(57)【要約】【課題】  異常画素を検出するための試験にかかる作業負荷を軽減することができる。【解決手段】  本発明は、放射線情報を検知する複数の画素を有した放射線撮影装置であって、前記複数の画素を含む部分領域を複数設定し、複数の部分領域のうち、画素の試験を実施する部分領域を試験領域として決定する領域決定手段と、前記試験領域に含まれる前記画素を有効化する有効化制御手段と、有効化された前記画素の出力をチェックするチェック手段と、を備える。を備える。【選択図】  図３
2017213296.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線情報を検知する複数の画素を有した放射線撮影装置であって、
前記複数の画素を含む部分領域を複数設定し、複数の部分領域のうち、画素の試験を実施する部分領域を試験領域として決定する領域決定手段と、
前記試験領域に含まれる前記画素を有効化する有効化制御手段と、
有効化された前記画素の出力をチェックするチェック手段と、
を備えることを特徴とする放射線撮影装置。
【請求項２】
前記領域決定手段は、前記チェックの結果に応じて、前記画素を含む部分領域に前記試験領域をさらに分割し、さらに分割された複数の前記部分領域のうち前記試験を実施する部分領域を試験領域として決定することを特徴とする請求項１に記載の放射線撮影装置。
【請求項３】
前記領域決定手段は、前記部分領域のうち前記試験が未実施である前記部分領域を前記試験領域として決定することを特徴とする請求項１又は２に記載の放射線撮影装置。
【請求項４】
前記領域決定手段は、独立して動作する前記画素を含む部分領域にまで前記対象領域又は前記試験領域を分割することを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項５】
前記画素は、ＡＥＣ画素であって、
ＡＥＣ検知により前記画素のＡＥＣ信号を出力する出力手段と、
前記ＡＥＣ信号に基づいて画像画素データを収集するデータ収集手段とを備え、
前記チェック手段は、前記画像画素データを所定の期待値と比較することにより、前記画素の出力をチェックすることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項６】
前記チェックの結果を前記チェックの時間情報とともに記録する画素管理手段を備えることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項７】
前記チェックの結果の履歴を管理する前記画素管理部を備え、
前記領域決定部は、前記履歴に基づいて前記試験領域を決定することを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項８】
前記領域決定手段は、前記試験の試験最終時間が最も古い前記画素が最も多い前記部分領域を前記試験領域として決定することを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項９】
前記領域決定手段は、所定の数の前記画素を含む部分領域にまで前記対象領域又は前記試験領域を分割することを特徴とする請求項８に記載の放射線撮影装置。
【請求項１０】
前記領域決定手段は、前記部分領域の中心から所定の範囲内に前記画素が存在するまで前記対象領域又は前記試験領域を分割することを特徴とする請求項８に記載の放射線撮影装置。
【請求項１１】
対象領域の放射線情報を検知する複数の画素を試験する放射線撮影システムであって、
前記画素を含む部分領域に前記対象領域を分割し、複数の部分領域のうち前記試験を実施する部分領域を試験領域として決定する領域決定手段と、
前記試験領域に含まれる前記画素を有効化する有効化制御手段と、
有効化された前記画素に放射線を照射する放射線発生手段と、
有効化された前記画素の出力をチェックするチェック手段と、
を備えることを特徴とする放射線撮影システム。
【請求項１２】
