(57)【要約】      （修正有）【課題】標的に向かってビームを配向するための投影レンズアセンブリに関し、効率的なモジュール式構造化とメンテナンスとを可能にし、様々な導管の接続を最適化する。【解決手段】アセンブリは、面Ｐに広がり、接続領域５８と側方エッジ５６とを有するレンズ支持体５２を備える。レンズ支持体は、面Ｐに対して平行な挿入方向Ｘに沿った処理ユニットのフレーム４２内への挿入用に構成される。投影レンズアセンブリは、接続領域から起始する導管６０〜６４と、導管を収容するように構成された導管ガイド体７０〜８１とを備える。ガイド体は、側方エッジを越えて側方領域Ｂまで面Ｐに沿って接続領域から導管を案内するための第１のガイド部分７２を備える。また、ガイド体は、導管ガイド体の傾斜エッジ７９に向かって側方領域Ｂから導管を案内するための第２のガイド部分７８を備える。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
標的処理ユニット（１０）であって、
標的（３１）に向かうビームを発生させ、成形し、および配向する投影コラム（４６）であって、前記標的に前記ビームを配向するための投影レンズアセンブリ（５０）を備えた投影コラム（４６）と、
前記投影レンズアセンブリを収容するためのキャリアフレーム（４２）と、
ここで、前記投影レンズアセンブリ（５０）は、レンズ素子（５４）を収容するための平面レンズ支持体（５２）を備え、ここにおいて、前記平面レンズ支持体は、面（Ｐ）に広がり、接続領域（５８）と側方エッジ（５６）とを備え、前記平面レンズ支持体は、前記キャリアフレーム（４２）内へと前記面（Ｐ）に対して平行な挿入方向（Ｘ）に沿った挿入用に構成されるものであり、
前記接続領域から起始し、前記面に対して平行に配向された複数の導管（６０〜６４）と、
前記複数の導管を収容するように構成された導管ガイド体（７０）と、を備え、
前記導管ガイド体は、前記側方エッジを越えて側方領域（Ｂ）まで、前記面に対して平行におよび前記挿入方向（Ｘ）に対して垂直な非ゼロの方向成分を有して前記接続領域から前記導管を案内するように構成された第１のガイド部分（７２）と、
前記導管ガイド体の傾斜エッジ（７９）に向かって、前記面（Ｐ）に対して垂直な非ゼロの方向成分を有して前記側方領域（Ｂ）から前記導管を案内するための第２のガイド部分（７８）と、を備える、標的処理ユニット（１０）。
【請求項２】
前記キャリアフレーム（４２）は、前記投影レンズアセンブリの前記導管ガイド体（７０）の少なくとも一部に対して相補的な形状を有する切欠部（８２）を前記側方領域（Ｂ）に備える、請求項１に記載の標的処理ユニット（１０）。
【請求項３】
前記投影レンズアセンブリ（５０）と前記標的処理ユニットに設けられたソースデバイスおよび／または宛先デバイスとの間に電気接続および／または流体連通を確立するために、前記導管（６０〜６４）の遠位端部（６５）に接続するための相補コネクタ（４９）を備えるコネクタパネル（４８）を備える、請求項１または２に記載の標的処理ユニット（１０）。
【請求項４】
前記導管は、前記導管ガイド体（７０〜８１）の内部に収容され、前記導管ガイド体の外側は、前記挿入方向に沿って実質的に線対称である、請求項１から３のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
【請求項５】
前記導管は、局所的に平行な構成で前記導管ガイド体（７０〜８１）内に収容される、請求項１から４のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
【請求項６】
前記平面レンズ支持体（５２）、前記第１のガイド部分（７２）、ならびに前記平面レンズ支持体（５２）および前記第１のガイド部分（７２）により収容される前記導管（６０〜６４）の部分は、前記面（Ｐ）に対して平行な第１の面（Ｐ１）と前記面（Ｐ）に対して平行な第２の面（Ｐ２）との間に垂直方向（Ｚ）に完全に画定される、請求項１から５のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
【請求項７】
前記接続領域（５８）は、前記平面レンズ支持体の後方エッジ（５８）を形成する、前記請求項のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
【請求項８】
前記平面レンズ支持体（５２）は、前記挿入方向（Ｘ）に対して共に平行である２つの相対側方エッジ（５６、５７）を備える大体において多角形の剛性支持プレート（５２）を備え、前記後方エッジ（５８）は、前記挿入方向に対して少なくとも部分的に逆方向である方向を向く、請求項７に記載の標的処理ユニット（１０）。
【請求項９】
前記多角形の剛性支持プレート（５２）は、正五角形を有し、前記２つの相対側方エッジ（５６、５７）および前記後方エッジは、相互連結され、２つの残りのエッジは、中間に位置する角部に当接部材（５５）を有する先端部を形成する、請求項８に記載の標的処理ユニット（１０）。
【請求項１０】
前記導管ガイド体（７０〜８１）は、前記平面レンズ支持体（５２）の前記後方エッジ（５８）に沿って設けられ、前記第１のガイド部分（７２）は、前記面（Ｐ）内に配置されたおよび前記挿入方向（Ｘ）に対して共に平行である２つのさらなる相対側方エッジ（７４、７５）を備える大体において四辺形の剛性支持プレート（７３）を備える、請求項７から９のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
【請求項１１】
前記多角形の剛性支持プレート（５２）および／または四辺形の剛性支持プレート（７３）は、磁気遮蔽材料を備える、請求項８から１０のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
【請求項１２】
前記挿入方向（Ｘ）に沿っておよび前記面（Ｐ）に対して平行に前記キャリアフレーム（４２）内へと前記平面レンズ支持体（５２）を位置決めするために、前記多角形の剛性支持プレート（５２）の前記相対側方エッジ（５６、５７）に沿ってガイド部材（５９）を備える、請求項８または９に記載の標的処理ユニット（１０）。
【請求項１３】
各導管（６０〜６４）は、遠位導管端部（６５）に導管コネクタ（６６）を備え、前記導管コネクタは、前記面（Ｐ）から垂直に距離を置いて前記側方領域（Ｂ）に設けられたコネクタパネル（４８）上の相補コネクタ（４９）に接続するように構成される、前記請求項のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
【請求項１４】
コネクタパネル（４８）および相補コネクタ（４９）は、前記面（Ｐ）に対して垂直である垂直方向（Ｚ）に配置される、請求項２から１３のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
【請求項１５】
前記導管ガイド体は、スレッジ（８０）を備え、前記スレッジは、前記第２のガイド部分（７８）と前記第１のガイド部分（７２）の少なくとも一部とを備え、前記スレッジは、前記キャリアフレーム（４２）内へと前記スレッジを位置決めするために前記挿入方向（Ｘ）に沿ってスレッジガイド部材（８１）を備える、前記請求項のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
【請求項１６】
ビームブランカによるブランキング偏向を有する荷電粒子ビームレットを阻止し、前記ビームブランカによるブランキング偏向を有さない荷電粒子ビームレットを通過させるための開口アレイを備えるビームストップアレイと、
複数の荷電粒子ビームレットを通過させるための貫通開口部を備える支持要素と、
前記支持要素により支持される複数の電極と、
前記電極の上流におよび前記ビームブランカの下流に配置された偏向器ユニットと
を備え、
前記ビームストップアレイは、前記偏向器ユニットと前記電極との間に配置され、
前記電極は、前記投影レンズアセンブリの下流遠位エッジにより画定された面の中または付近に配置され、前記電極のそれぞれが、伝達された荷電粒子ビームレットに通路を与えるための前記貫通開口部に整列されたレンズ穴アレイを備える、前記請求項のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
【請求項１７】
標的（３１）に向かってビームを配向するための投影レンズアセンブリ（５０）であって、
レンズ素子（５４）を収容するための平面レンズ支持体（５２）と、ここで、前記平面レンズ支持体は、面（Ｐ）に広がり、接続領域（５８）と側方エッジ（５６）とを備え、前記平面レンズ支持体は、標的処理ユニット（１０）のキャリアフレーム（４２）内へと前記面（Ｐ）に対して平行な挿入方向（Ｘ）に沿った挿入用に構成されるものであり、
前記接続領域から起始し、前記面に対して平行に配向された複数の導管（６０〜６４）と、
前記複数の導管を収容するように構成された導管ガイド体（７０〜８１）と、を備え、
前記導管ガイド体は、前記側方エッジを越えて側方領域（Ｂ）まで、前記面に対して平行におよび前記挿入方向（Ｘ）に対して垂直な非ゼロの方向成分を有して前記接続領域から前記導管を案内するように構成された第１のガイド部分（７２）と、
前記導管ガイド体の傾斜エッジ（７９）に向かって、前記面（Ｐ）に対して垂直な非ゼロの方向成分を有して前記側方領域（Ｂ）から前記導管を案内するための第２のガイド部分（７８）と、を備える、投影レンズアセンブリ（５０）。
【請求項１８】
前記導管は、前記導管ガイド体（７０〜８１）の内部に収容され、前記導管ガイド体の外側は、前記挿入方向に沿って実質的に線対称である、請求項１７に記載の投影レンズアセンブリ。
【請求項１９】
前記導管（６０〜６４）は、局所的に平行な構成で前記導管ガイド体（７０〜８１）内に収容される、請求項１７または１８に記載の投影レンズアセンブリ。
【請求項２０】
前記平面レンズ支持体（５２）、前記第１のガイド部分（７２）、ならびに前記平面レンズ支持体（５２）により収容される前記導管（６０〜６４）の部分は、前記面（Ｐ）に対して平行な第１の面（Ｐ１）と第２の面（Ｐ２）との間に垂直方向（Ｚ）に完全に画定される、請求項１７から１９のいずれか一項に記載の投影レンズアセンブリ。
【請求項２１】
前記接続領域（５８）は、前記平面レンズ支持体の後方エッジ（５８）を形成する、請求項１７から２０のいずれか一項に記載の投影レンズアセンブリ。
【請求項２２】
前記平面レンズ支持体（５２）は、前記挿入方向（Ｘ）に対して共に平行である２つの相対側方エッジ（５６、５７）を備える大体において多角形の剛性支持プレート（５２）を備え、前記後方エッジ（５８）は、前記挿入方向に対して少なくとも部分的に逆方向である方向を向く、請求項２１に記載の投影レンズアセンブリ。
【請求項２３】
前記多角形の剛性支持プレート（５２）は、正五角形を有し、前記２つの相対側方エッジ（５６、５７）および前記後方エッジは、相互連結され、２つの残りのエッジは、中間に位置する角部に当接部材（５５）を有する先端部を形成する、請求項２２に記載の投影レンズアセンブリ。
【請求項２４】
前記導管ガイド体（７０〜８１）は、前記平面レンズ支持体（５２）の前記後方エッジ（５８）に沿って設けられ、前記第１のガイド部分（７２）は、前記面（Ｐ）内に配置されたおよび前記挿入方向（Ｘ）に対して共に平行である２つのさらなる相対側方エッジ（７４、７５）を備える大体において四辺形の剛性支持プレート（７３）を備える、請求項２１から２３のいずれか一項に記載の投影レンズアセンブリ。
【請求項２５】
前記多角形の剛性支持プレート（５２）および／または四辺形の剛性支持プレート（７３）は、磁気遮蔽材料を備える、請求項２２から２４のいずれか一項に記載の投影レンズアセンブリ。
【請求項２６】
前記挿入方向（Ｘ）に沿っておよび前記面（Ｐ）に対して平行に前記キャリアフレーム（４２）内へと前記平面レンズ支持体（５２）を位置決めするために、前記多角形の剛性支持プレート（５２）の前記相対側方エッジ（５６、５７）に沿ってガイド部材（５９）を備える、請求項２２または２３に記載の投影レンズアセンブリ。
【請求項２７】
各導管（６０〜６４）は、遠位導管端部（６５）に導管コネクタ（６６）を備え、前記導管コネクタは、前記面（Ｐ）から垂直に距離を置いて前記側方領域（Ｂ）に設けられたコネクタパネル（４８）上の相補コネクタ（４９）に接続するように構成される、請求項１７から２６のいずれか一項に記載の投影レンズアセンブリ。
【請求項２８】
前記導管ガイド体（７０〜８１）は、スレッジ（８０）を備え、前記スレッジは、前記第２のガイド部分（７８）と前記第１のガイド部分（７２）の少なくとも一部とを備え、前記スレッジは、前記キャリアフレーム（４２）内へと前記スレッジを位置決めするために前記挿入方向（Ｘ）に沿ってスレッジガイド部材（８１）を備える、請求項１７から２７のいずれか一項に記載の投影レンズアセンブリ。
【請求項２９】
ビームブランカ（１０２）によるブランキング偏向を有する荷電粒子ビームレット（４７）を阻止し、前記ビームブランカによるブランキング偏向を有さない荷電粒子ビームレットを通過させるための開口アレイを備えるビームストップアレイと、
複数の荷電粒子ビームレットを通過させるための貫通開口部を備える支持要素と、
前記支持要素により支持される複数の電極と、
前記電極の上流におよび前記ビームブランカの下流に配置された偏向器ユニットと
を備え、
前記ビームストップアレイは、前記偏向器ユニットと前記電極との間に配置され、
前記電極は、前記投影レンズアセンブリの下流遠位エッジにより画定された面の中または付近に配置され、前記電極のそれぞれが、伝達された荷電粒子ビームレットに通路を与えるための前記貫通開口部に整列されたレンズ穴アレイを備える、請求項１７から２８のいずれか一項に記載の投影レンズアセンブリ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般的には標的処理ユニットに関する。さらに、本発明は、標的処理ユニットで使用するための投影レンズアセンブリに関する。別の態様は、中間導管アセンブリと、標的処理ユニットの真空チャンバと、中間導管アセンブリを備える標的処理ユニットとに関する。
【背景技術】
【０００２】
電子機器の分野では、電子デバイス構成要素を機能的に一体化されたモジュールごとにグループ化することが、欠陥を有する構成要素の交換に必要とされる時間を短縮させる助けとなり得ると共に、これがかかるモジュール式デバイスの修理のためのダウンタイムをより短縮させることが知られている。モジュール式構成要素設計は、メンテナンス時間が短縮される結果として生産率の向上が実現され得るため、生産ラインで使用される電子デバイスについては特に望ましい。
【０００３】
荷電粒子ビーム処理デバイス等では、モジュール原理の実装は簡単ではない。この主な理由は、様々な粒子ビーム発生および操作ステージ（例えば、ビーム源、コリメータ、ビームスプリッタ、ビームブランカ、ビームストッパ、ビーム偏向器、およびレンズ素子など）が協働して、これらの各ステージを越えるビームを形成および制御するからである。コンピュータ設計者は、モジュール間のデータ／信号交換と、出力要件と、電磁適合性、および温度管理に関する課題を主に取り扱う。ビーム処理デバイスにモジュール原理を適用することは、上記のことに加えて、ビームアライメントの問題と、場較正と、モジュール間の機械的結合（切離し）とをさらに考慮する必要があるため、大幅により複雑である。さらに、全ての構成要素が、同一の粒子ビームを操作するために共に動作するため、高いビームアライメント精度（モジュールへの分割がより少ない）と高いメンテナンス効率（より多数のモジュール）との間の最適なバランスを実現するように、モジュールを形成すべき好ましい構成要素群を特定することは簡単ではない。
【０００４】
国際特許出願ＷＯ２０１３／０３７４８６は、鉛直方向に積層されたモジュールから熱的に安定化された整列された投影コラムを形成するための、ビーム露光システムのキャリアフレーム内での様々な投影モジュールの位置決めと平面整列とを論じている。
【０００５】
しかし、ＷＯ２０１３／０３７４８６は、投影モジュールのための詳細な構成を開示しておらず、かかる投影モジュール（例えば投影レンズ構成体など）に信号と流体とを供給しかかる投影モジュールから信号と流体とを放出する様々な導管の接続についての解決策を示していない。
【発明の概要】
【０００６】
投影コラムの効率的なモジュール式構造化とメンテナンスとを可能にすると共に、様々な導管の接続を最適化する、投影レンズ構成と標的を処理するためのリソグラフィユニットまたは検査ユニットとを提供することが望ましい。
【０００７】
したがって、第１の態様によれば、標的に向かって投影ビームを配向するための投影レンズアセンブリが提供される。この投影レンズアセンブリは、レンズ素子を収容するための平面レンズ支持体と、ここにおいて、レンズ支持体は、面に広がり、接続領域と側方エッジとを備え、レンズ支持体は、標的処理ユニットのキャリアフレーム内へと前述の面に対して平行な挿入方向に沿った挿入用に構成される；接続領域から起始し、前述の面に対して平行に配向された複数の導管と；導管を収容するように構成された導管ガイド体とを備え、導管ガイド体は、側方エッジを越えて側方領域まで、前述の面に対して平行におよび挿入方向に対して垂直な非ゼロの方向成分を有して接続領域から導管を案内するように構成された第１のガイド部分を備え、ガイド体は、導管ガイド体の傾斜エッジに向かって、前述の面に対して垂直な非ゼロの方向成分を有して側方領域から導管を案内するための第２のガイド部分を備える。
