(57)【要約】【課題】ノズル基板における接液膜及び撥水膜が精度よく所望の領域に形成された液滴吐出ヘッドを提供する。【解決手段】液滴を吐出するノズル孔が形成されたノズル基板を有する液滴吐出ヘッドであって、前記ノズル基板における液滴吐出面上に撥水膜が形成され、前記ノズル孔の内側の表面に下地膜と、該下地膜上に親水性の接液膜とが積層され、前記下地膜は、ＳＡＭ（Self  Assembled  Molecular）膜が形成されない膜であり、前記撥水膜と前記接液膜が、連続的に形成されていることを特徴とする。【選択図】図１
2017052171.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液滴を吐出するノズル孔が形成されたノズル基板を有する液滴吐出ヘッドであって、
前記ノズル基板における液滴吐出面上に撥水膜が形成され、
前記ノズル孔の内側の表面に下地膜と、該下地膜上に親水性の接液膜とが積層され、
前記下地膜は、ＳＡＭ（Self  Assembled  Molecular）膜が形成されない膜であり、
前記撥水膜と前記接液膜が、連続的に形成されていることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項２】
前記ノズル基板における液滴吐出面と前記撥水膜との間に、撥水膜用下地膜が形成され、該撥水膜用下地膜は、ＳＡＭ膜を形成可能な膜であることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出ヘッド。
【請求項３】
前記撥水膜用下地膜が、Ｓｉ又はＳｉＯ２からなることを特徴とする請求項２に記載の液滴吐出ヘッド。
【請求項４】
前記下地膜が、ＳｉＮからなることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液滴吐出ヘッド。
【請求項５】
前記ＳＡＭ膜が、有機シランからなることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の液滴吐出ヘッド。
【請求項６】
前記有機シランが、フッ化アルキルシランであることを特徴とする請求項５に記載の液滴吐出ヘッド。
【請求項７】
前記接液膜が、Ｓｉ，Ｔａ，Ａｌ，Ｂｉ，Ｓｂ，Ｎｉ，Ｈｆ，ＷもしくはＺｒ又はこれらからなる酸化物材料であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の液滴吐出ヘッド。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の液滴吐出ヘッドを備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項９】
ノズル孔を有するノズル基板と、
前記ノズル孔に連通する液室を有する流路板部材と、
前記液室に連通する共通液室、及び、前記液室を加圧する圧力発生手段との接続部位を有する振動板部材と、を備える液滴吐出ヘッドの製造方法であって、
ノズル基板にノズル孔を形成するためのマスク材として、前記ノズル基板における液滴吐出面に撥水膜用下地膜を形成する工程と、
ノズル孔を形成する工程と、
前記ノズル基板の全面に保護膜を形成する工程と、
前記撥水膜用下地膜が形成されている部分に形成された保護膜を除去し、前記ノズル孔内部に形成されている保護膜を下地膜とする工程と、
前記撥水膜用下地膜上に撥水膜を形成する工程と、
前記ノズル基板の全面に親水性の接液膜を形成する工程と、
前記撥水膜が形成されている部分に形成された接液膜を除去する工程と、を有し、
前記撥水膜用下地膜は、ＳＡＭ（Self  Assembled  Molecular）膜を形成可能な膜であり、
前記下地膜は、ＳＡＭ膜が形成されない膜であり、
前記撥水膜と前記接液膜が、連続的に形成されていることを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１０】
