(57)【要約】      （修正有）【課題】高い光取出し効率と高い発光均一性の両方を有する有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス素子３０は、基板１０と、構造層１と、バリア層２と、第１電極層３と、発光層を含む機能層４と、第２電極層５がこの順に積層され、基板は透過性を有し、構造層はバリア層側の面に形成された非周期的な凹凸部と平面部とを有し、第１電極は透過性を有する。構造層において、凹凸部の幅に対する高さの比は１／５から１／１０であり、平面部の面積に対する凹凸部の面積の比は１／９から４／６であり、凹凸部の高さは３０ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることが好ましい。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、構造層と、バリア層と、第１電極層と、発光層を含む機能層と、第２電極層がこの順に積層され、
前記基板は透過性を有し、
前記構造層はバリア層側の面に形成された非周期的な凹凸部と平面部とを有し、
前記第１電極は透過性を有する
有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項２】
前記凹凸部の幅に対する高さの比（前記高さ／前記幅）は、１／５から１／１０である
請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項３】
前記平面部の面積に対する前記凹凸部の面積の比（前記凹凸部の面積／前記平面部の面積）は、１／９から４／６である
請求項１又は２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項４】
前記凹凸部の高さは、３０ｎｍ以上４００ｎｍ以下である
請求項１から３のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項５】
前記基板の前記構造層形成面とは反対側の面に設けられた光取出しレンズ層を備える
請求項１から４のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を少なくとも一部に有する照明装置。
【請求項７】
請求項１から５のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を少なくとも一部に有する面状光源。
【請求項８】
請求項１から５のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を少なくとも一部に有する表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子、並びに照明装置、面状光源及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、照明装置や表示装置等に用いられる次世代発光デバイスとして、有機材料の電界発光現象である有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ：Electro Luminescence、以下有機ＥＬという）現象を利用した発光素子（有機ＥＬ素子）が大きな注目を集めている。有機ＥＬ素子は、面発光が可能、低温動作が可能、低コスト化が可能、軽量化が可能、フレキシブルな素子作製が可能、などの利点がある。
有機ＥＬ素子は、一般的に、有機発光材料を含有する発光層を含む有機ＥＬ層と、有機ＥＬ層の両面にそれぞれ設けられた陽極及び陰極を備えている。有機ＥＬ層としては、発光層の他、必要に応じて電子輸送層、ホール輸送層などが設けられる。有機ＥＬ素子は、ガラス基板等の透明な基板上に順次形成された、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide：酸化インジウム・スズ）等の透明導電材料からなる陽極、発光層を含む有機ＥＬ層、金属からなる陰極を備えている。有機ＥＬ素子には、基板側から光が取り出されるボトムエミッション型の素子や、基板上に陰極、有機ＥＬ層、陽極が順次形成され、基板側とは反対側から光が取り出されるトップエミッション型の素子などがある。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、上述の利点の他、視野角依存性が少ない、消費電力が少ない、極めて薄いものができる等の利点がある一方、光取出し効率が低いという問題がある。光取出し効率は、発光層から出射した光エネルギーに対する、光の取出し面（たとえばボトムエミッション型の場合は基板面）から大気中に放出される光エネルギーの割合である。たとえば発光層からの光は全方向に出射するため、その多くが屈折率の違う複数の層の界面で全反射を繰り返す導波モードとなり、層間を導波するうちに熱に変わったり側面から放出されたりして光取出し効率が低下する。
【０００４】
また、有機ＥＬ素子では、発光層と金属である陰極との間の距離が近いことから、発光層からの近接場光の一部は陰極の表面で表面プラズモンに変換されて失われ、光取出し効率が低下する。光取出し効率は、有機ＥＬ素子を備えたディスプレイ、照明等の明るさに影響することから、その改善のために種々の方法が検討されている。
光取出し効率を改善する方法の一つとして、集光性を示す集光層が設けられたガラス基板を用いた有機ＥＬ素子がある。例えば、以下の特許文献１には、マイクロレンズなどの集光性構造物と、集光性構造物を覆う透明性樹脂とから成る集光層が開示されている。特許文献１では、透明性樹脂として、集光性構造物よりも屈折率が高い材料が用いられている。このような集光層をガラス基板上に設けることで、ガラス基板の表面で生じる全反射を抑制し、光取出し効率の向上を図っている。
【０００５】
また、光取出し効率を改善する方法の一つとして、表面プラズモン共鳴を利用する方法が提案されている。例えば、以下の特許文献２には、金属層（陰極）の表面に１次元又は２次元の周期的微細構造を設ける方法が開示されている。これらの方法において、周期的微細構造は、回折格子として機能する。これにより、陰極表面で表面プラズモンとして失われていたエネルギーが光として取り出され、光取出し効率が向上する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−８６３５３号公報
【特許文献２】特許第４７６２５４２号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上述したような集光層をガラス基板に設けたとしても、集光層とガラス基板との界面で全反射が生じるので、有機ＥＬ素子からの光取出し効率が十分に高いとは必ずしもいえない。また、上述したような周期的微細構造を金属層に設ける場合、実際に有機ＥＬ素子を製造する上では凹凸構造に起因するリーク電極の発生、積層する各層の不均一による発光むら及び経時安定性の低下の問題もあった。このため、理論上効率の良い周期的な構造を設けたとしても、有機ＥＬ素子を安定的に製造することが可能とは限らなかった。一方で、有機ＥＬ照明の省電力化やフレキシブル化に向けて、光取出し効率のさらに高い有機ＥＬ素子が求められている。
【０００８】
