(57)【要約】【課題】有機ＥＬ表示装置に適用したときに、波長４３０ｎｍ以下の光による発光部（特に青色の発光素子）の劣化を十分に低減することができる光学フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】光学フィルムの製造方法は、吸収ピークの波長が異なる複数の紫外線吸収剤を少なくとも１層に含有させることにより、フィルム全体として、波長４００ｎｍの光透過率が１％以下であり、波長４３０ｎｍの光透過率が７５％以下であり、波長４４０ｎｍの光透過率が７５％以上である光学フィルムを製造する工程を有する。上記工程では、複数の紫外線吸収剤のうち、吸収ピークの波長が最も長い紫外線吸収剤を含有させる層を、１２５℃以下の温度で製造する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸収ピークの波長が異なる複数の紫外線吸収剤を少なくとも１層に含有させることにより、フィルム全体として、波長４００ｎｍの光透過率が１％以下であり、波長４３０ｎｍの光透過率が７５％以下であり、波長４４０ｎｍの光透過率が７５％以上である光学フィルムを製造する工程を有し、
前記工程では、前記複数の紫外線吸収剤のうち、吸収ピークの波長が最も長い紫外線吸収剤を含有させる層を、１２５℃以下の温度で製造することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記光学フィルムは、１層のフィルム基材のみからなり、
前記工程では、前記複数の紫外線吸収剤を前記フィルム基材に含有させて、前記フィルム基材を１２５℃以下の温度で製造することを特徴とする請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記工程では、前記フィルム基材を溶液流延製膜法によって製造することを特徴とする請求項２に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記光学フィルムは、フィルム基材と、前記フィルム基材上に形成される塗布層との２層を含んでおり、
前記工程では、吸収ピークの波長が最も長い紫外線吸収剤を前記塗布層に含有させ、前記フィルム基材上で前記塗布層を１２５℃以下の温度で形成することにより、前記光学フィルムを製造することを特徴とする請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記工程では、吸収ピークの波長が最も長い紫外線吸収剤を含有させる層を、１００℃以上の温度で製造することを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば有機ＥＬ（electro-luminescence）表示装置に用いられる光学フィルムの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
画像表示装置として、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置が一般的に知られている。液晶表示装置は、液晶セルの両側に偏光板を配置し、バックライト光源からの光を画素ごとに遮蔽／透過させることで表示を行う。液晶セルに対して視認側の偏光板は、偏光子を２枚の保護フィルムで挟持することで構成される。上記偏光子に対して視認側の保護フィルムには、紫外線による偏光子劣化の抑制のために、紫外線吸収剤が含有されているのが一般的である。
【０００３】
一方、有機ＥＬ表示装置は、各画素に対応する発光部を発光させることで表示を行う。有機ＥＬ表示装置は、該装置を構成する各層を大幅に薄膜化できることから、様々な用途への適用が検討されている。しかし、有機ＥＬ表示装置は、液晶表示装置のように、紫外線吸収機能を有する偏光板を用いずに表示を行うことから、紫外線による発光部への影響が問題となる。
【０００４】
例えば、特許文献１では、有機ＥＬ表示装置において、青色を発光する発光素子の紫外線による劣化は、赤色や緑色を発光する発光素子に比べて大きいため、経時で色相バランスが崩れ易いことが記載されている。そこで、特許文献１では、特定の紫外線吸収剤を含有するフィルムを有機ＥＬ表示装置に適用することにより、上記の問題を解決するよう試みている。上記特定の紫外線吸収剤としては、実施例ではチヌビン９２８（ＢＡＳＦジャパン社製）が用いられている。
【０００５】
また、例えば特許文献２では、２種類の光吸収剤を含有する光吸収層を表示装置に適用した構成が開示されている。一方の光吸収剤の吸収ピークの波長は、２８０ｎｍ以上３６０ｎｍ未満の範囲にあり、他方の光吸収剤の吸収ピークの波長は、３６０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の範囲にある。また、上記光吸収層において、波長４３０ｎｍ以上６５０ｎｍ以下の範囲での光透過率は、８０％以上となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開公報第２０１３／０３８６８４号（請求項１、段落〔０００５〕、〔００１６〕、〔０２３８〕等参照）
【特許文献２】特開２０１４−１１５５２４号公報（請求項１、３、７等参照）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、有機ＥＬ表示装置では、波長が４００ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の光（例えば紫の波長範囲の光）によっても、青色の発光素子が劣化しやすいことから、光吸収層にて上記波長範囲の光を吸収することが望ましい。
【０００８】
この点、特許文献１で開示されている紫外線吸収剤（チヌビン９２８）の吸収ピークの波長は、３６０ｎｍ付近にあることから、上記紫外線吸収剤を含むフィルムにおける波長４３０ｎｍ付近の光透過率は、８０％を超えることが推測される。また、特許文献２では、上述のように、波長４３０ｎｍの光透過率は８０％以上となっている。このため、特許文献１および２のいずれも、波長４３０ｎｍ以下の光による青色の発光素子の劣化を低減するには不十分と考えられる。
【０００９】
また、波長４３０ｎｍ以下の光を吸収する紫外線吸収剤は、熱に弱いことがわかっている。このため、上記紫外線吸収剤を用いてフィルムを製造する際に、製造工程（例えば延伸工程や、延伸後の乾燥工程）での温度が高いと、上記紫外線吸収剤の光吸収機能が損なわれる。その結果、波長４００ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の光透過率が高くなり、上記波長範囲の光による青色の発光素子の劣化を低減することができなくなる。
【００１０】
なお、波長４００ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の光を吸収する光吸収層を設けると、外光に含まれる上記波長範囲の光だけでなく、青色の発光素子から出射される光に含まれる上記波長範囲の光も上記光吸収層にて吸収されることになる。後者の場合、上記波長範囲の光を吸収しない構成に比べて、表示色が若干変わる。このため、従来は、上記波長範囲の光を吸収しようとする発想自体が起こりにくかった。現に、特許文献２では、波長４３０ｎｍ以上の光透過率として、８０％以上が確保されている。
【００１１】
しかし、今後、有機ＥＬ表示装置の市場拡大にあたって、有機ＥＬ表示装置の製品としての長寿命化（表示性能の長期間の維持）が益々重要となってきており、表示色が若干変わってでも、波長４３０ｎｍ以下の光による青色の発光素子の劣化を抑えることのほうが重要となってきている。
【００１２】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであって、その目的は、紫外線吸収剤を含むフィルムの製造時の温度条件を適切に規定することにより、波長４３０ｎｍ以下の光を吸収する機能を確実に発揮させることができ、これによって、有機ＥＬ表示装置に適用された場合でも、上記光による青色の発光素子の劣化を十分に低減することができる光学フィルムの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の上記目的は、以下の製造方法により達成される。
【００１４】
１．吸収ピークの波長が異なる複数の紫外線吸収剤を少なくとも１層に含有させることにより、フィルム全体として、波長４００ｎｍの光透過率が１％以下であり、波長４３０ｎｍの光透過率が７５％以下であり、波長４４０ｎｍの光透過率が７５％以上である光学フィルムを製造する工程を有し、
前記工程では、前記複数の紫外線吸収剤のうち、吸収ピークの波長が最も長い紫外線吸収剤を含有させる層を、１２５℃以下の温度で製造することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【００１５】
２．前記光学フィルムは、１層のフィルム基材のみからなり、
前記工程では、前記複数の紫外線吸収剤を前記フィルム基材に含有させて、前記フィルム基材を１２５℃以下の温度で製造することを特徴とする前記１に記載の光学フィルムの製造方法。
【００１６】
３．前記工程では、前記フィルム基材を溶液流延製膜法によって製造することを特徴とする前記２に記載の光学フィルムの製造方法。
【００１７】
４．前記光学フィルムは、フィルム基材と、前記フィルム基材上に形成される塗布層との２層を含んでおり、
前記工程では、吸収ピークの波長が最も長い紫外線吸収剤を前記塗布層に含有させ、前記フィルム基材上で前記塗布層を１２５℃以下の温度で形成することにより、前記光学フィルムを製造することを特徴とする前記１に記載の光学フィルムの製造方法。
【００１８】
５．前記工程では、吸収ピークの波長が最も長い紫外線吸収剤を含有させる層を、１００℃以上の温度で製造することを特徴とする前記１から４のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【００１９】
上記の製造方法によれば、複数の紫外線吸収剤のうち、吸収ピークの波長が最も長い紫外線吸収剤を含有させる層を、１２５℃以下の温度で製造することにより、フィルム全体として、波長４００ｎｍの光透過率が１％以下であり、波長４３０ｎｍの光透過率が７５％以下であり、波長４４０ｎｍの光透過率が７５％以上である光学フィルムが製造される。このように、熱に弱い紫外線吸収剤、つまり、吸収ピークの波長が最も長い紫外線吸収剤を含有させる層の製造時の温度条件を適切に規定することにより、波長４３０ｎｍ以下の光を吸収する機能を上記層にて確実に発揮させることができる。その結果、製造された光学フィルムを有機ＥＬ表示装置に適用した場合でも、波長４３０ｎｍ以下の光による青色の発光素子の劣化を十分に低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の実施の形態に係る光学フィルムの概略の構成を示す断面図である。
【図２】上記光学フィルムの他の構成を示す断面図である。
【図３】光学フィルムの製造装置の概略の構成を示す説明図である。
【図４】上記光学フィルムが適用される有機ＥＬ表示装置の一構成例を示す断面図である。
【図５】上記有機ＥＬ表示装置の他の構成例を示す断面図である。
