(57)【要約】【課題】インキの除去性に優れ、印刷版の感熱層や感光層などの樹脂層やシリコーン層などのゴム層に対しダメージを与えにくく、かつインキ反発性の低下が抑制されたインキ除去剤を提供すること。【解決手段】インキを用いた印刷に使用されるインキ除去剤であって、少なくとも下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含むことを特徴とするインキ除去剤である。【化１】2017075315.tif 000018（式中、Ｒ１およびＲ２は炭素数１〜４の飽和または不飽和の炭化水素基を表し、直鎖状であっても枝分かれ状であってもよく、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｒ３は炭素数２〜６の飽和または不飽和の炭化水素基を表し、直鎖状であっても枝分かれ状であっても環状であってもよい。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
インキを用いた印刷に使用されるインキ除去剤であって、少なくとも下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含むことを特徴とするインキ除去剤。
【化１】
2017075315.tif 000017
（式中、Ｒ１およびＲ２は炭素数１〜４の飽和または不飽和の炭化水素基を表し、直鎖状であっても枝分かれ状であってもよく、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｒ３は炭素数２〜６の飽和または不飽和の炭化水素基を表し、直鎖状であっても枝分かれ状であっても環状であってもよい。）
【請求項２】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物のＲ３が炭素数３〜６の枝分かれ状飽和炭化水素基であることを特徴とする請求項１に記載のインキ除去剤。
【請求項３】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物のＲ１とＲ２が共にメチル基であることを特徴とする請求項１または２に記載のインキ除去剤。
【請求項４】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物がプロピレングリコールジアセテートであることを特徴とする請求項１に記載のインキ除去剤。
【請求項５】
前記インキが、活性エネルギー線硬化型インキであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のインキ除去剤。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれかに記載のインキ除去剤を用いて、印刷版に付着したインキを除去することを特徴とするインキ除去方法。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれかに記載のインキ除去剤を含ませた不織布、脱脂綿、または布で印刷版に付着したインキを除去することを特徴とする請求項６に記載のインキ除去方法。
【請求項８】
前記印刷版が、樹脂層および／またはゴム層を有することを特徴とする請求項６または７に記載のインキ除去方法。
【請求項９】
前記印刷版の樹脂層および／またはゴム層が、感熱性または感光性を有することを特徴とする請求項８に記載のインキ除去方法。
【請求項１０】
前記印刷版の樹脂層が、少なくともフェノール樹脂を含むことを特徴とする請求項８または９に記載のインキ除去方法。
【請求項１１】
前記印刷版の樹脂層が、金属キレートを含むことを特徴とする請求項８〜１０に記載のインキ除去方法。
【請求項１２】
前記印刷版のゴム層が、シリコーンゴム層であることを特徴とする請求項８〜１１に記載のインキ除去方法。
【請求項１３】
前記印刷版のシリコーンゴム層が、少なくとも２５℃での表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下の液体を含むことを特徴とする請求項１２に記載のインキ除去方法。
【請求項１４】
前記印刷版が、バーニング処理を施した印刷版であることを特徴とする請求項６〜１３のいずれかに記載のインキ除去方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インキを用いた印刷に使用されるインキ除去剤に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
印刷には、凸版印刷、凹版印刷、孔版（スクリーン）印刷、平版印刷など様々な方式があり、各方式の特徴を活かして印刷が行われている。
【０００３】
各種印刷に用いられるインキに関して、油性インキや水性インキ、活性エネルギー線硬化型インキなどこれまでに様々な提案がなされてきた。中でも、印刷物の高速乾燥（硬化）を目的とした活性エネルギー線硬化型インキを用いた印刷が近年普及しつつある。活性エネルギー線硬化型インキは、被印刷媒体に転写後、活性エネルギー線の照射により瞬時に硬化するため、直ちに裏面の印刷や後加工が行えるといった従来の油性インキや水性インキにはないメリットを有している。
【０００４】
また、印刷に用いられる印刷版に関しても、金属やガラスなどの無機材料を有する凹版、ゴム層を有するフレキソ版、樹脂層を有する孔版や凸版や平版など、これまでに様々な提案がなされ、シリコーン層などのゴム層と、感熱層や感光層などの樹脂層を同時に有する印刷版が提案されている（例えば、特許文献１参照）。さらに、インキ反発性の向上を目的に、シリコーンゴム層中にシリコーンオイルを含む印刷版が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００５】
一方、印刷に使用するインキの除去剤に関してもこれまでに様々な提案がなされてきた。
【０００６】
例えば、特定構造のエステル化合物やアルコールエステル化合物を含むインキ除去剤が提案されている（例えば、特許文献３参照）。さらに、特定構造のエーテル化合物やアルコールエーテル化合物を含むインキ除去剤が提案されている（例えば、特許文献４、５参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−２７２２６６号公報（特許請求の範囲）
【特許文献２】特開２００１−２３２９５９号公報（特許請求の範囲）
【特許文献３】特開平８−３３３５２９号公報（特許請求の範囲）
【特許文献４】特開平８−２８３６２８号公報（特許請求の範囲）
【特許文献５】特開平９−２０８８６９号公報（特許請求の範囲）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
前記特許文献３に記載の特定構造のエステル化合物を含むインキ除去剤は、活性エネルギー線硬化型インキの除去性に優れ、前記特許文献１に記載の印刷版のシリコーン層などのゴム層を膨潤させにくいことからインキ除去時にシリコーンゴム層に傷が入りにくく、また前記特許文献２に記載されたようなシリコーンオイルなどのインキ反発成分を含むシリコーンゴム層であった場合にもインキ除去時にインキ反発成分がシリコーンゴム層内から抽出されにくいため、インキ除去を施した部分のインキ反発性が低下しにくい。
【０００９】
しかしながら、印刷版の感熱層や感光層などの樹脂層にダメージを与えやすく、本来残存すべき感熱層や感光層などの樹脂層が版面から脱落し、印刷不良を起こすことがあった。
【００１０】
また、前記特許文献３に記載のアルコールエステル化合物や前記特許文献４に記載のアルコールエーテル化合物を含むインキ除去剤は、さらに感熱層や感光層などの樹脂層にダメージを与えやすく、本来残存すべき感熱層や感光層などの樹脂層が版面から脱落し、印刷不良を起こすことがあった。
【００１１】
一方、前記特許文献４や５に記載のエーテル化合物を含むインキ除去剤は、感熱層や感光層などの樹脂層へのダメージは少ないものの、インキの除去性が劣り、インキの除去不足による印刷不良を起こすことがあった。また、印刷版のシリコーン層などのゴム層を容易に膨潤させることからインキ除去時にシリコーンゴム層に傷が入りやすく、この傷に付着したインキが印刷物に転写される場合があった。さらに、シリコーンオイルなどのインキ反発成分を含むシリコーンゴム層であった場合、インキ除去時にインキ反発成分が容易にシリコーンゴム層内から抽出され、インキ除去を施した部分のインキ反発性が著しく低下することがあった。
【００１２】
このように、これまでに提案されたインキ除去剤では、インキの除去性、印刷版の感熱層や感光層などの樹脂層やシリコーン層などのゴム層に対するダメージの抑制、インキ反発性低下の抑制のすべてを同時に達成することができなかった。
【００１３】
そこで、本発明の目的は、かかる従来技術の課題を解決し、インキの除去性に優れ、印刷版の感熱層や感光層などの樹脂層やシリコーン層などのゴム層に対しダメージを与えにくく、かつインキ反発性の低下が抑制されたインキ除去剤を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、インキを用いた印刷に使用されるインキ除去剤であって、少なくとも下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含むことを特徴とするインキ除去剤である。
【００１５】
【化１】
2017075315.tif 000002
【００１６】
（式中、Ｒ１およびＲ２は炭素数１〜４の飽和または不飽和の炭化水素基を表し、直鎖状であっても枝分かれ状であってもよく、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｒ３は炭素数２〜６の飽和または不飽和の炭化水素基を表し、直鎖状であっても枝分かれ状であっても環状であってもよい。）
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、インキの除去性に優れ、印刷版の感熱層や感光層などの樹脂層やシリコーン層などのゴム層に対しダメージを与えにくく、かつインキ反発性の低下が抑制されたインキ除去剤が得られる。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明は、インキを用いた印刷に使用されるインキ除去剤であって、少なくとも前記一般式（Ｉ）で表される化合物を含むことを特徴とするインキ除去剤である。
【００１９】
本発明のインキ除去剤は、洗浄剤や洗浄液、またはクリーナーの名称で呼ばれることもある。
【００２０】
印刷において、印刷機のローラーやブランケット、または印刷版などに付着したインキを除去するためにインキ除去剤が用いられる。ローラー、ブランケット、印刷版はそれぞれ異なる素材（金属、樹脂、ゴムなど）で構成されることから、何れも異なった極性を有する。これらの素材（樹脂やゴムなど）とインキ除去剤の極性が近い場合、すなわち親和性が高い場合、インキ除去剤による樹脂やゴムの膨潤による変形や破壊が起こりやすくなり、印刷不良の原因となることがある。このため、インキ除去剤としては印刷に用いられる樹脂やゴムなどと極性が異なるものを選択することが好ましい。中でも印刷版は、金属やガラスなどの無機材料を有する凹版、ゴム層を有するフレキソ版、樹脂層を有する孔版、凸版、平版など、印刷版の種類によって素材が異なり、それぞれ極性も異なるため、これら何れの素材に対してもダメージを与えにくいインキ除去剤を見つけ出すことは困難であった。特に、シリコーン層などのゴム層と、感熱層や感光層などの樹脂層を同時に有する印刷版の場合、低極性のシリコーンゴム層と高極性の感熱層や感光層から構成されているため、これら何れの層に対しても親和性が少なく、ダメージの少ないインキ除去剤を選定することはより困難であった。さらに、インキ反発性の向上を目的に、シリコーンゴム層中にインキ反発成分を有する印刷版の場合、インキ除去時にインキ反発成分が抽出され、インキ除去部のインキ反発性が著しく低下してしまうため、従来用いていた低極性のインキ除去剤を使用できず、インキ除去剤の選定は極めて困難であった。
【００２１】
