(57)【要約】【課題】複数回に亘って機能性インクの膜パターンを与えるに際しブランケットの湿潤状態の変化によるパターン解像度の低下を抑制する。【解決手段】ブランケットロール上のブランケットに与えられるインク膜パターンを被印刷体に転写する印刷装置である。ブランケットに吸収された溶媒を除去する溶媒除去手段と、ブランケットの周回線上の表面高さを繰り返し連続的に計測するライン計測手段と、を含み、溶媒除去手段はブランケットロールの１回転あたりに除去し得る溶媒の周回除去量を可変とする可変機構を含み、可変機構はライン計測手段によって計測されるブランケットロールの１回転あたりにおける周回線上の表面高さの平均値に対応して周回除去量を制御する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブランケットロール上のブランケットに与えられるインク膜パターンを被印刷体に転写する印刷装置であって、
前記ブランケットに吸収された溶媒を除去する溶媒除去手段と、
前記ブランケットの周回線上の表面高さを繰り返し連続的に計測するライン計測手段と、を含み、
前記溶媒除去手段は前記ブランケットロールの１回転あたりに除去し得る前記溶媒の周回除去量を可変とする可変機構を含み、前記可変機構は前記ライン計測手段によって計測される前記ブランケットロールの１回転あたりにおける前記周回線上の前記表面高さの平均値に対応して前記周回除去量を制御することを特徴とする印刷装置。
【請求項２】
前記溶媒除去手段は、溶媒を吸収する溶媒吸収体を外周に備えたロール体であって前記ブランケットロールの回転軸と平行な回転軸の周りに回転自在に軸支された溶媒除去ロールを含み、
前記可変機構は、前記溶媒除去ロールを前記ブランケットに当接又は離間させるように移動させる駆動機構を含むことを特徴とする請求項１記載の印刷装置。
【請求項３】
前記可変機構は、前記溶媒除去ロールを前記ブランケットに当接させる押圧力を変化させるよう制御を与えることを特徴とする請求項２記載の印刷装置。
【請求項４】
前記可変機構は、前記ブランケット上での前記溶媒吸収体との接触位置の移動速度を変化させるよう制御を与えることを特徴とする請求項２記載の印刷装置。
【請求項５】
前記ライン計測手段は、スポット光を前記ブランケットロールに向けて出射する光学距離計測手段であって、前記ブランケットロールの回転軸に沿って複数個与えられていることを特徴とする請求項１乃至４のうちの１つに記載の印刷装置。
【請求項６】
前記溶媒吸収体の溶媒を除去する第２の溶媒除去手段を含むことを特徴とする請求項２乃至５のうちの１つに記載の印刷装置。
【請求項７】
ブランケットロール上のブランケットに与えられるインク膜パターンを被印刷体に転写する印刷方法であって、
前記ブランケットに吸収された溶媒を除去する溶媒除去手段と、
前記ブランケットの周回線上の表面高さを計測するライン計測手段と、を含み、
さらに前記溶媒除去手段に前記ブランケットロールの１回転あたりに除去し得る前記溶媒の周回除去量を可変とする可変機構を含む印刷装置において、
前記ライン計測手段によって前記ブランケットロールの１回転あたりにおける前記周回線上の前記表面高さを繰り返し連続的に計測してその平均値を算出し、これに対応して前記可変機構によって前記周回除去量を制御することを特徴とする印刷方法。
【請求項８】
前記溶媒除去手段は、溶媒を吸収する溶媒吸収体を外周に備えたロール体であって前記ブランケットロールの回転軸と平行な回転軸の周りに回転自在に軸支された溶媒除去ロールを含み、
前記可変機構は、前記溶媒除去ロールを前記ブランケットに当接又は離間させるように移動させる駆動機構を含むことを特徴とする請求項７記載の印刷方法。
【請求項９】
前記可変機構により、前記溶媒除去ロールを前記ブランケットに当接させる押圧力を変化させるよう制御を与えることを特徴とする請求項８記載の印刷方法。
