(57)【要約】【課題】従来に比して汎用性の高い種々の透明フィルム材を使用して作製することができ、さらに全体の厚みを一段と薄くする。【解決手段】透明フィルム材による基材２２Ａに第１及び第２の電極２２Ｂ及び２２Ｅを配置してなる第１の積層体２２と、透明フィルム材による基材２３Ａを備え、第１の積層体２２に対応する第２の積層体２３と、第１及び第２の積層体２２及び２３により挟持された液晶層２４とを備え、第１及び第２の電極２２Ｂ及び２２Ｅ間の電界により液晶層２４の液晶分子の配向を制御して透過光を制御し、第１の積層体２２の基材２２Ａより液晶層２４側、及び第２の積層体２３の基材２３Ａより液晶層２４側に、それぞれＥ型直線偏光板に係る偏光子層２２Ｄ、２３Ｂを備える調光フィルム。【選択図】図２
2017122808.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明フィルム材による基材に第１及び第２の電極を配置してなる第１の積層体と、
透明フィルム材による基材を備え、前記第１の積層体に対応する第２の積層体と、
前記第１及び第２の積層体により挟持された液晶層とを備え、
前記第１及び第２の電極間の電界により前記液晶層の液晶分子の配向を制御して透過光を制御し、
前記第１の積層体の前記基材より前記液晶層側、及び前記第２の積層体の前記基材より前記液晶層側に、それぞれＥ型直線偏光板に係る偏光子層を備える
調光フィルム。
【請求項２】
前記第１の積層体は、
前記基材の全面に前記第１の電極が設けられ、絶縁層を間に挟んで、前記第２の電極による線状電極が設けられ、さらに配向層が設けられ、
前記絶縁層と前記第２の電極との間、又は前記絶縁層と前記第１の電極との間に、前記偏光子層が設けられた
請求項１に記載の調光フィルム。
【請求項３】
前記第１の積層体は、
前記基材の全面に前記第１の電極が設けられ、絶縁層を間に挟んで、前記第２の電極による線状電極が設けられ、さらに配向層が設けられ、
前記絶縁層が前記偏光子層である
請求項１に記載の調光フィルム。
【請求項４】
前記第１の積層体は、
前記基材の全面に前記第１の電極が設けられ、絶縁層を間に挟んで、前記第２の電極による線状電極が設けられ、さらに配向層が設けられ、
前記線状電極と前記配向層との間に前記偏光子層が設けられた
請求項１に記載の調光フィルム。
【請求項５】
前記第１の積層体は、
前記基材の全面に前記第１の電極が設けられ、絶縁層を間に挟んで、前記第２の電極による線状電極が設けられ、さらに配向層が設けられ、
前記配向層が前記偏光子層である
請求項１に記載の調光フィルム。
【請求項６】
前記第１の積層体は、
前記基材の全面に前記第１の電極が設けられ、絶縁層を間に挟んで、前記第２の電極による線状電極が設けられ、さらに配向層が設けられ、
前記第１の電極と前記基材との間に、前記偏光子層が設けられた
請求項１に記載の調光フィルム。
【請求項７】
透明フィルム材による基材に第１及び第２の電極を配置して第１の積層体を作製する第１の積層体作製工程と、
透明フィルム材による基材を備えた前記第１の積層体に対応する第２の積層体を作製する第２の積層体作製工程と、
液晶層を間に挟んで前記第１及び第２の積層体を積層する積層工程とを備え、
前記第１の積層体作製工程は、
前記第１の積層体の前記基材より前記液晶層側に、Ｅ型直線偏光板に係る偏光子層を作製する偏光子層作製工程を備え、
前記第２の積層体作製工程は、
前記第２の積層体の前記基材より前記液晶層側に、Ｅ型直線偏光板に係る偏光子層を作製する偏光子層作製工程を備える
調光フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、乗用車の窓等に貼り付けて外来光の透過を制御する調光フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば窓に貼り付けて外来光の透過を制御する調光フィルムに関する工夫が種々に提案されている（特許文献１、２）。このような調光フィルムの１つに、液晶を利用したものがある。この液晶を利用した調光フィルムは、透明電極を作製した透明フィルム材により液晶材料を挟持して液晶セルが作製され、この液晶セルを直線偏光板により挟持して作成される。これによりこの調光フィルムでは、液晶に印加する電界の可変により液晶の配向を可変して外来光を遮光したり透過したりし、さらには透過光量を可変したりし、これらにより外来光の透過を制御する。
【０００３】
このような調光フィルムでは、可撓性を有する透明フィルム材を使用して液晶セルを構成するものの、透過光の偏光面の制御により透過光量を制御することにより、この透明フィルム材には光学異方性の小さなフィルムが適用される。またこの液晶セルを挟持する直線偏光板は、クロスニコル又はパラレルニコルにより配置されるものの、これらの配置においては正面方向については充分に透過光を遮光できるものの、斜め方向については、透過光を充分に遮光できない。これにより調光フィルムでは必要に応じて光学補償に供する補償フィルムを配置することが考えられる。
【０００４】
この液晶セルの駆動には、液晶表示パネルについて提案されている種々の駆動方法を適用することができる。具体的には、例えばＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｃｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＶＡ（Ｖｉｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式等の駆動方式を適用することができる。しかしながら調光フィルムでは、例えば窓ガラスに貼り付けて種々の方向より見て取られる特長がある。これにより視野角依存性の少ないＩＰＳ方式により駆動することが好ましいと考えられる。
