(57)【要約】【課題】基材フィルムとしてポリエステル基材を使用し、製造過程で高温処理したり、長時間使用した場合であっても、基材のオリゴマー成分の基材表面への析出を抑制し、基材の透明性の低下や  製造設備の汚染を軽減することのできる積層フィルムおよびそれを用いた機能性フィルムを提供する。【解決手段】ポリエステル基材の一方の面に、ポリチオフェン系ポリマーとポリ陰イオンとの複合体を含有してなるオリゴマーブロック層を設けた積層フィルムにおいて、前記オリゴマーブロック層がポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を含有してなり、かつ、前記積層フィルムを１２０℃で１時間処理した前後のヘイズ値の差が０．５％以下であることを特徴とする積層フィルム。【選択図】          なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエステル基材の一方の面に、ポリチオフェン系ポリマーとポリ陰イオンとの複合体を含有してなるオリゴマーブロック層を設けた積層フィルムにおいて、前記オリゴマーブロック層がポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を含有してなり、かつ、前記積層フィルムを１２０℃で１時間処理した前後のヘイズ値の差が０．５％以下であることを特徴とする積層フィルム。
【請求項２】
ポリエステル基材の両面に、ポリチオフェン系ポリマーとポリ陰イオンとの複合体を含有してなるオリゴマーブロック層を設けた積層フィルムにおいて、前記オリゴマーブロック層がポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を含有してなり、かつ、前記積層フィルムを１２０℃で１時間処理した前後のヘイズ値の差が０．５％以下であることを特徴とする積層フィルム。
【請求項３】
前記オリゴマーブロック層における前記ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の配合量が１０．０〜１００．０重量％であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の積層フィルム。
【請求項４】
前記オリゴマーブロック層の厚みが０．０５〜５．０μｍであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の積層フィルム。
【請求項５】
前記ポリエステル基材が、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の積層フィルム。
【請求項６】
波長３８０ｎｍにおける光線透過率が４０％以上であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の積層フィルム。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の積層フィルムの少なくとも一方の表面に、機能性材料を含有する機能層を設けたことを特徴とする機能性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明性、耐久性、耐候性、生産性、低コスト性に優れ、光学フィルム用に好適なポリエステル系積層フィルムおよびそれを用いた機能性フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリエステルフィルムなどの高分子フィルムは、優れた透明性、柔軟性を有する。その特性利用して、窓貼り用フィルムに加えて、タッチパネル用フィルム、ＩＴＯ基板用フィルム、メンブレンスイッチ用フィルム、三次元加飾用フィルム、フラットパネルディスプレイなどの光学用途の機能性フィルムとして広く用いられている。
【０００３】
ポリエステルフィルムを利用して機能性フィルムを製造する際に、ポリエステルフィルムには１００〜１５０℃の温度がかかる場合がある。ポリエステルフィルムの温度が高くなると、ポリエステルフィルムの内部に溶解していたオリゴマー成分がフィルム表面に析出し、ポリエステルフィルムの透明度が低下したり、製造設備を汚染するという問題があった。また、ハードコート層などを設けた機能性フィルムを長時間使用した場合にも、機能性フィルムの透明度が低下することがあった。
【０００４】
この問題を解決するため、ポリエステルフィルムの表面に、水溶性樹脂混合物に架橋剤を添加した積層膜を設けることが提案されている。（特許文献１）しかしながら、水溶性の樹脂を用いた場合、高湿熱環境下では、積層膜が吸水して膨潤し、前記の積層膜が剥がれてしまうという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−１９５７７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記の問題点を解決するために、ポリエステル系積層フィルムを用いてハードコート層などを設けた機能性フィルムを製造する際に高温処理した場合であっても、ポリエステル基材のオリゴマー成分のフィルム表面への析出を抑制し、ポリエステルフィルムの透明度が低下したり、製造設備を汚染することのない積層フィルムを提供することを目的とする。