(57)【要約】【課題】複数枚のパネルから構成したパネル組品は、観測者の位置によっては、個々のパネルごとに設計とは異なる画像が見えることがあり、パネル組品全体として意図した模様が認識できなくなる場合があった。【解決手段】スリット層と位置合わせ窓を設けた基材と、画像層と位置合わせマークを設けた画像層基材とを重ね合わせて構成し、位置合わせ窓から位置合わせマークが視認できるようにしたことにより、意図した模様が認識できるパネルを提供することが可能となった。【選択図】図１
2017040067.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と画像層基材とからなるパネルであって、
基材はスリット層と位置合わせ窓とを有し、
画像層基材は画像層と位置合わせマークを有し、
前記位置合わせ窓から前記位置合わせマークが視認できるパネル。
【請求項２】
前記スリット層は略長方形の複数のスリットを有し、
前記位置あわせ窓は、前記スリットの長辺に略平行に複数配置されている請求項１に記載のパネル。
【請求項３】
前記スリット層は略長方形の複数のスリットを有し、
前記位置合わせ窓は、前記スリットの長辺に略平行に配置された略長方形の形状を有している請求項１に記載のパネル。
【請求項４】
前記位置合わせマークは複数である請求項１から３のいずれかに記載のパネル。
【請求項５】
前記スリット層は光電変換素子からなる請求項１から４のいずれかに記載のパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、建造物に配置されるパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、建築物全体に対して、条例による基準や民間の環境評価指標より、省エネルギー化の要求が強くなってきている。特に、電力全量買取制度の導入、東日本大震災以降に高まった非常用電源の需要などを背景に、建築物の屋上やトップライト、庇などに太陽光パネルを設置する例が国内外で増加している。建築物の限られたスペースをより有効に活用するため、建築物の壁面に太陽光パネルを設置することも珍しくなくなってきている。さらに、壁面だけでなく、従来ガラスを嵌め込んだ窓の部分に、発電と採光と遮熱の機能を同時に得られる透光型の太陽電池パネルを設置することも提案されている。
【０００３】
また、防汚、空気清浄、消臭等の機能性や、意匠性の観点から様々な壁材が検討されている。意匠性という観点からみると、優れた意匠性を有した壁材であっても、長期間にわたりに日常的に目にしていると、次第に新鮮味を失い飽きてしまうという一面がある。飽きにくくさせる方法として、壁材の模様を変化させるという方法がある。例えば、スリットを有する層とスリットに対応する位置にある複数の帯状の画像層とを組み合わせることにより、観察する位置が変化すると視認できる模様が変化する技術が、スリットアニメーションの名称で知られている。
【０００４】
図１７に、特許文献１（特開２０００−２４８７１６号）に開示された建築用タイル及びパネル材の例を示す。透明の板状の基材層１１１と、基材層１１１の一方の表面に形成された互いに平行な複数のスリット１２１からなるスリット層１１２と、１つのスリットに対して複数の帯状の画像からなる画像層１１３とを有している。このような構造とすることで、観察者の位置に応じて模様又は装飾の内容が変化し、新鮮さが長く持続し長期にわたって飽きのこない建築用タイルを提供することが可能となる旨が開示されている。
【０００５】
