(57)【要約】【課題】下部クラッドパターンからのブリードアウト成分によるコアパターンを伝搬する光への悪影響を低減し、また、環境信頼性試験による光路変換ミラーの反射不良等を抑制し光損失悪化を低減することのできる光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】  下部クラッドパターン形成用樹脂層をパターン露光し、アルカリ性現像液によって現像して下部クラッドパターンとする工程Ａ、前記下部クラッドパターン上にコアパターン形成用樹脂層を積層し、前記コアパターン形成用樹脂層をパターン露光し、アルカリ性現像液によって現像してコアパターンとする工程Ｂ、を少なくとも有する光導波路の製造方法であって、前記工程Ａにおいて、前記下部クラッドパターンに、２価以上の金属イオンを含浸させる工程Ａ１を有する光導波路の製造方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部クラッドパターン形成用樹脂層をパターン露光し、アルカリ性現像液によって現像して下部クラッドパターンとする工程Ａ、
前記下部クラッドパターン上にコアパターン形成用樹脂層を積層し、前記コアパターン形成用樹脂層をパターン露光し、アルカリ性現像液によって現像してコアパターンとする工程Ｂ、を少なくとも有する光導波路の製造方法であって、
前記工程Ａにおいて、前記下部クラッドパターンに、２価以上の金属イオンを含浸させる工程Ａ１を有する光導波路の製造方法。
【請求項２】
前記工程Ａにおいて、前記工程Ａ１の後に、酸性溶液で前記下部クラッドパターンを洗浄する工程Ａ２を有する請求項１に記載の光導波路の製造方法。
【請求項３】
前記工程Ｂにおいて、前記コアパターンを酸性溶液で洗浄する工程Ｂ１を有する請求項１又は２に記載の光導波路の製造方法。
【請求項４】
前記工程Ｂの後に、前記コアパターンに光路変換ミラーを形成する工程Ｃを有する請求項１〜３のいずれか一項に記載の光導波路の製造方法。
【請求項５】
前記工程Ｃの後に、前記コアパターンの上面及び側面を覆うように上部クラッドパターン形成用樹脂層を積層し、前記上部クラッドパターン形成用樹脂層をパターン露光し、アルカリ性現像液によって現像して上部クラッドパターンとし、現像によって除去された開口部に前記光路変換ミラーを内包する工程Ｄを有する請求項４に記載の光導波路の製造方法。
【請求項６】
前記工程Ｄにおいて、前記上部クラッドパターンに２価以上の金属イオンを含浸させる工程Ｄ１を有する請求項５に記載の光導波路の製造方法。
【請求項７】
前記２価以上の金属イオンが、カルシウムイオン及びマグネシウムイオンの少なくともいずれかである請求項１〜６のいずれか一項に記載の光導波路の製造方法。
【請求項８】
前記酸性溶液が、硫酸及び塩酸の少なくともいずれかである請求項２〜７のいずれか一項に記載の光導波路の製造方法。
【請求項９】
前記下部クラッドパターン形成用樹脂層、前記コアパターン形成用樹脂層、及び前記上部クラッドパターン形成用樹脂層の少なくともいずれかが、カルボキシル基を有する化合物を含む樹脂組成物である請求項１〜８のいずれか一項に記載の光導波路の製造方法。
【請求項１０】
前記下部クラッドパターン形成用樹脂層、前記コアパターン形成用樹脂層、及び前記上部クラッドパターン形成用樹脂層の少なくともいずれかが、（Ａ）カルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー、（Ｂ）重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含む樹脂組成物である請求項１〜９に記載の光導波路の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光導波路の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
情報容量の増大に伴い、幹線やアクセス系といった通信分野のみならず、ルータやサーバ内の情報処理にも光信号を用いる光インターコネクション技術の開発が進められている。特に、ルータやサーバ装置内のボード間あるいはボード内の短距離信号伝送に光を用いるための光伝送路としては、光ファイバに比べ、配線の自由度が高く、かつ高密度化が可能な光導波路を用いることが望ましく、中でも、加工性や経済性に優れたポリマー材料を用いた光導波路が有望である。
【０００３】
光導波路を簡便かつ高精度に形成する方法の１つとして、露光・現像によりパターンを形成する方法が知られている。ここで、露光プロセスは光照射部の感光性樹脂を３次元架橋させて不溶化する工程であり、現像プロセスは未露光部、すなわち未反応部分の感光性樹脂を現像液に溶解させ除去する工程である。
【０００４】
現像液として、アルカリ性現像液を用いて現像する方法が提案されている（例えば、特許文献１及び２参照）。アルカリ現像プロセスが適用可能な光導波路形成用材料は、アルカリ性現像液に可溶とするために、カルボキシル基、フェノール性ヒドロキシル基等の酸性を示す官能基が導入されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平６−２５８５３７号公報
【特許文献２】特開２００３−１９５０７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
アルカリ溶液可溶性樹脂の硬化物からなるコアパターンは、アルカリ溶液によるパターン化が可能であり作業性・安全性確保が容易である。
【０００７】
一方、アルカリ溶液可溶性樹脂の硬化物からなるコアパターンは、露光により不溶化したコアパターンにおいても、酸性官能基がアルカリ性現像液によって中和されて、塩を形成し、化学的に不安定になる傾向があるとともに親水性が高い傾向がある。また、現像しないでコアパターンを形成したとしても、極性の高い官能基であるため、やはり親水性が高い傾向がある。
【０００８】
このような光導波路は、下部クラッド層及び上部クラッド層でコアパターンを保護することによって、光導波路の信頼性（例えば耐湿性）を向上させることができる。しかし、下部クラッド層や上部クラッド層がコアパターンと同様にアルカリ溶液可溶性樹脂の硬化物からなり、下部クラッド層や上部クラッド層がアルカリ性現像液によってパターン化されていると、該下部クラッド層や上部クラッド層も上記と同様に親水性が高い傾向になる。特に下部クラッド層はコアパターンや上部クラッド層の土台となる部位であり、アルカリ性現像液に晒される機会が多いため、より親水性が高くなる傾向にある。
このような光導波路を高温高湿条件下に晒すと、コアパターンの上下のクラッドが吸水し、その影響をコアパターンに生じさせやすくなる。
【０００９】
また、このような光導波路に光路変換ミラーが設けられたミラー付き光導波路を高温高湿条件下に晒すと、下部クラッドパターンの構成成分の一部が染み出し（ブリードアウト）易く、特に傾斜面からなる光路変換ミラーにブリードアウト成分が発生すると傾斜面上に凹凸として残存するため反射不良が発生して特性が悪化する問題があった。
【００１０】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、下部クラッドパターンからのブリードアウト成分によるコアパターンを伝搬する光への悪影響を低減し、また、光路変換ミラーの反射不良等を抑制し光損失悪化を低減することのできる光導波路の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは上記の課題を解決するために鋭意研究した結果、下部クラッドパターンに２価以上の金属イオンを含浸させることによって、吸湿によるコアパターンを伝搬する光への悪影響を低減し、また、下部クラッドパターンからのブリードアウト成分による光路変換ミラーの反射不良等を抑制でき、光導波路の環境信頼性試験による光損失悪化を低減させることができることを見出した。本発明は、かかる知見にもとづいて完成したものである。
すなわち、本発明は、以下のものに関する。
（１）  下部クラッドパターン形成用樹脂層をパターン露光し、アルカリ性現像液によって現像して下部クラッドパターンとする工程Ａ、前記下部クラッドパターン上にコアパターン形成用樹脂層を積層し、前記コアパターン形成用樹脂層をパターン露光し、アルカリ性現像液によって現像してコアパターンとする工程Ｂ、を少なくとも有する光導波路の製造方法であって、前記工程Ａにおいて、前記下部クラッドパターンに２価以上の金属イオンを含浸させる工程Ａ１を有する光導波路の製造方法。
（２）  前記工程Ａにおいて、前記工程Ａ１の後に、酸性溶液で前記下部クラッドパターンを洗浄する工程Ａ２を有する（１）に記載の光導波路の製造方法。
（３）  前記工程Ｂにおいて、前記コアパターンを酸性溶液で洗浄する工程Ｂ１を有する（１）又は（２）に記載の光導波路の製造方法。
（４）  前記工程Ｂの後に、前記コアパターンに光路変換ミラーを形成する工程Ｃを有する（１）〜（３）のいずれか一項に記載の光導波路の製造方法。
（５）  前記工程Ｃの後に、前記コアパターンの上面及び側面を覆うように上部クラッドパターン形成用樹脂層を積層し、前記上部クラッドパターン形成用樹脂層をパターン露光し、アルカリ性現像液によって現像して上部クラッドパターンとし、現像によって除去された開口部に前記光路変換ミラーを内包する工程Ｄを有する（４）に記載の光導波路の製造方法。
（６）  前記工程Ｄにおいて、前記上部クラッドパターンに２価以上の金属イオンを含浸させる工程Ｄ１を有する（５）に記載の光導波路の製造方法。
（７）  前記２価以上の金属イオンが、カルシウムイオン及びマグネシウムイオンの少なくともいずれかである（１）〜（６）のいずれか一項に記載の光導波路の製造方法。
（８）  前記酸性溶液が、硫酸及び塩酸の少なくともいずれかである（２）〜（７）のいずれか一項に記載の光導波路の製造方法。
（９）  前記下部クラッドパターン形成用樹脂層、前記コアパターン形成用樹脂層、及び前記上部クラッドパターン形成用樹脂層の少なくともいずれかが、カルボキシル基を有する化合物を含む樹脂組成物である（１）〜（８）のいずれか一項に記載の光導波路の製造方法。
（１０）  前記下部クラッドパターン形成用樹脂層、前記コアパターン形成用樹脂層、及び前記上部クラッドパターン形成用樹脂層の少なくともいずれかが、（Ａ）カルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー、（Ｂ）重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含む樹脂組成物である（９）に記載の光導波路の製造方法。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の光導波路の製造方法によって得られる光導波路は、アルカリ可溶性の下部クラッドパターン及びコアパターンを有する光導波路であっても、吸湿によるコアパターンを伝搬する光への悪影響を低減することができる。また、コアパターンに光路変換ミラーを形成した場合でも、下部クラッドパターンからのブリードアウト成分による光路変換ミラーの反射不良等を抑制できるため、光導波路の環境信頼性試験による光損失悪化を低減させたミラー付き光導波路を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の光導波路の製造方法の一実施形態で得られる光導波路を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
図１に、本発明の光導波路の製造方法の一実施形態で得られる光導波路を示す。本発明の光導波路の製造方法の一実施形態が適用される光導波路は、アルカリ性現像液によって現像してなる下部クラッドパターン１上に、アルカリ性現像液によって現像してなるコアパターン２を少なくとも有する光導波路であって、図１に示すようにコアパターン２を埋設するように上部クラッド層（又は上部クラッドパターン）が設けられた光導波路や光路変換ミラー４を有するミラー付き光導波路であってもよい。