対象領域の放射線情報を検知する複数の画素を試験する放射線撮影方法であって、
前記画素を含む部分領域に前記対象領域を分割し、複数の部分領域のうち前記試験を実施する部分領域を試験領域として決定する工程と、
前記試験領域に含まれる前記画素を有効化する工程と、
有効化された前記画素の出力をチェックする工程と、
を備えることを特徴とする放射線撮影方法。
【請求項１３】
コンピュータを請求項１乃至１０の何れか１項に記載の放射線撮影装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射線撮影装置、放射線撮影システム、放射線撮影方法、及びプログラムに関し、特に、自動露出制御の検知画素を試験する放射線撮影装置、放射線撮影システム、放射線撮影方法、及びプログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
放射線を電荷に変換する変換素子や薄膜トランジスタなどのスイッチ素子と、配線が設けられた画素アレイと、走査回路や読出回路とを組み合わせた検出装置が、放射線２次元検出装置として広く利用されている。近年、検出装置の多機能化の１つとして、自動露出制御（Ａｕｔｏｍａｔｉｃ  Ｅｘｐｏｓｕｒｅ  Ｃｏｎｔｒｏｌ：ＡＥＣ）機能の内蔵が検討されている。
【０００３】
これは、検出装置において種々の放射線情報（例えば、放射線源から放射線が照射される照射開始のタイミング、放射線の照射が停止される停止タイミング、及び放射線の瞬間照射量や積算照射量など）の取得を可能とするものである。また、この機能により積算照射量を監視し、積算照射量が適正量に達した時点で検出装置が放射線源を制御し照射を終了させることも可能となる。
【０００４】
特許文献１には、ＡＥＣ試験時のエラーをＡＥＣの感度の影響かそれ以外の影響かを判別する技術が開示されている。また、特許文献２には、ＡＥＣ画素を大ブロック小ブロックで分割したうえで、ＡＥＣ画素を好適に選択決定する技術が開示されている。
【０００５】
また、非特許文献１には、医用画像部門における品質維持の評価及び日常試験方法についてのガイドラインが示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第４８７５５２３号公報
【特許文献２】特開２０１４−５２１９１号公報
【非特許文献１】「ＪＩＳハンドブック２０１１  放射線（能）」，ＪＩＳ  Ｚ  ４７５２−３−１：２００４，日本規格協会
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ＡＥＣ機能を内蔵した検出装置において、自動露出制御画素（ＡＥＣ画素）の有効無効を自由に切り替えて放射線を検知する。この場合、ＡＥＣ機能の受け入れ試験や日常試験を実施する際には、ＡＥＣ画素の組み合わせの最小単位に対して放射線の照射を伴う試験をしておく必要があり、ＡＥＣ画素の数によっては試験にかかる作業負荷が高いものとなる。
【０００８】
また、ＡＥＣ画素に異常画素がある場合、どのＡＥＣ画素が異常であるかを特定する作業負荷も高い。そこで、本発明は、異常画素を検出するための操作を軽減する放射線撮影装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、放射線情報を検知する複数の画素を有した放射線撮影装置であって、前記複数の画素を含む部分領域を複数設定し、複数の部分領域のうち、画素の試験を実施する部分領域を試験領域として決定する領域決定手段と、前記試験領域に含まれる前記画素を有効化する有効化制御手段と、有効化された前記画素の出力をチェックするチェック手段と、を備える。
【発明の効果】
【００１０】
本発明により、受け入れ試験や日常試験の際に異常画素があると検出された場合にどの画素に異常があるのかを確認することができるようになる。この結果、異常画素を検出するための試験にかかる作業負荷を軽減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】検出装置の断面の一例を示した図である。
