(57)【要約】【課題】静電気の発生を抑制することが可能な技術を提供することを目的とする。【解決手段】液晶表示装置の製造方法は、（ａ）主面上に形成された導電部品と、封止された液晶とを含む液晶表示セル１を準備する工程を備える。導電部品には例えば端子領域１Ｔが適用される。また、液晶表示装置の製造方法は、（ｂ）液晶表示セル１の主面と、洗浄液４の液面とを平行に保持しながら、液晶表示セル１を洗浄液４に浸漬することによって、液晶表示セル１を洗浄する工程とを備える。【選択図】図４
2017078729.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）主面上に形成された導電部品と、封止された液晶とを含む液晶表示セルを準備する工程と、
（ｂ）前記液晶表示セルの前記主面と、洗浄液の液面とを平行に保持しながら、前記液晶表示セルを前記洗浄液に浸漬することによって、前記液晶表示セルを洗浄する工程と
を備える、液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
前記工程（ｂ）の浸漬は、前記液晶表示セルの前記導電部品が形成された前記主面を、前記洗浄液の前記液面に向けた状態で行われる、液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
前記主面の周縁部に前記導電部品が形成された、液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
請求項３に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
前記液晶表示セルの前記主面は四角形状を有し、
前記主面の二辺以上の周縁部に、前記導電部品である端子電極が形成された、液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
請求項１から請求項４のうちのいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
前記工程（ａ）にて、複数の前記液晶表示セルを準備し、
前記工程（ｂ）にて、前記複数の液晶表示セルの前記保持及び前記浸漬が、前記複数の液晶表示セルを収納するカセットごとに行われる、液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
前記工程（ｂ）にて、前記浸漬を行う前に、それぞれの前記主面が水平方向と平行に保持された前記複数の液晶表示セルに対して、前記複数の液晶表示セルの水平方向からシャワーで洗浄液を散布する、液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
請求項５または請求項６に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
それぞれの前記主面が水平方向と平行に保持された前記複数の液晶表示セルにおける水平方向の移動が、前記カセットの保持によって、予め定められた範囲内に制限される、液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の製造方法に関し、特に液晶を封止してなる液晶表示セルを洗浄する工程を備える液晶表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の製造時では、液晶表示セル（液晶封止後に分断されたセル）を洗浄する工程（セル洗浄工程またはパネル洗浄工程と呼ばれる）が、一般的に行われる（例えば特許文献１）。このセル洗浄工程の際、乾いた状態の液晶表示セルと洗浄液との接触によって静電気が発生し、当該静電気によって端子部分や配線部分がダメージを受けることがある。この結果、断線、及び、端子の腐食が発生することがある。このようなパネル洗浄工程における静電気対策として、洗浄液に炭酸ガスを混入し、導電性を上げる方法が提案されている（例えば特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平６−２２２３１９号公報
【特許文献２】特開平４−３３８２７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献２などの従来技術では、静電気を除電する作用がある程度得られるものの、静電気の発生自体を充分に抑制できないという問題があった。
【０００５】