前述の通り、前記特許文献３に記載のインキ除去剤は、従来公知のアルコール系やアルコールエーテル系のインキ除去剤に比べ感熱層や感熱層などの樹脂層へのダメージは少ないものの、未だ十分なレベルではなく、感熱層や感光層などの樹脂層がダメージを受けやすかった。前記特許文献３中にもジエステル化合物をインキ除去剤として使用できるといった記載はあるが、本発明の前記一般式（Ｉ）で表されるジエステル化合物とは構造が異なる。前記特許文献３に記載のジエステル化合物はジカルボン酸１モルとモノアルコール２モルより得られるジエステル化合物であるのに対し、本発明の前記一般式（Ｉ）で表されるジエステル化合物はジオール化合物１モルとモノカルボン酸２モルより得られるジエステル化合物である。前記特許文献３に記載のジエステル化合物と本発明の前記一般式（Ｉ）で表されるジエステル化合物は分子量が近似の場合、沸点も近似となることから乾燥性としては近似の性能を示すが、感熱層や感光層などの樹脂層へのダメージが大きく異なる。特に、後述するフェノール樹脂を含む感熱層や感光層などの樹脂層に対するダメージが大きく異なり、前記特許文献３に記載のジエステル化合物を用いた場合に比べ、本発明の前記一般式（Ｉ）で表されるジエステル化合物を用いた場合に感熱層や感光層などの樹脂層へのダメージが大きく抑制される。感熱層や感光層などの樹脂層へのダメージが大きく異なるメカニズムについては現時点で明確ではないが、両ジエステル化合物の構造の違いそのものや、分極の仕方が異なるためではないかと考えられる。
【００２２】
一方、前記特許文献４や５に記載のエーテル化合物を含むインキ除去剤は極性が低いため感熱層や感光層などの樹脂層へのダメージは少ないものの、シリコーン層などのゴム層を容易に膨潤させることからインキ除去時にシリコーンゴム層に傷が入りやすく、この傷に付着したインキが印刷物に転写される場合があった。
【００２３】
また、前記特許文献２に記載されたようなシリコーンオイルなどのインキ反発成分を含むシリコーンゴム層であった場合、前記特許文献４や５に記載のエーテル系インキ除去剤でのインキ除去時にインキ反発成分が容易にシリコーンゴム層内から抽出され、インキ除去を施した部分のインキ反発性が低下することがあった。
【００２４】
そこで発明者らは、高極性の化合物でありながら高極性の感熱層や感光層などの樹脂層に対してダメージが少ないインキ除去剤の探索を進め、誠意検討の結果、本発明の完成に至った。詳しくは、特定の構造を有する高極性のジエステル化合物をインキ除去剤として用いることで、シリコーン層などのゴム層やシリコーンゴム層内に含まれるインキ反発成分などの低極性な材料に対する親和性が低くなり、シリコーンゴム層のインキ除去時に発生する傷やシリコーンゴム層からのインキ反発成分の抽出を抑制でき、また感熱層や感光層などの樹脂層と分子構造が大きく異なる化合物とすることで、感熱層や感光層などの樹脂層に対するダメージも抑制できる。すなわち、シリコーン層などのゴム層やシリコーンゴム層中に含まれるインキ反発成分などの低極性な材料と、感熱層や感光層などの樹脂層などの高極性な材料の何れに対してもダメージを与えにくく、かつインキの除去性に優れたインキ除去剤が得られる。
【００２５】
以下、本発明のインキを用いた印刷に用いられるインキ除去剤と、印刷におけるインキ除去方法について詳細に説明する。
【００２６】
本発明のインキ除去剤は、油性インキや水性インキ、活性エネルギー線硬化型インキなどの各種インキの除去に有効であるが、中でも活性エネルギー線硬化型インキの除去に対して極めて有効である。すなわち、インキは活性エネルギー線硬化型インキであることが好ましい。本発明における活性エネルギー線とは、紫外線や電子線などのエネルギー線を指すが、これらに限定されない。紫外線硬化型インキ（以下、ＵＶインキと記載）や電子線硬化型インキ（以下、ＥＢインキと記載）は、被印刷媒体に転写後、不活性ガスの存在下または非存在下で活性エネルギー線を照射することで瞬時に硬化するため、直ちに裏面の印刷や後加工が行えるといったメリットを有する。
【００２７】
本発明に好ましく用いることができる活性エネルギー線硬化型インキとしては、以下に記載のインキなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００２８】
＜ＵＶインキ＞
ＵＶインキとしては、例えば、特許第５１５８２７４号公報、特開２０１２−２１１２３０号公報などで開示された公知のＵＶインキが挙げられる。また、本発明のＵＶインキには、省電力（減灯）ＵＶ印刷やＬｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ（以下、ＬＥＤと記載）−ＵＶ印刷に使用される高感度ＵＶインキも含まれる。ＵＶインキは既に各インキメーカーから販売されており、容易に入手することができる。
【００２９】
＜ＥＢインキ＞
ＥＢインキとしては、例えば、特開昭５７−０７８４６８号公報、特開昭５７−１５５２７０号公報、特開昭５７−１７４３６３号公報、特開平５−３２０５５５号公報、特開平８−２８３５２９号公報、特開平８−３２５５００号公報、特開平８−３２５５０１号公報、特開平１０−０８７７４７号公報、特開２００１−１５８０８０号公報、特開２００４−１６１８１２号公報、特開２００４−３５９７６７号公報、特開２００５−０１５７５５号公報などで開示された公知のＥＢインキが挙げられる。
【００３０】
また、印刷物表面の光沢改良（光沢向上または艶消し）を目的に使用される一般公知の活性エネルギー線硬化型ニスも本発明の活性エネルギー線硬化型インキの範疇である。
【００３１】
次に、インキ除去剤について説明する。本発明におけるインキ除去剤は、インキを用いた印刷に使用されるインキ除去剤であって、少なくとも前記一般式（Ｉ）で表される化合物を含むインキ除去剤である。
【００３２】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例としては、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールジプロピオネート、エチレングリコールジブチレート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールジプロピオネート、プロピレングリコールジブチレート、１，３−プロパンジオールジアセテート、１，３−プロパンジオールジプロピオネート、１，３−プロパンジオールジブチレート、１，２−ブタンジオールジアセテート、１，２−ブタンジオールジプロピオネート、１，２−ブタンジオールジブチレート、１，３−ブタンジオールジアセテート、１，３−ブタンジオールジプロピオネート、１，３−ブタンジオールジブチレート、１，４−ブタンジオールジアセテート、１，４−ブタンジオールジプロピオネート、１，４−ブタンジオールジブチレート、１，２−ペンタンジオールジアセテート、１，２−ペンタンジオールジプロピオネート、１，２−ペンタンジオールジブチレート、１，３−ペンタンジオールジアセテート、１，３−ペンタンジオールジプロピオネート、１，３−ペンタンジオールジブチレート、１，４−ペンタンジオールジアセテート、１，４−ペンタンジオールジプロピオネート、１，４−ペンタンジオールジブチレート、１，５−ペンタンジオールジアセテート、１，５−ペンタンジオールジプロピオネート、１，５−ペンタンジオールジブチレート、１，２−ヘキサンジオールジアセテート、１，２−ヘキサンジオールジプロピオネート、１，２−ヘキサンジオールジブチレート、１，３−ヘキサンジオールジアセテート、１，３−ヘキサンジオールジプロピオネート、１，３−ヘキサンジオールジブチレート、１，４−ヘキサンジオールジアセテート、１，４−ヘキサンジオールジプロピオネート、１，４−ヘキサンジオールジブチレート、１，５−ヘキサンジオールジアセテート、１，５−ヘキサンジオールジプロピオネート、１，５−ヘキサンジオールジブチレート、１，６−ヘキサンジオールジアセテート、１，６−ヘキサンジオールジプロピオネート、１，６−ヘキサンジオールジブチレート、１，２−シクロヘキサンジオールジアセテート、１，２−シクロヘキサンジオールジプロピオネート、１，２−シクロヘキサンジオールジブチレート、１，３−シクロヘキサンジオールジアセテート、１，３−シクロヘキサンジオールジプロピオネート、１，３−シクロヘキサンジオールジブチレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアセテート、１，４−シクロヘキサンジオールジプロピオネート、１，４−シクロヘキサンジオールジブチレート、１，２−ジヒドロキシベンゼンジアセテート、１，２−ジヒドロキシベンゼンジプロピオネート、１，２−ジヒドロキシベンゼンジブチレート、１，３−ジヒドロキシベンゼンジアセテート、１，３−ジヒドロキシベンゼンジプロピオネート、１，３−ジヒドロキシベンゼンジブチレート、１，４−ジヒドロキシベンゼンジアセテート、１，４−ジヒドロキシベンゼンジプロピオネート、１，４−ジヒドロキシベンゼンジブチレート、１，２−ジヒドロキシエテンジアセテート、１，２−ジヒドロキシエテンジプロピオネート、１，２−ジヒドロキシエテンジブチレート、１，２−ジヒドロキシ−１−プロペンジアセテート、１，２−ジヒドロキシ−１−プロペンジプロピオネート、１，２−ジヒドロキシ−１−プロペンジブチレート、１，３−ジヒドロキシ−１−プロペンジアセテート、１，３−ジヒドロキシ−１−プロペンジプロピオネート、１，３−ジヒドロキシ−１−プロペンジブチレート、１，２−ジヒドロキシ−１−ブテンジアセテート、１，２−ジヒドロキシ−１−ブテンジプロピオネート、１，２−ジヒドロキシ−１−ブテンジブチレート、１，３−ジヒドロキシ−１−ブテンジアセテート、１，３−ジヒドロキシ−１−ブテンジプロピオネート、１，３−ジヒドロキシ−１−ブテンジブチレート、１，３−ジヒドロキシ−２−ブテンジアセテート、１，３−ジヒドロキシ−２−ブテンジプロピオネート、１，３−ジヒドロキシ−２−ブテンジブチレート、１，４−ジヒドロキシ−１−ブテンジアセテート、１，４−ジヒドロキシ−１−ブテンジプロピオネート、１，４−ジヒドロキシ−１−ブテンジブチレート、１，４−ジヒドロキシ−２−ブテンジアセテート、１，４−ジヒドロキシ−２−ブテンジプロピオネート、１，４−ジヒドロキシ−２−ブテンジブチレート、１，２−ジヒドロキシ−１−ペンテンジアセテート、１，２−ジヒドロキシ−１−ペンテンジプロピオネート、１，２−ジヒドロキシ−１−ペンテンジブチレート、１，３−ジヒドロキシ−１−ペンテンジアセテート、１，３−ジヒドロキシ−１−ペンテンジプロピオネート、１，３−ジヒドロキシ−１−ペンテンジブチレート、１，３−ジヒドロキシ−２−ペンテンジアセテート、１，３−ジヒドロキシ−２−ペンテンジプロピオネート、１，３−ジヒドロキシ−２−ペンテンジブチレート、１，４−ジヒドロキシ−１−ペンテンジアセテート、１，４−ジヒドロキシ−１−ペンテンジプロピオネート、１，４−ジヒドロキシ−１−ペンテンジブチレート、１，４−ジヒドロキシ−２−ペンテンジアセテート、１，４−ジヒドロキシ−２−ペンテンジプロピオネート、１，４−ジヒドロキシ−２−ペンテンジブチレート、１，４−ジヒドロキシ−３−ペンテンジアセテート、１，４−ジヒドロキシ−３−ペンテンジプロピオネート、１，４−ジヒドロキシ−３−ペンテンジブチレート、１，５−ジヒドロキシ−１−ペンテンジアセテート、１，５−ジヒドロキシ−１−ペンテンジプロピオネート、１，５−ジヒドロキシ−１−ペンテンジブチレート、１，５−ジヒドロキシ−２−ペンテンジアセテート、１，５−ジヒドロキシ−２−ペンテンジプロピオネート、１，５−ジヒドロキシ−２−ペンテンジブチレート、１，２−ジヒドロキシ−１−ヘキセンジアセテート、１，２−ジヒドロキシ−１−ヘキセンジプロピオネート、１，２−ジヒドロキシ−１−ヘキセンジブチレート、１，３−ジヒドロキシ−１−ヘキセンジアセテート、１，３−ジヒドロキシ−１−ヘキセンジプロピオネート、１，３−ジヒドロキシ−１−ヘキセンジブチレート、１，３−ジヒドロキシ−２−ヘキセンジアセテート、１，３−ジヒドロキシ−２−ヘキセンジプロピオネート、１，３−ジヒドロキシ−２−ヘキセンジブチレート、１，４−ジヒドロキシ−１−ヘキセンジアセテート、１，４−ジヒドロキシ−１−ヘキセンジプロピオネート、１，４−ジヒドロキシ−１−ヘキセンジブチレート、１，４−ジヒドロキシ−２−ヘキセンジアセテート、１，４−ジヒドロキシ−２−ヘキセンジプロピオネート、１，４−ジヒドロキシ−２−ヘキセンジブチレート、１，４−ジヒドロキシ−３−ヘキセンジアセテート、１，４−ジヒドロキシ−３−ヘキセンジプロピオネート、１，４−ジヒドロキシ−３−ヘキセンジブチレート、１，５−ジヒドロキシ−１−ヘキセンジアセテート、１，５−ジヒドロキシ−１−ヘキセンジプロピオネート、１，５−ジヒドロキシ−１−ヘキセンジブチレート、１，５−ジヒドロキシ−２−ヘキセンジアセテート、１，５−ジヒドロキシ−２−ヘキセンジプロピオネート、１，５−ジヒドロキシ−２−ヘキセンジブチレート、１，５−ジヒドロキシ−３−ヘキセンジアセテート、１，５−ジヒドロキシ−３−ヘキセンジプロピオネート、１，５−ジヒドロキシ−３−ヘキセンジブチレート、１，５−ジヒドロキシ−４−ヘキセンジアセテート、１，５−ジヒドロキシ−４−ヘキセンジプロピオネート、１，５−ジヒドロキシ−４−ヘキセンジブチレート、１，６−ジヒドロキシ−１−ヘキセンジアセテート、１，６−ジヒドロキシ−１−ヘキセンジプロピオネート、１，６−ジヒドロキシ−１−ヘキセンジブチレート、１，６−ジヒドロキシ−２−ヘキセンジアセテート、１，６−ジヒドロキシ−２−ヘキセンジプロピオネート、１，６−ジヒドロキシ−２−ヘキセンジブチレート、１，６−ジヒドロキシ−３−ヘキセンジアセテート、１，６−ジヒドロキシ−３−ヘキセンジプロピオネート、１，６−ジヒドロキシ−３−ヘキセンジブチレートなどが挙げられるが、これらに限定されない。
