(57)【要約】【課題】画素ごとに所望の視野角特性を実現しつつ、光取り出し効率を向上させることを可能にする。【解決手段】基板上に形成される複数の光出射部と、表示面内の少なくとも一部の領域に位置する複数の前記光出射部の各々に対して、前記光出射部の上層に設けられ、前記光出射部からの出射光の一部を下面で反射する反射体と、を備え、前記光出射部からの出射光のうち所望の方向以外の方向に出射された光を反射するように、積層方向と垂直な面内において前記光出射部の発光面の中心に対して前記反射体の中心がずれた状態で、前記光出射部及び前記反射体が配置される、表示装置を提供する。【選択図】図１
2017181831.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成される複数の光出射部と、
表示面内の少なくとも一部の領域に位置する複数の前記光出射部の各々に対して、前記光出射部の上層に設けられ、前記光出射部からの出射光の一部を下面で反射する反射体と、
を備え、
前記光出射部からの出射光のうち所望の方向以外の方向に出射された光を反射するように、積層方向と垂直な面内において前記光出射部の発光面の中心に対して前記反射体の中心がずれた状態で、前記光出射部及び前記反射体が配置される、
表示装置。
【請求項２】
前記光出射部の上層に、複数の前記光出射部の各々に対応して設けられるカラーフィルタ、を更に備え、
少なくとも前記反射体が設けられる前記光出射部において、積層方向と垂直な面内において前記光出射部の発光面の中心と前記光出射部に対応する前記カラーフィルタの中心との相対的な位置ずれが生じるように、前記光出射部及び前記カラーフィルタが配置され、
積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心に対する前記反射体の中心の位置ずれ方向は、積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心に対する前記カラーフィルタの中心の位置ずれ方向と逆方向である、
請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記反射体の反射面は再帰性構造を有する、
請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記再帰性構造はコーナーキューブプリズムが配列された構成を有する、
請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記光出射部の上層に、複数の前記光出射部の各々に対応して設けられるカラーフィルタ、を更に備え、
前記反射体は、前記カラーフィルタよりも下層に形成される、
請求項１に記載の表示装置。
【請求項６】
前記光出射部の直上であって前記反射体よりも下層に設けられ、上方に向かうにつれて積層方向と垂直な面内方向の断面積が徐々に大きくなる略切頭錐体形状を有し、前記光出射部からの出射光を伝播する第１部材と、
隣り合う前記光出射部の間において、前記第１部材と前記第１部材との間に設けられる第２部材と、
を更に備え、
前記第１部材の屈折率は、前記第２部材の屈折率よりも大きい、
請求項２に記載の表示装置。
【請求項７】
積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心に対する前記反射体の中心の位置ずれ量及び位置ずれ方向は、前記表示面内において分布を有する、
請求項１に記載の表示装置。
【請求項８】
積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心に対する前記反射体の中心の位置ずれ量は、前記表示面の外縁に向かうにつれて大きくなる、
請求項１に記載の表示装置。
【請求項９】
積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心に対する前記反射体の中心の位置ずれ量及び位置ずれ方向は、前記反射体が設けられる前記光出射部によって構成される画素に求められる視野角に応じて設定される、
請求項１に記載の表示装置。
【請求項１０】
積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心に対する前記反射体の中心の位置ずれ方向は、前記表示面の中心から、前記表示面内において前記反射体が設けられる前記光出射部が存在する位置に向かう方向と逆方向である、
請求項１に記載の表示装置。
【請求項１１】
複数の前記カラーフィルタの面積が前記表示面内で分布を有することにより、積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心と前記カラーフィルタの中心との相対的な位置ずれが生じる、
請求項２に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記表示面内に複数の領域が設定され、隣り合う前記領域間に位置する前記カラーフィルタの面積が、他の前記カラーフィルタの面積と異なることにより、領域ごとに互いに異なる位置ずれ量で、積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心と前記カラーフィルタの中心との相対的な位置ずれが生じる、
請求項１１に記載の表示装置。
【請求項１３】
複数の前記カラーフィルタの面積が前記表示面内で徐々に変化することにより、積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心と前記カラーフィルタの中心との相対的な位置ずれが生じる、
請求項１１に記載の表示装置。
【請求項１４】
前記基板上において前記光出射部が配列されるピッチが、少なくとも一部領域において他の領域における前記ピッチと異なることにより、積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心と前記カラーフィルタの中心との相対的な位置ずれが生じる、
請求項２に記載の表示装置。
【請求項１５】
積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心に対する前記カラーフィルタの中心の位置ずれ量は、前記表示面の外縁に向かうにつれて大きくなる、
請求項２に記載の表示装置。
【請求項１６】
積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心に対する前記カラーフィルタの中心の位置ずれ量、及び積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心に対する前記カラーフィルタの中心の位置ずれ方向は、積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心と前記カラーフィルタの中心との相対的な位置ずれが生じている前記光出射部及び前記カラーフィルタによって構成される画素に求められる視野角に応じて設定される、
請求項２に記載の表示装置。
【請求項１７】
積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心に対する前記カラーフィルタの中心の位置ずれ方向は、前記表示面の中心から、積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心と前記カラーフィルタの中心との相対的な位置ずれが生じている前記光出射部及び前記カラーフィルタが存在する位置に向かう方向である、
請求項２に記載の表示装置。
【請求項１８】
前記光出射部は、有機発光ダイオードからなる発光素子であり、
前記表示装置は、有機ＥＬディスプレイである、
請求項１に記載の表示装置。
【請求項１９】
画像信号に基づいて表示を行う表示装置、
を備え、
前記表示装置は、
基板上に形成される複数の光出射部と、
表示面内の少なくとも一部の領域に位置する複数の前記光出射部の各々に対して、前記光出射部の上層に設けられ、前記光出射部からの出射光の一部を下面で反射する反射体と、
を有し、
前記光出射部からの出射光のうち所望の方向以外の方向に出射された光を反射するように、積層方向と垂直な面内において前記光出射部の発光面の中心に対して前記反射体の中心がずれた状態で、前記光出射部及び前記反射体が配置される、
電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、表示装置及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置において、高輝度化を目的として、光取り出し効率を向上させるための様々な技術が開発されている。例えば、特許文献１には、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板上に形成される複数の発光素子からの光を、当該ＴＦＴ基板とは逆側に設けられる対向基板を介して出射する表示装置であって、画素ごとに、当該ＴＦＴ基板と当該発光素子との間に再帰性反射構造からなる層が設けられた表示装置が開示されている。特許文献１に記載の表示装置によれば、発光素子からの出射光のうち、ＴＦＴ基板側に向かって出射された光が、再帰性反射構造によって対向基板側に反射されるため、光取り出し効率を向上させ、高輝度化を実現することが可能になる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１５−１５１１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ここで、表示装置においては、高輝度化とともに、画素ごとに、視野角、すなわち出射される光線の方向を制御したいという要求もある。上記特許文献１に記載の技術では、このような視野角の制御については特に言及されていなかった。上記事情に鑑みれば、画素ごとに所望の視野角特性を実現しつつ、光取り出し効率を向上させるための技術が求められていた。
【０００５】
そこで、本開示では、画素ごとに所望の視野角特性を実現しつつ、光取り出し効率を向上させることが可能な、新規かつ改良された表示装置及び電子機器を提案する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示によれば、基板上に形成される複数の光出射部と、表示面内の少なくとも一部の領域に位置する複数の前記光出射部の各々に対して、前記光出射部の上層に設けられ、前記光出射部からの出射光の一部を下面で反射する反射体と、を備え、前記光出射部からの出射光のうち所望の方向以外の方向に出射された光を反射するように、積層方向と垂直な面内において前記光出射部の発光面の中心に対して前記反射体の中心がずれた状態で、前記光出射部及び前記反射体が配置される、表示装置が提供される。
【０００７】
また、本開示によれば、画像信号に基づいて表示を行う表示装置、を備え、前記表示装置は、基板上に形成される複数の光出射部と、表示面内の少なくとも一部の領域に位置する複数の前記光出射部の各々に対して、前記光出射部の上層に設けられ、前記光出射部からの出射光の一部を下面で反射する反射体と、を有し、前記光出射部からの出射光のうち所望の方向以外の方向に出射された光を反射するように、積層方向と垂直な面内において前記光出射部の発光面の中心に対して前記反射体の中心がずれた状態で、前記光出射部及び前記反射体が配置される、電子機器が提供される。
【０００８】
本開示によれば、光出射部（例えば、有機ＥＬディスプレイであれば発光素子）ごと（すなわち、画素ごと）に、当該光出射部の上層に、当該光出射部からの出射光のうち所望の方向以外の方向に出射された光を反射するように、反射体が設置される。従って、当該光出射部からなる画素においては、反射体が設置されない領域からのみ光が出射される、すなわち、所望の方向にのみ光が出射されることとなる。よって、画素ごとに所望の視野角特性を実現することができる。また、光出射部からの出射光のうち反射体によって反射された光は、当該光出射部の発光面（又はより下層のいずれかの層間の界面）において再度反射され、最終的に、当該反射体が設置されない領域から反射される。従って、光取り出し効率の低下を抑制することができる。このように、本開示によれば、画素ごとに、所望の視野角特性を実現することと、光の取り出し効率を向上させることとを両立させることが可能になる。
【発明の効果】
【０００９】
以上説明したように本開示によれば、画素ごとに所望の視野角特性を実現しつつ、光取り出し効率を向上させることが可能になる。なお、上記の効果は必ずしも限定的なものではなく、上記の効果とともに、又は上記の効果に代えて、本明細書に示されたいずれかの効果、又は本明細書から把握され得る他の効果が奏されてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】第１の実施形態に係る表示装置の一構成例を示す断面図である。
【図２】第１の実施形態の一変形例である対向ＣＦ方式の表示装置の一構成例を示す断面図である。
【図３】光学系が縮小された場合における、電子機器内における小型の表示装置からユーザの眼球への光線の軌跡を模擬的に示す図である。
【図４】第２の実施形態に係る表示装置の一構成例を示す断面図である。
【図５】表示装置の表示面内におけるＣＦの位置ずれ量Ｌ及び位置ずれ方向の分布について説明するための図である。
【図６】ＣＦの位置ずれ量Ｌ及び／又は位置ずれ方向が変化する遷移領域について説明するための図である。
【図７】第２の実施形態の第１の変形例に係る表示装置の一構成例を示す断面図である。
【図８】第２の実施形態の第２の変形例に係る表示装置の一構成例を示す断面図である。
【図９】第２の実施形態の第３の変形例である対向ＣＦ方式の表示装置の一構成例を示す断面図である。
【図１０】第２の実施形態の第４の変形例である対向ＣＦ方式の表示装置の一構成例を示す断面図である。
【図１１】第２の実施形態の第５の変形例である対向ＣＦ方式の表示装置の一構成例を示す断面図である。
【図１２】第３の実施形態に係る表示装置の一構成例を示す断面図である。
【図１３】第３の実施形態の第１の変形例に係る表示装置の一構成例を示す断面図である。
【図１４】第３の実施形態の第２の変形例に係る表示装置の一構成例を示す断面図である。
【図１５】第３の実施形態の第３の変形例に係る表示装置の一構成例を示す断面図である。
【図１６】第３の実施形態の第４の変形例に係る表示装置の一構成例を示す断面図である。
【図１７】第３の実施形態の第５の変形例に係る表示装置の一構成例を示す断面図である。
【図１８】ＣＦの位置ずれ量Ｌの設定方法について説明するための図である。
【図１９】ＣＦの位置ずれ量Ｌの設定方法について説明するための図である。
【図２０】ＣＦの位置ずれ量Ｌの設定方法について説明するための図である。
【図２１】ＣＦの位置ずれ量Ｌの設定方法について説明するための図である。
【図２２】発光素子とＣＦとの相対的な位置ずれを生じさせる他の方法について説明するための図である。
【図２３】発光素子とＣＦとの相対的な位置ずれを生じさせる更に他の方法について説明するための図である。
【図２４】発光部からの出射光がＣＦの側面に入射する場合も考慮したＣＦの位置ずれ量Ｌの設定方法について説明するための図である。
【図２５】第３の実施形態に係る表示装置の具体的な一構成例を示す断面図である。
【図２６】各実施形態及び各変形例に係る表示装置が適用され得る電子機器の一例である、スマートフォンの外観を示す図である。
【図２７】各実施形態及び各変形例に係る表示装置が適用され得る電子機器の他の例である、デジタルカメラの外観を示す図である。
【図２８】各実施形態及び各変形例に係る表示装置が適用され得る電子機器の他の例である、デジタルカメラの外観を示す図である。
【図２９】各実施形態及び各変形例に係る表示装置が適用され得る電子機器の他の例である、ＨＭＤの外観を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下に添付図面を参照しながら、本開示の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００１２】
なお、説明は以下の順序で行うものとする。
１．第１の実施形態
１−１．表示装置の構成
１−２．変形例
２．第２の実施形態
２−１．第２の実施形態に想到した背景
２−２．表示装置の構成
２−３．変形例
２−３−１．第１の変形例
２−３−２．第２の変形例
２−３−３．第３−第５の変形例
３．第３の実施形態
３−１．表示装置の構成
３−２．変形例
４．ＣＦの位置ずれ量について
５．変形例
５−１．発光素子とＣＦとの相対的な位置ずれの発生方法
５−２．ＣＦの位置ずれ量Ｌの他の設定方法
