(57)【要約】【課題】高性能化が可能な横電界を用いた散乱型の液晶装置を提供する。【解決手段】第１電極と、前記第１電極と対向する第２電極と、を備える第１基板と、前記第１基板と対向する第２基板と、前記第１基板及び前記第２基板の間に保持された液晶分子を含む液晶層と、を備え、前記第２電極は、前記第１電極よりも前記液晶層側に位置し、少なくとも一つの凸部を有する多角形状の第１開口部を有し、前記液晶層は、電圧無印加時に透明性を示し、電圧印加時に散乱性を示す液晶装置。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電極と、前記第１電極と対向する第２電極と、を備える第１基板と、
前記第１基板と対向する第２基板と、
前記第１基板及び前記第２基板の間に保持された液晶分子を含む液晶層と、を備え、
前記第２電極は、前記第１電極よりも前記液晶層側に位置し、少なくとも一つの凸部を有する多角形状の第１開口部を有し、
前記液晶層は、電圧無印加時に透明性を示し、電圧印加時に散乱性を示す液晶装置。
【請求項２】
前記第１開口部は、電圧無印加時の前記液晶分子の初期配向方向に平行な第１エッジと、前記初期配向方向に垂直な第２エッジを含む請求項１に記載の液晶装置。
【請求項３】
前記第２電極は、前記第１開口部の第１方向に隣接した第２開口部と、前記第１方向と交差する第２方向に隣接した第３開口部と、を有する請求項１に記載の液晶装置。
【請求項４】
前記第１開口部、前記第２開口部、及び、前記第３開口部は、同一形状である請求項３に記載の液晶装置。
【請求項５】
前記第１開口部、前記第２開口部、及び、前記第３開口部は、同一の向きである請求項４に記載の液晶装置。
【請求項６】
前記第２開口部の形状は、前記第１開口部の形状に線対称又は点対称な形状である、請求項４に記載の液晶装置。
【請求項７】
前記第１電極及び前記第２電極は、透明導電層である請求項１に記載の液晶装置。
【請求項８】
さらに、前記第１基板は、反射層を備える請求項７に記載の液晶装置。
【請求項９】
前記第１電極が反射層であり、前記第２電極が透明導電層である請求項１に記載の液晶装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、液晶装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、低電圧で駆動可能な横電界を用いる散乱型の液晶装置が提案されている。このような散乱型の液晶装置は、例えば、一対の基板間に液晶層を保持して構成され、液晶層に基板と平行な横電界を形成する電極を備えており、横電界が形成されない状態で、液晶層は光透過状態を呈する一方、横電界が形成された状態で、液晶層は光散乱状態を呈する。散乱型の液晶装置は、偏光板が不要であるため、偏光板を備える液晶装置に比べてより明るい表示を実現することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−１８１０６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本実施形態の目的は、高性能化が可能な横電界を用いた散乱型の液晶装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本実施形態によれば、第１電極と、前記第１電極と対向する第２電極と、を備える第１基板と、前記第１基板と対向する第２基板と、前記第１基板及び前記第２基板の間に保持された液晶分子を含む液晶層と、を備え、前記第２電極は、前記第１電極よりも前記液晶層側に位置し、少なくとも一つの凸部を有する多角形状の第１開口部を有し、前記液晶層は、電圧無印加時に透明性を示し、電圧印加時に散乱性を示す液晶装置が提供される。
【０００６】
本実施形態によれば、第１電極と、前記第１電極と対向する第２電極と、を備える第１基板と、前記第１基板と対向する第２基板と、前記第１基板及び前記第２基板の間に保持された液晶分子を含む液晶層と、を備え、前記第２電極は、前記第１電極よりも前記液晶層側に位置し、同一の向きに突出した複数の凸部を有する多角形状の第１開口部を有し、前記液晶層は、電圧無印加時に透明性を示し、電圧印加時に散乱性を示す液晶装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】図１は、本実施形態に係る液晶装置１の構成を示す断面図である。
【図２】図２は、透明性及び散乱性を示す液晶装置１の構成例を示す斜視図である。
【図３】図３は、図２に示した液晶装置１について、電圧印加時の液晶テクスチャーを模式的に示す平面図である。
【図４】図４は、本実施形態に係る液晶装置１の第２電極ＥＬ２の構成例を示す平面図である。
【図５】図５は、図２に示した長方形状の開口部を有する構成例の液晶装置１と、図４に示した凸部を有する多角形状の開口部を有する本実施形態の液晶装置１とのそれぞれについて、電圧（Ｖ）及び拡散反射率の関係を示す図である。
【図６】図６は、図２に示した構成例の液晶装置１と、図４に示した第２電極ＥＬ２を有する本実施形態の液晶装置１のそれぞれについて、３つの入射点１００、２００、３００から光を入射させたときの電圧（Ｖ）及び拡散反射率の関係を示す図である。
【図７】図７は、３つの入射点１００、２００、３００の位置を示す図である。
【図８】図８は、第２電極の第１乃至第４変形例を示す平面図である。
【図９】図９は、第２電極の第５乃至第８変形例を示す平面図である。
【図１０】図１０は、第２電極の第９乃至第１２変形例を示す平面図である。
【図１１】図１１は、第２電極の第１３乃至第１４変形例を示す平面図である。
【図１２】図１２は、第２電極の第１５乃至第１６変形例を示す平面図である。
【図１３】図１３は、第２電極の第１７乃至第１９変形例を示す平面図である。
【図１４】図１４は、本実施形態に係る液晶装置１の変形例を示す断面図である。
【図１５】図１５は、本実施形態に係る液晶装置１を表示装置として適用した場合の実施例を示す平面図である。
【図１６】図１６は、図１５に示した液晶装置１の構成を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。
【０００９】
まず、本実施形態に係る液晶装置について詳細に説明する。
【００１０】
図１は、本実施形態に係る液晶装置１の構成を示す断面図である。  
液晶パネルＰＮＬは、第１基板ＳＵＢ１と、第２基板ＳＵＢ２と、液晶層ＬＣと、を備えている。第２基板ＳＵＢ２は、第１基板ＳＵＢ１に対向している。液晶層ＬＣは、第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２の間に保持され、液晶分子ＬＭを含んでいる。
