(57)【要約】【課題】基板オーバースキャンが正常に行われたどうかを判別する手法を改良し、判別精度を改善する。【解決手段】基板Ｗがイオンビーム２を横切って往復移動されるイオンビーム照射装置ＩＭで、基板Ｗの往復動が切り替えられる前後で、基板Ｗによって一部が遮蔽されたイオンビーム２のビーム電流を計測するビーム電流計測器Ｍと、ビーム電流計測器Ｍでの計測結果から基板Ｗが正常にイオンビーム２を横切ったかどうかを判別する制御装置Ｃを備えている。【選択図】図１
2017091604.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板がイオンビームを横切って往復移動されるイオンビーム照射装置で、
基板の往復動が切り替えられる前後で、基板によって一部が遮蔽されたイオンビームのビーム電流を計測するビーム電流計測器と、
前記ビーム電流計測器での計測結果から基板が正常にイオンビームを横切ったかどうかを判別する制御装置を備えたイオンビーム照射装置。
【請求項２】
前記制御装置は同装置に予め記憶された基準データと前記計測結果とを比較することで基板が正常にイオンビームを横切ったかどうかを判別する請求項１記載のイオンビーム照射装置。
【請求項３】
前記制御装置は前記計測結果を比較することで、基板が正常にイオンビームを横切ったかどうかを判別する請求項１記載のイオンビーム照射装置。
【請求項４】
さらに、前記ビーム電流計測器は、基板の往復動の切り替え時で、かつ、基板にイオンビームが照射されていない時のビーム電流の計測を行うとともに、
前記制御装置は、当該計測結果も含めて、基板が正常にイオンビームを横切ったかどうかを判別する請求項１乃至３のいずれか一項に記載のイオンビーム照射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、イオンビームを横切る方向に基板を往復移動させて基板へのイオンビーム照射処理を行うイオンビーム照射装置で、基板の往復移動が正常に行われたどうかを判別する手法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一方向にスキャンされたイオンビームを横切る方向にイオン注入対象物品（基板）を往復移動させて、基板全面へのイオン注入処理を行うイオン注入装置が知られている。
【０００３】
この種のイオン注入装置には、基板がイオンビームを横切って正常に往復移動されているかどうかを判別するための判別手段が設けられている。
【０００４】
判別手段の一例としては、基板を支持するホルダの往復移動に用いられるパルスモータのパルス信号数をカウントすることでホルダの移動量を算出し、ホルダが正常に往復移動しているかどうかを判別する手法が挙げられる。
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載されているように、この手法ではホルダの駆動系に動作精度上の狂いが生じたり、一部に故障が生じたりすることで、パルス信号数のカウントを正確に行っても、基板の往復移動が正常に行われたかどうかを判別することができないという課題があった。
【０００６】
そこで、特許文献１では、パルスモータのパルス信号から基板の移動量を算出することなく、基板の往復移動が正常に行われているかどうかを判別する手法が提案されている。
具体的には、基板の往復移動が往動から復動に切り換わる際に反転信号を発生させ、この信号をトリガーにして基板下流側（基板よりもイオンビームの進行方向側）に配置されたイオンビーム電流検出器（多点ファラデーカップ）でイオンビーム電流を計測する。
次に、隣り合う多点ファラデーカップで計測されたビーム電流の差を算出し、その最大差がイオンビーム電流基準条件として予め定められた許容範囲以内にあるかどうかで、基板の往復移動が正常に行われたかどうかを判別する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平１０−２７５５８６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１で述べられる判別手法では、以下の理由により、基板がイオンビームを横切って正常に往復移動されているかどうか、いわゆるオーバースキャンが正常になされているかどうか、を正確に判別することができない。