また、特許文献１には、上記建築用タイルを複数枚用い、隣合う建築用タイルがそれぞれの端縁において、接着剤、結着材、又はシール材などで接合されることによって、１枚に形成されたパネル材も開示されている。このパネル材は、画像層の配置が異なる建築用タイル１を配置することによって、全体として模様が描かれることとなる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−２４８７１６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、複数枚の建築用タイル（本明細書におけるパネル）から構成したパネル材（本明細書におけるパネル組品）は、観測者の位置によっては、個々の建築用タイルごとに当初設計とは異なる画像が見えることがあり、パネル材全体として意図した模様が見えなくなる場合があった。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に関わるパネルは、基材と画像層基材とからなるパネルであって、基材はスリット層と位置合わせ窓とを有し、画像層基材は画像層と位置合わせマークを有し、位置合わせ窓から位置合わせマークが視認できることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、複数のパネルを配置した場合においても、パネル組品として意図した模様が見えるパネルを提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の第１の実施の形態であるパネルの模式的な斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態であるパネルの模式的な断面図である。
【図３】本発明の第２の実施の形態であるパネルの模式的な斜視図である。
【図４】本発明の第２の実施の形態別の例を示すパネルの模式的な斜視図である。
【図５】本発明の第３の実施の形態の別の例を示すパネルの模式的な斜視図である。
【図６】本発明の第４の実施の形態であるパネルの模式的な斜視図である。
【図７】本発明の第５の実施の形態であるパネルの模式的な斜視図である。
【図８】本発明の第６の実施の形態であるパネルの模式的な斜視図である。
【図９】本発明の第６の実施の形態であるパネルの模式的な斜視図である。
【図１０】本発明の第６の実施の形態であるパネルの模式的な斜視図である。
【図１１】本発明の第７の実施の形態であるパネルの模式的な断面図である。
【図１２】本発明の第７の実施の形態であるパネルの模式的な断面図である。
【図１３】本発明の第７の実施の形態であるパネルの製造方法を示すフロー図である。
【図１４】本発明の第８の実施の形態であるパネルの一部の模式的な斜視図である。
【図１５】本発明の第８の実施の形態であるパネルの一部の模式的な断面図である。
【図１６】本発明の第８の実施の形態であるパネル組品の模式的な斜視図である。
【図１７】従来の建築用タイルの下方からみた端面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。以下の説明では同一の部品には同一の符号を付してある。それらの名称および機能も同じである。したがって、それらについて詳細な説明は繰り返さない。
【００１２】
［実施の形態１］
図１は、本実施形態のパネルの概略を示す斜視図であり、図２は図１におけるＡ−Ａ´の概略断面図である。パネル１０は、基材１１上に設けられたスリット層１２及び位置合わせ窓１３と、画像層基材１６上に設けられた画像層１４及び位置合わせマーク１５とからなる。
【００１３】
基材１１として、厚さ約３ｍｍのガラス板を用いた。基材の材料は、ガラスに限定されるものではなく、アクリル樹脂、ＰＥＴ樹脂等の樹脂板を用いてもよい。基材としては、透光性と、スリット層を支持するための剛性とを有する材料が望ましい。
【００１４】
スリット層１２は、複数の略長方形のスリットが等間隔に並んだ層である。本実施形態においては、幅約５ｍｍのスリット１２１を１０ｍｍの等間隔で複数配置した。スリット層１２を構成するスリット１２１の厚さは、約０．５ｍｍである。本実施形態のスリットの幅、間隔、厚さは一例であり、パネルの大きさや模様の精度等により適当な値とすることができる。スリット層１２は、スクリーン印刷により、スリットパターンを基材１１に描き焼成する方法により形成した。スリットパターンが描かれた接着剤付きシートを基材１１に貼り付ける方法を用いることもできる。
【００１５】
位置合わせ窓１３は、基材１１の端面から約２０ｍｍ離れた場所に配置された、スリット層１２の形成されていない略長方形の領域である。長方形の短辺は約１０ｍｍ、長辺は約５００ｍｍとした。位置合わせ窓１３の長辺の長さはスリット１２１の長さとほぼ同であり、スリット層及び基材１１の端面と略平行に配置した。位置合わせ窓１３は、スリット層をスクリーン印刷で形成する際に、スリット１２１と同時に形成した。