【図６】上記有機ＥＬ表示装置のさらに他の構成例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明の実施の一形態について、図面に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、本明細書において、数値範囲をＡ〜Ｂと表記した場合、その数値範囲に下限Ａおよび上限Ｂの値は含まれるものとする。また、本発明は、以下の内容に限定されるものではない。
【００２２】
〔光学フィルム〕
図１は、本実施形態の光学フィルム１の概略の構成を示す断面図である。光学フィルム１は、１層のフィルム基材２のみで構成されている。光学フィルム１（フィルム基材２）は、フィルム全体として、波長４００ｎｍの光透過率が１％以下であり、波長４３０ｎｍの光透過率が７５％以下であり、波長４４０ｎｍの光透過率が７５％以上となる紫外線吸収特性を有している。この特性は、吸収ピークの波長が異なる複数の紫外線吸収剤を、フィルム基材２に含有させて、フィルム基材２を１２５℃以下の温度で製造することによって実現することができる。複数の紫外線吸収剤としては、例えば吸収ピークの波長が３８０ｎｍ未満のものと、３８０ｎｍ以上のものとの２種類を用いることができる。フィルム基材２は、例えば溶液流延製膜法によって製造される。
【００２３】
図２は、本実施形態の光学フィルム１の他の構成を示す断面図である。光学フィルム１は、フィルム基材２と、フィルム基材２上に形成される塗布層３との２層を含んで構成されてもよい。この場合、塗布層３には、吸収ピークの波長が異なる複数の紫外線吸収剤のうち、吸収ピークの波長が最も長い紫外線吸収剤（例えば吸収ピークの波長が３８０ｎｍ以上のもの）を含有させ、フィルム基材２には、残りの紫外線吸収剤（例えば吸収ピークの波長が３８０ｎｍ未満のもの）を含有させ、フィルム基材２を例えば溶液流延製膜法で製造する一方、塗布層３を、フィルム基材２上で１２５℃以下の温度で形成することにより、図１と同様の紫外線吸収特性を持つ光学フィルム１を実現することができる。なお、塗布層３は、単層構造であってもよく、２層以上の積層構造であってもよい。また、図２の光学フィルム１の製造においては、吸収ピークの波長が最も長い紫外線吸収剤を含有する層（塗布層３）を１２５℃以下の温度で形成すればよく、残りの紫外線吸収剤を含有する層（フィルム基材２）の形成温度は、１２５℃を超えていても構わない。
【００２４】
このように、本実施形態の光学フィルム１の製造方法は、吸収ピークの波長が異なる複数の紫外線吸収剤を光学フィルム１の少なくとも１層に含有させることにより、フィルム全体として、波長４００ｎｍの光透過率が１％以下であり、波長４３０ｎｍの光透過率が７５％以下であり、波長４４０ｎｍの光透過率が７５％以上である光学フィルムを製造する工程を有している。そして、前記工程では、複数の紫外線吸収剤のうち、吸収ピークの波長が最も長い紫外線吸収剤を含有させる層（図１の構成ではフィルム基材２に相当し、図２の構成では塗布層３に相当する）を、１２５℃以下の温度で製造する。
【００２５】
波長４３０ｎｍ以下の光を吸収する紫外線吸収剤が熱に弱いことは、前述の通りであり、上記紫外線吸収剤には、吸収ピークの波長が３８０ｎｍ以上のものも含まれる。本実施形態では、熱に弱い紫外線吸収剤（吸収ピークの波長が最も長い紫外線吸収剤）を含有させる層の製造時の温度を、１２５℃以下に抑えているため、上記紫外線吸収剤の機能が熱によって損なわれるのを回避することができ、波長４３０ｎｍ以下の光を吸収する機能を上記層にて確実に発揮させることができる。その結果、製造された光学フィルム１を後述する有機ＥＬ表示装置１００（図４等参照）に適用した場合でも、波長４３０ｎｍ以下の光による青色の発光素子の劣化を十分に低減することができ、目視した際の色味変化への影響の大きい４４０ｎｍ以上の吸収を極力低くすることができる。
【００２６】
また、前記工程では、複数の紫外線吸収剤をフィルム基材２に含有させて、フィルム基材２を１２５℃以下の温度で製造することにより、図１のように、フィルム基材２の１層のみからなり、かつ、上述の紫外線吸収特性を有する光学フィルム１を製造することができる。このとき、溶液流延製膜法では、ドープの支持体上への流延から、フィルムの延伸、乾燥までの各工程の全てを１２５℃以下の温度条件で行うことができる。したがって、フィルム基材２を溶液流延製膜法によって製造することにより、上述した紫外線吸収特性を有する光学フィルム１を確実に製造することができる。
【００２７】
また、前記工程では、吸収ピークの波長が最も長い紫外線吸収剤を塗布層３に含有させ、フィルム基材２上で塗布層３を１２５℃以下の温度で形成してもよい。例えば、塗布層形成組成物のフィルム基材２上への塗布から、乾燥、硬化までの各工程の全てを１２５℃以下の温度条件で行うことにより、図２のように、フィルム基材２と塗布層３との２層を含み、かつ、上述の紫外線吸収特性を有する光学フィルム１を製造することができる。
【００２８】
ところで、上述した光学フィルム１の製造において、製造過程での温度があまり低すぎると、例えば溶媒の乾燥に時間を要することとなり、フィルムの生産性が低下することが懸念される。したがって、フィルムの生産性を向上させるためには、前記工程において、吸収ピークの波長が最も長い紫外線吸収剤を含有させる層を、１００℃以上の温度で製造することが望ましい。
【００２９】
以下、本実施形態の光学フィルムの詳細について説明する。なお、以下では、特に断らない限り、光学フィルムはフィルム基材を指すものとする。
【００３０】
〔光学フィルムの材料〕
光学フィルムは、熱可塑性樹脂から構成されているフィルムであれば何でも良いが、光学用途に使用する場合には、所望の波長に対して透明な性質を有する樹脂からなるフィルムであることが好ましい。このようなフィルムを構成する樹脂としては、ポリカーボネート系樹脂、ポリエーテルスルフォン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリメチルメタクリレート系樹脂、ポリスルフォン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、脂環構造を有するオレフィンポリマー系樹脂（脂環式オレフィンポリマー系樹脂）、セルロースエステル系樹脂などが挙げられる。
【００３１】
これらの中でも、透明性や機械強度などの観点から、ポリカーボネート系樹脂、脂環式オレフィンポリマー系樹脂、セルロースエステル系樹脂が好ましい。その中でも、光学フィルムとした場合の位相差を調整することが容易であるセルロースエステル系樹脂が更に好ましい。
【００３２】
（セルロースエステル系樹脂）
好ましいセルロースエステル系樹脂としては、下記式（１）および（２）を満たすセルロースアシレートが挙げられる。
式（１）  ２．０≦Ｘ＜３．０
式（２）  ０≦Ｙ＜３．０
（式（１）および（２）において、Ｘはセルロースアシレートの総アシル基置換度を表し、Ｙはセルロースアシレートのプロピオニル基置換度およびブチリル基置換度の総和を表す。）
【００３３】
セルロースエステルの原料のセルロースとしては、例えば綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることができるが、特にこれらに限定されるわけではない。また、それらから得られたセルロースエステルを各々任意の割合で混合して使用することができる。
【００３４】
セルロースアシレートは、総アシル基置換度が２．０〜２．７の範囲内のセルロースアシレートであることが、耐水性を向上する観点から好ましく、また、製膜の際の流延性及び延伸性を向上させ、膜厚の均一性が一層向上する観点からは、セルロースアシレートの総アシル基置換度は、２．１〜２．５であることが好ましい。
【００３５】
なお、アセチル基の置換度や他のアシル基の置換度は、ＡＳＴＭ（American Society for Testing and Materials；米国試験材料協会）が策定・発行する規格の一つであるＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６の規定に準じて測定することができる。
【００３６】
セルロースアシレートとしては、特にセルロースアセテート（セルロースジアセテート、セルローストリアセテート）、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートベンゾエート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレートから選ばれる少なくとも１種であることが好ましいが、これらの中でより好ましいセルロースアシレートは、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートである。
【００３７】
セルロースエステル系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは７５０００以上であり、７５０００〜３０００００の範囲であることがより好ましく、１０００００〜２４００００の範囲内であることが更に好ましく、１６００００〜２４００００のものが特に好ましい。セルロースエステル系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）が７５０００以上であれば、セルロースエステル系樹脂を含む層自身の自己成膜性や密着の改善効果が発揮され、好ましい。
【００３８】
セルロースエステル系樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）および重量平均分子量（Ｍｗ）は、それぞれゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより以下の測定条件で測定することができる。
【００３９】
溶媒：      メチレンクロライド
カラム：    Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：  ０．１質量％
検出器：    ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：    Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：      １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：  標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝５００〜２８０００００の範囲内の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
【００４０】
（脂環式オレフィンポリマー系樹脂〕
本実施形態の光学フィルムは、脂環式オレフィンポリマー系樹脂（以下、シクロオレフィン樹脂とも称する）フィルムで構成することもできる。シクロオレフィン樹脂としては、下記一般式（Ｓ）に示す構造を有する単量体の重合体又は共重合体が挙げられる。
【００４１】
【化１】
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【００４２】
