(57)【要約】【課題】  大型化を抑制しつつも、漏れ光に起因する光源の破損を低減させ得る光アイソレータ及びレーザ装置を提供する。【解決手段】  光アイソレータ１は、出射側偏光子３４における第１の偏光Ｌ１の常光成分及び第２の偏光Ｌ２の異常光成分を含む面に垂直な方向から見る場合に、出射側偏光子３４の出射面と出射側パネル１０Ｃの内壁面との間において第１の偏光Ｌ１の異常光成分の光軸と第２の偏光Ｌ２の常光成分の光軸とが出射光Ｌoutの光軸を基準とした一方側の領域ＡＲ１に集められるように、第１の偏光Ｌ１の異常光成分及び第２の偏光Ｌ２の常光成分の少なくとも一方を反射する反射部材を備える。【選択図】    図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
順方向から入射する入射光を、互いに偏光方向が直交する第１の偏光と第２の偏光とに分離する入射側偏光子と、
前記第１の偏光の常光成分と前記第２の偏光の異常光成分とを結合して出射光として出射する出射側偏光子と、
前記入射側偏光子及び前記出射側偏光子の間に配置されるファラデー回転子と、
前記出射側偏光子の出射側に配置され、前記出射側偏光子から出射する前記出射光が通過する開口を有する出射側パネルと、
前記出射側偏光子における前記第１の偏光の常光成分及び前記第２の偏光の異常光成分を含む面に垂直な方向から見る場合に、前記出射側偏光子の出射面と出射側パネルの内壁面との間において前記第１の偏光の異常光成分の光軸と前記第２の偏光の常光成分の光軸とが前記出射光の光軸を基準とした一方側の領域に集められるように、前記第１の偏光の異常光成分及び前記第２の偏光の常光成分の少なくとも一方を反射する反射部材と、
を備える
ことを特徴とする光アイソレータ。
【請求項２】
前記出射側偏光子における前記第１の偏光の常光成分及び前記第２の偏光の異常光成分を含む面に垂直な方向から見る場合に、前記出射側偏光子の出射面と出射側パネルの内壁面との間において前記第１の偏光の異常光成分のパワーのピークを１とする場合における当該パワーが１／ｅ２以上となる部分全体と前記第２の偏光の常光成分のパワーのピークを１とする場合における当該パワーが１／ｅ２以上となる部分全体とが前記一方側の領域に集められるように、前記反射部材は、前記第１の偏光の異常光成分及び前記第２の偏光の常光成分の少なくとも一方を反射する
ことを特徴とする請求項１に記載の光アイソレータ。
【請求項３】
前記出射側偏光子の出射面と出射側パネルの内壁面との間において前記出射側偏光子から出射する前記第１の偏光の異常光成分のパワーのピークを１とする場合における当該パワーが１／ｅ２以上となる部分と前記第２の偏光の常光成分のパワーのピークを１とする場合における当該パワーが１／ｅ２以上となる部分との少なくとも一部が重なるように、前記反射部材は、前記第１の偏光の異常光成分及び前記第２の偏光の常光成分の少なくとも一方を反射する
ことを特徴とする請求項１または２に記載の光アイソレータ。
【請求項４】
前記反射部材は、前記出射側偏光子における長手方向に沿った側面とされ、前記第１の偏光の異常光成分を全反射する
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の光アイソレータ。
【請求項５】
前記反射部材は、前記出射側偏光子の出射面と出射側パネルの内壁面との間に配置されるミラーとされる
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の光アイソレータ。
【請求項６】
前記出射側偏光子と前記出射側パネルとの間に配置される光処理部をさらに備え、
前記光処理部において、前記第１の偏光の異常光成分のパワーのピークを１とする場合における当該パワーが１／ｅ２以上となる部分と前記第２の偏光の常光成分のパワーのピークを１とする場合における当該パワーが１／ｅ２以上となる部分との少なくとも一部が重なる
ことを特徴とする請求項３に記載の光アイソレータ。
【請求項７】
前記光処理部は、前記出射側偏光子から出射する前記第１の偏光の異常光成分及び前記第２の偏光の常光成分を、当該異常光成分及び常光成分が入射する方向とは異なる方向に反射する反射面を有する
ことを特徴とする請求項６に記載の光アイソレータ。
【請求項８】
前記反射面は、前記第１の偏光の異常光成分及び前記第２の偏光の常光成分を乱反射する面である
ことを特徴とする請求項７に記載の光アイソレータ。
【請求項９】
前記光処理部は、前記出射側偏光子から出射する前記第１の偏光の異常光成分及び前記第２の偏光の常光成分を熱に変換する
ことを特徴とする請求項６に記載の光アイソレータ。
【請求項１０】
前記光処理部は、前記出射側パネルに設けられる
ことを特徴とする請求項６から９いずれか１項に記載の光アイソレータ。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか１項に記載の光アイソレータと、
前記光アイソレータに対して順方向の光路の入射側から光を入射させるレーザ出射部と、を備えることを特徴とするレーザ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光アイソレータ及びレーザ装置に関し、加工対象物に対してレーザを用いる場合などに好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
レーザ装置には、加工対象物で反射した光が戻り光として再び入射することがある。この戻り光によってレーザ装置が破壊されることを防止するため、光アイソレータが用いられる場合がある。光アイソレータは、光が順方向に進む場合と逆方向に進む場合とで光の損失が大きく異なる光デバイスである。
【０００３】
このような光アイソレータとして下記特許文献１の光アイソレータが提案されている。下記特許文献１の光アイソレータでは、入射するレーザ光が第１の偏光子で直線偏光となり、その第１の偏光子の後段のＦＲ（ファラデー回転子）で回転され、水晶旋光子を透過して第２の偏光子に入射する。第２の偏光子では、ＦＲによって回転された直線偏光が出射側に向けて透過する。
