(57)【要約】【課題】工程を増やさずに研磨工程におけるガラス板の研磨量を低減する。【解決手段】ガラス原料を溶解する溶解工程と、溶解したガラスを清澄する清澄工程と、清澄した溶融ガラスをフロートバス２の溶融金属９上に連続的に供給し、溶融金属９上でガラスリボン５を成形する成形工程と、リフトアウトロール７によってガラスリボン５をフロートバス２から引き出し、レヤーロール８によってガラスリボン５を搬送しながらガラスの歪点温度以下まで徐冷する徐冷工程と、を有し、徐冷工程は、レヤーロール８間であって、ガラスリボン５の下方に設置されたインジェクタ２０、３０を用い、ガラスリボン５のボトム面５ａにハロゲン元素を含有する気体を供給することによって、ボトム面５ａに付着した異物を除去する異物除去工程を含むことを特徴とする。【選択図】図１
2017001899.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス原料を溶解する溶解工程と、溶解したガラスを清澄する清澄工程と、清澄した溶融ガラスをフロートバスの溶融金属上に連続的に供給し、前記溶融金属上でガラスリボンを成形する成形工程と、リフトアウトロールによって前記ガラスリボンを前記フロートバスから引き出し、レヤーロールによって前記ガラスリボンを搬送しながらガラスの歪点温度以下まで徐冷する徐冷工程と、を有し、
前記徐冷工程は、レヤーロール間であって、前記ガラスリボンの下方に設置されたインジェクタを用い、前記ガラスリボンのボトム面にハロゲン元素を含有する気体を供給することによって、前記ボトム面に付着した異物を除去する異物除去工程を含むことを特徴とするフロートガラス製造方法。
【請求項２】
前記ハロゲン元素を含有する気体は、塩化水素（ＨＣｌ）、塩素（Ｃｌ２）、四塩化珪素（ＳｉＣｌ４）、二塩化硫黄（ＳＣｌ２）、二塩化二硫黄（Ｓ２Ｃｌ２）、三塩化リン（ＰＣｌ３）、五塩化リン（ＰＣｌ５）、三塩化ヨウ素（Ｉ２Ｃｌ６）、三塩化窒素（ＮＣｌ３）、一塩化ヨウ素（ＩＣｌ）、一塩化臭素（ＢｒＣｌ）、及び三フッ化塩素（ＣｌＦ３）からなる群から選択される１種以上の気体である請求項１に記載のフロートガラス製造方法。
【請求項３】
前記ハロゲン元素を含有する気体は、０．１ｖｏｌ％以上の塩化水素（ＨＣｌ）ガスである請求項１に記載のフロートガラス製造方法。
【請求項４】
前記ハロゲン元素を含有する気体に還元性ガスを添加した請求項１〜３のいずれか１項に記載のフロートガラス製造方法。
【請求項５】
前記還元性ガスは、水素（Ｈ２）、一酸化炭素（ＣＯ）、メタン（ＣＨ４）、エタン（Ｃ２Ｈ６）、プロパン（Ｃ３Ｈ８）、ブタン（Ｃ４Ｈ１０）、エチレン（Ｃ２Ｈ４）、プロペン（Ｃ３Ｈ６）、アセチレン（Ｃ２Ｈ２）、プロピン（Ｃ３Ｈ４）、硫化水素（Ｈ２Ｓ）、二酸化硫黄（ＳＯ２）、一酸化窒素（ＮＯ）、アンモニア（ＮＨ３）からなる群から選択される１種以上の気体である請求項４に記載のフロートガラス製造方法。
【請求項６】
前記ガラスリボンの温度が５００〜８００℃であるときに、前記ハロゲン元素を含有する気体を供給する請求項１〜５のいずれか１項に記載のフロートガラス製造方法。
【請求項７】
前記ボトム面に付着した異物はドロスである請求項１〜６のいずれか１項に記載のフロートガラス製造方法。
【請求項８】
前記徐冷工程は、レヤーロール間であって、前記ガラスリボンの下方に設置された保護層形成装置を用い、前記ガラスリボンのボトム面にＳＯ２ガスを供給することによって、前記ボトム面に硫酸塩の疵防止用保護層を形成する保護層形成工程を有する請求項１〜７のいずれか１項に記載のフロートガラス製造方法。
【請求項９】
溶融金属上でガラスリボンを成形するフロートバスと、前記フロートバスに隣接して前記ガラスリボンを引き上げるリフトアウトロールを備えたド口スボックスと、前記ド口スボックスに隣接し、前記ガラスリボンをレヤーロールにより搬送しながらガラスの歪点温度以下まで徐冷する徐冷炉と、を備え、
