(57)【要約】【課題】オゾンによる劣化が抑制された有機ＥＬ用インクを得るため有機ＥＬ用インクの製造方法を提供する。【解決手段】有機ＥＬ用インクの製造方法は、有機ＥＬ用材料と溶媒とを含む有機ＥＬ用混合物に含まれるオゾンを低減させる混合物オゾン低減工程を含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機ＥＬ用材料と溶媒とを含む有機ＥＬ用混合物に含まれるオゾンを低減させる混合物オゾン低減工程を含む有機ＥＬ用インクの製造方法。
【請求項２】
前記混合物オゾン低減工程では、オゾン吸着剤で前記有機ＥＬ用混合物を処理することにより前記有機ＥＬ用混合物に含まれる前記オゾンを低減させる請求項１に記載の有機ＥＬ用インクの製造方法。
【請求項３】
前記有機ＥＬ用混合物は、酸素吸着剤、光安定剤、および酸化防止剤のうちの１種以上を更に含む請求項１または２に記載の有機ＥＬ用インクの製造方法。
【請求項４】
溶媒に含まれるオゾンを低減させる溶媒オゾン低減工程と、
前記溶媒オゾン低減工程を経て得られた前記溶媒と有機ＥＬ用材料とを混合して有機ＥＬ用混合物を得る混合工程と、を含む有機ＥＬ用インクの製造方法。
【請求項５】
前記溶媒オゾン低減工程では、オゾン吸着剤で前記溶媒を処理することにより前記溶媒に含まれる前記オゾンを低減させる請求項４に記載の有機ＥＬ用インクの製造方法。
【請求項６】
前記混合工程の後に、前記有機ＥＬ用混合物に含まれるオゾンを低減させる混合物オゾン低減工程を更に含む請求項４または５に記載の有機ＥＬ用インクの製造方法。
【請求項７】
前記混合物オゾン低減工程では、オゾン吸着剤で前記有機ＥＬ用混合物を処理することにより前記有機ＥＬ用混合物に含まれる前記オゾンを低減させる請求項４〜６のいずれか１項に記載の有機ＥＬ用インクの製造方法。
【請求項８】
前記混合工程では、酸素吸着剤、光安定剤、および酸化防止剤のうちの１種以上を更に混合して前記有機ＥＬ用混合物を得る請求項４〜７のいずれか１項に記載の有機ＥＬ用インクの製造方法。
【請求項９】
前記有機ＥＬ用材料は、発光層材料、正孔注入層材料、電子注入層材料、正孔輸送層材料、および電子輸送層材料のうちのいずれかである請求項１〜８のいずれか１項に記載の有機ＥＬ用インクの製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の有機ＥＬ用インクの製造方法で得られた有機ＥＬ用インクを用いて有機機能層を形成する有機機能層形成工程を含む有機ＥＬ装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の技術は、有機ＥＬ用インクの製造方法および有機ＥＬ装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）装置を製造する際には、有機ＥＬ用インクを塗布して成膜することにより有機機能層を形成する製法が用いられている。有機ＥＬ用インクおよびこれにより得られる有機ＥＬ装置に関しては、経時的に劣化する傾向があり、この劣化の原因に対処するために種々の工夫がなされている。例えば、有機ＥＬ用インクを劣化させる原因としてオゾンに着目し、大気よりもオゾン濃度が低い空気雰囲気を有するハウジングにおいて有機ＥＬ発光層を形成する技術が提案されている（特許文献１を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−１２２９１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１にて提案された技術をもってしても、有機ＥＬ用インクおよび有機ＥＬ装置のオゾンによる経時的な劣化を抑制することが依然として困難である。
【０００５】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、オゾンによる劣化が抑制された有機ＥＬ用インクおよび有機ＥＬ装置を得るための有機ＥＬ用インクの製造方法および有機ＥＬ装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明の一態様に係る有機ＥＬ用インクの製造方法は、有機ＥＬ用材料と溶媒とを含む有機ＥＬ用混合物に含まれるオゾンを低減させる混合物オゾン低減工程を含む。
【発明の効果】
【０００７】
本発明における有機ＥＬ用インクの製造方法および有機ＥＬ装置の製造方法によれば、オゾンによる劣化が抑制された有機ＥＬ用インクおよび有機ＥＬ装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１は、実施の形態１に係る有機ＥＬ用インクの製造方法のフロー図である。
【図２】図２は、実施の形態２に係る有機ＥＬ用インクの製造方法のフロー図である。
【図３】図３は、実施の形態２に係る有機ＥＬ用インクの製造方法の変形例のフロー図である。
【図４】図４は、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法のフロー図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態に係る有機ＥＬ用インクの製造方法および有機ＥＬ装置の製造方法について説明する。なお、以下で説明する実施の形態は、いずれも本発明の好ましい一具体例を示すものである。以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態、並びに、ステップ及びステップの順序等は、一例であり、本発明を限定する主旨ではない。また、以下の実施の形態における構成要素のうち、最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。
