(57)【要約】【課題】製造誤差により像高毎に生じる光束形状の変形を改善し、歩留まりの向上を図ることできる光走査装置の製造方法および光走査装置の調整装置を提供する。【解決手段】光源と、該光源からの光束を偏向して被走査面を主走査方向に光走査する偏向器と、該偏向器により偏向された光束を前記被走査面に集光する結像光学系と、前記光源からの光束を前記偏向器に入射させる入射光学系と、を有する光走査装置の製造方法であって、前記被走査面における前記光束の結像性能に基づいて、前記入射光学系の少なくとも一部および前記光源の少なくとも一方の副走査方向における位置を調整する第１の工程と、前記第１の工程で調整された副走査方向の位置に前記入射光学系および前記光源を固定する第２の工程と、を有する。【選択図】図１
2017203833.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、
該光源からの光束を偏向して被走査面を主走査方向に光走査する偏向器と、
該偏向器により偏向された光束を前記被走査面に集光する結像光学系と、
前記光源からの光束を前記偏向器に入射させる入射光学系と、
を有する光走査装置の製造方法であって、
前記被走査面における前記光束の結像性能に基づいて、前記入射光学系の少なくとも一部および前記光源の少なくとも一方の副走査方向における位置を調整する第１の工程と、
前記第１の工程で調整された副走査方向の位置に前記入射光学系および前記光源を固定する第２の工程と、
を有することを特徴とする光走査装置の製造方法。
【請求項２】
前記入射光学系の少なくとも一部および前記光源の少なくとも一方を光軸方向に変位させることにより、被走査面の有効走査領域における中心像高と異なる調整像高におけるピント調整を行う第３の工程を有することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置の製造方法。
【請求項３】
前記調整像高における前記結像光学系の光軸方向の位置変化に対する主走査断面内でのピント移動量をＥＳｉ、
前記中心像高における前記結像光学系の光軸方向の位置変化に対する主走査断面内でのピント移動量をＥＳ０、とするとき、
前記調整像高について、
｜ＥＳｉ｜／｜ＥＳ０｜＞３．０
なる条件を満足することを特徴とする請求項２に記載の光走査装置の製造方法。
【請求項４】
前記第３の工程は、前記第１の工程の前に設けられることを特徴とする請求項２または３に記載の光走査装置の製造方法。
【請求項５】
前記第１の工程と前記第３の工程との間に、前記被走査面における前記光源からの光束の照射位置を調整する第４の工程を有することを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載の光走査装置の製造方法。
【請求項６】
前記第４の工程では、前記照射位置を主走査方向および副走査方向において調整することを特徴とする請求項５に記載の光走査装置の製造方法。
【請求項７】
前記調整像高における前記結像光学系の光軸方向の位置変化に対する主走査断面内のピント移動量をＥＳｉ、
画像中心像高における前記結像光学系の光軸方向の位置変化に対する主走査断面内のピント移動量をＥＳ０、
前記調整像高における前記光源と前記入射光学系の副走査方向の相対位置変化に対する副走査断面内のピント移動量をＴＳｉ、
画像中心像高における前記光源と前記入射光学系の副走査方向の相対位置変化に対する副走査断面内のピント移動量をＴＳ０、
とするとき、
前記調整像高について、
｜ＥＳｉ｜／｜ＥＳ０｜＞３．０
｜ＴＳｉ｜／｜ＴＳ０｜＞０．７
なる条件を満足することを特徴とする請求項２に記載の光走査装置の製造方法。
【請求項８】
前記第１の工程では、前記被走査面における前記光束のスポット径に基づいて調整を行うことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光走査装置の製造方法。
【請求項９】
前記第１の工程では、前記スポット径が最小となるように調整を行うことを特徴とする請求項８に記載の光走査装置の製造方法。
【請求項１０】
前記第１の工程では、前記被走査面におけるＭＴＦ値に基づいて調整を行うことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光走査装置の製造方法。
【請求項１１】
