(57)【要約】      （修正有）【課題】液晶表示装置用バックライトユニット等の用途に用いられうる反射積層フィルムにおいて、高温高湿条件下に長時間曝されても十分な輝度を発揮する手段の提供。【解決手段】樹脂を含み、光を反射する光反射樹脂層１１と、光反射樹脂層１１の表面に水蒸気バリア層１２と、水蒸気バリア層１２の光反射樹脂層１１とは反対側の表面に金属反射層１３と、を有し、光反射樹脂層１１から水蒸気バリア層１２までの積層体の水蒸気透過係数が１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ未満であり、水蒸気バリア層１２の金属反射層１３側の表面の表面粗さ（Ｒａ）が２０ｎｍ未満である、反射積層フィルム１０。金属反射層１３が銀反射層であり、金属反射層１３に隣接する層の少なくとも１つが腐食防止剤を含み、水蒸気バリア層１２が、ポリシラザンを含有する塗布液を塗布して得られた塗膜を改質処理したものである反射積層フィルム１０。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂を含み、光を反射する光反射樹脂層と、
前記光反射樹脂層の表面に配置された、水蒸気バリア層と、
前記水蒸気バリア層の前記光反射樹脂層とは反対側の表面に配置された、金属反射層と、
を有し、
前記光反射樹脂層から前記水蒸気バリア層までの積層体の水蒸気透過係数が１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ未満であり、
前記水蒸気バリア層の前記金属反射層側の表面の表面粗さ（Ｒａ）が２０ｎｍ未満である、反射積層フィルム。
【請求項２】
前記金属反射層が銀反射層である、請求項１に記載の反射積層フィルム。
【請求項３】
前記金属反射層に隣接する層の少なくとも１つが腐食防止剤を含む、請求項１または２に記載の反射積層フィルム。
【請求項４】
前記金属反射層の前記水蒸気バリア層とは反対側の表面に、低屈折率層および高屈折率層がこの順に配置されてなる増反射層をさらに有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射積層フィルム。
【請求項５】
前記低屈折率層が腐食防止剤を含む、請求項４に記載の反射積層フィルム。
【請求項６】
前記水蒸気バリア層が、ポリシラザンを含有する塗布液を塗布して得られた塗膜に改質処理を施すことにより形成されたものである、請求項１〜５のいずれか１項に記載の反射積層フィルム。
【請求項７】
前記水蒸気バリア層が、前記金属反射層に隣接し、かつ、腐食防止剤を含む、請求項３に記載の反射積層フィルム。
【請求項８】
前記水蒸気バリア層の膜厚が５００ｎｍ〜５０μｍである、請求項１〜７のいずれか１項に記載の反射積層フィルム。
【請求項９】
前記光反射樹脂層が、白色樹脂フィルム、誘電体多層膜、または前記水蒸気バリア層側の表面に金属蒸着面を有する金属蒸着フィルムである、請求項１〜８のいずれか１項に記載の反射積層フィルム。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の反射積層フィルムを用いた液晶表示装置用バックライトユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射積層フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置のバックライトユニットやプロジェクションテレビの反射鏡、ＬＥＤ照明用反射部材、光記録媒体の反射層、薄膜太陽電池の裏面電極膜など、様々な用途において金属反射層を備えた反射部材が用いられている。
【０００３】
このような反射部材として、樹脂基材と金属反射層との積層体（の樹脂基材側）を、粘着層を介して白色反射フィルム（白色プラスチックフィルム）に貼り付けた反射積層フィルムが知られている（例えば、特許文献１を参照）。また、特許文献２には、基材である白色ポリエチレンテレフタレートフィルム上にアンダーコート層を設けた表面に、金属または金属酸化物による金属蒸着層を積層して反射積層フィルムを作製する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１４−８０６７１号公報
【特許文献２】特開２００６−１２６２３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者は、液晶表示装置用バックライトユニット等の用途に用いられる反射積層フィルムについて検討を行う中で、上述した特許文献１および２に記載の技術についても検討を行った。その過程で、特許文献１に記載の技術を用いた場合には、特に高温高湿条件下に長時間曝されると、粘着層を介して貼り付けられている樹脂基材と白色反射フィルムとの界面で剥離が生じ、その結果、液晶表示装置用バックライトユニット等の用途に用いられた場合に十分な輝度を達成することができないことを見出した。
【０００６】
特許文献２に記載の技術では、白色フィルム上に金属層を蒸着するため、界面での剥離は生じにくい。しかしながら、白色フィルムは粗面であるため、反射特性に優れる平滑な表面を有する金属蒸着層を得るためには、白色フィルムの表面を高度に平滑化する処理が必要である。その他にも、特許文献２に記載の方法では、金属層の蒸着の際に、アンダーコート層の表面に吸着した水分や白色フィルム内部に含有された水分が減圧下において放出され、均一な金属蒸着が阻害されることにより、高温高湿条件下に長時間曝された場合に十分な輝度が得られないことがわかった。特に白色フィルムとして、加圧ガスを使って多孔質を形成し、光の散乱を利用して白色反射率を向上させている白色フィルムが知られている（例えば特開２００８−２２４９６３号公報（特許第４７７７２８０号公報）を参照）が、このような白色フィルムでは、金属蒸着をする際にフィルムに熱（１００℃付近）がかかることにより可塑化し、内部の多孔質が変形し、ガスが放出される。そのため、このような白色フィルムでは均一な金属蒸着がさらに難しく、したがって、液晶表示装置用バックライトユニット等の用途に用いられた場合に、高温高湿条件下で長期間にわたって高い輝度を達成することができない。
【０００７】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、液晶表示装置用バックライトユニット等の用途に用いられうる反射積層フィルムにおいて、高温高湿条件下に長時間曝された場合であっても十分な輝度を発揮させうる手段を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記の課題を解決すべく、鋭意研究を行った。その結果、白色反射フィルム等の光反射樹脂層の表面に水蒸気バリア層を配置し、さらにその上層に金属反射層を配置するとともに、水蒸気バリア層の金属反射層側の表面粗さ（Ｒａ）を所定の値に制御することで、上記課題が解決されうることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【０００９】
すなわち、本発明の一形態によれば、樹脂を含み、光を反射する光反射樹脂層と、前記光反射樹脂層の表面に配置された、水蒸気バリア層と、前記水蒸気バリア層の前記光反射樹脂層とは反対側の表面に配置された、金属反射層とを有し、前記光反射樹脂層から前記水蒸気バリア層までの積層体の水蒸気透過係数が１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ未満であり、前記水蒸気バリア層の前記金属反射層側の表面の表面粗さ（Ｒａ）が２０ｎｍ未満である、反射積層フィルムが提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、液晶表示装置用バックライトユニット等の用途に用いられうる反射積層フィルムにおいて、高温高湿条件下に長時間曝された場合であっても十分な輝度を発揮させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明に係る反射積層フィルムの層構成の一実施形態を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明の一形態によれば、樹脂を含み、光を反射する光反射樹脂層と、前記光反射樹脂層の表面に配置された、水蒸気バリア層と、前記水蒸気バリア層の前記光反射樹脂層とは反対側の表面に配置された、金属反射層とを有し、前記光反射樹脂層から前記水蒸気バリア層までの積層体の水蒸気透過係数が１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ未満であり、前記水蒸気バリア層の前記金属反射層側の表面の表面粗さ（Ｒａ）が２０ｎｍ未満である、反射積層フィルムが提供される。