【００１１】
ここで、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙは互いに直交し、第３方向Ｚは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙと直交している。第３方向Ｚの正の向き、あるいは、第１基板ＳＵＢ１から第２基板ＳＵＢ２に向かう方向を上と定義し、第３方向Ｚの負の向き、あるいは、第２基板ＳＵＢ２から第１基板ＳＵＢ１に向かう方向を下と定義する。
【００１２】
第１基板ＳＵＢ１は、第１絶縁基板１０、第１電極ＥＬ１、層間絶縁膜ＩＬ、第２電極ＥＬ２、第１配向膜ＡＬ１を備えている。
【００１３】
第１絶縁基板１０は、ガラス基板や樹脂基板などの光透過性を有する基板である。
【００１４】
第１電極ＥＬ１は、第１絶縁基板１０の上に位置している。第１電極ＥＬ１は、透明な導電材料によって形成された透明導電層であり、例えば、インジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）やインジウム・ジンク・オキサイド（ＩＺＯ）等によって形成されている。
【００１５】
層間絶縁膜ＩＬは、第１電極ＥＬ１の上に位置している。層間絶縁膜ＩＬは、例えばシリコン酸化物やシリコン窒化物などの無機系材料によって形成されている。
【００１６】
第２電極ＥＬ２は、層間絶縁膜ＩＬの上に位置している。第２電極ＥＬ２は、図中に破線で示した開口部ＯＰを有している。第２電極ＥＬ２は、第１電極ＥＬ１と対向し、第１電極ＥＬ１よりも液晶層ＬＣ側に位置している。第２電極ＥＬ２は、透明な導電材料によって形成された透明導電層であり、例えば、ＩＴＯやＩＺＯ等によって形成されている。
【００１７】
第１配向膜ＡＬ１は、第２電極ＥＬ２を覆い、開口部ＯＰにおいて層間絶縁膜ＩＬにも接している。
【００１８】
第２基板ＳＵＢ２は、第２絶縁基板２０、第２配向膜ＡＬ２を備えている。第２絶縁基板２０は、ガラス基板や樹脂基板などの光透過性を有する基板である。第２配向膜ＡＬ２は、第２絶縁基板２０を覆っている。
【００１９】
ドライバＤＶは、第１電極ＥＬ１及び第２電極ＥＬ２と電気的に接続され、第１電極ＥＬ１及び第２電極ＥＬ２に電圧を印加する。本実施形態の液晶パネルＰＮＬは、第１電極ＥＬ１及び第２電極ＥＬ２の双方を第１基板ＳＵＢ１に備えている。ドライバＤＶから第１電極ＥＬ１及び第２電極ＥＬ２に電圧が印加された際に、両電極間で基板主面に沿った横電界が発生する。なお、基板主面は、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙによって規定されるＸ−Ｙ平面と平行である。
【００２０】
液晶パネルＰＮＬは、例えば、第１電極ＥＬ１及び第２電極ＥＬ２に電圧が印加されていない電圧無印加時において、第１基板ＳＵＢ１の下面側からの光を第２基板ＳＵＢ２の上面側へ透過し、第２基板ＳＵＢ２の上面側からの光を第１基板ＳＵＢ１の下面側へ透過する。また、表示パネルＰＮＬは、第１電極ＥＬ１及び第２電極ＥＬ２に電圧が印加された電圧印加時において、第１基板ＳＵＢ１の下面側からの光を第２基板ＳＵＢ２の上面側へ向けて散乱させ、第２基板ＳＵＢ２の上面側からの光を第１基板ＳＵＢ１の下面側へ向けて散乱させる。
【００２１】
なお、後述するが、表示パネルＰＮＬは、反射層を備えていてもよい。図１に示した例では、第１電極ＥＬ１が反射層として形成され、第２電極ＥＬ２が透明導電層として形成されていてもよい。このとき、第１電極ＥＬ１は、例えば、アルミニウムや銀などの反射率が高い金属材料で形成される。このように、第１電極ＥＬ１が反射層として形成されることにより、別途反射層を形成する必要がなく、製造プロセスを削減することができる。
【００２２】
図示したように、本実施形態の液晶装置１は、第１基板ＳＵＢ１の下面側、及び、第２基板ＳＵＢ２の上面側のいずれにおいても偏光板を備えていない。
【００２３】
図２は、透明性及び散乱性を示す液晶装置１の構成例を示す斜視図である。  
図２に示すように、第２電極ＥＬ２は、複数の開口部ＯＰ及び帯状の電極部３を有する。すなわち、開口部ＯＰ及び電極部３は、Ｘ−Ｙ平面において長方形状に形成され、それぞれ開口部ＯＰの長辺は第２方向Ｙに沿って延出している。開口部ＯＰ及び電極部３は、第１方向Ｘに沿って交互に並んでいる。
【００２４】
第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２は、Ｘ−Ｙ平面において、互いに平行な方位に配向処理（例えば、ラビング処理や光配向処理）がなされている。第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２は、それぞれ開口部ＯＰの長辺に直交する方向に沿った配向方向ＡＤ１及びＡＤ２を有する。図示した例では、配向方向ＡＤ１及びＡＤ２は、第１方向Ｘに沿った方向である。また、配向方向ＡＤ１と配向方向ＡＤ２とは、互いに逆向きである。ここでの配向方向とは、電圧無印加時において、液晶分子ＬＭが第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２の配向規制力によって配向される方向に相当する。また、液晶分子ＬＭがプレチルトしている場合には、液晶分子ＬＭの長軸をＸ−Ｙ平面に正射影した方向を配向方向と定義する。
【００２５】
以下に、上記構成の液晶装置における動作について説明する。
ここでは、第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２の間には、正の誘電異方性（ポジ型）を有する液晶分子ＬＭが封入されている場合を想定している。
【００２６】
電圧無印加時においては、第１電極ＥＬ１及び第２電極ＥＬ２との間に電界が形成されていない。このため、液晶層に含まれる液晶分子ＬＭは、図２に示したように、Ｘ−Ｙ平面内において、第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２の配向方向ＡＤ１及びＡＤ２である第１方向Ｘに初期配向する。
【００２７】
一方、電圧印加時においては、第１電極ＥＬ１及び第２電極ＥＬ２の間に横電界が形成される。ここで、発生する横電界は、Ｘ−Ｙ平面において、開口部ＯＰの長辺に対して垂直となる。すなわち、電圧印加時に発生する横電界の方向は、電圧無印加時の液晶分子ＬＭの初期配向の方向と平行である。  
なお、負の誘電率異方性（ネガ型）を有する液晶分子ＬＭが封入された場合には、配向方向ＡＤ１及びＡＤ２は、開口部ＯＰの長辺と平行な方向に設定される。
