(57)【要約】【課題】光取り出し効率を向上させた表示装置を提供する。【解決手段】表示装置は、絶縁表面上に形成された画素電極と、前記画素電極上に形成され、発光層を含む有機層と、前記有機層上に形成された対向電極と、前記対向電極上に設けられた第１無機絶縁膜と、前記第１無機絶縁膜上に設けられた第１中間膜と、前記第１中間膜上に設けられた第１有機絶縁膜と、を有し、前記第１中間膜を構成する材料の屈折率は、前記第１無機絶縁膜を構成する材料の屈折率より小さく、前記第１有機絶縁膜を構成する材料の屈折率より大きい、ことを特徴とする。【選択図】図５
2017224416.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面上に形成された画素電極と、
前記画素電極上に形成され、発光層を含む有機層と、
前記有機層上に形成された対向電極と、
前記対向電極上に設けられた第１無機絶縁膜と、
前記第１無機絶縁膜上に設けられた第１中間膜と、
前記第１中間膜上に設けられた第１有機絶縁膜と、を有し、
前記第１中間膜を構成する材料の屈折率は、前記第１無機絶縁膜を構成する材料の屈折率より小さく、前記第１有機絶縁膜を構成する材料の屈折率より大きい、
ことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記有機層から表示面側に出射される可視光の、前記第１無機絶縁膜、前記第１中間膜及び前記第１有機絶縁膜による反射率は、波長に関して下に凸で変化し、可視光波長領域において極小値をとる、
ことを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項３】
前記第１有機絶縁膜上に設けられた第２中間膜と、
前記第２中間膜上に設けられた第２無機絶縁膜と、
前記第２無機絶縁膜上に設けられた第３中間膜と、
前記第３中間膜上に設けられた第２有機絶縁膜と、をさらに有し、
前記第２中間膜を構成する材料の屈折率は、前記第２無機絶縁膜を構成する材料の屈折率より小さく、前記第１有機絶縁膜を構成する材料の屈折率より大きく、
前記第３中間膜を構成する材料の屈折率は、前記第２無機絶縁膜を構成する材料の屈折率より小さく、前記第２有機絶縁膜を構成する材料の屈折率より大きい、
ことを特徴とする請求項１又は２記載の表示装置。
【請求項４】
前記有機層から表示面側に出射される可視光の、前記第１有機絶縁膜、前記第２中間膜、前記第２無機絶縁膜、前記第３中間膜及び前記第２有機絶縁膜による反射率は、波長に関して振動し、振動の振幅が可視光波長領域において極小値をとる、
ことを特徴とする請求項３記載の表示装置。
【請求項５】
前記第１無機絶縁膜は、シリコン窒化膜で形成され、
前記第１有機絶縁膜は、アクリル又はエポキシを含む樹脂で形成され、
前記第１中間膜は、シリコン酸窒化膜で形成される、
ことを特徴とする請求項１又は２記載の表示装置。
【請求項６】
前記第１無機絶縁膜及び前記第２無機絶縁膜は、シリコン窒化膜で形成され、
前記第１有機絶縁膜は、アクリル又はエポキシを含む樹脂で形成され、
前記第２有機絶縁膜は、アクリル又はエポキシを含む樹脂、ポリイミド、ポリエチレンナフタレート及びポリエチレンテレフタレートからなる群より選択される一の樹脂で形成され、
前記第１中間膜、前記第２中間膜及び前記第３中間膜は、シリコン酸窒化膜で形成されている、
ことを特徴とする請求項３又は４記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置等の表示装置では、有機発光ダイオード（Organic Light Emitting Diode、ＯＬＥＤ）等の自発光素子をトランジスタ等のスイッチング素子を用いて制御し、画像を表示する場合がある。
【０００３】
下記特許文献１には、窒化シリコンからなるバリヤ層と、窒酸化シリコン及び酸化シリコンの少なくともいずれかからなる応力緩和層と、を含む有機ＥＬ素子の封止膜が記載されている。
【０００４】
下記特許文献２には、封止層中の１層の無機物膜をイオンビームスパッタ法で形成し、封止層中の他の無機物膜をイオンビームスパッタ法以外の他の製膜方法で形成する有機ＥＬ装置の製造方法が記載されている。