【００３３】
これらの化合物の中でも、インキ除去後に乾燥しやすく、直ちに印刷を再開できる点で、沸点が２４０℃以下の化合物が好ましく、２００℃以下の化合物がより好ましく、１９０℃以下の化合物がさらに好ましい。ここで、本発明における沸点とは、１気圧下において液体が沸騰しはじめる際の温度（標準沸点）を指す。
【００３４】
乾燥性の点で、前記一般式（Ｉ）で表される化合物のＲ３が炭素数３〜６の枝分かれ状飽和炭化水素基であることが好ましい。
【００３５】
また、印刷版のシリコーン層などのゴム層へのダメージ抑制の点で、前記一般式（Ｉ）で表される化合物のＲ１とＲ２が共にメチル基であることが好ましい。
【００３６】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物のＲ３が炭素数２〜６の枝分かれ状飽和炭化水素であり、かつＲ１とＲ２が共にメチル基である化合物は、乾燥性と印刷版のシリコーン層などのゴム層へのダメージ抑制を同時に達成できることからより好ましい。
【００３７】
また、インキ除去剤の融点が高い場合、室温で固化してしまい、作業性が著しく低下するため、融点としては１０℃以下であることが好ましく、０℃以下であることがより好ましい。
【００３８】
また、インキ除去剤の引火点が低いと引火のリスクが高まるため、引火点としては２１℃以上であることが好ましく、７０℃以上であることがより好ましい。
【００３９】
さらに、インキ除去剤の有害性が高い場合、人体や環境に様々な悪影響を及ぼすリスクが高まるため、より安全な化合物であることが好ましい。具体的には、毒物及び劇物取締法における毒物、劇物に該当しない化合物であることや、化学物質排出把握管理促進法における指定化学物質に該当しない化合物であること、また有機溶剤中毒予防規則における有機溶剤に該当しない化合物であることが好ましい。
【００４０】
前述した化合物のうち、乾燥性、作業性、安全性のすべてでバランスがとれる点で、プロピレングリコールジアセテートを含むインキ除去剤がさらに好ましい。すなわち、本発明においては、前記一般式（Ｉ）で表される化合物がプロピレングリコールジアセテートであることが好ましい。
【００４１】
また、前記一般式（Ｉ）で表される化合物は各々単独でインキ除去剤として用いてもよいし、複数種を混合して用いてもよい。
【００４２】
さらに、前記一般式（Ｉ）で表される化合物以外の化合物と混合してインキ除去剤としてもよい。前記一般式（Ｉ）で表される化合物以外の化合物としては、インキの除去性に優れ、印刷版のシリコーン層などのゴム層にダメージを与えにくく、かつ印刷版の感光層や感熱層などの樹脂層に対しても比較的ダメージを与えにくい（前記一般式（Ｉ）で表される化合物よりはダメージを与えやすい）点でエステル化合物が好ましく、ジカルボン酸１モルとモノアルコール２モルより得られるジエステル化合物がより好ましい。ジカルボン酸１モルとモノアルコール２モルより得られるジエステル化合物としては、シュウ酸ジメチル、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、コハク酸ジメチル、コハク酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチルなどが挙げられる。
【００４３】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物と、それ以外の化合物とを混合してインキ除去剤とする場合、インキ除去剤中の前記一般式（Ｉ）で表される化合物の含有率としては、感熱層や感光層などの樹脂層、およびシリコーン層などのゴム層へのダメージが抑制できる点で、６０重量％以上であることが好ましく、８０重量％以上であることがより好ましい。前述の通り、前記一般式（Ｉ）で表される化合物は単独でインキ除去剤として用いることもできることから、１００重量％でもよい。
【００４４】
前述の活性エネルギー線硬化型インキは、本発明のインキ除去剤と親和性の高い（メタ）アクリレート化合物のモノマー、オリゴマー、ポリマーやポリエステル化合物などを多く含むため、本発明のインキ除去剤で容易に除去することができる。
【００４５】
一方、本発明のインキ除去剤は金属に対する腐食性が一切ないため、印刷機の各胴やインキ供給部のローラーなどに用いられている金属の表面に付着したインキの除去に好適に用いることができる。また、本発明のインキ除去剤は各種ゴムに対しても親和性が低いため、印刷で一般的に使用される表面がゴム素材のローラーやブランケットの表面に付着したインキの除去に用いることもできる。中でも、Ｅｔｈｙｌｅｎｅ−Ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ−Ｄｉｅｎｅ  Ｔｅｒｐｏｌｙｍｅｒ（以下、ＥＰＤＭと記載）は低極性なゴムであり、本発明の高極性なインキ除去剤とは親和性が極めて低いことから、ＥＰＤＭを表面ゴムの主成分として使用したローラーやブランケットの場合はインキ除去時の変形などのダメージが少ない点で好適である。ＥＰＤＭを表面ゴムの主成分として使用したローラーやブランケットは、インキを用いた印刷において、世界中で広く一般的に使用されている。
【００４６】
本発明のインキ除去剤は、印刷版の表面に付着したインキの除去にも好適に用いることができる。中でも、印刷版が、樹脂層および／またはゴム層を有する態様に本発明を好ましく適用することができる、特に好ましくは、左記態様において、印刷版の樹脂層および／またはゴム層が、感熱性または感光性を有することである。
【００４７】
印刷版としては、感熱層や感光層などの樹脂層を有する印刷版が挙げられるが、エステル化合物や（メタ）アクリレート化合物、またはこれらの重合体を多く含む感熱層や感光層などの樹脂層を有する印刷版に対しては、本発明のインキ除去剤は親和性がやや高く、ダメージがやや大きいため、短時間の使用では特に問題はないが、長時間使用した場合に本来残存すべき感熱層や感光層などの樹脂層が版面から脱落するといった好ましくない結果を与えることがある。
【００４８】
一方、本発明のインキ除去剤は印刷版の感熱層や感光層などの樹脂層のベースポリマーとして広く用いられているフェノール樹脂に対して親和性が低く、ダメージが小さいため好適に用いることができる。したがって、本発明においては、樹脂層が、少なくともフェノール樹脂を含む態様が好ましい。フェノール樹脂としては、クレゾールやフェノールとホルムアルデヒドより得られるノボラック樹脂、レゾール樹脂、パラヒドロキシスチレンの単独重合体や共重合体、アセトンピロガロール樹脂などを挙げることができる。
【００４９】
フェノール樹脂を含む感熱層としては、例えば、特開平１１−２２１９７７号公報、特開２００５−３０９１２６号公報、特開２００９−０１４９４６号公報、特開２００５−３００５８６号公報、特開２００５−３３１９２４号公報、ＷＯ２０１０／１１３９８９Ａ１号公報、特開２０１２−９３７２８号公報、特開２０１２−１３３３２１号公報、特開２０１２−１３３３２２号公報、ＷＯ２０１２／０４３２８２Ａ１号公報、ＷＯ２０１２／０９９００３Ａ１号公報などに記載の感熱層などを挙げることができ、またフェノール樹脂を含む感光層としては、例えば、特開平１１−３５２６７２号公報に記載の感光層などを挙げることができる。
【００５０】
本発明のインキ除去剤は、シリコーン層などのゴム層（「インキ反発層」などと称されることもある。）を有する印刷版に付着したインキの除去にも好適に用いられる。本発明においては、ゴム層がシリコーンゴム層である態様が好ましい。シリコーンゴム層としては、公知の付加反応型シリコーンゴム層や縮合反応型シリコーンゴム層を用いることができる。
【００５１】
本発明のインキ除去剤は高極性であるため、低極性のシリコーンゴム層とは親和性が極めて低く、シリコーンゴム層を膨潤させにくい。このため、インキ除去時にシリコーンゴム層に傷が発生しにくい。
【００５２】
まず、本発明のインキ除去剤を好適に用いることができる印刷版に使用される付加反応型シリコーンゴム層について説明する。付加反応型シリコーンゴム層としては、例えば以下に記載の付加反応型シリコーンゴム層を挙げることができるが、これに限定されない。
【００５３】
少なくとも、ＳｉＨ基含有化合物、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物、下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を含むことが好ましい。また、ビニル基含有シリコーン化合物、反応触媒を含むことがさらに好ましく、反応抑制剤を含んでもよい。
【００５４】
【化２】
2017075315.tif 000003
【００５５】
（式中、ＡはＳｉＨ基とヒドロシリル化反応する官能基を表し、Ｄは加水分解性基を表す。）
【００５６】
【化３】
2017075315.tif 000004
【００５７】
（式中、ＥはＳｉＨ基とヒドロシリル化反応しない官能基を表し、Ｇは加水分解性基を表す。）
【００５８】
ＳｉＨ基含有化合物としては、１分子中に３個以上のＳｉＨ基を有する化合物が挙げられる。例えば、オルガノハイドロポリシロキサン、オルガノハイドロシロキサン・ジオルガノシロキサン共重合体、分子中にジオルガノハイドロシロキシ基を３個以上有する化合物が挙げられる。中でも、オルガノハイドロポリシロキサン、オルガノハイドロシロキサン・ジオルガノシロキサン共重合体が好ましい。これらを２種以上含有してもよい。ＳｉＨ基含有化合物１分子中のＳｉＨ基数としては、シリコーンゴム層の硬化性を向上させる上で５個以上が好ましく、６個以上がより好ましい。
【００５９】
オルガノハイドロポリシロキサンやオルガノハイドロシロキサン・ジオルガノシロキサン共重合体は、直鎖状、環状、分岐状、網状の分子構造を有する。また、珪素原子と結合している有機基は同じであっても異なっていてもよく、それぞれ脂肪族不飽和結合を含まない一価の有機基を示す。脂肪族不飽和結合を含まない一価の有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基などのアルキル基；フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基などのアリール基；ベンジル基、フェネチル基などのアラルキル基；クロロメチル基、３−クロロプロピル基、３，３，３−トリフロロプロピル基などのハロゲン化アルキル基などが挙げられる。
【００６０】
ＳｉＨ基含有化合物の含有率としては、シリコーンゴム層組成物液中０．５重量％以上がシリコーンゴム層の硬化性を向上させる上で好ましく、１重量％以上がより好ましい。また、１０重量％以下がインキ反発性を向上させる上で好ましく、５重量％以下がより好ましい。
【００６１】
