(57)【要約】【課題】蒸着に使用するマスク、あるいは基板などを効率よく洗浄するための洗浄方法、洗浄装置、および洗浄システムを提供することを課題の一つとする。【解決手段】長辺と短辺を有する洗浄ヘッドの下にマスクを設け、洗浄ヘッドからマスク上に溶媒を射出することを含み、溶媒が射出される間、マスクと前記洗浄ヘッドの少なくとも一方を、他方に対して相対的に動かす、マスク洗浄方法が提供される。また、マスクを保持する保持機構と、保持機構上に設けられ、溶媒を保持機構上へ射出できるように構成される洗浄ヘッドと、保持機構と洗浄ヘッドの少なくとも一方を移動させる移動機構を有するマスク洗浄装置が提供される。【選択図】図１
2017170313.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長辺と短辺を有する洗浄ヘッドの下にマスクを設け、
前記洗浄ヘッドから前記マスク上に溶媒を射出することを含み、
前記溶媒が射出される間、前記マスクと前記洗浄ヘッドの少なくとも一方を、他方に対して相対的に移動させるマスク洗浄方法。
【請求項２】
前記マスクと前記洗浄ヘッドの少なくとも一方を、他方に対して相対的に移動させる方向は、前記短辺に平行な方向である、請求項１に記載のマスク洗浄方法。
【請求項３】
前記マスクを動かしながら前記溶媒を射出する、請求項１に記載のマスク洗浄方法。
【請求項４】
前記洗浄ヘッドを動かしながら前記溶媒を射出する、請求項１に記載のマスク洗浄方法。
【請求項５】
複数の開口部を有する支持体上に前記マスクが固定される、請求項１に記載のマスク洗浄方法。
【請求項６】
前記洗浄ヘッドは複数の開口部を有し、前記溶媒は前記開口部を通して射出される、請求項１に記載のマスク洗浄方法。
【請求項７】
前記前記溶媒に超音波を印加することを含む、請求項６に記載のマスク洗浄方法。
【請求項８】
前記複数の開口部はそれぞれノズルを有し、
前記複数の開口部のうちの少なくとも二つの開口部において、前記マスクの表面に対するノズルの角度が互いに異なる、請求項６に記載のマスク洗浄方法。
【請求項９】
前記洗浄ヘッドから射出された前記溶媒を回収し、
前記溶媒を精製し、
精製された前記溶媒を前記洗浄ヘッドから前記マスクへ射出することをさらに含む、請求項１に記載のマスク洗浄方法。
【請求項１０】
活性炭、珪藻土、シリカゲル、アルミナ、ケイ酸マグネシウム、ゼオライトから選択される材料を含む層を通して前記溶媒が精製される、請求項９に記載のマスク洗浄方法。
【請求項１１】
マスクを保持する保持機構と、
前記保持機構上に設けられ、溶媒を前記保持機構上へ射出できるように構成される洗浄ヘッドと、
前記保持機構と前記洗浄ヘッドの少なくとも一方を移動させる移動機構を有するマスク洗浄装置。
【請求項１２】
前記移動機構は、前記溶媒が射出される間、前記マスクを移動するように構成される、請求項１１に記載のマスク洗浄装置。
【請求項１３】
前記移動機構は、前記溶媒が射出される間、前記洗浄ヘッドを移動するように構成される、請求項１１に記載のマスク洗浄装置。
【請求項１４】
前記洗浄ヘッドは、前記溶媒を射出する複数の開口部を有する、請求項１１に記載のマスク洗浄装置。
【請求項１５】
前記複数の開口部は、前記溶媒に超音波を印加するように構成される、請求項１４に記載のマスク洗浄装置。
【請求項１６】
前記複数の開口部はそれぞれノズルを有し、
前記複数の開口部のうちの少なくとも二つの開口部において、前記マスクの表面に対するノズルの角度が互いに異なる、請求項１４に記載のマスク洗浄装置。
【請求項１７】
前記洗浄ヘッドから射出された前記溶媒を精製し、精製された前記溶媒を再度前記洗浄ヘッドへ輸送する精製装置をさらに有する、請求項１４に記載のマスク洗浄装置。
【請求項１８】
