(57)【要約】【課題】印刷工程におけるインキ膜の乾燥状態の不均一を防いで、高精細かつ欠陥の少ない印刷物を製造できる印刷機を提供する。【解決手段】凸版反転オフセット印刷機は、シリンダーと、シリンダーの外周面に設置されたブランケットと、シリンダー及びブランケットの外周に閉塞空間を仕切るシリンダーカバーと、閉塞空間に溶剤ガスを供給する供給手段と、閉塞空間から溶剤ガスを回収する回収手段と、供給手段と前記回収手段とを制御することで印刷時に閉塞空間の溶剤ガスの分圧を一定に保つ制御手段とを含む。【選択図】図１
2017213722.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリンダーと、
前記シリンダーの外周面に設置されたブランケットと、
前記シリンダー及び前記ブランケットの外周に閉塞空間を形成するシリンダーカバーと、
前記閉塞空間に溶剤ガスを供給する供給手段と、
前記閉塞空間から溶剤ガスを回収する回収手段と、
前記供給手段と前記回収手段とを制御することで印刷時に前記閉塞空間の前記溶剤ガスの分圧を一定に保つ制御手段とを備える、凸版反転オフセット印刷機。
【請求項２】
前記制御手段は、
前記閉塞空間の前記溶剤ガスの分圧を検知するガス分圧センサーを含み、
前記ガス分圧センサーは前記シリンダーに設けられている、請求項１に記載の凸版反転オフセット印刷機。
【請求項３】
前記制御手段は、
前記閉塞空間の前記溶剤ガスの分圧を検知するガス分圧センサーと、
溶剤ガス供給口を開閉する供給口用電磁弁と、
溶剤ガス回収口を開閉する回収口用電磁弁と含み、
前記ガス分圧センサーで検知した前記閉塞空間の前記溶剤ガスの分圧に基づいて前記供給口用電磁弁および前記回収口用電磁弁を開閉する、請求項１に記載の凸版反転オフセット印刷機。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の凸版反転オフセット印刷機を用いる、印刷物製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凸版反転オフセット印刷機、さらにそれを用いた印刷物の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子部品の低コスト化および微細化に対応するため、電子部品が備える配線や絶縁層などのパターン状の皮膜を印刷法により形成することが試みられている。
【０００３】
印刷法のなかでも、微細な画像パターンを形成可能な印刷法として、反転オフセット印刷法が挙げられる（例えば特許文献１参照）。
【０００４】
従来技術に係る反転オフセット印刷法に用いる凸版反転オフセット印刷機５０の模式図を図５に示し、凸版反転オフセット印刷機５０の動作を表す模式図を図６Ａ〜６Ｃに示す。なお、図５及び図６Ａ〜６Ｃ中の白抜き矢印は移動方向を示している。図５には、筒状のシリンダーの外周面に設置されたブランケット５２と、ブランケット５２にインキを供給しインキ膜５３とするインキ供給手段５１と、ブランケット５２上に形成されたインキ膜５３から不要部５３ｂを除去する除去版５４と、ブランケット５２上に残された要部５３ａが転写されて印刷物となる被印刷基板５５と、除去版５４および被印刷基板５５を印刷に適切な位置へ搬送する定盤５６とを備える凸版反転オフセット印刷機５０が示されている。ブランケット５２には通常インキ膜５３が剥がれ易いような処理がなされ、例えばシリコーンゴムが用いられる。また、除去版５４は板状のガラス版を用い、定盤５６上に吸着設置する。
【０００５】
次に、図６Ａ〜６Ｃに基づいて、印刷工程を、順を追って説明する。まず、インキ供給手段５１からインキをブランケット５２上に塗布してインキ膜５３を形成する（図６Ａ）。このとき、インキはブランケット５２上で予備乾燥状態に置かれ、多少の溶媒を失ってインキ膜５３となる。ついで、インキ膜５３に対し所定形状の除去版５４を接触させてインキ膜５３の不要部５３ｂを転写してブランケット５２から除去する（図６Ｂ）。ここでは除去版５４として要部に対応する部位が凹部、不要部に対応する部位が凸部となった凸版を使用している。次に、ブランケット５２上に残ったインキ膜５３の要部５３ａを被印刷基板５５に転写して、印刷物を得ることができる（図６Ｃ）。
【０００６】
