(57)【要約】【課題】歩留まり良く、安定的に動作し、様々なディスプレイ設計に対応する汎用性を備えた電極付きカラーフィルタ基板、これを用いた表示装置、およびこれらの製造方法を提供する。【解決手段】第１の透明基板と、第１の基板と対向配置された第２の透明基板とを具備する電極付きカラーフィルタ基板であって、第１の透明基板は、表面に互いに平行な複数本の第１の電極と、裏面に第１の電極と直交する方向であって、かつ互いに平行な複数本の第２の電極とを有し、第２の電極の端部側には、第１の透明基板を貫通する貫通孔が設けられ、貫通孔に金属材料を付着させることにより第１の透明基板の表面と裏面とを導通させるとともに、第２の透明基板には、第１の透明基板と反対面にカラーフィルタが形成されていることを特徴とする。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の透明基板と、前記第１の基板と対向配置された第２の透明基板とを具備し、
前記第１の透明基板は、表面に互いに平行な複数本の第１の電極と、裏面に前記第１の電極と直交する方向であって、かつ互いに平行な複数本の第２の電極とを有し、
第２の電極の端部側には、前記第１の透明基板を貫通する貫通孔が設けられ、前記貫通孔に金属材料を付着させることにより前記第１の透明基板の表面と裏面とを導通させるとともに、
前記第２の透明基板には、前記第１の透明基板と反対面にカラーフィルタが形成されていることを特徴とする、電極付きカラーフィルタ基板。
【請求項２】
前記透明基板は、ガラスおよび有機樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の材料を含むことを特徴とする、請求項１に記載の電極付きカラーフィルタ基板。
【請求項３】
前記金属材料は、金、銀、銅、アルミニウム、鉄、インジウム、チタンおよびモリブデンからなる群から選択される１種または複数の元素を含む金属材料で形成されていることを特徴とする、請求項１に記載の電極付きカラーフィルタ基板。
【請求項４】
前記第１の電極および前記第２の電極は、タッチ位置を検出するタッチセンサとして用いることを特徴する、請求項１に記載の電極付きカラーフィルタ基板。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載の電極付きカラーフィルタ基板と、液晶素子およびＥＬ素子からなる群から選択される表示素子とを含むことを特徴とする、表示装置。
【請求項６】
第１の透明基板に貫通孔を設ける工程と、
前記第１の基板の両面に金属材料を積層する工程と、
前記貫通孔に金属材料を付着する工程と、
第２の基板にカラーフィルタを形成する工程と、
前記第１の基板と前記第２の基板とを接着する工程とを含むことを特徴とする、電極付きカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項７】
前記透明基板は、ガラスおよび有機樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の材料を含むことを特徴とする、請求項６に記載の電極付きカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項８】
前記金属材料は、金、銀、銅、アルミニウム、鉄およびインジウムからなる群から選択される１種または複数の元素を含む金属材料で形成されていることを特徴とする、請求項６に記載の電極付きカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項９】
前記第１の電極および前記第２の電極は、タッチ位置を検出するタッチセンサとして用いることを特徴する、請求項６に記載の電極付きカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１０】