【０００５】
下記特許文献３には、窒化珪素膜と酸窒化珪素膜とが交互に積層された、少なくとも３層の積層構造を有する有機ＥＬ素子用の封止膜が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−１６４５４３号公報
【特許文献２】特開２００９−３７８１１号公報
【特許文献３】特許第４７２９７５９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
有機ＥＬ表示装置は、有機層を保護する封止膜を有する場合がある。封止膜は、水分透過率の小さい無機絶縁膜と、異物を被覆する有機絶縁膜を積層した構造を有する場合がある。その場合、無機絶縁膜を構成する材料の屈折率と、有機絶縁膜を構成する材料の屈折率の差に起因して、両層の界面で光の反射が起こり、有機ＥＬ表示装置の光取り出し効率が低下する場合があった。
【０００８】
そこで、本発明は、封止層における光反射を低減し、光取り出し効率を向上させた表示装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の表示装置は、絶縁表面上に形成された画素電極と、前記画素電極上に形成され、発光層を含む有機層と、前記有機層上に形成された対向電極と、前記対向電極上に設けられた第１無機絶縁膜と、前記第１無機絶縁膜上に設けられた第１中間膜と、前記第１中間膜上に設けられた第１有機絶縁膜と、を有し、前記第１中間膜を構成する材料の屈折率は、前記第１無機絶縁膜を構成する材料の屈折率より小さく、前記第１有機絶縁膜を構成する材料の屈折率より大きい、ことを特徴とする。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置を示す斜視図である。
【図２】本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルの配線図である。
【図３】本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルの画素の回路図である。
【図４】本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルの画素の断面図である。
【図５】本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルの画素の断面の拡大図である。
【図６】本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルの第１無機絶縁膜、第１中間膜及び第１有機絶縁膜による反射率と光の波長の関係の第１〜３の例を示す図である。
【図７】第１の比較例における反射率と光の波長の関係を示す図である。
【図８】本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルの第１有機絶縁膜、第２中間膜、第２無機絶縁膜、第３中間膜及び第２有機絶縁膜による反射率と光の波長の関係の第４〜６の例を示す図である。
【図９】本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルの第１有機絶縁膜、第２中間膜、第２無機絶縁膜、第３中間膜及び第２有機絶縁膜による反射率と光の波長の関係の第７〜９の例を示す図である。
【図１０】第２〜４の比較例における反射率と光の波長の関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下に、本発明の実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
【００１２】
図１は、本発明の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置１を示す斜視図である。有機ＥＬ表示装置１は、上フレーム２と下フレーム３とで挟まれるように固定された有機ＥＬパネル１０から構成されている。有機ＥＬパネル１０を駆動するための外部駆動回路は、有機ＥＬパネル１０と共に上フレーム２と下フレーム３との内部に設けられてもよいし、引き出し配線を介して外側に設けられてもよい。
