(57)【要約】【課題】  一回の塗工で形成可能で、反射率の波長依存性が小さく、可視光領域の光に対する高い反射防止性及び高い耐擦傷性を有し、かつ粒子が脱落しにくい反射防止膜を提供する。【解決手段】  基材上に形成された異形粒子を凸部とする反射防止膜であって、平均屈折率１．２〜１．４５の硬化物を含有し、該平均屈折率が基材の平均屈折率よりも０．０５以上低く、前記異形粒子が前記硬化物に埋没した埋没部を有し、前記埋没部の膜厚方向の平均長さが前記異形粒子の平均短径の５０％以上であり、前記凸部の平均高さが５０〜２００ｎｍであることを特徴とする反射防止膜。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に形成された異形粒子を凸部とする反射防止膜であって、平均屈折率１．２〜１．４５の硬化物を含有し、該平均屈折率が基材の平均屈折率よりも０．０５以上低く、前記異形粒子が前記硬化物に埋没した埋没部を有し、前記埋没部の膜厚方向の平均長さが前記異形粒子の平均短径の５０％以上であり、前記凸部の平均高さが５０〜２００ｎｍであることを特徴とする反射防止膜。
【請求項２】
異形粒子の平均短径が２００ｎｍ以下であり、平均長径／平均短径の比が１．１〜４．０であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止膜。
【請求項３】
凸部を除いた平均膜厚が５０〜１５０ｎｍであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の反射防止膜。
【請求項４】
異形粒子のうち、凸部と埋没部の境界面に対して垂直方向に長軸を向けている粒子の割合が、２０％以上であることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の反射防止膜。
【請求項５】
異形粒子の長径の標準偏差が２０％未満であることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれかに記載の反射防止膜。
【請求項６】
異形粒子の平均長径／平均短径の比が、２．０未満であることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれかに記載の反射防止膜。
【請求項７】
異形粒子０．０１〜６５重量％、及び樹脂０．０１５〜９５重量％含有することを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれかに記載の反射防止膜の形成に用いる反射防止膜形成用コーティング液。
【請求項８】
異形粒子０．０１〜６５重量％、樹脂０．０１５〜９５重量％、及び球状中空粒子０．０１〜６５重量％含有することを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれかに記載の反射防止膜の形成に用いる反射防止膜形成用コーティング液。
【請求項９】
平均屈折率が１．４５〜１．５５の基材上に請求項１〜請求項６のいずれかに記載の反射防止膜が形成されていることを特徴とする反射防止部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一回の塗工で形成可能で、反射率の波長依存性が小さく、可視光領域の光に対する高い反射防止性及び高い耐擦傷性を有し、かつ粒子が脱落しにくい反射防止膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイなどの表示装置やカメラなどの光学装置において、反射防止膜が利用されている。このような反射防止膜は、外光の反射による視認性の低下を抑制するために、可視光領域（３８０〜７８０ｎｍ）の全ての光に対して高い反射防止性を付与する必要がある。
【０００３】
従来、反射防止膜として、気相プロセスで作成した誘電体多層膜の光学干渉によるものが知られているが、多層膜を蒸着等で製膜するために高コストであるという問題があった。また、別の反射防止膜として、スタンパにより蛾の眼の表面構造のような微細凹凸構造を表面に設けたものが知られているが（例えば、特許文献１参照。）、目的の構造に応じて高価な鋳型が必要であるために高コストであるという問題があり、また、可視光領域の全ての光に対して実用上十分な反射防止性を付与するには、耐擦傷性に乏しいものとなるという問題があった。
【０００４】
より低コストで製造可能な反射防止膜として、基板上に単層又は少ない層数で低屈折率材料をコーティングしたものが知られている。このうち、反射防止性を飛躍的に向上させるために、低屈折率層として、層内に空隙を導入した超低屈折率層を設けたものが知られており、該反射防止膜としては、例えば、塗布法により、粒子間に空隙を有した状態で粒子層を一層設けた反射防止膜が提案されている（例えば、特許文献２参照。）。しかしながら、このような超低屈折率層をもってしても、高い反射防止性を付与することができるのは一部の光の波長領域のみであり、可視光領域の全ての光に対し、光の散乱を生じずに、高い反射防止性を付与することはできないという問題があった。また、粒子間に空隙を設ける必要があることから、粒子を十分に固定化させることが困難であり、粒子が反射防止膜表面から脱落しやすいという問題があった。
【０００５】
膜の最表面に低屈折率層を形成したものであって、可視光領域のうち、視感度の高い５５０〜５８０ｎｍ付近の反射をより抑制させた反射防止膜が知られており、このような反射防止膜として、低屈折率層の下層に高屈折率の層を設けた二層構造のものが提案されている（例えば、特許文献３参照。）。しかしながら、このような二層構造の反射防止膜の場合には、可視光領域のうち、視感度の低い波長範囲での反射防止性が不十分であるという問題があった。また、反射率の波長依存性が大きくなることで、反射光に発色を生じてしまうという問題があった。さらに、二層を形成する必要があることから二段階の塗工が必要であり、反射防止膜の量産性に劣るという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−２０９５４０号公報
【特許文献２】特開２００２−００６１０８号公報
【特許文献３】特開平９−２４９４１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、一回の塗工で形成可能で、反射率の波長依存性が小さく、可視光領域の光に対する高い反射防止性及び高い耐擦傷性を有し、かつ粒子が脱落しにくい反射防止膜を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、異形粒子及び低屈折率の硬化物を含有する反射防止膜であって、前記異形粒子が前記硬化物に埋没した埋没部を有する反射防止膜によって上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち、本発明は、基材上に形成された異形粒子を凸部とする反射防止膜であって、平均屈折率１．２〜１．４５の硬化物を含有し、該平均屈折率が基材の平均屈折率よりも０．０５以上低く、前記異形粒子が前記硬化物に埋没した埋没部を有し、前記埋没部の膜厚方向の平均長さが前記異形粒子の平均短径の５０％以上であり、前記凸部の平均高さが５０〜２００ｎｍであることを特徴とする反射防止膜に関するものである。
【００１０】
以下、本発明について詳細に説明する。
【００１１】
本発明の反射防止膜は、基材上に形成されるものであり、形状異方性を有する粒子（異形粒子）を凸部（図１の付番１）とした凹凸構造を有する。本発明において、「形状異方性を有する」とは、形状が、球以外の形状かつ正多面体以外の形状であることをいう。異形粒子を含有することにより、反射防止膜の表面に凸部を形成することができ、形成される反射防止膜は反射防止性に優れるものとなる。異形粒子を含有しない場合、反射防止膜の最表面に凸部を設けることができず、反射防止性を付与することができない。
【００１２】
本発明の反射防止膜は、平均屈折率１．２〜１．４５の硬化物を含有する。前記硬化物を含有することにより、反射防止膜は耐擦傷性に優れ、かつ、異形粒子の脱落を抑制することができる。また、前記硬化物の平均屈折率が１．２〜１．４５であることにより、反射防止膜は反射防止性に優れるものとなる。すなわち、平均屈折率１．２〜１．４５の硬化物を含有しない場合、反射防止性及び耐擦傷性に劣り、異形粒子が脱落しやすいものとなる。本発明において、反射防止性を高めるのにより好適であることから、前記硬化物の平均屈折率が１．３〜１．４５であることが好ましく、１．３３〜１．４２であることがさらに好ましく、１．３５〜１．４０であることが特に好ましい。本発明において、特に明示しない限り、各成分の「屈折率」とはフラウンフォーファーのｅ線（波長５４６．１ｎｍ）に対する値を示し、アッベ屈折計によって測定することができる。
【００１３】
本発明において、「平均屈折率」とは、屈折率が異なる複数の成分を含有する薄膜の屈折率の三次元平均値のことを示し、Ｌｏｒｅｎｔｚ−Ｌｏｒｅｎｚの式（１）を用いて各成分の屈折率及び体積占有率から算出することができる。
【００１４】
【数１】
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（式中、Ｎａｖｅは平均屈折率、Ｎｉは各成分の屈折率、ｆｉは各成分の体積占有率をそれぞれ示す。）
