(57)【要約】【課題】本発明は、厚みの薄い光硬化型接着層を用いて、被転写部材上に機能層を良好に転写することが可能な機能層付部材の製造方法を提供することを主目的とする。【解決手段】本発明は、転写用基材および上記転写用基材上に形成された機能層を有する転写用積層体を準備する準備工程と、少なくとも基材を有する被転写部材上に、光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層を形成する塗布工程と、上記光硬化型接着層と、上記転写用積層体の上記機能層とを貼合する貼合工程と、上記光硬化型接着層を露光することにより、上記光硬化型樹脂材料を硬化させて、上記被転写部材上に上記機能層を接着する露光工程と、上記転写用積層体の上記転写用基材を剥離することにより、上記被転写部材上に上記機能層を転写する転写工程と、を有することを特徴とする機能層付部材の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写用基材および前記転写用基材上に形成された機能層を有する転写用積層体を準備する準備工程と、
少なくとも基材を有する被転写部材上に、光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層を形成する塗布工程と、
前記光硬化型接着層と、前記転写用積層体の前記機能層とを貼合する貼合工程と、
前記光硬化型接着層を露光することにより、前記光硬化型樹脂材料を硬化させて、前記被転写部材上に前記機能層を接着する露光工程と、
前記転写用積層体の前記転写用基材を剥離することにより、前記被転写部材上に前記機能層を転写する転写工程と、
を有することを特徴とする機能層付部材の製造方法。
【請求項２】
前記被転写部材が、前記基材上に形成された第２機能層を有することを特徴とする請求項１に記載の機能層付部材の製造方法。
【請求項３】
転写用基材および前記転写用基材上に形成された表示装置用機能層を有する転写用積層体を準備する準備工程と、
少なくとも基材を有する被転写部材上に、光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層を形成する塗布工程と、
前記光硬化型接着層と、前記転写用積層体の前記表示装置用機能層とを貼合する貼合工程と、
前記光硬化型接着層を露光することにより、前記光硬化型樹脂材料を硬化させて、前記被転写部材上に前記表示装置用機能層を接着する露光工程と、
前記転写用積層体の前記転写用基材を剥離することにより、前記被転写部材上に前記表示装置用機能層を転写する転写工程と、
を有することを特徴とする表示装置用部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、転写法を用いて、被転写部材上に機能層を形成する機能層付部材の製造方法および表示装置用部材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ディスプレイの分野、電子素子の分野、建材分野等の種々の分野において、感圧接着剤（ＰＳＡ）から構成される接着層は、例えば、基材同士、または基材および機能層を貼合するために用いられている（例えば、特許文献１）。なお、以下、感圧接着剤から構成される接着層を感圧接着層と称して説明する場合がある。
【０００３】
感圧接着層を用いて、転写法により、基材上に機能層を形成する技術も提案されている。
図５（ａ）〜（ｆ）は従来の機能層付部材の製造方法の一例を示す概略工程図である。従来においては、まず図５（ａ）に示すように、剥離紙等の保護基材６と、保護基材６上に形成された感圧接着剤を含む接着層（感圧接着層）７を有する転写用積層体８を準備する。次に、図５（ｂ）に示すように、被転写部材４上に、転写用積層体８の感圧接着層７を圧着させた後、図５（ｃ）に示すように、保護基材６を剥離することにより、被転写部材４上に感圧接着層７を転写する。次に、図５（ｄ）に示すように、転写用基材２および機能層３ａを有する転写部材１を準備し、図５（ｅ）に示すように、感圧接着層７と機能層３ａとを対向させて圧着する。次に、図５（ｆ）に示すように、転写用基材２を剥離することにより、被転写部材４上に機能層３ａを転写する。以上の工程により、機能層付部材１０Ｂを製造する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１５−１９１６３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
感圧接着剤から構成される接着層は、例えば、保護基材上に感圧接着層を形成した後、転写することにより被転写部材上に形成される。そのため、感圧接着層は、転写に耐え得る強度を付与するため、比較的厚みを厚くする必要がある。したがって、感圧接着層を用いた転写法においては、機能層付部材を薄く形成することが困難な場合がある。
【０００６】
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、厚みの薄い光硬化型接着層を用いて、被転写部材上に機能層を良好に転写することが可能な機能層付部材の製造方法を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、転写用基材および上記転写用基材上に形成された機能層を有する転写用積層体を準備する準備工程と、少なくとも基材を有する被転写部材上に、光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層を形成する塗布工程と、上記光硬化型接着層と、上記転写用積層体の上記機能層とを貼合する貼合工程と、上記光硬化型接着層を露光することにより、上記光硬化型樹脂材料を硬化させて、上記被転写部材上に上記機能層を接着する露光工程と、上記転写用積層体の上記転写用基材を剥離することにより、上記被転写部材上に上記機能層を転写する転写工程と、を有することを特徴とする機能層付部材の製造方法を提供する。
【０００８】
本発明によれば、塗布工程において、塗布法を用いて光硬化型接着層を形成することができるため、光硬化型接着層の厚みを薄く形成することができる。また、本発明によれば、露光工程において、露光により光硬化型樹脂材料を硬化させて、被転写部材上に機能層を接着することができるため、厚みの薄い光硬化型接着層を用いて被転写部材および機能層を良好に接着させることができる。よって、厚みの薄い光硬化型接着層を用いて被転写部材上に機能層を良好に転写することができる。
【０００９】
上記発明においては、上記被転写部材が、上記基材上に形成された第２機能層を有することが好ましい。本発明においては、塗布法を用いて光硬化型接着層を形成することができるため、例えば、基材上に第２機能層が所定のパターン状に形成されていることにより、被転写部材が表面凹凸を有していても、光硬化型接着層を被転写部材の表面凹凸に追従させて形成することができるからである。
【００１０】
本発明は、転写用基材および上記転写用基材上に形成された表示装置用機能層を有する転写用積層体を準備する準備工程と、少なくとも基材を有する被転写部材上に、光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層を形成する塗布工程と、上記光硬化型接着層と、上記転写用積層体の上記表示装置用機能層とを貼合する貼合工程と、上記光硬化型接着層を露光することにより、上記光硬化型樹脂材料を硬化させて、上記被転写部材上に上記表示装置用機能層を接着する露光工程と、上記転写用積層体の上記転写用基材を剥離することにより、上記被転写部材上に上記表示装置用機能層を転写する転写工程と、を有することを特徴とする表示装置用部材の製造方法を提供する。
【００１１】
本発明によれば、厚みの薄い光硬化型接着層を用いて、被転写部材上に表示装置用機能層を形成することができるため、薄膜の表示装置用部材を形成することができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の機能層付部材の製造方法は、厚みの薄い光硬化型接着層を用いて、被転写部材上に機能層を良好に転写することが可能となるといった効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の機能層付部材の製造方法の一例を示す概略工程図である。
【図２】本発明における光硬化型接着層の一例を示す概略断面図である。
【図３】本発明の機能層付部材の製造方法の他の例を示す概略工程図である。
【図４】本発明の表示装置用部材の製造方法の一例を示す概略工程図である。
【図５】従来の機能層付部材の製造方法の一例を示す概略工程図である。
【図６】従来の感圧接着層の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の機能層付基材の製造方法および表示装置用部材の詳細を説明する。
【００１５】
Ａ．機能層付部材の製造方法
以下、本発明の機能層付部材の製造方法の詳細を説明する。
本発明の機能層付部材の製造方法は、転写用基材および上記転写用基材上に形成された機能層を有する転写用積層体を準備する準備工程と、少なくとも基材を有する被転写部材上に、光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層を形成する塗布工程と、上記光硬化型接着層と、上記転写用積層体の上記機能層とを貼合する貼合工程と、上記光硬化型接着層を露光することにより、上記光硬化型樹脂材料を硬化させて、上記被転写部材上に上記機能層を接着する露光工程と、上記転写用積層体の上記転写用基材を剥離することにより、上記被転写部材上に上記機能層を転写する転写工程と、を有することを特徴とする。
【００１６】
本発明の機能層付部材の製造方法について、図を参照しながら説明する。図１（ａ）〜（ｅ）は、本発明の機能層付部材の製造方法の一例を示す概略工程図である。本発明においては、まず図１（ａ）に示すように、転写用基材２および転写用基材２上に形成された機能層３ａを有する転写用積層体１を準備する（準備工程）。次に図１（ｂ）に示すように、基材４ａ（被転写部材４）上に、例えばダイコーター等の塗布装置Ｃを用いて光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層５を形成する（塗布工程）。次に図１（ｃ）に示すように、光硬化型接着層５と、転写用積層体１の機能層３ａとを貼合する（貼合工程）。次に図１（ｄ）に示すように、露光光Ｌを照射して、光硬化型接着層５を露光することにより、光硬化型樹脂材料を硬化させて、被転写部材４上に機能層３ａを接着する（露光工程）。次に図１（ｅ）に示すように、転写用積層体１の転写用基材２を剥離することにより、被転写部材４上に機能層３ａを転写する（転写工程）。以上の工程により、機能層付部材１０Ａを製造することができる。
【００１７】
本発明によれば、塗布工程において、塗布法を用いて光硬化型接着層を形成することができるため、光硬化型接着層の厚みを薄く形成することができる。また、本発明によれば、露光工程において、露光により光硬化型樹脂材料を硬化させて、被転写部材上に機能層を接着することができるため、厚みの薄い光硬化型接着層を用いて被転写部材および機能層を良好に接着させることができる。よって、厚みの薄い光硬化型接着層を用いて被転写部材上に機能層を良好に転写することができる。
【００１８】
ここで、従来から転写法においては、通常、感圧接着層が用いられている。被転写部材上に感圧接着層を形成するに際しては、予め、保護基材上に感圧接着層が形成された感圧接着層用の転写用積層体を準備し、上記転写用積層体の感圧接着層側の面を被転写部材上に圧着させた後、保護基材を剥離する。すなわち、感圧接着層は、それ自体が転写されることにより、被転写部材上に形成される。そのため、感圧接着層に対しては、転写部材上への圧着、保護基材の剥離に耐え得る強度を付与する必要があり、比較的厚みを厚くする必要がある。したがって、感圧接着層を用いた転写法においては、機能層付部材を薄く形成することが困難である。
これに対し、本発明によれば、厚みの薄い光硬化型接着層を用いて、被転写部材上に機能層を転写することができるため、機能層付部材の厚みを薄く形成することができる。
【００１９】