前記徐冷炉はレヤーロール間であって、前記ガラスリボンの下方に設置されたインジェクタを備え、
前記インジェクタは前記ガラスリボンのボトム面にハロゲン元素を含有する気体を供給することによって、前記ボトム面に付着した異物を除去することを特徴とするフロートガラス製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フロートガラス製造方法、及びフロートガラス製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
フロート法によるガラス板の製造において、ガラス溶融窯からフロートバスと呼ばれる溶融錫浴槽へ溶融ガラス素地を供給し、溶融錫浴上でガラスリボンを成形後、リフトアウトロールと呼ばれる搬送ロールにてガラスリボンを搬送し、徐冷炉に移送する。通常、ガラスリボンの下面にはドロス（錫、及び錫酸化物）と呼ばれる欠陥が付着している。
液晶用などのフラットパネルディスプレイ用途で使用される１．１ｍｍ未満の薄板ガラスにおいては、顧客の要求ニーズに応じてガラス板面に付着するドロス（錫、及び錫酸化物）の大きさが１０μｍ程度のものでも欠陥となるため、一般建築用では許されるサイズのドロス欠陥であっても除去する必要がある。
【０００３】
特許文献１では、リフトアウトロールの下部にカーボンシールと呼ばれるカーボンからなる板状のカーボン製の除去部材を当接させて、リフトアウトロールに付着する錫または錫酸化物を削り、除去するようにしている。
【０００４】
フロート法で製造した液晶用の薄板ガラスにおいては、顧客が要求する平坦度を満たすようガラス板の下面を研磨するため、同時にドロスが除去される。近年、溶解、成形工程における平坦度改良施策により、研磨工程におけるガラス板の研磨量が低減され、研磨工程の生産性向上が図られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平１１−３３５１２７号公報
【特許文献２】特開平４−２０２０２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、ガラス板の研磨量が低減されるにつれ、ガラス板面に付着するドロスが除去しきれない問題が発生しているため、研磨工程の前段階でドロスを除去する必要がある。特許文献１に記載の除去部材を改良するだけでは、ドロスを除去しきれないことがある。
特許文献２では、フロートガラスを酸溶液と接触させ、次いで水洗して付着錫を除去洗浄する方法が提案されているが、工程を増やすことになり、全体としての生産性は下がり、コストアップとなる。
【０００７】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、工程を増やさずに研磨工程におけるガラス板の研磨量低減を可能とするフロートガラス製造方法、及びフロートガラス製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明は、ガラス原料を溶解する溶解工程と、溶解したガラスを清澄する清澄工程と、清澄した溶融ガラスをフロートバスの溶融金属上に連続的に供給し、前記溶融金属上でガラスリボンを成形する成形工程と、リフトアウトロールによって前記ガラスリボンを前記フロートバスから引き出し、レヤーロールによって前記ガラスリボンを搬送しながらガラスの歪点温度以下まで徐冷する徐冷工程と、を有し、前記徐冷工程は、レヤーロール間であって、前記ガラスリボンの下方に設置されたインジェクタを用い、前記ガラスリボンのボトム面にハロゲン元素を含有する気体を供給することによって、前記ボトム面に付着した異物を除去する異物除去工程を含むことを特徴とするフロートガラス製造方法を提供する。
【０００９】
