(57)【要約】      （修正有）【課題】低温焼成セラミックス（ＬＴＣＣ）を用いた、高い反射率を有するガラスセラミック基板及びその製造方法の提供。【解決手段】アルミナとガラスとを含むとともに、更に他の無機成分を含むガラスセラミック基板１であって、アルミナの屈折率Ａとガラスの屈折率Ｇと無機成分の屈折率Ｍとが、式（１）の関係を満たしているガラスセラミック基板１。更に前記ガラスの屈折率Ｇと前記無成分の屈折率Ｍとが式（２）の関係を満たす、ガラスセラミック基板１。好ましくは、前記無機成分がＺｒＯ５又はＴｉＯ２の内の１種以上であり、前記ガラス中にＤ５０が０．５〜１．０μｍの粒径を有する粒子で存在しているガラスセラミックス基板１。｜Ｇ−Ｍ｜＞｜Ｇ−Ａ｜・・・（１）、｜Ｇ−Ｍ｜≧０．５・・・（２）【選択図】図１
2017165619.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミナとガラスとを含むとともに、更に他の無機成分を含むガラスセラミック基板であって、
前記アルミナの屈折率Ａと前記ガラスの屈折率Ｇと前記無機成分の屈折率Ｍとが、下記式（１）の関係を満たすことを特徴とするガラスセラミック基板。
｜Ｇ−Ｍ｜＞｜Ｇ−Ａ｜・・・（１）
【請求項２】
更に、前記ガラスの屈折率Ｇと前記無機成分の屈折率Ｍとが、下記式（２）の関係を満たすことを特徴とする請求項１に記載のガラスセラミック基板。
｜Ｇ−Ｍ｜≧０．５・・・（２）
【請求項３】
前記無機成分は、前記ガラス中に粒子状に存在していることを特徴とする請求項１又は２に記載のガラスセラミック基板。
【請求項４】
前記無機成分の粒径は、Ｄ５０で０．５μｍ〜１．０μｍの範囲であることを特徴とする請求項３に記載のガラスセラミック基板。
【請求項５】
前記無機成分は、ＺｒＯ２及びＴｉＯ２のうち少なくとも１種であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のガラスセラミック基板。
【請求項６】
前記ＺｒＯ２の含有量は、５．０体積％〜９．０体積％の範囲であることを特徴とする請求項５に記載のガラスセラミック基板。
【請求項７】
前記ＴｉＯ２の含有量は、５．０体積％〜１９．０体積％の範囲であることを特徴とする請求項５又は６に記載のガラスセラミック基板。
【請求項８】
アルミナの粉末とガラスの粉末とを用いるとともに、更に他の無機成分の粉末を用いて混合粉末を作製し、該混合粉末を用いて成形体を作製し、該成形体を焼成してガラスセラミック基板を製造するガラスセラミック基板の製造方法であって、
前記アルミナの屈折率Ａと前記ガラスの屈折率Ｇと前記無機成分の屈折率Ｍとが、下記式（１）の関係を満たすことを特徴とするガラスセラミック基板の製造方法。
｜Ｇ−Ｍ｜＞｜Ｇ−Ａ｜・・・（１）
【請求項９】
前記無機成分は、ＺｒＯ２及びＴｉＯ２のうち少なくとも１種であり、前記無機成分の粉末の粒径は、Ｄ５０で０．５μｍ〜１．０μｍの範囲であることを特徴とする請求項８に記載のガラスセラミック基板の製造方法。
【請求項１０】
前記焼成の温度は、８６０℃〜９００℃の範囲であることを特徴とする請求項８又は９に記載のガラスセラミック基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、ＬＥＤ素子搭載用基板、電子部品のセラミックパッケージ、無線通信モジュール、制御回路用基板、半導体検査装置等に用いることができるガラスセラミック配線基板及びガラスセラミック基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電子部品の収納に用いられるセラミックパッケージ基板としては、アルミナを９０重量％以上含有し、タングステン（Ｗ）やモリブデン（Ｍｏ）を電極材として使用したものが主流である。また、近年では、ＬＴＣＣ（Low Temperature Cofired Ceramic）と呼ばれる、銀（Ａｇ）や銅（Ｃｕ）を電極材として使用するセラミック基板の材料が開発されている。
