(57)【要約】【課題】洗浄装置を小型化しつつも、洗浄対象の保持面を十分に洗浄し、かつ洗浄に掛かる時間を短くする。【解決手段】被加工物を吸引保持する保持面６０ａを有する保持手段６の保持面６０ａを洗浄する洗浄装置１を、洗浄水を供給する洗浄水供給手段２と、保持面６０ａに接触させて保持面６０ａを洗浄する洗浄手段３と、を備え、洗浄手段３は、保持面６０ａに対し直交する方向に配置される回転軸３２と、回転軸３２を中心として放射状に延在するストーン３４と、ストーン３４を挟んで回転軸３２を中心に放射状に延在する２つ以上のブラシ３５と、回転軸３２を軸にストーン３４とブラシ３５とを回転させるモータ３３とを備えるものとした。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加工物を吸引保持する保持面を有する保持手段の該保持面を洗浄する洗浄装置であって、
洗浄水を供給する洗浄水供給手段と、該保持面に接触させて該保持面を洗浄する洗浄手段と、を備え、
該洗浄手段は、
該保持面に対し直交する方向に配置される回転軸と、
該回転軸を中心として放射状に延在するストーンと、該ストーンを挟んで該回転軸を中心に放射状に延在する２つ以上のブラシと、該回転軸を軸に該ストーンと該ブラシとを回転させるモータと、を備える洗浄装置。
【請求項２】
前記ブラシの洗浄部は、前記ストーンの洗浄部より前記保持面の近くに配設される請求項１記載の洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被加工物を吸引保持する保持手段の保持面を洗浄する洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造において用いられるウエーハを加工する加工装置（研削装置又は切削装置）は、例えば、加工に際してウエーハを保持する保持テーブルや、装置上でウエーハを搬送するための搬送パッド等を備えている。これらの保持テーブルや搬送パッドは、保持面でウエーハを吸引保持することができ、この保持面はポーラス部材（多孔質部材）で構成されている。
【０００３】
例えば、研削装置においては、研削したウエーハを保持テーブルの保持面から離間させた後に、洗浄装置により保持面を洗浄してウエーハと保持面との間に研削屑を入り込ませないようにしている。
【０００４】
保持面を洗浄する洗浄機構としては、ブラシ洗浄、ストーン洗浄及び２流体洗浄があり、これらを組み合わせた洗浄機構を備える洗浄装置がある（例えば、特許文献１参照）。この組み合わせとしては、ブラシ洗浄とストーン洗浄との組み合わせと、２流体洗浄とストーン洗浄との組み合わせとがある。ブラシ洗浄及び２流体洗浄は、保持面を構成するポーラス部材の内部まで入り込んだ研削屑を、ポーラス部材内部からかき出して排出させる役割を果たす。ストーン洗浄は、保持面に付着した研削屑を削ぎとって除去する役割を果たし、保持面を平面に保つために必須となる。
【０００５】
搬送パッドを洗浄する洗浄機構も同様に、ブラシ洗浄とストーン洗浄とを組み合わせた機構、又は、２流体洗浄とストーン洗浄との組み合わせた機構がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許４６７２９２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、例えば上記特許文献１に記載の洗浄装置は、ブラシを回転させ、かつストーンを水平面内で往復移動させる必要があるため、洗浄装置全体が大型化し、設置場所が制限されるという問題がある。また、ブラシ洗浄によるポーラス部材内部からの研削屑等の排出と、ストーン洗浄による保持面に付着した研削屑等の削ぎとり除去とを十分に行う場合には、洗浄に多くの時間をとられるという問題もある。そこで、本発明は、被加工物を吸引保持する保持手段の保持面を洗浄する場合において、洗浄装置を大型化させずに、十分かつ効率よく洗浄を行うことを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するための本発明は、被加工物を吸引保持する保持面を有する保持手段の該保持面を洗浄する洗浄装置であって、洗浄水を供給する洗浄水供給手段と、該保持面に接触させて該保持面を洗浄する洗浄手段と、を備え、該洗浄手段は、該保持面に対し直交する方向に配置される回転軸と、該回転軸を中心として放射状に延在するストーンと、該ストーンを挟んで該回転軸を中心に放射状に延在する２つ以上のブラシと、該回転軸を軸に該ストーンと該ブラシとを回転させるモータと、を備える洗浄装置である。
