(57)【要約】      （修正有）【課題】銀（合金）、金（合金）又はパラジウム（合金）のめっき皮膜に対して、変色や腐食を防止し外観を維持する耐熱性に優れた外観保護剤の提供。【解決手段】銅（合金）、ニッケル（合金）又はパラジウム（合金）を下地金属として、銀（合金）、金（合金）又はパラジウム（合金）のめっき皮膜を最外層に有する金属体の変色や腐食を抑制して外観を維持する外観保護剤であって、式（１）の特定ベンゾトリアゾール環化合物及び４個のアルキル基を有する４級アンモニウム塩化合物を含有する外観保護剤。2017179516.tif 000012［式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、−Ｈ、−ＯＨ、−Ｃｌ、−ＣＯＯＨ、−ＣｎＨ２ｎ＋１（ｎは１〜５の整数を示す）を表す］【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
銅、銅合金、ニッケル、ニッケル合金、パラジウム、及び、パラジウム合金よりなる群から選ばれる少なくとも１種以上の金属を下地金属として、銀めっき皮膜、銀合金めっき皮膜、金めっき皮膜、金合金めっき皮膜、パラジウムめっき皮膜、又は、パラジウム合金めっき皮膜を最外層に有する金属体の、該最外層の変色及び／又は腐食を抑制して外観を維持する外観保護剤であって、
下記式（１）で表される特定ベンゾトリアゾール環化合物、及び、下記式（２）で表される特定４級アンモニウム化合物を必須成分として含有するものであることを特徴とする外観保護剤。
【化１】
2017179516.tif 000010
［式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、互いに異なっていてもよい、−Ｈ、−ＯＨ、−Ｃｌ、−ＣＯＯＨ、−ＣｎＨ２ｎ＋１（ｎは１〜５の整数を示す）を表す。］
【化２】
2017179516.tif 000011
［式（２）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに異なっていてもよい、−ＣｍＨ２ｍ＋１（ｍは１〜２５の整数を示すが、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６の何れか１つ以上で、ｍは１２〜２５の整数を示す）を表し、Ｘ−は、Ｃｌ−、Ｉ−、Ｂｒ−又はＯＨ−を表す。］
【請求項２】
上記式（１）で表される特定ベンゾトリアゾール環化合物が、１，２，３−ベンゾトリアゾール、ヒドロキシベンゾトリアゾール、クロロベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、エチルベンゾトリアゾール、プロピルベンゾトリアゾール、イソプロピルベンゾトリアゾール、ｎ−ブチルベンゾトリアゾール、イソブチルベンゾトリアゾール、tert−ブチルベンゾトリアゾール、ペンチルベンゾトリアゾール、イソペンチルベンゾトリアゾール、ジヒドロキシベンゾトリアゾール、クロロヒドロキシベンゾトリアゾール、カルボキシヒドロキシベンゾトリアゾール、メチルヒドロキシベンゾトリアゾール、エチルヒドロキシベンゾトリアゾール、ヒドロキシプロピルベンゾトリアゾール、ヒドロキシイソプロピルベンゾトリアゾール、ｎ−ブチルヒドロキシベンゾトリアゾール、ヒドロキシイソブチルベンゾトリアゾール、ヒドロキシtert−ブチルベンゾトリアゾール、ヒドロキシペンチルベンゾトリアゾール、ヒドロキシイソペンチルベンゾトリアゾール、カルボキシクロロベンゾトリアゾール、クロロメチルベンゾトリアゾール、エチルクロロベンゾトリアゾール、クロロプロピルベンゾトリアゾール、クロロイソプロピルベンゾトリアゾール、クロロｎ−ブチルベンゾトリアゾール、クロロイソブチルベンゾトリアゾール、クロロtert−ブチルベンゾトリアゾール、クロロペンチルベンゾトリアゾール、クロロイソペンチルベンゾトリアゾール、カルボキシメチルベンゾトリアゾール、カルボキシエチルベンゾトリアゾール、カルボキシプロピルベンゾトリアゾール、カルボキシイソプロピルベンゾトリアゾール、カルボキシｎ−ブチルベンゾトリアゾール、カルボキシイソブチルベンゾトリアゾール、カルボキシtert−ブチルベンゾトリアゾール、カルボキシペンチルベンゾトリアゾール、又は、カルボキシイソペンチルベンゾトリアゾールである請求項１に記載の外観保護剤。
【請求項３】
上記式（２）で表される特定４級アンモニウム化合物が、ドデシルトリメチルアンモニウム、トリデシルトリメチルアンモニウム、テトラデシルトリメチルアンモニウム、ペンタデシルトリメチルアンモニウム、ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、ヘプタデシルトリメチルアンモニウム、オクタデシルトリメチルアンモニウム、ノナデシルトリメチルアンモニウム、イコシルトリメチルアンモニウム、ヘンイコシルトリメチルアンモニウム、ドコシルトリメチルアンモニウム、トリコシルトリメチルアンモニウム、テトラコシルトリメチルアンモニウム、ペンタコシルトリメチルアンモニウム、ジメチルジドデシルアンモニウム、ジメチルジトリデシルアンモニウム、ジメチルジテトラデシルアンモニウム、ジメチルジテトラデシルアンモニウム、ジメチルジペンタデシルアンモニウム、ジメチルジヘキサデシルアンモニウム、ジメチルジへプタデシルアンモニウム、ジメチルジオクタデシルアンモニウム、ジメチルジノナデシルアンモニウム、ジメチルジイコシルアンモニウム、ジメチルジヘンイコシルアンモニウム、ジメチルジドコシルアンモニウム、ジメチルジトリコシルアンモニウム、ジメチルジテトラコシルアンモニウム、又は、ジメチルジペンタコシルアンモニウムの、塩化物、ヨウ化物、臭化物若しくは水酸化物である請求項１又は請求項２に記載の外観保護剤。
【請求項４】
上記下地金属が、純銅、ベリリウム銅、黄銅、リン青銅、銅鉄合金、コルソン合金、ニッケルめっき皮膜、ニッケルリンめっき皮膜、４２合金、パラジウムめっき皮膜、パラジウムリンめっき皮膜、パラジウムニッケルめっき皮膜、パラジウムコバルトめっき皮膜、及び、パラジウム銀めっき皮膜よりなる群から選ばれる少なくとも１種以上の下地金属である請求項１ないし請求項３の何れかの請求項に記載の外観保護剤。
