(57)【要約】【課題】遮光性能を向上した遮光部材及びその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】遮光部材２１は、アルミニウム製の基材シート３７と、遮光層３８とを備える。遮光層３８は、基材シート３７の第１シート面４１，第２シート面４２，シート内周面４３，シート外周面にそれぞれ形成されている。遮光層３８は、入射光の波長以下のピッチで配された複数の錐体状の突部４６を有し、これらの複数の突部４６は先端の向きが不均一に形成されている。複数の突部４６のピッチは、入射光の波長以下とされている。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
入射光の波長以下のピッチで配された錐体状の複数の突部を有する遮光部材において、
前記複数の突部は先端の向きが不均一に形成されていることを特徴とする遮光部材。
【請求項２】
基材シートと、
前記基材シートの表面に設けられ、前記複数の突部を有する遮光層と、
を備える請求項１に記載の遮光部材。
【請求項３】
前記基材シートの端面は、前記基材シートの厚み方向と交差する交差面を有する請求項２または３に記載の遮光部材。
【請求項４】
前記基材シートのシート面の垂直方向から見たときに、前記端面から形成された前記遮光部材の端部の幅が遮光部材の厚みの少なくとも５０％である請求項３に記載の遮光部材。
【請求項５】
入射光の波長以下のピッチで配された錐体状の複数の突部を備える遮光部材の製造方法において、
シート材から基材シートを形成するシート形成ステップと、
前記基材シートの表面に、前記複数の突部を有する遮光層を形成する遮光層形成ステップと、
を有し、
前記遮光層形成ステップは、前記基材シートの表面に対するめっきにより、先端の向きが不均一な複数の突部を形成する。
【請求項６】
シート形成ステップは、前記シート材に対するフォトエッチングにより、前記基材シートの厚み方向と交差する交差面を前記基材シートの端面の少なくとも一部として形成する請求項５に記載の遮光部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、遮光部材及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
各種の光学機器等に用いられる遮光部材として、フィルム状のいわゆる遮光フィルムがある。例えば、特許文献１には、樹脂成分に黒色顔料と平均粒子径が３μｍ以上１０μｍ以下の範囲内の不定形シリカとを含有させた遮光フィルムが記載されている。この遮光フィルムは、表面に凹凸が形成されており、周囲を打ち抜いたとき、端面に表面粗さ（算術平均高さＲａ）が１μｍ以上の凹凸が形成される。また、特許文献２には、樹脂成分に黒色顔料と向き充填剤を含有させ、内部に空洞が形成された遮光フィルムが記載されている。この遮光フィルムは、空洞の含有率が１０〜５０体積％であり、両フィルム面に表面粗さ（算術平均高さＲａ）で０．２〜２．２μｍの凹凸が形成されている。
【０００３】
また、遮光部材としては、錐体状の突部が入射光の波長以下のピッチで複数形成されており、これらの突部で入射光の反射を防止するものも知られている。突部のピッチはナノメートル（ｎｍ）オーダーとされ、このような突部が複数形成されてなる凹凸構造は、モスアイ構造とも呼ばれる。
【０００４】
以上のような遮光部材は、例えば複数のレンズなどから構成されるレンズユニットにおいては、レンズへの迷光の進入を防止するなど、撮影に無関係な光を遮断する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−１９４５１４号公報
【特許文献２】特開２０１３−１９０５００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら特許文献１と特許文献２との遮光フィルムは、例えば上記のようなレンズユニット中に配して用いた場合に、入射光は端面で散乱するのでその端面は見かけ上黒く見えるものの、遮光性能が不十分で、例えばレンズユニットに用いた場合に迷光が依然として残り、遮光性能に改善が望まれる。
【０００７】
本発明は、遮光性能を向上した遮光部材及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明は、入射光の波長以下のピッチで配された錐体状の複数の突部を有する遮光部材において、複数の突部は先端の向きが不均一に形成されていることを特徴として構成されている。
【０００９】
遮光部材は、基材シートと、基材シートの表面に設けられ、複数の突部を有する遮光層とを備えることが好ましい。
【００１０】
基材シートの端面は、基材シートの厚み方向と交差する交差面を有することが好ましい。基材シートのシート面の垂直方向から遮光部材を見たときに、端面から形成された遮光部材の端部の幅が遮光部材の厚みの少なくとも５０％であることが好ましい。
【００１１】
本発明の遮光部材の製造方法は、シート形成ステップと、遮光層形成ステップとを有し、遮光部材は入射光の波長以下のピッチで配された錐体状の複数の突部を有する。シート形成ステップは、シート材から基材シートを形成する。遮光層形成ステップは、基材シートの表面に、複数の突部を有する遮光層を形成する。遮光層形成ステップは、基材シートの表面に対するめっきにより、先端の向きが不均一な複数の突部を形成する。
【００１２】
シート形成ステップは、シート材に対するフォトエッチングにより、基材シートの厚み方向と交差する交差面を基材シートの端面の少なくとも一部として形成することが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の遮光部材は遮光性能に優れ、本発明の遮光部材の製造方法によれば遮光性能に優れた遮光部材を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】遮光部材を用いた撮影モジュールの一例を示す概略概略図である。
【図２】第１実施形態の遮光部材の斜視図である。
【図３】遮光部材の内周面及びその近傍における断面の端面図である。
【図４】突部のピッチの説明図である。
【図５】突部の高さの説明図である。
【図６】突部の先端の向きの説明図である。
【図７】基材シートの形成方法の説明図である。
【図８】基材シートが形成されたシート材の斜視図である。
【図９】めっき処理装置の概略図である。
【図１０】第２実施形態の遮光部材の内周面及びその近傍における断面の端面図である。
【図１１】第２実施形態の遮光部材の説明図である。
【図１２】第３実施形態の遮光部材の内周面及びその近傍における断面の端面図である。
【図１３】第４実施形態の遮光部材の内周面及びその近傍における断面の端面図である。
