(57)【要約】【課題】反射防止フィルムに起因した色ムラが防止され、薄型であり、かつ、ニュートラルブラックの反射色相に優れる光学積層体を提供すること。【解決手段】本発明の光学積層体は、第１の基板と、該第１の基板の片側に配置された第２の基板と、該第１の基板と該第２の基板との間に配置された反射防止フィルムと、該第１の基板と該第２の基板との間において、該反射防止フィルムを覆うようにして配置された樹脂層とを備え、該反射防止フィルムが、偏光子と、該偏光子に接着されている位相差層とを含み、該樹脂層の２５℃における貯蔵弾性率が、１×１０６Ｐａ以上である。【選択図】図１
2017049574.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、
該第１の基板の片側に配置された第２の基板と、
該第１の基板と該第２の基板との間に配置された反射防止フィルムと、
該第１の基板と該第２の基板との間において、該反射防止フィルムを覆うようにして配置された樹脂層とを備え、
該反射防止フィルムが、偏光子と、該偏光子に接着されている位相差層とを含み、
該樹脂層の２５℃における貯蔵弾性率が、１×１０６Ｐａ以上である、
光学積層体。
【請求項２】
前記位相差層が、λ／４板として機能する、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項３】
前記位相差層が、逆分散波長特性を示す、請求項１または２に記載の光学積層体。
【請求項４】
前記位相差層が、ポリカーボネート系樹脂フィルムから構成される、請求項１から３のいずれかに記載の光学積層体。
【請求項５】
前記位相差層が、光弾性係数３０×１０-１２Ｐａ以下の樹脂を含む、請求項１から４のいずれかに記載の光学積層体。
【請求項６】
前記位相差層の遅相軸と前記偏光子の吸収軸とのなす角度が、３５°〜５５°である、請求項１から５のいずれかに記載の光学積層体。
【請求項７】
前記偏光子と前記位相差層とが、接着剤層を介して積層され、該接着剤層の厚みが１μｍ以下である、請求項１から６のいずれかに記載の光学積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、液晶表示装置および有機ＥＬ表示装置に代表される画像表示装置においては、種々の光学フィルムが用いられ、視野角特性、反射特性の改善が図られている。例えば、高反射性の金属層を有する有機ＥＬ表示装置は、外光反射や背景の映り込み等の問題が生じやすく、そのため、反射防止フィルムとして、λ／４板を有する円偏光板が用いられることがある。
【０００３】
一方、上記画像表示装置においては、経年使用による端部の色ムラの発生が問題となる。光学フィルムに起因した色ムラを防止する方法として、光弾性係数の小さい光学フィルムを用いることが知られており、光弾性係数の小さい光学フィルムとしては、シクロオレフィン系フィルムが多用される。シクロオレフィン系フィルムは、λ／４板として用いることもできる。しかしながら、シクロオレフィン系フィルムは、その材料固有の波長分散性に起因して、当該フィルム単独ではニュートラルブラックの反射色相が得られないという問題がある。シクロオレフィン系フィルムを使用しつつ、ニュートラルブラックの反射色相を得ようとする場合、さらに、λ／２板として機能する光学フィルムを用いることが必要となり、生産性の低下、厚みが厚くなるという問題が生じる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１-１５４１７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、反射防止フィルムに起因した色ムラが防止され、薄型であり、かつ、ニュートラルブラックの反射色相に優れる光学積層体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の光学積層体は、第１の基板と、該第１の基板の片側に配置された第２の基板と、該第１の基板と該第２の基板との間に配置された反射防止フィルムと、該第１の基板と該第２の基板との間において、該反射防止フィルムを覆うようにして配置された樹脂層とを備え、該反射防止フィルムが、偏光子と、該偏光子に接着されている位相差層とを含み、該樹脂層の２５℃における貯蔵弾性率が、１×１０６Ｐａ以上である。
１つの実施形態においては、上記位相差層が、λ／４板として機能する。
１つの実施形態においては、上記位相差層が、逆分散波長特性を示す。
１つの実施形態においては、上記位相差層が、ポリカーボネート系樹脂フィルムから構成される。
１つの実施形態においては、上記位相差層が、光弾性係数３０×１０-１２Ｐａ以下の樹脂を含む。
１つの実施形態においては、上記位相差層の遅相軸と前記偏光子の吸収軸とのなす角度が、３５°〜５５°である。
１つの実施形態においては、上記偏光子と上記位相差層とが、接着剤層を介して積層され、該接着剤層の厚みが１μｍ以下である。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、偏光子と、該偏光子に接着されている位相差層とを含む反射防止フィルムを備え、当該反射防止フィルムを、特定の貯蔵弾性率を有する樹脂層で覆うようにして構成することにより、薄型であり、かつ、色ムラが防止された光学積層体を得ることができる。また、本発明によれば、反射防止フィルムを構成する位相差層の材料を広範囲に選択すること（例えば、光弾性係数が比較的大きい材料、逆分散波長特性の位相差層を形成し得る材料等を用いること）が可能となり、そのため、位相差層を単層で形成しながらも、ニュートラルブラックの反射色相に優れる光学積層体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の１つの実施形態による光学積層体の概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
【００１０】
（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ（λ）＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
（５）複屈折（Δｎｘｙ）
複屈折Δｎｘｙは、式：Δｎｘｙ＝ｎｘ−ｎｙによって求められる。
【００１１】
Ａ．光学積層体の全体構成
図１は、本発明の１つの実施形態による光学積層体の概略断面図である。本実施形態の光学積層体１００は、第１の基板１０と、第１の基板１０の片側に配置された第２の基板４０と、第１の基板１０と第２の基板４０との間に配置された反射防止フィルム２０と、第１の基板１０と第２の基板４０との間において、反射防止フィルム２０を覆い、封止するようにして形成された樹脂層３０とを備える。反射防止フィルム２０は、偏光子２１と位相差層２２とを含む。位相差層２２は、偏光子２１に接着されている。
【００１２】
従来の反射防止フィルム、すなわち、位相差層と偏光子とを単に粘着剤層で貼り合わせて構成される反射防止フィルムにおいては、温度変化による位相差層の収縮により、位相差層の位相差（特に、端部の位相差）が経時的に変化し、この位相差変化が色ムラの原因となることを、本発明の発明者は見いだした。本発明においては、位相差層と偏光子とを接着により積層し、かつ、当該位相差層を含む反射防止フィルムを樹脂層で覆うことにより、色ムラが防止された光学積層体を得ることができる。より詳細には、上記のような構成の光学積層体は、位相差層の変形が抑制され、温度変化による位相差層の膨張および収縮が小さい。このような光学積層体においては、位相差層の位相差変化が少なく、経時により発生する色ムラが防止される。また、後述のように、樹脂層の貯蔵弾性率Ｅ’を特定の範囲とすることにより、このような効果はより顕著となる。