そこで、本発明は、上記のような問題点を鑑みてなされたものであり、静電気の発生を抑制することが可能な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、（ａ）主面上に形成された導電部品と、封止された液晶とを含む液晶表示セルを準備する工程と、（ｂ）前記液晶表示セルの前記主面と、洗浄液の液面とを平行に保持しながら、前記液晶表示セルを前記洗浄液に浸漬することによって、前記液晶表示セルを洗浄する工程とを備える。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、液晶表示セルの主面と、洗浄液の液面とを平行に保持しながら、液晶表示セルを洗浄液に浸漬する。これにより、静電気の発生を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】実施の形態１に係る液晶表示装置の構成を示す平面図である。
【図２】実施の形態１に係る液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図３】実施の形態１に係る液晶表示装置の製造方法を示すフローチャートである。
【図４】実施の形態１に係るセル洗浄工程を説明するための図である。
【図５】実施の形態１に係るセル洗浄工程を説明するための図である。
【図６】関連セル洗浄工程を説明するための図である。
【図７】関連セル洗浄工程を説明するための図である。
【図８】変形例に係るセル洗浄工程を説明するための図である。
【図９】実施の形態２に係るセル洗浄工程を説明するための図である。
【図１０】実施の形態３に係るセル洗浄工程を説明するための図である。
【図１１】実施の形態３に係るセル洗浄工程を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
＜実施の形態１＞
＜液晶表示装置（液晶パネル）の構成＞
本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置の構成として、特に主要部である液晶パネルの具体的な構成について、図１及び図２を用いて説明する。
【００１０】
図１は、本実施の形態１に係る液晶表示装置を構成する液晶パネル１０の全体構成を示す平面図であり、図２は、図１の断面線Ａ−Ｂ（一点鎖線で示される）における構成を示す断面図である。なお、図面が煩雑とならないよう、発明の主要部以外の省略や構成の一部簡略化などを適宜行っている。ここでは、一例として、液晶の動作モードにＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モードを用い、スイッチング素子に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）を用いる液晶パネルに、本実施の形態１を適用した場合について説明する。
【００１１】
この液晶パネル１０は、図に示されるように、ＴＦＴなどのスイッチング素子がアレイ状に配設されたアレイ基板（以下「ＴＦＴ基板１１０」と記す）と、それと対向配置され、カラーフィルタなどが配設されたカラーフィルタ基板（以下「ＣＦ基板１２０」と記す）と、シールパターン１３３とを備えている。
【００１２】
ＴＦＴ基板１１０及びＣＦ基板１２０には、液晶パネル１０が動作した際に画像を表示する表示面に対応する領域である表示領域１００と、少なくとも表示領域１００を囲う額縁領域１０１とが規定されている。シールパターン１３３は、額縁領域１０１に配設され、ＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０との間の間隙を密封する。
【００１３】
また、ＴＦＴ基板１１０及びＣＦ基板１２０の外形はいずれも矩形（四角形状）となっている。そして、ＴＦＴ基板１１０の外形の方が、ＣＦ基板１２０の外形よりも大きく、ＴＦＴ基板１１０は、ＣＦ基板１２０の外形端面より一部突出する突出部を有するように、ＣＦ基板１２０と重ね合わされている。この突出部は、額縁領域１０１に配設されている。なお、ここで説明した表示領域１００及び額縁領域１０１は、液晶パネル１０のＴＦＴ基板１１０上、ＣＦ基板１２０上、及び、両基板間に挟まれる領域の全てにおいて規定されているものとし、以下の説明においては、全ての表示領域１００及び額縁領域１０１について区別しないものとする。
【００１４】
ＴＦＴ基板１１０とＣＦ基板１２０との間には、これら基板間に一定範囲の間隙を形成し保持する柱状スペーサ１３４が表示領域１００内に多数配置される。なお、柱状スペーサ１３４には、形態（形状）が異なる２種類の柱状スペーサを混在して含むデュアルスペーサ構造が適用されてもよい。デュアルスペーサ構造は、具体的には、いくつかの柱状スペーサとして、対向する基板と常時当接して基板間を保持するための、相対的に高さが高いスペーサ（メインスペーサと呼ばれる）を含むとともに、他のいくつかの柱状スペーサとして、対向する基板と常時当接せずに基板間の保持に寄与しないが、外力などにより基板間の距離が縮まった際に対向する基板と当接し基板間を保持するための、相対的に高さが低いスペーサ（サブスペーサと呼ばれる）を含む構造である。
【００１５】