【図１４】シート材とエッチングマスクとの概略斜視図である。
【図１５】エッチングステップの説明図である。
【図１６】第５実施形態の遮光部材の基材シート及び遮光層の断面図である。
【図１７】電解粗面化処理装置の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
［第１実施形態］
図１において、撮影モジュール１０は、レンズユニット１１と、撮像素子（イメージセンサ）１２等から構成されており、例えばスマートフォンや携帯電話などに内蔵される。レンズユニット１１は、４枚のレンズ１６〜１９と、４つの遮光部材２１〜２４と、これらのレンズ１６〜１９及び遮光部材２１〜２４が組み込まれる鏡筒２７等から構成される。この例では、レンズを４枚としているが、枚数は４に限られず、レンズ設計に応じて適宜に増減される。遮光部材２１〜２４は、リング状のシートとされ、レンズ１６とレンズ１７、レンズ１７とレンズ１８、レンズ１８とレンズ１９の各間と、レンズ１９の光の射出面側とに配されて、撮影と無関係な光を遮断する。遮光部材２１〜２４のそれぞれは、隣接するレンズに応じた大きさとされている。
【００１６】
撮像素子１２は、基板２８に実装されており、この基板２８にレンズユニット１１が固定される。レンズ１６は、第一面側に光軸に対して軸対称である凸状の非球面１６ａ、第二面側に平面１６ｂ、非球面１６ａの外周側のコバ部１６ｃを備え、レンズ１６の非球面１６ａに入射した被写体光は、レンズ１６、レンズ１７、レンズ１８、レンズ１９を順次通って撮像素子１２の撮像面上に結像され、撮像が行われる。
【００１７】
遮光部材２１〜２４は、外径及び内径以外は同様の構成とされているので、以下、遮光部材２１について具体的に説明し、遮光部材２２〜２４の説明は略す。図２に示すように、リング状に形成されたシートである遮光部材２１は、この例では、外径が５ｍｍ、内径が１．８ｍｍ、厚みＴが２０μｍとされている。ただし、外径、内径、厚みはこれに限られない。なお、遮光部材２１の表面のうち、鏡筒２７内への光の入射側に向けられる第１部材面には符号３１を、鏡筒２７内において撮像素子１２側に向けられる第２部材面には符号３２を、内側の端面である内周面には符号３３と、外側の端面である外周面には符号３４を付す。
【００１８】
図３に示すように、遮光部材２１は、基材シート３７と遮光層３８とを備える。基材シート３７は遮光部材２１の部材本体であり、遮光層３８は基材シート３７の遮光機能を補うことで遮光部材２１としての遮光性能を向上させるためのものである。遮光性能とは光を遮断する性能であり、ここでの遮断は主に吸収することによる。基材シート３７は、遮光部材２１と同様にリング状のシートとされており、第１シート面４１と第２シート面４２と内側の端面であるシート内周面４３と外側の端面である外周面（図示無し）とを有する。これら第１シート面４１、第２シート面４２、シート内周面４３、シート外周面のそれぞれに遮光層３８は設けられており、基材シート３７の表面を覆う被覆層として形成されている。したがって、第１シート面４１上の遮光層３８は第１部材面３１を、第２シート面４２上の遮光層３８は第２部材面３２を、シート内周面４３上の遮光層３８は内周面３３を、シート外周面上の遮光層３８は外周面３４を、それぞれ成している。なお、図１に示すレンズユニット１１のように外周面３４が鏡筒２７の内壁に密着する場合には外周面３４に遮光層３８を設ける必要は無いが、この例の遮光部材２１は外周面３４にも遮光層３８を形成している。ただし、本例の遮光部材２１は後述の製造方法により製造していることから、外周面３４のうち一部には遮光層３８が形成されていない。
【００１９】
上記のように遮光層３８が、第１シート面４１と第２シート面４２とに加えてシート内周面４３にも設けられているから、第１シート面４１と第２シート面４２とにだけ設けている場合に比べて、入射光や迷光を確実に受光して、吸収する。入射光や迷光の確実な受光、吸収は、後述の本実施形態の複数の突部４６のように、先端の向きが不均一に形成されている場合に限られない。すなわち、突部が入射光よりも波長以下のピッチで配されることで形成された凹凸構造をもつ遮光層が、第１シート面４１と第２シート面４２とに加えてシート内周面４３に形成されていれば、第１シート面４１と第２シート面４２とにだけ設けている場合に比べて、入射光や迷光が確実に受光、吸収される。
【００２０】
基材シート３７は、この例ではアルミニウム（Ａｌ）から形成されているが、他の素材から形成されていてもよい。また、基材シート３７は、互いに異なる２以上の素材の混合物から形成されていてもよい。例えば、基材シート３７の質量を１００とするときに、アルミニウムの質量を９８．３以上９９．９以下の範囲内とし、他の素材の質量を０．１以上１．７以下の範囲内としてもよい。基材シート３７の素材は、透明なものでも不透明なものでもよいが、遮光部材２１に入射する入射光の透過性ができるだけ低いものの方が好ましく、例えば金属がある。好ましい金属としては、銅（Ｃｕ）、すず（Ｓｎ）、ＳＵＳ（ステンレス鋼）等が挙げられる。ただしアルミニウムなどの金属であっても、厚みによっては光を透過し、また表面で光を反射するから、遮光層３８を基材シート３７上に設けてある。
【００２１】
遮光層３８は複数の突部４６を有し、第１部材面３１、第２部材面３２、内周面３３、外周面３４は、これらの突部４６が密に配されることで形成された凹凸構造（以下、表面凹凸構造と称する）にされている。突起４６は、この例では先端に向かうほど径が小さい円錐状である。ただし、突起４６は先細のいわゆる錐体状であればよく、円錐状に代えて角錐状でもよい。また、突起４６の先端は尖鋭である必要はなく、丸みを帯びていてもよい。このように突起４６の各々が錐体状であることにより、第１部材面３１、第２部材面３２、内周面３３、外周面３４は、入射光に対する見かけ上の屈折率が緩やかになり、このため入射光の吸収率が高まる。
【００２２】
複数の突部４６のピッチ（以下、突部ピッチと称する）ＰＳは、入射光の波長以下とされている。突部ピッチＰＳは、隣り合う突起４６と突起４６との各頂部間の距離である。また、入射光の波長以下とは、入射光の波長帯域のうち最も短い波長以下という意味であり、例えば入射光の波長帯域が可視光領域であり、その最短波長が４００ｎｍである場合には、突部ピッチＰＳは４００ｎｍ以下である。突部ピッチＰＳは、一定である必要は無く、本実施形態においても一定ではない。このように突部ピッチＰＳが不均一である場合には、隣り合う１１個の突部４６につき、図４に示すようにそれらの各頂部間の距離（ＰＳ１，ＰＳ２，ＰＳ３，・・・，ＰＳ８，ＰＳ９，ＰＳ１０）を求め、（ＰＳ１＋ＰＳ２＋ＰＳ３＋・・・＋ＰＳ８＋ＰＳ９＋ＰＳ１０）／１０で求める平均値を突部ピッチＰＳとする。各頂部間の距離（ＰＳ１，ＰＳ２，ＰＳ３，・・・，ＰＳ８，ＰＳ９，ＰＳ１０）は、遮光層３８の断面をＳＥＭ（Scanning Electron Microscope，走査型電子顕微鏡）で観察して求めることができる。本実施形態での突部ピッチＰＳは３００ｎｍである。なお、図４Ａにおいては、上下方向を厚み方向としており、第１部材面３１を図示してある。突部ピッチＰＳは、入射光の最短波長よりも短いことがより好ましく、最短波長の１／２よりも短いことがさらに好ましい。