【００１３】
位相差層と偏光子とは直接接着されていることが好ましい。すなわち、位相差層と偏光子との間には、接着剤層以外の層（例えば、保護フィルム等のフィルム、粘着剤層等）が存在しないことが好ましい。本発明の光学積層体において、上記位相差層は、偏光子の保護層としても機能し得る。このように、偏光子の保護層としても機能し得る位相差層を、偏光子に直接接着すれば、薄型の光学積層体を得ることができる。
【００１４】
上記反射防止フィルムは、粘着剤層２３を介して、第１の基板に積層され得る。また、上記反射防止フィルム２０は、上記偏光子２１の位相差層２２とは反対側に配置される保護フィルム２４を備え得る。好ましくは、上記反射防止フィルム２０は、位相差層２２を基準に、偏光子２１（および保護フィルム２４）が第２の基板４０側となるようにして配置される。また、本発明の光学積層体１００を画像表示装置等に用いる場合、上記反射防止フィルム２０は、位相差層２２を基準に、偏光子２１（および保護フィルム２４）が視認側となるようにして配置されることが好ましい。例えば、λ／４板として機能する位相差層を形成する場合、偏光子は、位相差層（λ／４板）よりも視認側に配置され得る。また、本発明の光学積層体１００は、第２の基板４０を視認側にして配置され得る。
【００１５】
Ｂ．反射防止フィルム
上記のとおり、反射防止フィルムは、偏光子と位相差層とを含む。位相差層は、偏光子の片側に設けられ、当該偏光子の保護層として機能し得る。１つの実施形態においては、上記位相差層は単層である。実用的には、上記偏光子の位相差層とは反対側には、保護フィルムが配置され得る。
【００１６】
（偏光子）
上記偏光子としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体であってもよい。
【００１７】
単層の樹脂フィルムから構成される偏光子の具体例としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系樹脂フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理および延伸処理が施されたもの、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。好ましくは、光学特性に優れることから、ＰＶＡ系樹脂フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られた偏光子が用いられる。
【００１８】
上記ヨウ素による染色は、例えば、ＰＶＡ系樹脂フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。上記一軸延伸の延伸倍率は、好ましくは３倍〜７倍である。延伸は、染色処理後に行ってもよいし、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。必要に応じて、ＰＶＡ系樹脂フィルムに、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等が施される。例えば、染色の前にＰＶＡ系樹脂フィルムを水に浸漬して水洗することで、ＰＶＡ系樹脂フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ＰＶＡ系樹脂フィルムを膨潤させて染色ムラなどを防止することができる。
【００１９】
積層体を用いて得られる偏光子の具体例としては、樹脂基材と当該樹脂基材に積層されたＰＶＡ系樹脂層（ＰＶＡ系樹脂フィルム）との積層体、あるいは、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子は、例えば、ＰＶＡ系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にＰＶＡ系樹脂層を形成して、樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を得ること；当該積層体を延伸および染色してＰＶＡ系樹脂層を偏光子とすること；により作製され得る。本実施形態においては、延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温（例えば、９５℃以上）で空中延伸することをさらに含み得る。得られた樹脂基材／偏光子の積層体はそのまま用いてもよく（すなわち、樹脂基材を偏光子の保護フィルムとしてもよく）、樹脂基材／偏光子の積層体から樹脂基材を剥離し、当該剥離面に目的に応じた任意の適切な保護フィルムを積層して用いてもよい。このような偏光子の製造方法の詳細は、例えば特開２０１２−７３５８０号公報に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
【００２０】
上記偏光子の厚みは、好ましくは１５μｍ以下であり、より好ましくは１３μｍ以下であり、さらに好ましくは１０μｍであり、特に好ましくは８μｍ以下である。偏光子の厚みの下限は、１つの実施形態においては２μｍであり、別の実施形態においては３μｍである。
【００２１】
上記偏光子は、好ましくは、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光子の単体透過率は、好ましくは４４．０％〜４５．５％であり、より好ましくは４４．５％〜４５．０％である。
【００２２】
上記偏光子の偏光度は、好ましくは９８％以上であり、より好ましくは９８．５％以上であり、さらに好ましくは９９％以上である。
【００２３】
（位相差層）
上記位相差層は、目的に応じて任意の適切な光学的特性および／または機械的特性を有する位相差フィルムで構成され得る。位相差層は、代表的には遅相軸を有する。１つの実施形態においては、位相差層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度θは、好ましくは３５°〜５５°であり、より好ましくは３８°〜５２°であり、さらに好ましくは４２°〜４８°であり、特に好ましくは約４５°である。角度θがこのような範囲であれば、後述するように位相差層をλ／４板とすることにより、非常に優れた円偏光特性（結果として、非常に優れた反射防止特性）を有する反射防止フィルムが得られ得る。
【００２４】
上記位相差層は、好ましくは屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係を示す。１つの実施形態においてはλ／４板として機能し得る。この場合、位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは８０ｎｍ〜２００ｎｍ、より好ましくは１００ｎｍ〜１８０ｎｍ、さらに好ましくは１１０ｎｍ〜１７０ｎｍである。なお、ここで「ｎｙ＝ｎｚ」はｎｙとｎｚが完全に等しい場合だけではなく、実質的に等しい場合を包含する。したがって、本発明の効果を損なわない範囲で、ｎｙ＜ｎｚとなる場合があり得る。
【００２５】
上記位相差層の複屈折Δｎｘｙは、好ましくは０．００２５以上であり、より好ましくは０．００２８以上である。一方、複屈折Δｎｘｙの上限は、例えば０．００６０であり、好ましくは０．００５０である。複屈折をこのような範囲に最適化することにより、薄く、かつ、所望の光学特性を有する位相差層が得られ得る。
【００２６】
