(57)【要約】【課題】コアパターンに設けられた傾斜面からのブリードアウト成分による反射不良等を長期間抑制すると共に伝搬損失の増加を抑制した光特性に優れたミラー付き光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】下部クラッド層、アルカリ溶液可溶性樹脂の硬化物からなるコアパターンを備え、前記コアパターンに光路変換ミラーとなる傾斜面を有する、光導波路の製造方法であって、前記下部クラッド層と前記傾斜面を有するコアパターンの上面及び側面とを覆いかつ前記傾斜面が露出するように保護層を設ける工程の後に、前記傾斜面に２価以上の金属イオンを含浸させる工程を有する、ミラー付き光導波路の製造方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部クラッド層、アルカリ溶液可溶性樹脂の硬化物からなるコアパターンを備え、前記コアパターンに光路変換ミラーとなる傾斜面を有する、光導波路の製造方法であって、
前記下部クラッド層と前記傾斜面を有するコアパターンの上面及び側面とを覆いかつ前記傾斜面が露出するように保護層を設ける工程の後に、前記傾斜面に２価以上の金属イオンを含浸させる工程を有する、ミラー付き光導波路の製造方法。
【請求項２】
前記下部クラッド層と前記傾斜面を有するコアパターンの上面及び側面とを覆いかつ前記傾斜面が露出するように保護層を設ける工程では、前記傾斜面を有するコアパターンの上面、側面、及び下部クラッド層の少なくとも一部が露出されるように保護層が設けられ、
前記傾斜面に２価以上の金属イオンを含浸させる工程では、前記露出したコアパターンの上面、側面、及び下部クラッド層に２価以上の金属イオンを含浸させる、請求項１に記載のミラー付き光導波路の製造方法。
【請求項３】
前記傾斜面に２価以上の金属イオンを含浸させる工程では、２価以上の金属イオンを含む溶液に前記傾斜面を暴露する、請求項１又は請求項２に記載のミラー付き光導波路の製造方法。
【請求項４】
前記２価以上の金属イオンが、Ｍｇ２+、Ｃａ２+の少なくともいずれかである、請求項１〜３のいずれか一項に記載のミラー付き光導波路の製造方法。
【請求項５】
前記コアパターンがアルカリ現像液によってパターン化されてなる、請求項１〜４のいずれか一項に記載のミラー付き光導波路の製造方法。
【請求項６】
前記アルカリ現像液が、１価の陽イオンを含むアルカリ現像液である、請求項５に記載のミラー付き光導波路の製造方法。
【請求項７】
前記１価の陽イオンがＫ+、Ｎａ+の少なくともいずれかである、請求項６に記載のミラー付き光導波路の製造方法。
【請求項８】
前記保護層が、上部クラッド層である、請求項１〜７のいずれか一項に記載のミラー付き光導波路の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はミラー付き光導波路の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
情報容量の増大に伴い、幹線やアクセス系といった通信分野のみならず、ルータやサーバ内の情報処理にも光信号を用いる光インターコネクション技術の開発が進められている。特に、ルータやサーバ装置内のボード間あるいはボード内の短距離信号伝送に光を用いるための光伝送路としては、光ファイバに比べ、配線の自由度が高く、かつ高密度化が可能な光導波路を用いることが望ましく、中でも、加工性や経済性に優れたポリマー材料を用いた光導波路が有望である。
【０００３】
光導波路を簡便かつ高精度に形成する方法の１つとして、露光・現像によりパターンを形成する方法が知られている。ここで、露光プロセスは光照射部の感光性樹脂を３次元架橋させて不溶化する工程であり、現像プロセスは未露光部、すなわち未反応部分の感光性樹脂を現像液に溶解させ除去する工程である。
【０００４】
現像液として、アルカリ性現像液を用いて現像する方法が提案されている（例えば、特許文献１及び２参照）。アルカリ現像プロセスが適用可能な光導波路形成用材料は、アルカリ性現像液に可溶とするために、カルボキシル基、フェノール性ヒドロキシル基等の酸性を示す官能基が導入されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平６−２５８５３７号公報
【特許文献２】特開２００３−１９５０７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
アルカリ溶液可溶性樹脂の硬化物からなるコアパターンは、アルカリ溶液によるパターン化が可能であり作業性・安全性確保が容易である。
【０００７】
一方、アルカリ溶液可溶性樹脂の硬化物からなるコアパターンは、露光により不溶化したコアパターンにおいても、酸性官能基がアルカリ性現像液によって中和されて、塩を形成し、化学的に不安定になる傾向があるとともに親水性が高い傾向がある。また、現像しないでコアパターンを形成したとしても、極性の高い官能基であるため、やはり親水性が高い傾向がある。
【０００８】
このような光導波路に光路変換ミラーが設けられたミラー付き光導波路を高温、高湿条件下に晒すと、傾斜面の微視的な変形やコアパターンの構成成分の一部が、傾斜面から染み出し（ブリードアウト）易く、特に傾斜面からなる光路変換ミラーにブリードアウト成分が発生すると傾斜面上に凹凸として残存するため反射不良が発生して特性が悪化する問題があった。
【０００９】
これを抑制する１つの方法として、傾斜面に２価以上の金属イオンを含浸させることによってブリードアウトの発生を抑制可能であることを見出したが、２価以上の金属イオンがコアパターン中に余分に浸透すると伝搬損失が低下する別の問題が発生することを見出した。
【００１０】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、コアパターンに設けられた傾斜面からのブリードアウト成分による反射不良等を長期間抑制すると共に、伝搬損失の増加を抑制した光特性に優れたミラー付き光導波路の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、コアパターンに設けられた傾斜面に２価以上の金属イオンを含浸させることによって、傾斜面からのブリードアウト成分による反射不良等を抑制し、さらにコアパターンを保護層で覆うことによって余分な２価以上の金属イオンの浸入による伝搬損失の増加を抑制できることを見出し本発明に至った。
すなわち、本発明は、以下のものに関する。
（１）  下部クラッド層、アルカリ溶液可溶性樹脂の硬化物からなるコアパターンを備え、前記コアパターンに光路変換ミラーとなる傾斜面を有する、光導波路の製造方法であって、前記下部クラッド層と前記傾斜面を有するコアパターンの上面及び側面とを覆いかつ前記傾斜面が露出するように保護層を設ける工程の後に、前記傾斜面に２価以上の金属イオンを含浸させる工程を有する、ミラー付き光導波路の製造方法。
（２）  前記下部クラッド層と前記傾斜面を有するコアパターンの上面及び側面とを覆いかつ前記傾斜面が露出するように保護層を設ける工程では、前記傾斜面を有するコアパターンの上面、側面、及び下部クラッド層の少なくとも一部が露出されるように保護層が設けられ、前記傾斜面に２価以上の金属イオンを含浸させる工程では、前記露出したコアパターンの上面、側面、及び下部クラッド層に２価以上の金属イオンを含浸させる、（１）に記載のミラー付き光導波路の製造方法。
（３）  前記傾斜面に２価以上の金属イオンを含浸させる工程では、２価以上の金属イオンを含む溶液に前記傾斜面を暴露する、（１）又は（２）に記載のミラー付き光導波路の製造方法。
（４）  前記２価以上の金属イオンが、Ｍｇ２＋、Ｃａ２+の少なくともいずれかである、（１）〜（３）のいずれか一項に記載のミラー付き光導波路の製造方法。
（５）  前記コアパターンがアルカリ現像液によってパターン化されてなる、（１）〜（４）のいずれか一項に記載のミラー付き光導波路の製造方法。
（６）  前記アルカリ現像液が、１価の陽イオンを含むアルカリ現像液である、（５）に記載のミラー付き光導波路の製造方法。
（７）  前記１価の陽イオンがＫ＋、Ｎａ＋の少なくともいずれかである、（６）に記載のミラー付き光導波路の製造方法。
（８）  前記保護層が、上部クラッド層である、（１）〜（７）のいずれか一項に記載のミラー付き光導波路の製造方法。
【発明の効果】
【００１２】
本発明のミラー付き光導波路の製造方法によって得られるミラー付き光導波路は、光導波路の伝搬損失の増加を抑制し、環境信頼性試験による光損失悪化を低減させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明のミラー付き光導波路の製造方法の一実施形態で得られるミラー付き光導波路を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
図１に、本発明のミラー付き光導波路の製造方法の一実施形態で得られるミラー付き光導波路を示す。本発明のミラー付き光導波路の製造方法の一実施形態が適用される光導波路は、下部クラッド層１と、その上に形成されたアルカリ溶液可溶性樹脂の硬化物からなるコアパターン２とを備え、該コアパターン２に光路変換ミラー４０となる傾斜面４を具備するものである。つまり、光路変換ミラー４０は傾斜面４からなるものである。また、後述するようにさらに保護層となる上部クラッド層３を具備する。
【００１５】
本実施の形態のミラー付き光導波路の製造方法は、下部クラッド層１と傾斜面４を有するコアパターン２の上面及び側面とを覆いかつ傾斜面４が露出するように保護層３を設ける工程の後に、傾斜面４に２価以上の金属イオンを含浸させる工程を有する。
傾斜面４に対して２価以上の金属イオンを含浸させることによって、高温高湿加速試験等の環境信頼性試験を行う際に、傾斜面４から発生するブリードアウトを効果的に抑制できる。また、保護層３でコアパターン２の上面及び側面を覆うことによって、２価以上の金属イオンが傾斜面４付近以外に含浸することを阻止し、２価以上の金属イオンがコアパターン２に与える光学的な影響を抑制し、初期特性（環境信頼性試験前の光特性）も良好に保つことができる。なお、コアパターン２の下面は下部クラッド層１によって保護されている。