本発明の目的は、高い光取出し効率と高い発光均一性の両方を有する有機エレクトロルミネッセンス素子、並びに照明装置、面状光源及び表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明の一態様に係る有機エレクトロルミネッセンス素子は、基板と、構造層と、バリア層と、第１電極層と、発光層を含む機能層と、第２電極層がこの順に積層され、基板は透過性を有し、構造層はバリア層側の面に形成された非周期的な凹凸部と平面部とを有し、第１電極は透過性を有することを特徴とする。
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明の一態様に係る照明装置は、上述した有機エレクトロルミネッセンス素子を少なくとも一部に有することを特徴とする。
上記目的を達成するために、本発明の一態様に係る面状光源は、上述した有機エレクトロルミネッセンス素子を少なくとも一部に有することを特徴とする。
上記目的を達成するために、本発明の一態様に係る表示装置は、上述した有機エレクトロルミネッセンス素子を少なくとも一部に有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の一態様によれば、有機エレクトロルミネッセンス素子、並びに照明装置、面状光源及び表示装置が高い光取出し効率と高い発光均一性の両方を有する。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施の一形態の有機ＥＬ素子を概略的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の有機ＥＬ素子の実施の一形態について説明する。図１に示すように、本発明の有機ＥＬ素子３０は、基板１０と、構造層１と、バリア層２と、第１電極層３と、発光層を含む機能層４と、第２電極層５がこの順に積層されている。基板１０は透過性を有している（以下、透過性基板１０と記載する）。構造層１は、バリア層２側の面に形成された非周期的な凹凸部と平面部とを有している。第１電極３は、透過性を有している。また、図１に示すように、本発明の有機ＥＬ素子３０は、透過性基板１０の構造層１形成面とは反対側の面に設けられた光取出しレンズ層４３を備える。透過性基板１０、構造層１、バリア層２及び第１電極層３は、光取出し基板２０を構成する。
以下、有機ＥＬ素子３０を構成する各部について詳細に説明する。
【００１４】
〔透過性基板〕
透過性基板１０は、可視光領域において透過する板状部材であればよく、ガラス、プラスチック等の種類には特に限定はない。透過性基板１０として、好ましくはガラス板、ポリマー板、樹脂フィルム等を挙げることができる。
ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。
ポリマー板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等を挙げることができる。
【００１５】
樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート（ＴＡＣ）、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類又はそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリルあるいはポリアリレート類、シクロオレフィン系樹脂等を挙げられる。
【００１６】
樹脂フィルムの表面には、無機物、有機物の被膜又はその両者のハイブリッド被膜が形成されていてもよく、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定された、水蒸気透過度（２５±０．５℃、相対湿度（９０±２）％ＲＨ）が０．０１ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下のバリア性フィルムであることが好ましく、更には、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６−１９８７に準拠した方法で測定された酸素透過度が１．０×１０−３ｃｍ３／（ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ）以下、水蒸気透過度が１．０×１０−３ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下の高バリア性フィルムであることが好ましく、前記の水蒸気透過度が１．０×１０−５ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下であることが更に好ましい。
【００１７】
バリア膜を形成する材料としては、水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素等を用いることができる。更にバリア膜の脆弱性を改良するために、これら無機層と有機材料からなる有機層の積層構造を持たせることがより好ましい。無機層と有機層の積層順については特に制限はないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。
【００１８】
バリア膜の形成方法については特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法等を用いることができるが、特開２００４−６８１４３号公報に記載されているような大気圧プラズマ重合法によるものが特に好ましい。
【００１９】
〔光取出しレンズ層〕
透過性基板１０上の構造層１形成面の裏面側には、光散乱あるいは集光層として光取出しレンズ層４３が適宜設けられている。光取出しレンズ層４３は、透過性シート４２と、透過性シート４２の一方の面に設けられたレンズ層４１とを備えている。レンズ層４１は、透過性シート４２の一方の面をマイクロレンズアレイ状の構造に形成したものであっても良く、また、いわゆる集光シートを用いてもよい。これにより、光取出しレンズ層４３によって、特定方向、例えば、素子発光面に対し正面方向に集光して特定方向上の輝度を高めることができる。
【００２０】
光取出しレンズ層４３を構成する樹脂材料としては、例えば低密度又は高密度のポリエチレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−ヘキセン共重合体、エチレン−オクテン共重合体、エチレン−ノルボルネン共重合体、エチレン−ドモン共重合体、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−メチルメタクリレート共重合体、アイオノマー樹脂などのポリオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂；ナイロン−６、ナイロン−６，６、メタキシレンジアミン−アジピン酸縮重合体；ポリメチルメタクリルイミドなどのアミド系樹脂；ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂；ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリアクリロニトリルなどのスチレン−アクリロニトリル系樹脂；トリ酢酸セルロース、ジ酢酸セルロースなどの疎水化セルロース系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレンなどのハロゲン含有樹脂；ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、セルロース誘導体などの水素結合性樹脂；ポリカーボネート樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリメチレンオキシド樹脂、ポリアリレート樹脂、液晶樹脂などのエンジニアリングプラスチック系樹脂などが挙げられる。
