(57)【要約】【課題】水素が高濃度に溶存した水素水を製造可能な水素水製造装置及び水素水製造方法を提供すること。【解決手段】被処理水を供給する被処理水供給ユニット１０と、被処理水を排出する排出口２と、被処理水供給ユニット１０と排出口２を接続する管路３と、管路３に介設され、ケース内に収納されたマグネシウム粒と被処理水を反応させて水素を発生させるＭｇユニット４０と、Ｍｇユニット４０の一次側の管路３に介設され、被処理水に磁場を印加して磁気処理を行う磁気ユニット３０と、Ｍｇユニット４０の二次側の管路３に介設され、被処理水を電気分解して水素を発生させる電気分解ユニット５０と、磁気ユニット３０の一次側の管路３に介設され、被処理水に紫外線を照射するＵＶユニット２０と、ＵＶユニットの一次側の管路３に介設されるポンプＰと、を備える。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理水を供給する被処理水供給ユニットと、
上記被処理水を排出する排出口と、
上記被処理水供給ユニットと上記排出口を接続する管路と、
上記管路に介設され、ケース内に収納されたマグネシウム粒と上記被処理水を反応させて水素を発生させるＭｇユニットと、
上記Ｍｇユニットの一次側の上記管路に介設され、上記被処理水に磁場を印加して磁気処理を行う磁気ユニットと、を備える、
ことを特徴とする水素水製造装置。
【請求項２】
請求項１記載の水素水製造装置において、
上記Ｍｇユニットの二次側の上記管路に介設され、上記被処理水を電気分解して水素を発生させる電気分解ユニットを備える、ことを特徴とする水素水製造装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載の水素水製造装置において、
上記磁気ユニットの一次側の上記管路に介設され、上記被処理水に紫外線を照射するＵＶユニットを備える、ことを特徴とする水素水製造装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の水素水製造装置において、
上記Ｍｇユニットの二次側の上記管路に介設される流路切換弁と上記被処理水供給ユニットを接続する戻り管路を備える、ことを特徴とする水素水製造装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の水素水製造装置において、
上記ＵＶユニットの一次側の上記管路にポンプを介設する、ことを特徴とする水素水製造装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載の水素水製造装置において、
被処理水供給ユニットは、上記被処理水を冷却可能な冷却手段を備える、ことを特徴とする水素水製造装置。
【請求項７】
水素水を製造する水素水製造方法において、
被処理水に磁場を印加する工程の後に、マグネシウム粒と上記被処理水を反応させて水素を発生させる工程を備える、
ことを特徴とする水素水製造方法。
【請求項８】
請求項７記載の水素水製造方法において、
上記マグネシウム粒と上記被処理水を反応させて水素を発生させる上記工程の後に、上記被処理水を電気分解して水素を発生させる工程を備える、ことを特徴とする水素水製造方法。
【請求項９】
請求項７又は８記載の水素水製造方法において、
上記被処理水に磁場を印加する上記工程の前に、上記被処理水に紫外線を照射する工程を備える、ことを特徴とする水素水製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、水素が高濃度に溶存した水素水を製造可能な水素水製造装置及び水素水製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
生体の疾病は活性酸素を原因とするものが多いことは種々の検査等から示唆されている。この活性酸素を生体内から減少若しくは除去する直接的な方法は発見されていないが、水素を高濃度に溶存させた水である水素水を生体内中に取りこむと水素と活性酸素とが反応して水になり、生体内の活性酸素の量を減らすことができることが知られている。
【０００３】