【００１６】
２価以上の金属イオンは、アルカリ溶液可溶性樹脂の硬化物からなるコアパターン２中のアルカリ可溶性官能基との配位や、アルカリ金属イオンとの置換によって、傾斜面４の表層付近の架橋様式を変化させ、ブリードアウトを抑制するものと考えられる。しかし、架橋様式の変化や、２価以上の金属イオンのコアパターン２への浸入は、屈折率変化や透過率変化を及ぼす可能性がある。このため、光伝搬に寄与する大部分のコアパターン２の表面を保護層３で覆い、選択的に傾斜面４に２価以上の金属イオンを含浸させることによって、初期特性と、環境信頼性試験に対する耐性を両立させることが可能となる。
【００１７】
下部クラッド層１と傾斜面４を有するコアパターン２の上面及び側面とを覆いかつ傾斜面４が露出するように保護層３を設ける工程では、傾斜面４を有するコアパターン２の上面、側面、及び下部クラッド層１の少なくとも一部が露出されるように保護層３が設けられると良い。つまり、保護層３は、傾斜面４のみが露出するように設置するだけではなく、傾斜面４と接続するコアパターン２の上面２０１、側面２０２、及び下部クラッド層１の少なくとも一部１０１、１０２が露出されるように設けると良い。換言すると傾斜面４（光路変換ミラー４０）と接続する面も露出するように保護層３が設けられる。
さらに、傾斜面４に２価以上の金属イオンを含浸させる工程では、露出したコアパターン２の上面、側面、及び下部クラッド層１に２価以上の金属イオンを含浸させるのが好ましい。つまり、保護層３を設けた後の傾斜面４に２価以上の金属イオンを含浸させる工程において、露出したコアパターン２の上面２０１、側面２０２、及び下部クラッド層１（１０１、１０２）に２価以上の金属イオンを含浸させると良い。
これにより、コアパターン２の上面２０１、側面２０２及び下部クラッド層１（１０１、１０２）からのブリードアウトやコアパターン２の上面２０１、側面２０２、及び下部クラッド層１と傾斜面４との接続部からのブリードアウトが、傾斜面４上にかかるように発生することを抑制できる。
なお、下部クラッド層１がアルカリ溶液可溶性樹脂やその硬化物である場合、さらには、下部クラッド層１をアルカリ溶液によってパターン化される場合には、下部クラッド層１からのブリードアウトも抑制する観点から傾斜面４近傍の下部クラッド層１に対して２価以上の金属イオンを含浸させることがより有用となる。
【００１８】
本実施の形態において、傾斜面４に２価以上の金属イオンを含浸させる工程では、２価以上の金属イオンを含む溶液に傾斜面４を暴露するのが良い。溶液を用いることによって、傾斜面４に対しても効率的に２価以上の金属イオンを含浸できる。また、傾斜面４と接続するコアパターン２の上面、側面及び下部クラッド層１に対して２価以上の金属イオンを含浸させる場合のように入り組んだ形状であっても確実に含浸させることができる。
【００１９】
本実施の形態のコアパターン２は、アルカリ現像液によってパターン化されてなるものである。つまり、アルカリ溶液可溶性樹脂の硬化物からなるコアパターン２である。
【００２０】
アルカリ現像液が、特に１価の陽イオンを含むアルカリ現像液であると、溶媒への溶解性やｐＨの制御が容易であるため好ましい。上記の観点から、１価の陽イオンとしては、Ｎａ＋、Ｋ＋、が好適なものとして挙げられる。
【００２１】
本実施の形態で用いられる保護層３が、上部クラッド層３であってもよい。つまり、保護層３は、上部クラッド層３として２価以上の金属イオンを傾斜面４に含浸させた後の工程まで残存させていてもよい。
【００２２】
以上のように本発明の光導波路の製造方法の一実施形態によって得られたミラー付き光導波路は、各種の環境信頼性試験による光損失悪化が抑制される。環境信頼性試験としては、適宜使用環境に合わせて選択されるが、温度８５℃、湿度８５％ＲＨ（相対湿度）や温度６０℃、湿度９５％ＲＨの高温高湿試験、飽和水蒸気圧下の信頼性、６０〜１５０℃の高温放置試験、温度サイクル試験等に効果がある。
【００２３】
以下、本実施の形態に用いられる各部材について詳細に説明する。
［保護層］
本実施の形態に用いられる保護層３は、２価以上の金属イオンが光特性に悪影響の出ない程度に、コアパターン２を覆える部材であれば良い。コアパターン２の上面や側面を覆うことが可能である観点からコアパターン２を埋設させ得る樹脂であるのが良い。後述するように、コアパターン２上から溶剤を含んだ樹脂を塗布し乾燥させたものや、ドライフィルム状の樹脂フィルムが好適に挙げられる。２価以上の金属イオンを含浸させた後に、保護層３を除去する場合には、剥離性を有する樹脂であるのが良い、剥離方法としては物理的に剥離する方法や、剥離液等を用いて化学的に剥離する方法が挙げられる。保護層３を上部クラッド層３として用い、剥離しない場合にはコアパターン２を埋設可能な樹脂であればよい。
傾斜面４又は傾斜面４付近に保護層３を設けない形状にする観点から、上記の樹脂は感光性樹脂であるとさらに良い。これにより傾斜面４を含むコアパターン２上面及び側面に保護層形成用感光性樹脂を積層した後にフォトリソグラフィー加工によって傾斜面４又は傾斜面４付近の保護層形成用樹脂を除去できる。
【００２４】
保護層３の厚みは２価以上の金属イオンが光信号の伝搬に支障のない範囲であれば特に限定はないが、コアパターン２の上面から５〜１００μｍであると良く、厚み制御の観点から１０〜７５μｍであるとより良く、保護層３を上部クラッド層３として用いる場合には、低背化の観点から１０〜５０μｍであるとさらに良い。
【００２５】
保護層３が設けられていない露出部５は、露出部５にコアパターン２の傾斜面４が内包されていればよい。さらに傾斜面４と接続するコアパターン２の上面２０１、側面２０２、下部クラッド層１の面の一部（１０１、１０２）が露出部５に内包されるように形成されるとより良い。コアパターン２の上面２０１を露出させる場合、該上面２０１にも２価以上の金属イオンが含浸される。この場合、コアパターン２を伝搬する光に影響を与える。伝搬する光への影響を低減する観点から、コアパターン２光軸方向のコアパターン２上面２０１の幅は、０以上（露出部５にコアパターン２上面が露出してない）、１０００μｍ以下であると良く、５〜５００μｍであるとより良く、１０〜２５０μｍであるとさらに良い。コアパターン２の側面２０２に関しても同様である。
【００２６】
［コアパターン］
本実施例のコアパターン２はアルカリ溶液可溶性樹脂の硬化物からなり、硬化後の屈折率が下部クラッド層１や保護層（上部クラッド層）３の屈折率よりも高屈折率になるように調整される。伝搬する光に支障のない範囲で透明性を有しているのが良い。
コアパターン２は、後述するようにアルカリ現像によってパターン化されるのが良く、感光性樹脂からなるコアパターン形成用樹脂から形成されるのがより良い。
コアパターン２の形状は特に限定はなく、下部クラッド層１法線方向から見た場合、直線や曲線、分岐、それらの複合形状であればよい。また断面形状はフォトリソグラフィー加工によって形成される場合に一般的な形状である矩形であるのが良い。
コアパターン２の厚さは、コアパターン２に入射する光源やコアパターン２から出力される光を受光する受光素子の大きさによって適宜選択できるが、８〜１００μｍであると良く、２０〜７５μｍであるとより良く、２５〜５０μｍであるとさらに良い。
【００２７】
［光路変換ミラー］
本実施例の光路変換ミラー４０は、コアパターン２に直接形成された傾斜面４からなり、該傾斜面４に２価の金属イオンが含浸される。傾斜面４と下部クラッド層１のなす角は、光路変換させたい角度によって適宜選択できるが、２０°〜７０°又は１１０°〜１６０°であると良く、３５°〜５５°又は１２５°〜１４５°であるとより良く、４０°〜５０°又は１３０°〜１４０°であるとさらに好ましい。
光路変換ミラー４０の形成方法は特に限定はないが、コアパターン２を形成した後に、レーザーアブレーションやダイシングブレードを用いた切削加工によって形成できる。このとき、下部クラッド層１の表面以下まで連通する傾斜面４としてもよい。連通させることによってコアパターン２に確実に所望する角度の傾斜面４が形成できる。
【００２８】
［下部クラッド層］
本実施例の下部クラッド層１は、コアパターン２が形成される土台となる部分であって、コアパターン２の下面を保護する部位でもある。コアパターン２の屈折率より低屈折率に調整され、コアパターン２を伝搬する光に支障のない範囲で透明性を有していると良い。
コアパターン２の保護、及び光の伝搬に悪影響を生じさせない観点から、下部クラッド層１は、５〜２００μｍの厚みであると良く、厚みの制御の観点から１０〜１００μｍであるとより良く、低背化の観点から１０〜５０μｍであるとさらに良い。
【００２９】
［保護層（上部クラッド層）］
本実施の態様の保護層（上部クラッド層）３は、コアパターン２の上面及び側面を覆う部分であって、コアパターン２の上面及び側面を保護する部位である。コアパターン２の屈折率より低屈折率に調整され、コアパターン２を伝搬する光に支障のない範囲で透明性を有していると良い。
【００３０】
［２価以上の金属イオン］
本実施の態様に用いられる２価以上の金属イオンの種類は特に限定はなく、マグネシウムイオン、カルシウムイオン、亜鉛イオン、マンガン（ＩＩ）イオン、コバルト（ＩＩ）イオン、鉄（ＩＩ）イオン、銅（ＩＩ）イオン、鉄（ＩＩＩ）イオン、アルミニウムイオン等が挙げられる。
特に溶液とすることが容易であって傾斜面４に含浸させることが容易である観点、光損失への影響が比較的少ないという観点から、２価の金属イオンであることが好ましく、マグネシウムイオン（Ｍｇ２＋）、カルシウムイオン（Ｃａ２＋）がより好ましい。
これらの金属イオンは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００３１】