【００２８】
上記のように構成された液晶装置１においては、液晶分子ＬＭは電圧印加時に次のように振る舞う。
【００２９】
図３は、図２に示した液晶装置１について、電圧印加時の液晶テクスチャーを模式的に示す平面図である。
【００３０】
液晶装置１の第１電極ＥＬ１及び第２電極ＥＬ２に、６０Ｈｚの交流矩形波を振幅１０Ｖまで段階的に印加した。観察しやすいように、クロスニコルに配置された偏光板の間に液晶装置１を挿入し、一方の偏光板の透過軸と初期配向方向とのなす角度が２０度の状態で顕微鏡観察を行った。
【００３１】
図３（ａ）は、印加電圧が３Ｖの時の偏光顕微鏡観察結果を示した模式図であり、図３（ｂ）は印加電圧が３．５Ｖの時の偏光顕微鏡観察結果を示した模式図である。印加電圧の振幅が２．５Ｖのときまでは、液晶分子ＬＭの配向に顕著な変化は現れなかった。印加電圧の振幅が３Ｖのとき、図３（ａ）に示すように、開口部ＯＰに複数のドメインが現れ始めた。このドメインは、第２電極ＥＬ２の開口部ＯＰ上に沿って並んでおり、「境界が明確で境界内部が比較的暗いドメイン」ＤＤと、「境界が不明確で境界内部が比較的明るいドメイン」ＤＢとが交互に並んでいた。さらに、印加電圧の振幅が３．５Ｖのとき、図３（ｂ）に示すように、第２電極の電極部３上にも同様の複数のドメインが現れ始めた。その後、印加電圧の振幅を５Ｖまで上昇させると、ドメインに顕著な変化は現れなかったが、散乱強度が増していった。このような微小な複数のドメインができることで、ドメイン間に屈折率の境界ができ、光を強く散乱することがわかった。
【００３２】
したがって、上記のように液晶装置１が構成されることにより、液晶層では、電圧印加時に液晶層が強く光を散乱させるような散乱状態が得られた。すなわち、液晶層は、電圧無印加時に液晶層が透明性を示し、一定以上の電圧印加時に液晶層が散乱性を示す。
【００３３】
図４は、本実施形態に係る液晶装置１の第２電極ＥＬ２の構成例を示す平面図である。  ここで、方向ＤＲ１及びＤＲ２は、互いに直交している。例えば、第２電極ＥＬ２は、方向ＤＲ１が第１方向Ｘに相当し方向ＤＲ２が第２方向Ｙに相当するように配置されてもよいし、方向ＤＲ１が第２方向Ｙに相当し方向ＤＲ２が第１方向Ｘに相当するように配置されてもよい。
【００３４】
図示した例では、第２電極ＥＬ２は、複数の開口部ＯＰ１乃至ＯＰ９を備えている。開口部ＯＰ１乃至ＯＰ３は、この順に、方向ＤＲ１に沿って並んでいる。同様に、開口部ＯＰ４乃至ＯＰ６は方向ＤＲ１に沿って並び、開口部ＯＰ７乃至ＯＰ９は方向ＤＲ１に沿って並んでいる。開口部ＯＰ１、ＯＰ４、ＯＰ７は、この順に、方向ＤＲ２に沿って並んでいる。同様に、開口部ＯＰ２、ＯＰ５、ＯＰ８は方向ＤＲ２に沿って並び、開口部ＯＰ３、ＯＰ６、ＯＰ９は方向ＤＲ２に沿って並んでいる。このように、図示した例では、開口部ＯＰ１乃至ＯＰ９は、３行３列に配置されている。なお、開口部の個数やレイアウトは図示した例に限られるものではない。第２電極ＥＬ２に形成された開口部のうち、第１開口部の方向ＤＲ１に隣接した開口部を第２開口部とし、第１開口部の方向ＤＲ２に隣接した開口部を第３開口部とすると、ここでは、開口部ＯＰ１が第１開口部、開口部ＯＰ２が第２開口部、開口部ＯＰ４が第３開口部に相当する。
【００３５】
開口部ＯＰ１乃至ＯＰ９は、それぞれ同一のＬ字形状に形成されている。なお、開口部ＯＰ１乃至ＯＰ９は同一形状に構成されているため、ここでは、１つの開口部に着目してその形状を具体的に説明する。
【００３６】
まず、図中の開口部ＯＰ１に着目して、その形状について説明する。開口部ＯＰ１は、方向ＤＲ１に沿った複数のエッジＥ１、及び、方向ＤＲ２に沿った複数のエッジＥ２によって規定される。図示した例では、開口部ＯＰ１は、３つのエッジＥ１及び３つのエッジＥ２を有している。開口部ＯＰ１において、エッジＥ１の総エッジ長と、エッジＥ２の総エッジ長とは、略同等である。
【００３７】
続いて、図中の開口部ＯＰ２に着目する。開口部ＯＰ２は、区切り線ＳＬによって、２つの領域Ｒ１及びＲ２に分割される。なお、区切り線ＳＬは、方向ＤＲ１に平行なエッジＥ１ａと同一直線上に位置する仮想線であって、実際に開口部ＯＰ２を分離する線ではない。図示した例では、領域Ｒ１及びＲ２は、それぞれ四角形状に形成されている。ここで、領域Ｒ１を構成するエッジＥ１ａと、領域Ｒ２を構成する方向ＤＲ２に平行なエッジＥ２ａとは、両者の交点において開口部ＯＰ２内に交差角ＡＮを形成する。本実施形態においては、交差角ＡＮは、１８０°より大きい角度である。エッジＥ１ａ及びＥ２ａの交点と区切り線ＳＬとは、交差している。
【００３８】
上記のように、例えば、１つの開口部を区切り線ＳＬで２つの領域に分割し、一方の領域の１つのエッジと他方の領域の１つのエッジが交差することによって開口部内に１８０°より大きい交差角ＡＮが形成されるとき、一方の領域は、他方の領域から突出した凸部であると定義する。すなわち、図４に示した例では、領域Ｒ２は、領域Ｒ１から突出した凸部に相当する。つまり、開口部ＯＰ１乃至ＯＰ９は、いずれも凸部を有する多角形状に形成されている。
【００３９】
なお、区切り線ＳＬによる領域の分割の仕方は上記の例に限定されない。区切り線ＳＬは、交差角ＡＮを形成する２つのエッジの交差点と交差するように引かれるものとする。また、分割される領域の数は３つ以上であってもよく、２つ以上の凸部を有していてもよい。その場合も上記と同様の方法で凸部が定義される。
【００４０】
また、図示した例では、開口部ＯＰ１乃至ＯＰ９のそれぞれについて、方向ＤＲ２で見た場合、領域Ｒ２が領域Ｒ１よりも、方向ＤＲ２の正の方向側に配置されている。また、方向ＤＲ１で見た場合、領域Ｒ２が、領域Ｒ１のエッジＥ１ａよりも方向ＤＲ１の負の方向側に配置されている。すなわち、開口部ＯＰ１乃至ＯＰ９は、同一の向きに配置されている。このとき、図２に示した配向方向ＡＤ１及びＡＤ２は、例えば、方向ＤＲ１に平行である。電圧無印加時の液晶分子ＬＭの初期配向方向は、エッジＥ１と平行となり、エッジＥ２と垂直となる。
【００４１】
第２電極ＥＬ２が図示したような形状の開口部ＯＰ１乃至ＯＰ９を有する液晶装置１においても、上記した構成例と同様に、電圧無印加時に液晶層が透明性を示し、一定以上の電圧印加時に液晶層が散乱性を示す。ここでは、一定以上の電圧とは、例えば、８Ｖ以上の電圧である。
【００４２】
図５は、図２に示した長方形状の開口部を有する構成例の液晶装置１と、図４に示した凸部を有する多角形状の開口部を有する本実施形態の液晶装置１とのそれぞれについて、電圧（Ｖ）及び拡散反射率の関係を示す図である。
【００４３】
