(57)【要約】【課題】定盤上を、相対的に公転する測定対象物における定盤との接触圧力を測定した測定データから、有用なデータを容易に取り出すことができる圧力測定装置及び圧力測定プログラムを提供する。【解決手段】定盤１２と、前記定盤１２に複数の感圧点が配置された圧力センサ２２と、前記定盤１２表面に接触した測定対象物１４が、前記定盤１２上の円軌道を、前記定盤１２に対し相対的に移動することにより、前記測定対象物１４が前記圧力センサ２２上を複数回通過したことによって得られる測定データを取得する信号取得部と、前記測定対象物１４が前記圧力センサ２２上を通過する周期を算出し、前記測定データから前記周期ごとの周期データを取得するデータ処理部とを備えることを特徴とする。【選択図】図１
2017102051.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
定盤と、
前記定盤に複数の感圧点が配置された圧力センサと、
前記定盤表面に接触した測定対象物が、前記定盤上の円軌道を、前記定盤に対し相対的に移動することにより、前記測定対象物が前記圧力センサ上を複数回通過したことによって得られる測定データを取得する信号取得部と、
前記測定対象物が前記圧力センサ上を通過する周期を算出し、前記測定データから前記周期ごとの周期データを取得するデータ処理部と
を備えることを特徴とする圧力測定装置。
【請求項２】
前記複数の感圧点は、直線状に配置されていることを特徴とする請求項１記載の圧力測定装置。
【請求項３】
前記圧力センサの表面を覆う被覆膜を備え、
前記被覆膜の表面積は、前記測定対象物が前記定盤に接触する面の表面積より大きいことを特徴とする請求項１又は２記載の圧力測定装置。
【請求項４】
コンピュータに対して、
定盤表面に接触した測定対象物が、前記定盤上の円軌道を、前記定盤に対し相対的に移動することにより、前記定盤に複数の感圧点が配置された圧力センサ上を前記測定対象物が複数回通過したことによって得られる測定データを取得する工程と、
前記測定対象物が前記圧力センサ上を通過する周期を算出する工程と、
前記測定データから前記周期ごとの周期データを取得する工程と
を実行させることを特徴とする圧力測定プログラム。
【請求項５】
前記周期を算出する工程は、
前記測定データから得られる総荷重値の第１時系列データに基づき、自己相関係数の第２時系列データを求め、前記第２時系列データのピーク間隔から前記周期を算出する
ことを特徴とする請求項４記載の圧力測定プログラム。
【請求項６】
前記周期データを複数重ね合せ、前記測定対象物の位置を特定する工程を実行させることを特徴とする請求項４又は５記載の圧力測定プログラム。
【請求項７】
前記周期データを直交座標データに置換する工程を実行させることを特徴とする請求項４〜６のいずれか１項記載の圧力測定プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、圧力測定装置及び圧力測定プログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
圧力測定装置としては、加えられた圧力に応じて電気的な特性が変化する感圧層を挟んで、線状の第１の電極と第２の電極が交差するように配置された感圧センサを備えたニップ圧測定装置が開示されている（例えば、特許文献１）。上記ニップ圧測定装置は、第１の電極が軸方向に配列した状態で感圧センサをローラに設け、他のローラで前記感圧センサを挟むことにより、一対のローラ間に加えられた圧力に応じて変化する抵抗値を測定する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−２３３８３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、例えば回転している定盤上を公転する測定対象物における定盤との接触圧力を上記特許文献１に記載の感圧センサで測定した場合、公転する回数が多い程データ数が膨大であるため、得られた測定データから有用なデータのみを取り出す作業が煩雑であるという問題があった。
【０００５】
本発明は、定盤上を、相対的に公転する測定対象物における定盤との接触圧力を測定した測定データから、有用なデータを容易に取り出すことができる圧力測定装置及び圧力測定プログラムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る圧力測定装置は、定盤と、前記定盤に複数の感圧点が配置された圧力センサと、前記定盤表面に接触した測定対象物が、前記定盤上の円軌道を、前記定盤に対し相対的に移動することにより、前記測定対象物が前記圧力センサ上を複数回通過したことによって得られる測定データを取得する信号取得部と、前記測定対象物が前記圧力センサ上を通過する周期を算出し、前記測定データから前記周期ごとの周期データを取得するデータ処理部とを備えることを特徴とする。
