(57)【要約】      （修正有）【課題】ガラス基材の少なくとも一方の主面に樹脂材料製レンチキュラーレンズが高密度に形成されたレンチキュラーレンズ構造体、および、該レンチキュラーレンズ構造体を簡易かつ低コストで製造できるレンチキュラーレンズ構造体の製造方法の提供。【解決手段】ガラス基材１１０の少なくとも一方の主面にレンチキュラーレンズ１２０を形成する、レンチキュラー構造体の製造方法であって、前記ガラス基材の一方の主面上に、前記ガラス基材の主面が露出した面と、エネルギー線硬化性組成物を含有し粘度５００ｍＰａ・ｓ〜１００００ｍＰａ・ｓの塗膜と、が交互にストライプ状に配列するパターンを形成する工程１と、エネルギー線照射により前記エネルギー線硬化性組成物を硬化させる工程２と、を有し、前記工程１を実施した直後に、前記工程２を実施することを特徴とする、レンチキュラーレンズ構造体の製造方法。【選択図】図１
2017198780.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基材の少なくとも一方の主面にレンチキュラーレンズを形成する、レンチキュラー構造体の製造方法であって、
前記ガラス基材の一方の主面上に、前記ガラス基材の主面が露出した面と、エネルギー線硬化性組成物を含有し粘度５００ｍＰａ・ｓ〜１００００ｍＰａ・ｓの塗膜と、が交互にストライプ状に配列するパターンを形成する工程１と
エネルギー線照射により前記パターンを構成する前記エネルギー線硬化性組成物を硬化させる工程２と、
を有し、前記工程１を実施した直後に前記工程２を実施することを特徴とする、レンチキュラー構造体の製造方法。
【請求項２】
前記工程１を実施後、０秒超３秒以内に前記工程２を実施することを特徴とする、請求項１に記載のレンチキュラー構造体の製造方法。
【請求項３】
前記工程１が、前記ガラス基材の一方の主面上に、前記エネルギー線硬化性組成物を含有する塗工液を塗布して粘度５００ｍＰａ・ｓ〜１００００ｍＰａ・ｓの塗膜を形成する工程１Ａと、
該塗膜の一部を物理的に除去して、該塗膜と前記ガラス基材の主面が露出した面とが交互にストライプ状に配列するパターンを形成する工程１Ｂと、を有する、請求項１または２に記載のレンチキュラー構造体の製造方法。
【請求項４】
前記工程１Ｂにおける塗膜の一部除去が、断面形状が櫛歯状のブレードで前記塗膜の一部を掻き取ることで行われる、請求項３に記載のレンチキュラー構造体の製造方法。
【請求項５】
前記エネルギー線硬化性組成物は、（メタ）アクリル基を有する化合物を１種以上含有する、請求項１〜４のいずれかに記載のレンチキュラー構造体の製造方法。
【請求項６】
前記エネルギー線硬化性組成物の粘度が２５００ｍＰａ・ｓ〜１００００ｍＰａ・ｓである、請求項１〜５のいずれかに記載のレンチキュラー構造体の製造方法。
【請求項７】
前記エネルギー線硬化性組成物は、界面活性剤を該エネルギー線硬化性組成物の総固形分中０．０１質量％以上含有している、請求項１〜６のいずれかに記載のレンチキュラー構造体の製造方法。
【請求項８】
前記エネルギー線硬化性組成物は、フォトブリーチング性を有する光ラジカル発生剤を含有する、請求項１〜７のいずれかに記載のレンチキュラー構造体の製造方法。
【請求項９】
前記工程２において、前記エネルギー線の光源として、発光中心波長が３５５ｎｍ以上の光源であり、波長３５５ｎｍ未満のすべての波長で発光中心波長における発光強度の０．１倍以上の発光強度を有さない光源を用いる、請求項１〜８のいずれかに記載のレンチキュラー構造体の製造方法。
【請求項１０】
前記工程２において、前記エネルギー線の光源として、中心波長が３６５ｎｍ〜４５０ｎｍのＬＥＤ光源を用いる、請求項１〜９のいずれかに記載のレンチキュラー構造体の製造方法。
【請求項１１】
ガラス基材の少なくとも一方の主面にレンチキュラーレンズが形成されたレンチキュラー構造体であって、前記レンチキュラーレンズを構成する、互いに隣接したシリンドリカルレンズ間に、前記ガラス基材の主面が露出した部位が存在し、前記ガラス基材の主面のうち、前記レンチキュラーレンズが形成された部分に占める該露出部の面積比率が５％以下であることを特徴とする、レンチキュラー構造体。
【請求項１２】
前記レンチキュラーレンズを構成するシリンドリカルレンズの平均高さをｈ（μｍ）とし、該シリンドリカルレンズの平均ピッチをｐμｍとするとき、ｈ≧０．２ｐを満たす、請求項１１に記載のレンチキュラー構造体。
【請求項１３】
前記シリンドリカルレンズの平均ピッチｐが１００μｍ以上である、請求項１１または１２に記載のレンチキュラー構造体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも一方の主面にレンチキュラーレンズが形成されたレンチキュラー構造体およびその製造方法に関する。本発明のレンチキュラー構造体は、エッジライト方式のバックライトの導光板として好適である。
【背景技術】
【０００２】
従来、携帯電話機、ＰＤＡ、液晶テレビ等に液晶表示装置が用いられている。液晶表示装置のバックライトとしては、直下型とエッジライト型のものがある。エッジライト型は液晶表示装置の表示面に対して直交方向となる側面に光源が配置されるため、液晶表示装置の大画面化、薄型化に適している。
【０００３】
エッジライト方式のバックライトの導光板として、ガラス材料製の導光板を使用することが検討されている。ガラス材料製の導光板は、樹脂材料製の導光板に比べて剛性が高く、熱膨張が少ないため、筐体の簡略化が可能になり、狭額縁で薄型の表示装置を実現可能である。
さらに導光板の出射面にレンチキュラーレンズを形成することで、光源であるＬＥＤからの光の指向性を向上させ、ローカルディミングと組み合わせることでさらにディスプレイ性能を向上できるとされている（特許文献１）。
樹脂材料でレンチキュラーレンズを形成する方法として、たとえば、熱リフロー性を有するポジ型感光性樹脂を用いてマイクロレンズを形成する方法（特許文献２）、ナノインプリント技術を用いてレンチキュラーレンズを形成する方法（特許文献３）などがある。
【０００４】
しかしながら、これらの従来方法には以下の点で問題がある。
熱リフロー性を有するポジ型感光性樹脂を用いてマイクロレンズを形成する方法（以下、熱リフロー法と記載する）では、レンチキュラーレンズを構成するマイクロレンズ間の隙間を小さくすることが困難である。また、マイクロレンズを形成する過程でフォトリソグラフィ工程を経るため、高コストになることや、大面積化にも課題がある。ナノインプリント技術を用いたレンチキュラーレンズの形成では、下地層が必要であるため、コストや光学特性に課題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１３−１２７９６６号公報
【特許文献２】特開２００３−１７５５１７号公報
【特許文献３】特開２００７−３２８１１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上述した従来技術における課題を解決するため、ガラス基材の一方の主面に樹脂材料製レンチキュラーレンズが高密度に形成されたレンチキュラーレンズ構造体、および、該レンチキュラーレンズ構造体を簡易かつ低コストで製造できるレンチキュラーレンズ構造体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記した目的を達成するため、本発明は、ガラス基材の少なくとも一方の主面にレンチキュラーレンズを形成する、レンチキュラー構造体の製造方法であって、
前記ガラス基材の一方の主面上に、前記ガラス基材の主面が露出した面と、エネルギー線硬化性組成物を含有し粘度５００ｍＰａ・ｓ〜１００００ｍＰａ・ｓの塗膜と、が交互にストライプ状に配列するパターンを形成する工程１と
エネルギー線照射により前記パターンを構成する前記エネルギー線硬化性組成物を硬化させる工程２と、
を有し、前記工程１を実施した直後に、前記工程２を実施することを特徴とする、レンチキュラー構造体の製造方法を提供する。
【０００８】
また、本発明は、ガラス基材の少なくとも一方の主面にレンチキュラーレンズが形成されたレンチキュラー構造体であって、前記レンチキュラーレンズを構成する、互いに隣接したシリンドリカルレンズ間に、前記ガラス基材の主面が露出した部位が存在し、前記ガラス基材の主面のうち、前記レンチキュラーレンズが形成された部分に占める該露出部の面積比率が５％以下であることが好ましい。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、ガラス基材の一方の主面全体に樹脂材料製レンチキュラーレンズが形成されたレンチキュラーレンズ構造体を簡易かつ低コストで製造できる。
本発明のレンチキュラー構造体は、ガラス基材の一方の主面に樹脂材料製のレンチキュラーレンズが高密度に形成されているため、レンチキュラーレンズ形成による効果が高い。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１（Ａ）は、レンチキュラー構造体の一構成例の平面図であり、図１（Ｂ）は（Ａ）におけるａ−ａ線断面図である。
【図２】図２は、図１（Ｂ）の部分拡大図であり、熱リフロー法を用いてレンチキュラーレンズを形成した場合の図である。
【図３】図３は、図１（Ｂ）の部分拡大図であり、ナノインプリント法を用いてレンチキュラーレンズを形成した場合の図である。
【図４】図４は、図１（Ｂ）の部分拡大図であり、本発明の方法を用いてレンチキュラーレンズを形成した場合の図である。
【図５】図５は、本発明のレンチキュラー構造体の製造方法の工程１を説明するための図である。
【図６】図６は、本発明のレンチキュラー構造体の製造方法の工程１でパターン形成された塗膜の経時変化を説明するための図である。
【図７】図７は、本発明のレンチキュラー構造体の製造方法の工程１Ｂで用いられる櫛歯状のブレードを説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、任意に変形して実施できる。
また本明細書において数値範囲を示す「〜」とは、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
【００１２】
レンチキュラー構造体
以下、本発明のレンチキュラー構造体について、図面を参照して説明する。
図１（Ａ）は、本発明のレンチキュラー構造体の一構成例の平面図であり、図１（Ｂ）は（Ａ）におけるａ−ａ線断面図である。図２は、図１（Ｂ）の拡大図である。
【００１３】
図１（Ａ），（Ｂ）に示すレンチキュラー構造体１００では、ガラス基材１１０の一方の主面にレンチキュラーレンズ１２０が形成されている。ここで、レンチキュラーレンズ１２０とは、直線状に延在する複数のシリンドリカルレンズ（片面が平面状の円筒形レンズ）が、一方向に並列に配置されたレンズである。シリンドリカルレンズはガラス基材１１０のいずれかの辺に略平行に直線状に延在してもよいし、必要に応じて特定の辺に対して所定の角度をもつような方向に直線状に延在することも可能である。図１（Ａ）に示すレンチキュラーレンズ１２０では、Ｙ軸方向に直線状に延在するシリンドリカルレンズが、Ｙ軸方向と直交する一方向（Ｘ軸方向）に並列に配置されている。なお、シリンドリカルレンズとは、少なくとも片面がシリンドリカル面（円筒面）、すなわち一方向には曲率を持つがそれと直交する方向には曲率を持たない面を有するレンズである。従って、レンチキュラーレンズの垂直断面は通常、円弧の一部を有する。
【００１４】
本発明のレンチキュラー構造体は、エッジライト方式のバックライトの導光板として用いられるため、ガラス基材１１０は、平面視したときの平面形状が矩形（平面視矩形状）のガラス板が好ましく用いられる。但し、ガラス基材１１０の平面形状はこれに限定されず、矩形以外であってもよい。
ガラス基材１１０には二つの主面があり、これら二つの主面のいずれの面にレンチキュラーレンズ１２０を設けてもよく、また両方の主面にレンチキュラーレンズ１２０を設けてもよい。レンチキュラーレンズは、主面の少なくとも一部に形成されてもよいし、主面全面にわたって形成されてもよい。
【００１５】
樹脂材料でレンチキュラーレンズを形成する従来の方法における上述した問題点について、図面を参照して説明する。
図２は、図１（Ｂ）の部分拡大図であり、熱リフロー法を用いてレンチキュラーレンズを形成した場合の図である。熱リフロー法を用いた場合、レンチキュラーレンズを構成するマイクロレンズ間の隙間を小さくすることが困難であり、図２に示すように、レンチキュラーレンズを構成するマイクロレンズ１２０ａ間の隙間、すなわち、シリンドリカルレンズが形成されておらずガラス基材の主面が露出した部位（以下、露出部位という。）が広くなる。そのため、レンチキュラーレンズを高密度に形成できない。なお、本明細書において、レンチキュラーレンズの形成密度の高低は、ガラス基材１１０の主面のうち、レンチキュラーレンズが形成された部分に占める上記露出部位の面積比率で評価する。ガラス基材１１０の主面のうち、レンチキュラーレンズが形成された部分とは、図１（Ａ），（Ｂ）、特に図１（Ａ）におけるガラス基材の外周余白部（図１（Ａ）中の斜線部１３０）を除いた部分を指す。
レンチキュラー構造体は、該面積比率が５％以下であることが、レンチキュラーレンズ形成による効果という点で望ましいが、熱リフロー法を用いた場合、面積比率を５％以下とすることが困難である。
【００１６】
図３は、図１（Ｂ）の部分拡大図であり、ナノインプリント法を用いてレンチキュラーレンズを形成した場合の図である。ナノインプリント法を用いた場合、ガラス基材１１０とレンチキュラーレンズを構成するシリンドリカルレンズ１２０ｂと、の間に下地層が形成される。下地層の存在は、レンチキュラー構造体の光学特性を悪化させるため、望ましくない。
レンチキュラー構造体は、レンチキュラーレンズを構成するシリンドリカルレンズ間に上記露出部位が存在することが好ましい。すなわち面積比率は０％超が好ましい。
【００１７】
図４は、図１（Ｂ）の部分拡大図であり、後述する本発明の方法を用いてレンチキュラーレンズを形成した場合の図である。図４に示すように、レンチキュラーレンズを構成するシリンドリカルレンズ間には上記露出部位が存在しているが、上記露出部位に当たるシリンドリカルレンズ間の隙間は狭い。
本発明のレンチキュラー構造体は、レンチキュラーレンズを構成するシリンドリカルレンズ間に上記露出部位が存在するため、下地層の存在による光学特性の悪化はない。また、上記面積比率が５％以下であるため、レンチキュラーレンズ形成による効果を好ましく発揮できる。
【００１８】
本発明のレンチキュラー構造体において、レンチキュラーレンズを構成する個々のシリンドリカルレンズの垂直断面の円弧の高さを、該シリンドリカルレンズの高さとする。そして、レンチキュラーレンズを構成するシリンドリカルレンズの平均高さをｈ（μｍ）とする。
一方、レンチキュラーレンズを構成する隣接する２つのシリンドリカルレンズの垂直断面の円弧の頂点間距離を該シリンドリカルレンズのピッチとし、レンチキュラーレンズを構成するシリンドリカルレンズの平均ピッチをｐ（μｍ）とする。
シリンドリカルレンズの平均高さｈは、平均ピッチｐとの関係においてｈ≧０．２ｐを満たすことが好ましく、ｈ＞０．２５ｐを満たすことがより好ましい。高さｈがｈ≧０．２ｐを満たせば、本発明のレンチキュラー構造体をエッジライト方式のバックライトの導光板として使用した際に、該導光板内の光の直進性が維持され、ローカルディミング性能が効果的に発揮される。
