図５】図５は本発明のスリットダイと減圧ユニットを備えた塗布装置の一実施態様の要部を模式的に示した断面図である。
【図６】図６は本発明の塗布装置に用いられるスリットダイの一実施態様の要部を模式的に示した断面図である。
【図７】図７は従来の塗布装置の模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明にかかる実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。また、本発明の効果を奏する範囲を逸脱しない範囲で、適宜変更は可能である。なお、図１〜図６に示した矢印Ｘは、基材３０の搬送方向を示す。以下の説明において、基材搬送方向（矢印Ｘ）の上流側を単に「上流側」、基材搬送方向（矢印Ｘ）の下流側を単に「下流側」と言うことがある。また、図１〜図６は、塗布装置の構成の一部を模式的に示したもので、実際の寸法を示したものではない。
【００１２】
図１は本発明の塗布装置に用いられるスリットダイの一実施態様の要部の模式断面であり、図２は図１のＡで示した部分の拡大断面図である。本発明の塗布装置はスリットダイ１０を備え、スリットダイ１０は少なくとも１つの塗布液吐出用スリット１３、最上流側リップ１１、最下流側リップ１２を有する。塗布液吐出用スリット１３の上方には、図示しないマニホールドを有していることが好ましく、供給口から供給された塗布液はマニホールドで横方向（塗布の幅方向）に広げて塗布液吐出用スリットに供給される。
【００１３】
本発明にかかるスリットダイ１０は、塗布液吐出用スリット１３の上流側に最上流側リップ１１、下流側に最下流側リップ１２を有する。塗布液吐出用スリット１３から吐出された塗布液は、最上流側リップ１１および最下流側リップ１２と基材３０との間隙（クリアランス）にビード（液溜り）が形成され、基材３０上に塗布される。上記クリアランスの寸法Ｈは、通常２０〜５００μｍ程度であるが、後述する薄膜塗布の場合は、ビードを安定化させるという観点から２０〜２００μｍの範囲が好ましく、３０〜１５０μｍの範囲がより好ましく、３０〜１００μｍの範囲が特に好ましい。
【００１４】
図１は、塗布液吐出用スリットが１つのみの態様を示しているが、塗布液吐出用スリットは２以上であってもよい。図６は、２つの塗布液吐出用スリットを有するスリットダイの構成を示したものであり、塗布液吐出用スリット１３ａと１３ｂとの間に中央リップ１４を有する以外は、図１の構成と同じである。
【００１５】
本発明にかかるスリットダイの特徴は、最下流側のリップ１２の先端面１２ａと外側面１２ｂとのなす角度θ１が９０度未満であり、かつ、外側面１２ｂが撥水性膜（不図示）で被覆されていることにある。最下流側リップ１２が上記構成を採ることにより、ビード４０を形成する塗布液の一部が外側面１２ｂに濡れ広がる（乗り上げる）ことが抑制され、この現象が起因する塗布スジや塗布ムラが抑制される。その結果、均一な塗膜が安定的に得られる。
【００１６】
最下流側リップ１２の先端面１２ａと外側面１２ｂとのなす角度θ１は、外側面１２ｂの塗布液による濡れ広がりを抑制するという観点から、さらに、８０度以下が好ましく、７０度以下がより好ましい。下限の角度は、リップの強度を保持するという観点から３０度以上が好ましい。
【００１７】
本発明にかかるスリットダイは、最下流側リップ１２の先端面１２ａは、撥水性膜で被覆されていないことが好ましい。つまり、先端面１２ａは、スリットダイの形成材料（例えば、ステンレス鋼）のそのままの状態であることが好ましい。この場合、先端面１２ａは鏡面仕上げされていることが好ましく、先端面１２ａの表面の表面粗さは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９８４に準拠した最大高さＲｙが０．２Ｓ（μｍ）以下であることが好ましい。