水素水を製造する装置・方法の一つとしては、空気を除去した圧力容器内に水素ガスを充填し、圧力容器内における水素ガスの圧力を２〜１０気圧に保ったまま、その圧力容器内にミネラルを含む原水をシャワー状に散水して水素ガスと接触させることにより、該原水中に圧力容器内の水素ガスを溶解せしめる方法が開示されている（特許文献１）。
【０００４】
しかし、特許文献１記載の高圧下で水素ガスを水に溶解させる方法は、危険物である高圧な水素ガスボンベを使用しなくてはならず、例えば一般家庭等に設置されるウォーターサーバ装置に水素ガスボンベを備えさせなければならず不適当である。
【０００５】
また、他の水素水を製造する装置・方法としては、陰極が配置された陰極室と陽極が配置されると共に隔膜により陰極室と分離された陽極室とを備える電解槽に、原水を供給し電気分解をして陰極室側に水素水を発生させる方法が開示されている（特許文献２）。
【０００６】
しかし、特許文献２記載の水を電気分解する方法では、水素水から水素が飛散してしまい易く、水素濃度を高めるのが困難であると共に、生体内に取り込んでも水素水としての効果が得にくいという問題がある。
【０００７】
更に、他の水素水を製造する装置・方法としては、金属マグネシウムを水に浸し水素を発生させ水素水を製造する方法がある（特許文献３，４）。この点、特許文献３，４記載のものでは、特許文献２記載の水を電気分解する方法と比較して、水素水から水素が飛散し難く、比較的水素濃度を高めるのが容易である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特許第３６０６４６６号公報
【特許文献２】特許第３９３３４０３号公報
【特許文献３】特開２０１２−２０６１０５号公報
【特許文献４】特許第４２５２４３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかし、特許文献３，４に記載のものは、上述したように水素水中の水素濃度を比較的容易に高めることができるが、常温常圧化での飽和濃度１．５７ｐｐｍまで水素濃度を高めるのは困難である。
【００１０】
本発明者らは、常温常圧下で水素水の水素濃度を飽和濃度付近まで高めることができ、一般家庭用のウォーターサーバにも適用可能な簡素な水素水製造装置及び水素水製造方法ついて鋭意研究した結果、金属マグネシウムを被処理水に浸し水素を発生させ水素水を製造する工程の前に、被処理水のクラスタを細分化する処理をすれば、水素水の水素濃度を飽和濃度付近まで容易に高めることができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１１】
本発明はこのような事情の下になされたものであり、その目的は、水素が高濃度に溶存した水素水を製造可能な水素水製造装置及び水素水製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するために、本発明に係る水素水製造装置は、被処理水を供給する被処理水供給ユニットと、  上記被処理水を排出する排出口と、  上記被処理水供給ユニットと上記排出口を接続する管路と、  上記管路に介設され、ケース内に収納されたマグネシウム粒と上記被処理水を反応させて水素を発生させるＭｇユニットと、  上記Ｍｇユニットの一次側の上記管路に介設され、上記被処理水に磁場を印加して磁気処理を行う磁気ユニットと、を備える、ことを特徴とする（請求項１）。
【００１３】
被処理水に磁場を印加する磁気処理を行うと水のクラスタを細分化することができ、クラスタが細分化された被処理水は水素の溶解力を高めることができる。このため、被処理水に磁場を印加して磁気処理を行う磁気ユニットを備えることにより、被処理水のクラスタを細分化して水素の溶解力を高めることができる。そして、水素の溶解力が高められた被処理水は、次いでＭｇユニットを通過すると高濃度に水素が溶存した被処理水となる。
【００１４】
この場合、上記Ｍｇユニットの二次側の上記管路に介設され、上記被処理水を電気分解して水素を発生させる電気分解ユニットを備える方がよい（請求項２）。
【００１５】
このように構成することによって、Ｍｇユニットを通過した被処理水を電気分解して水素を発生させるため、更に高濃度に水素が溶存した被処理水とすることができる。
【００１６】
この場合、上記磁気ユニットの一次側の上記管路に介設され、上記被処理水に紫外線を照射するＵＶユニットを備える方がよい（請求項３）。
