(57)【要約】      （修正有）【課題】アルカリ溶液によるコアパターン形成時の膨潤による亀裂や断線を抑制することにより、良好な光伝送特性を有し、かつ、アルカリ溶液によるパターン化の作業条件範囲に幅を持たせることにより、作業性を向上させることが可能な光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】ベース基材４と、ベース基材４上の下部クラッド層１と、下部クラッド層１上のアルカリ溶液可溶性樹脂の硬化物からなるコアパターン２と、下部クラッド層１上とコアパターン２上の上部クラッド層３を有する光導波路の製造方法であって、コアパターン２がパターン露光、アルカリ性現像液による現像によって形成された後に、熱処理工程を有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベース基材と、前記ベース基材上の下部クラッド層と、前記下部クラッド層上のアルカリ溶液可溶性樹脂の硬化物からなるコアパターンと、前記下部クラッド層上とコアパターン上の上部クラッド層を有する光導波路の製造方法であって、前記コアパターンがパターン露光、アルカリ性現像液による現像によって形成された後に、熱処理工程を有する光導波路の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、前記熱処理工程が行われた後に、露光工程を有する光導波路の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２において、前記熱処理工程における熱処理温度が６０℃以上で、熱処理時間が５分以上である光導波路の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低損失で光導波が可能な光導波路の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
情報容量の増大に伴い、幹線やアクセス系といった通信分野のみならず、ルータやサーバ内の情報処理にも光信号を用いる光インターコネクション技術の開発が進められている。特に、ルータやサーバ装置内のボード間あるいはボード内の短距離信号伝送に光を用いるための光伝送路としては、光ファイバに比べ、配線の自由度が高く、かつ高密度化が可能な光導波路を用いることが望ましく、中でも、加工性や経済性に優れたポリマー材料を用いた光導波路が有望である。
【０００３】
光導波路を簡便かつ高精度に形成する方法の１つとして、露光・現像によりパターンを形成する方法が知られている。ここで、露光プロセスは光照射部の感光性樹脂を３次元架橋させて不溶化する工程であり、現像プロセスは未露光部、すなわち未反応部分の感光性樹脂を現像液に溶解させ除去する工程である。
【０００４】
現像液として、アルカリ性現像液を用いて現像する方法が提案されている（例えば、特許文献１及び２参照）。アルカリ現像プロセスが適用可能な光導波路形成用材料は、アルカリ性現像液に可溶とするために、カルボキシル基、フェノール性ヒドロキシル基等の酸性を示す官能基が導入されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平６−２５８５３７号公報
【特許文献２】特開２００３−１９５０７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
アルカリ溶液可溶性樹脂の硬化物からなるコアパターンは、アルカリ溶液によるパターン化が可能であり作業性・安全性確保が容易である。
【０００７】
一方でアルカリ溶液によるパターン化の際に形成されたコアパターン表面もしくはその周辺部にアルカリ溶液及び水洗時の水等が浸透することにより膨潤が発生し、その後の伸縮により亀裂や断線が発生する場合が有る。これらが発生した部位では導波路としての機能を満足することができない。
【０００８】
アルカリ溶液によるパターン化の程度を時間や水溶液の濃度等により調整することで前記亀裂や断線の発生やその頻度を抑えることができるが、条件範囲が狭くパターン化不足によるコアパターン形状の不具合が発生し、光損失に深刻な影響を与える。このためアルカリ溶液によるパターン化の最適条件範囲の裕度が狭く作業性や量産性を大きく悪化させる一因となっている。
【０００９】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、アルカリ溶液によるコアパターン形成時の膨潤による亀裂や断線を抑制することにより、良好な光伝送特性を有し、かつ、アルカリ溶液によるパターン化の作業条件範囲に幅を持たせることにより、作業性を向上させることが可能な光導波路の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは上記の課題を解決するために鋭意研究した結果、ベース基材と、前記ベース基材上の下部クラッド層と、前記下部クラッド層上のアルカリ溶液可溶性樹脂の硬化物からなるコアパターンと、前記下部クラッド層上とコアパターン上の上部クラッド層を有する光導波路の製造方法であって、前記コアパターンがパターン露光、アルカリ性現像液による現像によって形成された後に、熱処理工程を有する光導波路の製造方法を用いることで、上記課題を解決し得ることを見出した。本発明は、かかる知見にもとづいて完成したものである。
すなわち、本発明は、以下のものに関する。
（１）  ベース基材と、前記ベース基材上の下部クラッド層と、前記下部クラッド層上のアルカリ溶液可溶性樹脂の硬化物からなるコアパターンと、前記下部クラッド層上とコアパターン上の上部クラッド層を有する光導波路の製造方法であって、前記コアパターンがパターン露光、アルカリ性現像液による現像によって形成された後に、熱処理工程を有する光導波路の製造方法。
（２）  (１)において、前記熱処理工程が行われた後に、露光工程を有する光導波路の製造方法。
（３）  （１）又は（２）において、前記熱処理工程における熱処理温度が６０℃以上で、熱処理時間が５分以上である光導波路の製造方法。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の光導波路の製造方法によって作製された光導波路は、光損失が少なく良好な光伝送特性を有し、かつ、その製造条件に裕度を持たすことができることにより良好な作業性を合わせて得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明により製造される光導波路の断面図（コアパターンの長手方向と直角方向の断面）である。
【図２】本発明により製造される光導波路の断面図（コアパターンの長手方向の断面）である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の光導波路の製造方法により製造される光導波路は、図１に示すように、ベース基材４と、下部クラッド層１上に形成されたアルカリ溶液可溶性樹脂の硬化物からなるコアパターン２と、前記下部クラッド層１上とコアパターン２上の上部クラッド層３を具備するものである。
【００１４】
本発明の光導波路の製造方法は、コアパターン２をパターン露光、アルカリ性現像液による現像によって形成した後に、熱処理を加える工程を有する。コアパターン２の形成はアルカリ現像液によってパターン化すると良い。