【００１９】
本発明のレンチキュラー構造体において、レンチキュラーレンズを構成するシリンドリカルレンズの平均ピッチｐが１００μｍ以上であることが、作製したレンチキュラーレンズの擦りに対する強度が十分に確保できる観点から好ましく、１５０μｍ以上であることがより好ましい。
【００２０】
レンチキュラー構造体の製造方法
上述した本発明のレンチキュラー構造体を製造するには、以下に示す手順でガラス基材の少なくとも一方の主面にレンチキュラーレンズを形成することが好ましい。
（工程１）
本発明のレンチキュラー構造体の製造方法の工程１では、ガラス基材の一方の主面上に、ガラス基材の主面が露出した面と、エネルギー線硬化性組成物を含有し粘度５００ｍＰａ・ｓ〜１００００ｍＰａ・ｓの塗膜と、が交互にストライプ状に配列するパターンを形成する。図５は、レンチキュラー構造体の製造方法の工程１を説明するための図であり、ガラス基材１１の一方の主面上に、ガラス基材１１の主面が露出した面と、塗膜１２と、が、交互にストライプ状に配列するパターンを形成している。
図６は、図５の塗膜１２の経時変化を説明するための図であり、図５の塗膜１２の経時変化後の塗膜１２ｔを示している。なお、図６は、粘性流体である塗膜１２の形状変化を、３次元熱流体解析ソフト（商品名：ＦＬＯＷ−３Ｄ（登録商標）、日本ＳＧＩ社製）を用いて、下記条件で流動シミュレーションしたものである。
（シミュレーション条件）
シミュレーション対象となる粘性流体は、非圧縮性のニュートン性流体で、計算中は常に粘度が一定である（すなわち温度変化がない）とした。流動は乱流を考慮した計算モデルを採用し、実際のストライプ状の塗膜の体積は十分に小さいことから重力の影響は無いものと仮定したシミュレーションを行った。
初期状態として横幅：隙間：高さ：奥行きが２：１：１：１の大きさである初期速度０の粘性流体をモデル作成し、横幅方向にはＰｅｒｉｏｄｉｃな境界条件、奥行き方向にはＣｏｎｔｉｎｕａｔｉｖｅな境界条件を設定することでストライプ形状を再現した。
この初期状態を持つ粘性流体が最大２秒間でどのような流動変形を起こすのかについて、シミュレーションを実施した。
【００２１】
図５に示すように、パターン形成した瞬間の塗膜１２は垂直断面が矩形であるが、粘性流体である塗膜はその形状が経時変化し、図６に示すように、変形後の塗膜１２ｔは垂直断面が円弧状となる。この変形は、主に粘性流体が表面張力により表面積を最小化しようとする働きにより生じている。この状態で塗膜１２を硬化させることにより、ガラス基材の一方の主面上に所望の形状のレンチキュラーレンズが形成される。
但し、粘性流体である塗膜は、図６に示す状態から、その形状が経時的にさらに変化すると、隣接する塗膜同士がつながり、ガラス基材の主面が露出した面が消失する点に留意する必要がある。この状態で塗膜を硬化させた場合、レンチキュラーレンズを構成するシリンドリカルレンズ間に上記露出部位が存在する本発明のレンチキュラー構造体を得ることができない。非常に注目すべき結果として、ガラス基材の主面が露出した状態では粘性流体の変形速度はさほど大きくないが、ガラス基材の主面が露出した面が消失して隣接する塗膜同士がつながってしまうと、非常に速い速度でレンチキュラーレンズ間の谷間が消失してしまう。この結果は、レンチキュラーレンズ形状の生産安定性の観点からも、互いに隣接したシリンドリカルレンズ間に、ガラス基材の主面が露出した部位が存在する状態で硬化を行うことが好ましいことを示している。
そのため、塗膜の粘度、および、工程１から工程２までの時間を適切な条件とする必要がある。
【００２２】
本発明は工程１を実施した直後に、後述する工程２を実施することを特徴とする。すなわち、本発明のレンチキュラー構造体の製造方法では、従来の熱リフロー法等のように定常状態で形状を固定するのではなく、流動変形の途中で硬化を行うことで形状を固定させる点に特徴がある。これにより、シリンドリカルレンズ間の隙間を非常に小さくすることができる。
本発明において、「工程１を実施した直後」とは、パターンを構成するエネルギー線硬化性組成物が変形の途中過程にある段階を示しており、その時間は粘度に依存するために一概には言えないが、０秒超３秒以内が好ましく、０秒超２秒以内がさらに好ましく、０秒超１秒以内が特に好ましい。
【００２３】
本発明の工程１における塗膜の粘度は５００ｍＰａ・ｓ〜１００００ｍＰａ・ｓである。塗膜の粘度が５００ｍＰａ・ｓよりも低いと、塗膜の形状の経時変化が早過ぎて、隣接する塗膜同士がつながるのを阻止するのが困難である。
一方、塗膜の粘度が１００００ｍＰａ・ｓよりも高いと、塗膜の粘度が高すぎるが故に液の取り扱いが非常に難しくなり、また、塗膜を形成することが難しくなる。
本発明の工程１における塗膜の粘度は２５００ｍＰａ・ｓ〜１００００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、２５００ｍＰａ・ｓ〜６０００ｍＰａ・ｓであることがより好ましい。
塗膜を形成する材料は、ニュートン性流体であってもよいし、チキソトロピー性を有する材料であってもよい。ここで本発明における塗膜の粘度とは、ストライプ形状を形成する環境と同じ温度条件で、Ｅ型粘度計を用いて測定した、せん断速度１００（１／秒）におけるせん断粘度のことを示す。
【００２４】
本発明の工程１では、ガラス基材の主面が露出した面と、塗膜と、が交互にストライプ状に配列するパターンを形成させる。最終的に得られるレンチキュラーレンズ形状は、ここで形成させるストライプ状に配列するパターンに依存する。ガラス基材の主面が露出した面の面積が小さすぎる場合は、隣接する塗膜同士がつながるのを阻止するのが困難である。一方でガラス基材の主面が露出した面の面積が大きすぎる場合は、シリンドリカルレンズ間の隙間が大きくなりすぎてしまう。ガラス基材の主面が露出した面の面積を一定範囲にするためには、隣接する塗膜間の隙間を所定範囲にすればよい。具体的には、シリンドリカルレンズの平均ピッチｐに対する隣接する塗膜間の隙間の割合を０．２〜０．６とすることが好ましく、０．３〜０．５とすることがより好ましい。
【００２５】
本発明の工程１において、ガラス基材の主面が露出した面と、塗膜と、が交互にストライプ状に配列するパターンは、粘度が５００ｍＰａ・ｓ〜１００００ｍＰａ・ｓの塗工液を、ディスペンサやダイコータを用いて、ストライプ状に塗布することで形成してもよい。
但し、これらの方法ではガラス基材の板厚偏差や反りに対してプロセスが非常に敏感になってしまう問題があるため、プロセスマージンの観点から、以下に示す工程１Ａ、工程１Ｂを順に実施して形成することが好ましい。
【００２６】
（工程１Ａ）
工程１Ａでは、ガラス基材の一方の主面上に、エネルギー線硬化性組成物を含有する塗工液を塗布して粘度５００ｍＰａ・ｓ〜１００００ｍＰａ・ｓの塗膜を形成する。塗工液が溶媒を含有しており工程１Ｂを行う前に乾燥させる場合は、乾燥後の塗膜の粘度が５００ｍＰａ・ｓ〜１００００ｍＰａ・ｓになるように調整する。
工程１Ａでは、ガラス基材の一方の主面全体に塗工液を塗布する。塗工液を塗布する手段は特に限定されないが、塗布したい範囲全面において均一な膜厚で塗布が可能な方法が好ましく、一例として、ローラー塗布、スクリーン印刷、カーテンフロー、バーコート、ダイコート、グラビアコート、マイクログラビアコート、リバースコート、ロールコート、フローコート、スプレーコート、ブレードコート、インクジェットコート等の塗布方法が例示される。
これらのうち、今回の粘度範囲の塗工液を大面積で均一に容易に塗布できることから、ダイコート、ブレードコート、バーコートが好ましい。
【００２７】
