(57)【要約】【課題】高さが１０μｍ以上であって幅が数μｍ程度の凸型微細構造体を有するパターンロールを容易に製造することができる原版の製造方法を提供する。【解決手段】基材７の表面に金属膜９を設け、金属膜９の表面にフォトレジスト層１７を設け、フォトレジスト層１７を露光し現像し、金属膜９を下地にして凸型微細構造体１１を形成し、現像した後に除去されずに残っているフォトレジストを除去する原版１の製造方法である。【選択図】図１
2017140726.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、
前記基材の表面に設けられた金属膜と、
前記金属膜の表面に設けられた凸型微細構造体と、
を有することを特徴とする原版。
【請求項２】
請求項１に記載の原版において、
前記基材は、円柱状もしくは円筒状に形成されており、
前記金属膜と前記凸型微細構造体とは、前記基材の外周の全周にわたって設けられていることを特徴とする原版。
【請求項３】
基材の表面に金属膜を設ける金属膜形成工程と、
前記金属膜形成工程で設けられた前記金属膜の表面にフォトレジスト層を設けるフォトレジスト層塗工工程と、
前記フォトレジスト層塗工工程で設けられた前記フォトレジスト層を露光するフォトレジスト層露光工程と、
前記フォトレジスト層露光工程後に、前記フォトレジスト層を現像するフォトレジスト層現像工程と、
前記フォトレジスト層現像工程の後に、前記金属膜形成工程で設けられた前記金属膜を下地にして凸型微細構造体を形成する凸型微細構造体形成工程と、
前記凸型微細構造体形成工程によって前記凸型微細構造体を形成した後に、前記フォトレジスト層現像工程で除去されずに残っているフォトレジストを除去する残レジスト除去工程と、
を有することを特徴とする原版の製造方法。
【請求項４】
請求項３に記載の原版の製造方法において、
前記基材は、円柱状もしくは円筒状に形成されており、
前記金属膜形成工程は、前記金属膜を前記基材の外周の全周にわたって設ける工程であり、
前記凸型微細構造体形成工程は、前記凸型微細構造体を前記基材の外周の全周にわたって設ける工程であることを特徴とする原版の製造方法。
【請求項５】
請求項３または請求項４に記載の原版の製造方法において、
前記凸型微細構造体形成工程で設けられる前記凸型微細構造体の高さ寸法は、前記フォトレジスト層現像工程で除去されずに残っている前記フォトレジストの高さ寸法と等しいことを特徴とする原版の製造方法。
【請求項６】
フィルム原反を設置するフィルム原反設置部と、
前記フィルム原反設置部に設置された前記フィルム原反から繰り出されたフィルムを巻き取る巻き取りロールが設置される巻き取りロール設置部と、
インクが塗布されるアニロックスロールと、
前記アニロックスロールに塗布されている前記インクが凸型微細構造体に移される請求項２に記載の原版と、
前記フィルム原反設置部に設置されている前記フィルム原反と前記取り巻き取りロール設置部に設置されている前記巻き取りロールとの間で延伸しているフィルムが巻き掛けられるフィルム巻き掛けロールと、
を有し、前記フィルム巻き掛けロールに巻き掛けられている前記フィルムに、前記原版の前記凸型微細構造体に移された前記インクを印刷するように構成されていることを特徴とする印刷装置。
【請求項７】
アニロックスロールにインクを塗布するインク塗布工程と、
前記インク塗布工程で前記アニロックスロールに塗布された前記インクを請求項２に記載の原版に移すインク移し工程と、
前記インク移し工程で前記原版に移された前記インクをフィルムに印刷する印刷工程と、
を有することを特徴とする印刷方法。
【請求項８】
導電性を備えた基材の表面にフォトレジスト層を設けるフォトレジスト層塗工工程と、
前記フォトレジスト層塗工工程で設けられた前記フォトレジスト層を露光するフォトレジスト層露光工程と、
前記フォトレジスト層露光工程後に、前記フォトレジスト層を現像するフォトレジスト層現像工程と、
前記フォトレジスト層現像工程の後に、前記基材を下地にして凸型微細構造体を形成する凸型微細構造体形成工程と、
前記凸型微細構造体形成工程によって前記凸型微細構造体を形成した後に、前記フォトレジスト層現像工程で除去されずに残っているフォトレジストを除去する残レジスト除去工程と、
