(57)【要約】      （修正有）【課題】ガラスハウスへの適用に適したガラス部材を提供する。【解決手段】ガラス基板１１０を有するガラス部材１００において、ガラス基板１１０は、第１の表面および第２の表面を有し、ガラス基板１１０の前記第１の表面には、コーティングが設置され、該コーティングは、ガラス基板１１０に近い側から、酸化ケイ素を含むアンダーコート層１２０と、酸化スズを含む遮熱層１３０と、を有し、１０ｍｍ角に切り出したサンプルを大気雰囲気下において６７０℃で７分３０秒熱処理したとき、シート抵抗上昇率が２０％以内であり、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定された可視光透過率Ｔｖが７８％以上であり、ヘイズ率が１０％以上であり、遮蔽係数ＳＣが０．９０以下であるガラス部材１００。【選択図】図１
2017122012.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板を有するガラス部材であって、
前記ガラス基板は、第１の表面および第２の表面を有し、
前記ガラス基板の前記第１の表面には、コーティングが設置され、
該コーティングは、前記ガラス基板に近い側から、
酸化ケイ素を含むアンダーコート層と、
酸化スズを含む遮熱層と、
を有し、
当該ガラス部材は、１０ｍｍ角に切り出したサンプルを大気雰囲気下において６７０℃で７分３０秒熱処理したとき、シート抵抗上昇率が２０％以内であり、
当該ガラス部材は、前記ガラス基板の側から測定した場合、
ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定された可視光透過率Ｔｖが７８％以上であり、
ヘイズ率が１０％以上であり、
ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定された日射熱取得率をｇ値（％）とし、以下の（１）式で表される値を遮蔽係数ＳＣとしたとき、
ＳＣ＝ｇ値／０．８８      （１）式
前記ＳＣが０．９０以下である、ガラス部材。
【請求項２】
前記遮熱層は、フッ素および／またはアンチモンがドープされた酸化スズを含む、請求項１に記載のガラス部材。
【請求項３】
前記遮熱層は、前記ガラス基板に近い側から、第１の層および第２の層の２層で構成され、
前記第１の層は、未ドープの酸化スズを含み、前記第２の層は、フッ素および／またはアンチモンがドープされた酸化スズを含む、請求項１または２に記載のガラス部材。
【請求項４】
前記遮熱層は、前記ガラス基板に近い側から、第１の層および第２の層の２層で構成され、
前記第１の層および前記第２の層は、いずれも、フッ素および／またはアンチモンがドープされた酸化スズを含み、
前記第２の層は、前記第１の層よりも高いキャリア濃度を有する、請求項１または２に記載のガラス部材。
【請求項５】
前記アンダーコート層の表面における算術表面粗さＲａは、１ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲である、請求項１または２に記載のガラス部材。
【請求項６】
前記ガラス基板の前記第１の表面は、５０μｍ〜１５００μｍの範囲の表面粗さＲａを有する、請求項１または２に記載のガラス部材。
【請求項７】
前記アンダーコート層は、前記ガラス基板に近い側から、底部層と上部層の２層でされ、
前記底部層は、酸化チタンを含み、前記上部層は、酸化ケイ素を含む、請求項１、２、４または６に記載のガラス部材。
【請求項８】
前記ガラス基板の前記第２の表面には、防汚層が設置されている、請求項１乃至７のいずれか一つに記載のガラス部材。
【請求項９】
前記ガラス基板は、高透過ガラスで構成される、請求項１乃至８のいずれか一つに記載のガラス部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス部材に関し、特に遮熱性のコーティングを有するガラス基板を含むガラス部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、各国において、農作物の栽培などに使用される中規模〜大規模の園芸施設として、ガラスハウスが注目されている。ガラスハウスは、ビニールハウスよりも耐久性および密閉性に優れ、内部に様々な設備を導入できるため、生産性の高い栽培環境を実現することができる（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】ＷＯ２００６／０９８２８５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
前述の特許文献１には、透過性基板（ガラス基板）の上に断熱性の多層膜を形成し、これをガラスハウス用のガラス部材として利用することが記載されている。
【０００５】
しかしながら、ガラスハウス用のガラス部材に必要な特性は、断熱性に限られない。
【０００６】
例えば、ガラスハウスにおいて、ガラス部材を支持する骨格用のフレーム材によって、ガラスハウス内に陰が形成される場合がある。このような陰は、植物などの成長に悪影響を及し得るため、できるだけ抑制することが好ましい。しかしながら、特許文献１に記載のガラス部材では、このような「陰」の問題に対処することは難しい。
【０００７】
このように、実際のガラスハウスへの適用により適したガラス部材が、現在もなお要望されている。
【０００８】
本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、従来に比べて、ガラスハウスへの適用に適したガラス部材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明では、ガラス基板を有するガラス部材であって、
前記ガラス基板は、第１の表面および第２の表面を有し、
前記ガラス基板の前記第１の表面には、コーティングが設置され、
該コーティングは、前記ガラス基板に近い側から、
酸化ケイ素を含むアンダーコート層と、
酸化スズを含む遮熱層と、
を有し、
当該ガラス部材は、１０ｍｍ角に切り出したサンプルを大気雰囲気下において６７０℃で７分３０秒熱処理したとき、シート抵抗上昇率が２０％以内であり、
当該ガラス部材は、前記ガラス基板の側から測定した場合、
ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定された可視光透過率Ｔｖが７８％以上であり、
ヘイズ率が１０％以上であり、
ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定された日射熱取得率をｇ値（％）とし、以下の（１）式で表される値を遮蔽係数ＳＣとしたとき、