【００２１】
光取出しレンズ層４３は、上述した樹脂材料に微粒子を添加して、光散乱効果をさらに向上させてよい。光取出しレンズ層４３に含まれる微粒子としては、無機微粒子又は有機微粒子を使用できる。
例えば、微粒子としては、アクリル系粒子、スチレン粒子、スチレンアクリル粒子及びその架橋体、メラミン―ホルマリン縮合物の粒子、ポリウレタン系粒子、ポリエステル系粒子、シリコーン系粒子、フッ素系粒子、これらの共重合体、スメクタイト、カオリナイト、タルクなどの粘土化合物粒子、シリカ、酸化チタン、アルミナ、シリカアルミナ、ジルコニア、酸化亜鉛、酸化バリウム、酸化ストロンチウムなどの無機酸化物粒子、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、塩化バリウム、硫酸バリウム、硝酸バリウム、水酸化バリウム、水酸化アルミニウム、炭酸ストロンチウム、塩化ストロンチウム、硫酸ストロンチウム、硝酸ストロンチウム、水酸化ストロンチウム、ガラス粒子などの無機微粒子等を挙げることができる。
【００２２】
〔構造層〕
構造層１は、透過性基板１０上の光出射面（図１に示す光取出しレンズ層４３の貼合面）とは反対側に設けられる。構造層１は、バリア層２側の面に形成された非周期的な凹凸部と平面部とを有している。すなわち、構造層１は、構造層１のバリア層２側面の一部が凹凸部とされており、残りの部分が平面部とされている。凹凸部は、平面部に対して凹形状か凸形状のいずれかとなるように形成されている。
構造層１のバリア層２側の面に凹凸部と平面部とが形成されることにより、バリア層２を介して形成される第１電極層３の形状が構造層１表面の形状に追随する。また、これにより、第１電極層３上に機能層４及び第２電極層５を積層すると、第１電極層３の表面形状に追随して第２電極層５の機能層４側面にも凹凸が反転した反転凹凸部及び平面部が形成される。第２電極層５の機能層４側面に形成された反転凹凸部により、プラズモン吸収を抑制することができる。また、第２電極層５に形成された平面部によって出射光の一部を反射するため、光取出し効率が改善される。
【００２３】
凹凸部の幅に対する高さの比（高さ／幅）は、１／５から１／１０の範囲であることが好ましい。構造層１上にの各層を構成しやすいためである。ここで、平面部に対して凹形状となるように凹凸部が形成されている場合、「凹凸部の幅に対する高さの比」とは、凹凸部を構成する凹部の幅に対する高さの比をいう。また、平面部に対して凸形状となるように凹凸部が形成されている場合、「凹凸部の幅に対する高さの比」とは、凹凸部を構成する凸部の幅に対する高さの比をいう。
凸部の幅に対する高さの比が１／５から１／１０の範囲外であると、凹凸部の斜面が切り立つような形状であったり、微細な面と面の境界が明確となるような形状であったり、凹凸の周期が細かく頂部や溝部が点状に近い形状となる。このため、特に、構造層１上に、バリア層２、第１電極層３、機能層４及び第２電極層５の少なくとも１つを形成する方法としてスパッタ法や蒸着法を選択する場合、その周辺部と同様の均一な膜が形成されにくくなる。
【００２４】
また、構造層１の平面部の面積に対する凹凸部の面積の比（凹凸部の面積／平面部の面積）は、１／９から４／６であることが好ましい。面積比が１／９より小さい場合は、凹凸部が少なく、その光学的な効果が光取出し効率に反映されない。また、面積比が４／６より大きい場合は、平面部が少なく、第２電極の反射率が大幅に低下し、結果光取出し効率が低減する。
【００２５】
さらに、構造層１の凹凸部の高さは、３０ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることが好ましい。凹凸部の高さが３０ｎｍより小さい場合は、表面プラズモン共鳴の効果が得られない。凹凸部の高さが４００ｎｍより大きい場合は、機能層の全体の高さを超えるので、ショートの原因となり、発光不良が発生する。
【００２６】
構造層１を構成する材料としては、樹脂が好ましい。樹脂は、例えば低密度又は高密度のポリエチレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−ヘキセン共重合体、エチレン−オクテン共重合体、エチレン−ノルボルネン共重合体、エチレン−ドモン共重合体、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−メチルメタクリレート共重合体、アイオノマー樹脂などのポリオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂；ナイロン−６、ナイロン−６，６、メタキシレンジアミン−アジピン酸縮重合体；ポリメチルメタクリルイミドなどのアミド系樹脂；ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂；ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリアクリロニトリルなどのスチレン−アクリロニトリル系樹脂；トリ酢酸セルロース、ジ酢酸セルロースなどの疎水化セルロース系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレンなどのハロゲン含有樹脂；ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、セルロース誘導体などの水素結合性樹脂；ポリカーボネート樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリメチレンオキシド樹脂、ポリアリレート樹脂、液晶樹脂などのエンジニアリングプラスチック系樹脂などが挙げられる。
【００２７】
構造層には、微粒子を添加して、屈折率の調整や光散乱効果を有してもよく、無機微粒子又は有機微粒子からなる粒子を使用できる。
例えば、アクリル系粒子、スチレン粒子、スチレンアクリル粒子及びその架橋体、メラミン―ホルマリン縮合物の粒子、ポリウレタン系粒子、ポリエステル系粒子、シリコーン系粒子、フッ素系粒子、これらの共重合体、スメクタイト、カオリナイト、タルクなどの粘土化合物粒子、シリカ、酸化チタン、アルミナ、シリカアルミナ、ジルコニア、酸化亜鉛、酸化バリウム、酸化ストロンチウムなどの無機酸化物粒子、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、塩化バリウム、硫酸バリウム、硝酸バリウム、水酸化バリウム、水酸化アルミニウム、炭酸ストロンチウム、塩化ストロンチウム、硫酸ストロンチウム、硝酸ストロンチウム、水酸化ストロンチウム、ガラス粒子などの無機微粒子等を挙げることができる。
【００２８】
〔バリア層〕
