(57)【要約】【課題】本発明は、低い比誘電率を維持し、高い硬度を有する硬化膜を得ることができる硬化性組成物、ならびに、硬化膜、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびタッチパネルを提供すること課題とする。【解決手段】２−ピロン基を有する構成単位を含む重合体Ａ１、および／または、２−ピロン基を２つ以上有する化合物Ａ２を含有し、  以下の条件１〜３の少なくとも１つを満たす、硬化性組成物。  １：上記重合体Ａ１を含有し、上記重合体Ａ１がマレイミド基を有する構成単位を更に含む。  ２：上記重合体Ａ１とは異なる、マレイミド基を有する構成単位を含む重合体Ｂ１を含有する。  ３：マレイミド基を２つ以上有する化合物Ｂ２を含有する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
２−ピロン基を有する構成単位を含む重合体Ａ１、および／または、２−ピロン基を２つ以上有する化合物Ａ２を含有し、
以下の条件１〜３の少なくとも１つを満たす、硬化性組成物。
１：前記重合体Ａ１を含有し、前記重合体Ａ１がマレイミド基を有する構成単位を更に含む。
２：前記重合体Ａ１とは異なる、マレイミド基を有する構成単位を含む重合体Ｂ１を含有する。
３：マレイミド基を２つ以上有する化合物Ｂ２を含有する。
【請求項２】
２−ピロン基を有する構成単位を含む重合体Ａ１、および／または、２−ピロン基を２つ以上有する化合物Ａ２を含有し、
以下の条件１〜３の少なくとも１つを満たす、硬化性組成物。
１：前記重合体Ａ１を含有し、前記重合体Ａ１が加熱によりマレイミド基を生じる基を有する構成単位を更に含む。
２：前記重合体Ａ１とは異なる、加熱によりマレイミド基を生じる基を有する構成単位を含む重合体Ｂ３を含有する。
３：加熱によりマレイミド基を生じる基を２つ以上有する化合物Ｂ４を含有する。
【請求項３】
前記２−ピロン基を有する構成単位が、下記式（Ｉ）で表される構成単位である、請求項１または２に記載の硬化性組成物。
【化１】
2017048285.tif 000061
ここで、前記式（Ｉ）中、Ｒ1は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を表し、Ｌ1は単結合、炭素数１〜６のアルキレン基または−Ｃ6Ｈ4−ＣＨ2−を表し、ｎは０または１を表す。
【請求項４】
前記加熱によりマレイミド基を生じる基が、下記式（１）〜（４）のいずれかで表される基である、請求項２に記載の硬化性組成物。
【化２】
2017048285.tif 000062
ここで、前記式（１）〜（４）中、＊はいずれも結合位置を表す。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の硬化性組成物を硬化してなる硬化膜。
【請求項６】
層間絶縁膜である、請求項５に記載の硬化膜。
【請求項７】
請求項５または６に記載の硬化膜を有する、液晶表示装置。
【請求項８】
請求項５または６に記載の硬化膜を有する、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項９】
請求項５または６に記載の硬化膜を有する、タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、硬化性組成物、硬化膜、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置などの画像表示装置や、タッチパネルなどの入力装置には、平坦化膜、層間絶縁膜、保護膜などとして絶縁膜が設けられている。
【０００３】
このような絶縁膜の材料として、例えば、特許文献１には、下記条件（ａ）及び（ｂ）の少なくとも一つを満足し、少なくとも１種の２個以上の２−ピロン基を有する化合物（Ａ）と少なくとも１種の２個以上のジエノフィル官能基を有する化合物（Ｂ）とのディールスアルダー反応により得られる膜形成用組成物が記載されている（［請求項１］）。
条件（ａ）：化合物（Ａ）の少なくとも１種が２−ピロン基を３個以上有する。
条件（ｂ）：化合物（Ｂ）の少なくとも１種がジエノフィル官能基を３個以上有する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−３０７１８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者らは、特許文献１に記載された膜形成用組成物について検討したところ、得られる硬化膜の比誘電率は低くなるが、ジエノフィル官能基の種類によっては、硬度が劣る場合があることを明らかとした。
【０００６】
そこで、本発明は、低い比誘電率を維持し、高い硬度を有する硬化膜を得ることができる硬化性組成物、ならびに、硬化膜、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびタッチパネルを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、２−ピロン基およびマレイミド基もしくは加熱によりマレイミド基を生じる基を同一または異なる重合体中あるいは異なる化合物中に有する成分を用いることにより、低い比誘電率を維持し、高い硬度を有する硬化膜を得ることができることを見出し、本発明を完成させた。
【０００８】
［１］  ２−ピロン基を有する構成単位を含む重合体Ａ１、および／または、２−ピロン基を２つ以上有する化合物Ａ２を含有し、
以下の条件１〜３の少なくとも１つを満たす、硬化性組成物。
１：上記重合体Ａ１を含有し、上記重合体Ａ１がマレイミド基を有する構成単位を更に含む。
２：上記重合体Ａ１とは異なる、マレイミド基を有する構成単位を含む重合体Ｂ１を含有する。
３：マレイミド基を２つ以上有する化合物Ｂ２を含有する。
［２］  ２−ピロン基を有する構成単位を含む重合体Ａ１、および／または、２−ピロン基を２つ以上有する化合物Ａ２を含有し、
以下の条件１〜３の少なくとも１つを満たす、硬化性組成物。
１：上記重合体Ａ１を含有し、上記重合体Ａ１が加熱によりマレイミド基を生じる基を有する構成単位を更に含む。
２：上記重合体Ａ１とは異なる、加熱によりマレイミド基を生じる基を有する構成単位を含む重合体Ｂ３を含有する。
３：加熱によりマレイミド基を生じる基を２つ以上有する化合物Ｂ４を含有する。
［３］  上記２−ピロン基を有する構成単位が、下記式（１）で表される構成単位である、［１］または［２］に記載の硬化性組成物。
【化１】
2017048285.tif 000002
ここで、上記式（Ｉ）中、Ｒ1は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を表し、Ｌ1は単結合、炭素数１〜６のアルキレン基または−Ｃ6Ｈ4−ＣＨ2−を表し、ｎは０または１を表す。
［４］  上記加熱によりマレイミド基を生じる基が、下記式（１）〜（４）のいずれかで表される基である、［２］に記載の硬化性組成物。
【化２】
2017048285.tif 000003
ここで、上記式（１）〜（４）中、＊はいずれも結合位置を表す。
［５］  ［１］〜［４］のいずれかに記載の硬化性組成物を硬化してなる硬化膜。
［６］  層間絶縁膜である、［５］に記載の硬化膜。
［７］  ［５］または［６］に記載の硬化膜を有する、液晶表示装置。
［８］  ［５］または［６］に記載の硬化膜を有する、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
［９］  ［５］または［６］に記載の硬化膜を有する、タッチパネル。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、低い比誘電率を維持し、高い硬度を有する硬化膜を得ることができる硬化性組成物、ならびに、硬化膜、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびタッチパネルを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。
本明細書において、固形分は、２５℃における固形分である。
本明細書において、ポリマーの重量平均分子量および数平均分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフ）測定によるポリスチレン換算値として定義される。ポリマーの重量平均分子量および数平均分子量は、例えば、ＨＬＣ−８１２０（東ソー製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌＭｕｌｔｉｐｏｒｅＨＸＬ−Ｍ（東ソー製、７．８ｍｍＩＤ×３０．０ｃｍを、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いることによって求めることができる。
【００１１】
本発明の第１の態様に係る硬化性組成物（以下、単に「本発明の第１の態様」ともいう。）は、２−ピロン基を有する構成単位を含む重合体Ａ１、および／または、２−ピロン基を２つ以上有する化合物Ａ２を含有し、以下の条件１〜３の少なくとも１つを満たす、硬化性組成物である。
１：上記重合体Ａ１を含有し、上記重合体Ａ１がマレイミド基を有する構成単位を更に含む。
２：上記重合体Ａ１とは異なる、マレイミド基を有する構成単位を含む重合体Ｂ１を含有する。
