(57)【要約】      （修正有）【課題】フラットパネル表示装置の光学フィルムに適用可能な新規な重合体を得るためのモノマーの提供。【解決手段】式１で表されるモノマー及びこれから得られた光学フィルム。2017122079.tif 000047（Ｒ１〜Ｒ１０は夫々独立にＨ、アルキル基等；Ｘ１及びＸ２は夫々独立に−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−又は−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−）【選択図】図１
2017122079.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式１で表されるモノマー：
【化１】
2017122079.tif 000037
上記一般式１において、
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｏ）Ｏであり、
Ｒ１〜Ｒ１０は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立して、０〜３の整数である。
【請求項２】
下記一般式１−１又は１−２で表される、請求項１に記載のモノマー：
【化２】
2017122079.tif 000038
上記一般式１−１及び１−２において、
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｏ）Ｏであり、
Ｒ１〜Ｒ１０は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立して、０〜３の整数である。
【請求項３】
下記一般式１−１Ａ〜１−２Ｄのうちのいずれか一つで表される、請求項１又は２に記載のモノマー：
【化３】
2017122079.tif 000039
【化４】
2017122079.tif 000040
上記一般式１−１Ａ〜１−２Ｄにおいて、
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｏ）Ｏである。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載のモノマーに由来する構造単位を有する重合体。
【請求項５】
前記構造単位は、前記モノマー及びカーボネート又はその誘導体の反応に由来する、請求項４に記載の重合体。
【請求項６】
下記一般式３で表される第１の構造単位を有する重合体：
【化５】
2017122079.tif 000041
上記一般式３において、
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｏ）Ｏであり、
Ｒ１〜Ｒ１０は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立して、０〜３の整数である。
【請求項７】
前記第１の構造単位は、下記一般式３−１又は３−２で表される、請求項６に記載の重合体：
【化６】
2017122079.tif 000042
上記一般式３−１及び３−２において、
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｏ）Ｏであり、
Ｒ１〜Ｒ１０は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立して、０〜３の整数である。
【請求項８】
前記第１の構造単位は、下記一般式３−１Ａ〜３−２Ｄのうちのいずれか一つで表される、請求項６又は７に記載の重合体：
【化７】
2017122079.tif 000043
【化８】
2017122079.tif 000044
上記一般式３−１Ａ〜３−２Ｄにおいて、
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｏ）Ｏである。
【請求項９】
下記一般式４で表される第２の構造単位をさらに有する、請求項６から８のいずれか一項に記載の重合体：
【化９】
2017122079.tif 000045
上記一般式４において、
Ｌ１は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、ＳＯ２又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基又はこれらの組み合わせである。
【請求項１０】
前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位を０．１：９９．９〜１０．０：９０．０のモル比で有する、請求項９に記載の重合体。
【請求項１１】
前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位を１：９９〜５：９５のモル比で有する、請求項９又は１０に記載の重合体。
【請求項１２】
請求項１乃至請求項３のうちのいずれか一項に記載のモノマーに由来する構造単位を有する重合体を含む補償フィルム。
【請求項１３】
前記構造単位は、前記モノマー及びカーボネート又はその誘導体の反応に由来する、請求項１２に記載の補償フィルム。
【請求項１４】
請求項６から１１のいずれか一項に記載の第１の重合体を含む補償フィルム。
【請求項１５】
下記一般式５で表される構造単位を有する第２の重合体をさらに含む、請求項１４に記載の補償フィルム：
【化１０】
2017122079.tif 000046
上記一般式５において、
Ｌ２は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、ＳＯ２又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１３及びＲ１４は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基又はこれらの組み合わせである。
【請求項１６】
前記第１の重合体及び前記第２の重合体は、１：９〜３：７のモル比で含まれる、請求項１５に記載の補償フィルム。
【請求項１７】
一軸又は二軸延伸されている、請求項１４から１６のいずれか一項に記載の補償フィルム。
【請求項１８】
４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍ波長に対する前記補償フィルムの位相差は、下記関係式１〜５のうちのいずれか一つを満たす、請求項１４から１７のいずれか一項に記載の補償フィルム：
Ｒ（４５０ｎｍ）≧Ｒ（５５０ｎｍ）＞Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式１  
Ｒ（４５０ｎｍ）＞Ｒ（５５０ｎｍ）≧Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式２ 
Ｒ（４５０ｎｍ）＝Ｒ（５５０ｎｍ）＝Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式３
Ｒ（４５０ｎｍ）≦Ｒ（５５０ｎｍ）＜Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式４
Ｒ（４５０ｎｍ）＜Ｒ（５５０ｎｍ）≦Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式５
前記関係式１〜５において、
Ｒ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差である。
【請求項１９】
請求項１４から１８のいずれか一項に記載の補償フィルムと、
偏光子と、
を備える光学フィルム。
【請求項２０】
請求項１４から１８のいずれか一項に記載の補償フィルム又は請求項１９に記載の光学フィルムを備える表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、モノマー、重合体、補償フィルム、光学フィルム及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
