(57)【要約】【課題】カラーフィルタ基板のフォトスペーサの樹脂層へのめり込み量を低減する。【解決手段】透明基板上に、少なくとも複数の矩形開口部を具備する樹脂ブラックマトリクスと、該樹脂ブラックマトリクスのパターンの面上に金属台座パターンが形成され、前記樹脂ブラックマトリクスの矩形開口部内にカラーフィルタ層の着色画素が形成され、前記カラーフィルタ層の着色画素と前記樹脂ブラックマトリクスのパターンと金属台座パターンを覆う平坦化層が形成され、該平坦化層の上にフォトスペーサが形成され、該フォトスペーサは前記金属台座パターンに対向する位置に設置されているカラーフィルタ基板を製造する。【選択図】図２
2017016047.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に、少なくとも複数の矩形開口部を具備する樹脂ブラックマトリクスと、該樹脂ブラックマトリクスのパターンの面上に金属台座パターンが形成され、前記樹脂ブラックマトリクスの矩形開口部内にカラーフィルタ層の着色画素が形成され、前記カラーフィルタ層の着色画素と前記樹脂ブラックマトリクスのパターンと金属台座パターンを覆う平坦化層が形成され、該平坦化層の上にフォトスペーサが形成され、該フォトスペーサは前記金属台座パターンに対向する位置に設置されていることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項２】
請求項１記載のカラーフィルタ基板であって、前記金属台座パターンが銅合金又はアルミニウム合金で形成されていることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のカラーフィルタ基板を具備したタッチセンサ付き液晶表示装置であって、前記金属台座パターンによる第１の電極パターンと、その他の第２の電極パターンとの交差点に形成される容量素子を利用するタッチセンサ部を備えたことを特徴とするタッチセンサ付き液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチセンサ付き液晶表示装置及びカラーフィルタ基板に関し、特に、液晶表示セルのセルギャップを制御するためのフォトスペーサを設けたカラーフィルタ基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置は、カラーフィルタによって色表示を行う多色カラータイプがテレビ、モニタ、携帯端末等の表示パネルに利用が進んでいる。多色カラー化のために一般にマイクロセル構造のカラーフィルタが多用され、カラーフィルタ基板は液晶表示パネルの表示品質を決める上で重要な役割を担っている。
【０００３】
液晶表示装置は少なくとも一枚を光透過性とする一対の基板間に液晶を封入してなるセル構造を有し、前述の多色カラー表示の場合には、光透過性の基板のセル内面にカラーフィルタが形成されたカラーフィルタ基板が用いられている。
【０００４】
カラーフィルタ基板は、透明基板１の片側（液晶セルの内面となる側）に遮光性の樹脂ブラックマトリクスのパターンと樹脂ブラックマトリクスのパターンの隙間を規則的に満たすカラーフィルタ層の着色画素の繰り返し配列が、例えばフォトリソグラフィー法により正確な位置合わせで形成されている。
【０００５】
その樹脂ブラックマトリクスのパターンとカラーフィルタ層の着色画素の上に透明樹脂の平坦化層を設け、表面の平坦化を図っている。
【０００６】
その平坦化層の上に、透明電極層をスパッタリング法や真空蒸着法等の物理蒸着手段により形成している。
【０００７】
さらに、液晶セルのセルギャップ制御用に、平坦化層の上に、感光性樹脂により選択的に形成される複数のフォトスペーサをフォトリソグラフィー法を用いて規則的に配している。
【０００８】
フォトスペーサはブラックマトリクスパターン上に重なるよう、通常は同形のパターンを選択的に決められた規則的な配置で形成し、液晶セルギャップを保持する機能を有するものであり、様々な外部からの圧力に抗して液晶セルギャップを一定の範囲に保持する。
【０００９】
