(57)【要約】【課題】発熱量の安定性の点で有利な駆動装置を提供する。【解決手段】モータを含み、前記モータにより物体を動かす駆動装置は、前記モータを制御する制御部を含み、前記制御部は、前記物体を動かす第１期間における前記モータの発熱量のうち基準発熱量を超える第１分量に基づいて、前記第１期間とは異なる第２期間において前記基準発熱量より第２分量だけ小さい発熱量となるように前記モータを制御する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
モータを含み、前記モータにより物体を動かす駆動装置であって、
前記モータを制御する制御部を含み、
前記制御部は、前記物体を動かす第１期間における前記モータの発熱量のうち基準発熱量を超える第１分量に基づいて、前記第１期間とは異なる第２期間において前記基準発熱量より第２分量だけ小さい発熱量となるように前記モータを制御することを特徴とする駆動装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記第１期間の後に、前記モータの発熱量が前記基準発熱量になるように前記モータを制御し、前記物体の振動が許容範囲内に収まった後に、前記第２期間として前記モータを制御することを特徴とする請求項１に記載の駆動装置。
【請求項３】
前記振動を検出する検出部を含むことを特徴とする請求項２に記載の駆動装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記第１期間において前記物体を複数回動かすように前記モータを制御することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の駆動装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記第２期間において、前記モータの発熱量が間欠的に変化するように前記モータを制御することを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の駆動装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記第２期間において、前記物体の変位量が許容範囲内となるようなデューティ比をもって前記モータを制御することを特徴とする請求項５に記載の駆動装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記モータの消費電力と、前記物体を動かすのに要するエネルギと、前記基準発熱量とに基づいて、前記第１分量を得ることを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の駆動装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記第１分量と前記第２分量との差が許容範囲内になるように、前記第２期間において前記モータを制御することを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の駆動装置。
【請求項９】
前記モータは、ステッピングモータを含むことを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の駆動装置。
【請求項１０】
パターン形成を基板に行うリソグラフィ装置であって、
請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の駆動装置と、
前記駆動装置により動かされる可動部と、
を含むことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記基板を露光するための光学系を含み、
前記可動部は、前記光学系に含まれていることを特徴とする請求項１０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
前記制御部は、前記基板を交換する期間に前記第２期間が含まれるように前記モータを制御することを特徴とする請求項１０又は１１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１３】
請求項１０乃至１２のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターン形成を基板に行う工程と、