を有することを特徴とする原版の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、原版、原版の製造方法、印刷装置および印刷方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、図１１で示すようなフレキソ印刷装置３０１が知られている（たとえば、特許文献１参照）。
【０００３】
フレキソ印刷装置３０１では、アニロックスロール３０３に塗布された導電性インク３０５をパターンロール（ロール原版）３０７に移し、バックアップロール３０９に巻き掛けられている樹脂フィルム３１１に、パターンロール３０７のパターンに移された導電性インク３０５を転写している。
【０００４】
パターンロール３０７の凸型微細構造体３１７は、パターンロール３０７となる素材の表面に、切削加工や研削加工等の機械加工を施すことで形成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−０５９４９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
フレキソ印刷装置３０１（フレキソ印刷技術）によって、図２や図３に示す物品３５１，３５３を製造することが考えられる。これらの物品３５１，３５３は、有機ＥＬディスプレイを含むプリンテッドエレクトニクス（製造プロセスに印刷技術を利用した電子デバイス）としての使用が期待されている。
【０００７】
図２で示すものでは、パターンロール３０７と導電性インク３０５を用いて印刷をすることで生成された電極パターン３１３が、ドット・アンド・スペースの形態で樹脂フィルム３１１上に存在している。
【０００８】
また、図３で示すものでは、パターンロール３０７と導電性インク３０５を用いて印刷をすることで生成された電極パターン３１５が、ライン・アンド・スペースの形態で樹脂フィルム３１１上に存在している。
【０００９】
なお、図２で示すものを生成するパターンロール３０７の凸型微細構造体３１７の形態と、図３で示すものを生成するパターンロール３０７の凸型微細構造体３１７の形態とは、お互いが異なっている。
【００１０】
ところで、図２や図３で示すものをプリンテッドエレクトニクスとして使用する場合には、パターンロール３０７の凸型微細構造体３１７の高さが、１０μｍ以上になっていることが必要であるだけでなく、パターンロール３０７の凸型微細構造体３１７の幅を数μｍ程度の細い寸法にして、印刷を精度良く行う必要がある。
【００１１】
しかし、機械加工では、高さが１０μｍ以上であって、幅が数μｍの凸型微細構造体３１７を形成することは、困難であるという問題がある。
【００１２】
すなわち、高さが１０μｍ以上であって、幅が数μｍの程度の凸型微細構造体３１７を機械加工で形成する場合、パターンロール３０７の素材の表面に形成される凸型微細構造体３１７の精度は、機械加工を行う工作機械の静的精度や動作精度、バイト等の刃物の形状精度に大きく依存する。しかしながら、工作機械の精度やバイト等の刃物の形状精度を１０μｍ以下に管理することは、相当に難しいのである。
【００１３】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、高さが１０μｍ以上であって、幅が数μｍ程度の凸型微細構造体を有するパターンロール（原版）を容易に製造することができる原版の製造方法、原版、原版を用いた印刷装置および原版を用いた印刷方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
請求項１に記載の発明は、基材と、前記基材の表面に設けられた金属膜と、前記金属膜の表面に設けられた凸型微細構造体とを有する原版である。
【００１５】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の原版において、前記基材は、円柱状もしくは円筒状に形成されており、前記金属膜と前記凸型微細構造体とは、前記基材の外周の全周にわたって設けられている原版である。
【００１６】
