(57)【要約】【課題】表示パネルの変形に伴う表示品位の低下を防ぐことができる液晶表示装置を提供する。【解決手段】データ線及びゲート線を含む第１基板と、前記第１基板に対向配置された、ブラックマトリクスを含む第２基板と、前記第１基板及び前記第２基板の間に配置された液晶層と、を含み、前記ブラックマトリクスは、平面的に見て、前記データ線及び前記ゲート線の少なくとも何れか一方に重なる位置に開口部を有し、前記液晶層には、平面的見て、前記第１基板及び前記第２基板に接する、前記開口部と重なる壁が形成されている。【選択図】図３
2017015787.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データ線及びゲート線を含む第１基板と、
前記第１基板に対向配置された、ブラックマトリクスを含む第２基板と、
前記第１基板及び前記第２基板の間に配置された液晶層と、
を含み、
前記ブラックマトリクスは、平面的に見て、前記データ線及び前記ゲート線の少なくとも何れか一方に重なる位置に開口部を有し、
前記液晶層には、平面的に見て、前記開口部と重なる壁が形成されている、
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
データ線及びゲート線を含む第１基板と、
前記第１基板に対向配置された第２基板と、
前記第１基板及び前記第２基板の間に配置された液晶層と、
を含み、
前記液晶層には壁が形成されており、
平面的に見て、前記壁は、前記データ線及び前記ゲート線の何れかに隣接するように形成されている、
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
データ線と、ゲート線と、着色層とを含む第１基板と、
前記第１基板に対向配置された第２基板と、
前記第１基板及び前記第２基板の間に配置された液晶層と、
を含み、
前記液晶層は、液晶分子及び光硬化性樹脂を含み、
前記液晶層には、ポリマーで構成されており、かつ液晶分子を含む壁が形成されている、
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
平面的に見て、前記壁は、前記開口部に覆われるように形成されている、
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記壁は、一端が前記第１基板に接しており、他端が前記第２基板に接している、
ことを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
平面的に見て、前記壁は、前記データ線及び前記ゲート線と重なるように格子状に形成されている、
ことを特徴とする請求項１又は３に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
平面的に見て、前記壁は、赤色に対応する画素、緑色に対応する画素、及び青色に対応する画素を含む画素グループごとに格子状に形成されている、
ことを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記液晶層に、前記第１基板及び前記第２基板の間のギャップを保持するスペーサが配置されており、
前記スペーサは、前記壁とは異なる材料で形成されている、
ことを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記液晶層は、液晶分子及び光硬化性樹脂を含み、
