(57)【要約】【課題】異物が除去されたインプリント材を基板上に供給するために有利なインプリント装置を提供する。【解決手段】モールドを用いて基板上のインプリント材にパターンを形成するインプリント装置は、前記インプリント材を収容するタンクと、前記タンクに収容された前記インプリント材を前記基板に吐出するディスペンサと、前記タンク内において前記インプリント材を濾過する濾過部と、を含み、前記濾過部は、筒状の濾材を有し、前記濾材を回転させることにより、前記濾材の内側領域の前記インプリント材が回転し、遠心力で前記濾材を通過するように構成されている。【選択図】図２
2017069495.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モールドを用いて基板上のインプリント材にパターンを形成するインプリント装置であって、
前記インプリント材を収容するタンクと、
前記タンクに収容された前記インプリント材を前記基板に吐出するディスペンサと、
前記タンク内において前記インプリント材を濾過する濾過部と、
を含み、
前記濾過部は、筒状の濾材を有し、前記濾材を回転させることにより、前記濾材の内側領域の前記インプリント材が回転し、遠心力で前記濾材を通過するように構成されている、ことを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記タンクは、前記インプリント材が充填された第１領域と、可撓性の膜によって前記第１領域から分離され、且つ前記インプリント材とは異なる流体が供給される第２領域とを含み、
前記濾過部は、前記第１領域に配置されている、ことを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記第２領域に流体を供給することにより前記第１領域の圧力を調整する調整部を更に含む、ことを特徴とする請求項２に記載のインプリント装置。
【請求項４】
前記濾材は、回転することによって、前記内側領域の前記インプリント材を前記濾材の回転方向に流動させるように構成されている、ことを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記濾材は、プリーツフィルタを含む、ことを特徴とする請求項４に記載のインプリント装置。
【請求項６】
前記濾材は、第１フィルタと、前記第１フィルタより目が細かく且つ前記第１フィルタの外側に形成された第２フィルタとを含む、ことを特徴とする請求項４に記載のインプリント装置。
【請求項７】
前記ディスペンサは、前記濾材の下方に配置され、
前記濾材と前記ディスペンサとの間にはバッフル板が配置されている、ことを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項８】
前記ディスペンサから前記インプリント材が吐出されているときより、前記ディスペンサから前記インプリント材が吐出されていないときの方が前記濾材の回転速度が速くなるように前記濾過部を制御する制御部を含む、ことを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項９】
前記タンクに収容されている前記インプリント材の量に応じて前記濾材の回転速度が変わるように前記濾過部を制御する制御部を含む、ことを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１０】
前記制御部は、前記タンクに収容されているインプリント材の量が少なくなるにつれて前記濾材の回転速度が遅くなるように前記濾過部を制御する、ことを特徴とする請求項９に記載のインプリント装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のうちいずれか１項に記載のインプリント装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記工程でパターンを形成された前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インプリント装置、および物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスペンサから基板にインプリント材を供給し、基板上に供給されたインプリント材にモールドを用いてパターンを形成するインプリント装置が、半導体デバイスや磁気記憶媒体などの量産用リソグラフィ装置の１つとして注目されている。インプリント装置では、基板上に供給されたインプリント材に異物が存在していると、当該インプリント材にパターンを精度よく形成することが困難になりうる。そのため、インプリント装置では、フィルタによって異物が除去されたインプリント材を、ディスペンサから基板に供給することが好ましい。
