(57)【要約】      （修正有）【課題】光学設計の制約を緩和しつつ、良好にミラーを温調できる露光装置、温調装置を提供する。【解決手段】露光装置は、開口部２が設けられ、基板を露光する光６を反射するミラー１と、開口部２を通過する気体７が、ミラー１の反射面に沿って流れるように気流を形成する気流形成手段と、を有する。気流形成手段は、ミラー１の反射面側にミラー１と離間して配置され、開口部２の少なくとも一部と対向する対向面を有する導風部材３と、導風部材３に向けて気体７を供給する気体供給部と、を有する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を露光する露光装置であって、
開口部が設けられ、前記基板を露光する光を反射するミラーと、
前記開口部を通過する気体が、前記ミラーの反射面に沿って流れるように気流を形成する気流形成手段と、を有し、
前記気流形成手段は、
前記ミラーの反射面側に前記ミラーと離間して配置され、前記開口部の少なくとも一部と対向する対向面を有する導風部材と、
前記導風部材に向けて気体を供給する気体供給部と、を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記開口部は、前記ミラーの厚さ方向に沿って貫通する貫通孔であることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記ミラーは、それぞれの反射面が同じ方向を向くように並列配置された第１のミラーと第２のミラーとを有し、
前記開口部は前記第１のミラーと前記第２のミラーとの間に位置することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記気体供給部の気体供給口は、前記ミラーの裏面側から前記対向面に向けて気体を供給する位置に設けられていることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項５】
前記ミラーの外周に沿って配置された気体回収口によって、前記導風部材で導風された気体を回収する気体回収部を有することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記ミラーは、前記光を前記基板に導く投影光学系の一部であり、前記気体供給部は第１気体供給部であって、
前記投影光学系が収容される筐体と、前記筐体に対して温調された気体を供給する第２気体供給部と、を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記気体供給部は、第１の流速で流れる気体を供給する第１供給部と、第１の流速より大きな第２の流速で流れる気体を供給する第２供給部とを備え、
前記導風部材は、前記第２供給部からの気体を所定の径方向に導風し且つ前記第１供給部からの気体を前記所定の径方向より広範囲の方向に導風することを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記導風部材の、前記対向面を含む部分は回転方向に可動であり、前記対向面には、前記導風部材の外周部から曲線を描きながら前記導風部材の中心に向かう形状の溝が設けられていることを特徴とする請求項１乃至請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記気体供給部は前記ミラーの外周に沿って設けられた複数の気体供給口を有し、
前記ミラーの裏面側には前記気体を回収する気体回収部を有することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記開口部は、前記ミラーの中央部に位置することを特徴とする請求項１乃至請求項９のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記導風部材のうち、前記対向面を含む部分を支持する部材は、前記開口の少なくとも一部に挿入されていることを特徴とする請求項１乃至請求項１０のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１２】
開口部が設けられたミラーの、光の反射面を温調する温調装置であって、
前記開口部を通過する気体が、前記ミラーの反射面に沿って流れるように気流を形成する気流形成手段を有し、
前記気流形成手段は、
