(57)【要約】【課題】保護層を有し、かつ着色印刷層の微細な割れ及び光輝性顔料の偏りが生じていない、光輝性カードを提供する。【解決手段】基材層、着色印刷層、光輝性印刷層、及び保護層をこの順に具備しており、着色印刷層が、紫外線硬化樹脂で構成されている紫外線硬化バインダー、及び着色顔料を有しており、かつ光輝性印刷層が、５０℃以下のガラス転移温度を有する樹脂で構成されている低Ｔｇバインダー、光輝性無機顔料及びシリカ粒子を有している、光輝性カード。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材層、着色印刷層、光輝性印刷層、及び保護層をこの順に具備しており、
前記着色印刷層が、紫外線硬化樹脂で構成されている紫外線硬化バインダー、及び着色顔料を有しており、
前記光輝性印刷層が、５０℃以下のガラス転移温度を有する樹脂で構成されている低Ｔｇバインダー、光輝性無機顔料及びシリカ粒子を有している、
光輝性カード。
【請求項２】
前記光輝性無機顔料が、パール顔料である、請求項１に記載の光輝性カード。
【請求項３】
前記保護層と、前記光輝性印刷層との間に、接着層を更に具備している、請求項１又は２に記載の光輝性カード。
【請求項４】
前記保護層が、ポリカーボネートを含有している、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光輝性カード。
【請求項５】
前記着色印刷層と反対側で前記基材層に積層されている、背面保護層を更に具備している、請求項１〜４のいずれか一項に記載の光輝性カード。
【請求項６】
前記基材層が、情報記録部を具備している、請求項１〜５のいずれか一項に記載の光輝性カード。
【請求項７】
前記情報記録部が、非接触型ＩＣチップ、アンテナパターン、及びインレット基材を具備している、請求項６に記載の光輝性カード。
【請求項８】
基材層に、着色印刷層用組成物を塗布すること、
前記着色印刷層用組成物に紫外線を照射して硬化させ、着色印刷層を形成すること、
前記着色印刷層上に、光輝性印刷層を積層させること、及び
保護層を前記光輝性印刷層上に積層させ、かつ背面保護層を前記基材層上に積層させること
を含み、
前記着色印刷層が、紫外線硬化性成分、光重合開始剤、及び着色顔料を有しており、かつ
前記光輝性印刷層が、５０℃以下のガラス転移温度を有する樹脂で構成されている低Ｔｇバインダー、光輝性無機顔料及びシリカ粒子を有している、
光輝性カードの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光輝性カードに関する。
【背景技術】
【０００２】
クレジットカード、キャッシュカード、ポイントカード、社員証等のカードに、独特の金属的な光輝性を付与する種々の手段が提案されている。
【０００３】
特許文献１では、磁気ストライプを表面側に有するカード基材の表面側に、隠蔽層、絵柄層、表面保護層をこの順序で設けて磁気ストライプを隠蔽したオーバープリントカードであって、表面保護層が鱗片状の雲母粉体を含み、少なくとも磁気ストライプ上を覆っていることを特徴とする、オーバープリントカードが開示されている。この特許文献では、鱗片状の雲母紛体を含む表面保護層の上に、鱗片状の雲母を含まない表面保護層が更に積層されている態様も開示されている。
【０００４】
特許文献２では、コアシートの外面に磁気テープがカードの外面になるように転写されたオーバーシートを有し、オーバーシート及び磁気テープ面に、隠蔽銀印刷層と白色インキ印刷層、及びシルクスクリーン印刷によるラメ印刷層が順次形成されていることを特徴とする、光輝性カードが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−８８３７６号公報
【特許文献２】特開２００８−２００８９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