【００１３】
図２は、本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネル１０の配線図である。また、図３は、本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネル１０の画素の回路図である。有機ＥＬパネル１０は、基板２０の表示領域１１にマトリクス状に設けられた各画素を、映像信号駆動回路１２及び走査信号駆動回路１３によって制御し、画像を表示する。ここで、映像信号駆動回路１２は、各画素に送る映像信号を生成し、発信する回路である。また、走査信号駆動回路１３は、画素に設けられたＴＦＴ（Thin Film Transistor、薄膜トランジスタ）への走査信号を生成し、発信する回路である。なお、図２において、映像信号駆動回路１２及び走査信号駆動回路１３は、２箇所に形成されるものとして図示されているが、一つのＩＣ（Integrated Circuit）に組み込まれていてもよいし、３箇所以上に分かれて形成されてもよい。
【００１４】
走査信号駆動回路１３からの信号を伝える走査信号線１４は、各画素領域に形成された画素トランジスタＳＳＴのゲートに電気的に接続される。走査信号線１４は、１つの行に並ぶ画素トランジスタについて共通である。画素トランジスタＳＳＴは、そのソース又はドレインが駆動トランジスタＤＲＴのゲートに電気的に接続されるトランジスタである。駆動トランジスタＤＲＴは、例えばｎ型チャネルの電界効果トランジスタであり、ソースが有機発光ダイオードＯＬＥＤの陽極に電気的に接続される。有機発光ダイオードＯＬＥＤの陰極は、接地電位又は負電位に固定される。このとき、有機発光ダイオードＯＬＥＤには、陽極から陰極に向かって電流が流れる。また、映像信号駆動回路１２からの信号を伝える映像信号線１５は、画素トランジスタＳＳＴのソース又はドレインに電気的に接続される。映像信号線１５は、１つの列に並ぶ画素トランジスタについて共通である。走査信号線１４に走査信号が印加されると画素トランジスタＳＳＴがオン状態となる。その状態で映像信号線１５に映像信号が印加されると駆動トランジスタＤＲＴのゲートに映像信号電圧が印加され、保持容量Ｃｓに映像信号に応じた電圧が書き込まれ、駆動トランジスタＤＲＴがオン状態となる。駆動トランジスタＤＲＴのドレインには、電源線１６が電気的に接続される。電源線１６には、有機発光ダイオードＯＬＥＤを発光させるための電源電圧が印加される。駆動トランジスタＤＲＴがオン状態となると、映像信号電圧の大きさに応じた電流が有機発光ダイオードＯＬＥＤに流れて、有機発光ダイオードＯＬＥＤが発光する。
【００１５】
図４は、本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネル１０の画素の断面図である。同図は、図２に示したＩＶ−ＩＶ線における画素の断面図である。本実施形態に係る有機ＥＬパネル１０は、基板２０の上に第１絶縁膜２１が設けられ、第１絶縁膜２１の上に駆動トランジスタＤＲＴのチャネルが形成される。第１絶縁膜２１の上には第２絶縁膜２２が設けられ、第２絶縁膜２２の上には駆動トランジスタＤＲＴのゲートが設けられる。第２絶縁膜２２の上には第３絶縁膜２３が設けられ、第３絶縁膜２３の上には第４絶縁膜２４が設けられる。第２絶縁膜２２、第３絶縁膜２３及び第４絶縁膜２４にはスルーホールが設けられる。スルーホールには、駆動トランジスタＤＲＴのチャネルに電気的に接続されるソース電極及びドレイン電極が設けられる。
【００１６】
