(57)【要約】【課題】照射領域を通過するワークに位置ズレを生じさせることなく、生産性が高められること。【解決手段】ワーク６が置かれる複数のステージ装置１２Ａ、１２Ｂと、前記ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの前記ワーク６に偏光光８を照射し光配向処理する偏光光照射器１０と、前記偏光光８の照射領域Ｒａを通過する往路４０と、当該往路４０の終点４０Ｅ、及び始点を結ぶ復路４１とを有した環状経路９に沿って、前記ステージ装置１２Ａ，１２Ｂの各々を一方向に搬送するステージ搬送機構１４と、を備え、前記往路４０の始点には、前記ステージ装置１２Ａ，１２Ｂに前記ワーク６を搭載し、また前記ステージ装置１２Ａ、１２Ｂから前記ワーク６を取り出すワーク搭載位置Ｐ１が設けられている光照射装置２を構成した。【選択図】図２
2017015880.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークが置かれる複数のステージと、
前記ステージの前記ワークに偏光光を照射し光処理する偏光光照射器と、
前記偏光光の照射領域を通過する往路と、当該往路の終点、及び始点を結ぶ復路とを有した環状経路に沿って、前記ステージの各々を一方向に搬送するステージ搬送機構と、を備え、
前記往路の始点には、前記ステージに前記ワークを搭載するワーク搭載位置が設けられ、
前記往路の始点、又は前記復路の途中には、前記ステージから前記ワークを取り出すワーク取出位置が設けられている
ことを特徴とする光照射装置。
【請求項２】
前記往路は、
前記照射領域から前記終点までの経路長が、前記始点から前記照射領域までの経路長よりも短い
ことを特徴とする請求項１に記載の光照射装置。
【請求項３】
前記照射領域に進入した１つの前記ステージが当該照射領域を抜け終えるまでの間に、少なくとも１つの他の前記ステージが前記往路の前記ワーク搭載位置から前記照射領域の間に前記ステージ搬送機構によって移動される
ことを特徴とする請求項１または２に記載の光照射装置。
【請求項４】
前記ステージを回転する回転装置を備え、
前記回転装置は、
前記ステージが前記往路の前記ワーク搭載位置から前記照射領域に至るまでの間に前記ステージを回転して、前記偏光光の偏光軸に対して所定角度だけ回転した位置に前記ワークを配置し、
前記ステージが前記復路に入ってから前記ワーク取出位置に至るまでの間に前記ステージの回転を戻す
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光照射装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の光照射装置と、
前記光照射装置の前記ワーク搭載位置にワークを移送し、前記光照射装置の前記ワーク取出位置からワークを取り出すワーク移送装置と、を備え、
前記ワーク搭載位置、及び前記ワーク取出位置が前記往路の始点に設けられている
ことを特徴とする光照射システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光光を照射する光照射装置、及び光照射システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
偏光光を照射する光配向用偏光光照射装置において、偏光光の照射領域を２つのステージが交互に通過することで各ステージ上の基板に対して偏光光を照射する技術が提案されている（例えば、特許文献１参照）。この技術によれば、タクトタイムが短縮され生産性が高められる。
また、光配向用偏光光照射装置が、ステージに搭載された基板を偏光光の偏光軸に対して所定の向きに向ける基板アライナーを備えることで、光配向処理の精度や品質を高く維持することも提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第５３４４１０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１の光配向用偏光光照射装置においては、ステージが照射領域を往復するので、次のような問題がある。
すなわち、特許文献１の光配向用偏光光照射装置は、照射領域を通過する直線状の往復搬送路に沿って、ステージを直動させる直動機構を備えている。
一般に、直動機構は、往復搬送路を構成するレールの加工精度、寸法公差、又は組付精度等の機械精度によって、往復搬送路の行きと帰りとでステージの軌道にズレが生じている。この軌道のズレにより、ステージが照射領域を通過する時には、行きと帰りとでステージ上のワークの位置に位置ズレが生じている、という問題がある。
【０００５】
また特許文献１の光配向用偏光光照射装置のように、照射領域を挟んだ往復搬送路の両端で、ステージへの基板の搭載が行われている場合には、次のような問題も新たに生じる。
すなわち、ステージへの搭載時には、センサーや撮影カメラ等の位置検出装置を用いてステージ上でのワークの位置が検出され、当該ワークの合わせも行われる。しかしながら、往復搬送路の両端の各々のセンサーの精度や検出誤差の違いによって、両端のそれぞれで行われる位置合わせ精度にも違いを生じさせる。これによって、往復搬送路の両端の各々のステージに搭載されるワークに対する処理の結果にも違いが生じる。
【０００６】
そして、往復搬送路の行きと帰りとで照射領域を通過するワークに位置ズレが生じていることと、ステージごとにも処理の結果に違いが発生するということから、光配向処理の精度や品質の向上が阻害されていた。
【０００７】
そこで、本発明は、照射領域を通過するワークに位置ズレを生じさせることなく、なおかつ、生産性が高められる光照射装置、及び光照射システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明は、ワークが置かれる複数のステージと、前記ステージの前記ワークに偏光光を照射し光処理する偏光光照射器と、前記偏光光の照射領域を通過する往路と、当該往路の終点、及び始点を結ぶ復路とを有した環状経路に沿って、前記ステージの各々を一方向に搬送するステージ搬送機構と、を備え、前記往路の始点には、前記ステージに前記ワークを搭載するワーク搭載位置が設けられ、前記往路の始点、又は前記復路の途中には、前記ステージから前記ワークを取り出すワーク取出位置が設けられていることを特徴とする光照射装置を提供する。
【０００９】
また本発明は、上記光照射装置において、前記往路は、前記照射領域から前記終点までの経路長が、前記始点から前記照射領域までの経路長よりも短いことを特徴とする。
【００１０】