また、感圧接着層は、流動性が比較的低い。そのため、例えば、図６に示すように、被転写部材４が基材４ａ上に第２機能層３ｂを有する等、被転写部材４が表面凹凸を有する場合、被転写部材４上に形成された感圧接着層７に、被転写部材の表面凹凸の段差がそのまま生じる場合がある。すなわち、感圧接着層７における転写用積層体との貼合面を平坦にすることができない場合がある。そのため、感圧接着層および転写用積層体を良好に貼合することが困難となる場合がある。また、被転写部材４が表面凹凸を有する場合、感圧接着層７と被転写部材４とが密着していない部分の面積が多くなる場合がある。そのため、得られる機能層付部材の性能が低下する場合や、機能層が剥離することが懸念される。このような課題は、例えば、被転写部材上に微細なパターンを有する第２機能層が形成されている場合、特に生じやすい。また、感圧接着層は転写用積層体を用いて被転写部材上に形成されるため、例えば、感圧接着層の流動性を高くした場合も、保護基材が被転写部材の表面凹凸に追従することができないことにより、被転写部材の表面凹凸に感圧接着層を追従させて形成することが困難となることが懸念される。このような課題は、特に、感圧接着層の厚みを薄く形成した場合に生じやすい。
これに対し、本発明によれば、光硬化型樹脂材料を含有する接着剤の流動性を調整し、塗布法を用いて光硬化型接着層を形成することができるため、被転写部材の表面凹凸に光硬化型接着層を良好に追従させて形成することができる。また、本発明によれば、上記接着剤の塗布量を調整することにより、被転写部材の表面凹凸を光硬化型接着層で埋めることができる。よって、光硬化型接着層における機能層との貼合面に平坦性を付与することができ、機能層と光硬化型接着層とを良好に貼合することができる。
【００２０】
また、感圧接着層は、加熱により劣化しやすい。そのため、感圧接着層を用いた機能層付部材は、例えば、機能層の転写後に、さらに熱処理を必要とする後工程を行なうことが困難であるという問題がある。これに対し、本発明において得られる機能層付部材は、光硬化型樹脂材料を硬化させた光硬化型接着層を有するため、高い耐熱性を有することができる。そのため、機能層の転写後に、さらに熱処理を必要とする後工程を行なうことができる。よって、本発明の機能層付部材の製造方法は、感圧接着層を用いた従来の転写法に比べて、幅広い機能層の形成に適用することができる。
以下、本発明の機能層付部材の製造方法における各工程について説明する。
【００２１】
１．準備工程
本発明における準備工程は、転写用基材および転写用基材上に形成された機能層を有する転写用積層体を準備する工程である。
【００２２】
（１）転写用積層体
本発明における転写用積層体は、転写用基材および機能層を有する。
本発明においては、後述する露光工程において、通常、転写用積層体側および被転写部材側の少なくとも一方の方向から、光硬化型接着層に対して露光光を照射する。そのため、転写用積層体および被転写部材の少なくとも一方は、露光光に対する光透過性を有する。ここで、露光光に対する光透過性とは、光硬化型樹脂材料を硬化することが可能な程度に露光光を透過することをいい、具体的には、露光光の光透過率が６０％以上、中でも７０％以上であることが好ましい。また、転写用積層体および被転写部材の少なくとも一方は、例えば、全光線透過率が、６０％以上、中でも７０％以上であることが好ましい。なお、転写用積層体および被転写部材の露光光の光透過率は、分光光度計を用いて測定することができる。また、転写用積層体および被転写部材の全光線透過率は、例えば、スガ試験機株式会社製  全自動直読ヘイズコンピュータ（ＨＧＭ−２ＤＰ）により測定することができる。
【００２３】
本発明においては、転写用積層体が上述した露光光の光透過率および全光線透過率を有していても良い。転写用積層体が、露光光の光透過率および全光線透過率を有する場合は、被転写部材として光透過性を有しないものを用いることができるため、種々の被転写部材への機能層の形成が可能となる。
【００２４】
（ａ）機能層
本発明における機能層は、転写用基材上に形成される層である。また、機能層は、被転写部材上に転写される層であり、被転写部材に対して何らかの機能を付与する層である。
【００２５】
機能層の機能としては、例えば、光学的（光選択吸収、反射性、偏光性、光選択透過性、非線形光学性、蛍光あるいはリン光等のルミネッセンス、フォトクロミック性等）、磁気的（硬磁性、軟磁性、非磁性、透磁性等）、電気・電子的（導電性、絶縁性、圧電性、焦電性、誘電性等）、化学的（吸着性、脱着性、触媒性、吸水性、イオン伝導性、酸化還元性、電気化学特性、エレクトロクロミック性等）、機械的（耐摩耗性等）、熱的（伝熱性、断熱性、赤外線放射性等）、生体機能的（生体適合性、抗血栓性等）のような各種の機能を挙げることができる。
【００２６】
機能層は、露光光に対する光透過性を有していても良く、光透過性を有していなくても良い。機能層の厚みは、被転写部材上に転写することができれば特に限定されず、機能層の種類に応じて適宜選択することができる。
【００２７】
転写用基材上に形成される機能層は単一の層であっても良く、２種以上の機能層であっても良い。また、２種以上の機能層は積層されて形成されていても良く、積層されず、同一平面上に形成されていても良い。２種以上の機能層が積層されて形成されている場合、各機能層間に光硬化型接着層が形成されていても良い。すなわち、本発明における機能層が、本発明の製造方法により製造されたものであっても良い。
【００２８】
機能層としては、転写用基材の全域に形成されていても良く、所定のパターン状に形成されていても良い。
【００２９】
機能層としては、例えば、表示装置に用いられる遮光層、着色層、加飾層、低反射層、バリア層、絶縁層、回路基板等に用いられる配線、包材に用いられるバリア層、断熱層、吸湿層、建材などに用いられる加飾層、断熱層、耐磨耗層、低反射層、吸水層、自動車などの輸送機に用いられる加飾層、断熱層、低反射層、赤外線遮断層等を挙げることができる。また、機能層は、機能層を支持するための支持基材をさらに有していても良い。
【００３０】
機能層としては、例えば、表示装置用部材に用いられる表示装置用機能層であることが好ましい。表示装置用部材を薄く製造することができるからである。なお、表示装置用機能層の詳細は、後述する「Ｂ．表示装置用部材の製造方法」の項で説明する。
【００３１】
（ｂ）転写用基材
本発明における転写用基材は、機能層を支持する部材である。
転写用基材は、露光光に対する光透過性を有していても良く、有していなくても良い。機能層が露光光に対する光透過性を有する場合は、転写用基材としては、通常、露光光に対する光透過性を有するものが用いられる。
【００３２】
転写用基材は、フレキシブル性を有していても良く、フレキシブル性を有していなくても良いが、フレキシブル性を有することがより好ましい。転写用基材がフレキシブル性を有する場合、被転写部材の形態に応じて、転写用積層体を追従させて機能層を貼合しやすくすることができるからである。また、後述する剥離工程において、転写用基材を剥離しやすいからである。転写用基材のフレキシブル性としては、例えば、転写用基材上の機能層の機能を損なわない程度であれば良く、後述する「６．機能層付部材の製造方法」に記載の機能層付部材のフレキシブル性と同程度のフレキシブル性を示すことが好ましい。
【００３３】
転写用基材としては、例えば、ガラス基材、樹脂基材等を挙げることができる。本発明においては、中でも樹脂基材であることが好ましい。また、樹脂基材としては、樹脂フィルム基材であることが好ましい。
転写用基材の厚みとしては、機能層を形成することができ、機能層を被転写部材上に貼合することができれば特に限定されない。転写用基材の厚みとしては、例えば、３μｍ〜５００μｍの範囲内、中でも５μｍ〜４００μｍの範囲内、特に１０μｍ〜３００μｍの範囲内であることが好ましい。
転写用基材の形態としては、ロール状に巻き取られた形態であっても良く、機能層付部材の形態に対応した大きさを有する形態（枚葉の基材）であっても良い。
【００３４】
転写用基材および機能層の密着性としては、後述する剥離工程において機能層から転写用基材を剥離することができる程度であれば特に限定されない。本発明においては、後述する剥離工程において機能層から転写用基材を剥離しやすくするために、転写用基材の表面粗さ（例えば、ＪＩＳ Ｂ０６０１の算術平均粗さ（Ｒａ））が調整されていても良い。
【００３５】
２．塗布工程
本発明における塗布工程は、少なくとも基材を有する被転写部材上に、光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層を形成する工程である。本発明においては、被転写部材上に接着剤を塗布することを特徴とし、通常、転写用積層体上に接着剤を塗布しない。本発明の製造方法は、例えば、機能層が溶媒に弱い場合等に有効である。
【００３６】
（１）光硬化型接着層
光硬化型接着層に用いられる接着剤について説明する。
本発明に用いられる接着剤は、光硬化型樹脂材料を含有する。接着剤に用いられる光硬化型樹脂材料としては、例えば、例えば波長１００ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲の紫外線を照射することにより硬化させることが可能な紫外線硬化型樹脂材料を挙げることができる。紫外線硬化型樹脂材料としては、例えば、反応性エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリエチレン（ポリプロピレン）グリコール（メタ）ジアクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ビスフェノールフルオレン誘導体、ビスフェノキシエタノールフルオレンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールフルオレンジエポキキ（メタ）アクリレート等が挙げられる。なお、ここで（メタ）アクリレートとは、アクリレートまたはメタクリレートを意味する表記である。
本発明においては、これらの紫外線硬化型樹脂材料を１種類のみ用いても良く、または、２種類以上を混合して用いても良い。
【００３７】
本発明における接着剤は、必要に応じて、溶媒をさらに含有していても良い。接着剤が溶媒を含有する場合は、接着剤の流動性を高くすることができるため、例えば、被転写部材が微細な表面凹凸を有する場合も、上記表面凹凸に追従させて光硬化型接着層を形成することができるからである。なお、接着剤が溶媒を有する場合は、接着剤を塗布して塗膜を形成した後、塗膜を乾燥させて溶媒を除去することにより、光硬化型接着層が形成される。接着剤の粘度は、塗布法、第１部材および第２部材の形態等に応じて適宜選択することができる。
【００３８】
光硬化型接着層は、通常、硬化する前に所定のタック性を有する。
具体的には、光硬化型接着層が、温度２３℃、湿度６５％の環境下での傾斜式ボールタック試験（傾斜角２０°）のボールナンバーが１以上のタック性を有することが好ましく、中でもボールナンバーが２以上のタック性を有することが好ましく、特にボールナンバーが３以上のタック性を有することが好ましい。光硬化型接着層は、上述のようなタック性を有することにより、光硬化型接着層を介して第１部材および第２部材を十分な粘着力で貼合することができ、光照射した後の接着力も高めることができる。
なお、ここでの傾斜式ボールタック試験によるタック性の評価は、ＪＩＳ  Ｚ  ０２３７に準じて傾斜角２０°の治具に光硬化型接着層における接着面が上面となるように配置し、温度２３℃、湿度６５％の環境下で当該粘着面上に鋼球を転がしたとき、接着面上で５秒以上、鋼球が停止した最も大きなボールナンバーにより評価した。
【００３９】
塗布工程において形成される光硬化型接着層は、通常、所定の粘着性を有する。ここで、所定の粘着性とは、例えば、ＪＩＳ  Ｋ６８５４−２に規定の１８０度剥離試験によるガラス板に対する紫外線硬化型接着層の剥離強度が、１０Ｎ／２５ｍｍ幅以上であることが好ましく、中でも、１５Ｎ／２５ｍｍ幅以上であることが好ましく、特に、２０Ｎ／２５ｍｍ幅以上であることが好ましい。また、本発明においては、紫外線硬化型接着層の剥離強度が、例えば、５０Ｎ／２５ｍｍ幅以下であることが好ましく、中でも、４５Ｎ／２５ｍｍ幅以下であることが好ましく、特に、４０Ｎ／２５ｍｍ幅以下であることが好ましい。
【００４０】
