(57)【要約】【課題】照射ムラを簡単に抑制できるようにすること。【解決手段】紫外線硬化剤を含むワークＷに照射光９４を照射し、当該紫外線硬化剤を光硬化させる光照射装置１において、前記ワークＷのワーク載置領域Ｒｗを含む所定照射領域Ｒａを前記照射光９４で照らす照射ユニット１１と、前記照射ユニット１１の照射光９４を減じ、前記所定照射領域Ｒａの内の一部の箇所の照度を低める減光フィルタユニット４０と、を備え、前記減光フィルタユニット４０は、前記所定照射領域Ｒａ内の前記ワーク載置領域Ｒｗにおいて、照度が相対的に高くなっている箇所の光を減じる構成とした。【選択図】図１
2017012988.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光硬化剤を含むワークに光を照射し、当該光硬化剤を光硬化させる光照射装置において、
前記ワークの載置領域を含む所定照射領域を前記光で照らす照射ユニットと、
前記照射ユニットの光を減じ、前記所定照射領域の内の一部の箇所の照度を低める減光手段と、を備え、
前記減光手段は、
前記ワークの載置領域において、照度が相対的に高くなっている箇所の光を減じる
ことを特徴とする光照射装置。
【請求項２】
前記照射ユニットが設けられた筐体を備え、
前記減光手段は、前記筐体に着脱自在に設けられている
ことを特徴とする請求項１に記載の光照射装置。
【請求項３】
前記照射ユニットは、線状光源を備え、
前記減光手段は、
少なくとも前記線状光源の光が入射する範囲に亘って前記線状光源の長手方向に延びる減光フィルタを備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の光照射装置。
【請求項４】
前記減光手段は、
前記減光フィルタを交換自在に備えている
ことを特徴とする請求項３に記載の光照射装置。
【請求項５】
前記減光手段は、
前記減光フィルタを前記長手方向と直交する方向に移動自在に備えている
ことを特徴とする請求項３または４に記載の光照射装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の複数の光照射装置を備え、
前記光照射装置のそれぞれは、各々の所定照射領域の少なくとも一部を重複させて配置され、これら所定照射領域が連なって成る連続照射領域に前記ワークの載置領域が含まれ、
前記減光手段は、
複数の前記光照射装置の少なくとも1つ以上に設けられ、
前記ワークの載置領域において、照度が相対的に高くなっている箇所の光を減じる
ことを特徴とする光硬化システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光照射装置、及び光硬化システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、紙やプラスチック等の表面に光硬化剤を被着し、この光硬化剤に光を照射して硬化する光硬化技術が知られており、液晶パネルの封止や、光学レンズ部品の接着、光ディスクの接着、プリント基板の部品仮止め等に広く応用されている。光硬化に用いられる光は、硬化剤の種類、硬化条件等によって異なり、紫外線（紫外光）の他、可視光や近赤外線が用いられることもある。
光硬化技術で用いられる光照射装置の光源には、光硬化に紫外線を利用する場合、通常、高圧水銀ランプやメタルハライドランプ等の放電ランプが使用されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第４６４２０６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、光硬化技術に用いられる従来の光照射装置では、照射面に照度ムラが生じ、所望の均斉度が得られない、という問題があった。そこで従来では、光照射装置と照射面の間の距離（照射距離）を変えたり、複数の光照射装置が並設されている場合には各光照射装置の間の距離（ピッチ）を変えたりして、照度ムラの低減が図られている。