また、本発明は、溶融金属上でガラスリボンを成形するフロートバスと、前記フロートバスに隣接して前記ガラスリボンを引き上げるリフトアウトロールを備えたド口スボックスと、前記ド口スボックスに隣接し、前記ガラスリボンをレヤーロールにより搬送しながらガラスの歪点温度以下まで徐冷する徐冷炉と、を備え、前記徐冷炉はレヤーロール間であって、前記ガラスリボンの下方に設置されたインジェクタを備え、前記インジェクタは前記ガラスリボンのボトム面にハロゲン元素を含有する気体を供給することによって、前記ボトム面に付着した異物を除去することを特徴とするフロートガラス製造装置を提供する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のフロートガラス製造方法、及びフロートガラス製造装置によれば、工程を増やさずに研磨工程におけるガラス板の研磨量低減が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施形態に係るフロートガラスの製造工程の説明図である。
【図２】本発明の実施形態に係る両流しタイプのインジェクタを模式的に示す図である。
【図３】本発明の実施形態に係る片流しタイプのインジェクタを模式的に示す図である。
【図４】実験例１の評価に用いた試験装置を説明するための概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明するが、本発明は、下記の実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、下記の実施形態に種々の変形及び置換を加えることができる。
【００１３】
本実施形態では、本発明のフロートガラス製造方法の構成例について説明する。
【００１４】
図１は、フロートガラスの製造工程の説明図である。溶融ガラスが、フロートバス２の溶融金属９上に連続的に供給され、溶融金属９上でガラスリボン５が成形される（成形工程）。なお、図示しないが、溶融ガラスは、図１の上流側の溶解工程においてガラス原料を溶解し、更に清澄工程において清澄処理を施したものである。
【００１５】
次いでフロートバス２の溶融金属９から複数のリフトアウトロール７によってガラスリボン５を引き出し、フロートバス２の出口でガラスリボン５を持ち上げて搬送する。このリフトアウト口一ル７が存在する場所をド口スボックス３という。
【００１６】
フロートバス２から引き出されたガラスリボン５は、急激な収縮による割れや平坦度の低下を防止するため、徐冷炉４内の複数のレヤーロール８で搬送されながら、ガラスの歪点温度以下まで徐々に冷却される（徐冷工程）。徐冷後のガラスリボン５は、所望のサイズに切断される（切断工程）。
【００１７】
以下、ガラスリボン５の厚み方向に対向する一対の面のうち、リフトアウトロール７またはレヤーロール８によって支持される面をボトム面５ａとし、他方の面をトップ面５ｂとして表す。
【００１８】
切断されたフロートガラスの用途が液晶ディスプレイ用ガラス基板の場合、ガラス基板の平坦度を良化させるため、更にガラス基板を研磨する研磨工程を有する。研磨工程は、主として、ガラス基板の錫接触面を機械研磨または化学機械研磨する。生産性向上の観点から、研磨量は３μｍ以下が好ましく、より好ましくは２μｍ以下、さらに好ましくは１．５μｍ以下、特に好ましくは１．０μｍ以下である。
【００１９】
本実施形態のフロートガラス製造方法は、上記の徐冷工程において、ガラスリボン５下のレヤーロール８間に設置されたインジェクタ２０、３０を用いて、ガラスリボン５のボトム面５ａにハロゲン元素を含有する気体を供給し、ボトム面５ａに付着したドロス等の異物を除去する異物除去工程を有する。
【００２０】
また、図１には示されていないが、上記の徐冷工程において、ガラスリボン５下のレヤーロール８間に設置された保護層形成装置を用いて、ガラスリボン５のボトム面５ａにＳＯ２ガスを供給し、ボトム面５ａに硫酸塩の疵防止用保護層を形成する保護層形成工程を有する。保護層形成工程は、異物除去工程の前に設けてもよいし、異物除去工程の後に設けてもよい。また、保護層形成工程では、ＳＯ２ガスと空気の混合気体を供給してもよい。
