(57)【要約】【課題】ごく微小径に絞ったＸ線を試料に照射可能であるＸ線照射装置を提供する。【解決手段】Ｘ線照射装置は、面光源であるＸ線源１と、それぞれの中心軸が一直線状で入射側端面２０ａから出射側端面２０ｂに向かって内径が徐々に縮小する多数のキャピラリ２０が略切頭円錐形状に束ねられたマルチキャピラリＸ線レンズ２０と、から成る。Ｘ線源１から放出されたＸ線のうちの一部は、各キャピラリ２０の内壁に当たることなく通過して直線Ｘ線として出射側端面２０ｂから出射する。各キャピラリ２０から出射した、キャピラリ２０内で減衰していない直線Ｘ線は試料３上の略一点Ｆで重なり、高いＸ強度のＸ線をごく狭い領域に照射することができる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
微小径に絞ったＸ線を被照射物に照射するＸ線照射装置であって、
a)面光源であるＸ線源と、
b)それぞれの中心軸が一直線状で入射側端面から出射側端面に向かって内径が徐々に縮小する多数のＸ線案内用の細管が略切頭円錐又は略切頭角錐形状に束ねられて成り、前記入射側端面が前記Ｘ線源に対向するように配置されたマルチキャピラリと、
を備え、前記マルチキャピラリの出射側端面から所定距離離れた位置に配置された被照射物に対しＸ線を照射することを特徴とするＸ線照射装置。
【請求項２】
請求項１に記載のＸ線照射装置であって、
前記マルチキャピラリでは、各細管の入射側端面と出射側端面との間を貫く直線が該出射側端面の外側で略一点に集まるように多数の細管の形状及び配置が定められていることを特徴とするＸ線照射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｘ線を利用して試料の分析や観察を行うＸ線分析装置において試料にＸ線を照射するＸ線照射装置に関し、さらに詳しくは、試料上の微小な領域又は微小な試料にＸ線を照射するためのＸ線照射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線を試料に照射し該試料から放出されるＸ線、電子、イオン、又はその他の各種粒子を検出したり試料を透過するＸ線を検出したりすることによって、該試料についての分析や観察を行うＸ線分析手法が従来知られている。一般にＸ線は次のような特徴を有する。
・Ｘ線はその波長が原子や原子間距離と同程度であるため、原子や原子配列の情報を多く有する。
・Ｘ線は物質との衝突、散乱、回折などに際して物質に対して殆ど非破壊である。
・Ｘ線が物質を通過するときＸ線フォトン数は減少するものの、波長やエネルギーは変化せず、Ｘ線が発生したときの元々の性質を失わない。
こうしたＸ線の特徴は試料の分析に非常に有用であり、Ｘ線分析手法は非常に重要な分析手法の一つであって、現在、あらゆる固体の精密組成分析に利用されるほか、液中の微量元素分析にまで利用されている。
【０００３】
最も代表的なＸ線分析手法は蛍光Ｘ線分析であり、微量元素も含めて、非破壊、高精度な定性、定量分析の代表的な分析法となっている。蛍光Ｘ線分析法の一つである全反射蛍光Ｘ線分析は、固体材料の表面の微量分析においてあらゆる分析法のなかで最も優れている。また、Ｘ線光電子分光は、材料表面の構造解析、元素結合解析、電子状態分析の代表的分析法である。
【０００４】
一方で、Ｘ線は、荷電粒子線などと異なり電場や磁場の影響を受けず、特殊な条件下でないと反射もせず、実用的な屈折物質も存在しない、という特徴もある。この特徴は次のようにＸ線分析の制約にもなっている。
即ち、Ｘ線分析装置において、分析や観察の空間分解能を上げるためには、試料や試料上の対象領域に照射するＸ線の照射径又は照射面積をできるだけ小さく絞る必要がある。また一般に、分析の感度や精度を上げるためには、或る程度高い強度のＸ線を試料や試料上の対象領域に照射する必要がある。例えば電子線などの荷電粒子線では電場や磁場によるレンズを利用して非常に微小な径まで照射径を絞ることが可能である。これに対し、Ｘ線では上述したように電場や磁場を利用したＸ線束の制御ができないため、Ｘ線照射径を微小に絞ることは大変難しく、低コスト且つ簡素な構成で、Ｘ線をごく微小径にまで絞り、しかも大きなゲインを得るＸ線照射装置は実現されていない。
