(57)【要約】【課題】４３０ｎｍから１８００ｎｍまでの波長域において高い反射防止性能を有する反射防止膜を提供する。【解決手段】反射防止膜１０は、基板０の表面に形成され、複数の層を含む多層膜である。該複数の層のうち最も基板から離れた最上層ｍの波長λ（ｎｍ）に対する屈折率をｎｍとし、多層膜のうち最上層を除く１層以上の下地層１１の光学アドミタンスを、Ｙ＝ａ＋ｉｂとするとき、最上層の屈折率ｎｍは、１．１≦ｎｍ≦１．３なる条件を満足する。また、λ＝４３０のときは（ａ−１．１３）２＋（ｂ−０．２４）２≦０．４５２を満足し、λ＝９００のときは（ａ−１．３３）２＋（ｂ＋０．０５）２≦０．２５２を満足し、λ＝１８００のときは（ａ−１．１４）２＋（ｂ＋０．２５）２≦０．２９２を満足する。【選択図】図１
2017076081.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の表面に形成され、複数の層を含む多層膜としての反射防止膜であって、
前記複数の層のうち最も前記基板から離れた最上層の波長λ（ｎｍ）に対する屈折率をｎｍとし、前記複数の層のうち前記最上層を除く１層以上の下地層の光学アドミタンスを、
Ｙ＝ａ＋ｉｂ
とするとき、
前記最上層の前記屈折率ｎｍは、
１．１≦ｎｍ≦１．３
なる条件を満足し、
前記光学アドミタンスにおけるａ，ｂは、
λ＝４３０のとき、
（ａ−１．１３）２＋（ｂ−０．２４）２≦０．４５２
λ＝９００のとき、  
（ａ−１．３３）２＋（ｂ＋０．０５）２≦０．２５２
λ＝１８００のとき、
（ａ−１．１４）２＋（ｂ＋０．２５）２≦０．２９２
なる条件を満足することを特徴とする反射防止膜。
【請求項２】
前記光学アドミタンスにおけるａ，ｂは、
λ＝４３０のとき、
（ａ−１．１０）２＋（ｂ−０．２２）２≦０．２６２
λ＝９００のとき、
（ａ−１．３３）２＋（ｂ＋０．０５）２≦０．２０２
λ＝１８００のとき、
（ａ−１．１８）２＋（ｂ＋０．２６）２≦０．２５２
なる条件を満足することを特徴とする請求項１に記載の反射防止膜。
【請求項３】
前記光学アドミタンスにおけるａ，ｂは、
４３０≦λ≦１８００において、
（ａ−１．０９）２＋（ｂ−０．２０）２≦０．３５２
または、
（ａ−１．２８）２＋ｂ２≦０．３５２
または
（ａ−１．２７）２＋（ｂ＋０．２８）２≦０．３５２
なる条件を満足することを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止膜。
【請求項４】
前記最上層の膜厚ｄｍ（ｎｍ）が、
１２５≦ｎｍ×ｄｍ≦２５０  
なる条件を満足することを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の反射防止膜。
【請求項５】
波長λ（ｎｍ）が４３０≦λ≦１８００である光線の該反射防止膜に対する入射角度が０度以上１５度以下のときの該反射防止膜の反射率が１．５％以下であり、かつ前記光線の入射角度が３０度以上４５度以下のときの前記反射率が４．５％以下であることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の反射防止膜。
【請求項６】
９以上の前記層を有することを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の反射防止膜。
【請求項７】
２層以上の前記下地層の材料のうち、最も高屈折率の材料の屈折率をｎＨとし、最も低屈折率の材料の屈折率をｎＬとするとき、ｎＨとｎＬは、
０．４≦ｎＨ−ｎＬ≦０．９
なる条件を満足することを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の反射防止膜。  
【請求項８】