しかしながら、従来の手法では、照射距離やピッチの変更に伴い、照射面での光量も変わってしまい調整作業が繁雑であり、また照度ムラを十分に解消することも困難であった。
【０００５】
そこで本発明は、照射ムラを簡単に抑制できる光照射装置、及び光硬化システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、光硬化剤を含むワークに光を照射し、当該光硬化剤を光硬化させる光照射装置において、前記ワークの載置領域を含む所定照射領域を前記光で照らす照射ユニットと、前記照射ユニットの光を減じ、前記所定照射領域の内の一部の箇所の照度を低める減光手段と、を備え、前記減光手段は、前記ワークの載置領域において、照度が相対的に高くなっている箇所の光を減じることを特徴とする。
【０００７】
また本発明は、上記光照射装置において、前記照射ユニットが設けられた筐体を備え、前記減光手段は、前記筐体に着脱自在に設けられていることを特徴とする。
【０００８】
また本発明は、上記光照射装置において、前記照射ユニットは、線状光源を備え、前記減光手段は、少なくとも前記線状光源の光が入射する範囲に亘って前記線状光源の長手方向に延びる減光フィルタを備えることを特徴とする。
【０００９】
また本発明は、上記光照射装置において、前記減光手段は、前記減光フィルタを交換自在に備えていることを特徴とする。
【００１０】
また本発明は、上記光照射装置において、前記減光手段は、前記減光フィルタを前記長手方向と直交する方向に移動自在に備えていることを特徴とする。
【００１１】
また本発明は、上記のいずれかに記載の複数の光照射装置を備え、前記光照射装置のそれぞれは、各々の所定照射領域の少なくとも一部を重複させて配置され、これら所定照射領域が連なって成る連続照射領域に前記ワークの載置領域が含まれ、前記減光手段は、複数の前記光照射装置の少なくとも1つ以上に設けられ、前記ワークの載置領域において、照度が相対的に高くなっている箇所の光を減じることを特徴とする光硬化システムである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、所定照射領域内のワークの載置領域において照度が相対的に高くなっている箇所の光が減光手段によって減じられるので、光照射装置の配置位置等の調整をせずともワークの載置領域内の照度ムラが抑えられて均斉度が高められる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施形態に係る光硬化システムを模式的に示す正面図である。
【図２】光硬化システムを模式的に示す側面図である。
【図３】光照射装置の内部構成を示す断面図である。
【図４】図３におけるカバーユニットの拡大図である。
【図５】カバーユニットの一部分解斜視図である。
【図６】減光フィルタユニットの装着の有無による照度分布変化の一例を示す説明図である。
【図７】減光フィルタユニットによる照度分布の調整の一例を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
図１は本実施形態に係る光硬化システム１０を模式的に示す正面図であり、図２は光硬化システム１０を模式的に示す側面図である。
これらの図に示すように、光硬化システム１０は、複数（図示例では３つ）の光照射装置１と、これら光照射装置１の直下に離間距離Ｌｓだけ離間して配置されたステージ９０と、を備え、複数の光照射装置１が直下のステージ９０に紫外線たる照射光９４を照射する。このステージ９０の上面９０Ａには、ワーク載置領域Ｒｗが設定されており、このワーク載置領域Ｒｗの範囲の中に、紫外線硬化剤が塗布されたワークＷが載置される。紫外線硬化剤は紫外線の照射によって硬化する光硬化剤の一例である。
なお、光照射装置１の直下とは光照射装置１の光軸Ｋに沿った方向を指し、この光照射装置１では、光軸Ｋが鉛直方向に合わせられている。
【００１５】