【請求項１０】
前記可変機構により、前記ブランケット上での前記溶媒吸収体との接触位置の移動速度を変化させるよう制御を与えることを特徴とする請求項８記載の印刷装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、オフセット印刷のようなブランケットを用いた印刷方法及び印刷装置に関し、特に、印刷エレクトロニクス技術による電子デバイスの製造にあたって複数回に亘って機能性インクの膜パターンを与えるに際しブランケットの湿潤状態の変化によるパターン解像度の低下を抑制する印刷方法及び印刷装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
機能性材料をインク化して印刷技術によって電子デバイスを製造する試みがなされている。かかる印刷エレクトロニクス技術は常圧かつ比較的低温のプロセスであるため、低エネルギーでかつ簡便にデバイス製造が可能であり、メタル配線形成のみならず受動素子およびアクティブ素子の新しい形成法としても期待されている。
【０００３】
例えば、機能性材料をインク化した機能性インクとしては、導電性金属からなる微粒子分散インク、有機半導体インク、酸化物半導体ゾルゲルインク、絶縁性高分子インクが挙げられる。これらのインクによって形成されたパターン膜を複数層重ね合わせてデバイスが形成できる。ボトムゲート・ボトムコンタクト型薄膜トランジスタを例に挙げれば、（ア）導電性インクのパターニングによるゲート電極形成、（イ）塗布またはパターニングによるゲート絶縁膜形成、（ウ）導電性インクのパターニングによるソースおよびドレイン電極形成、（エ）有機半導体層のパターニングの順に印刷を行うことになる。
【０００４】
ところで、印刷技術を大別すると、流動性が高い状態のインクを被転写体（被印刷体）に転写して印刷を完了させる方法と、インク膜の弾性および粘性を高めて半乾燥状態になった後に転写して印刷を完了させる方法とがある。前者の流動性のあるインクを転写する方式には、スクリーン印刷、インクジェット印刷、凸版印刷、グラビア印刷が含まれる。一方、後者の半乾燥状態にあるインク膜を転写する方法には、スクリーンオフセット印刷、グラビアオフセット印刷、反転転写印刷法（反転オフセット印刷）が含まれる。
【０００５】
前者の印刷方法では、被転写体にインク膜をパターニングした後、インク膜が基板上で濡れ広がってしまうため、高解像度のパターニングを要求される印刷エレクトロニクス技術には課題も多い。一方、後者の半乾燥状態のインク膜を転写する印刷方法では、インクの濡れ広がりを抑制できるため、高い解像性を実現でき、より印刷エレクトロニクス技術に好適である。特に、エレクトロニクス基板として多く用いられるガラス、シリコンまたはプラスチックフィルムなど非溶媒吸収性の被転写体にも容易にパターン転写を行うことが出来得る。
【０００６】
このような半乾燥状態のインク膜を転写する印刷方法は、いずれもシリコーンゴムからなるブランケットにインク膜を塗布または転写し、インク膜からブランケットに溶媒を移行させインク膜の湿潤状態を半乾燥状態にする。ここで、印刷を繰り返すとともに、ブランケットに吸収された溶媒量は増加し、インク膜からブランケットへの溶媒の吸収フラックスが減少するから、インク膜の乾燥状態が低下してパターン解像度が低化する。
【０００７】
そこで、このようなブランケットに吸収された溶媒を除去する方法として、例えば、特許文献１乃至３では、溶媒吸収体を転写ローラに接触させる方法が開示されている。また、熱風をあてて溶媒を蒸発させる方法、真空引きによって溶媒を蒸発させる方法、近紫外線を照射し溶媒を蒸発させる方法なども提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平８−１５６３８８号公報