３：マレイミド基を２つ以上有する化合物Ｂ２を含有する。
【００１２】
本発明の第２の態様に係る硬化性組成物（以下、単に「本発明の第２の態様」ともいう。）は、２−ピロン基を有する構成単位を含む重合体Ａ１、および／または、２−ピロン基を２つ以上有する化合物Ａ２を含有し、以下の条件１〜３の少なくとも１つを満たす、硬化性組成物である。
１：上記重合体Ａ１を含有し、上記重合体Ａ１が加熱によりマレイミド基を生じる基を有する構成単位を更に含む。
２：上記重合体Ａ１とは異なる、加熱によりマレイミド基を生じる基を有する構成単位を含む重合体Ｂ３を含有する。
３：加熱によりマレイミド基を生じる基を２つ以上有する化合物Ｂ４を含有する。
【００１３】
本発明の第１の態様および第２の態様に係る硬化性組成物は、２−ピロン基およびマレイミド基もしくは加熱によりマレイミド基を生じる基を同一または異なる重合体中あるいは異なる化合物中に有する成分を用いることにより、低い比誘電率を維持し、高い硬度を有する硬化膜を得ることができる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
すなわち、硬化性組成物を塗布し、硬化性組成物からなる硬化性組成物層を形成した後に、２−ピロン基を有する重合体または化合物と、マレイミド基もしくは加熱によりマレイミド基を生じる基を有する重合体または化合物とのディールスアルダー反応が進行し、二酸化炭素を放出することにより、剛直な縮環構造による架橋が形成されるためであると考えられる。
【００１４】
［本発明の第１の態様］
本発明の第１の態様は、２−ピロン基を有する構成単位を含む重合体Ａ１、および／または、２−ピロン基を２つ以上有する化合物Ａ２を含有する。
【００１５】
ここで、２−ピロン基とは、下記式（ａ）で表される化合物から１個の水素原子を除去することにより生成される基をいい、下記式（ｂ）で表される化合物（クマリン）から１個の水素原子を除去することにより生成される基は含まれない。
【化３】
2017048285.tif 000004
ここで、上記式（ａ）中、Ｒ1は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。
炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が挙げられ、メチル基、エチル基であるのが好ましく、メチル基であるのがより好ましい。
【００１６】
〔重合体Ａ１〕
本発明の第１の態様で用いられる重合体Ａ１は、２−ピロン基を有する構成単位を含む重合体である。
【００１７】
＜２−ピロン基を有する構成単位＞
２−ピロン基を有する構成単位としては、例えば、下記式（Ｉ）で表される構成単位が挙げられる。
【化４】
2017048285.tif 000005
ここで、上記式（Ｉ）中、Ｒ1は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を表し、Ｌ1は単結合、炭素数１〜６のアルキレン基または−Ｃ6Ｈ4−ＣＨ2−を表し、ｎは０または１を表す。
【００１８】
上記式（Ｉ）中のＲ1は、上記式（ａ）中のＲ1と同義である。
上記式（Ｉ）中のＬ1が示す炭素数１〜６のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基等が挙げられ、メチレン基、エチレン基、プロピレン基であるのが好ましく、エチレン基、プロピレン基であるのがより好ましい。
【００１９】
上記式（Ｉ）で表される構成単位としては、具体的には、例えば、下記式（Ｉａ）〜（Ｉｅ）で表される構成単位が好適に挙げられる。なお、各式中、Ｒ2は、水素原子又はメチル基を表す。
【化５】
2017048285.tif 000006
【００２０】
（分子量）
２−ピロン基を有する構成単位を含む重合体Ａ１の重量平均分子量は、１，０００〜２００，０００であるのが好ましく、２，０００〜５０，０００であるのがより好ましく、５，０００〜３０，０００であるのが更に好ましい。
【００２１】
（含有量）
本発明の第１の態様においては、２−ピロン基を有する構成単位を含む重合体Ａ１を含有する場合、重合体の全構成単位中、２−ピロン基を有する構成単位が１０〜７０ｍｏｌ％含有されていることが好ましく、１２〜６５ｍｏｌ％含有されていることがより好ましく、１５〜６０ｍｏｌ％含有されていることが更に好ましい。
【００２２】
〔化合物Ａ２〕
本発明の第１の態様で用いられる化合物Ａ２は、２−ピロン基を２つ以上有する化合物である。
ここで、化合物Ａ２は、分子量が１，０００未満であるのが好ましく、２５０以上１０００未満であるのがより好ましい。
【００２３】
上記化合物Ａ２としては、具体的には、例えば、特許文献１（特開２００５−３０７１８３号公報）の［００３２］および［００３３］段落に記載された化合物；下記式Ａ２−１〜Ａ２−３に示す化合物；等が挙げられる。
【化６】
2017048285.tif 000007
【００２４】
（含有量）
本発明の第１の態様においては、２−ピロン基を２つ以上有する化合物Ａ２を含有する場合、２−ピロン基を２つ以上有する化合物Ａ２の含有量は、硬化性組成物の全固形成分１００質量部に対して、２０〜５０質量部が好ましく、２５〜４５質量部がより好ましい。
【００２５】
〔条件１〜３〕
本発明の第１の態様は、上述した２−ピロン基を有する構成単位を含む重合体Ａ１、および／または、上述した２−ピロン基を２つ以上有する化合物Ａ２を含有し、以下の条件１〜３の少なくとも１つを満たす、硬化性組成物である。
１：上記重合体Ａ１を含有し、上記重合体Ａ１がマレイミド基を有する構成単位を更に含む。
２：上記重合体Ａ１とは異なる、マレイミド基を有する構成単位を含む重合体Ｂ１を含有する。
３：マレイミド基を２つ以上有する化合物Ｂ２を含有する。
【００２６】
＜マレイミド基を有する構成単位＞
本発明の第１の態様は、条件１を満たす場合、上述した２−ピロン基を有する構成単位を含む重合体Ａ１は、更にマレイミド基を有する構成単位を有する。
また、本発明の第１の態様は、条件２を満たす場合、マレイミド基を有する構成単位を含む重合体Ｂ１を含有する。
【００２７】
ここで、マレイミド基とは、下記式（ｃ）で表される無置換または置換のマレイミド基を意図する。下記式（ｃ）中、＊は結合位置を表し、Ｒはそれぞれ独立に水素原子または有機基を表す（ただし、加熱により脱離し、無置換のマレイミド基を生じさせる有機基を除く）。Ｒが示す有機基としては炭素数１〜４のアルキル基であるのが好ましい。
【化７】
2017048285.tif 000008
【００２８】
上記マレイミド基を有する構成単位としては、例えば、下記式（ＩＩ）で表される構成単位が挙げられる。
【化８】
2017048285.tif 000009
ここで、上記式（ＩＩ）中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を表し、Ｌ2は単結合、炭素数１〜６のアルキレン基、フェニレン基または−Ｃ6Ｈ4−ＣＨ2−を表し、ｎは０または１を表す。
【００２９】
上記式（ＩＩ）中のＬ2が示す炭素数１〜６のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基等が挙げられ、メチレン基、エチレン基、プロピレン基であるのが好ましく、エチレン基、プロピレン基であるのがより好ましい。
【００３０】
上記式（ＩＩ）で表される構成単位としては、具体的には、例えば、下記式（ＩＩａ）〜（ＩＩｃ）で表される構成単位が好適に挙げられる。なお、各式中、Ｒ2は、水素原子又はメチル基を表す。
【化９】
2017048285.tif 000010
【００３１】
（分子量）
上記式（ＩＩ）で表される構成単位を含む重合体の重量平均分子量は、１，０００〜２００，０００であるのが好ましく、２，０００〜５０，０００であるのがより好ましく、１０，０００〜２０，０００であるのが更に好ましい。
【００３２】
（含有量）
本発明の第１の態様においては、上記式（ＩＩ）で表される構成単位を含む重合体を含有する場合、重合体の全構成単位中、上記式（ＩＩ）で表される構成単位が１０〜７０ｍｏｌ％含有されていることが好ましく、１２〜６５ｍｏｌ％含有されていることがより好ましく、１５〜６０ｍｏｌ％含有されていることが更に好ましい。
【００３３】
＜マレイミド基を２つ以上有する化合物Ｂ２＞
本発明の第１の態様は、条件３を満たす場合、マレイミド基を２つ以上有する化合物Ｂ２を含有する。
ここで、化合物Ｂ２は、分子量が１，０００未満であるのが好ましく、２５０以上１０００未満であるのがより好ましく、２５０〜６００であるのがさらに好ましい。
【００３４】
上記化合物Ｂ２としては、具体的には、例えば、下記式Ｂ２−１〜Ｂ２−４に示す化合物等が挙げられる。
【化１０】
2017048285.tif 000011
【００３５】
（含有量）
本発明の第１の態様においては、マレイミド基を２つ以上有する化合物Ｂ２を含有する場合、マレイミド基を２つ以上有する化合物Ｂ２の含有量は、硬化性組成物の全固形成分１００質量部に対して、２０〜５０質量部が好ましく、２５〜４５質量部がより好ましい。
【００３６】
［本発明の第２の態様］
本発明の第２の態様は、本発明の第１の態様と同様、２−ピロン基を有する構成単位を含む重合体Ａ１、および／または、２−ピロン基を２つ以上有する化合物Ａ２を含有する。