フラットパネル表示装置は、自己発光する発光表示装置と、別途の光源を必要とする受光型表示装置と、に大別でき、これらの画質を改善するために補償フィルムが用いられる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、上記従来技術に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、補償フィルムに適用可能な新規なモノマーを提供することにある。
【０００４】
本発明の他の目的は、前記新規なモノマーを重合して得られた重合体を提供することにある。
【０００５】
本発明のさらに他の目的は、前記重合体を含む補償フィルムを提供することにある。
【０００６】
本発明のさらに他の目的は、前記補償フィルムを備える光学フィルムを提供することにある。
【０００７】
本発明のさらに他の目的は、前記補償フィルム又は前記光学フィルムを備える表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様によるモノマーは、下記一般式１で表される。
【０００９】
【化１】
2017122079.tif 000003
【００１０】
上記一般式１において、
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｏ）Ｏであり、
Ｒ１〜Ｒ１０は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立して、０〜３の整数である。
【００１１】
前記モノマーは、下記一般式１−１又は１−２で表され得る。
【００１２】
【化２】
2017122079.tif 000004
【００１３】
上記一般式１−１及び１−２において、
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｏ）Ｏであり、
Ｒ１〜Ｒ１０は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立して、０〜３の整数である。
【００１４】
前記モノマーは、下記一般式１−１Ａ〜１−２Ｄのうちのいずれか一つで表され得る。
【００１５】
【化３】
2017122079.tif 000005
【化４】
2017122079.tif 000006
【００１６】
上記一般式１−１Ａ〜１−２Ｄにおいて、
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｏ）Ｏである。
【００１７】
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様による重合体は、前記モノマーに由来する構造単位を有する。
【００１８】
前記構造単位は、前記モノマー及びカーボネート又はその誘導体の反応に由来し得る。
【００１９】
前記重合体は、下記一般式３で表される第１の構造単位を有し得る。
【００２０】
【化５】
2017122079.tif 000007
【００２１】
上記一般式３において、
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｏ）Ｏであり、
Ｒ１〜Ｒ１０は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立して、０〜３の整数である。
【００２２】
前記第１の構造単位は、下記一般式３−１又は３−２で表され得る。
【００２３】
【化６】
2017122079.tif 000008
【００２４】
上記一般式３−１及び３−２において、
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｏ）Ｏであり、
Ｒ１〜Ｒ１０は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立して、０〜３の整数である。
【００２５】
前記第１の構造単位は、下記一般式３−１Ａ〜３−２Ｄのうちのいずれか一つで表され得る。
【００２６】
【化７】
2017122079.tif 000009
【化８】
2017122079.tif 000010
【００２７】
上記一般式３−１Ａ〜３−２Ｄにおいて、
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｏ）Ｏである。
【００２８】
前記重合体は、下記一般式４で表される第２の構造単位をさらに有し得る。
【００２９】
【化９】
2017122079.tif 000011
【００３０】
上記一般式４において、
Ｌ１は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、ＳＯ２又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基又はこれらの組み合わせである。
【００３１】
前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位を０．１：９９．９〜１０．０：９０．０のモル比で有し得る。
【００３２】
前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位を１：９９〜５：９５のモル比で有し得る。
【００３３】
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様による補償フィルムは、前記モノマーに由来する構造単位を有する重合体を含む。
【００３４】
前記構造単位は、前記モノマー及びカーボネート又はその誘導体の反応に由来し得る。
【００３５】
前記補償フィルムは、本発明の一態様による第１の重合体を含み得る。
【００３６】
前記補償フィルムは、下記一般式５で表される構造単位を有する第２の重合体をさらに含み得る。
【化１０】
2017122079.tif 000012
【００３７】
上記一般式５において、
Ｌ２は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、ＳＯ２又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１３及びＲ１４は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基又はこれらの組み合わせである。
【００３８】
前記第１の重合体及び前記第２の重合体は、１：９〜３：７のモル比で含まれ得る。
【００３９】
前記補償フィルムは、一軸又は二軸延伸され得る。
【００４０】
４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍ波長に対する前記補償フィルムの位相差は、下記関係式１〜５のうちのいずれか一つを満たし得る。
【００４１】
Ｒ（４５０ｎｍ）≧Ｒ（５５０ｎｍ）＞Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式１
Ｒ（４５０ｎｍ）＞Ｒ（５５０ｎｍ）≧Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式２ 
Ｒ（４５０ｎｍ）＝Ｒ（５５０ｎｍ）＝Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式３
Ｒ（４５０ｎｍ）≦Ｒ（５５０ｎｍ）＜Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式４
Ｒ（４５０ｎｍ）＜Ｒ（５５０ｎｍ）≦Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式５
【００４２】
前記関係式１〜５において、
Ｒ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差である。
【００４３】
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様による光学フィルムは、前記補償フィルムと、偏光子と、を備える。
【００４４】
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様による表示装置は、前記補償フィルム又は前記光学フィルムを備える 。
【発明の効果】
【００４５】