下部クラッドパターン１とすることで、光導波路を任意の形状に現像プロセスによって加工でき、例えば外部の筐体と嵌合させることや、後述するように、電気配線板上に形成する場合、各種部品（例えば光学素子、放熱体、外部の筐体等）を実装することができる光導波路として用いられる。
以下、本発明の光導波路の製造方法に関して詳細に説明する。
【００１５】
［工程Ａ］
本発明の光導波路の製造方法の一実施形態は、まず、下部クラッドパターン形成用樹脂層をパターン露光し、アルカリ性現像液によって現像して下部クラッドパターン１とする工程Ａを有する。
【００１６】
［工程Ｂ］
次に、工程Ａで形成した下部クラッドパターン１上にコアパターン形成用樹脂層を積層し、コアパターン形成用樹脂層をパターン露光し、アルカリ性現像液によって現像してコアパターン２とする工程Ｂを有する。
【００１７】
本実施の形態の光導波路の製造方法のように、下部クラッドパターン形成用樹脂層、コアパターン形成用樹脂層がアルカリ性現像液に対して可溶性を有する場合、アルカリ性現像液によって現像された下部クラッドパターン１は、下部クラッドパターン１にアルカリ性現像液に含有されるイオンを含む。特に、上記イオンが１価のカチオンであると、該１価のカチオンが下部クラッドパターン１中に含有するアルカリ可溶性の酸性官能基と塩を形成し吸湿しやすくなる。また、特に、コアパターン２もアルカリ性現像液によってパターン化されるコアパターン２の場合、下部クラッドパターン１側からの吸湿による光特性への影響を受けやすい。下部クラッドパターン１を介したコアパターン２の吸湿も起こるため、より光特性への影響を受けやすくなる。
【００１８】
［工程Ａ１］
そこで本実施の形態の光導波路の製造方法では、工程Ａにおいて、工程Ａ１として、下部クラッドパターン１に対して２価以上の金属イオンを含浸させる。これにより、下部クラッドパターン１の耐吸湿性が向上し、それに乗じて下部クラッドパターン１と隣接するコアパターン２の吸湿による光特性の悪化を抑制することができる。特に、工程Ａ１を工程Ｂの前に行うことで、下部クラッドパターン１とコアパターン２の界面近傍の下部クラッドパターン１に２価以上の金属イオンを含浸させることができるため良い。
【００１９】
工程Ａ１は、アルカリ性現像液に２価以上の金属イオンを含有させてもよいが、２価以上の金属イオンを含むアルカリ性現像液を用いると現像残りが発生する懸念があるため、好ましくは１価のカチオンを含むアルカリ性現像液による現像後に、２価以上の金属イオンを含む溶液を用いて下部クラッドパターン１に２価以上の金属イオンを含浸させるのが好ましい。２価以上の金属イオンの含浸方法は特に限定はないが、下部クラッドパターン１の表層、側面にも含浸させられる観点、１価のカチオンと置換させやすい観点から、２価以上の金属イオンを含む溶液に下部クラッドパターン１を浸漬する方法が好適である。
また、工程Ａ１は下部クラッドパターン１を形成した後に、下部クラッドパターン１に対して光硬化や熱硬化を行った後に行ってもよいが、１価のカチオンと効率的な置換の観点からそれらの光硬化や熱硬化の前に行うことが好ましい。
なお、下部クラッド層の現像と工程Ａ１との間には溶剤や水（例えば純水や超純水）を用いた洗浄工程等を設けてもよい。
【００２０】
［工程Ａ２］
本実施の形態では、工程Ａにおいて、工程Ａ１の後に、酸性溶液で下部クラッドパターンを洗浄する工程Ａ２を有する。
【００２１】
工程Ａ１の後に、酸性溶液で洗浄すると、下部クラッドパターン１表層に残存した過剰な２価以上の金属イオンを除去できる。塩を形成した過剰な２価以上の金属イオンも、弱酸の遊離によって除去できる。このように、過剰な２価以上の金属イオンを除去することによって、下部クラッドパターン１上に形成されるコアパターン２への影響を低減でき、光特性を悪化させることを抑制できる。
【００２２】
また、別の効果としては、下部クラッドパターン１とコアパターン２との接着性を向上させることができる。これは下部クラッドパターン１に含有されるアルカリ可溶性の酸性官能基は極性が高く、コアパターン２との化学的接着に寄与する。しかし、下部クラッドパターン１のアルカリ可溶性の酸性官能基と２価以上の金属イオンが塩を形成すると、上記の化学的接着が阻害されコアパターン２を現像する際に、コアパターン２の剥がれ等が生じる恐れがある。このため、酸性溶液による洗浄を行い、下部クラッドパターンの表面近傍のみ２価以上の金属イオンとの塩を解き、元のアルカリ可溶性の酸性官能基とすることによって、コアパターン２との接着性が向上する。
【００２３】
さらに、現像中にコアパターン２に剥がれが生じない場合であっても、後述するようにコアパターン２に対して切削加工等を用いて直接光路変換ミラー４を設ける場合、加工時に生じる力によって光路変換ミラー４近傍の下部クラッドパターン１とコアパターン２との剥離が生じる可能性がある。このような下部クラッドパターン１とコアパターン２との剥離が生じると、光路変換ミラー４での光の損失が悪化する。さらに、加工時にコアパターン２が脱落すると光路変換自体も不可能となる。
また、後述するような上部クラッドパターン形成用樹脂フィルムを加圧積層して上部クラッドパターン形成用樹脂層とする場合、樹脂の流動によって、やはり下部クラッドパターン１とコアパターン２の剥離が生じる可能性がある。このような剥離はコアパターン２の蛇行としてあらわれ、この場合コアパターン２中を良好に光が伝搬できなくなるため光特性が悪化する。
つまり、工程Ａ２を有することによってコアパターン２形成後のコアパターン２に物理的な力が働く工程においてコアパターン２の剥離が抑制される効果が得られる。
なお、物理的な力によるコアパターン２の剥離の抑制効果は、コアパターン２形成後に熱処理（熱硬化でも良い）を行うと、下部クラッドパターン１とコアパターン２との化学的接着（例えば水素結合や共有結合による架橋による接着）がより向上できるため良い。
【００２４】
なお、下部クラッドパターン形成用樹脂層を現像した後に、２価以上の金属イオンを含浸させずに酸性溶液による洗浄を行うと、下部クラッドパターン１に付着したアルカリ性現像液に含まれる１価のカチオンをある程度除去できるが、酸性溶液による該１価のカチオンの除去は下部クラッドパターン１の表層付近で支配的に起こり、下部クラッドパターン１の内部には該１価のカチオンが残存しやすい。このため、下部クラッドパターン１からのブリードアウト等による耐湿性の低下が懸念される。
【００２５】
２価以上の金属イオンは、下部クラッドパターン１中の該１価のカチオンとイオン交換が行われるため、効率的に置換される。その後、工程Ａ２の酸性溶液による洗浄を行うと、２価以上の金属イオンが除去されるが、やはり、下部クラッドパターン１の表層付近で除去が支配的に起こる。そうすると、下部クラッドパターン１の内部には２価以上の金属イオンを含浸させた状態となるため、耐湿性の向上が図れる。なお、このような工程Ａ１の後に工程Ａ２を有するプロセスは、光導波路の製造方法に限らずパターン化されたアルカリ可溶性の樹脂を順次積層する樹脂積層体の製造方法に適用できる。
【００２６】
以上のことから、工程Ａ２は工程Ａ１の後に行われると良い。工程Ａ１と工程Ａ２との間に下部クラッドパターン１を光硬化や熱硬化してもよいが、それらの光硬化や熱硬化の前に工程Ａ２を行うと良い。
なお、工程Ａ１と工程Ａ２との間には溶剤や水（例えば純水や超純水）による洗浄工程等を設けると、不溶性の塩の発生を低減できるため良い。
【００２７】
［工程Ｂ１］
本実施の形態では、工程Ｂにおいて、コアパターン２を酸性溶液で洗浄する工程Ｂ１を有する。
【００２８】
アルカリ性現像液によって現像されてなるコアパターン２は、上述した下部クラッドパターン１と同様に、コアパターン２の表層にアルカリ性現像液に含有されるイオンを含むこととなる。特に、上記イオンが１価のカチオンであると、該１価のカチオンがコアパターン２中に含有するアルカリ可溶性の酸性官能基と塩を形成し、初期の光特性の低下や耐吸湿性の低下を引き起こす可能性がある。そこで、工程Ｂ１として、酸性溶液でコアパターン２を洗浄すると、コアパターン２中の１価のカチオンを減少させることができるため、初期の光特性の低下や耐吸湿性の低下を抑制できる。
【００２９】
また、工程Ｂ１によって、コアパターン２から露出した下部クラッドパターン１に再付着したコアパターン２を現像する際のアルカリ性現像液に含有されるイオンを再度除去する効果がある。この効果によって、下部クラッドパターン１の耐湿性がより向上する。
【００３０】
さらに、工程Ｂ１によって、工程Ａ１による下部クラッドパターン１表層に残存する過剰な２価以上の金属イオンを除去することもできる。これによって、上記で説明したコアパターン２との接着力向上と同様の理由で、下部クラッドパターン１と上部クラッドパターン３（又は上部クラッド層）との化学的接着力を向上させることができる。特に、上記の化学的接着力は、下部クラッドパターン形成用樹脂と上部クラッドパターン形成用樹脂が、ともにアルカリ性現像液可溶性の樹脂であると、より効果が発現する。
【００３１】
［工程Ｃ］
本実施例では、工程Ｂの後に、コアパターン２に光路変換ミラー４を形成する工程Ｃを有するとよい。光路変換ミラー４は、コアパターン２に直接傾斜面を設けることによって形成できる。このとき傾斜面は下部クラッドパターン１まで到達する深さであるとコアパターン２に所定の角度の傾斜面を形成できるため好ましい。
【００３２】
特に、コアパターン２がアルカリ溶液可溶性を有している場合、ブリードアウトした成分（下部クラッドパターン１の成分の一部）との親和性が高いため、ブリードアウト成分が容易に光路変換ミラー４に移動してしまう。上述したように下部クラッドパターン１に２価以上の金属イオンを含浸させておくと、下部クラッドパターン１からのブリードアウト等を抑制できるため、光路変換ミラー４の信頼性が向上できる。
【００３３】
また、工程Ａ２（酸性溶液で前記下部クラッドパターンを洗浄する工程）を行うことによって、下部クラッドパターン１とコアパターン２の密着性を向上させることができるため、工程Ｃのように、コアパターン２に対して直接光路変換ミラー４を形成するような、コアパターン２に剥離が生じやすい加工方法でも、その剥離は抑制される。
【００３４】
［工程Ｄ］
本実施の形態では、工程Ｃの後に、コアパターン２の上面及び側面を覆うように上部クラッドパターン形成用樹脂層を積層し、上部クラッドパターン形成用樹脂層をパターン露光し、アルカリ性現像液によって現像して上部クラッドパターン３とし、現像によって除去された開口部５に光路変換ミラー４を内包する工程Ｄを有すると良い。これにより、光路変換ミラー４を空気反射型の光路変換ミラー４として機能させることができる。
なお、本実施の形態では、光路変換ミラー４を有する光導波路を例示するが、光路変換ミラー４を有さない光導波路や、上部クラッド層をパターン化する必要がない場合には、上部クラッドパターン形成用樹脂層と同様の樹脂層を用いて、パターン化されていない上部クラッド層を形成しても良い。
【００３５】
光路変換ミラー４が、空気反射型の光路変換ミラー４であると、例えば、下部クラッドパターン１からのブリードアウトが光路変換ミラー４に付着した場合、ブリードアウト成分が光路変換ミラー面の凹凸となりやすく、良好な光路変換が行えなくなる。しかし、上述したように、下部クラッドパターン１に２価以上の金属イオンを含浸させ、ブリードアウトを抑制すること、及び工程Ｄによって効率的に信頼性の高い光路変換ミラー４が形成できる。
【００３６】
なお、下部クラッドパターン１に対して上述したように工程Ａ２や工程Ｂ１の酸性溶液による洗浄を行うことにより、コアパターン２と上部クラッドパターン３（又は上部クラッド層）の接着性や下部クラッドパターン１と上部クラッドパターン３（又は上部クラッド層）との接着性を確保することが容易となり、上部クラッドパターン３の現像による各界面の剥離を抑制できる効果が得られる。
【００３７】
［工程Ｄ１］
工程Ｄでは、さらに上部クラッドパターン３に２価以上の金属イオンを含浸させる工程Ｄ１を有すると良い。
【００３８】