また本発明の他の目的は、各種光学用途の機能性フィルムとして長時間使用した場合にも、透明度が低下することのない、透明性、耐侯性、耐久性に優れた機能性フィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、上記の問題点に鑑み、ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、オリゴマーブロック層を設けた積層フィルムにおいて、前記オリゴマーブロック層をポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を含有してなるものとすることにより、前記積層フィルムを用いてハードコート層などを設けた機能性フィルムを製造する際に高温処理した場合であっても、前記オリゴマーブロック層が、ポリエステル基材のオリゴマー成分の基材表面への析出を抑制する効果を有するという知見を得た。その結果、前記積層フィルムを用いて、ハードコート処理層などを設けた機能性フィルムを製造する際に高温処理した場合あっても、機能性フィルムの透明度が低下したり、製造設備を汚染することを抑制することができる。また、機能性フィルムとして長時間使用した場合にも、透明度が低下することのない、透明性、耐侯性、耐久性に優れるという本発明の目的が達成されることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
第１発明は、ポリエステル基材の一方の面に、ポリチオフェン系ポリマーとポリ陰イオンとの複合体を含有してなるオリゴマーブロック層を設けた積層フィルムにおいて、前記オリゴマーブロック層がポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を含有してなり、かつ、前記積層フィルムを１２０℃で１時間処理した前後のヘイズ値の差が０．５％以下であることを特徴とする積層フィルムである。
【０００９】
第２発明は、ポリエステル基材の両面に、ポリチオフェン系ポリマーとポリ陰イオンとの複合体を含有してなるオリゴマーブロック層を設けた積層フィルムにおいて、前記オリゴマーブロック層がポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を含有してなり、かつ、前記積層フィルムを１２０℃で１時間処理した前後のヘイズ値の差が０．５％以下であることを特徴とする積層フィルムである。
【００１０】
第３発明は、前記オリゴマーブロック層における前記ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の配合量が１０．０〜１００．０重量％であることを特徴とする第１発明または第２発明に記載の積層フィルムである。
【００１１】
第４発明は、前記オリゴマーブロック層の厚みが０．０５〜５．０μｍであることを特徴とする第１発明〜第３発明のいずれかに記載の積層フィルムである。
【００１２】
第５発明は、前記ポリエステル基材が、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムであることを特徴とする第１発明〜第４発明のいずれかに記載の積層フィルムである。
【００１３】
第６発明は、波長３８０ｎｍにおける光線透過率が４０％以上であることを特徴とする第１発明〜第５発明のいずれかに記載の積層フィルムである。
【００１４】
第７発明は、第１発明〜第６発明のいずれかに記載の積層フィルムの少なくとも一方の表面に、機能性材料を含有する機能層を設けたことを特徴とする機能性フィルムである。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、オリゴマーブロック層を設けた積層フィルムにおいて、前記オリゴマーブロック層をポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を主成分として含有してなるものとすることにより、前記積層フィルムを用いてハードコート層などを設けた機能性フィルムを製造する際に高温処理した場合であっても、前記オリゴマーブロック層が、ポリエステル基材のオリゴマー成分の基材表面への析出を抑制する。その結果、前記積層フィルムを用いてハードコート層などを設けた機能性フィルムを製造する際に高温処理した場合であっても、機能性フィルムの透明度が低下したり、製造設備を汚染することを抑制することができる積層フィルムを提供することができるものである。また、光学用途の機能性フィルムとして長時間使用した場合にも、透明度が低下することのない、透明性、耐侯性、耐久性に優れる機能性フィルムを提供することができるものである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
（積層フィルム）
本発明の積層フィルムは、ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を含有するオリゴマーブロック層を積層してなるものである。