このような凸版反転オフセット印刷機５０により形成する画像パターンの例として、基材上に導電性インキを用いて印刷を行い、電磁波シールドを作製することが提案されている（例えば特許文献２参照）。このほか、さまざまな画像パターンを印刷した印刷物の製造が望まれている。特に、一つの印刷面に対し、キャパシタ電極、配線パターンなどの大面積のべたパターンと、細く間隔の狭いパターンとの両方を形成可能な印刷方法の実現が望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特公昭６０−２９３５８号公報
【特許文献２】特開２００５−１７５０６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
凸版反転オフセット印刷法においては、インキ膜乾燥不足の場合ではパターニング不良が発生しやすく、インキ膜の乾燥過多の場合では転写不良が発生しやすい問題があった。このような問題は、インキ膜乾燥状態の不均一が原因であることが明らかとなった。
【０００９】
本発明は、上記のような問題を解決するためになされたもので、印刷工程におけるインキ膜の乾燥状態の不均一を防いで、高精細かつ欠陥の少ない印刷物を製造できる印刷機を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するための本発明の一局面は、シリンダーと、シリンダーの外周面に設置されたブランケットと、シリンダー及びブランケットの外周に閉塞空間を仕切るシリンダーカバーと、閉塞空間に溶剤ガスを供給する供給手段と、閉塞空間から溶剤ガスを回収する回収手段と、供給手段と前記回収手段とを制御することで印刷時に閉塞空間の溶剤ガスの分圧を一定に保つ制御手段とを含む、凸版反転オフセット印刷機である。
【００１１】
また、制御手段は、閉塞空間の溶剤ガスの分圧を検知するガス分圧センサーを含み、ガス分圧センサーはシリンダーに設けられてもよい。
【００１２】
また、制御手段は、閉塞空間の溶剤ガスの分圧を検知するガス分圧センサーと、前記溶剤ガス供給口を開閉する供給口用電磁弁と、前記溶剤ガス回収口を開閉する回収口用電磁弁と含み、ガス分圧センサーで検知した閉塞空間の溶剤ガスの分圧に基づいて供給口用電磁弁および回収口用電磁弁を開閉してもよい。
【００１３】
また、本発明の他の局面は、上述の凸版反転オフセット印刷機を用いる、印刷物製造方法である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によって、印刷工程におけるインキ膜の乾燥状態の不均一を防いで、高精細かつ欠陥の少ない印刷物を製造できる印刷機を提供することを目的とする。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】凸版反転オフセット印刷用凸版の一例を示す断面図
【図２Ａ】凸版の製造工程の一例を示す模式図
【図２Ｂ】凸版の製造工程の一例を示す模式図
【図２Ｃ】凸版の製造工程の一例を示す模式図
【図２Ｄ】凸版の製造工程の一例を示す模式図
【図３】本発明の一実施形態に係る凸版反転オフセット印刷機の断面図
【図４】実施例及び比較例で用いた凸版反転オフセット印刷用凸版の平面図及び断面図
【図５】従来技術に係る凸版反転オフセット印刷機の模式図
【図６Ａ】従来技術に係る凸版反転オフセット印刷機の動作を表す模式図
【図６Ｂ】従来技術に係る凸版反転オフセット印刷機の動作を表す模式図
【図６Ｃ】従来技術に係る凸版反転オフセット印刷機の動作を表す模式図
【発明を実施するための形態】
【００１６】
＜凸版＞
図１に、本発明の一実施形態に係る凸版反転オフセット印刷機に除去版として用いることのできる凸版１０の断面図を示す。凸版１０の材料は、堅牢で加工が容易であることから、ガラスが好ましい。
【００１７】
凸版１０は、ブランケット上のインキ膜から不要部を除去し、要部を残すために、不要部に対応した部位が凸部（レリーフパターン）となるように形成されている。凸版１０表面の最も高い部位を凸部頂部１４、最も低い部位を凹部底面１６とし、凸部の側面、あるいは凹部の側面でもある部位は凸部側面１５とする。凸部頂部１４と凹部底面１６の差を版深ｄとし、その許容される範囲は製造される印刷物によって選択される。
【００１８】
＜凸版の製造＞