工程Ｄ１は、上部クラッドパターン形成用樹脂層の現像後であればよい。上部クラッドパターン形成用樹脂層の現像に用いるアルカリ性現像液に２価以上の金属イオンを含有させてもよいが、２価以上の金属イオンを含むアルカリ性現像液を用いると現像残りが発生しやすいため、好ましくは１価のカチオンを含む現像後に、２価以上の金属イオンを含む溶液を用いて上部クラッドパターンに２価以上の金属イオンを含浸させるのが好ましい。２価以上の金属イオンの含浸方法は特に限定はないが、上部クラッドパターン３の表層、側面にも含浸させられる観点、１価のカチオンと置換させやすい観点から、２価以上の金属イオンを含む溶液に上部クラッドパターン３を浸漬する方法が好適である。
また、工程Ｄ１は、上部クラッドパターン３を形成した後に、上部クラッドパターン３に対して光硬化や熱硬化を行った後に行ってもよいが、１価のカチオンと効率的な置換の観点からそれらの光硬化や熱硬化の前に行うことが好ましい。
なお、上部クラッドパターン形成用樹脂層の現像と工程Ｄ１との間には、水洗工程等を設けても良い。
【００３９】
工程Ｄ１を有することによって、上部クラッドパターン形成用樹脂層の現像によって、光路変換ミラー４や開口部５内に露出した下部クラッドパターン１に再付着した上部クラッドパターン形成用樹脂層現像時のアルカリ性現像液に含有されるカチオンを除去することができ、信頼性の向上が期待できる。
また、開口部５内の壁面にも２価以上の金属イオンを含浸させることができるため、上部クラッドパターン３の側面からのブリードアウト等も抑制できる。さらに、コアパターン２に設けられた光路変換ミラー４に対しても２価以上の金属イオンを含浸させることができるため、光路変換ミラー４からのブリードアウト等も抑制できる。換言すると開口部５内の底面、側面、傾斜面等の全ての面に対して２価以上の金属イオンを含浸させることになるため、信頼性向上に寄与できる。
【００４０】
また、工程Ｄ１を有することによって、コアパターン２の上下に２価以上の金属イオン含有層を設けることができるため、光導波路の上下方向からの耐吸湿性を向上させることができる。
【００４１】
また、工程Ｄ１の後には、開口部５内の底面、側面、傾斜面、上部クラッドパターン３の表層に過剰に付着や含有した２価以上の金属イオンをある程度除去する目的で、洗浄を行っても良い。水洗や酸性溶液による洗浄が好適である。酸性溶液は、工程Ａ２と同様の溶液でも異なる溶液でもよい。
【００４２】
下部クラッドパターン形成用樹脂層、コアパターン形成用樹脂層、上部クラッドパターン形成用樹脂層（以下、各パターン形成用樹脂層と略記）が、感光性の樹脂層からなれば、パターン露光を行い、硬化部と未硬化部を形成したのちに、上述のアルカリ性現像液によって該未硬化部を除去することで各パターンとすることができる。
露光方法は特に限定はないが、フィルム状や板状のガラスマスクを介してパターンを描画するコンタクト露光、プロキシ露光、ステッパー露光等や、レーザー光等を用いて直接描画する直描法等が用いられる。露光に使用する波長は特に限定はなく、紫外光、可視光、赤外光が好適に用いられるが、紫外光であるとよい。
以下、各パターン形成用樹脂層の形成方法について詳細に説明する。
【００４３】
［各パターン形成用樹脂層の形成方法］
下部クラッドパターン形成用樹脂層、コアパターン形成用樹脂層、上部クラッドパターン形成用樹脂層を形成する方法として、特に制限はないが、後述の各パターン形成用樹脂組成物を用いてスピンコート法、ディップコート法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、カーテンコート法、グラビアコート法、スクリーンコート法、インクジェットコート法等により塗布し、各パターン形成用樹脂層とする方法が挙げられる。
【００４４】
各パターンを形成するその他の方法として、各パターン形成用樹脂組成物からなる各パターン形成用樹脂フィルムを用いて、積層法により各パターン形成用樹脂層とする方法が挙げられる。なお、各パターン形成用樹脂フィルムは、後に詳述するように、通常、支持フィルムの上に各パターン形成用樹脂組成物を塗布し、その上に保護フィルムを積層する３層構成のものが好適に用いられる。
生産性に優れた光導波路製造プロセスが提供可能という観点、各パターン形成用樹脂フィルムの表層平滑性を一定に保ちやすいという観点から、上述のような各パターン形成用樹脂フィルムを用いて積層法により製造する方法が好ましい。
各パターン形成用樹脂組成物からなる各パターン形成用樹脂フィルムを用いた積層法としては、保護フィルムを剥離除去した後に、常圧ロールラミネータ、真空ロールラミネータ、常圧平板ラミネータ、真空平板ラミネータ等を用いて各パターン形成用樹脂層を形成する方法が好適に挙げられる。
以下、本発明の光導波路に用いられる各部材について詳細に説明する。
【００４５】
［コアパターン］
本実施の形態のコアパターン２は、アルカリ溶液可溶性樹脂の硬化物からなり、硬化後の屈折率が下部クラッドパターン１や上部クラッドパターン３（又は上部クラッド層）の屈折率よりも高屈折率になるように調整される。伝搬する光に支障のない範囲で透明性を有していると良い。
コアパターン２は、上述のようにアルカリ性現像液によってパターン化されてなるため、露光によって硬化部と未硬化部が形成できる感光性樹脂からなるコアパターン形成用樹脂層から形成されると良い。
コアパターン２の形状は、特に限定はなく、下部クラッドパターン１表面に対して法線方向から見た場合、直線や曲線、分岐、それらの複合形状であればよい。また、断面形状は、フォトリソグラフィー加工によって形成される場合に一般的な形状である矩形であると良い。
コアパターン２の厚さは、コアパターン２に入射する光源やコアパターン２から出力される光を受光する受光素子の大きさによって適宜選択できるが、８〜１００μｍであると良く、２０〜７５μｍであるとより良く、２５〜５０μｍであるとさらに良い。
【００４６】
［光路変換ミラー］
本実施の形態の光路変換ミラー４は、コアパターン２に直接形成された傾斜面からなる。傾斜面と下部クラッドパターン１の上面のなす角は、光路変換させたい角度によって適宜選択できるが、２０°〜７０°又は１１０°〜１６０°であると良く、３５°〜５５°又は１２５°〜１４５°であるとより良く、４０°〜５０°又は１３０°〜１４０°であるとさらに好ましい。
光路変換ミラー４の形成方法は、特に限定はないが、コアパターン２を形成した後に、レーザーアブレーションやダイシングブレードを用いた物理的な切削加工によって形成できる。このとき、下部クラッドパターン１の表層以下まで連通する傾斜面としても良い。連通させることによってコアパターン２に確実に所望する角度の傾斜面が形成できる。
なお、本実施の形態には記載しないが、形成した傾斜面に反射金属層を設け、金属反射型の光路変換ミラー４としても良い。
【００４７】
［下部クラッドパターン］
本実施の形態の下部クラッドパターン１は、下部クラッドパターン形成用樹脂層がアルカリ性現像液によってパターン化された樹脂硬化物で、コアパターン２が形成される土台となる部分である。下部クラッドパターン１は、上述のようにアルカリ性現像液によってパターン化されてなるため、露光によって硬化部と未硬化部が形成できる感光性樹脂からなる下部クラッドパターン形成用樹脂層から形成されると良い。
下部クラッドパターン１は、コアパターン２の下面を保護する部位でもある。コアパターン２の屈折率より低屈折率に調整され、コアパターン２を伝搬する光に支障のない範囲で透明性を有していると良い。
コアパターン２の保護、及び光の伝搬に悪影響を生じさせない観点から、下部クラッドパターンは、５〜２００μｍの厚みであると良く、厚みの制御の観点から１０〜１００μｍであるとより良く、低背化の観点から１０〜５０μｍであるとさらに良い。
【００４８】
［上部クラッドパターン］
本実施の形態の上部クラッドパターン３は、コアパターン２の上面及び側面を覆う部分であって、コアパターン２の上面及び側面を保護する部位である。コアパターン２の屈折率より低屈折率に調整され、コアパターン２を伝搬する光に支障のない範囲で透明性を有していると良い。上部クラッドパターン３は上述のようにアルカリ性現像液によってパターン化されてなるため、露光によって硬化部と未硬化部が形成できる感光性樹脂からなる上部クラッドパターン形成用樹脂層から形成されると良い。
【００４９】
上部クラッドパターン３の厚みは、特に限定はないが、コアパターン２の上面から５〜１００μｍであると良く、厚み制御の観点から１０〜７５μｍであるとより良く、低背化の観点から１０〜５０μｍであるとさらに良い。
【００５０】
上部クラッドパターン形成用樹脂層がパターン化されてできる開口部５は、少なくともコアパターン２に設けられた光路変換ミラー４が内包されていればよい。さらに光路変換ミラー４の傾斜面と接続するコアパターン２の上面、側面、下部クラッドパターン１の面の一部が開口部５に内包されるように形成されるとより良い。
【００５１】
本実施の形態の光導波路の製造方法は、下部クラッドパターン形成用樹脂層がパターン化されるため、製造途中のハンドリング性を向上させる観点から、光導波路を基板上に形成すると良い。基板としては、特に制限はないが、シリコン基板、ガラス基板、ガラスエポキシ樹脂基板、プラスチック基板、金属基板、樹脂層付き基板、金属層付き基板、プラスチックフィルム、樹脂層付きプラスチックフィルム、金属層付きプラスチックフィルム、電気配線板等が挙げられる。
基板は光導波路を形成した後に基板を剥離してもよいが、基板付きの光導波路として用いる場合、剛直な基板を用いると、光導波路に剛直性を付与でき、フレキシブルな基板を用いると、光導波路にフレキシブル性を付与することができる。
下部クラッドパターン１、コアパターン２、及び上部クラッドパターン３を設けない箇所を設けると、基板上の光導波路と同一階層に各種部品（例えば、光学素子、放熱体、外部の筐体）を実装することができる。特に、基板として電気配線板を用い、少なくとも電気配線が露出するように光導波路を形成すると、露出した電気配線を光学素子等の端子として使用することができる。
以下、本実施の形態に用いられる各溶液について詳細に説明する。
【００５２】
［アルカリ性現像液］
本実施の形態において、下部クラッドパターン１、コアパターン２、上部クラッドパターン３とするためのアルカリ性現像液は、特に限定はなく、塩基性の有機溶媒や水溶液、それらの混合溶液が用いられる。アルカリ性水溶液の塩基としては、特に制限はないが、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩（アルカリ金属炭酸水素酸塩）；リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等のアルカリ金属リン酸塩；ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等のアルカリ金属ピロリン酸塩；四ホウ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム等のナトリウム塩；炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム等のアンモニウム塩；水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール、１，３−ジアミノプロパノール−２−モルホリン等の有機塩基などが挙げられる。
１価のカチオンを含むアルカリ性現像液であると、現像時に現像残りが発生しにくいため好ましい。
【００５３】
下部クラッドパターン形成用樹脂、コアパターン形成用樹脂、上部クラッドパターン形成用樹脂を現像する方法としては、特に制限はないが、スプレー法、ディップ法、パドル法、スピン法、ブラッシング法、スクラッピング法等が挙げられる。また、必要に応じてこれらの方法を併用してもよい。
【００５４】
これらアルカリ性水溶液の塩基は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
また、現像に用いるアルカリ性水溶液のｐＨは、９〜１４であることが好ましく、１０〜１３であることがより好ましい。現像に用いるアルカリ性水溶液の温度は、各パターン形成用樹脂層の現像性に合わせて調節される。また、アルカリ性水溶液中には、界面活性剤、消泡剤等を混入させてもよい。