形成する塗膜の厚さは、目標とするレンチキュラーレンズ形状を作製するのに十分な膜厚でさえあれば任意で構わないが、シリンドリカルレンズの高さを面内で均一にするためには、塗工膜厚は理論必要膜厚の１．２倍以上かつ３倍以下であることが好ましい。なお、理論必要膜厚は、作製したいレンチキュラーレンズが占める全体積の、上記作製したいレンチキュラーレンズが占める全面積に対する比によってあらわされる。
【００２８】
（工程１Ｂ）
工程１Ｂでは、該塗膜の一部を物理的に除去して、該塗膜と前記ガラス基材の主面が露出した面とが交互にストライプ状に配列するパターンを形成する。
該塗膜の一部を物理的に除去する方法としては、断面形状が櫛歯状のブレードで前記塗膜の一部を掻き取る方法がある。図７は、本発明のレンチキュラー構造体の製造方法の工程１Ｂで用いられる櫛歯状のブレードを説明するための図である。図７において、ガラス基材１１の一方の主面上には塗膜１２0が形成されている。この塗膜１２0の一部を断面形状が櫛歯状のブレード１３で掻き取ることで、塗膜１２0の一部を物理的に除去できる。
断面形状が櫛歯状のブレード１３で塗膜１２0の一部を掻き取るには、ブレード１３を塗膜１２0の表面に押し付けた状態で、ガラス基材１１に対して所定方向に相対的に移動させればよい。より具体的には、ガラス基材１１、若しくは、ブレード１３、あるいはこれらの両者を所定方向、図７の場合、ガラス基材１１の長手方向、に移動させればよい。
櫛歯状のブレード１３は、たとえば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）板やＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）等の樹脂板の表面に、断面形状が矩形の複数の溝を切削加工により形成したものである。ここで、断面形状が矩形の溝の深さは、レンチキュラーレンズを構成するシリンドリカルレンズの高さの２倍以上の深さであることが好ましい。該溝のピッチは、レンチキュラーレンズを構成するシリンドリカルレンズのピッチに対応する。
【００２９】
（工程２）
工程２では、エネルギー線照射により、工程１で形成したパターンを構成する塗膜を硬化させる。そのため、工程１で用いる塗膜は、エネルギー線硬化性組成物を含有する。すなわち、工程２では、エネルギー線照射によりエネルギー線硬化性組成物を硬化させる。
エネルギー線硬化性組成物
エネルギー線硬化性組成物の一構成例は、重合性基を有する化合物を含有するものが挙げられる。重合性基を有する化合物としては、少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性の化合物が挙げられ、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、ビニルエーテル、ビニルエステル、スチレン系化合物、アリルエーテル、アリルエステルが好ましく、硬化速度の観点から、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミドといった（メタ）アクリル基を有する化合物がより好ましく、メタクリル基よりもアクリル基の方が硬化速度に優れるため、アクリル基を有する化合物が特に好ましい。（メタ）アクリル酸は、アクリル酸およびメタクリル酸の総称であり、（メタ）アクリレートは、アクリレートおよびメタクリレートの総称であり、（メタ）アクリルアミドは、アクリルアミドおよびメタクリルアミドの総称である。
また、その他にエポキシ基やグリシジル基、オキセタン基、オキサゾリン基などの環状エーテル構造を有するモノマーも使用できる。
重合性基を有する化合物における重合性基の数は、１〜６個が好ましく、１または２個がより好ましい。
【００３０】
少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性の化合物としては、公知の（メタ）アクリレート基又はアリル基を有する化合物を使用できる。例えば単官能であれば、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリール（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、メチルアダマンチル（メタ）アクリレート、エチルアダマンチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアダマンチル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等のモノ（メタ）アクリレート等があり、２官能であれば、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリオキシエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート等のジ（メタ）アクリレート等があり、３官能以上ではグリセロールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ポリオキシエチルトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等の重合性基を４個以上有する（メタ）アクリレートが挙げられる。また、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート等の多価イソシアネート化合物と、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアクリレート化合物とのウレタン化化合物も利用できる。
この場合のウレタン化化合物は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算数平均分子量で１０，０００未満のものが好ましい。
上述した少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性の化合物は、それぞれ単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの化合物の中でも、目標とする粘度を得やすいといった観点から、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの３官能以上の（メタ）アクリレートや、ウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することがより好ましい。
【００３１】
ビニルエーテルの具体例としては、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル等の（ヒドロキシアルキル）ビニルが挙げられる。
ビニルエステルの具体例としては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、（イソ）酪酸ビニル、吉草酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、安息香酸ビニル等のビニルエステルが挙げられる。
【００３２】
アリルエーテルの具体例としては、エチルアリルエーテル、プロピルアリルエーテル、（イソ）ブチルアリルエーテル、シクロヘキシルアリルエーテル等のアルキルアリルエーテルが挙げられる。
アリルエステルの具体例としては、エチルアリルエステル、プロピルアリルエステル、イソブチルアリルエステル等のアルキルアリルエステルが挙げられる。
【００３３】
エネルギー線硬化性組成物における重合性基を有する化合物の含有量は、エネルギー線硬化性組成物の全質量基準で５０質量％以上９９．９５質量％以下であることが好ましく、より好ましくは７０質量％以上９９質量％以下である。十分に硬化させるという観点から５０質量％以上であることが好ましいが、光ラジカル発生剤、界面活性剤等を配合することを考慮すると９９．９５質量％以下であることが好ましい。
