(57)【要約】【課題】  移動体の位置決め精度の低下が小さいステージ装置およびリソグラフィ装置を提供すること。【解決手段】  本発明は、移動体２０を案内面１ｆに沿って非接触で移動させるステージ装置１００であって、案内面１ｆ側から流入した気体を該流入した位置より案内面１ｆから離れた位置まで導風し排出する導風手段７が移動体２０に設けてあり、導風手段７は気体と共に流入したパーティクルを捕捉する捕捉手段を有することを特徴とする。【選択図】  図２
2017215488.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動体を案内面に沿って非接触で移動させるステージ装置であって、
前記案内面側から流入した気体を該流入した位置より前記案内面から離れた位置まで導風し排出する導風手段が前記移動体に設けてあり、
前記導風手段は前記気体と共に流入したパーティクルを捕捉する捕捉手段を有することを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
移動体を案内面に沿って非接触で移動させるステージ装置であって、
第１開口と第２開口とを備え、前記第１開口に流入した気体を前記案内面から離れる方向に導風し、前記気体を前記第２開口から排出する導風手段が前記移動体に設けてあり、
前記導風手段は、前記気体と共に流入したパーティクルを捕捉する捕捉手段を有することを特徴とするステージ装置。
【請求項３】
前記導風手段は、前記移動体の移動方向側の部分に設けられていることを特徴とする請求項１又は２のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項４】
前記導風手段は、前記移動体の移動方向側の部分に、互いに離間して対向するように設けられた２つの対向部を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項５】
前記第１開口は前記案内面に対向していることを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項６】
前記第２開口は前記第１開口よりも前記案内面から離れた位置を含む開口であることを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項７】
前記第１開口は、前記移動体の前記案内面と最も近い面よりも、前記案内面から離れた位置に設けられていることを特徴とする請求項２乃至６のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項８】
前記移動体の側面は前記導風手段で取り囲むように構成されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項９】
前記移動体は、第１方向に第１距離、かつ前記第１方向と交差する第２方向に前記第１距離よりも短い第２距離、移動可能であって、
前記導風手段は、少なくとも前記移動体の前記第１方向側に設けられている、ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項１０】
前記移動体は、前記移動体の案内面と対向する静圧軸受を有する、ことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項１１】
前記捕捉手段は、前記移動体の移動方向側の部分に互いに離間して対向するように設けられた２つの対向部の間で電界勾配を形成する電界形成手段、粘着性を有する粘着部材、複数の孔を備えたフィルタ部材、および、第１空間および前記第１空間よりも体積の大きな第２空間を前記気体の流れる方向に沿って備えた構造体、の少なくとも１つである、ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項１２】
前記移動体は、前記案内面を有する軸部材を取り囲んでおり、
前記導風手段は、前記軸部材と非接触で前記軸部材を取り囲んでいることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれか１項に記載のステージ装置を有し、
前記移動体上の物体に対して、原版を用いてパターンを形成することを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載のリソグラフィ装置を用いて前記物体上にパターンを形成する工程と、
前記工程でパターンの形成された前記物体を処理する処理工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステージ装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