前記工程でパターン形成を行われた前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、物体を動かす駆動装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスなどの製造工程（リソグラフィ工程）で用いられる装置の１つとして、マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を有する露光装置が知られている。露光装置では、目的とするパターンを基板に形成するため、投影光学系内の光学素子またはその保持部を動かすことにより、投影倍率などの光学性能の調整が行われる。
【０００３】
光学素子等（物体）を動かすために用いられるモータ（例えばステッピングモータ）は、通電によって発熱する。そのため、モータでの発熱の影響により投影光学系の温度が変動し、光学素子の位置や形状が変化したり、光路上に媒質の（屈折率の）揺らぎが生じたりすると、パターン形成を精度よく行うことが困難になりうる。特許文献１では、基板の露光期間におけるモータでの発熱の影響を低減するため、当該露光期間においてモータに供給される電流値を、モータを動作状態とするための動作電流値より低くする技法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−２８８７４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載された技法では、光学素子を動かしている期間におけるモータの発熱量の増加とは関係なく、基板の露光期間において、モータに供給される電流値を動作電流値より低くしているだけである。これでは、投影光学系の温度（駆動装置の発熱量）を安定化させるには不十分となりうる。
【０００６】
そこで、本発明は、その発熱量の安定性の点で有利な駆動装置を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての駆動装置は、モータを含み、前記モータにより物体を動かす駆動装置であって、前記モータを制御する制御部を含み、前記制御部は、前記物体を動かす第１期間における前記モータの発熱量のうち基準発熱量を超える第１分量に基づいて、前記第１期間とは異なる第２期間において前記基準発熱量より第２分量だけ小さい発熱量となるように前記モータを制御することを特徴とする。
【０００８】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、例えば、その発熱量の安定性の点で有利な駆動装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】露光装置の構成を示す概略図である。
【図２】駆動部の構成例を示す概略図である。
【図３】モータでの電力の制御例を示す図である。
【図４】モータでの電力の制御例を示す図である。
【図５】モータでの電力の制御例を示す図である。
【図６】モータでの電力の制御例を示す図である。
【図７】モータでの電力の制御例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材ないし要素については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。また、以下の実施形態では、パターン形成を基板に行うリソグラフィ装置として、マスクのパターンを基板に転写する露光装置を用いて説明するが、それに限られるものではない。例えば、モールドを用いて基板上のインプリント材にパターン形成を行うインプリント装置や、荷電粒子線を用いて基板にパターン形成を行う描画装置などのリソグラフィ装置おいても、それに含まれる可動部を動かす場合に本発明を適用することができる。
【００１２】
＜第１実施形態＞
本発明に係る第１実施形態の露光装置１０について、図１を参照しながら説明する。図１は、露光装置１０の構成を示す概略図である。露光装置１０は、例えば、照明光学系１１と、マスクステージ１２と、投影光学系１３と、基板ステージ１４と、制御部１６とを含みうる。制御部１６は、例えばＣＰＵやメモリなどを有するコンピュータによって構成され、基板２における複数のショット領域の各々にマスク１のパターンを転写する処理（基板２を露光する処理）を制御する。即ち、制御部１６は、露光装置１０の各部を制御する。
【００１３】
