(57)【要約】【課題】半導体ナノ粒子の分散性安定性が良好であり、粘度が低く、耐湿性、耐光性及び段差追従性が良好な発光性組成物を提供することにある。また、発光性組成物を硬化させた成形体であり、半導体ナノ粒子の分散性及びその安定性、耐湿性及び耐光性に優れ、加工成形性、段差追従性、柔軟性及び接着性が良好な成形体を提供することにある。【解決手段】半導体ナノ粒子（１）、厚さ０．０５ｍｍでの水蒸気透過率が１０ｇ/ｍ2/ｄａｙ以下である樹脂（２）及び反応性モノマー（３）を含有するものである、発光性組成物を用いて解決する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体ナノ粒子（１）、厚さ０．０５ｍｍでの水蒸気透過率が１０ｇ/ｍ2/ｄａｙ以下である樹脂（２）及び反応性モノマー（３）を含有するものである、発光性組成物。
【請求項２】
前記反応性モノマー（３）の少なくとも１種が、１分子中に炭素数５以上、３０以下のアルキル基を含有する反応性モノマーである、請求項１に記載の発光性組成物。
【請求項３】
前記反応性モノマー（３）の少なくとも１種が、２官能性以上の反応性モノマーである、請求項１又は２に記載の発光性組成物。
【請求項４】
前記半導体ナノ粒子（１）の発光組成物中の含有率が、０．０５質量％以上、１５質量％以下である、請求項１乃至３の何れか１項に記載の発光組成物。
【請求項５】
前記樹脂（２）が、ポリオレフィン系エラストマー、ビニル芳香族重合体の熱可塑性エラストマー及びビニル芳香族重合体の熱可塑性エラストマーの水添物からなる群より選ばれる少なくとも１つである、請求項１乃至４の何れか１項に記載の発光組成物。
【請求項６】
前記樹脂（２）が、スチレン系熱可塑性エラストマー及び/又はビニルシクロヘキサン系熱可塑性エラストマーである、請求項１乃至５の何れか１項に記載の発光組成物。
【請求項７】
前記樹脂（２）が、スチレン−イソブテン（イソブチレン）ジブロックポリマー、スチレン−イソブテン（イソブチレン）−スチレントリブロックポリマー、水添［スチレン−イソブテン（イソブチレン）］ジブロックポリマー及び水添［スチレン−イソブテン（イソブチレン）−スチレン］トリブロックポリマーからなる群より選ばれる少なくとも１つである、請求項１乃至６の何れか１項に記載の発光組成物。
【請求項８】
請求項１乃至７の何れか１項に記載の発光性組成物を硬化させた、成形体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は半導体ナノ粒子と、特定の水蒸気透過率を有する樹脂を含有する発光性組成物及び該発光性組成物を硬化させた成形体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体ナノ粒子として、量子閉じ込め効果を示す量子ドット（ＱｕａｎｔｕｍＤｏｔ。以下、ＱＤと記載する場合がある。）が注目されている。量子ドットは青色光を他の色に変換する無機蛍光体として機能することができ、量子閉じ込め効果により、比較的狭い発光帯を示し、その粒径により色を調節できるため、高品質の白色光を得ることができる。
【０００３】
ＱＤのような半導体ナノ粒子、樹脂材料等を組合せて発光性組成物とし、膜、シート等に形成することが検討されている。該樹脂材料としては、熱、光等で硬化する樹脂が用いられている。
熱硬化性樹脂として、シリコーン樹脂が検討されている。特許文献１では、シリコーン樹脂を用いることで、発光性組成物中のマトリックスの変形を抑制することが開示されている。一方、特許文献２ではガラス転移点が特定温度以上である、環状ポリオレフィン、芳香族ポリエーテル等の樹脂が用いられており、耐熱性が得られることが開示されている。
【０００４】
半導体ナノ粒子の効率的な発光のためには、半導体ナノ粒子を発光性組成物中に分散させる必要性がある。特許文献３では、ＱＤ表面にキャッピング分子又は配位子を使用することで、シリコーン樹脂への良好な分散性が得られることが開示されている。
特許文献４では、シラン化合物で表面処理されたシリカ微粒子と（メタ）アクリレートを含む発光性組成物が用いられている。シリカ微粒子にシラン化合物と(メタ)アクリレートが反応することで、シリカ微粒子の分散安定性が良好となる。半導体ナノ粒子はシリカ微粒子表面に存在するため、発光性組成物中の半導体ナノ粒子の分散安定性も向上することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−１２６５９６号公報
【特許文献２】特開２０１５−１２７７３３号公報
【特許文献３】特表２０１５−５１６４６７号公報
【特許文献４】国際公開２０１５/０１９９４１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、本発明者らの検討によると、特許文献１〜４に開示されている発光性組成物では、十分な耐湿性が得られず、また、半導体ナノ粒子の分散安定性も改善する余地があることが分った。
【０００７】
特許文献１に記載の発光性組成物は、エポキシ系・シリコーン系を用いており、構造的に酸素原子が多くなるため、十分な耐湿性が得らない傾向にある。また、硬化温度に１００℃以上の加熱を有するものもあり、十分な光学特性が得られなかった。
特許文献２に記載の発光性組成物では、耐熱性は得られるものの、耐湿性が悪く、高湿の条件下では分散安定性が不十分であった。
特許文献３及び４に記載の発光性組成物も、高温・高湿の条件下における分散安定性に改善の余地が残っていた。
【０００８】
上記に鑑み、本発明の課題は、半導体ナノ粒子の分散性及びその安定性が良好であり、粘度が低く、耐湿性、耐光性及び段差追従性が良好な発光性組成物を提供することにある。また、半導体ナノ粒子の分散性及びその安定性、耐湿性及び耐光性に優れ、加工成形性、段差追従性、柔軟性及び接着性が良好なシート等の成形体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは上記課題を解決すべく、鋭意検討した結果、半導体ナノ粒子及び特定の樹脂を含有することで、上記課題が解決できることを見出し、本発明に至った。
【００１０】
すなわち、本発明は以下を要旨とする。
[１]半導体ナノ粒子（１）、厚さ０．０５ｍｍでの水蒸気透過率が１０ｇ/ｍ2/ｄａｙ以下である樹脂（２）及び反応性モノマー（３）を含有するものである、発光性組成物。
[２]前記反応性モノマー（３）の少なくとも１種が、１分子中に炭素数５以上、３０以下のアルキル基を含有する反応性モノマーである、[１]に記載の発光性組成物。
[３]前記反応性モノマー（３）の少なくとも１種が、２官能性以上の反応性モノマーである、[１]又は[２]に記載の発光性組成物。
[４]前記半導体ナノ粒子（１）の発光組成物中の含有率が、０．０５質量％以上、１５質量％以下である、[１]乃至[３]の何れか１に記載の発光組成物。
[５]前記樹脂（２）が、ポリオレフィン系エラストマー、ビニル芳香族重合体の熱可塑性エラストマー及びビニル芳香族重合体の熱可塑性エラストマーの水添物からなる群より選ばれる少なくとも１つである、[１]乃至[４]の何れか１に記載の発光組成物。
[６]前記樹脂（２）が、スチレン系熱可塑性エラストマー及び/又はビニルシクロヘキサン系熱可塑性エラストマーである、[１]乃至[５]の何れか１に記載の発光組成物。
[７]前記樹脂（２）が、スチレン−イソブテン（イソブチレン）ジブロックポリマー、スチレン−イソブテン（イソブチレン）−スチレントリブロックポリマー、水添［スチレン−イソブテン（イソブチレン）］ジブロックポリマー及び水添［スチレン−イソブテン（イソブチレン）−スチレン］トリブロックポリマーからなる群より選ばれる少なくとも１つである、［１］乃至［６］の何れか１に記載の発光組成物。
[８][１] 乃至[７]の何れか１に記載の発光性組成物を硬化させた、成形体。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、半導体ナノ粒子の分散性及びその安定性が良好であり、粘度が低く、耐湿性、耐光性及び段差追従性が良好な組成物が提供される。
本発明の効果を奏する理由は定かではないが、以下が挙げられる。
半導体ナノ粒子は表面修飾剤によって溶剤や樹脂などのマトリックス間の分散性が担保されている。前記の従来技術では、発光性組成物中のマトリックスの水蒸気透過性が高い上に、その表面修飾材の官能基自体の修飾安定性も低いため、高湿・高熱条件において、半導体ナノ粒子の表面修飾剤が剥離しやすい傾向にある。その結果、半導体ナノ粒子同士の凝集や半導体ナノ粒子の欠陥部分がむき出しになることに起因する光学特性の低下、剥離した表面修飾材の影響による黄変を含む透過率・励起光吸収率の低減、半導体ナノ粒子と水との反応による発光の失活（内部量子効率の減少）が見られていた。  一方、本発明の発光性組成物では、含まれる樹脂が特定範囲の水蒸気透過率を有することで、高湿・高熱条件下においても、前記表面修飾剤の剥離が抑制されるとともに、半導体ナノ粒子と水との反応が効果的に抑制される。また、反応性モノマーを含有することで、発光性組成物を硬化させた成形体において、高湿・高熱条件での成形体バルク中の半導体ナノ粒子の再凝集を抑制できる。さらに、反応性モノマーが、成形体硬化の効果のみならず、半導体ナノ粒子表面及び／又は欠陥部位とも、反応又は配位可能な官能基であることで、半導体ナノ粒子の表面での水・酸素との反応性を顕著に抑制できる。
従って、半導体ナノ粒子同士の凝集や欠陥部分がむき出しになることに起因する光学特性の低下、剥離した表面修飾材の影響による黄変を含む透過率・励起光吸収率の低減、半導体ナノ粒子と水との反応による発光の失活（内部量子効率の減少）を抑制できると考えられる。
【００１２】
本発明の発光性組成物及び成形体は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、有機ＥＬ（ＯＬＥＤ）ディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）と呼称される薄型の表示装置、照明や太陽電池への応用が可能である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施態様の一例（代表例）であり、本発明はその要旨を超えない限り、これらの内容に特定はされない。
【００１４】
[半導体ナノ粒子（１）]
本発明の半導体ナノ粒子は、粒径がナノサイズである半導体粒子であれば特に限定されないが、例えば、周期律表第I−ｂ 族、第II族、第III族、第IV族、第V族又は第VI族に属する少なくとも２種類の元素を含有する粒子が挙げられる。半導体ナノ粒子の中で、量子ドット（ＱＤ）は、例えば、青色光を他の色に変換する無機蛍光体として機能することができる。量子ドットは、発光帯が比較的狭いという利点、及び、量子ドットの粒径により色を調節できるため、高品質の白色光を得ることができるという利点を有している。
【００１５】
量子ドットの具体例としては、以下が挙げられる。
ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＨｇＴｅ、ＣｄＳｅＳ、ＣｄＳｅＴｅ、ＣｄＳＴｅ、ＺｎＳｅＳ、ＺｎＳｅＴｅ、ＺｎＳＴｅ、ＨｇＳｅＳ、ＨｇＳｅＴｅ、ＨｇＳＴｅ、ＣｄＺｎＳ、ＣｄＺｎＳｅ、ＣｄＺｎＴｅ、ＣｄＨｇＳ、ＣｄＨｇＳｅ、ＣｄＨｇＴｅ、ＨｇＺｎＳ、ＨｇＺｎＳｅ、ＨｇＺｎＴｅ、ＣｄＺｎＳｅＳ、ＣｄＺｎＳｅＴｅ、ＣｄＺｎＳＴｅ、ＣｄＨｇＳｅＳ、ＣｄＨｇＳｅＴｅ、ＣｄＨｇＳＴｅ、ＨｇＺｎＳｅＳ、ＨｇＺｎＳｅＴｅ、ＨｇＺｎＳＴｅ等のII−VI族化合物半導体ナノ粒子；
ＧａＮ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＡｌＮ、ＡｌＰ、ＡｌＡｓ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、ＩｎＡｓ、ＧａＮＰ、ＧａＮＡｓ、ＧａＰＡｓ、ＡｌＮＰ、ＡｌＮＡｓ、ＡｌＰＡｓ、ＩｎＮＰ、ＩｎＮＡｓ、ＩｎＰＡｓ、ＧａＡｌＮＰ、ＧａＡｌＮＡｓ、ＧａＡｌＰＡｓ、ＧａＩｎＮＰ、ＧａＩｎＮＡｓ、ＧａＩｎＰＡｓ、ＩｎＡｌＮＰ、ＩｎＡｌＮＡｓ、ＩｎＡｌＰＡｓ等のIII−V族化合物半導体ナノ粒子；
ＣｕＩｎＳ2、ＣｕＩｎＳｅ2、ＣｕＧａＳ2、ＣｕＧａＳｅ2、ＡｇＩｎＳ2、ＡｇＩｎＳｅ2、ＡｇＧａＳ2、ＡｇＧａＳｅ2等のI−III−VI２族黄銅鉱型半導体ナノ粒子；
ＬｉＡｓＳｅ2、ＮａＡｓＳｅ2、ＫＡｓＳｅ2等のI−V−VI２族半導体ナノ粒子；
ＳｂＴｅ等のIV−VI族化合物半導体ナノ結晶。
上記の中でも好ましくは、ＩｎＰ、ＣｕＩｎＳ2、ＣｕＩｎＳｅ2、ＣｄＴｅ、ＣｄＳｅ、ＣｄＳｅＴｅ、ＡｇＩｎＳ2及びＡｇＩｎＳｅ2からなる群から選択される。
【００１６】
本発明の半導体ナノ粒子（１）は、１種でもよく、複数種類を組み合わせて用いてもよい。例えば、上記量子ドットのうちコア−シェル型粒子とロッド状粒子の組合せ、ＣｄＳとＣｄＳｅ等の２種以上の半導体ナノ粒子の組み合わせ等が使用され得る。
【００１７】
本発明の半導体ナノ粒子（１）の粒子径は特に限定されない。粒子径は好ましくは２ｎｍ以上、５０ｎｍ以下である。より好ましくは２０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１０ｎｍ以下である。粒子径がこれらの範囲であることで、実用的に好ましい範囲の発光波長を得ることができる傾向にある。
ここで半導体ナノ粒子の粒子径の定義としては、半導体ナノ粒子１０個の平均粒径を言い、透過型電子顕微鏡、小角Ｘ線散乱測定装置等を用いて測定することができる。
また、本発明の発光性組成物中の半導体ナノ粒子において、９０％以上が上記粒子径の範囲であることが好ましい。
【００１８】
半導体ナノ粒子の原子構造は、特に限定されない。例えば、ＣｄＳｅ、ＣｄＳ、ＩｎＡｓ、ＩｎＰ等の二元合金、ＣｄＳｅＳ等の三元合金等が挙げられる。これらの半導体ナノ粒子は、直径が１０〜５０原子の量子ドットの体積中に、１００〜１００，０００原子を含むことができる。これは約２〜１０ナノメートルに相当する。例えば、直径が約３ｎｍの、ＣｄＳｅ、ＩｎＰ、ＣｕＩｎＳｅ2等の球形粒子が提供され得る。上記半導体ナノ粒子は、一つの次元の寸法が１０ｎｍ未満の、球体、立方体、ロッド、ワイヤー、円盤、マルチポッド等の形状を有し得る。例えば、長さが２０ｎｍで直径が４ｎｍのＣｄＳｅのナノロッドが提供され得る。また、半導体ナノ粒子は、コア−シェル型ナノ粒子、ロッド状ドットナノ粒子を含む。異なる種類の粒子の組み合わせもまた使用され得る。例えば、コア−シェル型粒子とロッド状ドット、ＣｄＳとＣｄＳｅ等の２種以上の前記ナノ粒子の組み合わせが使用され得る。
【００１９】