【図２】検出装置の等価回路図の一例を示した図である。
【図３】放射線撮影システムの構成の一例を示すブロック図である。
【図４】第１の実施形態に係る放射線撮影装置の処理の一例を示すフローチャートである。
【図５】対象領域を部分領域に分割することを説明する図である。
【図６】第１の実施形態に係る放射線撮影装置の処理の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明の概要を示す。図１（ａ）及び（ｂ）は、検出装置全体の断面模式図である。検出装置は、対象領域の放射線情報を検知する複数の画素（検知画素）を試験する放射線撮影装置である。
【００１３】
図１（ａ）において、放射線源１は、被写体２に向かってＸ線３を放射する。検出装置４は、基板１００上に２次元行列状に配列された複数の変換素子１２を有している。検出装置４と対向してシンチレータ１９０が配置され、シンチレータ１９０は、Ｘ線の強度に応じて異なる強度の可視光を放つ。光電変換により、各変換素子には各点における光強度に応じて異なる量の信号が蓄積される。これを後述の方法で読み出すことで、Ｘ線画像を形成する。
【００１４】
図２は、検出装置４の模式的等価回路図である。撮影領域９０には、通常画素１１及び検知画素１１１が、２次元行列的に配置されている。以下、通常画素及び検知画素をあわせて画素と呼ぶものとする。
【００１５】
検出装置４は、１０００個×１０００個から３０００個×３０００個程度の画素を有するが、図２（ａ）に示すように、本実施形態では簡単のために１２個×１２個の画素を有するとする。通常画素１１は、診断に用いられる２次元画像を構成するために、撮影領域９０全体にわたって配列されている。図２（ｂ）に示すように、通常画素１１は、変換素子１２とスイッチ素子１３とを含む。
【００１６】
変換素子１２は、バイアス配線１９によってバイアス電源５０に接続され、変換素子１２が光電変換動作を行うための電圧が印加される。信号配線１６は、列方向に複数配置され、複数の画素のスイッチ素子のソース電極に共通に接続される。制御配線１５は、行方向に複数配置され、複数の画素のスイッチ素子のゲート電極に共通に接続される。制御配線１５は走査回路２０に接続され、信号配線１６は読出回路３０に接続される。
【００１７】
スイッチ素子１３が導通状態となると、画素の変換素子１２の信号が、信号配線１６を通じて読出回路３０で読み出される。検知画素１１１は、照射情報（放射線の照射開始情報、照射終了情報、瞬間照射量、及び積算照射量など）を取得するために設けられている。本実施形態では、１２×１２画素中に９個の検知画素１１１が含まれている。
【００１８】
図２（ｃ）に示すように、検知画素１１１は、変換素子１２１とスイッチ素子１３１とを含む。変換素子１２１は、バイアス配線１９によってバイアス電源５０に接続され、光電変換動作を行うための電圧が印加される。検知配線１６１は、検知画素１１１のスイッチ素子１３１のソース電極に共通に接続される。本実施形態では、検知画素１１１が、１本の検知配線１６１に３個ずつ接続されている。
【００１９】
制御配線１５の代わりに、検知画素用の制御配線４１１が、検知画素のスイッチ素子のゲート電極に共通に接続される。走査回路２０、読出回路３０、検知画素用の走査回路４１、及び検知画素用の読出回路４０は、制御部４９に接続されている。制御部４９は、これらの回路を制御し、種々の動作を行わせる。バイアス配線１９に所定の電圧を印加した状態で、検知画素用の制御配線４１１を１本ずつ駆動させることで、検知配線１６１に検知画素１１１の信号が読み出される。
【００２０】
各検知配線１６１に接続された複数の検知画素用の制御配線４１１が互いに電気的に接続されていない。それにより、１本の検知配線１６１に接続された複数の検知画素１１１を個別に駆動でき、検知画素１１１の自由な組み合わせで検知信号を読み出すことができる。
