(57)【要約】【課題】長時間の使用によっても、電磁波シールド用フィルムにマイグレーションが生じるのを的確に抑制または防止して、基板上に搭載された電子部品同士の絶縁性を確保することができる電磁波シールド用フィルム、および、かかる電磁波シールド用フィルムを用いて、基板上に搭載された電子部品が電磁波遮断層で被覆された電子部品搭載基板を提供すること。【解決手段】本発明の電磁波シールド用フィルム１０は、導電性材料および磁性材料のうちの少なくとも１種を含有する電磁波遮断層３を備え、この電磁波遮断層３における、イオン性不純物の含有量は、２００ｐｐｍ以下になっている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性材料および磁性材料のうちの少なくとも１種を含有する電磁波遮断層を備え、
前記電磁波遮断層における、イオン性不純物の含有量は、２００ｐｐｍ以下であることを特徴とする電磁波シールド用フィルム。
【請求項２】
前記電磁波遮断層における、陰イオン性不純物の含有量は、１０ｐｐｍ以上、１５０ｐｐｍ以下である請求項１に記載の電磁波シールド用フィルム。
【請求項３】
前記導電性材料は、金属および金属酸化物のうちの少なくとも１種を含む金属系粒子、ならびに、導電性高分子のうちの少なくとも１種を含有する請求項１または２に記載の電磁波シールド用フィルム。
【請求項４】
前記導電性高分子は、ポリアニリン、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、ポリピロールおよびポリチオフェンのうちの少なくとも１種である請求項３に記載の電磁波シールド用フィルム。
【請求項５】
前記金属系粒子は、金、銀、銅、鉄、ニッケルおよびアルミニウム、または、これらを含む合金のうちの少なくとも１種である請求項３または４に記載の電磁波シールド用フィルム。
【請求項６】
前記磁性材料は、磁性材粒子を含有する請求項１ないし５のいずれか１項に記載の電磁波シールド用フィルム。
【請求項７】
前記電磁波遮断層は、その平均層厚みが１μｍ以上、１５０μｍ以下である請求項１ないし６のいずれか１項に記載の電磁波シールド用フィルム。
【請求項８】
当該電磁波シールド用フィルムは、さらに、前記電磁波遮断層の一方の面側に積層された保護シートを含む請求項１ないし７のいずれか１項に記載の電磁波シールド用フィルム。
【請求項９】
絶縁層が、前記電磁波遮断層の他方の面側に接触して設けられ、保護シート側から電磁波遮断層、絶縁層の順で積層されている請求項８に記載の電磁波シールド用フィルム。
【請求項１０】
当該電磁波シールド用フィルムは、波長３００ｎｍ以上、８００ｎｍ以下における光線透過率が０．０１％以上、３０％以下である請求項１ないし９のいずれか１項に記載の電磁波シールド用フィルム。
【請求項１１】
基板と、該基板上に搭載された電子部品と、前記基板の前記電子部品が搭載されている面側から前記基板および電子部品を被覆する電磁波遮断層とを有する電子部品搭載基板であって、
前記電磁波遮断層は、導電性材料を含有し、前記電磁波遮断層におけるイオン性不純物の含有量は、２００ｐｐｍ以下であることを特徴する電子部品搭載基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波シールド用フィルム、および電子部品搭載基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、携帯電話、医療機器のように電磁波の影響を受けやすい電子部品や、半導体素子等の発熱性電子部品、さらにはコンデンサ、コイル等の各種電子部品、またはこれらの電子部品を回路基板に実装された電子機器は、電磁波によるノイズの影響を軽減するため、その表面に電磁波シールド用フィルムが貼付されてきた。
【０００３】
このような電磁波シールド用フィルムとしては、例えば、絶縁性材料からなる保護層（基材層）と、保護層の一方または双方の面に積層した金属層とを有するものが開発されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載のような構成の電磁波シールド用フィルムでは、電子機器の長時間の使用により、電磁波シールド用フィルムにマイグレーションが生じ、これに起因して、回路基板（基板）上に搭載された電子部品同士の絶縁性を十分に確保することができないという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−１５６９４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、長時間の使用によっても、電磁波シールド用フィルムにマイグレーションが生じるのを的確に抑制または防止して、基板上に搭載された電子部品同士の絶縁性を確保することができる電磁波シールド用フィルム、および、かかる電磁波シールド用フィルムを用いて、基板上に搭載された電子部品が電磁波遮断層で被覆された電子部品搭載基板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的は、下記（１）〜（１１）に記載の本発明により達成される。
（１）  導電性材料および磁性材料のうちの少なくとも１種を含有する電磁波遮断層を備え、
前記電磁波遮断層における、イオン性不純物の含有量は、２００ｐｐｍ以下であることを特徴とする電磁波シールド用フィルム。
【０００８】
（２）  前記電磁波遮断層における、陰イオン性不純物の含有量は、１０ｐｐｍ以上、１５０ｐｐｍ以下である上記（１）に記載の電磁波シールド用フィルム。
【０００９】
（３）  前記導電性材料は、金属および金属酸化物のうちの少なくとも１種を含む金属系粒子、ならびに、導電性高分子のうちの少なくとも１種を含有する上記（１）または（２）に記載の電磁波シールド用フィルム。
【００１０】
（４）  前記導電性高分子は、ポリアニリン、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、ポリピロールおよびポリチオフェンのうちの少なくとも１種である上記（３）に記載の電磁波シールド用フィルム。
【００１１】
（５）  前記金属系粒子は、金、銀、銅、鉄、ニッケルおよびアルミニウム、または、これらを含む合金のうちの少なくとも１種である上記（３）または（４）に記載の電磁波シールド用フィルム。
【００１２】
（６）  前記磁性材料は、磁性材粒子を含有する上記（１）ないし（５）のいずれか１項に記載の電磁波シールド用フィルム。
【００１３】
（７）  前記電磁波遮断層は、その平均層厚みが１μｍ以上、１５０μｍ以下である上記（１）ないし（６）のいずれか１項に記載の電磁波シールド用フィルム。