【０００３】
また、最近では、発光ダイオード（ＬＥＤ）素子の高輝度化や高効率化に伴い、携帯電話や液晶ＴＶ等のバックライトなどに、ＬＥＤ素子を用いた発光装置が用いられている。
この発光装置では、ＬＥＤ素子を搭載する基板として、樹脂基板やセラミック基板が用いられており、このうち、セラミック基板は、熱や光に対する耐久性に優れているので、発光装置の基板として有望とされている。
【０００４】
しかし、セラミック基板は、樹脂基板に比べて反射率が低いため、ＬＥＤ素子からの光が基板の裏側に漏れてしまい、基板の表面側の光度が低いという問題がある。
これに関して、上述したＬＴＣＣは、低温で焼成でき、しかも、基板反射性の高い基板を得ることができる材料であるため、近年では、ＬＴＣＣについて特に反射率を高める研究がなされている（特許文献１〜３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１４−１４８４５２号公報
【特許文献２】特開２０１１−２４６３３０号公報
【特許文献３】特開２０１１−９０３２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述した従来技術でも必ずしも十分ではなく、基板の反射率を高める技術の一層の改善が求められていた。
本発明は、前記課題を解決するためになされたものであり、その目的は、高い反射率を有するガラスセラミック基板及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
（１）本発明の第１局面は、アルミナとガラスとを含むとともに、更に他の無機成分を含むガラスセラミック基板であって、前記アルミナの屈折率Ａと前記ガラスの屈折率Ｇと前記無機成分の屈折率Ｍとが、下記式（１）の関係を満たしている。
【０００８】
｜Ｇ−Ｍ｜＞｜Ｇ−Ａ｜・・・（１）
本第１局面では、アルミナの屈折率Ａとガラスの屈折率Ｇと無機成分の屈折率Ｍとが、前記式（１）の関係を満たしているので、後述する実験例からも明らかもように、ガラスセラミック基板の反射率が高いという効果がある。例えば、可視光の波長領域である４００ｎｍ〜７００ｎｍでの反射率を高くすることも可能である。
【０００９】
一般的に、ガラスに所定の物質が添加される場合には、ガラスの屈折率とその添加物質の屈折率との差が大きいほど、ガラスと添加物質との界面での拡散反射が大きいことが知られている。
【００１０】
本第１局面では、アルミナとガラスとを含むガラスセラミック基板において、ガラスの屈折率と無機成分の屈折率との差（絶対値）が、ガラスの屈折率とアルミナの屈折率との差（絶対値）よりも大きい無機成分が用いられている。
【００１１】
従って、本第１局面のガラスセラミック基板は、アルミナとガラスとからなるガラスセラミック基板よりも反射率が高いという効果を奏する。また、従来のアルミナ基板に比べて、例えば８６０℃〜９００℃の低温焼成が可能である。
【００１２】
なお、ここで、アルミナ及び（アルミナやガラスの成分以外の）無機成分とは、ガラス中に存在する無機フィラー（固定成分）であり、このアルミナや無機成分の表面で、光を拡散反射することが可能である。
つまり、無機成分としては、ガラスセラミック基板中で光を反射することが可能で、且つ、前記式（１）を満たす各種の無機成分を用いることができる。
【００１３】
また、前記ガラスは、ガラス状の状態（非結晶質）で存在しているものである。
（２）本発明の第２局面では、更に、前記ガラスの屈折率Ｇと前記無機成分の屈折率Ｍとが、下記式（２）の関係を満たしている。