本発明によれば、新規なモノマー及びこれから得られた重合体は、位相遅延特性を有する補償フィルムに効果的に適用される。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明の一実施形態による光学フィルムの概略的な断面図である。
【図２】光学フィルムの外光反射防止原理を示す概略図である。
【図３】偏光フィルムの一例を示す概略図である。
【図４】本発明の一実施形態による有機発光表示装置を概略的に示す断面図である。
【図５】本発明の一実施形態による液晶表示装置を概略的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４７】
以下、本発明を実施するための形態の具体例を、図面を参照しながら詳細に説明する。しかし、本発明は、ここで説明する実施形態に限定されるものではなく、他の形態に具現化可能である。
【００４８】
図中、様々な層及び領域の厚さは、明確性を図るために誇張されている。明細書全体に亘って同じ構成部分に対しては同じ図面符号を付する。なお、層、膜、領域、板などの構成部分が他の構成部分の「上」にあるとした場合、それは、他の構成部分の「真上」にある場合だけではなく、これらの間に更に他の構成部分がある場合も含む。逆に、ある構成部分が他の構成部分の「直上」にあるとした場合には、これらの間に他の構成部分がないことを意味する。
【００４９】
本明細書において、別途に断わりのない限り、「置換」とは、化合物又は官能基中の少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アジド基、アミジノ基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、カルボニル基、カルバモイル基、チオール基、エステル基、カルボキシル基とその塩、スルホン酸基とその塩、リン酸基とその塩、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル基、Ｃ２〜Ｃ２０のアルケニル基、Ｃ２〜Ｃ２０のアルキニル基、Ｃ６〜Ｃ３０のアリール基、Ｃ７〜Ｃ３０のアラルキル基、Ｃ１〜Ｃ３０のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２０のヘテロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ２０のヘテロアラルキル基、Ｃ３〜Ｃ３０のシクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ１５のシクロアルケニル基、Ｃ６〜Ｃ１５のシクロアルキニル基、Ｃ３〜Ｃ３０のヘテロシクロアルキル基、及びこれらの組み合わせから選ばれる置換基により置換されることを意味する。
【００５０】
また、本明細書において、別途に断わりのない限り、「ヘテロ」とは、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ及びＰから選ばれるヘテロ原子を１つ〜３つ含むものを意味する。
【００５１】
以下、本発明の一実施形態によるモノマーについて説明する。
【００５２】
本発明の一実施形態によるモノマーは、下記一般式１で表される。
【００５３】
【化１１】
2017122079.tif 000013
【００５４】
上記一般式１において、
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｏ）Ｏであり、
Ｒ１〜Ｒ１０は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立して、０〜３の整数である。
【００５５】
モノマーは、一方向に連続的につながったフェニルアセチレン基を有し、フェニルアセチレン基により所定の波長領域の光を効果的に吸収する。これにより、光学特性が求められる様々な分野に適用可能である。
【００５６】
例えば、モノマーは、脂肪族又は芳香族メソゲン化合物と反応して所望の光学特性を有する液晶物質として用いられる。
【００５７】
例えば、モノマーは、トリホスゲンなどのカーボネート又はその誘導体と反応してポリカーボネートを形成する。ポリカーボネートフィルムは、例えば、所望の光学特性を有する補償フィルムとして用いられる。
【００５８】
また、モノマーは、溶解性に優れており、比較的に容易な合成方法により合成される。
【００５９】
例えば、上記一般式１において、Ｘ１及びＸ２は、等しい。
【００６０】
例えば、上記一般式１において、ｎ１及びｎ２は、それぞれ０である。
【００６１】
例えば、上記一般式１において、ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立して、０又は１である。
【００６２】
モノマーは、例えば、下記一般式１−１又は１−２で表される。
【００６３】
【化１２】
2017122079.tif 000014
【００６４】
上記一般式１−１及び１−２において、Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１〜Ｒ１０、ｎ１及びｎ２は、上述した通りである。
【００６５】
例えば、上記一般式１−１又は１−２において、Ｘ１及びＸ２は、等しい。
【００６６】
例えば、上記一般式１−１又は１−２において、ｎ１及びｎ２は、それぞれ０である。
【００６７】
例えば、上記一般式１−１又は１−２において、ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立して、０又は１である。
【００６８】
モノマーは、例えば、下記一般式１−１Ａ〜１−２Ｄのうちのいずれか一つで表されるが、これらに限定されない。
【００６９】
【化１３】
2017122079.tif 000015
【化１４】
2017122079.tif 000016
【００７０】
上記一般式１−１Ａ〜１−２Ｄにおいて、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｏ）Ｏである。
【００７１】
モノマーは、単独重合又は他のモノマーと共重合して重合体を形成する。
【００７２】
重合体は、上記一般式１で表されるモノマーに由来する構造単位を有する。
【００７３】
モノマーは、重合に際して、カーボネート又はその誘導体と反応して上記一般式１で表されるモノマーに由来する構造単位を有するポリカーボネートを形成する。
【００７４】
重合体は、下記一般式３で表される第１の構造単位を有する。
【００７５】
【化１５】
2017122079.tif 000017
【００７６】
上記一般式３において、
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｏ）Ｏであり、
Ｒ１〜Ｒ１０は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立して、０〜３の整数である。
【００７７】
第１の構造単位は、モノマーとカーボネート又はその誘導体の反応により得られた主鎖の部分と、主鎖の部分に対して実質的に垂直方向に配列されたフェニルアセチレン基を有する。フェニルアセチレン基は、重合体の主鎖に対して両側に対称状又は非対称状に位置し、フェニルアセチレン基の位置及び個数を調節して、屈折率及び波長による吸光特性を変化させることができる。これにより、重合体は、光学特性が求められる様々な分野に適用可能である。例えば、重合体は、主鎖方向の屈折率及びフェニルアセチレン基の配列方向の屈折率を調節することにより、波長による複屈折率を制御することができる。
【００７８】
第１の構造単位は、例えば、下記一般式３−１又は３−２で表される。
【００７９】
【化１６】
2017122079.tif 000018
【００８０】
上記一般式３−１及び３−２において、Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１〜Ｒ１０、ｎ１及びｎ２は、上述の通りである。
【００８１】
例えば、上記一般式３−１又は３−２において、Ｘ１及びＸ２は等しい。
【００８２】
例えば、上記一般式３−１又は３−２において、ｎ１及びｎ２は、それぞれ０である。