図中の横軸は、液晶装置に印加される電圧（Ｖ）を０から１０Ｖまでの範囲で示している。なお、ここでの電圧の値は、電圧の振幅の絶対値を示している。縦軸は、拡散反射率を示している。拡散反射率の値は、完全白色板の拡散反射率を１００とした場合の比率を表している。
【００４４】
図中のＬ１は、図２の液晶装置１に電圧を印加したときの、電圧値に対する拡散反射率を示している。図中のＬ２は、図４の第２電極を有する液晶装置に電圧を印加したときの、電圧値に対する拡散反射率を示している。
【００４５】
図示したように、線Ｌ１及びＬ２のそれぞれを見ると、電圧（Ｖ）が約３Ｖを超えたあたりから拡散反射率が増加し、電圧（Ｖ）が約４Ｖを超えたあたりから急激に拡散反射率が増加することが分かる。また、線Ｌ１及びＬ２を比較すると、電圧（Ｖ）が等しいとき線Ｌ２の拡散反射率は、総じて線Ｌ１の拡散反射率より大きい。このことから、第２電極ＥＬ２の開口部ＯＰが長方形状に形成された構成例よりも、開口部ＯＰが凸部を有する多角形状に形成された本実施形態の方が、同電圧値に対しての拡散反射率が大きいことが確認された。
【００４６】
図６は、図２に示した構成例の液晶装置１と、図４に示した第２電極ＥＬ２を有する本実施形態の液晶装置１のそれぞれについて、３つの入射点１００、２００、３００か平行光を入射させたときの電圧（Ｖ）及び平行光反射率の関係を示す図である。また、図７は、３つの入射点１００、２００、３００の位置を示す図である。
【００４７】
図６（ａ）は、図２の構成例の液晶装置１に関する電圧（Ｖ）及び平行光反射率の関係を示す図である。図６（ｂ）は、図４の本実施形態の液晶装置１に関する電圧（Ｖ）及び平行光反射率の関係を示す図である。図６（ａ）及び（ｂ）に示すように、横軸は液晶装置に印加される電圧（Ｖ）を示し、縦軸は平行光反射率を示している。平行光反射率の値は、完全白色板の平行光反射率を１００とした場合の比率を表している。
【００４８】
ここで、図６（ａ）及び（ｂ）において、線Ｌ３は、入射点１００から光を入射させたときの電圧値に対する平行光反射率を示している。線Ｌ４は、入射点２００から光を入射させたときの電圧値に対する平行光反射率を示している。線Ｌ５は、入射点３００から光を入射させたときの電圧値に対する平行光反射率を示している。
【００４９】
入射点１００、２００、３００について図７を参照して説明する。図７（ａ）に示すように、入射点１００、２００、３００は、液晶パネルＰＮＬを側面側からみたときに、液晶パネルＰＮＬの法線Ｎから３０度傾いたところに位置する。また、入射点１００、２００、３００から入射された光を受光する受光点４００は法線Ｎ上に位置する。さらに、図７（ｂ）に示すように、液晶パネルＰＮＬを平面で見たときに、入射点１００は、配向方向ＡＤ１と同一の方位に位置し、入射点２００は、配向方向ＡＤ１から４５度の方位に位置し、入射点３００は、配向方向ＡＤ１から９０度の方位に位置する。
【００５０】
図６（ａ）に示すように、線Ｌ４及びＬ５を比べると、電圧値が等しいときの平行光反射率は略同等である。液晶分子のドメインの変化が表れ始める３Ｖ付近からの線Ｌ３と、線Ｌ４及びＬ５とを比べると、電圧値が等しいとき、線Ｌ３の平行光反射率は、線Ｌ４及びＬ５の平行光反射率と比べて大きい。このことから、構成例の液晶装置１においては、入射点１００から入射された光が、入射点２００及び入射点３００からそれぞれ入射された光よりもより明るく視認されることがわかった。
【００５１】
一方、図６（ｂ）に示すように、線Ｌ３乃至Ｌ５を比べると、それぞれの電圧値が等しいときの平行光反射率の差は、図６（ａ）に示した線Ｌ４及びＬ５と線Ｌ３との間の差より小さい。また、図６（ａ）に示した線Ｌ４及びＬ５の平行光反射率は電圧値にかかわらず略０付近を推移していたが、図６（ｂ）に示した線Ｌ４及びＬ５の平行光反射率は、図６（ａ）よりも大きくなっている。このことから、本実施形態の液晶装置１においては、入射点１００、入射点２００、及び入射点３００のいずれから入射された光も略同程度の強度で平行光反射されることが確認された。
【００５２】
したがって、第２電極ＥＬ２の開口部ＯＰが長方形状に形成された構成例よりも、開口部ＯＰが凸部を有する多角形状に形成された本実施形態の方が、平行光反射率の方向依存性が小さくなることが確認できた。
【００５３】
本実施形態によれば、液晶装置１は、第１基板ＳＵＢ１上に、第１電極ＥＬ１と、複数の開口部ＯＰ１乃至ＯＰ９を有する第２電極ＥＬ２と、を備えている。液晶層ＬＣは、第１電極ＥＬ１及び第２電極ＥＬ２に一定以上の電圧が印加された電圧印加時には散乱性を示し、第１電極及び第２電極に電圧が印加されていない電圧無印加時には透明性を示す。
【００５４】
また、開口部ＯＰは、凸部を有する多角形状に形成されている。しかも、開口部ＯＰを規定するエッジとして、初期配向方向に平行なエッジＥ１及び初期配向方向に垂直なエッジＥ２を含み、それぞれの総エッジ長が略同等である。液晶分子ＬＭを配向するための電界は、エッジに対して垂直な方向に形成される。このため、通常の使用範囲の印加電圧（例えば５Ｖ程度）を超える電圧が印加されると、液晶分子ＬＭが種々の方位に配向した複数の微小なドメインが形成され、より多くの屈折率の境界が形成される。
【００５５】
このため、開口部ＯＰが長方形状である構成例と比較して、拡散反射率を向上することができ、しかも、液晶パネルＰＮＬを視認する位置による平行光反射率の大きさの違いを小さくすることが可能であり、平行光反射率の方向依存性を改善することが可能である。
【００５６】
したがって、高性能化が可能な横電界を用いた散乱型の液晶装置を提供することができる。
【００５７】
また、複数の開口部ＯＰが方向ＤＲ１及びＤＲ２にそれぞれを配列されることにより、開口部ＯＰが長方形状である構成例と比較して、より等方的な屈折率分布を形成することができ、平行光反射率の方向依存性をさらに改善することが可能となる。
【００５８】
次に、本実施形態の変形例について説明する。
【００５９】
図８は、第２電極ＥＬ２の第１乃至第４変形例を示す平面図である。  
図８（ａ）乃至（ｄ）に示した開口部ＯＰは、図４に示した開口部と比較して、方向ＤＲ１及びＤＲ２の間の斜め方向のエッジＥ３を含む点で相違している。
【００６０】
図８（ａ）において、すべての開口部ＯＰは同一形状であり、各開口部ＯＰは、３つのエッジＥ１と、３つのエッジＥ２と、１つのエッジＥ３と、を有している。例えば、開口部ＯＰは、区切り線ＳＬによって、領域Ａ１と領域Ａ２とに分割される。図示した例では、領域Ａ１及びＡ２は、それぞれ四角形状に形成されている。ここで、領域Ａ１のエッジＥ１ａと、領域Ａ２のエッジＥ２ａとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮを形成する。すなわち、図８（ａ）に示した例では、領域Ａ２は、領域Ａ１から突出した凸部に相当する。