前記撥水膜が、前記ＳＡＭ膜により形成されたものであることを特徴とする請求項９に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴吐出ヘッド、画像形成装置及び液滴吐出ヘッドの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリンタに代表される画像形成装置において、液滴吐出方式の画像形成ではサーマル式や圧電式の液滴吐出ヘッドが知られている。このうち圧電式の液滴吐出ヘッドは、液滴を吐出するノズルと、このノズルが連通する液室と、この液室内の液溶媒を加圧するエネルギー発生手段とを備えており、液室に密接された圧電素子（エネルギー発生手段）の変位を伝達することで液室内の液滴を加圧し、ノズルから液滴を吐出させる。
【０００３】
近年、産業用途に用いられるインクジェット用のインクは液滴吐出ヘッドの母材を腐食する特性を有することが多く、液滴吐出ヘッドの内壁部には耐薬品性を有する接液膜で被覆されているものが知られている。また、接液膜は耐薬品性のほかに、空気噛み対策としての親液性が求められている。
しかし、ノズル孔の吐出外面部も親液性を有している場合、吐出後のインクが吐出外面部に濡れ広がってしまい、次の吐出に影響を及ぼしてしまう。そのため、一般的にノズル孔の吐出外面部には撥水膜を形成し、吐出後のインクが吐出外面部に濡れ広がることを抑える試みがなされている。
【０００４】
例えば、特許文献１では、ノズル孔の液滴吐出面が撥水性で、ノズル孔の内面が親水性であるノズル基板が開示されている。成膜する方法については、ノズル基板の液滴吐出面に撥水膜を形成する工程、撥水膜を形成したノズル基板の液滴吐出面及びノズル孔内面に親水膜を形成する工程、液滴吐出面に形成された親水膜を除去する工程により、ノズル基板を製造する方法が開示されている。
【０００５】
また、特許文献２では、シリコン基板の両面及びノズル開口内面に酸化タンタル膜が設けられ、吐出面の酸化タンタル膜には、シリコーン材料のプラズマ重合膜が積層されている構成が開示されている。さらに、このプラズマ重合膜上に、撥液性の金属アルコキシド膜が形成されている。高耐液性の目的で、ＡＬＤ（Atomic  Layer  Deposition）法による接液膜形成技術及び撥水膜形成を含むインクジェットヘッドの製造プロセスが開示されている。
【０００６】
また、特許文献３では、ノズル基材の表面にＳｉを含む酸化膜である表面処理膜が形成され、表面処理膜上であって液滴吐出面に有機撥液膜が形成された構成が開示されている。表面処理膜をＡＬＤ法やＣＶＤ（Chemical  Vapor  Deposition）法などにより、有機撥液膜をＣＶＤ法などにより形成することが開示されている。
【０００７】
しかし、接液膜及び撥水膜を精度よく所望の領域にだけ成膜させることは難しく、所望の領域に成膜されていない場合、液滴吐出に影響を与え、液滴吐出の吐出方向をばらつかせるという問題があった。また、撥水膜がノズル孔内部に成膜されないための制御法の記載はなく、上記の問題を解決できていない。
以上のことから、従来の技術ではノズル孔のエッジ付近を境にして精度よく撥水膜、親水膜を形成することは難しい。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
そこで、本発明は上記課題を鑑み、ノズル基板における接液膜及び撥水膜が精度よく所望の領域に形成された液滴吐出ヘッドを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明は、液滴を吐出するノズル孔が形成されたノズル基板を有する液滴吐出ヘッドであって、前記ノズル基板における液滴吐出面上に撥水膜が形成され、前記ノズル孔の内側の表面に下地膜と、該下地膜上に親水性の接液膜とが積層され、前記下地膜は、ＳＡＭ（Self  Assembled  Molecular）膜が形成されない膜であり、前記撥水膜と前記接液膜が、連続的に形成されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、ノズル基板における接液膜及び撥水膜が精度よく所望の領域に形成された液滴吐出ヘッドを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明に係る液滴吐出ヘッドの一例を示す模式図である。
【図２】液滴吐出ヘッドのノズル孔部分の一例を示す要部拡大模式図である。
【図３】従来の液滴吐出ヘッドを製造する過程の一例を示す要部拡大模式図である。
【図４】本発明に係る液滴吐出ヘッドの製造方法の一例を説明するためのフロー図である。
