(57)【要約】【課題】天然木の木目模様に現れる照りのある光沢を再現することができる化粧シートの設計方法を提供する。【解決手段】化粧シート５の設計方法は、天然木の画像を取得する工程と、その工程の後に、画像を画素の大きさが５０μｍ以上５ｍｍ以下となるように変換すると共に、取得された画像の階調数より小さく、且つ、２以上３０以下である第２階調数を有するように変換する工程と、その工程の後に、基材３の一方の面３１に変換された画像Ｇを対応させると共に、一方の面３１の画素Ｐそれぞれに対応する領域内に、画素Ｐそれぞれの階調に応じて反射主面２１を有する反射部２を配置する工程と、を備え、反射主面２１は、断面において直線状又は湾曲線状を呈し、反射部２それぞれの内の少なくとも一部は、断面における反射主面２１の中央位置での湾曲線部分に対する接線又は直線が一方の面３１に対して傾きを有する。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
天然木を模した光沢を再現したシート状の基材を備える化粧シートの設計方法であって、
複数の画素からなる前記天然木の画像を取得する取得工程と、
前記取得工程の後に、前記画像を、前記画素それぞれの大きさが５０μｍ以上５ｍｍ以下となるように変換すると共に、前記取得工程において取得された前記画像の階調数より小さく且つ２以上３０以下である第２階調数を有するように変換する変換工程と、
前記変換工程の後に、前記基材の一方の面に変換された前記画像を対応させると共に、前記基材の一方の面の前記画素それぞれに対応する領域内に、前記画素それぞれの階調に応じて、入射光を反射する反射主面を有する反射部を配置する配置工程と、を備え、
前記反射主面は、前記一方の面に沿った所定方向に垂直な断面において直線状又は湾曲線状を呈し、
前記反射部それぞれの内の少なくとも一部は、前記断面における前記反射主面の中央位置での湾曲線部分に対する接線又は直線が前記一方の面に対して傾きを有するように形成されている、化粧シートの設計方法。
【請求項２】
前記取得工程の後であって前記変換工程の前に、前記画像を、前記取得工程において取得された前記画像の階調数より小さく且つ前記第２階調数より大きい第１階調数を有するようにグレースケール化するグレースケール化工程を更に備える、請求項１記載の化粧シートの設計方法。
【請求項３】
前記配置工程において、互いに間隔を空けて２次元的に配列された位置に前記反射部を配置する、請求項１又は２記載の化粧シートの設計方法。
【請求項４】
前記配置工程において、前記画素それぞれの階調に応じて、前記領域内に配置される前記反射部の数を変更する、請求項１〜３の何れか一項記載の化粧シートの設計方法。
【請求項５】
前記配置工程において、前記画素それぞれの階調に応じて、前記領域内に配置される前記反射部の前記反射主面の前記傾きを変更する、請求項１〜４の何れか一項記載の化粧シートの設計方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、化粧シートの設計方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、内装や家具の表面材に使用される化粧板として、木目模様が印刷された化粧シートを合板等に貼り合わせたものが多く使用されている。このような化粧シートにおいて、木材の質感を表現した意匠性に優れるものが提案されている。例えば、特許文献１に記載された化粧板では、薄く平坦にした針葉樹材に、広葉樹材の木目模様が印刷された透明オレフィン樹脂系シートを貼り合わせることで、優れた意匠性を実現している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第３６７２６３６号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、天然木の木目模様は、照りのある光沢を有する。照りとは、天然木に光が入射した際に正反射方向とは異なる方向に現れる光沢であり、光の入射角度又は観察位置を移動すると、照りの現れる箇所も移動する。このような照りが、天然木の光沢の特徴の一つとなっている。しかしながら、上述したような従来の化粧シートでは、天然木の木目模様に現れる照りのある光沢を再現することが難しかった。
【０００５】
そこで、特願２０１４−２４９８５６において、上述したような照りのある光沢を再現することができる化粧シートが提案されている。そして、このような化粧シートの構成を実際の天然木の木目模様に適用する際の設計方法が望まれている。
【０００６】
