(57)【要約】【課題】ハードコート層と反射防止層とを備える光学積層体であって、反射防止層が剥離しがたい光学積層体を提供すること。【解決手段】本発明の光学積層体は、透明基材と、ハードコート層と、中間層と、反射防止層とをこの順に備え、該ハードコート層が、バインダー樹脂と、無機フィラーとを含み、該無機フィラーの平均一次粒径が、１０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、該ハードコート層の中間層側の表面元素組成が、（無機フィラー由来の無機元素の数／炭素原子の数）≧０．０３であり、該反射防止層が、少なくとも一組の高屈折率層と低屈折率層とを積層して構成され、該反射防止層の中間層とは反対側の面の算術平均表面粗さＲａが、０．８ｎｍ〜１５ｎｍである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、ハードコート層と、中間層と、反射防止層とをこの順に備え、
該ハードコート層が、バインダー樹脂と、無機フィラーとを含み、
該無機フィラーの平均一次粒径が、１０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、
該ハードコート層の中間層側の表面元素組成が、（無機フィラー由来の無機元素の数／炭素原子の数）≧０．０３であり、
該反射防止層が、少なくとも一組の高屈折率層と低屈折率層とを積層して構成され、
該反射防止層の中間層とは反対側の面の算術平均表面粗さＲａが、０．８ｎｍ〜１５ｎｍである、
光学積層体。
【請求項２】
前記無機フィラーの含有割合が、バインダー樹脂１００重量部に対して、１０重量部〜９０重量部である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項３】
前記無機フィラーが、シリカ粒子である、請求項１または２に記載の光学積層体。
【請求項４】
前記バインダー樹脂が、（メタ）アクリル系樹脂である、請求項１から３のいずれかに記載の光学積層体。
【請求項５】
前記中間層が、非化学量論組成の無機酸化物を含む、請求項１から４のいずれかに記載の光学積層体。
【請求項６】
前記中間層の厚みが、５ｎｍ以上であり、
該中間層が、ＳｉＯｘ（ｘ＝０．１〜２）を含む、
請求項１から５のいずれかに記載の光学積層体。
【請求項７】
前記ハードコート層の厚みが、３μｍ〜３０μｍである、請求項１から６のいずれかに記載の光学積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の画像表示装置は、外部からの接触によりその表面に傷がつくと、表示画像の視認性が低下する場合がある。このため、画像表示装置に用いられる光学積層体には、ハードコート層が設けられることがある。また、画像表示装置には、視認性向上のため、反射防止機能を必要とする場合があり、ハードコート層上に反射防止層を配置して構成される光学積層体が求められている。
【０００３】
上記のようにハードコート層と反射防止層とを備える光学積層体においては、当該層における層間剥離が問題となる。プライマー層を設けて、密着性を向上させる技術も検討されているが（例えば、特許文献１）、依然、層間剥離は十分に防止されておらず、特に、屋外等の紫外線にさらされる環境下においては、上記層間剥離の問題は顕著となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許５０７６７２９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は上記の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、ハードコート層と反射防止層とを備える光学積層体であって、反射防止層が剥離しがたい光学積層体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の光学積層体は、透明基材と、ハードコート層と、中間層と、反射防止層とをこの順に備え、該ハードコート層が、バインダー樹脂と、無機フィラーとを含み、該無機フィラーの平均一次粒径が、１０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、該ハードコート層の中間層側の表面元素組成が、（無機フィラー由来の無機元素の数／炭素原子の数）≧０．０３であり、該反射防止層が、少なくとも一組の高屈折率層と低屈折率層とを積層して構成され、該反射防止層の中間層とは反対側の面の算術平均表面粗さＲａが、０．８ｎｍ〜１５ｎｍである。
１つの実施形態においては、上記フィラーの含有割合が、バインダー樹脂１００重量部に対して、１０重量部〜９０重量部である。
１つの実施形態においては、上記フィラーが、シリカ粒子である。
１つの実施形態においては、上記バインダー樹脂が、（メタ）アクリル系樹脂である。
１つの実施形態においては、上記中間層が、非化学量論組成の無機酸化物を含む。
１つの実施形態においては、上記中間層の厚みが、５ｎｍ以上であり、該中間層が、ＳｉＯｘ（ｘ＝０．１〜２）を含む。
１つの実施形態においては、上記ハードコート層の厚みが、３μｍ〜３０μｍである。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、フィラーを含むハードコート層と、反射防止層とを、中間層を介して積層することにより、該反射防止層が剥離し難い光学積層体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の１つの実施形態による光学積層体の概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の好ましい実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
Ａ．光学積層体の全体構成
図１は本発明の１つの実施形態による光学積層体の概略断面図である。光学積層体１００は、透明基材１０と、ハードコート層２０と、中間層３０と、反射防止層４０とをこの順に備える。ハードコート層２０は、無機フィラーを含む（図示せず）。１つの実施形態においては、反射防止層４０は、少なくとも一組の高屈折率層４１、４３と低屈折率層４２、４４とを積層して構成される。
【００１０】