【００８３】
例えば、上記一般式３−１又は３−２において、ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立して、０又は１である。
【００８４】
第１の構造単位は、例えば、下記一般式３−１Ａ〜３−２Ｄのうちのいずれか一つで表されるが、これらに限定されない。
【００８５】
【化１７】
2017122079.tif 000019
【化１８】
2017122079.tif 000020
【００８６】
上記一般式３−１Ａ〜３−２Ｄにおいて、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｏ）Ｏである。
【００８７】
重合体は、上記一般式１で表されるモノマーに加えて、少なくとも一つの他のモノマーと共重合し得、他のモノマーに由来する少なくとも一つの構造単位をさらに有する。他のモノマーは、重合に際して、カーボネート又はその誘導体と反応してカーボネート基を有するポリカーボネートを形成する反応サイトを有する。他のモノマーは、例えば、ヒドロキシ基を有するモノマーであり、例えば、ビスフェノール又はその誘導体であるが、これに限定されない。
【００８８】
例えば、ビスフェノール又はその誘導体が一緒に重合された場合、重合体は、下記一般式４で表される第２の構造単位をさらに有する。
【００８９】
【化１９】
2017122079.tif 000021
【００９０】
上記一般式４において、
【００９１】
Ｌ１は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、ＳＯ２又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基又はこれらの組み合わせである。
【００９２】
第２の構造単位は、ビスフェノール又はその誘導体とカーボネート又はその誘導体の反応により得られた主鎖の部分を有する。
【００９３】
重合体が第１の構造単位及び第２の構造単位を有する場合、第１の構造単位及び第２の構造単位を、約０．１：９９．９〜１０．０：９０．０のモル比で有する。前記範囲で有することにより、所望の光学特性を得ながらも、柔軟性を強化させてフィルムとして用意し易い。前記範囲内において、例えば、約０．５：９９．５〜１０：９０のモル比で有し、前記範囲内において、例えば、約１：９９〜５：９５のモル比で有する。
【００９４】
重合体は、例えば、フィルム状に準備されて重合体フィルムとして用いられる。重合体フィルムは、例えば、透明であり、透明性が求められるいかなる用途にも使用可能である。重合体フィルムは、例えば、基板、保護フィルム、補償フィルム、光学フィルム、誘電層、絶縁層、接着層など様々な用途に使用可能である。
【００９５】
以下、本発明の一実施形態による補償フィルムについて説明する。
【００９６】
本発明の一実施形態による補償フィルムは、上述した一般式１で表されるモノマーを単独重合又は少なくとも一つの他のモノマーと共重合した第１の重合体を有する。このため、第１の重合体は、上記一般式１で表されるモノマーに由来する第１の構造単位を有し、第１の構造単位は、上述した一般式１で表されるモノマーとカーボネート又はその誘導体の反応に由来する。
【００９７】
第１の重合体は、下記一般式３で表される第１の構造単位を有する。
【００９８】
【化２０】
2017122079.tif 000022
【００９９】
上記一般式３において、
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｏ）Ｏであり、
Ｒ１〜Ｒ１０は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立して、０〜３の整数である。
【０１００】
第１の構造単位は、モノマーとカーボネート又はその誘導体の反応により得られた主鎖の部分と、主鎖の部分に対して実質的に垂直方向に配列されたフェニルアセチレン基を有する。フェニルアセチレン基は、第１の重合体の主鎖に対して両側に対称状又は非対称状に位置し、フェニルアセチレン基の位置及び個数を調節して屈折率及び波長による吸光特性を変化させて位相遅延を有する。例えば、第１の重合体は、主鎖方向の屈折率及びフェニルアセチレン基の配列方向の屈折率を調節することにより、波長による複屈折率を制御することができる。
【０１０１】
第１の構造単位は、例えば、下記一般式３−１又は３−２で表される。
【０１０２】
【化２１】
2017122079.tif 000023
【０１０３】
上記一般式３−１及び３−２において、Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１〜Ｒ１０、ｎ１及びｎ２は、上述した通りである。
【０１０４】
例えば、上記一般式３−１又は３−２において、Ｘ１及びＸ２は等しい。
【０１０５】
例えば、上記一般式３−１又は３−２において、ｎ１及びｎ２は、それぞれ０である。
【０１０６】
例えば、上記一般式３−１又は３−２において、ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立して、０又は１である。
【０１０７】
第１の構造単位は、例えば、下記一般式３−１Ａ〜３−２Ｄのうちのいずれか一つで表されるが、これらに限定されない。
【０１０８】
【化２２】
2017122079.tif 000024
【化２３】
2017122079.tif 000025
【０１０９】
上記一般式３−１Ａ〜３−２Ｄにおいて、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｏ）Ｏである。
【０１１０】
第１の重合体は、上記一般式１で表されるモノマーに加えて、少なくとも一つの他のモノマーと共重合し得、少なくとも一つの他のモノマーに由来する少なくとも一つの構造単位をさらに有する。少なくとも一つの他のモノマーは、重合に際して、カーボネート又はその誘導体と反応してカーボネート基を有するポリカーボネートを形成する。他のモノマーは、重合に際して、カーボネート又はその誘導体と反応してカーボネート基を有するポリカーボネートを形成する反応サイトを有する。他のモノマーは、例えば、ヒドロキシ基を有するモノマーであり、例えば、ビスフェノール又はその誘導体であるが、これに限定されない。
【０１１１】
例えば、ビスフェノール又はその誘導体が一緒に重合された場合、第１の重合体は、下記一般式４で表される第２の構造単位をさらに有する。
【０１１２】
【化２４】
2017122079.tif 000026
【０１１３】
上記一般式４において、
Ｌ１は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、ＳＯ２又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基又はこれらの組み合わせである。
【０１１４】
第２の構造単位は、ビスフェノール又はその誘導体とカーボネート又はその誘導体の反応により得られた主鎖の部分を有する。
【０１１５】
第１の重合体が第１の構造単位及び第２の構造単位を有する場合、第１の構造単位及び第２の構造単位を約０．１：９９．９〜１０．０：９０．０のモル比で有する。前記範囲で有することにより、所望の光学特性を得ながらも、柔軟性を強化させてフィルムとして製造し易い。前記範囲内において、例えば、約０．５：９９．５〜１０：９０のモル比で有し、前記範囲内において、例えば、約１：９９〜５：９５のモル比で有する。
【０１１６】
補償フィルムは、上述した第１の重合体に加えて、少なくとも一つの第２の重合体をさらに含む。
補償フィルムは、第２の重合体をさらに含むことにより、補償フィルムの光学的・物理的な特性をさらに補強することができる。
【０１１７】
第２の重合体は、補償フィルムの機能を強化させるものであれば、特に限定されないが、例えば、置換若しくは非置換のアリーレン基及びカーボネート基を有する構造単位を有する。
【０１１８】
第２の重合体は、例えば、下記一般式５で表される構造単位を有する。
【０１１９】
【化２５】
2017122079.tif 000027