本発明においては、光硬化型接着層を用いることにより、従来用いられていた感圧接着層と比較して厚みを薄くすることが可能である。本発明における光硬化型接着層の厚みは、例えば、１０μｍ以下であることが好ましく、中でも８μｍ以下であることが好ましく、特に６μｍ以下であることが好ましい。本発明における光硬化型接着層の厚みが上記上限であることにより、本発明により得られる機能層付部材を薄く製造することができる。また、本発明における光硬化型接着層の厚みは、例えば、０．５μｍ以上であることが好ましい。
本発明における光硬化型接着層の厚みが上記下限であることにより、光硬化型接着層を介して積層される被転写部材および機能層を十分に接着させることが可能となる。
なお、本発明における光硬化型接着層の厚みは、例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて断面を観察することにより測定することができる。また、光硬化型接着層が表面凹凸を有する機能層上に形成されている場合は、凸部上に形成された光硬化型接着層の厚みが上述した厚みを有することが好ましい。
【００４１】
本発明における紫外線硬化型接着層は、所定の透明性を有していても良く、具体的には、光硬化型接着層の全光線透過率が、８５％以上であっても良く、中でも９０％以上であることが好ましい。
なお、紫外線硬化型接着層の全光線透過率は、スガ試験機株式会社製  全自動直読ヘイズコンピュータ（ＨＧＭ−２ＤＰ）により測定することができる。
本発明における機能層付部材が表示装置用部材である場合は、紫外線硬化型接着層は、所定の透明性を有することが好ましい。
【００４２】
光硬化型接着層は、塗布法により形成される。本発明に用いられる塗布法としては、一般的な塗布法、印刷法を用いることができ、例えば、ダイコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、オフセット印刷法等を挙げることができる。
【００４３】
後述するように、被転写部材が基材および第２機能層を有する場合、光硬化型接着層は、第２機能層の形成面側に形成されても良く、第２機能層の形成面とは反対側に形成されても良い。
【００４４】
なお、光硬化型接着層は、後述する露光工程において露光光が照射されることにより、光硬化型樹脂材料が硬化される。すなわち、本発明により得られる機能層付部材において、光硬化型接着層は、光硬化型樹脂材料が硬化された層として形成される。このような光硬化型接着層は、耐熱性を良好なものとすることができる。
【００４５】
光硬化型接着層の残膜率評価試験後の残膜率は、例えば、８０％以上であることが好ましく、中でも８２％以上であることが好ましく、特に８５％以上であることが好ましい。なお、残膜率評価試験後の残膜率は、光硬化型接着層を焼成した前後での膜厚の比率により求めることができる。具体的には、残膜率＝（焼成後の膜厚）／（焼成前の膜厚）×１００により求めることができる。
【００４６】
光硬化型接着層は、５０℃〜８０℃の範囲内で１時間加熱した後の重量減少率が１５％以下であることが好ましく、中でも、１３％以下であることが好ましく、特に１０％以下であることが好ましい。なお、重量減少率を測定するための加熱温度は、５０℃〜８０℃の範囲内であれば良いが、中でも、５０℃〜７５℃の範囲内であることが好ましく、特に５０℃〜７０℃の範囲内であることが好ましい。また、重量減少率を測定するための加熱時間は、１時間であれば良いが、中でも、１時間〜１．５時間の範囲内であることが好ましく、特に１．５時間〜２時間の範囲内であることが好ましい。
【００４７】
（２）被転写部材
被転写部材は、機能層が転写される部材である。被転写部材は、露光光に対する光透過性を有していても良く、有していなくても良い。被転写部材が露光光に対する光透過性を有している場合、露光光に対する光透過率および全光線透過率については、上述した「１．準備工程  （１）転写用積層体」の項で説明した内容と同様とすることができる。被転写部材が光透過性を有する場合は、転写用積層体、特に機能層として光透過性を有しないものを用いることができるため、種々の機能層を被転写部材上に転写することができる。
なお、上述した転写機能層が露光光に対する光透過性を有しない場合は、通常、被転写部材が露光光に対する光透過性を有する。
本発明に用いられる被転写部材は、少なくとも基材を有していれば良く、基材のみを有していても良く、基材と基材上に形成された第２機能層を有していても良い。
【００４８】
被転写部材に用いられる基材としては、機能層付部材の種類に応じて適宜選択される。被転写部材に用いられる基材としては、例えば、板、シート、フィルム等の基板を挙げることができる。また、基材としては、例えば、樹脂成形体等の三次元形状を有する成形体を挙げることができる。中でも、被転写部材に用いられる基材は、基板であることが好ましい。被転写部材に用いられる基材は、フレキシブル性を有していても良く、フレキシブル性を有していなくても良い。被転写部材に用いられる基材のフレキシブル性は、基材上に転写される機能層、および必要に応じて形成される第２機能層の機能を損なわない程度であれば良く、後述する「６．機能層付部材の製造方法」に記載の機能層付部材のフレキシブル性と同程度のフレキシブル性を示すことが好ましい。
基材の形態としては、ロール状に巻き取られた形態であっても良く、機能層付部材の形態に対応した大きさを有する形態（枚葉の基材）であっても良い。
【００４９】
上述した基板、成形体以外にも、被転写部材に用いられる基材としては、例えば、ガラス基材上に形成された樹脂層を挙げることができる。基材が、ガラス基材上に形成された樹脂層である場合、後述する剥離工程後に、被転写部材の樹脂層からガラス基材を剥離することにより、機能層付部材をより薄くすることができる。
樹脂層を構成する材料としては、例えば、例えば、ポリイミド、ポリアラミド、ポリアミドイミドや、シルセスキオキサン等のシロキサン系の化合物、またはシリカハイブリッド材料、アリレート、イソシアネート等が挙げられる。樹脂層は、中でもポリイミドを用いたポリイミド樹脂層であることが好ましい。樹脂層の厚みは、例えば、３μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。樹脂層は、例えば、ガラス基材上に樹脂組成物を塗布して乾燥させた後、加熱処理をすることにより形成することができる。
【００５０】
被転写部材は、必要に応じて第２機能層を有していてもよい。第２機能層としては、上述した機能層の中から適宜選択することができる。本発明においては、第２機能層は、所定のパターン形状を有することが好ましい。例えば、図２に示すように、基材４ａ上に第２機能層３ｂがパターン状に形成されている場合、被転写部材４には表面凹凸が形成される。光硬化型樹脂材料を含有する接着剤の流動性を調整し、塗布法を用いて光硬化型接着層を形成することができるため、被転写部材の表面凹凸に光硬化型接着層を良好に追従させて形成することができる。また、本発明によれば、上記接着剤の塗布量を調整することにより、図２に示すように、被転写部材４の表面凹凸を光硬化型接着層５で埋めることができる。よって、光硬化型接着層における機能層との貼合面に平坦性を付与することができ、機能層と光硬化型接着層とを良好に貼合することができる。
【００５１】
本発明において、被転写部材が表面凹凸を有する場合、表面段差としては、機能層付部材の種類に応じて適宜選択される。本発明においては、上記表面段差が、例えば、１０μｍ以下、中でも０．３μｍ〜９μｍの範囲内、特に０．５μｍ〜６μｍの範囲内であることが好ましい。表面段差が上記範囲内である場合、感圧接着層を用いた場合に比べて、光硬化型接着層を用いたことによる追従性の効果を高く発揮することができるからである。なお、表面段差は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて断面を観察することにより測定することができる。
【００５２】
３．貼合工程
本発明における貼合工程は、光硬化型接着層と、転写用積層体の機能層とを貼合する工程である。貼合工程においては、被転写基材上に形成された光硬化型接着層と、転写用積層体上に形成された機能層とを対向させて貼合する。
【００５３】
被転写基材および転写用積層体の貼合方法としては、一般的な貼合方法と同様とすることができ、例えば、枚葉方式で被転写基材および転写用積層体を貼合しても良く、Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ方式でロール状の被転写部材およびロール状の転写用積層体を貼合しても良い。
【００５４】
４．露光工程
本発明における露光工程は、光硬化型接着層を露光することにより、光硬化型樹脂材料を硬化させて被転写部材上に機能層を接着する工程である。
【００５５】
露光工程においては、転写用積層体側および被転写部材側の少なくともいずれか一方のうち、露光光に対する光透過性を有する部材側から露光光が照射される。そのため、露光光の照射方向は、転写用積層体側から照射されても良く、被転写部材側から照射されても良い。また、転写用積層体および被転写部材の両方が露光光に対して光透過性を示す場合は、転写用積層体側および被転写部材側の両側から露光光を照射しても良い。
【００５６】
露光光としては、光硬化型接着層中の光硬化型樹脂材料を硬化させることができれば特に限定されず、光硬化型樹脂材料の種類に応じて適宜選択することができる。露光光としては、通常、波長１００ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲の紫外線を用いることができる。中でも、露光光としては、３５０ｎｍ〜３８０ｎｍの範囲の紫外線であることが好ましい。光硬化型接着層を良好に硬化させることができるからである。
露光光源としては、所望の露光光を照射することができれば特に限定されず、公知の露光光源を用いることができる。具体的には、水銀ランプ等を挙げることができる。
【００５７】
露光光の照射強度、光源から光硬化型接着層までの距離、露光時間、その他の露光条件については、光硬化型樹脂材料の種類、光硬化型接着層の厚み、転写用積層体および被転写部材の種類等に応じて、適宜調整することができる。
【００５８】
５．転写工程
本発明における転写工程は、転写用積層体の転写用基材を剥離することにより、被転写部材上に機能層を転写する工程である。
転写用基材の剥離方法としては、一般的な転写法における剥離方法と同様とすることができる。
【００５９】
６．機能層付部材の製造方法
本発明の機能層付部材の製造方法は、上述した準備工程、塗布工程、貼合工程、露光工程および剥離工程を有していれば特に限定されず、必要な工程を適宜選択して追加することができる。このような工程としては、例えば、熱処理を含む工程であることが好ましい。
【００６０】
本発明の機能層付部材の製造方法は、例えば、各工程が、Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ方式を用いて行なわれても良い。すなわち、本発明においては、上記転写用積層体における上記転写用基材および上記被転写部材における上記基材が、ロールに巻回されたロール状の基材であり、上記塗布工程、上記貼合工程および上記露光工程が連続して行なわれ、上記剥離工程では、上記転写用積層体における上記転写用基材を巻き取ることにより、剥離しても良い。
【００６１】
図３は本発明の機能層付部材の製造方法の他の例を説明する概略工程図である。
図３（ａ）〜（ｅ）は、本発明の機能層付部材の製造方法の一例を示す概略工程図である。本発明においては、まず図３（ａ）に示すように、ロールに巻回された転写用基材２（ロール状の転写用基材２）および転写用基材２上に形成された機能層３ａを有する転写用積層体１を準備する（準備工程）。次に図３（ｂ）に示すように、ロールに巻回された基材４ａ（ロール状の基材４ａ）（被転写部材４）上に、例えばダイコーター等の塗布装置Ｃを用いて光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層５を形成する（塗布工程）。次に図３（ｃ）に示すように、光硬化型接着層５と、転写用積層体１の機能層３ａとを貼合する（貼合工程）。次に図３（ｄ）に示すように、露光光Ｌを照射して光硬化型接着層５を露光することにより、光硬化型樹脂材料を硬化させて、被転写部材４上に機能層３ａを接着する（露光工程）。次に図３（ｅ）に示すように、転写用積層体１の転写用基材２をロールに巻き取って剥離することにより、被転写部材４上に機能層３ａを転写する（転写工程）。以上の工程により、機能層付部材１０Ａを製造することができる。図３に示す製造方法は、例えば、搬送装置Ｒ等を用いることにより、複数の工程を連続して行うことができる。