【０００９】
特許文献１の構成では、多点ファラデーカップに対する基板位置が異なっていてもほぼ同形状のビーム電流分布が計測されてしまう。これについて詳述する。
【００１０】
図５の（Ａ）〜（Ｄ）には、図の上方向に基板が移動し、イオンビームを横切って図の下方向に基板が反転移動する際の一連の基板の動きが描かれている。このときの４つの基板位置と各々の基板位置で計測されるビーム電流分布が各図の右側に描かれている。
イオンビームは図示されていないが、多点ファラデーカップＦの位置で多点ファラデーカップＦの長さ方向（図の左右方向）に走査されている。
また、図で基板Ｗがイオンビームを横切る際、イオンビームの進行方向（紙面奥向き）において、基板Ｗは多点ファラデーカップＦと重ならない位置を移動している。
なお、図５（Ａ）〜（Ｄ）の右側に描かれるビーム電流分布で、Ｉはビーム電流、Ｐは多点ファラデーカップＦの場所を示している。
【００１１】
図５（Ａ）〜（Ｄ）に描かれているように、イオンビームの進行方向において、基板Ｗと多点ファラデーカップＦとの重なり領域が同じ場合、多点ファラデーカップＦで計測されるビーム電流分布はほぼ同じものになる。
ここでは、イオンビーム自体のビーム電流分布の非対称性からビーム電流分布がほぼ同じとしている。
例えば、スポット状のイオンビームを考えたとき、スポット状のイオンビームでのビーム電流分布は、理想的にはイオンビームの中心から同心円状に拡がる対称な分布となるが、実際には種々の要因により基板の移動方向において、ビーム電流分布は非対称な分布となる。
この理由から、図５（Ａ）〜（Ｄ）で多点ファラデーカップＦを遮る基板Ｗの遮蔽量が同じであったとしても、図５（Ａ）と図５（Ｄ）で計測されるビーム電流分布と図５（Ｂ）と図５（Ｃ）で計測されるビーム電流分布は若干異なっている。
【００１２】
オーバースキャンが正常に行われているとき、基板移動方向の反転信号を受けて計測されるビーム電流分布が図５（Ｃ）の状態のものだとする。
しかしながら、ホルダ駆動系の故障によりに図５（Ａ）の状態で基板の移動方向が反転して図５（Ｄ）の状態に移行したとする。そうすると、計測されるビーム電流分布は図５（Ａ）の状態のものではなく、図５（Ｄ）の状態のものになる。
上述したように図５（Ａ）の状態と図５（Ｄ）の状態では計測されるビーム電流分布は理想的には同じものになるので、特許文献１の構成ではオーバースキャンが正常に行われていないにも関わらず、これが正常に行われたものとして誤判別されてしまう。
【００１３】
そこで、本発明ではこのような誤判別をなくし、基板のオーバースキャンが正常に行われたどうかを正確に判別する手法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
イオンビーム照射装置は、基板がイオンビームを横切って往復移動されるイオンビーム照射装置で、基板の往復動が切り替えられる前後で、基板によって一部が遮蔽されたイオンビームのビーム電流を計測するビーム電流計測器と、  前記ビーム電流計測器での計測結果から基板が正常にイオンビームを横切ったかどうかを判別する制御装置を備えている。
【００１５】
前記制御装置は同装置に予め記憶された基準データと前記計測結果とを比較することで基板が正常にイオンビームを横切ったかどうかを判別する。
【００１６】
前記制御装置は前記計測結果を比較することで、基板が正常にイオンビームを横切ったかどうかを判別する。
【００１７】
さらに、前記ビーム電流計測器は、基板の往復動の切り替え時で、かつ、基板にイオンビームが照射されていない時のビーム電流の計測を行うとともに、  前記制御装置は、当該計測結果も含めて、基板が正常にイオンビームを横切ったかどうかを判別する。
【発明の効果】
【００１８】
基板の往復動が切り替えられる前後で、基板によって一部が遮蔽されたイオンビームのビーム電流を計測し、計測結果から基板が正常にイオンビームを横切ったかどうかを判別するようにしたので、従来の構成に比べて、基板のオーバースキャンが正常に行われたどうかを正確に判別することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明に係るイオンビーム照射装置の一例で、処理室内の様子を表す平面図である。