【００６１】
図８（ｂ）において、すべての開口部ＯＰは同一形状であり、各開口部ＯＰは、２つのエッジＥ１と、３つのエッジＥ２と、１つのエッジＥ３と、を有している。例えば、開口部ＯＰは、区切り線ＳＬによって、領域Ｂ１と領域Ｂ２とに分割される。図示した例では、領域Ｂ１及びＢ２は、それぞれ四角形状に形成されている。ここで、領域Ｂ１のエッジＥ１ａと、領域Ｂ２のエッジＥ２ａとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮを形成する。すなわち、図８（ｂ）に示した例では、領域Ｂ２は、領域Ｂ１から突出した凸部に相当する。
【００６２】
図８（ｃ）において、すべての開口部ＯＰは同一形状であり、各開口部ＯＰは、３つのエッジＥ１と、３つのエッジＥ３と、を有している。例えば、開口部ＯＰは、区切り線ＳＬによって、領域Ｃ１と領域Ｃ２とに分割される。図示した例では、領域Ｃ１及びＣ２は、それぞれ四角形状に形成されている。ここで、領域Ｃ１のエッジＥ１ａと、領域Ｃ２のエッジＥ３ａとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮを形成する。すなわち、図８（ｃ）に示した例では、領域Ｃ２は、領域Ｃ１から突出した凸部に相当する。
【００６３】
図８（ｄ）において、すべての開口部ＯＰは同一形状であり、各開口部ＯＰは、２つのエッジＥ１と、３つのエッジＥ２と、１つのエッジＥ３と、を有している。例えば、開口部ＯＰ２は、区切り線ＳＬによって、領域Ｄ１と領域Ｄ２とに分割される。図示した例では、領域Ｄ１及びＤ２は、それぞれ四角形状に形成されている。ここで、領域Ｄ１のエッジＥ２ａと、領域Ｄ２のエッジＥ３ａとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮを形成する。すなわち、図８（ｄ）に示した例では、領域Ｄ２は、領域Ｄ１から突出した凸部に相当する。
【００６４】
図８（ａ）乃至（ｄ）に示したような変形例においても、開口部ＯＰは、凸部を有する多角形状に形成されており、上記実施形態と同様の効果が得られる。なお、図８（ａ）乃至（ｄ）において、開口部ＯＰは、それぞれ同一の向きに形成されている。
【００６５】
図９は、第２電極ＥＬ２の第５乃至第８変形例を示す平面図である。  
図９（ｅ）において、すべての開口部ＯＰは同一形状であり、各開口部ＯＰは、２つのエッジＥ１と、４つのエッジＥ２と、２つのエッジＥ３と、を有している。例えば、開口部ＯＰは、区切り線ＳＬ１及びＳＬ２によって、領域Ｅ１１乃至Ｅ１３に分割される。図示した例では、領域Ｅ１１乃至Ｅ１３は、それぞれ四角形状に形成されている。ここで、領域Ｅ１１のエッジＥ２ａと、領域Ｅ１２のエッジＥ３ａとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮ１を形成する。領域Ｅ１１のエッジＥ２ｂと、領域Ｅ１３のエッジＥ３ａとは両者の交点において開口部内に交差角ＡＮ２を形成する。すなわち、図９（ｅ）に示した例では、領域Ｅ１２及びＥ１３は、領域Ｅ１１から突出した２つの凸部に相当する。
【００６６】
図９（ｆ）において、すべての開口部ＯＰは同一形状であり、各開口部ＯＰは、４つのエッジＥ１と、２つのエッジＥ２と、２つのエッジＥ３と、を有している。例えば、開口部ＯＰは、区切り線ＳＬ１及びＳＬ２によって、領域Ｆ１乃至Ｆ３に分割される。図示した例では、領域Ｆ１は、四角形状に形成され、領域Ｆ２及びＦ３は、それぞれ三角形状に形成されている。ここで、領域Ｆ１のエッジＥ２ａと、領域Ｆ２のエッジＥ１ａとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮ１を形成する。領域Ｆ１のエッジＥ２ｂと、領域Ｆ３のエッジＥ１ｂとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮ２を形成する。すなわち、図９（ｆ）に示した例では、領域Ｆ２及びＦ３は、領域Ｆ１から突出した２つの凸部に相当する。
【００６７】
図９（ｇ）において、すべての開口部ＯＰは同一形状であり、各開口部ＯＰは、２つのエッジＥ１と、３つのエッジＥ２と、２つのエッジＥ３と、を有している。例えば、開口部ＯＰは、区切り線ＳＬによって、領域Ｇ１と領域Ｇ２とに分割される。図示した例では、領域Ｇ１及びＧ２は、それぞれ四角形状に形成されている。ここで、領域Ｇ１のエッジＥ２ａと、領域Ｇ２のエッジＥ３ａとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮを形成する。すなわち、図９（ｇ）に示した例では、領域Ｇ２は、領域Ｇ１から突出した凸部に相当する。
【００６８】
図９（ｈ）において、すべての開口部ＯＰは同一形状であり、各開口部ＯＰは、２つのエッジＥ１と、４つのエッジＥ２と、２つのエッジＥ３と、を有している。例えば、開口部ＯＰは、区切り線ＳＬ１及びＳＬ２によって、領域Ｈ１乃至Ｈ３に分割される。図示した例では、領域Ｈ１乃至Ｈ３は、それぞれ四角形状に形成されている。ここで、領域Ｈ１のエッジＥ３ａと、領域Ｈ２のエッジＥ２ａとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮ１を形成する。領域Ｈ１のエッジＥ３ｂと、領域Ｈ３のエッジＥ２ｂとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮ２を形成する。すなわち、図９（ｈ）に示した例では、領域Ｈ２及びＨ３は、領域Ｈ１から突出した２つの凸部に相当する。
【００６９】
図９（ｅ）乃至（ｈ）に示したような変形例においても、開口部ＯＰは、凸部を有する多角形状に形成されており、上記実施形態と同様の効果が得られる。なお、図９（ｅ）乃至（ｈ）において、開口部ＯＰは、それぞれ同一の向きに形成されている。
【００７０】
図１０は、第２電極の第９乃至第１２変形例を示す平面図である。  
図１０（ｉ）において、すべての開口部ＯＰは同一形状であり、開口部ＯＰは、４つのエッジＥ１と、４つのエッジＥ２と、を有している。例えば、開口部ＯＰ２は、区切り線ＳＬ１及びＳＬ２によって、領域Ｉ１乃至Ｉ３に分割される。図示した例では、領域Ｉ１乃至Ｉ３は、それぞれ四角形状に形成されている。ここで、領域Ｉ１のエッジＥ２ａと、領域Ｉ２のエッジＥ１ａとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮ１を形成する。領域Ｉ１のエッジＥ２ｂと、領域Ｉ３のエッジＥ１ｂとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮ２を形成する。すなわち、図１０（ｉ）に示した例では、領域Ｉ２及びＩ３は、領域Ｉ１から突出した２つの凸部に相当する。