ここで、硬化物の平均屈折率は、屈折率が既知の基材の上に硬化物の薄膜を形成し、薄膜を形成していない方の基材面を黒く塗り潰すなどにより薄膜を形成していない基材面での反射を除く処理を行った後、薄膜を形成した面をエリプソメーターによって測定することによって求めることができる。
【００１５】
本発明において「異形粒子の脱落」とは、反射防止膜表面に存在する異形粒子が、衝撃や擦傷等により剥がれ落ちることをいう。また、本発明において、異形粒子が脱落した領域を「欠損」と呼ぶ。本発明において、欠損が視認可能なサイズ（概ね１μｍ以上の領域）の場合、傷として知覚されるものとなり、膜の視認上の均一性を損なう原因となるものである。また、異形粒子の脱落した領域が視認可能なサイズ以下の場合であっても、異形粒子の脱落は膜の透明性や反射防止性が低下する原因となるものである。
【００１６】
本発明において、硬化物の平均屈折率は、基材の平均屈折率よりも０．０５以上低いものである。前記硬化物の平均屈折率が０．０５以上低いものであることで、反射防止膜は反射防止性に優れるものとなる。すなわち、本発明において、硬化物の平均屈折率が基材の屈折率よりも０．０５以上低いものではない場合、反射防止性に劣るものとなる。本発明において、反射防止性を高めるのにより好適であることから、前記硬化物の平均屈折率が基材の平均屈折率よりも０．０５〜０．２５低い値であることが好ましく、０．０５〜０．２０低い値であることがさらに好ましい。
【００１７】
本発明において、凸部を形成する異形粒子は、硬化物に埋没した埋没部（例えば、図１の付番２）を有する。異形粒子が前記埋没部を有することにより、本発明の反射防止膜は耐擦傷性に優れるものとなり、また、異形粒子が反射防止膜表面から脱落することを抑制し、欠損の発生を防ぐことができる。そして、本発明では、該埋没部の膜厚方向の平均長さが前記異形粒子の短径の５０％以上であることで、高い耐擦傷性を有し、かつ粒子が脱落しにくい反射防止膜となるものである。すなわち、本発明において、前記埋没部の膜厚方向の平均長さが、前記異形粒子の平均短径の５０％未満である場合、反射防止膜の表面から異形粒子が脱落しやすいものとなる。反射防止膜の透明性を高め、異形粒子の脱落を抑制するのにより好適であることから、前記埋没部の膜厚方向の平均長さが、前記異形粒子の平均短径の８０％以上であることが好ましく、平均短径以上であることがさらに好ましい。また、反射防止性を高めるのにより好適であることから、前記埋没部の膜厚方向の平均長さが、前記異形粒子の平均長径の８０％以下であることが好ましく、平均長径の５０％以下であることがさらに好ましい。
【００１８】
本発明において、「埋没部の長さ」とは、凸部を形成する異形粒子の、凸部と埋没部の境界面（例えば、図１の付番３の面）から、各異形粒子の最も基材側の位置までの長さ（例えば、図１の長さｂ）を示し、走査型電子顕微鏡によって測定した反射防止膜断面像において測定することができる。また、埋没部の平均長さは、無作為に選んだ２０点以上の凸部について、前記長さを測定し、平均することで求めることができる。
【００１９】
本発明において、「異形粒子の長径」とは、異形粒子の最大粒径を示すものをいい、透過型電子顕微鏡像によって測定した異形粒子の形状から求めることができ、また、異形粒子の平均長径とは、無作為に選んだ５０点以上の異形粒子について前記長径を測定し、平均した値を示す。また、本発明において、「異形粒子の短径」とは、長径に垂直な方向の最大粒径を示し、透過型電子顕微鏡像によって測定した異形粒子形状から求めることができ、また、異形粒子の平均短径とは、無作為に選んだ５０点以上の異形粒子について前記短径を測定し、平均した値を示す。なお、本発明において、長径方向の軸を異形粒子の長軸、短径方向の軸を異形粒子の短軸という。
【００２０】
本発明において、凸部の平均高さは、５０〜２００ｎｍである。凸部の平均高さが５０ｎｍ以上であることで、反射防止膜は反射防止性に優れるものとなる。また、凸部の平均高さが２００ｎｍ以下であることで、反射防止膜は耐擦傷性に優れるものとなる。すなわち、本発明において、凸部の平均高さが５０ｎｍ未満の場合または２００ｎｍを超える場合、反射防止性または耐擦傷性に劣るものとなる。反射防止膜の反射防止性を高めるのにより好適であることから、凸部の平均高さが８０ｎｍ以上であることが好ましく、１００ｎｍ以上であることがさらに好ましい。また、反射防止膜の耐擦傷性を高めるのにより好適であることから、凸部の平均高さが１８０ｎｍ以下であることが好ましく、１５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。本発明において凸部の平均高さは、表面に存在する凸部の頂点から隣接する凹部の最底部までの膜厚方向の距離の平均をいい、膜断面の走査型電子顕微鏡像において、２０点以上の凸部について前記距離を測定し、平均することで算出可能である。
【００２１】
本発明において、凸部の平均間隔が４００ｎｍ以下であることが好ましく、３００ｎｍ以下であることがさらに好ましく、２００ｎｍ以下であることが特に好ましく、１５０ｎｍ以下であることが最も好ましい。凸部の平均間隔が４００ｎｍ以下であることで、反射防止膜の透明性を高めることができる。また、凸部間に入った汚れの拭き取り性を高めるのに好適であることから、凸部の平均間隔が異形粒子の平均短径の１．１倍以上であることが好ましく、１．２倍以上であることがさらに好ましく、１．５倍以上であることが特に好ましい。凸部の平均間隔は、反射防止膜表面の走査型電子顕微鏡像を測定し、凸部の中心位置から、該凸部に最近接する他の凸部の中心との距離を測定し、無作為に選んだ２０点以上の凸部について前記距離を測定し、平均することで算出できる。
【００２２】
本発明において、凸部の平均高さ／異形粒子の平均短径の比が０．５以上であることが好ましく、０．８以上であることがさらに好ましく、１．０以上であることが特に好ましい。凸部の平均高さ／異形粒子の平均短径の比が前記範囲にあることで、反射防止膜の透明性を損なうことなく、反射防止性を高めることができる。
【００２３】
本発明の反射防止膜は、凸部を形成する異形粒子として、凸部と埋没部の境界面に対して垂直方向に長軸を向けている異形粒子（以後、「垂直異形粒子」と表記。）を有することが好ましい。垂直異形粒子を有することにより、反射防止膜の反射防止性を高めることができる。ここで、「凸部と埋没部の境界面に対して垂直方向に長軸を向けている」とは、凸部を形成する異形粒子の長軸と、前記境界面とのなす角度（例えば、図１の角度θ）が４５°以上であることをいう。本発明において、異形粒子の長軸と前記境界面とのなす角度は、反射防止膜断面の走査型電子顕微鏡像上で測定することができる。
【００２４】
本発明において、前記凸部を形成する前記異形粒子のうち、垂直異形粒子の割合が、２０％以上であることが好ましく、４０％以上であることがさらに好ましく、６０％以上であることが特に好ましい。垂直異形粒子の割合が前記範囲にあることで、反射防止膜の透明性及び反射防止性をさらに高めることができる。
【００２５】
反射防止膜に垂直異形粒子を形成する方法としては、特に限定されないが、例えば、基材の表面電荷に対して逆符号の表面電荷を有する異形粒子について、該異形粒子を含む反射防止膜形成用コーティング液として基材表面に塗布し、１秒〜２４時間の範囲で適切な待ち時間（乾燥時間）を設けて配列させる方法が挙げられる。ここで、塗布後の乾燥過程において、配列が乱れるのを防止するのに好適であるため、乾燥前に垂直異形粒子を固定化することが好ましい。この際、凸部を形成する異形粒子の埋没部の膜厚方向の長さが十分大きな場合には、前記固定化を行わずとも、好適に垂直異形粒子による凸部を形成することができるものとなる。なお、本発明において、「基材の表面電荷に対して逆符号の表面電荷を有する」とは、基材の表面電荷がプラスの場合にはマイナス、基材の表面電荷がマイナスの場合にはプラスの表面電荷を有することを示す。
【００２６】
本発明において、異形粒子として、凸部と埋没部の境界面に対して平行方向に長軸を向けている粒子（以後、「平行異形粒子」と表記。）を含有するとき、反射防止膜の透明性を高めることができるため、好適なものとなる。ここで、平行異形粒子によって形成される凸部の平均高さは、垂直異形粒子によって形成される凸部の平均高さよりも、低いものであることが好ましい。垂直異形粒子によって形成される凸部の平均高さよりも、平行異形粒子によって形成される凸部の平均高さの方が低い値であることにより、反射防止膜の透明性を高めることができる。また、反射防止膜の透明性を高めるのに特に好適であることから、平行異形粒子が硬化物に完全に埋没していることがさらに好ましい。
【００２７】
本発明において、前記凸部を除いた平均膜厚が、５０〜１５０ｎｍであることが好ましく、５０〜１２０ｎｍであることがさらに好ましく、８０〜１２０ｎｍであることが特に好ましい。凸部を除いた平均膜厚が前記範囲にあることで、反射防止膜の反射防止性を高めることができる。ここで、本発明において、「凸部を除いた平均膜厚」とは、反射防止膜断面の走査型電子顕微鏡像を測定し、膜表面の凹部の位置から反射防止膜の最も基材側の面までの膜厚方向の距離（例えば、図１の長さｂ（埋没部の長さと同一の長さ））の平均値であり、２０点以上の凹部について前記距離を測定し、平均することで算出可能である。
