(57)【要約】【課題】互いに平行配置された、断面形状が略矩形の複数の線状部材からなるラインパターンの製造方法において、現像残渣を低減でき、ラインパターンの解像性に優れた方法を提供する。【解決手段】互いに平行配置された複数の線状部材からなり、前記線状部材の断面形状が略矩形であるラインパターンと、前記線状部材の側面に形成された光反射面とを有する光制御部材における前記ラインパターンの製造方法であり、（ａ）感放射線性組成物を用いて膜を形成する工程と、（ｂ）前記膜に放射線をラインパターン状に照射する工程と、（ｃ）放射線照射後の前記膜を現像してパターンを形成する工程と、（ｄ）前記パターンに気流を当てる工程とを有することを特徴とするラインパターンの製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに平行配置された複数の線状部材からなり、前記線状部材の断面形状が略矩形であるラインパターンと、前記線状部材の側面に形成された光反射面とを有する光制御部材における前記ラインパターンの製造方法であり、
（ａ）感放射線性組成物を用いて膜を形成する工程と、
（ｂ）前記膜に放射線をラインパターン状に照射する工程と、
（ｃ）放射線照射後の前記膜を現像してパターンを形成する工程と、
（ｄ）前記パターンに気流を当てる工程と
を有することを特徴とするラインパターンの製造方法。
【請求項２】
（ｅ）工程（ｄ）後のパターンに対して、加熱および放射線照射から選ばれる少なくとも１種の処理を行う工程
をさらに有する請求項１に記載のラインパターンの製造方法。
【請求項３】
工程（ｄ）における気流の流速が１〜２００ｍ／秒である、請求項１または２に記載のラインパターンの製造方法。
【請求項４】
前記感放射線性組成物が、
アルカリ可溶性重合体（Ａ）と、
感放射線性化合物（Ｂ）と
を含有する請求項１〜３の何れか１項に記載のラインパターンの製造方法。
【請求項５】
（１）請求項１〜４の何れか１項に記載の方法によりラインパターンを形成する工程と、
（２）前記ラインパターンを構成する線状部材の側面に光反射面を形成する工程と
を有することを特徴とする光制御部材の製造方法。
【請求項６】
（３）前記線状部材間に透明部材を形成する工程
をさらに有する請求項５に記載の光制御部材の製造方法。
【請求項７】
互いに平行配置された複数の線状部材からなり、前記線状部材の断面形状が略矩形であるラインパターンと、前記線状部材の側面に形成された光反射面とを有する光制御部材を備える光学結像部材の製造方法であり、
前記光制御部材を、請求項５または６に記載の方法により製造する
ことを特徴とする光学結像部材の製造方法。
【請求項８】
互いに平行配置された複数の線状部材からなり、前記線状部材の断面形状が略矩形であるラインパターンと、前記線状部材の側面に形成された光反射面とを有する、第１の光制御部材および第２の光制御部材を備える光学結像部材の製造方法であり、
第１の光制御部材および第２の光制御部材の少なくとも一方を、請求項５または６に記載の方法により製造し、続いて、
第１の光制御部材および第２の光制御部材を、各々が有するラインパターンが光制御部材の上方から視た場合に交差した状態で配置する
ことを特徴とする光学結像部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光制御部材が有するラインパターンの製造方法に関し、より詳しくは、互いに平行配置された複数の平面状の光反射部（光反射面）を有する光制御部材が有するラインパターンの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
物体表面から放射された光を用いて、前記物体の像を空中に形成する立体像表示装置が知られている（特許文献１参照）。立体像表示装置の一例は、互いに平行配置された複数の平面状の光反射部を一定間隔で内部に有する光制御部材を２つ備える。これらの光制御部材（第１および第２の光制御部材）は、それぞれの平面状の光反射部を直交させた状態で向かい合わせて配置されている。
【０００３】
第１の光制御部材の平面状の光反射部に物体からの光を入射させ、前記光反射部で反射した反射光を第２の光制御部材の平面状の光反射部で再度反射させる。ここで得られた反射光によって、前記物体の像を、この立体像表示装置の反対側に表示する。
【０００４】
上記立体像表示装置において、平面状の光反射部を一定間隔で複数有する光制御部材を用意する必要がある。前記光制御部材は、両面または片面に光反射部を有する透明基板を、接着剤を用いて積層し、得られた積層体を一定幅で切断することにより、得ることができる。しかしながら、前記方法はコストが高く、量産化には不適当である。
【０００５】
上記問題に対して、フォトリソグラフィー法により凹凸部材を形成し、前記凸部の側面に光反射部を形成する方法が提案されている（特許文献２参照）。しかしながら、上記光制御部材の用途において、従来の方法では現像残渣の低減および凹凸部材の解像性が充分ではなく、特に現像残渣は平滑な光反射面の形成を阻害する要因となりうるため、光学特性の観点から、さらなる改善が望まれる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第４８６５０８８号公報
【特許文献２】特許第５６９６２６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、互いに平行配置された、断面形状が略矩形の複数の線状部材からなるラインパターンの製造方法において、現像残渣を低減でき、ラインパターンの解像性に優れた方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは上記課題を解決するため鋭意検討を行った。その結果、以下に記載の方法により上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち本発明は、例えば以下の［１］〜［８］に関する。
【０００９】
［１］互いに平行配置された複数の線状部材からなり、前記線状部材の断面形状が略矩形であるラインパターンと、前記線状部材の側面に形成された光反射面とを有する光制御部材における前記ラインパターンの製造方法であり、（ａ）感放射線性組成物を用いて膜を形成する工程と、（ｂ）前記膜に放射線をラインパターン状に照射する工程と、（ｃ）放射線照射後の前記膜を現像してパターンを形成する工程と、（ｄ）前記パターンに気流を当てる工程とを有することを特徴とするラインパターンの製造方法。
【００１０】
［２］（ｅ）工程（ｄ）後のパターンに対して、加熱および放射線照射から選ばれる少なくとも１種の処理を行う工程をさらに有する前記［１］に記載のラインパターンの製造方法。
【００１１】
