(57)【要約】      （修正有）【課題】高温高湿環境での長期間にわたる加重を受けても変形が生じにくく、安定して高品位な電子写真画像の形成が可能な電子写真用部材を提供する。【解決手段】導電性の基体および該基体上の導電性の樹脂層を有する電子写真用部材であって、該樹脂層が、特定の構造を有するカチオンと、特定のアニオンとを含む。【選択図】図１
2017049579.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性の基体および該基体上の導電性の樹脂層を有する電子写真用部材であって、
該樹脂層は、下記構造式（１）〜（６）からなる群から選択されるいずれかの構造を有するカチオンと、アニオンとを含み、
該アニオンは、フルオロアルキルスルホニルイミドアニオン及びフルオロスルホニルイミドアニオンからなる群から選択される少なくとも１つであることを特徴とする電子写真用部材：
Ａ１１−Ｒ１０１−Ａ１２    （１）
（構造式（１）中、Ａ１１およびＡ１２は、各々独立に、下記構造式（Ａ１０１）〜（Ａ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、
Ｒ１０１は、Ａ１１とＡ１２との間に、炭素数４個以上の直鎖に相当する距離を持たせるための、炭素数４個以上の直鎖部分を有する連結基を表す。）
【化１】
2017049579.tif 000089
（構造式（２）中、Ａ１３およびＡ１４は、各々独立に、下記構造式（Ａ１０１）〜（Ａ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、Ｒ１０２およびＲ１０３は、各々独立に、炭素数１以上４以下の２価の炭化水素基を表し、Ｒ１０４は炭素数１以上４以下の１価の炭化水素基を表し、ｄ１は０または１の整数を表す。）
【化２】
2017049579.tif 000090
（構造式（３）中、Ａ１５およびＡ１６は、各々独立に、下記構造式（Ａ１０１）〜（Ａ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、Ｒ１０５およびＲ１０６は、各々独立に、炭素数１以上４以下の２価の炭化水素基を表し、Ｒ１０７は炭素数１以上４以下の１価の炭化水素基を表し、ｄ２は０または１の整数を表す。）
【化３】
2017049579.tif 000091
（構造式（４）中、Ａ１７およびＡ１８は、各々独立に、下記構造式（Ａ１０１）〜（Ａ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、ｎ１は１以上４以下の整数を表す。Ｒ１０８及びＲ１０９は、Ａ１７とＡ１８との間に、少なくとも４個の炭素原子と１個の酸素原子とからなる直鎖に相当する距離を持たせるための連結基の一部を構成し、各々独立に、炭素数２以上４以下の２価の炭化水素基を表す。）
【化４】
2017049579.tif 000092
（構造式（５）中、Ａ１９およびＡ２０は、各々独立に、下記構造式（Ａ１０１）〜（Ａ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、Ｒ１１２は、水素原子、または炭素数１以上４以下の１価の炭化水素基を表す。Ｒ１１０及びＲ１１１は、Ａ１９とＡ２０とを繋ぐ連結基の一部を構成し、各々独立に、Ａ１９及びＡ２０の各々と窒素原子との間に少なくとも炭素数２個の直鎖に相当する距離を持たせるための、炭素数２以上４以下の２価の炭化水素基を表す。）
【化５】
2017049579.tif 000093
（構造式（６）中、Ａ２１〜Ａ２３は、各々独立に、下記構造式（Ａ１０１）〜（Ａ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、Ｒ１１３〜Ｒ１１５は、Ａ２１〜Ａ２３を繋ぐ連結基の一部を構成し、各々独立に、Ａ２１〜Ａ２３の各々と窒素原子との間に少なくとも炭素数２個の直鎖に相当する距離を持たせるための、炭素数２以上４以下の２価の炭化水素基を表す。）
【化６】
2017049579.tif 000094
（構造式（Ａ１０１）中、Ｒ１１６〜Ｒ１１８は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表し、記号「＊」は構造式（１）〜（６）との結合部を表す。）
【化７】
2017049579.tif 000095
（構造式（Ａ１０２）中、Ｒ１１９及びＲ１２０は、各々独立に、構造式（Ａ１０２）において含窒素複素芳香族６員環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｒ１２１は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表し、ｄ３は０〜２の整数を表し、記号「＊」は構造式（１）〜（６）との結合部を表す。）
【化８】
2017049579.tif 000096
（構造式（Ａ１０３）中、Ｒ１２２及びＲ１２３は、各々独立に、構造式（Ａ１０３）において含窒素複素芳香族５員環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｒ１２４は、水素原子、または炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表し、Ｒ１２５は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表し、ｄ４は０〜２の整数を表し、記号「＊」は構造式（１）〜（６）との結合部を表す。）
【化９】
2017049579.tif 000097
（構造式（Ａ１０４）中、Ｒ１２６は、構造式（Ａ１０４）において含窒素複素芳香環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｒ１２７は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表し、ｄ５は０〜２の整数を表し、記号「＊」は構造式（１）〜（６）との結合部を表す。）
【化１０】
2017049579.tif 000098
（構造式（Ａ１０５）中、Ｒ１２８は、構造式（Ａ１０５）において含窒素複素非芳香族環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｒ１２９は、水素原子、または炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表し、Ｒ１３０は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表し、ｄ６は０〜２の整数を表し、記号「＊」は構造式（１）〜（６）との結合部を表す。）
【化１１】
2017049579.tif 000099
（構造式（Ａ１０６）中、Ｒ１３１及びＲ１３２は、各々独立に、構造式（Ａ１０６）において含窒素複素非芳香族環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｒ１３３及びＲ１３４は、各々独立に、水素原子、または炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表し、Ｒ１３５は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表し、ｄ７は０〜２の整数を表し、記号「＊」は構造式（１）〜（６）との結合部を表す。）。
【請求項２】
前記カチオンが、前記式（１）で表される構造を有する請求項１に記載の電子写真用部材。
【請求項３】
前記式（１）中、Ｒ１０１が炭素数６個以上の直鎖部分を有する請求項２に記載の電子写真用部材。
【請求項４】
導電性の基体および該基体上の導電性の樹脂層を有する電子写真用部材であって、
該樹脂層は、下記構造式（７）〜（１２）からなる群から選択されるいずれかの構造を分子内に有する樹脂と、アニオンとを含み、
該アニオンは、フルオロアルキルスルホニルイミドアニオン及びフルオロスルホニルイミドアニオンからなる群から選択される少なくとも１つであることを特徴とする電子写真用部材：
Ｅ１１−Ｒ２０１−Ｅ１２    （７）
（構造式（７）中、Ｅ１１〜Ｅ１２は、各々独立に、下記構造式（Ｅ１０１）〜（Ｅ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、
Ｒ２０１は、Ｅ１１とＥ１２との間に、炭素数４個以上の直鎖に相当する距離を持たせるための、炭素数４個以上の直鎖部分を有する連結基を表す。）
【化１２】
2017049579.tif 000100
（構造式（８）中、Ｅ１３〜Ｅ１４は、各々独立に、下記構造式（Ｅ１０１）〜（Ｅ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、Ｒ２０２及びＲ２０３は、各々独立に、炭素数１以上４以下の２価の炭化水素基を表し、Ｒ２０４は炭素数１以上４以下の１価の炭化水素基を表し、ｄ８は０または１の整数を表す。）
【化１３】
2017049579.tif 000101
（構造式（９）中、Ｅ１５〜Ｅ１６は、各々独立に、下記構造式（Ｅ１０１）〜（Ｅ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、Ｒ２０５及びＲ２０６は、各々独立に、炭素数１以上４以下の２価の炭化水素基を表し、Ｒ２０７は炭素数１以上４以下の１価の炭化水素基を表し、ｄ９は０または１の整数を表す。）
【化１４】
2017049579.tif 000102
（構造式（１０）中、Ｅ１７〜Ｅ１８は、各々独立に、下記構造式（Ｅ１０１）〜（Ｅ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、ｎ２は１以上４以下の整数を表す。Ｒ２０８及びＲ２０９は、Ｅ１７とＥ１８との間に、少なくとも４個の炭素原子と１個の酸素原子とからなる直鎖に相当する距離を持たせるための連結基の一部を構成し、各々独立に、炭素数２以上４以下の２価の炭化水素基を表す。）
【化１５】
2017049579.tif 000103
（構造式（１１）中、Ｅ１９〜Ｅ２０は、各々独立に、下記構造式（Ｅ１０１）〜（Ｅ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、Ｒ２１２は、水素原子、または炭素数１以上４以下の１価の炭化水素基を表す。Ｒ２１０及びＲ２１１は、Ｅ１９とＥ２０とを繋ぐ連結基の一部を構成し、各々独立に、Ｅ１９及びＥ２０の各々と窒素原子との間に少なくとも炭素数２個の直鎖に相当する距離を持たせるための、炭素数２以上４以下の２価の炭化水素基を表す。）
【化１６】
2017049579.tif 000104
（構造式（１２）中、Ｅ２１〜Ｅ２３は、各々独立に、下記構造式（Ｅ１０１）〜（Ｅ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、Ｒ２１３〜Ｒ２１５は、Ｅ２１〜Ｅ２３を繋ぐ連結基の一部を構成し、各々独立に、Ｅ２１〜Ｅ２３の各々と窒素原子との間に少なくとも炭素数２個の直鎖に相当する距離を持たせるための、炭素数２以上４以下の２価の炭化水素基を表す。）
【化１７】
2017049579.tif 000105
（構造式（Ｅ１０１）中、Ｘ１〜Ｘ３は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表し、Ｘ１〜Ｘ３のうち、少なくとも一つは樹脂との結合部であり、記号「＊」は構造式（７）〜（１２）との結合部を表す。）
【化１８】
2017049579.tif 000106
（構造式（Ｅ１０２）中、Ｒ２１６及びＲ２１７は、各々独立に、構造式（Ｅ１０２）において含窒素複素芳香族６員環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｘ４は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表し、ｄ１０は１または２の整数を表し、Ｘ４のうち、少なくとも一つは樹脂との結合部であり、記号「＊」は構造式（７）〜（１２）との結合部を表す。）
【化１９】
2017049579.tif 000107
（構造式（Ｅ１０３）中、Ｒ２１８及びＲ２１９は、各々独立に、構造式（Ｅ１０３）において含窒素複素芳香族５員環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｘ５は、水素原子、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表し、Ｘ６は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表し、ｄ１１は０〜２の整数を表し、Ｘ５及びＸ６のうち、少なくとも一つは樹脂との結合部であり、記号「＊」は構造式（７）〜（１２）との結合部を表す。）
【化２０】
2017049579.tif 000108
（構造式（Ｅ１０４）中、Ｒ２２０は、構造式（Ｅ１０４）において含窒素複素芳香環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｘ７は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表し、ｄ１２は１または２の整数を表し、Ｘ７のうち、少なくとも一つは樹脂との結合部であり、記号「＊」は構造式（７）〜（１２）との結合部を表す。）
【化２１】
2017049579.tif 000109
（構造式（Ｅ１０５）中、Ｒ２２１は、構造式（Ｅ１０５）において含窒素複素非芳香族環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｘ８は、水素原子、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表し、Ｘ９は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表し、ｄ１３は０〜２の整数を表し、Ｘ８及びＸ９のうち、少なくとも一つは樹脂との結合部であり、記号「＊」は構造式（７）〜（１２）との結合部を表す。）
【化２２】
2017049579.tif 000110
（構造式（Ｅ１０６）中、Ｒ２２２及びＲ２２３は、各々独立に、構造式（Ｅ１０６）において含窒素複素非芳香族環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｘ１０及びＸ１１は、各々独立に、水素原子、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表し、Ｘ１２は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表し、ｄ１４は０〜２の整数を表し、Ｘ１０〜Ｘ１２のうち、少なくとも一つは樹脂との結合部であり、記号「＊」は構造式（７）〜（１２）との結合部を表す。）。
【請求項５】
前記樹脂との結合部であるＸ１〜Ｘ１２は、各々独立に、下記構造式（Ｘ１０１）〜（Ｘ１０５）からなる群から選択される何れかの構造である請求項４に記載の電子写真用部材：
【化２３】
2017049579.tif 000111
【化２４】
2017049579.tif 000112
【化２５】
2017049579.tif 000113
【化２６】
2017049579.tif 000114
【化２７】
2017049579.tif 000115
（構造式（Ｘ１０１）〜（Ｘ１０５）中、記号「＊＊」は、構造式（Ｅ１０１）〜（Ｅ１０６）中の含窒素複素環中の窒素原子または含窒素複素環中の炭素原子との結合部を表し、記号「＊＊＊」は、該樹脂を構成するポリマー鎖中の炭素原子との結合部を表し、ｎ３〜ｎ７は、各々独立に、１以上４以下の整数を表す。）。
【請求項６】
前記カチオンが、前記式（７）で表される構造を有する請求項４または５に記載の電子写真用部材。
【請求項７】
前記式（１）中、Ｒ１０１が炭素数６個以上の直鎖部分を有する請求項６に記載の電子写真用部材。
【請求項８】
前記構造式（Ｅ１０２）で表される含窒素複素芳香族６員環が、ピラジン環、または、ピリミジン環である請求項４〜７のいずれか一項に記載の電子写真用部材。
【請求項９】
前記構造式（Ｅ１０３）で表される含窒素複素芳香族５員環が、イミダゾール環である請求項４〜８のいずれか一項に記載の電子写真用部材。
【請求項１０】
前記構造式（Ｅ１０４）で表される含窒素複素芳香環が、ピロール環、ピリジン環、または、アゼピン環である請求項４〜９のいずれか一項に記載の電子写真用部材。
【請求項１１】
前記構造式（Ｅ１０５）で表される含窒素複素非芳香族環が、ピロリジン環、ピロリン環、ピペリジン環、アゼパン環、または、アゾカン環である請求項４〜１０のいずれか一項に記載の電子写真用部材。
【請求項１２】
前記構造式（Ｅ１０６）で表される含窒素複素非芳香族環が、樹脂との結合部を有する、イミダゾリジン環、イミダゾリン環、ピペラジン環、ジアゼパン環、または、ジアゾカン環である請求項４〜１１のいずれか一項に記載の電子写真用部材。
【請求項１３】
前記アニオンが、炭素数１以上６以下のフルオロアルキル基を有するフルオロアルキルスルホニルイミドアニオン、４〜７員環の環状のパーフルオロアルキルジスルホニルイミドアニオン、またはフルオロスルホニルイミドアニオンである請求項４〜１２のいずれか一項に記載の電子写真用部材。
【請求項１４】