【０００４】
第２の偏光子では、光学素子の回転能の精度や波長特性や温度特性、及び、偏光子の配置精度などによって第２の偏光子の光軸への入射偏光角にずれが生じ、そのずれに起因して直線偏光成分の一部が漏れ光として、本来進行すべき光路とは異なる光路を進行する場合がある。下記特許文献１の光アイソレータでは、第２の偏光子の後段の光路変換機構によって漏れ光の方向が変換され、当該変換された漏れ光が熱変換処理部によって熱変換される。このように下記特許文献１の光アイソレータでは、順方向から入射する光の漏れ光を熱変換することで、当該漏れ光が逆方向に進むことに起因して光源が破損することが低減される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−１８３４１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、上記特許文献１の光アイソレータでは、第２の偏光子から出射する漏れ光の一部は光路変換機構の第１プリズムによって光アイソレータの側方向に折り曲げられ、一対の熱変換処理部の一方で熱変換される。また、漏れ光の他の一部は光路変換機構の第２プリズムによって第１プリズムが折り曲げる方向とは逆方向に折り曲げられ、一対の熱変換処理部の他方で熱変換される。
【０００７】
しかしながら、上記特許文献１の光アイソレータでは、２つの折り曲げ光路が必要となり、当該光アイソレータが大型化する傾向にある。光アイソレータが大型化すると、光学素子の回転能の精度や波長特性及び偏光子の配置精度などによって偏光子で生じる漏れ光に起因する光源の破損を低減することができても、当該光アイソレータを設置し難くなる場合などが想定される。
【０００８】
そこで、本発明は、大型化を抑制しつつも、漏れ光に起因する光源の破損を低減させ得る光アイソレータ及びレーザ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため本発明の光アイソレータは、順方向から入射する入射光を、互いに偏光方向が直交する第１の偏光と第２の偏光とに分離する入射側偏光子と、前記第１の偏光の常光成分と前記第２の偏光の異常光成分とを結合して出射光として出射する出射側偏光子と、前記入射側偏光子及び前記出射側偏光子の間に配置されるファラデー回転子と、前記出射側偏光子の出射側に配置され、前記出射側偏光子から出射する前記出射光が通過する開口を有する出射側パネルと、前記出射側偏光子における前記第１の偏光の常光成分及び前記第２の偏光の異常光成分を含む面に垂直な方向から見る場合に、前記出射側偏光子の出射面と出射側パネルの内壁面との間において前記第１の偏光の異常光成分の光軸と前記第２の偏光の常光成分の光軸とが前記出射光の光軸を基準とした一方側の領域に集められるように、前記第１の偏光の異常光成分及び前記第２の偏光の常光成分の少なくとも一方を反射する反射部材と、を備えることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明のレーザ装置は、上述の光アイソレータと、前記光アイソレータに対して順方向の光路の入射側から光を入射させるレーザ出射部と、を備えることを特徴とする。
【００１１】
上述したように、ファラデー回転子の回転能の精度や波長特性や温度特性、及び、入射側偏光子や出射側偏光子の配置精度などによって出射側偏光子に入射する光の入射偏光角にずれが生じる場合がある。この場合、出射側偏光子では、常光成分を主とした第１の偏光において異常光成分が漏れ光として生じ、異常光成分を主とした第２の偏光において常光成分が漏れ光として生じる。
本発明の光アイソレータでは、上述したように、第１の偏光の常光成分及び第２の偏光の異常光成分を含む面に垂直な方向から見る場合に、第１の偏光の異常光成分の光軸及び第２の偏光の常光成分の光軸が、出射側偏光子で結合され出射される出射光の光軸を基準とした一方側の領域に集められる。
一般的に光のパワーは光軸において最も高いため、漏れ光である第１の偏光の異常光成分の光軸及び第２の偏光の常光成分の光軸が集められる部分に光の乱反射や熱変換等の光処理部を設けることで、順方向の光路上を漏れ光が進んで、その順方向に入射光を入射する光源に当該漏れ光が到達してしまうことが抑制される。この結果、漏れ光に起因する光源の破損を低減させることができる。従って、本発明の光アイソレータによれば、漏れ光である第１の偏光の異常光成分と第２の偏光の常光成分とが集められない場合に比べると、当該光処理部が過大に大きくなってしまうことを低減でき、その分だけ光アイソレータの大型化を抑制することができる。
こうして、本発明によれば、大型化を抑制しつつも、漏れ光に起因する光源の破損を低減させ得る光アイソレータ及びレーザ装置が提供される。
【００１２】
また、前記出射側偏光子における前記第１の偏光の常光成分及び前記第２の偏光の異常光成分を含む面に垂直な方向から見る場合に、前記出射側偏光子の出射面と出射側パネルの内壁面との間において前記第１の偏光の異常光成分のパワーのピークを１とする場合における当該パワーが１／ｅ２以上となる部分全体と前記第２の偏光の常光成分のパワーのピークを１とする場合における当該パワーが１／ｅ２以上となる部分全体とが前記一方側の領域に集められるように、前記反射部材は、前記第１の偏光の異常光成分及び前記第２の偏光の常光成分の少なくとも一方を反射することが好ましい。
【００１３】
一般的に光の径は、光のパワーのピークを１とする場合における当該パワーが１／ｅ２以上となる部分で定義される。従って、上記のように第１の偏光の異常光成分と前記第２の偏光の常光成分とを集めることで、これらの光を処理する光処理部が大きくなることを更に抑制することができる。
【００１４】