【００１０】
［有機ＥＬ用インクの製造方法］
（実施の形態１）
図１は、実施の形態１に係る有機ＥＬ用インクの製造方法のフロー図である。図１に示されているように、実施の形態１に係る有機ＥＬ用インクの製造方法は、有機ＥＬ用材料と溶媒とを含む有機ＥＬ用混合物に含まれるオゾンを低減させる混合物オゾン低減工程を含む。
【００１１】
本明細書にいう「有機ＥＬ用混合物に含まれるオゾンを低減させる」とは、例えば、有機ＥＬ用混合物におけるオゾンの含有量を低減させることをいう。
【００１２】
実施の形態１に係る有機ＥＬ用インクの製造方法によれば、有機ＥＬ用混合物に含まれるオゾンを低減させることができるので、経時的な劣化が抑制された高品質の有機ＥＬ用インクを得ることが可能になる。具体的には、実施の形態１に係る有機ＥＬ用インクの製造方法によれば、オゾン濃度が０．０００５ｐｐｍ以下の有機ＥＬ用インクを得ることが可能になる。
【００１３】
混合物オゾン低減工程としては、オゾン吸着剤で有機ＥＬ用混合物を処理することにより有機ＥＬ用混合物に含まれるオゾンを低減させる工程を挙げることができる。
【００１４】
本実施の形態で用いうるオゾン吸着剤としては、ゼオライト、シリカゲル、アルミナ、活性炭などを挙げることができる。上述のオゾン吸着剤は、１種のみまたは２種以上を混合させて用いられてもよい。
【００１５】
オゾン吸着剤で有機ＥＬ用混合物を処理する方法としては、オゾン吸着剤を担持させたカラムで有機ＥＬ用混合物を処理する方法、有機ＥＬ用混合物中にオゾン吸着剤を一旦分散させた後に濾過等によりオゾン吸着剤を有機ＥＬ用混合物から除去する方法などを挙げることができる。上述のように簡便な方法で有機ＥＬ用混合物に含まれるオゾンを低減させることができる点において本実施の形態は優れている。
【００１６】
本明細書にいう有機ＥＬ用材料とは、発光層材料、正孔注入層材料、電子注入層材料、正孔輸送層材料、および電子輸送層材料のうちのいずれかである。
【００１７】
発光層材料とは、有機ＥＬ装置の発光層に含まれる材料である。具体的には、発光層材料としては、例えば、Ｆ８ＢＴ（ｐｏｌｙ（９，９−ｄｉ−ｎ−ｏｃｔｙｌｆｌｕｏｒｅｎｅ−ａｌｔ−ｂｅｎｚｏｔｈｉａｄｉａｚｏｌｅ））、オキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物、アザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、８−ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、２−ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩基とIII族金属との錯体、オキシン金属錯体、又は、希土類錯体などの蛍光物質などを挙げることができる。上述の発光層材料は、１種のみまたは２種以上を混合させて用いられてもよい。
【００１８】
正孔注入層材料とは、有機ＥＬ装置の正孔注入層に含まれる材料である。具体的には、正孔注入層材料としては、例えば、フタロシアニン系、オリゴアミン系、デンドリマーアミン系、ポリチオフェン系などからなる有機材料、酸化タングステン膜などの金属酸化物からなる無機材料を挙げることができる。上述の正孔注入層材料は、１種のみまたは２種以上を混合させて用いられてもよい。
【００１９】
電子注入層材料とは、有機ＥＬ装置の電子注入層に含まれる材料である。具体的には、電子注入層材料としては、例えば、金属キレート系、フェナントロリン系、オキサジアゾール系、トリアゾール系などの有機材料、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物などの無機材料が用いられる。電子注入層材料として用いうる無機材料としては、例えば、バリウム、フタロシアニン、フッ化リチウム、又は、これらの混合物などを用いることができる。上述の電子注入層材料は、１種のみまたは２種以上を混合させて用いられてもよい。
【００２０】
正孔輸送層材料とは、有機ＥＬ装置の正孔輸送層に含まれる材料である。正孔輸送層材料としては、例えば、例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、ブタジエン化合物、ポリスチレン誘導体、ヒドラゾン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、テトラフェニルベンジン誘導体などを挙げることができる。上述の正孔輸送層材料は、１種または２種以上を混合させて用いられてもよい。
【００２１】
電子輸送層材料とは、有機ＥＬ装置の電子輸送層に含まれる材料である。電子輸送層材料としては、例えば、バリウム、フタロシアニン、フッ化リチウム、ニトロ置換フルオレノン誘導体、チオピランジオキサイド誘導体、ジフェキノン誘導体、ペリレンテトラカルボキシル誘導体、アントラキノジメタン誘導体、フレオレニリデンメタン誘導体、アントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ペリノン誘導体、キノリン錯体誘導体などを挙げることができる。上述の電子輸送層材料は、１種または２種以上を混合させて用いられてもよい。
【００２２】
有機ＥＬ用混合物に含まれる溶媒は、通常の有機ＥＬ用インクに使用される有機溶媒であればよい。溶媒としては、芳香族系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒などを挙げることができる。
【００２３】
芳香族系溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、直鎖または分岐のプロピルベンゼン、ブチルベンゼン、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ノニルベンゼン、デシルベンゼン、ウンデシルベンゼン、ドデシルベンゼン、テトラリン、シクロヘキシルベンゼンなどを挙げることができる。
【００２４】
炭化水素系溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカンなど炭素数６以上の直鎖、分岐鎖の飽和、および不飽和の炭化水素系溶媒などを挙げることができる。
【００２５】
ハロゲン系溶媒としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなどを挙げることができる。
【００２６】
エステル系溶媒としては、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸オクチルなどを挙げることができる。
【００２７】
エーテル系溶媒としては、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アニソール、３−フェノキシトルエンなどを挙げることができる。
【００２８】
アルコール系溶媒としては、イソプロピルアルコールなどを挙げることができる。上述の溶媒は、１種のみまたは２種以上を組み合わせて用いられてもよい。
【００２９】
有機ＥＬ用インクに酸素が混入していると、有機ＥＬ用インクの経時的な劣化が生じ、さらに、この有機ＥＬ用インクから作られた有機機能層の性能が低下してしまう。また、有機ＥＬ用インクは光や酸化により変性し、この有機ＥＬ用インクから作られた有機機能層の寿命が短くなってしまう。そのため、有機ＥＬ用混合物は、酸素吸着剤、光安定剤、および酸化防止剤のうちの１種以上を更に含んでもよい。有機ＥＬ用混合物が酸素吸着剤、光安定剤、および酸化防止剤のうちの１種以上を更に含んでいる場合、酸素の混入、または光や酸化による変性を抑えることができるので、経時的な劣化が抑制された高品質の有機ＥＬ用インクおよび有機ＥＬ装置を得ることが可能になる。
【００３０】
有機ＥＬ用混合物に含まれ得る酸素吸着剤としては、有機ＥＬ用インクの性能を損なわない限りにおいて任意の酸素吸着剤を用いうる。例えば、有機ＥＬ用混合物に含まれ得る酸素吸着剤としては、ヒドロキノン−β−Ｄ−ガラクトシド、ヒドロキノン−β−Ｄ−フルクトシドなどのヒドロキノン誘導体、１，２−メチレンジオキシベンゼン、ベラトロール、グアヤコール、グエトールなどのカテコール誘導体、１，４−ジヒドロ−９，１０−アントラキノン、テトラヒドロアントラキノン、アルキルアントラキノン、２−ペンテニルアントラキノン、２−ペンチルアントラキノン、２−フェノキシアントラキノン、２−（２−ヒドロキシエトキシ）アントラキノン、アントラキノンカルボン酸エチル、アントラキノンカルボン酸グリシジル、クロロアントラキノン、アントラキノンスルホン酸などのアントラキノン誘導体、グルコースなどの還元性糖、アスコルビン酸などの還元性アルコール、および多価フェノールなどの有機化合物などを挙げることができる。上述の酸素吸着剤は、１種のみまたは２種以上を混合させて用いられてもよい。
【００３１】
なお、発光層材料に酸素吸着剤を添加する場合、発光層材料に対する酸素吸着剤の濃度は、０．００１重量％以上３０重量％以下であることが好ましく、０．１重量％以上１０重量％以下であることが特に好ましい。
【００３２】
有機ＥＬ用混合物に含まれうる光安定剤としては、有機ＥＬ用インクの性能を損なわない限りにおいて任意の光安定剤を用いうる。例えば、有機ＥＬ用混合物に含まれうる光安定剤としては、サリシレート系光安定剤、ベンゾフェノン系光安定剤、ベンゾトリアゾール系光安定剤、ヒンダードアミン系光安定剤、シアノアクリレート系光安定剤、オキザリックアシッドアニリド系光安定剤、およびニッケル系消光剤などを挙げることができる。上述の光安定剤は、１種のみまたは２種以上を混合させて用いられてもよい。
【００３３】
サリシレート系光安定剤としては、フェニルサリシレート、４−ｔｅｒｔ−ブチルサリシレート、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔｅｒｔ−オクチルフェニルサリシレートなどを挙げることができる。
【００３４】
ベンゾフェノン系光安定剤としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、４−ドデシロキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノンなどを挙げることができる。
【００３５】
ベンゾトリアゾール系光安定剤としては、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｎ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］などを挙げることができる。
【００３６】