また本発明は、上記光照射装置において、前記照射領域に進入した１つの前記ステージが当該照射領域を抜け終えるまでの間に、少なくとも１つの他の前記ステージが前記往路の前記ワーク搭載位置から前記照射領域の間に前記ステージ搬送機構によって移動されることを特徴とする。
【００１１】
また本発明は、上記光照射装置において、前記ステージを回転する回転装置を備え、前記回転装置は、前記ステージが前記往路の前記ワーク搭載位置から前記照射領域に至るまでの間に前記ステージを回転して、前記偏光光の偏光軸に対して所定角度だけ回転した位置に前記ワークを配置し、前記ステージが前記復路に入ってから前記ワーク取出位置に至るまでの間に前記ステージの回転を戻すことを特徴とする。
【００１２】
また本発明は、上記いずれかの光照射装置と、前記光照射装置の前記ワーク搭載位置にワークを移送し、前記光照射装置の前記ワーク取出位置からワークを取り出すワーク移送装置と、を備え、前記ワーク搭載位置、及び前記ワーク取出位置が前記往路の始点に設けられていることを特徴とする光照射システムを提供する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、複数のステージが環状経路に沿って一方向に搬送されるので、照射領域をワークが往復することがなく、照射領域を通過するときのワークの位置ズレを確実に防止でき、ステージごとの処理の結果に違いを生じさせることがない。これに加えて、複数のステージが搬送されるので生産スピードが高められ、生産性が高められる。
さらに、往路の始点にワーク搭載位置が設けられ、前記往路の始点、又は前記復路の途中にワーク取出位置が設けられているので、ワーク取出位置が往路の終点に設けられる構成に比べ、光処理後のワークを往路から復路に速やかに退避できる。これによりワークが往路に滞在する時間が短縮されタクトタイムの短縮化が図られる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の第１実施形態に係る光照射システムの構成を示す模式図である。
【図２】図１のＡ−Ａ断面視図である。
【図３】偏光子ユニットの構成を模式的に示す斜視図である。
【図４】ステージ装置の拡大図である。
【図５】ステージ装置が環状経路に沿って搬送されるときの搬送時間の分布を示す模式図である。
【図６】ステージ装置の搬送状態の遷移を示す模式図である。
【図７】本発明の第２実施形態に係る光照射システムの構成を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
［第１実施形態］
図１は本実施形態に係る光照射システム１の構成を示す模式図である。図２は図１のＡ−Ａ断面視図である。
光照射システム１は、対象物であるワーク６に偏光光８（図２）を照射して光処理するシステムである。光処理は、ワーク６に偏光光８を作用させ、所望の構造や機能、性能、特性をワーク６に付与する処理である。光処理には、この他にも、ワーク６を透過、又はワーク６で反射した偏光光８を検出し、検出光に基づいてワーク６の物性を測定、又は分析する処理もある。
【００１６】
この光照射システム１は、光処理として光配向処理を行い、液晶基板をワーク６として光配向処理を行っている。
光配向処理は、ワーク６に偏光光８を照射して所望の物性に異方性を与える処理である。また液晶基板の光配向処理は、液晶基板の配向膜に、液晶層の液晶分子の配向方向を規定する機能（いわゆる、配向能）を与える処理である。配向膜と偏光光の相互作用によって、配向膜において分子の再配列や異方的な化学反応が誘起されて当該配向膜に異方性が与えられ、この異方性によって配向能が得られる。
なお、この光照射システム１が、処理対象たるワーク６として、液晶基板の他にも、有機ＥＬ等の自発光素子基板、その他の任意の基板や部材を光配向処理してもよい。この場合、光照射システム１にあっては、光配向処理に要する特性（波長や光量等）の偏光光８がワーク６に照射される。
【００１７】
光照射システム１は、図１に示すように、光照射装置２と、この光照射装置２の傍らに固定配置されたワーク移送装置４と、を備えている。
ワーク移送装置４は、光照射システム１が設置された製造工場において、製造ラインの上流側から未処理のワーク６を受け取って光照射装置２に投入し、また、光配向処理済みのワーク６を光照射装置２から取り出して回収し、製造ラインの下流側に渡す装置である。
このワーク移送装置４は、図１、及び図２に示すように、ロボットアーム５と、このロボットアーム５の先端に設けられた２つのロボットハンド７と、を備え、いわゆるダブルハンドのアームとして構成されている。
ロボットアーム５は、直線方向Ｄに伸縮してロボットハンド７を移動させるアーム部５Ａを備えている。またアーム部５Ａは、図２に示すように、上下軸５Ａ１を軸に上下移動自在に構成されている。
【００１８】
２つのロボットハンド７のそれぞれは、ワーク６を支持する器具であり、上下軸５Ａ１の軸方向に離間し、かつ互いに平行に設けられている。これらロボットハンド７は、ワーク６を下から支持することで、ワーク６の上面である被光処理面６Ａへの接触を防止する。
具体的には、各ロボットハンド７は、アーム部５Ａの伸縮による直線方向Ｄに平行、かつ一定間隔で並列に並べられた複数本のロボットフォーク１１を備えている。
そしてロボットアーム５は、ロボットハンド７にワーク６を支持させる場合、アーム部５Ａの伸縮によってワーク６の下方にロボットハンド７のロボットフォーク１１を入り込ませ、次いでアーム部５Ａを上昇させてワーク６を下から持ち上げる。これにより、ロボットハンド７のロボットフォーク１１によってワーク６が下から支持される。
【００１９】
２つのロボットハンド７のうち、上側のロボットハンド７は、未処理のワーク６を光照射装置２に投入するものである。すなわち、製造ラインの上流側から未処理のワーク６が上側のロボットハンド７に渡され、アーム部５Ａが伸びて上側のロボットハンド７が光照射装置２に進入して未処理のワーク６が投入される。
一方、下側のロボットハンド７は、光配向処理済みのワーク６を光照射装置２から取り出して回収するものである。すなわち、アーム部５Ａが伸びて下側のロボットハンド７が光照射装置２に進入して光配向処理済みのワーク６を支持し、アーム部５Ａが縮んで当該ワーク６が光照射装置２から取り出して回収され、製造ラインの下流側に引き渡される。
【００２０】
これら上下のロボットハンド７は、一体となって上下軸５Ａ１に沿って移動する。この移動によって、それぞれのロボットハンド７と、光照射装置２の中に設定されたワーク６のワーク搭載位置Ｐ１、及びワーク取出位置Ｐ２との上下方向の位置合わせが行われる。
なお、これらワーク搭載位置Ｐ１、及びワーク取出位置Ｐ２の詳細は後述する。
【００２１】