【００２８】
本発明において、前記異形粒子が、単層又は２層で配列していることが好ましい。異形粒子の層数を２層以下とすることで、反射防止膜内部での光の散乱を抑制しやすく、反射防止膜の透明性を高めるのにより好適である。また、異形粒子の脱落の抑制により好適であることから、異形粒子が単層で配列していることがさらに好ましい。
【００２９】
本発明において、前記凸部を形成する前記異形粒子が、基材と接触していることが好ましい。凸部を形成する異形粒子が基材と接触していることで、異形粒子の脱落をより抑制しやすく、欠損の発生を抑制するのにより好適である。また、耐擦傷性を高めるのにより好適であることから、異形粒子が基材表面に固定化されていることがさらに好ましい。
【００３０】
本発明において、用いる基材としては特に制限はなく、例えば、樹脂基材、ガラス、セラミックス等が挙げられ、形状的にはフィルム、シート、板の他、曲面を有する形状の構造物等如何なる形状の基材であっても用いることができる。
【００３１】
樹脂基材としては、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース等のセルロース系樹脂；ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系樹脂；ポリウレタン系樹脂；ポリエーテル樹脂；ポリスルホン樹脂；ポリエーテルサルホン；ポリエーテルケトン等が挙げられる。
【００３２】
本発明において、基材は、耐擦傷性や密着性等を高めるため、表面にハードコート層やアンカーコート層、高分子電解質層等のコート層が設けられているものであっても良く、密着性や塗工性等を高めるため、ＵＶオゾン洗浄、プラズマ処理、コロナ処理等の表面処理を施してあっても良い。
【００３３】
本発明では、硬化物の平均屈折率が基材の平均屈折率よりも０．０５以上低いものであるが、基材表面にコート層が設けられている場合、該表面に設けられたコート層が該平均屈折率の関係を満足するものとなる。すなわち、本発明において、「硬化物との平均屈折率の関係を満足する基材」は、基材において硬化物と接触する層（膜）の部分をいうものである（基材が単層の場合、当該単層そのものが平均屈折率の関係を満足するものとなり、基材が複数の層からなる場合、基材のうち硬化物と接触する層が平均屈折率の関係を満足するものとなる。）。
また、前記基材において、表面に設けられたコート層と表面以外（コート層以外）の部分の平均屈折率の関係としては、該コート層と該表面以外の基材部分との界面での光の反射を抑制するのに好適であることから、これらの平均屈折率の差が０．１０以下であることが好ましく、０．０５以下であることがさらに好ましい。
【００３４】
本発明において、前記基材の平均屈折率が、１．４５〜１．５５であることが好ましい。そして、本発明において、該平均屈折率を有する基材上に本発明に係る反射防止膜が形成された反射防止部材として用いられることが好ましい。基材の平均屈折率が前記範囲にあることで、該反射防止部材における反射防止膜の反射防止性を高めることができる。
【００３５】
本発明において、用いる異形粒子としては、形状異方性を有する粒子であれば特に制限がない。
【００３６】
本発明において、異形粒子の平均短径は２００ｎｍ以下であることが好ましい。異形粒子の平均短径が前記範囲にあることにより、反射防止膜は透明性により優れるものとなる。膜の透明性を高めるのにより好適であることから、平均短径が１５０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、平均短径が１００ｎｍ以下であることが特に好ましい。また、膜の耐擦傷性を高めるのにより好適であることから、異形粒子の平均短径が１０ｎｍ以上であることが好ましく、平均短径が５０ｎｍ以上であることがさらに好ましく、平均短径が８０ｎｍ以上であることが特に好ましい。
【００３７】
本発明において、異形粒子の平均長径／平均短径の比は１．１〜４．０であることが好ましい。異形粒子の平均長径／平均短径の比が前記範囲にあることで、反射防止膜は反射防止性、透明性、及び耐擦傷性により優れるものとなる。反射防止膜の反射防止性を高めるのにより好適であることから、異形粒子の平均長径／平均短径の比が１．２以上であることがさらに好ましく、１．３以上であることが特に好ましく、１．５以上であることが最も好ましい。また、反射防止膜の耐擦傷性を高めるのにより好適であることから、異形粒子の平均長径／平均短径の比が３．０未満であることがさらに好ましく、２．０未満であることが特に好ましく、１．８未満であることが最も好ましい。
【００３８】
本発明において、前記異形粒子の形状が、長軸方向に延在した形状であることが好ましい。異形粒子の形状が長軸方向に延在した形状であることで、反射防止膜の反射防止性を高めやすく、また、異形粒子の脱落を抑制しやすいものとなる。長軸方向に延在した形状としては、例えば、ダルマ状やロッド状の形状を挙げることができる。本発明において、「ダルマ状の形状」とは、２個の球を、少なくとも互いの一部分が重なるように接合した形状のことを示し、例えば、図２（Ａ）である。ダルマ状の形状において、２個の球の直径の大小関係や、２個の球の重なり度合いは限定されない。また、本発明において、「ロッド状の形状」とは、円柱、または少なくとも一端が丸みを帯びた円柱状の形状を示し、例えば、図２（Ｂ）及び図２（Ｃ）である。
【００３９】
前記ダルマ状又はロッド状の形状は、表面の一部に微細な突起を有していてもよい（例えば、図２（Ｄ））。
【００４０】
本発明において、異形粒子は、球状粒子の凝集によって形成される二次粒子として得られるものではなく、一次粒子の形状が異形粒子であるものが好ましい。一次粒子としてポリマー等によって一体に形成された異形粒子であることにより、異形粒子の破壊を抑制することができ、凸部を形成する異形粒子の強度を高め、反射防止膜の耐擦傷性をより優れたものとすることができる。
【００４１】
本発明において、前記異形粒子の長径の標準偏差が２０％未満であることが好ましく、１０％未満であることがさらに好ましく、５％未満であることが特に好ましい。異形粒子の長径のばらつきの目安である標準偏差が前記範囲にあることで、反射防止膜の反射防止性及び透明性を高めることができる。ここで、異形粒子の長径の標準偏差は、透過型電子顕微鏡像において測定した異形粒子の長径から算出でき、次の式（ａ）から求めることができる。
【００４２】
長径の標準偏差＝{（長径の各測定値−長径の平均値）２／長径の測定値数}１／２  （ａ）
本発明において、異形粒子は、最表面がポリマーによって形成されており、かつ、表面電荷が基材の表面電荷と逆符号であることが好ましい。異形粒子の表面がポリマーによって被覆され、かつ、表面電荷が基材の表面電荷と逆符号であることにより、反射防止膜表面からの異形粒子の脱落をより抑制しやすいものとすることができる。
【００４３】
前記ポリマーとしては、例えば、芳香族ビニル系単量体単位又は極性官能基含有単量体単位を含む重合体を挙げることができる。前記芳香族ビニル系単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メチルスチレン、２−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、４−エチルスチレン、４−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、３，４−ジメチルスチレン、４−メトキシスチレン、４−エトキシスチレン、２−クロロスチレン、３−クロロスチレン、４−クロロスチレン、２，４−ジクロロスチレン、２，６−ジクロロスチレン、４−クロロ−３−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、１−ビニルナフタレン、２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン、ｐ−スチレンスルホン酸ナトリウム等を挙げることができる。