バリア層２は、構造層１の透過性基板１０側面と反対側の面に設けられる。バリア層２は、水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する層である。特に、バリア層２が設けられることにより、構造層１と第１電極層３との密着性が向上する。これは、構造層１と第１電極層３との間にバリア層２があることにより、第１電極層３の成膜時に第１電極層３が構造層１からのアウトガスの影響を受けず、第１電極層３の膜質が向上するためである。第１電極層３の膜質が向上することにより、有機ＥＬ素子３０の初期の欠陥（例えばダークスポット）を減少させることができる。このため、バリア層２を設けることにより、有機ＥＬ素子３０の経時安定性を向上させることができる。
バリア層２は、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素等が用いられる。
バリア層２の形成方法については特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法等を用いることができるが、次に積層する透明電極と合わせた形成方法で連続的に成膜できることが好ましい。
【００２９】
バリア層２の厚みは、例えば２ｎｍ以上５０ｎｍ以下、好ましくは２ｎｍ以上２０ｎｍ以下である。バリア層２を設けることによる水分等の浸入防止効果を得るために、バリア層２は比較的厚い膜とすることが好ましい。一方、光学的には、バリア層２の屈折率の方が構造層１の屈折率より低くなる場合は
全反射光による低減を抑制するために薄い膜が好ましい。しかしながら、２ｎｍより薄くなると、構造層の表面に均一に成膜できないために好ましくない。
【００３０】
〔電極層〕
以下、第１電極層３及び第２電極層５について説明する。なお、以下、第１電極層３が陽極、第２電極層５が陰極であるものとして説明する。
（第１電極層：陽極）
第１電極層３は、透過性を有している。
【００３１】
第１電極層３である陽極の材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、導電性化合物、又はこれらの混合物が好適に挙げられる。陽極材料の具体例としては、アンチモンやフッ素等をドープした酸化錫（ＡＴＯ、ＦＴＯ）、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化亜鉛インジウム（ＩＺＯ）等の導電性金属酸化物、金、銀、クロム、ニッケル等の金属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物又は積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、及びこれらとＩＴＯとの積層物などが挙げられる。中でも、陽極の材料として導電性金属酸化物が好ましく、特に、生産性、高導電性、透明性等の点からはＩＴＯが好ましい。
【００３２】
陽極は、例えば、印刷方式、コーティング方式等の湿式方式、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的方式、ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ法等の化学的方式などの中から、陽極を構成する材料との適性を考慮して適宜選択した方法に従って、基板上に形成することができる。例えば、陽極の材料として、ＩＴＯを選択する場合には、陽極の形成は、直流又は高周波スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等に従って行うことができる。
【００３３】
なお、陽極を形成する際のパターニングとしては、フォトリソグラフィーなどによる化学的エッチングによって行ってもよいし、レーザーなどによる物理的エッチングによって行ってもよく、また、マスクを重ねて真空蒸着やスパッタ等をして行ってもよいし、リフトオフ法や印刷法によって行ってもよい。
陽極より発光を取り出す場合には、透過率を１０％より大きくすることが望ましく、また陽極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましい。更に膜厚は材料にもよるが、通常は、１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の範囲であり、好ましくは１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲で選ばれる。
【００３４】
（陰極）
第２電極層５である陰極の材料としては、例えば、仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）金属（電子注入性金属と称する）、合金電気伝導性化合物及びこれらの混合物が好適に挙げられる。陰極材料の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム／銅混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）混合物、インジウム、リチウム／アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。中でも、電子注入性及び酸化等に対する耐久性の点から、陰極の材料として、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えば、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）混合物、リチウム／アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。
【００３５】
陰極は、蒸着やスパッタリング等の方法により陰極材料からなる薄膜を形成させることにより、作製することができる。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましく、膜厚は通常１０ｎｍ以上５μｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲で選ばれる。
【００３６】
〔機能層〕
機能層４は、発光層を含む層であり、第１電極層３と第２電極層５との間に設けられる層である。第１電極層３、機能層４及び第２電極層５は、様々な積層構成とすることができる。
以下、具体的に第１電極層３、機能層４及び第２電極層５の積層構造を説明する。なお、機能層４の構成及び第１電極層３、機能層４及び第２電極層５の積層構成は、以下の構成ａ）〜ｐ）に限定されない。
【００３７】
ａ）陽極／発光層／陰極
ｂ）陽極／正孔注入層／発光層／陰極
ｃ）陽極／正孔注入層／発光層／電子注入層／陰極
ｄ）陽極／正孔注入層／発光層／電子輸送層／陰極
ｅ）陽極／正孔注入層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ｆ）陽極／正孔輸送層／発光層／陰極
ｇ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
ｈ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
ｉ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ｊ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／陰極