前記第１の工程では、前記ＭＴＦ値が最大となるように調整を行うことを特徴とする請求項１０に記載の光走査装置の製造方法。
【請求項１２】
前記第１の工程で、前記被走査面における前記結像光学系の波面収差に基づいて調整を行うことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光走査装置の製造方法。
【請求項１３】
前記第１の工程では、前記波面収差が最小となるように調整を行うことを特徴とする請求項１２に記載の光走査装置の製造方法。
【請求項１４】
前記第１の工程で、前記被走査面における前記光束のスポット光量に基づいて調整を行うことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光走査装置の製造方法。
【請求項１５】
前記第１の工程では、前記スポット光量が最大となるように調整を行うことを特徴とする請求項１４に記載の光走査装置の製造方法。
【請求項１６】
前記調整像高は、光軸に対して前記光源と反対側の主走査方向の領域にあることを特徴とする請求項２乃至７のいずれか１項に記載の光走査装置の製造方法。
【請求項１７】
前記入射光学系は１つのレンズで構成されることを特徴とする請求項１乃至１６のいずれか１項に記載の光走査装置の製造方法。
【請求項１８】
前記結像光学系は１つのレンズで構成されることを特徴とする請求項１乃至１７のいずれか１項に記載の光走査装置の製造方法。
【請求項１９】
前記調整像高にセンサを備えることを特徴とする請求項２乃至８のいずれか１項に記載の光走査装置の製造方法。
【請求項２０】
光源と、
該光源からの光束を偏向して被走査面を主走査方向に光走査する偏向器と、
該偏向器により偏向された光束を前記被走査面に集光する結像光学系と、
前記光源からの光束を前記偏向器に入射させる入射光学系と、
を有する光走査装置の調整装置であって、
前記被走査面における前記光源からの光束の結像性能を最良化するように、前記入射光学系の少なくとも一部および前記光源の少なくとも一方において副走査方向の位置を調整可能な調整機構を有することを特徴とする光走査装置の調整装置。
【請求項２１】
前記調整機構は、主走査方向、副走査方向、光軸方向のいずれにも移動可能であることを特徴とする請求項２０に記載の光走査装置の調整装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光走査装置の製造方法および光走査装置の調整装置に関し、例えば電子写真プロセスを有するレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）やデジタル複写機やマルチファンクションプリンタ（多機能プリンタ）等の画像形成装置に好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、レーザービームプリンタ、デジタル複写機等の画像形成装置に用いられる光走査装置は、コンパクト化及び低コスト化が求められている。この要望に対して、結像光学系（走査光学系）のレンズのプラスチックモールド化、小型化により、コストダウンが図られてきた。
【０００３】
このような光走査装置、若しくはその走査光学系（ｆθレンズ）は、種々提案されている。走査光学系を１枚のトーリックレンズで構成し、像面湾曲、歪曲収差等を良好に補正すると共に、偏向器の製造誤差によるジッターや副走査方向のスポット径の像高変化の影響を低減した光走査装置が提案されている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−７６０１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述した従来の光走査装置においては、レンズ構成枚数の削減、小型化により、各光学面の屈折力分担が大きくなり、レンズ及びレンズを固定する支持部材の製造誤差による性能劣化が大きくなる。このような光学系に対し、支持部材に光学部品が取り付けられた状態で、光源（レーザーダイオード）の位置、或いは入射光学系の一部を移動させることで、所謂光学調整が行われてきた。
【０００６】
しかし、副走査方向に関し、従来の光学調整は、被走査面における光束（スポット）の位置調整のみであって、被走査面における光束（スポット）の結像性能調整はされていなかった。これにより、製造誤差による偏向器の副走査断面内の倒れなどによって、被走査面における像高毎に生じる光束形状の変形に関して調整できなかった。