【００１６】
画像層１４は、ＰＥＴ樹脂シートに画像を直接印刷し、焼成することにより形成した。画像層１４は、複数の帯状の模様からなる。これらの帯状の模様は、基材１１上に形成されたスリット層１２と画像を重ねあわせた際に、スリット１２１を通して視認できる位置に形成されている。ＰＥＴ樹脂シートに限定されるものではなく、建築用ボードに直接印刷することにより形成することもできる。画像層１４の一部として、位置合わせマーク１５を形成した。位置合わせマーク１５は、位置合わせ窓１３を介して視認できる位置に形成した。位置合わせ窓１３と位置合わせマーク１５との位置合わせを行うことで、スリット１２１と画像層１４の精度の高い位置合わせが可能となった。位置合わせ窓１３はスリット１２１と略平行に形成されており、位置合わせマーク１５に略平行に帯状の画像が形成されている。よって、位置合わせ窓１１３と位置合わせマーク１５の長さ方向に平行に位置合わせを行うことにより、精度のよい位置合わせが可能となった。
【００１７】
本実施の形態においては、位置合わせマーク１５を画像層１４と同時に印刷することにより、形成した。
【００１８】
［実施の形態２］
図３は、本実施の形態のパネルを示す斜視図である。実施の形態１と異なる点は、位置合わせ窓の形状である。
【００１９】
図３に示すように、略円形状の位置合わせ窓２３を配置した。位置合わせ窓は、パネルの1辺の両端近くに２個配置した。
【００２０】
パネルの光入射側から、スリット層を通し視認できる像のずれをおさえるためには、スリットと画像とを平行に配置することが最も重要である。スリットと画像はＺ方向に長さを持っているので、Ｚ方向に平行に位置決めを行うことが必要であり、位置合わせ窓２５は、Ｚ方向の両端に配置することが望ましい。
【００２１】
本実施形態においては、２個の略円形状の位置合わせ窓２３と１個の略長方形の位置合わせマーク２５とを使用している。図３におけるＢの部分の拡大図に、位置合わせ窓２３と位置合わせマーク２５との位置関係を示す。位置合わせマーク２５の幅を７ｍｍとし、位置合わせ窓２３の直径を約１０ｍｍとした。位置合わせ窓２３の直径より、位置合わせマーク２５の幅が小さくなるように設計することにより、位置合わせが行いやすくなった。位置ずれを視認しやすくなったためである。
【００２２】
位置合わせ窓２３及び位置合わせマーク２５は、画像面積を増やすために、パネル２０の周縁部に配置することが望ましい。本実施形態においては、端面から約１５ｍｍの場所に、位置合わせ窓２３の中心がくるように配置した。パネルの大きさにもよるが、作業性等を考慮すると、パネルの端面から１０から５０ｍｍ程度離れたところに配置することが望ましい。
【００２３】
位置合わせ窓の数は２個に限る必要はなく、３個以上あっても良いことはいうまでもない。
数が多い方が位置合わせ精度を上げることができる。また、パネルの面積を大きくした場合でも、位置合わせ窓の数が３個以上あれば、作業性をあげることができる。視認作業を行いやすい位置にある少なくとも２つの位置合わせ窓を選び、位置合わせを行うことができるためである。
【００２４】
図４は、本実施形態の別の例を示したものである。略円形状の位置合わせ窓２３１と位置合わせマーク２５１とを、パネルの1辺の両端近くに各２個配置した。位置合わせ窓２３１と位置合わせマーク２５１の形と面積、配置場所が同じとなるように設計した。このような設計とすることにより、位置ずれの有無をより簡単に判断することが可能となった。
【００２５】
［実施の形態３］
図５は、本実施の形態のパネルを示す斜視図である。実施の形態２と異なる点は、位置合わせマークの数と配置である。
【００２６】
図５に示すように、位置合わせマーク３５をパネル３０の対向する１組の端に沿って配置した。位置合わせマーク３５は、Ｙ軸方向に長い略長方形の形状であり、画像層を構成する長方形と略平行に配置した。
【００２７】