２価以上の金属イオンを含む溶液の調製方法としては、特に制限はないが、硫酸マグネシウム、硫酸カルシウム、硫酸亜鉛、硫酸マンガン、硫酸コバルト、硫酸鉄、硫酸銅、硫酸アルミニウム等の金属硫酸塩；塩化マグネシウム、塩化カルシウム、塩化亜鉛、塩化マンガン、塩化コバルト、塩化鉄、塩化銅、塩化アルミニウム等の金属塩化物塩；炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸亜鉛、炭酸マンガン、炭酸コバルト、炭酸鉄、炭酸銅、炭酸アルミニウム等の金属炭酸塩；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化亜鉛、水酸化マンガン、水酸化コバルト、水酸化鉄、水酸化銅、水酸化アルミニウム等の金属水酸化物などを溶媒に溶解させる方法等が挙げられる。
【００３２】
また、アルカリ性現像液として、２価以上の金属イオンを元来含む水を用いてもよい。このような水としては、特に制限はないが、例えば、水道水、井戸水などが挙げられる。
【００３３】
溶液に含まれる２価以上の金属イオンの量は、１〜５００００質量ｐｐｍであることが好ましい。１質量ｐｐｍ以上であれば、下部クラッド層１の少なくとも表層付近に残存した不安定な１価の塩を、安定な２価以上の塩に効果的に変換することができ、５００００質量ｐｐｍ（５質量％）以下であれば、表層付近に過剰な２価以上の金属イオンが残留することがない。以上の観点から、１０〜１００００質量ｐｐｍであることがより好ましく、３０〜５０００質量ｐｐｍであることがさらに好ましい。
【００３４】
２価以上の金属イオンを含む溶液を傾斜面４に暴露する方法としては、特に制限はないが、上述したように調整した溶液を、スプレー法、ディップ法、パドル法、スピン法、ブラッシング法、スクラッピング法等で傾斜面４に暴露する方法が挙げられる。また必要に応じてこれらの方法を併用してもよい。傾斜面４及びその付近のみに暴露してもよいが、保護層３を有しているため、保護層３上にも暴露するようにすると作業性がよく好ましい。コアパターン２は、保護層３により、２価以上の金属イオンの光損失への影響が低減される。
【００３５】
［コアパターンの形成］
本実施例においてコアパターン２を現像するためのアルカリ現像液は、特に限定はなく、塩基性の有機溶媒や水溶液、それらの混合溶液が用いられる。アルカリ現像液であるアルカリ性水溶液の塩基としては、特に制限はないが、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩（アルカリ金属炭酸水素塩）；リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等のアルカリ金属リン酸塩；ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等のアルカリ金属ピロリン酸塩；四ホウ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム等のナトリウム塩；炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム等のアンモニウム塩；水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール、１，３−ジアミノプロパノール−２−モルホリン等の有機塩基などが挙げられる。
【００３６】
コアパターン２を現像する方法としては、特に制限はないが、スプレー法、ディップ法、パドル法、スピン法、ブラッシング法、スクラッピング法等が挙げられる。また必要に応じてこれらの方法を併用してもよい。
【００３７】
これらアルカリ性水溶液の塩基は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
また、現像に用いるアルカリ性水溶液のｐＨは、９〜１４であることが好ましく、１０〜１３であることがより好ましい。現像に用いるアルカリ性水溶液の温度は、コアパターン２形成用感光性樹脂層の現像性に合わせて調節される。また、アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消泡剤等を混入させてもよい。
【００３８】
また、アルカリ性現像液は、アルカリ性水溶液と１種類以上の有機溶剤からなるアルカリ性準水系現像液であっても問題はない。アルカリ性準水系現像液のｐＨは、現像が十分にできる範囲でできるだけ小さくすることが好ましく、ｐＨ８〜１３であることが好ましく、ｐＨ９〜１２であることがより好ましい。
【００３９】
前記有機溶剤として、特に制限はないが、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール等のアルコール；アセトン、メチルエチルケトン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等のケトン；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等の多価アルコールアルキルエーテル等が挙げられる。
【００４０】
これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。また、有機溶剤の濃度は、通常、２〜９０質量％であることが好ましく、アルカリ性準水系現像液の温度はコアパターン形成用感光性樹脂層の現像性に合わせて調節される。
また、アルカリ性準水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤等を少量混入させてもよい。
【００４１】
本実施例で用いられる保護層３は、２価以上の金属イオンを含浸させた後に除去しても良いが、上部クラッド層３として残存させてもよい。上部クラッド層３として用いる場合には、少なくとも傾斜面４を含む領域に上部クラッド層３が残存しないように、コアパターン２の上面及び側面を覆うと良い。上部クラッド層形成用樹脂を積層後に、フォトリソグラフィー加工によって少なくとも傾斜面４を含む領域を除去し、その後、２価以上の金属イオンを傾斜面４に含浸させることによってできる。この場合、上部クラッド層形成用樹脂はコアパターン形成用樹脂と同様に感光性を有すると良い。
上部クラッド層３の除去方法としては、特に限定はないが、コアパターン２の形成と同様に、現像によって形成できる。
【００４２】
下部クラッド層１、コアパターン層、保護層３、上部クラッド層３（以下、各層と略記）を形成する方法として、特に制限はないが、各層形成用感光性樹脂組成物を用いてスピンコート法、ディップコート法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、カーテンコート法、グラビアコート法、スクリーンコート法、インクジェットコート法等により塗布する方法が挙げられる。
【００４３】
各層形成用感光性樹脂組成物が、好適な有機溶剤で希釈された各層形成用感光性樹脂ワニスである場合は、必要に応じて樹脂層を形成後に、乾燥する工程を入れてもよい。乾燥方法としては、例えば、加熱乾燥、減圧乾燥等が挙げられる。また必要に応じてこれらを併用してもよい。
【００４４】
各層を形成するその他の方法として、各層形成用感光性樹脂組成物からなる各層形成用感光性樹脂フィルムを用いて積層法により形成する方法が挙げられる。なお、各層形成用感光性樹脂フィルムは後に詳述するように、通常、支持フィルムの上に各層形成用感光性樹脂組成物を塗布し、その上に保護フィルムを積層する３層構成のものが好適に用いられる。
生産性に優れた光導波路製造プロセスが提供可能という観点、各層形成用感光性樹脂フィルムの表面平滑性を一定に保ちやすいという観点から、上述のような各層形成用感光性樹脂フィルムを用いて積層法により製造する方法が好ましい。
各層形成用感光性樹脂組成物からなる各層形成用感光性樹脂フィルムを用いた積層法としては、保護フィルムを剥離除去した後に、常圧ロールラミネータ、真空ロールラミネータ、常圧平板ラミネータ、真空平板ラミネータ等が好適に挙げられる。
【００４５】
保護層３を積層する場合には、コアパターン２の上面や側面を確実に覆える常圧平板ラミネータ、真空平板ラミネータがより好適であり、気泡の混入が抑制できる真空平板ラミネータがさらに好適である。
【００４６】
以下、本実施の形態に用いられる感光性樹脂組成物について説明する。
クラッド層（下部クラッド層１・上部クラッド層（保護層）３）形成用感光性樹脂組成物は、所望のパターンを露光後にアルカリ性現像液を用いて現像する観点からフェノール性ヒドロキシル基、スルホニル基、カルボキシル基等を有する化合物を含む樹脂組成物であることが好ましい。特にカルボキシル基を有すると、２価以上の金属イオンとの強固な配位が見込めるため好ましい。
【００４７】
その中でも、透明性、耐熱性、保存安定性の観点から、（Ａ）カルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー、（Ｂ）重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含む光導波路形成用感光性樹脂組成物であることが好ましい。
【００４８】
以下、本実施の形態に用いられる（Ａ）成分のカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーについて説明する。
（Ａ）成分のカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーとして、特に制限はないが、例えば、下記（１）〜（６）で表されるポリマーが挙げられる。
（１）分子中にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物と、それ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物を共重合して得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
