(57)【要約】      （修正有）【課題】有機発光層の厚さのムラに起因する発光の問題を軽減した表示装置を提供する。【解決手段】表示装置は、隣同士が間隔をあけて分離し、上面の少なくとも一部に平坦部をそれぞれが有する複数の画素電極１３３と、複数の画素電極に連続的に積層するキャリア注入輸送層１４１と、複数の画素電極の上方にそれぞれ位置するようにキャリア注入輸送層に積層する複数の発光層１４３ｒ、１４３ｇ、１４３ｂと、複数の発光層を覆うように積層する共通電極１３６と、を有する。キャリア注入輸送層の下地層の表面は、複数の画素電極の表面を含む凹凸形状であり、キャリア注入輸送層の上面は平坦であり、複数の発光層のそれぞれは、少なくとも対応する画素電極の平坦部の上方で均一の厚みになっている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
隣同士が間隔をあけて分離し、上面の少なくとも一部に平坦部をそれぞれが有する複数の画素電極と、
前記複数の画素電極に連続的に積層するキャリア注入輸送層と、
前記複数の画素電極の上方にそれぞれ位置するように前記キャリア注入輸送層に積層する複数の発光層と、
前記複数の発光層を覆うように積層する共通電極と、
を有し、
前記キャリア注入輸送層の下地層の表面は、前記複数の画素電極の表面を含む凹凸形状であり、
前記キャリア注入輸送層の上面は、平坦であり、
前記複数の発光層のそれぞれは、少なくとも対応する前記画素電極の前記平坦部の上方で、均一の厚みになっていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載された表示装置において、
前記キャリア注入輸送層の前記下地層は、前記複数の画素電極の下にある層間絶縁膜をさらに含み、
前記キャリア注入輸送層は、前記複数の画素電極のそれぞれの前記上面及び側面と、前記層間絶縁膜の前記複数の画素電極からの露出面と、に接触することを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載された表示装置において、
前記複数の画素電極のそれぞれは、下層との電気的接続のための凹部を前記上面に有することを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項３に記載された表示装置において、
前記キャリア注入輸送層は、前記凹部を埋めるように設けられることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記複数の発光層は、隣同士が間隔をあけて分離されていることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１から４のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記複数の発光層は、隣同士が側方に接触していることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項１から４のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記複数の発光層は、隣同士の端部が上下に重なっていることを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記複数の発光層は、光の色によって複数のグループに分けられことを特徴とする表示装置。
【請求項９】
請求項８に記載された表示装置において、
異なるグループの前記発光層は、厚みが異なることを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
請求項８に記載された表示装置において、
前記複数の画素電極は、反射鏡であり、
前記キャリア注入輸送層は、異なるグループの前記発光層の直下で、前記反射鏡と前記複数の発光層との間の光路長を調整するために厚みが異なることを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか１項に記載された表示装置において、
隣同士の前記画素電極の隣り合う端部に連続的に載る画素間絶縁層をさらに有し、
前記キャリア注入輸送層は、前記画素間絶縁層を覆うように設けられることを特徴とする表示装置。
【請求項１２】
基板と、
前記基板上に配置され、少なくとも薄膜トランジスタを含む回路層と、
前記回路層の上に配置された絶縁膜と、
前記絶縁膜の上に位置し、互いに離間して配置された複数の画素電極と、
前記絶縁膜の上に位置し、且つ前記複数の画素電極の全体を覆う第１の有機層と、
前記第１の有機層の上に位置し、発光膜を有し、各々が前記複数の画素電極の各々に対向する複数の第２の有機層と、