コアパターン２を形成した後に熱処理を加えることで、コアパターン２表面に発生している亀裂や断線を抑制する効果が有り、形成された導波路の光損失において光損失が少なく良好な特性を得ることができる。また、最適なコアパターン形成を行う作業条件が亀裂や断線の発生に依存することなく設定できるため、従来より作業条件の裕度が増し作業性向上及び作業時間短縮が可能となる。
【００１５】
本発明により製造される光導波路のコアパターン２は、アルカリ溶液によりパターン化された際、アルカリ溶液及び水による膨潤が発生する。その後、水分等が徐々に蒸発する際にコアパターン表層部の伸縮が発生し亀裂や断線が発生する。この亀裂や断線の発生を熱処理を行うことにより抑制及び発生した亀裂や断線の原因となる伸縮を抑えることができ、光損失への影響を軽微に抑えることができる。また、膨潤を最小限に抑えつつコアパターン化を行える作業条件は、アルカリ溶液の濃度や温度、処理時間等で設定可能であるが、その条件の範囲が極めて限定的で裕度が無く良好な作業性を有しない。熱処理を行うことで亀裂や断線の発生に対応することで作業条件の裕度が増し、良好な作業性を得ることが可能となる。
【００１６】
コアパターン２を形成し、熱処理工程を行った後に、さらに紫外線による露光工程を行うのが望ましい。このことにより、コアパターンの形状を安定させ、コアパターンと下部クラッド層との密着を向上させることができる。前記の熱処理工程は、この露光工程の前に行わなければ効果が得られないため、露光工程の前に熱処理工程を行うことが望ましい。
【００１７】
熱処理工程における熱処理の温度は６０℃以上、熱処理の時間は５分以上で行うことが好ましい。熱処理の温度は８０〜１００℃の範囲で行うことが、より効果が得られる。この温度範囲であれば、亀裂や断線の形状修復が不十分となってしまうのを抑制できる。この温度範囲より高い場合は亀裂や断線の形状のままコアパターンの硬化が進み形状修復が行われない傾向がある。
以下、本発明に用いられる各部材について詳細に説明する。
【００１８】
［光導波路］
本発明により製造される光導波路は、図１に示すように、下部クラッド層１、コアパターン２、上部クラッド層３からなる光導波路であって、コアパターン２の２辺以上の周囲が、コアパターン２の中心よりも屈折率が低い低屈折率部位を有し、低屈折率部位の外側に、さらに屈折率の低い下部クラッド層１又は上部クラッド層３を有してなる光導波路である。上記の２辺とはコアパターン２の両側壁であることが好ましく、３辺以上であるとより好ましい。
さらに、コアパターン２中心とコアパターン２の周囲の低屈折率部位との屈折率差より、低屈折率部位と下部クラッド層１又は上部クラッド層３との屈折率差の方が大きいと、低屈折率部位から漏れだそうとする光成分をより効率的にコアパターン２内にとどめることができるため好ましい。
【００１９】
コアパターン中心とコアパターンの周囲の低屈折率部位との屈折率差は、０．０１〜２．０％であると良く、材料の屈折率制御の容易性の観点から、０．０２〜２．０％であるとより良く、０．０３〜１．０％であるとさらに良い。
低屈折率部位と下部クラッド層又は上部クラッド層との屈折率差は、コアパターン中心とコアパターンの周囲の低屈折率部位との屈折率差よりも大きい範囲で、０．１〜６．０％であると良く、光閉じ込め性の観点及び材料の屈折率制御の容易性の観点から、１．０〜５．０％であるとより良く、２．０〜５．０％であるとさらに良い。
また、コアパターンの中心部の屈折率はコアパターン形成用樹脂硬化物そのものの屈折率であると屈折率の安定性、透過性を保持しやすいため好ましい。
また、図２に示すように、本発明で製造される光導波路には、コアパターン２の光軸上に光路を約９０°方向に変換する光路変換ミラー５を設けてもよく、各種電気配線板と複合された光電気複合基板とされていてもよく、コネクタ等を介して光ファイバと接合された光ケーブルとして用いられてもよい。
【００２０】
［ベース基材］
本発明で用い得るベース基材４の材質としては、特に制限はなく、例えば、ガラスエポキシ樹脂基板、セラミック基板、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板、金属基板、樹脂層付き基板、金属層付き基板、プラスチックフィルム、樹脂層付きプラスチックフィルム、金属層付きプラスチックフィルム、電気配線板等が挙げられる。
【００２１】
［下部クラッド層・上部クラッド層］
本発明により製造される光導波路の下部クラッド層及び上部クラッド層は、少なくともコアパターンの下面及び上面を覆うように配置され、さらに両側壁を覆うように配置されていると良い。
下部クラッド層及び上部クラッド層の形成方法としては特に限定はないが、例えば、ワニス状のクラッド層形成用樹脂層を塗布したり、フィルム状のクラッド層形成用樹脂層をラミネートやプレス等を用いて、ベース基材上に積層して下部クラッド層とする方法、下部クラッド層上とコアパターン上に積層して上部クラッド層とする方法が挙げられる。塗布や積層した後に硬化する観点から熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂、光／熱併用硬化性樹脂が好ましい。
下部クラッド層の厚みとしては特に限定はないが、コアパターンの光の閉じ込め性の観点から５μｍ以上であると好ましく、厚い樹脂層の形成性の観点から２００μｍ以下であると良い。厚みの制御の観点から１０μｍ以上、１５０μｍ以下であるとより好ましく、低背化の観点から１０μｍ以上、１００μｍ以下であるとさらに好ましい。
なお、下部クラッド層は、単層であっても、複数層からなっていても良く、上部クラッド層と同じ材料であっても異なる材料であってもよい。
上部クラッド層の厚みとしては特に限定はないが、コアパターン上面からの厚みが５μｍ以上であると光の閉じ込め性の観点から好ましく、使用するクラッド層形成用樹脂層の厚みは、厚い樹脂層の形成性の観点から２００μｍ以下であると良い。厚みの制御の観点から１０μｍ以上、１５０μｍ以下であるとより好ましく、低背化の観点から１０μｍ以上、１００μｍ以下であるとさらに好ましい。
【００２２】
［コアパターン］
本発明により製造される光導波路のコアパターン２は、アルカリ溶液可溶性樹脂の硬化物からなり、硬化後の屈折率が下部クラッド層１や上部クラッド層３の屈折率よりも高屈折率になるように調整される。伝搬する光に支障のない範囲で透明性を有していると良い。
コアパターン２は、後述するようにアルカリ現像によってパターン化されると良く、感光性樹脂からなるコアパターン形成用樹脂から形成されると良い。
コアパターン２の形状は特に限定はなく、下部クラッド層１法線方向から見た場合、直線や曲線、分岐、それらの複合形状であればよい。また断面形状はフォトリソグラフィー加工によって形成される場合に一般的な形状である矩形であると良い。
コアパターン２の厚さは、コアパターン２に入射する光源やコアパターン２から出力される光を受光する受光素子の大きさによって適宜選択できるが、８〜１００μｍであると好ましく、２０〜７５μｍであるとより好ましく、２５〜５０μｍであるとさらに好ましい。
【００２３】
[コアパターンの形成]