【０００９】
前記ブラシの洗浄部は、前記ストーンの洗浄部より前記保持面の近くに配設されると好ましい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明に係る洗浄装置は、洗浄水を供給する洗浄水供給手段と、保持手段の保持面に接触させて保持面を洗浄する洗浄手段と、を備え、洗浄手段は、保持面に対し直交する方向に配置される回転軸と、回転軸を中心として放射状に延在するストーンと、ストーンを挟んで回転軸を中心に放射状に延在する２つ以上のブラシと、回転軸を軸にストーンとブラシとを回転させるモータとを備えるものとしたことで、回転軸を回転させるという１つの動作を行うのみで、保持面を構成するポーラス部材内部からの研削屑等の排出と保持面に付着した研削屑等の削ぎ取り除去とを、短時間で十分に行うことが可能となる。また、洗浄装置のサイズを小型化することができる。
【００１１】
また、ブラシの洗浄部が、ストーンの洗浄部より保持手段の保持面の近くに配設されることで、ストーンが保持面に対して過度に押し付けられることで保持面が研削されて偏磨耗してしまうことを防止しつつ、ブラシによりポーラス部材内部から研削屑等を十分にかき出すことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１（Ａ）は、洗浄装置の一例を示す斜視図である。図１（Ｂ）は、洗浄装置からストーンを取り外した状態を示す斜視図である。
【図２】洗浄装置から１つのブラシ及びストーンを取り外した状態を示す斜視図である。
【図３】洗浄水ノズルを備える洗浄装置の一例を示す斜視図である。
【図４】洗浄装置と洗浄対象である保持手段との位置合わせを行っている状態を示す側面図である。
【図５】洗浄装置により、保持手段の保持面を洗浄している状態を示す側面図である。
【図６】別の実施形態の洗浄装置と保持手段との位置合わせを行っている状態を示す側面図である。
【図７】別の実施形態の洗浄装置により、保持手段の保持面を洗浄している状態を示す側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
図１（Ａ）、（Ｂ）に示す洗浄装置１は、洗浄対象である保持手段（保持テーブル又は搬送パッド）の洗浄を行う装置であり、洗浄水を供給する洗浄水供給手段２と、保持手段の保持面に接触させて保持面を洗浄する洗浄手段３とを備える。洗浄装置１は、研削装置等に組み込んで使用することができ、また、これ単独で用いることもできる。また、洗浄装置１に移動手段を備えることで、洗浄対象に対して洗浄装置１が移動可能に構成されていてもよい。
【００１４】
洗浄手段３は、例えば、円盤状の支持プレート３０と、支持プレート３０の底面側にロータリージョイント３１を介して配設される回転軸３２と、回転軸３２を回転駆動するモータ３３と、支持プレート３０上に配設され回転軸３２を中心として放射状に延在するストーン３４と、支持プレート３０上に配設されストーン３４を挟んで回転軸３２を中心に放射状に延在する２つのブラシ３５とを備えている。
【００１５】
回転軸３２の軸方向はＸ軸Ｙ軸平面に対して直交する方向（Ｚ軸方向）であり、回転軸３２の一端は、ロータリージョイント３１の内周側を通り支持プレート３０の底面側の中心に結合されており、もう一端がモータ３３に連結されている。ロータリージョイント３１は、回転軸３２に軸回り（Ｚ軸回り）の回転駆動力が加わったときに、回転軸３２を支持しつつ回転軸３２の回転を許容するように設けられている。そして、モータ３３が回転軸３２を回転させることに伴って、支持プレート３０も回転する。
【００１６】