前記複数の第２の有機層の全体を覆う共通電極と、を有することを特徴とする表示装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載された表示装置において、
前記複数の第２の有機層と前記共通電極との間に、前記複数の第２の有機層の全体を覆う第３の有機層を有することを特徴とする表示装置。
【請求項１４】
請求項１２又は１３に記載された表示装置において、
前記第１の有機層の前記第２の有機層と接する側の第１の面は、平面的に見て前記複数の画素電極と重畳する領域、及び隣接する前記複数の電極の間の部分と重畳する領域に亘って、平坦であることを特徴とする表示装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載された表示装置において、
前記第１の有機層は、前記第１の面に対向し、前記複数の画素電極の側に位置する第２の面を有し、
前記第１の面は、前記第２の面よりも平坦であることを特徴とする表示装置。
【請求項１６】
請求項１２から１５の何れか１項に記載された表示装置において、
前記複数の第２の有機層は、互いに隣接する２つの第２の有機層を含み、
前記２つは互いの一部が直に接していることを特徴とする表示装置。
【請求項１７】
請求項１２から１６の何れか１項に記載された表示装置において、
前記複数の画素電極は、第１の画素電極と前記第１の画素電極に隣接する第２の電極とを含み、
前記絶縁膜の上には、前記第１の画素電極の前記第２の電極の側に位置する第１の端部と、前記第２の画素電極の前記第１の電極の側に位置する第２の端部と、前記第１の端部と前記第２の端部との間とを覆う、第２の絶縁膜が配置され、
前記第２の絶縁膜は、前記第１の有機層で覆われていることを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ：Organic Light Emitting Diode）等の自発光体を用いた表示装置が実用化されている。ＯＬＥＤを用いた有機ＥＬ（Electro-luminescent）表示装置といった、自発光体を用いる表示装置は、従来の液晶表示装置と比較して、視認性、応答速度が優れている。また、自発光体を用いる表示装置はバックライトのような補助照明を要しないため、更なる薄型化が可能となっている。
【０００３】
特許文献１には、有機ＥＬ表示パネルにおいて、湿式塗布方法で形成され有機発光層を含む有機機能層が絶縁膜の開口の中に形成されることが開示されている。特許文献２には、有機ＥＬ表示装置において、コンタクトホール内に高分子有機層を構成する高分子材料が充填されること、また高分子有機層がホール注入層やホール輸送層の機能を有していてもよいことが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−２４９０８９号公報
【特許文献２】特開２０１４−１２３６２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
絶縁膜の開口などにより形成される開口の中に塗布型の材料で有機発光層を形成する場合などに、有機発光層の厚さにムラができる。有機発光層の厚さにムラがあると、たとえば発光の輝度等が開口の側壁との距離に応じて変化する。このため、有機ＥＬ素子の発光にムラなどの問題が生じる。
【０００６】
本発明は上記課題を鑑みてなされたものであって、その目的は、有機発光層の厚さのムラに起因する発光の問題を軽減する技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本出願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以下の通りである。
【０００８】
本発明にかかる表示装置は、隣同士が間隔をあけて分離し、上面の少なくとも一部に平坦部をそれぞれが有する複数の画素電極と、前記複数の画素電極に連続的に積層するキャリア注入輸送層と、前記複数の画素電極の上方にそれぞれ位置するように前記キャリア注入輸送層に積層する複数の発光層と、前記複数の発光層を覆うように積層する共通電極と、を有する。前記キャリア注入輸送層の下地層の表面は、前記複数の画素電極の表面を含む凹凸形状であり、前記キャリア注入輸送層の上面は、平坦であり、前記複数の発光層のそれぞれは、少なくとも対応する前記画素電極の前記平坦部の上方で、均一の厚みになっている。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、表示装置において、有機発光層の厚さのムラに起因する発光の問題を軽減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】第１の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の一例を示す斜視図である。