前記壁は、ポリマーで構成されており、かつ液晶分子を含む、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、表示パネルから構成される。また、液晶表示装置は、表示パネルと、表示パネルの背面側に配置されるバックライトユニットと、を含んで構成されていても構わない。表示パネルは、薄膜トランジスタ基板（ＴＦＴ基板）と、カラーフィルタ基板（ＣＦ基板）と、両基板間に挟持された液晶層とを含んでいる。ＴＦＴ基板及びＣＦ基板は、基板貼り合わせ工程において、シール材により接着固定される。シール材は、ＴＦＴ基板の周縁部とＣＦ基板の周縁部との間に配置される（例えば特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−３５７８１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、従来の構成では、例えば表示パネルに圧力が付加された場合、ＴＦＴ基板及びＣＦ基板に位置ずれや変形が生じてセルギャップが変動したり液晶材料が流動したりすることにより表示不良の原因となるおそれがある。
【０００５】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、表示パネルの変形に伴う表示品位の低下を防ぐことができる液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明に係る液晶表示装置は、データ線及びゲート線を含む第１基板と、前記第１基板に対向配置された、ブラックマトリクスを含む第２基板と、前記第１基板及び前記第２基板の間に配置された液晶層と、を含み、前記ブラックマトリクスは、平面的に見て、前記データ線及び前記ゲート線の少なくとも何れか一方に重なる位置に開口部を有し、前記液晶層には、平面的見て、前記開口部と重なる壁が形成されている、ことを特徴とする。
【０００７】
また上記課題を解決するために、本発明に係る液晶表示装置は、データ線及びゲート線を含む第１基板と、前記第１基板に対向配置された第２基板と、前記第１基板及び前記第２基板の間に配置された液晶層と、を含み、前記液晶層には壁が形成されており、平面的に見て、前記壁は、前記データ線及び前記ゲート線の何れかに隣接するように形成されている、ことを特徴とする。
【０００８】
また上記課題を解決するために、本発明に係る液晶表示装置は、データ線と、ゲート線と、着色層とを含む第１基板と、前記第１基板に対向配置された第２基板と、前記第１基板及び前記第２基板の間に配置された液晶層と、を含み、前記液晶層は、液晶分子及び光硬化性樹脂を含み、前記液晶層には、ポリマーで構成されており、かつ液晶分子を含む壁が形成されている、ことを特徴とする。
【０００９】
本発明に係る液晶表示装置では、平面的に見て、前記壁は、前記開口部に覆われるように形成されていてもよい。
【００１０】
本発明に係る液晶表示装置では、前記壁は、一端が前記第１基板に接しており、他端が前記第２基板に接していてもよい。
【００１１】
本発明に係る液晶表示装置では、平面的に見て、前記壁は、前記データ線及び前記ゲート線と重なるように格子状に形成されていてもよい。
【００１２】
本発明に係る液晶表示装置では、平面的に見て、前記壁は、赤色に対応する画素、緑色に対応する画素、及び青色に対応する画素を含む画素グループごとに格子状に形成されていてもよい。
【００１３】
本発明に係る液晶表示装置では、前記液晶層に、前記第１基板及び前記第２基板の間のギャップを保持するスペーサが配置されており、前記スペーサは、前記壁とは異なる材料で形成されていてもよい。
【００１４】
本発明に係る液晶表示装置では、前記液晶層は、液晶分子及び光硬化性樹脂を含み、前記壁は、ポリマーで構成されており、かつ液晶分子を含んでもよい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明に係る液晶表示装置によれば、表示パネルの変形に伴う表示品位の低下を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本実施形態に係る液晶表示装置の概略構成を示す平面図である。
【図２】表示パネルの構成を示す平面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ断面図である。
【図４】図２のＢ−Ｂ断面図である。
【図５】ブラックマトリクスの構成を示す平面図である。