【００１７】
（機能性フィルム）
本発明の機能性フィルムは、前記の積層フィルムのオリゴマーブロック層を積層した面（Ａ面）または反対側の面（Ｂ面）に、機能性材料を含有した機能層を設けてなるものである。前記機能層としては、例えば貼着性、耐スクラッチ性、紫外線遮断性、赤外線遮断性、電磁波遮断性、導電性、抗菌性、インク受容性等を有する機能層が挙げられる。
【００１８】
（ポリエステルフィルム）
本発明で使用するポリエステルフィルムは、機能性フィルムへの加工処理時の取り扱い性、コストの面から二軸延伸されたポリエステルフィルムが好ましい。ポリエステルフィルムの厚みは、通常４〜４００μｍの範囲のものが用いられ、好ましくは５〜１００μｍのものが用いられる。
【００１９】
本発明の基材フィルムである二軸延伸ポリエステルフィルムは、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート又はこれらの樹脂の構成成分を主成分とする共重合体が用いられるが、中でもポリエチレンテレフタレートから形成された二軸延伸フィルムが特に好適である。
【００２０】
前記ポリエステルフィルムとして、その表面を活性線で処理したポリエステルフィルムを使用することができる。活性線による処理方法としては、コロナ放電処理、紫外線照射処理、プラズマ処理、火炎処理等が例示される。
【００２１】
（オリゴマーブロック層）
本発明では、オリゴマーブロック層は、ポリエステルフィルムの少なくとも片面に積層されていればよいが、両面に積層されていることがさらに好ましい。前記オリゴマーブロック層としては、ポリチオフェン系ポリマーとポリ陰イオンとの複合体を使用することが好ましい。
【００２２】
本発明で使用するポリチオフェン系ポリマーとしては、ポリジアルコキシチオフェンやポリアルキレンジオキシチオフェン等が挙げられる。なかでも、以下の構造で示される反復構造単位から成る陽イオン形態のポリチオフェンが好ましい。
【００２３】
【化１】
2017013419.tif 000002
【００２４】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、相互に独立していて、水素原子、Ｃ１−４のアルキル基、あるいはＲ１およびＲ２が一緒になって形成され、置換又は置換されていないＣ１−４のアルキレン基を表す。
【００２５】
Ｃ１−４のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基等が挙げられる。
【００２６】
Ｒ１およびＲ２が一緒になって形成され、置換又は置換されていないＣ１−４のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、１，２−エチレン基、１，３−プロピレン基、１，４−ブチレン基、１−メチル−１，２−エチレン基、１−エチル−１，２−エチレン基、１−メチル−１，３−プロピレン基、２−メチル−１，３−プロピレン基等が挙げられる。なかでも、メチレン基、１，２−エチレン基、１，３−プロピレン基が好ましく、さらには１，２−エチレン基がより好ましい。よって本発明におけるポリチオフェン系ポリマーとしては、１，２−エチレン基を持つポリチオフェンであるポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）が特に好ましい。
【００２７】
本発明に用いられるポリ陰イオンは、前記のポリチオフェン系ポリマーとイオン対をなすことにより複合体を形成し、オリゴマーブロック機能を有するものが選ばれる。
【００２８】
このようなポリ陰イオンとしては、カルボン酸ポリマー類（例えばポリアクリル酸、ポリマレイン酸、ポリメタクリル酸等）、スルホン酸ポリマー類（例えばポリスチレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸等）が挙げられる。なかでも、ポリスチレンスルホン酸を用いることが好ましい。
【００２９】
したがって、より好ましいポリチオフェン系ポリマーとポリ陰イオンの複合体としては、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体であるＰＥＤＯＴ／ＰＳＳが特に挙げられる。
【００３０】
前記オリゴマーブロック層におけるＰＥＤＯＴ／ＰＳＳの含有量は１０〜１００．０重量％であることが好ましく、６０〜１００．０重量％であることがより好ましい。前記複合体の含有量が１０．０重量％未満では、積層フィルムのオリゴマーブロック機能が低下してしまう。
【００３１】
前記オリゴマーブロック層には、オリゴマーブロック機能を阻害しない範囲で、ポリエステルフィルムとの密着性を向上させる目的で樹脂を添加してもよい。この様な樹脂としては、アクリルポリオールやアクリルポリエステル等が挙げられる。
【００３２】
前記オリゴマーブロック層における樹脂の含有量は、９０.０重量％以下であることが好ましく、４０．０重量％以下であることがより好ましい。樹脂の含有量が９０.０重量％を超えると、オリゴマーブロック機能が低下する。  
【００３３】
