(57)【要約】【課題】容易に微粉砕することができるホウ化物粒子を用いた赤外線遮蔽透明基材を提供することを目的とする。【解決手段】透明基材の少なくとも一方の面上にコーティング層を有し、  前記コーティング層は赤外線遮蔽粒子とバインダーとを含み、  前記赤外線遮蔽粒子は、一般式ＸＢｍ（但し、Ｘは、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｓｒ、Ｃａから選ばれる１種類以上の金属元素、ｍは組成式におけるホウ素量を示す数字）で表され、燃焼−赤外線吸収法で測定したときの炭素量が０．２質量％以下のホウ化物粒子である赤外線遮蔽透明基材を提供する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の少なくとも一方の面上にコーティング層を有し、
前記コーティング層は赤外線遮蔽粒子とバインダーとを含み、
前記赤外線遮蔽粒子は、一般式ＸＢｍ（但し、Ｘは、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｓｒ、Ｃａから選ばれる１種類以上の金属元素、ｍは一般式におけるホウ素量を示す数字）で表され、燃焼−赤外線吸収法で測定したときの炭素量が０．２質量％以下のホウ化物粒子である赤外線遮蔽透明基材。
【請求項２】
前記一般式ＸＢｍにおけるｍが、４．０以上６．２以下である請求項１に記載の赤外線遮蔽透明基材。
【請求項３】
ホウ化物粒子に含まれるＢ４Ｃの量が１．０質量％以下である請求項１または２に記載の赤外線遮蔽透明基材。
【請求項４】
前記ホウ化物粒子の平均分散粒子径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下である請求項１乃至３のいずれか一項に記載の赤外線遮蔽透明基材。
【請求項５】
前記バインダーが、紫外線硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、常温硬化樹脂から選択される１種類以上を含む請求項１乃至４のいずれか一項に記載の赤外線遮蔽透明基材。
【請求項６】
前記コーティング層の厚さが２０μｍ以下である請求項１乃至５のいずれか一項に記載の赤外線遮蔽透明基材。
【請求項７】
前記コーティング層の可視光透過率を４５％以上５５％以下の範囲に設定した場合に、波長３６０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域における拡散透過プロファイルの極大値が１．５％以下である請求項１乃至６のいずれか一項に記載の赤外線遮蔽透明基材。
【請求項８】
前記透明基材が、透明フィルム基材または透明ガラス基材である請求項１乃至７のいずれか一項に記載の赤外線遮蔽透明基材。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一項に記載の赤外線遮蔽透明基材を含む赤外線遮蔽光学部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、赤外線遮蔽透明基材、赤外線遮蔽光学部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、Ｌａ等の希土類元素のホウ化物粒子は、固相反応法で合成された後、乾式粉砕法で粉砕されて製造され、特にジェットミル等の高速気流により粒子同士を衝突させて粉砕する方法が一般的である。希土類元素のホウ化物粒子のうち、例えば、六ホウ化ランタンは、ランタン酸化物とホウ素酸化物を炭素の存在下で高温に加熱することにより得られ、その後乾式粉砕装置で粉砕されている。なお、ジェットミルを用いた、粉体の微粉砕方法は、例えば特許文献１に開示されている。
【０００３】
これらホウ化物粒子は、従来から厚膜抵抗ペースト等に使用されており、また微細粒子にすると日射遮蔽用の光学材料として用いることが可能である。即ち、ホウ化物粒子を分散させた膜は、可視光線を透過し、熱エネルギーとして作用する近赤外線を効率よく遮蔽することができるため、住宅や自動車の窓などに適用する日射遮蔽材として好適であることが知られている（例えば、特許文献２、３を参照）。
【０００４】
しかし、Ｌａ等の希土類元素のホウ化物は硬質であるため、ジェットミル等を用いた乾式粉砕法では微細な粒子に粉砕することが難しく、１μｍ〜３μｍ程度の比較的大きな粒子しか得られないという問題があった。また、乾式粉砕法で得たホウ化物粒子は、再凝集を抑えることが困難であった。
【０００５】
その後の研究で、媒体撹拌ミルで処理することにより、ホウ化物粒子の平均分散粒子径を２００ｎｍ以下にできることが見出された（例えば、特許文献４を参照）。これにより、経済的に平均分散粒子径が２００ｎｍ程度のホウ化物粒子が得られるようになった。平均分散粒子径が２００ｎｍ以下のホウ化物粒子を用いれば、粒子径が２００ｎｍよりも大きい時に起こる幾何学散乱又はミー散乱を低減できる。このため、４００ｎｍ〜７８０ｎｍの可視光線領域の光を散乱して曇りガラスのようになる現象が防げるようになり、透明性を重視した光学部材が得られるようになった。
【０００６】
しかし、赤外線遮蔽粒子として、上記ホウ化物粒子が分散された赤外線遮蔽光学部材は、太陽光やスポットライト等の強い光が照射されたときに青白色に変色する現象（以下、係る現象を「ブルーヘイズ」と記載する場合がある）を生じる場合がある。このようなブルーヘイズを生じると、赤外線遮蔽光学部材の美観が損なわれる恐れがある等の問題があった。
【０００７】
ホウ化物粒子の平均分散粒子径が２００ｎｍ以下になると、幾何学散乱またはミー散乱は低減し、散乱の大部分は散乱係数が下記式（１）で定義されるレイリー散乱に従うことが知られている。
【０００８】
Ｓ＝［１６π５ｒ６／３λ４］・［（ｍ２−１）／（ｍ２＋２）］２・［ｍ］  （１）
［但し、上記式（１）中、Ｓは散乱係数、λは波長、ｒは粒子径、ｍ＝ｎ１／ｎ０、ｎ０は基質の屈折率、および、ｎ１は分散物質の屈折率である］
上記レイリー散乱は、光の波長よりも小さいサイズの粒子による光の散乱である。上記式（１）から、レイリー散乱は波長（λ）の４乗に反比例するため、波長の短い青い光を多く散乱して青白色に変色させることが把握される。
【０００９】
また、レイリー散乱領域では、上記式（１）から、散乱光は粒子径（ｒ）の６乗に比例するため、粒子径を小さくすることで、レイリー散乱が低減して、ブルーヘイズの発生を抑制できる。その後の研究で、平均分散粒子径を８５ｎｍ以下にすることでブルーヘイズは改善されることが分かっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００１−３１４７７６号公報
【特許文献２】特開２０００−０９６０３４号公報
【特許文献３】特開平１１−１８１３３６号公報
【特許文献４】特開２００４−２３７２５０号公報
【非特許文献】
【００１１】
【非特許文献１】V. Domnich et al., J. Am. Ceram. Soc., (2011) vol.94, Issue 11, pp.3605-3628
【非特許文献２】X.H.Zhao et al., App. Mech. Mater., (2011) vol.55-57, pp.1436-1440
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、特許文献４に開示されている、媒体撹拌ミルを用いた粉砕方法により、従来用いられていたホウ化物粒子を、平均分散粒子径が８５ｎｍ以下になるまで粉砕しようとすると、スラリーの粘度が高くなり粉砕処理が困難な場合があった。
【００１３】
そのため、粉砕処理を続けて更に平均分散粒子径を小さくし、ブルーヘイズを抑えるためには、スラリー中のホウ化物粒子の濃度を極端に下げて粘度を下げる必要があり、粉砕効率が悪く非経済的であるという問題があった。
【００１４】
そこで上記従来技術が有する問題に鑑み、本発明の一側面では、容易に微粉砕することができるホウ化物粒子を用いた赤外線遮蔽透明基材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記課題を解決するため本発明の一態様によれば、
透明基材の少なくとも一方の面上にコーティング層を有し、
前記コーティング層は赤外線遮蔽粒子とバインダーとを含み、
前記赤外線遮蔽粒子は、一般式ＸＢｍ（但し、Ｘは、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｓｒ、Ｃａから選ばれる１種類以上の金属元素、ｍは一般式におけるホウ素量を示す数字）で表され、燃焼−赤外線吸収法で測定したときの炭素量が０．２質量％以下のホウ化物粒子である赤外線遮蔽透明基材を提供する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の一態様によれば、容易に微粉砕することができるホウ化物粒子を用いた赤外線遮蔽透明基材を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の実施形態に係る赤外線遮蔽透明基材等の拡散透過プロファイルの測定原理の説明図（その１）。
【図２】本発明の実施形態に係る赤外線遮蔽透明基材等の拡散透過プロファイルの測定原理の説明図（その２）。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明するが、本発明は、下記の実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、下記の実施形態に種々の変形および置換を加えることができる。
（赤外線遮蔽透明基材、赤外線遮蔽光学部材）
本実施形態ではまず、赤外線遮蔽透明基材の一構成例について説明する。
【００１９】
本実施形態の赤外線遮蔽透明基材は、透明基材の少なくとも一方の面上にコーティング層を有し、コーティング層は赤外線遮蔽粒子とバインダーとを含むことができる。  