【請求項５】
上記最外層が、銀めっき皮膜、銀パラジウム合金めっき皮膜、金めっき皮膜、金コバルト合金めっき皮膜、金ニッケル合金めっき皮膜、金銀合金めっき皮膜、金すず合金皮膜、パラジウムめっき皮膜、パラジウムコバルト合金めっき皮膜、又は、パラジウムニッケル合金めっき皮膜である請求項１ないし請求項４の何れかの請求項に記載の外観保護剤。
【請求項６】
反射率が８０％以上の上記最外層を有する上記金属体を、亜硫酸ガス雰囲気下（亜硫酸ガス濃度：１０体積ｐｐｍ、温度：４０℃、相対湿度：８０％）に２４時間放置したとき、又は、硫化水素ガス雰囲気下（硫化水素ガス濃度：２体積ｐｐｍ、温度：４０℃、相対湿度：８０％）に４８時間放置したとき、該反射率を６０％以上に維持する請求項１ないし請求項５の何れかの請求項に記載の外観保護剤。
【請求項７】
銅、銅合金、ニッケル、ニッケル合金、パラジウム、及び、パラジウム合金よりなる群から選ばれる少なくとも１種以上の金属を下地金属として、銀めっき皮膜、銀合金めっき皮膜、金めっき皮膜、金合金めっき皮膜、パラジウムめっき皮膜、又は、パラジウム合金めっき皮膜を最外層に有する金属体の表面が、請求項１ないし請求項６の何れかの請求項に記載の外観保護剤で処理されて、該最外層の変色及び／又は腐食が抑制されて外観が維持された状態になっているものであることを特徴とする金属体。
【請求項８】
銅、銅合金、ニッケル、ニッケル合金、パラジウム、及び、パラジウム合金よりなる群から選ばれる少なくとも１種以上の金属を下地金属として、銀めっき皮膜、銀合金めっき皮膜、金めっき皮膜、金合金めっき皮膜、パラジウムめっき皮膜、又は、パラジウム合金めっき皮膜を最外層に有する金属体の表面を、請求項１ないし請求項６の何れかの請求項に記載の外観保護剤で処理して、該最外層の変色及び／又は腐食を抑制して外観が維持された状態にすることを特徴とする金属体の処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は金属の外観保護剤に関するものであり、更に詳しくは、特定の下地金属の上に最外層として存在する特定の金属めっき皮膜の変色及び／又は腐食を抑制して外観を維持する外観保護剤、該外観保護剤を用いて処理された金属体、及び、該外観保護剤を用いて処理する該金属体の処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
金めっき皮膜や金合金めっき皮膜は、電気的特性、機械的特性、はんだ付け性、耐食性等に優れているため、高い信頼性の求められるコネクタやプリント基板に、最外層として多く用いられている。更に近年は電子デバイスの高密度化が進展し、金（合金）めっき部に求められる信頼性もより高度なものになっている。
【０００３】
その一方で、金価格による経済的な理由から、金めっき皮膜や金合金めっき皮膜の薄膜化も進展してきており、その薄膜化に伴い該皮膜のピンホールが指数関数的に増大してきている。
その結果、経時により該ピンホール等から腐食性物質が侵入することで、該金（合金）めっき皮膜の下地金属を腐食し、金めっき皮膜や金合金めっき皮膜の表面上に腐食生成物が析出するといった現象が生じ、下地金属の影響による金めっき皮膜や金合金めっき皮膜の経時による該外観変化は、信頼性低下を招いている。更に、こうした現象は外観を損なうだけでなく、接触抵抗の上昇、回路の短絡、断線等の問題を引き起こしている。
【０００４】
また、銀めっき皮膜や銀合金めっき皮膜は、電気的特性、機械的特性、はんだ付け性に優れているため、コネクタ、リードフレーム、各種スイッチ等の電気デバイスに多く用いられている。
更に近年、白熱電球や蛍光灯に代わる新たな照明として、発光ダイオード（ＬＥＤ）照明が急速に普及してきており、該ＬＥＤ照明にはＬＥＤ光を効率的に照射するために反射板が取り付けられている。高輝度の銀（合金）めっき皮膜は、ＬＥＤ光の反射特性が非常に優れており、この反射板に広く利用されている。
【０００５】
しかし、銀や銀合金は、大気中の硫黄化合物等と反応することにより硫化銀等を生成することで腐食・変色し、電気デバイス用途では電気的特性が低下してしまい、また、反射板用途では光反射特性が低下してしまうという問題を抱えている。
【０００６】
また、パラジウムめっき皮膜やパラジウム合金めっき皮膜も、電気的特性、機械的特性、耐食性等に優れているため、種々の金属体の最外層として使用されている。
しかし、パラジウムやパラジウム合金も、大気中の有機化合物、硫黄化合物等と反応することで変色し、上記特性が低下してしまう。
【０００７】
このような腐食や変色の問題を回避する手段として、クロメート処理や表面処理剤による処理が知られている。該クロメート処理は、金属皮膜にクロム化合物の皮膜を形成させることで外観を保護しようとするものであり、該表面処理剤による処理は、有機化合物を含有する溶液に金属体（材料）を浸漬し、表面に有機皮膜を形成することで外観を保護しようとするものである（例えば、特許文献１、２、３、４）。
【０００８】
しかしながら、クロメート処理においては、六価クロムを使用するために、その利用が環境への影響、毒性により大きく制限されている。また、表面処理剤による有機保護膜は、実装工程での加熱処理や使用時に発生する熱により分解し、その有効性が損なわれるという問題がある。
【０００９】
特に、特許文献１、２、３、４では、ベンゾトリアゾール系化合物、テトラゾール系化合物、チオール系化合物等といった有機化合物を使用した表面処理剤について開示されている。しかしながら、これらの特許文献では、腐食試験前に、はんだ付けを想定したサンプルの加熱処理を実施しておらず、表面処理剤自身の耐熱性や該表面処理剤で処理された金属表面での耐熱性、及び、「加熱処理後の腐食試験」による外観変化に関しては全く考慮されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００６−３５１５６８号公報
【特許文献２】特開２００８−０４５２１５号公報