また、前記出射側偏光子の出射面と出射側パネルの内壁面との間において前記出射側偏光子から出射する前記第１の偏光の異常光成分のパワーのピークを１とする場合における当該パワーが１／ｅ２以上となる部分と前記第２の偏光の常光成分のパワーのピークを１とする場合における当該パワーが１／ｅ２以上となる部分との少なくとも一部が重なるように、前記反射部材は、前記第１の偏光の異常光成分及び前記第２の偏光の常光成分の少なくとも一方を反射することが好ましい。
【００１５】
このようにした場合、上記のようにパワーで定義される第１の偏光の異常光成分と第２の偏光の常光成分との少なくとも一部が重ならない場合に比べて、当該漏れ光を集める部分の面積を小さくできる。したがって、漏れ光が集められる部分に設けるべき光処理部をより小さくすることができる。
【００１６】
また、前記反射部材は、前記出射側偏光子における長手方向に沿った側面とされ、前記第１の偏光の異常光成分を全反射することが好ましい。
【００１７】
このようにした場合、漏れ光である第１の偏光の異常光成分を反射するための反射部材を出射側偏光子の一部とすることができ、反射部材としての光学素子を別途設ける必要がない。したがって、光アイソレータの大型化をより一段と抑制することができる。
【００１８】
或いは、前記反射部材は、前記出射側偏光子の出射面と出射側パネルの内壁面との間に配置されるミラーとされることが好ましい。
【００１９】
ミラーを配置することで、例えば、出射側偏光子において反射することなく第１の偏光の異常光成分が出射する場合であっても、ミラーにより、第１の偏光の異常光成分及び第２の偏光の常光成分の少なくとも一方を反射することができる。従って、出射側偏光子の設計の制限を抑制することができる。
【００２０】
また、前記出射側偏光子と前記出射側パネルとの間に配置される光処理部をさらに備え、前記光処理部において、前記第１の偏光の異常光成分のパワーのピークを１とする場合における当該パワーが１／ｅ２以上となる部分と前記第２の偏光の常光成分のパワーのピークを１とする場合における当該パワーが１／ｅ２以上となる部分との少なくとも一部が重なることが好ましい。
【００２１】
第１の偏光の異常光成分及び第２の偏光の常光成分が重ならない場合には、第１の偏光の異常光成分用の光処理部及び第２の偏光の常光成分の光処理部を設ける必要があるが、上記のようにした場合、当該光処理部を纏めることで小さくすることができる。
【００２２】
なお、前記光処理部は、前記出射側偏光子から出射する前記第１の偏光の異常光成分及び前記第２の偏光の常光成分を、当該異常光成分及び常光成分が入射する方向とは異なる方向に反射する反射面を有するものとすることができる。この場合における前記反射面は、前記第１の偏光の異常光成分及び前記第２の偏光の常光成分を乱反射する面であることが良い。
【００２３】
或いは、前記光処理部は、前記出射側偏光子から出射する前記第１の偏光の異常光成分及び前記第２の偏光の常光成分を熱に変換する光熱変換素子であることとすることができる。
【００２４】
また、前記光処理部は、前記出射側パネルに設けられることが好ましい。このようにした場合、出射側偏光子と出射側パネルとの空間上に光処理部が設けられる場合に比べて、出射側偏光子と出射側パネルとの間の距離を小さくすることができ、光アイソレータをより小型化することができる。
【発明の効果】
【００２５】
以上のように、本発明によれば、大型化を抑制しつつも、漏れ光に起因する光源の破損を低減させ得る光アイソレータ及びレーザ装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本実施形態の光アイソレータを示す図である。
【図２】本実施形態の光アイソレータにおいて順方向の光路を伝搬する光の様子を示す図である。
【図３】出射側偏光子と出射側パネルとの関係の説明に供する図である。
【図４】レーザ装置の構成を示す図である。
【図５】アイソレータの変形例を示す図である。
【図６】アイソレータの他の変形例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
（１）光アイソレータ
まず、本実施形態の光アイソレータについて図面を用いながら詳細に説明する。図１は、本実施形態の光アイソレータを示す図である。図１に示すように、本実施形態の光アイソレータ１は、筐体１０、チューブ２０、入射側偏光子３１、ファラデー回転子３２、偏光ローテータ３３、出射側偏光子３４及び磁気印加部４０を主な構成として備える。
【００２８】
筐体１０は、チューブ２０及び磁気印加部４０を配置可能な空間を有する例えば管状の本体１０Ａと、その本体１０Ａの両端に設けられる入射側パネル１０Ｂ及び出射側パネル１０Ｃとを有する。本体１０Ａと入射側パネル１０Ｂ及び出射側パネル１０Ｃとは一体として成形されていても良く、別々の部材で構成されていても良い。
【００２９】
入射側パネル１０Ｂは、順方向からの光を入射光として入射させるパネルであり、当該入射光が通過可能な光学的な開口である入射口１１を有する。一方、出射側パネル１０Ｃは、順方向から入射した光を出射光として出射させるパネルであり、当該出射光が通過可能な光学的な開口である出射口１２を有する。これら入射口１１及び出射口１２は、例えば、筐体１０がアルミニウムで形成されている場合にはガラスであったり、物理的に何も配置されない空孔であったりする。
【００３０】
入射側パネル１０Ｂの内側面には、入射側パネル１０Ｂの内側面から外側面に向かって凹む凹部１４が設けられており、当該凹部１４にチューブ２０の一端部分が支持されている。
【００３１】
出射側パネル１０Ｃの内側面には、出射側パネル１０Ｃの内側面から外側面に向かって凹む凹部１５が設けられており、当該凹部１５にチューブ２０の他端部分が支持されている。本実施形態における凹部１５の底面は、後述のように出射側偏光子３４で生じる漏れ光の光軸に対し直交する面ではなく、当該面に対し傾斜する傾斜面１５Ａとなっている。
【００３２】
