(57)【要約】【課題】吐出動作の良否を精度良く判定する。【解決手段】基板処理装置の吐出検査部５では、光出射部５１は、予め定められた光存在面に沿って光を出射することにより、複数の吐出口から吐出された液体である複数の飛翔体が光存在面を通過する際に複数の飛翔体に光を照射する。撮像部５２は、光存在面を通過する複数の飛翔体を撮像することにより、複数の飛翔体上に現れる複数の輝点を含む検査画像を取得する。関数記憶部は、検査画像において設定される複数の分割領域にそれぞれ対応する複数の点広がり関数を記憶する。画像補正部は、検査画像の各分割領域に含まれる１つ以上の輝点を、各分割領域に対応する点広がり関数を用いて補正することにより補正検査画像を取得する。判定部は、補正検査画像を用いて複数の吐出口からの液体の吐出動作の良否を判定する。これにより、複数の吐出口の吐出動作の良否を精度良く判定することができる。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の吐出口からの液体の吐出動作を検査する吐出検査装置であって、
予め定められた光存在面に沿って光を出射することにより、複数の吐出口から吐出される液体である複数の飛翔体が前記光存在面を通過する際に前記複数の飛翔体に光を照射する光出射部と、
前記光存在面を通過する前記複数の飛翔体を撮像することにより、前記複数の飛翔体上に現れる複数の輝点を含む検査画像を取得する撮像部と、
前記検査画像において設定される複数の分割領域にそれぞれ対応する複数の点広がり関数を記憶する関数記憶部と、
前記検査画像の各分割領域に含まれる１つ以上の輝点を、前記各分割領域に対応する点広がり関数を用いて補正することにより補正検査画像を取得する画像補正部と、
前記補正検査画像を用いて前記複数の吐出口からの液体の吐出動作の良否を判定する判定部と、
を備えることを特徴とする吐出検査装置。
【請求項２】
請求項１に記載の吐出検査装置であって、
前記複数の分割領域の形状および大きさが同じであることを特徴とする吐出検査装置。
【請求項３】
請求項１に記載の吐出検査装置であって、
前記複数の分割領域のうち前記撮像部の合焦位置に最も近い輝点を含む分割領域を基準分割領域とし、前記複数の分割領域のうち前記基準分割領域が最も大きく、前記基準分割領域を除く他の領域の大きさが、前記基準分割領域からの距離が大きくなるに従って小さくなることを特徴とする吐出検査装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の吐出検査装置であって、
前記複数の分割領域のうち２つ以上の輝点を含む分割領域において、前記撮像部の撮像方向における距離が最も大きい２つの輝点間の距離が、前記撮像部の被写界深度以下であることを特徴とする吐出検査装置。
【請求項５】
請求項１ないし３のいずれかに記載の吐出検査装置であって、
前記複数の分割領域がそれぞれ１つのみの輝点を含むことを特徴とする吐出検査装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載の吐出検査装置であって、
前記複数の吐出口からの液体の吐出動作が全て正常である場合の前記複数の輝点を含む基準画像が予め準備され、
各点広がり関数が、前記基準画像に前記複数の分割領域を設定した場合の前記各点広がり関数に対応する分割領域に含まれる一の輝点の画像であることを特徴とする吐出検査装置。
【請求項７】
請求項６に記載の吐出検査装置であって、
前記基準画像に前記複数の分割領域を設定した場合に、２つ以上の輝点を含む分割領域の点広がり関数は、前記２つ以上の輝点のうち前記分割領域の中央に最も近い１つの輝点の画像であることを特徴とする吐出検査装置。
【請求項８】
請求項１ないし５のいずれかに記載の吐出検査装置であって、
前記複数の点広がり関数が、前記複数の分割領域に対応する位置に配置された点光源を撮像することにより取得されることを特徴とする吐出検査装置。
【請求項９】
請求項１ないし５のいずれかに記載の吐出検査装置であって、
前記複数の点広がり関数が、前記複数の分割領域に対応する位置に仮想的に配置される点光源から出射される光に対して光線追跡演算を行うことにより取得されることを特徴とする吐出検査装置。
【請求項１０】
基板処理装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
複数の吐出口から前記基板に向けて液体を吐出して前記基板に所定の処理を行う吐出ヘッドと、
前記吐出ヘッドの前記複数の吐出口からの液体の吐出動作を検査する請求項１ないし９のいずれかに記載の吐出検査装置と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１１】
複数の吐出口からの液体の吐出動作を検査する吐出検査方法であって、
ａ）予め定められた光存在面に沿って光を出射することにより、複数の吐出口から吐出される液体である複数の飛翔体が前記光存在面を通過する際に前記複数の飛翔体に光を照射する工程と、
ｂ）前記光存在面を通過する前記複数の飛翔体を撮像することにより、前記複数の飛翔体上に現れる複数の輝点を含む検査画像を取得する工程と、
ｃ）前記検査画像において設定される複数の分割領域にそれぞれ対応する複数の点広がり関数を準備する工程と、
ｄ）前記検査画像の各分割領域に含まれる１つ以上の輝点を、前記各分割領域に対応する点広がり関数を用いて補正することにより補正検査画像を取得する工程と、
ｅ）前記補正検査画像を用いて前記複数の吐出口からの液体の吐出動作の良否を判定する工程と、
を備えることを特徴とする吐出検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の吐出口からの液体の吐出動作を検査する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体基板（以下、単に「基板」という。）の製造工程では、基板処理装置を用いて酸化膜等の絶縁膜を有する基板に対して様々な処理が施される。例えば、基板の表面に洗浄液を供給することにより、基板の表面上に付着したパーティクル等を除去する洗浄処理が行われる。
【０００３】
特許文献１の基板処理装置では、複数の吐出口から基板上に洗浄液の液滴が吐出され、基板の洗浄処理が行われる。当該基板処理装置では、複数の吐出口のそれぞれにおける吐出動作の良否を判定するために、複数の吐出口から吐出された処理液に面状光が照射され、面状光を通過する処理液の複数の輝点を含む検査画像が取得される。そして、検査画像上に複数の正常吐出判定枠が設定され、各正常吐出判定枠内における輝点の存否情報に基づいて、各正常吐出判定枠に対応する吐出口における吐出動作の良否が判定される。検査画像の複数の輝点のうち一部の輝点は、撮像部の合焦範囲の外側に位置しており、検査画像上においてぼやけて（いわゆる、ピントがぼけて）他の輝点に比べて大きく広がる。当該基板処理装置では、吐出動作の良否判定の精度を向上するために、輝点と撮像部との間の検査距離と撮像部の合焦距離との差が大きくなるに従って、正常吐出判定枠の大きさが縮小される。