【００２１】
次に、図２、図３を用いて異物除去工程を具体的に説明する。
【００２２】
図２は、本発明の実施形態に係る両流しタイプのインジェクタ２０を模式的に示す図である。図３は、本発明の実施形態に係る片流しタイプのインジェクタ３０を模式的に示す図である。
【００２３】
インジェクタ２０、３０は、いずれの態様で用いてもよくガラスリボン５の移動方向に直列に２個以上並べて、ガラスリボン表面を処理してもよい。両流しインジェクタ２０とは、図２に示す通り、供給口２１から排気口２５へのガスの流れがガラスリボン５の移動方向に対して、順方向と逆方向に均等に分かれるインジェクタである。
【００２４】
片流しインジェクタ３０とは、供給口３１から排気口３５へのガスの流れがガラスリボン５の移動方向に対して順方向もしくは逆方向のいずれかに固定されるインジェクタである。図３の実施形態は、供給口３１から排気口３５へのガスの流れがガラスリボン５の移動方向に対して順方向である。
【００２５】
インジェクタ２０、３０の供給口２１、３１からガラスリボン５のボトム面５ａに吹き付けられた気体は、ガラスリボン５の移動方向に対して順方向または逆方向の流路２４、３４を移動し、排気口２５、３５へ流出する。
【００２６】
インジェクタ２０、３０の供給口２１、３１とガラスリボン５のボトム面５ａとの距離Ｄは、好ましくは３〜５０ｍｍである。距離Ｄは、より好ましくは５ｍｍ以上であり、さらに好ましくは８ｍｍ以上である。また、距離Ｄは、より好ましくは４０ｍｍ以下、さらに好ましくは３０ｍｍ以下である。距離Ｄを５０ｍｍ以下とすることにより、気体が大気中に拡散するのを抑制し、所望するガス量に対して、ガラスリボン５のボトム面５ａに充分な量のガスを到達させることができる。また、距離Ｄを３ｍｍ以上とすることにより、レヤーロール８間のガラスリボン５が撓んでも、ガラスリボン５のボトム面５ａとインジェクタ２０、３０との接触を回避できる。
【００２７】
インジェクタ２０、３０のガラスリボン５の移動方向の距離Ｌは、好ましくは５０〜５００ｍｍである。距離Ｌは、より好ましくは１００ｍｍ以上、さらに好ましくは２００ｍｍ以上である。また、距離Ｌは、より好ましくは４００ｍｍ以下である。距離Ｌを５００ｍｍ以下とすることにより、レヤーロール８間の距離を短くできるため、ガラスリボン５の撓みが抑制され、ドロスを均一に除去できる。また、距離Ｌを５０ｍｍ以上とすることにより、供給口２１、３１と排気口２５、３５を設けることができる。インジェクタ２０の距離Ｌは１００ｍｍ以上、インジェクタ３０の距離Ｌは５０ｍｍ以上であることが好ましい。
【００２８】
インジェクタ２０、３０のガラスリボン５の移動方向に対して水平に直交する方向の距離は、ガラスリボン５の該方向の製品領域以上の距離を有することが好ましい。好ましくは３０００ｍｍ以上、より好ましくは４０００ｍｍ以上である。
【００２９】
また、ハロゲン元素を含有する気体を供給する供給口２１、３１と、排気口２５、３５とが、ガラスリボン５のボトム面５ａに対向することが好ましい。
【００３０】
本実施形態においては、ハロゲン元素を含有する気体を搬送中のガラスリボン５のボトム面５ａに供給してボトム面５ａを処理する際のガラスリボン５の温度は、４００〜９００℃であることが好ましく、５００〜８００℃であることがより好ましい。ハロゲン元素を含有する気体による錫欠点除去作用は、高温で実施するほど効果が高い。
【００３１】
本実施形態の異物除去工程において、ハロゲン元素を含有する気体が塩化水素（ＨＣｌ）ガスの場合を例にとると、ガラスリボン５のボトム面５ａに付着したドロス（錫、及び錫酸化物）を以下の反応機構により除去する。
ＳｎＯ２＋２ＨＣｌ  →  ＳｎＣｌ２  ＋  Ｈ２Ｏ  ＋１／２Ｏ２  （１）