前記一般式（ＩＩ）で表される化合物は、式中のＡがＳｉＨ基とヒドロシリル化反応する官能基であり、Ｄが加水分解性基である化合物である。ＳｉＨ基とヒドロシリル化反応する官能基Ａとしては、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。中でも、ＳｉＨ基含有化合物との反応性やインキ反発性を向上させる上でビニル基が好ましい。加水分解性基Ｄとしては、アルコキシ基、エノキシ基、ジアルキルケトキシミノ基、アセトキシ基などが挙げられる。中でも、下層との接着力向上に重要な対下層反応性を向上させる上で、ジアルキルケトキシミノ基、アセトキシ基が好ましい。このような前記一般式（ＩＩ）で表される化合物の具体例としては、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリス（メチルエチルケトキシミノ）シランなどが挙げられるが、これらに限定されない。下層にフェノール性水酸基が含まれる場合には、Ｄがジアルキルケトキシミノ基である化合物を用いることが特に好適であり、少量の添加で高い接着力が得られる。下層に対する高い反応性に加え、ジアルキルケトキシミノ基が弱酸であるフェノール性水酸基との間で塩を形成しやすいことから、シリコーンゴム層／下層界面への前記一般式（ＩＩ）で表される化合物の成分集中が促進されるためと考えられる。
【００６２】
前記一般式（ＩＩ）で表される化合物の含有率は、シリコーンゴム層組成物液中０．５重量％以上が対下層接着性を向上させる点で好ましい。また、インキ反発性を向上させる点で、シリコーンゴム層組成物液中２重量％以下が好ましく、１．５重量％以下がより好ましい。
【００６３】
前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は、式中のＥがＳｉＨ基とヒドロシリル化反応しない官能基であり、Ｇが加水分解性基である化合物である。ＳｉＨ基とヒドロシリル化反応しない官能基Ｅとしては、アルキル基、フェニル基、３−グリシドキシプロピル基、３−イソシアナートプロピル基などが挙げられる。中でも、下層との接着力向上に重要な対下層反応性を向上させる点で、アルキル基またはフェニル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。加水分解性基Ｇとしては、アルコキシ基、エノキシ基、ジアルキルケトキシミノ基、アセトキシ基などが挙げられる。中でも、下層との接着力向上に重要な対下層反応性を向上させる上で、ジアルキルケトキシミノ基、アセトキシ基が好ましい。このような前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の具体例としては、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、メチルトリス（メチルエチルケトキシミノ）シラン、エチルトリス（メチルエチルケトキシミノ）シラン、フェニルトリス（メチルエチルケトキシミノ）シランなどが挙げられるが、これらに限定されない。下層にフェノール性水酸基が含まれる場合には、Ｇがジアルキルケトキシミノ基である化合物を用いることが特に好適であり、少量の添加で高い接着力が得られる。下層に対する高い反応性に加え、ジアルキルケトキシミノ基が弱酸であるフェノール性水酸基との間で塩を形成しやすいことから、シリコーンゴム層／下層界面への前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の成分集中が促進されるためと考えられる。
【００６４】
前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の含有率は、シリコーンゴム層組成物液中０．５重量％以上が対下層接着性を向上させる点で好ましい。また、インキ反発性を向上させる点で、シリコーンゴム層組成物液中５．５重量％以下が好ましく、４．５重量％以下がより好ましい。
【００６５】
対下層接着性とインキ反発性とを両立させる点で、前記一般式（ＩＩ）で表される化合物の重量％と前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の重量％の合計が２．５〜６重量％の範囲内であることが好ましい。
【００６６】
ビニル基含有シリコーン化合物としては、下記一般式（ＩＶ）で表される化合物を挙げることができ、分子中に２個以上のビニル基を有するシリコーン化合物である。中でも分子主鎖の両末端にビニル基を有する化合物がシリコーンゴム層の硬化性を向上させる点で好ましい。また、これらを２種以上含有してもよい。
【００６７】
【化４】
2017075315.tif 000005
【００６８】
前記一般式（ＩＶ）で表される化合物中、Ｔは下記一般式（Ｖ）で表される官能基である。
【００６９】
【化５】
2017075315.tif 000006
【００７０】
前記一般式（ＩＶ）で表される化合物、および前記一般式（Ｖ）で表される官能基中、Ｒ４はビニル基または脂肪族不飽和結合を含まない一価の有機基のいずれかを示し、Ｒ５は脂肪族不飽和結合を含まない一価の有機基を示す。脂肪族不飽和結合を含まない一価の有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基などのアルキル基；フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基などのアリール基；ベンジル基、フェネチル基などのアラルキル基；クロロメチル基、３−クロロプロピル基、３，３，３−トリフロロプロピル基などのハロゲン化アルキル基などが挙げられる。ａは０〜４，０００、ｂは０〜５、ｃは０〜２，０００、およびｄは０〜４，０００の整数を示す。Ｒ４が脂肪族不飽和結合を含まない一価の有機基である場合、ｂは２以上の整数であり、Ｒ４とＲ５、Ｒ４のそれぞれおよびＲ５のそれぞれは独立で、同じであっても異なっていてもよい。また、少なくともａ、ｂ、ｃのいずれか１つは１以上の整数であり、ｄは０または１以上の整数である。
【００７１】
前記一般式（ＩＶ）で表される化合物、および前記一般式（Ｖ）で表される官能基中、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ全体の５０モル％以上がメチル基であることが、印刷版のインキ反発性の面で好ましい。また、ビニル基含有シリコーン化合物の重量平均分子量としては、３０，０００以上が耐刷性や耐傷性を向上させる点で好ましく、画像再現性を向上させる点で、３００，０００以下が好ましい。
【００７２】
ビニル基含有シリコーン化合物の重量平均分子量は、一般公知のＧｅｌ  Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ  Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ−Ｌｏｗ  Ａｎｇｌｅ  Ｌａｓｅｒ  Ｌｉｇｈｔ  Ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ法（以下、ＧＰＣ−ＬＡＬＬＳ法と記載）により求めることができる。
【００７３】
ビニル基含有シリコーン化合物の含有率は、シリコーンゴム層組成物液中６０重量％以上がシリコーンゴム層のインキ反発性を向上させる点で好ましく、７０重量％以上がより好ましい。また、シリコーンゴム層の硬化性を確保する点で、９９重量％以下が好ましい。
【００７４】
シリコーンゴム層組成物液中のＳｉＨ基数とＳｉＨ基とヒドロシリル化反応する官能基数の比（ＳｉＨ基数／ＳｉＨ基とヒドロシリル化反応する官能基数）は１以上であることが好ましい。ＳｉＨ基数とＳｉＨ基とヒドロシリル化反応する官能基数の比が１未満であると、シリコーンゴム層の硬化が不十分となり、画像再現性、耐刷性、インキ反発性などの印刷版原版や印刷版にとって重要な多くの特性が著しく低下する場合がある。ＳｉＨ基数とＳｉＨ基とヒドロシリル化反応する官能基数の比が１以上であれば、シリコーンゴム層の硬化が十分となるため好ましい。また、ＳｉＨ基数とＳｉＨ基とヒドロシリル化反応する官能基数の比が２以下であれば、インキ反発性が良好となるため好ましい。１．２〜１．８の範囲内がより好ましい。
【００７５】
本発明のインキ除去剤を好適に用いることができる印刷版に使用される付加反応型シリコーンゴム層には硬化触媒を用いることができる。
【００７６】
硬化触媒としては、ヒドロシリル化反応触媒として公知のものを用いることができるが、反応性が高い点から白金、ロジウムを含有することが好ましい。具体的には、白金単体、担体（アルミナ、シリカ、カーボンブラック等）に固体白金を担持させたもの、塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシラン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体、白金−ホスフィン錯体、白金−ホスファイト錯体、白金−アセチルアセトン錯体、白金−アセト酢酸アルキルエステル錯体、白金−マロン酸ジアルキルエステル錯体、また、Ａｓｈｂｙらの米国特許第３１５９６０１号公報および米国特許第３１５９６６２号号公報に記載された白金−炭化水素複合体、並びにＬａｍｏｒｅａｕｘらの米国特許第３２２０９７２号公報に記載された白金アルコラ−ト触媒も挙げられる。また、白金化合物以外の触媒の例としては、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ３）３、ＲｈＣｌ３、Ｒｈ／Ａl２Ｏ３、ＲｕＣｌ３、ＩｒＣｌ３、ＦｅＣｌ３、ＡｌＣｌ３、ＰｄＣｌ２・２Ｈ２Ｏ、ＮｉＣｌ２、ＴｉＣｌ４等が挙げられる。これらの硬化触媒は単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７７】
硬化触媒の含有率としては、シリコーンゴム層組成物液中０．００１重量％以上がシリコーンゴム層の硬化性を向上させる点で好ましく、０．０１重量％以上がより好ましい。また、シリコーンゴム層組成物液や、その溶液の安定性を向上させる点で、シリコーンゴム層組成物液中２０重量％以下が好ましく、１５重量％以下がより好ましい。
【００７８】
反応抑制剤としては、ヒドロシリル化反応抑制剤または反応遅延剤として公知のものを用いることができる。アミン化合物、アセチレン化合物が好ましく、ピリジン、ピコリン、２，２’−ジピリジル、２−ブタノンオキシムや、アセチレンアルコール、アセチレンシランなどがより好ましく挙げられる。アセチレンアルコールとしては、たとえば２−メチル−３−ブチン−２−オール、２−フェニル−３−ブチン−２−オール、１−エチニル−１−ヘキサノール、３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール、３−メチル−１−ペンチン−３−オールなどが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。これらの反応抑制剤を含有することにより、シリコーンゴム層組成物液や、その溶液の安定性が向上する。
【００７９】
反応抑制剤の含有率は、シリコーンゴム層組成物液中０．０１重量％以上がシリコーンゴム層組成物液や、その溶液の安定性を向上させる点で好ましく、０．１重量％以上がより好ましい。また、シリコーンゴム層の硬化性を確保する点で、シリコーンゴム層組成物液中２０重量％以下が好ましく、１５重量％以下がより好ましい。
【００８０】
次に、本発明のインキ除去剤を好適に用いることができる印刷版に使用される縮合反応型シリコーンゴム層について説明する。縮合反応型シリコーンゴム層としては、例えば以下に記載の縮合反応型シリコーンゴム層を挙げることができるが、これに限定されない。
【００８１】
少なくとも、シラノール基含有シリコーン化合物、シランカップリング剤を含むことが好ましい。また、反応触媒を含んでもよい。
【００８２】
シラノール基含有シリコーン化合物としては、一般式（ＶＩ）で表される化合物を挙げることができ、分子中に２個以上のシラノール基を有するオルガノポリシロキサンである。中でも分子主鎖の両末端にシラノール基を有する化合物がシリコーンゴム層の硬化性を向上させる点で好ましい。また、これらを２種以上含有してもよい。
【００８３】
【化６】