【０００８】
本明細書においては、「投影ビーム」または「ビーム」という用語は、荷電粒子（例えば電子もしくはイオン）流によりおよび／または光放射（例えばＸ線もしくはＵＶ放射）ビームにより形成され得る放射ビームを指す。「ビーム」および「ビームレット」という語は、互換的に使用され得るが、「ビームレット」という用語は、結果的に得られるビームがより大きな主要ビームから抽出されたものを示唆し得る（例えば複数の比較的小さな開口を有するマスクプレートを使用したより大きな電子ビームからの複数ビームレット抽出など）。
【０００９】
「導管」という用語は、本明細書においては広範な意味で使用され、それらの長さに対して比較的小さな断面を有するならびにソースデバイスと宛先デバイスとの間で物質および／またはエネルギーを搬送するように構成された、様々な種類の細長チューブ状構造体を範囲に含む。例示の導管は、電力および／または制御信号もしくは測定信号を搬送するための導電材料を備えるワイヤ（例えば単一ストランド）およびケーブル（例えばねじりストランド、同軸）と、光ファイバ（例えば光制御信号および／または測定信号を搬送するための）と、流体搬送チューブ（例えば冷却流体を搬送するための）とによって形成される。
【００１０】
第１のガイド部分は、レンズ支持体の側方エッジを越えて配置された側方領域に向かってレンズ支持体から離れるように側方におよび前述の面に対して平行に導管を案内する。第１のガイド部分は、レンズ支持体の直上および／または直下の空間が、阻害されず他の投影モジュールにとって利用可能に留まることを確保し、さらにこの他の投影モジュールは、標的処理ユニットのキャリアフレーム内に挿入方向に沿って直線状に挿入され得る。
【００１１】
第２のガイド部分は、結果的に得られる形状が挿入方向に沿って線対称を有する限りは、前述の面から離れるようにおよび前述の面の上方または下方の傾斜エッジに向かって導管の側表経路を配向させ得る様々な形状の中の任意の形状の一つを有し得る点に留意されたい。これは、斜め形状および／または湾曲形状を（挿入方向に対して垂直な面内への投影として描画される）含む。導管ガイド体の傾斜エッジに向かって前述の面に対して垂直な非ゼロの方向成分を有して側方領域から導管を案内することにより、導管の（好ましくは可撓性の）遠位端部は、挿入方向に対して平行な方向へと後に湾曲されて戻され得る。遠位導管端部は、近位導管端部から側方と鉛直方向の両方に変位される（すなわちレンズ支持体に配置される）が、投影レンズアセンブリ全体は、導管を接続するための必要に応じて、挿入方向に沿って同一の直線運動によりキャリアフレーム内に挿入され得る。換言すれば、導管端部は、キャリアフレームから投影レンズアセンブリを挿入／除去するための同一の方向に沿ってキャリアフレーム内で接続領域に接続され得るまたは接続領域から切断され得る。また、第２のガイド部分により、導管は、投影コラムに沿って大体において垂直方向（例えば鉛直方向）に前述の面から離れるように案内される間、最小幅を占め、それにより（投影コラムおよび導管に）必要とされる全幅が縮小される。
【００１２】
上記の結果として、オペレータまたはメンテナンスマシンが、片手を使用してレンズ支持体を容易に位置決め／除去すると共に、遠位導管端部をそれらの接続点に／から装着／除去するために他方の手を使用することができる。特許請求されるガイド構成体は、投影コラムのモジュール式の構造化とメンテナンスとを容易にし（結果として最小限のダウンタイムが得られる）、一方で同時に投影コラムの横方向寸法と投影コラム構成要素間の鉛直方向距離（およびしたがってさらには鉛直方向寸法）とを最小限に留めることを可能にする。
【００１３】
さらに、投影コラムの寸法を最小限に抑えることは、リソグラフィ、または処理に必要な真空要件が厳格であり処理ユニットにより占められる面積に対応する製造工場空間が非常に高額である他の標的処理用途において特に望ましい点に留意されたい。典型的には、鉛直方向空間は、水平方向空間よりも標的処理ユニットの処理真空チャンバ内でより容易に利用可能である。したがって、様々な導管が投影コラムに沿って鉛直方向に配置されたパネルコネクタへと挿入方向に沿った運動により接続（切断）されるのを可能にするケーブルガイド構成体を有する提案される投影レンズアセンブリは、メンテナンスを容易にし、製造工場空間関連する生産コストを削減する。
【００１４】
一実施形態によれば、導管は、導管ガイド体の内部に収容され、導管ガイド体の外側は、挿入方向に沿って実質的に線対称である。
【００１５】
ガイド体は、挿入方向に沿って大体において線対称であり、そのためレンズ支持体と導管ガイド体の両方は、キャリアフレームの上／中に設けられた（設けられ得る）相補的線対称切欠部または継手内に直線状に摺動され得る。
【００１６】
この線対称構成に導管同士を共に保持することは、投影レンズアセンブリの挿入および除去の最中に発生される機械摩擦を大幅に低減させる。「線対称」という用語は、本明細書においては広範な意味で使用される。ガイド体の線対称は、挿入方向に対して垂直なガイド部分の断面が、キャリアフレームの線対称切欠部の内部におよび／またはキャリアフレームと投影コラムの他のモジュールとの間に画成される空間内に常に適合する限りにおいては、ガイド部分の斜め形状または不規則形状をも範囲に含むように理解されるべきである。
【００１７】
一実施形態によれば、導管は、局所的平行構成でガイド体内に収容される。
【００１８】
本明細書においては、「局所的平行構成」という表現は、隣接し合う導管の局所的接線ベクトル（すなわち方向ベクトル）が同一方向を向いていることを示すために使用される。このようにすることで、導管同士は、ガイド体の内部で相互に交差せず、他の投影モジュールを挿入するために利用可能な投影レンズアセンブリの上方および／または下方の空間を最大化する最小高さのガイド体をもたらす。
【００１９】
一実施形態によれば、レンズ支持体、第１のガイド部分、およびレンズ支持体および第１のガイド部分により／内に収容された導管の部分は、前述の面に対して平行な第１の面と第２の面との間で垂直方向に完全に画定される。
【００２０】
このようにすることで、レンズ支持体および第１のガイド部分（導管を収容する）の高さは、平坦構成に導管を限定しつつ組み合わされた重量を担持するために必要とされる支持体の厚さに加えた、導管の典型的な直径に対応する必要な厚さのみへと最小限に抑制される。
【００２１】
好ましくは、接続領域は、レンズ支持体の後方エッジを形成する。
【００２２】
一実施形態によれば、レンズ支持体は、挿入方向に対して共に平行である２つの相対側方エッジを備える大体において多角形の剛性支持プレートを備え、後方エッジは、挿入方向に対して少なくとも部分的に逆方向である方向を向く。
【００２３】
本明細書においては、「大体において多角形の剛性支持プレート」という用語は、レンズキャリアプレートの主要形状が多角形であるが、例えばガイド部材、固定部材、および／または当接部材などに使用される小突出部がレンズキャリアプレートの一部を形成し得ることを示すために使用される。
【００２４】
さらなる実施形態によれば、多角形剛性支持プレートは、正五角形形状を有し、２つの相対側方エッジおよび後方エッジは、相互連結され、２つの残りのエッジは、中間に位置する角部に当接部材を有する先端部を形成する。好ましくは、２つの相対側方エッジは、相互に平行であり、挿入方向に沿って延在する。
【００２５】
キャリアフレーム内におけるモジュールプレートの３点整列方法および対応するシステムが、国際出願ＷＯ２０１３／０３７４８６において開示されている。剛性支持プレートの中間に位置する角部に当接部材を有する先端部は、キャリアフレーム内にレンズ支持体を直線状に挿入しつつ、この体の前端部を整列させるために効率的に使用され得る。
【００２６】
一実施形態によれば、導管ガイド体は、レンズ支持体の後方エッジに沿って設けられ、第１のガイド部分は、先述の面内に配置されるおよび挿入方向に対して共に平行である２つのさらなる相対側方エッジを備える大体において四辺形の剛性支持プレートを備える。
【００２７】
本明細書においては、「大体において四辺形の剛性支持プレート」という用語は、支持プレートの主要形状が四辺多角形を有する／であるが、例えばガイド部材、固定部材、および／または当接部材などに使用される小突出部が支持プレートの一部を形成し得ることを示すために使用される。多角形剛性支持プレートの後方エッジにおける正四辺形剛性支持プレートのこの提案される構成は、これらの支持プレート間の信頼性の高い同一平面接続を可能にし、相対側方エッジおよびさらなる相対側方エッジは、投影レンズアセンブリの直線状挿入のための低摩擦軸受機構を提供するためにキャリアフレームと効率的に協働し得る。
【００２８】
好ましくは、支持プレートの２つの相対側方エッジおよびさらなる相対側方エッジは、相互に平行であり、挿入方向に沿って延在する。特に、さらなる相対側方エッジは、好ましくは隣接する相対側方エッジの（平行）延長部を形成し得る。これに対応して、標的処理ユニットのキャリアフレーム内に設けられるレンズアセンブリのための収容空間は、隣接するおよびさらなる側方支持プレートエッジが挿入中に摺動され得る挿入方向に沿って直線状側方当接領域を備え得る。直線状プレートエッジ構成は、レンズアセンブリの容易な挿入および整列を補助する。
【００２９】
さらなる実施形態によれば、多角形剛性支持プレートおよび／または四辺形剛性支持プレートは、磁気遮蔽材料を備える。
【００３０】
キャリアフレームは、標的に対面する下方側部が開いていてもよい。投影レンズアセンブリが標的の最も近くに投影要素を構成する投影コラムについては、提案される投影レンズアセンブリは、導管中の電流により発生される任意の漂遊磁場から標的領域を磁気的に遮蔽するまたは外部漂遊磁場から投影レンズ領域を遮蔽する機能に、レンズ素子を担持するおよび／または導管を担持および案内する機能を効率的に組み合わせる。
【００３１】
さらなる実施形態によれば、投影レンズアセンブリは、挿入方向に沿っておよび前述の面に対して平行にキャリアフレーム内へとレンズフレームを位置決めするために、多角形剛性支持プレートの相対側方エッジに沿ってガイド部材を備える。
【００３２】
ガイド部材としては、例えば摺動軸受（レール）、ホイール、またはリニアボールベアリングがあり得る。四辺形剛性支持プレートのさらなる相対側方エッジは、挿入方向に沿ってキャリアフレーム内にレンズフレームを位置決めするためのさらなるガイド部材（上記の例と同様の）を備えてもよい。
【００３３】
実施形態によれば、各導管は、遠位導管端部に導管コネクタを備え、導管コネクタは、前述の面から垂直に距離を置いて側方領域に設けられたコネクタパネル上の対応するパネルコネクタに接続するように構成される。
【００３４】
導管は、フレーム体の後方エッジから近位導管部分により起始し、一方で導管の対向側端部（すなわち「遠位導管端部」）の部分は、コネクタを備える。典型的には、荷電粒子ビーム投影機では、光学コラムおよび投影レンズアセンブリの側部への側方領域内における電気接続部および他の接続部のための余地が存在する。導管コネクタパネルが、かかる側方領域に設けられてもよい。本明細書において上述したように、導管は、垂直方向に（側方領域内で）案内され、したがって好ましくは全横寸法を最小限に抑えるために側方領域内に設けられ投影コラムに沿って鉛直方向に配向されたコネクタパネルに接続される。オペレータおよびメンテナンスマシンが、片手を使用してレンズ支持体を容易に位置決め／除去すると共に、コネクタパネルに／からコネクタを接続／切断するために他方の手を使用することができる。
【００３５】
一実施形態によれば、導管ガイド体は、スレッジを備え、スレッジは、第２のガイド部分と第１のガイド部分の少なくとも一部とを備え、スレッジは、キャリアフレーム内へとスレッジを位置決めするために挿入方向に沿ってスレッジガイド部材を備える。
【００３６】
好ましくは、スレッジガイド部材は、スレッジの下方側部に設けられる。
【００３７】
スレッジ内に側方導管部分および鉛直方向導管部分を収容することは、挿入方向に沿って線対称に形成され得る所定の環境内に導管部分を画定する。
【００３８】
したがって、キャリアフレーム内に投影レンズアセンブリを挿入（または除去）する間に導管の運動により引き起こされる摩擦は、著しく低減される。
【００３９】
様々な実施形態によれば、投影レンズアセンブリは、標的の像平面上に単一の荷電粒子ビームを配向するために、または像平面上に複数の荷電粒子ビーム（例えば「ビームレット」）の空間分布を配向するためのいずれかに構成され得る。
【００４０】
一実施形態によれば、投影レンズアセンブリは、ビームブランカによるブランキング偏向を有する荷電粒子ビーム（レット）を阻止し、前記ビームブランカによるブランキング偏向を有さない荷電粒子ビーム（レット）を通過させるための開口アレイを備えるビームストップアレイと；荷電粒子ビーム（レット）を通過させるための貫通開口部を備える支持要素と；前記支持要素により支持される複数の電極と、ここにおいて、電極は、投影レンズアセンブリの下流遠位エッジにより画定された面の中または付近に配置され、前記電極のそれぞれが、伝達された荷電粒子ビーム（レット）に通路を与えるための貫通開口部に整列されたレンズ穴アレイを備える；前記電極の上流におよび前記ビームブランカの下流に配置された偏向器ユニットとを備え、前記ビームストップアレイは、前記偏向器ユニットと前記電極との間に配置される。
【００４１】
第２の態様によれば、および本明細書において上述された利点および効果によれば、標的に向かうビームを発生させる、成形する、および配向するための投影コラムと、ここにおいて、投影コラムは、第１の態様によれば投影レンズアセンブリを備える；投影レンズアセンブリを収容するためのキャリアフレームとを備える、標的処理ユニットが提供される。
【００４２】
標的処理ユニットの大多数のサブシステムは、好ましくは独立型除去可能モジュールで構成され、そのため他のサブシステムに対して可能な限り少ない干渉を伴いつつ標的処理ユニットから除去され得る。
【００４３】
一実施形態によれば、キャリアフレームは、投影レンズアセンブリの導管ガイド体と相補的な形状を有する切欠部を側方領域に備える。
【００４４】
相補形状切欠部は、導管ガイド体を収容するための空間を形成する。切欠部は、挿入方向に沿って線対称でもある切欠プロファイルを有するキャリアフレーム内に延在する。これは、位置決め安定性および精度を高める。
【００４５】
代替的な一実施形態では、キャリアフレームは、投影レンズアセンブリの導管ガイド体の当接表面に相補的な形状を有する壁部表面部分を側方領域に備える。導管ガイド体は、キャリアフレームの内部に収容される代わりに、挿入された位置でキャリアフレームに対接して位置決めされ得る。
【００４６】
一実施形態によれば、標的処理ユニットは、投影レンズアセンブリと標的処理ユニットに設けられたソースデバイスおよび／または宛先デバイスとの間に電気接続および／または流体連通を確立するために、導管の遠位端部に接続するための相補コネクタを備えるコネクタパネルを備える。
【００４７】
さらなる実施形態によれば、コネクタパネルおよび相補コネクタは、前述の面に対して垂直である垂直方向に配置される。
【００４８】
以下、対応する参照符号が対応するパーツを示す添付の概略図を参照として、もっぱら例として実施形態が説明される。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】標的処理ユニットの例示の一実施形態の概略斜視図。
【図２ａ】標的処理ユニットの例示の一実施形態の真空チャンバの正面図。
【図２ｂ】標的処理ユニットの例示の一実施形態におけるモジュール式投影コラムの概略図。
【図３ａ】投影レンズアセンブリの一実施形態の上面図。
【図３ｂ】投影レンズアセンブリの一実施形態の背面図。
【図４】標的処理ユニットの例示の一実施形態の投影レンズアセンブリおよびキャリアフレームの斜視図。
【図５ａ】投影レンズアセンブリの一実施形態の一部分の斜視図。
【図５ｂ】図５ａの実施形態の後方斜視詳細図である。
【図６】図１に示される実施形態と同様の標的処理ユニットの一実施形態に設けられる中間導管アセンブリの斜視図。
【図７】標的処理ユニットの一実施形態の概略斜視図。
【図８】標的処理ユニットの一実施形態のキャビネットの斜視図。
【図９】標的処理ユニットの一実施形態の真空チャンバの概略正面図。
【発明を実施するための形態】
【００５０】
これらの図面は、もっぱら例示を目的とするものであり、特許請求の範囲により規定されるような範囲または保護対象を限定する役割を果たすものではない。
【００５１】
図面では、様々な方向が、記載される物体の位置と、配向と、動きとを規定するために示される。図面に示され本明細書で説明される例示の実施形態では、Ｘは、例示の実施形態では投影レンズ構成体の挿入方向に対応する長手方向を示すために使用される。「前」および「後」などの前置語は、この長手方向Ｘに関するものである。さらに、Ｙは、長手方向Ｘに対して垂直である横方向（投影レンズ要素が広がる平面内）を示すために使用される。例示のリソグラフィユニットと、真空チャンバと、キャビネットとの使用中に、長手方向Ｘおよび横方向Ｙは、好ましくは水平に対して実質的に平行である面に延びる。「左／右」および「側方」という用語は、横方向Ｙに対応する。Ｚは、ＸおよびＹに対して直交である垂直方向（例えば鉛直方向）を示すために使用される。「上／下」および「上方／下方」という用語は、垂直方向Ｚに関するものである。本明細書で論じられる本発明のコンセプトは、これらの方向定義および好ましい配向に限定されない点を理解されたい。