照明光学系１１は、光源（不図示）から射出された光により、マスクステージ１２により保持されたマスク１を均一に照明する。投影光学系１３は、レンズやミラーなどの光学素子１３ａを複数有し、マスク１に形成されたパターンを所定の投影倍率で基板２に投影する。基板ステージ１４は、基板２を保持し、投影光学系１３の光軸と直交する方向（ＸＹ方向）に移動可能に構成される。このように構成された露光装置１０は、投影光学系１３を介してマスク１のパターンを基板２に転写する処理を、基板ステージ１４をステップ移動させながら、基板上の複数のショット領域の各々について行う。
【００１４】
露光装置１０では、基板２における複数のショット領域の各々にマスク１のパターンを精度よく転写することが求められる。そのため、露光装置１０には、投影光学系１３の光学素子１３ａ（物体、可動部）を駆動する（動かす）駆動部１５（駆動装置）が設けられ、駆動部１５で光学素子１３ａを駆動することによって投影倍率などの光学性能の調整が行われる。駆動部１５は、例えば、投影光学系１３における複数の光学素子１３ａの各々に対して設けられてもよい。
【００１５】
以下に、駆動部１５の構成について、図２を参照しながら説明する。図２は、駆動部１５の構成例を示す概略図である。駆動部１５は、例えば、保持部１５ａと、モータ１５ｂと、変換部１５ｃと、検出部１５ｄとを含み、支持部１５ｅによって投影光学系１３（筐体）に支持（固定）される。また、駆動部１５は、モータ１５ｂを制御する駆動制御部１５ｆを含みうる。
【００１６】
ここで、本実施形態では、投影光学系１３の光軸と平行な方向（Ｚ方向）に光学素子１３ａを駆動するように駆動部１５を構成した例について説明するが、それに限られるものではない。例えば、投影光学系１３の光軸と垂直な方向（ＸＹ方向）に光学素子１３ａを駆動したり、光学素子１３ａを傾けたりするように駆動部１５を構成してもよい。また、本実施形態の駆動制御部１５ｆは、制御部１６とは別に構成されているが、それに限られるものではなく、制御部１６の一部として構成されてもよい。
【００１７】
保持部１５ａは、投影光学系１３の光学素子１３ａを保持する。保持部１５ａは、光学素子１３ａに入射する光、および光学素子１３ａを透過した光を遮らないように、光学素子１３ａの外周部を保持するように構成されることが好ましい。モータ１５ｂは、光学素子１３ａに与える力（推力）を発生する。モータ１５ｂとしては、ステッピングモータなど、磁石とコイルとで構成されて回転方向の力を発生させるモータが用いられうる。変換部１５ｃは、モータ１５ｂで発生した回転方向の力を、保持部１５ａ（光学素子１３ａ）をＺ方向に駆動させる力に変換する。また、検出部１５ｄは、例えばレーザ干渉計を含み、保持部１５ａ（光学素子１３ａ）の変位を検出する。即ち、検出部１５ｄは、周期的に保持部１５ａ（光学素子１３ａ）の変位を検出することにより、光学素子１３ａの振動を検出することができる。
【００１８】
ここで、モータ１５ｂが発生する力は、モータ１５ｂの消費電力に応じて決まる。例えば、モータ１５ｂは、消費電力が基準電力Ｗｒのときに光学素子１３ａの位置を維持するための力を発生し、消費電力が基準電力Ｗｒより大きい電力（第１電力Ｗａ）のときに光学素子１３ａを駆動するための力を発生する。したがって、駆動制御部１５ｆは、モータ１５ｂに供給する電流（電圧、またはそれらの両方であってもよい）を制御することにより、モータ１５ｂの消費電力を変更し、モータ１５ｂが発生する力を制御することができる。また、駆動制御部１５ｆは、光学素子１３ａを駆動する量（駆動量）を、第１電力Ｗａを供給している期間（第１期間ｔ１）によって制御しうる。
【００１９】
このように構成されたモータ１５ｂでは、光学素子１３ａを駆動する際、消費電力が基準電力Ｗｒから第１電力Ｗａに増加するため、光学素子１３ａを駆動している期間（第１期間ｔ１）の発熱量も、消費電力の増加に伴って基準発熱量から増加しうる。基準発熱量とは、モータ１５ｂの消費電力が基準電力Ｗｒの場合における発熱量のことである。そして、このような発熱量の増加によって投影光学系１３の温度が変動し、光学素子１３ａの位置や形状が変形したり、投影光学系１３の光路上に空気の揺らぎが生じたりすると、基板２にマスク１のパターンを精度よく転写することが困難になりうる。したがって、モータ１５ｂでの発熱量の増加が投影光学系１３に影響を及ぼすことを低減することが、投影光学系１３の温度を安定化させる上で好ましい。
【００２０】
そこで、本実施形態の駆動制御部１５ｆは、光学素子１３ａを駆動した第１期間ｔ１の後の第２期間ｔ２において、モータ１５ｂの消費電力を基準電力Ｗｒより小さい第２電力Ｗｂとしてモータ１５ｂを制御する。即ち、駆動制御部１５ｆは、第１期間ｔ１におけるモータ１５ｂの発熱量のうち基準発熱量を超える第１分量に基づいて、第１期間ｔ１とは異なる第２期間ｔ２において基準発熱量より第２分量だけ小さい発熱量となるようにモータ１５ｂを制御する。