前記ミラーの反射面側に前記ミラーと離間して配置され、前記開口部の少なくとも一部と対向する対向面を有する導風部材と、
前記導風部材に向けて気体を供給する気体供給部と、を有しすることを特徴とする温調装置。
【請求項１３】
前記開口部は、前記ミラーの厚さ方向に沿って貫通する貫通孔であることを特徴とする請求項１１に記載の温調装置。
【請求項１４】
前記ミラーは、それぞれの反射面が同じ方向を向くように並列配置された第１のミラーと第２のミラーを有し、
前記開口部は前記第１のミラーと前記第２のミラーとの間に位置することを特徴とする請求項１１に記載の温調装置。
【請求項１５】
請求項１乃至請求項１１のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板上にパターンを形成する工程と、
前記工程の後に前記基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、温調装置、および物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置等の製造で使用される露光装置は、複数のミラーを備えた投影光学系を介して、基板上にマスクのパターンを転写する装置である。投影光学系内のミラーは露光光の一部を吸収し、吸収した光エネルギーは熱エネルギーに変換される。露光が長時間に及ぶとミラーに熱変形が生じ、投影光学系により投影される像性能が低下してしまう。
【０００３】
特許文献１は、凹面ミラーの光の反射面の中央に配置された整流部材と、反射面側から整流部材に向けて温調された気体を供給する送風部と、を備えた温調装置を開示している。送風部は凹面ミラーの反射面側に配置された配管を介して気体を供給する。整流部材は、送風部からの気体を凹面ミラーの光の反射面に沿って放射状に流すことで、凹面ミラーを所定の温度に温調する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−１１４００１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１において、気体を供給する配管は凹面ミラーの直径とほぼ同じ長さを有している。そのため、例えば、光の反射領域がリング状（２つの円弧状の反射領域の一部が重なっている状態）となる光学系には、配管が光を遮ってしまうため、特許文献１に記載の温調装置を適用できない。このように、特許文献１の温調装置を用いてミラーを温調しようとすると、光学設計に制約が生じてしまう。
【０００６】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、光学設計の制約を緩和しつつ、ミラー良好に温調できる露光装置、温調装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一側面としての露光装置は、基板を露光する露光装置であって、開口部が設けられ、前記基板を露光する光を反射するミラーと、前記開口部を通過する気体が、前記ミラーの反射面に沿って流れるように気流を形成する気流形成手段と、を有し、前記気流形成手段は、前記ミラーの反射面側に前記ミラーと離間して配置され、前記開口部の少なくとも一部と対向する対向面を有する導風部材と、前記導風部材に向けて気体を供給する気体供給部と、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明にかかる露光装置、温調装置は、光学設計の制約を緩和しつつ、ミラーを良好に温調できる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】第１〜第５実施形態にかかる露光装置の構成を示す図である。
【図２】第１実施形態の温調装置の構成を示す図である。
【図３】第１実施形態の流体解析の結果を示す図である。
【図４】第１実施形態の熱解析の結果を示す図である。
【図５】第２実施形態の温調装置の構成を示す図である。
【図６】第３実施形態の温調装置の構成を示す図である。
【図７】第４実施形態の温調装置の構成を示す図
【図８】第５実施形態のミラーユニットの構成を示す図。
【図９】第６実施形態のミラーユニットの構成を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
［第１実施形態］
（露光装置の構成）