【０００５】
またＩＰＳ方式のうちの、ＦＦＳ（フリンジフィールドスイッチング）方式によれば、透過率を高くすることができ、これによりこの種の調光フィルムにおける液晶セルの駆動に適用して好ましいと考えられる。ここでＩＰＳ方式は、液晶層を挟持する１対の基材のうちの一方の基材に駆動用の透明電極をまとめて作製する構成である。ＦＦＳ方式では、この一方の基材の全面に、透明電極を作製した後、絶縁層を間に挟んで一定のピッチにより線状電極を作製し、この全面の透明電極と線状電極との間で発生する基材表面の面内方向の電界であるいわゆる横電界により液晶の配向を制御する。
【０００６】
このＦＦＳ方式による液晶表示装置に関して、特許文献３には、通常の直線偏光板であるＯ型の直線偏光板にＥ型の直線偏光板を積層して液晶セルの出射面に配置することにより、斜め方向から観察する際の特性を向上する工夫が提案されている。また特許文献４等には、Ｅ型直線偏光板の構成が開示されている。
【０００７】
ところで調光フィルムは、汎用性の高い透明フィルム材を使用して作製できることが望まれ、さらには全体の厚みを薄くすることが望まれる。
【０００８】
ここで従来構成の調光フィルムは、液晶層が５μｍ程度により形成され、この液晶層を挟持するように厚み１００μｍ程度の透明フィルム材に透明電極等を作製して配置される。また直緯線偏光板は、直線偏光板としての光学的機能を担う光学機能層を厚み数十μｍの透明フィルム材により挟持して作製され、光学補償に供する補償フィルムは、厚み数十μｍのＣプレートが適用される。調光フィルムでは、これらの部材を厚み２０μｍ程度の粘着剤層により順次積層して作製される。これらにより調光フィルムは、従来構成により斜め方向の透過光を充分に遮光できるようにする場合、厚み５００μｍ以上により作製されることになり、可撓性すら十分に確保することが困難になる。これにより厚みに関して、従来の調光フィルムは、実用上未だ不充分な問題がある。
【０００９】
また直線偏光板の間に配置されて液晶層を挟持する透明フィルム材は、液晶層で制御された透過光の偏光面を損なわないようにして直線偏光板に入射することが必要であることにより、光学異方性の小さな透明フィルム材を適用することが必要であり、汎用性の高いＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム等を適用することができない。これにより汎用性の高い材料を使用することに関して実用上未だ不充分な問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開平０３−４７３９２号公報
【特許文献２】特開平０８−１８４２７３号公報
【特許文献３】特開２０１１−５９２６６号公報
【特許文献４】特表平８−５１１１０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、従来に比して汎用性の高い種々の透明フィルム材を使用して作製することができ、さらに全体の厚みを一段と薄くすることができるようにする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、液晶セルに係る透明フィルム材の内側に、Ｅ型直線偏光板に係る偏光子層を設ける、との着想に至り、本発明を完成するに至った。
【００１３】
具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。
【００１４】
（１）  透明フィルム材による基材に第１及び第２の電極を配置してなる第１の積層体と、
透明フィルム材による基材を備え、前記第１の積層体に対応する第２の積層体と、
前記第１及び第２の積層体により挟持された液晶層とを備え、
前記第１及び第２の電極間の電界により前記液晶層の液晶分子の配向を制御して透過光を制御し、
前記第１の積層体の前記基材より前記液晶層側、及び前記第２の積層体の前記基材より前記液晶層側に、それぞれＥ型直線偏光板に係る偏光子層を備える調光フィルム。
【００１５】
（１）によれば、視野角特性に優れたＩＰＳ方式により駆動して、さらにはＦＦＳ方式により駆動して、直線偏光板として機能する偏光子層が基材より液晶層側に設けられていることにより、基材で透過光が種々に偏光しても、液晶層の透過光には何ら偏光面に影響を与えることが無いようすることができ、これにより基材には例えばＰＥＴフィルム等の光学異方性の大きなフィルム材を適用することも可能となり、これにより汎用性の高い透明フィルム材を使用することができる。またこのようなＥ型直線偏光板に係る偏光子層を適用することにより、斜め方向の透過光を充分に遮光でき、これにより補償フィルムを省略して全体の厚みを薄くすることができる。またこのようなＥ型直線偏光板に係る偏光子層は、塗工膜により液晶セルの内側に設けることができ、直線偏光板に係る構成を省略することができ、一段と厚みを薄くすることができる。
【００１６】
（２）  （１）において、
前記第１の積層体は、
前記基材の全面に前記第１の電極が設けられ、絶縁層を間に挟んで、前記第２の電極による線状電極が設けられ、さらに配向層が設けられ、
前記絶縁層と前記第２の電極との間、又は前記絶縁層と前記第１の電極との間に、前記偏光子層が設けられた調光フィルム。
【００１７】
（２）によれば、ＦＦＳ方式において、絶縁層と第２の電極との間、又は絶縁層と第１の電極との間に、偏光子層を設けることにより、偏光子層により絶縁層の機能を補って絶縁層の厚みを薄くすることができ、一段と全体の厚みを薄くすることができる。
【００１８】
（３）  （１）において、
前記第１の積層体は、