【００２１】
具体的には、駆動制御部１５ｆは、第１期間ｔ１でのモータ１５ｂの発熱量のうち基準電力Ｗｒと第１電力Ｗａとの差に起因する発熱増加量（第１分量）に応じて、第１期間ｔ１の後にモータ１５ｂの消費電力を第２電力Ｗｂとする第２期間ｔ２を決定する。このとき、駆動制御部１５ｂは、例えば、第２期間ｔ２における消費電力を基準電力Ｗｒから第２電力Ｗｂに減少させることによる発熱減少量（第２分量）と当該発熱増加量との差が閾値以下（許容範囲内）になるように第２期間ｔ２を決定するとよい。また、駆動制御部１５ｂは、発熱増加量が相殺されるように（即ち、発熱減少量と発熱増加量との差が零になるように）第２期間ｔ２を決定してもよい。
【００２２】
そして、駆動制御部１５ｆは、第１期間ｔ１の後かつ基板２を露光する処理の前に、決定した第２期間ｔ２において、モータ１５ｂの消費電力を第２電力Ｗｂとして（モータ１５ｂの消費電力が第２電力Ｗｂを保つように）モータ１５ｂを制御する。第２期間ｔ２の後、モータ１５ｂの消費電力を基準電力Ｗｒとしてモータ１５ｂを制御し、その状態において基板２を露光する処理を行う。ここで、本実施形態では、第２電力Ｗｂは、光学素子１３ａの位置を維持することができるモータ１５ｂの消費電力の範囲に収まるように設定されるとよい。
【００２３】
図３は、モータ１５ｂの消費電力の制御例を示す図である。図３における横軸は時刻を示し、縦軸はモータ１５ｂの消費電力を示している。駆動制御部１５ｆは、光学素子１３ａを駆動する場合には、モータ１５ｂの消費電力を基準電力Ｗｒから第１電力Ｗａに変更し、消費電力を第１電力Ｗａとしてモータ１５ｂを制御する。このとき、モータ１５ｂでは、図３の領域２１で表されるように、消費電力を第１電力Ｗａとしてモータ１５ｂを制御した第１期間ｔ１における発熱量が、消費電力を基準電力Ｗｒとして制御した場合（基準発熱量）と比べて増加する。そこで、駆動制御部１５ｆは、基準電力Ｗｒと第１電力Ｗａとの差に起因する発熱増加量（領域２１）に応じて、第１期間ｔ１の後に消費電力を第２電力Ｗｂとする第２期間ｔ２を決定する。このとき、駆動制御部１５は、第１期間ｔ２での発熱増加量（領域２１）と第２期間ｔ２での発熱減少量（領域２２）との差が閾値以下になるように第２期間ｔ２を決定しうる。そして、駆動制御部１５ｆは、第１期間ｔ１の後の第２期間ｔ２において、消費電力を第２電力Ｗｂとしてモータ１５ｂを制御する。第２期間ｔ２が経過したら消費電力を基準電力Ｗｒに変更し、消費電力を基準電力Ｗｒとしてモータ１５ｂを制御している状態において、基板２（ショット領域）を露光する処理が行われる。
【００２４】
第２期間ｔ２は、例えば、式（１）に基づいて、発熱増加量（領域２１）を基準電力Ｗｒと第２電力Ｗ２との差で除することにより求められうる。式（１）の左辺は、領域２１に対応する発熱増加量を表している。発熱増加量は、第１電力Ｗａと基準電力Ｗｒとの差の時間積分、即ち、第１電力Ｗａと基準電力Ｗｒとの差に第１期間ｔ１を乗ずることによって求められうる。右辺は、消費電力を第２電力Ｗｂとしてモータ１５ｂを制御することによる発熱減少量、即ち、基準電力Ｗｒと第２電力Ｗｂとの差に起因する発熱減少量（領域２２）を表している。発熱減少量は、基準電力Ｗｒと第２電力Ｗｂとの差の時間積分、即ち、基準電力Ｗｒと第２電力Ｗｂとの差に第２期間ｔ２を乗ずることによって求められうる。
（Ｗａ−Ｗｒ）×ｔ１＝（Ｗｒ−Ｗｂ）×ｔ２      ・・・（１）
【００２５】
ここで、第１期間ｔ１でのモータ１５ｂの発熱増加量の影響を効果的に低減させるためには、第１期間ｔ１に連続して第２期間ｔ２が開始されるようにモータ１５ｂを制御するとよい。この場合、駆動制御部１５ｆは、発熱増加量（第１期間ｔ１）に基づいて第２期間ｔ２を求め、第２電力Ｗｂでのモータ１５ｂの制御を開始した時刻と第２期間ｔ２とに基づいて第２期間ｔ２の終了時刻を決定しうる。
【００２６】
このようにモータ１５ｂを制御すると、駆動部１５の局所的な部分では時刻に対して温度が変化しうる。しかしながら、実際の駆動部１５は数１０ｋｇ、投影光学系１３に至っては数１００ｋｇの質量を有しており、熱容量が大きい（即ち、熱時定数が大きい）。つまり、モータ１５ｂで発生した熱が投影光学系１３に伝わるまでに相応の期間が掛かりうる。この場合、本実施形態での第１期間ｔ１および第２期間ｔ２は、駆動部１５の熱時定数に対して非常に短い期間となる。そのため、上述したようにモータ１５ｂを制御して、モータ１５ｂの発熱量の安定化させることにより、投影光学系１３の温度を安定化させ、マスク１のパターンを基板２に精度よく転写することができる。