前記最上層が空隙を含む層として形成されていることを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の反射防止膜。
【請求項９】
前記最上層の材料が、酸化シリコンまたはフッ化マグネシウムであることを特徴とする請求項１から８のいずれか一項に記載の反射防止膜。
【請求項１０】
前記最上層がゾルゲル法により作製された膜であることを特徴とする請求項１から９のいずれか一項に記載の反射防止膜。
【請求項１１】
前記下地層が真空蒸着法またはスパッタ法により作製された膜であることを特徴とする請求項１から１０のいずれか一項に記載の反射防止膜。
【請求項１２】
前記下地層の材料が、チタン、タンタル、ジルコニア、クロム、ニオブ、セリウム、ハフニウム、アルミニウム、シリコンおよびイットリウムの酸化物の単体またはこれらの混合物のうちいずれかであることを特徴とする請求項１から１１のいずれか一項に記載の反射防止膜。
【請求項１３】
前記基板としての光学素子本体と、
前記光学素子本体の表面に形成された請求項１から１２のいずれか一項に記載の反射防止膜とを有することを特徴とする光学素子。
【請求項１４】
複数の光学素子を有し、該複数の光学素子のうち少なくとも一つは請求項１３に記載の光学素子であることを特徴とする光学系。
【請求項１５】
請求項１４に記載の光学系と、該光学系を保持する保持部材とを有することを特徴する光学機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多層膜により構成される反射防止膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
監視カメラ等の光学機器には、可視光の撮像だけでなく、夜間等の暗闇での近赤外光の撮像が求められるものがある。暗闇での撮像は、大気圏での化学反応や電磁的反応で放射される大気光を利用すれば可能となる。大気光は、可視域から近赤外域までの波長帯域で発生するが、近赤外域においては、１４５０〜１８００ｎｍにピークを持つことが知られている（例えば、非特許文献１参照）。
【０００３】
一方、撮像光学系に用いられるレンズ等の透光部材の表面には、そこでの反射率を低減させるために、蒸着により形成される誘電体薄膜を複数層重ねた多層膜として構成された反射防止膜が設けられる。さらに、蒸着膜で使用される屈折率１．３８のフッ化マグネシウムよりも低い屈折率を有する材料を反射防止膜の最上層に使用すれば、高性能な反射防止機能を得ることができる。屈折率の低い材料として、シリカやフッ化マグネシウム等の無機系材料、シリコン樹脂や非晶質のフッ素樹脂などの有機材料を用いることが知られている。これらの材料は、層内に空隙を形成することにより屈折率を下げることができる。
【０００４】
可視域から近赤外域までの撮像を可能とする光学機器において、レンズ等の透光部材の反射率を低減することは、フレアやゴーストなどの有害光の発生を抑制するだけでなく、透過光を増やしてより多くの画像情報を得ることにも繋がる。
【０００５】
特許文献１には、可視域から近赤外域までに反射防止特性を有する反射防止膜が開示されている。この反射防止膜は１２層構成を有し、高屈折率材料と低屈折率材料を交互に積層し、最上層である第１２層に屈折率が１．２０〜１．２９の超低屈折率材料の層を設けている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１３−２５０２９５号公報
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】“Seeing Photons : Progress and Limits of Visible and Infrared Sensor Arrays”(Committee on Developments in Detector Technologies; National Research Council ,2010) pp.25