６．表示装置の具体的な構成例
７．適用例
８．補足
【００１３】
また、以下では、本開示の一例として、表示装置が有機ＥＬディスプレイ（ＯＥＬＤ：Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ  Ｄｉｓｐｌａｙ）である実施形態について説明する。ただし、本開示はかかる例に限定されず、本開示の対象となる表示装置は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ及び電子ペーパー等、カラーフィルタ（ＣＦ）を用いてカラー表示を実現し得る表示装置であれば、各種の表示装置であってよい。
【００１４】
（１．第１の実施形態）
（１−１．表示装置の構成）
図１を参照して、本開示の第１の実施形態に係る表示装置の構成について説明する。図１は、第１の実施形態に係る表示装置の一構成例を示す断面図である。図１では、第１の実施形態に係る表示装置の概略的な一部断面図を示している。
【００１５】
図１を参照すると、第１の実施形態に係る表示装置１ａは、第１基板１０１と、第１基板１０１に形成される有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ：Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ−Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）からなる白色光を発する複数の発光素子１０３と、当該発光素子１０３の上層に当該発光素子１０３の各々に対応して各色のＣＦが形成されるＣＦ層１１３と、を主に備える。また、ＣＦ層１１３の上層には、発光素子１０３からの光に対して透明な材料で形成される第２基板１１７が配置される。図示は省略しているが、第１基板１１には、発光素子１０３の各々に対応して、当該発光素子１０３を駆動するための薄膜トランジスタが設けられる。ＴＦＴによって任意の発光素子１０３が選択的に駆動され、駆動された当該発光素子１０３からの光が対応するＣＦを通過してその色が適宜変換され、第２基板１１７を介して上方から出射されることにより、所望の画像、文字等が表示される。
【００１６】
なお、以下の説明では、表示装置１ａにおける各層の積層方向を上下方向とも呼称する。その際、第１基板１０１が配置される方向を上方向とし、第２基板１１７が配置される方向を下方向とする。また、上下方向に垂直な面のことを水平面とも呼称する。
【００１７】
このように、図１に示す表示装置１ａは、カラー表示可能な、アクティブマトリックス方式で駆動される上面発光型の表示装置である。ただし、第１の実施形態はかかる例に限定されず、第１の実施形態に係る表示装置は、パッシブマトリックス方式等他の方式によって駆動される表示装置であってもよいし、第１基板１０１を介して光が出射される下面発光型の表示装置であってもよい。
【００１８】
なお、表示装置１ａは、表示機能を有する各種の電子機器に搭載され得る。具体的には、例えば、表示装置１ａは、テレビジョン装置、電子ブック、スマートフォン、携帯情報端末（ＰＤＡ：Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ａｓｓｉｓｔａｎｔ）、ノート型ＰＣ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｃｏｍｐｕｔｅｒ）、ビデオカメラ、又はゲーム機器等に組み込まれるモニタ装置として使用することができる。あるいは、表示装置１ａは、デジタルカメラのＥＶＦ、又はＨＭＤ等に適用することができる。
【００１９】
図１に示すように、表示装置１ａは、より詳細には、第１基板１０１上に、発光素子１０３、第１部材１０７、保護膜１０９、平坦化膜１１１、及びＣＦ層１１３がこの順に積層されて構成される。このように、表示装置１ａは、発光素子１０３が形成される第１基板１０１上にＣＦ層１１３が形成される、いわゆるオンチップカラーフィルタ（ＯＣＣＦ）方式の表示装置である。当該構成に対して、封止樹脂膜１１５を介して第２基板１１７が最上層のＣＦ層１１３に貼り合わされることにより、表示装置１ａが作製される。
【００２０】
また、第１基板１０１上において、隣り合う発光素子１０３の間には、画素領域を画定する画素定義膜１０５が形成される。画素定義膜１０５は、発光素子１０３に対応する部分に当該発光素子１０３を露出させる開口部を有するように形成される。発光素子１０３の当該開口部において露出される面が、発光素子１０３の発光面に対応する。また、上記の第１部材１０７は、この画素定義膜１０５の開口部を埋め込むように積層される。つまり、発光素子１０３からの出射光は、第１部材１０７、保護膜１０９、平坦化膜１１１、ＣＦ層１１３、封止樹脂膜１１５、及び第２基板１１７を通過して、外部に向かって出射される。
【００２１】
ＣＦ層１１３は、発光素子１０３の各々に対して所定の面積を有する各色のＣＦが位置するように、形成される。図示する例では、ＣＦ層１１３は、それぞれが所定の面積を有する赤色のＣＦ１１３Ｒ、緑色のＣＦ１１３Ｇ、及び青色のＣＦ１１３Ｂが連続的に面内方向に分布するように構成されている。なお、以下の説明では、ＣＦ１１３Ｒ、ＣＦ１１３Ｇ及びＣＦ１１３Ｂを特に区別する必要がない場合には、これらのうちの１つ又は複数を指して、単にＣＦ１１３ａとも記載することとする。
【００２２】
１つの発光素子１０３と１つのＣＦ１１３ａとの組み合わせにより、１つの画素が形成される。なお、実際には、表示装置１ａでは、ＣＦ１１３Ｒが設けられる画素（すなわち、赤色の画素）、ＣＦ１１３Ｇが設けられる画素（すなわち、緑色の画素）、ＣＦ１１３Ｂが設けられる画素（すなわち、青色の画素）、及びＣＦ１１３ａが設けられない画素（すなわち、白色の画素）の４色の副画素によって、１つの画素が形成され得る。ただし、本明細書では、説明のため、便宜的に１つの発光素子１０３と１つのＣＦ１１３ａとの組み合わせのことも、単に画素と呼称することとする。図１では、説明のため、画素間の境界を、一点鎖線を付して表している。また、表示装置１では、４色の副画素がいわゆるデルタ配列で配列され得る（後述する図６も参照）。
【００２３】
第１の実施形態では、図示するように、各画素において、発光素子１０３に対応するＣＦ１１３ａは、水平面内における発光素子１０３の発光面の中心とＣＦ１１３ａの中心とが略一致するように、配置される。
【００２４】
更に、表示装置１ａには、画素ごとに、発光素子１０３の上層に、その下面において発光素子１０３からの出射光を反射する反射体１１９が設けられる。図示する例では、反射体１１９は、ＣＦ層１１３よりも下層、具体的には、平坦化膜１１１の層内に設けられている。具体的には、表示装置１ａは、保護膜１０９を形成した後に、当該保護膜１０９上に反射体１１９を形成し、その上から平坦化膜１１１が成膜された構成を有する。ただし、第１の実施形態では、反射体１１９は、発光素子１０３の上層に設けられればよく、反射体１１９の積層方向における配置位置はかかる例に限定されない。反射体１１９の積層方向における配置位置、すなわち反射体１１９をどの層に設けるかは、反射体１１９の材料と表示装置１ａを構成する各層の材料との相性や、製造のしやすさ、後述する反射体１１９の機能等を考慮して、適宜決定されてよい。ただし、後述する反射体１１９の機能を考慮すれば、より効率良く発光素子１０３からの出射光を反射するために、反射体１１９は、積層方向における距離が発光素子１０３により近い位置に設置された方が好ましい。
【００２５】
反射体１１９の反射面（すなわち、下面）は、再帰性構造を有しており、入射した光を、その入射した方向に向かって反射する機能を有する。第１の実施形態では、反射体１１９の再帰性構造として、複数のコーナーキューブプリズム（ＣＣＰ）が規則的に配置された、いわゆるプリズムタイプのものを用いる。再帰性構造がプリズムタイプのものである場合には、例えば、反射体１１９は、金属膜の表面を転写技術又はエッチング技術等によってプリズムの形状に適宜加工することによって形成され得る。ただし、第１の実施形態はかかる例に限定されず、反射体１１９の再帰性構造として、複数のビーズが分散配置されたいわゆるビーズタイプのものが用いられてもよい。再帰性構造がプリズムタイプのものである場合には、例えば、反射体１１９は、レジスト材をフォトレジスト技術によって球形状又は半球形状に加工する、又は樹脂膜中に適当な粒子を分散配置させる等の方法によって形成され得る。また、反射体１１９は、第１基板１０１上に各層を形成する一連のプロセスの中で同時に形成されてもよいし、別途作製された反射体１１９が第１基板１０１上に貼り付けられてもよい。
【００２６】
ここで、第１の実施形態では、発光素子１０３からの出射光のうち所望の方向以外の方向に出射された光を反射するように、水平面内において発光素子１０３の発光面の中心に対して反射体１１９の中心がずれるように、発光素子１０３及び反射体１１９が配置される。当該構成によれば、発光素子１０３からの出射光のうち、反射体１１９が設けられない領域（すなわち、光を取り出したい所望の方向）に進んだ光は、そのまま第２基板１１７から外部に出射されることとなる。一方、発光素子１０３からの出射光のうち、反射体１１９が設けられる領域に進んだ光は、当該反射体１１９の下面によって反射されることとなる。この際、上記のように反射体１１９の反射面は再帰性構造を有しているため、当該反射体１１９によって反射された光は、発光素子１０３に向かって進む。そして、当該光は、発光素子１０３の表面（又はより下層のいずれかの層間の界面）において、反射体１１９が設けられない領域に向かって反射され、そのまま第２基板１１７から外部に出射されることとなる。図１では、このような挙動を取る光線の軌跡を、模擬的に破線の矢印で示している。
【００２７】
このように、第１の実施形態によれば、各画素に反射体１１９を設けることにより、当該画素からの出射光は、当該反射体１１９が設けられない領域からのみ出射されることとなる。つまり、発光素子１０３の発光面に対する反射体１１９の水平面内での配置位置を適宜調整することにより、各画素からの光の出射方向、すなわち各画素における視野角を制御することが可能になる。また、この際、反射体１１９の反射面が再帰性構造を有するため、発光素子１０３からの出射光のうち当該反射体１１９によって遮られ反射された光は、発光素子１０３の方向に反射されることとなり、最終的に当該反射体１１９が設けられない領域から外部に出射されることとなる。従って、反射体１１９を設けることによる光取り出し効率の低下を抑制することができる。このように、第１の実施形態に係る表示装置１ａによれば、画素ごとに、所望の視野角特性を実現することと、光の取り出し効率を向上させることとを両立させることが可能になる。
【００２８】
第１の実施形態では、各画素における水平面内での反射体１１９の配置位置（すなわち、水平面内における発光素子１０３の発光面の中心に対する反射体１１９の中心の位置ずれ量及び位置ずれ方向）は、各画素に求められる視野角に応じて決定されてよい。この際、水平面内における発光素子１０３の発光面の中心に対する反射体１１９の中心の位置ずれ量及び位置ずれ方向は、表示面内で分布を有してよい。各画素に求められる視野角は、表示装置１ａの用途に応じて異なるが、一般的には、表示面の外縁に近い画素ほど、当該外縁方向により大きな視野角が求められると考えられる。従って、好適に、水平面内における発光素子１０３の発光面の中心に対する反射体１１９の中心の位置ずれ量は、表示面の外縁に向かうほど大きくなるように設定され得る。また、水平面内における発光素子１０３の発光面の中心に対する反射体１１９の中心の位置ずれ方向は、当該位置ずれが発生している画素では、当該位置ずれ方向と逆方向に対する視野角を得ることが可能となるので、表示面の中心から、当該画素に向かう方向とは逆方向になるように設定され得る。
【００２９】
以上、第１の実施形態に係る表示装置１ａの構成について説明した。なお、以上説明した実施形態では、反射体１１９の反射面は再帰性構造を有していたが、第１の実施形態はかかる例に限定されない。反射体１１９の反射面は、ミラーであってもよいし、散乱体であってもよい。反射体１１９の反射面がミラー又は散乱体である場合には、再帰性構造を用いた場合に比べて、当該反射体１１９において反射された光のうち、発光素子１０３に戻る光の割合が低下する。従って、光取り出し効率の向上の効果も低減するものの、反射体１１９に代えて反射率の低い構造体（例えば、光吸収体等）を用いた場合に比べれば、一定の光取り出し効率の向上の効果を生じさせることが可能である。
【００３０】
ここで、本明細書では、後述する図２、図４及び図７−図１７においても、図１と同様の一部断面図を概略的に示し、他の実施形態及び各実施形態の変形例に係る表示装置の構成について説明している。ただし、図１、図２、図４及び図７−図１７に示す断面構造は、実際の構成を簡略化して概略的に図示したものである。本開示の各実施形態及び各変形例に係る表示装置のより詳細な構造の一例については、図２５を参照して後で改めて説明する。
【００３１】
（１−２．変形例）
第１の実施形態の一変形例について説明する。以上説明した実施形態では、表示装置１ａは、発光素子１０３が形成される第１基板１０１上にＣＦ層１１３が形成される、ＯＣＣＦ方式の表示装置であった。ただし、第１の実施形態はかかる例に限定されない。第１の実施形態に係る表示装置は、ＣＦ層が形成された第２基板を、発光素子が形成される第１基板に、当該ＣＦ層が当該発光素子と対向するように貼り合わせることにより作製される、いわゆる対向ＣＦ方式の表示装置であってもよい。
【００３２】
図２を参照して、このような、第１の実施形態の一変形例である対向ＣＦ方式の表示装置の構成について説明する。図２は、第１の実施形態の一変形例である対向ＣＦ方式の表示装置の一構成例を示す断面図である。なお、本変形例に係る表示装置１ｂは、第１の実施形態に係る表示装置１ａにおいて、製造方式の違いにより、保護膜１０９よりも上層の構成が変更されたものに対応し、その他の構成は表示装置１ａと同様である。従って、以下の本変形例に係る表示装置１ｂについての説明では、上述した表示装置１ａと相違する事項について主に説明することとし、表示装置１ａと重複する事項についてはその詳細な説明を省略する。
【００３３】
図２を参照すると、本変形例に係る表示装置１ｂでは、第１基板１０１上に、発光素子１０３、第１部材１０７、及び保護膜１０９がこの順に積層される。また、第２基板１１７上に、ＣＦ層１１３、及び反射体１１９が形成される。なお、本変形例では、ＣＦ層１１３と反射体１１９との間に、両者を良好に接着するための密着層１２３が設けられる。そして、この第１基板１０１に対して、発光素子１０３の各々と各色のＣＦ１１３ａ及び反射体１１９が対向するように、第２基板１１７が、例えばエポキシ樹脂からなる封止材１２１を介して貼り合わされることにより、表示装置１ｂが作製される。
【００３４】
ここで、反射体１１９が形成される層（表示装置１ｂであればＣＦ層１１３）と、当該反射体１１９とが同様の材料によって形成される場合には、両者の接着性は良好であると考えられるため、密着層１２３は必ずしも設けられなくてもよい。この際、反射体１１９が形成される層、及び当該反射体１１９の形成プロセスまで同様であれば、連続的にこれらの構成を形成することが可能となるため、良好な接着性が得られることはもちろんのこと、製造工程を簡略化することができるという利点が得られる。例えば、詳しくは下記（６．表示装置の具体的な構成例）で説明するが、ＣＦ層１１３も、レジスト材をフォトレジスト技術によって加工することにより形成され得る。従って、反射体１１９の反射面をビーズタイプの再帰性構造とし、当該再帰性構造をレジスト材によって形成する場合には、表示装置１ｂのようにＣＦ層１１３上に反射体１１９が形成され得る場合であれば、ＣＦ層１１３及び反射体１１９を同様の材料で同様のプロセスで形成することができる。よって、この場合には、密着層１２３を設ける必要はない。
【００３５】
一方、上述したように、第１の実施形態では、反射体１１９は多様な構成を取り得るため、その材料もさまざまである。従って、反射体１１９が形成される層と当該反射体１１９とが異なる材料によって形成される場合には、それらの材料の相性によって、両者の接着性が必ずしも良好でない可能性がある。従って、このような場合には、表示装置１ｂのように、両者の間に密着層１２３が設けられることが好ましい。図示する例であれば、密着層１２３が設けられることにより、ＣＦ層１１３と反射体１１９とを良好に接着することが可能になる。つまり、反射体１１９が形成される層と当該反射体１１９との間に密着層１２３を設けるかどうかは、両者の材料、及び形成プロセス等を考慮して、適宜選択されればよい。