本発明の発光性組成物中の半導体ナノ粒子（１）、樹脂（２）及び反応性モノマー（３）の量に関しては、本発明の効果を著しく損なわない限り特に限定されない。本発明の発光性組成物を１００質量％とした際に、半導体ナノ粒子（１）は０．０５質量％以上、１５質量％以下であることが好ましい。さらに、上限としては、半導体ナノ粒子の分散性の観点から、１０質量％以下であることが好ましく、５質量％以下であることがより好ましく、３質量％以下であることが更に好ましく、１質量％以下であることが最も好ましい。さらに、下限としては、半導体ナノ粒子を成形体とした時の発光強度の観点から、０．１質量％以上であることがより好ましく、０．５質量％以上であることがさらに好ましい。
半導体ナノ粒子（１）が上記下限以上であることで、発光強度が得られる傾向にあり、上記上限以下であることで半導体ナノ粒子（１）の凝集が抑制され、発光効率が向上する傾向にある。
【００２０】
[樹脂（２）]
本発明の発光性組成物は、厚さ０．０５ｍｍでの水蒸気透過率が１０ｇ/ｍ2/ｄａｙ以下である樹脂（２）を含有する。
【００２１】
＜水蒸気透過率＞
本発明において、水蒸気透過率とは、４０℃、湿度９０％の環境下において、測定する材料を厚さ０．０５ｍｍとして測定したものである。樹脂（２）の水蒸気透過率は、１０ｇ/ｍ2/ｄａｙ以下であり、好ましくは９ｇ/ｍ2/ｄａｙ以下であり、より好ましくは８ｇ/ｍ2/ｄａｙ以下であり、さらに好ましくは６ｇ/ｍ2/ｄａｙ以下であり、最も好ましくは４ｇ/ｍ2/ｄａｙ以下である。下限は特に限られないが、１×１０-6ｇ/ｍ2/ｄａｙ以上である。これらの範囲であることで、発光性組成物の耐湿性が向上する傾向にある。
水蒸気透過率が、１〜１０ｇ/ｍ2/ｄａｙの範囲ではＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に準拠して行った評価による値であり、１ｇ/ｍ2/ｄａｙ未満の範囲では、ＪＩＳ  Ｋ７１２９  Ｂ法に記載のＭＯＣＯＮ法に準拠して行った評価による値と定義する。
【００２２】
ＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に準拠して行う評価に関して具体的に説明する。剥離ＰＥＴフィルム（ＭＲＦ５０、厚み５０μｍ、三菱樹脂株式会社製）の剥離面ではない側に本発明の樹脂をアプリケーターで塗布する。樹脂（２）が溶媒を含んでいる場合は塗布後加熱し、溶媒を除去する。樹脂（２）の粘度が高くアプリケーターで塗布するのが難しい場合は、バーコーター等を用いて引き延ばして塗布膜を作製するか、溶媒に溶かして溶液としてからアプリケーターで塗布後オーブンに入れて溶媒を飛ばす。
その後、レーザー加工機（Ｌａｓｅｒ  Ｍａｎ  Ａ、コマックス社製）等を用いて塗布膜を直径３．６５ｃｍに切り抜き、ＰＥＴ／塗布膜の積層体を得る。この積層体をバイアル（マルエム製スクリューカップＮｏ.４５）の蓋にセットし、バイアル内には無水塩化カルシウム粒子（粒径３〜５ｍｍ、国産化学株式会社製）を１０ｇ入れ、サンプルとする。このサンプルを４０℃、湿度９０％の雰囲気下に２週間置く。４８時間おきに質量増加量をチェックし、データが安定したところで２４時間当たりの質量増加量を塗布膜の面積で除して、積層体の水蒸気透過率とする。積層体の水蒸気透過率をＸ（ｇ/ｍ2/ｄａｙ）、上記剥離ＰＥＴフィルムの水蒸気透過率をＰ（ｇ/ｍ2/ｄａｙ）とし、下記（Ａ）式より、樹脂（２）の水蒸気透過率（ｇ/ｍ2/ｄａｙ）を算出する。
（１/Ｐ）+(１/Ａ）＝１/Ｘ    （Ａ）
【００２３】
本発明の水蒸気透過率は、０．０５ｍｍの厚みでの値を示す。上記ＪＩＳ  Ｚ  ０２０８においては、０．０４〜０．０６ｍｍの範囲で塗布膜を得、得られた塗布膜の膜厚を０．０５ｍｍの膜厚値に換算する。例えば、０．０４ｍｍの塗布膜で水蒸気透過率が１（ｇ/ｍ2/ｄａｙ）となった場合、本発明の樹脂（２）の水蒸気透過率は、１×０．０４/０．０５＝０．８（ｇ/ｍ2/ｄａｙ）ということになる。
【００２４】
＜貯蔵弾性率＞
本発明の樹脂（２）の貯蔵弾性率は、例えば、エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製ＤＭＳ６１００等の動的粘弾性測定装置を用い、サンプルの形状に合わせて引張モードあるいはフィルムずりモードにて、窒素ガス雰囲気下、昇温速度２℃／ｍｉｎ、周波数１Ｈｚとして測定した値を指す。２５℃での貯蔵弾性率（Ｐａ）としては、上記測定値の中の２５℃の部分を読み取る。
本発明の樹脂（２）の２５℃での貯蔵弾性率は、１×１０8Ｐａ以下であることが好ましく、より好ましくは５×１０7Ｐａ以下であり、さらに好ましくは１×１０7Ｐａ以下である。また、下限は特に限定されないが、例えば、１×１０2Ｐａ以上である。貯蔵弾性率が上記下限以上であることで、成形が容易になる傾向にあり、上記上限以下であることで、発光性組成物の柔軟性が得られ、段差追従性及び半導体ナノ粒子の高分散性が得られる傾向にある。
【００２５】
また、樹脂（２）の５０℃の貯蔵弾性率としては、好ましくは１×１０8Ｐａ以下であり、より好ましくは５×１０7Ｐａ以下であり、さらに好ましくは１×１０7Ｐａ以下である。下限は特に限定されないが例えば、１×１０2Ｐａ以上である。
樹脂（２）の８０℃の貯蔵弾性率としては、好ましくは１×１０8Ｐａ以下であり、より好ましくは５×１０7Ｐａ以下であり、さらに好ましくは１×１０7Ｐａ以下であり、特に好ましくは５×１０6Ｐａ以下である。下限は特に限定されないが例えば、１×１０2Ｐａ以上である。
樹脂（２）の１００℃の貯蔵弾性率としては、好ましくは１×１０8Ｐａ以下であり、より好ましくは５×１０7Ｐａ以下であり、さらに好ましくは１×１０7Ｐａ以下であり、特に好ましくは５×１０6Ｐａ以下である。下限は特に限定されないが例えば、１×１０2Ｐａ以上である。
樹脂（２）の１５０℃の貯蔵弾性率としては、好ましくは１×１０8Ｐａ以下であり、より好ましくは５×１０7Ｐａ以下であり、さらに好ましくは１×１０7Ｐａ以下であり、特に好ましくは１×１０6Ｐａ以下である。下限は特に限定されないが例えば、１×１０2Ｐａ以上である。
各温度での貯蔵弾性率が上記下限以上であることで成形が容易になる傾向にあり、上記上限以下であることで、発光性組成物又は成形体を基材等に熱等で圧着させた際の接着性が良好となる傾向にある。
【００２６】
＜ガラス転移点＞
本発明の樹脂（２）のガラス転移点は特に限定されないが、好ましくは１２０℃以下であり、より好ましくは８０℃以下であり、さらに好ましくは６０℃以下であり、特に好ましくは４０℃以下である。下限は−１００℃以上が好ましい。ガラス転移温点が上記範囲であることで、本発明の発光性組成物を硬化させて成形体とした際の柔軟性が高く、ハンドリングがしやすい傾向にある。
本発明におけるガラス転移点とは、上記貯蔵弾性率測定のデータにおける貯蔵弾性率Ｅ’と損失弾性率Ｅ’’の比率Ｅ’’／ Ｅ’＝ｔａｎδデータ曲線において極大ピークを示す温度のことを指す。ピークが複数ある場合は、最も低いところをガラス転移点とする。
【００２７】
＜発光性組成物中の樹脂（２）の量＞
発光性組成物中の樹脂（２）の量は、本発明の効果を著しく損なわない限り特に限定されない。好ましくは、発光性組成物を１００質量％とした際に、樹脂（２）の量は、好ましくは１質量％以上であり、より好ましくは５質量％以上であり、さらに好ましくは９質量％以上である。また、上限としては好ましくは９０質量％以下であり、より好ましくは８０質量％以下である。これらの範囲であることで、発光性組成物の粘度が高くなり過ぎず、耐湿性が得られる傾向にある。
【００２８】
＜樹脂（２）の構造＞
本発明の樹脂（２）の構造は、特に限定されない。例えば、ホモポリマー、ランダムコポリマー、ジブロックコポリマー、トリブロック以上のマルチブロックコポリマー、グラジエントコポリマー、グラフトコポリマー、スターコポリマー等いずれでもよい。中でも、入手が容易という点より、ホモポリマー、ランダムコポリマー、ジブロックコポリマー又はトリブロック以上のマルチブロックコポリマーが好ましい。
【００２９】
本発明の樹脂（２）としては、例えば、ポリブタジエン、水添ポリブタジエン、ポリイソプレン、水添ポリイソプレン、ポリイソブチレン等のポリオレフィン系エラストマー、ビニル芳香族重合体の熱可塑性エラストマー、ビニル芳香族重合体の熱可塑性エラストマーの水添物等が挙げられる。樹脂（２）は、ポリオレフィン系エラストマー、ビニル芳香族重合体の熱可塑性エラストマー、ビニル芳香族重合体の熱可塑性エラストマーの水添物からなる群から選ばれる少なくとも１つであることが好ましい。
中でも、耐湿性及び接着性の観点より、ポリイソブチレン、ビニル芳香族重合体の熱可塑性エラストマー及びビニル芳香族重合体の熱可塑性エラストマーの水添物からなる群から選ばれる少なくとも１つであることが好ましい。樹脂（２）は１種でもよく、また、複数のものを組み合わせて使用してもよい。
【００３０】
＜ビニル芳香族重合体の熱可塑性エラストマー及びビニル芳香族重合体の熱可塑性エラストマーの水添物＞
ビニル芳香族重合体の熱可塑性エラストマーを構成するビニル芳香族類単量体としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フルオレン環、フェナントレン環等の芳香環にビニル基が結合したものが挙げられ、この芳香環にはビニル基以外の置換基が結合していてもよい。
ビニル基以外の置換基としては、具体的には、スチレン、α−メチルスチレン、２−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、２，４−ジイソプロピルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレン、５−ｔ−ブチル−２−メチルスチレン、４−モノクロロスチレン、４−クロロメチルスチレン、４−ヒドロキシメチルスチレン、４−ｔ−ブトキシスチレン、ジクロロスチレン、４−モノフルオロスチレン、４−フェニルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン等が挙げられる。これらのなかでも、耐湿性に優れる点で、スチレン、α−メチルスチレン、４−メチルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレン、４−クロロメチルスチレン、ビニルナフタレン等が好ましく用いられる。さらに、スチレン、α−メチルスチレン、４−メチルスチレン又は４−ｔ−ブチルスチレンが好ましく用いられ、最も好ましくはスチレンが用いられる。これらのビニル芳香族類は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。ビニル芳香族重合体は、ビニル芳香族類単量体の他に、公知の単量体を用いてもよい。
【００３１】
（ビニル芳香族重合体の熱可塑性エラストマーの水添物）
ビニル芳香族重合体の熱可塑性エラストマーの水添物は、上記ビニル芳香族共重合体の熱可塑性エラストマーの芳香環が水添（水素化）されているものを指す。芳香環の水添反応形態等は特に限定されず、公知の方法に従って行えばよいが、水素化率を高くすることができ、重合体鎖切断反応の少ない水素化方法が好ましい。このような好ましい水素化方法としては、ニッケル、コバルト、鉄、チタン、ロジウム、パラジウム、白金、ルテニウム、レニウム等から選ばれる少なくとも１種の金属を含む触媒を用いて行う方法が挙げられる。この水素化触媒は、不均一系触媒、均一系触媒のいずれも使用可能であり、水素化反応は有機溶媒中で行うことが好ましい。
【００３２】
不均一系触媒は、金属又は金属化合物のままで、又は適当な担体に担持して用いることができる。担体としては、例えば、活性炭、シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、チタニア、マグネシア、ジルコニア、ケイソウ土、炭化珪素、フッ化カルシウム等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。触媒成分の担持量は、触媒成分と担体との合計量に対して通常０．１質量％以上、好ましくは１質量％以上で、通常６０質量％以下、好ましくは５０質量％以下である。
【００３３】
均一系触媒としては、ニッケル、コバルト、チタン、鉄等の金属化合物と、有機アルミニウムや有機リチウムのような有機金属化合物とを組み合わせた触媒；ロジウム、パラジウム、ルテニウム、レニウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム等の有機金属錯体；等を用いることができる。
【００３４】
上記金属化合物としては、各金属のアセチルアセトン塩、ナフテン酸塩、シクロペンタジエニル化合物、シクロペンタジエニルジクロロ化合物等が用いられる。有機アルミニウムとしては、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム等のアルキルアルミニウム；ジエチルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロリド等のハロゲン化アルキルアルミニウム；ジイソブチルアルミニウムハイドライド等の水素化アルキルアルミニウム；等が使用される。
【００３５】
有機金属錯体としては、上記各金属のγ−ジクロロ−π−ベンゼン錯体、ジクロロ−トリス（トリフェニルホスフィン）錯体、ヒドリド−クロロ−トリス（トリフェニルホスフィン）錯体等が挙げられる。
【００３６】
これらの水素化触媒は、それぞれ単独で、又は２種以上組み合わせて用いることができる。水素化触媒の使用量は、ビニル芳香族重合体の熱可塑性エラストマー１００質量部当たりの触媒有効成分量として、通常０．００１質量部以上、好ましくは０．００５質量部以上、より好ましくは０．０１質量部以上で、通常５０質量部以下、好ましくは３０質量部以下、より好ましくは１５質量部以下である。
【００３７】
水素化反応は、５〜２５ＭＰａの圧力及び１００〜２００℃の温度下にて、溶媒としてシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ｎ−オクタン、デカリン、テトラリン、ナフサ等の飽和炭化水素系溶媒、又はテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒を用いて行なうことが好ましい。溶媒の使用量には特に制限はないが、通常、ビニル芳香族重合体１００質量部に対して、１００質量部以上、１０００質量部以下である。溶媒は1種でもよく、複数組み合わせて用いてもよい。
【００３８】
ビニル芳香族重合体の熱可塑性エラストマー芳香環の水素化率は、好ましくは５０モル％以上、より好ましくは８０モル％以上、さらに好ましくは９０モル％以上である。水素化率が上記下限値以上であることにより、透明性、耐熱性及び成形性に優れたものとなる。芳香環の水素化率は例えば、1Ｈ−ＮＭＲにより、０．５〜２．５ｐｐｍ付近の脂肪族由来のピークと６．０〜８．０ｐｐｍ付近の芳香環由来のピークの積分値から算出することができる。
【００３９】