【０００７】
本発明の目的は、製造誤差により像高毎に生じる光束形状の変形を改善し、歩留まりの向上を図ることできる光走査装置の製造方法および光走査装置の調整装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明に係る光走査装置の製造方法は、光源と、該光源からの光束を偏向して被走査面を主走査方向に光走査する偏向器と、該偏向器により偏向された光束を前記被走査面に集光する結像光学系と、前記光源からの光束を前記偏向器に入射させる入射光学系と、を有する光走査装置の製造方法であって、前記被走査面における前記光束の結像性能に基づいて、前記入射光学系の少なくとも一部および前記光源の少なくとも一方の副走査方向における位置を調整する第１の工程と、前記第１の工程で調整された副走査方向の位置に前記入射光学系および前記光源を固定する第２の工程と、を有することを特徴とする。
【０００９】
また、本発明に係る光走査装置の調整装置は、光源と、該光源からの光束を偏向して被走査面を主走査方向に光走査する偏向器と、該偏向器により偏向された光束を前記被走査面に集光する結像光学系と、前記光源からの光束を前記偏向器に入射させる入射光学系と、
を有する光走査装置の調整装置であって、前記被走査面における前記光源からの光束の結像性能を最良化するように、前記入射光学系の少なくとも一部および前記光源の少なくとも一方において副走査方向の位置を調整可能な調整機構を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、製造誤差により像高毎に生じる光束形状の変形を改善し、歩留まりの向上を図ることできる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施形態に係る製造方法で製造された光走査装置における光学系を示す主走査断面図である。
【図２】（Ａ）は第１の実施形態の調整前における結像スポット径８５μｍとなる主走査断面内の光束による各像高でのピント位置、（Ｂ）は第１の実施形態の調整前における結像スポット径９５μとなる副走査断面内の光束による各像高でのピント位置である。
【図３】（Ｃ）は第１の実施形態の調整後における結像スポット径８５μｍとなる主走査断面内の光束による各像高でのピント位置、（Ｄ）は第１の実施形態の調整後における結像スポット径９５μとなる副走査断面内の光束による各像高でのピント位置である。
【図４】（Ａ）は第２の実施形態の調整前における結像スポット径８５μｍとなる主走査断面内の光束による各像高でのピント位置、（Ｂ）は第２の実施形態の調整前における結像スポット径９５μとなる副走査断面内の光束による各像高でのピント位置である。
【図５】（Ｃ）は第２の実施形態の調整後における結像スポット径８５μｍとなる主走査断面内の光束による各像高でのピント位置、（Ｄ）は第２の実施形態の調整後における結像スポット径９５μとなる副走査断面内の光束による各像高でのピント位置である。
【図６】（Ａ）は従来例における光学部品の偏芯状態と光源調整の関係を示す図、（Ｂ）は本発明の実施形態における光学部品の偏芯状態と光源調整の関係を示す図である。
【図７】本発明の実施形態に係る製造方法におけるピント調整の概念図である。
【図８】結像スポット径の定義の概念図である。
【図９】第１の実施形態に係る光走査装置の製造方法における調整フローである。
【図１０】第２の実施形態に係る光走査装置の製造方法における調整フローである。
【図１１】本発明の実施形態に係る製造方法で製造された光走査装置を搭載した画像形成装置の全体を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下に、本発明の好ましい実施の形態を、添付の図面に基づいて詳細に説明する。以下の説明で、副走査方向とは、偏向器の回転軸と平行な方向である。また、主走査断面とは、副走査方向を法線とする断面である。また、副走査断面とは、主走査方向を法線とする断面である。また、主走査方向とは、偏向器で偏向走査される光束を主走査断面に投射した方向である。
【００１３】
《第１の実施形態》
（画像形成装置）
図１１は、本発明の実施形態に係る製造方法で製造された光走査装置を搭載した画像形成装置の全体を示す断面図（副走査断面図）である。図１１で、１０４は画像形成装置を示す。なお、本明細書における製造方法は、出荷前の組立時に限らず、出荷後の調整時も含むものである。