上記位相差層のＮｚ係数は、好ましくは０．９〜３、より好ましくは０．９〜２．５、さらに好ましくは０．９〜１．５、特に好ましくは０．９〜１．３である。このような関係を満たすことにより、得られる光学積層体を画像表示装置に用いた場合に、非常に優れた反射色相を達成し得る。
【００２７】
上記位相差層は、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長に応じて小さくなる正の波長分散特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長によってもほとんど変化しないフラットな波長分散特性を示してもよい。好ましくは、位相差層は、逆分散波長特性を示す。この場合、位相差層のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、好ましくは０．８以上１未満であり、より好ましくは０．８以上０．９５以下である。このような構成であれば、非常に優れた反射防止特性を実現することができ、具体的には、ニュートラルブラックの反射色を、当該位相差層単層で、実現することができる。本発明においては、逆分散波長特性を示す位相差層を形成しても、該位相差層の位相差層の位相差変化が少なく、経時により発生する色ムラが防止される。
【００２８】
上記位相差層は、光弾性係数が好ましくは３０×１０-１２Ｐａ以下、より好ましくは１０×１０−１２Ｐａ〜２０×１０−１２Ｐａ、さらに好ましくは１×１０−１２Ｐａ〜１０×１０−１２Ｐａである樹脂を含む。光弾性係数がこのような範囲であれば、加熱時の収縮応力が発生した場合に位相差変化が生じにくい位相差層を形成することができる。
【００２９】
上記位相差層の厚みは、好ましくは５０μｍ以下であり、より好ましくは２０μｍ〜５０μｍである。
【００３０】
上記位相差層は、任意の適切な樹脂フィルムで構成され得る。樹脂フィルムを構成する樹脂の代表例としては、環状オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリル系樹脂が挙げられる。中でも、ポリカーボネート系樹脂が好ましい。
【００３１】
上記ポリカーボネート系樹脂としては、任意の適切なポリカーボネート系樹脂が用いられる。１つの実施形態においては、ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含むポリカーボネート系樹脂が用いられ得る。ジヒドロキシ化合物としては、下記一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物が挙げられる。
【化１】
2017049574.tif 000003
（上記一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換の炭素数１〜炭素数２０のアルキル基、置換若しくは無置換の炭素数６〜炭素数２０のシクロアルキル基、または、置換若しくは無置換の炭素数６〜炭素数２０のアリール基を表し、Ｘは置換若しくは無置換の炭素数２〜炭素数１０のアルキレン基、置換若しくは無置換の炭素数６〜炭素数２０のシクロアルキレン基、または、置換若しくは無置換の炭素数６〜炭素数２０のアリーレン基を表し、ｍ及びｎはそれぞれ独立に０〜５の整数である。）
【００３２】
一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物の具体例としては、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｎ−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｎ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｓｅｃ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−イソブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロポキシ）フェニル）フルオレン等が挙げられる。
【００３３】
上記ポリカーボネート系樹脂は、上記ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位の他に、イソソルビド、イソマンニド、イソイデット、スピログリコール、ジオキサングリコール、ジエチレングリコール（ＤＥＧ）、トリエチレングリコール（ＴＥＧ）、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、ビスフェノール類などのジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含んでいてもよい。
【００３４】
ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含むポリカーボネート系樹脂の詳細は、例えば、特許５２０４２００号、特開２０１２−６７３００号公報、特許第３３２５５６０号、ＷＯ２０１４／０６１６７７号等に記載されている。当該特許文献の記載は、本明細書に参考として援用される。
【００３５】
１つの実施形態においては、オリゴフルオレン構造単位を含むポリカーボネート系樹脂が用いられ得る。オリゴフルオレン構造単位を含むポリカーボネート系樹脂としては、例えば、下記一般式（２）で表される構造単位および／または下記一般式（３）で表される構造単位を含む樹脂が挙げられる。
【化２】
2017049574.tif 000004
（上記一般式（２）および上記一般式（３）中、Ｒ５およびＲ６はそれぞれ独立に、直接結合、置換若しくは無置換の炭素数１〜４のアルキレン基（好ましくは、主鎖上の炭素数が２〜３であるアルキレン基）である。Ｒ７は、直接結合、置換若しくは無置換の炭素数１〜４のアルキレン基（好ましくは、主鎖上の炭素数が１〜２であるアルキレン基）である。Ｒ８〜Ｒ１３はそれぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換の炭素数１〜１０（好ましくは１〜４、より好ましくは１〜２）のアルキル基、置換若しくは無置換の炭素数４〜１０（好ましくは４〜８、より好ましくは４〜７）のアリール基、置換若しくは無置換の炭素数１〜１０（好ましくは１〜４、より好ましくは１〜２）のアシル基、置換若しくは無置換の炭素数１〜１０（好ましくは１〜４、より好ましくは１〜２）のアルコキシ基、置換若しくは無置換の炭素数１〜１０（好ましくは１〜４、より好ましくは１〜２）のアリールオキシ基、置換若しくは無置換の炭素数１〜１０（好ましくは１〜４、より好ましくは１〜２）のアシルオキシ基、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換の炭素数１〜１０（好ましくは１〜４）のビニル基、置換若しくは無置換の炭素数１〜１０（好ましくは１〜４）のエチニル基、置換基を有する硫黄原子、置換基を有するケイ素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、またはシアノ基である。Ｒ８〜Ｒ１３のうち隣接する少なくとも２つの基が互いに結合して環を形成していてもよい。）
【００３６】
１つの実施形態においては、オリゴフルオレン構造単位に含まれるフルオレン環は、Ｒ８〜Ｒ１３の全てが水素原子である構成を有するか、あるいは、Ｒ８及び／又はＲ１３がハロゲン原子、アシル基、ニトロ基、シアノ基、及びスルホ基からなる群から選ばれるいずれかであり、かつ、Ｒ９〜Ｒ１２が水素原子である構成を有する。
