(57)【要約】【課題】反射戻り光の影響を低減することができる、偏光ビームスプリッタを提供する。【解決手段】入射光Ａ１が、第１の側面５を通って、第１のプリズム２内に入射し、偏光分離膜１２で反射される第１の偏光成分Ｓ１と、偏光分離膜１２を透過する第２の偏光成分Ｐ１とに分離され、第１の偏光成分Ｓ１は、第２の側面６から出射されるとともに、一部が第２の側面６で第１の反射戻り光Ｂ１として反射され、第２の偏光成分Ｐ１は、第５の側面１０から出射されるとともに、一部が第５の側面１０で第２の反射戻り光Ｃ１として反射されるように構成されており、第１の側面５と第２の側面６とのなす角度が、６０度以上であり、第１の側面５と第３の側面７とのなす角度が、３０度以上であり、第２の側面６と第３の側面７とのなす角度が、９０度未満である、偏光ビームスップリッタ１。【選択図】図１
2017122765.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１〜第３の辺を含む三角形の形状を有する上面及び下面と、前記上面及び前記下面の前記第１〜第３の辺のうち最も長い辺である第１の辺同士を接続している第１の側面と、前記上面及び前記下面の前記第２の辺同士を接続している第２の側面と、前記上面及び前記下面の前記第３の辺同士を接続している第３の側面と、を有する、第１のプリズムと、
前記第１のプリズムと実質的に同一の形状を有し、前記第１の側面に対応する第４の側面と、前記第２，第３の側面に対応する第５，第６の側面とを有する、第２のプリズムと、
前記第１のプリズムの前記第３の側面と、前記第２のプリズムの前記第６の側面との間に設けられる偏光分離膜とを備え、
前記第２の側面と前記第５の側面とが同じ側に位置するように配置した状態で、前記第１のプリズムの前記第３の側面と、前記第２のプリズムの前記第６の側面とが接合されている偏光ビームスプリッタであって、
入射光は、前記第１の側面を通って、前記第１のプリズム内に入射し、前記偏光分離膜で反射される第１の偏光成分と、前記偏光分離膜を透過する第２の偏光成分とに分離され、
前記偏光分離膜で反射された前記第１の偏光成分は、前記第１のプリズム内において、前記第１の側面で反射され、前記第２の側面から出射されるとともに、一部が前記第２の側面で第１の反射戻り光として反射され、
前記偏光分離膜を透過した前記第２の偏光成分は、前記第２のプリズム内において、前記第４の側面で反射され、前記第５の側面から出射されるとともに、一部が前記第５の側面で第２の反射戻り光として反射されるように構成されており、
前記第１の側面と前記第２の側面とのなす角度が、６０度以上であり、
前記第１の側面と前記第３の側面とのなす角度が、３０度以上であり、
前記第２の側面と前記第３の側面とのなす角度が、９０度未満である、偏光ビームスプリッタ。
【請求項２】
前記第１の側面と前記第２の側面とのなす角度が、６５度以下である、請求項１に記載の偏光ビームスプリッタ。
【請求項３】
前記第１の側面と前記第３の側面とのなす角度が、３５度以下である、請求項１又は２に記載の偏光ビームスプリッタ。
【請求項４】
前記第２の側面と前記第３の側面とのなす角度が、８５度以上である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の偏光ビームスプリッタ。
【請求項５】
第１の反射防止膜が、前記第１の側面の少なくとも入射光が入射する部分の領域に設けられており、かつ前記第１の側面の少なくとも反射光が反射する部分の領域に設けられていない、請求項１〜４のいずれか１項に記載の偏光ビームスプリッタ。
【請求項６】
第２の反射防止膜が、前記第２の側面の少なくとも前記第１の偏光成分が出射する部分の領域に設けられており、第３の反射防止膜が、前記第５の側面の少なくとも前記第２の偏光成分が出射する部分の領域に設けられている、請求項１〜５のいずれか１項に記載の偏光ビームスプリッタ。
【請求項７】
第４〜第６の辺を含む三角形の形状を有する上面及び下面と、前記上面及び前記下面の前記第４〜第６の辺同士をそれぞれ接続している、第７〜第９の側面とを有する、第３のプリズムをさらに備え、
前記第１のプリズムの前記第１の側面と、前記第３のプリズムの前記第９の側面とが接合されており、