また、極性官能基含有単量体としては、例えば、（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−へキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の（シクロ）アルキル（メタ）アクリレート類；２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、ｐ−メトキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート等のアルコキシ（シクロ）アルキル（メタ）アクリレート類；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の多価（メタ）アクレート類； 酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、バーサチック酸ビニル等のビニルエステル類；２−シアノエチル（メタ）アクリレート、２−シアノプロピル（メタ）アクリレート、３−シアノプロピル（メタ）アクリレート等のシアノアクリレート類；ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、 ３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−アミノ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等の置換ヒドロキシ（メタ）アクリレート類；グリシジル（メタ）アクリレート、メチルグリシジルメチルアクリレート、エポキシ化シクロヘキシル（メタ）アクリレートグリシジル基含有アクリレート類；トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、トリメチロールプロパンプロポキシトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、エトキシ化フェニルアクリレート等の多官能（メタ）アクリレート類；クロトン酸、ケイ皮酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、イタコン酸モノメチル、イタコン酸モノエチル、へキサヒドロフタル酸モノ−２−（メタ）アクリロイルオキシエチル等のカルボキシル基含有不飽和単量体、及びその無水物類；Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，��−ジメチロール（メタ）アクリルアミド等のＮ−メチロール化不飽和カルボン酸アミド類；２−ジメチルアミノエチルアクリルアミド等のアミノアルキル基含有アクリルアミド類；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−エチレンビス（メタ）アクリルアミド、マレイン酸アミド、マレイミド等の不飽和カルボン酸のアミド類又はイミド類；Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド等のＮ−モノアルキル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド類；２−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等のアミノアルキル基含有（メタ）アクリレート類；２−（ジメチルアミノエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、等のアミノアルコキシアルキル基含有（メタ）アクリレート類；塩化ビニル、塩化ビニリデン、脂肪酸ビニルエステル等のハロゲン化ビニル化合物類；１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエン、２−クロロ−１，３−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン等の共役ジエン化合物類等が挙げられる。
【００４４】
また、本発明において、異形粒子は、必要に応じてシランカップリング剤等の無機表面改質剤を含んでいてもよく、前記シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、トリス−（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、３−ウレイドプロピルトリアルコキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。
【００４５】
さらに、本発明において、異形粒子は、重合開始剤や架橋剤を含んでいてもよく、前記重合開始剤としては、例えば、ペルオキソ二硫酸カリウム、過酸化水素、アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイル等が挙げられ、前記架橋剤としては、例えば、ジビニルベンゼン等が挙げられる。
【００４６】
本発明の異形粒子の内部（表面以外の部分）の成分としては特に制限されず、シリカなどの無機粒子、ポリマー粒子等、目的に応じて選択することができる。
【００４７】
本発明で用いる異形粒子の屈折率としては特に制限はないが、反射防止膜の反射防止性を高めるのにより好適であることから、基材と同程度の屈折率であることが好ましい。
【００４８】
本発明において、前記異形粒子が、中実粒子であることが好ましい。本発明において、「中実粒子」とは、内部に空洞を有さない粒子であることであることを示す。異形粒子が中実粒子であることにより、反射防止膜の透明性を高めることができる。特に、凸部を形成している異形粒子の、埋没部以外の部分が中実であることが好ましい。
【００４９】
本発明において、用いる硬化物としては、平均屈折率が１．２〜１．４５であれば特に制限がないが、目的の平均屈折率を有する硬化物の作成が容易であり、かつ、反射防止膜の量産性に優れることから、前記硬化物が、以下の（１）〜（３）から選択される硬化物であることが好ましい。
（１）樹脂及び屈折率１．４以下の球状粒子を含有する硬化物
（２）屈折率１．３〜１．４５の樹脂を含有する硬化物
（３）平均粒径１００ｎｍ以下の球状粒子及び樹脂を含有し、空隙又は凹凸を有する硬化物
本発明において、硬化物の強度を高めるのに好適であることから、前記硬化物（１）〜（３）のうち、硬化物（１）がさらに好ましい。
【００５０】
前記硬化物（１）に含まれる屈折率１．４以下の球状粒子としては、例えば、中空シリカ粒子や中空ポリマー粒子等の中空粒子、フッ化マグネシウム粒子等を挙げることができる。前記中空粒子としては、反射防止膜の透明性を高めるのにより好適であることから、平均短径１５０ｎｍ以下であるものが好ましく、平均短径１００ｎｍ以下がさらに好ましく、平均短径８０ｎｍ以下が特に好ましい。前記中空粒子の種類としては特に制限されず、シリカなどの無機粒子、ポリマー粒子等、目的に応じて選択することができる。また、前記中空粒子の形状としても、中空であること以外に特に制限はなく、外殻が球状の異形粒子、立方体状、バルーン状等、自由に選択することができる。本発明において、硬化物の強度を高めるのに好適であることから、球状の中空シリカ粒子が好ましい。
【００５１】
前記硬化物（１）に含まれる樹脂としては、例えば、（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−へキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の（シクロ）アルキル（メタ）アクリレート類； ２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、ｐ−メトキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート等のアルコキシ（シクロ）アルキル（メタ）アクリレート類；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の多価（メタ）アクレート類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、バーサチック酸ビニル等のビニルエステル類；２−シアノエチル（メタ）アクリレート、２−シアノプロピル（メタ）アクリレート、３−シアノプロピル（メタ）アクリレート等のシアノアクリレート類；ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、 ３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−アミノ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等の置換ヒドロキシ（メタ）アクリレート類；グリシジル（メタ）アクリレート、メチルグリシジルメチルアクリレート、エポキシ化シクロヘキシル（メタ）アクリレートグリシジル基含有アクリレート類；トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、トリメチロールプロパンプロポキシトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、エトキシ化フェニルアクリレート等の多官能（メタ）アクリレート類等の（メタ）アクリレートを単量体単位とする重合体が挙げられる。また、必要に応じて重合開始剤を含んでいてもよく、重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ベンジル、ミヒラーケトン、チオキサントン、アントラキノン等の水素引き抜きによってラジカルを発生するタイプの化合物；ベンゾイン、ジアルコキシアセトフェノン、アシルオキシムエステル、ベンジルケタール、ヒドロキシアルキルフェノン、ハロゲノケトン等の分子内分裂によってラジカルを発生するタイプの化合物等が挙げられる。市販品としては、ＩＲＵＧＡＣＵＲＥ１８４、ＩＲＵＧＡＣＵＲＥ６５１、ＩＲＵＧＡＣＵＲＥ５００、ＩＲＵＧＡＣＵＲＥ９０７、ＤＡＲＯＣＵＲ１１１６、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３（ＢＡＳＦ社製）等を挙げることができる。また、硬化を促進するためにメチルアミン、ジエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、トリブチルアミン等の三級アミン等を併用しても良い。さらに、前記シランカップリング剤によって表面処理されたものであってもよい。