凸版１０の製造工程の一例を、図２Ａ〜図２Ｄを用いて説明する。まず、基材３１を準備し、凸版１０の凸部頂部３４に対応する位置をパターン状にマスク３２で覆い基材３３を形成する（図２Ａ）。マスク３２は次に行われるレリーフ形成工程において基材３１表面を保護する役割を備え、例えば金属を用いることができる。金属の場合は蒸着の後、必要な部分を覆うようレジストを形成し、金属のみをエッチングする条件でエッチングを行うことでパターン状に形成できる。
【００１９】
こうして得られた、マスク済みの基材３３のマスク３２で覆われていない領域を彫り込んでレリーフ３４を形成する（図２Ｂ）。レリーフ３４の形成方法は選択した基材３３の材質に応じて適宜選択することができ、例えばサンドブラスト、ウェットブラストなどのブラスト法、ＦＩＢ（収束イオンビーム）による切削、ナノインプリンティング法、ドライエッチング、ウエットエッチング等を挙げることができる。
【００２０】
レリーフ形成法として例えば、ガラスを材質とした基材３３にクロム蒸着を行い、このクロム皮膜上にフォトリソグラフィー法によってレジストを形成、不要部（すなわち要部に対応する領域）を開口させ、エッチングを行う。次いでクロム皮膜上のレジストを剥離し、クロム皮膜をマスク３２としてガラス基材３３のウエットエッチングを行い、ガラス基材３３に所定の深さのレリーフパターンを形成する。
【００２１】
次に、場合によって、凸部側面１５及び凹部底面１６（すなわちエッチングによって新たに形成された面）に対して、撥インキ処理３５を行ってもよい（図２Ｃ）。凸部側面１５及び凹部底面１６に撥インキ処理面（シランカップリング剤単分子膜）３６が形成される。
【００２２】
撥インキ処理３５をするために使用する表面処理剤は用いるインキによって異なるが、撥水性や撥油性の高いフッ素元素やシロキサン基が含まれるシランカップリング剤を用いるのが好ましい。好ましく用いることのできる化合物としては例えば、長鎖フルオロアルキルシラン、加水分解性基含有シロキサン、フルオロエーテル基含有ポリマー、フルオロアルキル基含有オリゴマーなどが挙げられる。
【００２３】
凸部側面１５及び凹部底面１６に撥インキ処理３５を施す方法としては、上述のカップリング剤を凸部側面１５及び凹部底面１６に化学的に結合させて固定する方法を挙げることができる。例えば、シランカップリング剤を使用した公知のガラス表面処理方法を用いることができる。すなわち、シランカップリング剤を水、酢酸水、水−アルコール混合液、あるいはアルコールに溶解させてカップリング剤溶液を調製する。次いで、カップリング剤溶液を公知の塗工方法であるスピンコート、ロールコート、アプリケータなどを用いてガラス表面に塗工する。最後に加熱乾燥して溶媒を除くことでシランカップリング剤をガラスなどの凸版表面に固定できる。このとき加熱乾燥によって、シランカップリング剤とガラス表面はオリゴマー化することによって強固に結合するために、非常に耐性のある表面処理となる。
【００２４】
撥インキ処理３５後に、マスク３２に付着した未反応のシランカップリング剤を洗浄して除去することで、要部（パターン形成位置）に該当する凸部側面１５及び凹部底面１６に撥インキ処理が施された凸版１０を得ることができる（図２Ｄ）。
【００２５】
＜印刷物の製造＞
次に、本発明の実施形態に係る、インキ膜の乾燥制御が可能な凸版反転オフセット印刷機１００（以下、印刷機１００という）について、図３を用いて説明する。図３は、印刷機１００の模式図である。なお、従来技術と同じ、または対応する構成には同一の参照符号を付して説明を省略する。
【００２６】
印刷機１００は、円筒状のシリンダー６１の外周面にブランケット６２を備え、シリンダー６１及びブランケット６２の外周には、シリンダー６１及びブランケット６２の外周を覆うことで、シリンダー６１及びブランケット６２の表面から所定の距離にわたって閉塞空間を形成する円筒状のシリンダーカバー６３を有する。シリンダー６１には、閉塞空間に溶剤ガスを供給する供給手段と、閉塞空間から溶剤ガスを回収する回収手段とが設けられる。印刷時には、図示しない制御手段により供給手段と回収手段とを制御することで、閉塞空間の溶剤ガスの分圧を一定に保つことができる。
【００２７】