上記水素化反応終了後にビニル芳香族重合体の水添物を回収する方法は、特に限定されない。回収方法としては、通常、濾過、遠心分離等の方法により水素化触媒残渣を除去した後、ビニル芳香族重合体の水添物が溶解した溶液から、スチームストリッピングにより溶媒を除去するスチーム凝固法、減圧加熱下で溶媒を除去する直接脱溶媒法、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、水、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル等の、ビニル芳香族重合体の水添物の貧溶媒中に溶液を注いでビニル芳香族重合体の水添物を析出、凝固させる凝固法等の公知の方法を採用することができる。透明性などの観点からは、ビニル芳香族重合物の水添物がより好ましい。
【００４０】
（スチレン系熱可塑性エラストマー及びビニルシクロヘキサン系熱可塑性エラストマー）
ビニル芳香族重合体の熱可塑性エラストマー及びビニル芳香族重合体の熱可塑性エラストマーの水添物としては、例えばスチレン系の可塑性エラストマー、その水添物にあたるビニルシクロヘキサン系熱可塑性エラストマー等が挙げられる。スチレン系熱可塑性エラストマー及び、その水添物にあたるビニルシクロヘキサン系熱可塑性エラストマーとしては、スチレン−共役ジエン共重合体、水添（スチレン−共役ジエン）共重合体等が挙げられる。
樹脂（２）は、耐湿性及び接着性の観点から、スチレン系熱可塑性エラストマー及び/又はビニルシクロヘキサン系熱可塑性エラストマーであることが好ましい。
【００４１】
スチレン系熱可塑性エラストマー及びビニルシクロヘキサン系熱可塑性エラストマーの具体例としては、スチレン−ブタジエンジブロックポリマー、スチレンーブタジエンースチレントリブロックポリマー、スチレン−イソプレンジブロックポリマー、スチレン−イソプレン−スチレントリブロックポリマー、水添（スチレン−ブタジエン）ジブロックポリマー、水添（スチレン−ブタジエン−スチレン）トリブロックポリマー、水添（スチレン−イソプレン）ジブロックポリマー、水添（スチレン−イソプレン−スチレン）トリブロックポリマー、スチレン−ブテン共重合体、水添（スチレン−ブテン）共重合体、スチレン−ブテンジブロックポリマー、スチレン−ブテン−スチレントリブロックポリマー、水添（スチレン−ブテン）ジブロックポリマー、水添（スチレン−ブテン−スチレン）トリブロックポリマー、スチレン−２−メチル−２−ブテンジブロックポリマー、スチレン−２−メチル−２−ブテン−スチレントリブロックポリマー、水添［スチレン−（２−メチル−２−ブテン）］ジブロックポリマー、水添［スチレン−（２−メチル−２−ブテン）−スチレン］トリブロックポリマー、スチレン−イソブテン（イソブチレン）ジブロックポリマー、スチレン−イソブテン（イソブチレン）−スチレントリブロックポリマー、水添［スチレン−イソブテン（イソブチレン）］ジブロックポリマー、水添［スチレン−イソブテン（イソブチレン）−スチレン］トリブロックポリマー等が挙げられる。
中でも、柔軟性及び耐水性の観点より、スチレン−イソブテン（イソブチレン）ジブロックポリマー、スチレン−イソブテン（イソブチレン）−スチレントリブロックポリマー、水添［スチレン−イソブテン（イソブチレン）］ジブロックポリマー及び水添［スチレン−イソブテン（イソブチレン）−スチレン］トリブロックポリマーからなる群から選ばれる少なくとも１つが好ましい。最も好ましくは、水添［スチレン−イソブテン（イソブチレン）］ジブロックポリマー及び/又は水添［スチレン−イソブテン（イソブチレン）−スチレン］トリブロックポリマーである。
水添［スチレン−イソブテン（イソブチレン）］ジブロックポリマー及び水添［スチレン−イソブテン（イソブチレン）−スチレン］トリブロックポリマーは、柔軟性及び耐水性の観点に加えて、水添構造で共役構造を有さないため、成形物にした際の全光線透過率やイエローインデックスといった透明性に関する指標にも優れる傾向にある。さらに、そのブロックポリマー構造によって、成形物にした際にミクロ相分離が誘起されるため、サブミクロン〜ナノオーダーの疎水性のドメイン構造を形成し、波長変換物質（１）の分散性を極めて良好にすることができる。
【００４２】
＜樹脂（２）の分子量＞
樹脂（２）の分子量は特に限定されないが、テトラヒドロフランを溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定されるポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が、５０００以上であることが好ましい。より好ましくは１５０００以上、さらに好ましくは２５０００以上である。また、上限としては、好ましくは５０００００以下であり、より好ましくは４０００００以下である。
また、樹脂（２）の質量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１００００以上であり、より好ましくは３００００以上、さらに好ましくは５００００以上である。また、上限としては好ましくは１００００００以下であり、より好ましくは８０００００以下、さらに好ましくは５０００００以下である。上記下限値以上であることにより、得られる成形体の機械強度及び耐熱性が良好なものとなり、上記上限値以下であることにより、加工時の粘度が下がり、プロセス上優位となる傾向にある。
また、分子量分布は、使用目的に応じて適宜選択できるが、上記のＧＰＣにより測定されるポリスチレン換算のＭｗとＭｎとの比（Ｍｗ／Ｍｎ）で、好ましくは４以下、より好ましくは３以下、特に好ましくは２以下である。Ｍｗ／Ｍｎが上記上限値以下であることで、耐熱性、透明性等に優れる傾向にある。
【００４３】
[反応性モノマー（３）]
本発明の発光性組成物は、反応性モノマー（３）を含む。反応性モノマー（３）を含むことで、発光性組成物の粘度の低下及び段差追従性が向上する傾向にある。また、反応性モノマー（３）が反応し、成形体等が架橋を有することで、該成形体等の内部の水の拡散を抑制することができ、耐水性がさらに向上する傾向にあるとともに、架橋に伴う成形体内部の網目状のネットワーク構造によって、半導体ナノ粒子の成形対中における再凝集を抑制することができ、励起光吸収率が保持される。さらに、成形体等が架橋を有することで、紫外線による成形体表面の結合開裂による物性低下を抑制し、耐光性がさらに向上する傾向にある。また、反応性モノマー（３）の反応性官能基が半導体ナノ粒子の表面及び／又は欠陥部位にも作用することで、実使用時の水以外の劣化要因として想定される酸化や励起エネルギー損失を効果的に抑制する補修効果が得られ、耐久性が向上する傾向にある。
【００４４】
反応性モノマー（３）は、反応して重合するモノマーであれば特に限定されず、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合、エンチオール反応、チオール−アクリレートマイケル付加反応、チオール−イソシアネート反応、又は、縮合反応をし得るモノマー等が挙げられる。
反応性モノマー（３）の少なくとも１種は、耐水性の観点より、直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を含有する反応性モノマーであることが好ましい。また、反応性モノマー（３）の少なくとも１種が、１分子中に炭素数５以上、３０以下のアルキル基を含有する反応性モノマーであることが好ましい。  
該アルキル基の炭素数は、好ましくは８以上であり、より好ましくは１０以上であり、さらに好ましくは１２以上であり、特に好ましくは１５以上である。また、炭素数は３０以下であることが好ましい。上記範囲であることで、発光性組成物の耐水性が向上する傾向にある。
また、ネットワークを形成して水の拡散を抑制し耐湿性を向上する観点より、反応性モノマー（３）の少なくとも１種は、２官能性以上の反応性モノマーであることが好ましい。中でも、反応性と発光性組成物の光学特性の観点から、２又は３官能性の反応性モノマーを含有することがより好ましい。
【００４５】
反応性モノマー（３）の量は、本発明の効果を著しく損なわない限り特に限定されない。発光性組成物を１００質量％とした際に、反応性モノマー（３）の量は、好ましくは５質量％以上であり、より好ましくは２０質量％以上であり、さらに好ましくは４０質量％以上であり、最も好ましくは６０質量％以上である。また、反応性モノマー（３）の量は、好ましくは９５質量％以下であり、より好ましくは９０質量％以下である。上記範囲であることで、発光性組成物の粘度が適当な範囲になり、製造時、加工時等の取り扱いが容易になり、さらに耐湿性が得られる傾向にある。
【００４６】
反応性モノマー（３）としては、オレフィン類、ビニル系モノマー、ジエン類、ハロゲン化ビニル類、アリル化合物、アリルアミン類、ジカルボン酸エステル誘導体、ビニルシリル化合物、アクリルアミド類、ビニリデン類、環状メチレンマロン酸エステル類、アルキルビニルエーテル類、水酸基含有ビニルエーテル類、アミノビニルエーテル類、Ｓｉ系（メタ）アクリル酸エステル類、ビニルシラン類、シリコーン系ビニル単量体、含フッ素ビニルモノマー、単官能（メタ）アクリレート類、多官能（メタ）アクリレート類、エポキシ基含有モノマー及びそれらのオリゴマー、オキセタン化合物、アルキン類、エンチオール反応によってエン化合物の反応性を有するチオール化合物及びポリチオール化合物等が挙げられる。
【００４７】
（オレフィン類）
オレフィン類としては、エチレン、ニトロエチレン、プロピレン、１−ブテン、イソブテン等が挙げられる。
（ビニル系モノマー）
ビニル系モノマーとしては、ビニルナフタレン、スチレン、α−メチルスチレン、ｔ−ブチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メトキシスチレン、ｍ−メトキシスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｏ−ｔ−ブトキシスチレン、ｍ−ｔ−ブトキシスチレン、ｐ−ｔ−ブトキシスチレン、ｏ−クロロメチルスチレン、ｍ−クロロメチルスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン、ｐ−クロロスチレン、ビニルトルエン、エチルビニルベンゼン、４−ビニルビフェニル、１，１−ジフェニルエチレン、ビニルフェノール、安息香酸ビニル、ビニルナフタレン、ベンジルビニルエーテル、アクリロニトリル、アミノメチルスチレン、ビニルアミンビニルアセトアミド、ビニルホルムアミド、酢酸ビニル、酢酸イソプロペニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、バーサチック酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、シクロヘキシルカルボン酸ビニル、パラ−ｔ−ブチル安息香酸ビニル等が挙げられる。
【００４８】
（ジエン類）
ジエン類としては、ブタジエン、イソプレン等が挙げられる。
（ハロゲン化ビニル類）
ハロゲン化ビニル類としては、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等が挙げられる。
（アリル化合物）
アリル化合物としては、酢酸アリル、塩化アリル等が挙げられる。
【００４９】
（アリルアミン類）
アリルアミン類としては、ＣＨ2＝ＣＨ−Ｏ−ＣＯ（ＣＨ2）x−ＮＨ2（ｘ＝１〜１０）等が挙げられる。
（ジカルボン酸エステル誘導体）
ジカルボン酸エステル誘導体としては、マレイン酸エステル、イタコン酸エステル等が挙げられる。
（ビニルシリル化合物）
ビニルシリル化合物としては、ビニルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００５０】
（アクリルアミド類）
アクリルアミド類としては、アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、イソプロピルアクリルアミド等が挙げられる。
（ビニリデン類）
ビニリデン類としては、塩化ビニリデン、シアン化ビニリデン等が挙げられる。
（環状メチレンマロン酸エステル類）
環状メチレンマロン酸エステル類としては、環状メチレンマロン酸ジエチル等が挙げられる。
【００５１】
（アルキルビニルエーテル類）
アルキルビニルエーテル類としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等が挙げられる。
【００５２】
（水酸基含有ビニルエーテル類）
水酸基含有ビニルエーテル類としては、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、３−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、４−ヒドロキシ−２−メチルブチルビニルエーテル、５−ヒドロキシペンチルビニルエーテル、６−ヒドロキシヘキシルビニルエーテル等が挙げられる。
（アミノビニルエーテル類）
アミノビニルエーテル類としては、ＣＨ2＝ＣＨ−Ｏ−（ＣＨ2）x−ＮＨ2（ｘ＝０〜１０）等が挙げられる。
【００５３】
（Ｓｉ系（メタ）アクリル酸エステル類）
（メタ）アクリル酸エステル類としては、ＣＨ2＝ＣＨＣＯ2（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＨ2＝ＣＨＣＯ2（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯ2（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯ2（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＨ2＝ＣＨＣＯ2（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣ2Ｈ5）2、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯ2（ＣＨ2）3ＳｉＣ2Ｈ5（ＯＣＨ3）2、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯ2（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣ2Ｈ5）、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯ2（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＣＨ3）2ＯＨ、ＣＨ2＝ＣＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ3）3、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯ2（ＣＨ2）3ＳｉＣ2Ｈ5（ＯＣＯＣＨ3）2、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯ2（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（Ｎ（ＣＨ3）ＣＯＣＨ3）2、ＣＨ2＝ＣＨＣＯ2（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3[ＯＮ（ＣＨ3）Ｃ2Ｈ５]2、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯ2（ＣＨ2）3ＳｉＣ6Ｈ5[ＯＮ（ＣＨ3）Ｃ2Ｈ5]2等が挙げられる。