前記精製装置は、活性炭、珪藻土、シリカゲル、アルミナ、ケイ酸マグネシウム、ゼオライトから選択される材料が充填されるように構成される精製ユニットを有する、請求項１７に記載のマスク洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はマスクや基板の洗浄方法ならびに洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置の代表例として有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置が知られている。有機ＥＬ表示装置は基板上に複数の発光素子を有しており、発光素子は下部電極（画素電極）と上部電極、およびその間に挟持された有機化合物を含む層（以下、ＥＬ層）を有している。ＥＬ層は主に蒸着法などの乾式成膜法、あるいはインクジェット法やスピンコート法などの湿式成膜法によって形成される。蒸着法では、有機化合物が充填された蒸着源を加熱して有機化合物を気化させ、蒸着源の上に設置される画素電極に気化した有機化合物を付着、固化させることでＥＬ層が形成される。この時、画素電極とその周辺に選択的に有機化合物を堆積させるため、マスクが使用される。
【０００３】
マスクは複数の開口部を有する薄い金属板であり、このためメタルマスクとも呼ばれる。マスクは基板付近、あるいは基板に接して設置され、開口部を通過した有機化合物の蒸気が画素電極上に堆積される。このため蒸着時には、開口部以外の場所、例えばマスクの上面や開口部の側面に有機化合物が付着する。このような付着物を放置して蒸着を続けると、付着物が画素電極上に付着したり、蒸着チャンバーを汚染するなどの悪影響を及ぼす。このため、マスクに付着した有機化合物を適時洗浄によって除去し、洗浄されたマスクは再度蒸着に使用される。特許文献１にはマスクを洗浄するための方法が開示されており、ここでは洗浄液である溶媒を含む洗浄槽を複数設け、その中にマスクを投入して洗浄する方法が示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−７１０６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、蒸着に使用するマスク、あるいは基板などを効率よく洗浄するための洗浄方法、洗浄装置、および洗浄システムを提供することを課題の一つとする。あるいは、洗浄に用いる溶媒を回収、精製、再利用するための方法と装置を提供することを課題の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の実施形態の一つはマスク洗浄方法である。マスク洗浄方法は、長辺と短辺を有する洗浄ヘッドの下にマスクを設け、洗浄ヘッドからマスク上に溶媒を射出することを含む。溶媒が射出される間、マスクと前記洗浄ヘッドの少なくとも一方を、他方に対して相対的に動かす。
【０００７】
本発明の実施形態の一つはマスク洗浄装置である。マスク洗浄装置は、マスクを保持する保持機構と、保持機構上に設けられ、溶媒を保持機構上へ射出できるように構成される洗浄ヘッドと、保持機構と洗浄ヘッドの少なくとも一方を移動させる移動機構を有する。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の実施形態の一つである洗浄システムの側面模式図。
【図２】本発明の実施形態の一つである洗浄システムの上面模式図。
【図３】本発明の実施形態の一つである洗浄装置の洗浄ヘッドの図。
【図４】本発明の実施形態の一つである洗浄装置の洗浄ヘッドの断面模式図。
【図５】本発明の実施形態の一つである洗浄装置の洗浄ヘッドの図。
【図６】本発明の実施形態の一つである洗浄装置の保持機構の図。
【図７】本発明の実施形態の一つである洗浄装置の保持機構の図。
【図８】本発明の実施形態の一つである洗浄装置の保持機構の図。
【図９】本発明の実施形態の一つである洗浄方法を示す図。
【図１０】本発明の実施形態の一つである洗浄方法を示す図。
【図１１】本発明の実施形態の一つである精製装置を示す図。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の各実施形態について、図面等を参照しつつ説明する。但し、本発明は、その要旨を逸脱しない範囲において様々な態様で実施することができ、以下に例示する実施形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。
【００１０】