【００１７】
このように構成することによって、被処理水を殺菌浄化することができる。
【００１８】
この場合、上記Ｍｇユニットの二次側の上記管路に介設される流路切換弁と上記被処理水供給ユニットを接続する戻り管路を備える方がよい（請求項４）。
【００１９】
このように構成することによって、処理されてから時間が経過し水素濃度が低下した管路中の被処理水を被処理水供給ユニットに戻し再処理することができる。
【００２０】
この場合、上記ＵＶユニットの一次側の上記管路にポンプを介設する方がよい（請求項５）。
【００２１】
このように構成することによって、管路中の被処理水を所望の流量及び流速で流通させることができる。
【００２２】
この場合、被処理水供給ユニットは、上記被処理水を冷却可能な冷却手段を備える方がよい（請求項６）。
【００２３】
このように構成することによって、排出口から排出される水素水の温度をユーザの好む温度まで低下させることができると共に、被処理水供給ユニット内の被処理水に雑菌等が繁殖するのを防止することができる。
【００２４】
この発明の水素水製造方法は、水素水を製造する水素水製造方法において、  被処理水に磁場を印加する工程の後に、マグネシウム粒と上記被処理水を反応させて水素を発生させる工程を備える、  ことを特徴とする（請求項７）。
【００２５】
被処理水に磁場を印加される磁気処理を行うと水のクラスタを細分化することができ、クラスタが細分化された被処理水は水素の溶解力を高めることができる。このため、被処理水に磁場を印加する工程により、被処理水のクラスタを細分化して水素の溶解力を高めることができる。そして、水素の溶解力が高められた被処理水は、次いで行われるマグネシウム粒と被処理水を反応させて水素を発生させる工程を施されると、高濃度に水素が溶存した被処理水となる。
【００２６】
この場合、上記マグネシウム粒と上記被処理水を反応させて水素を発生させる上記工程の後に、上記被処理水を電気分解して水素を発生させる工程を備える方がよい（請求項８）。
【００２７】
このように構成することによって、マグネシウム粒と被処理水を反応させて水素を発生させる工程を経た被処理水を電気分解して水素を発生させるため、更に高濃度に水素が溶存した被処理水とすることができる。
【００２８】
この場合、上記被処理水に磁場を印加する上記工程の前に、上記被処理水に紫外線を照射する工程を備える方がよい（請求項９）。
【００２９】
このように構成することによって、被処理水を殺菌浄化することができる。
【発明の効果】
【００３０】
本発明の水素水製造装置によれば、Ｍｇユニットの一次側の管路に介設され、被処理水に磁場を印加して磁気処理を行う磁気ユニットを備えることにより、被処理水のクラスタを細分化して水素の溶解力を高めることができ、次いで被処理水がＭｇユニットを通過すると高濃度に水素が溶存した被処理水となるため、水素が高濃度に溶存した水素水を製造することができる。
【００３１】
本発明の水素水製造方法によれば、被処理水に磁場を印加する工程により、被処理水のクラスタを細分化して水素の溶解力を高めることができ、次いで行われるマグネシウム粒と被処理水を反応させて水素を発生させる工程を経ると、高濃度に水素が溶存した被処理水となるため、水素が高濃度に溶存した水素水を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の第１実施形態に係る水素水製造装置を示す概略断面図である。
【図２】上記第１実施形態に係る水素水製造装置の処理手順を示すフローチャートである。
【図３】比較例１の処理手順を示すフローチャートである。
【図４】本発明の第２実施形態に係る水素水製造装置を示す概略断面図である。
【図５】上記第２実施形態に係る水素水製造装置の処理手順を示すフローチャートである。
【図６】比較例２，３の処理手順を示すフローチャートである（ａ），（ｂ）。
【図７】比較例４の処理手順を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