【００３６】
以上、本変形例に係る表示装置１ｂの構成について説明した。以上説明した構成を有する表示装置１ｂも、第１の実施形態に係る表示装置１ａと同様に、画素ごとに、発光素子１０３からの出射光のうち所望の方向以外の方向に出射された光を反射するように、反射体１１９が設置される。従って、表示装置１ａと同様に、画素ごとに所望の視野角特性を実現することと光取り出し効率を向上させることとを両立させることが可能になるという効果を得ることができる。
【００３７】
ただし、対向ＣＦ方式では、発光素子１０３が形成された第１基板１０１に対して、ＣＦ層１１３が形成された第２基板１１７を貼り合わせることにより表示装置１ｂが作製されるため、各発光素子１０３の発光面とＣＦ層１１３内の各ＣＦとの位置合わせの精度に限界がある。一方、表示装置１ａのように、ＯＣＣＦ方式では、発光素子１０３が形成された第１基板上に直接ＣＦ層１１３が形成されるため、対向ＣＦ方式に比べて、各発光素子１０３の発光面とＣＦ層１１３内の各ＣＦとの位置合わせをより高精度に行うことが可能になる。
【００３８】
また、上述したように、ＯＣＣＦ方式である表示装置１ａでは、反射体１１９が保護膜１０９上に形成され得るのに対して、対向ＣＦ方式である表示装置１ｂでは、反射体１１９がＣＦ層１１３の直下に形成される。従って、表示装置１ａの方が、発光素子１０３と反射体１１９との距離をより近付けることが可能になる。よって、発光素子１０３からの出射光が反射体１１９によって反射される割合をより増加させることができるとともに、発光素子１０３からの出射光が反射体１１９によって反射され発光素子１０３に戻るまでの経路をより短くすることができ、当該経路における出射光の減衰も抑えることができる。
【００３９】
一方、一般的に、有機ＥＬディスプレイは、対向ＣＦ方式で作製されているものが多いため、現状のプロセスをほぼ変更せずに反射体１１９を新たに追加することを考えると、ＯＣＣＦ方式である表示装置１ａよりも、対向ＣＦ方式である表示装置１ｂの方が、より容易に実現できる可能性がある。
【００４０】
第１の実施形態において、表示装置１ａ及び表示装置１ｂのいずれの構成を適用するかは、以上説明した対向ＣＦ方式及びＯＣＣＦ方式をそれぞれ採用することのメリットを考慮して、適宜決定されてよい。
【００４１】
（２．第２の実施形態）
（２−１．第２の実施形態に想到した背景）
本開示の第２の実施形態について説明するに先立ち、第２の実施形態をより明確なものとするために、本発明者らが第２の実施形態に想到した背景について説明する。
【００４２】
近年、例えばＨＭＤやデジタルカメラのＥＶＦ等、比較的小面積の表示面を有する表示装置（以下、便宜のため、単に小型の表示装置という）が電子機器に搭載されることが増えている。このような電子機器では、当該表示装置の表示面からの光線が、レンズ、ミラー及び回折格子等の光学系を介してユーザの眼球に結像される。一方、近年、ユーザの負担軽減のために、電子機器の更なる軽量化、小型化に対する要請が大きい。電子機器の軽量化、小型化を実現するために、搭載される光学系にもより一層の小型化が求められている。
【００４３】
図３は、光学系が縮小された場合における、電子機器内における小型の表示装置からユーザの眼球への光線の軌跡を模擬的に示す図である。図３に示すように、電子機器の軽量化、小型化を実現するためには、光学系２０５を縮小するとともに、光学系２０５と表示装置１との間の距離をより狭くする必要がある。また、光学系２０５を複雑な構成にすることができないため、光学系２０５の構成を工夫することによって、表示装置１の視野角特性を補うことも困難である。従って、表示装置１の表示面２０１から出射される光線のうちより広い角度の光線（すなわち、より広視野角の光線）は、ほぼ表示装置１の表示面２０１から出射された特性のまま、ユーザの眼球２０３に導かれることとなる。以上の理由から、小型の表示装置１が用いられた電子機器において光学系２０５を縮小しようとする場合には、ユーザに対して高品質な表示を提供するために、表示装置１について、より広い視野角においても所望の特性を有する光線が出射され得ること、すなわち、より優れた広視野角特性を有することが要求されることとなる。
【００４４】
ここで、上述した表示装置１ａ、１ｂのように、白色発光素子の上層にＣＦを設けることにより画素を形成し、画素ごとに当該ＣＦによる色変換を行うことによりカラー表示を行う方式の表示装置が一般的に知られている。このような方式の表示装置において広視野角を実現しようとすると、一の発光素子からの光が隣接画素のＣＦに入射してしまい、所望の色の発光が実現されない、いわゆる混色の発生が問題となる。
【００４５】
これに対して、これまでに、混色を抑制するための各種の方法が提案されている。例えば、発光素子とＣＦとの間の距離（対向Ｇａｐ）を画素サイズに比べて小さくする方法が知られている。あるいは、発光素子の発光面の面積を、ＣＦの面積（積層方向と垂直な面内における面積）と比較して十分に小さくする方法が知られている。
【００４６】
しかしながら、これらの方法には以下の欠点が存在する。例えば、表示装置が有機ＥＬディスプレイである場合に、狭対向Ｇａｐの構造を実現しようとすると、電極層、保護層及びＣＦ接着層を薄膜化する必要があるため、ＯＬＥＤの発光特性や保護性が大幅に低下する恐れがある。また、発光素子の発光面の面積を小さくすることは、開口率を小さくすることにつながるため、輝度が大きく低下する恐れがある。
【００４７】
以上説明したように、例えば電子機器に搭載されるような小型の表示装置についてはより一層の広視野角特性の向上が望まれているものの、これまで一般的に提案されている混色を抑制しつつ広視野角を実現するための方法では、他の特性が低下してしまう恐れがあった。上記事情に鑑みて、本発明者らは、上述した第１の実施形態に係る表示装置１ａ、１ｂにおいて、混色の発生を抑制するとともに、輝度の低下等の上述したような他の特性の低下を引き起こすことなく、広視野角特性をより向上されることを可能とする技術について鋭意検討した結果、第２の実施形態に想到した。つまり、本開示の第２の実施形態では、上述した第１の実施形態に係る表示装置１ａ、１ｂによって奏される効果に加えて、広視野角特性をより向上し、混色の発生をより抑制する効果を得ることが可能な表示装置が提供され得る。
【００４８】
（２−２．表示装置の構成）
図４を参照して、本開示の第２の実施形態に係る表示装置の構成について説明する。図４は、第２の実施形態に係る表示装置の一構成例を示す断面図である。なお、第２の実施形態に係る表示装置１ｃは、上述した第１の実施形態に係る表示装置１ａにおいて、ＣＦ層１１３の構成が変更されたものに対応し、その他の構成は表示装置１ａと同様である。従って、以下の第２の実施形態に係る表示装置１ｃについての説明では、上述した表示装置１ａと相違する事項について主に説明することとし、表示装置１ａと重複する事項についてはその詳細な説明を省略する。
【００４９】
図４を参照すると、第２の実施形態に係る表示装置１ｃは、第１の実施形態に係る表示装置１ａと同様に、第１基板１０１上に、発光素子１０３、第１部材１０７、保護膜１０９、平坦化膜１１１、及びＣＦ層１１３がこの順に積層されて構成される、ＯＣＣＦ方式の表示装置である。当該構成に対して、封止樹脂膜１１５を介して第２基板１１７が最上層のＣＦ層１１３に貼り合わされることにより、表示装置１ｃが作製される。
【００５０】
表示装置１ｃでは、ＣＦ層１１３の構成が表示装置１ａとは異なる。具体的には、表示装置１ａでは、各画素において、発光素子１０３に対応するＣＦ１１３ａは、水平面内における当該発光素子１０３の発光面の中心と当該ＣＦ１１３ａの中心とが略一致するように配置されていた。これに対して、表示装置１ｃでは、表示面内の少なくとも一部領域において、ある発光素子１０３、及び当該発光素子１０３に対応するＣＦ１１３ａが、水平面内において、当該発光素子１０３の発光面の中心と、当該ＣＦ１１３ａの中心との位置が相対的に所定の距離Ｌだけずれるように配置される。図示する例では、発光素子１０３の発光面の中心に対して、当該発光素子１０３に対応するＣＦ１１３ａの中心が、紙面右方向に相対的にずれて配置されている。
【００５１】
なお、以下の説明では、水平面内における、発光素子１０３の発光面の中心と、当該発光素子１０３に対応するＣＦ１１３ａの中心との相対的な位置ずれのことを、単に、発光素子１０３とＣＦ１１３ａとの相対的な位置ずれとも呼称する。また、当該発光素子１０３とＣＦ１１３ａとの相対的な位置ずれにおける、水平面内における発光素子１０３の発光面の中心に対するＣＦ１１３ａの相対的な位置ずれ量Ｌ及び位置ずれ方向のことを、単に、ＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌ及びＣＦ１１３ａの位置ずれ方向とも呼称する。
【００５２】
表示装置１ｃでは、ＣＦ層１１３をこのように構成することにより、画素ごとにより広い視野角を得ることが可能になる。例えば、今、注目している発光素子１０３が属する画素からの光として、緑色の光を得たいとする。当該発光素子１０３から、図中実線の矢印で示すような、比較的広い視野角方向に出射される光について考えると、第１の実施形態のように発光素子１０３とＣＦ１１３ａとの相対的な位置ずれが生じていない場合には、このような角度で出射された光は、本来通過して欲しい緑色のＣＦ１１３Ｇではなく、隣接する画素の青色のＣＦ１１３Ｂを通過してしまうと考えられる。つまり、混色が発生してしまい、所望の緑色の光を得ることができない。一方、図４に示すように、第２の実施形態に係る構成では、発光素子１０３に対するＣＦ１１３ａの相対的な位置が水平面内において位置ずれ量Ｌだけずらされていることにより、当該発光素子１０３から上記角度で出射された光は、ＣＦ１１３Ｇを通過して表示装置１から出射される。従って、所望の緑色の光を得ることができる。このように、第２の実施形態に係る構成によれば、今注目した発光素子１０３からなる緑色の画素は、ＣＦ１１３Ｇをずらした方向である紙面右方向において、より広い視野角を有すると言える。
【００５３】
このように、第２の実施形態では、ある画素について発光素子１０３とＣＦ１１３ａとの相対的な位置ずれを生じさせることにより、そのＣＦ１１３ａの位置ずれ方向における当該画素の視野角特性を向上させることが可能になる。
【００５４】
ここで、表示装置１ｃの表示面内の位置に応じて、各画素に求められる視野角特性は異なる。従って、第２の実施形態では、表示面内における発光素子１０３の位置（すなわち、画素の位置）に応じて、当該画素において所望の視野角が得られるように、各画素におけるＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌ及び位置ずれ方向を設定する。つまり、第２の実施形態では、表示面内において、ＣＦ１１３ａの位置ずれ量及び位置ずれ方向が分布を有する。
【００５５】
図５は、表示装置１ｃの表示面内におけるＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌ及び位置ずれ方向の分布について説明するための図である。今、図３に示すように、電子機器に搭載された際に、表示装置１ｃが、その表示面２０１が比較的狭い距離をおいて光学系２０５と対向して設置される場合を想定する。この場合、図５に示すように、表示装置１ｃの表示面２０１内において、略中央付近の領域２０７に配置される画素からの出射光については、発光素子１０３の発光面に略垂直な方向への出射光が光学系２０５に入射すればよいので、当該領域２０７に配置される画素からの出射光には、それ程広い視野角特性は必要でない。従って、領域２０７に配置される画素については、第１の実施形態に係る構成と同様に、発光素子１０３とＣＦ１１３ａとの相対的な位置ずれを生じさせないように（すなわち、位置ずれ量Ｌ＝０として）、当該発光素子１０３及び当該ＣＦ１１３ａを配置する。
【００５６】
一方、表示装置１ｃの表示面２０１内において、外周付近の領域２０９に配置される画素からの出射光については、当該表示面２０１の外縁に向かって出射される光が光学系２０５に入射する必要があるため、当該領域２０９に配置される画素からの出射光には、表示面２０１の外縁方向（図示する例であれば紙面右方向）についてより広い視野角特性が必要となる。従って、領域２０９に配置される画素については、図４を参照して説明した構成のように、所定の位置ずれ量Ｌ（Ｌ＞０）だけ、発光素子１０３とＣＦ１１３ａとの相対的な位置ずれを生じさせるように、発光素子１０３及びＣＦ１１３ａを配置する。また、この際、ＣＦ１１３ａの位置ずれ方向が、表示面２０１の中心から当該画素が位置する方向になるようにする。これにより、領域２０９に配置される画素については、表示面２０１の外縁方向についてより広い視野角特性が実現されることとなる。
【００５７】
図５では、表示面２０１内の略中央付近の領域２０７及び外周付近の領域２０９における画素の構成しか図示していないが、第２の実施形態では、表示面２０１内の位置に応じて段階的に、すなわち、表示面２０１の中心から外縁に向かうほどＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌが大きくなるように、各画素を構成する。例えば、表示面２０１内を複数の領域に分割し、各領域の表示面２０１内の位置に応じて、当該領域ごとに位置ずれ量Ｌを設定する。また、ＣＦ１１３ａの位置ずれ方向も、当該領域ごとに設定する。ここで、第２の実施形態では、簡易的に、ＣＦ１１３ａの位置ずれ方向は、表示面２０１の横方向及び縦方向のいずれか一方のみとしている。当該構成によれば、表示面２０１面内におけるＣＦ１１３ａの位置ずれ方向の分布をより容易に管理することができるため、設計が複雑化しない。
【００５８】
なお、上記の例では、図３に示すような表示装置１ｃ及び光学系２０５の配置を想定しているため、表示面２０１の中心から外縁に向かうほどＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌが大きくなるように各画素を構成したが、第２の実施形態はかかる例に限定されない。領域の分割の仕方や、各領域におけるＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌ及び位置ずれ方向（すなわち、表示面２０１内の位置に応じた各画素におけるＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌ及び位置ずれ方向の分布）は、電子機器内における表示装置１ｃ及び光学系２０５の位置関係に応じて、表示面２０１内の各画素について所望の視野角が得られるように、適宜設定すればよい。具体的には、ＣＦ１１３ａの位置ずれ方向については、水平面内において視野角を得たい方向（すなわち、発光面に垂直な方向から所望の視野角の方向への傾き方向）に設定すればよい。ＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌの具体的な設定方法については、下記（４．ＣＦの位置ずれ量について）で改めて詳細に説明する。
【００５９】
領域ごとにＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌ及び／又は位置ずれ方向を変化させるためには、当該領域間に、ＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌ及び／又は位置ずれ方向が変化する遷移領域を設ければよい。図６は、ＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌ及び／又は位置ずれ方向が変化する遷移領域について説明するための図である。図６では、表示装置１ｃのうち、ＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌが異なる２つの領域の境界近傍の構成を概略的に図示している。図６は上面図であり、ＣＦ１１３ａの配列を示すとともに、発光素子１０３及び反射体１１９の配置を、概略的に破線で図示している。なお、図６では、反射体１１９の一例として、直角三角錐体の立体プリズム形状を有するプリズムタイプのものを図示している。
【００６０】