一方、高さを若干低く形成した、複数のサブフォトスペーサを高さの高いフォトスペーサと共に用いる。サブフォトスペーサは、セルギャップの下支えの意味と共に、下限のセルギャップを設定することにより、必要に応じてセルギャップを調節し易くする意味がある。
【００１０】
例えば、低温時に液晶の体積収縮が生じた場合に、セルギャップが収縮に充分に追随できないと、内圧変動により低温発泡という異常現象が発生する。特許文献１では、それを改善するために、少数の高さの高いフォトスペーサと、高さの低い多数のサブフォトスペーサを設ける。
【００１１】
それにより、少数の高さの高いフォトスペーサが１箇所当たりに加わる大きな力で押されて変形し、多数のサブフォトスペーサで支えられる下限のセルギャップまで変形し易くする。そのようにセルギャップを変え易くすることで、セルギャップを低温時の液晶の体
積収縮に追随させる。そのため、低温発泡による表示不良を起こさずに液晶表示装置の耐荷重特性が向上する。
【００１２】
また、特許文献２のように、液晶表示装置の中にタッチセンサ部を組み込んだ構造の液晶表示装置のインセル型のタッチセンサが開発されている。インセル型のタッチセンサは、タッチセンサ部を液晶表示装置に内蔵させることで、装置全体としての回路の集積化が図れ、パネルの薄型化・高輝度化が可能になる利点を持つ。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開２００３−８４２８９号公報
【特許文献２】特開２００９−２４４９５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
しかし、液晶表示装置の高精細化に伴い、フォトスペーサの細線化の要望が強くなっている。細線化されたフォトスペーサの場合は、フォトスペーサに強い荷重がかかると、フォトスペーサが平坦化層と樹脂ブラックマトリクスの樹脂層にめり込む塑性変形が大きくなる問題があった。
【００１５】
本発明の課題は、この問題を改善し、フォトスペーサの樹脂層へのめり込み量を低減したカラーフィルタ基板と、それを用いたタッチセンサ付き液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記の課題を解決するために、本発明は、透明基板上に、少なくとも複数の矩形開口部を具備する樹脂ブラックマトリクスと、該樹脂ブラックマトリクスのパターンの面上に金属台座パターンが形成され、前記樹脂ブラックマトリクスの矩形開口部内にカラーフィルタ層の着色画素が形成され、前記カラーフィルタ層の着色画素と前記樹脂ブラックマトリクスのパターンと金属台座パターンを覆う平坦化層が形成され、該平坦化層の上にフォトスペーサが形成され、該フォトスペーサは前記金属台座パターンに対向する位置に設置されていることを特徴とするカラーフィルタ基板である。
【００１７】
本発明は、このように平坦化層の下に樹脂ブラックマトリクス上に金属台座パターンを形成することで金属台座パターンにフォトスペーサ下底を支えさせるので、フォトスペーサの樹脂層へのめり込み量を低減することができる効果がある。
【００１８】
また、本発明は、上記のカラーフィルタ基板であって、前記金属台座パターンが銅合金又はアルミニウム合金で形成されていることを特徴とするカラーフィルタ基板である。
【００１９】
また、本発明は上記のカラーフィルタ基板を具備したタッチセンサ付き液晶表示装置であって、前記金属台座パターンによる第１の電極パターンと、その他の第２の電極パターンとの交差点に形成される容量素子を利用するタッチセンサ部を備えたことを特徴とするタッチセンサ付き液晶表示装置である。
【発明の効果】
【００２０】
本発明は、平坦化層の下に樹脂ブラックマトリクス上に金属台座パターンを形成することで金属台座パターンにフォトスペーサ下底を支えさせるので、フォトスペーサの樹脂層へのめり込み量を低減することができる効果がある。
【００２１】