【特許文献２】特開２０００−１５８６３３号公報
【特許文献３】特開２００７-０９０６９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、インク膜からブランケットへの溶媒の吸収フラックスが大きすぎたような場合は、インク膜が過乾燥状態になって転写を良好にできなくなる。つまり、インク膜の湿潤状態としては望ましい一定の固形分率の範囲がある。
【００１０】
本発明は、以上のような問題点に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、印刷エレクトロニクス技術による電子デバイスの製造にあたって複数回に亘って機能性インクの膜パターンを与えるに際しブランケットの湿潤状態の変化によるパターン解像度の低下を抑制する印刷方法及び印刷装置の提供にある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明による印刷装置は、ブランケットロール上のブランケットに与えられるインク膜パターンを被印刷体に転写する印刷装置であって、前記ブランケットに吸収された溶媒を除去する溶媒除去手段と、前記ブランケットの周回線上の表面高さを繰り返し連続的に計測するライン計測手段と、を含み、前記溶媒除去手段は前記ブランケットロールの１回転あたりに除去し得る前記溶媒の周回除去量を可変とする可変機構を含み、前記可変機構は前記ライン計測手段によって計測される前記ブランケットロールの１回転あたりにおける前記周回線上の前記表面高さの平均値に対応して前記周回除去量を制御することを特徴とする。
【００１２】
かかる発明によれば、ブランケットの表面高さに応じてブランケットに吸収された溶媒の周回除去量を制御するので、ブランケットの湿潤状態の変化によるパターン解像度の低下を抑制することができる。
【００１３】
上記した発明において、前記溶媒除去手段は、溶媒を吸収する溶媒吸収体を外周に備えたロール体であって前記ブランケットロールの回転軸と平行な回転軸の周りに回転自在に軸支された溶媒除去ロールを含み、前記可変機構は、前記溶媒除去ロールを前記ブランケットに当接又は離間させるように移動させる駆動機構を含むことを特徴としてもよい。かかる発明によれば、比較的簡単な機構でブランケットに吸収された溶媒の周回除去量を制御できて、ブランケットの湿潤状態の変化によるパターン解像度の低下を抑制することができる。
【００１４】
上記した発明において、前記可変機構は、前記溶媒除去ロールを前記ブランケットに当接させる押圧力を変化させるよう制御を与えることを特徴としてもよい。かかる発明によれば、溶媒除去ロールの押圧力でブランケットに吸収された溶媒の周回除去量を制御できる。
【００１５】
上記した発明において、前記可変機構は、前記ブランケット上での前記溶媒吸収体との接触位置の移動速度を変化させるよう制御を与えることを特徴としてもよい。かかる発明によれば、溶媒除去ロールの移動速度でブランケットに吸収された溶媒の周回除去量を制御できる。
【００１６】
上記した発明において、前記ライン計測手段は、スポット光を前記ブランケットロールに向けて出射する光学距離計測手段であって、前記ブランケットロールの回転軸に沿って複数個与えられていることを特徴としてもよい。かかる発明によれば、ブランケットロールのより広い範囲の表面高さを測定でき、溶媒除去ロールによる周回除去量をより的確に調整できる。
【００１７】
上記した発明において、前記溶媒吸収体の溶媒を除去する第２の溶媒除去手段を含むことを特徴としてもよい。かかる発明によれば、溶媒吸収体の溶媒を除去する能力を容易に維持できる。
【００１８】
