(57)【要約】【課題】パーティクルを効率的に減少させることが可能な集塵装置を提供する。【解決手段】実施形態によれば、集塵装置は、第１導電部と、第２導電部と、絶縁部と、制御部と、を含む。前記絶縁部は、前記第１導電部と前記第２導電部との間に設けられる。前記制御部は、前記第１導電部及び前記第２導電部と電気的に接続される。前記制御部は、第１動作と第２動作とを実施する。記第１動作においては、前記制御部は、前記第１導電部の電位を第１電位としつつ前記第２導電部の電位を第２電位とする。前記第２動作においては、前記制御部は、前記第１導電部の電位を第３電位としつつ前記第２導電部の電位を第４電位とする。前記第４電位は、前記第２電位とは異なる。【選択図】図１
2017051919.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１導電部と、
第２導電部と、
前記第１導電部と前記第２導電部との間に設けられた絶縁部と、
前記第１導電部及び前記第２導電部と電気的に接続された制御部と、
を備え、
前記制御部は、第１動作と第２動作とを実施し、
前記第１動作においては、前記制御部は、前記第１導電部の電位を第１電位としつつ前記第２導電部の電位を第２電位とし、
前記第２動作においては、前記制御部は、前記第１導電部の電位を第３電位としつつ前記第２導電部の電位を第４電位とし、
前記第４電位は、前記第２電位とは異なる、集塵装置。
【請求項２】
前記第３電位は、前記第１電位とは異なる、請求項１記載の集塵装置。
【請求項３】
前記第２電位は、前記第１電位よりも低く、
前記第４電位は、前記第３電位よりも高い、請求項１または２に記載の集塵装置。
【請求項４】
前記第１電位は、基準電位よりも高く、
前記第２電位は、前記基準電位よりも低く、
前記第３電位は、前記基準電位よりも低く、
前記第４電位は、前記基準電位よりも高い、請求項１記載の集塵装置。
【請求項５】
前記第４電位は、前記第２電位よりも高く、
前記第３電位は、前記第１電位よりも低い、請求項１または２に記載の集塵装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記第１動作と前記第２動作とを交互に繰り返す、請求項１〜５のいずれか１つに記載の集塵装置。
【請求項７】
前記第１導電部は、前記第１導電部から前記第２導電部に向かう第１方向に沿う第１面を有し、
前記第２導電部は、前記第１方向に沿う第２面を有し、
前記絶縁部は、前記第１方向において前記第１面と重なり、前記第１方向において前記第２面と重なる、請求項１〜６のいずれか１つに記載の集塵装置。
【請求項８】
前記絶縁部は、
前記第１方向において前記第１導電部と重なる重畳領域と、
前記第１方向において前記第１導電部と重ならない非重畳領域と、
を含む、請求項７記載の集塵装置。
【請求項９】
前記第１導電部と対向する部材と、前記第１導電部と、の間の距離、及び、前記部材と、前記第２導電部と、の間の距離の少なくともいずれかを検出する検出部をさらに備え、
前記制御部は、前記検出部で検出された前記距離に応じて、前記第１電位、前記第２電位、前記第３電位及び前記第４電位の少なくともいずれかを変更する、請求項１〜８のいずれか１つに記載の集塵装置。
【請求項１０】
前記制御部は、
前記検出部で検出された前記距離が第１値のときに、前記部材と前記第１導電部との間の電位差を第１電位差とし、
前記検出部で検出された前記距離が第２値のときに、前記部材と前記第１導電部との間の電位差を第２電位差とし、
前記第２値は前記第１値よりも小さく、