案内面に沿って非接触で移動体を移動させると、案内面上に付着したパーティクルが移動体の移動による風圧で舞い上がる。これにより、舞い上がったパーティクルが、移動体の周囲に飛散してしまう。特許文献１には、案内面と対向する位置に静圧軸受を備えた移動体を案内面に沿って移動させるステージ装置が記載されている。移動体の外周には壁部が設けられ、壁部と移動体との間の空間の気体を配管を介して吸引することで、静圧軸受から吹き出しされた気体とともに当該気体によって案内面から舞い上がったパーティクルを回収することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−１９６８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、特許文献１に記載のステージ装置は、真空源と、前述の壁部から当該真空源まで伸長させた配管とが必要となる。そのため、移動体の移動時に伴う当該配管の移動が外乱要因となり、移動体の位置決め精度が低下する恐れがある。
【０００５】
そこで、本発明は、移動体の位置決め精度の低下が小さいステージ装置およびリソグラフィ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、移動体を案内面に沿って非接触で移動させるステージ装置であって、前記案内面側から流入した気体を該流入した位置より前記案内面から離れた位置まで導風し排出する導風手段が前記移動体に設けてあり、前記導風手段は前記気体と共に流入したパーティクルを捕捉する捕捉手段を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、移動体の位置決め精度の低下を小さくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】第１実施形態のステージ装置の構成を示す図である。
【図２】図１のＡ−Ａ断面図である。
【図３】捕捉手段の構成を示す図である。
【図４】第２実施形態の移動体の構成を示す図である。
【図５】第３実施形態のステージ装置の構成を示す図である。
【図６】第４実施形態の移動体の構成を示す図である。
【図７】第５実施形態の移動体装置の構成を示す図である。
【図８】第６実施形態のステージ装置の構成を示す図である。
【図９】インプリント装置の構成を示す図である。
【図１０】パーティクルの挙動の従来例を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
［第１実施形態］
（ステージ装置の構成）
図１は、第１実施形態のステージ装置１００の構成を示す図である。図１（ａ）は、ステージ装置１００の斜視図、図１（ｂ）は移動体２０を斜め下方から見た図である。図１（ａ）において、ステージ２が移動可能な方向をＸ軸とし、案内面１ｆに平行でＸ軸と直交する方向をＹ軸とし、ＸＹ平面と直交する方向をＺ軸としている。
【００１０】
ステージ装置１００は、駆動機構４と移動体２０とを有し、駆動機構４によって定盤１が有する案内面１ｆに沿って非接触で移動体２０を移動させる。移動体２０は、ステージ２と、導風手段７と、パーティクルを捕捉する捕捉手段と有する。定盤１は、金属に比べて剛性の高い、花崗岩（グラナイト）またはセラミックス等の材料で構成してもよい。
【００１１】
駆動機構４は、移動体２０の±Ｙ方向側にそれぞれ配置され、移動体２０をＸ軸方向に沿って移動させる。駆動機構４は、例えば、移動体２０に接続された可動子４ｍと、支持部材６によって定盤１に固定された固定子４ｓと、を有するリニアモータである。
【００１２】
ステージ２は、基板３（物体）を保持して移動する。基板３の保持方法は、基板３と保持面との間を排気することによる真空吸着法であっても、静電吸着法であっても、機械的機構を用いた方法であってもよい。
【００１３】
移動体２０は、図１（ｂ）に示すように、案内面１ｆと対向する、静圧軸受１４を有する。静圧軸受１４には気体供給路１５を介して気体が供給されており、ステージ２の移動時には案内面１ｆに向けて当該気体を吹き出し吹き出すことによって、案内面１ｆとステージ２とを非接触に支持する（図２参照）。
【００１４】
移動体２０の位置は、レーザ干渉計（不図示）又は可動子４ｍに設けた計測ヘッドと固定子４ｓに設けた固定スケールとを用いたリニアエンコーダ（不図示）などの計測手段により計測する。当該計測手段による計測結果に基づいて、駆動機構４が移動体２０を移動させる。
【００１５】
導風手段７は、移動体２０の±Ｘ方向側の部分（側方部）のそれぞれに設けられている。すなわち、移動体２０の上面側の部分および上面側とは反対側の下面側の部分（案内面１ｆと対向する部分）ではない部分に設けられている。
【００１６】