なお、基板間に一定範囲の間隙を形成し、基板間の距離を保持する柱状スペーサ１３４は、額縁領域１０１にも設けてもよい。この場合には、額縁領域１０１及びその近傍において、基板間に一定範囲の間隙を形成し、基板間の距離を保持することかできる。
【００１６】
シールパターン１３３により密封され、柱状スペーサ１３４により保持されたＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０との間の間隙の少なくとも表示領域１００に対応する領域に液晶材料が狭持されることにより、液晶層１３０が配設されている。ここでは一例として、液晶材料に一般的なＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）タイプの液晶材料を用いる。
【００１７】
シールパターン１３３には、液晶材料を注入するための開口部である注入口（図示省略）が設けられ、この注入口は、封止材（図示省略）により封止されている。言い換えると、液晶材料は、シールパターン１３３により囲まれる領域に封止されている。注入口と、注入口に対応して設けられる封止材とは、シールパターン１３３のどの位置に設けられてもよいし、複数設けられてもよく、一般的には、ＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０との端面が平面視において揃った辺に設けられる。本実施の形態１では、図示は省略するが、例えば、注入口及び封止材を、図１中のＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０との端面が揃った左側端辺の中央部近傍の１箇所に配置した。
【００１８】
上述のＴＦＴ基板１１０は、厚み０．７ｍｍ程度の一般的なガラスよりなる透明基板であるガラス基板１１１の一方の面に、液晶を配向させる配向膜１１２と、配向膜１１２の下部に配設され液晶を駆動する電圧を印加する画素電極１１３と、画素電極１１３に電圧を供給するスイッチング素子であるＴＦＴ１１４と、ＴＦＴ１１４を覆う絶縁膜１１５と、ＴＦＴ１１４に信号を供給する配線である複数のゲート配線１１８及びソース配線１１９と、ＴＦＴ１１４に供給される信号を外部から受け入れる端子電極１１６と、端子電極１１６から入力された信号を共通電極（対向電極）１２３へ伝達するためのトランスファ電極１１７とを含んでいる。また、ＴＦＴ基板１１０は、ガラス基板１１１の他方の面に配設された偏光板１３１をさらに含んでいる。
【００１９】
なお、端子電極１１６が形成された端子領域は、ＴＦＴ基板１１０上における額縁領域１０１のうち特にＣＦ基板１２０の端面よりも一部突出する突出部の表面であって、ＣＦ基板１２０側の表面に配設されている。図１では、端子領域は、液晶パネル１０の矩形状の周縁部のうち隣接する二辺（以下「隣接二辺」と略記する）に沿って配置されている。このように本実施の形態１では、液晶パネル１０の主面（面積が比較的大きい面）は、矩形（四角形状）を有し、当該主面の一辺以上の周縁部に端子電極１１６が形成されている。
【００２０】
なお図１の平面図では、ＣＦ基板１２０を手前にして液晶パネルを視た図を想定している。ＣＦ基板１２０の奥側のＴＦＴアレイ基板１１０に設けられた画素電極１１３、ＴＦＴ１１４、ゲート配線１１８及びソース配線１１９を、実際には視ることはできないので、これらを図１では想像線（二点鎖線）で示している。
【００２１】
上述のＣＦ基板１２０は、透明基板であるガラス基板１２１の一方の面に、液晶を配向させる配向膜１２２と、配向膜１２２の下部に配設された共通電極１２３と、共通電極１２３の下部に設けられるカラーフィルタ１２４及びブラックマトリクス（Ｂｌａｃｋ  Ｍａｔｒｉｘ：ＢＭ）１２５とを含んでいる。なお、共通電極１２３と、ＴＦＴ基板１１０の画素電極１１３との間に電界が生じることにより、液晶層１３０の液晶が駆動される。また、ブラックマトリクス１２５は、カラーフィルタ１２４同士の間、または、表示領域１００の外側の額縁領域１０１を遮光するために設けられる遮光層である。また、ＴＦＴ基板１１０は、ＣＦ基板１２０のガラス基板１２１の他方の面、すなわち、カラーフィルタ１２４及びブラックマトリクス１２５等の設けられる面と反対側の面に、偏光板１３２をさらに含んでいる。
【００２２】
カラーフィルタ１２４としては、樹脂中に顔料などを分散させた色材層が選択でき、赤、緑、青などの特定の波長範囲の光を選択的に透過するフィルタとして機能する。なお、配向膜１２２より下層に、カラーフィルタ１２４とＢＭ１２５とを覆うように透明樹脂膜よりなるオーバーコート層を設ける構成としても構わない。
【００２３】