また、本発明は、金属台座パターンがフォトスペーサを形成するための露光を反射して再びフォトスペーサ形成用の樹脂組成物を露光する２重の露光が行われることで、露光時間が通常の露光時間の半分程度で済むので、露光工程の生産性が向上する効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第１の実施形態のタッチセンサ付き液晶表示装置の側断面の模式図である。
【図２】本発明の第１の実施形態のカラーフィルタ基板の部分拡大平面図である。
【図３】本発明の第１の実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法を説明する側断面の模式図である（その１）。
【図４】本発明の第１の実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法を説明する側断面の模式図である（その２）。
【図５】本発明の第２の実施形態のタッチセンサ付き液晶表示装置の側断面の模式図である。
【図６】本発明の第２の実施形態のカラーフィルタ基板の側断面の模式図である。
【図７】本発明の第３の実施形態のカラーフィルタ基板の部分拡大平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
＜第１の実施形態＞
以下、図面を参照して、本発明の第１の実施形態を説明する。図１は、本発明の第１の実施形態のタッチセンサ付き液晶表示装置の要部断面構造を表すものである。
【００２４】
（タッチセンサ付き液晶表示装置）
タッチセンサ付き液晶表示装置は、図１のように、カラーフィルタ基板１０と、このカラーフィルタ基板１０に対向して配置されたＴＦＴ基板２０と、ＴＦＴ基板２０とカラーフィルタ基板１０との間に挿設された液晶層３０とを備えている。
【００２５】
そして、ＴＦＴ基板２０の外側には入射側偏光板４２が配置され、カラーフィルタ基板１０の外側には、偏光板４１が配設されている。
【００２６】
（ＴＦＴ基板）
ＴＦＴ基板２０は、マトリクス状に配設された複数の画素電極と、各画素電極を駆動するための表示ドライバやＴＦＴ（薄膜トランジスタ）や、各ＴＦＴを駆動する配線が形成されている。ＴＦＴ基板２０にはまた、後述するタッチ検出動作を行う検出回路が形成されていてもよい。
【００２７】
（カラーフィルタ基板）
本発明の第１の実施形態のタッチセンサ付き液晶表示装置のカラーフィルタ基板１０の部分拡大平面図を図２に示し、部分拡大側断面図を図４（ｈ）に示す。
【００２８】
本実施形態のカラーフィルタ基板１０は、ガラス基板等の透明基板１の表面にセンサ用検出電極パターン２が形成され、透明基板１の裏面に格子状の樹脂ブラックマトリクス３が形成され、樹脂ブラックマトリクス３の面上に金属台座パターン４によるセンサ用駆動電極パターンが形成されている。
【００２９】
カラーフィルタ基板１０の平面図の図２の上下方向をＸ方向とし、図２の左右方向をＹ方向とする。また、図４（ｈ）の側断面図では、図４（ｈ）の左右方向をＸ方向とし、図４（ｈ）の紙面に垂直な方向をＹ方向と定義する。
【００３０】
センサ用検出電極パターン２のパターンを、図４（ｈ）の左右方向として定義したＸ方
向に走る配線で形成し、金属台座パターン４によるセンサ用駆動電極パターンは、図２の左右方向であり、図４（ｈ）の紙面に垂直な方向である、Ｙ方向に走る配線で形成する。
【００３１】
格子状に形成された樹脂ブラックマトリクス３で仕切られた矩形開口部に、例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色の着色画素を周期的に配列してカラーフィルタ層５を形成する。
【００３２】
樹脂ブラックマトリクス３と金属台座パターン４とカラーフィルタ層５の上に平坦化層６が形成され、平坦化層６の上に透明電極層７が形成されている。平坦化層６又は透明電極層７の上に、ＴＦＴ基板２０と接するフォトスペーサ８を設置する。フォトスペーサ８は、金属台座パターン４上の位置に設置する。フォトスペーサ８はＴＦＴ基板との中間に液晶層を挟持する間隙を規定する。
【００３３】
（金属台座パターン）