【０１２０】
上記一般式５において、
Ｌ２は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、ＳＯ２又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１３及びＲ１４は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基又はこれらの組み合わせである。
【０１２１】
第１の重合体及び第２の重合体は、例えば、約１：９〜９：１のモル比で含まれ、前記範囲内において、例えば、約１：９〜２：８のモル比で含まれ、前記範囲内において、例えば、約１：９〜３：７のモル比で含まれる。前記範囲で含まれることにより、所望の光学特性を得ながらも、柔軟性を強化させてフィルムとしてさらに製造しやすい。
【０１２２】
補償フィルムは、例えば、一軸又は二軸方向に延伸されている。例えば、補償フィルムは、一軸延伸されている。
【０１２３】
補償フィルムは、上述したように、屈折率及び波長による吸光特性を変化させて所定の位相差を有する。
【０１２４】
補償フィルムの位相差（Ｒ）は、面内位相差（Ｒｏ）及び厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）で表される。補償フィルムの面内位相差（Ｒｏ）は、補償フィルムの面内方向に発生する位相差であり、Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）ｄで表される。補償フィルムの厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）は、補償フィルムの厚さ方向に発生する位相差であり、Ｒｔｈ＝｛［（ｎｘ＋ｎｙ）／２］−ｎｚ｝ｄで表される。ここで、ｎｘは、補償フィルムの面内屈折率が最も大きい方向（以下、「遅相軸（ｓｌｏｗ ａｘｉｓ）」と称する。）における屈折率であり、ｎｙは、補償フィルムの面内屈折率が最も小さい方向（以下、「進相軸（ｆａｓｔ ａｘｉｓ）」と称する。）における屈折率であり、ｎｚは、補償フィルムの遅相軸及び進相軸に対する垂直方向の屈折率であり、ｄは、補償フィルムの厚さである。
【０１２５】
補償フィルムは、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ及び／又は厚さ（ｄ）を変化させて所定の範囲の面内位相差及び厚さ方向の位相差を有するように調節する。
【０１２６】
補償フィルムの位相差は、波長に応じて同一又は異なる。
【０１２７】
例えば、補償フィルムは、短波長の光に対する位相差が長波長の光に対する位相差よりもさらに大きい正波長分散位相遅延を有し、５５０ｎｍの波長を基準波長としたとき、例えば、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する補償フィルムの位相差（Ｒ）は、下記関係式１又は２を満たす。
【０１２８】
Ｒ（４５０ｎｍ）≧Ｒ（５５０ｎｍ）＞Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式１
Ｒ（４５０ｎｍ）＞Ｒ（５５０ｎｍ）≧Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式２ 
【０１２９】
例えば、補償フィルムは、長波長の光に対する位相差及び短波長の光に対する位相差が実質的に等しいフラット分散位相遅延を有し、例えば、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する補償フィルムの位相差（Ｒ）は、下記関係式３を満たす。
【０１３０】
Ｒ（４５０ｎｍ）＝Ｒ（５５０ｎｍ）＝Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式３
【０１３１】
例えば、補償フィルムは、長波長の光に対する位相差が短波長の光に対する位相差よりもさらに大きい逆波長分散位相遅延を有し、例えば、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する補償フィルムの位相差（Ｒ）は、下記関係式４又は５を満たす。
【０１３２】
Ｒ（４５０ｎｍ）≦Ｒ（５５０ｎｍ）＜Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式４
Ｒ（４５０ｎｍ）＜Ｒ（５５０ｎｍ）≦Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式５
【０１３３】
関係式１〜５において、
Ｒ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差である。
【０１３４】
補償フィルムは、波長に応じて所望の位相差を有するように調節する。
【０１３５】
補償フィルムは、高い複屈折率を有するので、比較的に薄肉である。補償フィルムは、例えば、約３μｍ〜２００μｍの厚さを有し、前記範囲内において、例えば、約５μｍ〜１５０μｍの厚さを有し、前記範囲内において、例えば、約５μｍ〜１００μｍの厚さを有する。
【０１３６】
補償フィルムは、実質的に透明な重合体を含むため、基板として使用可能であり、これにより、補償フィルムの下部への別途の基板の取り付けが省略されてもよい。したがって、補償フィルムのさらなる薄肉化が図れる。これにより、折り畳み可能な表示装置又は折り曲げ可能な表示装置などのフレキシブル表示装置にも効果的に適用されて光学特性及び表示特性を改善することができる。
【０１３７】
補償フィルムは、例えば、モノマーを準備するステップと、モノマーを重合して重合体を準備するステップと、重合体をフィルムとして準備するステップ及びフィルムを延伸するステップを含む方法により製造される。
【０１３８】
補償フィルムは、例えば、５０℃〜５００℃の温度において約１１０％〜１０００％の伸び率で延伸される。ここで、伸び率とは、補償フィルムの延伸前の長さ及び延伸後の長さ間の比率のことをいい、一軸延伸後に補償フィルムが伸びた度合いを意味する。
【０１３９】
上述した補償フィルムは、単独で用いられてもよく、他の補償フィルムと併用されてもよい。
【０１４０】
補償フィルムは、偏光子と一緒に用いられて表示装置の外部光の反射を防ぐ光学フィルムとして用いられる。光学フィルムは、例えば、反射防止フィルムであるが、これに限定されない。
【０１４１】
図１は、本発明の一実施形態による光学フィルムの概略的な断面図であり、図２は、光学フィルムの外光反射防止原理を示す概略図であり、図３は、偏光フィルムの一例を示す概略図である。
【０１４２】
図１を参照すると、本発明の一実施形態による光学フィルム１００は、偏光子１１０及び補償フィルム１２０を備える。補償フィルム１２０は、偏光子１１０を通過した光を円偏光させて位相差を発生させ、光の反射及び／又は吸収に影響を与える。
【０１４３】
例えば、光学フィルム１００は、表示装置の片側又は両側に配備され、特に、表示装置の画面部側に配置されて外部から入射する光が反射されること（以下、「外光反射」と称する。）を防ぐ。これにより、外光反射による視認性の低下が防がれる。
【０１４４】
図２は、光学フィルムの外光反射防止原理を示す概略図である。
【０１４５】
図２を参照すると、入射する非偏光の光は、偏光子１１０を通過しながら２つの偏光直交成分のうちの一つの偏光直交成分、すなわち、第１の偏光直交成分のみが透過され、偏光された光は、補償フィルム１２０を通過しながら円偏光に変わる。円偏光した光は、基板、電極などを有する表示パネル５０において反射されながら円偏光の方向が変わり、円偏光した光が補償フィルム１２０を再び通過しながら２つの偏光直交成分のうち残りの偏光直交成分、すなわち、第２の偏光直交成分のみが透過される。第２の偏光直交成分は、偏光子１１０を通過できず、外部に光が放出されないので、外光反射防止効果を有する。
【０１４６】
偏光子１１０は、例えば、偏光板又は偏光フィルムである。
【０１４７】
図３を参照すると、偏光子１１０は、例えば、高分子樹脂７１及び二色性染料７２の溶融混合物により製造された一体型構造の偏光フィルムである。
【０１４８】
