(57)【要約】      （修正有）【課題】ガス中に含まれる不純物の量を容易に分析することができるガス分析装置、及びガス供給システムを提供する。【解決手段】ガス分析装置は、ガスへ向けて電磁波を出力する出力部２２と、出力部２２から出力された電磁波を受信する受信部２３と、を備えている。また、受信部２３で受信された電磁波の強度に基づいてガス中の不純物の量を分析する分析部２８を備える。このような構成により、電磁波をガス中に伝搬させることで、ガスに不純物が含まれていた場合には、受信部２３は強度が減衰した電磁波を受信することができる。そして、分析部は、受信部２３で受信された結果に基づいて、ガス供給システム１００内におけるガスの不純物の量を分析することが可能となる。このような構成によれば、出力部２２から出力された電磁波又は赤外線を受信部２３で受信するだけで、ガス中に含まれる不純物の量を容易に分析できる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス中に含まれる不純物の量を分析するガス分析装置であって、
前記ガスへ向けて電磁波又は赤外線を出力する出力部と、
前記出力部から出力された電磁波又は赤外線を受信する受信部と、
前記受信部で受信された電磁波又は赤外線の強度に基づいて前記ガス中の不純物の量を分析する分析部と、
を備える、ガス分析装置。
【請求項２】
分析する不純物の種類の数に合わせて、前記出力部は１又は複数の波長に係る電磁波又は赤外線を出力し、前記受信部は１又は複数の波長に係る電磁波又は赤外線を受信する、請求項１に記載のガス分析装置。
【請求項３】
前記ガスを流通させるガス流通部を更に備える、請求項１又は２に記載のガス分析装置。
【請求項４】
前記ガス流通部へ前記ガスを導入する導入部には、前記ガスの圧力を調整する圧力調整部が設けられる、請求項３に記載のガス分析装置。
【請求項５】
前記分析部は、前記ガスの圧力に基づいて、分析結果を補正する、請求項１〜４の何れか一項に記載のガス分析装置。
【請求項６】
前記ガスが、Ｈ２、Ｏ２、Ｎ２、Ｎ２、Ａｒ、Ｈ２Ｏ、ＣＯ、ＣＯ２、ＣｎＨ（２ｎ＋２）の少なくともいずれかである、請求項１〜５の何れか一項に記載のガス分析装置。
【請求項７】
前記ガスがＨ２であり、前記不純物がＣｎＨ（２ｎ＋２）で示される物質の少なくとも１種類を含む、請求項１〜５の何れか一項に記載のガス分析装置。
【請求項８】
前記ガスを供給対象物へ供給するガス供給システムであって、
請求項１〜７の何れか一項に記載のガス分析装置と、
前記ガス分析装置の分析結果に基づいてシステム内の機器を制御する制御部と、
を備える、ガス供給システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガス分析装置及びガス供給システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ガスを供給するガス供給システムとして、例えば特許文献１に記載されているものが知られている。このようなガス供給システムでは、当該システム内にて、ガスの中に含まれる不純物の量を測定することが要請されている。ここで、ガス供給システム内のガスに含まれる不純物の量を分析する方法として、例えば、ガスクロマトグラフィが用いられる場合がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２３２６０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、ガスクロマトグラフィは、ガスクロマトグラフィは装置が大がかりであるため、測定の精度は高い反面、測定に時間がかかってしまい、応答性が低い（測定結果をすぐに反映することができない）という問題がある。また、適用のためのコストが増加するという問題がある。従って、ガス中に含まれる不純物を容易に分析できる方法が求められていた。