光照射装置２は、図２に示すように、ワーク６を環状経路９に沿って一方向に搬送し、搬送の途中でワーク６に偏光光８を照射して光配向処理する。ワーク６が環状経路９に沿って一方向に搬送されるので、ワーク６は、偏光光８の照射領域Ｒａ（図２）を常に一定の方向に移動する。これにより、ワーク６が照射領域Ｒａを往復移動することがないので、照射領域Ｒａを通過するときのワーク６の位置ズレが確実に防止される。また、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂごとに光配向処理の結果に違いが発生することがなく、光配向処理の一律な結果が得られる。
【００２２】
光照射装置２は、図１、及び図２に示すように、筐体の一部としての一対の側壁６６を備えている。また光照射装置２は、一対の側壁６６の間に架け渡された偏光光照射器１０と、一対の側壁６６の間を搬送される２つのステージ装置１２Ａ、１２Ｂと、ステージ搬送機構１４と、ステージ搬送機構１４を駆動制御するＬＭ駆動装置１５とを備えている。
【００２３】
偏光光照射器１０は、偏光光８をワーク６に照射する照射器であり、光源部１６と、偏光子ユニット１８とを備えている。
光源部１６は、光源２０と、反射鏡２２と、波長選択フィルター２４とを備えている。
光源２０は、少なくとも光配向処理に必要な波長帯域の光成分を含む光を放射する。液晶基板の光配向処理では、一般に紫外線が用いられており、この光源部１６には、紫外線を放射する紫外線光源が光源２０に用いられている。また、この光源２０には、搬送路の横断方向にわたって延びた線状光源が用いられている。この光源２０の具体例としては、高圧水銀ランプやメタルハライドランプ等の棒状の紫外線ランプ光源、及び、多数の紫外線ＬＥＤが直線状に並べられた線状の紫外線ＬＥＤ光源が挙げられる。
【００２４】
反射鏡２２は、光源２０が放射する光を配光制御する光学部材である。反射鏡２２には、線状に延びる光源２０を包囲する凹面シリンドリカルミラー（いわゆる樋状のミラー）が用いられている。この反射鏡２２の凹面は集光面に形成されており、反射鏡２２は光源２０が放射する光を所定の焦点ｆ１（図２）に集光する。
波長選択フィルター２４は、光を透過させる透過型の光学フィルターであり、入射した光から光配向処理に不要な波長成分、或いは光配向処理の品質を劣化させる波長成分をカットする。
なお、波長選択フィルター２４によるカット対象の波長成分が光源２０の放射光に含まれていない場合、波長選択フィルター２４が設けられる必要はない。
【００２５】
偏光子ユニット１８は、光源部１６から入射した光の偏光を直線偏光に変える透過型の光学部材であり、図２に示すように、光源部１６の光が入射する位置、すなわち反射鏡２２の光軸Ｋの上に設けられている。これにより、偏光光照射器１０からは、光源部１６の光軸Ｋの方向に偏光光８が放射される。
【００２６】
図３は、偏光子ユニット１８を模式的に示す図である。
偏光子ユニット１８は、偏光素子として複数のワイヤーグリッド偏光子２６を備えている。ワイヤーグリッド偏光子２６は、導体から成る棒状の多数のワイヤーが同一平面内に互いに平行に並べられたグリッドを備える光学素子である。ワイヤーグリッド偏光子２６は、入射光のうち、ワイヤーに平行な偏光光成分を反射させ、垂直な偏光光成分を透過させることで、入射光の偏光を直線偏光に変える偏光フィルターとして機能する。
【００２７】
この偏光子ユニット１８は、複数のワイヤーグリッド偏光子２６を備え、それぞれが枠体２８に収められ、偏光軸２７を同一方向Ｈａに揃えて横並びに支持フレーム２９に並べて設けられている。これにより、ワイヤーグリッド偏光子２６のサイズが棒状ランプの全長に比べて小さくとも、棒状ランプの全長にわたって所定の配列方向Ｈｂに長い偏光子ユニット１８が得られる。
これに加え、この光源部１６は、反射鏡２２の焦点ｆ１が偏光子ユニット１８に設けられることで、棒状ランプの長手方向と直交する方向において、偏光子ユニット１８へ入射する光の光束断面径が小さくなっている。これにより、ワイヤーグリッド偏光子２６のサイズを更に小さくできる。
【００２８】
光照射装置２では、図１、及び図２に示すように、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂが偏光光照射器１０の直下を搬送時に通過する。偏光光照射器１０は、図２に示すように、光軸Ｋを直下に向けて設置されており、直下を通過するステージ装置１２Ａ、１２Ｂに偏光光８を照射する。
【００２９】
図４は、ステージ装置１２Ａの拡大図である。
ステージ装置１２Ａ、１２Ｂは、ワーク６が載置されるテーブルであり、ステージ搬送機構１４によって環状経路９に沿って搬送される。このように、２つのステージ装置１２Ａ、１２Ｂが環状経路９を搬送されるので、生産スピードが高められ、生産性が高められる。
【００３０】
これらステージ装置１２Ａ、１２Ｂは、互いに同じ構成を備え、ステージ本体４６と、回転ステージ装置４７とを備えている。
ステージ本体４６は、矩形状の平らな固定面４６Ａを有する部材であり、一側面がステージ搬送機構１４に結合されている。
回転ステージ装置４７は、偏光光８の偏光軸２７に対しワーク６を所定角度だけ回転した姿勢で支持する装置であり、ガラス基板４８と、ワークステージ４９と、回転装置５０とを備えている。
偏光軸２７に対するワーク６の回転角度は、ワーク６の光処理（ここでは光配向処理）の内容等によって規定される値であり、０度から３６０度の範囲で決定される。
【００３１】
ガラス基板４８は、ステージ本体４６の固定面４６Ａに固定される板状部材である。ワークステージ４９は上面４９Ａにワーク６が載置される矩形板状のステージである。回転装置５０は、ガラス基板４８の上面に設けられ、ワークステージ４９を回転する装置である。
【００３２】
この回転装置５０は、回転を実現する機械要素部品として、円弧状の複数本のＬＭレール５１（ＬＭ：Linear Motion）と、ＬＭレール５１に沿ってスライド移動する複数のＬＭブロック５２とを備えた、いわゆるＲガイドを備えている。複数のＬＭレール５１は、円環状に繋げられており、各ＬＭレール５１にＬＭブロック５２が設けられ、各ＬＭブロック５２にワークステージ４９が結合されている。これらＬＭブロック５２がＬＭ駆動装置１５によって駆動され、ＬＭレール５１をスライド移動することで、ワークステージ４９が回転され任意の位置で保持される。
【００３３】
ワークステージ４９の上面４９Ａに置かれるワーク６には、複数の位置合せマークが設けられている。ワークステージ４９には、ワーク６に設けられた位置合せマークの読み取りのためにアライメント用カメラ７２が設けられている。ワークステージ４９の回転制御にあっては、これらアライメント用カメラ７２の撮影画像に基づいてワーク６の位置合わせマークが読み取られ、ワークステージ４９が微動して位置合わせ終了後、ワークステージ４９が回転動作を行う。