【図５】本発明に係る液滴吐出ヘッドを製造する過程の一例を示す要部拡大模式図である。
【図６】本発明に係る画像形成装置の構成の一例を示す模式図である。
【図７】本発明に係る画像形成装置の構成の一例を示す他の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明に係る液滴吐出ヘッド、画像形成装置及び液滴吐出ヘッドの製造方法について図面を参照しながら説明する。なお、本発明は以下に示す実施形態に限定されるものではなく、他の実施形態、追加、修正、削除など、当業者が想到することができる範囲内で変更することができ、いずれの態様においても本発明の作用・効果を奏する限り、本発明の範囲に含まれるものである。
【００１３】
（液滴吐出装置の概略）
本発明を説明するにあたり、まず液滴吐出装置の概略について説明する。
液滴吐出ヘッド（圧電式液滴吐出ヘッド）は一般的に、液滴を吐出するノズル孔と、このノズル孔が連通する液室と、この液室内の液（インク）を加圧するエネルギー発生手段とが備えられている。そして、圧電素子などのエネルギー発生手段が液室内のインクを加圧し、ノズル孔から液滴を吐出させる。液滴吐出ヘッドは、可動壁部分となる振動板、流路構造となる流路板、ノズル孔が形成されたノズル板及び圧電素子から構成されることが一般的である。
【００１４】
このとき、充填される液溶媒は液滴吐出ヘッドの母材を腐食する特性を有することが多く、液滴吐出ヘッドの内壁には液溶媒への耐薬品性を有する接液膜（親水膜とも称する場合がある）で被覆することが多い。この接液膜には耐薬品性のほかに加圧液室等流路内での空気噛み低減のために親液性であることも求められる。この接液膜がノズル孔外面側にも形成されている場合、その親液性から液滴吐出後の余剰液滴がノズル板外面部のノズル孔周辺に濡れ広がり、ノズル孔での安定した対称的なメニスカス形成を妨げることとなる。これはすなわち、連続で液滴を吐出する際の着弾位置精度を低減させる要因となるため、通常液滴吐出ヘッドではノズル孔外面部のみ液溶媒に対して撥水性を有する膜を形成している。
【００１５】
撥水膜は理想的にはノズル孔外面部のみ、ノズル孔パターンのエッジにあわせて形成されること、及び、撥水膜と接液膜の境界部分には液滴吐出ヘッド母材が露出しないことが望まれる。しかし、従来では液滴吐出ヘッド全面に接液膜を形成した後、幾分ノズル孔内部まで入り込んだ形状で撥水膜が形成されている。この場合、撥水膜のノズル孔内部での非対称性がメニスカス形成のばらつきを生み出すこととなり、液滴吐出の着弾位置精度を低減させていることが問題となっている。
【００１６】
一方、本発明では、前記ノズル基板における液滴吐出面上に撥水膜が形成され、前記ノズル孔の内側の表面に下地膜と、該下地膜上に親水性の接液膜とが積層され、前記下地膜は、ＳＡＭ（Self  Assembled  Molecular）膜が形成されない膜である。これにより、接液膜と撥水膜のパターン制御性を高めることができ、ノズル基板における接液膜及び撥水膜が精度よく所望の領域に形成された液滴吐出ヘッドを提供することができる。
また、撥水膜と接液膜が、連続的に形成されていることにより、ノズル板部材が露出されることを防ぎ、より劣化防止を図ることができる。
【００１７】
図１に、本発明に係る液滴吐出ヘッドの一実施形態における部分構造の模式図を示す。
本実施形態に係る液滴吐出ヘッドは、ノズル孔を有するノズル基板（ノズル板部材）と、ノズル孔に連通する液室を有する流路板部材と、液室に連通する共通液室、及び、液室を加圧する圧力発生手段との接続部位を有する振動板部材とを備えている。
【００１８】
図１に図示される液滴吐出ヘッドは、振動板部材１０、流路板部材２０、ノズル板部材３０の３層から構成されており、それぞれの部材を貼りあわせして一体化する。貼りあわせには一般的に接着剤等の樹脂を用いて貼りあわせを行う。
【００１９】
振動板部材１０は振動膜１０１と、アクチュエータとなる圧電素子との接続部位となる凸構造部１０２からなっている。また液タンクから液溶媒を供給される共通液室１０３や流路板部材２０に液溶媒を供給するための振動板貫通孔１０４も形成されている。