【０００５】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、ガス中に含まれる不純物の量を容易に分析することができるガス分析装置、及びガス供給システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明によるガス分析装置は、ガス中に含まれる不純物の量を分析するガス分析装置であって、ガスへ向けて電磁波又は赤外線を出力する出力部と、出力部から出力された電磁波又は赤外線を受信する受信部と、受信部で受信された電磁波又は赤外線の強度に基づいてガス中の不純物の量を分析する分析部と、を備える。
【０００７】
このようなガス分析装置は、ガスへ向けて電磁波又は赤外線を出力する出力部と、出力部から出力された電磁波又は赤外線を受信する受信部と、を備えている。また、受信部で受信された電磁波又は赤外線の強度に基づいてガス中の不純物の量を分析する分析部を備える。このような構成により、電磁波及び赤外線をガス中に伝搬させることで、ガスに不純物が含まれていた場合には、受信部は強度が減衰した電磁波及び赤外線を受信することができる。そして、分析部は、受信部で受信された結果に基づいて、ガス供給システム内におけるガスの不純物の量を分析することが可能となる。このような構成によれば、出力部から出力された電磁波又は赤外線を受信部で受信することで、分析部がガス中に含まれる不純物の量を速やかに分析できる。また、ガス分析装置は、電磁波又は赤外線の出力部と受信部を用いたシンプルな構造であるため、装置が大掛かりになることを抑制できる。以上より、ガス中に含まれる不純物の量を容易に分析することができる。
【０００８】
また、本発明に係るガス分析装置において、分析する不純物の種類の数に合わせて、出力部は１又は複数の波長に係る電磁波又は赤外線を出力し、受信部は１又は複数の波長に係る電磁波又は赤外線を受信してよい。これにより、複数の種類の不純物の量を分析することができる。
【０００９】
また、本発明に係るガス分析装置において、ガスを流通させるガス流通部を更に備えてよい。このように、ガス分析のための専用のガス流通部を設けることで、当該分析に必要な距離を十分に稼ぐことができ、ガス供給システムへの適用も容易となる。
【００１０】
また、本発明に係るガス分析装置において、ガス流通部へガスを導入する導入部には、ガスの圧力を調整する圧力調整部が設けられてよい。これにより、ガスの圧力をガス分析に適した圧力に調整することができる。
【００１１】
また、本発明に係るガス分析装置において、分析部は、ガスの圧力に基づいて、分析結果を補正してよい。これにより、ガスの圧力に応じて適切な分析結果を得ることができる。
【００１２】
また、本発明に係るガス分析装置において、例えば、ガスは、Ｈ２、Ｏ２、Ｎ２、Ｎ２、Ａｒ、Ｈ２Ｏ、ＣＯ、ＣＯ２、ＣｎＨ（２ｎ＋２）の少なくともいずれかであってよい。
【００１３】
また、本発明に係るガス分析装置において、例えば、ガスはＨ２であり、不純物はＣｎＨ（２ｎ＋２）で示される物質の少なくとも１種類を含んでよい。
【００１４】
本発明に係るガス供給システムは、ガスを供給対象物へ供給するガス供給システムであって、上述のガス分析装置と、ガス分析装置の分析結果に基づいてシステム内の機器を制御する制御部と、を備える。
【００１５】
このようなガス供給システムは、ガス分析装置の分析結果に基づいて、ガスに含まれる不純物の量を低減するための機器の制御を行うことができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、不純物の量を容易に分析することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、本発明の実施形態に係るガス供給システムを示すシステム構成図である。
【図２】図２は、図１のガス分析装置の構成を示す概略構成図である。
【図３】図３は、変形例に係るガス分析装置の構成を示す概略構成図である。
【図４】図４は、変形例に係るガス供給システムを示すシステム構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。
【００１９】