入射光は、前記第７の側面から前記第３のプリズム内に入射し、前記第３のプリズム内において、前記第８の側面で反射され、前記第９の側面を通り、前記第１の側面から前記第１のプリズム内に入射されるように構成されている、請求項１〜６のいずれか１項に記載の偏光ビームスプリッタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光ビームスプリッタに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、偏光ビームスプリッタが光通信機などに広く用いられている。例えば、下記の特許文献１には、２個のプリズムが貼り合わされてなる偏光ビームスプリッタが開示されている。２個のプリズムは同一形状であり、かつ断面形状が直角三角形である。直角三角形の内角は、９０度、３０度未満、６０度以上の角度を有する。このような形状を有する２個のプリズムは、偏光ビームスプリッタの断面形状が二等辺三角形となるように貼り合わされている。また、２個のプリズムが貼り合わされている面には、偏光分離膜が形成されている。
【０００３】
特許文献１の偏光ビームスプリッタでは、入射光が入射面から入射し、偏光分離膜により偏光分離される。偏光分離された各偏光は、それぞれプリズムの内面において反射され、出射面から出射される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平７−３０６３１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
偏光ビームスプリッタにおいては、偏光分離された偏光が出射面から出射されるときに、出射面において、一部の偏光が反射戻り光として反射される。しかしながら、特許文献１のような偏光ビームスプリッタでは、反射戻り光の影響により、光源の出力変動が生じる場合があった。
【０００６】
本発明の目的は、反射戻り光の影響を低減することができる、偏光ビームスプリッタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る偏光ビームスプリッタは、第１〜第３の辺を含む三角形の形状を有する上面及び下面と、前記上面及び前記下面の前記第１〜第３の辺のうち最も長い辺である第１の辺同士を接続している第１の側面と、前記上面及び前記下面の前記第２の辺同士を接続している第２の側面と、前記上面及び前記下面の前記第３の辺同士を接続している第３の側面と、を有する、第１のプリズムと、前記第１のプリズムと実質的に同一の形状を有し、前記第１の側面に対応する第４の側面と、前記第２，第３の側面に対応する第５，第６の側面とを有する、第２のプリズムと、前記第１のプリズムの前記第３の側面と、前記第２のプリズムの前記第６の側面との間に設けられる偏光分離膜とを備え、前記第２の側面と前記第５の側面とが同じ側に位置するように配置した状態で、前記第１のプリズムの前記第３の側面と、前記第２のプリズムの前記第６の側面とが接合されている偏光ビームスプリッタである。入射光は、前記第１の側面を通って、前記第１のプリズム内に入射し、前記偏光分離膜で反射される第１の偏光成分と、前記偏光分離膜を透過する第２の偏光成分とに分離され、前記偏光分離膜で反射された前記第１の偏光成分は、前記第１のプリズム内において、前記第１の側面で反射され、前記第２の側面から出射されるとともに、一部が前記第２の側面で第１の反射戻り光として反射され、前記偏光分離膜を透過した前記第２の偏光成分は、前記第２のプリズム内において、前記第４の側面で反射され、前記第５の側面から出射されるとともに、一部が前記第５の側面で第２の反射戻り光として反射されるように構成されている。前記第１の側面と前記第２の側面とのなす角度が、６０度以上であり、前記第１の側面と前記第３の側面とのなす角度が、３０度以上であり、前記第２の側面と前記第３の側面とのなす角度が、９０度未満である。
【０００８】
本発明に係る偏光ビームスプリッタは、好ましくは、前記第１の側面と前記第２の側面とのなす角度が、６５度以下である。
【０００９】
本発明に係る偏光ビームスプリッタは、好ましくは、前記第１の側面と前記第３の側面とのなす角度が、３５度以下である。
【００１０】
本発明に係る偏光ビームスプリッタは、好ましくは、前記第２の側面と前記第３の側面とのなす角度が、８５度以上である。
【００１１】