【００３７】
オリゴフルオレン構造単位を含むポリカーボネート系樹脂の詳細は、例えば、特開２０１５−２１２８１６号公報等に記載されている。当該特許文献の記載は、本明細書に参考として援用される。
【００３８】
上記ポリカーボネート系樹脂のガラス転移温度は、１１０℃〜１５０℃であることが好ましく、より好ましくは１２０℃〜１４０℃である。ガラス転移温度が過度に低いと耐熱性が悪くなる傾向にあり、フィルム成形後に寸法変化を起こす可能性がある。ガラス転移温度が過度に高いと、フィルム成形時の成形安定性が悪くなる場合があり、又フィルムの透明性を損なう場合がある。なお、ガラス転移温度は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２１（１９８７）に準じて求められる。
【００３９】
上記樹脂フィルムは、任意の適切な方法により得ることができる。例えば、未延伸樹脂フィルムを延伸して上記樹脂フィルムが得られ得る。
【００４０】
上記延伸は、任意の適切な延伸方法、延伸条件（例えば、延伸温度、延伸倍率、延伸方向）が採用され得る。具体的には、自由端延伸、固定端延伸、自由端収縮、固定端収縮などの様々な延伸方法を、単独で用いることも、同時もしくは逐次で用いることもできる。延伸方向に関しても、長さ方向、幅方向、厚さ方向、斜め方向等、様々な方向や次元に行なうことができる。延伸の温度は、樹脂フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）に対し、Ｔｇ−３０℃〜Ｔｇ＋６０℃であることが好ましく、より好ましくはＴｇ−１０℃〜Ｔｇ＋５０℃である。
【００４１】
上記延伸方法、延伸条件を適宜選択することにより、上記所望の光学特性（例えば、屈折率特性、面内位相差、Ｎｚ係数）を有する樹脂フィルムを得ることができる。
【００４２】
１つの実施形態においては、樹脂フィルムは、未延伸樹脂フィルムを一軸延伸もしくは固定端一軸延伸することにより作製される。固定端一軸延伸の具体例としては、樹脂フィルムを長手方向に走行させながら、幅方向（横方向）に延伸する方法が挙げられる。延伸倍率は、好ましくは１．１倍〜３．５倍である。
【００４３】
別の実施形態においては、位相差フィルムは、長尺状の樹脂フィルムを長手方向に対して上記の角度θの方向に連続的に斜め延伸することにより作製され得る。斜め延伸を採用することにより、フィルムの長手方向に対して角度θの配向角（角度θの方向に遅相軸）を有する長尺状の延伸フィルムが得られ、例えば、偏光子との積層に際してロールツーロールが可能となり、製造工程を簡略化することができる。なお、角度θは、反射防止フィルムにおいて偏光子の吸収軸と位相差層の遅相軸とがなす角度であり得る。角度θは、上記のとおり、好ましくは３８°〜５２°であり、より好ましくは４２°〜４８°であり、さらに好ましくは約４５°である。
【００４４】
斜め延伸に用いる延伸機としては、例えば、横および／または縦方向に、左右異なる速度の送り力もしくは引張り力または引き取り力を付加し得るテンター式延伸機が挙げられる。テンター式延伸機には、横一軸延伸機、同時二軸延伸機等があるが、長尺状の樹脂フィルムを連続的に斜め延伸し得る限り、任意の適切な延伸機が用いられ得る。
【００４５】
上記延伸機において左右の速度をそれぞれ適切に制御することにより、上記所望の面内位相差を有し、かつ、上記所望の方向に遅相軸を有する位相差層（実質的には、長尺状の位相差フィルム）が得られ得る。
【００４６】
上記フィルムの延伸温度は、位相差層に所望される面内位相差値および厚み、使用される樹脂の種類、使用されるフィルムの厚み、延伸倍率等に応じて変化し得る。具体的には、延伸温度は、好ましくはＴｇ−３０℃〜Ｔｇ＋３０℃、さらに好ましくはＴｇ−１５℃〜Ｔｇ＋１５℃、最も好ましくはＴｇ−１０℃〜Ｔｇ＋１０℃である。このような温度で延伸することにより、本発明において適切な特性を有する位相差層が得られ得る。なお、Ｔｇは、フィルムの構成材料のガラス転移温度である。
【００４７】
（保護フィルム）
上記保護フィルムは、任意の適切な樹脂で形成される。保護フィルムを形成する樹脂の具体例としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、（メタ）アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、（メタ）アクリル系、ウレタン系、（メタ）アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。当該ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。
【００４８】
上記保護フィルムの厚みは、本発明の効果が得られる限りにおいて、任意の適切な厚みが採用され得る。保護フィルムの厚みは、例えば２０μｍ〜４０μｍであり、好ましくは２５μｍ〜３５μｍである。
【００４９】
（接着剤層）
上記偏光子と、上記位相差層および上記保護フィルムとは、接着剤層を介して積層され得る。接着剤層を構成する接着剤としては、任意の適切な接着剤が用いられる。例えば、接着剤層は、ポリビニルアルコール系接着剤で形成される。
【００５０】
上記接着剤層の厚みは、好ましくは１μｍ以下であり、より好ましくは０．８μｍ以下である。このような範囲であれば、位相差層の位相差変化が少なく、経時により発生する色ムラが防止された光学積層体を得ることができる。上記接着剤層の厚みの下限は、例えば、０．０１μｍである。
【００５１】
（粘着剤層）
上記のとおり、上記反射防止フィルムは、粘着剤層を備え、該粘着剤層を介して上記第１の基板に貼着され得る。粘着剤層を構成する粘着剤としては、任意の適切な粘着剤が用いられる。例えば、粘着剤層は、アクリル系粘着剤で形成される。
【００５２】
上記粘着剤層の厚みは、好ましくは５μｍ〜３０μｍであり、より好ましくは５μｍ〜１５μｍである。本発明においては、樹脂層を形成することにより、反射防止フィルムの膨張および収縮が抑制されるため、粘着剤層の発泡および剥がれが防止され得る。そのため、粘着剤層の厚みを薄くすることができ、薄型の光学積層体が得られ得る。
【００５３】
（その他の層）
上記反射防止フィルムは、その他の層をさらに備え得る。その他の層としては、例えば、上記位相差層とは別の位相差層が挙げられる。１つの実施形態においては、上記反射防止フィルムは、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率分布を有し、ポジティブＣプレートとして機能し得る位相差層（位相差フィルムまたは液晶層）をさらに備え得る。ここで、「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。すなわち、Ｒｅが１０ｎｍ未満であることをいう。当該ポジティブＣプレートとして機能し得る位相差層の厚み方向の位相差Ｒｔｈは、好ましくは−２０ｎｍ〜−２００ｎｍ、さらに好ましくは−４０ｎｍ〜−１８０ｎｍ、特に好ましくは−４０ｎｍ〜−１６０ｎｍである。このようなＲｔｈが得られ得る位相差層の厚みは、使用される材料等に応じて変化し得る。好ましくは０．５μｍ〜６０μｍであり、さらに好ましくは０．５μｍ〜５０μｍであり、最も好ましくは０．５μｍ〜４０μｍである。
【００５４】
Ｃ．樹脂層