本発明においては、ハードコート層に無機フィラーを含有させることにより、ハードコート層が微細な凹凸を有する面を備えることとなり、ハードコート層と中間層との接触面積が大きくなる。その結果、ハードコート層と中間層との密着性が高まり、ハードコート層と反射防止層とが中間層を介して強固に密着して、該反射防止層が剥離し難い光学積層体を提供することができる。このような効果は、ハードコート層中の無機フィラーの粒子径を適切に調整することにより、さらに顕著となる。このような光学積層体は、画像表示装置の表面部材として好適に用いられ得る。また、偏光板の保護部材として用いることも可能である。１つの実施形態においては、上記透明基材に偏光板を用いて、偏光機能を有する光学積層体が提供され得る。
【００１１】
１つの実施形態においては、上記ハードコート層は、透明基材とは反対側の面（すなわち、中間層側の面）が表面処理されている。表面処理としては、例えば、プラズマ処理が採用され得る。表面処理されたハードコート層上に中間層を形成することにより、ハードコート層と中間層との密着性が向上し、本発明の効果はより顕著となる。なお、表面処理は、硬化処理により形成されたハードコート層に施される。
【００１２】
Ｂ．ハードコート層
上記ハードコート層は、バインダー樹脂と無機フィラーとを含む。
【００１３】
上記バインダー樹脂としては、本発明の効果が得られる限り、任意の適切な樹脂が用いられ得る。好ましくは、硬化性の樹脂が用いられる。上記バインダー樹脂として、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、シリコーン系樹脂等が挙げられる。好ましくは、（メタ）アクリル系樹脂またはエポキシ系樹脂である。
【００１４】
上記バインダー樹脂から構成されるハードコート層は、上記透明基材上に、ハードコート層形成用組成物を塗工して形成される。ハードコート層形成用組成物は、例えば、熱、光（紫外線等）または電子線等により硬化し得る硬化性化合物および無機フィラーを含む。好ましくは、硬化性化合物として、光硬化型（より好ましくは紫外線硬化型）の硬化性化合物が用いられる。硬化性化合物は、モノマー、オリゴマーおよびプレポリマーのいずれであってもよい。
【００１５】
上記硬化性化合物としては、光重合性（好ましくは紫外線重合性）の官能基を２個以上（好ましくは３個〜６個）有するアクリル系化合物（モノマーおよび／またはオリゴマー）が好ましく用いられ、例えば、２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物が好ましく用いられる。当該２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物に含まれる（メタ）アクリロイル基の個数の上限は、好ましくは３０個である。
【００１６】
上記２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の具体例としては、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジメチロールプロパントテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１,１０−デカンジオール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレートおよびこれらのオリゴマーまたはプレポリマー等が挙げられる。２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物は、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」とはアクリレートおよび／またはメタクリレートを意味する。
【００１７】
１つの実施形態においては、上記２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物は、水酸基を有する。上記ハードコート層形成用組成物が、このような硬化性化合物を含んでいれば、ハードコート層形成時の加熱温度をより低く、加熱時間をより短く設定することができ、加熱による変形が抑制された光学積層体を効率よく生産することができる。また、透明基材とハードコート層との密着性に優れる光学積層体を得ることができる。水酸基および２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等が挙げられる。
【００１８】
１つの実施形態においては、上記２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物として、ウレタン（メタ）アクリレートおよび／またはウレタン（メタ）アクリレートのオリゴマーが好ましく用いられる。ウレタン（メタ）アクリレートおよび／またはウレタン（メタ）アクリレートのオリゴマーが有する（メタ）アクリロイル基の数は、好ましくは３以上であり、より好ましくは４〜１５であり、さらに好ましくは６〜１２である。
【００１９】
上記ウレタン（メタ）アクリレートおよび／またはウレタン（メタ）アクリレートの分子量は、例えば３０００以下であり、好ましくは５００〜２５００であり、より好ましくは８００〜２０００である。
【００２０】
上記ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、（メタ）アクリル酸または（メタ）アクリル酸エステルとポリオールとから得られるヒドロキシ（メタ）アクリレートを、ジイソシアネートと反応させることにより得ることができる。また、任意の適切な市販品を用いてもよい。ウレタン（メタ）アクリレートおよびウレタン（メタ）アクリレートのオリゴマーは、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。
【００２１】
上記２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の含有割合は、ハードコート層形成用組成物中の全硬化性化合物（モノマー、オリゴマーおよびプレポリマーの合計量）に対して、好ましくは６０重量％〜１００重量％であり、より好ましくは７０重量％〜１００重量％であり、さらに好ましくは８０重量％〜１００重量％である。このような範囲であれば、透明基材とハードコート層との密着性に優れる光学積層体を得ることができる。また、ハードコート層の硬化収縮を有効に防止できる。