図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。本明細書と各図において、既出の図に関して説明したものと同様の機能を備えた要素には、同一の符号を付して、重複する説明を省略することがある。
【００１１】
本明細書および特許請求の範囲において、ある構造体の上に他の構造体を配置する態様を表現するにあたり、単に「上に」と表記する場合、特に断りの無い限りは、ある構造体に接するように、直上に他の構造体を配置する場合と、ある構造体の上方に、さらに別の構造体を介して他の構造体を配置する場合との両方を含むものとする。
【００１２】
（第１実施形態）
本実施形態では、本発明の実施形態の一つに係るマスク洗浄システムとそれに含まれるマスク洗浄装置に関し、図１乃至図８を用いて説明する。
【００１３】
［１．洗浄システム］
本実施形態に係るマスク洗浄装置（以下、洗浄装置）２００、およびそれを含むマスク洗浄システム（以下、洗浄システム）１００の側面模式図と上面模式図をそれぞれ図１と図２に示す。洗浄システム１００は洗浄装置２００、および任意の構成として精製装置３００とマスクストッカー４００を備えている。図１に示す洗浄システム１００はチャンバー１０２を有し、その内部はシャッター１０４、１０６で仕切られ、一つの部屋に洗浄装置２００と精製装置３００が、他の部屋にマスクストッカー４００が備えられている。ただし本実施形態の洗浄システム１００はこのような形態に限られず、チャンバー１０２を備えていなくてもよい。また、チャンバー１０２の内部を仕切らなくてもよい。
【００１４】
図示しないが、フィルタによって空気中の浮遊微粒子や微生物が排除された空気をチャンバー１０２内に送り、外部よりも高い気圧を保つように構成することができる。これによりチャンバー１０２内部に所謂クリーンルームの環境を提供することができる。チャンバー内をこのような環境にすることにより、洗浄後のマスクに微粒子などが付着することを防ぐことができる。
【００１５】
［２．洗浄装置］
図１、２に示すように、洗浄装置２００はマスク４０２を搬送、移動するための機構である搬送機構２０２を有している。搬送機構２０２はボディー２０４とアーム２０６を有している。ボディー２０４はアーム２０６を上下に移動させ、かつ平面内で回転することができる。アーム２０６は水平面で自由にマスクを移動させるために備えられる。例えば図１、２に示す搬送機構２０２は複数のアーム２０６が備えられ、一つのアーム２０６が隣接するアーム２０６内に収納できるようになっている。このため、複数のアーム２０６の伸縮、ならびにボディー２０４の水平面内での回転と上下方向の移動を組み合わせることにより、マスク４０２をチャンバー１０２内で任意に動かすことができる。
【００１６】
アーム２０６の先端にはマスク４０２を保持するための保持機構２０８が備えられている。後述するように、保持機構２０８はマスク４０２の端部を挟持する、あるいは支持してマスク４０２を保持する。
【００１７】
洗浄装置２００はさらに洗浄ヘッド２１２と、洗浄ヘッド２１２の下に備えられるシンク２１４を有している。洗浄ヘッド２１２は、これを移動させる機構であるレール２１０に接続され、レール２１０に沿ってシンク２１４の上を移動させることができる。図示しないが、洗浄ヘッド２１２はレール２１０に対して垂直な方向に移動できるように構成してもよい。洗浄ヘッド２１２の移動機構は図１に示すようなレール２１０に限られず、例えば搬送機構２０２のように、アームとそれを回転、移動させる機構が設けられた搬送装置を採用してもよい。
【００１８】
図１、２では洗浄装置２００は一つの搬送機構２０２と洗浄ヘッド２１２を備えるように描かれているが、本実施形態の洗浄装置２００はこのような形態に限られず、複数の搬送機構、複数の洗浄ヘッドを備えることも可能である。
【００１９】
シンク２１４は、洗浄ヘッド２１２から射出され、マスク４０２を洗浄した溶媒を受ける。シンク２１４には溶媒を排出するための第１の配管２１６が接続される。第１の配管２１６は精製装置３００と接続される。洗浄システム１００に精製装置３００を設けない場合、第１の配管２１６は図示しない廃液タンクなどへ接続してもよい。
【００２０】
洗浄ヘッド２１２には第２の配管２１８を通して溶媒が供給される。本実施形態では第２の配管２１８は精製装置３００に接続されるが、精製装置３００を設けない場合は溶媒を含むタンクなどに接続してもよい。