【００２３】
突部４６の高さ（以下、突部高さと称する）ＨＳは、入射光の波長帯域のうち最長の波長の１／４以上とされる。突部高さＨＳは、突部４６の底面Ｂ４６から頂部までの距離である。突部高さＨＳは、入射光の波長帯域が可視光領域の場合には、その最長波長を８００ｎｍとすると、２００ｎｍ以上である。突部４６の高さＨＳは一定でもよいし、不均一でもよい。本実施形態においては突部高さＨＳは不均一とされている。このように突部高さＨＳが不均一である場合には、隣り合う１０個の突部４６の各々につき、図５に示すように底面から頂部までの距離（ＨＳ１，ＨＳ２，ＨＳ３，・・・，ＨＳ８，ＨＳ９，ＨＳ１０）を求め、（ＨＳ１＋ＨＳ２＋ＨＳ３＋・・・＋ＨＳ８＋ＨＳ９＋ＨＳ１０）／１０で求める平均値を突部高さＨＳとする。各突部４６の底面から頂部までの距離（ＨＳ１，ＨＳ２，ＨＳ３，・・・，ＨＳ８，ＨＳ９，ＨＳ１０）は、遮光層３８の断面を前述のＳＥＭで観察して求めることができる。本実施形態での突部高さＨＳは５００ｎｍである。
【００２４】
以上のような複数の微小な突部４６で形成される表面凹凸構造はモスアイ構造とも呼ばれる。モスアイ構造においては、突部４６の素材と、隣接する突部４６間を占有する光の媒質との体積比率が、突部４６の先端から根元に向かって徐々に変化するため、見かけ上の屈折率がゆるやかに変化する。このため、入射光は、光の反射や屈折が生じにくくなり、遮光層３８で吸収される。なお、この例での上記媒質は、空気である。
【００２５】
図６に示すように、複数の突部４６は、先端の向きが不均一に形成されている。すなわち、複数の突部４６の先端の向きはランダムである。先端の向きは、突部４６の頂部４６ｐから底面４６ｂへ垂線Ｐを下ろしたときの、底面４６ｂから頂部４６ｐへの向きである。このように、先端の向きが不均一に複数の突起４６が形成されているから、見かけ上の屈折率はより確実にゆるやかに変化して入射光はより確実に吸収される。
【００２６】
遮光層３８は、この例では、ニッケル（Ｎｉ）を含んでおり、黒色である。黒色とすることにより、入射光はより吸収され、遮光性能がより確実に向上する。ニッケルは、遮光層３８の質量を１００とするときに、少なくとも８０の質量で含まれることが好ましい。遮光部材２１は、遮光層３８が黒色であることから、この黒色を利用して、例えば、装飾用途としても用いることができる。
【００２７】
遮光部材２１の製造方法は、基材シート３７を形成するシート形成ステップと、基材シート３７の表面に遮光層３８を形成する遮光層形成ステップとを有する。シート形成ステップは、アルミニウム製のシート材から基材シート３７を形成する。図７に示すように、シート材５０を、基材シート３７と各基材シート３７を保持するブリッジ５０ｂとを残すように打ち抜く。この例では、複数個の基材シート３７を形成することができるシート材５０を用いているが、シート材５０の大きさは特に限定されない。一度の打ち抜きで形成する基材シート３７の個数はひとつでも複数個でもよい。また、複数枚のシート材５０を厚み方向に重ねて打ち抜いてもよい。このような打ち抜き法においては、シート材５０を切断刃などによりカットすることでシート材５０に基材シート３７は形成される。基材シート３７の形成は、本実施形態のように打ち抜きでもよいし、フォトエッチングでもよいが、シート内周面４３とシート外周面とを第１シート面４１及び第２シート面４２とに垂直に形成する観点では打ち抜きの方が簡易であり、また生産効率の観点でも優れる。
【００２８】
上記のシート形成ステップにより、本実施形態では図８に示すように１６個の基材シート３７をシート材５０に形成している。遮光層形成ステップは、このシート材５０に対してめっき処理を行う。めっき処理としては、電解めっきと無電解めっきとが挙げられる。電解めっきに使用される装置としては、図９に示すめっき処理装置６１が挙げられる。めっき処理装置６１は、電解槽６２と、電極６３と、直流電源６４とを備え、電解槽６２には電解液６５が収容される。電解液６５は、ニッケルを含んでいる。
【００２９】
電極６３は、電解液６５中に配される。基材シート３７が形成されたシート材５０も電極６３と同様に電解液６５中に配され、シート材５０は電極６３と対向して浸漬される。シート材５０は直流電源６４の陰極に接続され、電極６３は陽極に接続される。直流電源６４によって流れる直流電流により、シート材５０の表面、すなわち各基材シート３７の表面とブリッジ５０ｂの表面とに、めっき処理が施され、遮光層３８（図３参照）が形成される。
【００３０】
めっき処理を経たシート５０から基材シート３７の部分をブリッジ５０ｂから切り離すことで、遮光部材２１が得られる。このように、遮光部材２１をブリッジ５０ｂから切り離すことで得る場合には、基材シート３７のシート外周面のうち、ブリッジ５０ｂから切り離した部分には遮光層３８が形成されていないが、それ以外の部分には遮光層３８が形成されている。
【００３１】
遮光層形成ステップは、上記の電解めっき処理に代えて、無電解めっき処理でもよい。無電解めっき処理の方法としては、例えば、ホスフィン酸塩を還元剤として用いたＮｉ−Ｐ（ニッケル−リン）めっきが挙げられる。より具体的には、硫酸ニッケル、ホスフィン酸ナトリウム、酢酸ナトリウムからなるめっき浴を用い、このめっき浴中に、基材シート３７が形成されたシート材５０を浸漬して、表面にＮｉ−Ｐ（ニッケルとリン）からなる被覆膜を形成する。この際のめっき浴の水素イオン指数ｐＨは４以上６以下の範囲内であることが好ましく、めっき浴の温度は９０℃が好ましい。得られた被覆膜が目的とする表面凹凸構造として得られている場合には、この被覆膜を遮光層３８として用いてよい。得られた被覆膜が、平滑な場合などのように目的する表面凹凸構造と異なる場合には、この被覆膜を、硫酸や酢酸中でエッチングすることで、目的とする表面凹凸構造とされた遮光層３８が形成される。めっき処理により遮光層３８を形成する場合には、基材シート３７からの遮光層３８の剥離を防止する観点から、薬液による下地処理を施してもよい。
【００３２】
１枚のシート材５０に形成する基材シート３７の数は１６に限られず、シート材５０の大きさと目的とする基材シート３７の大きさなどに応じて増減してよい。また、１枚のシート材５０から複数種類の基材シート３７を形成してもよい。例えば、１枚のシート材５０から、基材シート３７と、前述の遮光部材２２〜２４のそれぞれの基材シートとを形成してもよい。