前記第２電位差は、前記第１電位差よりも小さい、請求項９記載の集塵装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、集塵装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、半導体装置などの製造に用いられる装置においては、装置のパーティクルが少ないことが望ましい。このような装置内のパーティクルを除去するための集塵装置がある。効果的にパーティクルを除去できる効率的な集塵装置が望まれる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平７−３９７８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の実施形態は、パーティクルを効率的に減少させることが可能な集塵装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の実施形態によれば、集塵装置は、第１導電部と、第２導電部と、絶縁部と、制御部と、を含む。前記絶縁部は、前記第１導電部と前記第２導電部との間に設けられる。前記制御部は、前記第１導電部及び前記第２導電部と電気的に接続される。前記制御部は、第１動作と第２動作とを実施する。記第１動作においては、前記制御部は、前記第１導電部の電位を第１電位としつつ前記第２導電部の電位を第２電位とする。前記第２動作においては、前記制御部は、前記第１導電部の電位を第３電位としつつ前記第２導電部の電位を第４電位とする。前記第４電位は、前記第２電位とは異なる。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】図１（ａ）及び図１（ｂ）は、第１の実施形態に係る集塵装置を例示する模式図である。
【図２】図２は、第１の実施形態に係る集塵装置の使用状態を例示する模式的断面図である。
【図３】図３（ａ）〜図３（ｃ）は、第１の実施形態に係る集塵装置の動作を例示する模式図である。
【図４】図４（ａ）〜図４（ｈ）は、第１の実施形態に係る集塵装置の動作を例示する模式図である。
【図５】図５（ａ）〜図５（ｄ）は、第１の実施形態に係る集塵装置の別の動作を例示する模式図である。
【図６】図６（ａ）及び図６（ｂ）は、第１の実施形態に係る集塵装置の別の動作を例示する模式図である。
【図７】図７（ａ）及び図７（ｂ）は、第１の実施形態に係る集塵装置の別の動作を例示する模式図である。
【図８】図８は、第１の実施形態に係る別の集塵装置を例示する模式的断面図である。
【図９】図９（ａ）及び図９（ｂ）は、第２の実施形態に係る集塵装置を例示する模式的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下に、各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。  
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。  
なお、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
【０００８】
（第１の実施形態）  
図１（ａ）及び図１（ｂ）は、第１の実施形態に係る集塵装置を例示する模式図である。  
図１（ａ）は、斜視図である。図１（ｂ）は、等価回路を示す。
【０００９】
図１（ａ）及び図１（ｂ）に示すように、本実施形態に係る集塵装置１１０は、第１導電部１０と、第２導電部２０と、絶縁部８０と、制御部６０と、を含む。絶縁部８０は、第１導電部１０と第２導電部２０との間に設けられる。制御部６０は、第１導電部１０及び第２導電部２０と電気的に接続される。
【００１０】
第１導電部１０から第２導電部２０に向かう第１方向をＸ軸方向とする。Ｘ軸方向に対して垂直な１つの軸をＺ軸方向とする。Ｘ軸方向とＺ軸方向とに対して垂直な方向をＹ軸方向とする。
【００１１】
第１導電部１０は、第１面１０ｆを有している。第１面１０ｆは、第１方向（第１導電部１０から第２導電部２０に向かうＸ軸方向）に沿う。第１面１０ｆに対して垂直な方向を第２方向とする。第２方向は、例えば、Ｚ軸方向である。
【００１２】