ＳＣ＝ｇ値／０．８８      （１）式
前記ＳＣが０．９０以下である、ガラス部材が提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明では、従来に比べて、ガラスハウスへの適用に適したガラス部材を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施形態によるガラス部材の構成例を概略的に示した断面図である。
【図２】本発明の一実施形態による別のガラス部材の構成例を概略的に示した断面図である。
【図３】本発明の一実施形態によるさらに別のガラス部材の構成例を概略的に示した断面図である。
【図４】本発明の一実施形態によるさらに別のガラス部材の構成例を概略的に示した断面図である。
【図５】本発明の一実施形態によるガラス部材の製造方法の一例を概略的に示したフロー図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
一般に、ガラスハウスに適用されるガラス部材には、台風などに伴う強風や、雹や小石の落下などによって発生する割れを防止するため、強化処理、あるいは半強化処理が施される。強化は、ガラスの表面に圧縮応力を付与することによって達成される。強化処理の例として、軟化点付近まで加熱したガラスの表面を急冷する風冷強化と、ガラスを第一のアルカリ金属イオンが含まれる溶融塩中に浸漬し、ガラスに含まれる第二のアルカリ金属イオンとガラス表面でイオン交換する化学強化が挙げられる。大面積のガラス板を比較的低コストで効率的に強化し、コーティング付きのガラスに対しても後強化処理を実施できる点で風冷強化が優れている。コーティング付きのガラスを風冷強化する際には、コーティングにはガラス部材をガラスの軟化点付近まで再加熱しても変質しない耐熱性が必要となる。
【００１３】
本発明におけるガラス部材は、比較的良好な耐熱性を有する。より具体的には、本発明におけるガラス部材は、１０ｍｍ角に切り出したサンプルを大気雰囲気下において６７０℃で７分３０秒熱処理したとき、シート抵抗上昇率が２０％以内であるという特徴を有する。
【００１４】
このため、本発明におけるガラス部材では、風冷強化に伴う再加熱の際にコーティングが変質し、コーティングの遮熱性が低下するという問題を有意に抑制することができる。
【００１５】
なお、本願において、シート抵抗上昇率（％）は、（熱処理後のサンプルのシート抵抗−熱処理前のサンプルのシート抵抗）／（熱処理前のサンプルのシート抵抗）×１００で表される。
【００１６】
また、本発明におけるガラス部材は、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定された可視光透過率Ｔｖが７８％以上である。可視光透過率は、７９％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、８１％以上であることがさらに好ましい。
【００１７】
この場合、ガラスハウス内に、十分な太陽光を取り入れることができる。従って、このようなガラス部材をガラスハウスに適用した場合、植物の成長を有意に促進することが可能になる。
【００１８】
また、本発明におけるガラス部材は、ガラス基板の側から測定した場合、遮蔽係数ＳＣが０．９０以下である。従って、このようなガラス部材をガラスハウスに適用した場合、太陽からの熱の侵入を有意に回避することができる。特に、夏期において、太陽熱がガラスハウス内に侵入することが抑制され、これにより、冷房代等を削減することができ、ガラスハウスのランニングコストを有意に抑制することが可能になる。
【００１９】
なお、遮蔽係数ＳＣは、０．８５以下であることが好ましく、０．８０以下であることがより好ましく、０．７６以下であることがさらに好ましい。
【００２０】
さらに、本発明におけるガラス部材は、ガラス基板の側から測定した場合、ヘイズ率が１０％以上であり、高い光拡散性を有する。このような高い光拡散性を有するガラス部材をガラスハウスに適用した場合、ガラスハウスの骨組みを構成するフレーム材の陰が、ガラスハウス内の植物に投影されることを有意に抑制することができる。その結果、植物の好ましい成長を促進させることが可能になる。
【００２１】
なお、ヘイズ率は、１５％以上であることが好ましく、１８％以上であることがより好ましく、２５％以上であることがさらに好ましい。また、ヘイズ率は、９０％以下であることが好ましく、８０％以下であることがより好ましく、６０％以下であることがさらに好ましい。
【００２２】
以上のような特徴により、本発明では、従来に比べて、ガラスハウスへの適用に、より適したガラス部材を提供することが可能になる。
【００２３】
（第１の構成）
以下、図面を参照して、本発明の一実施形態について説明する。
【００２４】
図１には、本発明の一実施形態によるガラス部材（以下、「第１のガラス部材」と称する）の断面を模式的に示す。
【００２５】
図１に示すように、第１のガラス部材１００は、ガラス基板１１０と、該ガラス基板１１０の両側に配置された各層とを有する。
【００２６】
より具体的には、ガラス基板１１０は、第１の表面１１２および第２の表面１１４を有し、第１の表面１１２には、ガラス基板１１０に近い順に、アンダーコート層１２０および遮熱層１３０が配置されている。一方、ガラス基板１１０の第２の表面１１４には、防汚層１８０が配置されている。
【００２７】
第１のガラス部材１００は、第１の側１０２および第２の側１０４を有し、第１の側１０２は、遮熱層１３０の側に対応し、第２の側１０４は、防汚層１８０の側に対応する。
【００２８】
ガラス基板１１０は、例えば、ソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、ボレートガラス、リチウムアルミノシリケートガラス、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、および無アルカリガラス等で構成される。
【００２９】
特に、可視光透過率を高めたい場合、ガラス基板１１０は、鉄成分の含有量が抑制された高透過ガラス（例えばソーダライムシリケートガラス）で構成される。
【００３０】
ガラス基板１１０の厚さは、例えば１．５ｍｍ〜６ｍｍの範囲であり、２ｍｍ〜５ｍｍの範囲であることが好ましい。
【００３１】
アンダーコート層１２０は、遮熱層のヘイズ率を高めつつ、ガラス基板中のナトリウムが遮熱層に拡散し、遮熱性能が低下することを抑制するアルカリバリア層としての役割を有する。
【００３２】