そして、赤外線遮蔽粒子は、一般式ＸＢｍ（但し、Ｘは、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｓｒ、Ｃａから選ばれる１種類以上の金属元素、ｍは一般式におけるホウ素量を示す数字）で表され、燃焼−赤外線吸収法で測定したときの炭素量が０．２質量％以下であるホウ化物粒子を用いることができる。
【００２０】
本実施形態の赤外線遮蔽透明基材は、上述のように、透明基材と、透明基材の少なくとも一方の面上に配置されたコーティング層とを有することができる。そして、コーティング層は赤外線遮蔽粒子と、バインダーとを含むことができる。
【００２１】
そこでまず、赤外線遮蔽粒子、及びその製造方法について説明する。
（１）赤外線遮蔽粒子、及びその製造方法について
赤外線遮蔽粒子としては、上述のように一般式ＸＢｍ（但し、Ｘは、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｓｒ、Ｃａから選ばれる１種類以上の金属元素、ｍは一般式におけるホウ素量を示す数字）で表され、燃焼−赤外線吸収法で測定したときの炭素量が０．２質量％以下であるホウ化物粒子を用いることができる。
【００２２】
本発明の発明者らは、容易に微粉砕、すなわち微細な粒子に粉砕することができるホウ化物粒子について、鋭意検討を行った。そして、ホウ化物粒子の炭素量（炭素濃度）を所定値以下にすることで、容易に微粉砕できるホウ化物粒子にできることを見出し、本発明を完成させた。
【００２３】
本実施形態のホウ化物粒子は、上述のように一般式ＸＢｍで表されるホウ化物の粒子とすることができる。
【００２４】
上述の一般式ＸＢｍで表される本実施形態のホウ化物粒子において、金属元素（Ｘ）に対するホウ素（Ｂ）の元素比（モル比）（Ｂ／Ｘ）であるｍは、特に限定されるものではないが、３．０以上２０．０以下であることが好ましい。
【００２５】
一般式ＸＢｍで表されるホウ化物粒子を構成するホウ化物としては、例えばＸＢ４、ＸＢ６、ＸＢ１２等が挙げられる。しかし、波長１０００ｎｍ付近における近赤外領域の光の透過率を選択的に効率よく低下させる観点から、本実施形態のホウ化物粒子は、ＸＢ４、またはＸＢ６が主体となっていることが好ましく、一部にＸＢ１２を含んでいてもよい。
【００２６】
このため、上記一般式ＸＢｍにおける、金属元素（Ｘ）に対するホウ素（Ｂ）の元素比（Ｂ／Ｘ）であるｍは、４．０以上６．２以下であることがより好ましい。
【００２７】
なお、上記（Ｂ／Ｘ）が４．０以上の場合、ＸＢや、ＸＢ２等の生成を抑制することができ、理由は明らかではないが、日射遮蔽特性を向上させることができる。また、上記（Ｂ／Ｘ）が６．２以下の場合には、特に日射遮蔽特性に優れた六ホウ化物の含有割合を増加させることができ、日射遮蔽特性が向上するため好ましい。
【００２８】
特に、ホウ化物の中で近赤外線の吸収能が高いことから、本実施形態のホウ化物粒子はＸＢ６が主体になっていることが好ましい。
【００２９】
このため、一般式ＸＢｍで表される本実施形態のホウ化物粒子において、金属元素（Ｘ）に対するホウ素（Ｂ）の元素比（Ｂ／Ｘ）であるｍは、５．８以上６．２以下であることがさらに好ましい。
【００３０】
なお、ホウ化物粒子を製造した場合、得られるホウ化物粒子を含む粉体は、単一の組成のホウ化物の粒子のみから構成されるものではなく、複数の組成のホウ化物を含む粒子とすることができる。具体的には例えばＸＢ４、ＸＢ６、ＸＢ１２等のホウ化物の混合物の粒子とすることができる。
【００３１】
従って、例えば、代表的なホウ化物粒子である六ホウ化物の粒子について、Ｘ線回折の測定を行った場合に、Ｘ線回折の分析上、単一相であっても、実際には微量に他相を含んでいると考えられる。
【００３２】
そこで、本実施形態のホウ化物粒子の一般式ＸＢｍにおけるｍは、例えば得られたホウ化物粒子を含む粉体をＩＣＰ発光分光分析法（高周波誘導結合プラズマ発光分光分析法）等により化学分析した場合の、Ｘ元素１原子に対するホウ素（Ｂ）の原子数比とすることができる。
【００３３】
本実施形態のホウ化物粒子の金属元素（Ｘ）は上記一般式に示したように特に限定されるものではなく、例えばＹ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｓｒ、Ｃａから選ばれる１種類以上の金属元素とすることができる。
【００３４】
ただし、ランタンの六ホウ化物である、六ホウ化ランタンは特に近赤外線の吸収能が高いことから、本実施形態のホウ化物粒子は、六ホウ化ランタン粒子を含むことが好ましい。
【００３５】
そして、既述のように、本発明の発明者らの検討によれば、ホウ化物粒子中の炭素量（炭素濃度）を所定値以下とすることで、容易に微粉砕できるホウ化物粒子とすることができる。この理由について以下に説明する。
【００３６】
本発明の発明者らの検討によれば、ホウ化物粒子中に含まれる炭素が、ホウ化物粒子の成分と炭素化合物を形成する、あるいは原料に含まれる炭素化合物が残留することがある。
【００３７】
このような、炭素化合物としては、例えばＬａＢ２Ｃ２、ＬａＢ２Ｃ４、Ｂ４Ｃ、Ｂ４．５Ｃ、Ｂ５．６Ｃ、Ｂ６．５Ｃ、Ｂ７．７Ｃ、Ｂ９Ｃなどが挙げられる。
【００３８】
非特許文献１によると、上述の炭素化合物のうち、Ｂ４Ｃ、Ｂ４．５Ｃ、Ｂ５．６Ｃ、Ｂ６．５Ｃ、Ｂ７．７Ｃ、Ｂ９Ｃは、硬さの指標となるヤング率はそれぞれ４７２ＧＰａ、４６３ＧＰａ、４６２ＧＰａ、４４６ＧＰａ、３５２ＧＰａ、３４８ＧＰａと高硬度の炭素化合物となっている。
【００３９】
一方、非特許文献２には、例えば六ホウ化ランタンのヤング率は、１９４ＧＰａと報告されている。また、その他のホウ化物粒子についても同程度のヤング率を有するものと推認される。
【００４０】
このように、目的とするホウ化物粒子と比較して、不純物として混入する炭素化合物の方がヤング率が高い場合がある。このため、容易に微粉砕できるホウ化物粒子とするためには、これらの炭素化合物の混入を抑制することが求められる。
【００４１】
そして、これらの炭素化合物の混入量（含有量）は、ホウ化物粒子中の炭素量と相関があるため、既述のように、ホウ化物粒子中の炭素量を所定値以下とすることで、容易に微粉砕できるホウ化物粒子とすることができると考えられる。
【００４２】
本実施形態のホウ化物粒子中に含まれる炭素量は、燃焼−赤外線吸収法により測定することができる。そして、燃焼−赤外線吸収法により測定した、本実施形態のホウ化物粒子に含まれる炭素量は、０．２質量％以下であることが好ましく、０．１質量％以下であることがより好ましい。
【００４３】
また、特にホウ化物粒子中には、上述の炭素化合物のうちＢ４Ｃ（炭化ホウ素）が生成し易いことから、本実施形態のホウ化物粒子は含有するＢ４Ｃ量についても抑制することが好ましい。例えば、本実施形態のホウ化物粒子のＢ４Ｃの含有量（含有割合）は１．０質量％以下であることが好ましい。
【００４４】
本実施形態のホウ化物粒子に含まれるＢ４Ｃの量、すなわちＢ４Ｃの含有割合を１．０質量％以下とすることで、他の炭素化合物の含有量も抑制でき、特に容易に微粉砕できるホウ化物粒子とすることができ、好ましい。
【００４５】
本実施形態のホウ化物粒子中に含まれるＢ４Ｃ量は、硝酸溶解と濾過分離の前処理を施すことでＩＣＰ分析によって測定することができる。
【００４６】
Ｂ４Ｃは硝酸にはほとんど溶解しないことが知られている。一方、ホウ化物粒子は硝酸に溶解することが知られている。
【００４７】
よって、ホウ化物粒子中のＢ４Ｃ量を評価する場合、ホウ化物粒子を硝酸に添加し、ホウ化物粒子を溶解させた後、未溶解残渣を濾過分離することで、ホウ化物粒子中のＢ４Ｃ粒子のみを取り出すことができる。そして、分離したＢ４Ｃ粒子を炭酸ナトリウムにより溶解し、ＩＣＰ分析によってホウ素濃度を測定することで、Ｂ４Ｃ濃度を算出することができる。
【００４８】
このとき、濾過分離後に得られた未溶解残渣がＢ４Ｃであることを確認するため、並行して濾過分離までを同様に処理を施した試料を用意し、濾過分離後に得られた試料の未溶解残渣をＸＲＤ測定してＢ４Ｃ単相であることを確認することが望ましい。
【００４９】
ところで、六ホウ化物粒子等のホウ化物粒子は暗い青紫等に着色した粉末であるが、粒径が可視光波長に比べて十分小さくなるように粉砕し、膜中に分散した状態においては膜に可視光透過性が生じる。同時に、赤外線遮蔽機能が発現する。
【００５０】
この理由については詳細に解明されていないが、これらのホウ化物材料は自由電子を比較的多く保有し、４ｆ−５ｄ間のバンド間遷移や電子−電子、電子−フォノン相互作用による吸収が近赤外領域に存在することに由来すると考えられる。
【００５１】
実験によれば、これらのホウ化物粒子を十分細かくかつ均一に分散した膜では、膜の透過率が、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域内に極大値をもち、かつ波長７００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の領域に極小値をもつことが確認される。可視光波長が３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下であり、視感度が５５０ｎｍ付近をピークとする釣鐘型であることを考慮すると、このような膜では可視光を有効に透過し、それ以外の日射光を有効に吸収・反射することが理解できる。
【００５２】
本実施形態のホウ化物粒子の平均分散粒子径は１００ｎｍ以下であることが好ましく、８５ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００５３】
ホウ化物粒子の平均分散粒子径の下限値は特に限定されないが、例えば１ｎｍ以上であることが好ましい。これは、ホウ化物粒子の平均分散粒子径を１ｎｍ未満とするのは工業的に困難だからである。