高分子樹脂７１は、例えば、疎水性高分子樹脂であり、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）及びこれらの共重合体などのポリオレフィン;ナイロン及び芳香族ポリアミドなどのポリアミド;ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などのポリエステル;ポリメチル（メタ）アクリレートなどのポリアクリル;ポリスチレン（ＰＳ）及びアクリロニトリル−スチレン共重合体などのポリスチレン;ポリカーボネート;塩化ビニル系樹脂;ポリイミド;スルホン樹脂;ポリエーテルスルホン;ポリエーテル−エーテルケトン;ポリフェニレンスルフィド;ビニルアルコール樹脂;ビニリデンクロリド樹脂;ビニルブチラール樹脂;アリレート樹脂;ポリオキシメチレン;エポキシ、これらの共重合体又はこれらの組み合わせである。
【０１４９】
中でも、高分子樹脂７１は、例えば、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、これらの共重合体又はこれらの組み合わせであり、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ナイロン、これらの共重合体又はこれらの組み合わせである。
【０１５０】
中でも、高分子樹脂７１は、ポリオレフィンである。ポリオレフィンは、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン及びポリプロピレンの共重合体（ＰＥ−ＰＰ）から選ばれた少なくとも２つの混合物であり、例えば、ポリプロピレン（ＰＰ）及びポリエチレン−ポリプロピレン共重合体（ＰＥ−ＰＰ）の混合物である。
【０１５１】
高分子樹脂７１は、約４００〜７８０ｎｍの波長領域において透過度が約８５％以上である。高分子樹脂７１は、一軸方向に延伸されている。一軸方向は、後述する二色性染料７２の長手方向に等しい。
【０１５２】
二色性染料７２は、高分子樹脂７１に分散されており、高分子樹脂７１の延伸方向に沿って一方向に配列されている。二色性染料７２は、所定の波長領域に対して２つの偏光直交成分のうちの一つの偏光直交成分のみを透過させる。
【０１５３】
二色性染料７２は、高分子樹脂７１の１００重量部に対して約０．０１〜５重量部で含まれる。前記範囲で含まれることにより、偏光フィルムとして形成するときに、透過度を低下させずに十分な偏光特性を示す。前記範囲内において高分子樹脂７１の１００重量部に対して約０．０５〜１重量部で含まれる。
【０１５４】
偏光子１１０は、約１００μｍ以下と比較的に薄肉であり、例えば、約３０μｍ〜約９５μｍの厚さを有する。前記範囲の厚さを有することにより、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などの保護層が求められる偏光板に比べて、薄肉化が図れ、これにより、薄形表示装置を実現することができる。
【０１５５】
補償フィルム１２０は、上述した通りである。
【０１５６】
光学フィルム１００は、補償フィルム１２０の片面に配設される補正層（図示せず）をさらに備える。補正層は、例えば、色変異防止層であるが、これに限定されない。
【０１５７】
光学フィルム１００は、周縁に沿って伸びている遮光層（図示せず）をさらに備える。遮光層は、光学フィルム１００の周りに沿って帯状に形成され、例えば、偏光子１１０と補償フィルム１２０との間に配設される。遮光層は、不透明な物質、例えば、黒色の物質を含む。例えば、遮光層は、黒色インクにより製作される。
【０１５８】
光学フィルム１００は、様々な表示装置に適用可能である。
【０１５９】
本発明の一実施形態による表示装置は、表示パネル及び表示パネルの片面に配設される光学フィルムを備える。表示パネルは、液晶表示パネル又は有機発光表示パネルであるが、これらに限定されない。
【０１６０】
以下、表示装置の一例である有機発光表示装置について説明する。
【０１６１】
図４は、本発明の一実施形態による有機発光表示装置を概略的に示す断面図である。
【０１６２】
図４を参照すると、本発明の一実施形態による有機発光表示装置は、有機発光表示パネル４００及び有機発光表示パネル４００の片面に配設される光学フィルム１００を備える。
【０１６３】
有機発光表示パネル４００は、ベース基板４１０、下部電極４２０、有機発光層４３０、上部電極４４０及び封止基板４５０を備える。
【０１６４】
ベース基板４１０は、ガラス製又はプラスチック製である。
【０１６５】
下部電極４２０及び上部電極４４０のうちのいずれか一方はアノードであり、他方はカソードである。アノードは、正孔が注入される電極であり、仕事関数が高く、発光された光が外部に出射される透明導電物質により製作され、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）又はインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）である。カソードは、電子が注入される電極であり、仕事関数が低く、有機物質に影響を与えない導電物質により製作され、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、カルシウム（Ｃａ）及びバリウム（Ｂａ）から選ばれる。
【０１６６】
有機発光層４３０は、下部電極４２０及び上部電極４４０に電圧が印加されたときに光を出射させる有機物質を含む。
【０１６７】
下部電極４２０と有機発光層４３０との間及び上部電極４４０と有機発光層４３０との間には、付帯層（図示せず）がさらに配設される。付帯層は、電子と正孔との間のバランスを取るための正孔輸送層、正孔注入層、電子注入層及び電子輸送層を備える。
【０１６８】
封止基板４５０は、ガラス製、金属製又は高分子製であり、下部電極４２０、有機発光層４３０及び上部電極４４０を封止して外部から水分及び／又は酸素が流入することを防ぐ。
【０１６９】
光学フィルム１００は、光が出射される側に配置される。例えば、ベース基板４１０側に光が出射される背面発光構造である場合、ベース基板４１０の外側に配置され、封止基板４５０側に光が出射される前面発光構造である場合、封止基板４５０の外側に配置される。
【０１７０】
光学フィルム１００は、上述した一体型の偏光子１１０及び一体型の補償フィルム１２０を備える。偏光子１１０及び補償フィルム１２０はそれぞれ上述した通りであり、偏光子１１０を通過した光が有機発光表示パネル４００の電極などの金属により反射されて表示装置の外側に出射されることを防いで外部から入射する光による視認性の低下を防ぐ。したがって、有機発光表示装置の表示特性を改善することができる。
【０１７１】
以下、表示装置の一例である液晶表示装置について説明する。
【０１７２】
図５は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を概略的に示す断面図である。
【０１７３】
図５を参照すると、本発明の一実施形態による液晶表示装置は、液晶表示パネル５００及び液晶表示パネル５００の片面又は両面に配設される光学フィルム１００を備える。
【０１７４】
液晶表示パネル５００は、ツイストネマチック（ｔｗｉｓｔ ｎｅｍａｔｉｃ；ＴＮ）モード、垂直方向の配置のパターン（ｐａｔｔｅｒｎｅｄ ｖｅｒｔｉｃａｌ ａｌｉｇｎｍｅｎｔ；ＰＶＡ）モード、平面内でのスイッチング（ｉｎ  ｐｌａｎｅ  ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ；ＩＰＳ）モード、光学補償ベンド（ＯＣＢ：ｏｐｔｉｃａｌｌｙ ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ ｂｅｎｄ）モードなどである。
【０１７５】
液晶表示パネル５００は、第１の表示板５１０、第２の表示板５２０及び第１の表示板５１０と第２の表示板５２０との間に介在する液晶層５３０を備える。
【０１７６】