式中、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アシルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、シアノ基、アミド基、イミド基、シリル基、又は極性基（すなわち、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アシルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、シアノ基、アミド基、イミド基、若しくはシリル基）で置換された炭化水素基である。
【００４３】
ただし、Ｒ１〜Ｒ４は、二つ以上が互いに結合して、不飽和結合、単環又は多環を形成していてもよく、この単環又は多環は、二重結合を有していても、芳香環を形成してもよい。Ｒ１とＲ２とで、又はＲ３とＲ４とで、アルキリデン基を形成していてもよい。ｐ及びｍは０以上の整数である。
【００４４】
上記一般式（Ｓ）中、Ｒ１及びＲ３が表す炭化水素基は、炭素数１〜１０が好ましく、さらに好ましくは１〜４、特に好ましくは１〜２の炭化水素基である。
【００４５】
Ｒ２及びＲ４が水素原子又は１価の有機基であって、Ｒ２及びＲ４の少なくとも一つは水素原子及び炭化水素基以外の極性を有する極性基を示すことが好ましく、ｍは０〜３の整数、ｐは０〜３の整数であり、より好ましくはｍ＋ｐ＝０〜４、さらに好ましくは０〜２、特に好ましくはｍ＝１、ｐ＝０である。
【００４６】
ｍ＝１、ｐ＝０である特定単量体は、得られるシクロオレフィン樹脂のガラス転移温度が高く、かつ、機械強度も優れたものとなる点で好ましい。なお、ここでいうガラス転移温度とは、ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ  Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｃｏｌｏｒｉｍｅｔｒｙ：示差走査熱量法）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２１−２０１２に準拠した方法により求められる値である。
【００４７】
上記特定単量体の極性基としては、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基などが挙げられ、これら極性基はメチレン基などの連結基を介して結合していてもよい。
【００４８】
また、カルボニル基、エーテル基、シリルエーテル基、チオエーテル基、イミノ基など極性を有する２価の有機基が連結基となって結合している炭化水素基なども極性基として挙げられる。
【００４９】
これらの中では、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基又はアリルオキシカルボニル基が好ましく、特にアルコキシカルボニル基又はアリルオキシカルボニル基が好ましい。
【００５０】
さらに、Ｒ２及びＲ４の少なくとも一つが式−（ＣＨ２）ｎＣＯＯＲで表される極性基である単量体は、得られるシクロオレフィン樹脂が、高いガラス転移温度と低い吸湿性、各種材料との優れた密着性を有するものとなる点で好ましい。
【００５１】
上記の特定の極性基にかかる式において、Ｒは炭素原子数１〜１２、さらに好ましくは１〜４、特に好ましくは１〜２の炭化水素基、好ましくはアルキル基である。
【００５２】
共重合性単量体の具体例としては、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン、ジシクロペンタジエンなどのシクロオレフィン樹脂を挙げることができる。
【００５３】
シクロオレフィンの炭素数としては、４〜２０が好ましく、さらに好ましいのは５〜１２である。
【００５４】
本実施形態において、シクロオレフィン樹脂は、１種単独で、又は２種以上を併用することができる。
【００５５】
シクロオレフィン樹脂の好ましい分子量は、固有粘度〔η〕ｉｎｈで０．２〜５ｃｍ３／ｇ、さらに好ましくは０．３〜３ｃｍ３／ｇ、特に好ましくは０．４〜１．５ｃｍ３／ｇであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定したポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）は、８０００〜１０００００、さらに好ましくは１００００〜８００００、特に好ましくは１２０００〜５００００であり、重量平均分子量（Ｍｗ）は２００００〜３０００００、さらに好ましくは３００００〜２５００００、特に好ましくは４００００〜２０００００である。
【００５６】
固有粘度〔η〕ｉｎｈ、数平均分子量及び重量平均分子量が上記範囲にあることにより、シクロオレフィン樹脂の耐熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性と、本実施形態の光学フィルムの成形加工性とが良好となる。
【００５７】
シクロオレフィン樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）としては、通常、１１０℃以上、好ましくは１１０〜３５０℃、さらに好ましくは１２０〜２５０℃、特に好ましくは１２０〜２２０℃である。Ｔｇが１１０℃以上の場合が、高温条件下での使用、又はコーティング、印刷などの二次加工により変形が起こりにくいため、好ましい。
【００５８】
一方、Ｔｇが３５０℃以下とすることで、成形加工が困難になる場合を回避し、成形加工時の熱によって樹脂が劣化する可能性を低くすることができる。
【００５９】
シクロオレフィン樹脂には、本発明の効果を損なわない範囲で、例えば特開平９−２２１５７７号公報、特開平１０−２８７７３２号公報に記載されている、特定の炭化水素系樹脂、又は公知の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、ゴム質重合体、有機微粒子、無機微粒子などを配合してもよく、特定の波長分散剤、糖エステル化合物、酸化防止剤、剥離促進剤、ゴム粒子、可塑剤、紫外線吸収剤などの添加剤を含んでもよい。
【００６０】
また、シクロオレフィン樹脂としては、市販品を好ましく用いることができる。市販品の例としては、ＪＳＲ（株）からアートン（ＡＲＴＯＮ：登録商標）Ｇ、アートンＦ、アートンＲ、及びアートンＲＸという商品名で発売されている。また、日本ゼオン（株）からゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ：登録商標）ＺＦ１４、ＺＦ１６、ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ：登録商標）２５０又はゼオネックス２８０という商品名で市販されており、これらを使用することができる。
【００６１】
（紫外線吸収剤）
本実施形態の光学フィルムは、有機ＥＬ表示装置における発光層（特に青色の光を発光する発光素子）の紫外線による劣化を低減するために、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。
【００６２】
紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、特開平８−３３７５７４号公報に記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報に記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。
【００６３】
紫外線吸収剤の添加量は、高分子組成物に対して０．１〜５．０質量％の範囲内であることが好ましく、０．５〜５．０質量％の範囲内であることがさらに好ましい。
【００６４】
本実施形態の光学フィルムに有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル］ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−［３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−［３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。
【００６５】
また、市販品として、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２８」（以上、商品名、ＢＡＳＦジャパン社製）を好ましく使用できる。
【００６６】
本実施形態では、吸収ピークの波長が異なる複数の紫外線吸収剤を光学フィルムに含有させている。例えば、吸収ピークの波長が３８０ｎｍ未満の紫外線吸収剤（第１の紫外線吸収剤）と、吸収ピークの波長が３８０ｎｍ以上の紫外線吸収剤（第２の紫外線吸収剤）とを光学フィルムに含有させる場合、第１の紫外線吸収剤としては、例えば上述したチヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８を用いることができ、第２の紫外線吸収剤としては、例えば、Ｅｕｓｕｒｂ  ＵＶ−１９９０、Ｅｕｓｕｒｂ  ＵＶ−１９９５、Ｅｕｓｕｒｂ  ＵＶ−３９０（いずれもＥＵＴＥＣ社製）を用いることができる。ちなみに、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８の吸収ピークの波長は３６０ｎｍ付近にある。一方、Ｅｕｓｕｒｂ  ＵＶ−１９９０の吸収ピークの波長は３８４ｎｍ付近にあり、Ｅｕｓｕｒｂ  ＵＶ−１９９５の吸収ピークの波長は４２４ｎｍ付近にあり、Ｅｕｓｕｒｂ  ＵＶ−３９０の吸収ピークの波長は３８７ｎｍ付近にある。
【００６７】
（マット剤）
本実施形態の光学フィルムには、製膜時にフィルム表面に凹凸を付与し、すべり性を確保し、安定な巻取り形状を達成するためにマット剤を含有させることが望ましい。マット剤を含有することにより、作製された光学フィルムがハンドリングされる際に、傷が付いたり、搬送性が悪化するのを抑制することもできる。
【００６８】
マット剤としては、無機化合物の微粒子や樹脂の微粒子が挙げられる。無機化合物の微粒子の例として、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等を挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化ケイ素が好ましい。
【００６９】
微粒子の一次粒子の平均粒径は、５〜４００ｎｍの範囲内が好ましく、さらに好ましいのは１０〜３００ｎｍの範囲内である。これらは主に粒径０．０５〜０．３μｍの範囲内の二次凝集体として含有されていてもよく、平均粒径８０〜４００ｎｍの範囲内の粒子であれば、凝集せずに一次粒子として含まれていることも好ましい。
【００７０】
光学フィルム中のこれらの微粒子の含有量は、０．０１〜３．０質量％の範囲内であることが好ましく、特に０．０１〜２．０質量％の範囲内であることが好ましい。光学フィルムが、共流延法による多層構成の場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。
【００７１】
二酸化ケイ素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【００７２】
酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【００７３】
樹脂の微粒子の例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましい。例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン株式会社製）の商品名で市販されており、これらを使用することができる。
【００７４】
これらの中でも、アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖ、アエロジルＲ８１２が、光学フィルムのヘイズを低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため、特に好ましく用いられる。
【００７５】
本実施形態の光学フィルムにおいては、少なくとも一方の面の動摩擦係数が０．２〜１．０の範囲内であることが好ましい。
【００７６】
（その他の添加剤）
本実施形態の光学フィルムは、添加剤として、上述の紫外線吸収剤およびマット剤のほかに、位相差調整剤（位相差上昇剤、位相差低減剤）、可塑剤、酸化防止剤、光安定剤、帯電防止剤、剥離剤、増粘剤などを含んでもよい。以下に主要な添加剤の詳細を記す。
【００７７】
〈可塑剤〉
光学フィルムに添加する可塑剤として、ポリエステル樹脂を用いることができる。ポリエステル樹脂は、ジカルボン酸とジオールを重合することにより得られ、ジカルボン酸構成単位（ジカルボン酸に由来する構成単位）の７０％以上が芳香族ジカルボン酸に由来し、かつジオール構成単位（ジオールに由来する構成単位）の７０％以上が脂肪族ジオールに由来する。
【００７８】
芳香族ジカルボン酸に由来する構成単位の割合は７０％以上、好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。脂肪族ジオールに由来する構成単位の割合は７０％以上、好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。ポリエステル樹脂は、２種以上を併用してもよい。
【００７９】
芳香族ジカルボン酸として、テレフタル酸、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸等のナフタレンジカルボン酸、４，４′−ビフェニルジカルボン酸、３，４′−ビフェニルジカルボン酸等及びこれらのエステル形成性誘導体が例示できる。
【００８０】
ポリエステル樹脂には、本発明の目的を損なわない範囲で、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸や安息香酸、プロピオン酸、酪酸等のモノカルボン酸を用いることができる。
【００８１】
脂肪族ジオールとして、エチレングリコール、１，３−プロピレンジオール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，６−ヘキサンジオール等及びこれらのエステル形成性誘導体が例示できる。
【００８２】
ポリエステル樹脂には、本発明の目的を損なわない範囲で、ブチルアルコール、ヘキシルアルコール、オクチルアルコール等のモノアルコール類や、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール等の多価アルコール類を用いることもできる。
【００８３】
ポリエステル樹脂の製造には、公知の方法である直接エステル化法やエステル交換法を適用することができる。ポリエステル樹脂の製造時に使用する重縮合触媒としては、公知の三酸化アンチモン、五酸化アンチモン等のアンチモン化合物、酸化ゲルマニウム等のゲルマニウム化合物、酢酸チタン等のチタン化合物、塩化アルミニウム等のアルミニウム化合物等が例示できるが、これらに限定されない。
【００８４】
好ましいポリエステル樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合樹脂、ポリエチレン−１，４−シクロヘキサンジメチレン−テレフタレート共重合樹脂、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキレート樹脂、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート−テレフタレート共重合樹脂、ポリエチレン−テレフタレート−４，４′−ビフェニルジカルボキシレート樹脂、ポリ−１，３−プロピレン−テレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート樹脂等がある。
【００８５】
より好ましいポリエステル樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合樹脂、ポリエチレン−１，４−シクロヘキサンジメチレン−テレフタレート共重合樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂及びポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート樹脂が挙げられる。
【００８６】
ポリエステル樹脂の固有粘度（フェノール／１，１，２，２−テトラクロロエタン＝６０／４０質量比混合溶媒中、２５℃で測定した値）は、０．７〜２．０ｃｍ３／ｇの範囲内が好ましく、より好ましくは０．８〜１．５ｃｍ３／ｇの範囲内である。固有粘度が０．７ｃｍ３／ｇ以上であると、ポリエステル樹脂の分子量が充分に高いために、これを使用して得られるポリエステル樹脂組成物からなる成形物が、成形物として必要な機械的性質を有するとともに、透明性が良好となる。固有粘度が２．０ｃｍ３／ｇ以下の場合、成形性が良好となる。他の可塑剤としては、特開２０１３−９７２７９号公報の段落〔００５６〕〜〔００８０〕の一般式（ＰＥＩ）及び一般式（ＰＥII）に記載の化合物を用いてよい。
【００８７】
〈酸化防止剤〉
酸化防止剤は、例えば、光学フィルム中の残留溶媒のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等により、光学フィルムが分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、光学フィルム中に含有させることが好ましい。
【００８８】
このような酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート等を挙げることができる。
【００８９】
特に、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また、例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。
【００９０】
（硬化層）
本実施形態の光学フィルムは、フィルム基材と、塗布層とで構成されてもよい。上記塗布層としては、硬化層、反射防止層、帯電防止層など、フィルム基材上に形成されて種々の機能を発揮する機能層で構成することができる。ここでは、塗布層を硬化層で形成する場合を例として説明する。光学フィルムが２層構成の場合、光学フィルムがフィルム基材の１層構成のときに添加される複数の紫外線吸収剤のうち、吸収ピークの波長が最も長い紫外線吸収剤は硬化層に添加され、他の紫外線吸収剤は、フィルム基材に添加される。
【００９１】
硬化層は、単層構造であってもよく、積層構造であってもよい。そして、硬化層は、アクリル系材料を含んでいてもよい。アクリル系材料としては、多価アルコールの（メタ）アクリル酸エステルのような単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコールおよび（メタ）アクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。また、これらの他にも、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【００９２】
なお、本実施形態において、「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」と「メタクリル」の両方を示し、「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示し、「（メタ）アクリロイル」とは、「アクリロイル」と「メタクリロイル」の両方を示している。例えば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタクリレート」の両方を示している。
【００９３】
特に、紫外線硬化型アクリレート系樹脂、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられ、中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。
【００９４】
硬化層の形成に用いる硬化層形成用組成物に含まれる溶剤としては、フィルム基材を溶解または膨潤させる溶剤が好ましい。溶剤がフィルム基材を溶解または膨潤させることにより、硬化層形成用組成物がフィルム基材の表面から内部に浸透し易くなり、フィルム基材と硬化層との密着性を向上させることができる。
【００９５】
また、フィルム基材の表層近傍で、フィルム基材の樹脂成分と硬化層の樹脂成分とが混在した層が形成され、この層の作用により、フィルム基材と硬化層との屈折率を傾斜させることができ、干渉ムラの発生を防ぐことができる。
【００９６】
硬化層は、上述した紫外線吸収剤以外に、光重合開始剤、光増感剤、レベリング剤を含んでいてもよい。
【００９７】
硬化層形成用組成物の塗工方法としては、ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等を採用することができる。中でも特に、均一な薄膜層を形成する場合には、マイクログラビアコーティング法が好ましく、また、厚膜層を形成する必要がある場合にはダイコーティング法が好ましい。
【００９８】
また、硬化層を積層構造で構成する場合、上述した硬化層を第１硬化層とすると、第１硬化層上に以下の第２硬化層を形成してもよい。第２硬化層は、脂環構造を有する活性エネルギー線硬化性樹脂を含む層であってもよい。脂環構造としては、具体的には、ノルボルニル、トリシクロデカニル、テトラシクロドデカニル、ペンタシクロペンタデカニル、アダマンチル、ジアマンタニル等が挙げられる。
【００９９】
脂環構造を有する活性エネルギー線硬化性樹脂は、脂環構造の炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合を有する基とが連結基を介して結合することで構成されているものが好ましい。連結基としては、単結合、アルキレン基、アミド基、カルバモイル基、エステル基、オキシカルボニル基、エーテル基等またはこれらを組み合わせた基が挙げられる。具体的には、脂環構造を有するジオール、トリオール等のポリオールと、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等を有するカルボン酸、カルボン酸誘導体、エポキシ誘導体、イソシアナート誘導体化合物等との一段あるいは二段階の反応により、容易に合成できる。
【０１００】
〔光学フィルムの製造方法〕