図１は、本実施形態に係るガス供給システムの構成を示すブロック図である。本実施形態では、ガス供給システム１００として、ＦＣＶ等に高純度水素を供給する水素ステーションを例として説明を行う。本実施形態に係るガス供給システム１００は、有機化合物（常温で液体）を原料として水素を生成し、当該水素を供給するものである。なお、水素精製の過程では、原料である有機化合物（常温で液体）を脱水素した、脱水素生成物（有機化合物（常温で液体））が除去される。原料の有機化合物として、例えば、有機ハイドライドが挙げられる。有機ハイドライドは、製油所で大量に生産されている水素を芳香族炭化水素と反応させた水素化物が好適な例である。また、有機ハイドライドは、芳香族の水素化化合物に限らず、２−プロパノール（水素とアセトンが生成される）の系もある。有機ハイドライドは、ガソリンなどと同様に液体燃料としてタンクローリーなどによってガス供給システム１００へ輸送することができる。本実施形態では有機ハイドライドとして、メチルシクロヘキサン（以下、ＭＣＨと称する）を用いる。その他、有機ハイドライドとしてシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、デカリン、メチルデカリン、ジメチルデカリン、エチルデカリンなど芳香物炭化水素の水素化物を適用することができる（なお、芳香族化合物は特に水素含有量の多い好適な例である）。ガス供給システム１００は、燃料電池自動車（ＦＣＶ）や水素エンジン車を供給対象物として水素を供給することができる。なお、メタンを主成分とした天然ガスやプロパンを主成分としたＬＰＧ、あるいはガソリン、ナフサ、灯油、軽油といった液体炭化水素原料から水素を製造する場合にも適用可能である。
【００２０】
図１に示すように、本実施形態に係るガス供給システム１００は、原料供給部１、反応部２、精製部３、圧縮機４、ディスペンサ５、ガス分析装置１０、及び制御部１５を備えている。なお、本実施形態では、原料としてＭＣＨを採用し、水素精製の過程で除去される脱水素生成物がトルエンである場合を例として説明する。なお、実際には、トルエンのみならず、未反応のＭＣＨと少量の副生成物及び不純物も存在するが、本実施形態中では、トルエンに混じって当該トルエンと同じ挙動を示す。従って、以下の説明において、「トルエン」と称して説明するものには、未反応のＭＣＨや副生成物も含むものとする。
【００２１】
原料供給部１は、原料となるＭＣＨを貯留し、下流側へ供給する機器である。例えば、外部からタンクローリーなどで輸送されたＭＣＨは、原料供給部１にて貯留される。原料供給部１に貯留されているＭＣＨは、圧縮機（不図示）によって反応部２へ供給される。なお、原料供給部１と反応部２との間には、ＭＣＨを気化する気化器を設けてもよい。
【００２２】
反応部２は、ＭＣＨを脱水素反応させることによって水素を得る機器である。すなわち、反応部２は、脱水素触媒を用いた脱水素反応によってＭＣＨから水素を取り出す機器である。有機ハイドライドの反応は可逆反応であり、反応条件（温度、圧力）によって反応の方向が変わる（化学平衡の制約を受ける）。一方、脱水素反応は、常に吸熱反応で分子数が増える反応である。脱水素反応は吸熱反応であるため反応部２は、図示されない熱源から熱を供給される。反応部２は、脱水素触媒中を流れるＭＣＨと熱源からの熱媒体との間で熱交換可能な機構を有している。反応部２で得られた水素は、精製部３へ供給される。なお、反応部２と精製部３との間には水素を気体と液体とに分離する気液分離部が設けられてよい。
【００２３】
精製部３は、反応部２で得られた水素含有ガスから、脱水素生成物（本実施形態ではトルエン）を除去する。これによって、精製部３は、当該水素含有ガスを精製して高純度水素（精製ガス）を得る。得られた高純度水素は、圧縮機４へ供給される。なお、水素及び脱水素生成物を含むオフガスは、図示されないリサイクルラインを介して反応部２の上流側へ供給される。
【００２４】