【００２１】
また、制御部４９は、検知画素用の読出回路４０からの照射情報を一時的に保持し、照射情報を用いた種々の演算や、照射情報に基づく種々の判断を行う。例えば、制御部４９は、放射線源１から放射線３が照射される照射開始のタイミングの判断、放射線３の照射が停止される停止タイミングの判断、放射線の瞬間照射量の判断、及び放射線の積算照射量の判断などを行うことができる。
【００２２】
さらに、制御部４９は、放射線源１と有線または無線で電気的に接続され、放射線源１の開始・停止信号を受け取ったり、後述するように放射線源１に対して放射線照射開始又は停止を制御したりできるようにしてもよい。なお、図２では、読出回路３０と検知画素用の読出回路４０を別の回路で示したが、これらは一体形成されてもよい。
【００２３】
（第１の実施形態）
本発明の第１の実施形態について説明する。本実施形態では、上記の検出装置４の受け入れ試験や日常試験において異常画素を検出するための手段を、図３及び図４を用いて説明する。図３は、本実施形態に係る放射線撮影装置を含む放射線撮影システムの構成の一例を示すブロック図である。図４は、本実施形態に係る放射線撮影装置の処理の一例を示すフローチャートである。
【００２４】
上記と共通する部分の説明は省略する。放射線撮影装置は、放射線情報を検知する複数の画素を有する。放射線撮影装置は、対象領域の放射線情報を検知する複数の画素（検知画素）を試験する。本実施形態では、画素（検知画素）は自動露出制御画素（ＡＥＣ画素）である。
【００２５】
放射線撮影装置は、試験開始指示部３０１、領域決定部３０２、有効化制御部３０３、出力部３０４、Ｘ線発生部（放射線発生部）３０５、データ収集部３０６、チェック部３０７、及び画素管理部３０８を備える。領域決定部３０２は、複数の画素を含む部分領域を複数設定し、複数の部分領域のうち、画素の試験を実施する部分領域を試験領域として決定する。有効化制御部３０３は、試験領域に含まれる画素を有効化する。チェック部３０７は、有効化された画素の出力をチェックする。
【００２６】
ステップＳ４０１において、試験開始指示部３０１は、異常画素を検出するための試験（異常画素検出試験）の開始を指示する。例えば、異常画素検出試験を開始するためのボタンなどが選択されることで、異常画素検出試験の開始が指示されてもよいし、検出装置４のキャリブレーションをすることで、異常画素検出試験の開始が指示されてもよい。また、通常撮影において画像に異常を検知した場合に異常画素検出試験の開始が指示されてもよい。異常画素検出試験の開始が指示されると、異常画素検知フローが開始される。
【００２７】
ステップＳ４０２において、ＡＥＣ画素（検知画素）を全て有効にするように、検知画素用の操作回路４１及び検知画素用の読出回路４０が制御部４９により制御される。領域決定部３０２が、ＡＥＣ画素の全てを試験領域として決定し、有効化制御部３０３が、ＡＥＣ画素の全てを有効化する。
【００２８】
ステップＳ４０３において、Ｘ線発生装置（放射線発生部）３０５が有効化されたＡＥＣ画素に放射線を照射する。放射線源１から照射された放射線３は検出領域９０に照射される。検知画素１１１にも放射線３が照射されるので、ＡＥＣ画素が有効に動作する。このとき、ＡＥＣ画素に何らかの異常があり、通常想定しているよりも早く自動露出制御信号を出力することがある。このように早く自動露出制御信号を出力すると、放射線源１は放射線３の照射を停止してしまう。
【００２９】
この場合、検出装置４で検出したデータに基づく放射線画像が、想定よりも少ない放射線量で画像化されることとなり、所望の画像が得られないおそれがある。そのため、想定より早く自動露出制御信号を出力するＡＥＣ画素を異常画素として特定し、対策を講ずる必要がある。
【００３０】