錫酸化物を除去するには、上記式（１）のように、錫酸化物（ＳｎＯ２）と塩化水素（ＨＣｌ）を反応させて塩化錫（ＳｎＣｌ２）を生成させるのが好ましい。
また、塩化水素（ＨＣｌ）ガスに水素（Ｈ２）ガスを加え、
ＳｎＯ２＋２Ｈ２  →  Ｓｎ＋２Ｈ２Ｏ  （２）
Ｓｎ＋２ＨＣＩ  →  ＳｎＣｌ２＋Ｈ２  （３）
とすることで、より効率的に錫酸化物を除去することができる。
【００３２】
上記式（２）の水素（Ｈ２）の代わりに、一酸化炭素（ＣＯ）、メタン（ＣＨ４）、エタン（Ｃ２Ｈ６）、プロパン（Ｃ３Ｈ８）、ブタン（Ｃ４Ｈ１０）、エチレン（Ｃ２Ｈ４）、プロペン（Ｃ３Ｈ６）、アセチレン（Ｃ２Ｈ２）、プロピン（Ｃ３Ｈ４）、硫化水素（Ｈ２Ｓ）、二酸化硫黄（ＳＯ２）、一酸化窒素（ＮＯ）、またはアンモニア（ＮＨ３）を用いてもよい。
【００３３】
上記式（１）、（３）の反応温度は６３０℃以上であることが好ましい。上記式（１）、（３）で生成する塩化錫（ＳｎＣｌ２）の沸点は６２３℃であり、ガラスリボン５のボトム面５ａから生成する塩化錫（ＳｎＣｌ２）を揮発させるためである。
【００３４】
なお、塩素を含有する気体が塩化水素（ＨＣｌ）ガス以外の場合も上記と同様の反応機構で錫欠点が除去される。
【００３５】
本実施形態の異物除去工程では、塩素を含有する気体として、塩化水素（ＨＣｌ）、塩素（Ｃｌ２）、四塩化珪素（ＳｉＣｌ４）、二塩化硫黄（ＳＣｌ２）、二塩化二硫黄（Ｓ２Ｃｌ２）、三塩化リン（ＰＣｌ３）、五塩化リン（ＰＣｌ５）、三塩化ヨウ素（Ｉ２Ｃｌ６）、三塩化窒素（ＮＣｌ３）、一塩化ヨウ素（ＩＣｌ）、一塩化臭素（ＢｒＣｌ）、または三フッ化塩素（ＣｌＦ３）を用いることができる。
【００３６】
これらの中でも、塩化水素（ＨＣｌ）ガスがコスト面、取扱い方法が周知等の理由から好ましい。
【００３７】
また、ハロゲン元素を含有する気体として、塩素を含有する気体の他に、フッ素（Ｆ２）、臭素（Ｂｒ２）、フッ化水素（ＨＦ）、臭化水素（ＨＢｒ）、またはヨウ化水素（ＨＩ）を用いることができる。
【００３８】
本実施形態の異物除去工程において、ハロゲン元素を含有する気体は、単独のガスとして、ガラスリボン５のボトム面５ａに噴霧してもよいが、これらガスの噴霧に使用する供給口２１、３１等の設備の腐食防止の観点から、窒素や希ガスといった不活性ガスをキャリアガスとして使用し、これらキャリアガスとの混合ガスとして噴霧することが好ましい。
【００３９】
また、ハロゲン元素を含有する気体に水素（Ｈ２）などの還元性ガスを加える場合、別々の供給口（不図示）からハロゲン元素を含有する気体と還元性ガスとをそれぞれ噴霧してもよいし、両気体を予め混合し、混合ガスとして同一の供給口２１、３１から噴霧してもよい。
【００４０】
また、両気体を別々の供給口から噴霧する場合、ガラスリボン５の移動方向において、還元性ガスを、ハロゲン元素を含有する気体よりも上流側で噴霧してもよいし、両気体を同一の位置で噴霧してもよい。
【００４１】
本発明のフロートガラスの組成は特に限定されず、ソーダライムガラスのようなアルカリ金属成分を含有するガラス組成であってもよいし、アルカリ金属成分を実質的に含まない無アルカリガラス組成であってもよい。特に、液晶ディスプレイ用ガラス基板として広く使用される無アルカリガラス組成のフロートガラスの製造に好適である。
【００４２】
次に、本発明のフロートガラス製造装置の構成例について説明する。
【００４３】
本発明のフロートガラスは、図１に示すようなフロートガラス製造装置１を用いて製造される。図１においては既述のように、溶融金属９上に溶融ガラスが連続的に供給され、溶融金属９上でガラスリボン５を成形するフロートバス２を備えている。なお、図示しないが、溶融ガラスは、図１の上流側の溶解炉においてガラス原料を溶解し、更に清澄処理を施したものである。そして、フロートバス２に隣接してガラスリボン５を引き上げるリフトアウトロール７を備えたド口スボックス３が配置されている。さらにド口スボックス３に隣接して徐冷炉４が配置され、徐冷炉４は、ガラスリボン５をレヤーロール８により搬送しながらガラスの歪点温度以下まで徐冷することができる。図１には示されていないが、徐冷後のガラスリボン５は、切断装置によって所望のサイズに切断される。