ブランケット６２の材料としてはインキ膜５３の形成、図１に示した凸版１０による非画像部（不要部５３ｂ）のインキ膜５３除去及び被印刷基板５５への画像部（要部５３ａ）インキ膜５３の転写が可能なものが用いられる。また、変形の少ない材料が好ましいが、ある程度の柔軟性が求められる。このような材料として、シリコーン系エラストマー、ブチルゴム、エチレンプロピレンゴムなどを用いることができる。また、ブランケット表面の濡れ性を調整するため、ブランケット表面にフッ素樹脂およびシリコーンの塗布、プラズマ処理、ＵＶオゾン洗浄処理などの表面処理を施しても良い。ブランケット６２は通常可とう性の板として供給されるので、これを円筒形の版胴に巻きつけて用いたり（図３参照）、強度のある平板に固定して用いたりすることができる。
【００２８】
インキの材質は、製造する印刷物の種類に応じて調整すればよく、金、銀、銅、ニッケル、白金、パラジウム、ロジウムなどの金属微粒子分散液に必要に応じて各種添加剤を加えた導電性インキや、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）材料を有機溶媒に溶解または分散させたインキ、カラーフィルタ用顔料分散液などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。ブランケット材料の膨潤などを考慮すると、水またはアルコール系溶媒を用いて調整することが好ましい。
【００２９】
インキ供給手段５１としては、均一なインキ膜が形成できればよく、バーコート、ダイコート、キャップコート、スピンコート、スリットコート法等を用いることができるが、これらに限定されるものではない。
【００３０】
被印刷基板５５の材料は、目的とする印刷物に応じて適宜選択することができる。電子部品を製造する場合は通常、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネートなどのフレキシブルなプラスチック材料、石英などのガラス基板やシリコンウェハーなどを挙げることができる。印刷物が使用される環境に合わせてフィルム等のフレキシブルな基材を選択することも可能であり、この場合は生産効率の向上のために長尺の基材を用い、連続して印刷を行うことが好ましい。
【００３１】
供給手段は、溶剤ガスを閉塞空間に噴出する溶剤ガス供給口６６を含んで構成されている。回収手段は、溶剤ガスを閉塞空間から取り出す溶剤ガス回収口６７を含んで構成されている。溶剤ガス供給口６６と溶剤ガス回収口６７とは共にシリンダー６１に設けられている。より詳細には、溶剤ガス回収口６７のシリンダー６１の回転方向の前方にブランケット６２が設けられ、ブランケット６２のシリンダー６１の回転方向の前方であってブランケット６２の前縁の近傍に溶剤ガス供給口６６が設けられている。
【００３２】
ブランケット６２の前縁は、シリンダー６１の回転中心軸と平行に延在している。溶剤ガス供給口６６は、複数設けられ、これらは互いに間隔をおきブランケット６２の前縁に平行する単一の仮想直線上に位置するように並べられている。制御手段は、閉塞空間の溶剤ガスの分圧を検知するガス分圧センサー６８を含んで構成され、ガス分圧センサー６８はシリンダー６１に設けられている。
【００３３】
制御手段は、閉塞空間の溶剤ガスの分圧を検知するガス分圧センサー６８と、溶剤ガス供給口６６を開閉する供給口用電磁弁と、溶剤ガス回収口６７を開閉する回収口用電磁弁と含んで構成されている。制御手段は、ガス分圧センサー６８で検知した閉塞空間の溶剤ガスの分圧に基づいて供給口用電磁弁および回収口用電磁弁を開閉する。すなわち、閉塞空間の溶剤ガスの分圧が設定値よりも低い場合には、供給口用電磁弁を開いて回収口用電磁弁と閉じ、閉塞空間の溶剤ガスの分圧が設定値よりも高い場合には、供給口用電磁弁を閉じて回収口用電磁弁を開く。ガス供給口６６は、ブラケット６２に対して、シリンダー６１の回転方向の前方に位置して溶剤ガスを供給し、ガス回収口６７は、ブラケット６２に対して、シリンダー６１の回転方向の後方に位置して溶剤ガスを回収する機構であり、ガス分圧センサー６８の測定結果をタイムリーにガス供給口６６とガス回収口６７とに反映することで、ガス供給量とガス回収量とを制御できる機構となっている。また、シリンダー６１はシリンダーカバー６３に全体を覆われているため、容易にシリンダーカバー６３内のガス分圧を一定に保てるようになっている。溶剤ガスとしては、印刷機に使用するインキに用いられる従来公知の様々な溶剤のガスが使用可能である。
【００３４】