【００１４】
｜Ｇ−Ｍ｜≧０．５・・・（２）
本第２局面では、更に、ガラスの屈折率Ｇと無機成分の屈折率Ｍとが、前記式（２）の関係を満たしているので、後述する実験例からも明らかもように、ガラスセラミック基板の反射率が一層向上する。
【００１５】
つまり、本第２局面では、ガラスの屈折率と無機成分の屈折率との差（絶対値）が、０．５以上と大きいので、一層反射率が大きいという利点がある。
（３）本発明の第３局面では、前記無機成分は、前記ガラス中に粒子状に存在している。
【００１６】
本第３局面では、無機成分は、粒子状の物体（粒）として、ガラス中に分散して存在しているので、ガラスと粒子状の無機成分との界面で、効果的に拡散反射が行われる（図２参照）。
（４）本発明の第４局面では、前記無機成分の粒径は、Ｄ５０で０．５μｍ〜１．０μｍの範囲である。
【００１７】
本第４局面は、無機成分の好ましい粒径（累積５０％粒径：Ｄ５０）を例示している。このような粒径の無機成分を用いることにより、効果的に光を反射することができる。
また、アルミナの粒径としても、Ｄ５０で０．５μｍ〜１．０μｍの範囲を採用できる。
【００１８】
（５）本発明の第５局面では、前記無機成分は、ＺｒＯ２及びＴｉＯ２のうち少なくとも１種である。
本第５局面は、無機成分として好適なものを例示している。つまり、無機成分として、ＺｒＯ２やＴｉＯ２を用いることにより、高い反射率が得られる。例えば、ＺｒＯ２を添加したものは、可視光の全領域において９０％以上の反射率が得られる。
【００１９】
（６）本発明の第６局面では、前記ＺｒＯ２の含有量は、５．０体積％〜９．０体積％の範囲である。
本第６局面は、好ましいＺｒＯ２の含有量を例示している。つまり、ＺｒＯ２の含有量が上述した範囲の場合には、高い反射率が得られる。
【００２０】
（７）本発明の第７局面では、前記ＴｉＯ２の含有量は、５．０体積％〜１９．０体積％の範囲である。
本第７局面は、好ましいＴｉＯ２の含有量を例示している。つまり、ＴｉＯ２の含有量が上述した範囲の場合には、高い反射率が得られる。
【００２１】
（８）本発明の第８局面は、アルミナの粉末とガラスの粉末とを用いるとともに、更に他の無機成分の粉末を用いて混合粉末を作製し、該混合粉末を用いて成形体を作製し、該成形体を焼成してガラスセラミック基板を製造するガラスセラミック基板の製造方法であって、前記アルミナの屈折率Ａと前記ガラスの屈折率Ｇと前記無機成分の屈折率Ｍとが、下記式（１）の関係を満たしている。
【００２２】
｜Ｇ−Ｍ｜＞｜Ｇ−Ａ｜・・・（１）
本第８局面では、上述した製造方法によって、反射率の高いガラスセラミック基板を容易に製造することができる。
【００２３】
（９）本発明の第９局面では、前記無機成分は、ＺｒＯ２及びＴｉＯ２のうち少なくとも１種であり、前記無機成分の粉末の粒径は、Ｄ５０で０．５μｍ〜１．０μｍの範囲である。
【００２４】
本第９局面は、好ましい無機成分や無機成分の粒径を例示したものである。
（１０）本発明の第１０局面では、前記焼成の温度は、８６０℃〜９００℃の範囲である。
本第１０局面は、好ましい焼成温度の範囲を例示したものである。
【００２５】
つまり、上述したガラスセラミック基板は、比較的低温での焼成が可能なＬＴＣＣ基板であるので、電極材として、例えば銀や銅等を使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】実施形態のガラスセラミック基板を示す斜視図である。
【図２】ガラスマトリックス中の無機フィラーを示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
［１．実施形態］
［１−１．構成］
まず、実施形態のガラスセラミック基板の構成について説明する。