【００２２】
上記ウレタン（メタ）アクリレートおよびウレタン（メタ）アクリレートのオリゴマーの合計含有割合は、ハードコート層形成用組成物中の全硬化性化合物に対して、好ましくは４０重量％〜１００重量％であり、さらに好ましくは５０重量％〜９５重量％であり、特に好ましくは６０重量％〜９０重量％である。このような範囲であれば、硬度および透明基材との密着性に優れるハードコート層を形成することができる。
【００２３】
また、硬化性化合物として、エポキシ基含有モノマー、エポキシ基含有オリゴマー、エポキシ基含有プレポリマー等を用いてもよい。これらの化合物を用いれば、エポキシ系樹脂から構成されるハードコート層が形成される。上記エポキシ系樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型，ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型及びこれらの水添加物等のビスフェノール型；フェノールノボラック型やクレゾールノボラック型等のノボラック型；トリグリシジルイソシアヌレート型やヒダントイン型等の含窒素環型；脂環式型；脂肪族型；ナフタレン型、ビフェニル型等の芳香族型；グリシジルエーテル型、グリシジルアミン型、グリシジルエステル型等のグリシジル型；ジシクロペンタジエン型等のジシクロ型；エステル型；エーテルエステル型；およびこれらの変性型等が挙げられる。これらのエポキシ系樹脂は、単独で、又は２種以上を混合して使用することができる。好ましくは、上記エポキシ系樹脂は、ビスフェノールＡ型エポキシ系樹脂、脂環式型エポキシ系樹脂、含窒素環型エポキシ系樹脂、又はグリシジル型エポキシ系樹脂である。上記エポキシ系樹脂が含窒素環型である場合、好ましくは、トリグリシジルイソシアヌレート型エポキシ系樹脂である。これらのエポキシ系樹脂は、変色防止性に優れる。
【００２４】
上記ハードコート層形成用組成物は、硬化性化合物として、単官能モノマーをさらに含んでいてもよい。単官能モノマーの含有割合は、ハードコート層形成用組成物中の全硬化性化合物に対して、好ましくは４０重量％以下であり、より好ましくは３０重量％以下であり、特に好ましくは２０重量％以下である。単官能モノマーの含有割合が４０重量％より多い場合、所望の硬度および耐擦傷性が得られないおそれがある。
【００２５】
上記無機フィラーとしては、本発明の効果が得られる限り、任意の適切な無機フィラーが用いられる。無機フィラーを用いれば、ハードコート層と中間層との密着性が特に優れる光学積層体を得ることができる。無機フィラーとしては、例えば、シリカ粒子、酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化チタン粒子、酸化ニオブ粒子、酸化亜鉛粒子、酸化スズ粒子、酸化セリウム粒子、酸化マグネシウム粒子、炭酸カルシウム粒子、硫酸バリウム粒子、タルク粒子、カオリン粒子、硫酸カルシウム粒子等が挙げられる。これらの粒子を用いれば、透明性に優れるハードコート層を形成することができる。なかでも好ましくは、シリカ粒子である。シリカ粒子を用いれば、ハードコート層表面に微細な凹凸を良好に形成させることができ、ハードコート層と中間層との密着性が特に優れる光学積層体を得ることができる。１つの実施形態においては、上記無機フィラーとして、多孔質無機フィラー（好ましくは、多孔質シリカ粒子）または中空無機フィラー（好ましくは中空シリカ粒子）が用いられる。また、上記無機フィラーは、ハードコート層中で凝集して存在していてもよいが、ハードコート層中で凝集せずに存在する方が好ましい。フィラーの凝集構造により、ハードコート層の表面形状を均一に調整できないおそれがあるからである。
【００２６】
上記無機フィラーの平均一次粒径の下限値は、好ましくは１０ｎｍであり、より好ましくは１２ｎｍであり、さらに好ましくは３０ｎｍである。無機フィラーの平均一次粒径の上限値は、好ましくは１５０ｎｍであり、より好ましくは１３０ｎｍであり、さらに好ましくは１００ｎｍであり、特に好ましくは７０ｎｍである。このような範囲であれば、ハードコート層表面に微細な凹凸を良好に形成させることができ、ハードコート層と中間層との密着性が特に優れる光学積層体を得ることができる。また、無機フィラーの平均一次粒径が上記範囲であれば、透明性に優れる光学積層体を得ることができる。無機フィラーの平均一次粒径は、コールターカウント法により測定される重量平均粒径である。
【００２７】
コールターカウント法による累積粒度分布（重量基準）における上記無機フィラーの１０％粒子径（Ｄ１０）は、好ましくは５ｎｍ〜４０ｎｍであり、より好ましくは１０ｎｍ〜３０ｎｍである。また、コールターカウント法による累積粒度分布（重量基準）における上記無機フィラーの９０％粒子径（Ｄ９０）は、好ましくは２０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、より好ましくは３０ｎｍ〜１３０ｎｍである。なお、Ｄ１０は小さい側から累積１０％となる粒子径であり、Ｄ９０は小さい側から累積９０％となる粒子径である。
【００２８】
上記ハードコート層は、粒径分布が異なる２種以上の無機フィラーを含んでいてもよいが、ハードコート層に含まれるすべての無機フィラーについて、平均一次粒径が１μｍ未満であることが好ましく、１５０ｎｍ以下であることがより好ましく、上記範囲であることがさらに好ましい。また、上記ハードコート層は、無機フィラー以外のその他のフィラー（例えば、有機フィラー）を含んでいてもよいが、ハードコート層に含まれるすべてのフィラー（無機フィラーおよびその他のフィラー）について、平均一次粒径が１μｍ未満であることが好ましく、１５０ｎｍ以下であることがより好ましく、上記範囲であることがさらに好ましい。すなわち、上記ハードコート層は、平均一次粒径が１μｍを超える大粒径フィラー（無機フィラー、その他のフィラー）を含まないことが好ましく、平均一次粒径が１５０ｎｍを超える大粒径フィラー（無機フィラー、その他のフィラー）を含まないことがより好ましい。ハードコート層が大粒径フィラーを含む場合、ハードコート層の表面形状を適切に調整できないおそれがある。具体的には、大粒径フィラーに追従したバインダー樹脂によりハードコート層表面に不要なうねりが形成されるおそれがあり、また、ハードコート層から突出する大粒径フィラーに追従したバインダー樹脂により、平均一次粒径が１５０ｎｍ以下の無機フィラーによる微細な凹凸形状の形成が阻害されるおそれがある。