【００２７】
ここで、本実施形態では、第１期間ｔ１での発熱増加量に応じて、モータ１５ｂの消費電力を第２電力Ｗｂとする第２期間ｔ２を決定する例について説明したが、それに限られるものではない。例えば、第２期間ｔ２が予め設定されている場合には、駆動制御部１５ｆは、第１期間ｔ１での発熱増加量に応じて、第２電力Ｗｂを決定してもよい。また、本実施形態では、第２電力Ｗｂを１つの値に設定したが、それに限られるものではなく、複数の値に設定してもよい。この場合、発熱減少量は、第２電力Ｗｂとしての複数の値の各々における時間積分によって求められうる。さらに、本実施形態では、駆動部１５が投影光学系１３の光学素子１３ａを駆動する例を説明したが、光学素子１３ａに限られるものではなく、いずれの物体を駆動する駆動装置においても、上述の駆動部１５の構成および制御を適用することができる。
【００２８】
＜第２実施形態＞
光学素子１３ａを駆動する場合のモータ１５ｂの消費電力（第１電力Ｗａ）は、光学素子１３ａを駆動することで消費される駆動エネルギ（光学素子１３ａを動かすのに要するエネルギ）と、熱に変換される熱エネルギとに分類されうる。第１実施形態では、第１電力Ｗａに対して駆動エネルギが十分に小さく、無視することができるものとして発熱増加量を求めた。しかしながら、駆動エネルギが第１電力Ｗａに対して無視することができないくらい大きい場合や、さらに高精度にモータ１５ｂの発熱量を制御したい場合などでは、駆動エネルギを考慮して発熱増加量を求めることが好ましい。そこで、第２実施形態の駆動制御部１５ｆは、図４に示すように、第１期間ｔ１における駆動エネルギの時間積分をエネルギ量Ｅ（領域３１に対応）として求める。そして、駆動制御部１５ｆは、モータ１５ｂの消費電力と、駆動エネルギと、基準発熱量とに基づいて発熱増加量を求める。具体的には、式（２）の左辺で表されるように、第１電力Ｗａと基準電力Ｗｒとの差を時間積分した値（当該差に第１期間ｔ１を乗じた値）からエネルギ量Ｅを減ずることにより発熱増加量を求める。
（Ｗａ−Ｗｒ）×ｔ１−Ｅ＝（Ｗｒ−Ｗｂ）×ｔ２      ・・・（２）
【００２９】
ここで、駆動エネルギは、例えば、駆動する対象の物体（光学素子１３ａ）の重量や、モータ１５ｂでの消費電力を入力とし当該対象物に加わる力を出力とする伝達関数、対象物の駆動パターン（駆動経路）などから求めることができる。これらのパラメータは、例えばシミュレーションや実験などによって予め求められうる。
【００３０】
＜第３実施形態＞
駆動制御部１５ｆは、図５に示すように、第２期間ｔ２において、モータ１５ｂの発熱量が間欠的に変化するように、即ち、モータ１５ｂの消費電力がパルス状の第２電力Ｗｂを複数含むようにモータ１５ｂを制御してもよい。この場合、モータ１５ｂへの電流（電圧）の供給をオフ（第２電力Ｗｂを零）にするなど、第２電力Ｗｂを、光学素子１３ａの位置を維持させることができるモータ１５ｂの消費電力の範囲より小さい値に設定してもよい。ここで、当該消費電力の範囲より小さい値に第２電力Ｗｂを設定すると、消費電力を第２電力Ｗｂとしてモータ１５ｂを制御している間、光学素子１３ａが変位しうる。そのため、駆動制御部１５ｆは、第２期間ｔ２において、光学素子１３ａの変位量が許容範囲内となるデューティ比でモータ１５ｂを制御するとよい。即ち、第２電力Ｗｂのパルス幅を、光学素子１３ａの変位量が許容範囲内（許容値以下）となる幅（時間）に設定するとよい。例えば、第２電力Ｗｂのパルス幅は、消費電流を第２電力Ｗｂとして制御されているモータ１５ｂが１ステップだけずれる時間より短くなるように設定されるとよい。また、第２期間ｔ２は、第２電力Ｗｂのパルス幅の合計値として規定されうる。
【００３１】
＜第４実施形態＞