【００１３】
上述したように、本発明に係る反射積層フィルムによれば、液晶表示装置用バックライトユニット等の用途に用いられうる反射積層フィルムにおいて、高温高湿条件下に長時間曝された場合であっても十分な輝度を発揮させることが可能となる。ここで、本発明の構成による上記作用効果が発揮されるメカニズムについては完全には明らかではないが、本発明に係る反射積層フィルムによれば、水蒸気バリア層の表面粗さが小さいこと、および、基材である多孔質白色フィルムに含まれる水分が銀反射層の蒸着時の熱によって蒸発することに起因する銀の蒸着の阻害が水蒸気バリア層（水蒸気透過係数が１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ未満である）によって防止されて緻密な銀薄膜が形成されることの双方の効果として、平滑な銀反射層が形成されることで、上述した輝度向上の効果が得られているものと推定している。なお、本発明は当該メカニズムによっていかようにも限定解釈されないものとする。
【００１４】
以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態のみには限定されない。また、図面の寸法比率は、説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。また、本明細書において、範囲を示す「Ｘ〜Ｙ」は「Ｘ以上Ｙ以下」を意味する。さらに、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温（２５℃）／相対湿度４０〜５０％ＲＨの条件下で測定する。
【００１５】
＜反射積層フィルム＞
本発明の一形態に係る反射積層フィルムの層構成について、図１を用いて説明する。
【００１６】
図１において、本発明の一形態に係る反射積層フィルム１０は、基材としての多孔質白色フィルム（光反射樹脂層）１１と、水蒸気バリア層１２と、銀反射層（金属反射層）１３と、増反射層２０と、がこの順に積層されてなる構成を有する。ここで、増反射層は、銀反射層１３の側から、低屈折率層２１および高屈折率層２２がこの順に積層されることにより構成されている。
【００１７】
［光反射樹脂層］
本発明の反射積層フィルムに用いられる光反射樹脂層としては、樹脂を含み、光を反射するものであれば特に制限されないが、白色樹脂フィルム、誘電体多層膜、金属蒸着フィルム、その他の従来公知の輝度向上フィルムなどが用いられうる。光反射樹脂層は、特に制限されないが、全光線反射率が５０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。全光線反射率は、ＪＩＳ  Ｋ  ７３７５：２００８「プラスチック−全光線透過率および全光線反射率の求め方」に従って測定することができる。
【００１８】
（白色樹脂フィルム）
白色樹脂フィルムは、従来から反射フィルムに使用されているプラスチックフィルムであれば特に問題はなく、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、アクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、フッ素フィルム等が使用できる。中でも、耐熱性や強度の点からポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルムが好ましい。
【００１９】
前記白色樹脂フィルムの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、樹脂内部に白色顔料を含有させる方法、樹脂フィルムの表面に白色顔料を塗布する方法、樹脂フィルム中に細孔を多数形成して多孔質シートを得て、光の散乱を利用して白色反射率を向上させる方法などが挙げられる。これらの方法は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせてもよい。
【００２０】
白色顔料としては、例えば、二酸化チタン、炭酸カルシウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛、硫酸バリウム、珪酸カルシウム、タルク、カオリン、などが挙げられる。これらの中でも、二酸化チタンが好ましく、該二酸化チタンとしては、アナターゼ型及びルチル型のいずれも用いられうる。
【００２１】
白色顔料の含有量としては、前記白色樹脂フィルムの総質量に対して、例えば１〜４０質量％であり、好ましくは５〜２０質量％である。また、蛍光増白剤、酸化防止剤などをさらに添加してもよい。
【００２２】
樹脂フィルム中に細孔を含有させた白色樹脂フィルムは、例えば、化学発泡剤や低沸点有機物などを用いて発泡成形することによって形成される。細孔の平均孔径は、白色性を向上させる観点から１０μｍ以下とすることが好ましい。また、多孔質シートにおける細孔の含有率としては、１０〜９０％が好ましい。他にも、樹脂内部を多孔化して多孔質シートを得る方法としては、例えば特開２００８−２２４９６３号公報に記載されるように、加圧ガスを用いて多孔質を形成する方法が採用され、本発明においては、この方法によって作製されるプロピレン系反射シートも好ましく用いられうる。
【００２３】
（誘電体多層膜）
誘電体多層膜は、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層されてなる構成を有するものであり、低屈折率層と高屈折率層からなるユニットを少なくとも１つ有する。誘電体多層膜がこのように異なる屈折率を有する屈折率層を含む構成であることにより、所定の波長を有する光が入射した場合に、少なくともこの光の一部を反射することができる。
【００２４】
屈折率層としては、特に制限はなく、当該技術分野において用いられる公知の屈折率層を用いることができる。公知の屈折率層としては、例えば、乾式製膜法を用いて形成する屈折率層と、樹脂の押出成形によって形成される屈折率層と、樹脂の湿式製膜法を用いて形成する屈折率層とが挙げられる。反射特性の観点から、高屈折率層および低屈折率層の少なくとも一方が、金属酸化物粒子を含んでもよい。
【００２５】
（金属蒸着フィルム）
光反射樹脂層としては、例えばプラスチックフィルムに銀やアルミニウム等の金属を蒸着させた金属蒸着フィルムが挙げられる。使用する金属の種類によっても反射率が異なるため、より高い反射率を得るためには、金属として銀を用いることが好ましい。
【００２６】
また、金属蒸着フィルムの金属蒸着面が酸素や水分等により劣化しやすい場合には、金属蒸着面に劣化防止のための保護層を形成することも可能である。そのような劣化防止処理は金属の種類、所望とする耐久性に応じて適宜施される。
【００２７】
当該金属蒸着フィルムは、水蒸気バリア層側の表面に金属蒸着面を有するように配置されることが好ましい。
【００２８】
（その他の輝度向上フィルム）
その他の輝度向上フィルムとしては、例えば、特表２００７−５０２０１０号公報、特表２００８−５２１０３０号公報などに記載される複数のプリズム状構造体を含む構造化表面を有する輝度向上フィルムや、樹脂フィルム中に当該樹脂と屈折率の異なるシリカ、ジルコニア、チタニア、酸化アンチモン、アルミナ、酸化スズなどの光反射性粒子（ナノ粒子）を含有する輝度向上フィルムが使用できる。
【００２９】
光反射樹脂層の膜厚は特に制限されないが、１〜１００μｍであることが好ましく、１〜５０μｍであることがより好ましい。
【００３０】
［水蒸気バリア層］