上記樹脂層は、第１の基板と第２の基板との間において、反射防止フィルムを覆うようにして、配置される。このような樹脂層は、例えば、第１の基板上に反射防止フィルムを積層した後、反射防止フィルムを封止するようにして硬化性の樹脂層形成用組成物を塗工し、その後、当該樹脂層形成用組成物を硬化させて形成することができる。また、別の基材上に樹脂層形成用組成物を塗布した後、樹脂層形成用組成物を半硬化状態として前駆層を形成し、当該前駆層を、第１の基板上と反射防止フィルムとの積層体に転写し、その後、当該前駆層を硬化させて樹脂層を形成してもよい。
【００５５】
上記樹脂層形成用組成物は、硬化性化合物（モノマー、オリゴマー）を含む。硬化性化合物としては、例えば、アクリル系化合物、エポキシ系化合物、ウレタン系化合物等が挙げられる。
【００５６】
上記アクリル系化合物は、好ましくは、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、アミド基、複素環基、ラクトン環基および／またはイソシアネート環基を有する。このような官能基を有するアクリル系化合物を含む樹脂層形成用組成物を用いれば、第１の基板および第２の基板に対する接着性に優れる樹脂層を形成することができる。
【００５７】
上記アクリル系化合物の具体例として、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシ基を有するアクリル系化合物；アクリル酸、メタクリル酸等のカルボキシル基を有するアクリル系化合物；アクリロニトリル、メタクリルニトリル等のシアノ基を有するアクリル系化合物；ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジイソプロピルアミノエチル（メタ）アクリレート等のアミノ基を有するアクリル系化合物；アクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、イソプロピルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、ヒドロキシエチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン等のアミド基を有するアクリル系化合物；テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ペンタメチルピペリジニル（メタ）アクリレート、テトラメチルピペリジニル（メタ）アクリレート等の複素環を有するアクリル系化合物；γ-ブチロラクトン（メタ）アクリレートモノマー等のラクトン環を有するアクリル系化合物；２−イソシアナトエチル（メタ）アクリレートモノマー等のイソシアネート基を有するアクリル系化合物等が挙げられる。アクリル系化合物は、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。
【００５８】
上記樹脂層形成用組成物は、アクリル系化合物として、多官能アクリル系モノマー（すなわち、複数のアクリロキシ基を有するアクリル系モノマー）、多官能アクリル系モノマー由来のオリゴマーおよび／または多官能アクリル系モノマー由来のプレポリマーを含んでいてもよい。多官能アクリル系モノマーとしては、例えば、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジメチロールプロパントテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１,１０−デカンジオール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート等が挙げられる。多官能アクリル系モノマーは、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。
【００５９】
上記樹脂層形成用組成物中の多官能アクリル系モノマーの含有割合は、樹脂層形成用組成物中の硬化性化合物１００重量部に対して、好ましくは５重量部以下であり、より好ましくは１重量部以下である。１つの実施形態においては、多官能アクリル系モノマーを含まない樹脂層形成用組成物が用いられる。このような樹脂組成物を用いれば、硬化プロセスによる収縮が抑制でき、その結果、基板との密着性に優れた樹脂層を形成することができる。
【００６０】
上記エポキシ系化合物としては、例えば、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型及びこれらの水添加物等のビスフェノール型；フェノールノボラック型やクレゾールノボラック型等のノボラック型；トリグリシジルイソシアヌレート型やヒダントイン型等の含窒素環型；脂環式型；脂肪族型；ナフタレン型；グリシジルエーテル型やビフェニル型等の低吸水率型；ジシクロペンタジエン型等のジシクロ型；エステル型；エーテルエステル型；及びこれらの変性型等のエポキシ系化合物が挙げられる。ビスフェノール型エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル、ビスフェールＦのジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳのジグリシジルエーテル等が挙げられる。脂環式エポキシ化合物としては、例えば、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレート等が挙げられる。脂肪族型エポキシ化合物としては、例えば、１，４−ブタンジオールのジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテル等が挙げられる。
【００６１】
１つの実施形態においては、エポキシ系化合物とオキセタン系化合物とが併用される。オキセタン系化合物を添加することにより、樹脂層形成用組成物の粘度を低減させたり、硬化速度を高めたりすることができる。
【００６２】
上記樹脂層形成用組成物は、ウレタン系化合物として、ウレタン（メタ）アクリレートおよび／またはウレタン（メタ）アクリレートのオリゴマーを含んでいてもよい。上記ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、（メタ）アクリル酸または（メタ）アクリル酸エステルとポリオールとから得られるヒドロキシ（メタ）アクリレートを、ジイソシアネートと反応させることにより得ることができる。ウレタン（メタ）アクリレートおよびウレタン（メタ）アクリレートのオリゴマーは、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。
【００６３】
上記（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６４】
上記ポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステル、トリシクロデカンジメチロール、１，４−シクロヘキサンジオール、スピログリコール、トリシクロデカンジメチロール、水添ビスフェノールＡ、エチレンオキサイド付加ビスフェノールＡ、プロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グルコース類等が挙げられる。
【００６５】
上記ジイソシアネートとしては、例えば、芳香族、脂肪族または脂環族の各種のジイソシアネート類を使用することができる。上記ジイソシアネートの具体例としては、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、４，４−ジフェニルジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、３，３−ジメチル−４，４−ジフェニルジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート、およびこれらの水添物等が挙げられる。