【０００５】
蛍光Ｘ線分析装置等の従来のＸ線分析装置において、試料上の微小な領域に高い効率でＸ線を照射するためには、マルチキャピラリＸ線レンズを利用したＸ線照射装置が広く用いられている。
特許文献１等に開示されているように、マルチキャピラリは、内径が２〜十数μm程度の微小径のガラス等から成る細管（キャピラリ）を多数（数百〜１００万本程度）束ねて１本の管状にしたものであり、１本のキャピラリの内側に入射されたＸ線がそのガラスの内壁面を臨界角以下の角度で以て全反射しながら進行してゆく原理を利用してＸ線を効率良く案内する素子である。通常、マルチキャピラリＸ線レンズでは、入射側端面又は出射側端面のいずれか一方又は両方において、多数のキャピラリの中心軸がその端面の外側の所定位置で一点に交わるように各キャピラリが形成された点焦点端面となっている。これにより、マルチキャピラリＸ線レンズでは、殆ど点とみなし得る微小なＸ線源から出射されたＸ線を大きな立体角で以て取り込んだり、逆に、各キャピラリを通して案内された束状のＸ線を略一点に集束させるように出射したりすることができる。
【０００６】
しかしながら、上述したようなマルチキャピラリＸ線レンズと点光源であるＸ線源とを組み合わせたＸ線照射装置において実現可能なＸ線照射径はせいぜい数十μm程度である。
その理由は明らかである。即ち、特許文献２等にも記載されているように一般的なマルチキャピラリＸ線レンズでは、Ｘ線は１本のキャピラリの内壁面を全反射しながら進行するため、キャピラリの出射側端面からＸ線が出射する際にキャピラリの中心軸に対し臨界角を最大とする開き角度を有してＸ線は拡がる。そのため、マルチキャピラリＸ線レンズの点焦点端面から出射したＸ線の照射領域は理想的な点とはならず、所定の大きさを有する。つまり、原理的な焦点ボケが生じることになる。また、理想的にはＸ線が全反射する際に強度は落ちないが、実際にはＸ線がキャピラリ内で全反射する度に僅かずつ強度は減衰する。そのため、最終的にマルチキャピラリＸ線レンズの出射側端面から出射されるＸ線の強度は該レンズに入射されたＸ線の強度よりもかなり落ちてしまうことになる。
【０００７】
特許文献２には、マルチキャピラリＸ線レンズの点焦点端面から出射して或る程度収束されたＸ線をフレネルゾーンプレートで一点に絞るＸ線照射装置が開示されている。また、特許文献３には、マルチキャピラリＸ線レンズの途中をボトルネック状に絞ることで形成したごく細径のキャピラリを平行に束ねた平行端面の外側にフレネルゾーンプレートを配置したＸ線照射装置が開示されている。このようにマルチキャピラリＸ線レンズとフレネルゾーンプレートとの組み合わせによれば、マルチキャピラリＸ線レンズ単体と比べて原理的にはＸ線照射径をかなり絞ることが可能である。しかしながら、前者では遮蔽領域と通過領域とがそれぞれプレートの厚さ方向に円錐周面状に形成されている特殊なフレネルゾーンプレートが必要となるし、後者では、特殊な形状のマルチキャピラリＸ線レンズが必要となる。これらはいずれも製造が困難であり、製造が可能であったとしてもかなりコストが高いものとなる。また、Ｘ線照射径を絞るにはマルチキャピラリＸ線レンズとフレネルゾーンプレートとを高い精度で以て配置する必要があるが、そうすると組立上のコストも高くなる。
【０００８】
一方、試料に照射されるＸ線の強度を高めるにはＸ線源から放出されるＸ線の強度を高めることが有効であるものの、比較的安価なコストで入手可能であるＸ線強度の高いＸ線源は発光面のサイズが数mm□程度の面光源である。何故なら、光源のサイズが小さくなるほどターゲットの熱損傷の影響が大きくなり、大電流を注入することが困難であるためである。そこで、点光源であるＸ線源の代わりに、図７に示すように面光源であるＸ線源５０を用い、入射側端面が点焦点端面でなくキャピラリを平行に束ねた平行端面であるマルチキャピラリＸ線レンズ５１、又は入射側端面が長焦点端面であるマルチキャピラリＸ線レンズ５２を用いることで、面光源５０から放出されたＸ線を効率良く収集することができる。しかしながら、その場合でも、上述したようにマルチキャピラリＸ線レンズの各キャピラリを通過する間にＸ線の強度が減衰することは避けられないため、試料に照射されるＸ線の強度はかなり低下してしまう。