光照射装置１のそれぞれは同一構成を有し、略直方体形状の筐体９５を備え、当該筐体９５には、線状光源の一例たる直管型ランプ１２と、この直管型ランプ１２の配光を制御する反射鏡ユニット１３と、カバーユニット３１とが設けられている。カバーユニット３１は、各種の光学フィルタを備えたユニットであり、筐体９５の底面に取付けられており、このカバーユニット３１には、直管型ランプ１２の長手方向Ｄａ（図２）に延びる矩形の照射開口９６が形成されている。なお、カバーユニット３１が備える光学フィルタについては後述する。
【００１６】
反射鏡ユニット１３は、直管型ランプ１２が放射する紫外線を焦点Ｓに集光するシリンドリカル状の反射面１３Ａを有している。この焦点Ｓは、直管型ランプ１２の直下であって、ステージ９０と光照射装置１の間に設定されており、この焦点Ｓで一旦集光した光は、直管型ランプ１２の長手方向Ｄａと直交する方向（以下、ランプ直交方向と称し、符号Ｄｂを付す）に拡がる光となる。
これにより、光照射装置１のそれぞれは、直管型ランプ１２の直射光９３、及び反射鏡ユニット１３の反射によってランプ直交方向Ｄｂに拡がる反射光９２を照射光９４として直下のステージ９０の所定照射領域Ｒａに向けて照射する。所定照射領域Ｒａは、光照射装置１の直下に設定された領域である。
【００１７】
ランプ直交方向Ｄｂにおける反射光９２の拡がり幅Ｌｒは、焦点Ｓからステージ９０までの距離によって変化し、また直射光９３の拡がり幅Ｌｄは、照射開口９６の開口幅Ｌｗによって変化する。これら拡がり幅Ｌｒ、Ｌｄは、ワーク載置領域Ｒｗにおいて、照度ムラが所定範囲に収まるように設定されている。
ここで言う照度ムラは、ワーク載置領域Ｒｗにおける最低照度と最大照度との差である。
また、照度ムラが所定範囲に収まるとは、少なくともいずれかの光照射装置１が後述する減光フィルタユニット４０を備えることで、ワーク載置領域Ｒｗの均斉度が、ワークＷの光硬化処理に許容される範囲に収まることを意味する。
なお、図示例では、これら焦点Ｓの位置、及び照射開口９６の開口幅Ｌｗが、ステージ９０における反射光９２の拡がり幅Ｌｒと、直射光９３の拡がり幅Ｌｄとを概ね一致させる値に設定されているが、あくまでも一例である。
【００１８】
この光硬化システム１０では、図１に示すように、複数の光照射装置１がランプ直交方向Ｄｂに所定の配置間隔Ｌｐで並列に並べて設けられている。これら光照射装置１の配置間隔Ｌｐは、各直管型ランプ１２の発光中心Ｏを基準にして規定され、少なくともステージ９０の上面９０Ａにおいて互いの所定照射領域Ｒａが一部重複する距離に設定されている。
ステージ９０の上面９０Ａには、光照射装置１のそれぞれの所定照射領域Ｒａがランプ直交方向Ｄｂに連なって成る１つの大きな連続照射領域Ｒｂが形成され、この連続照射領域Ｒｂの中に、ワークＷが載置されるワーク載置領域Ｒｗが設定されている。このワーク載置領域Ｒｗは、連続照射領域Ｒｂの中でも特に照度ムラが抑えられて所定の均斉度を維持している領域である。
【００１９】
次いで、光照射装置１の具体的構成を説明する。
図３は光照射装置１の内部構成を示す断面図である。
この光照射装置１は、図３に示すように、金属製の外装体２に、照射ユニット１１と、照射ユニット１１を冷却する冷却ユニット２１と、照射ユニット１１とワークＷとの間に配置されるカバーユニット３１とを備えている。
照射ユニット１１は、上述した線状光源の一例たる直管型ランプ１２、及び反射鏡ユニット１３を備え、これらは、外装体２の中に、ランプ直交方向Ｄｂにおける略中央に配置されている。
この外装体２の底面１５Ｂには、開口部２Ｋが開口し、この開口部２Ｋが上記カバーユニット３１によって覆われている。
すなわち、図１の筐体９５の外形は、これら外装体２、及びカバーユニット３１によって構成されており、カバーユニット３１が筐体９５の底面を構成する。なお、照射ユニット１１、及びカバーユニット３１が外装体２（すなわち筐体９５）の中に収められてもよい。
【００２０】
直管型ランプ１２は、ステージ９０の上面９０Ａに沿って略平行に延在する長尺の直管型のランプであり、ワークＷの紫外線硬化剤を硬化させる波長帯域の紫外線を放射する。この直管型ランプ１２には、例えば高圧水銀ランプ、その他のメタルハライドランプの放電ランプが用いられる。