電子写真装置の本体に着脱可能に構成されているプロセスカートリッジであって、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の電子写真用部材を具備することを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項１５】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の電子写真用部材を具備することを特徴とする電子写真装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は電子写真装置に用いられる電子写真用部材、該電子写真用部材を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真装置（電子写真方式を用いた複写機やファクシミリやプリンター）においては、次のようなプロセスを経て画像が形成される。まず、電子写真感光体（以降、「感光体」ともいう）が帯電部材により帯電された後、レーザーにより露光されることによって、感光体上に静電潜像が形成される。次いで、現像容器内のトナーが、トナー供給ローラ及び現像ブレードにより現像ローラ上に塗布される。現像ローラによって現像領域に搬送されたトナーによって、感光体と現像ローラとの接触部または近接部で感光体上の静電潜像の現像が行われる。その後、感光体上のトナーは、転写手段により記録紙に転写され、熱と圧力により定着され、画像が形成される。なお、感光体上に残留したトナーはクリーニングブレードによって除かれる。
【０００３】
電子写真装置においては、これら現像ローラ、帯電部材、トナー供給ローラ、クリーニングブレード、および現像ブレードとして、導電層を備えた電子写真用部材が使用されている。電子写真用部材は、使用条件及び使用環境に依存せず電気抵抗値を１０５〜１０９Ωの範囲に制御する必要がある。電子写真用部材の導電性を調整するために導電層に添加される導電剤として、四級アンモニウム塩化合物に代表されるイオン導電剤がある。イオン導電剤は、導電剤としてカーボンブラックのような電子導電剤を用いる場合と比較して、導電剤の分散性が高く、電気抵抗値のムラが生じにくいという利点を有する。一方で、イオン導電剤は環境によって導電性が変動しやすく、例えば、低温低湿環境下においては導電性が低下する性質がある。そのため、低温低湿環境下では、電子写真用部材が所望の抵抗値を得られない場合があるという課題があった。
【０００４】
かかる課題を解決する手段として、特許文献１には、導電剤として特定の構造を有するイオン液体を用いる方法が記載されている。また、特許文献２には、２つの水酸基を有するイオン液体を特定量含有するウレタン樹脂組成物を硬化してなるウレタンコート層を備える導電性ローラが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−３３１８８５号公報
【特許文献２】特開２０１１−１１８１１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
近年、電子写真装置には、より苛酷な環境下においても高画質、高耐久性を維持できることが求められている。
【０００７】
本発明者らの検討によれば、特許文献１および特許文献２に記載されている、イオン液体を含む導電性ローラは、電気抵抗値のムラ低減に優れるものの、高温高湿環境において長期にわたり他の部材と当接し加重を受けた場合、当接部に生じた変形の回復性が低下する場合があることが判明した。
【０００８】
本発明の一態様は、高温高湿環境での長期間にわたる加重を受けても変形が生じにくく、安定して高品位な電子写真画像の形成が可能な電子写真用部材の提供に向けたものである。
【０００９】
また、本発明は、高品位な電子写真画像を安定して出力することが可能な電子写真装置及びそれに用いられるプロセスカートリッジの提供に向けたものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一態様によれば、
導電性の基体および該基体上の導電性の樹脂層を有する電子写真用部材であって、
該樹脂層は、下記構造式（１）〜（６）からなる群から選択されるいずれかの構造を有するカチオンと、アニオンとを含み、
該アニオンは、フルオロアルキルスルホニルイミドアニオン及びフルオロスルホニルイミドアニオンからなる群から選択される少なくとも１つである電子写真用部材が提供される：
Ａ１１−Ｒ１０１−Ａ１２    （１）
（構造式（１）中、Ａ１１およびＡ１２は、各々独立に、下記構造式（Ａ１０１）〜（Ａ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、
Ｒ１０１は、Ａ１１とＡ１２との間に、炭素数４個以上の直鎖に相当する距離を持たせるための、炭素数４以上の直鎖部分を有する連結基を表す。）
【００１１】
【化１】
2017049579.tif 000003
【００１２】
（構造式（２）中、Ａ１３およびＡ１４は、各々独立に、下記構造式（Ａ１０１）〜（Ａ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、Ｒ１０２およびＲ１０３は、各々独立に、炭素数１以上４以下の２価の炭化水素基を表し、Ｒ１０４は炭素数１以上４以下の１価の炭化水素基を表し、ｄ１は０または１の整数を表す。）
【００１３】
【化２】
2017049579.tif 000004
【００１４】
（構造式（３）中、Ａ１５およびＡ１６は、各々独立に、下記構造式（Ａ１０１）〜（Ａ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、Ｒ１０５およびＲ１０６は、各々独立に、炭素数１以上４以下の２価の炭化水素基を表し、Ｒ１０７は炭素数１以上４以下の１価の炭化水素基を表し、ｄ２は０または１の整数を表す。）
【００１５】
【化３】
2017049579.tif 000005
【００１６】
（構造式（４）中、Ａ１７およびＡ１８は、各々独立に、下記構造式（Ａ１０１）〜（Ａ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、ｎ１は１以上４以下の整数を表す。Ｒ１０８及びＲ１０９は、Ａ１７とＡ１８との間に、少なくとも４個の炭素原子と１個の酸素原子とからなる直鎖に相当する距離を持たせるための連結基の一部を構成し、各々独立に、炭素数２以上４以下の２価の炭化水素基を表す。）
【００１７】
【化４】
2017049579.tif 000006
【００１８】
（構造式（５）中、Ａ１９およびＡ２０は、各々独立に、下記構造式（Ａ１０１）〜（Ａ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、Ｒ１１２は、水素原子、または炭素数１以上４以下の１価の炭化水素基を表す。Ｒ１１０及びＲ１１１は、Ａ１９とＡ２０とを繋ぐ連結基の一部を構成し、各々独立に、Ａ１９及びＡ２０の各々と窒素原子との間に少なくとも炭素数２個の直鎖に相当する距離を持たせるための、炭素数２以上４以下の２価の炭化水素基を表す。）
【００１９】
【化５】
2017049579.tif 000007
【００２０】
（構造式（６）中、Ａ２１〜Ａ２３は、各々独立に、下記構造式（Ａ１０１）〜（Ａ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、Ｒ１１３〜Ｒ１１５は、Ａ２１〜Ａ２３を繋ぐ連結基の一部を構成し、各々独立に、Ａ２１〜Ａ２３の各々と窒素原子との間に少なくとも炭素数２個の直鎖に相当する距離を持たせるための、炭素数２以上４以下の２価の炭化水素基を表す。）
【００２１】
【化６】
2017049579.tif 000008
【００２２】
（構造式（Ａ１０１）中、Ｒ１１６〜Ｒ１１８は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表し、記号「＊」は構造式（１）〜（６）との結合部を表す。）
【００２３】
【化７】
2017049579.tif 000009
【００２４】
（構造式（Ａ１０２）中、Ｒ１１９及びＲ１２０は、各々独立に、構造式（Ａ１０２）において含窒素複素芳香族６員環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｒ１２１は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表し、ｄ３は０〜２の整数を表し、記号「＊」は構造式（１）〜（６）との結合部を表す。）
【００２５】
【化８】
2017049579.tif 000010
【００２６】
（構造式（Ａ１０３）中、Ｒ１２２及びＲ１２３は、各々独立に、構造式（Ａ１０３）において含窒素複素芳香族５員環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｒ１２４は、水素原子、または炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表し、Ｒ１２５は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表し、ｄ４は０〜２の整数を表し、記号「＊」は構造式（１）〜（６）との結合部を表す。）
【００２７】
【化９】
2017049579.tif 000011
【００２８】
（構造式（Ａ１０４）中、Ｒ１２６は、構造式（Ａ１０４）において含窒素複素芳香環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｒ１２７は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表し、ｄ５は０〜２の整数を表し、記号「＊」は構造式（１）〜（６）との結合部を表す。）
【００２９】
【化１０】
2017049579.tif 000012
【００３０】
（構造式（Ａ１０５）中、Ｒ１２８は、構造式（Ａ１０５）において含窒素複素非芳香族環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｒ１２９は、水素原子、または炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表し、Ｒ１３０は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表し、ｄ６は０〜２の整数を表し、記号「＊」は構造式（１）〜（６）との結合部を表す。）
【００３１】
【化１１】
2017049579.tif 000013
【００３２】
（構造式（Ａ１０６）中、Ｒ１３１及びＲ１３２は、各々独立に、構造式（Ａ１０６）において含窒素複素非芳香族環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｒ１３３及びＲ１３４は、各々独立に、水素原子、または炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表し、Ｒ１３５は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表し、ｄ７は０〜２の整数を表し、記号「＊」は構造式（１）〜（６）との結合部を表す。）。
【００３３】
また、本発明の他の態様によれば、
導電性の基体および該基体上の導電性の樹脂層を有する電子写真用部材であって、
該樹脂層は、下記構造式（７）〜（１２）からなる群から選択されるいずれかの構造を分子内に有する樹脂と、アニオンとを含み、
該アニオンは、フルオロアルキルスルホニルイミドアニオン及びフルオロスルホニルイミドアニオンからなる群から選択される少なくとも１つである電子写真用部材が提供される：
Ｅ１１−Ｒ２０１−Ｅ１２    （７）
（構造式（７）中、Ｅ１１〜Ｅ１２は、各々独立に、下記構造式（Ｅ１０１）〜（Ｅ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、
Ｒ２０１は、Ｅ１１とＥ１２との間に、炭素数４個以上の直鎖に相当する距離を持たせるための、炭素数４個以上の直鎖部分を有する連結基を表す。）
【００３４】
【化１２】
2017049579.tif 000014
【００３５】
（構造式（８）中、Ｅ１３〜Ｅ１４は、各々独立に、下記構造式（Ｅ１０１）〜（Ｅ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、Ｒ２０２及びＲ２０３は、各々独立に、炭素数１以上４以下の２価の炭化水素基を表し、Ｒ２０４は炭素数１以上４以下の１価の炭化水素基を表し、ｄ８は０または１の整数を表す。）
【００３６】
【化１３】
2017049579.tif 000015
【００３７】
（構造式（９）中、Ｅ１５〜Ｅ１６は、各々独立に、下記構造式（Ｅ１０１）〜（Ｅ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、Ｒ２０５及びＲ２０６は、各々独立に、炭素数１以上４以下の２価の炭化水素基を表し、Ｒ２０７は炭素数１以上４以下の１価の炭化水素基を表し、ｄ９は０または１の整数を表す。）
【００３８】
【化１４】
2017049579.tif 000016
【００３９】
（構造式（１０）中、Ｅ１７〜Ｅ１８は、各々独立に、下記構造式（Ｅ１０１）〜（Ｅ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、ｎ２は１以上４以下の整数を表す。Ｒ２０８及びＲ２０９は、Ｅ１７とＥ１８との間に、少なくとも４個の炭素原子と１個の酸素原子とからなる直鎖に相当する距離を持たせるための連結基の一部を構成し、各々独立に、炭素数２以上４以下の２価の炭化水素基を表す。）
【００４０】
【化１５】
2017049579.tif 000017
【００４１】
（構造式（１１）中、Ｅ１９〜Ｅ２０は、各々独立に、下記構造式（Ｅ１０１）〜（Ｅ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、Ｒ２１２は、水素原子、または炭素数１以上４以下の１価の炭化水素基を表す。Ｒ２１０及びＲ２１１は、Ｅ１９とＥ２０とを繋ぐ連結基の一部を構成し、各々独立に、Ｅ１９及びＥ２０の各々と窒素原子との間に少なくとも炭素数２個の直鎖に相当する距離を持たせるための、炭素数２以上４以下の２価の炭化水素基を表す。）
【００４２】
【化１６】
2017049579.tif 000018
【００４３】
（構造式（１２）中、Ｅ２１〜Ｅ２３は、各々独立に、下記構造式（Ｅ１０１）〜（Ｅ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表し、Ｒ２１３〜Ｒ２１５は、Ｅ２１〜Ｅ２３を繋ぐ連結基の一部を構成し、各々独立に、Ｅ２１〜Ｅ２３の各々と窒素原子との間に少なくとも炭素数２個の直鎖に相当する距離を持たせるための、炭素数２以上４以下の２価の炭化水素基を表す。）
【００４４】
【化１７】
2017049579.tif 000019
【００４５】
（構造式（Ｅ１０１）中、Ｘ１〜Ｘ３は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表し、Ｘ１〜Ｘ３のうち、少なくとも一つは樹脂との結合部であり、記号「＊」は構造式（７）〜（１２）との結合部を表す。）
【００４６】
【化１８】
2017049579.tif 000020
【００４７】
（構造式（Ｅ１０２）中、Ｒ２１６及びＲ２１７は、各々独立に、構造式（Ｅ１０２）において含窒素複素芳香族６員環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｘ４は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表し、ｄ１０は１または２の整数を表し、Ｘ４のうち、少なくとも一つは樹脂との結合部であり、記号「＊」は構造式（７）〜（１２）との結合部を表す。）
【００４８】
【化１９】
2017049579.tif 000021
【００４９】
（構造式（Ｅ１０３）中、Ｒ２１８及びＲ２１９は、各々独立に、構造式（Ｅ１０３）において含窒素複素芳香族５員環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｘ５は、水素原子、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表し、Ｘ６は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表し、ｄ１１は０〜２の整数を表し、Ｘ５及びＸ６のうち、少なくとも一つは樹脂との結合部であり、記号「＊」は構造式（７）〜（１２）との結合部を表す。）
【００５０】
【化２０】
2017049579.tif 000022
【００５１】
（構造式（Ｅ１０４）中、Ｒ２２０は、構造式（Ｅ１０４）において含窒素複素芳香環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｘ７は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表し、ｄ１２は１または２の整数を表し、Ｘ７のうち、少なくとも一つは樹脂との結合部であり、記号「＊」は構造式（７）〜（１２）との結合部を表す。）
【００５２】
【化２１】
2017049579.tif 000023
【００５３】
（構造式（Ｅ１０５）中、Ｒ２２１は、構造式（Ｅ１０５）において含窒素複素非芳香族環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｘ８は、水素原子、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表し、Ｘ９は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表し、ｄ１３は０〜２の整数を表し、Ｘ８及びＸ９のうち、少なくとも一つは樹脂との結合部であり、記号「＊」は構造式（７）〜（１２）との結合部を表す。）
【００５４】
【化２２】
2017049579.tif 000024
【００５５】
（構造式（Ｅ１０６）中、Ｒ２２２及びＲ２２３は、各々独立に、構造式（Ｅ１０６）において含窒素複素非芳香族環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｘ１０及びＸ１１は、各々独立に、水素原子、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表し、Ｘ１２は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表し、ｄ１４は０〜２の整数を表し、Ｘ１０〜Ｘ１２のうち、少なくとも一つは樹脂との結合部であり、記号「＊」は構造式（７）〜（１２）との結合部を表す。）。