【特許文献３】特開２０１１−２４１４２８号公報
【特許文献４】特開２０１２−１７２１９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は上記背景技術に鑑みてなされたものであり、その課題は、銀めっき皮膜、銀合金めっき皮膜、金めっき皮膜、金合金めっき皮膜、パラジウムめっき皮膜、パラジウム合金めっき皮膜に対して、その変色や腐食を防止し外観を維持する耐熱性に優れた外観保護剤を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者は、上記の課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、特定のベンゾトリアゾール環化合物、及び、特定の４級アンモニウム化合物を必須成分として併用して外観保護剤とすることで、特定の金属を下地金属としたときの「銀（合金）めっき皮膜」「金（合金）めっき皮膜」「パラジウム（合金）めっき皮膜」の変色や腐食による外観の変化を、該外観保護剤で処理後に加熱処理をしたとしても抑制できることを見出して、本発明を完成するに至った。
【００１３】
すなわち、本発明は、銅、銅合金、ニッケル、ニッケル合金、パラジウム、及び、パラジウム合金よりなる群から選ばれる少なくとも１種以上の金属を下地金属として、銀めっき皮膜、銀合金めっき皮膜、金めっき皮膜、金合金めっき皮膜、パラジウムめっき皮膜、又は、パラジウム合金めっき皮膜を最外層に有する金属体の、該最外層の変色及び／又は腐食を抑制して外観を維持する外観保護剤であって、
下記式（１）で表される特定ベンゾトリアゾール環化合物、及び、下記式（２）で表される特定４級アンモニウム化合物を必須成分として含有するものであることを特徴とする外観保護剤を提供するものである。
【化１】
2017179516.tif 000002
［式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、互いに異なっていてもよい、−Ｈ、−ＯＨ、−Ｃｌ、−ＣＯＯＨ、−ＣｎＨ２ｎ＋１（ｎは１〜５の整数を示す）を表す。］
【化２】
2017179516.tif 000003
［式（２）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに異なっていてもよい、−ＣｍＨ２ｍ＋１（ｍは１〜２５の整数を示すが、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６の何れか１つ以上で、ｍは１２〜２５の整数を示す）を表し、Ｘ−は、Ｃｌ−、Ｉ−、Ｂｒ−又はＯＨ−を表す。］
【００１４】
また、本発明は、反射率が８０％以上の上記最外層を有する上記金属体を、亜硫酸ガス雰囲気下（亜硫酸ガス濃度：１０体積ｐｐｍ、温度：４０℃、相対湿度：８０％）に２４時間放置したとき、又は、硫化水素ガス雰囲気下（硫化水素ガス濃度：２体積ｐｐｍ、温度：４０℃、相対湿度：８０％）に４８時間放置したとき、該反射率を６０％以上に維持する上記の外観保護剤を提供するものである。
【００１５】
また、本発明は、銅、銅合金、ニッケル、ニッケル合金、パラジウム、及び、パラジウム合金よりなる群から選ばれる少なくとも１種以上の金属を下地金属として、銀めっき皮膜、銀合金めっき皮膜、金めっき皮膜、金合金めっき皮膜、パラジウムめっき皮膜、又は、パラジウム合金めっき皮膜を最外層に有する金属体の表面が、上記の外観保護剤で処理されて、該最外層の変色及び／又は腐食が抑制されて外観が維持された状態になっているものであることを特徴とする金属体を提供するものである。
【００１６】
また、本発明は、銅、銅合金、ニッケル、ニッケル合金、パラジウム、及び、パラジウム合金よりなる群から選ばれる少なくとも１種以上の金属を下地金属として、銀めっき皮膜、銀合金めっき皮膜、金めっき皮膜、金合金めっき皮膜、パラジウムめっき皮膜、又は、パラジウム合金めっき皮膜を最外層に有する金属体の表面を、上記の外観保護剤で処理して、該最外層の変色及び／又は腐食を抑制して外観が維持された状態にすることを特徴とする金属体の処理方法を提供するものである。
【００１７】
本発明においては、銀めっき皮膜と銀合金めっき皮膜を、単に「銀（合金）めっき皮膜」と略記し、金めっき皮膜と金合金めっき皮膜を、単に「金（合金）めっき皮膜」と略記し、パラジウムめっき皮膜とパラジウム合金めっき皮膜を、単に「パラジウム（合金）めっき皮膜」と略記することがある。
また、銅と銅合金を単に「銅（合金）」と略記し、ニッケルとニッケル合金を単に「ニッケル（合金）」と略記し、パラジウムとパラジウム合金を単に「パラジウム（合金）」と略記することがある。
【００１８】
また、「銅、銅合金、ニッケル、ニッケル合金、パラジウム、及び、パラジウム合金よりなる群から選ばれる少なくとも１種以上の金属」を、単に「特定下地金属」と略記することがある。
また、「銀めっき皮膜、銀合金めっき皮膜、金めっき皮膜、金合金めっき皮膜、パラジウムめっき皮膜、パラジウム合金めっき皮膜」を、単に「対象特定めっき皮膜」と略記することがある。
【００１９】
また、「式（１）で表される特定ベンゾトリアゾール環化合物」を、単に「特定ベンゾトリアゾール環化合物」と略記し、「式（２）で表される特定４級アンモニウム化合物」を、単に「特定４級アンモニウム化合物」と略記することがある。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、上記問題点と課題を解決し、対象特定めっき皮膜に対して、その変色や腐食を防止し外観を維持する耐熱性に優れた外観保護剤を提供することができる。
すなわち、本発明の外観保護剤で、「特定下地金属」の上に形成された「対象特定めっき皮膜」の表面を処理することで、経時等による変色や腐食による外観の変化を好適に防止することができる。特に、何れの「対象特定めっき皮膜」の表面を処理しても、経時等による外観の変化を好適に防止することができる。
【００２１】
また、本発明の外観保護剤自身や該外観保護剤で処理された金属表面は、耐熱性に優れ、本発明の外観保護剤で処理された金属体の表面（対象特定めっき皮膜の表面）は、はんだ付けを想定した加熱処理を行った後でも十分な外観維持効果を有している。