【００５５】
また、アルカリ性現像液は、アルカリ性水溶液と１種類以上の有機溶剤からなるアルカリ性準水系現像液であっても問題はない。アルカリ性準水系現像液のｐＨは、現像が十分にできる範囲でできるだけ小さくすることが好ましく、ｐＨ８〜１３であることが好ましく、ｐＨ９〜１２であることがより好ましい。
【００５６】
前記有機溶剤として、特に制限はないが、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール等のアルコール；アセトン、メチルエチルケトン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等のケトン；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等の多価アルコールアルキルエーテルなどが挙げられる。
【００５７】
これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。また、有機溶剤の濃度は、通常、２〜９０質量％であることが好ましく、アルカリ性準水系現像液の温度は各パターン形成用樹脂層の現像性に合わせて調節される。
また、アルカリ性準水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤等を少量混入させてもよい。
【００５８】
［２価以上の金属イオン］
本実施の形態に用いられる２価以上の金属イオンの種類は、特に限定はなく、マグネシウムイオン、カルシウムイオン、亜鉛イオン、マンガン（ＩＩ）イオン、コバルト（ＩＩ）イオン、鉄（ＩＩ）イオン、銅（ＩＩ）イオン、鉄（ＩＩＩ）イオン、アルミニウムイオン等が挙げられる。
特に、２価以上の金属イオンを含む溶液とすると、下部クラッドパターン１の露出面及び上部クラッドパターン３の露出面に含浸させることが容易である観点、光損失への影響が比較的少ないという観点から、２価の金属イオンであることが好ましく、マグネシウムイオン（Ｍｇ２＋）、カルシウムイオン（Ｃａ２＋）がより好ましい。
これらの金属イオンは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００５９】
２価以上の金属イオンを含む溶液の調製方法としては、特に制限はないが、硫酸マグネシウム、硫酸カルシウム、硫酸亜鉛、硫酸マンガン、硫酸コバルト、硫酸鉄、硫酸銅、硫酸アルミニウム等の金属硫酸塩；塩化マグネシウム、塩化カルシウム、塩化亜鉛、塩化マンガン、塩化コバルト、塩化鉄、塩化銅、塩化アルミニウム等の金属塩化物塩；炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸亜鉛、炭酸マンガン、炭酸コバルト、炭酸鉄、炭酸銅、炭酸アルミニウム等の金属炭酸塩；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化亜鉛、水酸化マンガン、水酸化コバルト、水酸化鉄、水酸化銅、水酸化アルミニウム等の金属水酸化物などを溶媒に溶解させる方法等が挙げられる。
【００６０】
また、２価以上の金属イオンの溶液として、２価以上の金属イオンを元来含む水を用いてもよい。このような水としては、特に制限はないが、例えば、水道水、井戸水等が挙げられる。
【００６１】
溶液に含まれる２価以上の金属イオンの量は、１〜５００００質量ｐｐｍであることが好ましい。１質量ｐｐｍ以上であれば、下部クラッドパターン１の少なくとも表層付近に残存した不安定な１価の塩を、安定な２価以上の塩に効果的に変換することができ、５００００質量ｐｐｍ（５質量％）以下であれば、表層付近に過剰な２価以上の金属イオンが残留することが低減できる。以上の観点から、１０〜１００００質量ｐｐｍであることがより好ましく、３０〜５０００質量ｐｐｍであることがさらに好ましい。
【００６２】
２価以上の金属イオンを含む溶液を、下部クラッドパターン１の露出面及び上部クラッドパターン３の露出面に暴露する方法としては、特に制限はないが、上述したように調整した溶液を、スプレー法、ディップ法、パドル法、スピン法、ブラッシング法、スクラッピング法等で下部クラッドパターン１の露出面及び上部クラッドパターン３の露出面に暴露する方法が挙げられる。また必要に応じてこれらの方法を併用してもよい。
【００６３】
前記酸性溶液の酸としては特に制限はなく、硫酸、塩酸、硝酸、リン酸等の無機酸；ギ酸、酢酸、マロン酸、コハク酸等のカルボン酸；乳酸、サリチル酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸等のヒドロキシ酸などが挙げられ、それらの水溶液であるとよい。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。これらの中でも、酸性度が高い、揮発性が低い、酸化力が小さいという観点から硫酸又は塩酸であることが好ましい。
【００６４】
洗浄に用いる酸性溶液のｐＨは、０を超え５以下であることが好ましい。０を超えるものであれば、酸性度、腐食性が強すぎることがなく、５以下であれば、下部クラッドパターン１内に残存した過剰な２価の塩を、元の酸性官能基に効果的に変換することができる。以上の観点から、酸性溶液のｐＨは０．１〜４であることがより好ましく、０．３〜３であることがさらに好ましい。酸性溶液の温度は、ｐＨに合わせて調節される。また酸性溶液中には、有機溶剤、界面活性剤、消泡剤などを混入させてもよい。
【００６５】
また、下部クラッドパターン１、コアパターン２、上部クラッドパターン３とするためのアルカリ性現像液は、同一の溶液でも異なる溶液でもよい。洗浄のための酸性溶液も同一の溶液でも異なる溶液でもよい。
また、下部クラッドパターン１、上部クラッドパターン３に、２価以上の金属イオンを含む溶液に関しても、同一の溶液でも異なる溶液でもよい。
以下、本実施の形態に用いられる各材料について詳細に説明する。
【００６６】
［アルカリ現像液可溶性の樹脂組成物］
コアパターン形成用樹脂組成物及びクラッドパターン（下部クラッドパターン１、上部クラッドパターン３）形成用樹脂組成物は、所望のパターンを露光後に、アルカリ性現像液を用いて現像する観点から、フェノール性ヒドロキシル基、スルホニル基、カルボキシル基等を有する化合物を含む樹脂組成物であることが好ましい。特にカルボキシル基を有すると、２価以上の金属イオンとの強固な配位が見込めるため好ましい。
【００６７】
その中でも、透明性、耐熱性、保存安定性の観点から、（Ａ）カルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー、（Ｂ）重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含む光導波路形成用樹脂組成物であることが好ましい。
【００６８】
以下、本実施の形態に用いられる、（Ａ）成分のカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーについて説明する。
（Ａ）成分のカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーとして、特に制限はないが、例えば、下記（１）〜（６）で表されるポリマーが挙げられる。
（１）分子中にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物と、それ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物を共重合して得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
（２）分子中にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物と、それ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物の共重合体に、側鎖にエチレン性不飽和基を部分的に導入して得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
（３）分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物と、それ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物の共重合体に、分子中にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させ、生成したヒドロキシル基に多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
（４）エチレン性不飽和基を有する酸無水物と、それ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物の共重合体に、分子中にヒドロキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させて得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
（５）２官能エポキシ樹脂と、ジカルボン酸又は２官能フェノール化合物の重付加体に、多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
（６）２官能オキセタン化合物と、ジカルボン酸又は２官能フェノール化合物の重付加体のヒドロキシル基に、多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
【００６９】
これらの中で、透明性、アルカリ性現像液への溶解性の観点から、上記（１）〜（４）で表されるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーであることが好ましい。なお、これらのポリマーは（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリルポリマーである。ここで、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基又はメタクリロイル基をいい、（メタ）アクリルポリマーとは、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、及びこれらの誘導体を単量体とし、これを重合してなるポリマーをいう。
該（メタ）アクリルポリマーは、上記単量体の単独重合体であってもよいし、また、これらのモノマーの２種以上を重合させた共重合体であってもよい。さらには、本実施の形態の効果を阻害しない範囲で、上記のモノマーと、必要に応じて（メタ）アクリロイル基以外のエチレン性不飽和基を有する上記以外のモノマーとを含む共重合体であってもよい。また、複数の（メタ）アクリルポリマーの混合物であってもよい。
【００７０】
（Ａ）成分のカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーの重量平均分子量は、１，０００〜３，０００，０００であることが好ましい。１，０００以上であれば分子量が大きいため樹脂組成物とした場合の硬化物の強度が十分で、３，０００，０００以下であれば、アルカリ性水溶液からなる現像液に対する溶解性や（Ｂ）重合性化合物との相溶性が良好である。
以上の観点から、（Ａ）成分の重量平均分子量は３，０００〜２，０００，０００とすることがより好ましく、５，０００〜１，０００，０００であることがさらに好ましい。
なお、本実施の形態における重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定し、標準ポリスチレン換算した値である。
【００７１】