【図２】本発明に係る判別手法の一例を示すフローチャート。
【図３】本発明に係る判別手法の別の例を示すフローチャート。
【図４】本発明に係る判別手法の他の例を示すフローチャート。
【図５】従来の課題についての説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
図１をもとに、本発明に係るイオンビーム照射装置ＩＭの構成例を説明する。図示されるＺ方向はイオンビーム２の進行方向を示す。Ｘ方向とＹ方向は互いに直交し、かつ、Ｚ方向と直交する方向を示す。
【００２１】
図１はイオンビーム照射装置ＩＭの処理室１内での様子を表す平面図で、図１（Ａ）と図１（Ｂ）では各々視点が異なっている。
【００２２】
処理室１に入射されるイオンビーム２を横切って、ホルダ３（例えば、静電チャックやメカクランプ機構を備えた支持枠）に支持された基板Ｗが矢印Ｒ方向に沿って往復移動されて、基板全面に対するイオンビーム照射処理が行われる。
この際、イオンビーム２がスポットビームであれば、図示されないビーム輸送経路に配置された走査器でイオンビーム２の走査幅がＸ方向において基板Ｗの寸法よりも大きくなるように走査される。また、イオンビーム２がリボンビームであれば、Ｘ方向における寸法は基板Ｗの寸法よりも大きなイオンビームが用いられる。
【００２３】
また、基板Ｗの往復移動方向Ｒは、図１の構成例とは異なり、Ｙ方向と平行な方向でなくてもよい。例えば、基板Ｗの全面に対するイオンビーム照射処理を考えれば、Ｙ方向と交差する方向に往復移動方向Ｒを設定し、イオンビーム２を横切るように基板Ｗの往復移動を行うといった構成も考えられる。
図１の構成例では、基板Ｗの駆動機構は、ホルダ３の一端に連結された駆動軸５を往復移動方向Ｒに沿って往復動させるモータ６を備えた構成あるが、これとは異なる構成を用いてもよい。例えば、平行リンク機構やリニアスライドガイド機構を使用してもよい。
【００２４】
処理室１には、イオンビーム２が照射される位置にビーム電流計測器Ｍが配置されている。図１の構成例では、ビーム電流計測器Ｍは処理室１の壁面に支持されているが、基板Ｗの下流側（Ｚ方向側）で、処理室１に入射するイオンビーム２が照射される位置であれば、どの場所に配置されていてもよい。
また、ビーム電流計測器Ｍの構成としては、特許文献１に挙げられる多点ファラデーカップでもいいし、イオンビーム照射領域が大きな１つの領域で構成されている大口径のファラデーカップでもいい。
【００２５】
本発明に係るオーバースキャン判別の手法は後述するが、図１に描かれているように、本発明のイオン注入装置ＩＭは基板Ｗへのイオンビーム照射処理中に、基板Ｗの往復移動に伴って、ビーム電流計測器Ｍとの間で通信を行う制御装置Ｃを備えている。
また、この制御装置Ｃの機能としては、図示されるように駆動軸５を駆動させるモータ６との間でも通信が行えるように構成しておいてもよい。
【００２６】
以下、図２−４を用いて、本発明に係るオーバースキャン判別の手法を説明する。
【００２７】
本発明に係るオーバースキャン判別では、基板Ｗの移動方向が反転される前後でビーム電流の計測が行われる。この点が、特許文献１の構成と大きく異なる。
【００２８】
図２のフローチャートをもとに説明する。図２−４のフローチャートで共通するが、基板Ｗの往復走査で、基板Ｗが一方向に移動するときの動作を往動とし、その反対方向に移動するときの動作を往動と呼んでいる。また、各図のフローチャートで同一符号が使用される処理内容は共通している。
【００２９】
基板Ｗが往動している間、基板Ｗにイオンビーム２が照射されている特定のタイミング（第一のタイミング）で、制御装置Ｃはビーム電流を計測するためのトリガー信号を発生する（Ｓ１）。
【００３０】
次に、制御装置Ｃから出力されたトリガー信号を受けて、ビーム電流計測器Ｍがビーム電流の計測を行い、制御装置Ｃに計測結果を送信する（Ｓ２）。
【００３１】
