(57)【要約】【課題】ＳＦ６分離効率に優れた新規な高分子電解質分離膜を提供する。【解決手段】本発明は、ＳＦ６分離用高分子電解質分離膜に関する技術であって、特に、電解質として硝酸塩を使用することを特徴とする。硝酸塩は、分離膜内で溶媒和されてイオン凝集体を形成し、このようなイオン凝集体の障壁効果（ｂａｒｒｉｅｒ  ｅｆｆｅｃｔ）により、極性を帯びるＳＦ６は分離膜内で通過が難しくなるため、ＳＦ６の分離が可能である。【選択図】図１
2017119264.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
硝酸塩を含む高分子電解質層を含んでなる、ＳＦ６分離用高分子電解質分離膜。
【請求項２】
前記ＳＦ６分離用高分子電解質分離膜は、多孔性支持体をさらに含み、前記多孔性支持体上に前記高分子電解質層が形成されていることを特徴とする、請求項１に記載のＳＦ６分離用高分子電解質分離膜。
【請求項３】
前記高分子電解質分離膜が平板型または中空糸型であることを特徴とする、請求項１に記載のＳＦ６分離用高分子電解質分離膜。
【請求項４】
前記硝酸塩は、硝酸１−ブチル−３−メチルイミダゾリウム（１−ｂｕｔｙｌ−３−ｍｅｔｈｙｌｉｍｉｄａｚｏｌｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ）、硝酸１−エチル−３−メチルイミダゾリウム（１−ｅｔｈｙｌ−３−ｍｅｔｈｙｌｉｍｉｄａｚｏｌｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ）、硝酸アルミニウム九水和物（ａｌｕｍｉｎｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ  ｎｏｎａｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸アンモニウムセリウム（ＩＶ）（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｃｅｒｉｕｍ（ＩＶ）  ｎｉｔｒａｔｅ）、硝酸アンモニウム（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ）、硝酸バリウム（ｂａｒｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ）、硝酸ベリリウム（ｂｅｒｙｌｌｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ）、硝酸カルシウム水和物（ｃａｌｃｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ  ｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸カルシウム四水和物（ｃａｌｃｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ  ｔｅｔｒａｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸セリウム（ＩＩＩ）六水和物（ｃｅｒｉｕｍ（ＩＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ  ｈｅｘａｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸セシウム（ｃｅｓｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ）、硝酸クロム（ＩＩＩ）九水和物（ｃｈｒｏｍｉｕｍ（ＩＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ  ｎｏｎａｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸コバルト（ＩＩ）六水和物（ｃｏｂａｌｔ（ＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ  ｈｅｘａｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸銅（ＩＩ）ヘミ（五水和物）（ｃｏｐｐｅｒ（ＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ  ｈｅｍｉ（ｐｅｎｔａｈｙｄｒａｔｅ））、硝酸銅（ＩＩ）水和物（ｃｏｐｐｅｒ（ＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ  ｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸銅（ＩＩ）三水和物（ｃｏｐｐｅｒ（ＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ  ｔｒｉｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸鉄（ＩＩ）九水和物（ｉｒｏｎ（ＩＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ  ｎｏｎａｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸鉛（ＩＩ）（ｌｅａｄ（ＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ）、硝酸リチウム（ｌｉｔｈｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ）、硝酸マグネシウム六水和物（ｍａｇｎｅｓｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ  ｈｅｘａｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸マンガン（ＩＩ）水和物（ｍａｎｇａｎｅｓｅ（ＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ  ｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸ニッケル（ＩＩ）六水和物（ｎｉｃｋｅｌ（ＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ  ｈｅｘａｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸パラジウム（ＩＩ）（ｐａｌｌａｄｉｕｍ（ＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ）、硝酸パラジウム（ＩＩ）二水和物（ｐａｌｌａｄｉｕｍ（ＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ  ｄｉｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸パラジウム（ＩＩ）水和物（ｐａｌｌａｄｉｕｍ（ＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ  ｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸カリウム（ｐｏｔａｓｓｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ）、硝酸銀（ｓｉｌｖｅｒ  ｎｉｔｒａｔｅ）及び硝酸ナトリウム（ｓｏｄｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ）の中から選択されるいずれか一つであることを特徴とする、請求項１に記載のＳＦ６分離用高分子電解質分離膜。