精製部３は、採用する水素精製方法によって異なるが、具体的には、水素精製方法として膜分離を用いる場合には、水素分離膜を備える水素分離装置であり、ＰＳＡ（Ｐｒｅｓｓｕｒｅ  ｓｗｉｎｇ  ａｄｓｏｒｐｔｉｏｎ）法又はＴＳＡ（Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ  ｓｗｉｎｇ  ａｄｓｏｒｐｔｉｏｎ）法を用いる場合には、不純物を吸着する吸着材を格納する吸着塔を複数備えた吸着除去装置である。
【００２５】
圧縮機４は、精製部３で得られた高純度水素を高圧状態とする。圧縮機４は、例えば、２０〜８５ＭＰａの圧力で高純度水素を高圧状態とする。圧縮機４は、高純度水素をＦＣＶへ供給可能とするために高圧状態にした上で、図示されない蓄圧器等を介してディスペンサ５へ供給する。圧縮機４で圧縮された高純度水素は、ディスペンサ５によってＦＣＶに供給される。
【００２６】
ガス分析装置１０は、ガス中に含まれる不純物の量を分析する装置である。ガス分析装置１０は、ガス中の不純物の濃度を分析することができる。ここでは、分析対象となるガスとは、上述の高純度水素である。また、不純物は、ＣｎＨ（２ｎ＋２）で示される物質の少なくとも１種類を含んだものであってよい。ＣｎＨ（２ｎ＋２）で示される物質として、ＣＨ４、Ｃ２Ｈ６、Ｃ６Ｈ５ＣＨ３、Ｃ５Ｈ１１ＣＨ３等が例示される。また、不純物として水分が含まれる場合もある。本実施形態に係るガス分析装置１０が対象とする不純物の濃度は、５００ｐｐｍ以下の濃度である。
【００２７】
図１に示すように、ガス分析装置１０は、精製部３よりも下流側（ガス供給システムにおけるガスの流れの下流側）における水素を分析してよい。このように、精製後の水素を分析することにより、ＦＣＶに供給される状態の水素を分析することができる。ただし、ガス分析装置１０の配置は特に限定されず、精製部３よりも上流側に配置してもよい。
【００２８】
また、ガス分析装置１０は、圧縮機４よりも上流側における水素を分析してよい。圧縮機４よりも下流側では水素が高圧の状態にある。従って、ガス分析装置１０を圧縮機４よりも下流側に設ける場合は、ガス分析装置１０のガス流通部２１（詳細は後述）や減圧弁を高圧に耐え得るものにする必要があり、コストが高くなる可能性がある。一方、圧縮機４を圧縮機４よりも上流側に配置することで、ガス分析装置１０の強度を過度にあげる必要がなくなり、コストを低下させることができる。ただし、ガス分析装置１０の配置は特に限定されず、圧縮機４よりも下流側に配置してもよい。
【００２９】
制御部１５は、例えば電子制御を行うデバイス（例えばＣＰＵ（Central  Processing  Unit）、ＲＯＭ（Read  Only  Memory）、ＲＡＭ（Random  Access  Memory）、および入出力インターフェイスを含んで構成されたデバイス）によって構成されている。制御部１５は、ガス分析装置１０の分析結果（詳細は後述する）に基づいてシステム内の機器を制御する。制御部１５は、原料供給部１、反応部２、精製部３、圧縮機４、及びガス分析装置１０と電気的に接続されている。制御部１５は、ガス供給システム１００の運転中の所定のタイミングにて、ガス分析装置から高純度水素の分析結果を受信する。当該分析結果に基づいて、制御部１５は、原料供給部１の原料供給量、反応部２の反応速度、精製部３の温度や圧力、圧縮機４の圧力等を制御する。例えば、ガス分析装置１０によって、高純度水素に所定量以上の不純物が含まれていることが検出された場合、制御部１５は、不純物の量を減らすための制御を行う。具体的には、制御部１５は、反応部２の温度調整、リサイクル水素量の調節などの制御を行う。あるいは、水素に所定量以上の不純物が含まれている場合は、制御部１５は、システム全体を停止する制御を行ってもよい。
【００３０】
図２を参照し、本実施形態に係るガス分析装置１０の詳細な構成について説明する。図２に示すように、ガス分析装置１０は、ガス流通部２１、出力部２２、受信部２３、参照用受信部２４、ホーン２６，２７及び分析部２８を備えている。
【００３１】