【図２】図１に示すアレイ基板の断面を示す図である。
【図３Ａ】図２に示すアレイ基板の製造工程を説明する図である。
【図３Ｂ】図２に示すアレイ基板の製造工程を説明する図である。
【図３Ｃ】図２に示すアレイ基板の製造工程を説明する図である。
【図３Ｄ】図２に示すアレイ基板の製造工程を説明する図である。
【図３Ｅ】図２に示すアレイ基板の製造工程を説明する図である。
【図３Ｆ】図２に示すアレイ基板の製造工程を説明する図である。
【図４】アレイ基板の比較例を示す断面図である。
【図５】本発明の実施形態にかかるアレイ基板の他の一例を示す断面図である。
【図６】本発明の実施形態にかかるアレイ基板の他の一例を示す断面図である。
【図７】本発明の実施形態にかかるアレイ基板の他の一例を示す断面図である。
【図８】本発明の実施形態にかかるアレイ基板の他の一例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下では、本発明の実施形態について図面に基づいて説明する。出現する構成要素のうち同一機能を有するものには同じ符号を付し、その説明を省略する。また、説明を容易にするため、図面に示される態様は、実際の態様と比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。以下では、ＯＬＥＤ（organic light-emitting diode）を用いた有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置について説明する。
【００１２】
図１は、本発明の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置１００の一例を示す斜視図である。この図に示されるように、有機ＥＬ表示装置１００は、アレイ基板１２０及び対向基板１５０の２枚の基板を有している。対向基板１５０はアレイ基板１２０に対向している。
【００１３】
アレイ基板１２０や対向基板１５０は、例えばガラスのような絶縁体からなる基板であり、絶縁表面を有する。アレイ基板１２０の上にはマトリクス状に画素回路が配置されている。画素回路のそれぞれは画素２１０に対応し、ＴＦＴ（Thin Film Transistor：薄膜トランジスタ）を含む。アレイ基板１２０には、駆動集積回路１８２と、外部から画像信号等を入力するためのフレキシブルプリント基板（Flexible Printed Circuits）１８１とが取付けられている。駆動集積回路１８２は、画素回路のそれぞれに含まれる画素トランジスタに向けてそのソース・ドレイン間を導通させるための走査信号を出力するとともに、画素２１０の表示階調に応じた信号をその副画素に向けて出力する駆動回路が設けられている。また、本実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置１００は、図の矢印に示されるように、アレイ基板１２０の発光層が形成された側に光を出射するトップエミッション型の有機ＥＬ表示装置である。
【００１４】
有機ＥＬ表示装置１００のアレイ基板１２０及び対向基板１５０には、マトリクス状に配置された画素２１０からなる表示領域２０５が形成されている。表示領域２０５にはｘ列ｙ行の画素２１０が配置されている。画素２１０のそれぞれは、３色または４色のうちいずれかの色を出力し、副画素とも呼ばれる。例えば互いに隣接し色の異なる複数の画素２１０により、表示される画像に含まれる１つの点が表現される。
【００１５】
図２は、図１に示すアレイ基板１２０の断面を示す断面図である。図２に示される断面図は、アレイ基板１２０内の表示領域２０５のうち、互いに並ぶ赤の画素２１０、緑の画素２１０および青の画素２１０を横断する断面の図である。複数の画素２１０のそれぞれは、１または複数のトランジスタや配線を含む。また、画素２１０のそれぞれには、有機ＥＬ素子を流れる電流などを制御することにより有機ＥＬ素子の輝度を制御する１つのトランジスタが設けられている。アレイ基板１２０の上には、そのトランジスタや配線等を含む回路層１２１が形成されている。トランジスタのそれぞれは、ゲート電極と、ソース電極と、ドレイン電極と、半導体膜からなるチャネルとを含む。回路層１２１は、下から順に、半導体層と、ゲート下絶縁層と、ゲート電極を含む第１電極層と、ゲート上絶縁層と、ソース電極およびドレイン電極を含む第２電極層とを含む。ゲート上絶縁層の上には、輝度を制御するトランジスタに含まれるソース電極またはドレイン電極の一部であり、画素電極１３３と電気的に接続するための接続電極１３０が配置されている。
【００１６】