図１（ａ）のＡ−Ａ断面図である図２を用いて、導風手段７およびパーティクルを捕捉する捕捉手段の構成を説明する。図２は移動体２０が＋Ｘ方向側に移動している様子を示している。導風手段７は、案内面１ｆに対向する開口（第１開口）９と、開口９よりも案内面１ｆから離れた位置にある開口（第２開口）１０とを有し、開口９から空間１１に流入した気体が開口１０から排出されるように気体を導風する。
【００１７】
開口９および開口１０は、移動体２０の移動する空間（移動体のある空間）に開放されている。すなわち、開口９および開口１０は、移動体２０の移動する空間に対面するように設けられている。開口９と開口１０は互いに離間しかつ対向して設けられている。
【００１８】
導風手段７によって導風される気体は、静圧軸受１４から吹き出された気体と移動体２０の移動方向側の気体とを含みうる。開口９の高さ方向の位置は、移動体２０の案内面１ｆに最も近い面（静圧軸受１４の気体の吹き出し口がある面）よりも案内面１ｆから離れた位置（遠い位置）にあることが好ましい。当該案内面１ｆに最も近い面から離れていることにより、静圧軸受１４によって吹き出された気体だけでなく、移動体２０の移動方向側の気体が空間１１に入りやすくなる。
【００１９】
導風手段７は、移動体２０の±Ｘ方向側の部分（移動方向側の部分）に、離間して対向する２つの対向部を含む。本実施形態において、当該２つの対向部の一方はステージ２から離間して配置された対向部７ａであり、他方はステージ２の対向部７ａ側に配置された板部材８ａ、８ｂである。導風手段７は、対向部７ａとステージ２とを接続する接続部７ｂを含む（図１に図示）。
【００２０】
対向部７ａは、図２に示すように、ステージ２の側面（対向部７ａが対向している、ステージ２の面）に沿う方向に広がる面を有することが好ましい。
【００２１】
ステージ２と案内面１ｆとの距離を距離Ｌ１、対向部７ａと案内面１ｆとの距離を距離Ｌ２、および対向部７ａとステージ２との距離を距離Ｗとしている。距離Ｌ１は静圧軸受１４から吹き出し吹き出す気体の量によって可変であるが、例えば、ステージ２の移動時においてＬ１＝２μｍ〜１５μｍである。距離Ｌ２と距離Ｗについては後で詳述する。
【００２２】
パーティクルを捕捉する捕捉手段は、導風手段７に設けられている。捕捉手段はさまざまな形態をとりうる。図２では捕捉手段の一例として、対向部７ａのステージ２に近い側の面とステージ２の対向部７ａに近い側の面との間に電界を形成する電界形成手段を示している。電界形成手段は、対向する２つの電極と、導線１３を介して少なくとも一方の電極に電圧を与える電圧源１２と、を有する。
【００２３】
本実施形態では、対向部７ａおよび板部材８ａに導電性の材料を用いて、ステージ２の＋Ｘ方向側の板部材８ａを対向電極のうち一方の電極として構成しており、対向部７ａを他方の電極として構成している。一方の電極である対向部７ａを接地し、他方の電極である板部材８ａに電圧源１２によって電位を与えている。ステージ２の−Ｘ方向側にもステージ２の＋Ｘ方向側と同じように、板部材８ｂと対向部７ａとを電極として、同様の捕捉手段を配置している。
【００２４】
これにより、対向部７ａと板部材８ａとの間に電界が形成される。パーティクルＰ１、Ｐ２は、空気との摩擦によって帯電しやすいため、対向部７ａと板部材８ａとの間に電界で形成された電界によって導風された気体と共に運ばれてきた電荷を帯びたパーティクルＰ３を捕捉することができる。空間１１の内部の気体の流速はステージ２の移動速度以下であり、一度捕捉されたパーティクルの再飛散の懸念も少ない。
【００２５】
なお、対向部７ａの全範囲が電極でなくても、少なくとも一部の領域のみが電極であればよい。例えば、板部材８ａおよび対向部７ａの、中央よりも上側の部分のみが電極として構成されていてもよい。このような場合であっても、パーティクルを捕捉することができる。
【００２６】
（パーティクルを捕捉する原理について）
導風手段を有しないステージ装置１５０の周囲におけるパーティクルの挙動の従来例について図１０（ａ）、（ｂ）を用いて説明する。図１０（ａ）はステージ１０２の底部の拡大図であり、図１０（ｂ）はステージ１０２と定盤１１０との概略構成を示す図である。パーティクルＰ１、Ｐ２は、ステージ１０２の移動時に静圧軸受１４０からの気体の吹き出しを停止してステージ１０２を案内面１１０ｆに着地させた場合に、定盤１１０の部材又は静圧軸受１４０の削れにより生じる。パーティクルＰ１、Ｐ２の大きさは数１０ｎｍから数μｍの大きさの粒子である。
【００２７】
静圧軸受１４０を再び駆動させると、吹き出しされた気体が案内面１ｆに衝突して気流５１を発生させる。これにより、パーティクルＰ２は舞い上がる。気流５１の速度が１０〜２０ｍ／ｓ程度であればパーティクルＰ２の舞い上がる高さは数ｍｍ程度であるが、一度舞い上がったパーティクルＰ２は重力の影響が比較的小さく案内面１ｆに舞い降りて来難い。例えば、パーティクルＰ２の沈降速度は、密度２７００ｋｇ／ｍ３、直径１μｍとすると、ストークスの式から約８０μｍ／ｓとなる。