【００５４】
（ビニルシラン類）
ビニルシラン類としては、ＣＨ2＝ＣＨＳｉ［ＯＮ＝Ｃ（ＣＨ3）（Ｃ2Ｈ5）］3、ＣＨ2＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＨ2＝ＣＨＳｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＨ2＝ＣＨＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、ＣＨ2＝ＣＨＳｉ（ＯＣＯＣＨ3）3、ＣＨ2＝ＣＨＳｉ（ＣＨ3）2（ＯＣ2Ｈ5）、ＣＨ2＝ＣＨＳｉ（ＣＨ3）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、ＣＨ2＝ＣＨＳｉＣ2Ｈ5（ＯＣＯＣＨ3）2、ＣＨ2＝ＣＨＳｉＣＨ3[ＯＮ（ＣＨ3）Ｃ2Ｈ5]2、ビニルトリクロロシラン又はこれらの部分加水分解物等が挙げられる。
【００５５】
（シリコーン系ビニル単量体）
シリコーン系ビニル単量体としては、トリメトキシシリルエチルビニルエーテル、トリエトキシシリルエチルビニルエーテル、トリメトキシシリルブチルビニルエーテル、メチルジメトキシシリルエチルビニルエーテル、トリメトキシシリルプロピルビニルエーテル、トリエトキシシリルプロピルビニルエーテル等のビニルエーテル類等が挙げられる。
【００５６】
（含フッ素ビニルモノマー）
含フッ素ビニルモノマーとしては、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ）、フッ化ビニル、へキサフルオロプロピレン、フルオロビニルエーテル、パーフルオロアルキルビニルエーテル等が挙げられる。
【００５７】
（単官能（メタ）アクリレート類）
単官能（メタ）アクリレート類としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、イソドデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、ベへニル（メタ）アクリレート、シクロプロピル（メタ）アクリレート、シクロブチル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘプチル（メタ）アクリレート、シクロオクチル（メタ）アクリレート、シクロノニル（メタ）アクリレート、シクロデシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ノルボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールアクリレート、エトキシ化−ｏ−フェニルフェノールアクリレート、２−ヒドロキシ−ｏ−フェニルフェノールプロピルアクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−ｏ−フェニルフェノールプロピルアクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロフタル酸等ベンジル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、９−アントラセニル（メタ）アクリレート、１−ピレニルメチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５８】
（多官能（メタ）アクリレート類）
多官能（メタ）アクリレート類としては、６−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、イソノナンジオールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル]フルオレンジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）クリルプロピルジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレンポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジオキサングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリス（２−（メタ）アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ビス（２−（メタ）アクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−（メタ）アクリロキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス−（２−（メタ）アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、プロポキシ化ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、デンドリチックポリマーポリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ポリグリセリンポリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５９】
（オキセタン化合物）
オキセタン化合物としては、３，７−ビス（３−オキセタニル）−５−オキサ−ノナン、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、１，２−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］エタン、１，３−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］プロパン、エチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、テトラエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、１，４−ビス（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）ブタン、１，６−ビス（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）ヘキサン、３―エチル―３−［（フェノキシ）メチル］オキセタン、３―エチル―３−（ヘキシロキシメチル）オキセタン、３―エチル―３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、３―エチル―３−（ヒドロキシメチル）オキセタン、３―エチル―３−（クロロメチル）オキセタン等が挙げられる。
【００６０】
（アルキン類）
アルキン類としては、ブチン、ペンチン、ヘキシン、ジエチルヘキシン、オクチン、ノニン、デシン、ドデシン、ヘキサデシン、オクタデシン、エイコシン、等のアルキルアルキン類；
２，５，８，１１，１４−ペンタオキサヘプタデカ−１６−イン、１，４−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−２−ブチン、メチルペンチン、ブチノール、ペンチノール、メチルペンチノール、ジメチルペンチノール、エチルペンチノール、ヘキシノール、ジエチルヘキシノール、オクチノール、ノニノール、デシノール、ドデシノール、ヘキサデシノール、オクタデシノール、等のアルコール誘導体アルキン類；
ブチン酸、ペンチン酸、ヘキシン酸、ジエチルヘキシン酸、オクチン酸、ノニン酸、デシン酸、ドデシン酸、ヘキサデシン酸、オクタデシン酸等のカルボン酸誘導体アルキン類が挙げられる。
【００６１】
（エンチオール反応によってエン化合物の反応性を有するチオール化合物）
エンチオール反応によってエン化合物の反応性を有するチオール化合物としては、ブタンチオール、ペンタンチオール、ヘキサンチオール、エチルヘキサンチオール、オクタンチオール、ノナンチオール、デカンチオール、ドデカンチオール、ヘキサデカンチオール、オクタデカンチオール、エイコサンチオール、オレイルチオール、等のアルキルチオール類；
ブタンジチオール、ペンタンジチオール、ヘキサンジチオール、エチルヘキサンジチオール、オクタンジチオール、ノナンジチオール、デカンジチオール、ドデカンジチオール、ヘキサデカンジチオール、オクタデカンジチオール、エイコサンジチオール、オレイルジチオール、ヘキサントリチオール、エチルヘキサントリチオール、オクタントリチオール、ノナントリチオール、デカントリチオール、ドデカントリチオール、ヘキサデカントリチオール、オクタデカントリチオール、エイコサントリチオール、等のアルキル多官能チオール類；
アミノブタンチオール、アミノペンタンチオール、アミノヘキサンチオール、アミノオクタンチオール、アミノノナンチオール、アミノデカンチオール、アミノドデカンチオール、アミノヘキサデカンチオール、アミノオクタデカンチオール、アミノオレイルチオール、等のアミノアルキルチオール類；
ビス（２−メルカプトエチル）エーテル、ビス（２−メルカプトプロピル）エーテル、ビス（２−メルカプトブチル）エーテル、ビス（２−メルカプトペンチル）エーテル、ビス（２−メルカプトヘキシル）エーテル、ビス（２−メルカプトオクチル）エーテル、ビス（２−メルカプトノニル）エーテル、ビス（２−メルカプトデシル）エーテル、ビス（２−メルカプトヘキサデシル）エーテル、ビス（２−メルカプトオクタデシル）エーテル、ビス（２−メルカプトオレイル）エーテル、等のビスメルカプトアルキルエーテル類；
ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、ビス（２−メルカプトプロピル）スルフィド、ビス（２−メルカプトブチル）スルフィド、ビス（２−メルカプトペンチル）スルフィド、ビス（２−メルカプトヘキシル）スルフィド、ビス（２−メルカプトオクチル）スルフィド、ビス（２−メルカプトノニル）スルフィド、ビス（２−メルカプトデシル）スルフィド、ビス（２−メルカプトヘキサデシル）スルフィド、ビス（２−メルカプトオクタデシル）スルフィド、ビス（２−メルカプトオレイル）スルフィド、等の二官能アルキルチオール類；
シクロヘキサンチオール、シクロペンタンチオール、シクロヘキサンジチオール、シクロペンタンジチオール、シクロヘキサントリチオール、シクロペンタントリチオール、等のシクロ環多官能チオール類；
ジオキサ−ペンタンチオール、ジオキサ−ヘキサンチオール、ジオキサ−オクタンチオール、ジオキサ−ノナンチオール、ジオキサ−デカンチオール、ジオキサ−ドデカンチオール、ジオキサ−ヘキサデカンチオール、ジオキサ−オクタデカンチオール、等のポリオキシエチレンチオール類；
ジオキサ−ペンタンジチオール、ジオキサ−ヘキサンジチオール、ジオキサ−オクタンジチオール、ジオキサ−ノナンジチオール、ジオキサ−デカンジチオール、ジオキサ−ドデカンジチオール、ジオキサ−ヘキサデカンジチオール、ジオキサ−オクタデカンジチオール、ジオキサ−ヘキサントリチオール、ジオキサ−オクタントリチオール、ジオキサ−ノナントリチオール、ジオキサ−デカントリチオール、ジオキサ−ドデカントリチオール、ジオキサ−ヘキサデカントリチオール、ジオキサ−オクタデカントリチオール、等のポリオキシエチレン多官能チオール類；
ジチア−ペンタンチオール、ジチア−ヘキサンチオール、ジチア−オクタンチオール、ジチア−ノナンチオール、ジチア−デカンチオール、ジチア−ドデカンチオール、ジチア−ヘキサデカンチオール、ジチア−オクタデカンチオール、等のアルキルスルフィドチオール類；
ジチア−ペンタンジチオール、ジチア−ヘキサンジチオール、ジチア−オクタンジチオール、ジチア−ノナンジチオール、ジチア−デカンジチオール、ジチア−ドデカンジチオール、ジチア−ヘキサデカンジチオール、ジチア−オクタデカンジチオール、ジチア−ヘキサントリチオール、ジチア−オクタントリチオール、ジチア−ノナントリチオール、ジチア−デカントリチオール、ジチア−ドデカントリチオール、ジチア−ヘキサデカントリチオール、ジチア−オクタデカントリチオール、等のアルキルスルフィド多官能チオール類；
ジチオエリスリトール、ジチオスレイトール、エチル−３−メルカプトプロピオネート、エチルヘキシル−３−メルカプトプロピオネート、プロピル−３−メルカプトプロピオネート、ブチル−３−メルカプトプロピオネート、オクチル−３−メルカプトプロピオネート、ノニル−３−メルカプトプロピオネート、デシル−３−メルカプトプロピオネート、ヘキサデシル−３−メルカプトプロピオネート、オクタデシル−３−メルカプトプロピオネート、３−メルカプトプロピル（ジメトキシ）メチルシラン、（３−メルカプトプロピル）トリメトキシシラン、（３−メルカプトプロピル）トリエトキシシラン、
ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラ（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（メルカプトアセテート）、等の多糖チオール誘導体類等が挙げられる。
【００６２】
（エンチオール反応によってエン化合物の反応性を有するポリチオール化合物）
エンチオール反応によってエン化合物の反応性を有するポリチオール化合物としては、２−メルカプトメチル−１，５−ジメルカプト−３−チアペンタン、２，４−ビス（メルカプトメチル）−１，５−ジメルカプト−３−チアペンタン、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン、４，８−ビス（メルカプトメチル）−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ビス（メルカプトメチル）−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、５，７−ビス（メルカプトメチル）−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、１，４−ジメルカプトメチルジチアン、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド等のアルキルポリチオール；  ２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール等の含ヘテロ原子ポリチオール等が挙げられる。
【００６３】