リソグラフィユニット
図１は、リソグラフィユニット１０（または検査ユニット）などの例示の標的処理マシンの斜視図を概略的に示す。複数のかかるリソグラフィユニット１０が、リソグラフィユニットクラスタ（図示せず）を形成するために当接状態で横並びに配置され得る。リソグラフィユニット１０は、投影コラム４６（図２ａおよび図２ｂを参照）を収容するための真空チャンバ３０と（好ましくは下方側部に）、電子機器２２を収容するためのキャビネット１２と（好ましくは真空チャンバ３０の上方に位置決めされる上方側部に）を備える。電子機器２２は、真空チャンバ３０の内部に収容される投影コラムの部分を含むデバイスを制御するために使用され得る。リニア軸受部材（例えばレール）３８が、真空チャンバ３０の頂側部３２上に設けられて、真空チャンバ３０の頂部上へのキャビネット１２の位置決めを容易にするための、または真空チャンバ３０に対してキャビネット１２を前方へと補修位置に移動させるためのガイド機構を形成し得る。この構成では、真空チャンバ３０は、その頂部表面上に機器キャビネット１２の重量を支持する。
【００５２】
真空チャンバ３０は、真空ケーシング３９（外方層）と、支持ケーシング４０（中間層）と、キャリアフレーム４２を有するキャリアケーシング４１（最内領域）とを囲む。投影レンズアセンブリ５０が、真空チャンバ３０の内側のキャリアフレーム４２により収容される。以下、真空チャンバ３０および投影レンズアセンブリ５０の一実施形態が、図２ａおよび図２ｂを参照としてさらに詳細に説明される。
【００５３】
図１は、投影コラム４６の投影レンズアセンブリ５０部分のみを示す。キャリアケーシング４１は、例えば図２ａおよび図２ｂに示されるように投影コラム４６全体を収容するように構成される点を理解されたい。投影コラム４６のパーツは、電子機器２２になど標的処理ユニット１０内の他の機器またはデバイスに接続可能である。例えば、図１では、投影レンズアセンブリ５０は、導管６０、３７、３７ａ、３７ｂ、および２６を介して電子機器２２に接続される。導管は、ケーブル、ワイヤ、チューブ、および／またはファイバを含み得る。
【００５４】
投影レンズアセンブリ５０は、レンズ素子５４を収容するための平面レンズ支持体５２と、真空チャンバ３０の内部に設けられたコネクタパネル４８に向かってレンズ支持体５２から離れるように側方におよび上方に導管（６０〜６４、図３ａ〜図５ａを参照）を案内するための導管ガイド体とを備える。図１および図２ａに示されるように、コネクタパネル４８は、キャリアケーシング４１の内側の側方領域Ｂに設けられる。好ましくは、コネクタパネル４８は、キャリアケーシング４１の内方上方部分に機械的に固定される。代替的には、コネクタパネル４８は、別の適切な領域においてキャリアケーシング４１に装着されてもよい。コネクタパネル４８は、投影レンズアセンブリ５０と例えばキャビネット１２の内部に設けられた電子機器２２などの標的処理ユニット１０内の他の場所に設けられたソースデバイスおよび／または宛先デバイスとの間に電気接続、光学通信、および／または流体連通を確立するために、導管６０〜６４の遠位端部に接続するための相補コネクタを備える。この実施形態では、コネクタパネル４８およびその相補コネクタは、垂直方向Ｚに構成される。
【００５５】
投影レンズアセンブリ５０は、投影レンズアセンブリ５０がモジュール式ビーム投影コラム４６の一部を形成する位置である動作位置（図２ａ〜図２ｂを参照）をとるように、長手方向Ｘに対して平行である中心軸Ａに沿ってキャリアフレーム４２内に直線的に挿入可能である。投影コラム４６は、真空チャンバ３０の内部に収容された標的３１を処理（または検査）するために使用される１つまたは複数の処理ビームを発生および操作するように構成される。挿入可能な投影レンズアセンブリ５０と、導管６０〜６４と、コネクタパネル４８とを有するこの構成は、投影コラム４６のモジュール式の設置とメンテナンスとを一般的に容易にする。
【００５６】
図１に示されるように、中間導管３７は、コネクタパネル４８の後方側から起始し、真空チャンバ３０の頂側部３２に位置するアクセスポート３６へと大体において鉛直方向の軌道を介して真空チャンバ３０の内側で案内される。
【００５７】
中間導管３７は、支持ケーシング４０とキャリアケーシング４１との間に第１の可撓性湾曲中間部分３７ａを備える。第１の中間導管部分３７ａは、２つの装着部材またはアンカー３４ａ、３４ｂの間に延在する。第１の中間導管部分３７ａは、長手方向Ｘおよび垂直方向Ｚに少なくとも沿っておよび好ましくは全方向において支持ケーシング４０とキャリアケーシング４１との間に十分な振動／運動の分断を与える。典型的には、数マイクロメートルの支持ケーシング４０とキャリアケーシング４１との間の変位が、第１の可撓性部分３７ａにより容易に減衰され得る。
【００５８】
同様に、中間導管部分３７は、支持ケーシング４０と真空ケーシング３９との間に可撓性の湾曲した第２の中間部分３７ｂを備える。第２の中間導管部分３７ｂは、装着部材またはアンカー３４ａとアクセスポート３６との間に延在する。第２の中間導管部分３７ｂは、長手方向Ｘおよび垂直方向Ｚに少なくとも沿っておよび好ましくは全方向において支持ケーシング４０と真空ケーシング３９との間に十分な振動／運動の分断を与える。典型的には、数マイクロメートルの支持ケーシング４０と真空ケーシング３９との間の変位が、第２の中間導管部分３７ｂにより容易に減衰され得る。
【００５９】
以降では、コネクタパネル４８、中間導管部分３７、第１の装着部材３４ａ、第１の中間導管部分３７ａ、第２の装着部材３４ｂ、第２の中間導管部分３７ｂ、およびアクセスポート３６によって形成されるアセンブリは、「中間導管アセンブリ」１０８と呼ばれる。
【００６０】
真空チャンバ３０は、標的３１に対して実施される処理方法の実行に寄与する様々な機器、デバイス、および／または構成要素を含み得るまたは収容し得る。かかる機器／デバイス／構成要素は、それらの固有の制振および／または動き保証システムを備えてもよく、あるいは外部の機械的振動を被りにくくてもよい。また、かかる機器／デバイス／構成要素は、例えば電力、初期化／制御信号、もしくは冷却流体を受領するために、および／または測定信号もしくは他のフィードバックデータを送出するためになど、１つまたは複数の導管を介してキャビネット１２の内部の対応する電子機器２２に接続されてもよい。その一例が、投影コラム４６の下方に標的３１（例えばウェーハ）を位置決めするための標的位置決めシステムである。さらに、電子機器２２またはキャビネット１２内の他の機器は、標的処理ユニット１０の外部の（例えば下方に配置された）機器／デバイス／構成要素に接続されてもよい。
【００６１】
以降では、電子機器２２にまたはキャビネット１２内の他の機器に接続される機器／デバイス／構成要素は、「さらなる機器」と呼ばれる。さらなる機器に電子機器２２またはキャビネット１２内の他の機器を接続する制御ケーブル、導管、および／または配線は、「さらなる導管」と呼ばれる。
【００６２】
頂側部３２では、真空チャンバ３０が、連結壁部３５を備える凹状セクション３３を備える。連結壁部３５は、好ましくは頂側部３２の全幅にわたって延在し、典型的には垂直方向Ｚに沿って配向され、その一方で長手方向Ｘに向く（逆方向に）。連結壁部３５は、真空チャンバ３０から起始する中間導管３７を受けるおよび通過させるためのアクセスポート３６を備える。中間導管３７は、その後キャビネット１２の内部に案内され、キャビネット１２内に設けられた電子機器２２に接続される。代替的にはまたは追加的には、リソグラフィユニット１０は、複数のアクセスポートを、および／または真空チャンバ３０の頂側部３２の付近の後方側部に後方連結壁部を備えてもよい。この後方連結壁部は、中間導管３７の一部分を通過させるためのさらなるアクセスポートを、または真空チャンバの内部に収容されたさらなる機器／デバイス／構成要素に帰属する他の導管およびワイヤを有してもよい。
【００６３】
キャビネット１２は、壁部により形成された、およびキャビネット１２の内部へのアクセスを与える開口部を有する前方側部１３を有する、閉鎖可能ケーシングを典型的には備える。前方側部１３は、封止的にこの開口部を覆うための２つのドア１５を備える。壁部およびキャビネットドア１５は、開口のないパネルを備え、これらのパネルは、直方体形状を形成するように気密的に相互連結される。キャビネット１２は、内部を密閉し、１つまたは複数のラック１８を収容する。プレナム１６が、開口部とラック１８の前方との間に形成される。各ラック１８は、様々な電子構成要素を備える電子機器２２を収容するための複数の棚２０を担持する。かかる電子構成要素は、任意の個数の電気供給源、集積回路、メモリモジュール、磁気記憶媒体、光学記憶媒体、もしくは固体記憶媒体、オーディオハードウェア、および／またはビデオハードウェアを含み得るが、それらに限定されない。
【００６４】
キャビネット１２は、典型的には、空気循環器および熱交換器構成体を備える空気−流体間冷却機構などの冷却機構を備える。図１に示される実施形態では、空気循環器および熱交換器は、キャビネット１２の後方側部に位置決めされた別個のクーラーフレーム２４内に取り付けられる。ケーシングおよびクーラーフレーム２４は、レール３８の上に別個に取り付け可能であり、レール３８に沿って再位置決め可能である。
【００６５】
プレナム１６は、垂直方向Ｚに沿って延在するキャビネット導管２６（例えば電気ケーブル、冷却流体を有するチューブ、または中間導管３７など）を収容するために、ケーシングの側方（左）壁部に鉛直方向壁部部分２５を備える。
【００６６】
図１に示されるリソグラフィユニット１０の実施形態では、ケーシングの対向側の側方（右）壁部に配置された鉛直方向凹部２７がさらに提供される。この場合に、鉛直方向凹部２７は、右壁部付近にプレナム１６の側方部分を形成する矩形直方体空部を画成する。鉛直方向凹部２７は、実質的に右壁部全体に沿って鉛直方向に延在する。側方鉛直方向凹部２７は、ケーシングの内部を、特にプレナム１６を通り循環する冷却空気流を妨げることなく対応する機器２２におよび対応する機器２２から信号および／または電力導管２６を送ることを可能にする。他の実施形態では、凹部２７は、代替的にまたは追加的にケーシングの左壁部上に設けられてもよい。
【００６７】
鉛直方向壁部部分２５（および／または鉛直方向凹部２７）は、鉛直方向壁部部分２５の所望の部分に沿ってキャビネット導管２６を保持するための固定手段を備える。それぞれの機器位置にて、キャビネット導管２６は、対応する電子機器ユニット２２の前方側部との接続部を形成するために鉛直方向壁部部分２５（および／または鉛直方向凹部２７）から分岐する。
【００６８】
鉛直方向壁部部分２５（および／または凹部２７）の底部付近にてならびにプレナム１６の側方側部にて、キャビネット１２は、キャビネット１２の中に／から外にキャビネット導管２６を案内するための床部開口２８を備える。
真空チャンバ
図２ａは、標的処理ユニット１０の一実施形態における真空チャンバ３０の正面図を示す。真空チャンバ３０は、真空環境（典型的には１０-3バールまたはそれ未満）内での標的３１の処理を可能にするために、封止可能であり内部に真空を印加するように構成された真空ケーシング３９を備える。真空チャンバ３０は、標的３１と、真空チャンバ３０の内側で標的３１を処理するための投影コラム４６とを収容するように構成される。真空チャンバ３０は、真空ケーシング３９（外方層）と、支持ケーシング４０（中間層）と、キャリアフレーム４２を有するキャリアケーシング４１（最内領域）とを備える。投影レンズアセンブリ５０を有する投影コラム４６は、真空チャンバ３０の内側でキャリアフレーム４２により収容および支持され、キャリアケーシング４１の内部に画成された空間内に配置される。荷電粒子ビームレットを使用する用途では、キャリアケーシング４１は、磁気遮蔽材料から作製されることが好ましい。
【００６９】
キャリアケーシング４１およびキャリアフレーム４２は、典型的には、例えば懸吊ベース４３に連結される懸吊部材４４（例えば板ばね）により、支持ケーシング４０の内部におよび支持ケーシング４０に対して可動的に懸吊される。懸吊ベース４３は、複数の剛性のしかし側方にヒンジ動作可能な懸吊ロッド４５によりキャリアケーシング４１に可動的に相互連結される。コネクタパネル４８およびその相補コネクタ４９は、キャリアケーシング４１の内側に設けられる。コネクタパネル４８は、その面法線が、長手方向Ｘに沿っておよび長手方向Ｘとは逆方向に配向され、投影コラム４６に隣接して配置された状態で、側方領域Ｂにおいて垂直方向Ｚに沿って鉛直方向に配置される。中間導管３７は、コネクタパネル４８の後方側部から起始し、キャリアケーシング４１の開口を介して第１の可撓性湾曲中間部分３７ａに沿って支持ケーシング４０まで案内される。支持ケーシング４０とキャリアケーシング４１との間の第１の可撓性湾曲中間部分３７ａは、長手方向Ｘおよび垂直方向Ｚに少なくとも沿って支持ケーシング４０とキャリアケーシング４１との間に十分な振動／運動の分断を与える。中間導管３７は、支持ケーシング４０と連結壁部３５上に配置されたアクセスポート３６との間に第２の可撓性湾曲中間部分３７ｂをさらに備える。
投影コラム
図２ｂは、リソグラフィユニット１０の一実施形態における投影コラム４６の概略図を示す。投影コラム４６は、真空チャンバ３０の内部に収容された標的３１を処理（または検査）するために使用される１つまたは複数の処理ビーム４７を発生および操作するように構成される。投影コラム４６は、図２ｂに示されるようにモジュール式に実装され得る。光学素子が、リソグラフィユニット１０から個別に除去され得るモジュールへとグループ化される。モジュール式サブシステムは、荷電粒子ビーム源９２とビームコリメータアレイ９４とを含む照明光学モジュール９０、開口アレイとコンデンサレンズアレイ９８とを含むコンデンサレンズモジュール９６、ビームレットブランカアレイ１０２を含むビーム切替えモジュール１００、およびレンズ素子５４を有する投影レンズアセンブリ５０を備え得る。投影レンズ素子は、参照数字５４で一体的に示されるビームストップアレイ、ビーム偏向器アレイ、および投影レンズアレイを備える。ビームストップアレイは、ビームレットブランカアレイ１０２によりブランキング偏向を受けているビームレット４７を阻止するための、および前記ビームブランカアレイ１０２によりブランキング偏向を受けていないビームレット４７を通過させるための開口アレイを備えてもよい。ビーム偏向器アレイは、好ましくは前記ビームブランカアレイ１０２の下流に配置される。投影レンズアレイは、投影レンズアセンブリ５０の下方エッジの付近に平面レンズ電極を備える。各平面レンズ電極は、ビームレット４７を通過させ合焦させるためのレンズ開口アレイを備え、レンズ開口は、鉛直方向に対応するビームレット操作要素の開口と整列される。キャリアフレーム４２は、対応するモジュール５０、９０、９６、１００のための収容空間をそれぞれが与える複数の高さを有する階段状プロファイルの支持領域を備え得る。
投影レンズアセンブリ
図３ａは、キャリアフレーム４２内に位置決めするように構成された投影レンズアセンブリ５０の上面図を概略的に示す。投影レンズアセンブリ５０の構成要素は、リソグラフィユニット１０内に設けられたソースデバイスおよび／または宛先デバイスとの間で電力の伝達、制御信号の通信、冷却流体の連通、および／または他の電気接続もしくは流体連通を必要とする場合がある。一方の端部では、導管６０は、投影レンズアセンブリ５０の構成要素に接続される。導管６０の遠位端部６５に設けられたコネクタ６６は、コネクタパネル４８の前方側部に設けられた相補コネクタ４９に接続可能である。
【００７０】
投影レンズアセンブリ５０は、レンズ素子５４を収容するための平面レンズ支持体５２と、レンズ支持体５２の後方エッジ５８から起始する複数の導管６０〜６４と、キャリアケーシング４１の内方側部上の側方領域Ｂに設けられたコネクタパネル４８に向かってレンズ支持体５２から離れるように側方におよび上方に導管６０〜６４を案内するための導管ガイド体７０とを備える。この実施形態では、レンズ支持体５２は、機械的剛性のおよび磁気遮蔽性の材料から作製された正五角形支持プレートにより形成される。多角形支持プレート５２は、長手方向Ｘに対して共に平行である２つの相対側方エッジ５６、５７を有する。後方プレートエッジ５８は、長手方向Ｘに対して逆方向に向く。２つの残りの前方エッジは、前方突出角部を有する先端部を形成する。
【００７１】
多角形支持プレート５２は、３つの実質的に球状の当接部材５５を備える。代替的には、当接部材５５は、任意の適切な形状（例えば裁頭回転楕円体、扁平楕円体など）を有してもよい。レンズ支持体５２は、ビーム源９２から発せられる（例えば投影コラム４６により発生される）ビーム（レット）４７を操作するために１つまたは複数のレンズ素子５４を収容するためのレンズ切欠部５３を備える。投影コラム４６の投影レンズアセンブリ５０および他のモジュール（例えば照明光学モジュール９０、コンデンサレンズモジュール９６、および／またはビーム切替えモジュール１００など）は、当接部材５５が整列表面に対接して位置決めされる場合に、投影コラム４６のビーム投影軸がレンズ支持体５２内のレンズ素子５４の（温度）中心と実質的に一致することになるように、キャリアフレーム４２内に挿入されることになる。