図１は、第１〜第５実施形態に共通して用いられる露光装置１００の構成を示す図である。露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式又はステップ・アンド・リピート方式でマスク１０４のパターンをガラス材の基板１０１に露光する。
【００１１】
光源１０２から出射され、照明光学系１０３を通過した光６によって、マスク１０４を上方から照明する。後述の投影光学系１０５は、マスク１０４に形成されているパターンを所定の倍率で投影するために、感光材（不図示）の塗布された基板１０１上に光６を導光する。
【００１２】
鏡筒（筐体）１０６は、送風部（第２気体供給部）１０７と、送風部１０７から供給された気体を排気する排気部１０８とを有し、投影光学系１０５を収容している。
【００１３】
送風部１０７は鏡筒１０６の下方に設けられており、鏡筒１０６の内部、すなわち鉛直上方向に所定の温度に温調した気体を供給する。送風部１０７は、ＵＬＰＡフィルタ等の除塵フィルタ（不図示）、若しくは薄いメッシュフィルタ（不図示）等のフィルタを有し、粉塵を除去した気体を供給している。鏡筒１０６の内部に存在する粉塵が反射面に付着することを防ぎ、反射面の汚染による露光性能の悪化を抑制している。
【００１４】
送風部１０７によって供給された気体が、鏡筒１０６内を循環することにより、投影光学系１０５の周囲の温度環境を一定に保っている。排気部１０８は、主に凸面ミラー５のＺ位置よりも上側の空間の気体を排気する排気口と、主に凸面ミラー５のＺ位置よりも下側の空間の気体を排気する排気口とを有し、それぞれの排気口を介して鏡筒１０６内の気体を排気する。
【００１５】
ステージ１０９は、基板１０１を保持しながら移動する。ステージ１０９とマスク１０４を保持するステージ（不図示）を同期させながら移動させることにより、基板１０１に所望のマスク１０４のパターンを形成する。
【００１６】
投影光学系１０５は、台形ミラー４と、光６の反射面が互いに対向するように配置された凹面ミラー１（以下、ミラー１という）及び凸面ミラー５を有する。ミラー１及び凸面ミラー５は、ミラー１の反射面１ａの上側領域、凸面ミラー５の反射面５ａ、ミラー４の反射面１ａの下側領域、の順に光６が反射するように配置されている。なお、反射面１ａとは、光６の反射領域を含む面（凸面ミラー５と対面している面）をいう。
【００１７】
台形ミラー４は、光６をミラー１の反射面１ａの上側領域に向けて偏向する第１反射面４ａと、ミラー４の反射面１ａの下側領域で反射された光６を基板１０１に向けて偏向する。
【００１８】
所定の露光性能を得る目的で反射面１ａにコーティングされた各種の膜が光６の一部を吸収し、発熱する。この発熱に起因して、ミラー１の内部に熱が伝わることによる熱変形やミラー１の近傍空間における温度変動により結像性能が不安定となってしまうおそれがある。
【００１９】
そこで、露光装置１００は、ミラー１を所定の温度に温調する温調装置（気流形成手段）を有している。本実施形態にかかるミラー１の温調装置は、送風部（気体供給部）８と導風部材３（あとで詳述）とを有する。
【００２０】
ミラー１の中央部には、ミラー１の厚さ方向に沿って、すなわち反射面１ａから反射面１ａとは反対側の面である裏面１ｂ１ｂにかけて、貫通している貫通孔（開口部）２が設けられている。中央部とは、反射面１ａの中心を含む領域のことである。
【００２１】
送風部８は、送風部８の気体を供給する供給口が裏面１ｂ側から貫通孔２に向けて、所定の温度に温調された気体７を供給する位置になるように配置されている。送風部８も、ＵＬＰＡフィルタ等の除塵フィルタ（不図示）、若しくは薄いメッシュフィルタ（不図示）等を含み、クリーン且つ供給ムラの発生を防ぐように整流された気体７を供給する。
【００２２】
気体７の温度は、鏡筒１０６内に配置された温度センサ（不図示）、またはミラー１の近傍に配置された温度センサ（不図示）に基づいて調整することが好ましい。あるいは、ミラー１自体の温度に基づいて、気体７の温度調整をしても良い。
【００２３】
（導風部材の構成）
図２（ａ）、図２（ｂ）、図２（ｃ）を用いてミラー１の温調装置について説明する。図２（ａ）は投影光学系１０５の正面図、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ矢視図、図２（ｃ）は導風部材３の構成を示す図である。
【００２４】