ヒンダードアミン系光安定剤としては、フェニル−４−ピペリジルカーボネート、ビス−［２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル］セバケート、ビス−［Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル］セバケート、ビス−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、ポリ［［６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル］［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノール］］、テトラキス（２，２，６，６−テトラ−メチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）ビス（３，３，５，５−テトラ−メチルピペラジノン）、４−ヒドロキシ−２，２，６，６，−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとジメチルサクシネートの重合体、（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル／トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル／トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、［２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル／β，β，β’，β’−テトラメチル−３，９−［２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカン］ジエチル］−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、［１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル／β，β，β’，β’−テトラメチル−３，９−［２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカン］ジエチル］−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレートなどを挙げることができる。
【００３７】
シアノアクリレート系光安定剤としては、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクレート、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリレート、ブチル−２−シアノ−３−メチル−３−（ｐ−メトキシフェニル）アクリレートなどを挙げることができる。
【００３８】
オキザリックアシッドアニリド系光安定剤としては、２−エトキシ−２’−エチルオキザリックアシドビスアニリド、２−エトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−エチルオキザリックアシドビスアニリドなどを挙げることができる。
【００３９】
ニッケル系消光剤としては、［２，２’−チオ−ビス（４−ｔｅｒｔ−オクチルフェノレート）］−２−エチルヘキシルアミン−ニッケル（ＩＩ）、ニッケルジブチル−ジチオカルバメート、［２，２’−チオビス（４−ｔｅｒｔ−オクチルフェノラート）］ｎ−ブチルアミンニッケル、ニッケルビス（オクチルフェニル）サルファイド、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンズリックアシッドモノエチレートニッケル錯体、２，２’−ティオビス（４−ｔｅｒｔ−オクチルフェノレート）トリエタノールアミンニッケル（ＩＩ）錯体などを挙げることができる。
【００４０】
なお、発光層材料に光安定剤を添加する場合、発光層材料に対する光安定剤の濃度は、０．０１重量％以上５０重量％以下であることが好ましく、０．２重量％以上１０重量％以下であることが特に好ましい。
【００４１】
有機ＥＬ用混合物に含まれうる酸化防止剤としては、有機ＥＬ用インクの性能を損なわない限りにおいて任意の酸化防止剤を用いうる。例えば、有機ＥＬ用混合物に含まれうる酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、芳香族アミン系酸化防止剤、有機硫黄系酸化防止剤および有機リン系酸化防止剤などを挙げることができる。上述の酸化防止剤は、１種のみまたは２種以上を混合させて用いられてもよい。
【００４２】
フェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４，６−ジ−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，４，６−トリ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシメチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ジメチルアミノ−ｐ−クレゾール、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルヒドロキノン、ｎ−オクタデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、１−フェニルエチル基で置換されたフェノール、１−フェニルエチル基およびメチル基で置換されたフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレン−ビス−（６−シクロヘキシル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレン−ビス−［６−（１−メチルシクロヘキシル）−ｐ−クレゾール］、２，２’−エチリデン−ビス−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−ブチリデン−ビス−（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、４，４’−メチレン−ビス−（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデン−ビス−（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、１，６−ヘキサンジオール−ビス−［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］、トリ−エチレングリコール−ビス−［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］、Ｎ，Ｎ’−ビス−［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル］−ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス−［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル］−ヘキサメチレンジアミン、２，２’−チオ−ビス−（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオ−ビス−（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−チオ−ジエチレン−ビス−［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］、ビス［２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチル−６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−フェニル］−テレフタレート、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−ベンゼン、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、トリス［２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロ−シンナモイロキシ）エチル］イソシアヌレート、トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−２，６−ジ−メチル−３−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、テトラキス−［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］−メタン、カルシウムビス−［エチル−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒロドキシベンジル）−ホスフェイト］、プロピル−３，４，５−トリ−ヒドロキシベンゼンカーボネート、オクチル−３，４，５−トリ−ヒドロキシベンゼンカーボネート、ドデシル−３，４，５−トリ−ヒドロキシベンゼンカーボネート、２，２’−メチレン−ビス−（４−ｍ−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレン−ビス−（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、１，１−ビス−（４−ヒドロキシ−フェニル）−シクロヘキサン、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、３，９−ビス［１，１−ジ−メチル−２−［β−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニロキシ］エチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンなどを挙げることができる。
【００４３】
芳香族アミン系酸化防止剤としては、４，４’−ジオクチル−ジフェニルアミン、アルキル基で置換されたジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジアリール−ｐ−フェニレンジアミン、６−エトキシ−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−１，３−ジメチルブチル−ｐ−フェニレンジアミン、２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン重合体、アルドール−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−２−ナフチル−ｐ−フェニレンジアミンなどを挙げることができる。
【００４４】