センサ用駆動電極用の金属台座パターン４は、図２の平面図と図４（ｈ）の側断面図のように、樹脂ブラックマトリクス３の面上に形成する。特に、図２の平面図のように、樹脂ブラックマトリクス３の幅が広くなる樹脂ブラックマトリクス３の格子の交差点の位置で金属台座パターン４の幅を広く形成する。それにより、その上にフォトスペーサ８を設置するために十分に広い幅を持つ金属台座パターン４が得られるる。
【００３４】
（フォトスペーサ）
フォトスペーサ８を、図４（ｈ）の側断面図と図２の平面図のように、その金属台座パターン４の上方の平坦化層６又は透明電極層７の上に、金属台座パターン４に対向する位置に形成する。フォトスペーサ８を設置する位置は、特に、樹脂ブラックマトリクス３の格子の交差点の位置の金属台座パターン４の位置に設置することが望ましい。
【００３５】
フォトスペーサ８は、高さを若干低く形成した複数のサブフォトスペーサ８を高さの高いフォトスペーサ８と共に用いる。
【００３６】
（タッチセンサ部）
図１のように、本実施形態は、カラーフィルタ基板１０に形成した金属台座パターン４によるセンサ用駆動電極パターンと、センサ用検出電極パターン２を互いに交差させて対向配置させることで、その交差点に形成された容量素子Ｃ１を利用する静電容量型のタッチセンサ部を構成する。
【００３７】
すなわち、このタッチ検出方式は、互いに対向配置された一対の電極パターン（金属台座パターン４によるセンサ用駆動電極パターンと、センサ用検出電極パターン２）の交差点に形成された容量素子Ｃ１を構成する。容量素子Ｃ１の一端を成すセンサ用駆動電極パターンの一端が交流信号源に接続し、容量素子Ｃ１の他端を成すセンサ用検出電極パターン２を電圧検出器に接続する。
【００３８】
そして、その容量素子Ｃ１の容量を測定することでタッチ検出を行う。詳しくは、先ず、人の指又はタッチ棒を接触していない状態では、容量素子Ｃ１に対する充放電に伴って、容量素子Ｃ１の容量値に応じた電流が流れ、それを電圧検出器が検出する。
【００３９】
一方、人の指又はタッチ棒を容量素子Ｃ１が形成されている交差点の近傍に接触（近接）させた状態では、大地に接地した人の指又はタッチ棒によって大地との間に形成された浮遊容量が容量素子Ｃ１に直列に接続される。このときに電圧検出器が検出する信号波形は、その浮遊容量側に電流が流れるため、非接触状態での波形よりも小さい値になる。その信号波形の違いにより、人の指又はタッチ棒のタッチ（近接）を検出するタッチ検出動作を行う。
【００４０】
ここで、金属台座パターン４によるセンサ用駆動電極パターンは、樹脂ブラックマトリクス３の面上に導電率の高い金属層で形成するので、導電率が高い。そのため、タッチ位置の検出の時定数（容量素子Ｃ１の容量×回路の抵抗値）を小さくでき、タッチセンサ部がタッチ位置を検出する応答速度を速くすることができる効果がある。
【００４１】
（製造方法）
以下で、本発明の第１の実施形態のカラーフィルタ基板１０の製造方法を図３と図４を参照して説明する。
【００４２】
（工程１）センサ用検出電極の形成
図３（ｂ）のように、透明基板１の表面に静電容量型のセンサ用検出電極パターン２を形成する。透明基板１は、可視光に対して８０％以上の透過率を有するものを用いることができ、好ましくは９５％以上の透過率を有するもの、例えばガラス基板等を用いる。または、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、環状オレフィンコポリマー等の透明樹脂基板が使用可能である。
【００４３】
センサ用検出電極パターン２は透明電極で形成することが望ましい。センサ用検出電極パターン２の透明導電膜は、透明基板１の表面に配設することができるものであれば特に限定されるものではないが、ＩＴＯ等インジウム、スズ、ガリウム、亜鉛などの金属酸化物の複合酸化物の透光性導電材料を用いて、蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等の真空成膜手法を用いた工程で透明導電膜を形成する。その後、この透明導電膜を公知の手法でパターニングして、所定形状のセンサ用検出電極パターン２を形成する。
【００４４】