本発明で用いられるコアパターン２を現像するためのアルカリ溶液は、特に限定はなく、塩基性の有機溶媒や水溶液、それらの混合溶液が用いられる。アルカリ性水溶液の塩基としては、特に制限はないが、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩（アルカリ金属炭酸水素塩）；リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等のアルカリ金属リン酸塩；ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等のアルカリ金属ピロリン酸塩；四ホウ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム等のナトリウム塩；炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム等のアンモニウム塩；水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール、１，３−ジアミノプロパノール−２−モルホリン等の有機塩基などが挙げられる。
【００２４】
コアパターン２を現像で形成する方法としては、特に制限はないが、例えば、スプレー法、ディップ法、パドル法、スピン法、ブラッシング法、スクラッピング法等が挙げられる。また必要に応じてこれらの方法を併用してもよい。
【００２５】
これらアルカリ性水溶液の塩基は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
また、コアパターン形成に用いるアルカリ性水溶液のｐＨは、９〜１４であることが好ましく、１０〜１３であることがより好ましい。現像に用いるアルカリ性水溶液の温度は、下部クラッド層１形成用感光性樹脂層の溶解性に合わせて調節される。また、アルカリ性水溶液中には、界面活性剤、消泡剤等を混入させてもよい。
【００２６】
また、アルカリ性現像液は、アルカリ性水溶液と１種類以上の有機溶剤からなるアルカリ性準水系現像液であっても問題はない。アルカリ性準水系現像液のｐＨは、現像が十分にできる範囲でできるだけ小さくすることが好ましく、ｐＨ８〜１３であることが好ましく、ｐＨ９〜１２であることがより好ましい。
【００２７】
前記有機溶剤として、特に制限はないが、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール等のアルコール；アセトン、メチルエチルケトン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等のケトン；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等の多価アルコールアルキルエーテルなどが挙げられる。
【００２８】
これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。また、有機溶剤の濃度は、通常、２〜９０質量％であることが好ましく、アルカリ性準水系現像液の温度は下部クラッド層形成用感光性樹脂層の現像性に合わせて調節される。
また、アルカリ性準水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤等を少量混入させてもよい。
【００２９】
本発明で用いられるコアパターン現像後の熱処理の方法として、処理温度はコアパターンに発生している亀裂や断線の修復具合から、６０℃以上が好ましく、７０℃〜１２０℃の範囲がより好ましく、８０℃〜１００℃の範囲がさらに好ましい。熱処理時間は、５分以上が好ましく、５〜２０分の範囲がより好ましく、１０〜１５分の範囲で行うのがさらに好ましい。
熱処理方法としては箱型乾燥機やコンベヤー型乾燥機等が挙げられる。
【００３０】
下部クラッド層１、コア（コアパターン２）層、上部クラッド層３（以下、各層と略記）を形成する方法として、特に制限はないが、例えば、各層形成用感光性樹脂組成物を用いてスピンコート法、ディップコート法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、カーテンコート法、グラビアコート法、スクリーンコート法、インクジェットコート法等により塗布する方法が挙げられる。
【００３１】
各層形成用感光性樹脂組成物が、好適な有機溶剤で希釈された各層形成用感光性樹脂ワニスである場合は、必要に応じて樹脂層を形成後に、乾燥する工程を入れてもよい。乾燥方法としては、例えば、加熱乾燥、減圧乾燥等が挙げられる。また必要に応じてこれらを併用してもよい。
【００３２】
各層を形成するその他の方法として、各層形成用感光性樹脂組成物からなる各層形成用感光性樹脂フィルムを用いて積層法により形成する方法が挙げられる。なお、各層形成用感光性樹脂フィルムは後に詳述するように、通常、支持フィルムの上に各層形成用感光性樹脂組成物を塗布し、その上に保護フィルムを積層する３層構成のものが好適に用いられる。
生産性に優れた光導波路製造プロセスが提供可能という観点、各層形成用感光性樹脂フィルムの表面平滑性と厚みを一定に保ちやすいという観点から、上述のような各層形成用感光性樹脂フィルムを用いて積層法により製造する方法が好ましい。
各層形成用感光性樹脂組成物からなる各層形成用感光性樹脂フィルムを用いた積層法としては、保護フィルムを剥離除去した後に、常圧ロールラミネータ、真空ロールラミネータ、常圧平板ラミネータ、真空平板ラミネータ等が好適に挙げられる。
【００３３】
以下、本発明に用いられる感光性樹脂組成物について説明する。
クラッド層（下部クラッド層１・上部クラッド層３）、コア層（コアパターン２）形成用感光性樹脂組成物は、所望のパターンを露光後にアルカリ性現像液を用いて現像する観点からフェノール性ヒドロキシル基、スルホニル基、カルボキシル基等を有する化合物を含む樹脂組成物であることが好ましい。
【００３４】
その中でも、透明性、耐熱性、保存安定性の観点から、（Ａ）カルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー、（Ｂ）重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含む光導波路形成用感光性樹脂組成物であることが好ましい。
【００３５】
以下、本発明に用いられる（Ａ）成分のカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーについて説明する。
（Ａ）成分のカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーとして、特に制限はないが、例えば、下記（１）〜（６）で表されるポリマー等が挙げられる。
（１）分子中にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物と、それ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物を共重合して得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
（２）分子中にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物と、それ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物の共重合体に、側鎖にエチレン性不飽和基を部分的に導入して得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