【００７１】
図１０（ｊ）において、すべての開口部ＯＰは同一形状であり、開口部ＯＰは、４つのエッジＥ１と、４つのエッジＥ２と、を有している。例えば、開口部ＯＰは、区切り線ＳＬ１及びＳＬ２によって、領域Ｊ１乃至Ｊ３に分割される。図示した例では、領域Ｊ１乃至Ｊ３は、それぞれ四角形状に形成されている。ここで、領域Ｊ１のエッジＥ１ａと、領域Ｊ２のエッジＥ２ａとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮ１を形成する。領域Ｊ１のエッジＥ１ｂと、領域Ｊ３のエッジＥ２ｂとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮ２を形成する。すなわち、図１０（ｊ）に示した例では、領域Ｊ２及びＪ３は、領域Ｊ１から突出した２つの凸部に相当する。
【００７２】
図１０（ｋ）において、すべての開口部ＯＰは同一形状であり、開口部ＯＰは、４つのエッジＥ１と、４つのエッジＥ２と、を有している。例えば、開口部ＯＰは、区切り線ＳＬ１及びＳＬ２によって、領域Ｋ１乃至Ｋ３に分割される。図示した例では、領域Ｋ１乃至Ｋ３は、それぞれ四角形状に形成されている。ここで、領域Ｋ１のエッジＥ１ａと、領域Ｋ２のエッジＥ１ａとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮ１を形成する。領域Ｋ１のエッジＥ１ｂと、領域Ｋ３のエッジＥ１ｂとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮ２を形成する。すなわち、図１０（ｋ）に示した例では、領域Ｋ２及びＫ３は、領域Ｋ１から突出した２つの凸部に相当する。
【００７３】
図１０（ｌ）において、すべての開口部ＯＰは同一形状であり、開口部ＯＰは、６つのエッジＥ１と、６つのエッジＥ２と、を有している。例えば、開口部ＯＰは、区切り線ＳＬ１及びＳＬ２によって、領域Ｌ１乃至Ｌ３に分割される。図示した例では、領域Ｌ１乃至Ｌ３は、それぞれ四角形状に形成されている。ここで、領域Ｌ１のエッジＥ２ａと、領域Ｌ２のエッジＥ１ａとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮ１を形成する。領域Ｌ１のエッジＥ２ｂと、領域Ｌ３のエッジＥ１ｂとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮ２を形成する。すなわち、図１０（ｌ）に示した例では、領域Ｌ２及びＬ３は、領域Ｌ１から突出した２つの凸部に相当する。
【００７４】
図１０（ｉ）乃至（ｌ）に示したような変形例においても、開口部ＯＰは、凸部を有する多角形状に形成されており、上記実施形態と同様の効果が得られる。なお、図１０（ｉ）乃至（ｌ）において、開口部ＯＰは、それぞれ同一の向きに形成されている。
【００７５】
図１１は、第２電極の第１３乃至第１４変形例を示す平面図である。  
図１１（ｍ）において、すべての開口部ＯＰは同一形状であり、開口部ＯＰは、５つのエッジＥ１と、５つのエッジＥ２と、を有している。例えば、開口部ＯＰは、区切り線ＳＬ１及びＳＬ２によって、領域Ｍ１乃至Ｍ３に分割される。図示した例では、領域Ｍ１乃至Ｍ３は、それぞれ四角形状に形成されている。ここで、領域Ｍ１のエッジＥ１ａと、領域Ｍ２のエッジＥ２ａとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮ１を形成する。領域Ｍ１のエッジＥ１ｂと、領域Ｍ３のエッジＥ２ｂとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮ２を形成する。すなわち、図１１（ｍ）に示した例では、領域Ｍ２及びＭ３は、領域Ｍ１から突出した２つの凸部に相当する。
【００７６】
ここで、領域Ｍ２及びＭ３は、同一の向きに突出しており、図示した例では領域Ｍ１から方向ＤＲ２の正の向きに向かって突出している。領域Ｍ１のエッジＥ２ｃと、領域Ｍ２のエッジＥ２ｄとは、つながった一直線上に形成されている。また、領域Ｍ１のエッジＥ２ｅと、領域Ｍ３のエッジＥ２ｂとは、一直線上に形成されず、互いにずれた位置に形成されている。
【００７７】
図１１（ｎ）は、図１１（ｍ）に示した例と比較して、領域Ｍ１に対する領域Ｍ２及びＭ３の位置が相違している。また、図１１（ｎ）において、開口部ＯＰは、図１１（ｍ）に示した開口部ＯＰに比べて、１つのエッジＥ１と、１つのエッジＥ２と、を多く有している。
【００７８】
図１１（ｎ）においても、領域Ｍ２及びＭ３は、同一の向きに突出しており、領域Ｍ１から方向ＤＲ２の正の向きに向かって突出している。領域Ｍ１のエッジＥ２ｃと、領域Ｍ２のエッジＥ２ｄとは、一直線上に形成されず、互いにずれた位置に形成されている。また、領域Ｍ１のエッジＥ２ｅと、領域Ｍ３のエッジＥ２ｂとは、一直線上に形成されず、互いにずれた位置に形成されている。
【００７９】
図１１（ｍ）乃至（ｎ）に示したような変形例においても、それぞれの開口部ＯＰは、凸部を有する多角形状に形成されており、上記実施形態と同様の効果が得られる。なお、図１１（ｍ）乃至（ｎ）において、開口部ＯＰは、それぞれ同一の向きに形成されている。また、このとき、第１配向膜ＡＬ１の配向方向ＡＤ１は、方向ＤＲ２に沿った方向である。つまり、配向方向ＡＤ１は、領域Ｍ２及びＭ３が領域Ｍ１から突出する方向に平行である。
【００８０】
図１２は、第２電極の第１５乃至第１６変形例を示す平面図である。
図１２（ｏ）において、すべての開口部ＯＰは同一形状であり、開口部ＯＰは、６つのエッジＥ１と、６つのエッジＥ２と、を有している。例えば、開口部ＯＰは、区切り線ＳＬ１乃至ＳＬ３によって、領域Ｏ１乃至Ｏ４に分割される。図示した例では、領域Ｏ１乃至Ｏ４は、それぞれ四角形状に形成されている。ここで、領域Ｏ１のエッジＥ１ａと、領域Ｏ２のエッジＥ２ａとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮ１を形成する。領域Ｏ１のエッジＥ１ｂと、領域Ｏ３のエッジＥ２ｂとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮ２を形成する。領域Ｏ１のエッジＥ１ｂと、領域Ｏ４のエッジＥ２ｃとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮ３を形成する。すなわち、図１２（ｏ）に示した例では、領域Ｏ２乃至Ｏ４は、領域Ｏ１から突出した３つの凸部に相当する。