前記オリゴマーブロック層は、架橋剤を添加することで基材との密着性がさらに向上する。架橋剤としては公知の架橋剤が適宜使用できるが、耐熱性を考慮するとメラミン系樹脂が好ましい。
【００３４】
前記オリゴマーブロック層における架橋剤含有量は、４０．０重量％以下であることが好ましい。架橋剤含有量が４０．０重量％を超えると、オリゴマーブロック機能が低下する。
【００３５】
前記オリゴマーブロック層に用いる溶剤の種類は特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、水、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、トルエン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが挙げられる。溶剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３６】
前記オリゴマーブロック層の厚みは、０．０５〜５.０μｍの範囲が好ましく、０．１０〜２．０μｍの範囲がより好ましい。前記オリゴマーブロック層の厚みが０．０５μｍ未満であると、積層フィルムのオリゴマーブロック機能が低下してしまう。
【００３７】
以下本発明の各種機能層に関して記載するが、機能層はこれらに限定されるものではない。
（吸着層）
本発明の吸着層は、積層フィルムの表面に設けられ、貼着性フィルムとして用いられる。前記貼着性フィルムをディスプレイパネルの情報表示画面等の被着体に貼り付けた後には、経時でずれたりすることなく密着しているが、前記貼着性フィルムを貼り直したり、前記被着体から取り外したりする場合には、容易に再剥離することが可能なものである。
【００３８】
本発明の吸着層を形成するための材料としては、シリコーン系樹脂であることが好ましい。シリコーン系樹脂は、透明性、耐久性に極めて優れているとともに柔軟性を有しているので、ディスプレイパネルの情報表示画面等の被着体への密着性に優れているからである。
【００３９】
本発明の吸着層に用いるシリコーン系樹脂の性状としては、透明性が高く、ゴムのような柔軟性を持っていて被着体の表面に対しても、吸着層の面が被着体表面に沿うことが求められる。さらに剥離の際には、小さい剥離力で、容易に剥離できることが求められる。また、少なくとも厚み１０μｍ以上で塗布及び加熱処理だけで架橋吸着層を設けるためには、シリコーン組成物の硬化反応に際して、白金触媒等のもとで、１５０℃以下の低温短時間で深部まで架橋し、透明で耐熱性、圧縮永久歪み特性に優れかつ低粘度で液状タイプである、１分子中に２個以上のビニル基を有するポリオルガノシロキサンと架橋剤としてＳｉＨ基を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンとの付加反応により熱架橋する付加反応型液状シリコーン組成物の使用が好ましい。
【００４０】
１分子中に２個以上のビニル基を有するジオルガノポリシロキサンとしては、両末端にのみビニル基を有する直鎖状ジオルガノポリシロキサンと、両末端及び側鎖にビニル基を有する直鎖状ジオルガノポリシロキサンと、末端にのみビニル基を有する分岐状ジオルガノポリシロキサンと、末端及び側鎖にビニル基を有する分岐状ジオルガノポリシロキサンとから選ばれる少なくとも１種を用いると良い。
【００４１】
これらのジオルガノポリシロキサンの１形態としては、下記一般式（化２）で表せられる、両末端にのみビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンが挙げられる。
【００４２】
【化２】
2017013419.tif 000003
【００４３】
（式中Ｒは下記有機基、ｎは整数を表す）
【００４４】
【化３】
2017013419.tif 000004
【００４５】
（式中Ｒは下記有機基、ｎ、ｍは整数を表す）
【００４６】
このビニル基以外のケイ素原子に結合した有機基（Ｒ）は異種でも同種でもよいが、具体例としてはメチル基、エチル基、プロピル基などのアルキル基、フェニル基、トリル基、などのアリール基、又はこれらの基の炭素原子に結合した水素原子の一部又は全部をハロゲン原子、シアノ基などで置換した同種又は異種の非置換又は置換の脂肪族不飽和基を除く１価炭化水素基で好ましくはその少なくとも５０モル％がメチル基であるものなどが挙げられるが、このジオルガノポリシロキサンは単独でも２種以上の混合物であってもよい。
【００４７】
両末端および側鎖にビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンは、上記一般式（化２）中のＲの一部がビニル基である化合物である。末端にのみビニル基を有する分岐状ポリオルガノシロキサンは上記一般式（化２）で表せられる化合物である。末端及び側鎖にビニル基を有する分岐状ポリオルガノシロキサンは、上記一般式（化３）中のＲの一部がビニル基である化合物である。
【００４８】
ここで架橋反応に用いる架橋剤の例として、オルガノハイドロジェンポリシロキサンが挙げられる。前記オルガノハイドロジェンポリシロキサンは、１分子中にケイ素原子に結合した水素原子を少なくとも３個有するものであるが、実用上からは分子中に２個の≡ＳｉＨ結合を有するものをその全量の５０重量％までとし、残余を分子中に少なくとも３個の≡ＳｉＨ結合を含むものとすることがよい。分子の形状としては、直鎖状、分岐状、環状のものを使用できる。