第２導電部２０は、第２面２０ｆを有している。第２面２０ｆは、第１方向に沿う。例えば、第１面１０ｆ及び第２面２０ｆは、平面状である。第２面２０ｆは、第１面１０ｆを含む平面に沿う。
【００１３】
この例では、集塵装置１１０は、第３導電部３０と、第４導電部４０と、をさらに含む。第３導電部３０は、第３方向において、第１導電部１０と並ぶ。第３方向は、第２方向（例えばＺ軸方向）に対して垂直で、第１方向と交差する。第３方向は、例えば、Ｙ軸方向である。
【００１４】
第４導電部４０は、第１方向（Ｘ軸方向）において、第３導電部３０と並ぶ。第４導電部４０は、第３方向（Ｙ軸方向）において、第２導電部２０と並ぶ。
【００１５】
第３導電部３０は、第３面３０ｆを有する。第４導電部４０は、第４面４０ｆを有する。例えば、第３面３０ｆ及び第４面４０ｆは、平面状である。第３面３０ｆは、第１面１０ｆを含む平面に沿う。第４面４０ｆは、第１面１０ｆを含む平面に沿う。
【００１６】
第３導電部３０及び第４導電部４０が設けられる場合において、絶縁部８０は、第１導電部１０と第３導電部３０との間の第１位置ＰＯ１、第２導電部２０と第４導電部４０との間の第２位置ＰＯ２、及び、第３導電部３０と第４導電部４０との間の第３位置ＰＯ３にさらに設けられる。制御部６０は、第３導電部３０と第４導電部４０とさらに電気的に接続される。
【００１７】
第１方向（Ｘ軸方向）を含む平面を第１平面ＰＬ１とする。第１平面ＰＬ１は、例えば、Ｘ−Ｙ平面である。第１平面ＰＬ１は、第２方向（Ｚ軸方向）に対して垂直である。第１導電部１０は、第１平面ＰＬ１（例えばＸ−Ｙ平面）に沿って広がる。第２導電部２０は、第１平面ＰＬ１に沿って広がる。第３導電部３０及び第４導電部４０も、第１平面ＰＬ１に沿って広がる。
【００１８】
上記の導電部の平面形状は、例えば長方形である。絶縁部８０は、２つの導電部の間に設けられたスペースに設けられる。
【００１９】
絶縁性の保持部７０の上に上記の導電部が設けられる。
【００２０】
集塵装置１１０は、第１配線１０Ｃ及び第２配線２０Ｃをさらに含む。第１配線１０Ｃは、第１導電部１０と制御部６０とを電気的に接続する。第２配線２０Ｃは、第２導電部２０と制御部６０とを電気的に接続する。
【００２１】
図１（ｂ）は、制御部６０（例えば駆動回路部）の等価回路を示している。制御部６０は、例えば、５００Ｖ〜１００００Ｖに昇圧可能な回路を含む。制御部６０は、導電部に電圧を加える。
【００２２】
導電部の電圧（電位）により、パーティクルがこれらの導電部に近づき、集められる。
【００２３】
図２は、第１の実施形態に係る集塵装置の使用状態を例示する模式的断面図である。  
図２に示す例においては、集塵装置１１０は、半導体製造装置３１０内のパーティクルを集めるために用いられる。集塵装置１１０は、半導体製造装置３１０内部に設置され、半導体製造装置３１０内部のパーティクルを除去する。
【００２４】
以下、集塵装置１１０の動作の例について説明する。  
図３（ａ）〜図３（ｃ）は、第１の実施形態に係る集塵装置の動作を例示する模式図である。  
図３（ａ）に示すように、集塵装置１１０が、処理の対象の部材３５０に対向している。部材３５０に除去の対象となるパーティクル２１０が付着している。例えば、第１導電部１０及び第２導電部２０の同じ極性の電圧を印加する。Ｚ軸方向に沿った電界が生じる。これにより、パーティクル２１０が集塵装置１１０に向けて移動する。例えば、静電力により、パーティクル２１０が移動する。これにより、パーティクル２１０が除去できる。第１導電部１０及び第２導電部２０の電圧が適切に調整される。電圧の高さを変更することで、パーティクル２１０が移動し易くなる。例えば、電圧の高さを時間的に変化させても良い。パーティクル２１０の移動がより容易になる。
【００２５】
図３（ｂ）に示すように、例えば、第１導電部１０及び第２導電部２０に互いに逆の極性の電圧を印加しても良い。この場合には、Ｘ−Ｙ平面に沿った成分を有する電界（横方向電界）が生じる。パーティクル２１０の移動が、より容易になる場合がある。