（工程２）
次に、図３（ｃ）のように、表面にセンサ用検出電極パターン２が形成された透明基板１の裏面に、画素部に対応する矩形開口部を画定する樹脂ブラックマトリクス３を形成する。この樹脂ブラックマトリクス３の幅は３〜３０μｍの範囲が好ましい。
【００４５】
樹脂ブラックマトリクス３は、液晶表示装置のコントラストアップのために各画素間に形成する細い遮光パターンである。樹脂ブラックマトリクス３を形成する方法としては、黒色顔料を分散した感光性樹脂組成物を透明基板１の裏面に塗布・乾燥して黒色感光性樹脂層を形成する。
【００４６】
次に、所定のパターンを有するフォトマスクを用いて、黒色感光性樹脂層を露光する。次に、炭酸ナトリウム水溶液等の現像液で現像し、現像後よく水洗し、さらに乾燥後、加熱処理して樹脂ブラックマトリクス３のパターンを硬化させる。
【００４７】
（工程３）センサ用駆動電極の形成
次に、図３（ｄ）のように、樹脂ブラックマトリクス３のパターンの面上に、銅合金やアルミニウム合金等により、厚さが０．１μ以上で１０μｍ以下の金属層の金属台座パターン４を形成する。この金属台座パターン４をセンサ用駆動電極パターンにする。
【００４８】
この金属台座パターン４には、マグネシウム、カルシウム、チタン、モリブデン、インジウム、錫、亜鉛、ベリリウム、ニッケル、ネオジウムの内の１以上の元素を３原子パーセント以下を添加することができる。これらの元素の添加量が３原子パーセントを超えると金属台座パターン４の抵抗率が大きくなり望ましく無いため添加量を３原子パーセント以下にする。
【００４９】
（工程４）
次に、図４（ｅ）のように、格子状に形成された樹脂ブラックマトリクス３で画定された矩形開口部に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）等複数色の着色画素から成るカラーフィルタ層５をフォトリソグラフィー法により形成する。
【００５０】
カラーフィルタ層５の各色の着色画素の形成方法は、例えば、先ず、顔料分散樹脂である感光性ネガ型レジストを塗布する。そして、感光性ネガ型レジスト塗布後、フォトリソグラフィー法のプレベイク、選択的露光、現像、熱処理の各工程を経て、カラーフィルタ層５の各着色画素をパターン形成する。
【００５１】
（工程５）
次に、図４（ｆ）のように、樹脂ブラックマトリクス３と金属台座パターン４とカラーフィルタ層５の上全面に平坦化層６を形成する。平坦化層６は、カラーフィルタ層５の各着色画素の表面段差を低減するとともに、カラーフィルタ層５等の保護膜として耐薬品性、耐熱性などの諸耐性を向上させる機能を持つものである。
【００５２】
平坦化層６の材料は、アクリル、エポキシ、ポリエステル、ウレタン、メラミン、尿素樹脂、スチレン樹脂、フェノール樹脂、あるいはこれらの共重合物などの透明樹脂が使用可能である。
【００５３】
平坦化層６は感光性樹脂または熱硬化性樹脂を用い、これらいずれかの樹脂を含有する塗工液を塗布し、乾燥、ＵＶ照射または加熱することにより形成することができる。
【００５４】
（工程６）
次に、図４（ｇ）のように、平坦化層６の上に、通常のスパッタリング法や真空蒸着法等の物理蒸着手段により透明電極層７を形成する。
【００５５】
（工程７）
次に、図４（ｈ）のように、樹脂ブラックマトリクス３上の所定の位置の平坦化層６又は透明電極層７の上に、感光性の透明アクリル樹脂等からなる柱状のフォトスペーサ８を設ける。
【００５６】
フォトスペーサ８の形成用の樹脂組成物は、樹脂、モノマー、開始剤から成る樹脂組成物で、樹脂／モノマー比が０．５〜４．０の樹脂組成物を用いる。
【００５７】
その樹脂組成物を、平坦化層６又は透明電極層７の面上に、厚さ５μ〜５０μｍに塗布する。次に、その樹脂組成物を乾燥させる。
【００５８】
乾燥させた樹脂組成物に、フォトマスクのパターンを露光する。フォトマスクは、樹脂組成物の表面から８０μｍから３００μｍの間隙をあけて設置し、露光量８０ｍＪから３００ｍＪの紫外線を露光する。
【００５９】
露光後に、樹脂組成物を３０秒から５０秒かけて現像し、フォトスペーサ８のパターンを、金属台座パターン４の位置に形成する。