【００１４】
（８）  当該電磁波シールド用フィルムは、さらに、前記電磁波遮断層の一方の面側に積層された保護シートを含む上記（１）ないし（７）のいずれか１項に記載の電磁波シールド用フィルム。
【００１５】
（９）  絶縁層が、前記電磁波遮断層の他方の面側に接触して設けられ、保護シート側から電磁波遮断層、絶縁層の順で積層されている上記（８）に記載の電磁波シールド用フィルム。
【００１６】
（１０）  当該電磁波シールド用フィルムは、波長３００ｎｍ以上、８００ｎｍ以下における光線透過率が０．０１％以上、３０％以下である上記（１）ないし（９）のいずれか１項に記載の電磁波シールド用フィルム。
【００１７】
（１１）  基板と、該基板上に搭載された電子部品と、前記基板の前記電子部品が搭載されている面側から前記基板および電子部品を被覆する電磁波遮断層とを有する電子部品搭載基板であって、
前記電磁波遮断層は、導電性材料を含有し、前記電磁波遮断層におけるイオン性不純物の含有量は、２００ｐｐｍ以下であることを特徴する電子部品搭載基板。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、電磁波シールド用フィルムが、導電性材料および磁性材料のうちの少なくとも１種を含有する電磁波遮断層を備え、この電磁波遮断層における、イオン性不純物の含有量が２００ｐｐｍ以下となっていることにより、長時間の使用によっても、電磁波シールド用フィルムにマイグレーションが生じるのを的確に抑制または防止して、基板上に搭載された電子部品同士の絶縁性を確保することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の電磁波シールド用フィルムの実施形態を示す縦断面図である。
【図２】図１に示す電磁波シールド用フィルムを用いた電子部品の被覆方法の第１の被覆方法を説明するための縦断面図である。
【図３】図１に示す電磁波シールド用フィルムを用いた電子部品の被覆方法の第２の被覆方法を説明するための縦断面図である。
【図４】図１に示す電磁波シールド用フィルムを用いた電子部品の被覆方法の第３の被覆方法を説明するための縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の電磁波シールド用フィルム、および電子部品搭載基板を、添付図面に示す好適実施形態に基づいて、詳細に説明する。
【００２１】
本発明の電磁波シールド用フィルム１０は、導電性材料および磁性材料のうちの少なくとも１種を含有する電磁波遮断層３を備え、この電磁波遮断層３における、イオン性不純物の含有量は、２００ｐｐｍ以下であることを特徴とする。
【００２２】
このような電磁波シールド用フィルム１０によれば、長時間の使用によっても、電磁波シールド用フィルム１０にマイグレーションが生じるのを的確に抑制または防止して、基板５上に搭載された電子部品４同士の絶縁性を確保することができる。
【００２３】
以下、この電磁波シールド用フィルムについて説明する。
＜電磁波シールド用フィルム＞
図１は、本発明の電磁波シールド用フィルムの実施形態を示す縦断面図である。なお、以下の説明では、説明の便宜上、図１中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
【００２４】
電磁波シールド用フィルムは、基板５上の凹凸６を被覆するために用いられる電磁波シールド用フィルムである。
【００２５】
図１に示すように、本実施形態において、電磁波シールド用フィルム１０は、保護層（保護シート）１と、電磁波遮断層３と、絶縁層２とを含んで構成され、電磁波遮断層３および絶縁層２は、保護層１の下面（一方の面）側から、電磁波遮断層３が保護層１に接触して、この順で積層されている。
【００２６】
なお、以下では、基板５上に複数（本実施形態では、２つ）の電子部品４が搭載（載置）され、この電子部品４の搭載により基板５上に凸部６５と凹部６６とからなる凹凸６が形成されており、この凹凸６を電磁波シールド用フィルム１０で被覆する場合について説明する。すなわち、基板５上に搭載された電子部品４を電磁波シールド用フィルム１０で被覆する場合について説明する。なお、基板５上に搭載する電子部品４としては、例えば、フレキシブル回路基板（ＦＰＣ）上に搭載されているＬＣＤドライバーＩＣ、タッチパネル周辺のＩＣ＋コンデンサまたは電子回路基板（マザーボード）が挙げられる。
【００２７】
以下、電磁波シールド用フィルム１０が備える各層１、２、３について説明する。
＜保護層１＞
まず、保護層１について説明する。
【００２８】
保護層（保護シート）１は、電磁波遮断層３の酸化による劣化を防止する機能を有する。さらに、保護層１は、可撓性を備え、後述する電子部品の被覆方法の貼付工程において、電磁波シールド用フィルム１０を用いて、基板５上の凹凸６に絶縁層２および電磁波遮断層３を押し込むことで、この凹凸６を被覆する際に、押し込まれた絶縁層２および電磁波遮断層３が破断するのを防止する保護（緩衝）材として機能するものである。
【００２９】
この保護層１の構成材料としては、特に限定されず、例えば、シンジオタクチックポリスチレン、ポリメチルペンテン、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、無軸延伸ポリプロピレンおよび二軸延伸ポリプロピレン等のポリプロピレン、環状オレフィンポリマー、シリコーン、スチレンエラストマー樹脂、スチレンブタジエンゴムのような樹脂材料が挙げられる。これらの中でも、無軸延伸ポリプロピレンを用いることが好ましい。これにより、保護層１の絶縁層２および電磁波遮断層３に対する保護性、さらには耐熱性を向上させることができる。
【００３０】
また、保護層１の常温（２５℃）における貯蔵弾性率は、２．０Ｅ＋０２〜５．０Ｅ＋１０Ｐａであるのが好ましく、２．０Ｅ＋０３〜５．０Ｅ＋０９Ｐａであるのがより好ましく、２．０Ｅ＋０４〜３．０Ｅ＋０９Ｐａであるのがさらに好ましい。このように、保護層１の常温（２５℃）における貯蔵弾性率を、前記範囲内に設定することにより、保護層１は可撓性を有するものであると言うことができ、電磁波シールド用フィルム１０を用いて、基板５上の凹凸６を被覆する際に、絶縁層２および電磁波遮断層３に破断を生じさせることなく絶縁層２および電磁波遮断層３を凹凸６の形状に対応した状態で押し込むことができる。その結果、この凹凸６が設けられた基板５が、破断の発生が防止された電磁波遮断層３をもって、凹凸６の形状に追従した状態で被覆されるようになるため、この電磁波遮断層３による凹凸６が設けられた基板５に対する電磁波シールド（遮断）性が向上することとなる。