2017075315.tif 000007
【００８４】
前記一般式（ＶＩ）中、Ｊは下記一般式（ＶＩＩ）で示される官能基である。
【００８５】
【化７】
2017075315.tif 000008
【００８６】
前記一般式（ＶＩ）および（ＶＩＩ）中、Ｒ６は水酸基または一価の有機基のいずれかを示し、Ｒ７は一価の有機基を示す。一価の有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基などのアルキル基；フェニル基、トルイル基、キシリル基、ナフチル基などのアリール基；ベンジル基、フェネチル基などのアラルキル基；クロロメチル基、３−クロロプロピル基、３，３，３−トリフロロプロピル基などのハロゲン化アルキル基などが挙げられる。ｅは０〜４，０００、ｆは０〜５、ｇは０〜２，０００、およびｈは０〜４，０００の範囲内の整数を示す。Ｒ６が一価の有機基である場合、ｆは２以上の整数であり、Ｒ６およびＲ７はそれぞれ独立し、同じであっても異なっていてもよい。また、少なくともｅ、ｆ、ｇのいずれか１つは１以上の整数であり、ｈは０または１以上の整数である。
【００８７】
前記一般式（ＶＩ）および（ＶＩＩ）中、Ｒ６およびＲ７はそれぞれ全体の５０モル％以上がメチル基であることが、平版印刷版のインキ反発性の面で好ましい。
【００８８】
また、シラノール基含有シリコーン化合物の重量平均分子量としては、３０，０００以上が耐刷性や耐傷性を向上させる点で好ましく、硬化性や画像再現性を向上させる点で、３００，０００以下が好ましい。
【００８９】
シラノール基含有シリコーン化合物の重量平均分子量は、前述したＧＰＣ−ＬＡＬＬＳ法により測定することができる。
【００９０】
シラノール基含有シリコーン化合物の含有量は、シリコーンゴム層のインキ反発性を向上させる点で、シリコーンゴム層組成物液中６０重量％以上であることが好ましく、７０重量％以上がより好ましい。また、シリコーンゴム層の硬化性を確保する点で、９９重量％以下が好ましい。
【００９１】
シランカップリング剤としては、４官能のシランカップリング剤および／または３官能のシランカップリング剤であることが好ましい。
【００９２】
４官能のシランカップリング剤としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラノルマルプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラノルマルブトキシシラン、テトラキス（２−エチルヘキソキシ）シラン、テトラキス（２−オクチルドデシロキシ）シラン、テトラアリロキシシラン、テトラフェノキシシラン、テトラキス（メトキシエトキシ）シラン、テトラキス（エトキシエトキシ）シラン、テトラキス（１−メトキシ−２−プロポキシ）シラン、テトラキス（メトキシエトキシエトキシ）シラン、テトラアセトキシシラン、テトラキス（トリフルオロアセトキシ）シラン、テトラキス（メチルエチルケトキシミノ）シラン、テトラキス（メチルイソブチルケトキシミノ）シランなどが挙げられるが、これらに限定されない。中でも、硬化性の点でテトラアセトキシシラン、テトラキス（トリフルオロアセトキシ）シラン、テトラキス（メチルエチルケトキシミノ）シラン、テトラキス（メチルイソブチルケトキシミノ）シランが好ましい。これらを２種以上含有してもよい。
【００９３】
４官能のシランカップリング剤の含有率としては、シリコーンゴム層組成物液中に０．５重量％以上１．５重量％以下含有することが好ましい。０．５重量％以上であれば硬化性が良好となり、１．５重量%以下であれば耐傷性が良好となる。
【００９４】
３官能のシランカップリング剤としては、下記一般式（ＶＩＩＩ）で表される３官能のシランカップリング剤を含有することが下層に対する接着力をより向上できる点で好ましい。
【００９５】
【化８】
2017075315.tif 000009
【００９６】
一般式（ＶＩＩＩ）中、Ｌは炭素数１以上の置換もしくは非置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基、またはこれらの組み合わされた基を表す。反応性の点で、アルケニル基やアリール基が好ましい。Ｍは加水分解性基を表し、同一でも異なってもよい。Ｍとしては、アセトキシ基などのアシロキシ基、メチルエチルケトオキシム基などのケトオキシム基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基、イソプロペノキシ基などのアルケニルオキシ基、アセチルエチルアミノ基などのアシルアルキルアミノ基、ジメチルアミノキシ基などのアミノキシ基などが挙げられる。
【００９７】
具体的な化合物としては、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、アリルトリアセトキシシラン、フェニルトリアセトキシシランなどのアセトキシシラン類、メチルトリス（メチルエチルケトキシミノ）シラン、エチルトリス（メチルエチルケトキシミノ）シラン、ビニルトリス（メチルエチルケトキシミノ）シラン、アリルトリス（メチルエチルケトキシミノ）シラン、フェニルトリス（メチルエチルケトキシミノ）シランなどのケトキシミノシラン類、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシランなどのアルコキシシラン類、ビニルトリスイソプロペノキシシラン、トリイソプロペノキシメチルシランなどのアルケニルオキシシラン類などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの中では、反応性の点でアセトキシシラン類、ケトキシミノシラン類が好ましい。これらを２種以上含有してもよい。
【００９８】
３官能のシランカップリング剤の含有率としては、シリコーンゴム層組成物液中に１重量％以上１０重量％以下含有することが好ましい。１重量％以上であれば下層に対する接着力がより向上し、１０重量％以下であれば耐傷性やインキ反発性が良好となる。
【００９９】
前述した４官能のシランカップリング剤および／または３官能のシランカップリング剤に加え、アミノ基を有するシランカップリング剤を含有してもよい。
【０１００】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、下記一般式（ＩＸ）〜（ＸＩ）で表される化合物から選択される一種類以上が挙げられる。
【０１０１】
【化９】
2017075315.tif 000010
【０１０２】
一般式（ＩＸ）〜（ＸＩ）中、Ｘは水素、炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、トルイル基のいずれかを表し、Ｒは炭素数１〜３のアルキル基を表す。
【０１０３】
下層との接着性や耐傷性を向上させる点で、Ｒはメチル基であることが好ましい。
【０１０４】
アミノ基を有するシランカップリング剤の含有量としては、シリコーンゴム層組成物液中に０．２重量％以上０．４重量％以下であり、この範囲内であれば下層との接着性が良好となる。
【０１０５】
４官能のシランカップリング剤、３官能のシランカップリング剤、アミノ基を有するシランカップリング剤などの全シランカップリング剤の合計含有率としては、シリコーンゴム層組成物液中に２重量％以上１０重量％以下含有することが好ましい。２重量％以上であればシリコーンゴム層組成物液のポットライフが良好となり、１０重量％以下であれば耐傷性やインキ反発性が良好となる。
【０１０６】
触媒としては、有機カルボン酸、酸類、アルカリ、アミン、金属アルコキシド、金属ジケテネート、錫、鉛、亜鉛、鉄、コバルト、カルシウム、マンガンなどの金属の有機酸塩などが挙げられる。具体的には、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクテート、ジブチル錫ジラウレート、オクチル酸亜鉛、オクチル酸鉄などを挙げることができる。これらを２種以上含有してもよい。
【０１０７】
触媒の含有率としては、シリコーンゴム層組成物液中に０．０１重量％以上１重量％以下含有することが好ましい。０．０１重量％以上であればシリコーンゴム層の硬化性や下層との接着性が良好となり、１重量％以下であればシリコーンゴム層組成物液の安定性が良好となる。
【０１０８】
前述した付加反応型シリコーンゴム層や縮合反応型シリコーンゴム層のインキ反発性を更に向上させる目的で、シリコーンゴム層組成物液に２５℃での表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下の液体を含むことが好ましい。特に好ましくは、各シリコーンゴム層組成物液に２５℃での表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下の液体を含むことである。表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下であれば、シリコーンゴム層表面に前記２５℃での表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下の液体が表出し、インキの剥離を助けるためインキ反発性が向上し、地汚れ開始温度を上昇させることができる。前記液体が、２５℃での表面張力が２２ｍＮ／ｍ以下の液体であることがインキ反発性を向上させる上でより好ましく、２１ｍＮ／ｍ以下であることがさらに好ましい。表面張力は、一般公知の測定方法であるＷｉｌｈｅｌｍｙ法（プレート法や垂直板法と呼ばれることもある）により測定することができる。また、２５℃での表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下の液体の１気圧における沸点としては、１５０℃以上が好ましい。沸点が１５０℃以上であれば、印刷版原版の製造時や保管時における前記２５℃での表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下の液体の揮発が抑制されるため、高インキ反発性を維持できる。シリコーンゴム層中への２５℃での表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下の液体の含有率としては、１０〜２５重量％の範囲内が好ましい。１０重量％以上であればインキ反発性が顕著に向上し、２５重量％以下であればシリコーンゴム層の強度が十分確保できるため、耐刷性を維持することができる。
【０１０９】
本発明のインキ除去剤は高極性であるため、２５℃での表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下の液体とは親和性が極めて低く、相溶しにくい。このため、インキ除去時に２５℃での表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下の液体の抽出が起こりにくく、インキ除去部のインキ反発性が低下しにくい。
【０１１０】
２５℃での表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下の液体としては、シリコーン化合物であることが好ましく、シリコーンオイルがより好ましい。ここで言うシリコーンオイルとは、シリコーンゴム層の架橋に携わらないポリシロキサン成分を指す。具体的には、分子鎖末端がトリメチルシリル基のポリジメチルシロキサン、環状ポリジメチルシロキサン、分子鎖末端がトリメチルシリル基のジメチルシロキサン−メチルフェニルシロキサンコポリマー、分子鎖末端がトリメチルシリル基のジメチルシロキサン−ジフェニルシロキサンコポリマーなどのジメチルシリコーンオイル類、また、アルキル変性シリコーンオイル、フッ素変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アルコール変性シリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、エポキシポリエーテル変性シリコーンオイル、フェノール変性シリコーンオイル、カルボキシ変性シリコーンオイル、メルカプト変性シリコーンオイル、アミド変性シリコーンオイル、カルバナ変性シリコーンオイル、高級脂肪酸変性シリコーンオイルなどの分子中のメチル基の一部に各種有機基を導入した変性シリコーンオイル類などが挙げられる。２５℃での表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下の液体の分子量としては、重量平均分子量で２００〜１００，０００の範囲内が好ましい。重量平均分子量が２００以上であれば印刷版原版の製造時や保管時における前記２５℃での表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下の液体の揮発が抑制され、１００，０００以下であればシリコーンゴム層からのブリードアウトが抑制される。