【００５２】
前記硬化物（２）に含まれる屈折率１．３〜１．４５の樹脂としては、例えば、フルオロオレフィン類（例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えば、トリフルオロエチルメタアクリレート、ビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等の重合体が挙げられる他、市販品のテフロンＡＦシリーズ（デュポン社製）、フルオンシリーズ（旭硝子社製）、ハイフロンシリーズ（ソルベイ・ソレクシス社製）、サイトップ（旭硝子社製）、ＴＨＶシリーズ（住友スリーエム社製）、ネオフロンシリーズ（ダイキン社製）、カイナーシリーズ（アルケマ社製）、テドラーシリーズ（デュポン社製）、ダイニオンシリーズ（ダイニオン社製）、ポリジメチルシロキサン等を挙げることができる。また、必要に応じて前記硬化物（１）に含まれる樹脂と同様の樹脂及び重合開始剤を含んでいてもよい。
【００５３】
前記硬化物（３）に含まれる平均粒径１００ｎｍ以下の球状粒子としては、例えば、シリカ粒子、ポリマー粒子等を挙げることができる。また、硬化物に空隙を形成可能な範囲において、前記硬化物（１）に含まれる樹脂と同様の樹脂及び重合開始剤を含んでいてもよい。ここで、平均粒径は動的光散乱法によって測定することができる。
【００５４】
本発明において、前記硬化物（３）が有する空隙又は凹凸の形状としては特に制限されない。
【００５５】
前記硬化物に含まれる樹脂は、反射防止膜に存在する異形粒子に一部が含浸、又は凸部を形成する異形粒子の表面を覆っていてもよい。
【００５６】
本発明において、異形粒子を含む反射防止膜形成用のコーティング液としては、反射防止性及び耐擦傷性に優れ、粒子の脱落を抑制しやすい反射防止膜の形成に好適であることから、異形粒子を０．０１〜６５重量％含有し、樹脂を０．０１５〜９５重量％含有するコーティング液であることが好ましい。特に、前記硬化物（１）が用いられる場合、異形粒子を０．０１〜６５重量％含有し、樹脂を０．０１５〜９５重量％含有し、かつ球状中空粒子を０．０１〜６５重量％含有するコーティング液であることが好ましく、前記硬化物（２）が用いられる場合、異形粒子を０．０１〜６５重量％含有し、かつフッ素系樹脂の含有量が５０％以上の樹脂を０．０１５〜９５重量％含有するコーティング液であることが好ましく、前記硬化物（３）が用いられる場合、異形粒子を０．０１〜６５重量％含有し、樹脂を０．０１５〜９５重量％含有し、かつ球状粒子を０．０１〜６５重量％含有するコーティング液であることが好ましい。
【００５７】
本発明の反射防止膜は、実用上十分な反射防止性を得るのに好適であるため、可視光領域（３８０〜７８０ｎｍ）の光の反射率が１％以下であることが好ましく、０．８％以下であることがさらに好ましく、０．６％以下であることが特に好ましい。特に、視感度の高い波長５８０ｎｍにおける光の反射率が０．５％以下であることが好ましく、０．３％以下であることがさらに好ましい。
【００５８】
本発明の反射防止膜は、反射光の色相変化の抑制に好適であることから（反射率の波長依存性を小さくするのに好適であることから）、可視光領域の光の反射率の最大値と最小値の差が１％以下であることが好ましく、０．５％以下であることがさらに好ましく、０．３％以下であることが特に好ましい。なお、波長５８０ｎｍにおける光の反射率が０．５％以下であり、かつ、可視光領域（３８０〜７８０ｎｍ）の光の反射率の最大値と最小値の差が１％以下であるとき、可視光領域の全ての光に対して高い反射防止性を付与できるものとなり、好適なものとなる。
【００５９】
本発明の反射防止膜は、反射防止膜の透明性を高めるのに好適であるため、ヘーズ値（曇り度）が１％以下であることが好ましく、０．５％以下であることがさらに好ましい。
【００６０】
本発明の反射防止膜は、該反射防止膜がない場合と比較して可視光領域の光の散乱を増加させないことから、ディスプレイの視認性を損なうことなく、外光の映り込みを防止することができる。また、反射を防止した分だけ透過光量を向上させることが可能であることから、太陽電池の光取り込み効率の向上、及び有機ＥＬの光取り出し効率の向上のために用いることができる。
【発明の効果】
【００６１】
本発明によれば、一回の塗工で形成可能で、反射率の波長依存性が小さく、可視光領域の光に対する高い反射防止性及び高い耐擦傷性を有し、かつ粒子が脱落しにくい反射防止膜を提供することができる。
【実施例】
【００６２】
以下、本発明を実施例及び比較例によってより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
［異形粒子の平均長径及び平均短径の測定］
異形粒子の長径及び短径は透過型電子顕微鏡（日本電子社製ＪＥＭ−２１００Ｆ）を用い、異形粒子分散液をコロジオン支持銅メッシュ上にキャスト乾燥したサンプルを測定した写真上で、異形粒子の最大粒径を測定することで長径を算出し、また長径方向の軸を長軸とし、長軸に垂直な方向の最大長さを測定することで短径を算出した。また、無作為に選んだ５０点の異形粒子の長径及び短径の平均を求め、平均長径及び平均短径とした。
［凸部の平均高さの測定］
凸部の平均高さは、走査型電子顕微鏡（キーエンス社製ＶＥ−９８００）を用いて測定した反射防止膜断面像において、反射防止膜表面の凹凸形状における凸部の頂点から、隣接する凹部の最底部までの膜厚方向の距離を、２０点の凸部について測定し、平均することで算出した。
［凸部の平均間隔の測定］
凸部の平均間隔は、走査型電子顕微鏡（キーエンス社製ＶＥ−９８００）を用いて測定した反射防止膜断面像において、反射防止膜表面の凹凸形状における凸部の頂点間の面内方向の距離を、２０点の凸部について測定し、平均することで算出した。
［埋没部の平均長さの測定］
埋没部の平均長さは、走査型電子顕微鏡（キーエンス社製ＶＥ−９８００）を用いて測定した反射防止膜断面像において、凸部と埋没部の境界面から、各異形粒子の最も基材側の位置までの膜厚方向の長さを、２０点の凸部について測定し、平均することで算出した。
［硬化物の平均屈折率の測定］
硬化物の平均屈折率は、異形粒子を含有しないこと以外は反射防止膜の形成に用いたコーティング液と同様の溶液を用い、反射防止膜の形成方法と同様の条件で作製することで得た膜において、波長５５０ｎｍの屈折率をエリプソメーター（ジェー・エー・ウーラム・ジャパン社製Ｍ−２０００）で測定することで求めた。
［反射率の算出］
反射率は、角度可変絶対反射付属装置を内蔵する分光光度計（日立ハイテクサイエンス社製Ｕ−４１００）を用い、入射角１０°、波長３８０〜７８０ｎｍにおける反射率として測定した。反射率測定にあたっては裏面反射の影響を除くために、試料の裏面をマジックで黒く塗りつぶし、さらに裏面に黒色テープを貼り測定した。
【００６３】
また、反射率の波長依存性は次のように評価した。
◎：可視光領域における反射率の最大値と最小値の差の絶対値が０．３％以下。
○：可視光領域における反射率の最大値と最小値の差の絶対値が０．５％以下。
△：可視光領域における反射率の最大値と最小値の差の絶対値が１％以下。
×：可視光領域における反射率の最大値と最小値の差の絶対値が１％を超える。
［ヘーズ値の測定］
ヘーズ値は日本電色工業製ＮＤＨ−５０００を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１３６に従い、基材となるガラス基板を含めて測定した。なお、用いたガラス基板のヘーズ値は０．４％であった。
［耐擦傷性の評価］
耐擦傷性はベンコット試験により評価した。ベンコット（旭化成社製Ｍ−３１１）の面積４ｃｍ２の領域に荷重１００ｇをかけ、４ｃｍ／秒の速度で行い、試料上を１０往復させた。
【００６４】
耐擦傷性は次のように評価した。
〇：ベンコット試験による傷なし。
△：ベンコット試験による傷２０本以上。
×：手で触れるだけで膜が破壊。
［粒子脱落性（粒子の脱落のしにくさ）の評価］
粒子脱落性はベンコット試験前後のサンプルにおける脱落粒子割合を、以下の式から求め、評価した。
【００６５】
脱落粒子割合＝（試験前後の平均粒子密度の差／試験前の平均粒子密度）×１００％
なお、平均粒子密度は、走査型電子顕微鏡（キーエンス社製ＶＥ−９８００）を用いて、無作為に選んだ１０点の反射防止膜上の位置において反射防止膜表面像を測定し、１６μｍ２の領域について、凸部を形成する異形粒子の平均数密度を算出することで求めた。
【００６６】
粒子脱落性は次のように評価した。
〇：脱落粒子割合が２０％未満。
×：脱落粒子割合が２０％以上。
［実施例１］
スターラーを備えたフラスコに固形分濃度４０ｗｔ％のコロイダルシリカ水溶液(日産化学工業社製ＳＴ−ＹＬ)０．１９８ｇ、イオン交換水３７．８５ｇを加え、窒素バブリングにより３０分間脱気した。０．０１１９ｇの３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学社製ＫＢＭ−５０３)を加え、窒素雰囲気下、３００ｒｐｍで３０分間撹拌した。３０分後、イオン交換水１０ｇに０．００８３ｇのｐ−スチレンスルホン酸ナトリウム(ＮａＳＳ)及び０．２ｇのメチルメタアクリレート(ＭＭＡ)を加えた水溶液をフラスコに加え、さらに２時間３００ｒｐｍで撹拌した。２時間後、溶液を６５℃に昇温し、１０ｇのイオン交換水に０．０２１６ｇのペルオキソ二硫酸カリウム(ＫＰＳ)を溶解させた溶液を加えた。窒素雰囲気下、６５℃、３００ｒｐｍで撹拌しながら３時間反応させた。反応後、遠心分離して上澄みを捨て、沈降物をイオン交換水１０ｇに再分散させた溶液を得た。沈降物をイオン交換水に再分散させた前記溶液４．９ｇにイオン交換水１９ｇを加え、窒素バブリングにより３０分間脱気した。０．４３ｇのスチレン(Ｓｔ)及び０．１ｇのジビニルベンゼンを加え、窒素雰囲気下、３００ｒｐｍで４時間撹拌した。４時間後、溶液を６５℃に昇温し、１０ｇのイオン交換水に０．０２１６ｇのペルオキソ二硫酸カリウム(ＫＰＳ)を溶解させた溶液を加えた。窒素雰囲気下、６５℃、３００ｒｐｍで撹拌しながら７時間反応させた。反応後、遠心分離して上澄みを捨て、沈降物をエチレングリコールに再分散させて異形粒子を得た。
【００６７】
平均粒径５０ｎｍ、固形分濃度２０ｗｔ％の中空シリカ粒子分散液（日揮触媒化成製スルーリア１１１０）２００部、エタノール１５０部、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学社製ＫＢＭ−５０３）４部、及び２８ｗｔ％アンモニア水０．２ｇを撹拌しながら加え、６０℃で３時間反応させ室温まで冷却した。その後、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート（ダイセルオルネクス社製ＴＭＰＥＯＴＡ）５６部、メタノール１５０部を加えた。エバポレータにより溶媒を留去し、メタノール５００部を加え再度溶媒を留去する操作を３回繰り返した。留去操作後、サンプル重量に変化がなくなるまでエバポレータで濃縮し、光開始剤として２−ヒドロキシ−２―メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦ社製ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３）２．８部を加えた硬化物形成用組成物を調製した。
【００６８】
該調製した硬化物形成用組成物に前記得られた異形粒子を加え、異形粒子：硬化物形成用組成物が２：３の溶液を調製した。希釈剤としてメタノールを加え、固形分濃度４ｗｔ％の反射防止膜形成用コーティング液を調製した。
【００６９】
基材として用いるガラス基板に対し、該基材の表面に正電荷を付与するため（膜として形成した際に粒子を配列させるため）、４０×５０ｍｍのガラス基板（松浪ガラス、（平均）屈折率１．５２）を１ｍｇ／ｍＬのポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド（Ｍｗ＝１５００００）溶液に１０秒間浸漬し、イオン交換水により洗浄し、エアーを吹きつけることにより乾燥させた。また、該乾燥させたガラス基板に対し、前記反射防止膜形成用コーティング液を１５００ｒｐｍで２０秒間スピンコートし、１１０℃で２分間加熱乾燥した。窒素雰囲気下で２０分間紫外線照射することで硬化させ、ガラス基板の一方の面に反射防止膜が形成された試料を得た。
【００７０】
作製した反射防止膜の断面の模式図を図１に示す。また、前記得られた異形粒子の透過型電子顕微鏡像を図３に示し、可視光領域の光の波長に対する反射率のグラフを図４に示す。
【００７１】
また、異形粒子及び反射防止膜の構成、および物性を表１に示す。
【００７２】
【表１】
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得られた異形粒子は平均長径２３０ｎｍ、平均短径１２０ｎｍ、平均長径／平均短径の
比１．９２、長径の標準偏差４％であった。
【００７３】
また、作製した反射防止膜の凸部の平均高さは１２０ｎｍ、凸部の平均間隔は１８０ｎｍであった。埋没部の平均長さは９０ｎｍであり、異形粒子の短径の７５％の値であった。硬化物の平均屈折率は１．３５であった。凸部を形成する異形粒子は埋没部を有しており、垂直異形粒子を含むものであった。
【００７４】
作製した反射防止膜は、波長５８０ｎｍにおける反射率が０．２２％であり、可視光域の反射率の最小値と最大値の差が０．１１％であった。また、作製した膜は耐擦傷性に優れるものであり、粒子が脱落しにくいものであった。
［実施例２］
硬化物形成用組成物として以下の方法で調製した組成物を用い、その他は実施例１と同様にして反射防止膜を作製した。
【００７５】
トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート（ダイセルオルネクス社製ＴＭＰＥＯＴＡ）１６部、トリフルオロエチルメタアクリレート（東ソー・エフテック社製）４０部、光開始剤として２−ヒドロキシ−２―メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦ社製ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３）２．８部を混合することで、硬化物形成用組成物を調製した。
【００７６】
該調製した硬化物形成用組成物を用いて作製した反射防止膜について、異形粒子及び反射防止膜の構成、並びに物性を表１に合わせて示す。
【００７７】
作製した反射防止膜は、波長５８０ｎｍにおける反射率が０．２９％であり、可視光域の反射率の最小値と最大値の差が０．１２％であった。また、作製した膜は耐擦傷性に優れるものであり、粒子が脱落しにくいものであった。
［実施例３］
硬化物形成用組成物として以下の方法で調製した組成物を用い、その他は実施例１と同様にして反射防止膜を作製した。
【００７８】
平均粒径６５ｎｍ、固形分濃度４０ｗｔ％のシリカ粒子分散液（日産化学工業社製ＳＴ−ＹＬ）２００部、エタノール１５０部、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学社製ＫＢＭ−５０３）４部、及び２８ｗｔ％アンモニア水０．２ｇを撹拌しながら加え、６０℃で３時間反応させ室温まで冷却した。その後、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート（ダイセルオルネクス社製ＴＭＰＥＯＴＡ）２８部、メタノール１５０部を加えた。エバポレータにより溶媒を留去し、メタノール５００部を加え再度溶媒を留去する操作を３回繰り返した。留去操作後、サンプル重量に変化がなくなるまでエバポレータで濃縮し、光開始剤として２−ヒドロキシ−２―メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦ社製ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３）１．４部を加えた硬化物形成用組成物を調製した。
【００７９】
該調製した硬化物形成用組成物を用いて作製した反射防止膜について、異形粒子及び反射防止膜の構成、並びに物性を表１に合わせて示す。
【００８０】
作製した反射防止膜は、波長５８０ｎｍにおける反射率が０．３２％であり、可視光域の反射率の最小値と最大値の差が０．１５％であった。また、作製した膜は耐擦傷性に優れるものであり、粒子が脱落しにくいものであった。
［実施例４］
実施例１において、異形粒子：硬化物形成用組成物が２：３の反射防止膜形成用コーティング液を用いる代わりに、異形粒子：硬化物形成用組成物が４：３の反射防止膜形成用コーティング液を用い、また、前記反射防止膜形成用コーティング液を１５００ｒｐｍで２０秒間スピンコート後、１１０℃で２分間加熱乾燥する代わりに、１３０℃で３分間加熱乾燥することで、埋没部の平均長さが６５ｎｍであり、異形粒子の短径の５４％の値である反射防止膜を作製した。
【００８１】
作製した反射防止膜について、異形粒子及び反射防止膜の構成、並びに物性を表１に合わせて示す。
【００８２】
作製した反射防止膜は、波長５８０ｎｍにおける反射率が０．３５％であり、可視光域の反射率の最小値と最大値の差が０．４２％であった。また、作製した膜は耐擦傷性に優れるものであり、粒子が脱落しにくいものであった。
［実施例５］
基材としてトリアセチルセルロースフィルムを用い、表面にハードコート層としてＮ−トリス［（３−アクリルアミドプロポキシメチル）メチル］アクリルアミドを硬化させた膜を形成し、その他の操作は実施例１と同様にして反射防止膜を作製した。
【００８３】
作製した反射防止膜は、波長５８０ｎｍにおける反射率が０．４２％であり、可視光域の反射率の最小値と最大値の差が０．３８％であった。また、作製した膜は耐擦傷性に優れるものであり、粒子が脱落しにくいものであった。
［実施例６］
実施例１で用いた異形粒子の代わりに、以下の方法で合成した平均短径が１８０ｎｍの異形粒子を用い、その他は実施例１と同様にして反射防止膜を作製した。
【００８４】