【００２８】
また、ステージ１０２が＋Ｘ方向側に移動している場合はステージ１０２の移動に伴って、ステージ１０２の上方に向かう気流５２が発生する。気流５２は浮遊しているパーティクルＰ２を気体と共に運んでしまう。これは、ステージ１０２の移動によりステージ１０２の移動方向側（＋Ｘ方向側）の気体が圧縮されてステージ１０２の移動方向側の圧力が上昇する一方で、ステージ２の上面側（＋Ｚ方向側）の気体の圧力はほとんど変化しないことによる。
【００２９】
気流５２は圧力（静圧と動圧の和）が高い領域Ａを避けて、ステージ２からＸ軸方向に離れた位置で生じるため、たとえステージ２にパーティクルの捕捉手段だけを設けてもパーティクルＰ２の捕捉は困難である。そのため、パーティクルＰ２はステージ１０２に付着したり、パターン形成等の処理対象である基板３に付着する可能性がある。
【００３０】
次に、従来例と比較して、本実施形態にかかるステージ装置１００を用いた場合のパーティクルの挙動について図２に戻って説明する。対向部７ａよりも移動方向側では圧力の高い領域Ａは発生するが、対向部７ａと板部材８ａの周囲では圧力が高くなりにくい。よって開口９の付近では領域Ａがほとんど発生しない。
【００３１】
したがって、導風手段７は、案内面１ｆから離れる方向へ向かう気流５３を空間１１に発生させることができる。すなわち、開口９と開口１０とを用いて、開口９から開口１０に向かうように気体を導風することができる。これにより、案内面１ｆ付近を漂うパーティクルＰ２も、空間１１内に流入させ、導風手段７に設けた捕捉手段によってパーティクルＰ３を捕捉することができる。
【００３２】
距離Ｌを大きくすればより高い位置のパーティクルＰ２を空間１１に導風することができるが、距離Ｌが大きくなるほど気流５３を発生させづらくなる。また、距離Ｌ２が小さすぎると静圧軸受１４から吹き出しされた気体がステージ２の移動方向側に存在する気体よりも優先して空間１１に入るため、ステージ２の移動方向側の気体が空間１１に入りづらくなってしまう。これに鑑み、距離Ｌ２はＬ１≦Ｌ２≦１０ｍｍを満たすことが好ましい。
【００３３】
距離Ｗが小さいほうが電界形成手段によって形成する電界強度を大きくすることが容易となる。一方で、距離Ｗが小さすぎると空間１１の体積が低減する分、空間１１の内部に気体が入りづらくなる。これに鑑み、距離ＷはＷ≦５ｍｍが好ましい。
【００３４】
以上距離Ｌ２、距離Ｗの好ましい数値を例示したが、ステージ２の移動速度や静圧軸受１４から吹き出しされる気体の速度等に応じて、前述の数値を適宜変更しても構わない。対向電極を構成している対向部７ａおよび板部材８ａ、８ｂは、定期的に交換可能な構造を有していてもよい。また、導風手段７は、ステージ２の±Ｘ方向側の両方ではなく、少なくとも一方に設けられていればよい。
【００３５】
以上説明したように、導風手段７は、開口９から流入した気体を導風して開口１０から排出する。導風手段７に設けたパーティクル捕捉手段によって、導風された気体とともに運ばれたパーティクルを捕捉する。これにより、移動体２０の周囲の空間へのパーティクルの飛散を低減することができる。特にパーティクルから保護したい対象の基板３へのパーティクルの付着を、導風手段７および捕捉手段を有しないステージ装置に比べて低減することができる。
【００３６】
このように、ステージ装置１００は、真空源等の排気手段と接続された配管を用いることなく、パーティクルの飛散を低減することができる。したがって、排気手段と接続された配管とともに移動体２０を移動させる場合に比べて、パーティクルの飛散低減に伴う位置決め精度の低下を小さくすることができる（精度良く移動体２０を位置決めすることができる）。
【００３７】
（捕捉手段のその他の構成について）
図３（ａ）〜（ｃ）では、その他の捕捉手段を例示している。図３（ａ）は前述の電界形成手段における板部材８ａを電極とする代わりに、板部材８ａ上に複数の突起状の電極１６を配置している。これにより、対向部７ａと板部材８ａとの間に電界勾配を形成してパーティクルを捕捉することができる。板部材８ａを電極で構成する場合に比べて、非一様な電界を形成することができる。当該非一様な電界にはたらくグラディエント力により、帯電したパーティクルだけでなく、帯電していないパーティクルをも捕捉することができる。
【００３８】
図３（ｂ）では、粘着性を有する粘着部材１７を捕捉手段とした場合を示している。対向部７ａおよび板部材８ａ（または８ｂ）の互いに対向する側の面に、粘着部材１７を設けることにより、空間１１を通過する気体に含まれるパーティクルを捕捉することができる。図２および図３（ａ）の構成に比べて、電圧源１２が不要になり、捕捉手段の構成を簡素化することができる。
【００３９】