アンダーコート層１２０は、酸化ケイ素を含む層で構成される。アンダーコート層１２０に含まれる酸化ケイ素の量は、５０質量％以上であることが好ましい。例えば、アンダーコート層１２０は、酸化ケイ素層（ＳｉＯ２）、または酸炭化ケイ素層（ＳｉＯＣ）等で構成されても良い。
【００３３】
ここで、アンダーコート層１２０の表面は、１ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲の算術平均粗さＲａを有することが好ましい。算術平均粗さＲａは、より好ましくは１０ｎｍ〜１００ｎｍ、２０ｎｍ〜９０ｎｍ、４０〜８０ｎｍである。この場合、第１のガラス部材１００のヘイズ率を有意に高めることが可能になる。
【００３４】
ただし、アンダーコート層１２０の表面が大きな凹凸を有する場合、ガラス基板１１０から遮熱層１３０に向かってアルカリ成分が拡散しやすくなり、遮熱層１３０の特性が低下する場合がある。これを防ぐため、アンダーコート層１２０と遮熱層１３０の間に、例えば、膜中に実質的に炭素を含まないシリカで構成されたアルカリバリア層を追加しても良い。これにより、そのような遮熱層１３０の劣化の問題を抑制することができる。
【００３５】
アンダーコート層１２０は、例えば、１５ｎｍ〜１５０ｎｍの厚さを有する。厚さは、より好ましくは２０ｎｍ〜１２０ｎｍ、２５ｎｍ〜１００ｎｍである。
【００３６】
遮熱層１３０は、第１のガラス部材１００に、第２の側１０４から入射される光１０８による入熱を抑制する役割を有する。
【００３７】
遮熱層１３０は、酸化スズを含む層で構成される。遮熱層１３０に含まれる酸化スズの量は、５０質量％以上であることが好ましい。例えば、遮熱層１３０は、フッ素および／またはアンチモンがドープされた酸化スズ等で構成されても良い。この場合、ドーパントの含有量は、ドーパント原子／スズ原子のモル比で、０．０００１〜０．０９の範囲であることが好ましい。
【００３８】
遮熱層１３０は、例えば、１００ｎｍ〜１０００ｎｍの厚さを有する。厚さは、より好ましくは、１２０ｎｍ〜８００ｎｍ、１４０ｎｍ〜７００ｎｍ、１５０ｎｍ〜５００ｎｍである。
【００３９】
防汚層１８０は、第１のガラス部材１００の第２の側１０４に埃や塵などが付着して、第１のガラス部材１００の透明性が低下することを抑制する役割を有する。
【００４０】
防汚層１８０は、１０ｎｍ〜１５０ｎｍの厚さを有する。また、防汚層１８０は、１ｎｍ〜１３ｎｍの表面粗さ（算術平均粗さＲａ）を有しても良い。
【００４１】
防汚層は、例えば、酸化スズ層またはシリカ層で構成されてもよい。なお、防汚層１８０は、必須の層ではなく、省略されても良い。
【００４２】
なお、第１のガラス部材１００において、第１の側１０２および／または第２の側１０４は、必ずしも平面である必要はなく、これらは曲面であってもよい。
【００４３】
第１のガラス部材１００をガラスハウスに適用する場合、第１のガラス部材１００は、第１の側１０２がガラスハウスの内部となり、第２の側１０４がガラスハウスの外部となるように配置される。従って、太陽の光１０８は、第１のガラス部材１００の第２の側１０４からガラスハウスに向かって入射される。
【００４４】
ここで、第１のガラス部材１００は、１０ｍｍ角に切り出したサンプルを大気雰囲気下において６７０℃で７分３０秒熱処理したとき、シート抵抗上昇率が２０％以内であるという特徴を有する。シート抵抗上昇率は、１５％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましい。これにより、第１のガラス部材１００の高温化による遮熱性の低下を、有意に抑制することができる。
【００４５】
また、第１のガラス部材１００は、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定された可視光透過率Ｔｖが７８％以上であるという特徴を有する。このため、第１のガラス部材１００では、ガラスハウス内に十分な太陽光を取り入れることができる。その結果、第１のガラス部材１００を備えるガラスハウスでは、植物の成長を有意に促進することが可能になる。
【００４６】
また、第１のガラス部材１００は、第２の側１０４から第１の側１０２に向かって測定されたヘイズ率が１５％以上である。このため、第１のガラス部材１００を備えるガラスハウスは、光拡散性に優れ、前述の「陰」の問題を有意に抑制することができる。
【００４７】
また、第１のガラス部材１００において、第２の側１０４から第１の側１０２に向かって測定された遮蔽係数ＳＣは０．９０以下である。従って、第１のガラス部材１００を備えるガラスハウスでは、良好な遮熱性が得られ、ガラスハウスのランニングコストを有意に抑制することができる。
【００４８】
（第２の構成）
図２には、本発明の一実施形態による別のガラス部材の断面を模式的に示す。
【００４９】
図２に示すように、本発明の一実施形態による別のガラス部材（以下、「第２のガラス部材」と称する）２００は、ガラス基板２１０と、該ガラス基板２１０の両側に配置された各層とを有する。
【００５０】
より具体的には、ガラス基板２１０は、第１の表面２１２および第２の表面２１４を有し、第１の表面２１２には、ガラス基板２１０に近い順に、アンダーコート層２２０、第１の遮熱層２３０、および第２の遮熱層２４０が配置されている。一方、ガラス基板２１０の第２の表面２１４には、防汚層２８０が配置されている。
【００５１】
第２のガラス部材２００は、第１の側２０２および第２の側２０４を有し、第１の側２０２は、第２の遮熱層２４０の側に対応し、第２の側２０４は、防汚層２８０の側に対応する。
【００５２】
ここで、ガラス基板２１０は、前述の第１のガラス部材１００におけるガラス基板１１０と同様の構成を有しても良い。
【００５３】
また、アンダーコート層２２０は、前述の第１のガラス部材１００におけるアンダーコート層１２０と同様の材料で構成されても良い。ただし、アンダーコート層２２０は、第１のガラス部材１００におけるアンダーコート層１２０とは異なり、実質的に平坦な表面を有する。これは、第２のガラス部材２００では、アンダーコート層２２０の表面を特に荒らさなくても、好適なヘイズ率を得ることができるためである。
【００５４】
アンダーコート層２２０は、例えば、１０ｎｍ〜６０ｎｍの厚さを有する。厚さは、１５ｎｍ〜５０ｎｍの範囲であることが好ましく、２０ｎｍ〜４５ｎｍの範囲であることがより好ましい。
【００５５】
第１の遮熱層２３０は、酸化スズを含む層で構成される。第１の遮熱層２３０に含まれる酸化スズの量は、５０質量％以上であることが好ましい。例えば、第１の遮熱層２３０は、酸化スズ（未ドープ）で構成されても良い。
【００５６】