以下、本発明の実施形態に係る水素水製造装置について、図面を参照して説明する。第１実施形態に係る水素水製造装置１は、図１に示すように、筐体６と、被処理水を供給する被処理水供給ユニット１０と、被処理水を排出する排出口２と、被処理水供給ユニット１０と排出口２を接続する管路３と、管路３に介設されるポンプＰ，ＵＶユニット２０，磁気ユニット３０，Ｍｇユニット４０，流路切換弁４と、流路切換弁４と被処理水供給ユニット１０を接続する戻り管路５と、制御部１００と、で主に構成されている。
【００３４】
筐体６は、図１に示すように、白色の樹脂性であって円筒状の胴体６ａと、胴体６ａの上部開口を閉塞する円形の天井板６ｂと、胴体６ａの下部開口を閉塞する円形の底板６ｃにより構成されている。この場合、天井板６ｂの中心には円形の貫通孔が形成されている。
【００３５】
被処理水供給ユニット１０は、図１に示すように、筐体６内に配置される被処理水貯留容器１１と、筐体６外に配置される補充用容器１２とで構成されている。この場合、被処理水貯留容器１１は、天井板６ｂの直下に配置された筒状の容器であり、天井板６ｂの中心に形成された貫通孔と連通する筒状の受入口１１ａが上面に形成されている。補充用容器１２は、天井板６ｂの直上に配置された略筒状の容器であり、天井板６ｂの中心に形成された貫通孔を通過すると共に、被処理水貯留容器１１の受入口１１ａに嵌合可能な筒状の出水口１２ａが下面に形成されている。補充用容器１２は、被処理水貯留容器１１に着脱可能に形成されており、補充用容器１２内の被処理水が空になった場合、被処理水が入った他の補充用容器１２と交換可能に形成されている。
【００３６】
この場合、被処理水貯留容器１１は、貯留する被処理水を冷却機（図示せず）により所定の温度まで下げることができる。このように被処理水貯留容器１１が被処理水を冷却可能な冷却手段を備えることにより、排出口２から排出される水素水の温度をユーザの好む温度まで低下させることができると共に、被処理水供給ユニット１０内の被処理水に雑菌等が繁殖するのを防止することができる。
【００３７】
排出口２は、図１に示すように、筐体６の側壁外部に設けられ下方に開口を向けたノズルにより主に構成される。また、図１に示すように、筐体６の側壁外部かつ排出口２の上方には、ユーザが水素水を排出口２から排出させる際に押すスイッチ７が設けられている。
【００３８】
管路３は、図１に示すように、例えば屈曲自在な樹脂製管状体であって、一端が上述した被処理水供給ユニット１０の被処理水貯留容器１１に接続されており、他端が排出口２に接続されている。このため、被処理水は管路３内を通過して被処理水貯留容器１１から排出口２に向かって流れることができる。
【００３９】
ポンプＰは、図１に示すように、管路３に介設されており、被処理水貯留容器１１内の被処理水を管路３を通じて排出口２側に向けて移送するものである。ポンプＰは、例えばベローズポンプを用いることができる。ベローズポンプは、往復運動して内包空間の容積を変動するベローズ（図示せず）と、ベローズに設けられた吸入口（図示せず）および吐出口（図示せず）と、ベローズ内に流入する方向の流れのみを許容するように吸入口に設けられた吸入側チェックバルブ（図示せず）と、ベローズから流出する方向の流れのみを許容するように吐出口に設けられた吐出側チェックバルブ（図示せず）とを有し、ベローズの往動により内包空間の容積が増加するときに吸入口から被処理水を吸入し、ベローズの復動により内包空間の容積が減少するときに吐出口から被処理水を吐出するものである。
【００４０】
ＵＶユニット２０は、図１に示すように、ポンプＰの二次側の管路３に介設され、被処理水に紫外線を照射する。ＵＶユニット２０は、紫外線を放射する冷陰極型の放電ランプ（図示せず）と、放電ランプを包囲すると共に放電ランプの周囲に流水路を形成する筒状の胴体部（図示せず）と、同体部の一端に設けられた被処理水が流入する流入口（図示せず）と、胴体部の他端に設けられた被処理水を放出する吐出口（図示せず）と、を備える。
【００４１】
磁気ユニット３０は、図１に示すように、ＵＶユニット２０の二次側の管路３に介設され、被処理水に磁場を印加して磁気処理を行う。磁気ユニット３０は、流水路を形成する筒状の胴体部（図示せず）と、胴体部の側壁に沿って規則的に配置される円筒状の複数の永久磁石（図示せず）と、同体部の一端に設けられた被処理水が流入する流入口（図示せず）と、胴体部の他端に設けられた被処理水を放出する吐出口（図示せず）と、を備える。