【００３１】
保護層１の厚みは、特に限定されないが、３μｍ以上、２０μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以上、１５μｍ以下であることがより好ましく、さらに好ましくは７μｍ以上、１２μｍ以下である。保護層１の厚みが前記下限値未満である場合、保護層１ひいては絶縁層２および電磁波遮断層３が破断し、その電磁波シールド性が低下するおそれがある。また、保護層１の厚みが前記上限値を超える場合、電磁波シールド用フィルム１０を用いて被覆する基板５の設計によっては、基板５を電磁波シールド用フィルム１０で被覆した積層体の軽量化・薄型化が実現されないおそれがある。
【００３２】
さらに、保護層１は、その電磁波遮断層３側の面に、粘着剤層を備えるものであってもよい。すなわち、電磁波遮断層３は、粘着剤層を介して保護層１に接合されたものであってもよい。これにより、保護層１と電磁波遮断層３との粘着性（密着性）の向上が図られる。
【００３３】
この粘着剤層は、例えば、主として、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤およびゴム系粘着剤等のうちの少なくとも１種からなる粘着剤で構成される。
【００３４】
アクリル系粘着剤としては、例えば、（メタ）アクリル酸およびそれらのエステルで構成される樹脂、（メタ）アクリル酸およびそれらのエステルと、それらと共重合可能な不飽和単量体（例えば酢酸ビニル、スチレン、アクリルニトリル等）との共重合体等が挙げられる。また、これらの樹脂を２種類以上混合したものが挙げられる。
【００３５】
また、これらの中でも、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチルヘキシルおよび（メタ）アクリル酸ブチルからなる群から選ばれる１種以上と、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチルおよび酢酸ビニルの中から選ばれる１種以上との共重合体が好ましい。これにより、粘着層が粘着する電磁波遮断層３との密着性や粘着性の制御が容易になる。
【００３６】
この場合、粘着剤層には、粘着性（接着性）を制御するためにウレタンアクリレート、アクリレートモノマー、多価イソシアネート化合物（例えば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート）等のイソシアネート化合物等のモノマーおよびオリゴマーが含まれていてもよい。
【００３７】
また、ゴム系粘着剤としては、例えば、天然ゴム系、イソプレンゴム系、スチレン−ブタジエン系、再生ゴム系、ポリイソブチレン系のものや、スチレン−イソプレン−スチレン、スチレン−ブタジエン−スチレン等のゴムを含むブロック共重合体を主とするもの等が挙げられる。
【００３８】
さらに、シリコーン系粘着剤としては、例えば、ジメチルシロキサン系、ジフェニルシロキサン系のもの等が挙げられる。
【００３９】
なお、粘着剤層に含まれる粘着剤は、硬化型および非硬化型のいずれであってもよいが、硬化型の場合、粘着剤層には、架橋剤が添加されていてもよい。この架橋剤としては、例えば、エポキシ系化合物、イソシアナート系化合物、金属キレート化合物、金属アルコキシド、金属塩、アミン化合物、ヒドラジン化合物、アルデヒド系化合物等が挙げられる。
【００４０】
また、硬化型の場合、粘着剤層には、粘着剤層を紫外線等の光の照射により硬化させる光重合開始剤が添加されていてもよい。この光重合開始剤としては、例えば、メトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフエノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）−フェニル］−２−モルホリノプロパン−１等のアセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾインイソブチルエーテル系化合物、ベンゾイン安息香酸メチル系化合物、ベンゾイン安息香酸系化合物、ベンゾインメチルエーテル系化合物、ベンジルフェニルサルファイド系化合物、ベンジル系化合物、ジベンジル系化合物、ジアセチル系化合物等が挙げられる。
【００４１】
さらに、粘着剤層には、その接着強度およびシェア強度を高める目的で、ロジン樹脂、テルペン樹脂、クマロン樹脂、フェノール樹脂、スチレン樹脂、脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、脂肪族芳香族系石油樹脂等の粘着付与材等が添加されていてもよい。
【００４２】
また、粘着剤層には、例えば、可塑剤、粘着付与剤、増粘剤、充填剤、老化防止剤、防腐剤、防カビ剤、染料、顔料等の各種添加剤が必要に応じ添加されていてもよい。
【００４３】
＜電磁波遮断層３＞
次に、電磁波遮断層（遮断層）３について説明する。
【００４４】
電磁波遮断層３は、基板５上に設けられた電子部品４と、この電磁波遮断層３を介して、基板５（電子部品４）と反対側に位置する他の電子部品等とを、これら少なくとも一方から生じる電磁波を遮断（シールド）する機能を有し、特に、電子部品４から生じる電磁波をより効果的に遮断する機能を有する。
【００４５】
なお、一般的に、電磁波を遮断する機能を発揮するには、前述のとおり、電磁波遮断層に入射した電磁波を反射することにより遮断（遮蔽）する反射層（電磁波反射層）と、電磁波遮断層に入射した電磁波を吸収することにより遮断（遮蔽）する吸収層（電磁波吸収層または電磁波抑制層）とが知られている。
【００４６】
ここで、前述の通り、基板５上に搭載された複数の電子部品４を電磁波シールド用フィルムで被覆された電子機器では、電子機器の長時間の使用により、電磁波シールド用フィルムにマイグレーションが生じ、これに起因して、電子部品４同士の絶縁性を十分に確保することができないという問題があった。
【００４７】
そこで、本発明者は、マイグレーションの発生が抑制された電磁波シールド用フィルムについて鋭意検討を行った結果、電磁波シールド用フィルムにおけるマイグレーションの発生には、電磁波遮断層中におけるイオン性不純物が関与していると推察され、この電磁波遮断層３におけるイオン性不純物の含有量を２００ｐｐｍ以下とすることで、電磁波シールド用フィルム１０におけるマイグレーションの発生を的確に抑制または防止し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００４８】