第１の遮熱層２３０は、例えば、１００ｎｍ〜５００ｎｍの厚さを有する。厚さは、１２０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲であることが好ましく、１４０〜３５０ｎｍの範囲であることがより好ましい。
【００５７】
一方、第２の遮熱層２４０は、前述の第１のガラス部材１００における遮熱層２３０と同様の構成を有しても良い。例えば、第２の遮熱層２４０は、フッ素および／またはアンチモンがドープされた酸化スズ等で構成されても良い。
【００５８】
第２の遮熱層２４０は、例えば、１００ｎｍ〜５００ｎｍの厚さを有する。厚さは、１２０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲であることが好ましく、１４０〜３５０ｎｍの範囲であることがより好ましい。
【００５９】
防汚層２８０は、第１のガラス部材１００の防汚層１８０と同様の構成を有してもよい。また、防汚層２８０は、省略されても良い。
【００６０】
第２のガラス部材２００も、前述の第１のガラス部材１００と同様の特徴を有する。すなわち、第２のガラス部材２００は、
１０ｍｍ角に切り出したサンプルを大気雰囲気下において６７０℃で７分３０秒熱処理したとき、シート抵抗上昇率が２０％以内であり、
可視光透過率Ｔｖが７８％以上であり、
ヘイズ率が１５％以上であり、
遮蔽係数ＳＣが０．９０以下である
という特徴を有する。
【００６１】
従って、第２のガラス部材２００においても、前述の第１のガラス部材１００と同様の効果を得ることができる。すなわち、第２のガラス部材２００をガラスハウスに適用した際に、高温化による遮熱性の低下を有意に抑制することができる。また、ガラスハウス内に十分な太陽光を取り入れることが可能となり、良好な光拡散性により、前述の「陰」の問題が有意に抑制されるとともに、ガラスハウスのランニングコストが有意に抑制されるという効果を得ることができる。
【００６２】
（第３の構成）
図３には、本発明の一実施形態によるさらに別のガラス部材の断面を模式的に示す。
【００６３】
図３に示すように、本発明の一実施形態によるさらに別のガラス部材（以下、「第３のガラス部材」と称する）３００は、ガラス基板３１０と、該ガラス基板３１０の両側に配置された各層とを有する。
【００６４】
より具体的には、ガラス基板３１０は、第１の表面３１２および第２の表面３１４を有し、第１の表面３１２には、ガラス基板３１０に近い順に、第１のアンダーコート層３５０、第２のアンダーコート層３２０、第１の遮熱層３３０、および第２の遮熱層３４０が配置されている。一方、ガラス基板３１０の第２の表面３１４には、防汚層３８０が配置されている。
【００６５】
なお、第１のアンダーコート層３５０および防汚層３８０は、省略されても良い。
【００６６】
第３のガラス部材３００は、第１の側３０２および第２の側３０４を有し、第１の側３０２は、第２の遮熱層３４０の側に対応し、第２の側３０４は、防汚層３８０の側に対応する。
【００６７】
ここで、ガラス基板３１０は、前述の第１のガラス部材１００におけるガラス基板１１０と同様の構成を有しても良い。
【００６８】
一方、第１のアンダーコート層３５０は、例えば、酸化チタンを含む層で構成される。第１のアンダーコート層３５０に含まれる酸化チタンの量は、５０質量％以上であることが好ましい。例えば、第１のアンダーコート層３５０は、酸化チタン層（ＴｉＯ２）等で構成されても良い。
【００６９】
第１のアンダーコート層３５０は、例えば、３ｎｍ〜２０ｎｍの厚さを有する。厚さは、５ｎｍ〜１５ｎｍの範囲であることが好ましい。
【００７０】
また、第２のアンダーコート層３２０は、酸化ケイ素を含む層で構成される。第２のアンダーコート層３２０に含まれる酸化ケイ素の量は、５０質量％以上であることが好ましい。例えば、第２のアンダーコート層３２０は、酸化ケイ素層（ＳｉＯ２）等で構成されても良い。
【００７１】
第２のアンダーコート層３２０は、実質的に平坦な表面を有し、例えば、１０ｎｍ〜６０ｎｍの厚さを有する。厚さは、１５ｎｍ〜５０ｎｍの範囲であることが好ましく、２０ｎｍ〜４５ｎｍの範囲であることがより好ましい。
【００７２】
第１の遮熱層３３０は、酸化スズを含む層で構成される。第１の遮熱層３３０に含まれる酸化スズの量は、５０質量％以上であることが好ましい。例えば、第１の遮熱層３３０は、フッ素および／またはアンチモンがドープされた酸化スズ等で構成されても良い。
【００７３】
第１の遮熱層３３０は、例えば、１００ｎｍ〜５００ｎｍの厚さを有する。厚さは、１２０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲であることが好ましく、１４０〜３５０ｎｍの範囲であることがより好ましい。
【００７４】
一方、第２の遮熱層３４０も、酸化スズを含む層で構成される。第２の遮熱層３４０に含まれる酸化スズの量は、５０質量％以上であることが好ましい。例えば、第２の遮熱層３４０は、フッ素および／またはアンチモンがドープされた酸化スズ等で構成されても良い。
【００７５】
ここで、第２の遮熱層３４０は、第１の遮熱層３３０に比べて、キャリア濃度が高いという特徴を有する。例えば、第１の遮熱層３３０は、１×１０２０ｃｍ−３〜４×１０２０ｃｍ−３の範囲のキャリア濃度を有する。これに対して、第２の遮熱層３４０は、３×１０２０ｃｍ−３〜６×１０２０ｃｍ−３の範囲のキャリア濃度を有する。
【００７６】
第２の遮熱層３４０は、例えば、１００ｎｍ〜５００ｎｍの厚さを有する。厚さは、１２０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲であることが好ましく、１４０〜３５０ｎｍの範囲であることがより好ましい。
【００７７】
防汚層３８０は、第１のガラス部材１００の防汚層１８０と同様の構成を有してもよい。また、防汚層３８０は、省略されても良い。
【００７８】
第３のガラス部材３００も、前述の第１のガラス部材１００および第２のガラス部材２００と同様の特徴を有する。すなわち、第３のガラス部材３００は、
１０ｍｍ角に切り出したサンプルを大気雰囲気下において６７０℃で７分３０秒熱処理したとき、シート抵抗上昇率が２０％以内であり、
可視光透過率Ｔｖが７８％以上であり、
ヘイズ率が１５％以上であり、
遮蔽係数ＳＣが０．９０以下である
という特徴を有する。
【００７９】
従って、第３のガラス部材３００においても、前述の第１のガラス部材１００および第２のガラス部材２００と同様の効果を得ることができる。すなわち、第３のガラス部材３００をガラスハウスに適用した際に、高温化による遮熱性の低下を有意に抑制することができる。また、ガラスハウス内に十分な太陽光を取り入れることが可能となり、良好な光拡散性により、前述の「陰」の問題が有意に抑制されるとともに、ガラスハウスのランニングコストが有意に抑制されるという効果を得ることができる。