（Ａ）成分のカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーは、現像によりパターンを形成する工程において、前記アルカリ性現像液により現像可能となるように酸価を規定することができる。例えば、前記アルカリ性水溶液を用いる場合には、酸価が２０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。
【００７２】
２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であれば現像が容易で、３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であれば耐現像液性が低下することがない。以上の観点から、酸価は３０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、４０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましい。
なお、耐現像液性とは、現像により除去されずにパターンとなる部分が、現像液によって侵されない性質をいう。
【００７３】
また、アルカリ性水溶液と１種以上の有機溶剤からなるアルカリ性準水系現像液を用いる場合には、酸価が１０〜２６０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であれば現像が容易で、２６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であれば耐現像液性が低下することがない。以上の観点から、酸価は２０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、３０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましい。
【００７４】
（Ａ）成分の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して、１０〜８５質量％であることが好ましい。１０質量％以上であれば、光導波路形成用樹脂組成物の硬化物の強度や可撓性が十分で、８５質量％以下であれば、露光時に（Ｂ）成分によって絡め込まれて容易に硬化し、耐現像液性が不足することがない。以上の観点から、（Ａ）成分の配合量は２０〜８０質量％であることがより好ましく、２５〜７５質量％であることがさらに好ましい。
【００７５】
以下、本実施の形態に用いられる（Ｂ）成分の重合性化合物について説明する。
（Ｂ）成分の重合性化合物として、特に制限はなく、例えば、エチレン性不飽和基等の重合性置換基を有する化合物や分子内に２つ以上のエポキシ基を有する化合物などが好適に挙げられる。
【００７６】
具体的には、（メタ）アクリレート、ハロゲン化ビニリデン、ビニルエーテル、ビニルエステル、ビニルピリジン、ビニルアミド、アリール化ビニルなどが挙げられるが、これらのうち透明性の観点から、（メタ）アクリレートやアリール化ビニルであることが好ましい。（メタ）アクリレートとして、単官能のもの、２官能のもの又は３官能以上の多官能のもののいずれも用いることができる。
【００７７】
単官能（メタ）アクリレートとしては、特に制限はなく、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチルヘプチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等の脂肪族（メタ）アクリレート；シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等の脂環式（メタ）アクリレート；フェニル（メタ）アクリレート、ノニルフェニル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェニル（メタ）アクリレート、ｏ−ビフェニル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（ｏ−フェニルフェノキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（１−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（２−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート；２−テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−Ｎ−カルバゾール等の複素環式（メタ）アクリレート；これらのエトキシ化体；これらのプロポキシ化体；これらのエトキシ化プロポキシ化体；これらのカプロラクトン変性体などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、上記脂環式（メタ）アクリレート；上記複素環式（メタ）アクリレート；これらのエトキシ化体；これらのプロポキシ化体；これらのエトキシ化プロポキシ化体；これらのカプロラクトン変性体であることが好ましい。
【００７８】
２官能（メタ）アクリレートとしては、特に制限はなく、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート等の脂肪族（メタ）アクリレート；シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート等の脂環式（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、フルオレン型ジ（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート；イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート等の複素環式（メタ）アクリレート；これらのエトキシ化体；これらのプロポキシ化体；これらのエトキシ化プロポキシ化体；これらのカプロラクトン変性体；ネオペンチルグリコール型エポキシ（メタ）アクリレート等の脂肪族エポキシ（メタ）アクリレート；シクロヘキサンジメタノール型エポキシ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレート等の脂環式エポキシ（メタ）アクリレート；レゾルシノール型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦ型エポキシ（メタ）アクリレート、フルオレン型エポキシ（メタ）アクリレート等の芳香族エポキシ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、上記脂環式（メタ）アクリレート；上記芳香族（メタ）アクリレート；上記複素環式（メタ）アクリレート；これらのエトキシ化体；これらのプロポキシ化体；これらのエトキシ化プロポキシ化体；これらのカプロラクトン変性体；上記脂環式エポキシ（メタ）アクリレート；上記芳香族エポキシ（メタ）アクリレートであることが好ましい。
【００７９】
３官能以上の多官能（メタ）アクリレートとしては、特に制限はなく、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の脂肪族（メタ）アクリレート；イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート等の複素環式（メタ）アクリレート；これらのエトキシ化体；これらのプロポキシ化体；これらのエトキシ化プロポキシ化体；これらのカプロラクトン変性体；フェノールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、クレゾールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート等の芳香族エポキシ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、上記複素環式（メタ）アクリレート；これらのエトキシ化体；これらのプロポキシ化体；これらのエトキシ化プロポキシ化体；これらのカプロラクトン変性体；上記芳香族エポキシ（メタ）アクリレートであることが好ましい。
【００８０】
上述の単官能（メタ）アクリレート、２官能（メタ）アクリレート、３官能以上の多官能（メタ）アクリレートは、それぞれ、単独又は２種類以上組み合わせて使用することができる。また、官能基数の異なる（メタ）アクリレートを組み合わせて用いることもできる。さらにその他の重合性化合物と組み合わせて使用することもできる。
【００８１】
また、前記（メタ）アクリレート以外に好ましい（Ｂ）重合性化合物として、（Ａ）カルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーとの相溶性の観点から、分子内に２つ以上のエポキシ基を有する化合物を含むものも挙げられる。
【００８２】
具体的には、ヒドロキノン型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、カテコール型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂等の２官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、水添２，２´−ビフェノール型エポキシ樹脂、水添４，４´−ビフェノール型エポキシ樹脂等の水添２官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−クレゾール型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂等の３官能以上の多官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；ポリエチレングリコール型エポキシ樹脂、ポリプロピレングリコール型エポキシ樹脂、ネオペンチルグリコール型エポキシ樹脂、１，６−ヘキサンジオール型エポキシ樹脂等の２官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；シクロヘキサンジオール型エポキシ樹脂、シクロヘキサンジメタノール型エポキシ樹脂、トリシクロデカンジメタノール型エポキシ樹脂等の２官能脂環式アルコールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂、ソルビトール型エポキシ樹脂、グリセリン型エポキシ樹脂等の３官能以上の多官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；フタル酸ジグリシジルエステル等の２官能芳香族グリシジルエステル；テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等の２官能脂環式グリシジルエステル；Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルトリフルオロメチルアニリン等の２官能芳香族グリシジルアミン；Ｎ，Ｎ，Ｎ´，Ｎ´−テトラグリシジル−４，４−ジアミノジフェニルメタン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−グリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，ｏ−トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール等の３官能以上の多官能芳香族グリシジルアミン；アリサイクリックジエポキシアセタール、アリサイクリックジエポキシアジペート、アリサイクリックジエポキシカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド等の２官能脂環式エポキシ樹脂；２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加体等の３官能以上の多官能脂環式エポキシ樹脂；トリグリシジルイソシアヌレート等の３官能以上の多官能複素環式エポキシ樹脂；オルガノポリシロキサン型エポキシ樹脂等のケイ素含有２官能又は３官能以上の多官能エポキシ樹脂などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、上記２官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記水添２官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記３官能以上の多官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記２官能脂環式アルコールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記２官能芳香族グリシジルエステル；上記２官能脂環式グリシジルエステル；上記２官能脂環式エポキシ樹脂；上記多官能脂環式エポキシ樹脂；上記多官能複素環式エポキシ樹脂；上記２官能又は多官能ケイ素含有エポキシ樹脂であることが好ましい。
