(57)【要約】【課題】基材の両主面に対する塗布液の供給と乾燥とを効率よく実行して良好な液膜を形成可能な技術を提供する。【解決手段】回転体の外周に生じる気体層によって、回転体と基材上の液膜とが非接触な状態で基材が保持される。これにより、基材の両主面に塗布液の液膜を形成した後で両主面上の液膜を一括して乾燥させることができ、基材の両主面に対する塗布液の塗布と乾燥とを効率よく実行して良好な液膜を形成できる。【選択図】図５
2017170382.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１主面に第１塗布液が供給された基材を搬送経路に沿って搬送する搬送部と、
前記搬送部によって搬送される前記基材の第２主面に第２塗布液を供給する供給部と、
前記搬送経路を挟んで前記供給部とは反対側に配され、前記第１主面に沿って回転可能であり、外周面が前記搬送経路に近接している近接領域を有する回転体と、
前記回転体の周速の絶対値が、前記供給部と前記回転体との間における前記基材の搬送速度の絶対値よりも大きくなるように、前記回転体を回転させる駆動部と、
を備える、基材処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基材処理装置であって、
前記回転体が回転している際に前記外周面上に形成される気体層が、前記搬送経路を搬送される前記基材を前記第１主面側から前記第２主面側に付勢する、基材処理装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の基材処理装置であって、
前記近接領域が前記搬送方向に沿って移動するように、前記駆動部が前記回転体を回転させる、基材処理装置。
【請求項４】
請求項１または請求項２に記載の基材処理装置であって、
前記近接領域が前記搬送方向とは逆方向に沿って移動するように、前記駆動部が前記回転体を回転させる、基材処理装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか１つの請求項に記載の基材処理装置であって、
前記近接領域よりも前記基材の幅方向の両側方に配されており、且つ前記搬送部によって搬送される前記基材の前記幅方向の両端側の部分に対して前記第１主面側から接触する接触部、
をさらに備える、基材処理装置。
【請求項６】
請求項１から請求項４のいずれか１つの請求項に記載の基材処理装置であって、
前記近接領域よりも前記基材の幅方向の両側方に配されており、且つ前記搬送部によって搬送される前記基材の前記幅方向の両端側の部分に対して前記第１主面側から接触する第１接触部と、
前記搬送経路を挟んで前記第１接触部とは反対側に配されており、且つ前記両端側の部分に対して前記第２主面側から接触する第２接触部と、
をさらに備える、基材処理装置。
【請求項７】
請求項６に記載の基材処理装置であって、
前記第２接触部を、前記両端側の部分と接触している接触位置と、前記両端側の部分から離間した離間位置と、の間で移動させる移動部、
をさらに備える、基材処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、搬送される基材の両主面に塗布液を供給する基材処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、リチウム二次電池の製造においては、アルミニウム箔等の基材の一方の主面（以下、第１主面という）に電極液等の塗布液を供給した後、該基材の他方の主面（以下、第２主面という）に電極液等の塗布液を供給する技術が知られている。
【０００３】
この場合、例えば、バックアップロール等で第２主面が保持された状態で、まず、第１主面に塗布液が供給される。そして、第１主面に供給された塗布液に乾燥処理が施される。その後、バックアップロール等で第１主面が保持された状態で、第２主面に塗布液が供給される。最後に、第２主面に供給された塗布液にも乾燥処理が施される。
【０００４】