前記基材の全面に前記第１の電極が設けられ、絶縁層を間に挟んで、前記第２の電極による線状電極が設けられ、さらに配向層が設けられ、
前記絶縁層が前記偏光子層である調光フィルム。
【００１９】
（３）によれば、ＦＦＳ方式において、偏光子層を絶縁層として機能させるようにして、絶縁層を省略できることにより、全体構成を簡略化し、製造工程を簡略化することができる。
【００２０】
（４）  （１）において、
前記第１の積層体は、
前記基材の全面に前記第１の電極が設けられ、絶縁層を間に挟んで、前記第２の電極による線状電極が設けられ、さらに配向層が設けられ、
前記線状電極と前記配向層との間に前記偏光子層が設けられた調光フィルム。
【００２１】
（４）によれば、ＦＦＳ方式において、線状電極を偏光子層により覆うように構成することができることにより、偏光子層により線状電極を保護して信頼性を向上することができる。
【００２２】
（５）  （１）において、
前記第１の積層体は、
前記基材の全面に前記第１の電極が設けられ、絶縁層を間に挟んで、前記第２の電極による線状電極が設けられ、さらに配向層が設けられ、
前記配向層が前記偏光子層である調光フィルム。
【００２３】
（５）によれば、ＦＦＳ方式において、偏光子層の配向規制力を有効に利用して配向層を構成することにより、全体構成を簡略化し、工程を簡略化することができる。
【００２４】
（６）  （１）において、
前記第１の積層体は、
前記基材の全面に前記第１の電極が設けられ、絶縁層を間に挟んで、前記第２の電極による線状電極が設けられ、さらに配向層が設けられ、
前記第１の電極と前記基材との間に、前記偏光子層が設けられた調光フィルム。
【００２５】
（６）によれば、ＦＦＳ方式において、偏光子層に係る材料の配向に、種々の手法を適用することができ、生産性を向上することができる。
【００２６】
（７）  透明フィルム材による基材に第１及び第２の電極を配置して第１の積層体を作製する第１の積層体作製工程と、
透明フィルム材による基材を備えた前記第１の積層体に対応する第２の積層体を作製する第２の積層体作製工程と、
液晶層を間に挟んで前記第１及び第２の積層体を積層する積層工程とを備え、
前記第１の積層体作製工程は、
前記第１の積層体の前記基材より前記液晶層側に、Ｅ型直線偏光板に係る偏光子層を作製する偏光子層作製工程を備え、
前記第２の積層体作製工程は、
前記第２の積層体の前記基材より前記液晶層側に、Ｅ型直線偏光板に係る偏光子層を作製する偏光子層作製工程を備える調光フィルムの製造方法。
【００２７】
（７）によれば、視野角特性に優れたＩＰＳ方式により駆動して、さらにはＦＦＳ方式により駆動して、直線偏光板として機能する偏光子層が基材より液晶層側に設けられていることにより、基材で透過光が種々に偏光しても、液晶層の透過光には何ら偏光面に影響を与えることが無いようすることができ、これにより基材には例えばＰＥＴフィルム等の光学異方性の大きなフィルム材を適用することもでき、これにより汎用性の高い透明フィルム材を使用することができる。またこのようなＥ型直線偏光板に係る偏光子層を適用することにより、斜め方向の透過光を充分に遮光することができ、これにより補償フィルムを省略して全体の厚みを薄くすることができる。またこのようなＥ型直線偏光板に係る偏光子層は、塗工膜により液晶セルの内側に設けることができ、直線偏光板に係る構成を省略することができ、一段と厚みを薄くすることができる。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、従来に比して汎用性の高い種々の透明フィルム材を使用して作製することができ、さらに全体の厚みを一段と薄くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明に係る調光フィルム基本構成の説明に供する断面図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。
【図３】図２の調光フィルムの製造工程を示すフローチャートである。
【図４】図３の製造工程における上側積層体作製工程を示すフローチャートである。
【図５】図３の製造工程における下側積層体作製工程を示すフローチャートである。
【図６】本発明の第２実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。
【図７】本発明の第３実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。
【図８】本発明の第４実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。
【図９】本発明の第５実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。
【図１０】本発明の第６実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。
【図１１】本発明の第７実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。
【図１２】本発明の第８実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。
【図１３】本発明の第９実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。
【図１４】本発明の第１０実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。
【図１５】本発明の第１１実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
〔第１実施形態〕
〔基本構成〕