【００２６】
図３（ｃ）に示すように、例えば、第１導電部１０及び第２導電部２０に互いに逆の極性の電圧を印加し、これを繰り返しても良い。これにより、パーティクル２１０の移動が、より容易になる場合がある。
【００２７】
実施形態においては、制御部６０は、複数の導電部の電圧をそれぞれ独立して設定しても良い。これにより、図３（ａ）〜図３（ｃ）に示す例の動作を切り替えて実施しても良い。これにより、パーティクル２１０の除去をより効率的に実施できる。
【００２８】
図４（ａ）〜図４（ｈ）は、第１の実施形態に係る集塵装置の動作を例示する模式図である。  
これらの図に示すように、制御部６０は、第１動作ＯＰ１と、第２動作ＯＰ２と、を実施する。
【００２９】
図４（ａ）及び図４（ｂ）に示すように、第１動作ＯＰ１において、制御部６０は、第１導電部１０の電位を第１電位Ｖ１としつつ、第２導電部２０の電位を第２電位Ｖ２とする。第２動作ＯＰ２において、制御部６０は、第１導電部１０の電位を第３電位Ｖ３としつつ、第２導電部２０の電位を第４電位Ｖ４とする。実施形態において、第４電位Ｖ４は、第２電位Ｖ２とは異なる。
【００３０】
この例では、第１電位Ｖ１、第２電位Ｖ２、第３電位Ｖ３及び第４電位Ｖ４は、正である。すなわち、これらの電位は、基準電位（例えば設置電位）よりも高い。実施形態において、第１電位Ｖ１、第２電位Ｖ２、第３電位Ｖ３及び第４電位Ｖ４は、負でも良い。
【００３１】
図４（ｃ）及び図４（ｄ）に示すように、この例では、第４電位Ｖ４は、第２電位Ｖ２とは異なり、第３電位Ｖ３は、第１電位Ｖ１とは異なる。この例においては、第４電位Ｖ４は、第２電位Ｖ２よりも高く、第３電位Ｖ３は、第１電位Ｖ１よりも高い。この例において、第１電位Ｖ１、第２電位Ｖ２、第３電位Ｖ３及び第４電位Ｖ４は、正である。実施形態において、第１電位Ｖ１、第２電位Ｖ２、第３電位Ｖ３及び第４電位Ｖ４は、負でも良い。
【００３２】
図４（ｅ）及び図４（ｆ）に示すように、この例では、第４電位Ｖ４は、第２電位Ｖ２とは異なる。第３電位Ｖ３は、第１電位Ｖ１と実質的に同じである。この例において、第１電位Ｖ１、第２電位Ｖ２及び第３電位Ｖ３は、正であり、第４電位Ｖ４は、負である。実施形態において、第１電位Ｖ１、第２電位Ｖ２及び第３電位Ｖ３が負であり、第４電位Ｖ４が正でも良い。
【００３３】
図４（ｇ）及び図４（ｈ）に示すように、この例では、第４電位Ｖ４は、第２電位Ｖ２とは異なり、第３電位Ｖ３は、第１電位Ｖ１とは異なる。この例において、第１電位Ｖ１及び第２電位Ｖ２は、正であり、第３電位Ｖ３及び第４電位Ｖ４は、負である。実施形態において、第１電位Ｖ１及び第２電位Ｖ２が負であり、第３電位Ｖ３及び第４電位Ｖ４が正でも良い。第４電位Ｖ４は、第３電位Ｖ３とは異なる。
【００３４】
第２電位Ｖ２が第１電位Ｖ１とは異なる場合、横方向電界が利用できる。第４電位Ｖ４が第３電位Ｖ３とは異なる場合、横方向電界が利用できる。
【００３５】
図５（ａ）〜図５（ｄ）は、第１の実施形態に係る集塵装置の別の動作を例示する模式図である。  
図５（ａ）及び図５（ｂ）に示すように、第２電位Ｖ２は、第１電位Ｖ１よりも低く、第４電位Ｖ４は、第３電位Ｖ３よりも高い。すなわち、第１動作ＯＰ１において横方向電界が加わり、第２動作ＯＰ２においても、横方向電界が加わる。この例では、第１電位Ｖ１は、基準電位Ｖｓ（例えば、接地電位など）よりも高い。第２電位Ｖ２は、基準電位Ｖｓよりも低い。第３電位Ｖ３は、基準電位Ｖｓよりも低い。第４電位Ｖ４は、基準電位Ｖｓよりも高い。横方向電界を利用することで、効率的にパーティクル２１０を除去できる。第１電位Ｖ１と第２電位Ｖ２とで、極性を反転しても良い。第３電位Ｖ３と第４電位Ｖ４とで、極性を反転しても良い。
【００３６】