粘着部材１７に凹凸を設けることにより、よりパーティクルの捕捉率を上げてもよい。粘着部材１７は、接続部７ｂの空間１１側の面に設けてもよいし、対向部材７ａおよび板部材８ａの一方のみに設けられていてもよい。
【００４０】
図３（ｃ）では、空間１１の内部、複数の孔を備えたフィルタ部材１８を捕捉手段とした場合を示している。フィルタ部材１８は開口１０（導風先の開口）の付近に設けられた粒子フィルタであって、例えばＵＬＰＡ等が挙げられる。空間１１に流入した気体の圧力損失の小さいフィルタを選択して、空間１１に流入する気体を減少させないことが好ましい。
【００４１】
［第２実施形態］
図４（ａ）第２実施形態にかかる移動体２０ａの構成を示す図、図４（ｂ）は図４（ａ）のＢ−Ｂ断面図である。ステージ装置１００の移動体２０のかわりに移動体２０ａが搭載されている。図２（ａ）（ｂ）と同一の部材には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００４２】
導風手段７７は、ステージ２の移動方向側にステージ２から離間して配置された対向部７７ａと、導風手段７７とステージ２の上面側と接続する接続部７７ｂとを有する。導風手段７７は、案内面１ｆに対向する開口９と、開口９よりも案内面１ｆから離れた位置１９ａを含む開口１９（第２開口）とを有する。開口１９は、開口９の高さからステージ２の上端にわたって設けられている。空間１１には、第１実施形態と同様のパーティクルを捕捉するパーティクル捕捉手段（不図示）が設けられている。
【００４３】
導風手段７７のように開口９と開口１９が連続的な開口であっても、開口９の付近で圧力が高くなりづらいため、移動体２０ａの移動方向側の気体や静圧軸受１４から吹き出された気体は空間１１に入りやすい。空間１１に流入した気体は、導風手段７７の上部に設けられた接続部７７ｂが壁となることによって、±Ｙ方向に分岐する気流５３を発生させる。
【００４４】
以上説明したように、導風手段７は、開口９から流入した気体を案内面１ｆから離れる方向に導風して開口１９から排出する。導風手段７に設けたパーティクル捕捉手段によって、導風された気体とともに運ばれたパーティクルを捕捉することができる。これにより、移動体２０ａの周囲の空間へのパーティクルの飛散を低減することができる。特にパーティクルから保護したい対象の基板３へのパーティクルの付着を、導風手段７７および捕捉手段を有しないステージ装置に比べて低減することができる。
【００４５】
このように、ステージ装置１００は、真空源等の排気手段と接続された配管を用いることなく、パーティクルの飛散を低減することができる。したがって、排気手段と接続された配管とともに移動体２０ａを移動させる場合に比べて、パーティクルの飛散低減に伴う位置決め精度の低下を小さくすることができる（精度良く移動体２０ａを位置決めすることができる）。
【００４６】
［第３実施形態］
図５（ａ）、図５（ｂ）は、第３実施形態に係るステージ装置３００の構成を示す図である。図５（ｂ）は図５（ａ）のＣ−Ｃ断面図である。図２（ａ）（ｂ）と同一の部材には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００４７】
ステージ装置１００とは異なり、ステージ装置３００のステージ２２は案内面１ｆに沿って、Ｘ軸方向（第１方向）およびＹ軸方向（第２方向）に移動する。ステージ装置３００は、移動体２０ｂの側面２２は導風手段８７で取り囲むように構成されている。すなわち、導風手段８７は、案内面１ｆに対して直交する（交差する）面である、ステージ２の側面２２の外側を取り囲んでいる。
【００４８】
駆動機構４は第１実施形態と同じである。ステージ２２をＹ軸方向に駆動する駆動機構は、例えば、ステージ２２に接続された可動子（不図示）と、当該可動子に対向可能にステージ２２を貫通して配置された固定子２０ｓとを有するリニアモータである。リニアモータの代わりにエンコーダを使用してもよい。
【００４９】
図５（ｂ）に示すように、ステージ２２の±Ｘ方向側および±Ｙ方向側に４つの対向部８７ａ〜８７ｄを有する。導風手段８７は、さらに、案内面１ｆと対向する開口９と、開口９に対向する開口１０とを含む。開口１０の一部において、接続部８７ｅが導風手段８７をステージ２に接続している。空間１１には、第１実施形態と同様にパーティクルを捕捉する捕捉手段（不図示）が設けられており、空間１１内のパーティクルを捕捉する。
【００５０】
このように、ステージ装置３００は、導風手段８７を用いて開口９から流入した気体を開口１０から排出するように気体を導風し、導風手段７に設けたパーティクル捕捉手段によって、導風された気体とともに運ばれたパーティクルを捕捉することができる。これにより、移動体２０ｂの周囲の空間へのパーティクルの飛散を低減することができる。特にパーティクルから保護したい対象の基板３へのパーティクルの付着を、導風手段７７および捕捉手段を有しないステージ装置に比べて低減することができる。