光輝性カードの用途によっては、常温において高い剛性が求められるものがある。この場合には、この目的を達することを可能とする樹脂、例えば８０℃以上のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する透明樹脂からなる層を保護層として積層させる必要がある。しかしながら、この樹脂を保護層として用いた上で、樹脂及び鱗片状の光輝性無機顔料を含有している光輝性印刷層、並びに紫外線硬化樹脂及び着色顔料を含有している着色印刷層を用いると、熱プレス時に着色印刷層の微細な割れが生じ、光輝性カードの外観が損なわれることがある。鱗片状の光輝性無機顔料を含有している光輝性印刷層の面方向の伸びにムラがあり、この伸びのムラが、着色印刷層に伝播して、伸びが大きい箇所でこの着色印刷層の微細な割れが生じると考えられる。すなわち、着色印刷層は、紫外線硬化樹脂の架橋構造により塑性変形できず、光輝性印刷層の面方向の伸びが大きい箇所において微細な割れが生じることとなる。
【０００７】
この着色印刷層の微細な割れは、特に光輝性カードが非接触型ＩＣチップ及びアンテナを含むインレットを有する非接触型のＩＣカードである場合には、アンテナが存在している部分において顕著に生じる傾向にある。
【０００８】
また、着色印刷層の微細な割れを防止するため、光輝性印刷層を、ガラス転移温度が低い樹脂で構成することも考えられるが、この樹脂に光輝性顔料を分散させて光輝性カードを作製した場合、熱プレス時におけるこの樹脂の大きな流動性により、光輝性顔料の偏りが生じ、その結果光輝性カードの外観が大きく損なわれることがある。
【０００９】
したがって、保護層を有し、かつ着色印刷層の微細な割れ及び光輝性顔料の偏りが生じない、光輝性カードを提供する必要性が存在する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、鋭意検討したところ、以下の手段により上記課題を解決できることを見出して、本発明を完成させた。すなわち、本発明は、下記のとおりである：
〈１〉  基材層、着色印刷層、光輝性印刷層、及び保護層をこの順に具備しており、
上記着色印刷層が、紫外線硬化樹脂で構成されている紫外線硬化バインダー、及び着色顔料を有しており、かつ
上記光輝性印刷層が、５０℃以下のガラス転移温度を有する樹脂で構成されている低Ｔｇバインダー、光輝性無機顔料及びシリカ粒子を有している、
光輝性カード。
〈２〉  上記光輝性無機顔料が、パール顔料である、上記〈１〉項に記載の光輝性カード。
〈３〉  上記保護層と、上記光輝性印刷層との間に、接着層を更に具備している、上記〈１〉又は〈２〉項に記載の光輝性カード。
〈４〉  上記保護層が、ポリカーボネートを含有している、上記〈１〉〜〈３〉項のいずれか一項に記載の光輝性カード。
〈５〉  上記着色印刷層と反対側で上記基材層に積層されている、背面保護層を更に具備している、上記〈１〉〜〈４〉項のいずれか一項に記載の光輝性カード。
〈６〉  上記基材層が、情報記録部を具備している、上記〈１〉〜〈５〉項のいずれか一項に記載の光輝性カード。
〈７〉  上記情報記録部が、非接触型ＩＣチップ、アンテナパターン、及びインレット基材を具備している、上記〈６〉項に記載の光輝性カード。
〈８〉  基材層に、着色印刷層用組成物を塗布すること、
上記着色印刷層用組成物に紫外線を照射して硬化させ、着色印刷層を形成すること、
上記着色印刷層上に、光輝性印刷層を積層させること、及び
保護層を上記光輝性印刷層上に積層させ、かつ背面保護層を上記基材層上に積層させること
を含み、
上記着色印刷層用組成物が、紫外線硬化性成分、光重合開始剤、及び着色顔料を有しており、かつ
上記光輝性印刷層が、５０℃以下のガラス転移温度を有する樹脂で構成されている低Ｔｇバインダー、光輝性無機顔料及びシリカ粒子を有している、
光輝性カードの製造方法。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、保護層を有し、かつ着色印刷層の微細な割れ及び光輝性顔料の偏りが生じていない、光輝性カードを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、本発明の光輝性カードの層構成を示す側面断面図である。
【図２】図２は、本発明の光輝性カードの基材層の一態様を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