本発明は、天然木の木目模様に現れる照りのある光沢を再現することができる化粧シートの設計方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る化粧シートの設計方法は、天然木を模した光沢を再現したシート状の基材を備える化粧シートの設計方法であって、複数の画素からなる天然木の画像を取得する取得工程と、取得工程の後に、画像を、画素それぞれの大きさが５０μｍ以上５ｍｍ以下となるように変換すると共に、取得工程において取得された画像の階調数より小さく且つ２以上３０以下である第２階調数を有するように変換する変換工程と、変換工程の後に、基材の一方の面に変換された画像を対応させると共に、基材の一方の面の画素それぞれに対応する領域内に、画素それぞれの階調に応じて、入射光を反射する反射主面を有する反射部を配置する配置工程と、を備え、反射主面は、一方の面に沿った所定方向に垂直な断面において直線状又は湾曲線状を呈し、反射部それぞれの内の少なくとも一部は、断面における反射主面の中央位置での湾曲線部分に対する接線又は直線が一方の面に対して傾きを有するように形成されている。
【０００８】
この化粧シートの設計方法によれば、反射部の各反射主面が、基材の一方の面に沿った所定方向に垂直な断面において、基材の一方の面に対して傾きを有する。このため、所定方向に交差する方向において、反射主面が入射光を反射した光が、基材の一方の面における正反射角度とは異なる角度に射出される。これにより、光の入射角度又は観察位置を移動した際に、照りの生じる箇所を移動させることができるため、天然木を模した光沢を再現することが可能となる。ここで、取得した天然木の画像を、画素それぞれの大きさが５０μｍ以上５ｍｍ以下となるように変換して、基材の一方の面に対応させる。これにより、基材の一方の面の画素それぞれに対応する領域を広くすることができるため、その領域内に画素それぞれの階調に応じて反射部を配置することが可能となる。また、取得した天然木の画像を、画素それぞれの階調数が２以上３０以下となるように変換する。これにより、画素それぞれの階調数が多くなり過ぎないため、画素それぞれの階調に応じて反射部の配置を変更した場合であっても、反射部の配置のパターン数が多くなり過ぎることを抑制することができる。このため、容易に、画素それぞれの階調に応じて、反射部を配置することが可能となる。以上により、照りのある光沢を再現することができる化粧シートの構成を、実際の天然木の木目模様に適用することができる。よって、天然木の木目模様に現れる照りのある光沢を再現することが可能となる。
【０００９】
上記の化粧シートの設計方法では、取得工程の後であって変換工程の前に、画像を、取得工程において取得された画像の階調数より小さく且つ第２階調数より大きい第１階調数を有するようにグレースケール化するグレースケール化工程を更に備えてもよい。この場合、上記化粧シートの設計方法の作用効果を好適に実現することができる。
【００１０】
上記の化粧シートの設計方法では、配置工程において、互いに間隔を空けて２次元的に配列された位置に反射部を配置してもよい。この場合、反射部の配置数（配置密度）の調整が容易であり、視覚的なムラも生じ難くなる。
【００１１】
上記の化粧シートの設計方法では、配置工程において、画素それぞれの階調に応じて、領域内に配置される反射部の数を変更してもよい。この場合、光の入射角度又は観察位置を移動した際に、速やかに照りの生じる箇所を移動させることができるため、意匠性を向上させることができる。
【００１２】
上記の化粧シートの設計方法では、配置工程において、画素それぞれの階調に応じて、領域内に配置される反射部の反射主面の傾きを変更してもよい。この場合、光の入射角度又は観察位置を移動した際に、徐々に照りの生じる箇所を移動させることができるため、意匠性を向上させることができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、天然木の木目模様に現れる照りのある光沢を再現することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】天然木の木目模様の一例を示す図である。
【図２】第１実施形態に係る化粧シートの設計方法を適用して設計された化粧シートを示す断面図である。
【図３】反射部の形状の一例を示す図である。
【図４】化粧シートの設計方法を示すフローチャートである。
【図５】画素の大きさ及び階調数を変換した画像の一例を示す図である。
【図６】図５の画像を基材の一方の面に対応させた状態を示す図である。
【図７】第１実施形態に係る反射部の配置の一例を示す図である。
【図８】化粧シートの設計方法を実行するための設計システムの一例を示す図である。
【図９】第２実施形態に係る反射部の配置の一例を示す図である。
