(57)【要約】【課題】カルボキシル基を有する高分子吸収剤の吸収性を阻害しにくく、製造設備を汚染しにくく、生産性に優れる、カチオン性抗菌剤を含む吸収性物品の製造方法を提供すること。【解決手段】カチオン性抗菌剤及び繊維を含む第１シート３０１と、セルロース系繊維を含む第２シート３０３と、カルボキシル基を有する高分子吸収剤１１１を含む高分子吸収剤含有層３０５とをその順で備える積層構造３０７を含む、厚さ方向Ｔを有する吸収性物品１０１の製造方法であって、第１シート３０１の一部に、上記カチオン性抗菌剤を含むカチオン性抗菌剤水溶液を塗工し、抗菌剤塗工領域１３３を形成する抗菌剤塗工領域形成ステップＳ1、及び抗菌剤塗工領域形成ステップＳ1の後に、積層構造３０７を形成する積層構造形成ステップＳ2を含むことを特徴とする製造方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
カチオン性抗菌剤及び繊維を含む第１シートと、セルロース系繊維を含む第２シートと、カルボキシル基を有する高分子吸収剤を含む高分子吸収剤含有層とをその順で備える積層構造を含む、厚さ方向を有する吸収性物品の製造方法であって、
第１シートの一部に、前記カチオン性抗菌剤を含むカチオン性抗菌剤水溶液を塗工し、抗菌剤塗工領域を形成する抗菌剤塗工領域形成ステップ、及び
前記抗菌剤塗工領域形成ステップの後に、前記積層構造を形成する積層構造形成ステップ、
を含むことを特徴とする、前記製造方法。
【請求項２】
前記積層構造形成ステップが、第１シートと、第２シートとを積層することにより第１積層構造を形成する第１積層構造形成ステップと、第１積層構造と、前記高分子吸収剤含有層とを積層することにより第２積層構造を形成する第２積層構造形成ステップとを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
第１積層構造形成ステップにおいて、第１シートと、第２シートとを、第１シートの、前記カチオン性抗菌剤水溶液が塗工された面と、第２シートとが向かい合うように積層する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
第１積層構造形成ステップにおいて、第１シートと、第２シートとを、第１シートの、前記カチオン性抗菌剤が塗工された面と反対側の面と、第２シートとが向かい合うように積層する、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記抗菌剤塗工領域形成ステップの後且つ第１積層構造形成ステップの前に、接着剤を、第１シートの第２シートと向かい合う面又は第２シートの第１シートと向かい合う面に、前記抗菌剤塗工領域の少なくとも一部と前記厚さ方向に重複するように塗工することにより、接着剤層を形成する接着剤層形成ステップを含む、請求項３又は４に記載の方法。
【請求項６】
前記接着剤層形成ステップにおいて、前記接着剤を、第１シートの第２シートと向かい合う面又は第２シートの第１シートと向かい合う面に、前記接着剤層の一部が、前記抗菌剤塗工領域と前記厚さ方向に重複しないように塗工する、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記抗菌剤塗工領域形成ステップの後且つ第１積層構造形成ステップの前に、第１シートの第２シートと反対側の面に、追加シートを積層する追加シート積層工程を含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
第１シートと、前記追加シートとを、第１シートの前記カチオン性抗菌剤水溶液が塗工された面と、前記追加シートとが向かい合うように積層する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記吸収性物品が、吸収コア及びコアラップを含む吸収体を備え、前記高分子吸収剤含有層が、前記吸収コアを構成し、第２シートが前記コアラップを構成している、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記抗菌剤塗工領域形成ステップにおいて、前記カチオン性抗菌剤水溶液を、接触型塗工機を用いて第１シートに塗工する、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
第１シートの、前記カチオン性抗菌剤水溶液を塗工すべき面が、第１シートの搬送方向において、２．０〜９．０μｍの表面粗さ値を有する、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、吸収性物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
抗菌剤を含む吸収性物品が知られている。吸収性物品が抗菌剤を含むことにより、吸収した液体に臭気等が発生しにくくなる。
例えば、特許文献１には、水難溶性抗菌剤及び塩基性化合物を含有し、かつｐＨが６．５以上である水系塗布液を、セルロース繊維を含有する繊維シートに噴霧する工程を有する抗菌性シートの製造方法が記載されている。
【０００３】
抗菌剤を含む吸収性物品では、特許文献１に記載されるように、抗菌剤を含む抗菌性シートを形成した後、当該抗菌性シートを用いて吸収性物品を製造する、すなわち、抗菌剤を含む吸収性物品の製造において、抗菌剤をオフラインで適用するのが一般的である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１５−８９４８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述のように、抗菌剤をオフラインで適用する場合には、吸収性物品を製造する際に、抗菌剤を含む水溶液が、他の資材に移行し、例えば、高分子吸収剤の吸収性を阻害する等の問題が生じにくく、そして抗菌剤を含む水溶液が製造設備を汚染しにくく、製造設備に錆等が発生させにくい利点がある。しかし、上述のように、抗菌剤の適用をオフラインで実施する場合には、抗菌剤を吸収性物品の所望の位置にピンポイントで適用することが難しく、抗菌剤が全面に適用されたシートを、吸収性物品の資材として利用するのが一般的であり、生産性の観点から問題がある。
【０００６】
従って、本開示は、カルボキシル基を有する高分子吸収剤の吸収性を阻害しにくく、製造設備を汚染しにくく、生産性に優れる、カチオン性抗菌剤を含む吸収性物品の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示者らは、カチオン性抗菌剤及び繊維を含む第１シートと、セルロース系繊維を含む第２シートと、カルボキシル基を有する高分子吸収剤を含む高分子吸収剤含有層とをその順で備える積層構造を含む、厚さ方向を有する吸収性物品の製造方法であって、第１シートの一部に、上記カチオン性抗菌剤を含むカチオン性抗菌剤水溶液を塗工し、抗菌剤塗工領域を形成する抗菌剤塗工領域形成ステップ、及び上記抗菌剤塗工領域形成ステップの後に、上記積層構造を形成する積層構造形成ステップを含むことを特徴とする製造方法を見出した。
【発明の効果】
【０００８】
本開示の、カチオン性抗菌剤を含む吸収性物品の製造方法は、カルボキシル基を有する高分子吸収剤の吸収性を阻害しにくく、製造設備を汚染しにくく、そして生産性に優れる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、第１実施形態に従う製造方法に用いられる製造装置１の一部を示す模式図である。
【図２】図２は、図１に示される製造装置１により製造された吸収性物品１０１の平面図である。
【図３】図３は、吸収性物品１０１の、図２のＩＩＩ−ＩＩＩ端面における部分端面図である。
【図４】図４は、図１に示される製造装置１により製造された吸収性物品１０１の分解斜視図である。
【図５】図５は、第２実施形態に従う製造方法に用いられる製造装置１の一部を示す模式図である。
【図６】図６は、第２実施形態に従う製造方法で製造された吸収性物品１０１を説明するための図である。
【図７】図７は、第３実施形態に従う製造方法に用いられる製造装置１の一部を示す模式図である。
【図８】図８は、第３実施形態に従う製造方法で製造された吸収性物品１０１を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
［定義］
・「上方」及び「下方」
本明細書では、吸収性物品において、「上方」及び「下方」は、２つの対比すべき要素の厚さ方向の位置関係を表し、一方の要素が、他方の要素の上方にあるとは、一方の要素が、他方の要素よりも、液透過性シートの肌当接面よりにあることを意味し、そして一方の要素が、他方の要素の下方にあるとは、一方の要素が、他方の要素よりも液不透過性シートの着衣当接面よりにあることを意味する。
【００１１】
本開示は以下の態様に関する。
［態様１］
カチオン性抗菌剤及び繊維を含む第１シートと、セルロース系繊維を含む第２シートと、カルボキシル基を有する高分子吸収剤を含む高分子吸収剤含有層とをその順で備える積層構造を含む、厚さ方向を有する吸収性物品の製造方法であって、
第１シートの一部に、上記カチオン性抗菌剤を含むカチオン性抗菌剤水溶液を塗工し、抗菌剤塗工領域を形成する抗菌剤塗工領域形成ステップ、及び
上記抗菌剤塗工領域形成ステップの後に、上記積層構造を形成する積層構造形成ステップ、
を含むことを特徴とする、上記製造方法。
【００１２】
上記製造方法では、第１シートの一部にカチオン性抗菌剤水溶液を塗工し、抗菌剤塗工領域を形成する抗菌剤塗工領域形成ステップを実施した後、所定の積層構造形成ステップを実施する、すなわち、カチオン性抗菌剤水溶液を含む第１シートと、セルロース系繊維を含む第２シートとが隣り合うように積層するので、第１シートのカチオン性抗菌剤水溶液の水分が、第２シートのセルロース系繊維に保持されるとともに、第１シートのカチオン性抗菌剤水溶液のカチオン性抗菌剤が、第２シートのセルロース系繊維（のヒドロキシル基）に吸着される。従って、カチオン性抗菌剤水溶液が、第１シート、及び積層構造から落下しにくく、カチオン性抗菌剤水溶液が、製造設備を汚染しにくく、製造設備に錆等が発生しにくい。
【００１３】
また、第１シートのカチオン性抗菌剤水溶液の水分が、第２シートのセルロース系繊維に保持されるとともに、第１シートのカチオン性抗菌剤水溶液のカチオン性抗菌剤が、第２シートのセルロース系繊維（のヒドロキシル基）に吸着されるので、第１シートに含まれるカチオン性抗菌剤及び水分が、第２シートを超えて高分子吸収剤含有層中の高分子吸収剤に到達しにくく、カルボキシル基を有する高分子吸収剤の吸収性が、カチオン性抗菌剤により阻害されにくい。
【００１４】
さらに、上記製造方法は、カチオン性抗菌剤をインラインで適用する製造方法であり、カチオン性抗菌剤水溶液を、第１シートの全部ではなく、第１シートの一部に塗工することができるので、抗菌剤をオフラインで適用する製造方法と比較して、生産性に優れている。
【００１５】
［態様２］
上記積層構造形成ステップが、第１シートと、第２シートとを積層することにより第１積層構造を形成する第１積層構造形成ステップと、第１積層構造と、上記高分子吸収剤含有層とを積層することにより第２積層構造を形成する第２積層構造形成ステップとを含む、請求項１に記載の方法。
【００１６】
上記製造方法では、第１シートと、第２シートとを積層する第１積層構造形成ステップの後、第１積層構造と、上記高分子吸収剤含有層とを積層する第２積層構造形成ステップを実施する。従って、第１積層構造形成ステップにおいて、第１シートに塗工されたカチオン性抗菌剤水溶液の水分が、第２シートのセルロース系繊維に保持されるとともに、第１シートに塗工されたカチオン性抗菌剤水溶液のカチオン性抗菌剤が、第２シートのセルロース系繊維（のヒドロキシル基）に吸着された後、第２積層構造形成ステップにおいて、第１積層構造と、高分子吸収剤含有層とを積層するので、第１シートに含まれるカチオン性抗菌剤及び水分が、第２シートを超えて高分子吸収剤含有層中の高分子吸収剤に到達しにくく、カルボキシル基を有する高分子吸収剤の吸収性が、カチオン性抗菌剤により阻害されにくい。
【００１７】
［態様３］
第１積層構造形成ステップにおいて、第１シートと、第２シートとを、第１シートの、上記カチオン性抗菌剤水溶液が塗工された面と、第２シートとが向かい合うように積層する、請求項２に記載の方法。
【００１８】
上記製造方法では、第１シートと、第２シートとを、第１シートの、カチオン性抗菌剤水溶液が塗工された面と、第２シートとが向かい合うように積層する、すなわち、第１シートのカチオン性抗菌剤水溶液が塗工された面を、第２シートで覆うように積層するので、カチオン性抗菌剤水溶液が、第１シート、及び積層構造から落下しにくく、カチオン性抗菌剤水溶液が、製造設備を汚染しにくく、製造設備に錆等が発生しにくい。
【００１９】
［態様４］
第１積層構造形成ステップにおいて、第１シートと、第２シートとを、第１シートの、上記カチオン性抗菌剤が塗工された面と反対側の面と、第２シートとが向かい合うように積層する、請求項２に記載の方法。
【００２０】
上記製造方法では、第１シートと、第２シートとを、第１シートの、カチオン性抗菌剤が塗工された面と反対側の面と、第２シートとが向かい合うように積層するので、第１シートにおいて、第２シートに近い部分のカチオン性抗菌剤水溶液の量が、第２シートから遠い部分のカチオン性抗菌剤水溶液の量よりも少なくなる傾向がある。その結果、第１シートに含まれるカチオン性抗菌剤水溶液が、第２シートを超えて高分子吸収剤含有層に到達しにくくなるので、カルボキシル基を有する高分子吸収剤の吸収性が、カチオン性抗菌剤により阻害されにくい。
【００２１】
［態様５］
上記抗菌剤塗工領域形成ステップの後且つ第１積層構造形成ステップの前に、接着剤を、第１シートの第２シートと向かい合う面又は第２シートの第１シートと向かい合う面に、上記抗菌剤塗工領域の少なくとも一部と上記厚さ方向に重複するように塗工することにより、接着剤層を形成する接着剤層形成ステップを含む、請求項３又は４に記載の方法。
【００２２】