ＴＦＴ基板１１０とＣＦ基板１２０とは、シールパターン１３３を介して貼り合わされている。また、ＴＦＴ基板１１０上に設けられたトランスファ電極１１７と、ＣＦ基板１２０上に設けられた共通電極１２３とは、トランスファ材によって電気的に接続される。この接続によって、ＴＦＴ基板１１０上の端子電極１１６から入力された信号が、トランスファ電極１１７及びトランスファ材を介して共通電極１２３に伝達される。トランスファ材については、シールパターン１３３中に導電性の粒子などを混合することにより代用できることから省略することも可能である。本実施の形態１では、導電性の粒子などを混合したシールパターン１３３を用いたうえで、シールパターン１３３と共通電極１２３とが接触され、トランスファ電極１１７とシールパターン１３３とが接触されている。このような本実施の形態１に係る構成によれば、トランスファ電極１１７と共通電極１２３とがシールパターン１３３を介して電気的に接続されるので、トランスファ材を省略することが可能となっている。
【００２４】
液晶パネル１０は、駆動信号を発生する制御基板１３５と、制御基板１３５を端子電極１１６に電気的に接続するＦＦＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  Ｆｌａｔ  Ｃａｂｌｅ）１３６とを備える。
【００２５】
液晶表示装置は、光源であるバックライトユニット（通常は、表示面であるＣＦ基板１２０と反対側であるＴＦＴ基板１１０に対向して配置されるが、ここでは図示省略）などと、これら部材を収納する筐体（図示省略）とを備える。なお、筐体には、表示面となるＣＦ基板１２０の表示領域１００を露出する開口が設けられている。
【００２６】
以上のように構成された本実施の形態１の液晶表示装置及び液晶パネル１０の動作について以下簡単に説明する。例えば制御基板１３５から制御信号が端子電極１１６に入力されると、画素電極１１３と共通電極１２３との間に制御信号に応じた駆動電圧が加わり、駆動電圧に合わせて液晶層１３０内の液晶の分子の方向が変わる。そして、バックライトユニットの発する光が、ＴＦＴ基板１１０、液晶層１３０及びＣＦ基板１２０を介して、各画素単位で観察者側に透過または遮断されることにより、液晶パネル１０の表示領域１００に映像などが表示される。
【００２７】
＜液晶表示装置の製造フロー＞
次に、本実施の形態１に係る液晶表示装置の製造方法について説明を行う。ここでは、本実施の形態１に係る製造方法のうち特徴的な液晶パネルの各工程の概要を、図３に示すフローチャートに従って説明する。なお、液晶表示装置の主要部分となる液晶パネル１０は、通常、最終形状よりも大きなマザー基板から、液晶パネルを１枚あるいは複数枚（多面取り）切り出して製造される。具体的には、セル切断工程の途中までのプロセスは、そのマザー基板の状態でのプロセスである。
【００２８】
まず、図３に示すフローチャートの工程を開始する前の準備として、それぞれマザー基板の状態で、配向膜１１２，１２２よりも下層部分が形成されたＴＦＴ基板１１０及びＣＦ基板１２０を準備する。ＴＦＴ基板１１０及びＣＦ基板１２０の製造方法については一般的な方法を用いてもよいので、以下簡単に説明する。
【００２９】
ＴＦＴ基板１１０の製造では、ガラス基板１１１の一方の面に、成膜、フォトリソグラフィー法によるパターンニング、及び、エッチング等のパターン形成工程を繰り返し用いることによって、ＴＦＴ１１４、画素電極１１３、端子電極１１６、トランスファ電極１１７が形成される。また、ＣＦ基板１２０の製造では、ガラス基板１２１の一方の面に、ＴＦＴ基板１１０の製造と同様の工程を用いることによって、カラーフィルタ１２４、ブラックマトリクス１２５、共通電極１２３、及び、有機樹脂膜をパターニングして形成された柱状スペーサ１３４が形成される。特に形態が異なる２種類の柱状スペーサを混在して備えるデュアルスペーサ構造を、柱状スペーサ１３４に適用する場合には、公知のデュアルスペーサ構造の形成方法であるハーフトーン技術を利用して高さのみを作り分けるとよい。
【００３０】
続いて、図３のステップＳ１にて、以上の工程により準備されたマザーＴＦＴ基板を洗浄する。次に、ステップＳ２の配向膜材料塗布工程において、マザーＴＦＴ基板の一方の面に、配向膜材料を塗布形成する。この工程は、例えば、印刷法により有機膜からなる配向膜材料を塗布し、ホットプレートなどにより焼成処理し乾燥させる。その後、ステップＳ３の配向処理工程において、例えば配向膜材料表面をラビングして配向膜材料に配向処理を行うことにより、配向膜１１２を形成する。なお、ラビングの代わりに、その他公知の配向処理を行って配向膜１１２を形成してもよい。
【００３１】
上述のマザーＴＦＴ基板の工程と同様に、洗浄（ステップＳ４）、配向膜材料の塗布（ステップＳ５）、ラビング等の配向処理（ステップＳ６）を行うことにより配向膜１２２が設けられたマザーＣＦ基板を形成する。続いて、ステップＳ７のシール剤塗布工程において、スクリーン印刷装置により、シール剤を印刷ペーストとして、マザーＴＦＴ基板及びマザーＣＦ基板のそれぞれの一方の面にシール剤の塗布を行い、最終的に表示領域１００を囲う形状のシールパターン１３３を形成する。本実施の形態１では、図１及び図２を用いた構成の説明部分で述べたように、シールパターン１３３に基板間導通機能を持たせるために、導電性粒子を混在させたシール剤を、マザーＣＦ基板上に塗布する。