ステップＳ４０４において、画像出力値がチェックされる。チェック部３０７は、画像画素データを所定の期待値と比較することにより、ＡＥＣ画素の出力をチェックする。ここで、非特許文献１によれば、撮影された画像は、撮影用フイルムの現像後、濃度計で撮影用フイルムの指定した部分の光学的濃度が使用者の期待に合うようにならなければならない。通常画素１１により撮像された画像データが使用者の期待に合うような値（期待値）であるかを確認する。
【００３１】
ただし、フイルムに現像せずとも、画像データの値により検証可能である。ＩＨＥ（Ｉｎｔｅｇｒａｔｉｎｇ  ｔｈｅ  Ｈｅａｌｔｈｃａｒｅ  Ｅｎｔｅｒｐｒｉｓｅ）のテクニカルフレームワークのＣＰＩ（Ｃｏｎｓｉｓｔｅｎｔ  Ｐｒｅｓｅｎｔａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｉｍａｇｅ）などにも規定されている通り、画像データと表示の一貫性が保たれている。
【００３２】
例えば、自動露出制御した結果の画像では、規定の体圧を模したファントムを被検体とした放射線撮影において、画素値が２０００〜３０００の間にあることなどのように、期待値を設定することができる。したがって、ステップＳ４０４において、画像出力値を判定した結果が期待値通りであれば、異常画素はないと判断され、本処理フローが終了する。画像出力値を判定した結果が期待値と異なる場合は、ステップＳ４の処理フローが実施される。
【００３３】
ステップＳ４は、領域決定部３０２により開始され、本処理フローで再帰的に呼び出されることを表す。この処理が開始されると、ステップＳ４０５の処理が実施される。
【００３４】
ステップＳ４０５で対象としている撮影領域９０の部分領域が指定されて処理を実施する。このフローが初回に呼び出される場合、領域決定部３０２は、撮影領域９０全面を対象領域とするのが一般的である。
【００３５】
このステップでは、領域決定部３０２は、対象領域に対して部分領域に分割可能であるかどうかを判断する。例えば、図２の撮影領域９０の１２画素ｘ１２画素の中にＡＥＣ画素が９個存在し、１２画素ｘ１２画素を６画素（列）ｘ１２画素（行）の領域と６画素（列）ｘ１２画素（行）の領域のように左右に２分割することが可能である。左右に２分割した場合は、ＡＥＣ画素は左側の領域に６個、右側の領域に３個存在する形で分割されることになる。
【００３６】
図５は、撮影領域９０を部分領域に分割することを説明する図である。撮影領域９０は撮影領域６０１で表され、ＡＥＣ画素は画素６０２で表される。１２画素ｘ１２画素の撮影領域６０１は、中央線６０３を境に左右に分割することができる。左右に２分割したのは一例であり、領域の分割方法は公知の技術により自由に分割することが可能である。本実施形態では、図５に示すように、撮影領域６０１は４つの部分領域６０４，６０５，６０６，６０７に分割される。
【００３７】
ただし、分割する際にはＡＥＣ画素６０２を含む領域を分割することが重要であり、ＡＥＣ画素６０２のない領域を分割してもこの場合は意味がない。そのため、領域決定部３０２は、ＡＥＣ画素６０２を含む最小単位に分割できるかを判断するものである。
【００３８】
なお、場合によっては、各ＡＥＣ画素が独立して動作できずに、グループで動作する場合がある。制御配線１５や制御部４９の製造方法によっては、ラインごとに読み出し可能であるが、画素ごとには読み出しできないような場合もある。この場合は、領域決定部３０２は、各ラインに包含されるＡＥＣ画素６０２の組み合わせを１つのグループとして認識する。領域決定部３０２は、そのグループを包含した形で、領域の分割が可能であるかどうかを判別する。
【００３９】
例えば、公知の４分木分割をした場合、撮影領域６０１は４つの部分領域６０４，６０５，６０６，６０７に分割される。部分領域６０４には、ＡＥＣ画素６０２が２つ包含され、部分領域６０５にはＡＥＣ画素６０２が１つ包含され、部分領域６０６にはＡＥＣ画素６０２が４つ包含される。
【００４０】