【００４４】
図１には示されていないが、切断されたフロートガラスの用途が液晶ディスプレイ用ガラス基板の場合、フロートガラス製造装置は、ガラス基板の平坦度を良化させるため、更にガラス基板を研磨する研磨装置を有する。研磨装置は、主として、ガラス基板の錫接触面を機械研磨または化学機械研磨する。生産性向上の観点から、研磨量は３μｍ以下が好ましく、より好ましくは２μｍ以下、さらに好ましくは１．５μｍ以下、特に好ましくは１．０μｍ以下である。
【００４５】
本実施形態のフロートガラス製造装置１は、徐冷炉４において、ガラスリボン５下のレヤーロール８間に設置されたインジェクタ２０、３０を有する。インジェクタ２０、３０は、ガラスリボン５のボトム面５ａにハロゲン元素を含有する気体を供給し、ボトム面５ａに付着したドロス等の異物を除去する。
【００４６】
また、図１には示されていないが、フロートガラス製造装置１は、徐冷炉４において、ガラスリボン５下のレヤーロール８間に設置された保護層形成装置を有する。保護層形成装置は、ガラスリボン５のボトム面５ａにＳＯ２ガスを供給し、ボトム面５ａに硫酸塩の疵防止用保護層を形成する。保護層形成装置は、ガラスリボン５の移動方向で、インジェクタ２０、３０の上流に設けても良いし、下流に設けても良い。また、保護層形成装置は、ＳＯ２ガスと空気の混合気体を供給しても良い。
【００４７】
インジェクタ２０、３０の構成や、インジェクタ２０、３０に用いる気体の種類等については、フロートガラス製造方法の場合と同様に構成できるため、説明を省略する。
【実施例】
【００４８】
（実験例１）
（例１〜１１）
図４は、実験例１の評価に用いた試験装置を説明するための概略図である。板厚０．５ｍｍになるようにフロートガラス（旭硝子社製：ＡＮ１００）を作製し、１０ｍｍ角に切断して、１枚のガラス板４０につき、錫接触面に１点のドロスが存在するガラス板４０を１０枚得た。
【００４９】
例１では、図４に示すように、ガラス板４０を、ガス導入ノズル４３を挿入するための開口部を有する、体積２５ｍＬのカーボンボックス４１に錫接触面を上にして入れ、カーボンボックス４１を体積４Ｌの石英管４２に入れた後、石英管４２を電気ヒーターで２分間加熱し、ガラス板４０の温度を６００℃まで昇温させた。昇温させたガラス板４０を６００℃で１分間保温しながら、内径６ｍｍのガス導入ノズル４３の導入口をカーボンボックス４０の壁面に向け、窒素（Ｎ２）ガスをキャリアガスとして、５．０ｖｏｌ％の塩化水素（ＨＣｌ）ガスを流量２．５Ｌ／ｍｉｎで３秒間導入することによって、線速４０ｃｍ／ｓｅｃのガスをガラス板４０に吹きつけるガス処理を行った。その後、ガス導入ノズル４３を用いて、窒素（Ｎ２）ガスを流量２．５Ｌ／ｍｉｎで導入しながら、ガラス板４０を３０分間かけて室温まで降温させた。
【００５０】
次に、ガス処理されたガラス板４０の錫接触面を、研磨量が平均０．８μｍになるように、発泡ポリウレタン製の研磨パッド（Ｄ硬度３０度）と、研磨剤として酸化セリウムを使用し、４Ｂ片面研磨機を用いて所定の研磨荷重（５０ｇ／ｃｍ２）で化学機械研磨した。ここで、４Ｂとは、研磨機に入れるキャリアのサイズが４ｉｎｃｈであることを表す。１０枚のガラス板４０のドロスは、全て除去された。化学機械研磨後のガラス板のドロス残存率は、０％であった。
【００５１】
例２〜１０では、例１と同様の評価方法で、塩化水素（ＨＣｌ）ガス濃度、ガラス板温度、または水素（Ｈ２）ガス濃度の条件を、表１に示すとおり変更した。
【００５２】
表１は、例１〜１１の評価結果を表し、例１〜例１０が実施例、例１１が比較例である。０．１ｖｏｌ％以上の塩化水素（ＨＣｌ）ガスを用いれば、ドロス残存率が低下することを確認できた。