【００２８】
図１に示すように、実施形態のガラスセラミック基板１は、所定の厚みの平板な基板である。
このガラスセラミック基板１は、ガラスを含むとともに、フィラー（無機フィラー）として、アルミナと（アルミナ以外の）無機成分とを含んでいる。
【００２９】
つまり、このガラスセラミック基板１では、図２に示すように、ガラスが非晶質のマトリックスを構成しており、ガラスマトリックス中に、無機フィラーとして、粒子状のアルミナ（アルミナ粒子）や無機成分（無機成分粒子：無機固形物）が存在している。
【００３０】
また、ガラスセラミック基板１は、アルミナの屈折率Ａとガラスの屈折率Ｇと無機成分の屈折率Ｍとが、下記式（１）及び（２）の関係を満たしている。なお、下記式（１）のみを満たしていてもよい。
【００３１】
｜Ｇ−Ｍ｜＞｜Ｇ−Ａ｜・・・（１）
｜Ｇ−Ｍ｜≧０．５    ・・・（２）
更に、アルミナ粒子及び無機成分粒子の粒径は、例えばＤ５０で、０．５μｍ〜１．０μｍの範囲である。
【００３２】
また、無機成分粒子としては、例えば、ＺｒＯ２及びＴｉＯ２の少なくとも一方を用いる。なお、ＺｒＯ２の含有量は、例えば、５．０体積％〜９．０体積％の範囲であり、ＴｉＯ２の含有量は、例えば、５．０体積％〜１９．０体積％の範囲である。
【００３３】
以下、各構成について詳細に説明する。
前記ガラスは、上述のようにガラスセラミック基板１中に非晶質の状態で存在する。なお、このガラスセラミック基板１は、１０００℃以下の温度で焼成を行っても、ガラスセラミック基板１に含まれるガラスは実質的に結晶化しない。
【００３４】
前記ガラスとしては、例えば、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３を主成分とするホウケイ酸系ガラスを採用できる。詳しくは、例えば、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＣａＯ、Ｎａ２Ｏ、及びＫ２Ｏを含有するものを採用できる。そして、ガラス全体を１００とした場合に、これらの各構成物質の含有量としては、例えば、ＳｉＯ２が４９モル％〜５４モル％、Ａｌ２Ｏ３が８モル％〜１３モル％（好ましくは８．２モル％〜１３モル％）、Ｎａ２ＯとＫ２Ｏとの合計が０．２モル％より大きく２モル％以下（好ましくは１モル％以上２モル％以下）の範囲を採用できる。
【００３５】
前記ガラス中に存在するＡｌ２Ｏ３の量が８モル％以上であると、ガラスセラミック基板の機械的強度が高く、さらにはガラスの安定性が向上するので、好ましい。一方、ガラス中に存在するＡｌ２Ｏ３の量が１３モル％を下回ると、焼成できる温度が低くなり、ガラス化されやすくなる。
【００３６】
前記ガラス中に、Ｂ２Ｏ３が存在する場合には、他の成分の含有量に応じて適宜決定される。例えば、ガラス中のＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＣａＯ、Ｎａ２Ｏ、及びＫ２Ｏの合計が１００モル％となるように、Ｂ２Ｏ３の含有量が決定される。好ましくは、ガラス中に存在するＢ２Ｏ３の量は、９モル％〜１８モル％である。つまり、Ｂ２Ｏ３が過少であると、焼結できる温度が高くなり易く、Ｂ２Ｏ３が過多であると、ガラスの化学的安定性が低下し易い。
【００３７】
前記ガラス中に、ＳｉＯ２とＣａＯとＺｎＯとが存在する場合には、ＳｉＯ２とＣａＯ及びＺｎＯの合計とのモル比率は、ＳｉＯ２／（ＣａＯ＋ＺｎＯ）＞２．０を満たすことが望ましい。Ｃａの含有量が過少であると、ガラスの溶融性が十分に向上にくい。Ｃａの含有量が過多であると、グリーンシートの熱膨張係数が大きくなり、製品不良を引き起こすことがある。