位置合わせ窓３３は、各位置合わせマーク３５が視認できる位置に１個ずつ計２個を配置した。このように位置合わせ窓を配置することで、位置ずれの有無を視認することができる。
【００２８】
図６、図７は、本実施形態の別の例を示したものである。図６（ａ）に示すように、位置合わせマーク３５１をパネルの対向する１組の端面に沿って配置し、位置合わせ窓３３１をパネルの対向する１組の角部の周辺に配置した。また、図６（ｂ）に示すように、位置合わせマーク３５２をパネルの対向する１組の端面に沿って配置し、位置合わせ窓３３２をそれぞれの位置合わせマーク３５２の両端に配置した。図７（ａ）に示すように、位置合わせマーク３５３をパネルの対向する１組の端面に沿って２個配置し、位置合わせ窓３３３を一方の位置合わせマーク３５３には１個、他方の位置合わせマーク３５３には２個配置した。図７（ｂ）に示すように、位置合わせマーク３５４をパネルの対向する１組の端面に沿って２個配置し、位置合わせ窓３３４を各位置合わせマーク３５４に３個ずつ配置した。図６、図７を用いて、位置合わせ窓の数と配置箇所を変えた例を示したが、これらの例に限定されるものではない。例えば、１個の位置合わせマークに対し、４個以上の位置合わせ窓を配置しても良いことはいうまでもない。
【００２９】
実施の形態２と比較して、位置合わせマークを対向する１組の端面に沿って配置したことにより、視認の際の位置決め窓の選択の自由度がより高くなった。よって、大面積のパネルについても、位置ずれの有無を判断する視認の作業性をより向上させることができた。
【００３０】
［実施の形態４］
図８は、本実施の形態のパネルを示す斜視図である。第１の実施形態と異なる点は、位置合わせ窓の形状と数である。
【００３１】
図８に示すように、パネル４０を構成する基材上に、スリット層とＺ方向に長い略長方形の位置合わせ窓４３１と、Ｘ方向に長い略長方形の位置合わせ窓４３２とを配置した。位置合わせ窓４３１は、スリット層に平行に形成された窓であり、位置合わせ窓４３２は、スリット層に垂直な方向に延びるように形成された窓である。また、画像層基材上に、複数の略長方形の画像層と1個の位置合わせマーク４５とを配置した。位置合わせマーク４５は、位置合わせ窓４３１から視認できる位置に配置した。しかしながら、位置合わせ窓４３２から、位置合わせマークは視認できない。代わって、複数の略長方形の画像層が視認できることになる。位置合わせ窓４３２から、複数の画像層が視認できることにより、位置ずれがおきているかどうかを確認することができる。
【００３２】
複数の画像層で位置ずれの有無を判断することにより、位置合わせの精度をより高くすることが可能となった。
【００３３】
［実施の形態５］
図９は、本実施の形態のパネルを示す斜視図である。第１の実施形態と異なる点は、位置合わせ窓の形状と配置である。
【００３４】
図９に示すように、パネル５０を構成する基材上に、スリット層とＹ方向に長い略長方形の位置合わせ窓５３１と略円状の位置合わせ窓５３２とを配置した。また、パネル５０を構成する画像層基材上に複数の略長方形の画像層と1個の位置合わせマーク５５とを配置した。このような配置とすることにより、位置合わせの精度をよりあげることが可能となった。
【００３５】
本実施形態においては、位置合わせ窓５３２を角部に配置したが、パネルの一辺の中央付近に配置しても良い。また、略円形の位置合わせ窓５３２は1個に限定されるものではなく、複数個配置しても良いことはいうまでもない。
【００３６】
［実施の形態６］
図１０は、本実施の形態のパネルを示す斜視図である。実施の形態３と異なる点は、位置合わせ窓の形状である。
【００３７】
図１０に示すように、パネル６０を構成する基材上にスリット層と略三角形の位置合わせ窓６３１と６３２とを配置した。また、パネル６０を構成する画像層基材上に、画像層と略長方形の２個の位置合わせマーク６３２とを配置した。図１０のＣの部分の拡大図に示したように、
位置合わせ窓６３１を略三角形とすることで、略円形状の場合と比較して、位置ずれの有無を視認しやすくなる。
【００３８】
位置合わせ窓の形状は、略円形状、略三角形に限られるものではなく、四角形、五角形、六角形、十字型、丁字形、米型、星型等でもよい。