ｋ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
ｌ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
ｍ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ｎ）陽極／発光層／電子注入層／陰極
ｏ）陽極／発光層／電子輸送層／陰極
ｐ）陽極／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ここで、記号「／」は、記号「／」を挟む各層が隣接して積層されていることを示す。
【００３８】
機能層４を構成する各層について説明する。
（発光層）
発光層は、電極又は電子輸送層、正孔輸送層から注入されてくる電子及び正孔が再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内であってもよく、発光層と隣接層との界面であってもよい。
発光層の膜厚の総和は特に制限はないが、２ｎｍ以上５μｍ以下とすることが好ましく、２ｎｍ以上２００ｎｍ以下とすることがより好ましく、１０ｎｍ以上２０ｎｍ以下の範囲とすることが特に好ましい。膜の均質性や発光時に不必要な高電圧を印加するのを防止し、且つ駆動電流に対する発光色の安定性が向上するためである。
【００３９】
発光層は、青色発光層、緑色発光層及び赤色発光層の少なくとも１層である。有機ＥＬ素子３０において、青色発光層は発光極大波長が４３０ｎｍ〜４８０ｎｍ、緑色発光層は発光極大波長が５１０ｎｍ〜５５０ｎｍ、赤色発光層は発光極大波長が６００ｎｍ〜６４０ｎｍの範囲にある単色発光層であることが好ましい。
また、発光層は、これらの少なくとも３層の発光層（青色発光層、緑色発光層、赤色発光層）を積層して白色発光層とした層であってもよい。更に、複数の発光層を積層する場合には、発光層間に非発光性の中間層が設けられていてもよい。本発明の有機ＥＬ素子３０としては、発光層が白色発光層であることが好ましい。また、照明装置は、白色発光層を含むことが好ましい。
【００４０】
発光層は、発光ホスト化合物と、リン光ドーパントや蛍光ドーパント等の発光性ドーパント化合物を含有する。
発光ホスト化合物としては、代表的にはカルバゾール誘導体、トリアリールアミン誘導体、芳香族誘導体、含窒素複素環化合物、チオフェン誘導体、フラン誘導体、オリゴアリーレン化合物等の基本骨格を有するもの、又は、カルボリン誘導体やジアザカルバゾール誘導体等が挙げられる。
蛍光ドーパント化合物としては、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素、又は希土類錯体系蛍光体等が挙げられる。
【００４１】
（注入層：正孔注入層、電子注入層）
注入層は、駆動電圧低下や発光輝度向上のために、必要に応じて電極と有機層との間に設けられる層である。注入層には、正孔注入層（陽極バッファー層）と電子注入層（陰極バッファー層）とがある。
正孔注入層は、上述したように、陽極と発光層との間に設けられる（例えば、層構成ｂ）、ｃ）、ｄ）、ｅ））か、又は陽極と正孔輸送層との間（例えば、層構成ｊ）、ｋ）、ｌ）、ｍ））に設けられる。
【００４２】
また、電子注入層は、陰極と発光層との間に設けられる（例えば、層構成（ｃ）、ｇ）、ｋ）、ｎ））か、又は陰極と電子輸送層との間（例えば、ｅ）、ｉ）、ｍ）、ｐ））に設けられる。
正孔注入層（陽極バッファー層）は、具体例として、銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニンバッファー層、酸化バナジウムに代表される酸化物バッファー層、アモルファスカーボンバッファー層、ポリアニリン（エメラルディン）やポリチオフェン等の導電性高分子を用いた高分子バッファー層等が挙げられる。
【００４３】
電子注入層（陰極バッファー層）は、具体的にはストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属バッファー層、フッ化リチウムに代表されるアルカリ金属化合物バッファー層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物バッファー層、酸化アルミニウムに代表される酸化物バッファー層等が挙げられる。
正孔注入層（陽極バッファー層）、電子注入層（陰極バッファー層）は、ごく薄い膜であることが望ましく、素材にもよるがその膜厚は０．１ｎｍ以上５μｍ以下の範囲が好ましい。
【００４４】
（阻止層：正孔阻止層、電子阻止層）
阻止層は、有機化合物薄膜の基本構成層の他に必要に応じて設けられる層である。阻止層には、正孔阻止層（ホールブロック層）と電子阻止層とがある。
正孔阻止層は、広い意味では電子輸送層の機能を有している。正孔阻止層は、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、後述する電子輸送層の構成を、必要に応じて正孔阻止層として用いることができる。
正孔阻止層は、前述のホスト化合物として挙げたカルバゾール誘導体、またカルボリン誘導体やジアザカルバゾール誘導体を含有することが好ましい。
【００４５】
一方、電子阻止層は、広い意味では正孔輸送層の機能を有している。電子阻止層は、正孔を輸送する機能を有しつつ電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、後述する正孔輸送層の構成を、必要に応じて電子阻止層として用いることができる。
正孔阻止層、電子輸送層の膜厚は、好ましくは３ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、更に好ましくは５ｎｍ以上３０ｎｍ以下である。
【００４６】
（正孔輸送層）
正孔輸送層は、正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなる。上述した正孔注入層、電子阻止層は、広い意味で正孔輸送層に含まれる。正孔輸送層は、単層又は複数層設けることができる。
正孔輸送材料としては、正孔の注入又は輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物のいずれであってもよい。正孔輸送材料としては、例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、また導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴマー等が挙げられる。正孔輸送層は、上述した正孔輸送材料のうちの１種又は２種以上の材料を含んでいる。
【００４７】
正孔輸送層は、上述した正孔輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、ＬＢ法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成される。正孔輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ以上５μｍ以下程度、好ましくは５ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。