ここで、重合体Ａ１および化合物Ａ２は、いずれも本発明の第１の態様で説明したものと同義である。
【００３７】
〔条件１〜３〕
本発明の第２の態様は、上述した２−ピロン基を有する構成単位を含む重合体Ａ１、および／または、上述した２−ピロン基を２つ以上有する化合物Ａ２を含有し、以下の条件１〜３の少なくとも１つを満たす、硬化性組成物である。
１：上記重合体Ａ１を含有し、上記重合体Ａ１が加熱によりマレイミド基を生じる基を有する構成単位を更に含む。
２：上記重合体Ａ１とは異なる、加熱によりマレイミド基を生じる基を有する構成単位を含む重合体Ｂ３を含有する。
３：加熱によりマレイミド基を生じる基を２つ以上有する化合物Ｂ４を含有する。
【００３８】
＜加熱によりマレイミド基を生じる基を有する構成単位＞
本発明の第２の態様は、条件１を満たす場合、上述した２−ピロン基を有する構成単位を含む重合体Ａ１は、更に加熱によりマレイミド基を生じる基を有する構成単位を有する。
また、本発明の第２の態様は、条件２を満たす場合、加熱によりマレイミド基を生じる基を有する構成単位を含む重合体Ｂ３を含有する。
【００３９】
ここで、加熱によりマレイミド基を生じる基としては、例えば、１２０〜２５０℃の温度で脱水反応等が起こり、マレイミド基を生じる基が挙げられ、具体的には、例えば、下記式（１）〜（６）で表される基が挙げられ、中でも、下記式（１）〜（４）のいずれかで表される基であるのが好ましい。
【化１１】
2017048285.tif 000012
ここで、上記式（１）〜（６）中、＊はいずれも結合位置を表す。
【００４０】
上記加熱によりマレイミド基を生じる基を有する構成単位としては、具体的には、例えば、下記式（ＩＩＩａ）〜（ＩＩＩｇ）で表される構成単位が好適に挙げられる。なお、各式中、Ｒ2は、水素原子又はメチル基を表す。
【化１２】
2017048285.tif 000013
【００４１】
（分子量）
加熱によりマレイミド基を生じる基を有する構成単位を含む重合体の重量平均分子量は、１，０００〜２００，０００であるのが好ましく、２，０００〜５０，０００であるのがより好ましく、５，０００〜３０，０００であるのが更に好ましい。
【００４２】
（含有量）
本発明の第２の態様においては、加熱によりマレイミド基を生じる基を有する構成単位を含む重合体を含有する場合、重合体の全構成単位中、加熱によりマレイミド基を生じる基を有する構成単位が１０〜７０ｍｏｌ％含有されていることが好ましく、１２〜６５ｍｏｌ％含有されていることがより好ましく、１５〜６０ｍｏｌ％含有されていることが更に好ましい。
【００４３】
＜加熱によりマレイミド基を生じる基を２つ以上有する化合物Ｂ４＞
本発明の第２の態様は、条件３を満たす場合、加熱によりマレイミド基を生じる基を２つ以上有する化合物Ｂ４を含有する。
ここで、化合物Ｂ４は、分子量が１，０００未満であるのが好ましく、２５０以上１０００未満であるのがより好ましく、２５０〜６００であるのがさらに好ましい。
【００４４】
上記化合物Ｂ４としては、具体的には、例えば、下記式Ｂ４−１〜Ｂ４−３に示す化合物等が挙げられる。
【化１３】
2017048285.tif 000014
【００４５】
（含有量）
本発明の第２の態様においては、加熱によりマレイミド基を生じる基を２つ以上有する化合物Ｂ４を含有する場合、加熱によりマレイミド基を生じる基を２つ以上有する化合物Ｂ４の含有量は、硬化性組成物の全固形成分１００質量部に対して、２０〜５０質量部が好ましく、２５〜４５質量部がより好ましい。
【００４６】
〔溶剤〕
本発明の第１の態様および第２の態様に係る硬化性組成物（以下、これらをまとめて単に「本発明の硬化性組成物」ともいう。）は、溶剤を含有するのが好ましい。
溶剤としては、公知の有機溶剤を用いることができ、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ブチレングリコールジアセテート類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、アルコール類、エステル類、ケトン類、アミド類、ラクトン類等が例示できる。これらの有機溶剤の具体例としては、特開２００９−０９８６１６号公報の段落００６２を参照できる。
【００４７】
好ましい具体例には、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、１，３−ブチレングリコールジアセテート、メトキシプロピルアセテート、シクロヘキサノールアセテート、プロピレングリコールジアセテート、テトラヒドロフルフリルアルコールが挙げられる。
【００４８】
溶剤の沸点は、塗布性の観点から１００℃〜３００℃が好ましく、１２０℃〜２５０℃がより好ましい。
本発明に用いることができる溶剤は、１種単独、又は、２種以上を併用することができる。沸点の異なる溶剤を併用することも好ましい。
溶剤を含有する場合の含有量は、塗布に適した粘度に調整するという観点から、硬化性組成物の全固形分１００質量部あたり、１００〜３，０００質量部であることが好ましく、２００〜２，０００質量部であることがより好ましく、２５０〜１，０００質量部であることが更に好ましい。
硬化性組成物の固形分濃度としては、３〜５０質量％が好ましく、２０〜４０質量％であることがより好ましい。
【００４９】
〔他の構成単位〕
本発明の硬化性組成物は、パターン形状の硬化膜を形成しやすくする観点から、上述した２−ピロン基を有する構成単位を有する重合体Ａ１や、マレイミド基または加熱によりマレイミド基を生じる基を有する構成単位を有する重合体に、例えば、酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位、酸基を有する構成単位、架橋性基を有する構成単位、エチレン性不飽和基を有する構成単位などの他の構成単位を導入してもよく、これらの構成単位を同一または異なる重合体に有する他の重合体を含有していてもよい。
これらの構成単位としては、従来公知の感光性樹脂組成物で用いられる重合体が有する構成単位を適宜採用することができ、例えば、特開２０１４−１９７１５５号公報、国際公開第２０１４／２０８６４７号に記載された各構成単位が挙げられる。
【００５０】
〔塩基性化合物〕
本発明の硬化性組成物は、塩基性化合物を含有してもよい。
塩基性化合物としては、化学増幅硬化性組成物で用いられるものの中から任意に選択して使用することができる。例えば、脂肪族アミン、芳香族アミン、複素環式アミン、第四級アンモニウムヒドロキシド、カルボン酸の第四級アンモニウム塩等が挙げられる。これらの具体例としては、特開２０１１−２２１４９４号公報の段落０２０４〜０２０７に記載の化合物が挙げられる。
【００５１】
具体的には、脂肪族アミンとしては、例えば、トリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミンなどが挙げられる。
芳香族アミンとしては、例えば、アニリン、ベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ジフェニルアミンなどが挙げられる。
複素環式アミンとしては、例えば、ピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、２−エチルピリジン、４−エチルピリジン、２−フェニルピリジン、４−フェニルピリジン、Ｎ−メチル−４−フェニルピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、ベンズイミダゾール、４−メチルイミダゾール、２−フェニルベンズイミダゾール、２，４，５−トリフェニルイミダゾール、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリン、８−オキシキノリン、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、４−メチルモルホリン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−［２−（４−モルホリニル）エチル］チオ尿素、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン、１，８−ジアザビシクロ［５．３．０］−７−ウンデセン、ブタン−１，２，３，４−テトラカルボン酸テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）などが挙げられる。
第四級アンモニウムヒドロキシドとしては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−ｎ−ヘキシルアンモニウムヒドロキシドなどが挙げられる。
カルボン酸の第四級アンモニウム塩としては、例えば、テトラメチルアンモニウムアセテート、テトラメチルアンモニウムベンゾエート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムアセテート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムベンゾエートなどが挙げられる。
これらの中でも、複素環式アミンが好ましく、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−［２−（４−モルホリニル）エチル］チオ尿素が特に好ましい。
【００５２】
塩基性化合物は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
また、塩基性化合物を含有する場合の含有量は、硬化性組成物中の全固形分１００質量部に対して、０．００１〜３質量部であることが好ましく、０．０５〜０．５質量部であることがより好ましい。
【００５３】
〔界面活性剤〕
本発明の硬化性組成物は、界面活性剤を含有してもよい。
界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系、又は、両性のいずれでも使用することができるが、好ましい界面活性剤はノニオン系界面活性剤である。界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤が好ましく、フッ素系界面活性剤がより好ましい。
第１の態様に用いることができる界面活性剤としては、例えば、市販品である、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１８３、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、同Ｆ７８０、同Ｆ７８１、同Ｆ７８１−Ｆ、同Ｒ３０、同Ｒ０８、同Ｆ−４７２ＳＦ、同ＢＬ２０、同Ｒ−６１、同Ｒ−９０（ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ−１３５、同ＦＣ−１７０Ｃ、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１、Ｎｏｖｅｃ ＦＣ−４４３０（住友スリーエム（株）製）、アサヒガードＡＧ７１０５，７０００，９５０，７６００、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５、同Ｓ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６（旭硝子（株）製）、エフトップＥＦ３５１、同３５２、同８０１、同８０２（三菱マテリアル電子化成（株）製）、フタージェント２５０（ネオス（株）製）が挙げられる。また、上記以外にも、ＫＰ（信越化学工業（株）製）、ポリフロー（共栄社化学（株）製）、エフトップ（三菱マテリアル電子化成（株）製）、メガファック（ＤＩＣ（株）製）、フロラード（住友スリーエム（株）製）、アサヒガード、サーフロン（旭硝子（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ（ＯＭＮＯＶＡ製）等の各シリーズを挙げることができる。
【００５４】
また、界面活性剤としては、特開２０１４−２３８４３８号公報段落０１５１〜０１５５に記載の化合物も好ましい例として挙げることができる。
【００５５】
界面活性剤を含有する場合の含有量は、硬化性組成物の全固形分中１００質量部に対して、０．００１〜５．０質量部が好ましく、０．０１〜２．０質量部がより好ましい。
界面活性剤は、１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
【００５６】
〔密着改良剤〕
本発明の硬化性組成物は、密着改良剤を含有してもよい。
密着改良剤としてはアルコキシシラン化合物などが挙げられる。
アルコキシシラン化合物は、基材となる無機物、例えば、シリコン、酸化シリコン、窒化シリコン等のシリコン化合物、金、銅、モリブデン、チタン、アルミニウム等の金属と絶縁膜との密着性を向上させる化合物であることが好ましい。
密着改良剤の具体例としては、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシランなどが挙げられる。これらのうち、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが好ましく、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランがより好ましい。これらは１種単独または２種以上を組み合わせて使用することができる。
密着改良剤の含有量は、硬化性組成物の全固形成分１００質量部に対し、０．００１〜１５質量部であることが好ましく、０．００５〜１０質量部であることがより好ましい。密着改良剤は、１種類のみ用いてもよいし、２種類以上用いてもよい。２種類以上用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
【００５７】
〔酸化防止剤〕
本発明の硬化性組成物は、酸化防止剤を含有してもよい。
酸化防止剤としては、公知の酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤を添加することにより、硬化膜の着色を防止できる、又は、分解による膜厚減少を低減でき、また、耐熱透明性に優れるという利点がある。
このような酸化防止剤としては、例えば、リン系酸化防止剤、アミド類、ヒドラジド類、ヒンダードアミン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、アスコルビン酸類、硫酸亜鉛、糖類、亜硝酸塩、亜硫酸塩、チオ硫酸塩、ヒドロキシルアミン誘導体等を挙げることができる。これらの中では、硬化膜の着色、膜厚減少の観点から特にフェノール系酸化防止剤、アミド系酸化防止剤、ヒドラジド系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤が好ましく、フェノール系酸化防止剤が最も好ましい。これらは１種単独で用いてもよいし、２種以上を混合してもよい。
具体例としては、特開２００５−２９５１５号公報の段落００２６〜００３１に記載の化合物を挙げることができ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
【００５８】
フェノール系酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブＡＯ−１５、アデカスタブＡＯ−１８、アデカスタブＡＯ−２０、アデカスタブＡＯ−２３、アデカスタブＡＯ−３０、アデカスタブＡＯ−３７、アデカスタブＡＯ−４０、アデカスタブＡＯ−５０、アデカスタブＡＯ−５１、アデカスタブＡＯ−６０、アデカスタブＡＯ−７０、アデカスタブＡＯ−８０、アデカスタブＡＯ−３３０、アデカスタブＡＯ−４１２Ｓ、アデカスタブＡＯ−５０３、アデカスタブＡ−６１１、アデカスタブＡ−６１２、アデカスタブＡ−６１３、アデカスタブＰＥＰ−４Ｃ、アデカスタブＰＥＰ−８、アデカスタブＰＥＰ−８Ｗ、アデカスタブＰＥＰ−２４Ｇ、アデカスタブＰＥＰ−３６、アデカスタブＰＥＰ−３６Ｚ、アデカスタブＨＰ−１０、アデカスタブ２１１２、アデカスタブ２６０、アデカスタブ５２２Ａ、アデカスタブ１１７８、アデカスタブ１５００、アデカスタブＣ、アデカスタブ１３５Ａ、アデカスタブ３０１０、アデカスタブＴＰＰ、アデカスタブＣＤＡ−１、アデカスタブＣＤＡ−６、アデカスタブＺＳ−２７、アデカスタブＺＳ−９０、アデカスタブＺＳ−９１（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、イルガノックス２４５ＦＦ、イルガノックス１０１０ＦＦ、イルガノックス１０１０、イルガノックスＭＤ１０２４、イルガノックス１０３５ＦＦ、イルガノックス１０３５、イルガノックス１０９８、イルガノックス１３３０、イルガノックス１５２０Ｌ、イルガノックス３１１４、イルガノックス１７２６、イルガフォス１６８、イルガモッド２９５（ＢＡＳＦ製）、チヌビン４０５（ＢＡＳＦ製）などが挙げられる。中でも、アデカスタブＡＯ−６０、アデカスタブＡＯ−８０、イルガノックス１７２６、イルガノックス１０３５、イルガノックス１０９８、チヌビン４０５を好適に使用することができる。
【００５９】
酸化防止剤を含有する場合の含有量は、硬化性組成物の全固形分１００質量部に対し、０．１〜１０質量％であることが好ましく、０．２〜５質量％であることがより好ましく、０．５〜４質量％であることが特に好ましい。この範囲にすることで、形成された膜の十分な透明性が得られ、かつ、パターン形成時の感度も良好となる。
【００６０】
〔その他の成分〕
本発明の硬化性組成物は、上記成分に加えて、必要に応じて、紫外線吸収剤、金属不活性化剤や、酸増殖剤、現像促進剤、可塑剤、熱ラジカル発生剤、熱酸発生剤、増粘剤、及び、有機又は無機の沈殿防止剤などの公知の添加剤を加えることができる。また、これらの化合物としては、例えば特開２０１２−８８４５９号公報の段落０２０１〜０２２４、特開２０１４−２３８４３８号公報の記載も参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
【００６１】
また、その他の添加剤としては特開２０１２−８２２３号公報の段落０１２０〜０１２１に記載の熱ラジカル発生剤、国際公開第２０１１／１３６０７４号に記載の窒素含有化合物及び熱酸発生剤も用いることができ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
【００６２】
〔硬化性組成物の調製方法〕
本発明の硬化性組成物は、各成分を所定の割合でかつ任意の方法で混合し、撹拌溶解して調製することができる。例えば、各成分を、それぞれ予め溶剤に溶解させた溶液とした後、これらを所定の割合で混合して本発明の硬化性組成物を調製することもできる。以上のように調製した組成物溶液は、例えば孔径０．２μｍのフィルター等を用いてろ過した後に、使用することもできる。