本発明に係る偏光ビームスプリッタは、好ましくは、第１の反射防止膜が、前記第１の側面の少なくとも入射光が入射する部分の領域に設けられており、かつ前記第１の側面の少なくとも反射光が反射する部分の領域に設けられていない。
【００１２】
本発明に係る偏光ビームスプリッタは、好ましくは、第２の反射防止膜が、前記第２の側面の少なくとも前記第１の偏光成分が出射する部分の領域に設けられており、第３の反射防止膜が、前記第５の側面の少なくとも前記第２の偏光成分が出射する部分の領域に設けられている。
【００１３】
本発明に係る偏光ビームスプリッタは、好ましくは、第４〜第６の辺を含む三角形の形状を有する上面及び下面と、前記上面及び前記下面の前記第４〜第６の辺同士をそれぞれ接続している、第７〜第９の側面とを有する、第３のプリズムをさらに備え、前記第１のプリズムの前記第１の側面と、前記第３のプリズムの前記第９の側面とが接合されており、入射光は、前記第７の側面から前記第３のプリズム内に入射し、前記第３のプリズム内において、前記第８の側面で反射され、前記第９の側面を通り、前記第１の側面から前記第１のプリズム内に入射されるように構成されている。
【発明の効果】
【００１４】
本発明に係る偏光ビームスプリッタによれば、反射戻り光の影響を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る偏光ビームスプリッタを示す模式的平面図である。
【図２】本発明の第１の実施形態の偏光ビームスプリッタを構成する第１のプリズムの模式的斜視図である。
【図３】θ２が大きい場合の偏光ビームスプリッタの模式的平面図である。
【図４】本発明の第１の実施形態に係る偏光ビームスプリッタの変形例を示す模式的平面図である。
【図５】本発明の第２の実施形態に係る偏光ビームスプリッタの模式的平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、好ましい実施形態について説明する。但し、以下の実施形態は単なる例示であり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。また、各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照する場合がある。
【００１７】
（第１の実施形態）
図１は、本発明の第１の実施形態に係る偏光ビームスプリッタを示す模式的平面図である。図２は、本発明の第１の実施形態の偏光ビームスプリッタを構成する第１のプリズムの模式的斜視図である。
【００１８】
図１に示すように、偏光ビームスプリッタ１は、第１，第２のプリズム２，８を備える。第１のプリズム２と第２のプリズム８とは、実質的に同一の形状を有する。なお、本発明において、「実質的に同一の形状」とは、第１のプリズム２と第２のプリズム８とが完全に同一の形状でなくともよく、本発明の作用効果を発揮することができる範囲で、第１のプリズム２と第２のプリズム８とが異なる形状であってもよいことを意味している。
【００１９】
図２に示すように、第１のプリズム２は、平面形状が三角形である上面３を有する。上面３は、第１〜第３の辺３ａ〜３ｃを有する。本実施形態では、第１〜第３の辺３ａ〜３ｃのうち、最も長い辺が第１の辺３ａである。また、第３の辺３ｃは、第２の辺３ｂよりも長い。第１の辺３ａの長さは、特に限定されないが、本実施形態では５．６８ｍｍである。
【００２０】
第１のプリズム２は、上面３と同じ形状の下面４を有する。上面３及び下面４は、第１〜第３の側面５〜７により接続されている。
【００２１】
第１の側面５は、上面３の第１の辺３ａと、第１の辺３ａに対応する下面４の一辺とを接続している。第２の側面６は、上面３の第２の辺３ｂと、第２の辺３ｂに対応する下面４の一辺とを接続している。第３の側面７は、上面３の第３の辺３ｃと、第３の辺３ｃに対応する下面４の一辺とを接続している。
【００２２】
本実施形態においては、第１の側面５と第２の側面６とのなす角度θ１が、６３．６度であり、第１の側面５と第３の側面７とのなす角度θ２が、３０．４度である。また、第２の側面６と第３の側面７とのなす角度θ３が、８６．０度である。
【００２３】
同様に、第２のプリズム８は、平面形状が三角形の上面及び下面を有する。図１に示すように、第２のプリズム８は、第１のプリズム２の第１の側面５に対応する第４の側面９と、第２，第３の側面６，７に対応する第５，第６の側面１０，１１とを有する。
【００２４】