請求項６から９のいずれかに記載の方法により電極付きカラーフィルタ基板を製造する工程と、前記電極付きカラーフィルタ基板に液晶素子およびＥＬ素子からなる群から選択される表示素子を取り付ける工程とを含むことを特徴とする、表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電極付きカラーフィルタ基板、これを用いた表示装置、及びこれらの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、様々な電子機器のディスプレイ上に、入力デバイスとして透明なタッチパネルが用いられている。タッチパネルの方式としては、抵抗膜式、静電容量式などが挙げられる。抵抗膜式では上下の電極が接触することでタッチ位置を検出する。また、静電容量式では指先などが触れた際の表面の静電容量の変化でタッチ位置を検出する。
【０００３】
静電容量式タッチパネルのセンサーはＰＥＴフィルムなどの樹脂基板やガラス基板に電極パターンとして作製し、ディスプレイ構造の外側に配置されるアウトセル構造が一般的に用いられている（例えば、特許文献１）。
【０００４】
一方、近年ではタッチセンサをディスプレイ構造に組み込むインセル構造やオンセル構造が採用され始めており、タッチセンサ付きディスプレイをより薄型・軽量化する取り組みがなされている（例えば、特許文献２、特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−１７８７５８号公報
【特許文献２】特開２００９−２４４９５８号公報
【特許文献３】特開２００９−２１１７０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、インセル構造は、ディプレイ表示の駆動回路であるＴＦＴ基板にタッチセンサの回路を組み込む必要があり、従来から設計やプロセスの煩雑さとそれに伴う良品収率の悪化を伴うことが指摘されていた。また、オンセル構造は、特に液晶ディスプレイの場合、液晶を封入したセルの状態でタッチセンサを形成するため、熱などのプロセス条件による液晶へのダメージを考慮したプロセス設計に課題があった。また、オンセル構造においては、透明基板に電極を形成する場合、容量設計の観点から透明基板の両面に電極を形成することが望ましいが、その場合、一方面の配線を他方面に引き回す必要があるという課題がある。
【０００７】
本発明は、歩留まり良く、安定的に動作し、様々なディスプレイ設計に対応する汎用性を備えた電極付きカラーフィルタ基板、これを用いた表示装置、およびこれらの製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る電極付きカラーフィルタ基板は、第１の透明基板と、第１の基板と対向配置された第２の透明基板とを具備し、第１の透明基板は、表面に互いに平行な複数本の第１の電極と、裏面に第１の電極と直交する方向であって、かつ互いに平行な複数本の第２の電極とを有し、第２の電極の端部側には、第１の透明基板を貫通する貫通孔が設けられ、貫通孔に金属材料を付着させることにより第１の透明基板の表面と裏面とを導通させるとともに、第２の透明基板には、第１の透明基板と反対面にカラーフィルタが形成されていることを特徴とする。
【０００９】
また、透明基板は、ガラスおよび有機樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の材料を含むことを特徴としてもよい。
【００１０】
また、金属材料は、金、銀、銅、アルミニウム、鉄、インジウム、チタンおよびモリブデンからなる群から選択される１種または複数の元素を含む金属材料で形成されていることを特徴としてもよい。
【００１１】
また、第１の電極および第２の電極は、タッチ位置を検出するタッチセンサとして用いることを特徴としてもよい。
【００１２】
また、本発明は、上記電極付きカラーフィルタ基板と、液晶素子およびＥＬ素子からなる群から選択される表示素子とを含むことを特徴とする表示装置である。
【００１３】
また、本発明は、電極付きカラーフィルタ基板の製造方法において、第１の透明基板に貫通孔を設ける工程と、第１の基板の両面に金属材料を積層する工程と、貫通孔に金属材料を付着する工程と、第２の基板にカラーフィルタを形成する工程と、第１の基板と第２の基板とを接着する工程とを含む。
【００１４】
また、透明基板は、ガラスおよび有機樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の材料を含むことを特徴としてもよい。
【００１５】