印刷機１００により形成する画像パターンとしては、例えば、薄膜トランジスタ基板の電極、キャパシタ電極、配線等を、また、カラーフィルタの着色層、有機エレクトロルミネッセンス素子の電極、有機エレクトロルミネッセンス層、プリント配線板の配線、素子内蔵型のプリント配線板である場合はキャパシタ電極、誘電体層、抵抗素子電極、抵抗体、インダクタ、トランジスタ構成部材等の受動素子・能動素子を挙げることができる。
【００３５】
ブランケットからの不要インキ膜除去後に、凸版１０の凸部頂部１４が保持するインキ膜は洗浄工程によって洗浄される。凸版１０の洗浄方法としては、薬液や有機溶剤によって洗浄する方法と、粘着剤を担時した粘着性フィルムにインキ膜を押し当てて取り除く方法とを挙げることができる。洗浄に使用することのできる薬液としては、例えば硫酸や塩酸等を挙げることができる。有機溶媒としては例えばトルエン等を挙げることができる。インキ膜の組成によって適宜選択することができ、凸版１０を構成する材料を侵さない液を選べばよい。洗浄時には超音波により振動を与えることもできる。洗浄に用いることのできる粘着性フィルムとしては、市販の粘着性フィルムを使用することができ、例えばエチレン酢酸ビニル共重合体を基材フィルムとし、アクリル系粘着剤を塗布することによって粘着性の付与された粘着性フィルムを用いることができる。洗浄時に粘着剤が凸版１０側に転移しなければよい。粘着性フィルムによる洗浄は、洗浄後即時印刷に用いることができるので、特に連続的に同じ凸版１０を用いて印刷を行う場合に適している。そのため、粘着性フィルムもロール状態で供給され、使用に応じて必要な部分を凸版１０に押し当て、使用後のフィルムは巻き取られるようになっていてもよい。
以下、本発明の実施例及び比較例について説明する。
【実施例１】
【００３６】
凸版の材料として、１００ｍｍ×１００ｍｍ、０．７ｍｍ厚のガラス板を用いた。このガラス板にクロムを蒸着により５０ｎｍ製膜した。このクロム皮膜上にポジレジストを用いたフォトリソグラフィー法によってレジストパターンを形成し、露出したクロム皮膜をエッチングした。その後レジストを剥離してクロムの画像パターンが形成されたガラス板を得た。
【００３７】
ここで形成したパターンは、図４に模式的に示したパターンを１単位として、ガラス板中央部の１００ｍｍ四方の領域に、１０単位×１０単位で計１００単位配置したものである。パターン疎部２７に対応する画像パターンは２５０μｍ×２５０μｍの方形であり、パターン密部２８に対応する画像パターンは１４０μｍ×２１０μｍの矩形である。パターン疎部２７とパターン密部２８との間のライン／スペース幅は５μｍ／５μｍである。
【００３８】
このクロム皮膜をマスクとし、フッ酸を用いたガラスエッチングにより、凹部の深さが５μｍになるように凹凸を形成し、凸版反転オフセット印刷用凸版を作製した。
【００３９】
＜インキ１＞
インキとして、銀粒子水分散液（平均粒径２０ｎｍ、住友電工製）にポリエチレンオキサイド（平均分子量１０，０００、アルドリッチ製）を、（ポリエチレンオキサイド／銀粒子／水）＝（１／８／３１）の重量比となるように溶解させ導電性インキを調製した。
【００４０】
＜印刷物の製造＞
実施例１に係る印刷物の製造は次のようにして行った。まず、東芝ＧＥ社製の２液型シリコーンゴム（ＧＥ東芝シリコーン社製：商品名ＴＳＥ３４５５Ｔ）を、厚さ２ｍｍ、大きさ１５０ｍｍ×１２０ｍｍに成形してブランケットを作製した。
【００４１】
このブランケットをシリンダーに巻き付け円筒形とし、ブランケット上に上記のように調整した導電性インキをバーコータで塗布した後、印刷機１００を用いて、ブランケット上に導電性のインキ膜を形成した。
【００４２】
次に、凸版をブランケット上のインキ膜に密着させたのち剥離し、非画像部のインキ膜を除去した。次に、画像部が残されたブランケットと、厚さ０．７ｍｍ、大きさが１００ｍｍ×１００ｍｍのソーダライムガラス基板とを密着させたのち剥離して、ブランケット上のインキ膜を被印刷基板側に転写した。同様に、同一凸版で連続５枚印刷を繰返した後、印刷基板を２００℃で３０分間熱処理して導電性パターンを備えた印刷物を形成した。得られた導電性パターンを光学顕微鏡で観察したところ、乾燥不良由来のパターン欠陥はみられなかった。
【実施例２】
【００４３】
インキとして、以下に示すように調整したカラーフィルタ用の着色インキを用いた他は実施例１と同様に凸版反転オフセット印刷用凸版を製造し、これを用いて印刷物の製造を行った。
【００４４】
＜インキ２＞