【０００３】
しかしながら、インプリント材をディスペンサに供給するための流路中にフィルタを設けてしまうと、フィルタより後の流路において圧力損失が生じ、ディスペンサから所望の量のインプリント材を吐出させることが困難になりうる。即ち、基板上にインプリント材を精度よく供給することが困難になりうる。特許文献１には、フィルタを通過したインプリント材を貯留タンクに一旦貯留させ、貯留タンクに貯留されたインプリント材をディスペンサから吐出させることにより、流路における圧力損失を防ぐ方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１４−２１６４７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
インプリント材は、時間の経過とともに固形化しうる。そのため、特許文献１に記載された方法では、貯留タンクに一旦貯留されたインプリント材が時間の経過とともに固形化し、固形化したインプリント材が異物として基板に供給されうる。
【０００６】
そこで、本発明は、異物が除去されたインプリント材を基板上に供給するために有利なインプリント装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としてのインプリント装置は、モールドを用いて基板上のインプリント材にパターンを形成するインプリント装置であって、前記インプリント材を収容するタンクと、前記タンクに収容された前記インプリント材を前記基板に吐出するディスペンサと、前記タンク内において前記インプリント材を濾過する濾過部と、を含み、前記濾過部は、筒状の濾材を有し、前記濾材を回転させることにより、前記濾材の内側領域の前記インプリント材が回転し、遠心力で前記濾材を通過するように構成されている、ことを特徴とする。
【０００８】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、例えば、異物が除去されたインプリント材を基板上に供給するために有利なインプリント装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】インプリント装置を示す概略図である。
【図２】第１実施形態の供給部の構成例を示す概略図である。
【図３】第１実施形態の供給部の構成例を示す概略図である。
【図４】濾材の構成例を示す図である。
【図５】濾材の構成例を示す図である。
【図６】第１実施形態の供給部の構成例を示す概略図である。
【図７】第２実施形態の供給部の構成例を示す概略図である。
【図８】第３実施形態の供給部の構成例を示す概略図である。
【図９】第３実施形態の供給部の構成例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材ないし要素については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１２】
＜第１実施形態＞
本発明に係る第１実施形態のインプリント装置１００について説明する。インプリント装置１００は、半導体デバイスなどの製造に使用され、基板上にインプリント材８を供給し、基板上に供給されたインプリント材８にモールド１を用いてパターンを形成するインプリント処理を行う。例えば、インプリント装置１００は、基板上にインプリント材８（樹脂）を供給し、基板上に供給されたインプリント材８とモールド１とを接触させる。そして、基板上のインプリント材８とモールド１とを接触させた状態で、当該インプリント材８を硬化させ、硬化したインプリント材８からモールド１を剥離（離型）する。これにより、基板上のインプリント材８にパターンを形成することができる。
【００１３】
インプリント材８を硬化する方法には、熱を用いる熱サイクル法と、光を用いる光硬化法とがあり、第１実施形態では光硬化法を採用する例について説明する。光硬化法とは、インプリント材８として未硬化の紫外線硬化樹脂を基板上に供給し、モールド１とインプリント材８とを接触させた状態で当該インプリント材８に光９（紫外線）を照射することによりインプリント材８を硬化させる方法である。
【００１４】
図１は、第１実施形態のインプリント装置１００を示す概略図である。インプリント装置１００は、例えば、モールド１を保持するモールド保持部２と、基板４を保持する基板保持部６と、照射部７と、供給部１０と、制御部５０とを含みうる。制御部５０は、例えばＣＰＵやメモリなどを含み、インプリント処理を制御する（インプリント装置１００の各部を制御する）。