【００８１】
ここで、領域Ｏ２乃至Ｏ４は、同一の向きに突出しており、領域Ｏ１から方向ＤＲ２の正の向きに向かって突出している。領域Ｏ１のエッジＥ２ｄと、領域Ｏ２のエッジＥ２ｅとは、つながった一直線上に形成されている。また、領域Ｏ１のエッジＥ２ｆと、領域Ｏ４のエッジＥ２ｇとは、つながった一直線上に形成されている。領域Ｏ３は、領域Ｏ２及びＯ４の間に配置されている。
【００８２】
図１２（ｐ）は、図１２（ｏ）に示した例と比較して、領域Ｏ１に対する領域Ｏ２乃至Ｏ４の位置が相違している。また、図１２（ｐ）において、開口部ＯＰは、図１２（ｏ）に示した開口部ＯＰに比べて、１つのエッジＥ１と、１つのエッジＥ２と、を多く有している。
【００８３】
図１２（ｐ）においても、領域Ｏ２乃至Ｏ４は、同一の向きに突出しており、領域Ｏ１から方向ＤＲ２の正の向きに向かって突出している。領域Ｏ１のエッジＥ２ｄと、領域Ｏ２のエッジＥ２ｅとは、つながった一直線上に形成されている。また、領域Ｏ１のエッジＥ２ｆと、領域Ｏ４のエッジＥ２ｇとは、一直線上に形成されず、互いにずれた位置に形成されている。
【００８４】
図１２（ｏ）乃至（ｐ）に示したような変形例においても、それぞれの開口部ＯＰは、凸部を有する多角形状に形成されており、上記実施形態と同様の効果が得られる。なお、図１１（ｏ）乃至（ｐ）において、開口部ＯＰは、それぞれ同一の向きに形成されている。また、このとき、第１配向膜ＡＬ１の配向方向ＡＤ１は、方向ＤＲ２に沿った方向である。つまり、配向方向ＡＤ１は、領域Ｏ２乃至Ｏ４が領域Ｏ１から突出する方向に平行である。
【００８５】
図１３は、第２電極の第１７乃至第１９変形例を示す平面図である。  
図１３（ｑ）及び（ｓ）に示した第２電極ＥＬ２は、図４に示した第２電極ＥＬ２と比較して、開口部ＯＰの向きが相違している。
【００８６】
図１３（ｑ）においては、開口部ＯＰ１、ＯＰ５、ＯＰ９、ＯＰ１３は、同一の向きに形成されている。開口部ＯＰ２、ＯＰ６、ＯＰ１０、ＯＰ１４は、同一の向きに形成されている。開口部ＯＰ３、ＯＰ７、ＯＰ１１、ＯＰ１５は、同一の向きに形成されている。開口部ＯＰ４、ＯＰ８、ＯＰ１２、ＯＰ１６は、同一の向きに形成されている。開口部ＯＰ２は、開口部ＯＰ１を点Ｑを基準に１８０°回転した向きに配置されている。すなわち、開口部ＯＰ２は、開口部ＯＰ１の点対称な形状である。開口部ＯＰ３は、開口部ＯＰ１を線ＬＱ１を基準に反転させた向きに配置されている。すなわち、開口部ＯＰ３は、開口部ＯＰ１の線対称な形状である。開口部ＯＰ４は、開口部ＯＰ１を線ＬＱ２を基準に反転させた向きに配置されている。すなわち、開口部ＯＰ４は、開口部ＯＰ１の線対称な形状である。
【００８７】
図１３（ｒ）においては、開口部ＯＰ１、ＯＰ３、ＯＰ９、ＯＰ１１は、同一の向きに形成されている。開口部ＯＰ２、ＯＰ４、ＯＰ１０、ＯＰ１２は、同一の向きに形成されている。開口部ＯＰ５、ＯＰ７、ＯＰ１３、ＯＰ１５は、同一の向きに形成されている。開口部ＯＰ６、ＯＰ８、ＯＰ１４、ＯＰ１６は、同一の向きに形成されている。
【００８８】
開口部ＯＰ２は、開口部ＯＰ１を線ＬＲ１を基準に反転させた向きに配置されている。すなわち、開口部ＯＰ２は開口部ＯＰ１に線対称な形状である。開口部ＯＰ５は、開口部ＯＰ１を線ＬＲ２を基準に反転させた向きに配置されている。すなわち、開口部ＯＰ５は開口部ＯＰ１に線対称な形状である。開口部ＯＰ６は、点Ｒを基準に１８０°回転した向きに配置されている。すなわち、開口部ＯＰ６は、開口部ＯＰ１に点対称な形状である。
【００８９】
図１３（ｒ）に示した例では、開口部は、４行４列に配置されている。それぞれの列において、２種類の形状の開口部が交互に繰り返して配置されている。また、それぞれの行において、２種類の形状の開口部が交互に繰り返して配置されている。
【００９０】
図１３（ｓ）の第２電極ＥＬ２は、図４に示した第２電極ＥＬ２と比較して、形成される開口部ＯＰ１乃至ＯＰ６の形状が相違している。開口部ＯＰ１乃至ＯＰ３、開口部ＯＰ４及びＯＰ６はそれぞれ方向ＤＲ１に沿って隣接している。開口部ＯＰ１及びＯＰ４、開口部ＯＰ２及びＯＰ５、開口部ＯＰ３及びＯＰ６は、この順に、方向ＤＲ２に沿って隣接している。
【００９１】
図１３（ｓ）において、すべての開口部ＯＰは同一形状であり、開口部ＯＰは、４つのエッジＥ１と、４つのエッジＥ２と、を有している。例えば、開口部ＯＰ２は、区切り線ＳＬ１及びＳＬ２によって、領域Ｓ１乃至Ｓ３に分割される。図示した例では、領域Ｓ１乃至Ｓ３はそれぞれ四角形状に形成されている。ここで、領域Ｓ１のエッジＥ２ａと、領域Ｓ２のエッジＥ１ａとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮ１を形成する。領域Ｓ１のエッジＥ２ａと、領域Ｓ３のエッジＥ１ｂとは、両者の交点において開口部内に交差角ＡＮ２を形成する。すなわち、図１３（ｓ）に示した例では、領域Ｓ２及びＳ３は、領域Ｓ１から突出した２つの凸部に相当する。
【００９２】
開口部ＯＰ１乃至ＯＰ３は同じ向きに配置されている。開口部ＯＰ３乃至ＯＰ６は同じ向きに配置されている。開口部ＯＰ４は、開口部ＯＰ１を線ＬＳを基準に反転させた向きに配置されている。すなわち、開口部ＯＰ４は開口部ＯＰ１の線対称な形状である。
【００９３】
なお、図８乃至図１２に示した変形例においても、図１３に示した変形例と同様に、それぞれの開口部が第１開口部に対して線対称もしくは点対称に形成されていても良い。つまり、それぞれの開口部が異なる向きに形成されていても良い。
【００９４】
なお、第２電極ＥＬ２の開口部の形状は上述した例に限らず、他の形状に構成されていてもよい。また、エッジＥ１乃至Ｅ３の長さは、適宜変更可能である。
【００９５】
図１４は、本実施形態に係る液晶装置１の変形例を示す断面図である。  
図１４に示した液晶装置１は、図１に示した液晶装置１と比較して、第１基板ＳＵＢ１が反射層ＲＦを備えている点で相違している。
【００９６】
反射層ＲＦは、第１絶縁基板１０の上に備えられている。絶縁膜１００は、反射層ＲＦと第１電極ＥＬ１との間に位置している。すなわち、反射層ＲＦは、第１電極ＥＬ１よりも下層に位置している。反射層ＲＦは、アルミニウムや銀などの反射率が高い金属材料で形成される。
【００９７】
なお、図示したように反射層ＲＦが液晶パネルＰＮＬの内部に形成されていてもよいし、第１絶縁基板１０の外部（液晶層ＬＣと対向する側とは反対側）に別途、反射板が備えられていてもよい。  