請求項３に記載の発明は、基材の表面に金属膜を設ける金属膜形成工程と、前記金属膜形成工程で設けられた前記金属膜の表面にフォトレジスト層を設けるフォトレジスト層塗工工程と、前記フォトレジスト層塗工工程で設けられた前記フォトレジスト層を露光するフォトレジスト層露光工程と、前記フォトレジスト層露光工程後に、前記フォトレジスト層を現像するフォトレジスト層現像工程と、前記フォトレジスト層現像工程の後に、前記金属膜形成工程で設けられた前記金属膜を下地にして凸型微細構造体を形成する凸型微細構造体形成工程と、前記凸型微細構造体形成工程によって前記凸型微細構造体を形成した後に、前記フォトレジスト層現像工程で除去されずに残っているフォトレジストを除去する残レジスト除去工程とを有する原版の製造方法である。
【００１７】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の原版の製造方法において、前記基材は、円柱状もしくは円筒状に形成されており、前記金属膜形成工程は、前記金属膜を前記基材の外周の全周にわたって設ける工程であり、前記凸型微細構造体形成工程は、前記凸型微細構造体を前記基材の外周の全周にわたって設ける工程である原版の製造方法である。
【００１８】
請求項５に記載の発明は、請求項３または請求項４に記載の原版の製造方法において、前記凸型微細構造体形成工程で設けられる前記凸型微細構造体の高さ寸法は、前記フォトレジスト層現像工程で除去されずに残っている前記フォトレジストの高さ寸法と等しい原版の製造方法である。
【００１９】
請求項６に記載の発明は、フィルム原反を設置するフィルム原反設置部と、前記フィルム原反設置部に設置された前記フィルム原反から繰り出されたフィルムを巻き取る巻き取りロールが設置される巻き取りロール設置部と、インクが塗布されるアニロックスロールと、前記アニロックスロールに塗布されている前記インクが凸型微細構造体に移される請求項２に記載の原版と、前記フィルム原反設置部に設置されている前記フィルム原反と前記取り巻き取りロール設置部に設置されている前記巻き取りロールとの間で延伸しているフィルムが巻き掛けられるフィルム巻き掛けロールとを有し、前記フィルム巻き掛けロールに巻き掛けられている前記フィルムに、前記原版の前記凸型微細構造体に移された前記インクを印刷するように構成されている印刷装置である。
【００２０】
請求項７に記載の発明は、アニロックスロールにインクを塗布するインク塗布工程と、前記インク塗布工程で前記アニロックスロールに塗布された前記インクを請求項２に記載の原版に移すインク移し工程と、前記インク移し工程で前記原版に移された前記インクをフィルムに印刷する印刷工程とを有する印刷方法である。
【００２１】
請求項８に記載の発明は、導電性を備えた基材の表面にフォトレジスト層を設けるフォトレジスト層塗工工程と、前記フォトレジスト層塗工工程で設けられた前記フォトレジスト層を露光するフォトレジスト層露光工程と、前記フォトレジスト層露光工程後に、前記フォトレジスト層を現像するフォトレジスト層現像工程と、前記フォトレジスト層現像工程の後に、前記基材を下地にして凸型微細構造体を形成する凸型微細構造体形成工程と、前記凸型微細構造体形成工程によって前記凸型微細構造体を形成した後に、前記フォトレジスト層現像工程で除去されずに残っているフォトレジストを除去する残レジスト除去工程とを有する原版の製造方法である。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、高さが１０μｍ以上であって、幅が数μｍ程度の凸型微細構造体を有するパターンロール（原版）を容易に製造することができる原版の製造方法、原版、原版を用いた印刷装置および原版を用いた印刷方法を提供することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の実施形態に係る印刷装置の要部を示す模式図である。
【図２】本発明の実施形態に係る印刷装置（印刷方法）で生成された物品の例を示す図である。
【図３】本発明の実施形態に係る印刷装置（印刷方法）で生成された物品の他の例を示す図である。
【図４】本発明の実施形態に係る原版の製造方法を示す図であり、（ａ）は斜視図であり、（ｂ）は断面（原版の中心軸の延伸方向に対して直交する平面による断面）の一部を示す図である。
【図５】本発明の実施形態に係る原版の製造方法を示す図であり、（ａ）は斜視図であり、（ｂ）は断面（原版の中心軸の延伸方向に対して直交する平面による断面）の一部を示す図である。
【図６】本発明の実施形態に係る原版の製造方法を示す図であり、（ａ）は斜視図であり、（ｂ）は断面（原版の中心軸の延伸方向に対して直交する平面による断面）の一部を示す図である。