【００８０】
（第４の構成）
図４には、本発明の一実施形態によるさらに別のガラス部材の断面を模式的に示す。
【００８１】
図４に示すように、本発明の一実施形態によるさらに別のガラス部材（以下、「第４のガラス部材」と称する）４００は、ガラス基板４１０と、該ガラス基板４１０の両側に配置された各層とを有する。
【００８２】
より具体的には、ガラス基板４１０は、第１の表面４１２および第２の表面４１４を有し、第１の表面４１２には、ガラス基板４１０に近い順に、第１のアンダーコート層４５０、第２のアンダーコート層４２０、および遮熱層４３０が配置されている。一方、ガラス基板４１０の第２の表面４１４には、防汚層４８０が配置されている。
【００８３】
第４のガラス部材４００は、第１の側４０２および第２の側４０４を有し、第１の側４０２は、遮熱層４３０の側に対応し、第２の側４０４は、防汚層４８０の側に対応する。
【００８４】
ここで、ガラス基板４１０の第１の表面４１２は、比較的荒れた表面を有する。例えば、第１の表面４１２は、算術平均粗さＲａが５０μｍ〜１５００μｍの範囲であっても良い。例えば、ガラス基板４１０は、型板ガラスで構成されても良い。
【００８５】
また、ガラス基板１１０は、例えば、鉄成分の含有量が抑制された、高透過ガラスで構成される。ガラス基板１１０の厚さは、例えば、１．５ｍｍ〜６ｍｍの範囲である。厚さは、２ｍｍ〜５ｍｍの範囲であることが好ましい。
【００８６】
一方、第１のアンダーコート層４５０は、前述の第３のガラス部材３００における第１のアンダーコート層３５０と同様の構成を有しても良い。また、第２のアンダーコート層４２０は、前述の第３のガラス部材３００における第２のアンダーコート層３２０と同様の構成を有しても良い。
【００８７】
第１のアンダーコート層４５０は、例えば、３ｎｍ〜２０ｎｍの厚さを有する。厚さは、５ｎｍ〜１５ｎｍの範囲であることが好ましい。また、第２のアンダーコート層４２０は、例えば、１０ｎｍ〜６０ｎｍの厚さを有する。厚さは、１５ｎｍ〜５０ｎｍの範囲であることが好ましく、２０ｎｍ〜４５ｎｍの範囲であることがより好ましい。
【００８８】
また、遮熱層４３０は、前述の第１のガラス部材１００における遮熱層１３０と同様の構成を有しても良い。
【００８９】
遮熱層４３０は、例えば、１００ｎｍ〜１０００ｎｍの厚さを有する。厚さは、１２０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲であることが好ましく、１４０ｎｍ〜７００ｎｍの範囲であることがより好ましく、１５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であることがさらに好ましい。
【００９０】
防汚層４８０は、第１のガラス部材１００の防汚層１８０と同様の構成を有してもよい。また、防汚層４８０は、省略されても良い。
【００９１】
第４のガラス部材４００も、前述の第１のガラス部材１００〜第３のガラス部材３００と同様の特徴を有する。すなわち、第４のガラス部材４００は、
１０ｍｍ角に切り出したサンプルを大気雰囲気下において６７０℃で７分３０秒熱処理したとき、シート抵抗上昇率が２０％以内であり、
可視光透過率Ｔｖが７８％以上であり、
ヘイズ率が１０％以上であり、
遮蔽係数ＳＣが０．９０以下である
という特徴を有する。
【００９２】
従って、第４のガラス部材４００においても、前述の第１のガラス部材１００と同様の効果を得ることができる。すなわち、第４のガラス部材４００をガラスハウスに適用した際に、高温化による遮熱性の低下を有意に抑制することができる。また、ガラスハウス内に十分な太陽光を取り入れることが可能となり、良好な光拡散性により、前述の「陰」の問題が有意に抑制されるとともに、ガラスハウスのランニングコストが有意に抑制されるという効果を得ることができる。
【００９３】
（本発明の一実施形態によるガラス部材の製造方法）
次に、図５を参照して、前述のような特徴を有する本発明の一実施形態によるガラス部材の製造方法の一例について説明する。なお、ここでは、一例として、前述の図２に示した第２のガラス部材２００を例に、その製造方法について説明する。
【００９４】
図５には、第２のガラス部材２００の製造方法（以下、「第１の製造方法」という）のフローの一例を概略的に示す。
【００９５】
図５に示すように、第１の製造方法は、
（ａ）ガラス基板の第１の表面に、アンダーコート層を設置するステップ（ステップＳ１１０）と、
（ｂ）前記アンダーコート層の上に、第１の遮熱層および第２の遮熱層を順番に設置するステップ（ステップＳ１２０）と、
（ｃ）前記ガラス基板の第２の表面に、防汚層を設置するステップ（ステップＳ１３０）と、
を有する。
【００９６】
以下、各ステップについて、詳しく説明する。なお、以下の説明では、明確化のため、各部材を表す際に、図２に示した参照符号を使用する。
【００９７】
（ステップＳ１１０）
まず、ガラス基板２１０が準備される。
【００９８】
前述のように、ガラス基板２１０の種類は特に限られないが、ガラス基板２１０として、Ｆｅ成分が抑制された高透過ガラスを使用することで、可視光透過率Ｔｖを高めることができる。例えば、ガラス基板２１０は、ソーダライムシリケート系の高透過ガラスである。
【００９９】
次に、ガラス基板の第１の表面２１２に、アンダーコート層２２０が配置される。
【０１００】
アンダーコート層２２０は、化学気相成膜（ＣＶＤ）法、電子ビーム蒸層法、真空蒸着法、スパッタ法、およびスプレー法等、各種成膜方法を用いて形成することができる。
【０１０１】
例えば、アンダーコート層２２０が酸化ケイ素層（ＳｉＯ２）で構成される場合、アンダーコート層２２０は、大気圧ＣＶＤ法によって成膜されてもよい。この場合、原料としては、モノシラン、テトラエトキシシラン、酸素、二酸化炭素、窒素などのガス状の原料物質を用いることができる。原料ガスは、予め混合してから、ガラス基板２１０の第１の表面２１２上に搬送してもよい。あるいは、原料ガスは、ガラス基板２１０の第１の表面２１２上で混合してもよい。
【０１０２】
また、例えば、アンダーコート層２２０が酸炭化ケイ素層（ＳｉＯＣ）で構成される場合、アンダーコート層２２０を大気圧ＣＶＤ法によって形成する際に、原料ガスに、メタン、エチレン、および／またはアセチレンなどの炭素含有ガスを含有させてもよい。このような炭素含有ガスを用いた場合、膜状のケイ素化合物とともに、粒子状のケイ素化合物が形成しやすくなり、ヘイズ率を高めることができる。