【０００９】
また、面光源を用いる場合、図８に示すように、面光源６０から所定距離離した位置にごく小径の絞り穴を有するアパーチャ部材６１を配置し、このアパーチャ部材６１により試料表面６２上にＸ線を照射する構成も考えられる。いま、面光源６０の大きさを１mm、面光源６０とアパーチャ部材６１との離間距離Ｌ1を２００mm、アパーチャ部材６１と試料表面６２との離間距離Ｌ2を２０mmとすると、単純計算では、絞り穴径がゼロに近くても、試料表面６２上のＸ線照射領域の大きさｄ1は１００μmである。しかも、微小な絞り穴の出口側には入射Ｘ線の散乱や回折によって少なくとも数十μm程度のにじみが生じる。他方、アパーチャ部材６１はＸ線を完全に遮蔽する必要があるために、ＭｏやＣｕなどの重金属を用い、或る程度の厚さ、例えば１mm程度を確保する必要がある。このような部材に数十μm以下の穴を開けるのは困難である。そのため、こうした構成によって、Ｘ線照射領域の大きさを数十μm以下にすることは実質的に困難である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特公平７−１１６００号公報
【特許文献２】特開２００７−９３３１６号公報
【特許文献３】特開２０１０−２７６４２３号公報
【非特許文献】
【００１１】
【非特許文献１】吉田、副島、「顕微メスバウア分光装置の開発と応用」、日本表面科学会、表面科学、Vol. 31、No. 5、2010年、pp. 255-260
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
近年、ごく微小な領域（例えば数μm以下）における元素分析や組成分析、或いは表面分析などが強く要望されており、それに対応した様々な分析装置の開発が進められているものの、Ｘ線分析装置については上述したようなＸ線照射装置における制約、即ち、低コストでＸ線をごく微小径にまで絞りしかも大きなゲインを得られるＸ線照射装置が存在しない、という点が大きな障害となっている。
【００１３】
本発明はこうした課題を解決するために成されたものであり、その目的とするところは、比較的低廉なコストで以てごく微小径に絞った高い強度のＸ線を試料に照射することができるＸ線照射装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するためになされた本発明は、微小径に絞ったＸ線を被照射物に照射するＸ線照射装置であって、
a)面光源であるＸ線源と、
b)それぞれの中心軸が一直線状で入射側端面から出射側端面に向かって内径が徐々に縮小する多数のＸ線案内用の細管が略切頭円錐又は略切頭角錐形状に束ねられて成り、前記入射側端面が前記Ｘ線源に対向するように配置されたマルチキャピラリと、
を備え、前記マルチキャピラリの出射側端面から所定距離離れた位置に配置された被照射物に対しＸ線を照射することを特徴としている。
【００１５】
本発明に係るＸ線照射装置において好ましくは、上記マルチキャピラリでは、各Ｘ線案内用細管の入射側端面と出射側端面との間を貫く直線が該出射側端面の外側で略一点に集まるように多数のＸ線案内用細管の形状及び配置が定められている構成とするとよい。
【００１６】