【図６】ポリマー壁の配置を模式的に示す平面図である。
【図７】スペーサを含む表示パネルの断面図である。
【図８】マスクの構成を示す平面図である。
【図９】マスクを位置合わせした状態の表示パネルの断面図である。
【図１０】ポリマー壁の他の配置を模式的に示す平面図である。
【図１１】ポリマー壁の他の配置を模式的に示す平面図である。
【図１２】ポリマー壁の他の配置を模式的に示す平面図である。
【図１３】ブラックマトリクスの他の構成を示す平面図である。
【図１４】図１３のブラックマトリクスに対応するマスクの構成を示す平面図である。
【図１５】マスクを位置合わせした状態の表示パネルの断面図である。
【図１６】図１５に対応する表示パネルの断面図である。
【図１７】マスクを位置合わせした状態の表示パネルの断面図である。
【図１８】図１７に対応する表示パネルの断面図である。
【図１９】ＴＦＴ基板が着色層を有する表示パネルの断面図である。
【図２０】図１９に対応するマスクを位置合わせした状態の表示パネルの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明の実施形態について、図面を用いて以下に説明する。図１は、本実施形態に係る液晶表示装置の概略構成を示す平面図である。液晶表示装置１は、画像を表示する表示パネル１０と、表示パネル１０を駆動する駆動回路（データ線駆動回路、ゲート線駆動回路）と、駆動回路を制御する制御回路（図示せず）と、表示パネル１０に背面側から光を照射するバックライト（図示せず）とを含んで構成されている。駆動回路は、表示パネル１０に設けられてもよい。
【００１８】
表示パネル１０には、列方向に延在する複数のデータ線１１と、行方向に延在する複数のゲート線１２とが設けられている。各データ線１１と各ゲート線１２との各交差部には、薄膜トランジスタ１３（ＴＦＴ）が設けられている。
【００１９】
表示パネル１０には、各データ線１１と各ゲート線１２との各交差部に対応して、複数の画素１４がマトリクス状（行方向及び列方向）に配置されている。詳細は後述するが、表示パネル１０は、薄膜トランジスタ基板（ＴＦＴ基板）と、カラーフィルタ基板（ＣＦ基板）と、両基板間に挟持された液晶層とを含んでいる。ＴＦＴ基板には、各画素１４に対応して設けられた複数の画素電極１５と、各画素１４に共通する１つの共通電極１６（図３参照）とが設けられている。共通電極１６は、１つの画素１４又は複数の画素１４ごとに分割して配置されていてもよい。
【００２０】
図２は、表示パネル１０の構成を示す平面図である。図３は図２のＡ−Ａ断面図であり、図４は図２のＢ−Ｂ断面図である。図２〜図４を参照しつつ、表示パネル１０の具体的な構成について説明する。
【００２１】
図２において、隣り合う２本のデータ線１１と、隣り合う２本のゲート線１２とで区画された領域が１つの画素１４に相当する。複数の画素１４には、赤色の着色層に対応するＲ画素と、緑色の着色層に対応するＧ画素、青色の着色層に対応するＢ画素とが含まれる。本実施形態では、Ｒ画素、Ｇ画素及びＢ画素で構成される表示パネル１０を例に挙げる。図１に示す、Ｒ、Ｇ及びＢの各表記は、それぞれＲ画素、Ｇ画素及びＢ画素を示している。Ｒ画素、Ｇ画素及びＢ画素の配列順は、図１に示す配列順に限定されない。各画素１４には、薄膜トランジスタ１３が設けられている。薄膜トランジスタ１３は、絶縁膜１０２（図３参照）上に形成された半導体層２１と、半導体層２１上に形成されたドレイン電極２２及びソース電極２３とを含んで構成されている（図２参照）。ドレイン電極２２はデータ線１１に電気的に接続されており、ソース電極２３はスルーホール２４を介して画素電極１５に電気的に接続されている。
【００２２】
各画素１４には、スズ添加酸化インジウム（ＩＴＯ）等の透明導電膜からなる画素電極１５が形成されている。画素電極１５は、複数の開口部（スリット）を有しており、ストライプ状に形成されている。開口部の数及び形状は限定されない。
【００２３】