【０００７】
本発明に係る圧力測定プログラムは、コンピュータに対して、定盤表面に接触した測定対象物が、前記定盤上の円軌道を、前記定盤に対し相対的に移動することにより、前記定盤に複数の感圧点が配置された圧力センサ上を前記測定対象物が複数回通過したことによって得られる測定データを取得する工程と、前記測定対象物が前記圧力センサ上を通過する周期を算出する工程と、前記測定データから前記周期ごとの周期データを取得する工程とを実行させることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、周期を算出することにより、得られた測定データから周期ごとの周期データを容易に取り出すことができる。周期データは、重ね合せることにより、測定対象物の位置をより正確に特定することができる。したがって圧力測定装置は、周期データに基づき、測定データから有用な部分のみを容易に取り出すことができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本実施形態に係る圧力測定装置を適用したシリコンウェハ研磨装置を模式的に示す縦断面図である。
【図２】シリコンウェハ研磨装置の研磨定盤の構成を模式的に示す平面図である。
【図３】圧力センサの構成を示す模式図である。
【図４】本実施形態に係る情報処理端末の回路構成を示すブロック図である。
【図５】圧力センサと基板の位置関係と基板の外縁が重なった感圧点を時系列に並べた点とを示す模式図であり、図５Ａは第１段階における圧力センサと基板の位置を示す平面図、図５Ｂは第１段階における基板の外縁と重なった感圧点を時系列に並べた結果、図５Ｃは第２段階における圧力センサと基板の位置を示す平面図、図５Ｄは第２段階における基板の外縁と重なった感圧点を時系列に並べた結果、図５Ｅは第３段階における圧力センサと基板の位置を示す平面図、図５Ｆは第３段階における基板の外縁と重なった感圧点を時系列に並べた結果である。
【図６】圧力測定処理手順を示すフローチャートである。
【図７】本実施形態に係るデータ処理部の動作の説明に供する模式図であり、図７Ａは定盤と測定対象物の例を示す平面図、図７Ｂは測定データの例、図７Ｃはデータ配列の例である。
【図８】測定データの例を示す図である。
【図９】測定データから得た総荷重値の第１時系列データの例を示すグラフである。
【図１０】第２時系列データの例を示すグラフである。
【図１１】周期データから得た置換データの例を示す図である。
【図１２】図１１から取り出した感圧データの例を示す図である。
【図１３】変形例に係るシリコンウェハ研磨装置の定盤の構成を模式的に示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
（全体構成）
以下、図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明する。図１に示すシリコンウェハ研磨装置１０は、本実施形態に係る圧力測定装置を適用し得る装置の一例である。シリコンウェハ研磨装置１０は、定盤１２と、測定対象物としての基板１４を定盤１２に接触させた状態で保持するヘッド１６とを備える。
【００１１】
定盤１２は、中心軸Ｚ１を中心として回転自在に装置本体（図示しない）に保持されている。定盤１２は、研磨定盤２０と、研磨定盤２０の上面に設けられた、研磨布２４とを有する。本実施形態の場合、定盤１２は、研磨定盤２０の表面に、圧力センサ２２が１次元状に設けられている。
【００１２】
ヘッド１６は、定盤１２の上方であって、表面を下向きにして基板１４を保持する。ヘッド１６は、中心軸Ｚ２を中心として回転及び上下動自在な主軸１８を介して装置本体（図示しない）に保持されている。ヘッド１６と定盤１２とは、定盤１２表面上の円軌道を定盤１２に対し相対的に移動するように設けられている。本実施形態の場合、ヘッド１６に保持された基板１４は、定盤１２が回転することにより、定盤１２上を公転する。ヘッド１６は、下面の周囲にリテーナリング（図示しない）が設けられている。
【００１３】