また、金属材料は、金、銀、銅、アルミニウム、鉄およびインジウムからなる群から選択される１種または複数の元素を含む金属材料で形成されていることを特徴としてもよい。
【００１６】
また、第１の電極および第２の電極は、タッチ位置を検出するタッチセンサとして用いることを特徴としてもよい。
【００１７】
また、本発明は、表示装置の製造方法において、上記電極付きカラーフィルタ基板を製造する工程と、電極付きカラーフィルタ基板に液晶素子およびＥＬ素子からなる群から選択される表示素子を取り付ける工程とを含む。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、歩留まり良く、安定的に動作し、様々なディスプレイ設計に対応する汎用性を備えた電極付きカラーフィルタ基板、これを用いた表示装置、およびこれらの製造方法を実現することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】実施形態に係る電極付き透明基板の構成例を示す平面模式図（視認側から見た図）である。
【図２】実施形態に係る電極付き透明基板の構成例を示す平面模式図（反視認側から見た図）である。
【図３】実施形態に係る電極付きカラーフィルタ基板の構成例を示す断面模式図であり、図１の透明基板の切断線Ｉ−Ｉに沿った断面模式図である。
【図４】実施形態に係る電極付きカラーフィルタ基板の構成例を示す断面模式図であり、図１の透明基板の切断線ＩＩ−ＩＩに沿った断面模式図である。
【図５】実施形態に係る表示装置の構成例を示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の実施形態における電極付きカラーフィルタ、これを用いた表示装置及びこれらの製造方法について、その実施の形態を詳細に説明する。なお、本発明の電極付きカラーフィルタ及び表示装置は、その要旨を超えない限り以下の構成に限定されるものではない。
【００２１】
図１および図２は、本発明の実施形態に係る電極付き透明基板１１の構成例を示す平面模式図であり、図１は視認側から見た図であり、図２は反視認側から見た図である。図１および図２に示すように、電極付き透明基板１１は、第１の透明基板１０と、第１の透明基板１０の表面に形成された第１の電極１と、裏面に形成された第２の電極２と、第１の電極１を接続する配線３と、第２の電極２を接続する配線４と、第１の透明基板１０を貫通する貫通孔５と、を備える。
【００２２】
図３および図４は、本発明の実施形態に係る電極付きカラーフィルタ基板の構成例を示す断面模式図であり、図３は、図１の透明基板の切断線Ｉ−Ｉに沿った断面模式図であり、図４は、図１の透明基板の切断線ＩＩ−ＩＩに沿った断面模式図である。図３および図４に示すように、電極付きカラーフィルタ基板１００は、電極付き透明基板１１と、第２の透明基板２０と、カラーフィルタ層３０と、接着層４０とを備える。ここで、「透明」とは、無色透明又は有色透明のことであり、該基板の一面側から他面側へ可視光を透過させる性質のことを意味する。
【００２３】
第１の透明基板１０および第２の透明基板２０は、可視光に対して８０％以上の透過率を有するものを用いることができ、好ましくは９５％以上の透過率を有するものを用いることができる。一般に液晶表示装置に用いられているものでよく、ガラス等の無機透明基板、またはポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、環状オレフィンコポリマー等の透明樹脂基板が使用可能である。これらは１種類で使用しても良いし、２種類以上の材料を組み合わせて使用しても良い。
【００２４】
第１の透明基板１０へ貫通孔５を形成する物理的手段としては、特に限定されないが、例えば、表面に突起を付設したロールで第１の透明基板１０を圧壊することにより効率よく貫通孔５を形成できる。この貫通孔５に後述する金属材料を付着させることで、第１の透明基板１０の表裏面を導通させることができる。
【００２５】