（エポキシ基含有モノマー及びそれらのオリゴマー）
エポキシ基含有モノマー及びそれらのオリゴマーとしては、脂肪族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、ノボラック型エポキシ化合物、アミン型エポキシ化合物、グリシジルエステル型エポキシ化合物、脂肪族ポリグリシジルエーテルエポキシ化合物、構造中にウレタン結合を有するウレタン変性エポキシ化合物、ＮＢＲ変性エポキシ化合物等が挙げられる。
【００６４】
脂肪族エポキシ化合物としては、アリルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、２-エチルヘキシルグリシジルエーテル、炭素数が１２〜１３の混合アルキルグリシジルエーテル等のエポキシ基を１個有する化合物；
１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールのジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ソルビトールのテトラグリシジルエーテル、ジペンタエリスリトールのヘキサグリシジルエーテル、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに１種又は２種以上のアルキレンオキサイドを付加することによって得られるポリエーテルポリオール等のポリグリシジルエーテル化化合物、ノボラック型エポキシ化合物等のエポキシ基を２個以上有する化合物；が挙げられる。
更に、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテルやこれらにアルキレンオキサイドを付加することによって得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステル、エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシ化大豆油、エポキシ化ポリブタジエン等が挙げられる。
【００６５】
脂環式エポキシ化合物としては、シクロへキセンオキシド、水素添加ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘキシル−３，４−エポキシ−１−メチルヘキサンカルボキシレート、６−メチル−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−６−メチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−３−メチルシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシ−３−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−５−メチルシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシ−５−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、プロパン−２，２−ジイル−ビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、２，２−ビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロパン、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−２−エチルヘキシル、１−エポキシエチル−３，４−エポキシシクロヘキサン、１，２−エポキシ−２−エポキシエチルシクロヘキサン、α−ピネンオキシド、リモネンジオキシド、３'，４'−エポキシシクロヘキシルメチル 3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ε−カプロラクトン変性 ３'，４'−エポキシシクロヘキシルメチル ３,５−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン等が挙げられる。
【００６６】
芳香族エポキシ化合物としては、フェニルグリシジルエーテル、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物（例えば、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンとを反応させて得られる）、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物（例えば、ビスフェノールＦとエピクロルヒドリンとを反応させて得られる）、ビスフェノールＡＤ型エポキシ化合物（例えば、ビスフェノールＡＤとエピクロルヒドリンとを反応させて得られる）等が挙げられる。
【００６７】
上記反応性モノマー（３）の中でも、耐湿性の観点より、ビニル系モノマー、ジエン類、単官能（メタ）アクリレート類又は多官能（メタ）アクリレート類が好ましい。
さらに、その中でも、樹脂（２）の溶解性の観点より、単官能（メタ）アクリレート類又は多官能（メタ）アクリレート類がより好ましい。
好ましい具体例としては、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、イソドデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、ベへニル（メタ）アクリレート、シクロプロピル（メタ）アクリレート、シクロブチル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘプチル（メタ）アクリレート、シクロオクチル（メタ）アクリレート、シクロノニル（メタ）アクリレート、シクロデシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ノルボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート等の単官能（メタ）アクリレート類；
トリシクロデカンジメタノールアクリレート、６−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、イソノナンジオールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリス（２−（メタ）アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ビス（２−（メタ）アクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−（メタ）アクリロキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス−（２−（メタ）アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、プロポキシ化ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、デンドリチックポリマーポリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ポリグリセリンポリ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート類が挙げられる。
より好ましくは、ラウリル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、イソドデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、ベへニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ノルボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート等の単官能（メタ）アクリレート類；
トリシクロデカンジメタノールアクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、イソノナンジオールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート類が挙げられる。
特に好ましくは、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ノルボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールアクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００６８】
[発光性組成物のその他成分]
本発明の発光性組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じてその他成分を含んでいてもよい。例えば、重合開始剤、他の樹脂成分、粘着付与樹脂、軟化剤、溶媒、吸湿剤、腐食防止剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、着色剤、酸化防止剤、防カビ剤、ｐＨ調整剤、難燃剤、結晶核剤、導電性粒子、無機粒子、有機粒子、粘度調整剤、滑剤、表面処理剤、レベリング剤、架橋剤、消泡剤、重合性単量体、界面活性剤等が挙げられる。
【００６９】
＜重合開始剤＞
本発明の発光性組成物の他の成分として、重合開始剤を含有していてもよい。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤を用いることができ、例えば、紫外線、可視光線等の活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する光重合開始剤、加熱によりラジカルを発生する熱重合開始剤が挙げられる。部材ダメージ低減の観点から、光重合開始剤、又は光重合開始剤と熱重合開始剤との併用が好ましい。
【００７０】
（光重合開始剤）
光重合開始剤としては、公知の化合物を用いることができる。例えば、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパンー１−オン、２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、α−アミノアルキルフェノン類、オキシムエステル類等の光ラジカル開始剤が挙げられる。また、光照射によってカチオン活性種を発生するＡ+Ｂ-で表される塩が挙げられる。ここで、カチオンＡ+は、芳香族ヨードニウム
イオン、芳香族スルホニウムイオン等が好ましい。
また、アニオンＢ-が、ＳｂＦ6-、ＰＦ6-又はＢ（Ｃ6Ｆ5）4-のような、Ｂ（アリール）4-イオンである開始剤を少なくとも含むことが好ましい。Ｂ（アリール）4-としては、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-の他に、例えばＢ（Ｃ6Ｆ4ＯＣＦ3）4-、Ｂ（Ｃ6Ｆ4ＣＦ3）4-等の光カチオン開始剤が挙げられる。
これらの中でも、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド又はビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイドが好ましい。これらの光重合開始剤は単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００７１】
光重合開始剤は、本発明の発光性組成物中のラジカル重合可能な化合物の合計を１００質量部としたとき、通常０．００１質量部以上、好ましくは０．０２質量部以上、さらに好ましくは０．０５質量部以上である。その上限は、通常５質量部以下、好ましくは３質量部以下、さらに好ましくは２質量部以下である。光重合開始剤の添加量が上記上限以下であることで、重合が急激に進行せず、硬化体の複屈折の低下、色相の向上を行うことができる傾向にある。一方、上記下限以上であることで、硬化性の組成物が十分に重合する傾向にある。
【００７２】
（熱重合開始剤）
熱重合開始剤としては、公知の化合物を用いることができる。例えば、ハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド等の一方の水素原子が炭化水素基で置換されているハイドロパーオキサイド；
ジｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、１，１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン等のジアルキルパーオキサイド；
ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシ（２−エチルヘキサノエート）等のパーオキシエステル；
ベンゾイルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド；ジイソプロピルパーオキシカーボネート等のパーオキシカーボネート；パーオキシケタール、ケトンパーオキサイド等の過酸化物；
２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビスシクロヘキサン１−カーボニトリル、２，２’−アゾビス−４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル、２，２’−アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリル、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、１，１’−アゾビス（１−アセトキシ−１−フェニルエタン）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物系開始剤；の熱ラジカル開始剤が挙げられる。
また、熱によってカチオン活性種を発生する熱カチオン開始剤も用いることができる。これは、光照射によっては実用的な量のカチオン活性種を発生し得ない化合物であり、上記のＡ+Ｂ-で表される塩である。カチオン活性種を発生する温度は、好ましくは６０℃以上である、より好ましくは８０℃以上である。また、好ましくは１８０℃以下であり、より好ましくは１５０℃以下である。
ここで、カチオンＡ+はＳに結合している３つの基のうち少なくとも１つがアルキル基であるスルホニウムイオンが好ましい。この場合、２つの基が一緒になってアルキレン基となりＳと共に環を形成していてもよい。残りの基は、置換基を有していてもよいアリール、アリールで置換されていてもよいアルキル基、アルケニル基等の熱カチオン開始剤であることが好ましい。
【００７３】