【００６６】
上記樹脂層形成用組成物は、溶媒を含んでいてもよく、含んでいなくてもよい。溶媒としては、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、メタノール、エタノール、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。
【００６７】
上記樹脂層形成用組成物は、任意の適切な添加剤をさらに含み得る。添加剤としては、例えば、重合開始剤、架橋剤、レベリング剤、ブロッキング防止剤、分散安定剤、揺変剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、消泡剤、増粘剤、分散剤、界面活性剤、触媒、フィラー、滑剤、帯電防止剤等が挙げられる。
【００６８】
１つの実施形態においては、樹脂層形成用組成物はカップリング剤を含む。カップリング剤を含む樹脂層は、第１の基板、第２の基板および反射防止フィルムとの密着性に優れる点で好ましい。カップリング剤としては、エポキシ末端カップリング剤、アミノ基含有カップリング剤、メタクリル基含有カップリング剤、チオール基含有カップリング剤等が挙げられる。
【００６９】
樹脂層形成用組成物の塗布方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。例えば、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、スロットオリフィスコート法、カーテンコート法、ファウンテンコート法、コンマコート法が挙げられる。
【００７０】
樹脂層形成用組成物の硬化方法としては、任意の適切な硬化処理が採用され得る。代表的には、硬化処理は紫外線照射により行われる。紫外線照射の積算光量は、好ましくは５００ｍＪ／ｃｍ２〜５０００ｍＪ／ｃｍ２である。また、加熱により、樹脂層形成用組成物を硬化させてもよい。加熱硬化の際の加熱温度は、例えば、９０℃〜１５０℃である。
【００７１】
上記樹脂層の最薄部の厚み（すなわち、第２の基板と反射防止フィルムとの距離）は、好ましくは１μｍ〜３００μｍであり、より好ましくは１μｍ〜１００μｍであり、さらに好ましくは１μｍ〜３０μｍである。このような範囲であれば、位相差層の寸法変化を効果的に抑制することができる。
【００７２】
上記樹脂層の２５℃における貯蔵弾性率Ｅ’は、好ましくは１．０×１０６Ｐａ以上であり、より好ましくは１．０×１０７Ｐａ以上であり、さらに好ましくは１．０×１０８Ｐａ以上であり、特に好ましくは１．０×１０９Ｐａ〜１．０×１０１１Ｐａである。このような範囲であれば、位相差層の寸法変化を効果的に抑制することができる。貯蔵弾性率Ｅ’の測定方法は、後述する。
【００７３】
上記樹脂層のガラス転移温度（Ｔｇ）は、好ましくは１０℃〜２００℃であり、より好ましくは２０℃〜１５０℃であり、さらに好ましくは４０℃〜１３０℃である。
【００７４】
Ｄ．第１の基板、第２の基板
上記第１の基板は、任意の適切な材料により構成され得る。第１の基板を構成する材料としては、例えば、ガラス、樹脂フィルム等が挙げられる。１つの実施形態においては、第１の基板は、画像表示パネル（例えば、有機ＥＬパネル）の最外層を構成する基板であり得る。この場合、本発明の光学積層体を構成する反射防止フィルムは、画像表示パネルの視認側面上に配置される。
【００７５】
上記第２の基板は、任意の適切な材料により構成され得る。第２の基板を構成する材料としては、例えば、ガラス、樹脂フィルム等が挙げられる。
【００７６】
本発明の光学積層体は、第１の基板上に上記反射防止フィルムを積層し、その後、反射防止フィルムを挟むようにして、第１の基板と反射防止フィルムとから構成される積層体と第２の基板とを樹脂層を介して接着することにより形成され得る。樹脂層の形成方法は、上記Ｃ項で説明したとおりである。
【実施例】
【００７７】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。
【００７８】
［製造例１−１］位相差層を構成する位相差フィルムＡの作製
（ポリカーボネート樹脂フィルムの作製）
撹拌翼および１００℃に制御された還流冷却器を具備した縦型反応器２器からなるバッチ重合装置を用いて重合を行った。９，９−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＢＨＥＰＦ）、イソソルビド（ＩＳＢ）、ジエチレングリコール（ＤＥＧ）、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）、および酢酸マグネシウム４水和物を、モル比率でＢＨＥＰＦ／ＩＳＢ／ＤＥＧ／ＤＰＣ／酢酸マグネシウム＝０．３４８／０．４９０／０．１６２／１．００５／１．００×１０−５になるように仕込んだ。反応器内を十分に窒素置換した後（酸素濃度０．０００５〜０．００１ｖｏｌ％）、熱媒で加温を行い、内温が１００℃になった時点で撹拌を開始した。昇温開始４０分後に内温を２２０℃に到達させ、この温度を保持するように制御すると同時に減圧を開始し、２２０℃に到達してから９０分で１３．３ｋＰａにした。重合反応とともに副生するフェノール蒸気を１００℃の還流冷却器に導き、フェノール蒸気中に若干量含まれるモノマー成分を反応器に戻し、凝縮しないフェノール蒸気は４５℃の凝縮器に導いて回収した。
第１反応器に窒素を導入して一旦大気圧まで復圧させた後、第１反応器内のオリゴマー化された反応液を第２反応器に移した。次いで、第２反応器内の昇温および減圧を開始して、５０分で内温２４０℃、圧力０．２ｋＰａにした。その後、所定の攪拌動力となるまで重合を進行させた。所定動力に到達した時点で反応器に窒素を導入して復圧し、反応液をストランドの形態で抜出し、回転式カッターでペレット化を行い、ＢＨＥＰＦ／ＩＳＢ／ＤＥＧ＝３４．８／４９．０／１６．２［ｍｏｌ％］の共重合組成のポリカーボネート樹脂を得た。このポリカーボネート樹脂の還元粘度は０．４３０ｄＬ／ｇ、ガラス転移温度は１２８℃であった。
得られたポリカーボネート樹脂を８０℃で５時間真空乾燥をした後、単軸押出機（いすず化工機社製、スクリュー径２５ｍｍ、シリンダー設定温度：２２０℃）、Ｔダイ（幅９００ｍｍ、設定温度：２２０℃）、チルロール（設定温度：１２０〜１３０℃）および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み１４０μｍのポリカーボネート樹脂フィルムを作製した。
（位相差フィルムの作製）
上記未延伸変成ポリカーボネートフィルムを斜め延伸して、位相差フィルムＡ（厚み：５０μｍ、光弾性係数：３０×１０−１２Ｐａ、波長分散特性Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）：０．９１）を得た。その際、延伸方向はフィルムの長手方向に対して４５°とした。また、位相差フィルムＡがλ／４の位相差を発現するよう、延伸倍率は、２〜３倍に調整した。また、延伸温度は、１３３℃（すなわち、未延伸変性ポリカーボネートフィルムのＴｇ＋５℃）とした。
【００７９】
［製造例１−２］位相差層を構成する位相差フィルムＢの作製
（ポリカーボネート樹脂フィルムの作製）