【００３３】
［第２実施形態］
図１０に示す遮光部材８１は、基材シート８２と遮光層３８とを備える。なお、図１０において第１実施形態と同じ部材には図２，図３と同じ符号を付し、説明を略す。基材シート８２のシート内周面４３は、第１交差面４３ａと、第２交差面４３ｂと、垂直面４３ｃとから構成される。第１交差面４３ａは、厚み方向Ｚに交差し、第１シート面４１に接続する。第２交差面４３ｂは、厚み方向Ｚに交差し、第２シート面４２に接続する。垂直面４３ｃは、第１シート面４１及び第２シート面４２に垂直であり、第１交差面４３ａと第２交差面４３ｂとを接続する。
【００３４】
第１交差面４３ａと第２交差面４３ｂと垂直面４３ｃとによって形成された基材シート８２の端部８２ｅと、この端部８２ｅ上に形成された遮光層３８とは、遮光部材８１の端部８１ｅを構成し、端部８２ｅ上の遮光層３８の厚みは第１シート面４１上及び第２シート面４２上の各遮光層３８との厚みと概ね同等である。このように、遮光部材８１の内周面３３は、第１交差面４３ａ上の遮光層３８により成る第１面３３ａと、第２交差面４３ｂ上の遮光層３８により成る第２面３３ｂと、垂直面４３ｃ上の遮光層３８により成る第３面３３ｃとから構成される。基材シート８２のシート外周面（図示無し）もシート内周面４３と同様に構成されている。
【００３５】
本実施形態のシート内周面４３上に設けられた遮光層３８においては、第１実施形態のシート内周面４３上に設けた遮光層３８の場合と比べて、突部４６は先端がより多方向に向いて形成されているから、入射光や迷光をより確実に受光して、吸収する。さらに、本実施形態のシート内周面４３は、第１実施形態のシート内周面４３に比べて、第１部材面３１及び第２部材面３２とに垂直な面（厚み方向に沿った面）の割合が小さいため、第１部材面３１や第２部材面３２に略垂直の方向で入射する光に対して、正反射する光の割合が小さく、より効果的に入射光や迷光を吸収する。すなわち遮光性能がより向上する。
【００３６】
図１１のように基材シート８２の第１シート面４１の垂直方向から遮光部材８１を見たときに、端部８１ｅの幅ＷＥは、遮光部材８１の厚みＴの少なくとも５０％、すなわち５０％以上であることが好ましい。遮光層３８は突部４６が形成されているので、本明細書において遮光部材８１の厚みＴは、遮光部材８１の断面を光学顕微鏡や前述のＳＥＭにより観察することで求められる。端部８１ｅの幅ＷＥは、厚みＴの１００％以上であることがさらに好ましい。なお、基材シート８２は、シート外周面もシート内周面４３と同様に構成されているので、図１１においては遮光部材８１の外周面側の端部にも幅を示す符号ＷＥを付してある。
【００３７】
［第３実施形態］
図１２に示す遮光部材９１は、基材シート９２と遮光層３８とを備える。なお、図１２において第１実施形態と同じ部材には図２，図３と同じ符号を付し、第２実施形態と同じ部材には図１０と同じ符号を付し、それぞれ説明を略す。基材シート９２のシート内周面４３は、第１交差面４３ａと、第２交差面４３ｂとから構成される。
【００３８】
第１交差面４３ａと第２交差面４３ｂとによって形成された基材シート９２の端部９２ｅと、この端部８２ｅ上に形成された遮光層３８とは、遮光部材９１の端部９１ｅを構成し、端部９２ｅ上の遮光層３８の厚みは第１シート面４１上及び第２シート面４２上の各遮光層３８との厚みと概ね同等である。このように、遮光部材９１の内周面３３は、第１交差面４３ａ上の遮光層３８により成る第１面３３ａと、第２交差面４３ｂ上の遮光層３８により成る第２面３３ｂとから構成される。基材シート９２のシート外周面（図示無し）もこのシート内周面４３と同様に構成されている。
【００３９】
本実施形態のシート内周面４３上に設けられた遮光層３８においては、第１実施形態のシート内周面４３上に設けた遮光層３８の場合と比べて、突部４６は先端がより多方向に向いて形成されているから、入射光や迷光をより確実に受光して、吸収する。また、基材シート９２は第２実施形態の基材シート８２のように垂直面４３ｃが無いから、本実施形態のシート内周面４３上の遮光層３８は、第１部材面３１や第２部材面３２に略垂直の方向で入射する光に対して、正反射する光の割合が小さく、より効果的に入射光や迷光を吸収する。すなわち遮光性能がより向上する。
【００４０】
この遮光部材９１も、遮光部材８１の場合と同様に、基材シート９２の第１シート面４１の垂直方向から遮光部材９１を見たときに、端部９１ｅの幅ＷＥは、遮光部材９１の厚みＴの少なくとも５０％であることが好ましい。
【００４１】
［第４実施形態］
図１３に示す遮光部材１０１は、基材シート１０２と遮光層３８とを備える。なお、図１３において第１実施形態と同じ部材には図２，図３と同じ符号を付し、第２実施形態と同じ部材には図１０と同じ符号を付し、それぞれ説明を略す。基材シート１０２のシート内周面４３は、第１シート面４１に接続し、厚み方向Ｚに交差する交差面として形成されている。
【００４２】
シート内周面４３によって形成された基材シート１０２の端部１０２ｅと、この端部１０２ｅ上に形成された遮光層３８とは、遮光部材１０１の端部１０１ｅを構成し、端部１０２ｅ上の遮光層３８の厚みは第１シート面４１上及び第２シート面４２上の各遮光層３８との厚みと概ね同等である。このように、遮光部材１０１の内周面３３は、シート内周面４３上の遮光層３８により成る。基材シート１０２のシート外周面（図示無し）もこのシート内周面４３と同様に構成されている。
【００４３】
本実施形態のシート内周面４３上に設けられた遮光層３８においては、第１実施形態のシート内周面４３上に設けた遮光層３８の場合と比べて、突部４６は先端がより多方向に向いて形成されているから、入射光や迷光をより確実に受光して、吸収する。また、基材シート９２は第２実施形態の基材シート８２のように垂直面４３ｃが無いから、本実施形態のシート内周面４３上の遮光層３８は、第１部材面３１や第２部材面３２に略垂直の方向で入射する光に対して、正反射する光の割合が小さく、より効果的に入射光や迷光を吸収する。すなわち遮光性能がより向上する。
【００４４】
この遮光部材１０１も、遮光部材８１の場合と同様に、基材シート１０２の第１シート面４１の垂直方向から遮光部材１０１を見たときに、端部１０１ｅの幅ＷＥは、遮光部材１０１の厚みＴの少なくとも５０％であることが好ましい。
【００４５】
上記の第２実施形態〜第４実施形態の遮光部材８１，９１，１０１の各基材シート８２，９２，１０２は、前述のフォトエッチングを行うシート形成ステップにより形成される。各基材シート８２，９２，１０２の形成方法は、基本的には同じであるので、基材シート８２の形成方法を例に詳細を説明し、基材シート９２，１０２の形成方法については基材シート８２の形成方法と異なる点のみを説明する。
