(57)【要約】      （修正有）【課題】液晶層に気泡が残存しないようにすることができる液晶セルの製造方法を提供する。【解決手段】透明フィルム材による基材６に透明電極１１、配向層１３を作製して第１の積層体５Ｄを作製する第１の積層体作製工程と、透明フィルム材による基材１５に少なくとも配向層１７を作製して第２の積層体５Ｕを作製する第２の積層体作製工程と、液晶材料８Ａを間に挟んで、第１及び第２の積層体５Ｄ、５Ｕを積層して一体化する積層一体化工程とを備える。積層一体化工程は、第１又は第２の積層体５Ｄ又は５Ｕに枠形状によりシール剤１９を塗工すると共に、枠形状の内側に液晶材料８Ａを滴下するシール剤の塗工工程と、シール剤の塗工工程により滴下した液晶材料８Ａを間に挟んで、第１の積層体５Ｄに第２の積層体５Ｕを積層して押圧する積層工程と、シール剤を硬化して第１及び第２の積層体５Ｄ及び５Ｕを一体化する一体化工程とを備える。【選択図】図１
2017049584.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明フィルム材による基材に透明電極、配向層を作製して第１の積層体を作製する第１の積層体作製工程と、
透明フィルム材による基材に少なくとも配向層を作製して第２の積層体を作製する第２の積層体作製工程と、
液晶材料を間に挟んで、前記第１及び第２の積層体を積層して一体化する積層一体化工程とを備え、
積層一体化工程は、
前記第１又は第２の積層体に枠形状によりシール剤を塗工すると共に、前記枠形状の内側に前記液晶材料を滴下するシール剤の塗工工程と、
前記シール剤の塗工工程により滴下した前記液晶材料を間に挟んで、前記第１の積層体に前記第２の積層体を積層して押圧する積層工程と、
前記シール剤を硬化して前記第１及び第２の積層体を一体化する一体化工程とを備え、
前記シール剤の塗工工程は、
前記積層工程における押圧により押し広げられる前記液晶材料により追い出される気泡を保持する気泡溜りを、前記シール剤の塗工により作製する
液晶セルの製造方法。
【請求項２】
前記シール剤の塗工工程は、
四隅の角部が外方に延出してなる矩形形状による枠形状により前記シール剤を塗工して、前記気泡溜りを作製する
請求項１に記載の液晶セルの製造方法。
【請求項３】
前記シール剤の塗工工程は、
対向する１対の各辺が局所的に外方に延出してなる矩形形状による枠形状により前記シール剤を塗工して、前記気泡溜りを作製する
請求項１に記載の液晶セルの製造方法。
【請求項４】
前記シール剤の塗工工程は、
少なくとも１辺の全部又は一部に、前記液晶材料を外方に漏出させることが可能な部位を備えた矩形形状による枠形状により前記シール剤を塗工して、前記気泡溜りを作製する
請求項１に記載の液晶セルの製造方法。
【請求項５】
前記液晶材料を外方に漏出させることが可能な部位が、
隙間を間に挟で線分又はドットにより前記シール剤を塗工した部位である
請求項４に記載の液晶セルの製造方法。
【請求項６】
前記積層工程は、
前記第１の積層体に前記第２の積層体を押圧して前記第１又は第２の積層体に塗工したシール剤を押しつぶし、前記液晶材料を外方に漏出させることが可能な部位を閉塞する
請求項４又は請求項５に記載の液晶セルの製造方法。
【請求項７】
前記気泡溜りを部分的に切り取るトリミング工程を備える
請求項１、請求項２、請求項３、請求項４、請求項５、請求項６の何れかに記載の液晶セルの製造方法。
【請求項８】
前記トリミング工程により切り取った前記気泡溜りの端部を封止剤により封止する封止工程を備える
請求項７に記載の液晶セルの製造工程。
【請求項９】
請求項１、請求項２、請求項３、請求項４、請求項５、請求項６、請求項７、請求項８の何れかに記載の液晶セルの製造方法により液晶セルを作製する液晶セルの作製工程と、
直線偏光板により前記液晶セルを挟持して調光フィルムを作製する調光フィルムの作製工程とを備える
調光フィルムの製造方法。
【請求項１０】
透明フィルム材による基材と、透明電極と、配向層とによる第１の積層体と、
透明フィルム材による基材と、少なくとも配向層とによる第２の積層体と、
液晶材料による液晶層とを備え、
前記液晶層を囲む枠形状により前記第１又は第２の積層体に設けられたシール剤により前記第１及び第２の積層体が一体化された液晶セルであって、
前記シール剤により、前記液晶層の気泡を保持する気泡溜りが形成された
液晶セル。
【請求項１１】
前記気泡溜りが、
前記枠形状に係る矩形形状の四隅の角部が外方に延出してなる部位である
請求項１０に記載の液晶セル。
【請求項１２】
前記気泡溜りが、
前記枠形状に係る矩形形状の対向する１対の各辺が局所的に外方に延出する部位である
請求項１０又は請求項１１に記載の液晶セル。
【請求項１３】
透明フィルム材による基材と、透明電極と、配向層とによる第１の積層体と、