振動板部材１０としての材料には、液溶媒への腐食耐性や機械強度の観点でＮｉやＳＵＳが一般的であったが、近年Ｓｉを用いた振動板の開発も散見される。この場合、振動膜１０１部分はＳｉ，ＳｉＯ２，ＳｉＮ，Ｐｏｌｙ−Ｓｉなどの単層もしくは積層膜からなり、応力バランス、ヤング率などが考慮され膜構成が制御されている。
【００２０】
流路板部材２０には液溶媒が通液される流路部２０１と流路板を貫通するように形成されている連通管部２０２が形成されている。流路部２０１内部には振動板可変領域１０５上流側に流体抵抗２０３が配置されており、前述の振動板部材１０とあわせて液室２１を形成している。
【００２１】
ノズル板部材３０については、流路板部材２０の連通管部２０２と接続され液滴を吐出制御するノズル孔３０１及び液たまり部３０２が形成されている。また、ノズル基板もＮｉ，ＳＵＳなどが一般的に用いられてきたが、吐出着弾精度を高めるにはノズル孔の位置や径の制御が必須となり、現在ではＳｉに半導体プロセスを用いた加工により孔形成することが多くなっている。
【００２２】
図２に、液滴吐出ヘッドのノズル孔部分の要部拡大模式図を示す。図２（ａ）に示される構成が好ましい例である。
液滴吐出ヘッドを構成する部材において、流路内など液滴が接する領域には一般的に各部材が液滴溶媒に腐食されることがないように保護材となる接液膜４１を形成する。この接液膜４１には耐腐食以外に、空気噛みの影響を低減するために親液性であることが求められる。
【００２３】
この接液膜４１がノズル板部材３０の液滴吐出外面３０３にも形成されている場合、液滴吐出後の余剰液滴は液滴吐出外面３０３に濡れ広がり、ノズル孔３０１部でのメニスカス形成に影響を及ぼす。メニスカスが非対称となると液滴吐出の吐出方向に乱れが生じるため、高画質化を求める場合望ましくない。そのため、液滴吐出外面３０３には一般的に撥水膜４２が形成される。
【００２４】
図２（ａ）に示すように、ノズル板部材３０における液滴吐出外面３０３の表面に撥水膜４２が形成され、ノズル孔の内側の表面に接液膜４１が形成されている。この場合、接液膜４１と撥水膜４２は連続的に形成されていることが好ましい。また、接液膜４１や撥水膜４２は、それぞれノズル孔３０１に対して対称的に形成されることが好ましい。
【００２５】
図２（ｂ）に示すように、接液膜４１と撥水膜４２間に不連続面３０４ａ、３０４ｂが存在する場合、液滴溶媒がノズル板部材３０を腐食するために信頼性を低下させるほか、接液膜４１及び撥水膜４２の非対称性によるメニスカスの乱れが発生するため、液滴吐出方向のばらつきを発生させる要因となる。
【００２６】
そのため、図２（ｂ）に示すような形状となるのを避けるため、実際にはノズル板部材３０の全面を接液膜４１で覆った後に液滴吐出外面３０３に撥水膜４２を形成することが一般的となっている。その場合のノズル孔部分の要部拡大模式図を図２（ｃ）に示す。このとき、液滴吐出外面３０３のみに撥水膜４２を形成することは難しく、図２（ｃ）に示されるように、ノズル孔３０１側面の一部まで撥水膜４２が形成されることが多い。このノズル孔３０１側面一部に形成される撥水膜４２が、ノズル孔３０１に対して対称に、かつ、深さ方向についても一定に制御されていればよいが、現実的には完全な制御は難しく液滴吐出の方向を乱れさせる一因となっている。
【００２７】
（従来技術の説明）
次に、接液膜／撥水膜形成方法の一例について、従来の方法を説明する。図３に、従来の液滴吐出ヘッドを製造する過程の要部拡大模式図を示す。図３は、上記図２（ｃ）の構成の液滴吐出ヘッドを製造する方法について説明するものである。
【００２８】
図３（ａ）に示すように、ノズル板部材３０にノズル孔３０１及び液たまり部３０２を形成した後、全面に接液膜４１を形成する。接液膜４１としては、例えば、ＳｉＯ２，Ｔａ２Ｏ５，ＺｒＯ等であり、液滴溶媒にあわせた耐薬品性及び親液性を有する材料が選択される。
また、成膜方法としては例えば熱酸化法、ＣＶＤ（Chemical  Vapor  Deposition）法、ＡＬＤ（Atomic  Layer  Deposition）法、スパッタ等、接液膜４１にあわせて選択する。
【００２９】
図３（ｂ）では、全面に撥水膜４２を形成する。撥水膜４２はフッ素系シランカップリング剤などが挙げられ、一般的にｄｉｐ法、スピンコート法、蒸着法、ＣＶＤ法、めっき法などが成膜方法として挙げられる。
【００３０】