ガス流通部２１は、ガス供給システム１００のガスラインからガス（ここでは水素）を取り出して、当該ガスを流通させる。ガス流通部２１は、所定の方向に直線状に延びる管状部材２１ａによって構成される。ガス流通部２１を構成する管状部材２１ａは、分析のためにガスの流れを整えるのに十分な長さを有していればよい。管状部材２１ａの一端側には、ガスを管状部材２１ａへ導入する導入部２１ｂが設けられている。管状部材２１ａの他端側には、ガスを管状部材２１ａから流出させる流出部２１ｃが設けられている。導入部２１ｂ及び流出部２１ｃは、管状部材２１ａの管壁から径方向へ延びているが、接続態様は特に限定されない。導入部２１ｂには、ガスの圧力を調整する減圧弁（圧力調整部）３１が設けられる。当該減圧弁３１によって、管状部材２１ａは、０．１〜１．０Ｐａまで減圧されることが好ましい。管状部材２１ａの両端部には、電磁波を透過させるガラス窓が形成されている。
【００３２】
出力部２２は、ガスへ向けて電磁波を出力する。出力部２２は、ガス流通部２１の管状部材２１ａの他端側において、ガラス窓と対向する位置に配置されている。出力部２２は、ホーン２６及びガラス窓を介して、ガス流通部２１の管状部材２１ａ内を流通するガスへ電磁波を出力する。電子波は、管状部材２１ａ内を軸方向へ向かって進行する。出力部２２として、周波数が１０〜１００ＧＨｚのミリ波を出力する発振器（例えば、Ｇｕｎｎダイオード発振器等）を採用してよい。出力部２２は、分析部２８と電気的に接続されており、分析部２８からの制御信号に基づいて電磁波を出力する。
【００３３】
ホーン２６は、出力部２２が出力する電磁波を一定の領域に絞り込む。ホーン２６は、ガス流通部２１の管状部材２１ａの軸方向において、出力部２２と管状部材２１ａの他端との間に配置される。当該構成により、出力部２２から出力された電磁波は、ホーン２６を介してガス流通部２１の管状部材２１ａ内へ進入する。また、ホーン２６は、出力部２２から出力された電磁波の一部を分岐させて、ガス流通部２１とは異なる方向へ導出させる参照用電磁波導出ポート２６ａを備えている。参照用電磁波とは、ガス流通部２１内のガスを伝搬した電磁波の強度と比較するために、電磁波の発振強度を参照するためのものである。参照用電磁波導出ポート２６ａから導出された参照用電磁波は、参照用受信部２４にて受信される。参照用受信部２４は、分析部２８と電気的に接続されている。参照用受信部２４は、受信した参照用電磁波の強度を分析部へ送信する。
【００３４】
受信部２３は、出力部２２から出力されて、ガス流通部２１内のガスを伝搬した電磁波を受信する。受信部２３は、ガス流通部２１の管状部材２１ａの一端側において、ガラス窓と対向する位置に配置されている。受信部２３は、ガス流通部２１の管状部材２１ａの一端側のガラス窓を透過した電磁波をホーン２７を介して受信する。受信部２３は、分析部２８と電気的に接続されている。受信部２３は、受信した電磁波の強度に関する情報を分析部２８へ送信する。なお、ホーン２７は、ガス流通部２１の管状部材２１ａの軸方向において、受信部２３と管状部材２１ａの一端との間に配置される。当該構成により、ガス流通部２１の管状部材２１ａのガラス窓を透過した電磁波は、ホーン２７を介して受信部２３にて受信される。
【００３５】
分析部２８は、受信部２３で受信された電磁波又は赤外線の強度に基づいてガス中の不純物の量を分析する。本実施形態においては、分析部２８は、受信部２３で受信された電磁波の強度と、参照用受信部２４で受信された参照用電磁波の強度とを比較することによって、ガス中の不純物の量を分析する。分析部２８は、受信部２３で受信された電磁波の強度と、参照用受信部２４で受信された参照用電磁波の強度とを比較することで、ガス流通部２１のガス中を伝搬したガスの減衰量を取得することができる。分析部２８は、当該減衰量に基づいてガス中の不純物の量を分析する。ここで、ガスに含まれる不純物の量が同じであったとしても、ガスの圧力が変化すれば、単位体積中に含まれる不純物の密度が変化するため、電磁波の減衰量は変化する。従って、分析部２８は、ガス流通部２１内のガスの圧力を検出し、当該ガスの圧力に基づいて、分析結果を補正してよい。あるいは、減圧弁３１にて導入されるガスの圧力を一定にすることによって、分析部２８にて分析結果の補正を行わないような構成を採用してもよい。なお、分析部２８は、制御部１５に組み込まれていてもよい。