本発明による印刷方法は、ブランケットロール上のブランケットに与えられるインク膜パターンを被印刷体に転写する印刷方法であって、前記ブランケットに吸収された溶媒を除去する溶媒除去手段と、前記ブランケットの周回線上の表面高さを計測するライン計測手段と、を含み、さらに前記溶媒除去手段に前記ブランケットロールの１回転あたりに除去し得る前記溶媒の周回除去量を可変とする可変機構を含む印刷装置において、前記ライン計測手段によって前記ブランケットロールの１回転あたりにおける前記周回線上の前記表面高さを繰り返し連続的に計測してその平均値を算出し、これに対応して前記可変機構によって前記周回除去量を制御することを特徴とする。
【００１９】
かかる発明によれば、ブランケットの表面高さに応じてブランケットに吸収された溶媒の周回除去量を制御するので、ブランケットの湿潤状態の変化によるパターン解像度の低下を抑制することができる。
【００２０】
上記した発明において、前記溶媒除去手段は、溶媒を吸収する溶媒吸収体を外周に備えたロール体であって前記ブランケットロールの回転軸と平行な回転軸の周りに回転自在に軸支された溶媒除去ロールを含み、前記可変機構は、前記溶媒除去ロールを前記ブランケットに当接又は離間させるように移動させる駆動機構を含むことを特徴としてもよい。かかる発明によれば、比較的簡単な機構でブランケットに吸収された溶媒の周回除去量を制御できて、ブランケットの湿潤状態の変化によるパターン解像度の低下を抑制することができる。
【００２１】
上記した発明において、前記可変機構により、前記溶媒除去ロールを前記ブランケットに当接させる押圧力を変化させるよう制御を与えることを特徴としてもよい。かかる発明によれば、溶媒除去ロールの押圧力でブランケットに吸収された溶媒の周回除去量を制御できる。
【００２２】
上記した発明において、前記可変機構により、前記ブランケット上での前記溶媒吸収体との接触位置の移動速度を変化させるよう制御を与えることを特徴としてもよい。かかる発明によれば、接触位置の移動速度でブランケットに吸収された溶媒の周回除去量を制御できる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明による１つの実施例における印刷装置の要部のブロック図である。
【図２】本発明による印刷方法を示すフロー図である。
【図３】本発明による他の印刷方法を示すフロー図である。
【図４】印刷回数と印刷状態との関係を示す図である。
【図５】印刷回数と印刷状態との関係を示す図である。
【図６】印刷回数と印刷状態との関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
本発明による印刷装置の１つの実施例ついて、図１を用いて詳しく説明する。
【００２５】
図１に示すように、印刷装置１０は、シリコーンゴムなどからなるブランケット３を外周に貼り付けられたブランケットロール１と、ブランケット３の表面高さの変位を測定する変位計５と、溶媒吸収体４を外周に貼り付けられた溶媒除去ロール２と、溶媒除去ロール２の動作を制御する制御部６とを含む。なお、印刷装置１０は、印刷エレクトロニクス技術による電子デバイスの製造に用いられ、ブランケット３によって機能性インクによるインク膜パターンを被印刷体に転写する装置であるが、これに含まれるその他の公知の部材や被印刷体については図示及び説明を省略する。
【００２６】
溶媒除去ロール２は、その回転軸をブランケットロール１の回転軸と平行に保たれ、溶媒吸収体４をブランケット３に対して離間させた位置から当接させる位置までその回転軸を移動可能とされ、ブランケット３の表面に対して溶媒吸収体４を滑らさないようにブランケットロール１の回転に合わせて回転可能とされる。つまり、ブランケット３及び溶媒吸収体４の互いの表面の当接位置は互いの表面に対して同一速度で移動する。例えば、ブランケットロール１と溶媒除去ロール２との双方に回転用のモータをそれぞれ接続させて表面の移動速度を合わせた同期運転をさせたり、溶媒除去ロール２にモータを接続させずにブランケットロール１の回転を動力として連動させたりできる。