【０００４】
一方、特許文献２では、カメラにおける像ブレを含む劣化画像を、点広がり関数（ＰＳＦ：Point spread function）を用いて回復する画像回復技術が開示されている。また、特許文献３では、レンズの光軸と撮像素子の中心軸とにあおりが生じてピントが撮像素子の面内でばらつく場合に、撮像素子の各面内領域に対応した点広がり関数を、撮像画像の各面内領域に対応した部分に乗算することにより、撮像画像に対する復元処理を行う技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１４−１７９４５０号公報
【特許文献２】特開２００４−２０５８０２号公報
【特許文献３】特開２０１３−２０７７５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、特許文献１の基板処理装置では、上述のように、撮像部の合焦範囲の外側に位置する輝点に対して正常吐出判定枠の縮小が行われるが、当該縮小処理では、吐出動作の良否判定の精度向上に限界がある。
【０００７】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、吐出動作の良否を精度良く判定することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１に記載の発明は、複数の吐出口からの液体の吐出動作を検査する吐出検査装置であって、予め定められた光存在面に沿って光を出射することにより、複数の吐出口から吐出される液体である複数の飛翔体が前記光存在面を通過する際に前記複数の飛翔体に光を照射する光出射部と、前記光存在面を通過する前記複数の飛翔体を撮像することにより、前記複数の飛翔体上に現れる複数の輝点を含む検査画像を取得する撮像部と、前記検査画像において設定される複数の分割領域にそれぞれ対応する複数の点広がり関数を記憶する関数記憶部と、前記検査画像の各分割領域に含まれる１つ以上の輝点を、前記各分割領域に対応する点広がり関数を用いて補正することにより補正検査画像を取得する画像補正部と、前記補正検査画像を用いて前記複数の吐出口からの液体の吐出動作の良否を判定する判定部とを備える。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の吐出検査装置であって、前記複数の分割領域の形状および大きさが同じである。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の吐出検査装置であって、前記複数の分割領域のうち前記撮像部の合焦位置に最も近い輝点を含む分割領域を基準分割領域とし、前記複数の分割領域のうち前記基準分割領域が最も大きく、前記基準分割領域を除く他の領域の大きさが、前記基準分割領域からの距離が大きくなるに従って小さくなる。
【００１１】
請求項４に記載の発明は、請求項１ないし３のいずれかに記載の吐出検査装置であって、前記複数の分割領域のうち２つ以上の輝点を含む分割領域において、前記撮像部の撮像方向における距離が最も大きい２つの輝点間の距離が、前記撮像部の被写界深度以下である。
【００１２】
請求項５に記載の発明は、請求項１ないし３のいずれかに記載の吐出検査装置であって、前記複数の分割領域がそれぞれ１つのみの輝点を含む。
【００１３】
請求項６に記載の発明は、請求項１ないし５のいずれかに記載の吐出検査装置であって、前記複数の吐出口からの液体の吐出動作が全て正常である場合の前記複数の輝点を含む基準画像が予め準備され、各点広がり関数が、前記基準画像に前記複数の分割領域を設定した場合の前記各点広がり関数に対応する分割領域に含まれる一の輝点の画像である。
【００１４】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の吐出検査装置であって、前記基準画像に前記複数の分割領域を設定した場合に、２つ以上の輝点を含む分割領域の点広がり関数は、前記２つ以上の輝点のうち前記分割領域の中央に最も近い１つの輝点の画像である。
【００１５】
請求項８に記載の発明は、請求項１ないし５のいずれかに記載の吐出検査装置であって、前記複数の点広がり関数が、前記複数の分割領域に対応する位置に配置された点光源を撮像することにより取得される。
【００１６】
請求項９に記載の発明は、請求項１ないし５のいずれかに記載の吐出検査装置であって、前記複数の点広がり関数が、前記複数の分割領域に対応する位置に仮想的に配置される点光源から出射される光に対して光線追跡演算を行うことにより取得される。
【００１７】
請求項１０に記載の発明は、基板処理装置であって、基板を保持する基板保持部と、複数の吐出口から前記基板に向けて液体を吐出して前記基板に所定の処理を行う吐出ヘッドと、前記吐出ヘッドの前記複数の吐出口からの液体の吐出動作を検査する請求項１ないし９のいずれかに記載の吐出検査装置とを備える。
【００１８】
請求項１１に記載の発明は、複数の吐出口からの液体の吐出動作を検査する吐出検査方法であって、ａ）予め定められた光存在面に沿って光を出射することにより、複数の吐出口から吐出される液体である複数の飛翔体が前記光存在面を通過する際に前記複数の飛翔体に光を照射する工程と、ｂ）前記光存在面を通過する前記複数の飛翔体を撮像することにより、前記複数の飛翔体上に現れる複数の輝点を含む検査画像を取得する工程と、ｃ）前記検査画像において設定される複数の分割領域にそれぞれ対応する複数の点広がり関数を準備する工程と、ｄ）前記検査画像の各分割領域に含まれる１つ以上の輝点を、前記各分割領域に対応する点広がり関数を用いて補正することにより補正検査画像を取得する工程と、ｅ）前記補正検査画像を用いて前記複数の吐出口からの液体の吐出動作の良否を判定する工程とを備える。
【発明の効果】
【００１９】
本発明では、吐出動作の良否を精度良く判定することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】一の実施の形態に係る基板処理装置の正面図である。
【図２Ａ】基板処理装置の平面図である。
【図２Ｂ】吐出ヘッドおよび待機ポッドの側面図である。
【図３】吐出ヘッドの下面を示す底面図である。
【図４】制御ユニットの機能を示すブロック図である。
【図５】吐出ヘッド、光出射部および撮像部を示す斜視図である。
【図６】吐出動作の検査の流れを示す図である。
【図７】検査画像を示す図である。
【図８】検査画像を示す図である。
【図９Ａ】補正前の輝点を示す図である。
【図９Ｂ】補正後の輝点を示す図である。
【図１０】検査画像を示す図である。
【図１１】検査画像を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