（２）分子中にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物と、それ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物の共重合体に、側鎖にエチレン性不飽和基を部分的に導入して得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
（３）分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物と、それ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物の共重合体に、分子中にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させ、生成したヒドロキシル基に多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
（４）エチレン性不飽和基を有する酸無水物と、それ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物の共重合体に、分子中にヒドロキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させて得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
（５）２官能エポキシ樹脂と、ジカルボン酸又は２官能フェノール化合物の重付加体に、多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
（６）２官能オキセタン化合物と、ジカルボン酸又は２官能フェノール化合物の重付加体のヒドロキシル基に、多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
【００４９】
これらの中で、透明性、アルカリ性現像液への溶解性の観点から、上記（１）〜（４）で表されるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーであることが好ましい。なお、これらのポリマーは（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリルポリマーである。ここで、（メタ）アクリロイル基とはアクリロイル基又はメタクリロイル基を、（メタ）アクリルポリマーとは、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、及びこれらの誘導体を単量体とし、これを重合してなるポリマーをいう。
該（メタ）アクリルポリマーは、上記単量体の単独重合体であってもよいし、また、これらのモノマーの２種以上を重合させた共重合体であってもよい。さらには、本実施の形態の効果を阻害しない範囲で、上記のモノマーと、必要に応じて（メタ）アクリロイル基以外のエチレン性不飽和基を有する上記以外のモノマーとを含む共重合体であってもよい。また、複数の（メタ）アクリルポリマーの混合物であってもよい。
【００５０】
（Ａ）成分のカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーの重量平均分子量は、１，０００〜３，０００，０００であることが好ましい。１，０００以上であれば分子量が大きいため樹脂組成物とした場合の硬化物の強度が十分で、３，０００，０００以下であれば、アルカリ性水溶液からなる現像液に対する溶解性や（Ｂ）重合性化合物との相溶性が良好である。
以上の観点から、（Ａ）成分の重量平均分子量は３，０００〜２，０００，０００とすることがより好ましく、５，０００〜１，０００，０００であることがさらに好ましい。
なお、本実施の形態における重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定し、標準ポリスチレン換算した値である。
【００５１】
（Ａ）成分のカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーは、現像によりパターンを形成する工程において、前記アルカリ性現像液により現像可能となるように酸価を規定することができる。例えば、前記アルカリ性水溶液を用いる場合には、酸価が２０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。
【００５２】
２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であれば現像が容易で、３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であれば、耐現像液性が低下することがない。以上の観点から、酸価は３０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、４０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましい。
なお、耐現像液性とは、現像により除去されずにパターンとなる部分が、現像液によって侵されない性質をいう。
【００５３】
また、アルカリ性水溶液と１種以上の有機溶剤からなるアルカリ性準水系現像液を用いる場合には、酸価が１０〜２６０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であれば現像が容易で、２６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であれば耐現像液性が低下することがない。以上の観点から、酸価は２０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、３０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましい。
【００５４】
（Ａ）成分の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して、１０〜８５質量％であることが好ましい。１０質量％以上であれば、光導波路形成用感光性樹脂組成物の硬化物の強度や可撓性が十分で、８５質量％以下であれば、露光時に（Ｂ）成分によって絡め込まれて容易に硬化し、耐現像液性が不足することがない。以上の観点から、（Ａ）成分の配合量は２０〜８０質量％であることがより好ましく、２５〜７５質量％であることがさらに好ましい。
【００５５】
以下、本実施の形態に用いられる（Ｂ）成分の重合性化合物について説明する。
（Ｂ）成分の重合性化合物として、特に制限はなく、例えば、エチレン性不飽和基などの重合性置換基を有する化合物や分子内に２つ以上のエポキシ基を有する化合物などが好適に挙げられる。
【００５６】
具体的には、（メタ）アクリレート、ハロゲン化ビニリデン、ビニルエーテル、ビニルエステル、ビニルピリジン、ビニルアミド、アリール化ビニル等が挙げられるが、これらのうち透明性の観点から、（メタ）アクリレートやアリール化ビニルであることが好ましい。（メタ）アクリレートとして、単官能のもの、２官能のもの又は３官能以上の多官能のもののいずれも用いることができる。
【００５７】
単官能（メタ）アクリレートとしては、特に制限はなく、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチルヘプチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等の脂肪族（メタ）アクリレート；シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等の脂環式（メタ）アクリレート；フェニル（メタ）アクリレート、ノニルフェニル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェニル（メタ）アクリレート、ｏ−ビフェニル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（ｏ−フェニルフェノキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（１−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（２−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート；２−テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−Ｎ−カルバゾール等の複素環式（メタ）アクリレート；これらのエトキシ化体；これらのプロポキシ化体；これらのエトキシ化プロポキシ化体；これらのカプロラクトン変性体などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、上記脂環式（メタ）アクリレート；上記複素環式（メタ）アクリレート；これらのエトキシ化体；これらのプロポキシ化体；これらのエトキシ化プロポキシ化体；これらのカプロラクトン変性体であることが好ましい。
【００５８】