【００４９】
架橋反応に用いる付加反応触媒は、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、塩化白金酸とアルコールとの反応物、塩化白金酸とオレフィン化合物との反応物、塩化白金酸とビニル基含有シロキサンとの反応物、白金−オレフィン錯体、白金−ビニル基含有シロキサン錯体、ロジウム錯体、ルテニウム錯体などが挙げられる。また、これらのものをイソプロパノール、トルエンなどの溶剤や、シリコーンオイルなどに溶解、分散させたものを用いてもよい。
【００５０】
添加量はシリコーン組成物の合計１００重量部に対し、貴金属分として５〜２，０００ｐｐｍ、特に１０〜５００ｐｐｍとすることが好ましい。５ｐｐｍ未満では硬化性が低下し、架橋密度が低くなり、保持力が低下することがあり、２，０００ｐｐｍを超えると処理浴の使用可能時間が短くなる場合がある。
【００５１】
本発明に係るシリコーンの市販品の形状は、無溶剤型、溶剤型、エマルション型があるが、いずれの型も使用できる。なかでも、無溶剤型は、溶剤を使用しないため、安全性、衛生性、大気汚染の面で非常に利点がある。但し、無溶剤型であっても、所望の膜厚を得るための粘度調節のために、必要に応じてトルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソパラフィンなどの脂肪族炭化水素系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸イソブチルなどのエステル系溶剤、ジイソプロピルエーテル、１、４−ジオキサンなどのエーテル系溶剤、またはこれらの混合溶剤などが使用される。
【００５２】
添加量はシリコーン組成物の合計１００重量部に対し、２０〜１，０００重量部、特に２５〜９００重量部とすることが好ましい。２０重量部未満では、吸着層と基材の密着性が低下してする場合があり、１，０００重量部を超えると、シリコーン組成物の塗工液の粘度が低くなりすぎるので、塗工後から硬化までの間に、塗工された吸着層が一部流動し、吸着層表面の均一性が低下してしまう。
【００５３】
例えば前記情報表示画面の保護部材として貼着性フィルムを使用する場合、吸着層の膜厚は、通常は１０〜５０μｍが好ましい。本発明の場合、２０〜５０μｍであることがより好ましい。１０μｍ未満であると被着体に対する保護部材の密着面方向の剪断力が確保できず、特に長期貼り付け時には、貼着性フィルムが被着体から剥がれ易い。また、吸着層の厚みが５０μｍを超える場合には、シリコーン組成物の使用量が多くなり、貼着性フィルムの製造コストの上昇を招いてしまう。
【００５４】
（ハードコート層）
耐スクラッチ性は、積層フィルムの表面に有機質もしくは無機質、またはその複合体からなるハードコート層を設けたハードコートフィルムにより与えられる。前記ハードコート層は、ハードコート層形成用樹脂を塗布乾燥し硬化することにより形成することができる。得られたハードコートフィルムは、家庭電化製品、ＯＡ機器、情報機器等の液晶表示部や入力部におけるメンブレンスイッチ、防眩フィルター、タッチパネル等の表面にその保護用フィルムとして使用される。また、銘板、表示板、壁材、化粧板等の表面保護用フィルムとして使用される。
【００５５】
本発明のハードコート層に用いられる主成分の化合物は電離放射線により重合する化合物から主に形成されていることが好ましく、ラジカル重合反応を形成する（メタ）アクリロイル基を有する化合物や、カチオン重合反応を形成する化合物であることが好ましい。（メタ）アクリロイル基を有する化合物としては分子内に（メタ）アクリロイル基を１以上有する化合物を意味し、モノマーであっても、オリゴマーであってもよく、またその両方を含んでもよい。
【００５６】
本発明に係る（メタ）アクリロイル基を有する化合物としては、例えば、以下に記載する多官能（メタ）アクリレートや単官能（メタ）アクリレートのモノマー又はオリゴマーが挙げられる。
【００５７】
多官能（メタ）アクリレートとしては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、及びこれらの出発アルコール類へのエチレンオキシド又はプロピレンオキシド付加物のポリ（メタ）アクリレート類、分子内に２以上の（メタ）アクリロイル基を有するオリゴエステル（メタ）アクリレート類、オリゴエーテル（メタ）アクリレート類、オリゴウレタン（メタ）アクリレート類、及びオリゴエポキシ（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。
【００５８】
単官能（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、アクリロニトリル、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルフタレート等のフタル酸誘導体のハーフ（メタ）アクリレート、フルフリル（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、アクリロイルモルフォリン、４−グリシジルオキシブチルアクリレート、ダイアセトンアクリルアミド等が挙げられる。