【００２９】
上記無機フィラーは略球形状であることが好ましい。略球形状の無機フィラーを用いれば、ハードコート層表面に微細な凹凸を良好に形成させることができる。上記無機フィラーのアスペクト比は、好ましく１．５以下であり、より好ましくは１．２以下であり、さらに好ましくは１．１以下である。
【００３０】
上記無機フィラーの含有割合は、バインダー樹脂１００重量部に対して、好ましくは１０重量部〜９０重量部であり、より好ましくは２０重量部〜８０重量部であり、さらに好ましくは３０重量部〜７０重量部であり、特に好ましくは４０重量部〜６５重量部である。このような範囲であれば、ハードコート層表面に微細な凹凸を良好に形成させることができ、ハードコート層と中間層との密着性が特に優れる光学積層体を得ることができる。また、透明性に優れる光学積層体を得ることができる。
【００３１】
上記ハードコート層形成用組成物は、好ましくは、任意の適切な光重合開始剤（好ましくは紫外線重合開始剤）を含む。光重合開始剤としては、例えば、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、キサントン、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、チオキサントン系化合物等が挙げられる。
【００３２】
上記ハードコート層形成用組成物は、任意の適切な添加剤をさらに含み得る。添加剤としては、例えば、ブロッキング防止剤、分散安定剤、揺変剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、消泡剤、増粘剤、分散剤、界面活性剤、触媒、滑剤、帯電防止剤等が挙げられる。また、上記ハードコート層形成用組成物は、任意の適切な溶媒を含み得る。
【００３３】
上記ハードコート層の算術平均表面粗さＲａは、好ましくは１ｎｍ以上であり、より好ましくは１．８ｎｍ以上であり、さらに好ましくは２ｎｍ以上であり、特に好ましくは２．２ｎｍ以上である。このような範囲であれば、ハードコート層と中間層との密着性が優れる光学積層体を得ることができる。さらに、ハードコート層と中間層との界面を凹凸形状とすることにより、ハードコート層から中間層にかけての屈折率変化がゆるやかになり、不要な界面反射を防止することができる。上記無機フィラーを含有させることにより、上記範囲の表面粗さＲａを有するハードコート層を形成することができる。１つの実施形態においては、上記範囲の表面粗さＲａを有するハードコート層は、ハードコート層に無機フィラーを含有させることに加えて、ハードコート層にプラズマ処理等の表面処理を施して得られ得る。無機フィラー含有と表面処理とを組み合わせることにより、ハードコート層と中間層との密着性が顕著に優れる光学積層体を得ることができる。また、無機フィラーの含有量を低減することができるため、透明性に優れる光学積層体を得ることができる。ハードコート層の算術平均表面粗さＲａの上限は、例えば、１５ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍであり、より好ましくは５ｎｍである。なお、本明細書において、ハードコート層の算術平均表面粗さＲａは、ハードコート層（表面処理を行う場合には表面処理後のハードコート層）形成後、中間層を形成する前に、測定される表面粗さ（すなわち、透明基材とは反対側面の表面粗さ）である。算術平均表面粗さＲａは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：１９９４に準じて測定することができる。
【００３４】
上記ハードコート層の中間層側の表面元素組成は、（無機フィラー由来の無機元素の数／炭素原子の数）≧０．０３であることが好ましく、（無機フィラー由来の無機元素の数／炭素原子の数）≧０．１であることがより好ましく、１．２≧（無機フィラー由来の無機元素の数／炭素原子の数）≧０．２であることがさらに好ましく、１．２≧（無機フィラー由来の無機元素の数／炭素原子の数）≧０．４であることが特に好ましい。このような範囲であれば、ハードコート層の中間層側において、無機フィラーが多く存在することとなり、高硬度かつ耐擦傷性に優れるハードコート層が形成され得る。特に、ハードコート層に表面処理を施す場合には、処理面を均一にあらすことができ、当該効果は顕著となる。なお、本明細書において、「無機フィラー由来の無機元素の数／炭素原子の数」とは、Ｘ線光電子分光（ＥＳＣＡ）によって測定される、炭素原子（Ｃ）に対する無機フィラー由来の無機元素（例えば、無機フィラーがＳｉＯｘからなる場合はＳｉ）の組成比を意味する。当該測定は、ハードコート層におけるハードコート層と中間層との界面（ハードコート層の中間層側表面）から深さ１６ｎｍ〜２０ｎｍの領域を、測定対象とする。
【００３５】
上記ハードコート層の屈折率は、好ましくは１．４５〜１．８である。
【００３６】
上記ハードコート層の鉛筆硬度（透明基材が設けられていない側の表面における鉛筆硬度）は、好ましくは２Ｈ以上である。
【００３７】
上記ハードコート層の厚みは、好ましくは３μｍ〜３０μｍであり、より好ましくは４μｍ〜１０μｍである。
【００３８】
上記ハードコート層は、例えば、透明基材上にハードコート層形成用組成物を塗布して塗布層を形成し、該塗布層を加熱、硬化して形成される。
【００３９】
ハードコート層形成用組成物の塗布方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。例えば、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、スロットオリフィスコート法、カーテンコート法、ファウンテンコート法、コンマコート法が挙げられる。
【００４０】
上記塗布層の加熱温度は、ハードコート層形成用組成物の組成に応じて、適切な温度に設定され得る。加熱温度は、例えば、５０℃〜１５０℃である。
【００４１】