消費電力を第２電力Ｗｂとしてモータ１５ｂを制御する場合では、消費電力を基準電力Ｗｒとして制御する場合と比べて、光学素子１３ａの位置を維持させる能力が低い。そのため、第１期間ｔ１の後、光学素子１３ａの駆動により生じた光学素子１３ａの振動が収まらない状態で、消費電力を第２電力Ｗｂとしてモータ１５ｂを制御してしまうと、光学素子１３ａの位置がずれてしまうことがある。したがって、駆動制御部１５ｆは、図６に示すように、第１期間ｔ１において光学素子１３ａを駆動した後、消費電力を基準電力Ｗｒとしてモータ１５ｂを制御する。即ち、モータ１５ｂの発熱量が基準発熱量になるようにモータ１５ｂを制御する。そして、光学素子１３ａの振動が許容範囲内に収まった後に、消費電力が第２電力Ｗｂになるようにモータ１５ｂを制御して、第２期間ｔ２を開始させるとよい。例えば、駆動制御部１５ｆは、第１期間ｔ１の後、検出部１５ｄにより検出された光学素子１３ａの振動が許容範囲内に収まるまで、消費電力を基準電圧Ｗｒとしてモータ１５ｂを制御する。そして、検出部１５ｄにより検出された光学素子１３ａの振動が許容範囲内に収まった後、消費電力を第２電力Ｗｂとしてモータ１５ｂを制御する。
【００３２】
また、駆動制御部１５ｆは、光学素子１３ａの駆動量と光学素子１３ａの振動が許容範囲に収まるまでの整定時間との関係を実験などにより予め求めておき、第１期間ｔ１での光学素子１３ａの駆動量および当該関係に基づいて整定時間を決定してもよい。この場合、駆動制御部１５ｆは、第１期間ｔ１が終了した後、決定した整定時間だけ消費電力を基準電力Ｗｒとしてモータ１５ｂを制御し、当該整定時間の経過後に消費電力を第２電力Ｗｂとしてモータ１５ｂを制御する。ここで、駆動制御部１５ｆは、駆動部１５の固有振動数に応じて整定時間を決定してもよい。例えば、光学素子１３ａを駆動する駆動部１５の固有振動数は、１００Ｈｚ以上である場合が多い。この場合、光学素子１３ａの振動が許容範囲内に収まるまでの整定期間を５０ｍｓ以上設けることが望ましい。
【００３３】
＜第５実施形態＞
露光装置１０では、基板２のショット領域ごとに、駆動部１５で光学素子１３ａを駆動することにより、投影倍率などの光学性能の調整する工程（調整工程）が行われうる。第５実施形態の駆動制御部１５ｆは、図７に示すように、複数の調整工程を複数回行う（即ち、第１期間ｔ１において光学素子１３ａを複数回動かす。そして、複数回の調整工程での発熱増加量の合計に応じて、複数回の調整工程の後に消費電力を第２電力Ｗｂとする第２期間ｔ２を決定する。このとき、駆動制御部１５ｆは、発熱増加量の合計と第２期間ｔ２での発熱減少量との差が閾値以下になるように第２期間ｔ２を決定するとよい。そして、駆動制御部１５ｆは、決定した第２期間ｔ２において、消費電力を第２電力Ｗｂとしてモータ１５ｂを制御する。
【００３４】
例えば、駆動制御部は、基板２に形成された全てのショット領域の各々にマスク１のパターンを転写した後、消費電力を第２電力Ｗｂとしてモータ１５ｂを制御する場合を想定する。この場合、駆動制御部１５ｆは、基板２に形成された各ショット領域についての調整工程での発熱増加量の合計を求め、求めた発熱増加量の合計が相殺されるように、複数の調整工程の後にモータ１５ｂの消費電力を第２電力Ｗｂとする第２期間ｔ２を決定する。そして、例えば、基板２を交換している期間のうちの第２期間ｔ２において、消費電力を第２電力Ｗｂとしてモータ１５ｂを制御する。
【００３５】
ここで、上述の例では、基板２に形成された全てのショット領域の各々についての調整工程での発熱増加量の合計を求め、第２期間ｔ２を決定したが、それに限られるものではない。例えば、所定の数のショット領域ごと、または所定の枚数の基板ごとに発熱増加量の合計を求め、第２期間ｔ２を決定してもよい。この場合、第２期間ｔ２において消費電力を第２電力Ｗｂとしてモータ１５ｂを制御する処理は、所定の数のショット領域ごと、または所定の枚数の基板ごとに行われうる。
【００３６】
＜物品の製造方法の実施形態＞
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等の電子デバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板上に上記のリソグラフィ装置（露光装置）を用いてパターン形成を行う工程と、かかる工程でパターン形成を行われた基板を加工する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００３７】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【符号の説明】
【００３８】
１：マスク、２：基板、１０：露光装置、１１：照明光学系、１２：マスクステージ、１３：投影光学系、１４：基板ステージ、１５：駆動部、１５ｂ：モータ、１５ｆ：駆動制御部、１６：制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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