なお、図１及び図４では、２つのアライメント用カメラ７２が設けられる場合を図示したが、これに限らず、３つ以上のアライメント用カメラ７２が設けられてもよい。また、ワークステージ４９の上面４９Ａにおいて、アライメント用カメラ７２が設けられる位置は適宜である。また、ワークステージ４９の回転位置の検出は、ワーク６の撮像による読み取りに限らず、他の任意の手法を用いることができる。
【００３４】
また回転ステージ装置４７は、ワークステージ４９の上面４９Ａの面内に、上下動自在な多数の支持ピン５３を備えている。これら支持ピン５３は、ワークステージ４９の上面４９Ａから所定の突出量Ｅだけ浮いた位置でワーク６を先端で支持する棒状部材であり、上面４９Ａに配置されている。
支持ピン５３の突出量Ｅは、ロボットアーム５のロボットハンド７がワーク６とワークステージ４９の間に入り込める大きさよりも大きく設定されている。
また支持ピン５３の各々は、ワークステージ４９の回転が基準位置（例えば回転角度がゼロ度）のときに、直線方向Ｄに進行するロボットハンド７が接触せずに支持ピン５３の間に入り込める態様で配列されている。具体的には、支持ピン５３は、直線方向Ｄに沿って並び、かつ、直線方向Ｄと直交する方向には、ロボットハンド７のロボットフォーク１１が入り込む間隔で離間した、いわゆる格子状に配列されている。
【００３５】
後述するワーク搭載位置Ｐ１において、ワーク６がワークステージ４９に載置されるときは、ワークステージ４９の回転位置が基準位置に合せられる。そして、上記ロボットアーム５は、上側のロボットハンド７のロボットフォーク１１にワーク６を下から支持した状態で上側のロボットハンド７をワークステージ４９の上方から上下軸５Ａ１に沿って下降させ、上側のロボットハンド７の各ロボットフォーク１１を支持ピン５３の配列の間に入り込ませる。これによって、ワーク６が各支持ピン５３の先端に載ってロボットフォーク１１から離れた状態となり、この状態で、ロボットアーム５が上側のロボットハンド７を後退させてロボットフォーク１１をワークステージ４９とワーク６の間から抜く。その後、回転装置５０がワークステージ４９を回転し、ワーク６を偏光軸２７に対して所定角度だけ回転した位置に配置する。
【００３６】
一方、後述するワーク取出位置Ｐ２において、ワーク６がワークステージ４９から取り出されるときは、回転装置５０は、ワークステージ４９を基準位置まで回転し、ロボットハンド７の下側のロボットフォーク１１がワーク６とワークステージ４９の間を直線方向Ｄに直進可能にする。そして、ロボットアーム５が下側のロボットハンド７のロボットフォーク１１をワーク６とワークステージ４９の間に挿入し、下側のロボットハンド７をワークステージ４９の上方に移動させることで、ワーク６を下から持ち上げてワークステージ４９から取り出す。
【００３７】
ステージ搬送機構１４は、上述のとおり、ＬＭ駆動装置１５によって駆動され、環状経路９に沿ってステージ装置１２Ａ、１２Ｂを搬送する機構である。
環状経路９は、図２に示すように、往路４０、及び復路４１と、を備えた閉ループの経路である。
なお、この図２には、環状経路９として、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂのワークステージ４９の上面４９Ａの中心が移動する軌道が示されている。
【００３８】
この環状経路９の途中には、上述したワーク搭載位置Ｐ１、及びワーク取出位置Ｐ２が設定されている。ワーク搭載位置Ｐ１は、ワーク移送装置４によって投入された未処理のワーク６がステージ装置１２Ａ、１２Ｂに搭載される位置である。ワーク取出位置Ｐ２は、光配向処理されたワーク６がステージ装置１２Ａ、１２Ｂからワーク移送装置４によって取り出される位置である。
【００３９】
環状経路９の往路４０は、ワーク搭載位置Ｐ１を始点とした経路であり、始点であるワーク搭載位置Ｐ１から終点４０Ｅまでの間に、偏光光８の照射領域Ｒａが設けられている。
復路４１は、往路４０とは別の経路であり、往路４０の終点４０Ｅに至ったステージ装置１２Ａ、１２Ｂを当該往路４０の始点であるワーク搭載位置Ｐ１に戻す経路である。すなわち、この復路４１の始点は往路４０の終点４０Ｅに一致し、復路４１の終点は往路４０の始点と同じワーク搭載位置Ｐ１である。
一方、ワーク取出位置Ｐ２は、この復路４１の途中、又は終点（すなわち、復路４１の始点を除いた箇所）に設定されている。ワーク取出位置Ｐ２が復路４１の終点に設定された場合には、ワーク搭載位置Ｐ１とワーク取出位置Ｐ２とが同じ位置になる。この実施形態では、図２に示すように、ワーク取出位置Ｐ２は、ワーク搭載位置Ｐ１に対しステージ搬送方向の上流側であって、２つのロボットハンド７の離間距離だけ上下に離間した位置に配置されている。
【００４０】
ここで、経路が一続きに連なった環状経路９において、往路４０の始点は、上述のとおり、ワーク搭載位置Ｐ１が設定された位置である。一方、往路４０の終点４０Ｅは、照射領域Ｒａの後の経路においてステージ装置１２Ａ、１２Ｂの移動方向に転換が生じる箇所である。例えば復路４１が始点から直線状に延びている場合、照射領域Ｒａの後の経路において最初に描かれる折れ線の頂点が往路４０の終点４０Ｅとなる。
換言すれば、環状経路９において、ワーク搭載位置Ｐ１から照射領域Ｒａを経て最初にステージ装置１２Ａ、１２Ｂの移動方向に転換が生じる箇所までが往路４０とみなされ、残余が復路４１とみなされる。
【００４１】
図２に示すように、環状経路９の復路４１は、さらに主復路４１Ａと、第１接続路４１Ｂと、第２接続路４１Ｃとを備えている。
主復路４１Ａは、往路４０の終点４０Ｅの側からワーク搭載位置Ｐ１の側まで延びる経路区間である。また第１接続路４１Ｂは、往路４０の終点４０Ｅと、主復路４１Ａの始点４１Ｓを結ぶ経路区間であり、第２接続路４１Ｃは、主復路４１Ａの終点４１Ｅと、往路４０の始点であるワーク搭載位置Ｐ１を結ぶ経路区間である。
【００４２】
これら往路４０、主復路４１Ａ、第１接続路４１Ｂ、及び第２接続路４１Ｃの各経路区間は、直線の経路に成されている。さらに、往路４０、及び主復路４１Ａが平行、かつ等経路長に成され、同じく第１接続路４１Ｂ、及び第２接続路４１Ｃも平行、かつ等経路長に成されることで、環状経路９の経路形状が長方形となっている。
【００４３】
この環状経路９では、ワーク取出位置Ｐ２が復路４１（往路４０の終点である復路４１の起点を除く）に配置されている。これにより、取出位置が往路４０の終点に設けられた場合に比べ、光配向処理後のワーク６を往路４０から速やかに復路４１に退避できる。そして、往路４０の移動速度は、当該往路４０における光配向処理によって制限されるものの、復路４１におけるワーク６の移動速度は、光配向処理には制限されない。したがって、復路４１では、可能な限りに速い速度でワーク６を移動させることで、タクトタイムを短縮できる。