【００３２】
なお、本実施の形態１では、基板間を一定の距離に保持するスペーサとして、有機樹脂膜をパターニングして形成された柱状スペーサ１３４を用いたが、これに限ったものではない。例えば球状のスペーサを散布することで、基板間を所定の距離に保持してもよい。その場合には、上記のシール剤塗布工程後に、スペーサ散布工程を行うとよい。
【００３３】
続いて、ステップＳ８の貼り合わせ工程において、マザーＴＦＴ基板及びマザーＣＦ基板を貼り合わせてセル基板を形成する。マザーＴＦＴ基板とマザーＣＦ基板を貼り合わせた状態で、シール剤の材質に合わせて加熱及び紫外線の照射を適宜行うことにより、シールパターン１３３を構成するシール剤を完全に硬化させる。
【００３４】
なお、本実施の形態１では行わないが、マザーＴＦＴ基板及びマザーＣＦ基板の薄型化する工程を行ってもよい。例えば、マザーＴＦＴ基板とマザーＣＦ基板との周縁部に対して、薬液が基板間に入ることを防止する周辺封止を実施する。それから、上記貼り合わせ工程後に貼り合わされたマザーＴＦＴ基板及びマザーＣＦ基板の全体を薬液中に浸漬して、マザーＴＦＴ基板とマザーＣＦ基板との表面を削ることによって、上述の薄型化を行ってもよい。
【００３５】
続いて、ステップＳ９のセル切断工程において、貼り合わせたマザーＴＦＴ基板及びマザーＣＦ基板を切断し、多数の個別セル（セル基板）に分断する。例えば、スクライブ工程において、ガラス基板の表面に切断の起点となるスクライブラインを形成した後、このスクライブラインの近傍にセル切断装置により応力を印加する切断及び分断を行うことによって、上記マザー基板が多数の個別セルに分離される。
【００３６】
それから、ステップＳ１０の液晶封止工程において、個別セルの注入口からＴＦＴ基板１１０とＣＦ基板１２０との間に、液晶を注入して封止する。例えば、複数の個別セルをカセットに収納し、真空注入プロセスにより、真空状態とされた真空注入装置内において、個別セルの注入口を液晶材料に接触させる。その状態で、徐々に装置内を大気圧とすることで、真空状態となった個別セル内に注入口から液晶材料が注入（充填）され、上記液晶の注入が行われる。その後、注入口封止工程において、注入口（液晶）を封止する。この工程は、例えば、注入口を光硬化型樹脂で封じ、光を照射することにより行われる。以上の工程によって、個別セル内に液晶材料が封止（封入）されることになる。
【００３７】
以下、液晶が封止された個別セル（セル基板）を「液晶表示セル」と記す。本実施の形態１では、ここまでの工程によって、主面上に形成された端子電極１１６などの導電部品と、封止された液晶とを含む液晶表示セルが複数準備されることになる。
【００３８】
続いて、ステップＳ１１のセル洗浄工程において、液晶表示セルに洗浄処理を行う。この工程では、液晶注入時に液晶表示セルに付着した液晶材料を洗浄除去するために、液晶表示セルを洗浄液に浸漬して液晶表示セルの洗浄処理を行う。なお、液晶表示セルに、後続のステップで偏光板などの付属品を設けると、液晶パネル１０が完成されるので、液晶表示セルと液晶パネル１０とは実質的に同じである。このため、ステップＳ１１のセル洗浄工程は、パネル洗浄工程と呼ばれたり、セル洗浄工程を行うセル洗浄装置は、パネル洗浄装置と呼ばれたりすることもある。このセル洗浄工程については、後で詳細に説明する。
【００３９】
それから、ステップＳ１２の偏光板貼り付け工程において、セル洗浄工程後の液晶表示セルのうち、ＴＦＴ基板１１０及びＣＦ基板１２０のそれぞれの液晶表示セル外側の表面に、偏光板１３１及び偏光板１３２を貼り付ける。
【００４０】
図３には図示していないが、ステップＳ１２の後、制御基板実装工程において、制御基板１３５を実装することによって、液晶パネル１０が完成する。さらに、液晶パネル１０の反視認側となるＴＦＴ基板１１０の裏面側に、位相差板などの光学フィルムを介してバックライトユニットを配設する。そして、樹脂や金属などよりなるフレーム内に、液晶パネル１０及びこれら周辺部材を適宜収納することにより、本実施の形態１の液晶表示装置が完成する。
【００４１】
＜セル洗浄工程＞
続いて、図４及び図５を用いながら、ステップＳ１１のセル洗浄工程と、当該工程で用いられる製造装置であるセル洗浄装置とについて詳細に説明する。なお、図４は、セル洗浄工程を説明する全体図（側面図）であり、図５は、液晶表示セル１のカセット２内での収納状態を上面側から見た図である。
【００４２】
本実施の形態１に係るセル洗浄工程及びセル洗浄装置により洗浄処理が行われる際には、図４に示すように、複数枚の液晶表示セル１が、一方向に配列されてカセット２内に収納される。そして、液晶表示セル１の導電部品が形成された主面と、セル洗浄装置における洗浄槽３内に貯められた洗浄液４の液面とを、水平方向と平行となるように保持する。