【００１４】
画像形成装置１０４には、パーソナルコンピュータ等の外部機器１１７からコードデータＤｃが入力する。このコードデータＤｃは、装置内のプリンタコントローラ１１１によって、画像データ（ドットデータ）Ｄｉに変換される。
【００１５】
この画像データＤｉは、後述する光走査装置としての光走査ユニット１００に入力される。そして、この光走査ユニット１００からは、画像データＤｉに応じて変調された光ビーム１０３が出射され、この光ビーム１０３によって感光ドラム１０１の感光面が主走査方向（図１１の紙面垂直方向）に走査される。
【００１６】
静電潜像担持体（感光体）たる感光ドラム１０１は、モータ１１５によって時計廻りに回転させられる。そして、この回転に伴って、感光ドラム１０１の感光面が光ビーム１０３に対して、主走査方向と直交する副走査方向に移動する。感光ドラム１０１の上方には、感光ドラム１０１の表面を一様に帯電せしめる帯電ローラ１０２が表面に当接するように設けられている。そして、帯電ローラ１０２によって帯電された感光ドラム１０１の表面に、光走査ユニット１００によって走査される光ビーム１０３が照射されるようになっている。
【００１７】
光ビーム１０３は、画像データＤｉに基づいて変調されており、この光ビーム１０３を照射することによって感光ドラム１０１の表面に静電潜像を形成せしめる。この静電潜像は、光ビーム１０３の照射位置よりもさらに感光ドラム１０１の回転方向の下流側で感光ドラム１０１に当接するように配設された現像器１０７によってトナー像として現像される。
【００１８】
現像器１０７によって現像されたトナー像は、感光ドラム１０１の下方で、感光ドラム１０１に対向するように配設された転写ローラ１０８によって被転写材たる用紙（転写材）１１２上に転写される。用紙１１２は感光ドラム１０１の前方（図１１において右側）の用紙カセット１０９内に収納されているが、手差しでも給紙が可能である。用紙カセット１０９端部には、給紙ローラ１１０が配設されており、用紙カセット１０９内の用紙１１２を搬送路へ送り込む。
【００１９】
以上のようにして、未定着トナー像を転写された用紙１１２は、さらに感光ドラム１０１の後方（図において左側）の定着器へと搬送される。この定着器は、内部に定着ヒータ（図示せず）を有する定着ローラ１１３と、この定着ローラ１１３に圧接するように配設された加圧ローラ１１４とを備える。転写部から搬送されてきた用紙１１２を、定着ローラ１１３と加圧ローラ１１４の圧接部（ニップ部）にて加圧しながら加熱することにより、用紙１１２上の未定着トナー像を定着せしめる。定着ローラ１１３の後方には排紙ローラ１１６が配設されており、定着された用紙１１２を画像形成装置の外に排出せしめる。
【００２０】
なお、プリントコントローラ１１１は、上述したデータの変換だけでなく、制御部として、モータ１１５など画像形成装置内の各部や、光走査ユニット１００内の後述する偏向器としての回転多面鏡（ポリゴンモータ）などの制御を行う。
【００２１】
（光走査装置）
光走査装置に用いられる結像光学系としての走査光学系の製造コストを低減する為には、走査光学系を構成するレンズの枚数を最小限にすることが必要となる。また、プラスチック材料の射出成形によって製造される走査光学系を構成するトーリックレンズの長さ、肉厚を低減し、一度の成形で取れる個数を多くすることが必要となる。
【００２２】
そこで、走査光学系を最小限度の一枚構成とし、偏向器になるべく近づけることで、レンズの長さ、肉厚を低減することが可能となる。
【００２３】
入射光学系（偏向器前光学系）を構成するレンズは、光源からの出射光を主走査断面内において略平行とするコリメータレンズと、副走査断面において、偏向器（回転多面鏡）に結像させるために収束させるシリンダーレンズとで構成されるのが一般的である。製造コストを低減する為には、これらの２つの部品を一体化したアナモフィックレンズとすることができる。更に、このアナモフィックレンズの一面を回折格子形状とすることで、温度変化によるピント位置のずれを補正することも可能となる。
【００２４】
このように、入射光学系、走査光学系が最小枚数（それぞれ１枚）で構成された光走査装置において、各レンズの屈折力分担は大きくなり、製造誤差による結像性能の変化が大きくなる。特に、レンズの偏芯と、偏向器として使用される回転多面鏡であるポリゴンミラーの回転軸倒れによる結像性能の変化は大きく、走査光学系を一枚で構成する走査レンズの光軸に対して光源と反対側に位置する像高でその傾向は顕著となる。