【００４４】
また、ワーク移送装置４が、ワーク搭載、及びワーク取出ごとにロボットハンド７を備え、これらロボットハンド７の位置に合せて、ワーク搭載位置Ｐ１とワーク取出位置Ｐ２が環状経路９に設定されているので、ロボットハンド７の移動距離が短縮され、搭載、及び取出をスムーズに行うことができる。
なお、ワーク搭載位置Ｐ１とワーク取出位置Ｐ２とを同じ位置にすることで、ワーク移送装置４が１つのロボットハンド７しか備えていない場合でも、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂへのワーク６の載置位置と、取出位置との間でロボットアーム５を移動させる必要がない。これにより、ロボットアーム５の移動に要する時間をロスすることがなく、また、１つのロボットアーム５により、ワーク６の載置位置と、取出位置との両方が可能になるので、光照射システム１の装置コストが抑えられる。
【００４５】
上述のステージ搬送機構１４は、図１、及び図２に示すように、往復直動機構６０と、上下直動機構６１とを備え、これらの往復直動機構６０と、上下直動機構６１とによって、長方形の環状経路９に沿ってステージ装置１２Ａ、１２Ｂを搬送する。
【００４６】
往復直動機構６０は、往路４０、及び主復路４１Ａが延びる方向（以下、「往復直動方向」と称し、符号Ｆａを付す）にステージ装置１２Ａ、１２Ｂを直動する機構である。この往復直動機構６０は、ステージ装置１２Ａを直動する第１往復直動機構６０Ａと、ステージ装置１２Ｂを直動する第２往復直動機構６０Ｂとを備えている。図１に示すように、これら第１往復直動機構６０Ａ、及び第２往復直動機構６０Ｂの一方が、一対の側壁６６の一方の内面に設けられ、他方が一対の側壁６６の他方の内面に設けられている。これら第１往復直動機構６０Ａ、及び第２往復直動機構６０Ｂは、第１往復直動機構６０Ａ、及び第２往復直動機構６０Ｂのそれぞれは、同一構成を有し、かつ側壁６６への設置態様も等しくされている。
【００４７】
詳述すると、第１往復直動機構６０Ａ、及び第２往復直動機構６０Ｂのそれぞれは、図２に示すように、側壁６６の内面に設けられた一対のＬＭレール６３と、これらＬＭレール６３に沿ってスライド移動する移動支持板６４とを備えている。
一対のＬＭレール６３は、往復直動方向Ｆａに延在する一対のレールであり、各ＬＭレール６３には、レールに沿ってスライド移動するＬＭブロック（図示せず）が設けられている。各ＬＭブロックには、移動支持板６４が固定され、この移動支持板６４にステージ装置１２Ａ、１２Ｂの１つが結合されている。
また、これらステージ装置１２Ａ、１２Ｂは、図１に示すように、偏光光照射器１０の側からみた平面視において、互いに同じ位置を往復直動方向Ｆａに移動するように（すなわち、互いの軌跡が重なるように）、移動支持板６４に位置合せして結合されている。これにより、これらステージ装置１２Ａ、１２Ｂのそれぞれのワークステージ４９の上面４９Ａにおける偏光光８の照度分布が揃えられる。
【００４８】
第１往復直動機構６０Ａ、及び第２往復直動機構６０ＢのＬＭブロックがＬＭ駆動装置１５によって駆動制御され、これにより、各移動支持板６４に結合されたステージ装置１２Ａ、１２Ｂが往復直動方向Ｆａに往復直動される。
このとき、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂが主復路４１Ａを移動するときは、上下直動機構６１によって第１接続路４１Ｂに沿って下方の主復路４１Ａに移動され、往路４０よりも下方にずれた位置を往復直動方向Ｆａに移動する。
【００４９】
上下直動機構６１は、第１接続路４１Ｂ、及び第２接続路４１Ｃが延びる方向（以下、「接続直動方向」と称し、符号Ｆｂを付す）にステージ装置１２Ａ、１２Ｂを直動する機構である。この接続直動方向Ｆｂは往復直動方向Ｆａに対して垂直な方向であり、図２の例では上下方向である。
この上下直動機構６１は、ステージ装置１２Ａを上下直動する第１上下直動機構６１Ａ（図１）と、ステージ装置１２Ｂを上下直動する第２上下直動機構６１Ｂとを備えている。第１上下直動機構６１Ａは、ステージ装置１２Ａが結合された移動支持板６４に設けられ、第２上下直動機構６１Ｂはステージ装置１２Ｂが結合された移動支持板６４に設けられている。また、これら第１上下直動機構６１Ａ、及び第２上下直動機構６１Ｂは、互いに同一構成を有し、移動支持板６４への設置態様も等しくされている。
【００５０】
具体的には、これら第１上下直動機構６１Ａ、及び第２上下直動機構６１Ｂは、図２、及び図４に示すように、移動支持板６４の表面６４Ａに設けられ、接続直動方向Ｆｂに延びる一対のＬＭレール６７を備えている。一対のＬＭレール６７の各々には、ＬＭブロック（図示せず）がスライド移動可能に設けられており、これらＬＭブロックにステージ装置１２Ａ、１２Ｂのステージ本体４６が結合されている。
この上下直動機構６１の直動距離、すなわち第１接続路４１Ｂ、及び第２接続路４１Ｃの経路長Ｌｄは、往路４０と主復路４１Ａのそれぞれを移動するステージ装置１２Ａ、１２Ｂが互いに衝突せずに移動できる程度に離れた距離である。
【００５１】
これら第１上下直動機構６１Ａ、及び第２上下直動機構６１ＢのＬＭブロックは、ＬＭ駆動装置１５によって駆動制御される。これにより、各移動支持板６４に結合されたステージ装置１２Ａ、１２Ｂが第１接続路４１Ｂに沿って直線的に下方移動し、また第２接続路４１Ｃに沿って直線的に上方移動される。
【００５２】
なお、このステージ本体４６は、ＬＭレール６７との結合部と反対側の先端部４６Ｓに、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの位置を検出する複数の位置検出センサー６８Ａを有した検出ユニット６８が設けられている。ＬＭ駆動装置１５は、これら位置検出センサー６８Ａの検出結果に基づいて、往復直動方向Ｆａ、及び接続直動方向Ｆｂにおけるステージ装置１２Ａ、１２Ｂの位置を特定している。なお、図１、及び図２では、検出ユニット６８の図示が省略されている。
【００５３】
ところで、光照射装置２の環状経路９が備える往路４０には、上述のとおり、始点であるワーク搭載位置Ｐ１から終点までの間に、偏光光８の照射領域Ｒａが設けられている。この往路４０は、図２に示すように、照射領域Ｒａを偏光光照射器１０の光軸Ｋに対して垂直な経路である。往路４０において、照射領域Ｒａを通過する経路長Ｌａは、放射角θと、距離Ｇによって規定される。放射角θは、偏光光照射器１０の出射端（図示例では偏光子ユニット１８）から放射される偏光光８の放射角である。距離Ｇは、照射領域Ｒａを通過するワーク６の被光処理面６Ａ（上面）から偏光光照射器１０の出射端までの距離である。