【００５６】
さらにまた、本発明の他の態様によれば、電子写真装置に着脱可能なプロセスカートリッジであって上記の電子写真用部材を具備するプロセスカートリッジ、および上記の電子写真用部材を具備する電子写真装置が提供される。
【発明の効果】
【００５７】
本発明の一態様によれば、高温高湿環境での長期間にわたる加重を受けても変形が生じにくく、安定して高品位な電子写真画像の形成が可能な電子写真用部材を得ることが可能である。また、本発明の他の態様によれば、高品位な電子写真画像を安定して形成することが可能なプロセスカートリッジおよび電子写真装置を得ることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本発明の一態様に係る電子写真用ローラの一例の概略断面図である。
【図２】本発明の一態様に係る電子写真用ブレードの一例の概念断面図である。
【図３】本発明の一態様に係る電子写真装置の一例の概略断面図である。
【図４】本発明の一態様に係るプロセスカートリッジの一例の概略構成図である。
【図５】現像ローラの抵抗値を評価するための冶具の概略構成図である。
【図６】電子写真用ローラの残留変形量を測定するための装置の概略構成図である。
【図７】電子写真用ブレードの残留変形量を測定するための装置の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００５９】
本発明者らは前記目的を達成すべく鋭意検討を重ねた。その結果、特定の化学構造を有するカチオンまたは特定の化学構造を有する樹脂と、特定のアニオンとを樹脂層に含む電子写真用部材が、高温高湿環境での長期間にわたる加重を受けても変形が生じにくいことを見出し、本発明を為すに至った。
【００６０】
（１）電子写真用部材
本発明の一実施形態に係る電子写真用部材は、導電性の基体および基体上の導電性の樹脂層を有する。
【００６１】
電子写真用部材の一例として、ローラ形状の電子写真用部材（電子写真用ローラ）が挙げられる。図１（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ電子写真用ローラの長手方向に直交する方向の概略断面図である。図１（ａ）に示す電子写真用ローラ１は、導電性の基体２と、その外周に設けられた導電性の樹脂層３とからなる。図１（ｂ）に示すように、基体２と樹脂層３との間にさらに弾性層４が設けられていてもよい。また、電子写真用ローラ１は、図１（ｃ）に示すように、弾性層４と樹脂層３の間に中間層５を配置した３層構造であってもよく、中間層５が複数配置された多層構成であってもよい。
【００６２】
図１（ａ）〜（ｃ）に示したように、電子写真用ローラ１において、本発明の一実施形態に係る効果をより効果的に奏するためには、樹脂層３が電子写真用ローラ１の最表層として存在していることが好ましい。また、電子写真用ローラ１は弾性層４を有することが好ましい。
【００６３】
なお、電子写真用ローラ１の層構成は、樹脂層３が電子写真用ローラ１の最表層存在するものに限定されるものではない。電子写真用ローラ１の具体例としては、例えば、基体２とその外周に設けられた導電性の樹脂層３の上にさらに表面層を有するもの、樹脂層３を中間層５として有するものが挙げられる。
【００６４】
また、電子写真用部材の他の例として、ブレード形状の電子写真用部材（電子写真用ブレード）が挙げられる。図２は、電子写真用ブレードの一例の、長手方向に直交する方向の概略断面図である。電子写真用ブレードは、導電性の基体２と、その外周に設けられた導電性の樹脂層３とで構成されている。
【００６５】
電子写真用部材は、現像ローラ、帯電部材、トナー供給ローラ、現像ブレード、およびクリーニングブレードに用いることが可能である。特に、現像ローラ、現像ブレードおよびトナー供給ローラとして好適に用いることが可能である。
【００６６】
以下、本発明の一実施形態に係る電子写真用部材の構成を詳細に説明する。
【００６７】
＜＜基体＞＞
基体２は、電子写真用部材の支持部材、および場合によっては電極として機能する。基体２は、アルミニウム、銅合金、ステンレス鋼の如き金属または合金；クロム、又はニッケルで鍍金処理を施した鉄；導電性を有する合成樹脂の如き導電性の材質で構成される。電子写真用部材がローラ形状である場合、基体２は、中実円柱状または中空円筒状のものであり、電子写真用部材がブレード形状である場合、基体２は、薄板形状である。
【００６８】
＜＜弾性層＞＞
弾性層４は、特に、電子写真用部材がローラ形状である場合において（電子写真用ローラ１）、電子写真用ローラ１と感光体との当接部において、所定の幅のニップを形成するために必要な弾性を電子写真用ローラ１に与えるものである。
【００６９】
弾性層４は、ゴム材料の成型体であることが好ましい。ゴム材料としては、以下のものが挙げられる。エチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム、アクリルニトリル−ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、フッ素ゴム、シリコーンゴム、エピクロロヒドリンゴム、ウレタンゴム。これらは単独であるいは２種以上を混合して用いることができる。この中でも、圧縮永久歪み、柔軟性の観点から特にシリコーンゴムが好ましい。シリコーンゴムとしては、付加硬化型のシリコーンゴムの硬化物が挙げられる。
【００７０】
弾性層４の成形方法としては、液状ゴム材料を型成形する方法、混練ゴム材料を押出し成形する方法が挙げられる。
【００７１】
弾性層４中には、弾性層に導電性を付与するために、導電性付与剤が適宜配合される。導電性付与剤としては、カーボンブラック；アルミニウム、銅の如き導電性金属；酸化錫、酸化チタンの如き導電性金属酸化物の微粒子を用いることができる。このうち、カーボンブラックは、比較的容易に入手でき良好な導電性が得られるので、特に好ましい。導電性付与剤としてカーボンブラックを用いる場合は、ゴム１００質量部に対して２〜５０質量部配合されることが好ましい。
【００７２】
弾性層４には、非導電性充填剤、架橋剤、触媒の如き各種添加剤が適宜配合されていてもよい。非導電性充填剤としては、シリカ、石英粉末、酸化チタン、又は炭酸カルシウムが挙げられる。架橋剤としては、ジ−ｔ−ブチルパ−オキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパ−オキシ）ヘキサン又はジクミルパ−オキサイドが挙げられる。
【００７３】
弾性層４の厚さは、０．３ｍｍ以上４．０ｍｍ以下であることが好ましい。
【００７４】
＜＜樹脂層＞＞
＜樹脂層の第１の実施形態＞
以下、電子写真用部材の第１の実施形態における樹脂層の構成について詳細に説明する。
【００７５】
第１の実施形態に係る樹脂層は、下記に詳述する構造式（１）〜（６）からなる群から選択されるいずれかの構造を有するカチオンと、アニオンとを含み、該アニオンは、フルオロアルキルスルホニルイミドアニオン及びフルオロスルホニルイミドアニオンからなる群から選択される少なくとも１つである。
【００７６】
すなわち、第１の実施形態に係る樹脂層３は、カチオンが、一分子中に２個または３個のカチオン基を有し、かつ該カチオン基間に特定の化学構造を有している。
【００７７】
かかるカチオンとアニオンとからなるイオン導電剤を用いることによって、電子写真用部材において変形回復性の低下が抑制される理由について、本発明者らは以下のように推測している。
【００７８】
イオン液体を導電剤として添加した導電性ローラにおいて変形回復性が低下するのは、イオン液体のクラスター化によるものと本発明者らは推測している。樹脂にイオン液体を導電剤として添加した場合、バインダー中で分子間に働く相互作用により、イオン液体のカチオンとアニオンとが凝集してクラスターが形成される場合がある。すなわち、イオン液体を導電剤として添加した導電性ローラにおいて変形回復性が低下するのは、イオン液体のクラスター化によって、樹脂中にイオンの凝集体によるドメインが形成されて樹脂層の均一性が損なわれるためであると本発明者らは推測している。
【００７９】
これに対し、下記に詳述する構造式（１）〜（６）からなる群から選択されるいずれかの構造を有するカチオンは、カチオン基間に特定の化学構造を有しているため、この化学構造がスペーサーとして機能することによってカチオン基同士が接近しにくい。その結果、スペーサーを有さないイオン導電剤に比べ、イオンのクラスター化が抑制されると考えられる。
【００８０】
（カチオン）
カチオンは、一分子中に２個または３個のカチオン基を有し、カチオン基間に特定の化学構造を有することを特徴とする。
【００８１】
以下に、構造式（１）〜（６）からなる群から選択されるいずれかの構造を有するカチオンについて詳細に説明する。
Ａ１１−Ｒ１０１−Ａ１２    （１）
構造式（１）中、Ａ１１およびＡ１２は、各々独立に、後述する構造式（Ａ１０１）〜（Ａ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表す。Ｒ１０１は、Ａ１１で表されるカチオン基とＡ１２で表されるカチオン基とを繋ぐ連結基である。該連結基は、両カチオン基間のスペーサーとして機能する。そして、Ａ１１とＡ１２との間に、炭素数４個以上（以下、「Ｃ４」以上と記す場合がある）の直鎖に相当する距離を持たせるものであり、特に好ましくは、炭素数６個以上の直鎖に相当する距離を持たせるものである。Ｒ１０１の例としては、Ｃ４以上、好ましくはＣ６以上の直鎖部分を有する炭化水素基が挙げられる。かかる炭化水素基は、２価の飽和または不飽和炭化水素基であってよい。Ｒ１０１に係る炭化水素基が有する炭素数としては特には６以上１２以下であることが好ましい。
【００８２】
Ｒ１０１に係る炭化水素基の具体例を以下に示す。
・ｎ−ブチレン基、ｎ−ヘキシレン基、ｎ−オクチレン基、ｎ−デシレン基、ｎ−ドデシレン基、ｎ−ヘキサデシレン基、ｎ−オクタデシレン基、３−メチル−１，５−ペンチレン基、２，４−ジメチル−１，６−ヘキシレン基の如き、炭素数４〜１８の直鎖または分岐のアルキレン基、
・１−ブテニレン基、２−ブテニレン基、１−ペンテニレン基、２−ペンテニレン基、１−オクテニレン基、２−オクテニレン基、３−オクテニレン基、４−オクテニレン基、１−オクタデケニレン基の如き炭素数４〜１８の直鎖または分岐のアルケニレン基、
・１−ブチニレン基、２−ブチニレン基の如き炭素数４〜１８の直鎖または分岐のアルキニレン基。
【００８３】
【化２３】
2017049579.tif 000025
【００８４】
構造式（２）中、Ａ１３およびＡ１４は、各々独立に、後述する構造式（Ａ１０１）〜（Ａ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表す。ｄ１は０または１の整数を表す。Ｒ１０４は、構造式（２）中のベンゼン環の、Ｒ１０２およびＲ１０３が結合していない炭素原子に結合する、炭素数１以上４以下の１価の炭化水素基を表す。Ｒ１０４の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基が挙げられる。
【００８５】
Ｒ１０２およびＲ１０３は、Ａ１３およびＡ１４で表されるカチオン基を繋ぎ、両カチオン基間のスペーサーとして機能する、フェニレン基を含む連結基の一部を構成する基である。Ｒ１０３およびＲ１０４は、各々独立に、炭素数１以上４以下の２価の炭化水素基を表す。
【００８６】
構造式（２）における連結基の、ｄ１＝０の場合の具体例としては、例えば、ｏ−キシリレン基、ｍ−キシリレン基、ｐ−キシリレン基、１，２−フェニレンジエチレン基、１，３−フェニレンジエチレン基、１，４−フェニレンジエチレン基、１，２−フェニレン−ジ−４−ブチレン基、１，３−フェニレン−ジ−４−ブチレン基、１，４−フェニレン−ジ−４−ブチレン基が挙げられる。
【００８７】
【化２４】
2017049579.tif 000026
【００８８】
構造式（３）中、Ａ１５およびＡ１６は、各々独立に、後述する構造式（Ａ１０１）〜（Ａ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表す。ｄ２は０または１の整数を表す。Ｒ１０７は、構造式（３）中のシクロヘキサン環の、Ｒ１０５およびＲ１０６が結合していない炭素原子に結合する、炭素数１以上４以下の１価の炭化水素基を表す。Ｒ１０７の具体的としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基が挙げられる。
【００８９】
Ｒ１０５およびＲ１０６は、Ａ１５およびＡ１６で表されるカチオン基を繋ぎ、両カチオン基間のスペーサーとして機能する、シクロヘキシレン基を含む連結基の一部を構成する基である。Ｒ１０５およびＲ１０６は、各々独立に、炭素数１以上４以下の２価の炭化水素基を表す。
【００９０】
構造式（３）における連結基の、ｄ２＝０の場合の具体例としては、例えば、１，２−シクロヘキサンジメチレン基、１，３−シクロヘキサンジメチレン基、１，４−シクロヘキサンジメチレン基、１，２−シクロヘキサン−ジ−２−エチレン基、１，３−シクロヘキサン−ジ−２−エチレン基、１，４−シクロヘキサン−ジ−２−エチレン基が挙げられる。
【００９１】
【化２５】
2017049579.tif 000027
【００９２】
構造式（４）中、Ａ１７およびＡ１８は、各々独立に、後述する構造式（Ａ１０１）〜（Ａ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表す。ｎ１は１以上４以下の整数を表す。
【００９３】
Ｒ１０８及びＲ１０９は、Ａ１７で表されるカチオン基とＡ１８で表されるカチオン基とを繋ぎ、両カチオン基間のスペーサーとして機能する連結基の一部を構成する基である。該連結基は、Ａ１７とＡ１８との間に、少なくとも４個の炭素原子と１個の酸素原子とからなる直鎖に相当する距離を持たせるものであり、Ｒ１０８およびＲ１０９は、各々独立に、炭素数２以上４以下の２価の炭化水素基を表す。
【００９４】
かかる炭化水素基を含む連結基の具体例としては、例えば、下記のジオールの両末端の水酸基を除いた基が挙げられる。ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール、ジ−テトラメチレンエーテルグリコール、トリ−テトラメチレンエーテルグリコール、テトラ−テトラメチレンエーテルグリコール。
【００９５】
【化２６】
2017049579.tif 000028
【００９６】
構造式（５）中、Ａ１９およびＡ２０は、各々独立に、後述する構造式（Ａ１０１）〜（Ａ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表す。Ｒ１１２は、水素原子、または炭素数１以上４以下の１価の炭化水素基を表す。Ｒ１１０及びＲ１１１は、Ａ１９およびＡ２０で表されるカチオン基を繋ぎ、両カチオン基間のスペーサーとして機能する連結基の一部を構成する基である。Ｒ１１０およびＲ１１１は、各々独立に、Ａ１９及びＡ２０の各々と窒素原子との間に少なくとも炭素数２個の直鎖に相当する距離を持たせるための、炭素数２以上４以下の２価の炭化水素基を表す。
【００９７】
構造式（５）における連結基は、例えば、アルキル化された３級アミン、またはアルキル化された２級アミンにおける２個のアルキル基の各々から１個の水素原子を取り除いてなる基ということができる。かかる基の例としては、例えば、Ｎ−アルキル−ジ−２−エチレン基、Ｎ−アルキル−ジ−３−ｎ−プロピレン基、Ｎ−アルキル−ジ−４−ｎ−ブチレン基の如き、Ｎ−アルキル−ジ−アルキレン基が挙げられる。ここで、「アルキル」は、Ｒ１１２に該当する。また、他の具体例としては、例えば、イミノ−ジ−２−エチレン基、イミノ−ジ−３−ｎ−プロピレン基、イミノ−ジ−４−ｎ−ブチレン基の如き、イミノ−ジ−アルキレン基が挙げられる。
【００９８】
【化２７】
2017049579.tif 000029
【００９９】
構造式（６）中、Ａ２１〜Ａ２３は、各々独立に、後述する構造式（Ａ１０１）〜（Ａ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表す。Ｒ１１３〜Ｒ１１５は、Ａ２１〜Ａ２３で表されるカチオン基を繋ぎ、各カチオン基間のスペーサーとして機能する連結基の一部を構成する基である。Ｒ１１３〜Ｒ１１５は、各々独立に、Ａ２１〜Ａ２３の各々と窒素原子との間に少なくとも炭素数２個の直鎖に相当する距離を持たせるための、炭素数２以上４以下の２価の炭化水素基を表す。
【０１００】
構造式（６）における連結基は、例えば、アルキル化された３級アミンの３個のアルキル基の各々から１個の水素原子を取り除いてなる基ということができる。かかる基の構造例としては、例えば、トリス−（２−エチル）アミンの各エチル基から水素原子を取り除いた構造、トリス−（３−ｎ−プロピル）アミンの各プロピル基から水素原子を取り除いた構造、および、トリス−（４−ｎ−ブチル）アミンの各ブチル基から水素原子を取り除いた構造が挙げられる。
【０１０１】
以下に、構造式（Ａ１０１）〜（Ａ１０６）について詳細に説明する。
【０１０２】
【化２８】
2017049579.tif 000030
【０１０３】
構造式（Ａ１０１）中、Ｒ１１６〜Ｒ１１８は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表し、記号「＊」は構造式（１）〜（６）との結合部を表す。
【０１０４】
構造式（Ａ１０１）は、具体的にはアンモニウム基を表す。アンモニウム基中のＲ１１６〜Ｒ１１８は、特には炭素数１以上８以下の１価の炭化水素基であることが好ましい。かかる基としては、具体的には、トリメチルアンモニウム基、トリエチルアンモニウム基、トリブチルアンモニウム基、ジメチルエチルアンモニウム基、オクチルジメチルアンモニウム基、およびトリオクチルアンモニウム基が挙げられる。