【００５１】
対向部８７ａ〜８７ｄにより、移動体２０ｂの側面を導風手段８７で取り囲むことによって、ステージ２が二次元的に移動する場合であっても、パーティクルを捕捉することができる。
【００５２】
このように、ステージ装置３００は、真空源等の排気手段と接続された配管を用いることなく、パーティクルの飛散を低減することができる。したがって、排気手段と接続された配管とともに移動体２０ｂを移動させる場合に比べて、パーティクルの飛散低減に伴う位置決め精度の低下を小さくすることができる（精度良く移動体２０ｂを位置決めすることができる）。
【００５３】
なお、ステージ２がＸ軸方向に第１距離、かつＸ軸方向と交差するＹ軸方向に前記第１距離よりも短い第２距離、移動可能な場合であって、側面２２を取り囲むように導風手段を構成できない場合もある。この場合、少なくとも導風手段は、移動体２０ｂのＸ軸方向側（第１方向側）に設けられていることが好ましい。
【００５４】
［第４実施形態］
第４実施形態にかかるステージ装置１００は、移動体２０のかわりに移動体２０ｃが搭載されている。図６（ａ）は移動体２０ｃの断面構成を示す図である。移動体２０ｃの側方部（±Ｘ方向側の部分）に導風手段９０が設けられ、パーティクルを捕捉する捕捉手段９３は導風手段９０に設けられている。図６（ｂ）は導風手段９０の斜視図である。図６（ａ）において、図２（ａ）と同一の部材には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００５５】
導風手段９０は案内面１ｆに対向した開口９１と、開口９１よりも案内面１ｆから離れた位置にある開口９２と、を有する。導風手段９０は開口９１から開口９２に向けて気体を導風することができる。導風に関する詳細な原理は前述の他の実施形態と同様であるため説明を省略する。導風手段９０ａは一体形成された構造体であってもよいし、複数の板材を締結して構成されたものであってもよい。
【００５６】
これにより、ステージ装置１００は、案内面１ｆから舞い上がるパーティクルを開口９１を導風手段９０の内部に導き、導風手段９０の内部に設けた捕捉手段９３によって、パーティクルＰ４を捕捉することができる。さらに、移動体２０ｃの周囲の空間へのパーティクルの飛散を低減することができる。
【００５７】
このように、ステージ装置１００は、真空源等の排気手段と接続された配管を用いることなく、パーティクルの飛散を低減することができる。したがって、排気手段と接続された配管とともに移動体２０ｃを移動させる場合に比べて、パーティクルの飛散低減に伴う位置決め精度の低下を小さくすることができる（精度良く移動体２０ｃを位置決めすることができる）。
【００５８】
捕捉手段９３は、静電気力によってパーティクルＰ４を捕捉する電界形成手段でもよいし、図３（ａ）〜（ｃ）に示した捕捉手段でもよい。特にパーティクルから保護したい対象の基板３へのパーティクルの付着を、導風手段９０や捕捉手段を有しないステージ装置に比べて低減することができる。
【００５９】
なお、移動部材２０から一番離れた板部分９０ａが移動体２０ｃの下面よりも案内面１ｆに近くてもよい。この場合は、主に静圧軸受１４からの気体によって舞い上がったパーティクルを捕捉しやすくなる。
【００６０】
［第５実施形態］
第５実施形態にかかるステージ装置１００は、移動体２０のかわりに移動体２０ｄが搭載されている。図７は、移動体２０ｄの断面構成を示す図であり、移動体２０ｄの側方部（±Ｘ方向側）に導風手段９４を有し、パーティクルを捕捉する捕捉手段９７が導風手段９４に設けられている。図７（ｂ）は導風手段９４の斜視図である。図７（ａ）において、図２と同一の部材には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。導風手段９４は一体形成された構造体であってもよいし、複数の板材を締結して構成されたものであってもよい。
【００６１】
導風手段９４は案内面１ｆに対向した開口９５と、開口９５よりも離れた位置に開口９６とを有する。導風手段９４は２つの空間９９ａと９９ｂとを有する。これらの空間を隙間９５を介して仕切る仕切り板９８ｂが、下板９８ａと上板９８ｃとの間に設けられている。導風手段９４の内部（気体の流路）には、捕捉手段９７を有する。捕捉手段９７は、静電気力によってパーティクルＰ４を捕捉する電界形成手段でもよいし、図３（ａ）〜（ｃ）に示した捕捉手段でもよい。
【００６２】
導風手段９４は開口９５から開口９６に気体を導風することができ、捕捉手段９７はパーティクルＰ５を捕捉することができる。よってステージ装置１００は、移動体２０ｄの周囲の空間へのパーティクルの飛散を低減することができる。特にパーティクルから保護したい対象の基板３へのパーティクルの付着を、導風手段９４および捕捉手段を有しないステージ装置に比べて低減することができる。