図６では、一例として、ＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌ＝０である領域３０３と、当該領域３０３に隣接するＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌがゼロでない所定の値である領域３０５と、これらの領域３０３及び領域３０５の間に設けられる遷移領域３０１を示している。図示するように、遷移領域３０１は、ＣＦ層１１３内において、ＣＦ１１３ａが形成されない領域として形成される。これにより、領域３０５では、水平面内において、発光素子１０３の発光面の中心よりも、ＣＦ１１３ａの中心が、ＣＦ層１１３内においてＣＦ１１３ａ間に間隔を設けた方向に、位置ずれ量Ｌ＞０だけずれて配置されることになる。図示しない他の領域間においても、同様の遷移領域３０１を設けることにより、領域ごとに位置ずれ量Ｌ及び／又は位置ずれ方向を変化させることが可能になる。
【００６１】
なお、上記の例では、表示面２０１内を複数の領域に分割し、各領域の表示面２０１内の位置に応じて、当該領域ごとに位置ずれ量Ｌ及び位置ずれ方向が設定されていたが、第２の実施形態はかかる例に限定されない。例えば、領域ごとではなく画素ごとに位置ずれ量Ｌ及び位置ずれ方向が設定され、当該画素の表示面２０１内の位置に応じて、当該画素ごとに連続的に位置ずれ量Ｌ及び位置ずれ方向を変化させてもよい。この場合であっても、各画素におけるＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌ及び位置ずれ方向は、電子機器内における表示装置１ｃ及び光学系２０５の位置関係に応じて、表示面２０１内の各画素について所望の視野角が得られるように、適宜設定すればよい。
【００６２】
ここで、ある画素について、発光素子１０３とＣＦ１１３ａとの相対的な位置ずれを生じさせた場合には、当該画素においては、そのＣＦ１１３ａの位置ずれ方向とは逆方向（図４に示す例であれば、紙面左方向）においては、発光素子１０３の直上に、所望の色とは異なる、隣接画素のＣＦ１１３ａが存在することになるため、正面方向に出射された光が所望の色のＣＦ１１３ａを通過せず、より混色が発生しやすくなることが懸念される。そこで、第２の実施形態では、水平面内における発光素子１０３の発光面の中心に対する反射体１１９の中心の位置ずれ方向を、ＣＦ１１３ａの位置ずれ方向と逆方向に設定する。すなわち、水平面内において、反射体１１９を、発光素子１０３の発光面に対して、ＣＦ１１３ａをずらした方向とは逆側に配置する。これにより、発光素子１０３から視野角を得たい方向とは逆側に向かって出射された光は、反射体１１９によって発光素子１０３の発光面に向かって反射される。そして、当該発光面（又はより下層のいずれかの層間の界面）において、反射体１１９が設けられない方向、すなわち、ＣＦ１１３ａの位置ずれ方向であって所望の視野角を得たい方向に向かって再び反射され、所望の色、所望の視野角の光として第２基板１１７から外部に出射されることとなる。図４では、このような挙動を取る光線の軌跡を、模擬的に破線の矢印で示している。
【００６３】
具体的には、画素内における面内方向での反射体１１９の設置位置は、例えば、その自身に対応する発光素子１０３の中心から遠い側の端（図４における紙面左方向の端）が、当該自身に対応する発光素子１０３の端（図中、点線Ｘで示す位置）と、隣接する画素との間の領域の中心（図中、一点鎖線Ｙで示す位置）との間に位置するように設定される。これは、隣接する画素における発光素子１０３からの出射光が、当該反射体１１９によって反射されないことを考慮したものである。また、画素内における面内方向での反射体１１９の設置位置は、例えば、その自身に対応する発光素子１０３の中心から近い側の端（図４における紙面右方向の端）が、隣接する画素のＣＦ１１３ａとの境界（図中、点線Ｚで示す位置）よりも自画素側に入らないように設定される。これは、発光素子１０３から、当該発光素子１０３に対応するＣＦ１１３ａに直接向かう出射光が、自身に対応して設けられる反射体１１９によって反射されないことを考慮したものである。反射体１１９をこのように設置することにより、好適に、隣接画素の発光素子１０３からの出射光や自身に対応する発光素子１０３から自身に対応するＣＦ１１３ａに直接向かう出射光を妨げることなく（つまり、光取り出し効率を必要以上に低下させることなく）、かつ、自身に対応する発光素子１０３からの出射光を隣接画素に漏らさずに反射することが可能となる。
【００６４】
なお、この反射体１１９の機能を効果的に発揮させるために、第２の実施形態では、水平面内における発光素子１０３の発光面の中心に対する反射体１１９の中心の位置ずれ量の表示面内での分布は、ＣＦ１１３ａの位置ずれ量の表示面内での分布と比例するように、水平面内における発光素子１０３の発光面の中心に対する反射体１１９の中心の位置ずれ方向の表示面内での分布は、ＣＦ１１３ａの位置ずれ方向の表示面内での分布と逆向きになるように、発光素子１０３、ＣＦ１１３ａ及び反射体１１９が配置されることが好ましい。
【００６５】
このように、第２の実施形態によれば、発光素子１０３とＣＦ１１３ａとの相対的な位置ずれを生じさせることにより、各画素について、混色の発生をより抑制しつつ、広視野角特性を得ることが可能となる。そして、反射体１１９を設けることにより、発光素子１０３から視野角を得たい方向とは逆側に向かって出射された光を、その視野角を得たい方向に向かって導くことが可能となるため、混色の発生を更に抑制することができるとともに、所望の色の光取り出し効率を向上させることができる。つまり、第２の実施形態によれば、画素ごとに発光素子１０３とＣＦ１１３ａとの相対的な位置ずれを生じさせることと、画素ごとに反射体１１９を設けることと、を組み合わせることにより、画素ごとに、所望の方向により広い視野角特性を得ること、混色の発生を抑制すること、及び光取り出し効率を向上させることをいずれも実現することが可能になる。
【００６６】
また、第２の実施形態では、発光素子１０３とＣＦ１１３ａとの相対的な位置ずれによって視野角特性の向上が実現され得るため、上記（２−１．第２の実施形態に想到した背景）で説明したような、視野角特性向上のためにこれまで提案されてきた構成（例えば、対向Ｇａｐの狭化や、発光面の面積の縮小）を取る必要がない。よって、発光素子１０３（ＯＬＥＤ）の発光特性や保護性を低下させることなく、また、輝度の低下を招くことなく、視野角特性を向上させることが可能となる。
【００６７】
また、発光素子１０３とＣＦ１１３ａとの相対的な位置ずれは、ＣＦ層１１３を形成する際に各ＣＦ１１３ａの構成を変更するだけで実現可能であるため、第２の実施形態に係る表示装置１ｃは、製造工程を増加させることなく、容易に作製可能である。よって、生産コストを増加させることなく、所望の効果を得ることができる。
【００６８】
また、一般的に、色ずれや混色が生じた場合には、駆動回路によって色補正処理が行われることがある。第２の実施形態によれば、視野角特性を向上させつつも、色ずれや混色の発生を好適に抑制することができるため、このような色補正処理を行う必要がなくなる。従って、駆動回路をより簡易に構成することが可能となるため、駆動回路の回路規模をより小さくすることができる。
【００６９】
なお、以上説明した第２の実施形態では、ＣＦ１１３ａの位置ずれ方向を、表示面２０１の横方向及び縦方向のいずれか一方のみとしていたが、第２の実施形態はかかる例に限定されない。例えば、ＣＦ１１３ａの位置ずれ方向は、水平面内における２次元的な任意の方向であってもよい。当該構成によれば、画素ごとにＣＦ１１３ａの位置ずれ方向をより詳細に設定することができるため、画素ごとの視野角の調整をより厳密に行うことが可能になる。
【００７０】
以上、第２の実施形態に係る表示装置１ｃの構成について説明した。
【００７１】
（２−３．変形例）
第２の実施形態のいくつかの変形例について説明する。
【００７２】
（２−３−１．第１の変形例）
図７は、第２の実施形態の第１の変形例に係る表示装置の一構成例を示す断面図である。図７を参照すると、第１の変形例に係る表示装置１ｄは、上述した第２の実施形態に係る表示装置１ｃに対して、保護膜１０９と反射体１１９との間に密着層１２３が設けられたものに対応する。なお、第１の変形例に係る表示装置１ｄは、保護膜１０９と反射体１１９との間に密着層１２３が設けられること以外は、表示装置１ｃと同様の構成を有する。従って、表示装置１ｄについての説明では、表示装置１ｃと重複する事項についてはその詳細な説明を省略する。
【００７３】
上述した実施形態では、表示装置１ｃは、第１の実施形態に係る表示装置１ａと同様に、保護膜１０９上に反射体１１９が形成されていた。しかしながら、保護膜１０９の材料及び反射体１１９の材料によっては、両者の間の接着性が低下することが懸念される。従って、第２の実施形態においては、この第１の変形例のように、保護膜１０９上に反射体１１９を形成する際に、両者の間に密着層１２３が設けられてもよい。当該密着層１２３が設けられることにより、保護膜１０９と反射体１１９とをより良好に接続することが可能となるため、より安定的な表示装置１ｄを得ることができる。
【００７４】
（２−３−２．第２の変形例）
図８は、第２の実施形態の第２の変形例に係る表示装置の一構成例を示す断面図である。図８を参照すると、第２の変形例に係る表示装置１ｅは、上述した第２の実施形態に係る表示装置１ｃにおいて、反射体１１９の積層方向における配置位置が変更されたものに対応する。なお、第２の変形例に係る表示装置１ｅは、反射体１１９の積層方向における配置位置が変更されること以外は、表示装置１ｃと同様の構成を有する。従って、表示装置１ｅについての説明では、表示装置１ｃと重複する事項についてはその詳細な説明を省略する。
【００７５】
具体的には、表示装置１ｅでは、ＣＦ層１１３を形成した後、当該ＣＦ層１１３上に反射体１１９が形成される。この際、本変形例では、ＣＦ層１１３と反射体１１９との間に、密着層１２３が設けられる。当該密着層１２３が設けられることにより、ＣＦ層１１３と反射体１１９とをより良好に接着することが可能となるため、より安定的な表示装置１ｅを得ることができる。ただし、ＣＦ層１１３の材料と反射体１１９の材料との相性等により両者を良好に接着することができる場合、あるいは、ＣＦ層１１３及び反射体１１９が同様の材料によって同様のプロセスで連続的に形成可能である場合であれば、密着層１２３は必ずしも設けられなくてもよい。
【００７６】
ＣＦ層１１３上に反射体１１９が形成された状態の第１基板１０１に対して、封止樹脂膜１１５を介して第２基板１１７が貼り合わされることにより、表示装置１ｅが作製される。
【００７７】
この第２の変形例のように、第２の実施形態では、反射体１１９の積層方向における配置位置は限定されない。反射体１１９は、発光素子１０３の上層に設けられればよく、積層方向において任意の位置に設けられてよい。
【００７８】
（２−３−３．第３−第５の変形例）
以上説明した第２の実施形態、並びにその第１及び第２の変形例に係る表示装置１ｃ、１ｄ、１ｅは、ＯＣＣＦ方式の表示装置であった。ただし、第２の実施形態はかかる例に限定されず、第２の実施形態に係る表示装置は、対向ＣＦ方式の表示装置であってもよい。
【００７９】
図９−図１１を参照して、このような、第２の実施形態の第３−第５の変形例である対向ＣＦ方式の表示装置の構成について説明する。図９−図１１は、それぞれ、第２の実施形態の第３−第５の変形例である対向ＣＦ方式の表示装置の一構成例を示す断面図である。
【００８０】
まず、図９を参照して、第３の変形例に係る表示装置の構成について説明する。ここで、第３の変形例に係る表示装置１ｆは、図４に示す第２の実施形態に係る表示装置１ｃにおいて、製造方式の違いにより、保護膜１０９よりも上層の構成が変更されたものに対応し、その他の構成は表示装置１ｃと同様である。従って、以下の第３の変形例に係る表示装置１ｆについての説明では、上述した表示装置１ｃと相違する事項について主に説明することとし、表示装置１ｃと重複する事項についてはその詳細な説明を省略する。
【００８１】
図９を参照すると、第３の変形例に係る表示装置１ｆでは、第１基板１０１上に、発光素子１０３、第１部材１０７、及び保護膜１０９がこの順に積層される。また、第２基板１１７上に、ＣＦ層１１３及び反射体１１９が形成される。この際、例えば、反射体１１９は、ＣＦ層１１３と同様のレジスト材によって、同様のフォトリソグラフィ技術によって連続的に形成することができる。そして、この第１基板１０１に対して、発光素子１０３の各々と各色のＣＦ１１３ａ及び反射体１１９が対向するように、第２基板１１７が、封止材１２１を介して貼り合わされることにより、表示装置１ｆが作製される。
【００８２】
次に、図１０を参照して、第４の変形例に係る表示装置の構成について説明する。図１０を参照すると、第４の変形例に係る表示装置１ｇは、図９に示す第３の変形例に係る表示装置１ｆに対して、保護膜１０９と反射体１１９との間に密着層１２３が設けられたものに対応する。なお、第４の変形例に係る表示装置１ｄは、保護膜１０９と反射体１１９との間に密着層１２３が設けられること以外は、表示装置１ｆと同様の構成を有する。従って、表示装置１ｇについての説明では、表示装置１ｆと重複する事項についてはその詳細な説明を省略する。
【００８３】
密着層１２３が設けられることにより、ＣＦ層１１３と反射体１１９とを良好に接着することが可能になり、表示装置１ｇの安定性を高めることができる。ＣＦ層１１３を形成した後に、ＣＦ層１１３とは異なる材料、及び／又は異なるプロセスによって反射体１１９を形成する場合には、両者の間の接着性が必ずしも良好でない場合があるため、このように密着層１２３を設けることが好適である。
【００８４】
次に、図１１を参照して、第５の変形例に係る表示装置の構成について説明する。図１１を参照すると、第５の変形例に係る表示装置１ｈは、第３の変形例に係る表示装置１ｆにおいて、反射体１１９の積層方向における配置位置が変更されたものに対応する。なお、第５の変形例に係る表示装置１ｈは、反射体１１９の積層方向における配置位置が変更されること以外は、表示装置１ｆと同様の構成を有する。従って、表示装置１ｈについての説明では、表示装置１ｆと重複する事項についてはその詳細な説明を省略する。
【００８５】
具体的には、図１１に示すように、表示装置１ｈでは、反射体１１９がＣＦ層１１３の直上に設けられる。より具体的には、表示装置１ｈでは、第２基板１１７上において、反射体１１９を形成し、その上から平坦化膜１２５を成膜した後に、ＣＦ層１１３が形成される。そして、発光素子１０３、第１部材１０７、及び保護膜１０９がこの順に積層された第１基板１０１に対して、発光素子１０３の各々と各色のＣＦ１１３ａ及び反射体１１９が対向するように、第２基板１１７が貼り合わされることにより、表示装置１ｈが作製される。
【００８６】
以上、第２の実施形態の第１−第５の変形例に係る表示装置１ｄ、１ｅ、１ｆ、１ｇ、１ｈの構成について説明した。以上説明した各構成を有する表示装置１ｄ、１ｅ、１ｆ、１ｇ、１ｈも、第２の実施形態に係る表示装置１ｃと同様に、画素ごとに発光素子１０３とＣＦ１１３ａとの相対的な位置ずれが生じている構成と、画素ごとに反射体１１９が設けられる構成と、を併せ持つ。従って、表示装置１ｃと同様に、画素ごとに、所望の方向により広い視野角特性を得ること、混色の発生を抑制すること、及び光取り出し効率を向上させることをいずれも実現することが可能になる
【００８７】
（３．第３の実施形態）
（３−１．表示装置の構成）
図１２を参照して、本開示の第３の実施形態に係る表示装置の構成について説明する。図１２は、第３の実施形態に係る表示装置の一構成例を示す断面図である。
【００８８】
図１２を参照すると、第３の実施形態に係る表示装置１ｉは、上述した図４に示す第２の実施形態に係る表示装置１ｃに対して、画素定義膜１０５ａの形状が変更されたものに対応する。具体的には、表示装置１ｉでは、画素定義膜１０５ａの膜厚がより厚く形成される。また、画素定義膜１０５ａの発光素子１０３に対応して設けられる開口部の側壁は、上方に向かうにつれて当該開口部の水平面内の面積が大きくなるようなテーパ形状を有する。
【００８９】
画素定義膜１０５ａの形状が異なること以外は、表示装置１ｉは、上述した表示装置１ｃと同様の構成を有する。従って、以下の表示装置１ｉについての説明では、表示装置１ｃと相違する事項について主に説明し、表示装置１ｃと重複する事項については詳細な説明は省略する。
【００９０】
具体的には、表示装置１ｃと同様に、表示装置１ｉにおいても、この画素定義膜１０５ａに設けられた開口部（すなわち、発光素子１０３の直上の領域）を埋め込むように第１部材１０７が形成される。その後、保護膜１０９が形成され、当該保護膜１０９上に反射体１１９が形成される。そして、その上に、平坦化膜１１１及びＣＦ層１１３が形成される。この各層が形成された第１基板１０１に対して、封止樹脂膜１１５を介して第２基板１１７が最上層のＣＦ層１１３に貼り合わされることにより、表示装置１ａが作製される。このように、表示装置１ｉは、ＯＣＣＦ方式の表示装置である。