【０１０３】
アンダーコート層２２０を形成する際のガラス基板２１０の温度は、７００℃〜１１００℃であることが好ましい。ガラス基板２１０の温度が７００℃未満あるいは１１００℃超であると、膜の形成速度が低下しやすくなる。
【０１０４】
（ステップＳ１２０）
次に、アンダーコート層２２０の上に、第１の遮熱層２３０および第２の遮熱層２４０が順次形成される。
【０１０５】
遮熱層２３０は、例えば、化学気相成膜（ＣＶＤ）法、電子ビーム蒸層法、真空蒸着法、スパッタ法、およびスプレー法等、各種成膜方法を用いて形成することができる。
【０１０６】
例えば、第１の遮熱層２３０が酸化スズ層（ＳｎＯ２）で構成される場合、第１の遮熱層２３０は、大気圧ＣＶＤ法によって成膜されてもよい。この場合、原料としては、四塩化スズなどの無機系のスズ化合物、あるいは有機系のスズ化合物を用いることができる。
【０１０７】
ここで、有機系のスズ化合物とは、有機基を含むスズ化合物であって、有機基とスズ原子が、炭素原子−スズ原子の間の結合によって結合されている化合物を意味する。特に、有機基としては、アルキル基およびアルケニル基などの炭化水素基が好ましい。
【０１０８】
スズ原子に結合する有機基の数は、２個以上であってもよい。有機基としては、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましい。有機基以外のスズ原子に結合した反応基および原子としては、塩素原子が好ましい。また、有機系のスズ化合物は、４価のスズ化合物、すなわちスズ（ＩＶ）化合物であることが好ましい。有機系のスズ化合物としては、例えば、モノメチルスズトリクロライド、ジメチルスズジクロライド、モノブチルスズトリクロライド、テトラメチルスズ、テトラブチルスズ、およびジブチルスズジクロライド等があげられる。これらの中でも、モノブチルスズトリクロライド（以下、ＭＢＴＣという）は、入手が容易で安価であり、取り扱いが容易であるという理由から好ましい。
【０１０９】
次に、第２の遮熱層２４０が形成される。
【０１１０】
第２の遮熱層２４０は、例えば、化学気相成膜（ＣＶＤ）法、電子ビーム蒸層法、真空蒸着法、スパッタ法、およびスプレー法等、各種成膜方法を用いて形成することができる。
【０１１１】
例えば、第２の遮熱層２４０がフッ素ドープされた酸化スズ層（ＳｎＯ２）で構成される場合、第２の遮熱層２４０は、大気圧ＣＶＤ法によって成膜されてもよい。この場合、原料として、前述の第１の遮熱層２３０の成膜において使用される無機系または有機系のスズ化合物と、フッ素化合物との混合物が使用される。
【０１１２】
フッ素化合物としては、フッ化水素およびトリフルオロ酢酸などが挙げられる。フッ素化合物としては、特にフッ化水素が好ましい。
【０１１３】
第１の遮熱層２３０および第２の遮熱層２４０のいずれの成膜においても、原料ガスは、予め混合してから、搬送されてもよい。あるいは、原料ガスは、被成膜対象の表面上で混合してもよい。原料物質が液体の場合は、バブリング法や気化装置などを用いて、原料物質を気化させてガス状としてもよい。
【０１１４】
原料ガス中のスズ化合物１モルに対する水の量は、１０〜３０モルとすることが好ましい。水の量が１０モル未満であると、形成する膜の抵抗値が増大しやすく、結果として遮蔽係数ＳＣが増大しやすくなる。また、光線吸収が増大しやすくなる。
【０１１５】
一方、水の量が３０モル超であると、水の量の増加にともない、原料ガス容量が増大し、原料ガスの流速が高まることにより、着膜効率が低下するおそれがある。スズ化合物１モルに対する水の量は、１５〜２５モルであることがより好ましく、１８〜２２モルであることがさらに好ましい。
【０１１６】
原料ガスが酸素を含有する場合、原料ガス中のスズ化合物１モルに対する酸素の量は、０モル超〜２０モルとすることが好ましく、４〜２０モルとすることがより好ましい。酸素の量が４モル未満であると、生成する膜の抵抗値や光線吸収が増大する場合がある。一方、酸素の量が２０モル超であると、原料ガス容量が増大し、原料ガスの流速が高まることにより着膜効率が低下するおそれがある。スズ化合物１モルに対する酸素の量は６〜１５モルであることがより好ましく、８〜１０モルであることがさらに好ましい。
【０１１７】
第２の遮熱層２４０の成膜において、原料ガス中のスズ化合物１モルに対するフッ素化合物の量は、０．２〜１．２モルとすることが好ましい。フッ素化合物の量が０．２モル未満である場合や１．２モル超である場合、形成する膜の抵抗値が増大しやすくなる。スズ化合物１モルに対するフッ素化合物の量は０．４〜１．０モルであることがより好ましく、０．５〜０．７モルであることがさらに好ましい。
【０１１８】
第１の遮熱層２３０および第２の遮熱層２４０を形成する際のガラス基板２１０の温度は、５００℃〜６５０℃であることが好ましい。ガラスの温度が５００℃未満であると、第１および第２の遮熱層２３０、２４０の形成速度が低下するとともに、結晶性が低下する。その結果、ヘイズ率の低下および移動度の低下が生じる（移動度の低下は、シート抵抗の増大に対応し、シート抵抗の増大は遮熱性の低下に対応する）。一方、ガラス基板２１０の温度が６５０℃超であると、ガラスの粘性が低い状態で成膜が実施されるため、ガラスが室温まで降温される過程で、反りが生じるおそれがある。
【０１１９】
ガラス基板２１０の温度は、５２０℃〜７５０℃であることが好ましく、５４０℃〜７００℃であることがより好ましい。
【０１２０】
なお、ステップＳ１１０およびステップＳ１２０におけるガラス基板上へのコーティングの形成は、フロート設備でガラスを作製する過程でオンライン法によって実施しても良いし、フロート法で得られたガラスを再加熱して成膜を実施するオフライン法によっても良い。
【０１２１】
（ステップＳ１３０）
次に、ガラス基板２１０の第２の表面２１４に、防汚層２８０が設置される。
【０１２２】
防汚層２８０は、例えば、化学気相成膜（ＣＶＤ）法、電子ビーム蒸層法、真空蒸着法、スパッタ法、およびスプレー法等、各種成膜方法を用いて形成することができる。
【０１２３】
以上、第２のガラス部材２００を例に、その製造方法の一例について説明した。
【０１２４】
しかしながら、説明された製造方法は、単なる一例であって、第２のガラス部材２００は、その他の製造方法で製造されてもよい。
【０１２５】
例えば、前述の例では、防汚層２８０は、ステップＳ１３０において、ガラス基板２１０の第１の表面２１２における各層が成膜された後に、形成される。しかしながら、最初に、ガラス基板２１０の第２の表面２１４に防汚層２８０を形成してから、ガラス基板２１０の第１の表面２１２に、各層２２０〜２４０を設置しても良い。