２官能（メタ）アクリレートとしては、特に制限はなく、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート等の脂肪族（メタ）アクリレート；シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート等の脂環式（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、フルオレン型ジ（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート；イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート等の複素環式（メタ）アクリレート；これらのエトキシ化体；これらのプロポキシ化体；これらのエトキシ化プロポキシ化体；これらのカプロラクトン変性体；ネオペンチルグリコール型エポキシ（メタ）アクリレート等の脂肪族エポキシ（メタ）アクリレート；シクロヘキサンジメタノール型エポキシ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレート等の脂環式エポキシ（メタ）アクリレート；レゾルシノール型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦ型エポキシ（メタ）アクリレート、フルオレン型エポキシ（メタ）アクリレート等の芳香族エポキシ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、上記脂環式（メタ）アクリレート；上記芳香族（メタ）アクリレート；上記複素環式（メタ）アクリレート；これらのエトキシ化体；これらのプロポキシ化体；これらのエトキシ化プロポキシ化体；これらのカプロラクトン変性体；上記脂環式エポキシ（メタ）アクリレート；上記芳香族エポキシ（メタ）アクリレートであることが好ましい。
【００５９】
３官能以上の多官能（メタ）アクリレートとしては、特に制限はなく、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の脂肪族（メタ）アクリレート；イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート等の複素環式（メタ）アクリレート；これらのエトキシ化体；これらのプロポキシ化体；これらのエトキシ化プロポキシ化体；これらのカプロラクトン変性体；フェノールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、クレゾールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート等の芳香族エポキシ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、上記複素環式（メタ）アクリレート；これらのエトキシ化体；これらのプロポキシ化体；これらのエトキシ化プロポキシ化体；これらのカプロラクトン変性体；上記芳香族エポキシ（メタ）アクリレートであることが好ましい。
【００６０】
上述の単官能（メタ）アクリレート、２官能（メタ）アクリレート、３官能以上の多官能（メタ）アクリレートは、それぞれ、単独又は２種類以上組み合わせて使用することができる。また、官能基数の異なる（メタ）アクリレートを組み合わせて用いることもできる。さらにその他の重合性化合物と組み合わせて使用することもできる。
【００６１】
また、前記（メタ）アクリレート以外に好ましい（Ｂ）重合性化合物として、（Ａ）カルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーとの相溶性の観点から、分子内に２つ以上のエポキシ基を有する化合物を含むものも挙げられる。
【００６２】
具体的には、ヒドロキノン型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、カテコール型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂等の２官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、水添２，２´−ビフェノール型エポキシ樹脂、水添４，４´−ビフェノール型エポキシ樹脂等の水添２官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−クレゾール型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂等の３官能以上の多官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；ポリエチレングリコール型エポキシ樹脂、ポリプロピレングリコール型エポキシ樹脂、ネオペンチルグリコール型エポキシ樹脂、１，６−ヘキサンジオール型エポキシ樹脂等の２官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；シクロヘキサンジオール型エポキシ樹脂、シクロヘキサンジメタノール型エポキシ樹脂、トリシクロデカンジメタノール型エポキシ樹脂等の２官能脂環式アルコールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂、ソルビトール型エポキシ樹脂、グリセリン型エポキシ樹脂等の３官能以上の多官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；フタル酸ジグリシジルエステル等の２官能芳香族グリシジルエステル；テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等の２官能脂環式グリシジルエステル；Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルトリフルオロメチルアニリン等の２官能芳香族グリシジルアミン；Ｎ，Ｎ，Ｎ´，Ｎ´−テトラグリシジル−４，４−ジアミノジフェニルメタン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−グリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，ｏ−トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール等の３官能以上の多官能芳香族グリシジルアミン；アリサイクリックジエポキシアセタール、アリサイクリックジエポキシアジペート、アリサイクリックジエポキシカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド等の２官能脂環式エポキシ樹脂；２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加体等の３官能以上の多官能脂環式エポキシ樹脂；トリグリシジルイソシアヌレート等の３官能以上の多官能複素環式エポキシ樹脂；オルガノポリシロキサン型エポキシ樹脂等のケイ素含有２官能又は３官能以上の多官能エポキシ樹脂などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、上記２官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記水添２官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記３官能以上の多官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記２官能脂環式アルコールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記２官能芳香族グリシジルエステル；上記２官能脂環式グリシジルエステル；上記２官能脂環式エポキシ樹脂；上記多官能脂環式エポキシ樹脂；上記多官能複素環式エポキシ樹脂；上記２官能又は多官能ケイ素含有エポキシ樹脂であることが好ましい。
以上の化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができ、さらにその他の重合性化合物と組み合わせて使用することもできる。
【００６３】
（Ｂ）成分の重合性化合物の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して、１５〜９０質量％であることが好ましい。１５質量％以上であれば、（Ａ）成分のカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーを絡みこんで硬化することが容易で、耐現像液性が不足することがなく、９０質量％以下であれば、硬化フィルムのフィルム強度や可撓性が十分である。以上の観点から、（Ｂ）成分の配合量は２０〜８０質量％であることがより好ましく、２５〜７５質量％であることがさらに好ましい。
【００６４】
以下、本実施の形態に用いられる（Ｃ）成分の光重合開始剤について説明する。
（Ｃ）成分の光重合開始剤として、紫外線などの活性光線の照射によって重合を開始させるものであれば特に制限はなく、例えば、（Ｂ）成分の重合性化合物としてエチレン性不飽和基を有する化合物を用いる場合、光ラジカル重合開始剤等が挙げられる。
【００６５】
光ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンゾインケタール；１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オン等のα−ヒドロキシケトン；フェニルグリオキシル酸メチル、フェニルグリオキシル酸エチル、オキシフェニル酢酸２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル、オキシフェニル酢酸２−（２−オキソ−２−フェニルアセトキシエトキシ）エチル等のグリオキシエステル；２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリン−４−イルフェニル）−ブタン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イルフェニル）−ブタン−１−オン、１，２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−（４−モルフォリン）−２−イルプロパン−１−オン等のα−アミノケトン；１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ），２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等のオキシムエステル；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等のホスフィンオキシド；２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ´−テトラメチル−４，４´−ジアミノベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ´−テトラエチル−４，４´−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４´−ジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物；２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントラキノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２，３−ジメチルアントラキノン等のキノン化合物；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル；ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物；ベンジルジメチルケタール等のベンジル化合物；９−フェニルアク���ジン、１，７−ビス（９，９´−アクリジニルヘプタン）等のアクリジン化合物：Ｎ−フェニルグリシン、クマリンなどが挙げられる。
また、前記２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体において、２つのトリアリールイミダゾール部位のアリール基の置換基は、同一で対称な化合物を与えてもよく、相違して非対称な化合物を与えてもよい。
以上の光ラジカル重合開始剤は、単独で又は２種類以上組み合わせて用いることができる。さらに、適切な増感剤と組み合わせて用いることもできる。
【００６６】
また、（Ｂ）成分の重合性化合物としてエポキシ樹脂を用いる場合、（Ｃ）成分の光重合開始剤として、光カチオン重合開始剤等が挙げられる。
【００６７】
光カチオン重合開始剤として、ｐ−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート等のアリールジアゾニウム塩；ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等のジアリールヨードニウム塩；トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムペンタフルオロヒドロキシアンチモネート等のトリアリールスルホニウム塩；トリフェニルセレノニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルセレノニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルセレノニウムヘキサフルオロアンチモネート等のトリアリールセレノニウム塩；ジメチルフェナシルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジエチルフェナシルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等のジアルキルフェナシルスルホニウム塩；４−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−ヒドロキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等のジアルキル−４−ヒドロキシ塩；α−ヒドロキシメチルベンゾインスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシイミドスルホネート、α−スルホニロキシケトン、β−スルホニロキシケトン等のスルホン酸エステルなどが挙げられる。
【００６８】
これらの中で、硬化性、透明性、及び耐熱性の観点から、上記トリアリールスルホニウム塩であることが好ましい。これらの熱及び光カチオン重合開始剤は、単独で又は２種類以上組み合わせて用いることができる。さらに適切な増感剤と組み合わせて用いることもできる。
【００６９】
（Ｃ）成分の重合開始剤の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましい。０．１質量部以上であれば、硬化が十分であり、１０質量部以下であれば十分な光透過性が得られる。以上の観点から、（Ｃ）成分の配合量は０．３〜７質量部であることがより好ましく、０．５〜５質量部であることがさらに好ましい。
【００７０】
また、この他に必要に応じて、本実施の形態に用いられる各層形成用感光性樹脂組成物中には、酸化防止剤、黄変防止剤、紫外線吸収剤、可視光吸収剤、着色剤、可塑剤、安定剤、充填剤などのいわゆる添加剤を添加してもよい。
【００７１】
以下、本実施の形態に用いられる各層形成用感光性樹脂組成物について説明する。
本実施の形態に用いられる各層形成用感光性樹脂組成物は、好適な有機溶剤を用いて希釈し、各層形成用感光性樹脂ワニスとして使用してもよい。ここで用いる有機溶剤として、該樹脂組成物を溶解しえるものであれば特に制限はなく、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、ｐ−シメン等の芳香族炭化水素；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等の環状エーテル；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等のケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン等のエステル；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等の炭酸エステル；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル等の多価アルコールアルキルエーテル；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の多価アルコールアルキルエーテルアセテート；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミドなどが挙げられる。
これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
また、樹脂ワニス中の固形分濃度は、通常２０〜８０質量％であることが好ましい。
【００７２】
以下、本実施の形態に用いられる各層形成用感光性樹脂フィルムについて説明する。
本実施の形態に用いられる各層形成用感光性樹脂フィルムは、前記各層形成用感光性樹脂組成物からなり、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有する各層形成用感光性樹脂ワニスを好適な支持フィルムに塗布し、溶媒（溶剤）を除去することにより容易に製造することができる。また各層形成用感光性樹脂組成物を直接支持フィルムに塗布して製造してもよい。
【００７３】
支持フィルムとして、特に制限はないが、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン；ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン、液晶ポリマー等が挙げられる。
【００７４】
これらの中で、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホンであることが好ましい。
【００７５】
さらに、露光用活性光線の透過率向上及びコアパターン２の側壁荒れ低減の観点から、高透明タイプな支持フィルムを用いることがさらに好ましい。このような高透明タイプな支持フィルムとして、東洋紡株式会社製コスモシャインＡ１５１７、コスモシャインＡ４１００（「コスモシャイン」は登録商標。）が挙げられる。
なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物等により離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
【００７６】
支持フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、３〜２５０μｍであることが好ましい。３μｍ以上であればフィルム強度が十分であり、２５０μｍ以下であれば十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、５〜２００μｍであることがより好ましく、７〜１５０μｍであることがさらに好ましい。
【００７７】
その中でも、コアパターン形成用感光性樹脂フィルムに用いられる支持フィルムの厚みは、５〜５０μｍであることが好ましい。５μｍ以上であれば、支持体としての強度が十分であり、５０μｍ以下であれば、コアパターン２形成時にフォトマスクとコアパターン形成用感光性樹脂組成物層のギャップが大きくならず、パターン形成性が良好である。以上の観点から、コアパターン形成用感光性樹脂フィルムに用いられる支持フィルムの厚みは１０〜４０μｍであることがより好ましく、１５〜３０μｍであることがさらに好ましい。
【００７８】
支持フィルム上にコアパターン形成用感光性樹脂ワニス又はコアパターン形成用感光性樹脂組成物を塗布して製造した感光性樹脂フィルムは、必要に応じて保護フィルムを樹脂層上に貼り付け、支持フィルム、樹脂層及び保護フィルムからなる３層構造としてもよい。
【００７９】