【００７２】
導管ガイド体７０は、レンズ支持体５２の後方エッジ５８に沿って設けられ、側方導管ガイド部分７２（第１のガイド部分とも呼ばれる）と鉛直方向導管ガイド部分７８（第２のガイド部分とも呼ばれる）とを備える。第１のガイド部分７２は、機械的剛性のおよび磁気遮蔽性の材料から作製された大体において四辺形の支持プレート７３を備える。この実施形態では、四辺形支持プレート７３は、面Ｐ内に配置された、および長手方向Ｘに対して共に平行である２つのさらなる相対側方エッジ７４、７５を備える矩形プレートを形成する。右のさらなる相対側方エッジ７５は、相対側方エッジ５７の平行延長部を形成する。
【００７３】
ガイドホイール５９が、長手方向Ｘに沿ったキャリアフレーム４２内へのレンズ支持体５２の位置決めを容易にすると共に、面Ｐと同一高さに支持体５２を保持するために、相対側方エッジ５６、５７に沿って設けられる。
【００７４】
図３ａの導管ガイド体７０は、側方領域Ｂにスレッジ８０をさらに備える。スレッジ８０は、第２のガイド部分７８と、場合によっては第１のガイド部分７２の一部を備える。導管６０〜６４は、スレッジ８０の内部に収容され、横方向Ｙに沿った平坦な局所的平行構成から垂直方向Ｚに沿った平坦な局所的平行構成へと湾曲される。スレッジ８０の外方輪郭は、長手方向Ｘに沿って実質的に線対称である。導管６０〜６４は、長手方向Ｘに対して平行に延在する傾斜エッジ７９にてスレッジ８０から起始する。各導管６０〜６４は、遠位導管端部６５に導管コネクタ６６を備える。これらの導管コネクタ６６は、コネクタパネル４８上に設けられた相補コネクタ４９に導管６０〜６４を接続するために構成される。キャリアフレーム４２は、スレッジ８０などの導管ガイド体７０の少なくとも一部に対して相補的な形状を有する切欠部８２を側方領域Ｂに備えてもよい。
【００７５】
図３ｂは、正の長手方向に沿って見た、図３ａに示される投影レンズアセンブリ５０のための実施形態の背面図を示す。ここでは、導管ガイド体の外方外周部が、長手方向Ｘに沿って実質的に線対称であり得ることが図示される。図３ｂに示されるように、四辺形支持プレート７３は、第１の面Ｐ１により（垂直方向Ｚに沿って）上方から画定され、第２の面Ｐ２により（垂直方向Ｚに沿って）下方から画定される。第１の面Ｐ１および第２の面Ｐ２は、相互に平行であり、面Ｐに対してそれぞれ平行である。第１の面Ｐ１と第２の面Ｐ２との間の典型的な距離、すなわち投影レンズアセンブリ５０用の四辺形支持プレート７３の典型的な高さｈは、３ミリメートル〜１０ミリメートルの範囲内であり、好ましくは約５ミリメートルである。横方向における支持プレート５２、７３の典型的な寸法は、約１５〜２５ｃｍであり得る。
【００７６】
図３ｂは、（この実施形態では四辺形支持プレート７３を備える）第１のガイド部分７２内に収容された導管６０〜６４が、導管６０〜６４が四辺形（矩形）支持プレート７３から側方に起始する側方領域Ｂまでにおいて第１の面Ｐ１と第２の面Ｐ２との間に限定された状態に留まるのを示す。側方領域Ｂでは、導管６０〜６４は、上方に湾曲したスレッジ８０を備える第２のガイド部分７８に進入し、傾斜エッジ７９までスレッジ８０を縦走する。
【００７７】
図３ｂは、スレッジ８０が、キャリアフレーム４２内へのスレッジ８０の位置決めを容易にするためのスレッジガイド部材８１を備え得るのを示す。スレッジガイド部材８１は、スレッジ８０に沿っておよび長手方向Ｘに対して平行に直線的に延在する。図示される実施形態では、投影レンズアセンブリ５０は、投影コラム４６の最下モジュールを形成する。したがって、投影レンズ素子５４は、第２の面Ｐ２を越えて下方に短距離にわたり突出させられ得る。
【００７８】
図４は、支持表面の層状スタックを備える、および大体において矩形状Ｕ字形状（垂直方向Ｚに沿って見た場合に）を形成する例示のキャリアフレーム４２を示す。キャリアフレーム４２は、投影コラム４６および投影レンズアセンブリ５０のためのインサートを備える。これらのインサートは、それぞれのモジュールのための整列表面および支持表面（例えばさらなるレール８３）を備える。キャリアフレーム４２は、相互に対して角度方向にオフセットされた３つの平坦整列表面を備える。キャリアフレーム４２は、キャリアフレーム４２内にレンズ支持体５２を挿入する最中にこのレンズ支持体５２を支持および案内するために、長手方向Ｘに沿って配置されたさらなるレール８３を備える。レンズ支持体５２上のガイド部材５９（例えばホイール）が、さらなるレール８３と協働するように適合化される。
【００７９】
レンズ支持体５２は、長手方向Ｘに対して平行である中心軸Ａに沿ってキャリアフレーム４２内に挿入可能である。キャリアフレーム４２内に配置されると、３つの当接部材５５のそれぞれが、３つの整列表面の中の対応する１つに対接して並んで位置する。当接部材５５が対応する整列表面と接触状態に留まることを確保するために、力が、整列表面に対して当接部材５５を押し当てるように前記モジュールに対して印加されてもよい。
【００８０】
導管６０〜６４の遠位端部６５に設けられたコネクタ６６は、鉛直方向に配置されたコネクタパネル４８の前方側部に設けられた相補コネクタ４９に接続可能である。
【００８１】
図５ａは、一実施形態による投影レンズアセンブリ５０の頂部部分の斜視図を示す。五角形支持プレート５２および矩形支持プレート７３は、導管構成を示すために保護カバープレートが除去された状態で図示される。投影レンズアセンブリ５０は、ビーム操作要素の鉛直方向スタックにより形成される投影レンズ素子５４を備える。例えば、投影レンズ素子５４は、ビームブランカによるブランキング偏向を有する荷電粒子ビームレットを阻止し、前記ビームブランカによるブランキング偏向を有さない荷電粒子ビームレットを通過させるための開口アレイを備えるビームストップアレイと、伝達された荷電粒子ビームレットに通路を与えるための貫通開口部に整列されたレンズ穴アレイをそれぞれが備える複数の電極（好ましくは投影レンズアセンブリの下流遠位エッジにより画定される面の中または付近に配置される）と、偏向器ユニット（好ましくは前記電極の上流におよび前記ビームブランカの下流に配置される）とのいずれかまたは全てを備えてもよい。
【００８２】
かかるレンズ素子５４のそれぞれが、リソグラフィユニット１０内に設けられたソースデバイスおよび／または宛先デバイスとの間で電力の伝達、制御信号の通信、冷却流体の連通、および／または他の電気接続もしくは流体連通を必要とし得る。例えば、ビームストップアレイは、冷却導管６４を介してビームストップアレイに冷却流体を供給する（およびビームストップアレイから冷却流体を放出する）ために使用される外部冷却構成体による冷却を必要とし得る。レンズ電極は、レンズ電極間に電位差を印加するように構成された電源を有する導電導管６０を使用した接続を必要とし得る。ビーム偏光ユニットは同様に、信号導管６０を介して、電気接続を必要とする。レンズ素子５４の他の構成要素は、例えばレンズ素子５４の上または周囲に設けられた送りアライメントセンサ６９に電力を伝達する導管６２を使用して遠く離れた源からの電力を必要とし得る。かかるセンサ６９は、さらなる信号導管（例えば光ファイバ）を介した制御およびフィードバック通信をさらに必要とし得る。
【００８３】
様々な導管６０〜６４（ケーブル／ワイヤ／チューブ／ファイバ）が、面Ｐに対して平行である空間構成にしたがって投影レンズ素子５４に接続される。投影レンズ素子５４は、五角形支持プレート５２中に設けられた円形レンズ切欠部５３の内部のレンズキャリアリング６８によって懸吊される。レンズキャリアリング６８は、比較的低い熱膨張率を有する材料を備えてもよく、および／または閉ループ（能動的フィードバック）位置制御（例えば光学および／または容量アライメントセンサ６９を使用した）により熱的に安定化されてもよい。導管６０〜６４は、レンズ支持体５２上の様々な位置から様々な方向において、および円形レンズ切欠部５３の外周部に沿ってレンズキャリアリング６８および／またはレンズ素子５４に接続される。五角形支持プレート５２の典型的な横方向寸法は、五角形支持プレート５２の典型的な高さｈよりも実質的に大きい。五角形支持プレート５２は、円形レンズ切欠部５３の外周部に沿って１つまたは複数の空部を画定する。これらの１つまたは複数の空部は、導管６０〜６４が後方エッジ５８に向かって五角形支持プレート５２を通りレンズ切欠部５３の周囲の様々な初期位置から湾曲状に案内されるための余地を与える。結果として、導管６０〜６４は、レンズ切欠部５３の外周部に沿って多方向からレンズ素子５４に接続可能である一方で、導管６０〜６４は、後方エッジ５８にまでそれらの経路に沿って交差する必要はない。
【００８４】
側方エッジ５７に沿って、五角形支持プレート５２は、五角形支持プレート５２を越え、レンズ素子５４の付近の円形レンズ切欠部５３の矩形開口から起始する洗浄剤供給チューブ６７をさらに備えてもよい。この供給チューブ６７は、電子ビーム処理の結果として上述のレンズ素子５４上に蓄積した汚染堆積物を除去するために、レンズ素子５４への外部洗浄剤源（図示せず）からの反応性薬剤（例えばイオンおよびラジカルを含むプラズマ流など）の供給を可能にする。供給チューブ６７は、扁平矩形断面形状を有する。
【００８５】
図５ａに示されるようにおよび図３ｂを参照として本明細書内で上述した実施形態と同様に、五角形支持プレート５２は、第１の面Ｐ１および第２の面Ｐ２により鉛直方向に画定される。導管６０〜６４は、後方エッジ５８に向かって合流され、好ましくは第１の面Ｐ１と第２の面Ｐ２との間に限定される平行（すなわち非交差）平面構成で後方エッジ５８から起始する。後方エッジ５８から、導管６０〜６４は、四辺形支持プレート７３（第１のガイド部分７２の一部）に進入する。第１の面Ｐ１と第２の面Ｐ２との間でやはり鉛直方向に限定される四辺形支持プレート７３の内部では、導管６０〜６４は、側部（ここでは正のＹ方向に沿って示される）への屈曲部を有する局所的平行構成で、および五角形支持プレート５２の第１の側部エッジ５６により画定される側方領域Ｂに向かって湾曲状に案内される。この実施形態では、第１の側方エッジ５６は、四辺形支持プレート７３の第１のさらなる側方エッジ７４の延在部を形成する。
【００８６】
導管６０〜６４は、大体において側方方向Ｙに沿って配向された局所的平行構成で第１のさらなる側方エッジ７４から起始する。この場合に、導管６０〜６４は、本明細書で上述されるように第２のガイド部分７８に進入する。
【００８７】
他の実施形態では、導管６０〜６４の中の１つまたは複数が、いずれの位置においても局所的平行で構成される代わりに、レンズ支持体５２（例えば五角形支持プレート）または第１のガイド部分７２（例えば四辺形支持プレート７３）の中のいくつかの箇所で交差するように構成されてもよい。これは、導管を収容するために必要とされる高さを増大させ得ることにより、第１の面Ｐ１および第２の面Ｐ２により画定される領域（高さｈ）を上回る収容高さを結果的にもたらし得るため望ましくない。
【００８８】
図５ｂは、図５ａの投影レンズアセンブリ５０の斜視背面図を示す。五角形支持プレート５２および矩形支持プレート７３の下方側部が、（例えば下方に配置された標的３１に対して）電磁遮蔽をもたらす閉鎖表面を形成する。
【００８９】
上記の説明は、限定ではなく例示として意図される。本発明の代替的なおよび均等な実施形態は、以下に示す特許請求の範囲から逸脱することなく想起され得るおよび実施に移され得る点が、当業者には明らかになろう。
【００９０】
例えば、本発明者らは、本明細書で上述されたモジュール式投影アセンブリのための空間構成が、好ましくは投影ビームに短い焦点距離をもたらすために垂直（鉛直）方向において非常に薄い（例えば図３ｂおよび図５ａに示されるような高さｈを有する）投影レンズアセンブリで適用される場合に特に有利である点に気付いた。かかる薄い投影モジュールは、所要の厚さの境界内に導管を保持する役割を果たす導管およびガイド手段の平坦構成から利益を被る。しかし、投影レンズの代替としてまたは追加としてのいずれかにおいて他のビーム操作構成要素を有し得る投影アセンブリまたはモジュールでこの提案される構成を適用することが可能である。したがって、本明細書で上述されたが他のビーム操作構成要素を収容するように構成されたモジュール式投影要素アセンブリは、本コンテクスト内でそれ自体において本質的に独創的なものと考えられ、個別の特許出願の対象となり得る。これに対応して、本明細書で説明され特許請求されるような「投影レンズアセンブリ」、「レンズ支持体」、および「レンズ素子」という用語は、それぞれより一般的に「ビーム操作モジュールアセンブリ」、「ビーム操作要素支持体」、および「ビーム操作要素」と言い換えられてもよい。
さらなる態様
半導体産業では、高い精度および信頼性を有するより小さな構造体を製造することへの高まり続ける要望が存在する。リソグラフィシステムでは、この要望は、結果として位置決めおよび配向に対する極めて高い要求をもたらす。製造工場環境および／または電気回路において他のマシンにより引き起こされる外部振動は、リソグラフィ装置内における位置決め精度に対してマイナスの影響を有し得る。同様に、例えばステージ移動などにより引き起こされるリソグラフィ装置内の振動が、かかる精度に対してマイナスの影響を有し得る。
【００９１】
真空チャンバの内部のさらなる機器（すなわち標的処理機器）ならびにそれらの対応するケーブルおよび導管のコンパクトな構成と、制御およびモニタリングキャビネットの内部の対応する機器に真空処理チャンバの内部のさらなる機器を接続するために必要とされる中間ケーブルおよび導管の構成とを提供することが、一般的に望ましいものとなり得る。
【００９２】
ケーブルおよび導管は、好ましくは以下の３つの目的の中の１つまたは複数に寄与するように構成される。
【００９３】
各処理ユニットの内側層が、各ユニットの内部に収容されたモジュールおよび／またはデバイスの大多数に対する前方側アクセス性を高めることによって、最小限のフットプリントを有する個別の処理ユニットの横並び構成を可能にする。
【００９４】
各処理ユニットの内部のモジュール／デバイスおよび導管のモジュール式構成が、長手方向に沿った可動性を促進すると共にこの方向に沿った他のモジュール／デバイスの障害を削減するようにモジュール／デバイスと対応するケーブルとを形成および位置決めすることによって、かかるモジュール／デバイスおよび導管の個別の交換を容易にする。
【００９５】
処理ユニットの内部の導管のグループ構成が、モジュール／デバイスに対して必要とされる程度までその特定のモジュール／デバイスごとの個別の運動／振動の分断を促進するために十分に機械的に分離される。
【００９６】
処理ユニットの内部の導管のグループ構成が、投影光学コラムに帰属するモジュール／デバイスにおよび帰属しないモジュール／デバイスに個別の導管経路を与え、その結果として削減されたまたはさらには最小限の個数の非コラム関連モジュール／デバイスに帰属する導管により占められる投影光学コラム用の真空空間が得られることによって、モジュールコンセプトを支援する。
【００９７】
上述の目的の中の１つまたは複数を満たすために、標的処理ユニットが、本明細書において以下で説明されるように中間導管アセンブリおよび鉛直方向ケーブルガイドケーシングの少なくとも一方を備えるケーブル分配構成体を備えてもよい。
【００９８】
リソグラフィユニット内の振動を可能な限り軽減することが望ましい。
【００９９】
したがって、一態様によれば、電子機器を着脱可能に接続するためのアクセスポートと、投影コラムの１つまたは複数のパーツを着脱可能に接続するためのコネクタパネルとを備える標的処理ユニットが提供される。アクセスポートは、標的処理ユニットの外部に少なくとも部分的に配置され得る。コネクタパネルは、標的処理ユニットの内部に配置され得る。アクセスポートおよびコネクタパネルは、１つまたは複数の中間導管を介することにより振動／運動が分断されるように接続される。
【０１００】
標的処理ユニットは、例えば本明細書で上述された実施形態と同様のリソグラフィユニットにより形成され得る。投影コラムの１つまたは複数のパーツは、荷電粒子ビーム源とビームコリメータアレイとを備える照明光学モジュール、開口アレイとコンデンサレンズアレイとを備えるコンデンサレンズモジュール、ビームレットブランカアレイを備えるビーム切替えモジュール、および／またはレンズ素子を有する投影レンズアセンブリを含み得る。投影レンズアセンブリのレンズ素子は、ビームストップアレイ、ビーム偏向器アレイ、および／または投影レンズアレイを含み得る。
【０１０１】
アクセスポートは、標的処理ユニットの外部からアクセス可能であり、または投影コラムが位置する標的処理ユニットの部分の外部の雰囲気に投影コラムを露出させることなく少なくともアクセス可能である。これにより、電子機器は、典型的には投影コラムを囲む真空環境を犠牲にすることなくアクセスポートに接続され得る。
【０１０２】
標的処理マシン内のコネクタパネルは、一方では投影コラムのパーツ間の、および他方では電子機器間の着脱可能な接続（例えばおよび電気信号または光学信号接続）をもたらす。この接続を実現するための物理的部分は、例えばコネクタパネル、アクセスポート、および中間導管を介して経路設定され得る。