図５（ｃ）及び図５（ｄ）に示す例においても第２電位Ｖ２は、第１電位Ｖ１よりも低く、第４電位Ｖ４は、第３電位Ｖ３よりも高い。この例では、第１電位Ｖ１、第２電位Ｖ２、第３電位Ｖ３、及び、第４電位Ｖ４は、基準電位Ｖｓよりも高い。実施形態において、第１電位Ｖ１、第２電位Ｖ２、第３電位Ｖ３、及び、第４電位Ｖ４は、基準電位Ｖｓよりも低くても良い。
【００３７】
実施形態において、第１導電部１０の電位（電圧）、及び、第２導電部２０の電位（電圧）のそれぞれを変更することで、目的とするパーティクル２１０の特性に合わせた電界を用いることができる。これにより、効率的にパーティクル２１０を除去できる。
【００３８】
さらに、制御部６０は、上記の第１動作ＯＰ１と第２動作ＯＰ２とを交互に繰り返しても良い。さらに、繰り返しの周期を変更しても良い。動作を繰り返すことで、振動する電界が印加できる。これにより、より効果的にパーティクル２１０を除去できる。
【００３９】
図６（ａ）及び図６（ｂ）は、第１の実施形態に係る集塵装置の別の動作を例示する模式図である。  
これらの図は、第１導電部１０及び第２導電部２０に加えて、第３導電部３０及び第４導電部４０の状態を例示している。
【００４０】
第１動作ＯＰ１において、制御部６０は、第１導電部１０の電位を第１電位Ｖ１としつつ、第２導電部２０の電位を第２電位Ｖ２とする。さらに、制御部６０は、第１動作ＯＰ１において、第３導電部３０の電位を第５電位Ｖ５としつつ、第４導電部４０の電位を第６電位Ｖ６とする。
【００４１】
第２動作ＯＰ２において、制御部６０は、第１導電部１０の電位を第３電位Ｖ３としつつ、第２導電部２０の電位を第４電位Ｖ４とする。さらに、制御部６０は、第２動作ＯＰ２において、第３導電部３０の電位を第７電位Ｖ７としつつ、第４導電部４０の電位を第８電位Ｖ８とする。
【００４２】
実施形態において、第４電位Ｖ４は、第２電位Ｖ２とは異なる。そして、第８電位Ｖ８は第６電位Ｖ６とは異なる。第３電位Ｖ３は、第１電位Ｖ１とは異なる。そして、第７電位Ｖ７は第５電位Ｖ５とは異なる。
【００４３】
この例では、第２電位Ｖ２は、第１電位Ｖ１よりも低い。第４電位Ｖ４は、第３電位Ｖ３よりも高い。第６電位Ｖ６は、第５電位Ｖ５よりも高い。第８電位Ｖ８は、第７電位Ｖ７よりも低い。
【００４４】
例えば、第１動作ＯＰ１において、第１電位Ｖ１は、基準電位Ｖｓよりも高い。第２電位Ｖ２は、基準電位Ｖｓよりも低い。第５電位Ｖ５は、基準電位Ｖｓよりも低い。第６電位Ｖ６は、基準電位Ｖｓよりも高い。
【００４５】
第２動作ＯＰ２において、第３電位Ｖ３は、基準電位Ｖｓよりも低い。第４電位Ｖ４は、基準電位Ｖｓよりも高い。第７電位Ｖ７は、基準電位Ｖｓよりも高い。第８電位Ｖ８は、基準電位Ｖｓよりも低い。
【００４６】
例えば、第１導電部１０及び第２導電部２０を用いて、第１方向（Ｘ軸方向）に沿った横電界を加えることができる。さらに、第３導電部３０との間及び第４導電部４０を設けることで、第１導電部１０と第３導電部３０との間、及び、第２導電部２０と第４導電部４０との間に、横電界を印加することができる。これにより、パーティクル２１０をより効率的に除去できる。
【００４７】
図７（ａ）及び図７（ｂ）は、第１の実施形態に係る集塵装置の別の動作を例示する模式図である。  
図７（ａ）及び図７（ｂ）に示す例においては、第２電位Ｖ２は、第１電位Ｖ１よりも低く、第４電位Ｖ４は、第３電位Ｖ３よりも高い。第８電位Ｖ８は、第６電位Ｖ６よりも低く、第７電位Ｖ７は、第５電位Ｖ５よりも高い。この例においても、横電界を利用することで、これにより、パーティクル２１０をより効率的に除去できる。
【００４８】
以下、絶縁部８０の高さの例について説明する。  