図１は、本発明の一の実施の形態に係る基板処理装置１の正面図である。図２Ａは、基板処理装置１の平面図である。図２Ａでは、基板処理装置１の向きを図１から変更している。基板処理装置１は、半導体基板９（以下、単に「基板９」という。）を１枚ずつ処理する枚葉式の装置である。基板処理装置１では、基板９に対して液体が吐出されて所定の処理が行われる。本実施の形態では、基板９上に処理液の液滴を吐出することにより、基板９上からパーティクル等を除去する洗浄処理が行われる。基板処理装置１では、例えば、直径約２０μｍの液滴が、基板９に向けてスプレー状に吐出される。
【００２２】
図１および図２Ａに示すように、基板処理装置１は、基板保持部２１と、カップ部２２と、基板回転機構２３と、処理液供給部３と、供給部移動機構３５と、保護液供給部３６と、待機ポッド４と、吐出検査部５と、チャンバ６と、制御ユニットとを備える。チャンバ６は、基板保持部２１、カップ部２２、基板回転機構２３、処理液供給部３、供給部移動機構３５、保護液供給部３６、待機ポッド４および吐出検査部５等の構成を内部空間６０に収容する。チャンバ６は、外部から内部空間６０への光の入射を遮る遮光チャンバである。図１および図２Ａでは、チャンバ６を破線にて示し、チャンバ６の内部を図示している。
【００２３】
基板保持部２１は、チャンバ６内において基板９の一方の主面９１（以下、「上面９１」という。）を上側に向けた状態で基板９を保持する。基板９の上面９１には、回路パターン等の微細パターンが形成されている。カップ部２２は、基板９および基板保持部２１の周囲を囲む略円筒状の部材である。基板回転機構２３は、基板保持部２１の下方に配置される。基板回転機構２３は、基板９の中心を通るとともに基板９の上面９１に垂直な回転軸を中心として、基板９を基板保持部２１と共に水平面内にて回転する。
【００２４】
処理液供給部３は、処理液を下方に向けて吐出する吐出ヘッド３１と、吐出ヘッド３１に処理液を供給する処理液配管３２とを備える。吐出ヘッド３１は、カップ部２２の内側において基板保持部２１の上方に配置される。換言すれば、吐出ヘッド３１の下面は、カップ部２２の上部開口２２０と、基板９の上面９１との間に位置する。吐出ヘッド３１は、後述する複数の吐出口から相互に分離した微小な液滴を連続的に吐出する装置である。吐出ヘッド３１により、基板９の上面９１に向けて処理液が吐出され、これにより、上述の所定の処理が基板９に対して行われる。
【００２５】
処理液（すなわち、洗浄液）としては、純水（好ましくは、脱イオン水（ＤＩＷ：deionized water））、炭酸水、アンモニア水と過酸化水素水との混合液等の液体が利用される。吐出ヘッド３１からの処理液の設計上の吐出方向は、上下方向（すなわち、重力方向）におよそ平行である。
【００２６】
図３は、吐出ヘッド３１の下面３１１を示す底面図である。吐出ヘッド３１の下面３１１には、４つの吐出口列３１３ａ〜３１３ｄを備える複数の吐出口が設けられる。吐出口列３１３ａ〜３１３ｄはそれぞれ、所定の配列ピッチにて図３中の左右方向に直線状に配列される複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄを有する。各吐出口３１４ａ〜３１４ｄの直径は、およそ５μｍ〜１０μｍである。図３では、各吐出口３１４ａ〜３１４ｄを実際よりも大きく、吐出口３１４ａ〜３１４ｄの個数を実際よりも少なく描いている。吐出ヘッド３１では、複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄのそれぞれから、処理液の微小液滴が噴射される。
【００２７】
以下の説明では、図３中の左右方向を「配列方向」という。また、図３中の上側から下側に向かって配列される吐出口列３１３ａ〜３１３ｄをそれぞれ、「第１吐出口列３１３ａ」、「第２吐出口列３１３ｂ」、「第３吐出口列３１３ｃ」および「第４吐出口列３１３ｄ」という。さらに、第１吐出口列３１３ａの複数の吐出口３１４ａを「第１吐出口３１４ａ」といい、第２吐出口列３１３ｂの複数の吐出口３１４ｂを「第２吐出口３１４ｂ」という。第３吐出口列３１３ｃの複数の吐出口３１４ｃを「第３吐出口３１４ｃ」といい、第４吐出口列３１３ｄの複数の吐出口３１４ｄを「第４吐出口３１４ｄ」という。
【００２８】
第１吐出口列３１３ａ、第２吐出口列３１３ｂ、第３吐出口列３１３ｃおよび第４吐出口列３１３ｄは、上述の配列方向に延びる直線状であり、互いに平行に配置される。配列方向に垂直な方向（すなわち、図３中の上下方向）において、第１吐出口列３１３ａと第２吐出口列３１３ｂとの間の距離は、第３吐出口列３１３ｃと第４吐出口列３１３ｄとの間の距離に等しく、第２吐出口列３１３ｂと第３吐出口列３１３ｃとの間の距離よりも小さい。第２吐出口列３１３ｂは、第１吐出口列３１３ａから、配列方向の一方側である図３中の右側に所定のシフト距離だけずれて配置される。第４吐出口列３１３ｄは、第３吐出口列３１３ｃから、図３中の右側に上記シフト距離だけずれて配置される。当該シフト距離は、上述の配列ピッチよりも小さい距離であり、例えば、配列ピッチの半分の距離である。
【００２９】
吐出ヘッド３１では、配列方向に垂直、かつ、吐出ヘッド３１の下面３１１に平行な方向から見た場合、複数の第１吐出口３１４ａと複数の第２吐出口３１４ｂとが配列方向に交互に並び、複数の第３吐出口３１４ｃと複数の第４吐出口３１４ｄとが配列方向に交互に並ぶ。また、複数の第１吐出口３１４ａと複数の第３吐出口３１４ｃとがそれぞれ重なり、複数の第２吐出口３１４ｂと複数の第４吐出口３１４ｄとがそれぞれ重なる。
【００３０】
図１および図２Ａに示すように、供給部移動機構３５は、アーム３５１と、回転軸３５２と、ヘッド回転機構３５３と、ヘッド昇降機構３５４とを備える。アーム３５１は、回転軸３５２から水平方向に延びる。アーム３５１の先端部には、吐出ヘッド３１が取り付けられる。ヘッド回転機構３５３は、吐出ヘッド３１をアーム３５１と共に回転軸３５２を中心として水平方向に回転する。ヘッド昇降機構３５４は、吐出ヘッド３１をアーム３５１と共に上下方向に移動する。ヘッド回転機構３５３は、例えば、電動モータを備える。ヘッド昇降機構３５４は、例えば、ボールねじ機構および電動モータを備える。
【００３１】
保護液供給部３６は、吐出ヘッド３１に直接的または間接的に固定され、保護液を斜め下方に向けて吐出する。保護液としては、上述の処理液と同様に、純水（好ましくは、脱イオン水）、炭酸水、アンモニア水と過酸化水素水との混合液等の液体が利用される。保護液は処理液と同じ種類の液体でもよく、異なる種類の液体でもよい。基板処理装置１では、保護液供給部３６から基板９の上面９１に向けて液柱状に吐出された保護液が、吐出ヘッド３１の下方において基板９上に広がることにより、吐出ヘッド３１の真下に所定の厚さの保護液の膜（以下、「保護液膜」という。）が形成される。保護液供給部３６は、ヘッド回転機構３５３およびヘッド昇降機構３５４により、吐出ヘッド３１と共に移動する。