水蒸気バリア層は、光反射樹脂層から水蒸気バリア層までの積層体の水蒸気透過係数が１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ未満となるものであれば特に限定されず、有機層であっても無機層であってもよい。
【００３１】
(有機層)
有機層としては、特に制限されないが、例えば、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリアミドなどの高分子材料が好ましく用いられうる。これらの２以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３２】
市販のポリビニルアルコールとしては、日本合成化学工業株式会社Ｎｉｃｈｉｇｏ  Ｇ−Ｐｏｌｙｍｅｒ、具体的にはＮｉｃｈｉｇｏ  Ｇ−Ｐｏｌｙｍｅｒ  ＯＫＳ  ８０４１、ＯＫＳ  ８０４９がある。
【００３３】
上述の高分子材料は、オキシ硝酸ジルコニウム（例えば第一稀元素化学工業株式会社製ジルコゾール（登録商標）ＺＮ）、炭酸ジルコニウムアンモニウム（第一稀元素化学工業株式会社製ジルコゾール（登録商標）ＡＣ−７）、塩化ジルコニル（第一稀元素化学工業株式会社製のジルコゾール（登録商標）ＺＣ−２など）、チタンラクテート、チタントリエタノールアミネートなどの架橋剤を併用することで水蒸気透過係数を改善することができる。
【００３４】
有機層の調製方法としては特に制限されないが、上記の高分子材料、さらに必要に応じて、架橋剤、後述の腐食防止剤、添加剤（例えば、防錆剤）などを含有する塗布液を塗布し乾燥することで調製することができる。
【００３５】
塗布液に用いる溶媒としては特に限定されないが、例えば水；メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール類；ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、トルエン、キシレンなどの脂肪族または芳香族炭化水素；ジクロロメタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ−ジブロモベンゼンなどのハロゲン化脂肪族炭化水素またはハロゲン化芳香族炭化水素；ジエチルエーテル、ジフェニルエーテルなどの脂肪族または芳香族エーテル類；酢酸エチル、プロピオン酸ブチルなどの脂肪族または芳香族エステル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどの芳香族アミド化合物；アセトニトリル、ベンゾニトリルなどの脂肪族または芳香族ニトリル類などが挙げられる。これらの溶媒は１種または２種以上を組み合わせて使用できる。
【００３６】
上記の高分子材料を含有する塗布液を塗布する方法は、特に制限されず、従来公知の適切な湿式塗布方法が採用されうる。具体例としては、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、インクジェット法、スプレーコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビアコート法等が挙げられる。
【００３７】
（無機層）
無機層としては、ポリシラザンを含有する塗布液を塗布し乾燥して塗膜層を得た後、活性エネルギー線を照射し改質処理を行うことにより得られるポリシラザン改質膜が挙げられる。
【００３８】
ポリシラザンとは、ケイ素−窒素結合を有するポリマーであり、Ｓｉ−Ｎ、Ｓｉ−Ｈ、Ｎ−Ｈ等の結合を有するＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、および両方の中間固溶体ＳｉＯｘＮｙ等のセラミック前駆体無機ポリマーである。
【００３９】
具体的には、ポリシラザンは、好ましくは下記の構造を有する。
【００４０】
【化１】
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【００４１】
上記一般式（Ｉ）において、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して、水素原子、置換または非置換の、アルキル基、アリール基、ビニル基または（トリアルコキシシリル）アルキル基である。この際、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ、同じであってもあるいは異なるものであってもよい。ここで、アルキル基としては、炭素原子数１〜８の直鎖、分岐鎖または環状のアルキル基が挙げられる。より具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などがある。また、アリール基としては、炭素原子数６〜３０のアリール基が挙げられる。より具体的には、フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基などの非縮合炭化水素基；ペンタレニル基、インデニル基、ナフチル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、フルオレニル基、アセナフチレニル基、プレイアデニル基、アセナフテニル基、フェナレニル基、フェナントリル基、アントリル基、フルオランテニル基、アセフェナントリレニル基、アセアントリレニル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基などの縮合多環炭化水素基が挙げられる。（トリアルコキシシリル）アルキル基としては、炭素原子数１〜８のアルコキシ基で置換されたシリル基を有する炭素原子数１〜８のアルキル基が挙げられる。より具体的には、３−（トリエトキシシリル）プロピル基、３−（トリメトキシシリル）プロピル基などが挙げられる。上記Ｒ１〜Ｒ３に場合によって存在する置換基は、特に制限はないが、例えば、アルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基（−ＯＨ）、メルカプト基（−ＳＨ）、シアノ基（−ＣＮ）、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、ニトロ基（−ＮＯ２）などがある。なお、場合によって存在する置換基は、置換するＲ１〜Ｒ３と同じとなることはない。例えば、Ｒ１〜Ｒ３がアルキル基の場合には、さらにアルキル基で置換されることはない。これらのうち、好ましくは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、フェニル基、ビニル基、３−（トリエトキシシリル）プロピル基または３−（トリメトキシシリルプロピル）基である。
【００４２】
また、上記一般式（Ｉ）において、ｎは、整数であり、一般式（Ｉ）で表される構造を有するポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められることが好ましい。
【００４３】
上記一般式（Ｉ）で表される構造を有する化合物において、好ましい態様の一つは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のすべてが水素原子であるパーヒドロポリシラザン（ＰＨＰＳ）である。
【００４４】
ポリシラザンを含有する塗布液を調製するための溶剤としては、ポリシラザンを溶解または分散できるものであれば特に制限されないが、ポリシラザンと容易に反応してしまう水および反応性基（例えば、ヒドロキシル基、あるいはアミン基等）を含まず、ポリシラザンに対して不活性の有機溶媒が好ましく、非プロトン性の有機溶媒がより好ましい。具体的には、溶剤としては、非プロトン性溶剤；例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、ソルベッソ、ターベン等の、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素等の炭化水素溶媒；塩化メチレン、トリクロロエタン等のハロゲン炭化水素溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；ジブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の脂肪族エーテル、脂環式エーテル等のエーテル類：例えば、テトラヒドロフラン、ジブチルエーテル、モノ−およびポリアルキレングリコールジアルキルエーテル（ジグライム類）などを挙げることができる。上記溶剤は、単独で使用されてもまたは２種以上の混合物の形態で使用されてもよい。