【００４８】
（電子輸送層）
電子輸送層は、電子を輸送する機能を有する電子輸送材料からなる。上述した電子注入層、正孔阻止層は、広い意味で電子輸送層に含まれる。電子輸送層は、単層又は複数層設けることができる。電子輸送層は、発光層の陰極側に隣接するように設けられる。
電子輸送層に用いられる電子輸送材料（正孔阻止材料を兼ねる）としては、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、このような機能を有していれば従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。電子輸送材料としては、例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。更に、オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送材料として用いることができる。更に、これらの材料を高分子鎖に導入した、又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。
【００４９】
また、電子輸送材料として、８−キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス（８−キノリノール）アルミニウム（Ａｌｑ）、トリス（５，７−ジクロロ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５，７−ジブロモ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（２−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）亜鉛（Ｚｎｑ）等、及びこれらの金属錯体の中心金属がＩｎ、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｃａ、Ｓｎ、Ｇａ又はＰｂに置き替わった金属錯体も、電子輸送材料として用いることができる。その他、メタルフリーもしくはメタルフタロシアニン、又はそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されている材料も好ましく用いることができる。また、発光層の材料として例示したジスチリルピラジン誘導体も、電子輸送材料として用いることができ、正孔注入層、正孔輸送層と同様にｎ型−Ｓｉ、ｎ型−ＳｉＣ等の無機半導体も電子輸送材料として用いることができる。電子輸送層は、上述した電子輸送材料のうちの１種又は２種以上の材料を含んでいる。また、不純物をドープしたｎ性の高い電子輸送層を用いることもできる。
【００５０】
電子輸送層は、上述した電子輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、ＬＢ法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成される。電子輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ以上５μｍ以下程度であり、５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００５１】
〔封止部材〕
有機ＥＬ素子３０の表示領域は、封止部材によって覆われる。封止手段としては、例えば、封止部材と電極、支持基板とを接着剤で接着する方法を挙げることができる。
封止部材は、有機ＥＬ素子３０の表示領域を覆うように配置されていればよく、凹板状でも平板状でもよい。また、封止部材は、透明性、電気絶縁性の有無は特に問わない。
具体的には、封止部材としては、ガラス板、ポリマー板・フィルム、金属板・フィルム等が挙げられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。また、ポリマー板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等を挙げることができる。金属板としては、ステンレス、鉄、銅、アルミニウム、マグネシウム、ニッケル、亜鉛、クロム、チタン、モリブテン、シリコン、ゲルマニウム及びタンタルからなる群から選ばれる一種以上の金属又は合金からなるものが挙げられる。
【００５２】
封止に用いられる接着剤として、具体的には、アクリル酸系オリゴマー、メタクリル酸系オリゴマーの反応性ビニル基を有する光硬化及び熱硬化型接着剤、２−シアノアクリル酸エステル等の湿気硬化型等の接着剤を挙げることができる。また、エポキシ系等の熱及び化学硬化型（二液混合）を挙げることができる。また、ホットメルト型のポリアミド、ポリエステル、ポリオレフィンを挙げることができる。また、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤を挙げることができる。
なお、有機ＥＬ素子３０が熱処理により劣化する場合がある。このため、接着剤としては、室温から８０℃までの温度範囲で接着硬化できる材料を用いることが好ましい。また、乾燥剤を分散させた接着剤を用いてもよい。封止部分への接着剤の塗布は、市販のディスペンサーを使ってもよいし、スクリーン印刷のように印刷してもよい。
【００５３】
封止部材と有機ＥＬ素子３０の表示領域との間隙には、気相及び液相では、窒素、アルゴン等の不活性気体やフッ化炭化水素、シリコンオイルのような不活性液体を注入することが好ましい。また、封止部材と有機ＥＬ素子３０の表示領域との間隙を真空とすることも可能である。さらに、封止部材の内部に吸湿性化合物を封入することもできる。
吸湿性化合物としては、例えば、金属酸化物（例えば、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム等）、硫酸塩（例えば、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸コバルト等）、金属ハロゲン化物（例えば、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、フッ化セシウム、フッ化タンタル、臭化セリウム、臭化マグネシウム、沃化バリウム、沃化マグネシウム等）、過塩素酸類（例えば、過塩素酸バリウム、過塩素酸マグネシウム等）等が挙げられ、硫酸塩、金属ハロゲン化物、及び過塩素酸類においては、無水塩が好適に用いられる。
【００５４】
〔用途〕
本発明の有機ＥＬ素子は、表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として用いることができる。発光光源として、例えば、照明装置（家庭用照明、車内照明）、時計や液晶用バックライト、看板広告、信号機、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられる。光源としては、例えば面状光源が挙げられる。有機ＥＬ素子の用途はこれに限定されるものではないが、特に液晶表示装置のバックライト、照明用光源としての用途に有効に用いることができる。
【実施例】
【００５５】
上述した実施形態を具体化した実施例を、比較対象としての比較例とともに説明する。