《光輝性カード》
図１に示すように、本発明の光輝性カード（１００）は、基材層（１０）、着色印刷層（２０）、光輝性印刷層（３０）、及び保護層（５０）をこの順に具備している。また、本発明の光輝性カード（１００）は、着色印刷層（２０）と反対側で基材層（１０）に積層されている、随意の背面保護層（６０）を更に具備していてよい。
【００１４】
着色印刷層（２０）は、紫外線硬化樹脂で構成されている紫外線硬化バインダー（２２）、及び着色顔料（２４）を有している。光輝性印刷層（３０）は、５０℃以下のガラス転移温度を有する樹脂で構成されている低Ｔｇバインダー（３２）、並びに光輝性無機顔料（３４）及びシリカ粒子（３６）を有している。
【００１５】
更に、本発明の光輝性カードは、保護層（５０）と光輝性印刷層（３０）との間に、随意の接着層（４０）を具備していてもよい。
【００１６】
なお、本明細書におけるガラス転移温度（Ｔｇ）とは、ＪＩＳ  Ｋ７１２１（１９８７年）に準拠して、加熱速度１０℃／ｍｉｎの昇温条件で熱流束示差走査熱量測定（熱流束ＤＳＣ）により求めた中間点ガラス転移温度（℃）をいい、試験片の状態調節についてはＪＩＳ  Ｋ７１２１の「一定の熱処理を行なった後、ガラス転移温度を測定する場合」を採用するものとする。
【００１７】
本発明者らは、光輝性印刷層を、５０℃以下のガラス転移温度を有する樹脂で構成することにより、着色印刷層の微細な割れを防止することができることを見出した。この理由としては、理論に拘束されることを望まないが、熱プレス時に５０℃以下のガラス転移温度を有する樹脂がより流体に近い状態となり、その結果、光輝性印刷層と着色印刷層との間のずり応力が小さくなることに起因すると考えられる。
【００１８】
しかしながら、光輝性印刷層を５０℃以下のガラス転移温度を有する樹脂で構成することにより、光輝性印刷層の光輝性無機顔料の偏りが生じることとなる。本発明者らは、この問題を、光輝性印刷層にシリカ粒子を含有させることによって、光輝性カードの外観を損なうことなく解決できることを見出した。この理由としては、理論に拘束されることを望まないが、シリカ粒子を鱗片状の光輝性無機顔料とともに分散させることにより、光輝性無機顔料の動きを物理的に制限し、またこのシリカ粒子が光輝性顔料による光輝性を害さないことに起因すると考えられる。
【００１９】
以下では、本発明の光輝性カードの各構成要素について説明する。
【００２０】
〈基材層〉
基材層は、着色印刷層が積層されている層であり、例えば３００μｍ以上、４００μｍ以上、又は５００μｍ以上であり、８００μｍ以下、７００μｍ以下、又は６００μｍ以下の厚みを有する層である。
【００２１】
基材層は、情報記録部を具備していることができる。この情報記録部は、例えばインレット等であることができる。
【００２２】
特に、本発明で用いる基材層は、非接触型ＩＣチップ及びアンテナを含むインレットを有する積層体であることができる。
【００２３】
例えば、本発明で用いる基材層は、図２に示すような積層構造を有することができる。この図における基材層（１０）では、インレット基材（１２ａ）上にＩＣチップ（１２ｂ）及びアンテナ（１２ｃ）を含むインレット（１２）が挿入されたコアシート（１４ａ、１４ｂ）を有する。
【００２４】
コアシートとしては、任意の樹脂を用いることができるが、高い熱融着性の観点から低結晶性の熱可塑性樹脂を用いることが好ましい。このような低結晶性の熱可塑性樹脂の具体例としては、低結晶性ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ−Ｇ）；ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール等のビニル系樹脂；ポリカーボネート樹脂等の非晶性樹脂の単体又はこれらの組合せ等を用いることができる。なお、ＰＥＴ−Ｇとしては、テレフタル酸とエチレングリコール及び他のジオール等のポリエチレンテレフタレート系コポリマーを挙げることができ、特にテレフタル酸とエチレングリコール及びシクロヘキサンジメタノールとのコポリマーを用いることができる。インレットは、２枚以上のコアシートでサンドイッチした後に、熱圧着することによって、基材層中に挿入することができる。