ブラシ３５は、例えば、弾力性を備える樹脂からなる化学繊維、植物繊維又は金属線を直毛状に形成し密集させたものであり、その毛先が＋Ｚ方向へ向くようにして平板状のブラシ用プレート３５０の表面３５０ａに植設されている。なお、ブラシ３５は毛先に向かって漸次縮径して先端が先鋭化されたテーパード状であってもよい。
【００１７】
ブラシ３５が植設されたブラシ用プレート３５０は、例えば、支持プレート３０の外周部上に周方向に一定の間隔だけ離間して（本実施形態においては、互いに１８０度ずつ離間して）、２つ配設されている。２つのブラシ用プレート３５０は、それぞれの一端が支持プレート３０の外周部上に固定されており、もう一端が支持プレート３０の径方向外向きにそれぞれ所定の長さ延在している。すなわち、２つのブラシ３５は、回転軸３２を中心に放射状に延在している。ブラシ３５は、回転軸３２が回転することによって水平面内で回転する。
【００１８】
なお、ブラシ３５の形状は図示の例に限定されるものではなく、また、支持プレート３０に２つ以上配設される（例えば、支持プレート３０上に互いに９０度ずつ離間して４つ配設される）ことで、洗浄装置１の洗浄力がより高まるため好ましい。
【００１９】
ストーン３４は、例えば、レジンボンド砥石、樹脂材又はセラミックス材を直方体状に形成したものである。ストーン３４は、ストーン３４に対応する大きさの平板状に形成されたストーン用プレート３４０の表面３４０ａ上に、適宜の接着剤等により接着された状態となっている。そして、ストーン３４が接着されたストーン用プレート３４０が、支持プレート３０上に固定されている。ストーン３４は、その幅が２つのブラシ用プレート３５０の間に入る寸法に形成されており、その長さが２つのブラシ用プレート３５０の外端間の距離と同程度の寸法に形成されている。例えば、ストーン３４は、ストーン３４の中心と支持プレート３０の中心とが一致するようにして支持プレート３０上に配設されており、回転軸３２を中心としてその一端が＋Ｙ方向に向かって所定の長さ延在しており、もう一端が−Ｙ方向に向かって所定の長さ延在している。ストーン３４は、回転軸３２が回転することによって水平面内で回転する。
【００２０】
なお、ストーン３４の形状及び配置は図１（Ａ）、（Ｂ）に示す例に限定されるものではない。例えば、ブラシ３５の長さと同程度に長さに形成されたストーン３４を、支持プレート３０の外周部上に周方向に互いに１８０度ずつ離間させて２つ配設することで、回転軸３２を中心としてストーン３４が放射状に延在する構成としてもよい。また、ストーン３４は、支持プレート３０に２つ以上配設されることで、洗浄装置１の洗浄力がより高まるため好ましい。
【００２１】
本実施形態においては、ブラシ３５はブラシ用プレート３５０上に植設され、ストーン３４はストーン用プレート３４０上に接着されている。すなわち、それぞれが別々のプレート上に配設されているが、ブラシ用プレート３５０とストーン用プレート３４０とを一体化して１つのプレート（例えば、外形が十字形状の平板状のプレート）とし、この１つのプレート上の所定の位置に、ブラシ３５とストーン３４とがそれぞれ配設されているものとしてもよい。
【００２２】
回転軸３２を中心として放射状にＹ軸方向に延在するストーン３４と、ストーン３４を挟んで回転軸３２を中心に放射状にＸ軸方向に延在する２つブラシ３５とが支持プレート３０上に配設されていることで、ブラシ３５とストーン３４との間には、所定の大きさの水平面上における隙間Ｓが複数（図示の例においては、４つ）形成されている。例えば、ストーン３４及びブラシ３５が水平面内で回転することで洗浄対象の保持面からかき出されたり削ぎ取られたりした研削屑等は、この隙間Ｓから落下した後、集められて廃棄される。
【００２３】
例えば、ロータリージョイント３１には給水管３１０が配設されており、給水管３１０は、洗浄水供給手段２に備えられる洗浄水供給源２０に連通している。ロータリージョイント３１と支持プレート３０との間には洗浄水供給管３００（図１（Ａ）においては不図示）が設けられており、洗浄水供給源２０から供給された洗浄水は、給水管３１０を通り、ロータリージョイント３１から洗浄水供給管３００へ流入する。ロータリージョイント３１は、洗浄水を洗浄水供給管３００へと流入させながら、回転軸３２を回転可能に設けられている。なお、洗浄水供給源２０は、洗浄水とともに高圧エアも供給できる２流体の供給源として構成されていてもよい。