【００２７】
溶媒吸収体４はブランケット３に吸収された溶媒をその表面から吸収して除去し得るが、さらに溶媒吸収体４から溶媒を吸収する第２の吸収体２２を備えることが好ましい。第２の吸収体２２は、例えば、溶媒除去ロール２と平行な回転軸を有するバックアップロール２１の外周に貼り付けられており、その表面を溶媒吸収体４の表面に押し付け可能に配置される。これにより、溶媒除去ロール２による溶媒を除去する能力を低下させることなく維持させやすくなる。
【００２８】
制御部６は、ブランケット３の表面高さの変位を示す信号を変位計５から入力される。制御部６は、この表面高さの変位を繰り返し連続的にモニタリングでき、ブランケットロール１の１回転あたりにおける表面高さの平均値に対応させて、溶媒除去ロール２の動作を制御できる。つまり、制御部６は、図示しない駆動機構を用いて、溶媒吸収体４をブランケット３に対して離間させた位置と当接させた位置との間で移動させるよう、溶媒除去ロール２の回転軸を移動させ、また、例えばブランケットロール１を介するなどして、溶媒除去ロール２を所望の回転速度で回転させることができる。
【００２９】
なお、変位計５としては、例えばレーザ変位計を用い得る。この場合、ブランケット３の周回線上の表面高さの変位を計測できるが、これをブランケットロール１の軸方向に複数設けることが好ましい。これによって、ブランケット３の表面高さの変位をより広範囲において計測できて、後述する溶媒の除去における制御部６による制御をより的確に行い得る。
【００３０】
上記した印刷装置１０は、ブランケット３の湿潤状態の変化による転写パターンの解像度の低下を抑制できるため、高解像性が求められるエレクトロニクスデバイス用途において高品質な配線等を形成する印刷技術において好適に利用できる。
【００３１】
次に、印刷装置１０の動作について、図１及び図２を用いて説明する。
【００３２】
図２に図１を併せて参照すると、印刷装置１０によって印刷を行う（Ｓ１）。すなわち、ブランケット３の表面に機能性インクの膜パターンを形成させて、これを被印刷体に転写する。
【００３３】
これとともにブランケット３の表面高さを計測する（Ｓ２）。すなわち、変位計５によって表面高さを計測するが、かかる計測は印刷（Ｓ１）中から次の印刷（Ｓ１）まで連続的に行って、次の印刷後においても繰り返し行う。
【００３４】
制御部６によって、計測した表面高さをブランケットロール１の１回転において平均し、この平均値が所定値を超えたか（又は所定値に達したか）を判定する（Ｓ３）。平均値が所定値を超えていない場合（Ｓ３；Ｎ）、このサイクルを終了して次の印刷（Ｓ１）に進む。
【００３５】
表面高さの平均値が所定値を超えていた場合（Ｓ３：Ｙ）、溶媒の除去を行う（Ｓ４）。すなわち、制御部６によって溶媒除去ロール２を移動させて溶媒吸収体４をブランケット３に当接させて、ブランケットロール１と共に回転させてブランケット３に吸収された溶媒を溶媒吸収体４で吸収し、ブランケット３から除去するのである。なお、ブランケットロール１は１回転させて、ブランケット３の表面全体に溶媒吸収体４を当接させる。その後、このサイクルを終了して次の印刷（Ｓ１）に進む。
【００３６】
ここで、ブランケット３は、印刷において機能性インクの膜パターンを被印刷体に転写するが、印刷を繰り返す度に溶媒を吸収し乾燥状態から湿潤状態に変化する。これに伴い、ブランケット３はその厚さを大きくするように変化し表面高さを変位させる。湿潤状態で溶媒を過多に吸収していると、インク膜の乾燥状態が低下して転写される膜パターンの解像性が低化してしまう。そこで、印刷装置１０では、制御部６によって、ブランケットロール１の１回転あたりにおける表面高さの平均値に対応させて、溶媒除去ロール２の動作を制御し、ブランケットロール１の１回転あたりにブランケット３から溶媒吸収体４に吸収し除去し得る溶媒の周回除去量を制御して、溶媒の除去を行うのである。これによって、ブランケットの湿潤状態の変化によるパターン解像度の低下を抑制することができる。