本発明においては、上記外観維持効果（外観の経時変化）は、大気中の腐食物質の代表である亜硫酸ガスと硫化水素ガスにそれぞれ暴露して加速劣化試験を行って確かめている。
【００２２】
外観保護剤自身や外観保護剤で処理された金属表面に耐熱性がないと、加熱処理後には、経時によって十分な外観維持効果が得られない。なお、はんだ付けをした後に製品とする場合が多いが、そのような場合、経時によって外観の維持ができないと、電気デバイス用途では電気的特性が低下してしまうと共に信頼性に乏しいものとなってしまう。また、反射板用途では光反射特性が低下してしまう。
本発明によれば、例えば実施例に記載の「はんだ付けを想定した加熱処理」を行った後でも、経時による「対象特定めっき皮膜」の変色や腐食による外観の変化を防止して外観を維持できる。
【００２３】
従来、特定ベンゾトリアゾール環化合物や特定４級アンモニウム化合物の中には、それを単独で用いて、「対象特定めっき皮膜」のうちの何れか１種の表面を処理することが記載されているものがある。しかしながら、特定ベンゾトリアゾール環化合物と特定４級アンモニウム化合物を併用することによって、亜硫酸ガスと硫化水素ガスの何れのガスに暴露されても、「対象特定めっき皮膜」のうちの何れの表面でも経時外観変化が抑制されたものはない。言い換えれば、何れの「対象特定めっき皮膜」でも、経時での外観変化を抑制できたものはない。
【００２４】
本発明によれば、特定ベンゾトリアゾール環化合物と特定４級アンモニウム化合物との併用によって、互いに効果を打ち消し合うこともなく相乗効果を発揮し、更に「特定下地金属」の何れの上に形成された何れの「対象特定めっき皮膜」の表面に対しても、外観の変化を抑制することができる。従って、１種類の外観保護剤で、何れの「対象特定めっき皮膜」の表面に対しても適用可能であり、本発明の外観保護剤は利用範囲（適用範囲）が極めて広い。
【００２５】
更に、本発明の外観保護剤は、水溶性であり、有機溶剤や重金属を必須成分としては含有していないため、安全性や環境特性に優れている。
【００２６】
また、本発明の外観保護剤で処理された金属体は、上記のように外観を維持する他に、ワイヤーボンディング特性、はんだ濡れ性等が良好であり、接触抵抗の上昇も殆どない。
更に、経時による反射率の低下も殆どないので、金属体が電気デバイスの場合は信頼性を保ち、金属体が反射板の場合は光反射特性を良好のまま維持できる。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、本発明について説明するが、本発明は、以下の実施の具体的形態に限定されるものではなく、技術的思想の範囲内で任意に変形することができる。
また、本明細書中に記載される例示化合物は、何れも水に溶解されて外観保護剤の成分となるものであるから、例示化合物のうち塩になり得るものはその塩をも意味するものとする。また、外観保護剤の溶液内で、他の配合成分と塩交換が起こっているものも含まれる（意味する）ものとする。
【００２８】
本発明の外観保護剤は、特定下地金属を最外層に有する金属体の、該最外層の変色及び／又は腐食を抑制して外観を維持する外観保護剤であって、下記式（１）で表される特定ベンゾトリアゾール環化合物、及び、下記式（２）で表される特定４級アンモニウム化合物を必須成分として含有するものである。
【００２９】
【化３】
2017179516.tif 000004
［式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、互いに異なっていてもよい、−Ｈ、−ＯＨ、−Ｃｌ、−ＣＯＯＨ、−ＣｎＨ２ｎ＋１（ｎは１〜５の整数を示す）を表す。］
【００３０】
【化４】
2017179516.tif 000005
［式（２）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに異なっていてもよい、−ＣｍＨ２ｍ＋１（ｍは１〜２５の整数を示すが、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６の何れか１つ以上で、ｍは１２〜２５の整数を示す）を表し、Ｘ−は、Ｃｌ−、Ｉ−、Ｂｒ−又はＯＨ−を表す。］
【００３１】
＜式（１）で表される特定ベンゾトリアゾール環化合物について＞
上記式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、互いに異なっていてもよい、水素原子（Ｈ）、ヒドロキシル基（ＯＨ）、塩素原子（Ｃｌ）、カルボキシル基（ＣＯＯＨ）、アルキル基（ＣｎＨ２ｎ＋１（ｎ＝１〜５の整数））である。
該アルキル基は、全部の炭素数が１個以上５個以下であれば、直鎖であっても側鎖（分岐）を有していてもよい。また、Ｒ１及びＲ２のベンゾトリアゾール環への結合位置に関しては、ベンゾトリアゾール環のベンゼン環部分であれば特に限定はない。
【００３２】
特定ベンゾトリアゾール環化合物は、１種を単独で又は２種以上を併用して使用することができる。
【００３３】
特定ベンゾトリアゾール環化合物としては、特に限定はないが、具体的には、例えば、１，２，３−ベンゾトリアゾール、ヒドロキシベンゾトリアゾール、クロロベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、エチルベンゾトリアゾール、プロピルベンゾトリアゾール、イソプロピルベンゾトリアゾール、ｎ−ブチルベンゾトリアゾール、イソブチルベンゾトリアゾール、tert−ブチルベンゾトリアゾール、ペンチルベンゾトリアゾール、イソペンチルベンゾトリアゾール、ジヒドロキシベンゾトリアゾール、クロロヒドロキシベンゾトリアゾール、カルボキシヒドロキシベンゾトリアゾール、メチルヒドロキシベンゾトリアゾール、エチルヒドロキシベンゾトリアゾール、ヒドロキシプロピルベンゾトリアゾール、ヒドロキシイソプロピルベンゾトリアゾール、ｎ−ブチルヒドロキシベンゾトリアゾール、ヒドロキシイソブチルベンゾトリアゾール、ヒドロキシtert−ブチルベンゾトリアゾール、ヒドロキシペンチルベンゾトリアゾール、ヒドロキシイソペンチルベンゾトリアゾール、カルボキシクロロベンゾトリアゾール、クロロメチルベンゾトリアゾール、エチルクロロベンゾトリアゾール、クロロプロピルベンゾトリアゾール、クロロイソプロピルベンゾトリアゾール、クロロｎ−ブチルベンゾトリアゾール、クロロイソブチルベンゾトリアゾール、クロロtert−ブチルベンゾトリアゾール、クロロペンチルベンゾトリアゾール、クロロイソペンチルベンゾトリアゾール、カルボキシメチルベンゾトリアゾール、カルボキシエチルベンゾトリアゾール、カルボキシプロピルベンゾトリアゾール、カルボキシイソプロピルベンゾトリアゾール、カルボキシｎ−ブチルベンゾトリアゾール、カルボキシイソブチルベンゾトリアゾール、カルボキシtert−ブチルベンゾトリアゾール、カルボキシペンチルベンゾトリアゾール、カルボキシイソペンチルベンゾトリアゾール等が特に好ましいものとして挙げられる。
【００３４】
上記具体的な特定ベンゾトリアゾール環化合物の「ベンゾトリアゾール」なる記載は、何れも「１，２，３−ベンゾトリアゾール」である。また、置換基のベンゾトリアゾール環への結合位置は、ベンゾトリアゾール環の中のベンゼン環部分のどこであってもよい。
上記具体的な特定ベンゾトリアゾール環化合物は、１種を単独で又は２種以上を併用して使用することができる。
【００３５】
特定ベンゾトリアゾール環化合物の濃度は、特に限定はないが、外観保護剤全体に対して、含有されている特定ベンゾトリアゾール環化合物の合計で、０．００１ｇ／Ｌ以上１００ｇ／Ｌ以下が好ましく、０．０５ｇ／Ｌ以上５０ｇ／Ｌ以下がより好ましく、０.５ｇ／Ｌ以上５ｇ／Ｌ以下が特に好ましい。
特定ベンゾトリアゾール環化合物の濃度が高過ぎる場合、外観保護剤での処理直後の乾燥時に対象特定めっき皮膜の表面にシミが発生し易くなり外観異常の原因となる場合がある。更に、外観保護剤が溶液として不安定になり、塩が析出し易くなる場合等がある。
一方、特定ベンゾトリアゾール環化合物の濃度が低過ぎる場合は、十分な外観維持効果が得られなくなる等、前記した本発明の効果が得られなくなる場合がある。
【００３６】
＜式（２）で表される特定４級アンモニウム化合物について＞
上記式（２）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに異なっていてもよい、−ＣｍＨ２ｍ＋１（ｍは１〜２５の整数を示すが、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６の何れか１つ以上で、ｍは１２〜２５の整数を示す）を表す。
「−ＣｍＨ２ｍ＋１（ｍ＝１〜２５の整数）」は、側鎖を有するものでもよいが、直鎖であるものの方が好ましい。特に、「ｍが１２〜２５の範囲の整数である−ＣｍＨ２ｍ＋１」は、側鎖を有するものでもよいが、直鎖であるものの方が好ましい。
直鎖の方が、当モル数における外観維持効果が優れており、本発明の前記効果を奏し易い。
【００３７】
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６のうち１つもｍが１２〜２５の整数でないとき（ｍが何れも１１以下のとき）は、十分な外観維持効果が得られなくなる等、前記した本発明の効果が得られない場合がある。
【００３８】
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６の４個のうち、−ＣｍＨ２ｍ＋１（ｍ＝１２〜２５の整数）である個数は、１〜４個であれば特に限定はないが、十分に外観を維持するために、また水への溶解性を維持するために、１個又は２個が好ましく、１個が特に好ましい。
また、−ＣｍＨ２ｍ＋１（ｍ＝１２〜２５の整数）の整数ｍは、１２以上２５以下の整数であるが、１４以上２２以下の整数が好ましく、１６以上２０以下の整数が特に好ましい。上記範囲であると、十分な外観維持効果が得られ、前記した本発明の効果が得られ易い。
【００３９】
また、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６のうち、−ＣｍＨ２ｍ＋１（ｍ＝１２〜２５の整数）ではない「−ＣｍＨ２ｍ＋１（ｍ＝１〜１１の整数）」の方の整数ｍは、１以上６以下の整数が好ましく、１以上４以下の整数がより好ましく、１（メチル基）が特に好ましい。
上記範囲であると、十分な外観維持効果が得られ、また水への溶解性を維持でき、前記した本発明の効果が得られ易くなる。
【００４０】
Ｘ−は、塩素イオン（Ｃｌ−）、ヨウ素イオン（Ｉ−）臭素イオン（Ｂｒ−）又は水酸化イオン（ＯＨ−）である。
特定４級アンモニウム化合物は、有機酸塩等の上記とは別の塩の形で添加して溶液（外観保護剤）を作り、該溶液（外観保護剤）内で塩交換して、Ｘ−が、Ｃｌ−、Ｉ−、Ｂｒ−、又は、ＯＨ−になっていてもよい。
【００４１】
特定４級アンモニウム化合物は、１種を単独で又は２種以上を併用して使用することができる。
【００４２】
特定４級アンモニウム化合物の陽イオン部分（カチオン部分）としては、限定はないが、具体的には、例えば、ドデシルトリメチルアンモニウム、トリデシルトリメチルアンモニウム、テトラデシルトリメチルアンモニウム、ペンタデシルトリメチルアンモニウム、ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、ヘプタデシルトリメチルアンモニウム、オクタデシルトリメチルアンモニウム、ノナデシルトリメチルアンモニウム、イコシルトリメチルアンモニウム、ヘンイコシルトリメチルアンモニウム、ドコシルトリメチルアンモニウム、トリコシルトリメチルアンモニウム、テトラコシルトリメチルアンモニウム、ペンタコシルトリメチルアンモニウム、ジメチルジドデシルアンモニウム、ジメチルジトリデシルアンモニウム、ジメチルジテトラデシルアンモニウム、ジメチルジテトラデシルアンモニウム、ジメチルジペンタデシルアンモニウム、ジメチルジヘキサデシルアンモニウム、ジメチルジへプタデシルアンモニウム、ジメチルジオクタデシルアンモニウム、ジメチルジノナデシルアンモニウム、ジメチルジイコシルアンモニウム、ジメチルジヘンイコシルアンモニウム、ジメチルジドコシルアンモニウム、ジメチルジトリコシルアンモニウム、ジメチルジテトラコシルアンモニウム、ジメチルジペンタコシルアンモニウム等が特に好ましいものとして挙げられる。