【００１８】
外側面１２ｂに被覆される撥水性膜としては、炭素膜、ニッケルメッキ膜、フッ素樹脂含有ニッケルメッキ膜、フッ素樹脂膜、シリコーン樹脂膜、ポリプロピレン樹脂膜、ポリエチレン樹脂膜などが挙げられる。これらの中でも、撥水性が高く、耐摩耗性、耐久性、密着性などが優れていることから、炭素膜が好ましく、さらに炭素膜の中でも、ＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）膜が好ましい。
【００１９】
撥水性膜の被覆方法としては、被覆する材料に応じて適宜選択されるが、例えば、コーティング、メッキ、焼き付け、蒸着、スパッタ、プラズマＣＶＤ、溶射などが挙げられる。
【００２０】
撥水性膜の厚みは、０．１〜２０μｍの範囲が好ましく、０．３〜１０μｍの範囲がより好ましく、０．５〜７μｍの範囲が特に好ましい。撥水性膜の厚みが０．１μｍ未満であると、撥水性膜として十分に機能しないことがあり、一方、厚みが２０μｍを超えると、撥水性膜に亀裂が生じることがある。
【００２１】
撥水性膜は、水接触角が７０度以上であることが好ましく、８０度以上であることがより好ましく、９０度以上であることが特に好ましい。上限は特に限定されないが、１６０度程度である。
【００２２】
［ＤＬＣ膜］
撥水性膜として好適であるＤＬＣ膜について、詳細に説明する。
ＤＬＣ膜は、既知の方法を用いて形成することができる。例えば、スパッタ法、ＤＣマグネトロンスパッタ法、ＲＦマグネトロンスパッタ法、化学気相堆積法（ＣＶＤ法）、プラズマＣＶＤ法、プラズマイオン注入法、重畳型ＲＦプラズマイオン注入法、イオンプレーティング法、アークイオンプレーティング法、イオンビーム蒸着法、レーザーアブレーション法、溶射法等により形成することができる。
【００２３】
ＤＬＣ膜を形成するための材料としては、例えば、炭化水素化合物等のガスが挙げられる。かかる炭化水素化合物としては、メタン（ＣＨ４）、エタン（Ｃ２Ｈ６）、プロパン（Ｃ３Ｈ８）、ブタン（Ｃ４Ｈ１０）等のアルカン、シクロプロパン（Ｃ３Ｈ６）、シクロブタン（Ｃ４Ｈ８）等のシクロアルカン、エチレン（Ｃ２Ｈ４）、プロペン（Ｃ３Ｈ６）、ブテン（Ｃ４Ｈ８）等のアルケン、アセチレン（Ｃ２Ｈ２）等のアルキン、ベンゼン（Ｃ６Ｈ６）、トルエン（Ｃ７Ｈ８）等の芳香族炭化水素等が挙げられる。上記の材料で形成されたＤＬＣ膜の水接触角は７０度以上となる。
【００２４】
また、ＤＬＣ膜の撥水性をさらに高めるために、フッ素、アルミニウムもしくはシリコンをＤＬＣ膜に含有させることができる。例えば、原料ガス中にフッ化炭化水素、アルコキシド、シラン等のフッ素、アルミニウムもしくはシリコンを含むガスを添加することにより実施できる。
【００２５】
本発明にかかる撥水性膜は、撥水性が高い方が好ましく、この観点から、フッ素化ＤＬＣ膜が好ましい。かかるフッ素化ＤＬＣ膜は、原料としてフッ素化炭化水素化合物が用いることによって形成することができる。
【００２６】
かかるフッ素化炭化水素化合物としては、例えば、フッ素化アルカン、フッ素化シクロアルカン、フッ素化アルケン、フッ素化シクロアルケン、フッ素化芳香族化合物などを挙げることができる。具体的には、４フッ素化炭素（ＣＦ４）、６フッ素化２炭素（Ｃ２Ｆ６）、８フッ素化４炭素（Ｃ４Ｆ８Ｈ２）、フッ素化ベンゼン（モノフルオロベンゼン（Ｃ６ＦＨ５）、ジフルオロベンゼン（Ｃ６Ｆ２Ｈ４）、トリフルオロベンゼン（Ｃ６Ｆ３Ｈ３）、テトラフルオロベンゼン（Ｃ６Ｆ４Ｈ２）、ペンタフルオロベンゼン（Ｃ６Ｆ５Ｈ）、ヘキサフルオロベンゼン（Ｃ６Ｆ６）、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（（ＣＦ３）２Ｃ６Ｈ４））等が挙げられる。
【００２７】