【０１０５】
【化２９】
2017049579.tif 000031
【０１０６】
構造式（Ａ１０２）中、Ｒ１１９及びＲ１２０は、各々独立に、構造式（Ａ１０２）において含窒素複素芳香族６員環を形成するのに必要な炭化水素基を表す。ｄ３は０〜２の整数を表し、記号「＊」は構造式（１）〜（６）との結合部を表す。Ｒ１２１は、含窒素複素芳香族６員環中のいずれかの炭素原子と結合している置換基であって、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表す。該炭化水素基は、特には、炭素数１以上８以下であることが好ましい。かかる炭化水素基としては、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、およびｎ−オクチル基が挙げられる。
【０１０７】
構造式（Ａ１０２）は、具体的には、６員環構造中に窒素原子を２個含有する芳香族カチオン構造を表す。かかる６員環構造としては、具体的には、ピラジン環、ピリミジン環が挙げられる。
【０１０８】
【化３０】
2017049579.tif 000032
【０１０９】
構造式（Ａ１０３）中、Ｒ１２２及びＲ１２３は、各々独立に、構造式（Ａ１０３）において含窒素複素芳香族５員環を形成するのに必要な炭化水素基を表す。ｄ４は０〜２の整数を表し、記号「＊」は構造式（１）〜（６）との結合部を表す。
【０１１０】
Ｒ１２４は、水素原子、または炭素数１以上１２以下、好ましくは、炭素数１以上８以下の１価の炭化水素基を表す。具体的には、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、およびｎ−オクチル基が挙げられる。
【０１１１】
Ｒ１２５は、含窒素複素芳香族５員環中のいずれかの炭素原子と結合している置換基であって、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表す。該炭化水素基は、特には、炭素数１以上８以下であることが好ましい。かかる炭化水素基としては、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、およびｎ−オクチル基が挙げられる。
【０１１２】
構造式（Ａ１０３）は、具体的には５員環構造中に窒素原子を２個含有する芳香族カチオン構造を表す。かかる５員環構造としては、具体的には、イミダゾール環が挙げられる。
【０１１３】
【化３１】
2017049579.tif 000033
【０１１４】
構造式（Ａ１０４）中、Ｒ１２６は、構造式（Ａ１０４）において含窒素複素芳香環を形成するのに必要な炭化水素基を表す。ｄ５は０〜２の整数を表し、記号「＊」は構造式（１）〜（６）との結合部を表す。
【０１１５】
Ｒ１２７は、含窒素複素芳香環中のいずれかの炭素原子と結合している置換基であって、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表す。該炭化水素基は、特には、炭素数１以上８以下であることが好ましい。かかる炭化水素基としては、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、およびｎ−オクチル基が挙げられる。
【０１１６】
構造式（Ａ１０４）は、具体的には環構造中に窒素原子を１個含有する芳香族カチオン構造を表す。環構造としては、４〜７員環、特には５員環または６員環であることが好ましい。構造式（Ａ１０４）で表される環構造としては、具体的には、ピロール環、ピリジン環、アゼピン環が挙げられる。
【０１１７】
【化３２】
2017049579.tif 000034
【０１１８】
構造式（Ａ１０５）中、Ｒ１２８は、構造式（Ａ１０５）において含窒素複素非芳香族環を形成するのに必要な炭化水素基を表す。ｄ６は０〜２の整数を表し、記号「＊」は構造式（１）〜（６）との結合部を表す。
【０１１９】
Ｒ１２９は、水素原子、または炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表す。Ｒ１２９としては、具体的には、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、およびｎ−ドデシル基が挙げられる。
【０１２０】
Ｒ１３０は、含窒素複素非芳香族環中のいずれかの炭素原子と結合している置換基であって、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表す。該炭化水素基は、特には、炭素数１以上８以下であることが好ましい。かかる炭化水素基としては、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、およびｎ−オクチル基が挙げられる。
【０１２１】
構造式（Ａ１０５）は、具体的には環構造中に窒素原子を１個含有する非芳香族カチオン構造を表す。環構造としては、４〜７員環、特には５員環または６員環であることが好ましい。構造式（Ａ１０５）で表される環構造としては、具体的には、ピロリジン環、ピロリン環、ピペリジン環、アゼパン環、アゾカン環が挙げられる。
【０１２２】
【化３３】
2017049579.tif 000035
【０１２３】
構造式（Ａ１０６）中、Ｒ１３１及びＲ１３２は、各々独立に、構造式（Ａ１０６）において含窒素複素非芳香族環を形成するのに必要な炭化水素基を表す。ｄ７は０〜２の整数を表し、記号「＊」は構造式（１）〜（６）との結合部を表す。
【０１２４】
Ｒ１３３及びＲ１３４は、各々独立に、水素原子、または炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表す。Ｒ１３３およびＲ１３４としては、具体的には、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、およびｎ−オクチル基が挙げられる。
【０１２５】
Ｒ１３５は、含窒素複素非芳香族環中のいずれかの炭素原子と結合している置換基であって、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表す。該炭化水素基は、特には、炭素数１以上８以下であることが好ましい。かかる炭化水素基としては、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、およびｎ−オクチル基が挙げられる。
【０１２６】
構造式（Ａ１０６）は、具体的には環構造中に窒素原子を２個含有する非芳香族カチオン構造を表す。環構造としては、４〜７員環、特には５員環または６員環であることが好ましい。かかる環構造としては、具体的には、イミダゾリジン環、イミダゾリン環、ピペラジン環、ジアゼパン環、ジアゾカン環が挙げられる。
【０１２７】
構造式（Ａ１０６）中、Ｒ１３５としては、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、およびｎ−オクチル基が挙げられる。
【０１２８】
カチオンは、前記構造式（１）〜（６）中、入手が容易なことから構造式（１）で表される構造を有するカチオンであることが好ましい。また、カチオン基間の化学構造は剛直であるとカチオン基同士が接近しにくくなるため、カチオンとしては構造式（２）で表される構造を有するカチオンであることが好ましい。
【０１２９】
（アニオン）
アニオンは、フルオロアルキルスルホニルイミドアニオン及びフルオロスルホニルイミドアニオンからなる群から選択される少なくとも１つである。これらのアニオンは、導電性に優れ、また広い温度域で安定した導電性を示すため好ましい。
【０１３０】
フルオロアルキルスルホニルイミドアニオンとしては、具体的には、トリフルオロメタンスルホニルイミドアニオン、ペンタフルオロエチルスルホニルイミドアニオン、ヘプタフルオロプロピルスルホニルイミドアニオン、ノナフルオロブチルスルホニルイミドアニオン、ドデカフルオロペンチルスルホニルイミドアニオン、パーフルオロヘキシルスルホニルイミドアニオンの如き、炭素数１以上６以下のフルオロアルキル基を有するフルオロアルキルスルホニルイミドアニオン、および、Ｎ，Ｎ−ヘキサフルオロプロパン−１，３−ジスルホニルイミドアニオンの如き４〜７員環の環状のパーフルオロアルキルジスルホニルイミドアニオンが挙げられる。
【０１３１】
アニオンとしては、特には、フルオロスルホニルイミドアニオン、炭素数１以上４以下のフルオロアルキル基を有するフルオロアルキルスルホニルイミドアニオン、またはＮ，Ｎ−ヘキサフルオロプロパン−１，３−ジスルホニルイミドアニオンであることが好ましい。
【０１３２】
（樹脂）
樹脂層３には、バインダー成分として樹脂を含有しており、該樹脂は、前述のカチオンおよび前述のアニオンの担持体として機能する。
【０１３３】
樹脂としては、公知の樹脂を用いることができ、特に限定されるものではない。樹脂としては、具体的には、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、またはメラミンの如きアミノ樹脂、アミド樹脂、イミド樹脂、アミドイミド樹脂、フェノール樹脂、ビニル樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ポリアルキレンイミン樹脂が挙げられる。これらは、１種、あるいは２種以上を組み合せて用いることができる。
【０１３４】
これらの中でも、樹脂としては、ポリウレタン樹脂およびメラミン樹脂が、樹脂層の強度とトナー帯電性の観点から好ましい。さらに、柔軟性を合わせ持つことから、熱硬化性ポリエーテルポリウレタン樹脂および熱硬化性ポリエステルポリウレタン樹脂が好適に用いられる。
【０１３５】
熱硬化性ポリエーテルポリウレタン樹脂および熱硬化性ポリエステルポリウレタン樹脂は、公知のポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオールまたはポリカーボネートポリオールと、イソシアネート化合物とを熱硬化させることにより得られる。
【０１３６】
ポリエーテルポリオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールが挙げられる。またポリエステルポリオールとしては、以下のものが挙げられる。１，４−ブタンジオール、３−メチル−１，４−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコールの如きジオール成分、またはトリメチロールプロパンの如きトリオール成分と、アジピン酸、無水フタル酸、テレフタル酸、ヘキサヒドロキシフタル酸の如きジカルボン酸との縮合反応により得られるポリエステルポリオール。またポリカーボネートポリオールとしては以下のものが挙げられる。１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールの如きジオール成分と、ジメチルカーボネートの如きジアルキルカーボネート、または、エチレンカーボネートの如き環式カーボネートとの縮合反応により得られるポリカーボネートポリオール。
【０１３７】
これらのポリオール成分は必要に応じて、あらかじめ２，４−トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、１，４ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）の如きイソシアネートにより鎖延長したプレポリマーとしてもよい。
【０１３８】
イソシアネート化合物としては、特に限定されるものではないが、エチレンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）の如き脂肪族ポリイソシアネート、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、シクロヘキサン１，３−ジイソシアネート、シクロヘキサン１，４−ジイソシアネートの如き脂環式ポリイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、４，４‘−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ポリメリックジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートの如き芳香族イソシアネート及びこれらの共重合物やイソシアヌレート体、ＴＭＰアダクト体、ビウレット体、そのブロック体を用いることができる。これらの中でも、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメリックジフェニルメタンジイソシアネートの如き芳香族イソシアネートがより好適に用いられる。
【０１３９】
ポリオール成分とイソシアネート化合物とは、水酸基１．０に対してイソシアネート基の比率が１．０以上２．０以下の範囲となるように混合させることが好ましい。混合比がこの範囲であると、未反応成分の残存を抑制することが可能である。
イソシアネート化合物を用いた熱硬化反応以外では、前記ポリオールの代わりに末端にビニル基、アクロイル基を導入した化合物を、紫外線、電子線で硬化反応させることもできる。
【０１４０】
（樹脂層の形成方法）
上記カチオンと上記アニオンとを有するイオン導電剤は、例えば、下記成分を反応させることで得られる。
（ｉ）カチオン基間のスペーサーとなる化学構造の両末端に、フルオロアルキルスルホニルイミド基またはフルオロスルホニルイミド基が結合した化合物；
（ｉｉ）３級アミン類または含窒素複素環化合物。
【０１４１】
化合物（ｉ）としては、具体的には、下記構造式（１´）〜（６´）からなる群から選択されるいずれかの構造を有する化合物が挙げられる。
ＦＳＩ−Ｒ１０１´−ＦＳＩ    （１´）
【０１４２】
【化３４】
2017049579.tif 000036
【０１４３】
【化３５】
2017049579.tif 000037
【０１４４】
【化３６】
2017049579.tif 000038
【０１４５】
【化３７】
2017049579.tif 000039
【０１４６】
【化３８】
2017049579.tif 000040
【０１４７】
構造式（１´）〜（６´）中、ＦＳＩは、フルオロアルキルスルホニルイミド基またはフルオロスルホニルイミド基を表し、Ｒ１０１´〜Ｒ１１５´、ｄ１´〜ｄ２´、およびｎ１´は、それぞれ、前記構造式（１）〜（６）中の対応する記号、Ｒ１０１〜Ｒ１１５、ｄ１〜ｄ２、およびｎ１と同意義である。フルオロアルキルスルホニルイミド基またはフルオロスルホニルイミド基は、上述したフルオロアルキルスルホニルイミドアニオンまたはフルオロスルホニルイミドアニオンと同様である。
【０１４８】
化合物（ｉｉ）としては、具体的には、下記構造式（Ａ１０１´）〜（Ａ１０６´）からなる群から選択されるいずれかの構造を有する化合物が挙げられる。
【０１４９】
【化３９】
2017049579.tif 000041
【０１５０】
【化４０】
2017049579.tif 000042
【０１５１】
【化４１】
2017049579.tif 000043
【０１５２】
【化４２】
2017049579.tif 000044
【０１５３】
【化４３】
2017049579.tif 000045
【０１５４】
【化４４】
2017049579.tif 000046
【０１５５】
構造式（Ａ１０１´）〜（Ａ１０６´）中、Ｒ１１６´〜Ｒ１３３´、およびｄ３´〜ｄ７´は、それぞれ、前記構造式（Ａ１０１）〜（Ａ１０６）中の対応する記号、Ｒ１１６〜Ｒ１３３、およびｄ３〜ｄ７と同意義である。
【０１５６】
構造式（Ａ１０１´）で表される化合物の例としては、具体的には、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、オクチルジメチルアミン、トリオクチルアミンが挙げられる。
【０１５７】
構造式（Ａ１０２´）で表される化合物の例としては、具体的には、２−メチルピラジン、２−エチルピラジン、２−ブチルピラジン、２−オクチルピラジン、２、５−ジメチルピラジン、２−エチル−３−メチルピラジン、５−エチル−２，３−ジメチルピラジン、ピリミジン、２−メチルピリミジン、４−メチルピリミジン、２−エチルピリミジン、４−エチルピリミジン、４，ブチルピリミジン、４，６−ジメチルピリミジンが挙げられる。
【０１５８】
構造式（Ａ１０３´）で表される化合物の例としては、具体的には、イミダゾール、１−メチルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、４−メチルイミダゾール、１−エチルイミダゾール、２−エチルイミダゾール、４−エチルイミダゾール、１−ブチルイミダゾール、２−ブチルイミダゾール、１−ｔブチルイミダゾール、１−オクチルイミダゾール、１，２−ジメチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾールが挙げられる。
【０１５９】
構造式（Ａ１０４´）で表される化合物の例としては、具体的には、ピリジン、２−メチルピリジン、３−メチルピリジン、４−メチルピリジン、２−エチルピリジン、３−エチルピリジン、４−エチルピリジン、４−ｔブチルピリジン、４−オクチルピリジン、２−メチル−４−エチルピリジン、２−メチル−５−エチルピリジン、２，６−ジメチルピリジン、３，５−ジメチルピリジン、２，６−ジｔブチルピリジンが挙げられる。
【０１６０】
構造式（Ａ１０５´）で表される化合物の例としては、具体的には、ピロリジン、１−メチルピロリジン、２−メチルピロリジン、１−ブチルピロリジン、１−ｔブチルピロリジン、１−オクチルピロリジン、２，５−ジメチルピロリジン、１−メチル−２−エチルピロリジン、ピペリジン、１−メチルピペリジン、４−メチルピペリジン、１−エチルピペリジン、２−エチルピペリジン、１−ブチルピペリジン、２−ブチルピペリジン、１−オクチルピペリジン、２，６−ジメチルピペリジン、１−メチルアゼパン、１−エチルアゼパン、１−ブチルアゼパン、１−ｔブチルアゼパン、１−オクチルアゼパン、１−ドデシルアゼパンが挙げられる。