【０１０３】
導管は、ケーブル、ワイヤ、チューブ、および／またはファイバを含み得る。導管は、データ通信（電気的および／または光学的）、配電、および／または冷却流体の輸送のために使用され得る。
【０１０４】
アクセスポートは、例えばアクセスポートに近い電子機器または他の機器内のファンまたは他の可動要素を起源とする機械振動を被りがちであり得る。機械振動は、アクセスポートに電子機器を接続する導管を介してまたはアクセスポートに（直接的にまたは間接的に）接続された機械構造体を介してアクセスポートに伝達され得る。
【０１０５】
コネクタパネルからアクセスポートを振動／運動上において分断することにより、投影コラムが最も影響を被りやすいリソグラフィ装置内での位置決め精度に対するアクセスポートにおける機械振動のマイナスの影響が、最小限に抑えられるかまたはさらには解消され得る。中間導管を介したコネクタパネルへのアクセスポートの振動／運動が分断された接続は、結果として、投影コラムのパーツ同士が１つまたは複数の導管によりコネクタパネルに接続される場合に、投影コラムの位置決め精度がマイナスの影響を被らないように、振動の十分な減衰をもたらす。
【０１０６】
一実施形態では、中間導管は、アクセスポートとコネクタパネルとの間に振動／運動の分断をもたらすように構成された１つまたは複数の湾曲状可撓性中間導管部分を備え得る。
【０１０７】
一実施形態では、標的処理ユニットは、電子機器を収容するためのキャビネットを備えることが可能である。標的処理ユニットは、投影コラムを収容するため真空チャンバをさらに備えることが可能である。投影コラムは、標的に向かうビームを発生させる、成形する、および配向するように構成され得る。投影レンズアセンブリなどの投影コラムの１つまたは複数のパーツが、１つまたは複数の導管を介して電子機器に通信接続可能であり得る。真空チャンバは、真空チャンバ内に真空環境を与えるように構成された真空ケーシングを備えることが可能である。真空チャンバは、キャリアケーシングを支持するように構成された真空ケーシング内の支持ケーシングをさらに備えることが可能である。真空チャンバは、投影コラムを支持するように構成された支持ケーシング内のキャリアケーシングをさらに備えることが可能である。標的処理ユニットは、１つまたは複数の導管を少なくとも部分的に備える中間導管アセンブリをさらに備えることが可能である。中間導管アセンブリは、キャリアケーシングの内方側部に装着されたコネクタパネルを備えることが可能である。中間導管アセンブリは、キャリアケーシングの外方側部に連結された第２の装着部材をさらに備えることが可能である。中間導管アセンブリは、コネクタパネルから起始し第２の装着部材に案内される１つまたは複数の中間導管をさらに備えることが可能である。中間導管アセンブリは、支持ケーシングの内方側部に装着された第１の装着部材をさらに備えることが可能である。１つまたは複数の中間導管の第１の可撓性中間導管部分が、第１の装着部材と第２の装着部材との間に延在し得る。中間導管アセンブリは、真空ケーシングの外方側部に装着されたアクセスポートをさらに備えることが可能である。１つまたは複数の中間導管の第２の可撓性中間導管部分は、第１の装着部材とアクセスポートとの間に延在し得る。
【０１０８】
好ましくは、キャビネットは、真空チャンバの頂部に配置されるが、代替的には、キャビネットは、真空チャンバに隣接する（すなわち横並びで）配置されてもよい。
【０１０９】
キャビネットは、典型的には、電子機器を取り付けるためのラック（すなわちフレーム、シャシ、または鉛直方向支持体上に取り付けられた棚集合体）を収容する。ラックは、国際１９インチラック規格ＩＥＣ６０２９７−３−１００に準拠するように選択され得る。電子機器に加えて、キャビネットは、冷却導管を介して電子機器および／または投影コラムの一部を冷却するための熱交換器または他の冷却構成体などの他の機器を支持し得る。
【０１１０】
真空チャンバは、真空環境内（典型的には１０〜３バールまたはそれ未満）での標的の処理を可能にする真空ケーシングを備える。投影コラムは、典型的には真空チャンバの内側で、すなわちキャリアケーシング内でキャリアフレームによって収容される。
【０１１１】
コネクタパネルおよび第２の装着部材は、キャリアケーシングに共に連結される。第２の装着部材は、キャリアケーシング内から（すなわちコネクタパネルから）キャリアケーシングの外方側部まで中間導管を案内するために使用される。中間導管は、中間導管を定位置に保持するために第２の装着部材によりキャリアケーシングに固定される。第２の装着部材は、導管との接続（すなわち電気的、光学的、または流体的な）を行うようには意図されない。
【０１１２】
第１の装着部材は、支持ケーシングに連結され、支持ケーシングに中間導管を固定するために使用される。第２の装着部材と同様に、第１の装着部材は、導管との接続（すなわち電気的、光学的、または流体的な）を行うようには意図されない。
【０１１３】
第１の中間導管部分は、第１の装着部材と第２の装着部材との間に延在する中間導管の部分を備える。第１の中間導管部分は、可撓性であり、投影コラムへの機械振動の伝達を最小限に抑えるまたは解消するために支持ケーシングとキャリアケーシングとの間に振動／運動の分断を与える。
【０１１４】
アクセスポートは、アクセスポートの少なくとも一部が真空ケーシングの外部からアクセス可能となるように、真空ケーシングに連結される。第２の中間導管部分は、第２の装着部材とアクセスポートとの間に延在する中間導管の部分を備える。第２の中間導管部分は、可撓性であり、投影コラムへの機械振動の伝達を最小限に抑えるまたは解消するために真空ケーシングと支持ケーシングとの間に振動／運動の分断を与える。
【０１１５】
第１の可撓性中間導管部分、第２の中間導管部分、および中間導管が真空チャンバ内の特定の箇所にて第１の装着部材および第２の装着部材により固定されることにより、結果としてアクセスポートとコネクタパネルとの間に効果的な振動／運動の分断が得られる。
【０１１６】
一実施形態では、制御パネルは、投影コラムの一部に接続された導管の遠位端部にてコネクタを受けるための１つまたは複数の相補コネクタを備える。
【０１１７】
これにより、投影コラムの部分は、振動／運動の分断を実現するために中間導管アセンブリのコネクタパネルを介する場合には、電子機器に着脱可能に装着され得る。
【０１１８】
一実施形態では、中間導管は、コネクタパネルの後方側部から起始し、真空チャンバの頂側部へと大体において鉛直方向軌道を介して真空チャンバの内側で案内され得る。
【０１１９】
これにより、中間導管は、キャリアケーシング内で投影コラムを阻害することなくキャリアケーシング内からキャリアケーシングの外部に案内され得る。
【０１２０】
一実施形態では、第１の中間導管部分および第２の中間導管部分の少なくとも一方が、全方向における振動／運動の分断を実現するように湾曲状である。典型的には、数マイクロメートルの変位が減衰され得る。
【０１２１】
一実施形態では、真空チャンバの頂側部が、連結壁部を備える凹状セクションを備える。連結壁部は、真空チャンバから起始する中間導管を受けるおよび通過させるためのアクセスポートを備えてもよい。
【０１２２】
連結壁部は、典型的には真空チャンバの頂側部の前方側部に設けられる。代替的にはまたは追加的には、連結壁部は、真空チャンバの頂側部の後方側部に設けられる。
【０１２３】
連結壁部は、電子機器の導管を連結または連結解除するためのアクセスポートへの容易なアクセスを可能にする。連結壁部は、好ましくはウェーハ搬送システムなどの外部機器用の連結壁部の正面の空間を与えるように凹状である。
【０１２４】
一実施形態では、連結壁部は、頂側部の全幅にわたって延在し、垂直方向（すなわちＺ方向）に沿って位置しつつ、長手方向（すなわちＸ方向）に対面する。
【０１２５】
複数の標的処理ユニットが、例えばリソグラフィユニットクラスタなどを形成するように当接状態で横並びに配置され得る。全幅にわたって連結壁部を延在させることにより、連結壁部の正面の空間は、全ての標的処理マシンにわたって連続する。これにより、ウェーハ搬送システムなどの外部機器は、障害を伴わずに凹状エリアを利用することが可能となる。
【０１２６】
一実施形態では、電子機器は、１つまたは複数の着脱可能キャビネット導管を介してアクセスポートに接続可能である。
【０１２７】
これにより、電子機器は、アクセスポートに着脱可能に接続され得ることによって、電子機器の容易な交換が可能となる。
【０１２８】
一実施形態では、標的処理ユニットは、キャビネットの外方側方側部に沿った第１のケーブルガイドケーシングと、真空チャンバの外方側方側部に沿った第２のケーブルガイドケーシングとをさらに備える。第１のケーブルガイドケーシングおよび第２のケーブルガイドケーシングは、電子機器からさらなる機器にさらなる導管を案内するためのケーブルケーシングを共に形成し得る。さらなる機器は、真空チャンバの内部に、真空チャンバの下方に、または標的処理ユニットの外部に配置され得る。
【０１２９】
さらなる機器は、外部機械振動に対してあまり重要ではない、および振動／運動の分断を伴わずにキャビネット内の電子機器もしくは任意の他の機器に接続され得る機器、デバイス、または構成要素であってもよい。結果として、さらなる導管は、振動の分断を伴わずにケーブルガイドケーシングに通して案内され得る。
【０１３０】
標的処理ユニットの外方側部にケーブルガイドケーシングを実装することにより、さらなる導管は、設置および補修のために容易にアクセス可能となる。さらに、さらなる導管は、空間において効率的に設置され得る。中間導管アセンブリおよびケーブルガイドケーシングは、処理ユニットのモジュール式設計を支援する個別にグループ化された導管経路の構成をもたらす。中間導管アセンブリおよびケーブルガイドケーシングにより形成された個別の導管経路は、投影光学コラムに帰属するモジュールおよびデバイスのための導管と、帰属しないモジュール／デバイスのための導管とを個別に経路設定するために使用され得る。ケーブルガイドケーシングは、投影光学コラムが位置する真空空間の外部の導管の再経路設定を可能にし、それにより非コラム関連導管は、この真空空間の外部に保持され、かかる存在による対応するマイナス効果（例えば障害、振動、ガス抜けなど）が、軽減またはさらには防止され得る。
【０１３１】
一実施形態では、第１のケーブルガイドケーシングおよび第２のケーブルガイドケーシングのそれぞれが、１つまたは複数のケーブル溝を備える。キャビネットのケーブル溝の床部導管開口は、キャビネットが真空チャンバの頂部に位置決めされる場合に、真空チャンバのケーブル溝の頂部導管開口と整列された配向になり得る。
【０１３２】
ケーブル溝に通してさらなる導管を案内することにより、さらなる導管は、空間的に分離された状態に保持され、キャビネットおよび真空チャンバの内容物から電磁的に遮蔽され得る。
【０１３３】
キャビネットのケーブル溝は、典型的には、キャビネットが真空チャンバの頂部に設置された場合に、ケーブル溝が真空チャンバのケーブル溝と整列されるように位置決めされる。これにより、さらなる導管は、標的処理ユニットのエッジに沿って容易に設置され得ることが確保される。
【０１３４】
一態様によれば、上述された特徴の中の１つまたは複数を有する標的処理ユニットで使用するための真空チャンバが提供される。真空チャンバは、電子機器を着脱可能に接続するためのアクセスポートと、投影コラムの１つまたは複数のパーツを着脱可能に接続するためのコネクタパネルとを備え得る。アクセスポートは、真空チャンバの外部に少なくとも部分的に配置され得る。コネクタパネルは、真空チャンバの内部に配置され得る。アクセスポートおよびコネクタパネルは、１つまたは複数の中間導管を介して振動／運動が分断された状態で連結され得る。
【０１３５】
一実施形態では、真空チャンバは、投影コラムを収容するように構成される。投影コラムは、標的に向かうビームを発生させる、成形する、および配向するように構成され得る。投影レンズアセンブリなどの投影コラムの１つまたは複数のパーツが、１つまたは複数の導管を介して外部電子機器に通信接続可能であり得る。真空チャンバは、真空チャンバ内に真空環境を与えるように構成された真空ケーシングを備え得る。真空チャンバは、キャリアケーシングを支持するように構成された真空ケーシング内の支持ケーシングをさらに備え得る。真空チャンバは、投影コラムを支持するように構成された支持ケーシング内のキャリアケーシングをさらに備え得る。真空チャンバは、１つまたは複数の導管を少なくとも部分的に備える中間導管アセンブリをさらに備えることが可能である。中間導管アセンブリは、キャリアケーシングの内方側部に装着されたコネクタパネルを備えることが可能である。中間導管アセンブリは、キャリアケーシングの外方側部に連結された第２の装着部材をさらに備え得る。中間導管アセンブリは、コネクタパネルから起始し第２の装着部材に案内される１つまたは複数の中間導管をさらに備え得る。中間導管アセンブリは、支持ケーシングの内方側部に装着された第１の装着部材をさらに備えることが可能である。１つまたは複数の中間導管の第１の可撓性中間導管部分が、第１の装着部材と第２の装着部材との間に延在し得る。中間導管アセンブリは、真空ケーシングの外方側部に装着されたアクセスポートをさらに備えることが可能である。１つまたは複数の中間導管の第２の可撓性中間導管部分は、第１の装着部材とアクセスポートとの間に延在し得る。
【０１３６】
一実施形態では、真空チャンバは、電子機器から、真空チャンバの内部に、真空チャンバの下方に、または標的処理ユニットの外部に配置されたさらなる機器へとさらなる導管を案内するためにキャビネットの外方側方側部に沿って第１のケーブルガイドケーシングを備える。
【０１３７】
標的処理デバイスに関連して上述された効果および利点は、真空チャンバにも必要に応じて変更を加えつつ当てはまる。
【０１３８】
別の態様によれば、上述された特徴の中の１つまたは複数を有する真空チャンバで使用するための中間導管アセンブリが提供される。中間導管アセンブリは、電子機器を着脱可能に接続するためのアクセスポートと、投影コラムの１つまたは複数のパーツを着脱可能に接続するためのコネクタパネルとを備え得る。アクセスポートは、真空チャンバの外部に少なくとも部分的に配置されるように構成され得る。コネクタパネルは、真空チャンバの内部に配置されるように構成され得る。アクセスポートおよびコネクタパネルは、真空チャンバ内に設置された場合に１つまたは複数の中間導管を介して振動／運動が分断された状態で連結されるように構成され得る。
【０１３９】
一実施形態では、投影コラムは、標的に向かうビームを発生させる、成形する、および配向するように構成される。投影レンズアセンブリなどの投影コラムの１つまたは複数のパーツが、１つまたは複数の導管を介して外部電子機器に通信接続可能であり得る。真空チャンバは、真空チャンバ内に真空環境を与えるように構成された真空ケーシングを備えることが可能である。真空チャンバは、キャリアケーシングを支持するように構成された真空ケーシング内の支持ケーシングをさらに備えることが可能である。真空チャンバは、投影コラムを支持するように構成された支持ケーシング内のキャリアケーシングをさらに備えることが可能である。中間導管アセンブリは、１つまたは複数の導管を少なくとも部分的に備えることが可能である。中間導管アセンブリは、キャリアケーシングの内方側部に装着されるように構成されたコネクタパネルをさらに備えることが可能である。中間導管アセンブリは、キャリアケーシングの外方側部に連結されるように構成された第２の装着部材をさらに備えることが可能である。中間導管アセンブリは、コネクタパネルから起始し第２の装着部材に案内されるように構成された１つまたは複数の中間導管をさらに備えることが可能である。中間導管アセンブリは、支持ケーシングの内方側部に装着されるように構成された第１の装着部材をさらに備えることが可能である。１つまたは複数の中間導管の第１の可撓性中間導管部分が、第１の装着部材と第２の装着部材との間に延在するように構成され得る。中間導管アセンブリは、真空ケーシングの外方側部に装着されるように構成されたアクセスポートをさらに備え得る。１つまたは複数の中間導管の第２の可撓性中間導管部分は、第１の装着部材とアクセスポートとの間に延在するように構成され得る。
【０１４０】
中間導管アセンブリのおよびさらなる導管ガイド構成体の例示の実施形態が、本明細書において以下で説明される。これらの実施形態は、本明細書で上述された標的処理ユニットの実施形態の任意のもの（投影レンズアセンブリの任意の変形例を場合によっては備える）と組み合わされてもまたは組み込まれてもよい。
中間導管アセンブリ
図６は、中間導管３７を備える中間導管アセンブリ１０８の一実施形態の斜視図を示す。中間導管３７は、支持ケーシング４０とキャリアケーシング４１との間に可撓性および湾曲状の第１の中間部分３７ａを（図１および図２ａと同様に）、および支持ケーシング４０と真空ケーシング３９との間に可撓性および湾曲状の第２の中間部分３７ｂを（図１および図２ａと同様に）備える。第１の中間導管部分３７ａは、２つの装着部材３４ａ、３４ｂの間に延在する。第２の中間導管部分３７ｂは、第１の装着部材３４ａとアクセスポート３６との間に延在する。第１の装着部材３４ａは、支持ケーシング４０に中間導管部分３７を固定し、第２の装着部材３４ｂは、キャリアケーシング４１に中間導管部分３７を固定し、アクセスポート３６は、真空ケーシング３９に中間導管部分３７を固定する。