また、特定４級アンモニウム化合物としては、上記陽イオン（カチオン）の塩化物、ヨウ化物、臭化物又は水酸化物が特に好ましいものとして挙げられる。
上記具体的な特定４級アンモニウム化合物は、１種を単独で又は２種以上を併用して使用することができる。
【００４３】
特定４級アンモニウム化合物の濃度は特に限定はないが、外観保護剤全体に対して、含有されている特定４級アンモニウム化合物の合計で、０．０００１ｇ／Ｌ以上１０ｇ／Ｌ以下が好ましく、０．００１ｇ／Ｌ以上１ｇ／Ｌ以下がより好ましく、０．０５ｇ／Ｌ以上０．５ｇ／Ｌ以下が特に好ましい。
濃度が高過ぎる場合、外観保護剤での処理直後の乾燥時に対象特定めっき皮膜の表面にシミが発生し易く、外観異常の原因となる。更に、液が不安定になり塩が析出し易くなる。また、接触抵抗やワイヤーボンディング特性に悪影響が認められる。
一方、濃度が低過ぎる場合は、十分な外観維持効果が得られなくなる等、前記した本発明の効果が得られ難くなる場合がある。
【００４４】
＜水について＞
本発明の外観保護剤は、前記した成分を前記した濃度で水に溶解させて得ることができる。溶解の方法は、特に限定されず公知の方法が用いられる。溶解の順番も特に限定されず公知の方法が用いられる。水は、イオン交換水（脱イオン水）、蒸留水等の純水の使用が好ましい。
【００４５】
＜ｐＨ緩衝剤について＞
本発明の外観保護剤には、必要に応じてｐＨ緩衝剤を適宜含有させることができる。ｐＨ緩衝剤としては、外観保護剤に悪影響を与えることなく、ｐＨ変動を緩和できるものであれば特に限定はない。具体的には、例えば、ホウ酸、リン酸、ピロリン酸、モルホリン、エタンスルホン酸等が挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を併用して使用することができる。
【００４６】
本発明の外観保護剤に用いるｐＨ緩衝剤の濃度は、外観保護剤全体に対して、０．０１ｇ／Ｌ以上１００ｇ／Ｌ以下が好ましく、０．１ｇ／Ｌ以上１０ｇ／Ｌ以下が特に好ましい。
ｐＨ緩衝剤濃度が高過ぎると、対象特定めっき皮膜の表面にシミが発生したり、接触抵抗、ワイヤーボンディング特性に悪影響が認められたりする場合がある。
一方、ｐＨ緩衝剤濃度が少な過ぎると、ｐＨ緩衝効果が十分に得られず実用的でない。
【００４７】
＜界面活性剤について＞
本発明の外観保護剤には、必要に応じて界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、周知の界面活性剤で外観保護剤に悪影響を与えるものでなければ特に限定はなく、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、両性界面活性剤又はカチオン系界面活性剤が用いられる。これらは１種又は２種以上を混合して用いることができる。
【００４８】
ノニオン系界面活性剤としては、特に限定はないが、例えば、ノニルフェノールポリアルコキシレート、α−ナフトールポリアルコキシレート、ジブチル−β−ナフトールポリアルコキシレート、スチレン化フェノールポリアルコキシレート等のエーテル型ノニオン系界面活性剤；オクチルアミンポリアルコキシレート、ヘキシニルアミンポリアルコキシレート、リノレイルアミンポリアルコキシレート等のアミン型ノニオン系界面活性剤；等が挙げられる。
【００４９】
アニオン系界面活性剤としては、特に限定はないが、例えば、ラウリル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸塩；ポリオキシエチレンノニルエーテル硫酸ナトリウム等のポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩；ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩；アルキルベンゼンスルホン酸塩；等が挙げられる。
【００５０】
両性界面活性剤としては、特に限定はないが、例えば、２−ウンデシル−１−カルボキシメチル−１−ヒドロキシエチルイミダゾリウムベタイン、Ｎ−ステアリル−Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｎ−カルボキシメチルベタイン、ラウリルジメチルアミンオキシド等が挙げられる。
【００５１】
カチオン界面活性剤としては、特に限定はないが、例えば、ラウリルピリジニウム塩、オレイルイミダゾリウム塩、ステアリルアミンアセテート等が挙げられる。
【００５２】
以上の界面活性剤のうち、好ましくは、ノニオン系界面活性剤又は両性界面活性剤である。これら界面活性剤は、同種又は異種のうちから１種又は２種以上を混合して用いることができる。
【００５３】
本発明の外観保護剤中の界面活性剤の含有量は、外観保護剤全体に対して、好ましくは０．０１ｇ／Ｌ以上１０ｇ／Ｌ以下であるが、所望の性能を発揮すればよく、特に含有量を限定するものではない。
【００５４】
＜対象特定めっき皮膜、特定下地金属、用途について＞
本発明の外観保護剤は、最外層が上記「対象特定めっき皮膜」のときに、前記した本発明の効果を発揮する。
具体的には、最外層である前記「対象特定めっき皮膜」は、銀めっき皮膜、銀パラジウム合金めっき皮膜、金めっき皮膜、金コバルト合金めっき皮膜、金ニッケル合金めっき皮膜、金銀合金めっき皮膜、金すず合金皮膜、パラジウムめっき皮膜、パラジウムコバルト合金めっき皮膜、又は、パラジウムニッケル合金めっき皮膜であることが、本発明の効果が特に奏されるために特に好ましい。
【００５５】
本発明の外観保護剤を使用する際の対象特定めっき皮膜の膜厚については、対象特定めっき皮膜が銀（合金）めっき皮膜のときには、０．０１μｍ以上１０００μｍ以下が好ましく、０．１μｍ以上１００μｍ以下がより好ましく、１μｍ以上１０μｍ以下が特に好ましい。