チューブ２０は、入射側偏光子３１、ファラデー回転子３２、偏光ローテータ３３及び出射側偏光子３４を配置可能な空間を有する例えば円筒形状の部材とされる。このチューブ２０の一端部分は、当該一端側の開口と入射口１１とが重なる状態で凹部１４に支持されている。また、チューブ２０の他端部分は、当該他端側の開口と出射口１２とが重なる状態で凹部１５に支持されている。
【００３３】
磁気印加部４０は、本実施形態では円筒形の形状の永久磁石から構成されており、貫通孔内及び貫通孔の近傍において、概ね、それぞれの光学素子が並んでいる方向、つまりファラデー回転子３２の光の伝搬方向に磁場を印加する。この磁場の強度は、磁気印加部４０の貫通孔内の中心が最も大きい。磁気印加部４０は、不図示の手段により筐体１０に固定されており、この状態でチューブ２０が貫通孔内に挿入されている。
【００３４】
入射側偏光子３１は、チューブ２０の貫通孔内における入射側開口に隣接する位置に配置されている。入射側偏光子３１は、複屈折素子であり、順方向から入射する入射光を、互いに偏光方向が直交する第１の偏光と第２の偏光とに分離させて出射する。なお、この第１の偏光は、入射側偏光子３１の偏光軸の方向と概ね垂直の偏光方向とされ、入射側偏光子３１において異常光とされる。また、第２の偏光は、入射側偏光子３１の偏光軸の方向と概ね同じ偏光方向とされ、入射側偏光子３１において常光とされる。
【００３５】
この入射側偏光子３１を構成する材料としては、イットリウム・オルトバナデート（ＹＶＯ４）、カルサイト（ＣａＣＯ３）、ルチル（ＴｉＯ２）等が挙げられる。
【００３６】
ファラデー回転子３２は、チューブ２０の貫通孔内における入射側偏光子３１と隣接する位置であって、当該入射側偏光子３１及び出射側偏光子３４の間に配置されており、入射する光の偏光方向を＋４５度回転させて出射する。
【００３７】
ファラデー回転子３２を構成する材料としては、テルビウム・ガリウム・ガーネット型単結晶（ＴＧＧ：Ｔｂ３Ｇａ５Ｏ１２）、テルビウム・アルミニウム・ガーネット型単結晶（ＴＡＧ：Ｔｂ３Ａｌ５Ｏ１２）、テルビウム・スカンジウム・アルミニウム・ガーネット型単結晶（ＴＳＡＧ：Ｔｂ３Ｓｃ２Ａｌ３Ｏ１２）等が挙げられる。
【００３８】
偏光ローテータ３３は、チューブ２０の貫通孔内におけるファラデー回転子３２と隣接する位置であって、当該ファラデー回転子３２及び出射側偏光子３４の間に配置されている。この偏光ローテータ３３は、入射口１１側から入射する光の偏光方向を＋４５度回転させて出射する。偏光ローテータ３３を構成する材料としては、水晶等が挙げられる。
【００３９】
出射側偏光子３４は、チューブ２０の貫通孔内における偏光ローテータ３３に隣接する位置に配置されている。また出射側偏光子３４の偏光ローテータ３３側と反対側は出射側開口と隣接している。出射側偏光子３４は、入射側偏光子３１と同じ素子であるが、本実施形態では偏光軸の方向が入射側偏光子３１の偏光軸の方向に対して垂直とされる。出射側偏光子３４は、第１の偏光における出射側偏光子３４の偏光軸と同じ偏光方向の光である常光と第２の偏光における出射側偏光子３４の偏光軸と垂直な偏光方向の光である異常光とを結合して出射光として出射する。
【００４０】
次に、光アイソレータ１の光学的な動作について説明する。
【００４１】
図２は、本実施形態の光アイソレータ１において順方向の光路を伝搬する光の様子を示す図である。なお、図２において、常光は実線で示され、異常光は点線で示されている。図２に示すように、入射側パネル１０Ｂの入射口１１を介して順方向から入射側偏光子３１の入射面に入射光Ｌinが入射する。入射側偏光子３１に入射光Ｌinが入射すると、入射光Ｌinは入射側偏光子３１で第１の偏光Ｌ１と第２の偏光Ｌ２とに分離する。
【００４２】
第１の偏光Ｌ１は、上記のように入射側偏光子３１において異常光とされるため、入射側偏光子３１内を入射光Ｌinに対して屈折して伝搬し、入射側偏光子３１の出射面から出射してファラデー回転子３２に入射する。一方、第２の偏光Ｌ２は、上記のように入射側偏光子３１において常光とされるため、入射側偏光子３１を入射方向に直進し、入射側偏光子３１の出射面から出射してファラデー回転子３２に入射する。
【００４３】
ファラデー回転子３２では、順方向光路の入射側からファラデー回転子３２を見た場合に第１の偏光Ｌ１及び第２の偏光Ｌ２の偏光方向が反時計回りに４５°回転し、回転した第１の偏光Ｌ１及び第２の偏光Ｌ２が偏光ローテータ３３に入射する。
【００４４】
偏光ローテータ３３では、順方向光路の入射側から偏光ローテータ３３を見た場合に第１の偏光Ｌ１及び第２の偏光Ｌ２が反時計回りにさらに４５°回転し、回転した第１の偏光Ｌ１及び第２の偏光Ｌ２は出射側偏光子３４に入射する。
【００４５】
このようにファラデー回転子３２と偏光ローテータ３３とで第１の偏光Ｌ１及び第２の偏光Ｌ２の偏光方向が９０度回転し、また、上記のように出射側偏光子３４の偏光軸の方向が入射側偏光子３１の偏光軸の方向に対して垂直とされるため、出射側偏光子３４では、第１の偏光Ｌ１は常光とされ、第２の偏光Ｌ２は異常光とされる。従って、第１の偏光Ｌ１は出射側偏光子３４を入射方向のまま直進し、第２の偏光Ｌ２の出射側偏光子３４への入射方向に対して屈折して出射側偏光子３４の上面に向かって伝搬する。そして、第１の偏光Ｌ１及び第２の偏光Ｌ２は、出射側偏光子３４の出射側の端面において結合し、当該結合した光が出射光Ｌoutとして出射側偏光子３４から出射する。
【００４６】
ところで、出射側偏光子３４では、ファラデー回転子３２の回転能の精度や波長特性や温度特性、及び、入射側偏光子３１や出射側偏光子３４の配置精度などによって出射側偏光子３４に入射する光の入射偏光角にずれが生じる場合がある。
【００４７】
この場合、出射側偏光子３４に入射する光の入射偏光角のずれに起因して、第１の偏光Ｌ１が異常光成分を含み、第２の偏光Ｌ２が常光成分を含む場合がある。この場合、第１の偏光Ｌ１から異常光成分が漏れ光として生じ、第２の偏光から常光成分が漏れ光として生じることになる。別言すれば、出射側偏光子３４では、第１の偏光Ｌ１の常光成分と第２の偏光Ｌ２の異常光成分とが結合されて出射光Ｌoutとされ、第１の偏光Ｌ１の異常光成分と第２の偏光Ｌ２の常光成分とが漏れ光とされる。なお、便宜上、第１の偏光Ｌ１のうち漏れ光である異常光成分を漏れ異常光Ｌ１ｅと呼び、第２の偏光Ｌ２のうち漏れ光である常光成分を漏れ常光Ｌ２ｏと呼ぶ。