このように、第１主面の乾燥処理と第２主面の乾燥処理とを別々に行うフローとは異なるフローとして、特許文献１は第１主面の乾燥処理と第２主面の乾燥処理とを一括して行うフローを開示している。このフローでは、両主面の乾燥処理を別々に行うフローに比べてスループットが向上する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第５３２３１０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、このように第１主面の乾燥処理と第２主面の乾燥処理とを一括して行うフローでは、第２主面への塗布液供給時に、第１主面側に基材の保持体（例えば、バックアップロール等）を設けるか否かが問題となる。
【０００７】
例えば、第１主面側に基材の保持体を設けた場合、未乾燥の塗布液を纏う第１主面と保持体とが接触することに起因して、第１主面上の塗布膜が乱れる可能性がある。また、第１主面側に基材の保持体を設けない場合、第２主面側から供給される塗布液の液圧によって基材が波打ち、新たに形成される第２主面上の塗布膜が乱れる可能性がある。
【０００８】
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであって、基材の両主面に対する塗布液の供給と乾燥とを効率よく実行して良好な液膜（塗布膜）を形成可能な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、第１の態様にかかる基材処理装置は、第１主面に第１塗布液が供給された基材を搬送経路に沿って搬送する搬送部と、前記搬送部によって搬送される前記基材の第２主面に第２塗布液を供給する供給部と、前記搬送経路を挟んで前記供給部とは反対側に配され、前記第１主面に沿って回転可能であり、外周面が前記搬送経路に近接している近接領域を有する回転体と、前記回転体の周速の絶対値が、前記供給部と前記回転体との間における前記基材の搬送速度の絶対値よりも大きくなるように、前記回転体を回転させる駆動部と、を備える。
【００１０】
第２の態様にかかる基材処理装置は、第１の態様にかかる基材処理装置であって、前記回転体が回転している際に前記外周面上に形成される気体層が、前記搬送経路を搬送される前記基材を前記第１主面側から前記第２主面側に付勢する。
【００１１】
第３の態様にかかる基材処理装置は、第１または第２の態様にかかる基材処理装置であって、前記近接領域が前記搬送方向に沿って移動するように、前記駆動部が前記回転体を回転させる。
【００１２】
第４の態様にかかる基材処理装置は、第１または第２の態様にかかる基材処理装置であって、前記近接領域が前記搬送方向とは逆方向に沿って移動するように、前記駆動部が前記回転体を回転させる。
【００１３】
第５の態様にかかる基材処理装置は、第１から第４のいずれか１つの態様にかかる基材処理装置であって、前記近接領域よりも前記基材の幅方向の両側方に配されており、且つ前記搬送部によって搬送される前記基材の前記幅方向の両端側の部分に対して前記第１主面側から接触する接触部、をさらに備える。
【００１４】
第６の態様にかかる基材処理装置は、第１から第４のいずれか１つの態様にかかる基材処理装置であって、前記近接領域よりも前記基材の幅方向の両側方に配されており、且つ前記搬送部によって搬送される前記基材の前記幅方向の両端側の部分に対して前記第１主面側から接触する第１接触部と、前記搬送経路を挟んで前記第１接触部とは反対側に配されており、且つ前記両端側の部分に対して前記第２主面側から接触する第２接触部と、をさらに備える。
【００１５】
第７の態様にかかる基材処理装置は、第６の態様にかかる基材処理装置であって、前記第２接触部を、前記両端側の部分と接触している接触位置と、前記両端側の部分から離間した離間位置と、の間で移動させる移動部、をさらに備える。
【発明の効果】
【００１６】