反射鏡ユニット１３は、上述したように、直管型ランプ１２を囲うとともに直管型ランプ１２の長手方向Ｄａに沿って延在するシリンドリカル状の反射面１３Ａを備えている。
これら直管型ランプ１２、及び反射鏡ユニット１３の周囲には、冷却ユニット２１によって冷却風が導入されて空冷される。
【００２１】
冷却ユニット２１は、外装体２に収められており、冷却用ラジエータ２１Ａ、冷却用ユニット２１Ｂ、及び冷却用ブロア２１Ｃ等を備えている。冷却用ラジエータ２１Ａ、冷却用ユニット２１Ｂ、及び冷却用ブロア２１Ｃは、冷却用ブロア２１Ｃにより冷却風を照射ユニット１１に送風し、照射ユニット１１の各部（直管型ランプ１２、及び反射鏡ユニット１３等）を空冷する。
また、反射鏡ユニット１３に設けられた複数の孔部１３Ｂのそれぞれには、冷却用ラジエータ２１Ａ、及び冷却用ユニット２１Ｂとは別に設けられた冷却ユニット（図示せず）から冷却水が供給される。これら複数の孔部１３Ｂは反射鏡ユニット１３の長手方向に延在し、各孔部１３Ｂのそれぞれを冷却水が流通することによって反射鏡ユニット１３が効率良く冷却される。
【００２２】
これにより照射ユニット１１の各部（直管型ランプ１２、及び反射鏡ユニット１３等）を強制冷却でき、直管型ランプ１２の発熱の影響による直管型ランプ１２、及び反射鏡ユニット１３等の温度上昇を十分に抑えることができる。また外装体２の底面１５の開口部２Ｋはカバーユニット３１で覆われるので、外装体２を外部空間から区画でき、外部空間の熱影響を抑えて外装体２内に独立した冷却空間を形成することができる。
【００２３】
図４は図３におけるカバーユニット３１の拡大図であり、図５はカバーユニット３１の一部分解斜視図である。
カバーユニット３１は、外装体２の底面１５Ｂの開口部２Ｋを覆う蓋部材であり、図５に示すように、カバーユニット本体３２と、減光フィルタユニット４０とを備えている。
カバーユニット本体３２は、直管型ランプ１２の長手方向Ｄａに沿って延びる矩形薄型の板状の部材であり、図３、及び図４に示すように、支持片３９によって外装体２の下端に支持されている。このカバーユニット３１には、直管型ランプ１２の直下に直管型ランプ１２の長手方向Ｄａに沿って延びる矩形の開口部３１Ａが形成されている。この開口部３１Ａは、平面視において、外装体２の底面１５Ａの開口部２Ｋの中に収まっており、これら開口部２Ｋ、及び開口部３１Ａを、直管型ランプ１２の直射光９３、及び反射鏡ユニット１３によって反射された反射光９２が通過する。これにより、これら直射光９３、及び反射光９２が光照射装置１の照射光９４としてステージ９０の所定照射領域Ｒａに照射される。つまり、この光照射装置１では、カバーユニット３１の開口部３１Ａが照射光９４を出射する上記照射開口９６（図１、図２）に相当する。
【００２４】
カバーユニット３１は、上述したように、光学フィルタを備えるものであり、具体的には、波長選択フィルタ３３と、吸収フィルタ３５とを備えている。
詳述すると、直管型ランプ１２の光には、ワークＷへの照射が不要な波長の光も含まれており、この不要波長の光を除去すべく、カバーユニット３１の開口部３１Ａには、開口部３１Ａを覆うように波長選択フィルタ３３が取り付けられている。
波長選択フィルタ３３は、透明基板上に誘電体多層膜を積層して形成される光学フィルタであり、ワークＷへの照射が必要な波長（必要波長）の光だけが透過し、不要波長の光は透過しない。これにより、波長選択フィルタ３３は、ワークＷに不必要な光を除去するカットフィルタとして機能する。
【００２５】
ところで、波長選択フィルタ３３には、透過特性に入射角度依存性がある。このため、斜めに入射した光については不必要な波長であっても一部透過してしまう。特に、本実施形態の光照射装置１は、直管型ランプ１２から離れた位置に平板状の波長選択フィルタ３３を配置し、且つ、湾曲した反射鏡ユニット１３を用いて直管型ランプ１２の光を反射する。このため、反射鏡ユニット１３から波長選択フィルタ３３に斜めに入射する光成分が比較的多く存在し、波長選択フィルタ３３を透過する不必要な波長の光が多くなり易い。