有機硫黄系酸化防止剤としては、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−メチル−３，３’−チオジプロピオネート、ビス［２−メチル−４−［３−ｎ−アルキルチオプロピオニロキシ］−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］サルファイド、ペンタエリトリチル−テトラキス−（３−ラウリルチオプロピオネート）、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプト−５−メチルベンズイミダゾールなどを挙げることができる。
【００４５】
有機リン系酸化防止剤としては、トリス（イソデシル）ホスファイト、トリス（トリデシル）ホスファイト、フェニルジイソオクチルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、フェニルジ（トリデシル）ホスファイト、ジフェニルイソオクチルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、ジフェニルトリデシルホスファイト、亜リン酸［１，１’−ビフェニル−４，４’−ジイルビステトラキス［２，４−ビス−（１，１−ジメチルエチル）フェニル］］エステル、トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、４，４’−イソプロピリデン−ジフェノールアルキルホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ホスファイト、トリス（ビフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリトリトールジホスファイト、ジ（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリトリトールジホスファイト、フェニル−ビスフェノール−ペンタエリトリトールジホスファイト、テトラトリデシル−４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）−ジホスファイト、ヘキサトリデシル−１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタントリホスファイト、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスフェイト−ジ−エチルエステル、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスフォフェナントラセン−１０−オキサイド、ナトリウムビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフェイト、ナトリウム−２，２’−メチレン−ビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフェイト、１，３−ビス（ジフェノキシホスフォニロキシ）−ベンゼンなどを挙げることができる。
【００４６】
なお、発光層材料に酸化防止剤を添加する場合、発光層材料に対する酸化防止剤の濃度は、０．０１重量％以上５０重量％以下であることが好ましく、０．２重量％以上１０重量％以下であることが特に好ましい。
【００４７】
（実施の形態２）
図２は、実施の形態２に係る有機ＥＬ用インクの製造方法のフロー図である。図２に示されているように、実施の形態２に係る有機ＥＬ用インクの製造方法は、溶媒に含まれるオゾンを低減させる溶媒オゾン低減工程と、溶媒オゾン低減工程を経て得られた溶媒と有機ＥＬ用材料とを混合して有機ＥＬ用混合物を得る混合工程と、を含む。
【００４８】
本明細書にいう「溶媒に含まれるオゾンを低減させる」とは、例えば、溶媒におけるオゾンの含有量を低減させることをいう。
【００４９】
実施の形態２に係る有機ＥＬ用インクの製造方法によれば、オゾンを低減させた溶媒を用いて有機ＥＬ用インクを製造することができるので、経時的な劣化が抑制された高品質の有機ＥＬ用インクを得ることが可能になる。具体的には、実施の形態２に係る有機ＥＬ用インクの製造方法によれば、オゾン濃度が０．０００５ｐｐｍ以下の有機ＥＬ用インクを得ることが可能になる。
【００５０】
溶媒オゾン低減工程としては、オゾン吸着剤で溶媒を処理することにより溶媒に含まれるオゾンを低減させる工程を挙げることができる。
【００５１】
本実施の形態で用いうるオゾン吸着剤としては、ゼオライト、シリカゲル、アルミナ、活性炭などを挙げることができる。上述のオゾン吸着剤は、１種のみまたは２種以上を混合させて用いられてもよい。
【００５２】
オゾン吸着剤で溶媒を処理する方法としては、オゾン吸着剤を担持させたカラムで溶媒を処理する方法、溶媒中にオゾン吸着剤を一旦分散させた後に濾過などによりオゾン吸着剤を溶媒から除去する方法などを挙げることができる。上述のように簡便な方法で溶媒に含まれるオゾンを低減させることができる点において本実施の形態は優れている。
【００５３】
なお、溶媒、有機ＥＬ用材料に関しては、上述の実施の形態１で述べたものと同様である。
【００５４】
さらに、混合工程では、酸素吸着剤、光安定剤、および酸化防止剤のうちの１種以上を更に混合して有機ＥＬ用混合物を得てもよい。有機ＥＬ用混合物が酸素吸着剤、光安定剤、および酸化防止剤のうちの１種以上を更に含んでいる場合、経時的な劣化が抑制された高品質の有機ＥＬ用インクを得ることが可能になる。
【００５５】
なお、酸素吸着剤、光安定剤、および酸化防止剤に関しては、上述の実施の形態１で述べたものと同様である。
【００５６】
（変形例）
図３は、実施の形態２に係る有機ＥＬ用インクの製造方法の変形例のフロー図である。図３に示されているように、本変形例に係る有機ＥＬ用インクの製造方法は、混合工程の後に、有機ＥＬ用混合物に含まれるオゾンを低減させる混合物オゾン低減工程を更に含む。