【請求項５】
前記高分子は、
ｐｏｌｙ（２−ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ／ｍｅｔｈａｃｒｙｌｉｃ  ａｃｉｄ）、
ｐｏｌｙ（２−ｈｙｄｒｏｘｙｐｒｏｐｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）、
ｐｏｌｙ（ａｃｒｙｌａｍｉｄｅ／ａｃｒｙｌｉｃ  ａｃｉｄ）、
ｐｏｌｙｍｅｔｈａｃｒｙｌａｍｉｄｅ、
ｐｏｌｙａｃｒｙｌａｍｉｄｅ、
ｐｏｌｙ（３−ｃｈｌｏｒｏ−２−ｈｙｄｒｏｘｙｐｒｏｐｙｌ−２−ｍｅｔｈａｃｒｙｌｏｘｙｅｔｈｙｌｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ  ｃｈｌｏｒｉｄｅ）、
ｐｏｌｙ（ａｃｒｙｌａｍｉｄｅ／２−ｍｅｔｈａｃｒｙｌｏｘｙｅｔｈｙｌｔｒｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ  ｂｒｏｍｉｄｅ）、
ｐｏｌｙ（２−ｍｅｔｈａｃｒｙｌｏｘｙｅｔｈｙｌｔｒｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ  ｂｒｏｍｉｄｅ）、
ｐｏｌｙ（２−ｖｉｎｙｌ−１−ｍｅｔｈｙｌｐｙｒｉｄｉｎｉｕｍ  ｂｒｏｍｉｄｅ）、
ｐｏｌｙ（Ｎ−ｖｉｎｙｌｐｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ）、
ｐｏｌｙ（ｖｉｎｙｌａｍｉｎｅ）  ｈｙｄｒｏｃｈｌｏｒｉｄｅ、
ｐｏｌｙ（ｌ−ｌｙｓｉｎｅ  ｈｙｄｒｏｂｒｏｍｉｄｅ）、
ｐｏｌｙ（２−ｖｉｎｙｌｐｙｒｉｄｉｎｅ）、
ｐｏｌｙ（２−ｖｉｎｙｌｐｙｒｉｄｉｎｅ  Ｎ−ｏｘｉｄｅ）、  
“ｐｏｌｙ（Ｎ−ｖｉｎｙｌｐｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ／２−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｅｔｈｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ），  ｄｉｍｅｔｈｙｌ  ｓｕｌｆａｔｅ  ｑｕａｔｅｒｎａｒｙ”、
ｐｏｌｙ（４−ｖｉｎｙｌｐｙｒｉｄｉｎｅ  Ｎ−ｏｘｉｄｅ）、
ｐｏｌｙ（４−ｖｉｎｙｌｐｙｒｉｄｉｎｅ）、
ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｏｘｉｄｅ−ｂ−ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ  ｏｘｉｄｅ）、
“ｐｏｌｙ（ｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ），  Ｎ−ｍｅｔｈｙｌ−４（４’−ｆｏｒｍｙｌｓｔｙｒｙｌ）ｐｙｒｉｄｉｎｉｕｍ  ｍｅｔｈｏｓｕｌｆａｔｅ  ａｃｅｔａｌ”、
ｐｏｌｙ（ａｌｌｙｌ  ａｍｉｎｅ）、
“ｐｏｌｙ（ｓｔｙｒｅｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ／ｍａｌｅｉｃ  ａｃｉｄ），  ｓｏｄｉｕｍ  ｓａｌｔ”、
ｐｏｌｙ（ｍｅｔｈａｃｒｙｌｉｃ  ａｃｉｄ）、
ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ／ａｃｒｙｌｉｃ  ａｃｉｄ）、
ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌ  ａｃｒｙｌａｔｅ／ａｃｒｙｌｉｃ  ａｃｉｄ）、
ｐｏｌｙ（ａｃｒｙｌｉｃ  ａｃｉｄ）、  
“ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ，  ｉｓｏｔａｃｔｉｃ”、
“ｐｏｌｙ（ｖｉｎｙｌ  ｐｈｏｓｐｈｏｒｉｃ  ａｃｉｄ），  ｓｏｄｉｕｍ  ｓａｌｔ”、  
ｐｏｌｙ（ｓｔｙｒｅｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）、  
ｐｏｌｙ（Ｎ−ｖｉｎｙｌ  ａｃｅｔａｍｉｄｅ）、
ｐｏｌｙ（Ｎ−ｖｉｎｙｌ  ａｃｅｔａｍｉｄｅ−ｃｏ−ｓｏｄｉｕｍ  ａｃｒｙｌａｔｅ）、  
ｐｏｌｙ（Ｎ−ｍｅｔｈｙｌ−Ｎ−ｖｉｎｙｌ  ａｃｅｔａｍｉｄｅ）  ｈｏｍｏｐｏｌｙｍｅｒ、  
ｐｏｌｙ（ｎ−ｂｕｔｙｌ  ａｃｒｙｌａｔｅ／２−ｍｅｔｈａｃｒｙｌｏｘｙｅｔｈｙｌｔｒｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ  ｂｒｏｍｉｄｅ）、
“ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ，  ｅｔｈｙｌ  ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ  ｅｔｈｅｒ”、  
ｐｏｌｙ（ｖｉｎｙｌｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）、  
ｐｏｌｙ（Ｎ−ｖｉｎｙｌｐｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ／ｖｉｎｙｌ  ａｃｅｔａｔｅ）、
ｐｏｌｙ（ｓｔｙｒｅｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ／ｍａｌｅｉｃ  ａｃｉｄ）、
“ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ，  ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ  ｅｔｈｅｒ”、  
“ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ，  ｍｅｔｈｙｌ  ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ  ｅｔｈｅｒ”、
ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｏｘｉｄｅ）、  
ｐｏｌｙ（ｖｉｎｙｌ  ａｃｅｔａｔｅ）、
ｐｏｌｙ（ｖｉｎｙｌ  ｍｅｔｈｙｌ  ｅｔｈｅｒ）、
ｐｏｌｙ（ｏｘｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）、  
ｐｏｌｙ（ｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ）、
ｐｏｌｙ（２−ｅｔｈｙｌ−２−ｏｘａｚｏｌｉｎｅ）、
ｐｏｌｙ（ｄｉａｌｌｙｌｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ  ｃｈｌｏｒｉｄｅ）、
ｐｏｌｙ（ｍａｌｅｉｃ  ａｃｉｄ）、
ｐｏｌｙ（１−ｇｌｙｃｅｒｏｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）、
ｐｏｌｙ（ｂｕｔａｄｉｅｎｅ／ｍａｌｅｉｃ  ａｃｉｄ）、および
ｐｏｌｙ（ｖｉｎｙｌｐｈｏｓｐｈｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）の中から選択されるいずれか一つであることを特徴とする、請求項１に記載のＳＦ６分離用高分子電解質分離膜。
【請求項６】
前記高分子と硝酸塩とのモル比が１：０．５〜０．７の範囲であることを特徴とする、請求項１に記載のＳＦ６分離用高分子電解質分離膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高分子電解質分離膜に関する技術であって、特に、ＳＦ６分離用高分子電解質分離膜に関する技術である。本発明は、中空糸型や平板型など様々な形状の分離膜として製造できるうえ、別途の複雑なモジュールまたは装置がなくてもＳＦ６の分離効率に優れた高分子電解質分離膜に関する技術である。
【背景技術】
【０００２】
ＳＦ６は、代表的な電気絶縁物質であり、半導体ウエハーやＬＣＤパネルなどの製造時の洗浄過程で使用されている物質である。しかし、ＳＦ６は、地球温暖化に及ぼす影響力が二酸化炭素に比べて約２３９００倍以上高いことが知られており、大気中で３２００年間分解されずに安定的に存在する物質であって、１９９７年に京都で開催された気候変動枠組み条約締約国会議で地球温暖化指数の最も大きい６種物質の一つとして挙げられたことがある。
【０００３】
産業の様々な工程に使用された後のＳＦ６の処理方法としては、ＳＦ６を分解する方法と、ＳＦ６を分離してリサイクルする方法がある。
【０００４】
ＳＦ６は、非常に安定しているので、分解方法としては、大きいエネルギーが必要なプラズマ、電気放電（ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌ  ｄｉｓｃｈａｒｇｅ）、スパーク法（ｓｐａｒｋ  ｍｅｔｈｏｄ）などがあり、分解過程でＳ２Ｆ１０、ＳＦ４、ＨＦなどの高い毒性及び腐食性の副産物が生成されるという欠点がある。
【０００５】
上述したようなＳＦ６分解技術の問題点とＳＦ６の持続的な価格上昇を考慮すると、ＳＦ６のリサイクルが可能なＳＦ６の分離回収技術が分解技術よりもさらに注目されている。ＳＦ６の分離回収技術は深冷法（Ｃｒｙｏｇｅｎｉｃｓ）、ＰＳＡ（ｐｒｅｓｓｕｒｅ  ｓｗｉｎｇ  ａｄｓｏｒｐｔｉｏｎ）、分離膜（ｍｅｍｂｒａｎｅ）などが代表的であり、中でも、本発明は分離膜を用いたＳＦ６回収技術に関するものである。
【０００６】
次に、分離膜を用いたＳＦ６分離回収技術に関連した従来の特許を考察する。
【０００７】
特許文献１では、酢酸（ａｃｅｔｉｃａｃｉｄ）とイソプロパノール（ＩＰＡ）とを混合したコーティング溶媒に酢酸セルロースとポリエチレングリコールを溶解して製造したコーティング液を支持体にコートすることにより製造されるＳＦ６分離用分離膜技術を開示している。
【０００８】
特許文献２では、中空糸膜を用いたＳＦ６分離装置に関する技術を開示している。
【０００９】
特許文献３及び特許文献４では、半導体生産工程で発生するＳＦ６を分離するための技術を開示している。
【００１０】
従来の分離膜を用いたＳＦ６分離技術は、分離膜自体の素材開発よりは分離膜モジュールに関する技術が大部分を成しているが、このような複雑な構造のモジュールの製作は、コストを増加させ、規模の大きい装置の製造に困難さがあるうえ、ＳＦ６分離効率が依然として満足すべきレベルではないという問題点があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】韓国登録特許第１０−１５５６７０７号公報
【特許文献２】韓国登録特許第１０−１４２０７６７号公報
【特許文献３】韓国登録特許第１０−１４２００８２号公報
【特許文献４】韓国登録特許第１０−１４１０９１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、ＳＦ６分離効率に優れた新規な高分子電解質分離膜を提供することを目的とする。特に、本発明は、平板型や中空糸型など多様な形状に製造可能なＳＦ６分離用高分子電解質分離膜を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、硝酸塩を含む高分子電解質層を含んでなるＳＦ６分離用高分子電解質分離膜を提供する。
【００１４】
特に、前記高分子電解質層は多孔性支持体上に形成されることが好ましい。
【００１５】
特に、前記高分子電解質分離膜は平板型または中空糸型に製造できる。
【００１６】
特に、前記硝酸塩は、硝酸１−ブチル−３−メチルイミダゾリウム（１−ｂｕｔｙｌ−３−ｍｅｔｈｙｌｉｍｉｄａｚｏｌｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ）、硝酸１−エチル−３−メチルイミダゾリウム（１−ｅｔｈｙｌ−３−ｍｅｔｈｙｌｉｍｉｄａｚｏｌｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ）、硝酸アルミニウム九水和物（ａｌｕｍｉｎｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ  ｎｏｎａｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸アンモニウムセリウム（ＩＶ）（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｃｅｒｉｕｍ（ＩＶ）  ｎｉｔｒａｔｅ）、硝酸アンモニウム（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ）、硝酸バリウム（ｂａｒｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ）、硝酸ベリリウム（ｂｅｒｙｌｌｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ）、硝酸カルシウム水和物（ｃａｌｃｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ  ｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸カルシウム四水和物（ｃａｌｃｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ  ｔｅｔｒａｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸セリウム（ＩＩＩ）六水和物（ｃｅｒｉｕｍ（ＩＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ  ｈｅｘａｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸セシウム（ｃｅｓｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ）、硝酸クロム（ＩＩＩ）九水和物（ｃｈｒｏｍｉｕｍ（ＩＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ  ｎｏｎａｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸コバルト（ＩＩ）六水和物（ｃｏｂａｌｔ（ＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ  ｈｅｘａｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸銅（ＩＩ）ヘミ（五水和物）（ｃｏｐｐｅｒ（ＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ  ｈｅｍｉ（ｐｅｎｔａｈｙｄｒａｔｅ））、
硝酸銅（ＩＩ）水和物（ｃｏｐｐｅｒ（ＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ  ｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸銅（ＩＩ）三水和物（ｃｏｐｐｅｒ（ＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ  ｔｒｉｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸鉄（ＩＩ）九水和物（ｉｒｏｎ（ＩＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ  ｎｏｎａｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸鉛（ＩＩ）（ｌｅａｄ（ＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ）、硝酸リチウム（ｌｉｔｈｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ）、硝酸マグネシウム六水和物（ｍａｇｎｅｓｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ  ｈｅｘａｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸マンガン（ＩＩ）水和物（ｍａｎｇａｎｅｓｅ（ＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ  ｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸ニッケル（ＩＩ）六水和物（ｎｉｃｋｅｌ（ＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ  ｈｅｘａｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸パラジウム（ＩＩ）（ｐａｌｌａｄｉｕｍ（ＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ）、硝酸パラジウム（ＩＩ）二水和物（ｐａｌｌａｄｉｕｍ（ＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ  ｄｉｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸パラジウム（ＩＩ）水和物（ｐａｌｌａｄｉｕｍ（ＩＩ）  ｎｉｔｒａｔｅ  ｈｙｄｒａｔｅ）、硝酸カリウム（ｐｏｔａｓｓｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ）、硝酸銀（ｓｉｌｖｅｒ  ｎｉｔｒａｔｅ）及び硝酸ナトリウム（ｓｏｄｉｕｍ  ｎｉｔｒａｔｅ）の中から選択されるいずれか一つであることができる。
【００１７】
特に、前記高分子は、
ｐｏｌｙ（２−ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ／ｍｅｔｈａｃｒｙｌｉｃ  ａｃｉｄ）、
ｐｏｌｙ（２−ｈｙｄｒｏｘｙｐｒｏｐｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）、
ｐｏｌｙ（ａｃｒｙｌａｍｉｄｅ／ａｃｒｙｌｉｃ  ａｃｉｄ）、
ｐｏｌｙｍｅｔｈａｃｒｙｌａｍｉｄｅ、
ｐｏｌｙａｃｒｙｌａｍｉｄｅ、
ｐｏｌｙ（３−ｃｈｌｏｒｏ−２−ｈｙｄｒｏｘｙｐｒｏｐｙｌ−２−ｍｅｔｈａｃｒｙｌｏｘｙｅｔｈｙｌｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ  ｃｈｌｏｒｉｄｅ）、
ｐｏｌｙ（ａｃｒｙｌａｍｉｄｅ／２−ｍｅｔｈａｃｒｙｌｏｘｙｅｔｈｙｌｔｒｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ  ｂｒｏｍｉｄｅ）、
ｐｏｌｙ（２−ｍｅｔｈａｃｒｙｌｏｘｙｅｔｈｙｌｔｒｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ  ｂｒｏｍｉｄｅ）、
ｐｏｌｙ（２−ｖｉｎｙｌ−１−ｍｅｔｈｙｌｐｙｒｉｄｉｎｉｕｍ  ｂｒｏｍｉｄｅ）、
ｐｏｌｙ（Ｎ−ｖｉｎｙｌｐｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ）、
ｐｏｌｙ（ｖｉｎｙｌａｍｉｎｅ）  ｈｙｄｒｏｃｈｌｏｒｉｄｅ、
ｐｏｌｙ（ｌ−ｌｙｓｉｎｅ  ｈｙｄｒｏｂｒｏｍｉｄｅ）、
ｐｏｌｙ（２−ｖｉｎｙｌｐｙｒｉｄｉｎｅ）、
ｐｏｌｙ（２−ｖｉｎｙｌｐｙｒｉｄｉｎｅ  Ｎ−ｏｘｉｄｅ）、
“ｐｏｌｙ（Ｎ−ｖｉｎｙｌｐｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ／２−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｅｔｈｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ），  ｄｉｍｅｔｈｙｌ  ｓｕｌｆａｔｅ  ｑｕａｔｅｒｎａｒｙ”、