【００３２】
図４は、制御ユニット７の機能を示すブロック図である。図４では、制御ユニット７以外の構成も併せて描いてる。制御ユニット７は、処理制御部７１と、検査制御部７２と、検査演算部７３とを備える。処理制御部７１により、基板回転機構２３、処理液供給部３、供給部移動機構３５および保護液供給部３６等が制御されることにより、基板９の処理が行われる。検査制御部７２により、処理液供給部３、供給部移動機構３５および吐出検査部５等が制御されることにより、吐出ヘッド３１の複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄからの処理液の吐出動作の検査が行われる。
【００３３】
検査演算部７３は、吐出検査部５の一部であり、判定部７５と、輝点補正部７６とを備える。輝点補正部７６は、分割領域設定部７６１と、関数記憶部７６２と、画像補正部７６３と、関数取得部７６９とを備える。判定部７５および輝点補正部７６は、上述の吐出動作の検査に利用される。
【００３４】
図１および図２Ａに示す基板処理装置１において基板９の処理が行われる際には、まず、基板９がチャンバ６内に搬入されて基板保持部２１により保持される。基板９の搬入時には、吐出ヘッド３１は、図２Ａに二点鎖線にて示すように、カップ部２２の外側に設けられた待機ポッド４上の待機位置にて待機している。図２Ｂは、待機位置に位置する吐出ヘッド３１を待機ポッド４と共に拡大して示す側面図である。待機ポッド４は、略直方体の容器であり、上部に開口が設けられる。待機位置では、吐出ヘッド３１の一部が、上記開口を介して待機ポッド４内に挿入される。なお、図２Ｂでは、保護液供給部３６の図示を省略している。また、後述する検査位置に位置する吐出ヘッド３１を二点鎖線にて示す。基板９が基板保持部２１により保持されると、処理制御部７１により基板回転機構２３が駆動され、基板９の回転が開始される。
【００３５】
続いて、処理制御部７１によりヘッド回転機構３５３およびヘッド昇降機構３５４が駆動され、吐出ヘッド３１および保護液供給部３６が、待機位置から上昇し、カップ部２２の上方へと移動した後に下降する。これにより、吐出ヘッド３１および保護液供給部３６が、カップ部２２の上部開口２２０を介して、カップ部２２の内側かつ基板保持部２１の上方へと移動する。次に、保護液供給部３６から基板９上への保護液の供給が開始され、基板９の上面９１の一部を覆う保護液膜が形成される。また、吐出ヘッド３１の複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄから、保護液膜が形成された基板９の上面９１に向けて処理液の吐出（すなわち、微小液滴の噴射）が開始される。保護液膜は、複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄからの処理液の基板９上における設計上の複数の着液点（すなわち、微小液滴の着弾点）を予め覆う。
【００３６】
吐出ヘッド３１から保護液膜に向けて噴射された多数の微小液滴は、基板９の上面９１上の保護液膜に衝突し、保護液膜を介して基板９の上面９１に間接的に衝突する。そして、基板９の上面９１に付着しているパーティクル等の異物が、処理液の微小液滴の衝突による衝撃により基板９上から除去される。換言すれば、処理液の微小液滴により保護液膜を介して基板９に間接的に付与される運動エネルギーにより、基板９の上面９１の洗浄処理が行われる。
【００３７】
このように、処理液の微小液滴が保護液膜を介して基板９に衝突することにより、微小液滴が直接的に基板に衝突する場合に比べて、基板９の上面９１に形成されたパターン等にダメージを与えることを防止または抑制しつつ、基板９の洗浄処理を行うことができる。また、基板９上の洗浄処理が行われる部位が保護液により覆われているため、基板９上から除去されたパーティクル等が、基板９の上面９１に再付着することを防止または抑制することができる。
【００３８】
基板処理装置１では、保護液および処理液の吐出と並行して、ヘッド回転機構３５３による吐出ヘッド３１および保護液供給部３６の回動が行われる。吐出ヘッド３１および保護液供給部３６は、回転中の基板９の中央部の上方と基板９の外縁部の上方との間にて、水平に往復移動を繰り返す。これにより、基板９の上面９１全体に対して洗浄処理が行われる。基板９の上面９１に供給された保護液および処理液は、基板９の回転により、基板９のエッジから外側へと飛散する。基板９から飛散した保護液および処理液は、カップ部２２により受けられて廃棄または回収される。
【００３９】
吐出ヘッド３１からの処理液による所定の処理（すなわち、基板９の洗浄処理）が終了すると、保護液および処理液の吐出が停止される。吐出ヘッド３１および保護液供給部３６は、ヘッド昇降機構３５４によりカップ部２２の上部開口２２０よりも上側まで上昇し、ヘッド回転機構３５３により待機ポッド４の上方の検査位置（図２Ｂ参照）へと移動する。検査位置は、上述の待機位置の上方の位置である。吐出ヘッド３１の検査位置では、吐出検査部５により、定期的に、または、必要に応じて、吐出ヘッド３１の複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄからの処理液の吐出動作の検査が行われる。
【００４０】
図５は、検査位置における吐出ヘッド３１、および、吐出ヘッド３１の周囲に配置される吐出検査部５を示す斜視図である。吐出検査部５は、吐出ヘッド３１の複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄ（図３参照）からの液体の吐出動作を検査する吐出検査装置である。吐出検査部５は、光出射部５１と、撮像部５２とを備える。光出射部５１および撮像部５２は、吐出ヘッド３１の真下を避けて、吐出ヘッド３１の斜め下方に配置される。光出射部５１および撮像部５２は、図４に示すように、制御ユニット７の検査制御部７２により制御される。
【００４１】
図５に示す光出射部５１は、光源と、当該光源からの光を略水平方向に延びる線状光に変換する光学系とを備える。光源としては、例えば、レーザダイオードやＬＥＤ（light emitting diode）素子が利用される。光出射部５１は、予め定められた仮想面である光存在面に沿って、吐出ヘッド３１の下方に向けて光を出射する。図５では、光出射部５１の光軸Ｊ１を一点鎖線にて描き、光出射部５１から出射される面状の光の輪郭を、符号５１０を付す二点鎖線にて示す。
【００４２】