スターラーを備えたフラスコに固形分濃度４０ｗｔ％のコロイダルシリカ水溶液(日産化学工業社製ＳＴ−ＹＬ)０．１９８ｇ、イオン交換水３７．８５ｇを加え、窒素バブリングにより３０分間脱気した。０．０１１９ｇの３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン (信越化学社製ＫＢＭ−５０３)を加え、窒素雰囲気下、３００ｒｐｍで３０分間撹拌した。３０分後、イオン交換水１０ｇに０．００８３ｇのｐ−スチレンスルホン酸ナトリウム(ＮａＳＳ)及び０．４ｇのメチルメタアクリレート (ＭＭＡ)を加えた水溶液をフラスコに加え、さらに２時間３００ｒｐｍで撹拌した。２時間後、溶液を６５℃に昇温し、１０ｇのイオン交換水に０．０２１６ｇのペルオキソ二硫酸カリウム(ＫＰＳ)を溶解させた溶液を加えた。窒素雰囲気下、６５℃、３００ｒｐｍで撹拌しながら３時間反応させた。反応後、遠心分離して上澄みを捨て、沈降物をイオン交換水１０ｇに再分散させた溶液を得た。沈降物をイオン交換水に再分散させた前記溶液４．９ｇにイオン交換水１９ｇを加え、窒素バブリングにより３０分間脱気した。０．５３ｇのスチレン(Ｓｔ)を加え、窒素雰囲気下、３００ｒｐｍで４時間撹拌した。４時間後、溶液を６５℃に昇温し、１０ｇのイオン交換水に０．０２１６ｇのペルオキソ二硫酸カリウム(ＫＰＳ)を溶解させた溶液を加えた。窒素雰囲気下、６５℃、３００ｒｐｍで撹拌しながら７時間反応させた。反応後、遠心分離して上澄みを捨て、沈降物をエチレングリコールに再分散させて異形粒子を得た。得られた異形粒子の透過型電子顕微鏡像を図５に示した。
【００８５】
得られた異形粒子及び該異形粒子を凸部とする反射防止膜の構成、並びに物性を表１に合わせて示す。
【００８６】
作製した反射防止膜は、波長５８０ｎｍにおける反射率が０．３０％であり、可視光域の反射率の最小値と最大値の差が０．２２％であった。また、作製した膜は耐擦傷性に優れるものであり、粒子が脱落しにくいものであった。
［実施例７］
実施例１で用いた異形粒子の代わりに、以下の方法で合成した平均長径／平均短径の比が１．１５の異形粒子を用い、その他は実施例１と同様にして反射防止膜を作製した。
【００８７】
スターラーを備えたフラスコに固形分濃度４０ｗｔ％のコロイダルシリカ水溶液(日産化学工業社製ＳＴ−ＹＬ)０．１９８ｇ、イオン交換水３７．８５ｇを加え、窒素バブリングにより３０分間脱気した。０．０１１９ｇの３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学社製ＫＢＭ−５０３)を加え、窒素雰囲気下、３００ｒｐｍで３０分間撹拌した。３０分後、イオン交換水１０ｇに０．００８３ｇのｐ−スチレンスルホン酸ナトリウム(ＮａＳＳ)及び０．８ｇのメチルメタアクリレート (ＭＭＡ)を加えた水溶液をフラスコに加え、さらに２時間３００ｒｐｍで撹拌した。２時間後、溶液を６５℃に昇温し、１０ｇのイオン交換水に０．０２１６ｇのペルオキソ二硫酸カリウム(ＫＰＳ)を溶解させた溶液を加えた。窒素雰囲気下、６５℃、３００ｒｐｍで撹拌しながら３時間反応させた。反応後、遠心分離して上澄みを捨て、沈降物をイオン交換水１０ｇに再分散させた溶液を得た。沈降物をイオン交換水に再分散させた前記溶液４．９ｇにイオン交換水１９ｇを加え、窒素バブリングにより３０分間脱気した。０．５３ｇのスチレン(Ｓｔ)を加え、窒素雰囲気下、３００ｒｐｍで４時間撹拌した。４時間後、溶液を６５℃に昇温し、１０ｇのイオン交換水に０．０２１６ｇのペルオキソ二硫酸カリウム(ＫＰＳ)を溶解させた溶液を加えた。窒素雰囲気下、６５℃、３００ｒｐｍで撹拌しながら７時間反応させた。反応後、遠心分離して上澄みを捨て、沈降物をエチレングリコールに再分散させて異形粒子を得た。
【００８８】
得られた異形粒子及び該異形粒子を凸部とする反射防止膜の構成、並びに物性を表１に合わせて示す。
【００８９】
作製した反射防止膜は、波長５８０ｎｍにおける反射率が０．３２％であり、可視光域の反射率の最小値と最大値の差が０．１８％であった。また、作製した膜は耐擦傷性に優れるものであった。
［実施例８］
実施例１で用いた異形粒子の代わりに、以下の方法で合成した平均長径／平均短径の比が３．８５の異形粒子を用い、その他は実施例１と同様にして反射防止膜を作製した。
【００９０】
スターラーを備えたフラスコに固形分濃度４０ｗｔ％のコロイダルシリカ水溶液(日産化学工業社製ＳＴ−ＹＬ)０．１９８ｇ、イオン交換水３７．８５ｇを加え、窒素バブリングにより３０分間脱気した。０．０１１９ｇの３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン (信越化学社製ＫＢＭ−５０３)を加え、窒素雰囲気下、３００ｒｐｍで３０分間撹拌した。３０分後、イオン交換水１０ｇに０．００８３ｇのｐ−スチレンスルホン酸ナトリウム(ＮａＳＳ)及び０．４ｇのメチルメタアクリレート (ＭＭＡ)を加えた水溶液をフラスコに加え、さらに２時間３００ｒｐｍで撹拌した。２時間後、溶液を６５℃に昇温し、１０ｇのイオン交換水に０．０２１６ｇのペルオキソ二硫酸カリウム(ＫＰＳ)を溶解させた溶液を加えた。窒素雰囲気下、６５℃、３００ｒｐｍで撹拌しながら３時間反応させた。反応後、遠心分離して上澄みを捨て、沈降物をイオン交換水１０ｇに再分散させた溶液を得た。沈降物をイオン交換水に再分散させた前記溶液４．９ｇにイオン交換水１９ｇを加え、窒素バブリングにより３０分間脱気した。０．５３ｇのスチレン(Ｓｔ)を加え、窒素雰囲気下、３００ｒｐｍで４時間撹拌した。４時間後、溶液を６５℃に昇温し、１０ｇのイオン交換水に０．０２１６ｇのペルオキソ二硫酸カリウム(ＫＰＳ)を溶解させた溶液を加えた。窒素雰囲気下、６５℃、３００ｒｐｍで撹拌しながら７時間反応させた。反応後、遠心分離して上澄みを捨て、沈降物をイオン交換水に再分散させ、異形粒子濃度２ｗｔ％の分散液を得た。この異形粒子分散液２．４ｇにイオン交換水１９ｇを加え、窒素バブリングにより３０分間脱気した。０．２７ｇのスチレン(Ｓｔ)を加え、窒素雰囲気下、３００ｒｐｍで４時間撹拌した。４時間後、溶液を６５℃に昇温し、１０ｇのイオン交換水に０．０２１６ｇのペルオキソ二硫酸カリウム(ＫＰＳ)を溶解させた溶液を加えた。窒素雰囲気下、６５℃、３００ｒｐｍで撹拌しながら７時間反応させた。反応後、遠心分離して上澄みを捨て、沈降物をエチレングリコールに再分散させて異形粒子を得た。
【００９１】
得られた異形粒子及び該異形粒子を凸部とする反射防止膜の構成、並びに物性を表１に合わせて示す。
【００９２】
作製した反射防止膜は、波長５８０ｎｍにおける反射率が０．２６％であり、可視光域の反射率の最小値と最大値の差が０．１６％であった。また、作製した膜は耐擦傷性に優れるものであった。
［実施例９］
実施例１において、異形粒子：硬化物形成用組成物が２：３の反射防止膜形成用コーティング液を用いる代わりに、異形粒子：硬化物形成用組成物が５：３の反射防止膜形成用コーティング液を用いることで、凸部の平均高さが７０ｎｍの反射防止膜を作製した。
【００９３】
作製した反射防止膜は、波長５８０ｎｍにおける反射率が０．４８％であり、可視光域の反射率の最小値と最大値の差が０．４１％であった。また、作製した膜は耐擦傷性に優れるものであった。
［実施例１０］
実施例８において、異形粒子：硬化物形成用組成物が２：３の反射防止膜形成用コーティング液を用いる代わりに、異形粒子：硬化物形成用組成物が３：１の反射防止膜形成用コーティング液を用いることで、凸部の平均高さが１８０ｎｍの反射防止膜を作製した。
【００９４】
作製した反射防止膜は、波長５８０ｎｍにおける反射率が０．４３％であり、可視光域の反射率の最小値と最大値の差が０．３４％であった。また、作製した膜は耐擦傷性に優れるものであった。
［比較例１］
反射防止膜形成用コーティング液に異形粒子を添加せず、その他は実施例１と同様にして異形粒子が存在しない反射防止膜を作製した。
【００９５】
作製した反射防止膜の断面の模式図を図６に示した。
【００９６】
また、反射防止膜の構成、および物性を表２に示す。
【００９７】
【表２】
2017181694.tif 000005
作製した反射防止膜は、波長５８０ｎｍにおける反射率が２．２４％であり、反射防止性に劣るものであった。
［比較例２］
反射防止膜形成用コーティング液に硬化物形成用組成物を添加せず、その他は実施例１と同様にして硬化物が存在しない反射防止膜を作製した。
【００９８】
作製した反射防止膜の断面の模式図を図７に示した。
【００９９】
また、作製した反射防止膜の構成、および物性を表２に合わせて示す。
【０１００】
作製した反射防止膜は、耐擦傷性に劣るものであった。また、粒子が脱落しやすいものであった。
［比較例３］
実施例１において、異形粒子：硬化物形成用組成物が２：３の反射防止膜形成用コーティング液を用いる代わりに、異形粒子：硬化物形成用組成物が１：２０の反射防止膜形成用コーティング液を用いることで、異形粒子による凸部が形成されていない反射防止膜を作製した。
【０１０１】
作製した反射防止膜の断面の模式図を図８に示した。
【０１０２】
また、作製した反射防止膜の構成、および物性を表２に合わせて示す。
【０１０３】
作製した反射防止膜は、波長５８０ｎｍにおける反射率が２．４５％であり、反射防止性に劣るものであった。
［比較例４］
実施例１で用いた異形粒子及び硬化物形成用組成物を使用し、以下の方法で異形粒子に埋没部を持たない膜を作製した。
【０１０４】