【００５７】
本変形例で行われる混合物オゾン低減工程は、上述の実施の形態１における混合物オゾン低減工程と同じでよい。
【００５８】
すなわち、本変形例における混合物オゾン低減工程としては、オゾン吸着剤で有機ＥＬ用混合物を処理することにより有機ＥＬ用混合物に含まれるオゾンを低減させる工程を挙げることができる。
【００５９】
本変形例に係る有機ＥＬ用インクの製造方法によれば、溶媒に含まれるオゾンを低減した後、更に有機ＥＬ用混合物に含まれるオゾンを低減させるので、有機ＥＬ用インクにおけるオゾンの含有量をより一層低減させることが可能になる。具体的には、有機ＥＬ材料から持ち込まれたオゾンや、混合工程で不可避的に有機ＥＬ用混合物に混入してしまったオゾンを、混合物オゾン低減工程によって有機ＥＬ用混合物から除去させることが可能になる。その結果、本変形例に係る有機ＥＬ用インクの製造方法によれば、経時的な劣化がより一層抑制された高品質の有機ＥＬ用インクを得ることが可能になる。具体的には、本変形例に係る有機ＥＬ用インクの製造方法によれば、オゾン濃度が０．０００１ｐｐｍ以下の有機ＥＬ用インクを得ることが可能になる。
【００６０】
［有機ＥＬ装置の製造方法］
本実施の形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法は、上述の実施の形態１または実施の形態２に係る有機ＥＬ用インクの製造方法で得られた有機ＥＬ用インクを用いて有機機能層を形成する有機機能層形成工程を含む。
【００６１】
有機ＥＬ用インクを用いて有機機能層を形成する工程としては、ディスペンサー法、ノズルコート法、スピンコート法、凹版印刷又は凸版印刷などの塗布方式により有機ＥＬ用インクを塗布して成膜し、乾燥させることにより有機機能層を形成する工程を用いるとよい。
【００６２】
なお、本明細書にいう有機機能層とは、発光層、正孔注入層、電子注入層、正孔輸送層、電子輸送層のうちのいずれかのことをいう。
【００６３】
なお、有機ＥＬ装置とは、例えば、有機ＥＬ表示装置のことをいう。
【００６４】
本実施の形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法によれば、オゾン含有量の低減された有機機能層を得ることができる。その結果、本実施の形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法によれば、経時的な劣化が抑制された高品質の有機ＥＬ装置を得ることが可能になる。
【００６５】
以上、本発明の実施の形態に係る有機ＥＬ用インクの製造方法および有機ＥＬ装置の製造方法について説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定されるものではない。つまり、今回開示された実施の形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
【００６６】
例えば、混合物オゾン低減工程、溶媒オゾン低減工程、混合工程を不活性ガス雰囲気下で行ってもよい。本明細書にいう不活性ガスとは、有機ＥＬ用インクの性能に変化を生じさせ難いガスのことを意味し、例えば、窒素、アルゴン、ネオン、ヘリウム、クリプトン、キセノンのガスのことをいう。不活性ガス雰囲気下とは、不活性ガスが９９％以上の雰囲気のことをいう。混合物オゾン低減工程、溶媒オゾン低減工程、混合工程を不活性ガス雰囲気下で行う場合、得られる有機ＥＬ用インクおよび有機ＥＬ装置の経時的な劣化を抑制することが可能になる。
【００６７】
混合物オゾン低減工程では、有機ＥＬ用混合物１００重量％に対してオゾン吸着剤を０．０１重量％〜１００重量％用いることが好ましく、０．１重量％〜１０重量％用いることがより好ましい。なお、混合物オゾン低減工程において、オゾン吸着剤に加えて、酸素吸着剤、酸化防止剤、光安定剤を添加する場合、酸素吸着剤、酸化防止剤、光安定剤の添加量は、有機ＥＬ用混合物１００重量％に対して、０．０１重量％〜１００重量％であることが好ましく、０．１重量％〜１０重量％であることがより好ましい。
【００６８】
また、溶媒オゾン低減工程では、溶媒１００重量％に対してオゾン吸着剤を０．０１重量％〜１００重量％用いることが好ましく、０．１重量％〜１０重量％用いることがより好ましい。なお、溶媒オゾン低減工程において、オゾン吸着剤に加えて、酸素吸着剤、酸化防止剤、光安定剤を添加する場合、酸素吸着剤、酸化防止剤、光安定剤の添加量は、溶媒１００重量％に対して、０．０１重量％〜１００重量％であることが好ましく、０．１重量％〜１０重量％であることがより好ましい。
【００６９】
また、オゾン吸着剤、酸素吸着剤、酸化防止剤、光安定剤を溶媒に入れる場合、これらを入れる順序は、最初に、溶媒に、酸素吸着剤、酸化防止剤、光安定剤を加えた後で、最後に、オゾン吸着剤を入れることが好ましい。ただし、オゾン吸着剤、酸素吸着剤、酸化防止剤、光安定剤を溶媒に入れる順序は、これに限るものではない。
【００７０】
また、混合物オゾン低減工程および溶媒オゾン低減工程では、オゾン吸着剤を用いない工程を適用してもよい。
【産業上の利用可能性】
【００７１】
本発明は、有機ＥＬ用インクの製造方法および有機ＥＬ装置の製造方法として有用である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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