（３）分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物と、それ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物の共重合体に、分子中にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させ、生成したヒドロキシル基に多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
（４）エチレン性不飽和基を有する酸無水物と、それ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物の共重合体に、分子中にヒドロキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させて得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
（５）２官能エポキシ樹脂と、ジカルボン酸又は２官能フェノール化合物の重付加体に、多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
（６）２官能オキセタン化合物と、ジカルボン酸又は２官能フェノール化合物の重付加体のヒドロキシル基に、多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
【００３６】
これらの中で、透明性、アルカリ性現像液への溶解性の観点から、上記（１）〜（４）で表されるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーであることが好ましい。なお、これらのポリマーは（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリルポリマーである。ここで、（メタ）アクリロイル基とはアクリロイル基又はメタクリロイル基を、（メタ）アクリルポリマーとは、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、及びこれらの誘導体を単量体とし、これを重合してなるポリマーをいう。
該（メタ）アクリルポリマーは、上記単量体の単独重合体であってもよいし、また、これらのモノマーの２種以上を重合させた共重合体であってもよい。さらには、本発明の効果を阻害しない範囲で、上記のモノマーと、必要に応じて（メタ）アクリロイル基以外のエチレン性不飽和基を有する上記以外のモノマーとを含む共重合体であってもよい。また、複数の（メタ）アクリルポリマーの混合物であってもよい。
【００３７】
（Ａ）成分のカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーの重量平均分子量は、１，０００〜３，０００，０００であることが好ましい。１，０００以上であれば分子量が大きいため樹脂組成物とした場合の硬化物の強度が十分で、３，０００，０００以下であれば、アルカリ性水溶液からなる現像液に対する溶解性や（Ｂ）重合性化合物との相溶性が良好である。
以上の観点から、（Ａ）成分の重量平均分子量は３，０００〜２，０００，０００とすることがより好ましく、５，０００〜１，０００，０００であることがさらに好ましい。
なお、本発明における重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定し、標準ポリスチレン換算した値である。
【００３８】
（Ａ）成分のカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーは、現像によりパターンを形成する工程において、前記アルカリ性現像液により現像可能となるように酸価を規定することができる。例えば、前記アルカリ性水溶液を用いる場合には、酸価が２０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。
【００３９】
２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であれば現像が容易で、３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であれば耐現像液性が低下することがない。以上の観点から、酸価は３０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、４０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましい。
なお、耐現像液性とは、現像により除去されずにパターンとなる部分が、現像液によって侵されない性質をいう。
【００４０】
また、アルカリ性水溶液と１種以上の有機溶剤からなるアルカリ性準水系現像液を用いる場合には、酸価が１０〜２６０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であれば現像が容易で、２６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であれば耐現像液性が低下することがない。以上の観点から、酸価は２０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、３０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましい。
【００４１】
（Ａ）成分の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して、１０〜８５質量％であることが好ましい。１０質量％以上であれば、光導波路形成用感光性樹脂組成物の硬化物の強度や可撓性が十分で、８５質量％以下であれば、露光時に（Ｂ）成分によって絡め込まれて容易に硬化し、耐現像液性が不足することがない。以上の観点から、（Ａ）成分の配合量は２０〜８０質量％であることがより好ましく、２５〜７５質量％であることがさらに好ましい。
【００４２】
以下、本発明に用いられる（Ｂ）成分の重合性化合物について説明する。
（Ｂ）成分の重合性化合物として、特に制限はなく、例えば、エチレン性不飽和基等の重合性置換基を有する化合物や分子内に２つ以上のエポキシ基を有する化合物等が好適に挙げられる。
【００４３】
具体的には、（メタ）アクリレート、ハロゲン化ビニリデン、ビニルエーテル、ビニルエステル、ビニルピリジン、ビニルアミド、アリール化ビニル等が挙げられるが、これらのうち透明性の観点から、（メタ）アクリレートやアリール化ビニルであることが好ましい。（メタ）アクリレートとして、単官能のもの、２官能のもの又は３官能以上の多官能のもののいずれも用いることができる。
【００４４】