【００２５】
コアシートの厚さは、１００μｍ以上、１５０μｍ以上、２００μｍ以上、２５０μｍ以上、又は３００μｍ以上とすることができ、また６００μｍ以下、５５０μｍ以下、５００μｍ以下、４５０μｍ以下、又は４００μｍ以下とすることができる。
【００２６】
（インレット）
インレットは、インレット基材上にＩＣチップ及びアンテナを形成したものを意味する。このＩＣチップ及びアンテナは、絶縁性有機高分子材料のインレット基材上に形成することができる。インレット基材は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、低結晶性ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ−Ｇ）等で形成することができる。
【００２７】
インレット基材上には、その周縁に沿ってアンテナが形成されている。アンテナは、アルミ箔や銅箔をフィルム基板に貼り付け、エッチングでループ形状を形成する方法、スクリーン印刷にて銀ペーストを印刷してループ形状を形成する方法、ワイヤーを引き回してループ形状を形成する方法、アンテナパターン用の転写箔を転写させてループ形状を形成する方法等を用いて形成することができる。
【００２８】
ＩＣチップは、アンテナパターンに接続されてインレット基板上に位置する。ＩＣチップは、ＣＰＵ、ＲＡＭ、ＲＯＭ、ＥＥＰＲＯＭ等の半導体集積回路を搭載したチップ部品である。
【００２９】
インレットの厚さは、２０μｍ以上、３０μｍ以上又は４０μｍ以上とすることができ、また８０μｍ以下、７０μｍ以下又は６０μｍ以下とすることができる。
【００３０】
〈背面保護層〉
背面保護層は、随意に着色印刷層と反対側で基材層に積層されている層である。
【００３１】
背面保護層としては、透明／白色に限らず、材料は特に限定されない。
【００３２】
例えば、背面保護層を構成する材料として、下記の保護層に関して挙げた材料を用いることができる。
【００３３】
〈着色印刷層〉
着色印刷層は、紫外線硬化バインダー、及び着色顔料を具備しており、かつ基材層上、特にコアシート上に積層されている層である。この着色印刷層は、基材層上の少なくとも一部に形成されていてもよく、又は基材層上全体に形成されていてもよい。
【００３４】
着色印刷層は、紫外線硬化性成分、光重合開始剤及び着色顔料を具備している着色印刷層用組成物を塗布し、次いで着色印刷層用組成物に紫外線を照射して硬化させることにより形成する。
【００３５】
着色印刷層としては、紫外線硬化性成分、光重合開始剤及び着色顔料を具備しているものであれば、随意の材料を用いることができ、例えば市販の紫外線硬化性インキ（ＵＶインキ）を用いることができる。
【００３６】
着色印刷層用組成物の塗布は、シルク印刷、オフセット印刷、グラビア印刷等のアナログ印刷方法、電子写真印刷方式等のデジタル印刷方法、ロールコート、ロッドコート、キスコート、ナイフコート、エアーナイフコート、ダイコート、リップコート、フローコート、ディップコート、スピンコート、スプレーコート等のコーティング方法等により行うことができ、中でも、コスト及び塗布の容易さの観点から、オフセット印刷により行うことが好ましい。
【００３７】
目視確認可能な情報を伝達するための任意のパターンを有することができる。パターンとしては、これに限られないが、絵柄、文字、記号、図形、キャラクター、背景色、濃淡等を挙げることができる。
【００３８】
着色印刷層の厚さは、０．１μｍ以上、０．３μｍ以上、又は０．５μｍ以上であることができ、また１０μｍ以下、８μｍ以下、又は５μｍ以下であることができる。
【００３９】
｛紫外線硬化性バインダー｝
紫外線硬化バインダーは、紫外線硬化樹脂で構成されている。
【００４０】
（紫外線硬化樹脂）
紫外線硬化樹脂は、紫外線硬化性成分及び光重合開始剤を有する混合物に、紫外線を照射することにより形成される樹脂である。
【００４１】
紫外線硬化性成分としては、これに限られないが、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等の（メタ）アクリレート、ビニルエーテル等のモノマー又はオリゴマーが挙げられる。