上記製造方法では、抗菌剤塗工領域形成ステップの後且つ第１積層構造形成ステップの前に、所定の接着剤層形成ステップを含むので、第１シートに含まれるカチオン性抗菌剤水溶液のカチオン性抗菌剤及び水分が、接着剤層を超えて、第２シートに移行しにくくなり、ひいては、カチオン性抗菌剤水溶液のカチオン性抗菌剤及び水分が、第２シートを超えて、高分子吸収剤含有層に到達しにくくなるので、高分子吸収剤の吸収性が、カチオン性抗菌剤により阻害されにくい。
【００２３】
［態様６］
上記接着剤層形成ステップにおいて、上記接着剤を、第１シートの第２シートと向かい合う面又は第２シートの第１シートと向かい合う面に、上記接着剤層の一部が、上記抗菌剤塗工領域と上記厚さ方向に重複しないように塗工する、請求項５に記載の方法。
【００２４】
上記製造方法では、接着剤層形成ステップにおいて、接着剤を、接着剤層の一部が、抗菌剤塗工領域と厚さ方向に重複しないように塗工するので、接着剤層が、抗菌剤塗工領域と厚さ方向に重複しない領域において、第１シートと、第２シートとを接着させることができ、製造される吸収性物品において、液体の吸収性が阻害されにくい。
【００２５】
［態様７］
上記抗菌剤塗工領域形成ステップの後且つ第１積層構造形成ステップの前に、第１シートの第２シートと反対側の面に、追加シートを積層する追加シート積層工程を含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
上記製造方法では、抗菌剤塗工領域形成ステップの後且つ第１積層構造形成ステップの前に、所定の追加シート積層工程を含むので、第１シートに含まれるカチオン性抗菌剤水溶液のカチオン性抗菌剤及び水分が、追加シートに保持されるため、第１シートに含まれるカチオン性抗菌剤水溶液のカチオン性抗菌剤及び水分が、第２シートに移行しにくくなり、ひいては、カチオン性抗菌剤水溶液のカチオン性抗菌剤及び水分が、第２シートを超えて、高分子吸収剤含有層に到達しにくくなるので、高分子吸収剤の吸収性が、カチオン性抗菌剤により阻害されにくい。
【００２６】
［態様８］
第１シートと、上記追加シートとを、第１シートの上記カチオン性抗菌剤水溶液が塗工された面と、上記追加シートとが向かい合うように積層する、請求項７に記載の方法。
上記製造方法では、追加シート積層工程において、第１シートと、追加シートとを、第１シートのカチオン性抗菌剤水溶液が塗工された面と、追加シートとが向かい合うように積層する、すなわち、第１シートのカチオン性抗菌剤水溶液が塗工された面を、追加シートで覆うように積層するので、カチオン性抗菌剤水溶液が、第１シート、及び積層構造から落下しにくく、カチオン性抗菌剤水溶液が、製造設備を汚染しにくく、製造設備に錆等が発生しにくい。
なお、上記製造方法は、第１シートの両面、すなわち、第２シートよりの面と、追加シートよりの面とに、カチオン性抗菌剤水溶液が塗工された場合に、特に好ましい。
【００２７】
［態様９］
上記吸収性物品が、吸収コア及びコアラップを含む吸収体を備え、上記高分子吸収剤含有層が、上記吸収コアを構成し、第２シートが上記コアラップを構成している、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
上記製造方法は、高分子吸収剤含有層が吸収コアを構成し、第２シートがコアラップを構成しているので、第１シートのカチオン性抗菌剤水溶液の水分が、コアラップのセルロース系繊維に保持されるとともに、第１シートのカチオン性抗菌剤水溶液のカチオン性抗菌剤が、コアラップのセルロース系繊維（のヒドロキシル基）に吸着されるので、第１シートに含まれるカチオン性抗菌剤及び水分が、コアラップを超えて吸収コアの高分子吸収剤に到達しにくく、カルボキシル基を有する高分子吸収剤の吸収性が、カチオン性抗菌剤により阻害されにくい。
【００２８】
［態様１０］
上記抗菌剤塗工領域形成ステップにおいて、上記カチオン性抗菌剤水溶液を、接触型塗工機を用いて第１シートに塗工する、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
上記製造方法では、カチオン性抗菌剤水溶液を、接触型塗工機を用いて第１シートに塗工するので、カチオン性抗菌剤水溶液が飛散しにくく、カチオン性抗菌剤水溶液により製造設備が汚染されにくく、カチオン性抗菌剤水溶液により製造設備に錆等が発生しにくい。
【００２９】
［態様１１］
第１シートの、上記カチオン性抗菌剤水溶液を塗工すべき面が、第１シートの搬送方向において、２．０〜９．０μｍの表面粗さ値を有する、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
上記製造方法では、第１シートの、上記カチオン性抗菌剤水溶液を塗工すべき面が、所定の表面粗さ値を有するので、抗菌剤塗工領域形成ステップにおいて、塗工されたカチオン性抗菌剤水溶液が、第１シートに保持されやすく、カチオン性抗菌剤水溶液により製造設備が汚染されにくく、カチオン性抗菌剤水溶液により製造設備に錆等が発生しにくい。
【００３０】
本開示の製造方法は、カチオン性抗菌剤及び繊維を含む第１シートと、セルロース系繊維を含む第２シートと、カルボキシル基を有する高分子吸収剤を含む高分子吸収剤含有層とをその順で備える積層構造を含む、厚さ方向を有する吸収性物品の製造方法であり、以下のステップを含む。
（Ｓ1）第１シートの一部に、カチオン性抗菌剤を含むカチオン性抗菌剤水溶液を塗工し、抗菌剤塗工領域を形成する抗菌剤塗工領域形成ステップ（以下、「抗菌剤塗工領域形成ステップ」と称する場合がある）
（Ｓ2）抗菌剤塗工領域形成ステップＳ1の後に、上記積層構造を形成する積層構造形成ステップ（以下、「積層構造形成ステップ」と称する場合がある）
【００３１】
上記積層構造形成ステップは、以下のステップを含むことができる。
（Ｓ2-1）第１シートと、第２シートとを積層することにより第１積層構造を形成する第１積層構造形成ステップ（以下、「第１積層構造形成ステップ」と称する場合がある）
（Ｓ2-2）第１積層構造と、高分子吸収剤含有層とを積層することにより第２積層構造を形成する第２積層構造形成ステップ（以下、「第２積層構造形成ステップ」と称する場合がある）
【００３２】
本開示の製造方法は、任意要件として、以下のステップを含む。
（Ｓ3）抗菌剤塗工領域形成ステップＳ1の後且つ第１積層構造形成ステップＳ2-1の前に、接着剤を、第１シートの第２シートと向かい合う面又は第２シートの第１シートと向かい合う面に、抗菌剤塗工領域の少なくとも一部と、吸収性物品の厚さ方向に重複するように塗工することにより、接着剤層を形成する接着剤層形成ステップ（以下、「接着剤層形成ステップ」と称する場合がある）
（Ｓ4）抗菌剤塗工領域形成ステップＳ1の後且つ第１積層構造形成ステップＳ2-1の前に、第１シートの第２シートと反対側の面に、追加シートを積層する追加シート積層工程（以下、「追加シート積層工程」と称する場合がある）
【００３３】
本開示の吸収性物品の製造方法（以下、「本開示の製造方法」と称する場合がある）について、実施形態及び図面を用いて、以下、詳細に説明する。
［第１実施形態］