領域９は光６の反射領域を示している。２つの半円弧状の反射領域が上下対称となる。上側領域と下側領域との一部が重なるように照射されるため、光６の反射領域は環状となる。
【００２５】
導風部材３は、導風板（導風部材の、対向面を含む部分）３ａと軸部３ｂとを有する。貫通孔２の直径よりも大きな直径をもつ円板部を含む導風板３ａは反射面２ａ側に貫通孔２と対向する面（対向面）を含む。軸部３ｂは導風板３ａの貫通孔２と対面する面を支持する柱状の部材であって、貫通孔２の少なくとも一部に挿入されている。
【００２６】
ここで、導風板３ａの面積は、貫通孔２の断面の面積よりも大きいほうが好ましい。特に、領域９に重ならない程度、すなわち光６の光路上に位置しない程度に、大きいほうがより好ましい。これにより、送風部８からの供給する気体の流速をなるべく低くすることができ、流速が速い場合に比べてミラー１の振動を抑制することができる。
【００２７】
導風板３ａの形状は、図に示すような円形に限られない。例えば、５角形、６角形等の多角形でもよい。この際、円に近くなるように多角形の辺の数は多ければ多いほど好ましい。導風板３ａの形状が多角形の場合、その中心角は等角であることが好ましい。これにより、ミラー１を等方的に温調することができる。
【００２８】
導風部材３は、送風部８から送風された温調された気体７が、貫通孔２を通過し、反射面１ａに沿ってミラー１の外周に向かうように気体７を導風する。なお、導風部材３の、反射面１ｂと対向する面は、曲率を有する構造となっている。これにより、気体７が衝突した際の導風部材３への衝撃を緩和して、導風部材３まわりの空間の振動による温度変動を生じにくくしている。
【００２９】
気体７は中央部に設けられた導風板３ａで導風されるため、気流は径方向に放射状に形成される（図２（ｂ）参照）。そのため、温調された気体７がミラー１を温度ムラなく、且つ安定的に温調することができる。
【００３０】
導風部材３により導風された気体７は、送風部１０７より供給される気体と混合され、排気部１０８により排気される（図１参照）。
【００３１】
実施形態１の温調装置によるミラー１の温調効果を図３、図４を用いて説明する。図３および図４は、光６がミラー１’とミラー１に照射されている状態における解析結果である。
【００３２】
図３は流体解析の結果を示している。図３（ａ）は本実施形態を実施せずに反射面が凹面であるミラー１’の下方から温調された気体７’を供給した比較形態の流体解析結果、図３（ｂ）は本実施形態の解析結果である。気体７あるいは気体７’の流速分布（０．０ｍ／ｓ〜１．５ｍ／ｓ）を示している。
【００３３】
図３（ａ）では、反射面１ａ側の空間において、Ｘ軸方向（ミラー１の厚さ方向）にも、Ｙ軸方向（ミラー１の厚さ方向と直交する方向）にも流速むらが生じていることがわかる。一方、本実施形態を示す図３（ｂ）では反射面１ａ側の空間において、Ｘ軸方向にも、Ｙ軸方向にも、流速むらがほとんどないことを示している。
【００３４】
図４は熱解析の結果を示している。図４（ａ）（ｃ）は本実施形態を実施せずにミラー１’の下方から気体７’を供給した場合の比較の熱解析結果、図４（ｂ）（ｄ）は本実施形態の熱解析結果である。
【００３５】
図４（ａ）（ｂ）はミラー１の正面図を、図４（ｃ）（ｄ）は、図４（ａ）（ｂ）におけるＡ−Ａ矢視図である。２３．００℃〜２３．１６℃の温度分布を示している。図４（ａ）（ｃ）に示す比較形態では、気体７’が＋Ｚ方向に進むにつれてミラー１’から回収した熱を含むことで、＋Ｚ側ではミラー１’の熱を回収する機能が弱くなっていく。そのため、ミラー１’自体の温度もＺ軸方向に対してむらがあり、さらに反射面１ａ’側の空間の温度もＹ軸方向側にむらが生じている。
【００３６】
図４（ｂ）（ｄ）に示す本実施形態では、導風部材３が放射状に気体７を供給する。そのため、比較形態に比べて、ミラー１のＹ軸方向での温度ムラ、および反射面１ａ側でのＸ軸方向およびＹ軸方向の温度むらもほとんどないことを示している。
【００３７】
このように、本実施形態の露光装置１００では、導風部材３と送風部８とにより、貫通孔２を通過する気体がミラー１の反射面１ａに沿って流れるように気流を形成する。これにより、ミラー１を温調することができる。さらに、導風部材３から導風される気体７が放射状に気体７を供給するため、少ない温度むらでミラー１を温調できる。また、長時間におよぶ露光であっても、ミラー１の温度変動を生じにくくすることができる。
【００３８】