［３］工程（ｄ）における気流の流速が１〜２００ｍ／秒である、前記［１］または［２］に記載のラインパターンの製造方法。
【００１２】
［４］前記感放射線性組成物が、アルカリ可溶性重合体（Ａ）と、感放射線性化合物（Ｂ）とを含有する前記［１］〜［３］の何れか１項に記載のラインパターンの製造方法。
【００１３】
［５］（１）前記［１］〜［４］の何れか１項に記載の方法によりラインパターンを形成する工程と、（２）前記ラインパターンを構成する線状部材の側面に光反射面を形成する工程とを有することを特徴とする光制御部材の製造方法。
【００１４】
［６］（３）前記線状部材間に透明部材を形成する工程をさらに有する前記［５］に記載の光制御部材の製造方法。
【００１５】
［７］互いに平行配置された複数の線状部材からなり、前記線状部材の断面形状が略矩形であるラインパターンと、前記線状部材の側面に形成された光反射面とを有する光制御部材を備える光学結像部材の製造方法であり、前記光制御部材を、前記［５］または［６］に記載の方法により製造することを特徴とする光学結像部材の製造方法。
【００１６】
［８］互いに平行配置された複数の線状部材からなり、前記線状部材の断面形状が略矩形であるラインパターンと、前記線状部材の側面に形成された光反射面とを有する、第１の光制御部材および第２の光制御部材を備える光学結像部材の製造方法であり、第１の光制御部材および第２の光制御部材の少なくとも一方を、前記［５］または［６］に記載の方法により製造し、続いて、第１の光制御部材および第２の光制御部材を、各々が有するラインパターンが光制御部材の上方から視た場合に交差した状態で配置することを特徴とする光学結像部材の製造方法。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、互いに平行配置された、断面形状が略矩形の複数の線状部材からなるラインパターンの製造方法において、現像残渣を低減でき、ラインパターンの解像性を向上させることができる。前記線状部材の側面に光反射面を形成することで、互いに平行配置された複数の平面状の光反射部（光反射面）を有する光制御部材を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】図１Ａは、透明基板と、前記透明基板上に形成されたラインパターンとを有する部材の斜視図であり、図１Ｂは、前記部材の上視図であり、図１Ｃは、前記上視図におけるＡＡ線断面図である。
【図２】図２は、光制御部材の一実施形態の断面図である。
【図３】図３Ａは、光学結像部材の斜視図であり、図３Ｂは、第１の光制御部材の透明部材を切断するＹＺ平面における前記光学結像部材の断面図であり、図３Ｃは、第２の光制御部材の透明部材を切断するＸＺ平面における前記光学結像部材の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明を実施するための形態について説明する。
〔ラインパターンの製造方法〕
本発明のラインパターンの製造方法は、互いに平行配置された複数の線状部材からなり、前記線状部材の断面形状が略矩形であるラインパターンと、前記線状部材の側面に形成された光反射面とを有する光制御部材における前記ラインパターンの製造方法であり、好ましくは前記光制御部材を備える光学結像部材における前記ラインパターンの製造方法であり、
（ａ）感放射線性組成物を用いて膜を形成する工程と、
（ｂ）前記膜に放射線をラインパターン状に照射する工程と、
（ｃ）放射線照射後の前記膜を現像してパターンを形成する工程と、
（ｄ）前記パターンに気流を当てる工程と
を有することを特徴とする。
【００２０】
本発明では、フォトリソグラフィー法によりラインパターンを形成するため、従来のディスプレイ又は半導体装置製造用の設備を使用することができ、光制御部材の量産化が容易である。
【００２１】
以下、線状部材の構造、その断面および側面、ならびにラインパターンの構造について、図１を参照しながら説明する。図１Ａは、透明基板１０と、前記透明基板１０上に形成された、複数の線状部材２１からなるラインパターン２０とを有する部材１の斜視図であり、図１Ｂは、前記部材１の上視図であり、図１Ｃは、前記上視図におけるＡＡ線断面図である。
【００２２】
線状部材２１の断面とは、線状部材２１の延びる方向（図１ＡにおいてＸ軸方向）に対して垂直な断面（図１ＡにおいてＹＺ平面）である。線状部材２１の断面形状は、略矩形である。線状部材２１の側面とは、線状部材２１が互いに向き合う面であり、図１Ａでは長手方向の側面であり、図１ＡおよびＣにおいて符号２２で示す面である。複数の線状部材２１は、互いに長手方向が平行になるよう配置されている。ラインパターン２０は、複数の線状部材２１を有する。線状部材２１の数は特に限定されない。
【００２３】
［工程（ａ）］
工程（ａ）では、感放射線性組成物の膜を例えば基板上に形成する。例えば、感放射線性組成物を、乾燥膜厚が例えば５０μｍ以上、好ましくは５０〜５００μｍとなるように、基板上に塗布する。続いて、溶媒等を除去するために、ブレベークを行うことが好ましい。プレベークの条件は、例えば、オーブンおよびホットプレート等の加熱機器を用いて、加熱温度が通常は８０〜１５０℃、好ましくは９０〜１４０℃であり、加熱時間が通常は６０〜２０００秒、好ましくは６００〜１５００秒である。このようにして、基板上に膜を形成する。
【００２４】
感放射線性組成物の詳細については、後述する。
基板としては、特に限定されないが、基板を除去せずに光制御部材の一部として用いる場合は透明基板が用いられる。透明基板としては、例えば、ガラス基板、石英基板、透明樹脂製基板が挙げられる。基板を除去する場合には、例えば、透明基板のほか、セラミックス製基板、アルミニウム製やＳＵＳ製等の金属製基板を用いることもできる。基板の厚さは、特に限定されず、例えば２００〜１５００μｍである。
【００２５】
前記組成物の塗布方法としては、例えば、スリットコート法、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、インクジェット法が挙げられる。
【００２６】
［工程（ｂ）］
工程（ｂ）では、所望のパターン化マスクを介して、上記膜に放射線を照射する。例えば、平行なスリットを有するマスクを介して、上記膜に放射線を照射し、露光部および非露光部を交互に形成する。上述のラインパターン形状に対応するスリット幅およびスリット間隔を有するマスクを用いる。
【００２７】
露光装置には、例えば、コンタクトアライナー、ステッパー、スキャナーを用いる。