図２に示すように、本実施形態の場合、圧力センサ２２は、直線状であって、定盤１２の中心を通る直線（法線）上に配置されている。圧力センサ２２の上面には、被覆膜２６を設けてもよい。被覆膜２６は、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）などの樹脂フィルムなどで形成することができる。被覆膜２６は、圧力センサ２２を保護すると共に、基板１４が圧力センサ２２上を通過する際に圧力センサ２２に対し基板１４を平行に保持し得るように設けられる。被覆膜２６の表面積は、基板１４表面の面積よりも大きいことが好ましい。
【００１４】
図３に示すように、圧力センサ２２は、互いに対向した第１絶縁シート１１及び第２絶縁シート１３と、第１絶縁シート１１の下面に支持された複数の線状の第１電極１５と、複数の第１電極１５と交差するように第２絶縁シート１３の上面に支持された線状の第２電極１７とを有する。複数の第１電極１５及び第２電極１７は、表面がそれぞれ感圧層（図示しない）で覆われている。感圧層でそれぞれ覆われた複数の第１電極１５及び第２電極１７は、圧力が加えられていない状態のとき、感圧層表面の微小凹凸によりほとんど接触しない状態に保たれている。
【００１５】
第１絶縁シート１１及び第２絶縁シート１３は、いずれも同じ大きさ及び同じ平面形状を有した弾性変形可能なシート状部材で形成されている。第１絶縁シート１１及び第２絶縁シート１３は、例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂で形成することができる。
【００１６】
複数の第１電極１５は、等間隔かつ平行に配列されている。第１電極１５の本数は、定盤１２や基板１４の大きさに合わせて適宜選択することができ、本図の場合２０本としている。第１電極１５の一端は、それぞれ配線１９を介してハンドル部２３に電気的に接続されている。第２電極１７は、１本の電極からなり、全ての第１電極１５と交差するように第２絶縁シート１３の上面に支持されている。第２電極１７の一端は、配線２１を介してハンドル部２３に電気的に接続されている。ハンドル部２３は、ロータリーコネクタ（図示しない）を介して情報処理端末２７に電気的に接続されている。
【００１７】
感圧層は、内部に感圧インクが充填されている。感圧インクは、圧力が加えられると電気抵抗が低下する性質を有する。第１電極１５と第２電極１７が交差する点（以下、「感圧点」という）において、圧力が加えられると、加えられた圧力に応じて第１電極１５と第２電極１７間の電気抵抗値が変化する。
【００１８】
上記のように構成された圧力センサ２２は、第２電極１７が定盤１２の中心を通る直線に重なるように研磨定盤２０に配置される。
【００１９】
研磨定盤２０に配置された圧力センサ２２は、研磨定盤２０の厚さ方向に開口するように形成された切欠き部（図示しない）に配線１９，２１の先端部分が挿入される。圧力センサ２２の配線１９，２１の先端は、研磨定盤２０の裏側に配置されたハンドル２３に接続される。ハンドル２３から引き出された配線２５は、上記ロータリーコネクタを介して情報処理端末２７に電気的に接続される。
【００２０】
図４に示すように、情報処理端末２７は、当該情報処理端末２７全体を制御する制御部２８を有している。制御部２８は、予め格納されている基本プログラム、圧力測定処理プログラムなどの各種プログラムを読み出して、これら各種プログラムに従って情報処理端末２７全体を制御する。情報処理端末２７には、設定入力部３０、回転制御部３２、信号取得部３６、記憶部３８、データ処理部４０、表示部４２が設けられている。設定入力部３０、回転制御部３２、信号取得部３６、記憶部３８、データ処理部４０、表示部４２は、制御バス４１を通じて制御部２８と接続されている。制御バス４１には、さらに圧力センサ２２が接続されている。
【００２１】
設定入力部３０は、定盤１２、ヘッド１６の回転数、走査間隔、測定期間などの条件などの測定命令を制御部２８に送出する。これにより制御部２８は、設定入力部３０から与えられた測定命令に応じた処理を実行する。
【００２２】
回転制御部３２は、設定入力部３０から与えられた測定命令に応じて、定盤１２及びヘッド１６を所定の回転数で、所定時間、回転動作させるための制御信号を生成し、図示しない駆動部へ供給する電力量を制御する。
【００２３】
信号取得部３６は、圧力センサ２２に所定の電力を供給すると共に、圧力センサ２２の各感圧点における電気抵抗値を走査間隔ごとに取得し、デジタル信号に変換する。デジタル信号に変換された電気抵抗値は、走査間隔ごとに各感圧点の測定データとして記憶部３８に格納される。本明細書では、１回の走査で得られた測定データを、１フレーム分の測定データと呼ぶ。
【００２４】