【０１６１】
構造式（Ａ１０６´）で表される化合物の例としては、具体的には、ピペラジン、１−メチルピペラジン、１−エチルピペラジン、１−ブチルピペラジン、１−ｔブチルピペラジン、１−オクチルピペラジン、Ｎ，Ｎ´−ジメチルピペラジン、Ｎ，Ｎ´−ジエチルピペラジンが挙げられる。
【０１６２】
例えば、前記式（１´）で表される化合物として、下記構造式（２０）に示す、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラ（トリフルオロメタンスルホニル）−１，６−ジアミンが、前記式（Ａ１０１´）で表される化合物としてＮ，Ｎ−ジメチル−ｎ−オクチルアミンが挙げられる。
【０１６３】
【化４５】
2017049579.tif 000047
【０１６４】
これらを反応させると、下記構造式で表される化合物を得ることができる。すなわち、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラ（トリフルオロメタンスルホニル）−１，６−ジアミンの分子両末端に存在するＮ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラ（トリフルオロメタンスルホニル）イミド基は、反応後Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラ（トリフルオロメタンスルホニル）イミドアニオンとなる。下記構造式で表される化合物は、前記構造式（１）で表される構造を有するカチオンに該当する。
【０１６５】
【化４６】
2017049579.tif 000048
【０１６６】
化合物（ｉ）と化合物（ｉｉ）との反応は、加熱によって進行させることが可能である。加熱温度としては特に限定されないが、反応性を考慮すると、温度３０℃以上１８０℃以下、特には温度８０℃以上１４０℃以下であることが好ましい。加熱温度がこの範囲内である場合、イオン導電剤の生成が良好に進行する。
【０１６７】
樹脂層３の樹脂として、熱硬化性ポリエーテルポリウレタン樹脂および熱硬化性ポリエステルポリウレタン樹脂を用いる場合は、加熱温度を適切に調整すれば、イオン導電剤の生成と樹脂の硬化とを同時に行うことが可能である。すなわち、樹脂の原料と、化合物（ｉ）と化合物（ｉｉ）とを混合した混合物を加熱することによって、一度の加熱で樹脂層３を形成することが可能である。
【０１６８】
上記カチオンと上記アニオンとを有するイオン導電剤の含有量は、樹脂１００質量部に対し、０．１質量部以上１０質量部以下であることが好ましい。イオン導電剤の含有量が０．１質量部以上であると、低温環境下でも高い導電性を維持することができ、変形回復性の効果が高い電子写真用部材を得ることができる。
【０１６９】
化合物（ｉ）は、公知の方法によって製造することが可能である。例えば、
・カチオン基間のスペーサーとなる化学構造の両末端に、ブロモ基、クロロ基の如きハロゲノ基、または水酸基が結合した化合物と、
・リチウムＮ，Ｎ−ビス（フルオロアルキル）スルホニルイミド、カリウムＮ，Ｎ−ビス（フルオロアルキルスルホニル）イミドの如き、アルカリ金属フルオロアルキルスルホニルイミドまたはアルカリ金属フルオロスルホニルイミド、ならびに、Ｎ，Ｎ−ビス（フルオロアルキル）スルホニルイミドの如き、フルオロアルキルスルホニルイミドまたはフルオロスルホニルイミドと
を反応させることによって得ることが可能である。
【０１７０】
樹脂層３の形成方法としては、特に限定されるものではないが、スプレー塗工、浸漬塗工、又はロールコート法が挙げられる。これらの中でも、特開昭５７−５０４７号公報に記載されているような浸漬槽上端から塗料をオーバーフローさせる浸漬塗工方法は、樹脂層３を形成する方法として簡便で生産安定性に優れているため、好ましく用いられる。樹脂層３の厚さは、５．０μｍ以上２０．０μｍ以下であることが好ましい。
【０１７１】
（樹脂層中のその他の成分）
樹脂層３は、必要に応じて、シリカ、石英粉末、酸化チタン、酸化亜鉛および炭酸カルシウムの如き非導電性充填剤を含有してもよい。これらの非導電性充填剤は、樹脂層３形成用の塗料に添加することにより、樹脂層３の形成工程において該塗料をコーティングする際に、成膜助剤としての機能を発揮する。かかる非導電性充填剤の含有率は、樹脂層３を形成する樹脂、すなわちバインダー樹脂１００質量部に対して１０質量部以上３０質量部以下であることが好ましい。
【０１７２】
また、樹脂層３は、必要に応じて、本発明の効果を妨げない範囲で、導電性充填剤を含有してもよい。導電性充填剤としては、カーボンブラック；アルミニウム、銅の如き導電性金属；酸化亜鉛、酸化錫、酸化チタンの如き導電性金属酸化物の微粒子を用いることができる。このうち、カーボンブラックは、比較的容易に入手でき、導電付与性と補強性が高いため特に好ましく用いられる。
【０１７３】
樹脂層３が最表層である場合において、電子写真用部材としてある程度の表面粗度が求められる場合は、樹脂層３に粗さ制御のための微粒子を添加してもよい。粗さ制御用微粒子には、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、またはフェノール樹脂の微粒子を用いることができる。粗さ制御用微粒子の体積平均粒径は、３μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましい。樹脂層３中の粗さ制御用粒子の含有量は、樹脂層３を形成する樹脂、すなわちバインダー樹脂１００質量部に対し、１質量部以上５０質量部以下であることが好ましい
＜樹脂層の第２の実施形態＞
第２の実施形態に係る樹脂層は、下記に詳述する構造式（７）〜（１２）からなる群から選択されるいずれかの構造を分子内に有する樹脂と、アニオンとを含み、該アニオンは、フルオロアルキルスルホニルイミドアニオン及びフルオロスルホニルイミドアニオンからなる群から選択される少なくとも１つである。
【０１７４】
第２の実施形態に係る樹脂層３は、樹脂中にカチオン基が存在し、該カチオン基間に、特定の化学構造を有している。第１の実施形態に係る樹脂層３と異なる点は、第１の実施形態に係るカチオンがカチオン基として樹脂中に存在している点である。それ以外の、カチオン基間の特定の化学構造、アニオンの具体的態様、およびバインダーとしての樹脂の種類は、第１の実施形態に係る樹脂層３と同様である。
【０１７５】
かかる樹脂層は、第１の実施形態に係る樹脂層と同様に、特定の化学構造がスペーサーとして機能し、イオンのクラスター化を抑制していると考えられる。その結果、かかる樹脂層を有する電子写真用部材は、変形回復性が良好である。
【０１７６】
第２の実施形態に係る樹脂層は、第１の実施形態に係る樹脂層と比較して変形回復性の観点で特に好ましい。これは、第２の実施形態に係る樹脂層は、カチオン基がバインダー樹脂に化学的に固定されているため、第１の実施形態に係る樹脂層と比較してカチオンの凝集がより抑制されているためであると考えられる。
【０１７７】
以下、第１の実施形態に係る樹脂層３と異なる点について説明する。下記に述べた内容以外は、第１の実施形態に係る樹脂層３と同様である。
【０１７８】
（樹脂中のカチオン基）
本実施形態に係る樹脂は、下記構造式（７）〜（１２）からなる群から選択されるいずれかの構造を分子内に有する。
【０１７９】
Ｅ１１−Ｒ２０１−Ｅ１２    （７）
構造式（７）中、Ｅ１１〜Ｅ１２は、各々独立に、下記構造式（Ｅ１０１）〜（Ｅ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表す。Ｒ２０１は、Ｅ１１に係るカチオン構造とＥ１２に係るカチオン構造とを繋ぐ連結基である。該連結基は、両カチオン構造間のスペーサーとして機能する。そして、Ｅ１１及びＥ１２に係るカチオン構造の間には、少なくとも炭素数４個以上（Ｃ４以上）の直鎖に相当する距離を持たせるものであり、特に好ましくは、Ｃ６以上の直鎖に相当する距離を持たせるものである。Ｒ２０１の例としては、Ｃ４以上、好ましくは、Ｃ６以上の直鎖部分を有する炭化水素基が挙げられる。かかる炭化水素基は、２価の飽和または不飽和炭化水素基であることができる。Ｒ２０１に係る炭化水素基が有する炭素数としては、特には、６以上１２以下であることが好ましい。Ｒ２０１に係る炭化水素基の具体例としては、前記Ｒ１０１の具体例で例示した炭化水素基と同じものを挙げることができる。
【０１８０】
【化４７】
2017049579.tif 000049
【０１８１】
構造式（８）中、Ｅ１３〜Ｅ１４は、各々独立に、下記構造式（Ｅ１０１）〜（Ｅ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表す。ｄ８は０または１の整数を表す。
【０１８２】
Ｒ２０４は、構造式（８）中のベンゼン環の、Ｒ２０２およびＲ２０３が結合していない炭素原子に結合する、炭素数１以上４以下の炭化水素基を表す。Ｒ２０４の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基が挙げられる。
【０１８３】
Ｒ２０２及びＲ２０３は、Ｅ１３およびＥ１４の各々に係るカチオン構造を繋ぎ、両カチオン構造間のスペーサーとして機能する、フェニレン基を含む連結基の一部を構成する基である。Ｒ２０２及びＲ２０３は、各々独立に、炭素数１以上４以下の２価の炭化水素基を表す。
【０１８４】
構造式（８）における連結基の、ｄ８＝０の場合の具体例としては、構造式（２）における連結基の、ｄ１＝０の場合の具体例として挙げたものと同じものが挙げられる。
【０１８５】
【化４８】
2017049579.tif 000050
【０１８６】
構造式（９）中、Ｅ１５〜Ｅ１６は、各々独立に、下記構造式（Ｅ１０１）〜（Ｅ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表す。ｄ９は０または１の整数を表す。Ｒ２０７は、構造式（９）中のシクロヘキサン環の、Ｒ２０５およびＲ２０６が結合していない炭素原子に結合する、炭素数１以上４以下の１価の炭化水素基を表す。Ｒ２０７の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基が挙げられる。
【０１８７】
Ｒ２０５及びＲ２０６は、Ｅ１５およびＥ１６に係るカチオン構造を繋ぎ、両カチオン構造間のスペーサーとして機能する、シクロヘキシレン基を含む連結基の一部を構成する基である。Ｒ２０５及びＲ２０６は、各々独立に、炭素数１以上４以下の２価の炭化水素基を表す。構造式（９）における連結基の、ｄ９＝０の場合の具体例としては、構造式（３）における連結基の、ｄ２＝０の場合の具体例として挙げたものと同じものを挙げることができる。
【０１８８】
【化４９】
2017049579.tif 000051
【０１８９】
構造式（１０）中、Ｅ１７〜Ｅ１８は、各々独立に、下記構造式（Ｅ１０１）〜（Ｅ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表す。ｎ２は１以上４以下の整数を表す。
【０１９０】
Ｒ２０８及びＲ２０９は、Ｅ１７およびＥ１８に係るカチオン構造を繋ぎ、両カチオン構造間のスペーサーとして機能する連結基の一部を構成する基である。該連結基は、Ｅ１７およびＥ１８に係るカチオン構造間に、少なくとも４個の炭素原子と１個の酸素原子とからなる直鎖に相当する距離を持たせるものであり、Ｒ２０８およびＲ２０９は、各々独立に、炭素数２以上４以下の２価の炭化水素基を表す。
【０１９１】
かかる炭化水素基を含む連結基の具体例としては、構造式（４）に係る連結基の具体例と同じものを挙げることができる。
【０１９２】
【化５０】
2017049579.tif 000052
【０１９３】
構造式（１１）中、Ｅ１９〜Ｅ２０は、各々独立に、後述する構造式（Ｅ１０１）〜（Ｅ１０６）からなる群から選択される何れかの構造を表す。Ｒ２１２は、水素原子、または炭素数１以上４以下の１価の炭化水素基を表す。
【０１９４】
Ｒ２１０及びＲ２１１は、Ｅ１９およびＥ２０に係るカチオン構造を繋ぎ、両カチオン構造間のスペーサーとして機能する連結基の一部を構成する基である。Ｒ２１０およびＲ２１１は、各々独立に、構造式（１１）中の窒素原子とＥ１９との間、および、該窒素原子とＥ２０との間に、少なくとも炭素数２個の直鎖に相当する距離を持たせるものであり、炭素数２以上４以下の２価の炭化水素基を表す。構造式（１１）における連結基の例としては、構造式（５）における連結基の例として挙げたものと同じものを挙げることができる。
【０１９５】
【化５１】
2017049579.tif 000053
【０１９６】
構造式（１２）中、Ｅ２１〜Ｅ２３は、各々独立に、後述する構造式（Ｅ１０１）〜（Ｅ１０６）からなる群から選択される何れかのカチオン構造を表す。Ｒ２１３〜Ｒ２１５は、Ｅ２１〜Ｅ２３に係るカチオン構造を繋ぎ、各カチオン構造間のスペーサーとして機能する連結基の一部を構成する基である。Ｒ２１３〜Ｒ２１５は、各々独立に、Ｅ２１〜Ｅ２３の各々と窒素原子との間に少なくとも炭素数２個の直鎖に相当する距離を持たせるための、炭素数２以上４以下の２価の炭化水素基を表す。構造式（１２）における連結基の例としては、構造式（６）における連結基の例として挙げたものと同じものを挙げることができる。
【０１９７】
次に、構造式（Ｅ１０１）〜（Ｅ１０６）で示されるカチオン構造について詳細に説明する。
【０１９８】
【化５２】
2017049579.tif 000054
【０１９９】
構造式（Ｅ１０１）中、Ｘ１〜Ｘ３は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表し、Ｘ１〜Ｘ３のうち、少なくとも一つは樹脂との結合部である。記号「＊」は構造式（７）〜（１２）との結合部を表す。
【０２００】
構造式（Ｅ１０１）は、具体的には、樹脂との結合部を有する４級アンモニウムカチオンを表す。Ｘ１〜Ｘ３のうち、樹脂との結合部をなす部分の詳細は後に述べる。Ｘ１〜Ｘ３のうち、樹脂との結合部でないＸ１〜Ｘ３は、各々独立に、炭素数１以上１２以下、好ましくは、１以上８以下の１価の炭化水素基を表す。かかる炭化水素基の例としては、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基が挙げられる。
【０２０１】
【化５３】
2017049579.tif 000055
【０２０２】
構造式（Ｅ１０２）中、Ｒ２１６及びＲ２１７は、各々独立に、構造式（Ｅ１０２）において含窒素複素芳香族６員環を形成するのに必要な炭化水素基を表す。ｄ１０は１または２の整数を表す。Ｘ４は、含窒素複素芳香族６員環中のいずれかの炭素原子と結合している置換基または樹脂との結合部を表し、Ｘ４のうちの少なくとも一つは樹脂との結合部を構成する。また、記号「＊」は構造式（７）〜（１２）との結合部を表す。
【０２０３】
構造式（Ｅ１０２）は、具体的には、樹脂との結合部を有し、６員環構造中に窒素原子を２個含有する芳香族カチオン構造を表す。かかる６員環構造の例としては、具体的には、ピラジン環、ピリミジン環が挙げられる。
【０２０４】
樹脂との結合部を構成するＸ４については後述する。一方、樹脂との結合部を構成しないＸ４は、炭素数１以上１２以下、好ましくは、炭素数１以上８以下の炭化水素基を表す。該炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基が挙げられる。
【０２０５】
【化５４】
2017049579.tif 000056
【０２０６】
構造式（Ｅ１０３）中、Ｒ２１８及びＲ２１９は、各々独立に、構造式（Ｅ１０３）において含窒素複素芳香族５員環を形成するのに必要な炭化水素基を表す。ｄ１１は０〜２の整数を表す。
【０２０７】
Ｘ５は、水素原子、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表す。Ｘ６は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表す。Ｘ５及びＸ６のうち、少なくとも一つは樹脂との結合部である。記号「＊」は構造式（７）〜（１２）との結合部を表す。
【０２０８】
構造式（Ｅ１０３）は、具体的には、樹脂との結合部を有し、５員環構造中に窒素原子を２個含有する芳香族カチオン構造を表す。かかる５員環構造の例としては、具体的には、イミダゾール環が挙げられる。
【０２０９】
樹脂との結合部を構成するＸ５またはＸ６については後述する。
【０２１０】
一方、樹脂との結合部を構成しないＸ５は、水素原子、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表す。該炭化水素基は、特には、炭素数１以上８以下であることが好ましい。係る炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基が挙げられる。
【０２１１】
また、樹脂との結合部を構成しないＸ６は、複数個存在する場合は各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表し、特には、炭素数１以上８以下の炭化水素基であることが好ましい。かかる炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基が挙げられる。
【０２１２】
【化５５】
2017049579.tif 000057
【０２１３】
構造式（Ｅ１０４）中、Ｒ２２０は、構造式（Ｅ１０４）において含窒素複素芳香環を形成するのに必要な炭化水素基を表す。ｄ１２は１または２の整数を表す。
【０２１４】
Ｘ７は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表し、Ｘ７のうち、少なくとも一つは樹脂との結合部である。記号「＊」は構造式（７）〜（１２）との結合部を表す。