放射線照射（以下「露光」ともいう）には、例えば、可視光線、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、電子線を用い、好ましくは、紫外線および／または可視光線を用い、より好ましくは、波長３００〜４５０ｎｍの光（例：ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ））を用いる。露光量は、前記組成物中の各成分の種類および含有量や、膜厚によって異なるが、ｉ線を含む光を照射する場合、露光量は、ｉ線換算で通常は５００〜４０００ｍＪ／ｃｍ2、好ましくは８００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2である。このような態様とすることで、解像性が高いなどのパターニング特性に優れる線状部材を容易に形成することができる。
【００２８】
［工程（ｃ）］
工程（ｃ）では、放射線照射後の上記膜を現像して、ポジ型の場合は露光部を、ネガ型の場合は非露光部を溶解および除去することにより、互いに平行配置された複数の線状部材からなり、前記線状部材の断面形状が略矩形である所望のラインパターンを形成する。
【００２９】
現像方法としては、例えば、シャワー現像法、スプレー現像法、浸漬現像法、パドル現像法、ブラシ現像法、超音波現像法が挙げられる。現像条件は、例えば、現像液の温度が例えば２０〜５０℃、好ましくは２０〜３０℃で、現像時間が例えば３０〜６００秒、好ましくは６０〜２４０秒程度である。
【００３０】
現像には、アルカリ性現像液を用いることが好ましい。アルカリ性現像液としては、例えば、アルカリ性化合物を含有するアルカリ性水溶液が挙げられる。前記アルカリ性水溶液中のアルカリ性化合物の濃度は、好ましくは０．０１〜１０．０質量％、より好ましくは０．０１〜５．０質量％であり、現像後のパターンの基板に対する密着性の観点から、さらに好ましくは０．５〜４．０質量％である。
【００３１】
前記アルカリ性化合物としては、例えば、窒素原子を有する化合物、ナトリウム原子を有する化合物およびカリウム原子を有する化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物が挙げられ、具体的には、アンモニア、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラへキシルアンモニウムヒドロキシド、トリメチル（２−ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウムが挙げられる。前記アルカリ性水溶液には、例えば、水溶性有機溶媒および界面活性剤を適量添加することもできる。
なお、アルカリ性現像液で膜を現像した後は、水で洗浄してもよい。
【００３２】
［工程（ｄ）］
工程（ｄ）では、現像して得られたパターンに気流を当てる。
本発明において気流とは、気体の流れを意味する。
従来の上記ラインパターンの製造方法では、現像後のパターンを加熱する場合、この加熱により、現像後の膜中に存在する水分を除去できるため、わざわざパターンに気流を当てる工程を設けることは行われていない。しかしながら、光制御部材が有する線状部材には、５０μｍ以上の膜厚が必要とされる場合もある。この場合、現像によりパターニングする際に不要部分を充分に除去できずに残渣（現像残渣）が発生しやすい。また、現像液としてアルカリ性水溶液を用いた場合や水洗処理を行った場合に、線状部材表面に、水が存在していた箇所に水垢等の水跡（水ムラ）が残ることがある。これらの現像残渣および水ムラは、後述する光反射面を形成する際に平滑な光反射面の形成を阻害する要因となりうるため、光制御部材において光学特性の不良の原因になることがある。
【００３３】
本発明では、現像後のパターンに気流を当てる工程を設けていることから、現像残渣および水ムラが低減されており、したがって解像性が高いなどのパターニング特性に優れるラインパターンを形成できる。このため、反射強度が高く、また像の結合性の高い、輝度および像の鮮明度に優れる光制御部材を得ることができる。
【００３４】
パターンに気流を当てる方法としては、具体的には、エアブロー、エアナイフ、超音波エア等の空気をパターンに吹き付ける方法のように、気体をパターンに吹き付ける方法が挙げられる。また、パターンに気流を当てる方法には、現像後のパターンを有する基板を回転させることで、相対的に気流をパターンに当てるスピン方法も含めるものとする。本発明では、気体を吹き付ける方法とスピン方法とを同時に行ってもよい。
【００３５】
工程（ｄ）は、現像後のパターンから、気流により現像残渣および水分を除去できる工程であることが好ましい。全面に亘って均一に現像残渣および水ムラがより低減した線状部材を得ることができることから、気体を吹き付ける方法が好ましい。
【００３６】
例えば、エアブローを行う手段としては、圧縮気体をノズルより噴出させる方法や、プロペラ状のファンにより送風する方法など、現像後のパターンの表面に気流を与えられる方法であればいずれも使用することができる。
【００３７】
気流を構成する気体としては、例えば、窒素ガス等の不活性ガス、空気等の混合気体が挙げられ、製造工程の簡便さおよび安全性の観点から、空気を用いることが好ましい。
気流の流速は、好ましくは１〜２００ｍ／秒であり、基板からのパターン剥がれを防止する観点から、より好ましくは１〜１００ｍ／秒であり、さらに好ましくは５〜１００ｍ／秒である。また、気流を当てる時間としては、前記流速などにもよるが、好ましくは３〜６００秒、より好ましくは５〜３００秒である。気流を構成する気体の温度は、通常は１０〜７０℃、好ましくは１５〜５０℃、より好ましくは２０〜３０℃である。
【００３８】
またスピン方法において、現像後のパターンを有する基板の回転速度は、基板のサイズ等にもよるが、例えば１００〜５０００ｒｐｍ、好ましくは３００〜４０００ｒｐｍ、より好ましくは５００〜３０００ｒｐｍである。
【００３９】
［工程（ｅ）］
必要に応じて、工程（ｄ）後のパターンに対して、加熱（ポストベーク）および放射線照射から選ばれる少なくとも１種の処理を行い、例えばパターンをさらに硬化させる。加熱条件は特に限定されないが、例えば１５０〜２５０℃で０．１〜３時間である。ラインパターンの硬化を充分に進行させたり変形を防止したりするため、多段階で加熱することもできる。放射線照射には、例えば、可視光線、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、電子線を用い、好ましくは、紫外線および／または可視光線を用い、より好ましくは、波長３００〜４５０ｎｍの光を用いる。露光量は、ｉ線を含む光を照射する場合、ｉ線換算で通常は１０００〜５０００ｍＪ／ｃｍ2である。このような工程を行うことで、膜収縮時のクラックおよび剥離を抑えることができる。
【００４０】