【図７】本発明の実施形態に係る原版の製造方法を示す図であり、（ａ）は斜視図であり、（ｂ）は断面（原版の中心軸の延伸方向に対して直交する平面による断面）の一部を示す図である。
【図８】本発明の実施形態に係る原版の製造方法を示す図であり、（ａ）は斜視図であり、（ｂ）は断面（原版の中心軸の延伸方向に対して直交する平面による断面）の一部を示す図である。
【図９】本発明の実施形態に係る原版の製造方法を示す図であり、（ａ）は斜視図であり、（ｂ）は断面（原版の中心軸の延伸方向に対して直交する平面による断面）の一部を示す図である。
【図１０】原版の凸型微細構造体の拡大図である。
【図１１】従来のフレキソ印刷装置を示す図である。
【図１２】従来のフレキソ印刷装置を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
本発明の実施形態に係る原版１、印刷装置３、印刷方法を用いて製造される物品（製品もしくは半製品）は、図２や図３で示す従来の物品３５１，３５３と同様に構成されている。
【００２５】
原版（印刷用の原版；パターンロール）１は、図１に示すように、基材７と、金属膜（金属の薄膜）９と、凸型微細構造体１１とを備えて構成されている。金属膜９は、基材７の表面で基材７に一体的に設けられている。
【００２６】
凸型微細構造体１１は、たとえば、電鋳によって、金属膜９の表面で金属膜９に一体的に設けられている。凸型微細構造体１１は、金属膜９の表面からごく僅かな高さで突出している。
【００２７】
また、基材７は、たとえば、円柱状もしくは円筒状に形成されており、金属膜９と凸型微細構造体１１とは、基材７の円柱側面状の外周の全周にわたって設けられている（連続して極薄肉の円筒状になって設けられている）。なお、凸型微細構造体１１は、基板７（金属膜９）の外周の全周にわたってシームレスで設けてもよい。
【００２８】
すなわち、金属膜９は、基材７の円柱側面状の外周面をこの全周にかけて覆っており、凸型微細構造体１１は、金属膜９の円柱側面状の外周面をこの全周にかけて覆っている。ただし、凸型微細構造体１１の底１５には、凸型微細構造体１１の肉部が存在せず、金属膜９が露出している。
【００２９】
金属膜９の厚さはほぼ一定になっている。凸型微細構造体１１は、たとえば、図１０で示すように、格子状に形成されている。格子を構成している一方の壁部１１Ａは、一定の間隔をあけて基材７（金属膜９）の周方向に延びており、格子を構成している他方の壁部１１Ｂは、一定の間隔をあけて基材７（金属膜９）の軸方向（一方の壁部１１Ａに対して直交等の交差する方向）に延びている。格子を構成している壁部１１Ａ，１１Ｂの高さ寸法Ｈは、格子を構成している壁部１１Ａ，１１Ｂの幅寸法Ｗに比べて大きくなっている。
【００３０】
たとえば、図１０で示すように、壁部１１Ａ，１１Ｂの幅寸法Ｗは、たとえば、４μｍになっており、壁部１１Ａ，１１Ｂの高さ寸法Ｈは、１０μｍ以上（一例として１８μｍ以上）になっている。また、凸型微細構造体１１の格子の先端１３は平面状になっている。
【００３１】
なお、格子を構成している一方の壁部１１Ａが、一定の間隔をあけて基材７（金属膜９）の周方向に対して斜めに方向に延びており、格子を構成している他方の壁部１１Ｂが、一定の間隔をあけて基材７（金属膜９）の軸方向に対して斜めに方向（一方の壁部１１Ａに対して直交等の交差する方向）に延びていてもよい。
【００３２】
ここで、原版１の製造方法について説明する。
【００３３】
まず、基材７の表面に金属膜９を、たとえば、メッキや蒸着によって設ける（図４参照；金属膜形成工程；成膜工程）。金属膜９は、電鋳の下地となる銅等の金属で構成されている。
【００３４】
続いて、金属膜形成工程で設けられた金属膜９の表面に、フォトレジスト供給部１９からフォトレジストを供給し、フォトレジスト層（フォトレジストの薄膜）１７を基材７に塗工して設ける（図５参照；フォトレジスト層塗工工程）。
【００３５】
続いて、フォトレジスト層塗工工程で設けられたフォトレジスト層１７を、露光装置２１を用い、所定の微細なパターン形状で露光する（図６；フォトレジスト層露光工程）。
【００３６】
露光装置２１は、たとえば、所定の波長のスポット状の光線をフォトレジスト層１７に向けて照射するようになっているとともに、基材７の中心軸Ｃ１の延伸方向（Ｘ方向）で基材７に対して移動位置決め自在になっている。また、基材７はこの中心軸Ｃ１を回転中心にして回転位置決め自在になっている。