ビス［９−（２−フェノキシカルボニルエチル）フルオレン−９−イル］メタン３８．０６重量部（０．０５９ｍｏｌ）と、イソソルビド（ロケットフルーレ社製、商品名「ＰＯＬＹＳＯＲＢ」）５３．７３重量部（０．３６８ｍｏｌ）と、１，４−シクロヘキサンジメタノール（シス、トランス混合物、ＳＫケミカル社製）９．６４重量部部（０．０６７ｍｏｌ）と、ジフェニルカーボネート（三菱化学社製）８１．２８重量部部（０．３７９ｍｏｌ）と、触媒としての酢酸カルシウム１水和物３．８３×１０−４重量部（２．１７×１０−６ｍｏｌ）とを反応容器に投入し、反応装置内を減圧窒素置換した。窒素雰囲気下、１５０℃で約１０分間、攪拌しながら原料を溶解させた。反応１段目の工程として２２０℃まで３０分かけて昇温し、６０分間常圧にて反応した。次いで圧力を常圧から１３．３ｋＰａまで９０分かけて減圧し、１３．３ｋＰａで３０分間保持し発生するフェノールを反応系外へ抜き出した。次いで反応２段目の工程として熱媒温度を１５分かけて２４０℃まで昇温しながら、圧力を０．１０ｋＰａ以下まで１５分かけて減圧し、発生するフェノールを反応系外へ抜き出した。所定の撹拌トルクに到達後、窒素で常圧まで復圧して反応を停止し、生成したポリエステルカーボネートを水中に押し出し、ストランドをカッティングしてポリカーボネート樹脂ペレットを得た。
（位相差フィルムの作製）
上記ポリカーボネート樹脂ペレットから構成されるフィルムを斜め延伸して、位相差フィルムＢ（厚み：５０μｍ、光弾性係数：１６×１０−１２Ｐａ、波長分散特性Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）：０．８３）を得た。その際、延伸方向はフィルムの長手方向に対して４５°とした。また、位相差フィルムＢがλ／４の位相差を発現するよう、延伸倍率は、２〜３倍に調整した。また、延伸温度は、１４８℃（すなわち、未延伸変性ポリカーボネートフィルムのＴｇ＋５℃）とした。
【００８０】
［製造例２］偏光子の作製
重合度２４００、ケン化度９９．９モル％、厚さ３０μｍのＰＶＡ系樹脂フィルムを、３０℃の温水中に浸漬し、膨潤させながらＰＶＡ系樹脂フィルムの長さが元長の２．０倍となるように一軸延伸を行った。次いで、ヨウ素とヨウ化カリウムの混合物（重量比０．５：８）の濃度が０．３重量％の水溶液（染色浴）に浸漬し、ＰＶＡ系樹脂フィルムの長さが元長の３．０倍となるように一軸延伸しながら染色した。その後、ホウ酸５重量％、ヨウ化カリウム３重量％の水溶液（架橋浴１）中に浸漬しながら、ＰＶＡ系樹脂フィルムの長さが元長の３．７倍となるように延伸した後、６０℃のホウ酸４重量％、ヨウ化カリウム５重量％の水溶液（架橋浴２）中で、ＰＶＡ系樹脂フィルムの長さが元長の６倍となるように延伸した。さらに、ヨウ化カリウム３重量％の水溶液（ヨウ素含浸浴）でヨウ素イオン含浸処理を行った後、６０℃のオーブンで４分間乾燥し、偏光子を得た。
【００８１】
［製造例３−１］位相差フィルムＡを用いた反射防止フィルムの作製
製造例２で作製した偏光子の一方の面に、ポリビニルアルコール系接着剤から構成される接着剤層を介して、製造例１−１で作製した位相差フィルムＡを積層し、また、当該偏光子の他方の面に、ポリビニルアルコール系接着剤から構成される接着剤層を介して、保護フィルムとしてのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（コニカミノルタ社製、商品名「ＫＣ２ＵＡ」、厚み：２５μｍ）を積層して、反射防止フィルムＡ−Ｉ（保護フィルム／接着剤層／偏光子／接着剤層／位相差層）を得た。なお、ポリビニルアルコール系接着剤としては、アセトアセチル基を含有するポリビニルアルコール系樹脂（平均重合度：１２００，ケン化度：９８．５モル％，アセトアセチル化度：５モル％）を３０℃の温度条件下で純水に溶解し、固形分濃度４％に調整して得た。
【００８２】
［製造例３−２］位相差フィルムＡを用いた反射防止フィルムの作製
製造例２で作製した偏光子の両面に、水系接着剤から構成される接着剤層を介して、保護フィルムとしてのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（コニカミノルタ社製、商品名「ＫＣ２ＵＡ」、厚み：２５μｍ）を積層して、偏光板を得た。この偏光板の片方の面に、アクリル系粘着剤から構成される粘着剤層を介して、製造例１−１で作製した位相差フィルムＡを積層し、反射防止フィルムＡ−ＩＩ（保護フィルム／接着剤層／偏光子／接着剤層／保護フィルム／粘着剤層／位相差層）を得た。
【００８３】
［製造例３−３］位相差フィルムＢを用いた反射防止フィルムの作製
製造例２で作製した偏光子の一方の面に、ポリビニルアルコール系接着剤から構成される接着剤層を介して、製造例１−２で作製した位相差フィルムＢを積層し、また、当該偏光子の他方の面に、ポリビニルアルコール系接着剤から構成される接着剤層を介して、保護フィルムとしてのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（コニカミノルタ社製、商品名「ＫＣ２ＵＡ」、厚み：２５μｍ）を積層して、反射防止フィルムＢ−Ｉ（保護フィルム／接着剤層／偏光子／接着剤層／位相差層）を得た。なお、ポリビニルアルコール系接着剤としては、アセトアセチル基を含有するポリビニルアルコール系樹脂（平均重合度：１２００，ケン化度：９８．５モル％，アセトアセチル化度：５モル％）を３０℃の温度条件下で純水に溶解し、固形分濃度４％に調整して得た。
【００８４】
［製造例３−４］位相差フィルムＢを用いた反射防止フィルムの作製
製造例２で作製した偏光子の両面に、水系接着剤から構成される接着剤層を介して、保護フィルムとしてのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（コニカミノルタ社製、商品名「ＫＣ２ＵＡ」、厚み：２５μｍ）を積層して、偏光板を得た。この偏光板の片方の面に、アクリル系粘着剤から構成される粘着剤層を介して、製造例１−２で作製した位相差フィルムＢを積層し、反射防止フィルムＢ−ＩＩ（保護フィルム／接着剤層／偏光子／接着剤層／保護フィルム／粘着剤層／位相差層）を得た。
【００８５】
［製造例４−１］樹脂層形成用組成物の調製
２−ヒドロキシエチルアクリルアミド（興人社製；以下、ＨＥＡＡともいう）１００重量部と、光開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名「イルガキュア８１９」）１重量部とを混合して、樹脂層形成用組成物１を調整した。
【００８６】
［製造例４−２］樹脂層形成用組成物の調製
ＨＥＡＡ１００重量部に代えて、ＨＥＡＡ７０重量部と４−ヒドロキシブチルアクリレート（大阪有機化学工業社製；以下、４−ＨＢＡともいう）３０重量部を用いたこと以外は、製造例４−１と同様にして樹脂層形成用組成物２を調製した。
【００８７】
［製造例４−３］樹脂層形成用組成物の調製
ＨＥＡＡ１００重量部に代えて、ＨＥＡＡ５０重量部と４−ＨＢＡ５０重量部を用いたこと以外は、製造例４−１と同様にして樹脂層形成用組成物３を調製した。
【００８８】
［製造例４−４］樹脂層形成用組成物の調製
ＨＥＡＡ１００重量部に代えて、ＨＥＡＡ３０重量部と４−ＨＢＡ７０重量部を用いたこと以外は、製造例４−１と同様にして樹脂層形成用組成物４を調製した。
【００８９】
［製造例４−５］樹脂層形成用組成物の調製
ＨＥＡＡ１００重量部に代えて、ＨＥＡＡ２２重量部と４−ＨＢＡ７８重量部を用いたこと以外は、製造例４−１と同様にして樹脂層形成用組成物５を調製した。
【００９０】
［製造例４−６］樹脂層形成用組成物の調製
ＨＥＡＡ１００重量部に代えて、ＨＥＡＡ１５重量部と４−ＨＢＡ８５重量部を用いたこと以外は、製造例４−１と同様にして樹脂層形成用組成物６を調製した。
【００９１】