単官能（メタ）アクリレートとしては、特に制限はなく、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチルヘプチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等の脂肪族（メタ）アクリレート；シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等の脂環式（メタ）アクリレート；フェニル（メタ）アクリレート、ノニルフェニル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェニル（メタ）アクリレート、ｏ−ビフェニル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（ｏ−フェニルフェノキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（１−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（２−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート；２−テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−Ｎ−カルバゾール等の複素環式（メタ）アクリレート；これらのエトキシ化体；これらのプロポキシ化体；これらのエトキシ化プロポキシ化体；これらのカプロラクトン変性体などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、上記脂環式（メタ）アクリレート；上記複素環式（メタ）アクリレート；これらのエトキシ化体；これらのプロポキシ化体；これらのエトキシ化プロポキシ化体；これらのカプロラクトン変性体であることが好ましい。
【００４５】
２官能（メタ）アクリレートとしては、特に制限はなく、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート等の脂肪族（メタ）アクリレート；シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート等の脂環式（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、フルオレン型ジ（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート；イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート等の複素環式（メタ）アクリレート；これらのエトキシ化体；これらのプロポキシ化体；これらのエトキシ化プロポキシ化体；これらのカプロラクトン変性体；ネオペンチルグリコール型エポキシ（メタ）アクリレート等の脂肪族エポキシ（メタ）アクリレート；シクロヘキサンジメタノール型エポキシ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレート等の脂環式エポキシ（メタ）アクリレート；レゾルシノール型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦ型エポキシ（メタ）アクリレート、フルオレン型エポキシ（メタ）アクリレート等の芳香族エポキシ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、上記脂環式（メタ）アクリレート；上記芳香族（メタ）アクリレート；上記複素環式（メタ）アクリレート；これらのエトキシ化体；これらのプロポキシ化体；これらのエトキシ化プロポキシ化体；これらのカプロラクトン変性体；上記脂環式エポキシ（メタ）アクリレート；上記芳香族エポキシ（メタ）アクリレートであることが好ましい。
【００４６】
３官能以上の多官能（メタ）アクリレートとしては、特に制限はなく、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の脂肪族（メタ）アクリレート；イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート等の複素環式（メタ）アクリレート；これらのエトキシ化体；これらのプロポキシ化体；これらのエトキシ化プロポキシ化体；これらのカプロラクトン変性体；フェノールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、クレゾールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート等の芳香族エポキシ（メタ）アクリレートが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、上記複素環式（メタ）アクリレート；これらのエトキシ化体；これらのプロポキシ化体；これらのエトキシ化プロポキシ化体；これらのカプロラクトン変性体；上記芳香族エポキシ（メタ）アクリレートであることが好ましい。
【００４７】
上述の単官能（メタ）アクリレート、２官能（メタ）アクリレート、３官能以上の多官能（メタ）アクリレートは、それぞれ、単独又は２種類以上組み合わせて使用することができる。また、官能基数の異なる（メタ）アクリレートを組み合わせて用いることもできる。さらにその他の重合性化合物と組み合わせて使用することもできる。
【００４８】
また、前記（メタ）アクリレート以外に好ましい（Ｂ）重合性化合物として、（Ａ）カルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーとの相溶性の観点から、分子内に２つ以上のエポキシ基を有する化合物を含むものも挙げられる。
【００４９】
具体的には、ヒドロキノン型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、カテコール型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂等の２官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、水添２，２´−ビフェノール型エポキシ樹脂、水添４，４´−ビフェノール型エポキシ樹脂等の水添２官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−クレゾール型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂等の３官能以上の多官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；ポリエチレングリコール型エポキシ樹脂、ポリプロピレングリコール型エポキシ樹脂、ネオペンチルグリコール型エポキシ樹脂、１，６−ヘキサンジオール型エポキシ樹脂等の２官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；シクロヘキサンジオール型エポキシ樹脂、シクロヘキサンジメタノール型エポキシ樹脂、トリシクロデカンジメタノール型エポキシ樹脂等の２官能脂環式アルコールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂、ソルビトール型エポキシ樹脂、グリセリン型エポキシ樹脂等の３官能以上の多官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；フタル酸ジグリシジルエステル等の２官能芳香族グリシジルエステル；テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