４０×５０ｍｍのガラス基板上（松浪ガラス、（（平均）屈折率１．５２）に、硬化物形成用組成物をメタノールで希釈し、固形分４％とした溶液を６００ｒｐｍで２０秒間スピンコートし、１１０℃で２分間加熱乾燥した。窒素雰囲気下で２０分間紫外線照射することで硬化させた。この基板表面に２０秒間プラズマ照射（２０Ｐａガス圧下、導電電流２０ｍＡ）した後、１ｍｇ／ｍＬのポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド（Ｍｗ＝１５００００）溶液に１０秒間浸漬し、イオン交換水により洗浄し、エアーを吹きつけることにより乾燥させた。２ｗｔ％の異形粒子分散液を１０００ｒｐｍでスピンコートし、エチレングリコールに浸漬し、１１０℃で５分間加熱し、水洗浄後、エアーを吹きつけることで乾燥させて反射防止膜を作製した。
【０１０５】
作製した反射防止膜の断面の模式図を図９に示した。
【０１０６】
また、作製した反射防止膜の構成、および物性を表２に合わせて示す。
【０１０７】
作製した反射防止膜は、耐擦傷性に劣るものであった。また、粒子が脱落しやすいものであった。
［比較例５］
実施例１において、異形粒子：硬化物形成用組成物が２：３の反射防止膜形成用コーティング液を用いる代わりに、異形粒子：硬化物形成用組成物が２０：１の反射防止膜形成用コーティング液を用いることで、埋没部の膜厚方向の平均長さが異形粒子の短径の５０％未満である反射防止膜を作製した。
【０１０８】
作製した反射防止膜の構成、および物性を表２に合わせて示す。
【０１０９】
作製した反射防止膜は、耐擦傷性に劣るものであった。また、粒子が脱落しやすいものであった。
［比較例６］
実施例１で用いた異形粒子の代わりに、平均長径／平均短径の比が１．０の球状粒子（日産化学工業社製ＭＰ−１０４０）を用い、その他は実施例１と同様にして反射防止膜を作製した。
【０１１０】
作製した反射防止膜の断面の模式図を図１０に示した。
【０１１１】
また、作製した反射防止膜の構成、および物性を表２に合わせて示す。
【０１１２】
作製した反射防止膜は、波長５８０ｎｍにおける反射率が０．８５％であり、可視光域の反射率の最小値と最大値の差が１．１９％であり、反射防止性に劣るものであった。
［比較例７］
実施例１において、異形粒子：硬化物形成用組成物が２：３の反射防止膜形成用コーティング液を用いる代わりに、異形粒子：硬化物形成用組成物が１：８の反射防止膜形成用コーティング液を用いることで、凸部の平均高さが２０ｎｍの反射防止膜を作製した。
【０１１３】
作製した反射防止膜の構成、および物性を表２に合わせて示す。
【０１１４】
作製した反射防止膜は、波長５８０ｎｍにおける反射率が１．２６％であり、可視光域の反射率の最小値と最大値の差が１．１５％であり、反射防止性に劣るものであった。
［比較例８］
実施例８において、異形粒子：硬化物形成用組成物が２：３の反射防止膜形成用コーティング液を用いる代わりに、異形粒子：硬化物形成用組成物が５：１の反射防止膜形成用コーティング液を用いることで、凸部の平均高さが２１０ｎｍの反射防止膜を作製した。
【０１１５】
作製した反射防止膜の構成、および物性を表２に合わせて示す。
【０１１６】
作製した反射防止膜は、耐擦傷性に劣るものであった。
［比較例９］
硬化物形成用組成物として以下の方法で調製した組成物を用い、その他は実施例１と同様にして硬化物の平均屈折率が１．１８の反射防止膜を作製した。
【０１１７】
平均粒径６５ｎｍ、固形分濃度４０ｗｔ％のシリカ粒子分散液（日産化学工業社製ＳＴ−ＹＬ）２００部、エタノール１５０部、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学社製ＫＢＭ−５０３）４部、及び２８ｗｔ％アンモニア水０．２ｇを撹拌しながら加え、６０℃で３時間反応させ室温まで冷却した。その後、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート（ダイセルオルネクス社製ＴＭＰＥＯＴＡ）１８部、メタノール１５０部を加えた。エバポレータにより溶媒を留去し、メタノール５００部を加え再度溶媒を留去する操作を３回繰り返した。留去操作後、サンプル重量に変化がなくなるまでエバポレータで濃縮し、光開始剤として２−ヒドロキシ−２―メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦ社製ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３）０．３６部を加えた硬化物形成用組成物を調製した。
【０１１８】
作製した反射防止膜の構成、および物性を表２に合わせて示す。
【０１１９】
作製した反射防止膜は、波長５８０ｎｍにおける反射率が０．７８％であり、反射防止性に劣るものであった。
［比較例１０］
硬化物形成用組成物として以下の方法で調製した組成物を用い、その他は実施例１と同様にして硬化物の平均屈折率が１．４７の反射防止膜を作製した。
【０１２０】
トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート（ダイセルオルネクス社製ＴＭＰＥＯＴＡ）４４部、トリフルオロエチルメタアクリレート（東ソー・エフテック社製）１２部、光開始剤として２−ヒドロキシ−２―メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦ社製ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３）２．８部を混合することで、硬化物形成用組成物を調製した。
【０１２１】
作製した反射防止膜の構成、および物性を表２に合わせて示す。
【０１２２】
作製した反射防止膜は、可視光域の反射率の最小値と最大値の差が１．１５％であり、反射防止性に劣るものであった。
［比較例１１］
硬化物形成用組成物として以下の方法で調製した組成物を用い、また、基材としてトリアセチルセルロースフィルムを用い、その他は実施例１と同様にして硬化物の平均屈折率が基材の平均屈折率より０．０３低い反射防止膜を作製した。
【０１２３】
トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート（ダイセルオルネクス社製ＴＭＰＥＯＴＡ）３５部、トリフルオロエチルメタアクリレート（東ソー・エフテック社製）２１部、光開始剤として２−ヒドロキシ−２―メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦ社製ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３）２．８部を混合することで、硬化物形成用組成物を調製した。
【０１２４】
作製した反射防止膜の構成、および物性を表２に合わせて示す。
【０１２５】
作製した反射防止膜は、可視光域の反射率の最小値と最大値の差が１．１２％であり、反射防止性に劣るものであった。
［比較例１２］
実施例１において、異形粒子：硬化物形成用組成物が２：３の反射防止膜形成用コーティング液を用いる代わりに、異形粒子：硬化物形成用組成物が５：２の反射防止膜形成用コーティング液を用い、また、前記反射防止膜形成用コーティング液を１５００ｒｐｍで２０秒間スピンコート後、１１０℃で２分間加熱乾燥する代わりに、１３０℃で３分間加熱乾燥することで、埋没部の平均長さが５５ｎｍであり、異形粒子の短径の４５％の反射防止膜を作製した。
【０１２６】
作製した反射防止膜の構成、および物性を表２に合わせて示す。
【０１２７】
作製した反射防止膜は、耐擦傷性に劣るものであった。
【産業上の利用可能性】
【０１２８】
本発明によれば、低コストで製造可能であり、反射率の波長依存性が小さく、可視光領域の光に対する高い反射防止性を有し、かつ高い耐擦傷性を有する反射防止膜を提供することができる。本発明の反射防止膜はまた、視認性の高いディスプレイ、光取り込み効率の高い太陽電池、光取り出し効率の高い有機ＥＬ等に応用可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１２９】
【図１】本発明の反射防止膜付き基材の一例を示す断面の模式図
【図２】異形粒子の形状を示す模式図
【図３】実施例１の異形粒子の透過型電子顕微鏡像
【図４】実施例１の反射防止膜付き基材の可視光領域の光の反射率を示すグラフ
【図５】実施例６の異形粒子の透過型電子顕微鏡像
【図６】比較例１の反射防止膜の断面を示す模式図
【図７】比較例２の反射防止膜の断面を示す模式図
【図８】比較例３の反射防止膜の断面を示す模式図
【図９】比較例４の反射防止膜の断面を示す模式図
【図１０】比較例６の反射防止膜の断面を示す模式図
【符号の説明】
【０１３０】
１  凸部
２  埋没部
３  凸部と埋没部の境界面
θ  凸部及び埋没部の境界面と異形粒子の長軸がなす角度
ｂ  埋没部の膜厚方向の長さ
１１  異形粒子
１２  低屈折率の硬化物
１３  基材
１４  球状粒子
【図１】
2017181694.tif 000006
【図２】
2017181694.tif 000007
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
2017181694.tif 000013
【図９】
2017181694.tif 000014
【図１０】
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