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１にて開示された反射防止膜は、１６００ｎｍ以上の波長域で反射率が増加し、１７００ｎｍ付近では１％以上の反射率を有する。前述したように大気光の放射は１４５０〜１８００ｎｍでピークを持つため、特許文献１の反射防止膜が有する程度の反射防止性能では大気光に対して不十分である。
【０００９】
本発明は、可視域だけでなく、大気光を利用できる４３０ｎｍから１８００ｎｍまでの波長域において高い反射防止性能を有する反射防止膜およびこれを有する光学素子等を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一側面としての反射防止膜は、基板の表面に形成され、複数の層を含む多層膜である。複数の層のうち最も基板から離れた最上層の波長λ（ｎｍ）に対する屈折率をｎｍとし、多層膜のうち最上層を除く１層以上の下地層の光学アドミタンスを、Ｙ＝ａ＋ｉｂとするとき、最上層の屈折率ｎｍは、
１．１≦ｎｍ≦１．３
なる条件を満足し、光学アドミタンスにおけるａ，ｂは、
λ＝４３０のとき、
（ａ−１．１３）２＋（ｂ−０．２４）２≦０．４５２
λ＝９００のとき、  
（ａ−１．３３）２＋（ｂ＋０．０５）２≦０．２５２
λ＝１８００のとき、
（ａ−１．１４）２＋（ｂ＋０．２５）２≦０．２９２
なる条件を満足することを特徴とする。
【００１１】
なお、上記光学素子を有する光学系および該光学系を光学機器も、本発明の他の一側面を構成する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、可視域および大気光の波長域である４３０ｎｍから１８００ｎｍまでの広い波長域において高い反射防止性能を有する反射防止膜を実現することができる。そして、この反射防止膜を設けた光学素子を用いることで、高い光学性能を有する光学系および光学機器を実現することかできる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の反射防止膜の代表的な実施例を示す断面図。
【図２】実施例における薄膜層の等価光学アドミタンスを説明する図。
【図３】実施例１における光学アドミタンスを複素座標で示す図。
【図４】実施例１の反射防止膜の反射率特性を示す図。
【図５】実施例２から４の反射防止膜における下地層の光学アドミタンスを複素座標で示す図。
【図６】実施例５から７の反射防止膜における下地層の光学アドミタンスを複素座標で示す図。
【図７】実施例２の反射防止膜の反射率特性を示す図。
【図８】実施例３の反射防止膜の反射率特性を示す図。
【図９】実施例４の反射防止膜の反射率特性を示す図。
【図１０】実施例５の反射防止膜の反射率特性を示す図。
【図１１】実施例６の反射防止膜の反射率特性を示す図。
【図１２】実施例７の反射防止膜の反射率特性を示す図。
【図１３】実施例８から６４の反射防止膜におけるλ＝４３０ｎｍのときの下地層の光学アドミタンスの複素座標を示す図。
【図１４】実施例８から６４の反射防止膜におけるλ＝９００ｎｍのときの下地層の光学アドミタンスの複素座標を示す図。
【図１５】実施例８から６４の反射防止膜におけるλ＝１８００ｎｍのときの下地層の光学アドミタンスの複素座標を示す図。
【図１６】実施例８から６４における０度入射時の反射率特性を示す図。
【図１７】実施例８から６４における４５度入射時の反射率特性を示す図。
【図１８】実施例６５である光学機器の斜視図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明する。
【００１５】