図１は、本発明に係る調光フィルムの基本構成の説明に供する断面図である。調光フィルム１０は、第１及び第２のフィルム状の積層体である下側積層体１２及び上側積層体１３により液晶層１４を挟持して構成される。下側積層体１２は、ハードコート層１２Ａ、ハードコート層１２Ｃを備えてなる透明フィルム材による基材１２Ｂに透明電極１２Ｄが設けられ、さらに偏光子層１２Ｅが設けられる。また上側積層体１３は、ハードコート層１３Ａ、ハードコート層１３Ｃを備えてなる透明フィルム材による基材１３Ｂに透明電極１３Ｄが設けられ、さらに偏光子層１３Ｅが設けられる。なお上側積層体１３において、偏光子層１３Ｅの液晶層１４側には配向層１３Ｆが設けられる。また下側積層体１２においては、液晶層１４に接するように配向層が設けられるものの、この配向層は偏光子層１２Ｅにより兼用する場合もある。
【００３１】
ここでハードコート層１２Ａ、１２Ｃは、厚み１０μｍ、５μｍ程度により作製される。またハードコート層１３Ａ、１３Ｃは、厚み１μｍ、厚み５μｍ程度により作製される。基材１２Ｂ、１３Ｂは、光学異方性の大きな汎用性の高いフィルム材が適用され、例えば厚み１００μｍのＰＥＴフィルムが適用される。また透明電極１２Ｄ、１３Ｄは、厚み５０ｎｍによるＩＴＯにより形成される。
【００３２】
偏光子層１２Ｅ、１３Ｅは、Ｅ型の直線偏光板として機能する光学機能層である。これによりこの実施形態では、全体の厚みを薄くし、さらには基材１２Ｂ、１３Ｂに汎用性の高い種々のフィルム材を適用できるように構成される。
【００３３】
すなわち従来構成の調光フィルムにおいて、直線偏光板に入射光する液晶層の透過光は、液晶層で制御された偏光面を損なわないようにすることが必要であることにより、光学異方性の小さな透明フィルム材を使用することが必要であり、汎用性の高いフィルム材を適用することが難しい。しかしながらこの実施形態のように、直線偏光板として機能する偏光子層１２Ｅ、１３Ｅを基材１２Ｂ、１３Ｂの液晶層１４側に設ける場合にあっては、基材１２Ｂ、１３Ｂで透過光が種々に偏光しても、液晶層１４の透過光には何ら偏光面に影響を与えることが無いようすることができ、これにより基材１２Ｂ、１３Ｂには例えばＰＥＴフィルム等の光学異方性の大きなフィルム材を適用することも可能であり、これにより汎用性の高い透明フィルム材を使用することができる。
【００３４】
またＥ型直線偏光板に係る偏光子層１２Ｅ、１３Ｅを適用することにより、斜め方向の透過光を充分に遮光でき、これにより補償フィルムを設けないようにして全体の厚みを薄くすることができる。
【００３５】
またこのようなＥ型直線偏光板に係る偏光子層１２Ｅ、１３Ｅは、塗工膜により液晶セルの内側に設けることができ、これにより基材１２Ｂ、１３Ｂの液晶層１４側に設けるようにして、直線偏光板に係る構成を省略することができ、一段と厚みを薄くすることができる。実際上、この図１に示すように偏光子層１２Ｅ、１３Ｅを配置する場合、Ｅ型直線偏光板に係る偏光子層１２Ｅ、１３Ｅの厚みが１μｍ程度であることにより、調光フィルム１０全体として厚みを２２５μｍ程度とすることができ、これにより従来に比して格段的に厚みを薄くすることができる。
【００３６】
〔第１実施形態の具体的構成〕
図２は、本発明の第１実施形態に係る調光フィルムの具体的構成を示す断面図である。この調光フィルム２０は、フィルム形状により形成される。この調光フィルム２０は、液晶を利用して透過光を制御する調光フィルムであり、それぞれフィルム形状の第１及び第２の積層体である下側積層体２２及び上側積層体２３により液晶層２４を挟持して形成される。ここで調光フィルム２０は、ＦＦＳ方式により液晶層２４に係る液晶分子の配向を制御する横電界方式の液晶セルであり、これにより図１について便宜上説明した構成とは異なり、下側積層体２２側に透明電極がまとめて配置される。
【００３７】
すなわち調光フィルム２０において、下側積層体２２は、両面にハードコート層を備えてなる透明フィルム材による基材２２Ａの全面に、第１の電極である透明電極２２Ｂが形成される。ここでこの基材２２Ａには、例えばＰＥＴフィルムが適用される。また絶縁層２２Ｃ、偏光子層２２Ｄが順次配置された後、第２の電極である線状電極２２Ｅが配置され、さらに配向層２２Ｆが形成される。これにより調光フィルム２０は、全面に形成された透明電極２２Ｂと線状電極２２Ｅとの間の電界により、基材２２Ａの面内方向の電界であるいわゆる横電界を作製してＦＦＳ方式により液晶層２４の液晶分子を駆動する。
【００３８】
下側積層体２２は、線状電極２２Ｅを作製した後、フォトレジストにより柱形状にスペーサー２５が作製され、このスペーサー２５により液晶層２４の厚みであるセルギャップが保持される。下側積層体２２は、さらに配向層２２Ｆが作製される。
【００３９】
上側積層体２３は、両面にハードコート層を備えてなる透明フィルム材による基材２３Ａに、偏光子層２３Ｂ、配向層２３Ｃが順次作製される。ここで偏光子層２２Ｄ、２３Ｂは、クロスニコル配置により設けられる。
【００４０】
ここで透明電極２２Ｂ、線状電極２２Ｅには、ＩＴＯが適用される。絶縁層２２Ｃは、この種の液晶セルに適用される有機材料、無機材料による各種絶縁材料を広く適用することができ、この実施形態では有機材料による絶縁材料が適用される。偏光子層２２Ｄ、２３Ｂは、Ｅ型直線偏光板に係る偏光子層に適用可能な各種の構成を適用することができ、例えば特表平８−５１１１０９号公報に開示の構成を適用することができ、より具体的には、垂直方向に光学異方性を発現する２色性有機色素の塗工膜により形成される。配向層２２Ｆ、２３Ｃは、光配向層が適用されるものの、ラビング処理による配向層、微細なライン状凹凸形状を賦型処理により作製する配向層等、種々の構成を適用することができる。