【００３７】
そして、露光装置２１を移動位置決めするとともに基材７を回転位置決めすることで、フォトレジスト層１７が所定の微細なパターン形状で露光されるようになっている。なお、図６（ｂ）に示す部位１７Ａは露光済み部位であり、図６（ｂ）に示す部位１７Ｂは非露光部位である。
【００３８】
続いて、フォトレジスト層露光工程後に、フォトレジスト層塗工工程で設けられたフォトレジスト層１７を、現像槽２４内で現像する（図７参照；フォトレジスト層現像工程）。
【００３９】
フォトレジスト層現像工程では、たとえば、露光されたフォトレジスト層の部位１７Ａが除去される（図７（ｂ）参照）。現像後に残ったフォトレジスト層の部位１７Ｂは、凸型微細構造体１１とは逆パターン（反転パターン）の凸型微細構造体（逆パターンフォトレジスト凸型微細構造体）２３を形成している。逆パターンフォトレジスト凸型微細構造体２３の底（フォトレジストが除去された部位）では、金属膜形成工程で設けられた金属膜９が露出している。
【００４０】
なお、フォトレジスト層現像工程で、露光されたフォトレジスト層の部位１７Ａに代えて露光されていないフォトレジスト層の部位１７Ｂを除去するようにしてもよい。
【００４１】
フォトレジスト層現像工程の後に、たとえば、電鋳により、金属膜形成工程で設けられた金属膜９を下地にして、電鋳槽２６内で凸型微細構造体１１を形成する（図８参照；凸型微細構造体形成工程；電鋳工程）。
【００４２】
凸型微細構造体形成工程によって凸型微細構造体１１を形成した後に、フォトレジスト層現像工程で除去されずに残っているフォトレジスト層の部位１７Ｂを除去（剥離）する（図９参照；残レジスト除去工程）。
【００４３】
なお、すでに理解されるように、金属膜形成工程では、金属膜９を基材７の円柱側面状の外周の全周にわたって設けるようになっている。また、凸型微細構造体形成工程では、凸型微細構造体１１を基材７の円柱側面状の外周の全周にわたって設けるようになっている。
【００４４】
さらに、フォトレジスト層塗工工程、フォトレジスト層露光工程、フォトレジスト層現像工程でも、基材７の円柱側面状の外周の全周にわたってフォトレジスト層１７を設け、このフォトレジスト層１７を露光し、現像している。
【００４５】
また、残レジスト除去工程でも、基材７の円柱側面状の外周の全周にわたって残っていた総てのフォトレジスト層の部位１７Ｂを除去している。
【００４６】
凸型微細構造体形成工程で形成された凸型微細構造体１１の高さ寸法Ｈは、フォトレジスト層現像工程で除去されずに残っているフォトレジスト（逆パターンフォトレジスト凸型微細構造体）１７Ｂの高さ寸法と等しくなっている（図８（ｂ）参照）。
【００４７】
原版１によれば、金属膜９を下地にして凸型微細構造体１１を形成するので、基材７の材質にかかわらず、凸型微細構造体１１を容易に形成することができる。
【００４８】
また、原版１によれば、金属膜９と凸型微細構造体１１とが基材７の外周の全周にわたって設けられているので、エンドレスで印刷を行うことができる。
【００４９】
すなわち、特許文献１に記載の印刷機３２１では、図１２で示すように、版胴３２３にゴムや樹脂等のフレキシブルな材料で構成された版３２５を巻き付けている。印刷機３２１では、版３２５が版胴３２３の周方向で一部にしか設けられていないので、印刷面積を大きくすることができない。
【００５０】
これに対して、原版（パターンロール）１では、この外周の全周にわたって凸型微細構造体１１が設けられているので、エンドレスで連続して印刷を行うことができ、印刷面積を大きくすることができる。
【００５１】
また、従来の印刷機３２１では版３２５の始めと終わりに段差がつきやすく印刷が乱れるおそれがある。これに対して、原版１において、外周の全周にわたって凸型微細構造体１１をシームレスで設けた場合、凸型微細構造体１１が原版１の周方向で途切れることなく存在しており、原版１の始めと終わりが存在しない。これにより、段差や印刷の乱れが発生しない。また、原版１において、外周の全周にわたって凸型微細構造体１１をシームレスで設けた場合、エンドレスで連続して印刷を行うことができ、フィルムロール周長方向へ印刷面積をさらに大きくすることができる。
【００５２】