熱重合開始剤の中でも、ジクミルパーオキサイド、ジｔ−ブチルパーオキサイド、１，１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、ジラウロイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）等が好ましい形態として挙げられる。これらの重合開始剤は単独で用いても、２種以上を併用してもよい。 
熱重合開始剤は、本発明の発光性組成物中のラジカル重合可能な化合物の合計を１００質量部としたとき、通常０．１質量部以上、好ましくは０．５質量部以上、さらに好ましくは０．８質量部以上である。その上限は、通常１０質量部以下、好ましくは５質量部以下、さらに好ましくは２質量部以下である。熱重合開始剤が上記上限以下であることで、重合性組成物を光重合させた後、脱型して熱重合させるに際の重合が急激に進行せず、硬化体の複屈折の低下、色相の向上を行うことができる傾向にある。一方、上記下限以上であることで、熱重合が十分に進行する傾向にある。
【００７４】
光重合開始剤と熱重合開始剤とを併用する場合、その質量比は、通常「１００：１」〜「１：１００」（「光重合開始剤：熱重合開始剤」、以下、本段落において同様。）、好ましくは「１０：１」〜「１：１０」である。熱重合開始剤が上記下限以上であることで、重合が十分となる傾向にあり、上記上限以下であることで、着色を抑制する傾向にある。
【００７５】
＜粘着付与剤＞
本発明の発光性組成物は、接着力を向上させたり、弾性率をコントロールさせたりしながら耐透湿性を上げることを目的とし、粘着付与樹脂を含んでいてもよい。添加する量としては、３質量％以上が好ましく、より好ましくは５質量％以上である。また、上限としては７０質量％以下が好ましく、より好ましくは６０質量％以下である。上記範囲であることで、粘着付与樹脂を添加する効果が得られ、且つ、発光効率の低下を抑制する傾向にある。
【００７６】
粘着付与樹脂としては、ロジン系樹脂、テルペン系樹脂、脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、脂肪族／芳香族混成石油樹脂、脂環族系石油樹脂等が挙げられる。
これらの粘着付与樹脂は１種を単独で用いても、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。また、粘着付与樹脂は、水素添加されていてもよい。
【００７７】
接着性の観点では、ロジン系樹脂、テルペン系樹脂、脂環式系石油樹脂、芳香族系石油樹脂又は脂肪族系石油樹脂が好ましい。中でも、テルペン系樹脂、脂環式系石油樹脂又は脂肪族系石油樹脂が好ましく、脂環式系石油樹脂又は脂肪族系石油樹脂がさらに好ましい。
一方、透明性の観点では、脂環式系石油樹脂、テルペン系樹脂又は脂肪族系石油樹脂が好ましく、水添脂環式石油樹脂、芳香族変性テルペン樹脂又は脂肪族系石油樹脂がさらに好ましい。
【００７８】
（ロジン系樹脂）
ロジン系樹脂としては、ガムロジン、ウッドロジン、トール油ロジン、ロジン変性マレイン酸樹脂、重合ロジン、ロジンフェノール、ロジンエステル、水添ロジン等が挙げられる。
【００７９】
（テルペン系樹脂）
テルペン系樹脂として具体的には、テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、芳香族変性テルペン樹脂、水添テルペン樹脂等が挙げられる。テルペン樹脂は、α−ピネン、β−ピネン及びジペンテン（リモネン）のいずれかを単独で重合、又は混合物を共重合したものである。テルペンフェノール樹脂は、テルペンとフェノールの共重合体であり、α−ピネンフェノール樹脂、ジペンテンフェノール樹脂、テルペンビスジェノール樹脂等が挙げられる。芳香族変性テルペン樹脂は、テルペンモノマーと芳香族モノマーを共重合したものである。水添テルペン樹脂は、テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、芳香族変性テルペン樹脂を水素添加したものである。
【００８０】
（脂肪族系石油樹脂）
脂肪族系石油樹脂としては、ピペリレン、イソプレン、２−メチルブテン−２−ジシクロペンタジエン等のＣ５石油樹脂を単独で重合、又は混合物を共重合したもの等が挙げられる。
【００８１】
（芳香族系石油樹脂）
芳香族系石油樹脂としては、クマロン系樹脂、インデン系樹脂、水添クマロン樹脂、水添インデン系樹脂、フェノール系樹脂、スチレン系樹脂、水添スチレン系樹脂、キシレン系樹脂等が挙げられる。
クマロン系樹脂はクマロンとスチレン、ビニルトルエン、α―メチルスチレンのいずれかを共重合、又は混合物を共重合したものである。
インデン樹脂はインデンとスチレン、ビニルトルエン、α―メチルスチレンのいずれかを共重合、又は混合物を共重合したものである。
水添クマロン樹脂はクマロン樹脂を水素添加したものである。
水添インデン樹脂はインデン樹脂を水素添加したものである。
フェノール樹脂はフェノール類とアルデヒド類を共重合したものである。
スチレン系樹脂はアクリロニトリルブタジエンスチレン共重合体、アクリロニトリルスチレン共重合体、スチレン系熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
スチレン系熱可塑性エラストマーはポリスチレンブロックとゴム中間ブロックを有し、中間のゴムブロックはポリブタジエン、ポリエチレン・ブチレン共重合体、エチレン・プロピレン共重合体、ビニル・ポリイソプレン共重合体等が挙げられる。
水添スチレン樹脂はスチレン樹脂を水素添加したものである。
キシレン系樹脂はｍ−キシレンとホルムアルデヒドを共重合したものである。
【００８２】
（脂肪族／芳香族混成石油樹脂）
脂肪族／芳香族混成石油樹脂は、脂肪族／芳香族混成石油樹脂、水添脂肪族／芳香族混成石油樹脂等が挙げられる。
脂肪族／芳香族混成石油樹脂はイソプレン、ピペリレン、２−メチルブテン、−１及び２、スチレン、ビニルトルエン、α―メチルスチレン、インデン、ジシクロペンタジエンのいずれか又は混合物を共重合したものである。
水添脂肪族／芳香族混成石油樹脂は脂肪族／芳香族混成石油樹脂を水素添加したものである。
【００８３】
（脂環式系石油樹脂）
脂環式系石油樹脂としては、ジシクロペンタジエン系樹脂、水添ジシクロペンタジエン系樹脂等が挙げられる。ジシクロペンタジエン系樹脂は、ジシクロペンタジエンと、スチレン、ブタジエン、ペンタジエン、酢酸ビニル、無水マレイン酸、フェノールのいずれかを共重合又は混合物を共重合したものである。
水添ジシクロペンタジエン樹脂は、ジシクロペンジエン樹脂を水素添加したものである。
【００８４】
＜溶媒＞
発光性組成物はその形態によっては溶媒を含んでいてもよい。溶媒は、発光性組成物中の樹脂（２）を溶解するものであれば、公知のものが使用でき、水、有機溶媒又はその混合溶媒であってもよい。
有機溶媒としては、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、メチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等のアルコール類；酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノン等のケトン類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ヘプタン、ヘキサン、ペンタン、デカン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類；等公知の有機溶媒を使用することができる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００８５】
上記溶媒のうち、溶解性を向上する観点では、有機溶媒が好ましく、芳香族炭化水素類が更に好ましく、トルエンが特に好ましい。
また、部材へのダメージ、環境や人体への影響等を考慮すると、本発明の発光性組成物は無溶媒であることが好ましい。
本発明の発光性組成物は、無溶媒であってもデバイスの端面等への塗布、流入等が可能であり、封止剤としてハンドリング性、被着体に凹凸や段差が存在しても追従して隙間を充填できるような段差追従性に優れるものである。無溶媒の封止剤を用いることで、その後の封止剤の乾燥工程を行う必要がないため、デバイス等への影響を与えず、且つ、生産性を向上させることができる。
【００８６】
＜他の樹脂成分＞
本発明の発光性組成物は、上記以外の他の樹脂成分を含んでいてもよい。具体的には、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・アクリル酸共重合体、エチレン・メタクリル酸共重合体、エチレン・アクリル酸エステル共重合体、エチレン・メタクリル酸エステル共重合体のようなエチレン・α−オレフィン共重合体；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−１樹脂、非晶性を有するポリオレフィン等のポリオレフィン樹脂；ポリフェニレンエーテル系樹脂、ナイロン６、ナイロン６６等のポリアミド系樹脂；アラミド系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等の芳香族ポリエステル系樹脂；ポリ乳酸、ポリブチレンサクシネート、ポリカプロラクトン等の脂肪族ポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリアリレート系樹脂；変性ポリフェニレンオキシド樹脂；ポリサルホン樹脂；ポリフェニレンサルファイド樹脂；ポリエーテルサルホン樹脂；ポリエーテルケトン樹脂；ポリエーテルエーテルケトン樹脂；ポリイミド樹脂；ポリオキシメチレンホモポリマー、ポリオキシメチレンコポリマー等のポリオキシメチレン系樹脂；ポリメチルメタクリレート系樹脂；ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、ジヒドロキシポリシロキサン等のケイ素含有軟質重合体；ポリスチレン等のビニル芳香族重合体；エチレン・プロピレン共重合ゴム（ＥＰＭ）、エチレン・プロピレン・非共役ジエン共重合ゴム（ＥＰＤＭ）、エチレン・ブテン共重合ゴム（ＥＢＭ）、エチレン・プロピレン・ブテン共重合ゴム等のエチレン系エラストマー；等が挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００８７】
＜吸湿剤＞
本発明の発光性組成物は、透湿を抑制する等の目的より、吸湿剤を含有することができる。量としては、発光性組成物に対して１質量％以上が好ましく、２質％以上がより好ましい。また、５０質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましい。
吸湿剤としては、該当するもの１ｇを大気中に静置し、質量増加がなくなったときの質量を測定し、１ｇに対する吸水率（％）を算出した結果、１質量％以上のものあれば如何なるものでもよい。
上記吸湿剤は発光性組成物に溶解又はナノサイズに分散されていることが好ましい。
【００８８】
＜軟化剤＞
本発明の発光性組成物は軟化剤を含んでいてもよい。軟化剤は公知のものを用いてよく、特に制限はない。具体的には、芳香族系、パラフィン系、ナフテン系等の石油系炭化水素；低分子量ポリブテン、ポリイソブチレン、低分子量ポリイソプレン、各種解重合ゴム（液状ゴム）、鉱油（プロセス油）、水素添加された液状ポリイソプレン等の液状ゴム及びその誘導体；ペトロラクタム；石油系アスファルト類；等が挙げられる。これらの軟化剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。接着性、作業性の向上、また耐水性の観点から、低分子量ポリブテン又はポリイソブチレンを添加することが好ましい。
【００８９】
＜酸化防止剤＞
本発明の発光性組成物は、酸化防止剤を含んでいていてもよい。特に、発光性組成物中にポリオレフィン構造樹脂が含まれている場合は、有効である。酸化防止剤としては、接着剤、樹脂材料又はゴム材料の分野において通常使用されるものであれば特に制限されない。具体的には、フェノール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤等が挙げられる。発光性組成物を用いる発光装置等への影響の観点から、フェノール系酸化防止剤又はアミン系酸化防止剤が好ましいが、特にフェノール系酸化防止剤が好ましい。
【００９０】
＜その他成分＞
本発明の発光性組成物は、その他にホスフィンやホスホン酸を官能基として有する化合物を含んでいてもよい。これらの官能基を有する化合物は、半導体ナノ粒子表面に修飾し、水や酸素に対する劣化耐性を強める場合に、有効である。
ホスフィンやホスホン酸を官能基として有する化合物としては、ブチルホスフィン、ペンチルホスフィン、ヘキシルホスフィン、エチルヘキシルホスフィン、オクチルホスフィン、ノニルホスフィン、デシルホスフィン、ドデシルホスフィン、ヘキサデシルホスフィン、オクタデシルホスフィン、オレイルホスフィン、等のアルキルホスフィン類；
ジブチルホスフィン、ジペンチルホスフィン、ジヘキシルホスフィン、ジエチルヘキシルホスフィン、ジオクチルホスフィン、ジノニルホスフィン、ジデシルホスフィン、ジドデシルホスフィン、ジヘキサデシルホスフィン、ジオクタデシルホスフィン、ジオレイルホスフィン、トリ-tert-ブチルホスフィン、トリ-tert-ペンチルホスフィン、トリ-tert-ヘキシルホスフィン、トリ-tert-エチルヘキシルホスフィン、トリ-tert-オクチルホスフィン、トリ-tert-ノニルホスフィン、トリ-tert-デシルホスフィン、トリ-tert-ドデシルホスフィン、トリ-tert-ヘキサデシルホスフィン、トリ-tert-オクタデシルホスフィン、トリ-tert-オレイルホスフィン、等の多官能アルキルホスフィン類；
ブチルホスフィンオキシド、ペンチルホスフィンオキシド、ヘキシルホスフィンオキシド、エチルヘキシルホスフィンオキシド、オクチルホスフィンオキシド、ノニルホスフィンオキシド、デシルホスフィンオキシド、ドデシルホスフィンオキシド、ヘキサデシルホスフィンオキシド、オクタデシルホスフィンオキシド、オレイルホスフィンオキシド、等のアルキルホスフィンオキシド類；
ジブチルホスフィンオキシド、ジペンチルホスフィンオキシド、ジヘキシルホスフィンオキシド、ジエチルヘキシルホスフィンオキシド、ジオクチルホスフィンオキシド、ジノニルホスフィンオキシド、ジデシルホスフィンオキシド、ジドデシルホスフィンオキシド、ジヘキサデシルホスフィンオキシド、ジオクタデシルホスフィンオキシド、ジオレイルホスフィンオキシド、トリ-tert-ブチルホスフィンオキシド、トリ-tert-ペンチルホスフィンオキシド、トリ-tert-ヘキシルホスフィンオキシド、トリ-tert-エチルヘキシルホスフィンオキシド、トリ-tert-オクチルホスフィンオキシド、トリ-tert-ノニルホスフィンオキシド、トリ-tert-デシルホスフィンオキシド、トリ-tert-ドデシルホスフィンオキシド、トリ-tert-ヘキサデシルホスフィンオキシド、トリ-tert-オクタデシルホスフィンオキシド、トリ-tert-オレイルホスフィンオキシド、等の他官能アルキルホスフィン類；