【００２４】
例えば、洗浄水供給管３００の一端は、ブラシ用プレート３５０に接続されている。ブラシ用プレート３５０の内部には、洗浄水供給管３００に連通する図示しない流路が設けられており、この流路に連通する図２に示す洗浄水噴射口３５０ｂが、ブラシ用プレート３５０の上面においてその長手方向に複数整列して開口している。洗浄水供給管３００へと流入した洗浄水は、ブラシ用プレート３５０の内部を通り洗浄水噴射口３５０ｂから噴射され、ブラシ３５の隙間を通って洗浄対象に到達する。
【００２５】
なお、洗浄水供給手段２から供給される洗浄水は、本実施形態におけるようにブラシ３５の内部から洗浄水が供給される以外にも、例えば、ブラシ３５の外部から供給されるようになっていてもよい。すなわち、例えば図３に示すように、中空のパイプ状に形成された洗浄水ノズル３７が、各ブラシ３５の側面に沿うようにして支持プレート３０上に配設される。図示の例では、各ブラシ３５の片側にのみ洗浄水ノズル３７が配設されているが、各ブラシ３５の両側に洗浄水ノズル３７がそれぞれ配設されていてもよい。洗浄水ノズル３７は、洗浄水供給管３００と連通しており、また、洗浄水ノズル３７の側面には洗浄水噴射口３７０がその長手方向に複数整列して開口している。洗浄水供給源２０から供給される洗浄水は、洗浄水ノズル３７を通り洗浄水噴射口３７０から噴射されて、洗浄対象に到達する。
【００２６】
図４に示すように、洗浄装置１の洗浄対象となる保持手段６は、例えば、半導体ウエーハ等の被加工物を吸引保持する搬送パッドである。保持手段６（搬送パッド６）は、ポーラス部材からなり被加工物を吸着する吸着部６０と、吸着部６０を支持する枠体６１とを備える。吸着部６０の上部には、吸引源６３に連通する流路６２が接続されており、吸引源６３で生み出された吸引力が、流路６２を介して、吸着部６０の露出面であり枠体６１の下面と面一に形成されている保持面６０ａに伝達されることで、搬送パッド６は保持面６０ａ上に被加工物を吸引保持する。搬送パッド６は、例えば、移動手段６６に接続されたアーム部６７の先端の下面に配設されており、移動手段６６によって移動可能となっている。搬送パッド６は、例えば、研削後のウエーハの被研削面を吸引保持することで、吸着部６０の内部に研削屑が入り込んだり、保持面６０ａに研削屑が付着したりする。
【００２７】
例えば、流路６２は、吸引源６２に連通するとともに、ブロー源６５とも連通している。ブロー源６５は、圧縮空気等を供給するエア供給源と洗浄水を供給する洗浄水供給源とから構成されている。ブロー源６５から供給される高圧エア及び水からなる２流体は、流路６２を通り、吸着部６０の保持面６０ａから外部に向かって噴射される。
【００２８】
図４に示すように、ブラシ３５においては、主にその毛先部分が搬送パッド６の保持面６０ａに接触し洗浄を行う洗浄部３５ａとなる。また、ストーン３４においては、主にその表面が搬送パッド６の保持面６０ａに接触し洗浄を行う洗浄部３４ａとなる。例えば、洗浄装置１において、支持プレート３０の表面を基準位置とした場合におけるブラシ３５の洗浄部３５ａの高さ位置Ｚ１は、ストーン３４の洗浄部３４ａの高さ位置Ｚ２よりも所定の距離だけ高くなるように形成されている。したがって、ブラシ３５の洗浄部３５ａは、ストーン３４の洗浄部３４ａより保持面６０ａの近くに配設される。
【００２９】
以下に、図１（Ａ）、（Ｂ）〜図２及び図４〜図５を用いて、洗浄装置１により搬送パッド６の保持面６０ａを洗浄する場合の、洗浄装置１の動作について説明する。
【００３０】
まず、図４に示すように、移動手段６６が搬送パッド６を洗浄装置１上に移動させることで、搬送パッド６の保持面６０ａが、ストーン３４の洗浄部３４ａ及びブラシ３５の洗浄部３５ａと対向するように位置付けられ、保持面６０ａに対して回転軸３２が直交する方向（Ｚ軸方向）に配置される。さらに、搬送パッド６の保持面６０ａの中心と回転軸３２の回転中心とが一致するようにして、搬送パッド６とストーン３４の洗浄部３４ａ及びブラシ３５の洗浄部３５ａとの位置合わせが行われる。
【００３１】