図１（ｂ）に示したように、集塵装置１１０においては、絶縁部８０の頂部８０ａの高さ位置は、導電部の頂部の高さ位置と実質的に同じである。すなわち、第１導電部１０は、第１面１０ｆを有し、第２導電部２０は、第２面２０ｆを有する。第１面１０ｆは、第１方向（第１導電部１０から第２導電部２０に向かうＸ軸方向）に沿う。第２面２０ｆは、第１方向に沿う。絶縁部８０は、第１方向（Ｘ軸方向）において、第１面１０ｆと重なり、第１方向において、第２面２０ｆと重なる。絶縁部８０の頂部８０ａは、第１方向において第１面１０ｆと重なり、第１方向において第２面２０ｆと重なる。
【００４９】
以下の例のように、絶縁部８０の高さは、導電部の高さよりも高くても良い。  
図８は、第１の実施形態に係る別の集塵装置を例示する模式的断面図である。  
図８に示すように、本実施形態に係る別の集塵装置１１１においては、絶縁部８０は、重畳領域８０Ｌと、非重畳領域８０Ｎと、を含む。重畳領域８０Ｌは、第１方向（Ｘ軸方向）において、第１導電部１０と重なる。非重畳領域８０Ｎは、第１方向において第１導電部１０と重ならない。非重畳領域８０Ｎは、突出領域である。このように、絶縁部８０の頂部８０ａの高さが、導電部の高さよりも高い。これにより、第１導電部１０と第２導電部２０との間における放電が抑制できる。これにより、放電しないで加えられる電圧の条件が広がる。これにより、パーティクル２１０の除去により適した条件の電圧を導電部に加えることができる。より効果的にパーティクル２１０を除去できる。
【００５０】
非重畳領域８０Ｎの長さＬＮは、第１面１０ｆに対して垂直な第２方向（Ｚ軸方向）に沿った長さである。この長さＬＮは、例えば、０．０１ｍｍ以上である。
【００５１】
実施形態において、導電部の厚さ（例えば、厚さｔ１０）は、例えば、１０ｍｍ以下である。
【００５２】
実施形態において、第１導電部１０と第２導電部２０との間の間隔ＬＳは、例えば、０．０１ｍｍ以上である。
【００５３】
第１導電部１０のＸ軸方向の長さは、例えば、１ｍｍ以上５００ｍｍ以下である。他の導電部の長さも、例えば、同様である。
【００５４】
導電部には、例えば金属膜が用いられる。
【００５５】
絶縁部８０には、例えば、金属の酸化物、金属の窒化物、または、金属の酸窒化物などが用いられる。
【００５６】
保持部７０には、例えば、ガラス、または、セラミックなどが用いられる。保持部７０には、例えば、金属の酸化物、金属の窒化物、または、金属の酸窒化物などを用いても良い。
【００５７】
（第２の実施形態）  
図９（ａ）及び図９（ｂ）は、第２の実施形態に係る集塵装置を例示する模式的断面図である。  
図９（ａ）は、第１動作ＯＰ１に対応し、図９（ｂ）は、第２動作ＯＰ２に対応する。
【００５８】
図９（ａ）及び図９（ｂ）に示すように、本実施形態に係る集塵装置１１２は、第１導電部１０、第２導電部２０、絶縁部８０及び制御部６０に加えて、検出部５０を含む。第１導電部１０、第２導電部２０、絶縁部８０及び制御部６０については、例えば、第１の実施形態について説明したのと同様である。以下、検出部５０について、説明する。
【００５９】
検出部５０は、第１導電部１０と対向する部材３５０と、第１導電部１０と、の間の距離、及び、部材３５０と、第２導電部２０と、の間の距離の少なくともいずれかを検出する。検出部５０は、例えば、光学手法、電波手法、音波手法、磁気手法などの種々の手法により、部材３５０と導電部との間の距離を検出する。
【００６０】
制御部６０は、検出部５０で検出された距離に応じて、第１電位Ｖ１、第２電位Ｖ２、第３電位Ｖ３及び第４電位Ｖ４の少なくともいずれかを変更する。
【００６１】
図９（ａ）に示すように、部材３５０の表面は平坦である場合、第１導電部１０が第１電位Ｖ１とされ、第２導電部２０が第２電位Ｖ２とされる。これらの電位は、例えば、正の電位であり、例えば、５００Ｖである。この動作が、例えば第１動作ＯＰ１である。
【００６２】