【００５４】
なお、ここでいう平均分散粒子径とは動的光散乱法に基づく粒径測定装置により測定することができる。
【００５５】
以上に説明した本実施形態のホウ化物粒子は、炭素の含有量が所定値以下であるため、容易に例えば平均分散粒子径が１００ｎｍ以下、特に８５ｎｍ以下となるように微粉砕することができる。このため、本実施形態のホウ化物粒子が分散された赤外線遮蔽光学部材は、太陽光やスポットライト等の強い光が照射された場合でもブルーヘイズが生じることを抑制できる。
【００５６】
次に、本実施形態のホウ化物粒子の製造方法の一構成例について説明する。
【００５７】
本実施形態のホウ化物粒子の製造方法としては、得られるホウ化物粒子が一般式ＸＢｍ（但し、Ｘは、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｓｒ、Ｃａから選ばれる１種類以上の金属元素）で表され、該ホウ化物粒子を燃焼−赤外線吸収法で測定した時の上記ホウ化物粒子に含まれる炭素量（炭素濃度）が０．２質量％以下であれば特に限定されない。
【００５８】
本実施形態のホウ化物粒子の製造方法の一構成例として、例えば、炭素又は炭化ホウ素を還元剤として用いた固相反応法が挙げられる。以下、金属元素としてランタンを用いたホウ化物粒子を製造する場合を例に説明する。
【００５９】
例えば、金属元素としてランタンを用いたホウ化物粒子は、ホウ素源と、還元剤と、ランタン源との混合物を焼成することによって製造できる。
【００６０】
具体的には、例えばホウ素源及び還元剤として炭化ホウ素を、ランタン源として酸化ランタンを用いて、ホウ化ランタン粒子を製造する場合、まず炭化ホウ素と、酸化ランタンとの原料混合物を調製する。次いで、該原料混合物を不活性雰囲気中で１５００℃以上の温度で焼成することにより、炭化ホウ素中の炭素によってランタン酸化物が還元され、一酸化炭素および二酸化炭素が発生して炭素は除去される。さらに、残ったランタンとホウ素からホウ化ランタンが得られる。
【００６１】
なお、炭化ホウ素由来の炭素は、一酸化炭素及び二酸化炭素として完全に除去されるのではなく、一部がホウ化ランタン粒子中に残留して不純物炭素となる。そのため、原料中の炭化ホウ素の割合を増加させると得られるホウ化ランタン粒子中の不純物炭素濃度が増大する。
【００６２】
既述のように、得られるホウ化物粒子を含む粉体は、単一の組成のホウ化物の粒子のみから構成されるものではなく、ＬａＢ４、ＬａＢ６、ＬａＢ１２等との混合物の粒子となる。従って、得られるホウ化物粒子を含む粉体について、Ｘ線回折の測定を行った場合に、Ｘ線回折の分析上、ホウ化物について単一相であっても、実際には微量に他相を含んでいると考えられる。
【００６３】
ここで、上述のように金属元素としてランタンを用いたホウ化物粒子を製造する場合、原料のホウ素源中のホウ素、及びランタン源中のランタンの元素比Ｂ／Ｌａは、特に限定されるものではないが、３．０以上２０．０以下であることが好ましい。
【００６４】
特に、原料のホウ素源中のホウ素、及びランタン源中のランタン元素の元素比Ｂ／Ｌａが４．０以上の場合、ＬａＢ、ＬａＢ２等の生成を抑制できる。また、理由は明らかではないが、日射遮蔽特性を向上することができる。
【００６５】
一方、原料のホウ素源中のホウ素、及びランタン源中のランタンの元素比Ｂ／Ｌａが６．２以下の場合、ホウ化物粒子以外に酸化ホウ素粒子が生成することが抑制される。酸化ホウ素粒子は吸湿性があるため、ホウ化物粒子を含む粉体中に酸化ホウ素粒子が混入するとホウ化物粒子を含む粉体の耐湿性が低下し、日射遮蔽特性の経時劣化が大きくなってしまう。
【００６６】
このため、原料のホウ素源中のホウ素、及びランタン源中のランタンの元素比Ｂ／Ｌａを６．２以下として酸化ホウ素粒子の生成を抑制することが好ましい。また、元素比Ｂ／Ｌａが６．２以下の場合には、特に日射遮蔽特性に優れた六ホウ化物の含有割合を増加させることができ、日射遮蔽特性が向上するため好ましい。
【００６７】
さらに不純物炭素濃度を低減するためには、可能な限り原料中の炭化ホウ素の割合を低下させることが有効である。そこで、例えばＢ／Ｌａを６．２以下としてホウ化ランタンの粒子を生成することで、より確実に不純物炭素濃度が０．２質量％以下のホウ化ランタンの粒子を含む粉体が得られる。
【００６８】
以上に説明したように、金属元素としてランタンを用いたホウ化物粒子を製造する場合、ホウ素源中のホウ素、及びランタン源中のランタンの元素比（モル比）Ｂ／Ｌａは４．０以上６．２以下とすることがより好ましい。原料の組成を上記範囲とすることで、得られるホウ化ランタンの粒子を含む粉体中の、不純物炭素濃度を低く抑制すると同時に高い日射遮蔽特性を示すホウ化ランタン粒子を含有する粉体を得ることができる。
【００６９】
また、特に、得られるホウ化ランタンの粒子は、ＬａＢ６が主体になっていることが好ましい。これは、ＬａＢ６は特に近赤外線の吸収能が高いからである。
【００７０】
このため、原料のホウ素源中のホウ素、及びランタン源中のランタン元素の元素比Ｂ／Ｌａは、５．８以上６．２以下であることがさらに好ましい。
【００７１】
なお、ここでは、ホウ素源及び還元剤として炭化ホウ素を、ランタン源として酸化ランタンを用いて、ホウ化ランタン粒子を製造する場合を例に説明したが、係る形態に限定されるものではない。例えばホウ素源としてホウ素や、酸化ホウ素を、還元剤として炭素を、ランタン源として酸化ランタンをそれぞれ用いることもできる。この場合、生成物中に、余剰の炭素や、酸素が残留しないように、予備試験等を行い、各成分の混合比率を選択することが好ましい。
【００７２】
また、例えば、製造するホウ化物粒子が含有する金属元素Ｘに応じて、酸化ランタンに替えて金属元素Ｘを含む化合物を用いることもできる。金属元素Ｘを含む化合物としては例えば、金属元素Ｘの水酸化物、金属元素Ｘの水和物、金属元素Ｘの酸化物から選択された１種類以上が挙げられる。該金属元素Ｘを含む化合物の製造方法は特に限定されないが、例えば金属元素Ｘを含む化合物を含有する溶液と、アルカリ溶液とを撹拌しながら反応させて沈殿物を生成し、該沈殿物から得ることができる。
【００７３】
上述のように、酸化ランタンに替えて金属元素Ｘを含む化合物を用いる場合においても、生成物中に、余剰の炭素や、酸素が残留しないように、予備試験等を行い、各成分の混合比率を選択することが好ましい。例えば、ホウ素源中のホウ素、及び金属元素Ｘ源中の金属元素Ｘの元素比を、既述のホウ素源中のホウ素、及びランタン源中のランタン元素の元素比と同様の比とすることもできる。
【００７４】
得られたホウ化物粒子は、例えば湿式粉砕等を行うことで、所望の平均分散粒子径を有するホウ化物粒子とすることができる。
（２）バインダー
既述のようにコーティング層はバインダーを含有することができるため、次にバインダーについて説明する。
【００７５】
バインダーとしては、例えば、紫外線（ＵＶ）硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化樹脂、常温硬化樹脂等が目的に応じて選定可能である。特に、バインダーとしては、紫外線（ＵＶ）硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、常温硬化樹脂から選択された１種類以上を含むことが好ましい。
【００７６】
バインダーとしては、具体的には、ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリエステル樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ふっ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等が挙げられる。
【００７７】
バインダーとしては、例えば上述樹脂群の中から、選択された１種類、または２種類以上を組み合わせて用いることができる。ただし、上述のコーティング層用のバインダーとしては、上述の樹脂群の中でも、生産性や装置コストなどの観点からＵＶ硬化樹脂を用いることが特に好ましい。
【００７８】
また、上記樹脂系のバインダーに替えて、金属アルコキシドを用いた無機バインダーを用いることもできる。金属アルコキシドとしては、Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ等のアルコキシドを代表的な材料として挙げることができる。これら金属アルコキシドを用いた無機バインダーは、加熱等により加水分解・縮重合させることで、酸化物膜のコーティング層を形成することが可能である。
【００７９】
さらに、上記樹脂系のバインダーと上記無機バインダーとは、混合して用いてもよい。
（３）透明基材
本実施形態の赤外線遮蔽透明基材は、透明基材の少なくとも一方の面上にコーティング層を有することができる。そこで、次に透明基材の構成例について説明する。
【００８０】
透明基材としては、例えば透明フィルム基材、または透明ガラス基材を好ましく用いることができる。
【００８１】
透明フィルム基材は、フィルム形状に限定されることはなく、例えば、ボード状でもシート状でも良い。透明フィルム基材の材料としては、特に限定されるものではないが、例えばポリエステル、アクリル、ウレタン、ポリカーボネート、ポリエチレン、エチレン酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル、ふっ素樹脂等から選択された１種類以上を用いることができる。透明フィルム基材としては、ポリエステルフィルムであることが好ましく、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムであることがより好ましい。
【００８２】
また、透明ガラス基材についても特に限定されるものではなく、シリカガラス、ソーダガラス等の透明ガラス基材を用いることができる。