さらに、送風部８が、ミラー１の裏面１ｂ側に設けられているため、投影光学系１０５による光路および反射面１ａにおける反射領域の範囲によらず送風部８を光６の光路外に配置することができる。したがって光学設計の制約を緩和することができる。
【００３９】
［第２実施形態］
図５は、実施形態２のミラー１の温調方法を説明する図である。図５（ａ）はミラー１まわりの正面図、図５（ｂ）は図３（ａ）のＢ−Ｂ矢視図である。第２実施形態の露光装置１００は、導風部材３から導風された気体７を回収するための、環状の回収口（気体回収口）１６ａを備えた気体回収部１６をさらに有する。
【００４０】
気体回収部８が気体７を吸い込むことによって、中央部からミラー１の外周部に近づくにつれてミラー１から−Ｘ方向に離れていこうとする気体７がミラー１に沿って流れるように導風される。このようにして、導風部材３によって導風された気体７が効率よく反射面１ａに沿って流れ、ミラー１の周囲に滞留して空間の熱源となることを防止あるいは低減することができる。
【００４１】
第１実施形態と同様の効果も有する。すなわち、貫通孔２を通過する気体がミラー１の反射面１ａに沿って流れるように気流を形成することで、ミラー１を温調することができる。さらに、導風部材３から導風される気体７が放射状に気体７を供給するため、少ない温度むらでミラー１を温調できる。ミラー１の温度変動を生じにくくすることができる。
【００４２】
さらに、送風部８が、ミラー１の裏面１ｂ側に設けられているため、投影光学系１０５による光路および反射面１ａにおける反射領域の範囲によらず送風部８を光６の光路外に配置することができる。したがって光学設計の際の制約を緩和することができる。
【００４３】
なお、回収口８は、ミラー１の外周に沿って、等間隔に離散的に配置された複数の回収口でも良い。
【００４４】
〔第３実施形態〕
図６（ａ）、図６（ｂ）を用いて、第３実施形態のミラー１の温調装置の構成について説明する。図６（ａ）はミラー１まわりの正面図、図６（ｂ）は図６（ａ）のＣ−Ｃ矢視図である。導風部材３の構成および送風部８の構成が前述の実施形態とは異なる。
【００４５】
導風部材３は、気体１０が導風部材３の内側を通過するための流路を備えている。気体１０は軸部３ｂから流入し、導風板３ａの内部において所定の径方向に設けられた流出口３ｃから導風板３ａから、当該径方向に向けて流出される。本実施形態では、図６（ｂ）に示すように流出口３ｃは、４５°間隔で８つの配置されている。
【００４６】
送風部８は、気体（第１の流速で流れる気体）７を供給する送風部（第１供給部）８ａと、気体（第２の流速で流れる気体）１０を供給する送風部（第２供給部）８ｂとで構成されている。送風部８ｂは中央部に設けられ、そのまわりを送風部８ａが取り囲んでいる。気体７は前述と同様、貫通孔２内で、導風部材３の周囲を通過し、反射面１ａに沿って放射方向（所定の径方向よりも広範囲の方向）に流れるように導風される。
【００４７】
流出口３ｃから噴出された気体１０がコアンダ効果を誘発し、周囲の気体１１を気体１０の方向に引き寄せるため、気体７及び気体１０のみで気体を供給する場合よりも反射面１ａ上に供給する気体を増大させることができる。これにより、少ない気体７でもミラー１の温調が可能となり、気体が流れることによってミラー１に与える振動を低減することが可能となる。
【００４８】
第１実施形態と同様の効果も有する。すなわち、貫通孔２を通過する気体がミラー１の反射面１ａに沿って流れるように気流を形成することで、ミラー１を温調することができる。さらに、導風部材３から導風される気体７が放射状に気体７を供給するため、少ない温度むらでミラー１を温調できる。ミラー１の温度変動を生じにくくすることができる。
【００４９】
さらに、送風部８が、ミラー１の裏面１ｂ側に設けられているため、投影光学系１０５による光路および反射面１ａにおける反射領域の範囲によらず送風部８を光６の光路外に配置することができる。したがって光学設計の際の制約を緩和することができる。
【００５０】
なお、コアンダ効果を誘発できるのであれば送風口３ｃの配置は図５（ｂ）に示す形態に限られない。送風口３ｃが少なくとも１つあり、それぞれの送風口３ｃから気体７に比べて流速の大きな気体１０を供給できるのであれば、例えば４８個や６４個等、多数の送風口が設けられていてもよい。
【００５１】
〔第４実施形態〕