フッ素化ＤＬＣ膜の水接触角は８０度以上となり、またフッ素含有量を調整すること（増量すること）により９０度以上とすることができる。
【００２８】
［スリットダイ］
以下、本発明にかかるスリットダイの好ましい態様について説明する。
【００２９】
本発明にかかるスリットダイは、最上流側に位置するリップ１１の外側面１１ｂが撥水性膜（不図示）で被覆されていることが好ましい。これによって、さらにビード４０が安定し、塗布スジや塗布ムラの発生が抑制される。特に塗布開始時（塗布液の過剰量吐出時）のビード４０の安定化が図られる。
【００３０】
外側面１１ｂに被覆される撥水性膜は、前述した最下流側リップの外側面１２ｂに被覆される撥水膜と同様のものが用いられる。つまり、外側面１１ｂに被覆される撥水性膜は、炭素膜が好ましく、さらにＤＬＣ膜が好ましく、特にフッ素化ＤＬＣ膜が好ましい。撥水性膜の厚みは０．１〜２０μｍの範囲が好ましく、０．３〜１０μｍの範囲がより好ましく、０．５〜７μｍの範囲が特に好ましい。撥水性膜の水接触角は７０度以上であることが好ましく、８０度以上であることがより好ましく、９０度以上であることが特に好ましい。上限の水接触角は特に限定されないが１６０度程度である。
【００３１】
本発明にかかるスリットダイは、さらに図３に示される構成が好ましい。図４は図３のＢで示した部分の拡大断面図である。
【００３２】
つまり、最上流側のリップ１１の先端面１１ａと外側面１１ｂとのなす角度θ２が９０度未満であることが好ましい。これによって、外側面１１ｂの塗布液による濡れ広がりが抑制され、ビード４０が安定する。角度θ２は、さらに、８０度以下が好ましく、７０度以下がより好ましい。下限の角度は、リップ１１の強度を保持するという観点から３０度以上が好ましい。
【００３３】
図３の態様において、外側面１１ｂは、上記したように撥水性膜（不図示）で被覆されていることがさらに好ましい。
【００３４】
また、本発明にかかるスリットダイは、最上流側リップ１１の先端面１１ａが親水性膜（不図示）で被覆されていることが好ましい。かかる親水性膜は、水接触角が６０度以下であることが好ましく、５０度以下であることがより好ましく、４０度以下であることが特に好ましい。下限の水接触角は特に限定されないが１０度程度である。
最上流側リップ１１の先端面１１ａが親水性膜で被覆されることにより、さらにビード４０が安定となる。
【００３５】
親水性膜の厚みは、０．１〜２０μｍの範囲が好ましく、０．３〜１０μｍの範囲がより好ましく、０．５〜７μｍの範囲が特に好ましい。
【００３６】
親水性膜としては、たとえば、親水性ＤＬＣ膜が好ましく例示される。かかる親水性ＤＬＣ膜は、ＤＬＣ膜に酸素や窒素を含有させることによって形成することができる。例えば、プラズマＣＶＤ法などにより、真空チャンバー内に主原料として炭化水素系ガス（前述のＤＬＣ膜を形成するための炭化水素化合物と同様）を供給するとともにＯ２を供給してそれらガスを反応させながら堆積させることによって形成することができる。
【００３７】
親水性ＤＬＣ膜の水接触角は、例えば、Ｏ２の供給量を調整する（多くする）ことによって、６０度以下、さらに５０度以下、またさらに４０度以下にすることができる。
【００３８】
本発明にかかる塗布装置は、スリットダイの上流側に減圧ユニットを有することが好ましい。図５は、スリットダイと減圧ユニットを備えた塗布装置の模式断面図である。スリットダイ１０の上流側に減圧ユニット２０が備えられている。
【００３９】
減圧ユニット２０は、減圧室２１と図示しない減圧手段（真空ポンプ）および空気排出管で構成され、減圧室２１が減圧されることにより、ビード４０の上流側が減圧されてビード４０が安定化する。
【００４０】