第４絶縁膜２４の上には平坦化膜２５が設けられる。本実施形態に係る有機ＥＬパネル１０では、平坦化膜２５は有機絶縁材料で形成され、その表面は絶縁表面である。平坦化膜２５の上面には、画素電極３０が形成される。平坦化膜２５の上面は絶縁表面であり、画素電極３０は、絶縁表面上に形成される。画素電極３０及び平坦化膜２５の上にはバンク３６が形成される。バンク３６には、画素電極３０と重なる位置に開口部が設けられ、画素電極３０の一部を露出する。バンク３６の開口部には、画素電極３０の露出部と接するように、発光層を含む有機層３１が形成される。有機層３１は、画素電極３０上に形成され、バンク３６の開口部を覆う。有機層３１上には、対向電極３２が形成される。対向電極３２は、有機層３１から出射される光を透過する材料で形成される。対向電極３２は、有機層３１上とバンク３６上に形成される。対向電極３２上には、封止膜３３が形成される。封止膜３３上には充填剤３４が充填され、対向基板３５が固定される。
【００１７】
図５は、本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルの画素の断面の拡大図である。同図は、封止膜３３の積層構造を示している。対向電極３２上には、膜厚ｄ１で屈折率がｎ１である第１無機絶縁膜４０ａが設けられる。第１無機絶縁膜４０ａ上には、膜厚ｄ２で屈折率がｎ２である第１中間膜４１ａが設けられる。第１中間膜４１ａ上には、膜厚ｄ３で屈折率がｎ３である第１有機絶縁膜４２ａが設けられる。第１中間膜４１ａを構成する材料の屈折率ｎ２は、第１無機絶縁膜４０ａを構成する材料の屈折率ｎ１より小さく、第１有機絶縁膜４２ａを構成する材料の屈折率ｎ３より大きい。すなわち、ｎ１＞ｎ２＞ｎ３の関係にある。
【００１８】
本実施形態に係る有機ＥＬパネル１０では、第１無機絶縁膜４０ａは、シリコン窒化膜で形成され、その屈折率はｎ１＝１．９である。また、第１中間膜４１ａは、シリコン酸窒化膜で形成され、その屈折率はｎ２＝１．７である。また、第１有機絶縁膜４２ａは、アクリル又はエポキシを含む樹脂で形成され、その屈折率はｎ３＝１．５である。なお、第１無機絶縁膜４０ａ、第１中間膜４１ａ及び第１有機絶縁膜４２ａの材料及び屈折率の値は例示であり、ｎ１＞ｎ２＞ｎ３の関係を満たせば、他の材料を用いてもよい。
【００１９】
図６は、本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネル１０の第１無機絶縁膜４０ａ、第１中間膜４１ａ及び第１有機絶縁膜４２ａによる反射率と光の波長の関係の第１〜３の例を示す図である。同図では、第１無機絶縁膜４０ａの膜厚をｄ１＝１μｍとし、第１有機絶縁膜４２ａの膜厚をｄ３＝１０μｍとして、第１中間膜４１ａの膜厚をｄ２＝６０ｎｍとした第１の例と、ｄ２＝７５ｎｍとした第２の例と、ｄ２＝９０ｎｍとした第３の例を示している。それぞれのグラフは、光の波長が３５０ｎｍから７５０ｎｍの場合における光の反射率（％）を示している。ここで、光の反射率とは、有機層３１から有機ＥＬパネル１０の表示面側に出射される可視光のうち、第１無機絶縁膜４０ａ、第１中間膜４１ａ及び第１有機絶縁膜４２ａによって有機層３１側に反射される光の割合をいう。それぞれのグラフには、青色の波長領域（本明細書では４２０ｎｍ〜４４０ｎｍ）と、緑色の波長領域（本明細書では５２５ｎｍ〜５４５ｎｍ）と、赤色の波長領域（６２０ｎｍ〜６４０ｎｍ）をハッチングにより示している。
【００２０】
本実施形態に係る有機ＥＬパネル１０では、有機層３１から表示面側に出射される可視光の、第１無機絶縁膜４０ａ、第１中間膜４１ａ及び第１有機絶縁膜４２ａによる反射率は、波長に関して下に凸で変化し、可視光波長領域において極小値をとる。図６の上段に示した第１の例では、反射率は波長に関して下に凸であり、青色の波長領域において極小値（０％）をとる。第１の例における反射率は、緑色の波長領域及び赤色の波長領域において０．５％以下であり、可視光領域全域において極めて小さな値となる。
【００２１】
図６の中段に示した第２の例では、反射率は波長に関して下に凸であり、緑色の波長領域において極小値（０％）をとる。第２の例における反射率は、青色の波長領域及び赤色の波長領域において０．５％以下であり、可視光領域全域において極めて小さな値となる。同様に、図６の下段に示した第３の例では、反射率は波長に関して下に凸であり、赤色の波長領域において極小値（０％）をとる。第３の例における反射率は、青色の波長領域及び緑色の波長領域において０．５％以下であり、可視光領域全域において極めて小さな値となる。