【００４３】
ここで、本実施の形態１では、液晶表示セル１の主面に形成された導電部品は、端子電極１１６が形成された領域である端子領域１Ｔであるとする。ただし、導電部品はこれに限ったものではなく、例えば外部に露出された各種配線などであってもよい。図１の端子電極１１６と同様に、図５の端子領域１Ｔは、隣接二辺（液晶表示セル１が有する四角形状の主面の周縁部のうち隣接する二辺）に沿って配置されている。
【００４４】
端子領域１Ｔが形成された主面と、洗浄液４の液面とを平行に保持しながら、液晶表示セル１を洗浄液４に浸漬することによって、液晶表示セル１を洗浄する。本実施の形態１では、図４に示すように、液晶表示セル１の端子領域１Ｔが形成された主面を、洗浄液４の液面と逆側に向けた状態（図４の上側に向けた状態）で、液晶表示セル１の浸漬を行う。つまり、最終的な液晶パネル１０の構成で言えばＴＦＴ基板１１０に対してＣＦ基板１２０が上側に位置し、かつＴＦＴ基板１１０の下面が洗浄液４の液面に向けられた配置で、カセット２内に収納された複数の液晶表示セル１を洗浄液４に浸漬する。このように、本実施の形態１では、複数の液晶表示セル１の上記保持及び上記浸漬が、カセット２ごとに行われる。
【００４５】
以上のように液晶表示セル１を洗浄液４に浸漬する場合、基本的には、液晶表示セル１の下面（図４の状態で下側の面）が先に洗浄液４と接触する。このため、当該液晶表示セル１の下面（一方の面）は、ほぼ同時に洗浄液４と接触する（洗浄液４に浸漬する）ことになる。その後、当該液晶表示セル１の上面（他方の面）は、液晶表示セル１の周縁部から中央部に向かって、順に洗浄液４と接触する（洗浄液４に浸漬する）ことになる。また、液晶表示セル１の端子領域１Ｔは隣接二辺に沿って配置されているので、液晶表示セル１の上面の周縁部が洗浄液４に接触される際において、端子領域１Ｔ全体が殆ど同時に洗浄液４に接触して浸漬することになる。つまり、端子領域１Ｔに配置される複数の端子電極１１６が殆ど同時に洗浄液４に接触して浸漬することになる。
【００４６】
洗浄液４中に浸漬された複数の液晶表示セル１及びカセット２の洗浄は、予め定められた時間行われる。適宜、洗浄液４に対して超音波などを印加することにより、セル切断工程において液晶表示セル１に付着したガラスカレットなどの除去効果を高めることもできる。
【００４７】
予め定められた時間の洗浄処理が終了した後、複数の液晶表示セル１はカセット２内に収納された状態で、カセット２が洗浄槽３内の洗浄液４より引き上げられる。この引き上げの際においても、液晶表示セル１を水平方向に保持したまま、比較的、遅い速度で引き上げられることが望ましい。理想的には、引き上げ動作の勢いが十分弱く、水平状態の液晶表示セル１の上面に洗浄液４が液盛りされた状態、または、上面が洗浄液４により濡れたままの状態となるような遅い速度で、引き上げが行われることが望ましい。
【００４８】
カセット２及び液晶表示セル１は、洗浄液４より引き上げられた後、速やかに、純水などによるリンス処理ユニットに移動されて、純水によるリンス処理が行われる。なお、ここで行われるリンス処理としては、液晶表示セル１に対してシャワーノズルなどにより純水を噴射することによるリンス処理や、液晶表示セル１を純水が貯められたリンス槽内に浸漬することによるリンス処理を行うとよい。従来のセル洗浄装置が備えるリンス処理ユニットと同様のリンス処理を行うことにより、洗浄処理により液晶表示セル１に付着した洗浄液４が除去される。続いて、液晶表示セル１は乾燥処理ユニットに搬送され、乾燥処理を行うことにより、本実施の形態１のセル洗浄装置により行われるセル洗浄工程が完了する。なお、これらリンス処理ユニットや乾燥処理ユニットについての具体的な装置構成や処理条件については、公知の一般的なリンス処理と同様のものを用いても構わないので、図示や、これ以上の詳細な説明は省略する。
【００４９】
さて、液晶表示セル１がセル洗浄装置の洗浄槽３内の洗浄液４に浸入（浸漬）する際には、乾いた液晶表示セル１の表面と、当該表面と接触しながら移動する洗浄液４との間に摩擦が生じて静電気が発生する。この静電気の発電量は、乾いた液晶表示セル１の表面と接触しながら移動する洗浄液４の移動量と、当該洗浄液４の量とを乗算して得られる値が大きくなるほど大きくなると想定される。
【００５０】
以下で説明するように、本実施の形態１のセル洗浄装置により行われるセル洗浄工程によれば、乾いた液晶表示セル１の上面と接触しながら移動する洗浄液４の量は、従来とほぼ同じ程度であるが、当該洗浄液の移動量を従来よりも低減することができる。したがって、液体（洗浄液４）の上記移動によって生じる摩擦を低減することができるので、当該摩擦によって顕著に発生する静電気の発生量を低減することができる。
【００５１】