【００１５】
インプリント装置１００に用いられるモールド１は、例えば石英など、インプリント材８を硬化させるための光９（紫外線）を透過させることが可能な材料で構成されており、基板上のインプリント材８に転写すべき凹凸パターンが形成された領域を有する。また、基板４には、例えば単結晶シリコン基板などが用いられ、基板の上面（被処理面）にはインプリント材８が供給される。
【００１６】
モールド保持部２は、真空吸着力などによりモールド１を保持し、モールド１を少なくともＺ方向（基板上のインプリント材８にモールド１を押印する際の押印方向）に駆動するように構成される。モールド保持部２は、構造体３によって支持されており、モールド１をＺ方向に駆動することにより、モールド１と基板上のインプリント材８とを接触させたり剥離させたりすることができる。また、基板保持部６は、真空吸着力などにより基板４を保持し、基板４を少なくともＸＹ方向（モールド１の押印方向に垂直な方向）に駆動する。基板保持部６は、ベースフレーム５の上をＸＹ方向に移動することにより、基板４を供給部１０の下方に配置させたり、モールド１と基板４との位置合わせを行ったりすることができる。
【００１７】
照射部７は、インプリント材８を硬化させるための光９（紫外線）をモールドを介して基板上のインプリント材８に照射する。照射部７は、例えば、ｉ線やｇ線の光を射出するハロゲンランプなどの光源や、光源から射出された光をインプリント処理における適切な光に整形するための光学系とを含みうる。
【００１８】
供給部１０は、インプリント材８を収容するタンク１２と、タンク１２に収容されたインプリント材８を基板４に吐出するディスペンサ１１とを含み、インプリント材８を基板４に供給する。ディスペンサ１１には、インプリント材８を吐出するための吐出口１１ａが複数設けられ、複数の吐出口１１ａの各々には、インプリント材８を吐出口１１ａから吐出させるための吐出素子が設けられうる。吐出素子としては、例えば圧電素子や発熱抵抗体が用いられうるが、インプリント材８の吐出と非吐出とを切り替えるための制御弁が用いられてもよい。このように構成された供給部１０では、制御部５０によって吐出素子が制御されることにより、各吐出口１１ａからのインプリント材８の吐出が制御されうる。ここで、供給部１０は、取り外し可能なカードリッジ式に構成されてもよい。このように供給部１０を構成することにより、例えば、タンク１２に収容されたインプリント材８の量が閾値以下となったとき、供給部１０を新しいものに交換することができる。
【００１９】
ところで、インプリント装置１００では、基板上に供給されたインプリント材８に異物が存在していると、インプリント材８にパターンを精度よく形成することが困難になりうる。そのため、インプリント装置１００では、フィルタによって異物が除去されたインプリント材８が供給部１０のディスペンサ１１から吐出されることが好ましい。しかしながら、タンク１２からディスペンサ１１にインプリント材８を供給するための流路中にフィルタを設けてしまうと、フィルタより後の流路において圧力損失が生じ、ディスペンサ１１から所望の量のインプリント材８を吐出させることが困難になりうる。そこで、第１実施形態のインプリント装置１００は、供給部１０のタンク内に設けられ、タンク内においてインプリント材８を濾過する濾過部１３を有する。以下に、濾過部１３を有する供給部１０の構成について説明する。
【００２０】
図２は、第１実施形態のインプリント装置１００における供給部１０の構成を示す概略図である。供給部１０は、インプリント材８を収容するタンク１２と、タンク１２に収容されたインプリント材８を吐出するディスペンサ１１と、タンク内に配置され且つタンク内においてインプリント材８を濾過する濾過部１３とを有する。濾過部１３は、例えば、中空領域１３ａ（内側領域）が形成された筒状の濾材１３ｂと、軸１３ｃを介して濾材１３ｂを回転駆動する駆動部１３ｄとを含みうる。濾材１３ｂは、軸１３ｃに接続された枠部１３ｅによって支持されている。このように構成された濾過部１３では、駆動部１３ｄによって濾材１３ｂを回転させると、中空領域１３ａに流入したインプリント材８が濾材１３の回転方向に流動し、遠心力によって濾材１３ｂを通過しうる。即ち、図２の破線矢印で示すようなインプリント材の流れをタンク内に形成することができる。なお、濾過部１３は、濾材１３ｂを通過するインプリント材８の流量が１ｍＬ／ｍｉｎ〜２０ｍＬ／ｍｉｎの範囲に収まるように、駆動部１３ｄによって濾材１３ｂを回転させることが好ましい。
【００２１】