【００６０】
現像後のフォトスペーサ８のパターンを、温度２００℃から２５０℃で３０分から５０分の時間をかけて硬化させる。
【００６１】
これにより、直径が６μｍ〜２０μｍで高さが２μｍ〜５μｍのフォトスペーサ８とサブフォトスペーサを、金属台座パターン４の位置に形成する。
【００６２】
ここで、フォトマスクを用いてフォトスペーサ８のパターンを露光する際に、金属台座パターン４の位置にフォトスペーサ８のパターンを形成するように露光する。その場合に、金属台座パターン４が露光光を反射し、樹脂組成物が露光光とその反射光とで２重に露光される効果がある。
【００６３】
そのため、フォトスペーサ８を形成するための通常の露光時間の４．５秒に比べ半分程度の、１．５秒〜２．５秒の露光時間でフォトスペーサ８のパターンを露光できる効果がある。それにより、露光工程の生産性が向上する効果がある。
【００６４】
また、柱状のフォトスペーサ８は少数の高さの高いフォトスペーサ８と、多数の高さの低いサブフォトスペーサで構成し、低温時のセルギャップの収縮変形を高いフォトスペーサ８のみで吸収する。それにより、セルギャップが温度相応に収縮変形することができる。そのため、低温発泡を低減できる効果がある。
【００６５】
（工程８）
最後に、柱状のフォトスペーサ８を覆う配向膜を形成する。
【００６６】
本実施形態のフォトスペーサ８は、樹脂ブラックマトリクス３のパターンの面上の平坦化層６の上の金属台座パターン４の上に位置するように形成する。平坦化層６の下の金属台座パターン４が、フォトスペーサ８の下底を支える。そのため、その金属台座パターン４によって、フォトスペーサ８の平坦化層６と樹脂ブラックマトリクス３の樹脂層へのめり込み量が低減される効果がある。
【００６７】
＜第２の実施形態＞
以下、図５と図６を参照して、本発明の第２の実施形態を説明する。図５は、第２の実施形態のタッチセンサ付き液晶表示装置の要部断面構造をあらわし、図６は、第２の実施形態のカラーフィルタ基板１０をあらわす。
【００６８】
（タッチセンサ付き液晶表示装置）
図５のように、第２の実施形態のタッチセンサ付き液晶表示装置は、カラーフィルタ基板１０の樹脂ブラックマトリクス３上に形成した金属台座パターン９によるセンサ用検出電極パターンを有する。その金属台座パターン９によるセンサ用検出電極パターンは、ＴＦＴ基板２０に形成したセンサ用駆動電極パターン２１と交差させて対向させる。それにより、対向部分に容量素子Ｃ１が形成され、その容量素子Ｃ１の容量を測定する静電容量型タッチセンサが構成される。
【００６９】
（カラーフィルタ基板）
第２の実施形態のタッチセンサ付き液晶表示装置に用いるカラーフィルタ基板１０は、図６の要部断面構造のように、第１の実施形態のようには透明基板１の表面のセンサ用検出電極パターン２は形成しない。
【００７０】
（センサ用検出電極）
一方、透明基板１の裏面の樹脂ブラックマトリクス３の面上に、銅合金やアルミニウム合金等の金属のパターンで、金属台座パターン９によるセンサ用検出電極パターンを形成する。金属台座パターン９は、厚さが０．１μ以上で１０μｍ以下の金属層の台座を形成する。第２の実施形態の金属台座パターン９は図２の金属台座パターン４と同様に連結したパターンで形成する。
【００７１】
この金属台座パターン９の金属には、マグネシウム、カルシウム、チタン、モリブデン
、インジウム、錫、亜鉛、ベリリウム、ニッケル、ネオジウムの内の１以上の元素を３原子パーセント以下を添加することができる。これらの元素の添加量が３原子パーセントを超えると金属台座パターン９の抵抗率が大きくなり望ましく無いため、添加量を３原子パーセント以下にする。
【００７２】
図６のように、格子状に形成された樹脂ブラックマトリクス３で画定された矩形開口部に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）等複数色の着色画素から成るカラーフィルタ層５をフォトリソグラフィー法により形成する。
【００７３】