上述したように従来一般的である端面が点焦点端面であるマルチキャピラリＸ線レンズでは、束ねられた中心部でなくその周囲に位置する細管はＸ線の進行方向に壁面が湾曲しており、入射したＸ線は必ず少なくとも１回以上（通常は多数回）細管の内壁面で反射する。これに対し本発明に係るＸ線照射装置において、マルチキャピラリを構成する各細管の内壁は入射側端面から出射側端面に至るまで中心軸の方向に直線状であって湾曲部を有さない。そのため、細管の中心軸に完全に平行に各細管に入射したＸ線の少なくとも一部、及び該中心軸に対し所定の角度以下の傾きで以て入射したＸ線の少なくとも一部は、一回もその細管の内壁に当たらずに、つまりは反射することなく、出射側端面に到達して出射する。このように細管の内壁で反射せずに、即ち直接的に細管内部を通過するＸ線は強度が殆ど減衰しない。そのため、１本の細管内部を直接的に通過して出射側端面から出射したＸ線が被照射物を照射する面積はごく狭いが、そのＸ線強度は反射を繰り返したＸ線で照射される部位に比べるとかなり高い。
【００１７】
各細管内部を直接的に通過して出射側端面から出射したＸ線が重なって照射されている部位では、その重なりの数に応じてＸ線強度が高くなる。例えば上記好ましい構成では、マルチキャピラリを構成する各細管内を直線的につまりは直接通過したＸ線が略一点に集まる、つまりごく狭い領域に重なって照射されるため、そのごく狭い領域では、従来のマルチキャピラリＸ線レンズを用いたＸ線照射装置に比べて十分に高い強度のＸ線を得ることができる。
【００１８】
なお、細管内を直接通過して来たＸ線以外に、細管内壁で反射を繰り返して来たＸ線も各細管の出射側端面から出射し、そのＸ線による照射領域は直接Ｘ線による照射領域の外側に広く存在する。この領域におけるＸ線強度は直接Ｘ線による照射領域に比べるとかなり小さいものの、Ｘ線をごく狭い領域に照射するのではなく、或る程度広い領域に照射してより高感度の分析や観察を行いたい場合には、この反射Ｘ線による照射領域も十分に利用可能である。
【発明の効果】
【００１９】
本発明に係るＸ線照射装置によれば従来のＸ線照射装置に比べて、高い強度のＸ線をごく微小な領域に集中的に照射することができる。それによって、例えば本発明に係るＸ線照射装置を各種Ｘ線分析装置に利用することで、従来では実現し得ない高い空間分解能で且つ高い感度や精度の分析又は観察を行うことが可能となる。また、本発明に係るＸ線照射装置で使用しているマルチキャピラリは基本的には直管状の多数の細管を束ねたものであるため、従来の点焦点型のマルチキャピラリＸ線レンズに比べても製造は容易であり量産化もし易い。そのため、本発明に係るＸ線照射装置は低廉なコストで装置を実現可能である。
【００２０】
また例えば非特許文献１に記載のメスバウア効果を利用した顕微メスバウア分光装置では、数十μm程度以下のごく微小な領域に非常に狭いエネルギー幅（１０-9eV程度）のγ線を照射することが可能なＸ線照射装置が要望されている。上述した従来のマルチキャピラリＸ線レンズを用いたＸ線照射装置では、Ｘ線照射径をごく微小に絞るのが難しいだけでなく、Ｘ線が全反射を繰り返す間にエネルギー幅がなまってしまうため、メスバウアスペクトルのＳＮ比が非常に悪くなる。これに対し本発明に係るＸ線照射装置によれば、Ｘ線がキャピラリ（細管）内で全反射することによるエネルギー幅のなまりがないので、ごく狭いエネルギー幅のＸ線（γ線）を試料に照射することができ、顕微メスバウア分光装置用にも好適である。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の一実施例であるＸ線照射装置の概略構成図。
【図２】図１においてマルチキャピラリの構造及び各キャピラリ内部のＸ線の経路を描いた概略構成図。
【図３】１本のキャピラリを通過したＸ線による照射領域を示す図。
【図４】Ｘ線照射領域内のＸ線強度分布を示す図。
【図５】本実施例のＸ線照射装置に基づく実験装置により得られたＸ線像を示す図。
【図６】上記実験装置によるＸ線像のＸ線強度分布の測定結果（ａ）及び従来装置によるＸ線像のＸ線強度分布の測定結果（ｂ）を示す図。
【図７】面光源とマルチキャピラリＸ線レンズとを組み合わせた従来のＸ線照射装置の概略構成図。