回路層１２１の上には、層間絶縁膜１３１が形成されており、層間絶縁膜１３１には、複数のコンタクトホール１３２が形成される。ここで、１つの画素２１０には１つのコンタクトホール１３２が含まれる。コンタクトホール１３２の底では接続電極１３０が層間絶縁膜１３１から露出している。層間絶縁膜１３１の上には、複数の画素電極１３３が設けられている。１つの画素２１０には１つの画素電極１３３が含まれる。コンタクトホール１３２の側壁の内側、コンタクトホール１３２の底の上面および層間絶縁膜１３１の上面は、連続的に延びる画素電極１３３に接している。画素電極１３３は、コンタクトホール１３２の内側に接続電極１３０と電気的に接続するための凹部を有する。画素電極１３３の上面も、コンタクトホール１３２の内側に凹部を有している。コンタクトホール１３２の底では、画素電極１３３の下面が接続電極１３０の上面と接している。ある画素２１０に含まれる画素電極１３３は隣の画素２１０に含まれる隣の画素電極１３３とは間隔をあけて分離している。また、画素電極１３３のそれぞれは、上面の少なくとも一部に平坦な部分を有する。より具体的には、画素電極１３３のうち層間絶縁膜１３１の上面の上にある部分は平坦である。画素電極１３３の端部にある側面は緩やかな傾斜（テーパ形状）であってもよい。テーパ形状により画素電極１３３の端部への電界集中による悪影響を防ぐことができる。
【００１７】
画素電極１３３の上には、画素電極１３３を覆うようにホール注入輸送層１４１（第１の有機層）が設けられている。ホール注入輸送層１４１は、下から順にホール注入層とホール輸送層とを含む。ホール注入輸送層１４１は平面視で表示領域２０５を覆う。ホール注入輸送層１４１は、表示領域２０５内にある複数の画素２１０で共通し、画素２１０ごとには分割されていない。ホール注入輸送層１４１は画素電極１３３の上面および側面と、層間絶縁膜１３１の上面のうち複数の画素電極１３３に覆われない領域（層間絶縁膜１３１の画素電極１３３からの露出面）とに接触している。ホール注入輸送層１４１の下には、画素電極１３３の凹部や画素電極１３３の端部により凹凸が存在し、またホール注入輸送層１４１の下面もその凹凸に応じたものである。一方、ホール注入輸送層１４１の厚さは凹凸を覆い隠すのに十分であり、ホール注入輸送層１４１の上面は平坦である。特に、ホール注入輸送層１４１は、コンタクトホール１３２内の画素電極１３３の凹部を埋めるように設けられている。
【００１８】
ホール注入輸送層１４１の上には、発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂが設けられている。発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂは発光層（第２の有機層）に含まれる。複数の発光膜１４３ｒは、平面視で、赤の画素２１０に含まれる画素電極１３３と重なるように設けられ、複数の発光膜１４３ｇは、平面視で、緑の画素２１０に含まれる画素電極１３３と重なるように設けられ、複数の発光膜１４３ｂは、平面視で、青の画素２１０に含まれる画素電極１３３と重なるように設けられる。図２の例では、発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂのそれぞれは、他の発光膜と離間して設けられている。赤の画素２１０は発光膜１４３ｒにより赤色に発光し、緑の画素２１０は発光膜１４３ｇにより緑色に発光し、青の画素２１０は発光膜１４３ｂにより青色に発光する。複数の発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂは、その発光色により複数のグループに分けられる。
【００１９】
複数の発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂのそれぞれの厚みは、少なくとも、その発光膜に対応する画素電極１３３の平坦部の上方では均一になっている。
【００２０】
発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂの上には電子注入輸送層１４５（第３の有機層）が積層されている。電子注入輸送層１４５は、下から順に電子輸送層と電子注入層とを含む。電子注入輸送層１４５は平面視で表示領域２０５を覆う。電子注入輸送層１４５は、表示領域２０５内にある複数の画素２１０で共通し、画素２１０ごとには分割されていない。
【００２１】
電子注入輸送層１４５はキャリアとして電子が移動する層であり、一方、ホール注入輸送層１４１はキャリアとしてホールが移動する層である。電子注入輸送層１４５およびホール注入輸送層１４１は電流を流すためのキャリアの移動に関する点で共通するので、まとめてキャリア注入輸送層と呼ぶ。
【００２２】