以上のようにして、複数の線状部材からなるラインパターンを得ることができる。
線状部材の高さは、図１ＡにおいてＺ軸方向の線状部材の厚さであり、通常は５０μｍ以上、好ましくは５０〜５００μｍである。線状部材の高さが５０μｍ以上であると、充分な高さの光反射面を確保することができ、したがって光学特性の点で好ましい。
【００４１】
線状部材の高さに対してその底面から１０％の位置における線状部材の幅をＢｏｔｔｏｍ幅、線状部材の高さに対してその底面から９０％の位置における線状部材の幅をＴｏｐ幅と定義した場合に、Ｔｏｐ幅とＢｏｔｔｏｍ幅の差（Ｔｏｐ−Ｂｏｔｔｏｍ）の絶対値を線状部材のΔ幅と定義する。線状部材のΔ幅は、Ｔｏｐ幅およびＢｏｔｔｏｍ幅の大きい方の値の好ましくは１５％以下であり、より好ましくは１０％以下、特に好ましくは５％以下である。Δ幅が小さいことから、線状部材は、略矩形状の断面形状を有し、すなわち光制御部材の平板面に対して略垂直な側面を有する。このため、光制御部材は、互いに平行な光反射面を複数有する。
【００４２】
線状部材の幅は、図１ＡにおいてＹ軸方向における線状部材の厚さであり、Ｔｏｐ幅が、通常は１０〜３００μｍ、好ましくは１５〜２５０μｍであり；線状部材の間隔（線状部材底面でのスペース幅）は、通常は５０〜４００μｍ、好ましくは５０〜３００μｍである。
【００４３】
線状部材の高さ、幅およびスペース幅は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）観察において測定する。このようなラインパターンは、前記幅および前記スペース幅に対応するスリット幅およびスリット間隔を有するマスクを用いて露光を行うことにより、形成することができる。
【００４４】
〔光制御部材の製造方法〕
本発明の光制御部材の製造方法は、
（１）上記〔ラインパターンの製造方法〕によりラインパターンを形成する工程と、
（２）前記ラインパターンを構成する線状部材の側面に光反射面を形成する工程と、
必要に応じて、
（３）前記線状部材間に透明部材を形成する工程と
を有することを特徴とする。
【００４５】
［工程（１）］
工程（１）では、上述した方法により、ラインパターンを形成する。
［工程（２）］
工程（２）では、線状部材の側面に例えば金属を蒸着またはスパッタすることにより、線状部材の側面に光反射面を選択的に形成する。光反射面は、各々の線状部材の片側面に形成しても両側面に形成してもよいが、高輝度化の観点から両側面に形成することが好ましい。
【００４６】
前記金属としては、例えば、アルミニウム、クロム、ニッケル、チタンおよび銀から選択される少なくとも１種が挙げられる。
例えば、線状部材表面に金属を蒸着して金属膜を形成し、前記線状部材の側面に例えばフォトリソグラフィー法によりレジスト層を形成し、前記金属膜のエッチングを行い、前記レジスト層を除去する。これにより、線状部材の側面に光反射面を形成することができる。
【００４７】
あるいは、線状部材の上面およびスペース部の底面を光照射により剥離可能な樹脂で覆い（この場合、線状部材の側面は露出している）、線状部材の上面、側面およびスペース部の底面に金属を蒸着して金属膜を形成し、透明基板側から紫外線を照射して、線状部材の上面およびスペース部の底面に形成された前記樹脂を、その表面に形成された金属膜とともに除去する。これにより、線状部材の側面に光反射部を形成することができる。
【００４８】
［工程（３）］
工程（３）では、光硬化型および／または熱硬化型の透明樹脂組成物をラインパターンのスペース部に充填し、光照射および／または加熱して前記組成物を硬化させることにより、線状部材間（スペース部）に透明部材を形成する。
【００４９】
これにより、ラインパターンにおける線状部材とスペース部との屈折率差を小さくでき、また、線状部材の倒れを抑制でき、したがって光制御部材の光学性能および強度を高めることができる。線状部材および透明部材の表面に凹凸がある場合、前記表面を研削または研磨してもよい。これにより、光制御部材の光学性能を高めることができる。
【００５０】
スペース部に透明部材を形成した後、基板を除去して、線状部材、光反射面および透明部材からなる光制御部材を得てもよい。続いて、前記光制御部材の基板に接触していた面を、研削または研磨してもよい。これにより、光制御部材の光学性能を高めることができる。
【００５１】
以上のようにして、光制御部材を得ることができる。光制御部材は、互いに平行配置された複数の線状部材からなり、前記線状部材の断面形状が略矩形であるラインパターンと、前記線状部材の側面に形成された光反射面とを有する。このため光制御部材は、互いに平行配置された複数の平面状の光反射部（光反射面）を一定間隔で有する。光制御部材の一実施形態は、例えば平板状であり、その平板面に対して略垂直な複数の前記光反射面を一定間隔で有し、前記光反射面は互いに平行配置されている。
【００５２】
図２に、光制御部材の一実施形態の断面図を示す。この光制御部材１００は、透明基板１０と、透明基板１０上に形成された、複数の線状部材２１からなるラインパターン２０と、線状部材２１間に形成された透明部材２５とを有する。線状部材２１の両側面２２，２２には、光反射面３０，３０が形成されている。
【００５３】
〔光学結像部材の製造方法〕
本発明の光学結像部材は、上記〔光制御部材の製造方法〕で製造された光制御部材を備えており、好ましくは、第１の光制御部材および第２の光制御部材を備えており、前記光制御部材の平板面が重なるように配置されている。前記第１および第２の光制御部材は、少なくとも一方が、上記〔光制御部材の製造方法〕で製造された光制御部材である。
【００５４】
本発明の光学結像部材の製造方法は、上記光制御部材を、上記〔光制御部材の製造方法〕により製造する工程を有し、好ましくは、上記第１および第２の光制御部材の少なくとも一方を、上記〔光制御部材の製造方法〕により製造する工程と、上記第１および第２の光制御部材を、各々が有するラインパターンが光制御部材の上方から視た場合に交差した状態で配置する工程とを有する。
【００５５】
上記第１および第２の光制御部材の一方は従来公知の方法で製造または準備してもよいが、いずれも上記〔光制御部材の製造方法〕で製造することが、光学特性の観点から好ましい。
【００５６】
ここで、第１の光制御部材および第２の光制御部材は、各々の光制御部材が有するラインパターンが光制御部材の上方から視た場合（図３ＡにおいてＸＹ平面視した場合）に交差した状態で、すなわち各々の光制御部材が有する、線状部材の側面に形成された光反射面が交差した状態で、配置されている。
【００５７】
第１の光制御部材および第２の光制御部材は、好ましくは、各々が有するラインパターンが向かい合うようにして、積層配置されている。第１の光制御部材および第２の光制御部材は、例えば、透明の接着剤を用いて積層される。