第１の電極１および第２の電極２は、金属材料から形成される。第１の電極１は、第１の透明基板１０の表面においてＸ軸方向（図１及び２の左右方向）に延び、Ｙ軸方向に所定間隔を空けて並べて配列されている。また、第２の電極２は、第１の透明基板１０の裏面において、Ｘ軸方向と直交するＹ軸方向（図１及び２の上下方向）に延び、Ｘ軸方向に所定の間隔を空けて並べて配列されている。第１の透明基板１０に対する電極１および電極２の形成は、金属材料の付着後にパターニングを行うことや印刷法により形成することができる。金属材料の付着は、蒸着法、スパッタ法、塗布法、めっき法などによって第１の透明基板１０の全面に対して金属材料を堆積させ、次いでパターニングを行って不要部分の金属材料を除去することにより実施することができる。必要に応じて、金属材料の堆積は、複数種の金属材料を用いて、積層構造を有する金属膜を形成してもよい。材料としては、金、銀、銅、アルミニウム、鉄、インジウム、チタンおよびモリブデン等の金属材料を好ましく用いることができる。パターニングは、たとえばフォトレジストを用いるフォトリソグラフィー法などの当該技術において知られている任意の手段により実施することができる。第１の電極１及び第２の電極２は、同一の材料を用いて、同時に形成することも可能である。また、貫通孔５の内部には上記金属材料を付着させることで、第１の透明基板１０の表裏面を導通させることができる。
【００２６】
第１の電極１および第２の電極２の幅としては１μｍ以上２０μｍ以下が好ましい。１μｍ以下になると静電気などの過渡電圧が生じた際に断線してしまう不具合が発生しやすくなり、２０μｍ以上であると目視でパターンが見えやすくなるだけでなく、表示領域の透過率が低下するといった問題が発生する。
【００２７】
金属配線３及び金属配線４は、金属材料から形成される。金属配線３及び金属配線４は、第１の電極１及び第２の電極２と同一の材料を用いて、同時に形成することも可能である。これにより電極付き透明基板１１が完成する。図１に示すように、第１の透明基板１０の裏面に設けられた金属配線４は、貫通孔５を通じて第１の透明基板１０の表面に引き回される。
【００２８】
次に、透明基板２０に、カラーフィルタ層３０を形成する。カラーフィルタ層３０は、ブラックマトリクスと、赤、緑及び青色の各色の着色層とを含む層をいう。更にブラックマトリクス及び着色層を覆うように透明電極が形成されていてもよい。着色層は、例えば各色の顔料を分散させた厚み０．５〜３．０μｍのアクリル系樹脂よりなる。ブラックマトリクスは、例えば黒色顔料を分散させた厚み０．５〜３．０μｍのアクリル系樹脂や、厚み１００〜２０００Åの金属膜により形成される。透明電極は、例えば厚み１００〜２０００ÅのＩＴＯよりなる。
【００２９】
次に、電極付き透明基板１１と透明基板２０とを、透明な接着層４０により接着する。これにより電極付きカラーフィルタ基板１００が完成する。
【００３０】
尚、電極付きカラーフィルタ基板１００は、１枚のガラス基板上に複数の画面を面付けしていてもよい。この場合、電極付きカラーフィルタ基板１００に対して、あるいは後述するＴＦＴ基板３００と貼り合せた後に断裁して個片化することで、複数の画面を効率的に製造することができる。個片化の手法としては、ダイヤカッタースクライブ加工、ダイシング加工、ウォータージェット加工、エッチング加工、レーザー加工等が挙げられる。
【００３１】
図５は、本発明の実施形態に係る表示装置の構成を示す断面模式図である。図５に示すように、この表示装置１０００は、電極付きカラーフィルタ基板１００と、電極付きカラーフィルタ基板１００のカラーフィルタ層３０の側に配置されＴＦＴ回路が形成された透明なＴＦＴ基板３００と、電極付きカラーフィルタ基板１００及びＴＦＴ基板３００を両側から挟むように配置された第１の偏光板４００及び第２の偏光板８００と、ＴＦＴ基板３００と電極付きカラーフィルタ基板１００との間に配置された液晶層２００と、バックライト５００と、ＦＰＣ基板６００と、ＦＰＣ基板７００と、カバー９００と、を備える。このような構成であれば、表示品位に優れた表示装置を提供することができる。
【００３２】
液晶層２００は、公知の材料を用いて形成でき、電極付きカラーフィルタ基板１００とＴＦＴ基板３００との間に封入される。この際、電極付きカラーフィルタ基板１００のカラーフィルタ層３０およびＴＦＴ基板３００の表面に対して印刷により配向膜（図示せず）を形成し、ラビング処理を行った後に液晶層２００を封入することで、液晶分子を一定方向に配列することができる。