ビード４０を安定化させるには、ビード４０の上流側メニスカス４０ａは、最上流側リップ１１の先端面１１ａの領域内でピンニングさせることが好ましく、特に先端部１１ｃ近傍でピンニングさせることが好ましい。ビード４０の上流側メニスカス４０ａは、減圧ユニット２０の減圧条件を制御することにより上記した位置（先端面１１ａの領域内）にピンニングさせることができる。
【００４１】
また、最上流側リップ１１の先端面１１ａが親水性膜で被覆されていることにより、ビード４０の上流側メニスカス４０ａを上記位置（先端面１１ａの領域内）に安定的にピンニングさせることができる。
【００４２】
さらに、最上流側リップ１１の外側面１１ｂが撥水性膜で被覆されていることにより、ビード４０の上流側メニスカス４０ａを上記位置（先端面１１ａの領域内）に安定的にピンニングさせることができる。
【００４３】
またさらに、最上流側リップ１１の先端面１１ａと外側面１１ｂとのなす角度θ２が９０度未満であることにより、ビード４０の上流側メニスカス４０ａを上記位置（先端面１１ａの領域内）に安定的にピンニングさせることができる。
【００４４】
ビード４０の上流側メニスカス４０ａを上記位置（先端面１１ａの領域内）に安定的にピンニングさせるということは、ビード４０が下流側に後退しないことを意味し、最上流側リップ１２の外側面１２ｂへの塗布液の濡れ広がりを抑制することに寄与する。
【００４５】
つまり、本発明の塗布装置の特徴的な構成、即ち、最下流側のリップ１２の先端面１２ａと外側面１２ｂとのなす角度θ１が９０度未満であり、かつ、外側面１２ｂが撥水性膜で被覆されている構成（ｉ）と、下記構成（ｉｉ）〜（ｖ）の少なくとも１つの構成とを組み合わせることにより、さらに、最上流側リップ１２の外側面１２ｂへの塗布液の濡れ広がりを抑制することができる。
【００４６】
＜構成（ｉｉ）＞
最上流側リップ１１の外側面１１ｂが撥水性膜で被覆されている構成。
【００４７】
＜構成（ｉｉｉ）＞
最上流側リップ１１の先端面１１ａと外側面１１ｂとのなす角度θ２が９０度未満である構成。
【００４８】
＜構成（ｉｖ）＞
最上流側リップ１１の先端面１１ａが親水性膜で被覆されている構成。
【００４９】
＜構成（ｖ）＞
スリットダイの上流側に減圧ユニットを有する構成。
【００５０】
［撥水性膜および親水性膜の水接触角の測定］
撥水性膜および親水性膜の水接触角は、以下の方法で測定することができる。
【００５１】
＜テストピースの作製＞
厚みが３ｍｍのステンレス鋼板（ＨＰＭ３８；表面仕上げ０．４Ｓ）の表面に、撥水性膜あるいは親水性膜を厚み３μｍで被覆してテストピースを作製する。
【００５２】
＜水接触角の測定＞
協和界面科学（株）製の自動接触角計（ＤＭ−５００）と解析ソフトＦＡＭＡＳ（バージョン３．３４）を用いて、テストピースに形成された撥水性膜あるいは親水性膜の水接触角を測定する。
測定には純水を用い、純水の滴下量を２マイクロリットルとする。
５回測定し、最大値と最小値を除く３点の平均値を採用する。
測定環境は、温度２３℃、相対湿度５５％である。
【００５３】
［塗布装置の適用例］
本発明の塗布装置は、塗布液の種類は限定されず、既知の塗布液を塗布するのに適用することができる。特に、本発明の塗布装置は、水系塗布液の塗布に好適である。
【００５４】
水系塗布液はスリットダイ塗布装置で塗布するとき、最下流側リップ１２の外側面１２ｂに濡れ広がりやすい傾向にあるため、濡れ広がりを抑制することができる本発明の塗布装置は有効である。
【００５５】
水系塗布液とは、溶媒あるいは分散媒として水を主成分（全溶媒に対して水を５０質量％以上、さらには６０質量％以上含む）とする塗布液を意味する。水系塗布液は、水以外の溶媒、例えば水溶性アルコール（低級アルコール）等を含むことができる。
【００５６】