より具体的に、第４の側面９は、上面及び下面の最も長い辺同士を接続している。第５，第６の側面１０，１１は、上面及び下面の他の２辺同士をそれぞれ接続している。
【００２５】
偏光ビームスプリッタ１においては、第２の側面６と第５の側面１０とが同じ側に配置されている。この状態において、第１のプリズム２の第３の側面７と、第２のプリズム８の第６の側面１１とが接合されている。
【００２６】
また、偏光ビームスプリッタ１は、偏光分離膜１２を備える。偏光分離膜１２は、第３の側面７と第６の側面１１との間に設けられている。偏光分離膜１２は、第１のプリズム２の第３の側面７上に成膜されている。また、偏光分離膜１２は、第２のプリズム８の第６の側面１１と接着剤により接合されている。もっとも、偏光分離膜１２は、第６の側面１１上に成膜された状態で、第３の側面７と接着剤により接合されていてもよい。また、接着剤以外の他の方法により接合されていてもよい。
【００２７】
偏光分離膜１２は、例えば、誘電体多層膜からなる。偏光分離膜１２は、第１の偏光成分を反射し、第２の偏光成分を透過する。本実施形態では、第１の偏光成分はＳ偏光であり、第２の偏光成分はＰ偏光である。なお、第１の偏光成分がＰ偏光であり、第２の偏光成分がＳ偏光であってもよい。
【００２８】
第１のプリズム２の第１の側面５は、光が入射する入射部５ａを有する。また、第１の側面５は、第１のプリズム２内における光を反射する第１の反射部５ｂを有する。入射部５ａの領域には、第１の反射防止膜１３が設けられている。本実施形態のように、第１の反射防止膜１３は、少なくとも入射部５ａの領域に設けられていることが好ましい。なお、本実施形態において、第１の反射防止膜１３は、第１の反射部５ｂの領域には設けられていない。
【００２９】
第２のプリズム８の第４の側面９は、第２のプリズム８内における光を反射する第２の反射部９ａを有する。
【００３０】
第１のプリズム２の第２の側面６は、光が出射される第１の出射部６ａを有する。第１の出射部６ａの領域には、第２の反射防止膜１４が設けられている。本実施形態のように、第２の反射防止膜１４は、少なくとも第１の出射部６ａの領域に設けられていることが好ましい。もっとも、第２の反射防止膜１４は、第２の側面６の全面に設けられていてもよい。
【００３１】
また、第２のプリズム８の第５の側面１０は、第２の出射部１０ａを有する。第２の出射部１０ａの領域には、第３の反射防止膜１５が設けられている。第３の反射防止膜１５は、第２の反射防止膜１４と対応するように設けられている。なお、第３の反射防止膜１５は、少なくとも第２の出射部１０ａの領域に設けられていることが好ましい。もっとも、第３の反射防止膜１５は、第５の側面１０の全面に設けられていてもよい。
【００３２】
図１に示すように、入射光Ａ１は、入射部５ａを通り、第１のプリズム２内に入射する。入射光Ａ１は、偏光分離膜１２において、Ｐ偏光である偏光Ｐ１と、Ｓ偏光である偏光Ｓ１とに分離される。偏光Ｓ１は、偏光分離膜１２において反射される。偏光Ｓ１は、第１のプリズム２内において、第１の側面５の第１の反射部５ｂにおいて反射され、第２の側面６の第１の出射部６ａから出射される。なお、偏光Ｓ１の一部は、第２の側面６で、第１の反射戻り光Ｂ１として反射される。より具体的に、偏光Ｓ１の一部は、第２の側面６の第１の出射部６ａの領域で、第１の反射戻り光Ｂ１として反射される。
【００３３】
他方、偏光Ｐ１は、偏光分離膜１２を透過して、第６の側面１１から第２のプリズム８内に入射する。偏光Ｐ１は、第２のプリズム８内において、第４の側面９の第２の反射部９ａで反射され、第５の側面１０の第２の出射部１０ａから出射される。なお、偏光Ｐ１の一部は、第５の側面１０で、第２の反射戻り光Ｃ１として反射される。より具体的に、偏光Ｐ１の一部は、第５の側面１０の第２の出射部１０ａの領域で、第２の反射戻り光Ｃ１として反射される。
【００３４】
本実施形態においては、第１の側面５と第２の側面６とのなす角度θ１が、６０度以上であり、第１の側面５と第３の側面７とのなす角度θ２が、３０度以上であり、第２の側面６と第３の側面７とのなす角度θ３が、９０度未満である。本実施形態では、角度θ１〜θ３が上記範囲内にあるので、第１の偏光Ｓ１が出射面である第２の側面６に垂直に入射しない。そのため、第１の反射戻り光Ｂ１は、入射光Ａ１や偏光Ｓ１と同じ光路を辿らない。従って、偏光ビームスプリッタ１では、第１の反射戻り光Ｂ１の影響を低減することができる。第１の反射戻り光Ｂ１の影響を低減することができるので、偏光ビームスプリッタ１では、光源の出力変動が生じ難い。