まず、赤色顔料分散液を下記の組成で調整した。
〔赤色顔料分散液〕
・赤色顔料
Ｃ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＲｅｄ２５４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガーフォーレッドＢ−ＣＦ」）…１８重量部
Ｃ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＲｅｄ１７７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「クロモフタールレッドＡ２Ｂ」）…２重量部
・アクリルワニス（固形分２０％）…１０８重量部
【００４５】
〔赤色着色インキ〕
その後、下記組成の混合物を均一になるように攪拌混合した後、５μｍのフィルタで濾過して赤色着色インキを得た。
・上記赤色顔料分散液…１００重量部
・メチル化メチロールメラミン（三洋化成工業株式会社製：商品名ＭＷ−３０）…２０重量部
・レベリング剤（大日本インキ化学工業株式会社製：商品名メガファックＦ−４８３ＳＦ）…１重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル…８５重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート…４５重量部
【００４６】
こうして調整した赤色着色インキを実施例１と同様にブランケットに塗布・不要部の除去・被印刷基板への転写を行ってガラス基板上にインキパターンを得た。こうして得られた印刷物は、乾燥不良由来のパターン欠陥はみられなかった。
【００４７】
（比較例）
インキ膜の乾燥制御を行わない印刷機を用いた他は実施例１と同様に凸版反転オフセット印刷用凸版を製造し、印刷物の製造までを行った。得られた印刷物について、導電性パターンを光学顕微鏡で観察したところ、乾燥不良由来のパターン欠陥が所々にみられた。
【００４８】
以上説明したように、本発明によれば、シリンダーカバーで覆われたブランケットの閉塞空間のガス分圧を一定に保つことで、インキ膜の乾燥を制御することができるため、印刷工程におけるインキ膜の乾燥状態の不均一を防いで、高精細かつ欠陥の少ない印刷物を製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【００４９】
本発明の凸版反転オフセット印刷機は、高精細の印刷物を形成することができるため、薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタアレイ、カラーフィルタなどのデバイスを印刷物として製造する際に応用することができる。
【符号の説明】
【００５０】
１０、５４    凸版、除去版
１１    撥インキ処理面
１４    凸部頂部
１５    凸部側面
１６    凹部底面
２０    凸版
２７    パターン疎部
２８    パターン密部
３０    撥インキ性処理凸版
３１    凸版基材
３２    マスク
３３    マスク済みの基材
３４    レリーフ
３５    撥インキ処理
３６    撥インキ処理面（シランカップリング剤単分子膜）
５１    インキ供給手段
５２、６２    ブランケット
５３    インキ膜
５３ａ    インキ膜の要部
５３ｂ    インキ膜の不要部
５５    被印刷基板
５６    定盤
５０、１００    凸版反転オフセット印刷機
６１    シリンダー
６３    シリンダーカバー
６６    溶剤ガス供給口
６７    溶剤ガス回収口
６８    ガス分圧センサー
【図１】
2017213722.tif 000003
【図２Ａ】
2017213722.tif 000004
【図２Ｂ】
2017213722.tif 000005
【図２Ｃ】
2017213722.tif 000006
【図２Ｄ】
2017213722.tif 000007
【図３】
2017213722.tif 000008
【図４】
2017213722.tif 000009
【図５】
2017213722.tif 000010
【図６Ａ】
2017213722.tif 000011
【図６Ｂ】
2017213722.tif 000012
【図６Ｃ】
2017213722.tif 000013