水系塗布液としては、例えば、導電性の線状構造体（例えば、カーボンナノチューブ、銀ナノワイヤーなど）を含む塗布液、有機あるいは無機の粒子が分散された塗布液、水溶性ポリマーが溶解された塗布液、疎水性ポリマーの水分散体（エマルジョンなど）を含む塗布液等が挙げられる。
【００５７】
本発明にかかる塗布装置は、薄膜塗布に好適である。例えば、ウェット膜厚が３０μｍ以下、さらに２０μｍ以下の薄膜塗布に好適である。下限のウェット膜厚は３μｍ程度である。
【００５８】
スリットダイ塗布装置を用いた薄膜塗布では、厚膜塗布に比べてビードの安定性が低くなり、最下流側リップ１２の外側面１２ｂに濡れ広がりやすくなる傾向にあるが、この濡れ広がりは本発明の塗布装置を用いることにより抑制することができる。
【００５９】
本発明の塗布装置は、低粘度塗布液の塗布に好適である。例えば、２３℃粘度が３０ｍＰａ・ｓ以下、さらには２０ｍＰａ・ｓ以下の塗布液の塗布に好適である。下限の粘度は０．５ｍＰａ・ｓ程度である。ここで、塗布液の粘度は、Ｂ型粘度計（ブルックフィールド型粘度計）で、塗布液温度２３℃で測定したものである。
【００６０】
低粘度塗布液をスリットダイ塗布装置で塗布するとき、高粘度塗布液の塗布に比べてビードの安定性が低くなり、最下流側リップ１２の外側面１２ｂに濡れ広がりやすくなる傾向にあるが、この濡れ広がりは本発明の塗布装置を用いることにより抑制することができる。
【００６１】
［基材］
本発明の塗布装置は、塗布液が塗布される基材の種類は限定されず、既知の基材への塗布に適用することができる。
かかる基材としては、例えば、紙、プラスチックフィルム、ガラス、金属箔、およびこれらの複合体が挙げられる。基材の厚みは２０〜３００μｍの範囲が適当である。上記した基材の中でも、可撓性があり、比較的高い強度を有し、かつ幅方向の厚み精度が比較的良好である、プラスチックフィルムが好適である。
【００６２】
プラスチックフィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン等のポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、例えばアートン（登録商標）などの耐熱透明樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂等が挙げられる。
【００６３】
[積層フィルムの製造]
本発明の塗布装置、前述の塗布方法および基材を用いることにより、各種積層フィルムを製造することができる。例えば、導電性フィルム、ハードコートフィルム、反射防止フィルム、防眩性フィルム、帯電防止フィルム、自己修復性フィルム、粘着フィルム、離型フィルムなどの積層フィルムを製造することができる。
【００６４】
これらの積層フィルムは、基材に各種機能性層を一層もしくは複数層塗布し積層することによって製造される。機能性層は、上記したような各種機能性フィルムに適した機能を有する層であれば良い。機能性層としては、例えば、導電層、ハードコート層、反射防止層、帯電防止層、自己修復層、粘着剤層、離形層等が挙げられる。
【符号の説明】
【００６５】
１０      スリットダイ 
１１      最上流側リップ
１１ａ    先端面
１１ｂ    外側面 
１１ｃ    上流側先端部
１２      最下流側リップ
１２ａ    先端面
１２ｂ    外側面
１３      塗布液吐出用スリット 
１４      中央リップ
２０      減圧ユニット 
２１      減圧室
３０      基材
４０      ビード 
４０ａ    上流側メニスカス
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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