【００３５】
同様に、対応する第２のプリズム８においても、第１のプリズム２と同様の構成を備えているので、第２の反射戻り光Ｃ１が、入射光Ａ１や偏光Ｐ１と同じ光路を辿らない。従って、第２の反射戻り光Ｃ１の影響を低減することができる。よって、この点からも、偏光ビームスプリッタ１では、光源の出力変動が生じ難い。
【００３６】
本実施形態のように、角度θ１は６５度以下であることが好ましく、角度θ２は３５度以下であることが好ましく、角度θ３は８５度以上であることが好ましい。角度θ１〜θ３が、上記範囲内にある場合、光の利用効率をより一層高めることができる。例えば、角度θ２が大きい場合は、図３を参照して、以下のように説明することができる。
【００３７】
図３に示すように、角度θ２が大きいと、第１の側面５及び第４の側面９間の距離が長くなる。この際、偏光分離膜１２を透過した偏光Ｐ１が、第４の側面９において反射されずに、第５の側面１０から出射されることがある。そのため、光の利用効率が低下することがある。なお、この傾向は、入射光Ａ１の径が大きいほど、より一層顕著となる。
【００３８】
同様に、偏光分離膜１２において反射された偏光Ｓ１においても、第１の側面５において反射されずに、第２の側面６から出射されることがある。そのため、光の利用効率が低下することがある。
【００３９】
また、本発明においては、角度θ１が６０度以上である必要があるため、角度θ２が大きいとき、角度θ３は小さくならざるを得ない。角度θ３が小さいと、図３に示すように第１の側面５と第２の側面６との間の距離が狭くなる。そのため、この場合においても、偏光Ｓ１が第１の側面５で反射されずに、第２の側面６から出射されやすくなる。従って、光の利用効率が低下することがある。同様に角度θ１が大きい場合も、偏光Ｓ１が、第１の側面５で反射されずに、第２の側面６から出射されやすくなる。その結果、光の利用効率が低下することがある。
【００４０】
このような意図しない偏光Ｓ１，Ｐ１の出射を生じ難くするためには、第１，第２のプリズム２，８の上面及び下面のうち最も長い第１の辺を十分に長くする必要がある。
【００４１】
また、本実施形態のように、第１の側面５の入射部５ａの領域には、第１の反射防止膜１３が設けられていることが好ましい。この場合、第１のプリズム２に入射する入射光Ａ１が、入射部５ａにおいて反射され難い。そのため、光の利用効率をより一層効果的に高めることができる。さらに、第１の反射部５ｂの領域には第１の反射防止膜１３が設けられていないことが好ましい。この場合、偏光Ｓ１をより一層確実に反射させることができるので、第１の反射部５ｂから偏光Ｓ１が出射され難い。そのため、光の利用効率をより一層効果的に高めることができる。
【００４２】
さらに、第２の側面６の第１の出射部６ａの領域には、第２の反射防止膜１４が設けられていることが好ましい。第２の反射防止膜１４が設けられている場合、偏光Ｓ１が第２の側面６において反射され難いので、光の利用効率をより一層高めることができる。もっとも、この場合においても、一部の偏光Ｓ１は、第１の反射戻り光Ｂ１として反射される。しかしながら、本実施形態においては、角度θ１〜θ３が上記範囲内にあるため、第１の反射戻り光Ｂ１の影響を低減することができ、光源の出力変動が生じ難い。
【００４３】
また、第５の側面１０の第２の出射部１０ａの領域においても、第３の反射防止膜１５が設けられていることが好ましい。第３の反射防止膜１５が設けられている場合、偏光Ｐ１が、第５の側面１０において反射され難いので、光の利用効率をより一層高めることができる。もっとも、この場合においても、一部の偏光Ｐ１は、第２の反射戻り光Ｃ１として反射される。しかしながら、本実施形態においては、角度θ１〜θ３が上記範囲内にあるため、第２の反射戻り光Ｃ１の影響を低減することができ、光源の出力変動が生じ難い。なお、本発明において、第１〜第３の反射防止膜は、設けられていなくてもよい。
【００４４】
図４は、本発明の第１の実施形態に係る偏光ビームスプリッタの変形例を示す模式的平面図である。図４に示すように、変形例においては、第２のプリズム８の第４の側面９に、第４の反射防止膜１６が設けられている。第４の反射防止膜１６は、第１の反射防止膜１３と対応するように構成されている。その他の点は、第１の実施形態と同様である。