本実施例では、構造層については、平面部の面積に対する凹凸部の面積の比（凹凸部の面積／平面部の面積）をおよそ３／７となるように、構造層全体の面積に対する凹凸部の面積の比率が３０％±５％以内で作成した。また、凹凸部は各条件において凹形状か凸形状のいずれかを選択し、形状の幅に対する高さの比（高さ／幅）はおよそ１／１０となるように、高さに合わせて、高さ／幅が１０％±５％以内の円形の山あるいは谷になるように幅の大きさを形成した。
【００５６】
＜実施例１＞
（光取出し基板作製）
まず、透過性基板、構造層１、バリア層２及び透過性を有する第１電極層３がこの順に積層された光取出し基板を作製する。
透過性基板として、厚みが０．７ｍｍで大きさが３０ｍｍ×４０ｍｍの洗浄した無アルカリガラス板を使用した。
【００５７】
この透過性基板上に、１層目としてＵＶ硬化型アクリル系樹脂をスピンコーターにより膜厚３μｍで成膜し、ホットプレート上で９０℃で２分間加熱して樹脂層を形成した。続いて、透過性基板に塗布形成した樹脂層の表面に、平面領域と微細な凹凸パターン領域とを有するフィルム板を押し付けるようにラミネートした後、ＵＶランプで１５０ｍＪ／ｃｍ２照射し、フィルム板を剥離して表面に凹凸部と平面部とを有する構造層を形成した。これにより、構造層の表面に、高さ１００ｎｍで幅１０００ｎｍの凸状の円形の山のパターンを凹凸部の面積／平面部の面積が３０／７０となるように形成した。構造層の表面の形状は、走査型プローブ顕微鏡にて確認した。
【００５８】
次に、構造層の表面に、２層目として、ＳｉＯ２層を反応性スパッタ法にて、厚みが２０ｎｍとなるように成膜し、バリア層を形成した。
続いて、透過性を有する第１電極層（陽極）として、透明電極であるＩＴＯ層をスパッタ法にて、厚みが１５０ｎｍとなるよう成膜した後、パターニングを行った。
【００５９】
（有機ＥＬ素子作製）
第１電極層の表面に、機能層の有機層として、正孔輸送層、発光層、電子輸送層をそれぞれ蒸着法で積層した。正孔輸送層は、４，４’，４’’−トリス（９−カルバゾール）トリフェニルアミンを用いて、厚み３５ｎｍで形成した。発光層は、トリス（２−フェニルピリジナト）イリジウム(III)錯体をドープした４，４’，４’’−トリス（９−カルバゾール）トリフェニルアミンを用いた厚み１５ｎｍの層と、トリス（２−フェニルピリジナト）イリジウム(III)錯体をドープした１，３，５−トリス（Ｎ−フェニルベンズイミダゾール−２−イル）ベンゼンを用いた厚み１５ｎｍの層とで形成した。電子輸送層は、１，３，５−トリス（Ｎ−フェニルベンズイミダゾール−２−イル）ベンゼンを用いて厚み６５ｎｍで形成した。さらに、有機層の表面に、電子注入層としてフッ化リチウム層（厚み：１．５ｎｍ）を蒸着した。これにより、発光層を含む機能層を形成した。
最後に、機能層の表面に、金属電極（アルミニウム、厚み：５０ｎｍ）を蒸着法で形成した。
【００６０】
続いて、ＰＥＴフィルムの表面に直径５μｍの半球形状のマイクロレンズと５μｍピッチの頂角８５度のクロスプリズム構造からなるレンズ面を形成したプリズムレンズシートを粘着剤を介して透明性基板に貼合して、光取出しレンズ層を形成した。このとき、レンズ面の裏面が透明性基板に対向するようにしてプリズムレンズシートを、透明性基板の構造層形成面の裏面に貼合して、レンズ面が表面となるようにした。
これにより、図１に示すような、透過性基板上の一方の面に光取出しレンズ層、他方の面に、構造層、バリア層、第１電極層、機能層、第２電極層がそれぞれ形成された有機ＥＬ素子を得た。
【００６１】
＜実施例２＞
透過性基板として、厚みが１２５μｍのＰＥＴフィルムにＧＬフィルム（バリアフィルム）を粘着剤を介して貼合した。ＰＥＴフィルムのバリアフィルム貼合面と反対側の面に、リワークが可能な粘着剤を介して、大きさが３０ｍｍ×４０ｍｍのガラス板の支持体と同じ大きさの透過性基板を貼合した。
透過性基板を貼合した支持体を洗浄し、透過性基板上に、１層目としてＵＶ硬化型アクリル系樹脂を、スピンコーターにより膜厚３μｍで成膜し、ホットプレート上で９０℃で２分間加熱して樹脂層を形成した。続いて、透過性基板に塗布形成した樹脂層の表面に、平面領域と微細な凹凸パターン領域を有するフィルム板を押し付けるようにラミネートした後、ＵＶランプで１５０ｍＪ／ｃｍ２照射し、フィルム板を剥離して表面に凹凸部と平面部とを有する構造層を形成した。構造層の表面に、高さ４００ｎｍで幅４０００ｎｍの凹状の円形の谷のパターンを凹凸部の面積／平面部の面積が３１／６９となるように形成した。構造層の表面の形状は、走査型プローブ顕微鏡にて確認した。
これ以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ素子を作成した。
【００６２】
＜実施例３＞
構造層の表面に、高さ７０ｎｍで幅７００ｎｍの凸状の円形の山のパターンを凹凸部の面積／平面部の面積が２９／７１となるように形成し、走査型プローブ顕微鏡にて確認した。これ以外は、実施例２と同様にして、有機ＥＬ素子を作成した。
＜実施例４＞
構造層の表面に、高さ３０ｎｍで幅３００ｎｍの凸状の円形の山のパターンを凹凸部の面積／平面部の面積が３０／７０となるように形成し、走査型プローブ顕微鏡にて確認した。これ以外は、実施例２と同様にして、有機ＥＬ素子を作成した。
【００６３】
＜比較例１＞
１層目の構造層及び２層目のバリア層を形成せず、透過性基板上に、厚み１５０ｎｍのＩＴＯ層をスパッタ法にて成膜して透過性を有する第１電極層を形成した以外は実施例１と同様にして、有機ＥＬ素子を作製した。
＜比較例２＞
２層目のバリア層を形成せず、透過性基板上の構造層の表面に、高さ１００ｎｍで幅１０００ｎｍの凸状の円形の山のパターンを凹凸部の面積／平面部の面積が３０／７０となるように形成し、構造層の表面に厚み１５０ｎｍのＩＴＯ層からなる第１電極層を形成した以外は実施例１と同様にして、有機ＥＬ素子を作製した。
【００６４】
＜比較例３＞
透過性基板上に、１層目としてＵＶ硬化型アクリル系樹脂をスピンコーターにより膜厚３μｍで成膜し、ホットプレート上で９０℃で２分間加熱して樹脂層を形成した。この後、樹脂層を形成した透過性基板をＮ２パージしたボックスに入れて、ＵＶランプで１５０ｍＪ／ｃｍ２照射して、平滑性の高い構造層を形成した。
これ以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ素子を作成した。
【００６５】
＜比較例４＞
透過性基板上に、１層目として、ＳｉＯ２層を反応性スパッタ法にて、厚みが４０ｎｍとなるように成膜してバリア層を形成した。
バリア層上に、２層目としてＵＶ硬化型アクリル系樹脂をスピンコーターにより膜厚３μｍで成膜し、ホットプレート上で９０℃で２分間加熱して樹脂層を形成した。続いて、樹脂層の表面に、平面領域と微細な凹凸パターン領域とを有するフィルム板を押し付けるようにラミネートした後、ＵＶランプで１５０ｍＪ／ｃｍ２照射し、フィルム板を剥離して表面に凹凸部と平面部とを有する構造層を形成した。高さ５０ｎｍの凸状の円形の山のパターンを形成した。構造層の表面の形状は、走査型プローブ顕微鏡にて確認した。
これ以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ素子を作成した。
【００６６】
＜比較例５＞
表面に高さ５００ｎｍで幅５０００ｎｍの凸状の円形の山のパターンを凹凸部の面積／平面部の面積が３４／６６となるように形成した機能層を設けた。構造層の表面の形状は、走査型プローブ顕微鏡にて確認した。