【００３７】
特に、制御部６は、表面高さの平均値に対応させて、溶媒吸収体４をブランケット３に当接させる押圧力を変化させたり、溶媒除去ロール２の回転速度、すなわち溶媒吸収体４のブランケット３に当接する位置のブランケット３上での移動速度を変化させたりすることが好ましい。つまり、押圧力や回転速度によってブランケットロール１回転あたりの溶媒の周回除去量を調整し、ブランケット３の湿潤状態を最適な状態に保ち、印刷状態を良好に保つのである。
【００３８】
次に、ブランケット３及び溶媒吸収体４の当接位置の移動速度の定め方の一例について説明する。
【００３９】
まず、１回目の印刷を実施する。印刷法はブランケット３から被印刷体に機能性インクを転写させる印刷方法であり、例えばグラビアオフセット、スクリーンオフセット、反転オフセットが挙げられる。次に、印刷終了後のブランケットの厚みｔをレーザ変位計で測定する。これをｎ回繰り返し、印刷１回あたりの厚さの変化量Δｔについて、
Δｔ＝（ｔ（ｎ）−ｔ（０））／ｎ
を算出する。ここでｔ（ｎ）はｎ回目の印刷を終えた直後のブランケット３の厚さを表す。また、被印刷体の印刷状態を顕微鏡で観察する。
【００４０】
そして、溶媒除去ロール２の溶媒吸収体４をブランケット３に押し当てて、当接位置の移動速度をＶとする溶媒除去工程（Ｓ４）を印刷工程（Ｓ１）の直後に導入し、このときのブランケット３の印刷１回あたりの膜厚変化量Δｔ（Ｖ）を上記と同様の方法によって測定する。
【００４１】
少なくとも２つ以上の移動速度に対して上記の方法を実施し、ブランケット３の湿潤による膨張、つまり膨潤厚さと被印刷体の印刷状態との相関を観察した。ここで、印刷されたパターンの印刷状態に欠落などがみられた場合は、ブランケット３上に塗布または転写されたインク膜が過乾燥状態になったことによる転写不良であるとみなし、このときのブランケット厚さｔＬを決定する。一方、印刷状態のうちパターンの配線幅が設計値から乖離し、所望の配線幅よりも太くなってしまった場合は、ブランケット３上に塗布又は転写されたインク膜が過湿潤状態になったことによるパターン解像度が低化したものであるとみなし、このときのブランケット厚さｔＨを決定する。さらに最適ブランケット厚さｔ＊について、
ｔ＊＝（ｔＬ＋ｔＨ）／２
を算出する。
【００４２】
当接位置の移動速度に対するブランケット厚さの変化量の関係ｆ（Ｖ）を以下のように計算され得る。すなわち、ｆ（Ｖ）は、測定されたＶとΔｔに関するデータに対して線形回帰または多項式回帰を行って求め得るが、最も簡単には、２つの走査速度Ｖ１、Ｖ２に対して線形近似を行って以下のように求め得る。
ｆ（Ｖ）＝ａＶ＋ｂ
ａ＝（Δｔ（Ｖ2）-Δｔ（Ｖ1））／（Ｖ2-Ｖ1）
ｂ＝Δｔ（Ｖ１）-ａＶ１
【００４３】
以上の予備データを用いて、例えば、図３に示すように、下記の手順で連続印刷を実施できる。
【００４４】
すなわち、印刷を実施し（Ｓ１）、印刷終了後のブランケット３の厚さをレーザ変位計で測定する（Ｓ２）。このときｔ＜ｔＬであれば（Ｓ３−１；Ｙ）不良とみなし、溶媒除去（Ｓ４）を経ずに、次の印刷（Ｓ１）を実施する。一方、ｔ＞ｔＨであれば（Ｓ３−２；Ｙ）、溶媒除去（Ｓ４）を行うが、ブランケット３と溶媒吸収体４との当接位置の移動速度Ｖ＝ｇ（ｔ）で接触させる。このとき、上記したように、
ｇ（ｔ）＝（ｔ-ｔ＊-ｂ）／ａ
によって移動速度を決定できる。その後、次の印刷（Ｓ１）を行って、同様に所望の回数まで連続印刷を行う。
【００４５】