図７（ａ）〜図７（ｃ）を用いて第４実施形態のミラー１の温調装置の構成について説明する。図７（ａ）はミラー１まわりの正面図、図７（ｂ）は図７（ａ）のＤ−Ｄ矢視図、図７（ｃ）は図７（ａ）のＥ−Ｅ矢視図である。導風板３ａの構成および軸部３ｂの構成が前述の実施形態とは異なる。
【００５２】
導風部材３において、軸部３ｂは分割して構成され、ベアリング１２で連結されている。ベアリング１２により、導風板３ａが回転方向に可動となっている。
【００５３】
導風板３ａの反射面１ａ側には、導風板３ａの外周部から曲線を描きながら中央部（導風板３ａの中心）に向かう形状の溝１３が設けられている。溝１３は周方向に等間隔に設けられている。
【００５４】
送風部８から供給された気体７の風圧によって導風板３が方向１４に回転される。導風板３ａが回転することによって、反射面１ａでは、図７（ｂ）に示すように、方向１４とは逆の回転方向の気流が生じる。導風板３ａの回転時に気流に力が加わるため、同じ風量でもより離れた場所まで気体７を導風することができる。ミラー１の外周付近まで気体７を流したい場合や、第２実施形態のような気体回収口８を設けない場合に適している。
【００５５】
第１実施形態と同様の効果も有する。すなわち、貫通孔２を通過する気体がミラー１の反射面１ａに沿って流れるように気流を形成することで、ミラー１を温調することができる。さらに、導風部材３から導風される気体７が放射状に気体７を供給するため、少ない温度むらでミラー１を温調できる。ミラー１の温度変動を生じにくくすることができる。
【００５６】
さらに、送風部８が、ミラー１の裏面１ｂ側に設けられているため、投影光学系１０５による光路および反射面１ａにおける反射領域の範囲によらず送風部８を光６の光路外に配置することができる。したがって光学設計の際の制約を緩和することができる。
【００５７】
なお、気体７の風圧によってではなく、モータ等の駆動源を用いて導風板３を回転させても良い。
【００５８】
〔第５実施形態〕
図８（ａ）〜図８（ｄ）を用いて第４実施形態のミラー１の温調装置の構成について説明する。図８（ａ）はミラー１まわりの正面図、図８（ｂ）は図８（ａ）のＦ−Ｆ矢視図である。送風部１５と、送風部１５から供給された気体７を回収する回収部１７を有する点と、導風板３ａおよび貫通孔２の構成が前述の実施形態とは異なる。
【００５９】
８つの送風部１５が、ミラー１の外周に沿って、周方向に等間隔に配置されている。反射面１ａ側において、径方向に対して傾いた方向に気体７を供給する。貫通孔２は、反射面１ａから裏面１ｂに向かって、径が小さくなっている。
【００６０】
図８（ｃ）の導風板３ａには気体７の気流の流れを偏向させるように、中央部に向かって渦巻くような形状の溝１６が形成されている。裏面１ｂ側の、貫通孔２と対面する位置には気体７を回収する回収部１７が接続されている。回収部１７は内側に吸気部１９を有し、空間１８に入り込んだ気体７が、吸気部１９によって吸気される。
【００６１】
これらの構成により、送風部１５からの気体７が回収部１７による吸気力に従って中央部に吸い寄せられ、反射面１ａに沿って気体７が回転しながら移動し吸気部１９に吸い込まれる。このとき、溝１６により、貫通孔２の中で気体７が軸部３ｂまわりに回転する気流を生じさせる。導風板３ａが気体７を回転方向に偏向させるように導風するため、周囲の気体２０も巻き込むことができる。よって、８つの送風部１５から供給される気体７に加えて周囲の気体２０も効率よく用いて、ミラー１を温調することができる。
【００６２】
第１実施形態と同様の効果も有する。すなわち、貫通孔２を通過する気体がミラー１の反射面１ａに沿って流れるように気流を形成することで、ミラー１を温調することができる。さらに、導風部材３から導風される気体７が放射状に気体７を供給するため、少ない温度むらでミラー１を温調できる。ミラー１の温度変動を生じにくくすることができる。
さらに、送風部８をミラー１の外周に沿って配置する構成なので、投影光学系１０５の光学特性によらず光６の光路外に配置可能である。したがって光学設計の際の制約を緩和することができる。
【００６３】
［第６実施形態］
図９は本実施形態において、前述のミラー１の代わりに用いられる凹面ミラーを、光６の反射面側から見た図である。図９に示すように、上側に配置された半円形状のミラー（第１のミラー）２１と下側に配置された半円形状のミラー（第２のミラー）２２とを有するミラーユニット２３として構成されている。ミラー２１の光６の反射面とミラー２２の光６の反射面同じ方向（−Ｘ方向）を向くように並列配置されている。ここで、並列配置とは、ミラー２１とミラー２２の厚みの少なくとも一部が重なる程度にＸ軸方向にずれて配置された場合も含むものとする。