【００６２】
本発明の機能層付部材の製造方法は、種々の機能層付部材の製造方法に適用することができる。例えば、表示装置用部材、表示装置、建材、回路基板、包装部材、自動車などの輸送機用部材等を挙げることができる。
【００６３】
本発明の製造方法により得られる機能層付部材は、例えばフレキシブル性を有していても良く、フレキシブル性を有していなくても良い。なお、機能層付部材のフレキシブル性は、例えば、下記の耐屈曲性試験を１０万回実施した後、機能層の剥がれ、割れ等の外観上の異常がなく、機能層の機能が損なわれないことをいう。耐屈曲性試験としては、例えばユアサシステム株式会社製  ＤＬＤＭＬＨ−ＦＵ  面状体Ｕ字繰り返し試験機を用いて曲げ半径Ｒ＝３ｍｍ、回転数１２０ｒｐｍ／ｍｉｎ、ストローク２０ｍｍの条件でおこなうことができる。
【００６４】
Ｂ．表示装置用部材の製造方法
本発明の表示装置用部材の製造方法は、転写用基材および上記転写用基材上に形成された表示装置用機能層を有する転写用積層体を準備する準備工程と、少なくとも基材を有する被転写部材上に、光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層を形成する塗布工程と、上記光硬化型接着層と、上記転写用積層体の上記表示装置用機能層とを貼合する貼合工程と、上記光硬化型接着層を露光することにより、上記光硬化型樹脂材料を硬化させて、上記被転写部材上に上記表示装置用機能層を接着する露光工程と、上記転写用積層体の上記転写用基材を剥離することにより、上記被転写部材上に上記表示装置用機能層を転写する転写工程と、を有することを特徴とする。
【００６５】
本発明の表示装置用部材の製造方法について、図を参照しながら説明する。図４（ａ）〜（ｅ）は、本発明の表示装置用部材の製造方法の一例を示す概略工程図である。本発明においては、まず図４（ａ）に示すように、転写用基材１２および転写用基材１２上に形成された表示装置用機能層１３を有する転写用積層体１１を準備する（準備工程）。図４においては、表示装置用機能層１３が、光学機能層１３ａおよび配向層１３ｂを有する光学機能部材１３ｃである例を示している。次に図４（ｂ）に示すように、基材１４ａ（被転写部材１４）上に、光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層１５を形成する（塗布工程）。次に図４（ｃ）に示すように、光硬化型接着層１５と、転写用積層体１１における表示装置用機能層１３とを貼合する（貼合工程）。次に図４（ｄ）に示すように、露光光Ｌを照射して光硬化型接着層１５を露光することにより、光硬化型樹脂材料を硬化させて被転写部材１４上に表示装置用機能層１３を接着する（露光工程）。次に図３（ｅ）に示すように、転写用積層体１１の転写用基材１２を剥離することにより、被転写部材１４上に表示装置用機能層１３を転写する（転写工程）。以上の工程により、表示装置用部材１０Ａ１を製造することができる。
【００６６】
本発明によれば、厚みの薄い光硬化型接着層を用いて、被転写部材上に表示装置用機能層を形成することができるため、薄膜の表示装置用部材を形成することができる。
以下、本発明の表示装置用部材の製造方法の各工程について説明する。
【００６７】
１．準備工程
本発明における準備工程は、転写用基材および上記転写用基材上に形成された表示装置用機能層を有する転写用積層体を準備する工程である。
【００６８】
（１）表示装置用機能層
転写用積層体における表示装置用機能層は、表示装置用部材の種類に応じて適宜選択される。表示装置用機能層としては、例えば、カラーフィルタにおける着色部、および遮光部の少なくともいずれかを形成するためのカラーフィルタ用機能層、タッチパネルにおけるセンサ電極および必要に応じて形成される絶縁層を形成するためのタッチパネル用機能層、加飾部材における加飾部、光学機能部材、保護層を挙げることができる。また、表示装置用機能層としては、例えば、柱状スペーサ、透明電極等を挙げることができる。
【００６９】
（ａ）カラーフィルタ用機能層
カラーフィルタ用機能層は、カラーフィルタにおける着色部、遮光部の少なくともいずれかを形成するための機能層である。
【００７０】
（ｉ）遮光部
本発明における遮光部は、透明基材上に配置され複数の開口部を有する部材である。
【００７１】
本発明における遮光部は、第１の方向および第１の方向に交差する第２の方向に延伸するように並列に配置され、開口部を画定するものである。開口部の形状としては、例えば、矩形形状が挙げられる。また、遮光部における開口部の幅としては、一般的なカラーフィルタにおける遮光部の開口部の幅と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【００７２】
本発明における遮光部の線幅としては、本発明により得られる表示装置用部材の用途等に応じて適宜選択することができ、特に限定されないが、例えば、１μｍ〜３０μｍの範囲内であることが好ましく、中でも１．５μｍ〜２８μｍの範囲内であることが好ましく、特に２μｍ〜２５μｍの範囲内であることが好ましい。遮光部の線幅が上記範囲よりも小さい場合には、十分に開口部を画定することができないおそれがある。また、遮光部の線幅が上記範囲よりも大きい場合には、高精細なカラーフィルタを得ることができないおそれがある。なお、遮光部の線幅が一定でない場合には、遮光部の線幅が、全て上記範囲内であることが好ましい。
【００７３】
本発明における遮光部の厚みとしては、所望の遮光性を示すことができる程度の厚みであれば特に限定されず、遮光部に用いられる材料に応じて適宜調整される。本発明における遮光部の具体的な厚みとしては、例えば、０．５μｍ〜３．０μｍ程度とすることができる。
【００７４】
本発明における遮光部の構成材料は、所望の遮光性を発揮することができるような材料であれば良く、特に限定されない。具体的には、遮光部は、通常、バインダ樹脂に黒色色材を含有した硬化物であるが、黒色色材の他にも必要に応じて有色色材を含有していても良い。
【００７５】
遮光部に用いられるバインダ樹脂としては、例えば、黒色色材を分散させることができる材料であることが好ましい。また、遮光部に用いられるバインダ樹脂は、遮光部の形成方法に応じて適宜選択される。遮光部をフォトリソグラフィ法により形成する場合には、バインダ樹脂として、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が挙げられる。また、遮光部を印刷法やインクジェット法により形成する場合には、バインダ樹脂として、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。
【００７６】
遮光部に用いられる黒色色材としては、例えば、一般的な遮光部と同様の材料を用いることができ、顔料および染料のいずれも用いることができる。具体的には、カーボンブラック、チタンブラック等が挙げられる。
【００７７】
遮光部に用いられる黒色色材以外の有色色材としては、所望の遮光性を有する遮光部を構成することができる材料であれば良く、例えば、赤、緑、青、黄、橙、紫等の各色の有色色材が挙げられる。また、有色色材には顔料および染料のいずれも用いることができる。有色色材は１種単独で用いてもよく２種以上を混合して用いても良い。また、有色色材は１色の有色色材を用いても良く２色以上の有色色材を混合して用いても良い。なお、有色色材については、一般的なカラーフィルタに用いられる有色色材と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【００７８】
遮光部中に含まれる黒色色材の含有量としては、所望の遮光性を有する遮光部を構成することができる程度であれば良く特に限定されないが、例えば、黒色色材が遮光部に含まれる色材の主成分であることが好ましい。具体的には、遮光部中に含まれる黒色色材の含有量が、３質量％〜２０質量％の範囲内であることが好ましく、中でも４質量％〜１８質量％の範囲内であることが好ましく、特に５質量％〜１５質量％の範囲内であることが好ましい。
また、遮光部中に含まれる黒色色材以外の有色色材の含有量としては、例えば、１質量％〜８質量％の範囲内であることが好ましく、中でも１質量％〜６質量％の範囲内であることが好ましく、特に１質量％〜４質量％の範囲内であることが好ましい。
【００７９】
本発明における遮光部は、上述した構成材料の他にも、必要に応じてその他の材料を含有していても良い。その他の材料としては、例えば、光重合開始剤、増感剤、塗布性改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等が挙げられる。
【００８０】
（ｉｉ）着色部
本発明における着色部は、上述した遮光部における開口部に配置される部材である。
【００８１】
本発明における着色部の厚みとしては、一般的なカラーフィルタに用いられる着色部の厚みと同様とすることができ、例えば１μｍ〜５μｍの範囲内で設定することができる。
【００８２】
本発明においては、例えば赤、緑、青の３色の着色部を有する。着色部の色としては、赤、緑、青の３色を少なくとも含むものであれば良く、例えば、赤、緑、青の３色、赤、緑、青、黄の４色、または、赤、緑、青、黄、シアンの５色等とすることもできる。
【００８３】
着色部としては、例えば色材をバインダ樹脂中に分散させたものを用いることができる。着色部に用いられる色材としては、各色の顔料や染料等が挙げられる。例えば、赤色着色部に用いられる色材としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。また、緑色着色部に用いられる色材としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。さらに、青色着色部に用いられる色材としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料や染料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。着色部に用いられるバインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が挙げられる。
【００８４】
着色部には、上述した材料の他にも、必要に応じて、光重合開始剤、増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を含有させることができる。
【００８５】
また、着色部が形成されている同一平面上には、上述した色材を含有せず、バインダ樹脂を含有する白色層が形成されていてもよい。
【００８６】
（ｉｉｉ）保護層
カラーフィルタ用機能層は、必要に応じて保護層をさらに有していても良い。保護層は、着色部および遮光部等を保護するために形成される層（ハードコート層）である。保護層は、例えば、保護層の材料を用いて、着色部および遮光部上に、直接形成されても良い。また、例えば、着色部および遮光部上に、光硬化型接着層を介して保護層が貼合されていても良い。すなわち、保護層は、本発明の表示装置用部材の製造方法を用いて形成されていても良い。保護層の厚みについては、着色部、遮光部等の厚みに応じて適宜調整される。保護層の材料については、後述する「（ｄ）光学機能部材  （ｉｉｉ）保護層」の項で説明する材料から適宜選択して用いることができる。
【００８７】
（ｂ）タッチパネル用機能層
タッチパネル用機能層は、タッチパネルにおけるセンサ電極を形成するための機能層である。タッチパネルは、透明基材、透明基材上に配置されたセンサ電極を有する。本発明においては、センサ電極を覆うように位置された絶縁層を有していても良い。また、本発明においては、光硬化型接着層が絶縁層を兼ねるように構成されていても良い。
なお、本発明におけるタッチパネルには、例えば、抵抗膜方式、静電容量方式、光学方式、電磁誘導方式、超音波方式等のものを用いることができる。