図１には、本発明の代表的な実施例として光学素子（例えばレンズ）に設けられた多層膜としての反射防止膜の構成を示している。反射防止膜１０は、光学素子の本体部（光学素子本体：例えば透光部としてのレンズ部）である基板０の表面に設けられている。反射防止膜１０は、基板側から数えて１層目の薄膜層１からｍ−１層目の薄膜層ｍ−１により構成される１層以上の下地層１１とｍ層目の最上層ｍとを有する２層以上のｍ層を含む多層膜である。最上層ｍは、基板から最も離れた層であり、空気との界面を形成する最表層である。最上層ｍは、波長λ（ただし、４３０≦λ≦１８００）（ｎｍ）に対する屈折率が１．１０〜１．３０であり、薄膜層１から薄膜層ｍ−１よりも低屈折率な層である。
【００１６】
下記の参考文献によれば、光学アドミタンスと特性マトリクスとを用いることにより、入射媒質と薄膜層との間および該薄膜層と基板との間の２つの界面を、等価光学アドミタンスで表現される１つの界面に帰着させて薄膜計算を行うことができる。
（参考文献）
「光学薄膜と成膜技術」（李正中  著、株式会社アグネ技術センター発行）
光学アドミタンスとは、媒質中の電場と磁場強度との比であり、真空中の値であるＹ0＝√（ε0／μ0）を単位とすると、媒質の屈折率と等価に扱える量である。例えば図２（ａ）に示すように、基板０と薄膜層１との界面ｒ０−１および薄膜層１と薄膜層２との界面ｒ１−２に光が垂直入射する場合を考える。このとき、界面ｒ０−１での電場および磁場強度をそれぞれＥｔおよびＨｔとし、界面ｒ１−２での電場および磁場強度をそれぞＥｉおよびＨｉとする。薄膜層１の光学アドミタンスは、該薄膜層１の屈折率ｎ１と等価であるので、薄膜層１の界面ｒ０−１,  ｒ１−２でのＥｔ, ＨｔとＥｉ,Ｈｉとの関係は以下の式(１)で表わされる。
【００１７】
【数１】
2017076081.tif 000003
【００１８】
ここで、薄膜層１の位相差δ１は、薄膜層１の膜厚をｄ１とし、薄膜層１の入射光の波長λに対する屈折率をｎ１とすると、
δ１＝２pｎ１ｄ１／λ  ・・・（２）
である。
【００１９】
式（１）は、基板０の光学アドミタンスＹｔ＝Ｅｔ／Ｈｔ＝ｎｓを用いて以下の式（３）で表わされる。
【００２０】
【数２】
2017076081.tif 000004
【００２１】
ここで、Ｙ１＝Ｃ１／Ｂ１とすると、Ｙ１は界面ｒ０−１，ｒ１−２と薄膜層１から求まる基板０と薄膜層１の等価光学アドミタンスとなる。つまり、図２（ａ）の構成は、図２（ｂ）に示すような構成と等しくなり、基板０と薄膜層１は等価屈折率Ｙ１の仮想的な層０１０として扱うことができる。この手順を（ｍ−１）回繰り返すと、基板０と下地層１１は等価屈折率Ｙｍ−１の仮想的な層１００と簡易的に表現することができ、図２（ａ）の構成は図２（ｃ）に示すような構成と等しくなる。等価光学アドミタンスＹｍ−１は、下地層１１を構成する薄膜層の屈折率ｎｊ（ｊ＝１〜ｍ−１）および位相差δｊ（ｊ＝１〜ｍ−１）を用いて、以下の式（４）で表される。
【００２２】
【数３】
2017076081.tif 000005
【００２３】
ただし、Ｙｍ−１＝Ｃｍ−１／Ｂｍ−１である。
【００２４】
一方、式（４）から、基板０から最上層ｍまでの等価光学アドミタンスＹｍ＝Ｃｍ／Ｂｍは次式（５）で表される。
【００２５】
【数４】
2017076081.tif 000006
【００２６】
空気の屈折率は１であり、最上層ｍと空気との界面での反射率が０になるのは、
Ｙｍ＝Ｃｍ／Ｂｍ＝１  ・・・（６）
となる場合である。ここで、入射光の波長（以下、入射波長ともいう）λにおける等価光学アドミタンスＹｍ−１（λ）を複素表示により、
Ｙｍ−１（λ）＝ａ＋ｉｂ