【０１２６】
また、第１の製造方法には、さらに、ガラス基板２１０を風冷強化あるいは化学強化する工程（強化工程）が含まれても良い。この強化工程は、例えば、ステップＳ１１０の前、またはステップＳ１３０の後など、いかなる順番で実施されてもよい。
【０１２７】
強化工程を実施することにより、ガラス基板２１０、さらには第２のガラス部材２００の強度が向上する。成膜後にガラス部材に強化処理を施す場合、化学強化は表裏面のイオン交換のされ方が異なる結果ガラス部材に反りを生じさせるおそれがあるため、風冷強化による処理が好ましい。
【０１２８】
なお、ステップＳ１３０におけるガラス基板上へのコーティングの形成は、フロート設備でガラスを作製する過程でオンライン法によって実施しても良いし、フロート法で得られたガラスを再加熱して成膜を実施するオフライン法によっても良い。
【０１２９】
この他にも各種変更が可能であることは、当業者には明らかである。
【０１３０】
また、前述の第１の製造方法の一部を変更することにより、第１のガラス部材１００、第３のガラス部材３００，および第４のガラス部材４００が製造できることは、当業者には容易に推定できる。
【実施例】
【０１３１】
次に、本発明の実施例について説明する。なお、以下の説明において、例１〜例６、例８および例１０は、実施例であり、例７および例９は、比較例である。
【０１３２】
（例１）
前述の図１に示したような構成を有するガラス部材を構成した。
【０１３３】
ガラス基板には、厚さが４ｍｍの高透過ソーダライムシリケートガラスを使用した。
【０１３４】
このガラス基板の一方の表面（第１の表面）に、アンダーコート層として、ＳｉＯＣ膜を成膜した。ＳｉＯＣ層は、ＣＶＤ法により形成した（目標膜厚８５ｎｍ）。なお、アンダーコート層の表面は、表面粗さ（算術平均粗さＲａ）が１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲となるようにした。
【０１３５】
次に、ＳｉＯＣ層の上に、遮熱層として、フッ素ドープされたＳｎＯ２層を成膜した。フッ素ドープされたＳｎＯ２層は、ＭＢＴＣおよびフッ化水素を原料として、ＣＶＤ法により形成した（目標膜厚３４０ｎｍ）。フッ素ドープ量は、フッ素化合物に対するスズ化合物のモル比として０．５〜０．７とした。
【０１３６】
なお、ガラス基板の第２の表面に、防汚層は設置しなかった。
【０１３７】
得られたガラス部材を「例１に係るガラス部材」と称する。
【０１３８】
（例２）
例１と同様の方法により、ガラス部材を構成した。
【０１３９】
ただし、この例２では、ガラス基板として、厚さが３ｍｍのソーダライムガラスを使用した。また、アンダーコート層の表面は、表面粗さ（算術平均粗さＲａ）が１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲となるようにした。
【０１４０】
その他の条件は、例１の場合と同様である。
【０１４１】
得られたガラス部材を「例２に係るガラス部材」と称する。
【０１４２】
（例３）
例２と同様の方法により、ガラス部材を構成した。
【０１４３】
ただし、この例３では、ガラス基板として、厚さが４ｍｍのソーダライムガラスを使用した。また、第１の遮熱層の厚さは、１９０ｎｍを目標とした。
【０１４４】
その他の条件は、例２の場合と同様である。
【０１４５】
得られたガラス部材を「例３に係るガラス部材」と称する。
【０１４６】
（例４）
前述の図２に示したような構成のガラス部材を構成した。
【０１４７】
ガラス基板には、厚さが４ｍｍの高透過ソーダライムシリケートガラスを使用した。
【０１４８】
このガラス基板の一方の表面（第１の表面）に、アンダーコート層として、ＳｉＯＣ膜を成膜した。ＳｉＯＣ層は、ＣＶＤ法により形成した（目標膜厚８５ｎｍ）。
【０１４９】
次に、ＳｉＯＣ層の上に、第１の遮熱層として、未ドープのＳｎＯ２を成膜した。ＳｎＯ２層は、ＭＢＴＣを原料として使用し、ＣＶＤ法により形成した（目標膜厚１７０ｎｍ）。さらに、第１の遮熱層の上に、第２の遮熱層として、フッ素ドープされたＳｎＯ２層を成膜した。フッ素ドープされたＳｎＯ２層は、ＭＢＴＣおよびフッ化水素を原料として使用し、ＣＶＤ法により形成した（目標膜厚１７０ｎｍ）。フッ素ドープ量は、０．５〜０．７とした。
【０１５０】
なお、ガラス基板の第２の表面に、防汚層は設置しなかった。
【０１５１】
得られたガラス部材を「例４に係るガラス部材」と称する。
【０１５２】
（例５）
前述の図３に示したような構成のガラス部材を構成した。
【０１５３】
ガラス基板には、厚さが４ｍｍの高透過ソーダライムシリケートガラスを使用した。
【０１５４】
このガラス基板の一方の表面（第１の表面）に、第１のアンダーコート層として、ＴｉＯ２層を成膜した。ＴｉＯ２層は、ＣＶＤ法により形成した（目標膜厚１０ｎｍ）。次に、第１のアンダーコート層の上に、第２のアンダーコート層として、ＳｉＯ２層を成膜した。ＳｉＯ２層は、ＣＶＤ法により形成した（目標膜厚３５ｎｍ）。
【０１５５】
次に、ＳｉＯ２層の上に、第１の遮熱層として、フッ素ドープされたＳｎＯ２層を成膜した。第１の遮熱層は、フッ化水素およびＳｎＣｌ４を原料として使用し、ＣＶＤ法により形成した（目標膜厚１７０ｎｍ）。フッ素ドープ量は、０．５〜０．７とした。
【０１５６】
さらに、第１の遮熱層の上に、第２の遮熱層として、フッ素ドープされたＳｎＯ２層を成膜した。第２の遮熱層は、ＭＢＴＣおよびフッ化水素を原料として使用し、ＣＶＤ法により形成した（目標膜厚１７０ｎｍ）。フッ素ドープ量は、０．５〜０．７とした。
【０１５７】
なお、ガラス基板の第２の表面に、防汚層は設置しなかった。
【０１５８】
得られたガラス部材を「例５に係るガラス部材」と称する。
【０１５９】
（例６）
前述の図４に示したような構成のガラス部材を構成した。
【０１６０】
ガラス基板には、厚さが４ｍｍの型板ガラス（ソーダライムシリケートガラス）を使用した。このガラス基板の一方の表面は、算術平均粗さＲａが５０μｍ〜１５００μｍの範囲の表面粗さを有する。
【０１６１】
このガラス基板の第１の表面に、第１のアンダーコート層として、ＴｉＯ２層を成膜した。ＴｉＯ２層は、ＣＶＤ法により形成した（目標膜厚１０ｎｍ）。次に、第１のアンダーコート層の上に、第２のアンダーコート層として、ＳｉＯ２層を成膜した。ＳｉＯ２層は、ＣＶＤ法により形成した（目標膜厚３５ｎｍ）。
【０１６２】
次に、ＳｉＯ２層の上に、遮熱層として、フッ素ドープされたＳｎＯ２層を成膜した。遮熱層は、ＭＢＴＣおよびフッ化水素を原料として使用し、ＣＶＤ法により形成した（目標膜厚３５０ｎｍ）。フッ素ドープ量は、０．５〜０．７とした。