【００４２】
Ｍｇユニット４０は、図１に示すように、磁気ユニット３０の二次側の管路３に介設され、ケース内に収納されたマグネシウム粒と被処理水を反応させて水素を発生させる。Ｍｇユニット４０は、球体状に形成されたマグネシウム粒が充填された筒状のケース（図示せず）と、ケースの一端に設けられた被処理水が流入する流入口（図示せず）と、ケースの他端に設けられた被処理水を放出する吐出口（図示せず）と、を備える。
【００４３】
流路切換弁４は、図１に示すように、Ｍｇユニット４０の二次側の管路３に介設される。この場合、流路切換弁４には、屈曲自在な樹脂製管状体の戻り管路５の一端が接続されており、戻り管路５の他端には被処理水供給ユニット１０の被処理水貯留容器１１に接続されている。流路切換弁４は、電気制御弁であり弁切換動作により被処理水の流れる方向を、排出口２方向若しくは被処理水貯留容器１１方向に切り替えることができる。このように構成することにより、例えば処理されてから時間が経過し水素濃度が低下した管路３中の被処理水を、戻り管路５を介して被処理水供給ユニット１０に戻し再処理することができる。このため、水素濃度が低下した水素水をユーザに提供するのを防止することができる。
【００４４】
制御部１００は、例えば、ＣＰＵ等のマイクロプロセッサとその周辺回路を有する演算処理部を備えたコンピュータにより構成され、ポンプＰ等を稼働させるための実行用プログラム等を格納するプログラム格納部（図示せず）と、データ等を記憶するための記憶部（図示せず）と、を主に備えている。
【００４５】
また、制御部１００は、図１で示すように、スイッチ７，ポンプＰ，流路切換弁４と電気的に接続されており、制御部１００からの制御信号に基づいて、ポンプＰの稼働動作，流路切換弁４の弁切換動作等が行われるようになっている。
【００４６】
〔実施例１〕
次に、上記のように構成される第１実施形態に係る水素水製造装置による被処理水の処理について説明する。図２は、第１実施形態に係る水素水製造装置における処理の手順を示すフローチャートであって、矢印の方向にステップが進行する。
【００４７】
本実施形態において、処理を施す被処理水はミネラルウォータを使用する。ここで、ミネラルウォータとは、容器入り飲料水のうち地下水例えば富士山山麓の地下水を原水とするものを言う。ミネラルウォータは、天然のミネラルを含み、有臭、有害物質や、汚濁物質を含まない安全で美味な水であり、補充用容器１２に密閉された状態で貯留された状態で水素水製造装置１を保有するユーザの元に届けられるものである。なお、本実施形態において、被処理水としてミネラルウォータを使用したが、被処理水は飲料水であれば良く例えば水道水であってもよい。
【００４８】
最初に、ユーザがスイッチ７を押すと、スイッチ７と電気的に接続された制御部１００に信号が送られる。信号を受けた制御部１００は、実行用プログラムを実行してポンプＰを稼働させ水素水製造装置１による被処理水の処理がスタートする（図２参照）。
【００４９】
ポンプＰの稼働により、被処理水は被処理水貯留容器１１から管路３を介してＵＶユニット２０に送られる。ＵＶユニット２０に送られた被処理水は、放電ランプにより紫外線を照射する工程（ＵＶ処理工程Ｓ１）を施され殺菌浄化される（図２参照）。
【００５０】
次いで、図２に示すように、ポンプＰの稼働により、被処理水はＵＶユニット２０から管路３を介して磁気ユニット３０に送られる。磁気ユニット３０に送られた被処理水は、永久磁石により磁場を印加する工程（磁気処理工程Ｓ２）を施される。磁気処理工程Ｓ２を施された被処理水はクラスタが細分化されており、水素の溶解力が高められる。
【００５１】
次いで、図２に示すように、ポンプＰの稼働により、被処理水は磁気ユニット３０から管路３を介してＭｇユニット４０に送られる。Ｍｇユニット４０に送られた被処理水は、球体状に形成されたマグネシウム粒により、マグネシウム粒と被処理水を反応させて水素を発生させる工程（マグネシウム処理工程Ｓ３）を施される。マグネシウム処理工程Ｓ３を施された被処理水は、水素の溶解力が高められており高濃度に水素が溶存した被処理水となる。
【００５２】
次いで、ポンプＰの稼働により、マグネシウム処理工程Ｓ３が施された被処理水（水素水）は、Ｍｇユニット４０から管路３を介して排出口２に送られ、図１に示す矢印の方向に排出される。