上記硬化の際には、任意の適切な硬化処理が採用され得る。代表的には、硬化処理は紫外線照射により行われる。紫外線照射の積算光量は、好ましくは２００ｍＪ／ｃｍ２〜４００ｍＪ／ｃｍ２である。
【００４２】
１つの実施形態においては、上記硬化処理の後、ハードコート層の透明基材とは反対側の面に、表面処理が行われる。表面処理としては、プラズマ処理、コロナ処理、蒸着処理、電子ビーム処理、高周波放電プラズマ処理、スパッタリング処理、イオンビーム処理、大気圧グロー放電プラズマ処理、アルカリ処理、酸処理等が挙げられる。なかでも好ましくはプラズマ処理である。上記表面処理を行えば、良好な形状の凹凸面を有するハードコート層を形成することができ、上記のとおり、ハードコート層と中間層との密着性が顕著に優れる光学積層体を得ることができる。
【００４３】
１つの実施形態においては、上記表面処理として真空プラズマ処理が行われる。真空プラズマ処理（例えば、アルゴンプラズマ処理）を行う場合、放電電力は、好ましくは０．５ｋＷ〜１０ｋＷであり、より好ましくは１Ｋｗ〜５ｋＷである。なお、放電電力の高低によりハードコート層の表面粗さ（具体的には、上記算術平均表面粗さＲａ）を制御することができ、該放電電力が高いほど、被処理面をあらすことができる。
【００４４】
Ｃ．中間層
上記中間層は、上記ハードコート層と上記反射防止層との間に配置され、ハードコート層と上記反射防止層との密着性を高める機能を有する。
【００４５】
上記中間層を構成する材料としては、例えば、シリコン、ニッケル、クロム、スズ、金、銀、白金、亜鉛、チタン、タングステン、アルミニウム、ジルコニウム、パラジウム等の金属；これらの金属の合金；これらの金属の酸化物、フッ化物、硫化物または窒化物；等が挙げられる。
【００４６】
１つの実施形態においては、上記中間層は、非化学量論組成の無機酸化物を含む。このような無機酸化物としては、例えば、非化学量論組成の酸化ケイ素が好適に用いられ得る。非化学量論組成の酸化ケイ素とはＳｉＯｘで表され、ｘは好ましくは０．１〜２である。無機フィラーとしてシリカ粒子を含むハードコート層と、上記酸化ケイ素から構成される中間層とを組み合わせれば、これらの層の親和性が向上し、中間層とハードコート層とを強固に密着させることができる。非化学量論組成の無機酸化物の別の例としては、ケイ素炭化物（例えば、ＳｉＣｘ（０．１≦ｘ＜１．０））、ケイ素窒化物（例えば、ＳｉＮｘ（０．１≦ｘ＜１．３））等が挙げられる。
【００４７】
中間層がケイ素原子を含有する場合、中間層におけるＸ線光電子分光法により求められるＳｉ２ｐ軌道の結合エネルギーは、例えば、９８．０ｅＶ以上であり、好ましくは９９．０ｅＶ以上であり、より好ましくは１００．０ｅＶ以上であり、さらに好ましくは１０２．０ｅＶ以上である。また、中間層におけるＸ線光電子分光法により求められるＳｉ２ｐ軌道の結合エネルギーの上限は、例えば、１０４．０ｅＶ未満であり、好ましくは１０３．０ｅＶ未満であり、より好ましくは１０２．８ｅＶ以下である。Ｓｉ２ｐ軌道の結合エネルギーが上記範囲である中間層を選択することにより、中間層の密着性をより良好にすることができる。特に、中間層における結合エネルギーを９９．０ｅＶ以上１０３．０ｅＶ未満にすると、中間層が非化学量論組成の無機化合物（特に、ケイ素化合物）を含有することになるため、良好な光透過率を維持しつつ、密着性をより確実に向上させることができる。
【００４８】
上記中間層の厚みは、好ましくは１．５ｎｍ以上であり、より好ましくは５ｎｍ以上である。中間層の厚みの上限は、好ましくは２０ｎｍ以下であり、より好ましくは１５ｎｍ以下である。このような範囲であれば、高い光透過性と高い耐擦傷性を両立できるという利点を有する。
【００４９】
上記中間層の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、化学気相成長（ＣＶＤ）法等が挙げられる。なかでも好ましくはスパッタリング法である。
【００５０】
Ｄ．反射防止層
反射防止層は、少なくとも一組の高屈折率層と低屈折率層とを積層して構成される。１つの実施形態においては、低屈折率層（例えば、屈折率１．６未満）と高屈折率層（例えば、屈折率１．９以上）とを交互に複数積層して構成される反射防止層が形成される。
【００５１】
低屈折率層を構成する材料としては、例えば、酸化シリコン、窒化チタン、フッ化マグネシウム、フッ化バリウム、フッ化カルシウム、フッ化ハフニウム、フッ化ランタン等が挙げられる。なかでも好ましくは酸化シリコンである。複数層の低屈折率層を形成する場合、各低屈折率層を構成する材料は、同じであってもよく、異なっていてもよい。
【００５２】
低屈折率層の厚みは、好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍであり、より好ましくは１５ｎｍ〜１５０ｎｍであり、さらに好ましくは２０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、特に好ましくは３０ｎｍ〜１００ｎｍである。
【００５３】
高屈折率層を構成する材料としては、例えば、インジウム、スズ、チタン、シリコン、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、マグネシウム、ビスマス、セリウム、タンタル、アルミニウム、ゲルマニウム、カリウム、アンチモン、ネオジウム、ランタン、トリウム、ハフニウム等の金属；これらの金属の合金；これら金属の酸化物、フッ化物、硫化物または窒化物；等が挙げられる。より具体的には、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化セリウム等が挙げられる。なかでも好ましくは酸化ニオブである。複数層の高屈折率層を形成する場合、各高屈折率層を構成する材料は、同じであってもよく、異なっていてもよい。
【００５４】
高屈折率層の厚みは、好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍであり、より好ましくは５ｎｍ〜１５０ｎｍであり、さらに好ましくは１０ｎｍ〜９０ｎｍであり、特に好ましくは１５ｎｍ〜５０ｎｍである。
【００５５】