と表す。このとき、最上層ｍと空気との界面での反射率が０である場合における複素座標（ａ，ｂ）の軌跡は、式（５）および式（６）から、中心が（（ｎｍ２＋１）／２，０）で半径が（ｎｍ２−１）／２の円となる。そして、入射波長λと最上層ｍの膜厚ｄｍとから、複素座標（ａ，ｂ）の位置（点）が一意に決まる。例えば、最上層ｍの屈折率が１．２５であれば、複素座標（ａ，ｂ）の軌跡は中心が（１．２８，０）で半径が０．２８の円となる。反射防止膜１０の反射率を０％近くにまで低減するには、複素座標（ａ，ｂ）をこの円上において入射波長λと最上層ｍの膜厚ｄｍにより一意に決まる点に近い値を持つように下地膜１１を構成すればよい。
【００２７】
実施例の反射防止膜１０は、可視域から大気光を使用できる４３０ｎｍから１８００ｎｍまでの波長帯域で高い反射防止性能を有することを特徴とする。この特徴を実現するため、基板０から下地層１１までの等価光学アドミタンス（以下、単に「下地層１１の光学アドミタンス」ともいう）の複素座標（ａ，ｂ）は、
λ＝４３０のとき、
（ａ−１．１３  ）２＋（ｂ−０．２４）２≦０．４５２    ・・・（７）
λ＝９００のとき、
（ａ−１．３３）２＋（ｂ＋０．０５）２≦０．２５２    ・・・（８）
λ＝１８００のとき、
（ａ−１．１４）２＋（ｂ＋０．２５）２≦０．２９２    ・・・（９）
なる条件を満足する。
【００２８】
前述したように、複素座標（ａ，ｂ）が、入射波長λと最上層ｍの屈折率ｎｍと膜厚ｄｍとにより決まる円上の一意の点の近傍であれば、反射率は低減する。このため、単純には、４３０ｎｍから１８００ｎｍまでの波長帯域での複素座標（ａ，ｂ）を円上における一意に決まる点の近傍となるように下地層１１を構成すればよい。しかし、実際は下地層１１を構成する材料に制限があるため、４３０ｎｍから１８００ｎｍまでの広帯域において円上において一意に決まる点の近傍となるように下地層１１の膜構成を実現することは困難である。
【００２９】
これに対して、式（７），（８）および（９）の条件を満足するような膜構成であれば、一般的な材料での作製が可能となり、波長４３０ｎｍから１８００ｎｍまでの広帯域で低反射率を実現することができる。
【００３０】
望ましくは、下地層１１の光学アドミタンスの複素座標（ａ，ｂ）は、
λ＝４３０のとき、
（ａ−１．１０  ）２＋（ｂ−０．２２）２≦０．２６２    ・・・（１０）
λ＝９００のとき、
（ａ−１．３３）２＋（ｂ＋０．０５）２≦０．２０２    ・・・（１１）
λ＝１８００のとき、
（ａ−１．１８）２＋（ｂ＋０．２６）２≦０．２５２    ・・・（１２）
なる条件を満足することが好ましい。
さらに望ましくは、４３０≦λ≦１８００において、下地層１１の光学アドミタンスの複素座標（ａ，ｂ）は、
（ａ−１．０９  ）２＋（ｂ−０．２０）２≦０．３５２    ・・・（１３）
または、
（ａ−１．２８）２＋ｂ２≦０．３５２      ・・・（１４）
または
（ａ−１．２７）２＋（ｂ＋０．２８）２≦０．３５２    ・・・（１５）
なる条件を満足することが好ましい。
また、最上層ｍの膜厚ｄｍ（ｎｍ）は、
１２５≦ｎｍ×ｄｍ≦２５０・・・（１６）
なる条件を満足することが好ましい。
【００３１】
一般的に、基板上の薄膜の光学膜厚が、入射波長λの４分の１のときに、反射率が最小となる。実施例においては、波長域が４３０ｎｍから１８００ｎｍまでの広範囲であるため、この波長域の逆数の中間点の逆数付近が光学膜厚の４倍であれば低反射率が得られる。
【００３２】
さらに、反射防止膜１０は、波長域４３０ｎｍから１８００ｎｍの光線に対して、該光線の入射角度が０度以上１５度以下のときの反射率が１．５％以下であり、かつ入射角度が３０度以上４５度以下のときの反射率が４．５％以下であることが望ましい。
【００３３】
また、反射防止膜１０の層数（下地層１１および最上層ｍの合計層数）は９層以上であることが好ましい。８層以下では、反射防止性能を向上させることが困難であるためである。