【００４６】
シート形成ステップは、具体的には、原版マスク作製ステップと、前処理ステップと、フォトレジスト付与ステップと、露光ステップと、現像ステップと、エッチングステップと、エッチングマスク除去ステップと、をこの順に有する。原版マスク形成ステップは、露光ステップに用いるパターン原版マスクをつくる。前処理ステップは、基材シート８２を形成すべきシート材５０の表面を例えば脱脂洗浄することにより、汚れや油脂といった付着物を除去する。この前処理により、次に続くフォトレジスト付与ステップにおいてフォトレジストがシート材５０にむらなく付与され、また、フォトレジストのシート材５０に対する密着性が向上する。
【００４７】
フォトレジスト付与ステップは、前処理ステップを経たシート材５０の両シート面に、フォトレジストを付与する。付与は例えば塗布で行われ、塗布の方法は特に限定されず、例えばスピンコートなどがある。露光ステップは、上記のパターン原版マスクを用いて、シート材５０の両シート面に付与されたフォトレジストに露光し、パターン原版マスクにおけるパターン形状をフォトレジストに転写する。
【００４８】
現像ステップは、フォトレジストを現像し、図１４に示すように、形成すべきパターン形状に対応したエッチングマスク１０４をシート材５０上に形成する。フォトレジストには、周知のようにポジ型とネガ型とがあり、いずれでもよい。本実施形態ではポジ型を用いている。エッチングマスク１０４は、基材シート形成部１０４ａとブリッジ形成部１０４ｂとを除く部分がそれぞれ開口１０４ｃとして形成されている。したがって、図１４においてシート材５０は開口１０４ｃにて露出している。基材シート形成部１０４ａは、基材シート８２（図１０参照）を形成するマスク部分であり、ブリッジ形成部１０４ｂは、各基材シート８２を保持するブリッジ（図示無し）を形成するマスク部分である。このようにして、シート材５０の各シート面にエッチングマスク１０４が形成される。なお、この例では、エッチングマスク１０４に形成する基材シート形成部１０４ａの数は１６としているが、この数は特に限定されない。図１４及び図１５においては、エッチングマスク１０４の厚みを大きく誇張して描いてある。
【００４９】
エッチングステップは、シート材５０のうちエッチングマスク１０４の開口１０４ｃによって露出された露出部分をエッチングすることによって、除去する。この例では、エッチング液によってエッチングするいわゆるウェットエッチングとしているが、プラズマ処理などのドライエッチングでもよい。また、エッチングの手法は、本実施形態では全方向にエッチングが進むいわゆる等方性エッチングとしている。等方性エッチングにより、図１５に示すように、第１交差面４３ａと第２交差面４３ｂとを有するシート内周面４３が確実に形成される。そして、等方性エッチングによると、垂直面４３ｃも形成される。ただし、等方性エッチングと一の方向にのみエッチングが進むいわゆる異方性エッチングとを組み合わせ、異方性エッチングで垂直面４３ｃを形成し、等方性エッチングで第１交差面４３ａと第２交差面４３ｂとを形成してもよい。
【００５０】
上記エッチングステップにより、開口１０４ｃにて露呈されているシート材５０の各領域は除去され、それ以外の領域はシート材５０に残る。エッチングマスク除去ステップは、シート材５０からエッチングマスク１０４を除去するステップである。エッチングマスク１０４の除去は、例えば、エッチングマスク１０４を溶解する液をエッチングマスク１０４に接触させてこれを溶解し、シート材５０を洗浄、乾燥させる。溶解に代えて剥離でもよい。このようにして、シート材５０には、基材シート８２及びブリッジが形成されたシート材５０が、図８に示すシート材５０と同様な態様に得られる。得られたシート材５０を前述の遮光層形成ステップに供し、ブリッジから切り離すことにより、遮光部材８１が得られる。
【００５１】
基材シート９２は、上記のエッチングステップにおいて、エッチング液の温度やエッチング液の処方、エッチング時間等のエッチング条件を、基材シート８２を形成する場合のエッチング条件よりも強めることにより、形成することができる。また、このように形成した基材シート９２を、前述の遮光層形成ステップに供し、遮光層３８の厚みをより厚く形成することにより、遮光部材８１における第３面３３ｃのような厚み方向に沿った面を内周面３３の一部として形成することができる。
【００５２】
基材シート１０２を形成する場合には、フォトレジスト付与ステップにおいてシート材５０の一方のシート面にフォトレジストを付与する。そして露光ステップと、現像ステップとを経ることにより、一方のシート面にのみエッチングマスク１０４が形成され、これをエッチングステップ、エッチングマスク除去ステップに供することにより、基材シート１０２が得られる。
【００５３】
上記の第１〜第４実施形態の基材シート３７，８２，９２，１０２は、第１シート面４１と第２シート面４２とシート内周面４３とシート外周面とが平滑面とされているが、機材シートはこれに限られない。例えば、粗面化された表面をもつ基材シートを用いてもよい。
【００５４】
［第５実施形態］
図１６に示す遮光部材１１１は、第１実施形態の基材シート３７を基材シート１１２に代えたものであり、遮光層３８とを備える。この基材シートの大まかな外形は基材シート３７と同じであるが、第１シート面４１と第２シート面４２とシート内周面４３とシート外周面とに代えて第１シート面１２１と第２シート面１２２とシート内周面１２３とシート外周面（図示無し）とを備える。なお、第１実施形態と同じ部材には図２及び図３と同じ符号を付し、説明を略す。
【００５５】
第１シート面１２１と第２シート面１２２とシート内周面１２３とシート外周面（図示無し）とは、それぞれ凹凸が形成された粗面とされており、この凹凸構造を以下、内部凹凸構造と称する。突部１１６と、突部１１６間に形成された凹部との形状はそれぞれ不均一である。内部凹凸構造の突部１１６のピッチは、突部４６によって形成されている表面凹凸構造における突部ピッチＰＳよりも大きくされている。すなわち内部凹凸構造の突部１１６のピッチをＰＬとするときに、ＰＬ＞ＰＳである。突部１１６の各ピッチは一定ではないので、突部ピッチＰＳと同様に、隣り合う突部１１６を１１個抽出してこれら各間のピッチの平均値をもってピッチＰＬとする。各間のピッチは、突部ピッチＰＳを求める場合と同様に、ＳＥＭにより観察して求めるとよい。
【００５６】
ピッチＰＬは、入射光の波長帯域の中で最長の波長よりも長い。例えば、入射光の波長帯域が可視光領域の場合には、可視光の最長波長を８００ｎｍとすると、ピッチＰＬは８００ｎｍよりも長い。より具体的には、ピッチＰＬは、１μｍ（１０００ｎｍ）以上のマイクロオーダーとされていることが好ましい。