【００２１】
［２−１．洗浄ヘッド］
図３（Ａ）、（Ｂ）に洗浄ヘッド２１２の一例を示す。洗浄ヘッド２１２は長辺と短辺を有している。好ましくは長辺の長さがマスク４０２の長辺と略同じである。洗浄ヘッド２１２の底面には複数の開口部２３０が設けられる。溶媒は例えば図３（Ａ）の矢印で示すように洗浄ヘッド２１２の上から供給され、開口部２３０を通して射出される。
【００２２】
図４（Ａ）に示すように、各開口部２３０にノズル２３２を設けてもよい。これにより、溶媒の射出方向を制御することができる。溶媒は開口部２３０を通してマスク４０２、ならびにマスク４０２を保持する保持機構２０８上に射出され、溶媒がマスク４０２上の付着物を溶かす、あるいは洗い流すことによって付着物が除去される。溶媒を射出する際に溶媒に掛ける圧力はポンプなどで調整することができる。
【００２３】
開口部２３０に設けられるノズル２３２は、図４（Ａ）に示すようにすべてが同一の方向である必要は無い。例えば図４（Ｂ）に示すように、複数の開口部２３０のうちの少なくとも二つのノズル間でその方向が互いに異なっていてもよい。このようにノズル２３２を構成することにより、マスク４０２の上面４０４だけでなく、開口部４０６の側面も効率よく洗浄することができる。
【００２４】
あるいは図５（Ａ）の側面模式図、図５（Ｂ）の底面模式図に示すように、洗浄ヘッド２１２の開口部２３０に超音波ヘッド２４０を設けてもよい。超音波ヘッド２４０は筐体２４２を有しており（図５（Ｃ））、その内部に振動子２４４、振動板２４６、溶媒供給管２５０、ノズル２５２を有している。振動子２４４にはジリコニウム酸―チタン酸鉛（ＰＺＴ）やチタン酸鉛などの圧電セラミックスを含む圧電素子を利用することができる。振動子２４４は高周波電源２４８と電気的に接続される。振動子２４４で発振する超音波は振動板２４６に伝えられる。溶媒供給管２５０から溶媒がノズル２５２の内部に供給され、振動板２４６を介して溶媒に超音波が印加される。このように洗浄ヘッド２１２を構成することで、超音波が印加された溶媒でマスク４０２を洗浄することができ、より効率的にマスク４０２を洗浄することができる。
【００２５】
［２−２．保持機構］
保持機構２０８はマスク４０２を保持する機構である。例えば図６（Ａ）に示すように、保持機構２０８はコネクタ２６０、ヒンジ２６２、二つのホルダーアーム２６４、２６６、プロテクタ２６８などを有している。保持機構２０８はコネクタ２６０を介して搬送機構２０２のアーム２０６と接続される。二つのホルダーアーム２６４、２６６はヒンジ２６２を介して接続され、ヒンジ２６２の回転軸を中心として回転する。二つのホルダーアーム２６４、２６６間の角度をヒンジ２６２内に設けられるモータ（図示せず）などによって変えることでマスク４０２の保持、解放が可能となる。
【００２６】
ホルダーアーム２６４、２６６には、互いに対向する側にプロテクタ２６８を備えることができる。プロテクタ２６８は例えば天然ゴム、シリコンゴムなどを含有することができ、ホルダーアーム２６４、２６６に挟持されるマスク４０２を保護することができる。好ましくは溶媒に対する耐性が比較的高いシリコンゴムをプロテクタ２６８に採用する。
【００２７】
図６（Ｂ）に、保持機構２０８によってマスク４０２が挟持された状態における鎖線Ａ−Ｂに沿った断面模式図を示す。マスク４０２の開口部４０６が設けられない端部をホルダーアーム２６４、２６６で挟むように、マスク４０２を保持することが好ましい。図６（Ｂ）に示すように、プロテクタ２６８を使用することでホルダーアーム２６４、２６６とマスク４０２との直接の接触を避けることができる。
【００２８】
保持機構２０８にはさらに、マスク４０２のたわみを防ぐための支持体２７０が備えられていてもよい（図７（Ａ））。図７（Ａ）では支持体２７０は一方のホルダーアーム２６６に設けられているが、両方のホルダーアーム２６４、２６６に設けられていてもよい。
【００２９】