【０１６３】
なお、ガラス基板の第２の表面に、防汚層は設置しなかった。
【０１６４】
得られたガラス部材を「例６に係るガラス部材」と称する。
【０１６５】
（例７）
前述の例２と同様の方法により、ガラス部材を構成した。
【０１６６】
ただし、この例７では、ガラス基板として、厚さが４ｍｍのソーダライムガラスを使用した。また、遮熱層の厚さは、４９０ｎｍとした。
【０１６７】
その他の条件は、例２の場合と同様である。
【０１６８】
得られたガラス部材を「例７に係るガラス部材」と称する。
【０１６９】
（例８）
前述の例２と同様の方法により、ガラス部材を構成した。
【０１７０】
ただし、この例８では、ガラス基板として、厚さが５ｍｍのソーダライムガラスを使用した。また、遮熱層の厚さは、３４０ｎｍとした。
【０１７１】
その他の条件は、例２の場合と同様である。
【０１７２】
得られたガラス部材を「例８に係るガラス部材」と称する。
【０１７３】
（例９）
例３で使用した厚さが４ｍｍのソーダライムガラス基板を、例９に係るガラス部材とした。すなわち、例９に係るガラス部材は、ガラス基板のみから構成され、いかなるコーティングも有しない。
【０１７４】
（例１０）
以下の方法で、ガラス部材を製造した。
【０１７５】
ガラス基板には、厚さが４ｍｍの高透過ソーダライムシリケートガラスを使用した。
【０１７６】
このガラス基板の一方の表面（第１の表面）に、第１のアンダーコート層として、ＴｉＯ２層を成膜した。ＴｉＯ２層は、ＣＶＤ法により形成した（目標膜厚１０ｎｍ）。次に、第１のアンダーコート層の上に、第２のアンダーコート層として、ＳｉＯ２層を成膜した。ＳｉＯ２層は、ＣＶＤ法により形成した（目標膜厚３５ｎｍ）。
【０１７７】
次に、ＳｉＯ２層の上に、第１の遮熱層として、フッ素ドープされたＳｎＯ２層を成膜した。第１の遮熱層は、フッ化水素およびＳｎＣｌ４を原料として使用し、ＣＶＤ法により形成した（目標膜厚３５０ｎｍ）。フッ素ドープ量は、０．５〜０．７とした。
【０１７８】
なお、ガラス基板の第２の表面に、防汚層は設置しなかった。
【０１７９】
得られたガラス部材を「例１０に係るガラス部材」と称する。
【０１８０】
以下の表１には、各ガラス部材の構成の概略をまとめて示す。
【０１８１】
【表１】
2017122012.tif 000003
（評価）
前述の各ガラス部材を用いて、以下の評価を行った。
【０１８２】
（遮蔽係数ＳＣ）
前述のように、遮蔽係数ＳＣは、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定された日射熱取得率をｇ値（％）としたとき、以下の（１）式で表される：
ＳＣ＝ｇ値／０．８８      （１）式
ここで、ｇ値は、分光光度計（パーキンエルマー製ＬＡＭＢＤＡ９５０）による測定から算出した。
【０１８３】
（可視光透過率Ｔｖ）
可視光透過率Ｔｖは、前述のように、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠し、分光光度計（パーキンエルマー製ＬＡＭＢＤＡ９５０）による測定から算出した。
【０１８４】
（ヘイズ率）
各ガラス部材のヘイズ率は、ヘイズメータ（スガ試験機製ＨＺ−２）を用いて測定した。
【０１８５】
（シート抵抗上昇率）
前述のように、シート抵抗上昇率は、（熱処理後のサンプルのシート抵抗−熱処理前のサンプルのシート抵抗）／（熱処理前のサンプルのシート抵抗）×１００で表される。
【０１８６】
なお、熱処理は、各ガラス部材から、サンプルを１０ｍｍ角に切り出し、このサンプルを使用して行った。熱処理は、各サンプルを大気雰囲気下、６７０℃で７分３０秒保持することにより実施した。
【０１８７】
シート抵抗の測定には、三菱化学アナリテック製ロレスタＭＣＰ−Ｔ３６０を使用した。
【０１８８】
各ガラス部材において得られた評価結果を、まとめて表２に示した。
【０１８９】
【表２】
2017122012.tif 000004
得られた評価結果から、例１〜例６および例８に係るガラス部材では、ＳＣ値がいずれも０．９以下となっており、良好な遮熱性を有することがわかった。また、例１〜例６および例８に係るガラス部材では、可視光透過率Ｔｖがいずれも７８％以上となっており、良好な透過性を有することがわかった。また、また、例１〜例６および例８に係るガラス部材では、ヘイズ率がいずれも１０％以上となっており、良好な光拡散性を有することがわかった。さらに、例１〜例６、例８および例１０に係るガラス部材では、シート抵抗上昇率がいずれも２０％以下となっており、良好な耐熱性を有することがわかった。
【０１９０】
これに対して、例７および例９に係るガラス部材では、ＳＣ値、可視光透過率、ヘイズ率、およびシート抵抗上昇率の少なくとも一つが所定の値を満たしていなかった。このことから、例７および例９に係るガラス部材は、例１〜例６および例８に係るガラス部材に比べて、ガラスハウスへの適用性があまり良好ではないと言える。
【符号の説明】
【０１９１】
１００                              第１のガラス部材
１０２、２０２、３０２、４０２      第１の側
１０４、２０４、３０４、４０４      第２の側
１０８、２０８、３０８、４０８      光
１１０、２１０、３１０、４１０      ガラス基板
１１２、２１２、３１２、４１２      第１の表面
１１４、２１４、３１４、４１４      第２の表面
１２０、２２０                      アンダーコート層
１３０                              遮熱層
１８０、２８０、３８０、４８０      防汚層
２００                              第２のガラス部材
２３０、３３０、４３０              第１の遮熱層
２４０、３４０、４４０              第２の遮熱層
３００                              第３のガラス部材
３２０、４２０                      第２のアンダーコート層
３５０、４５０                      第１のアンダーコート層
４００                              第４のガラス部材
４８０                              防汚層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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