以上の化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができ、さらにその他の重合性化合物と組み合わせて使用することもできる。
【００８３】
（Ｂ）成分の重合性化合物の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して、１５〜９０質量％であることが好ましい。１５質量％以上であれば、（Ａ）成分のカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーを絡みこんで硬化することが容易で、耐現像液性が不足することがなく、９０質量％以下であれば、硬化フィルムのフィルム強度や可撓性が十分である。以上の観点から、（Ｂ）成分の配合量は２０〜８０質量％であることがより好ましく、２５〜７５質量％であることがさらに好ましい。
【００８４】
以下、本実施の形態に用いられる（Ｃ）成分の光重合開始剤について説明する。
（Ｃ）成分の光重合開始剤として、紫外線などの活性光線の照射によって重合を開始させるものであれば特に制限はなく、（Ｂ）成分の重合性化合物としてエチレン性不飽和基を有する化合物を用いる場合、光ラジカル重合開始剤等が挙げられる。
【００８５】
光ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンゾインケタール；１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オン等のα−ヒドロキシケトン；フェニルグリオキシル酸メチル、フェニルグリオキシル酸エチル、オキシフェニル酢酸２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル、オキシフェニル酢酸２−（２−オキソ−２−フェニルアセトキシエトキシ）エチル等のグリオキシエステル；２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリン−４−イルフェニル）−ブタン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イルフェニル）−ブタン−１−オン、１，２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−（４−モルフォリン）−２−イルプロパン−１−オン等のα−アミノケトン；１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ），２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等のオキシムエステル；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等のホスフィンオキシド；２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ´−テトラメチル−４，４´−ジアミノベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ´−テトラエチル−４，４´−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４´−ジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物；２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントラキノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２，３−ジメチルアントラキノン等のキノン化合物；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル；ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物；ベンジルジメチルケタール等のベンジル化合物；９−フェニルアク���ジン、１，７−ビス（９，９´−アクリジニルヘプタン）等のアクリジン化合物：Ｎ−フェニルグリシン、クマリンなどが挙げられる。
また、前記２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体において、２つのトリアリールイミダゾール部位のアリール基の置換基は、同一で対称な化合物を与えてもよく、相違して非対称な化合物を与えてもよい。
以上の光ラジカル重合開始剤は、単独で又は２種類以上組み合わせて用いることができる。さらに、適切な増感剤と組み合わせて用いることもできる。
【００８６】
また、（Ｂ）成分の重合性化合物としてエポキシ樹脂を用いる場合、（Ｃ）成分の光重合開始剤として、光カチオン重合開始剤等が挙げられる。
【００８７】
光カチオン重合開始剤として、ｐ−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート等のアリールジアゾニウム塩；ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等のジアリールヨードニウム塩；トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムペンタフルオロヒドロキシアンチモネート等のトリアリールスルホニウム塩；トリフェニルセレノニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルセレノニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルセレノニウムヘキサフルオロアンチモネート等のトリアリールセレノニウム塩；ジメチルフェナシルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジエチルフェナシルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等のジアルキルフェナシルスルホニウム塩；４−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−ヒドロキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等のジアルキル−４−ヒドロキシ塩；α−ヒドロキシメチルベンゾインスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシイミドスルホネート、α−スルホニロキシケトン、β−スルホニロキシケトン等のスルホン酸エステルなどが挙げられる。
【００８８】
これらの中で、硬化性、透明性、及び耐熱性の観点から、上記トリアリールスルホニウム塩であることが好ましい。これらの熱及び光カチオン重合開始剤は、単独で又は２種類以上組み合わせて用いることができる。さらに適切な増感剤と組み合わせて用いることもできる。
【００８９】
（Ｃ）成分の重合開始剤の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましい。０．１質量部以上であれば、硬化が十分であり、１０質量部以下であれば十分な光透過性が得られる。以上の観点から、（Ｃ）成分の配合量は０．３〜７質量部であることがより好ましく、０．５〜５質量部であることがさらに好ましい。
【００９０】
また、この他に必要に応じて、本実施の形態に用いられる各パターン形成用樹脂組成物中には、酸化防止剤、黄変防止剤、紫外線吸収剤、可視光吸収剤、着色剤、可塑剤、安定剤、充填剤等のいわゆる添加剤を添加してもよい。
【００９１】
以下、本実施の形態に用いられる各パターン形成用樹脂組成物について説明する。
本実施の形態に用いられる各パターン形成用樹脂組成物は、好適な有機溶剤を用いて希釈し、各パターン形成用樹脂ワニスとして使用してもよい。ここで用いる有機溶剤として、該樹脂組成物を溶解しえるものであれば特に制限はなく、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、ｐ−シメン等の芳香族炭化水素；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等の環状エーテル；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等のケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン等のエステル；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等の炭酸エステル；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル等の多価アルコールアルキルエーテル；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の多価アルコールアルキルエーテルアセテート；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミドなどが挙げられる。
これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
また、樹脂ワニス中の固形分濃度は、通常２０〜８０質量％であることが好ましい。
【００９２】
以下、本実施の形態に用いられる各パターン形成用樹脂フィルムについて説明する。
本実施の形態に用いられる各パターン形成用樹脂フィルムは、前記各パターン形成用樹脂組成物からなり、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有する各パターン形成用樹脂ワニスを好適な支持フィルムに塗布し、溶媒（溶剤）を除去することにより容易に製造することができる。また各パターン形成用樹脂組成物を直接支持フィルムに塗布して製造してもよい。
【００９３】
支持フィルムとして、特に制限はないが、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン；ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン、液晶ポリマー等が挙げられる。
【００９４】
これらの中で、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホンであることが好ましい。
【００９５】
さらに、露光用活性光線の透過率向上及びコアパターン２の側壁荒れ低減の観点から、高透明タイプな支持フィルムを用いることがより好ましい。このような高透明タイプな支持フィルムとして、東洋紡株式会社製コスモシャインＡ１５１７、コスモシャインＡ４１００（「コスモシャイン」は登録商標。）が挙げられる。
なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物等により離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
【００９６】