また、上述したガラス以外に、例えばＭｇＯ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏなど、各種の組成のガラスを使用することができる。
【００３８】
前記無機フィラーとしては、上述のように、アルミナ及び無機成分が用いられる。この無機フィラーの種類及び含有量等によって、反射率を高めることができる。
無機フィラーを形成する無機成分としては、前記式（１）及び（２）の関係のうち、少なくとも式（１）を満たす無機化合物を採用できる。
【００３９】
つまり、前記ＺｒＯ２やＴｉＯ２を用いることができるが、前記式（１）を満たす限りは、これに限定されるものではなく、例えばＺｎＯ、ＣａＴｉＯ３を用いることもできる。また、これらの無機化合物はその一種単独で用いることができ、また、それら二種以上の無機化合物を混合して用いてもよい。
【００４０】
また、無機フィラーの形状としては、粒子状が好ましいが、光を反射できれば、鱗片上、繊維状等種々の形状でもよい。無機フィラーの粒径としては、上述のように、Ｄ５０で０．５μｍ〜１．０μｍの範囲を採用できる。無機フィラーの粒径が小さいと反射率が大きくなるが、基板材料であるスラリーを作製しにくい傾向がある。尚、無機フィラーは、通常、製造時に添加された形状及び大きさのままでガラスセラミック基板中に存在する。
【００４１】
無機フィラーの含有量としては、無機フィラーとガラスとの合計を１００質量％とした場合に、２０質量％〜６０質量％の範囲を採用できる。なお、好ましくは、３０質量％〜６０質量％、より好ましくは、４０質量％〜５５質量％である。
【００４２】
［１−２．製造方法］
本実施形態のガラスセラミック基板１は、例えば次のようにして製造することができる。
＜原料粉末の調製＞
まず、ガラス粉末及び無機フィラー粉末の原料粉末の調製をする。
【００４３】
ガラス粉末を調製する場合には、例えば、ＳｉＯ２粉末、Ｂ２Ｏ３粉末、Ａｌ２Ｏ３粉末を加えるとともに、ガラスの組成に応じて、ＺｎＯ粉末、ＣａＯ粉末、Ｎａ２Ｏ粉末、Ｋ２Ｏ粉末等を加えて、混合する。
【００４４】
各粉末の割合は、原料粉末全体に対して、例えば、ＳｉＯ２が４モル％〜５４モル％、Ａｌ２Ｏ３が８モル％〜１３モル％、ＮａＯ２とＫ２Ｏとの合計が０．２モル％より大きく、２モル％以下とすることができる。
【００４５】
ＳｉＯ２、ＣａＯ及びＺｎＯについては、原料粉末中におけるＳｉＯ２とＣａＯ及びＺｎＯの合計とのモル比率が、ＳｉＯ２／（ＣａＯ＋ＺｎＯ）＞２．０を満たすようにしてもよい。
【００４６】
Ｂ２Ｏ３については、例えば、原料粉末中のＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＣａＯ、Ｎａ２Ｏ、及びＫ２Ｏ等の合計が１００モル％となるように、Ｂ２Ｏ３の含有量を適宜決定することができる。例えば、原料粉末中に含められるＢ２Ｏ３の量を、９モル％〜１８モル％とすることができる。
【００４７】
そして、混合により得られた原料粉末は、加熱溶融し、その後に、急速冷却することによりフリットにし、このフリットを粉砕することによりガラス粉末を得ることができる。
このガラス粉末の粒度は、後述する無機フィラー粉末との均一な混合及び混合粉末の成形が可能で、かつ低温焼成で十分緻密に焼結できる限りにおいて特に限定されるものではない。例えば、Ｄ５０で４．０±０．５μｍのものを採用できる。或いは、平均粒径が１．０μｍ〜１０．０μｍのものを採用できる。
【００４８】
なお、ガラス粉末の粒径が１０μｍを越えると、無機フィラーとガラスとを含有するグリーンシートに形成するのに支障を生じることがあり、また、ガラス粉末の粒径が１μｍよりも小さいと、フリットを粉砕する時間が長くなって非効率になると共に、取扱いに困難を生じることがある。
【００４９】