【００８８】
（ｉ）センサ電極
本発明におけるセンサ電極は、タッチパネルの位置検知を行うために用いられる部材である。
本発明におけるセンサ電極は、透明性を有する透明導電層であっても良く、細線によるメッシュ状のメッシュ電極であっても良い。本発明においては、センサ電極が細線によるメッシュ状のメッシュ電極である場合、センサ電極に用いられる材料が不透明な金属材料であったとしても、見かけ上透明なセンサ電極とすることが可能である。
【００８９】
本発明におけるセンサ電極が透明導電層である場合、センサ電極の厚み等については、本発明により得られる表示装置用部材の用途に応じて適宜調整することができ、一般的なセンサ電極と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
また、本発明におけるセンサ電極がメッシュ電極である場合、センサ電極の厚み、線幅、ピッチおよび開口率等については、本発明により得られる表示装置用部材の用途に応じて適宜調整することができ、一般的なセンサ電極と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【００９０】
本発明におけるセンサ電極の構成材料は、センサ電極が透明電極層である場合、例えば、酸化スズ、ＩＴＯと称される酸化インジウムスズ、ＩＺＯと称される酸化インジウム亜鉛等の透明導電材料等を用いることができる。
また、本発明におけるセンサ電極が不透明な金属材料により構成されたメッシュ電極である場合、金属材料には、例えば、銀、金、銅、クロム、プラチナ、アルミニウムの単体、あるいはこれらのいずれかを主体とする合金等が挙げられる。金属合金としては、ＡＰＣと称される銀、パラジウム、銅の合金等を用いることができる。さらに、金属の複合体としては、ＭＡＭと称されるモリブデン、アルミニウム、モリブデンの３層構造体等も適用可能である。さらに、例えばＰＥＤＯＴ等の樹脂層形成用組成物に上記金属を加えた導電性高分子を用いることもできる。
【００９１】
（ｉｉ）絶縁層
本発明における絶縁層は、上述したセンサ電極を絶縁する際に用いることができる部材である。
【００９２】
本発明における絶縁層は、通常、センサ電極を覆うように配置される。絶縁層の厚みは、センサ電極を絶縁して短絡を防止することができる程度の厚みであることが好ましく、センサ電極の設計に応じて適宜調整することができる。例えば、絶縁層の厚みは、０．５μｍ〜３μｍの範囲内とすることができる。
【００９３】
本発明における絶縁層の構成材料は、所望の絶縁性を有する材料であることが好ましく、タッチパネルに一般的に用いられるものを使用することができる。具体的には、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、カルド樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂等の絶縁性樹脂材料等や、ガラス等の無機材料等が挙げられる。なお、絶縁層に用いられる構成材料は、１種を単独で用いても良く、２種以上を組み合わせて用いても良い。また、絶縁層の層構造は、１層であっても良く、２層以上を含む多層であっても良い。
【００９４】
（ｉｉｉ）保護層
タッチパネル用機能層は、必要に応じて保護層をさらに有していても良い。保護層は、センサ電極および絶縁層等を保護するために形成される層（ハードコート層）である。保護層は、例えば、保護層の材料を用いて、センサ電極および絶縁層上に、直接形成されても良い。また、例えば、センサ電極および絶縁層上に、光硬化型接着層を介して保護層が貼合されていても良い。すなわち、保護層は、本発明の表示装置用部材の製造方法を用いて形成されていても良い。保護層の厚みについては、センサ電極および絶縁層等の厚みに応じて適宜調整される。保護層の材料については、後述する「（ｄ）光学機能部材  （ｉｉｉ）保護層」の項で説明する材料から適宜選択して用いることができる。
【００９５】
（ｃ）加飾部
加飾部は、加飾部材に用いられる機能層である。
加飾部材に用いられる加飾部は、所定の色を呈する部材である。そのため、本発明における加飾部材は、表示装置用部材を用いた表示装置において、例えば額縁部等の非画素領域に加飾部が平面視上重なるように配置することにより、表示装置の外観を向上させることが可能となる。
【００９６】
本発明における加飾部は、所定の色を呈することにより、表示装置用部材を用いた表示装置の外観を向上させることができる。
【００９７】
本発明における加飾部の厚みは、表示装置用部材を用いた表示装置の用途等に応じて適宜調整することができ、一般的な加飾部と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【００９８】
本発明における加飾部が呈する色は、表示装置のデザイン等に応じて適宜選択することができる。加飾部が黒色を呈する黒色加飾部である場合、黒色加飾部の構成材料は、上述した「（ａ）カラーフィルタ  （ｉ）遮光部」の項に記載した遮光部の構成材料と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。また、加飾部が白色を呈する白色加飾部である場合、白色加飾部の構成材料としては、例えば、酸化チタン、シリカ、タルク、カオリン、クレイ、硫酸バリウム、水酸化カルシウム等が挙げられる。
【００９９】
加飾部用機能層は、必要に応じて保護層をさらに有していても良い。保護層は、加飾部を保護するために形成される層（ハードコート層）である。保護層は、例えば、保護層の材料を用いて、加飾部上に、直接形成されても良い。また、例えば、加飾部上に、光硬化型接着層を介して保護層が貼合されていても良い。すなわち、保護層は、本発明の表示装置用部材の製造方法を用いて形成されていても良い。保護層の厚みについては、加飾部の厚みに応じて適宜調整される。保護層の材料については、後述する「（ｄ）光学機能部材  （ｉｉｉ）保護層」の項で説明する材料から適宜選択して用いることができる。
【０１００】
（ｄ）光学機能部材
本発明における光学機能部材は、液晶性化合物が一方向に配向された光学機能層を有する部材である。また、光学機能部材は、光学機能層の他に配向層を有していても良い。
以下、光学機能部材を構成する光学機能層および配向層について説明する。
【０１０１】
（ｉ）光学機能層
本発明における光学機能層に含まれる液晶性化合物は、一方向に配向されることにより、所望の光学特性を発揮することができる。液晶性化合物の具体的な配向状態としては、例えば、光学機能層の長さ方向に液晶性化合物が配向した状態や、光学機能層の厚さ方向に液晶性化合物が配向した状態が挙げられる。前者の液晶構造はホモジニアス構造（平行配向構造）と称され、このような構造を有することにより、光学機能層に光学的にＡプレートとしての性質を付与することができる。また、後者の液晶構造はホメオトロピック構造（垂直配向構造）と称され、このような構造を有することにより、光学機能層に光学的に正のＣプレートとしての性質を付与することができる。さらに、液晶性化合物の配向状態としては、液晶性化合物が規則的な螺旋構造を示すコレステリック配向状態であっても良い。このような配向状態を有することにより、光学機能層に光学的に負のＣプレートとしての性質を付与することができる。
【０１０２】
光学機能層の厚みは、液晶性化合物の種類や光学機能層に付与しようとする光学特性に応じて適宜調整することができ、特に限定されない。例えば、光学機能層の面内レターデーションがλ／４に相当するような範囲内で形成されることが好ましい。光学機能層の面内レターデーション値は、例えば、１００ｎｍ〜１６０ｎｍの範囲内であることが好ましく、１１０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内であることがより好ましく、１２０ｎｍ〜１４０ｎｍの範囲内であることがさらに好ましい。光学機能層の厚みを光学機能層の面内レターデーションがλ／４分に相当するような範囲内の距離にする場合、具体的にどの程度の距離にするかは、後述する光学機能層に含まれる液晶性化合物の種類に応じて適宜決定することが、例えば、一般的な液晶性化合物を用いる場合には、光学機能層の厚みは０．５μｍ〜２μｍの範囲内とすることができる。
【０１０３】
光学機能層は、表示装置用部材を表示装置に用いた際に、バックライト部から照射された光を透過する部材となる。したがって、本発明における光学機能層は、所定の透明性を有することが好ましい。ここで、「透明」とは、特段の断りがない限り、バックライト部から照射された光を透過する程度に透明であることをいう。なお、光学機能層の具体的な透過率については、一般的な光学機能層と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１０４】
光学機能層に含まれる液晶性化合物は、光学機能層に所望の光学機能性を付与することができる材料であれば良く、特に限定されない。中でも、感光性を示す液晶性化合物であることが好ましく、特に、ネマチック相を示す液晶性化合物が好適に用いられる。ネマチック液晶は、他の液晶相を示す液晶性化合物と比較して規則的に配列させることが容易であるためである。
【０１０５】
また、本発明における液晶性化合物には、重合性官能基を有する重合性液晶材料を用いることが好ましい。重合性液晶材料は重合性官能基を介して互いに重合することができるため、光学機能層の機械強度を向上することができるからである。
【０１０６】
このような重合性官能基としては、紫外線、電子線等の電離放射線、あるいは熱の作用によって重合する各種重合性官能基が挙げられる。重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、またはカチオン重合性官能基等が挙げられる。さらにラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基（アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称）等が挙げられる。また、カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和３重結合等が挙げられる。これらの中でもプロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。
【０１０７】
なお、重合性液晶材料は、重合性官能基を複数有していても良く、または１つのみを有していても良い。また、重合性官能基を複数有するものと、１つのみを有するものとを混合して用いても良い。
また、重合性液晶材料の具体例としては、例えば、特開平７−２５８６３８号公報や特表平１０−５０８８８２号公報、特開２００３−２８７６２３号公報に記載されているような化合物が挙げられる。
【０１０８】
上述のような液晶性化合物は、１種類でも良く、または２種類以上を混合して用いても良い。本発明において２種類以上の液晶材料を混合して用いる場合は、重合性液晶材料と、重合性官能基を有さない液晶材料とを混合して用いても良い。
【０１０９】
（ｉｉ）配向層
本発明においては、光学機能部材が配向層を有していても良い。配向層は、光配向材料を含む部材である。
【０１１０】
ここで、配向層に含まれる「光配向材料」は、光配向法により配向規制力を発現できる材料を指す。また、「光配向法」とは、任意の偏光状態を有する光（偏光）を配向層に照射することにより配向層の配向規制力（異方性）を発現させる方法である。したがって、本発明における光配向材料は、偏光を照射することにより配向規制力を発現できる材料ということができる。さらに、「配向規制力」とは、上述した光学機能層に含まれる液晶性化合物を配列させる相互作用を意味する。
【０１１１】
本発明における配向層は、構成材料に応じて厚みを調整することができる。本発明における配向層の厚みは、例えば、０．０１μｍ〜０．５μｍの範囲内であることが好ましく、中でも０．０２μｍ〜０．１μｍの範囲内であることが好ましく、特に０．０３μｍ〜０．０５μｍの範囲内であることが好ましい。本発明における配向層の厚みが上記範囲内であることにより、上述した光学機能層に含まれる液晶性化合物に対して所望の配向規制力を発現することができる。