【００９１】
ここで、表示装置１ｉでは、第１部材１０７の屈折率が画素定義膜１０５ａの屈折率よりも大きくなるように、画素定義膜１０５ａ及び第１部材１０７の材料が選択される。これにより、第１部材１０７と対向する画素定義膜１０５ａの表面において、第１部材１０７を伝播した光が少なくとも一部反射されることとなる。つまり、第１部材１０７と対向する画素定義膜１０５ａの表面は光反射部（リフレクタ）として機能する。
【００９２】
この際、上記のように画素定義膜１０５ａの発光素子１０３上方に設けられる開口部の側壁は、当該開口部の面積が上方に向かって徐々に大きくなるようなテーパ形状を有しているため、発光素子１０３からの出射光のうち画素定義膜１０５ａの当該開口部の側壁に向かった光は、上方に向かって反射され、所望のＣＦ１１３ａを追加して第２基板１１７から外部に出射されることとなる。図１２では、このような光線の軌跡を二点鎖線の矢印で模擬的に図示している。このように、第３の実施形態によれば、リフレクタを設けることにより、光取り出し効率を更に向上させることができる。
【００９３】
また、表示装置１ｉでは、第２の実施形態と同様に、画素ごとに、発光素子１０３とＣＦ１１３ａとの相対的な位置ずれを生じさせているとともに、発光素子１０３の上層であって、水平面内において発光素子１０３の発光面に対してそのＣＦ１１３ａの位置ずれ方向とは逆方向に対応する位置に、反射体１１９を設けている。従って、発光素子１０３からの出射光のうち反射体１１９が設けられる方向（すなわち、ＣＦ１１３ａの位置ずれ方向とは逆方向）の画素定義膜１０５ａの開口部の側壁に向かった光は、上方に向かって反射され、反射体１１９の下面によって反射される。従って、所望の色とは異なる、隣接画素のＣＦ１１３ａへの光の入射、すなわち混色の発生が防止される。また、反射体１１９は再帰性構造を有しているため、反射体１１９の下面によって反射された光は、画素定義膜１０５ａの開口部の側壁を経て発光素子１０３の発光面に向かって進み、当該発光面（又はより下層のいずれかの層間の界面）において再び反射され、反射体１１９が設けられない方向、すなわち、ＣＦ１１３ａの位置ずれ方向であって所望の視野角を得たい方向に向かって再び反射され、所望の色、所望の視野角の光として第２基板１１７から外部に出射されることとなる。図１２では、このような挙動を取る光線の軌跡を、模擬的に破線の矢印で示している。
【００９４】
以上、第３の実施形態に係る表示装置１ｉの構成について説明した。以上説明したように、第３の実施形態によれば、第２の実施形態に係る表示装置１ｃに対して、発光素子１０３からの出射光を上方に向かって反射するリフレクタが追加される。従って、第３の実施形態によれば、第２の実施形態によって得られる効果に加えて、更に光取り出し効率を向上させる効果を得ることが可能になる。
【００９５】
（３−２．変形例）
第３の実施形態のいくつかの変形例について説明する。ここで、以下に説明する第３の実施形態の第１−第５の変形例に係る表示装置１ｊ、１ｋ、１ｌ、１ｍ、１ｎは、上述した第２の実施形態の第１−第５の変形例に係る表示装置１ｄ、１ｅ、１ｆ、１ｇ、１ｈに対して、上記のリフレクタが追加されたものに対応する。リフレクタが追加されたこと以外は、表示装置１ｊ、１ｋ、１ｌ、１ｍ、１ｎは、表示装置１ｄ、１ｅ、１ｆ、１ｇ、１ｈとそれぞれ同様の構成を有するため、以下の表示装置１ｊ、１ｋ、１ｌ、１ｍ、１ｎについての説明では、その構成についての詳細な説明は省略する。
【００９６】
図１３は、第３の実施形態の第１の変形例に係る表示装置の一構成例を示す断面図である。図１３を参照すると、第１の変形例に係る表示装置１ｊは、上記のように、第２の実施形態の第１の変形例に係る表示装置１ｄに対してリフレクタが追加されたものに対応する。同時に、表示装置１ｊは、上述した第３の実施形態に係る表示装置１ｉに対して、保護膜１０９と反射体１１９との間に密着層１２３が設けられたものに対応する。
【００９７】
上述した実施形態では、表示装置１ｉは、第２の実施形態に係る表示装置１ｃと同様に、保護膜１０９上に反射体１１９が形成された構成を有していた。しかしながら、保護膜１０９の材料及び反射体１１９の材料によっては、両者の間の接着性が低下することが懸念される。従って、第３の実施形態においては、この第１の変形例のように、保護膜１０９上に反射体１１９を形成する際に、両者の間に密着層１２３が設けられてもよい。当該密着層１２３が設けられることにより、保護膜１０９と反射体１１９とをより良好に接続することが可能となるため、より安定的な表示装置１ｊを得ることができる。
【００９８】
図１４は、第３の実施形態の第２の変形例に係る表示装置の一構成例を示す断面図である。図１４を参照すると、第２の変形例に係る表示装置１ｋは、上記のように、第２の実施形態の第２の変形例に係る表示装置１ｅに対してリフレクタが追加されたものに対応する。同時に、表示装置１ｋは、上述した第３の実施形態に係る表示装置１ｉにおいて、反射体１１９がＣＦ層１１３の上方に設けられたものに対応する。この第２の変形例のように、第３の実施形態では、反射体１１９の積層方向における配置位置は限定されず、反射体１１９は、発光素子１０３の上層であれば、積層方向において任意の位置に設けられてよい。
【００９９】
図１５−図１７は、それぞれ、第３の実施形態の第３−第５の変形例に係る表示装置の一構成例を示す断面図である。図１５−図１７を参照すると、第３−第５の変形例に係る表示装置１ｌ、１ｍ、１ｎは、上記のように、第２の実施形態の第３−第５の変形例に係る表示装置１ｆ、１ｇ、１ｈに対してリフレクタが追加されたものに対応する。
【０１００】
ここで、以上説明した第３の実施形態、並びにその第１及び第２の変形例に係る表示装置１ｉ、１ｊ、１ｋは、ＯＣＣＦ方式の表示装置であった。一方、図１５−図１７にそれぞれ示す第３−第５の変形例に係る表示装置１ｌ、１ｍ、１ｎは、対向ＣＦ方式の表示装置である。このように、第３の実施形態に係る表示装置は、ＯＣＣＦ方式及び対向ＣＦ方式のいずれの表示装置であってもよい。
【０１０１】
（４．ＣＦの位置ずれ量について）
上述したように、第２及び第３の実施形態では、水平面内における発光素子１０３の発光面の中心とＣＦ１１３ａの中心とが所定の位置ずれ量Ｌだけずれた構成が設けられる。ここでは、当該位置ずれ量Ｌの設定方法について説明する。第２及び第３の実施形態では、ある画素におけるＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌを、当該画素に求められる視野角に応じて設定する。以下では、図１８−図２１を参照して、ある１つの画素に注目して、当該画素に求められる視野角がθ０である場合における、当該画素でのＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌの設定方法について説明する。図１８−図２１は、ＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌの設定方法について説明するための図である。図１８−図２１では、いずれも、１つの発光素子１０３の発光部１２７、当該発光素子１０３に対応して設けられる１つのＣＦ１１３ａ（図示する例ではＣＦ１１３Ｒ）、及び第２及び第３の実施形態に係る表示装置の表示面２０１を模擬的に図示している。
【０１０２】
図１８−図２１に示すように、注目している画素の視野角がθ０である場合とは、発光部１２７からの出射光が、ＣＦ１１３Ｒ及びその他の媒質層（図４等を参照して説明した第１部材１０７や保護膜１０９、平坦化膜１１１等）を通過して、表示面２０１から出射される際に、当該表示面２０１に垂直な方向から角度θ０の方向に光が出射される場合を意味する。今、簡単のため、ＣＦ１１３Ｒ以外の媒質層が均一の材料によって形成されているとし、その屈折率をｎ１、ＣＦ１１３Ｒの屈折率をｎ２、表示面２０１よりも外側の空気層の屈折率をｎ０とすると、表示面２０１からの出射光が角度θ０を有する際の、発光部１２７からの出射光の出射角（発光部１２７の発光面に垂直な方向に対する出射光の角度）θ１は、屈折の法則から、下記数式（１）のように表現することができる。
【０１０３】
【数１】
2017181831.tif 000003
【０１０４】
換言すれば、発光部１２７から出射角θ１で出射された光が、ＣＦ１１３Ｒ及びその他の媒質層を通過して進めば、視野角θ０の光が表示面２０１から出射されることとなる。従って、表示面２０１において視野角θ０の光を得るためのＣＦ１１３Ｒの位置ずれ量Ｌは、発光部１２７から出射角θ１で出射された光が、ＣＦ１１３Ｒ及びその他の媒質層を通過するような値として設定されればよい。ここで、図４等を参照して説明したように、第２及び第３の実施形態に係る表示装置では、第１部材１０７や保護膜１０９等の媒質層は発光部１２７の直上に存在しており、構造上、発光部１２７からの出射光はこれらの媒質層を必ず通過するため、発光部１２７からの出射光が当該媒質層を通過するための条件については考慮する必要がない。従って、結局、表示面２０１において視野角θ０の光を得るためのＣＦ１１３Ｒの位置ずれ量Ｌは、発光部１２７からの出射角θ１の出射光がＣＦ１１３Ｒを通過するような値として設定されればよいことになる。そこで、第２及び第３の実施形態では、発光部１２７からの出射角θ１の出射光が、ＣＦ１１３Ｒの下面に入射するような値として、ＣＦ１１３Ｒの位置ずれ量Ｌを設定することとする。
【０１０５】
まず、簡単のため、発光部１２７の発光面の中心の１点から光が出射されていると仮定し、この場合におけるＣＦ１１３Ｒの位置ずれ量Ｌの範囲を設定する。このとき、ＣＦ１１３Ｒの位置ずれ量Ｌの値が最も大きくなるのは、発光部１２７の発光面の中心からの出射光がＣＦ１１３Ｒの下面の当該発光部１２７に近い側の端に入射する場合である。図１８には、このような、発光部１２７の発光面の中心からの出射光がＣＦ１１３Ｒの下面の当該発光部１２７に近い側の端（図示する例では左端）に入射する場合における、発光部１２７及びＣＦ１１３Ｒの位置関係、並びに光線の軌跡を示している。発光部１２７及びＣＦ１１３Ｒが図１８に示す位置関係にあるとき、幾何的な考察から、ＣＦ１１３Ｒの位置ずれ量Ｌは、下記数式（２）のように表現することができる。
【０１０６】
【数２】
2017181831.tif 000004
【０１０７】
ここで、ＣＦ１１３Ｒの幅をｗ２、発光部１２７表面からＣＦ１１３Ｒ下面までの積層方向における距離をｇ１、発光部１２７における発光位置から出射光がＣＦ１１３Ｒに入射した位置までの水平面内における距離をｄとしている。
【０１０８】
一方、発光部１２７の発光面の中心の１点から光が出射されていると仮定した場合に、ＣＦ１１３Ｒの位置ずれ量Ｌの値が最も小さくなるのは、発光部１２７の発光面の中心からの出射光がＣＦ１１３Ｒの下面の当該発光部１２７から遠い側の端に入射する場合である。図１９には、このような、発光部１２７の発光面の中心からの出射光がＣＦ１１３Ｒの下面の当該発光部１２７から遠い側の端（図示する例では右端）に入射する場合における、発光部１２７及びＣＦ１１３Ｒの位置関係、並びに光線の軌跡を示している。発光部１２７及びＣＦ１１３Ｒが図１９に示す位置関係にあるとき、幾何的な考察から、ＣＦ１１３Ｒの位置ずれ量Ｌは、下記数式（３）のように表現することができる。
【０１０９】
【数３】
2017181831.tif 000005
【０１１０】
以上の考察から、発光部１２７の発光面の中心の１点から光が出射されていると仮定した場合には、ＣＦ１１３Ｒの位置ずれ量Ｌが下記数式（４）を満たすように当該位置ずれ量Ｌを設定すれば、表示面２０１からの出射光について視野角θ０を実現することができる。
【０１１１】
【数４】
2017181831.tif 000006
【０１１２】
ただし、実際には、発光部１２７からは、その発光面の中心以外からも光が出射され得る。そこで、次に、発光部１２７の発光面内における発光位置も更に考慮して、ＣＦ１１３Ｒの位置ずれ量Ｌの範囲を更に詳細に設定する。発光部１２７の発光面内における発光位置を考慮した場合に、ＣＦ１１３Ｒの位置ずれ量Ｌの値が最も大きくなるのは、発光部１２７の発光面のＣＦ１１３Ｒに最も近い発光位置からの出射光がＣＦ１１３Ｒの下面に入射する場合である。図２０には、このような、発光部１２７の発光面のＣＦ１１３Ｒに最も近い発光位置（図示する例では右端）からの出射光がＣＦ１１３Ｒの下面に入射する場合における、発光部１２７及びＣＦ１１３Ｒの位置関係、並びに光線の軌跡を示している。なお、図２０では、一例として、図１８に示す場合と同様に、発光部１２７からの出射光がＣＦ１１３Ｒの下面の当該発光部１２７に近い側の端（図示する例では左端）に入射する場合における、発光部１２７及びＣＦ１１３Ｒの位置関係、並びに光線の軌跡を示している。発光部１２７及びＣＦ１１３Ｒが図２０に示す位置関係にあるとき、幾何的な考察から、ＣＦ１１３Ｒの位置ずれ量Ｌは、下記数式（５）のように表現することができる。ここで、発光部１２７の幅をｗ１としている。
【０１１３】
【数５】
2017181831.tif 000007
【０１１４】
一方、発光部１２７の発光面内における発光位置を考慮した場合に、ＣＦ１１３Ｒの位置ずれ量Ｌの値が最も小さくなるのは、発光部１２７の発光面のＣＦ１１３Ｒから最も遠い発光位置からの出射光がＣＦ１１３Ｒの下面に入射する場合である。図２１には、このような、発光部１２７の発光面のＣＦ１１３Ｒから最も遠い発光位置（図示する例では左端）からの出射光がＣＦ１１３Ｒの下面に入射する場合における、発光部１２７及びＣＦ１１３Ｒの位置関係、並びに光線の軌跡を示している。なお、図２１では、一例として、図１８に示す場合と同様に、発光部１２７からの出射光がＣＦ１１３Ｒの下面の当該発光部１２７に近い側の端（図示する例では左端）に入射する場合における、発光部１２７及びＣＦ１１３Ｒの位置関係、並びに光線の軌跡を示している。発光部１２７及びＣＦ１１３Ｒが図２１に示す位置関係にあるとき、幾何的な考察から、ＣＦ１１３Ｒの位置ずれ量Ｌは、下記数式（６）のように表現することができる。
【０１１５】
【数６】
2017181831.tif 000008
【０１１６】
上記図２０及び図２１では、図１８に示す場合を想定し、発光部１２７からの出射光がＣＦ１１３Ｒの下面の当該発光部１２７に近い側の端に入射する場合における、ＣＦ１１３Ｒの位置ずれ量Ｌを計算していたが、図１９に示した、発光部１２７からの出射光がＣＦ１１３Ｒの下面の当該発光部１２７から遠い側の端に入射する場合においても、同様のことが言える。従って、最終的に、表示面２０１からの出射光について視野角θ０を実現するために、ＣＦ１１３Ｒの位置ずれ量Ｌが取り得る値の範囲は、下記数式（７）のように表現することができる。換言すれば、ＣＦ１１３Ｒの位置ずれ量Ｌを、下記数式（７）を満たすように設定すれば、表示面２０１からの出射光について視野角θ０を実現することが可能になる。
【０１１７】
【数７】
2017181831.tif 000009
【０１１８】
以上、ＣＦ１１３Ｒの位置ずれ量Ｌの設定方法について説明した。なお、上記の例では、簡単のため、媒質層を均一の材質として扱い、その屈折率をｎ２としてＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌが取り得る範囲を計算していたが、より厳密に当該位置ずれ量Ｌの範囲を求めたい場合には、図４等に示すような実際の表示装置の構造を想定し、各層の屈折率を考慮した上で同様の計算を行えばよい。
【０１１９】
（５．変形例）
以上説明した各実施形態についての更なるいくつかの変形例について説明する。
【０１２０】
（５−１．発光素子とＣＦとの相対的な位置ずれの発生方法）
上述した第２及び第３の実施形態では、発光素子１０３とＣＦ１１３ａとの相対的な位置ずれを発生させるために、図６を参照して説明したように、ＣＦ層１１３にＣＦ１３３ａが設けられない領域を、ＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌ及び位置ずれ方向が変化する遷移領域３０１として設けていた。しかし、第２及び第３の実施形態では、発光素子１０３とＣＦ１１３ａとの相対的な位置ずれの発生方法は上記の方法に限定されず、他の方法であってもよい。
【０１２１】