【０１４１】
中間導管アセンブリ１０８は、周囲から（例えばキャビネット導管２６、真空ケーシング３９、または支持ケーシング４０を介した）投影コラム４６への機械振動の伝達を軽減するまたはさらには最小限に抑えるために、真空ケーシング３９と支持ケーシング４０とキャリアケーシング４１との間に十分な振動／運動の分断を与える。
側方導管アセンブリ
図７〜図９は、標的処理ユニットの側方側部に沿ってケーブル分配構成体を備える標的処理ユニットの一実施形態を示す。先行の図面（ならびに特に図１および図２ａ）を参照として既に上述された標的処理ユニットの特徴が、図７〜図９に示される標的処理ユニット１０’にも存在してもよく、ここでは全てが再び論じられるとは限らない。図７〜図９を参照として論じられる特徴については、同様の参照数字は、同様の特徴について使用されるが、実施形態同士を識別するためにプライム符号を伴って示される。
【０１４２】
ケーブル分配構成体は、キャビネット１２’内に配置された電子機器２２’からケーブルダクト（例えば溝）１２２、１４２を備えるケーブルガイドケーシング１２０、１４０を通してさらなる機器までさらなる導管１１０を案内する役割を果たす。代替的にはまたは追加的には、ケーブル分配構成体は、真空チャンバ３０’の下方もしくはキャビネット１２’の上方の機器まで、または標的処理マシン１０’の外部の他の機器まで標的処理ユニット１０’の側方側部に沿ってさらなるダクト１１０を案内するために使用され得る。
【０１４３】
真空チャンバ３０’は、真空チャンバ３０’の内部のリソグラフィプロセスの実行、モニタリング、および最適化に対して様々な方法で寄与する様々なデバイスおよびシステムを備え得る。かかるデバイスは、キャビネット１２’の内部の対応する機器２２’に各さらなる導管１１０を介して電気的に結合され得る。真空チャンバ３０’の内部に設けられ得る一例のシステムは、投影コラム４６’の下方におよびそれに対して標的３１’を位置決めするための標的位置決めシステム１１４である。別の例示のシステムは、支持ケーシング４０’の床部に取り付けられ得る、および光学コラム４６’により発生され投影されるビームレットの位置および／または他の特性を決定するように構成された光ビームセンサ１１６によって形成される。
【０１４４】
図７に示されるように、標的処理ユニット１０’は、ベースプレート１７２の上に位置決めされ得る。このベースプレート１７２は、標的処理ユニット１０’を支持するためにおよび周囲の構造体に対して固定の所定配向にユニットを保持するために十分な機械強度を有する材料から作製される。さらなる導管１１０は、真空チャンバ３０’の第２の側壁部１４４上に設けられた第２のケーブルダクト１４２を介しておよびベースプレート１７２を介して、真空チャンバ３０’の下方側部に沿って真空チャンバ３０’内に案内され得る。真空チャンバ３０’の内部で、さらなる導管１１０は、例えば標的位置決めシステム１１４および光ビームセンサ１１６などの対応するさらなる機器に結合される。
【０１４５】
図８は、キャビネット１２’の例示の実施形態の斜視図を示す。キャビネット１２’のケーシングは、電子機器２２’に接続されたさらなる導管１１０の部分を収容するように構成された、キャビネット１２’の側壁部１２４に対して垂直な鉛直方向凹部２７’を備え得る。図８では、鉛直方向凹部２７’は、キャビネット１２’の第１の側壁部１２４全体に実質的に沿って鉛直方向に延在する細長矩形直方体空部を画成する。鉛直方向凹部２７’は、真空チャンバ３０’の内部に配置されたさらなる機器へと続くケーブルガイドケーシング１２０、１４０に向かってさらなる導管１１０（部分的にのみ図示される）を送る。
【０１４６】
第１の側壁部１２４全体および鉛直方向凹部２７’は、ケーブルガイドケーシング１２０を形成するように側部プレート（図８には図示せず）によって覆われ得る。代替的には、第１のケーブルダクト１２２のみが、覆われ、それによってより小さな表面積を有するケーブルガイドケーシングを形成してもよい。さらなる別の実施形態では、さらなる導管１１０は、例えば第１の側壁部１２４にさらなる導管を結束するまたは他の方法で連結することなどにより第１の側壁部１２４に沿って見える状態で案内される。後者の代替形態は、想定され得る外部損傷に導管を晒した状態にするため、最も好ましくない。
【０１４７】
１つまたは複数の第１のケーブルダクト１２２は、様々な高さにて鉛直方向凹部２７’から分岐し得る。図８では、鉛直方向凹部２７’が、鉛直方向Ｚに沿って設けられた複数の第１の上方ダクト開口１２６を備える鉛直方向凹状壁部１３４によって（部分的に）画成されるのを示す。第１のケーブルダクト１２２は、キャビネット１２’のフロア１３０の長手方向エッジに沿って様々な位置に配置された第１の下方ダクト開口１２８に向かって湾曲状に延在する。この構成により、さらなる導管１１０の所望の機能群または機能部分が、真空チャンバ３０’の第２のケーブルガイドケーシング１４０内へなど、キャビネット１２’の外部の所定の下方位置に向かって案内され得る。
【０１４８】
各第１のケーブルダクト１２２は、典型的には、例えばキャビネット１２’の第１の側壁部１２４に固定された屈曲金属ストリップ１３２などの２つの細長い第１の壁部部材によって画定される。第１の側壁部１２４の外側に取り付けられた湾曲ダクト１２２は、さらなる導管１１０を、キャビネット１２’の内容物から空間的に分離されたおよび電磁的に遮蔽された状態にする。金属ストリップ１３２は、例えば実質的に垂直な配向で、および第１の側壁部１２４の外方表面上に湾曲軌道に沿って溶接され得る。各屈曲金属ストリップ１３２は、第１の下方ダクト開口１２８へと第１の上方ダクト開口１２６から各湾曲軌道に沿って延在する。２つの隣接し合う金属ストリップ１３２、第１の側壁部１２４、および側部プレート（図示せず）は、１つまたは複数のさらなる導管１１０が収容され得るこの例では矩形断面を有する下方湾曲チャネルを形成する１つの第１のケーブルダクト１２２を一体的に画定する。
【０１４９】
一般的に、第１の壁部部材１３２が、少なくとも１つの第１のケーブルダクト１２２を画定し得る。いくつかの場合では、単一の壁部部材１３２が、その各側に２つの隣接する第１のケーブルダクト１２２を同時に画定し得る。これは、隣接し合う第１のケーブルダクト１２２を形成するために必要とされる壁部材料の量を削減する。例えば、図８に示される３つの上方ケーブルダクト１２２は、４つの金属ストリップ１３２（すなわち２つの外方金属ストリップおよび２つの中間金属ストリップ）のみによって画定される。
【０１５０】
好ましくは、図８に示されるように、各第１のケーブルダクト１２２の金属プレート軌道の曲線は、平滑である（すなわち折曲を伴わずに湾曲状に屈曲する）。平滑軌道により、いずれのさらなる導管１１０もが、障害を伴わずに一方のダクト端部（すなわち第１の開口１２６、１２８の一方）にて手動により挿入され、ケーブルダクト１２２を通して優しく搬送され、他方のダクト端部（すなわち対応する第１の開口１２８、１２６）にて出ることが可能となる。
【０１５１】
他の実施形態では、他のケーブルダクトが、代替的にまたは追加的に、キャビネットの対向側の第１の側壁部に設けられ得る。かかる他のケーブルダクトは、この他の鉛直方向凹部から同様に分岐し得る。さらに、キャビネット実施形態のいずれにおいても、ケーブルダクトの中の少なくとも１つが、ケーシングの頂壁部の長手方向エッジに沿って設けられた頂部導管開口に向かって上方向へと湾曲するために、任意の鉛直方向凹部の導管開口を通り分岐し得る。これに対応して、細長壁部部材または金属ストリップが、各側壁部上へと上方湾曲軌道に沿って実質的に垂直配向に溶接され得る。
【０１５２】
図７および図９は、真空チャンバ３０’の例示の実施形態を示す。真空チャンバ３０’は、例えば、標的処理ユニット１０’を形成するために図８に示されるキャビネット実施形態１２’と組み合わされ得る。図７および図９の実施形態では、真空チャンバ３０’の第２の側壁部１４４全体が、同一平面内に位置し、第２のケーブルダクト１４２は、側方に外方に突出するように第２の側壁部１４４上に取り付けられる。第２のケーブルダクト１４２は、第２のケーブルガイドケーシング１４０を完成させるためにカバー（図示せず）を備えてもよい。
【０１５３】
図７および図９の実施形態では、各第２のケーブルダクト１４２が、真空チャンバ３０’の側壁部に固定された２つの細長い第２の壁部部材（例えば金属ストリップ）１５２によって画定される。第２のケーブルダクト１４２は、さらなる導管１１０を真空チャンバ３０’の内容物から空間的に分離されたおよび電磁的に遮蔽された状態にする。金属ストリップ１５２は、例えば実質的に垂直な配向で、および第２の側壁部１４４の外方表面上に軌道に沿って溶接され得る。各屈曲金属ストリップ１５２は、場合によっては第２の下方ダクト開口１４８へと第２の上方ダクト開口１４６から各軌道に沿って延在する。２つの隣接し合う金属ストリップ１５２、第２の側壁部１４４、および側部プレート（図示せず）は、１つまたは複数のさらなる導管１１０が収容され得る１つの第２のケーブルダクト１４２を一体的に画定する。
【０１５４】
１つの第２の側部部材１４４が、少なくとも１つの第２のケーブルダクト１４２を画定し得る。いくつかの場合では、単一の第２の壁部部材１５２が、その各側に２つの隣接する第２のケーブルダクト１４２を同時に画定し得る。これは、隣接し合う第２のケーブルダクト１４２を形成するために必要とされる壁部材料の量を削減する。
【０１５５】
機器キャビネット１２’が、動作位置にある場合には、次いで第１のケーブルガイドケーシング１２０および第２のケーブルガイドケーシングは、鉛直方向に配向されたケーブルガイドケーシングを形成するように整列された状態になる。図７におけるケーブルダクトおよび開口の結果的に得られる構成により、所望の機能群のさらなる導管１１０が、機器キャビネット１２’から、第１のケーブルダクト１２２および第２のケーブルダクト１４２を通り、次いでベースプレート１７２および封止されたベースプレートポートを通り、真空チャンバ３０’の内部に向かって案内され得る。ケーブルダクト１２２、１４２と組み合わされた側方ケーブルガイドケーシング１２０、１４０は、さらなる導管１１０のためのコンパクトに構成され、区画され、機能的に分離された経路の集合体を形成する。
【０１５６】
一連の項が直下に提示されるが、これらの項は、導管および／またはダクトの構成の態様および実施形態を定義し、１つまたは複数の分割出願の対象となり得る。また、これらの項は、参照数字がプライム符号を伴って示された要素を含む代替的な実施形態にも関する。簡略化および明瞭化のみを目的として、プライム符号を付けられた要素は、以下の項に示される（非限定的な）参照番号から省かれているが、適用可能な全てのものに挿入されると見なされるべきである。
【０１５７】
［付記項］
ｃ１．標的処理ユニット（１０）であって、
電子機器（２２）を着脱可能に接続するためのアクセスポート（３６）と、
投影コラム（４６）の１つまたは複数のパーツ（５０、９０、９６、１００）を着脱可能に接続するためのコネクタパネル（４８）と
を備え、
アクセスポート（３６）は、標的処理ユニット（１０）の外部に少なくとも部分的に配置され、コネクタパネル（４８）は、標的処理ユニット（１０）の内部に配置され、アクセスポート（３６）およびコネクタパネル（４８）は、１つまたは複数の中間導管（３７）を介して振動／運動が分断されるように接続される、標的処理ユニット（１０）。
【０１５８】
ｃ２．中間導管（３７）は、動作中にアクセスポート（３６）とコネクタパネル（４８）との間に電気信号結合および／または光信号結合を供給するように構成され、中間導管は、アクセスポート（３６）とコネクタパネル（４８）との間に振動／運動の分断を与えるように構成された湾曲状の可撓性中間導管部分（３７ａ、３７ｂ）を備える、項ｃ１に記載の標的処理ユニット（１０）。
【０１５９】
ｃ３．電子機器（２２）を収容するためのキャビネット（１２）と、
投影コラム（４６）を収容するための真空チャンバ（３０）と
を備え、
投影コラム（４６）は、標的（３１）に向かうビームを発生させる、成形する、および配向するように構成され、
投影レンズアセンブリ（５０）などの投影コラム（４６）の１つまたは複数のパーツ（５０、９０、９６、１００）は、１つまたは複数の導管（２６、３７、６０）を介して電子機器（２２）に通信接続可能であり、
真空チャンバ（３０）は、
真空チャンバ（３０）内に真空環境を与えるように構成された真空ケーシング（３９）と、
キャリアケーシングを支持するように構成された真空ケーシング（３９）内の支持ケーシング（４０）と、
投影コラム（４６）を支持するように構成された支持ケーシング（４０）内のキャリアケーシング（４１）と
を備え、
標的処理ユニット（１０）は、１つまたは複数の導管（２６、３７、６０）を少なくとも部分的に備える中間導管アセンブリ（１０８）をさらに備え、ここにおいて、中間導管アセンブリ（１０８）は、
キャリアケーシング（４１）の内方側部に装着されたコネクタパネル（４８）と、
キャリアケーシング（４１）の外方側部に連結された第２の装着部材（３４ｂ）と、１つまたは複数の中間導管（３７）が、コネクタパネル（４８）から起始し、第２の装着部材（３４ｂ）に案内される、
支持ケーシング（４０）の内方側部に装着された第１の装着部材（３４ａ）と、ここにおいて、１つまたは複数の中間導管（３７）の第１の可撓性中間導管部分（３７ａ）が、第１の装着部材（３４ａ）と第２の装着部材（３４ｂ）との間に延在する、
真空ケーシング（３９）の外方側に設けられたアクセスポート（３６）と、ここにおいて、１つまたは複数の中間導管（３７）の第２の可撓性中間導管部分（３７ｂ）が、第１の装着部材（３４ａ）とアクセスポート（３６）との間に延在する、
を備える、項ｃ１または項ｃ２のいずれかに記載の標的処理ユニット（１０）。
【０１６０】
ｃ４．制御パネル（４８）は、投影コラム（４６）のパーツ（５０、９０、９６、１００）に接続された導管（６０）の遠位端部（６５）にコネクタ（６６）を受けるための１つまたは複数の相補コネクタ（４９）を備える、項ｃ３に記載の標的処理ユニット（１０）。
【０１６１】
ｃ５．中間導管（３７）は、コネクタパネル（４８）の後方側部から起始し、真空チャンバ（３０）の頂側部（３２）まで大体において鉛直方向の軌道を介して真空チャンバ（３０）の内側に案内される、項ｃ３またはｃ４に記載の標的処理ユニット（１０）。
【０１６２】
ｃ６．第１の中間導管部分（３７ａ）および第２の中間導管部分（３７ｂ）の少なくとも一方が、湾曲状である、項ｃ３〜ｃ５のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
【０１６３】
ｃ７．真空チャンバ（３０）の頂側部（３２）が、連結壁部（３５）を備える凹状セクション（３３）を備え、連結壁部（３５）は、真空チャンバ（３０）から起始する中間導管（３７）を受けるおよび通過させるためのアクセスポート（３６）を備える、項ｃ３〜ｃ６のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
【０１６４】
ｃ８．連結壁部（３５）は、頂側部（３２）の全幅にわたって延在し、所定の方向（Ｚ）に沿って位置しつつ、長手方向（Ｘ）に向く、項ｃ７に記載の標的処理ユニット（１０）。
【０１６５】
ｃ９．電子機器（２２）は、１つまたは複数の着脱可能キャビネット導管（２６）を介してアクセスポート（３６）に接続可能である、項のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
【０１６６】
ｃ１０．キャビネット（１２）の外方側方側部（１２４）に沿った第１のケーブルガイドケーシング（１２０）と、真空チャンバ（３０）の外方側方側部（１４４）に沿った第２のケーブルガイドケーシング（１４０）とをさらに備え、第１のケーブルガイドケーシング（１２０）および第２のケーブルガイドケーシング（１４０）は、真空チャンバ（３０）の下方の真空チャンバ（３０）の内部に配置されたさらなる機器（１１４、１１６）まで電子機器（２２）からさらなる導管（１１０）を案内するためのケーブルケーシングを共に形成する、項のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
【０１６７】
ｃ１１．第１のケーブルガイドケーシング（１２０）および第２のケーブルガイドケーシング（１４０）のそれぞれが、１つまたは複数のケーブルダクト（１２２、１４２）を備え、第１のケーブルダクト（１２２）の第１の下方ダクト開口（１２８）が、キャビネット（１２）が真空チャンバ（３０）の頂部に位置決めされる場合に、真空チャンバ（３０）の第２のケーブルダクト（１４２）の第２の上方ダクト開口（１４６）と整列された配向にある、項ｃ１０に記載の標的処理ユニット（１０）。
【０１６８】
ｃ１２．電子機器（２２）を着脱可能に接続するためのアクセスポート（３６）と、投影コラム（４６）の１つまたは複数のパーツ（５０、９０、９６、１００）を着脱可能に接続するためのコネクタパネル（４８）とを備え、アクセスポート（３６）は、真空チャンバ（３０）の外部に少なくとも部分的に配置され、コネクタパネル（４８）は、真空チャンバ（３０）の内部に配置され、アクセスポート（３６）およびコネクタパネル（４８）は、１つまたは複数の中間導管（３７）を介して振動／運動が分断されるように接続される、項ｃ１〜ｃ１１のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）で使用するための真空チャンバ（３０）。