さらに、部分領域６０６を４分木分割すると、部分領域６０８，６０９，６１０，６１１に分割される。それぞれの部分領域６０８，６０９，６１０，６１１にはＡＥＣ画素６０２が１つ包含される。このＡＥＣ画素が個別に動作可能であれば、部分領域６０８，６０９，６１０，６１１が最小単位となる。
【００４１】
後述するステップＳ４１０で画像出力値が期待値と異なると判定された場合、ステップＳ４が再帰的に呼び出される。部分領域への分割とＡＥＣ画素のチェックが繰り返されることにより、領域決定部３０２は、独立して動作するＡＥＣ画素を含む部分領域（最小単位）にまで対象領域又は試験領域を分割する。
【００４２】
ステップＳ４０４もしくは後述するステップＳ４１０で画像出力値が期待値と異なると判定され、ステップＳ４０５で部分領域（最小単位）に分割できない場合、ステップＳ４０７へ進む。ステップＳ４０７では、対象領域に含まれるＡＥＣ画素による動作が不良であるので、その対象領域に含まれるＡＥＣ画素を不良と判定する。
【００４３】
ステップＳ４０４もしくは後述するステップＳ４１０で画像出力値が期待値と異なると判定され、ステップＳ４０５で部分領域に分割できる場合、ステップＳ４０６へ進む。ステップＳ４０６では、領域決定部３０２が、ＡＥＣ画素を含む部分領域に対象領域を分割する。本実施形態では、ステップＳ４０５でＡＥＣ画素６０２が駆動できる最小単位に分割可能であると判別されたので、対象領域を部分領域に分割する。
【００４４】
ステップＳ４０８では、領域決定部３０２が、複数の部分領域のうち試験を実施する部分領域を試験領域として決定する。また、有効化制御部３０３が、試験領域に含まれるＡＥＣ画素（検知画素）を有効化する。有効化制御部３０３が、ステップＳ４０６で設定した部分領域におけるＡＥＣ画素を有効にするように制御部４９を制御する。
【００４５】
ステップＳ４０９では、有効化されたＡＥＣ画素に放射線３が照射される。放射線３の照射はステップＳ４０３と同様であるが、ステップＳ４０８ではＡＥＣ画素が限定された状態での放射線照射となる。ＡＥＣ画素の出力値が所定の値を超えると、出力部３０４は、自動露出制御検知（ＡＥＣ検知）によりＡＥＣ画素の自動露出制御信号（ＡＥＣ信号）を出力する。出力部３０４からＸ線発生装置３０５にＡＥＣ信号が出力される。
【００４６】
ステップＳ４１０では、チェック部３０７が、有効化されたＡＥＣ画素の出力をチェックする。データ収集部３０６が、ＡＥＣ信号に基づいて画像画素データを収集し、データ収集部３０６で収集された画像画素データの値を、チェック部３０７がチェックする。チェックは、ステップＳ４０４と同様である。チェック部３０７は、画像画素データを所定の期待値と比較することにより、画素の出力をチェックする。
【００４７】
画像チェックの結果が期待値と異なる場合は、チェックされた部分領域を対象領域としてステップＳ４０６に戻り、ステップＳ４のフローが再帰的に実施される。つまり、領域決定部３０２は、チェックの結果に応じて、ＡＥＣ画素を含む部分領域に試験領域をさらに分割し、さらに分割された複数の部分領域のうち試験を実施する部分領域を試験領域として決定する。この場合、領域決定部３０２は、独立して動作するＡＥＣ画素を含む部分領域にまで対象領域又は試験領域を分割する。
【００４８】
画像チェックの結果が期待値通りの結果であれば、次の部分領域の試験を判定するためにステップＳ４１１に進む。試験の結果は、画素管理部３０８で記録管理される。画素管理部３０８は、チェックの結果をチェックの時間情報とともに記録する。
【００４９】
ステップＳ４１１では、ステップＳ４０６で分割された部分領域でステップＳ４０８からステップＳ４１０までのフローを実施した領域以外の部分領域で試験の未実施の領域があるかどうかを判定する。未実施の部分領域がある場合は、その部分領域に関してステップＳ４０８からの処理が実施される。
【００５０】
領域決定部３０２は、部分領域のうち試験が未実施である部分領域を試験領域として決定する。次の試験領域の決定方法は、公知の技術でよく、例えば、公知のモートン順序などを用いて選択すればよい。図５でモートン順序を用いると、領域６０６の対象領域を部分領域６０８，６０９，６１０，６１１の順番で選択していく。