図２２を参照して、発光素子１０３とＣＦ１１３ａとの相対的な位置ずれを他の方法によって生じさせる変形例について説明する。図２２は、発光素子１０３とＣＦ１１３ａとの相対的な位置ずれを生じさせる他の方法について説明するための図である。なお、本変形例では、一例として、図１２に示す第３の実施形態に係る表示装置１ｉに対して、発光素子１０３とＣＦ１１３ａとの相対的な位置ずれの発生方法を変更させた場合について説明する。つまり、本変形例に係る表示装置は、発光素子１０３とＣＦ１１３ａとの相対的な位置ずれの発生方法が異なること以外は、表示装置１ｉと同様の構成を有する。図２２では、本変形例に係る表示装置１ｐの断面を簡略化し、第１基板１０１、発光素子１０３、画素定義膜１０５ａ、及びＣＦ層１１３のみを図示している。
【０１２２】
本変形例では、第２及び第３の実施形態と同様に、表示装置１ｐの表示面内を複数の領域に分割し、各領域の表示面内の位置に応じて、当該領域ごとに位置ずれ量Ｌ及び位置ずれ方向が設定され得る。図２２では、図６と同様に、一例として、ＣＦ１１３ａのずれ量Ｌ＝０である領域３０３と、当該領域３０３に隣接するＣＦ１１３ａのずれ量Ｌがゼロでない所定の値である領域３０５と、これらの領域３０３及び領域３０５の間に設けられる遷移領域３０７を示している。図示するように、本変形例では、遷移領域３０７を、発光素子１０３が配列されるピッチ（すなわち、画素間隔）が他の領域の通常のピッチよりも狭い領域として形成する。また、遷移領域３０７では、位置ずれ方向に向かって発光素子１０３の配列ピッチが縮小されるように、当該配列ピッチが調整される。これにより、領域３０５では、水平面内において、発光素子１０３の配列ピッチを縮小させた方向に、発光部１２７の発光面の中心よりも、ＣＦ１１３ａの中心が、位置ずれ量Ｌ＞０だけずれて配置されることになる。図示しない他の領域間においても、同様の遷移領域３０７を設けることにより、領域ごとに位置ずれ量Ｌ及び／又は位置ずれ方向を変化させることが可能になる。
【０１２３】
更に、図２３を参照して、発光素子１０３とＣＦ１１３ａとの相対的な位置ずれを生じさせる他の変形例について説明する。図２３は、発光素子１０３とＣＦ１１３ａとの相対的な位置ずれを生じさせる更に他の方法について説明するための図である。図２３では、本変形例に係る表示装置１ｑのＣＦ層１１３の、ＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌが異なる２つの領域の境界近傍の構成を上から見た様子を概略的に示している。なお、本変形例に係る表示装置１ｑは、発光素子１０３とＣＦ１１３ａとの相対的な位置ずれの発生方法が異なること以外は、第２及び第３の実施形態に係る表示装置１ｃ、１ｉと同様の構成を有する。
【０１２４】
本変形例でも、同様に、表示装置１ｑの表示面内を複数の領域に分割し、各領域の表示面内の位置に応じて、当該領域ごとに位置ずれ量Ｌ及び位置ずれ方向が設定され得る。図２３では、図２２と同様に、一例として、ＣＦ１１３ａのずれ量Ｌ＝０である領域３０３と、当該領域３０３に隣接するＣＦ１１３ａのずれ量Ｌがゼロでない所定の値である領域３０５と、これらの領域３０３及び領域３０５の間に設けられる遷移領域３０９を示している。図示するように、本変形例では、遷移領域３０１は、ＣＦ１１３ａの面積が、他の領域における通常のＣＦ１１３ａの面積よりも広い領域として形成される。また、遷移領域３０１に位置するＣＦ１１３ａは、位置ずれ方向に向かってその面積が拡大されるように形成される。これにより、領域３０５では、水平面内において、発光素子１０３の発光面の中心よりも、ＣＦ１１３ａの中心が、遷移領域３０１に位置するＣＦ１１３ａの面積を拡大させた方向に、位置ずれ量Ｌ＞０だけずれて配置されることになる。図示しない他の領域間においても、同様の遷移領域３０１を設けることにより、領域ごとに位置ずれ量Ｌ及び／又は位置ずれ方向を変化させることが可能になる。
【０１２５】
なお、以上説明したいずれの変形例においても、上記の第２及び第３の実施形態と同様に、領域ごとではなく画素ごとに位置ずれ量Ｌ及び位置ずれ方向が設定され、当該画素の表示面２０１内の位置に応じて、当該画素ごとに連続的に位置ずれ量Ｌ及び位置ずれ方向が変化してもよい。また、ＣＦ１１３ａの位置ずれ方向は、表示面２０１の横方向及び縦方向のいずれか一方のみであってもよいし、水平面内の２次元的な任意の方向であってもよい。
【０１２６】
（５−２．ＣＦの位置ずれ量Ｌの他の設定方法）
上記（４．ＣＦの位置ずれ量について）で説明したように、第２及び第３の実施形態では、発光部１２７からの出射光がＣＦ１１３Ｒの下面に入射する条件を規定することにより、ＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌを設定していた。しかしながら、第２及び第３の実施形態はかかる例に限定されない。例えば、発光部１２７からの出射光の特性、及びＣＦ１１３ａの特性等によっては、発光部１２７からの出射光がＣＦ１１３ａの側面に入射した場合であっても、色変換が適切に行われ、所望の特性の光を表示面２０１から出射させることが可能であると考えられる。従って、発光部１２７からの出射光がＣＦ１１３ａの側面に入射する場合も考慮して、ＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌを設定してもよい。
【０１２７】
図２４を参照して、このような、発光部１２７からの出射光がＣＦ１１３ａの側面に入射する場合も考慮してＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌを設定する変形例について説明する。図２４は、発光部１２７からの出射光がＣＦ１１３ａの側面に入射する場合も考慮したＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌの設定方法について説明するための図である。図２４では、図１８−図２１と同様に、本変形例に係る表示装置に設けられる１つの発光素子１０の発光部１２７、当該発光素子１０に対応して設けられる１つのＣＦ１１３ａ（図示する例ではＣＦ１１３Ｒ）、及び当該表示装置の表示面２０１を模擬的に図示している。また、媒質層を屈折率ｎ２の均一の材料からなる層として扱っている。
【０１２８】
ここでは、簡単のため、発光部１２７の発光面の中心の１点から光が出射されていると仮定する。このとき、発光部１２７からの出射光がＣＦ１１３ａの側面に入射する場合において、ＣＦ１１３Ｒのずれ量Ｌの値が最も大きくなるのは、発光部１２７からの出射光がＣＦ１１３ａの側面の上端近傍に入射する場合である。ここでは、簡単のため、発光部１２７からの出射光がＣＦ１１３ａの側面の上端に入射する場合を仮定する。図２４には、このような、発光部１２７からの出射光がＣＦ１１３Ｒの側面の上端に入射する場合における、発光部１２７及びＣＦ１１３Ｒの位置関係、並びに光線の軌跡を示している。発光部１２７及びＣＦ１１３Ｒが図２４に示す位置関係にあるとき、幾何的な考察から、ＣＦ１１３Ｒの位置ずれ量Ｌは、下記数式（８）のように表現することができる。
【０１２９】
【数８】
2017181831.tif 000010
【０１３０】
ここで、ＣＦ１１３Ｒの厚みをｈ２、発光部１２７における発光位置から出射光がＣＦ１１３Ｒに入射した位置までの水平面内における距離ｄのうち、発光部１２７表面からＣＦ１１３Ｒ下面までの積層方向における距離ｇ１に対応する部分の長さをｄ１、当該距離ｄのうちＣＦ１１３Ｒの厚みｈ２に対応する部分の長さをｗｐとしている。
【０１３１】
このように、発光部１２７からの出射光がＣＦ１１３ａの側面に入射する場合まで考慮することにより、ＣＦ１１３Ｒのずれ量Ｌの取り得る範囲の上限値はより大きくなる。図２４では、発光部１２７の発光面の中心の１点から光が出射されていると仮定していたが、上記（３．ＣＦの位置ずれ量について）での検討と同様に、当該発光面内の他の部位から発光する場合も考慮すれば、最終的に、ＣＦ１１３Ｒのずれ量Ｌの取り得る範囲は、下記数式（９）のように表現できる。換言すれば、本変形例では、ＣＦ１１３Ｒの位置ずれ量Ｌを、下記数式（９）を満たすように設定すれば、表示面２０１からの出射光について視野角θ０を実現することが可能になる。なお、実際には、発光部１２７からの出射光がＣＦ１１３ａの側面の「上端近傍」に入射しないと、当該出射光がＣＦ１１３ａを通過せず、色変換が適切に行われないため、下記数式（９）においては、発光部１２７からの出射光がＣＦ１１３ａの側面の「上端」に入射する場合、すなわちＬが上限値と等しくなる場合は除外している。
【０１３２】
【数９】
2017181831.tif 000011
【０１３３】
なお、ＣＦ１１３ａの位置ずれ量Ｌの他の設定方法として、これまで説明したように解析的に当該位置ずれ量Ｌを設定するのではなく、光学シミュレーション、及びその結果に基づいて作製されたサンプルを用いた実験を繰り返し行うことにより、試行錯誤的に最適なＣＦ１１３ａの位置ずれ量及び位置ずれ方向、並びにその表示面内での分布を求めてもよい。
【０１３４】
（６．表示装置の具体的な構成例）
以上説明した各実施形態及び各変形例に係る表示装置の、より具体的な構成例について説明する。ここでは、一例として、図２５を参照して、上述した第３の実施形態に係る表示装置１ｉの具体的な構成例について説明する。ただし、他の実施形態に係る表示装置、及び各実施形態の各変形例に係る表示装置の具体的な構成も、上記で説明した第３の実施形態に係る表示装置１ｉと異なる点以外は、以下に説明する図２５に示す表示装置と同様であってよい。
【０１３５】
図２５は、第３の実施形態に係る表示装置１ｉの具体的な一構成例を示す断面図である。図２５では、表示装置１ｉの一部断面図を示している。
【０１３６】
図２５を参照すると、第３の実施形態に係る表示装置１ｉは、第１基板１１上に、ＯＬＥＤからなる白色光を発する複数の発光素子１０と、当該発光素子１０の上層に設けられ、当該発光素子１０の各々に対応して各色のＣＦが形成されるＣＦ層３３と、を備える。また、ＣＦ層３３の上層には、発光素子１０からの光に対して透明な材料で形成される第２基板３４が配置される。第１基板１１、発光素子１０、ＣＦ層３３、及び第２基板３４は、それぞれ、上述した第１基板１０１、発光素子１０３、ＣＦ層１１３、及び第２基板１１７に対応するものである。
【０１３７】
また、第１基板１１には、発光素子１０の各々に対応して、当該発光素子１０を駆動するためのＴＦＴ１５が設けられる。ＴＦＴ１５によって任意の発光素子１０が選択的に駆動され、駆動された当該発光素子１０からの光が対応するＣＦを通過してその色が適宜変換され、第２基板３４を介して上方から出射されることにより、所望の画像、文字等が表示される。
【０１３８】
（第１基板及び第２基板）
図示する構成例では、第１基板１１はシリコン基板から構成される。また、第２基板３４は石英ガラスから構成される。ただし、第３の実施形態はかかる例に限定されず、第１基板１１及び第２基板３４としては、各種の公知の材料が用いられてよい。例えば、第１基板１１及び第２基板３４は、高歪点ガラス基板、ソーダガラス（Ｎａ２Ｏ、ＣａＯ及びＳｉＯ２の混合物）基板、硼珪酸ガラス（Ｎａ２Ｏ、Ｂ２Ｏ３及びＳｉＯ２の混合物）基板、フォルステライト（Ｍｇ２ＳｉＯ４）基板、鉛ガラス（Ｎａ２Ｏ、ＰｂＯ及びＳｉＯ２の混合物）基板、表面に絶縁膜が形成された各種ガラス基板、石英基板、表面に絶縁膜が形成された石英基板、表面に絶縁膜が形成されたシリコン基板、又は有機ポリマー基板（例えば、ポリメチルメタクリレート（ポリメタクリル酸メチル：ＰＭＭＡ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルフェノール（ＰＶＰ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリイミド、ポリカーボネート、若しくはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等）によって形成され得る。第１基板１１と第２基板３４を構成する材料は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。ただし、表示装置１ｉは上面発光型であるから、第２基板３４は、発光素子１０からの光を好適に透過し得る、透過率の高い材料によって形成されることが好ましい。
【０１３９】
（発光素子及び第２部材）
発光素子１０は、第１電極２１と、第１電極２１の上に設けられる有機層２３と、有機層２３上に形成される第２電極２２と、を有する。より具体的には、第１電極２１の上に、当該第１電極２１の少なくとも一部を露出するように開口部２５が設けられる第２部材５２が積層されており、有機層２３は、当該開口部２５の底部において露出した第１電極２１の上に設けられる。つまり、発光素子１０は、第２部材５２の開口部２５において、第１電極２１、有機層２３及び第２電極２２がこの順に積層された構成を有する。この積層構造が各画素の発光部２４として機能する。つまり、発光素子１０の、第２部材５２の開口部２５に当たる部分が発光面となる。また、第２部材５２は、画素間に設けられ画素の面積を画定する画素定義膜として機能する。第２部材５２は、上述した画素定義膜１０５ａに対応するものである。
【０１４０】
有機層２３は、有機発光材料からなる発光層を備え、白色光を発光可能に構成される。有機層２３の具体的な構成は限定されず、各種の公知な構成であってよい。例えば、有機層２３は、正孔輸送層と発光層と電子輸送層との積層構造、正孔輸送層と電子輸送層を兼ねた発光層との積層構造、又は正孔注入層と正孔輸送層と発光層と電子輸送層と電子注入層との積層構造等から構成することができる。また、これらの積層構造等を「タンデムユニット」とする場合、有機層２３は、第１のタンデムユニット、接続層、及び第２のタンデムユニットが積層された２段のタンデム構造を有してもよい。あるいは、有機層２３は、３つ以上のタンデムユニットが積層された３段以上のタンデム構造を有してもよい。有機層２３が複数のタンデムユニットからなる場合には、発光層の発光色を赤色、緑色、青色と各タンデムユニットで変えることで、全体として白色を発光する有機層２３を得ることができる。
【０１４１】
図示する構成例では、有機層２３は、有機材料を真空蒸着することによって形成される。ただし、第３の実施形態はかかる例に限定されず、有機層２３は各種の公知の方法によって形成されてよい。例えば、有機層２３の形成方法としては、真空蒸着法等の物理的気相成長法（ＰＶＤ法）、スクリーン印刷法やインクジェット印刷法といった印刷法、転写用基板上に形成されたレーザ吸収層と有機層の積層構造に対してレーザを照射することでレーザ吸収層上の有機層を分離して当該有機層を転写するレーザ転写法、又は各種の塗布法等を用いることができる。
【０１４２】
第１電極２１は、アノードとして機能する。表示装置１ｉは上面発光型であるから、第１電極２１は、有機層２３からの光を反射し得る材料によって形成される。図示する構成例では、第１電極２１はアルミニウムとネオジムとの合金（Ａｌ−Ｎｄ合金）によって形成される。また、第１電極２１の膜厚は、例えば０．１μｍ〜１μｍ程度である。ただし、第３の実施形態はかかる例に限定されず、第１電極２１は、一般的な有機ＥＬディスプレイにおいてアノードとして機能する光反射側の電極の材料として用いられている各種の公知の材料によって形成することができる。また、第１電極２１の膜厚も上記の例に限定されず、第１電極２１は、一般的に有機ＥＬディスプレイにおいて採用されている膜厚の範囲で適宜形成され得る。
【０１４３】
例えば、第１電極２１は、白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、クロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、若しくはタンタル（Ｔａ）といった仕事関数の高い金属、又は合金（例えば、銀を主成分とし、０．３質量％〜１質量％のパラジウム（Ｐｄ）と、０．３質量％〜１質量％の銅とを含むＡｇ−Ｐｄ−Ｃｕ合金、又はＡｌ−Ｎｄ合金等）によって形成され得る。あるいは、第１電極２１としては、アルミニウム又はアルミニウムを含む合金等の仕事関数の値が小さく、かつ光反射率の高い導電材料を用いることができる。この場合には、第１電極２１上に適切な正孔注入層を設けるなどして正孔注入性を向上させることが好ましい。あるいは、第１電極２１は、誘電体多層膜やアルミニウムといった光反射性の高い反射膜上に、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）やインジウムと亜鉛の酸化物（ＩＺＯ）等の正孔注入特性に優れた透明導電材料を積層した構造とすることもできる。
【０１４４】