支持体２７０はマスク４０２に射出される溶媒を排出するための複数の開口部を有している。図７（Ｂ）にマスク４０２が保持された状態における鎖線Ｃ−Ｄに沿った断面模式図を示す。マスク４０２は通常薄い金属を加工して作製されるため、端部のみを挟持した場合、中央部分がたわみやすい。このたわみが回復しないとマスク４０２が変形し、精密な蒸着が不可能となる。これに対し、支持体２７０を設けることでたわみを防止することができ、精密な蒸着を行うことができる。図７（Ｂ）に示すように、支持体２７０の上面とホルダーアーム２６４、２６６の上面が同一平面上に存在するように、支持体２７０を設けてもよい。これにより、マスク４０２のたわみをより効果的に防止することができる。
【００３０】
保持機構２０８は図６（Ａ）、図７（Ａ）に示したように、マスク４０２を挟持する構成に限られない。例えば図８（Ａ）に示すように、開口部２８２を有するマスクホルダ２８０を保持機構２０８の一部として用いてもよい。マスクホルダ２８０はコネクタ２６０を介して搬送機構２０２のアーム２０６と接続される。開口部２８２は、マスクホルダ２８０の上面ではマスク４０２よりも大きく、下面ではマスク４０２よりも小さい。これにより、マスク４０２を開口部２８２で支持することができる。このようなマスクホルダ２８０を用いることで、図７（Ａ）で示したような保持機構２０８と比較し、マスク４０２の端部の損傷を防ぐことができる。また、マスク４０２をマスクホルダ２８０に収納した状態で搬送することができるので、洗浄プロセスの速度を向上させることができる。
【００３１】
図８（Ｂ）に示すように、マスクホルダ２８０にはマスク４０２のたわみを防ぐための支持体２８４を設けてもよい。支持体２８４には複数の開口部２８６が設けられ、この開口部２８６からマスク４０２に射出される溶媒を排出することができる。
【００３２】
（第２実施形態）
本実施形態では、第１実施形態で説明した洗浄装置２００を用いてマスク４０２を洗浄する方法を図９、１０を用いて説明する。第１実施形態で述べた構成に関しては記述を省略することがある。
【００３３】
図９に示すように、マスク４０２が保持機構２０８によって保持され、図１、２で示した搬送機構２０２によってシンク２１４とレール２１０の間に置かれる。洗浄ヘッド２１２から溶媒を射出し、洗浄が行われる。この状態で保持機構２０８と洗浄ヘッド２１２を相対的に移動してもよい。相対的に動かす方向としては、例えば洗浄ヘッド２１２の短辺に平行な方向である。例えば搬送機構２０２を用いて保持機構２０８を矢印２９０の方向に動かし、保持機構２０８と洗浄ヘッド２１２を相対的に移動すればよい。この時、洗浄ヘッド２１２は固定していてもよく、あるいは矢印２９２の方向に移動してもよい。あるいは矢印２９２と逆の方向に、かつ保持機構２０８とは異なる速度で移動してもよい。
【００３４】
保持機構２０８の移動は一方向に限られず、レール２１０に沿って一回あるいは複数回往復するように行ってもよい。同様に洗浄ヘッド２１２の移動も一方向に限られず、レール２１０に沿って一回あるいは複数回往復運動を行ってもよい。
【００３５】
図９（Ｂ）に洗浄ヘッド２１２と保持機構２０８が重なった時の、鎖線Ｅ−Ｆに沿った側面模式図を示す。保持機構２０８で保持されたマスク４０２の上に位置する洗浄ヘッド２１２のノズル２３２から溶媒が射出され、マスク４０２上の付着物が溶媒に溶ける、あるいは洗い流されることによってマスク４０２が洗浄される。
【００３６】
溶媒としては種々の溶媒を用いることができる。例えばエタノールなどのアルコール系溶媒、トルエンやキシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、塩化メチレンやジクロロエタン、あるいは代価フロンなどのハロゲン系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドやＮ−メチルピロリドンなどのアミド系溶媒、テトラヒドロフランや１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル系溶媒、アセトンやメチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、あるいは水などを用いることができる。また、これらの溶媒を含む混合溶媒でもよい。また、洗浄中に溶媒の種類を変えてもよい。
【００３７】