図１は、本開示の実施形態の１つ（以下、「第１実施形態」と称する）に従う吸収性物品の製造方法（以下、単に「第１実施形態に従う製造方法」と称する場合がある）に用いられる製造装置１の一部を示す模式図である。図２は、図１に示される製造装置１により製造された吸収性物品１０１の平面図である。図３は、吸収性物品１０１の、図２のＩＩＩ−ＩＩＩ端面における部分端面図である。図４は、図１に示される製造装置１により製造された吸収性物品１０１の分解斜視図である。
【００３４】
第１実施形態に従う製造方法を説明する前に、第１実施形態に従う製造方法により製造される吸収性物品１０１の構造を説明する。
図２〜図４に示されるように、第１実施形態に従う製造方法により製造される吸収性物品１０１は、お互いに直交する、長手方向Ｌ、幅方向Ｗ及び厚さ方向Ｔを有し、そして液透過性シート１０３と、第１吸収体１０７（第１上方コアラップ１１５、吸収コア１０９、及び第１下方コアラップ１１７）と、接着剤層１０８と、第１吸収体１０７及び接着剤層１０８よりも下方に配置された下方布帛シート１１９と、第２吸収体１２１と、液不透過性シート１０５とを、その順番で備える。
【００３５】
下方布帛シート１１９には、上方の面の抗菌剤塗工領域１３３に、カチオン性抗菌剤水溶液（図示せず）が塗工されており、下方布帛シート１１９が、カチオン性抗菌剤配置シート１２９を構成している。抗菌剤塗工領域１３３は、下方布帛シート１１９の全体ではなく、着用時に液透過性シート１０３が着用者の排泄口と当接する排泄口当接域と厚さ方向Ｔに重複する範囲に形成されている。また、接着剤層１０８は、下方布帛シート１１９の第１吸収体１０７側の面全体に、ホットメルト接着剤を間欠的に塗工することにより形成されている。換言すると、接着剤層１０８は、下方布帛シート１１９の第１吸収体１０７側の面全体に間欠的に配置されている。また、接着剤層１０８は、抗菌剤塗工領域１３３よりも広範囲に形成されている。具体的には、接着剤層１０８は、接着剤層１０８の一部、具体的には、接着剤層１０８の外縁が、抗菌剤塗工領域１３３と厚さ方向Ｔに重複しないように形成されている。
【００３６】
第１吸収体１０７は、吸収コア１０９と、コアラップ、具体的には、吸収コア１０９の上方に配置された第１上方コアラップ１１５と、吸収コア１０９の下方に配置された第１下方コアラップ１１７とを備える。吸収コア１０９は、カルボキシル基を有する高分子吸収剤１１１と、パルプ繊維１１３とを含む。
【００３７】
第２吸収体１２１は、高分子吸収剤層１２７と、高分子吸収剤層１２７の上方に配置された第２上方コアラップ１２３と、高分子吸収剤層１２７の下方に配置された第２下方コアラップ１２５とを備えている。高分子吸収剤層１２７は、カルボキシル基を有する高分子吸収剤１１１から構成されている。
【００３８】
また、吸収性物品１０１は、サイドシート２０１と、吸収性物品１０１の端部をシールするシール部２０３と、液透過性シート１０３、吸収性物品１０１を着衣に固定する固定部２０７とを有するが、いずれも当技術分野で公知のものであるので詳細な説明を省略する。
【００３９】
なお、第１実施形態に従う製造方法により製造された吸収性物品１０１では、下方布帛シート１１９が第１シート３０１を構成し、第１下方コアラップ１１７が第２シート３０３を構成し、そして吸収コア１０９が高分子吸収剤含有層３０５を構成している。また、下方布帛シート１１９、第１下方コアラップ１１７及び吸収コア１０９が、積層構造３０７を構成している。
【００４０】
図１に示されるように、第１上方コアラップロール３から巻き出された第１上方コアラップシート５を、搬送方向ＭＤに搬送しながら、第１上方コアラップシート５に、接着剤塗工機７からホットメルト接着剤を塗工し、その上に、高分子吸収剤含有層を形成する吸収コア１０９を積み重ね、第１積層物１９を形成する。
なお、吸収コア１０９は、当技術分野で公知の吸収コア製造装置９により製造され、吸収コア製造装置９は、材料供給部１１と、サクションドラム１３と、サクションドラム１３の外周面に形成された凹型１５と、サクション部１７とを備える。
【００４１】
第１下方コアラップロール２１から巻き出された、第２シートを形成する第１下方コアラップシート２３を搬送方向ＭＤに搬送しながら、第１下方コアラップシート２３に、接着剤塗工機２７からホットメルト接着剤を塗工し、第１下方コアラップシート２３のホットメルト接着剤が塗工された面が第１積層物１９（吸収コア１０９）と向かい合うように、第１下方コアラップシート２３を、第１積層物１９の上に積み重ね、第１吸収体連続体２９を形成する。
【００４２】
続いて、下方布帛シートロール３１から巻き出され、第１シートを形成する下方布帛シート連続体３３を巻き出し、下方布帛シート連続体３３に、抗菌剤塗工機３５から、カチオン性抗菌剤水溶液を塗工し、下方布帛シート連続体３３に、抗菌剤塗工領域（図４の符号１３３）を形成する（抗菌剤塗工領域形成ステップＳ1）。なお、抗菌剤塗工領域は、着用時に液透過性シート１０３が着用者の排泄口と当接する排泄口当接域と厚さ方向Ｔに重複する範囲に形成される。
【００４３】
次いで、下方布帛シート連続体３３のカチオン性抗菌剤水溶液が塗工された面に、接着剤塗工機３７から、ホットメルト接着剤を塗工し、接着剤層（図３及び図４の符号１０８）を形成する（接着剤層形成ステップＳ3）。なお、接着剤層は、下方布帛シート連続体３３のカチオン性抗菌剤水溶液が塗工された面の全体（すなわち、抗菌剤塗工領域より広範囲）に、間欠的に形成される。次いで、下方布帛シート連続体３３のカチオン性抗菌剤水溶液及びホットメルト接着剤が塗工された面が、第２積層物３９と向かい合うように、そして接着剤層を間に挟んで、下方布帛シート連続体３３を、第１吸収体連続体２９に積み重ね、積層構造３０７を含む、第２積層物３９を形成する（積層構造形成ステップＳ2）。
【００４４】
続いて、第２下方コアラップロール４１から、第２下方コアラップシート４３を巻き出し、その上に、接着剤塗工機４５から、ホットメルト接着剤を塗工し、その上に、高分子吸収剤塗工機４７から高分子吸収剤１１１を散布し、高分子吸収剤層１２７を形成する。次いで、第２上方コアラップロール４９から、第２上方コアラップシート５１を巻き出し、第２上方コアラップシート５１に、接着剤塗工機５３から、ホットメルト接着剤を塗工し、第２上方コアラップシート５１のホットメルト接着剤が塗工された面が高分子吸収剤層１２７と向き合うように、第２上方コアラップシート５１を、高分子吸収剤層１２７に積み重ね、第２吸収体連続体５５を形成する。
【００４５】
第２吸収体連続体５５に、接着剤塗工機５７からホットメルト接着剤を塗工し、第２積層物３９の上に積み重ね、積層吸収体連続体５８を形成する。次いで、積層吸収体連続体５８を、切断装置５９に通し、積層吸収体６０を形成する。積層吸収体６０に、液透過性シートロール６１から巻き出された液透過性シート連続体６３を、接着剤塗工機６５から塗工されたホットメルト接着剤を間に挟んで積み重ね、第３積層物６６を形成する。次いで、液不透過性シートロール６７から巻き出された液不透過性シート連続体６９を、接着剤塗工機７１から塗工されたホットメルト接着剤を間に挟んで第３積層物６６に積み重ね、吸収性物品連続体７３を形成する。