【００６３】
なお、捕捉手段９７が無い場合であっても本実施形態にかかる導風手段９４の構成であればパーティクルＰ５を捕捉する捕捉手段としても機能する。空間９９ａの高さをＨ２、空間９９ｂの高さをＨ１として、Ｈ２＜Ｈ１の関係が成立する。すなわち空間９９ａの体積よりも空間９９ｂの体積の方が大きくなっている。
【００６４】
これにより、開口９５から流入した気体は、空間９９ａでの流速よりも空間９９ｂでの流速のほうが小さくなる。すなわち、パーティクルＰ５の速度も小さくなる。空間９９ｂの内部で速度の低下したパーティクルＰ５を仕切り板９８ｂ上に落下させることができ、開口９６からパーティクルが出ないように捕捉することができる。このように、導風手段９４は、空間９９ａと空間９９ｂを気体の流れる方向に沿って備えた構造体であれば、移動体２０ｄの周囲に飛散するパーティクルを低減することができる。
【００６５】
導風手段９７は２つの空間に仕切っている例を図示したが、より多くの空間に仕切った導風手段９７によって段階的にパーティクルＰ５の速度を低下させてもよい。
【００６６】
このように、ステージ装置１００は、真空源等の排気手段と接続された配管を用いることなく、パーティクルの飛散を低減することができる。したがって、排気手段と接続された配管とともに移動体２０ｄを移動させる場合に比べて、パーティクルの飛散低減に伴う位置決め精度の低下を小さくすることができる（精度良く移動体２０ｄを位置決めすることができる）。
【００６７】
［第６実施形態］
図８は、駆動機構（不図示）によって移動体２ａを移動させる、ステージ装置６００の構成を示す図である。移動体２ａは、不図示の駆動機構により力を受けて軸１ａに沿って非接触で駆動する。移動体２ａの側方部には導風手段９０ａが設けられている。さらに、パーティクルを捕捉する捕捉手段９９が導風手段９０ａに設けられている。本実施形態において、側方部は、移動体２０ｅの移動方向側の部分のことをいう。導風手段９０ａは、軸１ａを非接触で取り囲んでいる。
【００６８】
導風手段９０ａは、案内面１ｆａに対向している開口９１ａと、開口９１ａよりも案内面１ｆａから離れた位置にある開口９２ａとを有し、静圧軸受１４ａからの気体や、移動体２ａの周囲の空間の気体を、開口９１ａから開口９２ａに向けて導風する。静圧軸受１４ａによって舞い上がった案内面１ｆａ上に付着していたパーティクルを、導風手段９０ａの導風流路に導き、捕捉手段９９によって捕捉することができる。これにより、移動体２０ｅの周囲の空間へのパーティクルの飛散を低減することができる。特にパーティクルから保護したい対象の基板３へのパーティクルの付着を、導風手段７７および捕捉手段を有しないステージ装置に比べて低減することができる。
【００６９】
さらに、排気手段と接続された配管とともに移動体２ａを移動させる場合に比べて、精度良く移動体２ａを位置決めすることができる（位置決め精度の低下を小さくすることができる）。
【００７０】
［リソグラフィ装置］
ステージ装置１００を有し、物体である基板３に対して原版を用いてパターンを形成するリソグラフィ装置の実施形態を説明する。図９はリソグラフィ装置であるインプリント装置４００の構成を示す図である。
【００７１】
インプリント装置４００は、ステージ装置１００のステージ２が保持している基板３の上に供給部４０４によって供給されたインプリント材４０２（例えば光硬化性の組成物）と型４０１とを接触させる。型４０１とインプリント磁亜４０２とを接触させた状態でインプリント材４０２に硬化用のエネルギーを与えることにより、型４０１の凹凸パターンが転写された硬化物のパターンを形成する装置である。図９では、硬化用のエネルギーが光源４０５から射出された光である場合を示している。
【００７２】
インプリント材には、硬化用のエネルギーが与えられることにより硬化する硬化性組成物（未硬化状態の樹脂と呼ぶこともある）が用いられる。硬化用のエネルギーとしては、電磁波、熱等が用いられる。電磁波としては、例えば、その波長が１０ｎｍ以上１ｍｍ以下の範囲から選択される、赤外線、可視光線、紫外線などの光である。
【００７３】
硬化性組成物は、光の照射により、あるいは、加熱により硬化する組成物である。このうち、光により硬化する光硬化性組成物は、重合性化合物と光重合開始剤とを少なくとも含有し、必要に応じて非重合性化合物または溶剤を含有してもよい。非重合性化合物は、増感剤、水素供与体、内添型離型剤、界面活性剤、酸化防止剤、ポリマー成分などの群から選択される少なくとも一種である。
【００７４】
インプリント材は、スピンコーターやスリットコーターにより基板上に膜状に付与される。或いは液体噴射ヘッドにより、液滴状、或いは複数の液滴が繋がってできた島状又は膜状となって基板上に付与されてもよい。インプリント材の粘度（２５℃における粘度）は、例えば、１ｍＰａ・ｓ以上１００ｍＰａ・ｓ以下である。