【００８３】
また、透明基材の表面は赤外線遮蔽粒子分散液の塗布性や、コーティング層との密着性を改善するため、表面処理がなされていることが好ましい。また、透明基材とコーティング層との接着性を向上させるために、透明基材上に中間層を形成し、中間層上にコーティング層を形成することもできる。中間層の構成は特に限定されるものではなく、例えばポリマフィルム、金属層、無機層（例えば、シリカ、チタニア、ジルコニア等の無機酸化物層）、有機／無機複合層等により構成することができる。
【００８４】
本実施形態の赤外線遮蔽透明基材は、既述のように、透明基材の少なくとも一方の面上にコーティング層を有し、コーティング層は赤外線遮蔽粒子とバインダーとを含むことができる。
【００８５】
コーティング層は、赤外線遮蔽粒子とバインダーとのみから構成されていてもよいが、他の成分を含有することもできる。例えば、後述のようにコーティング層は赤外線遮蔽粒子分散液を用いて製造することができるところ、赤外線遮蔽粒子分散液中には、溶媒や、分散剤、カップリング剤、界面活性剤等を添加することができる。このため、コーティング層には、赤外線遮蔽粒子分散液への添加成分や、該添加成分に由来する成分が含有されていてもよい。
【００８６】
また、本実施形態の赤外線遮蔽透明基材へさらに紫外線遮蔽機能を付与させるため、コーティング層に無機系の酸化チタンや酸化亜鉛、酸化セリウムなどの粒子、有機系のベンゾフェノンやベンゾトリアゾール等から選択される少なくとも１種類以上の紫外線遮蔽材を添加してもよい。
【００８７】
なお、上記紫外線遮蔽材は、コーティング層に添加する形態に限定されるものではなく、別途紫外線遮蔽材を含有する層を形成することもできる。紫外線遮蔽材を含有する層を形成する場合、その層の配置は特に限定されるものではないが、例えばコーティング層上に形成することができる。
【００８８】
また、本実施形態に係る赤外線遮蔽透明基材の可視光透過率を向上させるために、コーティング層へＡＴＯ、ＩＴＯ、アルミニウム添加酸化亜鉛、インジウム錫複合酸化物から選択された１種類以上の粒子を、さらに混合してもよい。これらの透明粒子がコーティング層へ添加されることで、波長７５０ｎｍ付近の透過率が増加する一方、１２００ｎｍより長波長の赤外光を遮蔽するため、近赤外光の透過率が高く、且つ熱線遮蔽特性の高い熱線遮蔽体が得られる。なお、上記ＡＴＯ等から選択される１種類以上の粒子についても、コーティング層に添加する形態に限定されるものではなく、コーティング層とは別に、係る粒子を含有する層を形成することもできる。
【００８９】
透明基材上のコーティング層の厚さは、特に限定されないが、実用上は２０μｍ以下であることが好ましく、６μｍ以下であることがより好ましい。これはコーティング層の厚さが２０μｍ以下であれば、十分な鉛筆硬度を発揮して耐擦過性を有することに加えて、コーティング層における溶媒の揮散およびバインダーの硬化の際に、基板フィルムの反り発生等の工程異常発生を回避できるからである。
【００９０】
なお、コーティング層の厚さの下限値は特に限定されないが、例えば１０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましい。
【００９１】
コーティング層に含まれる赤外線遮蔽粒子の含有量は、特に限定されないが、透明基材／コーティング層の投影面積あたりの含有量は、０．０１ｇ／ｍ２以上１．０ｇ／ｍ２以下であることが好ましい。これは、含有量が０．０１ｇ／ｍ２以上であれば赤外線遮蔽粒子を含有しない場合と比較して有意に熱線遮蔽特性を発揮でき、含有量が１．０ｇ／ｍ２以下であれば赤外線遮蔽透明基材が可視光の透過性を十分に保つことができるからである。
【００９２】
また、本実施形態の赤外線遮蔽透明基材は、コーティング層の可視光（波長４００ｎｍ以上７８０ｎｍ以下）透過率を４５％以上５５％以下となるように設定した場合の、波長３６０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域における拡散透過プロファイルの極大値が１．５％以下となっていることが好ましい。
【００９３】
なお、十分な可視光透過率を有する透明基材を用い、透明基材が赤外線遮蔽透明基材の可視光透過率にほとんど影響を与えない場合、すなわち、例えば９０％以上の可視光透過率を有する透明基材を用いている場合、上記コーティング層の可視光透過率は、赤外線遮蔽透明基材の可視光透過率と読み替えてもよい。
【００９４】
ここで、ブルーヘイズの評価方法について説明する。
【００９５】
ブルーヘイズを、直接測定する方法は知られていない。しかし、本発明の出願人は、試料である赤外線遮蔽粒子分散体に光を当てたときの透過光の成分として直線入射光と散乱光とに着目し、波長毎の拡散透過率を求めることにより「ブルーヘイズ」を評価する方法を既に提案している（特開２００９−１５０９７９号公報を参照）。以下、波長毎の拡散透過率、すなわち、拡散透過プロファイルを測定する原理を図１および図２を用いて説明する。
【００９６】
まず、拡散透過プロファイルを測定する測定装置について、図１および図２を用いて説明する。
【００９７】
図１、図２に示すように該測定装置１０は、積分球１４を備えている。そして、積分球１４は、球状本体内面が拡散反射性を有し、かつ測定試料１２（図２参照）が取り付けられる第一開口部１４１、標準反射板１５またはライトトラップ部品１６が取り付けられる第二開口部１４２、及び受光器１３が取り付けられる第三開口部１４３を有している。
【００９８】
また、第一開口部１４１を介して球状空間内に入射される直線光を出射する光源１１と、上記受光器１３に取り付けられかつ受光された反射光または散乱光を分光する図示しない分光器と、上記分光器に接続されかつ分光された反射光または散乱光の分光データを保存する図示しないデータ保存手段と、保存されたブランク透過光強度と拡散透過光強度の各分光データから拡散透過光強度とブランク透過光強度の波長毎の比をそれぞれ演算して波長毎の拡散透過率を得る図示しない演算手段を具備している。
【００９９】
ここで、積分球１４は、球状本体内面に硫酸バリウム若しくはスペクトラロン（ＳＰＥＣＴＲＡＬＯＮ：登録商標）等が塗布されて拡散反射性を有するもので、標準反射板１５への入射角は、標準側、対照側とも例えば１０°とすることができる。また、上記受光器１３としては、例えば、光電子倍増管(紫外・可視領域)や、冷却硫化鉛（近赤外領域）を使用したものを用いることができる。また、受光器１３に取り付けられる図示しない分光器については、紫外・可視領域の波長測定範囲、測光正確さ（±０．００２Ａｂｓ）が必要である。
【０１００】
次に、球状空間内に入射される直線光を出射する光源１１としては、例えば、紫外領域は重水素ランプ、可視・近赤外領域は５０Ｗハロゲンランプを適用できる。
【０１０１】
また、標準反射板１５には、例えば材質がスペクトラロン（ＳＰＥＣＴＲＡＬＯＮ）の白板を用いることができ、上記ライトトラップ部品１６には、入射された直線光を反射させずにトラップする機能が必要で、例えば、入射された直線光をほぼ完全に吸収するダークボックスが用いられる。
【０１０２】
そして、上記拡散透過プロファイルの測定装置を用いて、測定試料である赤外線遮蔽透明基材等の拡散透過プロファイルの極大値を、ブランク透過光強度測定工程と、拡散透過光強度測定工程と、拡散透過率演算工程との各工程により評価できる。
【０１０３】
まず、ブランク透過光強度測定工程においては、図１に示すように積分球１４の第二開口部１４２に標準反射板１５を取り付け、第一開口部１４１に測定試料を取り付けない状態で光源１１からの直線光を第一開口部１４１を介し球状空間内に入射させる。そして、標準反射板１５で反射された反射光を受光器１３で受光し、かつ、受光器１３に取り付けられた図示しない分光器により分光して反射光の分光データを得る。この際の分光データが、ブランク透過光強度となる。
【０１０４】
次に、上記拡散透過光強度測定工程においては、図２に示すように積分球１４の第二開口部１４２にライトトラップ部品１６を取り付ける。そして、第一開口部１４１に測定試料１２を取り付けた状態で光源１１からの直線光を測定試料１２と第一開口部１４１を介し、球状空間内に入射させると共に、ライトトラップ部品１６でトラップされた光以外の散乱光を受光器１３で受光する。この際、受光器１３に取り付けられた図示しない分光器により分光して散乱光の分光データを得る。この際の分光データが、拡散透過光強度となる。
【０１０５】
そして、上記拡散透過率演算工程において、図示しないデータ保存手段（図示せず）により保存されたブランク透過光強度と拡散透過光強度の各分光データに基づき、図示しない演算手段により拡散透過光強度とブランク透過光強度の波長毎の比をそれぞれ演算して波長毎の拡散透過率を求めると共に、得られた波長毎の拡散透過率から、測定試料１２の拡散透過プロファイルにおける波長３６０ｎｍ〜５００ｎｍ領域の極大値を求めることができる。
【０１０６】
ここで、拡散透過プロファイルを測定する測定装置においては、上記光源１１と測定試料１２との間に光線調整用の光学系を設けてもよい。そして、この光学系では、例えば複数枚のレンズを組み合わせて平行光を調整し、絞りにより光量の調整を行う。場合によっては、フィルターによって特定波長のカットを行ってもよい。
【０１０７】
そして、本実施形態の赤外線遮蔽透明基材は、既述のようにコーティング層の可視光（波長４００ｎｍ以上７８０ｎｍ以下）透過率を４５％以上５５％以下のいずれかに設定した場合の、波長３６０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域における拡散透過プロファイルの極大値が１．５％以下となっていることが好ましい。これは、上記条件を満たす赤外線遮蔽透明基材ではブルーヘイズがほとんど観測されないことが確認されているからである。