なお、本発明における配向層の厚みは、例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて断面を観察することにより測定することができる。
【０１１２】
本発明における配向層は、表示装置用部材を表示装置に用いた際に、バックライト部から照射された光を透過する部材となる。したがって、本発明における配向層は、所定の透明性を有することが好ましい。ここで、「透明」とは、特段の断りがない限り、バックライト部から照射された光を透過する程度に透明であることをいう。なお、配向層の具体的な透過率については、一般的な配向膜と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１１３】
配向層に含まれる配向材料は、偏光を照射することにより配向規制力を発現することができる材料であれば特に限定されない。このような光配向材料は、シス−トランス変化によって分子形状のみを変化させて配向規制力を可逆的に変化させる光異性化材料と、偏光を照射することにより、分子そのものを変化させる光反応材料とに大別することができる。本発明においては、光異性化材料および光反応材料のいずれであっても好適に用いることができるが、光反応材料を用いることがより好ましい。
光反応材料は、偏光が照射されることによって分子が反応して配向規制力を発現するものであるため、不可逆的に配向規制力を発現することが可能になる。したがって、光反応材料の方が配向規制力に経時安定性において優れている。
【０１１４】
光反応材料は、偏光照射によって生じる反応の種類によってさらに分別することができる。具体的には、光二量化反応を生じることによって配向規制力を発現する光二量化型材料、光分解反応を生じることによって配向規制力を発現する光結合型材料、および光分解反応と光結合反応とを生じることによって配向規制力を発現する光分解−結合型材料等に分けることができる。本発明においては、上述した光反応材料のいずれであっても好適に用いることができるが、中でも安定性および反応性（感度）等の観点から光二量化型材料を用いることが好ましい。
【０１１５】
光二量化型材料は、光二量化反応を生じることにより配向規制力を発現できる材料であれば特に限定されない。本発明においては、中でも光二量化反応を生じる光の波長が、２８０ｎｍ以上であることが好ましく、特に２８０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内であることが好ましく、さらには３００ｎｍ〜３８０ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【０１１６】
このような光二量化型材料としては、例えば、シンナメート、クマリン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレインイミド、または、シンナミリデン酢酸誘導体を有するポリマー等が挙げられる。本発明においては、中でも、シンナメートおよびクマリンの少なくとも一方を有するポリマー、シンナメートおよびクマリンを有するポリマーが好ましく用いられる。このような光二量化型材料の具体例としては、例えば特開平９−１１８７１７号公報、特表１０−５０６４２０号公報、および特表２００３−５０５５６１号公報に記載された化合物が挙げられる。
【０１１７】
本発明において用いられる光配向材料は、１種類のみであっても良く、２種類以上であっても良い。
【０１１８】
（ｉｉｉ）保護層
本発明においては、光学機能部材が保護層をさらに有していても良い。
本発明における保護層は、例えば、当該保護層の下層に配置された光学機能層を、溶剤や光等から保護することができる部材である。
【０１１９】
本発明における保護層は、光学機能層に対し、溶剤や光等による劣化から保護するという機能を有することが好ましい。したがって、本発明における保護層は、耐薬品性、耐光性や耐熱性を有する部材であることが好ましい。
【０１２０】
本発明における保護層の厚みは、保護層としての保護機能、具体的には耐薬品性、耐光性や耐熱性を付与することができる程度の厚みであることが好ましい。例えば、１μｍ〜５μｍの範囲内とすることができる。
【０１２１】
本発明における保護層の構成材料には、一般的な表示装置の保護層と同様の材料を用いることができる。中でも、耐薬品性や耐光性を有する材料を用いることが好ましい。このような保護層の構成材料は、有機材料であっても良く無機材料であっても良い。無機材料を用いる場合には、スパッタリング法により保護層を形成することができるため、有機材料を用いた場合のように保護層の形成に際し加熱工程を要しないことから、加熱工程による光学機能層への影響を抑えることができる。本発明における保護層に用いられる有機材料としては、例えば、感光性ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂およびアクリル樹脂等の光硬化型樹脂または熱硬化型樹脂、および無機材料等が挙げられる。また、その他の材料として、重合開始剤や各種添加剤等が挙げられる。
【０１２２】
（ｅ）保護層
本発明における表示装置用機能層は、保護層であっても良い。本発明においては、転写積用積層体が、転写基材上に保護層が形成された構成を有していても良い。転写用積層体が上記構成を有する場合、保護層を他の部材（例えば、カラーフィルタ、タッチパネル、加飾部材等）または機能層に転写法により形成することができる。なお、保護層の厚み、保護機能、材料等については、保護層が転写される側の部材または機能層の構成により適宜選択することができる。また、例えば、被転写部材が保護層を有する場合は、転写用積層体の保護層の硬度が高くなるように調整しても良い。
【０１２３】
（ｆ）その他
本発明における表示装置用機能層としては、上記以外にも、例えば、柱状スペーサ、透明電極等を挙げることができる。これらの機能層については、一般的なカラーフィルタ等に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１２４】
（２）準備工程
本発明に用いられる転写用基材については、上述した「Ａ．機能層付部材の製造方法」の項で説明した内容と同様とすることができる。また、上述した表示装置用機能層の形成方法としては一般的なカラーフィルタ、タッチパネル、加飾部材の形成方法、および光学機能部材の形成方法と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。例えば、特開２０１５−３１８６３号公報や特開２０１２−１０８５６３号公報に記載された方法が挙げられる。
【０１２５】
２．塗布工程
本発明における塗布工程は、少なくとも基材を有する被転写部材上に、光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層を形成する工程である。
【０１２６】
被転写部材に用いられる基材としては、基材のみを有していても良く、必要に応じて、基材上に第２表示装置用機能層を有していても良い。
本発明における被転写部材は、露光光に対する透過性を有していても良く、有していなくても良い。
【０１２７】
被転写部材に用いられる基材は、透明基材であることが好ましい。
ここで、「透明」という場合には、特段の断りがない限り、表示装置用部材が用いられた表示装置の操作者の、操作面からの視認を妨げない程度の透明性をいう。したがって、「透明」は、無色透明、および視認性を妨げない程度の有色透明を含み、また厳密な透過率で定義されず、表示装置用部材の用途等に応じて透過性の度合いを決定することができる。
【０１２８】
本発明における透明基材の厚みとしては、各部材を支持できる程度の厚みであれば特に限定されず、表示装置用部材の用途等に応じて適宜設計が可能である。透明基材の具体的な厚みは、一般的なカラーフィルタに用いられる透明基材の厚みと同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【０１２９】
本発明における透明基材の材料は、一般的なカラーフィルタに用いられる材料であれば特に限定されないが、例えば、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓性のない無機基板、および、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する樹脂基板等が挙げられる。中でも無機基板を用いることが好ましく、無機基板の中でもガラス基板を用いることが好ましい。さらには、ガラス基板の中でも無アルカリタイプのガラス基板を用いることが好ましい。無アルカリタイプのガラス基板は寸度安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、かつ、ガラス中にアルカリ成分を含まないことから、例えば、表示装置に用いられるカラーフィルタに好適であるからである。
【０１３０】
また、被転写部材に用いられる基材は、ガラス基材上に形成された樹脂層であることも好ましい。ガラス基材上に形成された樹脂層については、上述した「Ａ．機能層付部材の製造方法」の項で説明した内容と同様とすることができる。
【０１３１】
第２表示装置用機能層としては、上述した表示装置用機能層の中から、適宜選択することができる。転写部材における表示装置用機能層が光学機能部材である場合、第２の表示装置用機能層がカラーフィルタ用機能層、タッチパネル用機能層、および加飾部材用機能層の少なくともいずれかであることが好ましい。また、この場合、第２の表示装置用機能層は、被転写部材における表示装置用機能層の貼合面に配置されていても良く、反対側の面に配置されていても良い。
【０１３２】
３．貼合工程
本発明における貼合工程は、上記光硬化型接着層と、上記転写用積層体の上記表示装置用機能層とを貼合する工程である。貼合工程については、上述した「Ａ．機能層付部材の製造方法」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１３３】
４．露光工程
本発明における露光工程は、上記光硬化型接着層を露光することにより、上記光硬化型樹脂材料を硬化させて上記被転写部材上に上記表示装置用機能層を接着する工程である。
【０１３４】
本発明における転写用積層体がカラーフィルタ用機能層、タッチパネル用機能層および加飾部用機能層である場合、露光光は、通常、被転写部材側から照射される。
なお、露光工程における露光光、露光条件等については、上述した「Ａ．機能層付部材の製造方法」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１３５】
５．転写工程
本発明における露光工程は、上記転写用積層体の上記転写用基材を剥離することにより、上記被転写部材上に上記表示装置用機能層を転写する工程である。転写工程については、上述した「Ａ．機能層付部材の製造方法」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１３６】
６．その他
本発明の表示装置用部材の製造方法は、上述した各工程を有していれば特に限定されず、必要な工程を適宜選択して追加することができる。本発明においては、得られた表示装置用部材をさらに表示パネル等と光硬化型接着層を介して貼り合わせる工程を有していても良い。本発明の機能層付部材の製造方法は、例えば、各工程が、Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ方式を用いて行なわれても良い。Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ方式を用いた場合については、上述した「Ａ．機能層付部材の製造方法」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１３７】
本発明により得られる表示装置用部材としては、例えば、カラーフィルタ、タッチパネル、加飾部材、光学機能部材付基材、およびこれらの積層体等を挙げることができる。
【０１３８】
本発明の表示装置用部材の製造方法は、例えば、フレキシブル表示装置に用いられる部材を製造する際に好適に用いることができる。フレキシブル表示装置は、フレキシブル性を有する基材上に所定の機能層を積層した部材を用いた表示装置である。フレキシブル表示装置は、自在に変形させることができることから、例えばローラブル（巻き取り可能な）モバイル表示装置を実現することができ、よりモバイルに適した表示装置を得ることができる。