【００５１】
以上のようなフローを実施することで、１つ又は複数の異常画素を検出することが可能となる。
【００５２】
（第２の実施形態）
以下では、本発明の第２の実施形態を記す。実施形態１と共通する部分の説明は省略する。実施形態１に記載の検出装置４において、ＡＥＣ画素の日常試験を行う実施形態を図６のフローチャートを用いて説明する。
【００５３】
ステップＳ５０１において、日常試験の開始指示を行う。例えば、撮影装置の操作画面上の開始ボタンなどを押すことで処理が開始される。また、試験開始指示部３０１が、日常試験（異常画素検出試験）の開始を指示してもよい。
【００５４】
ステップＳ５０２において、日常試験の履歴情報から最終試験日のＡＥＣ画素をチェックする。日常試験は、実施履歴をデータベースなどにＡＥＣ画素と試験日を記憶しておくことで履歴管理される。画素管理部３０８が、チェックの結果の履歴を管理してもよい。
【００５５】
例えば、検出装置４の新規購入時には、最終試験日は全て同一日となっている。その後、試験を実施すると最終試験日が更新される。検出装置４のＡＥＣ画素全ての履歴情報が保持される。また、電気的に駆動可能なＡＥＣ画素の組み合わせの最小単位ごとに、日常試験が行われ、履歴管理されてもよい。
【００５６】
ステップＳ５は、本処理フローで再帰的に呼び出されることを表す。この処理が開始されると、ステップＳ５０３の処理が実施される。通常、最初に処理する場合は検出装置４の全面を対象領域として開始する。
【００５７】
ステップＳ５０３において、対象領域内に最終試験日が最も古い画素が複数存在するかどうかが判定される。通常、最初に処理する場合は、検出装置４の全面が対象領域となるため、全てのＡＥＣ画素の中で最終試験日が最も古い画素の数が調べられることになる。
【００５８】
最も古い画素が複数存在しない場合、すなわち１つの場合は、ステップＳ５０４が実行され、１つのＡＥＣ画素が試験画素として決定される。試験される画素（試験画素）を決定したら、ステップＳ５の処理フローは終了する。なお、ＡＥＣ画素の数が０の場合は、処理は終了する。このように、領域決定部３０２は、対象領域に所定の数のＡＥＣ画素を含むか否かを判定する。
【００５９】
ステップＳ５０３において、最も古い画素が複数存在すると判定された場合は、その中から試験する画素（又は、試験領域）を特定するためにステップＳ５０５が実行される。領域決定部３０２は、履歴に基づいて試験領域を決定する。後述するように、本実施形態では、領域決定部３０２は、試験の試験最終時間が最も古い画素が最も多い部分領域を試験領域として決定する。ここで、試験最終時間には、試験時間の代わりに試験日が用いられてもよい。
【００６０】
ステップＳ５０５において、対象領域の中心から所定の範囲内にＡＥＣ画素があるかどうかを確認する。最終試験日が同日のＡＥＣ画素が複数存在する場合に、対象領域の中心部を優先的に試験するためである。本実施の形態では、対象領域の中心部のＡＥＣ画素を優先的に試験するが、中心部のＡＥＣ画素を優先的に試験しない場合は、この処理ステップをスキップしてもよい。
【００６１】
対象領域の中心から所定の範囲内にＡＥＣ画素が存在する場合は、ステップＳ５０６が実行される。なお、対象領域の中心とＡＥＣ画素が数学的に完全一致している必要はなく、対象領域の中心から数画素程度の誤差を許容するようにしてもよい。
【００６２】
ステップＳ５０６において、対象領域の中心から所定の範囲内のＡＥＣ画素を試験画素（試験領域）として、ステップＳ５の処理フローは終了する。
【００６３】
ステップＳ５０７において、第１の実施形態と同様に、部分領域に分割する処理が実施される。ステップＳ５０８において、ステップＳ５０７で部分領域に分割した結果、部分領域の中で最終試験日が最も古いＡＥＣ画素が最も多い部分領域を試験領域とする。このように、領域決定部３０２は、ＡＥＣ画素を含む部分領域に対象領域を分割し、複数の部分領域のうち試験を実施する部分領域を試験領域として決定する。