そこでカバーユニット３１には、不必要な波長の光を吸収する上記吸収フィルタ３５が波長選択フィルタ３３の下側に更に設けられ、波長選択フィルタ３３、及び吸収フィルタ３５を透過した必要波長の光だけを照射領域たるワークＷに照射する構成にしている。
なお、カバーユニット３１の開口部３１Ａ（照射開口９６）は、この波長選択フィルタ３３によって閉塞されることとなる。
【００２６】
ここで、光照射装置１の直管型ランプ１２に対面した位置に所定照射領域Ｒａが設けられているので、所定照射領域Ｒａにおける照度分布は、ランプ直交方向Ｄｂにおいて、直管型ランプ１２の直下領域Ｐ１が両縁部の縁部領域Ｐ２よりも相対的に照度が高くなる。
したがって、図１に示すように、所定照射領域Ｒａの縁部領域Ｐ２を重ねて連続照射領域Ｒｂが形成されることで、縁部領域Ｐ２での照度が高められ連続照射領域Ｒｂの照度ムラが縮小される。
そこで、それぞれの光照射装置１の光学系は、直下領域Ｐ１の照度と、隣の光照射装置１の照射光９４が重畳した後の縁部領域Ｐ２の照度とを等しくするように設計される。
【００２７】
しかしながら、光硬化システム１０の設計段階において、係る光学設計された光照射装置１が並設されても連続照射領域Ｒｂにおいて照度ムラが生じる場合がある。
この場合、従来においては光照射装置１の配置によって調整が行われる。
具体的には、隣の光照射装置１の照射光９４が重なった縁部領域Ｐ２に対して直下領域Ｐ１の照度が相対的に高いときには、縁部領域Ｐ２の照度を高め、或いは直下領域Ｐ１の照度を低めるように、光照射装置１の配置が調整される。
これとは逆に、隣の光照射装置１の照射光９４が重なった縁部領域Ｐ２に対して直下領域Ｐ１の照度が相対的に低いときには、縁部領域Ｐ２の照度を低め、或いは直下領域Ｐ１の照度を高めるように、光照射装置１の配置が調整される。
【００２８】
光照射装置１の配置は、例えば光照射装置１の配置間隔Ｌｐと、光照射装置１とステージ９０の離間距離Ｌｓとを可変することで調整される。
光照射装置１の配置間隔Ｌｐが可変された場合、縁部領域Ｐ２に重畳される照射光９４の光量が変化する。また縁部領域Ｐ２から隣の光照射装置１の直管型ランプ１２までの距離も変化するので、隣の光照射装置１から縁部領域Ｐ２に届く照射光９４の強度も変化する。
光照射装置１とステージ９０の離間距離Ｌｓとが可変された場合、直下領域Ｐ１から直管型ランプ１２の距離が変化するので、直管型ランプ１２から当該直下領域Ｐ１に届く照射光９４の強度も変化する。
【００２９】
これら配置間隔Ｌｐと離間距離Ｌｓを適宜に可変することで、直下領域Ｐ１の照度を縁部領域Ｐ２の照度に対して相対的に高め、或いは低めて、照度ムラが抑えられる。
しかしながら、実際には、配置間隔Ｌｐ、或いは離間距離Ｌｓが変化した場合、直下領域Ｐ１、及び縁部領域Ｐ２の両方の照度が変化するので、配置の調整による照度ムラの解消は容易ではない。
例えば、光照射装置１の配置間隔Ｌｐを狭め、或いは光照射装置１とステージ９０の離間距離Ｌｓを狭めた場合には、縁部領域Ｐ２のみならず直下領域Ｐ１の照度も高くなる。特に、光照射装置１とステージ９０の離間距離Ｌｓを狭めた場合、直下領域Ｐ１は、直管型ランプ１２に最も近く強度が比較的大きいので、この直下領域Ｐ１での照度増加は、縁部領域Ｐ２よりも大きくなる。
また光照射装置１の配置間隔Ｌｐを狭め、或いは光照射装置１とステージ９０の離間距離Ｌｓを狭められると、連続照射領域Ｒｂも縮小されるので、所定サイズのワークＷを内包できる大きさのワーク載置領域Ｒｗが連続照射領域Ｒｂに収まらない恐れもある。
【００３０】
このように、光照射装置１の配置調整による照度ムラの抑制には限度がある。また、個々の光照射装置１の配置位置を、照度ムラの状態を確認しながら調整することは非常に煩雑である。
【００３１】
そこで、この光照射装置１では、図４に示すように、カバーユニット３１の底面（すなわち筐体９５の底面）に、着脱自在な上述した減光フィルタユニット４０を備えている。
減光フィルタユニット４０は、連続照射領域Ｒｂのうち少なくともワーク載置領域Ｒｗにおいて照度が相対的に高い箇所を照らす照射光９４を減じする減光手段であり、図５に示すように、枠体４１と、メッシュフィルタ部材４２と、を備えている。