【００３４】
また、下地層１１に使用される材料のうち、最も高屈折率の材料の屈折率をｎＨとし、最も低屈折率な材料の屈折率をｎＬとするとき、ｎＨおよびｎＬは、
０．４≦ｎＨ−ｎＬ≦０．９    ・・・（１７）
なる条件を満足することが好ましい。これは、それぞれの材料の屈折率の差異が大きい方が広帯域での低反射を実現しやすいためである。
【００３５】
最上層ｍは、酸化シリコン（例えば、シリカ（ＳｉＯ２））やフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）等の無機系材料またはシリコン樹脂や非晶質のフッ素樹脂等の有機材料により形成され、その内部に空隙を有している。内部の空隙に含まれる空気（屈折率１．０）により屈折率を下げている。さらに、最上層ｍは、中空微粒子や中実の微粒子をバインダーにより結合してなる膜であることが好ましい。それら微粒子の主材料は、屈折率を下げるため、ＳｉＯ２やＭｇＦ２のような屈折率の低いものが好ましい。
【００３６】
一方、下地層１１の材料は、チタン、タンタル、ジルコニア、クロム、ニオブ、セリウム、ハフニウム、アルミニウム、シリコンおよびイットリウムの酸化物の単体またはこれらの混合物とすることが好ましい。下地層１１のうち一層目の薄膜層１の材料は、白曇りの防止等の観点から、Ａｌ２Ｏ３，ＳｉＮＸ，ＳｉＯＮ，Ｎｂ２Ｏ５が望ましい。
【００３７】
最上層ｍの成膜方法としては、微粒子をバインダーにて結合する場合は、ゾルゲル法で作製することが好ましい。塗工方法としては特に限定されることはなく、ディップコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ロールコート法等、液状塗工液の一般的な塗工方法を用いることができる。レンズのような曲面を有する基板０へ膜厚を均一に成膜できるという観点から、塗料をスピンコートで成膜することが好ましい。
【００３８】
塗工後は乾燥を行う。乾燥は、乾燥機、ホットプレート、電気炉等を用いることができる。乾燥条件は、基板０に影響を与えず、かつ微粒子内および微粒子間の有機溶媒を蒸発できる程度の温度と時間とする。一般的には３００℃以下の温度を用いることが好ましい。塗工回数は通常１回が好ましいが、乾燥と塗工を複数回繰り返してもよい。
【００３９】
下地層１１は、成膜の簡単化のために、真空蒸着法やスパッタ法のようなドライ法により成膜されることが望ましい。
【００４０】
以下に、具体的な実施例を示す。ただし、これらは例に過ぎず、本発明の実施例はこれらの条件に限定されるものではない。
（実施例１〜７）
実施例１〜７の反射防止膜１０は１３層の多層膜として構成されている。実施例１〜７では、基板０の屈折率は互いに異なるが、反射防止膜１０を構成する薄膜の材料は同じである。
【００４１】
表１には、実施例１〜７の構成を示している。１層目から１２層目までが下地層１１であり、真空蒸着法により成膜されたものである。１３層目は、中空ＳｉＯ２含有の溶液にバインダー溶液を加え、混合調整した液をスピンコーターで塗工し、１００〜２５０℃のクリーンオーブンで１時間焼成して作製されたものである。このようにして作製された最上層は、実施例１〜７のすべてにおいて、ｄ線（５８７．６ｎｍ）に対する屈折率が１．２５で、膜厚が１４５ｎｍになるように調整されている。
【００４２】
図３には、実施例１における下地層１１の光学アドミタンス（基板０から下地層１１までの等価光学アドミタンス）を複素座標で示している。横軸がＹ＝ａ＋ｉｂにおける実数部ａを示し、縦軸が虚数部ｂを示す。式（７）の条件の上限を点線の円で、式（８）の条件の上限を一点鎖線の円で、式（９）の条件の上限を長破線の円でそれぞれ示し、これらの円内であればそれぞれの条件を満足する。これらのことは、後述する他の実施例でも同じである。
【００４３】