【００７５】
基板３は、例えば、ガラス、セラミックス、金属、半導体、樹脂等が用いられ、必要に応じて、その表面に基板とは別の材料からなる部材が形成されていてもよい。基板は、具体的には、シリコンウエハ、化合物半導体ウエハ、石英ガラス等である。
【００７６】
ステージ装置１００は、基板３以外の物体を移動させる装置であってもよい。例えば、型４０１をインプリント法によって複製する場合は、パターン形成後に型として使用される物体であってもよい。
【００７７】
インプリント装置４００は、ステージ装置１００の代わりに、前述の他の実施形態にかかるステージ装置を用いてもよい。リソグラフィ装置はインプリント装置４００でなくてもよい。原版としてのレチクルを使用し、当該レチクルを透過した、ｉ線（波長３６５ｎｍ）、ＡｒＦレーザ光（波長１９３ｎｍ）、ＥＵＶ光（波長１３ｎｍ）等の光線を基板３に照射することにより、基板３上に潜像パターンを形成する露光装置もよい。原版としての描画データを使用し、荷電粒子線を基板３に照射することにより基板３上に潜像パターンを形成する露光装置でもよい。
【００７８】
［その他の実施形態］
パーティクルを捕捉する捕捉手段は、前述した種類に限定されるものではない。前述した捕捉手段のうち一つのみを使用してもよいし、複数の捕捉手段を組み合わせて使用してもよい。
【００７９】
移動体２０、２０ａ〜２０ｅはいずれも静圧軸受１４を有する場合について説明したが、静圧軸受１４は無くてもよい。例えば、電磁石を用いてステージ２を非接触に支持をしてもよい。静圧軸受１４が無くても、ステージ２の移動に伴い舞い上がるパーティクルを、導風手段および捕捉手段を用いて捕捉することができる。
【００８０】
駆動機構４は平面モータであってもよい。すなわち、案内面１ｆに沿って２次元的に配置されたコイル（又は磁石）と移動体２０、２０ａ〜２０ｅに２次元的に配置された磁石（又はコイル）によって、案内面１ｆに対して非接触で移動体２０、２０ａ〜２０ｅを２次元的に移動させてもよい。
【００８１】
本明細書において、「パーティクル」とは、リソグラフィ装置においてパターン形成に関与することを目的としていない物質である。パーティクルは、リソグラフィ装置を構成する部材から生じる微粒子も含む。案内面１ｆから生じた微粒子、または案内面１ｆの上方で発生し案内面１ｆに堆積した微粒子である。インプリント装置４００の場合において、供給部４０４により吐出されたインプリント材４０２が漂い乾燥した固形物、外部から進入してインプリント装置４００内に存在する塵などもパーティクルである。
【００８２】
［物品の製造方法］
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、リソグラフィ装置を用いて基板（ウエハやガラス板等）上にパターンを形成する工程と、パターンの形成露光された基板に対して加工処理を施す工程とを含む。物品とは、例えば、半導体集積回路素子、液晶表示素子、撮像素子、磁気ヘッド、ＣＤ−ＲＷ、光学素子、フォトマスク等である。加工処理とは、例えば、エッチング処理、あるいはイオン注入処理である。さらに、他の周知の処理工程（現像、酸化、成膜、蒸着、平坦化、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含んでもよい。
【００８３】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【００８４】
硬化物のパターンは、上記物品の少なくとも一部の構成部材として、そのまま用いられるか、或いは、レジストマスクとして一時的に用いられる。基板の処理工程においてエッチング又はイオン注入等が行われた後、レジストマスクは除去される。処理工程はさらに、他の周知の処理工程（現像、酸化、成膜、蒸着、平坦化、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含んでもよい。
【符号の説明】
【００８５】
１ｆ、１ｆａ  案内面
７ａ  対向部（捕捉手段、導風手段）
７ｂ  接続部（導風手段）
８ａ、８ｂ  部分（捕捉手段）
９  開口（第１開口）
１０、１９  開口（第２開口）
１２  電圧源（捕捉手段）
１６  電極（捕捉手段）
１７  粘着部材（捕捉手段）
１８  フィルタ部材（捕捉手段）
２０、２０ａ〜２０ｅ  移動体
１００、３００、６００  ステージ装置
４００  インプリント装置
Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３  パーティクル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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