各画素１４に共通して、表示領域全体にＩＴＯ等の透明導電膜からなる１つの共通電極１６が形成されている。共通電極１６における、スルーホール２４及び薄膜トランジスタ１３のソース電極２３に重なる領域には、画素電極１５とソース電極２３とを電気的に接続させるための開口部が形成されている。
【００２４】
図３及び図４に示すように、表示パネル１０は、ＴＦＴ基板１００（第１基板）と、ＴＦＴ基板１００に対向配置されるＣＦ基板２００（第２基板）と、ＴＦＴ基板１００及びＣＦ基板２００の間に挟持される液晶層３００と、を含んで構成されている。
【００２５】
ＴＦＴ基板１００では、ガラス基板１０１上にゲート線１２（図４）が形成され、ゲート線１２を覆うように絶縁膜１０２が形成されている。絶縁膜１０２上にはデータ線１１（図３）が形成され、データ線１１を覆うように絶縁膜１０３が形成されている。絶縁膜１０３上には共通電極１６が形成され、共通電極１６を覆うように絶縁膜１０４が形成されている。絶縁膜１０４上には画素電極１５が形成され、画素電極１５を覆うように配向膜１０５が形成されている。その他、図示はしていないが、ＴＦＴ基板１００には、偏光板等が形成されている。画素１４を構成する各部の積層構造は、図３及び図４の構成に限定されるものではなく、周知の構成を適用することができる。例えば、画素電極１５が下層に配置され、共通電極１６が画素電極１５よりも上層に配置されていてもよい。
【００２６】
ＣＦ基板２００では、ガラス基板２０１上にブラックマトリクス２１０及び着色層２０２（例えば、赤色層、緑色層、青色層）が形成され、これらを覆うようにオーバコート層２０５が形成されている。オーバコート層２０５上には配向膜２０６が形成されている。その他、図示はしていないが、ＣＦ基板２００には、偏光板等が形成されている。配向膜１０５，２０６は、ラビング配向処理が施された配向膜であってもよいし、光配向処理が施された光配向膜であってもよい。
【００２７】
図５は、ブラックマトリクス２１０の構成を示す平面図である。ブラックマトリクス２１０は、遮光部２０３と、第１開口部２１１と、第２開口部２０４とを含んでいる。遮光部２０３は、平面的に見て、データ線１１及びゲート線１２に重なるように設けられている。第１開口部２１１は、平面的に見て、隣り合う２本のデータ線１１と隣り合う２本のゲート線１２で囲まれる内側の領域（画素１４の開口領域）に対向する位置に形成されている。第２開口部２０４は、平面的に見て、データ線１１及びゲート線１２に重なるように形成されている。また第２開口部２０４は、平面的に見て、遮光部２０３の間に形成されている。また、第２開口部２０４は、ブラックマトリックス２１０の遮光部２０３の延伸方向と略平行になるように形成されている。
【００２８】
液晶層３００には、液晶分子３０１と光硬化性樹脂３０２とを含む液晶材料が封入されている。液晶分子３０１は、誘電率異方性が負のネガ型であってもよいし、誘電率異方性が正のポジ型であってもよい。光硬化性樹脂３０２は、例えば、紫外線硬化型のモノマー等を用いることができる。また液晶層３００には、紫外線照射により液晶層３００の一部が硬化したポリマー壁３０３（ポリマーウォール）が形成されている。ポリマー壁３０３は、平面的に見て、ブラックマトリクス２１０の第２開口部２０４と重なる位置に形成されている。すなわち、ポリマー壁３０３は、隣り合う画素１４の境界部分に形成されており、画素１４の開口領域外に形成されている。また、ポリマー壁３０３は、液晶層３００の厚み（セルギャップ）と同じ高さを有しており、一端がＴＦＴ基板１００に接し、他端がＣＦ基板２００に接している。また、ポリマー壁３０３は、ブラックマトリクス２１０の第２開口部２０４の幅と同じ幅を有している。
【００２９】
図６は、ポリマー壁３０３の配置を模式的に示す平面図である。図６に示すように、ポリマー壁３０３は、隣り合う画素１４の境界部分のそれぞれに配置されており、全体として格子状（マトリクス状）に形成されている。すなわち、ポリマー壁３０３は、平面的に見て、各データ線１１及び各ゲート線１２に重なる位置に形成されている。図６の構成によれば、ポリマー壁３０３は、各画素１４の開口領域を仕切る隔壁として機能する。なお、ポリマー壁３０３の形状及び配置は図６の構成に限定されない。