光出射部５１からの面状光５１０は、吐出ヘッド３１の下面３１１近傍にて、吐出ヘッド３１の真下を通過する。基板処理装置１では、検査制御部７２から処理液供給部３に所定の駆動信号が送出され、吐出ヘッド３１の複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄから待機ポッド４の内部に向けて処理液が吐出される。そして、吐出ヘッド３１の複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄから吐出される処理液である複数の飛翔体が、上述の光存在面を通過する（すなわち、面状光５１０を通過する）際に、光出射部５１から当該複数の飛翔体に光が照射される。面状光５１０は、吐出ヘッド３１からの処理液の設計上の吐出方向（すなわち、複数の飛翔体の予め定められた所定の吐出方向）におよそ垂直である。厳密には、面状光５１０（すなわち、光存在面）は、複数の飛翔体の所定の吐出方向に垂直な平面に対して、僅かな角度（例えば、５°〜１０°）だけ傾斜していることが好ましい。
【００４３】
撮像部５２は、上記光存在面よりも下方にて、撮像軸Ｊ２を吐出ヘッド３１の下方に位置する面状光５１０に向けて配置される。撮像部５２における撮像方向（すなわち、撮像軸Ｊ２が向く方向）は、複数の飛翔体の所定の吐出方向に垂直な平面に対して傾斜している。撮像部５２としては、例えば、ＣＣＤ（charge-coupled device）カメラが利用される。撮像部５２は、面状光５１０を通過する処理液（すなわち、複数の飛翔体）を撮像することにより、当該複数の飛翔体上に現れる複数の輝点を含む検査画像を取得する。吐出検査部５では、撮像部５２による撮像結果から、１フレームの静止画が検査画像として抽出される。撮像部５２は、図３中の４つの吐出口列３１３ａ〜３１３ｄのうち、第１吐出口列３１３ａが最も手前側に見える位置に配置される。
【００４４】
図６は、吐出検査部５による吐出動作の検査の流れを示す図である。吐出検査部５では、まず、上述の光出射部５１から面状光５１０が出射され、複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄから吐出される処理液である複数の飛翔体に光が照射される（ステップＳ１１）。続いて、撮像部５２により上述の検査画像が取得される（ステップＳ１２）。
【００４５】
図７は、検査画像８を示す図である。検査画像８では、吐出ヘッド３１の複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄにそれぞれ対応する複数の輝点８１が、吐出口３１４ａ〜３１４ｄの配列方向に対応する方向に配列される。吐出検査部５では、面状光５１０が僅かながら厚さを有しているため、各輝点８１は、検査画像８において上下方向に対応する方向に長い略楕円形となる。複数の輝点８１のうち一部の輝点８１は、撮像部５２の合焦範囲の外側に位置しており、検査画像８上においてぼやけて（いわゆる、ピントがぼけて）他の輝点８１に比べて大きく広がったり、実際の形状とは異なる形状となる。
【００４６】
撮像部５２からの出力は、制御ユニット７の検査演算部７３（図４参照）に送られる。検査演算部７３では、検査画像８に対して２値化処理が行われ、複数の輝点８１が抽出されるとともに背景のノイズ等が除去される。
【００４７】
続いて、輝点補正部７６の分割領域設定部７６１（図４参照）により、図８に示すように、検査画像８上に複数の分割領域８２が設定される（ステップＳ１３）。複数の分割領域８２は、検査画像８において複数の輝点８１が存在される領域に設定される。複数の分割領域８２は、検査画像８上における上述の配列方向に対応する方向に配列される。図８に示す例では、１２個の分割領域８２が検査画像８上に設定される。詳細には、６個の分割領域８２が、第１吐出口列３１３ａおよび第２吐出口列３１３ｂに対応する輝点８１が存在する領域に配列され、他の６個の分割領域８２が、第３吐出口列３１３ｃおよび第４吐出口列３１３ｄに対応する輝点８１が存在する領域に配列される。
【００４８】
各分割領域８２は所定の大きさの略矩形状である。複数の分割領域８２の検査画像８上における形状および大きさは同じである。図８に示す例では、各分割領域８２は略正方形であり、その４辺は、検査画像８の上下方向または左右方向に平行である。複数の分割領域８２は、互いに重なることなく検査画像８上に配置される。また、隣接する分割領域８２の上下方向に平行な輪郭は互いに重なる。検査画像８の各分割領域８２は、１つ以上の輝点８１を含む。また、検査画像８上の各輝点８１は、いずれかの分割領域８２に含まれる。なお、複数の分割領域８２の形状および大きさは、様々に変更されてよい。例えば、各分割領域８２は長方形であってもよい。
【００４９】
複数の分割領域８２のうち２つ以上の輝点８１を含む分割領域８２では、撮像部５２の撮像方向（すなわち、撮像軸Ｊ２が向く方向）における距離が最も大きい２つの輝点８１間の距離は、撮像部５２の被写界深度以下である。換言すれば、分割領域８２の大きさは、当該分割領域８２に含まれる輝点８１の数が１となるように、または、当該分割領域８２に含まれる複数の輝点８１間の撮像方向の最大距離が撮像部５２の被写界深度以下となるように設定されている。
【００５０】
次に、関数記憶部７６２（図４参照）により、複数の分割領域８２にそれぞれ対応する複数の点広がり関数（ＰＳＦ：Point spread function）が準備される（ステップＳ１４）。点広がり関数は、撮像時における各分割領域８２のデフォーカス量に対応した関数である。各分割領域８２に対応する点広がり関数は、例えば、検査画像８の取得よりも前に取得され、予め関数記憶部７６２に記憶される。輝点補正部７６では、関数記憶部７６２により各分割領域８２に対応する点広がり関数が呼び出され、画像補正部７６３（図４参照）に送られることにより準備される。
【００５１】
各分割領域８２に対応する点広がり関数の取得は、例えば、撮像部５２により取得された基準画像を用いて行われる。基準画像とは、複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄからの処理液の吐出動作が全て正常である場合の複数の輝点８１を含む画像である。この場合、基準画像が予め準備され、分割領域設定部７６１により、当該基準画像に上述の複数の分割領域８２が設定される。そして、関数取得部７６９により、各分割領域８２に含まれる一の輝点８１の画像が、各分割領域８２に対応する点広がり関数として取得される。換言すれば、各点広がり関数は、基準画像に複数の分割領域８２を設定した場合の各点広がり関数に対応する分割領域８２に含まれる一の輝点８１である。
【００５２】
基準画像上の分割領域８２に含まれる輝点８１の数が１である場合、当該１つの輝点８１の画像が、当該分割領域８２の点広がり関数となる。基準画像上の分割領域８２に２つ以上の輝点８１が含まれる場合、当該２つ以上の輝点８１を含む分割領域８２の点広がり関数は、例えば、当該２つ以上の輝点８１のうち、分割領域８２の中央に最も近い１つの輝点８１の画像である。
【００５３】