【図１０】第３実施形態に係る反射部の配置の一例を示す図である。
【図１１】第１変形例に係る反射部の形状の一例を示す図である。
【図１２】第２変形例に係る反射部の形状の一例を示す図である。
【図１３】第３変形例に係る反射部の形状の一例を示す図である。
【図１４】第４変形例に係る反射部の形状の一例を示す図である。
【図１５】第５変形例に係る反射部の形状の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明に係る化粧シートの設計方法の実施形態について、図面を用いて詳細に説明する。なお、説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いる場合があり、重複する説明は省略する。また、各図面では、説明を容易にするため、化粧シートの上面図において左右方向に対応する方向をＸ軸方向、上下方向に対応する方向をＹ軸方向とすると共に、化粧シートに垂直な方向をＺ軸方向として説明を行う。
【００１６】
［第１実施形態］
まず、化粧シートの設計方法を適用して設計された化粧シートの構成について説明する。図１は、天然木の木目模様の一例を示す図である。図２は、第１実施形態に係る化粧シートの設計方法を適用して設計された化粧シートを示す断面図である。化粧シート５は、天然木を模した光沢を有し、合板等に貼り合わせることで内装や家具の表面材に使用されるものである。図１には、一例として、図中のＹ軸方向に沿って木目模様を有する天然木が示されている。木目模様は、照りのある光沢を有している。すなわち、Ｙ軸方向に光が入射すると、正反射方向とは異なる方向に光沢が現れる。そして、光の入射角度又は観察位置を移動すると、照りの現れる箇所が移動する。
【００１７】
図２に示されるように、化粧シート５は、シート状の下層基材６と、下層基材６上に設けられた木目模様の印刷面４と、下層基材６との間で印刷面４を挟み込むように下層基材６上に配置されたエンボスシート１と、を備えて構成されている。なお、化粧シート５は、少なくともエンボスシート１の部分を備えていればよい。
【００１８】
下層基材６の材料としては特に限定はされないが、例えば熱可塑性樹脂を用いることができる。下層基材６の好適な材料の一例としては、ランダムＰＰ（ポリプロピレン）、ＨＤＰＥ（高密度ポリエチレン）等が挙げられ、また、これらの熱可塑性樹脂に有機又は無機の顔料を添加してもよい。
【００１９】
印刷面４に用いられるインキとしては、例えばウレタン樹脂バインダーに有機又は無機の顔料を添加したものを好適に用いることができるが、これに限定されない。化粧シート５の下層基材６とエンボスシート１との界面（印刷面４）に接着層（図示せず）を追加してもよい。接着層としては、例えばポリプロピレン系の接着性樹脂等を用いることができるが、これに限定されず、化粧シート５の下層基材６とエンボスシート１の密着性等を考慮して適宜選択することができる。また、ポリエステルポリオールにイソシアネート系を混合したアンカー層を化粧シート５の下層基材６と接着層との間に追加してもよい。
【００２０】
次に、化粧シート５のエンボスシート１について、より詳細に説明する。図３は、反射部の形状の一例を示す図である。図２及び図３に示されるように、エンボスシート１は、透光性を有するシート状の基材３と、基材３の一方の面３１上に設けられる複数の反射部２と、を備えて構成されている。図３では、複数配置される反射部２の内の１つについて、上面図（図３（ａ））と、Ｘ軸方向（すなわち、一方の面３１に沿った所定方向）に垂直な断面図（図３（ｂ））と、Ｙ軸方向に垂直な断面図（図３（ｃ））とを示している。反射部２それぞれは、基材３の一方の面３１に、互いに間隔を空けて２次元的に配列されている（図７参照）。
【００２１】
図３（ａ）及び図３（ｂ）に示されるように、複数の反射部２それぞれは、反射主面２１と、反射主面２１及び基材３の間に設けられた接続面２２，２３とを有している。反射主面２１は、Ｘ軸方向に垂直な断面において直線状を呈し、入射した光を反射する。反射部２それぞれは、Ｘ軸方向に垂直な断面における反射主面２１の直線が一方の面３１に対して傾きを有するように形成されている。なお、反射部２それぞれの内の少なくとも一部は、Ｘ軸方向に垂直な断面における反射主面２１が一方の面３１と平行に（傾きを有さないように）形成されていてもよい。
【００２２】
図３においては、傾きが所定の角度θとなるように形成された反射部２が例示されている。ここで、図２に示されるように、エンボスシート１においては、Ｙ軸正方向に向かって一方の面３１に近づくように角度θで傾斜する反射主面２１を有する反射部２と、これとはＺＸ平面に関して対称に、Ｙ軸負方向に向かって一方の面３１に近づくように角度θで傾斜する反射主面２１を有する反射部２との両方が設けられている。これにより、Ｘ軸方向に交差する方向に光が入射した場合において、化粧シート５を観察する位置を移動すると、一の観察位置においては明部であった位置が他の観察位置においては暗部となり、且つ、一の観察位置においては暗部であった位置が他の観察位置においては明部となる。