上記位置合わせが行われた後、モータ３３により回転軸３２が回転駆動されるのに伴ってストーン３４とブラシ３５とが水平面内で回転する。また、搬送パッド６が移動手段６６により−Ｚ方向へと送られ、搬送パッド６の保持面６０ａが−Ｚ方向へと降下していく。
【００３２】
また、洗浄水供給源２０から洗浄水が供給され、洗浄水がブラシ用プレート３５０の内部を通り図２に示す洗浄水噴射口３５０ｂからブラシ３５の隙間を通って保持面６０ａに噴射される。なお、洗浄中における洗浄水の供給は、洗浄水供給手段２に代えて、搬送パッド６の保持面６０ａに連通するブロー源６５から、高圧エア及び水からなる２流体を供給することで行われてもよい。この場合においては、洗浄水が２流体となり吸着部６０を通り保持面６０ａから噴射される。また、洗浄水供給源２０からの洗浄水の供給と、ブロー源６５からの２流体の供給とを同時に行うものとしてもよい。
【００３３】
図４に示すように、ブラシ３５の洗浄部３５ａは、ストーン３４の洗浄部３４ａより保持面６０ａの近くに配設されている。そのため、搬送パッド６の保持面６０ａが−Ｚ方向へと降下していくことで、保持面６０ａは、最初にブラシ３５の洗浄部３５ａに接触する。そして、回転するブラシ３５の洗浄部３５ａ（ブラシ３５の毛先）が保持面６０ａから吸着部６０内部の微細な孔まで入り込み、吸着部６０内部に入り込んだ研削屑等をかき出し排出させていく。
【００３４】
ブラシ３５による保持面６０ａの洗浄が開始された後、さらに搬送パッド６の保持面６０ａが、ストーン３４の洗浄部３４ａに接触するまで−Ｚ方向へと降下していく。ストーン３４の洗浄部３４ａに保持面６０ａが接触する位置Ｚ２まで搬送パッド６が降下すると、搬送パッド６の降下が停止する。図５に示すように、この状態におけるブラシ３５は、搬送パッド６の保持面６０ａに押し付けられつつ保持面６０ａの形状に合わせて撓みながら洗浄を行うため、ブラシ３５が保持面６０ａを傷付けることはない。なお、一般的に、搬送パッド６の保持面６０ａにおいては、その外周領域により多くの研削屑が付着する傾向がある（この傾向は、研削装置に備えられ研削対象の被加工物を保持する保持テーブルの保持面においても同様である。）。したがって、保持面６０ａの洗浄中において、ブラシ３５は回転することで保持面６０ａの全面に必ずしも接する必要はなく、図１に示すようにストーン３４を挟んで支持プレート３０上に配置されることで、洗浄中に保持面６０ａの少なくとも外周領域に接するように構成されていればよい。
【００３５】
回転しながら保持面６０ａに接触したストーン３４の洗浄部３４ａは、保持面６０ａに強固に付着した研削屑をそぎ取りながら排除していく。図１に示すように、ストーン３４は、２つのブラシ３５の間に挟まれるようにして支持プレート３０上に配置されているため、保持面６０ａの洗浄中において、ストーン３４は回転することで保持面６０ａの全面に接することができる。
【００３６】
ブラシ３５で保持面６０ａまでかき出された研削屑及びストーン３４で保持面６０ａからそぎ取られた研削屑は、例えば、洗浄水供給源２０から供給された洗浄水によって保持面６０ａから洗い流される。また、ブロー源６５から高圧エア及び水からなる２流体を供給している場合には、この２流体によって研削屑が吸着部６０の内部から洗い流される。
【００３７】
保持面６０ａから除去された研削屑は、回転しているストーン３４とブラシ３５との間に形成される図１に示す隙間Ｓから落下していくため、ストーン３４の洗浄部３４ａ及びブラシ３５の洗浄部３５ａに蓄積されることがない。
【００３８】
搬送パッド６の吸着部６０の内部及び保持面６０ａから研削屑が十分に除去された後、移動手段６６によって搬送パッド６を＋Ｚ方向へと上昇させて洗浄手段３から離間させることで、洗浄装置１による搬送パッド６の保持面６０ａの洗浄が完了する。
【００３９】