【００４２】
光重合開始剤としては、これに限られないが、ベンゾイン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ホスフィンオキシド、アセタール、アントラキノン、チオキサントン及びこれらの誘導体等が挙げられる。
【００４３】
｛着色顔料｝
着色顔料は、紫外線硬化バインダーに分散している顔料である。着色顔料としては、無機顔料、有機顔料が挙げられ、求められる光輝性カードの外観に応じて随意の顔料を用いることができる。
【００４４】
〈光輝性印刷層〉
光輝性印刷層は、低Ｔｇバインダー、光輝性無機顔料、及びシリカ粒子を有している。
【００４５】
光輝性印刷層の厚さは、光輝性を十分に発現させる観点から、１．０μｍ以上、１．５μｍ以上、又は２．０μｍ以上であることが好ましく、また光輝性印刷層にくすみを生じさせない観点から、５．０μｍ以下、４．５μｍ以下、又は４．０μｍ以下であることが好ましい。
【００４６】
光輝性印刷層は、着色印刷層に関して挙げた方法により積層させることができる。
【００４７】
｛低Ｔｇバインダー｝
低Ｔｇバインダーは、５０℃以下のガラス転移温度を有する樹脂で構成されている。このガラス転移温度は、４０℃以下、３０℃以下、２５℃以下、又は２０℃以下であることができ、また０℃以上、５℃以上、又は１０℃以上であることができる。
【００４８】
５０℃以下のガラス転移温度を有する樹脂としては、酢酸ビニル樹脂、ビニルアルコール樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル系樹脂、並びにこれらの共重合体及びこれらの組合せからなる混合組成物等の熱可塑性樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂等が挙げられる。
【００４９】
また、５０℃以下のガラス転移温度を有する樹脂としては、イソシアネート基含有硬化剤及びこの硬化剤と反応するポリオール系の主剤を含む２液系接着剤を用いることもできる。
【００５０】
主剤としては、ポリオール、特にポリマーポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、又はウレタン結合を有するポリオール等を挙げることができる。
【００５１】
硬化剤としては、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等が挙げられる。
【００５２】
｛光輝性無機顔料｝
光輝性無機顔料は、低Ｔｇバインダーに分散している無機顔料である。
【００５３】
光輝性無機顔料としては、反射によって本発明の光輝性カードに金属的な光輝性を付与する鱗片状無機顔料を用いることができる。鱗片状無機顔料としては、例えば鱗片状金属顔料、パール顔料等が挙げられる。
【００５４】
鱗片状金属顔料としては、例えばアルミニウム粉末、特にアルミフレーク等を用いることができる。
【００５５】
パール顔料は、天然雲母、又は天然雲母に酸化チタンを被覆した顔料であることができる。
【００５６】
光輝性無機顔料の粒径は、例えば２０μｍ以上、２２μｍ以上、又は２５μｍ以上であることができ、また４０μｍ以下、３８μｍ以下、又は３５μｍ以下であることができる。
【００５７】
なお、本明細書における「粒径」は、ＪＩＳ  Ｚ  ８８２５に準拠し、レーザー回折・散乱法により測定した平均粒子径を言うものである。
【００５８】
｛シリカ粒子｝
シリカ粒子は、低Ｔｇバインダーに分散している粒子であり、特に球形のシリカ粒子である。このシリカ粒子の粒径は、例えば１．０μｍ以上、１．５μｍ以上、２．０μｍ以上、又は３．０μｍ以上であることができ、また１０．０μｍ以下、９．０μｍ以下、又は８．０μｍ以下であることができる。このシリカ粒子の粒径は、光輝性印刷層の厚さを適度なものとする観点から、５．０μｍ以下、４．５μｍ以下、又は４．０μｍ以下であることが好ましい。
【００５９】
〈保護層〉
保護層は、透明樹脂、特に８０℃以上のガラス転移温度を有する透明樹脂で構成されていてよい。
【００６０】