透明フィルム材による基材と、少なくとも配向層とによる第２の積層体と、
液晶材料による液晶層とを備え、
前記液晶層を囲む枠形状により前記第１又は第２の積層体に設けられたシール剤により前記第１及び第２の積層体が一体化された液晶セルであって、
少なくとも前記液晶層の対向する部位に、前記液晶層の気泡を保持する気泡溜りの痕跡を備える
液晶セル。
【請求項１４】
請求項１０、請求項１１、請求項１２、請求項１３の何れかに記載の液晶セルと、
前記液晶セルを挟持する直線偏光板とを備える
調光フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば窓に貼り付けて外来光の透過を制御する電子ブラインド等に利用可能な調光フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば窓に貼り付けて外来光の透過を制御する調光フィルムに関する工夫が種々に提案されている（特許文献１、２）。このような調光フィルムの１つに、液晶を利用したものがある。この液晶を利用した調光フィルムは、透明電極を作製した透明フィルム材により液晶材料を挟持して液晶セルが作製され、この液晶セルを直線偏光板により挟持して作成される。これによりこの調光フィルムでは、液晶に印加する電界の可変により液晶の配向を可変して外来光を遮光したり透過したりし、さらには透過光量を可変したりし、これらにより外来光の透過を制御する。
【０００３】
このよう調光フィルムにおいて、透明フィルム材により挟持されてなる液晶材料による液晶層に気泡が残存すると、この気泡によって透過光の制御が局所的に損なわれることになる。これにより液晶層には、気泡が残存しないことが望まれる。これにより排気した環境で透明フィルム材により液晶材料を挟持することにより、液晶層に気泡が残存しないようにする方法が考えられる。しかしながらこの方法を採用しても完全には気泡が残存しないようにすることは難しい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平０３−４７３９２号公報
【特許文献２】特開平０８−１８４２７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、調光フィルム等に関して、液晶層に気泡が残存しないようすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、液晶材料により追い出される気泡を退避させて保持する気泡溜りを、シール剤を利用して作製する、との着想に至り、本発明を完成するに至った。
【０００７】
具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。
【０００８】
（１）  透明フィルム材による基材に透明電極、配向層を作製して第１の積層体を作製する第１の積層体作製工程と、
透明フィルム材による基材に少なくとも配向層を作製して第２の積層体を作製する第２の積層体作製工程と、
液晶材料を間に挟んで、前記第１及び第２の積層体を積層して一体化する積層一体化工程とを備え、
積層一体化工程は、
前記第１又は第２の積層体に枠形状によりシール剤を塗工すると共に、前記枠形状の内側に前記液晶材料を滴下するシール剤の塗工工程と、
前記シール剤の塗工工程により滴下した前記液晶材料を間に挟んで、前記第１の積層体に前記第２の積層体を積層して押圧する積層工程と、
前記シール剤を硬化して前記第１及び第２の積層体を一体化する一体化工程とを備え、
前記シール剤の塗工工程は、
前記積層工程における押圧により押し広げられる前記液晶材料により追い出される気泡を保持する気泡溜りを、前記シール剤の塗工により作製する
液晶セルの製造方法。
【０００９】
（１）によれば、気泡溜りにより液晶層から追い出される気泡を保持することにより、実質的に、液晶層に気泡が残存しないようにすることができ、これにより調光フィルム等に関して、液晶層に気泡が残存しないようすることができる。
【００１０】
（２）  （１）において、
前記シール剤の塗工工程は、
四隅の角部が外方に延出してなる矩形形状による枠形状により前記シール剤を塗工して、前記気泡溜りを作製する液晶セルの製造方法。
【００１１】
（３）  （１）において、
前記シール剤の塗工工程は、
対向する１対の各辺が局所的に外方に延出してなる矩形形状による枠形状により前記シール剤を塗工して、前記気泡溜りを作製する液晶セルの製造方法。
【００１２】
（４）  （１）において、
前記シール剤の塗工工程は、
少なくとも１辺の全部又は一部に、前記液晶材料を外方に漏出させることが可能な部位を備えた矩形形状による枠形状により前記シール剤を塗工して、前記気泡溜りを作製する液晶セルの製造方法。
【００１３】
（２）、（３）、又は（４）によれば、シール剤の塗工の形状により、気泡溜りを作製して、より具体的構成により、調光フィルム等に関して、液晶層に気泡が残存しないようすることができる。