保護フィルムとしては、特に制限はないが、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンなどが好適に挙げられる。
【００８０】
なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物等により離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。保護フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、１０〜２５０μｍであることが好ましい。１０μｍ以上であれば、フィルム強度が十分であり、２５０μｍ以下であれば十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、１５〜２００μｍであることがより好ましく、２０〜１５０μｍであることがさらに好ましい。
【００８１】
本実施の形態に用いられる各層形成用感光性樹脂フィルムの樹脂層の厚みについては特に制限はないが、乾燥後の厚みで、通常は５〜５００μｍであることが好ましい。５μｍ以上であれば、厚みが十分であるため樹脂フィルム又は樹脂フィルムの硬化物の強度が十分であり、５００μｍ以下であれば、乾燥が十分に行えるため樹脂フィルム中の残留溶媒量が増えることなく、樹脂フィルムの硬化物を加熱したときに発泡することがない。
【００８２】
このようにして得られた各層形成用感光性樹脂フィルムは、例えばロール状に巻き取ることによって容易に保存することができる。又はロール状のフィルムを好適なサイズに切り出して、シート状にして保存することもできる。
【実施例】
【００８３】
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されない。
実施例１
＜樹脂フィルムＡの作製＞
［（Ａ）（メタ）アクリルポリマー（ベースポリマー）の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと、及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４６質量部及び乳酸メチル２３質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を６５℃に上昇させ、メチルメタクリレート４７質量部、ブチルアクリレート３３質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１６質量部、メタクリル酸１４質量部、２，２´−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）３質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４６質量部、及び乳酸メチル２３質量部の混合物を３時間かけて滴下後、６５℃で３時間撹拌し、さらに９５℃で１時間撹拌を続けて、（Ａ）（メタ）アクリルポリマーの溶液（固形分４５質量％）を得た。
【００８４】
［重量平均分子量の測定］
（Ａ）（メタ）アクリルポリマーの重量平均分子量（標準ポリスチレン換算）をＧＰＣ（東ソー株式会社製「ＳＤ−８０２２」、「ＤＰ−８０２０」、及び「ＲＩ−８０２０」）を用いて測定した結果、３．９×１０４であった。なお、カラムは日立化成株式会社製「Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ａ１５０−Ｓ」及び「Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ａ１６０−Ｓ」を使用した。
［酸価の測定］
（Ａ）（メタ）アクリルポリマーの酸価を測定した結果、７９ｍｇＫＯＨ／ｇであった。なお、酸価は（Ａ）（メタ）アクリルポリマー溶液を中和するのに要した０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウム水溶液量から算出した。このとき、指示薬として添加したフェノールフタレインが無色からピンク色に変色した点を中和点とした。
【００８５】
［樹脂ワニスＡの調合］
（Ａ）カルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーとして、（Ａ）（メタ）アクリルポリマー溶液（固形分４５質量％）８４質量部（固形分３８質量部）、（Ｂ）重合性化合物として、ポリエステル骨格を有するウレタン（メタ）アクリレート（新中村化学工業株式会社製「Ｕ−２００ＡＸ」）３３質量部、及びポリプロピレングリコール骨格を有するウレタン（メタ）アクリレート（新中村化学工業株式会社製「ＵＡ−４２００」）１５質量部、熱硬化成分として、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート型三量体をメチルエチルケトンオキシムで保護した多官能ブロックイソシアネート溶液（固形分７５質量％）（住化バイエルウレタン株式会社製「スミジュールＢＬ３１７５」）２０質量部（固形分１５質量部）、（Ｃ）光重合開始剤として、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン株式会社製「イルガキュア２９５９」）１質量部、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（ＢＡＳＦジャパン株式会社製「イルガキュア８１９」）１質量部、及び希釈用有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２３質量部を攪拌しながら混合した。孔径２μｍのポリフロンフィルタ（東洋濾紙株式会社製「ＰＦ０２０」）を用いて加圧濾過後、減圧脱泡し、樹脂ワニスＡを得た。
【００８６】
［樹脂フィルムＡの作製］
上記で得られた樹脂ワニスＡを、支持フィルムであるＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社製「コスモシャインＡ４１００」、厚み５０μｍ）の非処理面上に、塗工機（マルチコーターＴＭ−ＭＣ、株式会社ヒラノテクシード製）を用いて塗布し、１００℃で２０分乾燥後、保護フィルムとして表面離型処理ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製「ピューレックスＡ３１」、厚み２５μｍ、「ピューレックス」は登録商標。）を貼付け、樹脂フィルムＡを得た。
このとき、樹脂ワニスＡより形成される樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であり、乾燥後の膜厚については後述する。
【００８７】
［屈折率の測定］
保護フィルムを剥離した上記で得られた５０μｍの樹脂フィルムＡをシリコン基板（サイズ：縦６０ｍｍ、横２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍ）上に真空加圧式ラミネータ（株式会社名機製作所製、ＭＶＬＰ−５００）を用い、５００Ｐａ以下に真空引きした後、圧力０．４ＭＰａ、温度５０℃及び加圧時間３０秒の条件で積層した。次いで、紫外線露光機にて紫外線（波長３６５ｎｍ）を２０００ｍＪ／ｃｍ2照射し、支持フィルムを剥離し、さらに１６０℃で１時間加熱し、屈折率測定用のサンプルを作製した。このサンプルの波長８３０ｎｍにおける屈折率を、プリズム結合式屈折率計（メトリコン（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ）社製、商品名：Ｍｏｄｅｌ２０２０）を用いて測定した。硬化後の樹脂層の屈折率は１．４９６であった。
【００８８】
＜樹脂フィルムＢの作製＞
［樹脂フィルムＢ形成用ベースポリマー；（メタ）アクリルポリマ（Ｐ−１）の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと、及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４２質量部及び乳酸メチル２１質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を６５℃に上昇させ、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド１４．５質量部、ベンジルアクリレート２０質量部、ｏ−フェニルフェノール１．５ＥＯ（エチレンオキサイド）アクリレート３９質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１４質量部、メタクリル酸１２．５質量部、２，２´−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）４質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３７質量部、及び乳酸メチル２１質量部の混合物を３時間かけて滴下後、６５℃で３時間撹拌し、さらに９５℃で１時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマー（Ｐ−１）溶液（固形分４５質量％）を得た。
上記と同様な方法で、Ｐ−１溶液の酸価及び重量平均分子量を測定した結果、それぞれ８０ｍｇＫＯＨ／ｇ、３２，０００であった。
【００８９】
［樹脂ワニスＢの調合］