【００３３】
ＴＦＴ基板３００は、複数の走査線が一定間隔を隔てて形成されている。また、走査線の上には、複数の信号線が一定間隔を隔てて形成されている。走査線と信号線とは、絶縁膜を介して交差するよう配置されている。そして、走査線と信号線との交差点近傍にスイッチング素子である薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が配置される。このＴＦＴを介して、画素電極に信号線から表示信号が供給される。画素電極は、例えば、ＩＴＯなどの透明導電膜から形成されている。液晶表示素子の表示領域は複数の画素により構成されている。表示領域は通常、矩形状に形成される。さらに、表示素子には、表示領域を囲むように設けられた額縁領域が配置される。
【００３４】
次に、第１の透明基板１０の表面の金属配線３および金属配線４上にＦＰＣ基板７００を取り付ける。このとき、例えば、異方性導電フィルム（ＡＣＦ）などを用いて熱圧着することにより、ＦＰＣ基板７００を電極付きカラーフィルタ基板１００の金属配線３および金属配線４に接続する。また、電極付きカラーフィルタ基板１００のカラーフィルタ層３０とＴＦＴ基板３００との間の一部には、ＦＰＣ基板６００を取り付けることで回路と接続する。
【００３５】
偏光板４００および偏光板８００は、シール材を介して貼り合わせられた電極付きカラーフィルタ基板１００およびＴＦＴ基板３００の外面にそれぞれ貼り合わせられている。偏光板４００及び偏光板８００は、それぞれ所定の方向に吸収軸を有している。従って、偏光板４００又は偏光板８００を通過した光は直線偏光になる。
【００３６】
バックライト５００は、偏光板４００の反視認（背面）側に接着材などにより取り付けられている。バックライト５００は、偏光板４００に対して面状の光を照射する。バックライト５００としては、例えば、光源、導光板、プリズムシートなどを備えた一般的な構成のものを用いる。
【００３７】
カバー９００は、偏光板８００上に透明な両面テープなどにより接着する。カバー９００は、ガラスや透明樹脂により形成される。これにより、表示装置１０００が完成する。
【００３８】
尚、上述した実施形態において、表示素子として液晶表示素子を用いた表示装置について説明したが、例えば、表示素子としてＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子を用いてもよい。この場合、例えば、液晶層２００の替わりに発光層として白色発光層を従来公知の方法で形成し、バックライト５００は設けなくてもよいが、この構成に限定されるものではない。
【００３９】
本実施形態の変形例として、電極付き透明基板１１と第２の透明基板２０とを接着する前に、第２の透明基板２０上のカラーフィルタ層３０とＴＦＴ基板３００との間に表示素子を取り付けてもよい。この変形例では、表示素子を組み合わせた第２の透明基板２０とタッチセンサ用電極が形成された電極付き透明基板１１とを貼り合わせる前に、カラーフィルタ基板である第２の透明基板２０とＴＦＴ基板３００とを貼り合わせた状態で、第２の透明基板２０およびＴＦＴ基板３００にスリミング加工を実施することができるという利点を有する。「スリミング加工」とは、基板の膜厚を減少させる工程を意味する。表示素子を組み合わせる前に第２の透明基板２０と電極付き透明基板１１とを接着すると、カラーフィルタ基板である第２の透明基板２０及びＴＦＴ基板３００の両方に対して、スリミング加工が適用できなくなる。
【００４０】
本実施形態に係る電極付きカラーフィルタ基板及びこの製造方法によれば、第２の電極の端部側には、第１の透明基板を貫通する貫通孔が設けられ、貫通孔に金属材料を付着させることにより第１の透明基板の表面と裏面とを導通させることで、第１の透明基板の両面に電極を形成することができる。そのため、本実施形態に係る電極付きカラーフィルタ基板は、電極付き透明基板をカラーフィルタ基板に貼り合せた状態において、互いに直交する方向の金属配線とＦＰＣ基板とを接続して動作させることが可能となる。また、本実施形態に係る電極付きカラーフィルタ基板を用いた表示装置及びこの製造方法によれば、ＴＦＴ基板にタッチセンサの回路を組み込まず、液晶を封入したセルの状態でタッチセンサを形成することもないため、液晶セルの歩留まり良く、安定的に動作する表示装置を製造することが可能となる。