【００３０】
液晶層３００には、セルギャップを保持するためのスペーサ２０７が配置されていてもよい。図７は、スペーサ２０７を含む表示パネル１０の断面図である。スペーサ２０７は、例えば、平面的に見て、遮光部２０３及びゲート線１２に重なるようにＣＦ基板２００に形成されている。またスペーサ２０７は薄膜トランジスタ１３の近傍に配置されてもよい。すなわち、スペーサ２０７は、図２に示すように、平面的に見て、行方向に隣り合うＴＦＴの間に配置されるようにＣＦ基板２００に形成されていてもよい。また、スペーサ２０７の一部又は全部が、ポリマー壁３０３の内部に形成されていてもよい。また、スペーサ２０７は、Ｒ画素、Ｇ画素及びＢ画素を含む１つの画素グループに対して１つ又は複数設けられていてもよいし、複数の画素グループに対して１つの割合で設けられていてもよい。また、平面的に見て、ポリマー壁３０３の面積は、複数のスペーサ２０７の面積よりも大きくなるように形成されていてもよい。またスペーサ２０７の形状は限定されず、円柱状、角柱状、円錐状、球状等とすることができる。スペーサ２０７は、周知の方法によりＣＦ基板２００に形成することができ、例えば、感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィーにより形成することができる。
【００３１】
また、スペーサ２０７は、互いに高さが異なる２種類のスペーサを含んでいてもよい。具体的には、図７に示すようにスペーサ２０７は、通常状態においてＴＦＴ基板１００及びＣＦ基板２００に接するメインスペーサと、通常状態ではＴＦＴ基板１００又はＣＦ基板２００の一方には接しておらず、表示パネル１０が変形したときにＴＦＴ基板１００及びＣＦ基板２００の両方に接するサブスペーサとを含んでいてもよい。サブスペーサを設けることにより、耐圧性の向上と低温時の気泡発生の抑制を図ることができる。サブスペーサの高さは、ポリマー壁３０３の高さよりも低くなっている。なお、スペーサ２０７の弾性率は、ポリマー壁３０３の弾性率よりも高いことが好ましい。また、スペーサ２０７の直下には配向膜２０６が形成されていない。一方、ポリマー壁３０３の直下には配向膜２０６が形成されている。
【００３２】
次に、図３に示す表示パネル１０におけるポリマー壁３０３の形成方法について説明する。先ず、表示パネル１０の製造工程において、ＴＦＴ基板１００及びＣＦ基板２００を作製する。ＣＦ基板２００を作製する工程には、平面的に見て、データ線１１及びゲート線１２に重なる位置に第２開口部２０４を有するブラックマトリクス２１０（図５参照）を形成する工程が含まれる。両基板のその他の作製方法は周知の方法を採用することができる。次に、基板貼り合わせ工程において、両基板を貼り合わせる。例えば、スペーサ２０７によりセルギャップを保持するとともに、両基板の周縁部をシール材により接着固定する。次に、両基板間に、液晶分子３０１と光硬化性樹脂３０２とを含む液晶材料を注入する。次に、マスク４００をＣＦ基板２００側に位置合わせする。
【００３３】
図８は、マスク４００の構成を示す平面図である。マスク４００は、遮光部４０１と開口部４０２とを含んでいる。遮光部４０１は、画素１４の開口領域に対応するように形成されている。遮光部４０１の大きさは、画素１４の開口領域と同じ大きさであってもよいし、これよりも大きくてもよい。開口部４０２は、ブラックマトリクス２１０の第２開口部２０４に対応するように形成されている。開口部４０２の大きさは、ブラックマトリクス２１０の第２開口部２０４の開口領域と同じ大きさであってもよいし、これよりも大きくてもよい。
【００３４】