支持フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、３〜２５０μｍであることが好ましい。３μｍ以上であればフィルム強度が十分であり、２５０μｍ以下であれば十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、５〜２００μｍであることがより好ましく、７〜１５０μｍであることがさらに好ましい。
【００９７】
その中でも、コアパターン形成用樹脂フィルムに用いられる支持フィルムの厚みは、５〜５０μｍであることが好ましい。５μｍ以上であれば、支持体としての強度が十分であり、５０μｍ以下であれば、コアパターン２形成時にフォトマスクとコアパターン形成用樹脂組成物層のギャップが大きくならず、パターン形成性が良好である。以上の観点から、コアパターン形成用樹脂フィルムに用いられる支持フィルムの厚みは１０〜４０μｍであることがより好ましく、１５〜３０μｍであることがさらに好ましい。
【００９８】
支持フィルム上にコアパターン形成用樹脂ワニス又はコアパターン形成用樹脂組成物を塗布して製造した感光性樹脂フィルムは、必要に応じて保護フィルムを樹脂層上に貼り付け、支持フィルム、樹脂層及び保護フィルムからなる３層構造としてもよい。
【００９９】
保護フィルムとしては、特に制限はないが、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンなどが好適に挙げられる。
【０１００】
なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物などにより離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。保護フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、１０〜２５０μｍであることが好ましい。１０μｍ以上であればフィルム強度が十分であり、２５０μｍ以下であれば十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、１５〜２００μｍであることがより好ましく、２０〜１５０μｍであることがさらに好ましい。
【０１０１】
本実施の形態に用いられる各パターン形成用樹脂フィルムの樹脂層の厚みについては特に制限はないが、乾燥後の厚みで、通常は５〜５００μｍであることが好ましい。５μｍ以上であれば、厚みが十分であるため樹脂フィルム又は樹脂フィルムの硬化物の強度が十分であり、５００μｍ以下であれば、乾燥が十分に行えるため樹脂フィルム中の残留溶媒量が増えることなく、樹脂フィルムの硬化物を加熱したときに発泡することがない。
【０１０２】
このようにして得られた各パターン形成用樹脂フィルムは、例えばロール状に巻き取ることによって容易に保存することができる。又はロール状のフィルムを好適なサイズに切り出して、シート状にして保存することもできる。
【実施例】
【０１０３】
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されない。
実施例１
＜樹脂フィルムＡの作製＞
［（Ａ）（メタ）アクリルポリマー（ベースポリマー）の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと、及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４６質量部及び乳酸メチル２３質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を６５℃に上昇させ、メチルメタクリレート４７質量部、ブチルアクリレート３３質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１６質量部、メタクリル酸１４質量部、２，２´−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）３質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４６質量部、及び乳酸メチル２３質量部の混合物を３時間かけて滴下後、６５℃で３時間撹拌し、さらに９５℃で１時間撹拌を続けて、（Ａ）（メタ）アクリルポリマーの溶液（固形分４５質量％）を得た。
【０１０４】
［重量平均分子量の測定］
（Ａ）（メタ）アクリルポリマーの重量平均分子量（標準ポリスチレン換算）をＧＰＣ（東ソー株式会社製「ＳＤ−８０２２」、「ＤＰ−８０２０」、及び「ＲＩ−８０２０」）を用いて測定した結果、３．９×１０４であった。なお、カラムは日立化成株式会社製「Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ａ１５０−Ｓ」及び「Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ａ１６０−Ｓ」を使用した。
［酸価の測定］
（Ａ）（メタ）アクリルポリマーの酸価を測定した結果、７９ｍｇＫＯＨ／ｇであった。なお、酸価は（Ａ）（メタ）アクリルポリマー溶液を中和するのに要した０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウム水溶液量から算出した。このとき、指示薬として添加したフェノールフタレインが無色からピンク色に変色した点を中和点とした。
【０１０５】
［樹脂ワニスＡの調合］
（Ａ）カルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーとして、前記（Ａ）（メタ）アクリルポリマー溶液（固形分４５質量％）８４質量部（固形分３８質量部）、（Ｂ）重合性化合物として、ポリエステル骨格を有するウレタン（メタ）アクリレート（新中村化学工業株式会社製「Ｕ−２００ＡＸ」）３３質量部、及びポリプロピレングリコール骨格を有するウレタン（メタ）アクリレート（新中村化学工業株式会社製「ＵＡ−４２００」）１５質量部、熱硬化成分として、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート型三量体をメチルエチルケトンオキシムで保護した多官能ブロックイソシアネート溶液（固形分７５質量％）（住化バイエルウレタン株式会社製「スミジュールＢＬ３１７５」、「スミジュール」は登録商標。）２０質量部（固形分１５質量部）、（Ｃ）光重合開始剤として、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン株式会社製「イルガキュア２９５９」）１質量部、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（ＢＡＳＦジャパン株式会社製「イルガキュア８１９」）１質量部、及び希釈用有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２３質量部を攪拌しながら混合した。孔径２μｍのポリフロンフィルタ（東洋濾紙株式会社製「ＰＦ０２０」）を用いて加圧濾過後、減圧脱泡し、樹脂ワニスＡを得た。
【０１０６】
［樹脂フィルムＡの作製］
上記で得られた樹脂ワニスＡを、支持フィルムであるＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社製「コスモシャインＡ４１００」、厚み５０μｍ）の非処理面上に、塗工機（マルチコーターＴＭ−ＭＣ、株式会社ヒラノテクシード製）を用いて塗布し、１００℃で２０分乾燥後、保護フィルムとして表層離型処理ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製「ピューレックスＡ３１」、厚み２５μｍ、「ピューレックス」は登録商標。）を貼付け、樹脂フィルムＡを得た。
このとき、樹脂ワニスＡより形成される樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であり、乾燥後の膜厚については後述する。
【０１０７】
［屈折率の測定］
保護フィルムを剥離した上記で得られた５０μｍの樹脂フィルムＡをシリコン基板（サイズ：縦６０ｍｍ、横２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍ）上に真空加圧式ラミネータ（株式会社名機製作所製、ＭＶＬＰ−５００）を用い、５００Ｐａ以下に真空引きした後、圧力０．４ＭＰａ、温度５０℃及び加圧時間３０秒の条件で積層した。次いで、紫外線露光機にて紫外線（波長３６５ｎｍ）を２０００ｍＪ／ｃｍ2照射し、支持フィルムを剥離し、さらに１６０℃で１時間加熱し、屈折率測定用のサンプルを作製した。このサンプルの波長８３０ｎｍにおける屈折率を、プリズム結合式屈折率計（メトリコン（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ）社製、商品名：Ｍｏｄｅｌ２０２０）を用いて測定した。硬化後の樹脂層の屈折率は１．４９６であった。
【０１０８】
＜樹脂フィルムＢの作製＞
［樹脂フィルムＢ形成用ベースポリマー；（メタ）アクリルポリマ（Ｐ−１）の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと、及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４２質量部及び乳酸メチル２１質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を６５℃に上昇させ、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド１４．５質量部、ベンジルアクリレート２０質量部、ｏ−フェニルフェノール１．５ＥＯ（エチレンオキサイド）アクリレート３９質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１４質量部、メタクリル酸１２．５質量部、２，２´−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）４質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３７質量部、及び乳酸メチル２１質量部の混合物を３時間かけて滴下後、６５℃で３時間撹拌し、さらに９５℃で１時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマー（Ｐ−１）溶液（固形分４５質量％）を得た。
上記と同様な方法で、Ｐ−１溶液の酸価及び重量平均分子量を測定した結果、それぞれ８０ｍｇＫＯＨ／ｇ、３２，０００であった。
【０１０９】
［樹脂ワニスＢの調合］
（Ａ）カルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーとして、主鎖にマレイミド骨格を含む前記Ｐ−１溶液（固形分４５質量％）６０質量部、（Ｂ）重合性化合物として、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（日立化成株式会社製、商品名：ファンクリルＦＡ−３２４Ａ（「ファンクリル」は登録商標。））１５質量部及びエトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（日立化成株式会社製、商品名：ファンクリルＦＡ−３２１Ａ、「ファンクリル」は登録商標。）１５質量部、フェノールビフェニレン型エポキシ樹脂（日本化薬株式会社製、商品名：ＮＣ−３０００、エポキシ当量２７５ｇ／ｅｑ）１０質量部、（Ｃ）重合開始剤として、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、商品名：イルガキュア２９５９）１質量部、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、商品名：イルガキュア８１９）１質量部を広口のポリ瓶に秤量し、撹拌機を用いて、温度２５℃、回転数４００ｍｉｎ−１の条件で、６時間撹拌して、樹脂ワニスＢを調合した。その後、孔径２μｍのポリフロンフィルタ（東洋濾紙株式会社製、商品名：ＰＦ０２０）及び孔径０．５μｍのメンブレンフィルタ（東洋濾紙株式会社製、商品名：Ｊ０５０Ａ）を用いて、温度２５℃、圧力０．４ＭＰａの条件で加圧濾過した。続いて、真空ポンプ及びベルジャーを用いて減圧度５０ｍｍＨｇの条件で１５分間減圧脱泡し、樹脂ワニスＢを得た。