【００５７】
突部１２６の高さＨＬは、突部４６によって形成されている表面凹凸構造における突部高さＨＳよりも大きくされている。すなわちＨＬ＞ＨＳである。突部１１６の高さは一定ではないので、突部高さＨＳと同様に、隣り合う１０個の突部１１６の各々につき、各底面から頂部までの距離を求め、これらの平均値を突部高さＨＬとする。各突部１２６の高さは、突部高さＨＳを求める場合と同様に、ＳＥＭにより観察して求めるとよい。
【００５８】
高さＨＬは、入射光の波長帯域の中で最長の波長の１／２以上である。例えば、入射光の波長帯域が可視光領域の場合には、可視光の最長波長を８００ｎｍとすると、突部１２６の高さＨＬは４００ｎｍ以上である。
【００５９】
内部凹凸構造は、表面凹凸構造で吸収しきれなかった光を散乱させて、反射防止効果を高める。また、遮光層３８は概ね均一な厚みに形成していることから、内部凹凸構造に沿って第１部材面１３１，第２部材面１３２，内周面１３３，外周面（図示無し）が形成されている。このため、第１実施形態の基材シート３７に設けた遮光層３８と比べて、突部４６は先端がより多方向に向いて形成されているから、入射光や迷光をより確実に受光して、吸収する。すなわち遮光性能がより向上する。前述の各基材シート８２，９２，１０２も、この基材シート１１２のように表面を粗面化したものに代えることにより、遮光性能がより向上するから好ましい。
【００６０】
基材シート１１２は、基材シート３７に対して硝酸を主体とする電解液を用いた電解粗面化処理を施すことにより得られる。
【００６１】
（電解粗面化処理）
本実施形態の電解粗面化処理は、前述の基材シート３７が形成されたシート材５０を用いて行っている。電解粗面化処理を行う電解粗面化処理装置１５１は、図１７に示すように、電解槽１５２と、電極１５３と、交流電源１５４とを備え、電解槽１５２には硝酸を主体とする電解液１５６が貯留される。電解液１５６中において、基材シート３７が形成されたシート材５０と電極１５３とが対向配置され、それぞれが交流電源１５４に接続される。交流電源１５４によって流される交流電流により、シート材５０の基材シート３７の表面に、電解粗面化処理が施され、基材シート３７から基材シート１１２が形成される。この電解粗面化処理を経たシート材５０を、第１実施形態と同様に遮光層形成ステップに供した後に、ブリッジ５０ｂ（図８参照）と切り離すことにより、基材シート１１２上に遮光層３８が形成された遮光部材１１１が得られる。
【００６２】
このように粗面化処理を経た場合には、めっき処理の前の前述の下地処理は行わなくても、遮光層３８の密着性を上げられるメリットがある。
【００６３】
電解粗面化処理は、例えば、特公昭４８−２８１２３号公報および英国特許第８９６，５６３号明細書に記載されている電気化学的グレイン法（電解グレイン法）に従うことができる。この電解グレイン法は、正弦波形の交流電流を用いるものであるが、特開昭５２−５８６０２号公報に記載されているような特殊な波形を用いて行ってもよい。また、特開平３−７９７９９号公報に記載されている波形を用いることもできる。また、特開昭５５−１５８２９８号、特開昭５６−２８８９８号、特開昭５２−５８６０２号、特開昭５２−１５２３０２号、特開昭５４−８５８０２号、特開昭６０−１９０３９２号、特開昭５８−１２０５３１号、特開昭６３−１７６１８７号、特開平１−５８８９号、特開平１−２８０５９０号、特開平１−１１８４８９号、特開平１−１４８５９２号、特開平１−１７８４９６号、特開平１−１８８３１５号、特開平１−１５４７９７号、特開平２−２３５７９４号、特開平３−２６０１００号、特開平３−２５３６００号、特開平４−７２０７９号、特開平４−７２０９８号、特開平３−２６７４００号、特開平１−１４１０９４の各公報に記載されている方法も適用できる。また、前述のほかに、電解コンデンサーの製造方法として提案されている特殊な周波数の交番電流を用いて電解することも可能である。例えば、特開昭５８−２０７４００号公報、米国特許第４，２７６，１２９号明細書および同第４，６７６，８７９号明細書に記載されている。
【００６４】
電解槽１５２および交流電源１５４については、種々提案されているが、米国特許第４２０３６３７号明細書、特開昭５６−１２３４００号、特開昭５７−５９７７０号、特開昭５３−１２７３８号、特開昭５３−３２８２１号、特開昭５３−３２８２２号、特開昭５３−３２８２３号、特開昭５５−１２２８９６号、特開昭５５−１３２８８４号、特開昭６２−１２７５００号、特開平１−５２１００号、特開平１−５２０９８号、特開昭６０−６７７００号、特開平１−２３０８００号、特開平３−２５７１９９号の各公報等に記載されているものを用いることができる。また、特開昭５２−５８６０２号、特開昭５２−１５２３０２号、特開昭５３−１２７３８号、特開昭５３−１２７３９号、特開昭５３−３２８２１号、特開昭５３−３２８２２号、特開昭５３−３２８３３号、特開昭５３−３２８２４号、特開昭５３−３２８２５号、特開昭５４−８５８０２号、特開昭５５−１２２８９６号、特開昭５５−１３２８８４号、特公昭４８−２８１２３号、特公昭５１−７０８１号、特開昭５２−１３３８３８号、特開昭５２−１３３８４０号号、特開昭５２−１３３８４４号、特開昭５２−１３３８４５号、特開昭５３−１４９１３５号、特開昭５４−１４６２３４号の各公報等に記載されているもの等も用いることができる。
【００６５】
電解液１５６は、硝酸を主体とする水溶液であり、硝酸の濃度は０．５〜２．５質量％であることが好ましいが、後述するスマット除去処理での使用を考慮すると、０．７〜２．０質量％であるのが特に好ましい。また、液温は２０〜８０℃であることが好ましく、３０〜６０℃であることがより好ましい。
【００６６】
硝酸を主体とする水溶液は、濃度１〜１００ｇ／Ｌの硝酸の水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等の硝酸イオンを有する硝酸化合物または塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウム等の塩酸イオンを有する塩酸化合物の少なくとも一つを１ｇ／Ｌから飽和するまでの範囲で添加して使用することができる。また、硝酸を主体とする水溶液には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解していてもよい。好ましくは、硝酸の濃度０．５〜２質量％の水溶液にアルミニウムイオンが３〜５０ｇ／Ｌとなるように、塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム等を添加した液を用いることが好ましい。