マスク４００をＣＦ基板２００側に位置合わせする際、平面的に見て、マスク４００の開口部４０２がブラックマトリクス２１０の第２開口部２０４に重なる（覆う）ように位置合わせする。また、マスク４００の開口部４０２がブラックマトリクス２１０の第１開口部２１１（図５参照）に重ならないように位置合わせする。例えば、マスク４００の開口部４０２の中心と、ブラックマトリクス２１０の第２開口部２０４の中心とが一致するように位置合わせする。図９には、マスク４００を位置合わせした状態の表示パネル１０の断面図を示している。
【００３５】
マスク４００を位置合わせした後、図９に示すように、ＣＦ基板側から紫外線を照射する。照射された紫外線は、マスク４００の開口部４０２及びブラックマトリクス２１０の第２開口部２０４を通過し、液晶層３００に到達する。液晶層３００において紫外線が照射された領域では、液晶材料中のモノマーが重合して硬化しポリマー壁３０３が形成される。図３には、このようにして形成されたポリマー壁３０３を示している。形成されたポリマー壁３０３は、液晶材料で構成されており、内部にモノマーが残留していてもよいし、残留していなくてもよい。なお、ポリマー壁３０３中には、液晶分子３０１が残留していてもよいし、残留していなくてもよい。
【００３６】
上記の形成方法では、マスク４００を用いているが、ポリマー壁３０３の形成方法はこれに限定されない。例えば、紫外線を集光して数ｕｍ径のスポットにして、Ｘ方向及びＹ方向に走査しながらポリマー壁３０３を形成してもよい。
【００３７】
本実施形態に係る液晶表示装置１によれば、ポリマー壁３０３により液晶材料を閉じ込めることができる。このため、液晶材料の流動を抑えることができる。また表示パネル１０を立てて使用する際に液晶材料が下側に集まることにより生じるギャップムラの現象を抑えることができる。また、ポリマー壁３０３により不純物の移動を抑えることができるため、不純物が局所的に集まることにより出現する表示ムラを抑えることができる。また、ポリマー壁３０３によりセルギャップを保持することができるため、表示パネル１０が押圧されることにより生じるプーリングの現象を抑えることができる。また、温度変化に伴う液晶の体積変化をポリマー壁３０３の区画内で抑えることができるため、表示パネル全体における液晶の体積変化が局所的に集中することがなく、低温時の気泡や局所的なギャップムラ等の現象を抑えることができる。また、タッチパネルを貼り付けた際に集中応力がかかることを防ぐことができるため、表示ムラを抑えることができる。また、ポリマー壁３０３を介してＴＦＴ基板１００及びＣＦ基板２００が接着固定されるため、両基板のズレを抑えることができる。これにより、拭きムラの発生及び表示パネルの反りを抑えることができる。また、表示パネルを曲げた状態でポリマー壁３０３を形成することにより、曲がった形状を維持することができるため、曲面パネルを製造することができる。また、スペーサの擦れによる微小輝点の発生を抑えることができる。また、ポリマー壁３０３が両基板のシール材としての機能を有するため、表示パネル１０の周縁部のシール材の接着強度を強くする必要がない。このため、周縁部のシール材を細線化することができるため、狭額縁化を図ることができる。また、各画素１４をポリマー壁３０３で仕切ることができるため、斜め混色の発生を抑えることができる。
【００３８】
なお、ポリマー壁３０３は、セルギャップを保持する機能を有するため、スペーサ２０７（図７参照）は省略されてもよい。この場合、基板貼り合わせ工程において、セルギャップを保持するために、別途の保持部材を用いることが好ましい。また、スペーサ２０７は、表示領域内には配置されず、表示領域外に配置されていてもよい。
【００３９】
ここで、液晶材料は、表示パネル１０の特性等に応じた所定の比率で配合されていることが好ましい。すなわち、液晶材料中の液晶分子３０１と光硬化性樹脂３０２との比率は、所定の強度の紫外線を所定時間照射して、ブラックマトリクス２１０の第２開口部２０４の幅及びセルギャップの高さに応じた大きさ（体積）のポリマー壁３０３が形成される程度の値に設定されている。また、液晶材料中の液晶分子３０１と光硬化性樹脂３０２との比率は、画素の開口率に応じた値に設定されている。