【００４５】
前記塗布液におけるポリシラザンの濃度は、特に制限されず、水蒸気バリア層の膜厚や塗布液のポットライフによっても異なるが、好ましくは０．２〜３５質量％程度である。
【００４６】
前記塗布液は、改質を促進するために、触媒を含有することが好ましい。本発明に適用可能な触媒としては、塩基性触媒が好ましく、特に、Ｎ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、３−モルホリノプロピルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラメチル−１，３−ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラメチル−１，６−ジアミノヘキサン等のアミン触媒、Ｐｔアセチルアセトナート等のＰｔ化合物、プロピオン酸Ｐｄ等のＰｄ化合物、Ｒｈアセチルアセトナート等のＲｈ化合物等の金属触媒、Ｎ−複素環式化合物が挙げられる。これらのうち、アミン触媒を用いることが好ましい。この際添加する触媒の濃度としては、ポリシラザンに対して、０．０１〜２質量％が好ましい。触媒添加量をこの範囲とすることで、反応の急激な進行による過剰なシラノール形成、および膜密度の低下、膜欠陥の増大などを避けることができる。
【００４７】
また、塗布液には、必要に応じて下記に挙げる添加剤を用いることができる。例えば、セルロースエーテル類、セルロースエステル類；例えば、エチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセトブチレート等、天然樹脂；例えば、ゴム、ロジン樹脂等、合成樹脂；例えば、重合樹脂等、縮合樹脂；例えば、アミノプラスト、特に尿素樹脂、メラミンホルムアルデヒド樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステルもしくは変性ポリエステル、エポキシド、ポリイソシアネートもしくはブロック化ポリイソシアネート、ポリシロキサン等である。
【００４８】
ポリシラザンを含有する塗布液を塗布する方法は、特に制限されず、従来公知の適切な湿式塗布方法が採用されうる。具体例としては、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、インクジェット法、スプレーコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法等が挙げられる。
【００４９】
塗布液を塗布した後は、塗膜を乾燥させることが好ましい。塗膜を乾燥することによって、塗膜中に含有される有機溶媒を除去することができる。この際、塗膜に含有される有機溶媒は、すべてを乾燥させてもよいが、一部残存させていてもよい。一部の有機溶媒を残存させる場合であっても、好適な水蒸気バリア層が得られうる。なお、残存する溶媒は後に除去されうる。
【００５０】
塗膜層の乾燥温度は、３０〜２００℃であることが好ましい。乾燥時間は短時間に設定することが好ましく、例えば、乾燥温度が１５０℃である場合には３０分以内に設定することが好ましい。また、乾燥雰囲気は、大気雰囲気下、窒素雰囲気下、アルゴン雰囲気下、真空雰囲気下、酸素濃度をコントロールした減圧雰囲気下等のいずれの条件であってもよい。
【００５１】
ポリシラザンを含む塗布液を塗布して得られた塗膜層は、改質処理前または改質処理中に水分を除去する工程を含んでいてもよい。水分を除去する方法としては、低湿度環境を維持して除湿する形態が好ましい。低湿度環境における湿度は温度により変化するので、温度と湿度の関係は露点温度の規定により好ましい形態が示される。好ましい露点温度は４℃以下（温度２５℃／湿度２５％）で、より好ましい露点温度は−５℃（温度２５℃／湿度１０％）以下であり、維持される時間は水蒸気バリア層の膜厚によって適宜設定することが好ましい。水蒸気バリア層の膜厚が１．０μｍ以下の条件においては、露点温度は−５℃以下で、維持される時間は１分以上であることが好ましい。なお、露点温度の下限は特に制限されないが、通常、−５０℃以上であり、−４０℃以上であることが好ましい。改質処理前、あるいは改質処理中に水分を除去することによって、シラノールに転化した水蒸気バリア層の脱水反応を促進する観点から好ましい形態である。
【００５２】
塗膜層の改質処理とは、上記で得られた塗膜層に含まれるポリシラザンの一部または全部が、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素等へ転化する反応を指し、水蒸気バリア性を発現するに貢献できるレベルの無機薄膜を形成する反応を指す。
【００５３】
改質処理は、ポリシラザンを含有する塗布液を用いて塗膜層を形成した後、塗膜層に活性エネルギー線を照射することにより行われる。
【００５４】
活性エネルギー線としては、例えば、赤外線、可視光線、紫外線、真空紫外線、Ｘ線、電子線、α線、β線、γ線等が使用可能であるが、電子線または紫外線、真空紫外線が好ましく、紫外線、真空紫外線がより好ましく、真空紫外線が特に好ましい。
【００５５】
真空紫外線照射処理においては、常用されているいずれの紫外線発生装置を使用することも可能である。なお、本発明でいう真空紫外線とは、一般には１０〜２００ｎｍの波長を有する電磁波を含む紫外光をいう。
【００５６】
真空紫外線の照射は、照射される塗膜層を担持している基材（光反射樹脂層）がダメージを受けない範囲で、照射強度や照射時間を設定することが好ましい。
【００５７】
例えば、２ｋＷ（８０Ｗ／ｃｍ×２５ｃｍ）のランプを用い、基材表面の強度が２０〜３００ｍＷ／ｃｍ２、好ましくは５０〜２００ｍＷ／ｃｍ２になるように基材−紫外線照射ランプ間の距離を設定し、０．１秒〜１０分間の照射を行うことができる。
【００５８】
紫外線照射に要する時間は、使用する基材や水蒸気バリア層の組成、濃度にもよるが、一般に０．１秒〜１０分であり、好ましくは０．５秒〜３分である。
【００５９】
真空紫外線照射による処理は、ポリシラザン内の原子間結合力より大きい、好ましくは１００〜２００ｎｍ、より好ましくは１００〜１８０ｎｍの波長の光エネルギーを用い、原子の結合を光量子プロセスと呼ばれる光子のみの作用により、直接切断しながら活性酸素やオゾンによる酸化反応を進行させることで、比較的低温（約２００℃以下）で、無機薄膜の形成を行う方法である。
【００６０】
このような真空紫外線の発生手段としては、例えば、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、キセノンアークランプ、カーボンアークランプ、エキシマランプ、ＵＶ光レーザー等が挙げられるが、特に限定されない。また、発生させた真空紫外線を改質前のポリシラザン塗膜層に照射する際には、効率向上と均一な照射とを達成する観点から、発生源からの真空紫外線を反射板で反射させてから改質前のポリシラザン塗膜層に当てることが望ましい。真空紫外線源は、希ガスエキシマランプが好ましく用いられる。
【００６１】
真空紫外線照射時の反応には、酸素が必要であるが、真空紫外線は、酸素による吸収があるため紫外線照射工程での効率が低下しやすいことから、真空紫外線の照射は、可能な限り酸素濃度および水蒸気濃度の低い状態で行うことが好ましい。すなわち、真空紫外線照射時の酸素濃度は、３００〜１０，０００体積ｐｐｍ（１体積％）とすることが好ましく、５００〜５，０００体積ｐｐｍとすることがより好ましい。また、転化プロセスの間の水蒸気濃度は、好ましくは１０００〜４０００体積ｐｐｍの範囲である。
【００６２】
真空紫外線照射において、塗膜層が受ける塗膜面での該真空紫外線の照度は１ｍＷ／ｃｍ２〜１０Ｗ／ｃｍ２であると好ましく、３０ｍＷ／ｃｍ２〜２００ｍＷ／ｃｍ２であることがより好ましく、５０ｍＷ／ｃｍ２〜１６０ｍＷ／ｃｍ２であるとさらに好ましい。１ｍＷ／ｃｍ２以上であれば、高い改質効率が得られうる。また、１０Ｗ／ｃｍ２以下であれば、塗膜にアブレーションを生じたり、基材にダメージを与えたりする可能性が低い。