【００４１】
なお調光フィルム２０は、液晶層２４を囲む枠形状によりシール剤が配置され、このシール剤により液晶層２４に係る液晶の漏出が防止され、さらには上側積層体２３及び下側積層体２２が一体に保持される。ここでシール剤は、液晶の漏出を防止すると共に、上側積層体２３及び下側積層体２２を一体に保持可能な種々の材料を適用することができるものの、この実施形態では、例えばエポキシ樹脂による熱硬化型樹脂やアクリル樹脂による紫外線硬化樹脂、熱及び紫外線で硬化する硬化樹脂等が適用される。
【００４２】
〔製造工程〕
図３は、調光フィルム２０の製造工程の説明に供するフローチャートである。調光フィルムの製造工程は、上側積層体作製工程ＳＰ２及び下側積層体作製工程ＳＰ３において、それぞれ上側積層体２３及び下側積層体２２が作製される。また積層工程ＳＰ４において、液晶層２４を間に挟んで、上側積層体２３及び下側積層体２２を積層した後、シール剤により一体化して調光フィルム２０が作製される。
【００４３】
図４は、上側積層体作製工程ＳＰ２を詳細に示すフローチャートである。この上側積層体作製工程ＳＰ２（ＳＰ１１）においては、偏光子層作製工程ＳＰ１２において、基材２３Ａに偏光子層２３Ｂの塗工液を塗工した後、乾燥し、これにより偏光子層２３Ｂが作製される。また偏光子層作製工程は、この塗工液の塗工時、又は塗工膜を作製した後、ブレード等により塗工膜を引き伸ばして塗工膜にせん断力を付与し、これによりこの引き伸ばした方向に偏光子層２３Ｂに係る色素を配向させ、これにより直線偏光板として機能するように偏光子層２３Ｂを作製する。続いてこの製造工程は、配向層作製工程ＳＰ１３において、配向層２３Ｃに係る塗工液を塗工して乾燥させ、続いて直線偏光による紫外線の照射により硬化することにより、配向層２４Ｃを作製する。
【００４４】
図５は、下側積層体作製工程ＳＰ３を詳細に示すフローチャートである。この下側積層体作製工程ＳＰ３（ＳＰ２１）においては、電極作製工程ＳＰ２２において、基材２２Ａの全面に、スパッタリングによりＩＴＯによる透明電極２２Ｂが作製される。続いてこの製造工程は、絶縁層作製工程ＳＰ２３において、絶縁層２２Ｃの塗工液を塗工した後、乾燥、硬化して絶縁層２２Ｃが作製される。
【００４５】
続いてこの製造工程は、偏光子層作製工程ＳＰ２４において、偏光子層作製工程ＳＰ１２と同様にして、偏光子層２２Ｄの塗工液を塗工した後、乾燥し、これにより偏光子層２２Ｄが作製される。続いてこの製造工程は、電極作製工程ＳＰ２５において、スパッタリング装置を使用したスパッタリングにより、基材２２Ａの全面に、線状電極２２Ｅに係る金属材料を堆積して金属層が作製され、この金属層のパターンニングにより線状電極２２Ｅが作製される。
【００４６】
続いてこの製造工程は、スペーサー作製工程ＳＰ２６において、全面にフォトレジスト材を塗布して乾燥、露光、現像することにより、スペーサー２５が作製され、続く配向層作製工程ＳＰ２７において、配向層２２Ｆに係る塗工液を塗工して乾燥、露光することにより、配向層２２Ｆが形成され、これにより下側積層体２２が作製される。なお偏光子層２３Ｂ、２２Ｄの作製方法は、上述の作製手法に限らず、種々の手法を広く適用することができる。
【００４７】
以上の構成によれば、ＦＦＳ方式の適用により視野角特性を確保して充分な透過率を確保した上で、従来に比して汎用性の高い種々の透明フィルム材を使用して調光フィルムを作製することができ、さらに全体の厚みを一段と薄くして斜め方向の透過光についても十分に遮光することができる。
【００４８】
また絶縁層に偏光子層を積層することにより、絶縁層の機能を偏光子層により補って絶縁層の厚みを薄くすることができ、これにより一段と厚みを薄くすることができる。
【００４９】
〔第２実施形態〕
図６は、本発明の第２実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。この調光フィルム３０は、偏光子層２２Ｄと絶縁層２２Ｃの積層の順番が入れ代わっている点を除いて、第１実施形態に係る調光フィルム２０と同一に構成される。
【００５０】
この実施形態によれば、偏光子層２２Ｄの上に絶縁層２２Ｃを積層するようにしても、第１実施形態に係る調光フィルム２０と同様の効果を得ることができる。またさらに絶縁層により偏光層を覆うことにより、電極作製工程において、絶縁層により偏光層を保護することができ、信頼性を一段と向上し、さらには歩留まりを向上することができる。
【００５１】
〔第３実施形態〕
図７は、本発明の第３実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。この調光フィルム４０は、偏光子層２２Ｄを絶縁層として機能させることにより、絶縁層２２Ｃを改めて設け無いように構成している点を除いて、上述の実施形態に係る調光フィルムと同一に構成される。
【００５２】
この実施形態によれば、偏光子層２２Ｄを絶縁層として機能させて絶縁層を省略するようにしても、第１又は第２実施形態に係る調光フィルムと同様の効果を得ることができる。また偏光子層２２Ｄを絶縁層として機能させて絶縁層を省略することにより、構成を簡略化して全体の厚みを薄くし、さらには工程を簡略化することができる。
【００５３】
〔第４実施形態〕
図８は、本発明の第４実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。この調光フィルム５０は、透明電極２２Ｂ、絶縁層２２Ｃ、線状電極２２Ｅを作製した後、全面に、偏光子層２２Ｄが作製され、さらにスペーサー２５が作製される。またその後、配向層２２Ｆが作製される。この実施形態では、これら各部の作製順序が異なる点を除いて、上述の実施形態に係る調光フィルムと同一に構成される。