【００１４】
（５）  （４）において、
前記液晶材料を外方に漏出させることが可能な部位が、
隙間を間に挟で線分又はドットにより前記シール剤を塗工した部位である液晶セルの製造方法。
【００１５】
（５）によれば、隙間の大きさ、シール剤の塗布量等の設定により、液晶材料により気泡溜りに気泡を押し出した後、この隙間をシール剤により閉塞することができ、これより気泡溜りを後工程で切り取ってしまう場合でも、液晶材料が漏出しないようにすることができる。
【００１６】
（６）  （４）又は（５）において、
前記積層工程は、
前記第１の積層体に前記第２の積層体を押圧して前記第１又は第２の積層体に塗工したシール剤を押しつぶし、前記液晶材料を外方に漏出させることが可能な部位を閉塞する液晶セルの製造方法。
【００１７】
（６）によれば、より具体的構成により、液晶材料により気泡溜りに気泡を押し出した後、シール剤により液晶材料が漏出しないようにすることができ、これより気泡溜りを後工程で切り取ってしまう場合でも、液晶材料が漏出しないようにすることができる。
【００１８】
（７）  （１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（６）の何れにおいて、
前記気泡溜りを部分的に切り取るトリミング工程を備える液晶セルの製造方法。
【００１９】
（８）  （７）において、
前記トリミング工程により切り取った前記気泡溜りの端部を封止剤により封止する封止工程を備える液晶セルの製造工程。
【００２０】
（９）  （１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（６）、（７）、（８）の何れに記載の液晶セルの製造方法により液晶セルを作製する液晶セルの作製工程と、
直線偏光板により前記液晶セルを挟持して調光フィルムを作製する調光フィルムの作製工程とを備える調光フィルムの製造方法。
【００２１】
（９）によれば、調光フィルムに関して、液晶層に気泡が残存しないようすることができる。
【００２２】
（１０）透明フィルム材による基材と、透明電極と、配向層とによる第１の積層体と、
透明フィルム材による基材と、少なくとも配向層とによる第２の積層体と、
液晶材料による液晶層とを備え、
前記液晶層を囲む枠形状により前記第１又は第２の積層体に設けられたシール剤により前記第１及び第２の積層体が一体化された液晶セルであって、
前記シール剤により、前記液晶層の気泡を保持する気泡溜りが形成された液晶セル。
【００２３】
（１０）によれば、気泡溜りにより液晶層の気泡を保持することにより、実質的に、液晶層に気泡が残存しないようにすることができ、これにより調光フィルム等に関して、液晶層に気泡が残存しないようすることができる。
【００２４】
（１１）  （１０）において、
前記気泡溜りが、
前記枠形状に係る矩形形状の四隅の角部が外方に延出してなる部位である液晶セル。
【００２５】
（１２）  （１０）又は（１１）において、
前記枠形状に係る矩形形状の対向する１対の各辺が局所的に外方に延出する部位である液晶セル。
【００２６】
（１１）又は（１２）によれば、より具体的構成により、液晶層に気泡が残存しないようすることができる。
【００２７】
（１３）  透明フィルム材による基材と、透明電極と、配向層とによる第１の積層体と、
透明フィルム材による基材と、少なくとも配向層とによる第２の積層体と、
液晶材料による液晶層とを備え、
前記液晶層を囲む枠形状により前記第１又は第２の積層体に設けられたシール剤により前記第１及び第２の積層体が一体化された液晶セルであって、
少なくとも前記液晶層の対向する部位に、前記液晶層の気泡を保持する気泡溜りの痕跡を備える液晶セル。
【００２８】
（１３）によれば、気泡溜りにより液晶層に気泡が残存しないようにして、この気泡溜りを取り除いてなる液晶セルを提供することができ、これにより調光フィルム等に関して、液晶層に気泡が残存しないようすることができる。
【００２９】
（１４）  （１０）、（１１）、（１２）、（１３）の何れかに記載の液晶セルと、
前記液晶セルを挟持する直線偏光板とを備える調光フィルム。
【００３０】
（１４）によれば、調光フィルム等に関して、液晶層に気泡が残存しないようすることができる。
【発明の効果】
【００３１】
本発明によれば、調光フィルム等に関して、液晶層に気泡が残存しないようすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の第１実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。
【図２】図１の調光フィルムの製造工程を示すフローチャートである。
【図３】シール剤の塗工の説明に供する図である。