【図８】面光源と単純絞りとを組み合わせた従来のＸ線照射装置の概略構成図。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明に係るＸ線照射装置の一実施例について、添付図面を参照しつつ説明する。図１は本実施例であるＸ線照射装置の概略構成図、図２は図１においてマルチキャピラリの構造及び各キャピラリ内部のＸ線の経路を描いた概略構成図である。
【００２３】
本実施例のＸ線照射装置は、図１に示した三軸（Ｘ、Ｙ、Ｚ）のうちのＸ軸−Ｙ軸方向に二次元的に広がりを有する発光面を持つＸ線源１と、該Ｘ線源１の平坦な発光面に対向して略平面である入射側端面２ａを有するマルチキャピラリＸ線レンズ２と、を備え、マルチキャピラリＸ線レンズ２の出射側端面２ｂから所定距離離れた位置に置かれた試料３の表面に絞ったＸ線を照射する。
【００２４】
マルチキャピラリＸ線レンズ２は全体としては略切頭円錐形状である。その略切頭円錐形状体の中心軸はＺ軸方向、つまりはＸ線源１の発光面に直交した方向に延伸し、その延長上に試料３が置かれている。図２に示すように、マルチキャピラリＸ線レンズ２は、それぞれの中心軸が直線状であり、入射側端面２０ａから出射側端面２０ｂに向かって内径が徐々に小さくなる例えば硼珪酸ガラス製のキャピラリ（細管）２０の集合体である。即ち、各キャピラリ２０は基本的に直管であるが、マルチキャピラリＸ線レンズ２の中心軸からの距離に応じたテーパ状に形成された直管である。なお、キャピラリ２０の本数は図２に示したものよりも遙かに多く、例えば数百本〜１００万本程度である。
【００２５】
また、各キャピラリ２０は直管であるため、各キャピラリ２０の中心軸又はそれ以外で入射側端面２０ａから出射側端面２０ｂまでを貫く直線が必ず存在する。このマルチキャピラリＸ線レンズ２において各キャピラリ２０は、それぞれのキャピラリ２０の上記直線が出射側端面２０ｂの外側の一点（焦点Ｆ）を通過するようにその形状及び配置が定められている。図２に示すように、通常、その焦点Ｆが試料３の表面３ａ上に位置するように、マルチキャピラリＸ線レンズ２の出射側端面２ｂと試料３との距離が定められる。
【００２６】
Ｘ線源１の発光面上の各点からはＺ軸方向（発光面に直交する方向）のみならず、Ｚ軸方向を中心とした所定の立体角の範囲内にほぼ均一の強度でＸ線が放出される。そのため、図２に示すように、Ｘ線源１から放出されたＸ線はマルチキャピラリＸ線レンズ２のいずれの位置にあるキャピラリ２０に対しても入射し、しかもその一部はキャピラリ２０の内壁に当たることなくキャピラリ２０を通過して出射側端面２０ｂから出射する。このように、各キャピラリ２０の内壁で１回も反射することなく通過した直接Ｘ線は殆ど減衰せず、それぞれその強度を維持したまま焦点Ｆの位置で重なる。
【００２７】
図３は１本のキャピラリ２０を通過したＸ線による照射領域を示す図である。ただし、この図では、キャピラリ２０は内径が一定な単なる直管で示している。図中、一点鎖線で示すＸ線はキャピラリ２０の内壁に当たらない直接Ｘ線であり、キャピラリ２０から出射した直接Ｘ線が照射される領域Ｆaはごく狭い。一方、図中に点線で示すように、例えばキャピラリ２０の中心軸に対し上記直接Ｘ線よりも大きな角度を有して（ただし所定角度よりも小さい角度を有して）入射するＸ線はキャピラリ２０の内壁に１回以上当たって全反射しながら進行し、直接Ｘ線よりも大きく拡がりながらキャピラリ２０から出射する。そのため、このＸ線が照射される領域Ｆbは上記領域Ｆaの周囲に広がることになる。
【００２８】
本実施例のＸ線照射装置では、試料３の表面３ａにおいて各キャピラリ２０から出射した直接Ｘ線による領域Ｆaが重なることでＸ線強度が高い微小な領域が形成される。また、その領域の周囲には、各キャピラリ２０において１回以上反射したあとに出射したＸ線による領域Ｆbが重なることで領域Ｆaに比べてＸ線強度がかなり低い領域が形成される。
【００２９】