【０１３９】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１４０】
以下、実施例および比較例を示して、本発明の機能層付部材の製造方法の詳細を説明する。
【０１４１】
［実施例１］
［被転写部材（カラーフィルタ）の作製］
下記手順により、ガラス基板（被転写部材）上に形成された遮光部、着色部および保護部（第２機能層）を有するカラーフィルタを作製した。
【０１４２】
（硬化性樹脂組成物の調製）
重合槽中にメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を６３重量部、アクリル酸（ＡＡ）を１２重量部、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）を６重量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を８８重量部仕込み、攪拌し溶解させた後、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）を７重量部添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下、８５℃で２時間攪拌し、更に１００℃で１時間反応させた。得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）を７重量部、トリエチルアミンを０．４重量部、およびハイドロキノンを０．２重量部添加し、１００℃で５時間攪拌し、共重合樹脂溶液（固形分５０％）を得た。 
【０１４３】
次に、下記の材料を室温で撹拌、混合して硬化性樹脂組成物とした。
＜硬化性樹脂組成物の組成＞
・上記共重合樹脂溶液（固形分５０％）                                  １６重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（サートマー社  ＳＲ３９９）２４重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社  エピコート１８
０Ｓ７０）                                                              ４重量部
・２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン
４重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル                                ５２重量部
【０１４４】
（遮光部の形成）
まず、下記の分量の成分を混合し、サンドミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液を調製した。
【０１４５】
＜黒色顔料分散液の組成＞
・黒色顔料                                                            ２３重量部
・高分子分散材（ビックケミー・ジャパン（株）  Disperbyk111）            ２重量部
・溶剤（ジエチレングリコールジメチルエーテル）                        ７５重量部
【０１４６】
次に、下記の分量の成分を十分に混合し、遮光部用組成物を得た。
＜遮光部用組成物の組成＞
・上記黒色顔料分散液                                                  ６１重量部
・上記硬化性樹脂組成物                                                ２０重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル                                ３０重量部
【０１４７】
厚み０．７ｍｍのガラス基板（旭硝子（株）  ＡＮ材）上に上記遮光部用組成物をスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させ、膜厚約１μｍの遮光層を形成した。当該遮光層を、超高圧水銀ランプで遮光パターン(ＲＧＢの繰り返しが７５μｍピッチのストライプ状)に露光した後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、基板を２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施して複数の開口部を有する遮光部を形成した。 
【０１４８】
（着色部の形成）
上記のようにして遮光部を形成したガラス基板上に、下記組成の赤色硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布（塗布厚み２．０μｍ）し、その後、７０℃のオーブン中で３分間乾燥した。次いで、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用いて着色部の形成領域に相当する領域のみに紫外線を１０秒間照射した。次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。その後、基板を２３０℃の雰囲気下に２５分間放置することにより、加熱処理を施して遮光部の開口部に赤色のレリーフパターン（赤色着色部）を形成した。
次に、下記組成の緑色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程により、遮光部の開口部に緑色のレリーフパターン（緑色着色部）を形成した。  さらに、下記組成の青色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程により、遮光部の開口部に青色のレリーフパターン（青色着色部）を形成した。
【０１４９】
（保護層の形成）
その後、保護層として上述した硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布、乾燥し塗布膜を形成した。硬化性樹脂組成物の塗布膜から１００μｍの距離に フォトマスクを配置して、プロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用いてスペーサの形成領域のみに紫外線を１０秒間照射した。次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。その後基板を２３０℃の雰囲気中に３０分間放置することにより加熱処理を施して保護層を形成した。
このようにして、カラーフィルタを得た。
【０１５０】
＜赤色硬化性樹脂組成物の組成＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４                                        ７重量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤                                          ３重量部
・上記硬化性樹脂組成物                                                ２３重量部
・酢酸−３−メトキシブチル                                            ６７重量部
【０１５１】
＜緑色硬化性樹脂組成物の組成＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８                                        ７重量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８                                      １重量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤                                          ３重量部
・上記硬化性樹脂組成物                                                ２２重量部
・酢酸−３−メトキシブチル                                            ６７重量部
【０１５２】
＜青色硬化性樹脂組成物の組成＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１                                            ５重量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤                                          ３重量部
・上記硬化性樹脂組成物                                                ２５重量部
・酢酸−３−メトキシブチル                                            ６７重量部
【０１５３】
［転写用積層体の作製］
転写用基材として、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを準備した。
転写用基材上に、硬化後の膜厚がおよそ１．５μｍ程度となるように、ポリビニルシンナメート（ＰＶＣｉ）基を有する光配向材料を含有する光配向膜組成物（溶剤としてＰＧＭＥを使用）をダイコート法により塗布した。 
そして、９０℃に調整した乾燥機内で２分間乾燥させ、溶媒を蒸発させるとともに組成物を熱硬化させて光配向膜（配向層）を形成した。 
その上に、光重合性ネマチック相を示す液晶化合物と、光重合開始剤とを含有する液晶組成物（固形分３０％、溶剤としてＭＩＢＫを使用）をダイコート法により塗布して乾燥させて１μｍの液晶層を形成し、光学機能層を有する転写用積層体を得た。
【０１５４】
［紫外線硬化型接着層の作製］
カラーフィルタの着色部側の面に、紫外線硬化型樹脂をスピンコーティング法により塗布（塗布厚み３．０μｍ）した。その後、塗膜を、７０℃のオーブン中で３分間乾燥することにより、紫外線硬化型接着層を形成した。
【０１５５】
［貼合工程、露光工程、および転写工程］
カラーフィルタの紫外線硬化型接着層と、転写用積層体の光学機能層とを、空気が入らないようにして貼合した。その後、光学機能部材側の面から紫外線を照射して、紫外線硬化型接着層を硬化させた。その後、転写用基材を剥離して、カラーフィルタの着色部側の面に、光学機能層を転写した。以上の工程により、表示装置用基材を得た。
【０１５６】
[機能層（保護部）の形成]
得られた表示装置用基材における光学機能層の紫外線硬化型接着層とは反対側の面に、上述した硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布、乾燥し塗布膜を形成した。硬化性樹脂組成物の塗布膜から１００μｍの距離に フォトマスクを配置して、プロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用いてスペーサの形成領域のみに紫外線を１０秒間照射した。次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。その後基板を２３０℃の雰囲気中に３０分間放置することにより加熱処理を施して保護部を形成した。
【０１５７】
［実施例２］
［被転写部材（加飾部材）の作製］
下記手順により、ガラス基板（被転写部材）上に形成された加飾部（第２機能層）を有する加飾部材を作製した。
【０１５８】
まず、下記材料を混合し、サンドミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液を調製した。
＜黒色顔料分散液の組成＞
・黒色顔料                                                            ２３重量部