また、無機フィラー粉末の１種として、例えばアルミナ粉末を用意する。このアルミナ粉末の粒径としては、Ｄ５０が例えば０．５μｍ〜１．０μｍのものを採用できる。
同様に、他の無機フィラー粉末として、ＺｒＯ２粉末及びＴｉＯ２粉末の少なくとも一方を用意する。このＺｒＯ２粉末及びＴｉＯ２粉末の粒径としては、Ｄ５０が例えば０．５μｍ〜１．０μｍのものを採用できる。
【００５０】
＜スラリーの作製＞
次に、前記ガラス粉末と無機フィラー粉末とを混合する。
混合操作は、各種の混合器、例えばボールミル等を使用して行うことができる。ガラス粉末と無機フィラー粉末との配合割合としては、無機フィラー粉末を３０質量％〜６０質量％、好ましくは４０質量％〜５０質量％を採用できる。ガラス粉末としては、４０質量％〜７０質量％、好ましくは４５質量％〜６０質量％を採用できる。
【００５１】
前記ガラス粉末と無機フィラー粉末とを混合して得られる基板用組成物は、ガラス粉末と無機フィラー粉末とからなる組成物であってもよく、また、ガラス粉末及び無機フィラー粉末とともに、バインダー、溶剤、可塑剤及び分散剤等を含有していても良い。
【００５２】
前記バインダーとしては、ポリビニルブチラール等のポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂及びメタアクリル樹脂等のメタクリル樹脂等を使用することができる。溶剤としてはベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族溶剤、並びにアルコール類、ケトン類等を使用することができる。可塑剤としては、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジブチル等のカルボン酸ジアルキル、ポリエチレングルコール等を挙げることができる。
【００５３】
＜グリーンシートの作製＞
前記基板用組成物を用いて、例えばドクターブレード法によって、シート形状に成形し、所定の形状に調製する。その後、６０℃〜８０℃の適宜の温度で乾燥することによりグリーンシートを形成する。なお、グリーンシートの厚みとしては、例えば、０．０２５ｍｍ〜０．２００ｍｍを採用できる。
【００５４】
＜焼結体の作製＞
前記グリーンシートを、所定枚数積層して積層体を作製する。
次に、積層体を、所定の雰囲気（例えば大気）にて所定温度（例えば８６０℃〜９００℃）で焼成することによって、ガラスセラミック基板１が得られる。
【００５５】
［１−３．効果］
次に、実施形態の効果について説明する。
本実施形態のガラスセラミック基板１は、ガラスマトリックス中にアルミナ粒子を含むとともに、他の無機成分として、ＺｒＯ２粒子やＴｉＯ２粒子を含んでいる。また、アルミナの屈折率Ａとガラスの屈折率Ｇと無機成分の屈折率Ｍとが、前記式（１）及び式（２）の関係を満たしている。
【００５６】
従って、ガラスセラミック基板１は高い反射率を有するという顕著な効果を奏する。例えば、可視光の波長領域である４００ｎｍ〜７００ｎｍでの反射率が高いという利点がある。
更に、ＺｒＯ２粒子やＴｉＯ２粒子の粒径は、Ｄ５０で０．５μｍ〜１．０μｍの範囲である。しかも、ＺｒＯ２の含有量は、５．０体積％〜９．０体積％の範囲である。或いは、ＴｉＯ２の含有量は、５．０体積％〜１９．０体積％の範囲である。
【００５７】
従って、この点からも、効果的に光を反射することができる。
［１−４．実験例］
以下、本発明例（実施例１〜５）及び比較例を用いて行った反射率の実験例について説明する。
【００５８】
＜実験に用いるガラスセラミック基板の作製＞
（１）原料粉末の調製