ここで、第１実施形態の供給部１０は、ディスペンサ１１からインプリント材８が吐出されると、図３に示すように、タンク１２に設けられた開口部１２ａから大気が流入し、インプリント材８の液面が下がるように構成されている。このような供給部１０では、濾材１３ｂがインプリント材の液面より下側に配置されるように濾過部１３が構成されることが好ましい。この場合、例えば、回転軸と平行な方向（例えばＺ方向）における濾材１３ｂの長さをできるだけ短くし、濾材１３ｂの直径をできるだけ大きくするとよい。また、第１実施形態の供給部１０は、濾材１３ｂと駆動部１３ｄとを軸１３ｃを介して接続しているが、それに限られるものではなく、磁石や流体軸受けなどによって、濾材１３ｂと駆動部１３ｄとを接続してもよい。
【００２２】
次に、濾過部１３における濾材１３ｂの構成について説明する。上述したように、濾過部１３は、濾材１３ｂを回転させることにより、中空領域１３ａに流入したインプリント材を回転させ、遠心力で濾材１３ｂを通過させる。そのため、濾材１３ｂは、中空領域１３ａのインプリント材８を濾材１３ｂの回転方向に流動させるように構成されることが好ましい。以下に、濾過部１３における濾材１３ｂの構成例について図４および図５を参照しながら説明する。ここで、濾材１３ｂとしては、例えば、除去対象の異物の大きさより小さな穴が多数形成されたメンブレンタイプまたは中空糸膜タイプのフィルタが用いられるとよい。濾材１３ｂの材料としては、例えば、ポリエチレン、フッ素系樹脂、ナイロンなどが用いられうる。また、インプリント装置では、含有金属量が少ないインプリント材８が用いられることが好ましい。そのため、金属を吸着したりイオン交換したりする機能を有するフィルタが濾材１３ｂとして用いられるとよい。
【００２３】
図４は、濾材１３ｂの構成例を示す図である。図４（ａ）は、濾材１３ｂを横（−Ｙ方向）から見た図であり、図４（ｂ）は、図４（ａ）におけるＡ−Ａ部分の断面を示す図である。図４に示す濾材１３ｂは、図４（ｂ）に示すように、複数の折り目を有するプリーツフィルタを筒状（無端状）に成形することによって構成され、格子状の枠部１３ｅによって支持されうる。このように構成された濾材１３ｂはフィンのような働きをするため、中空領域１３ａのインプリント材８が、濾材１３ｂの回転方向に流動し、遠心力によって濾材１３ｂを通過しうる。ここで、濾材１３ｂは、インプリント材８の異物を十分に除去するため、例えば目の粗さ（平均口径）が１０ｎｍ以下であることが好ましく、目の粗さが５ｎｍ以下であることが更に好ましい。一方で、濾材１３ｂの目の粗さを細かくしすぎると、インプリント材８が濾材１３ｂを通過することが困難となりうる。そのため、濾材１３ｂの目の粗さは２ｎｍ以上であることが好ましい。
【００２４】
図５は、濾材１３ｂの他の構成例を示す図である。図５（ａ）は、濾材１３ｂを横（−Ｙ方向）から見た図を示し、図５（ｂ）は、図５（ａ）におけるＡ−Ａ部分の断面を示す図である。図５に示す濾材１３ｂは、図５（ｂ）に示すように、筒状に構成された第１フィルタ１３ｂ１と、第１フィルタ１３ｂ１より目が細かくかつ第１フィルタ１３ｂ１の外側に形成された第２フィルタ１３ｂ２とを含みうる。そして、当該濾材１３ｂは、枠部１３ｅによって上下から挟み込まれるように支持されうる。このように構成された濾材１３ｂでは、第１フィルタ１３ｂ１の内部に流入したインプリント材８が、濾材１３ｂの回転方向に流動し、遠心力によって第２フィルタ１３ｂ２を通過しうる。ここで、第１フィルタ１３ｂ１は、インプリント材８を濾材１３ｂの回転方向に流動させるために用いられるため、インプリント材８が内部に流入しやすいように構成されるとよい。例えば、第１フィルタ１３ｂ１は、目の粗さ（平均口径）が５０ｎｍ以上かつ２００ｎｍ以下であることが好ましい。また、第２フィルタ１３ｂ２は、図４に示す濾材１３ｂと同様に、インプリント材８の異物を十分に除去するため、例えば目の粗さが２ｎｍ以上かつ１０ｎｍ以下（５ｎｍ以下）であることが好ましい。
【００２５】
上述したように、第１実施形態のインプリント装置１００は、インプリント材８を収容するタンク内においてインプリント材８を濾過する濾過部１３を含む。当該濾過部１３は、中空領域１３ａが形成された筒状の濾材１３ｂを有し、濾材１３ｂを回転させることにより、中空領域１３ａのインプリント材８が遠心力で濾材１３ｂを通過するように構成される。これにより、インプリント装置１００は、インプリント材８の流路において圧力損失が生じないように、タンク内におけるインプリント材８の異物を除去することができる。
【００２６】