【００６３】
［硬化膜］
本発明の硬化膜は、上述した本発明の硬化性組成物を硬化して得られた硬化膜である。
ここで、硬化性組成物を硬化させる方法は特に限定されず、例えば、以下の（１）〜（３）の工程を含む方法で硬化するのが好ましい。
（１）溶剤を含有する本発明の硬化性組成物を基板に塗布する工程（塗布工程）
（２）塗布された硬化性組成物から溶剤を除去する工程（溶剤除去工程）
（３）溶剤が除去された硬化性組成物を熱硬化して硬化膜を得る工程（硬化工程）
以下に各工程を順に説明する。
【００６４】
（１）の塗布工程では、本発明の硬化性組成物を基板上に塗布して溶剤を含む湿潤膜とすることが好ましい。
【００６５】
（１）の塗布工程を行う前に、基板に対してアルカリ洗浄やプラズマ洗浄などの洗浄を行ってもよい。また、洗浄後の基板に対してヘキサメチルジシラザンなどで基板表面を処理してもよい。ヘキサメチルジシラザンで基板表面を処理する方法としては、特に限定されないが、例えば、ヘキサメチルジシラザン蒸気中に基板を晒しておく方法等が挙げられる。
基板としては、無機基板、樹脂基板、樹脂材料および無機材料の複合材料を用いた基板などが挙げられる。
無機基板としては、例えばガラス基板、石英基板、シリコーン基板、シリコンナイトライド基板、および、これらの基板上にモリブデン、チタン、アルミ、銅などを蒸着した複合基板が挙げられる。
樹脂基板としては、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、アリルジグリコールカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリベンズアゾール、ポリフェニレンサルファイド、ポリシクロオレフィン、ノルボルネン樹脂、ポリクロロトリフルオロエチレン等のフッ素樹脂、液晶ポリマー、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、アイオノマー樹脂、シアネート樹脂、架橋フマル酸ジエステル、環状ポリオレフィン、芳香族エーテル、マレイミドーオレフィン、セルロース、エピスルフィド化合物等の合成樹脂からなる基板が挙げられる。
これらの基板は、最終製品の形態によって、例えば、薄膜トランジスター（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）素子のような多層積層構造が形成されていてもよい。
【００６６】
基板への硬化性組成物の塗布方法は特に限定されず、例えば、スリットコート法、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法、流延塗布法、スリットアンドスピン法等の方法を用いることができる。
スリットコート法の場合には基板とスリットダイとの相対移動速度を５０〜１２０ｍｍ／ｓｅｃとすることが好ましい。
硬化性組成物を塗布したときの湿潤膜厚は特に限定されるものではなく、用途に応じた膜厚で塗布することができる。例えば、０．５〜１０μｍが好ましい。
基板に本発明の硬化性組成物を塗布する前に、特開２００９−１４５３９５号公報に記載されているような、所謂プリウェット法を適用することも可能である。
【００６７】
（２）の溶剤除去工程では、硬化性組成物を塗布して形成した上記の湿潤膜から、減圧（バキューム）および／または加熱等により、溶剤を除去して基板上に乾燥膜（硬化性組成物層）を形成させる。溶剤除去工程の加熱条件は、好ましくは７０〜１３０℃で３０〜３００秒間程度である。
【００６８】
（３）の硬化工程では、硬化性組成物層を加熱することにより、ピロン基とマレイミド基（加熱により生じたマレイミド基も含む）とのディールスアルダー反応が進行し、硬化膜を形成することができる。この加熱は、ホットプレートやオーブン等の加熱装置を用いて行うことが好ましい。加熱温度は２００℃〜３５０℃が好ましく、２５０℃〜３５０℃がより好ましい。加熱時間は、ホットプレート上なら５〜９０分間、オーブンなら３０〜１２０分間が好ましい。また、加熱処理を行う際は窒素雰囲気下で行うことにより、透明性をより向上させることもできる。
硬化工程の前に、比較的低温でのベーク（以下、「ミドルベーク」という。）を行った後に硬化工程を行うこともできる。ミドルベークを行う場合は、９０〜１５０℃で１〜６０分加熱した後に、２００℃以上の高温で硬化反応を行うことが好ましい。
【００６９】
本発明の硬化膜は、比誘電率が低く、かつ、高い硬度を有するため、層間絶縁膜および保護膜として好適に用いることができる。
また、本発明の硬化膜は、高い透明性を有するため、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、タッチパネル等の用途に有用である。
【００７０】
本発明の硬化膜は、ドライエッチングレジストとして使用することもできる。本発明の硬化膜をドライエッチングレジストとして使用する場合、エッチング処理としてはアッシング、プラズマエッチング、オゾンエッチングなどのドライエッチング処理を行うことができる。
【００７１】
［液晶表示装置］
本発明の液晶表示装置は、本発明の硬化膜を有する。
本発明の液晶表示装置としては、本発明の硬化性組成物を用いて形成される平坦化膜や層間絶縁膜を有すること以外は特に制限されず、様々な構造をとる公知の液晶表示装置を挙げることができる。
例えば、本発明の液晶表示装置が具備する薄膜トランジスター（ＴＦＴ）の具体例としては、アモルファスシリコン−ＴＦＴ、低温ポリシリコンーＴＦＴ、酸化物半導体ＴＦＴ等が挙げられる。本発明の硬化膜は電気特性に優れるため、これらのＴＦＴに組み合わせて好ましく用いることができる。
また、本発明の液晶表示装置が取りうる液晶駆動方式としてはＴＮ（ＴｗｉｓｔｅｄＮｅｍａｔｉｃ）方式、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｅｎｄ）方式などが挙げられる。
パネル構成においては、ＣＯＡ（Ｃｏｌｏｒ  Ｆｉｌｔｅｒ  ｏｎ  Ａｌｌａｙ）方式の液晶表示装置でも本発明の硬化膜を用いることができ、例えば、特開２００５−２８４２９１号公報の有機絶縁膜（１１５）や、特開２００５−３４６０５４号公報の有機絶縁膜（２１２）として用いることができる。
また、本発明の液晶表示装置が取りうる液晶配向膜の具体的な配向方式としてはラビング配向法、光配向方などが挙げられる。また、特開２００３−１４９６４７号公報や特開２０１１−２５７７３４号公報に記載のＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）技術によってポリマー配向支持されていてもよい。
また、本発明の硬化膜は、上記用途に限定されず種々の用途に使用することができる。例えば、平坦化膜や層間絶縁膜以外にも、カラーフィルターの保護膜や、液晶表示装置における液晶層の厚みを一定に保持するためのスペーサーや固体撮像素子においてカラーフィルター上に設けられるマイクロレンズ等に好適に用いることができる。
液晶表示装置の詳細については、特開２００７−３２８２１０号公報および特開２０１４−２３８４３８号公報の記載を参酌できる。
【００７２】
［有機エレクトロルミネッセンス表示装置］
本発明の有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置は、本発明の硬化膜を有する。
本発明の有機ＥＬ表示装置としては、本発明の感光性樹脂組成物を用いて形成される平坦化膜や層間絶縁膜を有すること以外は特に制限されず、様々な構造をとる公知の各種有機ＥＬ表示装置を挙げることができる。
例えば、本発明の有機ＥＬ表示装置が具備するＴＦＴの具体例としては、アモルファスシリコン−ＴＦＴ、低温ポリシリコンーＴＦＴ、酸化物半導体ＴＦＴ等が挙げられる。本発明の硬化膜は電気特性に優れるため、これらのＴＦＴに組み合わせて好ましく用いることができる。
有機ＥＬ表示装置の詳細については、特開２０１４−２３８４３８号公報の記載を参酌できる。
【００７３】
［タッチパネル］
本発明のタッチパネルは、絶縁層及び／又は保護層の、全部又は一部が本発明の硬化膜からなるタッチパネルである。また、本発明のタッチパネルは、透明基板、電極及び絶縁層及び／又は保護層を少なくとも有することが好ましい。
静電容量方式のタッチパネルとしては、特開２０１０−２８１１５号公報に開示されるものや、国際公開第２０１２／０５７１６５号に開示されるものが挙げられる。
静電容量方式のタッチパネルは、前面板と、前面板の非接触側に、少なくとも下記（１）〜（５）の要素を有し、（４）の絶縁層が本発明の感光性樹脂組成物を用いた硬化膜であることが好ましい。
（１）額縁層
（２）複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン
（３）第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の透明電極パターン
（４）第一の透明電極パターンと第二の透明電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層
（５）第一の透明電極パターンおよび第二の透明電極パターンの少なくとも一方に電気的に接続され、第一の透明電極パターンおよび第二の透明電極パターンとは別の導電性要素