洗浄ヘッド２１２を複数設け、異なる種類の溶媒を用いて洗浄を行ってもよい。例えば発光素子で汎用される有機化合物の良溶媒である芳香族炭化水素系溶媒を第１の溶媒として洗浄ヘッド２１２から射出してマスク４０２を洗浄した後、エタノールなど、芳香族炭化水素系溶媒と均一に混合し、かつ沸点の低い第２の溶媒を異なる洗浄ヘッド２１２から射出してマスク４０２上に残存する第１の溶媒を第２の溶媒で置換してもよい。これにより、マスク４０２を速やかに乾燥することができる。
【００３８】
図１０（Ａ）は保持機構２０８を固定し、洗浄ヘッド２１２をレール２１０に沿って（すなわち、洗浄ヘッド２１２の短辺に平行な方向に）移動させながら洗浄を行う工程を示した模式図である。ここではマスク４０２は、その長辺が洗浄ヘッド２１２の移動方向（図中矢印の方向）に平行になるように設置されているが、長辺が洗浄ヘッド２１２の長辺に平行になるように設置してもよい。保持機構２０８の位置を固定して洗浄ヘッド２１２を移動させながら洗浄を行う場合、シンク２１４の大きさを小さくすることができる。このため、洗浄装置２００やそれを含む洗浄システム１００を小型化することが可能である。
【００３９】
図１０（Ｂ）に示すように、マスク４０２を洗浄する際、マスク４０２の上面は水平面と平行である必要は無く、マスク４０２を水平面から傾けて洗浄を行ってもよい。この時、洗浄ヘッド２１２は水平面に平行に移動してもよく、図１０（Ｃ）に示すようにマスク４０２の上面に平行な方向に移動してもよい。
【００４０】
洗浄時、シンク２１４の底面は水平面と平行である必要は無く、水平面から傾いていてもよい。例えば図１０（Ｃ）に示すように、第１の配管２１６が接続された部分が低くなるように、シンク２１４の底面を水平面から傾けて洗浄を行ってもよい。この時、マスク４０２は水平面から傾いていてもよく、水平面に平行でもよい。また、洗浄中保持機構２０８を固定してもよく、移動させてもよい。
【００４１】
なお上述した洗浄方法において、マスク４０２の一方の面に対して溶媒を射出した後、マスク４０２の上下を入れ替え、マスク４０２の他方の面に対して溶媒を射出してもよい。
【００４２】
上述したように、マスク４０２を洗浄する一つの方法は所謂バッチ式の洗浄方法であり、溶媒を含む洗浄槽を複数設け、その中にマスク４０２が順次投入される。この場合、マスク４０２を完全に溶媒内に浸す必要があり、大量の溶媒を必要とする。これに対し、本実施形態で述べたように、溶媒をマスク４０２の上からマスク４０２に向けて射出して洗浄を行うことで、洗浄層が不要となり、かつ、洗浄層に投入される溶媒の量を減らすことが可能となる。また、バッチ式の洗浄方法では、マスク４０２上の付着物が溶媒に溶けない場合、洗浄槽中に付着物が浮遊し、マスク４０２を洗浄槽から引き上げる際に再付着しやすい。これに対して第１実施形態と本実施形態で述べた洗浄装置２００、洗浄方法を適用する場合、洗浄槽に浮遊する付着物が再度マスク４０２に付着することがない。したがって、より効果的な洗浄を行うことができる。
【００４３】
なお、本実施形態では蒸着で用いるマスクの洗浄を一例として記述したが、洗浄対象はマスクに限られず、ガラス基板やシリコン基板などに対しても適用可能である。
【００４４】
（第３実施形態）
上述したように、洗浄システム１００は任意の構成としてマスクストッカー４００や精製装置３００を備えることができる。本実施形態ではこれらについて図１、２、１１を用いて説明する。
【００４５】
［１．マスクストッカー］
図１に示すように、マスクストッカー４００は複数のマスク４０２を格納することができる。格納されるマスク４０２は洗浄前のものでもよく、洗浄後のものでもよい。あるいは、マスクストッカー４００を複数設け、片方に洗浄前のマスク４０２を格納し、他方に洗浄後のマスク４０２を格納してもよい。マスク４０２は単独でマスクストッカー４００に格納してもよく、あるいは図８で示したようなマスクホルダ２８０に収納された状態で格納されてもよい。
【００４６】