【００４０】
液晶表示装置１の構成は上記構成に限定されない。液晶表示装置１の他の構成について以下に示す。
【００４１】
図１０は、ポリマー壁３０３の他の配置を模式的に示す平面図である。図１０に示すように、ポリマー壁３０３は、Ｒ画素、Ｇ画素及びＢ画素で構成される画素グループごとに形成されていてもよい。
【００４２】
図１１は、ポリマー壁３０３の他の配置を模式的に示す平面図である。図１１に示すように、ポリマー壁３０３は、表示領域の中央部分では多数の画素（ここでは４個の画素）ごとに形成されており、表示領域の周縁部の領域では中央部分よりも少数の画素（ここでは１個の画素）ごとに形成されていてもよい。また、これとは逆に、ポリマー壁３０３は、表示領域の中央部分では少数の画素（例えば１個の画素）ごとに形成されており、表示領域の周縁部の領域では中央部分よりも多数の画素（例えば４個の画素）ごとに形成されていてもよい。
【００４３】
図１２は、ポリマー壁３０３の他の配置を模式的に示す平面図である。図１２に示すように、ポリマー壁３０３は、表示領域の中心から周縁部の方向に広がるように、矩形状に形成されていてもよい。
【００４４】
また、図示はしないが、ポリマー壁３０３は、列方向のみに縦ストライプ状に形成されていてもよいし、行方向のみに横ストライプ状に形成されていてもよい。例えば、表示パネル１０を行方向（横方向）に湾曲させる場合には、ポリマー壁３０３を横ストライプ状に形成してもよい。また、表示パネル１０を列方向（縦方向）に湾曲させる場合には、ポリマー壁３０３を縦ストライプ状に形成してもよい。
【００４５】
また、ポリマー壁３０３は、柱状に形成されていてもよい。図１３は、ブラックマトリクス２１０の他の構成を示す平面図である。ブラックマトリクス２１０は、遮光部２０３と、第１開口部２１１と、互いに分離された矩形状の第２開口部２０４とを含んでいる。第２開口部２０４は、平面的に見て、データ線１１及びゲート線１２の交差部に重なるように形成されている。図１４は、図１３のブラックマトリクス２１０に対応するマスク４００の構成を示す平面図である。マスク４００は、遮光部４０１と矩形状の開口部４０２とを含んでいる。開口部４０２は、ブラックマトリクス２１０の第２開口部２０４（図１３参照）に対応するように形成されている。なお図１４には、画素の開口領域を点線で示している。図１３に示すブラックマトリクス２１０及び図１４に示すマスク４００を用いることにより、矩形の柱状のポリマー壁３０３を形成することができる。ポリマー壁３０３の形状はこれに限定されず、円柱状、Ｌ字状、十字状等であってもよい。
【００４６】
また、紫外線の照射は、ＴＦＴ基板１００の背面側から行ってもよい。図１５は、マスク４００をＴＦＴ基板１００側に位置合わせした状態の表示パネル１０の断面図を示している。ＴＦＴ基板１００の背面側から照射した紫外線は、マスク４００の開口部４０２とデータ線１１（及びゲート線１２）との間の領域（間隙）を通過し、液晶層３００に到達する。液晶層３００において紫外線が照射された領域では、液晶材料中のモノマーが重合して硬化しポリマー壁３０３が形成される。図１６には、このようにして形成されたポリマー壁３０３を示している。図１６に示すように、平面的に見て、ポリマー壁３０３は、データ線１１（ゲート線１２）の両側に隣接するように形成される。そして、データ線１１（ゲート線１２）の直上領域には、両側に形成されたポリマー壁３０３で閉じ込められた液晶分子３０１及び光硬化性樹脂３０２を有する層が形成される。なお、この構成では、ブラックマトリクス２１０に第２開口部２０４を形成する必要がない。
【００４７】
また、データ線１１（及びゲート線１２）の中心とブラックマトリクス２１０の遮光部２０３の中心とがずれていてもよい。この場合、図１７に示すように、マスク４００を位置合わせすることにより、図１８に示すようにポリマー壁３０３を、データ線１１（ゲート線１２）の片側に隣接するように形成することができる。
【００４８】