【００５４】
この実施形態によれば、線状電極２２Ｅの液晶層２４側に偏光子層２２Ｄを設けるようにしても、上述の実施形態と同様の効果を得ることができる。またこのように線状電極２２Ｅの液晶層２４側に偏光子層２２Ｄを設けることにより、線状電極２２Ｅの全面を偏光子層２２Ｄで覆って線状電極２２Ｅを保護することができ、一段と信頼性を向上することができる。
【００５５】
〔第５実施形態〕
図９は、本発明の第５実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。この調光フィルム６０は、透明電極２２Ｂ、絶縁層２２Ｃ、線状電極２２Ｅを作製した後、全面に、偏光子層２２Ｄが作製され、さらにスペーサー２５が作製される。この調光フィルム６０は、このように線状電極２２Ｅの液晶層２４側に偏光子層２２Ｄを設けるようにして、この偏光子層２２Ｄの配向規制力により液晶層２４の液晶分子を配向させ、これにより配向層を省略する。この実施形態では、係る構成が異なる点を除いて、上述の実施形態に係る調光フィルムと同一に構成される。
【００５６】
すなわち偏光子層２２Ｄは、せん断力等により２色性有機色素を配向して作製されることにより、密接して配置された液晶材料に対して配向規制力を発現し、液晶層１４の液晶材料を一定の方向に配向させることができる。これによりこの実施形態のように、配向層を省略して全体形状を簡略化することができる。
【００５７】
この実施形態では、偏光子層の配向規制力により液晶層の液晶分子を配向させるようにして、配向層を省略するようにしても、上述の実施形態と同様の効果を得ることができる。またこの実施形態では配向層を省略できることにより、全体構成を簡略化して全体の厚みを薄くし、さらには工程を簡略化することができる。
【００５８】
〔第６実施形態〕
図１０は、本発明の第６実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。この調光フィルム７０は、基材２２Ａに偏光子層２２Ｄが作製された後、透明電極２２Ｂ、絶縁層２２Ｃ、線状電極２２Ｅ、スペーサー２５、配向層２２Ｆが順次作製され、これにより偏光子層２２Ｄが透明電極２２Ｂと基材２２Ａとの間に作製される。この実施形態では、係る構成が異なる点を除いて、上述の実施形態に係る調光フィルムと同一に構成される。
【００５９】
この実施形態のように、偏光子層２２Ｄを透明電極２２Ｂと基材２２Ａとの間に作製するようにしても、上述の実施形態と同様の効果を得ることができる。またこの場合、偏光子層２２Ｄにおける２色性有機色素の配向については、種々の手法を適用することができ、生産性を向上することができる。
【００６０】
〔第７〜１１実施形態〕
この実施形態では、上述の第１実施形態から第４実施形態、第６実施形態の上側積層体側について、第５実施形態の下側積層体と同様にして配向層を省略する。
【００６１】
すなわち図１１〜図１５は、上述の第１実施形態から第４の実施形態、第６実施形態の構成において、上側積層体の配向層を省略し、偏光子層により液晶層１４の液晶分子を配向させる構成である。この実施形態のように、上側積層体に関して、偏光子層の配向規制力により液晶層の液晶分子を配向させるようにして、配向層を省略するようにしても、上述の実施形態と同様の効果を得ることができる。またこの実施形態では上側積層体の配向層を省略できることにより、全体構成を簡略化して全体の厚みを薄くし、さらには工程を簡略化することができる。
【００６２】
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を組み合わせ、さらには上述の実施形態を種々に変更することができる。
【００６３】
また上述の実施形態では、フォトレジストを使用して柱形状によりスペーサーを作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、いわゆるビーズスペーサーを適用するようにしてもよい。
【００６４】
また上述の実施形態では、ＦＦＳ方式による調光フィルムに本発明を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、ＩＰＳ方式による調光フィルムに広く適用することができる。なおこのＩＰＳ方式では、櫛歯形状による１対の線状電極を入れ子より配置して横電界を作製することにより、この横電界の作製に係る第１及び第２の電極の構成に対応して上述した実施形態の構成を適宜、適用することができる。
【符号の説明】
【００６５】
１０、２０、３０、４０、５０、６０、７０、８０、９０、１００、１１０、１３０  調光フィルム
１２、２２  下側積層体
１２Ａ、１２Ｃ、１３Ａ、１３Ｃ  ハードコート層
１２Ｂ、１３Ｂ、２２Ａ、２３Ａ  基材
１２Ｄ、１３Ｄ、２２Ｂ  透明電極
１２Ｅ、１３Ｅ、２２Ｄ、２３Ｂ  偏光子層
１３、２３  上側積層体
１３Ｆ、２２Ｆ、２３Ｃ  配向層
１４、２４  液晶層
２２Ｃ  絶縁層
２５  スペーサー
【図１】
2017122808.tif 000003
【図２】
2017122808.tif 000004
【図３】
2017122808.tif 000005
【図４】
2017122808.tif 000006
【図５】
2017122808.tif 000007
【図６】
2017122808.tif 000008
【図７】
2017122808.tif 000009
【図８】
2017122808.tif 000010
【図９】
2017122808.tif 000011
【図１０】
2017122808.tif 000012
【図１１】
2017122808.tif 000013
【図１２】
2017122808.tif 000014