ブチルホスホン酸、ペンチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、オクチルホスホン酸、ノニルホスホン酸、デシルホスホン酸、ドデシルホスホン酸、ヘキサデシルホスホン酸、オクタデシルホスホン酸、オレイルホスホン酸、等のアルキルホスホン酸類；
アミノブチルホスホン酸、アミノペンチルホスホン酸、アミノヘキシルホスホン酸、アミノオクチルホスホン酸、アミノノニルホスホン酸、アミノデシルホスホン酸、アミノドデシルホスホン酸、アミノヘキサデシルホスホン酸、アミノオクタデシルホスホン酸、アミノオレイルホスホン酸等のアミノアルキルホスホン酸類等が挙げられる。
【００９１】
[発光性組成物の製造方法]
本発明の発光性組成物の製造方法としては特に限定されないが、半導体ナノ粒子（１）、樹脂（２）、反応性モノマー（３）及びその他成分を、室温又は加温下で、ミキサー、ボールミル、３本ロール等の混合機により混合する方法等が挙げられる。加温する場合は４０℃以上が好ましく、上限としては３００℃以下、好ましくは２００℃以下、より好ましくは１００℃以下である。この範囲内の温度で混合することによって、半導体ナノ粒子（１）の劣化を抑制することができる。
【００９２】
[発光性組成物の物性]
＜発光性組成物の粘度＞
本発明の発光性組成物の粘度は特に限定されないが、コーンプレート型（Ｅ型）粘度計を用いて、温度２５℃及び該コーンプレートの回転数０．５ｒｐｍの条件下で測定した粘度が、１Ｐａ・Ｓ以上、１００Ｐａ・Ｓ以下であることが好ましい。より好ましくは、８０Ｐａ・Ｓ以下であり、さらに好ましくは６０Ｐａ・Ｓ以下であり、特に好ましくは５０Ｐａ・Ｓ以下である。これらの範囲であることで、製造時、加工時等の取り扱いが容易になる傾向にある。
【００９３】
＜発光性組成物の貯蔵弾性率＞
本発明の発光性組成物の２５℃での貯蔵弾性率は、好ましくは１×１０8Ｐａ以下であり、より好ましくは５×１０7Ｐａ以下であり、さらに好ましくは１×１０7Ｐａ以下である。また、下限は特に限定されないが、例えば、１×１０2Ｐａ以上である。
また、発光性組成物の５０℃の貯蔵弾性率としては、好ましくは１×１０8Ｐａ以下である。下限は特に限定されないが例えば、１×１０2Ｐａ以上である。
発光性組成物の１００℃の貯蔵弾性率としては、好ましくは１×１０8Ｐａ以下である。下限は特に限定されないが例えば、１×１０2Ｐａ以上である。
発光性組成物の１５０℃の貯蔵弾性率としては、好ましくは１×１０8Ｐａ以下であり、より好ましくは５×１０7Ｐａ以下であり、さらに好ましくは１×１０7Ｐａ以下であり、特に好ましくは１×１０6Ｐａ以下である。下限は特に限定されないが例えば、１×１０2Ｐａ以上である。
【００９４】
＜発光性組成物のガラス転移点＞
発光性組成物のガラス転移点は特に限定されないが、好ましくは８０℃以下であり、より好ましくは６０℃以下である。また、下限は好ましくは−１００℃以上である。ガラス転移点が上記範囲であることで、本発明の発光性組成物が適当な柔らかさとなり、ハンドリングがし易い傾向にある。なお、ガラス転移点の定義は、樹脂（２）で示したものと同義である。
【００９５】
[発光性組成物の硬化条件]
本発明の発光性組成物が硬化性である場合、被着体に塗布した後、紫外線等の光照射又は加熱により硬化させることができる。
（光照射による硬化）
紫外線（ＵＶ）を照射するには、殺菌灯、紫外用蛍光灯、カーボンアーク、キセノンランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、無電極ランプ等のＵＶ照射装置、発光中心波長が３６５ｎｍ、３７５ｎｍ、３８５ｎｍ、３９５ｎｍ、４０５ｎｍ等のＬＥＤ等を用いる。
照射する光の波長としては、光重合開始剤の吸収波長等にもよるが、好ましくは１００ｎｍ以上であり、より好ましくは２００ｎｍ以上である。また、好ましくは８００ｎｍ以下であり、より好ましくは６００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは５００ｎｍ以下であり、特に好ましくは４００ｎｍ以下である。波長が適当な範囲であることで、光重合開始剤が光を吸収し、さらに、発光性組成物中の樹脂の劣化を抑制できる傾向にある。
【００９６】
照射する光の照射量は、光重合開始剤がラジカルを発生させる範囲であれば任意であるが、１分間以上、３０分間以下の照射において、照射量が０．０１Ｊ／ｃｍ2以上、１０
０００Ｊ／ｃｍ2以下で照射するのが好ましい。より好ましくは０．０５Ｊ／ｃｍ2以上であり、さらに好ましくは０．１Ｊ／ｃｍ2以上であり、特に好ましくは０．５Ｊ／ｃｍ2以上である。また、上限としてはより好ましくは５０００Ｊ／ｃｍ2以下であり、さらに好ましくは２０００Ｊ／ｃｍ2以下であり、特に好ましくは、８００Ｊ／ｃｍ2以下である。
紫外線等の光の照射量適当な範囲であることで、十分な重合が起こり、光による劣化を起こすことなく、硬化物の耐熱性、機械特性が十分得られる傾向にある。 
硬化物を形成するに際し、酸素による重合禁止効果を除去する必要がある場合には、電離放射線の照射処理を、窒素ガス、炭酸ガス、希ガス等の不活性ガス雰囲気下とすることが好ましい。
【００９７】
光照射により得られた硬化物は、さらに加熱してもよい。これにより重合反応を完結させ、さらに、重合時に発生した内部歪みを低減することが可能である。加熱温度は、硬化物の組成やガラス転移点（温度）に合わせて適宜選択されるが、通常、ガラス転移点（温度）付近かそれ以下の温度で行われる。好ましくは４０℃以上であり、より好ましくは５０℃以上である。また、好ましくは３００℃以下であり、より好ましくは２５０℃以下である。一方、重合反応の時間は、好ましくは１週間以下であり、より好ましくは３日間以下、さらに好ましくは１日以下である。加熱温度及び加熱時間が適当範囲であることで、硬化物の色相の悪化を抑制することができる傾向にある。加熱時の雰囲気は、空気中、窒素、アルゴン等の不活性ガス中、真空中等で行うことができる。
【００９８】
（加熱による硬化）
加熱により硬化する場合の加熱温度は、硬化物の組成やガラス転移点（温度）に合わせて適宜選択されるが、通常、ガラス転移点（温度）付近かそれ以下の温度で行われる。好ましくは４０℃以上であり、より好ましくは５０℃以上である。また、好ましくは３００℃以下であり、より好ましくは２５０℃以下である。一方、重合反応の時間は、好ましくは１週間以下であり、より好ましくは３日間以下、さらに好ましくは１日以下である。加熱温度及び加熱時間が適当範囲であることで、硬化物の色相の悪化を抑制することができる傾向にある。加熱時の雰囲気は、空気中、窒素、アルゴン等の不活性ガス中、真空中等で行うことができる。
【００９９】
[成形体] 
本発明の成形体は、半導体ナノ粒子（１）、樹脂（２）及び反応性モノマー（３）を含有する発光性組成物を硬化させたものであれば特に限定されず、その形状等も用途等に合わせて適宜選択できる。例えば、ペレット、シート等が挙げられる。
【０１００】
＜成形体の貯蔵弾性率＞
成形体の貯蔵弾性率は、２５℃において１×１０8Ｐａ以下が好ましく、より好ましくは５×１０7Ｐａ以下であり、さらに好ましくは１×１０7Ｐａ以下である。また、下限は特に限定されないが、例えば、１×１０2Ｐａ以上である。
また、成形体の５０℃の貯蔵弾性率としては、１×１０8Ｐａ以下であることが好ましい。下限は特に限定されないが例えば、１×１０2Ｐａ以上である。
成形体の１００℃の貯蔵弾性率としては、１×１０8Ｐａ以下であることが好ましい。下限は特に限定されないが例えば、１×１０2Ｐａ以上である。
成形体の１５０℃の貯蔵弾性率としては、１×１０8Ｐａ以下であることが好ましく、より好ましくは５×１０7Ｐａ以下であり、さらに好ましくは１×１０7Ｐａ以下であり、特に好ましくは１×１０6Ｐａ以下である。下限は特に限定されないが例えば、１×１０2Ｐａ以上である。これらの範囲であることで、成形体のハンドリング性と基材等への接着性が向上する傾向にある。
なお、成形体の貯蔵弾性率の測定方法は、上記樹脂（２）の貯蔵弾性率で示した測定方法と同様である。また、成形体がペレット等である場合は、ペレット等を溶融又は溶媒に溶解させて溶液とし、シート状にしてから上記樹脂（２）の貯蔵弾性率で示した測定方法で貯蔵弾性率を測定する。ここでペレットを溶解させる溶媒は特に限定されないが、前記発光性組成物が含んでいてもよい溶媒として挙げたものを用いることができる。
【０１０１】
＜成形体のガラス転移点＞
シートのガラス転移点は特に限定されないが、好ましくは８０℃以下であり、より好ましくは６０℃以下である。また、下限は好ましくは−１００℃以上である。ガラス転移点が上記範囲であることで、成形体の柔らかさが適当となり、ハンドリングがし易い傾向にある。なお、ガラス転移点の定義は、樹脂（２）で示したものと同義である。
【０１０２】
＜成形体の水蒸気透過率＞
本発明の成形体の水蒸気透過率は特に限定されないが、好ましくは１０ｇ/ｍ2/ｄａｙ（厚さ０．０５ｍｍ）以下であり、より好ましくは９ｇ/ｍ2/ｄａｙ以下であり、さらに好ましくは８ｇ/ｍ2/ｄａｙ以下であり、さらに好ましくは６ｇ/ｍ2/ｄａｙ以下であり、最も好ましくは４ｇ/ｍ2/ｄａｙ以下である。下限は特に限られないが、１×１０-6ｇ/ｍ2/ｄａｙ以上である。これらの範囲であることで、成形体の耐湿性が向上する効果が得られる傾向にある。
ここで、成形体の水蒸気透過率の測定については樹脂（２）と同様、水蒸気透過率が、１〜１０ｇ/ｍ2/ｄａｙの範囲ではＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に準拠して行った評価による値であり、１ｇ/ｍ2/ｄａｙ未満の範囲では、ＪＩＳ  Ｋ７１２９  Ｂ法に記載のＭＯＣＯＮ法に準拠して行った評価による値と定義する。シートが単膜として自立する場合はその膜をそのまま評価に用い、自立しないような膜であれば剥離ＰＥＴフィルム（ＭＲＦ５０、厚み５０μｍ、三菱樹脂株式会社製）の剥離面ではない側に接着するようにシートを作製し樹脂（２）と同様に評価する。
【０１０３】
以下、成形体の一例として、シートの形態として用いる場合について説明する。
【０１０４】
＜シートの厚み＞
本発明のシートの厚みは特に限定されないが、好ましくは１０μｍ以上、１ｃｍ以下であり、より好ましくは１０μｍ以上、５ｍｍ以下であり、さらに好ましくは１０μｍ以上、１ｍｍ以下であり、特に好ましくは１０μｍ以上、１００μｍ以下である。厚みが上記上限値以下であることで上記シートを基材上に塗布した後にロール状に巻いて保存することができる傾向にあり、生産性の面から好ましい。また、厚みが上記下限値以上であることで、上記シートを基材等から剥離する工程において、シートの強度を高めることができ、好ましい。
【０１０５】
＜シートの製造方法＞
本発明のシートの製造方法は特に限定されないが、例えば、溶融押出法、発光性組成物を含有する塗布液を基材上に塗布し、乾燥させる方法（塗布法）等が挙げられる。好ましくは、塗布法である。
塗布方法としては、例えばスプレーコート法、ディップコート法、ドクターブレードコート法、カーテンロールコート法、グラビアロールコート法、リバースロールコート法、エヤナイフコート法、ロッドコート法、ダイコート法、オフセット印刷法、コンマコート法、リップコート法等が挙げられる。
基材の種類等は特に限定されないが、紙、ガラス板、樹脂等が挙げられる。基材の厚みは特に限定されないが、通常１０μｍ以上、１ｃｍ以下である。また好ましくは５ｍｍ以下であり、より好ましくは１ｍｍ以下である。基材の厚みが適当な範囲であることで、質量が重くなり過ぎず、取り扱いしやすい傾向にあり、さらに、シートを基材から剥離する場合に、基材の強度が得られる傾向にある。
【０１０６】
本発明の発光性組成物及び成形体は、ＬＥＤチップ上に塗布又は貼り付ける等を行うことで発光素子として用いることができ、表示装置等の光源装置として用いることができる。
【実施例】
【０１０７】
以下に本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
【０１０８】
＜水蒸気透過率の測定＞
樹脂（２）及び発光性組成物の水蒸気透過率は以下のように測定を実施した。
ＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に準拠して評価を実施した。具体的には、剥離ＰＥＴフィルム（ＭＲＦ５０、厚み５０μｍ、三菱樹脂株式会社製）の剥離面ではない側に樹脂（２）及び各実施例の発光性組成物をアプリケーターでそれぞれ塗布した。樹脂（２）及び発光性組成物が溶媒を含んでいる場合は塗布後加熱し、溶媒を除去した。樹脂（２）及び発光性組成物の粘度が高くアプリケーターで塗布するのが難しい場合は、バーコーター等を用いて引き延ばして塗布膜を作製した。発光性組成物がＵＶ硬化性の場合、この塗布膜にＵＶランプコンベアーシステム（バルブ：Ｄタイプ）を用いて２J／ｃｍ2のＵＶを照射して硬化後の塗布膜を得た。
その後、レーザー加工機（Ｌａｓｅｒ  Ｍａｎ  Ａ、コマックス社製）を用いて塗布膜を直径３．６５ｃｍに切り抜き、ＰＥＴ／塗布膜の積層体をそれぞれ得た。この積層体をバイアル（マルエム製スクリューカップNo.４５）の蓋にセットし、バイアル内には無水塩化カルシウム粒子（粒径３〜５ｍｍ、国産化学株式会社製）を１０ｇ入れ、サンプルとした。このサンプルを４０℃、湿度９０％の雰囲気下に２週間置いた。４８時間おきに質量増加量をチェックし、データが安定したところで２４時間当たりの質量増加量を塗布膜の面積で除して、積層体の水蒸気透過率とした。積層体の水蒸気透過率をＸ（ｇ/ｍ2/ｄ
ａｙ）、上記剥離ＰＥＴフィルムの水蒸気透過率をＰ（ｇ/ｍ2/ｄａｙ）とし、下記（Ａ）式より、樹脂（２）及び発光性組成物の水蒸気透過率Ａ（ｇ/ｍ2/ｄａｙ）をそれぞれ算出した。
（１/Ｐ）+(１/Ａ）＝１/Ｘ    （Ａ）
【０１０９】
＜貯蔵弾性率の測定＞
動的粘弾性測定装置（エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製ＤＭＳ６１００）を用い、サンプルの形状に合わせて引張モードあるいはフィルムずりモードにて、窒素ガス雰囲気下、昇温速度２℃／ｍｉｎ、周波数１Ｈｚとして測定した。２５℃での貯蔵弾性率（Ｐａ）としては、上記データの中の２５℃の部分を読み取った。
【０１１０】
＜ガラス転移点の測定＞
上記動的粘弾性率測定データにおいて、貯蔵弾性率Ｅ’と損失弾性率Ｅ’’の比率Ｅ’’／ Ｅ’＝ｔａｎδをグラフに描き、極大ピークとなる温度を読み取った。ピークが複数ある場合は最も低いところを読み取った。
【０１１１】
＜分子量の測定＞
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより下記条件で測定し、市販の標準ポリスチレンの測定から求めた検量線（標準ポリスチレンのピーク分子量を使用して作成）を使用してポリスチレン換算値として求めた。