また、着色層２０２は、ＴＦＴ基板１００に形成されていてもよい。図１９は、ＴＦＴ基板１００が着色層２０２を有する表示パネル１０の断面図である。着色層２０２は、例えば、絶縁膜１０３上に形成される。この構成では、図２０に示すように、マスク４００をＣＦ基板２００側に位置合わせして紫外線を照射することにより、ポリマー壁３０３を形成することができる。なお、上記の構成では、ＣＦ基板２００にブラックマトリクス２１０の遮光部２０３を形成する必要がないため、ポリマー壁３０３の設計自由度が向上する。
【００４９】
また、ポリマー壁３０３は、高さや幅が異なる複数種類のポリマー壁で構成されていてもよい。例えば、液晶層３００に照射する紫外線の強度を場所に応じて調整することにより、高さが高くＴＦＴ基板１００及びＣＦ基板２００の両方に接着固定されているメインポリマー壁と、高さが低くＴＦＴ基板１００又はＣＦ基板２００の一方に接着固定されており、他方に接着していないサブポリマー壁とを形成してもよい。これにより、ポリマー壁３０３が、メインスペーサ及びサブスペーサの機能を有することができる。また、場所に応じてブラックマトリクス２１０の第２開口部２０４の幅や、マスク４００の開口部４０２の幅を変えることにより、幅が広いメインポリマー壁と、幅が狭いサブポリマー壁とを形成してもよい。
【００５０】
上記液晶表示装置１は、ＩＰＳ（In Plane Switching）方式の構成を有している。なお、液晶表示装置１の構成は、ＩＰＳ方式の構成に限定されない。
【００５１】
液晶表示装置１の駆動方法を簡単に説明する。ゲート線１２にはゲート線駆動回路から走査用のゲート電圧（ゲートオン電圧、ゲートオフ電圧）が供給される。データ線１１にはデータ線駆動回路から映像用のデータ電圧が供給される。ゲート線１２にゲートオン電圧が供給されると、薄膜トランジスタ１３がオン状態になり、データ線１１に供給されたデータ電圧が、ドレイン電極２２及びソース電極２３を介して画素電極１５に伝達される。共通電極１６には、共通電極駆動回路（図示せず）から共通電圧（Ｖｃｏｍ）が供給される。共通電極１６は、絶縁膜１０４を介して画素電極１５に重なっており、画素電極１５には、開口部（スリット）が形成されている。これにより、画素電極１５から液晶層３００を経て画素電極１５の開口部を介して共通電極１６に至る電界により液晶分子３０１が駆動する。液晶分子３０１が駆動して液晶層３００を透過する光の透過率を制御することにより画像が表示される。液晶表示装置１の駆動方法は上記の方法に限定されず、周知の方法を適用することができる。
【００５２】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記各実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で上記各実施形態から当業者が適宜変更した形態も本発明の技術的範囲に含まれることは言うまでもない。
【符号の説明】
【００５３】
１  液晶表示装置、１０  表示パネル、１１  データ線、１２  ゲート線、１３  薄膜トランジスタ、１４  画素、１５  画素電極、１６  共通電極、２１  半導体層、２２  ドレイン電極、２３  ソース電極、２４  スルーホール、１００  ＴＦＴ基板、１０１  ガラス基板、１０２，１０３，１０４  絶縁膜、１０５  配向膜、２００  ＣＦ基板、２０１  ガラス基板、２０２  着色層、２０３  遮光部、２０４  第２開口部、２０５  オーバコート層、２０６  配向膜、２０７  スペーサ、２１０  ブラックマトリクス、２１１  第１開口部、３００  液晶層、３０１  液晶分子、３０２  光硬化性樹脂、３０３  ポリマー壁、４００  マスク、４０１  遮光部、４０２  開口部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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