【００５８】
第１の光制御部材のラインパターンと第２の光制御部材のラインパターンとの交差角度は、立体像表示装置において像を形成する位置により適宜設定されるが、これらのラインパターンが直交していることが好ましい。
【００５９】
図３に、光学結像部材の一実施形態を示す。図３Ａは、第１の光制御部材１０１と第２の光制御部材１０２とが、各々が有するラインパターンが光制御部材の上方から視た場合に直交した状態で積層されている光学結像部材２００の斜視図であり、図３Ｂは第１の光制御部材１０１の透明部材２５を切断するＹＺ平面における断面図であり、図３Ｃは第２の光制御部材１０２の透明部材２５を切断するＸＺ平面における断面図である。
図３には、透明基板１０を有する光学結像部材を示したが、透明基板１０を有さない光学結像部材であってもよい。
【００６０】
〔立体像表示装置〕
立体像表示装置は、上述の光学結像部材を有し、例えば、光放射部と光学結像部材とを有する。立体像表示装置は、液晶ディスプレイ等の光放射部から放射された光を空中に結合させ、静止画および動画等の像を鮮明に表示することができ、すなわち空中ディスプレイとして機能する。
【００６１】
立体像表示装置では、光放射部からの光が、第１の光制御部材が有する平行配置された複数の光反射面に斜めに入射し、前記光反射部で反射した反射光が、第２の光制御部材が有する平行配置された複数の光反射面に入射することで、像を空中に表示することができる。
【００６２】
立体像表示装置の一実施形態において、第１の光制御部材の光反射面および第２の光制御部材の光反射面は、直交させて向かい合わせた状態で配置されている。したがって、光学結像部材に斜めに入射した光は、第１の光制御部材の光反射面で１回目の反射をし、その反射光が第２の光制御部材の光反射面で２回目の反射をする。２回目の反射光は、光学結像部材への入射光の入射角度と同一の角度で放射される。このため、光放射部から光学結像部材に入射した光のなかで、光反射面で連続して反射した反射光は、光学結像部材を基準として光放射部とは対称位置において収束し、空中に像が形成される。
【００６３】
〔感放射線性組成物〕
本発明において、感放射線性組成物としては、ポジ型組成物およびネガ型組成物のいずれも用いることができるが、前記線状部材を容易に作成することができる等の観点から、ネガ型組成物を用いることが好ましい。
【００６４】
前記組成物は、長期にわたり性質の変化が小さい線状部材が得られる等の観点から、アルカリ可溶性重合体（Ａ）および感放射線性化合物（Ｂ）を含有することが好ましく、前記成分に加えてさらに架橋剤（Ｃ）を含有することがより好ましい。
【００６５】
［アルカリ可溶性重合体（Ａ）］
アルカリ可溶性重合体（Ａ）は、上記組成物から形成された膜を現像する際に用いられる現像液、特に好ましくは２．４質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液等のアルカリ性現像液、に対して可溶または膨潤可能な重合体である。
【００６６】
重合体（Ａ）としては、アルカリ現像性の観点から、カルボキシル基、フェノール性水酸基およびシラノール基から選ばれる少なくとも１種の官能基（以下「可溶性基」ともいう）を有することが好ましい。
【００６７】
重合体（Ａ）としては、例えば、（メタ）アクリル樹脂、スチレン系樹脂、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシロキサン、ポリオレフィン、カルド骨格を有する樹脂およびノボラック樹脂が挙げられる。アルカリ可溶性の観点から、それぞれ前記可溶性基を有する、（メタ）アクリル樹脂、スチレン系樹脂、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシロキサン、ポリオレフィン、カルド骨格を有する樹脂およびノボラック樹脂が好ましい。
【００６８】
以下、重合体（Ａ）の一例として、以下の重合体（Ａａ）を説明する。
重合体（Ａａ）は、カルボキシル基、フェノール性水酸基およびシラノール基から選ばれる少なくとも１種の官能基を有するエチレン性不飽和単量体（ａ１）に由来する構造単位を有し、前記（ａ１）に由来する構造単位と、前記（ａ１）と共重合可能な他のエチレン性不飽和単量体（ａ２）に由来する構造単位とを有することが好ましい。すなわち、重合体（Ａａ）は、単量体（ａ１）と単量体（ａ２）との共重合体であることが好ましい。重合体（Ａａ）は例えばランダム共重合体でもブロック共重合体でもよいが、一実施形態ではランダム共重合体である。
【００６９】
単量体（ａ１）におけるカルボキシル基を有する化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸等の不飽和モノカルボン酸；マレイン酸等の不飽和ジカルボン酸又はその無水物類；コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、フタル酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］等の、２価以上の多価カルボン酸のモノ［（メタ）アクリロイロキシアルキル］エステル；ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等の、両末端にカルボキシル基および水酸基を有するポリマーのモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ａ１）には、無水カルボン酸基を有するエチレン性不飽和単量体も含める。これらの中でも、（メタ）アクリル酸が好ましい。
【００７０】
単量体（ａ１）におけるフェノール性水酸基を有する化合物としては、例えば、ｏ，ｍ又はｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ，ｍ又はｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン等のフェノール性水酸基を有するビニルモノマーが挙げられる。
【００７１】
単量体（ａ１）におけるシラノール基を有する化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン等のアルコキシシリル基含有ビニルモノマーの加水分解物が挙げられる。
【００７２】
単量体（ａ１）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
単量体（ａ２）としては、例えば、芳香環含有（メタ）アクリレート、芳香族ビニル化合物、Ｎ位置換マレイミド化合物、アルキル（メタ）アクリレート、脂環式基含有（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、ハロゲン原子含有（メタ）アクリレートが挙げられ、これらから選ばれる少なくとも１種が好ましい。