【００２５】
製造誤差による性能変化の主な原因としては、光源からの光束を偏向器に入射させる入射光学系の偏芯、走査光学系の偏芯、偏向器（回転多面鏡）の偏芯が挙げられる。そして、このような製造誤差による性能変化を補正するように光学調整として光源位置調整が従来行われている。図６（Ａ）に、光源（レーザー）からの光束の位置調整目標を、被走査面でのレーザー照射位置とする従来の光源位置調整の概念図（副走査断面図）を示す。
【００２６】
図６（Ａ）に示すように、従来は、偏向器の軸倒れや入射光学系の偏芯、走査光学系の偏芯がある状態で、光軸方向およびこれに直交する面内での結像位置（ピントおよび被走査面上における照射位置）の調整を光源に対して行う。しかし、このような被走査面の照射位置調整を行うと、像高毎に生じるスポット形状の変形が生じ易い。
【００２７】
このような従来技術に対し、本発明者は、被走査面における光源からの光束の調整目標を、副走査方向における光束位置ではなく、光束の結像性能（特に副走査方向における結像性能）とすることで、製造誤差による結像性能の変化を低減できることを見出した。即ち、本実施形態では、副走査断面図として図６（Ｂ）に示すように、偏向器の軸倒れや入射光学系の偏芯、走査光学系の偏芯がある状態で、被走査面での光束の結像性能を最良化するように、光源を副走査方向に変位させる。
【００２８】
更に、本実施形態では、ピント調整を行う調整像高を、被走査面の有効走査領域における中心像高と異なる所定像高とする。即ち、製造誤差による影響の大きい像高（主走査方向で光軸に対して光源と反対側に位置する像高）を定める。これにより、走査領域全域に渡って良好な調整後性能を得ることが可能となる。
【００２９】
以下に、本実施形態を詳細に説明する。図１は、本実施形態に係る製造方法で製造された光走査装置における光学系を示す主走査断面図である。また、図９は、本実施形態に係る光走査装置の製造方法における調整フローである。
【００３０】
図１中、１は光源（例えば端面発光レーザー、半導体レーザー）である。２は光源１からの入射光束を主走査断面で略平行光束にし、副走査断面で偏向器（偏向器）に結像させるアナモフィックレンズである。３は開口絞りで、主走査、副走査方向の光束幅を整えている。４は偏向器（例えばポリゴンミラー（回転多面鏡））であり、モーター等の駆動手段（不図示）により図中矢印方向に一定速度で回転している。５は被走査面にスポットとして光束を集光するｆθ特性を有するｆθレンズ（結像光学系、走査光学系、走査レンズ）であり、偏向器４と被走査面としての感光ドラム面６との間に配置されている。
【００３１】
７はＣＣＤセンサー等の受光素子（センサ）であり、以下に示す調整を行う像高に２箇所配置され、結像スポット径等の結像性能を観測する。
【００３２】
（光走査装置の調整装置としての調整機構）
本実施形態の調整機構である移動機構１０（図１）は、光源１に設置され、主走査方向、副走査方向、光軸方向に移動可能である。この移動機構１０により、光源１を主走査方向、副走査方向、光軸方向に移動させることによって、被走査面上における結像スポットの位置を調整することができる。
【００３３】
本実施形態における調整目標は、被走査面における結像性能として光束の結像スポット径である。これにより、本実施形態では、センサ７において主走査方向、副走査断面におけるスポット径が最も小さくなるように、プリンタコントローラ１１１を介して移動機構１０によって光源の位置を調整する。
【００３４】
ここで、スポット径とは、ＬＳＦスポット径を指す。ＬＳＦスポット径とは、図８に示すように、スポットを主走査方向及び副走査方向に積分した光量分布をピークの１／ｅ２でスライスした幅の大きさと定義する。
【００３５】
図１のように、光学系が配置された光走査装置において、光走査装置を調整を行う工具に据え付け、移動機構１０により光源１を移動させて光学調整を行う。ここで、被走査面の調整像高の位置には、ＣＣＤセンサー等結像スポットを観測できる撮像素子７が配置されている。
【００３６】
このような移動機構を用いた本実施形態の調整フローを、図９を用いて説明する。
【００３７】