その後、基板Ｗの移動方向が反転され、基板Ｗが復動している間、基板Ｗにイオンビーム２が照射されている特定のタイミング（第二のタイミング）で、制御装置Ｃはビーム電流を計測するためのトリガー信号を発生する（Ｓ３）。
【００３２】
制御装置Ｃから出力されたトリガー信号を受けて、ビーム電流計測器Ｍがビーム電流の計測を行い、制御装置Ｃに計測結果を送信する（Ｓ４）。
【００３３】
ここでは、上述したＳ２、Ｓ４の処理で、制御装置Ｃからのトリガー信号を受けてからビーム電流計測器Ｍでビーム電流の計測が行われる構成例を述べたが、別の構成を用いてもよい。
例えば、ビーム電流計測器Ｍがビーム電流の計測を常時しておくとともに、測定結果を制御装置Ｃに順次送信しておく。制御装置Ｃはトリガー信号を生成するタイミングで、ビーム電流計測器Ｍから送信される計測結果を記憶するように構成してもよい。
【００３４】
トリガー信号の生成にあたっては、次に挙げる種々の構成が考えられる。例えば、従来技術と同様に、制御装置Ｃで駆動軸５を駆動するモータ６のパルス信号数をカウントしておき、この情報をもとに基板Ｗが所定の場所に到達したときに、トリガー信号を生成するようにしてもいい。
【００３５】
また、基板Ｗの移動速度を制御装置Ｃで制御しておき、制御装置Ｃで基板Ｗを移動させてからの経過時間をカウントしておく。そして、制御装置Ｃで基板Ｗの移動距離を算出し、算出結果と予め決められている基板のオーバースキャン幅との関係から、基板Ｗの現在位置を特定するように構成しておく。その上で、基板Ｗの現在位置が所定位置となったときに、トリガー信号を生成するようにしてもよい。
【００３６】
上述したトリガー信号の発生に至る手法は、基板Ｗの位置を間接的に求めるものであったが、光学的なセンサーや物理的なスイッチを用いる等して、基板Ｗの位置を直接的に求めるようにしておき、センサー等からの信号を受けた制御装置Ｃが、基板位置が所定位置となったときに、トリガー信号を生成するようにしてもよい。
【００３７】
センサー等を用いる場合、基板Ｗの端面や表面の特定部位の動きを検出することが考えられるが、基板面近傍にはイオンビーム２が照射されていることからセンサー等による検出精度が低下すること、基板処理に悪影響を及ぼすこと、イオンビームが照射されることにより、センサー等が故障してしまうこと等が考えられる。これらの点を考慮して、センサー等で基板位置を検出する場合には、基板Ｗに連動している駆動軸５の動きを検出するようにしてもよい。
【００３８】
また、基板Ｗがどの位置にあるときに制御装置Ｃでトリガー信号を生成するかについては、図２のフローチャートの例では基板Ｗにイオンビーム２が照射されている任意の位置で構わない。
つまり、Ｚ方向から視て、ビーム電流計測器Ｍを遮る基板Ｗの面積は、上述した第一のタイミングと第二のタイミングで同じであってもいいし、異なっていてもよい。
【００３９】
このようにして生成されたトリガー信号に基づいて、ビーム電流の計測が行われた後、制御装置Ｃは基板Ｗの往動、復動時に得られた各々のビーム電流の計測結果と予め制御装置Ｃに記憶されている基準データとの比較を行う（Ｓ５）。
【００４０】
Ｓ５の比較処理での比較方法は、ビーム電流計測器の構成、比較対象データの種類によって、種々の方法が考えられる。
【００４１】
例えば、ビーム電流計測器Ｍが大口径のファラデーカップで構成されている場合、計測されるビーム電流はビーム電流値として１つの値となる。よって、Ｓ５の比較処理では、基板Ｗの往復移動時に得られた２つのビーム電流値と基準データとして予め制御装置Ｃに記憶されている特定の値との比較が行われる。
【００４２】
ビーム電流計測器Ｍが多点ファラデーカップで構成されている場合、計測されるビーム電流を分布として得ることが可能となる。
この場合には、基板Ｗの往復動で得られたビーム電流分布の平均値を各々算出して、大口径のファラデーカップの例と同じく、基準データとして予め制御装置Ｃに記憶されている特定の値と比較が行われるようにしてもよい。
【００４３】
また、多点ファラデーカップを使用する場合には、ビーム電流分布が得られることから、当該分布の任意の場所（１箇所、複数個所、あるいは、全ての箇所）に着目し、この場所でのビーム電流値と基準データとの比較を行うようにしてもよい。