電子注入輸送層１４５の上には、電子注入輸送層１４５を覆うように共通電極１３６が設けられている。共通電極１３６は電子注入輸送層１４５の上面に接している。画素電極１３３、ホール注入輸送層１４１、発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂ、電子注入輸送層１４５、共通電極１３６が有機発光ダイオードを構成している。図２の例では、画素電極１３３がアノードであり、共通電極１３６がカソードである。ここで、画素電極１３３がカソードであり、共通電極１３６がアノードであってもよい。この場合、画素電極１３３の上には順に、電子注入層、電子輸送層、発光層、ホール輸送層、ホール注入層が積層する。表示領域２０５内の複数の有機発光ダイオードや複数の画素２１０が発光する色によってグループに分けられる。
【００２３】
図示しないが、共通電極１３６の上には、封止膜が積層されている。また、封止膜は、対向基板１５０と充填材を介して接着されている。
【００２４】
図３Ａから３Ｆは、図２に示すアレイ基板１２０の製造工程を説明する図である。はじめに、アレイ基板１２０上に回路層１２１を形成する。より具体的には、以下の工程を行う。半導体を積層してパターニングすることにより半導体層を形成し、例えば酸化シリコンや窒化シリコンを含む絶縁材料を積層することによりゲート下絶縁層を形成する。そして、１または複数の金属層を積層した後にパターニングすることにより第１電極層を形成し、ゲート下絶縁膜と同様の絶縁材料を積層してゲート上絶縁層を形成し、半導体層のうちソース、ドレインの位置にコンタクトホールを形成する。そして、また１または複数の金属層を積層した後にパターニングすることにより第２電極層を形成する。第１電極層、第２電極層は、モリブデン（Ｍｏ）、チタン（Ｔｉ）、アルミニウム（Ａｌ）等から選ばれた金属層、又はそれらの積層により構成されている。また第２電極層を形成する工程により、ソースまたはドレイン電極の一部である接続電極１３０も形成される。
【００２５】
回路層１２１が形成されると、例えば有機絶縁材料により層間絶縁膜１３１を形成し、さらに接続電極１３０が露出するように層間絶縁膜１３１にコンタクトホール１３２を形成する。層間絶縁膜１３１やコンタクトホール１３２の上には、電極層の積層とパターニングとにより画素電極１３３が形成される。画素電極１３３の材質は、有機ＥＬ素子の駆動のための仕事関数等を鑑みて決定され、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ）等から選ばれた酸化物導電材料等により構成されている。また、トップエミッション型の場合には、画素電極１３３は光を反射する反射層であってよく、銀（Ａｇ）、Ａｌ等の層を有していてもよい。
【００２６】
画素電極１３３が形成されると、塗布型の有機材料によりホール注入輸送層１４１（第１の有機層）を形成する（図３Ａ参照）。その際、ホール注入輸送層１４１が画素電極１３３の上面および側面を覆い、かつホール注入輸送層１４１の上面のうち最も低い部分が画素電極１３３の最も高い部分より高くなるようにホール注入輸送層１４１が形成される（図３Ｂ参照）。さらにいえば、ホール注入輸送層１４１の下の凹凸が覆い隠されて平坦にするのに十分な量のホール注入輸送層１４１の材料が塗布される。
【００２７】
ホール注入輸送層１４１が形成されると、発光膜１４３ｒを形成するための塗布型有機材料が全面に塗布される（図３Ｃ参照）。ホール注入輸送層１４１の上面が平坦であるので、塗布された塗布型材料の厚みは場所によらずほぼ一定となる。そして、塗布された塗布型有機材料をフォトリソグラフィでパターニングすることにより、赤の発光膜１４３ｒを形成する（図３Ｄ参照）。そして、緑の発光膜１４３ｇおよび青の発光膜１４３ｂについても赤の発光膜１４３ｒと同様の工程で形成する（図３Ｅ参照）。発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂの上に塗布型の有機材料により電子注入輸送層１４５（第３の有機層）を積層し（図３Ｆ参照）、さらに共通電極１３６を積層すると、図２に示される構成となる。ここで、共通電極１３６の材質は、有機ＥＬ素子の駆動のための仕事関数等を鑑みて決定され、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ）等から選ばれた透明導電材料等により構成されている。図２の構成ができると、上層に樹脂により封止膜が形成され、さらに対向基板１５０と貼りあわせられる。
【００２８】