第１の表示板５１０は、例えば、基板（図示せず）の上に形成される薄膜トランジスター（図示せず）及びこれに接続される第１の電場生成電極（図示せず）を備え、第２の表示板５２０は、例えば、基板（図示せず）の上に形成されるカラーフィルター（図示せず）及び第２の電場生成電極（図示せず）を備える。しかしながら、本発明はこれに何ら限定されるものではなく、カラーフィルターが第１の表示板５１０に組み込まれてもよく、第１の電場生成電極及び第２の電場生成電極が第１の表示板５１０に並設されてもよい。液晶層５３０は、複数の液晶分子を含む。
【０１７７】
液晶分子は、正又は負の誘電率異方性を有する。液晶分子が正の誘電率異方性を有する場合、電場がない状態でその長軸が第１の表示板５１０及び第２の表示板５２０の表面に対して略平行になるように配向され、電場が印加された状態でその長軸が第１の表示板５１０及び第２の表示板５２０の表面に対して略垂直になるように配向される。これとは逆に、液晶分子が負の誘電率異方性を有する場合、電場がない状態でその長軸が第１の表示板５１０及び第２の表示板５２０の表面に対して略垂直に配向され、電場が印加された状態でその長軸が第１の表示板５１０及び第２の表示板５２０の表面に対して略平行に配向される。
【０１７８】
光学フィルム１００は、液晶表示パネル５００の外側に配設され、図面には、液晶表示パネル５００の下部及び上部にそれぞれ形成されたと示したが、本発明はこれに何ら限定されるものではなく、液晶表示パネル５００の下部及び上部のうちのいずれか一方にのみ形成されてもよい。
【実施例】
【０１７９】
以下、実施例を挙げて本発明の実施形態について詳細に説明する。但し、下記の実施例は単に本発明の実施形態を説明するための例示に過ぎず、これらにより本発明の範囲が制限されることはない。
【０１８０】
≪モノマーの合成≫
＜合成例１＞
【０１８１】
１） ステップ１
【０１８２】
【化２６】
2017122079.tif 000028
【０１８３】
２，５−ジブロモテレフタル酸（Ｍｗ＝３２３．９２ｇ／ｍｏｌ、３０ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ）９．７２ｇをトルエン２６０ｍＬに入れて攪拌する。次いで、ＰＣｌ５（Ｍｗ＝２０８．２４ｇ／ｍｏｌ、９０ｍｍｏｌ、３．０ｅｑ）１８．７４ｇを入れた後、ピリジン１滴を投入した後、温度を８０〜９０℃に上げる。全ての結晶が溶解された後、１時間かけてさらに攪拌する。次いで、反応液を蒸留させて黄色の油性化合物を得る。次いで、ジメチルアセトアミド５０ｍＬを入れて攪拌して均一に混合する（混合溶液Ａ）。次いで、ヒドロキノン（Ｍｗ＝１１０．１１ｇ／ｍｏｌ、３００ｍｍｏｌ、１０．０ｅｑ）をジメチルアセトアミド５０ｍＬに入れた後、僅かな熱を加えて全て溶かす。この溶液にトリエチルアミン（Ｍｗ＝１０１．１９ｇ／ｍｏｌ、１２０ｍｍｏｌ、４．０ｅｑ）１２．１４ｇを入れて混合する（混合溶液Ｂ）。混合溶液Ｂを混合溶液Ａに徐々に入れた後、室温で１時間かけて攪拌する。反応が終わった後、精製水１６００ｍＬに反応液を注ぎ込んで結晶を形成する。結晶化溶液を加熱して約１時かけて加温する。加温状態でろ過してピンク色を帯びる結晶を得る。さらに、水１０００ｍＬに入れて加温して約１時間かけて攪拌する。加温状態でろ過し、得られた結晶を乾燥オーブン（温度６０℃）で１２時間以上真空乾燥して灰色の化合物Ｉ−１１ １．１２ｇを得る（歩留まり率：７３％）。化合物Ｉ−１をさらなる精製なしに直後の反応に供する。
【０１８４】
１Ｈ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６）  ３００  ＭＨｚ，  δ，  ｐｐｍ：  ６．８（ｄ，  ４Ｈ），  ７．２（ｄ，  ４Ｈ），  ８．４（ｓ，  ２Ｈ），  ９．６（ｓ，  ２Ｈ）．
【０１８５】
２）ステップ２
【０１８６】
【化２７】
2017122079.tif 000029
【０１８７】
窒素雰囲気下で化合物Ｉ−１（Ｍｗ＝５０８．１１８ｇ／ｍｏｌ、１０ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ）５．０８ｇをジメチルアセトアミド１４０ｍＬと攪拌し、約３０分間温度を徐々に昇温する。次いで、フェニルアセチレン（Ｍｗ＝１０２．１４ｇ／ｍｏｌ、３０ｍｍｏｌ、３．０ｅｑ）３．００６ｇ、塩化パラジウム（ＩＩ）（ＰｄＣｌ２）（Ｍｗ＝１７７．３３ｇ／ｍｏｌ、０．５０ｍｍｏｌ、０．０５ｅｑ、ｍ＝０．０９ｇｒ）、ヨウ化銅（Ｉ）（ＣｕＩ）（Ｍｗ＝１９０．４５ｇ／ｍｏｌ、１．８９ｍｍｏｌ、０．１９ｅｑ、０．３６ｇｒ）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）（Ｍｗ＝２６２．４５ｇ／ｍｏｌ、３．６２ｍｍｏｌ、０．３６ｅｑ、ｍ＝５．２５ｇｒ）、トリエチルアミン７０ｍＬを入れて温度を昇温して約８０〜１００℃で２０時間かけて反応する。反応が終わった後、水１５００ｍＬに注ぎ込んで茶色の結晶を析出し、希塩酸でｐＨを１〜２に調節する。次いで、形成された結晶をろ過して濃厚な茶色の結晶を得る。次いで、水６０ｍＬ及びメタノール７００ｍＬの混合溶液に結晶を入れた後、１時間加温した後、未溶解の結晶をろ過して除去する。次いで、結晶化ろ液を室温まで冷却させた後、得られた結晶を回収し、回収された結晶を再びクロロホルム５００ｍＬに入れた後に加熱して未溶解の茶色の結晶を除去する。次いで、室温まで冷却させて黄色結晶の化合物１−１ＡＡ １．３ｇを得る（歩留まり率：２４％）。
【０１８８】
１Ｈ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６）  ３００  ＭＨｚ，  δ，  ｐｐｍ：  ６．８−６．９  （ｄ，  ４Ｈ），  ７．１−７．２（ｄ，  ４Ｈ），  ７．４−７．６  （ｍ，  １０Ｈ），  ８．４−８．５  （ｓ，  ２Ｈ），  ９．５−９．６（ｓ，  ２Ｈ）．
【０１８９】
≪重合体の合成及び重合体フィルムの製造≫
＜合成例２＞
【０１９０】
【化２８】
2017122079.tif 000030
【０１９１】
機械的な撹拌機を取り付けた２００ｍＬのフラスコに水酸化ナトリウム（Ｍｗ＝４０．０ｇ／ｍｏｌ、５．６９ｍｍｏｌ、５．０ｅｑ、１．１４ｇ）、水１７ｍＬ、化合物Ｍ１ １．７０ｇ及び化合物１−１ＡＡ ０．０３９５ｇを入れる。ここで、化合物Ｍ１及び化合物１−１ＡＡは、９９：１のモル比で供給される。次いで、ジクロロメタン１７ｍＬに溶解させたトリホスゲン０．８４ｇを添加して１５分間攪拌する。次いで、トリエチルアミン６ｍｇを添加して室温で９０分間攪拌する。次いで、Ｎ，Ｎ−ジアセトアミド１７ｍＬを入れた後、１２時間以上室温で攪拌する。反応が終わった後、ジクロロメタンで希釈して１％の塩酸及び水で洗浄し、メタノールを用いて再沈殿させた後、６０℃で１２時間かけて真空乾燥させて茶色固体の重合体ＰＣ−１ １．６８ｇを得る。
【０１９２】
前記重合体ＰＣ−１をテトラヒドロフラン及びジオキサン（１／１、ｖ／ｖ）の混合溶媒に溶解させて２０重量％の濃度の重合体溶液を製造する。次いで、ガラス基板の上に前記重合体溶液を塗布して４０℃で１時間かけて、８０℃で１時間かけて乾燥させて重合体フィルムを形成する。次いで、前記重合体フィルムをガラス基板から引き剥がして９６μｍの厚さの重合体フィルムを製造する。
【０１９３】
＜合成例３＞
化合物Ｍ１ １．７０ｇ及び化合物１−１ＡＡ ０．１２５ｇが９７：３モル比で供給される以外は、合成例２の方法と同様にして重合体ＰＣ−１を得、８３μｍの厚さの重合体フィルムを製造する。
【０１９４】
＜合成例４＞
化合物Ｍ１ １．７０ｇ及び化合物１−１ＡＡ ０．２１４ｇが９５：５モル比で供給される以外は、合成例２の方法と同様にして重合体ＰＣ−１を得、９７μｍの厚さの重合体フィルムを製造する。
【０１９５】
＜合成例５＞
化合物Ｍ１ １．６１ｇ及び化合物１−１ＡＡ ０．２９１ｇが９３：７モル比で供給される以外は、合成例２の方法と同様にして重合体ＰＣ−１を得、６３μｍの厚さの重合体フィルムを製造する。
【０１９６】
＜合成例６＞
化合物Ｍ１ １．４０ｇ及び化合物１−１ＡＡ ０．４２７ｇが９０：１０モル比で供給される以外は、合成例２の方法と同様にして重合体ＰＣ−１を得、３２μｍの厚さの重合体フィルムを製造する。
【０１９７】
＜合成例７＞
【０１９８】
【化２９】