等の２官能脂環式グリシジルエステル；Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルトリフルオロメチルアニリン等の２官能芳香族グリシジルアミン；Ｎ，Ｎ，Ｎ´，Ｎ´−テトラグリシジル−４，４−ジアミノジフェニルメタン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−グリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，ｏ−トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール等の３官能以上の多官能芳香族グリシジルアミン；アリサイクリックジエポキシアセタール、アリサイクリックジエポキシアジペート、アリサイクリックジエポキシカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド等の２官能脂環式エポキシ樹脂；２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加体等の３官能以上の多官能脂環式エポキシ樹脂；トリグリシジルイソシアヌレート等の３官能以上の多官能複素環式エポキシ樹脂；オルガノポリシロキサン型エポキシ樹脂等のケイ素含有２官能又は３官能以上の多官能エポキシ樹脂などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、上記２官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記水添２官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記３官能以上の多官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記２官能脂環式アルコールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記２官能芳香族グリシジルエステル型エポキシ樹脂；上記２官能脂環式グリシジルエステル型エポキシ樹脂；上記２官能脂環式エポキシ樹脂；上記多官能脂環式エポキシ樹脂；上記多官能複素環式エポキシ樹脂；上記２官能又は多官能ケイ素含有エポキシ樹脂であることが好ましい。
以上の化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができ、さらにその他の重合性化合物と組み合わせて使用することもできる。
【００５０】
（Ｂ）成分の重合性化合物の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して、１５〜９０質量％であることが好ましい。１５質量％以上であれば、（Ａ）成分のカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーを絡みこんで硬化することが容易で、耐現像液性が不足することがなく、９０質量％以下であれば、硬化フィルムのフィルム強度や可撓性が十分である。以上の観点から、（Ｂ）成分の配合量は２０〜８０質量％であることがより好ましく、２５〜７５質量％であることがさらに好ましい。
【００５１】
以下、本発明に用いられる（Ｃ）成分の光重合開始剤について説明する。
（Ｃ）成分の光重合開始剤として、紫外線などの活性光線の照射によって重合を開始させるものであれば特に制限はなく、例えば、（Ｂ）成分の重合性化合物としてエチレン性不飽和基を有する化合物を用いる場合、光ラジカル重合開始剤等が挙げられる。
【００５２】
光ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンゾインケタール；１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オン等のα−ヒドロキシケトン；フェニルグリオキシル酸メチル、フェニルグリオキシル酸エチル、オキシフェニル酢酸２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル、オキシフェニル酢酸２−（２−オキソ−２−フェニルアセトキシエトキシ）エチル等のグリオキシエステル；２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリン−４−イルフェニル）−ブタン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イルフェニル）−ブタン−１−オン、１，２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−（４−モルフォリン）−２−イルプロパン−１−オン等のα−アミノケトン；１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ），２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等のオキシムエステル；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等のホスフィンオキシド；２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ´−テトラメチル−４，４´−ジアミノベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ´−テトラエチル−４，４´−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４´−ジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物；２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントラキノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２，３−ジメチルアントラキノン等のキノン化合物；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル；ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物；ベンジルジメチルケタール等のベンジル化合物；９−フェニルアク���ジン、１，７−ビス（９，９´−アクリジニルヘプタン）等のアクリジン化合物：Ｎ−フェニルグリシン、クマリンなどが挙げられる。
また、前記２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体において、２つのトリアリールイミダゾール部位のアリール基の置換基は、同一で対称な化合物を与えてもよく、相違して非対称な化合物を与えてもよい。
以上の光ラジカル重合開始剤は、単独で又は２種類以上組み合わせて用いることができる。さらに、適切な増感剤と組み合わせて用いることもできる。
【００５３】
また、（Ｂ）成分の重合性化合物としてエポキシ樹脂を用いる場合、（Ｃ）成分の光重合開始剤として、光カチオン重合開始剤等が挙げられる。
【００５４】