【００５３】
【表１】
2017001899.tif 000003
【００５４】
（例２１〜２８）
例２１では、研磨量が平均０．５μｍになるように、化学機械研磨した。その他は例１と同様の手順で、ガス処理、化学機械研磨を実施したところ、１０枚のガラス板４０のドロスは、全て除去された。化学機械研磨後のガラス板のドロス残存率は、０％であった。
例２２〜２８では、例２１と同様の評価方法で、塩化水素（ＨＣｌ）ガス濃度、または水素（Ｈ２）ガス濃度の条件を、表２に示すとおり変更した。
【００５５】
表２は、例２１〜２８の評価結果を表し、例２１〜例２７が実施例、例２８が比較例である。０．１ｖｏｌ％以上の塩化水素（ＨＣｌ）ガスを用いれば、ドロス残存率が低下することを確認できた。
【００５６】
【表２】
2017001899.tif 000004
【００５７】
（実験例２）
（例３１〜３６）
例３１では、図１、図２に示すように、徐冷炉４内のレヤーロール８間で、板厚０．７ｍｍのガラスリボン５が６６０℃の位置に、両流しタイプのインジェクタ２０を挿入した。インジェクタ２０の供給口２１とガラスリボン５のボトム面５ａとの距離Ｄは１０ｍｍとした。また、インジェクタ２０のガラスリボン５の移動方向の距離Ｌは３００ｍｍとした。インジェクタ２０を用いて、窒素（Ｎ２）ガスをキャリアガスとして、１０ｖｏｌ％の水素（Ｈ２）ガスを添加した２０ｖｏｌ％の塩化水素（ＨＣｌ）ガスを、線速１００ｃｍ／ｓｅｃでガラスリボン５のボトム面５ａに吹きつけた。
【００５８】
ガラスリボン５を徐冷し、切断して作製したフロートガラス（旭硝子社製：ＡＮ１００）を５０ｍｍ角に切断し、１枚のガラス板につき、錫接触面に１点のドロスが存在するガラス板を５枚得た。
【００５９】
次に、ガス処理された面を、研磨量が平均０．３μｍになるように、発泡ポリウレタン製の研磨パッド（Ｄ硬度３０度）と、研磨剤として酸化セリウムを使用し、４Ｂ片面研磨機を用いて所定の研磨荷重（５０ｇ／ｃｍ２）で化学機械研磨した。５枚中４枚のガラス板のドロスが除去された。化学機械研磨後のガラス板のドロス残存率は、２０％であった。
【００６０】
例３２〜３６では、例３１と同様の評価方法で、塩化水素（ＨＣｌ）ガス濃度、ガラス板温度、または水素（Ｈ２）ガス濃度の条件を、表３に示すとおり変更した。
【００６１】
表３は、例３１〜３６の評価結果を表し、例３１、３２、３４、３５が実施例、例３３、３６が比較例である。０．５ｖｏｌ％以上の塩化水素（ＨＣｌ）ガスを用いれば、ドロス残存率が低下することを確認できた。また、ガラス板温度を６６０℃から６８０℃に上げることで、ドロス残存率が低下することを確認できた。
【００６２】
【表３】
2017001899.tif 000005
【００６３】
以上の通り、フロートガラス製造方法及びフロートガラス製造装置について、詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明は上記実施形態等に限定されず、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。  
【符号の説明】
【００６４】
１  フロートガラス製造装置
２  フロートバス
３  ドロスボックス
４  徐冷炉
５  ガラスリボン
５ａ  ボトム面
５ｂ  トップ面
７  リフトアウトロール
８  レヤーロール
９  溶融金属
２０、３０  インジェクタ
２１、３１  供給口
２４、３４  流路
２５、３５  排気口
４０  ガラス板
４１  カーボンボックス
４２  石英管
４３  ガス導入ノズル
【図１】
2017001899.tif 000006
【図２】
2017001899.tif 000007
【図３】
2017001899.tif 000008
【図４】
2017001899.tif 000009