【０１０８】
なお、コーティング層の可視光透過率が４５％以上５５％以下に設定されているのは、拡散透過率（拡散透過プロファイル）の測定条件を特定するためであり、拡散透過率が可視光透過率に比例するため範囲が設定されている。また、波長３６０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域における拡散透過率（拡散透過プロファイル）を測定するのは、その領域での散乱がまさしくブルーヘイズの原因であるからである。上記範囲での拡散透過率の極大値が１．５％以下であれば実験的に目視でブルーヘイズは観測されない。
【０１０９】
本実施形態の赤外線遮蔽透明基材は、例えば各種光学部材に用いることができ、本実施形態の赤外線遮蔽透明基材を含む赤外線遮蔽光学部材とすることができる。
【０１１０】
ここでいう赤外線遮蔽光学部材としては、例えば建物の窓や、自動車の窓等が挙げられる。
【０１１１】
以上に説明した、本実施形態の赤外線遮蔽透明基材、及び該赤外線遮蔽透明基材を含む赤外線遮蔽光学部材によれば、容易に微粉砕することができるホウ化物粒子を用いた赤外線遮蔽透明基材とすることができる。このため、コーティング層に含まれる赤外線遮蔽粒子の平均分散粒子径を十分に小さくすることができ、ブルーヘイズの発生を抑制できる。
（赤外線遮蔽透明基材の製造方法）
本実施形態の赤外線遮蔽透明基材は、例えば赤外線遮蔽粒子分散液を用いて製造することができる。このため、ここではまず赤外線遮蔽粒子分散液、及びその製造方法について説明する。
（１）赤外線遮蔽粒子分散液、及びその製造方法
上述のように、本実施形態赤外線遮蔽透明基材は、ここまで説明した赤外線遮蔽粒子であるホウ化物粒子を含有する赤外線遮蔽粒子分散液を用いて製造できる。このため、ここでは赤外線遮蔽粒子分散液、及びその製造方法の一構成例について説明する。
【０１１２】
赤外線遮蔽粒子分散液は、既述の赤外線遮蔽粒子を溶媒中に分散させたものである。赤外線遮蔽粒子分散液は、既述の赤外線遮蔽粒子、すなわちホウ化物粒子と、所望により適量の分散剤と、カップリング剤と、界面活性剤等とを、溶媒へ添加し分散処理を行い、当該赤外線遮蔽粒子を溶媒へ分散することで得られる。
【０１１３】
赤外線遮蔽粒子分散液の溶媒には、赤外線遮蔽粒子の分散性を保つための機能と、分散液を塗布する際に塗布欠陥を生じさせないための機能が要求される。
【０１１４】
具体的には、メタノール（ＭＡ）、エタノール（ＥＡ）、１−プロパノール（ＮＰＡ）、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ブタノール、ペンタノール、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコール等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン系溶媒、３−メチル−メトキシ−プロピオネート（ＭＭＰ）等のエステル系溶媒、エチレングリコールモノメチルエーテル（ＭＣＳ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（ＥＣＳ）、エチレングリコールイソプロピルエーテル（ＩＰＣ）、プロピレングリコールメチルエーテル（ＰＧＭ）、プロピレングリコールエチルエーテル（ＰＥ）、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート（ＰＥ−ＡＣ）等のグリコール誘導体、フォルムアミド（ＦＡ）、Ｎ−メチルフォルムアミド、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）等のアミド類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、エチレンクロライド、クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素類等を挙げることができ、これらの中から選択した１種類、または２種類以上を組みあわせて用いることができる。
【０１１５】
上記した中でも、溶媒としては、特にＭＩＢＫ、ＭＥＫ等のケトン類や、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ＰＧＭＥＡ、ＰＥ−ＡＣ等のグリコールエーテルアセテート類等、疎水性の高いものがより好ましい。このため、これらの中から選択した１種類または２種類以上を組みあわせて用いることがより好ましい。
【０１１６】
また、透明フィルム基材や透明ガラス基材等の透明基材上にコーティング層を形成するためには、溶媒として低沸点の有機溶媒を選択することが好ましい。これは、溶媒が低沸点の有機溶媒であると、コーティング後の乾燥工程で溶媒を容易に取り除くことができ、コーティング層の特性、例えば硬度や透明性などを損なうことがないからである。
【０１１７】
具体的には、例えばメチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類から選択した１種類、または２種類以上を組みあわせて用いることが好ましい。
【０１１８】
分散剤、カップリング剤、界面活性剤は、用途に合わせて選定可能であるが、アミンを含有する基、水酸基、カルボキシル基、または、エポキシ基を、官能基として有しているものであることが好ましい。これらの官能基は赤外線遮蔽粒子の表面に吸着し、当該赤外線遮蔽粒子の凝集を防ぐことで、透明基材上にコーティング層を形成した場合に、該コーティング層中において、赤外線遮蔽粒子を均一に分散させる効果を発揮する。
【０１１９】
分散剤、カップリング剤、界面活性剤としては、リン酸エステル化合物、高分子系分散剤、シラン系カップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、等を好適に用いることができる。
【０１２０】
なお、高分子系分散剤としては、アクリル系高分子分散剤、ウレタン系高分子分散剤、アクリル・ブロックコポリマー系高分子分散剤、ポリエーテル類分散剤、ポリエステル系高分子分散剤などが挙げられる。
【０１２１】
ただし、分散剤、カップリング剤、界面活性剤としては、これらに限定されるものではなく、各種分散剤、カップリング剤、界面活性剤を用いることができる。
【０１２２】
赤外線遮蔽粒子分散液への分散剤、カップリング剤、界面活性剤から選択された１種類以上の材料の添加量は、赤外線遮蔽粒子である、ホウ化物粒子１００重量部に対し１０重量部以上１０００重量部以下の範囲であることが好ましく、２０重量部以上２００重量部以下の範囲であることがより好ましい。
【０１２３】
分散剤等の添加量が上記範囲にあれば、赤外線遮蔽粒子が分散液中で凝集を起こすことがなく、分散安定性が保たれる。
【０１２４】
液状媒体中に、赤外線遮蔽粒子であるホウ化物粒子を分散する方法は特に限定されるものではない。例えば赤外線遮蔽粒子分散液の原料混合物を、ビーズミル、ボールミル、サンドミルなどの湿式媒体ミルを用いて分散処理する方法が挙げられる。特に、本実施形態の赤外線遮蔽粒子分散液は、平均分散粒子径が１００ｎｍ以下の赤外線遮蔽粒子を液状媒体中に分散させた状態を有することが好ましく、該赤外線遮蔽粒子の平均分散粒子径は８５ｎｍ以下であることがより好ましい。このためビーズミル等の媒体撹拌ミルを用いた湿式粉砕法により、ホウ化物粒子を分散して分散液を調製することが好ましい。
【０１２５】
均一な赤外線遮蔽粒子分散液を得るために、各種添加剤や分散剤を添加したり、ｐＨ調整したりしても良い。
【０１２６】
上述した赤外線遮蔽粒子分散液中における赤外線遮蔽粒子の含有量は、０．０１質量％以上３０質量％以下であることが好ましい。赤外線遮蔽粒子の含有量が０．０１質量％以上であれば、透明基材上に赤外線遮蔽能を有するコーティング層を形成することができるからである。また、赤外線遮蔽粒子の含有量が３０質量％以下であれば、透明基材上に赤外線遮蔽分散液の塗布を容易に行うことができ、コーティング層の生産性を高めることができるからである。
【０１２７】
また、赤外線遮蔽粒子分散液中の赤外線遮蔽粒子は、平均分散粒子径が１００ｎｍ以下で分散していることが好ましく、８５ｎｍ以下で分散していることがより好ましい。赤外線遮蔽粒子の平均分散粒子径が１００ｎｍ以下であれば、本実施形態に係る赤外線遮蔽粒子分散液を用いて製造された赤外線遮蔽透明基材におけるブルーヘイズの発生を抑制し、光学特性を向上させることができるからである。また、該平均分散粒子径が８５ｎｍ以下の場合、赤外線遮蔽透明基材におけるブルーヘイズの発生を特に抑制できるからである。
【０１２８】
なお、既述のホウ化物粒子を用いて赤外線遮蔽粒子分散液を作製した場合に、赤外線遮蔽粒子分散液（スラリー）のゲル化等の問題が発生することなく効率的に平均分散粒子径が１００ｎｍ以下、特に８５ｎｍ以下まで粉砕が可能になる理由について、本発明の発明者らは以下のように推察している。
【０１２９】
ホウ化物粒子は硬質なために、湿式媒体撹拌ミルを用いて粉砕する際に、メディアビーズが摩耗した微粉やメディアビーズが破砕した細かなビーズ片などの摩耗カスがスラリー中に混入してしまう。このとき、炭素濃度の増大に伴いホウ化物粒子の硬度が増大するため、含有する炭素濃度が０．２質量％よりも高いホウ化物粒子を原料とした場合、大量のメディアビーズの摩耗カスがスラリー中へ混入してしまう。係るメディアビーズの摩耗カス混入がスラリーの粘度を上昇させる原因となっている。
【０１３０】
これに対して、含有する炭素濃度が０．２質量％以下のホウ化物粒子を原料として用いることで、平均分散粒子径が１００ｎｍ以下、特に８５ｎｍ以下まで粉砕する場合、メディアビーズの摩耗カスの混入量が大きく減少するので、スラリーの粘度が悪化することなく効率的に粉砕が可能であると推察している。但し、スラリーの粘度上昇化については未解明な点も多く、上記以外の作用が働いている可能性もあるため、上記作用に限定されるわけではない。