第１から第７のいずれの態様にかかる基材処理装置によっても、回転体の外周に生じる気体層によって、回転体と基材上の液膜とが非接触な状態で基材が保持される。その結果、基材の両主面に対する塗布液の塗布と乾燥とを効率よく実行して良好な液膜を形成できる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】基材処理装置１の全体構成を示す図である。
【図２】基材５に塗布液を供給する様子を示す基材処理装置１の部分拡大図である。
【図３】支持部７０の構成を示す斜視図である。
【図４】処理開始時における支持部７０周辺の様子を示すＹＺ断面図である。
【図５】塗工ノズル１２よる塗工処理中における支持部７０周辺の様子を示すＹＺ断面図である。
【図６】比較例において、塗工ノズル１２よる塗工処理中における支持部７９周辺の様子を示すＹＺ断面図である。
【図７】変形例にかかる支持部７０Ａ周辺の様子を示すＸＺ側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、実施形態について、図面を参照しつつ説明する。図面では同様な構成および機能を有する部分に同じ符号が付され、重複説明が省略される。なお、以下の実施形態は、本発明を具体化した一例であり、本発明の技術的範囲を限定する事例ではない。また、図面においては、各部の寸法や数が誇張または簡略化して図示されている場合がある。また、図面には、方向を説明するためにＸＹＺ直交座標軸が付される場合がある。座標軸における＋Ｚ方向は鉛直上方向であり、ＸＹ平面は水平面である。
【００１９】
＜１  実施形態＞
＜１．１  基材処理装置１の構成＞
図１は、本実施形態に係る基材処理装置１の全体構成を示す図である。
【００２０】
基材処理装置１は、金属箔である基材５の両主面Ｓ１、Ｓ２に塗布液を供給した後に、該塗布液の乾燥処理を行って基材５上に処理膜を形成する。これにより、例えば、リチウムイオン二次電池の電極が製造される。
【００２１】
基材５は、例えば、リチウムイオン二次電池の集電体として機能する材料で構成される。基材処理装置１がリチウムイオン二次電池の正極を製造する場合には、基材５としてアルミニウム箔（Ａｌ）が用いられうる。また、基材処理装置１がリチウムイオン二次電池の負極を製造する場合には、基材５として銅箔（Ｃｕ）が用いられうる。
【００２２】
基材５は、長尺のシート状（長尺帯状）の金属箔であり、その幅および厚さについては特に限定されない。例えば、幅が６００ｍｍ〜７００ｍｍ程度で厚さが１０μｍ〜２０μｍ程度の基材が用いられうる。
【００２３】
基材処理装置１は、主として、基材５を搬送経路に沿って搬送する搬送部８０と、搬送される基材５に塗布液を供給する塗工ノズル１１、１２と、搬送される基材５を支持する支持部７０と、搬送される基材５上の塗布液を乾燥する乾燥部４０と、装置各部を制御する制御部９０と、を備える。
【００２４】
搬送部８０は、基材５を巻き出す巻き出しローラ８８と、基材５を巻き取る巻き取りローラ８９と、を有し、巻き出しローラ８８から巻き取りローラ８９に向けて基材５を搬送する。また、搬送部８０は、巻き出しローラ８８と巻き取りローラ８９との間に、２つのローラ８１とバックアップローラ８７とを有する。
【００２５】
本明細書において、搬送経路とは、搬送部８０によって規定される基材５の経路を意味する。搬送経路のうち巻き出しローラ８８側を搬送上流側といい、搬送経路のうち巻き取りローラ８９側を搬送下流側という場合がある。また、搬送方向とは、搬送経路のある区間において基材５が移動する方向を意味する。例えば、巻き出しローラ８８と搬送上流側に位置するローラ８１との区間において、搬送方向は図１に示される矢印の方向である。
【００２６】
なお、基材処理装置１が基材５に処理を施す際には、基材５が搬送経路（搬送部８０によって規定される経路）から若干ずれた位置を通過する場合がある。例えば、塗工ノズル１２から供給される塗布液の液圧により、基材５が搬送経路よりも若干＋Ｚ側にずれた位置を通過する場合がある。本明細書では、このように搬送経路からずれて基材５が実際に通過する経路のことを通過経路という場合がある。
【００２７】