【図４】図１の調光フィルムにおけるシール剤の塗工の説明に供する図である。
【図５】図１の調光フィルムにおける他の例によるシール剤の塗工の説明に供する図である。
【図６】図１の調光フィルムにおけるトリミング工程の説明に供する図である。
【図７】図１の調光フィルムにおける他の例によるトリミング工程の説明に供する図である。
【図８】本発明の第２実施形態に係る調光フィルムにおけるシール剤の塗工の説明に供する図である。
【図９】液晶材料を押し広げる際に押し潰されたシール剤を含む調光フィルムの部分断面図である。
【図１０】図８のシール剤の塗工に係るトリミング工程の説明に供する図である。
【図１１】図３のシール剤の塗工に係る他の例の説明に供する図である。
【図１２】図４のシール剤の塗工に係る他の例の説明に供する図である。
【図１３】図１１のシール剤の塗工に係る他の例の説明に供する図である。
【図１４】図１２のシール剤の塗工に係る他の例の説明に供する図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
〔第１実施形態〕
〔調光フィルム〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。この調光フィルム１は、建築物の窓ガラス、ショーケース、屋内の透明パーテーション等の調光を図る部位に、粘着剤層等により貼り付けて使用され、印加電圧の可変により透過光の光量を制御する。
【００３４】
この調光フィルム１は、液晶を利用して透過光を制御するフィルム材あり、直線偏光板２、３により調光フィルム用の液晶セル４を挟持して構成される。ここで直線偏光板２、３は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）にヨウ素等を含浸させた後、延伸して直線偏光板としての光学的機能を果たす光学機能層が形成され、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルム材による基材により光学機能層を挟持して作製される。直線偏光板２、３は、クロスニコル配置により、紫外線硬化性樹脂等による接着剤層により液晶セル４に配置される。なお直線偏光板２、３には、それぞれ液晶セル４側に光学補償に供する位相差フィルムを設けるようにしてもよい。
【００３５】
液晶セル４は、後述する透明電極への印加電圧により透過光の偏光面を制御する。これにより調光フィルム１は、透過光を制御して種々に調光を図ることができるように構成される。
【００３６】
〔液晶セル〕
液晶セル４は、フィルム形状による第１及び第２の積層体である上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄにより液晶層８を挟持して構成される。下側積層体５Ｄは、透明フィルム材による基材６に、透明電極１１、配向層１３を作製して形成される。上側積層体５Ｕは、透明フィルム材による基材１５に、透明電極１６、配向層１７を積層して形成される。液晶セル４は、この上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄに設けられた透明電極１１、１６の駆動により、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式により液晶層８に設けられた液晶材料の配向を制御し、これにより透過光の偏光面を制御する。
【００３７】
なおＴＮ方式に代えて、ＶＡ（Ｖｉｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｃｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式等の駆動方式を適用するようにしてよい。なおＩＰＳ方式により駆動する場合、上側積層体５Ｕ又は下側積層体５Ｄの透明電極１１又は１６の何れか一方を省略し、他方の透明電極のパターンニングにより駆動用の電界を印加する。
【００３８】
基材６、１５は、この種のフィルム材に適用可能な種々の透明フィルム材を適用することができるものの、光学異方性の小さなフィルム材を適用することが望ましい。この実施形態において、基材６、１５は、ハードコート層６Ａ、１５Ａを備えてなるポリカーボネートフィルムが適用されるものの、ＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）フィルム、ＴＡＣフィルム等を適用してもよい。
【００３９】
透明電極１１、１６は、この種のフィルム材に適用される各種の電極材料を適用することができ、この実施形態ではＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）による透明電極材により形成される。
【００４０】