第２電極２２は、カソードとして機能する。表示装置１ｉは上面発光型であるから、第２電極２２は、有機層２３からの光を透過し得る材料によって形成される。図示する構成例では、第２電極２２はマグネシウムと銀との合金（Ｍｇ−Ａｇ合金）によって形成される。また、第２電極２２の膜厚は、例えば１０ｎｍ程度である。ただし、第３の実施形態はかかる例に限定されず、第２電極２２は、一般的な有機ＥＬディスプレイにおいてカソードとして機能する光透過側の電極の材料として用いられている各種の公知の材料によって形成することができる。また、第２電極２２の膜厚も上記の例に限定されず、第２電極２２は、一般的に有機ＥＬディスプレイにおいて採用されている膜厚の範囲で適宜形成され得る。
【０１４５】
例えば、第２電極２２は、アルミニウム、銀、マグネシウム、カルシウム（Ｃａ）、ナトリウム（Ｎａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、アルカリ金属と銀との合金、アルカリ土類金属と銀との合金（例えば、マグネシウムと銀との合金（Ｍｇ−Ａｇ合金））、マグネシウムとカルシウムとの合金（Ｍｇ−Ｃａ合金）、アルミニウムとリチウムとの合金（Ａｌ−Ｌｉ合金）等によって形成され得る。これらの材料を単層で用いる場合には、第２電極２２の膜厚は、例えば４ｎｍ〜５０ｎｍ程度である。あるいは、第２電極２２は、有機層２３側から、上述した材料層と、例えばＩＴＯやＩＺＯからなる透明電極（例えば、厚さ３０ｎｍ〜１μｍ程度）とが積層された構造とすることもできる。このような積層構造とした場合には、上述した材料層の厚さを例えば１ｎｍ〜４ｎｍ程度と薄くすることもできる。あるいは、第２電極２２は、透明電極のみで構成されてもよい。あるいは、第２電極２２に対して、アルミニウム、アルミニウム合金、銀、銀合金、銅、銅合金、金、金合金等の低抵抗材料から成るバス電極（補助電極）を設け、第２電極２２全体として低抵抗化を図ってもよい。
【０１４６】
図示する構成例では、第１電極２１及び第２電極２２は、真空蒸着法によって所定の厚さだけ材料を成膜した後に、当該膜をエッチング法によってパターニングすることにより形成される。ただし、第３の実施形態はかかる例に限定されず、第１電極２１及び第２電極２２は、各種の公知の方法によって形成されてよい。第１電極２１及び第２電極２２の形成方法としては、例えば、電子ビーム蒸着法、熱フィラメント蒸着法、真空蒸着法を含む蒸着法、スパッタリング法、化学的気相成長法（ＣＶＤ法）、有機金属化学気相蒸着法（ＭＯＣＶＤ法）、イオンプレーティング法とエッチング法との組合せ、各種の印刷法（例えば、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、若しくはメタルマスク印刷法等）、メッキ法（電気メッキ法、若しくは無電解メッキ法等）、リフトオフ法、レーザアブレーション法、又はゾルゲル法等を挙げることができる。
【０１４７】
第２部材５２は、ＳｉＯ２をＣＶＤ法によって所定の膜厚だけ成膜し、その後当該ＳｉＯ２膜をフォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を用いてパターニングすることにより形成される。ただし、第２部材５２の材料はかかる例に限定されず、第２部材５２の材料としては、絶縁性を有する各種の材料を用いることができる。例えば、第２部材５２を構成する材料としては、ＳｉＯ２、ＭｇＦ、ＬｉＦ、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、フッ素系ポリマー、又はシリコーン系ポリマー等を挙げることができる。ただし、後述するように、第２部材５２は、第１部材５１の材料よりも屈折率が低い材料によって形成される。
【０１４８】
（発光素子よりも下層の構成）
第１基板１１において、発光素子１０を構成する第１電極２１は、ＳｉＯＮからなる層間絶縁層１６上に設けられている。そして、この層間絶縁層１６は、第１基板１１上に形成された発光素子駆動部を覆っている。
【０１４９】
発光素子駆動部は、複数のＴＦＴ１５から構成される。図示する例では、１つの発光素子１０につき、１つのＴＦＴ１５が設けられている。ＴＦＴ１５は、第１基板１１上に形成されるゲート電極１２、第１基板１１及びゲート電極１２上に形成されるゲート絶縁膜１３、並びにゲート絶縁膜１３上に形成される半導体層１４から構成される。半導体層１４のうち、ゲート電極１２の直上に位置する領域がチャネル領域１４Ａとして機能し、当該チャネル領域１４Ａを挟むように位置する領域がソース／ドレイン領域１４Ｂとして機能する。なお、図示する例では、ＴＦＴ１５はバックゲート型であるが、第３の実施形態はかかる例に限定されず、ＴＦＴ１５はボトムゲート型であってもよい。
【０１５０】
半導体層１４の上層に、ＣＶＤ法によって２層からなる層間絶縁層１６（下層層間絶縁層１６Ａ及び上層層間絶縁層１６Ｂ）が積層される。その際、下層層間絶縁層１６Ａが積層された後、当該下層層間絶縁層１６Ａのソース／ドレイン領域１４Ｂに当たる部分に、例えばフォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を用いて当該ソース／ドレイン領域１４Ｂを露出させるようにコンタクトホール１７が設けられ、当該コンタクトホール１７を埋め込むようにアルミニウムからなる配線１８が形成される。配線１８は、例えば真空蒸着法とエッチング法とを組み合わせて形成される。その後、上層層間絶縁層１６Ｂが積層される。
【０１５１】
上層層間絶縁層１６Ｂの配線１８が設けられる部分には、例えばフォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を用いて当該配線１８を露出させるようにコンタクトホール１９が設けられる。そして、発光素子１０の第１電極２１を形成する際には、当該第１電極２１がコンタクトホール１９を介して配線１８と接触するように形成される。このように、発光素子１０は、その第１電極２１が、配線１８を介してＴＥＴ１５のソース／ドレイン領域１４Ｂと電気的に接続される。ＴＦＴ１５のゲート電極１２は、走査回路（図示せず）に接続されている。当該走査回路から適切なタイミングで各ＴＦＴ１５に電流が印加されることにより、各ＴＦＴ１５が駆動され、全体として所望の画像、文字等が表示されるように各発光素子１０が発光する。適切な表示を得るためのＴＦＴ１５の駆動方法（すなわち、表示装置１ｉの駆動方法）としては、各種の公知の方法を用いることができるため、ここでは詳細な説明を省略する。
【０１５２】
なお、上記の例では層間絶縁層１６をＳｉＯＮによって構成していたが、第３の実施形態はかかる例に限定されない。層間絶縁層１６は、一般的な有機ＥＬディスプレイにおいて層間絶縁層として用いられ得る各種の公知の材料によって形成されてよい。例えば、層間絶縁層１６の構成材料としては、ＳｉＯ２系材料（例えば、ＳｉＯ２、ＢＰＳＧ、ＰＳＧ、ＢＳＧ、ＡｓＳＧ、ＰｂＳＧ、ＳｉＯＮ、ＳＯＧ（スピンオングラス）、低融点ガラス、又はガラスペースト等）、ＳｉＮ系材料、絶縁性樹脂（例えば、ポリイミド樹脂、ノボラック系樹脂、アクリル系樹脂、ポリベンゾオキサゾール等）を、単独で、あるいは適宜組み合わせて使用することができる。また、層間絶縁層１６の形成方法も上記の例に限定されず、層間絶縁層１６の形成には、ＣＶＤ法、塗布法、スパッタリング法、又は各種印刷法等の公知の方法を用いることができる。更に、上記の例では、配線１８を、アルミニウムを真空蒸着法及びエッチング法によって成膜及びパターニングすることによって形成していたが、第３の実施形態はかかる例に限定されない。配線１８は、一般的な有機ＥＬディスプレイにおいて配線として用いられる各種の材料を各種の方法によって成膜及びパターニングすることによって形成されてよい。
【０１５３】
（発光素子１０よりも上層の構成）
発光素子１０の第２部材５２に設けられる開口部２５は、その側壁が、下方に向かうにつれて開口面積が増加するように傾斜したテーパ形状を有するように形成される。そして、当該開口部２５に第１部材５１が埋め込まれる。つまり、第１部材５１は、発光素子１０の発光面の直上に設けられる、発光素子からの出射光を上方に向かって伝播する層である。また、第２部材５２の開口部２５を上記のように形成することにより、第１部材５１は、その積層方向における断面形状（すなわち、図示する断面形状）が略台形を有し、上方に底面を向けた切頭錐体形状を有する。第１部材５１は、上述した第１部材１０７に対応するものである。
【０１５４】
第１部材５１は、Ｓｉ１−ｘＮｘを真空蒸着法によって開口部２５を埋め込むように成膜し、その後当該Ｓｉ１−ｘＮｘ膜の表面を化学機械研磨法（ＣＭＰ法）等によって平坦化することにより形成される。ただし、第１部材５１の材料はかかる例に限定されず、第１部材５１の材料としては、絶縁性を有する各種の材料を用いることができる。例えば、第１部材５１を構成する材料としては、Ｓｉ１−ｘＮｘ、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、臭素含有ポリマー、硫黄含有ポリマー、チタン含有ポリマー、又はジルコニウム含有ポリマー等を挙げることができる。第１部材５１の形成方法もかかる例に限定されず、第１部材５１の形成方法としては、各種の公知の方法が用いられてよい。
【０１５５】
ただし、第３の実施形態では、上述したように、第１部材５１の屈折率ｎ１と、第２部材５２の屈折率ｎ２とがｎ１＞ｎ２の関係を満たすように、第１部材５１及び第２部材５２の材料が選択される。屈折率が上記の関係を満たすように第１部材５１及び第２部材５２の材料を選択することにより、第１部材５１と対向する第２部材５２の表面において、第１部材５１を伝播した光が少なくとも一部反射されることとなる。より具体的には、第１部材５１と第２部材５２との間には、発光素子１０の有機層２３及び第２電極２２が形成されているので、第２部材５２と有機層２３との界面において、第１部材５１を伝播した光が少なくとも一部反射される。つまり、第１部材５１と対向する第２部材５２の表面はリフレクタ５３として機能する。
【０１５６】
第３の実施形態では、上記のように第１部材５１は発光素子１０の発光面の直上に設けられる。そして、第１部材５１は上方に底面を向けた切頭錐体形状を有するため、発光素子１０の発光面から出射された光は、第１部材５１と第２部材５２との界面、すなわちリフレクタ５３によって、光出射方向である上方に向かって反射されることとなる。このように、第３の実施形態によれば、リフレクタ５３を設けることにより、発光素子１０からの出射光の取り出し効率を向上させることができ、表示装置１ｉ全体としての輝度を向上させることができる。
【０１５７】
なお、本発明者らによる検討の結果、発光素子１０からの出射光の取り出し効率をより好適に向上させるためには、第１部材５１及び第２部材５２の屈折率は、ｎ１−ｎ２≧０．２０の関係を満たすことが好ましい。更に好ましくは、第１部材５１及び第２部材５２の屈折率は、ｎ１−ｎ２≧０．３０の関係を満たすことが望ましい。更に、発光素子１０からの出射光の取り出し効率をより向上させるためには、第１部材５１の形状が、０．５≦Ｒ１／Ｒ２≦０．８、かつ０．５≦Ｈ／Ｒ１≦０．８の関係を満たすことが好ましい。ここで、Ｒ１は第１部材５１の光入射面（すなわち、積層方向における下方を向いた部位であって、発光素子１０の発光面と対向する面）の直径、Ｒ２は第１部材５１の光出射面（すなわち、積層方向における上方を向いた面）の直径、Ｈは第１部材５１を切頭錐体とみなした場合の底面と上面との距離（積層方向における高さ）である。
【０１５８】
平坦化された第１部材５１の上層には、保護膜３１が積層される。保護膜３１は、上述した保護膜１０９に対応するものである。保護膜３１は、例えば、Ｓｉ１−ｙＮｙを真空蒸着法によって所定の膜厚（３．０μｍ程度）だけ積層することによって形成される。ただし、保護膜３１の材料及び膜厚はかかる例に限定されず、保護膜３１は、一般的な有機ＥＬディスプレイの保護膜として用いられている各種の公知の材料によって、一般的に有機ＥＬディスプレイにおいて採用されている膜厚を有するように適宜形成されてよい。
【０１５９】
保護膜３１の上に、各画素に対応して反射体１１９が設けられる。反射体１１９は、プリズムタイプの再帰性構造が、反射面となる下面に向かって形成された構造を有する。プリズムタイプの再帰性構造は、例えば、平面視形状が略正三角形である直角三角錐体を連続的に配置することによって実現され得る。このようなプリズムタイプの再帰性構造を有する反射体１１９は、例えば、半導体プロセスにおいて側壁がテーパ形状を有するようにエッチングで膜に開口部を形成する技術を応用し、適当な反射率を有する材料からなる膜（例えば金属膜）をフォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を用いて適宜プリズム形状に加工することにより、形成され得る。
【０１６０】
ただし、第３の実施形態はかかる例に限定されず、反射体１１９は、他の構成を有してもよいし、他の加工方法によって形成されてもよい。例えば、プリズムタイプの再帰性構造を有する反射体１１９は、プリズム形状を反転させた構造が表面に形成された原盤を作製し、当該原盤の表面の形状を適当な反射率を有する材料からなる膜（例えば金属膜）の表面に転写することによって形成されてもよい。
【０１６１】
あるいは、例えば、反射体１１９は、プリズムタイプでなく、ビーズタイプの再帰性構造を有してもよい。ビーズタイプの再帰性構造を有する反射体１１９は、例えば、レジスト材をフォトリソグラフィ技術によって球体状又は半球状に加工することによって形成され得る。当該加工方法には、例えば、イメージャの分野においてオンチップレンズ（ＯＣＬ）を形成する際に用いられている各種の公知の方法を応用することができる。
【０１６２】
あるいは、例えば、ビーズタイプの再帰性構造を有する反射体１１９は、樹脂層の内部にガラス又はプラスチック等からなるビーズ（粒子）を分散させて配置することにより形成されてもよい。当該構成によれば、例えば市販のビーズを適当な樹脂層内に分散配置するだけで反射体１１９を形成することができるため、より簡易に、より安価に反射体１１９を形成することができる。
【０１６３】
なお、反射体１１９は、保護膜３１上に直接形成されなくてもよく、例えば、別途作製された反射体１１９を保護膜３１上の所定の位置に貼り付けることにより、保護膜３１上に反射体１１９を配置してもよい。また、反射体１１９に設けられる再帰性構造は、上述した例に限定されず、当該再帰性構造としては、各種の公知の構造が適用されてよい。
【０１６４】
更に、第３の実施形態では、反射体１１９の下面は、必ずしも再帰性反射体でなくてもよい。例えば、反射体１１９の下面は、ミラー又は散乱体であってもよい。反射体１１９の下面がミラー又は散乱体である場合であっても、当該反射体１１９への入射光のうちのいくばくかの成分は発光素子１０の発光面に向かって反射され得るため、光取り出し効率の向上に関して一定の効果を得ることができる。ただし、反射体１１９の下面が再帰性反射体である場合の方が、当該反射体１１９への入射光をより効率的に発光素子１０の発光面に向かって反射することができるため、光取り出し効率を向上させる効果をより顕著に得るためには、反射体１１９の下面を再帰性反射体として構成する方がより好ましい。
【０１６５】
下面がミラー又は散乱体である反射体１１９は、各種の方法によって形成されてよい。例えば、下面がミラー又は散乱体である反射体１１９の形成方法としては、適当な材料を蒸着若しくはスパッタリングによって成膜する、適当な材料（レジスト材）をリソグラフィ技術によって膜状に形成する、別途作製したミラー体若しくは散乱体を保護膜３１上に貼り付ける、別途作製したミラー若しくは散乱体の表面形状を有する原盤の当該表面形状を成膜した適当な材料に転写する、又は、膜状になった場合にミラー若しくは散乱体として機能する材料を塗布する、等の方法が考えられる。
【０１６６】
保護膜３１の上に反射体１１９が形成された後、平坦化膜３２が積層される。平坦化膜３２は、上述した平坦化膜１１１に対応するものである。平坦化膜３２は、例えば、ＳｉＯ２をＣＶＤ法によって所定の膜厚（２．０μｍ程度）だけ積層し、その表面をＣＭＰ法等によって平坦化することによって形成される。ただし、平坦化膜３２の材料及び膜厚はかかる例に限定されず、平坦化膜３２は、一般的な有機ＥＬディスプレイの平坦化膜として用いられている各種の公知の材料によって、一般的に有機ＥＬディスプレイにおいて採用されている膜厚を有するように適宜形成されてよい。
【０１６７】