搬送部８０が有する各ローラは、基材５の主面Ｓ１に平行であり且つ基材５の搬送方向に交差する交差方向に伸びる軸を中心として、回転可能に構成される。本実施形態では、交差方向がＹ方向と一致するが、交差方向がＹ方向に対して多少傾いていても構わない。
【００２８】
搬送部８０が有する各ローラのうち少なくとも一部（例えば、１つのローラ８１、巻き出しローラ８８、および巻き取りローラ８９）には、これらのローラを駆動させる駆動部が設けられている。他方、搬送部８０が有する他のローラ（例えば、１つのローラ８１およびバックアップローラ８７）には、駆動部が設けられていない。このため、駆動部の駆動力により上記一部のローラが主動的に回転することで、基材５が搬送経路に沿って搬送される。そして、該基材５との摩擦力によって上記他のローラも従動的に回転する。
【００２９】
基材５の主面Ｓ２（第２主面）と接する各ローラが図１における時計回り方向に回転し、且つ基材５の主面Ｓ１（第１主面）と接するローラが図１における反時計回り方向に回転することにより、基材５が搬送経路に沿ってＸ方向およびＺ方向に搬送される。なお、各ローラの個数および配置位置については、図１の例に限定されるものではなく、必要に応じて適宜に増減することができる。
【００３０】
塗工ノズル１１は、基材５の幅方向（図１におけるＹ軸方向）に沿うスリット開口を有するスリットノズルである。塗工ノズル１１は、ポンプユニット１５から送給される塗布液を、スリット開口から吐出して基材５の主面Ｓ１に供給する。
【００３１】
搬送経路を挟んで塗工ノズル１１の反対側にはバックアップローラ８７が設けられる。このように、基材５のうちバックアップローラ８７によって支持される箇所に、塗工ノズル１１から塗布液が供給される。そのため、塗布液供給時の液圧に起因する基材５の波打ちが防止される。塗工ノズル１１が主面Ｓ１に塗布液を供給する動作と並行して、基材５が搬送経路に沿って搬送される。これにより、主面Ｓ１上に塗布液の液膜Ｐ１（塗布膜）が塗工される。
【００３２】
塗工ノズル１２は、塗工ノズル１１と同様の構成のノズルであり、塗工ノズル１１よりも搬送下流側に配される。塗工ノズル１２は、ポンプユニット１６から送給される塗布液を、スリット開口から吐出して基材５の主面Ｓ２に供給する供給部である。
【００３３】
後述するように、支持部７０が基材５のうち塗工ノズル１２から塗布液が供給される箇所を支持する。そのため、塗布液供給時の液圧に起因する基材５の波打ちが防止される。塗工ノズル１２が主面Ｓ２に塗布液を供給する動作と並行して、基材５が搬送経路に沿って搬送される。これにより、主面Ｓ２上に塗布液の液膜Ｐ２が塗工される。
【００３４】
塗布液としては、電極材料である活物質を含む液が用いられる。基材処理装置１にて正極を製造する場合には、塗布液として、例えば、正極活物質であるコバルト酸リチウム（ＬｉＣｏＯ2）、導電助剤であるカーボン（Ｃ）、結着剤であるポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、有機溶剤であるＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）の混合液が用いられうる。なお、塗布液の具体的な種類は、これに限定されるものではない。例えば、コバルト酸リチウムに代えて、正極活物質としてニッケル酸リチウム（ＬｉＮｉＯ2）、マンガン酸リチウム（ＬｉＭｎ2Ｏ4）、燐酸鉄リチウム（ＬｉＦｅＰＯ4）が用いられてもよい。
【００３５】
他方、基材処理装置１にて負極を製造する場合には、塗布液として、例えば、負極活物質である黒鉛（グラファイト）、結着剤であるＰＶＤＦ、有機溶剤であるＮＭＰの混合液が用いられうる。なお、塗布液の具体的な種類は、これに限定されるものではない。例えば、黒鉛に代えて、負極活物質としてハードカーボン、チタン酸リチウム（Ｌｉ4Ｔｉ5Ｏ12）、シリコン合金、スズ合金などが用いられてもよい。なお、正極材料および負極材料の双方の塗布液において、結着剤としてＰＶＤＦに代えてスチレン−ブタジエンゴム（ＳＢＲ）などが用いられてもよい。