このように、電磁波遮断層３におけるイオン性不純物の含有量を２００ｐｐｍ以下に設定することで、電磁波遮断層３中ひいては電磁波シールド用フィルム１０全体におけるマイグレーションの発生を的確に抑制または防止することができる。
【００４９】
イオン性不純物としては、特に限定されず、例えば、アンモニウムイオン（ＮＨ４＋）、ナトリウムイオン（Ｎａ＋）、カリウムイオン（Ｋ＋）、カルシウムイオン（Ｃａ２＋）、バリウムイオン（Ｂａ２＋）、アルミニウムイオン（Ａｌ３＋）等の陽イオン、塩化物イオン（Ｃｌ−）、硫酸イオン（ＳＯ４２−）、亜硝酸イオン（ＮＯ２−）、硝酸イオン（ＮＯ３−）、フッ化物イオン（Ｆ−）、リン酸イオン（ＰＯ４３−）、臭化物イオン（Ｂｒ−）、ヨウ化物イオン（Ｉ−）、硫化物イオン（Ｓ２−）等の陰イオンが挙げられる。
【００５０】
また、電磁波遮断層３におけるイオン性不純物の含有量、すなわち、上記の陽イオンおよび陰イオンの合計の含有量は、２００ｐｐｍ以下であれば良いが、２０ｐｐｍ以上１５０ｐｐｍ以下であることが好ましく、５０ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下であることがより好ましい。これにより、電磁波シールド用フィルム１０におけるマイグレーションの発生をより的確に抑制または防止することができる。
【００５１】
さらに、イオン性不純物の中でも、陰イオン性不純物（特に、ナトリウムイオン（Ｎａ＋）およびカリウムイオン（Ｋ＋））がマイグレーションの発生により寄与していると推察される。そのため、電磁波遮断層３における陰イオン性不純物の含有量は、１０ｐｐｍ以上１５０ｐｐｍ以下であることが好ましく、４０ｐｐｍ以上８０ｐｐｍ以下であることがより好ましい。これにより、電磁波シールド用フィルム１０におけるマイグレーションの発生をさらに的確に抑制または防止することができる。
【００５２】
このような電磁波遮断層３は、イオン性不純物の含有量が２００ｐｐｍ以下であれば、如何なる導電性材料および／または磁性材料を含有するものであってもよく、これらのうち導電性材料としては、例えば、導電性高分子、金属および金属酸化物のうちの少なくとも１種を含む金属系粒子、ならびに、炭素系材料等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。また、磁性材料としては、例えば、軟磁性材料を含む磁性材粒子（軟磁性材粒子）が挙げられる。これらのうちの１種または２種以上を組み合わせたものが好ましく用いられ、これにより、電磁波遮断層３におけるイオン性不純物の含有量を容易に２００ｐｐｍ以下であるものとすることができる。
【００５３】
導電性高分子としては、例えば、ポリアセチレン、ポリピロール、ＰＥＤＯＴ（ｐｏｌｙ−ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ）、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリ（ｐ−フェニレン）、ポリフルオレン、ポリカルバゾール、ポリシランまたはこれらの誘導体等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、ポリアニリン、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、ポリピロールおよびポリチオフェンであるのが好ましい。これらによれば、前述した導電性高分子を用いることにより得られる効果をより顕著に発揮させることができる。
【００５４】
また、金属系粒子としては、例えば、金、銀、銅、鉄、ニッケルおよびアルミニウム、またはこれらを含む合金のような金属、および、ＩＴＯ、ＡＴＯ、ＦＴＯのような金属酸化物等を含むものが挙げられる。
【００５５】
さらに、磁性材粒子としては、例えば、ＡＦｅ２Ｏ４（式中、Ａは、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、ＣｕまたはＺｎである）で表されるフェライト（ソフトフェライト）、センダスト（Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金）、パーマロイ（Ｆｅ−Ｎｉ合金）、マグネタイト、フェライト（ソフトフェライト）、ニッケル、鉄、ケイ素鋼、磁性ステンレス（Ｆｅ−Ｃｒ−Ａｌ−Ｓｉ合金）およびパーメンジュール等のような軟磁性材料を含むものが挙げられ、これらの中でも、センダスト、パーマロイおよびマグネタイト、フェライト、ニッケルのうちの少なくとも１種であることが好ましく、センダストであることがより好ましい。これにより、層中に含まれる材料の添加量を少なくできることから、その膜厚を比較的容易に薄く設定することができ、また軽量化も可能である。
【００５６】
金属系粒子の平均粒径は、１．０μｍ以上１０．０μｍ以下であるのが好ましく、４．５μｍ以上７．５μｍ以下であるのがより好ましい。また、磁性材粒子のメジアン径（ｄ５０）は、１０μｍ以上１００μｍ以下であるのが好ましく、３０μｍ以上５０μｍ以下であるのがより好ましい。これにより、金属系粒子および磁性材粒子を電磁波遮断層３中に均一に分散させることができる。そのため、電磁波遮断層３を、このものとしての特性を均質に発揮するものとできる。
【００５７】
なお、炭素系材料（導電性カーボン）としては、例えば、単層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブのようなカーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー、ＣＮナノチューブ、ＣＮナノファイバー、ＢＣＮナノチューブ、ＢＣＮナノファイバー、グラフェンや、カーボンマイクロコイル、カーボンナノコイル、カーボンナノホーン、カーボンナノウォール、カーボンブラック、カーボンファイバ、グラフェンのような炭素等が挙げられる。
【００５８】
さらに、電磁波遮断層３は、その構成材料として、導電性材料および磁性材料のうちの少なくとも１種の他に、バインダー樹脂を含有するものであることが好ましい。これにより、電磁波遮断層３におけるイオン性不純物の含有量をより容易に２００ｐｐｍ以下であるものとすることができる。
【００５９】
なお、バインダー樹脂としては、各種樹脂材料を用いることができ、特に限定されないが、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アミノ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、熱硬化性エラストマー等の熱硬化性樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン樹脂、スチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマーのような熱可塑性エラストマー等の熱可塑性樹脂が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６０】