【００２２】
図６に示すように、本実施形態に係る有機ＥＬパネル１０によれば、第１中間膜４１ａを第１無機絶縁膜４０ａと第１有機絶縁膜４２ａの間に設けて、第１無機絶縁膜４０ａ、第１中間膜４１ａ及び第１有機絶縁膜４２ａを構成する材料の屈折率がｎ１＞ｎ２＞ｎ３の関係にあることで、第１中間膜４１ａの膜厚ｄ２を±２０％程度変動させたとしても、可視光領域全域において極めて小さな反射率が実現される。第１中間膜４１ａによって、第１無機絶縁膜４０ａと第１有機絶縁膜４２ａの間の屈折率のギャップが軽減され、界面における反射が低減されるためである。そのため、成膜工程の精度に依存せず、可視光領域の反射率を低減することができ、光取り出し効率を向上させることができる。また、成膜工程の精度が十分に高く、第１中間膜４１ａの膜厚ｄ２を±５％程度の範囲で制御することができる場合、可視光領域のうち一部の波長帯の光取り出し効率を選択的に向上させることができる。例えば、緑色や赤色に比べて輝度が低くなる場合がある青色について、光取り出し効率を選択的に向上させることができる。
【００２３】
本実施形態に係る有機ＥＬパネル１０によれば、反射率は、波長に関して下に凸で変化し、可視光波長領域において極小値をとるため、第１無機絶縁膜４０ａ、第１中間膜４１ａ及び第１有機絶縁膜４２ａの膜厚や屈折率が設計値から数％程度ずれた場合であっても、反射率が大きく変化せず、可視光領域における反射率が０．５％以下となる。
【００２４】
図７は、第１の比較例における反射率と光の波長の関係を示す図である。第１の比較例は、本実施形態に係る有機ＥＬパネル１０の封止膜３３から第１中間膜４１ａを抜いたものであり、対向電極３２上に膜厚ｄ１で屈折率がｎ１である第１無機絶縁膜４０ａを設け、第１無機絶縁膜４０ａ上に膜厚ｄ３で屈折率がｎ３である第１有機絶縁膜４２ａを設けたものである。具体的には、第１無機絶縁膜４０ａの膜厚はｄ１＝１０００ｎｍで、屈折率はｎ１＝１．９である。また、第１有機絶縁膜４２ａの膜厚はｄ３＝１０μｍで、屈折率はｎ３＝１．５である。
【００２５】
第１の比較例の場合、可視光領域における反射率は１〜２％であり、本実施形態に係る有機ＥＬパネル１０の場合に比べて大きい。また、反射率は、波長に関して下に凸で変化しているものの、波長が長くなるに従って単調減少し、可視光領域において極小値をとらない。そのため、第１無機絶縁膜４０ａ及び第１有機絶縁膜４２ａの膜厚や屈折率が設計値から数％程度ずれた場合、反射率が意図せず大きくなり、光取り出し効率が低下するおそれがある。本実施形態に係る有機ＥＬパネル１０によれば、可視光領域における反射率を０．５％以下に抑えられ、反射率が意図せず大きくなるおそれが少ないため、光取り出し効率を安定的に向上させることができる。
【００２６】
図５に戻り、同図を参照して、封止膜３３の積層構造をさらに説明する。第１有機絶縁膜４２ａ上には、膜厚ｄ４で屈折率がｎ４である第２中間膜４１ｂが設けられる。第２中間膜４１ｂ上には、膜厚ｄ５で屈折率がｎ５である第２無機絶縁膜４０ｂが設けられる。第２無機絶縁膜４０ｂ上には、膜厚ｄ６で屈折率がｎ６である第３中間膜４１ｃが設けられる。第３中間膜４１ｃ上には、膜厚ｄ７で屈折率がｎ７である第２有機絶縁膜４２ｂが設けられる。第２中間膜４１ｂを構成する材料の屈折率ｎ４は、第２無機絶縁膜４０ｂを構成する材料の屈折率ｎ５より小さく、第１有機絶縁膜４２ａを構成する材料の屈折率ｎ３より大きい。すなわち、ｎ５＞ｎ４＞ｎ３の関係にある。また、第３中間膜４１ｃを構成する材料の屈折率ｎ６は、第２無機絶縁膜４０ｂを構成する材料の屈折率ｎ５より小さく、第２有機絶縁膜４２ｂを構成する材料の屈折率ｎ７より大きい。すなわち、ｎ５＞ｎ６＞ｎ７の関係にある。
【００２７】