配向層１３、１７は、ポリイミド樹脂層をラビング処理して作製される。なお配向層１３、１７は、液晶層８に係る液晶材料に対して配向規制力を発現可能な各種の構成を適用することができ、いわゆる光配向層により作製してもよく、ラビング処理、研磨処理による微細なライン状凹凸形状を賦型処理により作製して形成してもよい。
【００４１】
なお光配向材料は、光配向の手法を適用可能な各種の材料を適用することができるものの、この実施形態では、一旦配向した後には、紫外線の照射によって配向が変化しない、例えば光２量化型の材料を使用する。この光２量化型の材料については、「Ｍ．Ｓｃｈａｄｔ，  Ｋ．Ｓｃｈｍｉｔｔ，  Ｖ．  Ｋｏｚｉｎｋｏｖ  ａｎｄ  Ｖ．  Ｃｈｉｇｒｉｎｏｖ  ：  Ｊｐｎ．  Ｊ．  Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，  ３１，  ２１５５  （１９９２）」、「Ｍ．  Ｓｃｈａｄｔ，  Ｈ．  Ｓｅｉｂｅｒｌｅ  ａｎｄ  Ａ．  Ｓｃｈｕｓｔｅｒ  ：  Ｎａｔｕｒｅ，  ３８１，  ２１２（１９９６）」等に開示されている。
【００４２】
液晶層８は、この種の調光フィルムに適用可能な各種の液晶材料を広く適用することができる。液晶セル４は、液晶層８を囲む枠形状によりシール剤１９が配置され、このシール剤１９により上側積層体５Ｕ、下側積層体５Ｄが一体に保持され、液晶材料の漏出が防止される。調光フィルム１において、液晶層８には、ビーズ形状のスペーサ１２がランダムに配置され、このスペーサ１２により液晶層８の厚みが規定される。なおスペーサ１２は、このようなビーズ形状のスペーサ１２に代えて、柱形状のスペーサを適用してもよい。なおこのような柱形状のスペーサは、透明電極１１を作製してなる基材６の上に、フォトレジストを塗工して露光、現像することにより作製することができる。
【００４３】
〔製造工程〕
図２は、調光フィルム１の製造工程を示すフローチャートである。この製造工程は、電極作製工程ＳＰ２において、スパッタリング装置を使用したスパッタリングにより、下側積層体５Ｄ及び上側積層体５Ｕに係る基材６、１５にそれぞれ透明電極１１、１６を作製する。なおＩＰＳ方式による場合、透明電極１１、１６のうちの一方の作成が省略され、また他方の透明電極１１又は１６をパターンニングするパターンニング工程が設けられる。
【００４４】
続いてこの製造工程は、続く配向層作製工程ＳＰ３において、このようにして透明電極１１、１６を作製してなる基材６、１５にそれぞれ配向層１３、１７に係る塗工液を塗工して乾燥した後、加熱して硬化し、これにより配向層１３、１７の材料層を作製する。またこのようにして配向層１３、１７の材料層を作製してなる上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄに係る基材６、１５をラビング処理し、配向層１３、１７を作製する。なお配向層１３、１７に光配向層を適用する場合には、このようなラビング処理に係る工程に代えて光配向層に係る塗工液の塗工、露光の処理が実行される。
【００４５】
この製造工程は、続く積層一体化工程ＳＰ４において、空気を排気した環境で、上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄにより液晶層８に係る液晶材料を挟持して上側積層体５Ｕ又は下側積層体５Ｄを積層一体化し、液晶セル４を作製する。
【００４６】
この製造工程は、続くトリミング工程ＳＰ５において、このようにして作製された積層体を、シール剤１９を囲む矩形形状により切り出し、続く貼合工程ＳＰ６において、直線偏光板２、３を紫外線硬化性樹脂等の接着剤により貼合して調光フィルム１を作製する。
【００４７】
これらによりこの製造工程では、電極作製工程ＳＰ２、配向層作製工程ＳＰ３により、透明フィルム材による基材に透明電極、配向層を作製して第１の積層体を作製する第１の積層体作製工程と、透明フィルム材による基材に少なくとも配向層を作製して第２の積層体を作製する第２の積層体作製工程とが構成される。
【００４８】
〔積層一体化工程〕
積層一体化工程ＳＰ４においては、シール剤塗工工程ＳＰ４−１において、ディスペンサを使用して液晶層８を作製する部位を囲む枠形状によりシール剤１９を上側積層体５Ｕ又は下側積層体５Ｄに塗工した後、このシール剤による枠形状の内側に、液晶層８に係る液晶材料を滴下する。また続く積層工程ＳＰ４−２において、このように液晶材料を配置してなる上側積層体５Ｕ又は下側積層体５Ｄと、下側積層体５Ｄ又は上側積層体５Ｕとを対向するようにチャンバーに保持した後、このチャンバー内の空気を排気し、その後、上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄを積層して押圧する。なおこの押圧は、上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄを積層した後、例えば加圧機構による押圧により、及び又はチャンバー内の圧力を常圧に戻すことにより実行される。その後、この製造工程は、続く一体化工程ＳＰ４−３において、チャンバーより上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄの積層体を取り出し、紫外線の照射によりシール剤１９を半硬化させた後、加熱して硬化し、これにより上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄに係る基材６、１５を一体化して液晶セル４を作製する。