図３（ｃ）では、液滴吐出外面３０３に保護材５０を用い、液滴吐出外面３０３上の撥水膜４２を被覆する。保護材５０は、例えばテープの貼りあわせやスプレーコート等によるレジスト等の樹脂を塗布すること等によって形成される。ここで、例えばテープでは粘着材がノズル孔内部の一部まで入り込み被覆することとなる。
【００３１】
図３（ｄ）では、液滴吐出外面３０３を被覆されたノズル板部材３０にプラズマ照射や撥水膜洗浄剤等によって、ノズル孔内側の表面などに露出している撥水膜４２を除去する。
その後、図３（ｅ）に示されるように、保護材５０を除去することで液滴吐出外面３０３及びノズル孔内部の一部のみに撥水膜４２を残すことが可能となる。
【００３２】
しかしながら、保護材５０がノズル孔の内側に入り込む量や対称性を制御することは難しく、撥水膜４２の被覆形状をコントロールすることは非常に困難である。
また、図３（ｄ）に示すようなプラズマ照射などによるノズル孔３０１の内側などの撥水膜除去は完全ではなく、部分的に撥水膜４２が残留する可能性があり、信頼性や性能に影響を及ぼすことが懸念事項となっている。
【００３３】
（本発明に係る液滴吐出ヘッド及び液滴吐出ヘッドの製造方法）
次に、本発明に係る液滴吐出ヘッドの製造方法の一実施形態について説明する。本実施形態によれば、接液膜及び撥水膜を所望の箇所にのみ形成することができ、吐出性能や信頼性も確保することが可能となる。
【００３４】
まず、本実施形態に係る液滴吐出ヘッドの製造方法について、図４のフローを用いて概要を説明する。なお、詳細は後述する。
Ｓ１０は、ノズル基板にノズル孔を形成するためのマスク材として、ノズル基板における液滴吐出面に撥水膜用下地膜を形成する工程である。
Ｓ１２は、ノズル孔を形成する工程である。
Ｓ１４は、ノズル基板の全面に保護膜を形成する工程である。
Ｓ１６は、撥水膜用下地膜が形成されている部分に形成された保護膜を除去し、ノズル孔内部に形成されている保護膜を下地膜とする工程である。
Ｓ１８は、撥水膜用下地膜上に撥水膜を形成する工程である。
Ｓ２０は、ノズル基板の全面に親水性の接液膜を形成する工程である。
Ｓ２２は、撥水膜が形成されている部分に形成された接液膜を除去する工程である。
そして、撥水膜用下地膜は、ＳＡＭ膜を形成可能な膜であり、下地膜は、ＳＡＭ膜が形成されない膜であり、撥水膜と接液膜が、連続的に形成されていることを特徴とする。
【００３５】
次に、本実施形態に係る液滴吐出ヘッドの製造方法について詳細を説明する。図５に、本実施形態に係る液滴吐出ヘッドを製造する過程の要部拡大模式図を示す。
図５（ａ）に示すように、ノズル板部材３０であるＳｉ上にＳｉＯ２膜３０５を形成する。ＳｉＯ２膜３０５は熱酸化法、ＣＶＤ法、スパッタ法などにより形成する。その後、フォトリソグラフィ及びエッチングによってノズル孔３０１に相当するパターンを形成する。
【００３６】
上記のＳｉＯ２膜３０５は後述する撥水膜４２の下地となるものであり、撥水膜用下地膜と称する。
本実施形態において、撥水膜用下地膜は、ＳＡＭ（Self  Assembled  Molecular）膜を形成可能な膜である。そのため、ＳＡＭ膜が形成可能であれば特に制限されるものではないが、中でもＳｉ又はＳｉＯ２からなる膜であることが好ましく、特にＳｉＯ２が好ましい。
なお、撥水膜用下地膜としてのＳｉＯ２は、Ｓｉの表面に自然にできたものでもよく、Ｓｉの表面が酸化されたものであってもよい。
【００３７】
ここでは、撥水膜用下地膜として、ＳｉＯ２を例に挙げて説明しているが、これに限られるものではない。その他にも例えば、酸化チタン、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、マイカ、酸化アルミニウム、ガラス、酸化スズ、酸化ゲルマニウム等の酸化物材料が挙げられる。また、シリコン、チタン、アルミニウム等の金属材料であっても、その表面酸化膜を下地膜としてＳＡＭ形成することができる。
【００３８】
その後、図５（ｂ）に示すように、ＳｉＯ２膜３０５をマスク材としてノズル孔３０１を異方性エッチングにより形成する。次に、ウェハの表裏を反転させ、図５（ｃ）に示すように、液たまり孔３０２を同様にフォトリソグラフィ及び異方性エッチングによって形成する。
【００３９】
次に、図５（ｄ）に示すように、保護膜３０６をノズル板部材３０の全面に形成する。成膜方法としては、例えばＣＶＤ法などが挙げられる。