【００２３】
図３に戻り、接続面２２，２３は、Ｘ軸方向に垂直な断面において、反射主面２１と接続する部位が円弧状をなして、当該反射主面２１と基材３の一方の面３１とを接続する。このように、接続面２２，２３に円弧領域を設けることによって、Ｙ軸方向からエンボスシート１に入射した光のうち接続面２２，２３に入射した光を散乱反射させることができる。なお、反射部２それぞれは、必ずしも接続面２２，２３の両方を有している必要はない。例えば、反射部２それぞれは、接続面２３を有さずに、反射主面２１の図３（ｂ）におけるＹ軸正方向の端部が一方の面３１に直接接続されるように形成されていてもよい。
【００２４】
一方、反射部２は、図３（ｃ）に示されるように、Ｙ軸方向に垂直な断面においては、全体が湾曲線状を呈する。このような構成により、反射部２は、Ｙ軸方向からエンボスシート１に入射した光を散乱反射させることができる。なお、各図では反射部２は凸形状として示しているが、凹形状であってもよい。
【００２５】
反射部２において、Ｘ軸方向に垂直な断面及びＹ軸方向に垂直な断面の幅は、１０μｍ以上、より好ましくは５０μｍ以上であることが望ましい。１０μｍを下回ると、回折光の影響により虹色に光ってしまうためである。なお、反射部２において、Ｘ軸方向に垂直な断面及びＹ軸方向に垂直な断面の幅は、後述するように、大きさが変換された画素それぞれに対応する領域内に互いに間隔を空けて２次元的に配列可能な大きさを上限とする。
【００２６】
次に、このような反射部２を用いて天然木を模した光沢を再現したシート状の基材３を備える化粧シート５の設計方法について、図４〜図７を参照しつつ説明する。図４は、化粧シートの設計方法を示すフローチャートである。図５は、画素の大きさ及び階調数を変換した画像の一例を示す図である。図６は、図５の画像を基材の一方の面に対応させた状態を示す図である。図７は、第１実施形態に係る反射部の配置の一例を示す図である。
【００２７】
まず、図４のフローチャートのステップＳ１において、木目模様に現れる照りのある光沢を再現しようとする天然木の画像（図１参照）を取得する（取得工程）。このような画像は、複数の画素からなる画像データとして、例えばスキャナ、デジタルカメラ等によって取得される。天然木の画像を取得すると、ステップＳ２に移行する。
【００２８】
ステップＳ２において、ステップＳ１で取得した画像を、第１階調数を有するようにグレースケール化する（グレースケール化工程）。本実施形態においては、第１階調数は、画像内の最明部を２５５、最暗部を０とした２５６階調であるが、第１階調数は２５６階調に限定されず、異なる階調数であってもよい。画像をグレースケール化すると、ステップＳ３に移行する。
【００２９】
ステップＳ３において、ステップＳ２でグレースケール化した画像の画素の大きさを変換する（変換工程）。具体的には、ステップＳ２でグレースケール化した画像を、画素それぞれの大きさが５０μｍ以上５ｍｍ以下、より好ましくは１ｍｍ以下となるように変換する。このとき、例えば大きさが変換された後の画素それぞれの階調は、当該画素の領域に位置していた、大きさが変換される前の画素の階調の平均値としてもよい。画素の大きさを変換すると、ステップＳ４に移行する。
【００３０】
ステップＳ４において、図５に示されるように、ステップＳ３で画素の大きさを変換した画像の階調数を変換する（変換工程）。具体的には、ステップＳ３で画素の大きさを変換した画像を、第１階調数より小さく、且つ、２以上３０以下である第２階調数を有するように変換する。本実施形態においては、第２階調数は４階調である。以下、画素の大きさが変換されると共に階調数が変換された画像を画像Ｇと表し、また、画像Ｇを構成する画素それぞれを画素Ｐと表す。
【００３１】
図５では、Ｘ軸に交差する方向への入射光が反射した光を所定の観察位置で観察した場合に、最明部として観察される画素Ｐから最暗部として観察される画素Ｐへと、順に、白、明るいグレー、暗いグレー、黒として表している。なお、観察位置を移動することによって、白と黒との位置が逆転すると共に、明るいグレーと暗いグレーとの位置が逆転する。画像の階調数を変換すると、ステップＳ５に移行する。
【００３２】
ステップＳ５において、図６に示されるように、基材３の一方の面３１に、ステップＳ４で階調数を変換した画像Ｇを対応させる（配置工程）。基材３の一方の面３１に画像Ｇを対応させると、ステップＳ６に移行する。