また、原版１の製造方法によれば、機械加工をすることなく、金属膜形成工程（金属成膜技術）と、フォトレジスト膜塗工工程と、フォトレジスト層露光工程と、フォトレジスト層現像工程（マスクレスリソグラフィー；直接パターニング）とを経た後に、凸型微細構造体形成工程で凸型微細構造体１１を形成するので、高さが１０μｍ以上であって、幅が数μｍの凸型微細構造体１１を有する原版（パターンロール）１を精度良く容易に製造することができる。
【００５３】
また、原版１の製造方法によれば、凸型微細構造体形成工程で設けられる凸型微細構造体１１の高さ寸法Ｈが、フォトレジスト層現像工程で除去されずに残っているフォトレジスト（逆パターンフォトレジスト凸型微細構造体）１７Ｂの高さ寸法と等しくなっているので、凸型微細構造体１１の高さ寸法Ｈに対する凸型微細構造体１１の幅寸法Ｗの値が大きくなる。
【００５４】
次に、原版１を使用した印刷装置（フレキソ印刷装置）３について、図１を参照しつつ説明する。
【００５５】
印刷装置３は、フィルム原反設置部（図示せず）と、巻き取りロール設置部（図示せず）と、アニロックスロール２５と、原版１と、フィルム巻き掛けロール（バックアップロール）２７とを備えて構成されている。
【００５６】
フィルム原反設置部には、フィルム原反（図示せず）が設置されるようになっている。巻き取りロール設置部には、フィルム原反設置部に設置されたフィルム原反から繰り出されたフィルム（たとえば、樹脂フィルム）３１を巻き取る巻き取りロール（図示せず）が設置されるようになっている。
【００５７】
アニロックスロール２５には、インク（たとえば、導電性インク）２９が塗布されるようになっている。原版１は、アニロックスロール２５に係合するようになっている。この係合によって、原版１の凸型微細構造体１１に、アニロックスロール２５からこのアニロックスロール２５に塗布されているインク２９が印刷されるようになっている。
【００５８】
フィルム巻き掛けロール２７には、フィルム原反設置部に設置されているフィルム原反と、取り巻き取りロール設置部に設置されている巻き取りロールとの間で所定の張力をもって弛むことなく延伸しているフィルム３１が、巻き掛けられるようになっている。
【００５９】
なお、フィルム３１は、フィルム原反設置部に設置されているフィルム原反から繰り出し、この繰り出しているものが取り巻き取りロール設置部に設置されている巻き取りロールに巻き取られていることで、弛むことなく延伸している。
【００６０】
そして、フィルム巻き掛けロール２７に巻き掛けられているフィルム３１に、凸型微細構造体１１にインク２９が移された原版１を係合させることで、原版１の凸型微細構造体１１に移されたインク２９を移して、フィルム３１に印刷をするように構成されている。
【００６１】
フィルム原反は、円柱状の芯材に所定の幅の長いフィルム３１をロール状に巻き付けたことで円柱状に形成されている。取り巻き取りロールも、円柱状の芯材に所定の幅の長いフィルム３１をロール状に巻き取ることで円柱状になる。そして、フィルム原反と取り巻き取りロールとを適宜回転させることで、ロール・トゥ・ロール（Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ）で、フィルム３１がフィルム原反から取り巻き取りロールに所定の速度で移動するようになっている。
【００６２】
原版１、アニロックスロール２５、フィルム巻き掛けロール２７も、円柱状に形成されている。
【００６３】
フィルム原反設置部に設置されたフィルム原反の中心軸と、取り巻き取りロール設置部に設置された巻き取りロールの中心軸と、アニロックスロール２５の中心軸Ｃ２と、原版１の中心軸Ｃ１と、フィルム巻き掛けロール２７の中心軸Ｃ３とはお互いが平行になっており、図１の紙面に直交する方向に延びている。また、図１の紙面に直交する方向がフィルム３１の幅方向になっている。
【００６４】
アニロックスロール２５の外周には、図示しないインク供給装置からドクターブレード３３を経由してインク２９が供給されるようになっている。また、アニロックスロール２５の外周に供給されたインク２９は、ドクターブレード３３によってならされて調整されるようになっている。
【００６５】