【００３４】
工程２では、エネルギー線照射により、エネルギー線硬化性組成物を硬化させるため、エネルギー線硬化性組成物には、光ラジカル発生剤を含有させる。光ラジカル発生剤は、工程２実施時に使用するエネルギー線に対して、高い吸収能を有することが求められる。
しかしながら、エネルギー線硬化性組成物の硬化後においては、光ラジカル発生剤が高い光線吸収能を有すると、その光吸収が可視光領域にまで及び、製造後のレンチキュラー構造体の光学特性に悪影響を及ぼすため好ましくない。特に、後述するように照射するエネルギー線の波長が３５５ｎｍ以上の長波長である場合は、この影響は大きくなる。
そのため、エネルギー線硬化性組成物に含有させる光ラジカル発生剤には、フォトブリーチング性を有する光ラジカル発生剤を用いることが好ましい。フォトブリーチング性を有する光ラジカル発生剤とは、光を吸収してラジカルを発生させた際の化学反応により、光吸収能の小さな化合物に変化する、すなわち光退色する性質を有する光ラジカル発生剤である。フォトブリーチング性を有する光ラジカル発生剤としては、フォスフィンオキサイドを基本骨格とする光ラジカル発生剤が挙げられる。市販品としては、たとえば、イルガキュア（登録商標）８１９、イルガキュア（登録商標）ＴＰＯが例示される。
【００３５】
但し、製造後のレンチキュラー構造体の光学特性に悪影響を及ぼさない限り、エネルギー線硬化性組成物に含有させる光ラジカル発生剤として、フォトブリーチング性を有さない光ラジカル発生剤を使用してもよい。この場合、フォトブリーチング性を有さない光ラジカル発生剤のみを使用してもよく、フォトブリーチング性を有する光ラジカル発生剤、および、フォトブリーチング性を有さない光ラジカル発生剤を併用してもよい。
フォトブリーチング性を有さない光ラジカル発生剤を使用する場合、公知のものから広く選択できる。具体例を挙げると以下の通り。
アセトフェノン系光ラジカル発生剤、ベンゾイン系光ラジカル発生剤、ベンゾフェノン系光ラジカル発生剤、チオキサントン系光ラジカル発生剤、α−アミノケトン系光ラジカル発生剤、α−ヒドロキシケトン系光ラジカル発生剤、α−アシルオキシムエステル、ベンジル−（ｏ−エトキシカルボニル）−α−モノオキシム、アシルホスフィンオキシド、グリオキシエステル、３−ケトクマリン、２−エチルアンスラキノン、カンファーキノン、テトラメチルチウラムスルフィド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド、ジアルキルパーオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート等が挙げられる。
【００３６】
エネルギー線硬化性組成物における光ラジカル発生剤の含有量は特に限定されないが、エネルギー線硬化性組成物の全質量基準で０．０５〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜５質量％であることがより好ましく、さらに好ましくは０．５〜３質量％である。光ラジカル発生剤の含有量を上記範囲とすることによって、エネルギー線硬化性組成物中の重合性基を有する化合物を容易に重合して硬化物を形成できるため、加熱等の操作を行う必要はない。また、光ラジカル発生剤の残渣が硬化物の物性を阻害しにくく、製品の着色も抑制できる。
【００３７】
エネルギー線硬化性組成物は、界面活性剤を含有することが好ましい。界面活性剤を含有することにより、塗膜形成時において、該塗膜の表面自由エネルギーが低下する。その結果、塗膜の形状の経時変化が遅くなり、隣接する塗膜同士がつながり、ガラス基材の主面が露出した面が消失するまでの時間が長くなるため、工程１から工程２までの時間の幅が広がる。
エネルギー線硬化性組成物に含有させる界面活性剤の種類は特に限定されないが、表面自由エネルギーを効率よく低下させる効果が得やすい観点から、フッ素系界面活性剤、Ｓｉ系界面活性剤、またはフッ素・Ｓｉ系界面活性剤が好ましく、フッ素系界面活性剤がさらに好ましい。フッ素系界面活性剤またはフッ素・Ｓｉ系界面活性剤としては、フッ素含有量が１０〜７０質量％のフッ素系界面活性剤またはフッ素・Ｓｉ系界面活性剤が好ましく、フッ素含有量が１０〜４０質量％のフッ素系界面活性剤またはフッ素・Ｓｉ系界面活性剤がより好ましい。フッ素系界面活性剤としては、エネルギー線硬化性組成物における相溶性、および硬化物における分散性の点から、ノニオン性フッ素系界面活性剤が好ましい。ノニオン性フッ素系界面活性剤としては、ポリフルオロアルキルアミンオキシド、またはポリフルオロアルキル・アルキレンオキシド付加物が好ましい。ノニオン性フッ素系界面活性剤の具体例としては、サーフロンＳ−２４２、サーフロンＳ−２４３、サーフロンＳ−３８６、サーフロンＳ−４２０、サーフロンＳ−６１１、サーフロンＳ−６５０、サーフロンＳ−６５１、サーフロンＳ−１４５、サーフロンＳ−３９３、サーフロンＫＨ−２０、サーフロンＫＨ−４０（以上は、ＡＧＣセイミケミカル社製）、フロラードＦＣ−１７０、フロラードＦＣ−４３０（以上は、住友スリーエム社製）、メガファックＦ−５５２、メガファックＦ−５５３、メガファックＦ−５５４、メガファックＦ−５５６（以上は、ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
エネルギー線硬化性組成物に界面活性剤を含有させる場合、該エネルギー線硬化性組成物の総固形分中０．０１質量％以上含有させることが、上述した界面活性剤を含有させることによる効果という点で好ましく、０．１０質量％以上含有させることがより好ましい。
【００３８】
エネルギー線硬化性組成物は、溶剤、光増感剤、重合禁止剤、樹脂、金属酸化物微粒子、炭素化合物、金属微粒子、他の有機化合物等の他の添加剤を含んでいてもよい。
【００３９】
エネルギー線
工程２で照射するエネルギー線には、強いエネルギーをもった短波長の紫外線が用いられる。工程２で使用するエネルギー線（紫外線）光源からの光は、波長３５５ｎｍ未満の光を含まないことが好ましい。波長３５５ｎｍ未満の光を含んでいると、ガラス基材の組成によっては、ガラス基材に着色が起こり、透明性が低下するおそれがある。但し、波長３５５ｎｍ未満の光を含む場合でも、その発光強度が十分低い場合は、ガラス基材の透明性に悪影響しないため、エネルギー線の光源として利用できる。
工程２で使用する光源は、発光中心波長が３５５ｎｍ以上の光源であって、波長３５５ｎｍ未満のすべての波長で発光中心波長における発光強度の０．１倍以上の発光強度を有さない光源を用いることが好ましい。なお、本明細書における発光中心波長とは、光源が発する光のうち、もっとも発光強度が高くなる波長を指す。
上記に該当する光源としては、たとえば、波長３５５ｎｍ未満の光を光学フィルターでカットした高圧水銀ランプやキセノンランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。この場合、上記した発光中心波長は、光学フィルターを通した後の光についてである。
但し、上記に該当する光源としては、発光中心波長が３６５ｎｍ〜４５０ｎｍのＬＥＤ光源が、光学フィルターを使わずに、特定の波長で、狭い発光波長領域の光を得られるため、ガラスの着色防止と光硬化反応を確実に制御できる観点から好ましい。
【００４０】
以下、本発明のレンチキュラー構造体について、さらに記載する。
【００４１】
ガラス基材