静電容量方式のタッチパネルは、さらに上記（１）〜（５）の要素の全てまたは一部を覆うように透明保護層を設置することが好ましく、透明保護層が本発明の第１の態様の硬化膜又は第２の態様の硬化膜であることがより好ましい。
【実施例】
【００７４】
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。
【００７５】
〔モノマー（単量体）〕
＜モノマーａ−１の合成＞
アセトニトリル（１８０ｍＬ）中に、４−ヒドロキシ−６−メチル−２−ピロン（和光純薬工業（株）製、９０．０ｇ、０．７１ｍｏｌ）を添加して攪拌し、トリエチルアミン（和光純薬工業（株）製、１０８．３ｇ、１．０７ｍｏｌ）、次いで３−ブロモ−１−プロパノール（和光純薬工業（株）製、９９．２ｇ、０．７１ｍｏｌ）を滴下し、還流下で６時間加熱攪拌した。放冷後、蒸留水（６３０ｍＬ）、酢酸エチル（６３０ｍＬ）を添加して分液し、水層を酢酸エチル（３６０ｍＬ）で２回抽出した。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、ろ過、減圧濃縮して、下記中間体ａ−１Ａの粗体を４９．６ｇ得た。
【化１４】
2017048285.tif 000015
続いて、得られた中間体ａ−１Ａ（４７．５ｇ、０．２６ｍｏｌ）をアセトン（２００ｍＬ）に溶解し、氷冷下でトリエチルアミン（和光純薬工業（株）製、３９．２ｇ、０．３９ｍｏｌ）を滴下後、メタクリロイルクロリド（東京化成工業（株）製、２９．７ｇ、０．２８ｍｏｌ）とアセトン（２５ｍＬ）の混合液を滴下し、室温まで昇温して１時間攪拌した。次いで、蒸留水（３００ｍＬ）、酢酸エチル（３００ｍＬ）を添加して分液し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、ろ過、減圧濃縮してａ−１の粗体（５２．６ｇ）を得た。得られた粗体をシリカラムカラムクロマトグラフィー精製して、下記モノマーａ−１を３２．８ｇ得た（２工程収率：１８％）。
【化１５】
2017048285.tif 000016
【００７６】
＜モノマーａ−２の合成＞
モノマーａ−１の合成で用いた３−ブロモ−１−プロパノールに代えて、２−ブロモエタノール（和光純薬工業（株）製）を用いた以外は、モノマーａ−１の合成と同様にして、下記モノマーａ−２を合成した。
【化１６】
2017048285.tif 000017
【００７７】
＜モノマーａ−３の合成＞
モノマーａ−１の合成で用いた中間体ａ−１Ａに代えて、４−ヒドロキシ−６−メチル−２−ピロン（和光純薬工業（株）製）を用いた以外は、モノマーａ−１の合成と同様にして、下記モノマーａ−３を合成した。
【化１７】
2017048285.tif 000018
【００７８】
＜モノマーａ−４の合成＞
モノマーａ−１の合成で用いた３−ブロモ−１−プロパノールに代えて、４−クロロメチルスチレン（東京化成工業（株）製）を用いた以外は、モノマーａ−１の合成と同様にして、下記モノマーａ−４を合成した。
【化１８】
2017048285.tif 000019
【００７９】
＜モノマーｂ−４の合成＞
４−ビニルアニリン（東京化成工業（株）製、１０．０ｇ、０．０８４ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ、５０ｍＬ）に溶解し、氷冷下、ｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸（和光純薬工業（株）製、１２．９ｇ、０．０８４ｍｏｌ）を添加した。室温まで昇温後、４時間攪拌させた後、酢酸エチルを添加してリスラリーし、ろ過、乾燥して、下記中間体ｂ−４Ａを２１．５ｇ得た（収率９４％）。
【化１９】
2017048285.tif 000020
続いて、得られた中間体ｂ−４Ａ（１０．０ｇ、０．０３７ｍｏｌ）を無水酢酸（和光純薬工業（株）製、３７．６ｇ、０．３７ｍｏｌ）、酢酸ナトリウム（１．８１ｇ、０．０２２ｍｏｌ）、フェノチアジン（０．００２ｇ）と混合し、９０℃で２時間加熱攪拌した。放冷後、蒸留水（３００ｍＬ）に注ぎ込み、析出した結晶をろ過して回収した後、メタノールでリスラリーしてろ過、乾燥し、下記モノマーｂ−４を７．８ｇ得た（収率８４％）。
【化２０】
2017048285.tif 000021
【００８０】
＜モノマーｂ−５の合成＞
モノマーｂ−４の合成で用いたｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸に代えて、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物（和光純薬工業（株）製）を用いた以外は、モノマーｂ−４の合成と同様にして、下記モノマーｂ−５を合成した。
【化２１】
2017048285.tif 000022
【００８１】
＜モノマーｂ−６の合成＞
モノマーｂ−４の合成で用いたｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸に代えて、ｅｘｏ−３，６−エポキシ−１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸無水物（東京化成工業（株）製）を用いた以外は、モノマーｂ−４の合成と同様にして、下記モノマーｂ−６を合成した。
【化２２】
2017048285.tif 000023
【００８２】
＜モノマーｂ−７の合成＞
モノマーｂ−４の合成で用いたｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸に代えて、２−ブロモコハク酸無水物を用いた以外は、モノマーｂ−４の合成と同様にして、下記モノマーｂ−７を合成した。
【化２３】
2017048285.tif 000024
【００８３】
＜モノマーｂ−８の合成＞
モノマーｂ−４の合成で用いたｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸に代えて、シクロブタン−１，２−ジカルボン酸（Ａｃｒｏｓ  Ｏｒｇａｎｉｃｓ製）を用いた以外は、モノマーｂ−４の合成と同様にして、下記モノマーｂ−７を合成した。
【化２４】
2017048285.tif 000025
【００８４】
＜モノマーｂ−９の合成＞
モノマーｂ−４の合成で用いた４−ビニルアニリンに代えて、４−ビニルベンジルアミン（東京化成工業（株）製）を用いた以外は、モノマーｂ−４の合成と同様にして、下記モノマーｂ−９を合成した。
【化２５】
2017048285.tif 000026
【００８５】
＜モノマーｄ−１＞
下記モノマーｄ−１は、市販のグリシジルメタクリレート（和光純薬工業（株）製）を用いた。
【化２６】
2017048285.tif 000027
【００８６】
＜モノマーｄ−２の合成＞
メタクリル酸（和光純薬工業（株）製、８６ｇ、１ｍｏｌ）を１５℃に冷却しておき、カンファースルホン酸（東京化成工業（株）製、４．６ｇ、０．０２ｍｏｌ）添加した。
次いで、反応溶液に、２，３−ジヒドロフラン（川研ファインケミカル（株）製、７１ｇ、１ｍｏｌ、１．０当量）を滴下した。
１時間撹拌した後に、飽和炭酸水素ナトリウム（５００ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５００ｍＬ）で抽出した。
次いで、硫酸マグネシウムで乾燥させた後、不溶物を濾過後４０℃以下で減圧濃縮し、さらに残渣の黄色油状物を減圧蒸留することにより、下記式で表されるモノマーｄ−２として、沸点（ｂｐ．）５４〜５６℃／３．５ｍｍＨｇ留分のメタクリル酸テトラヒドロ−２Ｈ−フラン−２−イルを無色油状物として１２５ｇ得た（収率８０％）。
【化２７】
2017048285.tif 000028
【００８７】
〔（Ａ）成分〕
＜重合体Ａ１−１の合成＞
三つ口フラスコに、Ｎ−メチルピロリドン（以下、「ＮＭＰ」と略す。）（４３．５ｇ）を入れ、窒素雰囲気下において７０℃に昇温した。
次いで、予め、メタクリル酸メチル（以下、「ＭＭＡ」と略す。）（全単量体成分中の４０ｍｏｌ％となる量）、上述したモノマーａ−１（全単量体成分中の６０ｍｏｌ％となる量）、４−メトキシフェノール（全単量体成分の合計１００重量％に対して０．３％に相当）、および、Ｖ−６５（全単量体成分の合計１００ｍｏｌ％に対して４．７ｍｏｌ％に相当）を、ＮＭＰ（４３．５ｇ）に室温で溶解させた溶液を、２時間かけて滴下した。
滴下終了後、２時間撹拌し、更に、Ｖ−６５（全単量体成分の合計１００ｍｏｌ％に対して１．１７ｍｏｌ％に相当）を添加して８０℃で２時間撹拌した後、反応を終了させて重合体Ａ１−１を得た。
なお、溶剤は、溶剤以外の成分（固形分）の濃度が２５質量％になるよう調整して添加した。また、得られた重合体Ａ１−１のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した重量平均分子量は、１２，０００であった。
【００８８】
＜重合体Ａ１−２〜Ａ１−７の合成＞
モノマーの種類を、下記第１表に従って変更した以外は、重合体Ａ１−１と同様の方法で、下記重合体Ａ１−２〜Ａ１−７を合成した。
なお、下記第１表の各単量体成分の欄に記載した数値は、単量体成分の総量に対するそれぞれの単量体の使用量（ｍｏｌ％）である。また、重合開始剤の欄に記載した数値は、単量体成分の総量を１００ｍｏｌ％とした場合の、ｍｏｌ％である。また、実施例で用いている略語は、以下の通りである。