【００５４】
また往路４０において、ワーク搭載位置Ｐ１から照射領域Ｒａの開始点Ｒａｓまでの区間は、照射領域Ｒａへのワーク６の導入区間である。この区間では、ワーク６を載せたワークステージ４９が回転され、ワーク６が偏光軸２７に対して所定角度だけ回転した位置に配置される。この区間の経路長Ｌｂは、この区間内でワークステージ４９、及びワーク６を一回転させるために要するスペース分（すなわち、ワークステージ４９、及びワーク６を回転させて成る回転体の直径）以上の長さが確保されている。
【００５５】
また往路４０において、照射領域Ｒａの終了点Ｒａｅから往路４０の終点４０Ｅまでの区間は、光配向処理後のワーク６を往路４０から復路４１へ退避させる退避区間である。この区間の経路長Ｌｃは、退避に要する最短距離とされている。
具体的には、経路長Ｌｃは、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの先端６９Ａ（図１）から後端６９Ｂ（図１）までの長さＭ（図１）の約半分、すなわち、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの１つ分に相当する長さＭ程度の長さに設定されている。
なお、この経路長Ｌｃは、上述のとおり、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂのワークステージ４９の上面４９Ａの中心の軌道である。したがって、光照射装置２の内部には、照射領域Ｒａの終了点Ｒａｅの下流側に、往路４０と同一面内に、照射領域Ｒａを抜け終えた１つのステージ装置１２Ａ、１２Ｂが位置できるスペースが確保されている。ワーク６が照射領域Ｒａを抜け終えるとは、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの後端６９Ｂが照射領域Ｒａの終了点Ｒａｅに至ったことを言う。
【００５６】
次いで、光照射システム１におけるステージ装置１２Ａ、１２Ｂの搬送動作を説明する。
上述のとおり、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの搬送は、ＬＭ駆動装置１５がステージ搬送機構１４を駆動制御することで行われる。この駆動制御において、ＬＭ駆動装置１５は、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂのワーク６に対して光配向処理が行われている間に、未処理のワーク６が載置された他方のステージ装置１２Ａ、１２Ｂを照射領域Ｒａの手前に待機させている。
具体的には、ＬＭ駆動装置１５は、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの１つが照射領域Ｒａを通過する時間よりも短い時間で、他方のステージ装置１２Ａ、１２Ｂに対して次の動作を完了する。すなわち、ＬＭ駆動装置１５は、照射領域Ｒａを抜け終えた他方のステージ装置１２Ａ、１２Ｂを往路４０から復路４１のワーク取出位置Ｐ２に移動させて処理後のワーク６をワーク移送装置４によって取出可能とする。次いで、ＬＭ駆動装置１５は、ワーク搭載位置Ｐ１に移動させて未処理のワーク６をワーク移送装置４によって載置可能とする。その後、ＬＭ駆動装置１５は、未処理のワーク６を照射領域Ｒａの手前まで移動させる。
【００５７】
図５は、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂが環状経路９に沿って搬送されるときの搬送時間の分布を示す模式図である。
搬送時間Ｔａは、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの先端６９Ａ（図２）が照射領域Ｒａの開始点Ｒａｓに到達してから後端６９Ｂ（図２）が終了点Ｒａｅに到達するまでの時間である。この搬送時間Ｔａは、ワーク６が照射領域Ｒａを１回通過したときに、被光処理面６Ａの光処理（すなわち、光配向処理）の完了に要する時間よりも長く設定されている。
搬送時間Ｔｂ、Ｔｃはそれぞれ、ワーク搭載位置Ｐ１から照射領域Ｒａの開始点Ｒａｓまで、及び、照射領域Ｒａの終了点Ｒａｅから往路４０の終点４０Ｅまで、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂを搬送するのに要する時間である。また搬送時間Ｔｄ１、Ｔｄ２、Ｔｄ３はそれぞれ、主復路４１Ａ、第１接続路４１Ｂ、及び第２接続路４１Ｃにおけるステージ装置１２Ａ、１２Ｂの搬送に要する時間である。
【００５８】
そして、このＬＭ駆動装置１５は、搬送時間Ｔｂ、Ｔｃ、Ｔｄ１、Ｔｄ２、Ｔｄ３の全てを加算した合計時間が搬送時間Ｔａよりも短くなるようにステージ装置１２Ａ、１２Ｂを搬送する。これにより、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの一方が照射領域Ｒａで光配向処理されている時間である搬送時間Ｔａが経過する前に、他方のステージ装置１２Ａ、１２Ｂが照射領域Ｒａの手前に搬送され、光配向処理の待機状態となる。
したがって、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの一方の光配向処理が照射領域Ｒａを通過し終えるのに合わせて、待機状態にあったステージ装置１２Ａ、１２Ｂの他方を照射領域Ｒａに導入開始できるので、各ステージ装置１２Ａ、１２Ｂのワーク６に対する光配向処理を略絶え間なく継続でき、タクトタイムが短縮できる。
【００５９】
また、上述のとおり、往路４０においては、照射領域Ｒａの後ろの経路長Ｌｃが照射領域Ｒａの前の経路長Ｌｂよりも短くされており、経路長Ｌｃにおける搬送時間Ｔｃの短縮化が図られる。特に、この経路長Ｌｃは、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの略１つ分の長さＭに相当する長さに設定されているので、この経路長Ｌｃの搬送時間Ｔｃは、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの後端６９Ｂが照射領域Ｒａの終了点Ｒａｅに達したタイミングで満了する。すなわち、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂが照射領域Ｒａを抜け終えたときには、照射領域Ｒａから往路４０の終点までの搬送が完了し、搬送時間Ｔｃが最小になるので、タクトタイムを大きく短縮できる。
【００６０】