（ＳＴＥＰ１）では、後述する所定の測定像高（調整像高）において、ピント調整を行う。ピント調整は、結像スポット径のデフォーカス特性を測定し、図７に示すように、２つのセンサ７に対応した２つの像高でのスポットデフォーカス曲線を重ね合わせる。そして、最も内側でスライスレベルと交わった２点の中心（ｃ＋ｄ）／２の位置に、光源１の光軸方向の位置を調整する。
【００３８】
ここで、（ＳＴＥＰ１）において、測定する結像スポット径のデフォーカス特性は、主走査断面のものでも、副走査断面のものでも良い。光源を調整する位置も、主走査断面の結像スポット径から計算しても、副走査断面の結像スポット径から計算しても、或いはその両方の平均から計算しても良い。
【００３９】
（ＳＴＥＰ２）では、センサ７に到達する光束（ビーム）の照射位置の調整を行う。主走査方向、副走査方向において、設計称呼位置にビームが到達するように、光源１の主走査、副走査方向の位置を調整する。
【００４０】
ここで、（ＳＴＥＰ１）と（ＳＴＥＰ２）を数回繰り返して、ピント位置、ビーム照射位置をより正確に求めるのもよい。
【００４１】
（ＳＴＥＰ３）では、上述したピント、ビーム照射位置の調整後、結像位置におけるスポット径を測定する。
【００４２】
（ＳＴＥＰ４）では、規格判定を行い、結像スポット径が所望の条件を満たしていれば、調整を完了する。もし、この時点で結像スポット径が所望の条件を満たしていなかった場合、本発明に係る調整を実施する。
【００４３】
（ＳＴＥＰ５）では、現状の光源位置から、光源１を副走査方向に一定量移動させ、（ＳＴＥＰ６）でスポット径を測定する。これを同じ方向に数回繰り返す。
【００４４】
（ＳＴＥＰ７）では、光源１を（ＳＴＥＰ３）の開始時の状態（位置）に戻す。
【００４５】
（ＳＴＥＰ８）では、光源１を、（ＳＴＥＰ５）とは逆方向に一定量移動させ、スポット径を測定する（（ＳＴＥＰ９））。これを同じ方向に、数回繰り返す。
【００４６】
（ＳＴＥＰ１０）では、（ＳＴＥＰ６）及び（ＳＴＥＰ９）において、測定したスポット径が最小となった位置に光源を移動させ、接着固定する（（ＳＴＥＰ１１））。即ち、この工程（調整工程としての第１の工程が終えた後の第２の工程）で、光源１および入射光学系を構成するレンズ２は固定されることとなる。
【００４７】
ここで、本実施形態におけるピント調整（ＳＴＥＰ１）を行う像高は、以下の条件式（１）、更には条件式（１）および条件式（２）を満足した像高であることが望ましい。
【００４８】
｜ＥＳｉ｜／｜ＥＳ０｜＞３．０  ・・・（１）
｜ＴＳｉ｜／｜ＴＳ０｜＞０．７  ・・・（２）
式（１）中のＥＳｉは、調整像高における、走査レンズ５の光軸方向の位置変化に対する主走査断面内の光束によるピント移動量（ピント敏感度）を示している。式（１）中のＥＳ０は、画像中心像高における、走査レンズ５の光軸方向の位置変化に対する主走査断面内の光束によるピント移動量（ピント敏感度）を示している。式（１）を満足することは、走査レンズ５の光軸方向変化による主走査方向におけるピント敏感度が高い像高でピント調整を行うことを意味する。
【００４９】
式（２）中のＴＳｉは、調整像高における、光源と入射光学系の副走査方向の相対位置変化に対する副走査断面内の光束によるピント移動量（ピント敏感度）を示している。式（２）中のＴＳ０は、画像中心像高における、光源と入射光学系の副走査方向の相対位置変化に対する副走査断面内の光束によるピント移動量（ピント敏感度）を示している。式（２）を満足することは、走査レンズ５のプロペラ回転（主走査方向を軸とした回転）による副走査方向におけるピント敏感度が高い像高で照射位置調整を行うことを意味する。
【００５０】
式（１）、（２）の範囲を超える場合には、全走査領域に渡って良好な調整後性能を得ることができない。
【００５１】
本実施形態では、より好ましい形態として、式（１）、（２）を満たす像高で、光源１の光軸方向の調整および副走査方向、主走査方向の調整を行うことで、全走査領域に渡って良好な調整後性能を得ることが可能となる。特に、走査光学系が１枚のレンズで構成される場合、式（１）、（２）を満たす像高は、走査領域の中間付近の像高となる。本実施形態においては、条件式（１）の値４．６、４．９、条件式（２）の値０．８、０．８を満たす、像高±５０ｍｍでの調整を行う。
【００５２】
図２（Ａ）、図３（Ｃ）は、調整前後の主走査断面において、被走査面をピント位置０としたときに、各像高毎にスポット径８５μｍとなるデフォーカス位置（前ピン、後ピン）とその中心（深度中心）を示している。図中の深度中心を含んだ前ピン位置から後ピン位置の間は、結像スポット径が８５μｍ以下であることを示している。