【０２１５】
構造式（Ｅ１０４）は、具体的には、樹脂との結合部を有し、環構造中に窒素原子を１個含有する芳香族カチオン構造を表す。環構造としては、４〜７員環、特には５員環または６員環であることが好ましい。かかる環構造としては、ピロール環、ピリジン環、アゼピン環が挙げられる。
【０２１６】
樹脂との結合部を構成するＸ７については後述する。
【０２１７】
一方、樹脂との結合部を構成しないＸ７は、炭素数１以上１２以下の炭化水素基を表し、特には、炭素数１以上８以下の炭化水素基であることが好ましい。係る炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基が挙げられる。
【０２１８】
【化５６】
2017049579.tif 000058
【０２１９】
構造式（Ｅ１０５）中、Ｒ２２１は、構造式（Ｅ１０５）において含窒素複素非芳香族環を形成するのに必要な炭化水素基を表す。ｄ１３は０〜２の整数を表す。
Ｘ８は、水素原子、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表す。Ｘ９は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表す。Ｘ８及びＸ９のうち、少なくとも一つは樹脂との結合部である。記号「＊」は構造式（７）〜（１２）との結合部を表す。
【０２２０】
構造式（Ｅ１０５）は、具体的には、樹脂との結合部を有し、環構造中に窒素原子を１個含有する非芳香族カチオン構造を表す。環構造としては、４〜７員環、特には５員環または６員環であることが好ましい。かかる環構造としては、具体的には、ピロリジン環、ピロリン環、ピペリジン環、アゼパン環、アゾカン環が挙げられる。
【０２２１】
樹脂との結合を構成するＸ８またはＸ９については後述する。
【０２２２】
一方、樹脂との結合部を構成しないＸ８は、具体的には、水素原子、炭素原子１以上１２以下の１価の炭化水素基を表す。該炭化水素基は、特には、炭素数１以上８以下の１価の炭化水素基であることが好ましい。係る炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基が挙げられる。
【０２２３】
また、樹脂との結合部を構成しないＸ９は、複数個存在する場合は各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表し、特には、炭素数１以上８以下の炭化水素基であることが好ましい。かかる炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基が挙げられる。
【０２２４】
【化５７】
2017049579.tif 000059
【０２２５】
構造式（Ｅ１０６）中、Ｒ２２２及びＲ２２３は、各々独立に、構造式（Ｅ１０６）において含窒素複素非芳香族環を形成するのに必要な炭化水素基を表す。ｄ１４は０〜２の整数を表す。
【０２２６】
Ｘ１０及びＸ１１は、各々独立に、水素原子、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表す。
【０２２７】
Ｘ１２は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または樹脂との結合部を表す。Ｘ１０〜Ｘ１２のうち、少なくとも一つは樹脂との結合部である。記号「＊」は構造式（７）〜（１２）との結合部を表す。
【０２２８】
構造式（Ｅ１０６）は、具体的には、樹脂との結合部を有し、環構造中に窒素原子を２個含有する非芳香族カチオン構造を表す。環構造としては、４〜７員環、特には５員環または６員環であることが好ましい。かかる環構造としては、具体的には、イミダゾリジン環、イミダゾリン環、ピペラジン環、ジアゼパン環、ジアゾカン環、が挙げられる。
【０２２９】
樹脂との結合を構成するＸ１０〜Ｘ１２については後述する。
【０２３０】
一方、樹脂との結合部を構成しないＸ１０、Ｘ１１は、具体的には、水素原子、炭素原子１以上１２以下の１価の炭化水素基を表す。該炭化水素基は、特には、炭素数１以上８以下の１価の炭化水素基であることが好ましい。係る炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基が挙げられる。
【０２３１】
樹脂との結合部を構成しないＸ１２は、複数個存在する場合は各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基を表し、特には、炭素数１以上８以下の炭化水素基であることが好ましい。かかる炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基が挙げられる。
【０２３２】
（樹脂層の形成方法）
上記したカチオン基を有する樹脂とアニオンは、下記成分を反応させることで得られる。
（ｉ）カチオン間のスペーサーとなる化学構造の両末端に、フルオロアルキルスルホニルイミド基またはフルオロスルホニルイミド基が結合した化合物；
（ｉｉ）反応性官能基を有する、３級アミン類または含窒素複素環化合物；
（ｉｉｉ）該反応性官能基と反応可能な官能基を有する樹脂または樹脂原料。
【０２３３】
第１の実施形態で述べたように、化合物（ｉ）および化合物（ｉｉ）が反応することで、イオン導電剤が生成される。また、化合物（ｉｉ）中の反応性官能基と、樹脂または樹脂原料中の官能基との反応が進行することで、化合物（ｉｉ）由来のカチオン基が樹脂中に組み込まれる。
【０２３４】
化合物（ｉ）としては、具体的には、第１の実施の形態で示したものが挙げられる。
【０２３５】
化合物（ｉｉ）において、アミン類および含窒素複素環化合物が有する反応性官能基としては、水酸基、アミノ基、エポキシ基を挙げることができる。これに対し、化合物（ｉｉｉ）において、樹脂または樹脂原料が有する、アミン類または含窒素複素環化合物が有する反応性官能基と結合可能な官能基としては、イソシアネート基、エポキシ基、カルボキシル基、およびアミノ基を挙げることができる。尚、イソシアネート基としては、通常の状態ではブロック剤で保護されているが、反応時は該ブロック剤が外れるブロックイソシアネート基であってもよい。
【０２３６】
上記構造式（Ｅ１０１）〜（Ｅ１０６）中のＸ１〜Ｘ１２において、樹脂との結合部は、化合物（ｉｉ）が有する、水酸基、アミノ基、エポキシ基の如き反応性官能基と、化合物（ｉｉｉ）が有する、イソシアネート基、エポキシ基、カルボキシル基、アミノ基の如き反応性官能基とが反応することにより形成される部位である。
【０２３７】
化合物（ｉｉ）としては、具体的には、下記構造式（Ｅ１０１´）〜（Ｅ１０６´）からなる群から選択されるいずれかで表される化合物が挙げられる。
【０２３８】
【化５８】
2017049579.tif 000060
【０２３９】
構造式（Ｅ１０１´）中、Ｘ１´〜Ｘ３´は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または反応性官能基が結合した炭化水素基を表し、Ｘ１´〜Ｘ３´のうち、少なくとも一つは反応性官能基が結合した炭化水素基である。
【０２４０】
構造式（Ｅ１０１´）で表される化合物の例としては、具体的には、ジメチルエタノールアミン、ジエチルエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、４−ジメチルアミノ−１−ブタノール、６−ジメチルアミノ−１−ヘキサノール、８−ジメチルアミノ−１−オクタノール、３−ジエチルアミノ−１−プロパノール、トリエタノールアミン、トリス（４−ヒドロキシブチル）アミン、２−ジメチルアミノエチルアミン、２−ジエチルアミノエチルアミン、２−（ジブチルアミノ）エチルアミン、トリス（２−アミノエチル）アミン、Ｎ−グリシジル−ジメチルアミン、Ｎ−グリシジル−ジエチルアミン、Ｎ−グリシジル−ジ−ｎ−ブチルアミンが挙げられる。
【０２４１】
【化５９】
2017049579.tif 000061
【０２４２】
構造式（Ｅ１０２´）中、Ｒ２１６´及びＲ２１７´は、各々独立に、構造式（Ｅ１０２´）において含窒素複素芳香族６員環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｘ４´は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または反応性官能基が結合した炭化水素基を表し、ｄ１０´は１または２の整数を表し、Ｘ４´のうち、少なくとも一つは反応性官能基が結合した炭化水素基である。含窒素複素芳香族６員環としては、ピラジン環、ピリミジン環が挙げられる。
【０２４３】
構造式（Ｅ１０２´）で表される化合物の例としては、具体的には、２−ピラジンメタノール、２−（２−ヒドロキシエチル）ピラジン、２−（アミノメチル）ピラジン、２−（アミノメチル）−５−メチルピラジン、２−グリシジルピラジン、２−ヒドロキシエチルピリミジン、５−ヒドロキシエチルピリミジン、２−アミノエチルピリミジン、５−アミノエチルピリミジン、５−グリシジルピリミジンが挙げられる。
【０２４４】
【化６０】
2017049579.tif 000062
【０２４５】
構造式（Ｅ１０３´）中、Ｒ２１８´及びＲ２１９´は、各々独立に、構造式（Ｅ１０３´）において含窒素複素芳香族５員環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｘ５´は、水素原子、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または反応性官能基が結合した炭化水素基を表し、Ｘ６´は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または反応性官能基が結合した炭化水素基を表し、ｄ１１´は０〜２の整数を表し、Ｘ５´及びＸ６´のうち、少なくとも一つは反応性官能基が結合した炭化水素基である。含窒素複素芳香族５員環としては、イミダゾール環が挙げられる。
【０２４６】
構造式（Ｅ１０３´）で表される化合物の例としては、具体的には、１−メチル−２−ヒドロキシメチルイミダゾール、１−メチル−２−ヒドロキシエチルイミダゾール、１−メチル−２−アミノエチルイミダゾール、１，４−ジグリシジルイミダゾールが挙げられる。
【０２４７】
【化６１】
2017049579.tif 000063
【０２４８】
構造式（Ｅ１０４´）中、Ｒ２２０´は、構造式（Ｅ１０４´）において含窒素複素芳香環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｘ７´は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または反応性官能基が結合した炭化水素基を表し、ｄ１２´は１または２の整数を表し、Ｘ７´のうち、少なくとも一つは反応性官能基が結合した炭化水素基である。含窒素複素芳香環の環構造としては、４〜７員環、特には５員環または６員環であることが好ましい。
【０２４９】
構造式（Ｅ１０４´）で表される化合物の例としては、具体的には、２−ヒドロキシエチル−５−エチルピリジン、２−メチル−６−ヒドロキシエチルピリジン、２，６−ピリジンジメタノール、２−（２−アミノエチル）ピリジン、５−エチル−３−グリシジル−２−メチルピリジンが挙げられる。
【０２５０】
【化６２】
2017049579.tif 000064
【０２５１】
構造式（Ｅ１０５´）中、Ｒ２２１´は、構造式（Ｅ１０５´）において含窒素複素非芳香族環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｘ８´は、水素原子、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または反応性官能基が結合した炭化水素基を表し、Ｘ９´は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または反応性官能基が結合した炭化水素基を表し、ｄ１３´は０〜２の整数を表し、Ｘ８´及びＸ９´のうち、少なくとも一つは反応性官能基が結合した炭化水素基である。含窒素複素非芳香環の環構造としては、４〜７員環、特には５員環または６員環であることが好ましい。含窒素複素非芳香環としては、ピロリジン環、ピロリン環、ピペリジン環、アゼパン環、およびアゾカン環が挙げられる。
【０２５２】
構造式（Ｅ１０５´）で表される化合物の例としては、具体的には、２−（２−ヒドロキシエチル）−１−メチルピロリジン、２−（２−アミノエチル）−１−メチルピロリジン、１−（２−アミノエチル）ピロリジン、１−（２−ヒドロキシエチル）−２−ヒドロキシメチルピロリジン、１−（２−ヒドロキシエチル）ピペリジン、１−（２−ヒドロキシエチル）−２−ヒドロキシメチルピペリジン、１−（２−アミノエチル）ピペリジン、１−（３−アミノプロピル）−２−メチルピペリジン、１−（３−ヒドロキシプロピル）アゼパン、２−グリシジル−１−メチルピロリジンが挙げられる。
【０２５３】
【化６３】
2017049579.tif 000065
【０２５４】
構造式（Ｅ１０６´）中、Ｒ２２２´及びＲ２２３´は、各々独立に、構造式（Ｅ１０６´）において含窒素複素非芳香族環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｘ１０´及びＸ１１´は、各々独立に、水素原子、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または反応性官能基が結合した炭化水素基を表し、Ｘ１２´は、各々独立に、炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基、または反応性官能基が結合した炭化水素基を表し、ｄ１４´は０〜２の整数を表し、Ｘ１０´〜Ｘ１２´のうち、少なくとも一つは反応性官能基が結合した炭化水素基である。含窒素複素非芳香環の環構造としては、４〜７員環、特には５員環または６員環であることが好ましい。含窒素複素非芳香環としては、イミダゾリジン環、イミダゾリン環、ピペラジン環、ジアゼパン環、およびジアゾカン環が挙げられる。
【０２５５】
構造式（Ｅ１０６´）で表される化合物の例としては、具体的には、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、Ｎ−（２−アミノエチル）ピペラジン、１，４−ビス（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、１，４−ビス（３−アミノプロピル）ピペラジン、４−メチルピペラジン−１−エタノール、Ｎ−メチル−２−グリシジルピペラジンが挙げられる。
【０２５６】
化合物（ｉｉｉ）としては、具体的には、第１の実施形態で示した樹脂または樹脂原料に、前記反応性官能基と反応可能な官能基が結合したものが挙げられる。
【０２５７】
アミン類または含窒素複素環化合物中の反応性官能基と、該反応性官能基と反応可能な官能基との反応によって生じ得る結合としては、以下のものが好ましい。
【０２５８】
【化６４】
2017049579.tif 000066
【０２５９】
【化６５】
2017049579.tif 000067
【０２６０】
【化６６】
2017049579.tif 000068
【０２６１】
【化６７】
2017049579.tif 000069
【０２６２】
【化６８】
2017049579.tif 000070
【０２６３】
構造式（Ｘ１０１）〜（Ｘ１０５）中、記号「＊＊」は、構造式（Ｅ１０１）〜（Ｅ１０６）中の含窒素複素環中の窒素原子または含窒素複素環中の炭素原子との結合部を表し、記号「＊＊＊」は、該樹脂を構成するポリマー鎖中の炭素原子との結合部を表し、ｎ３〜ｎ７は、各々独立に、１以上４以下の整数を表す。
【０２６４】
構造式（Ｘ１０１）で表される結合は、例えば、３級アミン類または含窒素複素環化合物中の水酸基と、樹脂または樹脂原料中のイソシアネート基とが反応して形成される。
【０２６５】
構造式（Ｘ１０２）で表される結合は、例えば、３級アミン類または含窒素複素環化合物中のアミノ基と、樹脂または樹脂原料中のイソシアネート基とが反応して形成される。
【０２６６】
構造式（Ｘ１０３）で表される結合は、例えば、３級アミン類または含窒素複素環化合物中のグリシジル基と、樹脂または樹脂原料中のアミノ基とが反応して形成される。
【０２６７】
構造式（Ｘ１０４）で表される結合は、例えば、３級アミン類または含窒素複素環化合物中のグリシジル基と、樹脂または樹脂原料中の水酸基とが反応した残基を表す。
【０２６８】
構造式（Ｘ１０５）で表される結合は、例えば、３級アミン類または含窒素複素環化合物中のグリシジル基と、樹脂または樹脂原料中のカルボキシル基とが反応して形成される。
【０２６９】
上記した化合物（ｉ）〜（ｉｉｉ）の組み合わせの一例を以下に示す。化合物（ｉ）としてＮ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラ（トリフルオロメタンスルホニル）−１，６−ジアミンを、化合物（ｉｉ）としてトリエタノールアミンを用い、これらと、ポリイソシアネート化合物を含む熱硬化性ポリウレタン樹脂の原料を混合して加熱硬化する場合、下記に示す構造を有するウレタン樹脂を得ることができる。下記構造式で表される化合物は、前記構造式（７）で表される化合物であり、樹脂との結合部は前記構造式（Ｘ１０１）で表される構造に該当する。
【０２７０】
【化６９】
2017049579.tif 000071
【０２７１】
樹脂層３は、化合物（ｉ）〜（ｉｉｉ）は全て混合したものを加熱して一度に硬化させて形成してもよく、化合物（ｉ）と化合物（ｉｉ）とを先に反応させてイオン導電剤を生成した後、該イオン導電剤を化合物（ｉｉｉ）と混合して硬化させて形成してもよい。後者の場合としては、化合物（ｉｉｉ）として、熱硬化性ポリエーテルポリウレタン樹脂および熱硬化性ポリエステルポリウレタン樹脂を用いることが好ましい。