図６は、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの搬送状態の遷移を示す模式図である。
先ず、図６（Ａ）に示すように、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの一方（図示例ではステージ装置１２Ｂ）が、往路４０の照射領域Ｒａを通過している間に、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの他方がワーク搭載位置Ｐ１に配置される。そして、このワーク搭載位置Ｐ１で、ワーク移送装置４によって未処理のワーク６の搭載が行われる。
【００６１】
次いで、図６（Ｂ）に示すように、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの一方（図示例ではステージ装置１２Ｂ）が、照射領域Ｒａを抜け終える前に、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの他方がワーク搭載位置Ｐ１から照射領域Ｒａの間に移動する。この移動の間には、ワークステージ４９が回転し、ワーク６が偏光軸２７に対して所定角度だけ回転した位置に配置される。
これにより、照射領域Ｒａの手前に、未処理のワーク６を搭載したステージ装置１２Ａ、１２Ｂが待機した状態となる。
【００６２】
次に、図６（Ｃ）に示すように、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの一方（図示例ではステージ装置１２Ｂ）が照射領域Ｒａを抜け終えると、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの他方（図示例ではステージ装置１２Ａ）が照射領域Ｒａに進行し、光配向処理が開始される。
このとき、照射領域Ｒａを抜け終えた方のステージ装置１２Ａ、１２Ｂは、照射領域Ｒａを抜け終えた時点で上下直動機構６１によって下降され、往路４０から復路４１の第１接続路４１Ｂに速やかに退避される。
【００６３】
復路４１に退避した方のステージ装置１２Ａ、１２Ｂ（図示例ではステージ装置１２Ｂ）は、図６（Ｄ）に示すように、他方のステージ装置１２Ａ、１２Ｂが照射領域Ｒａを抜け終える前にワーク取出位置Ｐ２まで移動する。このワーク取出位置Ｐ２で、ワーク移送装置４によって光配向処理済みのワーク６が取り出される。
また、復路４１に退避した方のステージ装置１２Ａ、１２Ｂが復路４１を移動する間、ワーク取出位置Ｐ２に至るまでに、ワークステージ４９が基準位置まで回転する。この回転動作がワーク取出位置Ｐ２に至る前に完了することで、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂがワーク取出位置Ｐ２に位置したときに、ワーク移送装置４がワーク６を速やかに取り出すことができる。
【００６４】
ここで、復路４１の主復路４１Ａが往路４０の下方に設けられているので、当該主復路４１Ａも照射領域Ｒａの直下（すなわち光軸Ｋ）を通過する。この光照射装置２は、図２に示すように、往路４０と主復路４１Ａの間に遮光板７１を備え、この遮光板７１が主復路４１Ａに漏れる偏光光８を遮光する。これにより、主復路４１Ａを移動するワーク６に偏光光８が照射されるのが防止される。
【００６５】
次いで、ワーク取出位置Ｐ２に移動した方のステージ装置１２Ａ、１２Ｂ（図示例ではステージ装置１２Ｂ）は、図６（Ｅ）に示すように、他方のステージ装置１２Ａ、１２Ｂが照射領域Ｒａを抜け終える前に、往路４０の始点であるワーク搭載位置Ｐ１に到達する。そして、このワーク搭載位置Ｐ１で、ワーク移送装置４によって再び未処理のワーク６が搭載される。
【００６６】
その後、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの搬送状態が図６（Ａ）に示される状態に遷移し、図６（Ａ）〜図６（Ｅ）に示される状態が循環的に繰り返される。
【００６７】
以上説明したように、本実施形態の光照射装置２によれば、２つのステージ装置１２Ａ、１２Ｂが環状経路９に沿って一方向に搬送される。これにより、照射領域Ｒａをワーク６が往復することがないので、照射領域Ｒａを通過するときのワーク６の位置ズレを確実に防止できる。これにより、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂごとに光配向処理の結果に違いが発生することがなく、光配向処理の一律な結果が得られる。これに加えて、２つのステージ装置１２Ａ、１２Ｂが搬送されるので生産スピードが高められ、生産性が高められる。
【００６８】
さらに、環状経路９では、ワーク６をワークステージ４９から取り出す取出位置が往路４０における照射領域Ｒａから終点４０Ｅの間ではなく、復路４１、又は往路４０の始点（本実施形態では、往路４０の始点）に配置されている。
これにより、取出位置が往路４０の終点４０Ｅに設けられた場合に比べ、光配向処理後のワーク６を往路４０から速やかに復路４１に退避し、復路４１では高速にワーク６を移動させてタクトタイムを短縮できる。
【００６９】
また本実施形態では、往路４０は、照射領域Ｒａから終点４０Ｅまでの経路長Ｌｃが、始点であるワーク搭載位置Ｐ１から照射領域Ｒａまでの経路長Ｌｂよりも短くなっている。これにより、環状経路９の全経路長が短縮され、かつ照射領域Ｒａを通過した後のワーク６を復路４１に移動するまでの時間も短縮できるので、タクトタイムを効率良く短縮できる。
【００７０】
また本実施形態では、照射領域Ｒａに進入した１つのステージ装置１２Ａ、１２Ｂが当該照射領域Ｒａを抜け終えるまでの間に、他のステージ装置１２Ａ、１２Ｂが往路４０のワーク搭載位置Ｐ１から照射領域Ｒａの開始点Ｒａｓの間に移動する。
したがって、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの一方の光配向処理が完了した後、ワーク搭載位置Ｐ１から照射領域Ｒａの開始点Ｒａｓの間に移動されているステージ装置１２Ａ、１２Ｂの他方を照射領域Ｒａに導入し光配向処理を開始できる。これにより、複数のワーク６のそれぞれに絶え間なく光配向処理を行うことができ、タクトタイムが短縮される。
【００７１】
また本実施形態では、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂは、復路４１に入ってから取出位置であるワーク取出位置Ｐ２に至るまでの間にステージ装置１２Ａ、１２Ｂの回転位置を基準位置に戻す構成とした。