本実施形態に係る有機ＥＬパネル１０では、第２無機絶縁膜４０ｂは、シリコン窒化膜で形成され、その屈折率はｎ５＝１．９である。また、第２中間膜４１ｂ及び第３中間膜４１ｃは、シリコン酸窒化膜で形成され、その屈折率はｎ４＝１．７、ｎ６＝１．７である。また、第２有機絶縁膜４２ｂは、アクリル又はエポキシを含む樹脂、ポリイミド、ポリエチレンナフタレート及びポリエチレンテレフタレートからなる群より選択される一の樹脂で形成され、その屈折率はｎ７＝１．５である。なお、第２中間膜４１ｂ、第２無機絶縁膜４０ｂ、第３中間膜４１ｃ及び第２有機絶縁膜４２ｂの材料及び屈折率の値は例示であり、ｎ５＞ｎ４＞ｎ３及びｎ５＞ｎ６＞ｎ７の関係を満たせば、他の材料を用いてもよい。
【００２８】
図８は、本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネル１０の第１有機絶縁膜４２ａ、第２中間膜４１ｂ、第２無機絶縁膜４０ｂ、第３中間膜４１ｃ及び第２有機絶縁膜４２ｂによる反射率と光の波長の関係の第４〜６の例を示す図である。同図では、第２中間膜４１ｂの膜厚ｄ４及び第３中間膜４１ｃの膜厚ｄ６を変化させた第４〜６の例を示している。第４〜６の例において、第１有機絶縁膜４２ａの膜厚ｄ３と、第２無機絶縁膜４０ｂの膜厚ｄ５と、第２有機絶縁膜４２ｂの膜厚ｄ７は一定である。具体的には、第１有機絶縁膜４２ａの膜厚ｄ３はｄ３＝１０μｍであり、第２無機絶縁膜４０ｂの膜厚ｄ５はｄ５＝１μｍであり、第２有機絶縁膜４２ｂの膜厚ｄ７はｄ７＝５μｍである。同図の上段に示す第４の例は、第２中間膜４１ｂの膜厚がｄ４＝９０ｎｍ、第３中間膜４１ｃの膜厚がｄ６＝９０ｎｍの場合である。同図の中段に示す第５の例は、第２中間膜４１ｂの膜厚がｄ４＝７５ｎｍであり、第３中間膜４１ｃの膜厚がｄ６＝７５ｎｍの場合である。また、同図の下段に示す第６の例は、第２中間膜４１ｂの膜厚がｄ４＝６０ｎｍであり、第３中間膜４１ｃの膜厚がｄ６＝６０ｎｍの場合である。それぞれのグラフは、光の波長が３５０ｎｍから７５０ｎｍの場合における光の反射率（％）を示している。ここで、光の反射率とは、有機層３１から有機ＥＬパネル１０の表示面側に出射される可視光のうち、第１有機絶縁膜４２ａ、第２中間膜４１ｂ、第２無機絶縁膜４０ｂ、第３中間膜４１ｃ及び第２有機絶縁膜４２ｂによって有機層３１側に反射される光の割合をいう。それぞれのグラフには、青色の波長領域（本明細書では４２０ｎｍ〜４４０ｎｍ）と、緑色の波長領域（本明細書では５２５ｎｍ〜５４５ｎｍ）と、赤色の波長領域（６２０ｎｍ〜６４０ｎｍ）をハッチングにより示している。
【００２９】
本実施形態に係る有機ＥＬパネル１０では、有機層３１から表示面側に出射される可視光の、第１有機絶縁膜４２ａ、第２中間膜４１ｂ、第２無機絶縁膜４０ｂ、第３中間膜４１ｃ及び第２有機絶縁膜４２ｂによる反射率は、波長に関して振動し、振動の振幅が可視光波長領域において極小値をとる。図８の上段に示した第４の例では、反射率は波長に関して振動し、振動の振幅が赤色の波長領域において極小値をとる。第４の例における反射率は、青色の波長領域において２％以下であり、緑色の波長領域において０．５％以下であり、赤色の波長領域において０％程度であり、可視光領域全域において小さな値となる。
【００３０】
図８の中段に示した第５の例では、反射率は波長に関して振動し、振動の振幅が緑色の波長領域において極小値をとる。第５の例における反射率は、青色の波長領域において０．５％以下であり、緑色の波長領域において０％程度であり、赤色の波長領域において０．５％以下であり、可視光領域全域において小さな値となる。図８の下段に示した第６の例では、反射率は波長に関して振動し、振動の振幅が青色の波長領域において極小値をとる。第６の例における反射率は、青色の波長領域において０％程度であり、緑色の波長領域において１％以下であり、赤色の波長領域において１．５％以下であり、可視光領域全域において小さな値となる。
【００３１】