【０１１１】
また、シリコーンゴム層組成物液には前述した化合物の他に、ゴム強度を向上させる目的でシリカやＱレジンなどの公知の補強剤を含有してもよい。
【０１１２】
さらに、現像後の印刷版に検版性を付与する目的で、シリコーンゴム層が着色されていてもよい。シリコーンゴム層を着色する方法としては、例えば、特開２００２−２４４２７９号公報に記載の有色染料による着色や、ＷＯ２００８／０５６５８８号公報に記載の有色顔料による着色を挙げることができる。
【０１１３】
シリコーンゴム層は、シリコーンゴム層組成物液を基板または基板上に設けられた別の層に塗布することで形成できる。また、シリコーンゴム層組成物液は、必要により溶剤に溶解してシリコーンゴム層組成物溶液とし、基板または基板上に設けられた別の層に塗布してシリコーンゴム層を形成できる。基板は塗布面を脱脂しておくことが好ましい。
【０１１４】
塗布装置としては、スリットダイコーター、グラビアコーター、ロールコーターが好ましい。
【０１１５】
シリコーンゴム層の膜重量は０．６〜１０ｇ／ｍ２の範囲内であることが好ましい。シリコーンゴム層の膜重量を０．６ｇ／ｍ２以上とすることで印刷版のインキ反発性や耐傷性、耐刷性が十分となり、１０ｇ／ｍ２以下とすることで経済的見地から不利とならず、画像再現性、インキマイレージの低下が起こりにくい。１〜５ｇ／ｍ２の範囲内がより好ましい。
【０１１６】
シリコーンゴム層組成物液またはシリコーンゴム層組成物溶液を乾燥してシリコーンゴム層を形成する場合には、乾燥は非加熱下または加熱下において実施される。加熱する場合には、熱風乾燥機、赤外線乾燥機などを用いて、５０〜２５０℃の温度で、３０秒〜５分間乾燥することが好ましい。
【０１１７】
また、印刷版には、接着性の向上や光ハレーションの防止、検版性向上、断熱性向上、耐刷性向上などを目的として断熱層を有してもよい。断熱層としては、例えば特開２００４−１９９０１６号公報、特開２００４−３３４０２５号公報、特開２００６−２７６３８５号公報などに記載された断熱層が挙げられるが、これらに限定されない。
【０１１８】
次に、印刷版原版から印刷版を製造する方法について説明する。印刷版の製造方法としては、少なくとも前記印刷版原版を露光する工程（露光工程）、露光部または未露光部いずれかのシリコーンゴム層を除去する工程（現像工程）を含む方法が挙げられる。
【０１１９】
まず、露光工程について説明する。印刷版原版を露光する方法としては、（１）ポジ用またはネガ用の原画フィルムを印刷版原版表面に密着させた後、原画フィルム側から全面に紫外線照射を行う方法と、（２）原画フィルムを用いることなく、デジタルデータに従い、特定発光波長のレーザー光により直描型印刷版原版に直接画像を書き込む方法（ＣＴＰ）とが挙げられる。ＣＴＰ方式での露光に用いられるレーザー光源としては、発光波長領域が３５０〜１，５００ｎｍの範囲にあるものが挙げられる。
【０１２０】
次に、現像工程について説明する。露光後の印刷版原版は、液体の存在下または非存在下で摩擦することにより、露光部または未露光部いずれかのシリコーンゴム層が除去される。摩擦処理としては、例えば、（ｉ）液体の非存在下、現像用パッド、ブラシ、乾燥木綿パッドなどで版面を擦る方法、（ｉｉ）水または界面活性剤を添加した水を含浸した不織布、脱脂綿、布、スポンジなどで版面を拭き取る方法、（ｉｉｉ）水または界面活性剤を添加した水を版面に接触させながら回転ブラシで擦る方法、（ｉｖ）高圧の水や温水または水蒸気を版面に噴射する方法などが挙げられる。界面活性剤としては、水溶液にしたときにｐＨが５〜８になるものが好ましく、界面活性剤の含有率としては水溶液の１０重量％以下であることが好ましい。このような水溶液は安全性が高く、廃棄コストなどの経済性の点でも好ましい。
【０１２１】
現像に先立ち、前処理液中に一定時間版を浸漬する前処理を行ってもよい。前処理液としては、例えば、水、水にアルコールやケトン、エステル、カルボン酸などの極性溶媒を添加したもの、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類などの少なくとも１種からなる溶媒に極性溶媒を添加したもの、あるいは極性溶媒が用いられる。中でも、グリコール化合物あるいはグリコールエーテル化合物を主成分として用いた前処理液が好ましい。また、前処理液中にアミン化合物や、前述した界面活性剤などを添加してもよい。
【０１２２】
前処理液としては、特開昭６３−１７９３６１号公報、特開平４−１６３５５７号公報、特開平４−３４３３６０号公報、特開平９−３４１３２号公報、ＷＯ１９９７／０１７６３４号公報に記載された前処理液などを挙げることができる。前処理液の具体例としては、ＰＰ−１、ＰＰ−３、ＰＰ−Ｆ、ＰＰ−ＦＩＩ、ＰＴＳ−１、ＰＨ−７Ｎ、ＣＰ−１、ＮＰ−１、ＤＰ−１、ＣＰ−Ｙ（いずれも東レ（株）製）などを挙げることができる。
【０１２３】
また、画線部の視認性や網点の計測精度を高める目的から、水または界面活性剤を添加した水にクリスタルバイオレット、ビクトリアピュアブルー、アストラゾンレッドなどの染料を添加して現像と同時に画線部のインキ受容層の染色を行うこともできる。さらには、現像の後に前記の染料を添加した液によって染色することもできる。
【０１２４】
前記現像工程の一部または全部は、自動現像機により自動的に行うこともできる。自動現像機としては現像部のみの装置、前処理部および現像部がこの順に設けられた装置、前処理部、現像部および後処理部がこの順に設けられた装置、前処理部、現像部、後処理部および水洗部がこの順に設けられた装置などを使用できる。このような自動現像機の具体例としては、ＴＷＬ−６５０シリーズ、ＴＷＬ−８６０シリーズ、ＴＷＬ−１１６０シリーズ（いずれも東レ（株）製）などや、特開平４−２２６５号公報、特開平５−２２７２号公報、特開平５−６０００号公報などに開示されている自動現像機を挙げることができ、これらを単独または併用して使用することができる。
【０１２５】
インキやインキ除去剤などの薬品に対する耐性を更に向上させる目的で、印刷版に加熱処理（以下、バーニング処理と記載）を施してもよい。現像前（露光前、露光後）の印刷版をバーニング処理すると印刷版の感度や現像性が著しく低下するため、バーニング処理は現像後の印刷版に施すことが好ましい。現像後の印刷版のバーニング処理には、熱風乾燥機、赤外線乾燥機、バーニングプロセッサーなど一般公知の加熱装置を用いることができる。バーニング処理の温度としては、印刷版の構成成分の種類にもよるが、薬品耐性向上の点で１４０℃以上が好ましく、印刷版を構成する化合物の分解を抑制する点で３００℃以下が好ましい。バーニング処理の時間としては、薬品耐性向上の点で０．５分以上が好ましく、印刷版の生産性の点で６０分以下が好ましい。
【０１２６】
前述した感熱層または感光層などの樹脂層のうち、バーニング処理による薬品耐性の向上効果が特に顕著となる点で、本発明においては、前記フェノール樹脂または金属キレートを有する、感熱層または感光層などの樹脂層が用いられることが好ましい。つまり、本発明では、印刷版の樹脂層が金属キレートを含むことが好ましい態様の一つである。前記フェノール樹脂と金属キレートを同時に有する感熱層または感光層などの樹脂層を用いることが更に好ましい。
【０１２７】
金属キレートとしては、Ａｌ（ＩＩＩ）、Ｆｅ（ＩＩ）、Ｆｅ（ＩＩＩ）、Ｔｉ（ＩＶ）、Ｚｒ（ＩＶ）のβ−ジケトン錯体、β−ケトエステル錯体、β−ジエステル錯体、トリエタノールアミン錯体などが挙げられる。中でも、感熱層組成物液や感光層組成物液のポットライフや印刷版の薬品耐性の点でＴｉ（ＩＶ）のβ−ジケトン錯体やβ−ケトエステル錯体が好ましい。
【０１２８】
Ｔｉ（ＩＶ）のβ−ジケトン錯体としては、チタニウムジメトキシビス（アセチルアセトネート）、チタニウムジエトキシビス（アセチルアセトネート）、チタニウムジ−ｎ−プロポキシビス（アセチルアセトネート）、チタニウムジ−ｉｓｏ−プロポキシビス（アセチルアセトネート）、チタニウムジ−ｎ−ブトキシビス（アセチルアセトネート）、チタニウムジ−ｓｅｃ−ブトキシビス（アセチルアセトネート）、チタニウムジ−ｔｅｒｔ−ブトキシビス（アセチルアセトネート）、チタニウムテトラキス（アセチルアセトネート）、チタニウムジメトキシビス（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート）、チタニウムジエトキシビス（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート）、チタニウムジ−ｎ−プロポキシビス（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート）、チタニウムジ−ｉｓｏ−プロポキシビス（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート）、チタニウムジ−ｎ−ブトキシビス（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート）、チタニウムジ−ｓｅｃ−ブトキシビス（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート）、チタニウムジ−ｔｅｒｔ−ブトキシビス（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート）、チタニウムテトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート）などを挙げることができるが、これらに限定されない。
【０１２９】
Ｔｉ（ＩＶ）のβ−ケトエステル錯体としては、チタニウムジメトキシビス（メチルアセトアセテート）、チタニウムジエトキシビス（メチルアセトアセテート）、チタニウムジ−ｎ−プロポキシビス（メチルアセトアセテート）、チタニウムジ−ｉｓｏ−プロポキシビス（メチルアセトアセテート）、チタニウムジ−ｎ−ブトキシビス（メチルアセトアセテート）、チタニウムジ−ｓｅｃ−ブトキシビス（メチルアセトアセテート）、チタニウムジ−ｔｅｒｔ−ブトキシビス（メチルアセトアセテート）、チタニウムテトラキス（メチルアセトアセテート）、チタニウムジメトキシビス（エチルアセトアセテート）、チタニウムジエトキシビス（エチルアセトアセテート）、チタニウムジ−ｎ−プロポキシビス（エチルアセトアセテート）、チタニウムジ−ｉｓｏ−プロポキシビス（エチルアセトアセテート）、チタニウムジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）、チタニウムジ−ｓｅｃ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）、チタニウムジ−ｔｅｒｔ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）、チタニウムテトラキス（エチルアセトアセテート）、チタニウムジメトキシビス（プロピルアセトアセテート）、チタニウムジエトキシビス（プロピルアセトアセテート）、チタニウムジ−ｎ−プロポキシビス（プロピルアセトアセテート）、チタニウムジ−ｉｓｏ−プロポキシビス（プロピルアセトアセテート）、チタニウムジ−ｎ−ブトキシビス（プロピルアセトアセテート）、チタニウムジ−ｓｅｃ−ブトキシビス（プロピルアセトアセテート）、チタニウムジ−ｔｅｒｔ−ブトキシビス（プロピルアセトアセテート）、チタニウムテトラキス（プロピルアセトアセテート）、チタニウムジメトキシビス（ブチルアセトアセテート）、チタニウムジエトキシビス（ブチルアセトアセテート）、チタニウムジ−ｎ−プロポキシビス（ブチルアセトアセテート）、チタニウムジ−ｉｓｏ−プロポキシビス（ブチルアセトアセテート）、チタニウムジ−ｎ−ブトキシビス（ブチルアセトアセテート）、チタニウムジ−ｓｅｃ−ブトキシビス（ブチルアセトアセテート）、チタニウムジ−ｔｅｒｔ−ブトキシビス（ブチルアセトアセテート）、チタニウムテトラキス（ブチルアセトアセテート）などを挙げることができるが、これらに限定されない。