＜略語＞
・ＭＡＡ：メタクリル酸（和光純薬工業（株）製）
・ＭＭＡ：メタクリル酸メチル（和光純薬工業（株）製）
・Ｖ−６５：ラジカル重合開始剤 ２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）（和光純薬工業（株）製）
・ＮＭＰ：Ｎ−メチルピロリドン（和光純薬工業（株）製）
【００８９】
【表１】
2017048285.tif 000029
【化２８】
2017048285.tif 000030
2017048285.tif 000031
2017048285.tif 000032
2017048285.tif 000033
2017048285.tif 000034
【００９０】
＜重合体Ａ１−８の合成＞
ＮＭＰ（１２．０２ｇ）を窒素気流下、９０℃に加熱撹拌した。
次いで、上記モノマーａ−１（３．４１ｇ（全単量体成分中の２５ｍｏｌ％に相当））、４−ビニルベンジルアミン（２．１６ｇ（全単量体成分中の３０ｍｏｌ％に相当））、ＭＭＡ（２．４４ｇ（全単量体成分中の４５ｍｏｌ％に相当））、ラジカル重合開始剤Ｖ−６０１（０．４７ｇ）、および、ＮＭＰ（１２．０２ｇ）の混合溶液を２時間かけて滴下し、さらに２時間９０℃で反応させ、重合体Ａ１−８の中間体Ａ１−８−Ｂの溶液を得た。
得られたＡ１−８−Ｂの溶液に、無水マレイン酸（和光純薬工業（株）製、１．５９ｇ、０．０１６ｍｏｌ）を添加し、１時間攪拌した。反応液を蒸留水（１００ｍＬ）に注ぎ込み、析出した結晶をろ過、乾燥して、Ａ１−８の中間体Ａ１−８−Ａを得た。
得られたＡ１−８−Ａに無水酢酸（和光純薬工業（株）製、１６．５５ｇ、０．１６ｍｏｌ）、酢酸ナトリウム（和光純薬工業（株）製、０．８０ｇ、０．０１ｍｏｌ）、ＢＨＴ（０．００１ｇ）を添加し、９０℃で１時間加熱攪拌した。放冷後、蒸留水（１５０ｍＬ）に注ぎ込み、析出した結晶をろ過して回収した後、メタノールでリスラリーしてろ過、乾燥し、下記重合体Ａ１−８の固体８．３ｇを得た。最後に、得られた固体をＮＭＰに再溶解させ、２５質量％の溶液とした。
得られた重合体Ａ１−８のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した重量平均分子量（Ｍｗ）は、８５００であった。
【化２９】
2017048285.tif 000035
【００９１】
＜化合物Ａ２−１の合成＞
アセトニトリル（８０ｍＬ）中に、４−ヒドロキシ−６−メチル−２−ピロン（和光純薬工業（株）製）、１２．６ｇ、０．１０ｍｏｌ）を添加して攪拌した後、トリエチルアミン（和光純薬工業（株）製、３０．３ｇ、０．３０ｍｏｌ）、および、１，４−ジブロモブタン（東京化成工業（株）製、１０．８ｇ、０．０５ｍｏｌ）をこの順で滴下し、還流下で６時間加熱攪拌した。
放冷後、蒸留水（２００ｍＬ）、酢酸エチル（２００ｍＬ）を添加して分液した。
得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、ろ過、減圧濃縮して化合物Ａ２−１の粗体を得た。得られた粗体をヘキサン／酢酸エチルでリスラリーして、ろ過、乾燥し、下記化合物Ａ２−１を８．２ｇ得た（収率２７％）。
【化３０】
2017048285.tif 000036
【００９２】
＜化合物Ａ２−２の合成＞
Ａ２−１の合成で用いた９−ヒドロキシメチルアントラセンに代えて、クマリン酸（東京化成工業（株）製）を用いた以外は、Ａ２−１の合成と同様にして、下記化合物Ａ２−２を合成した。
【化３１】
2017048285.tif 000037
【００９３】
＜化合物Ａ２−３の合成＞
Ａ２−１の合成で用いた１，４−ジブロモブタンに代えて、ペンタエリトリチルテトラブロミド（東京化成工業（株）製）を用いた以外は、Ａ２−１の合成と同様にして、下記化合物Ａ２−３を合成した。
【化３２】
2017048285.tif 000038
【００９４】
〔（Ｂ）成分〕
＜重合体Ｂ１−１の合成＞
ＮＭＰ（１２．８０ｇ）を窒素気流下、９０℃に加熱撹拌した。
次いで、４−ビニルアニリン（５．４７ｇ（全単量体成分中の６０ｍｏｌ％に相当））、ＭＭＡ（３．０６ｇ（全単量体成分中の４０ｍｏｌ％に相当））、ラジカル重合開始剤Ｖ−６０１（０．６７ｇ）、および、ＮＭＰ（１２．８０ｇ）の混合溶液を２時間かけて滴下し、さらに２時間９０℃で反応させ、重合体Ｂ１−１の中間体Ｂ１−１−Ｂの溶液を得た。
得られた中間体Ｂ１−１−Ｂの溶液に、無水マレイン酸（和光純薬工業（株）製、５．２８ｇ、０．０５４ｍｏｌ）を添加し、１時間攪拌した。反応液を蒸留水（１５０ｍＬ）に注ぎ込み、析出した結晶をろ過、乾燥して、Ｂ１−１の中間体Ｂ１−１−Ａを得た。
得られた中間体Ｂ１−１−Ａに無水酢酸（和光純薬工業（株）製、５５ｇ、０．５４ｍｏｌ）、酢酸ナトリウム（和光純薬工業（株）製、２．６５ｇ、０．０３２ｍｏｌ）、ＢＨＴ（０．００２ｇ）を添加し、９０℃で１時間加熱攪拌した。放冷後、蒸留水（２００ｍＬ）に注ぎ込み、析出した結晶をろ過して回収した後、メタノールでリスラリーしてろ過、乾燥し、下記重合体Ｂ１−１の固体１１．２ｇを得た。最後に、得られた固体をＮＭＰに再溶解させ、２５質量％の溶液とした。
得られた重合体Ｂ１−１のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した重量平均分子量（Ｍｗ）は、８０００であった。
【化３３】
2017048285.tif 000039
【００９５】
＜重合体Ｂ１−２の合成＞
Ｂ１−１の合成で用いた４−ビニルアニリンに代えて、４−ビニルベンジルアミン（東京化成工業（株）製）を用いた以外は、Ｂ１−１の合成と同様にして、下記重合体Ｂ１−２のＮＭＰ溶液（固形分濃度：２５％）を合成した。
得られた重合体Ｂ１−２のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した重量平均分子量（Ｍｗ）は、８８００であった。
【化３４】
2017048285.tif 000040
【００９６】
＜重合体Ｂ１−３の合成＞
Ｂ１−１の合成で用いた４−ビニルアニリンに代えて、塩酸２−アミノエチルメタクリレート（Ａｌｄｒｉｃｈ製）とトリエチルアミン（和光純薬工業（株）製、塩酸２−アミノエチルメタクリレートに対して１５０ｍｏｌ％添加）を用いた以外は、Ｂ１−１の合成と同様にして、下記重合体Ｂ１−３のＮＭＰ溶液（固形分濃度：２５％）を合成した。
得られた重合体Ｂ１−３のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した重量平均分子量（Ｍｗ）は、８６００であった。
【化３５】
2017048285.tif 000041
【００９７】
＜重合体Ｂ３−１〜Ｂ３−７の合成＞
モノマーの種類を、下記第２表に従って変更した以外は、重合体Ａ１−１と同様の方法で、重合体Ｂ３−１〜Ｂ３−７を合成した。
なお、下記第２表の各単量体成分の欄に記載した数値は、単量体成分の総量に対するそれぞれの単量体の使用量（ｍｏｌ％）である。また、重合開始剤の欄に記載した数値は、単量体成分の総量を１００ｍｏｌ％とした場合の、ｍｏｌ％である。
【００９８】
【表２】
2017048285.tif 000042
【化３６】
2017048285.tif 000043
2017048285.tif 000044
2017048285.tif 000045
2017048285.tif 000046
【００９９】
＜マレイミド基を２つ以上有する化合物Ｂ２＞
マレイミド基を２つ以上有する化合物Ｂ２として、下記構造式で表される化合物Ｂ２−１〜Ｂ２−４を用いた。
・Ｂ２−１：ビス（３−エチル−５−メチル−４−マレイミドフェニル）メタン（東京化成工業（株）製）
・Ｂ２−２：１，４−ビス（マレイミド）ブタン（東京化成工業（株）製）
・Ｂ２−３：下記構造のビスマレイミド（合成品）
・Ｂ２−４：２，２−ビス［４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル］プロパン（ＢＭＩ−４０００（大和化成工業（株）製））
【化３７】
2017048285.tif 000047
【０１００】
（化合物Ｂ２−３の合成方法）
２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン（東京化成工業（株）製、２５．０ｇ、０．０７５ｍｏｌ）とＴＨＦ（５０ｍＬ）を混合して攪拌し、無水マレイン酸（和光純薬工業（株）製、１４．７ｇ、０．１５ｍｏｌ）を徐々に添加して１時間攪拌した。析出した固体をろ過し、酢酸エチルで洗浄して、Ｂ２−３の中間体Ｂ２−３Ａを３８．０ｇ得た（収率９６％）。
【化３８】
2017048285.tif 000048
続いて、得られたＢ２−３Ａ（３５．０ｇ、０．０６６ｍｏｌ）に無水酢酸（和光純薬工業（株）製、１３４．７ｇ、１．３２ｍｏｌ）、酢酸ナトリウム（和光純薬工業（株）製、６．４９ｇ、０．０７９ｍｏｌ）、ＢＨＴ（０．０３ｇ）を添加し、９０℃で２時間加熱攪拌した。放冷後、蒸留水（５００ｍＬ）に注ぎ込み、析出した結晶をろ過して回収した後、メタノールでリスラリーしてろ過、乾燥し、上記化合物Ｂ２−３を２８．８ｇ得た（収率８８％）。
【０１０１】
＜加熱によりマレイミド基を生じる基を２つ以上有する化合物Ｂ４＞
（化合物Ｂ４−１の合成）