次に、本実施形態の光学フィルムの製造方法について説明する。ここでは、例として、光学フィルムがフィルム基材のみで構成される場合の光学フィルムの製造方法について説明する。なお、フィルム基材と塗布層とを備える光学フィルムの製法については、以下の製法によって製造されたフィルム基材上に、塗布層形成組成物を塗布した後、これを硬化、乾燥させることで塗布層を形成し、これによって光学フィルムを製造することができる。
【０１０１】
図３は、本実施形態の光学フィルムの製造に用いられる製造装置２０の概略の構成を示す説明図である。本実施形態の光学フィルムの製造方法は、溶液流延製膜法によって光学フィルムを製膜する方法である。この溶液流延製膜法では、樹脂と溶媒とを含むドープを、走行する支持体上に流延ダイから流延して支持体上で乾燥させ、流延膜（ウェブ）を支持体から剥離した後、ウェブを延伸、乾燥させてフィルムを製膜する。以下、溶液流延製膜法による光学フィルムの製造ついて、より詳細に説明する。
【０１０２】
（ドープ調製工程）
図示しない調製部にて、支持体２２上に流延するドープを調製する。
【０１０３】
（流延、乾燥、剥離工程）
次に、調製部にて調製されたドープを、流延ダイ２１から支持体２２上に流延する。そして、支持体２２で搬送しながら乾燥させて形成した流延膜としてのウェブ２５を、支持体２２から剥離する。より具体的には、以下の通りである。
【０１０４】
調製部にて調製されたドープを、加圧型定量ギヤポンプ等を通して、導管によって流延ダイ２１に送液し、無限に移送する回転駆動ステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる支持体２２上の流延位置に、流延ダイ２１からドープを流延し、これにより支持体２２上に流延膜としてのウェブ２５を形成する。
【０１０５】
支持体２２は、一対のドラム２３−Ａ・２３−Ｂおよびこれらの間に位置する複数のロール（不図示）によって保持されている。ドラム２３−Ａ・２３−Ｂの一方または両方には、支持体２２に張力を付与する駆動装置（不図示）が設けられており、これによって支持体２２は張力が掛けられて張った状態で使用される。
【０１０６】
支持体２２上に流延されたドープにより形成されたウェブ２５を、支持体２２上で加熱し、支持体２２から剥離ロール２４によってウェブ２５が剥離可能になるまで溶媒を蒸発させる。溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法や、支持体２２の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があり、適宜、単独であるいは組み合わせて用いればよい。支持体２２上でウェブ２５が剥離可能な膜強度となるまで乾燥固化あるいは冷却凝固させた後、ウェブ２５を、自己支持性を持たせたまま剥離ロール２４によって剥離する。
【０１０７】
なお、剥離時点での支持体２２上でのウェブ２５の残留溶媒量は、乾燥の条件の強弱、支持体２２の長さ等により、５０〜１２０質量％の範囲であることが望ましい。残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブ２５が柔らか過ぎると剥離時平面性を損ね、剥離張力によるシワや縦スジが発生しやすいため、経済速度と品質との兼ね合いで剥離時の残留溶媒量が決められる。なお、残留溶媒量は、下記式で定義される。
【０１０８】
残留溶媒量（質量％）＝（ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱処理後質量）／
（ウェブの加熱処理後質量）×１００
ここで、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、１１５℃で１時間の加熱処理を行うことを表す。
【０１０９】
（延伸工程）
この工程では、支持体２２から剥離されたウェブ２５を、テンター２６によって延伸する。このときの延伸方向としては、フィルム搬送方向（ＭＤ方向；Machine Direction）、フィルム面内で上記搬送方向に垂直な幅手方向（ＴＤ方向；Transverse Direction）、これらの両方向、のいずれかである。延伸工程では、ウェブ２５の両側縁部をクリップ等で固定して延伸するテンター方式が、フィルムの平面性や寸法安定性を向上させるために好ましい。なお、テンター２６内では、延伸に加えて乾燥を行ってもよい。延伸工程において、ウェブ２５をＭＤ方向およびＴＤ方向の両方向に延伸することにより、ウェブ２５をＭＤ方向およびＴＤ方向に対して斜めに交差する方向に延伸（斜め延伸）することもできる。
【０１１０】
（乾燥工程）
テンター２６にて延伸されたウェブ２５は、乾燥装置２７にて乾燥される。乾燥装置２７内では、側面から見て千鳥状に配置された複数の搬送ロールによってウェブ２５が搬送され、その間にウェブ２５が乾燥される。乾燥装置２７での乾燥方法は、特に制限はなく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等を用いてウェブ２５を乾燥させる。簡便さの点から、熱風でウェブ２５を乾燥させる方法が好ましい。
【０１１１】
ウェブ２５は、乾燥装置２７にて乾燥後、光学フィルムＦとして巻取装置４０に向かって搬送される。
【０１１２】
（切断、エンボス加工工程）
乾燥装置２７と巻取装置４０との間には、切断部２８およびエンボス加工部２９がこの順で配置されている。切断部２８では、製膜された光学フィルムＦを搬送しながら、その幅手方向の両端部を、スリッターによって切断する切断工程が行われる。光学フィルムＦにおいて、両端部の切断後に残った部分は、フィルム製品となる製品部を構成する。一方、光学フィルムＦから切断された部分は、シュータにて回収され、再び原材料の一部としてフィルムの製膜に再利用される。
【０１１３】
切断工程の後、光学フィルムＦの幅手方向の両端部には、エンボス加工部２９により、エンボス加工（ナーリング加工）が施される。エンボス加工は、加熱されたエンボスローラーを光学フィルムＦの両端部に押し当てることにより行われる。エンボスローラーの表面には細かな凹凸が形成されており、エンボスローラーを光学フィルムＦの両端部に押し当てることで、上記両端部に凹凸が形成される。このようなエンボス加工により、次の巻取工程での巻きズレやブロッキング（フィルム同士の貼り付き）を極力抑えることができる。
【０１１４】
（巻取工程）
最後に、エンボス加工が終了した光学フィルムＦを、巻取装置４０によって巻き取り、光学フィルムＦの元巻（フィルムロール）を得る。すなわち、巻取工程では、光学フィルムＦを搬送しながら巻芯に巻き取ることにより、フィルムロールが製造される。光学フィルムＦの巻き取り方法は、一般に使用されているワインダーを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等の張力をコントロールする方法があり、それらを使い分ければよい。光学フィルムＦの巻長は、１０００〜７２００ｍであることが好ましい。また、その際の幅は１０００〜３０００ｍｍ幅であることが望ましく、膜厚は１０〜６０μｍであることが望ましい。
【０１１５】
〔有機ＥＬ表示装置〕
次に、本実施形態の光学フィルムが適用される有機ＥＬ表示装置の構成について説明する。
【０１１６】
図４は、本実施形態の有機ＥＬ表示装置１００の一構成例を示す断面図である。有機ＥＬ表示装置１００は、ＯＬＥＤ（Organic light-Emitting Diode）とも呼ばれ、有機ＥＬ素子１０１を有している。有機ＥＬ素子１０１は、基板１０２上に、順に、金属電極１０３、発光層１０４、透明電極１０５、封止層１０６を有して構成されている。有機ＥＬ素子１０１自体の厚さは、１μｍ程度である。
【０１１７】
基板１０２は、例えばガラスや、ポリイミド等の樹脂からなる。金属電極１０３は、例えばアルミニウムなどの金属からなる反射電極で構成されている。金属電極１０３は、上記反射電極と透明電極（例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ））とで構成されていてもよい。発光層１０４は、青色、緑色、赤色の各光を発光する発光素子を各画素に対応して有している。発光層１０４は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えばトリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、このような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層との積層体や、これらの正孔注入層、発光層、電子注入層の積層体等、種々の組み合わせをもった構成が知られている。透明電極１０５は、ＩＴＯ等で構成されている。封止層１０６は、図１で示した光学フィルム１（フィルム基材２）で構成することができる。
【０１１８】
上記の構成において、金属電極１０３と透明電極１０５とに電圧を印加すると、発光層１０４に対して、金属電極１０３および透明電極１０５のうちで陰極となる電極から電子が注入され、陽極となる電極から正孔が注入され、両者が発光層１０４で再結合することにより、発光層１０４の発光特性に対応した可視光線の発光が生じる。発光層１０４で生じた光は、直接または金属電極１０３で反射した後、透明電極１０５および封止層１０６を介して外部に取り出されることになる。
【０１１９】
図５は、有機ＥＬ表示装置１００の他の構成例を示す断面図である。有機ＥＬ表示装置１００は、有機ＥＬ素子１０１上に、接着層２０１を介して円偏光板３０１を配置した構成であってもよい。円偏光板３０１は、有機ＥＬ素子１０１側から順に、塗布層３０２、λ／４フィルム３０３、接着層３０４、偏光子３０５、接着層３０６、保護フィルム３０７、硬化層３０８を積層してなり、偏光子３０５がλ／４フィルム３０３と保護フィルム３０７とによって挟持されている。偏光子３０５の透過軸とλ／４フィルム３０３の遅相軸とのなす角度が約４５°（または１３５°）となるように両者を貼り合わせることで、円偏光板３０１が構成されている。塗布層３０２およびλ／４フィルム３０３は、図２で示した光学フィルム１で構成することができる。すなわち、この場合、塗布層３０２は、光学フィルム１の塗布層３で構成され、λ／４フィルム３０３は、フィルム基材２で構成される。
【０１２０】
なお、λ／４フィルム３０３は、例えば上述した溶液流延製膜法における延伸工程で斜め延伸を行うことによって製造可能であるが、上記延伸工程で斜め延伸せずに、製膜されたフィルムを一度巻取装置４０にて巻き取り、巻き取ったフィルムを斜め延伸機に繰り出して斜め延伸を行うことにより、λ／４フィルム３０３を製造してもよい。
【０１２１】
保護フィルム３０７には、上記のように硬化層３０８が積層されていることが好ましい。硬化層３０８は、有機ＥＬ表示装置１００の表面のキズを防止するだけではなく、円偏光板３０１による反りを防止する効果を有する。更に、硬化層３０８上には、反射防止層が形成されてもよい。上記のように有機ＥＬ素子１０１の視認側に円偏光板３０１を設けることにより、有機ＥＬ素子１０１の非発光時における外光の反射を低減することができる。より詳しくは、以下の通りである。
【０１２２】