（Ａ）成分のカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーとして、主鎖にマレイミド骨格を含む前記Ｐ−１溶液（固形分４５質量％）６０質量部、（Ｂ）重合性化合物として、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（日立化成株式会社製、商品名：ファンクリルＦＡ−３２４Ａ（「ファンクリル」は登録商標））１５質量部及びエトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（日立化成株式会社製、商品名：ファンクリルＦＡ−３２１Ａ）１５質量部、フェノールビフェニレン型エポキシ樹脂（日本化薬株式会社製、商品名：ＮＣ−３０００、エポキシ当量２７５ｇ／ｅｑ）１０質量部、（Ｃ）重合開始剤として、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、商品名：イルガキュア２９５９）１質量部、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、商品名：イルガキュア８１９）１質量部を広口のポリ瓶に秤量し、撹拌機を用いて、温度２５℃、回転数４００ｍｉｎ−１の条件で、６時間撹拌して、樹脂ワニスＢを調合した。その後、孔径２μｍのポリフロンフィルタ（東洋濾紙株式会社製、商品名：ＰＦ０２０）及び孔径０．５μｍのメンブレンフィルタ（東洋濾紙株式会社製、商品名：Ｊ０５０Ａ）を用いて、温度２５℃、圧力０．４ＭＰａの条件で加圧濾過した。続いて、真空ポンプ及びベルジャーを用いて減圧度５０ｍｍＨｇの条件で１５分間減圧脱泡し、樹脂ワニスＢを得た。
【００９０】
［樹脂フィルムＢの作製］
上記樹脂ワニスＢを、ＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社製、商品名：Ａ１５１７、厚み１６μｍ）の非処理面上に塗工機（株式会社ヒラノテクシード製マルチコーター、商品名：ＴＭ−ＭＣ）を用いて塗布し、１００℃で２０分乾燥し、次いで保護フィルムとして離型ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名：ピューレックスＡ３１、厚み２５μｍ）を貼付け、樹脂フィルムＢを得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であり、乾燥後の膜厚については後述する。
【００９１】
［屈折率の測定］
上記と同様の方法で硬化後の樹脂層の屈折率測定を行ったところ、屈折率は１．５５５であった。
【００９２】
（光導波路の作製）
基板としての厚さ；２５μｍ、縦１００ｍｍ、横１００ｍｍサイズのポリイミド基板（東レ・デュポン株式会社製、商品名；カプトンＥＮ）上の全面に、保護フィルムを剥離した樹脂フィルムＡ（下部クラッド層形成用樹脂として使用）を、真空加圧式ラミネータ（商品名：ＭＶＬＰ−５００、株式会社名機製作所製）を用いて、５００Ｐａ以下に真空引きした後、圧力０．７ＭＰａ、温度７０℃、加圧時間３０秒の条件で加熱圧着した。その後、紫外線露光機（商品名：ＥＶ−８００、日立ビアメカニクス株式会社製）を用いて、ＰＥＴフィルム越しに紫外線（波長３６５ｎｍ）を１Ｊ／ｃｍ２照射し、その後、ＰＥＴフィルムを剥離し、１７０℃で１時間、加熱硬化して、１０μｍ厚みの下部クラッド層１を形成した。
【００９３】
次に、保護フィルムを剥離した樹脂フィルムＢ（コアパターン形成用樹脂層として使用）を、上記真空加圧式ラミネータを用いて、上記と同じ条件で下部クラッド層１上に加熱圧着した。その後、幅５０μｍ、長さ５０ｍｍの開口部を有するネガ型フォトマスクを介し、上記露光機を用いて（波長３６５ｎｍ）を３Ｊ／ｃｍ２照射し、その後、ＰＥＴフィルムを剥離し、アルカリ現像液として１質量％の炭酸カリウム水溶液を用いて現像し、次いで１質量％の硫酸水溶液で洗浄し、次いで純水で洗浄し、乾燥させた。その後、上記露光機を用いて（波長３６５ｎｍ）を４Ｊ／ｃｍ２照射して更なる光硬化を行ったあとに、１７０℃で１時間、加熱硬化して幅５０μｍ、厚さ５０μｍのコアパターン２を形成した。
【００９４】
得られたコアパターンを４５°の傾斜面を有するダイシングブレードを備えたダイシングソー（ＤＡＣ５５２、株式会社ディスコ製）を用いて切削加工し、４５°の傾斜面を有する光路変換ミラーを形成した（図１中右側のコアパターンを光信号伝送用として使用）。
得られた光路変換ミラーの傾斜面４は、下部クラッド層１表面に対して４５°であった。
【００９５】
次に、保護フィルムを剥離した樹脂フィルムＡ（保護層兼上部クラッド層形成用樹脂として使用）を、真空加圧式ラミネータ（商品名：ＭＶＬＰ−５００、株式会社名機製作所製）を用いて、５００Ｐａ以下に真空引きした後、圧力０．７ＭＰａ、温度７０℃、加圧時間３０秒の条件でコアパターン（導光路本体）形成面側に、加熱圧着した。その後、１５０μｍ角の遮光部を有するネガ型フォトマスクを介し、光路変換ミラー４０が遮光部内に位置するように位置合わせし、上記紫外線露光機（商品名：ＥＶ−８００、日立ビアメカニクス株式会社製）を用いて、ＰＥＴフィルム越しに紫外線（波長３６５ｎｍ）を０．５Ｊ／ｃｍ２照射し、その後、ＰＥＴフィルムを剥離し、１質量％の炭酸カリウム水溶液を用いて現像し、傾斜面４と、その付近のコアパターンの上面及び側面と、下部クラッド層の一部を露出させ、保護層３（上部クラッド層３）を形成した（図１参照）。
【００９６】
次に、２価以上の金属イオンとして１質量％の塩化カルシウム水溶液を用い、保護層３形成面側からスプレー法を用いて浸漬し、傾斜面４及びコアパターンの上面２０１、側面２０２、下部クラッド層１の露出部１０１、１０２にカルシウムイオンを含浸させた。その後、保護層３、露出部５に残存した塩化カルシウム水溶液を純水を用いて洗浄した。
さらに上記露光機を用いて（波長３６５ｎｍ）を４Ｊ／ｃｍ２照射したあとに、１７０℃で１時間、加熱硬化して、露出部５を有する保護層兼上部クラッド層３を形成した。
【００９７】
上部クラッド層３は、コアパターンの上面から１５μｍの厚みであった。また、露出部内には、傾斜面からなる光路変換ミラー４０が内包されており、下部クラッド層法線方向から見たときの傾斜面と上部クラッド層間のコアパターン上面２０１の幅（光軸方向の長さ）は、２５μｍであった。
【００９８】
次に矩形のダイシングブレードを備えたダイシングソー（ＤＡＣ５５２、株式会社ディスコ製）を用いて外形加工を行った。光路変換ミラーから外形線上に設けたコアパターン２端面までの距離は１０ｍｍであった。
【００９９】
得られた光導波路の端面からＧＩ５０の光ファイバを用いて８５０ｎｍの光を入射し、光路変換ミラーから光路変換された基板側に、ＧＩ５０の受光用光ファイバを配置して、光損失を測定したところ、０．５ｄＢであった。
【０１００】
次に、得られた光導波路を温度８５℃、湿度８５％ＲＨ環境下で２０００時間放置し、その後、再度光損失を測定したところ、光損失は０．５ｄＢと変化はなかった。傾斜面の外観を確認したところ、不具合（ブリードアウト等）はなかった。
【０１０１】
次に、上記と同様の方法で作製した別のミラー付き光導波路（初期値０．５ｄＢ）を温度６５℃、湿度９５％ＲＨ環境下で２０００時間放置し、その後、再度光損失を測定したところ、光損失は０．６ｄＢとほとんど変化はなかった。傾斜面の外観を確認したところ、不具合（ブリードアウト等）はなかった。
【０１０２】
次に、上記と同様の方法で作製した別のミラー付き光導波路（初期値０．６ｄＢ）を温度８５℃環境下で２０００時間放置し、その後、再度光損失を測定したところ、光損失は０．６ｄＢと変化はなかった。傾斜面の外観を確認したところ、不具合（ブリードアウト等）はなかった。
【０１０３】
実施例２
実施例１において塩化カルシウムを塩化マグネシウムに替えた以外は同様の方法でミラー付き光導波路を作製した。
得られたミラー付き光導波路の初期の光特性は０．５〜０．７ｄＢの光損失であり、温度８５℃、湿度８５％ＲＨ環境下、６５℃、湿度９５％ＲＨ環境下、温度８５℃環境下でそれぞれ２０００時間放置後の光損失変動は０．０〜０．１ｄＢとほとんど変化はなかった。
【０１０４】
比較例１
実施例１において、塩化カルシウムによる２価の金属イオンの含浸を行わなかった以外は同様の方法でミラー付き光導波路を作製した。
得られたミラー付き光導波路の初期の光特性は０．５〜０．７ｄＢの光損失であった。
初期特性０．５ｄＢのミラー付き光導波路を温度８５℃、湿度８５％ＲＨ環境下で２０００時間放置したところ、光特性は１．２ｄＢと悪化した。傾斜面を外観確認したところ、ブリードアウトが発生していた。
初期特性０．７ｄＢの他のミラー付き光導波路を６５℃、湿度９５％ＲＨ環境下で２０００時間放置したところ、光特性は１．８ｄＢと悪化した。傾斜面を外観確認したところ、ブリードアウトが発生していた。
初期特性０．６ｄＢの他のミラー付き光導波路を８５℃環境下で２０００時間放置したところ、光特性は１．０ｄＢと悪化した。傾斜面を外観確認したところ、ブリードアウトが発生していた。
【０１０５】
比較例２
実施例１において、コアパターンの現像後の硫酸による洗浄を１質量％の塩化カルシウム水溶液とし、２価の金属イオンをコアパターンに直接含浸した以外は同様の方法でミラー付き光導波路を作製した。
得られたミラー付き光導波路の初期の光特性は０．９〜１．８ｄＢの光損失であり、実施例１よりも悪化した。
実施例1〜２及び比較例１、２の測定結果をまとめて表１に示した。
【０１０６】
【表１】
2017151294.tif 000003
【０１０７】
２価金属イオンを含浸させない比較例１では、環境信頼性試験によるブリードアウトが発生し光損失が悪化した。また、２価金属イオンを直接コアパターンに含浸させると光損失が増加した。これに対し、本発明の光導波路の製造方法では、ブリードアウトが発生せず、環境信頼性試験による光損失が悪化しない。
【産業上の利用可能性】
【０１０８】
本発明のミラー付き光導波路の製造方法によって得られるミラー付き光導波路は、初期の光特性も良好で、各種の環境信頼性試験による光損失悪化が低減されたもので、光モジュール、光インターコネクション、光学部材、光路の一部に光導波路を用いた光伝送ケーブルなどの幅広い分野に適用可能である。
【符号の説明】
【０１０９】
１．下部クラッド層
１０１．露出した下部クラッド層表面
１０２．露出した下部クラッド層切削斜面
２．コアパターン
２０１．露出したコアパターン上面
２０２．露出したコアパターン側面
３．保護層、上部クラッド層
４．傾斜面
４０.光路変換ミラー
５.露出部
【図１】
2017151294.tif 000004