信号取得部３６で圧力センサ２２から取得する測定データについて、図５Ａ〜Ｆを参照して説明する。図５Ａ、図５Ｃ、図５Ｅは、定盤１２上を基板１４が相対的に移動した場合の位置関係を段階的に示す平面図である。図５Ｂ、図５Ｄ、図５Ｆは、圧力センサ２２上を基板１４が通過する際に基板１４の外縁が重なった感圧点を時系列に並べた模式図である。本図に示すように、基板１４は円形であるものの得られる測定データ４３Ａは、略三角形状に変形する。この測定データ４３Ａは、極座標空間データである。
【００２５】
記憶部３８は、走査間隔ごとの測定データを順次記憶する。また記憶部３８は、後述するデータ処理部４０によって得られる各種データを記憶する。
【００２６】
データ処理部４０は、測定データを読み出し、各種処理を行うことにより、後述する第１時系列データ、第２時系列データ、周期データ、直交座標空間データに置換した置換データ、及び感圧データを得る。
【００２７】
（データ処理手順）
次に、情報処理端末２７のデータ処理手順について、図６を参照して説明する。定盤１２と基板１４が相対的に移動することにより、基板１４が圧力センサ２２上を通過する。これにより圧力センサ２２からは、測定データが得られる。
【００２８】
制御部２８は、データ処理プログラムにしたがって、データ処理手順ＲＴ１の開始ステップから入ってステップＳＰ１に移る。データ処理部４０は、記憶部３８から測定データを読み出し、フレームごとに各感圧点の荷重値の総和である総荷重値ｘを算出する。データ処理部４０は、当該総荷重値ｘからなる第１時系列データを作成する。データ処理部４０は、第１時系列データを記憶部３８に格納し、ステップＳＰ２へ移る。
【００２９】
ステップＳＰ２においてデータ処理部４０は、第１時系列データを読み出し、下記式（数１）に基づき、自己相関係数ｒ（ｈ）を算出し、自己相関係数ｒ（ｈ）からなる第２時系列データを作成する。ここで、ｈは自己相関係数を求める際に参照するデータ数、Ｎはフレーム数である。自己相関係数ｒ（ｈ）は、フレーム数の半分の測定データに対し算出するのが効率的で好ましい。
【００３０】
【数１】
2017102051.tif 000003
【００３１】
データ処理部４０は、第２時系列データを記憶部３８に格納し、ステップＳＰ３へ移る。第２時系列データにより、ノイズが多い第１時系列データから振動成分のみを抽出することができる。
【００３２】
ステップＳＰ３においてデータ処理部４０は、第２時系列データから自己相関係数ｒ（ｈ）のピークの数を算出し、ピークの数が公転数と一致するか否かを判断する。公転数は、予め設定された定盤１２の回転数、時間等の条件により定めてもよいし、第２時系列データにおける規則的な振動の数から定めてもよい。
【００３３】
ステップＳＰ３において否定結果が得られると、このことは第２時系列データにノイズが多く含まれていることを表しており、このときデータ処理部４０はステップＳＰ２へ戻る。この後ステップＳＰ３において自己相関係数ｒ（ｈ）のピークの数と、上記公転数が一致するまでの間、このステップＳＰ２とステップＳＰ３の処理ループを繰り返して、ノイズのない第２時系列データを得る。この場合、データ処理部４０は、ｈの値を切り下げる。ｈの値の切り下げ方法は、例えば、ステップＳＰ２とステップＳＰ３の処理ループの繰り返す回数に応じてｈを半減させる手法を用いることができる。
【００３４】
ステップＳＰ３において肯定結果が得られると、このことはノイズのない第２時系列データが得られたことを表し、このときデータ処理部４０はステップＳＰ４へ移る。
【００３５】
ステップＳＰ４においてデータ処理部４０は、第２時系列データに基づき、ピークの間隔から１周期の間隔、すなわち圧力センサ２２上を基板１４が通過する間隔を算出する。さらにデータ処理部４０は、当該間隔に基づき、一群の測定データから周期ごとに測定データを切り出し、周期データとして記憶部３８に格納し、ステップＳＰ５へ移る。例えば、走査間隔１０００Ｈｚ、測定時間１分間の測定を行い、基板１４が毎秒１回転で定盤１２上を公転する場合、６００００フレーム分の測定データとなり、周期データは６０回転分得られる。
【００３６】
ステップＳＰ５においてデータ処理部４０は、周期データを読み出し、極座標空間データからなる周期データを、直交座標空間データに置換した置換データを得る。
【００３７】