図２に示されるように、ホール注入輸送層１４１の下にある凹凸はホール注入輸送層１４１により覆い隠され、ホール注入輸送層１４１の上面は平坦になる。これにより、ホール注入輸送層１４１の上に積層される発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂの厚みは均一になり、画素２１０の内部の輝度や色のムラが抑制される。なお、発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂのうち、平面視でコンタクトホール１３２と重なる部分は、コンタクトホール１３２内のホール注入輸送層１４１が厚いために抵抗が大きく、発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂは発光しない。なお、発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂのみをフォトリソグラフィでパターニングしており、ホール注入輸送層１４１や電子注入輸送層１４５はパターニングしていない。これにより、エッチングに用いる溶剤と電子注入輸送層１４５、ホール注入輸送層１４１および発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂとのマッチングに関する条件が緩くなり、特性のよい発光材料等を選択することが容易になる。
【００２９】
図４は、アレイ基板１２０の比較例を示す断面図である。図４では、回路層１２１の上には層間絶縁膜２３１が形成され、層間絶縁膜２３１にはコンタクトホール２３２が形成され、層間絶縁膜２３１の上およびコンタクトホール２３２の内側に画素電極２３３も形成されている。一方、図２の例と異なりコンタクトホール２３２の内部は絶縁バンク２３５の絶縁材料により埋められており、絶縁バンク２３５の開口部２３７の内部に有機ＥＬ素子を構成する有機ＥＬ層２４０ｒ，２４０ｇ，２４０ｂが充てんされている。開口部２３７の底では画素電極２３３が絶縁バンク２３５から露出しており、画素電極２３３はその底で接続電極２３０と接触している。有機ＥＬ層２４０ｒ，２４０ｇ，２４０ｂは図２の例と同様に、ホール輸送注入層、発光層、電子注入輸送層を有する。有機ＥＬ層２４０ｒ，２４０ｇ，２４０ｂの上面は共通電極２３６に接触している。
【００３０】
図４の比較例では、塗布型の有機ＥＬ材料が充てんされる場合には、表面張力などの影響で絶縁バンク２３５の開口部２３７の側壁に近いほど有機ＥＬ層２４０ｒ，２４０ｇ，２４０ｂの上面が高くなる。これからもわかるように、有機ＥＬ層に含まれる発光層の厚みは不均一となる。有機ＥＬ素子の輝度や色調は発光層の厚みに影響を受けるため、発光層の厚みが不均一な場合、輝度や波長が場所により変化してしまう。これにより、例えば塗布型の発光材料を用いる場合には、有機ＥＬ素子を最適な状態で発光させることが難しい。
【００３１】
一方、本実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置では、発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂの厚みは均一であり、輝度や色調の変化は図４の例に比べて抑えられる。また、コンタクトホール１３２のサイズは図４の絶縁バンク２３５の開口部２３７より小さく、またコンタクトホール１３２の上では発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂが発光しない。このため、画素電極１３３と発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂとの距離がコンタクトホール１３２上の領域で変化しても、全体の輝度や色調への影響は図４の例より小さい。
【００３２】
ここで、層間絶縁膜１３１の形状や、発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂなどの形状は図２の例と異なっていてもよい。図５は、変形例として、本発明の実施形態にかかるアレイ基板１２０の他の一例を示す断面図であり、図２に対応する図である。
【００３３】
図５の例では、複数の画素電極１３３のそれぞれは、発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂのうち平面視で重なるものからの光を反射する反射鏡である。また、層間絶縁膜１３１の厚みが赤の画素２１０の領域と、緑の画素２１０の領域と、青の画素２１０の領域とで異なり、ホール注入輸送層１４１の上面の高さは同じである。これにより、各画素２１０において、発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂの直下のホール注入輸送層１４１の厚みは、画素２１０の属する色のグループにより異なる。これにより、赤の画素２１０における画素電極１３３と発光膜１４３ｒとの距離Ｌｒ、緑の画素２１０における画素電極１３３と発光膜１４３ｇとの距離Ｌｇ、青の画素２１０における画素電極１３３と発光膜１４３ｂとの距離Ｌｂが互いに異なっている。これにより、赤の画素２１０における画素電極１３３と発光膜１４３ｒとの光路長Ｄｒ、緑の画素２１０における画素電極１３３と発光膜１４３ｇとの光路長Ｄｇ、青の画素２１０における画素電極１３３と発光膜１４３ｂとの光路長Ｄｂも異なる。さらにいえば、その反射光と直接光との重ねあわせにより最適な発光（マイクロキャビティ効果）が生じるように、発光色の波長に応じて光路長Ｄｒ，Ｄｇ，Ｄｂのそれぞれが調整されている。