また、この場合、電磁波遮断層３における導電性材料および磁性材料のうちの少なくとも１種の含有量は、用いる導電性材料および磁性材料のうちの少なくとも１種の種類に応じて異なるが、例えば、１０ｗｔ％以上６０ｗｔ％以下であることが好ましく、２０ｗｔ％以上４０ｗｔ％以下であることがより好ましい。これにより、電磁波遮断層３におけるイオン性不純物の含有量を、上記範囲内により確実に設定することができる。
【００６１】
また、電磁波遮断層３の平均層厚みＴは、特に限定されないが、１μｍ以上、１５０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上、１００μｍ以下であることがより好ましい。電磁波遮断層３の厚みが前記下限値未満である場合、電磁波遮断層３の構成材料等によっては、基板搭載部品の端部で破断するおそれがある。また、電磁波遮断層３の厚みが前記上限値を超える場合、電磁波遮断層３の構成材料等によっては形状追従性が不足するおそれがある。また、かかる範囲内の厚みＴとしても、優れた電磁波シールド性を発揮させることができるため、電磁波遮断層３の厚みＴの薄膜化を実現すること、ひいては、基板５上において絶縁層２および電磁波遮断層３で被覆された電子部品４が搭載された電子部品搭載基板の軽量化を実現することができる。
【００６２】
また、電磁波遮断層３は、その１５０℃における貯蔵弾性率が１．０Ｅ＋０５〜１．０Ｅ＋０９Ｐａであるのが好ましく、５．０Ｅ＋０５〜５．０Ｅ＋０８Ｐａであるのがより好ましい。前記貯蔵弾性率をかかる範囲内に設定することにより、貼付工程において、電磁波シールド用フィルム１０の加熱の後、保護層１からの押圧力により、基板５上の凹凸６に絶縁層２および電磁波遮断層３を押し込むことで、この凹凸６を被覆する際に、前記保護層１からの押圧力に応じて、電磁波遮断層３を凹凸６の形状に対応して変形させることができる。すなわち、電磁波遮断層３の凹凸６に対する形状追従性を向上させることができる。
【００６３】
＜絶縁層２＞
次に、絶縁層２について説明する。
【００６４】
絶縁層２は、電磁波遮断層３に接触して設けられ、保護層１側から電磁波遮断層３、絶縁層２の順で積層されている。このように積層された絶縁層２および電磁波遮断層３を備える電磁波シールド用フィルム１０を用いて基板５上の凹凸６を被覆することで、基板５および電子部品４に絶縁層２が接触し、基板５側から絶縁層２、電磁波遮断層３の順で被覆することとなる。
【００６５】
このように、本実施形態では、絶縁層２は、基板５および電子部品４を被覆し、これにより、基板５上で隣接する電子部品４同士を絶縁するとともに、基板５および電子部品４を、絶縁層２を介して基板５と反対側に位置する電磁波遮断層３および他の部材（電子部品等）から絶縁する。
【００６６】
この絶縁層２としては、例えば、熱硬化性を有する絶縁樹脂または熱可塑性を有する絶縁樹脂（絶縁フィルム）が挙げられる。これらの中でも、熱可塑性を有する絶縁樹脂を用いることが好ましい。熱可塑性を有する絶縁樹脂は、屈曲性に優れたフィルムであることから、後述する貼付工程において、基板５上の凹凸６に対して絶縁層２および電磁波遮断層３を押し込む際に、絶縁層２を、凹凸６の形状に対応して容易に追従させることができる。また、熱可塑性を有する絶縁樹脂は、その軟化点温度に加熱すると、接着対象の基板から再剥離することができるので、基板の修理の際には、特に有用である。
【００６７】
熱可塑性を有する絶縁樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートのような熱可塑性ポリエステル、α−オレフィン、酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、エチレン酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル、ポリアミド、セルロースが挙げられる。これらの中でも基板との密着性、屈曲性、耐薬品性に優れるという理由から熱可塑性ポリエステル、α−オレフィンを用いることが好ましい。
【００６８】
さらに、熱可塑性を有する絶縁樹脂には、耐熱性や耐屈曲性等の性能を損なわない範囲で、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂、ユリア系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂等を含有させることができる。また、熱可塑性を有する絶縁樹脂には、後述する導電性接着剤層の場合と同様に、接着性、耐ハンダリフロー性を劣化させない範囲で、シランカップリング剤、酸化防止剤、顔料、染料、粘着付与樹脂、可塑剤、紫外線吸収剤、消泡剤、レベリング調整剤、充填剤、難燃剤等を添加してもよい。
【００６９】
絶縁層２の厚みＴ（Ｄ）は、特に限定されないが、３μｍ以上、５０μｍ以下であることが好ましく、４μｍ以上、３０μｍ以下であることがより好ましく、さらに好ましくは５μｍ以上、２０μｍ以下である。絶縁層２の厚みが前記下限値未満である場合、耐ハゼ折り性が不足し、凹凸６への熱圧着後に折り曲げ部にてクラックが発生したり、フィルム強度が低下し、電磁波遮断層３の絶縁性支持体としての役割を担うことが難しい。前記上限値を超える場合、形状追従性が不足するおそれがある。すなわち、絶縁層２の厚みＴ（Ｄ）を前記範囲内に設定することにより、絶縁層２に屈曲性を確実に付与することができ、貼付工程において、基板５上の凹凸６に対して絶縁層２および電磁波遮断層３を押し込む際に、絶縁層２を、凹凸６の形状に対応して容易に追従させることができる。また、絶縁層２の厚みＴ（Ｄ）の薄膜化を実現すること、ひいては、絶縁層２および電磁波遮断層（反射層）３で被覆された電子部品４が搭載された基板５の軽量化および薄型化を実現することができる。
【００７０】
また、絶縁層２の２５〜１５０℃における平均線膨張係数は、５０〜１０００［ｐｐｍ／℃］であるのが好ましく、１００〜７００［ｐｐｍ／℃］であるのがより好ましい。絶縁層２の平均線膨張係数をかかる範囲内に設定することにより、電磁波シールド用フィルム１０の加熱時において、絶縁層２は、優れた伸縮性を有するものとなるため、絶縁層２、さらには電磁波遮断層３の凹凸６に対する形状追従性が向上することとなる。