反射防止層の中間層とは反対側の面の算術平均表面粗さＲａは、好ましくは０．８ｎｍ以上であり、より好ましくは１ｎｍ以上であり、さらに好ましくは１．５ｎｍ以上であり、さらに好ましくは２ｎｍ以上であり、特に好ましくは２．５ｎｍ以上である。反射防止層の外側面がこのような表面粗さＲａを有する光学積層体は、ハードコート層と中間層との密着性に優れるため、ハードコート層と反射防止層とが中間層を介して強固に密着して、該反射防止層が剥離し難い光学積層体となる。なお、反射防止層の外側面の凹凸は、ハードコート層の透明基材とは反対側の面の凹凸形状に起因する。本発明においては、ハードコート層に形成された微細な凹凸が、光学積層体の最表面にまで影響を及し、ハードコート層／中間層界面、中間層／反射防止層界面および高屈折率層／低屈折率層界面に凹凸が形成される。その結果、各界面において、屈折率変化がゆるやかになり、不要な界面反射を防止することができる。反射防止層の算術平均表面粗さＲａの上限は、例えば、１５ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍであり、より好ましくは５ｎｍである。
【００５６】
低屈折率層および高屈折率層を形成する方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。該方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、化学気相成長（ＣＶＤ）法等が挙げられる。なかでも好ましくは、スパッタリング法である。１つの実施形態においては、中周波領域の電圧印加により成膜を行うデュアル・マグネトロン・スパッタリング法が用いられる。
【００５７】
Ｅ．透明基材
上記透明基材を構成する材料としては、任意の適切な材料が用いられ得る。該材料としては、例えば、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）等のセルロースアセテート系樹脂；ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂；ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂；セロファン等のセルロース系樹脂；ポリノルボルネン等のシクロオレフィン系樹脂；アクリル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；等が挙げられる。なかでも好ましくは、セルローストリアセテートである。
【００５８】
上記透明基材の厚みは、好ましくは５μｍ〜５００μｍであり、より好ましくは３０μｍ〜３５０μｍである。
【００５９】
上記透明基材の光透過率は、例えば、４０％以上である。
【００６０】
１つの実施形態においては、上記透明基材は偏光板である。上記偏光板は、代表的には、偏光子と、必要に応じて用いられる保護フィルムとを有する。保護フィルムは、偏光子の少なくとも一方の側に配置され得る。
【００６１】
上記偏光子としては、目的に応じて任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらのなかでも、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素などの二色性物質を吸着させて一軸延伸した偏光子が、偏光二色比が高く特に好ましい。これら偏光子の厚さは特に制限されないが、一般的に、５μｍ〜８０μｍ程度である。
【００６２】
ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて一軸延伸した偏光子は、例えば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸や硫酸亜鉛、塩化亜鉛等を含んでいても良いし、ヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗しても良い。ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸しても良いし、また延伸してからヨウ素で染色しても良い。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。
【００６３】
上記保護フィルムとしては、偏光板の保護フィルムとして使用できる任意の適切なフィルムが採用され得る。このようなフィルムの主成分となる材料の具体例としては、ＴＡＣ等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。上記ポリマーフィルムは、例えば、前記樹脂組成物の押出成形物であり得る。ＴＡＣ、ポリイミド系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ガラス質系ポリマーが好ましく、ＴＡＣがさらに好ましい。
【００６４】
Ｆ．その他の層
本発明の光学積層体は、その他の層をさらに備え得る。その他の層としては、例えば、防汚層、ガスバリア層、誘電体層、導電体層等が挙げられる。
【００６５】
１つの実施形態においては、上記反射防止層の外側（中間層とは反対側）に、防汚層が設けられる。防汚層は、例えば、フッ素系化合物の硬化物から構成される。
【００６６】
上記防汚層の反射防止層とは反対側の面の算術平均表面粗さＲａは、好ましくは０．８ｎｍ以上であり、より好ましくは１ｎｍ以上であり、さらに好ましくは１．５ｎｍ以上であり、さらに好ましくは２ｎｍ以上であり、特に好ましくは２．５ｎｍ以上である。防汚層がこのような表面粗さＲａを有する光学積層体は、ハードコート層と中間層との密着性に優れるため、ハードコート層と反射防止層とが中間層を介して強固に密着して、該反射防止層が剥離し難い光学積層体となる。防汚層の算術平均表面粗さＲａの上限は、例えば、１５ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍであり、より好ましくは５ｎｍである。
【００６７】
防汚層の厚みは、好ましくは１ｎｍ〜２０ｎｍであり、より好ましくは３ｎｍ〜１０ｎｍである。なお、この程度の厚みを有する防汚層を形成した場合、該防汚層の算術平均表面粗さＲａは、反射防止層の算術平均表面粗さとＲａと同等となり、防汚層表面で測定される算術平均表面粗さＲａは、反射防止層の算術平均表面粗さＲａと解釈することができる。
【実施例】