ここで、本発明における「透明」とは、当業者が目視により着色印刷層及び光輝性印刷層が確認できる程度に透明であることを言うものである。すなわち、本発明の光輝性カードにおける保護層は、必ずしも無色透明である必要はなく、有色透明であってもよい。
【００６１】
この樹脂としては、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメタクリル酸メチル、ポリスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ＰＥＴ−Ｇ等を用いることができるが、成型した光輝性カードの機械的強度の観点から、ポリカーボネートが特に好ましい。
【００６２】
保護層の厚さは、例えば３０μｍ以上、４０μｍ以上、又は５０μｍ以上であることができ、また１５０μｍ以下、１３０μｍ以下、又は１００μｍ以下であることができる。
【００６３】
保護層は、例えば保護層を構成する透明樹脂のガラス転移温度を上回る温度で熱プレスすることにより、形成することができる。
【００６４】
〈接着層〉
接着層は、保護層と光輝性印刷層との接着強度を高める随意の層である。
【００６５】
接着層は、イソシアネート基含有硬化剤及びこの硬化剤と反応するポリオール系の主剤を含む２液系接着剤から少なくとも形成されることが好ましい。
【００６６】
主剤としては、ポリオール、特にポリマーポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、又はウレタン結合を有するポリオール等を挙げることができる。
【００６７】
硬化剤としては、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等が挙げられる。
【００６８】
接着層の厚さは、例えば１．０μｍ以上、４．０μｍ以上又は７．０μｍ以上であり、１５μｍ以下、１２μｍ以下、又は１０μｍ以下であることができる。
【００６９】
接着層は、スクリーン印刷により積層させることができる。
【００７０】
〈他の層〉
本発明のカードは、他の層を有していてもよく、例えば、基材層と背面保護層との間に、他の着色印刷層及び他の光輝性印刷層を具備していてもよい。
【００７１】
《光輝性カードの製造方法》
光輝性カードに関する上記の記載から明らかなように、本発明の光輝性カードは、例えば下記の方法によって製造することができる：
基材層に、着色印刷層用組成物を塗布すること、
上記着色印刷層用組成物に紫外線を照射して硬化させ、着色印刷層を形成すること、
上記着色印刷層上に、光輝性印刷層を積層させること、及び
保護層を上記光輝性印刷層上に積層させ、かつ背面保護層を上記基材層上に積層させること
を含み、
上記着色印刷層が、紫外線硬化性成分、光重合開始剤、及び着色顔料を有しており、かつ
上記光輝性印刷層が、５０℃以下のガラス転移温度を有する樹脂で構成されている低Ｔｇバインダー、光輝性無機顔料及びシリカ粒子を有している、
光輝性カードの製造方法。
【実施例】
【００７２】
実施例及び比較例により本発明を具体的に説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【００７３】
《評価サンプルの作製》
〈実施例１〉
まず、基材層として、インレットを保持している厚さ７００μｍの白色ＰＥＴ−Ｇシートを用意した。この基材層に保持されているインレットは、ＩＣチップ及びアンテナ回路基板からなり、このアンテナ回路基板は、金属箔により形成されたアンテナ回路を有するＰＥＴ基材（厚さ５０μｍ）であった。
【００７４】
次いで、基材層の片面に、着色印刷層としての黒色ＵＶインキを、ＲＩテスターで印刷し、１６０ｗ、３０ｍ／分、３パスの条件で紫外線照射により硬化させた。
【００７５】
光輝性印刷層を形成するために、パール顔料、低Ｔｇバインダー、及び球状シリカ（粒径：３μｍ）を含む光輝性印刷層用組成物を調製した。低Ｔｇバインダーとしては、ポリエステルポリオール主剤、イソシアネート硬化剤を有する２液型接着剤（組成物Ａ、Ｔｇ：１９℃）を用いた。次いで、光輝性印刷層を、シルクメッシュＯＳＣ１２０番のシルク印刷版を用いて、スクリーン印刷により、厚さ３．５μｍで積層させた。
【００７６】
接着層を光輝性層上にワイヤーバーで塗工した。接着層としては、上記の２液型接着剤（組成物Ａ、Ｔｇ：１９℃）を用いた。