また、入射波長λが４３０ｎｍから１８００ｎｍまでの光学アドミタンスの複素座標での軌跡を実線で、λ＝４３０ｎｍのときの複素座標を黒四角点で、λ＝９００ｎｍのときの複素座標を黒三角点で、λ＝１８００ｎｍのときの複素座標を黒丸点でそれぞれ示す。
【００４４】
図３から、実施例１のλ＝４３０ｎｍ、９００ｎｍおよび１８００ｎｍのときの下地層１１の光学アドミタンスは式（７），（８）および（９）の条件を満足することが確認できる。
【００４５】
図４には、実施例１における４３０〜１８００ｎｍの波長域での反射率を示す。入射角０度（垂直入射）のときの反射率を実線で、入射角１５度のときの反射率を点線で、入射角３０度のときの反射率を破線で、入射角４５度のときの反射率を一点鎖線でそれぞれ示す。実施例１における反射率は、４３０〜１８００ｎｍの波長域において、入射角が０度および１５度のときで１．５％以下、かつ入射角が３０度および４５度のときで４．０％以下であり、高い反射防止性能が得られていることが確認できる。
【００４６】
図５には、実施例２，３，４における下地層１１の光学アドミタンスの複素座標を示す。実施例２，３，４における入射波長λが４３０ｎｍから１８００ｎｍまでの光学アドミタンスの複素座標での軌跡をそれぞれ実線、点線および太長破線で示す。また、実施例２，３，４におけるλ＝４３０ｎｍのときの複素座標をそれぞれ黒四角点、白四角点、灰四角点で、λ＝９００ｎｍのときの複素座標をそれぞれ黒三角点、白三角点、灰三角点で、λ＝１８００ｎｍのときの複素座標を黒丸点、白丸点、灰丸点で示す。
【００４７】
また、図６には、実施例５，６，７における下地層１１の光学アドミタンスの複素座標を示す。実施例５，６，７における入射波長λが４３０ｎｍから１８００ｎｍまでの光学アドミタンスの複素座標での軌跡をそれぞれ実線、点線および太長破線で示す。また、実施例５，６，７におけるλ＝４３０ｎｍのときの複素座標をそれぞれ黒四角点、白四角点、灰四角点で、λ＝９００ｎｍのときの複素座標をそれぞれ黒三角点、白三角点、灰三角点で、λ＝１８００ｎｍのときの複素座標を黒丸点、白丸点、灰丸点で示す。
【００４８】
図５および図６から、実施例２〜７のλ＝４３０ｎｍ、９００ｎｍおよび１８００ｎｍのときの下地層１１の光学アドミタンスは式（７）、（８）および（９）の条件を満足することが確認できる。
【００４９】
図７から図１２にはそれぞれ、実施例２〜７における４３０〜１８００ｎｍの波長域での反射率を示す。入射角０度のときの反射率を実線で、入射角１５度のときの反射率を点線で、入射角３０度のときの反射率を破線で、入射角４５度のときの反射率を一点鎖線でそれぞれ示す。実施例２〜７における反射率は、４３０〜１８００ｎｍの波長域において、入射角が０度および１５度のときで１．５％以下、かつ入射角が３０度および４５度のときで４．５％以下であり、高い反射防止性能が得られていることが確認できる。
【００５０】
【表１】
2017076081.tif 000007
【００５１】
（実施例８〜６４）
表２〜１０には、実施例８〜６４の構成を示している。すべての実施例において、最上層を除く下地層１１は真空蒸着法にて成膜されたものである。また、最上層は、中空ＳｉＯ２含有の溶液にバインダー溶液を加え、混合調整した液をスピンコーターで塗工し、１００〜２５０℃のクリーンオーブンで１時間焼成して作製されたものである。
【００５２】
図１３には、実施例８〜６４における入射波長λ＝４３０ｎｍでの下地層１１の光学アドミタンス（基板０から下地層１１までの等価光学アドミタンス）を複素座標で示している。横軸がＹ＝ａ＋ｉｂにおける実数部ａを示し、縦軸が虚数部ｂを示す。このことは、後述する他の図で示す複素座標についても同じである。式（７）の条件の上限を点線の円で示す。この図から、実施例８〜６４におけるλ＝４３０ｎｍにおける光学アドミタンスの複素座標は式（７）の条件を満足することが確認できる。