【００５３】
また、図２（Ｂ）、図３（Ｄ）は、同様に、調整前後の副走査断面において、被走査面をピント位置０としたときに、各像高毎にスポット径９５μｍとなるデフォーカス位置（前ピン、後ピン）とその中心（深度中心）を示している。
【００５４】
図２の横軸である像高（ｍｍ）において、プラス側は光源側（光源に近い側）、マイナス側は光源と反対側（光源から遠い側）である。図２（Ａ）と図３（Ｃ）でマイナス側（図の左側）を比較すると、以下のことが分かる。即ち、図２（Ａ）では前ピンと後ピンが区別できない状態（スポット径が大きい状態）である一方、図３（Ｃ）では前ピンと後ピンが区別できる状態（スポット径が小さい状態）であることが分かる。
【００５５】
即ち、本実施形態の調整（光源の副走査方向への位置調整）によって、調整像高での結像スポット径が小さくなっていることが分かる。図２（Ｂ）と図３（Ｄ）の比較についても同様で、本実施形態の調整（光源の副走査方向への位置調整）によって、調整像高での結像スポット径が小さくなっていることが分かる。
【００５６】
そして、調整前後で、像高−５０ｍｍ（マイナス５０ｍｍ）付近の結像性能が改善していることが分かる。本実施形態では、ピント調整を行う調整像高として−５０ｍｍ（マイナス５０ｍｍ）を採用している。
【００５７】
《第２の実施形態》
図１０は、第２の実施形態に係る光走査装置の製造方法における調整フローである。第１の実施形態では、（ＳＴＥＰ２）で、センサ７に到達する光束（ビーム）の照射位置の調整を主走査方向、副走査方向において行ったが、本実施形態ではセンサ７に到達する光束（ビーム）の照射位置の調整を主走査方向にのみ行う。
【００５８】
本実施形態の移動機構は、第１の実施形態と同様、光源１に設置され、光源を主走査方向、副走査方向、光軸方向に移動させることによって光束を調整することができる。本実施形態における調整目標も、第１の実施形態と同様、被走査面における光束の結像スポット径であり、主走査方向、副走査断面におけるスポット径が最も小さくなるように、移動機構によって光源の位置を調整する。
【００５９】
本実施形態でも第１の実施形態と同様に、図１に示す光学系が配置された光走査装置において、光走査装置を調整を行う工具に据え付け、移動機構により光源１を移動させて光学調整を行う。ここで、被走査面の調整像高の位置には、ＣＣＤセンサー等結像スポットを観測できる撮像素子７が配置されている。
【００６０】
このような移動機構を用いた本実施形態の調整フローを、図１０を用いて説明する。
【００６１】
（ＳＴＥＰ１）では、所定の測定像高（第１の実施形態で説明した調整像高）において、主走査断面内の光束によるピント調整を行う。ピント調整は、結像スポット径のデフォーカス特性を測定し、図７に示すように各像高でのピント位置を求め、その平均値に結像するように、光源１の光軸方向の位置を調整する。
【００６２】
（ＳＴＥＰ２）では、主走査方向において、センサ７に到達する光束（ビーム）の位置の調整を行う。主走査方向において、設計称呼位置にビームが到達するように、光源１の主走査方向の位置を調整する。なお、（ＳＴＥＰ１）と（ＳＴＥＰ２）を数回繰り返して、ピント位置、ビーム照射位置をより正確に求めるのもよい。
【００６３】
（ＳＴＥＰ３）では、上述した主走査方向におけるピント、ビーム照射位置の調整後、副走査断面のスポット径を測定するスタート位置に光源１を移動させる。スタート位置は、調整機構における副走査方向の調整端でもよいし、工具に光源を組み付けた状態から所定の距離でも良い。
【００６４】
（ＳＴＥＰ４）では、調整スタート位置から、調整終了端方向に副走査方向に一定量ずつ光源を移動させ、スポット測定を行う（（ＳＴＥＰ５））。調整終了端は、調整機構における調整可能領域の端でも良いし、工具に光源を組み付けた状態から所定の距離でも良い。（ＳＴＥＰ６）では、終了端であるかを判断する。そして、（ＳＴＥＰ７）では、光源１をスポット径が最小となった位置に移動させ、固定する（（ＳＴＥＰ８））。（ＳＴＥＰ９）において、スポット径と照射位置が、所定の規格を満足していることを確認し、調整終了となる。
【００６５】
この工程（調整工程としての第１の工程が終えた後の第２の工程）で、光源１および入射光学系を構成するレンズ２は固定されることとなる。
【００６６】