極座標空間データと直交座標空間データとの関係について図７Ａ〜Ｃを参照して説明する。図７Ａは、定盤１２と圧力センサ２２と測定対象物とを示している。なお本図において測定対象物は、理解を容易にするため、種々の形状（四角形１４Ａ、星形１４Ｂ、×形１４Ｃ、円形１４Ｄ、三角形１４Ｅ）としている。図７Ｂは、圧力センサ２２から得られた測定データであり、横軸が圧力センサ２２を基準とする角度θ、縦軸が圧力センサ２２の直径ｒである。本図に示す通り、測定対象物４６Ａ〜４６Ｅは、測定データにおいて形状が歪んでいる。この測定データを用いて、下記式（数２〜数４）に基づき、各感圧点におけるＰ（ｘ，ｙ）座標を求めると、図７Ｃに示すような置換データ４８Ａ〜４８Ｅを得ることができる。
【００３８】
【数２】
2017102051.tif 000004
【００３９】
【数３】
2017102051.tif 000005
【００４０】
【数４】
2017102051.tif 000006
【００４１】
本実施形態の場合、圧力センサ２２は、第２電極１７の長手方向が定盤１２の法線と一致しているものとする。C_sensorは定盤１２中心から最も離れた感圧点の位置、Ｎは直交座標の分割数である。
【００４２】
式（数４）のＰ（ｒ，θ）は離散空間上の圧力データであるので、当該データを用いて補間して、Ｐ（ｘ，ｙ）座標に対応付けしてもよい。例えば、座標間のデータの対応付けの手法としては、床関数を用いた隣接補間や、（ｘ，ｙ）を取り囲む４つのデータ点（ｒ１,θ１），（ｒ１,θ２），（ｒ２,θ１），（ｒ２,θ２）との近接度から重み付けにより線形補間を行うなどの手法を用いることができる。
【００４３】
データ処理部４０は、直交座標データである置換データを記憶部３８に格納し、ステップＳＰ６へ移る。
【００４４】
ステップＳＰ６においてデータ処理部４０は、置換データを表示部４２に出力し、ステップＳＰ７へ移り、データ処理手順を終了する。
【００４５】
（動作及び効果）
まず、シリコンウェハ研磨装置１０は、電源がオンされ、条件が設定されると、設定された条件に基づき動作を開始する。具体的には、制御部２８は、設定入力部３０から測定命令信号を受け取ると、回転開始信号を生成し回転制御部３２へ送信する。回転制御部３２は、回線開始信号を受信すると、定盤１２及びヘッド１６を回転駆動する駆動部を動作制御する。同時に制御部２８は、計測開始信号を生成し信号取得部３６へ送信する。信号取得部３６は、計測開始信号を受信すると、圧力センサ２２へ所定の電力を供給すると共に、所定の間隔で走査し、圧力センサ２２から測定データを取得する。
【００４６】
信号取得部３６は、得られた測定データをフレームごとに記憶部３８に記憶する。図８におよそ１０００Ｈｚで走査して得た測定データの一例を示す。本図の横軸はフレーム、縦軸は感圧点の位置を示している。色の濃い箇所５０Ａ〜５０Ｃは、基板１４が圧力センサ２２上を通過したことによって圧力センサ２２が荷重を検知した箇所であり、色が濃い程、荷重値が大きいことを示している。本図から規則的に基板１４が圧力センサ２２上を通過しているように見えるものの、個々のデータについてはバラツキが認められる。
【００４７】
次いで、データ処理部４０は、測定データから第１時系列データ、第２時系列データを順に作成することにより、圧力センサ２２上を基板１４が通過する間隔を算出する。図８の測定データに基づき作成した第１時系列データの例を図９に示す。本図の横軸はフレーム、縦軸は総荷重値ｘである。本図から総荷重値ｘのピークにバラツキが生じていることが分かる。したがって第１時系列データから周期を精度よく算出することは困難である。
【００４８】
そこで、データ処理部４０は、第１時系列データから自己相関係数ｒ（ｈ）を求め第２時系列データを作成する。図１０に第２時系列データの例を示す。本図の横軸はフレーム、縦軸は自己相関係数ｒ（ｈ）である。本図から、自己相関係数ｒ（ｈ）を用いることで、ピークにバラツキのないデータが得られることが分かる。データ処理部４０は、第２時系列データにおけるピーク間隔から圧力センサ２２上を基板１４が通過する間隔を算出することができる。
【００４９】
次いでデータ処理部４０は、圧力センサ２２上を基板１４が通過する間隔に基づき、測定データから、周期データを取り出す。
【００５０】
このように圧力測定装置は、圧力センサ２２上を基板１４が通過する間隔を算出することにより、測定データから周期データを取り出すことができる。
【００５１】
本来、基板１４は、揺動が無ければ、周回ごとに同じタイミングで同じ感圧点と接触するが、実際は上記図８に示したように、圧力分布にばらつきが生じてしまうため、１周回の周期データのみでは、基板１４の位置をより正確に特定することができない。
【００５２】
本実施形態の場合、圧力測定装置は、周期データを測定データから取り出すことにより、周期データを正確に重ね合せることができるので、基板１４の位置を中心から外縁にわたってより正確に特定することができる。