【００３３】
ステップＳ６において、図７に示されるように、基材３の一方の面３１の画素Ｐそれぞれに対応する領域内に、画素Ｐそれぞれの階調に応じて反射部２を配置する（配置工程）。具体的には、反射部２を、互いに間隔を空けて２次元的に配列された位置に配置する。ここで、図７に示される全体の領域は、図６中に破線で囲まれた領域Ａである。本実施形態においては、所定の観察位置で観察した場合における画素Ｐそれぞれの明るさの違いを再現するために、画素Ｐそれぞれの階調に応じて、画素Ｐそれぞれに対応する領域内に配置される反射部２の数、及び、反射部２のＹ軸方向における向きを変更している。例えば、図７において、一の画素Ｐに対応する領域Ａ１には、Ｙ軸正方向に向かって一方の面３１に近づくように傾斜する反射部２を２つ配置しており、他の画素Ｐに対応する領域Ａ２には、Ｙ軸負方向に向かって一方の面３１に近づくように傾斜する反射部２を２つ配置しており、更に他の画素Ｐに対応する領域Ａ３には、Ｙ軸負方向に向かって一方の面３１に近づくように傾斜する反射部２を４つ配置している。基材３に反射部２を配置すると、本実施形態に係る化粧シート５の設計方法が完了する。
【００３４】
なお、上述したような化粧シート５の設計方法は、以下に説明する設計システムによって実行されてもよい。図８は、化粧シートの設計方法を実行するための設計システムの一例を示す図である。図８に示されるように、設計システム４０は、画像取得部４１と、処理部４２とを備える。処理部４２は、グレースケール化部４３と、画素サイズ変換部４４と、階調数変換部４５と、画素対応部４６と、反射部配置部４７とを有する。
【００３５】
画像取得部４１は、例えばスキャナ、デジタルカメラ等である。画像取得部４１は、木目模様に現れる照りのある光沢を再現しようとする天然木の画像（図１参照）を、複数の画素からなる画像データとして取得する。画像取得部４１は、取得した画像データを処理部４２のグレースケール化部４３に送信する。
【００３６】
グレースケール化部４３は、画像データを、第１階調数を有するようにグレースケール化する。グレースケール化部４３は、グレースケール化した画像データを画素サイズ変換部４４に出力する。
【００３７】
画素サイズ変換部４４は、グレースケール化した画像データの画素の大きさを変換する。具体的には、グレースケール化した画像データを、画素それぞれの大きさが５０μｍ以上５ｍｍ以下、より好ましくは１ｍｍ以下となるように変換する。このとき、例えば大きさが変換された後の画素それぞれの階調は、当該画素の領域に位置していた、大きさが変換される前の画素の階調の平均値としてもよい。画素サイズ変換部４４は、画素の大きさが変換された画像データを階調数変換部４５に出力する。
【００３８】
階調数変換部４５は、画素の大きさを変換した画像データの階調数を変換する。具体的には、画素の大きさを変換した画像データを、第１階調数より小さく、且つ、２以上３０以下である第２階調数を有するように変換する。本実施形態においては、第２階調数は４階調である。階調数変換部４５は、階調数が変換された画像データを画素対応部４６に出力する。
【００３９】
画素対応部４６は、基材３の一方の面３１に、階調数を変換した画像データを対応させる。画素対応部４６は、基材３の一方の面３１に画像データとしての画像Ｇを対応させると、画像データ及び当該画像データに対応させた一方の面の領域に関する情報を反射部配置部４７に出力する。
【００４０】
反射部配置部４７は、基材３の一方の面３１の画素Ｐそれぞれに対応する領域内に、画素Ｐそれぞれの階調に応じて反射部２を配置する。具体的には、反射部２を、互いに間隔を空けて２次元的に配列された位置に配置する。本実施形態においては、所定の観察位置で観察した場合における画素Ｐそれぞれの明るさの違いを再現するために、画素Ｐそれぞれの階調に応じて、画素Ｐそれぞれに対応する領域内に配置される反射部２の数、及び、反射部２のＹ軸方向における向きを変更している。このようにして、設計システム４０によって、化粧シート５の設計方法を実行することができる。
【００４１】
なお、このような設計システム４０は、ＣＰＵ、メモリ、ディスプレイ等のハードウェアを備えたコンピュータにスキャナ等を接続することによって構成することができる。そして、上述した画像データの変換処理や画像データの対応処理を行うコンピュータソフトウェア（プログラム）をＣＰＵ、メモリ等のハードウェア上に読み込ませることにより、上述した各処理を実行することが可能である。
【００４２】