本発明のレンチキュラー構造体は、エッジライト方式のバックライトの導光板として使用されるため、ガラス基材としては、ソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、ボレートガラス、リチウムアルミノシリケートガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラスといった、多成分系の酸化物ガラスからなる、可視光域（３８０〜７８０ｎｍ）の光線の内部透過率が高いガラス板が好ましく用いられる。なお、多成分系の酸化物ガラスからなるガラス板を用いる理由は溶解が容易で大量生産に適しているためである。
【００４２】
多成分系の酸化物ガラスの製造時には、ガラスの熔解性を向上させるため、鉄をガラス原料に配合する。但し、鉄は、可視光域に吸収が存在するため、鉄の含有量が高くなると、可視光域の内部透過率が低下する。
ガラス基材１１として用いられる多成分系の酸化物ガラスは、鉄の含有量の総量が１００質量ｐｐｍ以下であることが、可視光域の内部透過率の低下が少ないため好ましく、４０質量ｐｐｍ以下であることがより好ましく、２０質量ｐｐｍ以下であることがさらに好ましい。一方、ガラス基材１１として用いられる多成分系の酸化物ガラスの鉄の含有量の総量は、５質量ｐｐｍ以上であることが、多成分系の酸化物ガラス製造時において、ガラスの熔解性を向上させるうえで好ましく、８質量ｐｐｍ以上であることがより好ましく、１０質量ｐｐｍ以上であることがさらに好ましい。なお、ガラス基材１１として用いられる多成分系の酸化物ガラスの鉄の含有量の総量は、ガラス製造時に添加する鉄の量により調節できる。
【００４３】
ここで、多成分系の酸化物ガラスの鉄の総量は、Ｆｅ2Ｏ3の含有量として表すが、ガラス中に存在する鉄がすべてＦｅ3+（３価の鉄）として存在しているわけではない。通常、ガラス中にはＦｅ3+とＦｅ2+（２価の鉄）が同時に存在している。Ｆｅ2+およびＦｅ3+は、可視光域に吸収が存在するが、Ｆｅ2+の吸収係数（１１ｃｍ-1Ｍｏｌ-1）はＦｅ3+の吸収係数（０．９６ｃｍ-1Ｍｏｌ-1）よりも１桁大きいため、可視光域における内部透過率をより低下させる。そのため、Ｆｅ2+の含有量が少ないことが、可視光域における内部透過率を高めるうえで好ましい。
【００４４】
ガラス基材１１として用いられる多成分系の酸化物ガラスのＦｅ2+の含有量は、２０質量ｐｐｍ以下であることが、可視光域における内部透過率を高めるうえで好ましく、１０質量ｐｐｍ以下であることがより好ましく、５質量ｐｐｍ以下であることがさらに好ましい。一方、ガラス基材１１として用いられる多成分系の酸化物ガラスのＦｅ2+の含有量は、０．０１質量ｐｐｍ以上であることが、多成分系の酸化物ガラス製造時において、ガラスの熔解性を向上させるうえで好ましく、０．０５質量ｐｐｍ以上であることがより好ましく、０．１質量ｐｐｍ以上であることがさらに好ましい。
【００４５】
なお、ガラス基材１１として用いられる多成分系の酸化物ガラスのＦｅ2+の含有量は、ガラス製造時に添加する酸化剤の量、または溶解温度等により調節できる。ガラス製造時に添加する酸化剤の具体的な種類とそれらの添加量については後述する。
【００４６】
ガラス基材１１として用いられる多成分系の酸化物ガラスの組成の具体例を以下に示す。但し、ガラス基材１１として用いられる多成分系の酸化物ガラスの組成に制限はない。
【００４７】
ガラス基材１１として用いられる多成分系の酸化物ガラスの一構成例（構成例Ａ）は、酸化物基準の質量百分率表示で、ＳｉＯ2を６０〜８０％、Ａｌ2Ｏ3を０〜７％、ＭｇＯを０〜１０％、ＣａＯを０〜２０％、ＳｒＯを０〜１５％、ＢａＯを０〜１５％、Ｎａ2Ｏを３〜２０％、Ｋ2Ｏを０〜１０％、Ｆｅ2Ｏ3を５〜１００質量ｐｐｍ含む。
【００４８】
ガラス基材１１として用いられる多成分系の酸化物ガラスの別の一構成例（構成例Ｂ）は、酸化物基準の質量百分率表示で、ＳｉＯ2を４５〜８０％、Ａｌ2Ｏ3を７％超３０％以下、Ｂ2Ｏ3を０〜１５％、ＭｇＯを０〜１５％、ＣａＯを０〜６％、ＳｒＯを０〜５％、ＢａＯを０〜５％、Ｎａ2Ｏを７〜２０％、Ｋ2Ｏを０〜１０％、ＺｒＯ2を０〜１０％、Ｆｅ2Ｏ3を５〜１００質量ｐｐｍ含む。
【００４９】
ガラス基材１１として用いられる多成分系の酸化物ガラスのさらに別の一構成例（構成例Ｃ）は、酸化物基準の質量百分率表示で、ＳｉＯ2を４５〜７０％、Ａｌ2Ｏ3を１０〜３０％、Ｂ2Ｏ3を０〜１５％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯを合計で５〜３０％、Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏを合計で０％以上、３％未満、Ｆｅ2Ｏ3を５〜１００質量ｐｐｍ含む。
【００５０】
上記した構成例Ａ〜Ｃについて、各成分の組成範囲について、以下に説明する。なお、各組成の含有量の単位はいずれも酸化物基準の質量百分率表示または質量ｐｐｍ表示であり、それぞれ単に「％」「ｐｐｍ」と表す。
【００５１】
ＳｉＯ2は、ガラスの主成分である。ＳｉＯ2の含有量は、ガラスの耐候性、失透特性を保つため、酸化物基準の質量百分率表示で、構成例Ａにおいては、好ましくは６０％以上、より好ましくは６３％以上であり、構成例Ｂにおいては、好ましくは４５％以上、より好ましくは５０％以上であり、構成例Ｃにおいては、好ましくは４５％以上、より好ましくは５０％以上である。
【００５２】
一方、ＳｉＯ2の含有量は、溶解を容易にし、泡品質を良好なものとするために、またガラス中の二価鉄（Ｆｅ2+）の含有量を低く抑え、光学特性を良好なものとするため、構成例Ａにおいては、好ましくは８０％以下、より好ましくは７５％以下であり、構成例Ｂにおいては、好ましくは８０％以下、より好ましくは７０％以下であり、構成例Ｃにおいては、好ましくは７０％以下、より好ましくは６５％以下である。
【００５３】
Ａｌ2Ｏ3は、構成例Ｂ及びＣにおいてはガラスの耐候性を向上させる必須成分である。本実施形態のガラスにおいて実用上必要な耐候性を維持するためには、Ａｌ2Ｏ3の含有量は、構成例Ａにおいては、好ましくは１％以上、より好ましくは２％以上であり、構成例Ｂにおいては、好ましくは７％超、より好ましくは１０％以上であり、構成例Ｃにおいては、好ましくは１０％以上、より好ましくは１３％以上である。
【００５４】
但し、二価鉄（Ｆｅ2+）の含有量を低く抑え、光学特性を良好なものとし、泡品質を良好なものとするため、Ａｌ2Ｏ3の含有量は、構成例Ａにおいては、好ましくは７％以下、より好ましくは５％以下であり、構成例Ｂにおいては、好ましくは３０％以下、より好ましくは２３％以下であり、構成例Ｃにおいては、好ましくは３０％以下、より好ましくは２０％以下である。
【００５５】
Ｂ2Ｏ3は、ガラス原料の溶融を促進し、機械的特性や耐候性を向上させる成分であるが、揮発による脈理（ｒｅａｍ）の生成、炉壁の侵食等の不都合が生じないために、Ｂ2Ｏ3の含有量は、ガラスＡにおいては、好ましくは５％以下、より好ましくは３％以下であり、構成例Ｂ及びＣにおいては、好ましくは１５％以下、より好ましくは、１２％以下である。
【００５６】
Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、及び、Ｋ2Ｏといったアルカリ金属酸化物は、ガラス原料の溶融を促進し、熱膨張、粘性等を調整するのに有用な成分である。
【００５７】
そのため、Ｎａ2Ｏの含有量は、構成例Ａにおいては、好ましくは３％以上、より好ましくは、８％以上である。Ｎａ2Ｏの含有量は、構成例Ｂにおいては、好ましくは７％以上、より好ましくは、１０％以上である。但し、溶解時の清澄性を保持し、製造されるガラスの泡品質を保つために、Ｎａ2Ｏの含有量は、構成例Ａ及びＢにおいては、２０％以下とするのが好ましく、１５％以下とするのがさらに好ましく、構成例Ｃにおいては、３％以下とするのが好ましく、１％以下とするのがより好ましい。
【００５８】