【００４８】
漏れ異常光Ｌ１ｅは、出射側偏光子３４の入射位置から出射面に向かって直進する第１の偏光Ｌ１の常光成分とは異なり、当該出射側偏光子３４の上面に向かって伝搬する。また、漏れ常光Ｌ２ｏは、出射側偏光子３４の入射位置から出射側偏光子３４の上面に向かって伝搬する第２の偏光Ｌ２の異常光成分とは異なり、当該出射側偏光子３４の入射位置から出射面に向かって直進する。
【００４９】
本実施形態では、漏れ光（漏れ異常光Ｌ１ｅ及び漏れ常光Ｌ２ｏ）が生じた場合、出射側偏光子３４は、出射側偏光子３４の入射面及び出射面とは異なる側面、すなわち出射側偏光子３４の長手方向に沿った側面のうちの上面で漏れ異常光Ｌ１ｅを全反射する。このように漏れ異常光Ｌ１ｅを全反射するには、出射側偏光子３４の異常光Ｌ１ｅが反射する側面の外側を出射側偏光子３４の屈折率よりも低い屈折率の部材で覆えば良い。例えば、出射側偏光子３４の当該側面が、出射側偏光子３４よりも低屈折率の接着材で被覆されたり空気で覆われたりすれば良い。つまり本実施形態では、出射側偏光子３４における長手方向に沿った側面が第１の偏光Ｌ１の漏れ異常光Ｌ１ｅを全反射する反射部材とされる。
【００５０】
このように漏れ異常光Ｌ１ｅが出射側偏光子３４の側面で全反射されることで、漏れ異常光Ｌ１ｅは漏れ常光Ｌ２ｏ側に伝搬する。具体的には、出射側偏光子３４における第１の偏光Ｌ１の常光成分及び第２の偏光Ｌ２の異常光成分を含む面に垂直な方向（図２の紙面に垂直な方向）から見る場合に、出射側偏光子３４の出射面と出射側パネル１０Ｃの内壁面との間において、漏れ異常光Ｌ１ｅの光軸が出射光Ｌoutの光軸を基準とした一方側の領域である漏れ常光Ｌ２ｏ側の領域ＡＲ１に伝搬する。
【００５１】
さらに本実施形態では、出射側パネル１０Ｃにおける凹部１５の底面である傾斜面１５Ａ上の漏れ光集光部Ｐに漏れ異常光Ｌ１ｅの光軸及び漏れ常光Ｌ２ｏの光軸が重なる構成とされる。傾斜面１５Ａは、光処理部とされ、入射する光を処理する。この光の処理としては、光を熱に変える光熱変換であったり、反射であったり、光を他の場所に伝搬する処理であったりする。傾斜面１５Ａは、出射側偏光子３４で生じる漏れ異常光Ｌ１ｅ及び漏れ常光Ｌ２ｏの光軸に対し直交する面ではなく、漏れ異常光Ｌ１ｅの光軸に直交する面及び漏れ常光Ｌ２ｏの光軸に直交する面のそれぞれに対し傾斜する面とされる。このため、光処理部としての傾斜面１５Ａがそれぞれの漏れ光を反射する場合であっても、漏れ異常光Ｌ１ｅ及び漏れ常光Ｌ２ｏは傾斜面１５Ａで正反射することはなく、順方向の光路を戻る戻り光となって入射口１１を通過することが大幅に低減される。
【００５２】
ここで、漏れ光集光部Ｐにおいて漏れ異常光Ｌ１ｅの光軸と漏れ常光Ｌ２ｏの光軸とが交わる条件について説明する。当該条件は、次のようにして求めることができる。すなわち、図３に示すように、出射側偏光子３４における長さをＬとし、高さをＨとする。また、出射側偏光子３４に入射する第１の偏光Ｌ１の入射位置の高さをｈとし、第１の偏光Ｌ１と第２の偏光Ｌ２の出射側偏光子３４への入射位置の距離をｄとする。この場合、漏れ異常光Ｌ１ｅは第１の偏光Ｌ１の成分であり、漏れ常光Ｌ２ｏは第２の偏光Ｌ２の成分であるので、漏れ常光Ｌ２ｏの入射位置の高さもｈとなり、漏れ異常光Ｌ１ｅと漏れ常光Ｌ２ｏとの入射位置での分離距離もｄとなる。また、漏れ異常光Ｌ１ｅの屈折角をθｅとし、漏れ異常光Ｌ１ｅの入射位置から全反射位置Ｒまでの出射側偏光子３４の長手方向に沿った距離をＤ１とする場合、当該距離Ｄ１は下記の（１）式で示すことができる。
Ｄ１＝（Ｈ−ｈ−ｄ）／ｔａｎθｅ                        ・・・（１）
【００５３】
また、出射側偏光子３４の出射面における漏れ異常光Ｌ１ｅの出射点と、全反射位置Ｒを含む出射側偏光子３４の上面との高さ方向（出射側偏光子３４の長手方向に垂直な方向）の距離をＤ２とする場合、当該距離Ｄ２は下記の（２）式で示すことができる。
Ｄ２＝（Ｌ−Ｄ１）ｔａｎθｅ                            ・・・（２）
【００５４】
さらに、出射側偏光子３４の出射面における漏れ異常光Ｌ１ｅの屈折角をθｅ´とし、当該出射側偏光子３４の出射面から出射側偏光子３４の長手方向に沿った漏れ光集光部Ｐまでの距離をＤ３とする場合、当該屈折角をθｅ´は下記の（３）式で示すことができる。
ｔａｎθｅ´＝（Ｈ−ｈ−Ｄ２）／Ｄ３                    ・・・（３）
【００５５】
上記（１）式〜（３）式から距離Ｄ３は下記の（４）式で示すことができる。
Ｄ３＝〔２（Ｈ−ｈ）−ｄ−Ｌ×ｔａｎθｅ〕／ｔａｎθｅ´・・・（４）
【００５６】
したがって、出射側偏光子３４の出射面と、出射側パネル１０Ｃにおける凹部１５の傾斜面１５Ａの漏れ光集光部Ｐとの出射側偏光子３４の長手方向に沿った距離が上述の距離Ｄ３となるように、当該出射側偏光子３４と出射側パネル１０Ｃとが配置されれば良いことになる。
【００５７】
また、漏れ異常光Ｌ１ｅのビーム径をφとした場合、下記の（５）式の条件を満たせば、当該漏れ異常光Ｌ１ｅが出射側偏光子３４の上面で全反射し、その全反射した漏れ異常光Ｌ１ｅが出射側偏光子３４の出射面でケラレが生じずに出射することになる。
Ｈ＋２φ＜ｈ＋２ｄ                                      ・・・（５）
【００５８】
なお、一般に、レーザ光のパワーの強度分布はガウシアン状となり、パワーのピークは光軸上となる。このパワーのピークを１とする場合における当該パワーが１／ｅ２以上となる部分の径がビーム径φと定義される。
【００５９】