【図１３】
2017122808.tif 000015
【図１４】
2017122808.tif 000016
【図１５】
2017122808.tif 000017
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月9日(2016.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明フィルム材による基材に第１及び第２の電極を配置してなる第１の積層体と、
透明フィルム材による基材を備え、前記第１の積層体に対応する第２の積層体と、
前記第１及び第２の積層体により挟持された液晶層とを備え、
前記第１及び第２の電極間の電界により前記液晶層の液晶分子の配向を制御して透過光を制御し、
前記第１の積層体の前記基材より前記液晶層側、及び前記第２の積層体の前記基材より前記液晶層側に、それぞれＥ型直線偏光板に係る偏光子層を備え、
前記第１の積層体及び前記第２の積層体のうち少なくともいずれかの前記基材は、ポリエチレンテレフタレートにより形成される
調光フィルム。
【請求項２】
前記第１の積層体は、
前記基材の全面に前記第１の電極が設けられ、絶縁層を間に挟んで、前記第２の電極による線状電極が設けられ、さらに配向層が設けられ、
前記絶縁層と前記第２の電極との間、又は前記絶縁層と前記第１の電極との間に、前記偏光子層が設けられた
請求項１に記載の調光フィルム。
【請求項３】
前記第１の積層体は、
前記基材の全面に前記第１の電極が設けられ、絶縁層を間に挟んで、前記第２の電極による線状電極が設けられ、さらに配向層が設けられ、
前記絶縁層が前記偏光子層である
請求項１に記載の調光フィルム。
【請求項４】
前記第１の積層体は、
前記基材の全面に前記第１の電極が設けられ、絶縁層を間に挟んで、前記第２の電極による線状電極が設けられ、さらに配向層が設けられ、
前記線状電極と前記配向層との間に前記偏光子層が設けられた
請求項１に記載の調光フィルム。
【請求項５】
前記第１の積層体は、
前記基材の全面に前記第１の電極が設けられ、絶縁層を間に挟んで、前記第２の電極による線状電極が設けられ、さらに配向層が設けられ、
前記配向層が前記偏光子層である
請求項１に記載の調光フィルム。
【請求項６】
前記第１の積層体は、
前記基材の全面に前記第１の電極が設けられ、絶縁層を間に挟んで、前記第２の電極による線状電極が設けられ、さらに配向層が設けられ、
前記第１の電極と前記基材との間に、前記偏光子層が設けられた
請求項１に記載の調光フィルム。
【請求項７】
透明フィルム材による基材に第１及び第２の電極を配置して第１の積層体を作製する第１の積層体作製工程と、
透明フィルム材による基材を備えた前記第１の積層体に対応する第２の積層体を作製する第２の積層体作製工程と、
液晶層を間に挟んで前記第１及び第２の積層体を積層する積層工程とを備え、
前記第１の積層体作製工程は、
前記第１の積層体の前記基材より前記液晶層側に、Ｅ型直線偏光板に係る偏光子層を作製する偏光子層作製工程を備え、
前記第２の積層体作製工程は、
前記第２の積層体の前記基材より前記液晶層側に、Ｅ型直線偏光板に係る偏光子層を作製する偏光子層作製工程を備え、
前記第１の積層体及び前記第２の積層体のうち少なくともいずれかの前記基材は、ポリエチレンテレフタレートにより形成される
調光フィルムの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月19日(2016.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明フィルム材による基材に第１及び第２の電極を配置してなる第１の積層体と、
透明フィルム材による基材を備え、前記第１の積層体に対応する第２の積層体と、
前記第１及び第２の積層体により挟持された液晶層とを備え、
前記第１及び第２の電極間の電界により前記液晶層の液晶分子の配向を制御して透過光を制御し、
前記第１の積層体の前記基材より前記液晶層側、及び前記第２の積層体の前記基材より前記液晶層側に、それぞれＥ型直線偏光板に係る偏光子層を備え、
前記第１の積層体及び前記第２の積層体のうち少なくともいずれかの前記基材は、ポリエチレンテレフタレートにより形成され、
前記第１の積層体は、
前記基材の全面に前記第１の電極が設けられ、絶縁層を間に挟んで、前記第２の電極による線状電極が設けられ、さらに配向層が設けられ、
前記絶縁層が前記偏光子層である
調光フィルム。
【請求項２】
透明フィルム材による基材に第１及び第２の電極を配置してなる第１の積層体と、
透明フィルム材による基材を備え、前記第１の積層体に対応する第２の積層体と、
前記第１及び第２の積層体により挟持された液晶層とを備え、
前記第１及び第２の電極間の電界により前記液晶層の液晶分子の配向を制御して透過光を制御し、
前記第１の積層体の前記基材より前記液晶層側、及び前記第２の積層体の前記基材より前記液晶層側に、それぞれＥ型直線偏光板に係る偏光子層を備え、
前記第１の積層体及び前記第２の積層体のうち少なくともいずれかの前記基材は、ポリエチレンテレフタレートにより形成され、
前記第１の積層体は、
前記基材の全面に前記第１の電極が設けられ、絶縁層を間に挟んで、前記第２の電極による線状電極が設けられ、さらに配向層が設けられ、
前記配向層が前記偏光子層である
調光フィルム。
【請求項３】
透明フィルム材による基材に第１及び第２の電極を配置して第１の積層体を作製する第１の積層体作製工程と、
透明フィルム材による基材を備えた前記第１の積層体に対応する第２の積層体を作製する第２の積層体作製工程と、
液晶層を間に挟んで前記第１及び第２の積層体を積層する積層工程とを備え、
前記第１の積層体作製工程は、