その後、図５（ｅ）に示すように、ノズル孔３０１側が上面になるようウェハを反転し、ＲＩＥエッチング（Reactive  Ion  Etching）等によって液滴吐出外面３０３部の保護膜３０６を除去する。この際、ＳｉＯ２膜３０５によってエッチストップし、ＳｉＯ２膜３０５は残すようにエッチング量を調整する。
【００４０】
上記の保護膜３０６は、後述する接液膜４１の下地となるため、ノズル孔内部に形成されている保護膜を下地膜と称する。本実施形態において、下地膜は、ＳＡＭ膜が形成されない膜であれば特に制限されるものではないが、例えばＳｉＮなどが挙げられる。
【００４１】
次に、図５（ｆ）に示すように、撥水膜用下地膜に対して撥水膜４２を形成する。
撥水膜４２としては、ＳＡＭ膜が用いられ、中でも有機シランからなるＳＡＭ膜であることが好ましい。有機シランとしては、例えばフッ化アルキルシラン（ＦＡＳ）が挙げられる。本実施形態ではフッ化アルキルシランを使用している。
【００４２】
またこのとき、ＳｉＯ２膜３０５（撥水膜用下地膜）の表面を前処理としてプラズマ照射することによってシロキサン結合をシラノール基化してもよい。これにより、撥水膜４２を形成する有機シランと撥水膜用下地膜とがシランカップリング反応によりＳＡＭ形成される。また、本実施形態では、撥水膜４２が有機シランによるＳＡＭ膜により形成されたものとなる。
【００４３】
これに対して、下地膜はＳＡＭ膜が形成されない膜となっているため、撥水膜４２はノズル板部材３０における液滴吐出外面３０３に形成された撥水膜用下地膜（ＳｉＯ２膜３０５）部分のみに形成されることとなる。
そのため、ノズル孔３０１の内側には撥水膜４２が形成されることはなく、またノズル孔３０１を形成するためのマスク材を撥水膜４２の下地膜として用いているため、ノズル孔３０１に対して非対称に形成されず、精度よく撥水膜４２が形成される。
【００４４】
次に、図５（ｇ）に示すように、ノズル板部材３０の全面に接液膜４１を形成する。接液膜４１の形成には、図５（ｆ）で形成した撥水膜４２を分解しないように成膜温度は低温、例えば１００℃以下で成膜できる方法を選択することが好ましい。成膜方法としては、例えばＡＬＤ法や常温ＣＶＤ法などが挙げられる。
また成膜される接液膜４１としては、Ｓｉ，Ｔａ，Ａｌ，Ｂｉ，Ｓｂ，Ｎｉ，Ｈｆ，Ｗ，Ｚｒ又はこのいずれかからなる酸化物材料等が挙げられる。例えば、ＳｉＯ２，Ａｌ２Ｏ３，Ｔａ２Ｏ５等が挙げられる。接液膜４１には、液滴吐出ヘッドに用いられる液滴溶媒にあわせた耐薬品性及び親液性を有する材料を選択する。本実施形態では、Ｔａ２Ｏ５を使用している。
【００４５】
図５（ｈ）で示すように、液滴吐出外面３０３側に保護材５０（ここでは保護テープ）を貼りあわせる。その後、保護材５０を除去すると、撥水膜４２上の接液膜４１は密着性が不十分であるためにテープ側に残留し容易に剥離される。これにより、選択的に撥水膜４２と接液膜４１を連続的に成膜及びパターニングすることが可能となる。
【００４６】
以上により、図５（ｉ）に示すように、本実施形態の液滴吐出ヘッドが得られる。図５（ｉ）に示すように、撥水膜４２と接液膜４１が連続的に形成されており、精度よく所望の領域に成膜されている。
【００４７】
なお、本実施形態では図５（ｈ）、図５（ｉ）に示すように、テープにより撥水膜４２上の接液膜４１を除去したが、ワイピングなどにより除去してもよい。
撥水膜４２表面の低活性化エネルギーにより、撥水膜４２と接液膜４１との間の密着性が低いために、成膜後にワイピング等の軽い物理力によって接液膜４１を局所的に除去することができる。
【００４８】
上記述べたように、本発明の液滴吐出ヘッドの製造方法では、ノズル板部材３０の外面における所望のパターン部分にのみ選択的に撥水膜４２を形成した後に、低温で接液膜４１を全面に形成する。撥水膜４２の表面は表面エネルギーが低く他部材との密着性は弱いことから、撥水膜４２上の接液膜４１のみ容易に剥離できることになるため、ワイピングやテープ転写などを用いて撥水膜４２上の接液膜４１を除去することができる。
そのため、接液膜４１及び撥水膜４２が精度よく所望の領域に形成され、接液膜４１と撥水膜４２を連続的に形成することができ、接液膜４１と撥水膜４２が不連続になったり、ノズル孔３０１の内側に撥水膜４２が残留したりすることを抑制することができる。