各分割領域８２に対応する点広がり関数の取得は、他の方法により行われてもよい。例えば、複数の分割領域８２に対応する複数の点広がり関数は、当該複数の分割領域８２に対応する位置に配置された点光源を撮像することにより取得されてもよい。詳細には、まず、各分割領域８２に含まれる輝点８１の輝点基準位置が求められる。輝点基準位置は、各吐出口から処理液の設計上の吐出方向へと延びる吐出中心線が、面状光５１０（すなわち、上述の光存在面）と交わる点である。換言すれば、輝点基準位置は、吐出口から処理液が正常に吐出された場合の輝点８１の位置である。
【００５４】
続いて、撮像部５２の撮像軸Ｊ２の始点と輝点基準位置との間の距離である検査距離が求められる。分割領域８２に含まれる輝点８１の数が１つである場合、当該１つの輝点８１の検査距離が、撮像部５２と分割領域８２との間の距離である分割領域距離として決定される。分割領域８２に２つ以上の輝点８１が含まれる場合、例えば、分割領域８２の中央に最も近い１つの輝点８１の検査距離が、分割領域距離として決定される。あるいは、分割領域８２に含まれる２つ以上の輝点８１のそれぞれの検査距離が求められ、これらの検査距離の平均が分割領域距離として決定される。
【００５５】
そして、撮像部５２から分割領域距離だけ離れた位置に点光源（例えば、ピンホールミラーや極小のＬＥＤ等が利用される。）が配置され、当該点光源が撮像部５２により撮像される。撮像部５２により撮像された当該点光源の画像が、分割領域８２の点広がり関数として取得される。
【００５６】
上述の点光源を利用した分割領域８２の点広がり関数の取得では、必ずしも撮像部５２により点光源が撮像される必要はない。例えば、基板処理装置１の外部に設けられた撮像部５２と同等の他の撮像部により、分割領域距離だけ離れた位置に配置された点光源が撮像され、当該点光源の画像が、分割領域距離に対応する分割領域８２の点広がり関数として取得されてもよい。
【００５７】
分割領域８２の点広がり関数の取得は、撮像部による撮像を行うことなく実施されてもよい。例えば、複数の分割領域８２に対応する複数の点広がり関数は、当該複数の分割領域８２に対応する位置に仮想的に配置される点光源から出射される光に対して、光線追跡演算を行うことにより取得される。換言すれば、各分割領域８２に対応する上述の分割領域距離だけ離れた位置に配置された点光源を撮像部５２により撮像したと仮定した場合に得られる画像が、シミュレーションにより求められて点広がり関数として取得される。シミュレーションは、例えば、光学設計ソフトウェアであるＺＥＭＡＸ（ＺＥＭＡＸ社、ワシントン州、米国）や、ｃｏｄｅＶ（ｓｙｎｏｐｓｙｓ社、カリフォルニア州、米国）を利用して行われる。点広がり関数は、他のシミュレーション方式により求められてもよい。また、点広がり関数は、画像ではなく、数式等の他の形式にて取得されてもよい。
【００５８】
ステップＳ１４において各分割領域８２の点広がり関数が準備されると、画像補正部７６３により、検査画像８の各分割領域８２に含まれる１つ以上の輝点８１が、各分割領域８２に対応する点広がり関数を用いて補正されることにより、補正検査画像が取得される（ステップＳ１５）。詳細には、画像補正部７６３により、複数の分割領域８２から１つの分割領域８２が抽出され、当該分割領域８２に含まれる全ての輝点８１に対して、当該分割領域８２に対応する点広がり関数との逆畳み込み演算が行われる。これにより、当該分割領域８２内の各輝点８１の補正（いわゆる、ぼけ補正）が行われ、当該各輝点８１の合焦画像が推定される。上述の逆畳み込み演算は、例えば、ウィナーフィルターを利用して行われる。図９Ａは、１つの分割領域８２内の補正前の輝点８１を示す図である。図９Ｂは、当該分割領域８２内の補正後の輝点８１を示す図である。上述の各輝点８１のぼけ補正は、点広がり関数を用いる他の公知の方法により行われてもよい。
【００５９】
画像補正部７６３では、複数の分割領域８２のそれぞれについて同様のぼけ補正処理が行われる。これにより、検査画像８に含まれる全ての輝点８１の合焦画像が推定される。換言すれば、画像補正部７６３では、非合焦領域を含む部分的なぼけ画像である検査画像８から、真の画像（すなわち、合焦画像）である補正検査画像を復元する画像復元処理が行われる。当該補正検査画像は、検査画像８に含まれる全ての輝点８１がおよそ合焦された（すなわち、全ての輝点８１におよそピントが合っている）合焦画像である。補正検査画像の取得は、例えば、ＧＰＵ汎用計算（ＧＰＧＰＵ：General-purpose computing on GPU）により行われる。
【００６０】
補正検査画像が取得されると、判定部７５（図４参照）により、補正検査画像を用いて複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄからの処理液の吐出動作の良否が判定される（ステップＳ１６）。吐出動作の良否判定は、様々な方法により行われてよい。例えば、特開２０１４−１７９４５０号公報に記載の良否判定方法が、ステップＳ１５にて取得された補正検査画像に適用されてもよい。具体的には、当該補正検査画像上に複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄにそれぞれ対応する複数の正常吐出判定枠が設定される。そして、各正常吐出判定枠内に輝点８１が存在する場合、各正常吐出判定枠に対応する吐出口における吐出動作が正常と判断される。また、各正常吐出判定枠内に輝点８１が存在しない場合、各正常吐出判定枠に対応する吐出口における吐出動作が異常と判断される。吐出異常の発生は、判定部７５から吐出検査部５のモニタ等の報知部７９（図４参照）を通じて作業者等に通知される。そして、以後に予定されている基板９に対する処理が行われる前に、吐出口３１４ａ〜３１４ｄのクリーニング等、吐出ヘッド３１のメンテナンスが行われる。
【００６１】
ステップＳ１６における吐出動作の良否判定は、例えば、上記補正検査画像上の複数の輝点８１の配列方向における間隔に基づいて行われてもよい。具体的には、複数の輝点８１の間隔が、所定の間隔におよそ等しければ各吐出口３１４ａ〜３１４ｄにおける吐出動作が正常と判定される。一方、隣接する２つの輝点８１の間隔が所定の間隔の２倍以上大きい場合、当該２つの輝点８１に対応する２つの吐出口の間に、不吐出の吐出口が存在すると判定される。また、間隔が所定の間隔からある程度以上大きい（または、小さい）隣接する２つの輝点８１が存在すると、当該２つの輝点８１に対応する２つの吐出口のうち、どちらか一方または双方に斜め吐出の吐出異常が生じていると判定される。
【００６２】
ステップＳ１６における吐出動作の良否判定は、例えば、上述の基準画像を用いて行われてもよい。具体的には、まず、上述の基準画像に複数の分割領域８２が設定され、各分割領域８２に含まれる１つ以上の輝点８１が、各分割領域８２に対応する点広がり関数を用いて補正されることにより、補正基準画像が取得される。そして、ステップＳ１５にて取得された補正検査画像と当該補正基準画像とが比較され、補正基準画像上の輝点８１に対応する輝点８１が補正検査画像上に存在しない場合、あるいは、対応する輝点８１の位置が大きくずれている場合、補正検査画像上の当該輝点８１に対応する吐出口からの処理液の吐出に異常が生じていると判定される。