さらに、特許文献１と同様に、基板Ｗの往復動で得られたビーム電流分布で、隣り合うファラデーカップで得られたビーム電流値の最大差を求めて、これと基準データとの比較を行うようにしてもよい。
【００４４】
Ｓ５での比較処理を受け、制御装置Ｃで比較結果が許容される範囲内であるかどうかの判別が行われる（Ｓ６）。
【００４５】
その後、Ｓ６での判別処理で許容範囲内と判断された場合には、継続して基板Ｗに対するイオンビーム照射処理が行われる（Ｓ７）。
【００４６】
一方、Ｓ６での判別処理で許容範囲外と判断された場合には、現在行われている基板Ｗに対するイオンビーム照射処理を停止すべく、モータ６の出力やイオンビームの生成を停止するように、制御装置Ｃからイオン注入装置ＩＭを構成する各部に対して停止信号が出力される。
【００４７】
ただし、装置制御を自動化しない場合には、Ｓ７の処理で、警報を鳴らすなどして、装置のオペレーターにイオンビーム照射処理に異常が発生していることを認識させて、手動で装置の停止ができるように構成しておいてもよい。
【００４８】
また、図２のフローチャートでは、Ｓ５の処理は２回のビーム電流の計測後に行われているが、各々のビーム電流計測処理が行われた直後に計測結果と基準データとの比較を行うようにしてもよい。このようにしておけば、エラーが生じた際、装置を停止する等の措置を早期に講ずることができる。
【００４９】
このようにして、基板Ｗにイオンビーム２が照射されている間、基板Ｗの移動方向が反転される前後でビーム電流の計測が行われるので、基板Ｗが往動の途中で駆動系の故障により反転した場合でも、誤判別のないオーバースキャン判別を行うことが可能となる。
また、基板Ｗの往復動でビーム電流の計測を行うようにしているので、各々のビーム電流の計測が行われるまでの間に十分な時間を空けることができる。これにより、計測処理やその後の判別処理に時間的な余裕が持たせることが可能となる。
【００５０】
図２のフローチャートでは、計測されたビーム電流と予め制御装置Ｃに記憶されている基準データを比較する構成であったが、基準データを設けない構成を用いてもよい。具体例としては、図３のフローチャートの構成が考えられる。以下、図２と図３のフローチャートの違いを中心に説明する。
【００５１】
図３のフローチャートでは、計測された２つのビーム電流の計測値の比較が制御装置Ｃで行われる（Ｓ５１）。例えば、２つのビーム電流の計測値を比較し、各計測値の差分を取る。この際、図２のフローチャートの説明で述べたように、ビーム電流計測器Ｍとして、多点ファラデーカップを使用している場合には、任意の点に関する差分を取ることもできる。
【００５２】
次に、Ｓ５１の処理で求められた差の値が予め設定された許容範囲内にあるかどうかの判断が行われる（Ｓ６１）。
【００５３】
このような流れでオーバースキャン判別を行っても、図２のフローチャートの構成と同等の効果を奏することができる。
【００５４】
一方、図２のように基準データとの比較を行うフローを用いれば、次の点で効果を奏する。
【００５５】
ホルダ３には基板Ｗの電位を接地電位にするための接地ピンが設けられている。基板Ｗの支持不良によって接地不良が発生し、基板Ｗの電位がフロート電位になった場合、基板Ｗに照射されるイオンビームの電荷によって、基板Ｗの電位は正または負に変化する。
これにより、基板Ｗの往復動時にビーム電流計測器Ｍに入射するビーム電流量が通常のものから変化する。
【００５６】
また、ごくまれに基板の搬送途中で基板端部に割れが生じるケースが発生する。端部が欠けた基板が静電チャックに支持されると、静電チャックの一部がイオンビーム側に露出してしまう。この場合、基板処理中にイオンビームが静電チャックに照射されて、基板Ｗの往復動時にビーム電流計測器Ｍに入射するビーム電流量が通常のものから変化する。
【００５７】
基準データとして、正常なスキャンが行われた際のビーム電流の値を制御装置に記憶させておけば、計測結果と基準データとの比較によって基板Ｗへのイオンビーム照射処理に上述した接地不良や基板割れを含む何らかのエラーが発生していることを検出することが可能となる。
【００５８】