光カチオン重合開始剤として、ｐ−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート等のアリールジアゾニウム塩；ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等のジアリールヨードニウム塩；トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムペンタフルオロヒドロキシアンチモネート等のトリアリールスルホニウム塩；トリフェニルセレノニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルセレノニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルセレノニウムヘキサフルオロアンチモネート等のトリアリールセレノニウム塩；ジメチルフェナシルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジエチルフェナシルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等のジアルキルフェナシルスルホニウム塩；４−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−ヒドロキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等のジアルキル−４−ヒドロキシ塩；α−ヒドロキシメチルベンゾインスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシイミドスルホネート、α−スルホニロキシケトン、β−スルホニロキシケトン等のスルホン酸エステルなどが挙げられる。
【００５５】
これらの中で、硬化性、透明性、及び耐熱性の観点から、上記トリアリールスルホニウム塩であることが好ましい。
これらの熱及び光カチオン重合開始剤は、単独で又は２種類以上組み合わせて用いることができる。さらに適切な増感剤と組み合わせて用いることもできる。
【００５６】
（Ｃ）成分の重合開始剤の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましい。０．１質量部以上であれば、硬化が十分であり、１０質量部以下であれば十分な光透過性が得られる。以上の観点から、（Ｃ）成分の配合量は０．３〜７質量部であることがより好ましく、０．５〜５質量部であることがさらに好ましい。
【００５７】
また、この他に必要に応じて、本発明に用いられる各層形成用感光性樹脂組成物中には、酸化防止剤、黄変防止剤、紫外線吸収剤、可視光吸収剤、着色剤、可塑剤、安定剤、充填剤などのいわゆる添加剤を添加してもよい。
【００５８】
以下、本発明に用いられる各層形成用感光性樹脂組成物について説明する。
本発明に用いられる各層形成用感光性樹脂組成物は、好適な有機溶剤を用いて希釈し、各層形成用感光性樹脂ワニスとして使用してもよい。ここで用いる有機溶剤として、該樹脂組成物を溶解しえるものであれば特に制限はなく、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、ｐ−シメン等の芳香族炭化水素；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等の環状エーテル；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等のケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン等のエステル；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等の炭酸エステル；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル等の多価アルコールアルキルエーテル；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の多価アルコールアルキルエーテルアセテート；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミドなどが挙げられる。
これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
また、樹脂ワニス中の固形分濃度は、通常２０〜８０質量％であることが好ましい。
【００５９】
以下、本発明に用いられる各層形成用感光性樹脂フィルムについて説明する。
本発明に用いられる各層形成用感光性樹脂フィルムは、前記各層形成用感光性樹脂組成物からなり、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有する各層形成用感光性樹脂ワニスを好適な支持フィルムに塗布し、溶媒を除去することにより容易に製造することができる。また各層形成用感光性樹脂組成物を直接支持フィルムに塗布して製造してもよい。
【００６０】
支持フィルムとして、特に制限はないが、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン；ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン、液晶ポリマー等が挙げられる。
【００６１】
これらの中で、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホンであることが好ましい。
【００６２】
さらに、露光用活性光線の透過率向上及びコアパターン２の側壁荒れ低減の観点から、高透明タイプな支持フィルムを用いることがより好ましい。このような高透明タイプな支持フィルムとして、東洋紡株式会社製コスモシャインＡ１５１７、コスモシャインＡ４１００が挙げられる。
なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物等により離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
【００６３】
支持フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、３〜２５０μｍであることが好ましい。３μｍ以上であればフィルム強度が十分であり、２５０μｍ以下であれば十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、５〜２００μｍであることがより好ましく、７〜１５０μｍであることがさらに好ましい。
【００６４】
その中でも、コアパターン形成用感光性樹脂フィルムに用いられる支持フィルムの厚みは、５〜５０μｍであることが好ましい。５μｍ以上であれば、支持体としての強度が十分であり、５０μｍ以下であれば、コアパターン２形成時にフォトマスクとコアパターン形成用感光性樹脂組成物層のギャップが大きくならず、パターン形成性が良好である。以上の観点から、コアパターン形成用感光性樹脂フィルムに用いられる支持フィルムの厚みは１０〜４０μｍであることがより好ましく、１５〜３０μｍであることがさらに好ましい。
【００６５】
支持フィルム上にコアパターン形成用感光性樹脂ワニス又はコアパターン形成用感光性樹脂組成物を塗布して製造した感光性樹脂フィルムは、必要に応じて保護フィルムを樹脂層上に貼り付け、支持フィルム、樹脂層及び保護フィルムからなる３層構造としてもよい。