次に、そのカラーフィルタ層５と樹脂ブラックマトリクス３と金属台座パターン９の上に平坦化層６を形成する。更に平坦化層６の上に透明電極層７を形成する。
【００７４】
次に、平坦化層６又は透明電極層７の上にフォトスペーサ８を設置する。フォトスペーサ８は、樹脂ブラックマトリクス３の面上に形成した金属台座パターン９の位置に設置し、高さの高いフォトスペーサ８と、高さが低いサブフォトスペーサとで構成する。
【００７５】
特に、樹脂ブラックマトリクス３の格子の交差点の位置では、樹脂ブラックマトリクス３の幅が広くなるので金属台座パターン９の幅も広く形成できるので、その金属台座パターン９の上にフォトスペーサ８を設置することが望ましい。
【００７６】
第１の実施形態と同様に、本実施形態のフォトスペーサ８は、樹脂ブラックマトリクス３のパターンの面上の平坦化層６の上の金属台座パターン９の上に位置するように形成するので、フォトスペーサ８の下底を、平坦化層６の下の金属台座パターン９が支える。そのため、フォトスペーサ８の樹脂層へのめり込み量が低減される効果がある。
【００７７】
＜第３の実施形態＞
また、本発明の第３の実施形態を図７の平面図を参照し、図６を参考にして説明する。第３の実施形態では、タッチセンサ機能を有さない液晶表示装置に用いるカラーフィルタ基板１０に、図７のように、樹脂ブラックマトリクス３の上に金属台座パターン９を形成する。図７のように、金属台座パターン９は、孤立した島状のパターンの集合で形成することができる。
【００７８】
次に、図６のように、格子状に形成された樹脂ブラックマトリクス３で画定された矩形開口部に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）等複数色の着色画素から成るカラーフィルタ層５をフォトリソグラフィー法により形成する。
【００７９】
次に、そのカラーフィルタ層５と樹脂ブラックマトリクス３と金属台座パターン９の上に平坦化層６を形成する。更に平坦化層６の上に透明電極層７を形成する。
【００８０】
次に、平坦化層６又は透明電極層７の上にフォトスペーサ８を設置する。フォトスペーサ８は、樹脂ブラックマトリクス３の面上に形成した金属台座パターン９の位置に設置し、高さの高いフォトスペーサ８と、高さが低いサブフォトスペーサとで構成する。
【００８１】
また、樹脂ブラックマトリクス３の格子の交差点の位置の金属台座パターン９の上にフォトスペーサ８を設置する。
【００８２】
第３の実施形態においても、金属台座パターン９を形成することで、フォトマスクを用いて、金属台座パターン９の位置のフォトスペーサ８のパターンを露光する際に、金属台座パターン９が露光光を反射し、フォトスペーサ８を形成する位置の樹脂組成物が露光光とその反射光とで２重に露光される効果がある。
【００８３】
そのため、フォトスペーサ８を形成するための露光時間が１．５秒〜２．５秒程度で十分になり、通常の露光時間の４．５秒に比べ半分程度で済むので、露光工程の生産性が向上する効果がある。
【００８４】
また、平坦化層６の下の金属台座パターン９が、フォトスペーサ８の下底を支えるため、フォトスペーサ８の平坦化層６と樹脂ブラックマトリクス３の樹脂層へのめり込み量を低減することができる効果がある。
【符号の説明】
【００８５】
１・・・透明基板
２・・・センサ用検出電極パターン
３・・・樹脂ブラックマトリクス
４・・・（センサ用駆動電極用の）金属台座パターン
５・・・カラーフィルタ層（着色画素）
６・・・平坦化層
７・・・透明電極層
８・・・フォトスペーサ
９・・・（センサ用検出電極用の）金属台座パターン
１０・・・カラーフィルタ基板
２０・・・ＴＦＴ基板
２１・・・センサ用駆動電極
３０・・・液晶層
４１、４２・・・偏光板
Ｃ１・・・容量素子
Ｒ・・・赤色着色画素
Ｇ・・・緑色着色画素
Ｂ・・・青色着色画素
【図１】
2017016047.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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