【０１３０】
また、印刷版の他の製造方法としては、前記シリコーンゴム層組成物液またはシリコーンゴム層組成物溶液を、基板上または基板上に設けられた別の層の上にインクジェットなどを用いて直接パターニングし、加熱下または非加熱下でシリコーンゴム層を乾燥、硬化する方法が挙げられる。加熱する場合には、熱風乾燥機、赤外線乾燥機などを用いて、５０〜１５０℃の温度で、３０秒〜５分間乾燥することが好ましい。
【０１３１】
次に、印刷におけるインキ除去方法について説明する。本発明においては、本発明のインキ除去剤を用いて、印刷版に付着したインキが除去する方法が採用されることが好ましい。印刷機の各胴、ローラー、ブランケット、印刷版の表面に付着したインキは、本発明のインキ除去剤を含ませた不織布、脱脂綿、または布（ウエスなど）で拭き取ることで除去できる。また、印刷機に自動洗浄機構が備わっている場合には、自動洗浄機構に本発明のインキ除去剤を使用してインキの自動除去を行ってもよい。さらに、ローラーやブランケットとして表面ゴムの主成分がＥＰＤＭのローラー、ブランケットを用い、かつ印刷版としてフェノール樹脂を含む感熱層または感光層などの樹脂層を有する印刷版を用いる場合、ローラー、ブランケット、印刷版のすべてを本発明のインキ除去剤１種類でインキ除去することができるため、多種類のインキ除去剤を用意する必要がない。さらに、ローラーを版胴に装着された印刷版に接触させ、胴入れした状態でインキ除去を行えば、ローラー、印刷版、ブランケットを同時にインキ除去できるため、インキ除去時間の短縮がはかれる。
【０１３２】
インキ除去後に印刷を再開する際、ローラー、印刷版、ブランケットなどの表面にインキ除去剤が多く残存していると、残存したインキ除去剤とインキが混和してインキの物性を大きく変化させてしまい、地汚れなどの印刷不良の原因となりやすいため、印刷前にインキ除去剤を乾燥させておくことが好ましい。乾燥性の高いインキ除去剤であれば特段乾燥工程を経ることなく、インキ除去後、直ちに印刷を再開してもよい。インキ除去剤の乾燥方法としては、印刷機のローラー、版胴、ブランケット胴を接触させた状態、または非接触の状態で回転（空転）させる方法や、乾いた不織布、脱脂綿、布（ウエスなど）で拭き取る方法、送風機で送風する方法、印刷機のローラー、版胴、ブランケット胴を接触させた状態でヤレ紙などの紙を通す方法などが挙げられる。また、これらの方法を組み合わせて実施してもよい。
【実施例】
【０１３３】
以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説明する。また、各実施例・比較例における評価は次の方法で行った。
【０１３４】
＜各実施例・比較例における評価方法＞
（１）シリコーン化合物の重量平均分子量測定（ＧＰＣ−ＬＡＬＬＳ法）
以下条件により、ビニル基含有シリコーン化合物およびシラノール基含有シリコーン化合物の重量平均分子量を求めた。
＜測定条件＞
ａ．ＧＰＣ
装置：２０１Ｄ型ゲル浸透クロマトグラフ（日本ウォーターズ（株）製）
カラム：ＴＳＫ−ＧＥＬ−ＧＭＨ６：２本、Ｇ２５００ＨＸＬ：１本（東ソー（株）製）
溶媒：トルエン
流速：０．８ｍｌ／分
温度：２３℃
試料濃度：０．３００％（ｗｔ／ｖｏｌ）
溶解性：完全溶解
注入量：０．４ｍｌ
濃度検出器：示差屈折率検出器：Ｒ−４０１（日本ウォーターズ（株）製）
ｂ．ＬＡＬＬＳ
装置：ＫＭＸ−６型低角度レーザー光散乱光度計（Ｃｈｒｏｍａｔｉｘ社製）
波長：６３３ｎｍ
屈折率濃度変化（ｄｎ／ｄｃ）：下記条件で得られた実測値
装置:ＫＭＸ−１６型レーザー示差屈折率計（Ｃｈｒｏｍａｔｉｘ社製）
波長：６３３ｎｍ
溶媒：トルエン
温度：２３℃
ゲイン：Ｐ０＝５００ｍＶ
温度：２３℃
フィルター：０．３μ−Ｆｌｕｏｒｏ  Ｐｏｒｅ  ＦＰ−０３０（住友電工（株）製）。
【０１３５】
（２）インキ除去剤の乾燥性の評価
インキ除去剤の乾燥性を以下の方法で評価した。
【０１３６】
印刷機：“ＯＬＩＶＥＲ”４６６ＳＤ（（株）桜井グラフィックシステムズ製）の版胴に取り付けた印刷版の画線部（縦５ｃｍ×横１０ｃｍのベタ）を、インキ除去剤を含ませたウエスで拭いた後、版胴を２０００ｒｐｍの速度で空転させ、任意時間後のインキ除去剤の乾燥状態を評価した。空転５分で完全に乾燥した場合を乾燥性極めて良好（評点：Ａ）、空転８分で完全に乾燥した場合を乾燥性良好（評点：Ｂ＋）、空転１０分で完全に乾燥した場合を乾燥性やや良好（評点：Ｂ）、空転１０分でも完全に乾燥していない場合を乾燥性不良（評点：Ｃ）とした。
【０１３７】
なお、前記印刷版の画線部は以下の製版（露光、現像）条件にて作製した。
＜露光条件＞
露光機：“ＰｌａｔｅＲｉｔｅ”８８００Ｅ（大日本スクリーン製造（株）製）
露光量：１２５ｍＪ／ｃｍ２
＜現像条件＞
自動現像機：ＴＷＬ−１１６０ＦＩＩ（東レ（株）製）
前処理液：ＣＰ−Ｙ（東レ（株）製、液温:４５℃）
現像液：水道水（液温：３０℃）
後処理液：ＰＡ−１（東レ（株）製、液温:３０℃）
水洗：水道水（液温：３０℃）
現像速度：８０ｃｍ／分。
【０１３８】
（３）インキ除去性の評価
インキを展開した印刷版の画線部（縦５ｃｍ×横１０ｃｍのベタ）を、インキ除去剤を含ませたウエスで拭いた際のインキの拭き取りやすさを評価した。ウエス拭き１往復以内でインキが除去できた場合を除去性極めて良好（評点：Ａ）、５往復以内でインキが除去できた場合を除去性良好（評点：Ｂ）とした。また、５往復以内でインキが除去できない場合は、評点ＣまたはＤとし、具体的には、１０往復以内でインキが除去できた場合を除去性やや良好（評点：Ｃ）、１０往復でもインキが除去できない場合を除去性不良（評点：Ｄ）とした。
【０１３９】
（４）感熱層、感光層のインキ除去剤耐性の評価
ホットプレート上で３０℃に保持した印刷版の非画線部上にコットンパッド（縦５ｃｍ×横５ｃｍ）を乗せ、コットンパッドにインキ除去剤を含ませたのち任意時間静置した。任意時間後、インキ除去剤を含んだコットンパッドを取り除き、乾いたウエスで強く１０往復こすり、感熱層のダメージに伴うシリコーンゴム層の剥離程度を観察した。３０分おきに最長６００分までシリコーンゴム層の剥離が認められるまで試験した。
・３０分でシリコーンゴム層が剥離した場合の除去剤耐性：＜３０分
・３０分ではシリコーンゴム層が剥離せず、６０分で剥離した場合の除去剤耐性：３０分
・６０分ではシリコーンゴム層が剥離せず、９０分で剥離した場合の除去剤耐性：６０分
・９０分ではシリコーンゴム層が剥離せず、１２０分で剥離した場合の除去剤耐性：９０分
・１２０分ではシリコーンゴム層が剥離せず、１５０分で剥離した場合の除去剤耐性：１２０分
・１５０分ではシリコーンゴム層が剥離せず、１８０分で剥離した場合の除去剤耐性：１５０分
・１８０分ではシリコーンゴム層が剥離せず、２１０分で剥離した場合の除去剤耐性：１８０分
・２１０分ではシリコーンゴム層が剥離せず、２４０分で剥離した場合の除去剤耐性：２１０分
・２４０分ではシリコーンゴム層が剥離せず、２７０分で剥離した場合の除去剤耐性：２４０分
・２７０分ではシリコーンゴム層が剥離せず、３００分で剥離した場合の除去剤耐性：２７０分
・３００分ではシリコーンゴム層が剥離せず、３３０分で剥離した場合の除去剤耐性：３００分
・３３０分ではシリコーンゴム層が剥離せず、３６０分で剥離した場合の除去剤耐性：３３０分
・３６０分ではシリコーンゴム層が剥離せず、３９０分で剥離した場合の除去剤耐性：３６０分
・３９０分ではシリコーンゴム層が剥離せず、４２０分で剥離した場合の除去剤耐性：３９０分
・４２０分ではシリコーンゴム層が剥離せず、４５０分で剥離した場合の除去剤耐性：４２０分
・４５０分ではシリコーンゴム層が剥離せず、４８０分で剥離した場合の除去剤耐性：４５０分
・４８０分ではシリコーンゴム層が剥離せず、５１０分で剥離した場合の除去剤耐性：４８０分
・５１０分ではシリコーンゴム層が剥離せず、５４０分で剥離した場合の除去剤耐性：５１０分
・５４０分ではシリコーンゴム層が剥離せず、５７０分で剥離した場合の除去剤耐性：５４０分
・５７０分ではシリコーンゴム層が剥離せず、６００分で剥離した場合の除去剤耐性：５７０分
・６００分でもシリコーンゴム層が剥離しない場合の除去剤耐性：＞６００分。
【０１４０】
（５）シリコーンゴム層のインキ除去傷耐性の評価
印刷機の版胴に取り付けた印刷版の非画線部（縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの範囲）を、インキ除去剤を含ませたウエスで強く１０往復拭いた後、以下印刷条件で印刷を行った。
＜印刷条件＞
インキローラー：トラスト・ゼータ（テクノロール（株）製）
ブランケット：ＭＣ１３００（（株）金陽社製）
インキ：高感度ＵＶインキ：リッチキュアＷＬプロセスＳＩ−Ｈ３墨Ｎ（内外インキ製造（株）製）
印刷物上のベタ部反射濃度：１．８
版面温度：２８℃
印刷速度：８，０００ｓｐｈ
被印刷媒体：ＯＫトップコート＋（王子製紙（株）製）
【０１４１】
印刷物上でインキ除去に由来する傷が一切認められない場合を傷耐性良好（評点：Ａ）、インキ除去に由来する傷が認められた場合を傷耐性不良（評点：Ｂ）とした。
【０１４２】
（６）版面インキ除去後のインキ反発性評価
印刷機の版胴に取り付けた印刷版の非画線部（縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの範囲）を、インキ除去剤を含ませたコットンパッドで３０往復拭いた後、以下印刷条件で印刷を行った。
＜印刷条件＞
インキローラー：トラスト・ゼータ（テクノロール（株）製）
ブランケット：ＭＣ１３００（（株）金陽社製）
インキ：高感度ＵＶインキ：リッチキュアＷＬプロセスＳＩ−Ｈ３墨Ｎ（内外インキ製造（株）製）
印刷物上の未拭き取り白ベタ部反射濃度：０．１０
版面温度：２８℃
印刷速度：２，０００ｓｐｈ
被印刷媒体：ＯＫトップコート＋（王子製紙（株）製）
【０１４３】
インキ除去剤で拭き取った部分に対応する印刷物上の非画線部反射濃度が０．１５以下であった場合をインキ反発性良好（評点：Ａ）、０．２０以下であった場合をインキ反発性やや不良（評点：Ｂ）、０．２１以上であった場合をインキ反発性不良（評点：Ｃ）とした。
【０１４４】
（７）インキローラーおよびブランケットのインキ除去剤耐性の評価
インキ除去剤によるインキローラーおよびブランケットの表面ゴムへのダメージを評価するため、インキ除去剤浸漬後のインキローラーおよびブランケットの表面ゴムの膨潤率を以下の方法で測定した。インキ除去剤浸漬後の膨潤率が大きいほど、インキローラーおよびブランケットの表面ゴムへのダメージが大きく、変形による印刷不良を起こしやすい。
【０１４５】
インキローラーおよびブランケットの表面ゴム部分を１０×１０×１ｍｍのサイズにカットし、重量を測定した（重量Ａ）。重量測定後のカットサンプルをインキ除去剤で満たされたスクリュー管（容量：３０ｍｌ）に入れ、３５℃で４８時間静置した。インキ除去剤中で４８時間静置したカットサンプルをスクリュー管から取り出し、表面に付着したインキ除去剤をコットンパッドで軽く拭き取った後、直ちに重量を測定した（重量Ｂ）。得られた重量Ａと重量Ｂの測定値を用いて、以下の計算方法で膨潤率［重量％］を求めた。
膨潤率［重量％］＝１００×（重量Ｂ［ｇ］−重量Ａ［ｇ］）／重量Ａ［ｇ］
【０１４６】
膨潤率が０重量％の場合をダメージなし（評点：Ａ）、１〜５重量％の場合をややダメージあり（評点：Ｂ）、６重量％以上の場合をダメージ大きい（評点：Ｃ）とした。
【０１４７】
［実施例１〜９、比較例１〜８］
インキ除去剤の種類を変更し、前述の方法で、インキ除去剤の乾燥性、インキ除去性、感熱層のインキ除去剤耐性、シリコーンゴム層のインキ除去傷耐性、版面インキ除去後のインキ反発性を評価した。
【０１４８】
インキ除去性評価用のインキとしては、高感度ＵＶインキ：リッチキュアＷＬプロセスＳＩ−Ｈ３墨Ｎ（内外インキ製造（株）製）を使用した。