以上説明したように、第１実施形態に係る化粧シート５の設計方法では、反射部２の各反射主面２１が、Ｘ軸方向に垂直な断面において、基材３の一方の面３１に対して傾きを有する。このため、Ｘ軸方向に交差する方向において、反射主面２１が入射光を反射した光が、基材３の一方の面３１における正反射角度とは異なる角度に射出される。これにより、光の入射角度又は観察位置を移動した際に、照りの生じる箇所を移動させることができるため、天然木を模した光沢を再現することが可能となる。ここで、取得した天然木の画像を、画素それぞれの大きさが５０μｍ以上５ｍｍ以下、より好ましくは１ｍｍ以下となるように変換して、基材３の一方の面３１に対応させる。これにより、基材３の一方の面３１の画素Ｐそれぞれに対応する領域を広くすることができるため、その領域内に画素Ｐそれぞれの階調に応じて反射部２を配置することが可能となる。また、取得した天然木の画像を、画素それぞれの階調数が２以上３０以下となるように変換する。これにより、画素Ｐそれぞれの階調数が多くなり過ぎないため、画素Ｐそれぞれの階調に応じて反射部２の配置を変更した場合であっても、反射部２の配置のパターン数が多くなり過ぎることを抑制することができる。このため、容易に、画素Ｐそれぞれの階調に応じて、反射部２を配置することが可能となる。以上により、照りのある光沢を再現することができる化粧シート５の構成を、実際の天然木の木目模様に適用することができる。よって、天然木の木目模様に現れる照りのある光沢を再現することが可能となる。
【００４３】
また、化粧シート５の設計方法では、取得工程の後であって変換工程の前に、画像を、取得工程において取得された画像の階調数より小さく且つ第２階調数より大きい第１階調数を有するようにグレースケール化するグレースケール化工程を更に備える。このため、上記化粧シート５の設計方法の作用効果を好適に実現することができる。
【００４４】
また、化粧シート５の設計方法では、配置工程において、互いに間隔を空けて２次元的に配列された位置に反射部２を配置する。このため、反射部２の配置数（配置密度）の調整が容易であり、視覚的なムラも生じ難くなる。
【００４５】
また、化粧シート５の設計方法では、配置工程において、画素Ｐそれぞれの階調に応じて、領域内に配置される反射部２の数を変更する。このため、光の入射角度又は観察位置を移動した際に、速やかに照りの生じる箇所を移動させることができるため、意匠性を向上させることができる。
【００４６】
［第２実施形態］
次に、第２実施形態に係る化粧シート５の設計方法について説明する。第２実施形態に係る化粧シート５の設計方法では、配置工程における基材３への反射部２の配置において、上述した第１実施形態に係る化粧シート５の設計方法と主に相違している。すなわち、図４に示されるフローチャートにおいて、ステップＳ１〜ステップＳ５については第１実施形態と同様であり、ステップＳ６について第１実施形態と相違している。以下、上記相違点について主に説明し、第１実施形態と同様の構成については、その説明を省略する。
【００４７】
図９は、第２実施形態に係る反射部の配置の一例を示す図である。ステップＳ６において、図９に示されるように、基材３の一方の面３１の画素Ｐそれぞれに対応する領域内に、画素Ｐそれぞれの階調に応じて反射部２を配置する（配置工程）。具体的には、反射部２を、互いに間隔を空けて２次元的に配列された位置に配置する。ここで、図９に示される全体の領域は、図６中に破線で囲まれた領域Ａである。本実施形態においては、所定の観察位置で観察した場合における画素Ｐそれぞれの明るさの違いを再現するために、画素Ｐそれぞれの階調に応じて、画素Ｐそれぞれに対応する領域内に配置される反射部２の反射主面２１の傾き、及び、反射部２のＹ軸方向における向きを変更している。例えば、図９において、一の画素Ｐに対応する領域Ａ１には、Ｙ軸正方向に向かって一方の面３１に近づくように角度θで傾斜する反射部２を２つ配置しており、他の画素Ｐに対応する領域Ａ２には、Ｙ軸負方向に向かって一方の面３１に近づくように角度θで傾斜する反射部２を２つ配置しており、更に他の画素Ｐに対応する領域Ａ３には、Ｙ軸負方向に向かって一方の面３１に近づくように角度θとは異なる角度で傾斜する反射部２ａを２つ配置している。
【００４８】
以上説明したように、第２実施形態に係る化粧シート５の設計方法では、配置工程において、画素Ｐそれぞれの階調に応じて、領域内に配置される反射部２の反射主面２１の傾き、及び、反射部２のＹ軸方向における向きを変更する。このため、光の入射角度又は観察位置を移動した際に、徐々に照りの生じる箇所を移動させることができるため、意匠性を向上させることができる。
【００４９】
［第３実施形態］