【００３９】
また、略円形と略三角形等の異なる形状の位置合わせ窓を組合せても良い。２つの位置合わせ窓の形状を変えることにより、基材上に形成したスリット層が対称な形状となっていない場合であっても、画像層との位置合わせの方向を容易に合わせることが可能となり、作業性を向上させることができる。また、意匠性をあげるという副次的な効果も期待できる。
【００４０】
［実施の形態７］
図１１は、本実施の形態のパネルを示す断面模式図であり、実施の形態１における図２に該当する図である。第１の実施の形態と異なる点は、スリット層として光電変換素子層を用いた点である。
【００４１】
パネル７０は、基材７１、スリット層７２、位置合わせ窓７３、画像層７４、位置合わせマーク７５、画像層基材７６、封止樹脂層７７、表面保護材７８とからなる。スリット層７２には、複数のスリット７２１が形成されている。封止樹脂層７７としてハイミラン樹脂を用い、表面保護材７８としてガラスを用いた。封止樹脂層７７、表面保護材７８ともにこれらに限定されるものではなく、可視光領域において高い透過性を確保できればよい。表面保護材７８側から、位置合わせマーク７５を視認できるようにすると同時に、スリット層７２を構成する光電変換素子層への十分な光量が確保できればよいからである。
【００４２】
図１２は、パネル７０を構成する基材１１、光電変換素子層からなるスリット層７２、位置合わせ窓７３、封止樹脂層７７、表面保護材７８を示す断面模式図である。スリット層７２のスリット７２１は、透明電極層７２２、光電変換素子層７２３、裏面電極層７２４の３層からなる光電変換素子層が形成されていない部分と言い換えることができる。このような構造とすることにより、光電変換素子層で生成された電力を取出すことができる。よって、本実施の形態のパネルは、精度よい画像を視認できるパネルであり、かつ発電装置でもある。
【００４３】
基材７１として、厚さ３ｍｍのガラス板を用いた。スリット層７２を構成する光電変換素子は、シリコン系薄膜を積層し、電極で挟みこんだ構造を有している。光電変換素子層７２３として、水素化アモルファスシリコンから成る層と微結晶シリコンから成る２接合薄膜太陽電池を用いた。透明電極層７２２として、ＣＶＤ法を用いていて形成した酸化亜鉛（ＺｎＯ）膜を用いた。酸化亜鉛膜に限定されるものではなく、Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ（ＩＴＯ）、酸化錫（ＳｎＯ２）等の透明電極層を用いても良い。単層膜ではなく積層膜でも良いことはいうまでもない。裏面電極層７２４として、酸化亜鉛と銀とのスパッタリング法を用いて形成した積層膜を用いた。スリット層７２の厚さは約３μｍである。
【００４４】
透明電極層７２２は第１素子分離溝７２５によって分離され、光電変換素子層７２３は第２素子分離溝７２６によって分離され、裏面電極層７２４は第３素子分離溝７２１によって分離されている。このような構造とすることにより、単位光電変換素子を直列に接続している。
【００４５】
次に、本実施の形態のパネルの製造方法について説明する。
【００４６】
基板７１上に、スリット層７２と位置合わせ窓７３とを形成する。位置合わせ窓７３は、スリット層７２と略平行な略長方形であり、スリット層７２と位置あわせマーク７３は同時に形成することができる。スリット層７２と位置合わせ窓７３を形成する工程については、この後詳細に説明する。その後、スリット層７２を構成する光電変換素子で発電した電力を取出すために、取出し電極、端子をつける（図は省略）。その後、封止樹脂７７、表面保護材７８の順で重ね、加熱加圧することにより一体化する。
【００４７】
画像層基材上に画像層７４と位置合わせマーク７５を作成した。位置合わせマーク７５は、画像層と略平行の略長方形となるように形成した。
【００４８】
位置合わせ窓７３を通して、位置合わせマーク７５を視認することにより、位置合わせを行った。２次元の位置が決まるので精度良く位置合わせをすることができる。
【００４９】