【００６３】
塗膜層における真空紫外線の照射エネルギー量（照射量、積算光量）は、１０〜２００００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましく、２０〜１００００ｍＪ／ｃｍ２であることがより好ましく、１００〜８０００ｍＪ／ｃｍ２であることがさらに好ましい。照射エネルギー量が１０ｍＪ／ｃｍ２以上であれば、改質が十分に進行しうる。また、照射エネルギー量が２００００ｍＪ／ｃｍ２以下であれば、過剰改質によるクラック発生や、基材の熱変形が生じにくい。
【００６４】
（腐食防止剤）
本発明の反射積層フィルムは、好ましくは、金属反射層に隣接する層の少なくとも１つが腐食防止剤を含む。このようにすることで金属反射層と隣接する層との密着性が向上し、反射積層フィルムの耐久性が向上しうる。
【００６５】
本発明の好ましい一実施形態によれば、水蒸気バリア層が、金属反射層に隣接し、かつ、前記水蒸気バリア層は腐食防止剤を含む。
【００６６】
腐食防止剤としては、銀などの金属に対する吸着性基を有することが好ましい。ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ  Ｚ０１０３−２００４参照）。
【００６７】
なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には水蒸気バリア層の質量に対して１〜１０質量％の範囲内であることが好ましい。
【００６８】
銀などの金属に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類およびその誘導体、ピロール環を有する化合物、ベンゾトリアゾール等のトリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物の少なくとも一種またはこれらの混合物から選ばれることが望ましい。なかでも、ピロール環を有する化合物またはトリアゾール環を有する化合物を用いることが好ましい。ベンゾトリアゾール等のトリアゾール環を有する化合物においては、紫外線吸収剤が腐食防止剤を兼ねる場合もある。また、シリコーン変性樹脂を用いることも可能である。シリコーン変性樹脂としては特に限定されない。
【００６９】
アミン類およびその誘導体としては、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ｏ−トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２Ｎ−ジメチルエタノールアミン、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、ｐ−エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００７０】
ピロール環を有する化合物としては、２，５−ジメチルピロール、Ｎ−ブチル−２，５−ジメチルピロール，Ｎ−フェニル−２，５ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３−ホルミル−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３，４−ジホルミル−２，５−ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００７１】
トリアゾール環を有する化合物としては、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−ヒドロキシ−１，２，４−トリアゾール、３−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、４−メチル−１，２，３−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７−テトラハイドロトリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メチル−１，２，４−トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ３’５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］（分子量６５９；市販品の例としては株式会社ＡＤＥＫＡのＬＡ３１）、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール（分子量４４７．６；市販品の例としてはチバ・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社のチヌビン（登録商標）２３４）などが挙げられる。あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００７２】
ピラゾール環を有する化合物としては、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５−ジメチルピラゾール、３−メチル−５−ヒドロキシピラゾール、４−アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００７３】
チアゾール環を有する化合物としては、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２−Ｎ，Ｎ−ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ−ジメチルアミノベンザルロダニン、２−メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００７４】
イミダゾール環を有する化合物としては、イミダゾール、ヒスチジン、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５ジヒドロキシメチルイミダゾール、４−フォルミルイミダゾール、２−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−フォルミルイミダゾール、４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−エチル−４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００７５】
インダゾール環を有する化合物としては、４−クロロインダゾール、４−ニトロインダゾール、５−ニトロインダゾール、４−クロロ−５−ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００７６】
水蒸気バリア層中に腐食防止剤を用いる場合、腐食防止剤の含有量は、特に制限されないが、水蒸気バリア層の質量に対して０．１〜５質量％の範囲内であることが好ましい。
【００７７】
本発明の反射積層フィルムにおいて、光反射樹脂層から水蒸気バリア層までの積層体の水蒸気透過係数は、１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ未満である。上記水蒸気透過係数は５０ｇ／ｍ２・ｄａｙ／ａｔｍ以下であることが好ましく、２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ／ａｔｍ以下であることがより好ましい。なお、本明細書中、水蒸気透過係数の測定は、ＭＯＣＯＮ社製：ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ ３／３２を用いて、温度４０℃、湿度９０％ＲＨの環境下で測定して得られる値である。
【００７８】
本発明の反射積層フィルムにおいて、水蒸気バリア層の金属反射層側の表面の表面粗さ（Ｒａ）が２０ｎｍ未満である。表面粗さ（Ｒａ）が２０ｎｍ以上であると十分な輝度が得られない。好ましくは上記表面粗さは１０ｎｍ以下である。水蒸気バリア層の金属反射層側の表面の表面粗さ（Ｒａ）は、原子間力顕微鏡を用いて測定することができる。
【００７９】