ここで、本実施の形態１に係るセル洗浄工程と関連するセル洗浄工程（以下「関連セル洗浄工程」と記す）について説明する。図６は、関連セル洗浄工程を説明する全体図（側面図）であり、図７は、関連セル洗浄工程において洗浄液４に浸漬されている液晶表示セル１の上部を示す拡大図である。
【００５２】
関連セル洗浄工程では、図６に示すように、複数の液晶表示セル１の主面が鉛直方向と平行になる縦置きの状態で、複数の液晶表示セル１及びカセット２を、洗浄槽３内の洗浄液４に浸漬して洗浄を行う。
【００５３】
このとき、洗浄液４は、乾いた液晶表示セル１の表面と接触しながら下側から上側まで移動することになり、この移動が進むにつれて、図７の破線で囲まれる部分の静電気の発生量が増加する。また、液晶表示セル１のうち洗浄液４が最初に接触する部分と最後に接触する部分との間（液晶表示セル１の下側と上側との間）の電位差は大きくなる。
【００５４】
液晶表示セル１内での局所的な帯電量の差が大きく、電位差が大きくなると、静電気による液晶表示セル１へのダメージが大きくなる。具体的に言えば、端子領域１Ｔ内での局所的な帯電量の差が大きくなった場合に、静電気による液晶表示セル１へのダメージが大きくなる。関連セル洗浄工程では、局所的な帯電量の差が大きく、電位差が比較的大きくなることから、製造した液晶表示セル１の端子領域１Ｔの一部にダメージが発生し、歩留が低下してしまうという問題があった。
【００５５】
特に、図５に示したように、端子領域１Ｔが隣接二辺に沿って配置された液晶表示セル１に、関連セル洗浄工程を適用する場合を想定する。この場合には、縦置きの状態にされた液晶表示セル１において、端子領域１Ｔをどの向きに向けたとしても、必ず一辺の端子領域１Ｔが液晶表示セル１の下側から上側まで跨って配置されることとなる。このため関連セル洗浄工程では、当該一辺の端子領域１Ｔに配置される端子電極１１６のうち、上側に配置される端子電極１１６と下側に配置される端子電極１１６との間に大きな電位差が生じるので、端子電極１１６にダメージが発生し、歩留が低下してしまう。
【００５６】
これに対して、本実施の形態１のセル洗浄装置により行われるセル洗浄工程によれば、液晶表示セル１がセル洗浄装置の洗浄槽３内の洗浄液４に浸入（浸漬）する際に、乾いた液晶表示セル１の表面と接触しながら移動する洗浄液４の移動量を低減することができる。例えば、関連セル洗浄工程では、上側から下側まで移動する洗浄液４が、液晶表示セル１の幅Ｌ（図５）と同じ程度移動すれば浸漬が完了する。これに対して、本実施の形態１では、上述の浸入の際に、液晶表示セル１の上面（図４の上側の面）は、液晶表示セル１の周縁部から中央部に向かって、順に洗浄液４と接触する。このため、主面の周縁部から主面の中心に移動する洗浄液４が、液晶表示セル１の幅Ｌの半分（Ｌ／２）と同じ程度だけ移動すれば浸漬が完了する。しかも、液晶表示セル１の洗浄液４への浸入の際に、液晶表示セル１の下面（図４の下側の面）のほぼ全面が、ほぼ同時に洗浄液４と接触することから、洗浄液４が、乾いた液晶表示セル１の表面と接触しながら移動することは殆どない。
【００５７】
このように本実施の形態１によれば、乾いた液晶表示セル１の表面と接触しながら移動する洗浄液４の移動量を低減することができるので、静電気の発生量を低減することができる。これにより、端子領域１Ｔなどの導電部品への、静電気によるダメージを抑制することができるので、歩留の低下を抑制することができる。
【００５８】
また、端子領域１Ｔが周縁部に配置された液晶表示セル１、特に端子領域１Ｔが隣接二辺に沿って配置された液晶表示セル１を、本実施の形態１によって洗浄すれば、比較的早い浸漬段階で、当該端子領域１Ｔをほぼ同時に洗浄液４に浸漬することができる。このため、静電気の発生量が小さい段階で端子領域１Ｔを洗浄液４に浸漬することができるとともに、端子領域１Ｔ内で生じる帯電量の差を低減することができる。したがって、端子領域１Ｔが隣接二辺に沿って配置された液晶表示セル１などを洗浄しても、静電気によるダメージ及び歩留の低下を抑制することができる。
【００５９】
なお、本実施の形態１のセル洗浄装置及びセル洗浄工程において、液晶表示セル１を洗浄液４に浸漬する際に、液晶表示セル１の主面が水平方向と平行（洗浄液４の液面に対して平行）に配置されていればよい。このため、カセット２に液晶表示セル１を収納する際、または、液晶表示セル１を収納したカセット２を洗浄液４の上方に配置する際において、液晶表示セル１の主面が水平方向と平行に配置される必要はない。例えば、カセット２への液晶表示セル１の収納、または、洗浄液４の上方までのカセット２の搬送を、液晶表示セル１を縦置きの状態で行った後、少なくともカセット２及び液晶表示セル１を洗浄液４に浸漬する処理を開始する前までに、液晶表示セル１及びカセット２を９０度回転させて、それらの上側が水平方向を向くようにしてもよい。このように、液晶表示セル１を洗浄液４に浸漬する際にだけ、液晶表示セル１の主面が水平方向と平行（洗浄液４の液面に対して平行）に配置されてもよい。