図１３に、本実施形態のスリット層と位置合わせ窓との製造方法を表すフロー図を示す。まず、透明電極層形成工程Ｓ１（Ｓはステップを示す。以下同様）で、基板７１上に透明電極層７２２として、化学気相成長（ＣＶＤ法）により酸化錫を形成した。透明電極層は、スパッタリング法、ＣＶＤ法、電子ビーム蒸着法、ゾルゲル法、スプレー法および電析法等のいずれかの方法を用いて形成してもよい。
【００５０】
次に、第１素子分離溝形成工程Ｓ２で、基板７１上に形成した透明電極層７２２をレーザで分離した。レーザは透明電極層７２２側ではなく、基板７１側から入射した。レーザ波長は、ＹＡＧ１０６４ｎｍ（以下、ＩＲレーザ）が望ましい。ＩＲレーザは、透明電極層７２２で吸収される。透明電極層７２２が発熱することによってアブレーションが生じ、透明電極層７２２の一部が除去され溝が形成される。本実施形態においては、ＩＲレーザの発振周波数が２５ｋＨｚ、走査速度が６００ｍｍ／秒、レーザ出力１４Ｗの加工条件で第１素子分離溝を形成した。透明電極層７２２の膜質、膜厚等にもよるが、ＩＲレーザの発振周波数として５ｋＨｚ〜３０ｋＨｚ、加工速度として５０ｍｍ／秒〜１０００ｍｍ／秒が典型的に用いられる。レーザ出力は、パルス出力状態の平均パワーによって決定され、８〜１５Ｗ程度が適当である。
【００５１】
次に、光電変換素子層形成工程Ｓ３において、シリコン系の薄膜を積層した光電変換素子層７２３を形成した。光電変換素子層７２３を形成する際に使用する材料ガスとしては、シラン（ＳｉＨ４）ガスおよびジシラン（Ｓｉ２Ｈ６）ガス等のシリコン原子を含むガスであれば特に限定されない。ｐ型半導体層およびｎ型半導体層の形成時には、シリコン原子を含むガスおよび希釈ガスとともにドーピングガスを使用する。このドーピングガスは、目的とする導電型を決定する元素を含むガスであれば、特に限定されないが、一般的にｐ型導電型を決定する元素がホウ素（Ｂ）である場合、ジボラン（Ｂ２Ｈ６）ガスがドーピングガスとして用いられ、一般的にｎ型導電型を決定する元素がリン（Ｐ）である場合、ホスフィン（ＰＨ３）ガスがドーピングガスとして用いられる。本実施の形態ではプラズマＣＶＤ法により第１素子分離溝７２５を埋めるように、透明電極層７２２上に光電変換素子層７２３を堆積した。原料ガスとして、ＳｉＨ４ガス、Ｈ２ガスおよびＢ２Ｈ６ガス、ＰＨ3からなる混合ガスを用いた。そして、ＳｉＨ４ガスに対するＨ２ガスの流量比を１５０倍とし、ＳｉＨ４ガスに対するＢ２Ｈ６ガスの流量比を０．００３倍、ＳｉＨ４ガスに対するＰＨ３ガスの流量比を０．０３倍とした。また、基板温度は１８０℃である。
【００５２】
次に第２素子分離溝形成工程Ｓ４において、ＹＡＧレーザの第二高調波であるＳＨＧ５３２ｎｍ（以下、「ＳＨＧレーザ」と言う）を裏面側から照射することによって堆積した光電変換素子層７２３を分離した。ＳＨＧレーザは、透明電極層７２２に殆ど吸収されず、その大部分は、光電変換素子層７２３で吸収される。その結果、光電変換素子層７２３が発熱することによってアブレーションが生じ、光電変換素子層７２３の一部上に堆積されている層が除去される。ＳＨＧレーザの発振周波数が１２。５ｋＨｚ、走査速度が６００ｍｍ／秒、レーザ出力０．７Ｗの加工条件で第２素子分離溝を形成した。ＳＨＧレーザとしては、０．１〜１．０Ｗ程度の出力が望ましい。
【００５３】
次に裏面電極層形成工程Ｓ５において、第２素子分離溝７２６を埋めるようにスパッタリング法によって、光電変換素子層７２３上に裏面電極層７２４を形成した。裏面電極層７２４は、酸化亜鉛からなる透明導電膜と銀との積層膜である。酸化亜鉛の膜厚は約８０ｎｍ、銀の膜厚は約１２０ｎｍとした。
【００５４】
次に第３素子分離溝形成工程Ｓ６において、裏面電極層７２４を分離した。分離に際しては、ＳＨＧレーザを用いた。レーザ照射により裏面電極層７２４とあわせて光電変換素子層７２３も分離される。第３素子分離溝が形成されている部分がスリット７２１となる。第３素子分離溝（スリット）７２１は、裏面電極層７２４と光電変換素子層７２３はほとんどなく、可視光領域の透過率が高い透明電極層７２２のみがある。よって、パネルを構成した際に画像層を視認することができる。
【００５５】