【００６４】
領域決定部３０２は、試験の試験最終時間が最も古い画素が最も多い部分領域を試験領域として決定する。例えば、図５に示すように、部分領域６０４，６０５，６０６，６０７に分割した場合であって、全てのＡＥＣ画素の最終試験日が同じであると仮定する。この場合、部分領域６０６が４つのＡＥＣ画素を包含しており、ＡＥＣ画素の数が最も多いので、部分領域６０６が試験領域として決定される。部分領域６０６を対象領域としてステップＳ５のフローを再帰的に実行する。
【００６５】
ステップＳ５が再帰的に呼び出され、部分領域への分割が繰り返されることにより、試験画素が特定される。例えば、ステップＳ５０３を再帰的に繰り返すことにより、領域決定部３０２は、所定の数のＡＥＣ画素を含む部分領域にまで対象領域又は試験領域を分割する。また、ステップＳ５０５を再帰的に繰り返すことにより、領域決定部３０２は、部分領域の中心から所定の範囲内にＡＥＣ画素が存在するまで対象領域又は試験領域を分割する。
【００６６】
ステップＳ５のフローを再帰的に実行することで、試験画素が特定される。ステップＳ５０９において、特定された試験画素を有効にするために、検知画素用の走査回路４１及び検知画素用の読出回路４０が制御部４９により制御されて動作し、放射線源１が放射線３を照射する。有効化制御部３０３が、試験領域に含まれるＡＥＣ画素（検知画素）を有効化する。Ｘ線発生装置（放射線発生部）３０５が有効化されたＡＥＣ画素に放射線を照射する。
【００６７】
ステップＳ５１０において、第１の実施形態と同様に、ＡＥＣ画像の有効性を判断し、試験履歴に記録する。チェック部３０７は、画像画素データを所定の期待値と比較することにより、ＡＥＣ画素の出力をチェックする。画素管理部３０８は、チェックの結果をチェックの時間情報とともに記録する。
【００６８】
ステップＳ５１１において、他のＡＥＣ画素に対しても日常試験を継続するかどうかを判断し、処理を継続する場合はステップＳ５１０で更新した最新の日常試験履歴を用いてステップＳ５０２が実行される。継続の判断は、ユーザーの指示により判断されてもよいし、予め決められた固定数に達したか否かで判断されてもよい。
【００６９】
以上のようなフローを実施することで、部分領域ごとに優先度に応じて、１つ又は複数の異常画素を検出する日常試験を実施することが可能となる。
【００７０】
なお、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではなく、請求項に記載された範囲内において変更・変形することが可能である。
【００７１】
本発明は、上記の実施形態の機能を実現するソフトウェア（プログラム）をネットワーク又は各種記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、システム又は装置のコンピュータ（ＣＰＵやＭＰＵなど）がプログラムを読み出すことにより実行されてもよい。また、本発明は、システム又は装置のコンピュータにおける１つ以上のプロセッサーがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能であり、１以上の機能を実現する回路（例えば、ＡＳＩＣ）によっても実現可能である。
【符号の説明】
【００７２】
１  放射線源
４  検出装置
１１  通常画素
１１１  検知画素
３０１  試験開始指示部
３０２  領域決定部
３０３  有効化制御部
３０４  出力部
３０５  Ｘ線発生装置（放射線発生部）
３０６  データ収集部
３０７  チェック部
３０８  画素管理部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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