吸収性物品連続体７３は、当技術分野で公知の方法により加工され、図２〜図４に示される吸収性物品１０１が製造される。
【００４６】
［第２実施形態］
図５は、本開示の別の実施形態（以下、「第２実施形態」と称する）に従う吸収性物品の製造方法に用いられる製造装置１の一部を示す模式図である。図６は、第２実施形態に従う製造方法で製造された吸収性物品１０１を説明するための図である。具体的には、図６は、図２のＩＩＩ−ＩＩＩ端面における部分端面図に相当する。なお、第２実施形態に従う製造方法により製造される吸収性物品１０１の平面図は、図２に示される吸収性物品１０１の平面図と同一であるので、必要に応じてそちらを参照されたい。
【００４７】
図６に示されるように、第２実施形態に従う製造方法により製造される吸収性物品１０１は、お互いに直交する、長手方向Ｌ、幅方向Ｗ及び厚さ方向Ｔを有し、そして液透過性シート１０３と、第１吸収体１０７よりも上方に配置された上方布帛シート１３１と、第１吸収体１０７（第１上方コアラップ１１５，接着剤層１０８’，吸収コア１０９及び第１下方コアラップ１１７）と、接着剤層１０８と、第１吸収体１０７よりも下方に配置された下方布帛シート１１９と、第２吸収体１２１と、液不透過性シート１０５とを、その順番で備える。
【００４８】
上方布帛シート１３１には、下方の面の抗菌剤塗工領域（図示せず、図４の符号１３３を参照）に、カチオン性抗菌剤水溶液（図示せず）が塗工されており、上方布帛シート１３１が、カチオン性抗菌剤配置シート１２９を構成している。抗菌剤塗工領域（図示せず、図４の符号１３３を参照）は、着用時に排泄口当接域と当接する排泄口当接域と厚さ方向Ｔに重複する範囲に形成されている。また、接着剤層１０８'は、上方布帛シート１３１の下方の面全体に、ホットメルト接着剤を間欠的に塗工することにより形成されている。換言すると、接着剤層１０８’は、上方布帛シート１３１の下方の面全体に間欠的に配置されている。また、接着剤層１０８'は、抗菌剤塗工領域（図示せず、図４の符号１３３を参照）よりも広範囲に形成されている。具体的には、接着剤層１０８'は、接着剤層１０８'の一部、具体的には、接着剤層１０８'の外縁が、抗菌剤塗工領域（図示せず、図４の符号１３３を参照）と厚さ方向Ｔに重複しないように形成されている。
【００４９】
なお、第２実施形態に従う製造方法により製造された吸収性物品１０１では、上方布帛シート１３１が第１シート３０１を構成し、上方コアラップシートが第２シート３０３を構成し、そして吸収コア１０９が高分子吸収剤含有層３０５を構成している。また、上方布帛シート１３１、第１上方コアラップ１１５及び吸収コア１０９が、積層構造３０７を構成している。
【００５０】
また、下方布帛シート１１９には、上方の面の抗菌剤塗工領域（図示せず、図４の符号１３３を参照）に、カチオン性抗菌剤水溶液（図示せず）が塗工されており、下方布帛シート１１９が、カチオン性抗菌剤配置シート１２９を構成している。抗菌剤塗工領域（図示せず、図４の符号１３３を参照）は、下方布帛シート１１９の全体ではなく、液透過性シート１０３が着用時に着用者の排泄口と当接する排泄口当接域と厚さ方向Ｔに重複する範囲に形成されている。また、接着剤層１０８は、下方布帛シート１１９の上方の面全体に、ホットメルト接着剤を間欠的に塗工することにより形成されている。換言すると、接着剤層１０８は、下方布帛シート１１９の上方の面全体に間欠的に配置されている。また、接着剤層１０８は、抗菌剤塗工領域（図示せず、図４の符号１３３を参照）よりも広範囲に形成されている。具体的には、接着剤層１０８は、接着剤層１０８の一部、具体的には、接着剤層１０８の外縁が、抗菌剤塗工領域（図示せず、図４の符号１３３を参照）と厚さ方向Ｔに重複しないように形成されている。
【００５１】
なお、第２実施形態に従う製造方法により製造された吸収性物品１０１では、下方布帛シート１１９が第１シート３０１を構成し、第１下方コアラップ１１７が第２シート３０３を構成し、そして吸収コア１０９が高分子吸収剤含有層３０５を構成している。また、下方布帛シート１１９、第１下方コアラップ１１７及び吸収コア１０９が、積層構造３０７を構成している。
第２実施形態に従う製造方法により製造された吸収性物品１０１は、上述の部分以外は、第１実施形態に従う製造方法により製造された吸収性物品１０１と同様であるので、説明を省略する。
【００５２】
図５に示されるように、上方布帛シートロール８１から巻き出された、第１シート３０１を形成する上方布帛シート連続体８３を搬送方向ＭＤに搬送しながら、上方布帛シート連続体８３に、抗菌剤塗工機８５から、カチオン性抗菌剤水溶液を塗工し、上方布帛シート連続体８３に、抗菌剤塗工領域（図４の符号１３３）を形成する（抗菌剤塗工領域形成ステップＳ1）。なお、抗菌剤塗工領域は、液透過性シート１０３が着用者の排泄口と当接する排泄口当接域と厚さ方向Ｔに重複する範囲に形成される。
【００５３】
次いで、上方布帛シート連続体８３のカチオン性抗菌剤水溶液が塗工された面に、接着剤塗工機８７から、ホットメルト接着剤を塗工し、接着剤層１０８'を形成する（接着剤層形成ステップＳ3）。なお、接着剤層１０８'は、上方布帛シート連続体８３のカチオン性抗菌剤水溶液が塗工された面の全体（すなわち、抗菌剤塗工領域より広範囲）に、間欠的に形成される。次いで、第１上方コアラップロール３から巻き出された、第２シート３０３を形成する第１上方コアラップシート５を、搬送方向ＭＤに搬送しながら、上方布帛シート連続体８３のカチオン性抗菌剤水溶液及びホットメルト接着剤が塗工された面が、第１上方コアラップシート５と向かい合うように、そして接着剤層１０８'を間に挟んで、第１上方コアラップシート５を、上方布帛シート連続体８３に積み重ね、上方布帛シート積層体８９を形成する（第１積層構造形成ステップＳ2-1）。
【００５４】
次いで、上方布帛シート積層体８９に、接着剤塗工機９１から、ホットメルト接着剤を塗工し、その上に、高分子吸収剤含有層を形成する吸収コア１０９を積み重ね、第１積層物１９を形成する（第２積層構造形成ステップＳ2-2）。
その他の工程は、第１実施形態と同様であるので、説明を省略するが、第２実施形態では、「抗菌剤塗工領域形成ステップＳ1」及び「積層構造形成ステップＳ2」が、２サイクル実施される。
【００５５】
［第３実施形態］
図７は、本開示の別の実施形態（以下、「第３実施形態」と称する）に従う吸収性物品の製造方法に用いられる製造装置１の一部を示す模式図である。図８は、第３実施形態に従う製造方法で製造された吸収性物品１０１を説明するための図である。具体的には、図８は、図２のＩＩＩ−ＩＩＩ端面における端面図に相当する。なお、第３実施形態に従う製造方法により製造される吸収性物品１０１の平面図は、図２に示される吸収性物品１０１の平面図と同一であるので、必要に応じてそちらを参照されたい。
【００５６】
図８に示されるように、第３実施形態に従う製造方法により製造される吸収性物品１０１は、お互いに直交する、長手方向Ｌ、幅方向Ｗ及び厚さ方向Ｔを有し、そして液透過性シート１０３と、第１吸収体１０７よりも上方に配置された上方布帛シート１３１と、第１吸収体１０７（第１上方コアラップ１１５，接着剤層１０８，吸収コア１０９及び第１下方コアラップ１１７）と、第２吸収体１２１と、液不透過性シート１０５とを、その順番で備える。