【００３６】
また、塗工ノズル１１によって主面Ｓ１に供給される第１塗布液と塗工ノズル１２によって主面Ｓ２に供給される第２塗布液とは、同じ種類の塗布液であってもよいし、異なる種類の塗布液であってもよい。
【００３７】
乾燥部４０は、例えば、塗布液の液膜を緩やかに昇温させる予熱部４１、液膜を所定温度にまで昇温して主たる加熱を行う加熱部４２、および加熱された液膜を冷却する冷却部４３を、搬送経路に沿って直列に有する。基材５は、搬送経路に沿って搬送される過程で、予熱部４１、加熱部４２および冷却部４３の内部を順に通過する。これにより、基材５の両主面Ｓ１、Ｓ２上に形成された液膜Ｐ１、Ｐ２が乾燥する。このように、両主面Ｓ１、Ｓ２上の液膜Ｐ１、Ｐ２の乾燥処理を一括して行うフローでは、両主面Ｓ１、Ｓ２上の液膜Ｐ１、Ｐ２の乾燥処理を別々に行うフローに比べてスループットが向上する。
【００３８】
乾燥部４０を通過した基材５は、ローラ８１を介して搬送された後、巻き取りローラ８９によって回収される。回収された基材５は、基材処理装置１の外部の加工処理部（図示せず）に搬送され、当該加工処理部で所望の大きさに切断された後、電極板として加工される。
【００３９】
制御部９０は、基材処理装置１に設けられた各部の機構を制御しており、そのハードウェア構成は一般的なコンピュータと同様である。すなわち、制御部９０は、各種演算処理を行うＣＰＵ、基本プログラムを記憶する読み出し専用のメモリであるＲＯＭ、各種情報を記憶する読み書き自在のメモリであるＲＡＭおよび制御用ソフトウェアやデータなどを記憶しておく磁気ディスクを備えて構成される。制御部９０のＣＰＵが所定の処理プログラムを実行することによって基材処理装置１における処理が進行する。
【００４０】
＜１．２  支持部７０の構成＞
図２は、基材５に塗布液を供給する様子を示す基材処理装置１の部分拡大図である。図３は、支持部７０の構成を示す斜視図である。なお、図示が煩雑になるのを防ぐ目的で、図１および図２ではローラ７３、７４等が省略されている。
【００４１】
また、図４は、処理開始時における支持部７０周辺の様子を示すＹＺ断面図である。図５は、塗工ノズル１２よる塗工処理中における支持部７０周辺の様子を示すＹＺ断面図である。なお、図４は基材５の処理開始時（塗工処理が実行される直前）を図示しているため、図４中には図５に示される液膜Ｐ１や液膜Ｐ２が描かれていない。
【００４２】
支持部７０は、搬送経路を挟んで塗工ノズル１２とは反対側に配されるローラ７１と、ローラ７１を回転させる駆動部７２と、ローラ７１の±Ｙ側に配される２つのローラ７３と、搬送経路を挟んで２つのローラ７３とは反対側に配される２つのローラ７４と、２つのローラ７４を移動させる移動部７５と、を備える。
【００４３】
ローラ７１は、主面Ｓ１に平行であり且つ基材５の搬送方向に交差する交差方向（本実施形態ではＹ方向）に伸びる軸７１０、を中心として、基材５の主面Ｓ１に沿って回転可能な回転体である。ローラ７１の外周面７１１は、搬送経路に近接している近接領域７１２（本実施形態では、−Ｚ側の領域）を有する。
【００４４】
制御部９０は、ローラ７１の周速Ｖ２の絶対値が塗工ノズル１２とローラ７１との間における基材５の搬送速度Ｖ１の絶対値よりも大きくなるように、駆動部７２を制御する。ここで、周速Ｖ２は、例えば、搬送速度Ｖ１の５〜１０倍に設定される。したがって、具体例として、搬送速度Ｖ１が１０（ｍ／分）である場合には、５０≦Ｖ２≦１００（ｍ／分）となる。なお、搬送部８０が有する各搬送要素の搬送速度（具体的には、各ローラの周速）は、基材５の搬送速度Ｖ１と略同一とされる。以下では、このようにローラ７１を他の要素よりも速く回転させる制御を高速回転制御という場合がある。
【００４５】
高速回転制御の下でローラ７１が回転している際には、周辺雰囲気の粘性によりローラ７１の外周面７１１上に気体層（いわゆる境界層）が形成される。該気体層の厚みは、ローラ７１の周速や周囲の雰囲気によって変動する値である。