ここで、インプリント装置１００では、タンク内のインプリント材８に気体（例えば空気）が混入していることがある。インプリント材８に混入している気体が気泡１４として濾過部１３の濾材１３ｂに取り込まれると、目詰まり等が生じ、濾過性能が低下しうる。そのため、例えば、図６（ａ）に示すように、上昇した気泡１４を捕獲するために形成された凹形状の空間１２ｂを、タンク１２の内部上方に設けるとよい。この場合において、中空領域１３ａに取り込まれた気泡１４を上方に逃すため、図６（ｂ）に示すように、濾材１３ｂを支持する枠部１３ｅに開口１３ｅ１を設けてもよい。
【００２７】
また、インプリント装置１００では、タンク１２に収容されているインプリント材の量に応じて、濾材１３ｂの回転が制御部５０によって制御されてもよい。例えば、ディスペンサ１１からインプリント材８を吐出させることにより、タンク１２に収容されているインプリント材８の量が減少した場合、濾過すべきインプリント材８の量が減ることとなる。即ち、タンク１２に収容されているインプリント材８の量が減少した分だけ、単位時間内に濾材１３ｂを通過させるインプリント材８の量を減少させることができる。そのため、制御部５０は、タンク１２に収容されているインプリント材８の量が少なくなるにつれて濾材１３ｂの回転速度が遅くなるように、濾材１３ｂの回転を制御するとよい。タンク１２に収容されているインプリント材８の量は、例えば、タンク内のインプリント材の残量を検出するセンサからの出力、またはディスペンサ１１の吐出口から吐出されたインプリント材８の吐出量に基づいて求められうる。
【００２８】
＜第２実施形態＞
第２実施形態のインプリント装置１００について説明する。供給部１０では、ディスペンサ１１の吐出口１１ａにおけるインプリント材８の液面の形状（メニスカス形状）を安定化させ、ディスペンサ１１の吐出口から再現性よくインプリント材８を吐出させることが好ましい。そのため、第２実施形態のインプリント装置１００における供給部１０は、ディスペンサ１１の吐出口１１ａにおけるインプリント材８の液面の形状が一定になるように構成されている。以下では、第２実施形態のインプリント装置１００における供給部１０の構成について、図７を参照しながら説明する。
【００２９】
図７（ａ）は、第２実施形態のインプリント装置１００における供給部１０の構成を示す概略図である。第２実施形態における供給部１０のタンク１２は、インプリント材８が充填された第１領域１２ｃと、可撓性の分離膜１２ｅによって第１領域１２ｃから分離され、且つインプリント材８とは異なる流体１５が供給される第２領域１２ｄとを含みうる。分離膜１２ｅは、例えば、アルミニウムの多層フィルムによって構成され、分離膜１２ｅの厚さは、例えば１０μｍ以上かつ２００μｍ以下であることが好ましい。
【００３０】
また、供給部１０は、タンク１２の第２領域１２ｄに配管１６を介して流体１５を供給することにより第１領域１２ｃの圧力を調整する調整部１７を含みうる。調整部１７は、例えば、第２領域１２ｄに供給される流体１５が収容された収容部、収容部から第２領域１２ｄに配管１６を介して流体１５を供給するためのポンプ、およびタンク１２の内部圧力を検出するためのセンサを含みうる。そして、調整部１７は、センサによるタンク１２の内部圧力の検出結果に基づいてポンプを制御し、第２領域１２ｄに配管１６を介して流体１５を供給する。これにより、供給部１０は、ディスペンサ１１からインプリント材８が吐出され、第１領域１２ｃに充填されたインプリント材８が減少しても、第１領域１２ｃの圧力を所望の圧力に調整することができる。つまり、ディスペンサ１１の吐出口１１ｂにおけるインプリント材８の液面の形状（メニスカス形状）を一定にし、ディスペンサ１１の吐出口１１ａから精度よく（再現性よく）インプリント材８を吐出させることができる。
【００３１】
濾過部１３（濾材１３ｂ）は、タンク１２の第１領域１２ｃに配置される。ディスペンサ１１からインプリント材８が吐出されると、第１領域１２ｃに充填されたインプリント材８が減少し、図７（ｂ）に示すように分離膜１２ｅが変形する。そのため、濾過部１３（濾材１３ｂ）は、分離膜１２ｅが変形してもインプリント材８を濾過することができるように、変形した分離膜１２ｅに接触しない位置に配置されることが好ましい。
【００３２】
＜第３実施形態＞
インプリント装置１００では、供給部１０のディスペンサ１１から吐出されるインプリント材８の量や吐出方向などが高精度に制御されることが好ましい。しかしながら、濾過部１３によりタンク内に形成されたインプリント材８の流れが変化すると、ディスペンサ１１の吐出口１１ａにおけるインプリント材８の液面が変動（脈動）することがある。即ち、ディスペンサ１１の吐出口１１ａにおけるインプリント材８の液面の形状（メニスカス形状）が変化することがある。この場合、吐出口１１ａから吐出されるインプリント材８の量や吐出方向などが変化したり、吐出口１１ａからインプリント材８が漏れ出たりといった不具合が生じうる。そのため、インプリント装置１００は、当該不具合の発生が低減されるように構成されることが好ましい。