【００５７】
上方布帛シート１３１には、上方の面の抗菌剤塗工領域（図示せず、図４の符号１３３を参照）に、カチオン性抗菌剤水溶液（図示せず）が塗工されており、上方布帛シート１３１が、カチオン性抗菌剤配置シート１２９を構成している。抗菌剤塗工領域（図示せず、図４の符号１３３を参照）は、着用時に液透過性シート１０３が着用者の排泄口と当接する排泄口当接域と厚さ方向Ｔに重複する範囲に形成されている。また、接着剤層１０８は、上方布帛シート１３１の上方の面全体に、ホットメルト接着剤を間欠的に塗工することにより形成されている。換言すると、接着剤層１０８は、下方布帛シート１１９の上方の面全体に間欠的に配置されている。また、接着剤層１０８は、抗菌剤塗工領域（図示せず、図４の符号１３３を参照）よりも広範囲に形成されている。具体的には、接着剤層１０８は、接着剤層１０８の一部、具体的には、接着剤層１０８の外縁が、抗菌剤塗工領域（図示せず、図４の符号１３３を参照）と厚さ方向Ｔに重複しないように形成されている。
【００５８】
なお、第３実施形態に従う製造方法により製造された吸収性物品１０１では、液透過性シート１０３が、追加シート３０９を構成し、上方布帛シート１３１が、第１シート３０１を構成し、第１上方コアラップ１１５が、第２シート３０３を構成し、そして吸収コア１０９が、高分子吸収剤を含む高分子吸収剤含有層３０５を構成する。また、上方布帛シート１３１、第１上方コアラップ１１５及び吸収コア１０９が、積層構造３０７を構成する。
第３実施形態に従う製造方法により製造された吸収性物品１０１は、上述の部分以外は、第１実施形態に従う製造方法により製造された吸収性物品１０１と同様であるので、説明を省略する。
【００５９】
図７に示されるように、第３実施形態では、第１吸収体連続体２９を形成する工程までは、第１実施形態と同様であるので、説明を省略する。
第１実施形態と同様の工程により形成された第２吸収体連続体５５に、接着剤塗工機５７からホットメルト接着剤を塗工し、次いで、第２吸収体連続体５５を、第１実施形態と同様の工程により形成された第１吸収体連続体２９の上に積み重ね、積層吸収体連続体５８を形成する。次いで、積層吸収体連続体５８を、切断装置５９に通し、積層吸収体６０を形成する。
【００６０】
上方布帛シートロール８１から巻き出した、第１シート３０１を形成する上方布帛シート連続体８３に、抗菌剤塗工機８５から、カチオン性抗菌剤水溶液を塗工し、上方布帛シート連続体８３に、抗菌剤塗工領域（図４の符号１３３）を形成する（抗菌剤塗工領域形成ステップＳ1）。なお、抗菌剤塗工領域は、液透過性シート１０３が着用者の排泄口と当接する排泄口当接域と厚さ方向Ｔに重複する範囲に形成される。
【００６１】
次いで、上方布帛シート連続体８３のカチオン性抗菌剤水溶液が塗工された面に、接着剤塗工機８７から、ホットメルト接着剤を塗工する。次いで、上方布帛シート連続体８３の、カチオン性抗菌剤水溶液及びホットメルト接着剤が塗工された面が、液透過性シート連続体６３と向かい合うように、上方布帛シート連続体８３を、液透過性シートロール６１から巻き出された、追加シート３０９を形成する液透過性シート連続体６３に積み重ねることにより、液透過性シート積層体９３を形成する。
【００６２】
液透過性シート積層体９３の上方布帛シート連続体８３のカチオン性抗菌剤水溶液が塗工されていない面に、接着剤塗工機６５からホットメルト接着剤を塗工し、接着剤層１０８を形成する（接着剤層形成ステップＳ3）。なお、接着剤層１０８は、上方布帛シート連続体８３のカチオン性抗菌剤水溶液が塗工されていない面の全体（すなわち、抗菌剤塗工領域より広範囲）に、間欠的に形成される。次いで、液透過性シート積層体９３と、積層吸収体６０とを、接着剤層１０８を間に挟んで積み重ね、第３積層物６６を形成する（積層構造形成ステップＳ2）。
【００６３】
次いで、液不透過性シートロール６７から巻き出された液不透過性シート連続体６９を、接着剤塗工機７１から塗工されたホットメルト接着剤を間に挟んで第３積層物６６に積み重ね、吸収性物品連続体７３を形成する。
吸収性物品連続体７３は、当技術分野で公知の方法により加工され、図８に示される吸収性物品１０１が製造される。
【００６４】
本開示の製造方法では、カチオン性抗菌剤水溶液としては、製造設備を汚染しうるものであれば、特に制限されず、公知のカチオン性抗菌剤を含む水溶液が含まれうる。
上記カチオン性抗菌剤としては、例えば、第４級アンモニウム塩、グアニジン系抗菌剤（例えば、グルコン酸クロルヘキシジン、塩酸クロルヘキシジン）、ビグアナイド系抗菌剤、金属イオン担持物、ヘキセチジン、メタロニダゾール等が挙げられる。製造設備を汚染する恐れが高い観点からは、上記カチオン性抗菌剤として、第４級アンモニウム塩が挙げられる。
【００６５】
第４級アンモニウム塩は、第４級アンモニウム塩構造を分子内に有していれば、特に限定されるものではないが、例えば、アルキルトリメチルアンモニウム塩、ポリオキシエチレンアルキルメチルアンモニウム塩、アルキルベンジルジメチルアンモニウム塩、アルキルピリジニウム塩等が挙げられ、下記式（１）〜（４）で示される第４級アンモニウム塩が挙げられる。
［Ｒ（ＣＨ3）3Ｎ+］lＸ    式（１）
［Ｒ（ＣＨ3）Ｎ+（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）mＨ［（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）nＨ］］lＸ    式（２）
［Ｒ（ＣＨ3）2Ｎ+ＣＨ2Ｃ6Ｈ5］lＸ    式（３）
［ＲＰｙ+］lＸ    式（４）
（式中、Ｒは、それぞれ独立して、アルキル基を表し、Ｘは、それぞれ独立して、１価または２価の陰イオンを表す。ｌは、それぞれ独立して、１又は２の整数を表し、ｍ及びｎは、それぞれ独立して、２〜４０の整数を表し、Ｐｙはピリジン環を表す。）
【００６６】
上記アルキル基は、長鎖アルキル基であることができ、炭素数８〜１８の飽和炭化水素基であることができ、オクチル基、ラウリル基、ミリスチル基、及びセチル基であることができ、そしてラウリル基であることができる。製造設備を汚染する恐れの高さの観点からである。
第４級アンモニウム塩は、Ｆ-、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-等のハロゲン化物イオン、ＮＯ-、およびＳＯ42-等との塩であることができ、そして電気陰性度が高いＣｌ-等との塩であることができる。
製造設備を汚染する恐れの高さの観点から、第４級アンモニウム塩の具体例としては、塩化ベンザルコニウム、塩化セチルピリジニウム、塩化ベンゼトニウム、塩化デカリニウム等が挙げられる。
【００６７】
上記ビグアナイド系抗菌剤としては、ポリアミノプロピルビグアナイド及びその塩、例えば、塩酸塩、ステアリン酸塩、リン酸塩等、グルコン酸クロルヘキシジン、塩酸クロルヘキシジン、ポリヘキサメチレングアニジン塩酸塩、ポリヘキサメチレングアニジンリン酸塩、ポリヘキサメチレンビグアナイド塩酸塩、ポリヘキサメチレンビグアナイドステアリン酸塩、ポリ［オキシエチレン（ジメチルイミニオ）エチレン（ジメチルイミニオ）エチレンジクロリド］、並びにそれらの任意の組み合わせが挙げられる。