【００４６】
そして、近接領域７１２と搬送経路との離間距離が回転するローラ７１の外周面７１１上に形成される気体層の厚み以下となるよう、ローラ７１が基材処理装置１に設けられる。ここで、気体層の厚みとは、基材５の搬送を考慮せずローラ７１の回転および周辺雰囲気を考慮して推定される値である。この場合、外周面７１１上に形成される気体層が、搬送経路を搬送される基材５を主面Ｓ１側から主面Ｓ２側に付勢することになる。
【００４７】
また、本実施形態とは別の例として、近接領域７１２と搬送経路との離間距離は上記気体層の厚みよりも大きいが、近接領域７１２と通過経路との離間距離は上記気体層の厚み以下となるよう、ローラ７１が基材処理装置１に設けられてもよい。この場合、外周面７１１上に形成される気体層は、搬送経路を搬送される基材５に対しては付勢せず、通過経路を通過する基材５（すなわち、塗工ノズル１２からの液圧等により搬送経路から＋Ｚ側にずれた位置を通過する基材５）を主面Ｓ１側から主面Ｓ２側に付勢する。
【００４８】
一例として、本実施形態では、近接領域７１２と搬送経路との離間距離は例えば５００μｍ以下になるよう設計される。この場合、ローラ７１および後述する２つのローラ７３の半径の差も、例えば５００μｍ以下とされる。
【００４９】
２つのローラ７３は、近接領域７１２よりも基材５の幅方向（本実施形態では、Ｙ方向）の両側方に配されており、且つ搬送部８０によって搬送される基材５の幅方向の両端側の部分に対して主面Ｓ１側から接触する部分である。２つのローラ７３は、ローラ７１と共通する軸７１０を中心として回転可能である。
【００５０】
２つのローラ７４は、搬送経路を挟んで２つのローラ７３とは反対側に配されており、且つ上記両端側の部分に対して主面Ｓ２側から接触する部分である。２つのローラ７４は、軸７１０と平行で軸７１０よりも−Ｚ側に位置する軸７４０を中心として回転可能である。
【００５１】
移動部７５は、２つのローラ７４を、上記両端側の部分と接触している接触位置（図５）と、上記両端側の部分から離間した離間位置（図４）と、の間で±Ｚ方向に沿って移動させる。これにより、２つのローラ７４の軸７４０も±Ｚ方向に沿って移動する。
【００５２】
また、２つのローラ７３および２つのローラ７４には、これらを回転させる駆動部が設けられていない。したがって、２つのローラ７３および２つのローラ７４が基材５の両端側の部分に接触した状態で該基材５が搬送されると、該基材５の両端側の部分との摩擦力によって２つのローラ７３および２つのローラ７４は搬送速度Ｖ１と等速で従動的に回転する。本明細書では、２つのローラ７３を第１接触部といい、２つのローラ７４を第２接触部という場合がある。
【００５３】
次に、支持部７０の動作および作用について説明する。
【００５４】
基材５の処理開始時には、２つのローラ７４が離間位置に配される。また、このタイミングでは塗工処理が未だ実行されていない。このため、塗工ノズル１２から基材５に対しての液圧（主面Ｓ２側から主面Ｓ１側への液圧）は作用していない。このとき、図４に示されるように、基材５は支持部７０が有する各部と非接触な状態である。
【００５５】
基材５の処理が開始すると、まず、搬送される基材５の主面Ｓ１上に塗工ノズル１１によって塗工処理が行われる。その後、搬送される基材５の主面Ｓ２上に塗工ノズル１２によって塗工処理が行われる。
【００５６】
塗工ノズル１２による塗工処理に先立って、移動部７５が２つのローラ７４を接触位置に移動させる。そして、図５に示されるように、基材５の幅方向の両端側の部分が２つのローラ７３および２つのローラ７４にニップされる。このニップにより基材５に対して幅方向両側への張力が生じる。このため、塗工ノズル１２による塗工処理時に主面Ｓ２側から主面Ｓ１側への液圧が生じたとしても、基材５の波打ちが抑制される。その結果、基材５上に良好に液膜Ｐ１、Ｐ２が形成される。
【００５７】