なお、本実施形態では、特に図示しないが、上記のように、漏れ異常光Ｌ１ｅの光軸が出射光Ｌoutの光軸を基準とした一方側の領域である漏れ常光Ｌ２ｏ側の領域ＡＲ１に集められるのみならず、漏れ異常光Ｌ１ｅのパワーが１／ｅ２以上となる部分全体が漏れ常光Ｌ２ｏ側の領域ＡＲ１に集められる。そして、上記のように漏れ光集光部Ｐで漏れ異常光Ｌ１ｅの光軸と漏れ常光Ｌ２ｏの光軸とが重なる構成とされるため、当然、傾斜面１５Ａ上において、漏れ異常光Ｌ１ｅのパワーが１／ｅ２以上となる部分の少なくとも一部と、漏れ常光Ｌ２ｏのパワーが１／ｅ２以上となる部分の少なくとも一部とが互いに重なっている。
【００６０】
以上説明したように本実施形態の光アイソレータ１では、出射側偏光子３４における長手方向に沿った側面が反射部材とされ、当該側面が漏れ異常光Ｌ１ｅを反射する。この反射により、図２に示すように、出射光Ｌoutとなる第１の偏光Ｌ１の常光成分と第２の偏光Ｌ２の異常光成分とを含む面に垂直な方向から見る場合に、出射側偏光子３４の出射面と出射側パネル１０Ｃの内壁面との間において、出射側偏光子３４で生じる漏れ異常光Ｌ１ｅの光軸が、当該出射側偏光子３４から出射する出射光Ｌoutの光軸を基準とした一方側の領域である漏れ常光Ｌ２ｏ側の領域ＡＲ１に伝搬する。
【００６１】
このような光アイソレータ１では、出射側偏光子３４の出射面と出射側パネル１０Ｃの内壁面との間における領域ＡＲ１において、漏れ異常光Ｌ１ｅの光軸及び漏れ常光Ｌ２ｏの光軸上に光処理部を設けることで、順方向の光路上を漏れ光が戻り、その順方向に入射光を入射する光源に漏れ光が到達してしまうことが抑制される。この結果、漏れ光に起因する光源の破損を低減させることができる。
【００６２】
このため、漏れ異常光Ｌ１ｅと漏れ常光Ｌ２ｏとが一方側の領域ＡＲ１に集められず、出射光Ｌoutを挟んだ両側の領域を伝搬する場合に比べると、当該漏れ異常光Ｌ１ｅの光路と漏れ常光Ｌ２ｏの光路との双方に光処理部を設ける、あるいは、当該光処理部が過大に大きくなってしまうことを低減できる。従って、その分だけ光アイソレータ１の大型化を抑制することができる。特に、上記特許文献１のように、出射側偏光子３４から出射する漏れ異常光成分を折り曲げて反射させた以降の光路と、当該出射側偏光子３４から出射する漏れ常光成分を折り曲げて反射させた以降の光路とが相反する位置関係にある場合に比べると、光アイソレータ１の大型化を大幅に抑制することができる。
【００６３】
こうして、本実施形態の光アイソレータ１によれば、大型化を抑制しつつも、漏れ光に起因する光源の破損を低減させ得る。
【００６４】
さらに、本実施形態では、上記のように、第１の偏光Ｌ１の常光成分及び第２の偏光Ｌ２の異常光成分を含む面に垂直な方向から見る場合に、出射側偏光子３４の出射面と出射側パネル１０Ｃの内壁面との間において、漏れ異常光Ｌ１ｅのパワーのピークを１とする場合における当該パワーが１／ｅ２以上となる部分全体と漏れ常光Ｌ２ｏのパワーのピークを１とする場合における当該パワーが１／ｅ２以上となる部分全体とが一方側の領域ＡＲ１に集められる。上記のように、光のパワーが１／ｅ２となる部分で光の径は定められ、この部分を処理すれば十分である。従って、このように光が集められることで、光処理部が大きくなることをより抑制することができる。
【００６５】
また、本実施形態の光アイソレータ１の場合、漏れ光集光部Ｐにおいて、漏れ異常光Ｌ１ｅの光軸と漏れ常光Ｌ２ｏの光軸とが重なる構成とされている。すなわち、本実施形態の光アイソレータ１は、出射側偏光子３４から出射する漏れ異常光Ｌ１ｅのパワーが１／ｅ２以上となる部分と漏れ常光Ｌ２ｏのパワーが１／ｅ２以上となる部分との少なくとも一部が重なるように、当該漏れ異常光Ｌ１ｅ及び漏れ常光Ｌ２ｏとが反射されている。
【００６６】
このため、出射側偏光子３４から出射する漏れ異常光Ｌ１ｅと漏れ常光Ｌ２ｏとが重ならない場合に比べて、漏れ異常光Ｌ１ｅと漏れ常光Ｌ２ｏとが重なる部分の面積を小さくできる。したがって、漏れ異常光Ｌ１ｅと漏れ常光Ｌ２ｏとが重なる部分に設けるべき光処理部を小さくすることができる。
【００６７】
また、本実施形態の光アイソレータ１の場合、出射側偏光子３４における側面で漏れ異常光Ｌ１ｅを全反射させて、漏れ異常光Ｌ１ｅを漏れ常光Ｌ２ｏ側に伝搬している。つまり、出射側偏光子３４の一部が反射部材とされている。
【００６８】
このため、本実施形態の光アイソレータ１では、漏れ異常光Ｌ１ｅ及び漏れ常光Ｌ２ｏの少なくとも一方を反射するための反射部材を出射側偏光子３４の他に設ける必要がない。したがって、光アイソレータ１の大型化をより一段と抑制することができる。
【００６９】
また、本実施形態では、上記のように、光処理部は出射側パネル１０Ｃの内壁面である傾斜面１５Ａとされる。従って、別途光処理部を設ける場合と比べて、光アイソレータ１大型化を抑制することができる。
【００７０】
（２）レーザ装置
次に、上述の光アイソレータ１を用いたレーザ装置について説明する。
【００７１】
図４は、レーザ装置の構成を示す図である。図４に示すように、レーザ装置１００は、レーザ出射部６０と、光アイソレータ１とを主な構成要素として備える。
【００７２】
レーザ出射部６０は、増幅用光ファイバ６１、種光源６２、第１励起光源６３、第２励起光源６４、入射側光カプラ６５及び出射側光カプラ６６を主な構成として備える。
【００７３】
増幅用光ファイバ６１は、１種類又は２種類以上の希土類元素が添加されるコアと、コアの外周面を被覆する第１クラッドと、第１クラッドの外周面を被覆する第２クラッドと、第２クラッドを囲む被覆層とを有する。コアの屈折率は第１クラッドの屈折率よりも高くされ、第１クラッドの屈折率は第２クラッドの屈折率よりも高くされる。
【００７４】
種光源６２は、種光を出射するものであり、例えば、レーザダイオードから成るレーザ光源や、ファブリペロー型やファイバリング型のレーザ光源などとされる。種光源６２から出射される種光は、入射用光ファイバ７０を介して入射側光カプラ６５に入射される。入射用光ファイバ７０は、例えばシングルモードファイバとされ、当該入射用光ファイバ７０の一端側のコアと種光源６２とが光学的に結合されるとともに、入射用光ファイバ７０の他端側のコアと増幅用光ファイバ６１のコアの一端とが入射側光カプラ６５を介して光学的に結合される。