図８に示すように、本実施形態に係る有機ＥＬパネル１０によれば、第２中間膜４１ｂを第１有機絶縁膜４２ａと第２無機絶縁膜４０ｂの間に設けて、第３中間膜４１ｃを第２無機絶縁膜４０ｂと第２有機絶縁膜４２ｂの間に設けて、ｎ５＞ｎ４＞ｎ３、ｎ５＞ｎ６＞ｎ７の関係にあることで、第２中間膜４１ｂの膜厚ｄ４及び第３中間膜４１ｃの膜厚ｄ６を±２０％程度変動させたとしても、可視光領域全域において小さな反射率が実現される。第２中間膜４１ｂによって、第１有機絶縁膜４２ａと第２無機絶縁膜４０ｂの間の屈折率のギャップが軽減され、界面における反射が低減され、第３中間膜４１ｃによって、第２無機絶縁膜４０ｂと第２有機絶縁膜４２ｂの間の屈折率のギャップが軽減され、界面における反射が低減されるためである。そのため、成膜工程の精度に依存せず、可視光領域の反射率を低減することができ、光取り出し効率を向上させることができる。また、成膜工程の精度が十分に高く、第２中間膜４１ｂの膜厚ｄ４及び第３中間膜４１ｃの膜厚ｄ６を±５％程度の範囲で制御できる場合、可視光領域のうち一部の波長帯の光取り出し効率を選択的に向上させることができる。例えば、緑色や赤色に比べて輝度が低くなる場合がある青色について、光取り出し効率を選択的に向上させることができる。
【００３２】
本実施形態に係る有機ＥＬパネル１０によれば、反射率は、波長に関して振動し、振動の振幅が可視光波長領域において極小値をとるため、第１有機絶縁膜４２ａ、第２無機絶縁膜４０ｂ及び第２有機絶縁膜４２ｂの膜厚や屈折率が設計値から数％程度ずれた場合であっても、反射率が大きく変化せず、可視光領域における反射率が２％以下となる。
【００３３】
図９は、本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネル１０の第１有機絶縁膜４２ａ、第２中間膜４１ｂ、第２無機絶縁膜４０ｂ、第３中間膜４１ｃ及び第２有機絶縁膜４２ｂによる反射率と光の波長の関係の第７〜９の例を示す図である。同図では、第２無機絶縁膜４０ｂの膜厚ｄ５を変化させた第７〜９の例を示している。それぞれの例において、第１有機絶縁膜４２ａの膜厚ｄ３と、第２中間膜４１ｂの膜厚ｄ４と、第３中間膜４１ｃの膜厚ｄ６と、第２有機絶縁膜４２ｂの膜厚ｄ７は一定である。具体的には、第１有機絶縁膜４２ａの膜厚はｄ３＝１０μｍであり、第２中間膜４１ｂの膜厚はｄ４＝７５ｎｍであり、第３中間膜４１ｃの膜厚はｄ６＝７５ｎｍであり、第２有機絶縁膜４２ｂの膜厚はｄ７＝５μｍである。同図の上段に示す第７の例は、第２無機絶縁膜４０ｂの膜厚がｄ５＝１．１μｍの場合である。同図の中段に示す第８の例は、第２無機絶縁膜４０ｂの膜厚がｄ５＝１μｍの場合である。また、同図の下段に示す第９の例は、第２無機絶縁膜４０ｂの膜厚がｄ５＝９００ｎｍの場合である。それぞれのグラフは、光の波長が３５０ｎｍから７５０ｎｍの場合における光の反射率（％）を示している。ここで、光の反射率とは、有機層３１から有機ＥＬパネル１０の表示面側に出射される可視光のうち、第１有機絶縁膜４２ａ、第２中間膜４１ｂ、第２無機絶縁膜４０ｂ、第３中間膜４１ｃ及び第２有機絶縁膜４２ｂによって有機層３１側に反射されて表示面側に取り出せない光の割合をいう。それぞれのグラフには、青色の波長領域（本明細書では４２０ｎｍ〜４４０ｎｍ）と、緑色の波長領域（本明細書では５２５ｎｍ〜５４５ｎｍ）と、赤色の波長領域（６２０ｎｍ〜６４０ｎｍ）をハッチングにより示している。
【００３４】
図９の上段に示した第７の例、中段に示した第８の例、下段に示した第９の例のいずれの場合も、反射率は波長に関して振動し、振動の振幅が緑色の波長領域において極小値をとる。第７〜９の例における反射率は、青色の波長領域において０．５％以下であり、緑色の波長領域において０％程度であり、赤色の波長領域において０．５％以下であり、可視光領域全域において小さな値となる。
【００３５】
図９に示すように、本実施形態に係る有機ＥＬパネル１０によれば、ｎ５＞ｎ４＞ｎ３、ｎ５＞ｎ６＞ｎ７の関係にあることで、第２無機絶縁膜４０ｂの膜厚ｄ５を±１０％程度変動させたとしても、可視光領域全域において小さな反射率が実現される。そのため、成膜工程の精度に依存せず、可視光領域の反射率を低減することができ、光取り出し効率を向上させることができる。
【００３６】