【００６３】
以上に説明したように、基板処理装置１の吐出検査部５は、光出射部５１と、撮像部５２と、関数記憶部７６２と、画像補正部７６３と、判定部７５とを備える。光出射部５１は、予め定められた光存在面に沿って光を出射することにより、複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄから吐出された液体である複数の飛翔体が当該光存在面を通過する際に複数の飛翔体に光を照射する。撮像部５２は、当該光存在面を通過する複数の飛翔体を撮像することにより、複数の飛翔体上に現れる複数の輝点８１を含む検査画像８を取得する。関数記憶部７６２は、検査画像８において設定される複数の分割領域８２にそれぞれ対応する複数の点広がり関数を記憶する。画像補正部７６３は、検査画像８の各分割領域８２に含まれる１つ以上の輝点８１を、各分割領域８２に対応する点広がり関数を用いて補正することにより補正検査画像を取得する。判定部７５は、補正検査画像を用いて複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄからの液体の吐出動作の良否を判定する。
【００６４】
吐出検査部５では、上述のステップＳ１１〜Ｓ１６が行われ、検査画像８上において撮像部５２の合焦範囲の外側に位置する輝点８１のぼけが補正されることにより、全ての輝点８１がおよそ合焦された（すなわち、全ての輝点８１におよそピントが合っている）合焦画像である補正検査画像が得られる。補正検査画像では、実際の輝点８１の形状（すなわち、飛翔体の形状）が精度良く表示されているため、当該補正検査画像を用いて吐出検査を行うことにより、複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄの吐出動作の良否を精度良く判定することができる。
【００６５】
上述のように、複数の分割領域８２の形状および大きさは同じである。したがって、複数の分割領域８２を検査画像８上に容易に設定することができる。また、当該複数の分割領域８２のうち２つ以上の輝点８１を含む分割領域８２において、撮像部５２の撮像方向における距離が最も大きい２つの輝点８１間の距離が、撮像部５２の被写界深度以下である。したがって、１つの分割領域８２に含まれる２つ以上の輝点８１において、合焦範囲からのずれによるぼけの程度が類似している。このため、ステップＳ１５における補正検査画像の取得の際に、１つの分割領域８２に含まれる２つ以上の輝点８１に対して同じ点広がり関数を適用しても、当該２つ以上の輝点８１をそれぞれ適切に（すなわち、精度良く）補正することができる。
【００６６】
図８に示すように、複数の分割領域８２には、２つ以上の輝点８１を含む分割領域８２が含まれているため、複数の分割領域８２の数は、複数の輝点８１の数よりも少ない。このように、複数の分割領域８２の数を少なくすることにより、検査画像８上への分割領域８２の設定、各分割領域８２の点広がり関数の取得、および、各分割領域８２における輝点８１の補正を簡素化することができる。その結果、吐出検査部５による吐出口３１４ａ〜３１４ｄの吐出動作の検査を簡素化することができる。また、当該吐出動作の検査に要する時間を短くすることができる。
【００６７】
検査画像８では、複数の分割領域８２の形状および大きさは、必ずしも同じである必要はない。例えば、図１０に示すように、複数の分割領域８２のうち、撮像部５２の合焦位置に最も近い輝点８１を含む分割領域８２を基準分割領域８２ａとして、複数の分割領域８２のうち基準分割領域８２ａが最も大きく設定されてもよい。図１０に示す例では、複数の分割領域８２のうち基準分割領域８２ａを除く他の領域の大きさは、基準分割領域８２ａからの距離が大きくなるに従って小さくなる。基準分割領域８２ａ以外の分割領域８２に含まれる輝点８１の数は、基準分割領域８２ａに含まれる輝点８１の数以下である。
【００６８】
検査画像８では、撮像部５２の合焦位置からの距離が大きくなるに従って、輝点８１のぼけの程度も大きくなる。したがって、合焦位置から離れた多数の輝点８１のぼけ補正を１つの点広がり関数にて行うと、ぼけ補正の精度が低下する輝点８１が出現する可能性がある。そこで、上述のように、分割領域８２の大きさを、基準分割領域８２ａからの距離が大きくなるに従って小さくすることにより、合焦位置から離れた輝点８１のぼけ補正も精度良く行うことができる。
【００６９】
図１０に示す例では、上記と同様に、複数の分割領域８２のうち２つ以上の輝点８１を含む分割領域８２において、撮像部５２の撮像方向における距離が最も大きい２つの輝点８１間の距離が、撮像部５２の被写界深度以下である。このため、ステップＳ１５における補正検査画像の取得の際に、１つの分割領域８２に含まれる２つ以上の輝点８１に対して同じ点広がり関数を適用しても、当該２つ以上の輝点８１をそれぞれ適切に（すなわち、精度良く）補正することができる。なお、図１０に示す例では、複数の分割領域８２は、基準分割領域８２ａは略正方形であり、他の分割領域８２は略正方形または略長方形である。基準分割領域８２ａおよび分割領域８２の形状および大きさは、適宜変更されてよい。
【００７０】
図１１は、検査画像８に設定される複数の分割領域８２の他の例を示す図である。図１１に示す例では、検査画像８上に設定された複数の分割領域８２が、それぞれ１つのみの輝点８１を含む。すなわち、複数の分割領域８２の数は、検査画像８上の輝点８１の数に等しい。これにより、ステップＳ１５における補正検査画像の取得の際に、検査画像８上の各輝点８１に最も適した点広がり関数を適用して各輝点８１のぼけ補正を行うことができる。その結果、各輝点８１を適切に（すなわち、精度良く）補正することができる。
【００７１】
図１１に示す例では、複数の分割領域８２はそれぞれ略正方形である。複数の分割領域８２の形状および大きさは同じであるが、適宜変更されてよい。例えば、図１０に示す例と同様に、複数の分割領域８２のうち、撮像部５２の合焦位置に最も近い輝点８１を含む基準分割領域８２ａが最も大きく、基準分割領域８２ａを除く他の領域の大きさは、基準分割領域８２ａからの距離が大きくなるに従って小さくされてもよい。
【００７２】
上述のように、吐出検査部５では、複数の分割領域８２にそれぞれ対応する複数の点広がり関数の取得が、例えば、基準画像を用いて行われる。具体的には、複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄからの処理液の吐出動作が全て正常である場合の複数の輝点８１を含む基準画像が予め準備され、各点広がり関数が、基準画像に複数の分割領域８２を設定した場合の当該各点広がり関数に対応する分割領域８２に含まれる一の輝点８１の画像である。これにより、各分割領域８２に対応する点広がり関数を、容易に取得することができる。