【００７５】
また、第１励起光源６３及び第２励起光源６４は、励起光を出射するものであり、例えばレーザダイオードなどから構成される。第１励起光源６３から出射される励起光は、励起光用ファイバ８１を介して入射側光カプラ６５に入射される。この励起光用ファイバ８１は、例えばマルチモードファイバとされる。各励起光用ファイバ８１の一端側のコアにつき１つの第１励起光源６３が光学的に結合されるとともに、それぞれの励起光用ファイバ８１の他端側のコアと増幅用光ファイバ６１の第１クラッドの一端とが入射側光カプラ６５を介して光学的に結合される。
【００７６】
第２励起光源６４から出射される励起光は、励起光用ファイバ８２を介して出射側光カプラ６６に入射される。この励起光用ファイバ８２は、例えばマルチモードファイバとされる。各励起光用ファイバ８２の一端側のコアにつき１つの第２励起光源６４が光学的に結合されるとともに、それぞれの励起光用ファイバ８２の他端側のコアと増幅用光ファイバ６１の第１クラッドの他端とが出射側光カプラ６６を介して光学的に結合される。
【００７７】
また、出射側光カプラ６６には出射用光ファイバ９０の一端が接続されている。出射用光ファイバ９０は、例えばシングルモードファイバとされ、その一端が増幅用光ファイバ６１のコアの他端と出射側光カプラ６６において接続され、その他端が上記第１実施形態の光アイソレータ１と光学的に結合される。
【００７８】
このようなレーザ装置１００では、増幅用光ファイバ６１のコアの一端に種光が入射されると共に、増幅用光ファイバ６１の第１クラッドの一端及び他端から励起光が入射される。そして、第１クラッドを主に伝搬する励起光がコアを通過する際、コアに添加される希土類元素が励起され、励起された希土類元素はコアを伝搬する種光によって誘導放出を引き起こす。この誘導放出に起因して種光が増幅され、当該増幅された種光は増幅用光ファイバ６１から出射用光ファイバ９０を介して光アイソレータ１に出射される。
【００７９】
光アイソレータ１は、順方向の光路側から入射する入射光を、上述したようにチューブ２０内の入射側偏光子３１、ファラデー回転子３２、偏光ローテータ３３及び出射側偏光子３４を順次介して後段に出射する。
【００８０】
また、光アイソレータ１は、上述したように出射側偏光子３４で生じる漏れ光（漏れ異常光Ｌ１ｅ及び漏れ常光Ｌ２ｏ）の光軸を、出射側パネル１０Ｃにおける凹部１５の漏れ光集光部Ｐに集める。この漏れ光集光部Ｐが形成される傾斜面１５Ａは、それぞれの漏れ光の光軸に対し直交する面ではなく、漏れ異常光Ｌ１ｅの光軸に直交する面及び漏れ常光Ｌ２ｏの光軸に直交する面のそれぞれに対し傾斜するため、光アイソレータ１は、傾斜面１５Ａで漏れ光が反射する場合であっても、当該漏れ光が入射側パネル１０Ｂの入射口１１から出射することが抑制されている。
【００８１】
従って、本実施形態のレーザ装置１００によれば、光アイソレータ１内の漏れ光が戻り光となりレーザ出射部６０に入射することを抑制することができ、当該戻り光による破損等を抑制することができる。
【００８２】
なお、光アイソレータ１は、出射側偏光子３４から出射する出射光Ｌoutが、出射光Ｌoutの被照射体等で反射して戻り光として入射する場合、その戻り光を常光と異常光とに分離し、これら常光及び異常光を入射側パネル１０Ｂの入射口１１を介して出射させないようになっている。
【００８３】
（３）変形例
以上、本発明について、実施形態を例に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態では、漏れ異常光Ｌ１ｅが、出射光Ｌoutとなる第１の偏光Ｌ１の常光成分と第２の偏光Ｌ２の異常光成分を含む面に垂直な方向から見る場合に、当該出射光Ｌoutを基準として、一方側の領域である漏れ常光Ｌ２ｏ側の領域ＡＲ１に反射された。しかし、本発明はこれに限らず、漏れ常光Ｌ２ｏが、出射光Ｌoutを基準として、漏れ異常光Ｌ１ｅ側の領域に反射されても良い。この場合には、漏れ異常光Ｌ１ｅ側の領域を一方側の領域と理解することができ、漏れ異常光Ｌ１ｅの光軸と漏れ常光Ｌ２ｏの光軸とが出射光Ｌoutの光軸を基準とした一方側の領域に集められる。このように漏れ常光Ｌ２ｏを反射するために、出射側偏光子３４の出射面と出射側パネル１０Ｃの内壁面との間にミラーを配置しても良い。また、漏れ異常光Ｌ１ｅと漏れ常光Ｌ２ｏとが出射光Ｌoutを基準とした一方側の領域に集められるために、漏れ異常光Ｌ１ｅ及び漏れ常光Ｌ２ｏがそれぞれ反射されても良い。
【００８４】
また、上記実施形態では、漏れ異常光Ｌ１ｅを出射側偏光子３４の側面で反射したが、本発明はこれに限らず、ミラーを用いて反射しても良い。図５はこのようなミラーを用いた光アイソレータの変形例を示す図である。なお、図５を説明するにあたり、上記実施形態と同一又は同等の構成要素については、特に説明する場合を除き、同一の参照符号を付して重複する説明は省略する。図５に示すように、本変形例の光アイソレータは、ミラー５０を備える点において、上記実施形態の光アイソレータ１と異なる。ミラー５０は、図示しない手段で出射側パネル１０Ｃに固定されている。本変形例の光アイソレータでは、出射側偏光子３４から出射した漏れ異常光Ｌ１ｅがミラー５０で反射し、上記実施形態と同様に、光軸が傾斜面１５Ａにおいて光集光部Ｐに位置するように伝搬する。こうして、本変形例においても、反射部材であるミラー５０により、第１の偏光Ｌ１の常光成分及び第２の偏光Ｌ２の異常光成分を含む面に垂直な方向から見る場合に、出射側偏光子３４の出射面と出射側パネル１０Ｃの内壁面との間において、第１の偏光Ｌ１の異常光成分である漏れ異常光Ｌ１ｅの光軸が出射光Ｌoutの光軸を基準とした一方側の領域ＡＲ１に集められる。
【００８５】