水蒸気バリア層の膜厚は、５００ｎｍ以上５０μｍ以下であることが好ましい。５００ｎｍ以上であれば銀反射層の蒸着がより緻密化されて輝度が向上する効果に優れる。また５０μｍ以下であれば表面粗さを十分に小さくすることができ、平滑な銀反射層を形成できるため、高い輝度が得られうる。
【００８０】
［金属反射層］
金属反射層は、ＬＥＤ光などの光を反射する機能を有する金属等からなる層である。
【００８１】
金属反射層の表面反射率は好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。
【００８２】
この金属反射層は、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｒｈ、Ｐｔ、及びＡｕからなる元素群の中から選ばれるいずれかの元素を含む材料により形成されることが好ましい。中でも、反射率、耐食性の観点からＡｌまたはＡｇを主成分としていることが好ましく、このような金属の薄膜を２層以上形成するようにしてもよい。本発明においては、特に銀を主成分とする銀反射層であることが好ましい。
【００８３】
銀反射層は、本発明の効果を損なわない程度に他に金属を含んでいてもよい。好ましくは、銀反射層の銀含有率は９０原子％以上である。より好ましくは９９．９原子％以上である。この際、他の金属の含有量は、０〜１０原子％が好ましい。他の金属としては、金、パラジウム、スズ、ガリウム、インジウム、銅、チタン及びビスマスが好ましく、特に、銀と金との合金が好ましい。
【００８４】
金属反射層の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍであり、さらに好ましくは８０〜１５０ｎｍである。
【００８５】
また、金属反射層にＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の金属酸化物からなる層を設けてさらに反射率を向上させてもよい。
【００８６】
この金属反射層の形成法としては乾式法を用いることが好ましい。乾式法とは、真空製膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続的に製膜するロール・トゥ・ロール（ｒｏｌｌ−ｔｏ−ｒｏｌｌ）方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。
【００８７】
金属反射層は腐食防止剤を含んでもよい。使用できる腐食防止剤は上述の水蒸気バリア層に用いられる腐食防止剤と同様である。この際腐食防止剤の含有量は、金属反射層の質量に対して０．１〜５質量％の範囲内であることが好ましい。
【００８８】
［増反射層］
図１のように、本発明の積層反射フィルム１０は、金属反射層１３の水蒸気バリア層１２とは反対側の表面に、低屈折率層２１および高屈折率層２２がこの順に配置されてなる増反射層２０をさらに有することが好ましい。このような増反射層２０を設けることで所望の光学特性が効果的に得られうる。
【００８９】
なお、本明細書において、「高屈折率層」および「低屈折率層」なる用語は、隣接した２層の屈折率差を比較した場合に、屈折率が高い方の屈折率層を高屈折率層とし、低い方の屈折率層を低屈折率層とすることを意味する。また、本明細書中、低屈折率層および高屈折率層を区別しない場合は、両者を含む概念として「屈折率層」と称する場合がある。
【００９０】
前記増反射層２０は金属反射層側１３から低屈折率層２１、高屈折率層２２の順に積層されたものが好ましく、低屈折率層２１および高屈折率層２２が複数回積層されたものでもよい。また、前記増反射層２０は低屈折率層２１および高屈折率層２２以外でも、反射率や耐久性を損なわないのであれば他の層が介在するものであってもよい。
【００９１】
低屈折率層２１と高屈折率層２２の屈折率差は０．４０以上であることが好ましく、さらに好ましくは０．５０〜１．１０としてもよい。なお、増反射効果を発現させたい波長域により、低屈折率層２１と該高屈折率層２２の最適な厚みは変化するため、各層の厚みは目的の波長域における反射率が高まるように適宜決められればよい。
【００９２】
本発明の好ましい一実施形態によれば、低屈折率層２１は、樹脂層、ＳｉＯ２もしくはＳｉの酸窒化物から構成される層、またはこれらの粒子を樹脂中に混合した層であることが好ましい。また、高屈折率層２２は、屈折率が２．００以上、２．７０以下の金属酸化物を用いるのが好ましく、例えばＴｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ等の酸化物が挙げられる。これらの金属酸化物を含むコーティング液を塗布、乾燥させることで高屈折率層を形成することができる。または、これらの金属酸化物粒子を樹脂中に混合して高屈折率層を形成してもよい。
【００９３】
低屈折率層または高屈折率層に用いられる樹脂の具体的な例として、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンテレフタレートのコポリマー（ｃｏＰＥＴ）、ポリ（メチルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）、ポリ（メチルメタクリレート）のコポリマー（ｃｏＰＭＭＡ）を含むアクリル樹脂、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体（ＰＥＴＧ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンナフタレートのコポリマー（ｃｏＰＥＮ）等が挙げられる。
【００９４】
また、ポリビニルアルコール系樹脂、ゼラチン、セルロース類、増粘多糖類、および反応性官能基を有するポリマーがなどの水溶性樹脂を用いてもよい。
【００９５】
低屈折率層２１の屈折率は、高屈折率層２２との屈折率差を考慮して決定されればよいが、高屈折率層２２を上記の金属酸化物から構成される層とした場合、十分な増反射効果を発現するためには、１．８０以下であることが好ましく、さらに好ましくは１．４６以上１．７０以下としてもよい。
【００９６】
さらに、本発明の積層反射フィルム１０は、低屈折率層２１に腐食防止剤を含むことが好ましい。低屈折率層２１が腐食防止剤を含むことで金属反射層１３との密着性が向上し、反射積層フィルムの耐久性が向上しうる。
【００９７】
使用できる腐食防止剤は上述の水蒸気バリア層に用いられる腐食防止剤と同様である。低屈折率層２１中に腐食防止剤を用いる場合、腐食防止剤の含有量は、特に制限されないが、低屈折率層の質量に対して０．１〜５質量％の範囲内であることが好ましい。
【００９８】
増反射層は、上述の誘電体多層膜と同様に、乾式製膜法（蒸着法）、樹脂の押出成形によって形成する方法、湿式製膜法のいずれの方法によっても調製することができる。
【００９９】
増反射層の屈折率層の層数（高屈折率層および低屈折率層の総層数）としては、２〜１０層であることが好ましく、２〜５層であることがより好ましい。誘電体多層膜の屈折率層の層数が上記範囲にあると、使用する波長領域優れた反射率が実現されうることから好ましい。なお、増反射層が、複数の高屈折率層および／または低屈折率層を有する場合には、各高屈折率層および／または各低屈折率層はそれぞれ同じものであっても、異なるものであってもよい。
【０１００】
高屈折率層の１層当たりの厚さは、２０〜８００ｎｍであることが好ましく、５０〜５００ｎｍであることがより好ましい。また、低屈折率層の１層当たりの厚さは、２０〜８００ｎｍであることが好ましく、５０〜５００ｎｍであることがより好ましい。
【０１０１】
ここで、１層あたりの厚さを測定する場合、高屈折率層および低屈折率層の境界において明確な界面を持たず、連続的に組成が変化する場合がある。このような組成が連続的に変化するような界面領域においては、最大屈折率−最小屈折率＝Δｎとした場合、２層間の最小屈折率＋Δｎ／２の地点を層界面とみなすものとする。
【０１０２】