【００５９】
一方、カチオン重合を形成する化合物としては、エポキシ系樹脂が通常使用される。このエポキシ系樹脂としては、例えばビスフェノール樹脂やノボラック樹脂などの多価フェノール類にエピクロルヒドリンなどでエポキシ化した化合物、直鎖状オレフィン化合物や環状オレフィン化合物を過酸化物などで酸化して得られた化合物などが挙げられる。
【００６０】
電離放射線重合反応に用いられる光重合開始剤としては、ラジカル重合型の化合物に対しては、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、２,２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２,２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−[４−(メチルチオ)フェニル]−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン、４−(２−ヒドロキシエトキシ)フェニル−２(ヒドロキシ−２−プロプル)ケトン、ベンゾフェノン、ｐ−フェニルベンゾフェノン、４,４'−ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロロベンゾフェノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ターシャリ−ブチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２,４−ジメチルチオキサントン、２,４−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、ｐ−ジメチルアミン安息香酸エステルなどが挙げられる。また、カチオン重合型の化合物に対する光重合開始剤としては、例えば芳香族スルホニウムイオン、芳香族オキソスルホニウムイオン、芳香族ヨードニウムイオンなどのオニウムと、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロアルセネートなどの陰イオンとからなる化合物が挙げられる。これらは１種用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよく、また、その配合量は、重合性化合物１００質量部に対して、通常０.２〜１０質量部の範囲で選ばれる。
【００６１】
前記電離放射線硬化性化合物以外にもハードコート性を大きく損なわない範囲で熱可塑性ポリマーを添加することができる。該熱可塑性ポリマーとしては、例えばアクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ブチラール系樹脂、ゼラチン、セルロース系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ウレタン系樹脂等が挙げられる。
【００６２】
さらに、必要に応じて、消泡剤、塗布性改良剤、増粘剤、界面活性剤、有機系潤滑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、発泡剤、染料、顔料、帯電防止剤などを含有していてもよい。
【００６３】
ハードコート層の厚みは１μｍ以上２０μｍ以下、好ましくは３μｍ以上１５μｍ以下であることが好ましい。該範囲未満ではハードコート性が十分得られず、塗膜に傷がつきやすい。一方、該範囲を超えるとコストアップにつながる。
【００６４】
（紫外線遮断層）
紫外線遮断性は、積層フィルムの表面に、無機または有機の紫外線吸収剤を配合した紫外線遮断層を設けることにより付与される。得られた機能性フィルムは、例えば住居、ビル、車両の窓ガラスに貼着することにより、紫外線を吸収させ、日焼け等の紫外線障害を防ぐことができる。また、各種の写真やカラーコピーの表面に貼着して褪色を押さえたり、食品や衣裳の保存ケースの透明部分に貼着して劣化を防いだりすることもできる。
【００６５】
（赤外線遮断層）
赤外線遮断性は、積層フィルムの表面に、無機または有機の赤外線吸収剤を配合した紫外線遮断層を設けることにより付与される。また、基材の表面に金属酸化物の薄膜を形成して赤外線反射性を与えてもよい。得られた機能性フィルムは、住居、ビル、車両の窓ガラスに貼着すると、室内や車両内の温度上昇をおさえられ、冷房効率が向上し、また冷凍・冷蔵用ショーケースの窓ガラスに貼着すると、冷房効率が向上する。また、プラズマディスプレーの画面表面に貼着し、プラズマにより発生する赤外線を遮断してリモートコントロールの誤作動を防ぐことができる。
【００６６】
（電磁波遮断層）
電磁波遮断性は、積層フィルムの表面に、無機もしくは有機の導電化剤、または磁性体を配合した電磁波遮断層を設けることにより付与することができる。得られた機能性フィルムは、各種のＯＡ機器、家庭電化製品、情報機器または医療用機器等の表示部、筐体部に貼着し、機器から発生する電磁波を遮蔽して人体を保護し、また妨害電磁波による機器の誤作動を防止する。