ｐｏｌｙ（４−ｖｉｎｙｌｐｙｒｉｄｉｎｅ  Ｎ−ｏｘｉｄｅ）、
ｐｏｌｙ（４−ｖｉｎｙｌｐｙｒｉｄｉｎｅ）、
ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｏｘｉｄｅ−ｂ−ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ  ｏｘｉｄｅ）、
“ｐｏｌｙ（ｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ），  Ｎ−ｍｅｔｈｙｌ−４（４’−ｆｏｒｍｙｌｓｔｙｒｙｌ）ｐｙｒｉｄｉｎｉｕｍ  ｍｅｔｈｏｓｕｌｆａｔｅ  ａｃｅｔａｌ”、
ｐｏｌｙ（ａｌｌｙｌ  ａｍｉｎｅ）、
“ｐｏｌｙ（ｓｔｙｒｅｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ／ｍａｌｅｉｃ  ａｃｉｄ），  ｓｏｄｉｕｍ  ｓａｌｔ”、
ｐｏｌｙ（ｍｅｔｈａｃｒｙｌｉｃ  ａｃｉｄ）、
ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ／ａｃｒｙｌｉｃ  ａｃｉｄ）、
ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌ  ａｃｒｙｌａｔｅ／ａｃｒｙｌｉｃ  ａｃｉｄ）、
ｐｏｌｙ（ａｃｒｙｌｉｃ  ａｃｉｄ）、  
“ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ，  ｉｓｏｔａｃｔｉｃ”、
“ｐｏｌｙ（ｖｉｎｙｌ  ｐｈｏｓｐｈｏｒｉｃ  ａｃｉｄ），  ｓｏｄｉｕｍ  ｓａｌｔ”、  
ｐｏｌｙ（ｓｔｙｒｅｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）、  
ｐｏｌｙ（Ｎ−ｖｉｎｙｌ  ａｃｅｔａｍｉｄｅ）、
ｐｏｌｙ（Ｎ−ｖｉｎｙｌ  ａｃｅｔａｍｉｄｅ−ｃｏ−ｓｏｄｉｕｍ  ａｃｒｙｌａｔｅ）、  
ｐｏｌｙ（Ｎ−ｍｅｔｈｙｌ−Ｎ−ｖｉｎｙｌ  ａｃｅｔａｍｉｄｅ）  ｈｏｍｏｐｏｌｙｍｅｒ、  
ｐｏｌｙ（ｎ−ｂｕｔｙｌ  ａｃｒｙｌａｔｅ／２−ｍｅｔｈａｃｒｙｌｏｘｙｅｔｈｙｌｔｒｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ  ｂｒｏｍｉｄｅ）、
“ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ，  ｅｔｈｙｌ  ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ  ｅｔｈｅｒ”、  
ｐｏｌｙ（ｖｉｎｙｌｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）、  
ｐｏｌｙ（Ｎ−ｖｉｎｙｌｐｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ／ｖｉｎｙｌ  ａｃｅｔａｔｅ）、  
ｐｏｌｙ（ｓｔｙｒｅｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ／ｍａｌｅｉｃ  ａｃｉｄ）、
“ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ，  ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ  ｅｔｈｅｒ”、  
“ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ，  ｍｅｔｈｙｌ  ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ  ｅｔｈｅｒ”、
ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｏｘｉｄｅ）、  
ｐｏｌｙ（ｖｉｎｙｌ  ａｃｅｔａｔｅ）、
ｐｏｌｙ（ｖｉｎｙｌ  ｍｅｔｈｙｌ  ｅｔｈｅｒ）、
ｐｏｌｙ（ｏｘｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）、  
ｐｏｌｙ（ｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ）、
ｐｏｌｙ（２−ｅｔｈｙｌ−２−ｏｘａｚｏｌｉｎｅ）、
ｐｏｌｙ（ｄｉａｌｌｙｌｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ  ｃｈｌｏｒｉｄｅ）、
ｐｏｌｙ（ｍａｌｅｉｃ  ａｃｉｄ）、
ｐｏｌｙ（１−ｇｌｙｃｅｒｏｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）、
ｐｏｌｙ（ｂｕｔａｄｉｅｎｅ／ｍａｌｅｉｃ  ａｃｉｄ）、および
ｐｏｌｙ（ｖｉｎｙｌｐｈｏｓｐｈｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）の中から選択されるいずれか一つであることができる。
【００１８】
特に、前記高分子と硝酸塩とのモル比は１：０．５〜０．７の範囲であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の高分子電解質分離膜は、溶媒によって形成される硝酸塩のイオン凝集体がＳＦ６の輸送を妨害する障壁（ｂａｒｒｉｅｒ）の役割を果たすことにより、ＳＦ６の透過度を低めて、ＳＦ６と他の気体との混合物からＳＦ６を分離することができる。すなわち、本発明では、高分子電解質分離膜がＳＦ６の透過を阻止し、ＳＦ６と混合された窒素ガスなどの不活性気体の透過は許容する役割によってＳＦ６を分離する。
【００２０】
特に、本発明では、別途の複雑な装置を追加することなく、高分子電解質分離膜のみで高いＳＦ６分離効率を示すことができるので、従来技術のような複雑なモジュールまたは装置を必要としないため、製造コストが低く運用コストも低いという利点がある。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の高分子電解質分離膜内でのＳＦ６の分離過程を説明する図である。
【図２】本発明の方法により製造されたＰＯＺとＣｕ（ＮＯ３）２の高分子電解質分離膜のＦＴ−ＩＲ測定結果を示すグラフである。
【図３】ＰＯＺのみの分離膜と、本発明の方法により製造されたＰＯＺ／Ｃｕ（ＮＯ３）２（１：０．７のモル比）の高分子電解質分離膜のＴＧＡ実験結果を示すグラフである。
【図４】本発明の方法により製造されたＰＯＺ／Ｃｕ（ＮＯ３）２（１：０．７のモル比）の高分子電解質分離膜とのＦＴ−Ｒａｍａｎ測定結果を示すグラフである。
【図５】本発明の方法により製造されたＰＯＺ／Ｃｕ（ＮＯ３）２（１：０．７のモル比）の高分子電解質分離膜とのＦＴ−Ｒａｍａｎ測定結果を示すグラフである。