【０１６９】
ｃ１３．中間導管（３７）は、動作中にアクセスポート（３６）とコネクタパネル（４８）との間に電気信号結合および／または光信号結合を供給するように構成され、中間導管は、アクセスポート（３６）とコネクタパネル（４８）との間に振動／運動の分断を与えるように構成された湾曲状の可撓性中間導管部分（３７ａ、３７ｂ）を備える、項ｃ１２に記載の真空チャンバ（３０）。
【０１７０】
ｃ１４．投影コラム（４６）は、標的（３１）に向かうビームを発生させる、成形する、および配向するように構成され、投影レンズアセンブリ（５０）などの投影コラム（４６）の１つまたは複数のパーツ（５０、９０、９６、１００）は、１つまたは複数の導管（２６、３７、６０）を介して外部電子機器（２２）に通信接続可能であり、
真空チャンバ（３０）は、
真空チャンバ（３０）内に真空環境を与えるように構成された真空ケーシング（３９）と、キャリアケーシングを支持するように構成された真空ケーシング（３９）内の支持ケーシング（４０）と、投影コラム（４６）を支持するように構成された支持ケーシング（４０）内のキャリアケーシング（４１）とを備え、
真空チャンバ（１０）は、１つまたは複数の導管（２６、３７、６０）を少なくとも部分的に備える中間導管アセンブリ（１０８）をさらに備え、ここにおいて、中間導管アセンブリ（１０８）は、
キャリアケーシング（４１）の内方側部に装着されたコネクタパネル（４８）と、第２の装着部材（３４ｂ）が、キャリアケーシング（４１）の外方側部に連結され、１つまたは複数の中間導管（３７）は、コネクタパネル（４８）から起始し、第２の装着部材（３４ｂ）に案内される、
支持ケーシング（４０）の内方側部に装着された第１の装着部材（３４ａ）と、ここにおいて、１つまたは複数の中間導管（３７）の第１の可撓性中間導管部分（３７ａ）が、第１の装着部材（３４ａ）と第２の装着部材（３４ｂ）との間に延在する、
真空ケーシング（３９）の外方側部に設けられたアクセスポート（３６）と、ここにおいて、１つまたは複数の中間導管（３７）の第２の可撓性中間導管部分（３７ｂ）が、第１の装着部材（３４ａ）とアクセスポート（３６）との間に延在する
を備える、投影コラム（４６）を収容するように構成された項ｃ１２またはｃ１３に記載の真空チャンバ（３０）。
【０１７１】
ｃ１５．真空チャンバ（３０）の下方の真空チャンバ（３０）の内部に配置されたさらなる機器（１１４、１１６）まで電子機器（２２）からさらなる導管（１１０）を案内するために、キャビネット（１２）の外方側方側部（１２４）に沿って第１のケーブルガイドケーシング（１２０）をさらに備える、項ｃ１２〜ｃ１４のいずれか一項に記載の真空チャンバ（３０）。
【０１７２】
ｃ１６．電子機器（２２）を着脱可能に接続するためのアクセスポート（３６）と、投影コラム（４６）の１つまたは複数のパーツ（５０、９０、９６、１００）を着脱可能に接続するためのコネクタパネル（４８）とを備え、アクセスポート（３６）は、真空チャンバ（３０）の外部に少なくとも部分的に配置されるように構成され、コネクタパネル（４８）は、真空チャンバ（３０）の内部に配置されるように構成され、アクセスポート（３６）およびコネクタパネル（４８）は、真空チャンバ（３０）内に設置される場合に、１つまたは複数の中間導管（３７）を介して振動／運動が分断されるように接続される、項ｃ１２〜ｃ１５のいずれか一項に記載の真空チャンバ（３０）で使用するための中間導管アセンブリ（１０８）。
【０１７３】
ｃ１７．投影コラム（４６）は、標的（３１）に向かうビームを発生させる、成形する、および配向するように構成され、投影レンズアセンブリ（５０）などの投影コラム（４６）の１つまたは複数のパーツ（５０、９０、９６、１００）は、１つまたは複数の導管（２６、３７、６０）を介して外部電子機器（２２）に通信接続可能であり、
真空チャンバ（３０）は、真空チャンバ（３０）内に真空環境を与えるように構成された真空ケーシング（３９）と、キャリアケーシングを支持するように構成された真空ケーシング（３９）内の支持ケーシング（４０）と、投影コラム（４６）を支持するように構成された支持ケーシング（４０）内のキャリアケーシング（４１）とを備え、
中間導管アセンブリ（１０８）は、１つまたは複数の導管（２６、３７、６０）を少なくとも部分的に備え、中間導管アセンブリ（１０８）は、
キャリアケーシング（４１）の内方側部に装着されたコネクタパネル（４８）と、第２の装着部材（３４ｂ）が、キャリアケーシング（４１）の外方側部に連結されるように構成され、１つまたは複数の中間導管（３７）は、コネクタパネル（４８）から起始し、第２の装着部材（３４ｂ）に案内されるように構成される、
支持ケーシング（４０）の内方側部に装着された第１の装着部材（３４ａ）と、ここにおいて、１つまたは複数の中間導管（３７）の第１の可撓性中間導管部分（３７ａ）が、第１の装着部材（３４ａ）と第２の装着部材（３４ｂ）との間に延在するように構成される、
真空ケーシング（３９）の外方側部に装着されるように構成されたアクセスポート（３６）と、ここにおいて、１つまたは複数の中間導管（３７）の第２の可撓性中間導管部分（３７ｂ）が、第１の装着部材（３４ａ）とアクセスポート（３６）との間に延在するように構成される、
をさらに備える、項ｃ１６に記載の中間導管アセンブリ（１０８）。
【０１７４】
ｃ１８．真空環境内でビームに標的（３１）を露光させるための標的処理ユニット（１０）であって、
標的と標的を操作するための複数のデバイス（４６、１１４）とを収容するための内方空間を画成する真空チャンバ（３０）と、ここにおいて、真空チャンバは、内方空間内で真空を維持するように構成される、
複数のデバイスを制御する、給電する、および冷却する中の少なくとも１つを行うための機器（２２）を収容するためのキャビネット（１２）と、
ここにおいて、デバイスは、
ビームを発生させるおよび露光中に標的（３１）に向かってビームを投影するための投影コラム（４６）と、
標的（３１）を支持するための位置決めシステム（１１４）と
を備え、
位置決めシステムは、投影コラムに対して可動的に構成され、位置決めシステムおよび投影コラムは、真空チャンバの空間的に別個の部分を占め、
標的処理ユニットは、
キャビネットの内部の対応する機器（２２）に投影コラムと位置決めシステムとを接続するための複数の導管（２６、３７、６０、１１０）と、
各導管が相互的な阻害を伴わずに投影コラムにおよび位置決めシステムに個別に接続するのを可能にする個別の導管経路を形成するために、真空チャンバの空間的に別個の部分に向かっておよびその中に対応する導管を送るための第１の導管ガイド構成体および第２の導管ガイド構成体（１０８、１２０、１４０）と
をさらに備える、標的処理ユニット（１０）。
【０１７５】
ｃ１９．真空チャンバ（３０）は、第１の壁部と第１の壁部の対向側の第２の壁部とを画定する真空ケーシング（３９）を備え、第１の壁部および第２の壁部は、真空チャンバ内におよび真空チャンバから投影コラム（４６）を挿入および除去するための開口を有する前方チャンバ側部を共に画定し、
第１の導管ガイドアセンブリ（１０８）が、第１の壁部から投影コラム（４６）に対応する導管（２６、３７、６０）をアプローチおよび接続させるように構成され、
第２の導管ガイドアセンブリ（１２０、１４０）が、第２の壁部から位置決めシステム（１１４）に対応する導管（１１０）をアプローチおよび接続させるように構成される、項ｃ１８に記載の標的処理ユニット（１０）。
【０１７６】
ｃ２０．第１の壁部は、真空チャンバの上方側部を形成し、第２の壁部は、真空チャンバの下方側部を形成し、第２の導管ガイドアセンブリ（１２０、１４０）は、真空チャンバの側方壁部（１４４）に沿って設けられ、真空チャンバの上方側部から下方側部に延在する、項ｃ１９に記載の標的処理ユニット（１０）。
【０１７７】
ｃ２１．キャビネット（１２）は、真空チャンバ（３０）の上方側部上に配置され、第１の壁部（３２）により支持される、項ｃ２０に記載の標的処理ユニット（１０）。
【０１７８】
ｃ２２．真空チャンバ（３０）の内方空間内に設けられ、投影コラム（４６）を収容するおよび支持するように構成されたキャリアフレーム（４２）と、
真空チャンバの内方空間内に設けられ、第１の導管ガイドアセンブリ（１０８）の導管（３７、２６）に投影コラムから導管（６０）を着脱可能におよび選択的に接続するように構成されたコネクタパネル（４８）と
を備える、項ｃ１９〜ｃ２１のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
【符号の説明】
【０１７９】
１０  標的処理ユニット（例えば荷電粒子リソグラフィユニット、検査ユニット）
１２  キャビネット
１３  前方側部
１５  キャビネットドア
１６  （前方）プレナム
１８  ラック
２０  棚
２２  電子機器
２４  冷却フレーム
２５  鉛直方向壁部部分
２６  キャビネット導管（ケーブル）
２７  鉛直方向凹部
２８  床部開口
３０  真空チャンバ
３１  標的
３２  頂側部
３３  凹状セクション
３４ａ  第１の導管装着部材／アンカー
３４ｂ  第２の導管装着部材／アンカー
３５  連結壁部
３６  アクセスポート
３７  中間導管
３７ａ  第１の可撓性中間導管部分
３７ｂ  第２の可撓性中間導管部分
３８  軸受部材（レール）
３９  真空ケーシング
４０  支持ケーシング
４１  キャリアケーシング
４２  キャリアフレーム
４３  懸吊ベース
４４  懸吊部材
４５  懸吊ロッド
４６  投影コラム
４７  ビームレット
４８  コネクタパネル
４９  相補コネクタ
５０  投影レンズアセンブリ
５２  レンズ支持体（五角形支持プレート）
５３  レンズ切欠部
５４  レンズ素子
５５  当接部材
５６  第１の側方エッジ
５７  第２の側方エッジ
５８  接続領域（後方エッジ）
５９  ガイド部材（ホイール）
６０  信号導管
６２  電力導管
６４  流体導管
６５  遠位端部
６６  導管コネクタ
６７  洗浄剤供給チューブ
６８  レンズキャリアリング（温度安定性）
６９  アライメントセンサ
７０  導管ガイド体
７２  第１のガイド部分（側方ガイド部分）
７３  四辺形支持プレート
７４  第１のさらなる側方エッジ
７５  第２のさらなる側方エッジ
７６  さらなるガイド部材（ホイール）
７８  第２のガイド部分（鉛直方向ガイド部分）
７９  傾斜エッジ
８０  （湾曲状）スレッジ
８１  スレッジガイド部材
８２  スレッジ切欠部
８３  さらなるレール
９０  照明光学モジュール
９２  荷電粒子ビーム源
９４  ビームコリメータアレイ
９６  コンデンサレンズモジュール
９８  開口アレイおよびコンデンサレンズアレイ
１００  ビーム切替えモジュール
１０２  ビームレットブランカアレイ
１０８  中間導管アセンブリ
１１０  さらなる導管
１１２  さらなる機器
１１４  標的位置決めシステム
１１４ａ  チャック
１１４ｃ  短ストロークステージ
１１６  光ビームセンサ
１２０  第１のケーブルガイドケーシング
１２２  第１のケーブルダクト（例えば溝）
１２４  第１の側壁部
１２６  第１の上方ダクト開口
１２８  第１の下方ダクト開口
１３０  キャビネットフロア
１３２  第１のダクト壁部部材
１３４  鉛直方向凹状壁部
１４０  第２のケーブルガイドケーシング
１４２  第２のケーブルダクト（例えば溝）
１４４  第２の側壁部
１４６  第２の上方ダクト開口
１４８  第２の下方ダクト開口
１５０  真空チャンバ頂部
１５２  第２のダクト壁部部材
１６６  上方チャンバ領域
１６８  下方チャンバ領域
１７０  ベースプレート領域
１７２  ベースプレート
Ｘ  縦方向
Ｙ  横方向
Ｚ  垂直方向（鉛直方向）
Ｐ  面
Ｐ１  上方面
Ｐ２  下方面
Ｂ  側方領域
ｈ  支持プレート高さ
上記のリストは、本明細書に上述の通り説明され、添付の図を伴って示された代替実施形態の関連する様をも含むものである。簡潔化および明瞭化のみを目的として、プライム符号を付けられたかかる実施形態の要素は、上記から省いた。
【図１】
2017224828.tif 000003
【図２ａ】
2017224828.tif 000004
【図２ｂ】
2017224828.tif 000005
【図３ａ】
2017224828.tif 000006
【図３ｂ】
2017224828.tif 000007
【図４】
2017224828.tif 000008
【図５ａ】
2017224828.tif 000009
【図５ｂ】
2017224828.tif 000010
【図６】
2017224828.tif 000011
【図７】
2017224828.tif 000012
【図８】
2017224828.tif 000013
【図９】
2017224828.tif 000014
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月7日(2017.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理されるべき標的を収容するための真空チャンバ（３０）と、
ビームを生成し、前記標的に前記ビームを投影するための、前記真空チャンバ内の投影コラム（４６）と、
前記真空チャンバ（３０）内の機器と、
前記投影コラム（４６）を前記真空チャンバ（３０）の外部の対応する電子機器（２２）と接続するための導管（２６，３７，６０）と、
前記電子機器を前記真空チャンバ（３０）の外部の対応する電子機器（２２）と接続するための、前記導管（２６，３７，６０）とは異なるさらなる導管（１１０）と、
を備えた標的処理ユニットであって、
前記導管（２６，３７，６０）は、前記真空チャンバの上方側部を通って延在し、前記さらなる導管（１１０）は、前記真空チャンバの下方側部を通って延在する、標的処理ユニット。
【請求項２】
前記真空チャンバ内の前記機器は、標的（３１）を支持するための位置決めシステム（１１４）を備え、前記位置決めシステムは、前記投影コラムに対して可動的に構成され、前記位置決めシステム及び前記投影コラムは、前記真空チャンバの空間的に別個の部分を占めている、請求項１に記載の標的処理ユニット。
【請求項３】
前記真空チャンバ（３０）は、第１の壁部と第１の壁部の対向側の第２の壁部とを画定する真空ケーシング（３９）を備え、前記第１の壁部および前記第２の壁部は、前記真空チャンバ内に及び前記真空チャンバから前記投影コラム（４６）を挿入および除去するための開口を有する前方チャンバ側部を共に画定し、前記第１の壁部は、前記真空チャンバの前記上方側部を形成し、前記第２の壁部は、前記真空チャンバの前記下方側部を形成する、請求項１又は２に記載の標的処理ユニット。
【請求項４】
前記さらなる導管（１１０）は、前記真空チャンバの前記下方側部へ前記真空チャンバの側方壁部に沿って案内されている、請求項１ないし３のいずれか一項に記載の標的処理ユニット。
【請求項５】
前記さらなる導管（１１０）を案内するために、第２の導管ガイドアセンブリ（１２０、１４０）が、前記真空チャンバの前記上方側部から前記下方側部に延在する前記真空チャンバの前記側方壁部（１４４）に沿って設けられている、請求項４に記載の標的処理ユニット。
【請求項６】
前記導管が、前記対応する電子機器（２２）を着脱可能に接続するための、前記真空チャンバの外部に少なくとも部分的に配置されているアクセスポート（３６）に案内されている、請求項１ないし５のいずれか一項に記載の標的処理ユニット。
【請求項７】
前記導管が、投影コラム（４６）の１つ又は複数のパーツ（５０、９０、９６、１００）を着脱可能に接続するための、前記真空チャンバの内部に配置されているコネクタパネル（４８）に案内されている、請求項１ないし６のいずれか一項に記載の標的処理ユニット。
【請求項８】
前記アクセスポート（３６）及び前記コネクタパネル（４８）が、１つ又は複数の中間導管（３７）を介して振動／運動が分断されるように接続され、前記導管が、１つ又は複数の中間導管（３７）からなる、請求項６に従属する請求項７に記載の標的処理ユニット。
【請求項９】
前記中間導管（３７）は、動作中に前記アクセスポート（３６）と前記コネクタパネル（４８）との間に電気信号結合及び／又は光信号結合を供給するように構成され、前記中間導管は、前記アクセスポート（３６）と前記コネクタパネル（４８）との間に振動／運動の分断を与えるように構成された湾曲状の可撓性中間導管部分（３７ａ、３７ｂ）を備える、請求項８に記載の標的処理ユニット。
【請求項１０】
前記真空チャンバ（３０）は、
前記真空チャンバ（３０）内に真空環境を与えるように構成された真空ケーシング（３９）と、
キャリアケーシング（４１）を支持するように構成された前記真空ケーシング（３９）内の支持ケーシング（４０）と、
前記投影コラム（４６）を支持するように構成された前記支持ケーシング（４０）内の前記キャリアケーシング（４１）とを備え、
前記コネクタパネル（４８）は、前記キャリアケーシング（４１）の内方側部に装着され、
第２の装着部材（３４ｂ）が前記キャリアケーシング（４１）の外方側部に連結され、前記１つ又は複数の中間導管（３７）が、前記コネクタパネル（４８）から起始し、前記第２の装着部材（３４ｂ）に案内され、