【００４９】
（画像形成装置）
次に、上述の液滴吐出ヘッドが搭載される画像形成装置の一例について説明する。図６は、本実施形態に係る画像形成装置の全体構成を説明する側面図であり、図７は、画像形成装置の要部平面図である。この画像形成装置は、図示しない左右の側板に横架したガイド部材であるガイドロッド１０１０とガイドレール１０２０とでキャリッジ１０３０を主走査方向に摺動自在に保持し、主走査モータ１０４０でタイト１０５０を介して図７に示す矢示方向（主走査方向）に移動走査する。
【００５０】
この例では、上述の液滴吐出ヘッドは、イエロー（Ｙ）、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、ブラック（Ｂｋ）の各色の液滴を吐出する液滴吐出ヘッドであり、図７に示す記録ヘッド１０７０を構成している。キャリッジ１０３０では、この記録ヘッド１０７０を複数の液滴吐出口を主走査方向と交叉する方向に配列し、液滴吐出方向を下方に向けて装着している。
【００５１】
また、キャリッジ１０３０には、記録ヘッド１０７０に各色の液体を供給するための各色のサブタンク１０８０を搭載している。このサブタンク１０８０には図示しない液体供給チューブを介してメインタンク（インクカートリッジ）から液体が補充供給される。また、例えばサブタンク１０８０を用いないでインクカートリッジを搭載する構成であってもよい。
【００５２】
一方、給紙カセット１１００などの用紙積載部（圧板）１１１０上に積載した用紙１１２０を給紙するための給紙部として、用紙積載部１１１０から用紙１１２０を１枚ずつ分離給送する半月コロ（給紙ローラ）１１３０及び給紙ローラ１１３０に対向し、摩擦係数の大きな材質からなる分離パッド１１４０を備え、この分離パッド１１４０は給紙ローラ１１３０側に付勢されている。
【００５３】
そして、この給紙部から給紙された用紙１１２０を記録ヘッド１０７０の下方側で搬送するための搬送部として、用紙１１２０を静電吸着して搬送するための搬送ベルト１２１０と、給紙部からガイド１１５０を介して送られる用紙１１２０を搬送ベルト１２１０との間で挟んで搬送するためのカウンタローラ１２２０と、略鉛直上方に送られる用紙１１２０を略９０°方向転換させて搬送ベルト１２１０上に倣わせるための搬送ガイド１２３０と、押さえ部材１２４０で搬送ベルト１２１０側に付勢された先端加圧コロ１２５０とを備えている。
【００５４】
また、搬送ベルト１２１０表面を帯電させるための帯電手段である帯電ローラ１２６０を備えている。ここで、搬送ベルト１２１０は、無端状ベルトであり、搬送ローラ１２７０とテンションローラ１２８０との間に掛け渡されて、副走査モータ１３１０からタイミングベルト１３２０及びタイミングローラ１３３０を介して搬送ローラ１２７０が回転されることで、図７のベルト搬送方向（副走査方向）に周回するように構成している。なお、搬送ベルト１２１０の裏面側には記録ヘッド１０７０による画像形成領域に対応してガイド部材１２９０を配置している。
【００５５】
また、図７に示すように、搬送ローラ１２７０の軸には、スリット円板１３４０を取り付け、このスリット円板１３４０のスリットを検知するセンサ１３５０を設けて、これらのスリット円板１３４０及びセンサ１３５０によってエンコーダ１３６０を構成している。帯電ローラ１２６０は、搬送ベルト１２１０の表層に接触し、搬送ベルト１２１０の回動に従動して回転するように配置され、加圧力として軸の両端に例えば各２．５Ｎをかけている。
【００５６】
また、キャリッジ１０３０の前方側には、図６に示すように、スリットを形成したエンコーダスケール１４２０を設け、キャリッジ１０３０の前面側にはエンコーダスケール１４２０のスリットを検出する透過型フォトセンサからなるエンコーダセンサ１４３０を設け、これらによって、キャリッジ１０３０の主走査方向位置（ホーム位置に対する位置）を検知するためのエンコーダ１４４０を構成している。
【００５７】
さらに、記録ヘッド１０７０で記録された用紙１１２０を排紙するための排紙部として、搬送ベルト１２１０から用紙１１２０を分離するための分離部と、排紙ローラ１５２０及び排紙コロ１５３０と、排紙される用紙１１２０をストックする排紙トレイ１５４０とを備えている。
【００５８】