【００６８】
上記金属イオン担持物としては、金属イオンを放出しうるもの、例えば、金属塩が挙げられる。上記金属イオンとしては、例えば、銀イオン、亜鉛イオン、アルミニウムイオン、コバルトイオン、ジルコニウムイオン、セリウムイオン、鉄イオン、銅イオン、ニッケルイオン、白金イオン等が挙げられ、銀イオンが好ましい。
上記金属塩しては、例えば、硝酸塩、例えば、硝酸銀、硝酸アルミニウム、硝酸コバルト、硝酸ジルコニウム、硝酸セリウム、硝酸鉄、硝酸銅、硝酸ニッケル、酢酸塩、例えば、酢酸銀、塩酸塩、例えば、塩化セリウム、塩化鉄、塩化亜鉛、塩化銅、硫酸塩、例えば、硫酸銀、硫酸アルミニウム、硫酸銅、硫酸亜鉛等が挙げられる。
【００６９】
本開示の製造方法では、第１シートは、繊維を含むものであれば、特に制限されず、カチオン性抗菌剤を保持できる観点から、例えば、布帛、例えば、不織布、織布、編物等が挙げられる。上記繊維は、カチオン性抗菌剤水溶液が塗工された際に、強度を保持できる観点から、合成樹脂系繊維であることが好ましい。
第１シートとしては、例えば、液透過性シート、液透過性シートと、吸収体との間に配置される布帛シート（セカンドシートとも称される）、吸収体と、液不透過性シートとの間に配置される布帛シート等が挙げられる。
【００７０】
本開示の製造方法では、第２シートは、セルロース系繊維を含むものであれば、特に制限されず、例えば、布帛、例えば、不織布、織布、編物等が挙げられる。
上記セルロース系繊維としては、カチオン性抗菌剤を吸着させる観点から、ヒドロキシル基を有するものが好ましく、そして上記セルロース系繊維として、例えば、例えば、天然セルロース繊維、再生セルロース繊維、精製セルロース繊維及び半合成セルロース繊維が挙げられる。
上記天然セルロース繊維としては、植物繊維、例えば、パルプ繊維（例えば、木材パルプ、非木材パルプ）、種子毛繊維（例えば、コットン）、じん皮繊維（例えば、麻）、葉脈繊維（例えば、マニラ麻）、果実繊維（例えば、やし）が挙げられる。
【００７１】
上記再生セルロース繊維としては、レーヨン、例えば、ビスコースから得られるビスコースレーヨン、ポリノジック及びモダール、セルロースの銅アンモニア塩溶液から得られる銅アンモニアレーヨン（「キュプラ」とも称される）等の繊維が挙げられる。
【００７２】
上記精製セルロース繊維としては、リヨセル、具体的には、パルプを、Ｎ−メチルモルホリンＮ−オキシドの水溶液に溶解させて紡糸原液（ドープ）とし、Ｎ−メチルモルホリンＮ−オキシドの希薄溶液中に押出して繊維としたものが挙げられる。上記精製セルロースは、例えば、テンセル（商標）として市販されている。
上記半合成繊維としては、半合成セルロース、例えば、アセテート繊維、例えば、トリアセテート及びジアセテート等の繊維が挙げられる。
第２シートとしては、例えば、吸収体のコアラップを構成するティッシュが挙げられる。
【００７３】
本開示の製造方法では、高分子吸収剤含有層としては、カルボキシル基を有する高分子吸収剤を含む層であれば、特に制限されない。
上記カルボキシル基を有する高分子吸収剤としては、当技術分野で公知の、カルボキシル基を有するものが含まれ、例えば、デンプン系、セルロース系、合成ポリマー系の高分子吸収剤が挙げられる。デンプン系又はセルロース系の高分子吸収剤としては、例えば、デンプン−アクリル酸（塩）グラフト共重合体、デンプン−アクリロニトリル共重合体のケン化物、ナトリウムカルボキシメチルセルロースの架橋物等が挙げられ、合成ポリマー系の高分子吸収剤としては、例えば、ポリアクリル酸塩系、ポリスルホン酸塩系、無水マレイン酸塩系、ポリアクリルアミド系、ポリビニルアルコール系、ポリエチレンオキシド系、ポリアスパラギン酸塩系、ポリグルタミン酸塩系、ポリアルギン酸塩系、デンプン系、セルロース系等の高吸水性ポリマー（ＳＡＰ，Ｓｕｐｅｒ  ａｂｓｏｒｂｅｎｔ  Ｐｏｌｙｍｅｒ）等が挙げられ、本開示の効果の観点からは、ポリアクリル酸塩系（特に、ポリアクリル酸ナトリウム系）の高分子吸収剤が好ましい。
なお、本願発明者が確認したところ、カルボキシル基を有する高分子吸収剤には、カチオン性抗菌剤が吸着され、カチオン性抗菌剤により、カルボキシル基を有する高分子吸収剤の吸液性が阻害される傾向があることを見出された。
【００７４】
本開示の製造方法では、第１積層構造形成ステップにおいて、第１シートと、第２シートとを、第１シートの、カチオン性抗菌剤水溶液が塗工された面と、第２シートとが向かい合うように積層することができる。そうすることにより、第１シートのカチオン性抗菌剤水溶液が塗工された面を、第２シートで覆うように積層することになるので、カチオン性抗菌剤水溶液が、第１シート、及び積層構造から落下しにくく、カチオン性抗菌剤水溶液が、製造設備を汚染しにくく、製造設備に錆等が発生しにくい。
【００７５】
本開示の製造方法では、第１積層構造形成ステップにおいて、第１シートと、第２シートとを、第１シートの、カチオン性抗菌剤が塗工された面と反対側の面と、第２シートとが向かい合うように積層することができる。そうすることにより、第１シートにおいて、第２シートに近い部分のカチオン性抗菌剤水溶液の量が、第２シートから遠い部分のカチオン性抗菌剤水溶液の量よりも少なくなる傾向がある。その結果、第１シートに含まれるカチオン性抗菌剤水溶液が、第２シートを超えて高分子吸収剤含有層に到達しにくくなる。
【００７６】
本開示の製造方法では、接着剤層形成ステップにおいて、接着剤を、第１シートの第２シートと向かい合う面又は第２シートの第１シートと向かい合う面に、抗菌剤塗工領域の少なくとも一部と、吸収性物品の厚さ方向に重複するように塗工することが好ましい。そうすることにより、第１シートに含まれるカチオン性抗菌剤水溶液のカチオン性抗菌剤及び水分が、接着剤層を超えて、第２シートに移行しにくくなり、ひいては、カチオン性抗菌剤水溶液のカチオン性抗菌剤及び水分が、第２シートを超えて、高分子吸収剤含有層に到達しにくくなる。
【００７７】
なお、本開示の製造方法では、接着剤層形成ステップにおいて、接着剤を、第１シートの第２シートと向かい合う面又は第２シートの第１シートと向かい合う面に、抗菌剤塗工領域と、吸収性物品の厚さ方向に重複しないように塗工してもよい。
【００７８】
本開示の製造方法が接着剤層形成ステップを含む場合には、接着剤層形成ステップにおいて、第１シートの第２シートと向かい合う面又は第２シートの第１シートと向かい合う面に、接着剤を、吸収性物品において接着剤層の一部が、抗菌剤塗工領域と、吸収性物品の厚さ方向に重複しないように塗工することが好ましい。そうすることにより、接着剤層が、抗菌剤塗工領域と厚さ方向に重複しない領域において、第１シートと、第２シートとを接着させることができ、製造される吸収性物品において、液体の吸収性が阻害されにくい。
【００７９】