【００５３】
上記のようにして得られた水素水について以下の評価試験を行った。実施例１の水素水の水素濃度をトラストレックス社製のポータブル溶存水素計ＥＮＨ−１０００で測定した。測定した結果、水素濃度は１．５７ＰＰＭであった。以上の実験結果より、実施例１の水素水は飽和状態まで水素濃度が高められていることが確認された。
【００５４】
〔比較例１〕
図３は比較例１のフローチャートである。実施例１と比較例１の部材の構成の相違点は、実施例１のものと比較して、磁気ユニット３０を削除した構成である。また、手順の相違点は、実施例１のものと比較して、磁気処理工程Ｓ２を削除した手順である。
【００５５】
上記のようにして得られた水素水について以下の評価試験を行った。比較例１の水素水の水素濃度をトラストレックス社製のポータブル溶存水素計ＥＮＨ−１０００で測定した。測定した結果、水素濃度は１．４９ＰＰＭであった。以上の実験結果より、比較例１の水素水は飽和状態まで水素濃度が高められていないことが確認された。この結果により、マグネシウム処理工程Ｓ３の前に磁気処理工程Ｓ２を行わないと、飽和状態まで水素水の水素濃度が高められないことがわかった。
【００５６】
第１実施形態に係る水素水製造装置によれば、Ｍｇユニット４０の一次側の管路３に介設され、被処理水に磁場を印加して磁気処理を行う磁気ユニット３０を備えることにより、被処理水のクラスタを細分化して水素の溶解力を高めることができ、その後、被処理水がＭｇユニット４０を通過すると高濃度に水素が溶存した被処理水となるため、水素が高濃度に溶存した水素水を製造することができる。
【００５７】
＜第２実施形態＞
上記第１実施形態では、マグネシウム処理工程Ｓ３後に処理を終了したが、マグネシウム処理工程Ｓ３後に被処理水を電気分解して水素を発生させる工程を備える構成であってもよい。
【００５８】
第２実施形態に係る水素水製造装置１Ａは、図４に示すように、筐体６と、被処理水を供給する被処理水供給ユニット１０と、被処理水を排出する排出口２と、被処理水供給ユニット１０と排出口２を接続する管路３と、管路３に介設されるポンプＰ，ＵＶユニット２０，磁気ユニット３０，Ｍｇユニット４０，電気分解ユニット５０，流路切換弁４と、流路切換弁４と被処理水供給ユニット１０を接続する戻り管路５と、制御部１００と、で主に構成されている。
【００５９】
電気分解ユニット５０は、図４に示すように、Ｍｇユニット４０の二次側かつ流路切換弁４の一次側の管路３に介設され、被処理水を電気分解して水素を発生させる。電気分解ユニット５０は、隔膜（図示せず）を介して、酸素を発生させる正極を配設した正極室（図示せず）と、水素を発生させる負極を配設した負極室（図示せず）と、にそれぞれ互いに区画形成した電解槽（図示せず）を備え、正・負極室の一端に設けられた被処理水が流入する流入口（図示せず）と、負極室の他端に設けられた被処理水を放出する吐出口（図示せず）で主に構成されている。かかる構成により、各電極に通電して電解槽の正・負極室内の被処理水を電気分解し、陰極から発生した水素により水素水を生成し負極室に設けられた吐出口から放出することができる。
【００６０】
この場合、制御部１００は、図４で示すように、スイッチ７，ポンプＰ，電気分解ユニット５０，流路切換弁４と電気的に接続されており、制御部１００からの制御信号に基づいて、ポンプＰ，電気分解ユニット５０の稼働動作，流路切換弁４の弁切換動作等が行われるようになっている。
【００６１】
なお、第２実施形態において、その他の構成は第１実施形態と同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。
【００６２】
〔実施例２〕
次に、上記のように構成される第２実施形態に係る水素水製造装置１Ａによる被処理水の処理について説明する。
【００６３】
図５に示すように、第１実施形態と同様にして、ＵＶ処理工程Ｓ１→磁気処理工程Ｓ２→マグネシウム処理工程Ｓ３と進行する。
【００６４】
次いで、図５に示すように、ポンプＰの稼働により、被処理水はＭｇユニット４０から管路３を介して電気分解ユニット５０に送られる。電気分解ユニット５０に送られた被処理水は、被処理水を電気分解して水素を発生させる工程（電気分解処理工程Ｓ４）を施される。電気分解処理工程Ｓ４を施された被処理水は、高濃度に水素が溶存した被処理水となる。