【０１１０】
［樹脂フィルムＢの作製］
上記樹脂ワニスＢを、ＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社製、商品名：Ａ１５１７、厚み１６μｍ）の非処理面上に塗工機（株式会社ヒラノテクシード製マルチコーター、商品名：ＴＭ−ＭＣ）を用いて塗布し、１００℃で２０分乾燥し、次いで保護フィルムとして離型ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名：ピューレックスＡ３１、厚み２５μｍ）を貼付け、樹脂フィルムＢを得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であり、乾燥後の膜厚については後述する。
【０１１１】
［屈折率の測定］
上記と同様の方法で硬化後の樹脂層の屈折率測定を行ったところ、屈折率は１．５５５であった。
（光導波路の作製）
基板としての厚さ；２５μｍ、縦１００ｍｍ、横１００ｍｍサイズのポリイミド基板（東レ・デュポン株式会社製、商品名；カプトンＥＮ）上の全面に、保護フィルムを剥離した樹脂フィルムＡ（下部クラッドパターン形成用樹脂として使用）を、真空加圧式ラミネータ（商品名：ＭＶＬＰ−５００、株式会社名機製作所製）を用いて、５００Ｐａ以下に真空引きした後、圧力０．７ＭＰａ、温度７０℃、加圧時間３０秒の条件で加熱圧着した。その後、幅４ｍｍ、長さ５０ｍｍの開口部を有するネガ型フォトマスクを介し、紫外線露光機（商品名：ＥＶ−８００、日立ビアメカニクス株式会社製）を用いて、ＰＥＴフィルム越しに紫外線（波長３６５ｎｍ）を０．４Ｊ／ｃｍ２照射した。
その後、ＰＥＴフィルムを剥離し、スプレー法を用いてアルカリ性現像液である１質量％の炭酸カリウム水溶液を用いて現像し、その後、純水で洗浄して下部クラッドパターンとした（工程Ａ）。
次いで２価以上の金属イオンとして１質量％の塩化カルシウム水溶液を、スプレー法を用いて暴露してカルシウムイオンを下部クラッドパターンに含浸させ、その後、純水で洗浄した（工程Ａ１）。
次にスプレー法を用いて１質量％の硫酸水溶液で洗浄し、その後、純水で洗浄し、乾燥させた（工程Ａ２）。
その後、上記露光機を用いて（波長３６５ｎｍ）を４Ｊ／ｃｍ２照射して更なる光硬化を行ったあとに、１７０℃で１時間、加熱硬化して下部クラッドパターンを熱硬化した。
【０１１２】
次に、保護フィルムを剥離した樹脂フィルムＢ（コアパターン形成用樹脂層として使用）を、上記真空加圧式ラミネータを用いて、上記と同じ条件で下部クラッドパターン上に加熱圧着した。その後、幅５０μｍ、長さ５０ｍｍの開口部（１２本）を有するネガ型フォトマスクを介し、上記露光機を用いて（波長３６５ｎｍ）を３Ｊ／ｃｍ２照射し、その後、ＰＥＴフィルムを剥離し、１質量％の炭酸カリウム水溶液を用いて現像し、純水による水洗を行った（工程Ｂ）。次いで１質量％の硫酸水溶液で洗浄し（工程Ｂ１）、次いで純水で洗浄し、乾燥させた。その後、上記露光機を用いて（波長３６５ｎｍ）を４Ｊ／ｃｍ２照射して更なる光硬化を行ったあとに、１７０℃で１時間、加熱硬化して下部クラッドパターン上に、幅５０μｍ、厚さ５０μｍのコアパターンを１２本形成した。現像によるコアパターンの剥がれはなかった。
【０１１３】
得られたコアパターンを４５°の傾斜面を有するダイシングブレードを備えたダイシングソー（ＤＡＣ５５２、株式会社ディスコ製）を用いて切削加工し、４５°の傾斜面を有する光路変換ミラーを形成した（図１中右側のコアパターンを光信号伝送用として使用）（工程Ｃ）。
得られた光路変換ミラーの傾斜面は、下部クラッドパターンの表面に対して４５°であった。ダイシング加工によるコアパターンの剥がれはなかった。
【０１１４】
次に、保護フィルムを剥離した樹脂フィルムＡ（上部クラッドパターン形成用樹脂として使用）を、真空加圧式ラミネータ（商品名：ＭＶＬＰ−５００、株式会社名機製作所製）を用いて、５００Ｐａ以下に真空引きした後、圧力０．７ＭＰａ、温度７０℃、加圧時間３０秒の条件でコアパターンの上に、加熱圧着した。その後、１５０μｍ角の遮光部を有するネガ型フォトマスクを介し、光路変換ミラーが遮光部内に位置するように位置合わせし、上記紫外線露光機（商品名：ＥＶ−８００、日立ビアメカニクス株式会社製）を用いて、ＰＥＴフィルム越しに紫外線（波長３６５ｎｍ）を０．５Ｊ／ｃｍ２照射し、その後、ＰＥＴフィルムを剥離し、スプレー法を用いて１質量％の炭酸カリウム水溶液を用いて現像し、純水による水洗を行い、傾斜面を露出させた開口部を形成した（図１参照、基板は図示しない）（工程Ｄ）。上部クラッドパターンと、コアパターン及び下部クラッドパターンとの剥離は見られなかった。
次いでスプレー法を用いて１質量％の硫酸水溶液で洗浄し、次いで純水で洗浄し、乾燥させた。
次いでスプレー法を用いて１質量％の塩化カルシウム水溶液を暴露してカルシウムイオンを上部クラッドパターン、開口部を構成する各面に含浸させ、その後、純水で洗浄した（工程Ｄ１）。
次に１質量％の硫酸水溶液で洗浄し、その後、純水で洗浄し、乾燥させた。
その後、上記露光機を用いて（波長３６５ｎｍ）を、４Ｊ／ｃｍ２照射して更なる光硬化を行ったあとに、１７０℃で１時間、加熱硬化して上部クラッドパターンを熱硬化した。
【０１１５】
上部クラッドパターンは、コアパターンの上面から１５μｍ上方に表面をもつ厚みであった。光路変換ミラーは開口部内に内包されていた。
【０１１６】
次に矩形のダイシングブレードを備えたダイシングソー（ＤＡＣ５５２、株式会社ディスコ製）を用いて外形加工を行った、光路変換ミラーから外形線上に設けたコアパターン端面までの距離は１０ｍｍであった。
【０１１７】
得られた光導波路の端面からＧＩ５０の光ファイバを用いて８５０ｎｍの光を入射し、光路変換ミラーから光路変換された基板側に、ＧＩ５０の受光用光ファイバを配置して、光損失を測定したところ、０．６ｄＢであった。
【０１１８】
次に、得られた光導波路を温度８５℃、湿度８５％ＲＨ（相対湿度）環境下で２０００時間放置し、その後、再度光損失を測定したところ、光損失は０．６ｄＢと変化はなかった。傾斜面の外観を確認したところ、不具合（ブリードアウト等）はなかった。端面の外観を確認したところ、不具合（ブリードアウト等）はなかった。
【０１１９】
次に、上記と同様の方法で作製した別のミラー付き光導波路（初期値０．５ｄＢ）を温度６５℃、湿度９５％ＲＨ環境下で２０００時間放置し、その後、再度光損失を測定したところ、光損失は０．６ｄＢとほとんど変化はなかった。傾斜面の外観を確認したところ、不具合（ブリードアウト等）はなかった。端面の外観を確認したところ、不具合（ブリードアウト等）はなかった。
【０１２０】
実施例２
実施例１において、さらに光路変換ミラーを上記のダイシングソーを用いて切り落とし、光路変換ミラーのない光導波路とした以外は同様の方法で光導波路を作製した。
一方の端面からＧＩ５０の光ファイバを用いて８５０ｎｍの光を入射し、もう一方の端面にＧＩ５０の受光用光ファイバを配置して、光損失を測定したところ、０．２〜０．３ｄＢであった。
実施例１と同様に温度８５℃、湿度８５％ＲＨ環境下、６５℃、湿度９５％ＲＨ環境下でそれぞれ２０００時間放置後の光損失変動は０．０〜０．１ｄＢとほとんど変化はなかった。端面の外観を確認したところ、不具合（ブリードアウト等）はなかった。
【０１２１】
実施例３
実施例１において下部クラッドパターン及び上部クラッドパターンに用いた塩化カルシウムを塩化マグネシウムにした以外は同様の方法でミラー付き光導波路を作製した。
得られたミラー付き光導波路の初期の光特性は０．５〜０．７ｄＢであり、温度８５℃、湿度８５％ＲＨ環境下、６５℃、湿度９５％ＲＨ環境下でそれぞれ２０００時間放置後の光損失変動は０．０〜０．１ｄＢとほとんど変化はなかった。傾斜面の外観を確認したところ、不具合（ブリードアウト等）はなかった。端面の外観を確認したところ、不具合（ブリードアウト等）はなかった。
【０１２２】
実施例４
実施例３において、さらに光路変換ミラーを上記のダイシングソーを用いて切り落とし、光路変換ミラーのない光導波路とした以外は同様の方法で光導波路を作製した。
一方の端面からＧＩ５０の光ファイバを用いて８５０ｎｍの光を入射し、もう一方の端面にＧＩ５０の受光用光ファイバを配置して、光損失を測定したところ、０．２〜０．３ｄＢであった。
実施例１と同様に温度８５℃、湿度８５％ＲＨ環境下、６５℃、湿度９５％ＲＨ環境下でそれぞれ２０００時間放置後の光損失変動は０．０〜０．１ｄＢとほとんど変化はなかった。端面の外観を確認したところ、不具合（ブリードアウト等）はなかった。
【０１２３】
実施例５
実施例１において下部クラッドパターン及び上部クラッドパターンに用いた硫酸を塩酸にした以外は同様の方法でミラー付き光導波路を作製した。
得られたミラー付き光導波路の初期の光特性は０．５〜０．６ｄＢであり、温度８５℃、湿度８５％ＲＨ環境下、６５℃、湿度９５％ＲＨ環境下でそれぞれ２０００時間放置後の光損失変動は０．０〜０．１ｄＢとほとんど変化はなかった。傾斜面の外観を確認したところ、不具合（ブリードアウト等）はなかった。端面の外観を確認したところ、不具合（ブリードアウト等）はなかった。
【０１２４】
比較例１
実施例１において、下部クラッドパターンの塩化カルシウムによる２価の金属イオンの含浸を行わなかった以外は同様の方法で光導波路を作製した。
得られたミラー付き光導波路の初期の光特性は０．５〜０．７ｄＢであった。
初期特性０．５ｄＢのミラー付き光導波路を温度８５℃、湿度８５％ＲＨ環境下で２０００時間放置したところ、光特性は１．０ｄＢと悪化した。傾斜面を外観確認したところ、ブリードアウトが発生していた。端面の外観を確認したところ、下部クラッドパターンからブリードアウトが発生し、コアパターンの端面にかかっていた。
初期特性０．７ｄＢの他のミラー付き光導波路を６５℃、湿度９５％ＲＨ環境下で２０００時間放置したところ、光特性は１．１ｄＢと悪化した。傾斜面を外観確認したところ、ブリードアウトが発生していた。端面の外観を確認したところ、下部クラッドパターンからブリードアウトが発生し、コアパターンの端面にかかっていた。
【０１２５】
参考例１
実施例１において、下部クラッドパターンの硫酸による洗浄を行わなかった以外は同様の方法で、光導波路を作製したところ、コアパターンの現像において、１２本中１本のコアパターンに剥がれが発生していた。実施例１と同様に光路変換ミラーを設けたところ、１本のコアパターンが剥離していた。
実施例１と同様に温度８５℃、湿度８５％ＲＨ環境下、６５℃、湿度９５％ＲＨ環境下でそれぞれ２０００時間放置後の光損失変動は０．０〜０．１ｄＢとほとんど変化はなかった。傾斜面の外観を確認したところ、不具合（ブリードアウト等）はなかった。端面の外観を確認したところ、不具合（ブリードアウト等）はなかった。
実施例1〜５、比較例１及び参考例１の測定結果をまとめて表１に示した。
【０１２６】
【表１】
2017151295.tif 000003
【０１２７】
本発明の光導波路の製造方法によらない比較例１では、環境信頼性試験による光損失が悪化し、ブリードアウトが発生する。これに対し、本発明の光導波路の製造方法では、ブリードアウトが発生せず、環境信頼性試験による光損失が悪化しない。
【産業上の利用可能性】
【０１２８】
本発明のミラー付き光導波路によって得られるミラー付き光導波路は、各種の環境信頼性試験による光損失悪化が低減されたもので、光モジュール、光インターコネクション、光学部材、光路の一部に光導波路を用いた光伝送ケーブルなどの幅広い分野に適用可能である。
【符号の説明】
【０１２９】
１．下部クラッドパターン
２．コアパターン
３．上部クラッドパターン
４．傾斜面（光路変換ミラー）
５．開口部
【図１】
2017151295.tif 000004