洗浄装置１においては、洗浄手段３を、保持面６０ａに対し直交する方向に配置される回転軸３２と、回転軸３２を中心として放射状に延在するストーン３４と、ストーン３４を挟んで回転軸３２を中心に放射状に延在する２つのブラシ３５と、回転軸３２を軸にストーン３４とブラシ３５とを回転させるモータ３３とを備えている。そのため、回転軸３２をモータ３３で回転させるという１つの動作を行うのみで、ストーン３４とブラシ３５とを回転させることができ、この回転するストーン３４及びブラシ３５を搬送パッド６の保持面６０ａに接触させることで、ポーラス部材で構成される吸着部６０内部からの研削屑等の排出と保持面に付着した研削屑等の削ぎ取り除去とを同時に行うことが可能となる。すなわち、ブラシ３５により吸着部６０から保持面６０ａまで研削屑がかき出された直後に、ストーン３４によりこの研削屑を保持面６０ａから削ぎとることができ、さらに、削ぎ取られた研削屑を洗浄水で洗い流すことができるため、一連の洗浄動作に一切の無駄が生じない。したがって、吸着部６０内部からの研削屑の排出と保持面６０ａに付着した研削屑の削ぎとり除去とが十分に行われ、かつ、洗浄に掛かる時間も短くなる。また、洗浄装置１のサイズも、小型化できる。
【００４０】
また、ブラシ３５の洗浄部３５ａが、ストーン３４の洗浄部３４ａより保持手段６の保持面６０ａの近くに配設されることで、ストーン３４が保持面６０ａに接触し研削屑を削ぎ取れる適度な位置での洗浄を行いつつ、ブラシ３５による吸着部６０内部からの研削屑のかき出しも十分に行うことが可能となり、ストーン３４が保持面６０ａに対して過度に押し付けられることで保持面６０ａが研削されて偏磨耗してしまうことを防止できる。
【００４１】
なお、本発明に係る洗浄装置１は上記実施形態に限定されるものではなく、また、添付図面に図示されている各構成の大きさや形状等についても、これに限定されず、本発明の効果を発揮できる範囲内で適宜変更可能である。また、洗浄対象となる保持手段６も、搬送パッド６に限定されるものではなく、例えば、研削装置に備えられ研削対象の被加工物を保持する保持テーブルであってもよい。この場合においては、例えば、洗浄装置３が保持テーブルに対して移動可能に構成されており、洗浄装置３が下降していくことで、保持テーブルの保持面に対してストーン３４及びブラシ３５が上方側から接触して洗浄を行う。
【００４２】
さらに、例えば図６に示すように、ストーン用プレート３４１とストーン３４との間にスプリング３８などの付勢手段を介在させた構成としてもよい。この構成においては、スプリング３８が伸張した状態において、ストーン用プレート３５１に植設されたブラシ３５の毛先である洗浄部３５ａの高さとストーン３４の上面３４ａの高さとが一致していてもよい。吸着部６０の保持面６０ａと洗浄部３５ａ及び上面３４ａとが接触していない状態においては、スプリング３８が伸張し、ストーン３４が上方に向けて（保持面６０ａに向けて）付勢されている。
【００４３】
一方、図７に示すように、搬送パッド６を下降させ保持面６０ａをストーン３４の洗浄部３４ａに押し付けると、スプリング３８が収縮してストーン３４が下降する。このとき、搬送パッド６が下降するにつれて、ブラシ３５の先端部３５ａを保持面６０ａから吸着部６０の内部の微細な孔まで入り込ませることができるため、洗浄効果が高まる。また、スプリング３８によってストーン３４が保持面６０ａを押し付ける力が緩和され、保持面６０ａが過度に押し付けられるのを抑制することができる。
【符号の説明】
【００４４】
１：洗浄装置  
２：洗浄水供給手段  ２０：洗浄水供給源
３：洗浄手段  
３０：支持プレート  ３１：ロータリージョイント  ３２：回転軸  ３３：モータ
３００：洗浄水供給管  ３１０：給水管  
３４：ストーン  ３４ａ：ストーンの洗浄部  ３４０，３４１：ストーン用プレート  
３４０ａ：ストーン用プレートの表面
３５：ブラシ  ３５ａ：ブラシの洗浄部  ３５０，３５１：ブラシ用プレート  
３５０ａ：ブラシ用プレートの表面  ３５０ｂ：洗浄水噴射口
３７：洗浄水ノズル  ３７０：洗浄水噴射口  ３８：スプリング
６：保持手段（搬送パッド）  ６０：吸着部  ６１：枠体  ６２：流路  ６０ａ：保持面
６３：吸引源  ６６：移動手段  ６７：アーム部  ６５：ブロー源
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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