【００５３】
データ処理部４０は、極座標空間データである周期データを、直交座標空間データに置換する。図１１に取り出した周期データを平均し、直交座標空間データに置換した置換データ５２の例を示す。重ね合せたことにより、基板１４の位置をより正確に特定することができるので、図１２に示すように、図１１の置換データ５２から、有用な部分、すなわち基板１４が圧力センサ２２上を通過開始した時点から、終了するまでの間の測定データ（以下、「感圧データ」という）５４のみを取り出すことができる。このように取り出した感圧データ５４は、高度な統計処理や画像処理に用いることができる。
【００５４】
上記のように、シリコンウェハ研磨装置１０は、定盤１２上に設置した圧力センサ２２へ基板１４を押しつけることで、摩擦あるいは潤滑状態における圧力分布の経時変化を可視化することができる。
【００５５】
時間方向で有用な周期データを精度よく取り出すことができることより、複数の周期データを平均化する、周期データ間の差異を比較するなどの処理が容易に行うことができる。このとき、それぞれの感圧点の感圧面積が異なるため、統計的な扱いが必要となる場合は、面積に応じてデータに重み付けを行う等の手法が有効である。
【００５６】
（変形例）
本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨の範囲内で適宜変更することが可能である。
【００５７】
例えば、上記実施形態の場合、定盤１２及び基板１４が共に回転する場合について説明したが、本発明はこれに限らず、ヘッド１６の主軸が、定盤１２に対し公転することとしてもよい。
【００５８】
上記実施形態の場合、圧力測定装置をシリコンウェハ研磨装置１０に適用した場合について説明したが、本発明はこれに限らず、シリコンウェハ研磨装置以外の回転体の圧力を測定する装置に適用することができる。例えば、切削機械のエンドミルとワーク、自動車のワイパーとフロントガラス、レンズと研磨装置、自動車のタイヤと接地面の圧力を測定する装置に適用することができる。
【００５９】
上記実施形態の場合、圧力センサ２２は、定盤１２の中心を通る直線上に配置する場合について説明したが、本発明はこれに限らない。図１３に示すように、研磨定盤２０の中心からずれた位置に圧力センサ２２を配置することとしてもよい。この場合、下記式（数５、６）を用いることにより、圧力センサ２２上の感圧点Ｃ（ｌｃ，θ’）で得られたデータを極座標データである測定データＰｃ（ｒ，θ）として扱うことができる。ここでｒＡ＜ｒＢであり、∠ＡＺ１Ｂは≧９０°とする。
【００６０】
【数５】
2017102051.tif 000007
【００６１】
【数６】
2017102051.tif 000008
【００６２】
上記実施形態の場合、周期データを直交座標に置換する場合について説明したが、本発明はこれに限られない。
【００６３】
上記実施形態の場合、圧力センサ２２は、研磨定盤２０と研磨布２４の間に設けられた場合について説明したが、本発明はこれに限らず、研磨布２４上に設けることとしてもよい。
【００６４】
圧力センサ２２は、第２電極１７が１本である場合について説明したが、本発明はこれに限らず、２本であってもよい。
【００６５】
測定対象物は、基板である場合について説明したが、本発明はこれに限られない。すなわち本発明に係る圧力測定装置は、重ね合わせ等によって測定対象物の正確な位置が特定できるので、測定対象物は、幾何学形状であれば、四角形や円形だけでなく、多角形や星形でもよい。
【符号の説明】
【００６６】
１０  シリコンウェハ研磨装置（圧力測定装置）
１２  定盤
１４  基板（測定対象物）
２２  圧力センサ
２６  被覆膜
３６  信号取得部
４０  データ処理部
【図１】
2017102051.tif 000009
【図２】
2017102051.tif 000010
【図３】
2017102051.tif 000011
【図４】
2017102051.tif 000012
【図５】
2017102051.tif 000013
【図６】
2017102051.tif 000014
【図７】
2017102051.tif 000015
【図８】
2017102051.tif 000016
【図９】
2017102051.tif 000017
【図１０】
2017102051.tif 000018
【図１１】
2017102051.tif 000019
【図１２】
2017102051.tif 000020
【図１３】
2017102051.tif 000021