第３素子分離溝形成工程において、第３素子分離溝（スリット）７２１と位置合わせ窓７３とを同時に形成することが望ましい。位置合わせ窓７３から位置合わせマーク７５が視認できるようにするためには、少なくとも裏面電極層７２４と光電変換素子層７２３とを除去する必要があるためである。ＳＨＧレーザ照射により、続けて除去することにより、簡便かつ低コストでの位置合わせ窓の形成が可能となる。
【００５６】
この後、基板上に形成した光電変換素子の外観、電気的特性の検査を行った。この段階で検査を行うことにより、最終製品の生産歩留まり低下を防ぐことができる。
【００５７】
次に、アセンブリ工程Ｓ７において、光電変換素子から電流を取出すための配線を行い、基材７１上に形成した光電変換素子の上に、封止材７７、表面保護材７８を配置した。
【００５８】
次に、ラミネート工程Ｓ８において、ラミネート装置を用い、加熱加圧することでハイミランを溶融し封止した。
【００５９】
以上のような方法を用いることにより、簡便かつ低コストで、精度よい画像を視認でき、かつ発電装置でもあるパネルを提供することが可能となる。
【００６０】
［実施の形態８］
図１４は、本発明のパネルを用いた製品を示す模式図であり、図１５は、図１４におけるＸ−Ｘ´断面を示す断面模式図である。
【００６１】
スリット層と位置合わせ窓とを形成した基材（以下、スリット層形成材８１）の、周縁部に周縁保護材８９を配置した。周縁保護材８９としては、アルミニウムで形成されたサッシを用いた。このような構造とすることにより、パネルに強度を持たせることができるとともに、位置合わせの作業性をあげることができる。
【００６２】
図１５に示すように、周縁保護材８９とスリット層形成材８１との間には、セッティングブロック８７１、グレージングフォーム８７２が配置される。さらに、シリコーンシーラント８７３により、アルミニウムサッシ８７とスリット層形成材８１とを接着し、固定する。セッティングブロック８７１とグレージングフォーム８７２とを配置することにより、アルミニウムサッシ８７とスリット層形成材８１が直接接触し、スリット層形成材の構成材の１つであるガラスに傷が入ることを防ぐことができる。
【００６３】
スリット層形成材に設けられた位置合わせ窓を用いて、画像層基材に形成された位置合わせ、マークの位置合わせを行うことにより、配置した。
【００６４】
図１６に、複数のパネルを配置したパネル組品の模式図を示す。パネル組品８００は、本発明を用いたパネル８０を用いているため、設計者が意図した模様を見せることができる。位置合わせ窓８３と位置合わせマーク８５を用いて、画像層とスリットの精度の良い位置あわせを行っているためである。
【００６５】
以上、実施形態１から実施形態８について具体的に説明を行ったが、本発明はそれらに限定されるものではない。上述した８つの実施形態それぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
【００６６】
なお、今回開示した実施形態はすべての点で例示であって、限定的な解釈の根拠となるものではない。従って、本発明の技術的範囲は、上記した実施形態のみによって解釈されるものではなく、特許請求の範囲の記載に基づいて画定される。また、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれる。
【符号の説明】
【００６７】
１０、２０、３０、４０、５０、６０、７０、８０  パネル
１１、２１、７１  基材
１２、２２、７２  スリット層
１３、２３、３３、４３、５３、６３、７３、８３  位置合わせ窓
１４、２４、７４  画像層
１５、２５、３５、４５、５５、６５、７５、８５  位置合わせマーク
１６、２６、７６  画像層基材
７２１  第３素子分離溝
７２２  透明電極層
７２３  光電変換素子層
７２４  裏面電極層
７２５  第１素子分離溝
７２６  第２素子分離溝
７７  封止樹脂層
７８  表面保護材
８１  スリット層形成材
８９  周縁保護材
８００  パネル組品
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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