図１０は、第２〜４の比較例における反射率と光の波長の関係を示す図である。第２〜４の比較例は、本実施形態に係る有機ＥＬパネル１０の封止膜３３から第２中間膜４１ｂ及び第３中間膜４１ｃを抜き、第１有機絶縁膜４２ａ上に膜厚ｄ５で屈折率がｎ５である第２無機絶縁膜４０ｂを設け、第２無機絶縁膜４０ｂ上に膜厚ｄ７で屈折率がｎ７である第２有機絶縁膜４２ｂが設けたものである。第２〜４の比較例において、第１有機絶縁膜４２ａの膜厚はｄ３＝１０μｍで、屈折率はｎ３＝１．５である。また、第２無機絶縁膜４０ｂの膜厚はｄ５＝１μｍで、屈折率はｎ１＝１．９であり、第２有機絶縁膜４２ｂの膜厚はｄ７＝５μｍで、屈折率はｎ７＝１．５である。第２〜４の比較例は、第２無機絶縁膜４０ｂの膜厚ｄ５を変化させた場合を示している。具体的には、図１０の上段に示す第２の比較例における第２無機絶縁膜４０ｂの膜厚はｄ５＝１１００ｎｍであり、図１０の中段に示す第３の比較例における第２無機絶縁膜４０ｂの膜厚はｄ５＝１μｍであり、図１０の下段に示す第４の比較例における第２無機絶縁膜４０ｂの膜厚はｄ５＝９００ｎｍである。
【００３７】
第２〜４の比較例の場合、可視光領域における反射率は、０％から５．５％の間を振動し、本実施形態に係る有機ＥＬパネル１０の場合に比べて振動の振幅が大きい。また、反射率の波長変化に関する振動の振幅は、可視光領域において極小値をとらない。そのため、第２無機絶縁膜４０ｂの膜厚や屈折率が設計値から数％程度ずれた場合、反射率が意図せず大きくなり、光取り出し効率が低下するおそれがある。例えば、赤色の波長領域における反射率に着目すると、図１０の中段に示す第３の比較例では、反射率が０〜０．５％であるのに対して、図１０の上段に示す第２の比較例では、反射率が３〜５．５％であり、図１０の下段に示す第４の比較例では、反射率が３．５〜５．５％である。このように、比較例では、第２無機絶縁膜４０ｂの膜厚ｄ５が±１０％変化すると、反射率が３〜５％ほど前後する。一方、本実施形態に係る有機ＥＬパネル１０によれば、可視光領域における反射率を２％以下に抑えられ、第２無機絶縁膜４０ｂの膜厚ｄ５が±１０％変化しても反射率が意図せず大きくなるおそれが少ないため、光取り出し効率を安定的に向上させることができる。
【００３８】
本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。例えば、前述の実施形態及び変形例に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除若しくは設計変更を行ったもの、又は、工程の追加、省略若しくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。
【００３９】
また、本実施形態において述べた態様によりもたらされる他の作用効果について本明細書記載から明らかなもの、又は当業者において適宜想到し得るものついては、当然に本発明によりもたらされるものと解される。
【符号の説明】
【００４０】
１  表示装置、２  上フレーム、３  下フレーム、１０  表示パネル、１１  表示領域、１２  映像信号駆動回路、１３走査信号駆動回路、１４  走査信号線、１５  映像信号線、１６  電源線、２０  基板、２１  第１絶縁膜、２２第２絶縁膜、２３  第３絶縁膜、２４  第４絶縁膜、２５  平坦化膜、３０  画素電極、３１  有機層、３２  対向電極、３３  封止膜、３４  充填剤、３５  対向基板、３６  バンク、４０ａ  第１無機絶縁膜、４０ｂ  第２無機絶縁膜、４１ａ  第１中間膜、４１ｂ  第２中間膜、４１ｃ  第３中間膜、４２ａ  第１有機絶縁膜、４２ｂ  第２有機絶縁膜。
【図１】
2017224416.tif 000003
【図２】
2017224416.tif 000004
【図３】
2017224416.tif 000005
【図４】
2017224416.tif 000006
【図５】
2017224416.tif 000007
【図６】
2017224416.tif 000008
【図７】
2017224416.tif 000009
【図８】
2017224416.tif 000010
【図９】
2017224416.tif 000011
【図１０】
2017224416.tif 000012