第１の装着部材（３４ａ）が前記支持ケーシング（４０）の内方側部に装着され、ここにおいて、前記１つ又は複数の中間導管（３７）の第１の可撓性中間導管部分（３７ａ）が、前記第１の装着部材（３４ａ）と前記第２の装着部材（３４ｂ）との間に延在しており、
前記アクセスポート（３６）は、前記真空ケーシング（３９）の外方側に設けられ、ここにおいて、前記１つ又は複数の中間導管（３７）の第２の可撓性中間導管部分（３７ｂ）が、前記第１の装着部材（３４ａ）と前記アクセスポート（３６）との間に延在している、請求項８又は９に記載の標的処理ユニット。
【請求項１１】
前記中間導管（３７）は、前記コネクタパネル（４８）の後方側部から起始し、前記真空チャンバ（３０）の頂側部（３２）まで大体において鉛直方向の軌道を介して前記真空チャンバ（３０）の内側に案内される、請求項１０に記載の標的処理ユニット。
【請求項１２】
前記第１の可撓性中間導管部分（３７ａ）及び前記第２の可撓性中間導管部分（３７ｂ）の少なくとも一方が、湾曲状である、請求項１０又は１１に記載の標的処理ユニット。
【請求項１３】
前記電子機器（２２）を収容するためのキャビネット（１２）をさらに備え、前記キャビネット（１２）は、前記真空チャンバ（３０）の上方側部上に配置され、前記第１の壁部（３２）により支持される、請求項３に記載の標的処理ユニット。
【請求項１４】
請求項１ないし１３のいずれか一項に記載の標的処理ユニットで使用するための中間導管アセンブリであって、前記中間導管アセンブリは、導管（２６，３７，６０）と、電子機器（２２）を着脱可能に接続するためのアクセスポート（３６）と、投影コラム（４６）の１つまたは複数のパーツ（５０、９０、９６、１００）を着脱可能に接続するためのコネクタパネル（４８）とを備え、前記アクセスポート（３６）は、前記真空チャンバ（３０）の外部に少なくとも部分的に配置されるように構成され、前記コネクタパネル（４８）は、前記真空チャンバ（３０）の内部に配置されるように構成され、前記アクセスポート（３６）及び前記コネクタパネル（４８）は、前記真空チャンバ（３０）内に設置される場合に、１つ又は複数の中間導管（３７）を介して振動／運動が分断されるように接続され、前記導管（２６，３７，６０）は、前記１つ又は複数の中間導管（３７）からなる、中間導管アセンブリ（１０８）。
【請求項１５】
前記投影コラム（４６）は、標的（３１）に向かうビームを発生させ、成形し、及び配向するように構成され、投影レンズアセンブリ（５０）などの前記投影コラム（４６）の前記１つ又は複数のパーツ（５０、９０、９６、１００）は、前記導管（２６、３７、６０）を介して外部の前記電子機器（２２）に通信接続可能であり、
前記真空チャンバ（３０）は、前記真空チャンバ（３０）内に真空環境を与えるように構成された真空ケーシング（３９）と、キャリアケーシングを支持するように構成された前記真空ケーシング（３９）内の支持ケーシング（４０）と、前記投影コラム（４６）を支持するように構成された前記支持ケーシング（４０）内の前記キャリアケーシング（４１）とを備え、
中間導管アセンブリ（１０８）は、さらに、
前記キャリアケーシング（４１）の内方側部に装着された前記コネクタパネル（４８）、前記キャリアケーシング（４１）の外方側部に接続されるように配置された第２の装着部材（３４ｂ）、及び前記コネクタパネル（４８）から起始し、前記第２の装着部材（３４ｂ）に案内される前記１つ又は複数の中間導管（３７）と、
前記支持ケーシング（４０）の内方側部に装着された第１の装着部材（３４ａ）と、ここにおいて、前記１つ又は複数の中間導管（３７）の第１の可撓性中間導管部分（３７ａ）が、前記第１の装着部材（３４ａ）と前記第２の装着部材（３４ｂ）との間に延在しており、
前記真空ケーシング（３９）の外方側部に設けられた前記アクセスポート（３６）と、ここにおいて、前記１つ又は複数の中間導管（３７）の第２の可撓性中間導管部分（３７ｂ）が、前記第１の装着部材（３４ａ）と前記アクセスポート（３６）との間に延在しており、
を備える、請求項１４に記載の中間導管アセンブリ（１０８）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５６】
一連の項が直下に提示されるが、これらの項は、導管および／またはダクトの構成の態様および実施形態を定義し、１つまたは複数の分割出願の対象となり得る。また、これらの項は、参照数字がプライム符号を伴って示された要素を含む代替的な実施形態にも関する。簡略化および明瞭化のみを目的として、プライム符号を付けられた要素は、以下の項に示される（非限定的な）参照番号から省かれているが、適用可能な全てのものに挿入されると見なされるべきである。
以下に、出願当初の特許請求の範囲に記載の事項を、そのまま、付記しておく。
［１］  標的処理ユニット（１０）であって、
標的（３１）に向かうビームを発生させ、成形し、および配向する投影コラム（４６）であって、前記標的に前記ビームを配向するための投影レンズアセンブリ（５０）を備えた投影コラム（４６）と、
前記投影レンズアセンブリを収容するためのキャリアフレーム（４２）と、
ここで、前記投影レンズアセンブリ（５０）は、レンズ素子（５４）を収容するための平面レンズ支持体（５２）を備え、ここにおいて、前記平面レンズ支持体は、面（Ｐ）に広がり、接続領域（５８）と側方エッジ（５６）とを備え、前記平面レンズ支持体は、前記キャリアフレーム（４２）内へと前記面（Ｐ）に対して平行な挿入方向（Ｘ）に沿った挿入用に構成されるものであり、
前記接続領域から起始し、前記面に対して平行に配向された複数の導管（６０〜６４）と、
前記導管を収容するように構成された導管ガイド体（７０）と、を備え、
前記導管ガイド体は、前記側方エッジを越えて側方領域（Ｂ）まで、前記面に対して平行におよび前記挿入方向（Ｘ）に対して垂直な非ゼロの方向成分を有して前記接続領域から前記導管を案内するように構成された第１のガイド部分（７２）と、
前記導管ガイド体の傾斜エッジ（７９）に向かって、前記面（Ｐ）に対して垂直な非ゼロの方向成分を有して前記側方領域（Ｂ）から前記導管を案内するための第２のガイド部分（７８）と、を備える、標的処理ユニット（１０）。
［２］  前記キャリアフレーム（４２）は、前記投影レンズアセンブリの前記導管ガイド体（７０）の少なくとも一部に対して相補的な形状を有する切欠部（８２）を前記側方領域（Ｂ）に備える、［１］に記載の標的処理ユニット（１０）。
［３］  前記投影レンズアセンブリ（５０）と前記標的処理ユニットに設けられたソースデバイスおよび／または宛先デバイスとの間に電気接続および／または流体連通を確立するために、前記導管（６０〜６４）の遠位端部（６５）に接続するための相補コネクタ（４９）を備えるコネクタパネル（４８）を備える、［１］または［２］に記載の標的処理ユニット（１０）。
［４］  前記導管は、前記導管ガイド体（７０〜８１）の内部に収容され、前記導管ガイド体の外側は、前記挿入方向に沿って実質的に線対称である、［１］から［３］のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
［５］  前記導管は、局所的に平行な構成で前記導管ガイド体（７０〜８１）内に収容される、［１］から［４］のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
［６］  前記平面レンズ支持体（５２）、前記第１のガイド部分（７２）、ならびに前記平面レンズ支持体（５２）および前記第１のガイド部分（７２）により収容される前記導管（６０〜６４）の部分は、前記面（Ｐ）に対して平行な第１の面（Ｐ１）と前記面（Ｐ）に対して平行な第２の面（Ｐ２）との間に垂直方向（Ｚ）に完全に画定される、［１］から［５］のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
［７］  前記接続領域（５８）は、前記平面レンズ支持体の後方エッジ（５８）を形成する、前記請求項のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
［８］  前記平面レンズ支持体（５２）は、前記挿入方向（Ｘ）に対して共に平行である２つの相対側方エッジ（５６、５７）を備える大体において多角形の剛性支持プレートを備え、前記後方エッジ（５８）は、前記挿入方向に対して少なくとも部分的に逆方向である方向を向く、［７］に記載の標的処理ユニット（１０）。
［９］  前記多角形の剛性支持プレート（５２）は、正五角形を有し、前記２つの相対側方エッジ（５６、５７）および前記後方エッジは、相互連結され、２つの残りのエッジは、中間に位置する角部に当接部材（５５）を有する先端部を形成する、［８］に記載の標的処理ユニット（１０）。
［１０］  前記導管ガイド体（７０〜８１）は、前記平面レンズ支持体（５２）の前記後方エッジ（５８）に沿って設けられ、前記第１のガイド部分（７２）は、前記面（Ｐ）内に配置されたおよび前記挿入方向（Ｘ）に対して共に平行である２つのさらなる相対側方エッジ（７４、７５）を備える大体において四辺形の剛性支持プレート（７３）を備える、［７］から［９］のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
［１１］  前記多角形の剛性支持プレート（５２）および／または四辺形の剛性支持プレート（７３）は、磁気遮蔽材料を備える、［８］から［１０］のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
［１２］  前記挿入方向（Ｘ）に沿っておよび前記面（Ｐ）に対して平行に前記キャリアフレーム（４２）内へと前記平面レンズ支持体（５２）を位置決めするために、前記多角形の剛性支持プレート（５２）の前記相対側方エッジ（５６、５７）に沿ってガイド部材（５９）を備える、［８］または［９］に記載の標的処理ユニット（１０）。
［１３］  各導管（６０〜６４）は、遠位導管端部（６５）に導管コネクタ（６６）を備え、前記導管コネクタは、前記面（Ｐ）から垂直に距離を置いて前記側方領域（Ｂ）に設けられたコネクタパネル（４８）上の相補コネクタ（４９）に接続するように構成される、前記請求項のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
［１４］  コネクタパネル（４８）および相補コネクタ（４９）は、前記面（Ｐ）に対して垂直である垂直方向（Ｚ）に配置される、［２］から［１３］のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
［１５］  前記導管ガイド体は、スレッジ（８０）を備え、前記スレッジは、前記第２のガイド部分（７８）と前記第１のガイド部分（７２）の少なくとも一部とを備え、前記スレッジは、前記キャリアフレーム（４２）内へと前記スレッジを位置決めするために前記挿入方向（Ｘ）に沿ってスレッジガイド部材（８１）を備える、前記請求項のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
［１６］  ビームブランカによるブランキング偏向を有する荷電粒子ビームレットを阻止し、前記ビームブランカによるブランキング偏向を有さない荷電粒子ビームレットを通過させるための開口アレイを備えるビームストップアレイと、
複数の荷電粒子ビームレットを通過させるための貫通開口部を備える支持要素と、
前記支持要素により支持される複数の電極と、
前記電極の上流におよび前記ビームブランカの下流に配置された偏向器ユニットとを備え、
前記ビームストップアレイは、前記偏向器ユニットと前記電極との間に配置され、
前記電極は、前記投影レンズアセンブリの下流遠位エッジにより画定された面の中または付近に配置され、前記電極のそれぞれが、伝達された荷電粒子ビームレットに通路を与えるための前記貫通開口部に整列されたレンズ穴アレイを備える、前記請求項のいずれか一項に記載の標的処理ユニット（１０）。
［１７］  標的（３１）に向かってビームを配向するための投影レンズアセンブリ（５０）であっ
て、
レンズ素子（５４）を収容するための平面レンズ支持体（５２）と、ここで、前記平面レンズ支持体は、面（Ｐ）に広がり、接続領域（５８）と側方エッジ（５６）とを備え、前記平面レンズ支持体は、標的処理ユニット（１０）のキャリアフレーム（４２）内へと前記面（Ｐ）に対して平行な挿入方向（Ｘ）に沿った挿入用に構成されるものであり、
前記接続領域から起始し、前記面に対して平行に配向された複数の導管（６０〜６４）と、
前記導管を収容するように構成された導管ガイド体（７０〜８１）と、を備え、
前記導管ガイド体は、前記側方エッジを越えて側方領域（Ｂ）まで、前記面に対して平行におよび前記挿入方向（Ｘ）に対して垂直な非ゼロの方向成分を有して前記接続領域から前記導管を案内するように構成された第１のガイド部分（７２）と、
前記導管ガイド体の傾斜エッジ（７９）に向かって、前記面（Ｐ）に対して垂直な非ゼロの方向成分を有して前記側方領域（Ｂ）から前記導管を案内するための第２のガイド部分（７８）と、を備える、投影レンズアセンブリ（５０）。
［１８］  前記導管は、前記導管ガイド体（７０〜８１）の内部に収容され、前記導管ガイド体の外側は、前記挿入方向に沿って実質的に線対称である、［１７］に記載の投影レンズアセンブリ。
［１９］  前記導管（６０〜６４）は、局所的に平行な構成で前記ガイド体（７０〜８１）内に収容される、［１７］または［１８］に記載の投影レンズアセンブリ。
［２０］  前記平面レンズ支持体（５２）、前記第１のガイド部分（７２）、ならびに前記平面レ
ンズ支持体（５２）により収容される前記導管（６０〜６４）の部分は、前記面（Ｐ）に対して平行な第１の面（Ｐ１）と第２の面（Ｐ２）との間に垂直方向（Ｚ）に完全に画定される、［１７］から［１９］のいずれか一項に記載の投影レンズアセンブリ。
［２１］  前記接続領域（５８）は、前記平面レンズ支持体の後方エッジ（５８）を形成する、［１７］から［２０］のいずれか一項に記載の投影レンズアセンブリ。
［２２］  前記平面レンズ支持体（５２）は、前記挿入方向（Ｘ）に対して共に平行である２つの相対側方エッジ（５６、５７）を備える大体において多角形の剛性支持プレートを備え、
前記後方エッジ（５８）は、前記挿入方向に対して少なくとも部分的に逆方向である方向を向く、［２１］に記載の投影レンズアセンブリ。
［２３］  前記多角形の剛性支持プレート（５２）は、正五角形を有し、前記２つの相対側方エッジ（５６、５７）および前記後方エッジは、相互連結され、２つの残りのエッジは、中間に位置する角部に当接部材（５５）を有する先端部を形成する、［２２］に記載の投影レンズアセンブリ。
［２４］  前記導管ガイド体（７０〜８１）は、前記平面レンズ支持体（５２）の前記後方エッジ（５８）に沿って設けられ、前記第１のガイド部分（７２）は、前記面（Ｐ）内に配置されたおよび前記挿入方向（Ｘ）に対して共に平行である２つのさらなる相対側方エッジ（７４、７５）を備える大体において四辺形の剛性支持プレート（７３）を備える、［２１］から［２３］のいずれか一項に記載の投影レンズアセンブリ。
［２５］  前記多角形の剛性支持プレート（５２）および／または四辺形の剛性支持プレート（７３）は、磁気遮蔽材料を備える、［２２］から［２４］のいずれか一項に記載の投影レンズアセンブリ。
［２６］  前記挿入方向（Ｘ）に沿っておよび前記面（Ｐ）に対して平行に前記キャリアフレーム（４２）内へと前記レンズ支持体（５２）を位置決めするために、前記多角形の剛性支持プレート（５２）の前記相対側方エッジ（５６、５７）に沿ってガイド部材（５９）を備える、［２２］または［２３］に記載の投影レンズアセンブリ。
［２７］  各導管（６０〜６４）は、遠位導管端部（６５）に導管コネクタ（６６）を備え、前記導管コネクタは、前記面（Ｐ）から垂直に距離を置いて前記側方領域（Ｂ）に設けられたコネクタパネル（４８）上の相補コネクタ（４９）に接続するように構成される、［１７］から［２６］のいずれか一項に記載の投影レンズアセンブリ。
［２８］  前記導管ガイド体（７０〜８１）は、スレッジ（８０）を備え、前記スレッジは、前記第２のガイド部分（７８）と前記第１のガイド部分（７２）の少なくとも一部とを備え、前記スレッジは、前記キャリアフレーム（４２）内へと前記スレッジを位置決めするために前記挿入方向（Ｘ）に沿ってスレッジガイド部材（８１）を備える、［１７］から［２７］のいずれか一項に記載の投影レンズアセンブリ。
［２９］  ビームブランカ（１０２）によるブランキング偏向を有する荷電粒子ビームレット（４７）を阻止し、前記ビームブランカによるブランキング偏向を有さない荷電粒子ビームレットを通過させるための開口アレイを備えるビームストップアレイと、
複数の荷電粒子ビームレットを通過させるための貫通開口部を備える支持要素と、
前記支持要素により支持される複数の電極と、
前記電極の上流におよび前記ビームブランカの下流に配置された偏向器ユニットとを備え、
前記ビームストップアレイは、前記偏向器ユニットと前記電極との間に配置され、
前記電極は、前記投影レンズアセンブリの下流遠位エッジにより画定された面の中または付近に配置され、前記電極のそれぞれが、伝達された荷電粒子ビームレットに通路を与えるための前記貫通開口部に整列されたレンズ穴アレイを備える、［１７］から［２８］のいずれか一項に記載の投影レンズアセンブリ。
【外国語明細書】
2017224828000001.pdf