【００４９】
しかしながら例えば図３に示すように、単純に、矩形形状による枠形状によりシール剤１９を塗布した後、上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄにより液晶材料を挟持して液晶セルを作製する場合、排気した環境で作製する場合であっても、液晶層に気泡が残留する場合がある。
【００５０】
そこで図３との対比により図４に示すように、この実施形態では、気泡の退避場所として気泡を保持する気泡溜り１９Ａをシール剤１９により作製する。ここで例えばシール剤１９による枠形状のほぼ中央に液晶層８に係る液晶材料８Ａを滴下して上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄを押圧する場合、矢印により示すように、下側積層体５Ｄのほぼ中央に滴下された液晶材料８Ａが周辺に押し広げられてシール剤１９による枠体の内側が液晶材料８Ａにより充填されることになる。
【００５１】
より詳細には、液晶材料８Ａは、中央から押し広げられて、この図４の例において、最も液晶材料の滴下箇所に近接した矩形の枠形状に係るシール剤１９の部位である、この枠形状の各辺のほぼ中央部分が最初にシール剤１９に接触し（破線によりこの接触直前の液晶材料の外形形状を示す）、その後、四隅に向かって液晶材料８Ａがさらに押し広げられ、四隅の角部が最後に液晶材料８Ａにより充填されることになる。これによりこの場合、このシール剤１９により囲まれた矩形形状の領域に残留する空気は、液晶材料８Ａが押し広げられるのに伴って徐々に四隅に追いやられることになる。
【００５２】
ここでこのように残留する空気が最後に追いやられる箇所は、液晶材料を滴下した箇所から最も遠ざかったシール剤１９の塗布箇所であり、この図４の例では、四隅の角部である。これによりこのように残留する空気が最後に追いやられる箇所である、液晶材料を滴下した箇所から最も遠ざかった箇所に、気泡溜り１９Ａが作製される。
【００５３】
ここで気泡溜り１９Ａは、液晶材料８Ａを充填する箇所を局所的に外方に延出させて、気泡を保持しておくことが可能な形状により作製される。より具体的に、気泡を貯め置いた部位が、後述するトリミング工程で切り取られてしまう部位となるように、外方に延出した部位の先端側部位が、この切り取る部位に含まれるように形成される。この図４の例では、シール剤１９により囲まれた領域が角部で帯状に外方に延出する形状となるように、シール剤１９による枠形状の４隅の角部が外方に延出する形状により作製される。これによりこの実施形態では、この帯状に外方に飛び出した部位に気泡を貯め置くようにして、液晶層８における気泡の残留を防止する。
【００５４】
なお液晶材料８Ａの滴下にあっては、種々の形状により滴下することができ、例えば、この図４に示すように、中央の１箇所に纏めて滴下する代わりに、複数個所に分けて中央に滴下してもよい。
【００５５】
また図４との対比により図５に示すように、シール剤１９による枠形状の内側、対角線状に液晶材料８Ａを滴下するようにしてもよい。なおこの場合、矢印により示すように、液晶材料８Ａは、積層体５Ｄ、５Ｕによる押圧により押し広げられて、この対角線に係る線状の先端部分が最初にシール剤１９に接触する。その後、この接触した部位から各辺の中央部分に向かって液晶材料８Ａがシール剤１９に接触し、最後に各辺の中央部分でシール剤１９に液晶材料８Ａが接触することになる。これによりこのような塗布方法を採用する場合には、各辺の中央部分に気泡溜り１９Ａを作製する。
【００５６】
またさらにこのように対角線形状により液晶材料を滴下するようにして、さらに中央より水平方向及び垂直方向に延長する直線形状により液晶材料を滴下する場合、各辺を２等分して形成される各線分の中央部分で、最後にシール剤１９に液晶材料が接触することになる。これによりこの場合には、この各辺を２等分して形成される各線分の中央部分の部位に気泡溜り１９Ａを作製する。
【００５７】
〔トリミング工程〕