（２）赤外線遮蔽透明基材の製造方法
次に、本実施形態の赤外線遮蔽透明基材の製造方法の一構成例について説明する。
【０１３１】
本実施形態の赤外線遮蔽透明基材は、上述した赤外線遮蔽粒子分散液を用いて、透明基材上へ、赤外線遮蔽粒子を含有するコーティング層を形成することで、製造することができる。以下に具体的な手順の例について説明する。
【０１３２】
上述した赤外線遮蔽粒子分散液にバインダーを添加し、塗布液を得る。
【０１３３】
得られた塗布液を透明基材表面にコーティングした後、溶媒を蒸発させ所定の方法でバインダーを硬化させれば、当該赤外線遮蔽粒子が媒体中に分散したコーティング層を形成できる。
【０１３４】
また、赤外線遮蔽粒子分散液にバインダーを添加せず、濃度調整した塗布液を作製し、透明基材上にコーティングした後、溶媒を蒸発させ、その後、バインダーを含む塗布液をオーバーコートして、溶媒を蒸発させすることによりコーティング層を形成してもよい。
【０１３５】
コーティング層に好適に用いることができるバインダーや、透明基材については既述のため、ここでは説明を省略する。
【０１３６】
なお、透明基材の表面は赤外線遮蔽粒子分散液の塗布性や、コーティング層との密着性を改善するため、表面処理がなされていることが好ましい。また、透明基材とコーティング層との接着性を向上させるために、透明基材上に中間層を形成し、中間層上にコーティング層を形成することもできる。中間層の構成は特に限定されるものではなく、例えばポリマフィルム、金属層、無機層（例えば、シリカ、チタニア、ジルコニア等の無機酸化物層）、有機／無機複合層等により構成することができる。
【０１３７】
透明基材上にコーティング層を設ける方法は、透明基材表面へ赤外線遮蔽粒子分散液が均一に塗布できる方法であればよく、特に限定されない。例えば、バーコート法、グラビヤコート法、スプレーコート法、ディップコート法等を挙げることができる。
【０１３８】
例えば赤外線遮蔽粒子に含まれるバインダーとしてＵＶ硬化樹脂を用い、バーコート法を用いてコーティング層を形成する場合、赤外線遮蔽粒子分散液について、適度なレベリング性をもつよう液濃度及び添加剤を適宜調整しておくことが好ましい。そして、コーティング層の厚み、及び赤外線遮蔽粒子の含有量が、得られる赤外線遮蔽透明基材の目的を達成できるように、バー番号のワイヤーバーを選択し、透明基材上に塗膜を形成することができる。
【０１３９】
次いで、塗膜中に含まれる有機溶媒を乾燥により除去した後、紫外線を照射し硬化させることで、透明基材上にコーティング層を形成することができる。このとき、塗膜の乾燥条件としては、各成分、溶媒の種類や使用割合によっても異なるが、例えば６０℃〜１４０℃の温度で２０秒〜１０分間程度加熱することで実施できる。紫外線の照射方法は特に制限はなく、例えば超高圧水銀灯などのＵＶ露光機を好適に用いることができる。
【０１４０】
その他、コーティング層の形成の前後工程により、透明基材とコーティング層との密着性、コーティング時の塗膜の平滑性、有機溶媒の乾燥性などを操作することもできる。前記前後工程としては、例えば透明基材の表面処理工程、プリベーク（基板の前加熱）工程、ポストベーク（基板の後加熱）工程などが挙げられ、適宜選択することができる。プリベーク工程および／あるいはポストベーク工程における加熱温度は８０℃以上２００℃以下、加熱時間は３０秒以上２４０秒以下であることが好ましい。
【０１４１】
形成するコーティング層の厚さや、コーティング層中の赤外線遮蔽粒子の含有量の好適な範囲については既述のため、ここでは説明を省略する。
【０１４２】
なお、本実施形態の赤外線遮蔽透明基材へさらに紫外線遮蔽機能を付与させるため、コーティング層に無機系の酸化チタンや酸化亜鉛、酸化セリウムなどの粒子、有機系のベンゾフェノンやベンゾトリアゾールなどの少なくとも１種類以上を添加してもよい。
【０１４３】
また、本実施形態に係る赤外線遮蔽透明基材の可視光透過率を向上させるために、コーティング層へＡＴＯ、ＩＴＯ、アルミニウム添加酸化亜鉛、インジウム錫複合酸化物から選択された１種類以上の粒子を、さらに混合してもよい。これらの透明粒子がコーティング層へ添加されることで、波長７５０ｎｍ付近の透過率が増加する一方、１２００ｎｍより長波長の赤外光を遮蔽するため、近赤外光の透過率が高く、且つ熱線遮蔽特性の高い熱線遮蔽体が得られる。
【０１４４】
以上に説明した、本実施形態の赤外線遮蔽透明基材の製造方法によれば、容易に微粉砕することができるホウ化物粒子を用いた赤外線遮蔽透明基材を製造することができる。係る赤外線遮蔽透明基材によれば、コーティング層に含まれる赤外線遮蔽粒子の平均分散粒子径を十分に小さくすることができ、ブルーヘイズの発生を抑制できる。
【実施例】
【０１４５】
以下、実施例を参照しながら本発明をより具体的に説明する。但し、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１４６】
ここでまず以下の実施例、比較例における試料の評価方法について説明する。
（ホウ化物粒子の組成）
以下の実施例、比較例で得られたホウ化物粒子について、ＩＣＰ（島津製作所製  型式：ＩＣＰＥ９０００）を用いて分析を行い、一般式ＸＢｍで表した場合の金属元素Ｘに対するホウ素（Ｂ）の元素比すなわちホウ化物粒子中のホウ素（Ｂ）と金属元素Ｘとの元素比（Ｂ／Ｘ）であるｍの値を算出した。
（ホウ化物粒子中の炭素濃度）
以下の実施例、比較例で作製したホウ化物粒子中の炭素量（炭素濃度）は、燃焼−赤外線吸収法で測定した。
（ホウ化物粒子中のＢ４Ｃ濃度）
得られたホウ化物粒子のうち、Ｂ４Ｃ濃度測定用の試料を２つに分け、それぞれ白金坩堝中に計り取り、７Ｎ硝酸を添加して５０℃まで加温してホウ化物粒子を溶解した。放冷後、純水を加えてから、孔径０．２μｍのセルロースアセテート製メンブランフィルターにより未溶解残渣（Ｂ４Ｃ）を濾過分離した。
【０１４７】
得られた一方の未溶解残渣を、元の白金坩堝に入れ、ホウ素の揮散を防止するために水酸化カルシウム飽和水溶液で湿らせた後に約８０℃の乾燥機中で乾燥した。乾燥後は炭酸ナトリウムを加えて十分に混和してから加熱融解した。放冷後，坩堝内の溶融塩を温水で溶解しテフロン（登録商標）ビーカーに移した。硝酸を添加後、加熱沸騰させて炭酸ガスを除去してからＩＣＰ用の試料溶液とした。得られた試料溶液中のホウ素濃度をＩＣＰにより分析した。
【０１４８】
また、得られたもう一方の未溶解残渣についてＸＲＤ測定を行い、未溶解残渣がＢ４Ｃ単相であるかを確認した。Ｂ４Ｃ単相であった場合、ＩＣＰにより分析したホウ素濃度からＢ４Ｃ濃度を算出した。
（可視光透過率）
以下の実施例、比較例中の可視光透過率とは、試料に垂直入射する昼光の光束について透過光束の入射光束に対する比である。ここで、上記昼光とは、国際照明委員会が定めたＣＩＥ昼光を意味する。このＣＩＥ昼光では、観測データに基づき黒体放射の色温度と同じ色温度の昼光の分光照度分布を波長５６０ｎｍの値に対する相対値で示している。また、上記光束とは、放射の波長ごとの放射束と視感度（人の目の光に対する感度）の値の積の数値を波長について積分したものである。つまり、可視光透過率とは、波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の領域の光透過量を人の目の視感度で規格化した透過光量の積算値で人の目の感じる明るさを意味する値である。
【０１４９】
透過率測定は、分光光度計（日立製作所製  型式：Ｕ−４１００）を使用して、波長３００ｎｍ以上２６００ｎｍ以下の範囲において１ｎｍの間隔で測定している。
（拡散透過プロファイルの極大値）
以下の実施例、比較例で作製した赤外線遮蔽透明基材について、分光器として、分光光度計（日立製作所製  型式：Ｕ−４１００）を使用し、図１、図２を用いて説明した方法により波長３００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の範囲で１ｎｍの間隔で拡散透過率を測定した。そして、得られた拡散透過プロファイルから極大値を求めた。
（ヘイズ）
赤外線遮蔽透明基材のヘイズ値はヘイズメーター（村上色彩技術研究所製  型式：ＨＭ−１５０）を用い、ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５−１９８１に基づき測定を行なった。
（平均分散粒子径）
平均分散粒子径は動的光散乱法に基づく粒径測定装置（大塚電子(株)製  型式：ＥＬＳ−８０００）により測定した。粒子屈折率は１．８１とし、粒子形状は非球形を用いた。バックグラウンドはトルエンで測定し、溶媒屈折率は１．５０とした。
（ブルーヘイズ）
ブルーヘイズは、以下の実施例、比較例で作製した赤外線遮蔽透明基材に人口太陽光ランプ［セリック（株）社製  ＸＣ-１００］を照射し目視で確認した。
【０１５０】
以下に各実施例、比較例での試料の作製条件、及び評価結果について説明する。
［実施例１］
ホウ素源及び還元剤として炭化ホウ素、ランタン源として酸化ランタンを用い、これらをランタンとホウ素の元素比であるＢ／Ｌａが５．９０となるように秤量、混合した。その後、アルゴン雰囲気中、１６００±５０℃の温度条件で６時間焼成し、六ホウ化ランタン粒子含有粉末を得た。
【０１５１】
得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末の含有炭素濃度を燃焼−赤外線吸収法で測定したところ、炭素量は０．０５質量％であった。また、得られた六ホウ化ランタン粒子の組成についてＩＣＰにより評価を行ったところ、一般式ＬａＢｍにおける、ランタン元素（Ｌａ）に対するホウ素（Ｂ）の元素比（Ｂ／Ｌａ）であるｍは、５．８であることが確認できた。
【０１５２】