また、背部には両面給紙ユニット１６１０が着脱自在に装着されている。この両面給紙ユニット１６１０は搬送ベルト１２１０の逆方向回転で戻される用紙１１２０を取り込んで反転させて再度カウンタローラ１２２０と搬送ベルト１２１０との間に給紙する。このように構成した画像形成装置においては、給紙部から用紙１１２０が１枚ずつ分離給紙され、略鉛直上方に給紙された用紙１１２０はガイド１１５０で案内され、搬送ベルト１２１０とカウンタローラ１２２０との間に挟まれて搬送され、更に先端を搬送ガイド１２３０で案内されて先端加圧コロ１２５０で搬送ベルト１２１０に押し付けられ、略９０°搬送方向を転換される。
【００５９】
このとき、図示しない制御回路によって高圧電源から帯電ローラ１２６０に対してプラス出力とマイナス出力とが交互に繰り返すように、つまり交番する電圧が印加され、搬送ベルト１２１０が交番する帯電電圧パターン、すなわち、周回方向である副走査方向に、プラスとマイナスが所定の幅で帯状に交互に帯電されたものとなる。このプラス、マイナス交互に帯電した搬送ベルト１２１０上に用紙１１２０が給送されると、用紙１１２０が搬送ベルト１２１０に静電力で吸着され、搬送ベルト１２１０の周回移動によって用紙１１２０が副走査方向に搬送される。
【００６０】
そこで、キャリッジ１０３０を移動させながら画像信号に応じて記録ヘッド１０７０を駆動することにより、停止している用紙１１２０に液滴を吐出して１行分を記録し、用紙１１２０を所定量搬送後、次の行の記録を行う。記録終了信号又は用紙１１２０の後端が記録領域に到達した信号を受けることにより、記録動作を終了して、用紙１１２０を排紙トレイ１５４０に排紙する。
【００６１】
また、両面印刷の場合には、表面（最初に印刷する面）の記録が終了したときに、搬送ベルト１２１０を逆回転させることで、記録済みの用紙１１２０を両面給紙ユニット１６１０内に送り込み、用紙１１２０を反転させて（裏面が印刷面となる状態にして）再度カウンタローラ１２２０と搬送ベルト１２１０との間に給紙し、タイミング制御を行って、前述したと同様に搬送ベル１２１０上に搬送して裏面に記録を行った後、排紙トレイ１５４０に排紙する。
【００６２】
なお、本発明に係る画像形成装置は、プリンタ、ファクシミリ装置、複写装置、これらの複合機などにも適用することができる。
【符号の説明】
【００６３】
１０  振動板部材
２０  流路板部材
２１  液室
３０  ノズル板部材
４１  接液膜
４２  撥水膜
５０  保護テープ
１０２  凸構造部
１０３  共通液室
１０４  振動板貫通孔
１０５  振動板可変領域
２０１  流路部
２０２  連通管部
２０３  流体抵抗
３０１  ノズル孔
３０２  液たまり部
３０３  液滴吐出外面
３０４ａ、ｂ  不連続部
３０５  ＳｉＯ２
３０６  保護材
１０１０  ガイドロッド
１０２０  ガイドレール
１０３０  キャリッジ
１０４０  主走査モータ
１０５０  タイト
１０７０  記録ヘッド
１０８０  サブタンク
１１１０  用紙積載部（圧板）
１１２０  用紙
１１３０  半月コロ（給紙ローラ）
１１４０  分離パッド
１１５０  ガイド
１２２０  カウンタローラ
１２１０  搬送ベルト
１２５０  先端加圧コロ
１２６０  帯電ローラ
１２７０  搬送ローラ
１２８０  テンションローラ
１２９０  ガイド部材
１３１０  副走査モータ
１３２０  タイミングベルト
１３３０  タイミングローラ
１３４０  スリット円板
１３５０  センサ
１３６０  エンコーダ
１４２０  エンコーダスケール
１４３０  エンコーダセンサ
１４４０  エンコーダ
１５２０  排紙ローラ
１５３０  排紙コロ
１５４０  排紙トレイ
１６１０  両面給紙ユニット
【先行技術文献】
【特許文献】
【００６４】
【特許文献１】特開２００８−２７３０７９号公報
【特許文献２】特開２０１４−１２４８７４号公報
【特許文献３】特開２０１５−００３４８３号公報
【図４】
2017052171.tif 000003
【図６】
2017052171.tif 000004
【図７】
2017052171.tif 000005
【図１】
2017052171.tif 000006
【図２】
2017052171.tif 000007
【図３】
2017052171.tif 000008
【図５】
2017052171.tif 000009