【図６】本発明の方法により製造されたＰＯＺ／Ｃｕ（ＮＯ３）２（１：０．７のモル比）の高分子電解質分離膜のＳＥＭ測定写真である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明は、高分子電解質分離膜を用いたＳＦ６分離技術に関するものである。本発明の高分子電解質分離膜は高分子と電解質とを含んでなるが、前記電解質は陰イオンとしてＮＯ３−イオンを含む硝酸塩（ｎｉｔｒａｔｅ）であることを特徴とする。本発明の高分子電解質分離膜では、硝酸塩は高分子電解質分離膜内に微量残存する溶媒成分によって溶媒和（ｓｏｌｖａｔｉｏｎ）されてイオン凝集体（ｉｏｎ  ａｇｇｒｅｇａｔｅ）を形成し、このようなイオン凝集体内の陽イオン成分、例えば硝酸塩としてＣｕ（ＮＯ３）２を使用した場合、Ｃｕ２＋により、負電荷を帯びるＳＦ６の移動が遮られるため、ＳＦ６は本発明の高分子電解質分離膜をうまく通過しないが、反応性のない窒素は本発明の分離膜をうまく通過し、このような透過度の差によりＳＦ６の分離が可能である。
【００２３】
特に、本発明でＮＯ３−に注目した理由は、他の陰イオンに比べてＮＯ３−の場合は溶媒和（ｓｏｌｖａｔｉｏｎ）がうまく行われるので、高分子電解質分離膜内でイオン凝集体（ｉｏｎ  ａｇｇｒｅｇａｔｅ）を形成する可能性が高いためである。イオン凝集体は、イオン対（ｉｏｎ  ｐａｉｒ）や自由イオン（ｆｒｅｅ  ｉｏｎ）に比べて大きな規模でイオンが集まったものを意味するが、このような相対的に大きいイオン凝集体により高分子電解質分離膜内でＳＦ６の移動（ｔｒａｎｓｐｏｒｔ）が効果的に遮断できる。
【００２４】
本発明の高分子電解質分離膜は、中空糸型や平板型などの様々な形状に製造することができ、ミクロ細孔（ｍｉｃｒｏ−ｐｏｒｅ）サイズの多孔性支持体上に形成することもできるが、このような多孔性支持体なしでフリースタンディングフィルム（ｆｒｅｅ  ｓｔａｎｄｉｎｇ  ｆｉｌｍ）として製造されることもできる。
【００２５】
図１はＮＯ３−イオンを含む電解質としてＣｕ（ＮＯ３）２を使用した場合の本発明の高分子電解質分離膜内におけるＳＦ６の分離メカニズムを説明する図である。本発明者は、本発明の高分子電解質分離膜内におけるＳＦ６の移動遮断によるＳＦ６の分離について図１のようなメカニズムによって行われるものと推定している。
【００２６】
分離膜内におけるＣｕ（ＮＯ３）２の溶媒和（ｓｏｌｖａｔｉｏｎ）は、分離膜内に残存する溶媒成分によって行われる。高分子とＣｕ（ＮＯ３）２を溶解するための溶媒成分、例えば、水は高分子とＣｕ（ＮＯ３）２との混合溶液のキャスティング及び乾燥の後も分離膜内に一部残っており、このようなフィルム化後の固体状の分離膜内に残っている溶媒成分によってＣｕ（ＮＯ３）２が溶媒和（ｓｏｌｖａｔｉｏｎ）される。勿論、ＳＦ６の分離の際に溶媒を外部から分離膜へ提供（例えば、加湿条件など）することにより、Ｃｕ（ＮＯ３）２が高分子電解質分離膜内で溶媒和されるようにすることもできる。
【００２７】
以下、本発明の分離膜における「ＳＦ６の分離メカニズム」を説明するための好適な一実施例として、高分子たるＰＯＺ（ｐｏｌｙ（２−ｅｔｈｙｌ−２−ｏｘａｚｏｌｉｎｅ））と電解質たるＣｕ（ＮＯ３）２からなる高分子電解質分離膜を挙げて説明する。下記実験の結果、本発明の分離膜では、Ｃｕ（ＮＯ３）２が水によって溶媒和されて高分子のマトリクス内に凝集体として形成され、Ｃｕ２＋は凝集体の内部コア側に、ＮＯ３−は前記コアの周りに、溶媒たる水は前記ＮＯ３−の周辺部にそれぞれ位置して１つのイオン凝集体（ｉｏｎ  ａｇｇｒｅｇａｔｅ）を形成するものと解釈することができた。
【００２８】
このようなイオン対または自由イオンに比べて相対的に大きいイオン凝集体によりＳＦ６が分離膜をうまく通過しないため、他のガス、例えば、窒素のみ透過度が相対的に高く、ＳＦ６は透過度が相対的に非常に低いから、結局はＳＦ６の分離が可能である。以下、実験例によって上述のようなメカニズムについてより詳細に検証する。
【００２９】
実験例１：ＦＴ−ＩＲ分析
前記ＰＯＺとＣｕ（ＮＯ３）２の高分子電解質分離膜についてＦＴ−ＩＲ分析を行った。下記の実験において、ＰＯＺの溶媒として水を使用し、ＰＯＺとＣｕ（ＮＯ３）２とのモル比が１：０．５である場合には水に溶解させた２０％ＰＯＺ溶液２．５ｇにＣｕ（ＮＯ３）２を０．４７３ｇ添加して溶液を製造し、ＰＯＺとＣｕ（ＮＯ３）２とのモル比が１：０．７である場合には２．５ｇの２０％ＰＯＺ溶液に０．６６２ｇのＣｕ（ＮＯ３）２を添加して溶液を製造した。
【００３０】
図１の如く、本発明の高分子電解質分離膜内におけるＣｕ（ＮＯ３）２の凝集体は高分子鎖に均一に分散している。前記イオン凝集体は、水の部分的な陽イオンによって溶媒和（ｓｏｌｖａｔｉｏｎ）され、部分的（ｐａｒｔｉａｌｌｙ）に負電荷を帯びる水は前記イオン凝集体の外に偏在化するものと推定される。無極性であるＮ２ガスはＦｉｃｋｉａｎ輸送（Ｆｉｃｋｉａｎ  ｔｒａｎｓｐｏｒｔ）によって本発明の高分子電解質分離膜を通過して伝達されるが、高い四極子モーメント（ｈｉｇｈ  ｑｕａｄｒｕｐｌｅ  ｍｏｍｅｎｔ）を有するＳＦ６ガスは水の部分的な負電荷と高い反発力を経験するだけでなく、特に、ＳＦ６分子はＣｕ２＋陽イオンによって移動が遮断されるものと推定された。
【００３１】
ＰＯＺとＣｕ（ＮＯ３）２からなる高分子電解質分離膜の形成を確認するために、銅イオンと前記高分子のアミド基のカルボニル基との相互作用をＦＴ−ＩＲスペクトロスコピーで測定し、その結果は図２のとおりである。
【００３２】
図２を参考すると、ＰＯＺのみからなる膜（以下、「ｎｅａｔ  ＰＯＺ」という）のスペクトルでは１６０７ｃｍ−１で強い自由Ｃ＝Ｏピークを示した。ＰＯＺにＣｕ（ＮＯ３）２が添加されて製造された分離膜（ＰＯＺ：Ｃｕ（ＮＯ３）２のモル比は１：０．７）は、１６０７ｃｍ−１で自由Ｃ＝Ｏピークの移動が無視できるレベルを示した。したがって、銅イオンは、ＰＯＺ内のカルボニル基とは相互作用がないものと解釈することができる。
【００３３】
また、ＮＯ３−のストレッチング周波数は１３３６ｃｍ−１で起こると言われているが、Ｃｕ（ＮＯ３）２がＰＯＺに含まれると、１３９２ｃｍ−１でのピーク強度は減少し、１３３６ｃｍ−１での自由ＮＯ３−１のピークが支配的になった。このような観察からＣｕ２＋イオンとＮＯ３−１イオンとのイオン結合は、高分子電解質分離膜内に残存する溶媒たる水の水素結合による相互作用によって弱くなり、その結果、ストレッチング周波数が減少したことが分かった。
【００３４】
実験例２：ＴＧＡ分析