【００３６】
ここで、不純物として含まれる一種類の特定の物質を分析する場合、ガスを伝搬する電磁波の周波数は特定の値に設定される。一つの物質を検出するには、出力部２２及び受信部２３の対が一つ必要となる。よって、不純物として一種類の物質の量を分析する場合、ガス分析装置１０は、出力部２２及び受信部２３の対を一つ備えればよい。一方、不純物として複数種類の物質の量を分析する場合、分析する不純物の種類の数に合わせて、出力部２２は複数の波長に係る電磁波を出力し、受信部２３は複数の波長に係る電磁波を受信してよい。例えば、ガス分析装置１０は、出力部２２及び受信部２３の対を複数備えればよい。あるいは、出力部２２として、出力する電磁波の波長（周波数）を調整できることで、複数の波長に係る電磁波を出力できるタイプのものを採用してもよい。また、受信部２３として、受信できる電磁波の波長（周波数）を調整できることで、複数の波長に係る電磁波を受信できるタイプのものを採用してもよい。
【００３７】
次に、本実施形態に係るガス分析装置、及びガス供給システムの作用・効果について説明する。
【００３８】
本実施形態に係るガス分析装置は、ガスへ向けて電磁波を出力する出力部２２と、出力部２２から出力された電磁波を受信する受信部２３と、を備えている。また、受信部２３で受信された電磁波の強度に基づいてガス中の不純物の量を分析する分析部２８を備える。このような構成により、電磁波をガス中に伝搬させることで、ガスに不純物が含まれていた場合には、受信部２３は強度が減衰した電磁波を受信することができる。そして、分析部は、受信部２３で受信された結果に基づいて、ガス供給システム１００内におけるガスの不純物の量を分析することが可能となる。このような構成によれば、出力部２２から出力された電磁波を受信部２３で受信することで、分析部２８がガス中に含まれる不純物の量を速やかに分析できる。また、ガス分析装置１０は、電磁波の出力部２２と受信部２３を用いたシンプルな構造であるため、装置が大掛かりになることを抑制できる。以上より、ガス中に含まれる不純物の量を容易に分析することができる。
【００３９】
また、本実施形態に係るガス分析装置１０において、分析する不純物の種類の数に合わせて、分析する不純物の種類の数に合わせて、出力部２２は１又は複数の波長に係る電磁波を出力し、受信部２３は、１又は複数の波長に係る電磁波を受信してよい。これにより、複数の種類の不純物の量を分析することができる。
【００４０】
また、本実施形態に係るガス分析装置１０において、ガスを流通させるガス流通部２１を更に備えている。例えば、ガス供給システム１００のラインを流れるガスを直接分析する場合は、ラインの場所によっては、ガス分析に必要な距離を稼ぐことができない場合や、出力部２２や受信部２３の配置が困難となる場合もある。一方、ガス分析のための専用のガス流通部２１を設けることで、当該分析に必要な距離を十分に稼ぐことができ、ガス供給システム１００への適用も容易となる。
【００４１】
また、本実施形態に係るガス分析装置１０において、ガス流通部２１へガスを導入する導入部２１ｂには、ガスの圧力を調整する減圧弁３１が設けられている。これにより、ガスの圧力をガス分析に適した圧力に調整することができる。
【００４２】
また、本実施形態に係るガス分析装置１０において、分析部２８は、ガスの圧力に基づいて、分析結果を補正する。これにより、ガスの圧力に応じて適切な分析結果を得ることができる。
【００４３】
本実施形態に係るガス供給システム１００は、上述のガス分析装置１０と、ガス分析装置１０の分析結果に基づいてシステム内の機器を制御する制御部１５と、を備える。このようなガス供給システム１００は、ガス分析装置１０の分析結果に基づいて、ガスに含まれる不純物の量を低減するための機器の制御を行うことができる。このように、ガス供給システム１００が、ガス分析装置１０の結果と連動して制御を行うことにより、ガス供給システム１００に滞在している作業員が少人数であったとしても、ガス中に不純物が含まれるような状況への対応が可能となる。