【００６０】
また、本実施の形態１においては、効率的に洗浄処理できる方法として、複数の液晶表示セル１をカセット２内に収納するバッチ処理の例を用いて説明を行った。しかしこれに限ったものではなく、カセット２を用いずに、液晶表示セル１を枚葉処理することによって、液晶表示セル１を洗浄液４に浸漬してもよい。この場合にも、例えば、枚葉状態で保持可能な治具や搬送ロボットなどを用いて、処理する１枚の液晶表示セル１の主面を水平方向と平行（洗浄液４の液面に対して平行）に配置してから、当該１枚の液晶表示セル１を洗浄槽３内の洗浄液４に浸漬するように処理しても構わない。
【００６１】
＜変形例＞
実施の形態１では、図４を用いて説明したように、液晶表示セル１の端子領域１Ｔが形成された主面を、洗浄液４の液面と逆側に向けた状態（図４の上側に向けた状態）で、液晶表示セル１の浸漬を行った。しかしこれに限ったものではなく、図８に示すように、液晶表示セル１の端子領域１Ｔが形成された主面を、洗浄液４の液面に向けた状態（図８の下側に向けた状態）で、液晶表示セル１の浸漬を行ってもよい。このようにして液晶表示セル１を洗浄液４に浸漬すると、端子領域１Ｔは、ほぼ同時に洗浄液４に接触することになり、乾いた端子領域１Ｔの表面と接触しながら移動する洗浄液４の移動量を、実質的にゼロにすることができる。したがって、本変形例によれば、実施の形態１よりも、端子領域１Ｔの中での帯電量の差をより低減することができるので、静電気によるダメージ及び歩留の低下を抑制するという効果を高めることができる。なお、以上の変形例は、後述する実施の形態２以降においても適用可能である。
【００６２】
＜実施の形態２＞
本発明の実施の形態２では、図９に示すように、洗浄液４の上方にて、カセット２の開口部に向けて洗浄液を散布するシャワー５が設置されている。なお図９では、カセット２の開口部は手前側に向けられており、手前側のシャワー５が、奥側の複数の液晶表示セル１及びカセット２に対して洗浄液を散布する構成が図示されている。なお、シャワー５は、開口部と直交するように配置されてもよい。
【００６３】
本実施の形態２では、実施の形態１で説明した浸漬を行う前に、それぞれの主面が水平方向と平行に保持された複数の液晶表示セル１に対して、複数の液晶表示セル１の水平方向（横方向）から洗浄液５ａがシャワー５によって散布される。なお、シャワー５より散布される洗浄液５ａは、特にミスト状の細かい液滴の状態で散布されることが好ましい。このような本実施の形態２によれば、乾いた液晶表示セル１の表面と接触しながら移動する洗浄液の移動量をさらに低減することができる。したがって、静電気によるダメージ及び歩留の低下を抑制するという効果を高めることができる。
【００６４】
＜実施の形態３＞
本発明の実施の形態３では、図１０及び図１１に示すように、液晶表示セル１を収納するカセット２は、開閉カバーであるカセットカバー６と、ストッパ７とを備えている。カセットカバー６は、液晶表示セル１を出し入れするための開口部を開閉できるように回動可能となっている。ストッパ７は、カセットカバー６のカセット２内側の表面に、液晶表示セル１を保持可能に取り付けられている。
【００６５】
このカセット２の使用（保持）によって、カセット２内の液晶表示セル１の水平方向の移動が制限される。具体的には、それぞれの主面が水平方向と平行に保持された複数の液晶表示セル１における水平方向の移動が、カセット２の保持によって、予め定められた範囲内に制限される。これにより、洗浄液４中の液晶表示セル１が、水平方向に移動して、カセット２の側面などと衝突することによる破損を抑制することができ、歩留まりの低下を抑制することができる。
【００６６】
なお、カセット２内で液晶表示セル１の水平方向の移動が、予め定められた範囲内に制限されるように、液晶表示セル１がカセット２によって保持されれば、上述と同様の効果を得ることができる。このため、ストッパ７は、カセットカバー６に取り付けられている必要はなく、カセット２の部分のうち、主面が水平方向と平行に保持される液晶表示セル１と、水平方向において近接する適当な部分に配置されればよい。
【００６７】
なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態及び各変形例を自由に組み合わせたり、各実施の形態及び各変形例を適宜、変形、省略したりすることが可能である。
【符号の説明】
【００６８】
１  液晶表示セル、１Ｔ  端子領域、２  カセット、４  洗浄液、５  シャワー。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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