【００３３】
例えば、供給部１０では、図８に示すように、ディスペンサが濾材１３ｂの下方に配置され、濾材１３ｂとディスペンサ１１との間にバッフル板１８が設けられうる。このようにバッフル板１８を設けることにより、濾材１３ｂの回転によるインプリント材８の流れによってディスペンサ１１の吐出口１１ｂに与えられる影響を低減することができる。即ち、上述の不具合の発生を低減することができる。
【００３４】
また、濾過部１３では、例えば、濾材１３ｂが目詰まりし、インプリント材８が濾材１３ｂを通過する際の抵抗が大きくなると、濾材１３ｂを回転させるために駆動部１３ｄに供給される駆動電力が小さくなる。この場合、制御部５０は、駆動部１３ｄに供給される駆動電力を常時検出しておき、駆動電力が閾値を下回ったときに、ユーザに濾材１３ｂ（供給部１０）の交換を促す通知を行うとよい。当該通知は、例えばインプリント装置１００のコントロールモニタに表示するなどによって行われうる。ここで、制御部５０は、駆動電力が閾値を下回ったときに、濾材１３ｂの交換を促す通知を行うとともに、ディスペンサ１１からのインプリント材８の吐出や、濾過部１３によるインプリント材８の濾過を停止させてもよい。
【００３５】
また、制御部５０は、インプリント処理の工程に応じて、濾材１３ｂの回転を制御してもよい。具体的には、制御部５０は、ディスペンサ１１からインプリント材８が吐出されているときより、ディスペンサ１１からインプリント材８が吐出されていないときの方が濾材１３ｂの回転速度が速くなるように、濾材１３ｂの回転を制御するとよい。例えば、制御部５０は、ディスペンサ１１からインプリント材８を吐出させる工程において濾材１３ｂの回転を停止させ、それ以外の工程（例えば、基板やロットを交換する工程）において濾材１３ｂを回転させてインプリント材８の濾過を行ってもよい。
【００３６】
ここで、上述では、吐出口１１ａから吐出されるインプリント材８の量や吐出方向などが変化したり、吐出口１１ａからインプリント材８が漏れ出たりといった不具合が生じないようにインプリント装置１００を構成する例について述べた。しかしながら、それに限られるものではない。例えば、濾過部によるインプリント材８の濾過を行う際には、図９に示すように、受け皿３１が設けられた退避位置に移動機構３０によって供給部１０を移動させてもよい。これにより、吐出口１１ａからインプリント材８が漏れ出た場合であっても、漏れ出たインプリント材８を受け皿３１で受けることができる。このように供給部１０を退避位置に移動させることは、濾材１３ｂの回転速度を早くしてインプリント材８の濾過時間を短縮したい場合等に有効である。
【００３７】
また、濾過部１３による濾過を行うタイミングは、ディスペンサ１１からのインプリント材８の吐出期間、インプリント材８の使用量、前回の濾過からの経過時間、タンク内のインプリント材８の状態を示す情報などに応じて決定されるとよい。また、インプリント材８によっても固形化の度合いが異なるため、インプリント材８の種類を考慮して当該タイミングが決定されてもよい。
【００３８】
＜物品の製造方法の実施形態＞
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板上に供給されたインプリント材に上記のインプリント装置を用いてパターンを形成する工程と、かかる工程でパターンを形成された基板を加工する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００３９】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【符号の説明】
【００４０】
１０：供給部、１１：ディスペンサ、１２：タンク、１３：濾過部、１３ａ：中空領域、１３ｂ：濾材、１３ｄ：駆動部、１７：調整部、１００：インプリント装置
【図１】
2017069495.tif 000003
【図２】
2017069495.tif 000004
【図３】
2017069495.tif 000005
【図４】
2017069495.tif 000006
【図５】
2017069495.tif 000007
【図６】
2017069495.tif 000008
【図７】
2017069495.tif 000009
【図８】
2017069495.tif 000010
【図９】
2017069495.tif 000011