枠体４１は、メッシュフィルタ部材４２を支持する枠であり、カバーユニット３１の底面外形と略同形状を成し、当該カバーユニット３１の底面（すなわち、筐体９５の底面）に着脱自在、及び交換自在にネジ止め固定されている。
【００３２】
メッシュフィルタ部材４２は、メッシュフィルタ４３と、当該メッシュフィルタ４３を枠体４１に固定する複数の固定棒４４とを備えている。
メッシュフィルタ４３は、入射光の光量を減じる、いわゆる減光フィルタの一例である。このメッシュフィルタ４３は、直管型ランプ１２の紫外線の暴露に対して耐性を有した材質（例えば金属材）の基材４６を編み目状に形成した、例えばエキスバンドメタルである。メッシュフィルタ４３は、この編み目によって基材４６に多数の開口４５が形成され、これら開口４５の開口率（開口４５の面積が基材４６の表面積に占める割合）に応じて入射した光の光量を減じる。
なお、メッシュフィルタ４３に代えて、パンチングメタル等の他の構成の減光フィルタを用いてもよい。
【００３３】
メッシュフィルタ４３は、直管型ランプ１２の長手方向Ｄａに、少なくとも照射開口９６を通過した光が入射する範囲に亘る長さの矩形状を成している。
固定棒４４は、直管型ランプ１２の長手方向Ｄａに所定間隔で配置され、それぞれがランプ直交方向Ｄｂにメッシュフィルタ４３の下を延びて、当該メッシュフィルタ４３を下から支持している。各固定棒４４の両端部４４Ａは、枠体４１にネジ止め固定され、これにより、メッシュフィルタ４３が固定棒４４によって枠体４１に支持される。
【００３４】
ここで、メッシュフィルタ４３のランプ直交方向Ｄｂにおける幅Ｍｗは、直管型ランプ１２の直下領域Ｐ１を照らす光の少なくとも一部が入射する幅であって、両側には枠体４１の間に隙間αを形成する幅に成されている。この隙間αを通る光には縁部領域Ｐ２を照らす光が含まれている。
したがって、減光フィルタユニット４０が光照射装置１に装着されることで、縁部領域Ｐ２の光量を低下させずに直下領域Ｐ１の光量が減じられることになる。
【００３５】
この減光フィルタユニット４０は、メッシュフィルタ４３が各固定棒４４によって下から支持されているだけであり、固定棒４４、及び枠体４１に移動不能に結合（拘束）されていない。
したがって、減光フィルタユニット４０を光照射装置１に装着した後であっても、メッシュフィルタ４３を枠体４１と固定棒４４の間から引き出して簡単に交換可能となっている。
また、メッシュフィルタ４３は、減光フィルタユニット４０に設けられた状態において、ランプ直交方向Ｄｂに規制されておらず移動自在となっており、メッシュフィルタ４３の両側の隙間αの大きさを簡単に可変できる。
【００３６】
図６は、減光フィルタユニット４０の装着の有無による照度分布変化の一例を示す説明図である。
例えば、図６（Ａ）に示すように、複数の光照射装置１によるワーク載置領域Ｒｗにおいて、一部の光照射装置１（図示例では真ん中の光照射装置１）の直下領域Ｐ１の照度が縁部領域Ｐ２を含む他の箇所よりも相対的に高くなっているとする。
この場合には、この一部の光照射装置１に減光フィルタユニット４０が装着される。
これにより、図６（Ｂ）に示すように、この一部の光照射装置１の直下領域Ｐ１の照度が相対的に低められ、他の箇所との照度の差ΔＥが縮められるので、ワーク載置領域Ｒｗにおける均斉度が高められる。
【００３７】
また、減光フィルタユニット４０を装着しただけでは、直下領域Ｐ１の照度が十分に低下せず、所望の均斉度が得られないことがある。この場合には、メッシュフィルタ４３を、幅Ｍｗ、及び開口率（減光率）が異なる他のメッシュフィルタ４３に適宜に交換することで照度ムラの調整が行われる。
具体的には、減光フィルタユニット４０を装着しても直下領域Ｐ１の照度が縁部領域Ｐ２の照度に対して相対的に高い場合、開口率が小さい（減光率が高い）、或いは幅Ｍｗが狭いメッシュフィルタ４３に交換する。
開口率が小さくなることで直下領域Ｐ１の照度が低められ、また幅Ｍｗが狭くなることで、隙間αが広げられ縁部領域Ｐ２の照度が高められる。