有機ＥＬ素子１０１において、発光層１０４は、厚さが例えば１０ｎｍ程度ときわめて薄い膜で形成されている。このため、発光層１０４も透明電極１０５と同様に、光をほぼ完全に透過する。したがって、円偏光板３０１を配置しない構成では、有機ＥＬ素子１０１の非発光時において、室内照明等による光（外光）が、封止層１０６側から入射し、透明電極１０５と発光層１０４とを透過して金属電極１０３で反射して、再び封止層１０６側に出射される。その結果、外部からは、有機ＥＬ表示装置１００の表示面が鏡面のように見える。
【０１２３】
これに対して、円偏光板３０１を配置した構成では、有機ＥＬ素子１０１の非発光時に、外光は、円偏光板３０１の偏光子３０５によって半分は吸収され、残りの半分は直線偏光として透過し、λ／４フィルム３０３に入射する。偏光子３０５の透過軸とλ／４フィルム３０３の遅相軸とが４５°（または１３５°）で交差するように配置されているため、λ／４フィルム３０３に入射した光は、λ／４フィルム３０３を透過することにより円偏光に変換される。
【０１２４】
λ／４フィルム３０３から出射された円偏光は、有機ＥＬ素子１０１の金属電極１０３で鏡面反射する際に、位相が１８０度反転し、逆回りの円偏光として反射される。この反射光は、λ／４フィルム３０３に入射することにより、偏光子３０５の透過軸に垂直（吸収軸に平行）な直線偏光に変換されるため、偏光子３０５で全て吸収され、外部に出射されないことになる。つまり、円偏光板３０１により、有機ＥＬ素子１０１での外光反射を低減することができる。
【０１２５】
図６は、有機ＥＬ表示装置１００のさらに他の構成例を示す断面図である。図６の有機ＥＬ表示装置１００は、円偏光板３０１の塗布層３０２を省略するとともに、塗布層３０２の機能を硬化層３０８に持たせた以外は、図５の構成と同様である。保護フィルム３０７および硬化層３０８は、図２で示した光学フィルム１で構成することができる。すなわち、この場合、保護フィルム３０７は、光学フィルム１のフィルム基材２で構成され、硬化層３０８は、光学フィルム１の塗布層３で構成される。なお、図６の構成において、保護フィルム３０７および硬化層３０８の代わりに、図１で示した１層構成の光学フィルム１（フィルム基材２）を設けるようにしてもよい。
【０１２６】
〔実施例〕
以下、本発明の実施例について具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるわけではない。なお、以下では、「部」あるいは「％」の表記を用いるが、特に断らない限り、これらは「質量部」あるいは「質量％」を表すものとする。
【０１２７】
＜光学フィルムの作製＞
（ドープＡ−１の調製）
メチレンクロライド                                                ３４０質量部
エタノール                                                          ６４質量部
セルローストリアセテート（ＴＡＣ；アセチル置換度２．９、数平均分子量Ｍｗ：２５万）                                                                １００質量部
可塑剤（アジピン酸：フタル酸＝７０：３０）と１，２−エタンジオールとをエステル化反応させて得られるエステル化合物（末端基アセチル基）                １０質量部
微粒子添加液                                                        １０質量部
以上を、十分な撹拌を行いながら密閉容器に投入し、撹拌しながら８０℃まで昇温し１時間保持した後３０℃まで冷却して、孔径５μｍのフィルターでろ過を行い、ドープＡ−１を得た。
【０１２８】
〈微粒子添加液〉
上記の微粒子添加液は、以下のようにして調製した。
微粒子（アエロジルＲ８１２：日本アエロジル社製、一次平均粒子径：７ｎｍ、見掛け比重５０ｇ／Ｌ）                                                        ４質量部
ジクロロメタン                                                      ４８質量部
エタノール                                                          ４８質量部
以上をディゾルバーで５０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。さらに、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過し、微粒子添加液を調製した。
【０１２９】
（ドープＡ−２の調製）
ドープＡ−１の処方に以下の添加剤（紫外線吸収剤）を加えた以外は、ドープＡ−１の調製と同様にしてドープＡ−２を得た。
Ｅｕｓｕｒｂ  ＵＶ−１９９０（ＥＵＴＥＣ社製）                    １．６質量部
【０１３０】
（ドープＡ−３の調製）
ドープＡ−１の処方に以下の添加剤（紫外線吸収剤）を加えた以外は、ドープＡ−１の調製と同様にしてドープＡ−３を得た。
チヌビン９２８（ＢＡＳＦジャパン社製）                            ２．５質量部
【０１３１】
（ドープＡ−４の調製）
ドープＡ−３の処方に以下の添加剤（紫外線吸収剤）を加えた以外は、ドープＡ−１の調製と同様にしてドープＡ−４を得た。
Ｅｕｓｕｒｂ  ＵＶ−１９９０（ＥＵＴＥＣ社製）                    １．６質量部
【０１３２】
（ドープＢ−１の調製）
メチレンクロライド                                                ３４０質量部
エタノール                                                          ６４質量部
セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ；アセチル置換度１．５０、プロピオニル置換度１．００、トータル置換度２．５０、数平均分子量Ｍｗ：２０万）
１００質量部
可塑剤（アジピン酸：フタル酸＝７０：３０）と１，２−エタンジオールとをエステル化反応させて得られるエステル化合物（末端基アセチル基）                １０質量部
微粒子添加液                                                        １０質量部
以上の材料を用い、ドープＡ−１の調製と同様にしてドープＢ−１を得た。
【０１３３】
（ドープＢ−２の調製）
ドープＢ−１の処方に以下の添加剤（紫外線吸収剤）を加えた以外は、ドープＢ−１の調製と同様にしてドープＢ−２を得た。
Ｅｕｓｕｒｂ  ＵＶ−１９９０（ＥＵＴＥＣ社製）                    １．６質量部
【０１３４】
（ドープＢ−３の調製）
ドープＢ−１の処方に以下の添加剤（紫外線吸収剤）を加えた以外は、ドープＢ−１の調製と同様にしてドープＢ−３を得た。
チヌビン９２８（ＢＡＳＦジャパン社製）                            ２．５質量部
【０１３５】
（ドープＢ−４の調製）
ドープＢ−３の処方に以下の添加剤（紫外線吸収剤）を加えた以外は、ドープＢ−１の調製と同様にしてドープＢ−４を得た。
Ｅｕｓｕｒｂ  ＵＶ−１９９０（ＥＵＴＥＣ社製）                    １．６質量部
【０１３６】
（ドープＣ−１の調製）
ジクロロメタン                                                    ３００質量部
メタノール                                                          ６０質量部
セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ；アセチル置換度１．７０、ブチリル置換度１．００、トータル置換度２．７０、数平均分子量Ｍｗ：２０万）        １００質量部
可塑剤（アジピン酸：フタル酸＝７０：３０）と１，２−エタンジオールとをエステル化反応させて得られるエステル化合物（末端基アセチル基）                １０質量部
微粒子添加液                                                          ２質量部
以上の材料を用い、ドープＡ−１の調製と同様にしてドープＣ−１を得た。
【０１３７】
（ドープＣ−２の調製）
ドープＣ−１の処方に以下の添加剤（紫外線吸収剤）を加えた以外は、ドープＣ−１の調製と同様にしてドープＣ−２を得た。
Ｅｕｓｕｒｂ  ＵＶ−１９９０（ＥＵＴＥＣ社製）                    １．６質量部
【０１３８】
（ドープＣ−３の調製）
ドープＣ−１の処方に以下の添加剤（紫外線吸収剤）を加えた以外は、ドープＣ−１の調製と同様にしてドープＣ−３を得た。
チヌビン９２８（ＢＡＳＦジャパン社製）                            ２．５質量部
【０１３９】
（ドープＣ−４の調製）
ドープＣ−３の処方に以下の添加剤（紫外線吸収剤）を加えた以外は、ドープＣ−１の調製と同様にしてドープＣ−４を得た。
Ｅｕｓｕｒｂ  ＵＶ−１９９０（ＥＵＴＥＣ社製）                    １．６質量部
【０１４０】
（ドープＤ−１の調製）
〈環状ポリオレフィン重合体（ＣＯＰ）の合成〉
精製トルエン１００質量部とノルボルネンカルボン酸メチルエステル１００質量部を反応釜に投入した。次いで、トルエン中に溶解したエチルヘキサノエート−Ｎｉ２５ｍｍｏｌ％（対モノマー質量）、トリ（ペンタフルオロフェニル）ボロン０．２２５ｍｏｌ％（対モノマー質量）及びトルエンに溶解したトリエチルアルミニウム０．２５ｍｏｌ％（対モノマー質量）を反応釜に投入した。室温で撹拌しながら１８時間反応させた。反応終了後過剰のエタノール中に反応混合物を投入し、重合物沈殿を生成させた。沈殿を精製し得られた重合体（Ｐ−１）を真空乾燥で６５℃２４時間乾燥した。
【０１４１】
〈主ドープの組成〉
シクロオレフィン樹脂（Ｐ−１、数平均分子量Ｍｗ：１４万）          １００質量部
ジクロロメタン                                                    ３０２質量部
エタノール                                                          １８質量部
微粒子添加液                                                        １０質量部
以上の材料を用い、ドープＡ−１の調製と同様にしてドープＤ−１を得た。
【０１４２】
（ドープＤ−２の調製）
ドープＤ−１の処方に以下の添加剤（紫外線吸収剤）を加えた以外は、ドープＤ−１の調製と同様にしてドープＤ−２を得た。
Ｅｕｓｕｒｂ  ＵＶ−１９９０（ＥＵＴＥＣ社製）                    １．６質量部
【０１４３】
（ドープＤ−３の調製）
ドープＤ−１の処方に以下の添加剤（紫外線吸収剤）を加えた以外は、ドープＤ−１の調製と同様にしてドープＤ−３を得た。