なお、高屈折率層および低屈折率層が金属酸化物などの粒子を含む場合には、当該金属酸化物粒子の濃度プロファイルにより上記組成を観察することができる。当該金属酸化物濃度プロファイルは、スパッタ法を用いて表面から深さ方向へエッチングを行い、ＸＰＳ表面分析装置を用いて、最表面を０ｎｍとして、０．５ｎｍ／ｍｉｎの速度でスパッタし、原子組成比を測定することで見ることができる。また、積層膜を切断して、切断面をＸＰＳ表面分析装置で原子組成比を測定することで確認してもよい。
【０１０３】
ＸＰＳ表面分析装置は、特に制限されず、いかなる機種も使用することができる。当該ＸＰＳ表面分析装置としては、例えば、ＶＧサイエンティフィックス社製ＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いることができる。Ｘ線アノードにはＭｇを用い、出力６００Ｗ（加速電圧１５ｋＶ、エミッション電流４０ｍＡ）で測定する。
【０１０４】
［用途］
本発明の反射積層フィルムは、例えば、液晶表示装置用のバックライトユニットの反射フィルム等に好適に用いられる。
【実施例】
【０１０５】
本発明を、以下の実施例および比較例を用いて具体的に説明する。ただし、本発明の技術的範囲が以下の実施例のみに制限されるわけではない。なお、特記しない限り、「％」および「部」は、それぞれ、「質量％」および「質量部」を意味する。また、下記実施例において、特記しない限り、操作は室温（２５℃）／相対湿度４０〜５０％ＲＨの条件下で行われた。
【０１０６】
≪反射積層フィルムの作製≫
＜実施例１＞
光反射樹脂層として、特開２００８−２２４９６３号公報（特許第４７７７２８０号公報）の実施例１に開示されている方法と同様の方法で厚さ５０μｍの多孔質白色フィルムを作製した。
【０１０７】
次いで、Ｇ−Ｐｏｌｙｍｅｒ  ＯＫＳ−８０４９（日本合成化学工業株式会社製）および架橋剤としてジルコゾール（登録商標）ＡＣ−７（第一稀元素化学工業株式会社製）とを樹脂固形分比率で１０：１（質量比）の割合で混合し、溶媒として純水を加え、水溶性防錆剤ＰＴ−５０（三新化学工業株式会社製）を樹脂固形分１００質量％に対して２質量％混合して水蒸気バリア層用塗布液を得た。この塗布液をグラビアコート法により上記多孔質白色フィルムの片面にコーティングして、膜厚３μｍの水蒸気バリア層を形成した。
【０１０８】
そして、上記で形成した水蒸気バリア層の露出表面に、真空蒸着法により銀反射層を膜厚１００ｎｍになるように製膜して、反射積層フィルムを作製した。
【０１０９】
＜比較例１＞
水蒸気バリア層を形成しなかったこと以外は、上述した実施例１と同様の手法により、反射積層フィルムを作製した。
【０１１０】
＜実施例２＞
低屈折率層用塗布液として、ダイヤナール（登録商標）ＢＲ−６０８（三菱レイヨン株式会社製）をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に３質量％の濃度で溶解させた溶液を調製した。
【０１１１】
次いで、この低屈折率層用塗布液を、上述した実施例１において作製した反射積層フィルムの銀反射層の露出表面にグラビアコート法によりコーティングして９０℃にて１分間乾燥して、膜厚４０ｎｍの低屈折率層を形成した。
【０１１２】
さらに、上記で形成した低屈折率層の露出表面に、ＴＹＴ９０（東洋インキ株式会社製）をグラビアコート法によりコーティングして、５０℃で１分間乾燥し、窒素雰囲気下（酸素濃度０．１体積％）で、超高圧水銀ランプを用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ２、露光量５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線露光を行い、膜厚５５ｎｍの高屈折率層を形成して、反射積層フィルムを作製した。
【０１１３】
＜実施例３＞
ピロール環を有する化合物である２，５−ジメチルピロール（東京化成工業株式会社製）を、樹脂固形分１００質量％に対して３質量％の量で低屈折率層用塗布液に添加し、さらに水蒸気バリア層の膜厚を１０μｍに変更したこと以外は、上述した実施例２と同様の手法により、反射積層フィルムを作製した。
【０１１４】
＜実施例４＞
トリアゾール環を有する化合物である３−アミノ−１，２，４−トリアゾール（東京化成工業株式会社製）を、樹脂固形分１００質量％に対して３質量％の量で低屈折率層用塗布液に添加し、さらに水蒸気バリア層の膜厚を３０μｍに変更したこと以外は、上述した実施例２と同様の手法により、反射積層フィルムを作製した。
【０１１５】
＜実施例５＞
水蒸気バリア層用塗布液として、パーヒドロポリシラザン（アクアミカ（登録商標）  ＮＮ１２０−１０、無触媒タイプ、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ社製）の１０質量％ジブチルエーテル溶液を調製した。
【０１１６】
次いで、この水蒸気バリア層用塗布液を、ワイヤレスバーを用いて実施例１で用いたのと同様の多孔質白色フィルムの片面に乾燥膜厚が０．５μｍになるように塗布し、温度８５℃、湿度５５％ＲＨの雰囲気下で１分間処理して乾燥させ、さらに温度２５℃、湿度１０％ＲＨ（露点温度−８℃）の雰囲気下に１０分間保持して除湿処理を行って、ポリシラザン層を形成した。
【０１１７】
そして、上記で形成したポリシラザン層に対し、下記の方法に従って、露点温度が−８℃以下の条件下で、紫外線照射処理（改質処理）を施した。
【０１１８】
ポリシラザン層を形成した多孔質白色フィルムを紫外線照射装置の稼動ステージ上に固定し、その多孔質白色フィルム（ポリシラザン層）に対し、以下の条件で改質処理を行って、水蒸気バリア層を形成した。
【０１１９】
（紫外線照射処理）
装置：株式会社  エム・ディ・コム製エキシマ照射装置ＭＯＤＥＬ：ＭＥＣＬ−Ｍ−１−２００
照射波長：１７２ｎｍ
ランプ封入ガス：Ｘｅ
エキシマランプ光強度：１３０ｍＷ／ｃｍ２（１７２ｎｍ）
試料と光源の距離：１ｍｍ
装置内の酸素濃度：１．０％
ステージ加熱温度：５７℃
エキシマランプ照射時間：３秒
続いて、上記で形成した水蒸気バリア層の露出表面に、上述した実施例４と同様の手法により銀反射層、低屈折率層および高屈折率層を形成して、反射積層フィルムを作製した。
【０１２０】
＜実施例６＞
水蒸気バリア層の乾燥膜厚が１μｍになるように、水蒸気バリア層用塗布液の塗布量を変更したこと以外は、上述した実施例５と同様の手法により、反射積層フィルムを作製した。
【０１２１】
＜比較例２＞
水蒸気バリア層の乾燥膜厚が１μｍになるように、水蒸気バリア層用塗布液の塗布量を変更したこと以外は、上述した実施例２と同様の手法により、反射積層フィルムを作製した。
【０１２２】
＜比較例３＞
水蒸気バリア層を形成しなかったことを除いては、上述した実施例２と同様の手法により、反射積層フィルムを作製した。
【０１２３】
ただし、水蒸気バリア層が形成されていないため、水蒸気によって銀の蒸着が阻害されることから、得られた銀反射層の膜厚は５０ｎｍであった。
【０１２４】
＜比較例４＞
光反射樹脂層である多孔質白色フィルムに代えて、透明なポリエステルフィルムＡ４１００（東洋紡株式会社製、厚さ５０μｍ）を用いたことを除いては、上述した実施例２と同様の手法により、反射積層フィルムを作製した。
【０１２５】
＜比較例５＞
基材として、透明なポリエステルフィルムＡ４１００（東洋紡株式会社製、厚さ５０μｍ）を準備した。
【０１２６】
次いで、上記で準備した基材の一方の表面に、真空蒸着法により銀反射層を膜厚１００ｎｍになるように製膜した。
【０１２７】
そして、上記で製膜した銀反射層の露出表面に、上述した実施例２と同様の手法により低屈折率層および高屈折率層を形成して、反射積層フィルムを作製した。
【０１２８】
＜比較例６＞
水蒸気バリア層の乾燥膜厚が５５μｍになるように、水蒸気バリア層用塗布液の塗布量を変更したこと以外は、上述した実施例２と同様の手法により、反射積層フィルムを作製した。
【０１２９】
＜比較例７＞
水蒸気バリア層を形成せず、また、銀反射層の膜厚を５０μｍに変更したこと以外は、上述した実施例２と同様の手法により、反射積層フィルムを作製した。
【０１３０】
＜比較例８＞
比較例５で作製した反射積層フィルムのポリエステルフィルムの露出表面に、アクリル系の粘着剤であるエスダイン（登録商標）＃７８５１（積水化学工業株式会社製）を１５μｍの厚さで塗布して粘着剤層を形成した。そして、形成された粘着剤層の露出表面に、実施例１で用いたのと同様の多孔質白色フィルムを貼合して、反射積層フィルムを作製した。