【００７３】
芳香環含有（メタ）アクリレートとしては、例えば、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００７４】
芳香族ビニル化合物としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ，ｍ又はｐ−ビニルトルエン、ｏ，ｍ又はｐ−メトキシスチレン、ｏ，ｍ又はｐ−ビニルベンジルメチルエーテルが挙げられる。
【００７５】
Ｎ位置換マレイミド化合物としては、例えば、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミドが挙げられる。
アルキル（メタ）アクリレートとしては、例えば、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート等のアルキル基の炭素数が１〜１２のアルキル（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００７６】
脂環式基含有（メタ）アクリレートとしては、例えば、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等のシクロアルキル（メタ）アクリレート；イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカン−８−イル（メタ）アクリレート等の多環式基含有（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００７７】
ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル基の炭素数が１〜６のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００７８】
ハロゲン原子含有（メタ）アクリレートとしては、例えば、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレートが挙げられる。
単量体（ａ２）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７９】
単量体（ａ１）と単量体（ａ２）との共重合体の具体例としては、例えば、特開平７−１４０６５４号公報、特開平８−２５９８７６号公報、特開平１０−３１３０８号公報、特開平１０−３００９２２号公報、特開平１１−１７４２２４号公報、特開平１１−２５８４１５号公報、特開２０００−５６１１８号公報、特開２００４−１０１７２８号公報、国際公開第２０１５／１３３１６２号に開示されている共重合体が挙げられる。
【００８０】
重合体（Ａａ）は、単量体（ａ１）由来の構造単位を、好ましくは０質量％を超えて５０質量％以下、より好ましくは５〜５０質量％、さらに好ましくは１０〜３５質量％の範囲で有し、単量体（ａ２）由来の構造単位を、好ましくは５０質量％以上１００質量％未満、より好ましくは５０〜９５質量％、さらに好ましくは６５〜９０質量％の範囲で有する。このような態様とすることで、アルカリ現像性および保存安定性に優れた組成物を得ることができる。各構造単位量は、ＮＭＲにより測定することができる。
【００８１】
重合体（Ａ）は、公知の方法により製造することができ、例えば、特開２００３−２２２７１７号公報、特開２００６−２５９６８０号公報、国際公開第２００７／０２９８７１号、国際公開第２０１５／１３３１６２号に開示されている方法が挙げられる。一実施形態では、熱重合開始剤または光重合開始剤等の重合開始剤を用い、ラジカル重合により、重合体（Ａａ）を製造する。
【００８２】
重合体（Ａ）の、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１，０００〜１００，０００、より好ましくは３，０００〜５０，０００である。このような態様とすることで、残膜率、パターン形状、解像度および耐熱性がより一層高められ、また塗布時の乾燥異物の発生を高水準で抑制することができる。
【００８３】
重合体（Ａ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
感放射線性組成物において、重合体（Ａ）の含有量は、前記組成物の固形分１００質量％中、通常は３０質量％以上、好ましくは３５質量％以上、より好ましくは４０〜８０質量％、さらに好ましくは４０〜６５質量％である。重合体（Ａ）の含有量が前記範囲にある組成物は、アルカリ現像性および保存安定性に優れる。本明細書において、固形分とは、前記組成物から溶媒を除いた各成分の合計である。
【００８４】
［感放射線性化合物（Ｂ）］
感放射線性化合物（Ｂ）としては、例えば、光酸発生剤、光重合開始剤が挙げられる。感放射線性組成物は、化合物（Ｂ）を含有することで、感放射線特性を発揮することができ、かつ良好な放射線感度を有することができる。
【００８５】
化合物（Ｂ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
感放射線性組成物における化合物（Ｂ）の含有量は、前記組成物の固形分１００質量％中、通常は１５質量％以下であり、好ましくは０．１〜１０質量％、より好ましくは０．１〜５質量％である。化合物（Ｂ）の含有量を前記範囲とすることで、現像液に対する放射線の照射部分と未照射部分との溶解度の差を大きくし、パターニング性能を向上させることができる。
【００８６】
《光酸発生剤》
光酸発生剤は、放射線の照射を含む処理によって酸を発生する化合物である。
光酸発生剤としては、例えば、キノンジアジド化合物、オキシムスルホネート化合物、オニウム塩、Ｎ−スルホニルオキシイミド化合物、ハロゲン含有化合物、ジアゾメタン化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、カルボン酸エステル化合物が挙げられる。例えばこれらの化合物を用いることで、ポジ型組成物を得ることができる。これらの中でも、キノンジアジド化合物が好ましい。
【００８７】
キノンジアジド化合物は、放射線の照射およびアルカリ性水溶液を用いた現像を含む処理によってカルボン酸を発生する。キノンジアジド化合物としては、例えば、フェノール性化合物またはアルコール性化合物と、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合物が挙げられる。
【００８８】
《光重合開始剤》