また、Ｋ2Ｏの含有量は、構成例Ａ及びＢにおいては、好ましくは１０％以下、より好ましくは、７％以下であり、構成例Ｃにおいては、好ましくは２％以下、より好ましくは、１％以下である。
【００５９】
また、Ｌｉ2Ｏは、任意成分であるが、ガラス化を容易にし、原料に由来する不純物として含まれる鉄含有量を低く抑え、バッチコストを低く抑えるために、構成例Ａ、Ｂ及びＣにおいて、Ｌｉ2Ｏを２％以下含有できる。
【００６０】
また、これらアルカリ金属酸化物の合計含有量（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）は、溶解時の清澄性を保持し、製造されるガラスの泡品質を保つために、構成例Ａ及びＢにおいては、好ましくは５％〜２０％、より好ましくは８％〜１５％であり、構成例Ｃにおいては、好ましくは０％〜２％、より好ましくは、０％〜１％である。
【００６１】
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、及びＢａＯといったアルカリ土類金属酸化物は、ガラス原料の溶融を促進し、熱膨張、粘性等を調整するのに有用な成分である。
【００６２】
ＭｇＯは、ガラス溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する作用がある。またＭｇＯは、比重を低減させ、ガラス板に疵をつきにくくする作用があるために、構成例Ａ、Ｂ及びＣにおいて、含有されてもよい。また、ガラスの熱膨張係数を低く、失透特性を良好なものとするために、ＭｇＯの含有量は、構成例Ａにおいては、好ましくは１０％以下、より好ましくは８％以下であり、構成例Ｂにおいては、好ましくは１５％以下、より好ましくは１２％以下であり、構成例Ｃにおいては、好ましくは１０％以下、より好ましくは５％以下である。
【００６３】
ＣａＯは、ガラス原料の溶融を促進し、また粘性、熱膨張等を調整する成分であるので、構成例Ａ、Ｂ及びＣにおいて含有されてもよい。上記の作用を得るためには、構成例Ａにおいては、ＣａＯの含有量は、好ましくは３％以上、より好ましくは５％以上である。また、失透を良好にするためには、構成例Ａにおいては、好ましくは２０％以下、より好ましくは１０％以下であり、構成例Ｂにおいては、好ましくは６％以下であり、より好ましくは４％以下である。
【００６４】
ＳｒＯは、熱膨張係数の増大及びガラスの高温粘度を下げる効果がある。かかる効果を得るために、構成例Ａ、Ｂ及びＣにおいて、ＳｒＯを含有できる。但し、ガラスの熱膨張係数を低く抑えるため、ＳｒＯの含有量は、構成例Ａ及びＣにおいては、１５％以下とするのが好ましく、１０％以下とするのがより好ましく、構成例Ｂにおいては、５％以下とするのが好ましく、３％以下とするのがより好ましい。
【００６５】
ＢａＯは、ＳｒＯ同様に熱膨張係数の増大及びガラスの高温粘度を下げる効果がある。上記の効果を得るためにＢａＯを含有できる。但し、ガラスの熱膨張係数を低く抑えるため、構成例Ａ及びＣにおいては、１５％以下とするのが好ましく、１０％以下とするのがより好ましく、構成例Ｂにおいては、５％以下とするのが好ましく、３％以下とするのがより好ましい。
【００６６】
また、これらアルカリ土類金属酸化物の合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）は、熱膨張係数を低く抑え、失透特性を良好なものとし、強度を維持するために、構成例Ａにおいては、好ましくは１０％〜３０％、より好ましくは１３％〜２７％であり、構成例Ｂにおいては、好ましくは１％〜１５％、より好ましくは３％〜１０％であり、構成例Ｃにおいては、好ましくは５％〜３０％、より好ましくは１０％〜２０％である。
【００６７】
ガラス基材１１として用いられる多成分系の酸化物ガラスのガラス組成においては、ガラスの耐熱性及び表面硬度の向上のために、任意成分としてＺｒＯ2を、構成例Ａ、Ｂ及びＣにおいて、１０％以下、好ましくは５％以下含有させてもよい。１０％以下とすることでガラスが失透しにくくなる。
【００６８】
ガラス基材１１として用いられる多成分系の酸化物ガラスのガラス組成においては、ガラスの熔解性向上のため、Ｆｅ2Ｏ3を、構成例Ａ、Ｂ及びＣにおいて、５〜１００ｐｐｍ含有させてもよい。なお、Ｆｅ2Ｏ3量の好ましい範囲は上述のとおりである。
【００６９】
また、ガラス基材１１として用いられる多成分系の酸化物ガラスは、清澄剤としてＳＯ3を含有してもよい。この場合、ＳＯ3含有量は、質量百分率表示で０％超、０．５％以下が好ましい。０．４％以下がより好ましく、０．３％以下がさらに好ましく、０．２５％以下であることがさらに好ましい。
【００７０】
また、ガラス基材１１として用いられる多成分系の酸化物ガラスは、酸化剤及び清澄剤としてＳｂ2Ｏ3、ＳｎＯ2及びＡｓ2Ｏ3のうちの一つ以上を含有してもよい。この場合、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｎＯ2またはＡｓ2Ｏ3の含有量は、質量百分率表示で０〜０．５％が好ましい。０．２％以下がより好ましく、０．１％以下がさらに好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。
【００７１】
ただし、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｎＯ2及びＡｓ2Ｏ3は、ガラスの酸化剤として作用するため、ガラスのＦｅ2+の量を調節する目的により上記範囲内で添加してもよい。ただし、環境面からはＡｓ2Ｏ3を実質的に含有しないことが好ましい。
【００７２】
また、ガラス基材１１として用いられる多成分系の酸化物ガラスは、ＮｉＯを含有してもよい。ＮｉＯを含有する場合、ＮｉＯは、着色成分としても機能するので、ＮｉＯの含有量は、上記したガラス組成の合量に対し、１０ｐｐｍ以下とするのが好ましい。特に、ＮｉＯは、可視光域の内部透過率を低下させないという観点から、１．０ｐｐｍ以下とするのが好ましく、０．５ｐｐｍ以下とすることがより好ましい。
【００７３】
ガラス基材１１として用いられる多成分系の酸化物ガラスは、Ｃｒ2Ｏ3を含有してもよい。Ｃｒ2Ｏ3を含有する場合、Ｃｒ2Ｏ3は、着色成分としても機能するので、Ｃｒ2Ｏ3の含有量は、上記したガラス組成の合量に対し、１０ｐｐｍ以下とするのが好ましい。特に、Ｃｒ2Ｏ3は、可視光域の内部透過率を低下させないという観点から、１．０ｐｐｍ以下とするのが好ましく、０．５ｐｐｍ以下とすることがより好ましい。
【００７４】
ガラス基材１１として用いられる多成分系の酸化物ガラスは、ＭｎＯ2を含有してもよい。ＭｎＯ2を含有する場合、ＭｎＯ2は、可視光を吸収する成分としても機能するので、ＭｎＯ2の含有量は、上記したガラス組成の合量に対し、５０ｐｐｍ以下とするのが好ましい。特に、ＭｎＯ2は、可視光域の内部透過率を低下させないという観点から、１０ｐｐｍ以下とするのが好ましい。
【００７５】
ガラス基材１１として用いられる多成分系の酸化物ガラスは、ＴｉＯ2を含んでいてもよい。ＴｉＯ2を含有する場合、ＴｉＯ2は、可視光を吸収する成分としても機能するので、ＴｉＯ2の含有量は、上記したガラス組成の合量に対し、１０００ｐｐｍ以下とするのが好ましい。ＴｉＯ2は、可視光域の内部透過率を低下させないという観点から、含有量を５００ｐｐｍ以下とすることがより好ましく、１００ｐｐｍ以下とすることが特に好ましい。
【００７６】
ガラス基材１１として用いられる多成分系の酸化物ガラスは、ＣｅＯ2を含んでいてもよい。ＣｅＯ2には鉄のレドックスを下げる効果があり、全鉄量に対するＦｅ2+量の比率を小さくできる。一方で、鉄のレドックスを３％未満に下がることを抑制するためにも、ＣｅＯ2の含有量は、上記したガラス組成の合量に対し、１０００ｐｐｍ以下とするのが好ましい。また、ＣｅＯ2の含有量は、５００ｐｐｍ以下とするのがより好ましく、４００ｐｐｍ以下とするのがさらに好ましく、３００ｐｐｍ以下とするのが特に好ましく、２５０ｐｐｍ以下とするのが最も好ましい。