図４は本実施例のＸ線照射装置によるＸ線照射領域内のＸ線強度分布を示す図である。図中、点線で示すカーブは従来のマルチキャピラリＸ線レンズを用いたＸ線照射装置による強度分布であり、実線で示すカーブは本実施例のＸ線照射装置における直接Ｘ線（無反射Ｘ線）による強度分布、一点鎖線で示すカーブは本実施例のＸ線照射装置における全反射Ｘ線による強度分布である。従来のマルチキャピラリＸ線レンズを用いたＸ線照射装置では、照射される全てのＸ線がキャピラリの内壁で多数回全反射したものであり、図３における領域Ｆaは存在せず上記領域Ｆbが存在するだけである。基本的にこの領域ＦbにおけるＸ線強度分布はガウス分布形状を呈する。一方、本実施例のＸ線照射装置では、狭い領域Ｆaに集中的に直接Ｘ線が当たるため、この直接Ｘ線の強度分布のピーク幅は従来装置におけるＸ線強度分布のピーク幅に比べてかなり狭く、そのピーク高さは大幅に高くなる。即ち、本実施例のＸ線照射装置では従来装置に比べて、狭い範囲に高い強度のＸ線を照射することができる。
【００３０】
なお、全反射臨界角はＸ線の波長に依存するため、マルチキャピラリＸ線レンズ２の出射側端面から一定距離だけ離れた置かれた試料３の表面３ａ上における全反射Ｘ線による照射領域の大きさはＸ線の波長に依存する。これは、従来装置におけるＸ線照射領域の大きさにおいても同様である。一方、直接Ｘ線による照射領域の大きさは全反射臨界角と無関係であるから、この大きさの最小値はＸ線の波長には依存せず、主としてマルチキャピラリＸ線レンズ２の構造、つまり各キャピラリ２０の内径（入射側端面２０ａ及び出射側端面２０ｂの内径）や長さなどによって決まる。そのため、マルチキャピラリＸ線レンズの作製上の精度を向上させることにより、高強度のＸ線照射領域を微小化することが可能である。
【００３１】
本発明者は上記実施例のＸ線照射装置に基づく実験装置を作製し、Ｘ線収束効果を確認した。この実験装置では、マルチキャピラリＸ線レンズとして、全長が17mm、入射側端面の外径が3.5mm、出射側端面の外径が2.3mm、焦点距離が約35mmである形状のものを用いた。
図５は実験装置により得られたＸ線像を示す図である。また、図６（ａ）は図５に示したＸ線像のＸ線強度分布の測定結果を示す図、図６（ｂ）は従来のマルチキャピラリＸ線レンズを用いた装置によるＸ線像のＸ線強度分布の測定結果を示す図である。
【００３２】
図５に示すように、本実験装置により得られたＸ線像では、中心のきわめて明るいつまりはＸ線強度の高い部位の周囲に、明るさに顕著な差異がある領域が拡がって入ることが分かる。図６（ａ）と図６（ｂ）とを比較すれば分かるように、本実験装置では幅（大きさ）が狭く且つ高い顕著なピーク状のＸ線強度分布が現れている。一方、従来装置では裾の拡がりが大きく且つ高さは低いガウス状のＸ線強度分布が現れている。この結果から、実験装置では従来装置に比べてより狭い領域にＸ線が高い強度で照射されていることを確認することができる。
なお、実験装置では、使用したマルチキャピラリＸ線レンズの仕様の制約上、高いＸ線強度が得られるＸ線照射領域の大きさは十分に絞れていないものの、上述したように、マルチキャピラリＸ線レンズの作製上の精度の向上等より、高強度のＸ線照射領域を微小化できることは明らかである。
【００３３】
なお、上記実施例は本発明の一例であり、本発明の趣旨の範囲で適宜変形、修正又は追加を行っても本願特許請求の範囲に包含されることは当然である。
例えば、面光源であるＸ線源は厳密な意味での面光源でなくてもよく、例えば或る程度の凹凸面や曲面、傾斜面を有する面光源でも構わない。また、点光源（点光源であるとみなせる程度の小さなＸ線源）から拡がりつつ放出されたＸ線をＡｌ、Ｍｏ等の薄膜に照射し、該薄膜から発生したＸ線を出射Ｘ線とする擬似的な面光源であってもよい。
【符号の説明】
【００３４】
１…Ｘ線源
２…マルチキャピラリＸ線レンズ
２ａ…入射側端面
２ｂ…出射側端面
２０…キャピラリ
２０ａ…入射側端面
２０ｂ…出射側端面
３…試料
３ａ…表面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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