これにより、直下領域Ｐ１の照度が縁部領域Ｐ２に対して相対的に更に低められるので、照度の差ΔＥが縮められ、所望の均斉度が得られるようになる。
【００３８】
一方、減光フィルタユニット４０を装着した場合には、図７（Ａ）に示すように、直下領域Ｐ１の照度が縁部領域Ｐ２に対して相対的に低くなることもある。
この場合には、開口率が大きい（減光率が低い）、或いは幅Ｍｗが広いメッシュフィルタ４３に交換する。
開口率が大きくなることで直下領域Ｐ１の照度が高められ、また幅Ｍｗが広くなることで、隙間αが狭められ縁部領域Ｐ２の照度が減じられる。これにより、図７（Ｂ）に示すように、直下領域Ｐ１の照度が縁部領域Ｐ２に対して相対的に高められるので、照度の差ΔＥが縮められ所望の均斉度が得られるようになる。
【００３９】
なお、直下領域Ｐ１の両側の縁部領域Ｐ２同士の間で照度差が生じている場合には、メッシュフィルタ４３をランプ直交方向Ｄｂに移動させてメッシュフィルタ４３の両側の隙間αの大きさを可変し、縁部領域Ｐ２の間の照度差を抑制することもできる。
【００４０】
このように、この光照射装置１では、減光フィルタユニット４０の着脱、及びメッシュフィルタ４３の交換によって、光照射装置１の配置を調整せずとも、ワーク載置領域Ｒｗの照度ムラを簡単に抑制することができる。
なお、光照射装置１の配置調整による照度ムラ抑制と、減光フィルタユニット４０を用いた照度ムラ抑制とを併用してもよいことは勿論である。
【００４１】
以上説明したように、本実施形態によれば、次のような効果を奏する。
すなわち、ワーク載置領域Ｒｗにおいて、例えば図６、及び図７に示したように、直下領域Ｐ１、又は縁部領域Ｐ２での照度が相対的に他の箇所よりも高くなっている場合でも、相対的に照度が高い箇所を照らす光が減光フィルタユニット４０によって減じられる。
これにより、光照射装置１の配置位置等の調整をせずともワーク載置領域Ｒｗの照度ムラが簡単に抑えられて均斉度が高められる。
【００４２】
また本実施形態において、減光フィルタユニット４０は、筐体９５に着脱自在に設けられている。これにより、ワーク載置領域Ｒｗの照度ムラが光硬化処理の許容範囲を超えている場合に、光照射装置１に減光フィルタユニット４０を装着して、照度ムラを抑えることができる。また、既設の光照射装置１や光硬化システム１０に減光フィルタユニット４０を後付けして照度ムラを抑制することもできる。
【００４３】
また本実施形態において、減光フィルタユニット４０には、ランプ直交方向Ｄｂに、メッシュフィルタ４３を挟んだ両側に、直管型ランプ１２の光を通す隙間αが設けられている。これにより、ワーク載置領域Ｒｗにおいては、縁部領域Ｐ２の光量を低下させずに直下領域Ｐ１の光量を効率良く減じることができる。
【００４４】
また本実施形態において、減光フィルタユニット４０は、メッシュフィルタ４３を交換自在に備えている。これにより、開口率（減光率）や幅Ｍｗ（隙間α）の大きさが異なるメッシュフィルタ４３を適宜に交換しながら、ワーク載置領域Ｒｗの照度ムラの状況を確認し、照度ムラを抑制する最適なメッシュフィルタ４３を見つけ出すことができる。
【００４５】
また本実施形態において、減光フィルタユニット４０は、メッシュフィルタ４３をランプ直交方向Ｄｂに移動自在に備えている。これにより、ワーク載置領域Ｒｗにおいて、直下領域Ｐ１の両側の縁部領域Ｐ２同士の間で照度差が生じている場合、メッシュフィルタ４３をランプ直交方向Ｄｂに移動させてメッシュフィルタ４３の両側の隙間αの大きさが可変できる。そして、この隙間αの可変によって縁部領域Ｐ２の間の照度差を抑制することができる。
【００４６】
また本実施形態において、光硬化システム１０は、複数の光照射装置１のそれぞれは、各々の所定照射領域Ｒａの少なくとも一部を重複させて配置され、これら所定照射領域Ｒａが連なって成る連続照射領域Ｒｂ内にワーク載置領域Ｒｗが含まれる構成とした。
これにより、所定照射領域Ｒａよりも大きなワーク載置領域Ｒｗを設定することができる。