塗工ノズル１２による塗工処理に先立って、ローラ７１の高速回転制御が行われ、高速回転するローラ７１の周囲に気体層が生じる。また、上述したように、近接領域７１２と搬送経路との離間距離はローラ７１の外周面７１１上に形成される気体層の厚み以下である。これにより、該気体層が搬送経路を搬送される基材５を主面Ｓ１側から主面Ｓ２側へと付勢する。このため、塗工ノズル１２による塗工処理時に主面Ｓ２側から主面Ｓ１側への液圧が生じたとしても、基材５の波打ちが抑制される。その結果、基材５上に良好に液膜Ｐ１、Ｐ２が形成される。
【００５８】
また、乾燥処理前の時点で液膜Ｐ１に部材が接触すると、該液膜Ｐ１が乱れてしまい、歩留まりが低下する。本実施形態では、支持部７０が液膜Ｐ１に非接触な状態で基材５を支持するため、このような歩留まり低下の問題が生じない。なお、本実施形態では、２つのローラ７３および２つのローラ７４が基材５の幅方向の両端側の部分に接触するものの、当該部分は最終製品として利用されず破棄される部分である。したがって、２つのローラ７３および２つのローラ７４が基材５の当該部分に接触したとしても、歩留まり低下の問題は生じない。
【００５９】
図６は、比較例において、塗工ノズル１２よる塗工処理中における支持部７９周辺の様子を示すＹＺ断面図である。
【００６０】
図６に示す比較例では、支持部７９が、搬送経路を挟んで塗工ノズル１２とは反対側に配され、且つ基材５の主面Ｓ１側にエアを吹き付けるエア供給部である。そして、主面Ｓ１に向けて供給されるエアの作用で、基材５が主面Ｓ１側から支持される。しかしながら、この比較例の態様では、エアの供給方向が主面Ｓ１に対する直交成分を多く含むため、未乾燥の液膜Ｐ１に衝突するエアの影響で液膜Ｐ１が乱れやすくなる。その結果、この比較例では、歩留まりが低下してしまう。
【００６１】
これに対して、本実施形態の支持部７０は、基材５の幅方向両端側におけるサイドニップの作用と、ローラ７１に回転に伴う気体層（すなわち、基材５の主面Ｓ１上で搬送方向に沿って流れる気流）の作用と、によって基材５を主面Ｓ１側から支持する。両作用とも未乾燥の液膜Ｐ１に対するエアの衝突を生じさせるものではなく、本実施形態では比較例のような歩留まりの低下は生じない。
【００６２】
＜２  変形例＞
以上、本発明の実施形態について説明したが、この発明はその趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。
【００６３】
上記実施形態では、２つのローラ７３および２つのローラ７４が基材５の幅方向両端側の部分をサイドニップする態様について説明したが、これに限られるものではない。
【００６４】
例えば、支持部が２つのローラ７４を有さない構成でもよい。この構成においても、ローラ７１の回転に伴う気体層の作用や、２つのローラ７３が基材５の幅方向両端側の部分を接触状態で支持する作用により、基材５が主面Ｓ１側から支持される。
【００６５】
また別の例として、支持部が２つのローラ７３および２つのローラ７４を有さない構成でもよい。この構成においても、ローラ７１の回転に伴う気体層の作用により、基材５が主面Ｓ１側から支持される。
【００６６】
また、上記実施形態では、支持部７０を構成する回転体がローラ７１である場合について説明したが、これに限られるものではない。回転体は、搬送経路を挟んで供給部とは反対側に配され、第１主面に平行であり且つ交差方向に伸びる１以上の軸の周りに回転可能であり、外周面が搬送経路に近接している近接領域を有するものであればよい。
【００６７】
図７は、変形例にかかる支持部７０Ａ周辺の様子を示すＸＺ側面図である。図７に示されるように、ベルトコンベヤー形式の回転体が支持部７０Ａに用いられてもよい。この場合、２つの軸をそれぞれ中心として回転する２つのローラ７１Ａを駆動部７２Ａが回転させることで、該２つのローラ７１Ａに架けられたベルト７３Ａが回転する。その結果、ベルト７３Ａの周囲に気体層が生じ、基材５が主面Ｓ１側から付勢される。
【００６８】