洗浄前のマスク４０２は、シャッター１０４を開けたのち、各マスク４０２の格納位置に対応するように設置された扉４１０を開け、搬送機構２０２によって取り出される。取り出されたマスク４０２は搬送機構２０２によってシンク２１４の上まで移動される。この後、洗浄ヘッド２１２から溶媒をマスク４０２上に射出し、マスク４０２の洗浄が行われる。洗浄が完了した後、再度搬送機構２０２によってマスクストッカー４００、あるいは異なるマスクストッカー４００へ搬送される。
【００４７】
マスクストッカー４００や搬送機構２０２を用いてマスク４０２を保管、搬送する場合、これらを制御する制御装置を適宜備えることによってマスク４０２の洗浄を自動化することができる。また図１、２に示すように、マスクストッカー４００をクリーンルーム環境に調整されるチャンバー１０２内に設置することにより、微粒子や微生物が排除された環境下でマスク４０２を洗浄することができ、かつ、この環境下でマスク４０２を保管することができる。
【００４８】
［２．精製装置］
精製装置３００はその内部にバルブ３０２、３０４、３０６、３０８、３１０、３１２、３１４、３１６、３１８、３２０、ポンプ３２４、３２６、溶媒タンク３４０、３４２、３４４、および精製ユニット３３２、３３４を含む精製システム３３０などを含むことができる（図１１（Ａ））。なお、溶媒タンク３４０、３４２、３４４は精製装置３００から独立した構成にすることもできる。
【００４９】
洗浄ヘッド２１２からマスク４０２上に射出され、マスク４０２上の付着物を含む溶媒（以下、汚染溶媒）は、ポンプ３２４によって、第１の配管２１６、バルブ３０４を経由して精製システム３３０へ輸送される。なお汚染溶媒を精製しない場合には、バルブ３０４を閉じ、バルブ３０２を開けて第３の配管２２０を通して廃液タンクなどへ導入すればよい。
【００５０】
汚染溶媒を精製する場合、バルブ３０４を開け、バルブ３０２を閉じ、ポンプ３２４で汚染溶媒を精製システム３３０へ輸送する。図１１で示す精製システム３３０は二つの精製ユニット３３２、３３４を有しているが、本実施形態はこの形態に限られず、一つ、あるいは三つ以上の精製ユニットを有していてもよい。
【００５１】
汚染溶媒の精製は、汚染溶媒を精製ユニット３３２、３３４に通すことによって行われる。例えばバルブ３０６、３１２を開け、バルブ３０８、３１０を閉じ、汚染溶媒を精製ユニット３３２に導入する。精製された汚染溶媒（以下、回収溶媒）はポンプ３２６によって汲み上げられ、バルブ３１４を通して第２の配管２１８へ輸送され、再びマスク４０２の洗浄に用いられる。なおポンプ３２６は、マスク４０２に対して溶媒を射出する時に溶媒に掛かる圧力を調整するように構成されてもよい。
【００５２】
精製ユニット３３２では、汚染溶媒に含まれる物質が吸着される。吸着された物質が精製ユニット３３２に蓄積されて精製能力が低下した場合、例えばバルブ３０６、３１２を閉じ、逆にバルブ３０８、３１０を開けて汚染溶媒を精製ユニット３３４に導入する。そして精製ユニット３３２を取り外し、新たな精製ユニットを設置すればよい。このように複数の精製ユニット３３２を設置することで、連続的に汚染溶媒を精製、回収、再利用することができる。
【００５３】
溶媒タンク３４０、３４２、３４４には、マスク４０２の洗浄に使用されたことがない溶媒が充填される。したがって、汚染溶媒が無い場合、あるいは汚染溶媒を再利用しない場合にはバルブ３１６、３１８、３２０を適宜開閉し、溶媒を溶媒タンク３４０、３４２、３４４から第２の配管２１８へ輸送することができる。汚染溶媒の回収量が少なく、十分な回収溶媒が確保できない場合、回収溶媒に溶媒タンク３４０、３４２、３４４中の溶媒を混合して第２の配管２１８へ輸送し、マスク４０２の洗浄を行ってもよい。
【００５４】
精製ユニット３３２、３３４の構造の一例を図１１（Ｂ）に示す。精製ユニット３３２、３３４はカラム状の構造を有しており、図中矢印の方向から汚染溶媒を導入することで逆側から回収溶媒が得られる。精製ユニット３３２、３３４の内部は層状の構造を有することができる。図１１（Ｂ）には一つの例として、フィルタ３５０、第１の層３５２、第２の層３５４、第３の層３５６を有している。
【００５５】
フィルタ３５０は汚染溶媒中の不溶物を除去することが主な機能であり、例えばガラス繊維、多孔質ガラス、多孔質セラミック、カーボンファイバーなどの無機多孔質材料、無機繊維質材料を用いることができる。あるいはろ紙、脱脂綿など、有機化合物で形成される多孔質材料、繊維質材料を用いることができる。