一方、基準データがなく、計測結果を比較するのみであれば、基板Ｗの往復動で計測される２つの計測結果の各々に同程度のエラーが含まれている場合には、２つの計測だけの比較ではこのようなエラーを検出することはできない。この理由から、基準データと計測結果との比較が行われる方が望ましい。
【００５９】
図２のフローチャートの説明で、往動、復動でビーム電流の計測が行われる第一のタイミングと第二のタイミングで、基板の往復動時にビーム電流計測器Ｍを遮る基板Ｗの面積は同じであってもいいし、異なっていてもよいと述べたが、その効果は全く異なっている。
【００６０】
往動と復動でのビーム電流を計測するポイントで、Ｚ方向から視たときのビーム電流計測器Ｍを遮る基板Ｗの面積が同じ場合には、オーバースキャン判別が正常に行われているとすると、理想的には計測されるビーム電流の値は同じになる。
この場合、可能性としては非常に低いが、たまたま基板Ｗが往動時の計測ポイントで停止したとすると、オーバースキャンが正しく行われていないにも関わらず、正しく行われたものとして誤判別されてしまうことが起こり得る。
【００６１】
このような誤判別をなくし、より正確な判別を行うという点では、往動と復動でのビーム電流を計測する際の基板位置が、Ｚ方向から視たときのビーム電流計測器Ｍを遮る基板Ｗの面積を異ならせておく方が望ましい。つまり、往動と復動でのビーム電流を計測する際の基板位置が、従来技術の説明で述べた図５（Ａ）〜（Ｄ）に記載されているようなビーム電流計測器Ｍを遮る基板Ｗの面積が同じ関係になるような組み合わせから選択されないようにすることが望まれる。
【００６２】
さらに、これまでに述べた実施形態に加えて、次の計測を行うようにしても良い。基板Ｗが往動から復動へと移動方向を変更するタイミングで、基板にイオンビームが照射されていないときのビーム電流を計測する。
この計測を取り入れた具体的な処理の流れが、図４に描かれている。
【００６３】
図４のフローチャートと図２のフローチャートとの違いは、Ｓ１０、Ｓ１１の処理で基板Ｗが往動から復動へと移動方向を変更するタイミングでビーム電流の計測を行っていることと、Ｓ５２の処理で３つの計測されたビーム電流の計測結果を基準データと比較し、Ｓ６２の処理でこの比較結果が許容範囲内にあるかどうかを判別することにある。
【００６４】
図４のフローチャートを用いれば、基板Ｗが往動から復動へと移動方向を変更するタイミングで、基板にイオンビームが照射されていないときのビーム電流を計測しているので、たまたま基板Ｗが往動時の計測ポイントで停止したとしても、誤判別なく基板のオーバースキャンが正常に行われたかどうかを判定することが可能となる。
【００６５】
また、図４のフローチャートでは、Ｓ５２の比較処理で図２のフローチャートと同様に予め制御装置Ｃに記憶された基準データと計測結果との比較を行うことが想定されているが、図３のフローチャートと同じく、Ｓ５２での比較処理は基準データとの比較に代えて、計測値同士を比較するようにしてもいい。
【００６６】
図１（Ａ）、（Ｂ）からわかるように、基板がＹ方向に沿って往復動される際、基板の往復動は２箇所で切り替えられる。例えば、図１（Ａ）で言えば、図の上方にイオンビーム２を横切った後と、図の下方にイオンビーム２を横切った後に基板の往復動の方向が切り替えられる。
【００６７】
２回の基板の往復動の切り替え時の両方で、これまでに述べたオーバースキャン判別を行うようにしておいてもよい。
そのようにすれば、オーバースキャン判別をより確実に行うことができる。また、判別のタイミングが増えることから、基板の往復動にかかるエラーを早期に検出し、イオンビーム照射処理を停止するなどの措置を早期に講ずることが可能となる。
【符号の説明】
【００６８】
ＩＭ  イオンビーム照射装置
Ｃ    制御装置
Ｍ    ビーム電流計測器
Ｗ    基板
１    処理室
２    イオンビーム
３    ホルダ（ＥＳＣ）
５    駆動軸
６    モータ
【図１】
2017091604.tif 000003
【図２】
2017091604.tif 000004
【図３】
2017091604.tif 000005
【図４】
2017091604.tif 000006
【図５】
2017091604.tif 000007