図９（ｂ）に示すように、部材３５０の表面に突起３５０ｐが存在する。このとき、検出部５０により、部材３５０（突起３５０ｐ）と、第１導電部１０と、の間の距離、及び、部材３５０（突起３５０ｐ）と、第２導電部２０と、の間の距離の少なくともいずれかが検出される。例えば、この距離が、予め定めた距離（しきい値）よりも短いときには、例えば、導電部の電位を変更する。この例では、第１導電部１０の第３電位Ｖ３は、５００Ｖであるが、突起３５０ｐに対向する第２導電部２０の第４電位Ｖ４は、０Ｖとされる。この動作が、例えば、第２動作ＯＰ２に対応する。
【００６３】
例えば、突起３５０ｐが存在することで、導電部と部材３５０との間の局所的に短くなる。放電が生じやすくなる。実施形態においては、距離に応じて、電圧を変更する。これにより、突起３５０ｐがない部分において、パーティクル２１０の除去により適した条件の電圧を導電部に印加できる。これにより、パーティクル２１０の除去がより効率的に実施できる。
【００６４】
例えば、制御部６０は、検出部５０で検出された距離が第１値のときに、部材３５０と第１導電部１０（第２導電部２０でも良い）との間の電位差を第１電位差とする。そして、制御部６０は、検出部５０で検出された距離が第２値のときに、部材３５０と第１導電部１０（第２導電部２０でも良い）との間の電位差を第２電位差とする。例えば、第２値は第１値よりも小さい。このとき、第２電位差は、第１電位差よりも小さい。すなわち、突起３５０ｐなどにより、距離が短くなったときに、電位差を小さくする。これにより、パーティクル２１０の除去がより効率的に実施できる。
【００６５】
実施形態によれば、パーティクルを効率的に減少させることが可能な集塵装置が提供される。
【００６６】
なお、本願明細書において、「垂直」及び「平行」は、厳密な垂直及び厳密な平行だけではなく、例えば製造工程におけるばらつきなどを含むものであり、実質的に垂直及び実質的に平行であれば良い。
【００６７】
以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明の実施形態は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、集塵装置に含まれる導電部、絶縁部、制御部、保持部及び検出部などの各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。
【００６８】
また、各具体例のいずれか２つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。
【００６９】
その他、本発明の実施の形態として上述した集塵装置を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての集塵装置も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。
【００７０】
その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。
【００７１】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００７２】
１０、２０、３０、４０…第１〜第４導電部、  １０Ｃ…第１配線、  １０ｆ、２０ｆ、３０ｆ、４０ｆ…第１〜第４面、  ２０Ｃ…第２配線、  ５０…検出部、  ６０…制御部、  ７０…保持部、  ８０…絶縁部、  ８０Ｌ…重畳領域、  ８０Ｎ…非重畳領域、  ８０ａ…頂部、  １１０、１１１、１１２…集塵装置、  ２１０…パーティクル、  ３１０…半導体製造装置、  ３５０…部材、  ３５０ｐ…突起、  ＬＮ…長さ、  ＬＳ…間隔、  ＯＰ１、ＯＰ２…第１、第２動作、  ＰＬ１…第１平面、  ＰＯ１、ＰＯ２、ＰＯ３…第１〜第３位置、  Ｖ１〜Ｖ８…第１〜第８電位、  Ｖｏ…電圧、  Ｖｓ…基準電圧、  ｔ１０…厚さ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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