【００６７】
さらに、Ｃｕと錯体を形成しうる化合物を添加して使用することによりＣｕを多く含有するアルミニウム製の基材シート２２に対しても均一な砂目立てが可能になる。Ｃｕと錯体を形成しうる化合物としては、例えば、アンモニア；メチルアミン、エチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメチルアミン、シクロヘキシルアミン、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、ＥＤＴＡ（エチレンジアミン四酢酸）等のアンモニアの水素原子を炭化水素基（脂肪族、芳香族等）等で置換して得られるアミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸塩類が挙げられる。また、硝酸アンモニウム、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、リン酸アンモニウム、炭酸アンモニウム等のアンモニウム塩も挙げられる。温度は１０〜６０℃が好ましく、２０〜５０℃がより好ましい。
【００６８】
電解粗面化処理に用いられる交流電源波は、特に限定されず、サイン波、矩形波、台形波、三角波等が用いられるが、矩形波または台形波が好ましく、台形波が特に好ましい。台形波において電流がゼロからピークに達するまでの時間（ＴＰ）は１〜３ｍｓｅｃであるのが好ましい。１ｍｓｅｃ未満であると、基材シート２２の進行方向と垂直に発生するチャタマークという処理ムラが発生しやすい。ＴＰが３ｍｓｅｃを超えると、硝酸電解液を用いる場合、電解処理で自然発生的に増加するアンモニウムイオン等に代表される電解液中の微量成分の影響を受けやすくなり、均一な砂目立てが行われにくくなる。
【００６９】
台形波交流のｄｕｔｙ比は１：２〜２：１のものが使用可能であるが、特開平５−１９５３００号公報に記載されているように、アルミニウムにコンダクタロールを用いない間接給電方式においてはｄｕｔｙ比が１：１のものが好ましい。台形波交流の周波数は０．１〜１２０Ｈｚのものを用いることが可能であるが、５０〜７０Ｈｚが設備上好ましい。５０Ｈｚよりも低いと、カーボン製の電極１５３が溶解しやすくなり、また、７０Ｈｚよりも高いと、電源回路上のインダクタンス成分の影響を受けやすくなり、電源コストが高くなる。
【００７０】
電解槽１５２は、縦型、フラット型、ラジアル型等の公知の表面処理に用いる電解槽が使用可能であるが、特開平５−１９５３００号公報に記載されているようなラジアル型電解槽が特に好ましい。
【００７１】
硝酸を主体とする電解液を用いた電解粗面化処理により、突部ピッチＰＨが０．５μｍ超５μｍ以下の内部凹凸構造を形成させることができる。ただし、電気量を比較的多くしたときは、電解反応が集中し、突部ピッチＰＨが５μｍを超える内部凹凸構造を形成することができる。このような表面形状を得るためには、電解反応が終了した時点での基材シート１１２のアノード反応にあずかる電気量の総和が、１〜１０００Ｃ／ｄｍ2であるのが好ましく、５０〜３００Ｃ／ｄｍ2であるのがより好ましい。この際の電流密度は２０〜１００Ａ／ｄｍ2であるのが好ましい。
【００７２】
内部凹凸構造を形成するステップは、硝酸を主体とする電解液を用いた電気化学的表面化処理としての電解粗面化処理に、以下の処理を組み合わせてもよい。組み合わせた代表的方法として、例えば、基材シート３７に、機械的粗面化処理、アルカリエッチング処理、酸によるデスマット処理、上記の電解粗面化処理を順次施す方法がある。また、この方法において、電解粗面化処理の後、さらに、アルカリエッチング処理および酸によるデスマット処理を施してもよい。
【００７３】
（機械的粗面化処理）
機械的粗面化処理を施す方法としては、例えば、ブラシグレイン法を利用する。また、放電加工、ショットブラスト、レーザー、プラズマエッチング等を用いて、微細な凹凸を食刻した転写ロールを用いて繰り返し転写を行う方法や、微細粒子を塗布した凹凸のある面を、基材シート３７に接面させ、その上より複数回繰り返し圧力を加え、基材シート２２に微細粒子の平均直径に相当する凹凸パターンを複数回繰り返し転写させる方法を用いることもできる。転写ロールへ微細な凹凸を付与する方法としては、特開平３−８６３５号、特開平３−６６４０４号、特開昭６３−６５０１７号の各公報等に記載されている公知の方法を用いることができる。また、ロール表面にダイス、バイト、レーザー等を使って２方向から微細な溝を切り、表面に角形の凹凸をつけてもよい。このロール表面には、公知のエッチング処理等を行って、形成させた角形の凹凸が丸みを帯びるような処理を行ってもよい。また、表面の硬度を上げるために、焼き入れ、ハードクロムメッキ等を行ってもよい。そのほかにも、機械的粗面化処理としては、特開昭６１−１６２３５１号公報、特開昭６３−１０４８８９号公報等に記載されている方法を用いることもできる。本発明においては、生産性等を考慮して上述したそれぞれの方法を併用することもできる。これらの機械的粗面化処理は、電解粗面化処理の前に行うのが好ましい。
【００７４】
以下、機械的粗面化処理として好適に用いられるブラシグレイン法について説明する。ブラシグレイン法は、一般に、円柱状の胴の表面に、ナイロン、プロピレン、塩化ビニル樹脂等の合成樹脂からなる合成樹脂毛等のブラシ毛を多数植設したローラ状ブラシを用い、回転するローラ状ブラシに研磨剤を含有するスラリー液を噴きかけながら、上記基材シート２２の表面の一方または両方を擦ることにより行う。上記ローラ状ブラシおよびスラリー液の代わりに、表面に研磨層を設けたローラである研磨ローラを用いることもできる。ローラ状ブラシを用いる場合、曲げ弾性率が好ましくは１０，０００〜４０，０００ｋｇ／ｃｍ２、より好ましくは１５，０００〜３５，０００ｋｇ／ｃｍ２であり、かつ、毛腰の強さが好ましくは５００ｇ以下、より好ましくは４００ｇ以下であるブラシ毛を用いる。ブラシ毛の直径は、一般的には、０．２〜０．９ｍｍである。ブラシ毛の長さは、ローラ状ブラシの外径および胴の直径に応じて適宜決定することができるが、一般的には、１０〜１００ｍｍである。
【００７５】
研磨剤は公知の物を用いることができる。例えば、パミストン、ケイ砂、水酸化アルミニウム、アルミナ粉、炭化ケイ素、窒化ケイ素、火山灰、カーボランダム、金剛砂等の研磨剤；これらの混合物を用いることができる。中でも、パミストン、ケイ砂が好ましい。特に、ケイ砂は、パミストンに比べて硬く、壊れにくいので粗面化効率に優れる点で好ましい。研磨剤の平均粒径は、粗面化効率に優れ、かつ、砂目立てピッチを狭くすることができる点で、３〜５０μｍであるのが好ましく、６〜４５μｍであるのがより好ましい。研磨剤は、例えば、水中に懸濁させて、スラリー液として用いる。スラリー液には、研磨剤のほかに、増粘剤、分散剤（例えば、界面活性剤）、防腐剤等を含有させることができる。スラリー液の比重は０．５〜２であるのが好ましい。