また、対象特定めっき皮膜が金（合金）めっき皮膜のときには、０．０００１μｍ以上１００μｍ以下が好ましく、０．００１μｍ以上１０μｍ以下がより好ましく、０．０１μｍ以上１μｍ以下が特に好ましい。
また、対象特定めっき皮膜がパラジウム（合金）めっき皮膜のときには、０．０００１μｍ以上１００μｍ以下が好ましく、０．００１μｍ以上１０μｍ以下がより好ましく、０．０１μｍ以上１μｍ以下が特に好ましい。
【００５６】
特に金（合金）めっき皮膜のときには、前記した通り薄膜化の利点が大きいために上限を上記以下にすることが多い。一般に薄膜だとピンホールが生じ易い。本発明は、該ピンホールに対処して電気的性能や外観を維持できるので、上限は上記以下であることが望ましい。
一方、下限が上記以上であると、金属めっき皮膜としての種々の性能を発揮し易い。
【００５７】
本発明における最外層めっき皮膜の下地金属（特定下地金属）は、コネクタ、プリント基板、反射板等の各用途の要求特性に従い適宜選択でき、何ら限定されるものではないが、純銅、ベリリウム銅、黄銅、リン青銅、銅鉄合金、コルソン合金等の各種銅（合金）（皮膜）；ニッケルめっき皮膜、ニッケルリンめっき皮膜、４２合金、パラジウムニッケルめっき皮膜等の各種ニッケル（合金）（皮膜）；パラジウムめっき皮膜、パラジウムリンめっき皮膜、パラジウムニッケルめっき皮膜、パラジウムコバルトめっき皮膜、パラジウム銀めっき皮膜等の各種パラジウム（合金）皮膜；等が好ましいものとして挙げられる。
【００５８】
ここで、上記「各種銅（合金）（皮膜）」は、めっきによって形成されたものには限定されず、めっき皮膜ではない、銅（合金）箔、銅（合金）板、銅（合金）線、銅（合金）回路、銅（合金）塊等、各種銅（合金）全般であってもよく、また、めっき皮膜である各種銅（合金）皮膜であってもよい。
また、「各種ニッケル（合金）（皮膜）」についても上記と同様である。
【００５９】
対象特定めっき皮膜の下地として、上記特定下地金属が好ましい理由は、上記した特定下地金属が、コネクタ、プリント基板、反射板等の用途に多く用いられている金属であると言うこともあるが、それに加え、特に前記対象特定めっき皮膜が金（合金）めっき皮膜のときに、金（合金）めっき皮膜のピンホールを通じて、表面上に腐食生成物が析出するといった現象を、本発明の外観保護剤が特に好適に防止できると言った理由による。
例えば金価格の高騰等から、金（合金）めっき皮膜の薄膜化が進展してきており、その薄膜化に伴い該皮膜のピンホールが増大した結果、経時により、金（合金）めっき皮膜のピンホール等から腐食性物質（亜硫酸ガス、硫化水素ガス等）が侵入することで、特定下地金属を腐食し、金（合金）めっき皮膜の表面上に腐食生成物が析出するといった現象が生じている。
【００６０】
本発明の外観保護剤を使用すれば、下地が上記特定下地金属の場合に、特に「上記腐食生成物の析出による金（合金）めっき皮膜の表面の経時変化」が抑制され、接触抵抗の上昇、回路の短絡、断線等の問題発生を防止できるだけではなく、外観変化の抑制により信頼性が上がる。
【００６１】
本発明の外観保護剤は、最外層めっき皮膜が前記「対象特定めっき皮膜」であるときに好適に使用できるが、対象特定めっき皮膜のめっき方法については、電解めっき、無電解めっき等の湿式めっき；ＣＶＤ、ＰＶＤ等の乾式めっき；等の公知のものに適用でき、何ら限定されるものではない。
【００６２】
＜外観保護剤の限定について＞
本発明の外観保護剤は、反射率が８０％以上の上記最外層を有する上記金属体を、亜硫酸ガス雰囲気下（亜硫酸ガス濃度：１０体積ｐｐｍ、温度：４０℃、相対湿度：８０％）に２４時間放置したとき、又は、硫化水素ガス雰囲気下（硫化水素ガス濃度：２体積ｐｐｍ、温度：４０℃、相対湿度：８０％）に４８時間放置したとき、該反射率を６０％以上に維持するようにできるので、該性能を有するものが好ましい。
更に、上記の２条件でそれぞれ放置したときに、該反射率を７０％以上に維持するようにできるので、該性能を有するものがより好ましい。
【００６３】
また、本発明の外観保護剤は、反射率が８０％以上の上記最外層を有する上記金属体を、亜硫酸ガス雰囲気下（亜硫酸ガス濃度：１０体積ｐｐｍ、温度：４０℃、相対湿度：８０％）に２４時間放置したとき、及び、硫化水素ガス雰囲気下（硫化水素ガス濃度：２体積ｐｐｍ、温度：４０℃、相対湿度：８０％）に４８時間放置したとき、該反射率を６０％以上に維持するようにできるので、該性能を有するものが好ましい。
更に、上記の２条件でそれぞれ放置したときに、該反射率を、どちらの条件でも（亜硫酸ガス雰囲気下でも硫化水素ガス雰囲気下でも）７０％以上に維持するようにできるので、該性能を有するものが特に好ましい。
【００６４】
＜外観保護剤による処理方法について＞
また、本発明は、前記した特定下地金属を下地として、前記した対象特定めっき皮膜を最外層に有する金属体の表面を、前記の外観保護剤で処理して、該最外層の変色及び／又は腐食を抑制して外観が維持された状態にすることを特徴とする金属体の処理方法でもある。
本発明の外観保護剤で金属体を処理する処理方法としては、該金属体を直接外観保護剤に浸漬する方法、外観保護剤を該金属体に塗布する方法、外観保護剤をスプレーガンで吹き付ける方法等がある。
【００６５】
特に限定されるものではないが、中でも直接浸漬する方法が好ましい。浸漬条件としては、１０℃〜６０℃で１秒以上浸漬する方法が好ましく、３０℃〜５０℃で２秒〜１分浸漬する方法が特に好ましい。
外観保護剤で処理後は、水洗を実施してもよいが、外観保護剤の成分が水溶性であるため、水洗を実施しないで、エアガン等による外観保護剤の液滴の除去が好ましい。
【００６６】
＜金属体について＞
本発明は、銅、銅合金、ニッケル、ニッケル合金、パラジウム、及び、パラジウム合金よりなる群から選ばれる少なくとも１種以上の金属（特定下地金属）を下地金属として、銀めっき皮膜、銀合金めっき皮膜、金めっき皮膜、金合金めっき皮膜、パラジウムめっき皮膜、又は、パラジウム合金めっき皮膜（対象特定めっき皮膜）を最外層に有する金属体の表面が、前記の本発明の外観保護剤で処理されて、該最外層の変色及び／又は腐食が抑制されて外観が維持された状態になっているものであることを特徴とする金属体でもある。