【００６４】
ミラーユニット２３を用いる場合、投影光学系１０５によるミラーユニット２３上での光６の反射領域は、上側反射領域９ａと下側反射領域９ｂとが離間していて、ミラー２１とミラー２２上となる。ミラーユニット２３は、局所的に且つ微小に変形させるなどして収差補正等の光学特性の補正をしたい場合に有利なミラーである。
【００６５】
導風板３ａは、ミラーユニット２３の反射面側においてミラーユニット２３から離間し且つミラー２１とミラー２２との間の開口部２４の少なくとも一部と対向する面を有する。開口部２４の少なくとも一部とは、例えばミラーユニット２３の中心を含む空間である。
【００６６】
導風板３ａの少なくとも一部は、上側ミラー２１と下側ミラー２２とに対面している。これにより、裏面１ｂ側から送風部８より導風板３ａに向けて供給された気体７が、貫通孔２を介して導風板３及び反射面１ａに沿って流れるようになる。
【００６７】
これにより、第１実施形態と同様、開口部２４を通過する気体がミラー１の反射面１ａに沿って流れるように気流を形成することで、ミラー１を温調することができる。さらに、導風部材３から導風される気体７が放射状に気体７を供給するため、少ない温度むらでミラー１を温調できる。ミラー１の温度変動を生じにくくすることができる。
【００６８】
また、投影光学系１０５における凹面ミラーが本実施形態のように半円状のミラーを組み合わせたミラーユニット２３であったとしても、ミラーユニット２３の温度むらを低減し且つ温度変動を生じにくくすることができる。このように、光学設計の際の制約を緩和することができる。
【００６９】
本実施形態にかかるミラーユニット２３に対して、第２〜第５の実施形態の温調装置を適用してもよい。
【００７０】
［その他の実施形態］
導風板３ａは、必ずしも中央部に配置されていなくても構わない。導風部材３により導風された気体７が反射面１ａに沿って流れるのであれば、導風板３ａが反射面１ａの中心と対面しない位置にずれて配置されていたとしても許容される。
【００７１】
本発明にかかる露光装置は、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ＡｒＦレーザ光（波長１９３ｎｍ）、ＥＵＶ光（波長１３ｎｍ）等の光線を照射することにより、基板上にレジストによる潜像パターンを形成する装置に適用できる。
【００７２】
本発明の温調装置は、露光装置以外の光学装置に搭載されていてもよい。また、温調対象も凹面形状のミラーに限られることはなく、少なくも導風部材３を配置する位置に光を照射させない、ミラーの温調に用いてもよい。
【００７３】
［物品の製造方法］
本発明の実施形態の物品の製造方法は、露光装置を用いて基板（ウエハやガラス板等）上にパターンを形成する工程と、パターンの形成された基板に対して加工処理を施す工程とを含む。物品とは、例えば、半導体集積回路素子、液晶表示素子、撮像素子、磁気ヘッド、ＣＤ−ＲＷ、光学素子、フォトマスク等である。加工処理とは、例えば、エッチング処理、あるいはイオン注入処理である。さらに、他の周知の処理工程（現像、酸化、成膜、蒸着、平坦化、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含んでも良い。
【００７４】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【符号の説明】
【００７５】
１  （凹面）ミラー
１ａ  反射面
１ｂ  裏面
２  貫通孔
３  導風部材
３ａ  導風部
５  凸面ミラー
６  光
７  （送風部９からの）気体
８  送風部
８ａ  第１供給部
８ｂ  第２供給部
９  反射領域
１０  （送風部１０からの）気体
１５  送風部
１６  回収部
１６ａ  回収口
１７  回収部
２１  第１のミラー
２２  第２のミラー
２３  ミラーユニット
１００  露光装置
１０５  投影光学系
１０６  鏡筒
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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