原版１の外周とアニロックスロール２５の外周とは、お互いが所定の付勢力をもって接触しており、アニロックスロール２５はこの中心軸Ｃ２を中心にして回転し、原版１はこの中心軸Ｃ１を中心にしてアニロックスロール２５とは逆方向に回転するようになっている。アニロックスロール２５と原版１とはお互いがころがり対偶をなしており、アニロックスロール２５の外周における周速度と、原版１の外周における周速度とはお互いが一致している。
【００６６】
そして、アニロックスロール２５から原版１の外周（凸型微細構造体１１の平面状の先端１３）にインク２９が移されるようになっている。
【００６７】
フィルム巻き掛けロール２７には、フィルム３１が１／４周程度巻き掛けられている。この巻き掛けられたフィルム３１は、フィルム原反設置部に設置されているフィルム原反の回転と、取り巻き取りロール設置部に設置されている巻き取りロールの回転と、フィルム巻き掛けロール２７の回転にともなってこの長手方向で移動するようになっている（フィルム原反から取り巻き取りロールに送られるようになっている）。
【００６８】
フィルム３１の移動速度と、フィルム巻き掛けロール２７の外周の周速度とは、お互いが一致している。
【００６９】
原版１の外周と、フィルム巻き掛けロール２７に巻き掛けられているフィルム３１とは、お互いが所定の付勢力をもって接触している。これにより、原版１とフィルム巻き掛けロール２７とでフィルム３１が所定の圧力をもって挟み込まれている。
【００７０】
フィルム巻き掛けロール２７は、この中心軸Ｃ３を中心にして原版１とは逆方向に回転するようになっている。原版１とフィルム巻き掛けロール２７に巻き掛けられているフィルム３１とは、お互いがころがり対偶をなしており、原版１の外周における周速度と、フィルム３１の移動速度とはお互いが一致している。
【００７１】
そして、フィルム巻き掛けロール２７に巻き掛けられているフィルム３１に原版１からインク２９が移り、フィルム３１に凸型微細構造体１１の形状に対応した形態のインク２９による印刷がされるようになっている。
【００７２】
次に、原版１を使用した印刷方法について説明する。この印刷方法は、たとえば、上述した印刷装置３を用いてなされる。
【００７３】
印刷方法では、まず、アニロックスロール２５にインク２９を塗布する（インク塗布工程）。
【００７４】
続いて、インク塗布工程でアニロックスロール２５に塗布されたインク２９を原版１に移す（インク移し工程）。
【００７５】
続いて、インク移し工程で原版１に移されたインク２９をフィルム３１に印刷する（印刷工程）。
【００７６】
なお、上述した原版１において、金属膜９を削除してもよい。
【００７７】
金属膜９を削除した原版１の製造方法では、まず、導電性を備えた基材７の表面にフォトレジスト層１７を設ける（フォトレジスト層塗工工程）。
【００７８】
続いて、フォトレジスト層塗工工程で設けられたフォトレジスト層１７を露光装置２１を用いて所定のパターン形状に露光する（フォトレジスト層露光工程）。
【００７９】
続いて、フォトレジスト層露光工程後に、フォトレジスト層塗工工程で設けられたフォトレジスト層１７を現像する（フォトレジスト層現像工程）。
【００８０】
続いて、フォトレジスト層現像工程の後に、たとえば、電鋳によって、基材７を下地にして凸型微細構造体１１を形成する（凸型微細構造体形成工程）。
【００８１】
凸型微細構造体形成工程によって凸型微細構造体１１を形成した後に、フォトレジスト層現像工程で除去されずに残っているフォトレジスト１７Ｂを除去する（残レジスト除去工程）。
【符号の説明】
【００８２】
１  原版
３  印刷装置
７  基材
９  金属膜
１１  凸型微細構造体
１７  フォトレジスト層
２５  アニロックスロール
２７  フィルム巻き掛けロール
２９  インク
【図１】
2017140726.tif 000003
【図２】
2017140726.tif 000004
【図３】
2017140726.tif 000005
【図４】
2017140726.tif 000006
【図５】
2017140726.tif 000007
【図６】
2017140726.tif 000008
【図７】
2017140726.tif 000009
【図８】
2017140726.tif 000010
【図９】
2017140726.tif 000011
【図１０】
2017140726.tif 000012
【図１１】
2017140726.tif 000013
【図１２】
2017140726.tif 000014