次に、第３実施形態に係る化粧シート５の設計方法について説明する。第３実施形態に係る化粧シート５の設計方法では、配置工程における基材３への反射部２の配置において、上述した第１実施形態に係る化粧シート５の設計方法と主に相違している。すなわち、図４に示されるフローチャートにおいて、ステップＳ１〜ステップＳ５については第１実施形態と同様であり、ステップＳ６について第１実施形態と相違している。以下、上記相違点について主に説明し、第１実施形態と同様の構成については、その説明を省略する。
【００５０】
図１０は、第３実施形態に係る反射部の配置の一例を示す図である。ステップＳ６において、図１０に示されるように、基材３の一方の面３１の画素Ｐそれぞれに対応する領域内に、画素Ｐそれぞれの階調に応じて反射部２を配置する（配置工程）。具体的には、反射部２を、互いに間隔を空けて２次元的に配列された位置に配置する。ここで、図１０に示される全体の領域は、図６中に破線で囲まれた領域Ａである。本実施形態においては、所定の観察位置で観察した場合における画素Ｐそれぞれの明るさの違いを再現するために、画素Ｐそれぞれの階調に応じて、画素Ｐそれぞれに対応する領域内に配置される反射部２の数、反射部２の反射主面２１の傾き、及び、反射部２のＹ軸方向における向きを変更している。例えば、図１０において、一の画素Ｐに対応する領域Ａ１には、Ｙ軸正方向に向かって一方の面３１に近づくように角度θで傾斜する反射部２を２つ配置しており、他の画素Ｐに対応する領域Ａ２には、Ｙ軸負方向に向かって一方の面３１に近づくように角度θで傾斜する反射部２を２つ配置しており、更に他の画素Ｐに対応する領域Ａ３には、Ｙ軸負方向に向かって一方の面３１に近づくように角度θで傾斜する反射部２を２つ配置すると共に、角度θとは異なる角度で傾斜する反射部２ａを２つ配置している。
【００５１】
以上説明したように、第３実施形態に係る化粧シート５の設計方法では、配置工程において、画素Ｐそれぞれの階調に応じて、領域内に配置される反射部２の数、反射部２の反射主面２１の傾き、及び、反射部２のＹ軸方向における向きを変更する。このため、光の入射角度又は観察位置を移動した際に、速やかに照りの生じる箇所を移動させることができる領域と、徐々に照りの生じる箇所を移動させることができる領域とを、自在に組み合わせることができる。よって、意匠性を向上させることができる。
【００５２】
［第１変形例］
ここで、エンボスシート１に用いられる反射部２の変形例について説明する。上記実施形態では、反射主面２１は、Ｘ軸方向に垂直な断面において直線状を呈している。しかし、反射主面２１は、図１１に示されるように、Ｘ軸方向に垂直な断面において湾曲線状を呈していてもよい。図１１は、第１変形例に係る反射部の形状の一例を示す図である。反射部２ｂは、図１１に示されるように、半径Ｒ１で湾曲した反射主面２１ｂと、Ｒ１より小さい半径ｒ２で湾曲した接続面２２と、Ｒ１より小さい半径ｒ３で湾曲した接続面２３と、で構成されている。ここで半径ｒ２とｒ３の大きさは同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【００５３】
この場合には、反射部２ｂそれぞれは、Ｘ軸方向に垂直な断面における反射主面２１ｂの中央位置での湾曲線部分に対する接線が一方の面３１に対して傾きを有するように形成されている。そして、この接線と一方の面３１とのなす角度が、角度θとして定義される。なお、反射部２ｂそれぞれの内の少なくとも一部は、Ｘ軸方向に垂直な断面における反射主面２１ｂの中央位置での接線が一方の面３１と平行に（傾きを有さないように）形成されていてもよい。
【００５４】
［第２変形例］
続いて、反射部２の第２変形例について説明する。第２変形例では、図１２に示されるように、Ｘ軸方向に垂直な断面において、接続面２２ｃが反射主面２１ｃの一端側に設けられており、微小な円弧である接続面２３ｃが反射主面２１ｃの他端側に設けられている点で上記実施形態と相違している。図１２は、第２変形例に係る反射部の形状の一例を示す図である。図１２に示されるように、反射主面２１ｃは、Ｘ軸方向に垂直な断面において、その一端側で、微小な半径ｒ４で湾曲した部分を介して接続面２２ｃと接続され、他端側で、微小な半径ｒ５からなる接続面２３ｃを介して基材３の一方の面３１に接続される。この場合、照りを再現する反射主面２１ｃの機能は維持しつつ、接続面２３ｃをほぼ省略させる形となり、接続面２３ｃに入射する光を低減することができる。接続面２２ｃは、微小な半径ｒ６で湾曲した部分を介して基材３の一方の面３１に接続される。なお、Ｙ軸方向に垂直な断面に沿う反射主面２１ｃの形状は、上記実施形態の反射主面２１と同様である。
【００５５】
［第３変形例］