【００６８】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。実施例における評価方法は以下のとおりである。また、実施例において、特に明記しない限り、「部」および「％」は重量基準である。
【００６９】
（１）密着性試験（促進耐光試験）
光学積層体をガラス上に固定し、スガ試験機社製の商品名「紫外線フェードメーターＵ４８」を用いて、下記条件にて１００時間、３００時間および５００時間の促進耐光試験を行った。
・槽内温湿度：４０℃２０％
・放射照度（３００−７００ｎｍ積算照度）：５００±５０Ｗ／ｍ２
光学積層体をガラス上に固定し、カッターを用いて、反射防止層表面に２ｍｍ間隔でタテヨコ１１本ずつ切り目を入れ、１００個の碁盤目を形成した。次いで、イソプロピルアルコール２ｍＬを碁盤目上に、光学積層体が乾燥しないよう連続的に滴下し、ポリエステルワイパー（サンプラテック社製、商品名「アンティコンゴールド」）を２０ｍｍ角のＳＵＳ製治具に固定し、該ポリエステルワイパーを上記碁盤目上で摺動させた（荷重：１．５ｋｇ、１０００往復）。その後、剥がれた碁盤目の個数をカウントし、以下の基準に従い、密着性を評価した。なお、剥がれとは、１マスあたり０．２５ｍｍ２以上（マス面積の１／４以上）剥離があった場合を意味する。
〇：残存碁盤目数が、８０個以上
△：残存碁盤目数が、２０個以上８０個未満
×：残存碁盤目数が、１０個未満
【００７０】
（２）反射防止層の算術平均表面粗さＲａ
ハードコート層および反射防止層の算術平均表面粗さＲａを、原子間力顕微鏡（Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ；ＡＦＭ）を用いて測定した（観察視野：１μｍ×１μｍ）。
装置：  Ｂｒｕｋｅｒ製Ｄｉｍｅｍｓｉｏｎ３１００＋ＮａｎｏｓｃｏｐｅＶ
測定モード：タッツピングモード
カンチレバー：Ｓｉ単結晶
測定視野：１μｍ×１μｍ
【００７１】
（３）ハードコート層の表面元素組成
Ｘ線光電子分光法（ＥＳＣＡ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ  ｆｏｒ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ａｎａｌｙｓｉｓ、測定装置：「ＱｕａｎｔｅｒａＳＸＭ」、アルバック・ファイ社製）を用いて、下記の条件にてＸ線光電子分光法を実施して、反射防止層側からのデプスプロファイルを取得し、ハードコート層の元素比率ａｔｏｍ（％）を求めた。
測定は、Ｘ線をビーム径１００μｍ、出力２５Ｗ（１５ｋＶ）で照射し、光電子取り出し角度を試料表面に対して４５度として行った。Ｃ、Ｏ、Ｆ、Ｓｉ、Ｎｂの元素に対して、Ａｒイオンエッチング法によるデプスプロファイル分析より中間層のハードコート層側の終端部からＳｉＯ２換算で１６ｎｍ〜２０ｎｍの地点（ハードコート側にエッチングした地点）におけるナロースキャンスペクトルの光電子強度を算出し、感度係数等を用いて、Ｓｉ／Ｃ比率を算出した。
ハードコート層側の中間層の終端部は、反射防止層側からのデプスプロファイルにおいて、ハードコート層を構成する有機元素が検出されない［定量限界以下（＜０．１ａｔｏｍｉｃ％）］の測定点の中で、ハードコード層に最も近い測定点とする。
＜Ａｒエッチング時のイオン銃条件＞
加速電圧：１ｋＶ
エッチング速度：１．５ｎｍ／分（ＳｉＯ２換算）
エッチング面積：２ｍｍ×２ｍｍ
【００７２】
［実施例１］
（ハードコート層の形成）
紫外線硬化型アクリル系樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名「ＧＲＡＮＤＩＣ  ＰＣ−１０７０」、屈折率：１．５２）１００重量部（固形分）に、オルガノシリカゾル（日産化学社製、商品名「ＭＥＫ−ＳＴ」、含有シリカ粒子（無機フィラー）の平均一次粒径：１５ｎｍ、含有シリカ粒子（無機フィラー）の粒径分布：１０ｎｍ〜３０ｎｍ、固形分３０重量％）を、樹脂硬化後の粒子量（無機フィラー量）が５０重量部となるように混合して、ハードコート層形成用組成物を調製した。
該ハードコート層形成用組成物を、透明基材（セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、富士フィルム社製、商品名「フジタック」厚さ：１００μｍ）の片面に、乾燥後の厚さが５μｍとなるように塗布し、８０℃で３分間乾燥した。その後、高圧水銀ランプを用いて、積算光量２００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、塗布層を硬化させ、透明基材上にハードコート層（屈折率：１．５２）を形成した。その後、ハードコート層付透明基材を、０．５Ｐａの真空雰囲気下で形成したアルゴンプラズマ中に搬送し、放電電力１．０ｋＷにてハードコート層の表面処理を行った。
（中間層の形成）
純Ｓｉスパッタリングターゲットを、マグネトロンスパッタリング装置にセットし、反応性スパッタリング（電源：ＤＣ、投入電力：５００Ｗ、到達真空度：１×１０−４Ｐａ、スパッタガス：Ａｒ、スパッタ圧力：０．５０Ｐａ、基材加熱：４０℃）を行い、上記ハードコート層上に、ＳｉＯｘ層から構成される中間層（厚み：１０ｎｍ）を形成した。
（反射防止層の形成）
次に、Ｎｂターゲットをマグネトロンスパッタリング装置にセットし、反応性スパッタリング（投入電力：３０ｋＷ、到達真空度：１×１０−４Ｐａ、スパッタガス分圧（酸素と不活性ガスとの雰囲気ガス全体に対する酸素のガス分圧：Ｏ２／（Ａｒ＋Ｏ２））：０．１、スパッタ圧力：０．５Ｐａ、基材加熱：４０℃）を行い、上記中間層上に、第１のＮｂ２Ｏ５層（厚み：１６ｎｍ、屈折率：２．３２）を形成した。
次に、Ｓｉターゲットをマグネトロンスパッタリング装置にセットし、反応性スパッタリング（投入電力：２０ｋＷ、到達真空度：１×１０−４Ｐａ、スパッタガス分圧（Ｏ２／（Ａｒ＋Ｏ２））：０．３、スパッタ圧力：０．５Ｐａ、基材加熱：４０℃）を行い、第１のＮｂ２Ｏ５層上に、第１のＳｉＯ２層を（厚み：１９ｎｍ、屈折率：１．４６）を形成した。
次に、上記第１のＳｉＯ２層上に、第１のＮｂ２Ｏ５層の形成方法と同様の方法にて、第２のＮｂ２Ｏ５層（厚み：１０２ｎｍ）を形成した。さらに、第２のＮｂ２Ｏ５層上に、純Ｓｉターゲットを使用し、第１のＳｉＯ２層の形成方法と同様の方法にて、第２のＳｉＯ２層（厚み：７１ｎｍ）を形成した。