さらに、得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末について、既述のホウ化物粒子中のＢ４Ｃ濃度の評価方法により、六ホウ化ランタン粒子含有粉末のＢ４Ｃ濃度を測定したところ、０．２質量％であった。
【０１５３】
次に、作製した六ホウ化ランタン粒子含有粉末（赤外線遮蔽材料）を１０重量部、トルエン８０重量部、分散剤（アミノ基を有するアクリル系高分子分散剤）１０重量部の割合となるように秤量、混合し、３ｋｇのスラリーを調製した。このスラリーをビーズと共に媒体撹拌ミルに投入し、スラリーを循環させて、２０時間粉砕分散処理を行った。
【０１５４】
使用した媒体撹拌ミルは横型円筒形のアニュラータイプ（アシザワ株式会社製）であり、ベッセル内壁とローター（回転撹拌部）の材質はＺｒＯ２とした。また、上記ビーズには、直径０．３ｍｍのＹＳＺ（Ｙｔｔｒｉａ−Ｓｔａｂｉｌｉｚｅｄ  Ｚｉｒｃｏｎｉａ：イットリア安定化ジルコニア）製のビーズを使用した。ローターの回転速度は１３ｍ／秒とし、スラリー流量１ｋｇ／分にて粉砕した。得られた分散液中のホウ化物粒子の平均分散粒子径を測定したところ７０ｎｍであった。
【０１５５】
さらに、得られた分散液、紫外線硬化樹脂、及びトルエンを、重量比で分散液：紫外線硬化樹脂：トルエン=２：１：１の割合で混合して塗布液を作製した。これを透明ガラス基材上にバーコーターで塗布して塗布膜を形成した。このとき、得られるコーティング層の可視光透過率が５０％程度となるようにコーティングに用いるバーを選択した。なお、バーコーターとしては井元製作所製ＩＭＣ−７００を用いており、得られるコーティング層の厚さは約１０μｍとなった。
【０１５６】
次に、７０℃において１分間保持することでこの塗布膜から溶媒を蒸発させた後、紫外線照射して塗布膜を硬化させた。そして、得られた赤外線遮蔽透明基材の光学特性を測定した。測定結果を以下の表１に示す。
【０１５７】
得られた赤外線遮蔽透明基材のヘイズは０．２％であり、透明性が極めて高いことが確認された。また、波長３６０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域における拡散透過プロファイルの極大値は０．６％であり、また、人口太陽光を照射したときのブルーヘイズは観測されなかった。
［実施例２］
ランタンとホウ素の元素比Ｂ／Ｌａが５．９５となるように炭化ホウ素、及び酸化ランタンを秤量、混合した点以外は、実施例１と同様にして、六ホウ化ランタン粒子含有粉末を得た。
【０１５８】
得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末の含有炭素濃度を燃焼−赤外線吸収法で測定したところ、炭素量は０．１質量％であった。また、得られた六ホウ化ランタン粒子の組成についてＩＣＰにより評価を行ったところ、一般式ＬａＢｍにおける、ランタン元素（Ｌａ）に対するホウ素（Ｂ）の元素比（Ｂ／Ｌａ）であるｍは、５．９であることが確認できた。
【０１５９】
さらに、得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末について、既述のホウ化物粒子中のＢ４Ｃ濃度の評価方法により、六ホウ化ランタン粒子含有粉末のＢ４Ｃ濃度を測定したところ、０．５質量％であった。
【０１６０】
そして、係る六ホウ化ランタン粒子含有粉末を用いた点以外は、実施例１と同様にして、ホウ化物粒子分散液を調製した。また、得られた分散液を用いて赤外線遮蔽透明基材を作製した。
【０１６１】
得られた分散液、及び赤外線遮蔽透明基材について実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
［実施例３］
ランタンとホウ素の元素比Ｂ／Ｌａが６．００となるように炭化ホウ素、及び酸化ランタンを秤量、混合した点以外は、実施例１と同様にして、六ホウ化ランタン粒子含有粉末を得た。
【０１６２】
得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末の含有炭素濃度を燃焼−赤外線吸収法で測定したところ、炭素量は０．２質量％であった。また、得られた六ホウ化ランタン粒子の組成についてＩＣＰにより評価を行ったところ、一般式ＬａＢｍにおける、ランタン元素（Ｌａ）に対するホウ素（Ｂ）の元素比（Ｂ／Ｌａ）であるｍは、５．９であることが確認できた。
【０１６３】
さらに、得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末について、既述のホウ化物粒子中のＢ４Ｃ濃度の評価方法により、六ホウ化ランタン粒子含有粉末のＢ４Ｃ濃度を測定したところ、０．９質量％であった。
【０１６４】
そして、係る六ホウ化ランタン粒子含有粉末を用いた点以外は、実施例１と同様にして、ホウ化物粒子分散液を調製した。また、得られた分散液を用いて赤外線遮蔽透明基材を作製した。
【０１６５】
得られた分散液、及び赤外線遮蔽透明基材について実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
［実施例４］
ランタンとホウ素の元素比Ｂ／Ｌａが６．１０となるように炭化ホウ素、及び酸化ランタンを秤量、混合した点以外は、実施例１と同様にして、六ホウ化ランタン粒子含有粉末を得た。
【０１６６】
得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末の含有炭素濃度を燃焼−赤外線吸収法で測定したところ、炭素量は０．２質量％であった。また、得られた六ホウ化ランタン粒子の組成についてＩＣＰにより評価を行ったところ、一般式ＬａＢｍにおける、ランタン元素（Ｌａ）に対するホウ素（Ｂ）の元素比（Ｂ／Ｌａ）であるｍは、６．０であることが確認できた。
【０１６７】
さらに、得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末について、既述のホウ化物粒子中のＢ４Ｃ濃度の評価方法により、六ホウ化ランタン粒子含有粉末のＢ４Ｃ濃度を測定したところ、０．９質量％であった。
【０１６８】
そして、係る六ホウ化ランタン粒子含有粉末を用いた点以外は、実施例１と同様にして、ホウ化物粒子分散液を調製した。また、得られた分散液を用いて赤外線遮蔽透明基材を作製した。
【０１６９】
得られた分散液、及び赤外線遮蔽透明基材について実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
［実施例５］
ランタンとホウ素の元素比Ｂ／Ｌａが６．２０となるように炭化ホウ素、及び酸化ランタンを秤量、混合し、１６５０±５０℃の温度条件で焼成した点以外は、実施例１と同様にして、六ホウ化ランタン粒子含有粉末を得た。
【０１７０】
得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末の含有炭素濃度を燃焼−赤外線吸収法で測定したところ、炭素量は０．２質量％であった。また、得られた六ホウ化ランタン粒子の組成についてＩＣＰにより評価を行ったところ、一般式ＬａＢｍにおける、ランタン元素（Ｌａ）に対するホウ素（Ｂ）の元素比（Ｂ／Ｌａ）であるｍは、６．０であることが確認できた。
【０１７１】
さらに、得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末について、既述のホウ化物粒子中のＢ４Ｃ濃度の評価方法により、六ホウ化ランタン粒子含有粉末のＢ４Ｃ濃度を測定したところ、０．９質量％であった。
【０１７２】
そして、係る六ホウ化ランタン粒子含有粉末を用いた点以外は、実施例１と同様にして、ホウ化物粒子分散液を調製した。また、得られた分散液を用いて赤外線遮蔽透明基材を作製した。
【０１７３】
得られた分散液、及び赤外線遮蔽透明基材について実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
［実施例６］
ホウ素源として酸化ホウ素、ランタン源として酸化ランタン、還元剤として炭素（黒鉛）を用い、ランタンとホウ素の元素比Ｂ／Ｌａが６．１０となるように秤量・混合したこと以外は、実施例１と同様にして、六ホウ化ランタン粒子含有粉末を得た。ただし、酸化ホウ素１００重量部に対して、炭素６０重量部を秤量・混合した。
【０１７４】
得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末の含有炭素濃度を燃焼−赤外線吸収法で測定したところ、炭素量は０．１質量％であった。また、得られた六ホウ化ランタン粒子の組成についてＩＣＰにより評価を行ったところ、一般式ＬａＢｍにおける、ランタン元素（Ｌａ）に対するホウ素（Ｂ）の元素比（Ｂ／Ｌａ）であるｍは、６．０であることが確認できた。
【０１７５】
さらに、得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末について、既述のホウ化物粒子中のＢ４Ｃ濃度の評価方法により、六ホウ化ランタン粒子含有粉末のＢ４Ｃ濃度を測定したところ、０．４質量％であった。
【０１７６】
そして、係る六ホウ化ランタン粒子含有粉末を用いた点以外は、実施例１と同様にして、ホウ化物粒子分散液を調製した。また、得られた分散液を用いて赤外線遮蔽透明基材を作製した。
【０１７７】
得られた分散液、及び赤外線遮蔽透明基材について実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
［実施例７］
セリウムとホウ素の元素比Ｂ／Ｃｅが６．１０となるように、さらに酸化ランタンの代わりに酸化セリウムを用いたこと以外は、実施例１と同様にして、六ホウ化セリウム粒子含有粉末を得た。
【０１７８】
得られた六ホウ化セリウム粒子含有粉末の含有炭素濃度を燃焼−赤外線吸収法で測定したところ、炭素量は０．２質量％であった。また、得られた六ホウ化セリウム粒子の組成についてＩＣＰにより評価を行ったところ、一般式ＣｅＢｍにおける、セリウム元素（Ｃｅ）に対するホウ素（Ｂ）の元素比（Ｂ／Ｃｅ）であるｍは、６．０であることが確認できた。