【００７６】
機械的粗面化処理に適した装置としては、例えば、特公昭５０−４００４７号公報に記載された装置を挙げることができる。
【００７７】
（アルカリエッチング処理）
アルカリエッチング処理は、上記基材シート３７をアルカリ溶液に接触させることにより、表層を溶解させる処理である。電解粗面化処理より前に行われるアルカリエッチング処理は、基材シート３７の表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等を除去することを目的として行われる。
【００７８】
アルカリエッチング処理のエッチング量は、０．０５〜１０ｇ／ｍ２であるのが好ましく、１〜５ｇ／ｍ２であるのがより好ましい。エッチング量が０．０５ｇ／ｍ２未満であると、表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等が残存する場合があるため、後段の電解粗面化処理において均一な波構造が生成できずムラが発生してしまう場合がある。一方、エッチング量が１〜１０ｇ／ｍ２であると、表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等の除去が十分に行われる。上記範囲を超えるエッチング量とするのは、経済的に不利となる。
【００７９】
電解粗面化処理の直後に行うアルカリエッチング処理は、酸性電解液中で生成したスマットを溶解させることと、電解粗面化処理により形成された波構造のエッジ部分を溶解させることを目的として行われる。電解粗面化処理で形成される波構造は電解液の種類によって異なるためにその最適なエッチング量も異なるが、電解粗面化処理後に行うアルカリエッチング処理のエッチング量は、０．１〜５ｇ／ｍ２であるのが好ましい。硝酸電解液を用いた場合、塩酸電解液を用いた場合よりもエッチング量は多めに設定する必要がある。電解粗面化処理が複数回行われる場合には、それぞれの処理後に、必要に応じてアルカリエッチング処理を行うことができる。
【００８０】
アルカリ溶液に用いられるアルカリとしては、例えば、カセイアルカリ、アルカリ金属塩が挙げられる。具体的には、カセイアルカリとしては、例えば、カセイソーダ、カセイカリが挙げられる。また、アルカリ金属塩としては、例えば、タケイ酸ソーダ、ケイ酸ソーダ、メタケイ酸カリ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩；炭酸ソーダ、炭酸カリ等のアルカリ金属炭酸塩；アルミン酸ソーダ、アルミン酸カリ等のアルカリ金属アルミン酸塩；グルコン酸ソーダ、グルコン酸カリ等のアルカリ金属アルドン酸塩；第二リン酸ソーダ、第二リン酸カリ、第三リン酸ソーダ、第三リン酸カリ等のアルカリ金属リン酸水素塩が挙げられる。中でも、エッチング速度が速い点および安価である点から、カセイアルカリの溶液、および、カセイアルカリとアルカリ金属アルミン酸塩との両者を含有する溶液が好ましい。特に、カセイソーダの水溶液が好ましい。
【００８１】
アルカリ溶液の濃度は、エッチング量に応じて決定することができるが、１〜５０質量％であるのが好ましく、１０〜３５質量％であるのがより好ましい。アルカリ溶液中にアルミニウムイオンが溶解している場合には、アルミニウムイオンの濃度は、０．０１〜１０質量％であるのが好ましく、３〜８質量％であるのがより好ましい。アルカリ溶液の温度は２０〜９０℃であるのが好ましい。処理時間は１〜１２０秒であるのが好ましい。
【００８２】
基材シート３７をアルカリ溶液に接触させる方法としては、例えば、基材シート３７をアルカリ溶液を入れた槽の中を通過させる方法、基材シート３７を、アルカリ溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、アルカリ溶液を基材シート３７の表面に噴きかける方法が挙げられる。
【００８３】
（デスマット処理）
電解粗面化処理またはアルカリエッチング処理を行った後、表面に残留する汚れ（スマット）を除去するために酸洗い（デスマット処理）が行われるのが好ましい。用いられる酸としては、例えば、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ化水素酸、ホウフッ化水素酸が挙げられる。上記デスマット処理は、例えば、上記基材シート３７を塩酸、硝酸、硫酸等の濃度０．５〜３０質量％の酸性溶液（アルミニウムイオン０．０１〜５質量％を含有する。）に接触させることにより行う。基材シート３７を酸性溶液に接触させる方法としては、例えば、基材シート３７を、酸性溶液を入れた槽の中を通過させる方法、基材シート３７を、酸性溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、酸性溶液を基材シート３７の表面に噴きかける方法が挙げられる。デスマット処理においては、酸性溶液として、上述した電解粗面化処理において排出される硝酸を主体とする電解液１５６の廃液を用いることができる。デスマット処理の液温は、２５〜９０℃であるのが好ましい。また、処理時間は、１〜１８０秒であるのが好ましい。デスマット処理に用いられる酸性溶液には、アルミニウムおよびアルミニウム合金成分が溶け込んでいてもよい。
【００８４】
上記において、内部凹凸構造を形成するステップとして、硝酸を主体とする電解液を用いた電解粗面化処理、または、電解粗面化処理と機械的粗面化処理の組み合わせを例に説明したが、内部凹凸構造を形成するステップとしては、電解粗面化処理を行わずに機械的粗面化処理のみで行ってもよい。ただし、機械的粗面化処理は、粉塵が発生するため、粉塵を除去する処理が必要になる。そのため、粉塵を除去する処理を無くして、生産効率を向上させたい場合には、機械的粗面化処理を行わずに、電解粗面化処理を中心に行うことが好ましい。
【００８５】
上記の各実施形態の遮光部材２１，８１，９１，１０１，１１１は、いずれも基材シート３７，８２，９２，１０２，１１２と遮光層３８とからなる複層構造を有しているが、本発明の遮光部材はこのような複層構造に限られず、単層構造であってもよい。
【符号の説明】
【００８６】
２１，８１，９１，１０１，１１１  遮光部材
３７，８２，９２，１０２，１１２  基材シート
３８  遮光層
４１，４２  第１，第２シート面
４３  シート内周面
４３ａ，４３ｂ  第１，第２交差面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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