・高分子分散剤（ビックケミー・ジャパン（株）  Disperbyk111）            ２重量部
・溶剤（ジエチレングリコールジメチルエーテル）                        ７５重量部
【０１５９】
次に、下記材料を室温で攪拌、混合して加飾部形成用組成物を調製した。
＜加飾部形成用組成物の組成＞
・上記黒色顔料分散液                                                  ６１重量部
・上記硬化性樹脂組成物                                                ２０重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル                                ３０重量部
【０１６０】
厚み０．７ｍｍのガラス基板（旭硝子（株）  ＡＮ材）上に加飾部形成用組成物をスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させ、膜厚約１μｍの加飾層を形成した。当該加飾層を、超高圧水銀ランプで遮光パターン(ＲＧＢの繰り返しが７５μｍピッチのストライプ状)に露光した後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、基板を２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施してパターン状の加飾部を形成した。以上の手順により加飾部材を得た。
【０１６１】
［貼合工程、露光工程、転写工程および保護部の形成］
加飾部材の加飾部側の面に、実施例１と同様にして、紫外線硬化型接着層を形成した。
加飾部材の紫外線硬化型接着層と、転写用積層体の光学機能層とを、空気が入らないようにして貼合し、実施例１と同様に貼合、露光および剥離をすることにより、加飾部材の加飾部側の面に、光学機能層を転写した。以上の工程により、表示装置用基材を得た。実施例１と同様にして、光学機能層の紫外線硬化型接着層とは反対側の面に、保護部を形成した。
【０１６２】
［実施例３］
［被転写部材（タッチパネル）の作製］
下記手順により、透明基材（被転写部材）上に形成された配線層およびセンサ電極（第２機能層）を有するタッチパネルを作製した。
アクティブエリアに屈折率調整層が形成された透明基材を準備した。透明基材上であって、表示装置の非表示領域に相当する領域に、フォトリソグラフィ法によりＩＴＯから構成される取り出し配線および外部接続端子（配線層）をパターン状に形成した。次いで、アクティブエリアにおける屈折率調整層上にフォトリソグラフィ法によりＩＴＯから構成される透明電極層をパターン状に形成し、第１電極および第２電極を有するセンサ電極と第２導電部とを形成した。透明電極層の厚さは１３００Åとした。次いで、第２導電部を覆うように絶縁層を形成し、絶縁層上に第１導電部を形成した。
以上により、配線層およびセンサ電極等を有するタッチパネルを形成した。
【０１６３】
タッチパネルのセンサ電極等側の面に、実施例１と同様にして、紫外線硬化型接着層を形成した。
タッチパネルの紫外線硬化型接着層と、転写用積層体の光学機能層とを、空気が入らないようにして貼合し、実施例１と同様に貼合、露光および剥離をすることにより、タッチパネルのセンサ電極等側の面に、光学機能層を転写した。以上の工程により、表示装置用基材を得た。実施例１と同様にして、光学機能層の紫外線硬化型接着層とは反対側の面に、保護部を形成した。
【０１６４】
［比較例］
紫外線硬化型接着層のかわりに、転写用積層体の光学機能層上に、厚さ２０μｍの感圧接着層を形成したこと以外は実施例１と同様にして表示装置用基材を作製した。また、実施例１と同様にして、光学機能層の紫外線硬化型接着層とは反対側の面に、保護部を形成した。
【０１６５】
［評価１］
（厚み）
実施例１では、比較例に比べて、接着層を薄くすることができ、厚みの薄い表示装置用基材を作製できた。
【０１６６】
（耐熱性）
実施例１〜３の表示装置用基材は、保護部の形成前後で、外観上の変化はなかった。一方、比較例の表示装置用基材は、保護部の形成前後で、外観上の変化（スジムラの発生）が観察された。これは紫外線硬化型接着層が、感圧接着層に比べて、優れた耐熱性を有することに起因すると考えられる。
【０１６７】
［実施例４］
被転写部材として、下記のカラーフィルタを用い、転写用積層体として下記の転写用積層体を用いた。
【０１６８】
［被転写部材（カラーフィルタ）の作製］
キャリアガラス基材上に、透明基材形成用組成物としてポリイミド前駆体を塗布し、加熱処理を行うことでイミド化させ、透明基材（ポリイミド基材）（厚み：１０μｍ）を形成した。得られたポリイミド基材上に、実施例１と同様にして、遮光部、着色部および保護層を形成することにより、カラーフィルタを得た。
【０１６９】
［転写用積層体の作製］
転写用基材として、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを準備した。上記転写用基材上に、下記のハードコート層形成用組成物を、グラビアリバースコート法で乾燥後の厚さが２μｍになるように塗布し、１００℃で乾燥させた。乾燥させた塗膜に対し、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させて、ハードコート層を形成した。以上の工程により転写用積層体を得た。
【０１７０】
＜ハードコート層形成用組成物＞
・ユピマーＵＶ・Ｖ３０３１（三菱化学社製、紫外線硬化性樹脂商品名）    ２５質量部
・メタアクリレートオリゴマー（日本合成化学社製、商品名  紫光１７００Ｂ）５質量部
・光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア１８４）                ０．９質量部
・溶媒（酢酸エチル：メチルイソブチルケトン＝１：１）                  ７０質量部
【０１７１】
［貼合工程、露光工程、および転写工程］
カラーフィルタの着色部側の面に、実施例１と同様にして、紫外線硬化型接着層を形成した。カラーフィルタの紫外線硬化型接着層と、転写用積層体のハードコート層とを、空気が入らないようにして貼合し、実施例１と同様に貼合、露光および剥離をすることにより、カラーフィルタの着色部側の面に、ハードコート層を転写した。以上の工程により、表示装置用基材を得た。ハードコート層が転写されたカラーフィルタに対し、キャリアガラス基材側からエキシマレーザ光をポリイミドとキャリアガラス基材の界面に集光させることにより、ポリイミドの界面側の一部にレーザーアブレージョンを起こし、キャリアガラス基材を剥離した。以上の工程により、表示装置用部材を得た。
【０１７２】
［実施例５］
被転写部材として、下記のセンサ電極基材を用い、転写用積層体として実施例４の転写用積層体を用いた。実施例４と同様にして、紫外線硬化型接着層を用いて、センサ電極基材のセンサ電極側の面にハードコート層を転写した。また実施例４と同様にして、ハードコート層が転写されたセンサ電極基材から、キャリアガラス基材を剥離した。以上の工程により、表示装置用基材を得た。
【０１７３】
［被転写部材（センサ電極基材）の作製］
キャリアガラス基材上に、透明基材形成用組成物としてポリイミド前駆体を塗布し、加熱処理を行うことでイミド化させ、透明基材（ポリイミド基材）（厚み：１０μｍ）を形成した。
得られたポリイミド基材上に、ダイコート法を用いてアクリル系樹脂から構成されたアンカー層（厚み：０．５μｍ）を形成した。
次に、得られたアンカー層上に、スパッタリング法を用いて銀合金から構成された導電層を形成し、その後、レジストパターンをマスクとして導電層をエッチングした。これにより、メッシュ状の第１センサ電極（線幅：３μｍ、厚み：０．２μｍ）を形成した。
次に、第１センサ電極を覆うように、ダイコート法を用いてアクリル系樹脂から構成された絶縁層（厚み：１．５μｍ）を形成した。
次いで、絶縁層上に、第１センサ電極と同様に第２センサ電極（線幅：３μｍ、厚み：０．２μｍ）を形成した。
最後に、第２センサ電極を覆うように、ダイコート法を用いてアクリル系樹脂から構成された保護層（厚み：１．５μｍ）を形成した。これにより、センサ電極基材を得た。
【０１７４】
［実施例６］
被転写部材として、下記のカラーフィルタ付センサ電極基材を用い、転写用積層体として実施例４の転写用積層体を用いた。実施例４と同様にして、紫外線硬化型接着層を用いて、カラーフィルタ付センサ電極基材の着色部側の面にハードコート層を転写した。また実施例４と同様にして、ハードコート層が転写されたカラーフィルタ付センサ電極基材から、キャリアガラス基材を剥離した。以上の工程により、表示装置用基材を得た。
【０１７５】
［被転写部材（カラーフィルタ付センサ電極基材）の作製］
実施例５と同様にして、センサ電極基材を作製した。次に、センサ電極基材の保護層上に、ダイコート法を用いて被覆カーボンを顔料とするアクリル系樹脂から構成された遮光層（厚み：１．５μｍ）を形成した。その後、得られた遮光層を、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、遮光部（線幅：５μｍ）を形成した。センサ電極基材の保護層上に形成された遮光部の開口部に、赤色着色部、緑色着色部および青色着色部を形成した。これにより、カラーフィルタ付センサ電極基材を形成した。
【０１７６】
［実施例７］
被転写部材として、下記の加飾部およびカラーフィルタ付センサ電極基材を用い、転写用積層体として実施例４の転写用積層体を用いた。実施例４と同様にして、紫外線硬化型接着層を用いて、加飾部およびカラーフィルタ付センサ電極基材の着色部側の面にハードコート層を転写した。また実施例４と同様にして、ハードコート層が転写された加飾部およびカラーフィルタ付センサ電極基材から、キャリアガラス基材を剥離した。以上の工程により、表示装置用基材を得た。
【０１７７】
［被転写部材（加飾部およびカラーフィルタ付センサ電極基材）の作製］
実施例５と同様にして、センサ電極基材を作製した。次に、センサ電極基材の保護層上に、ダイコート法を用いて被覆カーボンを顔料とするアクリル系樹脂から構成された遮光層（厚み：１．５μｍ）を形成した。その後、得られた遮光層を、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、遮光部（線幅：５μｍ）および加飾部を形成した。センサ電極基材の保護層上に形成された遮光部の開口部に、赤色着色部、緑色着色部および青色着色部を形成した。これにより、加飾部およびカラーフィルタ付センサ電極基材を形成した。
【０１７８】
［評価２］
（耐屈曲性試験）
実施例４〜７により得られた表示装置用部材に対し、耐屈曲性試験を行なった。耐屈曲性試験における測定条件は、下記の通りである。
【０１７９】
＜測定条件＞
・サンプルサイズ：２００ｍｍ×１２０ｍｍ、１５０ｍｍ×７０ｍｍ
センサ電極基材を、長辺および短辺のいずれかの方向に３ｍｍＲで屈曲させることで試験を行った。
・曲げ半径Ｒ＝３ｍｍ
・回転数：１２０ｒｐｍ
・ストローク：２０ｍｍ
【０１８０】
２０万回の屈曲試験を実施後における、実施例４〜７の表示装置用部材の透過率変化（％）（屈曲試験前の透過率（％）−屈曲試験後の透過率（％））を調べたところ、１０％以下であることが確認された。屈曲試験後の表示装置用部材においては、目視での透明性の変化がほぼ無かった。また、屈曲試験後における表示装置用部材の基材の破損、機能層の剥がれおよび割れは確認されなかった。
【符号の説明】
【０１８１】
１      …転写用積層体
２、１２      …転写用基材
３      …機能層
４、１４      …被転写部材
５、１５      …光硬化型接着層
１０Ａ、      …機能層付部材
３３      …表示装置用機能層
１０Ａ１      …表示装置用部材
【図１】
2017181530.tif 000003
【図２】
2017181530.tif 000004
【図３】
2017181530.tif 000005
【図４】
2017181530.tif 000006
【図５】
2017181530.tif 000007
【図６】
2017181530.tif 000008