光重合開始剤としては、例えば、アシルフォスフィンオキサイド系開始剤、オキシムエステル系開始剤、アルキルフェノン系開始剤、アセトフェノン系開始剤、ベンゾフェノン系開始剤、ベンゾイン系開始剤、ビイミダゾール系開始剤、トリアジン系開始剤、チオキサントン系開始剤が挙げられる。例えばこれらの光重合開始剤を用い、架橋剤（Ｃ）として後述するエチレン性不飽和基合含有化合物を用いることで、ネガ型組成物を得ることができる。これらの中でも、アシルフォスフィンオキサイド系開始剤が好ましい。
【００８９】
アシルフォスフィンオキサイド系開始剤としては、例えば、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドが挙げられる。
【００９０】
［架橋剤（Ｃ）］
架橋剤（Ｃ）は、架橋性官能基を有する化合物である。架橋剤（Ｃ）としては、例えば、１分子中に２個以上の架橋性官能基を有する化合物が挙げられる。架橋剤（Ｃ）を用いると、線状部材の耐熱性を向上させることができる。
【００９１】
架橋性官能基としては、例えば、エチレン性不飽和基、エポキシ基、オキセタニル基、アルコキシアルキル基、ベンジルオキシメチル基、アセトキシメチル基、ベンゾイロキシメチル基、ホルミル基、アセチル基、ジアルキルアミノメチル基、ジメチロールアミノメチル基、ジエチロールアミノメチル基、モルホリノメチル基が挙げられる。
【００９２】
架橋剤（Ｃ）としては、例えば、エチレン性不飽和基含有化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物、アルコキシアルキル基含有化合物が好ましい。
エチレン性不飽和基含有化合物としては、分子中にエチレン性不飽和基を少なくとも２個有する化合物が挙げられ、好ましくは（メタ）アクリロイル基を少なくとも２個有する化合物（多官能（メタ）アクリレート）が挙げられる。
【００９３】
多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、テトラメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド付加ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００９４】
エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールのポリグリシジルエーテル、多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリエーテルポリオールの脂肪族ポリグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキシル基含有化合物が挙げられる。
【００９５】
オキセタン化合物としては、例えば、４，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニル）メチル］ビフェニル、３，７−ビス（３−オキセタニル）−５−オキサノナン、３，３’−〔１，３−（２−メチレニル）プロパンジイルビス（オキシメチレン）〕ビス（３−エチルオキセタン）、１，４−ビス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシメチル〕ベンゼンが挙げられる。
【００９６】
アルコキシアルキル基含有化合物としては、分子内にアルコキシアルキル基が含有されていればよく、特に限定されないが、例えば、アルコキシアルキル基含有メラミン化合物、アルコキシアルキル基含有ベンゾグアナミン化合物、アルコキシアルキル基含有尿素化合物、アルコキシアルキル基含有フェノール化合物が挙げられる。
【００９７】
架橋剤（Ｃ）は１種単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。
感放射線性組成物において、架橋剤（Ｃ）の含有量は、重合体（Ａ）１００質量部に対して、通常は５０〜２４０質量部、好ましくは５５〜２００質量部、より好ましくは６０〜１５０質量部である。このような態様とすることで、前記組成物の現像性および硬化性を良好にすることができる。
【００９８】
［添加剤］
感放射線性組成物は、必要に応じて、密着助剤、界面活性剤等の種々の添加剤を含有することができる。密着助剤としては、例えば、シランカップリング剤が挙げられ、具体例としては特開２０１２−２５６０２３号公報に記載の密着助剤が挙げられる。界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤が挙げられ、具体例としては特開２０１４−０４８４２８号公報に記載の界面活性剤が挙げられる。その他の添加剤としては、例えば、特開２００６−１５４４３４号公報および特開２００７−２９３３０６号公報に記載の添加剤が挙げられる。
【００９９】
感放射線性組成物において、密着助剤の含有量は、アルカリ可溶性重合体（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは１〜１０質量部、より好ましくは１〜７質量部であり；界面活性剤の含有量は、アルカリ可溶性重合体（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは０．１〜５質量部、より好ましくは０．１〜３質量部である。このような態様とすることで、前記組成物のアルカリ現像性を良好にすることができ、線状部材の高さのバラツキを抑制することができる。
【０１００】
［溶媒］
感放射線性組成物は、必要に応じて有機溶媒等の溶媒を配合して液状組成物として調製してもよい。有機溶媒としては、前記組成物を構成する上記成分を溶解又は分散し、かつこれらの成分と反応せず、適度の揮発性を有するものである限り、適宜に選択して使用することができる。
【０１０１】
有機溶媒としては、例えば、（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル、（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、（ポリ）アルキレングリコールジアルキルエーテル、（ポリ）アルキレングリコールジアセテート、（シクロ）アルキルアルコール溶媒、乳酸アルキルエステル溶媒、ギ酸アルキルエステル溶媒、脂肪酸アルキルエステル溶媒、アルコキシカルボン酸エステル溶媒、ケトン溶媒、アミド溶媒、ラクタム溶媒、環状エーテル溶媒、ケトアルコール溶媒が挙げられる。
【０１０２】
有機溶媒としては、各成分の溶解性又は分散性、および前記組成物の塗布性の観点から、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、１，３−ブチレングリコールジアセテート、１，６−ヘキサンジオールジアセテート、乳酸エチルが好ましい。