【０２７２】
前記カチオン基とアニオンの含有量の合計は、反応性官能基と反応可能な官能基を有する樹脂１００質量部に対して、０．１質量部以上１０質量部以下であることが好ましい。含有量がこの範囲であると、低温環境下でも電子写真用部材の導電性が良好であり、変形回復性の効果が高い電子写真用部材を得ることができる。
【０２７３】
（２）電子写真装置
本発明に係る、上記した電子写真用部材は、電子写真装置における現像ローラ、トナー供給ローラ、および現像ブレードとして好適に用いることができる。電子写真用部材は、磁性一成分トナーや非磁性一成分トナーを用いた非接触型現像装置および接触型現像装置、ならびに二成分トナーを用いた現像装置のいずれの現像装置にも適用することができる。
【０２７４】
図３は、上記した電子写真用部材を、一成分トナーを用いた接触型現像装置の現像ローラとして搭載した電子写真装置の一例の概略断面図である。
【０２７５】
電子写真装置には現像装置２２が脱着可能に装着されている。現像装置２２は、一成分トナーとしてトナー１５を収容したトナー容器２０と、現像ローラ１６と、現像ローラ１６へトナーを供給するトナー供給ローラ１９と、現像ローラ１６上のトナー層の厚さを規制する現像ブレード２１とを含んで構成されている。現像ローラ１６は、トナー容器２０内の長手方向に延在する開口部に位置し感光体１８と対向設置されている。
【０２７６】
また、電子写真装置には、感光体１８、クリーニングブレード２６、廃トナー収容容器２５、帯電ローラ２４を含んで構成されているプロセスカートリッジ１７が脱着可能に装着されている。なお、感光体１８、クリーニングブレード２６、廃トナー収容容器２５、帯電ローラ２４は電子写真装置本体に配備されていてもよい。
【０２７７】
以下、電子写真装置のプリント動作を説明する。感光体１８は矢印方向に回転し、感光体１８を帯電処理するための帯電ローラ２４によって一様に帯電される。次いで、露光手段であるレーザー光２３により、感光体１８の表面に静電潜像が形成される。上記静電潜像は、感光体１８に対して接触配置される現像装置２２によってトナー１５を付与されることによりトナー像として可視化される（現像）。現像は露光部にトナー像を形成する所謂反転現像である。感光体１８上に形成されたトナー像は、転写部材である転写ローラ２９によって記録媒体である紙３４に転写される。紙３４は、給紙ローラ３５および吸着ローラ３６を経て装置内に給紙され、エンドレスベルト状の転写搬送ベルト３２により感光体１８と転写ローラ２９の間に搬送される。転写搬送ベルト３２は、従動ローラ３３、駆動ローラ２８、テンションローラ３１により稼働している。転写ローラ２９および吸着ローラ３６には、バイアス電源３０から電圧が印加されている。トナー像を転写された紙３４は、定着装置２７により定着処理され、装置外に排紙されプリント動作が終了する。
【０２７８】
一方、転写されずに感光体１８上に残存した転写残トナーは、感光体表面をクリーニングするためのクリーニング部材であるクリーニングブレード２６により掻き取られ廃トナー収容容器２５に収納される。クリーニングされた感光体１８は上述作用を繰り返し行う。
【０２７９】
（３）プロセスカートリッジ
本発明に係る、上記した電子写真用部材は、プロセスカートリッジにおける現像ローラ、トナー供給ローラ、および現像ブレードとして好適に用いることができる。
【０２８０】
図４は、本発明の一態様に係るプロセスカートリッジの一例の概略断面図である。図４において、上記した電子写真用部材は現像ローラ１６として搭載されている。
【０２８１】
図４に示したプロセスカートリッジ１７は、電子写真装置の本体に着脱可能に構成されている。プロセスカートリッジ１７は、現像ローラ１６と現像ブレード２１とを含んで構成されている現像装置２２、電子写真感光体１８、クリーニングブレード２６、廃トナー収容容器２５、および帯電ローラ２４が一体化された者である。現像装置２２は、さらにトナー容器２０を含み、トナー容器２０中には、トナー１５が充填されている。トナー容器２０中のトナー１５は、トナー供給ローラ１９によって現像ローラ１６の表面に供給され、現像ブレード２１によって、現像ローラ１６の表面に所定の厚みのトナー１５の層が形成される。
【実施例】
【０２８２】
以下に本発明に係る具体的な実施例及び比較例について示す。
【０２８３】
まず、イオン導電剤、および樹脂を作製するために必要な原料化合物について合成した。
【０２８４】
＜化合物（ｉ）の合成＞
（化合物ＩＰ−１の合成）
原料Ｎｏ．１として、１，４−ジクロロブタン（東京化成工業社製）１６．０ｇ（０．１３ｍｏｌ）を、原料Ｎｏ．２として、リチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（商品名「ＥＦ−Ｎ１１５」；三菱マテリアル電子化成社製）７９．５ｇ（０．２８ｍｏｌ）を準備した。これらをクロロホルム６０．０ｇに溶解させ、５時間加熱還流した。次に、反応溶液を室温まで冷却し、炭酸ナトリウム５質量％水溶液２００ｍｌを加えて３０分撹拌した後分液し、クロロホルム層を、イオン交換水１２０ｇを用いて３回洗浄操作を行った。次に、減圧下クロロホルムを留去して、化合物ＩＰ−１を得た。化合物ＩＰ−１は、下記式（２１）で表される化合物である。
【０２８５】
【化７０】
2017049579.tif 000072
【０２８６】
（化合物ＩＰ−３、５、６、７、１０の合成）
原料Ｎｏ．１、原料Ｎｏ．２、及び配合量を表１に記載の通り変更した以外は、化合物ＩＰ−１の合成の合成例と同様にして、化合物ＩＰ−３、５、６、７、および１０を得た。
【０２８７】
（化合物ＩＰ−２の合成）
原料Ｎｏ．１として、３−メチル−１，５−ペンタンジオール（東京化成工業社製）１６．０ｇ（０．１４ｍｏｌ）を、原料Ｎｏ．２として、１，１，１−トリフルオロ−Ｎ−［（トリフルオロメチル）スルホニル］メタンスルホンアミド（関東化学社製）８３．５ｇ（０．３０ｍｏｌ）を準備し、これらをクロロホルム６０．０ｇに溶解させ、５時間加熱還流した。次に、反応溶液を室温まで冷却し、炭酸ナトリウム５質量％水溶液２００ｍｌを加えて３０分撹拌した後分液し、クロロホルム層を、イオン交換水１２０ｇを用いて３回洗浄操作を行った。次に、減圧下クロロホルムを留去して、化合物ＩＰ−２を得た。化合物ＩＰ−２は下記構造式（２２）で表される化合物である。
【０２８８】
【化７１】
2017049579.tif 000073
【０２８９】
（化合物ＩＰ−４、８、９、１１、１２の合成）
原料Ｎｏ．１、原料Ｎｏ．２、及び配合量を表１に記載の通り変更した以外は、化合物ＩＰ−２の合成の合成例と同様にして、化合物ＩＰ−４、８、９、１１、１２を得た。
【０２９０】
【表１】
2017049579.tif 000074
【０２９１】
＜化合物（ｉｉ）の合成＞
（グリシジル基含有化合物Ｚ−１の合成）
５−エチル−２−メチルピリジン（東京化成工業社製）５０．０ｇ（０．４１ｍｏｌ）をジクロロメタン９０．０ｇに溶解させた。これに、ジクロロメタン８０．０ｇに溶解させたクロロメチルオキシラン（東京化成工業社製）（グリシジル化試薬）４２．０ｇ（０．４５ｍｏｌ）及び触媒としての塩化アルミニウム１．８ｇからなる混合溶液を加えた後、８時間加熱還流した。
【０２９２】
次に、反応溶液を１０℃まで冷却し、４ｍｏｌ／Ｌ塩酸５０．０ｇを加えて３０分撹拌した。その後、ジクロロメタン層を分液し、さらにイオン交換水１２０ｇを用いて３回洗浄操作を行った。次に、減圧下ジクロロメタンを留去して、化合物Ｚ−１を得た。化合物Ｚ−１は、下記構造式（２３）で表される化合物である。
【０２９３】
【化７２】
2017049579.tif 000075
【０２９４】
（グリシジル基含有化合物Ｚ−２の合成）
イミダゾール（東京化成工業社製）２２．０ｇ（０．３２ｍｏｌ）をジクロロメタン５０．０ｇに溶解させた。これに、ジクロロメタン８０．０ｇに溶解させたクロロメチルオキシラン（東京化成工業社製）（グリシジル化試薬）３２．９ｇ（０．３６ｍｏｌ）及び触媒としての塩化アルミニウム２．２ｇからなる混合溶液を加えた後、６時間加熱還流した。
【０２９５】
次に、反応溶液を１０℃まで冷却し、４ｍｏｌ／Ｌ塩酸５０．０ｇを加えて３０分撹拌した。その後、ジクロロメタン層を分液し、さらにイオン交換水１２０ｇを用いて２回洗浄操作を行った。
【０２９６】
得られた溶液に、ジクロロメタン５０．０ｇに溶解させたクロロメチルオキシラン（東京化成工業社製）（３級化剤）３５．９ｇ（０．３９ｍｏｌ）を３０分かけて滴下し、８時間加熱還流した。次に、反応溶液を室温まで冷却し、炭酸ナトリウム５質量％水溶液２００ｍｌを加えて３０分撹拌した後分液し、ジクロロメタン層を、イオン交換水１２０ｇを用いて２回洗浄した。次に、減圧下ジクロロメタンを留去して化合物Ｚ−２を得た。化合物Ｚ−２は、下記構造式（２４）で表される化合物である。
【０２９７】
【化７３】
2017049579.tif 000076
【０２９８】
（水酸基含有化合物Ｚ−３の合成）
ＤＬ―プロリノール（東京化成工業社製）２６．０ｇ（０．２６ｍｏｌ）、および炭酸カリウム４２．１ｇ、２−ブロモエタノール（東京化成工業社製）３８．６ｇ（０．３１ｍｏｌ）を、アセトニトリル１４０ｇに溶解させた。この溶液を５０°Ｃで５時間撹拌した。反応終了後、放冷した後に吸引ろ過して無機塩を除き、ろ液を減圧濃縮した。残澄にジエチルエーテル３００ｍＬを加えてよく撹拌した後に２０分間静置し、上澄み液を除いた。同様の操作を、ジエチルエーテル１００ｍＬを用いて３回、アセトニトリル１００ｍＬを用いて２回行った後に、真空乾燥し化合物Ｚ−３を得た。化合物Ｚ−３は、下記構造式（２５）で表される化合物である。
【０２９９】
【化７４】
2017049579.tif 000077
【０３００】
＜イソシアネート基末端プレポリマーの合成＞
（イソシアネート基末端プレポリマー  Ｂ−１の合成）
窒素雰囲気下、反応容器中でポリメリックＭＤＩ（商品名「ミリオネートＭＲ−２００」；東ソー社製）８１．１質量部に対し、ポリエーテルポリオール（商品名「ＰＴＧ−Ｌ１０００」；保土谷化学工業社製）１００．０質量部を反応容器内の温度を６５℃に保持しつつ、徐々に滴下した。滴下終了後、温度６５℃で３．５時間反応させ、メチルエチルケトン８０．０質量部を加えた。得られた反応混合物を室温まで冷却し、イソシアネート基含有量４．４重量％のイソシアネート基末端ウレタンプレポリマーＢ−１を得た。
【０３０１】
（イソシアネート基末端プレポリマー  Ｂ−２の合成）
窒素雰囲気下、反応容器中でポリメリックＭＤＩ（商品名「ミリオネートＭＲ−２００」；東ソー社製）６８．８質量部に対し、ポリカーボネートポリオール（商品名「クラレポリオールＣ−３０９０」；クラレ社製）１００．０質量部を反応容器内の温度を６５℃に保持しつつ、徐々に滴下した。滴下終了後、温度６５℃で２．５時間反応させ、メチルエチルケトン８０．０質量部を加えた。得られた反応混合物を室温まで冷却し、イソシアネート基含有量５．０重量％のイソシアネート基末端ウレタンプレポリマーＢ−２を得た。
【０３０２】
＜＜現像ローラの作製と評価＞＞
＜実施例１＞
（基体の用意）
基体として、ＳＵＳ３０４製の直径６ｍｍの芯金にプライマー（商品名「ＤＹ３５−０５１」；東レダウコーニング社製）を塗布、焼付けしたものを用意した。
【０３０３】
（シリコーンゴム弾性層の形成）
上記で用意した基体を金型に配置し、以下の材料を混合した付加型シリコーンゴム組成物を金型内に形成されたキャビティに注入した。
・液状シリコーンゴム材料（商品名「ＳＥ６７２４Ａ／Ｂ」；東レ・ダウコーニング社製）１００．０質量部
・カーボンブラック（商品名「トーカブラック＃４３００」；東海カーボン社製）１５．０質量部
・白金触媒  ０．１質量部
続いて、金型を加熱してシリコーンゴム組成物を温度１５０℃で１５分間加硫して硬化させた。周面に硬化したシリコーンゴム層が形成された基体を金型から脱型した後、当該芯金を、さらに温度１８０℃で１時間加熱して、シリコーンゴム層の硬化反応を完了させた。こうして、基体２の外周に厚さ３ｍｍのシリコーンゴム弾性層が形成された弾性ローラＤ−１を作製した。
【０３０４】
（樹脂層の形成）
樹脂層の材料として、下記材料を混合し、撹拌した。
・ポリエーテルポリオール（商品名「エクセノール５００ＥＤ」；旭硝子社製）１０．７質量部
・イソシアネート基末端プレポリマーＢ−１  １２７．６質量部
・化合物（ｉ）として、ＩＰ−１  ０．６６質量部
・化合物（ｉｉ）として、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｎ−オクチルアミン（東京化成工業社製）０．３４質量部、
・充填剤として、シリカ（商品名「ＡＥＲＯＳＩＬ２００」；日本アエロジル社製）１０．０質量部
・粗さ制御粒子として、ウレタン樹脂微粒子（商品名「アートパールＣ−４００」；根上工業社製）１０．０質量部
次に、混合溶液に対し、総固形分比が３０質量％となるようにメチルエチルケトンを加えた後、サンドミルにて混合した。ついで、更に、メチルエチルケトンで粘度１０〜１２ｃｐｓに調整して樹脂層形成用塗料を調製した。
【０３０５】
先に作製した弾性ローラＤ−１を、樹脂層形成用塗料に浸漬して、弾性ローラＤ−１の弾性層の表面に当該塗料の塗膜を形成し、乾燥させた。さらに温度１５０℃にて１時間加熱処理することで塗料を硬化させ、弾性層外周に膜厚約１５μｍの樹脂層が設けられた現像ローラを作製した。
【０３０６】
（樹脂層の成分分析）
樹脂層に含まれるカチオン、アニオン、および樹脂の化学構造は、例えば熱分解ＧＣ／ＭＳ、ＦＴ−ＩＲ、またはＮＭＲによる分析により確認することが可能である。
【０３０７】
実施例１に係る現像ローラをメチルエチルケトンに４８時間浸漬し、抽出した成分を分析に供した。具体的には、熱分解装置（商品名「パイロホイルサンプラーＪＰＳ−７００」；日本分析工業社製）およびＧＣ／ＭＳ装置（商品名「Ｆｏｃｕｓ  ＧＣ／ＩＳＱ」；サーモフィッシャーサイエンティフィック社製）を用い、熱分解温度を５９０℃、キャリアガスとしてヘリウムを使用し、分析を行った。
【０３０８】
その結果、得られたフラグメントピークから、化合物（ｉ）としてのＩＰ−１と、化合物（ｉｉ）としてのＮ，Ｎ−ジメチル−ｎ−オクチルアミンとが反応して生成する、下記構造式（２６）で表されるイオン導電剤を含むことが確認された。
【０３０９】
【化７５】
2017049579.tif 000078
【０３１０】
＜実施例２〜５＞
化合物（ｉ）及び化合物（ｉｉ）とそれらの配合量を表２に記載の通りに変更した以外は実施例１と同様にして、実施例２〜５に係る現像ローラを作製した。
【０３１１】
＜実施例６＞
樹脂層の材料として、下記材料を混合し、撹拌した。
・ポリエーテルポリオール「ＰＴＧ−Ｌ１０００」（商品名；保土谷化学工業社製）３５．３質量部
・イソシアネート基末端プレポリマーＢ−１  ８０．８質量部
・化合物（ｉ）として、ＩＰ−３  ３．５４質量部、
・化合物（ｉｉ）として、１−ブチルピロリジン（シグマ−アルドリッチ社製）１．４６質量部、
・充填剤として、シリカ（商品名「ＡＥＲＯＳＩＬ２００」；日本アエロジル社製）１０．０質量部、
・粗さ制御粒子として、ウレタン樹脂微粒子（商品名「アートパールＣ−４００」；根上工業社製）１０．０質量部
次に、混合溶液に対し、総固形分比が３０質量％となるようにメチルエチルケトンを加えた後、サンドミルにて混合した。ついで、更に、メチルエチルケトンで粘度１０〜１２ｃｐｓに調整して樹脂層形成用塗料を調製した。
【０３１２】
この樹脂層形成用の塗料を用いたこと以外は実施例１と同様にして、実施例６に係る現像ローラを作製した。
【０３１３】
＜実施例７〜１０＞
化合物（ｉ）及び化合物（ｉｉ）とそれらの配合量を表２に記載の通りに変更した以外は実施例６と同様にして、実施例７〜１０に係る現像ローラを作製した。
【０３１４】
＜実施例１１＞
樹脂層の材料として、下記材料を混合し、撹拌した。
・ポリカーボネートポリオール「クラレポリオールＣ−３０９０」（商品名；クラレ社製）６５．３質量部
・イソシアネート基末端プレポリマーＢ−２  ４３．４質量部
・化合物（ｉ）として、ＩＰ−７  ２．２１質量部
・化合物（ｉｉ）として、２−ピラジンメタノール（東京化成工業社製）０．７９質量部・充填剤として、シリカ（商品名「ＡＥＲＯＳＩＬ２００」；日本アエロジル社製）１０．０質量部
・粗さ制御粒子として、ウレタン樹脂微粒子（商品名「アートパールＣ−４００」；根上工業社製）１０．０質量部
なお、ＩＰ−７は下記構造式（２７）で表される化合物であり、２−ピラジンメタノールは下記構造式（２８）で表される化合物である。
【０３１５】
【化７６】
2017049579.tif 000079
【０３１６】
【化７７】
2017049579.tif 000080
【０３１７】
次に、混合溶液に対し、総固形分比が３０質量％となるようにメチルエチルケトンを加えた後、サンドミルにて混合した。ついで、更に、メチルエチルケトンで粘度１０〜１２ｃｐｓに調整して樹脂層形成用塗料を調製した。
【０３１８】
この樹脂層形成用塗料を用いた以外は実施例１と同様にして、実施例１１に係る現像ローラを作製した。
【０３１９】
実施例１１に係る現像ローラにおいて、実施例１と同様に、樹脂層の一部を熱分解ＧＣ／ＭＳ分析に供した。その結果、化合物（ｉ）としてのＩＰ−７と、化合物（ｉｉ）としての２−ピラジンメタノールと、イソシアネート基末端プレポリマーＢ−２とが反応して生成する、下記構造式（２９）で表される化合物を含むことが確認された。
【０３２０】
【化７８】
2017049579.tif 000081
【０３２１】
＜実施例１２〜１８＞
化合物（ｉ）及び化合物（ｉｉ）とそれらの配合量を表２に記載の通り変更した以外は実施例１１と同様にして、実施例１２〜１８に係る現像ローラを作製した。
【０３２２】
【表２】
2017049579.tif 000082
【０３２３】
＜比較例１＞
化合物（ｉ）及び化合物（ｉｉ）を添加しなかった以外は実施例１と同様にして、比較例１に係る現像ローラを作製した。