［製造例４−７］樹脂層形成用組成物の調製
ＨＥＡＡ１００重量部に代えて、４−ＨＢＡ１００重量部を用いたこと以外は、製造例４−１と同様にして樹脂層形成用組成物７を調製した。
【００９２】
［製造例４−８］樹脂層形成用組成物の調製
ＨＥＡＡ１００重量部に代えて、４−アクリロイルモルホリン（興人社製；以下、ＡＣＭＯともいう）７０重量部とテトラヒドロフルフリルアクリレート（大阪有機化学工業社製、商品名「ビスコート＃１５０」；以下、ＴＨＦＡともいう）３０重量部とを用いたこと以外は、製造例４−１と同様にして樹脂組成物８を調整した。
【００９３】
［製造例４−９］樹脂層形成用組成物の調製
ＨＥＡＡ１００重量部に代えて、ＡＣＭＯ４５重量部とＴＨＦＡ５５重量部とを用いたこと以外は、製造例４−１と同様にして樹脂組成物９を調整した。
【００９４】
［製造例４−１０］樹脂層形成用組成物の調製
ＨＥＡＡ１００重量部に代えて、ＡＣＭＯ２５重量部とＴＨＦＡ７５重量部とを用いたこと以外は、製造例４−１と同様にして樹脂組成物１０を調整した。
【００９５】
［製造例５−１］樹脂層形成用組成物の調製
エポキシ化合物（共栄社化学社製、商品名「エポライト８０ＭＦ」）９０重量部と、オキセタン化合物（東亜合成社製、商品名「ＯＸＴ２２１」）１０重量部と、光開始剤（サンアプロ社製、商品名「ＣＰＩ−１００Ｐ」）３重量部と、増感剤（川崎化成工業社製、商品名「ＵＶＳ−１３３１」）０．５重量部とを混合して、樹脂層形成用組成物１１を調整した。
【００９６】
［製造例５−２］樹脂層形成用組成物の調製
エポキシ化合物（共栄社化学社製、商品名「エポライト８０ＭＦ」）９０重量部に代えて、エポキシ化合物（共栄社化学社製、商品名「エポライト１００ＭＦ」）９０重量部を用いたこと以外は、製造例５−１と同様にして、樹脂層形成用組成物１２を調整した。
【００９７】
［製造例５−３］樹脂層形成用組成物の調製
エポキシ化合物（共栄社化学社製、商品名「エポライト８０ＭＦ」）９０重量部に代えて、エポキシ化合物（共栄社化学社製、商品名「エポライト４０Ｅ」）９０重量部を用いたこと以外は、製造例５−１と同様にして、樹脂層形成用組成物１３を調整した。
【００９８】
［実施例１−１］
第１の基板としてアクリルガラス（松浪硝子工業社製）用い、該第１の基板上に、アクリル系粘着剤から構成される粘着剤層を介して、製造例３−１で作製した反射防止フィルムＡ−Ｉを積層した。このとき、反射防止フィルムＡ−Ｉの位相差層が、第１の基板側となるようにした。
次いで、反射防止フィルムＡ−Ｉを覆うようにして、製造例４−１で調整した樹脂層形成用組成物１を塗工し、さらに、樹脂層形成用組成物１の塗工層上に第２の基板（松浪硝子工業社製のアクリルガラス）を積層した。その後、形成された積層体に、ＵＶ照射器を用いて、紫外線（照射量：５Ｊ／ｃｍ２）を照射して樹脂層形成用組成物を硬化させ、図１に示す構成の光学積層体を得た。
【００９９】
［実施例１−２〜１−１１、比較例１−１〜１−２］
樹脂層形成用組成物１に代えて、表１に示す樹脂層形成用組成物を用いたこと以外は、実施例１−１と同様にして光学積層体を得た。
【０１００】
［比較例１−３〜１−１５］
樹脂層形成用組成物１に代えて表１に示す樹脂層形成用組成物を用い、製造例３−１で作製した反射防止フィルムＡ−Ｉに代えて製造例３−２で作製した反射防止フィルムＡ−ＩＩを用いたこと以外は、実施例１−１と同様にして光学積層体を得た。
【０１０１】
［比較例１−１６］
樹脂層形成用組成物１を用いず、スペーサーを用いて、反射防止フィルムと第２の基板との間に空隙が存在する状態で、該反射防止フィルムと第２の基板とを積層したこと以外は、実施例１−１と同様にして光学積層体を得た。
【０１０２】
［実施例２−１］
製造例３−１で作製した反射防止フィルムＡ−Ｉに代えて、製造例３−３で作製した反射防止フィルムＢ−Ｉを用いたこと以外は、実施例１−１と同様にして、光学積層体を得た。
【０１０３】
［実施例２−２〜２−１１、比較例２−１〜２−２］
樹脂層形成用組成物１に代えて、表２に示す樹脂層形成用組成物を用いたこと以外は、実施例２−１と同様にして光学積層体を得た。
【０１０４】
［比較例２−３〜２−１５］
樹脂層形成用組成物１に代えて表２に示す樹脂層形成用組成物を用い、製造例３−３で作製した反射防止フィルムＢ−Ｉに代えて製造例３−４で作製した反射防止フィルムＢ−ＩＩを用いたこと以外は、実施例２−１と同様にして光学積層体を得た。
【０１０５】
［比較例２−１６］
樹脂層形成用組成物１を用いず、スペーサーを用いて、反射防止フィルムと第２の基板との間に空隙が存在する状態で、該反射防止フィルムと第２の基板とを積層したこと以外は、実施例２−１と同様にして光学積層体を得た。
【０１０６】
＜評価＞
実施例および比較例で得られた光学積層体を以下の評価に供した。結果を表１および表２に示す。
【０１０７】
（１）貯蔵弾性率Ｅ’
幅５ｍｍ×長さ３０ｍｍの位相差層（位相差フィルム）サンプルを準備し、ＴＡインスツルメンツ製社製の「ＤＭＡ  ＲＳＡ−ＩＩＩ」を用いて、−４０℃〜１２０℃における貯蔵弾性率Ｅ’を測定した。測定条件は、引っ張りモード、昇温速度１０℃／ｍｉｎ、周波数１Ｈｚ、初期歪０．１％とした。
【０１０８】
（２）樹脂層のガラス転移温度（Ｔｇ）
幅５ｍｍ×長さ３０ｍｍの樹脂層サンプルを準備し、ＴＡインスツルメンツ製社製の「ＤＭＡ  ＲＳＡ−ＩＩＩ」を用いて、−４０℃〜１２０℃における貯蔵弾性率Ｅ’および損失弾性率Ｅ’’を測定し、ｔａｎδ＝Ｅ’’／Ｅ’のピークからガラス転移温度Ｔｇを求めた。測定条件は、引っ張りモード、昇温速度１０℃／ｍｉｎ、周波数１Ｈｚ、初期歪０．１％とした。
【０１０９】
（３）加熱試験後の外観
得られた光学積層体を、８５℃のオーブンに２４０ｈ投入し、外観の変化を目視にて確認した。試験サンプルから測定者の目までの距離を、５ｃｍ、３０ｃｍおよび６０ｃｍに設定し、以下の基準で評価した。
◎◎：試験サンプルから測定者の目までの距離が５ｃｍのとき、色ムラが確認されない。
◎  ：試験サンプルから測定者の目までの距離が３０ｃｍのとき、色ムラが確認されない。
○  ：試験サンプルから測定者の目までの距離が３０ｃｍのとき、わずかに色ムラが確認される。
×  ：試験サンプルから測定者の目までの距離が６０ｃｍのとき、色ムラが確認される。
××：試験サンプルから測定者の目までの距離が６０ｃｍのとき、色ムラが顕著に確認される。
【０１１０】
（４）加熱試験後の位相差ムラ
得られた光学積層体を、８５℃のオーブンに２４０ｈ投入した。加熱後、光学積層体の面内端部および面内中央部の位相差を、王子計測社製の「ＫＯＢＲＡ−ＰＲ」を用いて測定し、（端部の位相差）−（中央部の位相差）から位相差ムラを評価した。
【０１１１】
（５）加熱試験後の寸法変化
得られた光学積層体を、８５℃のオーブンに２４０ｈ投入した。ミツトヨ社製の二軸測長機を用いて、加熱前後の反射防止フィルムの寸法を測定し、加熱による寸法変化（偏光子延伸方向の寸法変化）を評価した。
【０１１２】
【表１】
2017049574.tif 000005
【０１１３】
【表２】
2017049574.tif 000006
【産業上の利用可能性】
【０１１４】
本発明の光学積層体は、液晶表示装置および有機ＥＬ表示装置のような画像表示装置に好適に用いられる。
【符号の説明】
【０１１５】
１０      第１の基板
２０      反射防止フィルム
２１      偏光子
２２      位相差層
３０      樹脂層
４０      第２の基板
１００      光学積層体
【図１】
2017049574.tif 000007