図６及び図７は、図４及び図５との対比によりトリミング工程の説明に供する図である。トリミング工程ＳＰ５は、積層一体化工程ＳＰ４で積層一体化された上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄの積層体について、シール剤１９の外周側部分を切り取り、これにより所望の形状による液晶セル４を作製する。トリミング工程ＳＰ５は、この外周側部分を切り取る際に、図６及び図７において、一点鎖線により切り取り線２０を示すように、気泡溜り１９Ａに追いやられた気泡を保持する部分である気泡溜り１９Ａの先端部分を、併せて切り取る。なおこの切断にあっては、レーザービームの照射により切断する場合、金型を使用して切断する場合等、この種のフィルム材の切断に適用可能な種々の手法を広く適用することができる。
【００５８】
トリミング工程ＳＰ５は、このようにし先端部分を切り取って、液晶材料８Ａが露出する端部に、封止剤を塗工した後、硬化させ、これにより封止剤により封止して液晶材料８Ａの漏出を防止する。なおここで封止剤は、紫外線硬化性樹脂等、熱硬化性樹脂等、各種の封止剤を広く適用することができる。
【００５９】
これによりこの実施形態に係る液晶セル４は、先端側を切り取って封止剤により封止した気泡溜り１９Ａの痕跡を見て取ることができる。しかして気泡溜り１９Ａは、上述したように、残留する空気が最後に追いやられる箇所に設けられ、このように最後に追いやられる箇所は、液晶材料８Ａの塗工によっても変化するものの、図６及び図７に示すように、液晶セル４の対向する角部、又は液晶セル４の対向する辺の途中の部位となる。これによりこの液晶セル４は、気泡溜り１９Ａの痕跡が、少なくとも対角線上の対向する角部、又は対向する辺の途中に見て取ることができる。またこの気泡溜り１９Ａの痕跡は、液晶層８と連通して液晶材料８Ａが設けられてなる部位であって、先端が封止剤により封止されている部位である。
【００６０】
〔第２実施形態〕
図８は、本発明の第２実施形態に係る積層一体化工程の説明に供する図である。この実施形態では、滴下箇所を移動させながら微小液滴により液晶材料を連続的に滴下させることにより、液晶材料８Ａを、調光フィルム１の外形形状の相似形状である矩形形状の領域であって、シール剤１９による枠形状のほぼ中央の領域に滴下する。なおこのような微小液滴の連続的な滴下は、例えばインクジェット方式による液滴吐出方法を適用して実行することができる。
【００６１】
さらにこの実施形態では、このように調光フィルム１の外形形状に相似する形状により液晶材料８Ａを配置して、押圧により押し広げられる液晶材料８Ａを外方に漏出させることが可能な部位を備えた形状によりシール剤１９Ｃによる枠形状を作製し、これによりシール剤１９Ｃによる枠形状の全周に気泡溜り１９Ａを作製する。より具体的に、この実施の形態では、途切れ途切れの形状により、より具体的には、離間したドット（点状）の繰り返しにより作製し（図８において、符号１９Ｃにより示す）、これにより外方に漏出させることが可能な隙間を備えた形状によりシール剤１９Ｃによる枠形状を作製する。なおこれにより破線のように、隙間を間に挟んだ短い線分の繰り返しの形状によりシール剤１９を塗布してもよく、さらには一点鎖線、二点鎖線のように、隙間を間に挟んだドットと短い線分との繰り返しの形状によりシール剤１９を塗布しても良い。
【００６２】
すなわちこのように調光フィルム１の外形形状の相似形状である矩形形状の領域により液晶材料８Ａを滴下した場合、矢印により示すように、この矩形形状の形状をほぼ維持したまま液晶材料８Ａが押し広げられることになる。その結果、この枠形状の内側に残留する空気は、ほぼ全周で、この液晶材料８Ａにより外周側に追いやられることになる。
【００６３】
このようにして外周側に追いやられた空気は、ドットの間の隙間を通ってシール剤１９Ｃによる枠形状の外側に追い出され、また液晶材料８Ａも一部がこのドットの間の隙間を通って外方に漏れ出すことになる。これによりこの実施形態では、このドットによるシール剤１９Ｃの外周側に気泡溜り１９Ａが形成される。
【００６４】
この実施形態においては、このドットの隙間を最終的に閉塞するように、ドットに係るシール剤１９Ｃの塗工量、隙間の大きさが調整され、これにより上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄをシール剤１９Ｃにより一体に保持すると共に、液晶材料８Ａの漏出が防止される。
【００６５】
すなわちこのように押圧により液晶材料８Ａを押し広げる場合にあっては、これに伴ってドット形状によるシール剤１９Ｃも押し潰されることになり、隣接するドットとの間の隙間の大きさが低下することになり、ドットが大きく押し潰された場合等にあっては、ドット間の隙間が押しつぶされたドットのシール剤により塞がれることになる。これによりこのシール剤１９Ｃによるドットの直径、高さ、隙間の大きさ等を適切に設定すれば、気泡を外方に押し出した後、隣接するドット間の隙間を閉塞することができる。