【００７７】
次いで、保護層及び背面保護層として、ポリカーボネートシート（Ｔｇ：１５０℃）を、１４０℃、１６ｔｏｎ、１４分の条件で熱プレスすることによって積層した。
【００７８】
その後、常温まで冷却して、実施例１のサンプルを作製した。
【００７９】
〈実施例２〉
低Ｔｇバインダーとして、ポリエステル及び酢酸ビニルを含有している組成物Ｂ（Ｔｇ：４５℃）を用いたことを除き、実施例１と同様にして、実施例２のサンプルを作製した。
【００８０】
〈実施例３〉
接着層を積層させなかったことを除き、実施例２と同様にして、実施例３のサンプルを作製した。
【００８１】
〈実施例４〉
光輝性印刷層の厚さを７．０μｍとし、かつ接着層を積層させなかったことを除き、実施例１と同様にして、実施例４のサンプルを作製した。
【００８２】
〈実施例５〉
光輝性印刷層の厚さを３．５μｍとしたことを除き、実施例４と同様にして、実施例５のサンプルを作製した。
【００８３】
〈比較例１〉
光輝性印刷層に球状シリカを含有させなかったことを除き、実施例５と同様にして、比較例１のサンプルを作製した。
【００８４】
〈比較例２〜５〉
低Ｔｇバインダーの代わりに、表１に示す材料を用いたことを除き、比較例１と同様にして、比較例２〜５のサンプルを作製した。なお、表１中、組成物Ｃ及びＤは、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体であり、組成物Ｅ及びＦは、ポリエステル系樹脂である。
【００８５】
《評価》
〈印刷の割れ〉
目視により、着色印刷層の割れを確認した。評価基準は、熱プレス後において、着色印刷層の微細な割れによってその下の基材層の白色を確認できるか否かにより行った。着色印刷層に微細な割れが生じず、それによって基材層の白色を確認できない場合を○とし、着色印刷層に微細な割れが生じ、それによって基材層の白色を確認できる場合を×とした。
【００８６】
〈光輝性〉
目視により、光輝性印刷層にくすみや顔料の偏りの有無を確認した。評価基準は、くすみも顔料の偏りも生じなかった場合を○とし、くすみが生じて外観が少々損なわれてはいるものの、実用上問題がないものを△とし、顔料の偏りが生じた結果、外観が大きく損なわれた場合を×とした。
【００８７】
〈放置後の接着強度〉
作製したサンプルを、６０℃、９０％ＲＨ（相対湿度）の高温恒湿層に６日間放置し、ＪＩＳ  Ｘ６３０１に準拠して接着強度を確認した。評価基準は、接着強度１Ｎ／ｍｍ以上であった場合を○とし、接着強度１Ｎ／ｍｍ未満であった場合を×とした。
【００８８】
結果を表１に示す。
【００８９】
【表１】
2017136700.tif 000003
【００９０】
表１から、光輝性印刷層として、ガラス転移点が５０℃以下のバインダーを用いた実施例１〜５及び比較例１は、着色印刷層の割れが生じていないことが理解されよう。しかしながら、この中で、シリカを用いていない比較例１については、顔料の偏りが生じた結果光輝性カードの外観が大きく損なわれたことが理解されよう。
【００９１】
また、接着層を用いた実施例１及び２、並びに接着層を積層させていないが、光輝性印刷層の厚さを７．０μｍとした実施例４は、６０℃、９０％ＲＨ（相対湿度）の高温恒湿層に６日間放置した後でも接着強度が接着強度１Ｎ／ｍｍ以上であったことが理解されよう。しかしながら、この中で、接着層を積層させていない実施例４は、実用上問題ない程度の外観ではあったものの、光輝性印刷層にくすみが生じていたことが理解されよう。
【符号の説明】
【００９２】
１０    基材層
１２    インレット
１２ａ    インレット基材
１２ｂ    ＩＣチップ
１２ｃ    アンテナ
１４ａ、１４ｂ    コアシート
２０    着色印刷層
２２    着色顔料
２４    紫外線硬化バインダー
３０    光輝性印刷層
３２    低Ｔｇバインダー
３４    光輝性無機顔料
３６    シリカ粒子
４０    接着層
５０    保護層
６０    背面保護層
１００    光輝性カード
【図１】
2017136700.tif 000004
【図２】
2017136700.tif 000005