前記第１の積層体の前記基材より前記液晶層側に、Ｅ型直線偏光板に係る偏光子層を作製する偏光子層作製工程を備え、
前記第２の積層体作製工程は、
前記第２の積層体の前記基材より前記液晶層側に、Ｅ型直線偏光板に係る偏光子層を作製する偏光子層作製工程を備え、
前記第１の積層体及び前記第２の積層体のうち少なくともいずれかの前記基材は、ポリエチレンテレフタレートにより形成され、
前記第１の積層体作製工程は、
前記基材の全面に前記第１の電極を形成し、絶縁層を間に挟んで、前記第２の電極による線状電極を形成し、さらに配向層を形成し、
前記配向層が前記偏光子層である
調光フィルムの製造方法。
【請求項４】
透明フィルム材による基材に第１及び第２の電極を配置して第１の積層体を作製する第１の積層体作製工程と、
透明フィルム材による基材を備えた前記第１の積層体に対応する第２の積層体を作製する第２の積層体作製工程と、
液晶層を間に挟んで前記第１及び第２の積層体を積層する積層工程とを備え、
前記第１の積層体作製工程は、
前記第１の積層体の前記基材より前記液晶層側に、Ｅ型直線偏光板に係る偏光子層を作製する偏光子層作製工程を備え、
前記第２の積層体作製工程は、
前記第２の積層体の前記基材より前記液晶層側に、Ｅ型直線偏光板に係る偏光子層を作製する偏光子層作製工程を備え、
前記第１の積層体及び前記第２の積層体のうち少なくともいずれかの前記基材は、ポリエチレンテレフタレートにより形成され、
前記第１の積層体作製工程は、
前記基材の全面に前記第１の電極を形成し、絶縁層を間に挟んで、前記第２の電極による線状電極を形成し、さらに配向層を形成し、
前記配向層が前記偏光子層である
調光フィルムの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月17日(2017.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明フィルム材による基材に第１及び第２の電極を配置してなる第１の積層体と、
透明フィルム材による基材を備え、前記第１の積層体に対応する第２の積層体と、
前記第１及び第２の積層体により挟持された液晶層とを備え、
前記第１及び第２の電極間の電界により前記液晶層の液晶分子の配向を制御して透過光を制御し、
前記第１の積層体の前記基材より前記液晶層側、及び前記第２の積層体の前記基材より前記液晶層側に、それぞれＥ型直線偏光板に係る偏光子層を備え、
前記第１の積層体及び前記第２の積層体のうち少なくともいずれかの前記基材は、ポリエチレンテレフタレートにより形成され、
前記第１の積層体は、
前記基材の全面に前記第１の電極が設けられ、絶縁層を間に挟んで、前記第２の電極による線状電極が設けられ、さらに配向層が設けられ、
前記絶縁層が前記偏光子層である
調光フィルム。
【請求項２】
透明フィルム材による基材に第１及び第２の電極を配置してなる第１の積層体と、
透明フィルム材による基材を備え、前記第１の積層体に対応する第２の積層体と、
前記第１及び第２の積層体により挟持された液晶層とを備え、
前記第１及び第２の電極間の電界により前記液晶層の液晶分子の配向を制御して透過光を制御し、
前記第１の積層体の前記基材より前記液晶層側、及び前記第２の積層体の前記基材より前記液晶層側に、それぞれＥ型直線偏光板に係る偏光子層を備え、
前記第１の積層体及び前記第２の積層体のうち少なくともいずれかの前記基材は、ポリエチレンテレフタレートにより形成され、
前記第１の積層体は、
前記基材の全面に前記第１の電極が設けられ、絶縁層を間に挟んで、前記第２の電極による線状電極が設けられ、さらに配向層が設けられ、
前記配向層が前記偏光子層である
調光フィルム。
【請求項３】
透明フィルム材による基材に第１及び第２の電極を配置して第１の積層体を作製する第１の積層体作製工程と、
透明フィルム材による基材を備えた前記第１の積層体に対応する第２の積層体を作製する第２の積層体作製工程と、
液晶層を間に挟んで前記第１及び第２の積層体を積層する積層工程とを備え、
前記第１の積層体作製工程は、
前記第１の積層体の前記基材より前記液晶層側に、Ｅ型直線偏光板に係る偏光子層を作製する偏光子層作製工程を備え、
前記第２の積層体作製工程は、
前記第２の積層体の前記基材より前記液晶層側に、Ｅ型直線偏光板に係る偏光子層を作製する偏光子層作製工程を備え、
前記第１の積層体及び前記第２の積層体のうち少なくともいずれかの前記基材は、ポリエチレンテレフタレートにより形成され、
前記第１の積層体作製工程は、
前記基材の全面に前記第１の電極を形成し、絶縁層を間に挟んで、前記第２の電極による線状電極を形成し、さらに配向層を形成し、
前記絶縁層が前記偏光子層である
調光フィルムの製造方法。
【請求項４】
透明フィルム材による基材に第１及び第２の電極を配置して第１の積層体を作製する第１の積層体作製工程と、
透明フィルム材による基材を備えた前記第１の積層体に対応する第２の積層体を作製する第２の積層体作製工程と、
液晶層を間に挟んで前記第１及び第２の積層体を積層する積層工程とを備え、
前記第１の積層体作製工程は、
前記第１の積層体の前記基材より前記液晶層側に、Ｅ型直線偏光板に係る偏光子層を作製する偏光子層作製工程を備え、
前記第２の積層体作製工程は、
前記第２の積層体の前記基材より前記液晶層側に、Ｅ型直線偏光板に係る偏光子層を作製する偏光子層作製工程を備え、
前記第１の積層体及び前記第２の積層体のうち少なくともいずれかの前記基材は、ポリエチレンテレフタレートにより形成され、
前記第１の積層体作製工程は、
前記基材の全面に前記第１の電極を形成し、絶縁層を間に挟んで、前記第２の電極による線状電極を形成し、さらに配向層を形成し、
前記配向層が前記偏光子層である
調光フィルムの製造方法。