【０１０３】
有機溶媒は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
感放射線性組成物において、有機溶媒の含有量は、前記組成物の固形分濃度が通常は４０〜９０質量％となる量、好ましくは５０〜７５質量％となる量である。このような態様とすることにより、各成分の溶解性または分散性、塗布性および保存安定性が良好な組成物を得ることができる。
【０１０４】
［感放射線性組成物の製造］
感放射線性組成物は、樹脂組成物の加工に用いる公知の装置を必要に応じて用いて、各成分を混合することにより製造することができる。また、不純物を除く目的で、適宜、得られた混合物の濾過を行うこともできる。
【実施例】
【０１０５】
以下、本発明を実施例に基づいてさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。以下の記載において、特に言及しない限り、「部」は「質量部」の意味で用いる。
【０１０６】
［ＧＰＣ分析］
アルカリ可溶性重合体（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法を用いて、ポリスチレン換算で測定した。
・標準物質：ポリスチレン
・装置    ：東ソー（株）製、商品名：ＨＬＣ−８０２０
・カラム  ：東ソー（株）製ガードカラムＨXL−Ｈ、ＴＳＫ ｇｅｌ Ｇ７０００ＨXL、ＴＳＫ ｇｅｌ ＧＭＨXL ２本、ＴＳＫ ｇｅｌ Ｇ２０００ＨXLを順次連結したもの
・溶媒    ：テトラヒドロフラン
・サンプル濃度：０．７質量％
・注入量  ：７０μＬ
・流速    ：１ｍＬ／ｍｉｎ
【０１０７】
［合成例１］重合体（Ａ１）の合成
国際公開第２０１５／１３３１６２号の［合成例１］に準拠して、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）を用い、メタクリル酸１３部、ベンジルメタクリレート４６部、スチレン１３部、Ｎ−フェニルマレイミド１６部、ｎ−ブチルメタクリレート２部および２−ヒドロキシエチルメタクリレート１０部から、重合体（Ａ１）を含む固形分濃度４５質量％のＰＧＭＥＡ溶液を得た。得られた重合体（Ａ１）のＭｗは１２，０００であった。
【０１０８】
［使用成分］
感放射線性組成物の調製で用いた各成分を以下に示す。
Ｂ１：ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド
（商品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ８１９」、ＢＡＳＦ社製）
Ｃ１：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
Ｄ１：メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
（商品名「ＸＩＡＭＥＴＥＲ  ＯＦＳ−６０３０  ＳＩＬＡＮＥ」、
東レ・ダウコーニング（株）製）
Ｅ１：フッ素系界面活性剤（商品名「ＦＴＸ−２１８」、（株）ネオス製）
【０１０９】
［調製例１］感放射線性組成物の調製
合成例１で得られた重合体（Ａ１）のＰＧＭＥＡ溶液を重合体（Ａ１）換算で１００部、前記（Ｂ１）５部、前記（Ｃ１）１００部、前記（Ｄ１）５部、前記（Ｅ１）１部、およびＰＧＭＥＡを混合することにより、固形分濃度６０質量％の感放射線性組成物１を得た。
【０１１０】
［実施例および比較例］
上記調製例で得られた感放射線性組成物を用いて、以下に説明する方法により複数の線状部材からなるラインパターンを作製した。ガラスウエハに前記感放射線性組成物を高粘度用スリットコーターにより塗布し、ホットプレートにて１２０℃で２０分間加熱処理（プレベーク）し、高さ（図１ＡのＺ軸方向に相当する方向の長さ）２４０μｍの膜を形成した。前記膜に、ライン／スペース幅＝１００μｍ／１００μｍのパターン化マスクを介して、露光機（キヤノン（株）製の「ＭＰＡ−６００ＦＡ」（ｇｈｉ線混合））を用いて、ｉ線換算で表１に記載の露光量で照射した。露光後の膜を、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）を表１に記載の濃度で含有する水溶液にて２３℃かつ表１に記載した現像時間でシャワー方式で現像し、次いで、水洗処理を行った。その後、表１に記載の流速で２０秒間のエアブローを行い、現像残渣および水分を除去した。ただし、比較例１ではエアブローを行わなかった。その後、露光機（キヤノン（株）製の「ＭＰＡ−６００ＦＡ」（ｇｈｉ線混合））を用いて、ｉ線換算で２Ｊ／ｃｍ2の露光量で照射した後、ホットプレートにて１８０℃で３０分間加熱処理（ポストベーク）し、高さ：約２００μｍ、幅：約１００μｍ、スペース幅：約１００μｍのラインパターンを有する硬化膜を得た。
【０１１１】
［評価］
実施例および比較例で得られた線状部材を、以下の方法で評価した。
【０１１２】
［解像性］
線状部材の高さに対してガラスウエハ面から１０％の位置における線状部材の幅をＢｏｔｔｏｍ幅、線状部材の高さに対してガラスウエハ面から９０％の位置における線状部材の幅をＴｏｐ幅と定義する。得られた線状部材の断面形状を走査型電子顕微鏡（（株）日立ハイテクノロジーズ製、形式「Ｓ−４２００」）にて観察し、Ｔｏｐ幅およびＢｏｔｔｏｍ幅を測定した。Ｔｏｐ幅およびＢｏｔｔｏｍ幅の差の絶対値／Ｔｏｐ幅およびＢｏｔｔｏｍ幅の大きい方の値×１００％が１５％以下の場合を「ＡＡ」、１５％を超える場合を「ＢＢ」とした。
【０１１３】
［パターン密着性］
走査型電子顕微鏡（（株）日立ハイテクノロジーズ製、形式「ＳＵ４２００」）を用いて、得られたラインパターンを観察し、ラインパターンが全面の５〜１０％の範囲で剥離している場合を「やや剥離」と判断し、５％未満の範囲で剥離している場合または剥離していない場合を「無」と判断した。
【０１１４】
［現像残渣および水ムラ］
得られた線状部材の表面を走査型電子顕微鏡（（株）日立ハイテクノロジー：ＳＵ３５００）を用いて、任意の１０点を目視で確認した。現像残渣または水ムラがなかった場合に「無」とし、１〜３個（１〜３箇所）あった場合に「やや有り」、３個（３箇所）を超えた場合に「有り」とした。
【０１１５】
【表１】
2017116657.tif 000002
【符号の説明】
【０１１６】
１…部材
１０…透明基板
２０…ラインパターン
２１…線状部材
２２…線状部材の側面
２５…透明部材
３０…光反射面
１００…光制御部材
１０１…光制御部材
１０２…光制御部材
２００…光学結像部材
【図１】
2017116657.tif 000003
【図２】
2017116657.tif 000004
【図３】
2017116657.tif 000005