【００４４】
本発明は、上述の実施形態に限定されるものではない。
【００４５】
例えば、上述の実施形態では、出力部は電磁波を出力していたが、赤外線を出力してもよい。図３に示すように、出力部１２６が赤外線を出力し、受信部１２３がガス中を伝搬した赤外線を受信してもよい。出力部１２６として、赤外線を出力する赤外線ＬＥＤを採用してよい。また、受信部１２３としてフォトダイオードを受信してよい。出力部１２６から出力された赤外線がガスを伝搬し、当該赤外線を受信部１２３が受信する。ガス中に含まれる不純物の量に応じて、赤外線の強度が減衰するため、分析部２８は、受信部１２３の受信結果に基づいて、ガス中に含まれる不純物の量を分析することができる。なお、当該変形例の場合も、分析する不純物の種類の数に合わせて、出力部１２６は複数の波長に係る赤外線を出力し、受信部１２３は、複数の波長に係る赤外線を受信してよい。
【００４６】
また、上述の実施形態では、ガス供給システムとして有機ハイドライドを原料とした水素ステーションを例示した。これに代えて、図４（ａ）及び図４（ｂ）に示す水素ステーションにガス供給システムを適用してもよい。図４（ａ）は、ガス供給システム２００として、オフサイト型の水素ステーションを例示している。ガス供給システム２００は、水素カードル２０１や水素トレーラー２０２等を用いて外部から水素が補給される。図４（ｂ）は、ガス供給システム３００として、オンサイト型の水素ステーションを例示している。ガス供給システム３００は、ＬＰガス等の原料３０１を用いて水素製造・精製装置３０２にてシステム内で水素の製造・精製を行う。ガス供給システム２００，３００は、補給された水素を圧縮する圧縮機２０３と、圧縮された高圧の水素を蓄圧する蓄圧器２０４と、蓄圧器２０４の水素をＦＣＶに供給するディスペンサ２０５と、を備える。このようなガス供給システム２００に対して、ガス分析装置１０は、圧縮機２０３よりも上流側のラインに設けられてよい。当該箇所は、低圧（１．０ＭＰａ未満）であるため、ガス分析装置１０を耐圧性のある構造にしなくともよい。一方、ガス分析装置１０は、圧縮機２０３よりも下流側のラインに設けてもよく、例えばディスペンサ２０５の下流側のラインに設けてもよい。当該箇所は、高圧（８０ＭＰａ程度）であるため、ガス分析装置１０を耐圧性のある構造にすればよい。
【００４７】
また、上述の実施形態において、ガス分析装置は、ガス供給システムの特定の箇所に組み込まれるものであった。これに変えて、ガス分析装置を携帯型の装置としてもよい。例えば、作業者がガス分析装置を持ち運び、ガス供給システムの特定の箇所におけるガスを分析してもよい。また、ガス分析装置は、ガスを流通させるための専用のガス流通部を備えていたが、当該ガス流通部を備えていなくてもよい。この場合、ガス供給システムのラインを流れるガスに対して直接的に電磁波や赤外線を出力する。
【００４８】
また、上述の実施形態においては、出力部と直線状に対向する位置に受信部が設けられており、出力部からの電磁波又は赤外線を直接受信部が受信していた。これに変えて、出力部と受信部とが並列に並べられており、出力部が出力した電磁波又は赤外線が所定の箇所で反射し、受信部が反射した電磁波又は赤外線を受信してもよい。
【００４９】
また、上述の実施形態においては、水素ステーションにおける水素を対象としてガス分析装置の分析が行われる場合を例示したが、分析対象となるガスは、水素（Ｈ２）に限定されず、Ｏ２、Ｎ２、Ｎ２、Ａｒ、Ｈ２Ｏ、ＣＯ、ＣＯ２、ＣｎＨ（２ｎ＋２）の少なくともいずれかであってもよい。
【符号の説明】
【００５０】
１０…ガス分析装置、１５…制御部、２１…ガス流通部、２２…出力部、２３…受信部、２８…分析部、１００，２００，３００…ガス供給システム。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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