また、反射層ＲＦを備える構成においては、第２絶縁基板３０の外部に補助光源を備えていても良い。
【００９８】
このような変形例においても、上記したのと同様の効果が得られる。
【００９９】
図１５は、本実施形態に係る液晶装置１を表示装置として適用した場合の実施例を示す平面図である。  
表示パネルＰＮＬは、第１基板ＳＵＢ１と、第１基板ＳＵＢ１に対向配置された第２基板ＳＵＢ２と、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間に保持された液晶層ＬＣと、を備えている。第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とは、これらの間に所定のセルギャップを形成した状態でシール材ＳＥによって貼り合わせられている。液晶層ＬＣは、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間のセルギャップにおいてシール材ＳＥによって囲まれた内側に保持されている。表示パネルＰＮＬは、シール材ＳＥによって囲まれた内側に、画像を表示するアクティブエリアＡＣＴを備えている。アクティブエリアＡＣＴは、例えば、略長方形状であり、マトリクス状に配置された複数の画素ＰＸによって構成されている。
【０１００】
第１基板ＳＵＢ１は、アクティブエリアＡＣＴにおいて、第１方向Ｘに沿って延出したゲート配線Ｇ、第１方向Ｘに交差する第２方向Ｙに沿って延出したソース配線Ｓ、各画素ＰＸにおいてゲート配線Ｇ及びソース配線Ｓと電気的に接続されたスイッチング素子ＳＷ、各画素ＰＸにおいてスイッチング素子ＳＷと電気的に接続された画素電極ＰＥなどを備えている。共通電極ＣＥは、第１基板ＳＵＢ１に備えられている。
【０１０１】
駆動ＩＣチップ２及びフレキシブル・プリンテッド・サーキット（ＦＰＣ）基板３などの表示パネルＰＮＬの駆動に必要な信号供給源は、アクティブエリアＡＣＴよりも外側の周辺エリアＰＲＰに位置している。
【０１０２】
図１６は、図１５に示した液晶装置１の構成を示す断面図である。  
第１基板ＳＵＢ１は、第１絶縁基板１０の第２基板ＳＵＢ２に対向する側に、スイッチング素子ＳＷ、共通電極ＣＥ、画素電極ＰＥ、第１絶縁膜１１、第２絶縁膜１２、第３絶縁膜１３、第４絶縁膜１４、第１配向膜ＡＬ１等を備えている。
【０１０３】
スイッチング素子ＳＷは、半導体層ＳＣ、ゲート電極ＷＧ、ソース電極ＷＳ及びドレイン電極ＷＤ等を有している。半導体層ＳＣは、第１絶縁基板１０の上に配置され、第１絶縁膜１１によって覆われている。ゲート電極ＷＧは、第１絶縁膜１１の上に配置され、半導体層ＳＣの直上に位置している。ゲート電極ＷＧは、ゲート配線Ｇに電気的に接続され、第２絶縁膜１２によって覆われている。ソース電極ＷＳ及びドレイン電極ＷＤは、第２絶縁膜１２の上に配置され、第３絶縁膜１３によって覆われている。ソース電極ＷＳは、ソース配線Ｓに電気的に接続されている。ソース電極ＷＳ及びドレイン電極ＷＤは、それぞれ半導体層ＳＣと電気的に接続されている。
【０１０４】
共通電極ＣＥは、第３絶縁膜１３の上に配置されている。共通電極ＣＥの上には、第４絶縁膜１４が配置されている。
【０１０５】
画素電極ＰＥは、第４絶縁膜１４の上に配置され、共通電極ＣＥと対向している。画素電極ＰＥは、第３絶縁膜１３を貫通したコンタクトホールＣＨ１及び第４絶縁膜１４を貫通したコンタクトホールＣＨ２を介してドレイン電極ＷＤに電気的に接続されている。共通電極ＣＥ及び画素電極ＰＥは、例えば、ＩＴＯやＩＺＯ等の透明な導電材料によって形成されている。画素電極ＰＥは、第１配向膜ＡＬ１によって覆われている。
【０１０６】
ここで、共通電極ＣＥは本実施形態の第１電極に相当し、画素電極ＰＥは第２電極に相当し、第４絶縁膜１４は、層間絶縁膜ＩＬに相当する。
【０１０７】
第２基板ＳＵＢ２は、第２絶縁基板３０の第１基板ＳＵＢ１に対向する側に、遮光層３１、カラーフィルタ３２、オーバーコート層３３、第２配向膜ＡＬ２等を備えている。なお、第１絶縁基板１０及び第２絶縁基板３０は、ガラス基板や樹脂基板などの光透過性を有する基板である。
【０１０８】
遮光層３１は、各画素ＰＸを区画し、開口部ＡＰを形成するものであって、ゲート配線Ｇやソース配線Ｓ、さらにはスイッチング素子ＳＷなどの配線部に対向している。カラーフィルタ３２は、開口部ＡＰに配置されている。このカラーフィルタ３２は、互いに異なる複数の色、例えば赤色、青色、緑色といった３原色のカラーフィルタを含む。異なる色のカラーフィルタ３２間の境界は、遮光層３１と重なる位置にある。
【０１０９】
オーバーコート層３３は、カラーフィルタ３２を覆っている。オーバーコート層３３は、第２配向膜ＡＬ２によって覆われている。第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２は、水平配向性を示す材料によって形成されている。
【０１１０】
このような液晶装置ＤＳＰに本実施形態を適用した場合においても、上記したのと同様の効果が得られる。
【０１１１】
上記実施形態の散乱型の液晶装置は、ディスプレイとして用いることが可能である。あるいは、全面を散乱状態にして液晶パネルの向こう側を不可視にするプライバシーフィルムのような用途にも応用可能である。また、全面を散乱状態にして、プロジェクターによって画像を投影するためのスクリーンとしても応用可能である。
【０１１２】
以上説明したように、本実施形態によれば、高性能化が可能な横電界を用いた散乱型の液晶装置を提供することができる。
【０１１３】
なお、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【０１１４】
１…液晶装置、ＥＬ１…第２電極、ＥＬ２…第２電極、
ＳＵＢ１…第１基板、ＳＵＢ２…第２基板、ＬＭ…液晶分子、ＬＣ…液晶層、
ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３、ＯＰ４、ＯＰ５、ＯＰ６、ＯＰ７、ＯＰ８、ＯＰ９…開口部
Ｔ…凸部、Ｅ１、Ｅ２，Ｅ３…エッジ、
Ｘ…第１方向、Ｙ…第２方向、ＲＦ…反射層。
【図１】
2017102294.tif 000003
【図２】
2017102294.tif 000004
【図３】
2017102294.tif 000005
【図４】
2017102294.tif 000006
【図５】
2017102294.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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