加えて、減光フィルタユニット４０が複数の光照射装置１の少なくとも1つ以上に設けられ、ワーク載置領域Ｒｗにおいて、照度が相対的に高くなっている箇所の光を減じている。これにより、複数の光照射装置１の個々の配置位置等を調整せずとも、ワーク載置領域Ｒｗの照度ムラが簡単に抑えられて高い均斉度が得られる。
【００４７】
なお、上述した実施形態は、あくまでも本発明の一態様の例示であり、本発明の要旨の範囲において任意に変形、及び応用が可能である。
【００４８】
上述した実施形態では、紫外線を照射光９４としてワークＷに照射し、当該ワークＷに含まれた紫外線硬化剤を光硬化させる光硬化システム１０、及び光照射装置１を例示した。
しかしながら、光硬化システム１０，及び光照射装置１は、紫外線で硬化する紫外線硬化剤に代えて、例えば可視光などの特定波長域の光の照射によって光硬化する光硬化剤を光硬化させる処理にも用いられる。この場合、光照射装置１が備える照射ユニット１１には、紫外線を放射する直管型ランプ１２に代えて、特定波長域の光を放射する光源が用いられる。
【００４９】
上述した実施形態では、直管型ランプ１２として放電ランプを例示した。しかしながら、これに限らず、ＬＥＤ等の発光素子を内蔵したランプでもよい。
【００５０】
上述した実施形態では、減光フィルタユニット４０は、メッシュフィルタ４３の両側に隙間αが設けられた構成を例示した。しかしながら、メッシュフィルタ４３が当該隙間αを覆うように延びてもよい。この場合、ワーク載置領域Ｒｗの照度分布に基づいて、メッシュフィルタ４３の面内の減光率の分布を異ならせてもよい。メッシュフィルタ４３の面内における減光率の分布の変更は、例えばメッシュフィルタ４３に他のメッシュフィルタを重ねたりする等の任意の手法を採用できる。
【００５１】
上述した実施形態では、減光フィルタユニット４０がメッシュフィルタ４４の移動を規制せずに支持することで当該メッシュフィルタ４４が移動自在に成された構成を例示した。
しかしながら、例えばメッシュフィルタ４４が固定棒４４に溶接やネジ止め等で結合され、移動が規制される構成としてもよい。これにより、減光フィルタユニット４０に支持されたメッシュフィルタ４４の位置が何らかの要因でズレることがない。
【００５２】
また上述した実施形態において、減光フィルタユニット４０が減光フィルタたるメッシュフィルタ４４に加え、例えば波長選択フィルタ等の他の光学フィルタを備えてもよい。
【００５３】
上述した実施形態では、並設された複数の光照射装置１を備えた光硬化システム１０を例示した。しかしながら、光硬化システム１０は、少なくとも１つ以上の光照射装置１を備えていればよい。
なお、光硬化システム１０が備える光照射装置１の数が１つである場合、すなわち光照射装置１が単独で光硬化処理に用いられる場合には、当該光照射装置１の所定照射領域Ｒａの中にワーク載置領域Ｒｗが設定される。そして、このワーク載置領域Ｒｗの中の照度ムラが光照射装置１への減光フィルタユニット４０の装着、及びメッシュフィルタ４３の適宜の交換作業によって抑制される。
【符号の説明】
【００５４】
１  光照射装置
１０  光硬化システム
１０    光硬化システム
１１  照射ユニット
１２  直管型ランプ（線状光源）
１３  反射鏡ユニット
３１  カバーユニット
３２  カバーユニット本体
３３  波長選択フィルタ
３５  吸収フィルタ
４０  減光フィルタユニット（減光手段）
４３  メッシュフィルタ（減光フィルタ）
４４  固定棒
９０  ステージ
９２  反射光
９３  直射光
９４  照射光
９５  筐体
９６  照射開口
Ｄａ  長手方向（線状光源の長手方向）
Ｄｂ  ランプ直交方向（線状光源の長手方向と直交する方向）
Ｋ  光軸
Ｐ１  直下領域
Ｐ２  縁部領域
Ｒａ  所定照射領域
Ｒｂ  連続照射領域
Ｒｗ  ワーク載置領域
Ｗ  ワーク
ΔＥ  照度の差
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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