ここで、第３の実施形態では、好適に、保護膜３１の屈折率ｎ３が、第１部材５１の屈折率ｎ１と同等又は第１部材５１の屈折率ｎ１よりも小さくなるように、保護膜３１の材料が選択される。更に、好適に、保護膜３１の屈折率ｎ３と、平坦化膜３２の屈折率ｎ４との差分の絶対値が０．３０以下、より好ましくは０．２０以下になるように、保護膜３１及び平坦化膜３２の材料が選択される。このように保護膜３１及び平坦化膜３２の材料を選択することにより、発光素子１０からの出射光が、第１部材５１と保護膜３１との界面、及び保護膜３１と平坦化膜３２との界面において反射または散乱されることを抑制することができ、光取り出し効率を更に向上させることができる。
【０１６８】
なお、表示装置１ｉの第１基板１１から保護膜３１までの構成、特にリフレクタ５３の構成としては、例えば本出願人による先行出願である、特開２０１３−１９１５３３号公報に開示されている表示装置の構成を適用することができる。
【０１６９】
平坦化膜３２の上層には、ＣＦ層３３が形成される。ＣＦ層３３は、上述したＣＦ層１１３に対応するものである。ＣＦ層３３は、発光素子１０の各々に対して所定の面積を有する各色のＣＦ（赤色のＣＦ３３Ｒ、緑色のＣＦ３３Ｒ、及び青色のＣＦ３３Ｂ）が設けられるように、形成される。ＣＦ層３３は、例えばレジスト材をフォトリソグラフィ技術で所定の形状に露光、現像することにより、形成され得る。ＣＦ層３３の膜厚は、例えば２μｍ程度である。ただし、ＣＦ層３３の材料、形成方法及び膜厚はかかる例に限定されず、ＣＦ層３３は、一般的な有機ＥＬディスプレイのＣＦ層として用いられている各種の公知の材料によって、各種の公知の方法によって、一般的に有機ＥＬディスプレイにおいて採用されている膜厚を有するように適宜形成されてよい。
【０１７０】
ＣＦ層３３の上層に、例えばエポキシ樹脂等の封止樹脂層３５を介して第２基板３４が貼り合わされることにより、表示装置１ｉが作製される。なお、封止樹脂層３５の材料はかかる例に限定されず、封止樹脂層３５の材料は、発光素子１０からの出射光に対する透過性が高いこと、下層に位置するＣＦ層３３及び上層に位置する第２基板３４との接着性に優れていること、及び下層に位置するＣＦ層３３及び上層に位置する第２基板３４との界面における反射性が低いこと等を考慮して、適宜選択されてよい。
【０１７１】
以上、第３の実施形態に係る表示装置１ｉの具体的な構成例について説明した。なお、本開示の各実施形態及び各変形例に係る表示装置の具体的な構成例は、かかる例に限定されない。各実施形態及び各変形例に係る表示装置を構成する各層の材料、膜厚、及び形成方法としては、一般的にその層を形成する際に用いられている各種の条件を用いることができる。
【０１７２】
（７．適用例）
以上説明した各実施形態及び各変形例に係る表示装置の適用例について説明する。ここでは、以上説明した各実施形態及び各変形例に係る表示装置が適用され得る電子機器のいくつかの例について説明する。
【０１７３】
図２６は、各実施形態及び各変形例に係る表示装置が適用され得る電子機器の一例である、スマートフォンの外観を示す図である。図２６に示すように、スマートフォン４０１は、ボタンから構成されユーザによる操作入力を受け付ける操作部４０３と、各種の情報を表示する表示部４０５と、を有する。当該表示部４０５が、各実施形態及び各変形例に係る表示装置によって構成され得る。
【０１７４】
図２７及び図２８は、各実施形態及び各変形例に係る表示装置が適用され得る電子機器の他の例である、デジタルカメラの外観を示す図である。図２７は、デジタルカメラ４１１を前方（被写体側）から眺めた外観を示しており、図２８は、デジタルカメラ４１１を後方から眺めた外観を示している。図２７及び図２８に示すように、デジタルカメラ４１１は、本体部（カメラボディ）４１３と、交換式のレンズユニット４１５と、撮影時にユーザによって把持されるグリップ部４１７と、各種の情報を表示するモニタ４１９と、撮影時にユーザによって観察されるスルー画を表示するＥＶＦ４２１と、を有する。当該モニタ４１９及びＥＶＦ４２１が、各実施形態及び各変形例に係る表示装置によって構成され得る。
【０１７５】
図２９は、各実施形態及び各変形例に係る表示装置が適用され得る電子機器の他の例である、ＨＭＤの外観を示す図である。図２９に示すように、ＨＭＤ４３１は、各種の情報を表示する眼鏡形の表示部４３３と、装着時にユーザの耳に掛止される耳掛け部４３５と、を有する。当該表示部４３３が、各実施形態及び各変形例に係る表示装置によって構成され得る。
【０１７６】
以上、各実施形態及び各変形例に係る表示装置が適用され得る電子機器のいくつかの例について説明した。なお、各実施形態及び各変形例に係る表示装置が適用され得る電子機器は上記で例示したものに限定されず、当該表示装置は、テレビジョン装置、電子ブック、ＰＤＡ、ノート型ＰＣ、ビデオカメラ、ＨＭＤ、又はゲーム機器等、外部から入力された画像信号又は内部で生成した画像信号に基づいて表示を行うあらゆる分野の電子機器に搭載される表示装置に適用することが可能である。
【０１７７】
（８．補足）
以上、添付図面を参照しながら本開示の好適な実施形態について詳細に説明したが、本開示の技術的範囲はかかる例に限定されない。本開示の技術分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本開示の技術的範囲に属するものと了解される。
【０１７８】
例えば、以上説明した、各実施形態に係る表示装置が有し得る各構成、及び各変形例に係る表示装置が有し得る各構成は、可能な範囲で互いに組み合わせて適用することが可能である。例えば、発光素子とＣＦとの相対的な位置ずれを生じさせるために、上述した各方法が適宜組み合わされてもよい。また、例えば、第１の実施形態及びその変形例に係る表示装置について、リフレクタ構造が設けられてもよい。すなわち、少なくとも一部の画素に反射体が設けられる表示装置において、発光素子と反射体との相対的な位置ずれを生じさせることなく、リフレクタ構造が設けられてもよい。
【０１７９】
また、以上説明した各実施形態では、表示装置は、赤色の画素、緑色の画素、青色の画素、及び白色の画素の４色の副画素によって１つの画素が形成される構成であったが、本開示はかかる例に限定されない。他の画素構成を有する表示装置であっても、各実施形態に係る表示装置と同様の構成を適用することにより、同様の効果を得ることができる。また、画素の配列方法も、上述したデルタ配列に限定されない。例えば、ストライプ配列、ダイアゴナル配列、又はレクタングル配列等、他の画素配列であっても、同様の効果を得ることが可能である。
【０１８０】
また、例えば、以上では、本開示の一例として、表示装置が有機ＥＬディスプレイである実施形態について説明したが、本開示はかかる例に限定されない。本開示の対象となる表示装置は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ及び電子ペーパー等、ＣＦを用いてカラー表示を実現し得る表示装置であれば、各種の表示装置であってよい。これらの他の表示装置においても、表示面内の少なくとも一部の領域において、光出射部からの出射光のうち所望の方向以外の方向に出射された光を反射するように、積層方向と垂直な面内において当該光出射部の発光面の中心に対して当該反射体の中心がずれた状態で、当該光出射部及び当該反射体を配置することにより、上述した各実施形態と同様の効果を得ることが可能になる。ここで、光出射部とは、表示装置の各画素において、外部に向かって光を出射する部位のことである。例えば、以上説明した各実施形態のような有機ＥＬディスプレイであれば、当該光出射部は発光素子に対応する。また、例えば、液晶ディスプレイであれば、当該光出射部は、液晶パネルのうち１つの画素に対応する領域に対応する。また、例えば、プラズマディスプレイであれば、当該光出射部は、プラズマディスプレイパネルのうち１つの放電セルに対応する領域に対応する。
【０１８１】
また、本明細書に記載された効果は、あくまで説明的又は例示的なものであって限定的なものではない。つまり、本開示に係る技術は、上記の効果とともに、又は上記の効果に代えて、本明細書の記載から当業者には明らかな他の効果を奏し得る。
【０１８２】
なお、以下のような構成も本開示の技術的範囲に属する。
（１）
基板上に形成される複数の光出射部と、
表示面内の少なくとも一部の領域に位置する複数の前記光出射部の各々に対して、前記光出射部の上層に設けられ、前記光出射部からの出射光の一部を下面で反射する反射体と、
を備え、
前記光出射部からの出射光のうち所望の方向以外の方向に出射された光を反射するように、積層方向と垂直な面内において前記光出射部の発光面の中心に対して前記反射体の中心がずれた状態で、前記光出射部及び前記反射体が配置される、
表示装置。
（２）
前記光出射部の上層に、複数の前記光出射部の各々に対応して設けられるカラーフィルタ、を更に備え、
少なくとも前記反射体が設けられる前記光出射部において、積層方向と垂直な面内において前記光出射部の発光面の中心と前記光出射部に対応する前記カラーフィルタの中心との相対的な位置ずれが生じるように、前記光出射部及び前記カラーフィルタが配置され、
積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心に対する前記反射体の中心の位置ずれ方向は、積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心に対する前記カラーフィルタの中心の位置ずれ方向と逆方向である、
前記（１）に記載の表示装置。
（３）
前記反射体の反射面は再帰性構造を有する、
前記（１）又は（２）に記載の表示装置。
（４）
前記再帰性構造はコーナーキューブプリズムが配列された構成を有する、
前記（３）に記載の表示装置。
（５）
前記光出射部の上層に、複数の前記光出射部の各々に対応して設けられるカラーフィルタ、を更に備え、
前記反射体は、前記カラーフィルタよりも下層に形成される、
前記（１）〜（４）のいずれか１項に記載の表示装置。
（６）
前記光出射部の直上であって前記反射体よりも下層に設けられ、上方に向かうにつれて積層方向と垂直な面内方向の断面積が徐々に大きくなる略切頭錐体形状を有し、前記光出射部からの出射光を伝播する第１部材と、
隣り合う前記光出射部の間において、前記第１部材と前記第１部材との間に設けられる第２部材と、
を更に備え、
前記第１部材の屈折率は、前記第２部材の屈折率よりも大きい、
前記（１）〜（５）のいずれか１項に記載の表示装置。
（７）
積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心に対する前記反射体の中心の位置ずれ量及び位置ずれ方向は、前記表示面内において分布を有する、
前記（１）〜（６）のいずれか１項に記載の表示装置。
（８）
積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心に対する前記反射体の中心の位置ずれ量は、前記表示面の外縁に向かうにつれて大きくなる、
前記（１）〜（７）のいずれか１項に記載の表示装置。
（９）
積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心に対する前記反射体の中心の位置ずれ量及び位置ずれ方向は、前記反射体が設けられる前記光出射部によって構成される画素に求められる視野角に応じて設定される、
前記（１）〜（８）のいずれか１項に記載の表示装置。
（１０）
積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心に対する前記反射体の中心の位置ずれ方向は、前記表示面の中心から、前記表示面内において前記反射体が設けられる前記光出射部が存在する位置に向かう方向と逆方向である、
前記（１）〜（９）のいずれか１項に記載の表示装置。
（１１）
複数の前記カラーフィルタの面積が前記表示面内で分布を有することにより、積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心と前記カラーフィルタの中心との相対的な位置ずれが生じる、
前記（２）に記載の表示装置。
（１２）
前記表示面内に複数の領域が設定され、隣り合う前記領域間に位置する前記カラーフィルタの面積が、他の前記カラーフィルタの面積と異なることにより、領域ごとに互いに異なる位置ずれ量で、積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心と前記カラーフィルタの中心との相対的な位置ずれが生じる、
前記（１１）に記載の表示装置。
（１３）
複数の前記カラーフィルタの面積が前記表示面内で徐々に変化することにより、積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心と前記カラーフィルタの中心との相対的な位置ずれが生じる、
前記（１１）に記載の表示装置。
（１４）
前記基板上において前記光出射部が配列されるピッチが、少なくとも一部領域において他の領域における前記ピッチと異なることにより、積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心と前記カラーフィルタの中心との相対的な位置ずれが生じる、
前記（２）に記載の表示装置。
（１５）
積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心に対する前記カラーフィルタの中心の位置ずれ量は、前記表示面の外縁に向かうにつれて大きくなる、
前記（２）、（１０）〜（１３）のいずれか１項に記載の表示装置。
（１６）
積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心に対する前記カラーフィルタの中心の位置ずれ量、及び積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心に対する前記カラーフィルタの中心の位置ずれ方向は、積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心と前記カラーフィルタの中心との相対的な位置ずれが生じている前記光出射部及び前記カラーフィルタによって構成される画素に求められる視野角に応じて設定される、
前記（２）、（１１）〜（１５）のいずれか１項に記載の表示装置。
（１７）
積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心に対する前記カラーフィルタの中心の位置ずれ方向は、前記表示面の中心から、積層方向と垂直な面内における前記光出射部の発光面の中心と前記カラーフィルタの中心との相対的な位置ずれが生じている前記光出射部及び前記カラーフィルタが存在する位置に向かう方向である、
前記（２）、（１１）〜（１６）のいずれか１項に記載の表示装置。
（１８）
前記光出射部は、有機発光ダイオードからなる発光素子であり、
前記表示装置は、有機ＥＬディスプレイである、
前記（１）〜（１７）のいずれか１項に記載の表示装置。
（１９）
画像信号に基づいて表示を行う表示装置、
を備え、
前記表示装置は、
基板上に形成される複数の光出射部と、
表示面内の少なくとも一部の領域に位置する複数の前記光出射部の各々に対して、前記光出射部の上層に設けられ、前記光出射部からの出射光の一部を下面で反射する反射体と、
を有し、
前記光出射部からの出射光のうち所望の方向以外の方向に出射された光を反射するように、積層方向と垂直な面内において前記光出射部の発光面の中心に対して前記反射体の中心がずれた状態で、前記光出射部及び前記反射体が配置される、
電子機器。
【符号の説明】
【０１８３】
１、１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅ、１ｆ、１ｇ、１ｈ、１ｉ、１ｊ、１ｋ、１ｌ、１ｍ、１ｎ、１ｐ、１ｑ    表示装置
１０、１０３    発光素子
１１、１０１    第１基板
１５    ＴＦＴ
２１    第１電極
２２    第２電極
２３    有機層
２４、１２７    発光部
２５    開口部
３１、１０９    保護膜
３２、１１１、１２５    平坦化膜
３３、１１３    ＣＦ層
３３Ｒ、３３Ｇ、３３Ｂ、３３ａ、１１３Ｒ、１１３Ｇ、１１３Ｂ、１１３ａ    ＣＦ
３４、１１７    第２基板
３５、１１５    封止樹脂膜
５１、１０７    第１部材
５２、５２ａ、１０５、１０５ａ    第２部材
５３    リフレクタ
１１９    反射体
１２１    封止材
１２３    密着層
２０１    表示面
４０１    スマートフォン（電子機器）
４１１    デジタルカメラ（電子機器）
４３１    ＨＭＤ（電子機器）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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