第１の実施形態の調整に対し、本実施形態では、従来の調整で行われる副走査照射位置の調整を行わない。本実施形態によれば、量産を行う全てのスキャナユニットにおいて、偏向器の軸倒れを考慮した調整を行い、量産性能の底上げを図ることが可能となる。
【００６７】
本実施形態においては、第１の実施形態で説明した条件式（１）の値３．９、４．１、条件式（２）０．９、０．８の値を満たす像高±４０ｍｍでの調整を行う。
【００６８】
図４（Ａ）、図５（Ｃ）は、調整前後の主走査断面において、被走査面をピント位置０とした時に、各像高毎にスポット径８５μｍとなるピントデフォーカス位置（前ピン、後ピン）とその中心（深度中心）を示している。図中の深度中心を含んだ前ピン位置から後ピン位置の間は、結像スポット径が８５μｍ以下であることを示している。
【００６９】
また、図４（Ｂ）、図５（Ｄ）は、同様に、調整前後の副走査断面において、被走査面をピント位置０とした時に、各像高毎にスポット径９５μｍとなるピントデフォーカス位置（前ピン、後ピン）とその中心（深度中心）を示している。
【００７０】
図３の横軸である像高（ｍｍ）において、プラス側は光源側（光源に近い側）、マイナス側は光源と反対側（光源から遠い側）である。図４（Ａ）と図５（Ｃ）でマイナス側（図の左側）を比較すると、以下のことが分かる。即ち、図４（Ａ）では前ピンと後ピンが区別できない状態（スポット径が大きい状態）である一方、図５（Ｃ）では前ピンと後ピンが区別できる状態（スポット径が小さい状態）であることが分かる。
【００７１】
即ち、本実施形態の調整（光源の副走査方向への位置調整）によって、調整像高での結像スポット径が小さくなっていることが分かる。図４（Ｂ）と図５（Ｄ）の比較についても同様で、本実施形態の調整（光源の副走査方向への位置調整）によって、調整像高での結像スポット径が小さくなっていることが分かる。
【００７２】
そして、調整前後で、像高−４０ｍｍ（マイナス４０ｍｍ）付近の結像性能が改善していることが分かる。本実施形態では、ピント調整を行う調整像高として−４０ｍｍ（マイナス４０ｍｍ）を採用している。
【００７３】
（変形例）
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことは言うまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【００７４】
（変形例１）
上述した実施形態において、被走査面における光源からの光束の結像性能を目標（ターゲット）とし、光源からの光束の結像性能を最良化するように光源を副走査方向に調整する第１の工程に関し、光源自体を調整することに限られない。光源１とアナモフィックレンズ２の相対間隔を調整するものであるため、移動機構をアナモフィックレンズ２側に搭載し、調整をアナモフィックレンズ２の副走査方向の移動で行っても同等の効果が得られる。また、調整をアナモフィックレンズ２の移動で行なうのでなく、入射光学系の少なくとも一部（一部もしくは全体）の副走査方向の移動で行なっても良い。
【００７５】
また、入射光学系の少なくとも一部（一部もしくは全体）と光源の双方の副走査方向の移動で行なっても良い。即ち、被走査面における光源からの光束の結像性能を最良化するように、入射光学系の少なくとも一部および光源の少なくとも一方において副走査方向の位置を調整させれば、上述した効果を得ることができる。
【００７６】
そして、所定像高におけるピント調整を行う第３の工程に関しても、同様に光源自体を調整することに限られない。入射光学系の少なくとも一部および光源の少なくとも一方を光軸方向に変位させることにより、所定像高におけるピント調整を行うことができる。
【００７７】
（変形例２）
また、被走査面における光源からの光束の結像性能を目標（ターゲット）とし、光源からの光束の結像性能を最良化するように光源を副走査方向に調整する第１の工程に関し、調整の目標は、図８で示した結像スポット径（最小化）に限られない。例えば、ＭＴＦ値（最大化）、結像スポットのスポット光量（最大化）、波面収差（最小化）などであっても良い。
【符号の説明】
【００７８】
１・・光源、２・・アナモフィックレンズ（入射光学系）、４・・偏向器、５・・走査レンズ（結像光学系）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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