チヌビン９２８（ＢＡＳＦジャパン社製）                                ２質量部
【０１４４】
（ドープＤ−４の調製）
ドープＤ−３の処方に以下の添加剤（紫外線吸収剤）を加えた以外は、ドープＤ−１の調製と同様にしてドープＤ−４を得た。
Ｅｕｓｕｒｂ  ＵＶ−１９９０（ＥＵＴＥＣ社製）                    １．６質量部
【０１４５】
（光学フィルム１〜１６の作製）
ドープＡ−１〜Ｄ−４を用い、溶液流延製膜法によって単層のフィルム基材のみからなる光学フィルム１〜１６を製膜した。より詳しくは、ドープＡ−１〜Ｄ−４を用いたそれぞれの製膜において、無端の３０ｍ／ｍｉｎの速度で駆動する金属支持体上に、流延ダイからドープを流延し、支持体上で４０℃の乾燥風を当てることにより乾燥させて自己支持性を持たせた後、１０℃まで冷却し、支持体から剥離した。その後、剥離した流延膜（ウェブ）をＴＤ方向に１２０℃で１０％延伸したのちに１１０℃で３０分間乾燥した後巻き取り、幅１ｍ、長さ１０００ｍの光学フィルムを得た。なお、支持体上での乾燥温度は４０℃であり、延伸時の温度は１２０℃であり、延伸後の乾燥温度は１１０℃であることから、製造工程における温度の最大値は、１２０℃である。光学フィルムの出来上がり膜厚は、４０μｍであった。
【０１４６】
上記で作製した光学フィルム１〜１６を、後述の作製方法で作製した有機ＥＬ素子の視認側の表面に貼り付け、耐久性（具体的には耐光性試験前後での正面輝度変化）について評価した。なお、耐久性の評価方法についても後述する。表１は、各光学フィルム１〜１６についての評価の結果を示している。
【０１４７】
【表１】
2017167312.tif 000004
【０１４８】
（光学フィルム１７〜３２の作製）
次に、以下のようにして、光学フィルム１７〜３２を作製した。
【０１４９】
ドープＡ−４を用いた製膜において、基材成膜時の延伸温度を１２０℃から１２５℃および１３０℃に変更した以外は、上記と同様にして、単層のフィルム基材のみからなる光学フィルム１７〜１８を製膜した。また、ドープＡ−４を用いた製膜において、基材成膜時の延伸後の乾燥温度を１１０℃から１２５℃および１３０℃に変更した以外は、上記と同様にして、単層のフィルム基材のみからなる光学フィルム１９〜２０を製膜した。
【０１５０】
ドープＢ−４を用いた製膜において、基材成膜時の延伸温度を１２０℃から１２５℃および１３０℃に変更した以外は、上記と同様にして、単層のフィルム基材のみからなる光学フィルム２１〜２２を製膜した。また、ドープＢ−４を用いた製膜において、基材成膜時の延伸後の乾燥温度を１１０℃から１２５℃および１３０℃に変更した以外は、上記と同様にして、単層のフィルム基材のみからなる光学フィルム２３〜２４を製膜した。
【０１５１】
ドープＣ−４を用いた製膜において、基材成膜時の延伸温度を１２０℃から１２５℃および１３０℃に変更した以外は、上記と同様にして、単層のフィルム基材のみからなる光学フィルム２５〜２６を製膜した。また、ドープＣ−４を用いた製膜において、基材成膜時の延伸後の乾燥温度を１１０℃から１２５℃および１３０℃に変更した以外は、上記と同様にして、単層のフィルム基材のみからなる光学フィルム２７〜２８を製膜した。
【０１５２】
ドープＤ−４を用いた製膜において、基材成膜時の延伸温度を１２０℃から１２５℃および１３０℃に変更した以外は、上記と同様にして、単層のフィルム基材のみからなる光学フィルム２９〜３０を製膜した。また、ドープＤ−４を用いた製膜において、基材成膜時の延伸後の乾燥温度を１１０℃から１２５℃および１３０℃に変更した以外は、上記と同様にして、単層のフィルム基材のみからなる光学フィルム３１〜３２を製膜した。
【０１５３】
上記で作製した光学フィルム１７〜３２を、後述の作製方法で作製した有機ＥＬ素子の視認側の表面に貼り付け、耐久性について評価した。表２は、各光学フィルム１７〜３２についての評価の結果を示している。
【０１５４】
【表２】
2017167312.tif 000005
【０１５５】
（光学フィルム３３〜４８の作製）
次に、紫外線吸収剤（Ｅｕｓｕｒｂ  ＵＶ−１９９０）を含まないフィルム基材上に、紫外線吸収剤（Ｅｕｓｕｒｂ  ＵＶ−１９９５）を含む塗布層を形成して、光学フィルム３３〜４８を作製した。より詳しくは、以下の通りである。
【０１５６】
なお、ここでは、塗布層を２層の硬化層（フィルム基材側から第１硬化層、第２硬化層とする）で形成し、第２硬化層形成用組成物に、紫外線吸収剤（Ｅｕｓｕｒｂ  ＵＶ−１９９５）を添加した例について説明するが、波長４００ｎｍの光透過率が１％以下であり、波長４３０ｎｍの光透過率が７５％以下であり、波長４４０ｎｍの光透過率が７５％以上とするための必要量が、基材、塗布層などの合計で満たされていればよく、塗布層における第２硬化層だけでなく、異なる層（第１硬化層や他の機能層）に異なる紫外線吸収剤を添加しても構わない。たとえば、第２硬化層に必要量の半分を、第１硬化層に残りの半分を入れてもよいし、基材に添加しても構わない。
【０１５７】
〈ポリマーシランカップリング剤被覆微粒子の調製〉
容器に、メタクリル酸メチル（共栄社化学（株）製：ライトエステルＭ）３０ｍｌ、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン（信越化学（株）製:ＫＢＭ−８０３）１ｍｌと、溶媒としてテトラヒドロフラン１００ｍｌ、重合開始剤としてアゾイソブチロニトリル（関東化学（株）製：ＡＩＢＮ）５０ｍｇを添加し、Ｎ２ガスで置換した後、８０℃で３時間加熱してポリマーシランカップリング剤を調製した。得られたポリマーシランカップリング剤の分子量は１６，０００であった。なお、分子量の測定は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー装置で測定した。
【０１５８】
次に、シリカゾル（日揮触媒化成工業（株）製：Ｓｉ−４５Ｐ、ＳｉＯ２濃度３０重量％、平均粒子径４５ｎｍ、分散媒：水）をイオン交換樹脂にてイオン交換し、限外濾過膜法で水をエタノールに溶媒置換してシリカ微粒子のエタノール分散液１００ｇ（ＳｉＯ２濃度３０重量％）を調製した。
【０１５９】
このシリカ微粒子エタノール分散液１００ｇとポリマーシランカップリング剤１．５ｇとをアセトン２０ｇ（２５ｍｌ）に分散し、これに濃度２９．８重量％のアンモニア水２０ｍｇを添加し、室温で３０時間攪拌してポリマーシランカップリング剤をシリカ微粒子に吸着させた。
【０１６０】
その後、平均粒子径５μｍのシリカ粒子を添加し、２時間攪拌して溶液中の未吸着のポリマーシランカップリング剤をシリカ粒子に吸着させ、ついで、遠心分離により未吸着であったポリマーシランカップリング剤を吸着した平均粒子径５μｍのシリカ粒子を除去した。ポリマーシランカップリング剤を吸着したシリカ微粒子分散液にエタノール１０００ｇ加え、シリカ微粒子を沈降させ、これを分離、減圧乾燥し、ついで、２５℃で８時間乾燥してポリマーシランカップリング剤被覆シリカ（１）を得た。得られたポリマーシランカップリング剤被覆シリカ（１）の平均粒子径は５７ｎｍであった。平均粒子径はレーザー粒子径測定装置により測定した。
【０１６１】
〈第１硬化層形成用組成物の調製〉
上記で作製したポリマーシランカップリング剤被覆シリカ（１）と、下記の化合物とを攪拌混合して、第１硬化層形成用組成物を調整した。
（微粒子）
ポリマーシランカップリング剤被覆シリカ（１）                        １０質量部
（活性線硬化樹脂）
ウレタンアクリレート（Ｕ−４Ｈ、新中村化学工業（株）製）            ３５質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製）                        ５質量部
（添加剤）
ＫＦ−６４２（ポリエーテル変性シリコーンオイル、信越化学工業株式会社製）
２質量部
（溶剤）
プロピレングリコールモノメチルエーテル                              ８０質量部
酢酸メチル                                                          ２０質量部
【０１６２】
〈第２硬化層形成用組成物Ｐの調製〉
上記で作製したポリマーシランカップリング剤被覆シリカ（１）と、下記の化合物とを攪拌混合して、第２硬化層形成用組成物Ｐを調整した。
（微粒子）
ポリマーシランカップリング剤被覆シリカ（１）                        ５０質量部
（活性線硬化樹脂）
ＮＫエステルＡ−ＤＣＰ（トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、新中村化学工業社製）                                                            ３５質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製）                        ５質量部
（添加剤）
ＫＦ−６４２（ポリエーテル変性シリコーンオイル、信越化学工業株式会社製）
２質量部
（溶剤）
プロピレングリコールモノメチルエーテル                              ８０質量部
酢酸メチル                                                          ２０質量部
【０１６３】
〈第２硬化層形成用組成物Ｑの調製〉
上記した第２硬化層形成用組成物Ｐに下記の化合物を攪拌混合して、第２硬化層形成用組成物Ｑを調整した。
（紫外線吸収剤）
Ｅｕｓｕｒｂ  ＵＶ−１９９５（ＥＵＴＥＣ社製）                      １０質量部
【０１６４】
〈光学フィルム３３〜３４の作製〉
ドープＡ−１（チヌビン９２８およびＵＶ−１９９０を含んでいない）を用いて作製された光学フィルム１のＡ面（流延ベルトに接していない面）上に、上記第１硬化層形成用組成物を、押し出しコーターを用いて塗布し、恒率乾燥区間温度５０℃、減率乾燥区間温度５０℃で乾燥の後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ２で、照射量を０．２５Ｊ／ｃｍ２として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚０．５μｍの第１硬化層を形成した。
【０１６５】
なお、一般に、乾燥プロセスは、乾燥が始まると、乾燥速度が一定の状態から徐々に減少する状態へと変化していくことが知られており、乾燥速度が一定の区間を恒率乾燥区間、乾燥速度が減少していく区間を減率乾燥区間と呼ぶ。恒率乾燥区間においては流入する熱量はすべて塗膜表面の溶媒蒸発に費やされており、塗膜表面の溶媒が少なくなると蒸発面が表面から内部に移動して減率乾燥区間に入る。これ以降は塗膜表面の温度が上昇し熱風温度に近づいていくため、硬化層形成用組成物の温度が上昇し、樹脂粘度が低下して流動性が増すと考えられる。
【０１６６】