【００６５】
次いで、ポンプＰの稼働により、電気分解処理工程Ｓ４が施された被処理水（水素水）は、電気分解ユニット５０から管路３を介して排出口２に送られ、図４に示す矢印の方向に排出される。
【００６６】
上記のようにして得られた水素水について以下の評価試験を行った。実施例２の水素水の水素濃度をトラストレックス社製のポータブル溶存水素計ＥＮＨ−１０００で測定した。測定した結果、水素濃度は１．５７ＰＰＭであった。以上の実験結果より、実施例２の水素水は飽和状態まで水素濃度が高められていることが確認された。
【００６７】
〔比較例２〕
図６（ａ）は比較例２のフローチャートである。実施例２と比較例２の部材の構成の相違点は、実施例２のものと比較して、Ｍｇユニット４０を削除した構成である。また、手順の相違点は、実施例２のものと比較して、マグネシウム処理工程Ｓ３を削除した手順である。
【００６８】
上記のようにして得られた水素水について以下の評価試験を行った。比較例２の水素水の水素濃度をトラストレックス社製のポータブル溶存水素計ＥＮＨ−１０００で測定した。測定した結果、水素濃度は０．３２ＰＰＭであった。以上の実験結果より、比較例２の水素水は飽和状態まで水素濃度が高められていないことが確認された。この結果により、マグネシウム処理工程Ｓ３を行わないと、飽和状態まで水素水の水素濃度が高められないことがわかった。
【００６９】
〔比較例３〕
図６（ｂ）は比較例３のフローチャートである。実施例２と比較例３の部材の構成の相違点は、実施例２のものと比較して、磁気ユニット３０及びＭｇユニット４０を削除した構成である。また、手順の相違点は、実施例２のものと比較して、磁気処理工程Ｓ２及びマグネシウム処理工程Ｓ３を削除した手順である。
【００７０】
上記のようにして得られた水素水について以下の評価試験を行った。比較例３の水素水の水素濃度をトラストレックス社製のポータブル溶存水素計ＥＮＨ−１０００で測定した。測定した結果、水素濃度は０．２２ＰＰＭであった。以上の実験結果より、比較例３の水素水は飽和状態まで水素濃度が高められていないことが確認された。この結果により、磁気処理工程Ｓ２及びマグネシウム処理工程Ｓ３を行わないと、飽和状態まで水素水の水素濃度が高められないことがわかった。
【００７１】
〔比較例４〕
図７は比較例４のフローチャートである。実施例２と比較例４の部材の構成の相違点は、実施例４のものと比較して、電気分解ユニット５０とＭｇユニット４０の順番を逆にした構成である。また、手順の相違点は、実施例２のものと比較して、電気分解処理工程Ｓ４をマグネシウム処理工程Ｓ３より先に行う手順である。
【００７２】
上記のようにして得られた水素水について以下の評価試験を行った。比較例４の水素水の水素濃度をトラストレックス社製のポータブル溶存水素計ＥＮＨ−１０００で測定した。測定した結果、水素濃度は１．５２ＰＰＭであった。以上の実験結果より、比較例２の水素水は飽和状態まで水素濃度が高められていないことが確認された。この結果により、マグネシウム処理工程Ｓ３→電気分解処理工程Ｓ４の順序で処理を行わないと、飽和状態まで水素水の水素濃度が高められないことがわかった。
【００７３】
第２実施形態に係る水素水製造装置及び水素水製造方法によれば、第１実施形態と同様に水素が高濃度に溶存した水素水を製造することができる。
【００７４】
本発明は上記の実施形態及び実施例の例示に限定されるものでなく、特許請求の範囲の技術的範囲には、発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々、設計変更した形態が含まれる。
【符号の説明】
【００７５】
Ｐ  ポンプ
１，１Ａ  水素水製造装置
２  排出口
３  管路
４  流路切換弁
５  戻り管路
１０  被処理水供給ユニット
２０  ＵＶユニット
３０  磁気ユニット
４０  Ｍｇユニット
５０  電気分解ユニット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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