【００７１】
なお、この絶縁層２は、図１で示したように、１層で構成されるものの他、上述した絶縁フィルムのうち異なるものを積層させた２層以上の積層体であってもよい。
【００７２】
さらに、絶縁層２は、その電磁波遮断層３側の面、および、電磁波遮断層３と反対側の面の双方または何れか一方に、粘着剤層を備えるものであってもよい。これにより、電磁波遮断層３と絶縁層２との粘着性（密着性）および／または電磁波シールド用フィルム１０で被覆する基板５と絶縁層２との粘着性（密着性）の向上が図られる。
【００７３】
この粘着剤層としては、前述した保護層１の説明で記載した粘着剤層と同様のものが挙げられる。
【００７４】
なお、本実施形態では、電磁波シールド用フィルム１０を、絶縁層２を備えるものとすることで、基板５および電子部品４を被覆し、これにより、基板５上で隣接する電子部品４同士を絶縁することとしたが、この絶縁層２による電子部品４同士の絶縁を必要としない場合には、この絶縁層２を省略することもできる。
【００７５】
電磁波シールド用フィルム１０を、上記のような構成の保護層１、電磁波遮断層３および絶縁層２を備えるものとすることにより、電磁波シールド用フィルム１０の軽量化・薄型化を図ることができる。
【００７６】
また、電磁波シールド用フィルム１０は、波長３００ｎｍ以上、８００ｎｍ以下における光線透過率が０．０１％以上、３０％以下であることが好ましく、０．０１％以上、１０％以下であることがより好ましい。これにより、光を吸収、遮断し電磁波遮断層３で被覆している内部すなわち電子部品４が見えなくすることができるため、例えば、電磁波遮断層３で被覆された電子部品搭載基板の流通時における電子部品４の秘匿性を担保することができるという利点が得られる。
なお、前記光線透過率は、例えば、紫外可視分光光度計により求めることができる。
【００７７】
＜電子部品の被覆方法＞
以上のような構成の電磁波シールド用フィルム１０を用いて、例えば、以下のようにして、基板５上に搭載された電子部品４が被覆される。
【００７８】
図２は、図１に示す電磁波シールド用フィルムを用いた電子部品の被覆方法の第１の被覆方法を説明するための縦断面図である。
【００７９】
以下の電子部品の第１の被覆方法は、基板５上に、電磁波シールド用フィルム１０を絶縁層２と電子部品４が接着するように貼付する貼付工程を有する。
【００８０】
（貼付工程）
前記貼付工程とは、図２（ａ）に示すように、本実施形態では、基板５上に電子部品４を搭載することで設けられた凹凸６に、電磁波シールド用フィルム１０を追従するように貼付する工程である。
【００８１】
凹凸６に追従して貼付する方法としては、特に限定されないが、例えば、以下のような方法が挙げられる。
【００８２】
すなわち、まず、基板５の凹凸６が形成されている側の面と、電磁波シールド用フィルム１０の絶縁層２側の面とが対向するように、基板５と電磁波シールド用フィルム１０とを重ね合わせた状態でセットし、その後、これらを常温下において、電磁波シールド用フィルム１０側から均一に電磁波シールド用フィルム１０と基板５とが互いに接近するように、加圧することにより実施される。
【００８３】
このように電磁波シールド用フィルム１０側から均一に加圧することで、保護層１が凹凸６の形状に追従し、さらに、これに併せて、保護層１よりも基板５側に位置する、絶縁層２および電磁波遮断層３も凹凸６の形状に追従する。これにより、凹凸６の形状に保護層１、絶縁層２および電磁波遮断層３が追従した状態で、保護層１、絶縁層２および電磁波遮断層３により凹凸６が被覆される。
【００８４】
このような貼付工程において、貼付する温度は、常温であり、具体的には、５℃以上、３５℃以下であることが好ましく、２０℃以上、３０℃以下であることがより好ましく、２５℃であることがさらに好ましい。
【００８５】
また、貼付する圧力は、特に限定されないが、０．０５ＭＰａ以上、０．５ＭＰａ以下であることが好ましく、より好ましくは０．１ＭＰａ以上、０．３ＭＰａ以下である。
【００８６】
さらに、貼付する時間は、特に限定されないが、１秒以上、６０秒以下であることが好ましく、より好ましくは５秒以上、３０秒以下である。
【００８７】
貼付工程における条件を上記範囲内に設定することにより、電磁波シールド用フィルム１０側からの加圧による電子部品４の破損を招くことなく、基板５上の凹凸６に対して絶縁層２および電磁波遮断層３が追従した状態で、これら絶縁層２および電磁波遮断層３により凹凸６を確実に被覆することができる。
【００８８】
以上のような工程を経ることにより、保護層１、絶縁層２および電磁波遮断層３により凹凸６を追従するように被覆することができる。なお、本実施形態のように、被覆した凹凸６に保護層１が残存する被覆方法では、基板５の反対側に位置する他の部材（電子部品等）と電磁波遮断層３とを絶縁する絶縁層としての機能を保護層１が発揮する。
【００８９】
また、電子部品４の被覆は、電磁波シールド用フィルム１０で凹凸６に追従して被覆する上述した方法の他、凹凸６に追従することなく、電子部品４を被覆するように行ってもよい。
【００９０】
図３は、図１に示す電磁波シールド用フィルムを用いた電子部品の被覆方法の第２の被覆方法を説明するための縦断面図である。
【００９１】
以下の電子部品の第２の被覆方法は、第１の被覆方法と同様に、基板５上に、電磁波シールド用フィルム１０を絶縁層２と電子部品４が接着するように貼付する貼付工程を有する。
【００９２】
（貼付工程）
この貼付工程では、図３（ａ）に示すように、本実施形態では、基板５上に電子部品４を搭載することで設けられた凹凸６に、電磁波シールド用フィルム１０を追従することなく貼付する。
【００９３】
凹凸６に追従することなく貼付するには、例えば、前記第１の被覆方法で説明した貼付工程において、電磁波シールド用フィルム１０と基板５とが互いに接近するように、電磁波シールド用フィルム１０側から均一に加圧する際に、この加圧条件を設定することにより実現できる。すなわち、前記加圧条件を、凹凸６に追従させる際の圧力よりも低く設定すること、および、凹凸６に追従させる際の時間よりも短く設定することにより、凹凸６に追従することなく電磁波シールド用フィルム１０を貼付することができる。
【００９４】
このような被覆方法により、凹凸６の形状に保護層１、絶縁層２および電磁波遮断層３が追従していない状態で、保護層１、絶縁層２および電磁波遮断層３により凹凸６が被覆される。
【００９５】
なお、このように、電磁波シールド用フィルム１０を凹凸６の形状に追従させない場合、絶縁層２および電磁波遮断層３が破断するのを防止する保護（緩衝）材として機能する保護層１の形成を省略することもできる。