続いて、第１硬化層上に、上記で作製した第２硬化層形成用組成物ＰまたはＱを、マイクログラビアコーターを用いて塗布し、恒率乾燥区間温度１００℃、減率乾燥区間温度５０℃で乾燥の後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ２で、照射量を０．３Ｊ／ｃｍ２として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚２μｍの第２硬化層を形成した。このとき、紫外線照射部のフィルム温度が、１２０℃となるよう窒素のパージ量を調整した。このようにして、フィルム基材（光学フィルム１）上に塗布層を有する、光学フィルム３３（第２硬化層にＵＶ−１９９５なし）および光学フィルム３４（第２硬化層にＵＶ−１９９５あり）を作製した。
【０１６７】
次に、塗布層の下地層として、光学フィルム１の代わりに、ドープＡ−３（チヌビン９２８を含み、ＵＶ−１９９０を含んでいない）を用いて作製された光学フィルム３を用いた以外は、上記と同様にして、光学フィルム３５（第２硬化層にＵＶ−１９９５なし）および光学フィルム３６（第２硬化層にＵＶ−１９９５あり）を作製した。
【０１６８】
上記と同様にして、ドープＢ−１（チヌビン９２８およびＵＶ−１９９０を含んでいない）を用いて作製された光学フィルム５上に、第１硬化層および第２硬化層を形成して、光学フィルム３７（第２硬化層にＵＶ−１９９５なし）および光学フィルム３８（第２硬化層にＵＶ−１９９５あり）を作製した。また、ドープＢ−３（チヌビン９２８を含み、ＵＶ−１９９０を含んでいない）を用いて作製された光学フィルム７上に、第１硬化層および第２硬化層を形成して、光学フィルム３９（第２硬化層にＵＶ−１９９５なし）および光学フィルム４０（第２硬化層にＵＶ−１９９５あり）を作製した。
【０１６９】
さらに、上記と同様にして、ドープＣ−１（チヌビン９２８およびＵＶ−１９９０を含んでいない）を用いて作製された光学フィルム９上に、第１硬化層および第２硬化層を形成して、光学フィルム４１（第２硬化層にＵＶ−１９９５なし）および光学フィルム４２（第２硬化層にＵＶ−１９９５あり）を作製した。また、ドープＣ−３（チヌビン９２８を含み、ＵＶ−１９９０を含んでいない）を用いて作製された光学フィルム１１上に、第１硬化層および第２硬化層を形成して、光学フィルム４３（第２硬化層にＵＶ−１９９５なし）および光学フィルム４４（第２硬化層にＵＶ−１９９５あり）を作製した。
【０１７０】
さらに、上記と同様にして、ドープＤ−１（チヌビン９２８およびＵＶ−１９９０を含んでいない）を用いて作製された光学フィルム１３上に、第１硬化層および第２硬化層を形成して、光学フィルム４５（第２硬化層にＵＶ−１９９５なし）および光学フィルム４６（第２硬化層にＵＶ−１９９５あり）を作製した。また、ドープＤ−３（チヌビン９２８を含み、ＵＶ−１９９０を含んでいない）を用いて作製された光学フィルム１５上に、第１硬化層および第２硬化層を形成して、光学フィルム４７（第２硬化層にＵＶ−１９９５なし）および光学フィルム４８（第２硬化層にＵＶ−１９９５あり）を作製した。
【０１７１】
上記で作製した光学フィルム３３〜４８を、後述の作製方法で作製した有機ＥＬ素子の視認側の表面に貼り付け、耐久性について評価した。表３は、各光学フィルム３３〜４８についての評価の結果を示している。
【０１７２】
【表３】
2017167312.tif 000006
【０１７３】
（光学フィルム４９〜５４の作製）
ドープＡ−３（チヌビン９２８を含み、ＵＶ−１９９０を含んでいない）を用いて作製された光学フィルム３上に、第１硬化層および第２硬化層（ＵＶ−１９９５あり）を作製する際に、紫外線照射時の窒素パージ量を変更し、照射時のフィルム温度を１２０℃から１１０℃、１２５℃、１３０℃に変更した以外は、上記と同様にして、光学フィルム４９〜５１を製膜した。また、塗布後の減率乾燥区間温度を５０℃から１２５℃、１３０℃、１２０℃に変更した以外は、上記と同様にして、光学フィルム５２〜５４を製膜した。
【０１７４】
上記で作製した光学フィルム４９〜５４を、後述の作製方法で作製した有機ＥＬ素子の視認側の表面に貼り付け、耐久性について評価した。表４および表５は、各光学フィルム４９〜５４についての評価の結果および特性を示している。
【０１７５】
【表４】
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【０１７６】
【表５】
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【０１７７】
＜有機ＥＬ素子の作製＞
ガラス基板の一方の面上に、ＩＴＯセラミックターゲット（Ｉｎ２Ｏ３：ＳｎＯ２＝９０質量％：１０質量％）を用い、ＤＣスバッタリング法により、厚さ１２０ｎｍのＩＴＯ透明膜からなる陽極を形成した。その後、超音波洗浄を行った後、紫外線オゾン方式で洗浄した。
【０１７８】
次に、ＩＴＯ透明膜を有するガラス基板を抵抗加熱式真空蒸着装置内に固定し、真空蒸着装置内のモリブデン製ボートにＮ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス−（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン（以下、ＴＰＤと略記する。）を装着し、別のモリブデン製ボートに、トリス（８−キノリノール）アルミニウム（以下、Ａｌｑと略記する）を装着した。真空チャンバー内を１×１０−４Ｐａの減圧状態として、モリブデン製ボートに通電してＴＰＤを２２０℃に加熱し、ＩＴＯ透明膜上に、厚さ６０ｎｍのＴＰＤ膜からなる正孔輸送層を形成した後、Ａｌｑを装着したモリブデン製ボートに通電してＡｌｑを２７５℃に加熱し、正孔輸送層上に厚さ６０ｎｍのＡｌｑ膜（発光層）を形成した。
【０１７９】
次いで、発光層上にモリブデン製ボートに装着したマグネシウムと、別のモリブデン製ボートに装着した銀をそれぞれ加熱し、真空チャンバー内を２×１０−４Ｐａの減圧状態として２元同時蒸着方式により、Ｍｇ・Ａｇ合金（Ｍｇ／Ａｇ＝９／１）からなる厚さ１００ｎｍの陰極を形成して、緑色（主波長５１３ｎｍ）に発光する有機ＥＬ素子を作製した。
【０１８０】
作製した有機ＥＬ素子に６Ｖの直流電圧を印加した際の正面輝度は、１２００ｃｄ／ｍ２であった。正面輝度の測定は、コニカミノルタオプティクス社製分光放射輝度計ＣＳ−１０００を用いて、２°視野角正面輝度を、発光面からの法線に分光放射輝度計の光軸が一致するようにして、可視光波長４３０〜５００ｎｍの範囲を測定し、積分強度をとった。上記で測定した正面輝度の値を、耐光性試験前の値とした。
【０１８１】
次に、アクリル系粘着剤を、作製した光学フィルムの一方の面（フィルム基材上または塗布層上）に塗工した後、作製した有機ＥＬ素子の視認側に貼合することにより、有機ＥＬ表示装置を作製した。
【０１８２】
＜透過率の測定＞
上記で作製された光学フィルム１〜５４の透過率について、分光光度計「Ｕ−３９００Ｈ」（日立ハイテクノロジーズ社製）によって波長２００〜８００ｎｍの吸光度を測定することによって求めた。
【０１８３】
＜耐光性評価＞
（耐光性試験）
上記で作製した有機ＥＬ表示装置を、視認側に光が当たるようにして、（株）スガ試験機社製スーパーキセノンウェザーメーターＳＸ７５に設置し、６０℃、相対湿度５０％の環境下において５００時間照射した。なお、スーパーキセノンの照射光は、屋外における日光に近似したスペクトルを太陽光の３倍で照射可能であり、屋外での使用を模擬した促進耐光性試験を実施することができる。
【０１８４】
照射後の有機ＥＬ表示装置の正面輝度を、上記と同様にして測定し、スーパーキセノン照射前後での正面輝度の変化量を求め、以下の基準により評価した。
《評価基準》
○：正面輝度の低下量が、耐光性試験前の値の１０％未満である。
△：正面輝度の低下量が、耐光性試験前の値の１０％以上２０％未満である。
×：正面輝度の低下量が、耐光性試験前の値の２０％以上である。
【０１８５】
＜生産性評価＞
塗布層を含む光学フィルム４９〜５４については、塗布層を形成する第２硬化層形成用組成物ＰまたはＱを塗布した後の乾燥に要する時間から、以下の基準に基づいて、フィルム生産性について評価した。なお、光学フィルム４９〜５４では、恒率乾燥区間の乾燥時間が全て同じであるため、ここでは、減率乾燥区間の乾燥時間に基づいて評価を行った。
《評価基準》
○：減率乾燥区間の乾燥時間が、１５分以下である。
△：減率乾燥区間の乾燥時間が、１５分よりも長く６０分以下である。
×：減率乾燥区間の乾燥時間が、６０分よりも長い。
【０１８６】
表１〜表５より、吸収ピークの波長が異なる複数の紫外線吸収剤を少なくとも１層（例えばフィルム基材の１層のみ（表１および表２参照）、またはフィルム基材と塗布層との２層（表３〜表５参照））に含有させることにより、フィルム全体として、波長４００ｎｍの光透過率が１％以下であり、波長４３０ｎｍの光透過率が７５％以下であり、波長４４０ｎｍの光透過率が７５％以上である光学フィルムが製造されていることがわかる。また、吸収ピークの波長が最も長い紫外線吸収剤（ＵＶ−１９９０またはＵＶ−１９９５）を含有させる層（フィルム基材にＵＶ−１９９０を含有させる場合は、フィルム基材を指し、塗布層にＵＶ−１９９５を含有させる場合は、塗布層を指す）を、１２５℃以下の温度で製造することにより、有機ＥＬ表示装置における正面輝度の低下量が、耐光性試験前の値の１０％未満と良好であり、発光部（特に青色の発光素子）の紫外線による劣化が十分に低減されていることがわかる。特に、吸収ピークの波長が最も長い紫外線吸収剤を、１２０℃以下の温度で製造した場合は、有機ＥＬ表示装置の発光部の耐久性について最も良好な結果が得られていることから、このような温度条件で光学フィルムを製造することが、発光部の紫外線による劣化を確実に低減する点で望ましいと言える。
【０１８７】
また、表４より、５０℃で乾燥させる温度区間が存在すると、乾燥温度が低すぎるために溶媒の乾燥時間が長くなり、結果としてフィルムの生産性が低下することが懸念される（光学フィルム４９〜５１参照）。このため、フィルムの生産性を向上させるためには、吸収ピークの波長が最も長い紫外線吸収剤を含有させる層（例えば塗布層）を、１００℃以上（望ましくは１１０℃以上）の温度で製造することが望ましいと言える（光学フィルム５２〜５４参照）。
【０１８８】
なお、フィルム基材の１層のみからなる光学フィルム（例えば光学フィルム４）の製造において、延伸時の温度または延伸後の乾燥温度を１００℃未満にした以外は上記と同様の条件で光学フィルムを製造したところ、紫外線による劣化を低減する効果は１１０℃と同じにもかかわらず、低温の為、延伸で所望の品質が得られなかったり、乾燥温度が低いために乾燥時間が長くなり、いずれにしても、フィルム生産性に影響を及ぼすことがわかった。したがって、１層構成の光学フィルムを製造する場合でも、フィルムの生産性を向上させるためには、吸収ピークの波長が最も長い紫外線吸収剤を含有させる層（フィルム基材）を、１００℃以上の温度で製造することが望ましいと言える。
【産業上の利用可能性】
【０１８９】
本発明は、例えば有機ＥＬ表示装置に適用される光学フィルムの製造に利用可能である。
【符号の説明】
【０１９０】
１      光学フィルム
２      フィルム基材
３      塗布層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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