【００７７】
ガラス基材１１として用いられる多成分系の酸化物ガラスは、ＣｏＯ、Ｖ2Ｏ5及びＣｕＯからなる群より選ばれる少なくとも１種の成分を含んでいてもよい。これらの成分を含有する場合、可視光を吸収する成分としても機能するので、前記成分の含有量は、上記したガラス組成の合量に対し、１０ｐｐｍ以下とするのが好ましい。特に、これら成分は、可視光域の内部透過率を低下させないように、実質的に含有しないことが好ましい。
【００７８】
ガラス基材１１として使用される平面視矩形状のガラス板の厚さに特に制限はなく、エッジライト方式のバックライトの設計、要求される光学特性や強度等に応じて、適宜選択すればよいが、０．５〜１０ｍｍ、好ましくは１〜５ｍｍ、より好ましくは１．５〜３ｍｍである。
なお、ガラス板の厚さについては、後述する範囲の板厚偏差（ＴＴＶ）は許容される。
【００７９】
ガラス基材１１として使用される平面視矩形状のガラス板の寸法のうち、ガラス板の主面の一辺の長さは、本発明のレンチキュラー構造体をエッジライト方式のバックライトとして使用する液晶表示装置により異なる。たとえば、液晶表示装置が液晶テレビの場合、ガラス板の主面の一辺の長さは、２００ｍｍ以上であることが好ましく、２５０ｍｍ以上であることがより好ましく、４００ｍｍ以上であることがさらに好ましい。
【実施例】
【００８０】
（実施例１）
以下に示す手順でガラス基材の一方の主面にレンチキュラーレンズを形成した。
エネルギー線硬化性組成物は以下の処方で準備した。
１）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（商品名Ａ−ＤＰＨ、新中村化学工業社製）：淡黄色透明液体、粘度６，６００ｍＰａ・ｓ（２５℃）  ９１．２０ｗｔ％
２）ポリエチレングリコール♯６００ジアクリレート（商品名Ａ−６００、新中村化学工業社製）：淡黄色透明液体、粘度１０６ｍＰａ・ｓ（２５℃）  ７．６６ｗｔ％
３）光ラジカル開始剤（商品名イルガキュアＴＰＯ、ＢＡＳＦジャパン社製）：黄色粉末  ０．６４ｗｔ％
４）界面活性剤（商品名サーフロンＳ−３８６、旭硝子社製）：淡黄色粘性液体、表面張力２２．９ｍＮ／ｍ  ０．５０ｗｔ％
＜調合手順＞
（１）２０ｍＬのサンプル管にＡ−６００を９．１９ｇと、イルガキュアＴＰＯを０．７７ｇ、サーフロンＳ−３８６を０．６０ｇ量りとり、シェーカーを使って撹拌溶解させた。
（２）２００ｍＬのサンプル管にＡ−ＤＰＨを９１．２０ｇ量りとり、それに（１）の液を８．８０ｇスポイトで量り入れて、ミックスローターで撹拌させて、目視で均一に混ざっていることを確認し、エネルギー線硬化性組成物（１）（粘度３２００ｍＰａ・ｓ（２５℃））を得た。
【００８１】
ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）製の断面形状が櫛歯状のブレードを、以下の手順で作製した。
加工には、切削加工装置（商品名ＤＡＤ−３２１、ディスコ社製）を用い、刃厚１６０μｍのダイシングブレード（商品名Ｚ０５シリーズ、ディスコ社製）を使って加工速度２．０ｍｍ／ｓで切削を行なった。
幅１００ｍｍ、長さ３０ｍｍ、厚さ２ｍｍのＰＥＴ基板を用意し、幅１００ｍｍの辺に対して送りピッチ２５０μｍで深さ３００μｍの切り込みを、３６０本入れることで、櫛歯長さ９０ｍｍの断面形状が櫛歯状のＰＥＴ製ブレードを作製した。
【００８２】
幅１００ｍｍ、長さ１００ｍｍ、板厚２．１ｍｍの導光板用ガラス基板（商品名ＸＣＶ（登録商標）、旭硝子社製）を準備し、一方の主面にアプリケーターを用いて、上記で調製したエネルギー線硬化性組成物（１）を厚さ１００μｍになるように室温（２５℃）にて塗工した。この塗膜付きガラス基板を１軸駆動ステージ上に固定させ、ＰＥＴ製ブレードを５００ｇ重の荷重をかけて押し当てた。ＰＥＴ製ブレードをセットした場所より５ｍｍ後方にＵＶ−ＬＥＤ（商品名ライン型紫外ＬＥＤ照射器ＨＬＵＶ−３７８ＵＶ３６５、シーシーエス社製、発光中心波長３６５ｎｍ、発光強度比（波長３５５ｎｍ未満の全ての波長／発光中心波長）０．０７）を設置し、室温（２５℃）にてＵＶ光を照射しながら、１軸駆動ステージを１００ｍｍ／ｓのスピードで移動させて、ＰＥＴブレードで塗膜の一部を掻き取り、ＰＥＴブレードで引掻かれた膜面にＵＶ光を照射して硬化させてレンチキュラーレンズを形成した。なお、ＰＥＴブレードで引掻かれてからＵＶが照射開始されるまでの時間は０．０５秒である。
このようにして、試験用のサンプルを４つ作製した。作製したサンプルについて、各々面内５点を光学顕微鏡で観察し、ガラス基材の主面が露出した部位を特定し、その面積を算出し、平均値を求めた。これを観察エリアの全面積で割り、ガラス基板の主面が露出した部位の面積比率を求めた。結果は、３．１１％、１．８８％、１．６８％、４．２３％と、いずれも５％以下であった。
作製したサンプルについて、各々面内９点を、触針式表面形状測定装置（商品名ＤＥＫＴＡＫ−ＸＴ、ＢｒｕｋｅｒＡＸＳ社製）を使って、レンチキュラーレンズ形状の垂直断面プロファイルを測定した。レンチキュラーレンズを構成するシリンドリカルレンズの平均ピッチｐは２５０μｍ、平均高さｈは７６μｍ（ｈ＝０．３０４ｐ）であった。
【００８３】
（比較例１）
下記に示す粘度２５６ｍＰａ・ｓ（２５℃）のエネルギー線硬化性組成物（２）を使用した以外、実施例１同様の手順を実施した。
エネルギー線硬化性組成物（２）の詳細は以下に示す通り。
１）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（商品名Ａ−ＤＰＨ、新中村化学工業社製）  ６９．０ｗｔ％
２）アクリロイルモルホリン（商品名ＡＣＭＯ、ＫＪケミカルズ社製）：淡黄色透明液体、粘度１２ｍＰａ・ｓ（２５℃）  ２９．５ｗｔ％
３）光ラジカル開始剤（商品名イルガキュアＴＰＯ、ＢＡＳＦジャパン社製）  １．０ｗｔ％
４）界面活性剤（商品名サーフロンＳ−３８６、旭硝子社製）  ０．５０ｗｔ％
＜調合手順＞
（１）２００ｍＬのサンプル管にＡＣＭＯを２９．５ｇと、イルガキュアＴＰＯを１．０ｇ、サーフロンＳ−３８６を０．５０ｇ量りとり、シェーカーを使って撹拌溶解させた。
（２）（１）のサンプル管にＡ−ＤＰＨを６９．０ｇ量り入れて、ミックスローターで撹拌させて、目視で均一に混ざっていることを確認し、エネルギー線硬化性組成物（２）（粘度２５６ｍＰａ・ｓ（２５℃））を得た。
ガラス基板の主面が露出した部位の面積比率を求めようとしたが、塗膜の形状の経時変化が速く、硬化前に、ガラス基材の主面が露出した面を介して隣接する塗膜同士がつながってしまい、ガラス基材の主面が露出した部位を特定できなかった。
【００８４】
（比較例２）
ＰＥＴブレードで引掻かれてからＵＶが照射開始されるまでの時間を４秒とした以外は、実施例１と同様の手順を実施した。
硬化前に、ガラス基材の主面が露出した面を介して隣接する塗膜同士がつながってしまい、ガラス基材の主面が露出した部位を特定できなかった。
【符号の説明】
【００８５】
１１：ガラス基材
１２：パターン形成された塗膜
１２ｔ：経時変化後の塗膜
１２0：塗膜
１３：櫛歯状のブレード
１００：レンチキュラー構造体
１１０：ガラス基材
１２０，１２０ａ，１２０ｂ，１２０ｃ：レンチキュラーレンズ
１３０：外周余白部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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