【００７３】
また、基準画像に複数の分割領域８２を設定した場合に、２つ以上の輝点８１を含む分割領域８２の点広がり関数は、当該２つ以上の輝点８１のうち、分割領域８２の中央に最も近い１つの輝点８１の画像である。換言すれば、２つ以上の輝点８１を含む分割領域８２において、当該２つ以上の輝点８１のうち、撮像部５２との間の撮像方向の距離が最も平均的であると思われる（すなわち、当該距離が中央値となる可能性が最も高い）輝点８１の画像が、当該分割領域８２の点広がり関数とされる。これにより、ステップＳ１５における補正検査画像の取得の際に、当該分割領域８２に含まれる２つ以上の輝点８１に対して同じ点広がり関数を適用しても、当該２つ以上の輝点８１をそれぞれ適切に（すなわち、精度良く）補正することができる。
【００７４】
上記複数の点広がり関数は、例えば、複数の分割領域８２に対応する位置に配置された点光源を撮像することにより取得されてもよい。この場合も、各分割領域８２に対応する点広がり関数を、容易に取得することができる。当該点光源の撮像が、吐出検査部５の撮像部５２により行われる場合、撮像部５２固有の機械特性等の影響が加味された点広がり関数を取得することができる。その結果、ステップＳ１５における補正検査画像の取得の際に、輝点８１をさらに精度良く補正することができる。一方、点光源の撮像が、基板処理装置１の外部に設けられた撮像部５２と同等の他の撮像部により行われる場合、点光源の設置等を行う際に、吐出検査部５の撮像部５２以外の構成（例えば、光出射部５１）による配置制限がないため、各分割領域８２に対応する点広がり関数を、さらに容易に取得することができる。
【００７５】
上記複数の点広がり関数は、例えば、複数の分割領域８２に対応する位置に仮想的に配置される点光源から出射される光に対して、光線追跡演算を行うことにより取得されてもよい。この場合も、各分割領域８２に対応する点広がり関数を、容易に取得することができる。
【００７６】
上記基板処理装置１では、様々な変更が可能である。
【００７７】
例えば、２つ以上の輝点８１を含む分割領域８２では、撮像部５２の撮像方向における距離が最も大きい２つの輝点８１間の距離は、必ずしも撮像部５２の被写界深度以下である必要はなく、当該被写界深度よりも大きくてもよい。
【００７８】
隣接する２つの分割領域８２は離間していてもよい。あるいは、隣接する２つの分割領域８２は、部分的に重なっていてもよい。複数の分割領域８２の重複領域に輝点８１が位置する場合、例えば、ステップＳ１５の補正検査画像の取得の際に、当該重複領域が含まれる複数の分割領域８２に対応する複数の点広がり関数の平均が求められ、当該点広がり関数の平均を用いて検査画像８の輝点８１が補正されてもよい。
【００７９】
上記説明では、不吐出および斜め吐出を吐出口３１４ａ〜３１４ｄの吐出異常と判定したが、他の吐出動作も吐出異常と判定されてよい。例えば、吐出ヘッド３１から吐出された液滴が飛翔中に分裂して複数の極小液滴になることがある。このような極小液滴は、基板９の上面９１に十分な運動エネルギーを付与することができず、基板９を適切に洗浄できない可能性がある。したがって、このような極小液滴の吐出も、吐出口の吐出異常と判定してもよい。
【００８０】
光出射部５１では、必ずしも面状に光が出射される必要はなく、光存在面に沿って光出射部５１から前方に直線状に延びる光が出射され、当該光が光存在面に沿ってポリゴンミラー等の光走査手段により走査されてもよい。これにより、複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄから吐出された処理液である複数の飛翔体が光存在面を通過する際に、当該複数の飛翔体に光が照射される。また、光存在面は、吐出ヘッド３１からの処理液の設計上の吐出方向に垂直であってもよく、撮像部５２における撮像方向は、当該設計上の吐出方向に垂直な平面に平行であってもよい。
【００８１】
光出射部５１および撮像部５２は、吐出ヘッド３１の斜め下方以外の位置、例えば、吐出ヘッド３１の斜め上方に配置されてもよい。吐出検査部５は、吐出ヘッド３１の待機位置近傍（すなわち、待機ポッド４の近傍）以外の位置に配置されてもよい。例えば、基板９上に位置する吐出ヘッド３１の斜め上方に光出射部５１および撮像部５２が配置されてもよい。
【００８２】
吐出ヘッド３１から吐出される処理液は、必ずしも、液滴状には限定されず、液柱状に連続する処理液が吐出ヘッド３１から吐出されてもよい。
【００８３】
基板処理装置１は、基板９の洗浄以外の様々な処理に利用されてよい。また、基板処理装置１では、半導体基板以外に、液晶表示装置、プラズマディスプレイ、ＦＥＤ（field emission display）等の表示装置に使用されるガラス基板の処理に利用されてもよい。あるいは、基板処理装置１は、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板および太陽電池用基板等の処理に利用されてもよい。
【００８４】
上述の光出射部５１、撮像部５２、関数記憶部７６２、画像補正部７６３および判定部７５を備える装置は、基板処理装置１の他の構成から独立する吐出検査装置として使用されてもよい。上記吐出検査装置は、例えば、上述の様々な基板に対して複数の吐出口から液体を吐出する装置において、複数の吐出口からの液体の吐出動作の検査に利用される。
【００８５】
上記実施の形態および各変形例における構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わされてよい。
【符号の説明】
【００８６】
１    基板処理装置
５    吐出検査部
８    検査画像
９    基板
２１    基板保持部
３１    吐出ヘッド
５１    光出射部
５２    撮像部
７５    判定部
８１    輝点
８２    分割領域
８２ａ    基準分割領域
３１４ａ〜３１４ｄ    吐出口
５１０    面状光
７６２    関数記憶部
７６３    画像補正部
Ｓ１１〜Ｓ１６    ステップ
【図１】
2017034017.tif 000003
【図２Ａ】
2017034017.tif 000004
【図２Ｂ】
2017034017.tif 000005
【図３】
2017034017.tif 000006
【図４】
2017034017.tif 000007
【図５】
2017034017.tif 000008
【図６】
2017034017.tif 000009
【図７】
2017034017.tif 000010
【図８】
2017034017.tif 000011
【図１０】
2017034017.tif 000012
【図１１】
2017034017.tif 000013
【図９Ａ】
2017034017.tif 000014
【図９Ｂ】
2017034017.tif 000015