【実施例】
【００６７】
以下に実施例及び比較例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、これらの実施例に限定されるものではない。
【００６８】
調製例１
＜外観保護剤の調製＞
以下の表１に示す「式（１）で表される特定ベンゾトリアゾール環化合物」をそれぞれ１ｇ／Ｌ、同じく表１に示す「式（２）で表される特定４級アンモニウム化合物」をそれぞれ０．１ｇ／Ｌを純水に溶解させた。
【００６９】
次いで、ｐＨ緩衝剤としてリン酸水素カリウムを１ｇ／Ｌ溶解させ、ｐＨを７．０に調整した。ｐＨを上昇させる場合には水酸化カリウム水溶液を、ｐＨを低下させる場合にはリン酸を用いた。なお、「表１」中の「−」は、その該当する化合物のみが外観保護剤中に含有されていないことを示す。
【００７０】
【表１】
2017179516.tif 000006
【００７１】
調製例２
＜めっき工程＞
本実施例・比較例でのめっき工程を表２に示す。純銅板に、脱脂、電解ニッケルストライクめっき、電解光沢ニッケルめっき、電解金ストライクめっき処理を施した。
その後、表３に示す各種めっき処理により、最外層の金属めっき皮膜を形成させた。
【００７２】
【表２】
2017179516.tif 000007
【００７３】
【表３】
2017179516.tif 000008
【００７４】
調製例３
＜外観保護剤による処理＞
上記のめっき工程で作製した各種めっきサンプルを、表１に示した実施例１〜２３、比較例１〜２０に対応する外観保護剤の中に、３０℃で１０秒浸漬し、それぞれ処理を行った。なお、処理後は水洗を実施せずに、エアガンで付着した液滴を除去した。
【００７５】
＜外観保護剤で処理後の各種めっきサンプルの加熱処理＞
表１に示した実施例１〜６、８〜１５、１７、１９〜２３、比較例１〜２０の外観保護剤で処理後の各種めっきサンプルについて、最外層に金属皮膜を有する金属体（製品）に対するはんだ処理を想定して加熱処理を行った。加熱処理には、リフロー炉（ＲＦ−４３０−ＭＺ、日本パルス技術研究所社製）を使用し、コンベヤ速度：２４０ｍｍ／分、コンベヤ長さ：９８０ｍｍ、設定温度：１６０℃−１７０℃−２００℃−２６０℃（最高到達温度２６０℃、２００℃以上１０６秒、２５０℃以上２４秒）で３回処理した。実施例７、１６、１８については、加熱処理を行わなかった。
【００７６】
＜評価試験方法＞
実施例１〜２３、比較例１〜２０の全サンプルについて表面の反射率を測定し、亜硫酸ガス試験と硫化水素ガス試験を実施した。
【００７７】
試験例１
＜＜反射率測定＞＞
反射率の測定には、積分球式分光反射率計（ＳＤ７０００、日本電色工業株式会社製）を使用し、測定方式：正反射・拡散反射の同時測定、測定径：８ｍｍφの条件で測定した。
【００７８】
試験例２
＜＜亜硫酸ガス試験＞＞
実施例１〜２３、比較例１〜２０の全サンプルについて、ガス腐食試験機（ＧＳ−ＵＶ、スガ試験機株式会社製）にて、亜硫酸ガス試験（濃度：１０体積ｐｐｍ、温度：４０℃、相対湿度：８０％、時間：２４時間）を実施した。試験後の各サンプルの金属表面の反射率を、試験例１と同様にして測定することで外観の変化を評価した。
【００７９】
試験例３
＜＜硫化水素ガス試験＞＞
実施例１〜２３、比較例１〜２０の全サンプルについて、ガス腐食試験機（ＧＳ−ＵＶ、スガ試験機株式会社製）にて、硫化水素ガス試験（濃度：２体積ｐｐｍ、温度：４０℃、相対湿度８０％、時間：４８時間）を実施した。試験後の各サンプルの金属表面の反射率を、試験例１と同様にして測定することで外観の変化を評価した。
【００８０】
＜評価結果＞
実施例１〜２３及び比較例１〜２０の評価結果を表４に示す。
【００８１】
【表４】
2017179516.tif 000009
【００８２】
表４から分かる通り、実施例１〜２３、比較例１〜２０の結果が示すように、式（１）で表される特定ベンゾトリアゾール環化合物及び式（２）で表される特定４級アンモニウム化合物の２成分を同時に含有する外観保護剤は、銀めっき皮膜、銀合金めっき皮膜、金めっき皮膜、金合金めっき皮膜、パラジウムめっき皮膜、パラジウム合金めっき皮膜の表面の腐食や変色を抑制し、外観を維持するのに有効であることが確認された。
【００８３】
また、比較例１〜２０の結果が示すように、式（１）で表される特定ベンゾトリアゾール環化合物及び式（２）で表される特定４級アンモニウム化合物の２成分を同時に含有してはいない場合（何れか又は両方を含有していない場合）は、亜硫酸ガス試験、硫化水素ガス試験の何れの試験でも、金属体の表面の反射率が低下し、外観維持効果が得られないことが確認された。
【００８４】
また、例えば、実施例１１と１６、実施例１７と１８の比較から分かる通り、「式（１）で表される特定ベンゾトリアゾール環化合物及び式（２）で表される特定４級アンモニウム化合物の２成分を同時に含有する外観保護剤」で処理をした金属体（の最外層）の反射率は、腐食試験の前であっても後であっても、はんだ処理を想定した加熱処理の有無によって有意の差が見られなかった（表４）。すなわち、はんだ処理を想定して加熱処理を行っても、亜硫酸ガス試験と硫化水素ガス試験で金属体の表面の反射率が低下せず、外観維持効果が得られた。
なお、外観保護剤による処理前後の金属体（の最外層）の外観や表面状態の変化は、目視でも反射率測定でも確認できなかった。
【産業上の利用可能性】
【００８５】
本発明の外観保護剤は、はんだ付け時の加熱後でも十分な変色・腐食防止効果を有しているため、銅（合金）、ニッケル（合金）又はパラジウム（合金）を下地金属として、銀（合金）めっき皮膜、金（合金）めっき皮膜又はパラジウム（合金）めっき皮膜を最外層に有する部材（金属体）の変色や腐食を抑制するので、上記部材（金属体）を製造する分野に広く利用されるものである。
特に、例えば、コネクタ端子、プリント基板等の金めっき若しくは金合金めっき皮膜；ＬＥＤ反射板の銀めっき皮膜；等の耐熱性が要求される部材（金属体）に対して、特に表面の外観を維持するために広く利用されるものである。