【実施例】
【００４１】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はその趣旨を逸脱しない範囲においてこれに限定されるものではない。
【００４２】
＜実施例１＞
第１の透明基板１０としてＣＯＰ（環状オレフィン樹脂）フィルムを使用した。第１の透明基板１０上に、表面に突起を付設したロールで透明基板１０を圧壊することにより直径１ｍｍの貫通孔５を設けた。その後、第１の透明基板１０の一方面上および貫通孔５に、平均粒径１００ｎｍの銀粒子を主成分とする導電性材料をスクリーン印刷にて塗布し、オーブンにて１２０℃で３０分間乾燥を行った。ネガレジストをスピンコーターにて塗布し、ホットプレートにて１００℃で５分間乾燥を行い、塗膜を乾燥させた。その後、光源として高圧水銀灯を用いて露光量１００ｍＪ／ｃｍ２で、所望する開口部を有するフォトマスクを介して露光を実施した後、１％炭酸ナトリウム水溶液にて、２３℃で６０秒間シャワー現像を実施した。水洗後、硫酸と過酸化水素とを１：１の割合で配合してなるエッチング液を用いてウェットエッチングを行い、３％水酸化ナトリウムのレジスト剥離液を用いてレジスト除去した後、熱風循環式オーブンにて８０℃で５分間加熱処理を実施して第１の電極１および金属配線３を形成した。他方面上にも、第１の電極と直交する方向に形成したこと以外は同様の手順を実施することで第２の電極２および金属配線４を形成し、電極付き透明基板１１を得た。
【００４３】
次に、第２の透明基板２０としてアルミノ珪酸ガラスを使用した。一方面上に、黒色感光性着色組成物をスピンコーターにて塗布し、ホットプレートにて１００℃で５分間乾燥を行い、塗膜を乾燥させた。その後、光源として高圧水銀灯を用いて露光量１００ｍＪ／ｃｍ２で所望する開口部を有するフォトマスクを介して露光を実施した後、０．２質量％の炭酸水素ナトリウム水溶液にて、３０秒間シャワー現像を実施した。水洗後、熱風循環式オーブンにて２３０℃で３０分間加熱処理を実施して、ブラックマトリクスパターンを形成した。その後、感光性着色組成物の種類を変更した以外は同様にして、赤色、緑色、青色パターンを順次形成し、カラーフィルタ層３０を形成した。
【００４４】
次に、電極付き透明基板１１の第２の電極２を設けた面と、第２の透明基板２０のカラーフィルタ層３０を設けていない面とを接着材を用いて貼り合せることで、電極付きカラーフィルタ基板１００を得た。
【００４５】
続いて、電極付きカラーフィルタ基板１００のカラーフィルタ層３０およびＴＦＴ回路が形成されたＴＦＴ基板３００の表面に対して印刷により配向膜を形成した後、ラビング処理を行った。その後、電極付きカラーフィルタ基板１００とＴＦＴ基板３００とをシール材により貼り合せ、これらの隙間に液晶材料を注入して液晶層２００を形成した。さらに、フレキシブルプリント回路（ＦＰＣ）であるＦＰＣ７００の端子と、金属配線３および金属配線４の端部とを電気的に接続して、タッチセンサ駆動のための回路を接続した。また、電極付きカラーフィルタ基板１００のカラーフィルタ層３０とＴＦＴ基板３００の端部においても、ＦＰＣ６００を基板に取り付けて表示装置駆動のための回路を接続した。続いて、電極付きカラーフィルタ基板１００の電極付き透明基板１１に偏光板８００を、ＴＦＴ基板３００の面に偏光板４００を、それぞれ接着材を用いて貼り付けた。その後、偏光板４００の反視認（背面）側にバックライト５００を取り付け、偏光板８００の上にカバー９００としてアルミノ珪酸ガラスを接着材を用いて貼り合せた。以上を持って表示装置１０００を得た。
【００４６】
＜実施例２＞