【０１４９】
インキ除去剤としては以下のものを使用した。
・エチレングリコールジアセテート（東京化成工業（株）製）
・プロピレングリコールジアセテート（和光純薬工業（株）製）
・１，４−ブタンジオールジアセテート：“セルトール”（登録商標）１，４−ＢＤＤＡ（（株）ダイセル製）
・１，３−ブチレングリコールジアセテート：“セルトール”１，３−ＢＧＤＡ（（株）ダイセル製）
・１，６−ヘキサンジオールジアセテート：“セルトール”１，６−ＨＤＤＡ（（株）ダイセル製）
・１，２−プロピレングリコールジブチレート（（株）井上香料製造所製）
・マレイン酸ジメチル（和光純薬工業（株）製）
・シュウ酸ジエチル（和光純薬工業（株）製）
・マロン酸ジエチル（和光純薬工業（株）製）
・コハク酸ジメチル（東京化成工業（株）製）
・ジベンジルエーテル（和光純薬工業（株）製）
・エチレングリコールモノエチルエーテル（東京化成工業（株）製）
・３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール（和光純薬工業（株）製）
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（東京化成工業（株）製）。
【０１５０】
印刷版としては以下のものを使用した。
【０１５１】
厚さ０．２４ｍｍの脱脂したアルミ基板（三菱アルミ（株）製）上に、下記の断熱層組成物溶液を塗布し、２００℃で９０秒間乾燥し、膜重量１０ｇ／ｍ２の断熱層を設けた。
【０１５２】
＜断熱層組成物溶液＞
容器中に下記（ａ）成分を投入し、スリーワンモーターにて攪拌しながら（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）成分を順次ゆっくりと投入し、成分が均一になるまで攪拌混合した。得られた混合液中に（ｆ）、（ｇ）成分を投入して１０分間攪拌混合することで断熱層組成物溶液を得た。
（ａ）下記酸化チタン分散液：“タイペーク”（登録商標）ＣＲ−５０（石原産業（株）製）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド分散液（酸化チタン５０重量％）：６０重量部
（ｂ）エポキシ樹脂：“ＪＥＲ”（登録商標）１０１０（三菱化学（株）製）：３５重量部
（ｃ）ポリウレタン：“サンプレン”（登録商標）ＬＱ−Ｔ１３３１Ｄ（三洋化成工業（株）製、固形分濃度：２０重量％）：３７５重量部
（ｄ）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：７３０重量部
（ｅ）メチルエチルケトン：２５０重量部
（ｆ）アルミキレート：“アルミキレート”ＡＬＣＨ−ＴＲ（川研ファインケミカル（株）製）：１０重量部
（ｇ）レベリング剤：“ディスパロン”（登録商標）ＬＣ９５１（楠本化成（株）製、固形分：１０重量％）：１重量部。
【０１５３】
＜酸化チタン分散液の作製＞
ジルコニアビーズ：“ＹＴＺ”（登録商標）ボール（φ１ｍｍ、（株）ニッカトー製）１，６００．０ｇを充填した密閉可能なガラス製規格瓶中に、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：５００．０ｇと“タイペーク”（登録商標）ＣＲ−５０（石原産業（株）製）：５００．０ｇを投入し、密閉後、小型ボールミル回転架台（アズワン（株）製）にセットし、０．４ｍ／秒の回転速度で７日間分散することで、酸化チタン分散液を得た。
【０１５４】
次いで、下記の感熱層組成物溶液を前記断熱層上に塗布し、１４０℃で９０秒間加熱し、膜重量１．４ｇ／ｍ２の感熱層を設けた。なお、感熱層組成物溶液は、下記成分を室温にて撹拌混合することにより得た。
【０１５５】
＜感熱層組成物溶液＞
（ａ）フェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂：“スミライトレジン”（登録商標）ＰＲ５３１９５（住友ベークライト（株）製）：４５．０重量部
（ｂ）ポリウレタン溶液：“ニッポラン”（登録商標）５１９６（日本ポリウレタン（株）製、固形分濃度：３０重量％）：６２．５重量部
（ｃ）赤外線吸収染料：“ＰＲＯＪＥＴ”８２５ＬＤＩ（（株）Ａｖｅｃｉａ製）：１２．０重量部
（ｄ）チタニウムジ−ｎ−ブトキシビス（アセチルアセトネート）溶液：“ナーセム”（登録商標）チタン（日本化学産業（株）製、固形分濃度：７３重量％）：２８．５重量部
（ｅ）ポリオキシプロピレンジアミン／グリシジルメタクリレート／３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン＝１／３／１モルの反応物（固形分濃度：５０重量％）：２２．５重量部
（ｆ）テトラヒドロフラン：７１７．０重量部
（ｇ）エタノール：１１２．５重量部。
【０１５６】
次いで、下記のシリコーンゴム層組成物溶液−１を前記感熱層上に塗布し、１４０℃で８０秒間加熱し、膜重量２．０ｇ／ｍ２のシリコーンゴム層を設けた。
【０１５７】
＜シリコーンゴム層組成物溶液−１＞
容器中に下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）成分を投入し、成分が均一になるまで攪拌混合した。得られた溶液を乾燥窒素で２０分間バブリングすることで溶液中の水分を除去した。得られた溶液中に（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）成分を投入して１０分間攪拌混合したのち、（ｇ）成分を投入してさらに１０分間攪拌混合した。塗布直前に（ｈ）成分を投入し攪拌混合することでシリコーンゴム層組成物溶液−１を得た。
（ａ）イソパラフィン系溶剤：“アイソパー”（登録商標）Ｅ（エクソンモービルケミカル社製）：８９４．０５重量部
（ｂ）ビニル基含有シリコーン化合物（両末端ジメチルビニルシロキシ−ポリジメチルシロキサン）：“ＤＭＳ”−Ｖ３５（ＧＥＬＥＳＴ  Ｉｎｃ．製、重量平均分子量：４９，５００、分子中のビニル基数：２個）：７３．６８重量部
（ｃ）２５℃での表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下の液体（両末端トリメチルシロキシ−ポリジメチルシロキサン）：ＫＦ−９６−５０ｃｓ（信越化学工業（株）製、粘度平均分子量：３，７８０、２５℃での表面張力：２０．８ｍＮ／ｍ、沸点：＞１５０℃）：２０．００重量部
（ｄ）ＳｉＨ基含有化合物（両末端トリメチルシロキシ−メチルハイドロシロキサン−ジメチルシロキサンコポリマー）：“ＨＭＳ”−３０１（ＧＥＬＥＳＴ  Ｉｎｃ．製、重量平均分子量：１，９６０、ＳｉＨ基当量：２４５、分子中のＳｉＨ基数：８個）：２．２７重量部
（ｅ）ビニルトリス（メチルエチルケトキシミノ）シラン：１．００重量部
（ｆ）フェニルトリアセトキシシラン：３．００重量部
（ｇ）反応抑制剤：γ−ピコリン：１．００重量部
（ｈ）反応触媒（白金混合物）：ＸＣ９４−Ｃ４３２６（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、固形分濃度：１重量％）：５．００重量部。
【０１５８】
各水準の条件と結果を表１、表２に示す。
【０１５９】
【表１】
2017075315.tif 000011
【０１６０】
【表２】
2017075315.tif 000012
【０１６１】
［実施例１０〜１２］
インキ種類を変更して前述の方法でインキ除去性を評価した。
・ＬＥＤ−ＵＶインキ：フラッシュドライＬＥＤアクワレスＦＣ墨２Ｍ（東洋インキ（株）製）
・ＵＶインキ：ベストキュアＵＶ１７１ＣＴ墨Ｍ−ＴＷ（（株）Ｔ＆Ｋ  ＴＯＫＡ製）
・油性インキ：ドライオカラーナチュラリス墨Ｎ（ＤＩＣグラフィックス（株）製）
各水準の条件と結果を表３に示す。
【０１６２】
【表３】
2017075315.tif 000013
【０１６３】
［実施例１３〜１５］
感熱層、シリコーンゴム層を以下に変更して、前述の方法で感熱層または感光層のインキ除去剤耐性、シリコーンゴム層のインキ除去傷耐性、版面インキ除去後のインキ反発性を評価した。（２５℃での表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下の液体を含まないシリコーン層組成物溶液−３を用いた水準（実施例１４、１５）はインキ反発性評価未実施）。
【０１６４】
＜感光層組成物溶液＞
（ａ）１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロライドと“スミライトレジン”ＰＲ５０７３１の部分エステル化物＜エステル化度３６％＞：１００重量部
（ｂ）“サンプレン”（登録商標）ＬＱ−Ｔ１３３１Ｄ：５０重量
（ｃ）４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン：１０重量部
（ｄ）ポリイソシアネート：“ミリオネート”ＭＲ２００：２０重量部
（ｅ）ジブチル錫ジアセテート：０.２重量部
（ｆ）酢酸：２重量部
（ｇ）テトラヒドロフラン：８００重量部。
【０１６５】
＜シリコーンゴム層組成物溶液−２＞
容器中に下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）成分を投入し、成分が均一になるまで攪拌混合した。得られた溶液を乾燥窒素で２０分間バブリングすることで溶液中の水分を除去した。得られた溶液中に（ｄ）成分を投入して１０分間攪拌混合したのち、（ｅ）成分を投入してさらに１０分間攪拌混合することでシリコーンゴム層組成物溶液−２を得た。
（ａ）“アイソパー”（登録商標）Ｅ：９００．００重量部
（ｂ）シラノール基含有シリコーン化合物（両末端シラノール−ポリジメチルシロキサン）：“ＤＭＳ”−Ｓ３５（ＧＥＬＥＳＴ  Ｉｎｃ．製、重量平均分子量：４９，０００、分子中のシラノール基数：２個）：７３．６８重量部
（ｃ）ＫＦ−９６−５０ｃｓ：２０．００重量部
（ｄ）ビニルトリス（メチルエチルケトキシミノ）シラン：６．２７重量部
（ｅ）反応触媒：ジブチル錫ジアセテート：０．０５重量部。
【０１６６】
＜シリコーンゴム層組成物溶液−３＞
容器中に下記（ａ）、（ｂ）成分を投入し、成分が均一になるまで攪拌混合した。得られた溶液を乾燥窒素で２０分間バブリングすることで溶液中の水分を除去した。得られた溶液中に（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）成分を投入して１０分間攪拌混合したのち、（ｆ）成分を投入してさらに１０分間攪拌混合した。塗布直前に（ｇ）成分を投入し攪拌混合することでシリコーンゴム層組成物溶液−３を得た。
（ａ）“アイソパー”（登録商標）Ｅ：８９４．０５重量部
（ｂ）“ＤＭＳ”−Ｖ３５：９３．６８重量部
（ｃ）“ＨＭＳ”−３０１：２．２７重量部
（ｄ）ビニルトリス（メチルエチルケトキシミノ）シラン：１．００重量部
（ｅ）フェニルトリス（メチルエチルケトキシミノ）シラン：３．００重量部
（ｆ）γ−ピコリン：１．００重量部
（ｇ）ＸＣ９４−Ｃ４３２６：５．００重量部。
【０１６７】
各水準の条件と結果を表４に示す。
【０１６８】
【表４】
2017075315.tif 000014
【０１６９】
［実施例１６〜２０］
インキローラー、ブランケットを変更して、前述の方法でインキローラーおよびブランケットのインキ除去剤耐性を評価した。
【０１７０】
＜インキローラー＞
・ＵＶ−Ｂ（（株）金陽社製、表面材質：ＥＰＤＭ）
・スーパーレックス（宮川ローラー（株）製、表面材質：ＮＢＲ）
・トラスト・ゼータ（テクノロール（株）製、表面材質：ウレタン樹脂）。
【０１７１】
＜ブランケット＞
・ＭＣ１３００（（株）金陽社製、表面材質：ＥＰＤＭ）
・Ｓ７４００（（株）金陽社製、表面材質：ＮＢＲ）。
【０１７２】
各水準の条件と結果を表５に示す。
【０１７３】
【表５】
2017075315.tif 000015
【０１７４】
［実施例２１〜３２、比較例９〜１１］
感熱層および感光層の種類、シリコーンゴム層の種類、現像後の印刷版のバーニング処理条件、インキ除去剤の種類を変更し、前述の方法で感熱層および感光層のインキ除去剤耐性、版面インキ除去後のインキ反発性を評価した。
【０１７５】
各水準の条件と結果を表６に示す。
【０１７６】
【表６】
2017075315.tif 000016