【００６７】
（導電層）
導電性は、積層フィルムの表面に、導電剤を配合した導電層を設けたり、金属もしくは金属酸化物の薄膜を形成することにより付与される。得られた機能性フィルムは、半導体工場の窓ガラスに貼着することにより、窓ガラスからのアルカリイオンの放出を防止し、埃の吸着を防止する。また、クリーンルームの窓ガラスや壁等の間仕切り部に貼着することにより、パーティクル汚染をおさえ、半導体のチップトレイ等に貼着することにより、半導体の静電気障害を防ぐ。
【００６８】
（抗菌層／活性層）
抗菌性は、積層フィルムの表面に、無機または有機の抗菌剤を配合した抗菌層を設けることにより、また酸化チタン等の光触媒を含む活性層を積層することにより与えられる。そして、得られた機能性フィルムを家庭電化製品、ＯＡ機器、文具等の日常使用する機器や器具の手に触れる部分、住居、病院、食堂等の窓や壁その他の間仕切り部または調理器具、調理台、食品用の容器、保存庫等の表面に貼着して細菌類の繁殖を抑える。
【００６９】
（親水性ポリマー層）
インク受容性は、積層フィルムの表面に、親水性ポリマー層または多孔質の微粒子を配合した親水性ポリマー層を形成することにより、インクジェット用インクの受容性が高められる。得られた機能性フィルムは、印刷またはコピーの内容により、ポスターその他の広告媒体として建物の壁や掲示板に、また会議資料や連絡、通達の手段としてホワイトボードや壁、掲示板に貼着して利用することができる。
【００７０】
前記のオリゴマーブロック層、各種機能層の塗工液の塗工方法としては、ロールコーター、グラビアコーター、バーコーター、ナイフコーター、ダイコーター等が適宜使用される。
【実施例】
【００７１】
本発明を、以下の実施例、比較例を用いて、更に具体的に説明する。なお、本発明はこれらの実施例によって制限されるものではない。なお、各実施例中の「部」は特に断ることのない限り、重量部を示したものである。
【００７２】
（オリゴマーブロック層の形成）
基材フィルムに、厚み５０μｍの二軸延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、その片面に、表１に示す各オリゴマーブロック層塗工液を作製し、乾燥後の膜厚が表２の膜厚になるように塗工・乾燥して各オリゴマーブロック層を設けた積層フィルム１〜７（実施例１〜５、比較例１〜２）を得た。
【００７３】
（ハードコート層の形成）
前記の積層フィルム１〜７（実施例１〜５、比較例１〜２）の各オリゴマーブロック層が設けられた面とは反対側の面に、下記に示すハードコート層塗工液を、膜厚が１５μｍになるように塗工し、８０℃の熱風オーブンで１分間乾燥を行い、紫外線照射（積算光量３００ｍＷ／ｃｍ２）することにより、実施例６〜１０、比較例３〜４のハードコート層が積層されたハードコートフィルムを得た。
（ハードコート層塗工液）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                    ４７．５部
光開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）
２．０部
イソプロピルアルコール                                      ５０．０部
合計                                                      １００．０部
【００７４】
（紫外線遮断層の形成）
前記の積層フィルム１（実施例１）のオリゴマーブロック層が設けられた面とは反対側の面に、下記に示す紫外線遮断層塗工液を、膜厚が１５μｍになるように塗工し、８０℃の熱風オーブンで１分間乾燥を行い、紫外線照射（積算光量３００ｍＷ／ｃｍ２）することにより、実施例１１の紫外線遮断層が積層された紫外線遮断フィルムを得た。
（紫外線遮断層塗工液）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                    ２７．６部
紫外線吸収剤（チヌビン４００；ＢＡＳＦ社製）                  ２．４部
シリコン系レベリング材（グラノール４４０；ＴＥＧＯ社製）      ０．２部
光開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）
１．５部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート            ６８．３部
合計                                                      １００．０部
【００７５】
（赤外線遮断層の形成）
前記の積層フィルム１（実施例１）のオリゴマーブロック層が設けられた面とは反対側の面に、下記に示す赤外線遮断層塗工液を、膜厚が１０μｍになるように塗工し、８０℃の熱風オーブンで１分間乾燥を行い、紫外線照射（積算光量３００ｍＷ／ｃｍ２）することにより、実施例１２の赤外線遮断層が積層された赤外線遮断フィルムを得た。