第１の透明基板１０の表裏面に無電解めっきにて銅を形成し、第１の電極１、第２の電極２、金属配線３、および金属配線４を同時に形成した以外は、実施例１と同様の方法により、実施例２に係る電極付きカラーフィルタ基板１００および表示装置１０００を作製した。具体的には、第１の透明基板１０としてＣＯＰフィルムを使用した。第１の透明基板１０上に、実施例１と同様の手順で直径１ｍｍの貫通孔を設けた後、表裏面に無電解めっきにて銅を形成した。ネガレジストをスピンコーターにて塗布し、ホットプレートにて１００℃で５分間乾燥を行い、塗膜を乾燥させた。その後、光源として高圧水銀灯を用いて露光量１００ｍＪ／ｃｍ２で、所望する開口部を有するフォトマスクを介して露光を実施した後、１％炭酸ナトリウム水溶液にて、２３℃で６０秒間シャワー現像を実施した。水洗後、硫酸と過酸化水素とを１：１の割合で配合してなるエッチング液を用いてウェットエッチングを行い、３％水酸化ナトリウムのレジスト剥離液を用いてレジスト除去した後、熱風循環式オーブンにて８０℃で５分間加熱処理を実施して第１の電極１、第２の電極２、金属配線３、および金属配線４を形成し、電極付き透明基板１１を得た。その後、実施例１と同様の手順により、電極付きカラーフィルタ基板１００および表示装置１０００を得た。
【００４７】
＜実施例３＞
電極付き透明基板１１とカラーフィルタ層３０が形成された第２の透明基板２０とを貼り合わせた後に、これらとＴＦＴ基板とを貼り合わせ液晶層２００を形成したことに替えて、カラーフィルタ層３０が形成された第２の透明基板２０とＴＦＴ基板３００とを貼り合わせ、液晶層２００を形成した後に、電極付き透明基板１１と第２の透明基板２０とを貼り合わせたこと以外は、実施例１と同様の方法により、実施例３に係る表示装置１０００を作製した。具体的には、第１の透明基板１０としてＣＯＰフィルムを使用した。実施例１と同様の手順で、電極付き透明基板１１を得た。第２の透明基板２０としてアルミノ珪酸ガラスを使用した。実施例１と同様の手順で、カラーフィルタ層３０を形成した。続いて、カラーフィルタ層３０の面に、ＴＦＴ回路が形成されたＴＦＴ基板３００をシール材により貼り合せ、上記隙間に液晶材料を注入して液晶層２００を形成した。その後、電極付き透明基板１１の第２の電極２を設けた面と、第２の透明基板２０のカラーフィルタ層３０を設けていない面とを接着材を用いて貼り合せた。その後は実施例１と同様の手順で表示装置１０００を得た。
【００４８】
＜実施例４＞
第１の透明基板１０の表裏面に無電解めっきにて銅を形成し、第１の電極１、第２の電極２、金属配線３、および金属配線４を同時に形成したこと、及びカラーフィルタ層３０が形成された第２の透明基板２０とＴＦＴ基板３００とを貼り合わせ、液晶層２００を形成した後に、電極付き透明基板１１と第２の透明基板２０とを貼り合わせたこと以外は、実施例１と同様の方法により、実施例４に係る表示装置１０００を作製した。具体的には、第１の透明基板１０としてＣＯＰフィルムを使用した。実施例２と同様の手順で、電極付き透明基板１１を得た。その後は実施例３と同様の手順で表示装置１０００を得た。
【００４９】
＜実施例の効果＞
上記実施例１〜４により作製した表示装置１０００は、不良部分を含まず、表示機能およびタッチ位置検出機能は正常であった。
【００５０】
本発明は、ＴＦＴ基板にタッチセンサの回路を組み込まず、また液晶を封入したセルの状態でタッチセンサを形成することがないため、液晶セルの歩留まり良く表示装置を製造することができる。さらに透明基板に貫通孔を設け、貫通孔に付着した導電材料を介して透明基板の表裏面を導通させる構成のため、電極付き透明基板をカラーフィルタ基板に貼り合せた状態でも、Ｘ軸方向およびＹ軸方向の２方向の配線とＦＰＣ基板を接続して動作させることができる。
【産業上の利用可能性】
【００５１】
本発明に係る電極付きカラーフィルタ基板、これを用いた表示装置、及びこれらの製造方法は、タッチセンサ付きディスプレイなどに好適に利用できる。
【符号の説明】
【００５２】
１  第１の電極
２  第２の電極
３  第１の電極の金属配線
４  第２の電極の金属配線
５  貫通孔
１０  第１の透明基板
１１  電極付き透明基板
２０  第２の透明基板
３０  カラーフィルタ層
４０  接着層
１００  電極付きカラーフィルタ基板
２００  液晶層
３００  ＴＦＴ基板
４００  偏光板
５００  バックライト
６００  ＦＰＣ基板
７００  ＦＰＣ基板
８００  偏光板
９００  カバー
１０００  表示装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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