このようにして、透明基材／ハードコート層／中間層／反射防止層（第１のＮｂ２Ｏ５／第１のＳｉＯ２層／第２のＮｂ２Ｏ５層／第２のＳｉＯ２層）の構成を有する光学積層体を得た。
得られた光学積層体を上記評価（１）〜（３）に供した。結果を表１に示す。
【００７３】
［実施例２］
ハードコート層の表面処理時の放電電力を３．０ｋＷとしたこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体を上記評価（１）〜（３）に供した。結果を表１に示す。
【００７４】
［実施例３］
ハードコート層の表面処理時の放電電力を５．０ｋＷとしたこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体を上記評価（１）〜（３）に供した。結果を表１に示す。
【００７５】
［実施例４］
ハードコート層の表面処理時の放電電力を５．０ｋＷとし、中間層の厚みを３ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体を上記評価（１）〜（３）に供した。結果を表１に示す。
【００７６】
［実施例５］
オルガノシリカゾル（日産化学社製、商品名「ＭＥＫ−ＳＴ」）に代えて、オルガノシリカゾル（日産化学社製、商品名「ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ」、含有シリカ粒子（無機フィラー）の平均一次粒径：５０ｎｍ、含有シリカ粒子（無機フィラー）の粒径分布：３０ｎｍ〜１３０ｎｍ、固形分３０重量％）を用い、樹脂硬化後の粒子量（無機フィラー量）を２５重量部としたこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体を上記評価（１）〜（３）に供した。結果を表１に示す。
【００７７】
［実施例６］
無機フィラーの配合量を２５重量部から４０重量部に変更したこと以外は、実施例５と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体を上記評価（１）〜（３）に供した。結果を表１に示す。
【００７８】
［実施例７］
無機フィラーの配合量を２５重量部から５０重量部に変更したこと以外は、実施例５と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体を上記評価（１）〜（３）に供した。結果を表１に示す。
【００７９】
［実施例８］
無機フィラーの配合量を２５重量部から５０重量部に変更し、ハードコート層の表面処理時の放電電力を３．０ｋＷとしたこと以外は、実施例５と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体を上記評価（１）〜（３）に供した。結果を表１に示す。
【００８０】
［実施例９］
無機フィラーの配合量を２５重量部から６０重量部に変更し、ハードコート層の表面処理時の放電電力を５．０ｋＷとしたこと以外は、実施例５と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体を上記評価（１）〜（３）に供した。結果を表１に示す。
【００８１】
［比較例１］
ハードコート層形成用組成物にナノシリカ粒子を含有させなかったこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体を上記評価（１）〜（３）に供した。結果を表１に示す。
【００８２】
［比較例２］
ハードコート層形成用組成物にナノシリカ粒子を含有させなかったこと以外は、実施例４と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体を上記評価（１）〜（３）に供した。結果を表１に示す。
【００８３】
[比較例３］
紫外線硬化型アクリル系樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名「ＧＲＡＮＤＩＣ  ＰＣ−１０７０」、屈折率：１．５２）１００重量部（固形分）に、オルガノシリカゾル（日産化学社製、商品名「ＭＥＫ−ＳＴ」、含有シリカ粒子（無機フィラー）の平均一次粒径：１５ｎｍ、固形分３０重量％）を、樹脂硬化後の粒子量（無機フィラー量）が２０重量部となるように混合し、さらに、シリカ粒子（堺化学工業社製、商品名「Ｓｃｉｑａｓ  ｓｅｒｉｅｓ」、平均一次粒径：１.０μｍ）０．５重量部とを混合して、ハードコート層形成用組成物を調製したこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体を上記評価（１）〜（３）に供した。結果を表１に示す。
【００８４】
[比較例４］
紫外線硬化型アクリル系樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名「ＧＲＡＮＤＩＣ  ＰＣ−１０７０」、屈折率：１．５２）１００重量部（固形分）に、オルガノシリカゾル（日産化学社製、商品名「ＭＥＫ−ＳＴ」、含有シリカ粒子（無機フィラー）の平均一次粒径：１５ｎｍ、固形分３０重量％）を、樹脂硬化後の粒子量（無機フィラー量）が２０重量部となるように混合し、さらに、シリカ粒子（堺化学工業社製、商品名「Ｓｃｉｑａｓ  ｓｅｒｉｅｓ」、平均一次粒径：１.０μｍ）１．０重量部を混合して、ハードコート層形成用組成物を調製したこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体を上記評価（１）〜（３）に供した。結果を表１に示す。
【００８５】
【表１】
2017161893.tif 000003
【産業上の利用可能性】
【００８６】
本発明の光学積層体は、画像表示装置に好適に用いられ得る。例えば、本発明の光学積層体は、画像表示装置の前面板または偏光子の保護材料として好適に用いられ得、とりわけ、液晶表示装置の前面板として好適に用いられ得る。
【符号の説明】
【００８７】
１０            透明基材
２０            ハードコート層
３０            中間層
４０            反射防止層
１００          光学積層体
【図１】
2017161893.tif 000004