Ｂ２−３の合成で用いた２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパンに代えて４，４’−メチレンビス（２−エチル−６−メチルアニリン）（東京化成工業（株）製）を用い、無水マレイン酸に代えてｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸（和光純薬工業（株）製）を用いた以外は、Ｂ２−３の合成と同様にして、下記化合物Ｂ４−１を合成した。
【化３９】
2017048285.tif 000049
【０１０２】
（化合物Ｂ４−２の合成）
Ｂ４−１の合成で用いたｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸に代えて、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物（和光純薬工業（株）製）を用いた以外は、Ｂ４−１の合成と同様にして、下記化合物Ｂ４−２を合成した。
【化４０】
2017048285.tif 000050
【０１０３】
（化合物Ｂ４−３の合成）
Ｂ４−１の合成で用いたｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸に代えて、ｅｘｏ−３，６−エポキシ−１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸無水物（和光純薬工業（株）製）を用いた以外は、Ｂ４−１の合成と同様にして、下記化合物Ｂ４−３を合成した。
【化４１】
2017048285.tif 000051
【０１０４】
〔溶剤〕
溶剤として、下記の溶剤Ｃ−１〜Ｃ−３を用いた。
Ｃ−１：Ｎ−メチルピロリドン（和光純薬工業（株）製）
Ｃ−２：プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート（ＰＧＭＥＡ、（株）ダイセル製）
Ｃ−３：ジエチレングリコールエチルメチルエーテル（ＨＳ−ＥＤＭ、（株）ダイセル製）
【０１０５】
〔他の重合体〕
＜重合体Ｄ−１〜Ｄ−３の合成＞
モノマーの種類を、下記第３表に従って変更した以外は、重合体Ａ１−１と同様の方法で、重合体Ｄ−１〜Ｄ−３を合成した。
なお、下記第３表の各単量体成分の欄に記載した数値は、単量体成分の総量に対するそれぞれの単量体の使用量（ｍｏｌ％）である。また、重合開始剤の欄に記載した数値は、単量体成分の総量を１００ｍｏｌ％とした場合の、ｍｏｌ％である。
【０１０６】
【表３】
2017048285.tif 000052
【化４２】
2017048285.tif 000053
2017048285.tif 000054
2017048285.tif 000055
【０１０７】
〔重合性単量体〕
Ｅ−１：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）
Ｅ−２：アロニックスＴＯ−２３４９（５官能、東亞合成（株）製）
【０１０８】
〔光重合開始剤／光酸発生剤〕
Ｆ−１：下記構造のオキシムエステル化合物（合成品）
Ｆ−２：下記構造のオキシムスルホネート化合物（合成品）
【化４３】
2017048285.tif 000056
2017048285.tif 000057
【０１０９】
〔塩基性化合物〕
Ｇ−１：下記構造の化合物（ＤＳＰ五協フード＆ケミカル（株）製）
【化４４】
2017048285.tif 000058
【０１１０】
〔界面活性剤〕
Ｗ−１：メガファックＦ５５４  （ＤＩＣ（株）製）、フッ素系界面活性剤
【０１１１】
〔実施例１〜３２および比較例１〜４〕
下記第４表に示す各成分を溶剤（ＰＧＭＥＡ）に固形分濃度が１８質量％となるまで溶解混合し、口径０．２μｍのポリテトラフルオロエチレン製フィルターでろ過して、各実施例および比較例の硬化性組成物を得た。なお、下記第４表中の添加量は各成分の固形分での添加量を表し、単位は質量部である。
【０１１２】
〔比較例５〕
特許文献１（特開２００５−３０７１８３号公報）の実施例１と同様の硬化性組成物を調製した。
【０１１３】
【表４】
2017048285.tif 000059
【０１１４】
〔比誘電率の評価〕
ベアウエハ（Ｎ型低抵抗）（ＳＵＭＣＯ社製）上に、上記の各硬化性組成物をシクロヘキサノンで２．５倍に希釈してスピンコート塗布した後、９０℃、１２０秒のプリベークを行い、膜厚０．３５μｍの硬化性組成物層を形成した。
次に、オーブンにて２３０℃で１時間加熱することにより、硬化膜を作製した。
この硬化膜について、ＣＶｍａｐ９２Ａ（Ｆｏｕｒ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎｓ  Ｉｎｃ．社製）を用い、測定周波数１ＭＨｚで比誘電率を測定した。結果を下記第５表に示す。
なお、基準４または３は実用上問題がない好ましい範囲であり、基準２または１は問題があると判断した。
４：比誘電率が３．２未満である。
３：比誘電率が３．２以上３．４未満である。
２：比誘電率が３．４以上３．８未満である。
１：比誘電率が３．８以上である。
【０１１５】
〔硬度の評価（その１）〕
実施例１〜２９および比較例１〜５で調製した各硬化性組成物を、ガラス基板（ＥＡＧＬＥ ＸＧ、０．７ｍｍ厚（コーニング社製））上にスピンコートし、９０℃、１２０秒のプリベークを行い、膜厚３．０μｍの硬化性組成物層を得た。
次にオーブンで２３０℃、６０分間ベークを行うことにより硬化膜を作製した。
この硬化膜に対して、ＪＩＳ Ｋ５６００に準拠した方法（荷重７５０ｇ）で鉛筆硬度試験を行い、硬度を評価した。結果を下記第５表に示す。３Ｈ以上で実用上問題がない程度に好ましく、４Ｈ以上がより好ましい。
【０１１６】
〔硬度の評価（その２）〕
実施例３０で調製した硬化性組成物を、ガラス基板（ＥＡＧＬＥ ＸＧ、０．７ｍｍ厚（コーニング社製））上にスピンコートし、９０℃、１２０秒のプリベークを行い、膜厚３．０μｍの硬化性組成物層を得た。
次に、得られた硬化性組成物層を、キヤノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）を用いて、所定のマスクを介して３０ｍＪ／ｃｍ2で露光した。露光後の膜にベタつきや硬化不良は見られなかった。
次いで、オーブンにて２３０℃で１時間加熱することにより、硬化膜を作製した。
得られた硬化膜に対して、ＪＩＳ Ｋ５６００に準拠した方法（荷重７５０ｇ）で鉛筆硬度試験を行い、硬度を評価した。結果を下記第５表に示す。３Ｈ以上で実用上問題がない程度に好ましく、４Ｈ以上がより好ましい。
【０１１７】
〔硬度の評価（その３）〕
実施例３１および３２で調製した各硬化性組成物を、ガラス基板（コーニング１７３７、０．７ｍｍ厚（コーニング社製））上にスリット塗布した後、９０℃、１２０秒のプリべークを行い、膜厚３．０μｍの硬化性組成物層を形成した。
次に、得られた硬化性組成物層を、キヤノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）を用いて、所定のマスクを介して露光した。そして、露光後の硬化性組成物層を、アルカリ現像液（０．７重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）で２３℃、６０秒間現像した後、超純水で２０秒リンスした。
これらの操作により、実施例３１および３２ともに１００ｍＪ／ｃｍ2未満のｉ線露光量によって２０μｍのライン＆スペースパターンを解像できた。
次いで、オーブンにて２３０℃で１時間加熱することにより、硬化膜を作製した。得られた硬化膜に対して、ＪＩＳ  Ｋ５６００に準拠した方法（荷重７５０ｇ）で鉛筆硬度試験を行い、硬度を評価した。結果を下記第５表に示す。３Ｈ以上で実用上問題がない程度に好ましく、４Ｈ以上がより好ましい。
【０１１８】
【表５】
2017048285.tif 000060
【０１１９】
第４表および第５表に示す結果から、２−ピロン基を有する重合体または化合物、および、マレイミド基もしくは加熱によりマレイミド基を生じる基を有する重合体または化合物をいずれも配合しない場合は、比誘電率および硬度のいずれか一方が劣ることが分かった（比較例１〜２）。
また、２−ピロン基を有する重合体を配合し、マレイミド基もしくは加熱によりマレイミド基を生じる基を有する重合体または化合物を配合しない場合は、比誘電率および硬度のいずれかにも劣ることが分かった（比較例３）。
また、２−ピロン基を有する重合体を配合せず、マレイミド基もしくは加熱によりマレイミド基を生じる基を有する重合体または化合物を配合した場合は、比誘電率および硬度のいずれかにも劣ることが分かった（比較例４）。
また、特許文献１（特開２００５−３０７１８３号公報）の実施例１と同様の硬化性組成物では、比誘電率は低いが、硬度が劣ることが分かった（比較例５）。
【０１２０】
これに対し、２−ピロン基を有する重合体または化合物、および、マレイミド基もしくは加熱によりマレイミド基を生じる基を有する重合体または化合物をいずれも配合する場合は、いずれも得られる硬化膜の比誘電率が低く、かつ、硬度が高くなることが分かった（実施例１〜３２）。
また、実施例３０〜３２に示す通り、光硬化性の重合性単量体を添加したり、いわゆる化学増幅型の感光性樹脂組成物として利用したりしても、比誘電率が低く、かつ、硬度が高くなる効果を維持できることが分かった。