（赤外線遮断層塗工液）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                    １５．０部
ＡＴＯ粒子分散体                                            １５．０部
シリコン系レベリング材（グラノール４４０；ＴＥＧＯ社製）      ０．２部
光開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）
１．５部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート            ６８．３部
合計                                                      １００．０部
【００７６】
（抗菌層の形成）
前記の積層フィルム１（実施例１）のオリゴマーブロック層が設けられた面とは反対側の面に、下記に示す抗菌層塗工液を、膜厚が１５μｍになるように塗工し、８０℃の熱風オーブンで１分間乾燥を行い、紫外線照射（積算光量３００ｍＷ／ｃｍ２）することにより、実施例１３の抗菌層が積層された抗菌フィルムを得た。
（抗菌層塗工液）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                    ３０．０部
４級アミン塩系抗菌剤（アモルデンＰＰＣ；大和化学工業社製）    ０．３部
シリコン系レベリング材（グラノール４４０；ＴＥＧＯ社製）      ０．２部
光開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）
１．５部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート            ６８．０部
合計                                                      １００．０部
【００７７】
（導電層の形成）
前記の積層フィルム１（実施例１）のオリゴマーブロック層が設けられた面とは反対側の面に、下記に示す導電層塗工液を、膜厚が１０μｍになるように塗工し、８０℃の熱風オーブンで１分間乾燥を行い、実施例１４の導電層が積層された導電性フィルムを得た。
（導電層塗工液）
ポリエステル樹脂水分散体（バイロナールＭＤ−１５００、東洋紡社製）
２６．６部
カーボンナノチューブ（ＣＮＴ-Ｆ；、三菱マテリアル製社製）     ２．０部
イオン交換水                                                ５７．１部
メタノール                                                  １４．３部
合計                                                      １００．０部
【００７８】
（光線透過率の測定）
実施例１〜５、比較例１〜２の積層フィルム、及び実施例６〜１４、比較例３〜４の機能性フィルムを用意し、適宜の大きさにカットしたサンプルを作製した。ＪＩＳ  Ｋ７１５０に準拠し、測定機器として（株）日本電色工業社製ヘイズメーター  ＮＤＨ−２０００を用いて、光線透過率の測定を行った。
測定結果より波長３８０ｎｍの光に対する光線透過率を求めた。
【００７９】
（オリゴマー析出評価）
実施例１〜５、比較例１〜２の積層フィルム、及び実施例６〜１４、比較例３〜４の機能性フィルムを用意し、適宜の大きさにカットしたサンプルを作製した。さらに常温（２３℃）で、２時間放置した後、測定機器として（株）日本電色工業社製ヘイズメーター  ＮＤＨ−２０００を用いて、ヘイズ値を測定した。
前記の各フィルムの評価用試料を１２０℃、相対湿度２５％の雰囲気下で、１時間放置し、さらに常温（２３℃）で、２４時間放置した後、上記と同様にヘイズ値を測定した。
下記の基準にて評価した。
◎：１２０℃で１時間処理した前後のヘイズ値の差が０．５％以下である。
×：１２０℃で１時間処理した前後のヘイズ値の差が０．５％を超える。
【００８０】
（耐久性評価）
前記の各フィルムの評価用試料を６０℃、相対湿度５０％の雰囲気下で、３００時間放置し、さらに常温（２３℃）で、２４時間放置した後、上記と同様にヘイズ値を測定した。
下記の基準にて評価した。
◎：６０℃で３００時間処理した前後のヘイズ値の差が１．０％以下である。
×：６０℃で３００時間処理した前後のヘイズ値の差が１．０％を超える。
【００８１】
各積層フィルムのオリゴマーブロック層塗工液処方、及び各評価結果を表１、表２にまとめた。又、機能性フィルムの各評価結果を表３、表４にまとめた。
【００８２】
【表１】
2017013419.tif 000005
【００８３】
【表２】
2017013419.tif 000006
【００８４】
【表３】
2017013419.tif 000007
【００８５】
【表４】
2017013419.tif 000008