【００９６】
さらに、電子部品４の被覆は、電磁波シールド用フィルム１０で被覆する方法、すなわち、保護層１、絶縁層２および電磁波遮断層３で被覆する上述した方法（第１の被覆方法および第２の被覆方法）の他、電磁波シールド用フィルム１０から保護層１を剥離して、絶縁層２および電磁波遮断層３により、電子部品４を被覆するようにしてもよい。
【００９７】
図４は、図１に示す電磁波シールド用フィルムを用いた電子部品の被覆方法の第３の被覆方法を説明するための縦断面図である。
【００９８】
以下の電子部品の第３の被覆方法は、基板５上に、電磁波シールド用フィルム１０を絶縁層２と電子部品４が接着するように貼付する貼付工程と、前記貼付工程の後、保護層１を剥離する剥離工程とを有する。
【００９９】
（貼付工程）
貼付工程では、図２で説明した電子部品の被覆方法と同様に、図４（ａ）に示すように、基板５上に電子部品４を搭載することで設けられた凹凸６に、電磁波シールド用フィルム１０を追従するように貼付する。
【０１００】
（剥離工程）
剥離工程では、例えば、図４（ｂ）に示すように、前記貼付工程の後、保護層１を電磁波シールド用フィルム１０から剥離する。
【０１０１】
この剥離工程により、本実施形態では、電磁波シールド用フィルム１０における保護層１と電磁波遮断層３との界面において、剥離が生じ、その結果、電磁波遮断層３から保護層１が剥離される。これにより、電磁波遮断層３から保護層１を剥離した状態で、絶縁層２および電磁波遮断層３により凹凸６が被覆される。
【０１０２】
なお、保護層１を剥離する方法としては、特に限定されないが、例えば、手作業による剥離が挙げられる。
【０１０３】
この手作業による剥離では、まず、保護層１の一方の端部を把持し、この把持した端部から保護層１を電磁波遮断層３から引き剥がし、次いで、この端部から中央部へさらには他方の端部へと順次保護層１を引き剥がすことにより、電磁波遮断層３から保護層１が剥離される。
【０１０４】
以上のような工程を経ることにより、電磁波遮断層３から保護層１を剥離した状態で、絶縁層２および電磁波遮断層３により凹凸６を被覆することができる。かかる被覆方法によれば、電磁波遮断層３で電磁波を遮断する際のさらなる軽量化・薄型化を図ることができる。
【０１０５】
また、第２の被覆方法と第３の被覆方法とを組み合わせるようにしてもよい。すなわち、凹凸６に、電磁波シールド用フィルム１０を追従させることなく貼付した後に、電磁波シールド用フィルム１０から保護層１を剥離して、凹凸６に追従していない絶縁層２および電磁波遮断層３により、電子部品４を被覆するようにしてもよい。
【０１０６】
なお、前記実施形態では、図１に示したように、電磁波シールド用フィルム１０が備える保護層１が１層で構成される場合について説明したが、かかる構成のものに限定されず、例えば、保護層１は、第１の層、第２の層がこの順で積層された２層の積層体であってもよいし、第１の層、第２の層、第３の層がこの順で積層された３層の積層体であってもよい。
【０１０７】
２層の積層体の構成とする場合、第１の層としては、前記実施形態で説明した、保護層１と同様の構成のものを用いることができる。
【０１０８】
第２の層は、第１の層と電磁波遮断層３との間に位置して、電磁波シールド用フィルムの製造方法の第１の工程において、電磁波遮断層３に保護層（保護シート）１を貼付する際に、第１の層を電磁波遮断層３に粘着（貼付）させる粘着層として機能するものである。
【０１０９】
この第２の層は、特に限定されないが、例えば、エポキシ系接着剤、アクリル系接着剤、ポリイミド系接着剤およびシアネート系接着剤等の各種接着剤を用いて形成される。
【０１１０】
第２の層の厚みＴ（Ｃ）は、特に限定されないが、１μｍ以上、１０μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以上、８μｍ以下であることがより好ましい。第２の層の厚みが前記下限値未満である場合、第２の層の構成材料の種類によっては、第２の層による粘着性が十分に発揮されないおそれがある。また、第２の層の厚みが前記上限値を超える場合、電磁波シールド用フィルム１０を用いて被覆する基板５の設計によっては、基板５を電磁波シールド用フィルム１０で被覆した積層体の軽量化・薄型化が実現されないおそれがある。
【０１１１】
さらに、３層の積層体の構成とする場合、第１の層および第３の層としては、前記実施形態で説明した、保護層１と同様の構成のものを用いることができる。
【０１１２】
第２の層は、電子部品の被覆方法の貼付工程において、保護層１を押し込み用の保護として用いて基板５上の凹凸６に対して絶縁層２および電磁波遮断層３を押し込む際に、第３の層を、凹凸６に対して押し込む（埋め込む）ためのクッション機能を有するものである。また、第２の層は、この押し込む力を、第３の層、さらには、この第３の層を介して絶縁層２および電磁波遮断層３に、均一に作用させる機能を有しており、これにより、電磁波遮断層３と凹凸６との間にボイドを発生させることなく、絶縁層２および電磁波遮断層３を凹凸６に対して優れた密閉性をもって押し込むことができる。
【０１１３】
この第２の層（クッション層）の構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロプレン等のαオレフィン系重合体、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、メチルペンテン等を共重合体成分として有するαオレフィン系共重合体、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド等のエンジニアリングプラスチックス系樹脂が挙げられ、これらを単独あるいは複数併用してもよい。これらの中でも、αオレフィン系共重合体を用いることが好ましい。具体的には、エチレン等のαオレフィンと、（メタ）アクリル酸エステルとの共重合体、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体、エチレンと（メタ）アクリル酸との共重合体（ＥＭＭＡ）、およびそれらの部分イオン架橋物等が挙げられる。αオレフィン系共重合体は、形状追従性に優れ、さらに、第３の層の構成材料と比較して柔軟性に優れることから、かかる構成材料で構成される第２の層に、第３の層を凹凸６に対して押し込む（埋め込む）ためのクッション機能を確実に付与することができる。
【０１１４】