【０３２４】
＜比較例２〜４＞
化合物（ｉ）及び化合物（ｉｉ）のかわりに、下記表３に記載のイオン導電剤を添加した以外は実施例１と同様にして、比較例２〜４に係る現像ローラを作製した。
【０３２５】
【表３】
2017049579.tif 000083
【０３２６】
＜現像ローラの評価＞
こうして得られた実施例１〜１８および比較例１〜４に係る現像ローラについて、以下の項目について評価を行った。評価結果を表４および表５にまとめて示す。
【０３２７】
（ローラの抵抗値評価）
現像ローラの抵抗値の測定は、低温低湿環境（温度１５℃、相対湿度１０％）中に６時間以上現像ローラを放置した後、その環境下で行った。
【０３２８】
図５に、本測定で用いる、現像ローラの抵抗値を評価するための冶具の概略構成図を示す。図５（ａ）において、導電性の軸受け３８を介して導電性の基体２の両端を、各々４．９Ｎの荷重で押しながら直径４０ｍｍの円柱形金属３７を回転させ、現像ローラ１６を６０ｒｐｍの速度で従動回転させる。次に、高圧電源３９によって電圧５０Ｖを印加し、円柱形金属３７とグランドとの間に配設した既知の電気抵抗（現像ローラ１６の電気抵抗に対して２桁以上電気抵抗が低いもの）を有する抵抗器の両端の電位差を計測した。当該電位差の計測には、電圧計４０（「１８９ＴＲＵＥ  ＲＭＳ  ＭＵＬＴＩＭＥＴＥＲ」；ＦＬＵＫＥ社製）を用いた。測定した電位差と抵抗器の電気抵抗から、現像ローラ１６を介して円柱形金属に流れた電流を計算により求めた。そして、印加電圧５０Ｖを、得られた電流で割ることによって現像ローラ１６の電気抵抗値を求めた。
【０３２９】
ここで、該電位差の計測は、電圧印加２秒後から３秒間サンプリングを行い、その平均値から計算される値をローラ抵抗値とした。
【０３３０】
（Ｌ／Ｌゴーストの評価）
次に、上記のようにして低温低湿環境（温度１５℃、相対湿度１０％）中で抵抗の測定を行った現像ローラを用い、以下の評価を行った。
【０３３１】
図３に示す構成を有するレーザープリンター（商品名「ＬＢＰ７７００Ｃ」；キヤノン社製）に、現像ローラを装填し、低温低湿環境（温度１５℃、相対湿度１０％）中に設置後、２時間放置した。次いでゴースト画像の評価を行った。
【０３３２】
即ち、ブラックトナーを用い、画像パタ−ンとして１枚内で先端部に１５ｍｍ角のベタ黒、その後に全面ハーフトーンの画像を印字した。次にハーフトーン部分に現れる現像ローラ周期の濃度ムラを目視評価し、以下の基準でゴ−ストの評価とした。
Ａ：ゴーストが全く認められない
Ｂ：極軽微なゴーストが認められる
Ｃ：顕著なゴーストが認められる
（変形回復性の評価）
変形回復性の評価は、図６に示す装置を用いて行った。本測定装置は、基体２を基準に回転する基体受け（不図示）、基体２の回転を検知するエンコーダー（不図示）、基準板４１、ＬＥＤ発光部４２および受光部４３からなる寸法測定機（商品名「ＬＳ−７０００」；キーエンス社製）を備えている。
【０３３３】
まず、現像ローラ１６の表面と基準板４１との隙間量４４を測定することにより、現像ローラ１６の中心から表面までの距離を求めた。なお、現像ローラ１６の表面と基準板４１との隙間量４４の測定は、現像ローラ１６長手方向中央部、および両端部から長手方向中央部側に２０ｍｍの位置の合計３点に関して行った。測定は、温度２３℃、相対湿度５５％の環境中に６時間以上放置した現像ローラ１６を用いて、温度２３℃、相対湿度５５％の環境下で行った。
【０３３４】
次に、上記のようにして予め測定を行った現像ローラ１６を、レーザープリンター（商品名「ＬＢＰ７７００Ｃ」；キヤノン社製）用のシアンカートリッジに、上記測定位置において現像ブレードと当接するように組み込んだ。なお、現像ローラ１６と現像ブレードの当接圧力を０．６Ｎ／ｃｍに調整し、通常よりもより変形し易い設定に変更した。
【０３３５】
次に、該カートリッジを、高温高湿環境（温度４０℃、相対湿度９５％）中に６０日間放置した。その後、現像ローラ１６を該カートリッジから取り外し、温度２３℃、相対湿度５５％の環境中に６時間放置した。その後、現像ローラ１６の中心から表面までの距離を、当接前と同様にして、温度２３℃、相対湿度５５％の環境下で測定した。測定は、上記高温高湿環境に放置前の測定箇所と同じ位置の３点について行った。
【０３３６】
各測定位置において、現像ブレード当接位置における、高温高湿環境下での当接前後での現像ローラ１６の中心から表面までの距離の変化を求めた。得られた現像ローラ１６の中心から表面までの距離の変化の平均値を残留変形量［μｍ］とした。
【０３３７】
（セット画像の評価）
レーザープリンター（商品名「ＬＢＰ７７００Ｃ」；キヤノン社製）のシアンカートリッジに、上記残留変形量の測定を終えた現像ローラを組み込み、画像出力試験用カートリッジを作製した。
【０３３８】
この画像出力試験用カートリッジを、上記レーザープリンターに装填し、ハーフトーン画像の出力を行った。得られたハーフトーン画像について、以下の基準に従って評価した。なお、残留変形量の測定からハーフトーン画像の出力までは１時間とした。
Ａ：均一な画像が得られた
Ｂ：現像ローラの変形に起因する濃度ムラが極めて軽微に見られた
Ｃ：画像の端部または全体に現像ローラの変形に起因する濃度ムラが見られた
【０３３９】
【表４】
2017049579.tif 000084
【０３４０】
【表５】
2017049579.tif 000085
【０３４１】
実施例１〜１８に係る現像ローラは、樹脂層に、特定の構造を有する樹脂と、フルオロアルキルスルホニルイミドアニオン及びフルオロスルホニルイミドアニオンからなる群から選択される少なくとも１つのアニオンとを含有しているため、残留変形量が少なく、画像品質も良好であった。
【０３４２】
それに対し、かかる構造を含有しない比較例２〜４に係る現像ローラは、残留変形量が高く、画像に濃度ムラが認められた。また、イオン導電剤を含まない比較例１に係る現像ローラと、アニオンとしてフルオロアルキルスルホニルイミドアニオンおよびフルオロスルホニルイミドアニオンのいずれも含まない比較例４に係る現像ローラは、現像ローラの抵抗上昇が認められ、ゴースト画像の発生が認められた。
【０３４３】
＜＜現像ブレードの作製と評価＞＞
＜実施例１９＞
基体として、厚さ０．０８ｍｍのＳＵＳシート（日新製鋼社製）を、長さ２００ｍｍ、幅２３ｍｍの寸法にプレス切断した。次に、図２に示すように、切断したＳＵＳシートの長手側端部からの長さＬが１．５ｍｍになるように、実施例１の樹脂層形成用塗料に浸漬して、当該塗料の塗膜を形成し、乾燥させた。さらに温度１４０℃にて１時間加熱処理することで、ＳＵＳシートの長手側端部表面に膜厚Ｔが１０μｍの樹脂層を設け、実施例１９に係る現像ブレードを作製した。
【０３４４】
＜実施例２０＞
樹脂層形成用塗料を、実施例４で調製した塗料に変更した以外は実施例１９と同様にして、実施例２０に係る現像ブレードを作製した。
【０３４５】
＜実施例２１＞
樹脂層形成用塗料を、実施例１０で調製した塗料に変更した以外は実施例１９と同様にして、実施例２１に係る現像ブレードを作製した。
【０３４６】
＜実施例２２＞
樹脂層形成用塗料を、実施例１５で調製した塗料に変更した以外は実施例１９と同様にして、実施例２２に係る現像ブレードを作製した。
【０３４７】
＜比較例５＞
樹脂層形成用塗料を、比較例２で調製した塗料に変更した以外は実施例１９と同様にして、比較例５に係る現像ブレードを作製した。
【０３４８】
＜比較例６＞
樹脂層形成用塗料を、比較例４で調製した塗料に変更した以外は実施例１９と同様にして、比較例６に係る現像ブレードを作製した。
【０３４９】
＜現像ブレードの評価＞
実施例１９〜２２、および比較例５〜６に係る現像ブレードについて、以下の項目について評価を行った。評価結果を表６に示す。
【０３５０】
（変形回復性の評価）
変形回復性の評価は図７に示す装置を用いて行った。本測定装置は、基体２を固定する把持部（不図示）、基準板４１、ＬＥＤ発光部４２および受光部４３からなるＬＥＤ寸法測定機（商品名「ＬＳ−７０００」；キーエンス社製）を備えている。
【０３５１】
まず、現像ブレード２１の基体２の、樹脂層３が形成されていない側の端部から、現像ブレード２１の樹脂層３側の先端までの距離４５を求めた。なお、距離４５は、現像ブレード２１の先端と基準板４１との隙間量４４を測定することにより算出した。現像ブレード２１の表面と基準板４１との隙間量４４の測定は、現像ブレード２１の長手方向中央部、およびブレード長手方向両端部から長手方向中央部側に２０ｍｍの位置の合計３点に関して行った。測定は、温度２３℃、相対湿度５５％の環境中に６時間以上放置したブレードを用いて、温度２３℃、相対湿度５５％の環境下で行った。
【０３５２】
次に、上記のようにして予め測定を行った現像ブレード２１を、レーザープリンター（商品名「ＬＢＰ７７００Ｃ」；キヤノン社製）用のシアンカートリッジに、現像ブレード２１の先端が現像ローラと当接するように組み込んだ。但し、現像ローラを直径１２ｍｍの金属製ローラに変更し、現像ブレード２１の当接圧力を０．６Ｎ／ｃｍに調整し、通常よりも、より変形し易い設定に変更した。
【０３５３】
次に、該カートリッジを、高温高湿環境（温度４０℃、相対湿度９５％）中に３０日間放置した。その後、現像ブレード２１を該カートリッジから取り外し、温度２３℃、相対湿度５５％の環境中に１時間放置した。その後、現像ブレード２１の基体２側の端部から現像ブレード２１の樹脂層３側の先端までの距離４５を、当接前と同様にして、温度２３℃、相対湿度５５％の環境下で測定した。測定は、上記高温高湿環境に放置前の測定箇所と同じ位置の３か所について行った。
【０３５４】
各測定位置において、金属製ローラとの当接位置における、高温高湿環境下での当接前後での現像ブレード２１の基体２側の端部から現像ブレード２１の樹脂層３側の先端部までの距離４５の変化を求めた。得られた現像ブレード２１の基体２側の端部から現像ブレード２１の樹脂層３側の先端部までの距離４５の変化の平均値を残留変形量［μｍ］とした。
【０３５５】
（画像濃度差の評価）
レーザープリンター（商品名「ＬＢＰ７７００Ｃ」；キヤノン社製）のシアンカートリッジに、上記残留変形量の測定を終えた現像ブレードを組み込み、画像出力試験用カートリッジを作製した。
【０３５６】
この画像出力試験用カートリッジを、上記レーザープリンターに装填し、ベタ画像の出力を行い、得られたベタ画像の濃度を測定した。なお、残留変形量の測定からベタ画像の出力までは１時間とした。
【０３５７】
ベタ画像の濃度は、反射濃度計（商品名「ＧｒｅａｔａｇＭａｃｂｅｔｈ  ＲＤ９１８」；マクベス社製）を用いて、ベタ画像の、現像ブレードの長手方向の中央部に対応する部分の任意の５点、および現像ブレードの両端部から３ｃｍに対応する部分の任意の５点で測定した。中央部と端部の画像濃度の算術平均をそれぞれ求め、中央部と端部の画像濃度差を求めた。求めた画像濃度差を用い、下記基準により評価を行った。
Ａ：画像濃度差が０．１未満
Ｂ：画像濃度差が０．１以上〜０．３未満
Ｃ：画像濃度差が０．３以上
【０３５８】
【表６】
2017049579.tif 000086
【０３５９】
実施例１９〜２２に係る現像ブレードは、樹脂層に、特定の構造を有する樹脂と、フルオロアルキルスルホニルイミドアニオンおよびフルオロスルホニルイミドアニオンから選ばれる少なくとも一つのアニオンとを含有しているため、残留変形量が少なく、画像品質も良好であった。
【０３６０】
それに対し、かかる構造を含有しない比較例５〜６に係る現像ブレードでは、残留変形量が高く、画像品質が良好でなかった。
【０３６１】
＜＜トナー供給ローラの作製と評価＞＞
＜実施例２３＞
基体２として、ステンレス鋼（ＳＵＳ３０４）製の直径５ｍｍの芯金を金型に配置し、以下の材料を混合したウレタンゴム組成物を金型内に形成されたキャビティに注入した。
・ポリエーテルポリオール（商品名「ＥＰ５５０Ｎ」；三井化学工業社製）８５．０質量部
・イソシアネート（商品名「コスモネートＴＭ２０」；三井化学工業社製）２２．７質量部
・化合物（ｉ）として、ＩＰ−１  ２．３７質量部
・化合物（ｉｉ）として、１，２−ジメチルイミダゾール（東京化成工業社製）０．６３質量部
・シリコーン整泡剤（商品名「ＳＲＸ２７４Ｃ」；東レ・ダウコーニング・シリコーン社製）１．０質量部
・アミン触媒（商品名「ＴＯＹＯＣＡＴ−ＥＴ」；東ソー社製）０．３質量部
・アミン触媒（商品名「ＴＯＹＯＣＡＴ−Ｌ３３」；東ソー社製）０．２質量部
・水  ２．０質量部
続いて金型を加熱して、ウレタンゴム組成物を温度５０℃で２０分間加硫し発泡硬化させ、基体２の周面にポリウレタンフォーム層を形成した。その後、ポリウレタンフォーム層が形成された基体を金型から脱型した。こうして、基体２の外周に厚さ６ｍｍのポリウレタンフォーム層が形成されたトナー供給ローラを作製した。
【０３６２】
＜実施例２４〜２７＞
化合物（ｉ）及び化合物（ｉｉ）とそれらの配合量を下記表７に記載の通り変更した以外は実施例２３と同様にして、実施例２４〜２７に係るトナー供給ローラを作製した。
【０３６３】
【表７】
2017049579.tif 000087
【０３６４】
＜比較例７＞
化合物（ｉ）および化合物（ｉｉ）の代わりに、イオン導電剤として、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホナート（東京化成工業社製）３．０質量部を加えた以外は実施例２３と同様にして、比較例７に係るトナー供給ローラを作製した。
【０３６５】
＜比較例８＞
イオン導電剤として、１−ヘキシルピリジニウムクロライド（関東化学社製）３．０質量部を用いた以外は比較例７と同様にして、比較例８に係るトナー供給ローラを作製した。
【０３６６】
＜トナー供給ローラの評価＞
実施例２３〜２７、および比較例７〜に係るトナー供給ローラについて、以下の項目について評価を行った。評価結果を表８に示す。
【０３６７】
（変形回復性の評価）
トナー供給ローラの中心から表面までの距離を、前述の現像ローラの測定方法と同様にして測定した。
【０３６８】
次に、予め測定を行ったナー供給ローラを、レーザープリンター（商品名「ＬＢＰ７７００Ｃ」；キヤノン社製）用のシアンカートリッジに組み込んだ。但し、現像ローラを直径１２ｍｍの金属製ローラに変更し、かつトナー供給ローラの直径を本製品に搭載されていたトナー供給ローラの直径（１６．１ｍｍ）よりも大きい１７ｍｍとすることにより、通常よりも、より変形し易い設定に変更した。
【０３６９】
次に、該カートリッジを、高温高湿環境（温度４０℃、相対湿度９５％）中に６０日間放置した。その後、トナー供給ローラを該カートリッジから取り外し、温度２３℃、相対湿度５５％の環境中に６時間放置した。その後、トナー供給ローラの中心から表面までの距離を、温度２３℃、相対湿度５５％の環境下で測定した。測定は、上記高温高湿環境に放置前の測定箇所と同じ位置について行った。
【０３７０】
現像ローラとの当接位置における、高温高湿環境下での放置前後でのトナー供給ローラの中心から表面までの距離の変化（残留変形量［μｍ］）を求め、変形回復性を評価した。
【０３７１】
（セット画像の評価）
レーザープリンター（商品名「ＬＢＰ７７００Ｃ」；キヤノン社製）のシアンカートリッジに、上記残留変形量の測定を終えたトナー供給ローラを組み込み、画像出力試験用カートリッジを作製した。
【０３７２】
この画像出力試験用カートリッジを、上記レーザープリンターに装填し、ハーフトーン画像の出力を行った。得られたハーフトーン画像について、以下の基準に従って評価した。なお、残留変形量の測定からハーフトーン画像の出力までは１時間とした。
Ａ：均一な画像が得られた
Ｂ：トナー供給ローラの変形に起因する濃度ムラが極めて軽微に見られた
Ｃ：画像の端部または全体にトナー供給ローラの変形に起因する濃度ムラが見られた
【０３７３】
（ローラ抵抗値評価）
トナー供給ローラの抵抗値の測定は、前述の現像ローラの抵抗値測定と同様にして行った。但し、基体２の両端に加える荷重を２．５Ｎとし、測定時におけるローラの回転数を３２ｒｐｍとした。測定は、低温低湿環境（温度１５℃、相対湿度１０％）中に６時間以上トナー供給ローラを放置した後、その環境下で行った。
【０３７４】
（Ｌ／Ｌゴーストの評価）
次に、上記のようにして低温低湿環境（温度１５℃、相対湿度１０％）中で抵抗値の測定を行ったトナー供給ローラを用い、以下の評価を行った。
【０３７５】
図３に示す構成を有するレーザープリンター（商品名「ＬＢＰ７７００Ｃ」；キヤノン社製）にトナー供給ローラを装填し、低温低湿（温度１５℃、相対湿度１０％）環境中に設置後、２時間放置した。次いでゴースト画像の評価を行った。
【０３７６】
即ち、ブラックトナーを用い、画像パタ−ンとして１枚内で先端部に１５ｍｍ角のベタ黒、その後に全面ハーフトーンの画像を印字した。次にハーフトーン部分に現れるトナー供給ローラ周期の濃度ムラを目視評価し、以下の基準でゴ−ストの評価とした。
Ａ：ゴーストが全く認められない
Ｂ：極軽微なゴーストが認められる
Ｃ：顕著なゴーストが認められる
【０３７７】
【表８】
2017049579.tif 000088
【０３７８】
実施例２３〜２７に係るトナー供給ローラは、樹脂層に、特定の構造を有する樹脂と、フルオロアルキルスルホニルイミドアニオン及びフルオロスルホニルイミドアニオンからなる群から選択される少なくとも１つのアニオンとを含有しているため、残留変形量が少なく、画像品質も良好であった。
【０３７９】
それに対し、係る構造を含有しない比較例７〜８に係る供給ローラでは、残留変形量が高く、画像品質が良好でなかった。また、アニオンとしてフルオロアルキルスルホニルイミドアニオンおよびフルオロスルホニルイミドアニオンのいずれも含まない比較例８に係るトナー供給ローラは抵抗上昇が認められ、ゴースト画像の発生が認められた。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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