装置：２６９５−２４１０（Ｗａｔｅｒｓ社製）
カラム：ＫＦ６０２．５−ＫＦ６０３−ＫＦ６０４（昭和電工社製）
溶離液：ＴＨＦ
流量：０．７ｍＬ／ｍｉｎ
サンプル濃度：１．０質量％
注入量：２０μＬ、
カラム温度：４０℃
【０１１２】
[実施例１]
樹脂（２）−１（スチレン−イソブチレン−スチレントリブロック共重合体の水添物）５０．６g、イソステアリルアクリレート（新中村工業株式会社製、Ｓ１８００Ａ）１２３．８g、１，１０−デカンジオールジアクリレート（新中村工業株式会社製、Ａ−ＤＯＤ−Ｎ）１２．４ｇ、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（ＢＡＳＦ製、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４）２．７ｇ、酸化防止剤（フェノール系酸化防止剤、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、ＢＡＳＦ製）１．９ｇを混合し、ＵＶ硬化性液Ａとした。
ＵＶ硬化性液Ａ  ０．１２ｇとＡｌｄｒｉｃｈ製Ｌｉｍｉｄｏｔ  ５６０  ＣｄＳｅ/ＺｎＳ（コアシェル型量子ドット、５mg/mLトルエン溶液）５０μLを混合し、発光性組成物１を得た。ここで、樹脂（２）−１の水蒸気透過率、貯蔵弾性率及び分子量の測定を上記方法で実施した。結果、水蒸気透過率は、厚み０．０５ｍｍで４．０ｇ/ｍ2/ｄａｙであった。
樹脂（２）−１の貯蔵弾性率をフィルムずりモードで測定したところ、２５℃での貯蔵弾性率は６．３×１０6Ｐａ、５０℃での貯蔵弾性率は４．２×１０6Ｐａ、８０℃での貯蔵弾性率は２．３×1１０6Ｐａ、１００℃での貯蔵弾性率は１．５×1１０6Ｐａ、１５０℃での貯蔵弾性率は１．９×１０5Ｐａであった。また、樹脂（２）−１の数平均分子量Ｍｎは７８，２００、質量平均分子量Ｍｗは１０３，０００であった。
【０１１３】
[比較例１]
樹脂（２）−２（ポリイソブチレン  ＢＡＳＦ製Ｏｐｐａｎｏｌ  Ｂ５０  ＳＦ）の４０%トルエン溶液０．３ｇとＡｌｄｒｉｃｈ製Ｌｉｍｉｄｏｔ  ５６０  ＣｄＳｅ/ＺｎＳ（コアシェル型量子ドット、５mg/mLトルエン溶液）５０μLを混合し、発光性組成物２を得た。ここで、樹脂（２）−２の水蒸気透過率、貯蔵弾性率及び分子量の測定を上記方法で実施した。結果、樹脂（２）−２の水蒸気透過率は厚み０．０５ｍｍで６．６ｇ/ｍ2/ｄａｙであった。
樹脂（２）−２の貯蔵弾性率をフィルムずりモードで測定したところ、２５℃での貯蔵弾性率は４．３×１０5Ｐａ、５０℃での貯蔵弾性率は３．６×１０5Ｐａ、８０℃での貯蔵弾性率は２．６×１０5Ｐａ、１００℃での貯蔵弾性率は２．０×１０5Ｐａ、１５０℃での貯蔵弾性率は９．０×１０4Ｐａであった。また、樹脂（２）−２の数平均分子量Ｍｎは２００，０００、質量平均分子量Ｍｗは３２０，０００であった。
【０１１４】
[比較例２]
樹脂（２）−１の４０%トルエン溶液０．３ｇとＡｌｄｒｉｃｈ製Ｌｉｍｉｄｏｔ  ５６０  ＣｄＳｅ/ＺｎＳ（コアシェル型量子ドット、５mg/mLトルエン溶液）５０μLを混合し、ＵＶ硬化性の発光性組成物３を得た。
【０１１５】
＜発光性組成物１〜３を用いた評価用サンプルの作製＞
発光性組成物２及び３を用いた評価用成形体サンプルは、型枠内に流涎後、それを溶剤除去することで、それぞれ評価用成形体サンプル２及び３を得た。
発光組成物１を用いた評価用サンプルは、型枠内に流涎し、溶媒除去工程を経て、さらにＵＶ照射によって架橋・硬化することで、評価用成形体サンプル１を得た。詳細を以下に記述する。
発光性組成物２及び３は、それぞれ０．２ｍｍのスペーサーを乗せたマツナミ製φ２８ｍｍ, 厚み０．５ｍｍの丸カバーガラス上に滴下し、スポイトの先で溶滴を少し伸ばして、５０℃に加温したホットプレート上に３０min置いた。その後、７０℃に加温した真空オーブン中で３０min減圧乾燥を実施し、トルエンを除去した。トルエン除去後、上記丸カバーガラス上の発光性組成物の上面に、１ｃｍ角程度で、厚さ５０μｍの易剥離ＰＥＴフィルム（ダイアホイル ＭＲＦ−５０、三菱樹脂株式会社製）を乗せ、ピンセットにてサンプル膜厚をスペーサー厚になるように調整した。その後、スペーサーを除き、評価用成形体サンプル２及び３を得た。
発光性組成物１は、マツナミ製φ２８ｍｍ、 厚み０．５ｍｍの丸カバーガラス上に乗せ、スポイドの先で溶滴を少し伸ばして０．２ｍｍのスペーサーを乗せた。上記丸カバーガラス上の発光組成物１上に、発光組成物２及び３と同じ易剥離ＰＥＴフィルムを乗せ、その後、フュージョンＵＶシステムジャパン株式会社製のＵＶランプコンベアーシステム（バルブ：Ｄタイプ）を用いて２J／ｃｍ2のＵＶを照射し、硬化後の評価用成形体サンプル１を得た。
【０１１６】
[実施例２]
樹脂（２）−２を１８．４ｇ、イソステアリルアクリレート（新中村工業株式会社製、Ｓ１８００Ａ）７１．５ｇ、１，１０−デカンジオールジアクリレート（新中村工業株式会社製、Ａ−ＤＯＤ−Ｎ）７．２ｇ、酸化防止剤（フェノール系酸化防止剤、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、ＢＡＳＦ製）１．９ｇを混合し、ＵＶ硬化性液Ｂとした。
ＵＶ硬化性液Ｂ  ０．５gと、半導体ナノ粒子（１）として５ｍｇ／ｍｌのＡｌｄｒｉｃｈ製ｌｕｍｉｄｏｔ  ５３０ｎｍ  ＣｄＳｅ／ＺｎＳ  緑色量子ドットのトルエン分散液５１０μｌを混合後、混練機(あわとり練太郎、株式会社シンキー製)によって混練した(混練：２０００ｒｐｍ，５ｍｉｎ；脱泡：２２００ｒｐｍ，１ｍｉｎ)。その後、５５℃に加温した真空オーブン中で６０ｍｉｎ減圧乾燥を実施し、トルエンを除去した。トルエンが除去された発光組成物に１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（ＢＡＳＦ製、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４）６ｍｇを混合し、再度混練機による混練を同様に行い、発光性組成物４を得た。
【０１１７】
[実施例３]
ポリマー材料（２）−１を９．２ｇ、イソステアリルアクリレート（新中村工業株式会社製、Ｓ１８００Ａ）７９．７ｇ、１，１０−デカンジオールジアクリレート（新中村工業株式会社製、Ａ−ＤＯＤ−Ｎ）８．２ｇ、酸化防止剤（フェノール系酸化防止剤、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、ＢＡＳＦ製）０．９７ｇを混合し、ＵＶ硬化性液Ｃとした。
その後、実施例２と同様の半導体ナノ粒子（１）とＵＶ硬化性液Ｃの混合・乾燥工程を経て、発光性組成物５を得た。
【０１１８】
[実施例４]
ＵＶ硬化性液Ｃに対して、１−デカンチオール（東京化成株式会社製）を全体の５質量％相当添加することで、ＵＶ硬化性液Ｄとした。その後、実施例２と同様の半導体ナノ粒子（１）とＵＶ硬化性液Ｄの混合・乾燥工程を経て、発光性組成物６を得た。
【０１１９】
[実施例５]
ＵＶ硬化性液Ｃに対して、１，１０−デカンジチオール（東京化成株式会社製）を全体の５質量％相当添加することで、ＵＶ硬化性液Ｅとした。その後、実施例２と同様の半導体ナノ粒子（１）とＵＶ硬化性液Ｅの混合・乾燥工程を経て、発光性組成物７を得た。
【０１２０】
[比較例３]
イソステアリルアクリレート（新中村工業株式会社製、Ｓ１８００Ａ）８７．８ｇ、１，１０−デカンジオールジアクリレート（新中村工業株式会社製、Ａ−ＤＯＤ−Ｎ）９．２ｇ、酸化防止剤（フェノール系酸化防止剤、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、ＢＡＳＦ製）０．９７ｇを混合し、樹脂（２）を含まないＵＶ硬化性液Ｇとした。
実施例２のＵＶ硬化性液Ｂを、ＵＶ硬化性液Ｇに変更した以外は同様にして、発光性組成物８を得た。
【０１２１】
[実施例６]
ＵＶ硬化性液Ｂ  ０．５gと、半導体ナノ粒子（１）として５ｍｇ／ｍｌのＡｌｄｒｉｃｈ製  ５３０ｎｍ  ＩｎＰ／ＺｎＳ  緑色量子ドットのトルエン分散液５１０μｌを混合し、実施例２同様の乾燥工程を経て、発光性組成物９を得た。
【０１２２】
[実施例７]
ＵＶ硬化性液Ｂに対して、１，１０−デカンジチオール（東京化成株式会社製）を全体の５質量％相当添加することで、ＵＶ硬化性液Ｆとした。その後、実施例６と同様の半導体ナノ粒子（１）とＵＶ硬化性液Ｆの混合・乾燥工程を経て、発光性組成物１０を得た。
【０１２３】
[実施例８]
ＵＶ硬化性液ＢをＵＶ硬化性液Ｃとしたこと以外は実施例６と同様にして、発光性組成物１１を得た。
【０１２４】
[実施例９]
ＵＶ硬化性液ＢをＵＶ硬化性液Ｄとしたこと以外は実施例６と同様にして、発光性組成物１２を得た。
【０１２５】
＜発光性組成物４〜１２を用いた評価用成形体サンプルの作製＞
発光性組成物４〜１２を、それぞれ、マツナミ製φ２８ｍｍ、 厚み０．５ｍｍの丸カバーガラス上に０．５ｃｍφの孔が開いた厚み１ｍｍシリコンシートを鋳型に、スポイトにてポッティングした。丸カバーガラス上の発光性組成物４〜１２のそれぞれに、１ｃｍ角程度、５０μｍ厚の易剥離ＰＥＴフィルム（ダイアホイル ＭＲＦ−５０、三菱樹脂株式会社製）を乗せた。その後、フュージョンＵＶシステムジャパン株式会社製のＵＶランプコンベアーシステム（バルブ：Ｄタイプ）を用いて２J／ｃｍ2のＵＶを照射し、硬化後の評価用成形体サンプル４〜１２を得た。
【０１２６】
＜評価用成形体サンプル１〜１２の評価＞
４００〜８５０ｎｍの波長域で分光し、評価用成形体サンプル１〜１２の光学評価を実施した。その後、８５℃、湿度８５％の恒温恒湿機に入れ、耐久性試験を実施した。耐久性試験に関しては半導体ナノ粒子としてＡｌｄｒｉｃｈ製  Ｌｕｍｉｄｏｔ  ５６０ｎｍ  ＣｄＳｅ／ＺｎＳを濃度０．２質量％にて０．２ｍｍ厚にて作製した評価用成形体サンプル１〜３（実施例１、比較例１、２）は４８時間後、その他の評価用成形体サンプル４〜１２（実施例２〜９及び比較例３）は１６８時間後の維持率で評価した。また、耐久性試験時には、表面の易剥離ＰＥＴは取り除き、発光性組成物を含んだ評価サンプルが完全曝露条件になるようにした。
表１に、評価用成形体サンプル１〜１２(実施例１〜９、比較例１〜３)の内訳と、用いられている樹脂（２）の水蒸気透過率を示す。
【０１２７】
【表１】
2017106006.tif 000002
【０１２８】
表２に、半導体ナノ粒子（１）として、Ａｌｄｒｉｃｈ製Ｌｕｍｉｄｏｔ  ５６０ｎｍ  ＣｄＳｅ／ＺｎＳを用いた評価用成形体サンプル１〜３（実施例１、比較例１、２）の発光性組成物の４４５ｎｍの励起光吸収率、内部量子効率に関して耐久性試験前の値を１．０と換算した際の４８時間後の各数値を示す。
【０１２９】
【表２】
2017106006.tif 000003
【０１３０】
表３に、半導体ナノ粒子（１）として、Ａｌｄｒｉｃｈ製Ｌｕｍｉｄｏｔ  ５３０ｎｍ  ＣｄＳｅ／ＺｎＳを用いた評価用成形体サンプル４〜８（実施例２〜５、比較例３）の発光性組成物の４４５ｎｍの励起光吸収率、内部量子効率に関して耐久性試験前の値を１．０と換算した際の１６８時間後の各数値を示す。
【０１３１】
【表３】
2017106006.tif 000004
【０１３２】
表４に、半導体ナノ粒子（１）として、Ａｌｄｒｉｃｈ製  ５３０ｎｍ  ＩｎＰ／ＺｎＳを用いた評価用成形体サンプル９〜１２（実施例６〜９）の発光性組成物の４４５ｎｍの励起光吸収率、内部量子効率に関して耐久性試験前の値を１．０と換算した際の１６８時間後の各数値を示す。
【０１３３】
【表４】
2017106006.tif 000005
【０１３４】
半導体ナノ粒子の効率は、励起光を吸収する効率、吸収した励起光を蛍光に変換する効率（内部量子効率）、及びそれらの積である励起光を蛍光に変換する効率（外部量子効率）の三極で表され、実用上は外部量子効率の値が重要である。また、内部量子効率については、水や酸素による劣化に伴って、維持率が悪化する傾向にある。また、半導体ナノ粒子（１）の種類により、励起光吸収率、内部量子効率、外部量子効率等の値は異なる。
表２に示した通り、８５℃、湿度８５％の条件の耐久性試験前の各性能指標を１．０とした際の試験後でも、反応性モノマー（３）を含まない比較例では、内部量子効率面で顕著に性能低下を引き起こしているのに対して、樹脂（２）及び反応性モノマー（３）を含む実施例１では、内部量子効率の低下が見られず、結果として、外部量子効率面で試験前後での性能劣化が見られないことが示された。
【０１３５】
表３において、半導体ナノ粒子（１）として、発光性組成物１〜３に用いたものよりも粒子径が小さく、５３０ｎｍに発光波長を有するＣｄＳｅ／ＺｎＳを使用した実施例２〜５及び比較例３の評価結果を示す。半導体ナノ粒子（１）の粒径が小さいと、半導体ナノ粒子（１）の表面積が大きくなり劣化しやすい傾向になる。反応性モノマー（３）は含むが、樹脂（２）を含まない比較例３では内部量子効率が顕著に低下しているのに対して、樹脂（２）及び反応性モノマー（３）を含む実施例２〜５では４４５ｎｍの励起光吸収率、内部量子効率ともに試験後でも初期の性能を上回る性能を保持し、結果として、バリアフィルム等がない状態にも関わらず、外部量子効率面で試験前の初期値に比べて改善した。
【０１３６】
また、半導体ナノ粒子（１）として、ＣｄＳｅ／ＺｎＳに比べて耐久性に劣るＩｎＰ／ＺｎＳを用いた場合でも、表4に示す通り樹脂（２）及び反応性モノマー（３）を含む実施例６〜９では初期の性能に対して、一定の性能の保持を示した。
つまり、本発明の発光性組成物は、樹脂（２）が特定範囲の水蒸気透過率を有し、さらに、反応性モノマー（３）を有することで、耐湿性、溶解性、半導体ナノ粒子の分散性及びその安定性等が良好になる。従って、半導体ナノ粒子同士の凝集や欠陥部分がむき出しになることに起因する光学特性の低下を抑制できるとともに、成形後の再凝集や湿熱条件下での半導体ナノ粒子の失活(失光)を効果的に抑制できることが示された。
また、無溶剤系である実施例１〜９の各発光性組成物は、１ｍｍφの鋳型へのポッティングで、鋳型に速やかに注入することが容易であった。また、５０〜１００μｍ厚のシートを実施例１〜９の各発光性組成物を用いてドクターブレードコート法で作製する際にも、スジのない平滑なシートを作製することが可能であり、加工成形性やハンドリングに優れることが示された。
【０１３７】
耐光性評価についても、別途実施した。４４５ｎｍの励起光のサンプルへの照射時間に対する励起光吸収率及び内部量子効率の依存性と照射パワーを３ｍＷと１４ｍＷの両方の条件で比較することで評価した。サンプルとしては、実施例３で用いたものと同様の評価用成形体サンプルを用いた。その結果、３ｍＷ照射時では２０分間の連続照射でも初期値の８５％の吸収率を維持した。１４ｍＷ照射時では２５分間の連続照射でも初期値の６７％の吸収率を維持し、さらに内部量子効率については、初期値に対して、悪化することなく性能を維持した。