【００５３】
図１４には、実施例８〜６４における入射波長λ＝９００ｎｍでの下地層１１の光学アドミタンスを複素座標で示している。式（８）の条件の上限を一点鎖線の円で示す。この図から、実施例８〜６４におけるλ＝９００ｎｍにおける光学アドミタンスの複素座標は式（８）の条件を満足することが確認できる。
【００５４】
図１５には、実施例８〜６４における入射波長λ＝１８００ｎｍでの下地層１１の光学アドミタンスを複素座標で示している。式（９）の条件の上限を一点鎖線の円で示す。この図から、実施例８〜６４におけるλ＝１８００ｎｍにおける光学アドミタンスの複素座標は式（９）の条件を満足することが確認できる。
【００５５】
図１６には、実施例８〜６４における４３０〜１８００ｎｍの波長域での入射角０度のときの反射率を示す。これらの反射率は、４３０〜１８００ｎｍの波長域において１．５％以下であり、きわめて高い反射防止性能が得られていることが確認できる。
【００５６】
図１７には、実施例８〜６４における４３０〜１８００ｎｍの波長域での入射角４５度のときの反射率を示す。これらの反射率は、４３０〜１８００ｎｍの波長域において４．５％以下であり、高い反射防止性能が得られていることが確認できる。
【００５７】
【表２】
2017076081.tif 000008
【００５８】
【表３】
2017076081.tif 000009
【００５９】
【表４】
2017076081.tif 000010
【００６０】
【表５】
2017076081.tif 000011
【００６１】
【表６】
2017076081.tif 000012
【００６２】
【表７】
2017076081.tif 000013
【００６３】
【表８】
2017076081.tif 000014
【００６４】
【表９】
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【００６５】
【表１０】
2017076081.tif 000016
【００６６】
（実施例６５）
図１８には、本発明の実施例６５である光学機器として監視用ネットワークカメラ２００を示す。該カメラ２００は、物体の光学像を形成する撮像光学系２０１とこれを保持する筐体（保持部材）２０２とを有する。撮像光学系２０１は、複数のレンズにより構成されている。
【００６７】
そして、これら複数のレンズのうち少なくとも１つのレンズ（光学素子）に実施例１〜６４のいずれかの反射防止膜１０が形成されている。これにより、フレアやゴーストなどの有害光の発生を抑制した画像を生成できるだけでなく、透過光の増加によってより多くの画像情報を得ることが可能な高性能なカメラ２００を実現することができる。
【００６８】
なお、本実施例では光学機器の例としてネットワークカメラを挙げたが、ネットワークカメラ以外の撮像装置、交換レンズ等の各種光学機器の光学系を構成する光学素子に対して実施例１〜６４のいずれかの反射防止膜を設けることができる。
【００６９】
以上、説明した各実施例は代表的な例にすぎず、本発明の実施に際しては、各実施例に対して種々の変形や変更が可能である。
【符号の説明】
【００７０】
０          基板
１〜ｍ−１  薄膜層
ｍ          最上層
１１        下地層
【図１】
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【図２】
2017076081.tif 000018
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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