【００６６】
保護フィルムとしては、特に制限はないが、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン等が好適に挙げられる。
【００６７】
なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物等により離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。保護フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、１０〜２５０μｍであることが好ましい。１０μｍ以上であればフィルム強度が十分であり、２５０μｍ以下であれば十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、１５〜２００μｍであることがより好ましく、２０〜１５０μｍであることがさらに好ましい。
【００６８】
本発明に用いられる各層形成用感光性樹脂フィルムの樹脂層の厚みについては特に制限はないが、乾燥後の厚みで、通常は５〜５００μｍであることが好ましい。５μｍ以上であれば、厚みが十分であるため樹脂フィルム又は樹脂フィルムの硬化物の強度が十分であり、５００μｍ以下であれば、乾燥が十分に行えるため樹脂フィルム中の残留溶媒量が増えることなく、樹脂フィルムの硬化物を加熱したときに発泡することがない。
【００６９】
このようにして得られた各層形成用感光性樹脂フィルムは、例えばロール状に巻き取ることによって容易に保存することができる。又はロール状のフィルムを好適なサイズに切り出して、シート状にして保存することもできる。
【実施例】
【００７０】
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されない。
【００７１】
実施例１
（光導波路の作製）
基板としての厚さ；２５μｍ、縦１００ｍｍ、横１００ｍｍサイズのポリイミド基板（東レ・デュポン株式会社製、商品名；カプトンＥＮ、「カプトン」は登録商標。）上の全面に、保護フィルムを剥離した樹脂フィルムＡ（下部クラッド層形成用樹脂として使用、日立化成株式会社製、商品名；Ｃ７３、硬化後の屈折率：１．５３６）を、真空加圧式ラミネータ（商品名：ＭＶＬＰ−５００、株式会社名機製作所製）を用いて、５００Ｐａ以下に真空引きした後、圧力０．７ＭＰａ、温度７０℃、加圧時間３０秒の条件で加熱圧着した。その後、紫外線露光機（商品名：ＥＶ−８００、日立ビアメカニクス株式会社製）を用いて、ＰＥＴフィルム越しに紫外線（波長３６５ｎｍ）を１Ｊ／ｃｍ２照射し、その後、ＰＥＴフィルムを剥離し、１７０℃で１時間、加熱硬化して、１０μｍ厚みの下部クラッド層１を形成した。
【００７２】
次に、保護フィルムを剥離した樹脂フィルムＢ（コアパターン形成用樹脂層として使用、日立化成株式会社製、商品名；ＡＤ１９３、硬化後の屈折率：１．５５５）を、上記真空加圧式ラミネータを用いて、上記と同じ条件で下部クラッド層１上に加熱圧着した。その後、幅５０μｍ、長さ５０ｍｍの開口部を有するネガ型フォトマスクを介し、上記露光機を用いて（波長３６５ｎｍ）を３Ｊ／ｃｍ２照射し、その後、ＰＥＴフィルムを剥離し、１質量％の炭酸カリウム水溶液を用いて１５０秒の条件で現像し、次いで１質量％の硫酸水溶液で洗浄し、次いで純水で洗浄した。その後、熱処理工程として８５℃で１５分間の熱処理を行った。その後、露光工程として上記露光機を用いて（波長３６５ｎｍ）を４Ｊ／ｃｍ２照射して更なる光硬化を行ったあとに、１７０℃で１時間、加熱硬化して幅５０μｍ、厚さ５０μｍのコアパターン２を形成した。
【００７３】
次に、保護フィルムを剥離した樹脂フィルムＡ（保護層兼上部クラッド層形成用樹脂として使用、日立化成株式会社製、商品名；Ｃ７３、硬化後の屈折率：１．５３６）を、真空加圧式ラミネータ（商品名：ＭＶＬＰ−５００、株式会社名機製作所製）を用いて、５００Ｐａ以下に真空引きした後、圧力０．７ＭＰａ、温度７０℃、加圧時間３０秒の条件でコアパターン形成面側に、加熱圧着した。その後、外形加工の基準線のある遮光部を有するネガ型フォトマスクを介し、位置合わせし、上記紫外線露光機（商品名：ＥＶ−８００、日立ビアメカニクス株式会社製）を用いて、ＰＥＴフィルム越しに紫外線（波長３６５ｎｍ）を０．５Ｊ／ｃｍ２照射し、その後、ＰＥＴフィルムを剥離し、１質量％の炭酸カリウム水溶液を用いて現像し、次いで１質量％の塩化カルシウム水溶液で洗浄しその後純水を用いて洗浄した。さらに上記露光機を用いて紫外線（波長３６５ｎｍ）を４Ｊ／ｃｍ２照射したあとに、１７０℃で１時間、加熱硬化して、上部クラッド層３を形成した。
【００７４】
次に得られた光導波路の上部クラッド層３側からダイシングソー（ＤＡＣ５５２、ディスコ製）を用いて４５°の光路変換ミラー５を形成した。
【００７５】
次に矩形のダイシングブレードを備えたダイシングソー（ＤＡＣ５５２、株式会社ディスコ製）を用いて外形加工（光導波路の長さ１０ｍｍ）を行った、光路変換ミラー５から外形線上に設けたコアパターン２端面までの距離は１０ｍｍであった。
【００７６】
得られた光導波路の光路変換ミラー５からＧＩ５０の光ファイバを用いて８５０ｎｍの光を入射し、ＧＩ５０の受光用光ファイバを配置して、光損失を測定したところ、１．５ｄＢであった。
【００７７】
実施例２
実施例１においてコアの現像条件を１５０秒から１９０秒にした以外は同様の方法で光導波路を作製した。得られた光導波路を上記方法で光損失を測定したところ、１．６ｄＢであった。
【００７８】
比較例１
実施例１においてコアパターン形成後の熱処理工程を行わない以外は同様の方法で光導波路を作製した。得られた光導波路を上記方法で光損失を測定したところ、２．１ｄＢと悪化していた。
【００７９】
比較例２
実施例２においてコアパターン形成後の熱処理を行わない以外は同様の方法で光導波路を作製した。得られた光導波路を上記方法で光損失を測定したところ、２．５ｄＢと悪化していた。
以上の実施例１、２及び比較例１、２で得られた光損失の測定結果をまとめて表１に示した。
【００８０】
【表１】
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【００８１】
本発明の熱処理工程を有する光導波路の製造方法（実施例１、２）は、光損失が少なく、現像時間を変化させても光伝送特性に変化は見られず裕度が大きい。これに対し、熱処理工程を有さない比較例１、２は、光損失が大きく、現像時間に対する裕度が狭い。
【産業上の利用可能性】
【００８２】
本発明の光学部材の製造方法により、作業性向上が期待でき、より安価で低光損失な光導波路を提供できることから、反射防止部材、反射防止フィルム、各種光学フィルム、各種光学装置、光導波路部材、光電気複合部材、光ケーブル、光インターコネクションなどの幅広い分野に適用可能である。
【符号の説明】
【００８３】
１．下部クラッド層
２．コア層又はコアパターン
３．上部クラッド層
４．ベース基材（基板）
５．光路変換ミラー
【図１】
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【図２】
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