【００６６】
図９は、液晶材料８Ａを押し広げる際に押し潰されたシール剤１９Ｃを含む調光フィルム１の部分断面図である。この断面図は、互いに隣接するドット形状のシール剤１９Ｃの境界部分の断面図である。
液晶材料８Ａが押圧されると、液晶材料８Ａは、シール剤１９Ｃの間を押し流される。シール剤１９Ｃが流れている状態でシール剤１９Ｃが押し潰されると、隣接するシール剤１９Ｃの間に、流れている液晶材料８Ａが挟まれて筋状の液晶材料８Ｂが残る場合がある。
【００６７】
さらにこの実施形態では、このドットによるシール剤１９Ｃの枠形状の外側に、これを囲む枠形状によりシール剤１９Ｂを連続する線分の形状により塗工し、これにより内側のシール剤１９Ｃによる枠形状から外方に漏れ出す液晶材料８Ａについて、さらなる外方への漏出を防止する。またこのシール剤１９Ｂにより一段と確実に上側積層体５Ｕ、下側積層体５Ｄを一体化する。
【００６８】
これによりこの実施形態では、別途、トリミング工程を設けることなく、調光フィルムを作製する。なおこれにより、トリミング工程を設けるようにしてもよく、この場合には、図８との対比により図１０に示すように、この２重のシール剤１９Ｂ、１９Ｃによる枠形状の間で、外側を切り落とすことにより、液晶材料８Ａの漏出を有効に回避して充分な大きさにより調光フィルムを作製することができるものの、切り落とす箇所にあっては、外周側のシール剤１９Ｂによる枠形状の外側に設定しても良い。
【００６９】
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を組み合わせることができ、さらには種々に変更することができる。
【００７０】
すなわち上述の第１実施形態では、四隅、各辺の一部を外方に延出させて気泡溜りを作製する場合、第２実施形態では、隙間を間に挟んだドットの繰り返しにより気泡溜りを作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、第１及び第２の実施形態を組み合わせ、図４及び図５との対比により図１１及び図１２に示すように、外方に延出された部位の根本部分に隙間を間に挟んだドットを繰り返して気泡溜り１９Ａを作製するようにしてもよい。
この場合も、上述の図９のように、外方に延出された部位の根本部分に隙間を間に挟んだドットの部分も、押し潰された状態では、間に筋状の液晶材料８Ｂが残る場合がある。
また図１３及び図１４に示すように、この図１１及び図１２の構成において、外方に延出する部位のシール剤１９の塗工を中止して、気泡溜り１９Ａを作製するようにしてもよい。
【００７１】
また上述の第２実施形態では、隙間を間に挟んだドット、線分の繰り返し形状により液晶材料が漏出する部位を作製して気泡溜りを作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、隙間を間に挟んで短い線分をその幅方向に繰り返し作製して液晶材料が漏出する部位を作製し、気泡溜りを作製する場合等、この液晶材料が漏出する部位にあっては、種々の構成を広く適用することができる。
【００７２】
また上述の実施形態では、トリミング工程により気泡溜りに保持した気泡を取り除く場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば調光フィルムを配置する状態によっては、気泡溜りを見て取ることができないようにすることができることにより、トリミング工程による気泡溜りの部分的な削除にあっては、省略してもよい。
【符号の説明】
【００７３】
１  調光フィルム
２、３  直線偏光板
４  液晶セル
５Ｄ  下側積層体
５Ｕ  上側積層体
６、１５  基材
６Ａ、１５Ａ  ハードコート層
８  液晶層
８Ａ  液晶材料
１１、１６  透明電極
１２  スペーサ
１３、１７  配向層
１９、１９Ｂ、１９Ｃ  シール剤
１９Ａ  気泡溜り
２０  切り取り線
【図１】
2017049584.tif 000003
【図２】
2017049584.tif 000004
【図３】
2017049584.tif 000005
【図４】
2017049584.tif 000006
【図５】
2017049584.tif 000007
【図６】
2017049584.tif 000008
【図７】
2017049584.tif 000009
【図８】
2017049584.tif 000010
【図９】
2017049584.tif 000011
【図１０】
2017049584.tif 000012
【図１１】
2017049584.tif 000013
【図１２】
2017049584.tif 000014
【図１３】
2017049584.tif 000015
【図１４】
2017049584.tif 000016