これにより、ワークステージ４９の回転を基準位置に戻す動作がワーク取出位置Ｐ２に至る前に完了しているので、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂがワーク取出位置Ｐ２に位置したときに、ワーク移送装置４がワーク６を速やかに取り出すことができる。
【００７２】
［第２実施形態］
図７は、本発明の第２実施形態に係る光照射システム１００の構成を示す模式図である。
本実施形態の光照射システム１００は、次の点で第１実施形態の光照射システム１と相違する。すなわち、この光照射システム１００の光照射装置１０２では、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの往路４０から復路４１に移動するときの移動方向が水平方向となっているのに対し、第１実施形態の光照射システム１では下方方向となっている点である。
【００７３】
詳述すると、光照射装置１０２は、第１実施形態と同様に、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂを備え、これらステージ装置１２Ａ、１２Ｂを一方向に搬送する環状経路１０９を備えている。なお、図７は、ステージ装置１２Ａが光照射装置２の下に隠れている状態を示している。
環状経路１０９は、第１実施形態の環状経路９と同様に、往路４０と、復路１４１とを備え、この復路１４１が主復路１４１Ａと、第１接続路１４１Ｂと、第２接続路１４１Ｃとを備えている。そして、この復路１４１にあっては、これら主復路１４１Ａと、第１接続路１４１Ｂと、第２接続路１４１Ｃが同一水平面内に設けられており、これにより、光照射装置１０２の中でステージ装置１２Ａ、１２Ｂが水平面内を循環移動する。
【００７４】
この環状経路１０９において、第１実施形態と同様に、ワーク搭載位置Ｐ１は、往路４０の起点であり、ワーク取出位置Ｐ２は、復路４１の途中である第２接続路１４１Ｃに設定されている。また、ワーク搭載位置Ｐ１、及びワーク取出位置Ｐ２が水平面内に位置するのに合わせて、ワーク移送装置１０４では、２つのロボットハンド７が同一水平面内に並べて設けられている。
【００７５】
なお、ワーク取出位置Ｐ２は、復路４１の終点、すなわちワーク搭載位置Ｐ１と同じ位置に設けられてもよい。
また環状経路１０９を含む水平面の水平精度は、ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの搬送に影響を生じさせない範囲で水平線からズレていてもよい。
また、この光照射装置１０２における各ステージ装置１２Ａ、１２Ｂの搬送動作は、前掲図５、及び図７を参照して説明した動作と概ね同様である。
【００７６】
この光照射装置１０２において、偏光光照射器１０は、環状経路１０９を含む水平面の上方であって、当該水平面に線状の光源２０が平行になる姿勢で配置されている。この線状の光源２０は、往路４０を横断し、かつ復路４１の前で止まった位置（すなわち、復路４１に照射光が届かない位置）に配置されている。
したがって、この配置構成によれば、復路４１の側の上方には、偏光光照射器１０から光源２０を当該光源２０の長手方向に沿った抜き出し方向Ｎに抜き出して交換する交換スペースとして利用できる。これにより、この交換スペースを光照射装置１０２や光照射システム１００の周辺に設ける場合に比べて小スペース化が図られる。
これに加えて環状経路１０９が水平面内に軌道を有する経路とされることで、光照射装置２、及び光照射システム１００の高さが抑えられてコンパクトが図られる。
【００７７】
なお、上述した各実施形態は、あくまでも本発明の一態様の例示であり、本発明の要旨の範囲において任意に変形、及び応用が可能である。
【００７８】
例えば、光照射装置２、１０２には、３つ以上のステージ装置１２Ａが備えられてもよい。
また例えば、光照射装置２、１０２には、２台以上の偏光光照射器１０が往路４０に並べて設けられてもよい。
なお、複数の偏光光照射器１０の各々の照射領域が互いに離間し、或いは一部がラップして往路４０に存在する場合、環状経路９、１０９における照射領域Ｒａの開始点Ｒａｓ、及び終了点Ｒａｅは次のように定義される。
すなわち、環状経路９、１０９の照射領域Ｒａの開始点Ｒａｓには、往路４０の始点であるワーク搭載位置Ｐ１に最も近い照射領域の開始点が相当する。また、環状経路９、１０９の照射領域Ｒａの終了点Ｒａｅには、往路４０の終点４０Ｅに最も近い照射領域の終了点が相当する。
【００７９】
また例えば、偏光光照射器１０が偏光光８を直接に照射領域Ｒａに照射する構成に限らず、光照射装置２、１０２は、偏光光照射器１０の偏光光８を照射領域Ｒａに導く光学系が設けられてもよい。
【００８０】
また例えば、環状経路９、１０９が長方形状を成す場合を例示したが、３角形状以上の任意の多角形状でもよい。また環状経路９、１０９は、曲線的に曲がった経路を含んでもよい。
また例えば、上述した実施形態では、長方形状の環状経路９、１０９の頂点に往路４０の始点を規定するワーク搭載位置Ｐ１が配置されている。しかしながら、ワーク搭載位置Ｐ１は、環状経路９、１０９における経路の頂点又は変曲点からずれた位置に配置されてもよい。
【００８１】
また例えば、ステージ搬送機構１４の構成は、あくまでも例示に過ぎず、環状経路９に沿って一方向にステージ装置１２Ａ、１２Ｂを搬送できる構成であれば任意である。
【００８２】
また例えば、光照射装置２は、光配向処理の他の任意の光処理に用いることができる。
【符号の説明】
【００８３】
１、１００  光照射システム
２、１０２  光照射装置
４  ワーク移送装置
６  ワーク
６Ａ  被光処理面
８  偏光光
９、１０９  環状経路
１０  偏光光照射器
１２Ａ、１２Ｂ  ステージ装置
１４  ステージ搬送機構
１５  ＬＭ駆動装置
１６  光源部
１８  偏光子ユニット
２０  光源
２７  偏光軸
４０  往路
４０Ｅ  往路の終点
４１  復路
４１Ａ  主復路
４１Ｂ  第１接続路
４１Ｃ  第２接続路
４９  ワークステージ（ステージ）
５０  回転装置
６０    往復直動機構
６１    上下直動機構
Ｆａ  往復直動方向
Ｆｂ  接続直動方向
Ｋ  光軸
Ｐ１  ワーク搭載位置
Ｐ２  ワーク取出位置
Ｒａ  照射領域
【図１】
2017015880.tif 000003
【図２】
2017015880.tif 000004
【図３】
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【図４】
2017015880.tif 000006
【図５】
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【図６】
2017015880.tif 000008
【図７】
2017015880.tif 000009