【００５６】
第１の層３５２、第２の層３５４、第３の層３５６は汚染溶媒に溶解している物質を化学吸着、あるいは物理吸着によって除去することが主な機能であり、例えば活性炭、珪藻土、シリカゲル、アルミナ、ケイ酸マグネシウム、ゼオライトなど、有機化合物が物理的、化学的に吸着しやすい材料が挙げられる。これらの材料の微粒子を層状に充填することで、第１の層３５２、第２の層３５４、第３の層３５６を形成することができる。
【００５７】
バッチ式の洗浄方法では、汚染溶媒は間欠的に発生する。換言すると、限られた時間に大量の汚染溶媒が発生する。したがって、バッチ式の洗浄方法に本実施形態の精製装置３００を適用した場合、汚染溶媒の精製は必ずしも効率的にできるとは限らない。これに対して第１、第２実施形態で述べた洗浄システム、洗浄方法に本実施形態で述べた精製装置３００を適用することで、溶媒を連続的に回収、精製、再利用することができるため、汚染溶媒を効率的に精製できるだけでなく、溶媒の使用量を大幅に低減することができる。
【００５８】
本発明の実施形態として上述した各実施形態は、相互に矛盾しない限りにおいて、適宜組み合わせて実施することができる。また、各実施形態の洗浄システム、洗浄装置、あるいは洗浄方法を基にして、当業者が適宜構成要素の追加、削除もしくは設計変更を行ったもの、又は、工程の追加、省略もしくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。
【００５９】
上述したように、本明細書においては、開示例として主に発光素子を蒸着によって形成する際に使用するマスクを洗浄する場合を例示したが、他の適用例として、ガラス基板やシリコン基板などの各種基板、あるいは印刷スクリーンやスパッタ法によって薄膜を形成する時に使用するマスクなどにも適用可能である。
【００６０】
上述した各実施形態の態様によりもたらされる作用効果とは異なる他の作用効果であっても、本明細書の記載から明らかなもの、又は、当業者において容易に予測し得るものについては、当然に本発明によりもたらされるものと解される。
【符号の説明】
【００６１】
１００：洗浄システム、１０２：チャンバー、１０４：シャッター、１０６：シャッター、２００：洗浄装置、２０２：搬送機構、２０４：ボディー、２０６：アーム、２０８：保持機構、２１０：レール、２１２：洗浄ヘッド、２１４：シンク、２１６：第１の配管、２１８：第２の配管、２２０：第３の配管、２３０：開口部、２３２：ノズル、２４０：超音波ヘッド、２４２：筐体、２４４：振動子、２４６：振動板、２４８：高周波電源、２５０：溶媒供給管、２５２：ノズル、２６０：コネクタ、２６２：ヒンジ、２６４：ホルダーアーム、２６６：ホルダーアーム、２６８：プロテクタ、２７０：支持体、２８０：マスクホルダ、２８２：開口部、２８４：支持体、２８６：開口部、２９０：矢印、２９２：矢印、３００：精製装置、３０２：バルブ、３０４：バルブ、３０６：バルブ、３０８：バルブ、３１０：バルブ、３１２：バルブ、３１４：バルブ、３１６：バルブ、３１８：バルブ、３２０：バルブ、３２４：ポンプ、３２６：ポンプ、３３０：精製システム、３３２：精製ユニット、３３４：精製ユニット、３４０：溶媒タンク、３４２：溶媒タンク、３４４：溶媒タンク、３５０：フィルタ、３５２：第１の層、３５４：第２の層、３５６：第３の層、４００：マスクストッカー、４０２：マスク、４０４：上面、４０６：開口部、４１０：扉
【図１】
2017170313.tif 000003
【図２】
2017170313.tif 000004
【図３】
2017170313.tif 000005
【図４】
2017170313.tif 000006
【図５】
2017170313.tif 000007
【図６】
2017170313.tif 000008
【図７】
2017170313.tif 000009
【図８】
2017170313.tif 000010
【図９】
2017170313.tif 000011
【図１０】
2017170313.tif 000012
【図１１】
2017170313.tif 000013