なお、所望のブランケット厚さｔ＊と測定されたブランケット厚さの差ｔ-ｔ＊が小さい場合（Ｓ３−２；Ｎ）は、溶媒吸収（Ｓ４）は省略される。また、ｔ＞ｔＨとなったとき（Ｓ３−２；Ｙ）に初めて溶媒除去（Ｓ４）を行うため、溶媒除去（Ｓ４）を行う前に必ず不良とみなされてしまう。そこで、ｔＨの代わりにこれより厚さの小さいｔＭを設定し、ｔＨに到達しないように制御する。
【００４６】
次に、溶媒吸収体４のブランケット３に当接する位置のブランケット３上での移動速度を変化させた場合のブランケット３の表面高さの変化を計測する試験を行ったのでこの試験結果を説明する。
【００４７】
試験材料として以下を用いた。すなわち、機能性（導電性）インクとして、主溶媒がブチルカルビトールアセテートであるＤＩＣ株式会社製グラビアオフセット印刷用銀ペーストを用いた。ブランケット３として、信越化学工業株式会社製シリコーンゴムを用いた。溶媒吸収体４として、ウレタン系ゴムからなる粘着ロールである株式会社加貫ローラ製作所製のダストレルＭを用いた。
【００４８】
印刷については、版深１０μｍのステンレス製グラビアオフセット用凹版を用い、幅４０μｍのライン状凹部にスキージを用いて銀ペーストを充填し、その後、ブランケットに転写、これをガラスに転写して印刷を行った。
【００４９】
試験方法として、上記した印刷工程を１５回繰り返し、５回ごとに被印刷体において欠陥の有無及び平均線幅からなる印刷状態の評価結果、１回目の印刷後を０とした凹版凹部に対応するブランケットの厚さの変化量を光干渉式膜厚計によって測定した。その結果を図４に示した。
【００５０】
次に、溶媒吸収体としてダストレルＭを表面に備えて直径８０ｍｍとなった溶媒除去ロールをある一定の押圧力でブランケットに当接させ、所定の速度でブランケットロールを１回転させ、溶媒除去ロールを連動させる溶媒除去工程を各印刷工程後に導入して、同じく１５回までの連続印刷を行った。ブランケットと溶媒吸収体と当接位置のブランケットの表面上での移動速度はＶ＝５ｍｍ／秒及びＶ＝２０ｍｍ／秒の２パターンとして試験を行った。Ｖ＝５ｍｍ／秒及びＶ＝２０ｍｍ／秒の条件における印刷状態の評価結果及びブランケットの厚さの変化量をそれぞれ図５及び図６に示した。
【００５１】
図４乃至６から判るように、転写不良による欠陥を回避するためには、ブランケットの膨潤厚が１０ｎｍでは不足し、３３ｎｍあれば足り得る。また、線幅の太さの増大量が設計値である４０ｎｍの５％以内、すなわち３８ｎｍから４２ｎｍの範囲に抑えるためには、ブランケットの厚さの変化量が０以上で、上限が３３から５６ｎｍの範囲内である。
【００５２】
また、この条件においては、溶媒吸収体の当接位置のブランケット上での移動速度が速いほど、溶媒除去能力が小さくなる。定量的には、１回あたりの膜厚変化量は、図４に示すように、溶媒吸収工程なしの場合に１２ｎｍ／回である。また、図５に示すように、移動速度２０ｍｍ／秒の場合には５．６ｎｍ／回である。同様に、図６に示すように、移動速度５ｍｍ／秒の場合には２．５ｎｍ／回である。
【００５３】
以上、本発明による実施例及びこれに基づく変形例を説明したが、本発明は必ずしもこれに限定されるものではなく、当業者であれば、本発明の主旨又は添付した特許請求の範囲を逸脱することなく、様々な代替実施例及び改変例を見出すことができるであろう。
【符号の説明】
【００５４】
１  ブランケットロール
２  溶媒除去ロール
３  ブランケット
４  溶媒吸収体
５  変位計
６  制御部
１０  印刷装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
2017170705.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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