なお、本開示の製造方法が接着剤層形成ステップを含む場合には、接着剤層形成ステップにより形成される接着剤層は、吸収性物品の平面方向において、間欠的に配置されることが好ましい。カチオン性抗菌剤水溶液が吸収性物品の厚さ方向に移動することを抑制しつつ、吸収した体液等の液体を、吸収性物品の厚さ方向に移動させるためである。
【００８０】
本開示の製造方法は、上述の追加シート積層工程を含むことができる。そうすることにより、第１シートに含まれるカチオン性抗菌剤水溶液のカチオン性抗菌剤及び水分が、追加シートに保持されるため、第１シートに含まれるカチオン性抗菌剤水溶液のカチオン性抗菌剤及び水分が、第２シートに移行しにくくなり、ひいては、カチオン性抗菌剤水溶液のカチオン性抗菌剤及び水分が、第２シートを超えて、高分子吸収剤含有層に到達しにくくなる。
上記追加シートは、布帛、例えば、不織布、織布、編物等であることが好ましい。
上記追加シートとしては、例えば、液透過性シートが挙げられる。
【００８１】
本開示の製造方法が追加シート積層工程を含む場合には、追加シート積層工程において第１シートと、追加シートとを、第１シートのカチオン性抗菌剤水溶液が塗工された面と、追加シートとが向かい合うように積層してもよく、又は第１シートと、追加シートとを、第１シートのカチオン性抗菌剤水溶液が塗工された面と、追加シートとが向かい合わないように積層してもよく、そして第１シートと、追加シートとを、第１シートのカチオン性抗菌剤水溶液が塗工された面と、追加シートとが向かい合うように積層することが好ましい。第１シートのカチオン性抗菌剤水溶液が塗工された面を、追加シートで覆うように積層することにより、カチオン性抗菌剤水溶液が、第１シート、及び積層構造から落下しにくくなり、カチオン性抗菌剤水溶液が、製造設備を汚染しにくくなるからである。
【００８２】
本開示の製造方法では、抗菌剤塗工領域形成ステップにおいて、任意の塗装機、例えば、ロール型塗工機、カーテン型塗工機、スリット型塗工機、スプレー型塗工機、ディップ型塗工機、ビード型塗工機、フレキソ型塗工機、グラビア型塗工機等を用いて、カチオン性抗菌剤水溶液を第１シートに塗工することができる。
【００８３】
抗菌剤塗工領域形成ステップはまた、塗装機の塗出口が第１シートと接触しない非接触型塗工機を用いて、そして塗工機の塗出口が第１シートと接触する接触型塗工機を用いて、カチオン性抗菌剤水溶液を第１シートに塗工することができ、そして製造設備を汚染しにくい観点からは、接触型塗工機を用いて、カチオン性抗菌剤水溶液を第１シートに塗工することが好ましい。
上記接触型塗工機としては、ロール型塗工機、スリット型塗工機、ディップ型塗工機、ビード型塗工機、フレキソ型塗工機、グラビア型塗工機が挙げられる。
【００８４】
本開示の製造方法では、第１シートの、カチオン性抗菌剤水溶液を塗工すべき面が、第１シートの搬送方向において、好ましくは２．０〜９．０μｍ、より好ましくは２．５〜８．０μｍ、そしてさらに好ましくは２．８〜７．５μｍの表面粗さ値を有する。表面粗さ値が上述の範囲にあることにより、塗工されたカチオン性抗菌剤水溶液が、第１シートからはじかれることなく、そして第１シートの内部に保持されやすくなり、カチオン性抗菌剤水溶液が製造設備を汚染しにくくなる。
【００８５】
上記表面粗さ値は、以下の通り測定される。
（１）恒温恒湿室（温度２５±５℃，相対湿度６５±５％）に、カトーテック株式会社製の「ＫＥＳ−ＦＢ４  ＡＵＴＯ−Ａ」を準備する。
（２）測定すべき試料を、上記恒温恒湿室で、２４時間静置する。
（３）測定すべき試料の、吸収性物品の製造時に搬送方向を向く方向に沿って、ＳＭＤ値を測定する。なお、摩擦子には０．５ｍｍ径のピアノ線を１０本並列するように束ねて５ｍｍ幅に構成されたものが使用される。また、摩擦子の荷重は１０ｇｆであり、摩擦子を、測定すべき試料の、搬送方向を構成すべき方向に、１ｍｍ／ｓの速度で移動させる。
（４）異なる試料で、ＳＭＤ値を１０回測定し、その平均値を表面粗さ値として採用する。
【００８６】
本開示の製造方法では、抗菌剤塗工領域形成ステップの後、第１シートを加温せず、塗工されたカチオン性抗菌剤水溶液の水分を強制乾燥させるステップを実施しなくともよい。例えば、抗菌剤塗工領域形成ステップの後、第１シートが第２シート又は追加シートと積層される前に、第１シートを加温せず、塗工されたカチオン性抗菌剤水溶液の水分を強制乾燥させるステップを実施しなくともよい。
【００８７】
本開示の製造方法では、第１シートにカチオン性抗菌剤水溶液を塗工した後、第１シートに、セルロース系繊維を含む第２シート又は追加シートを積層するため、塗工されたカチオン性抗菌剤水溶液の水分を強制乾燥させるステップを省略しても、カチオン性抗菌剤水溶液が製造設備を汚染しにくい。また、塗工されたカチオン性抗菌剤水溶液の水分を強制乾燥させるステップを省略することにより、吸収性物品の生産性に優れる。
【００８８】
なお、本開示の製造方法では、抗菌剤塗工領域形成ステップの後、第１シートを加温し、塗工されたカチオン性抗菌剤水溶液の水分を強制乾燥させるステップを実施してもよい。例えば、抗菌剤塗工領域形成ステップの後、第１シートが第２シート又は追加シートと積層される前に、第１シートを加温し、塗工されたカチオン性抗菌剤水溶液の水分を強制乾燥させるステップを実施してもよい。
【符号の説明】
【００８９】
１    製造装置
３    第１上方コアラップロール
５    第１上方コアラップシート
９    吸収コア製造装置
１１    材料供給部
１３    サクションドラム
１５    凹型
１７    サクション部
１９    第１積層物
２１    第１下方コアラップロール
２３    第１下方コアラップシート
２９    第１吸収体連続体
３１    下方布帛シートロール
３３    下方布帛シート連続体
３９    第２積層物
４１    第２下方コアラップロール
４３    第２下方コアラップシート
４７    高分子吸収剤塗工機
４９    第２上方コアラップロール
５１    第２上方コアラップシート
５５    第２吸収体連続体
５８    積層吸収体連続体
６０    積層吸収体
６１    液透過性シートロール
６３    液透過性シート連続体
６６    第３積層物
６７    液不透過性シートロール
６９    液不透過性シート連続体
７３    吸収性物品連続体
８１    上方布帛シートロール
８３    上方布帛シート連続体
８５    抗菌剤塗工機
８９    上方布帛シート積層体
９３    液透過性シート積層体
３０１    第１シート
３０３    第２シート
３０５    高分子吸収剤含有層
３０７    積層構造
３０９    追加シート
Ｓ1    抗菌剤塗工領域形成ステップ
Ｓ2    積層構造形成ステップ
Ｓ2-1    第１積層構造形成ステップ
Ｓ2-2    第２積層構造形成ステップ
Ｓ3    接着剤層形成ステップ
Ｓ4    追加シート積層工程
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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