【０１３１】
≪反射積層フィルムの評価≫
（水蒸気バリア層の表面粗さ（Ｒａ）の測定）
上記で作製した反射積層フィルムのうち、水蒸気バリア層を形成したものについて、水蒸気バリア層の形成直後に、銀反射層が形成される側の表面の表面粗さ（Ｒａ）を、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）ＳＰＡ−４００（セイコーインスツルメンツ社製）を用いて測定した。結果を下記の表１および表２に示す。
【０１３２】
（水蒸気透過係数の測定）
上記で作製した反射積層フィルムのうち、水蒸気バリア層を形成したものについて、水蒸気バリア層の形成直後に、多孔質白色フィルムと水蒸気バリア層との積層体の水蒸気透過係数を、下記に示す測定手法により測定した。
【０１３３】
（測定方法）
水蒸気透過係数の測定は、ＭＯＣＯＮ社製：ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ  ３／３２を用いて、温度４０℃、湿度９０％ＲＨの環境下で測定した。
結果を下記の表１および表２に示す。
【０１３４】
（高温高湿環境下での使用後の輝度および色度の測定）
上記で作製した反射積層フィルムを液晶表示装置のバックライトユニットの反射フィルムとして組み込み、温度３５℃、湿度７０％ＲＨの環境下、光源を点灯させた状態で１週間（１６８時間）静置した。その後、反射フィルムの上方２００ｍｍの位置に輝度計（コニカミノルタ株式会社製、製品名「ＣＳ−２０００」）を設置し、面光源装置中央部を平行に配列された光源の垂直方向に横断する形で、端から端まで０．６ｍｍ間隔で三刺激値Ｙ（輝度）[ｃｄ／ｍ２]、および色度Ｘ、色度Ｙを測定した。なお、これらの値の測定は２５℃で行った。また、輝度の値は大きいほど好ましく、色度の値は小さいほど好ましい。結果を下記の表１および表２に示す。
【０１３５】
（密着性の評価（クロスカット剥離試験））
上記で作製した反射積層フィルムについて、銀反射層の形成直後に、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６（ＩＳＯ２４０９）に準拠したクロスカット剥離法を行うことにより、銀反射層−下層間の密着性を評価した。
【０１３６】
具体的には、１マス１ｍｍ×１ｍｍの正方形が１０マス×１０マスの計１００マスになるようにクロスカットし、
銀反射層の剥離（破壊）の起きなかったマス数／１００（マス）
として密着性を評価した。なお、銀反射層の剥離（破壊）が起きているかどうかは、光学顕微鏡で確認した。結果を下記の表１および表２に示す。
【０１３７】
【表１】
2017019208.tif 000004
【０１３８】
【表２】
2017019208.tif 000005
【０１３９】
表１および表２に示す結果から、本発明に係る反射積層フィルムは、液晶表示装置用バックライトユニット等の用途に用いられた場合に、十分な輝度を発揮することができることがわかる。
【０１４０】
各実施例および比較例について考察すると、まず、所定の表面粗さ（Ｒａ）および水蒸気透過係数を示す水蒸気バリア層が多孔質白色フィルムと銀反射層との間に配置されている実施例１では、このような水蒸気バリア層が配置されていない比較例１と比較して、高温高湿条件下に長時間曝された場合であっても十分な輝度が達成されている。これは、水蒸気バリア層の表面粗さが小さいこと、および、基材である多孔質白色フィルムに含まれる水分が銀反射層の蒸着時の熱によって蒸発することに起因する銀の蒸着の阻害が水蒸気バリア層（水蒸気透過係数が１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ未満である）によって防止されて緻密な銀薄膜が形成されることの双方の効果として、平滑な銀反射層が形成されることによるものと考えられる。一方、比較例１では、多孔質白色フィルム自体が平滑ではなく、しかも多孔質白色フィルムに含まれる水分が銀反射層の蒸着時の熱によって蒸発することで銀の蒸着が阻害されることで、平滑な銀反射層が形成されていない結果、輝度が低下したものと考えられる。
【０１４１】
続いて、実施例２では、銀反射層の上層に低屈折率層および高屈折率層からなる増反射層が形成されていることで、実施例１と比較すると輝度のみならず色度も改善されている。一方、比較例２（水蒸気バリア層の膜厚のみが実施例２とは異なる）、比較例３（水蒸気バリア層がない）では、水蒸気バリア層がない、または薄すぎることで水蒸気透過係数が十分に低下せず（水蒸気バリア性が十分に発揮されず）、銀反射層の蒸着時の熱による多孔質白色フィルムからの水分の蒸発とこれに起因する銀の蒸着阻害を十分に防止することができないために、輝度が低下する結果となったものと考えられる。また、比較例６（水蒸気バリア層の膜厚のみが実施例２とは異なる）では、水蒸気バリア層が厚すぎることで水蒸気バリア層の表面粗さを十分に小さくすることができず、銀反射層を平滑に形成することができないため、やはり輝度が低下する結果となったものと考えられる。
【０１４２】
ここで、銀反射層への入射光のうち、銀薄膜の疎の部位からは一部の光が漏れるが、実施例２における多孔質白色フィルムでは反射されて輝度の向上に寄与している。これに対し、比較例４では、全光線透過率が８０％以上と高い透明ポリエステルフィルムを基材として用いたことで、このような漏れた光の基材での反射が生じない。このため、輝度が低下する結果となったものと考えられる。さらに比較例５のように水蒸気バリア層を設けない場合は、表面が平滑であって水分の吸着がほとんどない透明ポリエステルフィルムを基材として用いることで平滑な銀反射層が形成されるため初期の反射率は高いものの、使用中に銀の腐食が進行し、輝度が低下する。
【０１４３】
比較例７では、水蒸気バリア層が存在せず、多孔質白色フィルムの表面に銀反射層が直接蒸着されている。このため、比較例１と同様に、多孔質白色フィルム自体が平滑ではなく、しかも多孔質白色フィルムに含まれる水分が銀反射層の蒸着時の熱によって蒸発することで銀の蒸着が阻害されることで、平滑な銀反射層が形成されていない結果、輝度が低下したものと考えられる。
【０１４４】
比較例８では、比較例５のフィルムの裏面に多孔質白色フィルムが粘着剤層を介して貼合されている。この場合、使用環境下で多孔質白色フィルムと粘着剤との界面で剥離しやすく、水蒸気バリア層がないため銀の腐食を十分に抑制することができないため、輝度が低下したものと考えられる。
【０１４５】
一方、実施例３では、実施例２と比較して水蒸気バリア層がより厚く形成されていることで銀反射層の蒸着がより緻密化され、しかも増反射層を構成する低屈折率層に腐食防止剤が含まれていることで銀の腐食も防止される。これらの結果として、実施例２と比較して、輝度、色度、密着性のすべての性能が向上しているものと考えられる。
【０１４６】
実施例４では、実施例３よりもさらに水蒸気バリア層がより厚く形成されている。このため、銀反射層の蒸着がより緻密化されることから、実施例３と比較して、輝度および色度がさらに向上しているものと考えられる。
【０１４７】
実施例５では、水蒸気バリア層がポリシラザンの改質膜から形成されている。このため、水蒸気バリア層が薄くても水蒸気バリア性に優れ、しかも水蒸気バリア層の表面がより平滑なものとなっている。その結果、銀反射層の蒸着がより緻密化されることから、実施例４と比較して、水蒸気バリア層がより薄いにもかかわらず輝度および色度がさらに向上しているものと考えられる。
【０１４８】
実施例６では、実施例５よりもさらに水蒸気バリア層がより厚く形成されている。このため、銀反射層の蒸着がより緻密化されることから、実施例５と比較して、輝度および色度がさらに向上しているものと考えられる。
【符号の説明】
【０１４９】
１０    反射積層フィルム、
１１    多孔質白色フィルム（光反射樹脂層）、
１２    水蒸気バリア層、
１３    銀反射層、
２０    増反射層、
２１    低屈折率層、
２２    高屈折率層。
【図１】
2017019208.tif 000006