2017122079.tif 000031
【０１９９】
機械的な撹拌機を取り付けた２００ｍＬのフラスコに水酸化ナトリウム（Ｍｗ＝４０．０ｇ／ｍｏｌ、５．６９ｍｍｏｌ、５．０ｅｑ、１．１４ｇ）、水１７ｍＬ、化合物Ｍ２ １．００ｇ及び化合物１−１ＡＡ ０．３０４ｇを入れる。ここで、化合物Ｍ２及び化合物１−１ＡＡは、９０：１０のモル比で供給される。次いで、ジクロロメタン１７ｍＬに溶解させたトリホスゲン０．８４ｇを添加して１５分間攪拌する。次いで、トリエチルアミン６ｍｇを添加して室温で９０分間攪拌する。次いで、Ｎ，Ｎ−ジアセトアミド１７ｍＬを入れた後、１２時間以上室温で攪拌する。反応が終わった後、ジクロロメタンで希釈して１％の塩酸及び水で洗浄し、メタノールを用いて再沈殿させた後、６０℃で１２時間かけて真空乾燥させて茶色固体の重合体ＰＣ−２ １．８２ｇを得る。
前記重合体ＰＣ−２をテトラヒドロフラン及びジオキサン（１／１、ｖ／ｖ）の混合溶媒に溶解させて２０重量％の濃度の重合体溶液を製造する。次いで、ガラス基板の上に前記重合体溶液を塗布して４０℃で１時間かけて、８０℃で１時間かけて乾燥させて重合体フィルムを形成する。次いで、前記重合体フィルムをガラス基板から引き剥がして３３μｍの厚さの重合体フィルムを製造する。
【０２００】
＜合成例８＞
【０２０１】
【化３０】
2017122079.tif 000032
【０２０２】
機械的な撹拌機を取り付けた２００ｍＬのフラスコに水酸化ナトリウム（Ｍｗ＝４０．０ｇ／ｍｏｌ、５．６９ｍｍｏｌ、５．０ｅｑ、１．１４ｇ）、水１７ｍＬ、化合物Ｍ３ １．２０ｇ及び化合物１−１ＡＡ ０．３６３ｇを入れる。ここで、化合物Ｍ３及び化合物１−１ＡＡは、９０：１０のモル比で供給される。次いで、ジクロロメタン１７ｍＬに溶解させたトリホスゲン０．８４ｇを添加して１５分間攪拌する。次いで、トリエチルアミン６ｍｇを添加して室温で９０分間攪拌する。次いで、Ｎ，Ｎ−ジアセトアミド１７ｍＬを入れた後、１２時間以上室温で攪拌する。反応が終わった後、ジクロロメタンで希釈して１％の塩酸及び水で洗浄し、メタノールを用いて再沈殿させた後、６０℃で１２時間真空乾燥させて茶色固体の重合体ＰＣ−３ １．８２ｇを得る。
【０２０３】
前記重合体ＰＣ−３をテトラヒドロフラン及びジオキサン（１／１、ｖ／ｖ）の混合溶媒に溶解させて２０重量％の濃度の重合体溶液を製造する。次いで、ガラス基板の上に前記重合体溶液を塗布して４０℃で１時間かけて、８０℃で１時間かけて乾燥させて重合体フィルムを形成する。次いで、前記重合体フィルムをガラス基板から引き剥がして３３μｍの厚さの重合体フィルムを製造する。
【０２０４】
＜合成例９＞
合成例６で得られた重合体ＰＣ−１及び下記一般式５ａで表される構造単位を有する重合体を１：９のモル比でテトラヒドロフラン及びジオキサン（１／１、ｖ／ｖ）に溶かして２０重量％の濃度の重合体溶液を準備する。ガラス基板の上に前記重合体溶液をコーティングし、４０℃で１時間かけて、８０℃で１時間かけて乾燥させて７４μｍの厚さの重合体フィルムを製造する。
【０２０５】
【化３１】
2017122079.tif 000033
【０２０６】
＜合成例１０＞
合成例６で得られた重合体ＰＣ−１及び上記一般式５ａで表される構造単位を有する重合体を２：８のモル比で混合する以外は、合成例９の方法と同様にして８３μｍの厚さの重合体フィルムを製造する。
【０２０７】
＜合成例１１＞
合成例６で得られた重合体ＰＣ−１及び上記一般式５ａで表される構造単位を有する重合体を３：７のモル比で混合する以外は、合成例９の方法と同様にして８０μｍの厚さの重合体フィルムを製造する。
【０２０８】
≪評価１≫
合成例２〜合成例１１による重合体フィルムの光透過度を評価する。
【０２０９】
光透過度は、コニカミノルタ社製の分光光度計ＣＭ−３６００で測定する。
【０２１０】
その結果を表１に示す。
【０２１１】
【表１】
2017122079.tif 000034
【０２１２】
合成例２〜合成例１１による重合体フィルムは、約６０％以上の良好な光透過度を有することが確認できる。
【０２１３】
≪補償フィルムの準備≫
＜実施例１＞
合成例２による重合体フィルムを１×１ｃｍ２に切ってサンプルを準備し、サンプルの長い側を金属フレームに固定し、窒素雰囲気下のオーブンに置いて１０℃／分の速度で１時間かけて１４５℃まで温度を上げて３．６倍延伸して約５４μｍの厚さの延伸補償フィルムを製造する。
【０２１４】
＜実施例２＞
合成例３による重合体フィルムを１×１ｃｍ２に切ってサンプルを準備し、サンプルの長い側を金属フレームに固定し、窒素雰囲気下のオーブンに置いて１０℃／分の速度で１時間かけて１４５℃まで温度を上げて４．０倍延伸して約４４μｍの厚さの延伸補償フィルムを製造する。
【０２１５】
＜実施例３＞
合成例４による重合体フィルムを１×１ｃｍ２に切ってサンプルを準備し、サンプルの長い側を金属フレームに固定し、窒素雰囲気下のオーブンに置いて１０℃／分の速度で１時間かけて１４５℃まで温度を上げて３．４倍延伸して約５１μｍの厚さの延伸補償フィルムを製造する。
【０２１６】
＜実施例４＞
合成例９による重合体フィルムを１×１ｃｍ２に切ってサンプルを準備し、サンプルの長い側を金属フレームに固定し、窒素雰囲気下のオーブンに置いて１０℃／分の速度で１時間かけて１４５℃まで温度を上げて３．２倍延伸して約５７μｍの厚さの延伸補償フィルムを製造する。
【０２１７】
＜実施例５＞
合成例１０による重合体フィルムを１×１ｃｍ２に切ってサンプルを準備し、サンプルの長い側を金属フレームに固定し、窒素雰囲気下のオーブンに置いて１０℃／分の速度で１時間かけて１４５℃まで温度を上げて３．２倍延伸して約５８μｍの厚さの延伸補償フィルムを製造する。
【０２１８】
＜実施例６＞
合成例１１による重合体フィルムを１×１ｃｍ２に切ってサンプルを準備し、サンプルの長い側を金属フレームに固定し、窒素雰囲気下のオーブンに置いて１０℃／分の速度で１時間かけて１４５℃まで温度を上げて１．８倍延伸して約６８μｍの厚さの延伸補償フィルムを製造する。
【０２１９】
≪評価２≫
実施例１〜６による延伸補償フィルムの面内位相差、厚さ方向の位相差及び波長分散性を評価する。
【０２２０】
面内位相差及び厚さ方向の位相差は、偏光位相差解析装置Ａｘｏｓｃａｎ（アクソメトリクス社製）を用いて測定する。
【０２２１】
面内位相差及び面内位相差の波長分散性を表２に示す。
【０２２２】
【表２】
2017122079.tif 000035
【０２２３】
厚さ方向の位相差及び厚さ方向の位相差の波長分散性を表３に示す。
【０２２４】
【表３】
2017122079.tif 000036
【０２２５】
表２及び表３を参照すると、実施例１〜６による補償フィルムは、短波長の光に対する位相差が長波長の光に対する位相差よりも大きい正波長分散位相遅延、又は長波長の光に対する位相差が短波長の光に対する位相差よりも大きい逆波長分散位相を有することが確認できる。これより、重合体の種類及び含有比率、フィルムの伸び率など様々な要因を調節することにより、所望の位相差及び波長分散性を有する補償フィルムを実現する可能性があることが確認できる。
【０２２６】
以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はこれらに何ら限定されるものではなく、特許請求の範囲及び発明の詳細な説明並びに添付図面の範囲内において種々に変形して実施することが可能であり、これもまた本発明の範囲に属するということはいうまでもない。
【符号の説明】
【０２２７】
１００：光学フィルム
１１０：偏光子
１２０：補償フィルム
５０：表示パネル
４００：有機発光表示パネル
４１０：ベース基板
４２０：下部電極
４３０：有機発光層
４４０：上部電極
４５０：封止基板
５００：液晶表示パネル
５１０：第１の表示板
５２０：第２の表示板
５３０：液晶層
【図１】
2017122079.tif 000048
【図２】
2017122079.tif 000049
【図３】
2017122079.tif 000050
【図４】
2017122079.tif 000051
【図５】
2017122079.tif 000052