上記のように漏れ異常光Ｌ１ｅ及び漏れ常光Ｌ２ｏの一方をミラーで反射する場合、出射側偏光子３４により漏れ異常光Ｌ１ｅを全反射させなくても良いため、上記実施形態の光アイソレータ１と比べて、出射側偏光子３４の設計自由度を向上させることができる。
【００８６】
また上記実施形態では、漏れ異常光Ｌ１ｅの光軸と漏れ常光Ｌ２ｏの光軸とが重なる漏れ光集光部Ｐは、それぞれの漏れ光の光軸に直交するそれぞれの面に対し傾斜する傾斜面１５Ａの一部とされた。この傾斜面１５Ａは、チューブ２０が固定される出射側パネル１０Ｃの凹部の底面とされた。しかし、漏れ光集光部Ｐは、出射側パネル１０Ｃのチューブ２０が固定される領域よりも小さい領域に形成されても良い。図６は、光アイソレータ１の他の変形例を示す図である。なお、図６を説明するにあたり、上記実施形態と同一又は同等の構成要素については、特に説明する場合を除き、同一の参照符号を付して重複する説明は省略する。図６に示すように、本変形例の光アイソレータは、漏れ光集光部Ｐが傾斜面１５Ａに設けられた光処理部としての凹部１６上とされる点において、上記実施形態の光アイソレータ１と異なる。なお、凹部１６の表面は、出射側パネル１０Ｃの表面であるため、本変形例においても、光処理部は出射側偏光子３４と出射側パネル１０Ｃとの間に配置されることになる。このような凹部１６内に漏れ光を入射することで、光を凹部１６内で処理することができる。従って、凹部１６の表面は、例えば、光を熱に変換する黒アルマイト加工が施されていたり、光を乱反射する粗面加工されていることが好ましい。また、漏れ異常光Ｌ１ｅのパワーのピークを１とする場合における当該パワーが１／ｅ２以上となる部分全体と漏れ常光Ｌ２ｏのパワーのピークを１とする場合における当該パワーが１／ｅ２以上となる部分全体との少なくとも一方が凹部１６内に集められることが好ましい。
【００８７】
また、上記実施形態では、チューブ２０が固定される凹部１５が形成された。しかしながら、凹部１５は省略されても良い。この凹部１５を省略する場合、出射側パネル１０Ｃの内壁面全体が、漏れ異常光Ｌ１ｅ光軸に直交する面と漏れ常光Ｌ２ｏの光軸に直交する面のそれぞれに対し傾斜する傾斜面１５Ａとされることが好ましい。
【００８８】
また上記実施形態では、漏れ異常光Ｌ１ｅ及び漏れ常光Ｌ２ｏに対して処理を施す光処理部として、傾斜面１５Ａが光処理部として採用された。本発明においては、傾斜面１５Ａが光を乱反射する凹凸を有していても良い。光処理部で漏れ異常光Ｌ１ｅ及び漏れ常光Ｌ２ｏが乱反射することで、漏れ異常光Ｌ１ｅ及び漏れ常光Ｌ２ｏが戻り光となって入射口１１に伝搬することをより一段と低減できる。
【００８９】
また、光処理部は、漏れ異常光Ｌ１ｅ及び漏れ常光Ｌ２ｏを反射させるものに限られない。例えば、光処理部として、傾斜面１５Ａの表面が、出射側偏光子３４から出射する漏れ異常光Ｌ１ｅ及び漏れ常光Ｌ２ｏを熱に変換する光熱変換層とされても良い。このような光処理部としては、例えば、傾斜面１５Ａの表面が黒アルマイト加工されることが挙げられる。
【００９０】
また、漏れ光集光部Ｐに集められる漏れ異常光Ｌ１ｅ及び漏れ常光Ｌ２ｏを、筐体１０の外部にまで導出する導光部材が光処理部とされても良い。この場合、出射側偏光子３４の出射面と出射側パネル１０Ｃの内壁面との間において、当該導光部材の入射端が配置され、この入射端上に漏れ異常光Ｌ１ｅ及び漏れ常光Ｌ２ｏの光軸が位置すれば良い。
【００９１】
また、上述した光処理部は出射側パネル１０Ｃ上に設けられずに、例えば、出射側偏光子３４と出射側パネル１０Ｃとの空間上に設けられても良い。ただし、光処理部が出射側パネル１０Ｃ上に設けられた場合には、出射側偏光子３４と出射側パネル１０Ｃとの空間上に光処理部が設けられる場合に比べて、出射側偏光子３４と出射側パネル１０Ｃとの距離を小さくすることができるので、光アイソレータをより小型化することができる。
【００９２】
また、上記実施形態では、ファラデー回転子３２が１つ用いられ、当該１つのファラデー回転子３２によってファラデー回転角が４５°に設定された。しかしながら、例えば、ファラデー回転子を２つ用い、当該２つのファラデー結晶によってファラデー回転角が２２．５°×２の計４５°に設定されても良い。
【００９３】
また、上記実施形態では、偏光ローテータ３３として水晶旋光子が用いられた。しかしながらＴｅＯ２でなる旋光子が用いられても良い。また、偏光ローテータ３３として、１／２波長板が用いられても良い。
【００９４】
また、上記実施形態では、入射側偏光子３１及び出射側偏光子３４の断面形状が長方形状とされたが、当該断面形状平行四辺形状とされても良い。
【００９５】
また、上記レーザ装置１００におけるレーザ出射部６０として、ＭＯ−ＰＡ（Master Oscillator - Power Amplifier）型のファイバレーザが適用された。しかしながら、共振型のファイバレーザや、固体レーザが適用されても良く、その他のレーザが適用されても良い。
【産業上の利用可能性】
【００９６】
本発明によれば、大型化を抑制しつつも、漏れ光に起因する光源の破損を低減させ得る光アイソレータ及びレーザ装置が提供され、当該光アイソレータ及びそれを用いたレーザ装置は、加工業や医療業において利用可能性を有する。
【符号の説明】
【００９７】
１・・・光アイソレータ
１０・・・筐体
１０Ａ・・・本体
１０Ｂ・・・入射側パネル
１０Ｃ・・・出射側パネル
１５・・・凹部
２０・・・チューブ
３１・・・入射側偏光子
３２・・・ファラデー回転子
３３・・・偏光ローテータ
３４・・・出射側偏光子
４０・・・磁気印加部
５０・・・ミラー
６０・・・レーザ出射部
１００・・・レーザ装置
【図１】
2017078809.tif 000003
【図２】
2017078809.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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