これ以外は、実施例２と同様にして、有機ＥＬ素子を作成した。
【００６７】
＜比較例６＞
表面に高さ１０ｎｍで幅１００ｎｍの凸状の円形の山のパターンを凹凸部の面積／平面部の面積が２４／７６となるように形成した機能層を設けた。構造層の表面の形状は、走査型プローブ顕微鏡にて確認した。
これ以外は、実施例２と同様にして、有機ＥＬ素子を作成した。
【００６８】
＜評価＞
（光取出し効率比）
実施例１から実施例４及び比較例１から比較例６のそれぞれの有機ＥＬ素子について、光取出し効率の測定を行った。
以下の表１に、評価の結果を示す。表１において、光取出し効率比は、比較例１の１層目及び２層目を形成せず、アクリルガラス板からなる透明性基板を備える有機ＥＬ素子の光取出し効率を１．００としている。実施例１から実施例４及び比較例２から比較例６の光取出し効率は、比較例１の有機ＥＬ素子の光取出し効率に対する相対値で表したものである。光取出しの効果は１．１０以上を良好とする。
光取り出し効率の測定にあたっては、各実施例及び比較例のそれぞれの有機ＥＬ素子に対して、ＤＣ電源から電流密度が２０ｍＡ／ｃｍ２の定電流を流し、半球形状のマイクロレンズから出射される全放射束を積分球により計測し、その計測結果に基づいて光取り出し効率を求めた。
【００６９】
（経時安定性評価）
実施例１から実施例４及び比較例１から比較例６のそれぞれの有機ＥＬ素子について、経時安定性評価の測定を行った。
以下の表１に、評価の結果を示す。表１において、有機ＥＬ素子作製後６時間以内に輝度が１０００ｃｄ／ｍ２となるように有機ＥＬ素子を駆動し、ダークスポットの個数を確認して初期値とした。その後、有機ＥＬ素子を温度３０℃／湿度５０％の環境下で保管した。保管開始から７日間後、有機ＥＬ素子を再度１０００ｃｄ／ｍ２となるように駆動した。初期に存在を確認したダークスポットの大きさの増加の有無と、直径１００μｍ以上のダークスポットの個数を確認し、ダークスポット数の増加の有無を確認した。
【００７０】
刑事安定性の評価において、直径１００μｍ以上の非発光部が目視で観察される場合に不良とし、ダークスポットと判断した。また、ダークスポットの数は１個以内を良好と評価した。初期に存在したダークスポットの大きさが、７日後に増加していた場合に不良と評価した。また７日後に新たなダークスポットが観察された場合（ダークスポットの個数が増加した場合）も不良と評価した。
【００７１】
【表１】
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【００７２】
表１に示すように、実施例１から実施例４の有機ＥＬ素子では、光取出し効率が１.５１から１.６０と高い値を示していることが確認された。これにより、実施例１から実施例４の有機ＥＬ素子では、比較例１の有機ＥＬ素子に比べて、光取出し効率が向上していることが分かった。これは、構造層に凸部又は凹部を形成したことによる第２電極層の機能層側面に形成された凹凸形状によってプラズモン吸収の抑制と発光の反射のバランスとが良好で光取出し効率が向上したと推測される。
【００７３】
また、実施例１から実施例４の有機ＥＬ素子では、初期のダークスポットの数も０個又は１個と少なく、７日後においてはダークスポットの数は増加せず、初期に観測されたダークスポットの大きさも広がらず良好であった。これは、ＩＴＯ膜からなる第１電極層の膜質が向上し均一であったために初期の欠陥の個数が少なく、また、７日後も初期と同じ品質となったと推測される。
【００７４】
比較例２では、光取出し効率が１.３５とやや高い値を示した。しかしながら、比較例２では初期のダークスポットの数が４個と多く、詳細に観察してみると発光むらも観測された。また、７日後にはダークスポットの数が増加し、初期から存在したダークスポットが大きく広がった。
これは、構造層の凹凸形状によって、プラズモン吸収の抑制や発光の反射に関して一定の効果が得られたが、バリア層を備えていないために、ＩＴＯ膜からなる第１電極層が均一に成膜されなかったためであると推測される。また、バリア層を備えていないために、第１電極層の膜質が不均一となって初期のダークスポットが多く、また７日後には構造層からのわずかな水分の影響でダークスポットが広がり、その数も増加したと推定される。
【００７５】
比較例３では、比較例１と同等の光取出し効率となり効果が得られなかった。比較例３では、初期のダークスポットの数は２個と比較的少なく、ダークスポットの数は７日後にも変化しなかった。
これは、構造層の表面に凹凸形状が形成されておらず平面形状とされているために、光取出し効率の向上効果は得られなかったと推定される。一方、バリア層が設けられているために、７日後もダークスポットの大きさや数が変化しなかったと推定される。
【００７６】
比較例４では、光取出し効率が１.３２とやや高い値を示した。しかしながら、比較例４では初期のダークスポットの数が５個と多く、詳細に観察してみると発光むらも観測された。また、７日後にはダークスポットの数が増加し、初期から存在したダークスポットが大きく広がった。
これは、バリア層が構造層と第１電極層との間に存在しないために、構造層と第１電極層との密着性を向上させるというバリア層の効果が得られず、比較例２と同等の現象が生じたと推測される。
【００７７】
比較例５では、光取出し効率が１.３５とやや高い値を示した。しかしながら、比較例５では初期のダークスポットの数が３個とやや多かった。また、７日後にはダークスポットの数は増なかったものの、初期から存在したダークスポットの大きさはやや広がった。
これは、構造層に形成した凹凸の高さと幅が大きく、発光むらとなったためと推定される。
【００７８】
比較例６では、初期のダークスポットの数は１個と少なく、７日後にもダークスポットの大きさに変化はなかった。しかしながら、光取出し効率が１．０２と比較例１とほぼ同等となった。
これは、構造層に形成した凹凸の高さと幅が小さく、凹凸形状による光取出し効率の向上効果は得られなかったと推定される。
【００７９】
以上のように、本発明によれば、有機ＥＬ素子の透過性基板上に、構造層、バリア層及び透過性を有する第１電極層と、発光層を含む機能層と、第２電極層とをこの順で積層し、構造層に凹凸部と平面部とを設ける。これにより、有機ＥＬ素子の光取出し効率を向上させ、ダークスポットや発光むらを低減して、発光品質を向上させることが可能であることが分かった。
また、本発明を実施例により説明してきたが、本発明は上記実施例に限定されず、特許請求の範囲に記載した技術的思想の範囲内で適宜改変することができる。
【産業上の利用可能性】
【００８０】
本発明の有機ＥＬ素子は、良好な光取出し効率を維持しつつも、ダークスポットや発光むらを抑制し良好な経時安定性を得ることができる。このため、本発明の有機ＥＬ素子は、均一な発光が求められるディスプレイ、面状光源、照明装置などの種々の用途に好適であり、省エネルギー化にも貢献できる。
【符号の説明】
【００８１】
１    構造層
２    バリア層
３    第１電極層
４    機能層
５    第２電極層
１０  透過性基板
２０  光取出し基板
３０  有機エレクトロルミネッセンス素子
４１  光取出しレンズ層
４２  透過性シート
４３  光取出しレンズ層
【図１】
2017091695.tif 000004