続いて、反射部２の第３変形例について説明する。第３変形例では、図１３に示されるように、Ｙ軸方向に垂直な断面において、反射主面２１ｄの両端に接続面２４，２５が設けられている点で第２変形例と相違しており、他の構成は第２変形例と同様である。図１３は、第３変形例に係る反射部の形状の一例を示す図である。反射部２ｄは、図１３に示されるように、Ｘ軸方向において、反射主面２１ｄの両端に接続面２４，２５が設けられており、これら接続面２４，２５が一方の面３１と接続されるようになっている。図１３では、これら接続面２４，２５は直線となっているが、湾曲線状であってもよい。なお、Ｘ軸方向に垂直な断面における反射主面２１ｄ，接続面２２ｄ，２３ｄは、第２変形例に係る反射部２ｃの反射主面２１ｃ，接続面２２ｃ，２３ｃに対応しており、略同形状である。
【００５６】
［第４変形例］
続いて、反射部２の第４変形例について説明する。第４変形例では、図１４に示されるように、Ｙ軸方向に垂直な断面において、反射主面２１ｅの両端に接続面２４ｅ，２５ｅが設けられており、その間に位置する反射主面２１ｅが直線状になっている点で第２変形例と相違しており、他の構成は第２変形例と同様である。図１４は、第４変形例に係る反射部の形状の一例を示す図である。反射部２ｅは、図１４に示されるように、Ｘ軸方向において、直線状の反射主面２１ｅの両端に緩やかな曲線からなる接続面２４ｅ，２５ｅが設けられており、これら接続面２４ｅ，２５ｅが一方の面３１と接続されるようになっている。図１４では、これら接続面２４ｅ，２５ｅは湾曲線状となっているが、直線状であってもよい。なお、Ｘ軸方向に垂直な断面における反射主面２１ｅ，接続面２２ｅ，２３ｅは、第２変形例に係る反射部２ｃの反射主面２１ｃ，接続面２２ｃ，２３ｃに対応しており、略同形状である。
【００５７】
［第５変形例］
続いて、反射部２の第５変形例について説明する。第５変形例では、図１５（ａ）に示す第２変形例と異なり、一方の面３１と接続する接続面２３ｆのＲ部が逆向きとなっている点で相違する。図１５（ｂ）は、第５変形例に係る反射部の形状の一例を示す図である。反射部２ｆは、図１５（ｂ）に示されるように、Ｙ軸方向において、反射主面２１ｃの両端に緩やかな曲線からなる接続面２２ｃ，２３ｆが設けられており、接続面２３ｆのＲ部が反転して、一方の面３１と接続されるようになっている。接続面２３ｆがこのような裾野を引くような逆Ｒ形状であるため、エンボスシート１を形成した際、樹脂の流れや版剥離等をスムーズに行うことができ、成型性を向上させることができる。
【００５８】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記第１実施形態では、設計システム４０の処理部４２はグレースケール化部４３を有し、化粧シート５の設計方法はグレースケール化工程を備えている。しかし、設計システム４０の処理部４２はグレースケール化部４３を有していなくてもよく、また、化粧シート５の設計方法はグレースケール化工程を備えていなくてもよい。
【００５９】
また、上記実施形態では、図４のフローチャートにおける変換工程において、グレースケール化した画像の画素の大きさを変換するステップＳ３の工程を先に実行し、その後、画素の大きさを変換した画像の階調数を変換するステップＳ４の行程を実行することとしている。しかし、ステップＳ４の工程を先に実行し、その後、ステップＳ３の行程を実行してもよく、或いは、ステップＳ３及びステップＳ４の工程を同時並行で実行してもよい。
【００６０】
また、上記実施形態では、反射部が配置されていない位置においては、一方の面３１が露出した状態となっている。しかし、上記実施形態において反射部が配置されていない位置（当該画素が最明部又は最暗部であった場合に、反射部が配置されるべき位置）に、Ｘ軸方向に垂直な断面における反射主面２１が一方の面３１と平行に（傾きを有さないように）形成された反射部が配置されていてもよい。この場合、反射部が配置されている位置と、反射部が配置されていない位置との光沢の見え方に違いが生じることを抑制することができるため、意匠性を向上させることが可能となる。
【符号の説明】
【００６１】
１…エンボスシート、２，２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆ…反射部、３…基材、４…印刷面、５…化粧シート、６…下層基材、２１，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄ，２１ｅ…反射主面、３１…一方の面、Ａ，Ａ１，Ａ２，Ａ３…領域、Ｇ…画像、Ｐ…画素。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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