実施例１〜５のガラスセラミック基板の原料粉末として、ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３を主成分とするホウケイ酸系ガラス粉末（下記表１参照）と、アルミナ粉末と、アルミナ以外の無機フィラー粉末（即ち無機成分粉末）とを用意した（下記表２参照）。なお、比較例では、ホウケイ酸系ガラス粉末及びアルミナ粉末を用いる。
【００５９】
また、シート形成時のバインダーとしてアクリル系バインダーを用意し、可塑剤としてＤＯＰ（ジ・オクチル・フタレート）を用意し、溶剤としてＭＥＫ（メチルエチルケトン）を用意した。
【００６０】
なお、ガラス粉末としては、Ｄ５０：４．０±０．５μｍのものを使用した。アルミナ粉末としては、平均粒径３μｍ、比表面積１．６ｍ２／ｇのものを用意した。無機成分粉末（ＺｒＯ２粉末、ＴｉＯ２粉末）としては、Ｄ５０：０．６μｍのものを用意した。
【００６１】
【表１】
2017165619.tif 000003
（２）グリーンシートの作製
次に、実施例１〜５の材料として、アルミナ製のポットに、ホウケイ酸ガラス粉末、アルミナ粉末、無機成分粉末を、下記表２の割合で、総量１ｋｇとなるように秤量して入れた。なお、比較例では、ホウケイ酸ガラス粉末及びアルミナ粉末を、下記表２の割合で、総量１ｋｇとした。
【００６２】
更に、ポットに、前記アクリル樹脂を１２０ｇ入れるとともに、適当なスラリー粘度とシート強度とを持たせるために必要な量の溶剤（ＭＥＫ）と可塑剤（ＤＰＯ）を入れた。
そして、ポットで５時間混合することにより、セラミックスラリーを得た。
【００６３】
次に、このセラミックスラリーを用いて、ドクターブレード法により、厚み０．１５ｍｍのグリーンシートを作製した。
（３）ガラスセラミック基板の作製
次に、このグリーンシートを例えば８枚積層して積層体を作製した。
【００６４】
次に、前記積層体を、例えば９００℃にて１時間焼成して、前記ガラスセラミック基板１を得た。なお、実施例４のみ、焼成温度は８６０℃とした。このガラスセラミック基板１の寸法は、例えば縦５０ｍｍ×横５０ｍｍ×厚み１ｍｍである。
【００６５】
＜反射率の評価＞
そして、上述した製造方法にて製造した実施例１〜４及び比較例の反射率を評価した。
具体的には、実施例１〜４及び比較例のガラスセラミック基板に対して、下記表２に記載の波長の光を照射してその反射率、即ち、照射した光に対する反射光の割合（基板反射率）を求めた。
【００６６】
反射率の測定には、ＫＯＮＩＣＡ  ＭＩＮＯＲＵＴＡ製の分光測色計（ＣＭ−３６００ｄ）を用いた。その結果を、下記表２に記す。なお、実施例２と実施例４とは、組成は同じであるが、焼成温度のみ異なる。
【００６７】
【表２】
2017165619.tif 000004
また、各材料の屈折率を、下記表３に記す。
【００６８】
【表３】
2017165619.tif 000005
なお、｜Ｇ−Ａ｜＝０．２５
この実験例から明らかなように、実施例１〜５では、前記式（１）の条件、更には前記式（２）の条件も満たしているので、比較例に比べて、基板反射率が大きく好適であることが分かる。
【００６９】
これに比べて、比較例では、特に４５０ｎｍ〜７００ｎｍの波長の光の反射率が小さく、好ましくない。
なお、本発明は前記実施形態や実施例になんら限定されるものではなく、本発明を逸脱しない範囲において種々の態様で実施しうることはいうまでもない。
【００７０】
（１）例えば、無機フィラーとして、ジルコニアやチタニアに限らず、前記式（１）の条件を満たす各種の無機成分を採用できる。
（２）また、ガラスの種類も、上述したガラス以外に、前記式（１）の条件を満たす各種のガラスを採用できる。
（３）なお、上述した実施形態の構成要素を適宜組み合わせることも可能である。
【符号の説明】
【００７１】
１…ガラスセラミック基板
【図１】
2017165619.tif 000006
【図２】
2017165619.tif 000007