第２の層の厚みＴ（Ｃ）は、特に限定されないが、１０μｍ以上、１００μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以上、８０μｍ以下であることがより好ましく、さらに好ましくは３０μｍ以上、６０μｍ以下である。第２の層の厚みが前記下限値未満である場合、第２の層の形状追従性が不足し、熱圧着工程で凹凸６への追従性が不足するというおそれがある。また、第２の層の厚みが前記上限値を超える場合、熱圧着工程において、第２の層からの樹脂のシミ出しが多くなり、圧着装置の熱盤に付着し、作業性が低下するというおそれがある。
【０１１５】
また、第２の層の２５〜１５０℃における平均線膨張係数は、５００以上［ｐｐｍ／℃］であるのが好ましく、１０００以上［ｐｐｍ／℃］であるのがより好ましい。第２の層の平均線膨張係数をかかる範囲内に設定することにより、電磁波シールド用フィルム１０の加熱時において、第２の層を、第３の層と比較してより優れた伸縮性を有するものに、容易にすることができる。そのため、第２の層、さらには電磁波遮断層３および絶縁層２の凹凸６に対する形状追従性をより確実に向上させることができる。
【０１１６】
また、前記実施形態では、基板への電子部品の搭載により、基板上に凹凸が形成されており、この凹凸を電磁波シールド用フィルムで被覆する場合について説明したが、電磁波シールド用フィルムによる被覆は、このような凹凸に対する被覆に限定されず、例えば、筐体等が備える平坦（フラット）な領域に対して施すようにしてもよい。
【０１１７】
以上、本発明の電磁波シールド用フィルム、および電子部品搭載基板について説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【０１１８】
例えば、本発明の電磁波シールド用フィルムおよび本発明の電子部品搭載基板には、同様の機能を発揮し得る、任意の層が追加されていてもよい。
【実施例】
【０１１９】
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１２０】
＜電磁波シールド性評価用フィルムの製造＞
（実施例１）
まず、電磁波遮断層を形成するための樹脂系材料として、導電性高分子としてのポリアニリン（株式会社レグルス社製、商品名：ＰＡＮＴ）からなるものを準備した。
【０１２１】
次いで、ポリエチレンテレフタラートフィルム（帝人デュポン製、Ａ−３１４、厚み３８μｍ）上に、電磁波遮断層を構成する樹脂をコーティングした後、加熱・乾燥させて、電磁波遮断層を形成することで、電磁波シールド性評価用フィルムを作製した。
【０１２２】
なお、実施例１の電磁波シールド性評価用フィルムにおいて、電磁波遮断層の厚みは４０μｍであった。
【０１２３】
（実施例２）
電磁波遮断層を形成するための樹脂系材料として、導電性高分子としてのポリアニリン（株式会社レグルス社製、商品名：ＰＡＮＴ）と、金属系粒子としての銀粒子（福田金属箔粉工業社製、商品名：Ａｇ−ＸＦ３０１）と、バインダーとしてのポリエステル樹脂（東洋紡社製、商品名：バイロン６３ＳＳ）とを、重量比で１０ｗｔ％：７０ｗｔ％：２０ｗｔ％含むものを準備したこと以外は、前記実施例１と同様にして、実施例２の電磁波シールド性評価用フィルムを作製した。
【０１２４】
なお、実施例２の電磁波シールド性評価用フィルムにおいて、電磁波遮断層の厚みは３５μｍであった。
【０１２５】
（実施例３）
電磁波遮断層を形成するための樹脂系材料として、導電性高分子としてのポリアニリン（株式会社レグルス社製、商品名：ＰＡＮＴ）と、磁性体粒子としてのセンダストからなる偏平粒子（山陽特殊製鋼社製、商品名：FME3DH）と、バインダーとしてのポリエステル樹脂（東洋紡社製、商品名：バイロン６３ＳＳ）とを、重量比で１０ｗｔ％：８０ｗｔ％：１０ｗｔ％含むものを準備したこと以外は、前記実施例１と同様にして、実施例３の電磁波シールド性評価用フィルムを作製した。
【０１２６】
なお、実施例３の電磁波シールド性評価用フィルムにおいて、電磁波遮断層の厚みは４０μｍであった。
【０１２７】
（実施例４）
電磁波遮断層を形成するための樹脂系材料として、磁性材粒子としてのセンダストからなる偏平粒子（山陽特殊製鋼社製、商品名：FME3DH）と、バインダーとしてのポリエステル樹脂（東洋紡社製、商品名：バイロン６３ＳＳ）とを、重量比で８５ｗｔ％：１５ｗｔ％含むものを準備したこと以外は、前記実施例１と同様にして、実施例４の電磁波シールド性評価用フィルムを作製した。
【０１２８】
なお、実施例４の電磁波シールド性評価用フィルムにおいて、電磁波遮断層の厚みは８０μｍであった。
【０１２９】
（比較例１）
電磁波遮断層として、磁性材料を含有するものを備える磁性シート（大同特殊鋼社製、商品名：HS16-H010）を用意した。
【０１３０】
＜評価試験＞
＜＜イオン性不純物＞＞
各実施例および比較例で作製した電磁波シールド性評価用フィルムについて、それぞれ、測定試料１ｇをイオン性不純物測定用機に入れ，純水１０ｍｌを加えた後、１２１℃で４時間放置しイオン成分を抽出した。抽出されたイオン成分をキャピラリー電気泳動測定器（アジレント社製）で測定した。これにより、電磁波遮断層における、アンモニウムイオン（ＮＨ４＋）、ナトリウムイオン（Ｎａ＋）、カリウムイオン（Ｋ＋）、塩化物イオン（Ｃｌ−）、硫酸イオン（ＳＯ４２−）、亜硝酸イオン（ＮＯ２−）、硝酸イオン（ＮＯ３−）、フッ化物イオン（Ｆ−）、リン酸イオン（ＰＯ４３−）の含有量を求めた。
以上の各実施例、比較例の評価試験の結果を表１に示す。
【０１３１】
【表１】
2017063158.tif 000003
【０１３２】
表１に示した通り、各実施例では、電磁波遮断層を、導電性材料として、金属系粒子および導電性高分子のうちの少なくとも１種を含有する構成のものとすることにより、電磁波遮断層におけるイオン性不純物の含有量を、２００ｐｐｍ以下に設定することが可能であった。
【０１３３】
これに対して、比較例では、電磁波遮断層におけるイオン性不純物の含有量が、２００ｐｐｍ超を示す結果となった。
【０１３４】
したがって、各実施例において形成した電磁波遮断層を備える電磁波シールド用フィルムとすることで、マイグレーションの発生が的確に抑制または防止された電磁波シールド用フィルムとし得る推察された。
【符号の説明】
【０１３５】
１０    電磁波シールド用フィルム
１        保護層
２        絶縁層
３        電磁波遮断層
４        電子部品
５        基板
６        凹凸
６５      凸部
６６      凹部
【図１】
2017063158.tif 000004
【図２】
2017063158.tif 000005
【図３】
2017063158.tif 000006
【図４】
2017063158.tif 000007