【００３４】
図６は、本発明の実施形態にかかるアレイ基板１２０の他の一例を示す断面図であり、図２に対応する図である。本図の例では、図２の例と異なり、発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂのそれぞれは、他の発光膜とは離間していない。代わりに、発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂのそれぞれの側面は、隣の発光膜の側面と接している。これにより、ホール注入輸送層１４１と電子注入輸送層１４５とが直接的に接することを防ぎ、これに伴う電流のリークを防止できる。
【００３５】
図７は、本発明の実施形態にかかるアレイ基板１２０の他の一例を示す断面図であり、図２に対応する図である。本図の例では、発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂのそれぞれの端部は、隣の発光膜の端部と上下に重なっている。図６の例と同様に、発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂのそれぞれは、他の発光膜とは離間しておらず、電流のリークを防止できる。また、図７の例では、発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂのそれぞれの厚みは、その発光膜が属するグループに応じて決まっている。言い換えれば、発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂのうち異なるグループに属するものは、互いに厚みが異なっている。これにより、発光する色に応じて発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂの厚みが最適化される。図２や図５等の例においても発光膜１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂの厚みが互いに異なってもよい。
【００３６】
図８は、本発明の実施形態にかかるアレイ基板１２０の他の一例を示す断面図であり、図２に対応する図である。本図の例では、互いに隣り合う複数の画素電極１３３の端部のうち隣り合う端部の両方を覆う画素間絶縁膜１３４が形成されている。言い換えれば、平面視で画素間絶縁膜１３４の水平方向の端部は、画素電極１３３の端部Ｐ１，Ｐ２を覆っている。また、画素間絶縁膜１３４は、窒化シリコンや酸化シリコンなどの無機絶縁材料からなる。ホール注入輸送層１４１は画素間絶縁膜１３４を覆っており、ホール注入輸送層１４１の平坦な上面は画素間絶縁膜１３４の上端より高い。図８の例では、画素電極１３３の端部Ｐ１，Ｐ２がホール注入輸送層１４１に接触していない。一般的には画素電極１３３の端部Ｐ１，Ｐ２のうち上部にある角には電界が集中しやすいが、図８の構成によりその角に大きな電流が流れることを防ぎ、有機ＥＬ素子の劣化を防ぐことができる。
【符号の説明】
【００３７】
１００  有機ＥＬ表示装置、１２０  アレイ基板、１５０  対向基板、１８１  フレキシブルプリント基板、１８２  駆動集積回路、２０５  表示領域、２１０  画素、１２１  回路層、１３０，２３０  接続電極、１３１，２３１  層間絶縁膜、１３２，２３２  コンタクトホール、１３３，２３３  画素電極、１３４  画素間絶縁膜、１３６，２３６  共通電極、１４１  ホール注入輸送層、１４３ｒ，１４３ｇ，１４３ｂ  発光膜、１４５  電子注入輸送層、２３５  絶縁バンク、２３７  開口部、２４０ｒ，２４０ｇ，２４０ｂ  有機ＥＬ層。
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図３Ｄ】
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【図３Ｅ】
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【図３Ｆ】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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