ＴＧＡを用いて高分子電解質の熱的安定性を確認した。ＴＧＡはＭｅｔｔｌｅｒ  Ｔｏｌｅｄｏ  ＴＧＡデバイス１０℃／分の加熱速度で行われた。その結果は図３のとおりである。ｎｅａｔ  ＰＯＺとＰＯＺ／Ｃｕ（ＮＯ３）２（１：０．７のモル比）に対するＴＧＡ結果として、ｎｅａｔ  ＰＯＺは０℃〜１００℃で７８％の重量減少を示したが、これはｎｅａｔ  ＰＯＺフィルム内の水の蒸発のためである。逆に、本発明の高分子電解質分離膜のようにＣｕ（ＮＯ３）２がＰＯＺ高分子に含まれる場合、水の蒸発が１００℃以上の高い温度で行われたが、これは水によるＣｕ（ＮＯ３）２の溶媒和のためであると推定される。すなわち、本発明の高分子電解質分離膜における分解温度の増加は銅イオンと水の強い相互作用のためであると推定される。
【００３５】
Ｃｕ（ＮＯ３）２の沸点は１７０℃であると知られている。したがって、本発明の高分子電解質分離膜では、約１７０℃での２０％の重量減少はＣｕ（ＮＯ３）２のためであると考えられる。勿論、高分子の分解により、約４００℃付近ですべてのサンプルは重量減少を明確に示した。上記の結果から、Ｃｕ（ＮＯ３）２はＰＯＺとの相互作用をせず、Ｃｕ（ＮＯ３）２は水により溶媒和され、その結果としてＣｕ（ＮＯ３）２と水の分解温度は増加したものと結論付けることができた。
【００３６】
実験例３：ＦＴ−Ｒａｍａｎ実験
本発明の高分子電解質分離膜内において、Ｃｕ（ＮＯ３）２が、高分子たるＰＯＺ内で自由イオン（ｆｒｅｅ  ｉｏｎ）またはイオン対（ｉｏｎ  ｐａｉｒ）に比べてサイズの大きいイオン凝集体（ｉｏｎｉｃ  ａｇｇｒｅｇａｔｅ）を形成することを、ＦＴ−Ｒａｍａｎ分析で確認した。その結果は図４および図５のとおりである。
【００３７】
ＮＯ３−１はストレッチングバンド１０３４、１０４０および１０４５ｃｍ−１を示すと知られている。図４に示すようにＣｕ（ＮＯ３）２がＰＯＺ高分子に含まれると、ＮＯ３−１の分子数が１０４５．５から１０４７．５ｃｍ−１へと無視できる程度に増加するが、これはＰＯＺに浸透したＣｕ（ＮＯ３）２がほとんどイオン凝集体として存在することを意味する。
【００３８】
Ｃｕ（ＮＯ３）２がＰＯＺ高分子鎖内にある場合、自由イオン、イオン対、イオン凝集体の相対的な比は図５のとおりである。１０２９および１０３４ｃｍ−１で何らのピークも現れていない。このようなピークは自由イオンとイオン対によるピークである。図５に示すように、自由イオン、イオン対、イオン凝集体の各ピークの面積は１４．８２９、１５．６６４及び６９．５０１％であった。このような結果から、ＰＯＺ高分子にＣｕ（ＮＯ３）２が自由イオンまたはイオン対として存在するよりは高次元構造のイオン凝集体を形成し、前記イオン凝集体は本発明の分離膜内の高分子鎖に分散していることが分かった。
【００３９】
実験例４：ＰＯＺ／Ｃｕ（ＮＯ３）２高分子電解質分離膜の透過度実験
本発明は、ＳＦ６の分離膜内での移動障壁物質（ｂａｒｒｉｅｒ）としてＣｕ（ＮＯ３）２凝集体を含む電解質分離膜を製造した。本発明の高分子電解質分離膜は、ＰＯＺ溶液にＣｕ（ＮＯ３）２を添加した溶液を製造した後、通常の平板型分離膜の製造方法と同様に、ポリスルホンのマクロ気孔サイズの支持体にコーティング及び乾燥して製造した。図６は前記方法で製造された本発明の分離膜のＳＥＭ測定結果を示すもので、高分子電解質溶液が支持体上にコーティング及び乾燥されたときに最終厚さ（支持体を除く）が約１μｍであった。
【００４０】
ＰＯＺとＣｕ（ＮＯ３）２のモル比を異ならせて製造された本発明の高分子電解質分離膜におけるＳＦ６の分離性能を実験した。その結果を下記表１のとおりである。各モル比（１：０．５、１：０．７）でのＮ２ガスの透過度は約４．２、１１．２ＧＰＵであり、ＳＦ６ガス透過度は各モル比で約０．７および０．４ＧＰＵであった。
【００４１】
【表１】
2017119264.tif 000003
【００４２】
モル比１：０．７のＰＯＺ／Ｃｕ（ＮＯ３）２の高分子電解質分離膜で高いＮ２透過度及び低いＳＦ６透過度を示した。また、前記表１には記載していないが、２日後にＳＦ６ガス透過度は約０．２ＧＰＵまで減少した。モル比１：０．７のＰＯＺ／Ｃｕ（ＮＯ３）２の高分子電解質分離膜におけるＮ２／ＳＦ６ガス選択度は２８．０を示した。上述したような高いＮ２／ＳＦ６選択度は、Ｃｕ（ＮＯ３）２が水によって溶媒和されると、水の負電荷とＳＦ６のＦ原子間の反発力が増加し、Ｃｕ２＋イオンの障壁効果（ｂａｒｒｉｅｒｅｆｆｅｃｔ）が増大したためである。
【００４３】
実験例５：様々な陽イオンに対する実験
様々な陽イオンを含む硝酸塩分に対するＳＦ６の分離効果を実験するために、下記表２に示すように高分子としてＰＯＺ（ｐｏｌｙ（２−ｅｔｈｙｌ−２−ｏｘａｚｏｌｉｎｅ））を使用し、様々な陽イオンを含む硝酸塩を電解質にして高分子分離膜を製造した後、Ｎ２及びＳＦ６の透過度を測定し、理論的な選択度（Ｎ２／ＳＦ６）を計算した結果、下記表２のとおりである。実験において、高分子と硝酸塩とのモル比を１：０．７にして同様に溶媒に混合した後、ポリスルホン多孔性支持体上にキャスティング及び乾燥してフィルムとして製造した。
【００４４】
【表２】
2017119264.tif 000004
【００４５】
上述した結果から明らかなように、硝酸塩の種類によって多少選択度において差を示したが、いずれもＳＦ６の分離目的に使用可能であることが分かった。
【００４６】
実験例６：硝酸塩Ｃｕ（ＮＯ３）２と様々な高分子に対する実験
高分子電解質層の高分子による効果を確認するために、硝酸塩としてＣｕ（ＮＯ３）２を同様に使用し、高分子を様々に変化させて製造した高分子電解質分離膜に対してＮ２、ＳＦ６の透過度及び理論的な選択度を計算した。その結果は下記表３のとおりである。本実験において、高分子とＣｕ（ＮＯ３）２とのモル比を１：０．７にして同様に溶媒に混合した後、ポリスルホン多孔性支持体上にキャスティング及び乾燥してフィルムとして製造した。
【００４７】
【表３】
2017119264.tif 000005
2017119264.tif 000006
【００４８】
上記の結果から明らかなように、本発明の方法により製造された様々な高分子とＣｕ（ＮＯ３）２との高分子電解質分離膜でＳＦ６の分離が可能であることを確認することができた。
【図１】
2017119264.tif 000007
【図２】
2017119264.tif 000008
【図３】
2017119264.tif 000009
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【手続補正書】
【提出日】平成28年11月16日(2016.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
硝酸塩を含む高分子電解質層を含んでなり、前記硝酸塩は前記高分子電解質層内で溶媒和されイオン凝集体を形成することを特徴とする、ＳＦ６分離用高分子電解質分離膜。
【請求項２】
前記ＳＦ６分離用高分子電解質分離膜は、多孔性支持体をさらに含み、前記多孔性支持体上に前記高分子電解質層が形成されていることを特徴とする、請求項１に記載のＳＦ６分離用高分子電解質分離膜。
【請求項３】
前記高分子電解質分離膜が平板型または中空糸型であることを特徴とする、請求項１に記載のＳＦ６分離用高分子電解質分離膜。
【請求項４】