【００４５】
第４の反射防止膜１６が設けられている場合、偏光ビームスプリッタの第１のプリズム２側の部分と第２のプリズム８側の部分とを同様の構成とすることができる。そのため、偏光ビームスプリッタをより一層容易に製造することができる。また、第２のプリズム８の第４の側面９に設けた第４の反射防止膜１６の方向から光を入射しても光の利用効率を高めた状態で偏光分離が可能である。
【００４６】
（第２の実施形態）
図５は、本発明の第２の実施形態に係る偏光ビームスプリッタの模式的平面図である。
【００４７】
図５に示すように、偏光ビームスプリッタ２１は、第３のプリズム２２をさらに備える。第３のプリズム２２は、第１のプリズム２の第１の側面５上に設けられた入射部としてのプリズムである。
【００４８】
第３のプリズム２２は、第７〜第９の側面２３〜２５を有する。第７の側面２３は、入射面であり、第８の側面２４は反射面である。また、第９の側面２５は、第１のプリズム２の第１の側面５に接合されている。
【００４９】
第３のプリズム２２の平面形状は、三角形である。また、第３のプリズム２２における上記三角形の各辺の長さは、第１，第２のプリズム２，８が貼り合わされてなるプリズムにおける上記三角形の各辺の長さより短い。もっとも、第３のプリズム２２における上記三角形の各辺の長さは、第１，第２のプリズム２，８が貼り合わされてなるプリズムにおける上記三角形の各辺の長さと同じであってもよく、長くてもよい。
【００５０】
第１のプリズム２と第３のプリズム２２とは、接着剤により接合されている。上記接着剤の屈折率は、第１，第３のプリズム２，２２の屈折率とほぼ同じである。もっとも、上記接着剤の屈折率は、本発明の作用効果が奏される範囲において、第１，第３のプリズム２，２２の屈折率と異なっていてもよい。
【００５１】
本実施形態では、第１の反射防止膜１３が、第３のプリズム２２の第７の側面２３上に設けられている。なお、第１の反射防止膜１３は、第１の側面５上に設けられていない。
【００５２】
また、本実施形態では、入射光Ａ２が、第７の側面２３を通って、第３のプリズム２２内に入射する。第３のプリズム２２内に入射した入射光Ａ２は、第８の側面２４で反射され、第９の側面２５から出射されるとともに、第１の側面５から第１のプリズム２内に入射する。第１のプリズム２内に入射された入射光Ａ２は、第１の実施形態と同様に偏光分離膜１２で偏光分離され、分離された偏光Ｓ２及び偏光Ｐ２が、第２の側面６及び第５の側面１０からそれぞれ出射される。なお、偏光Ｓ２及び偏光Ｐ２の一部は、第１の反射戻り光Ｂ２及び第２の反射戻り光Ｃ２として反射される。本実施形態では、入射面である第７の側面２３と、出射面である第２の側面６及び第５の側面１０とがほぼ同じ方向に配置されるため、偏光ビームスプリッタ２１の設計がより一層容易になる。その他の点は、第１の実施形態と同様である。
【００５３】
第２の実施形態においても、第１の側面５と第２の側面６とのなす角度θ１が、６０度以上であり、第１の側面５と第３の側面７とのなす角度θ２が、３０度以上であり、第２の側面６と第３の側面７とのなす角度θ３が、９０度未満である。そのため、第１の反射戻り光Ｂ２が、入射光Ａ２や偏光Ｓ２と同じ光路を辿らない。従って、第１の反射戻り光Ｂ２の影響を低減することができ、光源の出力変動が生じ難い。同様に、第２の反射戻り光Ｃ２の影響も低減することができ、光源の出力変動が生じ難い。
【符号の説明】
【００５４】
１，２１…偏光ビームスプリッタ
２…第１のプリズム
３…上面
３ａ〜３ｃ…第１〜第３の辺
４…下面
５〜７…第１〜第３の側面
５ａ…入射部
５ｂ…第１の反射部
６ａ…第１の出射部
８…第２のプリズム
９〜１１…第４〜第６の側面
９ａ…第２の反射部
１０ａ…第２の出射部
１２…偏光分離膜
１３〜１６…第１〜第４の反射防止膜
２２…第３のプリズム
２３〜２５…第７〜第９の側面
Ａ１，Ａ２…入射光
Ｐ１，Ｐ２，Ｓ１，Ｓ２…偏光
Ｂ１，Ｂ２…第１の反射戻り光
Ｃ１，Ｃ２…第２の反射戻り光
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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