【０１７９】
さらに、得られた六ホウ化セリウム粒子含有粉末について、既述のホウ化物粒子中のＢ４Ｃ濃度の評価方法により、六ホウ化セリウム粒子含有粉末のＢ４Ｃ濃度を測定したところ、０．９質量％であった。
【０１８０】
そして、係る六ホウ化セリウム粒子含有粉末を用いた点以外は、実施例１と同様にして、ホウ化物粒子分散液を調製した。また、得られた分散液を用いて赤外線遮蔽透明基材を作製した。
【０１８１】
得られた分散液、及び赤外線遮蔽透明基材について実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
［比較例１］
ホウ素源及び還元剤として炭化ホウ素、ランタン源として酸化ランタンを用い、これらをランタンとホウ素の元素比Ｂ／Ｌａが６．１０となるように秤量、混合した。その後、アルゴン雰囲気中、１４８０±５０℃の温度条件で６時間焼成し、六ホウ化ランタン粒子含有粉末を得た。
【０１８２】
得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末の含有炭素濃度を燃焼−赤外線吸収法で測定したところ、炭素量は０．６質量％であった。また、得られた六ホウ化ランタン粒子の組成についてＩＣＰにより評価を行ったところ、一般式ＬａＢｍにおける、ランタン元素（Ｌａ）に対するホウ素（Ｂ）の元素比（Ｂ／Ｌａ）であるｍは、６．０であることが確認できた。
【０１８３】
さらに、得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末について、既述のホウ化物粒子中のＢ４Ｃ濃度の評価方法により、六ホウ化ランタン粒子含有粉末のＢ４Ｃ濃度を測定したところ、２．６質量％であった。
【０１８４】
そして、係る六ホウ化ランタン粒子含有粉末を用いた点以外は、実施例１と同様にして、ホウ化物粒子分散液を調製した。
【０１８５】
得られた分散液について実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１８６】
なお、分散液を調製するため、２０時間粉砕処理を行った時点で平均分散粒子径が１０５ｎｍであり１００ｎｍより大きかったが、スラリー粘度上昇のため粉砕効率が著しく低下したことから、これ以上粉砕処理を続けても１００ｎｍ以下の粒子径を得ることは難しいと判断した。
【０１８７】
得られた分散液を用いて実施例１の場合と同様にして透明ガラス基材上にコーティング層を形成し、赤外線遮蔽透明基材とした。そして、得られた赤外線遮蔽透明基材の光学特性を測定した。測定結果を以下の表１に示す。
【０１８８】
得られた赤外線遮蔽透明基材のヘイズは１．６％であり、透明性が非常に低いことが確認された。また、波長３６０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域における拡散透過プロファイルの極大値は１．９％であり、また、人口太陽光を照射したときに目視ではっきりとブルーヘイズが確認された。
［比較例２］
ランタンとホウ素の元素比Ｂ／Ｌａが６．２０となるように炭化ホウ素及び酸化ランタンを秤量、混合した点以外は、比較例１と同様の条件にして、六ホウ化ランタン粒子含有粉末を得た。
【０１８９】
得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末の含有炭素濃度を燃焼−赤外線吸収法で測定したところ、炭素量は０．８質量％であった。また、得られた六ホウ化ランタン粒子の組成についてＩＣＰにより評価を行ったところ、一般式ＬａＢｍにおける、ランタン元素（Ｌａ）に対するホウ素（Ｂ）の元素比（Ｂ／Ｌａ）であるｍは、６．１であることが確認できた。
【０１９０】
さらに、得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末について、既述のホウ化物粒子中のＢ４Ｃ濃度の評価方法により、六ホウ化ランタン粒子含有粉末のＢ４Ｃ濃度を測定したところ、３．７質量％であった。
【０１９１】
そして、係る六ホウ化ランタン粒子含有粉末を用いた点以外は、実施例１と同様にして、ホウ化物粒子分散液を調製した。また、得られた分散液を用いて実施例１の場合と同様にしてガラス基板上にコーティング層を形成した。そして、得られた赤外線遮蔽透明基材の光学特性を測定した。測定結果を以下の表１に示す。
【０１９２】
得られた赤外線遮蔽透明基材のヘイズは１．８％であり、透明性が非常に低いことが確認された。また、波長３６０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域における拡散透過プロファイルの極大値は２．４％であり、また、人口太陽光を照射したときに、比較例１の場合と同様に目視ではっきりとブルーヘイズが確認された。
［比較例３］
ホウ素源として酸化ホウ素、ランタン源として酸化ランタンを、還元剤として炭素（黒鉛）を用い、ランタンとホウ素の元素比Ｂ／Ｌａが６．１０となるように秤量・混合したこと以外は、比較例１と同様にして、六ホウ化ランタン粒子含有粉末を得た。ただし、酸化ホウ素１００重量部に対して、炭素６０重量部を秤量・混合した。
【０１９３】
得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末の含有炭素濃度を燃焼−赤外線吸収法で測定したところ、炭素量は０．７質量％であった。また、得られた六ホウ化ランタン粒子の組成についてＩＣＰにより評価を行ったところ、一般式ＬａＢｍにおける、ランタン元素（Ｌａ）に対するホウ素（Ｂ）の元素比（Ｂ／Ｌａ）であるｍは、６．０であることが確認できた。
【０１９４】
さらに、得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末について、既述のホウ化物粒子中のＢ４Ｃ濃度の評価方法により、六ホウ化ランタン粒子含有粉末のＢ４Ｃ濃度を測定したところ、３．４質量％であった。
【０１９５】
そして、係る六ホウ化ランタン粒子含有粉末を用いた点以外は、実施例１と同様にして、ホウ化物粒子分散液を調製した。また、得られた分散液を用いて実施例１の場合と同様にしてガラス基板上にコーティング層を形成した。そして、得られた赤外線遮蔽透明基材の光学特性を測定した。測定結果を以下の表１に示す。
【０１９６】
得られた赤外線遮蔽透明基材のヘイズは１．７％であり、透明性が非常に低いことが確認された。また、波長３６０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域における拡散透過プロファイルの極大値は２．２％であり、また、人口太陽光を照射したときに、比較例１の場合と同様に目視ではっきりとブルーヘイズが確認された。
［比較例４］
セリウムとホウ素の元素比Ｂ／Ｃｅが６．１０となるように、さらに酸化ランタンの代わりに酸化セリウムを用いたこと以外は、比較例１と同様にして、六ホウ化セリウム粒子含有粉末を得た。
【０１９７】
得られた六ホウ化セリウム粒子含有粉末の含有炭素濃度を燃焼−赤外線吸収法で測定したところ、炭素量は０．９質量％であった。また、得られた六ホウ化セリウム粒子の組成についてＩＣＰにより評価を行ったところ、一般式ＣｅＢｍにおける、セリウム元素（Ｃｅ）に対するホウ素（Ｂ）の元素比（Ｂ／Ｃｅ）であるｍは、６．０であることが確認できた。
【０１９８】
さらに、得られた六ホウ化セリウム粒子含有粉末について、既述のホウ化物粒子中のＢ４Ｃ濃度の評価方法により、六ホウ化セリウム粒子含有粉末のＢ４Ｃ濃度を測定したところ、４．４質量％であった。
【０１９９】
そして、係る六ホウ化セリウム粒子含有粉末を用いた点以外は、実施例１と同様にして、ホウ化物粒子分散液を調製した。また、得られた分散液を用いて実施例１の場合と同様にしてガラス基板上にコーティング層を形成した。そして、得られた赤外線遮蔽透明基材の光学特性を測定した。測定結果を以下の表１に示す。
【０２００】
得られた赤外線遮蔽透明基材のヘイズは１．９％であり、透明性が非常に低いことが確認された。また、波長３６０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域における拡散透過プロファイルの極大値は２．５％であり、また、人口太陽光を照射したときに、比較例１の場合と同様に目視ではっきりとブルーヘイズが確認された。
【０２０１】
【表１】
2017122042.tif 000002
実施例１〜実施例７では、固相反応等により得られたホウ化物粒子を、比較的簡単かつ経済的に、平均分散粒子径を１００ｎｍ以下、特に８５ｎｍ以下にまで粉砕して微細化することができることが確認できた。また、実施例１〜実施例７では、得られるホウ化物粒子は平均分散粒子径が１００ｎｍ以下、特に８５ｎｍ以下となるため、その粒子または分散液を用いて作製したコーティング層を備えた赤外線遮蔽透明基材に人口太陽光を照射しても青白色に着色しない、すなわち、ブルーヘイズが抑制できることが確認される。
【０２０２】
従って、実施例１〜実施例７の赤外線遮蔽透明基材を有する赤外線遮蔽光学部材は、建材用の窓ガラスや車の窓ガラス等に適用できることが分かる。
【０２０３】
なお、実施例１〜実施例７では、いずれもコーティング層の厚さは１０μｍ程度であり、２０μｍ以下となっている。
【０２０４】
一方、含有する炭素濃度が０．２質量％より高いホウ化物粒子を原料として用いた比較例１〜比較例４は、粉砕処理２０時間では平均分散粒子径が１００ｎｍより大きく、拡散透過プロファイルの極大値も１．５％よりも高くなっている。そのため、ブルーヘイズが見られるなど、建材用の窓ガラスや車の窓ガラス等に適用するには問題があった。
【図１】
2017122042.tif 000003
【図２】
2017122042.tif 000004