前記硝酸塩は、硝酸１−ブチル−３−メチルイミダゾリウム(1-butyl-3-methylimidazolium nitrate)、硝酸１−エチル−３−メチルイミダゾリウム(1-ethyl-3-methylimidazolium nitrate)、硝酸アルミニウム九水和物(aluminum nitrate nonahydrate)、硝酸アンモニウムセリウム（IV）(ammonium cerium(IV) nitrate)、硝酸アンモニウム(ammonium nitrate)、硝酸バリウム(barium nitrate)、硝酸ベリリウム(beryllium nitrate)、硝酸カルシウム水和物(calcium nitrate hydrate)、硝酸カルシウム四水和物(calcium nitrate tetrahydrate)、硝酸セリウム（III）六水和物(cerium(III) nitrate hexahydrate)、硝酸セシウム(cesium nitrate)、硝酸クロム（III）九水和物(chromium(III) nitrate nonahydrate)、硝酸コバルト（II）六水和物(cobalt(II) nitrate hexahydrate)、硝酸銅（II）ヘミ（五水和物）(copper(II) nitrate hemi(pentahydrate))、硝酸銅（II）水和物(copper(II) nitrate hydrate)、硝酸銅（II）三水和物(copper(II) nitrate trihydrate)、硝酸鉄（II）九水和物(iron(III) nitrate nonahydrate)、硝酸鉛（II）(lead(II) nitrate)、硝酸リチウム(lithium nitrate)、硝酸マグネシウム六水和物(magnesium nitrate hexahydrate)、硝酸マンガン（II）水和物(manganese(II) nitrate hydrate)、硝酸ニッケル（II）六水和物(nickel(II) nitrate hexahydrate)、硝酸パラジウム（II）(palladium(II) nitrate)、硝酸パラジウム（II）二水和物(palladium(II) nitrate dihydrate)、硝酸パラジウム（II）水和物(palladium(II) nitrate hydrate)、硝酸カリウム(potassium nitrate)、硝酸銀(silver nitrate)及び硝酸ナトリウム(sodium nitrate)の中から選択されるいずれか一つであることを特徴とする、請求項１に記載のＳＦ６分離用高分子電解質分離膜。
【請求項５】
前記高分子は、
poly(2-hydroxyethyl methacrylate/methacrylic acid)、
poly(2-hydroxypropyl methacrylate)、
poly(acrylamide/acrylic acid)、
polymethacrylamide、
polyacrylamide、
poly(3-chloro-2-hydroxypropyl-2-methacryloxyethyldimethylammonium chloride)、
poly(acrylamide/2-methacryloxyethyltrimethylammonium bromide)、
poly(2-methacryloxyethyltrimethylammonium bromide)、
poly(2-vinyl-1-methylpyridinium bromide)、
poly(N-vinylpyrrolidone)、
poly(vinylamine) hydrochloride、
poly(l-lysine hydrobromide)、
poly(2-vinylpyridine)、
poly(2-vinylpyridine N-oxide)、 
"poly(N-vinylpyrrolidone/2-dimethylaminoethyl methacrylate), dimethyl sulfate quaternary"、
poly(4-vinylpyridine N-oxide)、
poly(4-vinylpyridine)、
poly(ethylene oxide-b-propylene oxide)、
"poly(vinyl alcohol), N-methyl-4(4'-formylstyryl)pyridinium methosulfate acetal"、
poly(allyl amine)、
"poly(styrenesulfonic acid/maleic acid), sodium salt"、
poly(methacrylic acid)、
poly(ethylene/acrylic acid)、
poly(ethyl acrylate/acrylic acid)、
poly(acrylic acid)、 
"polypropylene, isotactic"、
"poly(vinyl phosphoric acid), sodium salt"、 
poly(styrenesulfonic acid)、 
poly(N-vinyl acetamide)、
poly(N-vinyl acetamide-co-sodium acrylate)、 
poly(N-methyl-N-vinyl acetamide) homopolymer、 
poly(n-butyl acrylate/2-methacryloxyethyltrimethylammonium bromide)、
"cellulose, ethyl hydroxyethyl ether"、 
poly(vinylsulfonic acid)、 
poly(N-vinylpyrrolidone/vinyl acetate)、 
poly(styrenesulfonic acid/maleic acid)、 
"cellulose, hydroxyethyl ether"、 
"cellulose, methyl hydroxyethyl ether"、 
poly(ethylene oxide)、 
poly(vinyl acetate)、
poly(vinyl methyl ether)、
poly(oxyethylene)、 
poly(vinyl alcohol)、
poly(2-ethyl-2-oxazoline)、
poly(diallyldimethylammonium chloride)、
poly(maleic acid)、
poly(1-glycerol methacrylate)、
poly(butadiene/maleic acid)、および
poly(vinylphosphonic acid)の中から選択されるいずれか一つであることを特徴とする、請求項１に記載のＳＦ６分離用高分子電解質分離膜。
【請求項６】
前記高分子と硝酸塩とのモル比が１：０．５〜０．７の範囲であることを特徴とする、請求項１に記載のＳＦ６分離用高分子電解質分離膜。