また、上記実施形態では、支持部７０を構成する第１接触部が２つのローラ７３である場合について説明したが、これに限られるものではない。第１接触部は、近接領域よりも幅方向の両側方に配されており、且つ基材５の幅方向の両端側の部分に対して第１主面側から接触するものであればよい。例えば、第１接触部が回転しない固定部材で構成されてもよい。この場合、基材５の搬送に伴い基材５の上記両端側の部分と該固定部材とが擦られるが、上記両端側の部分は破棄される部分なので歩留まり低下等の問題は生じない。
【００６９】
同様に、搬送経路を挟んで第１接触部とは反対側に配されており、且つ上記両端側の部分に対して第２主面側から接触する第２接触部についても、ローラ以外の構成を採用しうる。
【００７０】
また、上記実施形態では、２つのローラ７３および２つのローラ７４が従動ローラである態様について説明したが、２つのローラ７３および２つのローラ７４が主動ローラであっても構わない。
【００７１】
また、上記実施形態では、近接領域７１２が搬送方向に沿って＋Ｘ方向に移動するように、駆動部７２がローラ７１を回転させる態様について説明した。すなわち、回転体の近接領域が搬送方向に沿って移動するように駆動部が回転体を回転させる態様について説明した。これとは逆に、近接領域が搬送方向とは逆方向に沿って移動するように、駆動部が回転体を回転させる態様であってもよい。この態様においても、回転体の周速の絶対値が供給部と回転体との間における基材の搬送速度の絶対値よりも大きくなるよう、駆動部が回転体を回転する。
【００７２】
また、上記実施形態では、加熱部４２で基材５に加熱処理を施した後に冷却部４３で加熱処理によって加熱された基材５を冷却する冷却処理を施す態様について説明したが、これに限られるものではない。例えば、乾燥部４０が冷却部４３を有さず、冷却処理を施さない態様でも構わない。
【００７３】
また、乾燥処理の対象となる液膜Ｐは上記実施形態の例（リチウムイオン二次電池の電極材料膜）に限定されるものではい。乾燥対象の液膜は、例えば、太陽電池材料の薄膜、電子材料の保護膜、または顔料や接着剤の液膜等であってもよい。
【００７４】
また、基材５の主面Ｓ１、Ｓ２への塗布液の供給態様は特に限定されるものではない。上記実施形態のようにスリットノズルを用いて主面Ｓ１、Ｓ２の塗布液を供給する態様の他に、例えば、スプレーノズルを用いて基材５の主面Ｓ１、Ｓ２の塗布液を供給する態様（いわゆる、スプレー塗布）でもよい。また、上記実施形態のように１つのスリット開口から各主面Ｓ１、Ｓ２上の１つの領域に塗布液を供給する態様の他に、例えば、基材５の幅方向に間隔をあけて設けられた複数のスリット開口から各主面Ｓ１、Ｓ２上の複数の領域に塗布液を供給する態様（いわゆる、ストライプ塗布）でもよい。
【００７５】
また、搬送部８０が有する搬送要素の種類、搬送要素の個数および配置については、上記各実施形態の例に限定されるものではなく、必要に応じて適宜に変更することができる。
【００７６】
以上、実施形態およびその変形例に係る基材処理装置について説明したが、これらは本発明に好ましい実施形態の例であって、本発明の実施の範囲を限定するものではない。本発明は、その発明の範囲内において、各実施形態の自由な組み合わせ、あるいは各実施形態の任意の構成要素の変形、もしくは各実施形態において任意の構成要素の増減が可能である。
【符号の説明】
【００７７】
１  基材処理装置
５  基材
１１、１２  塗工ノズル
４０  乾燥部
７０、７０Ａ、７９  支持部
７１、７１Ａ、７３、７４、８１  ローラ
７３Ａ  ベルト
７２  駆動部
７５  移動部
８０  搬送部
９０  制御部
Ｐ１、Ｐ２  液膜
Ｓ１、Ｓ２  主面
Ｖ１  搬送速度
Ｖ２  周速
【図１】
2017170382.tif 000003
【図２】
2017170382.tif 000004
【図３】
2017170382.tif 000005
【図４】
2017170382.tif 000006
【図５】
2017170382.tif 000007
【図６】
2017170382.tif 000008
【図７】
2017170382.tif 000009